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【手続補正書】
【提出日】令和3年7月20日(2021.7.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ｉ）
【化１】
2020530016.tif 000001
の化合物を調製する方法であって、
前記方法は、亜ジチオン酸ナトリウムの存在下で、溶媒ＳＯＬＶ１中において、かつ触媒ＣＡＴ１の存在下で、式（ＩＩ）
【化２】
2020530016.tif 000002
の化合物を２−ブロモヘプタフルオロプロパンと反応させる、反応ＲＥＡＣ１を含み、
ＲＥＡＣ１の反応混合物が、１つのみの液相を有し、
ＲがＣＦ３又はメチルであり、
ＳＯＬＶ１が、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ｔｅｒｔ−ブチル、炭酸ジメチル、炭酸ジエチル、アセトン、２−ブタノン、エチレングリコール、アセトニトリル、プロピオニトリル、バレロニトリル、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、２−メチルテトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル、スルホラン及びこれらの混合物からなる群より選択され、
ＣＡＴ１が、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、安息香酸、硫酸、塩酸、硫酸水素ナトリウム、硫酸水素カリウム、硫酸水素テトラメチルアンモニウム、硫酸水素テトラブチルアンモニウム、ＮａＨ２ＰＯ４、Ｎａ２ＨＰＯ４、ＫＨ２ＰＯ４、Ｋ２ＨＰＯ４、Ｂｕ４ＮＨ２ＰＯ４、スルファミン酸、ピリジニウム塩酸塩、メタンスルホン酸、トルエンスルホン酸及びこれらの混合物からなる群より選択される、方法。
【請求項２】
式（Ｉ）の化合物が、式（Ｉ−１）
【化３】
2020530016.tif 000003
の化合物又は式（Ｉ−２）
【化４】
2020530016.tif 000004
の化合物である、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
式（ＩＩ）の化合物が、式（ＩＩ−１）
【化５】
2020530016.tif 000005
の化合物又は式（ＩＩ−２）
【化６】
2020530016.tif 000006
の化合物である、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
ＳＯＬＶ１が、酢酸エチル、酢酸ｔｅｒｔ−ブチル、炭酸ジメチル、アセトン、２−ブタノン、エチレングリコール、アセトニトリル、プロピオニトリル、バレロニトリル、１，４−ジオキサン、メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル、スルホラン及びこれらの混合物からなる群より選択される、請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
ＣＡＴ１が、酢酸、プロピオン酸、硫酸、塩酸、硫酸水素ナトリウム、硫酸水素カリウム、硫酸水素テトラブチルアンモニウム、ＮａＨ２ＰＯ４、Ｎａ２ＨＰＯ４、ＫＨ２ＰＯ４、Ｋ２ＨＰＯ４、Ｂｕ４ＮＨ２ＰＯ４、ピリジニウム塩酸塩、トルエンスルホン酸及びこれらの混合物からなる群より選択される、請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】令和3年6月18日(2021.6.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
静菌剤及び／又は殺菌剤としてのWillaertia magna種の原生動物の非治療的使用。
【請求項２】
前記Willaertia magna種の原生動物は、生存形態、死亡形態若しくは細胞溶解物形態、又は生存形態、死亡形態及び／若しくは細胞溶解物形態の混合物であることを特徴とする請求項１に記載の使用。
【請求項３】
前記Willaertia magna種の原生動物は、例えばSolumitrisアメーバ属の原生動物、Cercomonas属のケルコゾア原生動物又はParacercomonas属のケルコゾア原生動物といった他の原生動物と組み合わせて用いられることを特徴とする請求項１又は２に記載の使用。
【請求項４】
（ｉ）Ascomycota門から選択される、より好ましくはsordariomycetes、eurotiomycetes、dothideomycetes、saccharomycetes、leotiomycetes、oomycetes綱及びそれらの組み合わせから選択される、さらに好ましくは、Botrytis、Erysiphe、Fusarium、Penicillium、Plasmopara、Phytophthora、Chaetomium、Trichoderma、Aspergillus、Alternaria、Candida、Ulocladium、Epicoccum、Cladosporium属、及びそれらの組み合わせから選択される真菌を除去するための、並びに／又は、（ｉｉ）B. cinerea、E. necator、F. solani、C. globosum、P. chrysogenum、P. expansum、P. viticola、P. infestans、T. viride、T. harzianum、A. fumigatus、A. alternata、A. flavus、P. variotii、A. niger、C. albicans、U. botrytis、E. nigrum、B. cinerea、P. roqueforti、C. cladosporioides、E. chevalieri、A. pullulans、及びそれらの組み合わせから選択される真菌を除去するための請求項１〜３のいずれか１項に記載の使用。
【請求項５】
前記原生動物は、ＡＴＣＣにおいてＰＴＡ−７８２４の番号で寄託されているWillaertia magna属菌株、又はＡＴＣＣにおいてＰＴＡ−７８２５の番号で寄託されているWillaertia magna属菌株に相当することを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の使用。
【請求項６】
植物における寄生真菌の増殖を抑制するための請求項１〜５のいずれか１項に記載の使用。
【請求項７】
つる植物、穀類、ジャガイモ、果樹及びの野菜園の作物の菌類病の治療のため、特に、つる植物のうどんこ病、つる植物のべと病、穀類のセプトリア病及びフザリウム病、穀類の網斑病、ジャガイモのべと病及び夏疫病、リンゴの木の腐敗病、セイヨウアブラナ及び野菜のダイズ菌核病、並びにそれらの組み合わせから選択される菌類病の治療のための請求項６に記載の使用。
【請求項８】
（ｉ）空気処理施設のネットワークを消毒するため、
（ｉｉ）食品、食品変換／生産装置、食品変換／生産工場、若しくは化粧品、食品若しくは化粧品と接触する表面における真菌の汚染及び／若しくは真菌のバイオフィルムの形成を抑制するため、又は、
（ｉｉｉ）内部環境の汚染を処置するためである、請求項１〜５のいずれか１項に記載の使用。
【請求項９】
抗真菌薬として使用するためのWillaertia magna種の原生動物を含む組成物。
【請求項１０】
Aspergillus, Candida, U. botrytis, A.niger, P.variotii, A.alternata、抗真菌薬耐性真菌、及びそれらの組み合わせにより引き起こされる感染の治療のための請求項９に記載のWillaertia magna種の原生動物を含む組成物。
【請求項１１】
Candida albicans菌により引き起こされる感染の治療のための請求項９又は１０に記載のWillaertia magna種の原生動物を含む組成物。
【請求項１２】
Willaertia magna種の原生動物と、特に水（Ｈ２Ｏ）である１つ以上の製剤化剤と、必要に応じて１つ以上のアジュバントとを含む医薬又は植物薬組成物。
【請求項１３】
Willaertia magna種の原生動物は、死亡形態及び／若しくは細胞溶解物形態、又は生存形態、死亡形態及び／若しくは細胞溶解物形態の混合物であることを特徴とする請求項１２に記載の医薬又は植物薬組成物。
【請求項１４】
固体乾燥形態、粉末形態、顆粒形態、ペースト形態又は液体形態の濃縮植物薬組成物である請求項１２又は１３に記載の医薬又は植物薬組成物。
【請求項１５】
固体乾燥形態、粉末形態、顆粒形態、ペースト形態又は液体形態の使用準備済の植物薬組成物である請求項１２又は１３に記載の医薬又は植物薬組成物。
【手続補正書】
【提出日】令和3年4月5日(2021.4.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
オフターゲットの非ガン組織における前立腺特異的膜抗原（PSMA）標的化イメージングまたは治療上薬剤の曝露を、PSMA標的化薬剤により処置される対象において、防止または低減するために用いられる薬剤組成物であって、オフターゲットの非ガン組織へのPSMA標的化薬剤の結合が防止または低減されるのに有効な量の2-(ホスホノメチル)ペンタン二酸（2-PMPA）のプロドラッグを含む、薬剤組成物。
【請求項２】
2-PMPAのプロドラッグには、式（I）または式（II）の化合物：
【化１】
2020530007.tif 000001
式中：
各R1、R2、R3、およびR4は、H、アルキル、Ar、-(CR5R6)n-Ar、-(CR5R6)n-O-C(=O)-R7、-(CR5R6)n-C(=O)-O-R7、-(CR5R6)n-O-C(=O)-O-R7、-(CR5R6)n-O-R7、-(CR5R6)n-O-[(CR5R6)n-O]m-R7、-(CR5R6)n-Ar-O-C(=O)-R7、-Ar-C(=O)-O-(CR5R6)n-R7、-(CR5R6)n-NR8R9、および-(CR5R6)n-C(=O)-NR8R9からなる群より無関係に選ばれ；
式中：
nは1から20までの整数であり；
mは1から20までの整数であり；
各R3'およびR4'は無関係にHまたはアルキルであり；
各R5およびR6は、H、アルキル、およびアルキルアリールからなる群より無関係に選ばれ；
各R7は無関係に直鎖または分枝アルキルであり；
Arは、アリール、置換アリール、ヘテロアリールまたは置換ヘテロアリールであり；および
R8およびR9はそれぞれ無関係にHまたはアルキルであり；ならびに
それらの薬学的に許容可能な塩
が含まれる、請求項１の薬剤組成物。
【請求項３】
式（I）又は式（II）の化合物は、次の：
【化２−１】
2020530007.tif 000002
【化２−２】
2020530007.tif 000003
【化２−３】
2020530007.tif 000004
【化２−４】
2020530007.tif 000005
【化２−５】
2020530007.tif 000006
からなる群より選ばれる、請求項２の薬剤組成物。
【請求項４】
2-PMPAのプロドラッグを含む薬剤組成物は、PSMA標的化イメージングまたは治療上薬剤と組み合わせて、PSMA標的化イメージングまたは治療上薬剤が施される前又は同時に対象に対して施される、請求項１−３のいずれか一項の薬剤組成物。
【請求項５】
オフターゲット組織は、腎臓、涙腺、および唾液腺からなる群より選ばれる器官にある、請求項１−４のいずれか一項の薬剤組成物。
【請求項６】
PSMA標的化イメージングまたは治療上薬剤は、グルタマートモイエティーを有するグルタミン酸カルボキシペプチダーゼの小分子インヒビターであって、特に限定されるものではないが、PSMA-11、PSMA-617、又はPSMA I&Tを含む、請求項１−５のいずれか一項の薬剤組成物。
【請求項７】
ガンについて前立腺特異的膜抗原（PSMA）標的化放射線療法を受けるペイシェントにおいて、唾液腺、腎臓、又は涙腺への組織損傷を軽減するために用いられる薬剤組成物であって、治療上有効な量の2-(ホスホノメチル)ペンタン二酸（2-PMPA）のプロドラッグを含む、薬剤組成物。
【請求項８】
唾液腺損傷は、口内乾燥、濃密化唾液、唾液減少、口内炎、嗄声、嚥下困難、味覚喪失、およびそれらの組合せからなる群より選ばれる副作用を起こさせる、請求項７の薬剤組成物。
【請求項９】
2-PMPAのプロドラッグには、式（I）または式（II）の化合物：
【化３】
2020530007.tif 000007
式中：
各R1、R2、R3、およびR4は、H、アルキル、Ar、-(CR5R6)n-Ar、-(CR5R6)n-O-C(=O)-R7、-(CR5R6)n-C(=O)-O-R7、-(CR5R6)n-O-C(=O)-O-R7、-(CR5R6)n-O-R7、-(CR5R6)n-O-[(CR5R6)n-O]m-R7、-(CR5R6)n-Ar-O-C(=O)-R7、-Ar-C(=O)-O-(CR5R6)n-R7、-(CR5R6)n-NR8R9、および-(CR5R6)n-C(=O)-NR8R9からなる群より無関係に選ばれ；
式中：
nは1から20までの整数であり；
mは1から20までの整数であり；
各R3'およびR4'は無関係にHまたはアルキルであり；
各R5およびR6は、H、アルキル、およびアルキルアリールからなる群より無関係に選ばれ；
各R7は無関係に直鎖または分枝アルキルであり；
Arは、アリール、置換アリール、ヘテロアリールまたは置換ヘテロアリールであり；および
R8およびR9はそれぞれ無関係にHまたはアルキルであり；ならびに
それらの薬学的に許容可能な塩
が含まれる、請求項７又は請求項８の薬剤組成物。
【請求項１０】
2-PMPAのプロドラッグは、次の：
【化４】
2020530007.tif 000008
からなる群より選ばれる、請求項７−９のいずれか一項の薬剤組成物。
【請求項１１】
PSMA標的化イメージングまたは治療上薬剤は、117Lu-PSMA-617、131I-MIP-1095、177Lu-PSMA-I&T、177Lu-PSMA-R2、225Ac-PSMA-617、227Th-PSMA-ADC、CTT1403、CTT1700、68Ga-PSMA-11、18F-DCFPyL、CTT1057、68Ga-PSMA-R2、および68Ga-PSMA-617からなる群より選ばれる、請求項７−１０のいずれか一項の薬剤組成物。
【請求項１２】
PSMA標的化治療用物質は、約3 GBqから約100 GBq又は約52 GBqから約100 GBqまでの累積量において施される放射線治療用物質である、請求項７−１１のいずれか一項の薬剤組成物。
【請求項１３】
PSMA標的化治療用物質および2-PMPAプロドラッグは、約1ないし約15の処置サイクル又は約6ないし約15の処置サイクルについて施される、請求項７−１２のいずれか一項の薬剤組成物。
【請求項１４】
ペイシェントはガンについて以前に処置を受けたことがない、請求項７−１３のいずれか一項の薬剤組成物。
【請求項１５】
ガンは前立腺ガンである、請求項７−１４のいずれか一項の薬剤組成物。
【手続補正書】
【提出日】令和3年4月28日(2021.4.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コア合金の少なくとも１つのコア（１０）をろう付け結合剤（１４）と一緒に攪拌して、前記ろう付け結合剤（１４）の第１の層でコーティングされた前記少なくとも１つのコア（１０）を含む、少なくとも１つの被覆コア（２２）を形成することと、
前記少なくとも１つの被覆コア（２２）を、第１の合金の第１の金属粉末および第２の合金の第２の金属粉末を含む粉末組成物（３４）と一緒に攪拌して、前記第１の合金および前記第２の合金の第１の粉末（３０）の組成物層を有するグリーンプリフォーム（４０）を形成することと、
前記グリーンプリフォーム（４０）を焼結して、少なくとも１つのハイブリッド予備焼結プリフォーム（ＰＳＰ）（６０）を形成することと
を含む、プロセス。
【請求項２】
前記第１の合金が少なくとも約２４００°Ｆの第１の融点を有し、前記第２の合金が約２３５０°Ｆ未満の第２の融点を有する、請求項１に記載のプロセス。
【請求項３】
前記ろう付け結合剤（１４）がろう付け結合剤（１４）のゲルである、請求項１に記載のプロセス。
【請求項４】
前記グリーンプリフォーム（４０）を前記ろう付け結合剤（１４）と一緒に攪拌して、ろう付け結合剤被覆グリーンプリフォームを形成し、前記ろう付け結合剤被覆グリーンプリフォームを前記第１の金属粉末および前記第２の金属粉末と一緒に攪拌して、粉末被覆グリーンプリフォーム（５０）を形成することをさらに含み、前記焼結が前記粉末被覆グリーンプリフォーム（５０）の焼結である、請求項１に記載のプロセス。
【請求項５】
前記少なくとも１つのコア（１０）が球状である、請求項１に記載のプロセス。
【請求項６】
前記第１の金属粉末および前記第２の金属粉末が、９０：１０から４５：５５の範囲の重量比で前記粉末組成物（３４）の中に存在する、請求項１に記載のプロセス。
【請求項７】
コア合金の少なくとも１つのコア（１０）をろう付け結合剤（１４）と一緒に前記攪拌し、前記少なくとも１つの被覆コア（２２）を第１の合金の第１の金属粉末および第２の合金の第２の金属粉末から構成される粉末組成物（３４）と一緒に前記攪拌することが、三次元シェーカーミキサ（２０）によって実行される、請求項１に記載のプロセス。
【請求項８】
コア合金のコア（１０）と、
前記コア（１０）上にコーティングされたろう付け結合剤（１４）の第１の層と、
前記第１の層にコーティングされた第１の合金の第１の金属粉末および第２の合金の第２の金属粉末を含む粉末組成物（３４）であって、前記第１の合金が少なくとも約２４００°Ｆの第１の融点を有し、前記第２の合金が約２３５０°Ｆ未満の第２の融点を有する、粉末組成物（３４）と
を含む、グリーンプリフォーム（４０）。
【請求項９】
前記第１の金属粉末および前記第２の金属粉末の前記粉末組成物（３４）上にコーティングされた前記ろう付け結合剤（１４）の第２の層と、
前記第２の層にコーティングされた前記第１の合金の前記第１の金属粉末および前記第２の合金の前記第２の金属粉末の前記粉末組成物（３４）と
をさらに含む、請求項８に記載のグリーンプリフォーム（４０）。
【請求項１０】
コア合金のコア（１０）と、
前記コア（１０）に焼結された第１の層であって、前記第１の層が第１の金属粉末からの第１の合金および第２の金属粉末からの第２の合金を含む焼結粉末組成物（６２）であり、前記第１の合金が少なくとも約２４００°Ｆの第１の融点を有し、前記第２の合金が約２３５０°Ｆ未満の第２の融点を有する、第１の層と
を含む、ハイブリッド予備焼結プリフォーム（６０）。
【手続補正書】
【提出日】令和3年4月28日(2021.4.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の合金の第１の金属粉末（１０）と第２の合金の第２の金属粉末（１２）との粉末組成物（１４）をセラミックダイ（２０）内に配置するステップと、
前記セラミックダイ（２０）内に焼結ロッド（３０）を形成するために前記セラミックダイ（２０）内で前記粉末組成物（１４）を焼結するステップと、
前記セラミックダイ（２０）から前記焼結ロッド（３０）を取り外すステップと、
前記焼結ロッド（３０）を複数の予備焼結プリフォーム（５０）にスライスするステップと、
を含むプロセス。
【請求項２】
前記第１の合金は約２４００°Ｆ以上の第１の融点を有し、前記第２の合金は約２３５０°Ｆ以下の第２の融点を有する、請求項１に記載のプロセス。
【請求項３】
前記焼結ロッド（３０）は約４６ｃｍから約９１ｃｍの範囲の高さを有する、請求項１に記載のプロセス。
【請求項４】
前記焼結ロッド（３０）をスライスする前に、前記焼結ロッド（３０）を所定の断面形状に機械加工するステップをさらに含む、請求項１に記載のプロセス。
【請求項５】
前記スライスは、旋削、ボーリング、フライス加工、研削、放電加工、レーザー切断、水噴射、およびそれらの組み合わせからなる群から選択される機械加工プロセスを含む、請求項１に記載のプロセス。
【請求項６】
前記複数の予備焼結プリフォーム（５０）のうちの１つを物品（６０）にろう付けするステップをさらに含む、請求項１に記載のプロセス。
【請求項７】
前記予備焼結プリフォーム（５０）は約３ｍｍから約１０ｍｍの厚さを有する、請求項１に記載のプロセス。
【請求項８】
前記第１の金属粉末（１０）および前記第２の金属粉末（１２）は、９０：１０から４５：５５の範囲の重量比で前記粉末組成物（１４）中に存在する、請求項１に記載のプロセス。
【請求項９】
前記粉末組成物（１４）はバインダー材料を含まない、請求項１に記載のプロセス。
【請求項１０】
請求項１に記載のプロセスにより形成された予備焼結プリフォーム（５０）。
【手続補正書】
【提出日】令和3年7月14日(2021.7.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項６】
前記上部稜線（４）を前記第１のタンク壁の前記特有の波形（９）から分離する前記所定の距離が前記均等な分離間隔（８）に等しい、請求項５に記載の密閉断熱タンク。
【手続補正書】
【提出日】令和3年7月12日(2021.7.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
３−メチルメトカチノン（３−ＭＭＣ）を有効成分として含む、精神療法的介入を受ける患者を処置するための医薬。
【請求項２】
前記精神療法的介入の前に投与される、請求項１に記載の医薬。
【請求項３】
前記精神療法的介入中に投与される、請求項１に記載の医薬。
【請求項４】
前記精神療法的介入中に少なくとも２回投与される、請求項３に記載の医薬。
【請求項５】
前記精神療法的介入の後に投与される、請求項１に記載の医薬。
【請求項６】
前記患者に投与される前記３−ＭＭＣの量が、治療的介入１回につき５０ｍｇ〜５００ｍｇとなるように処方されている、請求項１から５のいずれか一項に記載の医薬。
【請求項７】
前記患者に投与される前記３−ＭＭＣの量が、治療的介入１回につき１００ｍｇ〜４００ｍｇとなるように処方されている、請求項６に記載の医薬。
【請求項８】
前記患者に投与される前記３−ＭＭＣの量が、治療的介入１回につき１００ｍｇ〜２００ｍｇとなるように処方されている、請求項６に記載の医薬。
【請求項９】
前記患者に投与される前記３−ＭＭＣの量が、治療的介入１回につき１００ｍｇまたは２００ｍｇとなるように処方されている、請求項１から８のいずれか一項に記載の医薬。
【請求項１０】
前記精神療法的介入が、前記患者の苦痛を軽減するためのものである、請求項１から９のいずれか一項に記載の医薬。
【請求項１１】
前記患者における前記苦痛を軽減するためのものである、請求項１０に記載の医薬。
【請求項１２】
前記苦痛が認知、情動、行動、関係及び精神的な苦痛からなる群から選択される、請求項１０又は１１に記載の医薬。
【請求項１３】
前記苦痛が、心的外傷の個人歴、親子関係問題、小児期のネグレクトの個人歴（既往歴）、小児期における身体的虐待の個人歴（既往歴）、小児期における心理的虐待の個人歴（既往歴）、小児期における性的虐待の個人歴（既往歴）、配偶者又はパートナーによるネグレクトの個人歴（既往歴）、配偶者又はパートナーの心理的虐待の個人歴（既往歴）、配偶者又はパートナーの身体的暴力の個人歴（既往歴）、配偶者又はパートナーの性的暴力の個人歴（既往歴）、人生問題の局面、配偶者又は親密なパートナーとの関係苦痛、刺激薬使用障害及び心的外傷後ストレス障害からなる群から選択される症状又は障害である、請求項１０から１２のいずれか一項に記載の医薬。
【請求項１４】
前記患者が、心的外傷後ストレス障害（ＰＴＳＤ）、双極性障害、急性ストレス障害、全般不安症などの不安症、強迫性障害、社会不安症、恐慌性障害、恐怖症、強迫性障害及び抜毛症からなる群から選択されるストレス感受性障害と診断されたものである、請求項１０から１２のいずれか一項に記載の医薬。
【請求項１５】
前記精神療法的介入が、精神分析及び精神力動療法、行動療法、認知療法、人間性療法並びに統合又は全人的医療からなる群から選択される、請求項１から１４のいずれか一項に記載の医薬。
【請求項１６】
前記精神療法的介入が、人間性療法又は統合／全人的医療である、請求項１５に記載の医薬。
【請求項１７】
前記苦痛の軽減が、作業／家庭環境における安定性の改善、行動の改善、雇用機能の改善、職業的機能の改善、認知ストレスの軽減、情動ストレスの軽減、患者の生活状況の改善、患者の家族関係の改善、社会的関係の改善、患者の生きる意義の改善、患者の生きる目的意識の改善、精神的健康上の症候の軽減、嗜癖行動の軽減、及び薬物依存の軽減から選ばれる少なくとも１種を含む、請求項１０に記載の医薬。
【請求項１８】
前記苦痛の軽減が、精神療法的介入の回数及び／又は頻度の削減、及び／又は嗜癖行動の軽減、及び薬物依存の軽減を含む、請求項１０に記載の医薬。
【請求項１９】
治療有効量の３−メチルメトカチノン（３−ＭＭＣ）と、精神療法的介入に関連した３−ＭＭＣの使用説明書とを含む、精神療法的介入を受ける患者を処置するのに使用するためのキット。
【請求項２０】
前記精神療法的介入が、前記患者における苦痛に対するものである、請求項１９に記載のキット。
【請求項２１】
前記精神療法的介入が、精神分析及び精神力動療法、行動療法、認知療法、人間性療法並びに統合又は全人的医療からなる群から選択される、請求項１９又は２０に記載のキット。
【手続補正書】
【提出日】令和3年7月26日(2021.7.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
水酸化銅およびジエタノールアミンを含む銅系インク。
【請求項２】
前記水酸化銅およびジエタノールアミンが前記インク中で錯体を形成し、１：２．５〜１：３．５のモル比で存在する、請求項１に記載のインク。
【請求項３】
前記モル比が１：３である、請求項２に記載のインク。
【請求項４】
前記水酸化銅が、前記インクの総重量に基づいて、５重量％〜４０重量％の銅を前記インク中に提供する量の水酸化銅一水和物を含む、請求項１〜３のいずれか一項に記載のインク。
【請求項５】
金属充填剤をさらに含む、請求項１〜４のいずれか一項に記載のインク。
【請求項６】
前記金属充填剤が、前記水酸化銅からの銅の重量に基づいて、１重量％〜４０重量％の量で前記インク中に存在する、請求項５に記載のインク。
【請求項７】
前記金属充填剤が、銅ナノ粒子、硝酸銀、またはそれらの混合物を含む、請求項５または６に記載の方法。
【請求項８】
溶媒および結合剤をさらに含む、請求項１〜７のいずれか一項に記載のインク。
【請求項９】
前記結合剤が、ヒドロキシル末端ポリエステルおよび／またはカルボキシル末端ポリエステルを含む、請求項８に記載のインク。
【請求項１０】
基板上に導電性銅コーティングを作成する方法であって、
請求項１〜９のいずれか一項に記載の銅系インクで基板をコーティングすることと、
前記基板上の前記インクを分解して、前記基板上に導電性銅コーティングを形成することと
を含む方法。
【請求項１１】
前記基板上の前記インクが、１００〜１５０℃の温度で１０〜４５分間乾燥される、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記分解が光焼結を含む、請求項１０又は１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記基板上の前記インクのコーティングがスクリーン印刷を含む、請求項１０〜１２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１４】
請求項１０〜１３のいずれか一項に記載の方法により作成された導電性銅コーティングを有する基板を電子デバイスの上に含む、前記電子デバイス。
【手続補正書】
【提出日】令和3年7月12日(2021.7.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一方向または二方向の移動（Ｓ１、Ｓ２）が提供された、鉄道車両のための鉄道用ディスクブレーキシステム（１２）のための摩擦装置（１６）であって、該摩擦装置（１６）は、
−  受入滑り経路（４）を備えたシューホルダ（３）と、
−  ブレーキパッド（７）と、前記受入滑り経路（４）内においてスライドされるように構成されたプロファイル形状（６）と、を備えた摩擦シュー（２２）であって、該摩擦シュー（２２）の第１面（７１）により区切られた第１空間（Ｅ１）を、前記摩擦シュー（２２）の反対側の第２面（７２）により区切られた第２空間（Ｅ２）に接続した空気導管（９）を備えた摩擦シュー（２２）と、
−  前記シューホルダ（３）内に形成され、前記空気導管（９）に面するように配置された、少なくとも１つの貫通穴（３８）と、
−  前記シューホルダ（３）の貫通穴（３８）と、前記摩擦シュー（２２）の空気導管（９）と、の間に空気ガイドを形成した、前記空気導管（９）内に配置された空気接合リング（８）と、
を備えている摩擦装置（１６）。
【請求項２】
前記空気接合リング（８）は、前記受入滑り経路（４）の底部に載置されたフランジ（８１）および円錐形状（８２）を有する部分を備えている、請求項１に記載の摩擦装置（１６）。
【請求項３】
前記部分は円錐形状（８２）を有し、且つ前記プロファイル形状（６）の高さに等しい高さを有する、請求項２に記載の摩擦装置（１６）。
【請求項４】
前記シューホルダ（３）の受入滑り経路（４）は出口がなくなっており、具体的には１つの閉鎖端部（４１）、ならびに前記摩擦シュー（２２）の抜き取りおよび挿入のための開口部を形成した１つの開放端部（４０）を備え、前記摩擦装置は、前記摩擦シュー（２２）を前記受入滑り経路（４）内にロックするための取り外し可能な部材（１９）をさらに備えている、請求項１から３のいずれか一項に記載の摩擦装置（１６）。
【請求項５】
前記摩擦シュー（２２）は第１部材（１）および第２部材（２）を備え、前記第１部材（１）および第２部材（２）の突き当て領域内において互いに接触するまで、一方でそれらの間に前記空気導管（９）を形成する通路を残すように、前記第１部材および第２部材は前記受入滑り経路（４）内をスライドするように構成されている、請求項１から４のいずれか一項に記載の摩擦装置（１６）。
【請求項６】
前記第１部材（１）および前記第２部材（２）は、各々が前記摩擦シュー（２２）の半体の１つを形成している、請求項５に記載の摩擦装置（１６）。
【請求項７】
前記第１部材（１）および前記第２部材（２）は、接線方向（Ｔ）において、前記鉄道車両（１０）のブレーキディスク（ＤＫ）に対して並置されている、請求項５または６に記載の摩擦装置（１６）。
【請求項８】
前記第１部材（１）と前記第２部材（２）との界面に残された通路は、前記突き当て領域の中間部に配置されている、請求項５から７のいずれか一項に記載の摩擦装置（１６）。
【請求項９】
前記突き当て領域は、実質的に突き当て面（Ｐ）として形成され、前記第１部材（１）および前記第２部材（２）は、前記シューホルダ（３）の長手軸方向（Ｚ２）において類似した長さを有し、前記貫通穴（３８）は、前記突き当て面（Ｐ）と一致した軸（Ａ８）を形成した中心を有する、請求項５から８のいずれか一項に記載の摩擦装置（１６）。
【請求項１０】
一方向または二方向の移動（Ｓ１、Ｓ２）を伴った、鉄道車両（１０）のための鉄道用ディスクブレーキシステム（１２）であって、車軸（１４）または車輪（１８）に固定されたディスク（ＤＫ）と、該ディスク（ＤＫ）の各側に配置された、請求項１から９のいずれか一項に記載の２つの摩擦装置（１６）と、を備えた鉄道用ディスクブレーキシステム（１２）。
【手続補正書】
【提出日】令和3年7月12日(2021.7.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１つまたは２つの移動方向（Ｓ１、Ｓ２）を伴う鉄道車両（１０）のための鉄道ディスクブレーキシステム（１２）のための摩擦セット（１６）が提供され、前記摩擦セット（１６）は、
−  収容滑り溝（４）を備えるシューホルダー（３）と、
−  ブレーキパッド（７）と、前記収容滑り溝（４）内にスライドするよう構成された輪郭形状部（６）と、を備える摩擦シュー（２２）であって、前記摩擦シュー（２２）の第１の表面（７１）によって区切られる空間（Ｅ１）を、前記摩擦シュー（２２）の反対側の第２の表面（７２）によって区切られる第２の空間（Ｅ２）に接続する空気圧導管（９）を備える、摩擦シュー（２２）と、
−  前記シューホルダー（３）内に配置されかつ前記空気圧導管（９）に面するように配備された少なくとも１つの貫通孔（３８）と、
−  前記シューホルダー（３）に据え付けられる空気圧コネクタ（５）であって、前記空気圧コネクタ（５）は、前記貫通孔（３８）に空気圧作用式に接続され、前記摩擦シュー（２２）から離れて延在しており、かつ前記シューホルダー（３）の主平面（ＸＹ）に直交する軸線（Ａ８）周りで、前記シューホルダー（３）に対して回動可能である、空気圧コネクタ（５）と、
を備えることを特徴とする摩擦セット（１６）。
【請求項２】
前記空気圧コネクタ（５）と空気圧作用式に接続されかつ前記摩擦シュー（２２）から離れて延在するホース（５０）を備えることを特徴とする請求項１に記載の摩擦セット（１６）。
【請求項３】
前記ホース（５０）に接続されかつ前記貫通孔（３８）内に減圧を作り出すよう構成されたポンプ（Ｐ）を備えることを特徴とする請求項２に記載の摩擦セット（１６）。
【請求項４】
前記シューホルダー（３）の前記収容滑り溝（４）は、出口がなく、具体的には１つの閉端部（１）と、前記摩擦シューの抜き差しのための開口を形成する１つの開端部（４０）と、を備えており、前記摩擦セット（１６）は、前記収容滑り溝（４）に前記摩擦シュー（２２）をロックするための取り外し可能なロック部材（１９）をさらに備えることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の摩擦セット（１６）。
【請求項５】
前記摩擦シュー（２２）は、第１の部材（１）および第２の部材（２）を備えており、前記第１の部材（１）および前記第２の部材（２）は、前記空気圧導管（９）を形成するために前記第１の部材（１）と前記第２の部材（２）との間に通路を残しながら、前記第１の部材（１）および前記第２の部材（２）の突き合わせ領域において互いに接触するまで前記収容滑り溝（４）内をスライドするよう構成されていることを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか一項に記載の摩擦セット（１６）。
【請求項６】
前記第１の部材（１）および第２の部材（２）は、各々、前記摩擦シュー（２２）の半体の１つを形成することを特徴とする請求項５に記載の摩擦セット（１６）。
【請求項７】
前記突き合わせゾーンは突き合わせ平面（Ｐ）として画定され、
前記第１の部材（１）および第２の部材（２）は、前記シューホルダー（３）の長手方向（Ｚ２）において同様の長さを有しており、
前記貫通孔（３８）は、前記突き合わせ平面（Ｐ）と一致する軸線（Ａ８）を画定する中心を有することを特徴とする請求項５または請求項６に記載の摩擦セット（１６）。
【請求項８】
摩擦シュー（２２）は単一のものとすることができることを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか一項に記載の摩擦セット（１６）。
【請求項９】
前記シューホルダー（３）の前記貫通孔（３８）と前記空気圧導管（９）との間に空気圧ガイドを形成する前記空気圧導管（９）内に配備される空気圧接合リング（８）を備えることを特徴とする請求項１から請求項８のいずれか一項に記載の摩擦セット（１６）。
【請求項１０】
１つまたは２つの移動方向（Ｓ１、Ｓ２）を伴う鉄道車両（１０）のための鉄道ディスクブレーキシステム（１２）であって、車軸（１４）または車輪（１８）に固定されるディスク（ＤＫ）と、前記ディスク（ＤＫ）の両側に配置される請求項１から請求項９のいずれか一項に記載の２つの摩擦セット（１６）と、を備えることを特徴とする鉄道ディスクブレーキシステム（１２）。
【手続補正書】
【提出日】令和3年3月12日(2021.3.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３７】
前記工作厚板の硬いタイルが、隣接する工作厚板に接続されたときに間隙を提供するように、前記複合コアの縁部から挿入される、請求項３６に記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】令和3年8月5日(2021.8.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
放射線源から発する放射線を阻止するように構成された放射線遮蔽体アセンブリであって、
（ａ）前記遮蔽体アセンブリの重量の少なくとも大半を支持するように構設された、長手方向軸を有する支持アームと、
（ｂ）前記支持アームに固定された、第１の概して平坦且つ鉛直な遮蔽体と、
（ｃ）前記支持アームの前記長手方向軸に対して略平行である軸の周りに回転し、及び前記軸に沿って並進するように、前記支持アームに並進可能且つ回転可能に接続された、第２の概して平坦且つ鉛直な遮蔽体とを備え、
前記第１の概して平坦且つ鉛直な遮蔽体及び前記第２の概して平坦且つ鉛直な遮蔽体は、すべて放射線不透過性である、放射線遮蔽体アセンブリ。
【請求項２】
放射線源から発する放射線を阻止するように構成された放射線遮蔽体アセンブリであって、
（ａ）前記遮蔽体アセンブリの重量の少なくとも大半を支持するように構設された、長手方向軸を有する支持アームと、
（ｂ）第１の放射線不透過性の接合部を介して前記支持アームに固定された第１の概して平坦且つ鉛直な遮蔽体と、
（ｃ）前記支持アームの前記長手方向軸に対して略平行である軸の周りに回転し、及び前記軸に沿って並進するように、第２の放射線不透過性の接合部を介して前記支持アームに並進可能且つ回転可能に接続された、第２の概して平坦且つ鉛直な遮蔽体とを備える、放射線遮蔽体アセンブリ。
【請求項３】
前記第２の鉛直な遮蔽体と共に並進及び回転するように前記第２の概して平坦且つ鉛直な遮蔽体に接続された下側の概して平坦且つ鉛直な遮蔽体を備え、前記下側の遮蔽体は、前記第２の鉛直な遮蔽体及び前記第２の水平な遮蔽体に対して略直交する、請求項１又は２に記載の放射線遮蔽体アセンブリ。
【請求項４】
前記支持アームは、略鉛直なマストを備える、請求項１又は２に記載の放射線遮蔽体アセンブリ又はシステム。
【請求項５】
動作時に、前記支持アームは、前記放射線遮蔽体アセンブリの全重量を支持する、請求項１又は２に記載の放射線遮蔽体アセンブリ又はシステム。
【請求項６】
前記鉛直な遮蔽体に接続された第１の概して水平な遮蔽体を備え、前記第１の概して平坦且つ鉛直な遮蔽体及び前記第１の略水平な遮蔽体は、鉛直に共動して並進するように構成されている、請求項１又は２に記載の放射線遮蔽体アセンブリ又はシステム。
【請求項７】
前記鉛直な遮蔽体に接続された第１の概して水平な遮蔽体を備え、前記第１の概して平坦且つ鉛直な遮蔽体及び前記第１の概して水平な遮蔽体は、前記支持アームに沿って共動して並進するように構成されている、請求項１又は２に記載の放射線遮蔽体アセンブリ又はシステム。
【請求項８】
前記第１の概して平坦且つ鉛直な遮蔽体は、第１の位置において、前記第１の概して平坦且つ鉛直な遮蔽体の最上端が、床の上方の大人の人間の身長程度以上であるように、前記略鉛直な軸に沿って並進するように構成されている、請求項１又は２に記載の放射線遮蔽体アセンブリ又はシステム。
【請求項９】
前記第１の概して平坦且つ鉛直な遮蔽体は、手術台の上面から平均的な人間の全身長までの距離程度以上の高さを有する、請求項１又は２に記載の放射線遮蔽体アセンブリ又はシステム。
【請求項１０】
前記遮蔽体及び／又は前記遮蔽手段のうちのすべては、最小２ｍｍ鉛当量の放射線不透過性を有する、請求項１又は２に記載の放射線遮蔽体アセンブリ又はシステム。
【請求項１１】
前記遮蔽体及び／又は前記遮蔽手段のうちのすべては、修正されたＡＳＴＭ  Ｆ３０９４／ＩＥＣ６１３３１−１規約によって測定されたときに、放射線被曝を約２．５ｍＲ／ｈｒ以下に低減する、請求項１又は２に記載の放射線遮蔽体アセンブリ又はシステム。
【請求項１２】
前記第２の概して平坦且つ鉛直な遮蔽体及び前記第２の略水平な遮蔽体は、前記支持アームに沿って共動して並進するように構成されている、請求項１又は２に記載の放射線遮蔽体アセンブリ又はシステム。
【請求項１３】
前記鉛直な遮蔽体に接続された第１の概して水平な遮蔽体と、前記第１の概して平坦且つ鉛直な遮蔽体及び前記第１の略水平な遮蔽体のうちの少なくとも一方を前記支持アームに沿って昇降させる手段とを備える、請求項１又は２に記載の放射線遮蔽体アセンブリ又はシステム。
【請求項１４】
前記鉛直な遮蔽体に接続された第１の概して水平な遮蔽体と、前記第１の概して平坦且つ鉛直な遮蔽体及び前記第１の略水平な遮蔽体のうちの少なくとも一方を前記支持アームに沿って昇降させる手段とを備え、前記昇降させる手段は、支援機構、カウンタウェイト系、電動機、油圧系、空気圧系、及び手動系からなる群から選択される、請求項１又は２に記載の放射線遮蔽体アセンブリ又はシステム。
【請求項１５】
前記支持アームは、フロアスタンドによって支持されたマストを備える、請求項１又は２に記載の放射線遮蔽体アセンブリ又はシステム。
【請求項１６】
前記遮蔽体及び／又は前記遮蔽手段のうちの少なくとも１つは、可視光に対して透明である、請求項１又は２に記載の放射線遮蔽体アセンブリ又はシステム。
【手続補正書】
【提出日】令和3年5月19日(2021.5.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
抑制デンプンを調製する方法であって、
a）デンプンを含有する原材料から得られた天然の粒状デンプンを含有するスラリーを提供する工程と、
b）アンモニアを添加することによって、またはそのスラリーの中でアンモニアを放出するかまたは発生させる能力を有する1つ以上の化合物を添加することによって、そのスラリーをアルカリ化する工程と、
c）そのスラリーのpHを7〜10の値に調節する工程と、
d）前記アンモニアと反応させるために、活性な塩素の供給源である少なくとも1つの酸化剤をそのスラリーに添加する工程と、
e）あらゆる残留酸化剤、異味、望ましくない臭いを除去するために、少なくとも1つの有機酸または亜硫酸水素塩をそのスラリーに添加する工程と、
f）長期の倉庫保管の間の、デンプンの実現された抑制を安定化させるために、少なくとも1つの抗酸化剤をそのスラリーに添加する工程を含む、方法。
【請求項２】
前記スラリーに添加されるアンモニア、または前記スラリーの中で放出されるかまたは発生するアンモニアが、0.01〜10％w/wのDMデンプン、好ましくは0.03〜5％w/wのDMデンプン、より好ましくは0.05〜3.0％w/wのDMデンプンという量のデンプンスラリーの中に存在する、請求項1に記載の方法。
【請求項３】
抑制される前記デンプンが、ジャガイモデンプン、トウモロコシデンプン（コーンスターチ）、タピオカデンプン、オオムギデンプン、コメデンプン、コムギデンプン、ライムギデンプン、オートムギデンプン、アマランスデンプン、キノアデンプン、サゴデンプン、マメデンプン、エンドウマメデンプン、フロリディアンデンプン、ワキシージャガイモデンプン、ワキシーコーンスターチ、ワキシータピオカデンプン、ワキシーオオムギデンプン、ワキシーコメデンプン、ワキシーモロコシデンプン、ワキシーコムギデンプン、ワキシーエンドウマメデンプン、高アミロースデンプン、またはこれらの2つ以上の組み合わせである、請求項1〜2のいずれか1項に記載の方法。
【請求項４】
前記スラリーの中でアンモニアを放出するかまたは発生させる能力を有する前記1つ以上の化合物が、
a）アンモニウム化合物、好ましくは酸のアンモニウム塩、好ましくは酢酸アンモニウム、塩化アンモニウム、またはクエン酸アンモニウムと、水酸化化合物、好ましくはアルカリ金属またはアルカリ土類金属の水酸化物であり、反応して前記アンモニウム化合物からアンモニアを放出する化合物、
b）使用したデンプンからの残留タンパク質の、前記スラリーの中にすでに存在するアミノ酸からアンモニアを放出する酵素、
c）使用したデンプンからの残留タンパク質の、前記スラリーの中にすでに存在するα-アミノ酸からアンモニアを放出する酸化剤、または
d）アミドと、場合によりアルカリまたは酸であり、前記スラリーの中でそのアミドからアンモニアを放出する化合物
である、請求項1〜3のいずれか1項に記載の方法。
【請求項５】
前記酸化剤が活性な塩素の供給源であり、好ましくは次亜塩素酸塩または次亜塩素酸である、請求項1〜4のいずれか1項に記載の方法。
【請求項６】
請求項1の工程c）でpHを8〜9の値に調節する、請求項1〜5のいずれか1項に記載の方法。
【請求項７】
請求項1の工程d）の間の反応温度が5〜70℃である、請求項1〜6のいずれか1項に記載の方法。
【請求項８】
前記次亜塩素酸塩が、次亜塩素酸ナトリウム、次亜塩素酸カルシウム、次亜塩素酸マグネシウム、または次亜塩素酸カリウムである、請求項5に記載の方法。
【請求項９】
前記酸化剤を、0.03〜30％w/wのDMデンプン、好ましくは0.05〜10％w/wのDMデンプン、より好ましくは0.1〜4％w/wのDMデンプンという量で添加する、請求項1〜8のいずれか1項に記載の方法。
【請求項１０】
前記少なくとも1つの有機酸が、クエン酸、アジピン酸、乳酸、アスコルビン酸、コハク酸と、これらの酸の塩形態である、請求項1〜9のいずれか1項に記載の方法。
【請求項１１】
前記少なくとも1つの有機酸または亜硫酸水素塩を、抗酸化剤として、0.001〜5％w/wのDMデンプン、好ましくは0.01〜3％w/wのDMデンプン、より好ましくは0.05〜1％w/wのDMデンプンという量で添加する、請求項1〜10のいずれか1項に記載の方法。
【請求項１２】
前記少なくとも1つの抗酸化剤が、アスコルビン酸、アスコルビン酸ナトリウム、アスコルビン酸カルシウム、エリソルビン酸、エリソルビン酸ナトリウム、乳酸ナトリウム、乳酸カリウム、乳酸カルシウム、クエン酸、クエン酸一ナトリウム、クエン酸二ナトリウム、クエン酸三ナトリウム、クエン酸一カリウム、クエン酸三カリウム、クエン酸一カルシウム、クエン酸二カルシウム、クエン酸三カルシウム、L-酒石酸、L-酒石酸一ナトリウム、L-酒石酸二ナトリウム、L-酒石酸一カリウム、L-酒石酸二カリウム、L-酒石酸ナトリウムカリウム、リン酸、リン酸一ナトリウム、リン酸二ナトリウム、リン酸三ナトリウム、リン酸一カリウム、リン酸二カリウム、リン酸三カリウム、リン酸一カルシウム、リン酸二カルシウム、リン酸三カルシウム、リン酸一マグネシウム、リン酸二マグネシウム、リンゴ酸ナトリウム、リンゴ酸水素ナトリウム、リンゴ酸カリウム、リンゴ酸カルシウム、リンゴ酸水素カルシウム、メソ酒石酸、L-酒石酸カルシウム、アジピン酸、アジピン酸ナトリウム、アジピン酸カリウム、コハク酸、クエン酸三アンモニウム、またはこれらの2つ以上の組み合わせである、請求項1〜11のいずれか1項に記載の方法。
【請求項１３】
前記抗酸化剤を、0.001〜10％w/wのDMデンプン、好ましくは0.01〜5％w/wのDMデンプン、より好ましくは0.1〜3％w/wのDMデンプンという量で添加する、請求項1〜12のいずれか1項に記載の方法。
【請求項１４】
前記デンプンをまた、アセチル化、ヒドロキシプロピル化、化学的架橋、OSA修飾、酵素処理、デキストリン化、そのデンプンを冷水に溶けるようにするための糊化、そのデンプンを冷水で膨潤させるための抑制前のアルファ化、またはこれらの2つ以上の組み合わせによって加工する、請求項1〜13のいずれか1項に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】令和3年8月3日(2021.8.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
面板であって、
第１の表面領域と、前記第１の表面領域を取り囲む第２の表面領域とを有する本体であって、前記第１の表面領域は第１の放射率を有し、前記第２の表面領域は第２の放射率を有し、前記第２の放射率は前記第１の放射率とは異なる、本体と、
前記第１の表面領域内に前記面板を貫通して形成された第１の複数の孔と、
前記第２の表面領域内に前記面板を貫通して形成された第２の複数の孔と
を含む、面板。
【請求項２】
前記第１の表面領域は、第２の表面領域に対して相対的に凹状とされている、請求項１に記載の面板。
【請求項３】
前記第１の表面領域は第１の厚さを有し、前記第２の表面領域は、前記第１の厚さとは異なる第２の厚さを有する、請求項１に記載の面板。
【請求項４】
前記第１の複数の孔は、前記第１の表面領域内に第１の密度で配置され、前記第２の複数の孔は、前記第２の表面領域内に第２の密度で配置され、前記第２の密度は、前記第１の密度とは異なる、請求項１に記載の面板。
【請求項５】
前記第１の複数の孔は第１の直径を有し、前記第２の複数の孔は第２の直径を有し、前記第２の直径は、前記第１の直径とは異なる、請求項１に記載の面板。
【請求項６】
遮蔽板であって、
第１の表面領域と、前記第１の表面領域を取り囲む第２の表面領域とを有する本体であって、前記第１の表面領域は第１の放射率を有し、前記第２の表面領域は第２の放射率を有し、前記第２の放射率は前記第１の放射率とは異なる、本体と、
前記第１の表面領域内及び前記第２の表面領域内に前記遮蔽板を貫通して形成された複数のガス分配孔であって、前記第１の表面領域内の前記ガス分配孔は第１の密度を有し、前記第２の表面領域内の前記ガス分配孔は第２の密度を有し、前記第２の密度は前記第１の密度とは異なり、前記第１の表面領域内の前記ガス分配孔は、第１の流れプロファイルを有し、前記第２の表面領域内の前記ガス分配孔は、第２の流れプロファイルを有し、前記第２の流れプロファイルは前記第１の流れプロファイルとは異なる、複数のガス分配孔と
を含む、遮蔽板。
【請求項７】
前記第１の表面領域内の前記ガス分配孔は第１の直径を有し、前記第２の表面領域内の前記ガス分配孔は第２の直径を有し、前記第２の直径は、前記第１の直径とは異なり、前記第１の表面領域は、前記第２の表面領域に対して相対的に凹状とされている、請求項６に記載の遮蔽板。
【請求項８】
前記遮蔽板の前記第１の表面領域は第１の厚さを有し、前記遮蔽板の前記第２の表面領域は、第２の厚さを有し、前記第２の厚さは前記第１の厚さとは異なる、請求項６に記載の遮蔽板。
【請求項９】
基板に膜を堆積させるための装置であって、
処理容積室を内側に画定するチャンバ本体及びチャンバリッドと、
前記処理容積室内に配置された基板支持体と、
前記処理容積室内において前記基板支持体と対向して配置された遮蔽板であって、前記遮蔽板にはそれを貫通する複数の孔が形成されている、遮蔽板と、
複数の孔がそれを貫通して形成された面板であって、前記面板は、前記処理容積室において前記遮蔽板と前記基板支持体との間に配置され、前記面板は、前記面板と前記遮蔽板との間に容積室を少なくとも部分的に画定し、前記面板は、第１の表面領域と、前記第１の表面領域を取り囲む第２の表面領域と、を有し、前記第１の表面領域は、前記第２の表面領域に対して相対的に凹状とされている、面板と
を含む、基板に膜を堆積させるための装置。
【請求項１０】
前記第１の表面領域は第１の放射率を有し、前記第２の表面領域は第２の放射率を有し、前記第２の放射率は前記第１の放射率とは異なる、請求項９に記載の装置。
【請求項１１】
前記第１の表面領域は第１の厚さを有し、前記第２の表面領域は第２の厚さを有し、前記第２の厚さは、前記第１の厚さとは異なる、請求項９に記載の装置。
【請求項１２】
前記面板は、
前記第１の表面領域を貫通して形成された第１の複数のガス分配孔であって、前記第１の複数のガス分配孔は第１の密度を有し、前記第１の複数のガス分配孔の各々は第１の直径を有する、第１の複数のガス分配孔と、
前記第２の表面領域を貫通して形成された第２の複数のガス分配孔であって、前記第２の複数のガス分配孔は第２の密度を有し、前記第２の密度は前記第１の密度とは異なり、前記第２の複数のガス分配孔の各々は第２の直径を有し、前記第２の直径は前記第１の直径とは異なる、第２の複数のガス分配孔と
をさらに含む、請求項９に記載の装置。
【請求項１３】
複数の孔がそれを貫通して形成された放射遮蔽体をさらに含み、前記放射遮蔽体は、前記処理容積室内において、前記基板支持体が前記面板と前記放射遮蔽体との間に存在するように、前記面板に対向して配置され、前記放射遮蔽体は、前記基板支持体のシャフトの周りに配置されている、請求項９に記載の装置。
【請求項１４】
前記放射遮蔽体の前記複数の孔は、第１の環状パターン、第２の環状パターン、及び第３の環状パターンで配置され、前記第１の環状パターン及び前記第２の環状パターンは、第１の密度による孔を有し、前記第３の環状パターンは、第２の密度による孔を有し、前記第１の環状パターン、前記第２の環状パターン、及び前記第３の環状パターンは各々、前記放射遮蔽体の共通軸の周囲に形成される、請求項１３に記載の装置。
【請求項１５】
前記シャフトは、径方向にガスを流すために、前記基板支持体に隣接する前記シャフトの上端に、貫通して形成された複数の孔を含む、請求項１３に記載の装置。
【請求項１６】
前記第１の放射率は前記第２の放射率より高い、請求項１に記載の面板。
【請求項１７】
前記第１の密度は前記第２の密度より高い、請求項４に記載の面板。
【請求項１８】
前記第１の密度は前記第２の密度より低い、請求項４に記載の面板。
【請求項１９】
前記第１の放射率は前記第２の放射率より高い、請求項６に記載の面板。
【請求項２０】
前記第１の放射率は前記第２の放射率より高い、請求項１０に記載の面板。