【手続補正書】
【提出日】平成17年1月31日(2005.1.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板に、下地層を介して、第１電極、発光層を含む層および第２電極が順に積層され、前記発光層で発生した光を前記第２電極の側から取り出す発光素子であって、
前記第１電極は、前記下地層に接して設けられた密着層と、前記発光層で発生した光を反射させる反射層と、前記反射層を保護するバリア層とが前記基板の側から順に積層された構成を有する
ことを特徴とする発光素子。
【請求項２】
前記密着層は、クロム（Ｃｒ），インジウム（Ｉｎ），スズ（Ｓｎ），亜鉛（Ｚｎ），カドミウム（Ｃｄ），チタン（Ｔｉ），アルミニウム（Ａｌ），マグネシウム（Ｍｇ）およびモリブデン（Ｍｏ）からなる金属元素の群のうちの少なくとも１種を含む金属、導電性酸化物または金属化合物により構成されている
ことを特徴とする請求項１記載の発光素子。
【請求項３】
前記反射層は、銀（Ａｇ）または銀を含む合金により構成された
ことを特徴とする請求項１記載の発光素子。
【請求項４】
前記反射層は、ネオジウム（Ｎｄ），サマリウム（Ｓｍ），イットリウム（Ｙ），セリウム（Ｃｅ），ユウロピウム（Ｅｕ），ガドリニウム（Ｇｄ），テルビウム（Ｔｂ），ジスプロシウム（Ｄｙ），エルビウム（Ｅｒ），イッテルビウム（Ｙｂ），スカンジウム（Ｓｃ），ルテニウム（Ｒｕ），銅（Ｃｕ）および金（Ａｕ）からなる群のうちの少なくとも１種の元素と、銀（Ａｇ）とを含む合金により構成された
ことを特徴とする請求項１記載の発光素子。
【請求項５】
前記反射層は、銀（Ａｇ）と、サマリウム（Ｓｍ）と、銅（Ｃｕ）とを含む合金により構成された
ことを特徴とする請求項１記載の発光素子。
【請求項６】
前記反射層は、銀（Ａｇ）を主成分とし、０．０３質量％以上０．５質量％以下のサマリウム（Ｓｍ）と、０．２質量％以上１．０質量％以下の銅（Ｃｕ）とを含む合金により構成された
ことを特徴とする請求項１記載の発光素子。
【請求項７】
前記バリア層は、インジウム（Ｉｎ），スズ（Ｓｎ），亜鉛（Ｚｎ），カドミウム（Ｃｄ），チタン（Ｔｉ），クロム（Ｃｒ），ガリウム（Ｇａ）およびアルミニウム（Ａｌ）からなる金属元素の群のうちの少なくとも一種を含む金属、酸化物または金属化合物により構成された光透過性膜である
ことを特徴とする請求項１記載の発光素子。
【請求項８】
前記バリア層は、インジウム（Ｉｎ）とスズ（Ｓｎ）と酸素（Ｏ）とを含む化合物（ＩＴＯ），インジウム（Ｉｎ）と亜鉛（Ｚｎ）と酸素（Ｏ）とを含む化合物（ＩＺＯ），酸化インジウム（Ｉｎ2 Ｏ3 ），酸化スズ（ＳｎＯ2 ），酸化亜鉛（ＺｎＯ），酸化カドミウム（ＣｄＯ），酸化チタン（ＴｉＯ2 ），酸化クロム（ＣｒＯ2 ），窒化ガリウム（ＧａＮ），酸化ガリウム（Ｇａ2 Ｏ3 ）および酸化アルミニウム（Ａｌ2 Ｏ3 ）からなる群のうちの少なくとも１種により構成されている
ことを特徴とする請求項１記載の発光素子。
【請求項９】
前記バリア層の膜厚が、１ｎｍ以上５０ｎｍ以下である
ことを特徴とする請求項１記載の発光素子。
【請求項１０】
前記下地層は、平坦化層である
ことを特徴とする請求項１記載の発光素子。
【請求項１１】
前記発光層を含む層は、有機層である
ことを特徴とする請求項１記載の発光素子。
【請求項１２】
前記密着層は、前記発光層で発生し前記反射層を透過した光を反射させる反射補助膜を兼ねる
ことを特徴とする請求項１記載の発光素子。
【請求項１３】
前記反射補助膜は、クロム（Ｃｒ），インジウム（Ｉｎ），スズ（Ｓｎ），亜鉛（Ｚｎ），カドミウム（Ｃｄ），チタン（Ｔｉ），アルミニウム（Ａｌ），マグネシウム（Ｍｇ）およびモリブデン（Ｍｏ）からなる金属元素の群のうちの少なくとも１種を含む金属、導電性酸化物または金属化合物により構成されている
ことを特徴とする請求項１２記載の発光素子。
【請求項１４】
前記反射補助膜は、５０％以上の反射率を有する
ことを特徴とする請求項１２記載の発光素子。
【請求項１５】
基板に、下地層を介して、第１電極、発光層を含む層および第２電極が順に積層された発光素子の製造方法であって、
前記下地層の上に密着層を形成する工程と、
前記密着層の上に、前記発光層で発生した光を反射させる反射層を形成する工程と、
前記反射層の上に、前記反射層を保護するバリア層を形成する工程と、
前記バリア層、前記反射層および前記密着層を前記バリア層側から順にパターニングすることにより前記第１電極を形成する工程と、
前記第１電極の上に、発光層を含む層を形成する工程と、
前記発光層を含む層の上に、第２電極を形成する工程と
を含むことを特徴とする発光素子の製造方法。
【請求項１６】
前記バリア層、前記反射層および前記密着層をウェットエッチングによりパターニングする
ことを特徴とする請求項１５記載の発光素子の製造方法。
【請求項１７】
前記第１電極を形成する工程において、前記バリア層および前記反射層をパターニングしたのち、前記密着層をパターニングする
ことを特徴とする請求項１５記載の発光素子の製造方法。
【請求項１８】
前記第１電極を形成する工程において、前記バリア層をパターニングしたのち、前記反射層および前記密着層をパターニングする
ことを特徴とする請求項１５記載の発光素子の製造方法。
【請求項１９】
前記第１電極を形成する工程において、前記バリア層、前記反射層および前記密着層を、前記バリア層側から順に一層ずつパターニングする
ことを特徴とする請求項１５記載の発光素子の製造方法。
【請求項２０】
前記密着層を、クロム（Ｃｒ），インジウム（Ｉｎ），スズ（Ｓｎ），亜鉛（Ｚｎ），カドミウム（Ｃｄ），チタン（Ｔｉ），アルミニウム（Ａｌ），マグネシウム（Ｍｇ）およびモリブデン（Ｍｏ）からなる金属元素の群のうちの少なくとも１種を含む金属、導電性酸化物または金属化合物により構成する
ことを特徴とする請求項１５記載の発光素子の製造方法。
【請求項２１】
前記反射層を、銀（Ａｇ）または銀を含む合金により構成する
ことを特徴とする請求項１５記載の発光素子の製造方法。
【請求項２２】
前記反射層を、ネオジウム（Ｎｄ），サマリウム（Ｓｍ），イットリウム（Ｙ），セリウム（Ｃｅ），ユウロピウム（Ｅｕ），ガドリニウム（Ｇｄ），テルビウム（Ｔｂ），ジスプロシウム（Ｄｙ），エルビウム（Ｅｒ），イッテルビウム（Ｙｂ），スカンジウム（Ｓｃ），ルテニウム（Ｒｕ），銅（Ｃｕ）および金（Ａｕ）からなる群のうちの少なくとも１種の元素と、銀（Ａｇ）とを含む合金により構成する
ことを特徴とする請求項１５記載の発光素子の製造方法。
【請求項２３】
前記反射層を、銀（Ａｇ）と、サマリウム（Ｓｍ）と、銅（Ｃｕ）とを含む合金により構成する
ことを特徴とする請求項１５記載の発光素子の製造方法。
【請求項２４】
前記反射層を、銀（Ａｇ）を主成分とし、０．０３質量％以上０．５質量％以下のサマリウム（Ｓｍ）と、０．２質量％以上１．０質量％以下の銅（Ｃｕ）とを含む合金により構成する
ことを特徴とする請求項１５記載の発光素子の製造方法。
【請求項２５】
前記バリア層は、インジウム（Ｉｎ），スズ（Ｓｎ），亜鉛（Ｚｎ），カドミウム（Ｃｄ），チタン（Ｔｉ），クロム（Ｃｒ），ガリウム（Ｇａ）およびアルミニウム（Ａｌ）からなる金属元素の群のうちの少なくとも一種を含む金属、酸化物または金属化合物により構成された光透過性膜である
ことを特徴とする請求項１５記載の発光素子の製造方法。
【請求項２６】
前記バリア層を、インジウム（Ｉｎ）とスズ（Ｓｎ）と酸素（Ｏ）とを含む化合物（ＩＴＯ），インジウム（Ｉｎ）と亜鉛（Ｚｎ）と酸素（Ｏ）とを含む化合物（ＩＺＯ），酸化インジウム（Ｉｎ2 Ｏ3 ），酸化スズ（ＳｎＯ2 ），酸化亜鉛（ＺｎＯ），酸化カドミウム（ＣｄＯ），酸化チタン（ＴｉＯ2 ），酸化クロム（ＣｒＯ2 ），窒化ガリウム（ＧａＮ），酸化ガリウム（Ｇａ2 Ｏ3 ）および酸化アルミニウム（Ａｌ2 Ｏ3 ）からなる群のうちの少なくとも１種により構成する
ことを特徴とする請求項１５記載の発光素子の製造方法。
【請求項２７】
前記バリア層の膜厚を、１ｎｍ以上５０ｎｍ以下とする
ことを特徴とする請求項１５記載の発光素子の製造方法。
【請求項２８】
前記発光層を含む層として、有機層を形成する
ことを特徴とする請求項１５記載の発光素子の製造方法。
【請求項２９】
基板に、下地層を介して、第１電極、発光層を含む層および第２電極が順に積層され、前記発光層で発生した光を前記第２電極の側から取り出す発光素子を有する表示装置であって、
前記第１電極は、前記下地層に接して設けられた密着層と、前記発光層で発生した光を反射させる反射層と、前記反射層を保護するバリア層とが前記基板の側から順に積層された構成を有する
ことを特徴とする表示装置。
【請求項３０】
前記発光層を含む層は、有機層である
ことを特徴とする請求項２９記載の表示装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明による発光素子は、基板に、下地層を介して、第１電極、発光層を含む層および第２電極が順に積層され、発光層で発生した光を第２電極の側から取り出すものであって、第１電極は、下地層に接して設けられた密着層と、発光層で発生した光を反射させる反射層と、反射層を保護するバリア層とが基板の側から順に積層された構成を有するものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明による表示装置は、基板に、下地層を介して、第１電極、発光層を含む層および第２電極が順に積層され、発光層で発生した光を第２電極の側から取り出す発光素子を有するものであって、第１電極は、下地層に接して設けられた密着層と、発光層で発生した光を反射させる反射層と、反射層を保護するバリア層とが基板の側から順に積層された構成を有するものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
第２電極１７は、また、半透過性反射層としての機能を兼ねている。すなわち、この有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂは、第１電極１４の発光層１６Ｂ側の端面を第１端部Ｐ１、第２電極１７の発光層１６Ｂ側の端面を第２端部Ｐ２とし、有機層１６を共振部として、発光層１６Ｂで発生した光を共振させて第２端部Ｐ２の側から取り出す共振器構造を有している。このように共振器構造を有するようにすれば、発光層１６Ｂで発生した光が多重干渉を起こし、一種の狭帯域フィルタとして作用することにより、取り出される光のスペクトルの半値幅が減少し、色純度を向上させることができるので好ましい。また、封止パネル２０から入射した外光についても多重干渉により減衰させることができ、後述するカラーフィルタ２２（図１参照）との組合せにより有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂにおける外光の反射率を極めて小さくすることができるので好ましい。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６９】
反射層１４Ｂは、例えば、第１の実施の形態と同様に、銀または銀を含む合金により構成されていることが好ましい。反射層１４Ｂの膜厚は、例えば１０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下であることが好ましい。膜厚がこの範囲内であれば、密着層兼反射補助膜１４Ｄとの相乗効果により第１の実施の形態と同等の反射率が得られるからである。更に、１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下であればより好ましい。反射層１４Ｂをより薄くすることにより表面粗さをより小さくすることができ、したがってバリア層１４Ｃの膜厚をより薄くして光の取り出し効率を更に上げることができるからである。また、反射層１４Ｂをより薄くすることにより、製造途中の熱工程により反射層１４Ｂが結晶化して表面の凹凸が更に激しくなるのを緩和し、反射層１４Ｂ表面の凹凸によりバリア層１４Ｃの欠陥が増加するのをより効果的に阻止することができるからである。