【誤訳訂正書】
【提出日】令和3年7月2日(2021.7.2)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
エッチング方法であって、
フッ素含有前駆体を半導体処理チャンバの遠隔プラズマ領域内に流すことと、
前記遠隔プラズマ領域内でプラズマを形成して、前記フッ素含有前駆体のプラズマ流出物を生成することと、
前記プラズマ流出物を前記半導体処理チャンバの処理領域内に流すことであって、前記処理領域が、酸化ケイ素の露出した領域と、金属の露出した領域とを含む基板を収容する、前記プラズマ流出物を前記半導体処理チャンバの処理領域内に流すことと、
水素含有前駆体を前記処理領域に供給することと、
前記水素含有前駆体の液体を生成するために、前記水素含有前駆体を凝縮することと、
前記酸化ケイ素の露出した領域上に前記水素含有前駆体の液体を接触させることと、
前記露出した金属に対して前記露出した酸化ケイ素の少なくとも一部を選択的に除去することと
を含む、エッチング方法。
【請求項２】
前記水素含有前駆体が、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、及びペンタノールからなる群から選択されたアルコールを含む、請求項１に記載のエッチング方法。
【請求項３】
前記露出した酸化ケイ素の少なくとも一部を除去しながら、前記処理チャンバ内の圧力を増加させることをさらに含む、請求項１に記載のエッチング方法。
【請求項４】
前記圧力が、少なくとも約１Ｔｏｒｒ増加する、請求項３に記載のエッチング方法。
【請求項５】
前記フッ素含有前駆体が、三フッ化窒素を含む、請求項１に記載のエッチング方法。
【請求項６】
前記露出した酸化ケイ素の少なくとも一部を除去しながら、前記処理チャンバ内の温度を減少させることをさらに含み、前記温度が、少なくとも約５℃減少する、請求項１に記載のエッチング方法。
【請求項７】
前記金属が、タングステン、コバルト、銅、窒化チタン、窒化タンタル、及びけい化コバルトからなる群から選択される、請求項１に記載のエッチング方法。
【請求項８】
前記方法が、水を前記処理チャンバに供給せずに実行され、前記処理領域が、前記除去動作の間、プラズマがない状態で維持される、請求項１に記載のエッチング方法。
【請求項９】
前記水素含有前駆体は、前記処理領域に供給されるとき、前記遠隔プラズマ領域をバイパスする、請求項１に記載のエッチング方法。
【請求項１０】
除去方法であって、
フッ素含有前駆体を半導体処理チャンバの処理領域内に流すことであって、前記処理領域が、酸化ケイ素の露出した領域と、金属含有材料の露出した領域とを有する高アスペクト比フィーチャを備えた基板を収容する、フッ素含有前駆体を半導体処理チャンバの処理領域内に流すことと、
前記フッ素含有前駆体を前記処理領域内に流しながら、水素含有前駆体を前記処理領域に供給し、エッチャントを生成することと、
前記酸化ケイ素の露出した領域及び前記金属含有材料の露出した領域に前記水素含有前駆体を凝縮することと、
前記露出した金属含有材料に対して、前記エッチャントを用いて、露出した前記酸化ケイ素の少なくとも一部を選択的に除去することであって、前記除去する動作の間に前記処理領域はプラズマがない状態で維持される、ことと
を含む除去方法。
【請求項１１】
前記エッチャントが、潜伏期間がない状態で、酸化ケイ素との反応を開始する、請求項１０に記載の除去方法。
【請求項１２】
前記フッ素含有前駆体が、フッ化水素を含む、請求項１０に記載の除去方法。
【請求項１３】
前記方法が、約１０℃以下の処理温度、及び約５０Ｔｏｒｒ以下の処理圧力で実行される、請求項１０に記載の除去方法。
【請求項１４】
前記金属が、コバルト、タングステン、及び銅からなる群から選択される、請求項１０に記載の除去方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００６】
［０００６］幾つかの実施形態では、当該方法は、露出した酸化物の領域上の水素含有前駆体を凝縮することをさらに含み得る。水素含有前駆体は、アルコールを含み得る。アルコールは、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、及びペンタノールからなる群から選択され得る。当該方法は、露出した酸化物の少なくとも一部を除去しながら、処理チャンバ内の圧力を増加することを含み得る。圧力は、少なくとも約１Ｔｏｒｒ増加し得る。フッ素含有前駆体は、三フッ化窒素であり得るか、又は三フッ化窒素を含み得る。当該方法は、露出した酸化物の少なくとも一部を除去しながら、処理チャンバ内の温度を減少させることをさらに含み得る。温度は、少なくとも約５℃減少し得る。金属は、タングステン、コバルト、及び銅からなる群から選択され得る。当該方法は、水を処理チャンバに供給せずに実行され得る。水素含有前駆体は、処理領域に供給されるとき、遠隔プラズマ領域をバイパスし得る。処理領域は、除去動作の間、プラズマがない状態で維持され得る。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４９】
［００５３］幾つかの実施形態では、水素含有前駆体は、水ではない場合があり、幾つかの実施形態では、水は、処理領域内に前駆体として供給されない場合がある。方法３００が実行され得る基板は、金属又は金属含有材料の露出した領域と、酸化物の露出した領域とを有する基板を含み得る。露出され得る追加の材料には、金属窒化物又は金属酸化物を含む、ケイ素、窒化物、酸化物が含まれ得る。エッチング処理は、基板の１つ以上の領域上で、又は基板の表面にわたって、水素含有前駆体を凝縮することをさらに含み得る。フッ素含有プラズマ放出物は、次いで、液体と相互作用して、エッチャントを生成し得る。前駆体のうちの１つとして水を利用するエッチング処理は、金属又は金属含有材料を水に曝露することもあり、材料を腐蝕させる恐れがある。例えば、電解腐食が引き起こされる場合があり、これにより、金属の部分がエッチング又は置換され、構造体が変形し得る。したがって、前駆体として水が含まれない場合、このような種類の腐食又は変形が制限されるか、又は回避され得る。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５１】
［００５５］本技術で利用されるアルコールは、結合された−ＯＨを含む任意の物質を含んでもよく、１価アルコール、多価アルコール、脂肪族アルコール、又は脂環式アルコールを含んでもよい。例示的なアルコールは、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ペンタノール、ジオール、トリオール、又は他のアルコール含有材料を含み得る。例えば、幾つかの実施形態では、エタノールが利用されてもよく、幾つかの実施形態では、ブタノールが利用されてもよい。より長い鎖のアルコールは、凝縮を促進し得るより低い蒸気圧によって特徴付けられ得、これにより、特定のエッチング処理又はエッチング速度の加速が可能となり得る。より長い鎖のアルコールは、さらにより低い処理チャンバ圧力を促進することができ、これにより、窒化物のエッチングが減少し、窒化物の露出した領域に比べて酸化物のエッチングの選択性が広がり得る。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５２】
［００５６］本技術の別の利点は、処理が、エッチングに先立つ潜伏に特徴付けられ得ないことである。プラズマ前駆体又は水を利用する幾つかの処理は、エッチングを開始する前に潜伏期を有することがあり、この場合、エッチングはより迅速に起こり得る。これらの処理は、迅速なエッチングの後の待機期間の故に、調節がより困難であり得る。さらに、幾つかの従来技法は、連続エッチングの前に除去される固体副生成物を生成する処理を実行し得る。連続エッチングは、エッチング、及び後続の副生成物除去のサイクルにおいて実行され得る。高アスペクト比フィーチャに対しては、この処理はより時間がかかることがあり、エッチング処理を完了するために数多くのサイクルが必要であり得る。本技術は、これらの不足によって悩まされることはない。なぜなら、固体副生成物は形成され得ず、エッチングは、酸化物材料との接触の後に開始し得るからである。例えば、アルコールであり得る水素含有前駆体は、基板の表面上に凝縮することがあり、フッ素含有前駆体と相互作用し得る。フッ素含有前駆体は、分離されて、潜伏がない状態でエッチングが開始され得る。
【誤訳訂正６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００６０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００６０】
［００６４］幾つかの実施形態では、除去動作３２５は、第１の圧力、及び第２の圧力で実行されてもよく、チャンバ内の圧力を調節しながら実行してよい。いずれかの圧力又は両方の圧力が、上述のいずれかの範囲内であり得る。第２の圧力は、諸実施形態では、第１の圧力より高くてもよい。例えば、処理チャンバ内の圧力は、第１の圧力から第２の圧力へと増加させられ得る。チャンバ内の圧力を増加させることにより、実質的により多くの前駆体を処理チャンバに追加せずに、ウエハレベルでの凝縮も増加し得る。これにより、液滴がチャンバ部品又は基板の上で形成される機会が減り、再度、パターンの変形又は崩壊の減少又は防止が促進され得る。
【誤訳訂正７】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００６３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００６３】
［００６７］使用される前駆体に応じて、水素含有前駆体は、これらの流量のいずれかの流量で流されてもよい。使用される前駆体は、任意の数の水素含有前駆体であってもよい。例えば、アルコールが利用される場合、少なくとも若しくは約０．５ｇ／分の速度でアルコールは導入され得る。構成要素及び基板の上の凝縮を減らすために、アルコールは、約１０ｇ／分以下で導入され得るが、さらに、アルコールは、少なくとも若しくは約１ｇ／分、少なくとも若しくは約２ｇ／分、少なくとも若しくは約３ｇ／分、少なくとも若しくは約４ｇ／分、少なくとも若しくは約５ｇ／分、少なくとも若しくは約６ｇ／分、少なくとも若しくは約７ｇ／分、少なくとも若しくは約８ｇ／分、少なくとも若しくは約９ｇ／分、又はそれを越える速度で導入されてもよい。アルコールは、これらの上述のいずれかの速度間、又はこれらの任意の数値に含まれるより小さな範囲内の速度で導入されてもよい。
【誤訳訂正８】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００６７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００６７】
［００７１］例えば、上述のチャンバ条件に基づいて、アルコールは、処理チャンバに供給されてもよく、基板の露出した表面上で凝縮し得る。これらの表面は、除去される酸素含有材料（酸化物など）を含んでもよく、維持される又は最小限に低減される１つ以上の材料（金属若しくは金属含有材料、ケイ素若しくはケイ素含有材料、窒化物、又は他の露出した材料など）を含んでもよい。フッ化水素が、凝縮したアルコールと相互作用すると、フッ化水素は、分離されて、例えば、酸化ケイ素を改質又はエッチングし得るエッチャントを生成し得る。