【手続補正書】
【提出日】平成17年7月20日(2005.7.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被研磨材の被研磨面と研磨部材の研磨面の間に超純水を供給しつつ、前記被研磨面の近傍に所定の電界を形成して水中のイオンを前記被研磨面の近傍に偏在させながら前記被研磨面と前記研磨面を互いに摺動させることにより、前記被研磨面を化学機械的に研磨することを特徴とするポリッシング方法。
【請求項２】
前記被研磨面に対向して、水の解離を促進して前記被研磨面近傍のイオンを増加させる触媒を含む部材が配置されていることを特徴とする請求項１に記載のポリッシング方法。
【請求項３】
前記触媒は、イオン交換体であることを特徴とする請求項２に記載のポリッシング方法。
【請求項４】
研磨面を有する研磨部材と、
被研磨材を把持し、被研磨材の被研磨面を前記研磨面に押し付ける把持装置と、
前記研磨部材及び把持装置を前記被研磨面と前記研磨面とを摺動させつつ相対移動させる移動手段と、
前記研磨部材の研磨面及び前記被研磨部材の被研磨面の間に超純水を供給する超純水供給装置と、
前記被研磨面の近傍の水中のイオンを偏在させる電界を形成する電界形成手段とを有することを特徴とするポリッシング装置。
【請求項５】
前記電界形成手段は、電圧を制御することによりイオンの濃度を調整することを特徴とする請求項４記載のポリッシング装置。
【請求項６】
定盤と、該定盤の取付面に取り付けられる水の解離を促進させる触媒と、該解離促進部材の他面に取り付けられる研磨部材と、前記定盤に通電する通電手段とを有することを特徴とする研磨工具。
【請求項７】
研磨に際して被研磨材と接触することによって被研磨材を研磨する研磨部材であって、前記研磨部材の少なくとも一部がイオン交換体を含む又はイオン交換体からなる通水性を有する素材で形成されていることを特徴とする研磨部材。
【請求項８】
被研磨材を研磨する研磨部材であって、前記研磨部材は、イオン交換体を含む素材とイオン交換膜が積層されて構成されていることを特徴とする研磨部材。
【請求項９】
研磨面が形成され、通水性を有する研磨部材と、
被研磨材を把持し、被研磨材の被研磨面を前記研磨面に押し付ける把持装置と、
前記研磨部材及び前記把持装置を前記被研磨面と前記研磨面とを互いに摺動させつつ相対移動させる移動手段と、
前記研磨部材から被研磨材の被研磨面へ研磨液を供給する研磨液供給装置と、
前記被研磨面の近傍の研磨液中のイオンを偏在させる電界を形成する電界形成手段とを有することを特徴とするポリッシング装置。
【請求項１０】
前記研磨液は、純水と砥粒を懸濁させたものであることを特徴とする請求項９載のポリッシング装置。
【請求項１１】
前記研磨部材は、イオン交換体からなる素材と、イオン交換膜が積層されていることを特徴とする請求項９又は１０記載のポリッシング装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
【課題を解決するための手段】
請求項１に記載の発明は、被研磨材の被研磨面と研磨部材の研磨面の間に超純水を供給しつつ、前記被研磨面の近傍に所定の電界を形成して水中のイオンを前記被研磨面の近傍に偏在させながら前記被研磨面と前記研磨面を互いに摺動させることにより、前記被研磨面を化学機械的に研磨することを特徴とするポリッシング方法である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
請求項２に記載の発明は、前記被研磨面に対向して、水の解離を促進して前記被研磨面近傍のイオンを増加させる触媒を含む部材が配置されていることを特徴とする請求項１に記載のポリッシング方法である。このような触媒を含む部材としては、イオン交換膜やイオン交換不織布のようなイオン交換体を含む素材や、イオン交換体からなる素材が好適である。ここで水の解離を促進する触媒とは、超純水を汚すことなくイオンを増加させる作用がある水の解離促進部材のことである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
請求項４に記載の発明は、研磨面を有する研磨部材と、被研磨材を把持し、被研磨材の被研磨面を前記研磨面に押し付ける把持装置と、前記研磨部材及び把持装置を前記被研磨面と前記研磨面とを摺動させつつ相対移動させる移動手段と、前記研磨部材の研磨面及び前記被研磨部材の被研磨面の間に超純水を供給する超純水供給装置と、前記被研磨面の近傍の水中のイオンを偏在させる電界を形成する電界形成手段とを有することを特徴とするポリッシング装置である。
請求項５に記載の発明は、前記電界形成手段は、電圧を制御することによりイオンの濃度を調整することを特徴とする請求項４記載のポリッシング装置である。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
請求項６に記載の発明は、定盤と、該定盤の取付面に取り付けられる水の解離を促進させる触媒と、該解離促進部材の他面に取り付けられる研磨部材と、前記定盤に通電する通電手段とを有することを特徴とする研磨工具である。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
請求項７に記載の発明は、研磨に際して被研磨材と接触することによって被研磨材を研磨する研磨部材であって、前記研磨部材の少なくとも一部がイオン交換体を含む又はイオン交換体からなる通水性を有する素材で形成されていることを特徴とする研磨部材である。このような素材としては、例えば、グラフト重合、放射線グラフト重合等の方法で繊維状に作製されたイオン交換体不織布が好適に用いられる。
請求項８に記載の発明は、被研磨材を研磨する研磨部材であって、前記研磨部材は、イオン交換体を含む素材とイオン交換膜が積層されて構成されていることを特徴とする研磨部材である。
請求項９に記載の発明は、研磨面が形成され、通水性を有する研磨部材と、被研磨材を把持し、被研磨材の被研磨面を前記研磨面に押し付ける把持装置と、前記研磨部材及び前記把持装置を前記被研磨面と前記研磨面とを互いに摺動させつつ相対移動させる移動手段と、前記研磨部材から被研磨材の被研磨面へ研磨液を供給する研磨液供給装置と、前記被研磨面の近傍の研磨液中のイオンを偏在させる電界を形成する電界形成手段とを有することを特徴とするポリッシング装置である。
請求項１０に記載の発明は、前記研磨液は、純水と砥粒を懸濁させたものであることを特徴とする請求項９載のポリッシング装置である。
請求項１１に記載の発明は、前記研磨部材は、イオン交換体からなる素材と、イオン交換膜が積層されていることを特徴とする請求項９又は１０記載のポリッシング装置である。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
ターンテーブル１２とトップリング１４の間には、トップリング１４側を正とする所定の電圧を付加する直流電源２０が設けられている。電源２０からの配線は、それぞれ摺動端子や内部配線を介してトップリング１４の基板取付面及びターンテーブル１２の工具取付面を形成する定盤２２に接続されている。定盤２２の工具取付面には、水の解離を促進する触媒としてイオン交換膜２４が貼付され、さらにその上面に研磨クロス１０が貼付されている。これらのイオン交換膜２４とクロス１０で研磨部材が構成されている。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
また、上記においては、研磨液をターンテーブル１２側から供給する内部給水方式を採用し、砥粒は用いていないが、図５に示すような研磨砥液ノズル１６からの外部給水方式も研磨条件に応じて採用することができ、この場合は砥粒を用いても良い。砥粒を用いる場合も、従来のようなＫＯＨベースのスラリーは用いずに、純水中にＳｉＯ2粒子などの砥粒を懸濁させたものを用いる。砥粒を介在させることにより、機械的作用が促進され、研磨速度が増す。