【手続補正書】
【提出日】令和3年1月18日(2021.1.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１７２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１７２】
特性に割り当てられた任意の２つの定量値は、その特性の範囲を構成することができ、所与の特性の全ての記載された定量値から形成される範囲の全ての組み合わせが、本開示において企図されることを理解されたい。流れ中または反応器内の化学成分の組成範囲は、いくつかの実施形態では、その成分の異性体の混合物を含むと理解されるべきであると理解されたい。例えば、ブテンを特定する組成範囲は、ブテンの様々な異性体の混合物を含み得る。実施例が様々な流れの組成範囲を提供すること、および特定の化学組成物の異性体の総量が範囲を構成し得ることが理解されるべきである。
以下、本発明の好ましい実施形態を項分け記載する。
実施形態１
プロペンを生成するためのプロセスであって、
異性化反応生成物を形成するために、異性化触媒でブテンを少なくとも部分的に異性化することであって、前記異性化触媒が、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）を含む、異性化することと、
メタセシス反応生成物を形成するために、メタセシス触媒で前記異性化反応生成物を少なくとも部分的にメタセシスすることであって、前記メタセシス触媒が、金属酸化物を含浸させたメソポーラスシリカ触媒担体を含む、メタセシスすることと、
分解反応生成物を形成するために、分解触媒で前記メタセシス反応生成物を少なくとも部分的に分解することであって、前記分解反応生成物が、プロペンを含む、分解することと、を含む、プロセス。
実施形態２
前記ブテンが、異性化反応ゾーンで少なくとも部分的に異性化されて、前記異性化反応生成物を形成し、前記異性化反応ゾーンが、ＭｇＯを含む、実施形態１に記載のプロセス。
実施形態３
前記異性化反応生成物が、前記メタセシス反応生成物を形成するために、メタセシス反応ゾーンで少なくとも部分的にメタセシスされ、前記メタセシス反応ゾーンが、金属酸化物を含浸させた前記メソポーラスシリカ触媒担体を含む、実施形態１または２に記載のプロセス。
実施形態４
分解反応生成物を形成するために、前記メタセシス反応生成物が、分解反応ゾーンで少なくとも部分的に分解され、前記分解反応ゾーンが、前記分解触媒を含む、実施形態１〜３のいずれかに記載のプロセス。
実施形態５
前記異性化反応生成物を形成するために、前記ブテンが、異性化反応ゾーンで少なくとも部分的に異性化され、前記異性化反応ゾーンが、前記ＭｇＯを含み、
前記メタセシス反応生成物を形成するために、前記異性化反応生成物が、メタセシス反応ゾーンで少なくとも部分的にメタセシスされ、前記メタセシス反応ゾーンが、金属酸化物を含浸させた前記メソポーラスシリカ触媒担体を含み、
分解反応生成物を形成するために、前記メタセシス反応生成物が、分解反応ゾーンで少なくとも部分的に分解され、前記分解反応ゾーンが、前記分解触媒を含む、実施形態１〜４のいずれかに記載のプロセス。
実施形態６
前記メタセシス反応ゾーンが、前記異性化反応ゾーンの下流にあり、かつ前記分解反応ゾーンが、前記メタセシス反応ゾーンの下流にある、実施形態５に記載のプロセス。
実施形態７
前記異性化反応ゾーン、メタセシス反応ゾーン、および前記分解反応ゾーンが、反応器内に配置される、実施形態５または６に記載のプロセス。
実施形態８
前記異性化反応ゾーン内の前記ＭｇＯの、前記メタセシス反応ゾーン内の金属酸化物を含浸させた前記メソポーラスシリカ触媒担体に対する容積比が、少なくとも１：２である、実施形態５〜７のいずれかに記載の方法。
実施形態９
前記メタセシス反応生成物を形成するために、前記ブテンが、混合異性化およびメタセシス反応ゾーンで少なくとも部分的に異性化および少なくとも部分的にメタセシスされ、前記混合異性化およびメタセシス反応ゾーンが、前記ＭｇＯと、金属酸化物を含浸させた前記メソポーラスシリカ触媒担体とを含み、
前記メタセシス反応生成物が、前記メタセシス反応ゾーンの下流の前記分解反応ゾーンで少なくとも部分的に分解され、前記分解反応ゾーンが、前記分解触媒を含む、実施形態１に記載のプロセス。
実施形態１０
異性化反応生成物を形成するために、前記ブテンが、異性化反応ゾーンで少なくとも部分的に異性化され、前記異性化反応ゾーンが、前記ＭｇＯを含み、
前記異性化反応生成物が、前記異性化反応ゾーンの下流の混合メタセシスおよび分解反応ゾーンで少なくとも部分的にメタセシスおよび少なくとも部分的に分解され、前記混合メタセシスおよび分解反応ゾーンが、金属酸化物を含浸させた前記メソポーラスシリカ触媒担体と、前記分解触媒とを含む、実施形態１に記載のプロセス。
実施形態１１
前記異性化触媒を含む反応ゾーンに入口流を導入することをさらに含み、前記入口流が、
２０重量％〜６０重量％のシス−またはトランス−２−ブテンと、
１０重量％〜１５重量％の１−ブテンと、
１５重量％〜２５重量％のｎ−ブタンと、を含む、実施形態１〜１０のいずれかに記載のプロセス。
実施形態１２
前記異性化反応生成物が、１−ブテンと２−ブテンとを含む、実施形態１〜１１のいずれかに記載のプロセス。
実施形態１３
前記メタセシス反応生成物が、プロペンとペンテンとを含む、実施形態１〜１２のいずれかに記載のプロセス。
実施形態１４
前記分解反応生成物が、プロペンを含む、実施形態１〜１３のいずれか１記載のプロセス。
実施形態１５
前記ＭｇＯが、焼成プロセスにおいて前処理される、実施形態１〜１４のいずれかに記載のプロセス。
実施形態１６
前記ＭｇＯが、３００℃〜８００℃の焼成温度で焼成される、実施形態１〜１５のいずれかに記載のプロセス。
実施形態１７
金属酸化物を含浸させた前記メソポーラスシリカ触媒担体の前記金属酸化物が、１つ以上のモリブデン酸化物、レニウム酸化物、およびタングステン酸化物を含む、実施形態１〜１６のいずれかに記載のプロセス。
実施形態１８
金属酸化物を含浸させた前記メソポーラスシリカ触媒担体の前記金属酸化物が、酸化タングステン（ＷＯ３）である、実施形態１〜１７のいずれかに記載のプロセス。
実施形態１９
金属酸化物を含浸させた前記メソポーラスシリカ触媒担体が、１重量％〜３０重量％の酸化タングステンを含む、実施形態１〜１８のいずれかに記載のプロセス。
実施形態２０
金属酸化物を含浸させた前記メソポーラスシリカ触媒担体が、２００ｍ２／ｇ〜６００ｍ２／ｇの表面積を有する、実施形態１〜１９のいずれかに記載のプロセス。
実施形態２１
金属酸化物を含浸させた前記メソポーラスシリカ触媒担体が、少なくとも０．６ｃｍ３／ｇの相対細孔容積を有する、実施形態１〜２０のいずれかに記載のプロセス。
実施形態２２
前記分解触媒が、ゼオライト触媒である、実施形態１〜２１のいずれかに記載のプロセス。
実施形態２３
前記分解触媒が、ＭＦＩ構造化シリカ含有触媒である、実施形態１〜２２のいずれかに記載のプロセス。
実施形態２４
前記ＭＦＩ構造化シリカ含有触媒が、０．００１ｍｍｏｌ／ｇ〜０．５ｍｍｏｌ／ｇの総酸度を有する、実施形態２３に記載のプロセス。
実施形態２５
前記ＭＦＩ構造化シリカ含有触媒が、アルミナを含む、実施形態２３または２４に記載のプロセス。
実施形態２６
前記ＭＦＩ構造化シリカ含有触媒が、アルミナを実質的に含まない、実施形態２３または２４に記載のプロセス。
実施形態２７
プロペンを生成するためのプロセスであって、
異性化触媒を含む異性化反応ゾーンにブテンを含む流れを導入することであって、前記異性化触媒が、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）を含む、導入することと、
異性化反応生成物流を形成するために、前記異性化反応ゾーンでブテンを含む前記流れを少なくとも部分的に異性化することと、
前記異性化反応生成物流を、メタセシス触媒を含むメタセシス反応ゾーンに送ることであって、前記メタセシス触媒が、金属酸化物を含浸させたメソポーラスシリカ触媒担体を含む、送ることと、
メタセシス反応生成物流を形成するために、前記メタセシス触媒で前記異性化反応生成物流を少なくとも部分的にメタセシスすることと、
前記メタセシス反応生成物流を、分解触媒を含む分解反応ゾーンに送ることと、
プロペンを含む分解反応生成物流を形成するために、前記分解触媒で前記メタセシス反応生成物流を少なくとも部分的に分解することと、を含む、プロセス。
実施形態２８
前記メタセシス反応ゾーンが、前記異性化反応ゾーンの下流に位置する、実施形態２７に記載のプロセス。
実施形態２９
前記メタセシス反応ゾーンが、前記異性化反応ゾーンの下流に位置し、かつ前記分解反応ゾーンが、前記メタセシス反応ゾーンの下流に位置する、実施形態２７に記載のプロセス。
実施形態３０
前記異性化反応、前記メタセシス反応、および前記分解反応が、４００℃〜６００℃の温度で行われる、実施形態２７〜２９のいずれかに記載のプロセス。
実施形態３１
プロペンを生成するための多段触媒系であって、前記多段触媒系が、異性化反応ゾーンと、前記異性化反応ゾーンの下流のメタセシス反応ゾーンと、前記メタセシス反応ゾーンの下流の分解反応ゾーンとを備え、
前記異性化反応ゾーンが、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）を含み、
前記メタセシス反応ゾーンが、金属酸化物を含浸させたメソポーラスシリカ触媒担体を含み、
前記分解反応ゾーンが、ゼオライト触媒を含み、前記ゼオライト触媒が、前記メタセシス生成物流を分解して、プロペンを含む分解生成物流を形成する、多段触媒系。
実施形態３２
前記異性化反応ゾーン、前記メタセシス反応ゾーン、および前記分解反応ゾーンが、１つの反応器に配置される、実施形態３１に記載の系。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プロペンを生成するためのプロセスであって、
異性化反応生成物を形成するために、異性化触媒でブテンを異性化することであって、前記異性化触媒が、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）を含む、異性化することと、
メタセシス反応生成物を形成するために、メタセシス触媒で前記異性化反応生成物の少なくとも一部をメタセシスすることであって、前記メタセシス触媒が、金属酸化物を含浸させたメソポーラスシリカ触媒担体を含む、メタセシスすることと、
分解反応生成物を形成するために、分解触媒で前記メタセシス反応生成物の少なくとも一部を分解することであって、前記分解反応生成物が、プロペンを含む、分解することと、を含む、プロセス。
【請求項２】
前記メタセシス反応生成物を形成するために、混合異性化およびメタセシス反応ゾーンで、前記ブテンが異性化され、前記異性化反応生成物の少なくとも一部がメタセシスされ、前記混合異性化およびメタセシス反応ゾーンが、前記ＭｇＯと、金属酸化物を含浸させた前記メソポーラスシリカ触媒担体とを含み、
前記メタセシス反応生成物の前記少なくとも一部が、前記メタセシス反応ゾーンの下流の前記分解反応ゾーンで分解され、前記分解反応ゾーンが、前記分解触媒を含む、請求項１に記載のプロセス。
【請求項３】
異性化反応生成物を形成するために、前記ブテンが、異性化反応ゾーンで異性化され、前記異性化反応ゾーンが、前記ＭｇＯを含み、
前記異性化反応ゾーンの下流の混合メタセシスおよび分解反応ゾーンで、前記異性化反応生成物の前記少なくとも一部が少なくとも部分的にメタセシスされ、前記メタセシス反応生成物の前記少なくとも一部が分解され、前記混合メタセシスおよび分解反応ゾーンが、金属酸化物を含浸させた前記メソポーラスシリカ触媒担体と、前記分解触媒とを含む、請求項１に記載のプロセス。
【請求項４】
前記異性化反応生成物を形成するために、前記ブテンが、異性化反応ゾーンで異性化され、前記異性化反応ゾーンが、前記ＭｇＯを含み、
前記メタセシス反応生成物を形成するために、前記異性化反応生成物の前記少なくとも一部が、メタセシス反応ゾーンでメタセシスされ、前記メタセシス反応ゾーンが、金属酸化物を含浸させた前記メソポーラスシリカ触媒担体を含み、
分解反応生成物を形成するために、前記メタセシス反応生成物の前記少なくとも一部が、分解反応ゾーンで分解され、前記分解反応ゾーンが、前記分解触媒を含む、請求項１に記載のプロセス。
【請求項５】
プロペンを生成するためのプロセスであって、
異性化触媒を含む異性化反応ゾーンにブテンを含む流れを導入することであって、前記異性化触媒が、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）を含む、導入することと、
異性化反応生成物流を形成するために、前記異性化反応ゾーンでブテンを含む前記流れのブタンの少なくとも一部を異性化することと、
前記異性化反応生成物流を、メタセシス触媒を含むメタセシス反応ゾーンに送ることであって、前記メタセシス触媒が、金属酸化物を含浸させたメソポーラスシリカ触媒担体を含む、送ることと、
メタセシス反応生成物流を形成するために、前記メタセシス触媒で前記異性化反応生成物流の少なくとも一部をメタセシスすることと、
前記メタセシス反応生成物流を、分解触媒を含む分解反応ゾーンに送ることと、
プロペンを含む分解反応生成物流を形成するために、前記分解触媒で前記メタセシス反応生成物流の少なくとも一部を分解することと、を含む、プロセス。
【請求項６】
前記メタセシス反応ゾーンが、前記異性化反応ゾーンの下流に位置する、請求項４または５に記載のプロセス。
【請求項７】
前記分解反応ゾーンが、前記メタセシス反応ゾーンの下流に位置する、請求項４〜６のいずれかに記載のプロセス。
【請求項８】
前記異性化反応ゾーン、メタセシス反応ゾーン、および前記分解反応ゾーンが、反応器内に配置される、請求項４〜７のいずれかに記載のプロセス。
【請求項９】
前記異性化反応ゾーン内の前記ＭｇＯの、前記メタセシス反応ゾーン内の金属酸化物を含浸させた前記メソポーラスシリカ触媒担体に対する容積比が、少なくとも１：２である、請求項４〜８のいずれかに記載の方法。
【請求項１０】
前記異性化反応、前記メタセシス反応、および前記分解反応が、４００℃〜６００℃の温度で行われる、請求項１〜９のいずれかに記載のプロセス。
【請求項１１】
前記異性化反応生成物が、１−ブテンと２−ブテンとを含む、請求項１〜１０のいずれかに記載のプロセス。
【請求項１２】
前記ＭｇＯが、焼成プロセスにおいて３００℃〜８００℃の焼成温度で前処理される、請求項１〜１１のいずれかに記載のプロセス。
【請求項１３】
金属酸化物を含浸させた前記メソポーラスシリカ触媒担体が、１重量％〜３０重量％の酸化タングステンを含む、請求項１〜１２のいずれかに記載のプロセス。
【請求項１４】
プロペンを生成するための多段触媒系であって、前記多段触媒系が、異性化反応ゾーンと、前記異性化反応ゾーンの下流のメタセシス反応ゾーンと、前記メタセシス反応ゾーンの下流の分解反応ゾーンとを備え、
前記異性化反応ゾーンが、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）を含み、
前記メタセシス反応ゾーンが、金属酸化物を含浸させたメソポーラスシリカ触媒担体を含み、
前記分解反応ゾーンが、ゼオライト触媒を含み、前記ゼオライト触媒が、前記メタセシス生成物流を分解して、プロペンを含む分解生成物流を形成する、多段触媒系。
【請求項１５】
前記異性化反応ゾーン、前記メタセシス反応ゾーン、および前記分解反応ゾーンが、１つの反応器に配置される、請求項１４に記載の系。