(57)【要約】【課題】  大型液晶表示パネル用の走査型投影露光装置では、生産性拡大のため装置の大型化が進んでいる。装置の大型化に伴うマスクの自重変形は、露光領域内でのフォーカス分布を発生させる。また、結像系内の光学部品の面誤差や歪面も、露光領域内でのフォーカス分布を発生させる。【解決手段】  円弧状の照明領域を結像させる走査型投影露光装置において、マスクの自重変形に応じて結像系内の光学部品を偏心、あるいは、マスク、プレートを走査方向に傾斜させ、マスクの自重変形によるフォーカス分布の主要部分を補正する。さらに、フォーカスが均一な領域を照明し投影露光を行うことで、スキャンに直交する方向のフォーカス分布を補正する。【選択図】  図１
2010135479.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
円弧状の照明領域を結像させる走査型投影露光装置において、投影光学系のフォーカス分布にあわせて照明領域を変形させる第１手段を備えたことを特徴とする走査型投影露光装置。
【請求項２】
円弧の円周方向（動径方向）にフォーカス変化を発生させる第２手段を備えたことを特徴とする請求項１に記載の走査型投影露光装置。
【請求項３】
前記第1手段として、照明領域と共役な位置にあるスリットの開口部の形状を変形させる手段を備えたことを特徴とする請求項１に記載の走査型投影露光装置。
【請求項４】
前記第２手段として、結像光学系内の反射光学部材を傾斜させる手段を備えたことを特徴とする請求項２に記載の走査型投影露光装置。
【請求項５】
前記第２手段として、プレートステージを傾斜させる手段を備えたことを特徴とする請求項２に記載の走査型投影露光装置。
【請求項６】
前記第２手段として、マスクステージを傾斜させる手段を備えたことを特徴とする請求項２に記載の走査型投影露光装置。
【請求項７】
円弧の半径方向のフォーカス変化（像面湾曲）を発生させる第３手段を備えたことを特徴とする請求項２に記載の走査型投影露光装置。
【請求項８】
テレセン度を補正する第４手段を備えたことを特徴とする請求項１〜請求項７のいずれかに記載の走査型投影露光装置。
【請求項９】
結像系の光学部品を位置・傾き調整する第５手段を備えたことを特徴とする請求項１〜請求項８のいずれかに記載の走査型投影露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は露光装置及び露光方法に関するもので、照明領域を制御することでマスクパターンを感光性基板に精度よく投影露光する走査型露光装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示パネルは、マスクのパターンを感光性基板に転写しフォトリソグラフィの手法により製造される。マスクパターンを転写する行程では、微細なパターン像を結像させるため高精度な走査型投影露光装置が用いられる。
【０００３】
図２は走査型投影露光装置を模式的に表した図である。
【０００４】
本模式図の座標系は１６にて示しているとおりとする。
【０００５】
本投影露光装置は、大きく２つのユニットで構成されており（１）から（７）が照明系をしめし、（９）から（１４）が結像系を示している。
【０００６】
光源（１）には水銀ランプが用いられており、光源から出射した光線は楕円ミラー（２）によりコリメートされ、オプティカルインテグレータ（３）に入射する。オプティカルインテグレータは照射領域の照度均一性・照明光のNAを制御するために用いられている。オプティカルインテグレータから出射した光線はレンズやミラー（４）を介して照射領域を規定するスリット（５）を照射する。
【０００７】
スリットはマスク（８）と共役な位置にある。本模式図は代表的な液晶用走査型投影露光装置を示しており、本露光装置の結像系（図示９から図示１４）の良像域が円弧状であるためスリット開口部の形状はYX面上で円弧状（１７）である。
【０００８】
スリットによってコリメートされた光束はレンズ（６）やミラー（７）を介して液晶パネル用のパターンが描画されたマスク（８）を照射する。照射領域は円弧状で、マスクはプレート（15）と同期してY方向に走査しながら投影露光を行う。
【０００９】
マスク上のパターンを透過した光は結像系（9から１４）を介してプレート(15)に結像する。本結像系の特徴は、ディストーションやコマ収差を発生させないため、凸面ミラー（13）に対して対称な光学光学系になっている。
【００１０】
図３は、本結像系の良像域と照明範囲の関係を示した図である。図３−１は本結像系の収差を示した図である。横軸はフォーカス位置を表し、縦軸は像高を示している。実線はサジタル光線のフォーカス位置を表しており、点線はメリジオナル光線のフォーカス位置を表している。像高AからBの領域でサジタル光線のフォーカスとメリジオナル光線のフォーカスが一致しており、この領域ではボケが発生しない良好な像がえられる。
【００１１】
図３−２は、本結像系でのマスク面上での照明範囲を示したものである。点線部分は、図３−１に示したボケが発生しない領域（良像域）を示しており、同一中心の半径Aの円弧と半径Bの円弧に囲まれた領域となる。照明範囲は、良像域内にあり、同一の半径の円弧で囲まれた領域である。図示の例では、円弧の半径はAとなっており、生産性を向上させるため良像域の高い像高の半径の円弧ではさまれた領域となる。また走査方向は、図示の座標系でY方向である。走査方向に直交する方向（X方向）の照度を均一にする為に、走査方向の照明領域の長さ（図３−２、長さC）は等しくする必要がある。よって、同一半径で囲まれた実線で囲まれた領域が照明範囲となっている。
【００１２】
本結像系は特許文献1に記載された結像光学系を模式的に示したものである。
【特許文献１】特開昭60- 93410号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
従来例で示したような走査型投影露光装置で液晶表示パネルを投影露光するためには、マスクとプレートのフォーカスを、露光領域範囲内で高精度にあわせる必要がある。
【００１４】
特にマスクの自重変形によって発生するフォーカス分布に対しては、対応策が検討されてきた。
【００１５】
例えば、特開2004-39697号公報では、マスクの自重変形によって発生するフォーカス分布を、プレートステージやマスクステージを傾けることにより補正する方法が提案されている。
【００１６】
しかし、昨今の液晶表示パネルの大型化に伴い、マスクが大型化しており、マスクの自重変形量も増加している。その結果、上記の方法では十分なフォーカス補正ができなくなってきた。
【００１７】
図４-１は、マスクの自重変形を模式的に表した図である。座標系は図示のとおりでY方向がマスクの走査方向である。(１)はマスクで(２)(３)はマスクを支える保持部である。保持部は走査方向に平行な二辺のみ支持している。
【００１８】
図４-２は、マスクの自重変形をY方向から表した図である。重力の影響でｚ方向に撓んでいる。
【００１９】
図５はマスクの自重変形形状(保持は自由端)をシミュレーションした図である。縦軸はマスクの自重変形量（um）を表し、横軸は走査方向に直交する方向(図４のX方向)の長さ（mm）を示す。現行のマスクのX方向の長さを800mmとし、次世代マスクのX方向の長さを1000mmとした場合について計算を行った。マスクのX方向の長さが２０％伸びると、マスクの自重変形量が2倍以上になっていることが分かる。自重変形量に応じて、フォーカス分布を発生させるので、マスクの大型化にともない、フォーカス分布も大きくなる。
【００２０】
図６はマスクステージやプレートステージを傾けて補正できるフォーカス分布の形状を示している。本光学系の照明領域は円弧状であるため、ステージを傾けて補正できるフォーカス分布は円弧状となる。
【００２１】
図７はマスクの自重変形によって発生したフォーカス分布を、ステージの傾けによってフォーカス補正した場合の残渣を示している。発明者の計算によると、マスクのX方向の長さが800mmのときの補正残渣に対して、マスクのX方向の長さが1000mmのときの補正残渣は２倍以上となり、液晶表示パネルを製造するための露光装置としては不十分な性能となる。
【００２２】
マスクの自重変形によるフォーカス分布に対する対策案として、特開平10-214780号公報も開示されている。特開平10-214780号公報では、マスクの上部に透過ガラスを配置しマスクと透過ガラス間の気圧を減圧することでマスクを吸い上げ、マスクの自重変形量を制御する方法が提案されている。しかし、本方法では高価な透過ガラスと高精度に気圧を制御する機構が必要である。
【００２３】
また、マスクの自重変形以外にも、マスクとプレートのフォーカス分布を発生させる要因として、結像系内の光学部品の面誤差や面歪によるものが上げられる。これまでの液晶表示パネルに対して、更に高精細な液晶表示パネルの生産が求められており、光学部品の面誤差や面歪によるフォーカス分布も高精度に補正する必要が出てきた。
【課題を解決するための手段】
【００２４】
請求項１の発明では、円弧状の照明領域を結像させる走査型投影露光装置において、フォーカス分布にあわせて照明領域を変形させる第１手段を備えたことを特徴としている。
【００２５】
請求項２の発明では、請求項１の走査型投影露光装置において、円弧の円周方向（動径方向）にフォーカス変化を発生させる第２手段を備えたことを特徴としている。
【００２６】
請求項３の発明では、請求項1の第1手段として、照明領域と共役な位置にあるスリットの形状を変形させる手段を備えたことを特徴としている。
【００２７】
請求項４の発明では、請求項２の第２手段として、結像光学系内の反射光学部材を傾斜させる手段を備えたことを特徴としている。
【００２８】
請求項５の発明では、請求項２の第２手段として、プレートステージを傾斜させる手段を備えたことを特徴としている。
【００２９】
請求項６の発明では、請求項２の第２手段として、マスクステージを傾斜させる手段を備えたことを特徴としている。
【００３０】
請求項７の発明では、請求項2の走査型露光装置において、円弧の半径方向のフォーカス変化（像面湾曲）を発生させる第３手段を備えたことを特徴としている。
【００３１】
請求項８の発明では、請求項１から請求項７の走査型露光装置において、テレセン度を補正する第５手段を備えたことを特徴としている。
【００３２】
請求項９の発明では、請求項１から請求項８の走査型露光装置において、結像系の光学部品を位置・傾き調整する第５手段を備えたことを特徴とする走査型投影露光装置。
【発明の効果】
【００３３】
本発明は円弧状の照明領域を結像させる走査型投影露光装置において、マスクとプレート間のフォーカス分布を高精度に補正し、高性能な走査型投影露光装置を提供することが可能となる。その結果、画面内のコントラスト均一性が向上し、均一な画像をえることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３４】
次に、本発明の詳細を実施例の記述に従って説明する。
【実施例１】
【００３５】
本発明の実施形態１について図１を用いて説明する。
【００３６】
図１は本発明を搭載した大型液晶表示パネル用走査型投影露光装置の投影光学系の図である。
【００３７】
本模式図の座標系は（１６）にて示しているとおりとする。
【００３８】
光源（１）には水銀ランプが用いられており、光源から出射した光線は楕円ミラー（２）によりコリメートされ、オプティカルインテグレータ（３）に入射する。オプティカルインテグレータは照射領域の照度均一性・照明光のNAを制御するために用いられている。オプティカルインテグレータから出射した光線はレンズやミラー（４）を介して照射領域を規定するスリット（５）を照射する。
【００３９】
スリットはマスク（８）と共役な位置にある。本模式図は代表的な液晶用走査型投影露光装置を示しており、従来例（図３−１、−２）で示したとおり、本露光装置の結像系（図示９から14）の良像域は円弧状である。
【００４０】
本発明では、マスクの自重変形よって発生するフォーカス変化を、結像系内のミラー等を傾けることと、結像系の良像域内でフォーカスがあう部分を照明することでフォーカス変化を制御する。以下にスリット開口部の形状について記す。
【００４１】
スリットの開口部の形状をZY平面で示したのが（１７）の実線部分である。（１７）の点線部分は本結像系の良像域を示しており、スリットは良像域に内接した形となっている。スリットの形状は良像域内で自由にできる構造となっている。
【００４２】
図８は代表的なスリットの開口部の形状を示している。図８−１は、マスクが自由端で自重変形を発生させた時に適したスリットの開口部の形状を示している。座標系はスリットの長手方向をX軸とし、短手方向をY方向としている。スリット中央部をX=0とすると左右対称な形状となっている。図８−２は、マスクが固定端で自重変形を発生させた時に適したスリット形状をしている。図８−１と比較して、周辺部で高次のスリット形状が適している。図８−３は、左右非対称なスリット形状を示している。左右に非対称なフォーカス分布を補正するために用いる。
【００４３】
スリットによってコリメートされた光束はレンズ（６）やミラー（７）を介して液晶パネル用のパターンが描画されたマスク（８）を照射する。マスクの照射領域はスリット開口部と相似な形状をしている。マスクはプレート（１５）と同期してY方向に走査する。
【００４４】
液晶パネルの大型化に伴いマスクは、従来より大きく撓むことが予想される。（１８）はマスクの自重変形形状を模式的に表した図でマスクをY方向から見た図である。マスク中心部はマスク周辺部に対し撓んでいるため、マスク中心部とマスク周辺部のフォーカス位置はずれることになる。
【００４５】
従来例（図５）にて示したとおり、マスクのX方向の長さが２０％伸びると、マスクの自重変形量が2倍以上になる。マスクの大型化にともない、フォーカス分布も大きくなる。
【００４６】
マスクを透過した光線は結像系（９から１４）を介し、プレート（１５）に結像する。（１１）、（１３）は反射型の光学部材で光線を集光、発散させるためのパワーをもつ。（９）、（１２）、（１４）は透過型の光学部材で結像性能を向上させる働きをもつ。（１０）、（１９）は反射型の光学部材で光線を折り曲げる働きをもつ。
【００４７】
本実施例の特徴は、照射領域を任意に調整できることとともに、光線を折り曲げる作用をもつミラー（１９）を傾斜していることにある。ミラー（１９）はX軸を中心に回転可能となっておりプレート面でのフォーカス分布の量に応じて調整可能となっている。
【００４８】
図９はミラー（１９）を傾けた時のフォーカス分布の発生量を表した図である。縦軸はフォーカス変化量を表し、横軸は走査方向に直交する方向を示している。スリットの開口部の形状が図８−１の場合、ミラーを傾けた時のフォーカス変化量は、図９のAで表される。スリット形状が図８−２の場合、ミラーを傾けた時のフォーカス変化量は、図９のBで表される。フォーカス形状Aと比較して、周辺部で高次のフォーカス変化量が発生していることがわかる。スリット形状が図８−３の場合、ミラーを傾けた時のフォーカス変化量は図９のCで表される。フォーカス変化量が左右で非対称に発生していることがわかる。また、ミラーの傾け量を調整すると発生するフォーカス変化の形状を維持したままフォーカス量を変化さえることもできる。図９では、スリット開口部の形状がAでミラーの傾け量を1/2にした時のフォーカス変化量を示している。
【００４９】
このように、本発明は、マスクの自重変形によるフォーカス変化を、スリット開口部の形状とミラーの傾け量を調整することで、走査方向に直交するフォーカス変化量を任意に制御することが可能である。
【００５０】
また、面誤差や面歪は、走査方向に直交する方向に非対称なフォーカス分布を発生させるが、本実施例のとおり、フォーカス分布にあわせてミラーの傾け量とスリット開口部を調整することで、良好にマスクパターンをプレート面に結像することが可能となる。
【００５１】
本実施例では結像系内のミラー（１７）でフォーカス調整の例を示した。この場合、図１に示すとおり、プレート面（１５）に入射する光線は傾きをもつことになる。そのため、デフォーカスによるディストーションの影響が懸念される。
【００５２】
図１０はデフォーカスによるディストーションの影響を補正するための実施例である。照明系からマスクに入射する光線の傾きをテレセン度補正板（20）にて補正する。テレセン度補正板はクサビ形状や非球面形状の透過型の光学部材であり、照明系の光線を所定量傾けることができる。所定量傾いた照明光により照明されたマスクパターンを透過した光線は、プレート上に垂直に入射することになり、デフォーカスによるディストーションの影響を小さくすることができる。
【００５３】
また、本実施例では結像系内の反射ミラーを傾けることによりフォーカス変化を発生させている。同様のフォーカス変化を発生させる方法として、図１１のごとくマスク（８）やプレート（１５）を傾ける方法がある。マスクやプレートを傾けて走査露光することで、反射ミラーを傾けた場合と同様のフォーカス変化を発生ることができ、実施例１と同様の効果が得られる。
【００５４】
また、ミラー面の傾け誤差・マスク/プレート面の傾け誤差によって発生する微小な性能変化分は、駆動量に対して性能変化の敏感度が小さい光学部品（図２−９、１０、１２、１４）の位置調整や角度調整によって補正しても良い。
【００５５】
また、特開平10-214780号公報では、マスクとマスク上部の空間の気圧制御によりマスクの撓み補正を行うことで、マスクの自重変形によるフォーカス分布の影響を小さくしている。しかし、マスクの大型化に伴い撓み誤差も大きくなることが予想される。本発明は、気圧制御による撓み誤差によるフォーカス分布を補正する方法としても有効である。
【実施例２】
【００５６】
実施例１では、走査露光を行った時の円周方向（動径方向・図１-１７の長手方法）のフォーカス分布の補正方法について示した。一方で良好な液晶表示パネルを製造するためには走査方向（図１-１７の短手方法）のフォーカス分布も制御する必要がある。
【００５７】
結像系の性能が、図１３−１（図３−１と同じ収差図）で示される場合に、結像系内の折り曲げミラーやプレート面を傾けると、プレート面は太い実線で示される位置となり、像高Aと像高Bではフォーカス差が発生することになる。
【００５８】
走査型の投影露光装置では、像高Aから像高Bまでのデフォーカスした像が積算されることになり、プレート上に結像するパターン像に影響を与える。投影露光装置では、デフォーカスした像を足し合わせる露光方法は、特定の回路パターンに対して像の深度を向上させる方法として用いられるが、積算される像のデフォーカス量が大きいと、像のコントラストを低下させる懸念も生じる。
【００５９】
特に高精細な液晶表示パネルを作成するためには、像のコントラストの制御も必要となる。
【００６０】
図１２は、走査方向のフォーカス差を調整し、走査方向に直交するフォーカス分布を制御する投影光学系の実施例２を示している。実施例１との違いは、結像系内の凸ミラー（図１２−13）の曲率半径が異なることである。
【００６１】
図１２は実施例２を示しており、結像系内の凸ミラー（13）の曲率半径が実施例１と異なっている。実施例１の凸ミラーの曲率半径と比較すると、凸ミラーの曲率半径がニュートン本数にして10〜100本分異なっている。凸面の曲率半径が変わると結像性能が変化するが、本光学系では特に良像域での像面湾曲が変化する。像面湾曲とは、像高に対する光軸方向の焦点位置の分布である。
【００６２】
図１３に凸面の曲率半径が異なる場合の結像系の性能を記す。図１３−１は像面湾曲がない状態の性能図で、図１３−２は図１３−１の結像系の凸面曲率半径を変化させた時の性能図を示している。
【００６３】
図１３では、結像系内の折り曲げミラーやプレート面を傾けたときの結像面を、太い実線で示している。図１３−１の場合、結像系内の折り曲げミラーやプレート面を傾けたときの結像面と像面湾曲は一致していない。そのため、走査露光を行うと像高Aから像高Bまでデフォーカスした像を積算することになり、像のコントラストが低下する懸念がある。
【００６４】
１３−２では、結像系内の折り曲げミラーやプレート面を傾けたときの結像面と像面湾曲が像のコントラストを悪化させない程度で一致している。よって、円弧状スリットの中央部（図１２-１７（１）の領域）では、走査露光を行っても像のコントラストを悪化させない程度の像を足し合わせることになり、像のコントラストが低下しない露光装置を実現することができる。
【００６５】
さらに詳細に実施例２について具体的に説明する。
【００６６】
本発明では、マスクベンド量に応じて結像系内の反射ミラーの傾け量が決まる。図１４にて説明する。座標系は図示のとおりとする。走査露光する時の走査方向はY方向となる。
【００６７】
例えば、良像域の像高が400mmから500mmの結像系で、±45度の張り角を用いた露光装置を想定すると、露光領域の長手方向は 500/√2 = ±353mmとなる。円弧の深さは、500 x ( 1 - 1/√2) = 146mmとなる。マスク自重変形量が146umとすると、X=0とX=353でのフォーカス差を調整するので、プレート面で146um/146mm = 100um/100mmのフォーカス変化を発生させるミラーの傾けを行う。
【００６８】
実施例２では、像コントラストの低下を小さくするため、像面湾曲の調整を行う。結像系内のパワーを変化させる（実施例では凸面の曲率半径を変化させる）ことにより像面湾曲を発生させると、円周方向に均一なフォーカス変化が発生する。
【００６９】
図１４では、像面湾曲を発生させた時の、プレート面上でのフォーカス分布を示している。また、像面湾曲の発生量を像高400mmから500ｍｍで100umとし、点線にて円周方向のフォーカスが均一な場所を示した。フォーカスの等高線のピッチは25umとした。
【００７０】
上記より、X=0での走査方向の露光幅(Y方向の幅)を100mmとし、100um/100mmのフォーカス補正を結像系内のミラー傾けによって行うとする。図１４のX=0では−100um/100mmの像面湾曲を発生させると、ミラー傾けによって発生するスリット短手方向のフォーカス分布と像面湾曲によって発生するフォーカス分布が打ち消しあい、走査露光時には、走査方向のデフォーカスの影響がない像が得られる。
【００７１】
しかし、X=±343ｍｍのでは、像面湾曲の発生方向が走査方向ではないので、像面湾曲によるフォーカス分布の発生量が−100um/157mmとなっている。
【００７２】
走査方向に直交する露光領域で、バランスよく像コントラストを制御するためには、X=0mmとX=±353mmでバランスの良い像面湾曲を発生させることが必要となる。
【００７３】
図１４−２は、図１４−１のフォーカス分布の形状をX=0のYZ断面とX=353mmでのYZ断面で表したものである。縦軸はフォーカス分布（um）をあらわし、横軸は各断面図のY軸（ｍｍ）を表している。
【００７４】
像高400mmから500ｍｍで100umの像面湾曲を発生させると、X=0では100um/100mmの傾きをもち、ミラー傾けによって発生した100um/100mmのデフォーカスを打ち消す。しかし、X=353ｍｍでは64um/100mmの傾きになり、ミラー傾けによって発生した100um/100mmのデフォーカスに対して36um/100mmの残渣が残る。
【００７５】
これは、本条件で像面湾曲を発生させ走査露光を行うと、X=353mmで36umのデフォーカス像を足し合わせることになり、走査方向と直交する方向で露光された像の線幅バラツキが大きくなる。
【００７６】
走査方向と直交する方向で線幅バラツキの小さい像をえるための方法として、残渣を振り分ける方法があげられる。
【００７７】
像高400mmから500ｍｍで112umの像面湾曲を発生させると、X=0では118um/100mmの傾きをもち、ミラー傾けによって発生した100um/100mmに対して18umの残渣が残る。また、X=353ｍｍでは82um/100mmの傾きになり、ミラー傾けによって発生した100um/100mmのデフォーカスに対して18um/100mmの残渣が残る。
【００７８】
これは、本条件で像面湾曲を発生させ走査露光を行うと、X=0mmでも、 X=353mmでも18umのデフォーカス像を足し合わせることになり、走査方向と直交する方向で線幅バラツキの小さい像をえることができる。
【００７９】
本実施例では、凸ミラーの曲率半径を変更することで像面湾曲を発生させた。同様の効果をえるためには、図１２の凸ミラー（１３）とメニスカスレンズ（１２）のY方向の位置を移動させればよい。
【００８０】
このように、結像系内の折り曲げミラーやプレート面の傾け量に応じて像面湾曲を発生させれば、像のコントラストを制御しながらフォーカス分布を調整できる露光装置を実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【００８１】
【図１】本発明の実施例１を示した図。
【図２】従来例を示した図。
【図３】（3-1）結像系の性能を示した収差図、（3-2）結像系の良像域を示した図。
【図４】（4-1）マスクの保持部と走査方向を示した図、（4-2）マスクの自重変形を示した図。
【図５】マスクの大きさが変わったときのマスクの自重変形量を示した図。
【図６】ステージを傾けた時のフォーカス補正量の概念図。
【図７】ステージを傾けてマスクの自重変形によるフォーカス変化を補正した場合の補正残渣図。
【図８】（8-1）実施例１のスリット形状１、（8-2）実施例１のスリット形状２、（8-3）実施例１のスリット形状３。
【図９】実施例１のスリット形状でミラーを傾けた時に発生するフォーカス分布図。
【図１０】実施例１でテレセン度を補正した時の概念図。
【図１１】実施例１でマスクステージ、あるいはプレートステージを傾けたときの概念図。
【図１２】本発明の実施例２を示した図。
【図１３】（13-1）像面湾曲を発生させない時の結像面と良像域のデフォーカスの関係を示した図、（13-2）像面湾曲を発生させた時の結像面と良像域のデフォーカスの関係を示した図。
【図１４】（14-1）像面湾曲を発生させた時の結像系のフォーカス分布を等高線で表した図、（14-2）像面湾曲を発生させた時の結像系のフォーカス分布を表した図。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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