Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成16年7月2日(2004.7.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７８】
【数６】
2004258748.tif 000001
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９３】
３層ニューラルネットワーク４０により演算された出力演算値Ｚ１（ｎ）が実際の出力値ｚ１（ｎ）に近くなるように高次元アルゴリズムを用いてパラメータｗｉｊ，θｊ，τｊ，Ｗｊ，Θを最適化する場合、この発明によるプログラムは、高次元空間８０における変数ｑ，ｐの関数であるハミルトニアンＨ（ｑ，ｐ）を用いる。このハミルトニアンＨ（ｑ，ｐ）は、運動する力学系を表わす具体的な道具であり、この具体的な道具（ハミルトニアンＨ（ｑ，ｐ））の舞台となる空間においては、意味空間７０を成す変数ｑと、意味空間７０を高次元空間８０へ高次元化し、かつ、変数ｑと共役である変数ｐとを導入し易いからである。実際の力学系の場合、変数ｑは、運動する物体の位置を表わし、変数ｐは、運動する物体の速度を表わす。高次元アルゴリズムは、この力学系のアナロジーを取って最適パラメータを探索することを特徴とする最適化手法である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０３】
式（８）において、ｃは、拘束の強さを制御するパラメータであり、この実施の形態においてはｃ＝１に設定される。式（８）におけるＮは全パラメータの個数である。また、式（８）におけるνｎ（ｑｎ）は、式（９）によって表わされる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１４３】
この場合、中間ユニット４２１は、入力層４１の入力ユニット４１ｉ（ｉ＝１，・・・，ｍ１）からそれぞれ入力値ｘ１（ｎ），・・・，ｘｍ１（ｎ）（ｎ＝１〜Ｓ）を受け、その受けた入力値ｘ１（ｎ），・・・，ｘｍ１（ｎ）（ｎ＝１〜Ｓ）と結合のパラメータｗ１，１，ｗ２，１，ｗｍ１，１と閾値θ１とを式（１）に代入して内部状態ｙ１を演算する。そして、中間ユニット４２１は、演算した内部状態ｙ１及びパラメータＴ１を式（２）に代入して出力Ｙ１を演算し、その演算した出力Ｙ１を出力層４３の出力ユニット４３１へ出力する。なお、パラメータｗ１，１，ｗ２，１，ｗｍ１，１、θ１及びＴ１は、最も小さいコスト関数値を記録したときのパラメータ（ｗｉ１，θ１，τ１，Ｗ１）１ｋに固定される。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１４６】
そして、出力演算値Ｚ２１（ｎ）を用いてコスト関数値Ｖ２１が演算され、中間ユニット４２１のみを用いた場合と同様の演算が繰返し実行される。中間ユニット４２ｊの個数を２個に設定し、高次元アルゴリズムによりパラメータ（ｗｉ２，θ２，τ２，Ｗ２，Θ）２ｈを変化させて小さいコスト関数値Ｖ２ｈを見つける計算を規定回数ｋまで繰返し実行してもコスト関数値Ｖ２ｈが所定値ε以下にならないとき、中間ユニット４２ｊの個数が更に１個増加され、中間ユニット４２ｊの個数を２個に設定した場合と同様の演算が繰返し実行される。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１４７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１４７】
このように、中間ユニット４２ｊの個数がある値に設定されると、その設定された個数の中間ユニット４２ｊを用いて演算された出力演算値Ｚ（ｎ）を評価するコスト関数値を小さくする最適値を求めるために、パラメータ（ｗｉｊ，θｊ，τｊ，Ｗｊ，Θ）の新たな値が高次元アルゴリズムにより次々と演算される。そして、新たなパラメータの演算を規定回数まで行なってもコスト関数値が所定値ε以下にならないとき、中間ユニット４２ｊの個数を１個増加してコスト関数値を小さくするように、増加した中間ユニット４２ｊのパラメータ（ｗｉｊ，θｊ，τｊ，Ｗｊ，Θ）の新たな値が高次元アルゴリズムにより次々と演算される。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２４８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２４８】
３層ニューラルネットワーク４０Ａが用いられる場合も、この発明によるプログラムは、図１７及び図１８に示すフローチャートに従って近似関数ｆを求める演算を実行する。そして、３層ニューラルネットワーク４０Ａを用いて近似関数ｆを求める演算が実行される場合、ｎ×Ｓ個の出力値ｚ１（ｎ），・・・，ｚｍ３（ｎ）が準備される。
【手続補正８】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図５】
2004258748.tif 000002
【手続補正９】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図７】
2004258748.tif 000003
【手続補正１０】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１８】
2004258748.tif 000004
【手続補正書】
【提出日】平成16年6月4日(2004.6.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
中心軸を重力方向と一致させて略回転対称形状の光学素子を保持する保持装置であって、
前記光学素子の中心軸に関して略１２０°間隔の３箇所に設けられた支持部を介して前記光学素子を保持する保持部材と、
前記光学素子の外径部と前記保持部材とを接合する接合部材とを有し、
前記光学素子の反重力方向側の面と前記中心軸との交点を原点として前記中心軸の反重力方向をｚ軸の正とする座標系（ｚ）を設定し、前記光学素子の重心のｚ座標をｚｇ、前記接合部材が前記光学素子と接合するｚ軸方向の幅の中央位置のｚ座標をｚｂ、前記接合部材が前記光学素子と接合するｚ軸方向の幅をｗｂとしたときに、
｜（ｚｂ−０．６ｗｂ）−（ｚｇ＋１．２）｜≦１
の関係を満たすことを特徴とする保持装置。
【請求項２】
前記光学素子は、光学ミラーであることを特徴とする請求項１記載の保持装置。
【請求項３】
前記接合部材は、接着剤であることを特徴とする請求項１記載の保持装置。
【請求項４】
前記接合部材は、櫛型バネであることを特徴とする請求項１記載の保持装置。
【請求項５】
前記保持部材は、前記光学素子の中心軸を中心とする円環状形状であることを特徴とする請求項１記載の保持装置。
【請求項６】
前記接合部材は、前記前記光学素子の外径部の全周に亘って前記保持部材と接合することを特徴とする請求項１記載の保持装置。
【請求項７】
回転軸対称形状の光学素子と、
前記光学素子を保持する請求項１乃至６のうちいずれか一項記載の保持装置とを有することを特徴とする光学系。
【請求項８】
複数の光学素子から構成され、前記複数の光学素子のうち少なくとも一は請求項１乃至６のうちいずれか一項記載の保持装置に保持されることを特徴とする光学装置。
【請求項９】
請求項１乃至６のうちいずれか一項記載の保持装置と、
前記保持装置に保持された光学素子を介してマスク又はレチクルに形成されたパターンを被処理体に露光する光学系とを有することを特徴とする露光装置。
【請求項１０】
請求項９記載の露光装置を用いて被処理体を露光するステップと、
露光された前記被処理体に所定のプロセスを行うステップとを有するデバイス製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成17年9月12日(2005.9.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液体現像剤を使用する液体現像電子写真装置の画像支持体上に形成された静電潜像の現像処理に際し、現像剤担持体上に塗布された液体現像剤にバイアス電圧を印加するバイアス電圧印加手段を設け、液体現像剤の帯電電荷と同極性のバイアス電圧を印加した後に、画像支持体上に形成された静電潜像に液体現像剤中の固形成分を付着させる液体現像装置において、
前記バイアス電圧印加手段により印加される電圧によって、現像剤担持体上の現像剤層中に流れる電流Ｉｂが、その後の現像部（現像剤担持体と画像支持体の接触部分）において現像剤担持体の電位と画像支持体の静電潜像非画像部の電位との電位差により、液体現像剤中を流れる電流Ｉｄ２よりも大きくなるようにバイアス電圧設定された、
ことを特徴とする液体現像装置。
【請求項２】
前記液体現像装置において、
前記印加手段により印加される電圧によって、現像剤担持体上の現像剤層中に流れる電流Ｉｂが、その後の現像部において、現像剤担持体の電位と画像支持体の静電潜像非画像部の電位との電位差により、液体現像剤中を流れる電流Ｉｄ２の５倍以上の電流となるようにバイアス電圧設定する、
ことを特徴とする請求項１記載の液体現像装置。
【請求項３】
前記液体現像装置において、
前記印加手段により印加するバイアス電圧を放電開始電圧以下に抑えるように、印加手段の現像剤担持体との対向部分の面積を設定する、
ことを特徴とする請求項１記載の液体現像装置。
【請求項４】
前記液体現像装置において、
画像支持体上の静電潜像の非画像部電位と現像剤担持体の電位との電位差が、現像剤担持体の電位と画像支持体上の静電潜像の画像部電位との電位差よりも小さくなるように現像剤担持体の電位を設定する、
ことを特徴とする請求項１記載の液体現像装置。
【請求項５】
前記液体現像装置において、
カラー画像を形成するため、画像支持体上でイエロー、マゼンタ、シアン、ブラックの各色の液体現像剤中の固形成分を重ね合わせる際、前記現像剤担持体の電位条件を満たすように現像剤担持体電位を制御して各色ごとに現像を行う、
ことを特徴とする請求項４記載の液体現像装置。
【請求項６】
前記液体現像装置において、
前記印加手段に印加する電圧を定電流制御により制御する、
ことを特徴とする請求項１記載の液体現像装置。
【請求項７】
前記液体現像装置において、
所定の初期条件において、前記印加手段に印加するバイアス電圧を定電流制御し、当該定電流制御により印加手段に印可したバイアスの電圧値を電圧値記憶手段に保持し、その後の印刷においては、当該電圧値記憶手段に保持した電圧値で定電圧制御する、
ことを特徴とする請求項１記載の液体現像装置。
【手続補正書】
【提出日】平成16年8月17日(2004.8.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１レンズ群を保持する第１枠と、
前記第１枠よりも像面側に配置され、第２レンズ群を保持する第２枠と、
前記第２枠よりも像面側に配置され、像ぶれ補正用の第３レンズ群を保持する像ぶれ補正手段と、
前記第１枠を前記像ぶれ補正手段に対して撮影時には物体側に、非撮影時には像面側に移動させる駆動手段と、
相互に平行な少なくとも２つの棒状のガイド部材とを備えた沈胴式レンズ鏡筒において、
前記ガイド部材は、前記第１枠に一端が固定され、前記第２枠を摺動自在に保持し、
かつ、前記像ぶれ補正手段は、前記ガイド部材を光軸と略並行に且つ摺動可能に支持することを特徴とする沈胴式レンズ鏡筒。
【請求項２】
前記ガイド部材は、それぞれ、光軸方向に貫通する、相互に離間した二つの貫通穴に圧入されて、前記第１枠に固定されていることを特徴とする請求項１に記載の沈胴式レンズ鏡筒。
【請求項３】
複数のカム溝が形成されたカム枠と、
前記カム枠の前記カム溝が形成されていない部分に、光軸方向を長手方向として設けられた駆動ギアと、
前記カム枠のカム溝と係合し、かつ前記駆動ギアと噛合して光軸の回りに回転することにより前記第１枠を光軸方向に移動させる駆動枠と、
前記第３レンズ群を光軸と直交する２方向に駆動する第１、第２アクチュエータとを備え、
前記第１、第２アクチュエータの間に前記駆動ギアが配置されていることを特徴とする請求項１に記載の沈胴式レンズ鏡筒。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
上記の目的を達成するために、本発明の沈胴式レンズ鏡筒は、第１レンズ群を保持する第１枠と、前記第１枠よりも像面側に配置され、第２レンズ群を保持する第２枠と、前記第２枠よりも像面側に配置され、像ぶれ補正用の第３レンズ群を保持する像ぶれ補正手段と、前記第１枠を前記像ぶれ補正手段に対して撮影時には物体側に、非撮影時には像面側に移動させる駆動手段と、相互に平行な少なくとも２つの棒状のガイド部材とを備えた沈胴式レンズ鏡筒において、前記ガイド部材は、前記第１枠に一端が固定され、前記第２枠を摺動自在に保持し、かつ、前記像ぶれ補正手段は、前記ガイド部材を光軸と略並行に且つ摺動可能に支持することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成17年3月1日(2005.3.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電気光学装置において、
複数の走査線と、
複数のデータ線と、
各々が前記走査線と前記データ線との交差に対応して設けられた複数の画素を有する表示部と、
前記走査線に走査信号を出力することにより、データの書込対象となる前記画素に対応する前記走査線を選択する走査線駆動回路と、
前記走査線駆動回路と協働するとともに、前記書込対象となる前記画素に対応する前記データ線にデータ信号を出力するデータ線駆動回路と、
前記表示部の表示ムラを補正する補正回路と、
前記補正回路を制御することにより、前記表示ムラの補正を行う第１のモード、または、前記第１のモードよりも補正のレベルが低い第２のモードを選択するモード選択回路と
を有することを特徴とする電気光学装置。
【請求項２】
前記モード選択回路は、前記第２のモードの選択時において、前記補正回路を停止させることを特徴とする請求項１に記載された電気光学装置。
【請求項３】
前記モード選択回路は、前記第２のモード時の選択時において、前記補正回路の一部の機能を停止させることを特徴とする請求項１に記載された電気光学装置。
【請求項４】
前記モード選択回路は、前記表示部に光を照射するバックライトの輝度に応じて、前記モードの選択を行うことを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載された電気光学装置。
【請求項５】
前記モード選択回路は、前記バックライトの発光を行う透過表示時には、前記第１のモードを選択し、前記バックライトの発光を停止する反射表示時には、前記第２のモードを選択することを特徴とする請求項４に記載された電気光学装置。
【請求項６】
前記モード選択回路は、前記表示部に表示する表示対象に応じて、前記モードの選択を行うことを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載された電気光学装置。
【請求項７】
前記モード選択回路は、前記電気光学装置に対する電力供給の状況に応じて、前記モードの選択を行うことを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載された電気光学装置。
【請求項８】
前記補正回路は、前記走査線の一端が接続される演算増幅器と、当該演算増幅器から出力された電圧の変動分を前記走査信号に重畳させる補償回路と、を有することを特徴とする請求項１に記載された電気光学装置。
【請求項９】
請求項１から８のいずれかに記載された電気光学装置を実装したことを特徴とする電子機器。
【請求項１０】
複数の走査線と複数のデータ線との各交差に対応して画素が設けられた表示部を有する電気光学装置の駆動方法において、
第１のモードまたは第２のモードを選択する第１のステップと、
前記第１のモードが選択された場合、前記表示部の表示ムラ補正を行いながら、前記表示部の表示制御を行う第２のステップと、
前記第２のモードが選択された場合、前記第１のモード時に行われる前記表示ムラ補正よりも低いレベルで、前記表示部の表示制御を行う第３のステップとを有することを特徴とする電気光学装置の駆動方法。
【請求項１１】
前記第３のステップは、前記表示ムラ補正を行う補正回路を停止させるステップであることを特徴とする請求項１０に記載された電気光学装置の駆動方法。
【請求項１２】
前記第３のステップは、前記表示ムラ補正を行う補正回路の一部の機能を停止させるステップであることを特徴とする請求項１０に記載された電気光学装置の駆動方法。
【請求項１３】
前記第１のステップにおいて、前記表示部に光を照射するバックライトの輝度に応じて、前記モードの選択が行われることを特徴とする請求項１０から１２のいずれかに記載された電気光学装置の駆動方法。
【請求項１４】
前記第１のステップは、前記バックライトの発光を行う透過表示時には、前記第１のモードを選択するステップと、前記バックライトの発光を停止する反射表示時には、前記第２のモードを選択するステップとを含むことを特徴とする請求項１３に記載された電気光学装置の駆動方法。
【請求項１５】
前記第１のステップにおいて、前記表示部に表示する表示対象に応じて、前記モードの選択が行われることを特徴とする請求項１０から１２のいずれかに記載された電気光学装置の駆動方法。
【請求項１６】
前記第１のステップにおいて、前記電気光学装置に対する電力供給の状況に応じて、前記モードの選択が行われることを特徴とする請求項１０から１２のいずれかに記載された電気光学装置の駆動方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
【課題を解決するための手段】
かかる課題を解決するために、第１の発明は、複数の走査線と、複数のデータ線と、各々が前記走査線と前記データ線との交差に対応して設けられた複数の画素を有する表示部と、前記走査線に走査信号を出力することにより、データの書込対象となる前記画素に対応する前記走査線を選択する走査線駆動回路と、前記走査線駆動回路と協働するとともに、前記書込対象となる前記画素に対応する前記データ線にデータ信号を出力するデータ線駆動回路と、前記表示部の表示ムラを補正する補正回路と、前記補正回路を制御することにより、前記表示ムラの補正を行う第１のモード、または、前記第１のモードよりも補正のレベルが低い第２のモードを選択するモード選択回路とを有する電気光学装置を提供する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
第３の発明は、複数の走査線と複数のデータ線との各交差に対応して画素が設けられた表示部を有する表示部電気光学装置の駆動方法を提供する。この駆動方法は、第１のモードまたは第２のモードを選択する第１のステップと、第１のモードが選択された場合、表示部の表示ムラ補正を行いながら、表示部の表示制御を行う第２のステップと、第２のモードが選択された場合、第１のモード時に行われる表示ムラ補正よりも低いレベルで、表示部の表示制御を行う第３のステップとを有する。
【手続補正書】
【提出日】平成16年5月12日(2004.5.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラズマリアクターであって：
プラズマリアクター槽と、加工中、前記槽内で加工物支持平面に加工物を保持する為の加工物支持体であって、前記槽は、前記支持体に対向するリアクター囲壁部を有し、前記リアクター囲壁部は、前記支持平面に対向する概略平坦な天井板を備える、前記加工物支持体と；
前記天井板に対向する複数のネスト型誘導アンテナであって、前記複数のネスト型誘導アンテナのうち、少なくとも一つのアンテナは、前記支持面から伸びた軸に沿って空間を空けて配置された巻線部を備え、前記巻線部は、前記天井板から異なる距離で配置され、前記複数の誘導アンテナは、前記槽に電力を結合するように適合されている、前記ネスト型誘導アンテナと；
前記誘導アンテナに結合されたＲＦプラズマ源電源と；
を備える、前記プラズマリアクター。
【請求項２】
前記ＲＦプラズマ源電源は、異なるＲＦ電力レベルを前記複数のアンテナのうち、異なるアンテナに印加する能力を有する、請求項１記載のリアクター。
【請求項３】
前記複数の誘導アンテナは、同心である、請求項１記載のリアクター。
【請求項４】
前記少なくとも一つのアンテナは、前記概略平坦な天井板に対して非共形の形状を有する、請求項１記載のリアクター。
【請求項５】
前記複数のネスト型誘導アンテナは：
内側の誘導アンテナと；
前記内側の誘導アンテナから半径方向に一定距離だけ移動された外側の誘導アンテナと；
を備える、請求項１記載のリアクター。
【請求項６】
前記外側の誘導アンテナは、前記支持面を横切る方向に空間を空けて配置された巻回部を備える、請求項５記載のリアクター。
【請求項７】
前記複数の誘導アンテナは、前記天井板の上に位置し、前記槽の外側に配置されている、請求項１記載のリアクター。
【請求項８】
前記少なくとも一つのアンテナは、前記軸に沿って空間を空けて配置され、表皮深度の距離で加工物を横切るプラズマ均一性を提供する能力を有する、請求項１記載のリアクター。
【請求項９】
前記複数のアンテナの放射パターン中の空を補償するために、前記巻回部が前記軸に沿って空間を空けて配置されている、請求項１記載のリアクター。
【請求項１０】
上記支持平面の中心及び円周の近くのそれぞれに、各々のガス排出口を有するそれぞれ独立したガス供給路を含む請求項１に記載のリアクター。
【請求項１１】
プラズマリアクターであって：
プラズマリアクター槽と、加工中、前記槽内で加工物支持平面に加工物を保持する為の加工物支持体であって、前記槽は、前記支持体に対向するリアクター囲壁部を有し、前記リアクター囲壁部は、前記支持平面に対向する概略平坦な天井板を備える、前記加工物支持体と；
前記天井板に対向し、前記槽に電力を結合するように適合された誘導アンテナと；
前記誘導アンテナに結合されたＲＦプラズマ源電源と；
前記リアクター槽の中心及び円周の近くのそれぞれに、各々のガス排出口を有するそれぞれ独立したガス供給路と；
を備える、前記リアクター。
【請求項１２】
前記それぞれ独立したガス供給路は、前記中心及び円周部に、それぞれ異なる流速を提供する能力を有する、請求項１１記載のリアクター。
【請求項１３】
前記誘導アンテナは、概略平坦なコイルを備える、請求項１１記載のリアクター。
【請求項１４】
前記誘導アンテナは、（ａ）前記概略平坦な天井板に対して形が共形であること、（ｂ）前記概略平坦な天井板に対して形が非共形であること、のいずれか一つである、請求項１１記載のリアクター。
【請求項１５】
前記誘導アンテナは、前記天井板の上に位置し、前記槽の外側に配置されている、請求項１１記載のリアクター。
【請求項１６】
前記それぞれ独立したガス供給路は、前記支持平面の中心及び円周の近くのそれぞれに配置されている、請求項１１記載のリアクター。
【手続補正書】
【提出日】平成16年4月30日(2004.4.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
情報テクノロジー装置に対して情報ディスクをローディング及びアンローディングするため、第１案内と第２案内とを具え、これらの各案内にディスク端縁を案内するための溝を設け、前記第２案内は、情報ディスクをローディング及びアンローディングするため装置に出し入れする回転駆動可能な移送ホイールにより構成したローディング機構において、第１案内及び第２案内を移動自在に支持し、第１案内の溝及び第２案内の溝の各々に、圧力面を設け、これらの圧力面をローディング平面に対して傾斜させ、また第１案内の溝及び第２案内の溝の各々に、ローディング平面にほぼ直交する内側周面を設け、この内側周面の高さを情報ディスクの厚さよりも小さく選択し、ローディングプロセス中に情報ディスクの外側端縁が溝の内側周面）に接触しないようにしたことを特徴とするローディング機構。
【請求項２】
第１案内の溝及び第２案内の溝の各々に、溝の上側面及び下側面で前記ローディング平面に対して傾斜する圧力面を設けた請求項１記載のローディング機構。
【請求項３】
ローディングプロセス中に情報ディスクを第１案内及び第２案内の溝にクランプする請求項１又は２記載のローディング機構。
【請求項４】
エジェクト位置において、前記情報ディスクを第１案内及び第２案内の溝にクランプし、ユーザーが前記情報ディスクを手で溝から引き出すのに最小の力０．７Ｎを加えるだけで済むようにした請求項３記載のローディング機構。
【請求項５】
第１案内の圧力面の傾斜角う４°〜８°の範囲の角度とし、第２案内の圧力面の傾斜角を３°〜７°の範囲の角度とした請求項２乃至４のうちのいずれか一項に記載のローディング機構。
【請求項６】
前記第１案内を支持セグメントにより構成した請求項１乃至５のうちのいずれか一項に記載のローディング機構。
【請求項７】
前記第１案内を回転駆動自在の移送ホイールにより構成請求項１乃至５のうちのいずれか一項に記載のローディング機構。
【請求項８】
圧力面の表面の弾性率を、情報ディスクの弾性率よりも大きくし、圧力面の表面の粗さを、ローディングプロセス中に情報ディスクの表面と圧力面との間に摩擦掛合を生ずる力で情報ディスクが溝の圧力面に圧着することができる粗さとした請求項１乃至７のうちのいずれか一項に記載のローディング機構。
【請求項９】
前記移送ホイールの基礎材料をスチールとし、このスチールを少なくとも圧力面の位置で炭化クロム層によりカバーした請求項１乃至８のうちのいずれか一項に記載のローディング機構。
【請求項１０】
前記移送ホイールの基礎材料をスチールとし、このスチールを少なくとも圧力面の位置でタングステン−カーボン水素化合物層によりカバーした請求項１乃至８のうちのいずれか一項に記載のローディング機構。
【請求項１１】
第１案内の基礎材料をスチールとし、このスチールを少なくとも圧力面の位置で炭化クロム又はタングステン−カーボン水素化合物の層でカバーした請求項１乃至１０のうちのいずれか一項に記載のローディング機構。
【請求項１２】
圧力面の最大表面粗さＲt を２μｍ〜１５μｍの範囲とし、算術平均粗さＲa を０．２μｍ〜１．５μｍの範囲とした請求項１乃至１１のうちのいずれか一項に記載のローディング機構。
【請求項１３】
炭化クロム層又はタングステン−カーボン水素化合物層を蒸着プロセスによって堆積させた請求項９乃至１２のうちのいずれか一項に記載のローディング機構。
【請求項１４】
請求項１乃至１３のうちのいずれか一項に記載のローディング機構を有するデッキ。
【請求項１５】
請求項１４記載のデッキを有する情報テクノロジー装置。
【請求項１６】
請求項１４記載のデッキを有するカーラジオ。
【手続補正書】
【提出日】平成16年7月23日(2004.7.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
集積回路に使用され、回路出力を有する走査可能なプログラマブルヒューズ回路であって、
ヒューズ出力を有し、そのヒューズ出力の論理レベルを変更するために溶断され得るヒューズを含むヒューズ回路と、および
前記ヒューズ出力に接続され、前記回路出力を制御するよう構成された走査可能ラッチ手段であって、出力値を前記ヒューズ出力から前記走査可能ラッチ手段へロードし、次いで前記回路出力へシフトさせ、他の出力値を前記走査可能ラッチ手段へスキャンインし、次いで前記回路出力へシフトさせるようにした、走査可能ラッチ手段とを含む、走査可能なプログラマブルヒューズ回路。
【請求項２】
前記ヒューズ回路が、前記ヒューズと直列に接続された負荷素子を含み、それにより前記ヒューズ出力が前記負荷素子と前記ヒューズとの間の接続点で取り出される、請求項１に記載の走査可能なプログラマブルヒューズ回路。
【請求項３】
集積回路においてプログラマブルヒューズ回路を走査制御するための方法であって、
プログラマブルヒューズ回路のヒューズ出力に接続された走査可能ラッチを製作するステップと、
前記走査可能ラッチへ出力値をスキャンインするステップと、および
前記出力値を前記走査可能ラッチの出力へシフトするステップとを含む、方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
各プログラマブル・ヒューズ回路11a〜11cの出力ライン16a〜16cにはそれぞれ、走査可能なラッチ18a、18b、及び18cのような走査可能ラッチを接続する。走査可能ラッチ18a〜18cは本質的に同一であり、好ましくは、図２を参照して以下に詳述するように３つのラッチで構成されるものである。図１に示すように、３つの走査可能ラッチ18a〜18cは通常、スキャンパスと呼ばれるシフト・レジスタ20として構成される。スキャンパスとしての走査可能ラッチ18a〜18cの動作を助長するために、各走査可能ラッチ18a〜18cは図に示すように、LOADライン22、SHIFTライン24、NSHIFTライン26、READライン28、及びWRITEライン30に接続される。従って、シフト・レジスタ20はデータ値をそれぞれの走査可能ラッチ18a〜18cに並列に入れることができ、且つデータ値をそれぞれの走査可能ラッチ18a〜18cから並列に出力することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成17年1月28日(2005.1.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
長く延びた放電容器（２）と、電極対（５）と、放電容積内の発光封入物とから成り、
前記放電容器（２）が中央領域（３）と２つの端部領域とを有しており、前記中央領域（３）は放電容積を取り囲んでおり、前記２つの端部領域は反対方向に延在しており、前記２つの端部領域のうちの少なくとも１つが、それぞれ２つの広幅側（８）および狭幅側（９）を有するピンチ封止部（４）から形成されており、
前記電極（５）が、ピンチ封止部（４）から放電容積に向かって延びており、金属箔（１２）を介して外部リード導体（１４）に接続されており、前記金属箔は前記ピンチ封止部に埋込まれており、
それぞれのピンチ封止部の長さは、前記中央領域の長さの寸法にほぼ相当する、
高圧放電ランプにおいて、
ピンチ封止部（４）の寸法は、それぞれの広幅側（８）の幅全体ｗが前記広幅側の厚さｄの２．２倍以下であるように選択されており、さらに、ピンチ封止部の幅全体が中央領域の最大幅の５０％未満であることを特徴とする高圧放電ランプ。
【請求項２】
箔の長さがピンチ封止部の長さの約６０〜７０％であることを特徴とする請求項１に記載の高圧放電ランプ。
【請求項３】
広幅側（８）が、狭幅側（９）を拡幅している縁隆起部（１０）を備えており、狭幅側（９）の全幅が、縁隆起部を含めて、広幅側（８）の全幅にほぼ（例えば少なくとも２０％だけ小さく）相当することを特徴とする請求項１に記載の高圧放電ランプ。
【請求項４】
ピンチ封止部の端部にシリンダ状の管付加部（１３）が形成されていることを特徴とする請求項１に記載の高圧放電ランプ。
【請求項５】
管付加部（１３）の外径が、前記管付加部（１３）に装着される口金スリーブ（１５）の内径に適合していることを特徴とする請求項１に記載の高圧放電ランプ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
【課題を解決するための手段】
上記課題は本発明により、ピンチ封止部の寸法は、それぞれの広幅側の幅全体ｗが広幅側の厚さｄの２．２倍以下であるように選択されており、さらに、ピンチ封止部の幅全体が中央領域の最大幅の５０％未満であることにより解決される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成16年4月1日(2004.4.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２５】
上述した両方の実施形態において、誤差値ｅkＣ１１２は、改良されたＬＭＳ回路Ｃ１１４に入力される。改良されたＬＭＳ回路Ｃ１１４は、以下の方程式に従って更新されたフィルタ係数Ｗk+1Ｃ１１６を計算する。


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図面の簡単な説明
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図面の簡単な説明】
【図１】従来のサンプリングされた振幅記録チャネルのブロック図である。
【図２Ａ】複数のユーザデータセクタおよび複数の埋め込みサーボデータセクタから構成される複数の同心円状トラックを有する磁気ディスクのデータフォーマットの一例を示す図である。
【図２Ｂ】ユーザデータセクタのフォーマットの一例を示す図である。
【図３】補間されたサンプル値と、離散時間シーケンス検出器のクロック合わせ動作のための同期データクロックとを発生する補間されたタイミングリカバリを有する、本発明による改善されたサンプリングされた振幅リードチャネルのブロック図である。
【図４Ａ】サンプリングＶＦＯを有する従来の技術によるサンプリングタイミングリカバリの詳細ブロック図である。
【図４Ｂ】補間器を有する本発明による補間されたタイミングリカバリの詳細ブロック図である。
【図５】アクイジションプリアンブル用の補間されたボーレートサンプルに関連するチャネルサンプルを示す図である。
【図６】タイミングリカバリ補間器用のＦＩＲフィルタの実施形態を示す図である。
【図７】タイミングリカバリ補間器用のコストの低減された実施形態を示す図である。
【図８Ａ】サンプリングされた振幅リードチャネルにおける従来の適応型離散時間等化器フィルタのブロック図である。
【図８Ｂ】本発明による適応型離散時間等化器を示す図である。
【図８Ｃ】本発明による適応型離散時間等化器の別の実施形態を示す図である。
【図９Ａ】正規化周波数１／４Ｔにおいて制約される、本発明による適応フィルタの利得応答を示す図である。
【図９Ｂ】正規化周波数１／４Ｔにおいて制約される、本発明による適応フィルタの位相応答を示す図である。
【図１０】適応フィルタの利得および位相応答を制約する本発明による直交射影演算の作用を説明する図である。
【図１１Ａ】コストの低減された直交射影演算の実施形態を示す図である。
【図１１Ｂ】コストの低減された直交射影演算の別の実施形態を示す図である。
【図１１Ｃ】図１１Ｂのコストの低減された直交射影演算において用いられる勾配平均化回路の実施形態を示す図である。
【図１１Ｄ】本発明によるコストの低減された直交射影演算のさらに別の実施形態を示す図である。
【符号の説明】
２  ユーザデータ
４  データ生成器
６  ＲＬＬ符号化器
９  ライト回路
１０  プリコーダ
１８  磁気記録回路
２０  アナログ受信フィルタ
２２  ＶＧＡ
２４  Ａ／Ｄ変換器
２６  離散等価器フィルタ
３４  離散時間シーケンス検出器
３６  ＲＬＬ復号化器
３７  推定された復号化されたユーザデータ
５０  利得制御
５２  周波数シンセサイザ
６６  データＳＹＮＣ検出器
Ｂ１００  補間されたタイミングリカバリ


【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図３】
1998092119.tif 000001
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図５】
1998092119.tif 000002
【手続補正書】
【提出日】平成14年11月8日(2002.11.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ｉ）：
【化１】
1996225568.tif 000001
［式中、
Ａ−Ｂは−ＣＨ−ＣＨ２−または−Ｃ＝ＣＨ−であり、
ＸはＨ、ハロ、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、Ｃ１−Ｃ４アルキルチオ、Ｃ１−Ｃ４アルキル、ベンジルオキシ、ヒドロキシまたはカルボキシアミドであり、
ＹはＯ、Ｓまたは単結合であり、
ｎは１〜４であり、
Ａrは１−ナフチル、２−ナフチル、フェニル、またはハロ、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、Ｃ１−Ｃ４アルキルチオ、Ｃ１−Ｃ４アルキル、ベンジルオキシ、ヒドロキシもしくはトリフルオロメチルよりなる群から選択される置換基で一置換されたフェニルである。ただし、
ａ）Ａrがフェニルであって、Ｙが単結合である場合、Ｘはハロ以外であり、
また
ｂ）Ａ−Ｂが−Ｃ＝ＣＨ−である場合、
ｉ）Ａrがフェニルであって、Ｙが単結合であるなら、ＸはＨまたはメトキシではなく、
ii）Ａrが４−クロロフェニルであり、ｎが１であって、Ｙが単結合であるなら、ＸはＨではなく、
iii）Ａrがフェニルであり、ｎが１であって、Ｙが単結合であるなら、Ｘはヒドロキシではない。］
で示される化合物、またはその医薬的に許容し得る酸付加塩もしくはその水和物。
【請求項２】
賦形剤と共に、式（II）：
【化２】
1996225568.tif 000002
［式中、
Ａ−Ｂは−ＣＨ−ＣＨ２−または−Ｃ＝ＣＨ−であり、
ＸはＨ、ハロ、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、Ｃ１−Ｃ４アルキルチオ、Ｃ１−Ｃ４アルキル、ベンジルオキシ、ヒドロキシまたはカルボキシアミドであり、
ＹはＯ、Ｓまたは単結合であり、
ｎは１〜４であり、
Ａrは１−ナフチル、２−ナフチル、フェニル、またはハロ、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、Ｃ１−Ｃ４アルキルチオ、Ｃ１−Ｃ４アルキル、ベンジルオキシ、ヒドロキシもしくはトリフルオロメチルよりなる群から選択される置換基で一置換されたフェニルである。］
で示される化合物、またはその医薬的に許容し得る酸付加塩もしくはその水和物を含む、哺乳動物における５−ＨＴ１Ｆを活性化して、哺乳動物の片頭病および関連障害の処置に使用する医薬組成物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１００
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１００】
５−フルオロ−３−[１,２,３,６−テトラヒドロ−４−ピリジル]−１Ｈ−インドール
水酸化カリウム７４gmのメタノール６７３ml溶液に、５−フルオロインドール１０.０gm(７４mＭol)および４−ピペリドン・ＨＣl・Ｈ２Ｏ２３.３gm(１５１mＭol)を添加した。反応混合物を還流温度で１８時間撹拌した。その反応混合物を水１.３Ｌで希釈して、その結果得られる沈殿物を濾過することにより回収して、減圧下に乾燥すると、５−フルオロ−３−[１,２,５,６−テトラヒドロ−４−ピリジル]−１Ｈ−インドール１０.７５gm(６７.２％)が黄色の固体として得られた。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０１】
５−フルオロ−３−(４−ピペリジニル)−１Ｈ−インドール
５−フルオロ−３−[１,２,５,６−テトラヒドロ−４−ピリジル]−１Ｈ−インドール１０.７５gm(５０mＭol)のエタノール５００ml溶液に、炭素に担持した５％ パラジウム２.０gmを添加して、反応混合物を初期水素圧力６０p.s.i.、室温で１８時間水素化した。次いで、その反応混合物をセライトのパッドに通して濾過して、濾液を減圧下に濃縮すると、オフホワイト色の固体が得られた。その固体をメタノールから再結晶すると、標記化合物８.３１gm(７６.２％)が無色の固体として得られた。
融点＝２２９〜２３０℃。
ＭＳ(ｍ／ｅ)：２１８(Ｍ＋)。
元素分析(Ｃ１３Ｈ１５Ｎ２Ｆとして)：
理論値 ： Ｃ ７１.５３；Ｈ ６.９３；Ｎ １２.８３。
実測値 ： Ｃ ７１.８１；Ｈ ７.０２；Ｎ １２.８０。
【手続補正書】
【提出日】平成16年10月26日(2004.10.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７５】
以上のようにして得られた金属粒子および絶縁性樹脂粒子の混合物を、次いでメカノフュージョン装置に供給して、該混合物に機械的エネルギーを付与することにより機械的表面処理を実施する。例えば、回転容器内に混合物を入れて遠心力により回転容器の内壁に押し付けながら、回転容器の内壁と曲率半径の異なる凸表面を有する部材を該混合物を挟んで回転容器の内壁に押し付けて、混合物に圧縮・剪断力を加えることにより、混合物に機械的エネルギーが付与される。
【手続補正書】
【提出日】平成16年9月29日(2004.9.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４】
前面ガラス基板と、
前記前面ガラス基板の表面上に形成されており、その各々は第１方向に延在する一対の維持電極から成り、前記第１方向に直交する第２方向に沿って配列した複数の放電維持電極対と、
前記前面ガラス基板の前記表面上に形成されており、前記複数の放電維持電極対を被覆する誘電体層と、
前記誘電体層の内で、異なる対に属する隣り合う両維持電極間に相当する部分の表面上に、前記第１方向に延在する様に形成された帯状の膜と、
前記誘電体層の表面上に形成されており、前記帯状の膜を被覆するカソード膜と、
前記帯状の膜の直上に位置する、前記カソード膜の表面部分の上に形成された、酸化物を主成分とする粉末材料から成る放電抑止膜とを備えることを特徴とする、
面放電ＡＣ型プラズマディスプレイパネル用前面基板。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項５】
請求項４に記載の面放電ＡＣ型プラズマディスプレイパネル用前面基板であって、
前記帯状の膜の表面粗さは、前記誘電体層の内で、異なる対に属する隣り合う両維持電極間に相当する前記部分の表面粗さよりも大きいことを特徴とする、
面放電ＡＣ型プラズマディスプレイパネル用前面基板。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
請求項４記載の発明は、前面ガラス基板と、前記前面ガラス基板の表面上に形成されており、その各々は第１方向に延在する一対の維持電極から成り、前記第１方向に直交する第２方向に沿って配列した複数の放電維持電極対と、前記前面ガラス基板の前記表面上に形成されており、前記複数の放電維持電極対を被覆する誘電体層と、前記誘電体層の内で、異なる対に属する隣り合う両維持電極間に相当する部分の表面上に、前記第１方向に延在する様に形成された帯状の膜と、前記誘電体層の表面上に形成されており、前記帯状の膜を被覆するカソード膜と、前記帯状の膜の直上に位置する、前記カソード膜の表面部分の上に形成された、酸化物を主成分とする粉末材料から成る放電抑止膜とを備えることを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
請求項５記載の発明は、請求項４に記載の面放電ＡＣ型プラズマディスプレイパネル用前面基板であって、前記帯状の膜の表面粗さは、前記誘電体層の内で、異なる対に属する隣り合う両維持電極間に相当する前記部分の表面粗さよりも大きいことを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
更に、誘電体層５の表面５Ｓの内で、異なる対に属する隣り合う両バス電極３間に該当する表面部分１Ｓ１の直上に形成されている各誘電体層部分５１の表面５Ｓ１上には、第１方向Ｄ１に沿って延在する帯状の遮光膜４が形成されている。更に、誘電体層５の表面５Ｓ上には、各遮光膜４を被覆するカソード膜ないしは保護膜（例えばＭｇＯ膜より成る）６が形成されている。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６５】
本実施の形態によれば、遮光膜４の表面粗さをそのまま反映する遮光膜４直上のカソード膜表面部分と上記の粉末材料膜１３との接触面積が、従来における様な遮光膜がその上に形成されていない誘電体層表面直上のカソード膜表面部分と上記粉末材料膜との接触面積よりも格段に大きくなるので、その結果、粉末材料膜１３の密着性が高い前面基板を得ることができる。更に、上記の粉末材料から成る放電抑止膜１３の厚みは概して１μｍ以下となるため、放電抑止膜１３と背面基板側の隔壁との物理的干渉を考慮する必要性は限りなく小さい。加えて、放電抑止膜１３は上記の通り大変薄い膜であると共に、その膜質はガラスを含まない単純な粉末の集合体である結果、物理的応力による放電抑止膜１３の変形が容易であるので、却って隔壁欠損を防止し得る効果を期待することができる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７０】
請求項４及び５の発明によれば、対を異にする隣り合う維持電極間に位置するカソード膜表面上に形成される、発光効率向上に不可欠な粉末材料膜の前面基板への密着力を、帯状の膜自身の表面粗さに伴う接触面積の増大によって、格段に向上させることが出来る。
【手続補正書】
【提出日】平成17年10月6日(2005.10.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】 時間間隔Ｄにより分離される複数の連続雑音送信波形を発生する送信器（１００）であって、送信されるデータは前記複数の連続雑音送信波形の二つのインスタンスの相対的な極性により符号化されており、当該送信器（１００）はＮC個のチップで構成される符号語（１３５）を順次送信し、前記ＮC個のチップの各々が固定された時間間隔により分離される連続雑音送信波形を含んでいる、送信器（１００）と、該送信器（３００）により送信された前記複数の連続雑音送信波形を受信する受信器（３００）とを備えた無線通信システムであって、前記受信器（３００）は、異なる遅延に同調されている各々の相関器（３２０）を含んでいる相関器バンク（３２０）であって、該相関器バンク（３２０）の各々の相関器（３２０）が、前記受信された信号の遅延付き形態及び無遅延形態を乗算する乗算器（３２２）と、該乗算器（３２２）に接続されており該乗算器（３２２）により出力された信号を積分する積分器（３２６）とを含んでいる、相関器バンク（３２０）と、前記積分器（３２６）に接続されており前記ＮC個のチップに対応する前記符号語（１３５）の相関を求める符号語相関器（３４０）とを含んでいる、無線通信システム。
【請求項２】 前記符号語相関器（３４０）は、前記ＮC個のチップに対応する前記符号語（１３５）の相関を求める符号語相関器アルゴリズムを実行するディジタル信号プロセッサ（ＤＳＰ）を含んでいる請求項１に記載の無線通信システム。
【請求項３】 前記符号語相関器（３４０）は、前記ＮC個のチップに対応する前記符号語（１３５）の相関を求める符号語相関器アルゴリズムを実行するプログラマブル論理素子（ＰＬＤ）を含んでいる請求項１に記載の無線通信システム。
【請求項４】 時間間隔Ｄにより分離される複数の連続雑音送信波形を発生する送信器（１００）であって、送信されるデータは前記複数の連続雑音送信の二つのインスタンスの相対的な極性により符号化されており、当該送信器（１００）はＮC個のチップで構成される符号語（１３５）を順次送信し、前記ＮC個のチップの各々が固定された時間間隔により分離される連続雑音送信波形を含んでいる、送信器（１００）と、該送信器（１００）により送信された前記複数の連続雑音送信波形を受信する受信器（３００）とを備えた超広帯域通信システムであって、前記送信器（１００）は、前記複数の連続雑音送信波形を発生する広帯域雑音源（１１０）と、該雑音源（１１０）に接続されており、前記時間間隔Ｄにより前記複数の連続雑音搬送波の１以上を遅延させる遅延（１６０）と、該遅延（１６０）に接続されており、前記符号語（１３５）を前記複数の連続雑音送信波形の１以上へ変調させる情報変調器（１３０）と、該情報変調器（１３０）及び前記雑音源（１１０）に接続されており、第一のインスタンスが無遅延連続雑音送信波形を含んでおり、第二のインスタンスが前記変調された符号語（１３５）を含む遅延付き連続雑音送信波形を含んでいる前記複数の連続雑音送信波形の前記二つのインスタンスを結合する加算器（１７０）とを含んでおり、前記受信器（３００）は、異なる遅延に同調されている各々の相関器（３２０）を含んでいる相関器バンク（３２０）であって、該相関器バンク（３２０）の各々の相関器（３２０）が、前記受信された信号の遅延付き形態及び無遅延形態を乗算する乗算器（３２２）と、該乗算器（３２２）に接続されており該乗算器（３２２）により出力された信号を積分する積分器（３２６）とを含んでいる、相関器バンク（３２０）と、前記積分器（３２６）に接続されており前記ＮC個のチップに対応する前記符号語（１３５）の相関を求める符号語相関器（３４０）とを含んでいる、超広帯域通信システム。
【請求項５】 前記雑音源（１１０）は広帯域雑音源を含んでいる請求項４に記載の超広帯域通信システム。
【請求項６】 前記雑音源（１１０）は擬似ランダム雑音源を含んでいる請求項４に記載の超広帯域通信システム。
【請求項７】 連続雑音送信波形を通信する方法であって、複数の連続雑音送信波形を発生する工程と、時間間隔Ｄだけ前記連続雑音送信波形の１以上を遅延させる工程と、符号語を前記連続雑音送信波形の１以上の遅延付きインスタンスへ変調させる工程であって、前記符号語はＮC個のチップで構成されており、該ＮC個のチップの各々が固定された時間間隔により分離される連続雑音送信波形を含んでいる、変調させる工程と、第一のインスタンスが無遅延連続雑音送信波形を含んでおり、第二のインスタンスが前記変調された符号語を含む前記連続雑音送信波形の前記１以上の前記遅延付きインスタンスを含んでいる前記複数の連続雑音送信波形の二つのインスタンスの和を送信する工程と、前記複数の連続雑音送信波形の二つのインスタンスの前記和を受信する工程と、前記複数の連続雑音送信波形の二つのインスタンスの前記受信された和から前記ＮC個のチップに対応する前記符号語の相関を求める工程とを備えた方法。
【請求項８】 前記複数の連続雑音送信波形の二つのインスタンスの前記受信された和と時間間隔Ｄを有する遅延との相関を求める工程と、前記複数の連続雑音送信波形の二つのインスタンスの前記受信された和の遅延付き形態及び無遅延形態を乗算する工程と、前記複数の連続雑音送信波形の二つのインスタンスの前記受信された和の前記乗算された遅延付き形態及び無遅延形態を積分する工程とをさらに含んでいる請求項７に記載の方法。
【請求項９】 所定の値に対応するように前記時間間隔Ｄを選択する工程をさらに含んでいる請求項７に記載の方法。
【請求項１０】 連続雑音送信波形を通信する方法であって、広帯域雑音源を用いて複数の連続雑音送信波形を発生する工程と、時間間隔Ｄだけ前記連続雑音送信波形の１以上を遅延させる工程と、符号語を前記連続雑音送信波形の１以上の遅延付きインスタンスへ変調させる工程であって、前記符号語はＮC個のチップで構成されており、該ＮC個のチップの各々が固定された時間間隔により分離される連続雑音送信波形を含んでいる、変調させる工程と、第一のインスタンスが無遅延連続雑音送信波形を含んでおり、第二のインスタンスが前記変調された符号語を含む連続雑音送信波形の前記１以上の前記遅延付きインスタンスを含んでいる前記複数の連続雑音送信波形の二つのインスタンスの和を送信する工程と、前記複数の連続雑音送信波形の二つのインスタンスの前記和を受信する工程と、前記複数の連続雑音送信波形の二つのインスタンスの前記受信された和と時間間隔Ｄを有する遅延との相関を求める工程と、前記複数の連続雑音送信波形の二つのインスタンスの前記受信された和の遅延付き形態及び無遅延形態を乗算する工程と、前記複数の連続雑音送信波形の二つのインスタンスの前記受信された和の前記乗算された遅延付き形態及び無遅延形態を積分する工程と、前記複数の連続雑音送信波形の二つのインスタンスの前記受信された和から前記ＮC個のチップに対応する前記符号語の相関を求める工程とを備えた方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年11月19日(2004.11.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
無線方式で信号を送信または受信するアンテナと、
前記信号の生成または処理を行う信号処理回路と、
前記信号処理回路を収納する筐体と、
所定の表示パターンを有し、前記筐体の外面に形成された表示プレートと
を有し、
前記アンテナは、前記筐体の外側に位置し、前記筐体と前記表示プレートとの間に介在している
無線通信装置。
【請求項２】
前記アンテナは、超広帯域通信方式で変調された前記信号を受信し、
前記信号処理回路は、前記受信した信号を前記超広帯域通信方式で復調する
請求項１に記載の無線通信装置。
【請求項３】
前記信号処理回路は、超広帯域通信方式で変調した信号を生成し、
前記アンテナは、前記生成された信号を送信する
請求項１に記載の無線通信装置。
【請求項４】
表示手段
をさらに有し、
前記アンテナは、情報信号または制御信号を送信または受信し、
前記信号処理回路は、前記情報信号および制御信号に係わる処理を行い、前記表示手段による前記表示を制御する
請求項１に記載の無線通信装置。
【請求項５】
前記無線通信装置は、
撮像手段をさらに有し、
前記アンテナは、情報信号または制御信号を送信または受信し、
前記信号処理回路は、前記情報信号および制御信号に係わる処理を行い、前記撮像手段による撮像を制御する
請求項１に記載の無線通信装置。
【請求項６】
データ処理を行うデータ処理手段
をさらに有し、
前記アンテナは、前記データ処理に係わる前記信号を送信または受信する
請求項１に記載の無線通信装置。
【請求項７】
無線方式で信号を送信または受信するアンテナと、
前記信号の生成または処理を行う信号処理回路と、
前記信号処理回路を収納する筐体と、
所定の表示パターンを有し、前記筐体の外面に形成された表示プレートと
を有し、
前記アンテナは、前記筐体の外側に位置し、前記表示パターンを構成する
無線通信装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
また、第１の発明の無線通信装置は、好ましくは、前記アンテナは、超広帯域通信方式で変調された前記信号を受信し、前記信号処理回路は、前記受信した信号を前記超広帯域通信方式で復調する。
また、第１の発明の無線通信装置は、好ましくは、前記信号処理回路は、超広帯域通信方式で変調した信号を生成し、前記アンテナは、前記生成された信号を送信する。
また、第１の発明の無線通信装置は、好ましくは、表示手段をさらに有し、前記アンテナは、情報信号または制御信号を送信または受信し、前記信号処理回路は、前記情報信号および制御信号に係わる処理を行い、前記表示手段による前記表示を制御する。