【手続補正書】
【提出日】令和3年10月20日(2021.10.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
磁気シールドされた真空ポンプであって、
ａ）前記真空ポンプのローターキャビティを取り囲むポンプエンベロープと、
ｂ）前記ポンプエンベロープの少なくとも一部を円周方向に収容する外側磁気シールドと、
ｃ）前記ポンプエンベロープの前記収容された部分と前記外側磁気シールドとの間で長手方向に延びる円周チャネルと、
を備える、真空ポンプ。
【請求項２】
前記ポンプエンベロープ及び／又は外側磁気シールドは、軟鋼を含む、請求項１に記載の真空ポンプ。
【請求項３】
前記ポンプエンベロープ及び／又は外側磁気シールドは、無電解ニッケルメッキされる、請求項１又は２に記載の真空ポンプ。
【請求項４】
ｉ）前記ポンプエンベロープは、少なくとも約１０ｍｍの半径方向厚さを有し、
及び／又は、
ｉｉ）前記外側磁気シールドは、少なくとも約１５ｍｍの半径方向厚さを有し、
及び／又は、
ｉｉｉ）前記長手方向に延びるチャネルは、少なくとも約３ｍｍの半径方向厚さを有する、
請求項１から３のいずれか一項に記載の真空ポンプ。
【請求項５】
前記外側磁気シールドは、少なくとも２つの長手方向に延びるセクションを含み、好ましくは、前記セクションの各々は、２５ｋｇ未満の質量を有する、請求項１から４のいずれか一項に記載の真空ポンプ。
【請求項６】
使用時、冷却流体は、前記長手方向に延びる円周チャネルを通してポンプ圧送され、好ましくは、冷却流体は、前記ポンプエンベロープの外面を横切ってポンプ圧送される、請求項１から５のいずれか一項に記載の真空ポンプ。
【請求項７】
前記冷却流体は、ガスである、請求項６に記載の真空ポンプ。
【請求項８】
前記冷却流体は、ガスであり、前記ガスは、空気である、請求項７に記載の真空ポンプ。
【請求項９】
前記チャネルに流入する前記冷却流体の温度は、約１０℃〜約４０℃、好ましくは約２０℃〜約３０℃、最も好ましくは２２℃である、請求項６から８のいずれか一項に記載の真空ポンプ。
【請求項１０】
前記外側磁気シールドの外面が、３００ｍＴ以上、好ましくは約４００ｍＴ〜約５００ｍＴの最大放射状ＤＣ磁界強度に晒される場合、前記ポンプエンベロープ内の前記平均磁界強度は６ｍＴ、好ましくは５ｍＴを超えない、請求項１から９のいずれか一項に記載の真空ポンプ。
【請求項１１】
前記真空ポンプは、実質的に同軸に整列した２以上の外側磁気シールドを備え、前記外側磁気シールドの各々の直径は徐々に増加する、請求項１から１０のいずれか一項に記載の真空ポンプ。
【請求項１２】
長手方向に延びる円周チャネルは、同軸に隣接した外側磁気シールドの間に設けられる、請求項１１に記載の真空ポンプ。
【請求項１３】
使用時、流体は、前記長手方向に延びる円周チャネルの各々に沿ってポンプ圧送される、請求項１２に記載の真空ポンプ。
【請求項１４】
すでに最大３５ｍＴの最大強度の放射状ＤＣ磁界内で作動するように構成された真空ポンプの磁気シールドを強化する磁気シールド組立体であって、前記真空ポンプの一部を円周方向に取り囲む外側磁気シールドを備え、前記外側磁気シールドは、使用時、長手方向に延びる実質的に環状のチャネルの外面を画定する内壁を有する、組立体。
【請求項１５】
使用時、前記シールドされたポンプは、３００ｍＴ以上、好ましくは約３００ｍＴ〜約５００ｍＴの最大磁界強度の放射状ＤＣ磁界内で作動することができる、請求項１４に記載の組立体。
【請求項１６】
前記外側磁気シールドは、少なくとも２つの長手方向に延びるセクションを含み、好ましくは、前記セクションの各々は、２５ｋｇ以下の質量を有する、請求項１４又は１５に記載の組立体。
【請求項１７】
使用時、前記チャネルは、前記外側磁気シールドと前記真空ポンプとの間で冷却流体をポンプ圧送することを可能にする、請求項１４から１６のいずれか一項に記載の組立体。
【請求項１８】
使用時、前記チャネルは、冷却流体を前記真空ポンプの外面を横切ってポンプ圧送することを可能にする、請求項１７に記載の組立体。
【請求項１９】
前記冷却流体は、ガスであり、好ましくは、前記冷却流体は、空気である、請求項１７又は１８に記載の組立体。
【請求項２０】
前記冷却流体の温度は、約１０℃〜約４０℃、好ましくは約２０℃〜約３０℃、最も好ましくは２２℃である、請求項１７から１９のいずれか一項に記載の組立体。
【請求項２１】
前記外側磁気シールドは、軟鋼を含む、請求項１４から２０のいずれか一項に記載の組立体。
【請求項２２】
ｉ）前記外側磁気シールドは、少なくとも約１５ｍｍの半径方向厚さを有し、
及び／又は、
ｉｉ）前記長手方向に延びる円周チャネルは、少なくとも約３ｍｍの半径方向の厚さを有する、請求項１４から２１のいずれか一項に記載の組立体。
【請求項２３】
真空ポンプのための磁気シールドであって、前記真空ポンプの一部を取り囲むように構成された本体と、前記真空ポンプを冷却する流体を受け入れるように構成されたチャネルとを備える、磁気シールド。
【請求項２４】
前記チャネルは、前記シールドによって取り囲まれた前記真空ポンプの一部を円周方向に取り囲む、請求項２３に記載の磁気シールド。
【請求項２５】
前記磁気シールドの内壁は、前記冷却チャネルの外壁を形成し、及び／又は、前記真空ポンプの外壁は、前記冷却チャネルの内壁を形成する、請求項２３又は２４に記載の磁気シールド。
【請求項２６】
ｉ）前記本体は、少なくとも約１５ｍｍの半径方向厚さを有し、
及び／又は、
ｉｉ）前記冷却チャネルは、少なくとも約３ｍｍの半径方向厚さを有する、請求項２３から２５に記載の磁気シールド。
【請求項２７】
３５ｍＴを超える最大磁界強度の放射状ＤＣ磁界内で使用される真空ポンプを組み立てる方法であって、
ａ）ターボ分子真空ポンプを準備するステップと、
ｂ）前記真空ポンプの少なくとも一部を１又は２以上の磁気シールドで取り囲むステップと、
を含み、
前記磁気シールドのうちの１又は２以上は、使用中に前記真空ポンプを冷却する流体を受け入れるように構成されたチャネルをもたらす、方法。
【請求項２８】
真空ポンプのための磁気シールドを製造する方法であって、
ａ）軟鋼半製品を準備するステップと、
ｂ）前記半製品を焼鈍するステップと、
ｃ）前記ステップｂ）の前記製品から真空ポンプのための磁気シールド又はそのセグメントに機械加工するステップと、
を含み、
前記ステップｃ）の後で、前記磁気シールド又はそのセグメントが前記真空ポンプに取り付けられる前にさらなる熱処理を行わない、方法。
【請求項２９】
前記磁気シールドは、前記真空ポンプの前記エンベロープである又は前記真空ポンプの前記エンベロープを取り囲む外側磁気シールドである、請求項２８に記載の方法。
【請求項３０】
前記磁気シールドは、ターボ分子ポンプのエンベロープであり、前記ステップｃ）の後で、前記エンベロープは、無電解ニッケルメッキされる、請求項２８又は２９に記載の方法。
【請求項３１】
請求項２８から３０のいずれか一項に記載のプロセスに従って製造された磁気シールドを備えるターボ分子ポンプ。
【請求項３２】
前記真空ポンプは、ターボ分子ポンプである、請求項１から１３のいずれか一項に記載の真空ポンプ、又は請求項１４から２２のいずれか一項に記載の組立体、又は請求項２３から２６のいずれか一項に記載の磁気シールド、又は請求項２７から３０のいずれか一項に記載の方法。