【手続補正書】
【提出日】令和2年12月22日(2020.12.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式ＩＩ：
【化７４】
2020502228.tif 000001
（式中、ＰＧは、保護基であり、ＬＧ１は、脱離基である）
の化合物を、
（ａ）アルキルリチウムおよび銅（Ｉ）塩；または
（ｂ）アルキルリチウムおよびルイス酸、ならびに
溶媒
の存在下において、エチレンオキシドと反応させて、式ＩＩＩ：
【化７５】
2020502228.tif 000002
の化合物を得る工程を含む、プロセス。
【請求項２】
ＰＧが、シリル保護基、テトラヒドロピラニル、メトキシメチルおよびベンジルからなる群より選択される保護基である、請求項１に記載のプロセス。
【請求項３】
前記エチレンオキシド、アルキルリチウムおよび銅（Ｉ）塩または前記ルイス酸が、式ＩＩの化合物を含む反応混合物の温度を−２０℃未満で維持しつつ前記反応混合物に添加され、好ましくは、前記エチレンオキシド、アルキルリチウムおよび銅（Ｉ）塩または前記ルイス酸が、前記反応混合物の温度を約−５５℃未満で維持しつつ添加され、好ましくは、前記アルキルリチウムを最初に添加した後、前記エチレンオキシドが前記反応混合物に添加される、請求項１または請求項２に記載のプロセス。
【請求項４】
前記試薬の添加後に、前記反応混合物が室温に加温される、請求項１〜３のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項５】
前記反応は、アルキルリチウムおよびヨウ化銅（Ｉ）の存在下において行われ、好ましくは、反応温度を−５５℃未満で維持しつつ、前記アルキルリチウムおよびヨウ化銅（Ｉ）が添加される、請求項１〜４のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項６】
式ＩＩ：
【化７６】
2020502228.tif 000003
（式中、ＰＧは、シリル保護基、テトラヒドロピラニルおよびメトキシメチルからなる群より選択される保護基であり、ＬＧ１は、脱離基である）
の化合物を、アルキルリチウムおよびヨウ化銅（Ｉ）ならびに
溶媒の存在下においてエチレンオキシドと反応させて、式ＩＩＩ：
【化７７】
2020502228.tif 000004
の化合物を得る工程であって、ここで、
前記アルキルリチウムおよび前記ヨウ化銅（Ｉ）を反応混合物に添加するとき、反応温度が−２０℃未満で維持される、工程
を含む、請求項１に記載のプロセス。
【請求項７】
前記アルキルリチウムを最初に添加した後、前記エチレンオキシドが前記反応混合物に添加され、好ましくは、前記反応温度を−５５℃未満で維持しつつ、前記アルキルリチウムおよび前記ヨウ化銅（Ｉ）が添加され、より好ましくは、前記試薬の添加後に、前記反応混合物が室温に加温される、請求項６に記載のプロセス。
【請求項８】
前記溶媒が、非極性非プロトン性有機溶媒および極性非プロトン性有機溶媒またはそれらの混合物からなる群より選択され、好ましくは、前記溶媒が、非極性非プロトン性有機溶媒であり、より好ましくは、前記溶媒が、ジエチルエーテルもしくはｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、またはそれらの混合物である、請求項１〜７のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項９】
式ＩＩＩ：
【化７８】
2020502228.tif 000005
を有する化合物を調製するためのプロセスであって、前記プロセスは、
（ａ）式ＩＩ：
【化７９】
2020502228.tif 000006
を有する化合物を、一定の温度の第１の溶媒中でアルキルリチウムと反応させて、第１の反応混合物を得る工程であって、
ここで、
前記温度は、−２０℃未満であり；
ＰＧは、シリル保護基、テトラヒドロピラニル、メトキシメチルおよびベンジルからなる群より選択される保護基であり；
ＬＧ１は、脱離基である、工程、ならびに
（ｂ）前記温度のエチレンオキシドそのまま、もしくは第２の溶媒中のエチレンオキシドの溶液として、前記温度の前記第１の反応混合物に添加して、第２の反応混合物を得る工程；および
（ｃ）銅（Ｉ）塩またはルイス酸を、前記温度の前記第２の反応混合物に添加して、式ＩＩＩを有する化合物を含む第３の反応混合物を得る工程；または
（ｂ）銅（Ｉ）塩またはルイス酸を、前記温度の前記第１の反応混合物に添加して、第２の反応混合物を得る工程；および
（ｃ）前記温度のエチレンオキシドそのまま、もしくは第２の溶媒中のエチレンオキシドの溶液として、前記温度の前記第２の反応混合物に添加して、式ＩＩＩを有する化合物を含む第３の反応混合物を得る工程
のいずれか
を含む、プロセス。
【請求項１０】
前記温度が、−５５℃未満である、請求項９に記載のプロセス。
【請求項１１】
前記第３の反応混合物が、２０℃〜２５℃の温度に加温され、好ましくは、前記第３の反応混合物が、２０℃〜２５℃で少なくとも４時間、少なくとも６時間、少なくとも８時間または少なくとも１０時間維持される、請求項９または１０に記載のプロセス。
【請求項１２】
前記第１の溶媒および前記第２の溶媒が、それぞれ独立して、非極性非プロトン性有機溶媒および極性非プロトン性有機溶媒またはそれらの混合物からなる群より選択される、請求項９〜１１のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１３】
前記第１の溶媒と前記第２の溶媒とが、ジエチルエーテルおよびメチルｔｅｒｔ−ブチルエーテルまたはそれらの混合物からなる群より選択される、請求項９〜１２のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１４】
前記プロセスが、ヨウ化銅（Ｉ）を含む、請求項９〜１３のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１５】
以下の反応体：
（ａ）エチレンオキシド；
（ｂ）式ＩＩ：
【化８２】
2020502228.tif 000007
を有する化合物；
（ｃ）アルキルリチウム；および
（ｄ）銅（Ｉ）塩またはルイス酸
を−２０℃未満の温度の溶媒中で合わせて、
式ＩＩＩ：
【化８３】
2020502228.tif 000008
を有する化合物を得る工程であって、ここで、
ＰＧは、シリル保護基、テトラヒドロピラニル、メトキシメチルおよびベンジルからなる群より選択される保護基であり；
ＬＧ１は、脱離基である、工程
を含む、プロセス。
【請求項１６】
前記反応体が−５５℃未満の溶媒中で合わせられる、請求項１５に記載のプロセス。
【請求項１７】
前記アルキルリチウムが、前記温度の前記溶媒中の式ＩＩを有する化合物の溶液と合わせられて、第１の反応混合物が形成される、請求項１５または１６に記載のプロセス。
【請求項１８】
前記溶媒中の前記エチレンオキシドの溶液が前記温度に冷却され、そして前記温度の前記第１の反応混合物に添加されて、またはエチレンオキシドそのままが、前記第１の反応混合物と合わせられて、第２の反応混合物が得られる、請求項１５〜１７のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１９】
前記溶媒が、非極性非プロトン性有機溶媒および極性非プロトン性有機溶媒またはそれらの混合物からなる群より選択される、請求項１５〜１８のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項２０】
前記溶媒が、非極性非プロトン性有機溶媒であり、好ましくは、前記溶媒が、ジエチルエーテルおよびメチルｔｅｒｔ−ブチルエーテルまたはそれらの混合物からなる群より選択される、請求項１５〜１９のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項２１】
前記銅（Ｉ）塩またはルイス酸が、前記温度の前記第２の反応混合物に添加されて、第３の反応混合物が得られ、好ましくは、ヨウ化銅（Ｉ）が、前記温度の前記第２の反応混合物に添加されて、第３の反応混合物が得られる、請求項１５〜２０のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項２２】
前記第３の反応混合物が、２０℃〜２５℃の温度に加温される、請求項２１に記載のプロセス。
【請求項２３】
前記第３の反応混合物が、２０℃〜２５℃で少なくとも４時間、少なくとも６時間、少なくとも８時間または少なくとも１０時間維持される、請求項１５〜２２のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項２４】
ＰＧが、シリル保護基から選択され、好ましくは、ＰＧが、アルキルシリル基もしくはアリールシリル基またはそれらの組み合わせであり、より好ましくは、ＰＧが、トリアルキルシリル基であり、より好ましくは、ＰＧが、ＴＢＤＭＳ、ＴＭＳ、ＴＥＳ、ＴＩＰＳまたはＴＢＤＰＳであり、より好ましくは、ＰＧが、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル（ＴＢＤＭＳ）である、請求項１〜２３のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項２５】
ＬＧ１が、塩化物、臭化物、ヨウ化物またはフッ化物であり、好ましくは、ＬＧ１が、臭化物であり、前記アルキルリチウムが、Ｃ１−６アルキルリチウムであり、好ましくは、前記アルキルリチウムが、ｎ−ブチルリチウムである、請求項１〜２４のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項２６】
前記式ＩＩＩの化合物を単離する工程、および前記単離された式ＩＩＩの化合物を必要に応じて精製する工程をさらに含む、請求項１〜２５のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項２７】
前記式ＩＩＩの化合物をＲ１−Ｃｌ（式中、Ｒ１は、有機スルホネートである）と、第１の塩基の存在下において反応させて、式ＩＶ：
【化８４】
2020502228.tif 000009
の化合物を得る工程をさらに含み、好ましくは、前記有機スルホネートが、トシル基（Ｔｓ）またはメシル基（Ｍｓ）であり、より好ましくは、前記有機スルホネートが、トシル基であり、より好ましくは、前記第１の塩基が、アミン、アルカリ金属水酸化物の水溶液と組み合わされた第４級アンモニウム塩、水酸化テトラブチルアンモニウムまたはアルカリ金属水酸化物のうちの１つまたは複数であり、より好ましくは、前記第１の塩基が、アルカリ金属水酸化物の水溶液と組み合わされた第４級アンモニウム塩であり、より好ましくは、前記第１の塩基が、ＮａＯＨ水溶液中の臭化テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムである、請求項１〜２６のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項２８】
前記反応が溶媒の存在下において行われる、請求項２７に記載のプロセス。
【請求項２９】
前記式ＩＶの化合物を４−ヒドロキシベンズアルデヒド：
【化８５】
2020502228.tif 000010
と、第２の塩基および溶媒の存在下において反応させて、式Ｖ：
【化８６】
2020502228.tif 000011
の化合物を得る工程をさらに含み、好ましくは、前記第２の塩基が、アルカリ金属炭酸塩、トリアルキルアミンまたはアルカリ金属アルコキシドであり、より好ましくは、前記第２の塩基が、Ｋ２ＣＯ３であり、より好ましくは、前記溶媒が、トルエン、エタノール、２−プロパノール、ＴＨＦ、２−ＭｅＴＨＦおよび水またはそれらの混合物からなる群より選択され、より好ましくは、前記溶媒が、トルエンとエタノールとの混合物である、請求項２７または２８に記載のプロセス。
【請求項３０】
水を前記反応混合物に添加する工程をさらに含み、好ましくは、添加される水の量が、約２％〜約７％ｖ／ｖであり、好ましくは、前記式Ｖの化合物を単離および精製する工程をさらに含み、好ましくは、前記精製が、亜硫酸水素塩水溶液で抽出する工程を含む、請求項２９に記載のプロセス。
【請求項３１】
前記式Ｖの化合物を２，４−チアゾリジンジオン：
【化８７】
2020502228.tif 000012
と、ピペリジンおよび必要に応じて溶媒および必要に応じて有機酸の存在下において反応させて、式ＶＩ：
【化８８】
2020502228.tif 000013
の化合物を得る工程をさらに含む、請求項２９または３０に記載のプロセス。
【請求項３２】
前記反応が、前記溶媒の存在下において行われ、好ましくは、前記溶媒が、トルエン、低級アルコール、ヘキサンおよびシクロヘキサンまたはそれらの混合物からなる群より選択され、より好ましくは、前記溶媒が、トルエンもしくはメタノールまたはそれらの混合物である、請求項３１に記載のプロセス。
【請求項３３】
前記反応が、前記有機酸の存在下において行われ、好ましくは、前記有機酸が、酢酸またはギ酸である、請求項３１または３２に記載のプロセス。
【請求項３４】
前記反応が、４５℃〜８０℃の温度において行われる、請求項３１〜３３のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項３５】
前記式ＶＩの化合物を還元して、式ＶＩＩ：
【化８９】
2020502228.tif 000014
の化合物を得る工程をさらに含み、好ましくは、前記還元が、前記式ＶＩの化合物を、金属イオンおよび前記金属イオンに対する錯化剤の存在下において還元剤と反応させることによって行われ、より好ましくは、前記還元剤が、ＮａＢＨ４であり、前記金属イオンが、Ｃｏ２＋であり、前記配位子が、ジメチルグリオキシムであり、より好ましくは、前記反応混合物のｐＨが、ｐＨ９．５〜１０．５で維持され、より好ましくは、前記還元が不活性雰囲気下で行われ、より好ましくは、前記還元が窒素雰囲気下で行われる、請求項３１〜３４のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項３６】
前記式ＶＩＩの化合物を脱保護する工程、および必要に応じてさらに酸で処理して、式Ｉ：
【化９０】
2020502228.tif 000015
の化合物またはその薬学的に許容され得る塩を得る工程をさらに含み、好ましくは、前記式ＶＩＩの化合物の前記脱保護および塩形成が同時に行われ、より好ましくは、前記式Ｉの化合物またはその薬学的に許容され得る塩を沈殿させる工程をさらに含み、より好ましくは、前記沈殿が、前記反応混合物を高温の極性非プロトン性溶媒で処理し、次いで、前記反応混合物を室温に冷却することによって行われ、より好ましくは、前記極性非プロトン性溶媒が、アセトニトリルである、請求項３５に記載のプロセス。
【請求項３７】
前記式Ｉの化合物またはその薬学的に許容され得る塩を含む前記沈殿物を単離する工程をさらに含み、好ましくは、前記沈殿物が濾過によって単離されて、単離された沈殿物が得られ、より好ましくは、前記単離された沈殿物が、アセトニトリルおよび／またはアセトニトリルと水との混合物で洗浄され、より好ましくは、前記単離された沈殿物をさらに精製する工程を含む、請求項３６に記載のプロセス。
【請求項３８】
前記精製が、前記単離された沈殿物を好適な溶媒に溶解し、そして前記溶液を活性炭で処理することによって行われる、請求項３７に記載のプロセス。
【請求項３９】
前記式Ｉの化合物が、その薬学的に許容され得る塩として単離される、請求項３６〜３８のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項４０】
前記式Ｉの化合物が、５−［［４−［２−［５−（１−ヒドロキシエチル）−２−ピリジニル］エトキシ］フェニル］メチル］−２，４−チアゾリジンジオン塩酸塩である、請求項３６〜３９のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項４１】
前記式Ｉの化合物またはその薬学的に許容され得る塩を重水素化する工程をさらに含む、請求項３６〜３９のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項４２】
前記式ＩＩの化合物が、式ＶＩＩＩ：
【化９１】
2020502228.tif 000016
（式中、ＬＧ１は脱離基である）の化合物のヒドロキシル基を保護基ＰＧで保護して、式ＩＩの化合物を得ることによって調製され、ここで、ＰＧは、シリル保護基、テトラヒドロピラニル、メトキシメチルおよびベンジルからなる群より選択され、好ましくは、前記式ＶＩＩＩの化合物が、高濃度の、ＴＢＤＭＳ−Ｃｌ、ＴＭＳ−Ｃｌ、ＴＢＤＰＳ−ＣｌおよびＴＩＰＳ−Ｃｌからなる群より選択されるシリル塩化物ならびにイミダゾールとＤＭＦ中で反応させられる、請求項１、６、９または１５に記載のプロセス。
【請求項４３】
前記式ＶＩＩＩの化合物が、式ＩＸ：
【化９２】
2020502228.tif 000017
（式中、ＬＧ１は脱離基である）の化合物をＣＨ３ＣＨＯと、ハロゲン化アルキルマグネシウムおよび溶媒の存在下において反応させて、前記式ＶＩＩＩの化合物を得ることによって調製される、請求項４２に記載のプロセス。
【請求項４４】
請求項１〜２６のいずれか１項に記載のプロセスによって調製された、式ＩＩＩ：
【化９３】
2020502228.tif 000018
の化合物であって、式中、ＰＧは、シリル保護基およびベンジルからなる群より選択される保護基である、化合物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４６】
前述の要旨と以下の詳細な説明の両方が、単に例示的かつ説明的であって、特許請求される発明を限定しないと理解されるべきである。
特定の実施形態では、例えば以下の項目が提供される。
（項目１）
式ＩＩ：
【化７４】
2020502228.tif 000019
（式中、ＰＧは、保護基であり、ＬＧ１は、脱離基である）
の化合物を、
（ａ）アルキルリチウムおよび銅（Ｉ）塩；または
（ｂ）アルキルリチウムおよびルイス酸、ならびに
溶媒
の存在下において、エチレンオキシドと反応させて、式ＩＩＩ：
【化７５】
2020502228.tif 000020
の化合物を得る工程を含む、プロセス。
（項目２）
ＰＧが、シリル保護基、テトラヒドロピラニル、メトキシメチルおよびベンジルからなる群より選択される保護基である、項目１に記載のプロセス。
（項目３）
前記エチレンオキシド、アルキルリチウムおよび銅（Ｉ）塩または前記ルイス酸が、式ＩＩの化合物を含む反応混合物の温度を−２０℃未満で維持しつつ前記反応混合物に添加される、項目１または項目２に記載のプロセス。
（項目４）
前記エチレンオキシド、アルキルリチウムおよび銅（Ｉ）塩または前記ルイス酸が、前記反応混合物の温度を約＜−５５℃で維持しつつ添加される、項目１〜３のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目５）
前記アルキルリチウムを最初に添加した後、前記エチレンオキシドが前記反応混合物に添加される、項目１〜４のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目６）
前記アルキルリチウムおよび前記銅（Ｉ）塩または前記ルイス酸の添加後、前記エチレンオキシドが前記反応混合物に添加される、項目１〜３のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目７）
前記試薬の添加後に、前記反応混合物が室温に加温される、項目１〜６のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目８）
前記反応は、アルキルリチウムおよびヨウ化銅（Ｉ）の存在下において行われる、項目１〜７のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目９）
反応温度を約＜−５５℃で維持しつつ、前記アルキルリチウムおよびヨウ化銅（Ｉ）が添加される、項目８に記載のプロセス。
（項目１０）
前記反応が、アルキルリチウム、ならびにＢＦ３・Ｏ（Ｅｔ）２、ＢＢｒ３およびＢＣｌ３からなる群より選択されるルイス酸の存在下において行われる、項目１〜７のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目１１）
式ＩＩ：
【化７６】
2020502228.tif 000021
（式中、ＰＧは、シリル保護基、テトラヒドロピラニルおよびメトキシメチルからなる群より選択される保護基であり、ＬＧ１は、脱離基である）
の化合物を、アルキルリチウムおよびヨウ化銅（Ｉ）ならびに
溶媒の存在下においてエチレンオキシドと反応させて、式ＩＩＩ：
【化７７】
2020502228.tif 000022
の化合物を得る工程であって、ここで、
前記アルキルリチウムおよび前記ヨウ化銅（Ｉ）を反応混合物に添加するとき、反応温度が−２０℃未満で維持される、工程
を含む、プロセス。
（項目１２）
前記アルキルリチウムを最初に添加した後、前記エチレンオキシドが前記反応混合物に添加される、項目１１に記載のプロセス。
（項目１３）
前記反応温度を約＜−５５℃で維持しつつ、前記アルキルリチウムおよび前記ヨウ化銅（Ｉ）が添加される、項目１１または１２に記載のプロセス。
（項目１４）
前記試薬の添加後に、前記反応混合物が室温に加温される、項目１１〜１３のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目１５）
前記溶媒が、非極性非プロトン性有機溶媒および極性非プロトン性有機溶媒またはそれらの混合物からなる群より選択される、項目１〜１４のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目１６）
前記溶媒が、非極性非プロトン性有機溶媒である、項目１〜１５のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目１７）
前記溶媒が、ジエチルエーテルまたはｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルである、項目１〜１６のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目１８）
前記溶媒が、極性非プロトン性有機溶媒である、項目１〜１４のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目１９）
前記溶媒が、テトラヒドロフラン、ジオキサンおよびジメチルスルホキシドからなる群より選択される、項目１〜１４および１８のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目２０）
式ＩＩＩ：
【化７８】
2020502228.tif 000023
を有する化合物を調製するためのプロセスであって、前記プロセスは、
（ａ）式ＩＩ：
【化７９】
2020502228.tif 000024
を有する化合物を、一定の温度の第１の溶媒中でアルキルリチウムと反応させて、第１の反応混合物を得る工程であって、
ここで、
前記温度は、−２０℃未満であり；
ＰＧは、シリル保護基、テトラヒドロピラニル、メトキシメチルおよびベンジルからなる群より選択される保護基であり；
ＬＧ１は、脱離基である、工程、
（ｂ）前記温度の第２の溶媒中のエチレンオキシドの溶液を、前記温度の前記第１の反応混合物に添加して、第２の反応混合物を得る工程；および
（ｃ）銅（Ｉ）塩またはルイス酸を、前記温度の前記第２の反応混合物に添加して、式ＩＩＩを有する化合物を含む第３の反応混合物を得る工程
を含む、プロセス。
（項目２１）
式ＩＩＩ：
【化８０】
2020502228.tif 000025
を有する化合物を調製するためのプロセスであって、前記プロセスは、
（ａ）式ＩＩ：
【化８１】
2020502228.tif 000026
を有する化合物を、一定の温度の第１の溶媒中でアルキルリチウムと反応させて、第１の反応混合物を得る工程であって、
ここで、
前記温度は、−２０℃未満であり；
ＰＧは、シリル保護基、テトラヒドロピラニル、メトキシメチルおよびベンジルからなる群より選択される保護基であり；
ＬＧ１は、脱離基である、工程、
（ｂ）銅（Ｉ）塩またはルイス酸を、前記温度の前記第１の反応混合物に添加して、第２の反応混合物を得る工程；および
（ｃ）前記温度の第２の溶媒中のエチレンオキシドの溶液を、前記温度の前記第２の反応混合物に添加して、式ＩＩＩを有する化合物を含む第３の反応混合物を得る工程
を含む、プロセス。
（項目２２）
前記温度が、−５５℃未満である、項目２０または２１に記載のプロセス。
（項目２３）
前記第３の反応混合物が、２０℃〜２５℃の温度に加温される、項目２０〜２２のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目２４）
前記第３の反応混合物が、２０℃〜２５℃で少なくとも４時間、少なくとも６時間、少なくとも８時間または少なくとも１０時間維持される、項目２０〜２３のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目２５）
前記第１の溶媒および前記第２の溶媒が、それぞれ独立して、非極性非プロトン性有機溶媒および極性非プロトン性有機溶媒またはそれらの混合物からなる群より選択される、項目２０〜２４のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目２６）
前記第１の溶媒と前記第２の溶媒とが異なる、項目２０〜２５のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目２７）
前記第１の溶媒と前記第２の溶媒とが同じである、項目２０〜２５のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目２８）
前記第１の溶媒と前記第２の溶媒とが、両方ともジエチルエーテルである、項目２０〜２５および２７のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目２９）
前記プロセスが、ヨウ化銅（Ｉ）を含む、項目２０〜２８のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目３０）
以下の反応体：
（ａ）エチレンオキシド；
（ｂ）式ＩＩ：
【化８２】
2020502228.tif 000027
を有する化合物；
（ｃ）アルキルリチウム；および
（ｄ）銅（Ｉ）塩またはルイス酸
を−２０℃未満の温度の溶媒中で合わせて、
式ＩＩＩ：
【化８３】
2020502228.tif 000028
を有する化合物を得る工程であって、ここで、
ＰＧは、シリル保護基、テトラヒドロピラニル、メトキシメチルおよびベンジルからなる群より選択される保護基であり；
ＬＧ１は、脱離基である、工程
を含む、プロセス。
（項目３１）
前記反応体が−５５℃未満の溶媒中で合わせられる、項目３０に記載のプロセス。
（項目３２）
前記アルキルリチウムが、前記温度の前記溶媒中の式ＩＩを有する化合物の溶液に添加されて、第１の反応混合物が形成される、項目３０または３１に記載のプロセス。
（項目３３）
前記溶媒中の前記エチレンオキシドの溶液が前記温度に冷却され、そして前記温度の前記第１の反応混合物に添加されて、第２の反応混合物が得られる、項目３０〜３２のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目３４）
前記溶媒が、非極性非プロトン性有機溶媒および極性非プロトン性有機溶媒またはそれらの混合物からなる群より選択される、項目３０〜３３のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目３５）
前記溶媒が、非極性非プロトン性有機溶媒である、項目３０〜３４のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目３６）
前記溶媒が、ジエチルエーテルおよびメチルｔｅｒｔ−ブチルエーテルまたはそれらの混合物からなる群より選択される、項目３０〜３５のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目３７）
前記溶媒が、極性非プロトン性有機溶媒である、項目３０〜３４のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目３８）
前記溶媒が、テトラヒドロフラン、ジオキサンおよびジメチルスルホキシドまたはそれらの混合物からなる群より選択される、項目３０〜３４または３７のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目３９）
前記銅（Ｉ）塩またはルイス酸が、前記温度の前記第２の反応混合物に添加されて、第３の反応混合物が得られる、項目３０〜３８のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目４０）
ヨウ化銅（Ｉ）が、前記温度の前記第２の反応混合物に添加されて、第３の反応混合物が得られる、項目３９に記載のプロセス。
（項目４１）
前記第３の反応混合物が、２０℃〜２５℃の温度に加温される、項目４０に記載のプロセス。
（項目４２）
前記第３の反応混合物が、２０℃〜２５℃で少なくとも４時間、少なくとも６時間、少なくとも８時間または少なくとも１０時間維持される、項目３０〜４１のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目４３）
前記銅（Ｉ）塩またはルイス酸が、前記温度の前記第１の反応混合物に添加して、第４の反応混合物が得られる、項目３０〜３８のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目４４）
ヨウ化銅（Ｉ）が、前記温度の前記第１の反応混合物に添加されて、第４の反応混合物が得られる、項目４３に記載のプロセス。
（項目４５）
前記溶媒中の前記エチレンオキシドの溶液が前記温度に冷却され、そして前記温度の前記第４の反応混合物に添加されて、第５の反応混合物が得られる、項目３０〜３８、４３または４４のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目４６）
前記第５の反応混合物が、２０℃〜２５℃の温度に加温される、項目３０〜３８または４３〜４５のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目４７）
前記第５の反応混合物が、２０℃〜２５℃で少なくとも４時間、少なくとも６時間、少なくとも８時間または少なくとも１０時間維持される、項目４６に記載のプロセス。
（項目４８）
ＰＧが、シリル保護基から選択される、項目１〜４７のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目４９）
ＰＧが、アルキルシリル基もしくはアリールシリル基またはそれらの組み合わせである、項目１〜８のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目５０）
ＰＧが、トリアルキルシリル基である、項目１〜４９のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目５１）
ＰＧが、ＴＢＤＭＳ、ＴＭＳ、ＴＥＳ、ＴＩＰＳまたはＴＢＤＰＳである、項目１〜５０のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目５２）
ＰＧが、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル（ＴＢＤＭＳ）である、項目１〜５１のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目５３）
ＬＧ１が、塩化物、臭化物、ヨウ化物またはフッ化物である、項目１〜５２のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目５４）
ＬＧ１が、臭化物である、項目１〜５３のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目５５）
前記アルキルリチウムが、Ｃ１−６アルキルリチウムである、項目１〜５４のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目５６）
前記アルキルリチウムが、ｎ−ブチルリチウムである、項目１〜５５のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目５７）
前記式ＩＩＩの化合物を単離する工程、および前記単離された式ＩＩＩの化合物を必要に応じて精製する工程をさらに含む、項目１〜５６のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目５８）
前記式ＩＩＩの化合物をＲ１−Ｃｌ（式中、Ｒ１は、有機スルホネートである）と、第１の塩基の存在下において反応させて、式ＩＶ：
【化８４】
2020502228.tif 000029
の化合物を得る工程をさらに含む、項目１〜５７のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目５９）
前記有機スルホネートが、トシル基（Ｔｓ）またはメシル基（Ｍｓ）である、項目５８に記載のプロセス。
（項目６０）
前記有機スルホネートが、トシル基である、項目５８または５９に記載のプロセス。
（項目６１）
前記第１の塩基が、アミン、アルカリ金属水酸化物の水溶液と組み合わされた第４級アンモニウム塩、水酸化テトラブチルアンモニウムまたはアルカリ金属水酸化物のうちの１つまたは複数である、項目５８〜６０のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目６２）
前記第１の塩基が、アルカリ金属水酸化物の水溶液と組み合わされた第４級アンモニウム塩である、項目５８〜６１のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目６３）
前記第１の塩基が、ＮａＯＨ水溶液中の臭化テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムである、項目５８〜６２のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目６４）
前記反応が溶媒の存在下において行われる、項目５８〜６３のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目６５）
前記式ＩＶの化合物を４−ヒドロキシベンズアルデヒド：
【化８５】
2020502228.tif 000030
と、第２の塩基および溶媒の存在下において反応させて、式Ｖ：
【化８６】
2020502228.tif 000031
の化合物を得る工程をさらに含む、項目５８〜６４のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目６６）
前記第２の塩基が、アルカリ金属炭酸塩、トリアルキルアミンまたはアルカリ金属アルコキシドである、項目６５に記載のプロセス。
（項目６７）
前記第２の塩基が、Ｋ２ＣＯ３である、項目６５または６６に記載のプロセス。
（項目６８）
前記溶媒が、トルエン、エタノール、２−プロパノール、ＴＨＦ、２−ＭｅＴＨＦおよび水またはそれらの混合物からなる群より選択される、項目６５〜６７のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目６９）
前記溶媒が、トルエンとエタノールとの混合物である、項目６５〜６８のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目７０）
水を前記反応混合物に添加する工程をさらに含む、項目６５〜６９のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目７１）
添加される水の量が、約５％ｖ／ｖである、項目７０に記載のプロセス。
（項目７２）
前記式Ｖの化合物を単離および精製する工程をさらに含む、項目６５〜７１のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目７３）
前記精製が、抽出によって行われる、項目７２に記載のプロセス。
（項目７４）
前記精製が、亜硫酸水素塩水溶液で抽出する工程を含む、項目７３に記載のプロセス。
（項目７５）
前記式Ｖの化合物を２，４−チアゾリジンジオン：
【化８７】
2020502228.tif 000032
と、ピペリジンおよび必要に応じて溶媒および必要に応じて有機酸の存在下において反応させて、式ＶＩ：
【化８８】
2020502228.tif 000033
の化合物を得る工程をさらに含む、項目６５〜７４のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目７６）
前記反応が、前記溶媒の存在下において行われる、項目７５に記載のプロセス。
（項目７７）
前記溶媒が、トルエン、低級アルコール、ヘキサンおよびシクロヘキサンまたはそれらの混合物からなる群より選択される、項目７５または７６に記載のプロセス。
（項目７８）
前記溶媒が、トルエンもしくはメタノールまたはそれらの混合物である、項目７５〜７７のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目７９）
前記反応が、前記有機酸の存在下において行われる、項目７５〜７８のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目８０）
前記有機酸が、酢酸またはギ酸である、項目７５〜７９のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目８１）
前記反応が、約４５℃〜約８０℃の温度において行われる、項目７５〜８０のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目８２）
前記溶媒がメタノールであり、前記プロセスが約４７℃で行われる、項目７５〜８１のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目８３）
前記式ＶＩの化合物を還元して、式ＶＩＩ：
【化８９】
2020502228.tif 000034
の化合物を得る工程をさらに含む、項目７５〜８２のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目８４）
前記還元が、前記式ＶＩの化合物を、金属イオンおよび前記金属イオンに対する錯化剤の存在下において還元剤と反応させることによって行われる、項目８３に記載のプロセス。
（項目８５）
前記還元剤が、ＮａＢＨ４である、項目８３または８４に記載のプロセス。
（項目８６）
前記金属イオンが、Ｃｏ２＋である、項目８３〜８５のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目８７）
前記配位子が、ジメチルグリオキシムである、項目８３〜８６のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目８８）
前記反応混合物のｐＨが、約ｐＨ９．５〜約１０．５で維持される、項目８３〜８７のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目８９）
前記還元が不活性雰囲気下で行われる、項目８３〜８８のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目９０）
前記還元が窒素雰囲気下で行われる、項目８３〜８９のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目９１）
前記式ＶＩＩの化合物を脱保護する工程、および必要に応じてさらに酸で処理して、式Ｉ：
【化９０】
2020502228.tif 000035
の化合物またはその薬学的に許容され得る塩を得る工程をさらに含む、項目８３〜９０のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目９２）
前記式ＶＩＩの化合物の前記脱保護および塩形成が２つの別個の工程で行われる、項目９１に記載のプロセス。
（項目９３）
前記式ＶＩＩの化合物の前記脱保護および塩形成が同時に行われる、項目９１に記載のプロセス。
（項目９４）
前記式Ｉの化合物またはその薬学的に許容され得る塩を沈殿させる工程をさらに含む、項目９１〜９３のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目９５）
前記沈殿が、前記反応混合物を高温の極性非プロトン性溶媒で処理し、次いで、前記反応混合物を室温に冷却することによって行われる、項目９４に記載のプロセス。
（項目９６）
前記極性非プロトン性溶媒が、アセトニトリルである、項目９５に記載のプロセス。
（項目９７）
前記式Ｉの化合物またはその薬学的に許容され得る塩を含む前記沈殿物を単離する工程をさらに含む、項目９４〜９６のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目９８）
前記沈殿物が濾過によって単離されて、単離された沈殿物が得られる、項目９７に記載のプロセス。
（項目９９）
前記単離された沈殿物が、アセトニトリルおよび／またはアセトニトリルと水との混合物で洗浄される、項目９８に記載のプロセス。
（項目１００）
前記単離された沈殿物を精製する工程をさらに含む、項目９７〜９９のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目１０１）
前記精製が、前記単離された沈殿物を好適な溶媒に溶解し、そして前記溶液を活性炭で処理することによって行われる、項目１００に記載のプロセス。
（項目１０２）
前記式Ｉの化合物が、その薬学的に許容され得る塩として単離される、項目９１〜１０１のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目１０３）
前記式Ｉの化合物が、５−［［４−［２−［５−（１−ヒドロキシエチル）−２−ピリジニル］エトキシ］フェニル］メチル］−２，４−チアゾリジンジオン塩酸塩である、項目９１〜１０１のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目１０４）
前記式Ｉの化合物またはその薬学的に許容され得る塩を重水素化する工程をさらに含む、項目９１〜１０３のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目１０５）
前記式ＩＩの化合物が、式ＶＩＩＩ：
【化９１】
2020502228.tif 000036
（式中、ＬＧ１は脱離基である）の化合物のヒドロキシル基を保護基ＰＧで保護して、式ＩＩの化合物を得ることによって調製され、ここで、ＰＧは、シリル保護基、テトラヒドロピラニル、メトキシメチルおよびベンジルからなる群より選択される、項目１、１１、２０、２１または３０のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目１０６）
前記式ＶＩＩＩの化合物が、高濃度の、ＴＢＤＭＳ−Ｃｌ、ＴＭＳ−Ｃｌ、ＴＢＤＰＳ−ＣｌおよびＴＩＰＳ−Ｃｌからなる群より選択されるシリル塩化物ならびにイミダゾールとＤＭＦ中で反応させられる、項目１０５に記載のプロセス。
（項目１０７）
前記式ＶＩＩＩの化合物が、式ＩＸ：
【化９２】
2020502228.tif 000037
（式中、ＬＧ１は脱離基である）の化合物をＣＨ３ＣＨＯと、ハロゲン化アルキルマグネシウムおよび溶媒の存在下において反応させて、前記式ＶＩＩＩの化合物を得ることによって調製される、項目１０５または１０６に記載のプロセス。
（項目１０８）
項目１〜５７のいずれか１項に記載のプロセスによって調製された、式ＩＩＩ：
【化９３】
2020502228.tif 000038
の化合物であって、式中、ＰＧは、シリル保護基、テトラヒドロピラニル、メトキシメチルおよびベンジルからなる群より選択される保護基である、化合物。
（項目１０９）
項目１〜１０３のいずれか１項に記載のプロセスによって調製された、式Ｉ：
【化９４】
2020502228.tif 000039
の化合物またはその薬学的に許容され得る塩。