【手続補正書】
【提出日】令和3年2月9日(2021.2.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１以上のパラメータによって特徴付けられるマイクロ波エネルギーを生成するための固体発生器であって、制御信号を受信して前記マイクロ波エネルギーの前記１以上のパラメータを電気的に変化させるための少なくとも１つの制御入力を有する固体発生器と、
前記マイクロ波エネルギーを受け取りかつ前記マイクロ波エネルギーに応じて効果を生じさせるためのマイクロ波負荷と、
前記マイクロ波エネルギーを前記マイクロ波負荷に結合させるためのマイクロ波伝導素子と、
前記マイクロ波伝導素子に結合され、前記マイクロ波エネルギーの前記１以上のパラメータの少なくとも１つを変化させるためのインピーダンス整合調整装置と、
前記制御信号を生成して前記マイクロ波エネルギーの前記１以上のパラメータを変化させるためのコントローラと
を備え、
前記マイクロ波エネルギーに応じて生じる前記効果が、前記制御信号を介した前記マイクロ波エネルギーの前記１以上のパラメータの電気的変化と、前記マイクロ波エネルギーの前記１以上のパラメータの少なくとも一つを変化させるための前記インピーダンス整合調整装置の調節との両方によって変更される、マイクロ波システム。
【請求項２】
前記マイクロ波伝導素子が導波管を備える、請求項１に記載のマイクロ波システム。
【請求項３】
前記インピーダンス整合調整装置が機械式スタブチューナを備える、請求項２に記載のマイクロ波システム。
【請求項４】
前記マイクロ波スタブチューナが複数のスタブを備える、請求項３に記載のマイクロ波システム。
【請求項５】
前記制御入力が前記制御信号を受信して前記マイクロ波エネルギーの前記１以上のパラメータを電気的に変化させるための電気制御入力である、請求項１に記載のマイクロ波システム。
【請求項６】
前記マイクロ波負荷がチャンバを備える、請求項１に記載のマイクロ波システム。
【請求項７】
前記チャンバが半導体基板の処理に使用される、請求項６に記載のマイクロ波システム。
【請求項８】
前記マイクロ波負荷は、熱が制御されるチャンバを備え、前記チャンバ内の熱が前記マイクロ波エネルギーに応答して生成された前記効果である、請求項１に記載のマイクロ波システム。
【請求項９】
前記チャンバが半導体基板の処理に使用される、請求項８に記載のマイクロ波システム。
【請求項１０】
前記マイクロ波負荷が、前記マイクロ波エネルギーを使用してプラズマを生成させるようにプラズマアプリケータを備え、前記プラズマは前記マイクロ波エネルギーに応答して生成された前記効果である、請求項１に記載のマイクロ波システム。
【請求項１１】
前記固体発生器を導波路に結合するための、同軸から導波路への移行部をさらに備える、請求項１に記載のマイクロ波システム。
【請求項１２】
マイクロ波エネルギーを生成するための第２固体発生器をさらに備え、第１固体発生器のマイクロ波エネルギーは第１周波数を有し、第２固体発生器のマイクロ波エネルギーは第２周波数を有する、請求項１に記載のマイクロ波システム。
【請求項１３】
前記第１固体発生器及び前記第２固体発生器の前記第１周波数及び第２周波数が異なる、請求項１２に記載のマイクロ波システム。
【請求項１４】
前記第１周波数及び第２周波数の一方が約９１５ＭＨｚであり、前記第１周波数及び第２周波数の他方が約２，４５０ＭＨｚである、請求項１２に記載のマイクロ波システム。
【請求項１５】
前記第１固体発生器及び前記第２固体発生器を前記マイクロ波伝導素子に結合するための、同軸から導波管への移行部をさらに備える、請求項１２に記載のマイクロ波システム。
【請求項１６】
マイクロ波エネルギーを生成するための第２固体発生器をさらに備え、第１固体発生器のマイクロ波エネルギーが第１位相を有し、第２固体発生器のマイクロ波エネルギーが第２位相を有する、請求項１に記載のマイクロ波システム。
【請求項１７】
前記第１固体発生器及び前記第２固体発生器の前記第１位相及び前記第２位相が異なる、請求項１６に記載のマイクロ波システム。
【請求項１８】
前記固体発生器が独立して制御可能な周波数及び／又は位相を有する複数の周波数合成器を備え、前記複数の周波数合成器の出力を使用して前記マイクロ波エネルギーを生成する、請求項１に記載のマイクロ波システム。
【請求項１９】
固体発生器が独立して制御可能な周波数及び／又は位相を有する複数の増幅器を備え、前記複数の増幅器の出力を使用して前記マイクロ波エネルギーを生成する、請求項１に記載のマイクロ波システム。
【請求項２０】
１以上のパラメータによって特徴付けられるマイクロ波エネルギーを与えるための固体発生器であって、制御信号を受信して前記マイクロ波エネルギーの前記１以上のパラメータを電気的に変化させるための少なくとも１つの電気制御入力を有する固体発生器と、
前記マイクロ波エネルギーを受け取るためのプラズマアプリケータであって、前記マイクロ波エネルギーに応答してプラズマを生成するプラズマ放電管と、前記プラズマ放電管の両端間に延在する前記プラズマ放電管の中心長手軸とを備え、前記プラズマ放電管で生成された前記プラズマが前記中心長手軸に沿って長手方向に分布し、かつ、前記中心長手軸から半径方向に、前記中心長手軸に対して垂直に、前記プラズマ放電管の放射状壁に向かって分布する空間プラズマ強度プロファイルを特徴とするプラズマアプリケータと、
前記プラズマ放電管から第１信号を受信し、前記第１信号を前記プラズマ放電管内の前記空間プラズマ強度プロファイルを示す電気信号に変換する検出器と、
前記プラズマ放電管内の前記空間プラズマ強度プロファイルを示す電気信号を受信し、前記電気信号から前記制御信号を生成して、前記マイクロ波エネルギーの前記１以上のパラメータを電気的に変化させ、そして前記制御信号を前記固体発生器の前記制御入力に適用して前記マイクロ波エネルギーの前記１以上のパラメータを電気的に変化させて、前記プラズマ放電管内の空間プラズマ強度プロファイルを変更するコントローラと
を備えるマイクロ波プラズマシステム。
【請求項２１】
前記検出器が光学検出器であり、前記第１信号が光学信号である、請求項２０に記載のマイクロ波プラズマシステム。
【請求項２２】
前記光学検出器がカメラを含む、請求項２１に記載のマイクロ波プラズマシステム。
【請求項２３】
前記検出器が温度検出器であり、前記第１信号が熱信号である、請求項２０に記載のマイクロ波プラズマシステム。
【請求項２４】
前記温度検出器が熱電対を含む、請求項２３に記載のマイクロ波プラズマシステム。
【請求項２５】
前記マイクロ波エネルギーを前記プラズマ放電管に結合するための導波管と、前記マイクロ波エネルギーの前記１以上のパラメータの少なくとも１つを機械的に変化させるための、導波管に結合された機械式チューナとをさらに備える、請求項２０に記載のマイクロ波プラズマシステム。
【請求項２６】
前記機械式チューナがマイクロ波スタブチューナを含む、請求項２５に記載のマイクロ波プラズマシステム。
【請求項２７】
前記マイクロ波スタブチューナが複数のスタブを含む、請求項２６に記載のマイクロ波プラズマシステム。
【請求項２８】
前記機械式チューナが固定チューナである、請求項２５に記載のマイクロ波プラズマシステム。
【請求項２９】
前記機械式チューナが電動式バイナリチューナである、請求項２５に記載のマイクロ波プラズマシステム。
【請求項３０】
前記マイクロ波エネルギーの前記１以上のパラメータが前記マイクロ波エネルギーの周波数を含む、請求項２０に記載のマイクロ波プラズマシステム。
【請求項３１】
前記マイクロ波エネルギーの前記１以上のパラメータが前記マイクロ波エネルギーの位相を含む、請求項２０に記載のマイクロ波プラズマシステム。
【請求項３２】
前記固体発生器が独立して制御可能な周波数及び／又は位相を有する複数の周波数合成器を備え、前記複数の周波数合成器の出力を使用して前記マイクロ波エネルギーを生成する、請求項２０に記載のマイクロ波プラズマシステム。
【請求項３３】
前記固体発生器が独立して制御可能な周波数及び／又は位相を有する複数の増幅器を備え、前記複数の増幅器の出力を使用して前記マイクロ波エネルギーを生成する、請求項２０に記載のマイクロ波プラズマシステム。
【請求項３４】
１以上のパラメータによって特徴付けられるマイクロ波エネルギーを与えるための固体発生器であって、制御信号を受信して前記マイクロ波エネルギーの前記１以上のパラメータを電気的に変化させるための少なくとも１つの電気制御入力を有する固体発生器と、
前記マイクロ波エネルギーを受け取るためのプラズマアプリケータであって、前記マイクロ波エネルギーに応答してプラズマを生成するプラズマ放電管と、前記プラズマ放電管の両端間に延在する前記プラズマ放電管の中心長手軸とを備え、前記プラズマ放電管で生成された前記プラズマが前記中心長手軸に沿って長手方向に分布し、かつ、前記中心長手軸から半径方向に、前記中心長手軸に対して垂直に、前記プラズマ放電管の放射状壁に向かって分布する空間プラズマ強度プロファイルを特徴とするプラズマアプリケータと、
前記マイクロ波エネルギーの前記１以上のパラメータを電気的に変化させる前記制御信号を生成し、前記制御信号を前記固体発生器の前記電気制御入力に適用して前記マイクロ波エネルギーの前記１以上のパラメータを電気的に変化させて、前記プラズマ放電管内の空間プラズマ強度プロファイルを変更するコントローラとを備え、
前記固体発生器は、（ｉ）独立して制御可能な周波数、位相及び／又は振幅を有する複数のマイクロ波増幅器であって、前記マイクロ波増幅器各々がそれぞれの複数の増幅されたマイクロ波信号の１つを生成する複数のマイクロ波増幅器と、（ｉｉ）前記複数の増幅されたマイクロ波信号を受信し、前記複数の増幅されたマイクロ波信号を結合して単一の結合したマイクロ波信号にし、前記単一の結合したマイクロ波信号を前記マイクロ波エネルギーとして前記プラズマアプリケータに適用するマイクロ波結合器とを備える、マイクロ波プラズマシステム。
【請求項３５】
前記マイクロ波エネルギーを前記プラズマ放電管に結合するための導波管と、前記マイクロ波エネルギーの前記１以上のパラメータの少なくとも１つを機械的に変化させるための、導波管に結合された機械式チューナとをさらに備える、請求項３４に記載のマイクロ波プラズマシステム。
【請求項３６】
前記機械式チューナがマイクロ波スタブチューナを含む、請求項３５に記載のマイクロ波プラズマシステム。
【請求項３７】
前記マイクロ波スタブチューナが複数のスタブを含む、請求項３６に記載のマイクロ波プラズマシステム。
【請求項３８】
前記機械式チューナが固定チューナである、請求項３５に記載のマイクロ波プラズマシステム。
【請求項３９】
前記機械式チューナが電動式バイナリチューナである、請求項３５に記載のマイクロ波プラズマシステム。
【請求項４０】
前記マイクロ波エネルギーの前記１以上のパラメータが前記マイクロ波エネルギーの周波数を含む、請求項３４に記載のマイクロ波プラズマシステム。
【請求項４１】
前記マイクロ波エネルギーの前記１以上のパラメータが前記マイクロ波エネルギーの位相を含む、請求項３４に記載のマイクロ波プラズマシステム。
【請求項４２】
前記固体発生器が独立して制御可能な周波数及び／又は位相を有する複数の周波数合成器を備え、前記複数の周波数合成器の出力を使用して前記マイクロ波エネルギーを生成する、請求項３４に記載のマイクロ波プラズマシステム。
【請求項４３】
前記固体発生器が独立して制御可能な周波数及び／又は位相を有する複数の増幅器を備え、前記複数の増幅器の出力を使用して前記マイクロ波エネルギーを生成する、請求項３４に記載のマイクロ波プラズマシステム。