Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成16年2月26日(2004.2.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】高精度位置決め方法、光スイッチング素子の製造方法、半導体レーザの製造方法、及び、波長可変半導体レーザの製造方法


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上にシリコン膜を成膜後、位置決め用パターンをフォトリソ工程で作成すること、光学部品等の位置決め後固定すること、光学部品等の固定後、弗化キセノンガスにより位置決めパターンを除去すること、を特徴とする高精度位置決め方法。
【請求項２】
マイクロマシン構造を作成し、マイクロマシン構造と部品等を位置決め固定する場合において、マイクロマシン構造を作成する為の犠牲層にシリコン膜を用い、位置決めパターンもシリコン膜を用いること、マイクロマシン構造、又は、接着剤の進入を防止したい部分にシリコン膜を成膜すること、接着後、マイクロマシン構造の犠牲層除去と、部品固定後に行う位置決めパターン除去とを、同時に行うこと、を特徴とする高精度位置決め方法。
【請求項３】
マイクロマシン技術を用いたマイクロアクチュエータ、マイクロレンズ、及び、光ファイバを用いた、光スイッチング素子の製造方法において、マイクロアクチュエータを構成する基板上に、マイクロレンズ、及び、光ファイバの先端及び、光ファイバの水平位置を位置決めするパターンをシリコン膜成膜及びパターンニングで行うこと、前記位置決めパターンを利用し位置決め及び固定すること、固定後、XeF2ガスで前記位置決めパターンを除去すること、を特徴とする光スイッチング素子の製造方法。
【請求項４】
外部共振器を有する半導体レーザの製造方法において、外部共振器ミラー上にシリコン膜を成膜後、半導体レーザの端面をパターンニングされた前記シリコン膜で位置決めを行い、半導体レーザを支持部材に接着または接合し、半導体レーザにボンディング等の配線を行い、弗化キセノンガスを用い半導体レーザ端面と前記ミラー間のシリコン膜を除去し、パッケージングを行うことを特徴とする半導体レーザの製造方法。
【請求項５】
外部共振器を有する半導体レーザの製造方法において、半導体レーザを支持部材に接合固定後、半導体レーザの端面にシリコン膜成膜を行い、シリコン膜上に外部共振器ミラーを成膜、または、外部共振器ミラーを位置決め後、接着固定し、半導体レーザにボンディング等の配線を行い、弗化キセノンガスを用い半導体レーザ端面と前記ミラー間のシリコン膜を除去し、パッケージングを行うことを特徴とする半導体レーザ製造の製造方法。
【請求項６】
外部共振器を有する半導体レーザの製造の製造方法において、弗化キセノンガスによりシリコン膜を除去する工程に続き、シリコン膜除去工程に用いたチャンバー内を真空にした後、チャンバー内に不活性ガスを注入、パッケージングを行うことを特徴とする半導体レーザの製造方法。
【請求項７】
波長可変半導体レーザの製造方法において、電磁力、圧電、又は、静電力により動作させることができるアクチュエータ上に反射膜を成膜後、シリコン膜を設け、半導体レーザの端面をパターンニングされた前記シリコン膜で位置決めを行い、半導体レーザを支持部材に接着、あるいは、接合し、半導体レーザにボンディング等の配線を行い、弗化キセノンガスを用い半導体レーザ端面と前記反射膜間のシリコン膜を除去し、パッケージングを行うことを特徴とする波長可変半導体レーザの製造方法。
【請求項８】
請求項７の波長可変半導体レーザの製造方法において、前記アクチュエータを製造する際に、犠牲層にシリコン膜を用い、半導体レーザ位置決め接合、及び、ボンディング等の工程後、半導体レーザ端面と反射膜間に有るシリコン膜を除去すると同時にアクチュエータ製造に用いたシリコン犠牲層も弗化キセノンガスで除去することを特徴とする波長可変半導体レーザの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年12月3日(2004.12.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
駆動源であるモータと、該モータの回転動力を伝達する減速機構部と、該減速機構部の回転動力を打撃力に変換する打撃機構部と、該打撃機構部を介して打撃力及び回転力の出力される先端工具とを備えた電動工具において、前記減速機構部の回転方向における衝撃を緩衝するための衝撃緩和機構を設けることを特徴とする電動工具。
【請求項２】
前記衝撃緩和機構は、前記減速機構部の固定歯車に設けた突起と、衝撃緩衝材を前記突起とハウジングに装着される固定歯車支持治具との間に設けることを特徴とする請求項１記載の電動工具。
【請求項３】
前記固定歯車及び前記固定歯車支持治具の突起を、前記固定歯車或いは前記固定歯車支持治具の側面或いは外面に設けることを特徴とする請求項２に記載の電動工具。
【請求項４】
前記固定歯車と前記固定歯車支持治具との間の衝撃緩衝材、或いは前記固定歯車支持治具と前記ハウジングとの間の衝撃緩衝材を、打撃機構部の軸受もしくは前記減速機構部の軸受と前記ハウジングとの間に設けることを特徴とする請求項２に記載の電動工具。
【手続補正書】
【提出日】平成17年1月31日(2005.1.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電動機により回転駆動し、被切断材を切断するための鋸刃、該鋸刃を覆う回動可能な鋸刃カバーを有する電動切断機において、前記電動機の温度を検出する温度検出手段を設け、該温度検出手段の出力により前記鋸刃カバーの回動を規制する回動規制手段を設けたことを特徴とする電動切断機。
【請求項２】
前記温度検出手段の出力により起動する教示手段を設けたことを特徴とする請求項１記載の電動切断機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的は、電動機の温度を検出する温度検出手段を設け、温度検出手段の出力により鋸刃カバーの回動を規制する回動規制手段を設けることにより達成される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
【発明の効果】上記したように、本発明によれば、電動機の温度を検出する温度検出手段を設け、温度検出手段の出力により鋸刃カバーの回動を規制する回動規制手段を設けたことにより、電動機が焼損する等して寿命が低下してしまうことを抑制することができる電動切断機を提供できるようになる。
【手続補正書】
【提出日】平成16年7月16日(2004.7.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
印刷データの受信管理を行なう受信制御手段と、該受信制御手段の命令に従って、印刷データを蓄積しておくための受信バッファメモリと、該受信バッファメモリにある印刷データを読みだし、ビットマップ展開させるデータ展開手段と、該データ展開手段の命令に従って、展開されたビットイメージデータを蓄積しておくためのイメージバッファメモリとを備えるプリンタにおいて、前記受信バッファメモリから前記イメージバッファメモリへのデータ伝送路上には、先入れ先出し回路素子が設けられてあり、前記受信バッファメモリから前記イメージバッファメモリへのデータ送受信に際して、前記受信制御手段は、前記受信バッファ内のデータを前記先入れ先出し回路素子に書き出させ、前記データ展開手段は、前記先入れ先出し回路素子にデータがある場合、当該データを読み出して、イメージバッファメモリにビットマップ展開させるよう構成されて成ることを特徴とするプリンタ。
【請求項２】
プリンタが受信した印刷命令データの受信管理を行なう受信制御手段の命令に従って、受信した印刷命令データを蓄積しておくための受信バッファメモリと、前記印刷命令データのビットマップ展開を行なうデータ展開手段の命令に従って、前記印刷命令データに基づいて得られたビットイメージデータを蓄積しておくためのイメージバッファメモリとを結ぶ伝送路間におけるデータ転送方法であって、前記受信制御手段によって、前記受信バッファ内の印刷命令データを、前記伝送路上に設けられた先入れ先出し回路素子に書き出させ、前記データ展開手段によって、前記先入れ先出し回路素子に印刷命令データがある場合には、当該印刷命令データを読み出して、ビットマップ展開して得られたビットイメージデータを前記イメージバッファメモリに展開させることを特徴とするデータ転送方法。
【請求項３】
プログラムを格納するメモリを備え、プログラムに従う処理を実行するコンピュータに、ホストコンピュータから受信された印刷命令データを蓄積しておくための受信バッファメモリと、先入れ先出し回路素子と、前記印刷命令データをビットマップ展開して得られたイメージデータを蓄積しておくためのイメージバッファメモリとを備えるプリンタを制御させるためのプログラムであって、前記受信バッファメモリから、前記先入れ先出し回路素子に対して前記印刷命令データを書き出させ、前記先入れ先出し回路素子に印刷命令データがある場合には、当該印刷命令データを読み出して、ビットマップ展開して得られたビットイメージデータを、前記イメージバッファメモリに展開させるように、前記コンピュータを制御するためのプログラムを格納した、前記コンピュータが読み取り可能な記録媒体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
ホストコンピュータ２から送られてきた印刷命令データは、インタフェース装置７からバスを介して、一旦受信バッファメモリ６に蓄積される。印刷命令データに含まれるイメージデータは、ビットマップ展開されてイメージバッファメモリ８に蓄えられる。これらのデータ転送及びイメージデータの抽出は、上記の制御機構によって具現化されるプリントコントローラの機能により実現される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
すなわち、請求項１記載のプリンタは、印刷データの受信管理を行なう受信制御手段と、該受信制御手段の命令に従って、印刷データを蓄積しておくための受信バッファメモリと、該受信バッファメモリにある印刷データを読みだし、ビットマップ展開させるデータ展開手段と、該データ展開手段の命令に従って、展開されたビットイメージデータを蓄積しておくためのイメージバッファメモリとを備えるプリンタである。これらの記憶素子と、それに対する入出力制御手段との関係は以下のように構成される。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
すなわち、前記受信バッファメモリから前記イメージバッファメモリへのデータ伝送路上には、さらに先入れ先出し回路素子が設けられてある。そして、前記受信バッファメモリから前記イメージバッファメモリへのデータ送受信に際して、前記受信制御手段は、前記受信バッファ内のデータを前記先入れ先出し回路素子に書き出させる。一方、前記データ展開手段は、前記先入れ先出し回路素子にデータがある場合、当該データを読み出して、イメージバッファメモリにビットマップ展開させるよう構成されている。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
また、本発明のデータ転送方法は、プリンタが受信した印刷命令データの受信管理を行なう受信制御手段の命令に従って、受信した印刷命令データを蓄積しておくための受信バッファメモリと、前記印刷命令データのビットマップ展開を行なうデータ展開手段の命令に従って、前記印刷命令データに基づいて得られたビットイメージデータを蓄積しておくためのイメージバッファメモリとを結ぶ伝送路間におけるデータ転送方法である。本データ転送方法にあっては、前記受信制御手段によって、前記受信バッファ内の印刷命令データを、前記伝送路上に設けられた先入れ先出し回路素子に書き出させ、前記データ展開手段によって、前記先入れ先出し回路素子に印刷命令データがある場合には、当該印刷命令データを読み出して、ビットマップ展開して得られたビットイメージデータを前記イメージバッファメモリに展開させる。 
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
上記プリンタ制御手順を実現させるためのコンピュータプログラムは、特定の媒体に記録して保持させることが可能である。すなわち、本発明のプログラムを格納した記録媒体は、プログラムを格納するメモリを備え、プログラムに従う処理を実行するコンピュータに、ホストコンピュータから受信された印刷命令データを蓄積しておくための受信バッファメモリと、先入れ先出し回路素子と、前記印刷命令データをビットマップ展開して得られたイメージデータを蓄積しておくためのイメージバッファメモリとを備えるプリンタを制御させるためのプログラムであって、前記受信バッファメモリから、前記先入れ先出し回路素子に対して前記印刷命令データを書き出させ、前記先入れ先出し回路素子に印刷命令データがある場合には、当該印刷命令データを読み出して、ビットマップ展開して得られたビットイメージデータを、前記イメージバッファメモリに展開させるように、前記コンピュータを制御するためのプログラムを格納した、前記コンピュータが読み取り可能な記録媒体である。
【手続補正書】
【提出日】平成17年8月22日(2005.8.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
長尺の両面平滑性フィルムを巻出しロールから巻取ロールに連続的に搬送しながらフィルムの表面に加工を施すに先立って、前記フィルムの裏面に易滑化材を添加した易剥離性樹脂又は該樹脂の組成物を１層又は２層以上コーティングすることを特徴とする両面平滑性フィルムの巻出し巻取り方法。
【請求項２】
両面平滑性フィルムが、ポリエーテルスルフォン、ポリカーボネート、ポリアリレートのいずれかであることを特徴とする請求項１に記載の両面平滑性フィルムの巻出し巻取り方法。
【請求項３】
易剥離性樹脂が、ニトロセルロース、セルロースアセテート、セルロースブチレート、セルロースアセテート・ブチレート、セルロースプロピオネート、セルロースアセテート・プロピオネート、メチルセルロース、エチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース等の繊維素誘導体、塩化ゴム、塩素化ポリエチレン、塩素化ポリプロピレン等の塩素化炭化水素系ポリマーおよびポリウレタンアクリレート、ポリエポキシアクリレート等のアクリル酸誘導体ポリマーのいずれか１種または２種以上の混合物であることを特徴とする請求項１または２に記載の両面平滑性フィルムの巻出し巻取り方法。
【請求項４】
易滑化材がシリカ微粉末であることを特徴とする請求項１ないし３のうちのいずれかに記載の両面平滑性フィルムの巻出し巻取り方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年1月7日(2005.1.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コート基材の製造方法であって、有効触媒量の式ＺxＰｔ（０）Ｌyの白金族金属触媒（式中、Ｌは電子吸引性エステル配位子、キノン系配位子又はその組合せからなり、ｙは約１〜約４であり、Ｚは配位子からなり、ｘは０〜約３であり、ｘ＋ｙは約２〜約４である。）を含んでなる基材に、アルケニル官能性化合物とヒドリド官能性化合物とを含んでなるコーティング組成物を塗布し、かつコーティング組成物を硬化させることを含んでなる方法。
【請求項２】
Ｚが１以上のアルケニル基を有する有機化合物からなる、請求項１記載の方法。
【請求項３】
Ｌが２−メチル−１，４−ナフトキノン、ジオクチルフマレート、ジメチルフマレート又はその組合せからなる、請求項１記載の方法。
【請求項４】
請求項１記載の方法で製造されたコート基材と、第二の基材上に感圧接着剤の層を設けた感圧接着剤コート基材とを含んでなり、感圧接着剤層が上記コート基材の硬化コーティング層と接するように配置してなる積層体。
【請求項５】
コーティング組成物の第一成分であってアルケニル官能性オルガノポリシロキサンと有効触媒量の式ＺxＰｔ（０）Ｌyの白金族金属触媒（式中、Ｌは電子吸引性エステル配位子、キノン系配位子又はその組合せからなり、ｙは約１〜約４であり、Ｚは配位子からなり、ｘは０〜約３であり、ｘ＋ｙは約２〜約４である。）とを含んでなる第一成分の層を基材に塗布し、コーティング組成物の第二成分であってヒドリド官能性オルガノポリシロキサンを含んでなる第二成分の層を基材に塗布し、かつこれらコーティング組成物の層を硬化させることを含んでなるコート基材の製造方法。
【請求項６】
有効触媒量の式ＺxＰｔ（０）Ｌyの白金族金属触媒（式中、Ｌは電子吸引性エステル配位子、キノン系配位子又はその組合せからなり、ｙは約１〜約４であり、Ｚは配位子からなり、ｘは０〜約３であり、ｘ＋ｙは約２〜約４である。）を含んでなる基材に、アルケニル基とヒドリド基とが同一分子上に存在するオルガノポリシロキサンを含んでなるコーティング組成物の層を塗布し、かつ上記層を硬化させることを含んでなるコート基材の製造方法。
【請求項７】
アルケニル官能性化合物とヒドリド官能性化合物とを含んでなるコーティング組成物、及び該コーティング組成物を基材に塗布したときにコーティング組成物の硬化を触媒するのに有効な量の式ＺxＰｔ（０）Ｌyの白金族金属触媒（式中、Ｌは電子吸引性エステル配位子、キノン系配位子又はその組合せからなり、ｙは約１〜約４であり、Ｚは配位子からなり、ｘは０〜約３であり、ｘ＋ｙは約２〜約４である。）が基材の１以上の面に施されている基材を含んでなる、コート基材製造用の系。
【請求項８】
紙、ポリマーフィルム、ポリマーコート紙、金属箔又はその組合せを含んでなる基材と、該基材の１以上の面に施された有効触媒量の式ＺxＰｔ（０）Ｌyの白金族金属触媒（式中、Ｌは電子吸引性エステル配位子、キノン系配位子又はその組合せからなり、ｙは約１〜約４であり、Ｚは配位子からなり、ｘは０〜約３であり、ｘ＋ｙは約２〜約４である。）とを含んでなる触媒処理物品。
【請求項９】
有効量の式ＺxＰｔ（０）Ｌyの白金族金属触媒（式中、Ｚは１，１，３，３−テトラメチル−１，３−ジビニルジシロキサンであり、Ｌは２−メチル−１，４−ナフトキノンであり、ｘは１であり、ｙは１である。）を基材の１以上の面に塗布することを含んでなる、触媒処理物品の製造方法。
【請求項１０】
有効量の式ＺxＰｔ（０）Ｌyの白金族金属触媒（式中、Ｚは１，１，３，３−テトラメチル−１，３−ジビニルジシロキサンであり、Ｌはジオクチルフマレートであり、ｘは１であり、ｙは約１〜約３である。）を基材の１以上の面に塗布することを含んでなる、触媒処理物品の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年11月12日(2004.11.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項９】
前記くわえづめ（１１）は、軸（５９）を構成する回転継手によって、くわえづめ支持台（１３）に関節式に接続されている、請求項１，５，または８に記載の装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
図２に示す実施形態は、くわえづめ１１をくわえづめ支持台１３上に載せる際に、くわえづめ支持台１３がくわえづめ１１の運動によってほんのわずかな量だけしか動かない点で有利である。
【手続補正書】
【提出日】平成16年4月13日(2004.4.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
パーティションを形成するようにセルの構成済みセットのうちのセルの一部を同期させる方法であって、（ａ）第１のランデブ状態に達するステップと、（ｂ）前記一部の他のセルが該初期ランデブ状態に達することができるように遅延するステップと、（ｃ）第２のランデブ状態に遷移するステップと、を含み、前記一部のセルは、前記ステップ（ａ）〜（ｃ）を独立して並列に実行する方法。
【請求項２】
前記ステップ（ｂ）は、（ｉ）所定時間、（ｉｉ）前記一部の他のセルが前記第２のランデブ状態に達する時、および（ｉｉｉ）セルの前記構成済みセットのすべてのセルが前記第１のランデブ状態に達する時、のうちの早い方の時まで遅延する請求項１に記載の方法。
【請求項３】
（ｄ）前記第２のランデブ状態に達した前記一部の検出されたセルを含むローカルランデブセットを構成するステップと、（ｅ）前記ローカルランデブセットを可視の場所に書込むステップと、を更に含み、前記第２のランデブ状態に達した前記一部のセルは、前記ステップ（ｄ）〜（ｅ）を独立して並列に実行する請求項１に記載の方法。
【請求項４】
構成されたローカルランデブセットから、該構成されたローカルランデブセットの論理的共通部分を表すグローバルランデブセットを構成するステップを更に含む請求項２に記載の方法。
【請求項５】
前記グローバルランデブセットからコアセルを決定するステップを更に含む請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記グローバルランデブセットの互換性のあるセルをアライブセットとして決定するステップを更に含み、互換性のあるセルを決定する該ステップを前記コアセルによって実行する請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記アライブセットに対しパーティションに関連する不都合なトランザクションを制限するようパーティションゲーティングコントローラをプログラムするステップを更に含む請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記パーティションにオペレーティングシステムを確立するステップを更に含む請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記構成済みセットの他のセルを識別するためにコンプレックス情報を利用する請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
マルチパーティションコンピュータシステムで使用されるセルであって、パーティションに参加するために利用されるパーティション命令を含み、該パーティション命令を実行するプロセッサと、前記パーティション命令を格納するファームウェア装置と、第１のランデブ状態を反映するレジスタをセットするコードと、該レジスタを前記第１のランデブ状態を反映するようにセットした後にパーティション形成動作を遅延させるコードと、パーティション形成動作を遅延させた後に第２のランデブ状態に遷移するコードと、を具備するセル。
【手続補正書】
【提出日】平成16年12月1日(2004.12.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
テキストマイニングのためのプログラムを格納するプログラム記憶媒体であって、前記プログラムは、少なくとも２個以上の文書集合から特徴的な情報を抽出するテキストマイニングのために、ＣＰＵに、
ファイル記憶装置に記憶される２個以上の文書集合から同時に出現する語の組を抽出するステップと、
前記部分文書集合毎に前記抽出された語の組の中から特徴的な語の組を抽出するステップとを実行させることを特徴とするプログラム記憶媒体。
【請求項２】
テキストマイニングのためのプログラムを格納するプログラム記憶媒体であって、前記プログラムは、少なくとも一つの属性が付与された文書の集合から、前記属性に着目して特徴的な情報を抽出するテキストマイニングのために、ＣＰＵに、
前記属性に基づいて、ファイル記憶装置に記憶される文書集合を少なくとも２個の部分文書集合に分割するステップと、
前記２個以上の部分文書集合から同時に出現する語の組を抽出するステップと、
前記部分文書集合毎に前記抽出された語の組の中から特徴的な語の組を抽出するするステップとを実行させることを特徴とするプログラム記憶媒体。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載のプログラム記憶媒体において、前記抽出される同時に出現する語の組が、一定の距離内に出現する語の組であることを特徴とするプログラム記憶媒体。
【請求項４】
請求項１または請求項２に記載のプログラム記憶媒体において、該プログラムはＣＰＵに、さらに、前記抽出された特徴的な語の組を構成する２個の語間の結びつきの強さを示す量を計算するステップと、前記抽出された特徴的な語の組を前記計算された量に応じてクラスタリングして出力するステップとを実行させることを特徴とするプログラム記憶媒体。
【請求項５】
請求項１または請求項２に記載のプログラム記憶媒体において、該プログラムはＣＰＵに、さらに、前記文書集合を指示する情報および語の入力を受けるステップと、前記入力された語と関連する語を前記入力された情報によって指示される文書集合から抽出された前記語の組の情報から取得するステップと、前記入力された語の関連語として出力するステップとを実行させることを特徴とするプログラム記憶媒体。
【請求項６】
少なくとも一つの属性が付与された文書の集合から、前記属性に着目して特徴的な情報を抽出するテキストマイニング方法において、前記属性に基づいて文書集合を少なくとも２個の部分文書集合に分割し、前記２個以上の部分文書集合から同時に出現する語の組を抽出し、前記部分文書集合毎に前記抽出された語の組の中から特徴的な語の組を抽出することを特徴とするテキストマイニング方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年6月22日(2005.6.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
薄膜磁気ヘッドにおける記録ヘッドの上部コア又は下部コアの少なくとも一方を製造するに際し、
40≦Co≦70wt％、10≦Ni≦25wt％、10≦Fe≦30wt％の組成からなるCo、Ni及びFeを含有する磁性膜をスパッタ法により形成し、
該磁性膜上に40≦Co≦70wt％、10≦Ni≦25wt％、10≦Fe≦30wt％の組成からなるCo、Ni及びFeを含有する磁性膜を電気めっき法により形成し、
前記電気めっき法により形成された磁性膜は、サッカリンナトリウムを含有することを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。
【請求項２】
前記スパッタ法により形成された磁性膜は主として体心立方晶相からなり、前記電気めっき法により形成された磁性膜はX線回折における面心立方晶fcc（111）面、fcc（200）面、及び体心立方晶bcc(110)面のピーク強度を、それぞれI(111)，I(200)，I(110)とすると、ピーク強度比がI(200)/I(111)≧0.5、かつI(110)／I（111）≧1であることを特徴とする請求項１記載の薄膜磁気ヘッドの製造方法。
【請求項３】
前記電気めっき法により形成された磁性膜は、面心立方晶相と体心立方晶相の構成比が40≦体心立方晶相≦80％、20％≦面心立方晶≦60％、且つ、面心立方晶相+体心立方晶相＝100％であることを特徴とする請求項１記載の薄膜磁気ヘッドの製造方法。
【請求項４】
前記電気めっき法により形成された磁性膜は、0.5〜2ｇ/ｌのサッカリンナトリウムを含むめっき浴から形成されることを特徴とする請求項１記載の薄膜磁気ヘッドの製造方法。
【請求項５】
前記電気めっき法により形成された磁性膜は、めっき浴温度25℃〜35℃、電流密度3〜12ｍA/ｃｍ２、ｐH3.2〜4.0の範囲で電気めっきを行うことにより形成されることを特徴とする請求項１記載の薄膜磁気ヘッドの製造方法。
【請求項６】
前記電気めっき法により形成された磁性膜の飽和磁束密度（Bs）は、前記スパッタ法により形成された磁性膜の飽和磁束密度よりも大きいことを特徴とする請求項１記載の薄膜磁気ヘッドの製造方法。
【請求項７】
薄膜磁気ヘッドにおける記録ヘッドの上部コア又は下部コアの少なくとも一方が、
スパッタ法により形成され、40≦Co≦70wt％、10≦Ni≦25wt％、10≦Fe≦30wt％の組成からなるCo、Ni及びFeを含有する磁性膜と、該磁性膜上に電気めっき法により形成され、40≦Co≦70wt％、10≦Ni≦25wt％、10≦Fe≦30wt％の組成からなるCo、Ni及びFeを含有する磁性膜とを有する磁極層であり、
前記電気めっき法により形成された磁性膜は、サッカリンナトリウムを含有することを特徴とする薄膜磁気ヘッド。
【請求項８】
前記電気めっき法により形成された磁性膜は、X線回折における面心立方晶fcc（111）面、fcc（200）面、及び体心立方晶bcc(110)面のピーク強度を、それぞれI(111)，I(200)，I(110)とすると、ピーク強度比がI(200)/I(111)≧0.5、かつI(110)／I（111）≧1であることを特徴とする請求項７記載の薄膜磁気ヘッド。
【請求項９】
前記電気めっき法により形成された磁性膜は、面心立方晶相と体心立方晶相とから構成され、該面心立方晶相と体心立方晶相の構成比が40％≦体心立方晶相≦80％、20％≦面心立方晶≦60％であることを特徴とする請求項７記載の薄膜磁気ヘッド。
【請求項１０】
前記磁性膜の磁気特性は、飽和磁束密度Bsが17500ガウス≦Bs＜20000ガウスであり、困難軸方向の保磁力HchがHch＜1.5Oeであることを特徴とする請求項７記載の薄膜磁気ヘッド。
【請求項１１】
保磁力4000 Oe以上の磁気記録媒体と、磁気抵抗効果素子を用いた再生ヘッドと、ギャップを介した一対の磁極を用いた記録ヘッドとを備え、
前記記録ヘッドは、請求項７〜１０の何れかに記載の薄膜磁気ヘッドであることを特徴とする磁気記録装置。
【手続補正書】
【提出日】平成16年4月12日(2004.4.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光ディスクに光パルスを照射したとき形成される記録マークのエッジに情報を対応させて線速度可変で情報を記録する情報記録方法において、
第１の線速度ｖ１におけるウィンドウ幅をＴｗ１、第１の線速度ｖ１より速い第２の線速度ｖ２におけるウィンドウ幅をＴｗ２、前記第１の線速度ｖ１において記録マークを形成するときに照射する光パルスのパルス幅をＰ１、前記第２の線速度ｖ２において前記第１の線速度ｖ１のときと同じ記録マークを形成するときに照射する光パルスのパルス幅をＰ２とするとき、Ｐ１／Ｔｗ１＜Ｐ２／Ｔｗ２を満たし、
記録マークが短いほど、（Ｐ２／Ｔｗ２）−（Ｐ１／Ｔｗ１）が大きいことを特徴とする情報記録方法。
【請求項２】
相変化ディスクに光パルスを照射したとき形成される記録マークのエッジに情報を対応させて線速度可変で情報を記録する情報記録方法において、
第１の線速度ｖ１において記録マークを消去するときに照射する光パルスのパワーをＰｅ１(ｍＷ)、記録マークを形成するときに照射する光パルスのパワーをＰｗ１(ｍＷ)、第１の線速度ｖ１より速い第２の線速度ｖ２において記録マークを消去するときに照射する光パルスのパワーをＰｅ２(ｍＷ)、記録マークを形成するときに照射する光パルスのパワーをＰｗ２(ｍＷ)とするとき、Ｐｗ１／Ｐｅ１＞Ｐｗ２／Ｐｅ２を満たし、
前記第１の線速度ｖ１におけるウィンドウ幅をＴｗ１、前記第２の線速度ｖ２におけるウィンドウ幅をＴｗ２、前記第１の線速度ｖ１において記録マークを形成するときに照射する光パルスのパルス幅をＰ１、前記第２の線速度ｖ２において前記第１の線速度ｖ１のときと同じ記録マークを形成するときに照射する光パルスのパルス幅をＰ２とするとき、Ｐ１／Ｔｗ１＜Ｐ２／Ｔｗ２を満たし、
記録マークが短いほど、（Ｐ２／Ｔｗ２）−（Ｐ１／Ｔｗ１）が大きいことを特徴とする情報記録方法。
【請求項３】
光ディスクに光照射する光源及び光ディスクから反射された光を検出する光検出器を備える光ヘッドと、光ディスクに対して前記光ヘッドを駆動する光ヘッド駆動手段と、光ディスクを回転駆動するディスク駆動手段と、前記光源を駆動するための記録波形を発生する記録波形発生手段とを含み、記録マークのエッジに情報を対応させて情報を記録する光ディスク装置において、
前記ディスク駆動手段は前記光ヘッドの位置における線速度を可変として光ディスクを回転駆動し、前記光源から光ディスクに照射される光パルスは、第１の線速度ｖ１におけるウィンドウ幅をＴｗ１、第１の線速度ｖ１より速い第２の線速度ｖ２におけるウィンドウ幅をＴｗ２、前記第１の線速度ｖ１において記録マークを形成するときに照射する光パルスのパルス幅をＰ１、前記第２の線速度ｖ２において前記第１の線速度ｖ１のときと同じ記録マークを形成するときに照射する光パルスのパルス幅をＰ２とするとき、Ｐ１／Ｔｗ１＜Ｐ２／Ｔｗ２を満たし、
記録マークが短いほど、（Ｐ２／Ｔｗ２）−（Ｐ１／Ｔｗ１）が大きいことを特徴とする光ディスク装置。
【請求項４】
光ディスクに光照射する光源及び光ディスクから反射された光を検出する光検出器を備える光ヘッドと、光ディスクに対して前記光ヘッドを駆動する光ヘッド駆動手段と、光ディスクを回転駆動するディスク駆動手段と、前記光源を駆動するための記録波形を発生する記録波形発生手段とを含み、記録マークのエッジに情報を対応させて情報を記録する光ディスク装置において、
前記ディスク駆動手段は前記光ヘッドの位置における線速度を可変として光ディスクを回転駆動し、前記光源から光ディスクに照射される光パルスは、第１の線速度ｖ１において記録マークを消去するときに照射される光パルスのパワーをＰｅ１(ｍＷ)、記録マークを形成するときに照射される光パルスのパワーをＰｗ１(ｍＷ)、第１の線速度ｖ１より速い第２の線速度ｖ２において記録マークを消去するときに照射される光パルスのパワーをＰｅ２(ｍＷ)、記録マークを形成するときに照射する光パルスのパワーをＰｗ２(ｍＷ)とするとき、Ｐｗ１／Ｐｅ１＞Ｐｗ２／Ｐｅ２を満たし、
前記光源から光ディスクに照射される光パルスは、前記第１の線速度ｖ１におけるウィンドウ幅をＴｗ１、前記第２の線速度ｖ２におけるウィンドウ幅をＴｗ２、前記第１の線速度ｖ１において記録マークを形成するときに照射する光パルスのパルス幅をＰ１、前記第２の線速度ｖ２において前記第１の線速度ｖ１のときと同じ記録マークを形成するときに照射する光パルスのパルス幅をＰ２とするとき、Ｐ１／Ｔｗ１＜Ｐ２／Ｔｗ２を満たし、
記録マークが短いほど、（Ｐ２／Ｔｗ２）−（Ｐ１／Ｔｗ１）が大きいことを特徴とする光ディスク装置。
【請求項５】
請求項３又は４記載の光ディスク装置において、前記光ディスクは相変化ディスクであることを特徴とする光ディスク装置。
【手続補正書】
【提出日】平成16年8月9日(2004.8.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
以上述べたように、本発明によれば、より安定したトラッキング制御を行うことができる。
【手続補正書】
【提出日】平成16年4月12日(2004.4.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】光学情報再生装置


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の光学情報媒体層及び第２の光学情報媒体層を有する光ディスクから情報を再生する光学情報再生装置において、
光源と、前記光源からの光を集光して前記光ディスクに照射する光照射手段と、前記光ディスクからの戻り光の所定の領域を取り出して集光させる集光手段と、前記集光手段によって集光された前記光ディスクからの戻り光を検出する光検出器とを備え、
前記光検出器は、前記光ディスクの前記第１あるいは第２の光学情報媒体層を前記光照射手段による集光位置で照射したとき前記第１あるいは第２の光学情報媒体層からの戻り光に起因する出力が略等しくなるように配置された第１及び第２の光検出素子と、前記光ディスクの前記第１の光学情報媒体層を前記光照射手段による集光位置で照射したとき前記第２の光学情報媒体層からの戻り光に起因する出力が前記第１の光検出素子と略等しくなるように配置された第３の光検出素子と、前記光ディスクの前記第２の光学情報媒体層を前記光照射手段による集光位置で照射したとき前記第１の光学情報媒体層からの戻り光に起因する出力が前記第２の光検出素子と略等しくなるように配置された第４の光検出素子とを備えることを特徴とする光学情報再生装置。
【請求項２】
請求項１記載の光学情報再生装置において、前記第１及び第４の光検出素子の出力の和と、前記第２及び第３の光検出素子の出力の和との差分に基づいてフォーカス・エラー信号を発生することを特徴とする光学情報再生装置。
【請求項３】
請求項１又は２記載の光学情報再生装置において、前記第１及び第２の光検出素子の受光面積は前記第３及び第４の光検出素子の受光面積より大きいことを特徴とする光学情報再生装置。
【手続補正書】
【提出日】平成16年11月8日(2004.11.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
車両の所望のセッティングに関する情報を提供するのに用いられるパーソナリティモジュールにおいて、
コンピュータ可読媒体であって、ユーザの識別情報を指定し、前記車両のセッティングを自動的に実現するのに用いられる前記ユーザに固有の情報を指定し、さらに、前記情報に関連し、前記セッティングに従って前記車両を自動的に設定する制御信号の生成に用いられるパラメータを指定する、コンピュータ可読媒体を備えたことを特徴とするパーソナリティモジュール。
【請求項２】
前記媒体が、前記ユーザのシート設定に関する情報と、前記シート設定に従って前記車両のシートを自動的に位置決めする制御信号の生成に用いられるパラメータとを指定することを特徴とする請求項１に記載のパーソナリティモジュール。
【請求項３】
前記媒体が、前記車両の車内環境に関する情報と、前記車内環境を実現する制御信号の生成に用いられるパラメータとを指定することを特徴とする請求項１に記載のパーソナリティモジュール。
【請求項４】
前記媒体が、前記ユーザに関する医療情報を指定することを特徴とする請求項１に記載のパーソナリティモジュール。
【請求項５】
前記媒体が、前記車両の利用に関するサービスのため、前記ユーザに関する金融情報を指定することを特徴とする請求項１に記載のパーソナリティモジュール。
【請求項６】
前記媒体が、前記ユーザのためのミラー設定に関する情報と、前記ミラー設定に従って、前記車両のミラーを自動的に位置決めする制御信号の生成に用いられるパラメータとを指定することを特徴とする請求項１に記載のパーソナリティモジュール。
【請求項７】
前記媒体が、前記ユーザのラジオ局プリセットに関する情報と、前記車両の前記ラジオ局のプリセットを自動的に実現する制御信号の生成に用いられるパラメータとを指定することを特徴とする請求項１に記載のパーソナリティモジュール。
【請求項８】
前記媒体が、音声出力システムを備えた車両について前記ユーザが所望する言語に関する情報を指定することを特徴とする請求項１に記載のパーソナリティモジュール。
【請求項９】
前記媒体が、前記ユーザのドアロックセッティングに関する情報と、前記車両の前記ドアロックセッティングを自動的に実現する制御信号の生成に用いられるパラメータとを指定することを特徴とする請求項１に記載のパーソナリティモジュール。
【請求項１０】
前記コンピュータ可読媒体は、カードリーダを利用して前記車両にパラメータを転送するのに用いられる接続部を備えたカードに含まれることを特徴とする請求項１に記載のパーソナリティモジュール。
【請求項１１】
車両の所望のセッティングに関する情報を提供する方法において、
コンピュータ可読媒体においてユーザの識別情報を指定するステップと、
前記車両のセッティングを自動的に実現するのに用いられる前記ユーザに固有の情報を前記媒体において指定するステップと、
前記情報に関連し、前記セッティングに従って前記車両を自動的に設定する制御信号の生成に用いられるパラメータを前記媒体において指定するステップと、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項１２】
前記情報を指定するステップが、前記ユーザのシート設定に関する情報を指定するステップを含み、
前記パラメータを指定するステップが、前記シート設定に従って前記車両のシートを自動的に位置決めする制御信号の生成に用いられるパラメータを指定するステップを含む、
ことを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記情報を指定するステップが、前記車両の車内環境に関する情報を指定するステップを含み、
前記パラメータを指定するステップが、前記車内環境を実現する制御信号の生成に用いられるパラメータを指定するステップを含む、
ことを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【請求項１４】
前記情報を指定するステップが、前記ユーザに関する医療情報を指定するステップを含むことを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【請求項１５】
前記情報を指定するステップが、前記車両の利用に関するサービスのため、前記ユーザに関する金融情報を指定するステップを含むことを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【請求項１６】
前記情報を指定するステップが、前記ユーザのためのミラー設定に関する情報を指定するステップを含み、
前記パラメータを指定するステップが、前記ミラー設定に従って、前記車両のミラーを自動的に位置決めする制御信号の生成に用いられるパラメータを指定するステップを含む、
ことを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【請求項１７】
前記情報を指定するステップが、前記ユーザのラジオ局プリセットに関する情報を指定するステップを含み、
前記パラメータを指定するステップが、前記車両の前記ラジオ局のプリセットを自動的に実現する制御信号の生成に用いられるパラメータを指定するステップを含む、
ことを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【請求項１８】
前記情報を指定するステップが、前記ユーザのドアロックセッティングに関する情報を指定するステップを含み、
前記パラメータを指定するステップが、前記車両の前記ドアロックセッティングを自動的に実現する制御信号の生成に用いられるパラメータを指定するステップを含む、
ことを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【請求項１９】
前記情報を指定するステップが、音声出力システムを備えた車両について前記ユーザが所望する言語に関する情報を指定するステップを含むことを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【請求項２０】
カードリーダを利用して前記車両にパラメータを転送するのに用いられる接続部を備えたカード内のコンピュータ可読媒体を設定するステップをさらに含むことを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年9月1日(2005.9.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１導電型の第１クラッド層と、
前記第１クラッド層上に形成された活性層と、
前記活性層上に形成され、平坦部と、前記平坦部から突出するように形成されたリッジ部を構成する凸部とを有する第２導電型の第２クラッド層と、
前記第２クラッド層の凸部の側面上および平坦部上に形成され、前記凸部近傍に位置する第１部分の厚みが前記第１部分以外の第２部分の厚みよりも小さい絶縁物からなる電流ブロック層とを備えた、半導体レーザ素子。
【請求項２】
前記電流ブロック層の第２部分の厚みは、前記凸部を含むリッジ部の高さと実質的に等しい、請求項１に記載の半導体レーザ素子。
【請求項３】
前記電流ブロック層の前記凸部近傍に位置する第１部分のうち、前記凸部の両側の前記平坦部上に形成される部分の各々の幅は、前記凸部の底部の幅よりも大きい、請求項１または２に記載の半導体レーザ素子。
【請求項４】
前記電流ブロック層の前記凸部近傍に位置する第１部分のうち、前記凸部の両側の前記平坦部上に形成される部分の各々の幅の合計幅は、前記第２の部分の合計幅よりも小さい、請求項１〜３のいずれか１項に記載の半導体レーザ素子。
【請求項５】
第１導電型の第１クラッド層と、
前記第１クラッド層上に形成された活性層と、
前記活性層上に形成され、平坦部と、前記平坦部から突出するように形成されたリッジ部を構成する凸部とを有する第２導電型の第２クラッド層と、
前記第２クラッド層の凸部の側面上および平坦部上に形成され、前記凸部近傍に位置する第１部分の厚みが前記第１部分以外の第２部分の厚みよりも小さい絶縁膜からなる電流ブロック層と、
前記電流ブロック層を覆うとともに、前記第２クラッド層の凸部に電気的に接続するよ
うに形成された金属層と、
前記金属層に接触するように形成された放熱部材とを備えた、半導体レーザ装置。
【請求項６】
第１導電型の第１クラッド層と、
前記第１クラッド層上に形成された活性層と、
前記活性層上に形成され、平坦部と、前記平坦部から突出するように形成されたリッジ部を構成する凸部とを有する第２導電型の第２クラッド層と、
前記第２クラッド層上に形成された第２導電型のコンタクト層と、
前記第２クラッド層の平坦部上における前記凸部近傍に形成された第１の絶縁物の層と、
前記第２のクラッド層の平坦部上における前記凸部から離れた部分に形成された、前記第１の絶縁物の層よりも厚みの大きい第２の絶縁物の層と、
前記第２導電型のコンタクト層上に形成された電極と、
前記ｐ側電極、第１の絶縁物の層および第２の絶縁物の層の上に形成されたパッド電極と、
を備えた、半導体レーザ素子。
【請求項７】
前記第１の絶縁物の層は、前記第２のクラッド層の平坦部上において前記凸部から離れた部分にまで延在して形成され、
前記第２の絶縁物の層は、前記第１の絶縁物の層上に形成されていることを特徴とする、請求項６記載の半導体レーザ素子。
【請求項８】
前記第１の絶縁物の層および第２の絶縁物の層は、電流ブロック層であることを特徴とする請求項６または７記載の半導体レーザ素子。
【手続補正書】
【提出日】平成17年1月17日(2005.1.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに対向する一対の電極を備え、少なくとも一方の電極の対向面に固体誘電体が設けられ、
前記電極間に放電処理電圧を印加することによって発生するプラズマを用いて、前記電極間の内部又は外部の処理空間に配置された被処理体をプラズマに曝すプラズマ処理方法であって、
前記電極間に放電処理電圧を印加する電圧印加工程と、
前記電圧印加工程の前工程及び／又は後工程として、プラズマの発生が停止している状態で、前記電極間に前記固体誘電体の吸湿防止のための乾燥ガスを供給するガス供給工程と、を有することを特徴とするプラズマ処理方法。
【請求項２】
請求項１に記載のプラズマ処理方法により、複数の被処理体を順に前記処理空間でプラズマに曝すプラズマ処理方法であって、
前記前工程として、プラズマに曝す前の被処理体を前記処理空間に配置する配置工程と、前記後工程として、プラズマに曝した後の被処理体を前記処理空間から撤去する撤去工程とを有し、
前記配置工程及び／又は撤去工程では、プラズマの発生が停止している状態で、前記電極間に前記乾燥ガスを供給することを特徴とするプラズマ処理方法。
【請求項３】
請求項１に記載のプラズマ処理方法により、被処理体を連続的に前記処理空間を通過させてプラズマに曝すプラズマ処理方法であって、
前記前工程として、プラズマに曝す前の被処理体を、前記処理空間を通過可能に配置する配置工程と、
前記後工程として、プラズマに曝した後の被処理体を撤去する撤去工程とを有し、
前記配置工程及び／又は撤去工程では、プラズマの発生が停止している状態で、前記電極間に前記乾燥ガスを供給することを特徴とするプラズマ処理方法。
【請求項４】
互いに対向する一対の電極を備え、少なくとも一方の電極の対向面に固体誘電体が設けられ、
前記電極間に放電処理電圧を印加することによって発生するプラズマを用いて、前記電極間の内部又は外部の処理空間に配置された被処理体をプラズマに曝すプラズマ処理装置であって、
前記被処理体をプラズマに曝す前及び／又は被処理体をプラズマに曝し終わった後に、プラズマの発生を停止する電圧制御手段と、
プラズマの発生が停止している状態で、前記電極間に前記固体誘電体の吸湿防止のための乾燥ガスを供給するガス供給手段と、
を有することを特徴とするプラズマ処理装置。
【手続補正書】
【提出日】平成17年5月19日(2005.5.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子放出する試料を固定する試料支持台と、前記試料に接触するまで可動な対向電極と、前記試料と前記対向電極との間に電圧を印加する手段と、を有する電子顕微鏡用試料ホルダであって、前記対向電極の前記試料に対向する面に前記対向電極より二次電子発生率の低い材料が付されていることを特徴とする電子顕微鏡用試料ホルダ。
【請求項２】
電子放出する試料を固定する試料支持台と、前記試料に接触するまで可動な対向電極と、前記試料と前記対向電極との間に電圧を印加する手段と、を有する電子顕微鏡用試料ホルダであって、前記対向電極は前記試料に対向する略平面の一部に開口部を有した中空体形状を有し、前記中空体の内壁の少なくとも一部に前記対向電極より二次電子発生率の低い材料が付されていることを特徴とする電子顕微鏡用試料ホルダ。
【請求項３】
請求項１または２に記載の電子顕微鏡用試料ホルダであって、前記二次電子発生率の低い材料はカーボンであることを特徴とする電子顕微鏡用試料ホルダ。
【請求項４】
請求項２または３に記載の電子顕微鏡用試料ホルダであって、前記対向電極に電子を集束または偏向させる電界型レンズまたは磁界型レンズを設けたことを特徴とする電子顕微鏡用試料ホルダ。
【請求項５】
請求項２ないし４のいずれかに記載の電子顕微鏡用試料ホルダであって、前記対向電極に電子を加速させる電極を設けたことを特徴とする電子顕微鏡用試料ホルダ。
【請求項６】
請求項１ないし5のいずれかに記載の電子顕微鏡用試料ホルダにおいて、前記試料を冷却する冷却機構を有することを特徴とする電子顕微鏡用試料ホルダ。
【請求項７】
請求項１ないし６のいずれかに記載の電子顕微鏡ホルダを装着したことを特徴とする電子顕微鏡。
【請求項８】
請求項２ないし６のいずれかに記載の電子顕微鏡ホルダを装着したことを特徴とする電子顕微鏡であって、前記対向電極は円筒型であり、前記試料から放出された電子を前記対向電極の中空を通過させ外部観察する手段を有することを特徴とする電子顕微鏡。
【請求項９】
電子放出する試料に対向する位置に設けられた対向電極と、前記試料と前記対向電極間とに電圧印加する手段を有する電子顕微鏡用試料ホルダにおいて、前記試料の電位を負とする手段と、前記対向電極を接地する手段とを備えた電子顕微鏡用試料ホルダ。