【手続補正書】
【提出日】令和3年10月27日(2021.10.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
デジタル筆記具のための装置（１００、２００、３００、４００、６００、７００、９００、１０００）であって、装置（１００、２００、３００、４００、６００、７００、９００、１０００）は、透明又は半透明の層（１０２、２０２、３０２、４０２、９０２、１００２）を有する基板と、透明又は半透明層（１０２、２０２、３０２、４０２、５０４、９０２、１００２）上のパターン層（１０１、２０１、３０１、４０１、５０３、９０１、１００１）とを備え、
パターン層（１０１、２０１、３０１、４０１、５０３、９０１、１００１）は、光ルミネセンス材（５０８）で作られた作動領域（６０８、７０８）と、非光ルミネセンス材（５０９）で作られた非作動領域（６０９、７０９）とを備え、作動領域（６０８、７０８）は非作動領域（６０９、７０９）とは異なっていて、
光ルミネセンス材（５０９）は、可視光下で透明であり、紫外線（ＵＶ）にさらされると近赤外線（ＮＩＲ）又は可視光で放射可能である
当該装置（１００、２００、３００、４００、６００、７００、９００、１０００）において、
作動領域（６０８、７０８）の光ルミネセンス材（５０９）は、層の積層体（１０３、２０３、３０３、４０３、９０３、１００３）を備え、当該積層体（１０３、２０３、３０３、４０３、４０３、９０３、１００３）は、第１層（１０４、２０４、３０４、４０４、９０４、１００４）と第２層（１０５、２０５、３０５、４０５、９０５、１００５）との界面で光ルミネセンス構造を生成する、第１層（１０４、２０４、３０４、４０４、９０４、１００４）と、第２層（１０５、２０５、３０５、４０５、９０５、９０５、１００５）とを連続的に交互に備え、
パターン層（１０１、２０１、３０１、４０１、５０３、９０１、１００１）は、平面（Ｘ、Ｙ）に分布する一連のＮ個の点（５０７、６０７、７０７）を備え、Ｎは２よりも大きく、
Ｎ個の点（５０７、６０７、７０７）が作動領域（６０８、７０８）を画定し、非作動領域（６０９、７０９）は、Ｎ個の点（５０７、６０７、７０７）の間の領域によって画定されるか、あるいは
Ｎ個の点（５０７、６０７、７０７）が非作動領域（６０９、７０９）を画定し、作動領域（６０８、７０８）は、Ｎ個の点（５０７、６０７、７０７）の間の領域によって画定される
ことを特徴とする装置（１００、２００、３００、４００、６００、７００、９００、１０００）。
【請求項２】
第１層（１０４、２０４、３０４、４０４）は、１ｎｍから２０ｎｍとの間の値の厚さを有し、第２層は、１ｎｍと７ｎｍとの間の値の厚さを有する、請求項１に記載の装置（１００、２００、３００、４００、６００、７００、９００、１０００）。
【請求項３】
第２層（１０５、２０５、３０５、４０５）は、１ｎｍから５０ｎｍとの間の値の厚さを有する、請求項１に記載の装置（１００、２００、３００、４００、６００、７００、９００、１０００）。
【請求項４】
積層体（１０３、２０３、３０３、４０３、９０３、１００３）は少なくとも２つの第１層（１０４、２０４、３０４、４０４、９０４、１００４）と、少なくとも２つの第２層（１０５、２０５、３０５、４０５、９０５、１００５）とを備え、積層体（１０３、２０３、３０３、４０３、９０３、１００３）は２μｍより薄い厚さを有する、請求項１に記載の装置（１００、２００、３００、４００、６００、７００、９００、１０００）。
【請求項５】
第１層（１０４、２０４、３０４、４０４、９０４、１００４）は金属酸化物又は窒化金属窒化物を含有し、
第２層（１０５、２０５、３０５、４０５、９０５、１００５）は金属酸化物又は金属窒化物を含有し、あるいは
第１層及び第２層の両方は金属酸化物又は金属窒化物を含有する、請求項１に記載の装置（１００、２００、３００、４００、６００、７００、９００、１０００）。
【請求項６】
第１層（１０４、２０４、３０４、４０４、９０４、１００４）と、
第２層（１０５、２０５、３０５、４０５、９０５、１００５）と、
第１層及び第２層の両方と、
のいずれかは、合金、金属酸化物の合金ＡＢＯｘ、又は金属窒化酸化物の合金Ａ’Ｂ’Ｎｘを含有し、Ａと、Ａ’と、Ｂと、Ｂ’とは金属要素である、請求項１に記載の装置（１００、２００、３００、４００、６００、７００、９００、１０００）。
【請求項７】
金属酸化物は、ケイ素酸化物ＳｉＯｘと、酸化亜鉛ＺｎＯと、前記金属酸化物の合金とのいずれかである、請求項５に記載の装置（１００、２００、３００、４００、６００、７００、９００、１０００）。
【請求項８】
窒化金属は、窒化アルミニウムＡｌＮ、窒化ガリウムＧａＮ、窒化インジウムＩｎＮ、前記窒化金属の合金のいずれかを含有する、請求項５に記載の装置（１００、２００、３００、４００、６００、７００、９００、１０００）。
【請求項９】
積層体（１０３、２０３、３０３、４０３、９０３、１００３）は、少なくとも１つの第３層（３０６、９０６）を、第１層（１０４、２０４、３０４、４０４、９０４、１００４）と第２層（１０５、２０５、３０５、４０５、９０５、１００５）との間、２つの第１層の間、又は２つの第２層の間にさらに備える、請求項１に記載の装置（１００、２００、３００、４００、６００、７００、９００、１０００）。
【請求項１０】
第３層（３０６、９０６）は、金属硫化物、硫化亜鉛ＺｎＳ、硫化カドミウムＣｄＳ、前記金属硫化物の合金のいずれかを含有する、請求項９に記載の装置（１００、２００、３００、４００、６００、７００、９００、１０００）。
【請求項１１】
第３層（３０６、９０６）は、、テルル化カドミウム、セレン化カドミウム、又はテルル化カドミウム及びセレン化カドミウムの合金を含有する、請求項８に記載の装置（１００、２００、３００、４００、６００、７００、９００、１０００）。
【請求項１２】
第３層（３０６、９０６）は、金属ヒ化物、ヒ化アルミニウムＡｌＡｓ、ヒ化ガリウムＧａＡｓ又は前記金属ヒ化物の合金を含有する、請求項８に記載の装置（１００、２００、３００、４００、６００、７００、９００、１０００）。
【請求項１３】
パターン層（１０１、２０１、３０１、４０１、５０３、９０１、１００１）は、１０ｎｍと２ｍｍとの間の厚さを有する、請求項１に記載の装置（１００、２００、３００、４００、６００、７００、９００、１０００）。
【請求項１４】
パターン層（１０１、２０１、３０１、４０１、５０３、９０１、１００１）上に、透明又は半透明層（１０２、２０２、３０２、４０２、５０４、９０２、１００２）から発せられた望ましくない光を通さないフィルター層をさらに備える、請求項１に記載の装置（１００、２００、３００、４００、６００、７００、９００、１０００）。
【請求項１５】
前記第２層は第１層よりも厚い、請求項１に記載の装置。
【請求項１６】
前記第１層と前記第２層とは異なる材料を備える、請求項１に記載の装置。
【請求項１７】
（ｉ）前記第１層は二酸化シリコンを備えて、前記第２層は酸化亜鉛を備えることと、
（ｉｉ）前記第１層は二酸化シリコンを備えて、前記第２層は窒化アルミニウムを備えることと、
（ｉｉｉ）前記第１層はケイ酸亜鉛類を備えて、前記第２層は窒化アルミニウムを備えることと、
（ｉｖ）前記第１層はケイ酸亜鉛類を備えて、前記第２層は窒化アルミニウムガリウムを備えることと
のいずれかである、請求項１に記載の装置。
【請求項１８】
前記積層は、第３層と、第４層とを備え、
第１層と、第２層と、第３層と、第４層とは、
前記積層の中で反復配列内に配置されていて、
前記第１層は二酸化シリコンを含有し、前記第２層は酸化亜鉛を含有し、前記第３層は窒化アルミニウムを含有し、前記第４層は酸化亜鉛を含有する、請求項１に記載の装置。
【請求項１９】
前記積層は、第３層と、第４層と、第５層と、第６層とを備え、
第１層と、第２層と、第３層と、第４層と、第５層と、第６層とは、前記積層の中で反復配列内に配置されていて、
前記第１層は二酸化シリコンを含有し、前記第４層は、窒化ガリウムを含有し、前記第５層は窒化アルミニウムを含有し、前記第６層は酸化亜鉛を含有する、請求項１に記載の装置。
【請求項２０】
前記光ルミネセンス構造は量子構造である、請求項１に記載の装置。
【請求項２１】
前記光ルミネセンス材と、前記非光ルミネセンス材とは、同一の組成を有す複数の層の積層体からなり、
前記非光ルミネセンス材の積層内に存在する量子構造が、前記ルミネセンス材の積層内に存在する量子構造と比較して相対的に減少された光ルミネセンス特性を有する、請求項１に記載の装置。