【手続補正書】
【提出日】令和3年7月7日(2021.7.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
分散装置であって、
円形断面を有する管腔を形成する伸長管状構造であって、前記管状構造は、（ａ）上向きに向いた入口を伴う近位部分と、（ｂ）閉鎖された端部を伴う遠位部分であって、前記遠位部分は、前記遠位部分の軸に対して平行な３つの列に配列される複数の下向きに向いた孔を備え、前記３つの列は、前記遠位部分上に、相互から約１５〜約６０度離して位置付けられる、遠位部分と、（ｃ）前記遠位部分と前記近位部分との間の屈曲部であって、前記屈曲部は、前記管状構造内の屈曲を備え、前記屈曲は、前記入口が、前記遠位部分の前記軸から略垂直である方向に開放するように、前記入口を配向する、屈曲部とを備える、伸長管状構造
を備える、分散装置。
【請求項２】
前記遠位部分は、８〜３０個の下向きに向いた孔を備える、請求項１に記載の分散装置。
【請求項３】
前記遠位部分は、厳密に２１個の下向きに向いた孔を備える、請求項２に記載の分散装置。
【請求項４】
前記３つの列のうちの第１のものは、１０個の孔を有し、前記３つの列のうちの第２のものは、８個の孔を有し、前記３つの列のうちの第３のものは、３個の孔を有する、請求項３に記載の分散装置。
【請求項５】
前記３つの列は、異なる数の孔を有する、請求項１に記載の分散装置。
【請求項６】
前記３つの列は、同一の数の孔を有する、請求項１に記載の分散装置。
【請求項７】
前記３つの列は、それぞれが３０〜６０度離して位置付けられる、請求項１に記載の分散装置。
【請求項８】
前記３つの列は、それぞれが４５度離して位置付けられる、請求項７に記載の分散装置。
【請求項９】
前記屈曲部内の前記屈曲は、前記遠位部分および前記近位部分を相互に対して６０〜１２０度に配向する、請求項１に記載の分散装置。
【請求項１０】
前記屈曲部内の前記屈曲は、前記遠位部分および前記近位部分を相互に対して８０〜１２０度に配向する、請求項９に記載の分散装置。
【請求項１１】
前記屈曲部内の前記屈曲は、前記遠位部分および前記近位部分を相互に対して厳密に９０度に配向する、請求項１０に記載の分散装置。
【請求項１２】
前記管状構造は、ステンレス鋼を含む、請求項１に記載の分散装置。
【請求項１３】
前記入口を開放および閉鎖させるための弁をさらに備える、請求項１に記載の分散装置。
【請求項１４】
前記入口に接続可能である漏斗をさらに備える、請求項１に記載の分散装置。
【請求項１５】
樹脂に抗体を結合させるためのデバイスであって、前記デバイスは、
混合容器であって、前記混合容器は、前記容器を横断して伸展されるメッシュスクリーンによって、上側部分と、下側部分とに分割され、前記上側部分は、入口を備え、前記下側部分は、出口を備え、前記メッシュスクリーンは、約５μｍ〜約８０μｍの細孔サイズを有する、混合容器と、
前記上側部分内に配置されるアジテータと、
管腔を形成する伸長管状構造を備える分散装置であって、前記管状構造は、上向きに開放する入口を伴う前記混合容器の外側に垂直に延在する近位部分と、前記アジテータの上方の前記上側部分内に水平に位置付けられた遠位部分であって、前記遠位部分は、閉鎖された端部と、複数の下向きに向いた孔とを備える、遠位部分と、前記遠位部分および前記近位部分を接続する屈曲部とを備える、分散装置と
を備える、デバイス。
【請求項１６】
前記アジテータは、ロータと、回転インペラとを備える、請求項１５に記載のデバイス。
【請求項１７】
前記インペラは、ハブと、第１のブレードと、第２のブレードとを備え、前記第１および第２のブレードは、前記ハブから反対方向に垂直に延在し、各ブレードは、その上で前記ハブが回転するように構成される軸に対して横方向の軸を有する、請求項１６に記載のデバイス。
【請求項１８】
各ブレードは、固定されたピッチを有する、請求項１７に記載のデバイス。
【請求項１９】
前記ブレードは、丸みを帯びた縁を有する、請求項１７に記載のデバイス。
【請求項２０】
前記アジテータは、前記容器内の流体に力を付与するように構成され、前記力は、前記スクリーンから離れるように指向される、請求項１５に記載のデバイス。
【請求項２１】
前記管状構造は、円形断面を有する、請求項１５に記載のデバイス。
【請求項２２】
前記遠位部分は、８〜３０個の孔を有する、請求項１５に記載のデバイス。
【請求項２３】
前記遠位部分は、厳密に２１個の下向きに向いた孔を備える、請求項１５に記載のデバイス。
【請求項２４】
前記孔は、前記遠位部分の軸に対して平行な３つの列に配列される、請求項１５に記載のデバイス。
【請求項２５】
前記列は、それぞれが同一の数の孔を有する、請求項２４に記載のデバイス。
【請求項２６】
前記列は、それぞれが異なる数の孔を有する、請求項２４に記載のデバイス。
【請求項２７】
前記３つの列のうちの第１のものは、１０個の孔を有し、前記３つの列のうちの第２のものは、８個の孔を有し、前記３つの列のうちの第３のものは、３つの孔を有する、請求項２６に記載のデバイス。
【請求項２８】
前記３つの列は、それぞれが３０〜６０度離して位置付けられる、請求項２４に記載のデバイス。
【請求項２９】
前記３つの列は、それぞれが４５度離して位置付けられる、請求項２４に記載のデバイス。
【請求項３０】
前記入口を開放および閉鎖するための弁をさらに備える、請求項１５に記載のデバイス。
【請求項３１】
前記入口に接続可能である漏斗をさらに備える、請求項１５に記載のデバイス。
【請求項３２】
支持ビームをさらに備え、前記支持ビームは、前記メッシュスクリーンを支持し、前記メッシュスクリーンが撓むことを防止するように構成される、請求項１５に記載のデバイス。
【請求項３３】
前記スクリーンは、前記混合容器から除去可能である、請求項１５に記載のデバイス。
【請求項３４】
前記屈曲部は、前記管状構造内の屈曲を備え、前記屈曲は、前記入口が、前記遠位部分の軸から略垂直である方向に開放するように、前記入口を配向する、請求項１５に記載のデバイス。
【請求項３５】
前記メッシュ細孔サイズは、２０〜５０μｍである、請求項１５に記載のデバイス。
【請求項３６】
前記メッシュ細孔サイズは、３０μｍである、請求項１５に記載のデバイス。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
いくつかの実施形態では、本法はまた、流体を用いて活性化された樹脂ビーズを洗浄することを伴う。洗浄することは、混合容器を流体で充填することと、アジテータを撹拌させながらインキュベートすることと、混合容器から流体を排水することとを含んでもよい。流体は、緩衝液、水、または、重炭酸ナトリウムと塩化ナトリウムとを含む溶液であってもよい。撹拌することは、１０ＲＰＭ〜４０ＲＰＭ、好ましくは、約２０ＲＰＭまたは３５ＲＰＭであってもよい。撹拌するとともにインキュベートすることは、４分未満、好ましくは、３分未満継続してもよい。
本発明は、例えば、以下を提供する。
（項目１）
分散装置であって、
円形断面を有する管腔を形成する伸長管状構造であって、前記管状構造は、（ａ）上向きに向いた入口を伴う近位部分と、（ｂ）閉鎖された端部を伴う遠位部分であって、前記遠位部分は、前記遠位部分の軸に対して平行な３つの列に配列される複数の下向きに向いた孔を備え、前記３つの列は、前記遠位部分上に、相互から約１５〜約６０度離して位置付けられる、遠位部分と、（ｃ）前記遠位部分と前記近位部分との間の屈曲部であって、前記屈曲部は、前記管状構造内の屈曲を備え、前記屈曲は、前記入口が、前記遠位部分の軸から略垂直である方向に開放するように、前記入口を配向する、屈曲部とを備える、伸長管状構造
を備える、分散装置。
（項目２）
前記遠位部分は、８〜３０個の下向きに向いた孔を備える、項目１に記載の分散装置。
（項目３）
前記遠位部分は、厳密に２１個の下向きに向いた孔を備える、項目２に記載の分散装置。
（項目４）
前記３つの列のうちの第１のものは、１０個の孔を有し、前記３つの列のうちの第２のものは、８個の孔を有し、前記３つの列のうちの第３のものは、３個の孔を有する、項目３に記載の分散装置。
（項目５）
前記３つの列は、異なる数の孔を有する、項目１に記載の分散装置。
（項目６）
前記３つの列は、同一の数の孔を有する、項目１に記載の分散装置。
（項目７）
前記３つの列は、それぞれが３０〜６０度離して位置付けられる、項目１に記載の分散装置。
（項目８）
前記３つの列は、それぞれが４５度離して位置付けられる、項目７に記載の分散装置。
（項目９）
前記屈曲部内の前記屈曲は、前記遠位部分および前記近位部分を相互に対して６０〜１２０度に配向する、項目１に記載の分散装置。
（項目１０）
前記屈曲部内の前記屈曲は、前記遠位部分および前記近位部分を相互に対して８０〜１２０度に配向する、項目９に記載の分散装置。
（項目１１）
前記屈曲部内の前記屈曲は、前記遠位部分および前記近位部分を相互に対して厳密に９０度に配向する、項目１０に記載の分散装置。
（項目１２）
前記管状構造は、ステンレス鋼を含む、項目１に記載の分散装置。
（項目１３）
前記入口を開放および閉鎖させるための弁をさらに備える、項目１に記載の分散装置。
（項目１４）
前記入口に接続可能である漏斗をさらに備える、項目１に記載の分散装置。
（項目１５）
樹脂洗浄装置であって、
シリンダを備える容器であって、前記シリンダは、前記シリンダを横断して伸展されるスクリーンによって、上側部分と、下側部分とに分割され、前記上側部分は、入口を備え、前記下側部分は、出口を備える、容器と、
前記上側部分内に配置されるアジテータであって、前記アジテータは、ロータと、回転インペラとを備え、前記回転インペラは、ハブと、第１のブレードと、第２のブレードとを備え、前記第１および第２のブレードは、前記ハブから反対方向に垂直に延在し、各ブレードは、その上で前記ハブが回転するように構成される前記ロータの軸に対して横方向の軸を有する、アジテータと
を備え、
前記スクリーンは、約５μｍ〜約８０μｍの細孔サイズを伴うメッシュ材を含み、
前記アジテータは、前記容器内の流体に力を付与するように構成され、前記力は、前記スクリーンから離れるように指向される、
樹脂洗浄装置。
（項目１６）
各ブレードは、固定されたピッチを有する、項目１５に記載の樹脂洗浄装置。
（項目１７）
前記ブレードは、丸みを帯びた縁を有する、項目１５に記載の樹脂洗浄装置。
（項目１８）
前記アジテータは、樹脂ビーズを破損させることなく、前記樹脂ビーズを急速に混合するために十分な速度で回転する、項目１５に記載の樹脂洗浄装置。
（項目１９）
前記アジテータは、１０〜５０ＲＰＭで回転する、項目１５に記載の樹脂洗浄装置。
（項目２０）
前記アジテータは、２０ＲＰＭで回転する、項目１９に記載の樹脂洗浄装置。
（項目２１）
前記アジテータは、３５ＲＰＭで回転する、項目１９に記載の樹脂洗浄装置。
（項目２２）
前記メッシュ細孔サイズは、３０μｍである、項目１９に記載の樹脂洗浄装置。
（項目２３）
支持ビームをさらに備え、前記支持ビームは、前記スクリーンを支持し、前記スクリーンが撓むことを防止するように構成される、項目１５に記載の樹脂洗浄装置。
（項目２４）
前記スクリーンは、前記容器から除去可能である、項目１５に記載の樹脂洗浄装置。
（項目２５）
樹脂に抗体を結合させるためのデバイスであって、前記デバイスは、
混合容器であって、前記混合容器は、前記容器を横断して伸展されるメッシュスクリーンによって、上側部分と、下側部分とに分割され、前記上側部分は、入口を備え、前記下側部分は、出口を備え、前記メッシュスクリーンは、約５μｍ〜約８０μｍの細孔サイズを有する、混合容器と、
前記上側部分内に配置されるアジテータと、
管腔を形成する伸長管状構造を備える分散装置であって、前記管状構造は、上向きに開放する入口を伴う前記混合容器の外側に垂直に延在する近位部分と、前記アジテータの上方の前記上側部分内に水平に位置付けられた遠位部分であって、前記遠位部分は、閉鎖された端部と、複数の下向きに向いた孔とを備える、遠位部分と、前記遠位部分および前記近位部分を接続する屈曲部とを備える、分散装置と
を備える、デバイス。
（項目２６）
前記アジテータは、ロータと、回転インペラとを備える、項目２５に記載のデバイス。
（項目２７）
前記インペラは、ハブと、第１のブレードと、第２のブレードとを備え、前記第１および第２のブレードは、前記ハブから反対方向に垂直に延在し、各ブレードは、その上で前記ハブが回転するように構成される前記軸に対して横方向の軸を有する、項目２６に記載のデバイス。
（項目２８）
各ブレードは、固定されたピッチを有する、項目２７に記載のデバイス。
（項目２９）
前記ブレードは、丸みを帯びた縁を有する、項目２７に記載のデバイス。
（項目３０）
前記アジテータは、前記容器内の流体に力を付与するように構成され、前記力は、前記スクリーンから離れるように指向される、項目２５に記載のデバイス。
（項目３１）
前記管状構造は、円形断面を有する、項目２５に記載のデバイス。
（項目３２）
前記遠位部分は、８〜３０個の孔を有する、項目２５に記載のデバイス。
（項目３３）
前記遠位部分は、厳密に２１個の下向きに向いた孔を備える、項目２５に記載のデバイス。
（項目３４）
前記孔は、前記遠位部分の軸に対して平行な３つの列内に配列される、項目２５に記載のデバイス。
（項目３５）
前記列は、それぞれが同一の数の孔を有する、項目３４に記載のデバイス。
（項目３６）
前記列は、それぞれが異なる数の孔を有する、項目３４に記載のデバイス。
（項目３７）
前記３つの列のうちの第１のものは、１０個の孔を有し、前記３つの列のうちの第２のものは、８個の孔を有し、前記３つの列のうちの第３のものは、３つの孔を有する、項目３６に記載のデバイス。
（項目３８）
前記３つの列は、それぞれが３０〜６０度離して位置付けられる、項目３４に記載のデバイス。
（項目３９）
前記３つの列は、それぞれが４５度離して位置付けられる、項目３４に記載のデバイス。
（項目４０）
前記入口を開放および閉鎖するための弁をさらに備える、項目２５に記載のデバイス。
（項目４１）
前記入口に接続可能である漏斗をさらに備える、項目２５に記載のデバイス。
（項目４２）
支持ビームをさらに備え、前記支持ビームは、前記メッシュスクリーンを支持し、前記メッシュスクリーンが撓むことを防止するように構成される、項目２５に記載のデバイス。
（項目４３）
前記スクリーンは、前記混合容器から除去可能である、項目２５に記載のデバイス。
（項目４４）
前記屈曲部は、前記管状構造内の屈曲を備え、前記屈曲は、前記入口が、前記遠位部分の軸から略垂直である方向に開放するように、前記入口を配向する、項目２５に記載のデバイス。
（項目４５）
前記メッシュ細孔サイズは、２０〜５０μｍである、項目２５に記載のデバイス。
（項目４６）
前記メッシュ細孔サイズは、３０μｍである、項目２５に記載のデバイス。
（項目４７）
樹脂を活性化させるための方法であって、前記方法は、
水中に懸濁される樹脂ビーズを混合容器の中に挿入することであって、前記混合容器は、分散装置と、前記樹脂ビーズより小さい孔を伴うメッシュスクリーンと、前記メッシュスクリーンの上方に配置されるアジテータとを備える、ことと、
ＣＮＢｒと、アセトニトリルとを含む活性化溶液を、前記分散装置を介して前記樹脂ビーズの上に分散させることと、
前記アジテータを５分未満にわたって撹拌させることと、
前記メッシュスクリーンを通して前記活性化溶液を排水し、それによって、前記スクリーン上に支持される活性化された樹脂ビーズを残すことと
を含む、方法。
（項目４８）
流体を用いて前記活性化された樹脂ビーズを洗浄することをさらに含む、項目４７に記載の方法。
（項目４９）
洗浄することは、前記混合容器を前記流体で充填することと、撹拌するとともにインキュベートすることと、前記混合容器から前記流体を排水することとを含む、項目４８に記載の方法。
（項目５０）
前記流体は、水であるか、または、重炭酸ナトリウムと、塩化ナトリウムとを含む溶液である、項目４７に記載の方法。
（項目５１）
撹拌することは、１０ＲＰＭ〜４０ＲＰＭで実施される、項目４７に記載の方法。
（項目５２）
前記撹拌することは、２０ＲＰＭで実施される、項目５１に記載の方法。
（項目５３）
前記撹拌することは、３５ＲＰＭで実施される、項目５１に記載の方法。
（項目５４）
前記アジテータを撹拌させることは、４分未満にわたる、項目４７に記載の方法。
（項目５５）
前記アジテータを撹拌させることは、３分未満にわたる、項目５４に記載の方法。
（項目５６）
前記樹脂ビーズは、アガロースを含む、項目４７に記載の方法。