(57)【要約】【課題】本発明は、液体の気化熱の影響を抑制できるステ−ジ装置を提供する。【解決手段】ステージ装置の基板テーブル１０は、基板を保持する第１部材３１と、第１部材３１を保持する第２部材３２とを備える。第１部材３１から排出される液体ＬＱの回収流路９７が、第２部材３２とは分離して、第１部材３１内のみに設けられている。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を保持する第１部材と、
前記第１部材を保持する第２部材と、
前記第２部材から分離して前記第１部材内部に設けられ、液体が流通可能な第１流路と、を備え、
前記第１部材の第１側は前記第２部材に面し、
前記第１部材内部に設けられた前記第１流路は、
前記第１部材の前記第１側とは異なる第２側を介して、前記第１部材の外部へと通じる基板ステ−ジ装置。
【請求項２】
前記第１部材と前記第２部材とが着脱可能である請求項１に記載の基板ステ−ジ装置。
【請求項３】
前記第１流路は、液体を前記第１部材の外部へ排出する第１口を有し、前記第１口は、前記第２側に設けられている請求項１または請求項２に記載の基板ステ−ジ装置。
【請求項４】
前記第１流路は、液体を回収する第２口を少なくとも一つ有する請求項１〜３のいずれか一項に記載の基板ステ−ジ装置。
【請求項５】
前記第１部材は、前記基板を保持する基板保持部を有し、
前記基板保持部の周囲に前記第２口が配置されている請求項４に記載の基板ステ−ジ装置。
【請求項６】
前記第２口は、前記基板保持部の周囲に環状に配置されている請求項５に記載の基板ステ−ジ装置。
【請求項７】
前記第１部材は、液体を回収する溝を前記基板保持部の周囲に有し、前記溝に前記第２口が配置されている請求項５または請求項６に記載の基板ステ−ジ装置。
【請求項８】
前記第１部材は、前記基板保持部に保持された前記基板の表面とほぼ面一の平坦部と、前記基板保持部に保持された前記基板の表面との間隔の下に前記溝を有する請求項７に記載の基板ステ−ジ装置。
【請求項９】
前記平坦部は、少なくとも表面の一部に撥液表面を有する請求項８に記載の基板ステ−ジ装置。
【請求項１０】
前記第１部材に、着脱可能なプレ−トをさらに備え、前記平坦部は、前記第１部材に保持された前記プレ−トの表面の少なくとも一部を含む請求項８または請求項９に記載の基板ステ−ジ装置。
【請求項１１】
前記第１部材内部に設けられ、前記第１流路から独立した第２流路をさらに備え、前記第２流路は、前記プレ−トを前記第１部材に吸着保持するために用いられる請求項１０に記載の基板ステ−ジ装置。
【請求項１２】
前記第２部材は、前記第２部材の内部に第３流路をさらに備え、前記第２流路は、前記第３流路と連通する請求項１１に記載の基板ステ−ジ装置。
【請求項１３】
さらに、前記第１部材内部に設けられ、前記第１流路から独立した第４流路を備え、前記第４流路は前記基板を前記第１部材に吸着保持するために用いられる請求項１〜１２のいずれか一項に記載の基板ステ−ジ装置。
【請求項１４】
前記第２部材は、前記第２部材の内部に第５流路をさらに備え、前記第４流路は、前記第５流路と連通する請求項１３に記載の基板ステ−ジ装置。
【請求項１５】
さらに、前記第２部材内部に設けられ、気体が流通可能な第６流路を備え、前記第６流路は、前記第１部材を前記第２部材に吸着保持するために用いられる請求項１〜１４のいずれか一項に記載の基板ステ−ジ装置。
【請求項１６】
請求項１〜１５のいずれか一項に記載の基板ステ−ジ装置に保持された基板上に投影光学系と液体とを介して露光光を照射して、その前記基板を液浸露光することを特徴とする露光装置。
【請求項１７】
請求項１６に記載の露光装置を用いて前記基板を露光することと、
前記露光された基板を現像することと、
を含むデバイス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ステ−ジ装置、露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
フォトリソグラフィ工程で用いられる露光装置において、特許文献１に開示されているような、液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置が知られている。露光装置は、基板を保持するステ−ジ装置を備え、そのステ−ジ装置に保持された基板を露光する。
【特許文献１】米国特許出願公開第２００５／０２１９４８８号明細書
【特許文献２】欧州特許出願公開第１７１３１１５号明細書
【特許文献３】米国特許出願公開第２００７／０２７３８５６号明細書
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
基板を液浸露光する場合、基板ステ−ジ装置内部に液体が浸入する可能性がある。その液体を放置しておくと、その液体の気化熱により、基板ステ−ジ装置を構成する部材（例えば基板を保持する保持部材）が熱変形したりする可能性がある。そのような不具合が生じると、基板上に形成されるパタ−ンに欠陥が生じる等、露光不良が発生する可能性がある。その結果、不良デバイスが発生する可能性がある。
【０００４】
本発明の態様は、液体の気化熱の影響を抑制できるステ−ジ装置を提供することを目的とする。また本発明の態様は、露光不良の発生を抑制できる露光装置及び露光方法を提供することを目的とする。また本発明の態様は、不良デバイスの発生を抑制できるデバイス製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の第１の態様に従えば、基板を保持する第１部材と、第１部材を保持する第２部材とを備え、第１部材の内部に設けられ、第２部材から分離して、液体が流通可能な第１流路とを備え、第１部材の第１側は第２部材に面し、第１流路は、第１部材の第１側とは異なる第２側を介して、第１部材の外部へと通じる基板ステ−ジ装置が提供される。
【０００６】
本発明の第２の態様に従えば、液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、第１の態様のステ−ジ装置を備えた露光装置が提供される。
【０００７】
本発明の第３の態様に従えば、第２の態様の露光装置を用いて基板を露光することと、露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法が提供される。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、気化熱の影響を抑制できる。また本発明によれば、露光不良の発生を抑制できる。また本発明によれば、不良デバイスの発生を抑制できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明するが、本発明はこれに限定されない。以下の説明においては、ＸＹＺ直交座標系を設定し、このＸＹＺ直交座標系を参照しつつ各部材の位置関係について説明する。水平面内の所定方向をＸ軸方向、水平面内においてＸ軸方向と直交する方向をＹ軸方向、Ｘ軸方向及びＹ軸方向のそれぞれと直交する方向（すなわち鉛直方向）をＺ軸方向とする。また、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸まわりの回転（傾斜）方向をそれぞれ、θＸ、θＹ、及びθＺ方向とする。また、ＸＹ平面におけるＺ方向の位置は限定されない。また、ＹＺ平面におけるＸ方向の位置は、限定されない。また、ＺＹ平面におけるＸ方向の位置は、限定されない。
【００１０】
〈第１実施形態〉
図１は、本実施形態に係る露光装置ＥＸの一例を示す概略構成図である。本実施形態の露光装置ＥＸは、液体ＬＱを介して露光光ＥＬで基板Ｐを露光する液浸露光装置である。図１において、露光装置ＥＸは、マスクＭを保持して移動可能なマスクステ−ジ１と、基板Ｐを保持して移動可能な基板ステ−ジ２と、マスクＭを露光光ＥＬで照明する照明系ＩＬと、露光光ＥＬで照明されたマスクＭのパタ−ンの像を液浸空間ＬＳの液体ＬＱを介して基板Ｐに投影する投影光学系ＰＬと、露光装置ＥＸ全体の動作を制御する制御装置４とを備えている。マスクＭは、基板Ｐに投影されるデバイスパタ−ンが形成されたレチクルを含む。基板Ｐは、デバイスを製造するための円形の基板であり、感光材（フォトレジスト）Ｒｇの膜を含む。液浸空間ＬＳは、液体ＬＱで満たされた空間である。本実施形態においては、液体ＬＱとして、水（純水）を用いる。
【００１１】
照明系ＩＬは、照明領域ＩＲに配置されたマスクＭの少なくとも一部を露光光ＥＬで照明する。本実施形態においては、露光光ＥＬとして、ＡｒＦエキシマレ−ザ光を用いる。
【００１２】
マスクステ−ジ１は、マスクＭの下面（パタ−ン形成面）とＸＹ平面とがほぼ平行となるように、マスクＭを保持する。マスクステ−ジ１は、リニアモ−タ等のアクチュエ−タを含む第１駆動システム５の作動により、マスクＭを保持した状態で、Ｘ軸、Ｙ軸、及びθＺ方向の３つの方向に移動可能である。
【００１３】
投影光学系ＰＬは、投影領域ＰＲに配置された基板Ｐの少なくとも一部に、マスクＭのパタ−ンの像を所定の投影倍率で投影する。本実施形態の投影光学系ＰＬは、その投影倍率が例えば１／４、１／５または１／８等の縮小系である。なお、投影光学系ＰＬは、等倍系及び拡大系のいずれでもよい。本実施形態においては、投影光学系ＰＬの光軸ＡＸは、Ｚ軸とほぼ平行である。
【００１４】
投影光学系ＰＬは、投影光学系ＰＬの像面に向けて露光光ＥＬを射出する射出面６を有する終端光学素子７を備えている。終端光学素子７は、投影光学系ＰＬの複数の光学素子のうち、投影光学系ＰＬの像面に最も近い光学素子である。
【００１５】
基板ステ−ジ２は、基板Ｐの表面Ｐａ（露光面）とＸＹ平面とがほぼ平行となるように、基板Ｐを保持する。基板ステ−ジ２は、リニアモ−タ等のアクチュエ−タを含む第２駆動システム８により、基板Ｐを保持した状態で、ＸＹ平面内を移動可能である。
【００１６】
基板ステ−ジ２は、ステ−ジ本体９と、ステ−ジ本体９上に搭載され、基板Ｐを保持可能な基板テ−ブル１０とを有する。第２駆動システム８は、ＸＹ平面とほぼ平行なガイド部材１１のガイド面１２に沿ってステ−ジ本体９を移動する粗動システム８Ａと、ステ−ジ本体９と基板テ−ブル１０との間に配置され、ステ−ジ本体９に対して基板テ−ブル１０を移動可能な微動システム８Ｂとを含む。基板テ−ブル１０は、粗動システム８Ａ及び微動システム８Ｂを含む第２駆動システム８の作動により、基板Ｐを保持した状態で、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺ方向の６つの方向に移動可能である。
【００１７】
Ｘ軸方向、及びＹ軸方向におけるマスクステ−ジ１及び基板ステ−ジ２のそれぞれの位置情報は、レ−ザ干渉計１３Ａ、１３Ｂを含む干渉計システム１３で計測される。また、基板ステ−ジ２に保持された基板Ｐの表面の位置情報が、フォ−カス・レベリング検出システム（不図示）に検出される。
【００１８】
本実施形態の露光装置ＥＸは、露光光ＥＬの光路の少なくとも一部が液体ＬＱで満たされるように液浸空間ＬＳを形成するために、液体供給装置２１と第１液体回収装置２２とを備えている。
【００１９】
本実施形態においては、射出面６と対向するように配置された基板Ｐの表面Ｐａの一部の領域（局所的な領域）が液体ＬＱで覆われるように液浸空間ＬＳが形成される。すなわち、本実施形態においては、露光装置ＥＸは、基板Ｐの露光時に、終端光学素子７の射出面６から−Ｚ方向に所定距離だけ離れた位置に基板Ｐが配置され、投影光学系ＰＬの投影領域ＰＲを含む基板Ｐ上の一部の領域が液体ＬＱで覆われるように液浸空間ＬＳを形成する局所液浸方式を採用する。なお、本実施形態において、基板Ｐの表面Ｐａは、液体ＬＱに対して撥液性である。なお、基板Ｐの裏面Ｐｂおよび／または側面Ｐｃが液体ＬＱに対して撥液性でもよい。
【００２０】
次に、図２および図３を参照しながら基板テ−ブル１０について説明する。図２は、本実施形態に係る基板テ−ブル１０の一例を示す側断面図である。図３は、本実施形態に係る第１部材３１を上方（＋Ｚ側）から見た平面図の一例である。基板テ−ブル１０は、基板Ｐを保持する第１部材３１と、第１部材３１を着脱可能に保持する第２部材３２とを含む。本実施形態において、ＸＹ平面において、第１部材３１の外形は、４角形（実質的に正方形）である。また、本実施形態において、ＸＹ平面において、第２部材３２の外形は、４角形（実質的に正方形）である。本実施形態では、第１部材３１の外形と第２部材３２の外形は、ＸＹ平面において、形状、および大きさが同じである。
【００２１】
なお、第１部材３１および第２部材３２の外形は、四角形に限定されず、円形でも構わない。すなわち、第１部材３１および第２部材３２の外形は、任意に決めることができる。
【００２２】
また、第１部材３１および第２部材３２の大きさは、同じでなくてもよく、第１部材３１の大きさが第２部材３２の大きさよりも小さくても構わない。すなわち、第１部材３１および第２部材３２の大きさは、任意に決めることができる。
【００２３】
最初に、図２および図３を参照しながら第１部材３１について詳細に説明する。なお、図３においては、第１部材３１に基板Ｐが保持されていない。
【００２４】
第１部材３１は、基板保持部７１と、プレ−ト部材保持部７２と、液体回収溝Ｚ１と、液体回収口８５と、回収流路９７と、第１吸引流路９１と、第３吸引流路９３とを含む。
【００２５】
本実施形態において、基板保持部７１は、図２に示すように、基板Ｐの表面ＰａとＸＹ平面とがほぼ平行となるように、基板Ｐを脱着可能に保持する。本実施形態において、基板保持部７１は、基板Ｐの裏面側で基板Ｐを保持し、基板Ｐの表面Ｐａと終端光学素子７の射出面６とが対向するように基板Ｐを保持することができる。すなわち、基板保持部７１は、射出面６のから−Ｚ方向に所定距離だけ離れた位置で基板Ｐの表面Ｐａが射出面６と対向するように基板Ｐを保持することができる。
【００２６】
本実施形態において、基板保持部７１は、ＸＹ平面において、第１部材３１のほぼ中央に配置されている。したがって、基板保持部７１に保持される基板Ｐの中心は、ＸＹ平面において第１部材３１の中心Ｘとほぼ一致する。基板保持部７１は、第１部材３１の＋Ｚ側に配置されている。基板保持部７１は、第１リム部Ｒ１と、第１リム部Ｒ１に囲まれた上面Ｇ１と、上面Ｇ１に設けられた複数の第１吸引口８１とを含む。第１リム部Ｒ１は、内側側面Ｒ１ａと、外側側面Ｒ１ｂと、基板Ｐの裏面Ｐｂと接触する第１リム接触部Ｒ１ｃとを含む。第１リム部Ｒ１は、ＸＹ平面において、円形環状である。本実施形態において、第１リム部Ｒ１は、ＸＹ平面において、第１部材３１の中心Ｘ周りに環状に形成されている。第１リム部Ｒ１は、上面Ｇ１に対して凸である。第１リム部Ｒ１の内側側面Ｒ１ａは、上面Ｇ１の外縁に沿って環状に形成され、Ｚ方向とほぼ平行に延びている。第１リム部Ｒ１の外側側面Ｒ１ｂは、内側側面Ｒ１ａの周囲に環状に形成され、Ｚ方向とほぼ平行に延びている。
【００２７】
第１リム接触部Ｒ１ｃは、内側側面Ｒ１ａの上端と外側側面Ｒ１ｂの上端との間に形成され、ＸＹ平面とほぼ平行に延びている。第１リム部接触部Ｒ１ｃは、ＸＹ平面において、平坦である。上面Ｇ１は、ＸＹ平面において、内側側面Ｒ１ａに囲まれている。上面Ｇ１は、ＸＹ平面とほぼ平行であり、平坦である。複数の第１吸引口８１は、図３に示すように、ＸＹ平面において、第１部材３１（第１リム部Ｒ１）の中心Ｘ周りに、上面Ｇ１に所定の間隔で環状に配置されている。第１吸引口８１のそれぞれは、図２に示すように、第１部材３１内部に設けられ、基板保持部７１の下方にＺ方向とほぼ平行に設けられている第１吸引流路９１と連通する。
【００２８】
本実施形態において、基板保持部７１の外縁は、第１リム部Ｒ１の外側側面Ｒ１ｂで画定される。したがって、本実施形態において、第１リム部Ｒ１の外側側面Ｒ１ｂは円形環状なので、基板保持部の外形は、円形である。
【００２９】
なお、基板保持部７１は、第１部材３１のほぼ中央に配置されていなくてもよく、第１部材３１の中央から外れてもよい。すなわち、基板保持部７１の配置は、任意に決めることができる。
【００３０】
また、基板保持部７１の外形は、円形環状でなくてもよく、矩形環状でもよい。すなわち、基板保持部７１の形状は、任意に決めることができる。
【００３１】
また、基板保持部７１が、複数のリム部を備えていてもよい。すなわち、リム部の個数は任意に決めることができる。例えば、基板保持部７１が中心Ｘに対して同心状に二つのリム部を備えていてもよい。この場合、中心Ｘに近い内側のリム部を基板Ｐの裏面側と接触する接触部としてもよい。
【００３２】
また、複数の第１吸引口８１は、環状に配置されていなくてもよく、上面Ｇ１に一様に配置されていてもよい。すなわち、第１吸引口８１の数、および配置は、任意に決めることができる。
【００３３】
次に、図２および図３を参照しながら第１部材３１のプレ−ト部材保持部７２について説明する。なお、図３においては、プレート部材保持部７２にはプレート部材Ｔが保持されていない。
【００３４】
本実施形態において、プレ−ト部材保持部７２は、第１部材３１の＋Ｚ側に配置されている。プレ−ト部材保持部７２は、図２に示すように、プレ−ト部材Ｔの表面ＴａとＸＹ平面とがほぼ平行になるように、プレ−ト部材Ｔを脱着可能に保持する。本実施形態において、プレ−ト部材保持部７２は、プレ−ト部材Ｔの裏面側でプレ−ト部材Ｔを保持する。プレ−ト部材保持部７２は、プレ−ト部材Ｔの表面Ｔａと終端光学素子７の射出面６とが対向するようにプレ−ト部材Ｔを保持することができる。すなわち、プレ−ト部材保持部７２は、射出面６から−Ｚ方向に所定距離だけ離れた位置でプレ−ト部材Ｔの表面Ｔａが射出面６と対向するように、プレ−ト部材Ｔを保持することができる。なお、本実施形態において、プレ−ト部材Ｔの表面Ｔａおよび裏面Ｔｂおよび側面Ｔｃの少なくとも一部は、液体ＬＱに対しては撥液性である。なお、プレ−ト部材Ｔの表面Ｔａおよび裏面Ｔｂおよび側面Ｔｃは、液体ＬＱに対しては、撥液性でなくても良い。
【００３５】
プレ−ト部材保持部７２は、ＸＹ平面において、基板保持部７１の周囲に配置されている。したがって、プレ−ト部材保持部７２に保持されるプレ−ト部材Ｔの表面Ｔａが、ＸＹ平面において、基板保持部７１に保持される基板Ｐの周囲に配置される。プレ−ト部材保持部７２は、第２リム部Ｒ２と、第３リム部Ｒ３と、第２リム部Ｒ２と第３リム部Ｒ３との間に形成された上面Ｇ２と、上面Ｇ２に設けられた複数の第２吸引口８２とを含む。
【００３６】
第２リム部Ｒ２は、内縁の内側側面Ｒ２ａと、外縁の外側側面Ｒ２ｂと、プレ−ト部材Ｔの裏面Ｔｂと接触する第２リム接触部Ｒ２ｃとを含む。第２リム部Ｒ２はＸＹ平面において、円形環状である。ＸＹ平面において、第２リム部Ｒ２は、第１部材３１の中心Ｘ周りに環状に形成されている。第２リム部Ｒ２は、上面Ｇ２に対して凸である。第２リム部Ｒ２は、ＸＹ平面において、第１部材３１の中心Ｘに対して第１リム部Ｒ１の外側に設けられている。本実施形態においては、第２リム部Ｒ２は、図３に示すように、ＸＹ平面において、第１リム部Ｒ１と同心環状に形成されている。第２リム部Ｒ２の内側側面Ｒ２ａは、第１リム部Ｒ１の外側側面Ｒ１ｂに沿って環状に形成され、Ｚ方向とほぼ平行に延びている。したがって、第２リム部Ｒ２の内側側面Ｒ２ａは、第１リム部Ｒ１の外側側面Ｒ１ｂとギャップを介して対向している。第２リム部Ｒ２の外側側面Ｒ２ｂは、内側側面Ｒ２ａの周囲に環状に形成され、Ｚ方向とほぼ平行に延びている。第２リム接触部Ｒ２ｃは、内側側面Ｒ２ａの上端と外側側面Ｒ２ｂの上端との間に形成され、ＸＹ平面とほぼ平行に延びている。第２リム接触部Ｒ２ｃは、ＸＹ平面において、平坦である。
【００３７】
第３リム部Ｒ３は、内縁の内側側面Ｒ３ａと、外縁の外側側面Ｒ３ｂと、プレ−ト部材Ｔの裏面Ｔｂと接触する第３リム接触部Ｒ３ｃとを含む。本実施形態において、第３リム部Ｒ３は、ＸＹ平面において、第１部材３１の外形と実質的に同じ形状に設けられている。すなわち、第３リム部Ｒ３は、ＸＹ平面において、四角状（矩形環状）に配置されている。第３リム部Ｒ３は、上面Ｇ２に対して凸である。第３リム部Ｒ３の内側側面Ｒ３ａは、ＸＹ平面において、第１部材３１の中心Ｘに対して第２リム部Ｒ２の外側に矩形環状に形成され、Ｚ方向とほぼ平行に延びている。第３リム部Ｒ３の外側側面Ｒ３ｂは、内側側面Ｒ３ａの周囲に矩形環状に形成され、Ｚ方向とほぼ平行に延びている。本実施形態においては、第３リム部Ｒ３の外側側面Ｒ３ｂは、第１部材３１の側面Ｇ４とほぼ面一である。第３リム接触部Ｒ３ｃは、内側側面Ｒ３ａの上端と外側側面Ｒ３ｂの上端との間に形成され、ＸＹ平面とほぼ平行に延びている。第３リム接触部Ｒ３ｃは、ＸＹ平面において、平坦である。なお、第３リム接触部Ｒ３ｃは、上面Ｇ２に対して、第２リム接触部Ｒ２ｃと同じ距離（高さ）に設けされており、第３リム接触部Ｒ３ｃと第２リム接触部Ｒ２ｃとによって、プレ−ト部材Ｔを保持するための保持面の少なくとも一部が形成されている。また、第３リム部Ｒ３は、ＸＹ平面において、第１リム部Ｒ１と第２リム部Ｒ２と同様に円形環状であってもよい。
【００３８】
上面Ｇ２は、ＸＹ平面において、第２リム部Ｒ２の外側側面Ｒ２ｂと第３リム部Ｒ３の内側側面Ｒ３ａとで囲まれている。上面Ｇ２は、ＸＹ平面に平行であり、平坦である。本実施形態において、上面Ｇ２のＺ方向の位置と基板保持部７１の上面Ｇ１のＺ方向の位置は、ほぼ同じである。複数の第２吸引口８２は、ＸＹ平面において、上面Ｇ２に、第１部材３１の中心Ｘ周りに、第２リム部Ｒ２に沿って環状に配置されている。第２吸引口８２のそれぞれは、図２に示すように、第１部材３１内部に設けられ、プレ−ト部材保持部７２の下方でＺ方向とほぼ平行に設けられている第３吸引流路９３と連通する。
【００３９】
なお、プレ−ト部材保持部７２の第３リム部Ｒ３の外側側面Ｒ２ｂは、第１部材３１の側面Ｇ４と面一でなくてもよい。例えば、第３リム部Ｒ３の外側側面Ｒ２ｂが、第１部材３１の側面Ｇ４よりも内側（中心Ｘの近く）に配置されてもよい。
【００４０】
なお、複数の第２吸引口８２は、環状に配置されていなくてもよく、上面Ｇ２に一様に配置されていてもよい。すなわち、第２吸引口８２の数、および配置は、任意に決めることができる。
【００４１】
また、上面Ｇ２のＺ方向の位置と上面Ｇ１のＺ方向の位置が、異なっていてもよい。
【００４２】
次に、図２を参照しながら第１部材３１の液体回収溝Ｚ１について説明する。液体回収溝Ｚ１は、第１リム部Ｒ１の外側側面Ｒ１ｂと第２リム部Ｒ２の内側側面Ｒ２ａと上面Ｇ３とで形成されている。すなわち、液体回収溝Ｚ１は、基板保持部７１の周囲に環状に配置されている。上面Ｇ３は、ＸＹ平面において、第１リム部Ｒ１の外側側面Ｒ１ｂと第２リム部Ｒ２の内側側面Ｒ２ａとで囲まれている。本実施形態において、上面Ｇ３のＺ方向の位置は、図２に示すように、プレート部材保持部７２の上面Ｇ２のＺ方向の位置および基板保持部７１の上面Ｇ１のＺ方向の位置とほぼ同じである。なお、上面Ｇ３のＺ方向の位置は、上面Ｇ１及び／又は上面Ｇ２のＺ方向の位置と異なっていても良い。
【００４３】
液体回収溝Ｚ１の上面Ｇ３には、複数の液体回収口８５が配置されている。ＸＹ平面において、液体回収口８５は、液体回収溝Ｚ１に沿って、等間隔で環状に配置されている。なお、液体回収溝Ｚ１に配置された液体回収口８５の数および配置も任意に決めることができる。
【００４４】
複数の液体回収口８５のそれぞれは、第１部材３１の内部に設けられている複数の回収流路９７と接続している。回収流路９７は、第１部材３１内部で第１吸引流路９１および第３吸引流路９３と独立している。すなわち、回収流路９７は、第１吸引流路９１および第３吸引流路９３と第１部材３１内部で連通しない。また、回収流路９７は、第１部材３１内にのみ設けられている。また、回収流路９７は、第２部材３２内部の流路とは連通しない。すなわち、回収流路９７は、第２部材３２とは独立して設けられており、第２部材３２を通過しない。
【００４５】
複数の回収流路９７のそれぞれは、第１部材３１に設けられた複数の液体排出口８７と接続されている。本実施形態においては、図２に示すように、液体排出口８７は、第１部材３１の＋Ｘ側と−Ｘ側の２つの側面Ｇ４にそれぞれ設けられている。二つの側面Ｇ４は、第１部材３１のＺＹ平面である。なお、図２においては、二つの側面Ｇ４のそれぞれに１つの液体排出口８７が設けられているが、二つの側面Ｇ４のそれぞれに複数の液体排出口８７を設けてもよい。また、２つの側面Ｇ４の一方のみに、液体排出口８７を設けてもよい。また、第１部材３１の＋Ｙ側と−Ｙ側の二つの側面の少なくとも一方に液体排出口８７を設けてもよい。すなわち、第１部材３１の４つの側面の少なくとも１つに、少なくとも１つの液体排出口８７が設けられていればよい。
【００４６】
なお、本実施形態においては、液体排出口８７は、液体回収口８５よりも−Ｚ側に設けられているが、液体排出口８７のＺ方向の位置と、液体回収口８５のＺ方向の位置は、ほぼ同じでもよいし、液体排出口８７が液体回収口８５よりも＋Ｚ側に設けられていても良い。
【００４７】
また、液体回収溝Ｚ１は、基板保持部７１の周囲に環状に配置されていなくてもよく、液体回収溝Ｚ１の形状は、任意に決めることができる。例えば、矩形環状の基板Ｐを基板保持部７１で保持する場合、基板保持部７１の周囲に矩形環状に液体回収溝Ｚ1を配置する。液体回収溝Ｚ１の形状は、基板保持部７１に保持される基板Ｐの形状に応じて決めればよい。
【００４８】
複数の液体排出口８７のそれぞれは、図２に示すように、タンクおよび吸引ポンプなどを含む第２液体回収装置２３と接続可能である。すなわち、本実施形態において、液体回収口８５は、回収流路９７および液体排出口８７を介して、第２液体回収装置２３に接続可能である。
【００４９】
次に、図２および図４を参照しながら、基板Ｐおよびプレ−ト部材Ｔが第１部材３１の基板保持部７１およびプレ−ト部材保持部７２に保持された状態に関して説明する。
【００５０】
図４は、基板保持部７１に基板Ｐ、及びプレ−ト部材保持部７２に保持されたプレ−ト部材Ｔを上方（＋Ｚ側）から見た平面図である。
【００５１】
基板保持部７１に基板Ｐを保持した状態において、図２に示すように、基板Ｐの裏面Ｐｂと第１リム部Ｒ１の内側側面Ｒ１ａと上面Ｇ１で第１空間Ｓ１が形成される。
【００５２】
プレ−ト部材Ｔをプレ−ト部材保持部７２に保持された状態において、図２に示すように、プレ−ト部材Ｔの裏面Ｔｂと第２リム部Ｒ２の外側側面Ｒ２ｂと第３リム部Ｒ３の内側側面Ｒ３ａと上面Ｇ２とで第２空間Ｓ２が形成される。
【００５３】
図２に示すように、基板保持部７１に保持された基板Ｐの表面Ｐａとプレ−ト部材保持部７２に保持されたプレ−ト部材Ｔの表面Ｔａとはほぼ面一である。また、図２、および図４に示すように、基板保持部７１に保持された基板Ｐ（表面Ｐａ）とプレ−ト部材保持部７２に保持されたプレ−ト部材Ｔ（表面Ｔａ）との間に、所定のギャップＧが形成される。ギャップＧの−Ｚ方向に液体回収溝Ｚ１が形成されている。
【００５４】
次に、図２を参照しながら、第２部材３２について詳細に説明する。第２部材３２は、第１部材保持部７３と、第２吸引流路９２と、第４吸引流路９４と、第５吸引流路９５とを含む。
【００５５】
本実施形態において、第２部材３２は、第１部材３１の上面Ｇ１，上面Ｇ２および上面Ｇ３とＸＹ平面とがほぼ平行になるように、第１部材３１を保持する。本実施形態において、第２部材３２は、第１部材３１の裏面側（−Ｚ側）で第１部材３１を保持する。すなわち、第２部材３２は、射出面６から−Ｚ方向に所定距離だけ離れた位置で第１部材３１を保持することができる。
【００５６】
本実施形態において、第２部材３２は、第１部材３１を固定するための複数の第１部材保持部７３を有する。すなわち、第２部材３２は、第１部材３１の下面Ｇ５と第２部材３２の上面Ｇ６とを密着させるための複数の第１部材保持部７３を有する。複数の第１部材保持部７３は、第２部材３２の＋Ｚ側に配置されている。複数の第１部材保持部７３は、ＸＹ平面において、第２部材３２の上面Ｇ６の周縁部に配置されている。本実施形態において、第１部材保持部７３のそれぞれは、上面Ｇ６に設けられた凹部を含む。第１部材保持部７３の凹部は、上面Ｇ６の下方に設けられた円形の上面Ｇ７と、上面Ｇ７の周囲に設けられた周壁Ｈとを含む。周壁Ｈは、上面Ｇ７の外縁に沿って環状に形成され、Ｚ方向とほぼ平行に上面Ｇ７から上面Ｇ６まで、延びている。上面Ｇ７は、ＸＹ平面とほぼ平行であり、平坦である。また、第１部材保持部７３のそれぞれは、上面Ｇ７のほぼ中心に設けられた第３吸引口８３を含む。第３吸引口８３のそれぞれは、第２部材３２内部に設けられ、第１部材保持部７３の下方にＺ方向とほぼ平行に延びる第５吸引流路９５と連通する。
【００５７】
複数の第５吸引流路９５それぞれは、図２に示すように吸引ポンプなどを含む第３真空システム１９と接続可能である。
【００５８】
なお、本実施形態において、第２部材３２は、複数の第１部材保持部７３を備えているが、第２部材３２が１つの第１部材保持部７３を備えるだけでもよい。すなわち、第１部材保持部７３の数、及び配置は任意に決めることができる。また、本実施形態において、第１保持部７３のそれぞれは、１つの第３吸引口８３を備えているが、第３吸引口８３の数、および配置は、任意に決めることができる。
【００５９】
次に、第２部材３２の第２吸引流路９２、及び第４吸引流路９４について説明する。
【００６０】
複数の第２吸引流路９２は、ＸＹ平面において、第２部材３２の中心（不図示）の周りに所定の間隔で、環状に配置されている。第２吸引流路９２は、Ｚ方向とほぼ平行に上面Ｇ６から−Ｚ方向に延びている。複数の第２吸引流路９２のそれぞれは、図２に示すように、吸引ポンプなどを含む第１真空システム１７と接続可能である
複数の第４吸引流路９４は、ＸＹ平面において、第２部材３２の中心（不図示）の周りに所定の間隔で、環状に配置されている。第４吸引流路９４は、Ｚ方向とほぼ平行に上面Ｇ６から−Ｚ方向に延びている。複数の第４吸引流路９４のそれぞれは、図２に示すように、吸引ポンプなどを含む第２真空システム１８と接続可能である。
【００６１】
次に、第２部材３２に第１部材３１を保持した状態に関して説明する。
【００６２】
上述したように、第１部材３１の外形と第２部材３２の外形は、大きさ、及び形状が同一である。したがって、第２部材３２に保持された第１部材３１の側面Ｇ４と第２部材３２の側面Ｇ８はほぼ面一である。
【００６３】
また、第２部材３２に第１部材３１を保持した状態において、図２に示すように、第１部材３１内部の第１吸引流路９１のそれぞれと第２部材３２内部の第２吸引流路９２のそれぞれが連通する。したがって、第１部材３１の第１吸引口８１は、第１吸引流路９１および第２吸引流路９２を介して、第１真空システム１７に接続可能である。したがって、第１真空システム１７は、基板保持部７１と基板Ｐの裏面Ｐｂとで囲まれた第１空間Ｓ１の気体を、第１吸引口８１を介して吸引することが可能である。すなわち、第１真空システム１７を動作させることによって、基板保持部７１に、基板Ｐが吸着保持される。また、第１真空システム１７による吸引動作を停止することにより、基板保持部７１から、基板Ｐを外すことが可能になる。
【００６４】
また、第２部材３２に第１部材３１を保持した状態において、図２に示すように、第１部材３１内部の第３吸引流路９３のそれぞれと第４吸引流路９４のそれぞれが連通する。したがって、第１部材３１の第２吸引口８２は、第３吸引流路９３および第４吸引流路９４を介して、第２真空システム１８に接続可能である。したがって、第２真空システム１８は、プレ−ト部材保持部７２とプレ−ト部材Ｔの裏面Ｔｂとで囲まれた第２空間Ｓ２の気体を、第２吸引口８２を介して吸引することが可能である。すなわち、第２真空システム１８を動作させることによって、プレート部材保持部７２に、プレート部材Ｔが吸着保持される。第２真空システム１８による吸引動作を停止することにより、プレート部材保持部７２から、プレート部材Ｔを外すことが可能になる。
【００６５】
さらに、第２部材３２に第１部材３１を保持した状態において、図２に示すように、第１部材３１の下面Ｇ５と、第２部材３２の周壁Ｈと、第２部材３２の上面Ｇ７で第４空間Ｓ４が形成される。したがって、第３真空システム１９は、第４空間Ｓ４の気体を、第３吸引口８３を介して吸引することが可能である。すなわち、第３真空システム１９を動作せることによって、第２部材３２に、第１部材３１が吸着保持される。また、第３真空システム１９による吸引動作を停止することにより、第２部材３２から、第１部材３１を外すことが可能になる。
【００６６】
次に、上述の構成を有する露光装置ＥＸの動作の一例について説明する。
【００６７】
なお、露光に先立って第２部材３２に第１部材３１が、保持される。また、第２部材３２に第１部材３１が保持された後、プレート部材Ｔは第１部材３１に保持される。
【００６８】
まず、露光前の基板Ｐは、所定の搬送装置を用いて、基板テーブル１０の第１部材３１（基板保持部７１）にロ−ドされる。
【００６９】
次に、基板保持部７１と基板Ｐの裏面Ｐｂとで囲まれた第１空間Ｓ１の気体を、第１吸引口８１を介して第１真空システム１７により吸引し、第１空間Ｓ１を負圧にすることにより、基板Ｐは、基板保持部７１に吸着保持される。
【００７０】
次に、終端光学素子７と基板Ｐとが対向するように、基板テーブル１０を投影光学系ＰＬの下方に移動し、露光光ＥＬの光路の少なくとも一部が、液体ＬＱで満たされるように液浸空間ＬＳを形成する。液体供給装置２１と第１液体回収装置２２により、液浸空間ＬＳが形成される。なお、終端光学素子７と基板Ｐとが対向している状態で、液体供給装置２１の液体供給と第１液体回収装置２２の液体回収を開始してもよいが、例えば、米国特許出願第２００７／０１２７００６号明細書に開示されているように、投影光学系ＰＬの下方に液浸空間ＬＳを維持した状態で、他のステージ（部材）上から基板Ｐ上へ液浸空間ＬＳを移動させてもよい。
【００７１】
終端光学素子７と基板Ｐとの間の露光光ＥＬの光路が液体ＬＱで満たされた状態で、照明系ＩＬより露光光ＥＬが射出される。照明系ＩＬより射出された露光光ＥＬは、マスクＭを照明する。マスクＭを介した露光光ＥＬは、投影光学系ＰＬ及び液浸空間ＬＳの液体ＬＱを介して、基板Ｐに照射される。これにより、マスクＭのパタ−ンの像が基板Ｐの表面Ｐａに投影され、基板Ｐは露光光ＥＬで露光される。
【００７２】
基板Ｐの露光が終了した後に、液体供給装置２１により液体ＬＱの供給を停止し、第１液体回収装置２２により、液浸空間ＬＳの液体ＬＱを回収する。基板Ｐの表面Ｐａから液体ＬＱを回収した後、第１真空システム１７による吸引動作を停止する。所定の搬送装置を用いて、露光後の基板Ｐを基板テーブル１０の第１部材３１からアンロ−ドされる。以上により、基板Ｐの露光処理が終了する。なお、例えば、米国特許出願第２００７／０１２７００６号明細書に開示されているように、基板Ｐの露光が終了した後に、投影光学系ＰＬの下方に液浸空間ＬＳを維持した状態で、基板Ｐ上から他のステージ（部材）上へ液浸空間ＬＳを移動させた後に、基板テーブル１０から基板Ｐをアンロードしてもよい。
【００７３】
次に、第２液体回収装置２３による液体ＬＱの回収について説明する。
【００７４】
基板Ｐの表面Ｐａのエッジ付近が露光される状態において、図２に示すように、基板Ｐ（表面Ｐａ）とプレ−ト部材Ｔ（表面Ｔａ）との間のギャップＧ上に、液浸空間ＬＳが形成される場合がある。本実施形態においては、また、ギャップＧを形成する基板Ｐの表面Ｐａと側面Ｐｃ、およびプレ−ト部材Ｔの表面Ｔａと側面Ｔｃのそれぞれが、液体ＬＱに対して撥液性である。また液体供給装置２１から供給された液体ＬＱが、その液体ＬＱの表面張力によりギャップＧに浸入しないように、ギャップＧの間隔が定められている。ギャップＧの間隔は、例えば、１ｍｍ以下である。ギャップＧの間隔を最適化することによって、ギャップＧからその下方空間への液体ＬＱの浸入が抑制されているものの、ギャップＧからその下方空間に液体ＬＱが浸入する可能性がある。
【００７５】
本実施形態において、基板Ｐの露光終了後に、ギャップＧから液体回収溝Ｚ１に侵入した液体ＬＱを回収するための回収動作が開始される。
【００７６】
本実施形態においては、露光後の基板Ｐを基板テーブル１０の第１部材３１からからアンロードするのとほぼ同時に、図２に示すように、ギャップＧから浸入した液体ＬＱは、第２液体回収装置２３により回収される。
【００７７】
ギャップＧから浸入した液体ＬＱは、基板Ｐの裏面Ｐａと第１リム部Ｒ１の内側側面Ｒ１ａと上面Ｇ１とで囲まれた第３空間Ｓ３（液体回収溝Ｚ１）を、第２液体回収装置２３の吸引ポンプに接続することによって吸引される。第２液体回収装置２３を動作させることによって、第３空間Ｓ３の液体ＬＱは、複数の液体回収口８５を介して回収流路９７に流入する。回収流路９７の液体ＬＱは、液体排出口８７を介して、第１部材３１の外部に排出され、第２液体回収装置２３のタンクに回収される。
【００７８】
本実施形態においては、図２に示すように、回収流路９７は、第２部材３２内部の流路と連通していない。すなわち、第２部材３２（上面Ｇ６）に面する第１部材３１の下面Ｇ５は、回収流路９７に連通する開口を有していない。したがって、回収流路９７の液体ＬＱは、第２部材３２内部を介することなく、液体排出口８７から排出することができる。
【００７９】
したがって、回収流路９７の内部の液体ＬＱが、第１部材３１と第２部材３２との間へ浸入することを抑制することができる。
【００８０】
また、本実施形態においては、図２に示すように、回収流路９７は、第１吸引流路９１および第３吸引流路９３と第１部材３１内部で連通しない。
【００８１】
したがって、回収流路９７の液体ＬＱは、第１部材３１内部の第１吸引流路９１および第３吸引流路９３と介することなく液体排出口８７から排出することができる。すなわち、回収流路９７の液体ＬＱが、第１部材３１内部の第１吸引流路９１および第３吸引流路９３へ浸入することを抑制できる。
【００８２】
以上説明したように、本実施形態によれば、第１部材３１（下面Ｇ５）と第２部材３２（上面Ｇ６）との間への液体ＬＱの浸入を抑制することできるので、その液体ＬＱの気化の悪影響（第１部材３１及び／又は第２部材３２の伸縮など）を抑制することができる。したがって、基板Ｐの変形（伸縮など）を抑制できる。したがって、露光不良の発生を抑制でき、不良デバイスの発生を抑制することができる。
【００８３】
また、本実施形態においては、第１部材３１内部の第１吸引流路９１および第３吸引流路９３へ液体ＬＱの浸入することを防止できる。したがって、第１部材３１内部での液体ＬＱの気化が抑制され、その液体ＬＱの気化に起因する悪影響（第１部材３１及び／又は第２部材３２の伸縮など）を効果的に抑制することができる。例えば、第３吸引流路９３が、液体ＬＱが浸入した場合、第３吸引流路９３内部、あるいは第３吸引流路９３に連通する第４吸引流路９４において、液体ＬＱが、気化しやすくなり、気化熱が発生する可能性が高くなる。本実施形態においては、回収流路９７は第３吸引流路９３から独立しているので、第３吸引流路９３及び/又は第４吸引流路９４内部での、液体ＬＱの気化によって、第１部材３１及び／又は第２部材３２が温度変化したりすることを効果的に抑制することができる。
【００８４】
なお、本実施形態において、制御装置４は、第１真空システム１７、及び第２真空システム１８、及び第３真空システム１９を任意に制御することができる。例えば、第２部材３２に第１部材３１を第３真空システム１９により吸着保持し、さらに、第１部材３１にプレート部材Ｔを第２真空システム１８により吸着保持した状態で、第１真空システム１７により第１部材３１に基板Ｐを吸着したり、第１部材３１から基板Ｐを外したりすることが可能である。
【００８５】
なお、第１真空システム１７、及び第２真空システム１８、及び第３真空システム１９は、露光装置ＥＸが備えていてもよいし、それらの少なくとも１つは、露光装置ＥＸが設置される工場などの設備であってもよい。また、第２液体回収装置２３は、露光装置ＥＸが備えていてもよいし、露光装置ＥＸが設置される工場などの設備であってもよい。
【００８６】
なお、上述の実施形態においては、露光後の基板Ｐを基板ステージ２からアンロードするのとほぼ同時に、第２液体回収装置２３による第３空間Ｓ３の液体ＬＱの回収動作を開始したが、基板Ｐを基板テーブル１０の第１部材３１からからアンロードする前に、第２液体回収装置２３による液体ＬＱの回収動作を開始してもよい。すなわち、基板Ｐを基板テーブル１０の第１部材３１からからアンロードするタイミングと、第２液体回収装置２３により液体ＬＱを回収するタイミングとを自由に決定することができる。また、本実施形態において、制御装置４は、液体供給装置２１、及び第１液体回収装置２２、及び第２液体回収装置２３を任意に制御することが可能である。例えば、上述の実施形態においては、基板Ｐの露光中、液浸空間ＬＳを形成するために液体供給装置２１の液体供給動作と第１液体回収装置２２の液体回収動作を実行し、第２液体回収装置２３の液体回収動作を停止させているが、基板Ｐの露光中、液体供給装置２１の液体供給動作と第１液体回収装置２２の液体回収動作に併せて、第２液体回収装置２３の液体回収動作を実行してもよい。
【００８７】
なお、本実施形態においては、第１部材３１から排出される液体ＬＱの回収流路９７を、第２部材３２とは独立して、第１部材３１内のみに設けることによって、回収流路９７内の液体ＬＱの第１部材３１と第２部材３２との間への侵入を抑制しているが、外部から第１部材３１へ液体の供給が必要な場合（例えば、第１部材３１内部の流路に液体を供給することで、第１部材３１の温度を調整する場合）には、第１部材３１へ供給される液体の供給流路を、第２部材３２とは独立して、第１部材３１内のみに設けることが望ましい。このようにすることによって、供給流路の液体が第１部材３１と第２部材３２との間へ侵入することを抑制することができる。
【００８８】
なお、上述の実施形態においては、基板テーブル１０を露光装置ＥＸに採用した例を挙げてきたが、上記実施形態の基板テーブル１０を露光装置ＥＸ以外の装置（例えば、基板を検査する検査装置）に採用してもよい。
【００８９】
なお、上述の実施形態においては、第２部材３２の上面６に凹部を設けることによって、第１部材３１と第２部材３２との間に第４空間Ｓ４を形成しているが、第１部材３１の下面Ｇ５に凹部を設けることによって、第１部材３１と第２部材３２との間に第４空間Ｓ４を形成してもよい。この場合、第２部材３２の第１部材保持部７３は、第３吸引口８３のみを備えていればよい。すなわち、第２部材３２の第１部材保持部７３は、少なくとも第３吸引口８３を備えていればよく、第３吸引口８３が接続される第４空間Ｓ４を形成するための凹部は、第１部材３１の下面Ｇ５と第２部材３２の上面Ｇ６の少なくとも一方に形成すればよい。
【００９０】
なお、本実施形態においては、基板保持部７１に保持された基板Ｐの表面Ｐａとプレート部材保持部７２に保持されたプレート部材Ｔの表面Ｔaとで、ほぼ面一の表面が形成されているが、プレート部材保持部７２に保持されたプレート部材Ｔの表面Ｔaの少なくとも一部の代わりに、平坦部（不図示）を設け、基板保持部７１に保持された基板Ｐの表面Ｐａと平坦部（不図示）でほぼ面一の表面を形成してもよい。また、平坦部（不図示）のすくなくとも一部を、液体ＬＱに対して撥液性にしてもよい。
【００９１】
なお、第１部材３１は、第２部材３２に脱着可能に保持されていなくてもよく、接着（例えば、化学接着）により第１部材３１を第２部材３２に保持し、脱着不可能にしてもよい。
【００９２】
なお、基板保持部７１およびプレ−ト部材保持部７２は、ピンチャック構造をそれぞれ含むが、記載を簡略にするために、ピンチャック構造の詳細は省略している。基板保持部７１およびプレ−ト部材保持部７２には、例えば、欧州特許出願公開第１７１３１１５号明細書に記載されているピンチャック構造を用いることができる。
【００９３】
なお、上述の実施形態の基板Ｐは、例えばシリコンウエハのような半導体ウエハを含む基材Ｗと、基材Ｗ上に形成された感光膜Ｒｇとを含む。感光膜Ｒｇは、感光材の膜である。本実施形態において、基板Ｐの表面Ｐａは、感光膜Ｒｇの表面を含む。本実施形態において、感光膜Ｒｇは、液体ＬＱに対して撥液性である。液体ＬＱに対する基板Ｐの表面Ｐａの接触角は、例えば９０度以上である。なお、基板Ｐの表面Ｐａが、感光膜Ｒgを覆う保護膜で形成されてもよい。保護膜は、トップコ−ト膜とも呼ばれる膜であり、感光膜Ｒgを液体ＬＱから保護する。
【００９４】
なお、上述の各実施形態の基板Ｐとしては、半導体デバイス製造用の半導体ウエハのみならず、ディスプレイデバイス用のガラス基板、薄膜磁気ヘッド用のセラミックウエハ、あるいは露光装置で用いられるマスクまたはレチクルの原版（合成石英、シリコンウエハ）等が適用される。
【００９５】
本実施形態において、プレート部材Ｔの表面Ｔａは、液体ＬＱに対して撥液性である。本実施形態においては、プレート部材Ｔは、ステンレス等の金属製の基材Ｔｄと、その基材Ｔｄ上に形成された撥液性材料の膜Ｔｆとを含む。本実施形態において、プレート部材Ｔの表面Ｔａは、撥液性材料の膜Ｔｆの表面を含む。撥液性材料としては、例えばＰＦＡ（Tetra fluoro ethylene-perfluoro alkylvinyl ether copolymer）、ＰＴＦＥ（Poly tetra fluoro ethylene）、ＰＥＥＫ（polyetheretherketone）、テフロン（登録商標）等が挙げられる。なお、プレート部材Ｔ自体が撥液性材料で形成されてもよい。なお、プレート部材Ｔの表面Ｔａは、すくなくとも表面Ｔａの一部が撥液表面を有していればよい。本実施形態において、液体ＬＱに対するプレート部材Ｔの表面Ｔａの接触角は、例えば９０度以上である。
【００９６】
なお、上述の実施形態の液体ＬＱは水であるが、水以外の液体であってもよい。液体ＬＱとしては、露光光ＥＬに対する透過性があってできるだけ屈折率が高く、投影光学系、あるいは基板の表面を形成する感光材（フォトレジスト）の膜に対して安定なものが好ましい。例えば、液体ＬＱとして、ハイドロフロロエ−テル（ＨＦＥ）、過フッ化ポリエ−テル（ＰＦＰＥ）、フォンブリンオイル、セダ−油等を用いることも可能である。また、液体ＬＱとして、屈折率が１．６〜１．８程度のものを使用してもよい。また、液体ＬＱとして、種々の流体、例えば、超臨界流体を用いることも可能である。
【００９７】
なお、上述の実施形態において、投影光学系ＰＬは、終端光学素子７の射出側（像面側）の光路を液体ＬＱで満たしているが、国際公開第２００４／０１９１２８号パンフレットに開示されているように、終端光学素子７の入射側（物体面側）の光路も液体ＬＱで満たす投影光学系を採用することもできる。
【００９８】
露光装置ＥＸとしては、マスクＭと基板Ｐとを同期移動してマスクＭのパターンを走査露光するステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置（スキャニングステッパ）の他に、マスクＭと基板Ｐとを静止した状態でマスクＭのパターンを一括露光し、基板Ｐを順次ステップ移動させるステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置（ステッパ）にも適用することができる。
【００９９】
さらに、ステップ・アンド・リピート方式の露光において、第１パターンと基板Ｐとをほぼ静止した状態で、投影光学系を用いて第１パターンの縮小像を基板Ｐ上に転写した後、第２パターンと基板Ｐとをほぼ静止した状態で、投影光学系を用いて第２パターンの縮小像を第１パターンと部分的に重ねて基板Ｐ上に一括露光してもよい（スティッチ方式の一括露光装置）。また、スティッチ方式の露光装置としては、基板Ｐ上で少なくとも２つのパターンを部分的に重ねて転写し、基板Ｐを順次移動させるステップ・アンド・スティッチ方式の露光装置にも適用できる。
【０１００】
また、例えば対応米国特許第６６１１３１６号明細書に開示されているように、２つのマスクのパターンを、投影光学系を介して基板上で合成し、１回の走査露光によって基板上の１つのショット領域をほぼ同時に二重露光する露光装置などにも本発明を適用することができる。また、プロキシミティ方式の露光装置、ミラープロジェクション・アライナーなどにも本発明を適用することができる。
【０１０１】
また、本発明は、米国特許第６３４１００７号明細書、米国特許第６２０８４０７号明細書、米国特許第６２６２７９６号明細書等に開示されているような複数の基板ステージを備えたツインステージ型の露光装置にも適用できる。
【０１０２】
更に、例えば対応米国特許第６８９７９６３号明細書等に開示されているように、基板を保持する基板ステージと基準マークが形成された基準部材及び／又は各種の光電センサを搭載した計測ステージとを備えた露光装置にも本発明を適用することができる。また、複数の基板ステージと計測ステージとを備えた露光装置にも適用することができる。計測ステージが終端光学素子の射出面及び液浸部材の下面と対向する位置に配置されることによって、終端光学素子及び液浸部材は、計測ステージとの間で液浸空間を形成することができる。
【０１０３】
露光装置ＥＸの種類としては、基板Ｐに半導体素子パターンを露光する半導体素子製造用の露光装置に限られず、液晶表示素子製造用又はディスプレイ製造用の露光装置や、薄膜磁気ヘッド、撮像素子（ＣＣＤ）、マイクロマシン、ＭＥＭＳ、ＤＮＡチップ、あるいはレチクル又はマスクなどを製造するための露光装置などにも広く適用できる。
【０１０４】
なお、上述の各実施形態においては、レーザ干渉計１３Ａ、１３Ｂを含む干渉計システム１３を用いてマスクステージ１及び基板ステージ２の各位置情報を計測するものとしたが、これに限らず、例えば各ステージ１、２に設けられるスケール（回折格子）を検出するエンコーダシステムを用いてもよい。この場合、干渉計システムとエンコーダシステムとの両方を備えるハイブリッドシステムとしてもよい。
【０１０５】
また、上述の各実施形態では、露光光ＥＬとしてＡｒＦエキシマレーザ光を発生する光源装置として、ＡｒＦエキシマレーザを用いてもよいが、例えば、米国特許第７０２３６１０号明細書に開示されているように、ＤＦＢ半導体レーザ又はファイバーレーザなどの固体レーザ光源、ファイバーアンプなどを有する光増幅部、及び波長変換部などを含み、波長１９３ｎｍのパルス光を出力する高調波発生装置を用いてもよい。さらに、上記実施形態では、前述の各照明領域と、投影領域がそれぞれ矩形状であるものとしたが、他の形状、例えば円弧状などでもよい。
【０１０６】
なお、上述の各実施形態においては、光透過性の基板上に所定の遮光パターン（又は位相パターン・減光パターン）を形成した光透過型マスクを用いたが、このマスクに代えて、例えば米国特許第６７７８２５７号明細書に開示されているように、露光すべきパターンの電子データに基づいて透過パターン又は反射パターン、あるいは発光パターンを形成する可変成形マスク（電子マスク、アクティブマスク、あるいはイメージジェネレータとも呼ばれる）を用いてもよい。可変成形マスクは、例えば非発光型画像表示素子（空間光変調器）の一種であるＤＭＤ（Digital Micro-mirror Device）等を含む。また、非発光型画像表示素子を備える可変成形マスクに代えて、自発光型画像表示素子を含むパターン形成装置を備えるようにしても良い。自発光型画像表示素子としては、例えば、ＣＲＴ（Cathode Ray Tube）、無機ＥＬディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ（ＯＬＥＤ：Organic Light Emitting Diode）、ＬＥＤディスプレイ、ＬＤディスプレイ、電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ：Field Emission Display）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ：Plasma Display Panel）等が挙げられる。
【０１０７】
上述の各実施形態においては、投影光学系ＰＬを備えた露光装置を例に挙げて説明してきたが、投影光学系ＰＬを用いない露光装置及び露光方法に本発明を適用することができる。このように投影光学系ＰＬを用いない場合であっても、露光光はレンズ等の光学部材を介して基板に照射され、そのような光学部材と基板との間の所定空間に液浸空間が形成される。
【０１０８】
また、例えば国際公開第２００１／０３５１６８号パンフレットに開示されているように、干渉縞を基板Ｐ上に形成することによって、基板Ｐ上にライン・アンド・スペースパターンを露光する露光装置（リソグラフィシステム）にも本発明を適用することができる。
【０１０９】
以上のように、本願実施形態の露光装置ＥＸは、本願請求の範囲に挙げられた各構成要素を含む各種サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精度、光学的精度を保つように、組み立てることで製造される。これら各種精度を確保するために、この組み立ての前後には、各種光学系については光学的精度を達成するための調整、各種機械系については機械的精度を達成するための調整、各種電気系については電気的精度を達成するための調整が行われる。各種サブシステムから露光装置への組み立て工程は、各種サブシステム相互の、機械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等が含まれる。この各種サブシステムから露光装置への組み立て工程の前に、各サブシステム個々の組み立て工程があることはいうまでもない。各種サブシステムの露光装置への組み立て工程が終了したら、総合調整が行われ、露光装置全体としての各種精度が確保される。なお、露光装置の製造は温度およびクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。
【０１１０】
半導体デバイス等のマイクロデバイスは、図5に示すように、マイクロデバイスの機能・性能設計を行うステップ２０１、この設計ステップに基づいたマスク（レチクル）を製作するステップ２０２、デバイスの基材である基板を製造するステップ２０３、上述の実施形態に従って、マスクのパターンを用いて露光光で基板を露光すること、及び露光された基板を現像することを含む基板処理（露光処理）を含む基板処理ステップ２０４、デバイス組み立てステップ（ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程などの加工プロセスを含む）２０５、検査ステップ２０６等を経て製造される。
【０１１１】
なお、上述の各実施形態の要件は、適宜組み合わせることができる。また、法令で許容される限りにおいて、上述の各実施形態及び変形例で引用した露光装置などに関する全ての公開公報及び米国特許の開示を援用して本文の記載の一部とする。
【図面の簡単な説明】
【０１１２】
【図１】本実施形態に係る露光装置の一例を示す概略構成図である。
【図２】本実施形態に係る基板テ−ブルの一例を示す側断面図である。
【図３】本実施形態に係る基板テ−ブルの一例を示す平面図である。
【図４】本実施形態に係る基板テ−ブルの一例を示す平面図である。
【図５】マイクロデバイスの製造工程の一例を示すフロ−チャ−トである。
【符号の説明】
【０１１３】
１…マスクステ−ジ、２…基板ステ−ジ、４…制御装置、５…第１駆動システム、６…射出面、７…終端光学素子、８…第２駆動システム、８Ａ…粗動システム、８Ｂ…微動システム、９…ステ−ジ本体、１０…基板テ−ブル、１１…ガイド部材、１２…ガイド面、１３…干渉計システム、１３Ａ…レ−ザ干渉計、１３Ｂ…レ−ザ干渉計、１７…第１真空システム、１８…第２真空システム、１９…第３真空システム、２１…液体供給装置、２２…第１液体回収装置、２３…第２液体回収装置、３１…第１部材、３２…第２部材、７１…基板保持部、７２…プレ−ト部材保持部、７３…第１部材保持部、８１…第１吸引口、８２…第２吸引口、８３…第３吸引口、８５…液体回収口、８７…液体排出口、９１…第１吸引流路、９２…第２吸引流路、９３…第３吸引流路、９４…第４吸引流路、９５…第５吸引流路、９７…回収流路、Ｓ１…第１空間、Ｓ２…第２空間、Ｓ３…第３空間、Ｓ４…第４空間、Ｇ１…上面  Ｇ２…上面、Ｇ３…上面、Ｇ４…側面、Ｇ５…下面、Ｇ６…上面、Ｇ７…上面、Ｇ８…側面、Ｒ１…第１リム部、Ｒ１ａ…内側側面、Ｒ１ｂ…外側側面、Ｒ１ｃ…第１リム接触部、Ｒ２…第２リム部、Ｒ２ａ…内側側面、Ｒ２ｂ…外側側面、Ｒ２ｃ…第２リム接触部、Ｒ３…第３リム部、Ｒ３ａ…内側側面、Ｒ３ｂ…外側側面, Ｒ３ｃ…第３リム接触部、Ｚ１…液体回収溝、ＬＱ…液体、ＬＳ…液浸空間、Ｐ…基板、Ｐａ…表面、Ｐｂ…裏面、Ｐｃ…側面、ＰＬ…投影光学系、ＰＲ…投影領域、Ｔ…プレ−ト部材、Ｔａ…表面, Ｔｂ…裏面、Ｔｃ…側面、Ｔｄ…金属製の基材、Ｔｆ…撥液性材料、Ｍ…マスク、ＥＬ…露光光、ＥＸ…露光装置、ＩＬ…照明系、ＩＲ…照明領域、ＡＸ…光軸、Ｇ…ギャップ、Ｒｇ…感光膜、Ｈ…周壁、Ｘ…中心
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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