Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成16年4月23日(2004.4.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１層間絶縁膜の上層に第２層間絶縁膜が形成され、前記第１層間絶縁膜に溝パターンが形成され、前記溝パターンにＣｕ配線が埋め込まれた半導体集積回路装置であって、前記Ｃｕ配線の表面にシリサイド層が形成されており、前記シリサイド層および前記第１層間絶縁膜と前記第２層間絶縁膜との間に第３層間絶縁膜が形成されており、前記第２層間絶縁膜および前記第３層間絶縁膜を貫通して前記シリサイド層に接続するプラグが形成されていることを特徴とする半導体集積回路装置。
【請求項２】
請求項１記載の半導体集積回路装置において、前記シリサイド層の厚さは、５〜５０ｎｍ程度であることを特徴とする半導体集積回路装置。
【請求項３】
請求項１記載の半導体集積回路装置において、前記溝パターンに埋め込まれた前記Ｃｕ配線と前記第１層間絶縁膜との間にバリア層が形成されていることを特徴とする半導体集積回路装置。
【請求項４】
請求項１記載の半導体集積回路装置において、前記第２層間絶縁膜は、誘電率が３．０以下の絶縁膜によって構成されていることを特徴とする半導体集積回路装置。
【請求項５】
(a).半導体基板上に形成された第１層間絶縁膜に溝パターンを形成する工程と、
(b).前記溝パターン内および前記第１層間絶縁膜の上層にバリア層およびＣｕ膜を順次形成する工程と、
(c).前記Ｃｕ膜の表面および前記バリア層の露出した表面を化学的機械研磨法によって平坦化し、前記溝パターンに前記Ｃｕ膜および前記バリア層を埋め込む工程と、
(d).０．１Ｔｏｒｒ以下の減圧状態においてシラン系ガス雰囲気中で半導体基板に熱処理を施し、前記Ｃｕ膜の表面を選択的にシリサイド化する工程と、
(e).前記シリサイド化したＣｕ膜表面と前記第１層間絶縁膜上に第３層間絶縁膜を形成する工程と、
(f).前記第３層間絶縁膜上に第２層間絶縁膜を形成する工程と、
(g).前記第２層間絶縁膜および前記第３層間絶縁膜を貫通して前記シリサイド化したＣｕ膜表面を露出するビアを形成する工程と、
(h).前記ビア内にプラグを形成する工程を有することを特徴とする半導体集積回路装置の製造方法。
【請求項６】
(a).半導体基板上に形成された第１層間絶縁膜に溝パターンを形成する工程と、
(b).前記溝パターン内および前記第１層間絶縁膜の上層にバリア層およびＣｕ膜を順次形成する工程と、
(c).前記バリア膜をストッパ層としてＣｕ膜の表面を化学的機械研磨法によって平坦化する工程と、
(d).０．１Ｔｏｒｒ以下の減圧状態においてシラン系ガス雰囲気中で半導体基板に熱処理を施し、前記Ｃｕ膜の表面を選択的にシリサイド化する工程と、
(e).前記第１層間絶縁膜上に残ったバリア層の表面をドライエッチングによって除去する工程と、
(f).前記シリサイド化したＣｕ膜表面と前記第１層間絶縁膜上に第３層間絶縁膜を形成する工程と、
(g).前記第３層間絶縁膜上に第２層間絶縁膜を形成する工程と、
(h).前記第２層間絶縁膜および前記第３層間絶縁膜を貫通して前記シリサイド化したＣｕ膜表面を露出するビアを形成する工程と、
(i).前記ビア内にプラグを形成する工程を有することを特徴とする半導体集積回路装置の製造方法。
【請求項７】
請求項５または６記載の半導体集積回路装置の製造方法において、前記シラン系ガスは、モノシランガス、またはモノシランと窒素との混合ガスであることを特徴とする半導体集積回路装置の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
さらに、Ｃｕ配線の上層に窒化シリコン膜を形成する前に、例えばアンモニア系の水溶液で洗浄しているにもかかわらず、Ｃｕ配線と窒化シリコン膜との間にはＣｕの酸化物が存在しており、このため両間の密着性は必ずしも良好ではなく、窒化シリコン膜が剥がれる可能性がある。なお特願平１０−２２０５４０号（特開平２０００−５８５４４号公報）にはＣｕダマシン配線を形成後に配線間リーク電流を防止するためにＣｕ表面にＳｉＨ4を用いてＣｕＳｉを形成後その上面にＳｉＨ4とＮＨ3を用いて窒化シリコン膜を形成する方法の開示がある。また特開平１１−８７４９９号公報にはＣｕの周りにＣｕＳｉを形成してバリア膜とする開示がある。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
次に、図５に示すように、半導体基板１上にプラズマＣＶＤ法によって窒化シリコン膜７を堆積する。次いで、プラズマＣＶＤ法によってＴＥＯＳをソースとしたＴＥＯＳ膜８を堆積した後、レジストパターンをマスクにしてＴＥＯＳ膜８および窒化シリコン膜７を順次エッチングすることによって、Ｃｕ配線Ｍ1上のシリサイド層６に達するスルーホール９を形成する。ここで、上記エッチングにおいて、シリサイド層６をエッチングのストッパ層として用いる。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
さらに、シリサイド層６によってＣｕ配線Ｍ1からのＣｕの拡散を防ぐことができるので、シリサイド層６の上層に窒化シリコン膜７を形成する必要がなく、３．０以下の低い誘電率を有する絶縁膜を形成することが可能となって、配線遅延を改善することができる。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
次に、図８に示すように、アンモニア（ＮＨ3）ガス雰囲気中で半導体基板１にプラズマ処理を施して、Ｃｕ配線Ｍ1の表面を還元した後、半導体基板１上にプラズマＣＶＤ法によって窒化シリコン膜７を堆積し、次いでプラズマＣＶＤ法によってＴＥＯＳをソースとしたＴＥＯＳ膜８を堆積する。この後、レジストパターンをマスクにしてＴＥＯＳ膜８および窒化シリコン膜７を順次エッチングすることによって、Ｃｕ配線Ｍ1に達するスルーホール９を形成し、次いでスルーホール９にプラグ電極１０を形成する。
【手続補正書】
【提出日】平成17年11月2日(2005.11.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】保護フィルム層、接着剤層、金属板の順に積層された半導体装置用部品において、前記接着剤層がエポキシ樹脂（Ａ）、熱可塑性樹脂（Ｂ）およびハイドロタルサイト系化合物（Ｃ）を含有する熱硬化型の接着剤層であることを特徴とする半導体装置用部品。
【請求項２】保護フィルム、接着剤層、絶縁体層および導体パターンからなる配線基板の順に積層された半導体装置用部品において、前記接着剤層がエポキシ樹脂（Ａ）、熱可塑性樹脂（Ｂ）およびハイドロタルサイト系化合物（Ｃ）を含有する熱硬化型の接着剤層であることを特徴とする半導体装置用部品。
【請求項３】熱可塑性樹脂（Ｂ）がブタジエンを必須共重合成分とする熱可塑性樹脂（Ｂ’）を含有することを特徴とする請求項１または２記載の半導体装置用部品。
【請求項４】熱可塑性樹脂（Ｂ）がブタジエンを必須共重合成分とし、かつカルボキシル基を有する熱可塑性樹脂（Ｂ”）を含有することを特徴とする請求項１または２記載の半導体装置用部品。
【請求項５】無機質充填材（Ｄ）を含有することを特徴とする請求項１または２記載の半導体装置用部品。
【請求項６】少なくとも１層以上の接着剤層を有する半導体装置において、前記接着剤層がエポキシ樹脂（Ａ）、熱可塑性樹脂（Ｂ）およびハイドロタルサイト系化合物（Ｃ）を含有する熱硬化型の接着剤層であることを特徴とする半導体装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
【課題を解決するための手段】
すなわち、本発明は保護フィルム層、接着剤層、金属板の順に積層された半導体装置用部品において、前記接着剤層がエポキシ樹脂（Ａ）、熱可塑性樹脂（Ｂ）およびハイドロタルサイト系化合物（Ｃ）を含有する熱硬化型の接着剤層であることを特徴とする半導体装置用部品である。また、本発明は保護フィルム層、接着剤層、絶縁体層および導体パターンからなる配線基板層の順に積層された半導体装置用部品において、前記接着剤層がエポキシ樹脂（Ａ）、熱可塑性樹脂（Ｂ）およびハイドロタルサイト系化合物（Ｃ）を含有する熱硬化型の接着剤層であることを特徴とする半導体装置用部品である。
【手続補正書】
【提出日】平成17年8月25日(2005.8.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
すなわち、図５に示すように、半導体素子１の表面に形成したＡｌ電極２を覆うように、Ｃｒ，Ｔｉ，Ｎｉ，Ｃｕ，Ａｕ等の金属を用いて蒸着法あるいはスパッタリング法により金属膜３を形成し、その後、フォトレジスト４を用いたフォトリソグラフィ法により、上記金属膜３を部分的にエッチングして下地電極５を形成し、さらに、この下地電極５の上にフラックス６を介して半田ボール７を設け、加熱することにより半田ボール７を下地電極５に溶融接合させて、突起電極８を形成し、この突起電極８を実装基板上の電極に対してはんだ付け等により接合するものであり、又、突起電極としてＡｕを用いる場合は、下地電極５上にスタッドボンダーを用いてＡｕからなる突起電極を形成し、異方性導電接着剤を用いてこの突起電極を実装基板に接合するものである。
【手続補正書】
【提出日】平成17年9月27日(2005.9.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
真空排気された容器内にプラズマを生成して試料のエッチングを行うエッチング装置であって、
前記試料に対向して配置される第１の板部材と、
前記試料を載置する第２の板部材と、
前記第１の板部材に対し高周波電圧を印加するための電源と、
前記プラズマ生成ガスを前記容器内に供給するガス供給手段とを備え、
前記第１の板部材は、
前記ガス供給手段により供給されるガスを前記容器内のプラズマが生成される領域に流すための複数のガス孔と、
前記試料の対向面に形成された凹凸とを備えたことを特徴とするプラズマエッチング装置。
【請求項２】
請求項１に記載のプラズマエッチング装置において、
前記凹凸がリング状の凹部パターンであることを特徴とするプラズマエッチング装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載のプラズマエッチング装置において、
前記第１の板部材がシリコンまたはカーボンからなることを特徴とするプラズマエッチング装置。
【請求項４】
真空排気された容器内にプラズマを生成して試料のエッチングを行うエッチング装置であって、
前記試料を載置する試料載置手段と、
該試料載置手段に対向して配置され、前記容器内にエッチング用ガスを流す複数のガス孔を有するシャワーヘッドと、
該シャワーヘッドに前記エッチング用ガスを供給する供給するガス供給手段と、
前記板部材に対し高周波電圧を印加するための第１の電源と、
前記板部材に対しバイアス電圧を印加するための第２の電源と、
前記試料載置手段に対してバイアス電圧を印加するための第３の電源と、
前記容器内に対して磁場を印加する手段とを有し、
前記シャワーヘッドは、シリコンまたはカーボンからなり、かつ前記試料の対向面に形成された凹凸とを備えることを特徴とするプラズマエッチング装置。
【手続補正書】
【提出日】平成17年11月1日(2005.11.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  多孔質体をエッチング液中でエッチングするエッチング方法において、前記エッチング液に接する気体を減圧状態に維持しながら前記エッチングを行うことを特徴とする多孔質体のエッチング方法。
【請求項２】  前記エッチング液及び多孔質体を密閉可能な槽内に収容し、前記槽内を排気することを特徴とする請求項１に記載の多孔質体のエッチング方法。
【請求項３】  前記エッチングは、波動エネルギーを印加しながら行うことを特徴とする請求項１に記載の多孔質体のエッチング方法。
【請求項４】  前記エッチング液はふっ酸系反応液であることを特徴とする請求項１に記載の多孔質体のエッチング方法。
【請求項５】  前記エッチング液は、ふっ酸と過酸化水素水との混合液であることを特徴とする請求項４に記載の多孔質体のエッチング方法。
【請求項６】  前記エッチング液は、ふっ酸と界面活性剤との混合液であることを特徴とする請求項４に記載の多孔質体のエッチング方法。
【請求項７】  前記エッチング液は、ふっ酸と過酸化水素水と界面活性剤との混合液であることを特徴とする請求項４に記載の多孔質体のエッチング方法。
【請求項８】  前記界面活性剤は、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコールのいずれかであることを特徴とする請求項６に記載の多孔質体のエッチング方法。
【請求項９】  少なくとも一部に多孔質面の表出した基体を保持するための保持手段と、該基体の多孔質部分をエッチングするエッチング液を入れるための密閉可能なエッチング槽と、該エッチング槽内の該エッチング液に接する気体を減圧状態に維持するための減圧手段と、を有することを特徴とする多孔質体のエッチング装置。
【請求項１０】  前記減圧手段は、ポンプであることを特徴とする請求項９に記載の多孔質体のエッチング装置。
【手続補正書】
【提出日】平成16年11月30日(2004.11.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】洗浄装置及び洗浄方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被洗浄物の上下面に対して所定の隙間を介して対向する上下部材を具備し、
該上下部材にはそれぞれ被洗浄物の上下面に液膜を形成する洗浄液を供給する洗浄液供給手段を設置し、
且つ該上下部材の両者又は何れか一方には前記液膜中に超音波振動を印加する超音波振動子を取り付け、
前記上下部材間に収納した被洗浄物の上下面の両者又は何れか一方に形成される液膜中に超音波振動を加えることで被洗浄物に付着しているダストを洗浄して取り除くことを特徴とする洗浄装置。
【請求項２】
前記被洗浄物を制御された速度で回転又は移動させる手段を設け、該手段によって被洗浄物を回転又は移動しながら洗浄を行なうことを特徴とする請求項１記載の洗浄装置。
【請求項３】
前記被洗浄物の上下面に、不活性ガスを供給する不活性ガス供給手段を設け、該不活性ガスの流れにより被洗浄物の上下面を乾燥させることを特徴とする請求項１記載の洗浄装置。
【請求項４】
前記超音波振動子の種類を二種類以上とし、各種類の超音波振動子毎に異なる周波数域の超音波振動を被洗浄物に与えることを特徴とする請求項１記載の洗浄装置。
【請求項５】
洗浄液として複数種類の液体を具備し、該複数種類の液体を選択して前記洗浄液供給手段に供給する洗浄液選択手段を設けたことを特徴とする請求項１記載の洗浄装置。
【請求項６】
被洗浄物の上下面に対して所定の隙間を介して上下部材を対向し、
前記上下部材に設置した洗浄液供給手段からそれぞれ被洗浄物の上下面に洗浄液を供給して液膜を形成し、
同時に前記上下部材の両者又は何れか一方に取り付けた超音波振動子から前記液膜中に超音波振動を印加することによって、
前記上下部材間に収納した被洗浄物の上下面の両者又は何れか一方に形成される液膜中に超音波振動を加えることで被洗浄物に付着しているダストを洗浄して取り除くことを特徴とする洗浄方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は半導体ウエハや大型液晶板等の被洗浄物を洗浄する洗浄装置及び洗浄方法に関するものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明は上述の点に鑑みてなされたものでありその目的は、少ない洗浄液で効果的な洗浄が行え、スポンジ等の消耗部品が不要であり、また例え半導体ウエハが大径化しても洗浄プロセスタイムが長くならず、さらに装置の小型化も図れる洗浄装置及び洗浄方法を提供することにある。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
【課題を解決するための手段】
上記問題点を解決するため本発明にかかる洗浄装置は、被洗浄物の上下面に対して所定の隙間を介して対向する上下部材を具備し、該上下部材にはそれぞれ被洗浄物の上下面に液膜を形成する洗浄液を供給する洗浄液供給手段を設置し、且つ該上下部材の両者又は何れか一方には前記液膜中に超音波振動を印加する超音波振動子を取り付け、前記上下部材間に収納した被洗浄物の上下面の両者又は何れか一方に形成される液膜中に超音波振動を加えることで被洗浄物に付着しているダストを洗浄して取り除くことを特徴とする。
また本発明は、前記被洗浄物を制御された速度で回転又は移動させる手段を設け、該手段によって被洗浄物を回転又は移動しながら洗浄を行なうことを特徴とする。
また本発明は、前記洗浄液の流路を利用して前記被洗浄物の上下面に不活性ガスを供給する不活性ガス供給手段を設け、該不活性ガスの流れにより被洗浄物の上下面を清浄な状態で乾燥させることを特徴とする。
また本発明は、前記超音波振動子の種類を二種類以上とし、各種類の超音波振動子毎に異なる周波数域の超音波振動を被洗浄物に与えることを特徴とする。
また本発明は、洗浄液として、複数種類の液体を具備し、該複数種類の液体を選択して前記洗浄液供給手段に供給する洗浄液選択手段を設けたことを特徴とする。
また本発明にかかる洗浄方法は、被洗浄物の上下面に対して所定の隙間を介して上下部材を対向し、前記上下部材に設置した洗浄液供給手段からそれぞれ被洗浄物の上下面に洗浄液を供給して液膜を形成し、同時に前記上下部材の両者又は何れか一方に取り付けた超音波振動子から前記液膜中に超音波振動を印加することによって、前記上下部材間に収納した被洗浄物の上下面の両者又は何れか一方に形成される液膜中に超音波振動を加えることで被洗浄物に付着しているダストを洗浄して取り除くことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成17年4月19日(2005.4.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】セラミック成形体の封口方法、多孔質セラミック部材の製造方法、及び、セラミックフィルタの製造方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
多数の貫通孔が隔壁を隔てて長手方向に並設された柱状のセラミック成形体の前記貫通孔の端部を、セラミック粉末を主成分とする封口用ペーストで封口するセラミック成形体の封口方法であって、封口パターン状に開孔が形成されたマスクを、前記セラミック成形体の端面に当接し、前記封口用ペーストを前記マスクの開孔から前記セラミック成形体の貫通孔に侵入させた後、前記セラミック成形体を前記マスクより上にした状態で、前記セラミック成形体と前記マスクとを引き離すことを特徴とするセラミック成形体の封口方法。
【請求項２】
多数の貫通孔が隔壁を隔てて長手方向に並設された柱状のセラミック成形体の前記貫通孔の端部を、セラミック粉末を主成分とする封口用ペーストで封口するセラミック成形体の封口方法であって、封口パターン状に開孔が形成されたマスクを、前記セラミック成形体の端面に当接し、前記封口用ペーストを前記マスクの開孔から前記セラミック成形体の貫通孔に侵入させた後、前記マスクを前記セラミック成形体より上にした状態で、前記セラミック成形体と前記マスクとを引き離すことを特徴とするセラミック成形体の封口方法。
【請求項３】
前記封口用ペーストの粘度は、室温において、５０００〜８０００ｃＰである請求項１又は２に記載のセラミック成形体の封口方法。
【請求項４】
前記セラミック成形体と前記マスクとを引き離す際、前記マスクの主面及びセラミック成形体の端面が、−４５°〜＋４５°まで傾いている請求項１〜３のいずれか１に記載のセラミック成形体の封口方法。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１に記載の封口方法で封口されたセラミック成形体を焼成処理することを特徴とする多孔質セラミック部材の製造方法。
【請求項６】
請求項５に記載の製造方法で製造した多孔質セラミック部材を複数個結束させることを特徴とするセラミックフィルタの製造方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、多数の貫通孔が長手方向に並設された柱状のセラミック成形体の封口方法、上記封口方法で封口したセラミック成形体を用いる多孔質セラミック部材の製造方法、及び、上記製造方法で得た多孔質セラミック部材を用いるセラミックフィルタの製造方法に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、これらの問題を解決するためになされたもので、セラミック成形体の端面に、封口用ペーストからなる突起や垂れ等を形成させることなく、封口すべきでない貫通孔を封口してしまう等の問題を発生させることなく、適切に封口処理を行うことができるセラミック成形体の封口方法、上記封口方法で封口したセラミック成形体を用いる多孔質セラミック部材の製造方法、及び、上記製造方法で得た多孔質セラミック部材を用いるセラミックフィルタの製造方法を提供することを目的とするものである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
また、第二の本発明は、多数の貫通孔が隔壁を隔てて長手方向に並設された柱状のセラミック成形体の上記貫通孔の端部を、セラミック粉末を主成分とする封口用ペーストで封口するセラミック成形体の封口方法であって、封口パターン状に開孔が形成されたマスクを、上記セラミック成形体の端面に当接し、上記封口用ペーストを上記マスクの開孔から上記セラミック成形体の貫通孔に侵入させた後、上記マスクを上記セラミック成形体より上にした状態で、上記セラミック成形体と上記マスクとを引き離すことを特徴とするセラミック成形体の封口方法である。
また、第三の本発明は、第一又は第二の本発明のセラミック成形体の封口方法で封口されたセラミック成形体を焼成処理することを特徴とする多孔質セラミック部材の製造方法である。
また、第四の本発明は、第三の本発明の多孔質セラミック部材の製造方法で製造した多孔質セラミック部材を複数個結束させることを特徴とするセラミックフィルタの製造方法である。
【手続補正書】
【提出日】平成17年5月26日(2005.5.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】光記録媒体及びその記録層用化合物
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に少なくとも記録層および反射層を有する光記録媒体において、記録層中に、互変可能な構造の一つとして一般式（１）で示される化合物を含有する光記録媒体。
【化１】
2000280620.tif 000001
〔式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、置換または無置換のアルキル基、アラルキル基、アリール基、アルコキシ基、アラルキルオキシ基、アリールオキシ基、アルケニル基、アルケニルオキシ基、アルキルチオ基、アラルキルチオ基、アリールチオ基、アルケニルチオ基、アルキルアミノ基、アラルキルアミノ基、アリールアミノ基、アルケニルアミノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルケニルオキシカルボニル基、アルキルアミノカルボニル基、アラルキルアミノカルボニル基、アリールアミノカルボニル基、アルケニルアミノカルボニル基、複素環基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基を表す。〕
【請求項２】
波長４００ｎｍ〜５００ｎｍの範囲から選択されるレーザー光に対して記録および再生が可能である請求項１の光記録媒体。
【請求項３】
互変可能な構造の一つとして一般式（１）で示される構造を有する化合物。
【化１０１】
2000280620.tif 000002
〔式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、置換または無置換のアルキル基、アラルキル基、アリール基、アルコキシ基、アラルキルオキシ基、アリールオキシ基、アルケニル基、アルケニルオキシ基、アルキルチオ基、アラルキルチオ基、アリールチオ基、アルケニルチオ基、アルキルアミノ基、アラルキルアミノ基、アリールアミノ基、アルケニルアミノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルケニルオキシカルボニル基、アルキルアミノカルボニル基、アラルキルアミノカルボニル基、アリールアミノカルボニル基、アルケニルアミノカルボニル基、複素環基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基を表す。〕
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光記録媒体に関するものであり、特に青色レーザー光により記録・再生可能である化合物含有の追記型光記録媒体に関する。また、本発明は、その化合物に関する。
【手続補正書】
【提出日】平成16年2月13日(2004.2.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
上記の状態において、駆動ローラ(16)が回転を開始し、駆動ローラ(16)とワーク(w)の外周との間の摩擦力によってワーク(w)が自転する。ワーク(w)が自転を開始すると、左右の砥石(8)(9)が回転させられる。左右の砥石(8)(9)は、回転させられると同時に、それぞれ他方の砥石(8)(9)に向かって移動してワーク(w)の下側の部分が砥石(8)(9)によって挟まる。このようにして、ワーク(w)の外周が砥石(8)(9)の研削面の外周と交差し、かつワーク(w)の中心が砥石(8)(9)の研削面内に位置する。


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図面の簡単な説明
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明における第１の実施形態の薄板円板状ワークの両面研削装置の部分切り欠き正面図である。
【図２】図１のII−II線にそう断面図である。
【図３】同薄板円板状ワークの両面研削装置の要部の拡大断面図である。
【図４】同薄板円板状ワークの両面研削装置の要部の斜視図である。
【図５】本発明における第２の実施形態の薄板円盤状ワークの両面研削装置における要部の正面図である。
【図６】同両面研削装置の要部の側面図である。
【符号の説明】
(1)        研削装置
(8)(9)     研削砥石
(10)(11)   流体供給部材
(13)       エアシリンダ
(13a)      ロッド
(20)       研削装置
(25)(26)   流体供給部材
(w)       ワーク
【手続補正書】
【提出日】平成17年1月18日(2005.1.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
図１〜図４は第１の実施形態を示し、図１はダブルキャビティ式トロイダル形無段変速装置の縦断側面図、図２は同要部を拡大して示す縦断側面図である。図１に示すように、主軸としての動力伝達軸１にはフロント側バリエータ２とリヤ側バリエータ３が同軸的に配置されている。これらバリエータ２，３は、一対の入力ディスク４，５と一対の出力ディスク６，７とを有し、入力ディスク４と出力ディスク６との間及び入力ディスク５と出力ディスク７との間には摩擦によって動力を伝達するパワーローラがそれぞれ傾転自在に転接されている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
さらに、動力伝達軸１の入力側には両入力ディスク４，５をパワーローラを介して両出力ディスク６，７に押圧するローディングカム１４が嵌合されている。このローディングカム１４とフロント側バリエータ２の入力ディスク４との間にはローラ１５が設けられている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
前述のように構成されたトロイダル型無段変速装置によれば、入力軸２３からローディングカム１４に伝達された回転は、フロント側及びリヤ側バリエータ２，３の両入力ディスク４，５に伝達され、両入力ディスク４，５からパワーローラを介して両出力ディスク６，７に摩擦係合によって伝達される。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
このとき、ローディングカム１４、ローラ１５及びフロント側バリエータ２の入力ディスク４から構成されるカム機構により、入力トルクに応じた押圧力が図１において左右方向に発生する。右方向に発生した押圧力はフロント側バリエータ２の入力ディスク４を介してパワーローラに働き、左方向に発生した押圧力はローディングカム１４、第２のスラスト軸受２２、予圧皿ばね２１、動力伝達軸１、ローディングナット１１、リヤ側バリエータ３の入力ディスク５を介して出力ディスク７へ働く。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
さらに、予圧皿ばね２１が潰れきることはないため、予圧皿ばね２１の応力は小さく、予圧皿ばね２１の寿命が延び、入力ディスク４，５と出力ディスク６，７に対するパワーローラのスリップを防止でき、結果としてトロイダル型無段変速装置の寿命を延ばすことができる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図面の簡単な説明
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図面の簡単な説明】
【図１】
この発明の第１の実施形態におけるトロイダル形無段変速装置の縦断側面図。
【図２】
同実施形態における図１の一部を拡大した縦断側面図。
【図３】
同実施形態において、入力トルクが増加してローディングカムと第１のスラスト軸受が当接した状態のトロイダル形無段変速装置の縦断側面図。
【図４】
同実施形態における図３の一部を拡大した縦断側面図。
【符号の説明】
１…動力伝達軸
４，５…入力ディスク
６，７…出力ディスク
１４…ローディングカム
１８…環状空隙部
２０…第１のスラスト軸受
２１…予圧皿ばね
２２…第２のスラスト軸受
【手続補正７】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2000213611.tif 000001
【手続補正８】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図３】
2000213611.tif 000002
【手続補正書】
【提出日】平成17年1月24日(2005.1.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
回転軸と、この回転軸の中間部周囲にボールスプラインを介して支持する事により、上記回転軸に対する軸方向に亙る変位とこの回転軸と同期した回転を自在とした第一ディスクと、この第一ディスクと内側面同士を対向させた状態で上記回転軸の中間部周囲に、この回転軸に対する相対回転を自在として支持した第二ディスクと、上記回転軸に対し交差する事はないがこの回転軸の中心軸の方向に対して直角方向である捻れの位置にある枢軸を中心として揺動するトラニオンと、互いに偏心した支持軸部及び枢支軸部から成り、このうちの支持軸部を上記トラニオンに回転自在に支持し、枢支軸部を上記トラニオンの内側面から突出させた変位軸と、上記枢支軸部の周囲に回転自在に支持された状態で、上記第一、第二両ディスクの内側面同士の間に挟持されたパワーローラと、上記回転軸の一部と上記第一ディスクとの間に設けられ、この第一ディスクを上記第二ディスクに向け押圧しつつこの第一ディスクを回転駆動する押圧装置とを備え、上記ボールスプラインは、上記第一ディスクの内周面に形成した内径側ボールスプライン溝と、上記回転軸の中間部外周面に形成した外径側ボールスプライン溝と、これら両ボールスプライン溝同士の間に転動自在に設けられた複数個のボールと、上記複数個のボールが上記第一ディスクの内側面側に変位するのを制限する係止環とから成るものであるトロイダル型無段変速機に於いて、この係止環は、上記回転軸の中間部外周面で少なくとも上記押圧装置が上記第一ディスクを押圧しない状態でこの第一ディスクの内側面側に露出する部分に係止されるものであり、この係止環の円周方向の一部で上記各ボールスプライン溝に整合する部分には、上記押圧装置の側に突出する複数の凸部が形成されており、これら各凸部により、上記各ボールが上記各スプライン溝から脱落するのを防止している事を特徴とするトロイダル型無段変速機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
又、図１１に示した構造例の場合、前記出力歯車１８ａはハウジングの内側に設けた仕切壁３７に、１対のアンギュラ型玉軸受３８、３８により、軸方向に亙る変位を阻止した状態で、回転自在に支持している。これに対して図１２に示した構造例の場合、出力歯車１８ａの軸方向に亙る変位は自在である。尚、上述した図１１〜１２に示した様に、２個ずつの入力側ディスク２Ａ、２Ｂと出力側ディスク４、４とを動力の伝達方向に関して互いに並列に配置する、所謂ダブルキャビティ型のトロイダル型無段変速機が、カム板１０に対向する一方又は双方の入力側ディスク２Ａ、２Ｂをボールスプライン３４、３４ａにより上記入力軸１５に、軸方向に亙る変位自在に支持している理由は、次の(1)(2)である。
(1) これら両ディスク２Ａ、２Ｂの回転を完全に同期させる。
(2) 上記 (1)の機能を持たせつつ、上記押圧装置９の作動に伴う構成各部材の弾性変形に基づいて上記両ディスク２Ａ、２Ｂが上記入力軸１５に対して軸方向に変位する事を許容する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
特に、本発明のトロイダル型無段変速機に於いては、この係止環は、上記回転軸の中間部外周面で少なくとも上記押圧装置が上記第一ディスクを押圧しない状態でこの第一ディスクの内側面側に露出する部分に係止されるものである。又、この係止環の円周方向の一部で上記各ボールスプライン溝に整合する部分には、上記押圧装置の側に突出する複数の凸部が形成されており、これら各凸部により、上記各ボールが上記各スプライン溝から脱落するのを防止している。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
特に、本発明のトロイダル型無段変速機の場合には、回転軸の中間部外周面に、小径部を設けなくても、第一ディスクを回転軸に外嵌してから、ボールスプラインを構成する複数個のボールを内径側、外径側両ボールスプライン溝同士の間に挿入する作業、並びに上記回転軸の外周面に形成した係止溝に係止環を装着する作業を行なえる。この為、上記外径側ボールスプライン溝に上記複数個のボールを接着する等、余分な作業が不要になり、トロイダル型無段変速機の組立作業が容易になる。又、上記回転軸の捩り剛性を十分に確保して、特に重量の増大を招く事なく、大きなトルクを伝達可能なトロイダル型無段変速機を実現できる。
【手続補正書】
【提出日】平成16年12月2日(2004.12.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
【実施例】
図１は、ケーブルドラグチェーン１０の側面図である。ケーブルドラグチェーン１０は、前後端が互いに屈曲可能に連結された複数のリンク体１２を有する。ケーブルドラグチェーン１０の一端は、可動機械（図示せず）に取付けられ、その他端は床面（図示せず）に取付けられる。そのため、両端には取付金具１４が組み込まれている。
図２はケーブルドラグチェーン１０の上面図、図３は開閉アーム除いたリンク体１２の上面図、図４は開閉アームの上面図、図５は開閉アームの正面図、及び、図６はリンクプレート１６及び開閉アーム１８の一部を示す拡大斜視図である。リンク体１２は、左右一対のリンクプレート１６，１６と、それぞれのリンクプレート１６，１６の下端を連結する結合アーム２０と、それぞれのリンクプレート１６，１６の上端を連結する開閉アーム１８とを有する。リンク体１２は、樹脂材料から射出成形加工されており、結合アーム２０はリンクプレート１６と一体に成形される。一方、開閉アーム１８は、ケーブルやホース等の可撓体をリンク体内に収納するため、リンクプレート１６に対して着脱可能である。
リンクプレート１６は、図２、図３及び図６に示されるように、その上面が部分的に切り欠かれて形成された係合部２２と案内部２４を有する。開閉アーム１８は、図４乃至図６に示されるように、アーム本体２６から幅方向に突出する係合部２８とフック３０を有する。
【手続補正書】
【提出日】平成17年3月17日(2005.3.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
屋外側引戸の横框の屋内側面に埋設される、少なくとも１箇所の凹部を有する受け部と、屋内側引戸の召合わせ框、横框または縦框のいずれかに配設されるストッパ部よりなり、該ストッパ部は前記受け部と対応する位置にストッパを有しており、前記凹部と前記ストッパとが係合することで、屋外側引戸または屋内側引戸の摺動が阻止されるようにされてなることを特徴とする引違い引戸の補助錠。
【請求項２】
前記ストッパが、前記ストッパ部に設けられた軸体に蝶着されている請求項１に記載の引違い引戸の補助錠。
【請求項３】
前記ストッパが、前記凹部と係合する位置または屋内側引戸の召合わせ框に接する位置のいずれかに配置され、または前記凹部と係合する位置または屋内側引戸の横框に接する位置のいずれかに配置される請求項１または２に記載の引違い引戸の補助錠。
【請求項４】
請求項１、２または３に記載の補助錠を有する引違い引戸。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明において、前記ストッパが、前記凹部と係合する位置または屋内側引戸の召合わせ框に接する位置のいずれかに配置され、または前記凹部と係合する位置または屋内側引戸の横框に接する位置のいずれかに配置されることが好ましい。
この構成によれば、ストッパは補助錠として機能している状態以外のときは、召合わせ框にまたは横框に接した状態となっており、物が引っ掛かったりする不具合も少なく、また、美感上も繁雑な感じとはならない。
【手続補正書】
【提出日】平成17年9月2日(2005.9.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  先端部にダイヤモンドコアビットを溶着した筒状シャンクと、前記筒状シャンクの後端部に固定した動力連結部と、から成るノンワーク型特殊シャンクであって、
前記筒状シャンクの胴部の外周面に、前記動力連結部から前記ダイヤモンドコアビットまで軸方向に延びる溝を形成し、
前記溝に収まるように、前記動力連結部から前記ダイヤモンドコアビットに供給する冷却剤の流路となる筒状物を固定したことを特徴とするノンワーク型特殊シャンク。
【請求項２】  前記筒状シャンクの軸心には、前記ダイヤモンドコアビットによりコンクリートを穿孔したときに生ずるコアが進入してくる有底のコア進入穴が形成されており、
前記筒状シャンクの胴部の外周面には、前記コア進入穴に連通すると共に前記コア進入穴に進入してきた前記コアを排出するための割れ目が形成されていることを特徴とする請求項１に記載のノンワーク型特殊シャンク。
【手続補正書】
【提出日】平成17年5月12日(2005.5.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４】
前記他方側の回転部材（１１３）は、樹脂製であり、前記一方側の回転部材（１２２）は、鉄系金属製であることを特徴とする請求項２に記載の動力伝達装置。
【手続補正書】
【提出日】平成16年4月27日(2004.4.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
本発明の前記芳香族含有ポリエステルの原料としては、テレフタル酸（ＴＰ）、イソフタル酸（ＩＰ）、オルトフタル酸、又はこれらの酸無水物などの誘導体と、各種のグリコールが挙げられる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４８】
より具体的に、三級アミンを四級化するために使用される四級化剤としては、ヨウ化メチル、ヨウ化エチル、臭化エチル、塩化ｐ−トルエンスルホニル、ｐ−トルエンスルホン酸エチル等のアルキル化剤、リン酸トリエステル、オルト酢酸エステル、クロロ炭酸メチルエステル、クロロ炭酸エチルエステル、クロロ炭酸ｎ−プロピルエステル、クロロ炭酸イソプロピルエステル、クロロ炭酸２−エトキシエチルエステル等のクロロ炭酸エステル、モノクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸等のハロメタン系カルボン酸及びそのエステルなどが使用できる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４９】
本発明における三級アミン及び四級アンモニウム塩の極性基量は、好ましくは０．０１〜１０．０ｍｍｏｌ／ｇであり、より好ましくは０．１〜０．５ｍｍｏｌ／ｇである。極性基量が上記の１０．０ｍｍｏｌ／ｇを超える場合、塗料の分散性は向上するが、コーティング性は悪くなり、スジが発生し易くなる傾向がある。また、０．０１ｍｍｏｌ／ｇ未満の場合には、塗料の分散性が悪くなることがある。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７１】
従来、ポリウレタン樹脂は、活性水素とジイソシアネートとの反応で得られる樹脂化合物であることから、その樹脂中に多量の活性水素基を残し、かつ、高分子量化する（ポリマー化する）のは困難とされている。また、一般にポリウレタン樹脂中の水酸基量は分子量によるが０．０１〜０．１ｍｍｏｌ／ｇのものが使用されており、これより多い場合は塗料の粘度が著しく高くなるので、磁性塗料には不向きとされていたが、本発明者はポリウレタン樹脂中の水酸基量を上記のように特定の範囲とすることで、分散性に優れた磁性塗料を得ることができることを初めて見出した。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８４】
具体的に溶液合成法は、ウレタン原料となるポリエステル成分と分子量６０〜２５０のグリコール等の活性水素化合物並びに極性基含有化合物を有機溶媒中に混合・溶解させておき、ジイソシアネート化合物を添加し反応させる方法である。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０３】
以上のような条件を満たすカーボンブラックとしては、例えば、コロンビアンカーボン社製の商品名ラーベン（ＲＡＶＥＮ）１２５０（粒径２３ｎｍ、ＢＥＴ値１３５．０ｍ2／ｇ、ＤＢＰ吸油量５８．０ｍｌ／１００ｇ）、ラーベン１２５５（粒径２３ｎｍ、ＢＥＴ値１２５．０ｍ2／ｇ、ＤＢＰ吸油量５８．０ｍｌ／１００ｇ）、ラーベン１０２０（粒径２７ｎｍ、ＢＥＴ値９５．０ｍ2／ｇ、ＤＢＰ吸油量６０．０ｍｌ／１００ｇ）、ラーベン１０８０（粒径２８ｎｍ、ＢＥＴ値７８．０ｍ2／ｇ、ＤＢＰ吸油量６５．０ｍｌ／１００ｇ）、ラーベン１０３５、ラーベン１０４０、ラーベン１０６０、ラーベン３３００、ラーベン４５０、ラーベン７８０等、又は、Columbian Chemicals Company の Conductex SC（粒径２０ｎｍ、ＢＥＴ値２２０．０ｍ2／ｇ、ＤＢＰ吸油量１１５．０ｍｌ／１００ｇ）でもよい。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０７】
また、上記高級脂肪酸エステル成分としては、炭素数１２〜３２の高級脂肪酸エステル類（それぞれ不飽和を含んでも分岐していてもよい）であり、例えば、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、イソステアリン酸、アラキン酸、オレイン酸、エイコセン酸、エライジン酸、ベヘン酸、リノール酸、リノレイン酸等のメチルエステル、エチルエステル、プロピルエステル、イソプロピルエステル、ブチルエステル、ペンチルエステル、ヘキシルエステル、へプチルエステル、オクチルエステル等がある。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１４４】
［静磁気特性］
作製したテープについて、東英工業株式会社製の室温専用超高感度型振動試料型磁力計（ＶＳＭ−Ｐ１０−１５ａｕｔｏ）を用い、２０℃、５０％ＲＨの条件で測定した。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１７９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１７９】
［静磁気特性］
作製したテープについて、東英工業株式会社製の室温専用超高感度型振動試料型磁力計（ＶＳＭ−Ｐ１０−１５ａｕｔｏ）を用い、２０℃、５０％ＲＨの条件で測定した。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１８９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１８９】
【表２０】
2004046952.tif 000001
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１９０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１９０】
上記表５−１〜表５−６より明らかなように、比較例１０は代表的な塩化ビニル系樹脂を用いた例であるが、電磁変換特性は良好であったものの、耐久性は悪い。また、従来のウレタンを用いた比較例１１では、分散性、耐久性、走行性共に不十分であることがわかる。
【手続補正書】
【提出日】平成17年7月4日(2005.7.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
【発明の実施の形態】
以下に、図１、図２、図３、図４、図５、および図６を参照して、本発明の実施の形態にかかる光ディスク高速再生装置について説明する。図１に示すように、光ディスク高速再生記録装置ＨＳＣは、大別して、コンビネーションドライブ１３０、読出データ検出器２００、ＭＤドライブ２３０、オペレーションコントローラ３００、表示部４００を含む。なお、光ディスク高速再生記録装置ＨＳＣには、コンビネーションドライブ１３０およびＭＤドライブ２３０から読み出された信号に種々な処理を施して、音声信号、映像、或いはコンピュータデータを生成してスピーカやモニター或いは他の記録装置に出力する読出信号処理部も含まれるが、本発明の特徴ではないので、図示および説明を省く。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
表示部４００は、好ましくは、蛍光表示管等などの発光手段で構成されて、光ディスク高速再生記録装置ＨＳＣの動作モードなどの情報を光学的にユーザに提示する。オペレーションコントローラ３００は、コンビネーションドライブ１３０、ＭＤドライブ２３０、上述の読出信号処理部（図示せず）、および表示部４００に接続されて、光ディスク高速再生記録装置ＨＳＣ全体の動作を制御する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５９】
ステップＳ８において、ドライブシステムコントローラ１３４は、高速再生倍数Ｎに基づいて、記録元光ディスクの回転数を決定して回転速度指示信号Ｓｒｎを生成して、再生速度切替器１３６に出力する。なお、回転速度指示信号Ｓｒｎが規定する回転数（角速度）は、光ディスクの種類およびその回転制御方法によっては、同一の再生速度であっても回転数は一定とは限らないことは上述の通りである。つまり、Ｎ倍の再生速度とはＮ倍の角速度の場合もあれば、そうでない場合もあることは言うまでもない。そして、制御は次のステップＳ１０に進む。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７１】
ステップＳ２８において、上述のステップＳ８におけるのと同様に、ドライブシステムコントローラ１３４は、準高速再生倍数Ｋに基づいて、記録元光ディスクの回転数（ｒｐｍ）を決定して回転速度指示信号Ｓｒｎを生成して、再生速度切替器１３６に出力する。なお、説明の便宜上、本ステップで生成される回転速度指示信号Ｓｒｎを減速回転速度指示信号Ｓｒｋと呼んで識別する。そして、制御は次のステップＳ３０に進む。
【手続補正書】
【提出日】平成17年6月17日(2005.6.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】光ピックアップ装置の調整方法、光ピックアップ装置及び情報記録再生装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光ビームを出射する光源と、この光ビームを光記録媒体の信号記録面上に集光させる対物レンズと、上記光記録媒体から反射した反射光ビームを回折するホログラムを有する光回折手段と、この光回折手段により回折された反射光ビームを受光する光検出手段とを備えた光ピックアップ装置を組立調整する光ピックアップ装置の調整方法であって、
上記光回折手段を、上記光回折手段が有する上記ホログラムにとって、上記ホログラムが形成される際の物体光源と参照光源とを結ぶ直線に垂直な方向へ移動調整することを特徴とする光ピックアップ装置の調整方法。
【請求項２】
上記ホログラムは、同一の曲線パターンの繰り返しからなる回折パターンを有することを特徴とする請求項１に記載の光ピックアップ装置の調整方法。
【請求項３】
光ビームを出射する光源と、この光ビームを光記録媒体の信号記録面上に集光させる対物レンズと、上記光記録媒体から反射した反射光ビームを光分離する平行平板プリズムと、この平行平板プリズムで光分離された反射光ビームを回折するホログラムを有する光回折手段と、この光回折手段により回折された反射光ビームを受光する光検出手段とを備えた光ピックアップ装置を組立調整する光ピックアップ装置の調整方法であって、
上記平行平板プリズムを回転方向へ調整し、
上記光回折手段を、上記光回折手段が有する上記ホログラムにとって、上記ホログラムが形成される際の物体光源と参照光源とを結ぶ直線に垂直な方向へ移動調整することを特徴とする光ピックアップ装置の調整方法。
【請求項４】
光ビームを出射する光源と、この光ビームを光記録媒体の信号記録面上に集光させる対物レンズと、上記光記録媒体から反射した反射光ビームを光分離する平行平板プリズムと、この平行平板プリズムで光分離された反射光ビームを回折するホログラムを有する光回折手段と、この光回折手段により回折された反射光ビームを受光する光検出手段と、上記光回折手段と上記光検出手段との間の光路上に、上記ホログラムにとって、上記ホログラムが形成される際の物体光源と参照光源とを結ぶ直線にほぼ平行な方向に曲率をもつシリンドリカルレンズとを備えた光ピックアップを組立調整する光ピックアップ装置の調整方法であって、
上記平行平板プリズムを回転方向へ調整し、
上記光回折手段を、上記光回折手段が有する上記ホログラムにとって、上記ホログラムが形成される際の物体光源と参照光源とを結ぶ直線に垂直な方向へ移動調整し、
上記シリンドリカルレンズを曲率方向と平行な方向へ移動調整することを特徴とする光ピックアップ装置の調整方法。
【請求項５】
光ビームを出射する光源と、この光ビームを光記録媒体の信号記録面上に集光させる対物レンズと、上記光記録媒体から反射した反射光ビームを光分離する平行平板プリズムと、この平行平板プリズムで光分離された反射光ビームを回折するホログラムを有する光回折手段と、この光回折手段により回折された反射光ビームを受光する光検出手段と、上記光回折手段と上記光検出手段との間の光路上に、上記ホログラムにとって、上記ホログラムが形成される際の物体光源と参照光源とを結ぶ直線にほぼ垂直な方向に稜線をもつナイフエッジとを備えた光ピックアップを組立調整する光ピックアップ装置の調整方法であって、
上記平行平板プリズムを回転方向へ調整し、
上記光回折手段を、上記光回折手段が有する上記ホログラムにとって、上記ホログラムが形成される際の物体光源と参照光源とを結ぶ直線に垂直な方向へ移動調整し、
上記ナイフエッジを稜線と垂直な方向へ移動調整することを特徴とする光ピックアップ装置の調整方法。
【請求項６】
光ビームを出射する光源と、この光ビームを光記録媒体の信号記録面上に集光させる対物レンズと、上記光記録媒体から反射した反射光ビームを回折するホログラムを有する光回折手段と、この光回折手段により回折された反射光ビームを受光する光検出手段とを備えた光ピックアップ装置であって、
上記光回折手段は、上記光回折手段が有する上記ホログラムにとって、上記ホログラムが形成される際の物体光源と参照光源とを結ぶ直線に垂直な方向へ移動して位置調整されて取り付けられたことを特徴とする光ピックアップ装置。
【請求項７】
光ビームを出射する光源と、この光ビームを光記録媒体の信号記録面上に集光させる対物レンズと、上記光記録媒体から反射した反射光ビームを回折するホログラムを有する光回折手段と、この光回折手段により回折された反射光ビームを受光する光検出手段とを備えた光ピックアップ装置を有し、光記録媒体の記録及び／又は再生を行う情報記録再生装置であって、
上記光ピックアップ装置の上記光回折手段は、上記光回折手段が有する上記ホログラムにとって、上記ホログラムが形成される際の物体光源と参照光源とを結ぶ直線に垂直な方向へ移動して位置調整されて取り付けられたことを特徴とする情報記録再生装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、組立の際に、光検出手段における受光スポットの位置調整を行う光ピックアップ装置の調整方法、光ピックアップ装置及び情報記録再生装置に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
本発明による光ピックアップ装置の調整方法及びこれにより調整される光ピックアップ装置及び情報記録再生装置では、光回折手段を、光回折手段が有するホログラムにとって、ホログラムが形成される際の物体光源と参照光源とを結ぶ直線に垂直な方向へ移動調整すれば、ホログラムを反射光ビームが透過する位置に応じて、反射光ビームの回折光の回折方向が回転するので、光検出手段における受光スポットの位置を所定の位置に調整することができる。