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【手続補正書】
【提出日】令和3年5月17日(2021.5.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
対象において皮膚、好中球性、炎症性疾患の処置における使用のための、化合物を含む組成物であって、化合物は、Ｃ５ａ活性のインヒビターであり、皮膚、好中球性、炎症性疾患は、汗腺膿瘍（ＨＳ）；壊疽性膿皮症（ＰＧ）；ＰＡＰＡ（化膿性関節炎、ＰＧおよびアクネ）；ＰＡＳＨ（ＰＧ、アクネおよび汗腺膿瘍）；ＰＡＰＡＳＨ（化膿性関節炎、アクネ、ＰＧおよび汗腺膿瘍）；スイート症候群（ＳＳ）；角層下膿疱症（ＳＰＤ）；後天性表皮水疱症、持久性隆起性紅斑（ＥＥＤ）；好中球性脂肪織炎；腸関連皮膚病−関節炎症候群（bowel-associated dermatosis-arthritis syndrome）（ＢＡＤＡＳ）；ＳＡＰＨＯ（滑膜炎、アクネ、膿疱症、骨化過剰症、および骨炎）症候群；リウマチ性好中球性皮膚症；家族性地中海熱、クリオピリン関連障害、痛風、およびシュニッツラー症候群からなる群から選択される、組成物。
【請求項２】
Ｃ５ａ活性のインヒビターが、
−Ｃ５の濃度を低下させる；
−Ｃ５のＣ５ａおよびＣ５ｂへの開裂を阻害する；
−Ｃ５ａの濃度を低下させる；
−Ｃ５ａおよびＣ５ａ受容体間の結合を阻害する；
−Ｃ５ａ受容体の濃度を低下させる；および／または
−Ｃ５ａ受容体の活性を阻害する
請求項１に記載の使用のための組成物。
【請求項３】
Ｃ５ａ活性のインヒビターが、Ｃ５、またはＣ５ａ、またはＣ５ａ受容体に特異的に結合するタンパク質リガンドである、請求項１または２に記載の使用のための組成物。
【請求項４】
タンパク質リガンドが、
（ｉ）抗体、
（ｉｉ）抗体の抗原結合フラグメント、
（ｉｉｉ）抗体様タンパク質、
（ｉｖ）Ｃ５ａの阻害変異体、
（ｖ）Ｃ５ａ受容体の阻害変異体、
（ｖｉ）補体経路に作用するタンパク質；および
（ｖｉｉ）ペプチド
からなる群から選択される、請求項３に記載の使用のための組成物。
【請求項５】
Ｃ５ａ活性のインヒビターが、Ｃ５、またはＣ５ａ、またはＣ５ａ受容体に特異的に結合するオリゴヌクレオチドである、請求項１または２に記載の使用のための組成物。
【請求項６】
オリゴヌクレオチドが、ＤＮＡ−アプタマー、Ｄ−ＲＮＡアプタマー、およびＬ−ＲＮＡアプタマーからなる群から選択される、請求項５に記載の使用のための組成物。
【請求項７】
Ｃ５ａ活性のインヒビターが、Ｃ５タンパク質またはＣ５ａ受容体タンパク質の発現を減少させる、請求項１または２に記載の使用のための組成物。
【請求項８】
該Ｃ５ａ活性のインヒビターが、アンチセンスＤＮＡ、アンチセンスＲＮＡ、ｓｉＲＮＡ、およびｍｉＲＮＡからなる群から選択されるオリゴヌクレオチドである、請求項７に記載の使用のための組成物。
【請求項９】
Ｃ５ａ受容体が、Ｃ５ａＲおよび／またはＣ５Ｌ２である、請求項２から８のいずれかに記載の使用のための組成物。
【請求項１０】
Ｃ５ａ活性のインヒビターが、
（ａ）ＩＦＸ−１、ＩＮａｂ７０８、ＭＥＤＩ−７８１４、ＡＬＸＮ−１００７、またはＮＯＸ−Ｄ２１、またはそれらの抗原結合フラグメント；
（ｂ）Ｃ５ａへの結合について（ａ）の下に示される抗体の１つと競合する、抗体またはその抗原結合フラグメント；
（ｃ）エクリズマブ、ＡＬＸＮ１２１０、ＡＬＸＮ５５００、またはＬＦＧ３１６、またはそれらの抗原結合フラグメント；
（ｄ）Ｃ５への結合について（ｃ）の下に示される抗体の１つと競合する、抗体またはその抗原結合フラグメント；
（ｅ）ＣｏｖｅｒｓｉｎまたはＲＡ１０１４９５；
（ｆ）Ｃ５への結合について（ｅ）の下に示されるタンパク質またはペプチドの１つと競合する、抗体またはその抗原結合フラグメントまたはタンパク質または大環状ペプチド；
（ｇ）Ｚｉｍｕｒａ；
（ｈ）Ｃ５への結合についてＺｉｍｕｒａと競合する、抗体またはその抗原結合フラグメントまたはアプタマー；
（ｉ）ＡＭＹ−２０１またはＭｉｒｏｃｏｃｅｐｔ；
（ｊ）Ｃ３ｂへの結合について（ｉ）の下に示されるタンパク質の１つと競合する、抗体またはその抗原結合フラグメントまたはタンパク質；
（ｋ）Ｂｉｋａｃｉｏｍａｂ；
（ｌ）Ｆａｃｔｏｒ  Ｂへの結合についてＢｉｋａｃｉｏｍａｂと競合する、抗体またはその抗原結合フラグメント；
（ｍ）Ｌａｍｐａｌｉｚｕｍａｂ；
（ｎ）Ｆａｃｔｏｒ  Ｄへの結合についてＬａｍｐａｌｉｚｕｍａｂと競合する、抗体またはその抗原結合フラグメント；
（ｏ）ＡＬＮ−ＣＣ５；
（ｐ）Ａｖａｃｏｐａｎまたは式ＩＩまたは式ＩＩＩに記載の化合物；またはＰＭＸ−５３または式ＩＶに記載の化合物；
（ｑ）Ｃ５ａＲへの結合についてａｖａｃｏｐａｎまたはＰＭＸ−５３と競合する、抗体またはその抗原結合フラグメント；
（ｒ）クローン  Ｓ５／１またはクローン  ７Ｈ１１０、またはその抗原結合フラグメント；および
（ｓ）Ｃ５ａＲへの結合について（ｒ）の下に示される抗体の１つと競合する、抗体またはその抗原結合フラグメント
からなる群から選択される、請求項１から９のいずれかに記載の使用のための組成物。
【請求項１１】
皮膚、好中球性、炎症性疾患が、汗腺膿瘍（ＨＳ）；壊疽性膿皮症（ＰＧ）；ＰＡＰＡ（化膿性関節炎、ＰＧおよびアクネ）；ＰＡＳＨ（ＰＧ、アクネおよび汗腺膿瘍）；ＰＡＰＡＳＨ（化膿性関節炎、アクネ、ＰＧおよび汗腺膿瘍）；スイート症候群（ＳＳ）；角層下膿疱症（ＳＰＤ）；後天性表皮水疱症、持久性隆起性紅斑（ＥＥＤ）；好中球性脂肪織炎；腸関連皮膚病−関節炎症候群（ＢＡＤＡＳ）；およびＳＡＰＨＯ（滑膜炎、アクネ、膿疱症、骨化過剰症、および骨炎）症候群からなる群から選択される自己炎症性疾患である、請求項１から１０のいずれかに記載の使用のための組成物。
【請求項１２】
皮膚、好中球性、炎症性疾患が、壊疽性膿皮症（ＰＧ）；ＰＡＰＡ（化膿性関節炎、ＰＧおよびアクネ）；ＰＡＳＨ（ＰＧ、アクネおよび汗腺膿瘍）；ＰＡＰＡＳＨ（化膿性関節炎、アクネ、ＰＧおよび汗腺膿瘍）；スイート症候群（ＳＳ）；および角層下膿疱症（ＳＰＤ）からなる群から選択されるＨＳまたはＨＳ関連疾患である、請求項１から１０のいずれかに記載の使用のための組成物。
【請求項１３】
皮膚、好中球性、炎症性疾患が、リウマチ性好中球性皮膚症；家族性地中海熱、クリオピリン関連障害、痛風、およびシュニッツラー症候群からなる群から選択される皮膚炎症を伴う自己免疫疾患である、請求項１から１０のいずれかに記載の使用のための組成物。
【請求項１４】
化合物が、１週間に１回８００ｍｇの用量でまたは１週間に２回８００ｍｇの用量で投与される、請求項１から１３のいずれかに記載の使用のための組成物。
【手続補正書】
【提出日】令和3年4月13日(2021.4.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
次いで、かくして得られた膏体溶液を、剥離フィルム（剥離ライナー）又は支持体上に伸展し、乾燥炉内温度を６０℃以上８０℃未満に調節した乾燥機で、４〜２０分間乾燥し、有機溶剤を乾燥除去後、膏体層を支持体又は剥離フィルム（剥離ライナー）と貼り合わせ、本発明の貼付剤を得ることができる。
なお、膏体層の厚みとしては、３０〜２００μｍが好ましく、特に好ましくは８０〜１５０μｍであり、最も好ましくは、１００μｍ程度であるのが良い。
膏体層の厚みが３０μｍ未満であると、薬物放出の持続性が乏しくなるとともに粘着力が低下し、２００μｍより厚くなると、膏体層中に含有される薬物の量が増え、製造コストが高くなる。
【手続補正書】
【提出日】令和3年6月9日(2021.6.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５０】
本明細書において、「・・・〜・・・」はその境界を含むものである。本発明の実施態様の一部を以下の項目［１］−［１２］に記載する。
［１］
粒子が充填された繊維プリフォームの製造方法であって、次の工程：
セラミック酸化物の粒子の液体媒体中の懸濁液により含侵された複数の繊維層（６）の積層体（５）を圧縮することにより、充填されたプリフォームを形成すること、
を少なくとも含み、
前記液体媒体が、２０℃において２．３ｋＰａ未満の飽和蒸気圧を有する少なくとも１種の化合物を含み、この化合物が前記懸濁液の総重量に対して３０％以上の質量含有率で存在することを特徴とする方法。
［２］
前記化合物が、２０℃において０．６ｋＰａ以下の飽和蒸気圧を有する、項目１に記載の方法。
［３］
前記化合物が、グリセロール、乳酸エステル、ジメチル−２−メチルグルタレート、及びこれらの混合物より選ばれる、項目１又は２に記載の方法。
［４］
前記化合物がグリセロールである、項目３に記載の方法。
［５］
前記圧縮が真空引きにより行われる、項目１〜４のいずれかに記載の方法。
［６］
前記粒子が、前記懸濁液の総重量に対して４０％〜７０％の質量含有率で存在する、項目１〜５のいずれかに記載の方法。
［７］
前記粒子が、前記懸濁液の総重量に対して４０％〜６０％の質量含有率で存在する、項目６に記載の方法。
［８］
前記液体媒体が、
前記懸濁液の総重量に対して３０％〜５０％の質量含有率で前記化合物を含み、かつ
所望により、前記懸濁液の総重量に対して５％〜３０％の質量含有率で、前記化合物とは異なる溶媒を含み、かつ
所望により、前記懸濁液の総重量に対して１％〜１５％の質量含有率で、有機バインダを含み、かつ
所望により、前記懸濁液の総重量に対して０．１％〜１．５％、例えば０．５％〜１％の質量含有率で、分散剤を含む、項目１〜７のいずれかに記載の方法。
［９］
前記繊維層（６）がセラミック酸化物の繊維から形成されている、項目１〜８のいずれかに記載の方法。
［１０］
前記圧縮工程の前に、乾燥状態にある層（６）を堆積させることにより積層体（５）を形成する工程を含み、この堆積された層が次の層を堆積させる前に前記懸濁液により含侵される、項目１〜９のいずれかに記載の方法。
［１１］
前記圧縮工程の前に、前記懸濁液により事前に含侵された層（６）を重ね合わせることにより積層体（５）を形成する工程を含む、項目１〜９のいずれかに記載の方法。
［１２］
複合材料製の部品の製造方法であって、次の工程：
項目１〜１１のいずれかに記載の方法を実施することにより、充填されたプリフォームを形成すること、及び
粒子を焼成することにより、充填されたプリフォームの空隙内にマトリックスを形成すること
を少なくとも含む方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
粒子が充填された繊維プリフォームの製造方法であって、次の工程：
セラミック酸化物の粒子の液体媒体中の懸濁液により含侵された複数の繊維層（６）の積層体（５）を圧縮することにより、充填されたプリフォームを形成すること、
を少なくとも含み、
前記液体媒体が、２０℃において２．３ｋＰａ未満の飽和蒸気圧を有する少なくとも１種の化合物を含み、この化合物が前記懸濁液の総重量に対して３０％以上の質量含有率で存在し、前記粒子が前記懸濁液の総重量に対して４０％〜７０％の質量含有率で存在することを特徴とする方法。
【請求項２】
前記化合物が、２０℃において０．６ｋＰａ以下の飽和蒸気圧を有する、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記化合物が、グリセロール、乳酸エステル、ジメチル−２−メチルグルタレート、及びこれらの混合物より選ばれる、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
前記化合物がグリセロールである、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記圧縮が真空引きにより行われる、請求項１〜４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
前記粒子が、前記懸濁液の総重量に対して４０％〜６０％の質量含有率で存在する、請求項１〜５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
前記液体媒体が、
前記懸濁液の総重量に対して３０％〜５０％の質量含有率で前記化合物を含み、かつ
所望により、前記懸濁液の総重量に対して５％〜３０％の質量含有率で、前記化合物とは異なる溶媒を含み、かつ
所望により、前記懸濁液の総重量に対して１％〜１５％の質量含有率で、有機バインダを含み、かつ
所望により、前記懸濁液の総重量に対して０．１％〜１．５％、例えば０．５〜１％の質量含有率で、分散剤を含む、請求項１〜６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
前記繊維層（６）がセラミック酸化物の繊維から形成されている、請求項１〜７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
前記圧縮工程の前に、乾燥状態にある層（６）を堆積させることにより積層体（５）を形成する工程を含み、この堆積された層が次の層を堆積させる前に前記懸濁液により含侵される、請求項１〜８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１０】
前記圧縮工程の前に、前記懸濁液により事前に含侵された層（６）を重ね合わせることにより積層体（５）を形成する工程を含む、請求項１〜８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１１】
複合材料製の部品の製造方法であって、次の工程：
請求項１〜１０のいずれか１項に記載の方法を実施することにより、充填されたプリフォームを形成すること、及び
粒子を焼成することにより、充填されたプリフォームの空隙内にマトリックスを形成すること
を少なくとも含む方法。
【手続補正書】
【提出日】令和3年8月27日(2021.8.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
分割壁により取り入れ槽と抽出槽とに分割された内部空間を有するタンクと、
前記取り入れ槽に対して取り入れ弁により接続された取り入れ管と、
前記抽出槽に対して放出弁により接続された放出管と、
前記取り入れ槽と前記抽出槽との間に流体連通を提供する移送管であって、前記取り入れ槽の底部の近傍の第１開口と、前記抽出槽の頂部の近傍の第２開口とを備える移送管と、
前記取り入れ槽内に正圧および負圧を選択的に生成するポンプと、
前記抽出槽内において前記移送管の前記第２開口と前記放出管との間に位置された網体と、
を備え、
前記抽出槽に隣接する前記タンクの端部は縁部を有する蓋体を備え、
前記網体は前記蓋体が閉じられたときに該蓋体の前記縁部に当接して押圧する縁部を備える、汚泥を脱水する装置。
【請求項２】
前記移送管は前記タンクの長手軸心から約４５°の角度にて配向される、請求項１記載の装置。
【請求項３】
前記分割壁は前記タンクの前記長手軸心から約４５°の角度にて接続された角度付き部分を備える、請求項２記載の装置。
【請求項４】
前記移送管は、前記タンクの長手軸心から約９０°の角度にて配向された下部と、前記タンクの前記長手軸心に対して略々平行に配向された上部とを備える、請求項１〜３の何れか一項に記載の装置。
【請求項５】
前記分割壁は前記移送管の上部を受容する開口を有する湾曲壁部を備える、請求項１〜４の何れか一項に記載の装置。
【請求項６】
前記移送管の前記第２開口に対して取り付けられたシュノーケル・アセンブリを備え、該シュノーケル・アセンブリは、物質が前記移送管の前記第２開口を出ることを許容すると共に、物質が前記移送管の前記第２開口に入ることを阻止する弁を有する、請求項１〜５の何れか一項に記載の装置。
【請求項７】
前記網体は、前記抽出槽の形状に対して実質的に一致すると共に、前記移送管の前記第２開口が前記網体内にあるように、前記移送管を受容する孔を有する、請求項１〜６の何れか一項に記載の装置。
【請求項８】
前記移送管の前記第１開口は、該第１開口内へと流体を案内する漏斗部材を有する、請求項１〜７の何れか一項に記載の装置。
【請求項９】
前記ポンプに対する可撓ホース接続構造を備える、請求項１〜８の何れか一項に記載の装置。
【請求項１０】
前記取り入れ管、前記移送管、および、前記放出管の内のひとつ以上に対する可撓ホース接続構造を備える、請求項１〜８の何れか一項に記載の装置。
【請求項１１】
前記網体は、該網体の両側上において、前記抽出槽の内部上のピン受容器内に受容されるべく構成されたピンを有する、請求項１〜１０の何れか一項に記載の装置。
【請求項１２】
分割壁により取り入れ槽と抽出槽とに分割された内部空間を有するタンクと、前記取り入れ槽に対して取り入れ弁により接続された取り入れ管と、前記抽出槽に対して放出弁により接続された放出管と、前記取り入れ槽と前記抽出槽との間に流体連通を提供する移送管であって、前記取り入れ槽の底部の近傍の第１開口と、前記抽出槽の頂部の近傍の第２開口とを備えるという移送管と、前記取り入れ槽内に正圧および負圧を選択的に生成するポンプと、前記抽出槽内において前記移送管の前記第２開口と前記放出管との間に位置された網体と、を備える装置を配備するステップと、
前記取り入れ弁を開いて前記ポンプにより前記取り入れ槽に対して負圧を付与し、固形物および液状物の混合物を前記取り入れ管を通して取り入れ槽内へと吸引するステップと、
前記取り入れ槽内へとポリマを注入して前記固形物を凝集させるステップと、
前記取り入れ弁を閉じ、且つ、前記放出弁を開いて、前記ポンプにより取り入れ槽に対して正圧を付与し、前記凝集された固形物および液状物の混合物を前記移送管を通して前記抽出槽内へと強制移動させることで、前記網体は凝集された固形物を捕捉し、液状物は前記放出管を通過することを許容するステップと、
を備える、汚泥を脱水する方法。
【請求項１３】
前記抽出槽に隣接する前記タンクの端部は、縁部を有する蓋体を備え、
前記網体は、前記蓋体が閉じられたときに該蓋体の前記縁部に当接して押圧する縁部を備え、
前記方法は、前記蓋体を開き、前記網体を取り外すことなく、前記抽出槽から固形物を取り除くステップを備える、請求項１２記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】令和3年6月18日(2021.6.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
構造材料の１または複数の層と、
前記１または複数の構造層を互いに接合する接着材の１または複数の層と、を有し、
前記接着材の１または複数の層は、水内で少なくとも部分的に溶解または分離可能である、電子回路アセンブリ用の基板。
【請求項２】
電子回路アセンブリ用の基板を作る方法であって、
構造材料の１または複数の層を設けることと、
前記１または複数の構造層の間に接着材の１または複数の層を設けることで、前記１または複数の構造層を互いに接合することと、を含み、
前記接着材の１または複数の層は、少なくとも部分的に水溶性である、方法。
【請求項３】
前記１または複数の構造層は繊維質である、請求項１に記載の基板または請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記１または複数の構造層は、一方向繊維である、または、一方向繊維を含む、請求項３に記載の基板または請求項３に記載の方法。
【請求項５】
各構造層は、前記一方向繊維が互いに直交して配向されることで、配向の異なる各層が交互に設けられている、請求項４に記載の基板または請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記１または複数の構造層は天然材料である、または、天然材料を含み、任意で好ましくは前記天然材料が亜麻、ジュート、綿、麻、またはバガスである、請求項１または３から５のいずれか一項に記載の基板または請求項２から５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
前記１または複数の構造層は結合剤により覆われている、請求項１または３から６のいずれか一項に記載の基板、または、
前記１または複数の構造層を結合剤でコーティングすることをさらに含む、請求項２から６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
前記結合剤は、水溶性コーティングであり、任意でまたは好ましくは、前記結合剤はポリビニルアルコール水溶液、樹脂、ペクチン、またはポリ乳酸である、請求項７に記載の基板または請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記接着材の１または複数の層は、水溶性フィルムである、または、水溶性フィルムを含む、請求項１または３から８のいずれか一項に記載の基板または請求項２から８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
前記接着材の１または複数の層は、スターチ／グリセリン組成物、及び、ポリオール組成物のいずれかである、請求項１または３から９のいずれか一項に記載の基板または請求項２から９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１】
前記ポリオール組成物は、ポリビニルアルコール組成物、ポリビニルアセテート組成物、アクリル組成物、ポリエステル組成物、または、ポリエーテルウレタン組成物である、請求項１０に記載の基板または請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記基板は、非導電性、耐火性、耐水性のコーティングを備え、任意選択で、前記コーティングは、エポキシ樹脂である、請求項１または３から１１のいずれか一項に記載の基板または請求項２から１１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１３】
前記１または複数の構造層は、生分解材料である、請求項１または３から１２のいずれか一項に記載の基板または請求項２から１２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１４】
熱プレスして、前記複数の構造層を接着材の層を用いて互いに接合することをさらに含み、任意選択で、形成された複合材料を硬化することをさらに含む、請求項２から１３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１５】
電子回路アセンブリを形成する方法であって、
導電性または金属製フィルムのシートを設けることと、
フォトレジストを使用して、前記導電性または金属製フィルムに対して、任意でまたは好ましくは酸エッチングにより回路パターンを印刷することと、
請求項１から１４のいずれか一項に記載の基板上に前記回路パターンを設けることと、を含む方法。
【請求項１６】
請求項１から１５のいずれか一項に記載の基板を含む電子回路アセンブリから、電子部品を取り外す方法であって、
前記電子回路アセンブリを水の入った槽に入れることと、
前記基板の前記各構造層を分離することと、を含む方法。
【手続補正書】
【提出日】令和3年6月4日(2021.6.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
カーボンエアロゲルの形成方法であって、
インクを３Ｄ印刷して印刷部品を作製することであり、前記インクは、溶媒、レゾルシノール−ホルムアルデヒド樹脂、及び有機増粘剤を含むものであること、
前記印刷部品から溶剤を除去すること、並びに
前記印刷部品を炭化して前記エアロゲルを作製すること、
を含み、
前記レゾルシノール−ホルムアルデヒド樹脂は、酸触媒を含み、１：１を超えるホルムアルデヒド：レゾルシノールのモル比を有し、
前記増粘剤は、水溶性で、Ｃ、Ｈ、Ｏ原子のみから構成され、かつエーテル官能基又はアルコール官能基のみを含む、カーボンエアロゲルの形成方法。
【請求項２】
前記インクは、チキソトロープ剤を更に含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記チキソトロープ剤は、ヒュームドシリカを含み、前記方法は、前記印刷部品からシリカを除去するためにＨＦエッチングすることを更に含む、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記有機増粘剤は、可溶性セルロース誘導体又は可溶性ポリオキシアルキレン化合物を含む、請求項１〜３の何れか１項に記載の方法。
【請求項５】
前記酸触媒は、酢酸を含む、請求項１〜４の何れか１項に記載の方法。
【請求項６】
前記インクは、酸化グラフェンを更に含む、請求項１〜５の何れか１項に記載の方法。
【請求項７】
前記インクは、酸化グラフェンを含まない、請求項１〜５の何れか１項に記載の方法。
【請求項８】
３Ｄ印刷インクであって、
水を含む溶媒、
有機増粘剤、
レゾルシノール及びホルムアルデヒド、並びに
前記レゾルシノール及びホルムアルデヒドの間の反応を触媒する酸触媒、
を含み、
前記増粘剤は、水溶性で、Ｃ、Ｈ、Ｏ原子のみから構成され、かつエーテル官能基又はアルコール官能基のみを含む、酸化グラフェンを含まない３Ｄ印刷インク。
【請求項９】
チキソトロープ添加剤を更に含み、好ましくはヒュームドシリカを含む請求項９に記載のインク。
【請求項１０】
前記酸触媒は、酢酸を含む、請求項８又は９に記載のインク。
【請求項１１】
前記レゾルシノールのホルムアルデヒドに対するモル比は１：１未満である、請求項８〜１０の何れか１項に記載のインク。
【請求項１２】
前記増粘剤は、ヒドロキシプロピルメチルセルロース又はポリオキシアルキレン化合物を含む、請求項８〜１１の何れか１項に記載のインク。
【請求項１３】
１０重量％から６０重量％の樹脂を含む、請求項８〜１２の何れか１項に記載のインク。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９３】
例６ｅ−計算
単一電極の重量静電容量（Ｃ）は、以下の式を使用して定電流充放電曲線に基づいて計
算される。
【数１】
2020524625.tif 000001
ここで、Ｃは重量静電容量（Ｆｇ−１）、ΔＵは電位窓（Ｖ）、Ｉは放電電流（Ａ）、
ｔは放電時間（ｓ）、ｍは電極上の物質の質量負荷（ｇ）である。
以下に、本願出願の当初の特許請求の範囲に記載された発明を付記する。
［１］
カーボンエアロゲルの形成方法であって、
インクを３Ｄ印刷して印刷部品を作製することであり、前記インクは、溶媒、レゾルシノール−ホルムアルデヒド樹脂、及び有機増粘剤を含むものであること、
前記印刷部品から溶剤を除去すること、並びに
前記印刷部品を炭化して前記エアロゲルを作製すること、
を含み、
前記レゾルシノール−ホルムアルデヒド樹脂は、酸触媒を含み、１：１を超えるホルムアルデヒド：レゾルシノールのモル比を有し、
前記増粘剤は、水溶性で、Ｃ、Ｈ、Ｏ原子のみから構成され、かつエーテル官能基又はアルコール官能基のみを含む、カーボンエアロゲルの形成方法。
［２］
前記インクは、チキソトロープ剤を更に含む、［１］に記載の方法。
［３］
前記チキソトロープ剤は、ヒュームドシリカを含み、前記方法は、前記印刷部品からシリカを除去するためにＨＦエッチングすることを更に含む、［２］に記載の方法。
［４］
前記有機増粘剤は、可溶性セルロース誘導体又は可溶性ポリオキシアルキレン化合物を含む、［１］に記載の方法。
［５］
前記酸触媒は、酢酸を含む、［１］に記載の方法。
［６］
前記インクは、酸化グラフェンを更に含む、［１］に記載の方法。
［７］
前記インクは、酸化グラフェンを含まない、［１］に記載の方法。
［８］
［１］に記載の方法によって製造されたカーボンエアロゲル。
［９］
３Ｄ印刷インクであって、
水を含む溶媒、
有機増粘剤、
レゾルシノール及びホルムアルデヒド、並びに
前記レゾルシノール及びホルムアルデヒドの間の反応を触媒する酸触媒、
を含み、
前記増粘剤は、水溶性で、Ｃ、Ｈ、Ｏ原子のみから構成され、かつエーテル官能基又はアルコール官能基のみを含む、３Ｄ印刷インク。
［１０］
チキソトロープ添加剤を更に含む、［９］に記載のインク。
［１１］
前記チキソトロープ添加剤は、ヒュームドシリカを含む、［１０］に記載のインク。
［１２］
前記酸触媒は、酢酸を含む、［９］に記載のインク。
［１３］
前記レゾルシノールのホルムアルデヒドに対するモル比は１：１未満である、［９］に記載のインク。
［１４］
酸化グラフェンを更に含む、［９］に記載のインク。
［１５］
前記増粘剤は、ヒドロキシプロピルメチルセルロースを含む、［９］に記載のインク。
［１６］
前記増粘剤は、ポリオキシアルキレン化合物を含む、［９］に記載のインク。
［１７］
１０重量％から６０重量％の樹脂を含む、［９］に記載のインク。
［１８］
正電極、負電極、及び前記電極間に配置されたセパレータを備え、前記正電極、前記負電極、及び前記セパレータのうちの少なくとも１つは［７］に記載のカーボンエアロゲルを含む、スーパーキャパシタ。
［１９］
２４０Ｆ／ｇを超える比静電容量を特徴とする、［１８］に記載のスーパーキャパシタ。
【手続補正書】
【提出日】令和3年6月21日(2021.6.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
対象における疾患または状態を予防するか、進行を遅らせるか、または処置するための医薬組成物であって、前記医薬組成物がプラスミノーゲン、そのバリアントまたはその類似体を有効成分として含み、前記疾患または状態がＰＡＩ−１の過剰発現に関連する、前記医薬組成物。
【請求項２】
前記ＰＡＩ−１の過剰発現が、対象の血液または傷害組織で起こる、請求項１に記載の医薬組成物。
【請求項３】
前記対象が非プラスミノーゲン欠乏対象である、請求項１または２に記載の医薬組成物。
【請求項４】
前記対象が正常なプラスミノーゲン活性レベルの７０％を超える血漿プラスミノーゲン活性を有する、請求項３に記載の医薬組成物。
【請求項５】
前記疾患またはＰＡＩ−１の過剰発現に関連する状態が、血管もしくは組織のリモデリング能力の低下に関連する疾患、または代謝障害もしくはホルモン障害である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の医薬組成物。
【請求項６】
血管または組織のリモデリング能力の低下に関連する前記疾患が、慢性腎疾患、糸球体硬化症、線維症、尿細管間質性線維症、糸球体腎炎、アテローム性動脈硬化症、慢性閉塞性肺疾患（ＣＯＰＤ）、肺線維症、慢性腎疾患（ＣＫＤ）、膜性腎症、または慢性同種移植腎症である、請求項５に記載の医薬組成物。
【請求項７】
前記代謝障害またはホルモン障害が肥満、多嚢胞性卵巣疾患、アミロイドーシス、アルツハイマー病、脱毛症、または老化である、請求項５記載の医薬組成物。
【請求項８】
前記疾患が肺線維症である、請求項６に記載の医薬組成物。
【請求項９】
前記肺線維症が特発性肺線維症である、請求項８に記載の医薬組成物。
【請求項１０】
抗線維化剤をさらに含むか、または抗線維化剤と組み合わせて使用される、請求項８または９に記載の医薬組成物。
【請求項１１】
前記抗線維化剤がピルフェニドンである、請求項１０に記載の医薬組成物。
【請求項１２】
対象におけるＰＡＩ−１の過剰発現に関連する疾患または状態の予防、進行の遅延、または処置に使用するためのプラスミノーゲン、そのバリアントまたはその類似体。
【請求項１３】
対象における疾患または状態を予防するか、進行を遅らせるか、または処置するための医薬の調製のためのプラスミノーゲン、そのバリアントまたはその類似体の使用であって、前記疾患または状態がＰＡＩ−１の過剰発現に関連する、前記使用。
【請求項１４】
対象の傷害組織におけるＰＡＩ−１過剰発現を下方制御するための、プラスミノーゲン、そのバリアントまたはその類似体を有効成分として含む医薬組成物。
【請求項１５】
対象の傷害組織におけるＰＡＩ−１過剰発現の下方制御に使用するためのプラスミノーゲン、そのバリアントまたはその類似体。
【請求項１６】
対象の傷害組織におけるＰＡＩ−１過剰発現を下方制御するための医薬の調製のためのプラスミノーゲン、そのバリアントまたはその類似体の使用。
【手続補正書】
【提出日】令和3年6月11日(2021.6.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＣＤ１９−ＡＤＣを含む、対象の増殖性疾患を治療する医薬組成物であって、前記ＣＤ１９−ＡＤＣは、前記対象に、２回目の治療サイクルの後に、前記用量を低減する投与レジメで投与され、かつ、以下の：
【化１】
2020524670.tif 000001
（式中、Ａｂは、配列番号２の配列を有するＶＨドメイン、及び配列番号８の配列を有するＶＬドメインを含む、ＣＤ１９抗体であり、ＤＡＲが、１〜８である）
で表される化学構造を有する、医薬組成物。
【請求項２】
前記投与レジメの間に、ＣＤ１９−ＡＤＣの開始用量を１回以下低減する、請求項１に記載の医薬組成物。
【請求項３】
前記対象が、直前の治療サイクルの終了時に、少なくとも疾患の安定［ＳＤ］を達成した場合のみに、前記用量を低減する、請求項１又は２に記載の医薬組成物。
【請求項４】
前記開始用量は、１５０μｇ／ｋｇである、請求項１〜３のいずれか一項に記載の医薬組成物。
【請求項５】
前記開始用量が、２００μｇ／ｋｇ、１２０μｇ／ｋｇ、９０μｇ／ｋｇ、又は６０μｇ／ｋｇである、請求項１〜４のいずれか一項に記載の医薬組成物。
【請求項６】
低減用量が、前記開始用量の約５０％である、請求項１〜５のいずれか一項に記載の医薬組成物。
【請求項７】
前記低減用量が、７５μｇ／ｋｇである、請求項１〜６のいずれか一項に記載の医薬組成物。
【請求項８】
各治療サイクルが、同期間である、請求項１〜７のいずれか一項に記載の医薬組成物。
【請求項９】
各治療サイクルが、３週間である、請求項８に記載の医薬組成物。
【請求項１０】
１４０〜１６０μｇ／ｋｇのＣＤ１９−ＡＤＣを２回の３週間の治療サイクルで投与し、
その２回目のサイクルの投与から３週間後に、それ以降の７０〜８０μｇ／ｋｇの３週間のサイクルを開始する、請求項９に記載の医薬組成物。
【請求項１１】
１５０μｇ／ｋｇのＣＤ１９−ＡＤＣを２回の３週間の治療サイクルで投与し、
その２回目のサイクルの投与から３週間後に、それ以降の７５μｇ／ｋｇの３週間のサイクルを開始する、請求項９に記載の医薬組成物。
【請求項１２】
前記増殖性疾患が、以下の：
（ｉ）びまん性大細胞型Ｂ細胞性リンパ腫（ＤＬＢＣＬ）、濾胞性リンパ腫（ＦＬ）、マントル細胞リンパ腫（ＭＣＬ）、慢性リンパ性リンパ腫（ＣＬＬ）、ワルデンシュトレーム型マクログロブリン血症及び辺縁帯Ｂ細胞リンパ腫（ＭＺＢＬ）のような非ホジキンリンパ腫；
（ｉｉ）Ｂ細胞系非ホジキンリンパ腫（Ｂ−ＮＨＬ）；及び／又は
（ｉｉｉ）耐性、再発性または難治性；
である、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の医薬組成物。
【請求項１３】
前記対象が、ヒトである、請求項１〜１２のいずれか一項に記載の医薬組成物。
【請求項１４】
前記治療は、ＣＤ１９−ＡＤＣと併用して、さらに、イブルチニブを投与することを含む、請求項１〜１３のいずれか一項に記載の医薬組成物。
【請求項１５】
前記治療は、ＣＤ１９−ＡＤＣと併用して、さらに、デュルバルマブを投与することを含む、請求項１〜１４のいずれか一項に記載の医薬組成物。
【請求項１６】
前記治療は、ＣＤ１９−ＡＤＣと併用して、さらに、リツキシマブを投与することを含む、請求項１〜１５のいずれか一項に記載の医薬組成物。
【請求項１７】
前記治療は、ＣＤ１９−ＡＤＣとステロイドとを併用投与する、請求項１〜１６のいずれか一項に記載の医薬組成物。
【請求項１８】
（ｉ）  前記イブルチニブをＱＤ投与レジメで、５６０ｍｇ／日の投与量で投与し；
（ｉｉ）  前記デュルバルマブを１５００ｍｇでＱ４Ｗ投与レジメで投与し；
（ｉｉｉ）  前記リツキシマブをＱ３Ｗ投与レジメで、３７５ｍｇ／ｍ２で投与し；及び／又は
（ｉｖ）  前記ステロイドは、デキサメタゾンである；
請求項１４〜１７のいずれか一項に記載の医薬組成物。
【手続補正書】
【提出日】令和3年8月27日(2021.8.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子暗号化装置を含むシステムであって、前記電子暗号化装置は、
平文データを暗号化する命令を受信し、
前記データを暗号化解除することを許可されることになる１つ以上のエンティティを識別するアクセス制御リストを受信し、
前記アクセス制御リストを鍵サーバに送り、
前記鍵サーバから、暗号暗号化鍵を受信し、
前記鍵サーバと、前記データに関するデータ識別子を交換し、
特徴セットを抽出するために、前記平文データにロッシイ特徴抽出アルゴリズムを適用し、
暗号化された特徴セットを生成するために前記特徴セットを暗号化し、
前記暗号化された特徴セットを特徴サーバに送り、
暗号化されたデータを生成するために、受信された暗号暗号化鍵を使用して、前記平文データを暗号化し、
前記暗号化されたデータおよび前記データ識別子を記憶する
ように構成される、システム。
【請求項２】
前記電子暗号化装置は、前記平文データをセキュア環境内に受信し、前記セキュア環境内で、（ｉ）前記ロッシイ特徴抽出、（ｉｉ）前記特徴セットを暗号化すること、および（ｉｉｉ）前記平文データを暗号化することのうちの１つ以上を実行するように構成される、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記電子暗号化装置は、（ｉ）前記アクセス制御リストを前記鍵サーバに送る時、（ｉｉ）前記暗号暗号化鍵を前記鍵サーバから受信する時、および（ｉｉｉ）前記データ識別子を前記鍵サーバと交換する時に、１つ以上の暗号化されたチャネルを使用するように構成される、請求項１または２に記載のシステム。
【請求項４】
前記特徴サーバおよび前記鍵サーバは前記電子暗号化装置からリモートであり、前記特徴サーバは前記鍵サーバからリモートである、請求項１乃至３の何れか一項に記載のシステム。
【請求項５】
前記電子暗号化装置は、前記データを暗号化解除することを許可されることになる複数のエンティティを識別するアクセス制御リストを受信し、前記複数のエンティティを識別するアクセス制御リストを前記鍵サーバに送るように構成される、請求項１乃至４の何れか一項に記載のシステム。
【請求項６】
前記特徴セットは、前記平文データから抽出された要素の順序なしセットを含む、請求項１乃至５の何れか一項に記載のシステム。
【請求項７】
前記電子暗号化装置は、前記特徴サーバから応答データを受信し、かつ前記平文データを変更し、または受信された応答データに応じて、ユーザにメッセージを出力するように構成される、請求項１乃至６の何れか一項に記載のシステム。
【請求項８】
前記システムは前記鍵サーバをさらに含み、前記鍵サーバは、
前記電子暗号化装置から前記アクセス制御リストを受信し、
前記電子暗号化装置に前記暗号暗号化鍵を送り、
前記電子暗号化装置と前記データ識別子を交換し、
データ・ストア内で相互関連付けして、前記データ識別子および前記アクセス制御リストを記憶する
ように構成される、請求項１乃至７の何れか一項に記載のシステム。
【請求項９】
前記システムは電子暗号化解除装置をさらに含み、前記電子暗号化解除装置は、
前記暗号化されたデータを暗号化解除する命令を受信し、
前記鍵サーバに前記データ識別子を送り、
前記鍵サーバに対するエンティティを識別し、
前記鍵サーバから、前記データ識別子に関連する暗号暗号化鍵を受信し、
前記平文データを回復するために、前記暗号暗号化解除鍵を使用して、前記暗号化されたデータを暗号化解除し、
前記平文データを記憶する
ように構成される、請求項１乃至８の何れか一項に記載のシステム。
【請求項１０】
前記鍵サーバは、
前記電子暗号化解除装置から前記データ識別子を受信し、
前記電子暗号化解除装置からエンティティの識別を受信し、
前記データ・ストア内で、前記データ識別子に関連するアクセス制御リストを識別し、
前記エンティティが前記データ識別子に関連するアクセス制御リスト上にあることをチェックし、
前記エンティティが前記データ識別子に関連するアクセス制御リスト上にあると判断することに応答して、前記データ識別子に関連する暗号暗号化解除鍵を取り出すかまたは生成し、前記データ識別子に関連する暗号暗号化解除鍵を前記電子暗号化解除装置に送る
ように構成される、請求項９に記載のシステム。
【請求項１１】
前記システムは前記特徴サーバをさらに含み、前記特徴サーバは、前記電子暗号化装置から前記暗号化された特徴セットを受信し、前記特徴サーバのメモリ内に前記暗号化された特徴セットを記憶するように構成される、請求項１乃至１０の何れか一項に記載のシステム。
【請求項１２】
前記特徴サーバは、前記特徴セットを完全には暗号化解除せずに、前記暗号化された特徴セット内の情報を抽出または処理するように構成される、請求項１１に記載のシステム。
【請求項１３】
前記特徴サーバは、プライベート情報検索（ＰＩＲ）プロトコルを使用して前記暗号化された特徴セットを処理し、前記特徴サーバが前記暗号化された特徴セットの内容を判定することなく、前記電子暗号化装置に応答データを送るように構成され、前記応答データは、前記暗号化された特徴セットの内容に依存する、請求項１１または１２に記載のシステム。
【請求項１４】
鍵サーバであって、
電子暗号化装置からアクセス制御リストを受信し、
前記電子暗号化装置に暗号暗号化鍵を送り、
データ識別子を前記電子暗号化装置と交換し、
データ・ストア内で相互関連付けして、前記データ識別子および前記アクセス制御リストを記憶し、
電子暗号化解除装置から、着信データ識別子を受信し、
前記電子暗号化解除装置から、エンティティの識別を受信し、
前記データ・ストア内で、前記着信データ識別子に関連するアクセス制御リストを識別し、
前記エンティティが前記着信データ識別子に関連するアクセス制御リスト上にあるかどうかをチェックし、
前記エンティティが前記着信データ識別子に関連するアクセス制御リスト上にある場合に、前記着信データ識別子に関連する暗号暗号化解除鍵を取り出すかまたは生成し、前記着信データ識別子に関連する暗号暗号化解除鍵を前記電子暗号化解除装置に送る
ように構成された、鍵サーバ。
【請求項１５】
データ暗号化方法であって、
平文データを暗号化する命令を受信することと、
前記データを暗号化解除することを許可されることになる１つ以上のエンティティを識別するアクセス制御リストを受信することと、
前記アクセス制御リストを鍵サーバに送ることと、
前記鍵サーバから、暗号暗号化鍵を受信することと、
前記鍵サーバと、前記データに関するデータ識別子を交換することと、
特徴セットを抽出するために、前記平文データにロッシイ特徴抽出アルゴリズムを適用することと、
暗号化された特徴セットを生成するために前記特徴セットを暗号化することと、
前記暗号化された特徴セットを特徴サーバに送ることと、
暗号化されたデータを生成するために、前記平文データを暗号化するべく受信された暗号暗号化鍵を使用することと、
前記暗号化されたデータおよび前記データ識別子を記憶することと、
を含む、方法。
【手続補正書】
【提出日】令和3年6月18日(2021.6.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を支持する支持部材と、
前記支持部材の縁端に配置される温度補償部材と、
を含み、
前記温度補償部材は、
前記支持部材と同じ素材からなる胴体部と、
前記胴体部の表面にコーティング層、前記支持部材と異なる素材から形成されるコーティング層を含み、
前記支持部材は透光性素材からなり、前記温度補償部材は不透光性素材からなることを特徴とする基板支持装置。
【請求項２】
前記温度補償部材の表面は、洗浄ガスに対して耐食性を有する素材でコートされることを特徴とする請求項１に記載の基板支持装置。
【請求項３】
前記コーティング層は、前記胴体部より熱伝導率の高い素材からなることを特徴とする請求項１又は２に記載の基板支持装置。
【請求項４】
前記基板の側面と前記温度補償部材の側面は互いに対向するように構成され、前記基板と前記温度補償部材は互いに離隔して配置されることを特徴とする請求項１又は２に記載の基板支持装置。
【請求項５】
前記支持部材及び前記胴体部は石英からなり、
前記コーティング層は黒体からなることを特徴とする請求項３に記載の基板支持装置。
【請求項６】
前記黒体は、炭化ケイ素（ＳｉＣ）、ブラックセラミック（Ｂｌａｃｋ  ｃｅｒａｍｉｃ）、酸化アルミニウム（Ａｌ2Ｏ3）、グラファイト（ｇｒａｐｈｉｔｅ）、及びブラック石英（Ｂｌａｃｋ  Ｑｕａｒｔｚ）の少なくとも１種の物質を含むことを特徴とする請求項５に記載の基板支持装置。
【請求項７】
前記温度補償部材は、リング形に形成され、前記基板を取り囲むように配置されることを特徴とする請求項１に記載の基板支持装置。
【請求項８】
前記支持部材は、
前記基板が装着される装着部と、
前記装着部と前記温度補償部材の内側面との間に形成されるリング形の陷沒部と、
を含むことを特徴とする請求項１に記載の基板支持装置。
【請求項９】
前記基板は、側面と縁部の下面が露出されるように前記陷沒部に配置されることを特徴とする、請求項８に記載の基板支持装置。
【請求項１０】
前記基板は、縁部の上面、側面及び下面が前記温度補償部材から放出される熱によって加熱されるように構成されることを特徴とする請求項９に記載の基板支持装置。
【請求項１１】
前記温度補償部材と前記基板は前記支持部材の上面に配置され、前記温度補償部材の下面と前記基板の下面は上下方向に同じ高さに配置されることを特徴とする請求項１に記載の基板支持装置。
【請求項１２】
基板を支持する支持部材と、
前記支持部材の縁端に配置され、前記支持部材と異なる素材からなる温度補償部材と、
を含み、
前記支持部材は、
前記基板が装着される装着部と、
前記装着部と前記温度補償部材の内側面との間に形成されるリング形の陷沒部とを含み、
前記温度補償部材の表面は洗浄ガスに対して耐食性を有する素材からなり、
前記基板は、側面と縁部の下面が露出されるように前記陷沒部に配置され、前記温度補償部材から放出される熱によって加熱されるように構成されることを特徴とする基板支持装置。
【請求項１３】
前記温度補償部材は、前記支持部材より熱伝導率の高い素材からなることを特徴とする請求項１２に記載の基板支持装置。
【請求項１４】
前記支持部材は石英からなり、前記温度補償部材は少なくとも一部が黒体からなることを特徴とする請求項１３に記載の基板支持装置。
【請求項１５】
前記温度補償部材は、
前記支持部材と同じ素材からなる胴体部と、
前記胴体部の表面にコーティングされ、前記胴体部と異なる素材からなるコーティング層と、
を含み、
前記コーティング層の一部は前記陷沒部の側面及び底面上に配置され、前記コーティング層の一側は前記基板の前記端の下面と接触するように構成されることを特徴とする請求項１２に記載の基板支持装置。
【請求項１６】
前記コーティング層は前記胴体部より熱伝導率の高い素材からなることを特徴とする、請求項１５に記載の基板支持装置。
【請求項１７】
前記温度補償部材の表面は、洗浄ガスに対して耐食性を有する素材でコートされることを特徴とする請求項１２に記載の基板支持装置。
【請求項１８】
前記黒体は、炭化ケイ素（ＳｉＣ）、ブラックセラミック（ Ｂｌａｃｋ ｃｅｒａｍｉｃ）、酸化アルミニウム（Ａｌ2Ｏ3）、グラファイト（ｇｒａｐｈｉｔｅ）、及びブラック石英（Ｂｌａｃｋ Ｑｕａｒｔｚ）の少なくとも１種の物質を含むことを特徴とする請求項１４に記載の基板支持装置。
【請求項１９】
前記コーティング層は、
前記胴体部の上面と側面の上に形成された第１コーティング層と、
前記陷沒部との下面と側面の上に形成された第２コーティング層と、
を含み、
前記第２コーティング層と前記基板の縁部は 垂直方向に互いに向かい合って配置されることを特徴とする請求項１２に記載の基板支持装置。
【請求項２０】
前記胴体部は前記支持部材と一体に形成されていることを特徴とする請求項１５に記載の基板支持装置。
【手続補正書】
【提出日】令和3年6月11日(2021.6.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
接地電位とフィードスルーの電位との間の絶縁部を提供するための非対称Ｘ線管絶縁体であって、前記絶縁体は、
前記X線管の真空ゾーンと接触するための真空インタフェースと、
前記X線管の雰囲気と接触するための雰囲気インタフェースと、
前記雰囲気インタフェースから前記真空インタフェースへ前記フィードスルーの前記電位を導くために前記フィードスルーを受け入れるための前記絶縁体の内部のフィードスルーチャネルと
を有し、
前記フィードスルーチャネルは、前記真空インタフェースから前記雰囲気インタフェースまで前記絶縁体の内部に延在し、
前記真空インタフェース及び前記雰囲気インタフェースは、互いに対して角度付けられ、
前記真空インタフェースに垂直な第1の軸は、前記雰囲気インタフェースに垂直な第2の軸に対して、少なくとも5度、好ましくは90度の角度で角度付けられ、
前記真空インタフェースに垂直な前記第1の軸は仮想対称軸であり、前記雰囲気インタフェースに垂直な前記第2の軸は仮想対称軸であり、
前記フィードスルーチャネルが、前記真空インタフェースから前記絶縁体に第1の方向に沿って延在し、
前記フィードスルーチャネルが、前記雰囲気インタフェースから前記絶縁体に第2の方向に沿って延在し、
前記第１の方向は前記第１の軸に平行であり、前記第２の方向は前記第２の軸に平行であり、
前記真空インタフェースは直径を持ち、前記雰囲気インタフェースは直径を持ち、
前記真空インタフェースの前記直径は、前記雰囲気インタフェースの前記直径よりも少なくとも2倍超過する、
非対称Ｘ線管絶縁体。
【請求項２】
前記接地電位を運ぶための導電性外面
を更に有し、
前記導電性外面は、前記真空インタフェースから前記雰囲気インタフェースまで延在する、
請求項１に記載の非対称Ｘ線管絶縁体。
【請求項３】
前記絶縁体は、等方性材料、好ましくはアルミナの均質体で形成される、
請求項１乃至２の何れか一項に記載の非対称Ｘ線管絶縁体。
【請求項４】
前記真空インタフェースは仮想円形対称軸を有し、
前記真空インタフェースは、前記真空インタフェースの深度で分割される前記真空インタフェースの前記直径の間で高い比率を有し、実質的に平坦で、構造化される表面を持つパンケーキ形の絶縁体インタフェースとして具現化され、前記直径は前記仮想円対称軸に垂直に測定され、前記深度は前記仮想円対称軸の前記方向に測定され、
前記雰囲気インタフェースは、仮想円形対称軸を有するか、又は仮想離散回転対称軸を有し、
両方の対称軸は互いに対して角度付けられる、
請求項１乃至３の何れか一項に記載の非対称Ｘ線管絶縁体。
【請求項５】
前記真空インタフェースは仮想円形対称軸を有し、
前記真空インタフェースは、前記真空インタフェースの深度で分割される前記真空インタフェースの前記直径の間で高い比率を有し、実質的に平坦で、構造化される表面を有するパンケーキ形の絶縁体インタフェースとして具現化され、前記仮想円形対称軸の厚さは前記真空インタフェースの直径よりも短く、
前記絶縁体は、前記雰囲気インタフェースで円錐形状を有する、
請求項１乃至３の何れか一項に記載の非対称Ｘ線管絶縁体。
【請求項６】
前記絶縁体は、前記真空インタフェースで円錐形状を有し、
前記雰囲気インタフェースは仮想円形対称軸を有し、
前記雰囲気インタフェースは、前記真空インタフェースの深度で分割される前記真空インタフェースの前記直径の間で高い比率を有し、実質的に平坦で、構造化される表面を有するパンケーキ形の絶縁体インタフェースとして具体化され、前記直径は前記仮想円対称軸の前記方向に測定され、前記深度は前記仮想円対称軸に垂直に測定される、
請求項１乃至３の何れか一項に記載の非対称Ｘ線管絶縁体。
【請求項７】
前記真空インタフェースの前記対称軸は、前記フィードスルーチャネルが前記真空インタフェースから前記絶縁体に延在する方向に沿って平行に延在し、
前記雰囲気インタフェースの前記対称軸は、前記フィードスルーチャネルが前記雰囲気インタフェースから前記絶縁体に延在する方向に平行に延在する、
請求項４、５又は６の何れか一項に記載の非対称Ｘ線管絶縁体。
【請求項８】
実質的に平坦なディスクの形状を有する、請求項４、５、又は６の何れか一項に記載の非対称Ｘ線管絶縁体。
【請求項９】
前記絶縁体の内部の前記フィードスルーチャネルは、前記絶縁体内で湾曲され、及び/又は角度付けられる、
請求項１乃至８の何れか一項に記載の非対称Ｘ線管絶縁体。
【請求項１０】
前記導電性外面は、前記真空インタフェースから前記絶縁体の角度付けられるセクションに向かって垂直に延在し、
前記導電性外面は、前記雰囲気インタフェースから前記絶縁体の前記角度付けられるセクションに向かって垂直に延在する、
請求項２乃至９の何れか一項に記載の非対称Ｘ線管絶縁体。
【請求項１１】
前記導電性外面は前記真空インタフェースを円周方向に囲み、
前記導電性外面は前記雰囲気インタフェースを円周方向に囲む、
請求項２乃至１０の何れか一項に記載の非対称Ｘ線管絶縁体。
【請求項１２】
Ｘ線を生成するためのＸ線源であって、前記Ｘ線源は請求項１乃至１１の何れか一項に記載の絶縁体を有し、
前記絶縁体は、前記真空インタフェースを介して前記X線源の真空ゾーンと接触し、
前記絶縁体は、前記雰囲気インタフェースを介して前記X線源の雰囲気と接触する、
X線源。
【請求項１３】
患者のＸ線画像を生成するための医用イメージング装置であって、前記医用イメージング装置は、
請求項１乃至１１の何れか一項に記載の絶縁体を備えるＸ線源
を有する、医用イメージング装置。