(57)【要約】【課題】  本発明は、スリットシステムとレチクルのパターンの両方を簡単に交換でき、マスクのパターンを正確に形成することができる露光装置を提供する。【解決手段】  露光装置は、露光光を発する光源と、該露光光を反射する反射部材とを有する露光照射部と、マスクを支えるマスクステージと、露光照射部で照射されたマスクのパターンを被露光体の表面に結像する結像光学系と、被露光体を二次元平面上に載置する被露光体ステージと、露光照射部とマスクステージと結像光学系とを保持し、被露光体ステージに対して移動可能な保持部と、被露光体ステージを支えると共に保持部を移動可能に支えるベース部と、を備える。露光照射部の光源から反射部材までの光軸は二次元平面と平行に配置され、結像光学系は二次元平面と交差する方向に配置され、該交差する方向に沿って保持部がベース部に対して移動可能に構成されている。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
マスクのパターンを被露光体に露光する露光装置において、
露光光を発する光源と、該光源からの露光光を反射する反射部材とを有して前記マスクに露光光を照射する露光照射部と、
前記マスクを支えるマスクステージと、
前記露光照射部で照射された前記マスクのパターンを前記被露光体の表面に結像する結像光学系と、
前記被露光体を二次元平面上に載置する被露光体ステージと、
前記露光照射部と前記マスクステージと前記結像光学系とを保持し、前記被露光体ステージに対して移動可能な保持部と、
前記被露光体ステージを支えるとともに前記保持部を移動可能に支えるベース部と、を備え、
前記露光照射部の前記光源から反射部材までの光軸は前記二次元平面と平行に配置され、前記結像光学系は前記二次元平面と交差する方向に配置され、該交差する方向に沿って前記保持部が前記ベース部に対して移動可能に構成されていることを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記結像光学系は複数の対物レンズを有するレボルバを含むことを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記露光照射部は観察光の波長を選択するフィルタを有し、前記マスクと前記被露光体とを位置合わせする際には前記フィルタが観察光を前記被露光体に照射することを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の露光装置。
【請求項４】
前記被露光体ステージは観察光を透過する開口又は透明部材を有しており、
前記ベース部は前記被露光体を裏面側から観察光を照射する観察光照射部を有し、
前記マスクと前記被露光体とを位置合わせする際には前記観察光照射部が前記開口又は透明部材を介して観察光を前記被露光体に照射することを特徴とする請求項１ないし請求項３のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項５】
前記マスクは所定のパターンが描かれたレチクルと露光サイズを可変できる開口部とを含み、前記レチクルと前記開口部とを前記マスクステージ上で切り替えることができることを特徴とする請求項１ないし請求項４のいずれか一項に記載の露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、マスクのパターンを被露光体に露光するための露光装置に関し、特に光学顕微鏡の構成を用いて、被露光体に露光するスリットとレチクルを簡単に切り換えて露光することができ、且つ露光照射部やマスクステージや結像光学系等を移動可能に形成している露光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、半導体素子又は液晶表示素子等をフォトリソグラフィ工程で製造する際に、レチクルガラスに形成されたパターン、又はスリットシステムで形成された矩形等の空間形状を、投影光学系を介して表面にフォトレジスト等の感光剤が塗布されたウエハ又はガラスプレート等の基板上に転写する投影露光装置が用いられている。
【０００３】
これらの投影露光装置として、例えばステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置（いわゆるステッパ装置）や、ステップ・アンド・スキャン方式の投影露光装置（いわゆるスキャニング・ステッパ）等がある。
【０００４】
従来のステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置は、放射源と、レチクルと、焦点合わせレンズとを含んでいる。放射源から放射された光は、レチクルと焦点合わせレンズとを通過した後、ウエハ又はガラスプレート等の基板上に照射されて、レチクルのパターンをこのウエハ又はガラスプレート等の基板上に転写する。
【０００５】
特許文献１は、これらのレチクルを顕微鏡の下に位置決めして検査することにより、レチクルの合格／失格の状態を決定するレチクルの検査方法及び露光装置内に用いるレチクルを開示している。
【特許文献１】特表２００３―５１８２６９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、スリットシステムとレチクルのパターンとの両方を簡単に交換でき、顕微鏡の手段を利用して正確に位置合わせして、スリットシステムの形状又はレチクルパターンを正確に形成することができ、且つ露光照射部と、マスクステージと、結像光学系とが垂直方向において移動可能に形成されている露光装置を提供することにその目的がある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の第一観点に係る露光装置は、マスクのパターンを被露光体に露光する露光装置であって、露光光を発する光源と、該光源からの露光光を反射する反射部材とを有してマスクに露光光を照射する露光照射部と、マスクを支えるマスクステージと、露光照射部で照射されたマスクのパターンを被露光体の表面に結像する結像光学系と、被露光体を二次元平面上に載置する被露光体ステージと、露光照射部とマスクステージと結像光学系とを保持し、被露光体ステージに対して移動可能な保持部と、被露光体ステージを支えるとともに保持部を移動可能に支えるベース部と、を備える。その中で、露光照射部の光源から反射部材までの光軸は二次元平面と平行に配置され、結像光学系は二次元平面と交差する方向に配置され、該交差する方向に沿って保持部がベース部に対して移動可能に構成されている。
【発明の効果】
【０００８】
本発明の露光装置によれば、露光照射部と、マスクステージと、結像光学系とをバランス良く保持して、ベース部に対して移動させることができる。且つ、本発明の露光装置は、スリットシステムによる矩形形状の溝とレチクルのパターンとを簡単に切り換えて、一つの露光装置を利用してスリットシステムの形状とレチクルのパターンを形成することができる。顕微鏡により、レチクルのようなマスクの形成位置を正確に位置合わせた後に、露光光を照射することにより、レチクルのパターンとスリットシステムの形状を正確な位置に形成することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
以下、図面に基づいて、本発明の具体的な実施形態について説明するが、これに限定されるわけではない。以下の説明で、まず露光装置２００の概略の構成を説明してから、各構成について詳しく説明し、その後で、露光装置２００の動作について説明する。
【００１０】
図１は、本実施形態に係る露光装置２００の外観を示す斜視図である。露光装置２００は、マスクのパターンをガラス基板のような被露光体に露光する露光装置である。図１に示したように、露光装置２００は、露光光等の光を発する光源を有する光源部１０を備える。
【００１１】
また、露光装置２００は、光源部１０から発する光がマスクを照射するように、光源部１０からの光の光路を変更する複数のレンズを有する照射光学系２０を備える。光源部１０と照射光学系２０とは、Ｘ方向とＹ方向との水平平面に配置されている。
【００１２】
照射光学系２０には、光源部１０から発する光をｅ線（波長が５４６．０７ｎｍ）に変更するｅ線フィルタ２７（図２）とｇ線（波長が４３５．８４ｎｍ）に変更するｇ線フィルタ２８（図２）とが内蔵されている。なお、照射する光の明るさを調整するための明るさ調整絞り２１が設けられている。ここで、ｅ線は被露光体の表面のパターンを観察するための光で、ｇ線は被露光体を露光するための光である。
【００１３】
露光装置２００は、マスクを支えるマスクステージ３０を備える。マスクステージ３０は、光源部１０と照射光学系２０との配置平面と交差する方向（図面のＺ方向）に配置されている。
【００１４】
ここで、マスクとは、被露光体にパターンを転写し又は所定の形状を形成するためのマスクの上位概念である。本実施例において、マスクとは、被露光体にレチクルのパターンを転写するためのレチクルＲと被露光体に矩形形状を形成するためのスリットシステム３２とが含まれる。それに、マスクステージ３０とは、これらの上位概念であるマスクを支えるものを意味する。
【００１５】
マスクステージ３０は、レチクルＲを載せるためのレチクルテーブル３１とスリットシステム３２とを交換するための交換スライドテーブル３３を備える。レチクルテーブル３１とスリットシステム３２とは、交換スライドテーブル３３においてＹ方向に従って往復移動できるように交換スライドテーブル３３に設けられている。
【００１６】
レチクルテーブル３１とスリットシステム３２とが、交換スライドテーブル３３においてＹ方向に従って往復移動することにより、レチクルテーブル３１が露光装置２００の光路に入ったり、スリットシステム３２が露光装置２００の光路に入ったりする。
【００１７】
言い換えると、レチクルテーブル３１とスリットシステム３２との往復移動により、被露光体にレチクルテーブル３１のパターンを転写したり、スリットシステム３２の矩形形状を露光したりすることができる。
【００１８】
被露光体にレチクルテーブル３１のパターンを転写しようとする場合、レチクルテーブル３１とスリットシステム３２とをＹ方向に移動させることにより、レチクルテーブル３１が照射光学系２０の光路に入る。これにより、照射光学系２０は、レチクルテーブル３１に載せたレチクルＲのパターンを被露光体に照射する。
【００１９】
被露光体にスリットシステム３２の形状を形成しようとする場合、レチクルテーブル３１とスリットシステム３２とを−Ｙ方向に移動させることにより、スリットシステム３２が照射光学系２０の光路に入る。これにより、照射光学系２０は、スリットシステム３２の形状を被露光体に照射する。
【００２０】
マスクステージ３０は、交換スライドテーブル３３をＸ方向とＹ方向との平面において移動させるためのＸＹθステージ３４を備える。露光装置２００を使用する場合、操作者はマスクのパターンが照射光学系２０の光路に入るように、ＸＹθステージ３４を調整することができる。
【００２１】
露光装置２００において、Ｚ方向のマスクステージ３０の下方に結像光学系４０が設けられている。この結像光学系４０は、照射光学系２０で照射したマスクのパターンを被露光体の表面に結像し、観察することができる顕微鏡である。結像光学系４０には、マスクのパターンを結像するための複数の対物レンズが内蔵されている。これにより、露光装置２００は、異なる倍率で被露光体を露光することができる。
【００２２】
また、結像光学系４０は、被露光体に結像されたパターンを観察するための接眼レンズ４１と複数の異なる倍数の対物レンズを有するレボルバ４２とを備える。複数の異なる倍数の対物レンズにより、被露光体におけるパターンを異なる倍数に拡大して正確に観察することができる。
【００２３】
露光装置２００は、光源部１０と、照射光学系２０と、マスクステージ３０と、結像光学系４０とを保持する保持部８０を備える。
【００２４】
露光装置２００において、結像光学系４０の下方に、被露光体を支える被露光体ステージ５０が設けられている。この被露光体ステージ５０の略中心部で、その下方からの観察光を透過するガラスからなる光透過部５１が設けられている。また、被露光体ステージ５０の略中心部の下方において、この光透過部５１と対応する位置は、光が通過するように中空になっている。
【００２５】
被露光体ステージ５０は、ＸＹステージであり、Ｘ方向とＹ方向との水平平面において前後左右に移動することができる。被露光体ステージ５０を移動することにより、その上に載せた被露光体の照射位置を調整することができる。
【００２６】
露光装置２００には、水平方向と垂直方向（Ｚ方向）において露光装置の全般を支えるベース部６０が設けられている。ベース部６０は、水平平面に配置された第一ベース部６１と、水平平面と交差するＺ方向に配置された第二ベース部６２とからなる。この第一ベース部６１により被露光体ステージ５０を支える。なお、この第二ベース部６２は、保持部８０を上下方向で移動可能に支えている。
【００２７】
第一ベース部６１の前面において、ｇ線を照射して露光する時間を設定するための露光時間設定スイッチ６５、６６が設けられている。露光時間設定スイッチ６５、６６の何れか一つは、露光時間を増加するためのスイッチで、他の一つは露光時間を減らすためのスイッチである。もちろん一つの露光時間設定スイッチを設置することもできる。
【００２８】
操作者は露光時間設定スイッチ６５、６６を操作することにより、露光時間を例えば０．１秒〜９９秒の範囲内に設定することができる。即ち、設定した時間範囲内でｇ線フィルタ２８（図２）が光路上に入る。設定した時間を経過した後、自動的にｇ線フィルタ２８（図２）からｅ線フィルタ２７（図２）に切り替えられる。
【００２９】
第一ベース部６１の前面における露光時間設定スイッチ６５、６６の隣において、設定した露光時間を表示するための表示部６４が設けられている。また、第一ベース部６１の前面において、ｅ線フィルタ２７（図２）からｇ線フィルタ２８（図２）に切り替えるためのｇ線スイッチ６３が設けられている。
【００３０】
通常露光装置２００で観察する時、ｅ線フィルタ２７（図２）が光路上に入っていて、ｇ線スイッチ６３を押すと、ｅ線フィルタ２７（図２）からｇ線フィルタ２８（図２）に切替えて、設定時間だけ露光することができる。
【００３１】
即ち、露光装置２００を使用する場合、まず、操作者はｅ線フィルタ２７によりｅ線を照射する状態で、明るさ調整絞り２１により光の明るさを調整して、被露光体の表面を観察する。その後、操作者は被露光体の表面を観察しながら、マスクのパターンが被露光体の表面で正確な位置になるようにマスクのパターンの形成位置を調整する。位置の調整が終わると、操作者は露光時間設定スイッチ６５、６６により露光時間を設定する。その後、操作者がｇ線スイッチ６３を押すと、ｅ線フィルタ２７（図２）からｇ線フィルタ２８（図２）に切り替えられる。そして設定時間だけｇ線が照射され、被露光体の所定の位置にマスクのパターンが露光される。
【００３２】
保持部８０が第二ベース部６２において上下方向に移動することにより、保持部８０により保持された光源部１０と、照射光学系２０と、マスクステージ３０と、結像光学系４０とが垂直方向である上下方向に従って移動される。保持部８０の下方において、保持部８０の移動を制御する移動ハンドル８１が設けられている。この移動ハンドル８１を回すことにより、保持部８０が、第二ベース部６２に対して上下方向に移動する。
【００３３】
また、第二ベース部６２の下部に、接眼部４１で透明な被露光体を観察するように、下方から光を照明するための観察照明部９０が設けられている。この観察照明部９０からの観察光は、下方から被露光体ステージ５０の光透過部５１に照射されて、結像光学系４０の接眼部４１に入る。これにより、結像光学系４０の接眼部４１で、被露光体におけるパターンをより明確に観察することができる。
【００３４】
以上で、露光装置２００の概略的な全般構成に対して説明した。以下で、各構成部分について詳しく説明する。
【００３５】
＜光源部１０＞
図２は、露光装置２００の一部の内部構造を示した部分断面図である。図２に示したように、光源部１０には、光源１１と、ケーラー照明光学系１２とからなる。なお、これらの光源１１とケーラー照明光学系１２とを収納するための外筒を有する。
【００３６】
光源１１としては、ｇ線とｅ線との波長付近に輝度を持つ高圧水銀ランプを使用することができる。この光源１１から発した光は、ケーラー照明光学系１２を透過することにより、均一な分布でマスクを照射することができる。
【００３７】
＜照射光学系２０＞
図２に示したように、照射光学系２０には、波長が５４６ｎｍである光を透過するｅ線フィルタ２７と波長が４３６ｎｍである光を透過するｇ線フィルタ２８とが内蔵されている。また、照射光学系２０には、ｅ線フィルタ２７とｇ線フィルタ２８とを交換するシャッター２２を備える。このシャッター２２は、ｇ線スイッチ６３を操作されることにより、設定時間だけｇ線フィルタ２８に交換し、その後ｅ線フィルタ２７に変える。
【００３８】
光源部１０から発した光は、照射光学系２０において、まずｅ線フィルタ２７又はｇ線フィルタ２８に入射されて、所定の波長の光のみを通過する。図２は、ｅ線フィルタ２７が照射光学系２０の光路に入っていることを示している。
【００３９】
照射光学系２０は、その光路において、ｅ線フィルタ２７及びｇ線フィルタ２８の下流側に、板状部材からなる照射系開口絞り板２３が設けられている。この照射系開口絞り板２３は、明るさ調整絞り２１と連動されるように設けられている。
【００４０】
従って、操作者が明るさ調整絞り２１を操作すると、照射系開口絞り板２３の開口が大きくなったり、小さくなったりする。照射系開口絞り板２３の開口が大きくなると、それを通過する光量が多くなり、マスクを照射する光の明るさが増大される。照射系開口絞り板２３の開口が小さくなると、それを通過する光量が少なくなり、マスクを照射する光の明るさが低下される。
【００４１】
照射光学系２０は、その光路において、照射系開口絞り板２３の下流側に、折り曲げミラー２４が設けられている。照射系開口絞り板２３を通過した光は、この折り曲げミラー２４により、光の照射方向が下方向に変更されて、下方に位置されているマスクを照射する。なお、照射光学系２０は、更にｅ線フィルタ２７と、ｇ線フィルタ２８と、照射系開口絞り板２３と、折り曲げミラー２４とを収納する外筒を備える。
【００４２】
＜結像光学系４０＞
マスクステージ３０の下方で、結像光学系４０が固定接続されている。図２に示したように、結像光学系４０は、接眼レンズを有する接眼部４１と、これらを収納する鏡筒４５と、鏡筒４５の下面に取り付けられ、複数の対物レンズ４２１を有するレボルバ４２とを備えている。
【００４３】
レボルバ４２はレボルバ本体４２２とレボルバ回転部材４２３とを備える。四つの異なる光学倍数を有する対物レンズ４２１がレボルバ回転部材４２３に設けられている。四つの対物レンズ４２１の光学倍数は、其々５倍、１０倍、２０倍、４０倍であるが、これに限定されるわけではなく、必要に応じて設定することができる。
【００４４】
観察する被露光体に応じて、レボルバ回転部材４２３を回転しながら必要とする倍数の対物レンズ４２１を使用して、操作者は接眼部４１を介して被露光体に照射されたマスクのパターンを確認することができる。
【００４５】
また、結像光学系４０には、照射光学系２０から照射したマスクのパターンを、被露光体に結像するためのレンズ（不図示）が内蔵されている。また、観察照明部９０からの観察光を、接眼部４１で観察できるように半透過プリズム４６が設けられている。接眼部４１には、有害な紫外線をカットするための紫外線カットフィルター４４が内蔵されている。
【００４６】
＜保持部８０＞
図２に示したように、光源部１０、照射光学系２０、マスクステージ３０、及び結像光学系４０は、保持部８０により固定保持されている。この保持部８０は、第二ベース部６２に対して、Ｚ方向に従って移動することができる。保持部８０の移動により、光源部１０、照射光学系２０、マスクステージ３０、及び結像光学系４０も一緒にＺ方向に従って移動する。このＺ方向の移動により、対物レンズ４２１と被露光体との距離を調整することができる。
【００４７】
保持部８０には、その移動を制御するための移動ハンドル８１が設けられて、手作業で保持部８０を移動することができ、またはモータのような駆動系を設置して、所定のストローク範囲内で自動的に移動するように構成することもできる。
【００４８】
保持部８０が第二ベース部６２に対する移動機構として、第二ベース部６２に凹部のようなガイド部を設け、保持部８０の対応する位置に、ガイド部を走る突出部などを設けて、お互いにバランス良く移動するようにすることができる。
【００４９】
＜被露光体ステージ５０＞
図２に示したように、被露光体ステージ５０は、結像光学系４０の下方に設置されている。被露光体ステージ５０の中心において、観察照明部９０からの観察光を透過させるガラスからなる光透過部５１が、被露光体ステージ５０と同じ水平平面になるように挟まれている。
【００５０】
この被露光体ステージ５０は、第一ベース部６１の上方に設置されて、この第一ベース部６１に対して、水平平面においてＸ方向とＹ方向とに移動することができるように設けられている。
【００５１】
照射光学系２０から照射したマスクのパターンが、結像光学系４０を透過して被露光体において結像される。操作者はレボルバ回転部材４２３を回転しながら必要とする倍数の対物レンズ４２１を選択する。操作者は接眼部４１で所定の倍数で拡大され結像されたパターンを観察することができる。
【００５２】
＜ベース部６０＞
ベース部６０は、お互いに垂直に交差する第一ベース部６１と第二ベース部６２とが形成されている。この第一ベース部６１と第二ベース部６２とは、一体に形成されても良く、別体に形成されて固定機構により固定接続されても良い。第一ベース部６１の内部は、中空になって、観察照明部９０の光路が形成されるようになっている。
【００５３】
第一ベース部６１において、被露光体ステージ５０の光透過部５１と対応する位置で、光透過部５１と同じガラスからなる光透過部６４が設けられている。光透過部６４は観察照明部９０の光を透過させる。なお、光透過部６４を設定せずに、中空になって光を通過させるように設けることもできる。
【００５４】
＜観察照明部９０＞
観察照明部９０は、観察用の光を発する光源９１と、光源９１から発した光を整形、照度均一化するための複数のレンズ９２と、水平方向の光を垂直方向の光に変更するための折り曲げミラー９３とを備える。これらからなる観察照明部９０の一部の光路は、第一ベース部６１の中空内部に形成されている。
【００５５】
この観察照明部９０からの観察光は、下方から光透過部５１を照射して、結像光学系４０の半透過プリズム４６により反射されて接眼部４１に入る。このように、被露光体の下方から照明することにより、接眼部４１による観察に役立てることができる。即ち、照射光学系２０から光を落射して、マスクのパターンを投影しながら、下方から照明用の光を照射することにより、操作者は投影されたマスクのパターンと被露光体との両方を容易に観察することができる。
【００５６】
＜マスクステージ３０＞
図３は、マスクステージ３０の部分を拡大して示した図面である。図３に示したように、マスクステージ３０は、その上方において交換スライドテーブル３３が配置され、その下方においてＸＹθステージ３４が配置されている。交換スライドテーブル３３は、固定テーブル３３１と移動テーブル３３２とからなる。その中で、固定テーブル３３１がＸＹθステージ３４に固定配置されている。
【００５７】
固定テーブル３３１は、その断面が略Ｕ字状に形成されて、その底面において溝状のレール（不図示）が形成されている。移動テーブル３３２は、板状部材からなり、略Ｕ字状の固定テーブル３３１の内部空間において移動可能に設置されている。移動テーブル３３２の下において、固定テーブル３３１の溝状のレールと対応する位置に、突出部（不図示）が設けられて、この突出部が固定テーブル３３１のレールにおいて移動可能になっている。
【００５８】
レチクルテーブル３１とスリットシステム３２とは、移動テーブル３３２の上面で固定配置されている。従って、移動テーブル３３２が図面の印で示す方向に従って移動することにより、レチクルテーブル３１とスリットシステム３２とが、移動テーブル３３２と一緒に、矢印で示す方向に従って移動する。
【００５９】
移動テーブル３３２は、レチクルテーブル３１の中心が照射光学系２０の光路と一致する位置で止まり、又はスリットシステム３２の中心が照射光学系２０の光路と一致する位置で止まるように、ストッパー等を設けることができる。
【００６０】
この移動テーブル３３２は、内蔵したモータにより駆動されて移動することができ、又はモータを配置せずに、手作業で上記のような範囲内で、移動テーブル３３２を移動することができる。
【００６１】
レチクルテーブル３１には、不図示の静電チャック等により吸着保持されたレチクルＲが配置される。このレチクルＲは、透明のガラス基板と、このガラス基板にクロムまたは他の光阻止材料を塗布することにより形成された所定のパターンとからなる。この所定パターンとして、例えば回路パターンや十字パターンなどを挙げることができる。従って、このレチクルＲに光を照射すると、クロムまたは他の光阻止材料を塗布していない十字パターンから光が透過して、被露光体にこの回路パターンや十字パターン等が照射される。
【００６２】
スリットシステム３２は、その全体を貫通する矩形形状のスルーホール３２１が形成されている。このスリットシステム３２の中心が照射光学系２０の光路に入ると、照射光学系２０からの光は、この矩形形状のスルーホール３２１を通過して、被露光体に照射される。これにより、被露光体にスリットシステム３２の矩形形状を形成することができる。
【００６３】
なお、このリットシステム３２の矩形形状のスルーホール３２１の開口の大きさは調節可能になっている。図３に示したように、スリットシステム３２には、Ｘ板調節部３２２ＸとＹ板調節部３２２Ｙとが設けられている。このＸ板調節部３２２ＸとＹ板調節部３２２Ｙを調整することにより、光を通過させるリットシステム３２のスルーホール３２１の開口を調整することができる。
【００６４】
スリットシステム３２には二枚のＸ板と二枚のＹ板とを備える。二枚のＸ板がお互い平行し、二枚のＹ板がお互いに平行する。平行する二枚のＸ板と平行する二枚のＹ板とが垂直に交差するように配置されている。平行する二枚のＸ板と平行する二枚のＹ板とが垂直に交差することにより、矩形形状のスルーホール３２１を形成することができる。
【００６５】
二枚のＸ板はＸ板調節部３２２Ｘと連動し、Ｘ板調節部３２２Ｘを時計方向に回すと、二枚のＸ板はお互いに接近し、二枚のＸ板間の間隔が小さくなる。操作者がＸ板調節部３２２Ｘを反時計方向に回すと、二枚のＸ板はお互いに離れ、二枚のＸ板間の間隔が大きくなる。
【００６６】
二枚のＹ板はＹ板調節部３２２Ｙと連動し、操作者がＹ板調節部３２２Ｙを時計方向に回すと、二枚のＹ板はお互いに接近し、二枚のＹ板間の間隔が小さくなる。Ｙ板調節部３２２Ｙを反時計方向に回すと、二枚のＹ板はお互いに離れ、二枚のＹ板間の間隔が大きくなる。
【００６７】
Ｘ板調節部３２２Ｘ及び／又はＹ板調節部３２２Ｙを時計方向に回すことにより、スルーホール３２１の矩形形状の開口の幅及び／又は長さを小さくすることができる。また、板調節部３２２Ｘ及び／又はＹ板調節部３２２Ｙを反時計方向に回すことにより、スルーホール３２１の矩形形状の開口の幅及び／又は長さを大きくすることができる。これにより、スルーホール３２１の開口が狭くなったり広くなったりする。
【００６８】
例えば、基板等の被露光体に矩形形状のパターンを形成しようとする場合、まず、操作者はスリットシステム３２が照射光学系２０の光路に入るように、移動テーブル３３２を−Ｙ方向に移動させる。基板等の被露光体を被露光体ステージ５０に配置させた後、ＸＹθステージ３４又は被露光体ステージ５０の何れか一つを移動しながら、矩形形状のパターンの形成位置を調整する。もちろん、ＸＹθステージ３４と被露光体ステージ５０との両方を移動しながら矩形形状のパターンの形成位置を調整することもできる。
【００６９】
矩形形状のパターンの形成位置を調整した後、Ｘ板調節部３２２Ｘ及び／又はＹ板調節部３２２Ｙを回しながら、矩形形状のパターンの大きさを調節する。矩形形状のパターンの大きさと形成位置が決まると、操作者は露光時間設定スイッチ６５、６６を操作して露光時間を設定する。その後、操作者がｇ線スイッチ６３を押すと、設定時間だけｇ線を照射して矩形形状のパターンを露光する。設定時間を経過すると、自動的にｇ線フィルタ２８からｅ線フィルタ２７に交換される。
【００７０】
レチクルのパターンを形成する場合、操作者はレチクルテーブル３１が照射光学系２０の光路に入るように、移動テーブル３３２をＹ方向に移動させる。ＸＹθステージ３４又は被露光体ステージ５０の何れか一つを移動しながら、レチクルのパターン（例えば十字パターンがあるが、これに限らない）の形成位置を調整する。その後、操作者は露光時間設定スイッチ６５、６６を操作して露光時間を設定した後、ｇ線スイッチ６３を押すと、設定時間だけｇ線を照射してレチクルのパターンを露光する。設定時間を経過すると、自動的にｇ線フィルタ２８からｅ線フィルタ２７に交換される。
【００７１】
＜露光装置２００の動作＞
以上で、全般的な構成と各構成について説明したが、以下で露光装置２００の動作について簡単に説明する。
【００７２】
まず、操作者は被露光体に形成しようとするマスクに応じて、レチクルＲ又はスリットシステム３２が照射の光路に入るように、交換スライドテーブル３３の移動ステージ３３２を移動させる。まず、レチクルＲの例えば十字パターンを形成する場合を例として説明する。
【００７３】
操作者はレチクルＲが照射の光路に入るように移動ステージ３３２を移動させた後、光源部１０の光源１１を点灯し、点灯した光はｅ線フィルタ２７を経過して観察用のｅ線に変更される。
【００７４】
この観察用のｅ線は、照射光学系２０によりマスクステージ３０におけるレチクルＲを照射する。照射されたレチクルのパターンは、結像光学系４０により、被露光体で結像される。この場合、操作者は観察照明部９０の光源９１を点灯して、接眼部４１で被露光体を観察しながら、レボルバ回転部材４２３を回転して、適当する倍数の対物レンズ４２１を選択する。
【００７５】
その後、操作者は接眼部４１で被露光体を観察しながら、被露光体ステージ５０及び／又はＸＹθステージ３４を移動して、被露光体におけるレチクルのパターンの形成位置を調整する。
【００７６】
レチクルのパターンの形成位置の調整が完了した後、操作者は露光時間設定スイッチ６５、６６を操作して露光時間を設定してから、ｇ線スイッチ６３を押す。ｇ線スイッチ６３を押すことにより、観察用のｅ線フィルタ２７から露光用のｇ線フィルタ２８に交換される。こうすることで、設定時間だけ露光用のｇ線を照射して、被露光体の所定の位置にレチクルＲのパターンが転写される。設定時間を経過すると、自動的にｇ線フィルタ２８からｅ線フィルタ２７に交換されて、露光した後の被露光体を観察することができる。
【００７７】
スリットシステム３２の矩形形状のパターンを形成する場合、移動テーブル３３２を−Ｙ方向に移動させる。その後、操作者は接眼部４１で被露光体を観察しながら、ＸＹθステージ３４及び／又は被露光体ステージ５０を移動しながら、被露光体における矩形形状のパターンの形成位置を調整する。
【００７８】
その後、Ｘ板調節部３２２Ｘ及び／又はＹ板調節部３２２Ｙを回しながら、矩形形状のパターンの大きさを調節する。矩形形状のパターンの大きさと形成位置が決まると、操作者は露光時間設定スイッチ６５、６６を操作して露光時間を設定した後、ｇ線スイッチ６３を押す。ｇ線スイッチ６３を押すことにより、観察用のｅ線フィルタ２７から露光用のｇ線フィルタ２８に交換される。こうすることで、設定時間だけｇ線を照射して、被露光体の所定の位置に矩形形状のパターンが転写される。設定時間を経過すると、自動的にｇ線フィルタ２８からｅ線フィルタ２７に交換される。
【図面の簡単な説明】
【００７９】
【図１】本発明に係る露光装置２００の外観を示す斜視図である。
【図２】露光装置２００の一部の内部構造を示した部分断面図である。
【図３】マスクステージ３０の部分を拡大して示した図面である。
【符号の説明】
【００８０】
２００  …  露光装置
１０  …  光源部
２０  …  照射光学系
２２  …  シャッター
３０  …  マスクステージ
３１  …  レチクルテーブル
３２  …  スリットシステム
３３  …  交換スライドテーブル
４０  …  結像光学系
４１  …  接眼レンズ
４２  …  レボルバ
５０  …  被露光体ステージ
６０  …  ベース部
６１  …  第一ベース部
６２  …  第二ベース部
６３  …  ｇ線スイッチ
６４  …  表示部
６５、６６  …  露光時間設定スイッチ
７０  …  ベース部
８０  …  保持部
８１  …  移動ハンドル
９０  …  観察照明部
【図１】
2010135571.tif 000003
【図２】
2010135571.tif 000004
【図３】
2010135571.tif 000005