【手続補正書】
【提出日】平成16年4月7日(2004.4.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
長方形でない平行四辺形状シリンドリカルレンズを含む光学系を有するレーザー照射装置。
【請求項２】
長方形でない平行四辺形状シリンドリカルレンズ群と、平行四辺形状シリンドリカルレンズとを含む光学系を有するレーザー照射装置。
【請求項３】
請求項２において、
前記平行四辺形状シリンドリカルレンズ群は、所定の断面形状を所定の方向に平行移動させた軌跡により形成される平行四辺形状シリンドリカルレンズを複数個組み合わせた形状であり、
前記所定の断面形状はある特定の波長を持つ２次元空間の平行光線を一点に集光させることのできる形状であることを特徴とするレーザー照射装置。
【請求項４】
請求項２において、
前記平行四辺形状シリンドリカルレンズ群は、レンズ作用を持つ曲面と対向する平面の形状が平行四辺形であり、
前記平行四辺形の内角を角度Ｘとし、
前記平行四辺形状シリンドリカルレンズ群に入射するレーザービームの両端に位置するシリンドリカルレンズの中央同士の距離をＤとし、前記シリンドリカルレンズ１つ当たりの幅をＷとし、前記平行四辺形状シリンドリカルレンズ群が形成する干渉縞の間隔をｄとしたとき、
前記角度Ｘは、２Ｗ／ｄ≦｜tan Ｘ｜≦(Ｄ+Ｗ)／ｄの範囲で定義されることを特徴とするレーザー照射装置。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４において、
前記平行四辺形状シリンドリカルレンズは、所定の断面形状を所定の方向に平行移動させた軌跡により形成される形状であり、
前記断面形状はある特定の波長を持つ２次元空間の平行光線を一点に集光させることのできる形状であることを特徴とするレーザー照射装置。
【請求項６】
請求項１乃至請求項４において、
前記平行四辺形状シリンドリカルレンズ群は、レンズ作用を持つ曲面と対向する平面の形状が平行四辺形であり、
前記平行四辺形の内角を角度Ｙとしたとき、
角度Ｙは1.5≦｜tan Ｙ｜≦600の範囲であることを特徴とするレーザー照射装置。
【請求項７】
請求項１乃至請求項４において、
前記平行四辺形状シリンドリカルレンズ群は、レンズ作用を持つ曲面と対向する平面の形状が平行四辺形であり、
前記平行四辺形の内角を角度Ｙとしたとき、
角度Ｙは12≦｜tan Ｙ｜≦300の範囲であることを特徴とするレーザー照射装置。
【請求項８】
線状レーザービームを照射するレーザー照射装置であって、
レーザービームを発生させる手段と、
平行四辺形状シリンドリカルレンズ群と平行四辺形状シリンドリカルレンズとを含み、前記線状レーザービームの線方向のエネルギー分布を均一化するためのビームホモジェナイザーと、
該レーザービームを収束させるシリンドリカルレンズと、
を有し、
前記平行四辺形状シリンドリカルレンズは、レンズ作用を持つ曲面と対向する平面の形状が平行四辺形であり、かつ、前記平行四辺形の内角は直角でないシリンドリカルレンズであり、
前記平行四辺形状シリンドリカルレンズ群は、レンズ作用を持つ曲面と対向する平面の形状が平行四辺形であり、かつ、前記平行四辺形の内角は直角でない平行四辺形状シリンドリカルレンズを複数個組み合わせたシリンドリカルレンズ群であることを特徴とするレーザー照射装置。
【請求項９】
線状レーザービームを照射するレーザー照射装置であって、
レーザービームを発生させる手段と、
平行四辺形状シリンドリカルレンズ群と平行四辺形状シリンドリカルレンズとを含み、前記線状レーザービームの線方向のエネルギー分布を均一化するためのビームホモジェナイザーと、
該レーザービームを収束させるシリンドリカルレンズと、
移動テーブルと、
を有し、
前記平行四辺形状シリンドリカルレンズは、レンズ作用を持つ曲面と対向する平面の形状が平行四辺形であり、かつ、前記平行四辺形の内角は直角でないシリンドリカルレンズであり、
前記平行四辺形状シリンドリカルレンズ群は、レンズ作用を持つ曲面と対向する平面の形状が平行四辺形であり、かつ、前記平行四辺形の内角は直角でない平行四辺形状シリンドリカルレンズを複数個組み合わせたシリンドリカルレンズ群であることを特徴とするレーザー照射装置。
【請求項１０】
請求項８または請求項９において、
前記レーザービームを発生させる手段は、エキシマレーザーを発振することを特徴とするレーザー照射装置。
【請求項１１】
シリンドリカルレンズを介したレーザー光により、半導体膜に対してレーザーアニールを行うレーザー処理方法であって、
前記シリンドリカルレンズは、レンズ作用を持つ曲面と対向する平面の形状が平行四辺形であり、かつ、前記平行四辺形の内角は直角でない平行四辺形状シリンドリカルレンズであることを特徴とするレーザー処理方法。
【請求項１２】
シリンドリカルレンズと、シリンドリカルレンズ群とを介したレーザー光により、半導体膜に対してレーザーアニールを行うレーザー処理方法であって、
前記シリンドリカルレンズは、レンズ作用を持つ曲面と対向する平面の形状が平行四辺形であり、かつ、前記平行四辺形の内角は直角でない平行四辺形状シリンドリカルレンズであり、
前記シリンドリカルレンズ群は、レンズ作用を持つ曲面と対向する平面の形状が平行四辺形であり、かつ、前記平行四辺形の内角は直角でない平行四辺形状シリンドリカルレンズを複数個組み合わせた平行四辺形状シリンドリカルレンズ群であることを特徴とするレーザー処理方法。
【請求項１３】
レーザービームをシリンドリカルレンズを含む光学系により線状レーザービームに加工し、
該線状レーザービームを、半導体被膜が成膜された基板に対して走査させながら照射するレーザー処理方法であって、
前記シリンドリカルレンズは、レンズ作用を持つ曲面と対向する平面の形状が平行四辺形であり、かつ、前記平行四辺形の内角は直角でない平行四辺形状シリンドリカルレンズであることを特徴とするレーザー処理方法。
【請求項１４】
レーザービームをシリンドリカルレンズ群とシリンドリカルレンズとを含むビームホモジェナイザーにより前記レーザービームのエネルギー分布を均質化しつつ線状レーザービームに加工し、
該線状レーザービームを、半導体被膜が成膜された基板に対して走査させながら照射するレーザー処理方法であって、
前記シリンドリカルレンズは、レンズ作用を持つ曲面と対向する平面の形状が平行四辺形であり、かつ、前記平行四辺形の内角は直角でない平行四辺形状シリンドリカルレンズであり、
前記シリンドリカルレンズ群は、レンズ作用を持つ曲面と対向する平面の形状が平行四辺形であり、かつ、前記平行四辺形の内角は直角でない平行四辺形状シリンドリカルレンズを複数個組み合わせた平行四辺形状シリンドリカルレンズ群であることを特徴とするレーザー処理方法。
【請求項１５】
請求項１３または請求項１４において、
被照射面において、該線状レーザービームを、該レーザービームの線方向と直交する方向から角度ｙだけずれた方向に走査させながら照射し、
前記角度ｙは｜tanｙ｜≦0.1の範囲であることを特徴とするレーザー処理方法。
【請求項１６】
請求項１３乃至請求項１５において、前記レーザービームはエキシマレーザーであることを特徴とするレーザー処理方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６６】
この形状は、角が９０度でない平行四辺形状のものとする。つまり、レンズ作用を持つ曲面と対向する平面の形状が平行四辺形であり、図１１ａ、ｂに示すこれら平行四辺形の内角Ｘ、Ｙが直角ではない形状のものとする。こうすることにより、線状レーザービーム内に形成される干渉のピークの分布（図６参照。）を図１２に示すような分布に変える。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７４】
また、図１１ａ、ｂの斜線部で示される平行四辺形の内角Ｘ、Ｙは、それぞれ断面形状１１０１を含む平面と前記平行移動の方向とがなす角度をＸ、前記断面形状１１０３を含む平面と前記平行移動の方向とがなす角度をＹと定義される。