【手続補正書】
【提出日】平成17年6月10日(2005.6.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】露光装置及び露光方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マスクステージ上に保持されたマスクに形成されているパターンを基板ステージ上に保持された感光基板に転写する露光装置において、
前記マスクステージ及び前記基板ステージの少なくとも一方は移動可能に構成され、当該マスクステージ及び当該基板ステージを含む本体部と、
設置面に対して前記本体部を支持するために設けられた４以上の支持部と、
前記マスクステージ及び前記基板ステージの少なくとも一方の移動に応じて、前記４以上の支持部から前記本体部を支持する３の支持部を選択して切り替える制御部と
を備えることを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記制御部によって選択される３の支持部は、前記マスクステージ及び前記基板ステージの少なくとも一方の移動に応じた前記本体部の変形が最小となる位置に配置されていることを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【請求項３】
前記支持部は、前記設置面に対する前記本体部の支持位置が同一であることを特徴とする請求項１又は請求項２記載の露光装置。
【請求項４】
前記支持部は、前記設置面に対する前記本体部の支持位置が異なるものを含むことを特徴とする請求項１又は請求項２記載の露光装置。
【請求項５】
前記制御部は、前記設置面に対する前記本体部の支持位置が同一である支持部を一度に選択し、選択する毎に支持位置が異なるように支持部を選択することを特徴とする請求項４記載の露光装置。
【請求項６】
前記制御部は、前記設置面に対する前記本体部の支持位置が異なる支持部を一度に選択することを特徴とする請求項４記載の露光装置。
【請求項７】
前記マスクステージ及び前記基板ステージの少なくとも一方の移動動作を規定する制御データを記憶する記憶部を備え、
前記制御部は、前記記憶部に記憶されている制御データに基づいて、前記４以上の支持部から前記本体部を支持する３の支持部を選択して切り替えることを特徴とする請求項１から請求項６の何れか一項に記載の露光装置。
【請求項８】
前記本体部の振動を検出する検出部を備え、
前記制御部は、前記検出部の検出結果に基づいて、前記４以上の支持部から前記本体部を支持する３の支持部を選択して切り替えることを特徴とする請求項１から請求項６の何れか一項に記載の露光装置。
【請求項９】
移動可能に支持されたマスクステージ上に保持されているマスクに形成されているパターンを、移動可能に支持された基板ステージ上に保持されている感光基板に転写する露光装置において、
前記マスクステージ及び前記基板ステージと、前記マスクステージ及び前記基板ステージの基準位置を定める基準部材と、前記基準部材に対する前記マスクステージ及び前記基板ステージの位置を検出する位置検出部とを含む本体部と、
設置面に対して前記本体部を支持するために設けられた４以上の支持部と、
前記マスクステージ及び前記基板ステージの移動に応じて生ずる前記本体部の変形に起因する前記基準部材の変位を抑えるように、前記４以上の支持部から前記本体部を支持する３の支持部を選択して切り替える制御部と
を備えることを特徴とする露光装置。
【請求項１０】
移動可能に支持されたマスクステージ上に保持されているマスクに形成されているパターンを、移動可能に支持された基板ステージ上に保持されている感光基板に転写する露光装置において、
前記マスクステージ及び前記基板ステージは移動可能に構成され、当該マスクステージ及び当該基板ステージを含む本体部と、
設置面に対して前記本体部を支持するために設けられ、前記設置面に対する前記本体部の支持位置が異なるものを含む４以上の支持部と、
前記マスクステージ及び前記基板ステージの移動に応じて生ずる前記本体部の振動を抑えるように、前記４以上の支持部から前記本体部を支持する３の支持部を選択して切り替える制御部と
を備えることを特徴とする露光装置。
【請求項１１】
物体を保持して移動可能なステージを有する本体部と、
前記本体部を設置面に対して支持する支持力を発生するとともに、前記支持力の発生と非発生とを切り替え可能な少なくとも４つの支持部と、
前記ステージの移動に応じて前記少なくとも４つの支持部から３つの前記支持部を選択し、選択した３つの前記支持部に前記支持力を発生させる制御装置と
を備えることを特徴とする露光装置。
【請求項１２】
前記制御装置は、４つ以上の前記支持部から３つ選択した前記支持部の組み合わせのうち、前記ステージの移動に伴う前記本体部の変形が最も小さくなる組み合わせを選択することを特徴とする請求項１１記載の露光装置。
【請求項１３】
前記制御部は、予め計測した前記ステージの移動の種類と前記本体部の変形との関係に基づいて前記支持部を選択することを特徴とする請求項１１又は請求項１２記載の露光装置。
【請求項１４】
マスクステージ上に保持されたマスクに形成されているパターンを感光基板上に露光転写する露光方法において、
前記マスクステージを所定の動作種類に基づいて動作させる段階と、
前記動作種類に応じて、前記マスクステージを含む本体部を支持する支持位置を、４箇所以上の支持位置から３箇所選択する段階と
を有することを特徴とする露光方法。
【請求項１５】
前記所定の動作種類は、前記マスクステージの所定方向への走査と、前記所定方向と逆方向の走査とを含むことを特徴とする請求項１４記載の露光方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、マスク又はレチクルに形成されたパターンをウェハ等の感光基板上に転写する露光装置及び露光方法に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、露光装置の本体部の変形に伴って生ずる重ね合わせ精度低下等の装置性能の低下を防止することができる露光装置及び露光方法を提供することを目的とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、本発明の第１の観点による露光装置は、マスクステージ（８）上に保持されたマスク（Ｒ）に形成されているパターンを基板ステージ（１１）上に保持された感光基板（Ｗ）に転写する露光装置において、前記マスクステージ及び前記基板ステージの少なくとも一方は移動可能に構成され、当該マスクステージ及び当該基板ステージを含む本体部（Ｂ）と、設置面（Ｆ）に対して前記本体部を支持するために設けられた４以上の支持部（１ａ〜１ｅ、３１ａ〜３１ｃ、３２ａ〜３２ｃ）と、前記マスクステージ及び前記基板ステージの少なくとも一方の移動に応じて、前記４以上の支持部から前記本体部を支持する３の支持部を選択して切り替える制御部とを備えることを特徴としている。
この発明によれば、マスクステージ及び基板ステージを含む本体部を支持する支持部を４本以上設けた構成とし、これらから３本の支持部を選択して本体部を支持するようにしているため、本体部の変形に伴って生ずる重ね合わせ精度低下等の装置性能の低下を防止することができる。
また、本発明の第１の観点による露光装置は、前記制御部によって選択される３の支持部は、前記マスクステージ及び前記基板ステージの少なくとも一方の移動に応じた前記本体部の変形が最小となる位置に配置されていることが好適である。
また、本発明の第１の観点による露光装置は、前記支持部が、前記設置面に対する前記本体部の支持位置が同一であることを特徴としている。
或いは、本発明の第１の観点による露光装置は、前記支持部が、前記設置面に対する前記本体部の支持位置が異なるものを含むことを特徴としている。
ここで、前記制御部は、前記設置面に対する前記本体部の支持位置が同一である支持部を一度に選択し、選択する毎に支持位置が異なるように支持部を選択し、又は、前記設置面に対する前記本体部の支持位置が異なる支持部を一度に選択することが好適である。
また、本発明の第１の観点による露光装置は、前記マスクステージ及び前記基板ステージの少なくとも一方の移動動作を規定する制御データを記憶する記憶部を備え、前記制御部は、前記記憶部に記憶されている制御データに基づいて、前記４以上の支持部から前記本体部を支持する３の支持部を選択して切り替えることを特徴としている。
また、本発明の第１の観点による露光装置は、前記本体部の振動を検出する検出部（２３）を備え、前記制御部は、前記検出部の検出結果に基づいて、前記４以上の支持部から前記本体部を支持する３の支持部を選択して切り替えることを特徴としている。
本発明の第２の観点による露光装置は、移動可能に支持されたマスクステージ（８）上に保持されているマスク（Ｒ）に形成されているパターンを、移動可能に支持された基板ステージ（１１）上に保持されている感光基板（Ｗ）に転写する露光装置において、前記マスクステージ及び前記基板ステージと、前記マスクステージ及び前記基板ステージの基準位置を定める基準部材（１４、１６）と、前記基準部材に対する前記マスクステージ及び前記基板ステージの位置を検出する位置検出部（１７）とを含む本体部（Ｂ）と、設置面に対して前記本体部を支持するために設けられた４以上の支持部（１ａ〜１ｅ、３１ａ〜３１ｃ、３２ａ〜３２ｃ）と、前記マスクステージ及び前記基板ステージの移動に応じて生ずる前記本体部の変形に起因する前記基準部材の変位を抑えるように、前記４以上の支持部から前記本体部を支持する３の支持部を選択して切り替える制御部とを備えることを特徴としている。
この発明によれば、マスクステージ及び基板ステージを含む本体部を支持する支持部を４本以上設けた構成とし、これらから３本の支持部を選択して本体部の変形に起因するマスクステージ及び基板ステージの基準位置を定める基準部材の変位を抑えるようにしているため、マスクステージ及び基板ステージの位置を位置検出部で正確に計測することができ、その結果として重ね合わせ精度低下等の装置性能の低下を防止することができる。
本発明の第３の観点による露光装置は、移動可能に支持されたマスクステージ（８）上に保持されているマスク（Ｒ）に形成されているパターンを、移動可能に支持された基板ステージ（１１）上に保持されている感光基板（Ｗ）に転写する露光装置において、前記マスクステージ及び前記基板ステージは移動可能に構成され、当該マスクステージ及び当該基板ステージを含む本体部（Ｂ）と、設置面に対して前記本体部を支持するために設けられ、前記設置面に対する前記本体部の支持位置が異なるものを含む４以上の支持部（１ａ〜１ｅ、３１ａ〜３１ｃ、３２ａ〜３２ｃ）と、前記マスクステージ及び前記基板ステージの移動に応じて生ずる前記本体部の振動を抑えるように、前記４以上の支持部から前記本体部を支持する３の支持部を選択して切り替える制御部とを備えることを特徴としている。
本発明の第４の観点による露光装置は、物体（Ｒ）を保持して移動可能なステージ（８）を有する本体部（Ｂ）と、前記本体部を設置面（Ｆ）に対して支持する支持力を発生するとともに、前記支持力の発生と非発生とを切り替え可能な少なくとも４つの支持部（１ａ〜１ｅ、３１ａ〜３１ｃ、３２ａ〜３２ｃ）と、前記ステージの移動に応じて前記少なくとも４つの支持部から３つの前記支持部を選択し、選択した３つの前記支持部に前記支持力を発生させる制御装置とを備えるものである。これによれば、ステージの移動に応じて最適な支持部の組み合わせを適宜選択することができる。この場合において、前記制御装置は、４つ以上の前記支持部から３つ選択した前記支持部の組み合わせのうち、前記ステージの移動に伴う前記本体部の変形が最も小さくなる組み合わせを選択するものとすることができる。これによって、ステージの移動に伴う本体部の変形を最小限に抑えることができ、露光精度の悪化を防ぐことができる。また、前記制御部は、予め計測した前記ステージの移動の種類と前記本体部の変形との関係に基づいて前記支持部を選択するものとすることができる。
本発明に係る露光方法は、マスクステージ（８）上に保持されたマスク（Ｒ）に形成されているパターンを感光基板（Ｗ）上に露光転写する露光方法において、前記マスクステージを所定の動作種類に基づいて動作させる段階と、前記動作種類に応じて、前記マスクステージを含む本体部（Ｂ）を支持する支持位置を、４箇所以上の支持位置から３箇所選択する段階とを有するものである。これによれば、マスクステージの動作種類に応じて、最適な支持位置を選択することができる。また、この場合において、前記所定の動作種類は、前記マスクステージの所定方向への走査と、前記所定方向と逆方向の走査とを含むものとすることができる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の一実施形態による露光装置及び露光方法について詳細に説明する。図１は、本発明の一実施形態による露光装置を示す正面図である。本実施形態においては、マスクとしてのレチクルＲを走査するのと同期して感光基板としてのウェハＷを走査することによりレチクルＲのパターンをウェハＷ上に逐次露光するステップ・アンド・スキャン方式の露光装置を例に挙げて説明する。