Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成17年3月8日(2005.3.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示部と、信号色切換指示を受信する受信部と、前記信号色切換指示により前記表示部の表示色を切り換える制御部とを含む無線制御式通行表示器において、
車両の通過を検出する検出部と、信号色が所定の色のときに前記検出部が前記車両の通過を検出すると前記制御部からの指令により前記車両の映像を記憶する画像記憶装置とを備えるように構成したことを特徴とする無線制御式通行表示器。
【請求項２】
前記請求項１記載の無線制御式通行表示器において、
前記検出部は、前記車両の進行方向と交わる軌跡で進行する電磁波を受信する電磁波受信部と、該電磁波受信部の状態を前記制御部に伝送する状態監視部を備え、
前記信号色が所定の色であると共に前記電磁波受信部が非受信状態であるとき、前記車両は信号無視したと判定するように構成したことを特徴とする無線制御式通行表示器。
【請求項３】
前記請求項２記載の無線制御式通行表示器において、
複数個の前記電磁波受信部を備え、夫々の前記電磁波受信部が非受信状態となる時刻の時間差及び非受信状態となる期間から前記車両の進行速度及び車両長を前記状態監視部が算出し、
前記進行速度及び前記車両長から前記車両の映像を記憶するタイミングを決定するように構成したことを特徴とする無線制御式通行表示器。
【請求項４】
前記請求項１乃至３に記載の無線制御式通行表示器を少なくとも２つ備え、
１の無線制御式通行表示器は、操作部と、該操作部からの信号色切換指示を受信して送信する第1の無線制御式通行表示器であって、
他の無線制御式通行表示器は、前記第１の無線制御式通行表示器からの信号色切換指示を受信した後、信号色を切り換えると共に信号色切換指示に対して前記第１の無線制御式通行表示器に応答する第２の無線制御式通行表示器であって、
第１の無線制御式通行表示器が他の第２の無線制御式通行表示器からの応答を受信した後、第１及び第２の無線制御式通行表示器が共に通行する車両の映像を記憶するように構成したことを特徴とする車両交通整理システム。
【手続補正書】
【提出日】平成17年6月7日(2005.6.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ディジタルドキュメントが内容ファイル及び記述ファイルを含むファイル情報であって、前記ディジタルドキュメントは前記記述ファイルを介して１つ以上の前記使用権をアタッチされ、該使用権は前記記述ファイルに含まれ、該使用権は、前記ディジタルドキュメントの使用可能な回数を含む使用条件または配給条件を規定する情報であり、さらに該使用権は前記ディジタルドキュメントの使用もしくは配給にかかわる許諾に使用される情報であるときに、
ユーザが選択可能な複数の機能を示す機能リストをディスプレイ手段にディスプレイすること、
前記ディスプレイされた機能リストから機能を選択すること、
ディジタルドキュメントにアタッチされた使用権に基づいて、前記選択された機能が前記使用権に規定されていないことにより前記選択された機能のディジタルドキュメントに対する実行を拒絶することが決定された場合、該機能の実行を拒絶すること、及び、
前記選択された機能が前記使用権に規定されてあることにより前記機能のディジタルドキュメントに対する実行を許諾することが決定された場合、該機能を実行すること、
と、を含む、可搬格納デバイスにおけるディジタルドキュメントにアクセスするための方法。
【請求項２】
ディジタルドキュメントが内容ファイル及び記述ファイルを含むファイル情報であって、前記内容ファイルは前記記述ファイルから独立して格納可能であって、前記ディジタルドキュメントは前記記述ファイルを介して１つ以上の前記使用権をアタッチされ、該使用権は前記記述ファイルに含まれ、該使用権は、前記ディジタルドキュメントの使用可能な回数を含む使用条件または配給条件を規定する情報であり、さらに該使用権は前記ディジタルドキュメントの使用もしくは配給にかかわる許諾に使用される情報であるときに、
ユーザが選択可能な複数の機能を示す機能リストをディスプレイ手段にディスプレイすること、
前記ディスプレイされた機能リストから機能を選択すること、
ディジタルドキュメントにアタッチされた使用権に基づいて、前記選択された機能が前記使用権に規定されていないことにより前記選択された機能のディジタルドキュメントに対する実行を拒絶することが決定された場合、該機能の実行を拒絶すること、及び、
前記選択された機能が前記使用権に規定されてあることにより前記機能のディジタルドキュメントに対する実行を許諾することが決定された場合、該機能を実行すること、
と、を含む、可搬格納デバイスにおけるディジタルドキュメントにアクセスするための方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年6月7日(2005.6.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ディジタルドキュメントが内容ファイル及び記述ファイルを含むファイル情報であって、前記ディジタルドキュメントは前記記述ファイルを介して１つ以上の前記使用権をアタッチされ、該使用権は前記記述ファイルに含まれ、該使用権は、前記ディジタルドキュメントの使用可能な回数を含む使用条件または配給条件を規定する情報であり、さらに該使用権は前記ディジタルドキュメントの使用もしくは配給にかかわる許諾に使用される情報であるときに、
ディスプレイ手段と、
該ディジタルドキュメントを格納する格納手段と、
前記記述ファイルに含まれる使用権と、ユーザが選択可能な機能と、に基づいて、該機能のディジタルドキュメントに対する実行を、前記機能が前記使用権に規定されているか否かによって許諾又は拒絶するかを決定し、前記機能が前記使用権に規定されてないことによって該機能のディジタルドキュメントに対する実行を拒絶することを決定した場合、前記機能の実行を拒絶し、前記機能が前記使用権に規定されてあることによって該機能のディジタルドキュメントに対する実行を許諾することを決定した場合、該機能を実行するコントローラモジュールと、
を備えた可搬格納デバイス。
【請求項２】
前記ディジタルドキュメントを格納する外部システムと接続するインタフェースを備え、
前記外部システムが、前記記述ファイルに含まれる使用権と、前記機能と、に基づいて、前記機能が前記使用権に規定されてあるか否かによって前記機能の前記外部システムに格納されたディジタルドキュメントに対する実行を許諾又は拒絶するかを決定し、
前記コントローラモジュールは、前記機能が前記使用権に規定されていないことにより前記外部システムが前記機能の実行を拒絶すると決定した場合に、前記機能の実行を拒絶し、前記機能が前記使用権に規定されてあることにより前記外部システムが前記機能の実行を許諾すると決定した場合に、該機能を実行する、
ことを特徴とする請求項１に記載の可搬格納デバイス。
【請求項３】
前記外部システムは、別のリポジトリ又はレンダリングシステムであることを特徴とする請求項２記載の可搬格納デバイス。
【請求項４】
前記別のリポジトリは、別の可搬格納デバイスであることを特徴とする請求項３記載の可搬格納デバイス。
【請求項５】
ディジタルドキュメントが内容ファイル及び記述ファイルを含むファイル情報であって、前記内容ファイルは前記記述ファイルから独立して格納可能であって、前記ディジタルドキュメントは前記記述ファイルを介して１つ以上の前記使用権をアタッチされ、該使用権は前記記述ファイルに含まれ、該使用権は、前記ディジタルドキュメントの使用可能な回数を含む使用条件または配給条件を規定する情報であり、さらに該使用権は前記ディジタルドキュメントの使用もしくは配給にかかわる許諾に使用される情報であるときに、
ディスプレイ手段と、
該ディジタルドキュメントを格納する格納手段と、
前記記述ファイルに含まれる使用権と、ユーザが選択可能な機能と、に基づいて、該機能のディジタルドキュメントに対する実行を、前記機能が前記使用権に規定されているか否かによって許諾又は拒絶するかを決定し、前記機能が前記使用権に規定されてないことによって該機能のディジタルドキュメントに対する実行を拒絶することを決定した場合、前記機能の実行を拒絶し、前記機能が前記使用権に規定されてあることによって該機能のディジタルドキュメントに対する実行を許諾することを決定した場合、該機能を実行するコントローラモジュールと、
を備えた可搬格納デバイス。
【請求項６】
前記ディジタルドキュメントを格納する外部システムと接続するインタフェースを備え、
前記外部システムが、前記記述ファイルに含まれる使用権と、前記機能と、に基づいて、前記機能が前記使用権に規定されてあるか否かによって前記機能の前記外部システムに格納されたディジタルドキュメントに対する実行を許諾又は拒絶するかを決定し、
前記コントローラモジュールは、前記機能が前記使用権に規定されていないことにより前記外部システムが前記機能の実行を拒絶すると決定した場合に、前記機能の実行を拒絶し、前記機能が前記使用権に規定されてあることにより前記外部システムが前記機能の実行を許諾すると決定した場合に、該機能を実行する、
ことを特徴とする請求項５に記載の可搬格納デバイス。
【請求項７】
前記外部システムは、別のリポジトリ又はレンダリングシステムであることを特徴とする請求項６記載の可搬格納デバイス。
【請求項８】
前記別のリポジトリは、別の可搬格納デバイスであることを特徴とする請求項７記載の可搬格納デバイス。
【手続補正書】
【提出日】平成17年6月13日(2005.6.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】レーザー光照射装置及び半導体装置の作製方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
パルスレーザー発振器と、
前記パルスレーザー発振器から照射されたレーザー光を拡大するためのビームエキスパンダと、
前記拡大されたレーザー光を分割拡大する複眼状のフライアイレンズと、
前記分割拡大されたレーザー光を線状に集光する第１のシリンドリカルレンズと、
前記線状に集光されたレーザー光の均質性を向上させる第２のシリンドリカルレンズと、
被照射物である半導体膜を、前記線状に集光されたレーザー光の線方向と直角の方向に相対的に移動させるステージと、を有することを特徴とするレーザー光照射装置。
【請求項２】
パルスレーザー発振器と、
前記前記パルスレーザー発振器から照射されたレーザー光を分割拡大する複眼状のフライアイレンズと、
前記分割拡大されたレーザー光を線状に集光する第１のシリンドリカルレンズと、
前記線状に集光されたレーザー光の均質性を向上させる第２のシリンドリカルレンズと、
被照射物である半導体膜を、前記線状に集光されたレーザー光の線方向と直角の方向に相対的に移動させるステージと、を有することを特徴とするレーザー光照射装置。
【請求項３】
請求項１又は２において、前記均質性が向上した線状レーザー光を、前記半導体膜上に集光する第３のシリンドリカルレンズと、を有することを特徴とするレーザー光照射装置。
【請求項４】
パルスレーザー光をビームエキスパンダによって拡大する工程と、
前記拡大されたパルスレーザー光を複眼状のフライアイレンズによって分割拡大する工程と、
前記分割拡大されたパルスレーザー光をシリンドリカルレンズによって線状に集光する工程と、
前記線状パルスレーザー光をシリンドリカルレンズによって半導体膜上に集光して走査しながら照射する工程と、を有することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項５】
パルスレーザー光を複眼状のフライアイレンズによって分割拡大する工程と、
前記分割拡大されたパルスレーザー光をシリンドリカルレンズによって線状に集光する工程と、
前記線状パルスレーザー光をシリンドリカルレンズによって半導体膜上に集光して走査しながら照射する工程と、を有することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項６】
パルスレーザー光を発生させ、当該パルスレーザー光をビームエキスパンダによって拡大する工程と、
前記ビームエキスパンダによって、拡大整形されたパルスレーザー光をフライアイレンズにより分割拡大する工程と、
前記フライアイレンズにより分割拡大されたパルスレーザー光を第１のシリンドリカルレンズにより線状に集光する工程と、
該線状パルスレーザー光を、第２のシリンドリカルレンズにより当該パルスレーザー光の線状化される該線方向の均質性を向上させる工程と、
前記線状パルスレーザー光を第３のシリンドリカルレンズによって半導体膜上に集光して走査しながら照射する工程と、を有することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項７】
パルスレーザー光を発生させ、当該パルスレーザー光をビームエキスパンダによって拡大する工程と、
前記ビームエキスパンダによって、拡大整形されたパルスレーザー光を複眼状のフライアイレンズにより分割拡大する工程と、
前記フライアイレンズにより分割拡大されたパルスレーザー光を第１のシリンドリカルレンズにより線状に集光する工程と、
当該分割拡大されたパルスレーザー光を第２のシリンドリカルレンズにより当該パルスレーザー光の線状化される該線方向の均質性を向上させる工程と、
前記線状パルスレーザー光を第３のシリンドリカルレンズによって半導体膜上に集光して走査しながら照射する工程と、を有することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項８】
パルスレーザー光を発生させ、当該パルスレーザー光をフライアイレンズにより分割拡大する工程と、
前記フライアイレンズにより分割拡大されたパルスレーザー光を第１のシリンドリカルレンズにより線状に集光する工程と、
該線状パルスレーザー光を、第２のシリンドリカルレンズにより当該パルスレーザー光の線状化される該線方向の均質性を向上させる工程と、
前記線状パルスレーザー光を第３のシリンドリカルレンズによって半導体膜上に集光して走査しながら照射する工程と、を有することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項９】
パルスレーザー光を発生させ、当該パルスレーザー光を複眼状のフライアイレンズにより分割拡大する工程と、
前記フライアイレンズにより分割拡大されたパルスレーザー光を第１のシリンドリカルレンズにより線状に集光する工程と、
当該分割拡大されたパルスレーザー光を第２のシリンドリカルレンズにより当該パルスレーザー光の線状化される該線方向の均質性を向上させる工程と、
前記線状パルスレーザー光を第３のシリンドリカルレンズによって半導体膜上に集光して走査しながら照射する工程と、を有することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１０】
請求項４から請求項９のいずれか一項において、前記半導体膜は結晶性珪素膜であり、
前記結晶性珪素膜は、非晶質珪素膜上に酢酸ニッケル層を形成し、加熱して結晶化したものであることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１１】
請求項１０において、前記結晶性珪素膜には２〜２０ショットのパルスレーザー光が照射されることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１２】
請求項１０又は請求項１１において、前記結晶性珪素膜にはエネルギー密度の小さいパルスレーザー光を照射した後、エネルギー密度の大きいパルスレーザー光が照射されることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１３】
請求項４から請求項９のいずれか一項において、前記線状パルスレーザー光の前記半導体膜上における走査方向のエネルギー分布の形状は疑似台形状であり、
前記エネルギー分布は、最大エネルギーを１として、エネルギーが０．９５であるビーム幅をＬ１とし、エネルギーが０．７０であるビーム幅をＬ１＋Ｌ２＋Ｌ３としたとき、０．５Ｌ１≦Ｌ２≦Ｌ１、０．５Ｌ１≦Ｌ３≦Ｌ１を満たし、
Ｌ２は前記疑似台形状のエネルギー分布において、エネルギーが０．７０であるビーム幅のうち、前記疑似台形状のエネルギー分布の一方の側辺からの幅を示し、
Ｌ３は前記疑似台形状のエネルギー分布において、エネルギーが０．７０であるビーム幅のうち、前記疑似台形状のエネルギー分布の他方の側辺からの幅を示すものであることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１４】
請求項１３において、前記線状パルスレーザー光の前記半導体膜上における焦点深度は±４００μｍ以内であることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１５】
請求項１３又は１４において、前記半導体膜上に集光するシリンドリカルレンズを調節して前記エネルギー分布を有する線状パルスレーザー光を得ることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年4月9日(2004.4.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
すなわち、超臨界流体は、液体に近い密度を持ち溶解性が高いため、有機成分の洗浄に有効であり、気体のように拡散性が優れるため、短時間に均一な洗浄が可能であり、気体のように粘度が低いため、微細な部分の洗浄に適しているのである。また、超臨界流体では、溶液系の薬液のように低誘電率の絶縁物に浸透しても残留しないため、その特性を変化させることが無い。従って、半導体デバイスの微細構造の洗浄に非常に適していると言え、多いに注目されている。


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
ウェット処理の際には、容器１上方に設けられた液体取り入れ部３から液体が供給されて容器１内を満たし、処理が終了すると容器１下方に設けられた液体排出口４から排出される。その後、液化ガス取り入れ部５から液化二酸化炭素等が入れられて、さらに加熱・加圧される。すると、二酸化炭素は超臨界流体へと変化して、基板２の洗浄ないし乾燥を行うことができる。最後に、気体排出部６を開口して、容器１内部の圧力を徐々に周囲の大気圧へ降下させ、ロック１０から基板２と取り出す。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
また、液供給ライン１０４内に残った液は、液排出弁１０７を経て、チャンバ外へ排出（ドレン）される。具体的には、後述するウェット処理の終了後にＳＣＦチャンバ１００から液供給弁１０５の区間で液供給ライン１０４内に残留した液は、ＳＣＦの導入による圧力で押し出し排出される。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５３】
蓋１０３が閉められると、ステップＳ２において、ＳＣＦ供給弁１０９が開けられ、ＳＣＦチャンバ１００内へＳＣＦ供給ライン１０８から常圧の二酸化炭素ガスの供給が開始される。また、ＳＣＦ排出弁１１２も同時に開けられるので、供給されたガスは、ＳＣＦ排出口１１１からＳＣＦ排出ライン１１３を通って排出される。このようにして、ＳＣＦチャンバ１００内の雰囲気が二酸化炭素ガスでパージされていく。なお、常圧の二酸化炭素ガスの供給は、後述するステップＳ７の処理まで継続される。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７７】
次に、本ＳＣＦチャンバ３００は、図１のＳＣＦチャンバ１００と異なり、液噴出管１０６および液排出弁１０７が省略され、新たに整流板１２４を備える。整流板１２４は、上記ダンプ用の開口部上方に被さるように設けられ、下方から供給される液の流れを上方へ向かって整流する。


【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９９】
（１）上記実施形態において、ウェハ１０２は複数枚で説明しているが、一枚であってもよく、さらには基板以外の被洗浄物であってもよい。
【手続補正書】
【提出日】平成17年1月17日(2005.1.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電圧印加電極と接地電極からなる平行平板型の対向電極を有し、前記対向電極の少なくとも一方の電極対向面が固体誘電体で被覆されており、大気圧近傍の圧力下において前記対向電極間に電界を印加して該対向電極間の空間を放電空間にするとともに処理ガスを該放電空間に導入してプラズマ化し該放電空間の外に配置された基材に導いて処理を行う処理装置であって、前記電圧印加電極と基材との間隔が、接地電極と基材との間隔よりも大きくなるように配置されることを特徴とする放電プラズマ処理装置。
【請求項２】
電圧印加電極と基材との間隔と接地電極と基材との間隔の差が、前記放電空間の厚さよりも大きいことを特徴とする請求項１に記載の放電プラズマ処理装置。
【請求項３】
電圧印加電極と基材との間隔と接地電極と基材との間隔の差が、前記放電空間の厚さの１．２５倍以上、２０ｍｍ以下であることを特徴とする請求項１又は２に記載の放電プラズマ処理装置。
【請求項４】
電圧印加電極と基材との間隔と接地電極と基材との間隔の差が、２．５〜１０ｍｍであることを特徴とする請求項１又は２に記載の放電プラズマ処理装置。
【請求項５】
１の電圧印加電極の両側に接地電極（１）（２）がそれぞれ配置され、接地電極（１）と電圧印加電極との間の空間、接地電極（２）と電圧印加電極との間の空間が共に放電空間となされ、前記電圧印加電極と基材との間隔が、接地電極（１）と基材との間隔及び接地電極（２）と基材の間隔より大きくなるように配置されることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の放電プラズマ処理装置。
【請求項６】
放電空間の幅方向に垂直に基材を運搬する機構を備えた請求項１〜５のいずれか１項に記載の放電プラズマ処理装置。
【手続補正書】
【提出日】平成16年5月21日(2004.5.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
供給される高周波電力に応じて空洞を共振させることにより、該空洞内を通過するビームを加速制御する周波数可変空洞と、
各種運転パターンに対応した複数の周波数パラメータを予め格納したＲＦパターンメモリを有し、該ＲＦパターンメモリから所望の運転パターンに対応した周波数パラメータを制御ユニットへ出力するＲＦパターン生成手段と、
上記ＲＦパターン生成手段から出力される周波数パラメータに応じた変換値を出力する制御ユニットと、
上記制御ユニットにより出力される変換値に基づいて上記周波数可変空洞へ電力供給する電力供給手段と、
上記周波数可変空洞を通過するビーム計測値を計測するビームモニタと
を備え、
上記ＲＦパターン生成手段は上記周波数パラメータを補正するための周波数補正用パラメータを格納する周波数補正用パターンメモリを有し、上記ビームモニタにより計測されたビーム計測値と上記周波数補正用パターンメモリに現在格納されている周波数補正用パラメータとに基づいて新たな周波数補正用パラメータを上記周波数パターンメモリに設定するとともに上記制御ユニットへ出力し、
上記制御ユニットは上記ＲＦパターン生成手段から出力された周波数補正用パラメータを上記周波数パラメータに加算して得た制御パラメータに応じた変換値を上記電力供給手段へ出力することを特徴とする周波数可変空洞の制御装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
３は各パラメータ及びビームモニタ２により計測された計測値に基づいて周波数可変空洞１を制御するための制御ユニット、４はＲＦ発生源であるシンセサイザ、５は初段アンプ、６はパワーアンプ、７は周波数可変空洞１を共振させるためのフェライトバイアス電源、８は加速器制御のための上位計算機、９は各種運転パターンに対応した複数のＲＦパラメータを予め格納したＲＦパターンメモリを内部に有するＲＦパターン生成装置、１０は制御ユニット３およびＲＦパターン生成手段９にクロック及びタイミング信号を送信する同期信号装置を示す。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
【課題を解決するための手段】
この発明に係る周波数可変空洞の制御装置は、供給される高周波電力に応じて空洞を共振させることにより、該空洞内を通過するビームを加速制御する周波数可変空洞と、各種運転パターンに対応した複数の周波数パラメータを予め格納したＲＦパターンメモリを有し、該ＲＦパターンメモリから所望の運転パターンに対応した周波数パラメータを制御ユニットへ出力するＲＦパターン生成手段と、上記ＲＦパターン生成手段から出力される周波数パラメータに応じた変換値を出力する制御ユニットと、上記制御ユニットにより出力される変換値に基づいて上記周波数可変空洞へ電力供給する電力供給手段と、上記周波数可変空洞を通過するビーム計測値を計測するビームモニタとを備え、上記ＲＦパターン生成手段は上記周波数パラメータを補正するための周波数補正用パラメータを格納する周波数補正用パターンメモリを有し、上記ビームモニタにより計測されたビーム計測値と上記周波数補正用パターンメモリに現在格納されている周波数補正用パラメータとに基づいて新たな周波数補正用パラメータを上記周波数パターンメモリに設定するとともに上記制御ユニットへ出力し、上記制御ユニットは上記ＲＦパターン生成手段から出力された周波数補正用パラメータを上記周波数パラメータに加算して得た制御パラメータに応じた変換値を上記電力供給手段へ出力するものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６１】
【発明の効果】
この発明に係る周波数可変空洞の制御装置によれば、ビームモニタにより計測されたビーム計測値と周波数補正用パターンメモリに現在格納されている周波数補正用パラメータとに基づいて新たな周波数補正用パラメータとして周波数パターン設定値の補正を行なうことにより、ビームの加速を安定にし、容易にビームを調整することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成16年6月4日(2004.6.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液体の燃料を酸化するアノードと、酸素を還元するカソードと、前記アノードとカソードとの間に形成される電解質膜／電極接合体と、前記液体の燃料を保持する燃料容器と、前記燃料容器に形成された気液分離機能を持つ通気孔とを有する燃料電池発電装置。
【請求項２】
前記電解質膜／電極接合体は、前記燃料容器の壁面に形成されていることを特徴とする請求項１記載の燃料電池発電装置。
【請求項３】
前記通気孔は、前記燃料容器の内外とを通気するように設けられていることを特徴とする請求項１記載の燃料電池発電装置。
【請求項４】
前記通気孔は、燃料補給の機能を有することを特徴とする請求項１記載の燃料電池発電装置。
【請求項５】
前記通気孔の気液分離機能は、撥水性の多孔質膜により与えられることを特徴とする請求項１記載の燃料電池発電装置。
【請求項６】
前記アノード及び／又は前記カソードに接して拡散層が配置されていることを特徴とする請求項１記載の燃料電池発電装置。
【請求項７】
前記燃料電池発電装置内に液体燃料保持材が配置され、前記液体燃料保持材は前記アノードと接触していることを特徴とする請求項１記載の燃料電池発電装置。
【請求項８】
前記燃料電池発電装置内に液体燃料保持材が配置され、前記液体燃料保持材は前記アノードに接する拡散層と接触していることを特徴とする請求項１記載の燃料電池発電装置。
【請求項９】
前記燃料容器は、電気的絶縁性を有する材料で構成されることを特徴とする請求項１記載の燃料電池発電装置。
【請求項１０】
前記燃料容器の少なくとも外壁面が電気絶縁処理されていることを特徴とする請求項１記載の燃料電池発電装置。
【請求項１１】
前記燃料の燃料がメタノール水溶液であることを特徴とする請求項１記載の燃料電池発電装置。
【請求項１２】
請求項１記載の燃料電池発電装置を用いた充電器。
【請求項１３】
請求項１記載の燃料電池発電装置を用いた携帯用電源。
【請求項１４】
請求項１記載の燃料電池発電装置を用いた携帯用電子機器。
【手続補正書】
【提出日】平成17年7月19日(2005.7.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
将来分離される分離予定領域の外周に沿って部分的に形成された切り込みを有し、半導体デバイスチップが搭載される絶縁性シートと、
前記絶縁性シート上に前記切り込みを跨ぐように形成され、前記半導体デバイスチップの外部端子が接続される導電性パターンと、
を備え、
前記切り込みの幅は前記導電性パターンの幅よりも狭い
ことを特徴とするフィルム基板。
【請求項２】
将来分離される分離予定領域の外周に沿って部分的に形成された切り込みを有する絶縁性シートと、
前記絶縁性シート上に前記切り込みを跨ぐように形成された導電性パターンと、
前記絶縁性シート上に搭載され、前記導電性パターンに外部端子が接続された半導体デバイスチップと、
を備え、
前記切り込みの幅は前記導電性パターンの幅よりも狭い
ことを特徴とするフィルム基板。
【請求項３】
前記切り込みの長さは、前記分離予定領域の外周全体の長さの７０％以上且つ１００未満である
ことを特徴とする請求項１又は２に記載のフィルム基板。
【請求項４】
前記導電性パターンは、第１の部分と、第２の部分と、前記第１の部分と第２の部分との間に位置し且つ前記切り込みを跨ぐ第３の部分とを有し、前記第３の部分は前記第１の部分及び第２の部分よりも線幅が狭くなっている
ことを特徴とする請求項１又は２に記載のフィルム基板。
【請求項５】
前記絶縁性シート上に前記切り込みを跨ぐように形成され、前記半導体デバイスチップの外部端子に接続されない付加的な導電性パターンをさらに備えた
ことを特徴とする請求項１又は２に記載のフィルム基板。
【請求項６】
半導体デバイスチップが搭載される絶縁性シートに将来分離される分離予定領域の外周に沿って部分的に切り込みを形成する工程と、
前記絶縁性シート上に前記半導体デバイスチップの外部端子が接続される導電性パターンを形成する工程と、
を備えたことを特徴とするフィルム基板の製造方法。
【請求項７】
絶縁性シートに将来分離される分離予定領域の外周に沿って部分的に切り込みを形成する工程と、
前記絶縁性シート上に導電性パターンを形成する工程と、
前記絶縁性シート上に半導体デバイスチップを搭載して、該半導体デバイスチップの外部端子を前記導電性パターンに接続する工程と、
を備えたことを特徴とするフィルム基板の製造方法。
【請求項８】
前記導電性パターンは前記切り込みを跨ぐように形成される
ことを特徴とする請求項６又は７に記載のフィルム基板の製造方法。
【請求項９】
前記導電性パターンは前記切り込みを跨ぐ領域で線幅が狭く形成される
ことを特徴とする請求項８に記載のフィルム基板の製造方法。
【請求項１０】
前記導電性パターンを形成する際に、前記半導体デバイスチップの外部端子に接続されない付加的な導電性パターンを前記切り込みを跨ぐように形成する
ことを特徴とする請求項６乃至９のいずれかに記載のフィルム基板の製造方法。
【請求項１１】
絶縁性シートに将来分離される分離予定領域の外周に沿って部分的に切り込みを形成する工程と、
前記絶縁性シート上に導電性パターンを形成する工程と、
前記絶縁性シート上に半導体デバイスチップを搭載して、該半導体デバイスチップの外部端子を前記導電性パターンに接続する工程と、
前記切り込みの内側の少なくとも一部分を回路基板に接着させて前記切り込みの外側の部分を切り離すことにより、前記半導体デバイスチップが搭載された絶縁性シートの前記切り込みの内側の部分を前記回路基板上に残置させる工程と、
を備えたことを特徴とするフィルム基板付回路基板の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年2月5日(2004.2.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
四辺形の基板を表裏反転する四辺形基板反転装置において；
第１の軸線に沿って搬送された前記基板を保持し、第２の軸線回りに１８０度回転させる基板保持部材を備え；
前記第１の軸線と前記第２の軸線とは、４５度の角度をなしている；
四辺形基板反転装置。
【請求項２】
前記基板保持部材は、保持される基板を挟持するブイ字溝の形成された４個の保持部品を有する；
請求項１に記載の四辺形基板反転装置。
【請求項３】
前記ブイ字溝は、前記保持される基板を前記保持される基板の角部で挟持する；
請求項２に記載の四辺形基板反転装置。
【請求項４】
前記基板保持部材は、対称軸に対称に配置され、前記対称軸に対称に開閉動作をし、閉動作により前記基板を挟持する一対の部材を含んで構成され；
前記一対の部材がそれぞれ２個の前記保持部品を有している；
請求項２または請求項３に記載の四辺形基板反転装置。
【請求項５】
シリンダ軸を有するシリンダを備え；
前記シリンダは、前記シリンダにエアが供給されると前記シリンダ軸が移動して前記一対の部材を作動させ、前記一対の部材の基板の挟持を開放させるよう構成されている；
請求項４に記載の四辺形基板反転装置。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５のいずれか１項に記載の四辺形基板反転装置と；
前記四辺形の基板の表面または裏面のいずれか一方、及び対向する二つの側面を洗浄する洗浄装置と；
前記四辺形の基板を、前記四辺形基板反転装置及び前記洗浄装置間で搬送する搬送装置とを備えた；
四辺形基板洗浄ユニット。
【請求項７】
前記洗浄装置が、前記四辺形の基板の表面または裏面のいずれか一方を洗浄する上面洗浄ロールと、前記対向する二つの側面を洗浄する側面洗浄ロールとを有する；
請求項６に記載の四辺形基板洗浄ユニット。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
請求項３に係る発明による四辺形基板反転装置は、例えば図１、図３に示すように、請求項２に記載の四辺形基板反転装置２０１において、前記ブイ字溝は、前記保持される基板Ｗを前記保持される基板Ｗの角部で挟持する。
請求項４に係る発明による四辺形基板反転装置は、例えば図１に示すように、請求項２または請求項３に記載の四辺形基板反転装置２０１において、基板保持部材２０２は、対称軸に対称に配置され、前記対称軸に対称に開閉動作をし、閉動作により基板Ｗを挟持する一対の部材２４１を含んで構成され；一対の部材２４１がそれぞれ２個の保持部品２０４を有している。典型的には、部材２４１の対称軸に基板Ｗの対角軸が一致するように基板Ｗを保持するとよい。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
基板保持部材２０２は、対称軸に対称に配置され、対称軸に対称に開閉動作をし、閉動作により基板Ｗを挟持する一対の部材２４１を含み、この一対の部材２４１がそれぞれ２個の保持部品２０４を有するので、基板Ｗをスムーズにしっかりと挟持することができる。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
請求項５に係る発明による四辺形基板反転装置は、例えば図１に示すように、請求項４に記載の四辺形基板反転装置２０１において、シリンダ軸２１４を有するシリンダ２１３を備え；シリンダ２１３は、シリンダ２１３にエアが供給されるとシリンダ軸２１４が移動して前記一対の部材２４１を作動させ、前記一対の部材２４１の基板の挟持を開放させるよう構成されている。
上記目的を達成するために、請求項６に係る発明による四辺形基板洗浄ユニット１００２は、請求項１乃至請求項５のいずれか１項に記載の四辺形基板反転装置２０１と；四辺形の基板Ｗの表面または裏面のいずれか一方、及び対向する二つの側面を洗浄する洗浄装置４０１と；四辺形の基板Ｗを、四辺形基板反転装置２０１及び洗浄装置４０１間で搬送する搬送装置５０１とを備える。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
このように構成すると、請求項１乃至請求項５のいずれか１項に記載の四辺形基板反転装置２０１を備えるので、洗浄装置４０１によって四辺形の基板Ｗの表面または裏面のいずれか一方、及び対向する二つの側面を洗浄した後、基板Ｗを運搬装置５０１で四辺形基板反転装置２０１に搬送し、基板Ｗを第２の軸線Ｌ２回りに１８０度回転することにより、基板Ｗの表裏反転と、垂直中心軸回りの９０度回転を同時に行うことができる。次に、基板Ｗを運搬装置５０１で洗浄装置４０１に搬送し、洗浄装置４０１によって、表面または裏面の残りの一方、及び残りの対向する二つの側面を洗浄することができる。よって、洗浄ユニット１００２による洗浄時間を短縮することができる。
請求項７に記載の四辺形基板洗浄ユニットは、例えば図４、図５に示すように、請求項６に記載の四辺形基板洗浄ユニット１００２において、洗浄装置４０１が、前記四辺形の基板Ｗの表面または裏面のいずれか一方を洗浄する上面洗浄ロール４０２と、前記対向する二つの側面を洗浄する側面洗浄ロール４０３とを有する。
【手続補正書】
【提出日】平成17年2月7日(2005.2.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
制御端子と、
電源端子と、
ＧＮＤ端子と、
ＲＦ端子と、
前記ＲＦ端子から入力されるＲＦ信号の入出力経路を切り替えるスイッチ部と、
前記制御端子及び前記電源端子に接続され、前記スイッチ部を制御する制御部と、
前記制御端子と前記ＲＦ端子との間、前記制御端子と前記ＧＮＤ端子との間、及び前記電源端子と前記ＧＮＤ端子との間にそれぞれ設けられた保護ダイオードと
を具備することを特徴とする高周波スイッチ装置。
【請求項２】
制御端子と、
電源端子と、
ＲＦ端子と、
同一列に整列配置された抵抗素子に接続されたゲートを有する複数のＦＥＴ、並びに前記抵抗素子が同一列に整列配置された領域上を通過し且つ前記ＲＦ信号が伝搬されるＲＦ信号用配線を含み、前記ＲＦ端子から入力されるＲＦ信号の入出力経路を切り替えるスイッチ部と、
前記制御端子及び前記電源端子に接続され、前記スイッチ部を制御する制御部と
を具備することを特徴とする高周波スイッチ装置。
【請求項３】
前記スイッチ部を制御する信号が出力される前記制御部の出力端子に接続される配線は、いかなるＲＦ信号用配線とも交差しないことを特徴とする請求項２記載の高周波スイッチ装置。
【請求項４】
前記スイッチ部を制御する信号が出力される前記制御部の出力端子と、ＧＮＤ端子との間に設けられた容量素子を更に備えることを特徴とする請求項１または２記載の高周波スイッチ装置。
【請求項５】
前記制御端子と前記ＲＦ端子との間、前記制御端子とＧＮＤ端子との間、及び前記電源端子とＧＮＤ端子との間にそれぞれ設けられた保護ダイオードを更に備えることを特徴とする請求項２記載の高周波スイッチ装置。
【請求項６】
前記制御端子に接続された、前記制御部の第１端子と、
前記電源端子に接続された、前記制御部の第２端子と、
ＧＮＤ端子に接続された、前記制御部の第３端子と、
前記第１端子と前記制御端子との間、前記第２端子と前記電源端子との間、及び前記第３端子と前記ＧＮＤ端子との間に、それぞれ設けられた抵抗素子と
を更に備えることを特徴とする請求項１または２記載の高周波スイッチ装置。
【請求項７】
前記制御部は、ＦＥＴを含むインバータ回路と、
前記インバータ回路に含まれる前記ＦＥＴのゲートに印加されるゲート電圧の最大値が、ショットキー電圧を超えないように前記ゲート電圧をレベルシフトする、ＦＥＴを含むソースフォロワ回路と、
前記ソースフォロワ回路の出力端子と、前記インバータ回路に含まれる前記ＦＥＴのゲート端子との間に設けられた抵抗素子と
を備えることを特徴とする請求項１または２記載の高周波スイッチ装置。
【手続補正書】
【提出日】平成17年3月17日(2005.3.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シュードモナス属に属する微生物由来の、ｄ−ビオチンの生合成に関与する活性を有する蛋白質。
【請求項２】
ｄ−ビオチンの生合成に関与する活性を有する蛋白質が、ピメリン酸からピメリル−ＣｏＡへの生合成に関与する活性を有する蛋白質、ピメリル−ＣｏＡから７−ケト−８−アミノペラルゴン酸への生合成に関与する活性を有する蛋白質、７−ケト−８−アミノペラルゴン酸から７，８−ジアミノペラルゴン酸への生合成に関与する活性を有する蛋白質、７，８−ジアミノペラルゴン酸からデチオビオチンへの生合成に関与する活性を有する蛋白質およびデチオビオチンからビオチンへの生合成に関与する活性を有する蛋白質から選ばれる蛋白質である、請求項１記載の蛋白質。
【請求項３】
蛋白質が、ピメリル−ＣｏＡシンセターゼ、７−ケト−８−アミノペラルゴン酸シンセターゼ、７，８−ジアミノペラルゴン酸アミノトランスフェラーゼ、デチオビオチンシンセターゼおよびビオチンシンセターゼから選ばれる蛋白質である、請求項１または２記載の蛋白質。
【請求項４】
微生物が、シュードモナス  エスピー  Ｄ−０１１０株（ＦＥＲＭ  ＢＰ−６２８８）またはＤ−０１１０株から誘導され、かつｄ−ビオチンの生合成に関与する活性を有する蛋白質の生産能を有する微生物である、請求項１記載の蛋白質。
【請求項５】
以下の(a)または(b)の蛋白質。
(a) 配列番号１記載のアミノ酸配列からなる蛋白質
(b) (a)の蛋白質の有するアミノ酸配列において１若しくは数個のアミノ酸が欠失、置換若しくは付加されたアミノ酸配列からなり、かつｄ−ビオチンの生合成に関与する活性を有する蛋白質
【請求項６】
請求項１〜５のいずれかに記載の蛋白質をコードするＤＮＡ。
【請求項７】
以下の(a)または(b)のＤＮＡ。
(a) 下記の（I）または（II）の制限酵素切断地図で示される、ｄ−ビオチンの生合成に関与する活性を有する蛋白質をコードするＤＮＡ
【化１】
1999285385.tif 000001
【化２】
1999285385.tif 000002
(b) (a)のＤＮＡとストリンジェントな条件下でハイブリダイズし、かつｄ−ビオチンの生合成に関与する活性を有する蛋白質をコードするＤＮＡ
【請求項８】
以下の(a)または(b)のＤＮＡ。
(a) 配列番号２記載の塩基配列を有するＤＮＡ
(b) (a)のＤＮＡとストリンジェントな条件下でハイブリダイズし、かつｄ−ビオチンの生合成に関与する活性を有する蛋白質をコードするＤＮＡ
【請求項９】
ＤＮＡがシュードモナス属に属する微生物由来のＤＮＡである、請求項６、７または８記載のＤＮＡ。
【請求項１０】
ＤＮＡがシュードモナス  エスピーＤ−０１１０株（ＦＥＲＭ  ＢＰ−６２８８）由来のＤＮＡである、請求項６または７の(a)記載のＤＮＡ。
【請求項１１】
請求項６〜１０のいずれかに記載のＤＮＡから選ばれるＤＮＡをベクターに組み込んで得られる組換え体ＤＮＡ。
【請求項１２】
請求項１１記載の組換え体ＤＮＡを宿主細胞に導入して得られる形質転換体。
【請求項１３】
形質転換体がエシェリヒア属に属する微生物またはシュードモナス属に属する微生物である、請求項１２記載の形質転換体。
【請求項１４】
形質転換体が宿主微生物としてエシェリヒア・コリまたはシュードモナス  エスピー  Ｄ−０１１０株（ＦＥＲＭ  ＢＰ−６２８８）を用いて得られた形質転換体である、請求項１２記載の形質転換体。
【請求項１５】
請求項１２、１３または１４記載の形質転換体を培地に培養し、培養物中にｄ−ビオチンの生合成に関与する活性を有する蛋白質を生成蓄積させ、該培養物から該蛋白質を採取することを特徴とする、ｄ−ビオチンの生合成に関与する活性を有する蛋白質の製造方法。
【請求項１６】
ｄ−ビオチンの生合成に関与する活性を有する蛋白質が、ピメリン酸からピメリル−ＣｏＡへの生合成に関与する活性を有する蛋白質、ピメリル−ＣｏＡから７−ケト−８−アミノペラルゴン酸への生合成に関与する活性を有する蛋白質、７−ケト−８−アミノペラルゴン酸から７，８−ジアミノペラルゴン酸への生合成に関与する活性を有する蛋白質、７，８−ジアミノペラルゴン酸からデチオビオチンへの生合成に関与する活性を有する蛋白質およびデチオビオチンからビオチンへの生合成に関与する活性を有する蛋白質から選ばれる蛋白質である、請求項１５記載の製造方法。
【請求項１７】
蛋白質が、ピメリル−ＣｏＡシンセターゼ、７−ケト−８−アミノペラルゴン酸シンセターゼ、７，８−ジアミノペラルゴン酸アミノトランスフェラーゼ、デチオビオチンシンセターゼおよびビオチンシンセターゼから選ばれる蛋白質である、請求項１５または１６記載の製造方法。
【請求項１８】
請求項１２、１３または１４記載の形質転換体を培地に培養し、培養物中にビオチン活性物質を生成蓄積させ、該培養物からビオチン活性物質を採取することを特徴とする、ビオチン活性物質の製造方法。
【請求項１９】
シュードモナス属に属し、ビオチン活性物質の生産能を有する微生物を培地に培養し、培養物中にビオチン活性物質を生成蓄積させ、該培養物からビオチン活性物質を採取することを特徴とする、ビオチン活性物質の製造方法。
【請求項２０】
ビオチン活性物質が、ｄ−ビオチン、ｄ−デチオビオチン、７，８−ジアミノペラルゴン酸および７−ケト−８−アミノペラルゴン酸から選ばれる物質である、請求項１８または１９記載の製造方法。
【請求項２１】
微生物がシュードモナス  エスピー  Ｄ−０１１０株（ＦＥＲＭ  ＢＰ−６２８８）またはＤ−０１１０株から誘導され、かつｄ−ビオチンの生合成に関与する活性を有する蛋白質の生産能を有する微生物であることを特徴とする、請求項１８記載の製造方法。
【請求項２２】
培養時、培地中にエタノールを０．２〜２０容量％の範囲で添加することを特徴とする、請求項１８〜２１のいずれかに記載の製造方法。
【請求項２３】
シュードモナス  エスピー  Ｄ−０１１０株（ＦＥＲＭ  ＢＰ−６２８８）。
【手続補正書】
【提出日】平成17年3月24日(2005.3.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
体壁を貫通して留置される留置カテーテルと、前記留置カテーテルを保持するカテーテル保持管とを有するろう孔カテーテルセットであって、
前記カテーテル保持管は、前記留置カテーテルを挿入するルーメンを有し、体壁に留置される体壁留置部と、前記体壁留置部より伸展するフランジ部と、前記体壁留置部の体壁側面に設けられた組織形成部とを有し、
前記組織形成部は、細胞侵入性材料からなり、
前記留置カテーテルを前記体壁留置部のルーメンに挿入した状態において、前記留置カテーテルの外面と前記ルーメンの内面とが密着するように構成されていることを特徴とするろう孔カテーテルセット。
【請求項２】
前記留置カテーテルは、弾性材料からなり、前記体壁留置部のルーメン内で移動することができるように構成されている請求項１に記載のろう孔カテーテルセット。
【請求項３】
前記留置カテーテルは、体壁に固定するための固定部材を有する請求項１または２に記載のろう孔カテーテルセット。
【請求項４】
前記固定部材は、一端が閉鎖したルーメンを有し、
前記留置カテーテルは、輸液を注入するルーメンと、前記固定部材のルーメンの他端に連通するルーメンとを有する請求項３に記載のろう孔カテーテルセット。
【請求項５】
前記カテーテル保持管は、少なくとも前記留置カテーテルの輸液を注入するルーメンを封止可能な栓部材を有する請求項４に記載のろう孔カテーテルセット。
【請求項６】
前記固定部材は、前記留置カテーテルの前記固定部材に連通するルーメンにスタイレットを挿入することにより伸張するコイル状部材である請求項３ないし５のいずれかに記載のろう孔カテーテルセット。
【請求項７】
前記固定部材は、少なくとも一部にＸ線造影性が付与されている請求項３ないし６のいずれかに記載のろう孔カテーテルセット。
【請求項８】
前記細胞侵入性材料は、コラーゲンである請求項１ないし７のいずれかに記載のろう孔カテーテルセット。
【請求項９】
前記留置カテーテルの輸液を注入するルーメンに逆流防止弁が設けられている請求項１ないし８のいずれかに記載のろう孔カテーテルセット。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明のろう孔カテーテルセットは、体壁を貫通して留置される留置カテーテルと、前記留置カテーテルを保持するカテーテル保持管とを有するろう孔カテーテルセットであって、前記カテーテル保持管は、前記留置カテーテルを挿入するルーメンを有し、体壁に留置される体壁留置部と、前記体壁留置部より伸展するフランジ部と、前記体壁留置部の体壁側面に設けられた組織形成部とを有し、前記組織形成部は、細胞侵入性材料からなり、前記留置カテーテルを前記体壁留置部のルーメンに挿入した状態において、前記留置カテーテルの外面と前記ルーメンの内面とが密着するように構成されている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
前記留置カテーテルは、弾性材料からなり、前記体壁留置部のルーメン内で移動することができるように構成されていることが好ましい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
前記留置カテーテルは、体壁に固定するための固定部材を有することが好ましい。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
前記固定部材は、一端が閉鎖したルーメンを有し、前記留置カテーテルは、輸液を注入するルーメンと、前記固定部材のルーメンの他端に連通するルーメンとを有することが好ましい。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
前記カテーテル保持管は、少なくとも前記留置カテーテルの輸液を注入するルーメンを封止可能な栓部材を有することが好ましい。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
前記固定部材は、前記留置カテーテルの前記固定部材に連通するルーメンにスタイレットを挿入することにより伸張するコイル状部材であることが好ましい。
また、前記固定部材は、少なくとも一部にＸ線造影性が付与されていることが好ましい。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
前記細胞侵入性材料は、コラーゲンであることが好ましい。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
前記留置カテーテルの輸液を注入するルーメンに逆流防止弁が設けられていることが好ましい。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５２】
本発明のろう孔カテーテルセットは、留置カテーテルをカテーテル保持管のルーメンに挿入した状態において、留置カテーテルの外面とカテーテル保持管のルーメンの内面とを密着することができる。また、留置カテーテルをカテーテル保持管のルーメン内で移動することができるので、患者のろう孔の厚さに応じて固定位置を調節する（留置カテーテルを挿入する深さを変える）ことが可能である。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５３】
また、カテーテル保持管は、体壁に留置される体壁留置部の体壁側面に組織形成部が設けられており、組織形成部が細胞侵入性材料からなるので、カテーテル保持管とろう孔を密着させることができる。
また、細胞侵入性材料がコラーゲンであると、カテーテル保持管の周囲に真皮様組織が形成され、カテーテル保持管とろう孔を密着性を向上させることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成17年3月28日(2005.3.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ヘッドケース内に回転自在に配設された回転筒と、該回転筒を回転自在に保持する軸受けと、前記回転軸の内径よりも小さな外径を有し、一方の端部から延長する数条のスリ割りによって分割されかつ端部側において外径が徐々に大きくなるように形成された複数の弧状の条片とを有し、他方の端部において、前記回転筒の内壁に固定されているチャック筒と、該チャック筒と前記回転筒との間の隙間に挿入されたスプリングと、前記隙間に挿着され、一端が前記スプリングに接し、他端に向って内径が徐々に大きくなるチャック開閉用スリーブと、一端が該スリーブの前記他端に係合し、他端が前記回転筒を越えて延長し、端部が前記ヘッドケースの蓋部材に延長する押し部材とを有し、前記蓋部材を押下した時に、前記押し部材を介して前記チャック開閉用スリーブを押下して前記チャック筒とチャック開閉用スリーブとの係合を解除して前記チャック筒に切削バーを咬止するようにした歯科用ハンドピースのチャック機構。
【請求項２】
前記弧状の条片は、先端部が軸方向に切り欠かれた細片に形成され、該細片部において外径が徐々に大きくなるように形成されていることを特徴とする請求項１に記載の歯科用ハンドピースのチャック機構。
【請求項３】
前記弧状細片の回転方向の前端側の面は、回転方向に対し鋭角をなすように形成されていることを特徴とする請求項２に記載の歯科用ハンドピースのチャック機構。
【請求項４】
前記弧状細片の回転方向の後端側の面は、回転中心を通る面と同一面に形成され、回転方向の前端側の面は前記後端側の面に平行に形成されていることを特徴とする請求項３に記載の歯科用ハンドピースのチャック機構。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
本発明は、上述のごとき実情に鑑みてなされたもので、特に、歯科用ハンドピースにおいて、回転中、チャック片が切削バーに喰い込むようにして、歯科治療中に切削バーがハンドピースから脱落しないようにしたチャック機構を提供することを目的としてなされたものである。