(57)【要約】【課題】インプリントリソグラフィ工程のスループットを向上する。【解決手段】この方法は、第１の構成のインプリント可能媒体の複数の滴を備えた基板のある領域に対して、インプリントテンプレートを用いて前記インプリント可能媒体にパターンをインプリントするステップと、第２の構成のインプリント可能媒体の複数の滴を備えた基板のある領域に対して、同じインプリントテンプレートを用いて前記インプリント可能媒体にパターンをインプリントするステップとを含み、インプリント可能媒体の滴の前記第１の構成が、インプリント可能媒体の滴の前記第２の構成とは異なる。【選択図】図８
2010183076.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
インプリントリソグラフィ方法であって、
第１のインプリントを実行するステップであって、第１の構成のインプリント可能媒体の複数の滴を備えた基板のある領域に対して、インプリントテンプレートを用いて前記インプリント可能媒体にパターンをインプリントし、前記パターンのインプリント中に前記インプリント可能媒体の滴と前記インプリントテンプレートと前記基板との間にポケットが形成されるステップと、
第２のインプリントを実行するステップであって、第２の構成のインプリント可能媒体の複数の滴を備えた基板のある領域に対して、同じインプリントテンプレートを用いて前記インプリント可能媒体にパターンをインプリントし、前記パターンのインプリント中に前記インプリント可能媒体の滴と前記インプリントテンプレートと前記基板との間にポケットが形成されるステップとを含み、
前記第２のインプリント中に形成されたポケットが前記インプリントテンプレートに対して前記第１のインプリント中に形成されたポケットとは異なる場所に形成されるように、インプリント可能媒体の滴の前記第１の構成がインプリント可能媒体の滴の前記第２の構成とは異なる、インプリントリソグラフィ方法。
【請求項２】
前記インプリント可能媒体にパターンをインプリントする前記各ステップの前に、前記第１の構成の前記滴を提供するという第１の制御命令でインプリント可能媒体のディスペンサを制御するステップと、前記第２の構成の前記滴を提供するという、第１の命令とは異なる第２の制御命令でインプリント可能媒体のディスペンサを制御するステップとを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
別のインプリントを実行するステップであって、前記別のインプリント中に形成されるポケットが前記インプリントテンプレートに対して以前のインプリント中に形成されたポケットとは異なる場所に形成されるように、インプリント可能媒体の前記滴の構成が前記別のインプリントに対して変更されるステップをさらに含む、前記請求項のいずれか１項に記載の方法。
【請求項４】
インプリント可能媒体の滴の前記第２の構成が、インプリント可能媒体の滴の前記第１の構成と実質的に同じパターンを有し、前記第２の構成が、前記パターンが前記基板の表面に実質的に平行な平面内で移動するという点で前記第１の構成とは異なる、前記請求項のいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
前記ポケットが気体を含有するか又は含むように、気体雰囲気内で実行される、前記請求項のいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
前記第１及び／又は第２のインプリントが実行される前に、前記第１の構成のインプリント可能媒体の前記複数の滴を前記基板のある領域上に提供するステップと、
及び／又は前記第１及び／又は第２のインプリントが実行される前に、前記第２の構成のインプリント可能媒体の前記複数の滴を前記基板のある領域上に提供するステップとをさらに含む、前記請求項のいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
基板を保持する基板ホルダと、
前記基板上にインプリント可能な媒体の滴を与えるインプリント可能媒体のディスペンサと、
前記基板の表面にインプリント可能媒体の滴が特定の構成で確実に提供されるように、前記基板ホルダと前記インプリント可能媒体のディスペンサの一方又は両方を制御する制御構成と、
インプリントテンプレートを保持して前記インプリント可能媒体にパターンをインプリントするように構成されたインプリントテンプレートホルダとを備え、
前記制御構成は、第１のインプリントについて、第1の構成を有するインプリント可能媒体の複数の滴が前記基板のある領域上に確実に提供されるように構成され、
前記制御構成は、第２のインプリントについて、第２の構成を有するインプリント可能媒体の複数の滴が前記基板のある領域上に確実に提供されるように構成され、
前記制御構成は、前記第２のインプリント中に前記インプリントテンプレートとインプリント可能媒体の前記滴と前記基板との間に形成されるポケットが、前記インプリントテンプレートに対して、前記第１のインプリント中に前記インプリントテンプレートとインプリント可能媒体の前記滴との間に形成されたポケットとは異なる場所に形成されるように、インプリント可能媒体の滴の前記第１の構成がインプリント可能媒体の滴の前記第２の構成とは異なることを確実ならしめる、インプリントリソグラフィ装置。
【請求項８】
第１の構成のインプリント可能媒体の複数の滴を提供するという第１の制御命令でインプリント可能な媒体のディスペンサを制御するステップと、
第１のインプリントを実行するステップであって、前記第１の構成の前記滴を備えた基板のある領域に対して、インプリントテンプレートを用いて前記インプリント可能媒体にパターンをインプリントし、前記パターンのインプリント中に前記インプリント可能媒体の滴と前記インプリントテンプレートと前記基板との間にポケットが形成されるステップと、
第２の構成のインプリント可能媒体の複数の滴を提供するという、第１の命令とは異なる第２の制御命令でインプリント可能媒体のディスペンサを制御するステップと、
第２のインプリントを実行するステップであって、前記第２の構成の前記滴を備えた基板のある領域に対して、同じインプリントテンプレートを用いて前記インプリント可能媒体にパターンをインプリントし、前記パターンのインプリント中に前記インプリント可能媒体の滴と前記インプリントテンプレートと前記基板との間にポケットが形成されるステップとを含み、
前記第２のインプリント中に形成されたポケットが前記インプリントテンプレートに対して、前記第１のインプリント中に形成されたポケットとは異なる場所に形成されるように、インプリント可能媒体の滴の前記第１の構成がインプリント可能媒体の滴の前記第２の構成とは異なる、インプリントリソグラフィ方法。
【請求項９】
基板を保持する基板ホルダと、
前記基板上にインプリント可能な媒体の滴を与えるインプリント可能媒体のディスペンサと、
前記基板の表面にインプリント可能媒体の滴が特定の構成で確実に提供されるように、前記基板ホルダと前記インプリント可能媒体のディスペンサの一方又は両方を制御する制御構成と、
インプリントテンプレートを保持して前記インプリント可能な媒体にパターンをインプリントするインプリントテンプレートホルダとを備え、
第１のインプリントについて、前記制御構成は、第１の構成を有するインプリント可能媒体の複数の滴が前記基板のある領域上に確実に提供されるように構成された第１の命令を、前記インプリント可能媒体のディスペンサに提供するか又は受信し、
第２のインプリントについて、前記制御構成は、第２の構成を有するインプリント可能媒体の複数の滴が前記基板のある領域上に確実に提供されるように構成された第２の命令を、前記インプリント可能媒体のディスペンサに提供するか又は受信し、
前記第２のインプリント中に前記インプリントテンプレートとインプリント可能媒体の前記滴と前記基板との間に形成されるポケットが、前記インプリントテンプレートに対して、前記第１のインプリント中に前記インプリントテンプレートとインプリント可能な媒体の前記滴と前記基板の間に形成されたポケットとは異なる場所に形成されるように、前記命令及び／又は前記制御構成は、インプリント可能媒体の滴の前記第１の構成がインプリント可能媒体の滴の前記第２の構成とは異なることを確実ならしめる、インプリントリソグラフィ装置。
【請求項１０】
インプリントリソグラフィ方法であって、
第１のインプリントを実行するステップであって、第１の構成のインプリント可能媒体の複数の滴を備えた基板のある領域に対して、インプリントテンプレートを用いて前記インプリント可能媒体にパターンをインプリントするステップと、
第２のインプリントを実行するステップであって、第２の構成のインプリント可能媒体の複数の滴を備えた基板のある領域に対して、同じインプリントテンプレートを用いて前記インプリント可能媒体にパターンをインプリントするステップとを含み、
インプリント可能媒体の滴の前記第１の構成が、インプリント可能媒体の滴の前記第２の構成とは異なる、インプリントリソグラフィ方法。
【請求項１１】
基板を保持する基板ホルダと、
前記基板上にインプリント可能な媒体の滴を与えるインプリント可能媒体のディスペンサと、
前記基板の表面にインプリント可能媒体の滴が特定の構成で確実に提供されるように、前記基板ホルダと前記インプリント可能な媒体のディスペンサの一方又は両方を制御する制御構成と、
インプリントテンプレートを保持して前記インプリント可能媒体にパターンをインプリントするインプリントテンプレートホルダとを備え、
前記制御構成は、第１のインプリントについて、第1の構成を有するインプリント可能媒体の複数の滴が前記基板のある領域上に確実に提供されるように構成され、
前記制御構成は、第２のインプリントについて、第2の構成を有するインプリント可能媒体の複数の滴が前記基板のある領域上に確実に提供されるように構成され、
前記制御構成は、インプリント可能媒体の滴の前記第１の構成が、インプリント可能媒体の滴の前記第２の構成とは確実に異なるように前記制御構成が構成される、インプリントリソグラフィ装置。
【請求項１２】
第１の構成のインプリント可能媒体の複数の滴を提供するという第１の制御命令でインプリント可能媒体のディスペンサを制御するステップと、
第１のインプリントを実行するステップであって、前記第１の構成の前記滴を備えた基板のある領域に対して、インプリントテンプレートを用いて前記インプリント可能媒体にパターンをインプリントするステップと、
第２の構成のインプリント可能媒体の複数の滴を提供するという、第１の命令とは異なる第２の制御命令でインプリント可能媒体のディスペンサを制御するステップと、
第２のインプリントを実行するステップであって、前記第２の構成の前記滴を備えた基板のある領域に対して、同じインプリントテンプレートを用いて前記インプリント可能媒体にパターンをインプリントするステップとを含み、
インプリント可能媒体の滴の前記第１の構成が、インプリント可能媒体の滴の前記第２の構成とは異なる、インプリントリソグラフィ方法。
【請求項１３】
基板を保持する基板ホルダと、
前記基板上にインプリント可能な媒体の滴を与えるインプリント可能媒体のディスペンサと、
前記基板の表面にインプリント可能媒体の滴が特定の構成で確実に提供されるように、前記基板ホルダと前記インプリント可能媒体のディスペンサの一方又は両方を制御する制御構成と、
インプリントテンプレートを保持して前記インプリント可能媒体にパターンをインプリントするインプリントテンプレートホルダとを備え、
第１のインプリントについて、前記制御構成は、第１の構成を有するインプリント可能媒体の複数の滴が前記基板のある領域上に確実に提供されるように構成された第１の命令を、前記インプリント可能媒体のディスペンサに提供するか又は受信し、
第２のインプリントについて、前記制御構成は、第２の構成を有するインプリント可能媒体の複数の滴が前記基板のある領域上に確実に提供されるように構成された第２の命令を、前記インプリント可能媒体のディスペンサに提供するか又は受信し、
前記命令及び／又は前記制御構成は、インプリント可能媒体の滴の前記第１の構成がインプリント可能媒体の滴の前記第２の構成とは異なることを確実ならしめる、インプリントリソグラフィ装置。
【請求項１４】
基板上にインプリント可能媒体の第１のパターンと、基板上に前記第１のパターンとは異なるインプリント可能媒体の第２のパターンを形成するステップと、
前記第１及び第２のパターンを同じテンプレートでインプリントするステップとを含む、インプリント方法。
【請求項１５】
インプリント可能媒体のディスペンサに、基板上にインプリント可能媒体の第１のパターンと、基板上にインプリント可能媒体の第２のパターンとを形成するように命令するステップであって、前記第１のパターンと前記第２のパターンを形成するという前記インプリント可能媒体のディスペンサへの前記命令が異なる、該命令するステップと、
前記第１及び第２のパターンを同じテンプレートでインプリントするステップとを含む、インプリント方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
[0001]  本発明は、インプリントリソグラフィ方法及び装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
[0002]  リソグラフィでは、所与の基板領域上のフィーチャの密度を増大するためにリソグラフィパターン内のフィーチャのサイズを低減しようというのが継続的な要求である。フォトリソグラフィでは、より小さいフィーチャを得ようとする結果、どちらかと言えばコスト高につく液浸リソグラフィ及び極端紫外線（ＥＵＶ）リソグラフィなどの技術が発展してきた。
【０００３】
[0003]  ますます関心が増しているより小さいフィーチャへのより安価な可能性がある方法は、いわゆるインプリントリソグラフィである。インプリントリソグラフィでは、一般に、パターンを基板上に転写するために「スタンプ」（多くの場合、インプリントテンプレートと呼ばれる）を使用する。インプリントリソグラフィの利点は、フィーチャの解像度が、例えば、放射源の発光波長又は投影システムの開口数によって制限されないということである。その代わりに、解像度は、主としてインプリントテンプレート上のパターン密度に制限される。
【０００４】
[0004]  インプリントリソグラフィは、パターン形成する基板の表面にインプリント可能な媒体をパターン形成するステップを含む。パターン形成ステップは、インプリント可能な媒体がパターン形成された表面の凹部に流れ込み、パターン形成された表面上の突起によって横に押しのけられるように、インプリントテンプレートのパターン形成された表面とインプリント可能な媒体の層とを一緒に押し付けるステップを含んでもよい。凹部は、インプリントテンプレートのパターン形成された表面のパターンフィーチャを画定する。通常、インプリント可能な媒体は、パターン形成された表面とインプリント可能な媒体とが一緒に押し付けられる過程で流動可能である。インプリント可能な媒体のパターン形成に続けて、インプリント可能な媒体は、適切に非流動可能な状態又は凍結状態に置かれ、インプリントテンプレートのパターン形成された表面とパターン形成されたインプリント可能な媒体は分離される。次に、基板とパターン形成されたインプリント可能な媒体は、通常、基板をパターン形成するために又はさらにパターン形成するためにさらに処理される。インプリント可能な媒体は、通常、パターン形成する基板表面上のインプリント可能な媒体の滴から形成される。
【発明の概要】
【０００５】
[0005]  インプリント工程中、インプリント可能な媒体、インプリントテンプレート及び基板の間に形成されたポケットに気体が捕捉される場合がある。ヘリウムなどの高拡散性気体がインプリントが行われる雰囲気として使用される。次に、捕捉されたガスポケットは、いずれもインプリント可能な媒体、基板又はインプリントテンプレート内により迅速に溶解することができる。
【０００６】
[0006]  この方法の抱える問題は、ヘリウムなどの気体を使用した場合であっても気体の拡散及び／又は溶解が比較的遅い工程であるという点である。その結果、パターン形成へのガスポケットの変形を低減するために、数秒間、数十秒間又は数分間、インプリントテンプレートとインプリント可能な媒体を一緒に押し付けた状態に保持する必要がある。拡散時間はインプリントテンプレートとパターン形成されたインプリント可能な媒体の早期分離を防止する速度決定ステップであるため、この結果、インプリントリソグラフィ工程のスループットが低減することがある。
【０００７】
[0007]  ガスポケット内の気体は、例えば、基板及び／又はインプリントテンプレート（主としてインプリントテンプレート）内に拡散する。基板及び／又はインプリントテンプレート内でのこの拡散の領域では、気体の濃度は周囲の領域よりも高い。後続のインプリントでは、インプリントテンプレート（及び／又は基板）に対する以前に形成されたガスポケットの位置に形成されるガスポケットは、基板及び／又はインプリントテンプレート内に拡散するのにより時間がかかる。これは、気体がその内部に又はそれを通過して拡散する基板及び／又はインプリントテンプレートの領域が以前のインプリント内に形成されたガスポケットからこれらの領域に拡散した気体をすでに含んでいるためである。それ故、拡散時間が長くなった結果、より長時間、インプリントテンプレートとインプリント可能な媒体を一緒に押し付けた状態に保持する必要がある。
【０００８】
[0008]  インプリントリソグラフィでは、インプリントテンプレートがインプリント可能な媒体から外される時に、インプリント可能な媒体及び／又はインプリントテンプレートにかかる力を低減するためにインプリント可能な媒体及び／又はインプリントテンプレートに界面活性剤を添加してもよい。インプリント工程中にインプリント可能な媒体内に形成されたガスポケットの領域では、界面活性剤の濃度は低減する。界面活性剤の濃度が低減するため、濃度が低減する領域（すなわち、ガスポケットの場所）のインプリントテンプレート及び／又はインプリント可能な媒体にかかる剥離力は増大する。剥離力のこのような増大は、例えば、インプリントテンプレート上に提供された剥離層の損傷又はインプリント可能な媒体内に形成されるパターンの欠陥を引き起こすことがある。
【０００９】
[0009]  いくつかの用途では、界面活性剤の減少は、ガスポケット内に捕捉される拡散の速度の低減よりも問題である。
【００１０】
[0010]  従って、例えば、本明細書で開示された、又は従来技術一般の問題の少なくとも１つを未然に防ぐか又は緩和するインプリントリソグラフィ方法及び／又は装置を提供することが望ましい。
【００１１】
[0011]  一態様によれば、第１の構成のインプリント可能な媒体の複数の滴を備えた基板のある領域に対して、インプリントテンプレートを用いてインプリント可能媒体にパターンをインプリントするステップであって、パターンのインプリント中にインプリント可能媒体の滴、インプリントテンプレート及び基板との間にポケットが形成されるステップを含む第１のインプリントを実行するステップと、第２の構成のインプリント可能媒体の複数の滴を備えた基板のある領域に対して、同じインプリントテンプレートを用いてインプリント可能媒体にパターンをインプリントするステップであって、パターンのインプリント中にインプリント可能媒体の滴、インプリントテンプレート及び基板との間にポケットが形成されるステップを含む第２のインプリントを実行するステップとを含むインプリントリソグラフィ方法であって、第２のインプリント中に形成されたポケットがインプリントテンプレートに対して第１のインプリント中に形成されたポケットとは異なる場所に形成されるように、インプリント可能媒体の滴の第１の構成がインプリント可能媒体の滴の第２の構成とは異なるインプリントリソグラフィ方法が提供される。
【００１２】
[0012]  この方法は、インプリント可能媒体にパターンをインプリントする前に、第１の構成の滴を提供するという第１の制御命令でインプリント可能媒体のディスペンサを制御するステップと、第２の構成の滴を提供するという、第１の命令とは異なる第２の制御命令でインプリント可能媒体のディスペンサを制御するステップとを含んでもよい。
【００１３】
[0013]  第１及び第２のインプリントのための基板のある領域は同じであってもよい。あるいは、第１のインプリントのための基板のある領域（すなわち、第１の領域）は、第２のインプリントのための基板のある領域（すなわち、第２の領域）とは異なっていてもよい。一般に、第１のインプリントのための基板のある領域（すなわち、第１の領域）が第２のインプリントのための基板のある領域（すなわち、第２の領域）とは異なる場合が大半である。
【００１４】
[0014]  第２のインプリント中に形成された大多数のポケットがインプリントテンプレートに対して第１のインプリント中に形成されたポケットとは異なる場所に形成されるように、第１の構成は第２の構成とは異なっていてもよい。
【００１５】
[0015]  第２のインプリント中に形成されたすべてのポケットが、インプリントテンプレートに対して第１のインプリント中に形成されたポケットとは異なる場所に形成されるように、第１の構成は第２の構成とは異なっていてもよい。
【００１６】
[0016]  この方法は、別のインプリントを実行するステップであって、別のインプリント中に形成されるポケットが、インプリントテンプレートに対して以前のインプリント中に形成されたポケットとは異なる場所に形成されるように、インプリント可能媒体の滴の構成が別のインプリントに対して変更されているステップをさらに含んでもよい。第１、第２及び別のインプリントを実行するステップの後に、この方法は、インプリント可能媒体の滴が、第１のインプリントで使用されたのと実質的に同じ構成を有する追加のインプリントを実行するステップを含んでもよい。
【００１７】
[0017]  第１及び／又は第２のインプリントで、インプリントテンプレートが基板に最初に接触する時に基板に平行ではなく、基板に対してある角度を成すようにインプリントテンプレートをインプリント可能媒体内にインプリントすることができる。これは「角度を付けたインプリント」として周知である。
【００１８】
[0018]  インプリント可能媒体の滴の第２の構成は、インプリント可能媒体の滴の第１の構成と実質的に同じパターンを有していてもよく、第２の構成は、パターンが基板の表面に実質的に平行な平面内で移動するという点で第１の構成とは異なる。
【００１９】
[0019]  インプリント可能媒体の滴の第２の構成は、第２の構成の１つ又は複数の滴が第１の構成の１つ又は複数の滴と比較して異なる位置、サイズ、形状又は容積を有するという点でインプリント可能媒体の滴の第１の構成とは異なっていてもよい。
【００２０】
[0020]  インプリント可能媒体の滴の第２の構成は、第２の構成が第１の構成と比較して異なるパターンを有するという点でインプリント可能媒体の滴の第１の構成とは異なっていてもよい。このパターンは、滴のピッチを変更することで変更することができる。
【００２１】
[0021]  インプリント可能媒体の滴の第２の構成は、第２の構成が第１の構成と比較してより多くの数の又はより少ない数の滴を含むという点でインプリント可能媒体の滴の第１の構成とは異なっていてもよい。
【００２２】
[0022]  インプリント可能媒体のすべての滴の総容積は、第１の構成及び第２の構成で実質的に等しくてもよい。
【００２３】
[0023]  インプリント可能媒体の各々の滴の容積は、１ｐｌ〜１００ｐｌ、又は１ｐｌ〜２０ｐｌの範囲内にあってもよい。
【００２４】
[0024]  インプリントリソグラフィ方法は、ポケットが気体を含有するか又は含むように気体雰囲気内で実行することができる。気体雰囲気は、ポケットがヘリウムを含有するか又は含むようにヘリウムを含んでいてもよい。
【００２５】
[0025]  インプリントテンプレート上に剥離層を提供してもよい。
【００２６】
[0026]  インプリントテンプレート上、及び／又はインプリント可能媒体内もしくは上に界面活性剤を提供してもよい。
【００２７】
[0027]  第１及び第２のインプリントは、並列に及び／又は実質的に同時に実行する（すなわち、第１及び第２のインプリントを同時に実行するという意図である）ことができる。
【００２８】
[0028]  この方法は、第１及び／又は第２のインプリントが実行される前に第１の構成のインプリント可能媒体の複数の滴を基板のある領域上に提供するステップと、及び／又は第１及び／又は第２のインプリントが実行される前に第２の構成のインプリント可能媒体の複数の滴を基板のある領域上に提供するステップとを含む。
【００２９】
[0029]  インプリントテンプレートは、石英から作成されるか又は石英を含んでいてもよい。
【００３０】
[0030]  一態様によれば、基板を保持する基板ホルダと、基板上にインプリント可能媒体の滴を与えるインプリント可能媒体のディスペンサと、基板表面にインプリント可能媒体の滴が特定の構成で確実に提供されるように、基板ホルダとインプリント可能媒体のディスペンサの一方又は両方を制御する制御構成と、インプリントテンプレートを保持してインプリント可能媒体にパターンをインプリントするように構成されたインプリントテンプレートホルダとを備えるインプリントリソグラフィ装置であって、第１のインプリントについて、第1の構成を有するインプリント可能媒体の複数の滴が基板のある領域上に確実に提供されるように制御構成が構成され、第２のインプリントについて、第２の構成を有するインプリント可能媒体の複数の滴が基板のある領域上に確実に提供されるように制御構成が構成され、制御構成は、第２のインプリント中にインプリントテンプレート、インプリント可能媒体の滴及び基板の間に形成されるポケットがインプリントテンプレートに対して第１のインプリント中にインプリントテンプレートとインプリント可能媒体の滴との間に形成されたポケットとは異なる場所に形成されるように、インプリント可能媒体の滴の第１の構成がインプリント可能媒体の滴の第２の構成とは異なることを確実ならしめるインプリントリソグラフィ装置が提供される。
【００３１】
[0031]  インプリント可能媒体のディスペンサの制御構成（コントローラ）は、第１の構成の滴を提供するという第１の制御命令をインプリント可能媒体のディスペンサに提供するか、又は受信する（例えば、提供される）ことができ、インプリント可能媒体のディスペンサのコントローラは、第２の構成の滴を提供するという、第１の制御命令とは異なる第２の制御命令をインプリント可能な媒体のディスペンサに提供するか、又は受信する（例えば、提供される）ことができる。
【００３２】
[0032]  第１及び第２のインプリントのための基板のある領域は同じであってもよい。あるいは、第１のインプリントのための基板のある領域（すなわち、第１の領域）は、第２のインプリントのための基板のある領域（すなわち、第２の領域）とは異なっていてもよい。一般に、第１のインプリントのための基板のある領域（すなわち、第１の領域）が第２のインプリントのための基板のある領域（すなわち、第２の領域）とは異なる場合が大半である。
【００３３】
[0033]  第２のインプリント中に形成された大多数のポケットがインプリントテンプレートに対して第１のインプリント中に形成されたポケットとは異なる場所に形成されるように、第１の構成は第２の構成とは異なっていてもよい。
【００３４】
[0034]  第２のインプリント中に形成されたすべてのポケットがインプリントテンプレートに対して第１のインプリント中に形成されたポケットとは異なる場所に形成されるように、第１の構成は第２の構成とは異なっていてもよい。
【００３５】
[0035]  別のインプリントを実行してもよく、別のインプリント中に形成されるポケットがインプリントテンプレートに対して以前のインプリント中に形成されたポケットとは異なる場所に形成されるように、制御構成はインプリント可能な媒体の滴の構成が別のインプリントに対して確実に変更されるように構成されている。第１、第２及び別のインプリントを実行するステップの後に、追加のインプリントを実行してもよい。追加のインプリントでは、制御構成はインプリント可能な媒体の滴が第１のインプリントで使用されたのと実質的に同じ構成を確実に有するように構成されていてもよい。
【００３６】
[0036]  第１及び／又は第２のインプリントで、インプリントテンプレートが基板に最初に接触する時に、基板に平行ではなく、基板に対してある角度を成すようにインプリントテンプレートをインプリント可能媒体内にインプリントすることができる。制御構成は、そのような角度が最初インプリントテンプレートと基板との間に確実にあるように構成することができ、及び／又は制御構成は角度の大きさを制御するように構成することができる。これは、例えば、基板を保持する基板ホルダ、及び／又はインプリントテンプレートを保持するインプリントテンプレートホルダを適当に制御することで、基板及び／又はインプリントテンプレートの位置及び／又は向きを制御することで達成することができる。
【００３７】
[0037]  インプリント可能媒体の滴の第２の構成は、インプリント可能媒体の滴の第１の構成と実質的に同じパターンを有していてもよく、第２の構成は、パターンが基板の表面に実質的に平行な平面内で移動するという点で第１の構成とは異なる。
【００３８】
[0038]  インプリント可能媒体の滴の第２の構成は、第２の構成の１つ又は複数の滴が第１の構成の１つ又は複数の滴と比較して異なる位置、サイズ、形状又は容積を有するという点でインプリント可能な媒体の滴の第１の構成とは異なっていてもよい。
【００３９】
[0039]  インプリント可能媒体の滴の第２の構成は、第２の構成が第１の構成と比較して異なるパターンを有するという点でインプリント可能な媒体滴の第１の構成とは異なっていてもよい。
【００４０】
[0040]  インプリント可能媒体の滴の第２の構成は、第２の構成が第１の構成と比較してより多くの数の又はより少ない数の滴を含むという点でインプリント可能な媒体滴の第１の構成とは異なっていてもよい。
【００４１】
[0041]  インプリント可能媒体のすべての滴の総容積は、第１及び第２の構成で実質的に等しくてもよい。
【００４２】
[0042]  インプリント可能な媒体の各々の滴の容積は、１ｐｌ〜１００ｐｌ、又は１ｐｌ〜２０ｐｌの範囲内にあってもよい。
【００４３】
[0043]  インプリントは、ポケットが気体を含有するか又は含むように、気体雰囲気内で実行することができる。気体雰囲気は、ポケットがヘリウムを含有するか又は含むようにヘリウムを含んでいてもよい。
【００４４】
[0044]  インプリントテンプレート上に剥離層を提供してもよい。
【００４５】
[0045]  インプリントテンプレート上、及び／又はインプリント可能媒体内もしくは上に界面活性剤を提供してもよい。
【００４６】
[0046]  第１及び第２のインプリントは、例えば、同時にインプリント可能媒体のそれぞれの領域内にインプリントされるように制御された２つのインプリントテンプレートを使用することで、又は第１及び第２のインプリントが並列に及び／又は実質的に同時に確実に実行されるように何らかの方法で物理的に接続された１つ又は複数のインプリントテンプレートを提供することで、並列に及び／又は実質的に同時に実行することができる。
【００４７】
[0047]  第１及び／又は第２のインプリントが実行される前に第１の構成のインプリント可能な媒体の複数の滴を基板のある領域上に提供することができ、及び／又は第１及び／又は第２のインプリントが実行される前に第２の構成のインプリント可能媒体の複数の滴を基板のある領域上に提供することができる。
【００４８】
[0048]  インプリントテンプレートは、石英から作成されるか又は石英を含んでいてもよい。
【００４９】
[0049]  一態様によれば、第１の構成のインプリント可能媒体の複数の滴を提供するという第１の制御命令でインプリント可能な媒体のディスペンサを制御するステップと、第１の構成のインプリント可能媒体の複数の滴を備えた基板の領域に対して、インプリントテンプレートを用いてインプリント可能媒体にパターンをインプリントするステップであって、パターンのインプリント中にインプリント可能媒体の滴、インプリントテンプレート及び基板の間にポケットが形成されるステップを含む第１のインプリントを実行するステップと、第２の構成のインプリント可能媒体の複数の滴を提供するようにという、第１の命令とは異なる第２の制御命令でインプリント可能媒体のディスペンサを制御するステップと、第２の構成のインプリント可能媒体の複数の滴を備えた基板の領域に対して、同じインプリントテンプレートを用いてインプリント可能媒体にパターンをインプリントするステップであって、パターンのインプリント中にインプリント可能媒体の滴、インプリントテンプレート及び基板の間にポケットが形成されるステップを含む第２のインプリントを実行するステップとを含むインプリントリソグラフィ方法であって、第２のインプリント中に形成されたポケットがインプリントテンプレートに対して第１のインプリント中に形成されたポケットとは異なる場所に形成されるように、インプリント可能媒体の滴の第１の構成がインプリント可能媒体の滴の第２の構成とは異なるインプリントリソグラフィ方法が提供される。
【００５０】
[0050]  一態様によれば、基板を保持する基板ホルダと、基板上にインプリント可能媒体の滴を与えるインプリント可能媒体のディスペンサと、基板表面にインプリント可能媒体の滴が特定の構成で確実に提供されるように、基板ホルダとインプリント可能媒体のディスペンサの一方又は両方を制御する制御構成と、インプリントテンプレートを保持してインプリント可能媒体内にパターンをインプリントするように構成されたインプリントテンプレートホルダとを備えるインプリントリソグラフィ装置であって、制御構成は、第１のインプリントについて、第１の構成を有するインプリント可能媒体の複数の滴が基板のある領域上に確実に提供されるように構成された第１の命令をインプリント可能媒体のディスペンサに提供するか又は受信し、制御機構は、第２のインプリントについて、第２の構成を有するインプリント可能媒体の複数の滴が基板のある領域上に確実に提供されるように構成された第２の命令をインプリント可能媒体のディスペンサに提供するか又は受信し、第２のインプリント中にインプリントテンプレート、インプリント可能媒体の滴及び基板の間に形成されるポケットがインプリントテンプレートに対して第１のインプリント中にインプリントテンプレート、インプリント可能媒体の滴及び基板の間に形成されたポケットとは異なる場所に形成されるように、命令及び／又は制御構成はインプリント可能媒体の滴の第１の構成がインプリント可能媒体の滴の第２の構成とは異なることを確実ならしめるインプリントリソグラフィ装置が提供される。
【００５１】
[0051]  一態様によれば、第１の構成のインプリント可能媒体の複数の滴を備えた基板の領域に対して、インプリントテンプレートを用いてインプリント可能媒体にパターンをインプリントするステップを含む第１のインプリントを実行するステップと、第２の構成のインプリント可能媒体の複数の滴を備えた基板の領域に対して、同じインプリントテンプレートを用いてインプリント可能媒体にパターンをインプリントするステップを含む第２のインプリントを実行するステップとを含むインプリントリソグラフィ方法であって、インプリント可能媒体の滴の第１の構成がインプリント可能媒体の滴の第２の構成とは異なるインプリントリソグラフィ方法が提供される。
【００５２】
[0052]  一態様によれば、基板を保持する基板ホルダと、基板上にインプリント可能媒体の滴を与えるインプリント可能媒体のディスペンサと、基板表面にインプリント可能媒体の滴が特定の構成で確実に提供されるように基板ホルダとインプリント可能媒体のディスペンサの一方又は両方を制御する制御構成と、インプリントテンプレートを保持してインプリント可能媒体内にパターンをインプリントするように構成されたインプリントテンプレートホルダとを備えるインプリントリソグラフィ装置であって、制御構成は、第１のインプリントについて、第1の構成を有するインプリント可能媒体の複数の滴が基板のある領域上に確実に提供されるように構成され、制御構成は、第２のインプリントについて、第２の構成を有するインプリント可能媒体の複数の滴が基板のある領域上に確実に提供されるように構成され、制御構成は、インプリント可能媒体の複数の滴が第２の構成を有し、インプリント可能媒体の滴の第１の構成がインプリント可能媒体の滴の第２の構成とは異なることを確実ならしめるインプリントリソグラフィ装置が提供される。
【００５３】
[0053]  一態様によれば、第１の構成のインプリント可能媒体の複数の滴を提供するという第１の制御命令でインプリント可能媒体のディスペンサを制御するステップと、第１の構成のインプリント可能媒体の複数の滴を備えた基板の領域に対して、インプリントテンプレートを用いてインプリント可能媒体にパターンをインプリントするステップを含む第１のインプリントを実行するステップと、第２の構成のインプリント可能媒体の複数の滴を提供するという、第１の命令とは異なる第２の制御命令でインプリント可能媒体のディスペンサを制御するステップと、第２の構成のインプリント可能媒体の複数の滴を備えた基板の領域に対して、同じインプリントテンプレートを用いてインプリント可能媒体にパターンをインプリントするステップを含む第２のインプリントを実行するステップとを含むインプリントリソグラフィ方法であって、インプリント可能媒体の滴の第１の構成がインプリント可能媒体の滴の第２の構成とは異なるインプリントリソグラフィ方法が提供される。
【００５４】
[0054]  一態様によれば、基板を保持する基板ホルダと、基板上にインプリント可能な媒体の滴を与えるインプリント可能媒体のディスペンサと、基板表面にインプリント可能媒体の滴が特定の構成で確実に提供されるように基板ホルダとインプリント可能媒体のディスペンサの一方又は両方を制御する制御構成と、インプリントテンプレートを保持してインプリント可能媒体にパターンをインプリントするように構成されたインプリントテンプレートホルダとを備えるインプリントリソグラフィ装置であって、制御構成は、第１のインプリントについて、第１の構成を有するインプリント可能媒体の複数の滴が基板のある領域上に確実に提供されるように構成された第１の命令をインプリント可能媒体のディスペンサに提供するか又は受信し、制御構成は、第２のインプリントについて、第２の構成を有するインプリント可能媒体の複数の滴が基板のある領域上に確実に提供されるように構成された第２の命令をインプリント可能媒体のディスペンサに提供するか又は受信し、命令及び／又は制御構成は、インプリント可能媒体の滴の第１の構成がインプリント可能媒体の滴の第２の構成とは異なることを確実ならしめるインプリントリソグラフィ装置が提供される。
【００５５】
[0055]  一態様によれば、基板上にインプリント可能媒体の第１のパターンと、第１のパターンとは異なるインプリント可能媒体の第２のパターンを形成するステップと、第１及び第２のパターンを同じテンプレートでインプリントするステップとを含むインプリント方法が提供される。
【００５６】
[0056]  一態様によれば、インプリント可能媒体のディスペンサに基板上にインプリント可能媒体の第１のパターンと、基板上にインプリント可能媒体の第２のパターンとを形成するように命令するステップであって、第１のパターンと第２のパターンを形成するというインプリント可能媒体のディスペンサへの前記命令が異なる、該命令するステップと、第１及び第２のパターンを同じテンプレートでインプリントするステップとを含むインプリント方法が提供される。
【００５７】
[0057]  適宜、本発明の態様の各々は、本発明の他の任意の態様に関連して記載された１つ又は複数の特徴を有していてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００５８】
[0058]  以下、添付の図面を参照しながら、本発明の特定の実施形態について説明する。
【００５９】
【図１】[0059]ＵＶインプリントリソグラフィの一例を示す概略図である。
【図２ａ】[0060]１つ又は複数のパターンがインプリントリソグラフィを用いて提供される複数の領域に分割された基板の概略図である。
【図２ｂ】[0061]図２ａに示しそれに関連して説明する基板の１つ又は複数の領域上にインプリント可能な媒体を配置する装置の概略図である。
【図２ｃ】[0062]インプリント可能な媒体内に１つ又は複数のパターンを提供するインプリントテンプレートの概略図である。
【図３ａ】[0063]インプリント可能な媒体の複数の滴が提供された基板のある領域の概略図である。
【図３ｂ】[0064]インプリントテンプレートがインプリント可能な媒体の滴内に押し付けられた時のインプリント可能な媒体の滴の拡散を示す概略図である。
【図３ｃ】[0065]インプリント可能な媒体の滴、インプリントテンプレート（テンプレートは図示せず）及び基板の間に捕捉されたガスポケットの場所を示す概略図である。
【図４ａ】[0066]第１の構成のインプリント可能な媒体の滴が提供された基板のある領域の概略図である。
【図４ｂ】[0067]インプリントテンプレートがインプリント可能な媒体の滴内に押し付けられた時の第１の構成のインプリント可能な媒体の滴を示す概略図である。
【図４ｃ】[0068]第１の構成のインプリント可能な媒体の滴、インプリントテンプレート（テンプレートは図示せず）及び基板の間に形成されたガスポケットの場所を示す概略図である。
【図５ａ】[0069]第２の構成のインプリント可能な媒体の滴が提供された基板のある領域の概略図である。
【図５ｂ】[0070]インプリントテンプレートがインプリント可能な媒体の滴内に押し付けられた時の第２の構成のインプリント可能な媒体の滴を示す概略図である。
【図５ｃ】[0071]第２の構成のインプリント可能な媒体の滴、インプリントテンプレート（テンプレートは図示せず）及び基板の間に形成されたガスポケットの場所を示す概略図である。
【図６ａ】[0072]異なるサイズを有するインプリント可能な媒体の複数の滴が提供された基板のある領域の概略図である。
【図６ｂ】[0073]インプリントテンプレートがインプリント可能な媒体の滴内に押し付けられた時の図６ａに関して示しそれに関連して説明するインプリント可能な媒体の滴を示す概略図である。
【図７ａ】[0074]異なるサイズを有するインプリント可能な媒体の複数の滴が提供された基板のある領域の概略図である。
【図７ｂ】[0075]インプリントテンプレートがインプリント可能な媒体の滴内に押し付けられた時の図７ａに関して示しそれに関連して説明するインプリント可能な媒体の滴を示す概略図である。
【図８】[0076]インプリントテンプレートがインプリント可能な媒体の滴内に押し付けられた時の第１の構成のインプリント可能な媒体の滴の場所と、インプリントテンプレートがインプリント可能な媒体の滴内に押し付けられた時の第２の構成のインプリント可能な媒体の滴の場所を示す概略図であって、それぞれの場所が互いに重なっている概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００６０】
[0077]  インプリントリソグラフィへの周知の方法の一例の概略を図１に示す。
【００６１】
[0078]  図１は、紫外線（ＵＶ）を透過する透明な又は半透明のテンプレートとインプリント可能な媒体としてのＵＶ硬化性液体（本明細書では「ＵＶ」という用語が便宜上使用されているが、インプリント可能な媒体を硬化させる任意の適切な化学線放射を含むものと解釈すべきである）の使用を含む紫外線（ＵＶ）インプリントリソグラフィの一例を示す。ＵＶ硬化性液体は、多くの場合、ホットインプリントリソグラフィで使用される熱硬化性及び熱可塑性樹脂よりも粘性が低く、従って、はるかに速く移動してテンプレートのパターンフィーチャを充填することができる。
【００６２】
[0079]  基板６は、平坦化及び転写層８を備える。インプリント可能な媒体としてのＵＶ硬化性樹脂１０が平坦化及び転写層８上に提供されている。石英テンプレート１２がＵＶ硬化性樹脂１０に接触している（例えば、インプリントされている）。石英テンプレート１２のパターンフィーチャによって形成されるパターンは、石英テンプレート１２を通してＵＶ硬化性樹脂１０に照射されるＵＶ放射１４でＵＶ硬化性樹脂１０を硬化させることで「固まる」。テンプレート１２とＵＶ硬化性樹脂１０が分離された後、ＵＶ硬化性樹脂１０はエッチングされ、ＵＶ硬化性樹脂１０の薄い領域は基板までエッチングされる。ＵＶインプリントリソグラフィによって基板をパターン形成する特定の方法は、いわゆるステップアンドフラッシュインプリントリソグラフィ（ＳＦＩＬ）である。ＳＦＩＬは、従来、集積回路（ＩＣ）製造で使用されている光ステッパと類似の方法で基板を細かいステップでパターン形成するために使用することができる。ＵＶインプリントの詳細情報については、例えば、米国特許出願公開第２００４−０１２４５６６号、米国特許第６，３３４，９６０号、ＰＣＴ特許出願公開第ＷＯ０２／０６７０５５号、及び「Ｍｏｌｄ−ａｓｓｉｓｔｅｄ  ｎａｎｏｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ：Ａ  ｐｒｏｃｅｓｓ  ｆｏｒ  ｒｅｌｉａｂｌｅ  ｐａｔｔｅｒｎ  ｒｅｐｌｉｃａｔｉｏｎ」、Ｊ．Ｖａｃ．Ｓｃｉ．Ｔｅｃｈｎｏｌ．Ｂ１４（６），１９９６年１１月／１２月と題されたＪ．Ｈａｉｓｍａ氏の論文を参照されたい。
【００６３】
[0080]  図２ａは、基板６（例えば、図１に示しそれに関連して説明する基板）の概略平面図を示す。基板６は、複数の領域２０に分割されている。領域２０は、個別のダイであるか又はそれに対応してもよく、あるいは代替的に又は追加的に、例えばステップアンドリピートインプリントリソグラフィ工程の任意の所与の時間にインプリントすることができる領域に対応してもよい。図２ａでは領域２０がいくつかの交差する線によって画定されることを示すが、これらの線は異なる領域２０を強調するために例示的に示すものに過ぎない。実際、基板６上にそのような線は存在しなくてもよい。基板６は、基板ホルダ（図示せず）によって保持することができ、基板ホルダは移動して基板６を移動させることができる。
【００６４】
[0081]  図２ｂは、インプリント可能な媒体のディスペンサ２２を示す。インプリント可能な媒体のディスペンサ２２を用いて、図２ａに示しそれに関連して説明する基板の１つ又は複数の領域上にインプリント可能な媒体を提供することができる。インプリント可能な媒体のディスペンサ２２がインプリント可能な媒体が提供される基板のある領域に対して適当な位置にあるように、基板及び／又はインプリント可能な媒体のディスペンサ２２を互いに対して移動させることができる。以下に詳述するように、インプリント可能な媒体は、滴の形で提供される。インプリント可能な媒体のディスペンサ２２は、インクジェットプリンタ、バブルジェット（登録商標）プリンタなどであってもよく、又はそれらと類似の方法で動作してもよい。
【００６５】
[0082]  一例では、インプリントテンプレートが基板の１つ又は複数の領域上に提供されたインプリント可能な媒体にインプリントされる前に、基板の複数の領域（例えば、すべての領域）にインプリント可能な媒体を提供することができる（連続して、又は並列に）。しかし、インプリント可能な媒体は、インプリントテンプレートがインプリント可能な媒体にインプリントされる前に蒸発する可能性があるため、基板のある領域上のインプリント可能な媒体がインプリントテンプレートでインプリントされる直前にその領域にインプリント可能な媒体を提供するというのがより一般的な方法である。これにより、インプリント可能な媒体が蒸発する損失が回避されるか、又は低減される。
【００６６】
[0083]  図２ｃは、基板の１つ又は複数の領域上に提供されたインプリント可能な媒体にパターンをインプリントするために使用される例示的なインプリントテンプレート２（例えば、図１に示しそれに関連して説明するインプリントテンプレート）を示す。インプリントテンプレートを保持し、及び／又は移動させるためにインプリントテンプレートホルダを提供してもよい。インプリントテンプレートホルダを用いて基板に対してインプリントテンプレートを移動させることができる（例えば、基板に平行に及び／又は垂直に）。
【００６７】
[0084]  図３ａは、基板の領域２０の概略平面図を示す。上記のインプリント可能な媒体のディスペンサが基板の領域２０上にインプリント可能な媒体２４の複数の滴を提供するために使用されている。インプリント可能な媒体の滴の構成（例えば、数、場所、分離、分布、及び／又は位置など）は、インプリントテンプレートによってインプリント可能な媒体内にインプリントされるパターンから独立していてもよい。しかし、インプリント可能な媒体の滴の構成は、インプリントテンプレートによってインプリント可能な媒体内に提供されるパターンに依存していてもよい。例えば、基板の領域２０のあるサブ領域内の滴の濃度又は容積は、インプリント可能な媒体にインプリントするパターンがそのサブ領域内でより高いパターンの濃度（又はフィーチャの濃度）を有する場合、他のサブ領域と比較して増大する場合がある。あるいは、基板の領域２０のあるサブ領域内の滴の濃度又は容積は、インプリント可能な媒体にインプリントするパターンがそのサブ領域内でより低いパターンの濃度（又はフィーチャの濃度）を有する場合、他のサブ領域と比較して減少することがある。インプリント可能な媒体の滴の構成を、インプリント可能な媒体が基板のある領域から基板の別の領域へ流れる可能性を低減又は除去するために選択してもよい。
【００６８】
[0085]  インプリント可能な媒体の滴が基板上に提供されると、インプリントテンプレートはインプリント可能な媒体の滴に接触することができ、インプリント可能な媒体内に押し込まれる（インプリントテンプレート及び／又は基板を適当に移動させることで）。図３ｂは、インプリントテンプレートがインプリント可能な媒体内に押し込まれた時のインプリント可能な媒体の滴２４を示す（インプリントテンプレートはこの図には示していない）。インプリントテンプレートをインプリント可能な媒体内に押し込むと、インプリント可能な媒体の滴２４は拡散する。インプリント可能な媒体の滴は互いに接触し、少なくともある程度合体し始める。上記のように、インプリント工程は気体雰囲気内で実行することができる。それ故、インプリント可能な媒体の滴２４が互いに接触するにつれて、ガスのポケット２６（例えば、ヘリウムガスのポケット）が滴２４、インプリントテンプレート及び基板の間に捕捉される。ガスポケット２６を拡散させて、インプリント可能な媒体の滴がインプリントテンプレートの突起の周囲とインプリントテンプレートの凹部内により自由に延在して、それ故インプリントテンプレートのパターンフィーチャを採用することができるようにすることが望ましい。これを実行するためには、ガスポケット２６を例えば基板及び／又はインプリントテンプレート内に拡散させることが必要である。気体の拡散中に、気体が拡散する本体（例えば、基板及び／又はインプリントテンプレート）の領域内の気体の濃度は増大する。
【００６９】
[0086]  図３ｃは、基板の領域２０に対するガスポケットの場所２８を概略的に示す。
【００７０】
[0087]  後続のインプリント工程中にインプリント可能な媒体の滴の同じ構成が使用される場合、インプリントテンプレートに対するガスポケットの場所も実質的に同じである。これは、ガスポケットの場所がすでに（以前に拡散した）気体の濃度があるインプリントテンプレート上の場所（例えば、領域）と実質的に一致するということを意味する。後続のインプリント工程で、インプリントテンプレート内に気体が存在するとガスポケットからインプリントテンプレートへの気体の拡散速度が低下する。その結果、継続するインプリント工程の間、気体がガスポケットから拡散するのにかかる時間が増大する。これによって、インプリント工程を実施するのにかかる全体の時間が増大する。従来技術ではこの問題はまだ解明されていない。例えば、この問題を低減又は除去することが望ましい。この問題は、石英から作成されるか又は石英を含むインプリントテンプレートで特に顕著である。これは、そのようなテンプレートがインプリントリソグラフィで一般に使用され、ある種の気体がそのようなテンプレート内に拡散することができるからである。
【００７１】
[0088]  １つ又は複数の後続のインプリントでインプリントテンプレートに対して同じ場所にあるガスポケットには、さらに又は別の問題がつきまとっている。インプリントリソグラフィでは、インプリント可能な媒体からインプリントテンプレートを剥離する（例えば、除去する）時に発生する剥離力を低減するためにインプリントテンプレート上に剥離層を提供してもよい。剥離層は、例えば、パーフルオロトリクロロシラン自己組織化単分子膜であってもよい。しかし、このタイプの剥離層には高い接着力と低い耐久性がつきものである。従って、この問題の別の又は追加的な解決策はインプリントテンプレート及び／又はインプリント可能な媒体に界面活性剤を添加することである。界面活性剤は、極部（親液性、例えば、親水性）及び無極部（疎液性、例えば、疎水性）を備えた分子である。親水性ポリエーテル部−（ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ）ｍ−Ｈ及び疎水性フッ素化部（ＣＦ２−ＣＦ２）ｎ−Ｆを有する界面活性剤を使用してもよい。この界面活性剤の商品名は、ＤｕＰｏｎｔ（商標）製のＺｏｎｙｌ（登録商標）ＦＳＯ−１００と３Ｍ（商標）製のＦＣ−４４３２である。界面活性剤は、少量（＜１％）だけインプリント可能な媒体に添加される。界面活性剤は、望ましくはインプリント可能な媒体と環境（例えば、空気又はヘリウムなどの気体）及び／又はインプリント可能な媒体とインプリントテンプレートとの間の界面に沈着する。
【００７２】
[0089]  インプリント可能な媒体からのインプリントテンプレートの剥離の間、インプリントテンプレート上の界面活性剤は摩耗することがある。しかし、インプリントテンプレートが次にインプリント可能な媒体にインプリントされる時には（例えば、次のインプリントで）、インプリント可能な媒体から剥離した界面活性剤がテンプレートに移送されて摩耗によってインプリントテンプレートから失われた界面活性剤を補給する。インプリント可能な媒体の拡散中に、界面活性剤は、最初はインプリント可能な媒体と環境との間の界面に存在してインプリント可能な媒体の滴の界面エネルギーを低減することが望ましい。しかし、滴が拡散する速度のため、インプリント可能な媒体と周囲との間の界面での界面活性剤の濃度は減少する（すなわち、液滴の「前面」の移動が速すぎて界面活性剤分子が追いつけない）。このために、ガスポケットの場所に隣接するインプリントテンプレートの領域又はエリアは、インプリントテンプレートの他の領域又はエリアと同様、界面活性剤を補給されない。インプリントテンプレートとインプリント可能な媒体との総接触時間もガスポケットの場所では短いため、この効果は大きくなる。これは、ガスポケットが存在した場所では剥離層の摩耗の結果としての欠陥が発生しやすいということを意味する。後続のインプリントでインプリント可能な媒体の滴の実質的に同じ構成が使用される場合、ガスポケットの場所と界面活性剤が補給されないということが同じである以上、この効果はさらに強調される。従来技術ではこの問題はまだ解明されていない。例えば、この問題を低減又は除去することが望ましい。
【００７３】
[0090]  用途によっては、界面活性剤の減少は、ガスポケットに捕捉された気体の拡散速度の低下よりも問題である。
【００７４】
[0091]  一実施形態によれば、上記の問題の１つ以上は、１つ又は複数の連続する又は後続のインプリントでインプリント可能な媒体の滴の構成を変更することで未然に防ぐか、又は緩和することができる。例えば、後続のインプリントでインプリント可能な媒体の滴の構成を変更することで、１つ又は複数のガスポケットの場所は以前のインプリントで形成されたガスポケットの場所に対応しなくなる。このように構成を変更することで、ガスポケット内の気体は、例えば、基板及び／又はインプリントテンプレート内に拡散することが容易になる。これは、そうでなければそのような拡散への障壁として機能するガスポケットの場所での気体の濃度が増大しないためである。代替的に又は追加的に、このように構成を変更することで、インプリントテンプレート及び／又はインプリント可能な媒体それ自体上での摩耗は低減する。これは、ガスポケットが異なる場所に形成されるのでそのような摩耗が同じ場所で発生しないためである。例えば、このように滴の構成を変更することで、界面活性剤（使用する場合）はインプリントテンプレートの各領域に補給されやすくなり、インプリントテンプレート（例えば、インプリントテンプレートの剥離層）の摩耗は低減する。
【００７５】
[0092]  後続のインプリントでは、１つ又は複数の（例えば、大多数又はすべての）ガスポケットの位置の重なりを最小限にするか、又は除去してインプリントテンプレート及び／又は基板への気体の拡散をさらに向上させ、及び／又はインプリントテンプレートの摩耗をさらに低減することが望ましい。
【００７６】
[0093]  図４ａは、基板の領域２０を概略的に示す。インプリント可能な媒体の滴３０が、第１の構成で基板の領域２０上に提供されている。
【００７７】
[0094]  図４ｂは、インプリントテンプレートがインプリント可能な媒体の滴３０内に押し付けられた時のインプリント可能な媒体の滴３０を示す。滴３０は、拡散して互いに接触し、滴３０、基板及びインプリントテンプレートの間のガスポケット３２内の気体を捕捉する（上記のように）。
【００７８】
[0095]  図４ｃは、図４ｂに示しそれに関連して説明するガスポケットの場所３４を概略的に示す。
【００７９】
[0096]  図５ａ〜図５ｃは、基板の領域２０上の後続のインプリント工程を示す。後続のインプリントでのインプリント可能な媒体の滴の位置とガスポケットの場所は、図５ａ〜図５ｃで実線の黒又は実線の輪郭で示されている。ちなみに、図４ａ〜図４ｃに示すインプリント可能な媒体の滴の位置とガスポケットの場所は、図５ａ〜図５ｃで点線の輪郭で示されている。図において、インプリント可能な媒体の滴の位置とガスポケットの場所は、基板の領域２０に対して示されている。しかし、図は、インプリントテンプレートがインプリント可能な媒体の滴に接触し、これに押し付けられた時のインプリントテンプレートに対するインプリント可能な媒体の滴の位置とガスポケットの場所も表していることを理解されたい。
【００８０】
[0097]  図５ａは、インプリント可能な媒体の滴３６が第２の構成で基板の領域２０上に提供されていることを示す。第１及び第２の構成の滴のパターンは、実質的に同じである。しかし、滴３６の第２の構成は、図４ａに示しそれに関連して説明する滴の第１の構成とは異なる。その違いとは、第２の構成では、滴のパターンが第１の構成の滴の位置に対して移動しているということである。滴のパターンは、基板表面に平行な平面内で移動している。第１及び第２の構成の滴の分布、サイズ、相互間隔（すなわち、ピッチ）及び寸法は実質的に同じであるが、以下に詳述するように、これらの特性を変更して滴の構成を変えることも可能である。
【００８１】
[0098]  図５ｂは、インプリントテンプレートが滴３６に接触し、これに押し付けられた時の第２の構成のインプリント可能な媒体の滴３６を示す。滴３６は、拡散し互いに接触して、滴３６、テンプレート及び基板の間にガスポケット３８を形成する。また、図５ｂから、滴３６が第２の構成であるため、拡散した時の滴３６は第１の構成の滴に対して移動していることが分かる。滴３６は第１の構成の滴に対して移動しているため、第１の構成のこれらに対するガスポケット３８の場所も移動している。図５ｃは、図５ａに示しそれに関連して説明する第２の構成でインプリント可能な媒体の滴が提供された時のガスポケットの場所４０を示す。第２の構成の滴ではガスポケットの場所４０が、図４ａに示しそれに関連して説明する第１の構成の滴の場合のガスポケットの場所３４からオフセットされ、離れていることが分かる。これは、第２の構成の滴の場合のインプリントテンプレートに対するガスポケットの場所４０が図４ａに示しそれに関連して説明する第１の構成の滴の場合のインプリントテンプレートに対するガスポケットの場所３４からオフセットされ、離れていることも意味する。
【００８２】
[0099]  図４ａ〜図４ｃ及び図５ａ〜図５ｃに示し、それに関連して説明するインプリント可能な媒体の滴の構成を変更することで、２回の後続のインプリントでの（例えば、基板の異なる領域での、又はまれに基板の同じ領域での）インプリントテンプレートに対するガスポケットの場所の重なりはほとんどなくなる。ガスポケットからインプリントテンプレートへの気体の拡散は増大し、例えば、界面活性剤の濃度の低減によるインプリントテンプレートの摩耗も低減する。
【００８３】
[00100]  図４ａ〜図４ｃ及び図５ａ〜図５ｃは、基板の領域（異なる領域又は同じ領域）上に提供されたインプリント可能な媒体の層へのパターンのインプリントを示す。普通、インプリントテンプレートが基板の異なる領域に提供されたインプリント可能な媒体の滴にインプリントされるステップアンドリピートインプリントリソグラフィ工程が実行される。実際、それ故、基板の同じ領域ではなく基板の異なる領域上で後続のインプリントが実行されることが多い。図４ａ〜図４ｃ及び図５ａ〜図５ｃに示すのと類似の方法で（しかし、基板の異なる領域に）異なる領域上に提供されたインプリント可能な媒体の滴の構成を変更することで、インプリントテンプレート（及び基板）に対する２回のインプリントでガスポケットの場所が重なることがなくなる。ガスポケットからの気体の拡散は増大し、例えば、界面活性剤の濃度の低減によるインプリントテンプレートの摩耗も低減する。
【００８４】
[00101]  図４ａ〜図４ｃ及び図５ａ〜図５ｃは、滴のパターン全体の位置を移動させることで後続のインプリントでインプリント可能な媒体の滴の構成を変更することができることを示す。インプリントテンプレート及び／又は基板に対する１つ又は複数のガスポケットの場所の変化を引き起こす構成のその他の変更も可能である。例えば、図６ａは、図３ａに示しそれに関連して説明する滴の構成と比較して、滴５０の数及び／又は濃度及び／又はサイズ（例えば、容積）を変更することができることを示す。図６ｂは、インプリントテンプレートが図６ａに示しそれに関連して説明する構成の滴に接触し、これに押し付けられた時、所望のように、滴５０は基板の領域２０をまだ充填していることを示す。図７ａは、滴の数及び／又は濃度及び／又はサイズ（例えば、容積）が変更された滴６０の別の構成を示す。図７ｂは、インプリントテンプレートがインプリント可能な媒体の滴に接触し、これに押し付けられた時の対応する滴の構成を示す。
【００８５】
[00102]  図８は、１つの（例えば、おそらく多数のうち）理想的な例で、インプリント可能な媒体の滴の第１の構成７０と、インプリント可能な媒体の滴の第２の構成８０とが異なり（例えば、移動して）後続のインプリントでガスポケットの場所の重なりはないことを示す。
【００８６】
[00103]  図８は、インプリントテンプレートがインプリント可能な媒体の滴に押し付けられた時の第１の構成のインプリント可能な媒体の滴７０の場所と、インプリントテンプレートがインプリント可能な媒体の滴に押し付けられた時の第２の構成のインプリント可能な媒体の滴８０の場所とを概略的に示す。これらの場所は互いに重なって示されている。第１及び第２の構成は多数の例の１つであり、第１の構成のガスポケット７２の場所は、第２の構成のガスポケット８２のいずれの場所とも重なっていない。第１の構成のガスポケットの場所が、第２の構成のガスポケットのいずれの場所とも重ならない他の構成も使用することができる。
【００８７】
[00104]  インプリント可能な媒体の滴の構成と、インプリントテンプレートに対する後続のガスポケットの場所の重なりを低減又は除去するその構成の変更の本質は、異なるパターン、異なる気体、異なるインプリント可能な媒体の粘度とその他の変数によって変化することがある。好適な構成は、とりわけ、試行錯誤、実験及び／又はモデル化から決定することができる。
【００８８】
[00105]  異なる構成を決定する時には、インプリント可能な媒体の滴の容積を考慮しなければならない。例えば、滴又は隣接する滴のグループの容積は、その場所のインプリント可能な媒体に押し込められるインプリントテンプレートの局所パターン濃度に対応することがある。構成を変更する時でも、例えば、インプリント可能な媒体の滴の異なる構成が使用される時に、確実にインプリント可能な媒体の範囲又はパターン又はパターンフィーチャの厚さが変わらないようにするために、基板のある領域内のインプリント可能な媒体の総量を一定にすることができる。さらに、滴のサイズ（例えば、容積）を変更して構成を変更する時に、滴が小さすぎるとあまりに速く蒸発し、不利になる。あるいは、滴が大きすぎる場合、インプリントテンプレートに提供された突起及び凹部の内部と周囲に大きい滴が拡散するのに時間がかかりすぎてインプリント工程時間が長くなることがある。従って、インプリント可能な媒体の滴に適した容積は、１〜２０ｐｌで、そのようなサイズの滴は蒸発するのが速すぎず、又はインプリントテンプレートに提供された突起及び凹部の内部と周囲に拡散するのに時間がかかりすぎることがない。より広い範囲での適切な液滴の容積は、１ｐｌ〜１００ｐｌである。
【００８９】
[00106]  上記のように、インプリントテンプレートに対するガスポケットの場所を変更して後続のインプリントでのそれらのポケットからの気体の拡散速度を増大させる、及び／又は後続のインプリントでの（例えば）インプリントテンプレートの剥離層の摩耗及び／又は損傷（界面活性剤の減少による）を低減することが望ましい。拡散に関しては、この問題は異なるインプリントテンプレートを用いて克服することができる。これは、異なるインプリントテンプレートが気体の残留量又は濃度を内部に有さないからである。従って、本発明の一実施形態は、同じインプリントテンプレートの使用を容易にし、処理速度を増大させるので、代替解決策を提供する。それ故、本発明の一実施形態は、後続のインプリントで同じインプリントテンプレートが使用されるインプリント工程に特に適用することができる。例えば、何回かインプリントを行った後で、テンプレートへの気体の拡散及び／又はインプリントテンプレートの摩耗に影響することなく（又はほとんど影響することなく）、インプリントテンプレート内の気体の濃度を、インプリント可能な媒体の滴の構成が元の構成に戻るのに十分低くしてもよい。同様に又は代替的に、例えば、何回かインプリントを行った後で、上記の界面活性剤の減少の問題に直面することなく、インプリント可能な媒体の滴の構成が元の構成に戻るのに十分な程度にインプリントテンプレート上の界面活性剤を補給してもよい。
【００９０】
[00107]  上記の実施形態では、インプリント可能な媒体の滴に接触し、これに押し付けられてそのインプリント可能な媒体内にパターンを形成する単一のインプリントテンプレートについて説明してきた。別の例では、複数のインプリントテンプレートを基板の１つ又は複数の領域上に提供されたインプリント可能な媒体に連続して又は並列に及び／又は実質的に同時に接触させ、これに押し付けてもよい。インプリントテンプレートがインプリント可能な媒体に並列に（例えば、同時に）接触させられる時には、個別のテンプレートの移動を同期化することができ、あるいは代替的に異なるインプリントテンプレートを共通の支持体に取り付けてこのような並列のインプリントを可能にできる。代替的に又は追加的に、テンプレートが基板上に提供されたインプリント可能な媒体に接触するたびに、基板の複数の領域をインプリントするように配置された単一のインプリントテンプレートを提供してもよい。
【００９１】
[00108]  例えば、ステップアンドリピート工程で基板の複数の領域上のインプリント可能な媒体にパターンをインプリントする前に、基板のこれらの領域にインプリント可能な媒体の滴を提供してもよい。各々の異なる領域に構成が異なる滴を提供して本明細書に記載する利点を達成してもよい。並列インプリントを実行する場合、並列インプリントの各々でのインプリント可能な媒体の滴の構成が同じであってもよい。次に、後続の並列インプリント中にインプリントテンプレートに対して異なる場所でガスポケットが確実に形成されるように、後続の並列インプリントのためにインプリント可能な媒体の滴の構成を変更してもよい。
【００９２】
[00109]  ガスポケットは、代替的に又は追加的に、介在物、欠陥、封入物、泡、ガス封入の場所、あるいは気泡又は介在物の重心の位置又は領域と呼んでもよい。いくつかのケース、例えば、インプリント工程で気体が使用されない（例えば、工程が真空環境で実行される）ケースでは、ポケットは気体をほとんど又は全く含まなくてもよい。
【００９３】
[00110]  本明細書に記載するインプリント方法は、インプリントリソグラフィ装置内で実施することができる。この装置は、基板を保持する基板ホルダと、基板上にインプリント可能な媒体の滴を計量分配するインプリント可能な媒体のディスペンサと、基板表面にインプリント可能な媒体の滴が特定の構成で確実に提供されるように基板ホルダと、インプリント可能な媒体のディスペンサの一方又は両方を制御する制御構成と、インプリント可能な媒体にパターンをインプリントするインプリントテンプレートとを備えてもよい。インプリントテンプレートを保持し及び／又は移動させるインプリントテンプレートホルダを提供してもよい。第１のインプリントで、制御構成は、第１の構成を有するインプリント可能な媒体の複数の滴が基板のある領域上に確実に提供されるように構成されてもよい。これは、例えば、基板（又は基板ホルダ）及び／又はインプリント可能な媒体のディスペンサを適当に移動させ、及び／又はインプリント可能な媒体のディスペンサの出力（例えば、滴の分布、滴のサイズなど）を制御することで達成することができる。第２の後続のインプリントでは、制御構成は、第２の構成を有するインプリント可能な媒体の複数の滴が基板のある領域上に確実に提供されるように構成されてもよい。これは、例えば、基板（又は基板ホルダ）及び／又はインプリント可能な媒体のディスペンサを適当に移動させ、及び／又はインプリント可能な媒体のディスペンサの出力（例えば、滴の分布、滴のサイズなど）を制御することで達成することができる。制御構成は、第１のインプリント中にインプリントテンプレート、インプリント可能な媒体の滴及び基板の間に形成されたポケットとは異なるインプリントテンプレートに対する場所に、第２のインプリント中にインプリントテンプレート、インプリント可能な媒体の滴及び基板の間にポケットが形成されるように、第１の構成が第２の構成とは確実に異なるように構成されてもよい。第１及び第２のインプリントでの基板の領域は同じであってもよく（すなわち、第２のインプリントが第１のインプリントの上で実行される）、又は第１及び第２のインプリントでの基板の領域は異なっていてもよい（例えば、インプリントは、基板上の異なる場所で実行される）。
【００９４】
[00111]  １つ又は複数のインプリント可能な媒体のディスペンサを提供してもよい。１つ又は複数のインプリントテンプレート及び／又はインプリントテンプレートホルダを提供してもよい。制御構成は、例えば、任意の適切な装置であってもよい。例えば、制御構成は、プロセッサ、組込みプロセッサ、又はコンピュータなどであってもよい。
【００９５】
[00112]  上記の説明から、インプリント可能な媒体の滴の第１の構成はインプリント可能な媒体の滴の第２の構成とは異なることを理解することができるだろう。第１及び第２の構成は、意図的に異なっている、すなわち、インプリント時にインプリント可能な媒体の滴の第１の構成がインプリント可能な媒体の滴の第２の構成とは確実に異なるようにするという意図がある。従来技術のように滴の同じ構成を繰り返す時に、異なる繰り返しで意図せずに異なる滴の構成が提供されることがあることを理解することができるだろう。例えば、インプリント可能な媒体のディスペンサのノズルが閉塞して滴の構成に異常が生じて滴の１つの構成が意図せずに滴の別の構成とは異なる結果になる場合がある。理解しやすいように、また本発明の一実施形態を従来技術と区別するために、本発明の一実施形態の方法は、第１の構成の滴を提供するようにという第１の制御命令でインプリント可能な媒体のディスペンサを制御する（例えば、インプリント可能な媒体のディスペンサのコントローラによって）ステップと、第２の構成の滴を提供するようにという、第１の制御命令とは異なる第２の制御命令でインプリント可能な媒体のディスペンサを制御する（例えば、インプリント可能な媒体のディスペンサのコントローラによって）ステップとを含むといってよい。異なる構成を提供するようにという異なる命令を提供することで、滴の構成の意図しない変化とは明らかに区別することができる。
【００９６】
[00113]  上記の実施形態では、単一の基板上で実行される複数のインプリントを示している。これとは逆に、複数の基板上で複数のインプリントを実行することもできる。例えば、第１のインプリントを第１の基板のある領域上で実行することができる。第２のインプリントを第２の基板上で実行することができる。第２のインプリント中に形成されるポケットがインプリントテンプレートに対して第１のインプリント中に形成されたポケットとは異なる場所に形成されるように、第１のインプリントでのインプリント可能な媒体の滴の第１の構成は、第２のインプリントでのインプリント可能な媒体の滴の第２の構成とは異なっていてもよい。
【００９７】
[00114]  上記のインプリント方法は、インプリントテンプレートが基板に実質的に平行な状態を保つようにインプリントテンプレートがインプリント可能な媒体にインプリントされることを示すか又は少なくとも含意する。一例では、インプリントテンプレートは、インプリントテンプレートが最初に基板に接触する時に基板に平行ではなく基板に対してある角度を成すようにインプリント可能な媒体にインプリントされる。この後、インプリントテンプレートは、インプリントテンプレートが基板上のインプリント可能な媒体にパターンをインプリントすることができるように、インプリントテンプレートに平行な方向を向く（例えば移動する）ことができる。これは、角度を付けたインプリントとして周知である。角度を付けたインプリントを用いてインプリント中のインプリントテンプレートと基板との間からの気体の流れを増大してインプリント工程の迅速化を図ることができる。
【００９８】
[00115]  本発明の一実施形態は、インプリント可能な媒体が滴の形で提供される（例えば、基板上へのスピンコーティングによって提供されるのではなく）インプリント方法に適用することができる。ＵＶ以外の放射を用いてインプリントパターンを「固める」ことができる。放射は必ずしも必要でなく、パターンは加熱又は冷却によって固形化できる。
【００９９】
[00116]  本発明の一実施形態は、インプリントリソグラフィ装置及び方法に関する。この装置及び／又は方法は、電子デバイス及び集積回路などのデバイスの製造、又は集積光学装置、磁気ドメインメモリ用誘導及び検出パターン、フラットパネルディスプレイ、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、薄膜磁気ヘッドの製造などのその他の用途に使用することができる。デバイスは、ナノメートルレベルのフィーチャ又はパターンのサイズを有することができる。これらのデバイスフィーチャを提供又は製作するのに使用されるインプリントテンプレートのパターンフィーチャもナノメートルレベルのサイズ又は寸法を有することができる。
【０１００】
[00117]  本明細書で、「基板」という用語は、基板の一部を形成する、又は別の基板上に提供された任意の表面層、例えば、平坦化層、反射防止コーティング層、又は以前に塗布されたパターン付き又はパターンなしのインプリント可能な媒体の層を含むことを意味する。
【０１０１】
[00118]  上に説明し図示した実施形態は、例示としてのものであって、本発明を制限するものではない。いくつかの実施形態しか図示し説明されておらず、特許請求の範囲に定義した本発明の範囲内に含まれるすべての変更及び修正が望ましくは保護の対象になることを理解されたい。説明内の「好適な」、「好適には」、「好ましい」又は「より好ましい」などの用語の使用は、そのように記載された特徴が望ましいことを示すが、必ずしも必要ではなく、そのような特徴を有さない実施形態も添付の特許請求の範囲に定義する本発明の範囲内に含まれることを理解されたい。特許請求の範囲に関して、「ある」、「少なくとも１つの」、又は「少なくとも一部」などの用語は、添付の特許請求の範囲で、特に断りのない限り、特許請求の範囲をそのような特徴に限定する意図がない特徴に先行するものである。「少なくとも一部」及び／又は「一部」といった言語が使用される場合には、その要素は、特に断りのない限り、一部及び／又は要素全体を含むことができる。本発明のその他の態様は、以下の番号を振った項に記載する。
（１）インプリントリソグラフィ方法であって、
第１のインプリントを実行するステップであって、
第１の構成のインプリント可能な媒体の複数の滴を備えた基板の領域に対して、インプリントテンプレートを用いて前記インプリント可能な媒体にパターンをインプリントし、前記パターンのインプリント中に前記インプリント可能な媒体の滴と前記インプリントテンプレートと前記基板の間にポケットが形成されるステップと、
第２のインプリントを実行するステップであって、
第２の構成のインプリント可能な媒体の複数の滴を備えた基板の領域に対して、同じインプリントテンプレートを用いて前記インプリント可能な媒体にパターンをインプリントし、前記パターンのインプリント中に前記インプリント可能な媒体の滴と前記インプリントテンプレートと前記基板の間にポケットが形成されるステップとを含み、
前記第２のインプリント中に形成されたポケットが前記インプリントテンプレートに対して前記第１のインプリント中に形成されたポケットとは異なる場所に形成されるように、インプリント可能な媒体の滴の前記第１の構成がインプリント可能な媒体の滴の前記第２の構成とは異なるインプリントリソグラフィ方法。
（２）前記インプリント可能な媒体にパターンをインプリントする前記各ステップの前に、前記第１の構成の前記滴を提供するようにという第１の制御命令でインプリント可能な媒体のディスペンサを制御するステップと、前記第２の構成の前記滴を提供するようにという、第１の命令とは異なる第２の制御命令でインプリント可能な媒体のディスペンサを制御するステップとを含む、上記（１）に記載の方法。
（３）前記第２のインプリント中に形成された大多数のポケットが前記インプリントテンプレートに対して、前記第１のインプリント中に形成されたポケットとは異なる場所に形成されるように、前記第１の構成が前記第２の構成とは異なる、上記（１）又は（２）のいずれか１項に記載の方法。
（４）前記第２のインプリント中に形成されたすべてのポケットが前記インプリントテンプレートに対して前記第１のインプリント中に形成されたポケットとは異なる場所に形成されるように、前記第１の構成が前記第２の構成とは異なる、上記（１）から（３）のいずれか１項に記載の方法。
（５）別のインプリントを実行するステップであって、前記別のインプリント中に形成されるポケットが前記インプリントテンプレートに対して以前のインプリント中に形成されたポケットとは異なる場所に形成されるように、インプリント可能な媒体の前記滴の構成が前記別のインプリントに対して変更されるステップをさらに含む、上記（１）から（４）のいずれか１項に記載の方法。
（６）前記第１、第２及び別のインプリントを実行するステップの後に、インプリント可能な媒体の前記滴が前記第１のインプリントで使用されたのと実質的に同じ構成を有する追加のインプリントを実行するステップをさらに含む、上記（５）に記載の方法。
（７）前記第１及び／又は第２のインプリントで、前記インプリントテンプレートが前記基板に最初に接触する時に、前記基板に平行ではなく前記基板に対してある角度を成すように、前記インプリントテンプレートが前記インプリント可能な媒体にインプリントされる、上記（１）から（６）のいずれか１項に記載の方法。
（８）インプリント可能な媒体の滴の前記第２の構成が、インプリント可能な媒体の滴の前記第１の構成と実質的に同じパターンを有し、前記第２の構成が、前記パターンが前記基板の表面に実質的に平行な平面内で移動するという点で前記第１の構成とは異なる、上記（１）から（７）のいずれか１項に記載の方法。
（９）インプリント可能な媒体の滴の前記第２の構成が、前記第２の構成の１つ又は複数の滴が前記第１の構成の１つ又は複数の滴と比較して異なる位置、サイズ又は容積を有するという点でインプリント可能な媒体の滴の前記第１の構成とは異なる、上記（１）から（８）のいずれか１項に記載の方法。
（１０）インプリント可能な媒体の滴の前記第２の構成が、前記第２の構成が前記第１の構成と比較して異なるパターンを有するという点でインプリント可能な媒体の滴の前記第１の構成とは異なる、上記（１）から（９）のいずれか１項に記載の方法。
（１１）インプリント可能な媒体の滴の前記第２の構成が、前記第２の構成が前記第１の構成と比較してより多くの数の又はより少ない数の滴を含むという点でインプリント可能な媒体の滴の前記第１の構成とは異なる、上記（１）から（１０）のいずれか１項に記載の方法。
（１２）インプリント可能な媒体のすべての滴の総容積が、前記第１の構成及び前記第２の構成で実質的に等しい、上記（１）から（１１）のいずれか１項に記載の方法。
（１３）インプリント可能な媒体の各々の滴の容積が、１ｐｌ〜１００ｐｌ、又は１ｐｌ〜２０ｐｌの範囲内にある、上記（１）から（１２）のいずれか１項に記載の方法。
（１４）前記ポケットが気体を含有するか又は含むように、気体雰囲気内で実行される、上記（１）から（１３）のいずれか１項に記載の方法。
（１５）前記気体雰囲気が、前記ポケットがヘリウムを含有するか又は含むようにヘリウムを含む、上記（１４）に記載の方法。
（１６）前記インプリントテンプレートが、剥離層を有する、上記（１）から（１５）のいずれか１項に記載の方法。
（１７）界面活性剤が、前記インプリントテンプレート上、及び／又は前記インプリント可能な媒体内もしくは上にある、上記（１）から（１６）のいずれか１項に記載の方法。
（１８）前記第１及び第２のインプリントが、並列に及び／又は実質的に同時に実行される、上記（１）から（１７）のいずれか１項に記載の方法。
（１９）前記第１及び／又は第２のインプリントが実行される前に、前記第１の構成のインプリント可能な媒体の複数の滴を前記基板のある領域上に提供するステップと、
前記第１及び／又は第２のインプリントが実行される前に、前記第２の構成のインプリント可能な媒体の複数の滴を前記基板のある領域上に提供するステップとをさらに含む、上記（１）から（１８）のいずれか１項に記載の方法。
（２０）前記インプリントテンプレートが、石英から作成されるか又は石英を含む、上記（１）から（１９）のいずれか１項に記載の方法。
（２１）基板を保持する基板ホルダと、
前記基板上にインプリント可能な媒体の滴を計量分配するインプリント可能な媒体のディスペンサと、
前記基板の表面にインプリント可能な媒体の滴が特定の構成で確実に提供されるように、前記基板ホルダと前記インプリント可能な媒体のディスペンサの一方又は両方を制御する制御装置と、
インプリントテンプレートを保持して前記インプリント可能な媒体にパターンをインプリントするように構成されたインプリントテンプレートホルダとを備え、
第１のインプリントで、インプリント可能な媒体の複数の滴が前記基板のある領域上に確実に提供されるように前記制御装置が構成され、インプリント可能な媒体の前記複数の滴が第１の構成を有し、
第２のインプリントで、インプリント可能な媒体の複数の滴が前記基板のある領域上に確実に提供されるように前記制御装置が構成され、インプリント可能な媒体の前記複数の滴が第２の構成を有し、
前記第２のインプリント中に、前記インプリントテンプレートとインプリント可能な媒体の前記滴と前記基板の間に形成されるポケットが、前記インプリントテンプレートに対して、前記第１のインプリント中に、前記インプリントテンプレートとインプリント可能な媒体の前記滴の間に形成されたポケットとは異なる場所に形成されるように、インプリント可能な媒体の滴の前記第１の構成がインプリント可能な媒体の滴の前記第２の構成とは確実に異なるように、前記制御装置が構成されるインプリントリソグラフィ装置。
（２２）第１の構成のインプリント可能な媒体の複数の滴を提供するようにという第１の制御命令でインプリント可能な媒体のディスペンサを制御するステップと、
第１のインプリントを実行するステップであって、
前記第１の構成の前記滴を備えた基板の領域に対して、インプリントテンプレートを用いて前記インプリント可能な媒体にパターンをインプリントし、前記パターンのインプリント中に前記インプリント可能な媒体の滴と前記インプリントテンプレートと前記基板の間にポケットが形成されるステップと、
第２の構成のインプリント可能な媒体の複数の滴を提供するようにという、第１の命令とは異なる第２の制御命令でインプリント可能な媒体のディスペンサを制御するステップと、
第２のインプリントを実行するステップであって、
前記第２の構成の前記滴を備えた基板の領域に対して、同じインプリントテンプレートを用いて前記インプリント可能な媒体にパターンをインプリントし、前記パターンのインプリント中に前記インプリント可能な媒体の滴と前記インプリントテンプレートと前記基板の間にポケットが形成されるステップとを含み、
前記第２のインプリント中に形成されたポケットが前記インプリントテンプレートに対して、前記第１のインプリント中に形成されたポケットとは異なる場所に形成されるように、インプリント可能な媒体の滴の前記第１の構成がインプリント可能な媒体の滴の前記第２の構成とは異なるインプリントリソグラフィ方法。
（２３）基板を保持する基板ホルダと、
前記基板上にインプリント可能な媒体の滴を計量分配するインプリント可能な媒体のディスペンサと、
前記基板の表面にインプリント可能な媒体の滴が特定の構成で確実に提供されるように、前記基板ホルダと前記インプリント可能な媒体のディスペンサの一方又は両方を制御する制御装置と、
インプリントテンプレートを保持して前記インプリント可能な媒体にパターンをインプリントするように構成されたインプリントテンプレートホルダとを備え、
第１のインプリントで、第１の構成を有するインプリント可能な媒体の複数の滴が前記基板のある領域上に確実に提供されるように構成された第１の命令を、前記制御装置が前記インプリント可能な媒体のディスペンサに提供するか又は受信するように配置された構成であり、
第２のインプリントで、第２の構成を有するインプリント可能な媒体の複数の滴が前記基板のある領域上に確実に提供されるように構成された第２の命令を、前記制御装置が前記インプリント可能な媒体のディスペンサに提供するか又は受信するように配置された構成であり、
前記第２のインプリント中に前記インプリントテンプレートとインプリント可能な媒体の前記滴と前記基板の間に形成されるポケットが、前記インプリントテンプレートに対して、前記第１のインプリント中に前記インプリントテンプレートとインプリント可能な媒体の前記滴と前記基板の間に形成されたポケットとは異なる場所に形成されるように、前記命令及び／又は前記制御装置がインプリント可能な媒体の滴の前記第１の構成がインプリント可能な媒体の滴の前記第２の構成とは確実に異なるように構成されるインプリントリソグラフィ装置。
（２４）インプリントリソグラフィ方法であって、
第１のインプリントを実行するステップであって、
第１の構成のインプリント可能な媒体の複数の滴を備えた基板の領域に対して、インプリントテンプレートを用いて前記インプリント可能な媒体にパターンをインプリントするステップと、
第２のインプリントを実行するステップであって、
第２の構成のインプリント可能な媒体の複数の滴を備えた基板の領域に対して、同じインプリントテンプレートを用いて前記インプリント可能な媒体にパターンをインプリントするステップとを含み、
インプリント可能な媒体の滴の前記第１の構成が、インプリント可能な媒体の滴の前記第２の構成とは異なるインプリントリソグラフィ方法。
（２５）基板を保持する基板ホルダと、
前記基板上にインプリント可能な媒体の滴を計量分配するインプリント可能な媒体のディスペンサと、
前記基板の表面にインプリント可能な媒体の滴が特定の構成で確実に提供されるように、前記基板ホルダと前記インプリント可能な媒体のディスペンサの一方又は両方を制御する制御装置と、
インプリントテンプレートを保持して前記インプリント可能な媒体にパターンをインプリントするように構成されたインプリントテンプレートホルダとを備え、
第１のインプリントで、インプリント可能な媒体の複数の滴が前記基板のある領域上に確実に提供されるように前記制御装置が構成され、インプリント可能な媒体の前記複数の滴が第１の構成を有し、
第２のインプリントで、インプリント可能な媒体の複数の滴が前記基板のある領域上に確実に提供されるように前記制御装置が構成され、インプリント可能な媒体の前記複数の滴が第２の構成を有し、
インプリント可能な媒体の滴の前記第１の構成が、インプリント可能な媒体の滴の前記第２の構成とは確実に異なるように前記制御装置が構成されるインプリントリソグラフィ装置。
（２６）第１の構成のインプリント可能な媒体の複数の滴を提供するようにという第１の制御命令でインプリント可能な媒体のディスペンサを制御するステップと、
第１のインプリントを実行するステップであって、
前記第１の構成の前記滴を備えた基板の領域に対して、インプリントテンプレートを用いて前記インプリント可能な媒体にパターンをインプリントするステップと、
第２の構成のインプリント可能な媒体の複数の滴を提供するようにという、第１の命令とは異なる第２の制御命令でインプリント可能な媒体のディスペンサを制御するステップと、
第２のインプリントを実行するステップであって、
前記第２の構成の前記滴を備えた基板の領域に対して、同じインプリントテンプレートを用いて前記インプリント可能な媒体にパターンをインプリントするステップとを含み、
インプリント可能な媒体の滴の前記第１の構成が、インプリント可能な媒体の滴の前記第２の構成とは異なるインプリントリソグラフィ方法。
（２７）基板を保持する基板ホルダと、
前記基板上にインプリント可能な媒体の滴を計量分配するインプリント可能な媒体のディスペンサと、
前記基板の表面にインプリント可能な媒体の滴が特定の構成で確実に提供されるように、前記基板ホルダと前記インプリント可能な媒体のディスペンサの一方又は両方を制御する制御装置と、
インプリントテンプレートを保持して前記インプリント可能な媒体にパターンをインプリントするように構成されたインプリントテンプレートホルダとを備え、
第１のインプリントで、第１の構成を有するインプリント可能な媒体の複数の滴が前記基板のある領域上に確実に提供されるように構成された第１の命令を、前記制御装置が前記インプリント可能な媒体のディスペンサに提供するか又は受信するように配置された構成であり、
第２のインプリントで、第２の構成を有するインプリント可能な媒体の複数の滴が前記基板のある領域上に確実に提供されるように構成された第２の命令を、前記制御装置が前記インプリント可能な媒体のディスペンサに提供するか又は受信するように配置された構成であり、
前記命令及び／又は前記制御装置が、インプリント可能な媒体の滴の前記第１の構成がインプリント可能な媒体の滴の前記第２の構成とは確実に異なるように構成されるインプリントリソグラフィ装置。
（２８）基板上にインプリント可能な媒体の第１のパターンと、基板上に前記第１のパターンとは異なるインプリント可能な媒体の第２のパターンを形成するステップと、
前記第１及び第２のパターンを同じテンプレートでインプリントするステップとを含むインプリント方法。
（２９）インプリント可能な媒体のディスペンサに基板上にインプリント可能な媒体の第１のパターンと、基板上にインプリント可能な媒体の第２のパターンとを形成するように命令するステップであって、前記インプリント可能な媒体のディスペンサに前記第１のパターンと前記第２のパターンとを形成するようにとの命令が異なるステップと、
前記第１及び第２のパターンを同じテンプレートでインプリントするステップとを含むインプリント方法。
【図１】
2010183076.tif 000003
【図２ａ】
2010183076.tif 000004
【図２ｂ】
2010183076.tif 000005
【図２ｃ】
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【図３ａ】
2010183076.tif 000007
【図３ｂ】
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【図３ｃ】
2010183076.tif 000009
【図４ａ】
2010183076.tif 000010
【図４ｂ】
2010183076.tif 000011
【図４ｃ】
2010183076.tif 000012
【図５ａ】
2010183076.tif 000013
【図５ｂ】
2010183076.tif 000014
【図５ｃ】
2010183076.tif 000015
【図６ａ】
2010183076.tif 000016
【図６ｂ】
2010183076.tif 000017
【図７ａ】
2010183076.tif 000018
【図７ｂ】
2010183076.tif 000019
【図８】
2010183076.tif 000020
【外国語明細書】
2010183076000001.pdf