【手続補正書】
【提出日】令和3年6月24日(2021.6.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
標本の検査向けに偏光を制御及び計測するシステムであって、
照明光を生成し標本へと差し向ける照明光学系サブシステムであり、その照明光の偏光状態を制御する２個以上の照明側偏光部材を有する照明光学系サブシステムと、
前記照明光に応じ前記標本の非パターン化エリアからもたらされる出射光を集光する集光光学系サブシステムであり、標本又はその付近における照明光の偏光状態を計測する少なくとも第１及び第２集光側偏光部材、並びにそれら第１及び第２集光側偏光部材により偏光状態が調整された後に当該出射光を検出するセンサ、を備える集光光学系サブシステムと、
コントローラと、
を備え、そのコントローラが、
本システムを特定の動作モードにセットアップする動作と、
第２集光側偏光部材を静止状態に保ちながら複数通りの回動を通じ第１集光側偏光部材をインクリメントさせる動作と、
第１集光側偏光部材の回動毎に前記センサで強度信号を計測する動作と、
第１集光側偏光部材を静止状態に保ちながら複数通りの回動を通じ第２集光側偏光部材をインクリメントさせる動作と、
第２集光側偏光部材の回動毎に前記センサで強度信号を計測する動作と、
本システムに係る複数の偏光状態及び偏光部材パラメタのモデルであり、第１及び／又は第２集光側偏光部材の回動毎に計測された強度信号を模擬するものを、生成する動作と、
前記モデルに依拠し本システム向けの偏光状態及び偏光部材パラメタを特定する動作と、
を実行するよう構成されているシステム。
【請求項２】
請求項1に記載のシステムであって、
前記標本がフォトマスクであり、照明光学系サブシステムが、透過光（ＴＬ）モードにおいてその標本内に通される照明光を生成する１個又は複数個の光源を有し、少なくとも第１及び第２集光側偏光部材が第１及び第２波長板を備え、本システムがＴＬモードにセットアップされ、且つ、まずモデルがジョーンズ計算法に依拠し生成され、それを用いることで、第１波長板に係るリターダンス値と、第１波長板・第２波長板間における偏光状態とが、第１波長板の回動毎の計測を踏まえ特定され、次いでモデルを用い、第２波長板のリターダンスと標本又はその付近における偏光状態とが、第２波長板の回動毎の計測と、第１波長板につき特定されたリターダンス及びその静止時回動ポジションとを踏まえ、特定されるシステム。
【請求項３】
請求項２に記載のシステムであって、
第１波長板が可回動な１／４波長板、第２波長板が可回動な３／８波長板であり、その３／８波長板が前記標本からの出射光を受光するよう配置されていて、その後に同３／８波長板からの出射光が同１／４波長板により受光されるシステム。
【請求項４】
請求項３に記載のシステムであって、
照明光学系サブシステムが、反射光（ＲＬ）モードにおいて前記標本で反射される照明光を生成する１個又は複数個の光源を有し、集光光学系サブシステムが、前記１／４波長板からの出射光を受光しその出射光のうちｙ偏光成分のみを前記センサへと伝搬させる偏光ビームスプリッタ（ＰＢＳ）を有し、そのＰＢＳが、反射光（ＲＬ）モードでは照明光のうちｘ偏光成分のみをその標本へと反射させるよう配列及び構成されているシステム。
【請求項５】
請求項４に記載のシステムであって、
前記標本又はその付近における前記照明光の偏光状態が照射野位置の関数として特定されるシステム。
【請求項６】
請求項４に記載のシステムであって、
第１及び第２波長板が照明側偏光部材のうち少なくとも幾つかと同じものであり、前記コントローラが、更に、
本システムをＲＬモードにセットアップする動作と、
ＲＬモードにて、第２波長板を静止状態に保ちながら複数通りの回動を通じ第１波長板をインクリメントさせる動作と、
ＲＬモードにて、第１波長板の回動毎に前記センサで強度信号を計測する動作と、
ＲＬモードにて、第１及び第２波長板のリターダンスを含め本システムに係る複数の偏光及び波長板パラメタのモデルであり、第１波長板の回動毎にＲＬモードにて計測された強度信号を模擬するものを、ジョーンズ計算法に依拠して生成する動作と、
ＲＬモードにて、前記標本又はその付近における照明偏光状態を、ＲＬモードにて特定された第１及び第２波長板のリターダンスと第１波長板の回動とに基づき特定する動作と、
を実行するよう構成されているシステム。
【請求項７】
請求項６に記載のシステムであって、
前記コントローラが、更に、ＲＬモードにて、第２波長板のリターダンスの正弦波的挙動を回動の関数としてモデル化するよう、且つそのモデル化された正弦波的挙動に基づき本システムの対物系のリターダンスから第２波長板の実リターダンスを分離するよう、構成されているシステム。
【請求項８】
請求項1に記載のシステムであって、
少なくとも第１及び第２集光側偏光部材が、半波長以上のリターダンス総和を呈する複数枚の波長板を備えるシステム。
【請求項９】
請求項1に記載のシステムであって、
集光光学系サブシステムが、出射光が検出される検出平面を複数個有し、前記コントローラが、更に、それら複数個の検出平面における計測に係る偏光状態及び偏光部材パラメタをモデル化及び特定するよう、且つそれら複数個の検出平面から特定された偏光状態及び偏光部材パラメタを平均化するよう、構成されているシステム。
【請求項１０】
請求項1に記載のシステムであって、
前記モデルがジョーンズ計算法に依拠していて、且つ非線形最小自乗当て嵌めプロセスを用い偏光状態及び偏光部材パラメタを特定するモデルであるシステム。
【請求項１１】
請求項1に記載のシステムであって、
前記コントローラが、更に、特定された偏光状態及び偏光部材パラメタに基づき前記標本又はその付近における複数の偏光状態を模擬するよう、且つ第１及び第２集光側偏光部材に関し回動を選択することである特定方位の直線偏光をその標本にもたらすよう構成されているシステム。
【請求項１２】
標本の検査向けに偏光を制御及び計測する方法であって、
検査システムを特定の動作モードにセットアップするステップと、
前記システムの第２偏光部材を静止状態に保ちながら複数通りの回動を通じ同システムの第１偏光部材をインクリメントさせるステップと、
第１偏光部材の回動毎に前記標本の非パターン化エリアからの強度信号を計測するステップと、
第１偏光部材を静止状態に保ちながら複数通りの回動を通じ第２偏光部材をインクリメントさせるステップと、
第２偏光部材の回動毎に前記標本の非パターン化エリアからの強度信号を計測するステップと、
前記システムに係る複数の偏光状態及び偏光部材パラメタのモデルであり、第１及び／又は第２偏光部材の回動毎に計測された強度信号を模擬するものを、生成するステップと、
前記モデルに依拠し前記システム向けの偏光状態及び偏光部材パラメタを特定するステップと、
を有する方法。
【請求項１３】
請求項１２に記載の方法であって、
前記システムが透過光（ＴＬ）モードにセットアップされ、第１及び第２偏光部材が第１及び第２波長板であり、前記標本がフォトマスクであり、且つ、まずモデルが生成され、それを用いることで、第１波長板に係るリターダンス値と、第１・第２波長板間における偏光状態とが、その第１波長板の回動毎の計測を踏まえ特定され、次いでモデルを用い、第２波長板のリターダンスと標本又はその付近における照明偏光状態とが、その第２波長板の回動毎の計測と、第１波長板につき特定されたリターダンス及びその静止時回動ポジションとを踏まえ、特定される方法。
【請求項１４】
請求項１３に記載の方法であって、
第１波長板が可回動な１／４波長板、第２波長板が可回動な３／８波長板であり、その３／８波長板が前記標本からの出射光を受光するよう配置されていて、その後に同３／８波長板からの出射光が同１／４波長板により受光される方法。
【請求項１５】
請求項１４に記載の方法であって、
出射光のうちｙ偏光成分のみが計測され、ＲＬモードでは照明光のうちｘ偏光成分のみが反射されて標本に向かう方法。
【請求項１６】
請求項１５に記載の方法であって、
前記標本又はその付近における照明偏光状態が照射野位置の関数として特定される方法。
【請求項１７】
請求項１５に記載の方法であって、更に、
前記システムをＲＬモードにセットアップするステップと、
ＲＬモードにて、第２波長板を静止状態に保ちながら複数通りの回動を通じ第１波長板をインクリメントさせるステップと、
ＲＬモードにて、第１波長板の回動毎に強度信号を計測するステップと、
ＲＬモードにて、第１及び第２波長板のリターダンスを含め複数の偏光及び波長板パラメタのモデルであり、第１波長板の回動毎にＲＬモードにて計測された強度信号を模擬するものを、ジョーンズ計算法に依拠して生成するステップと、
ＲＬモードにて、前記標本又はその付近における照明偏光状態を、ＲＬモードにて特定された第１及び第２波長板のリターダンスと第１波長板の回動とに基づき特定するステップと、
を有する方法。
【請求項１８】
請求項１７に記載の方法であって、更に、
ＲＬモードにて、第２波長板のリターダンスの正弦波的挙動を回動の関数としてモデル化するステップと、そのモデル化された正弦波的挙動に基づき前記システムの対物系のリターダンスから第２波長板の実リターダンスを分離するステップと、を有する方法。
【請求項１９】
請求項１２に記載の方法であって、
前記モデルがジョーンズ計算法に依拠していて、且つ非線形最小自乗当て嵌めプロセスを用い偏光状態及び偏光部材パラメタを特定するモデルである方法。
【請求項２０】
請求項１２の方法であって、更に、
特定された偏光状態及び偏光部材パラメタに基づき前記標本又はその付近における複数の偏光状態を模擬するステップと、第１及び第２集光側偏光部材に関し回動を選択することである特定方位の直線偏光をその標本にもたらすステップと、を有する方法。