(57)【要約】【課題】スクライブラインデータの設計時に、アライメントマークや計測マークなどのスクライブライン上に配置されるマークの配置ミスを低減することができるマーク配置検査方法を提供する。【解決手段】マークの所定角度単位の回転またはミラー反転を検出するためのベクトル情報を有し、マスクに描画されない検査目印と、マークデータと、を有するマーク種データを作成し、マスクのスクライブライン上にマーク種データを配置したマスクデータを作成し、マスクデータ内のマーク種データごとに、マスクデータに設定された基準位置からの検査目印の座標を算出し、算出した座標と検査目印のベクトル情報とを用いて、検査目印の基準位置に対する配置状態を検出し、検査目印の配置状態を、マスクにおけるマーク種データの配置状態を規定した配置チェックルールと比較して、マーク種データがスクライブライン上に正しく配置されているかを判定する。【選択図】図１１
2010191098.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
加工対象のスクライブライン上に形成されるアライメント用または計測用のマークを含むマスクを製造するためのマスクデータにおける前記マークに対応するマークデータの配置状態を検査するマーク配置検査方法であって、
前記マークの所定角度単位の回転またはミラー反転を検出するためのベクトル情報を有し、マスクに描画されない検査目印と、マークデータと、を有するマーク種データを作成する第１の工程と、
前記マスクの前記スクライブライン上に前記マーク種データを配置したマスクデータを作成する第２の工程と、
前記マスクデータ内の前記マーク種データごとに、前記マスクデータに設定された基準位置からの前記検査目印の座標を算出し、算出した座標と前記検査目印のベクトル情報とを用いて、前記検査目印の前記基準位置に対する配置状態を検出する第３の工程と、
前記検査目印の前記配置状態を、前記マスクにおける前記マーク種データの配置状態を規定した配置チェックルールと比較して、前記マーク種データが前記スクライブライン上に正しく配置されているかを判定する第４の工程と、
を含むことを特徴とするマーク配置検査方法。
【請求項２】
前記検査目印は、所定の規則で配置された２つ以上の点を有する第１の検査目印であることを特徴とする請求項１に記載のマーク配置検査方法。
【請求項３】
前記配置チェックルールは、前記加工対象に形成された方向指定部に対して所定の方向に設けられた直交座標系を基準にして前記マーク種データの配置状態を規定した第１の配置チェックルールであり、
前記第４の工程では、前記第１の検査目印の前記直交座標系を基準にした配置状態が、前記第１の配置チェックルールにしたがっているかを判定することを特徴とする請求項１または２に記載のマーク配置検査方法。
【請求項４】
前記検査目印は、前記マスクデータに配置されたチップ内のパターンの配置許可方向を検出することができるように所定の規則で配置された２つ以上の点を有する第２の検査目印であり、
前記配置チェックルールは、前記加工対象に形成された方向指定部に対する前記チップ内のパターンの方向を規定した第２の配置チェックルールであり、
前記第３の工程では、前記第２の検査目印を使用して、前記配置状態として前記チップ内のパターンの配置許可方向を検出し、
前記第４の工程では、前記検出した前記チップ内のパターンの配置許可方向が、前記第２の配置チェックルールに一致するかを判定することを特徴とする請求項１〜３のいずれか１つに記載のマーク配置検査方法。
【請求項５】
マスクに配置されるアライメント用または計測用のマークにおいて、
前記マークの所定角度単位の回転またはミラー反転を検出するためのベクトル情報を有し、マスクに描画されない検査目印と、マークデータと、を有するマーク種データを作成し、
前記マスクのスクライブライン上に前記マーク種データを配置したマスクデータを作成し、
前記マスクデータ内の前記マーク種データごとに、前記マスクデータに設定された基準位置からの前記検査目印の座標を算出し、算出した座標と前記検査目印のベクトル情報とを用いて、前記検査目印の前記基準位置に対する配置状態を検出し、
前記検査目印の前記配置状態を、前記マスクにおける前記マーク種データの配置状態を規定した配置チェックルールと比較して、前記マーク種データが前記スクライブライン上に正しく配置されているかを判定し、
判定後、前記マーク種データが正しく配置されているマスクデータの前記マークデータに基づいて、透明基板のスクライブライン上にパターンが形成されたことを特徴とするマーク。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、アライメントマークや計測マークなどのマークがマスクデータ上に所定の規則にしたがって配置されているかを検査するマーク配置検査方法に関する。また、そのマーク配置検査方法で検査されたマスクデータに基づいて作製されるマークにも関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体装置の製造では、不純物の導入、コンタクトホール／ビアホールの形成、配線パターンの形成など、処理ごとに所定の領域内にフォトマスクでパターンを形成して処理を行っている。このとき、各処理間の相対位置を確保するための位置合わせ用のアライメントマークや、位置ずれや処理結果を検査するための計測マークがフォトマスクのスクライブライン上に配置される。
【０００３】
従来のフォトマスクデータの作成は、ＣＡＤ（Computer-Aided  Design）を用いて以下のようにして行われている（たとえば、特許文献１参照）。まず、使用するデバイスや動作周波数などに合わせた設計ルールなどの設計テクノロジや適合するプロセステクノロジを決定した後、論理設計、レイアウト設計および設計検証を行い、半導体装置部分のチップデータが作成される。ついで、半導体装置のレイアウト設計が完了し、チップサイズやフォトマスク上の面付け数などが確定し、品種情報が確定した後、プロセステクノロジごとまたは製造設備ごとに必要なマーク仕様に合わせたアライメントマークや計測マークの作成を行い、前後の工程で使用されるフォトマスク間における位置関係の検証を含むスクライブライン上へアライメントマークと計測マークの配置処理などが行われ、スクライブラインデータが作成される。
【０００４】
以上のようにしてスクライブライン上に配置されるアライメントマークと計測マークの数は、１製品当たり１，５００個以上に上るほど多数である。また、アライメントマークと計測マークは、半導体ウェハのノッチ方向や半導体ウェハ上に形成される半導体メモリセル内のワード線の方向に依存するものがある。つまり、アライメントマークや計測マークは、その配置方向が所定の方向に決まっているものがある。そのため、従来では、スクライブラインデータを設計した後、これらのアライメントマークや計測マークを目視によってチェックしていた。しかし、チェック対象のアライメントマークや計測マークの個数が多いこと、また、目視では間違いを発見し難いこと、などの理由によってアライメントマークや計測マークの配置の間違いを見逃してしまう可能性が高いという問題点があった。さらに、目視検査の人的リソースも無視できないという問題点もあった。また、アライメントマークの間違いの見逃しがひとたび発生すると、露光や検査を行うことができないマスクが製造されてしまい、最悪の場合には、マスクのリファイン（再作成）が発生し、半導体装置のＴＡＴ（Turn-Around  Time）と製造コストに悪影響を与えてしまうという問題点もあった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００４−１５７５１８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、スクライブラインデータの設計時に、アライメントマークや計測マークなどのスクライブライン上に配置されるマークデータの配置ミスを低減することができるマーク配置検査方法およびマークを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本願発明の一態様によれば、加工対象のスクライブライン上に形成されるアライメント用または計測用のマークを含むマスクを製造するためのマスクデータにおける前記マークに対応するマークデータの配置状態を検査するマーク配置検査方法であって、前記マークの所定角度単位の回転またはミラー反転を検出するためのベクトル情報を有し、マスクに描画されない検査目印と、マークデータと、を有するマーク種データを作成する第１の工程と、前記マスクの前記スクライブライン上に前記マーク種データを配置したマスクデータを作成する第２の工程と、前記マスクデータ内の前記マーク種データごとに、前記マスクデータに設定された基準位置からの前記検査目印の座標を算出し、算出した座標と前記検査目印のベクトル情報とを用いて、前記検査目印の前記基準位置に対する配置状態を検出する第３の工程と、前記検査目印の前記配置状態を、前記マスクにおける前記マーク種データの配置状態を規定した配置チェックルールと比較して、前記マーク種データが前記スクライブライン上に正しく配置されているかを判定する第４の工程と、を含むことを特徴とするマーク配置検査方法が提供される。
【０００８】
また、本願発明の一態様によれば、マスクに配置されるアライメント用または計測用のマークにおいて、前記マークの所定角度単位の回転またはミラー反転を検出するためのベクトル情報を有し、マスクに描画されない検査目印と、マークデータと、を有するマーク種データを作成し、前記マスクのスクライブライン上に前記マーク種データを配置したマスクデータを作成し、前記マスクデータ内の前記マーク種データごとに、前記マスクデータに設定された基準位置からの前記検査目印の座標を算出し、算出した座標と前記検査目印のベクトル情報とを用いて、前記検査目印の前記基準位置に対する配置状態を検出し、前記検査目印の前記配置状態を、前記マスクにおける前記マーク種データの配置状態を規定した配置チェックルールと比較して、前記マーク種データが前記スクライブライン上に正しく配置されているかを判定し、判定後、前記マーク種データが正しく配置されているマスクデータの前記マークデータに基づいて、透明基板のスクライブライン上にパターンが形成されたことを特徴とするマークが提供される。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、スクライブラインデータの設計時に、アライメントマークや計測マークなどのスクライブライン上に配置されるマークデータの配置ミスを低減することができるマーク配置検査方法およびマークを提供することができるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】図１は、マスクデータの一例を示す図である。
【図２】図２は、マークデータの一例を示す図である。
【図３】図３は、本発明の第１の実施の形態のマーク配置検査装置の構成の一例を模式的に示すブロック図である。
【図４】図４は、第１の実施の形態による検査目印の一例を示す図である。
【図５】図５は、検査目印の他の例を示す図である。
【図６】図６は、マーク種データの配置の一例を示す図である。
【図７】図７は、相対位置−配置状態対応情報の一例を示す図である。
【図８】図８は、検査目印配置チェックルールの一例を示す図である。
【図９】図９は、マスクデータにおける各軸の定義の一例を示す図である。
【図１０】図１０は、配置チェック情報の一例を示す図である。
【図１１】図１１は、マーク配置検査方法の処理手順の一例を示すフローチャートである。
【図１２】図１２は、マーク種データの配置情報の検出処理の手順の一例を示すフローチャートである。
【図１３】図１３は、配置チェック情報の一例を示す図である。
【図１４】図１４は、配置情報の算出工程を模式的に示す図である。
【図１５】図１５は、マスクデータの一例を示す図である。
【図１６】図１６は、Ｘ／Ｙ非対称照明を用いてマーク種データを露光した場合の様子を模式的に示す図である。
【図１７】図１７は、第２の実施の形態による検査目印の一例を示す図である。
【図１８】図１８は、ワード線と検査目印の方向の関係の一例を示す図である。
【図１９】図１９は、検査目印の一例を示す図である。
【図２０】図２０は、対象製品のワード線水平／垂直定義の一例を模式的に示す図である。
【図２１】図２１は、マーク種データがスクライブライン上に配置された状態の一例を示す図である。
【図２２】図２２は、配置チェック情報の一例を示す図である。
【図２３】図２３は、回転角度−ワード線方向対応情報の一例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下に添付図面を参照して、本発明の実施の形態にかかるマーク配置検査方法およびマークを詳細に説明する。なお、これらの実施の形態により本発明が限定されるものではない。また、以下では、半導体装置を製造する場合を例に挙げてマーク配置検査方法およびマークについて説明する。
【００１２】
（第１の実施の形態）
第１の実施の形態では、２本の直交するＸ軸とＹ軸を有する直交座標系を加工対象の方向指定部であるノッチ（半導体ウェハの切り欠き部）に対して所定の規則でマスクデータに設定したときに、アライメントマークや計測マークなどのマークのデータ（マークデータ）が直交座標系に対して所定の配置ルールにしたがって回転／ミラー反転（以下、ミラーリングともいう）がなされているかを検査するマーク配置検査方法およびマークについて説明する。
【００１３】
実施の形態の説明に先立って、マスクデータおよびスクライブラインデータの概要について説明する。半導体装置の製造では、各処理工程でマスクが使用され、そのマスクには、本体チップと、本体チップの周囲に形成されるスクライブライン上に、各処理工程間での相対位置を確保するための位置合わせ用のアライメントマークや、位置ずれや処理結果を検査するための計測マークなどのマークと、が配置される。このフォトマスクを作成するためのデータがマスクデータであり、ＣＡＤなどで作成される。また、このフォトマスクは階層化された処理工程ごと（レイヤごと）に異なるものが使用される。なお、このマスクデータに基づいたフォトマスクの作製は以下のように行われる。クロムなどの遮光膜を形成した光を透過する石英基板や樹脂フィルムなどの透明基板上にフォトレジストなどの感光性材料を塗布し、レーザや電子ビームを利用した描画装置で、上記マスクデータに基づいたパターンを感光性材料上に描画することによって、露光を行なう。この後、現像された感光性材料により形成されたパターンをマスクとして、遮光膜をエッチングし、感光性材料を透明基板上から除去することによって、フォトマスクが完成する。
【００１４】
図１は、マスクデータの一例を示す図である。このマスクデータの図面は、ＣＡＤなどの情報処理装置上で表示される状態を示しており、以下の図面も同様である。マスクデータ１００は、本体チップのパターンが形成されるチップデータ１１０と、チップデータ１１０の周囲に形成されるスクライブラインデータ１２０と、を有する。スクライブラインデータ１２０は、ダイシングラインデータ、ネストデータ、またはカーフデータとも呼ばれ、ウェハプロセス完了後に、チップに切り分けるダイシング工程で切り目として利用される。スクライブラインデータ１２０は、たとえばチップデータ１１０の座標と領域、およびその工程実行条件を考慮して形成される形状などに基づいて作成されるマークのパターンが形成されるマークデータをスクライブライン１２１上に配置することによって形成される。マークとして、チップの電気的動作とは関係のないウェハ製造時にのみ使用されるアライメントマークや計測マークなどの各種のマークやＴＥＧ（Test  Element  Group）などを例示することができる。この図１では、マークデータ１３１Ａ〜１３１Ｄは、アライメントマークのマークデータを示し、マークデータ１３２Ａ〜１３２Ｄは、計測マークのマークデータを示している。
【００１５】
上記したように、マークデータの配置は、ウェハに設けられたノッチ１０１を基準にして、所定の方向に設定されたＸ軸とＹ軸に対して決められる。ここでは、ノッチ１０１を下方向に配置したときに、Ｘ軸は左右方向に設けられ、Ｙ軸はＸ軸に垂直な上下方向に設けられる場合を示している。また、スクライブライン１２１は、Ｘ軸方向とＹ軸方向に平行な方向に設けられる。
【００１６】
図２は、マークデータの一例を示す図である。図２（ａ）のマークデータ１３１は、遮光部１３１１が全面に形成された矩形状のマーク形成領域内に、正方形状の透光部１３１２が所定の規則で設けられたパターンが示されている。ここでは、直線状に透光部１３１２が配置された３本の透光部列１３１２Ａ〜１３１２Ｃが互いに平行に形成されており、しかも透光部列１３１２Ａ，１３１２Ｂ間の間隔と、透光部列１３１２Ｂ，１３１２Ｃ間の間隔とが異なるように形成されている。この図２（ａ）のマークデータ１３１は、フォトリソグラフィ工程で加工対象とマスクとの間の位置合わせ（アライメント）に用いられるマークのマークデータである。
【００１７】
また、図２（ｂ）のマークデータ１３２では、遮光部１３１１が全面に形成された正方形状のマーク形成領域内に、所定の長さの直線状の透光部１３１２が各辺に平行に設けられたパターンが示されており、図２（ｃ）のマークデータ１３３では、遮光部１３１１が全面に形成された正方形状のマーク形成領域内に、図２（ｂ）の透光部１３１２よりも長い直線状の透光部１３１２が、各辺に平行に、図２（ｂ）で形成された位置よりも外側に設けられたパターンが示されている。図２（ｂ）、（ｃ）に示されるマークデータ１３２，１３３は、計測マークのマークデータである。たとえば、図２（ｂ）のマークデータ１３２を第１の層を形成する際のマスクに使用し、図２（ｃ）のマークデータ１３３を第１の層上に第２の層を形成する際のマスクに使用し、第１の層上に転写されたマークデータ１３２の透光部１３１２に対応するパターンと、第２の層上に転写されたマークデータ１３３の透光部１３１２に対応するパターンとの距離を測ることによって、理想的な位置からのずれを検出するのに用いられる。
【００１８】
これらの図において、遮光部１３１１と透光部１３１２のパターンが逆であってもよい。また、これらのマークデータは、利用する製造装置や検査装置で決められている仕様（照明形状を含む）に基づいて設計される。
【００１９】
マークデータは、スクライブライン１２１上からはみ出さないように配置され、また各レイヤ（工程）のマスクデータ上の異なる位置では、マスクデータ上に設けられたＸ軸（またはＹ軸）に対するマークデータの配置角度や方向などが異なる場合もある。
【００２０】
たとえば、図１におけるＸ軸方向に平行なスクライブライン１２１に配置されたマークデータ１３１Ａ，１３１Ｂは、図２（ａ）の状態のまま配置され、Ｙ軸方向に平行なスクライブライン１２１に配置されたマークデータ１３１Ｃ，１３１Ｄは、図２（ａ）を反時計回りに２７０度回転させた状態で配置されている。さらに、図示していないが、マークデータをミラーリングさせて配置することもある。このように、スクライブライン１２１上には、マークデータが回転されて、またはミラーリングされて配置されることになる。一方、マークデータ１３２Ａ〜１３２Ｄは、スクライブライン１２１上に図２（ｃ）の状態のまま配置される。これは、図２（ｂ）、（ｃ）に示されるマークデータ１３２，１３３の場合には、マークデータの中心に対して４回対称であるので、配置位置によるＸ軸とＹ軸に対する配置角度や方向の違いはないからである。
【００２１】
このようにマスクデータの作成が終了すると、マスクデータに配置されたマスク用データが、マスク（工程）ごとに所定の配置規則にしたがって配置されているかを確認する。この確認作業は、従来では、作業者の目視による確認で行われていたが、この第１の実施の形態では、マークデータに回転およびミラーリングの有無を識別可能で、マスクには描画されない設計データ上の検査目印をマークデータに設定したマーク種データを用いて、装置上で行うようにした。そして、各レイヤ（工程）のマスクデータ内のマーク種データの検査目印の向きを、各レイヤ（工程）に設定された配置チェックルールと比較することで、配置チェックルールにしたがってマーク種データの配置が行われているかを検査するようにしている。以下に、この第１の実施の形態によるマーク配置検査方法とマーク種データの詳細について説明する。
【００２２】
図３は、本発明の第１の実施の形態のマーク配置検査装置の構成の一例を模式的に示すブロック図である。このマーク配置検査装置１０は、入力部１１と、マーク種データ設計部１２と、マーク種データ格納部１３と、マーク配置部１４と、スクライブラインデータ格納部１５と、配置情報検出部１６と、検査目印配置チェックルール格納部１７と、検査目印配置チェック部１８と、結果表示処理部１９と、表示部２０と、これらの各処理部を制御する制御部２１と、を備える。
【００２３】
入力部１１は、キーボードや、マウスなどのポインティングデバイスなどの入力装置であり、使用者からのマスクデータ作成に関する情報の入力インタフェースとなる。たとえば、アライメントマークや計測マークなどのマークの設計情報、マーク種データに設定する属性情報、マーク配置チェックルールなどの情報が使用者によって入力部１１から入力される。
【００２４】
マーク種データ設計部１２は、使用者によって設計された各工程で使用されるマークデータ単体に、後のマークデータ配置処理によってこれらのマークデータが配置チェックルールにしたがって正しく配置されているかを確認することが可能な検査目印を設定したマーク種データを生成する。マークデータは、図２に例示されるように、遮光部１３１１上に所定の規則で透光部１３１２が配列したパターン、または透光部上に所定の規則で遮光部が配列したパターンからなる。また、検査目印は、スクライブライン上に配置されるマークデータの回転方向とミラーリングの有無を検出することが可能な情報（ミラー反転を含めた方向という意味で、ベクトル情報ともいう）を有し、設計データ（ＣＡＤデータ）上には存在しているが、マスクには描画されないデータである。
【００２５】
図４は、第１の実施の形態による検査目印の一例を示す図である。ここでは、図２（ａ）に示したマークデータ１３１に検査目印として２つの点１４１Ａ，１４１Ｂを配置してマーク種データ１４０を形成する例を挙げている。また、マークデータ１３１の左下の角部１３１Ｐを原点にとり、図の左右方向をＸ軸とし、紙面内のＸ軸方向に垂直な方向をＹ軸としている。この図に示されるように、第１の点１４１Ａは、マーク基準点であり、マーク（マーク種データ１４０）を利用する露光装置や合わせ検査装置で仕様として決められているマーク内の相対的な位置を用いる。通常、この第１の点１４１Ａの座標は、そのマーク種データ１４０がスクライブラインに配置された後、装置のレシピに入力されるものであり、マーク種データ１４０の中心（重心）になるものが多い。また、この第１の点１４１Ａは、文字列などの属性情報１４２Ａも保持している。ここでは、属性情報１４２Ａとして、第１の点１４１Ａが配置されるレイヤ名（工程名）が設定されるものとする。その結果、第１の点１４１Ａの位置は（ａ，ｂ）であり、属性情報１４２Ａとして「レイヤ名」が設定されている。
【００２６】
また、第２の点１４１Ｂは、第１の点１４１ＡからＸ軸方向およびＹ軸方向に所定の距離だけシフトした位置に配置される点である。たとえば、第２の点１４１Ｂは、第１の点１４１Ａに対して、Ｘ軸方向に距離ｓだけシフトし、Ｙ軸方向に距離ｔだけシフトした位置に配置される。このｓ，ｔは固定値である。また、第２の点１４１Ｂも属性情報１４２Ｂを保持しており、第１の点１４１Ａの属性値に第２の点１４１Ｂであることを識別する情報を付加したものである。ここでは、第２の点１４１Ｂの属性情報１４２Ｂを「（第１の点の属性値）＋＠ｐ」で表現するものとする。これによって、第２の点１４１Ｂの位置は（ａ＋ｓ，ｂ＋ｔ）であり、属性情報１４２Ｂは「レイヤ名＠ｐ」となる。
【００２７】
なお、以下に示す図では、第１の点１４１Ａと第２の点１４１Ｂを視覚的に区別し易くするために、第１の点１４１Ａから第２の点１４１Ｂに向かう矢印１４３を同時に描画している。また、第１の点１４１Ａと第２の点１４１Ｂの２点のみで、マークデータ１３１の回転方向とミラーリングの有無を判定するためには、│ｓ│≠│ｔ│、ｓ≠０、およびｔ≠０という条件を満たす必要がある。さらに、回転とミラーリングの有無の判定を行う必要がないマークデータ（たとえば、図２（ｂ）、（ｃ）に示されるマークデータ１３２，１３３）については、検査目印として第２の点１４１Ｂを配置する必要はない。ただし、上記したように、露光装置や合わせ検査装置のレシピに第１の点１４１Ａは必要であるので、第１の点１４１Ａは必ず配置される。
【００２８】
図５は、検査目印の他の例を示す図である。この図５は、図４に対して反時計回りに２７０度回転した状態でマーク種データ１４０を設計した場合を示している。つまり、マークデータ１３１の左下の角部１３１Ｑを原点にとり、図の左右方向をＸ軸とし、紙面内のＸ軸方向に垂直な方向をＹ軸とした場合である。このようにマークデータ１３１を回転して設計する場合には、固定値であるｓ，ｔもマークデータ１３１の回転に合わせて回転させる。たとえば、図５の場合には、第２の点１４１Ｂは、第１の点１４１Ａに対して、Ｘ軸方向に距離ｔだけシフトし、Ｙ軸方向に距離−ｓだけシフトした位置に配置される。その結果、第１の点１４１Ａの位置は（ａ，ｂ）であり、第２の点１４１Ｂの位置は（ａ＋ｔ，ｂ−ｓ）となる。
【００２９】
以上のように、マーク種データ設計部１２は、設計された各レイヤで使用されるマークデータに、属性情報を有する第１の点１４１Ａと第２の点１４１Ｂを、実際には描画されない設計データ上のデータとして設けたマーク種データ１４０を生成する処理を行う。そして、生成したマーク種データ１４０を唯一に識別できるブロック名を付して、マーク種データ格納部１３に格納する。ここでは、ブロック名を、「ＢＬＫ＿（レイヤ名）」として生成するものとする。
【００３０】
マーク種データ格納部１３は、各レイヤで使用されるマーク種データを、該マーク種データを一意に識別可能なブロック名を付して格納している。
【００３１】
マーク配置部１４は、マーク種データ格納部１３に格納されたマーク種データ１４０をマスクデータのスクライブライン上に配置し、スクライブラインデータを作成する。スクライブラインデータは、使用者による入力部１１からの操作によって、スクライブライン上にマーク種データ１４０を配置することによって作成されてもよいし、マーク種データ１４０をどのレイヤのどの位置に配置するかを予め決めたマーク種データ配置規則を作成しておき、このマーク種データ配置規則にしたがって自動的にマーク種データ１４０を配置することによって作成されてもよい。マーク種データ１４０は、配置される位置によって回転されたり、ミラーリングされたりして、スクライブラインからはみ出さないように配置される。また、スクライブライン上には、マーク種データ格納部１３に格納される１つのマーク種データ１４０が、複数個配置されることもある。このとき、マーク種データ１４０はノッチに対して設けられた直交座標系を基準に配置される。そして、スクライブライン上に配置されたマーク種データ１４０の情報は、スクライブラインデータとしてスクライブラインデータ格納部１５に格納される。
【００３２】
図６は、マーク種データの配置の一例を示す図である。この図６では、下方にノッチ１０１を配置したときに、左右方向がＸ軸となり、上下方向がＹ軸となる直交座標系を、マスクデータ１００Ａの中央（重心）が原点となるようにマスクデータ１００Ａに配置している。そして、Ｘ軸に平行な方向のスクライブライン１２１Ｘには、図４と同じ配置状態を有するマーク種データ１４０−１，１４０−２が配置され、Ｙ軸に平行な方向のスクライブライン１２１Ｙには、図４から反時計回りに２７０度回転させた状態のマーク種データ１４０−３，１４０−４が配置されている。
【００３３】
スクライブラインデータ格納部１５は、各レイヤでのスクライブラインデータを格納している。たとえばスクライブラインデータ（マスクデータ）が使用されるレイヤ名と対応付けして格納される。
【００３４】
配置情報検出部１６は、スクライブラインデータが生成されたマスクデータから、マスクデータに配置されたマーク種データの描画されない設計上のデータである検査目印の座標を、マスクの座標系で抽出し、検査目印の回転角度とミラーリングの有無を含む配置情報を取得する処理を行う。たとえば、図６の場合には、マスクの座標系は、上記したＸＹ直交座標系と一致する。そして、配置情報検出部１６は、このマスクの座標系における、各マーク種データ１４０−１〜１４０−４の第１の点Ｆ１〜Ｆ４と第２の点Ｓ１〜Ｓ４の座標を抽出する。第１の点Ｆ１〜Ｆ４の座標と第２の点Ｓ１〜Ｓ４の座標は、属性情報に「＠ｐ」を含むか否かによって判断することができる。
【００３５】
具体的には、配置情報検出部１６は、マスクの座標系で、第１の点を基準とした２点の相対位置情報（ベクトル情報）を算出する。ここで、相対位置情報を、（第２の点のｘ座標−第１の点のｘ座標，第２の点のｙ座標−第１の点のｙ座標）と定義するものとする。
【００３６】
図７は、相対位置−配置状態対応情報の一例を示す図である。回転角については、マーク種データの基準となる配置方向から反時計回りに９０度、１８０度、２７０度回転させた場合であり、ミラーリングは、それぞれの回転角の状態でＹ軸方向にミラー反転したものである。ここで、マーク種データの基準となる配置方向（配置状態）は、図４に示される状態である。
【００３７】
上記したように、基準となるマーク種データに、ミラーリングがなく、回転角度が０度の場合に、第１の点からＸ軸方向にｓだけシフトし、Ｙ軸方向にｔだけシフトする（ｓ≠ｔ、ｓ≠０、ｔ≠０）ようにしている。そのため、Ｙ軸方向に対するミラーリングがなく、回転角度が基準位置に対して０度、９０度、１８０度、２７０度の場合のそれぞれの相対位置情報は、それぞれ（ｓ，ｔ）、（−ｔ，ｓ）、（−ｓ，−ｔ）、（ｔ，−ｓ）となる。また、Ｙ軸方向に対するミラーリングがあり、回転角度が基準位置に対して０度、９０度、１８０度、２７０度の場合のそれぞれの相対位置情報は、それぞれ（−ｓ，ｔ）、（ｔ，ｓ）、（ｓ，−ｔ）、（−ｔ，−ｓ）となる。
【００３８】
このように、相対位置情報は、ミラーリングの有無と回転角度の組み合わせに１対１に対応しているので、配置情報検出部１６は、取得した相対位置情報から相対位置−配置状態対応情報を用いて、ミラーリングの有無と回転角度とを含む配置情報を取得することができる。
【００３９】
検査目印配置チェックルール格納部１７は、各レイヤ（工程）のマスクデータにおいて、マーク種データがＸ軸上またはＹ軸上に配置されたときの回転方向やミラーリングの有無を、検査目印で規定した配置チェックルールを格納する。図８は、検査目印配置チェックルールの一例を示す図である。この例では、検査目印配置チェックルールは、図８（ａ）に示される回転角度についてのルールを規定する回転角ルールと、図８（ｂ）に示されるＹ軸に対するミラーリングの有無を規定するミラーリングルールと、図８（ｃ）に示される各ルールが適用されるブロック名との対応関係を示す配置チェックルール対応表と、を含む。
【００４０】
図８（ａ）に示されるように、回転角ルールは、配置チェックルールを一意に識別するマーク種類と、Ｘ軸およびＹ軸上でのマーク種データの基準となる配置状態からの回転角度を示す項目とからなる。ここで、項目「Ｘ軸」は、Ｘ軸に平行なスクライブライン上での回転角度を示し、項目「Ｙ軸」は、Ｙ軸に平行なスクライブライン上での回転角度を示している。図９は、マスクデータにおける各軸の定義の一例を示す図である。このマスクデータでは、ショット領域２００の周縁部にスクライブラインが形成されており、Ｘ軸に平行なスクライブラインのうち、上部に配置されるものをＸＤと定義し、下部に配置されるものをＸＵと定義し、Ｙ軸に平行なスクライブラインのうち、右側に配置されるものをＹＲと定義し、左側に配置されるものをＹＬと定義している。このように定義することによって、各場所によってマーク種データの配置の仕方を異ならせる場合には、Ｘ軸とＹ軸の項目には回転角度の値が入力されず、ＸＵ，ＸＤ，ＹＲ，ＹＬの各軸に回転角度の値が入力されることになる。
【００４１】
図８（ｂ）に示されるミラーリングルールも回転角ルールと同じであるが、ここではマーク種類に対して、各軸でのミラーリングの有無が規定されている。なお、これらの例では、Ｘ軸、Ｙ軸のほかに、ＸＤ，ＸＵ，ＹＲ，ＹＬの軸を規定したが、これに限られる趣旨ではなく、スクライブラインに対応する位置に任意の軸を設定することができる。
【００４２】
なお、図８（ａ）と（ｂ）のマーク種類が「ＭＫ＿ＴＹＰＥ＿４」で特定されるレコード３００には、値が何も設定されていない。これは、配置方向に依存性がないマーク種データを配置した場合に適用される配置チェックルールであり、配置されるマーク種データに方向性がないので、Ｘ軸、Ｙ軸のほかに、ＸＤ，ＸＵ，ＹＲ，ＹＬの軸にも何も値が設定されていない。
【００４３】
図８（ｃ）に示される配置チェックルール対応表は、配置チェックルールの種別を示すマーク種類が、どのレイヤのブロック名に適用されるかを示している。図８（ｃ）に示されるように、１つのマーク種類に対して複数のブロック名を対応付けることが可能である。
【００４４】
検査目印配置チェック部１８は、配置情報検出部１６で検出された配置情報を、検査目印配置チェックルール格納部１７に格納されている検査目印配置チェックルールと比較して、検査目印配置チェックルールにしたがっているか否かを判定する。なお、図８（ａ）、（ｂ）のレコード３００のように、回転角ルールとミラーリングルールに関して何も値が設定されていない検査目印配置チェックルールが選択された場合には、検出された配置情報は正しく配置されていると判定されるものとする。
【００４５】
結果表示処理部１９は、検査目印配置チェック部１８で判定されたチェック結果を、表示部２０に表示する。図１０は、配置チェック情報の一例を示す図である。この配置チェック情報は、判定対象となる「ブロック名」、ブロック名で指定されるマーク種データのレイヤ名（工程名）を示す「属性値」、マーク種データ位置を示す「第１の点の座標」、「ブロック名」、「属性値」および「第１の点の座標」で特定されるマーク種データについて求められた「回転角」と「ミラーリング有無」、マーク種データが配置されているスクライブライン上の領域を示す「配置領域」、適用される配置チェックルールを示す「マーク種類」、および配置チェックルールにしたがっているか否かの結果を示す「判定結果」を含む項目からなる。なお、「ブロック名」、「属性値」、「第１の点の座標」、「回転角」、「ミラーリング有無」、「配置領域」および「マーク種類」は、マーク種データを配置した後にたとえば配置情報検出部１６によって取得される。また、「マーク種類」は、ブロック名に適用される検査目印配置チェックルールを図８（ｃ）に示される配置チェックルール対応表から取得される。
【００４６】
表示部２０は、液晶表示装置などの表示手段からなり、結果表示処理部１９による判定結果を表示したり、使用者に対して必要な情報を提示したりする。
【００４７】
つぎに、このような構成のマーク配置検査装置１０によるマーク配置検査方法の処理手順について、具体例を挙げながら説明する。図１１は、マーク配置検査方法の処理手順の一例を示すフローチャートである。まず、各レイヤ（工程）で使用されるマークデータが設計される（ステップＳ１１）。この設計は、たとえば使用者が所定の形状およびパターンを有する情報を入力部１１から入力することによって行われる。このマークデータの一例が、図２に示されている。
【００４８】
ついで、マーク種データ設計部１２は、マークデータが入力されると、マークデータに検査目印を配置する（ステップＳ１２）。この検査目印として、図４に示されるように、基準点となる第１の点１４１Ａと、第１の点１４１ＡからＸ軸方向にｓだけシフトし、Ｙ軸方向にｔだけシフトした第２の点１４１Ｂと、を作成し、第１の点１４１Ａにレイヤ名からなる属性情報１４２Ａを設定し、第２の点１４１Ｂに「第１の点の属性情報＋＠ｐ」からなる属性情報１４２Ｂを設定する。なお、この検査目印は、設計データ上にのみ存在するデータであり、マスク製造時には描画されない。そして、マーク種データ設計部１２は、検査目印を設定したマークデータをマーク種データ１４０としてマーク種データ格納部１３に格納する。
【００４９】
ついで、マーク種データ格納部１３に格納されたマーク種データ１４０を用いて、各レイヤのスクライブライン上にマーク種データ１４０を配置し、スクライブラインデータを作成する（ステップＳ１３）。このマーク種データ１４０の配置は、使用者が入力部１１を介して行ってもよいし、マーク配置部１４が予め設定されたマーク種データ配置規則にしたがって自動的に配置するものでもよい。作成されたスクライブラインデータは、スクライブラインデータ格納部１５に格納される。また、このスクライブラインデータの配置によって、マスクデータが作成される。この工程で作成されるマスクデータの一例が、図６に示されている。ここでは、図４のマーク種データ１４０のみをマスクのスクライブライン１２１Ｘ，１２１Ｙ上に配置している。
【００５０】
その後、配置情報検出部１６は、スクライブラインデータ格納部１５に格納されているスクライブラインデータを読み込み、マーク種データ１４０に含まれる検査目印を用いて、マーク種データ１４０の配置情報の検出を行う（ステップＳ１４）。
【００５１】
この具体的な処理について説明する。図１２は、マーク種データの配置情報の検出処理の手順の一例を示すフローチャートである。まず、配置情報検出部１６は、スクライブラインデータ格納部１５からあるレイヤのマスクデータについてのスクライブラインデータを読み出し、そのスクライブラインデータからスクライブライン上に配置されているマーク種データ１４０の検査目印、すなわち第１の点と第２の点について、マスクの座標系を基準とした座標を求める（ステップＳ１４１）。
【００５２】
たとえば、レイヤＡＡのマスクデータ１００Ａを示す図６では、マスクの中心がマスクの座標系の原点となっている。また、このマスクデータ１００Ａには、４つのマーク種データ１４０−１〜１４０−４が配置されている。マスクの座標系におけるマーク種データ１４０−１の第１の点Ｆ１と第２の点Ｓ１の位置は、それぞれ（ｘ１，ｙ１）、（ｘ１＋ｓ，ｙ１＋ｔ）である。また、マーク種データ１４０−２の第１の点Ｆ２と第２の点Ｓ２の位置は、それぞれ（ｘ２，ｙ２）、（ｘ２＋ｓ，ｙ２＋ｔ）であり、マーク種データ１４０−３の第１の点Ｆ３と第２の点Ｓ３の位置は、それぞれ（ｘ３，ｙ３）、（ｘ３＋ｔ，ｙ３−ｓ）である。さらに、マーク種データ１４０−４の第１の点Ｆ４と第２の点Ｓ４の位置は、それぞれ（ｘ４，ｙ４）、（ｘ４＋ｔ，ｙ４−ｓ）である。
【００５３】
また、このとき、検査目印の第１の点の位置から、検査目印に対応するマーク種データの配置領域が特定される。たとえば図９の場合には、Ｘ軸に平行なスクライブライン（またはＸＵ，ＸＤ）のマスクの座標系を基準とした範囲と、Ｙ軸に平行なスクライブライン（またはＹＲ，ＹＬ）のマスクの座標系を基準とした範囲とが予め設定されており、第１の点（またはこれに加えて第２の点）がどの範囲に存在するかによって配置領域が特定される。さらに、検査目印配置チェックルール格納部１７の検査目印配置チェックルールから、取得したブロック名に対応した配置チェックルールが決定される。
【００５４】
図１３は、配置チェック情報の一例を示す図である。以上の工程では、図１３（ａ）に示されるように、配置チェック情報中の項目「ブロック名」、「属性値」、「第１の点の座標」、「配置領域」および「マーク種類」に対応する情報が取得され、それぞれ格納される。「ブロック名」と「属性値」は、読み込んだスクライブラインデータから取得することができ、「第１の点の座標」と「配置領域」は、上記の配置情報検出部１６によって求められた値であり、「マーク種類」は、図８（ｃ）の配置チェックルール対応表から取得したブロック名に対応するものが求められる。なお、この図１３では、属性値（レイヤ名）が「ＡＡ」のマーク種データ（ブロック名）しか入力されていないが、実際には、１つの製品について作成された各レイヤ（工程）のマスクデータに含まれるすべてのマーク種データが抽出され、上記配置チェック情報に入力される。
【００５５】
ついで、配置情報検出部１６は、各マーク種データの検査目印について求めた座標から、相対位置情報を取得する（ステップＳ１４２）。図６の例においては、マーク種データ１４０−１〜１４０−４の検査目印については、第１の点Ｆ１〜Ｆ４を基準とした第２の点Ｓ１〜Ｓ４の位置を求める。このとき、第２の点Ｓ１〜Ｓ４には、第１の点Ｆ１〜Ｆ４の属性情報に「＠ｐ」が付加された属性情報が設定されているので、この「＠ｐ」の有無によって第１の点Ｆ１〜Ｆ４と第２の点Ｓ１〜Ｓ４とを区別することができる。
【００５６】
マーク種データ１４０−１の場合には、属性情報が「ＡＡ＠ｐ」である第２の点Ｓ１の座標（ｘ１＋ｓ，ｙ１＋ｔ）の、属性情報が「ＡＡ」である第１の点Ｆ１の座標（ｘ１，ｙ１）に対する相対位置情報を算出する。その結果、（ｓ，ｔ）という相対位置情報（ベクトル情報）が得られる。マーク種データ１４０−２〜１４０−４についても同様に、それぞれ相対位置情報として、（ｓ，ｔ）、（ｔ，−ｓ）、（ｔ，−ｓ）が得られる。
【００５７】
その後、配置情報検出部１６は、算出した相対位置情報から、図７の相対位置−配置状態対応情報を参照して、マーク種データの基準となる配置方向からの回転角度と、ミラー反転の有無を含む配置情報を各検査目印について求める（ステップＳ１４３）。
【００５８】
図１４は、配置情報の算出工程を模式的に示す図である。ここでは、図６のマスクデータ１００Ａに配置された各マーク種データ１４０−１〜１４０−４と、図７の相対位置−配置状態対応情報を比較して、配置情報を取得する方法を視覚的に示している。図６の例の場合、マーク種データ１４０−１，１４０−２の検査目印の相対位置情報は（ｓ，ｔ）であるので、図７から配置情報は、回転角度は０°でミラーリングなしとなる。また、マーク種データ１４０−３，１４０−４の検査目印の相対位置情報は（ｔ，−ｓ）であるので、図７から配置情報は、回転角度が反時計回り（左回り）に２７０°でミラーリングなしとなる。そして、この結果が、図１３（ｂ）に示されるように、配置チェック情報に格納される。すなわち、「第１の点の座標」が（ｘ１，ｙ１）と（ｘ２，ｙ２）であるレコードの回転角には「０°」と入力され、ミラーリング有無には「なし」と入力され、「第１の点の座標」が（ｘ３，ｙ３）と（ｘ４，ｙ４）であるレコードの回転角には「２７０°」と入力され、ミラーリング有無には「なし」と入力される。
【００５９】
以上のようにして、スクライブラインデータに含まれるマーク種データ１４０についての配置情報が得られる。そして、図１１のフローチャートへと処理が戻る。
【００６０】
各マーク種データの配置情報を取得した後、検査目印配置チェック部１８は、配置チェック情報に格納されたレコードについて、そのレコードに対応するマーク種データが配置チェックルールにしたがって配置されているか否かを判定する処理を行う（ステップＳ１５）。
【００６１】
具体的には、図１３（ｂ）に示される配置チェック情報に格納されているレコード、たとえばブロック名が「ＢＬＫ＿ＡＡ」で、属性値が「ＡＡ」で、第１の点の座標が「（ｘ１，ｙ１）」であるレコードのマーク種類「ＭＫ＿ＴＹＰＥ＿１」で特定される図８（ａ）、（ｂ）の検査目印配置チェックルールを検査目印配置チェックルール格納部１７から取得する。そして、配置チェック情報の配置領域に対応する配置チェックルールを回転角ルールとミラーリングルールから取得する。ここでは、マーク種類「ＭＫ＿ＴＹＰＥ＿１」のＸ軸に配置された場合の回転角「０°」と、ミラーリングの有無「無」とが取得される。そして、この取得した内容と、図１３（ｂ）に入力されている回転角「０°」とミラーリング有無「なし」とを比較する。その結果、両者は一致するので、このレコードに対応するマーク種データは正しく配置されているものと判定され、図１０に示されるように、配置チェック情報の「判定結果」の項目に正しく配置されていることを示す情報（ここでは、「ＯＫ」）が格納される。他のブロック名と属性値と第１の点の座標で特定されるレコードも同様にして、正しい配置か否かが判定され、図１０に示されるように、その判定結果が入力される。なお、配置情報が配置チェックルールと一致しない場合には、チェック情報の「判定結果」の項目に誤って配置されていることを示す情報（たとえば「ＮＧ」）が入力される。
【００６２】
その後、結果表示処理部１９は、判定結果が入力された配置チェック情報を表示部２０に表示し（ステップＳ１６）、処理が終了する。このとき、誤って配置されたレコードを強調表示したり、誤って配置されたレコードのみを表示部に表示したりしてもよい。
【００６３】
なお、上述した説明では、検査目印を２点とする場合を例に挙げたが、これに限られる趣旨ではなく、マーク種データの方向およびミラーリングの有無を検出することが可能なベクトル情報を取得することができるものであればよく、３点以上の点で形成した多角形や、矢印形状などの検査目印を作成してもよい。
【００６４】
また、上述した実施の形態で示した検査目印を有するマーク種データが配置された各レイヤで使用されるマスクデータのマーク種データの配置状態が配置チェックルールにしたがっているか否かを判定処理するマーク配置検査方法をコンピュータに実行させるためのプログラムとすることも可能である。このマーク配置検査方法をコンピュータに実行させるためのプログラムは、インストール可能な形式または実行可能な形式のファイルでＣＤ−ＲＯＭ（Compact Disk Read Only Memory）、フロッピー（登録商標）ディスク、ＤＶＤ（Digital Versatile DiscまたはDigital Video Disc）などのコンピュータで読み取り可能な記録媒体に記録されて提供される。また、上述した実施の形態で示したマーク配置検査方法をコンピュータに実行させるためのプログラムを、インターネットなどのネットワークに接続されたコンピュータ上に格納し、ネットワーク経由でダウンロードさせることにより提供するように構成してもよい。
【００６５】
このようにマーク配置検査方法をコンピュータに実行させるプログラムとすることで、上記したマーク配置検査装置は、ＣＰＵ（Central  Processing  Unit）の演算手段と、ＲＯＭ（Read  Only  Memory）やＲＡＭ（Random  Access  Memory）などの記憶手段と、ＨＤＤ（Hard  Disk  Drive）やＣＤ−ＲＯＭドライブ装置などの外部記憶手段と、ディスプレイ装置などの表示手段と、キーボードやマウスなどの入力手段と、また必要に応じてネットワークボードなどのネットワークインタフェース手段と、を備えたパーソナルコンピュータなどの情報処理装置によって構成することができる。この場合には、外部記憶手段にインストールされたマーク配置検査方法をコンピュータに実行させるプログラムを、ＲＡＭなどの記憶手段に展開し、演算手段で実行することで、上記の方法が行われる。
【００６６】
最後に、この第１の実施の形態による効果を従来例と比較して説明する。図１５は、マスクデータの一例を示す図であり、（ａ）は、マークデータが配置チェックルールにしたがって正しく配置されている場合の図であり、（ｂ）は、一部のマークデータが配置チェックルールにしたがわずに配置されている場合の図である。図１５（ａ）、（ｂ）のスクライブライン上に配置されているのは、図２（ａ）に示されるマークデータ１３１である。このマークデータ１３１において、図２（ａ）に示されるように、透光部列１３１２Ａ，１３１２Ｂ間の間隔は１０μｍであるが、透光部列１３１２Ｂ，１３１２Ｃ間の間隔は２０μｍとなっている。
【００６７】
従来では、図１５（ａ）、（ｂ）に示されるマスクデータ１００Ｂを表示部上に表示させて、使用者が目視によって、マークデータ１３１−１〜１３１−４を含むマークデータの配置が正しいか否かを確認していた。しかし、図２（ａ）に示されるように、透光部列１３１２Ａ，１３１２Ｂ間の間隔と、透光部列１３１２Ｂ，１３１２Ｃ間の間隔との差が微細になると、目視による検査では、判別がつきにくくなるとともに、配置チェックルールにしたがった正しい配置であるのか否かの判断にも誤りが生じやすくなる。たとえば、図１５（ｂ）では、マークデータ１３１−４が、図１５（ａ）の場合と比較して間違って配置されているが、このような間違いが見逃されやすくなる。また、上述したように、１つの製品で使用されるマークは、１，５００個近くにも上り、目視によるマークデータの正しい配置か否かのチェックでは、配置誤りを見逃す確率が高くなっていた。
【００６８】
これに対して、この第１の実施の形態によれば、スクライブライン上に配置するマークデータに、設計データ上にのみ配置されマスクには描画されない検査目印を設定したマーク種データを用意し、このマーク種データを用いてスクライブラインデータを作成した後、マーク種データが各レイヤのスクライブライン上に配置規則にしたがって配置されているか否かの判定を検査目印を用いて、情報処理装置などの装置上で行うようにした。その結果、従来の目視による検査に比して、マーク種データの誤配置の見逃しを抑制することができるとともに、検査に費やす処理時間を短縮化することができるという効果を有する。その結果、マスクを製造する前にマスクデータの修正を行うことができ、また、露光や検査ができないマスクを製造することを防ぐことができ、半導体装置などのＴＡＴと製造コストを増大させることがない。
【００６９】
（第２の実施の形態）
第１の実施の形態では、スクライブラインの軸方向（Ｘ／Ｙ軸上）や位置（たとえば、図９に示されるようなＸＤ，ＸＵ，ＹＲ，ＹＬ）毎に、許可される回転角とミラーリング有無を設定し、チェックを行う場合を示したが、この第２の実施の形態では、本体チップ内に形成（設計）されるワード線（ＷＬ）の方向に依存性を有するマークデータのチェックを行う場合について説明する。
【００７０】
メモリ製品では、リソグラフィの解像度を向上させるために、マスク基準の座標を配置した場合に、Ｘ／Ｙ非対称の照明を用いることがある。図１６は、Ｘ／Ｙ非対称照明を用いてマーク種データを露光した場合の様子を模式的に示す図である。この図では、紙面の左右方向にＸ軸を取り、Ｘ軸に垂直な方向にＹ軸を取っている。露光に使用される照明にＸ／Ｙ非対称照明を用いると、Ｘ軸方向とＹ軸方向の解像度が異なり、加工対象上に形成されるマークの形状をＸ／Ｙ軸方向で同じ寸法にするためには、設計データ（マスクデータ）のサイズを補正しなければならない場合がある。
【００７１】
たとえば、上記のようにＸ／Ｙ軸方向で解像度の異なるＸ／Ｙ非対称照明を用いて、図１６のマークパターン２１０を加工対象上に形成する場合には、マスクデータのマークデータ１３４と、加工対象上のマークパターン２１０とを同じサイズとしたときに、マークデータ１３４として、Ｙ軸方向のサイズはマークパターン２１０のパターン２１１，２１２と同じで、Ｘ軸方向のサイズはマークパターン２１０のパターン２１１，２１２よりも長くした（太らせた）パターン１３５，１３６を形成する。ここでは、この太らせる方向をワード線の方向と一致させるものとする。また、マークデータ１３４には、説明の便宜上、２層分のパターン１３５，１３６を配置している。
【００７２】
このように形成されたマークデータ１３４を配置したマスクデータには、マークデータ１３４の設計データ（マスクデータ）にワード線に対する方向依存性が生じることになる。そして、これは第１の実施の形態のノッチ方向に対する方向依存性とは独立した制約となる。
【００７３】
そこで、この第２の実施の形態では、マスクデータ上に配置されたマークデータについて、ワード線に対する方向が、ワード線に関する配置チェックルールにしたがっているか否かを検査するマーク配置検査方法およびマークについて説明する。
【００７４】
図１７は、第２の実施の形態による検査目印の一例を示す図である。マークデータ１３７に検査目印として２つの点１５１Ａ，１５１Ｂを配置してマーク種データ１５０を形成する例を挙げている。また、紙面の左右方向がワード線の延在方向であるものとして、マークデータ１３７の左下の角部１３７Ｐを原点にとり、図の左右方向をＸ軸とし、紙面内のＸ軸方向に垂直な方向をＹ軸としている。この図に示されるように、第１の点１５１Ａは、第１の実施の形態で説明したものと同様に、マーク基準点であり、マーク種データ１５０の中心（重心）になるものが多い。また、この第１の点１５１Ａは、文字列などの属性情報１５２Ａも保持している。ここでは、属性情報１５２Ａとして、第１の点１５１Ａが配置されるレイヤ名（工程名）が設定されるものとする。その結果、第１の点１５１Ａの位置は（ａ，ｂ）であり、属性情報１５２Ａとして「レイヤ名」が設定されている。
【００７５】
また、第２の点１５１Ｂは、第１の点１５１ＡからＸ軸方向およびＹ軸方向に所定の距離だけシフトした位置に配置される点である。たとえば、第２の点１５１Ｂは、第１の点１５１Ａに対して、Ｘ軸方向に距離ｕだけシフトし、Ｙ軸方向に距離ｖだけシフトした位置に配置される。このｕ，ｖは固定値であり、ｕとｖが同時に０でなければよい。また、第２の点１５１Ｂも属性情報１５２Ｂを保持しており、第１の点１５１Ａの属性値にワード線の方向を基準として配置された第２の点１５１Ｂであることを識別する情報を付加したものである。ここでは、第２の点１５１Ｂの属性情報１５２Ｂを「（第１の点の属性値）＋＠ｗｌ」で表現するものとする。これによって、第２の点１５１Ｂの位置は（ａ＋ｕ，ｂ＋ｖ）であり、属性情報１５２Ｂは「レイヤ名＠ｗｌ」となる。
【００７６】
なお、以下に示す図では、第１の点１５１Ａと第２の点１５１Ｂを視覚的に区別し易くするために、第１の点１５１Ａから第２の点１５１Ｂに向かう矢印１５３を同時に描画している。また、回転の有無の判定を行う必要がないマークデータについては、検査目印として第２の点１５１Ｂを配置する必要はない。ただし、上記したように、露光装置や合わせ検査装置のレシピに第１の点１５１Ａは必要であるので、第１の点１５１Ａは必ず配置される。さらに、この検査目印は、第１の実施の形態と同様に、設計データ（ＣＡＤデータ）上には存在しているが、マスクには描画されないデータである。
【００７７】
図１８は、ワード線と検査目印の方向の関係の一例を示す図である。図１８（ａ）に示されるように、ワード線ＷＬが紙面の左右方向（以下、水平方向という）に形成される場合を基準に描かれたマークデータには、ベクトルが右上になるように第２の点１５１Ｂを配置するように、ここでは規定するものとする。このように形成されたマーク種データ１５０は、水平方向に形成されるワード線（以下、水平ワード線という）の場合には、回転角が０度と１８０度で利用することができ、水平方向に垂直な垂直方向に形成されるワード線（以下、垂直ワード線という）の場合には、回転角が９０度と２７０度のときに利用することができる。
【００７８】
また、図１８（ｂ）に示されるように、ワード線ＷＬが紙面の上下方向（垂直方向）に形成される場合を基準に作成されたマークデータには、左上にベクトルが向くように第２の点１５１Ｂを配置するように規定することもできる。このように形成されたマーク種データ１５０は、垂直ワード線の場合には、回転角が０度と１８０度で利用することができ、水平ワード線の場合には、回転角が９０度と２７０度のときに利用することができる。マーク種データの作成において、図１８（ａ）、（ｂ）のいずれを基準としてもよい。このように、この例における検査目印は、ワード線ＷＬの配置が許可される方向を表している。
【００７９】
なお、上述した説明では、マーク種データにワード線の方向を示す検査目印を設定する場合を説明したが、第１の実施の形態で説明したノッチを基準にした直交座標系に対する配置方向を検出する第１の検査目印と、ワード線の方向を示す第２の検査目印とを、１つのマーク種データに設けてもよい。図１９は、検査目印の一例を示す図である。この図では、マーク種データ１６０には、ノッチを基準にした直交座標系に対するマーク種データ１６０の配置方向を示す第１の検査目印１６３と、ワード線に対するマーク種データ１６０の配置方向を示す第２の検査目印１６４と、が設けられている。また、第１の検査目印１６３と第２の検査目印１６４とは、属性情報１６２Ｂ，１６２Ｃによって識別することができる。
【００８０】
このようなマーク種データを用いてマークデータの配置検査を行うマーク配置検査装置の構成は、第１の実施の形態の図３で説明したものとほぼ同様の構成であるが、第１の実施の形態と異なる部分について簡単に説明する。
【００８１】
マーク種データ設計部１２は、設計されたマークデータに対して、上記した規則にしたがって検査目印を設定したマーク種データに、該マーク種データを一意に識別できるブロック名を付して、マーク種データ格納部１３に格納する。また、マーク種データ格納部１３は、ワード線の方向に対してパターンが形成されたマーク種データが格納される。
【００８２】
配置情報検出部１６は、マスクデータのスクライブライン上に配置されたマーク種データについて、ノッチを基準にして設けられた直交座標系を用いて、検査目印の座標を求め、さらに、求めた座標からベクトル情報である相対位置情報を算出し、ノッチを基準にした座標系におけるマークデータの回転角度と、マーク種データで許可されるワード線の方向とを含む配置情報を取得する。なお、ミラーリング有無は、水平、垂直の判断には関係がないため無視する。
【００８３】
検査目印配置チェックルール格納部１７は、対象製品のワード線水平／垂直定義を格納する。図２０は、対象製品のワード線水平／垂直定義の一例を模式的に示す図である。たとえば、ノッチ１０１をショット領域２００の下方に配置した場合を基準にして、１ショット領域２００内のチップデータ１１０に形成されるワード線ＷＬが水平方向に形成される場合には、対象製品のワード線水平／垂直定義１７１Ａは、「水平」と定義される。また、ノッチ１０１をショット領域２００の下方に配置した場合を基準にして、ショット領域２００内のチップデータ１１０に形成されるワード線ＷＬが垂直方向に形成される場合には、対象製品のワード線水平／垂直定義１７１Ｂは、「垂直」と定義される。なお、１つの製品においては、ワード線方向は１定義となるので、上記ワード線水平／垂直定義は、１製品について共通して使用される。つまり、１製品に使用されるすべてのマーク種データに対して、同一のワード線水平／垂直定義が設定される。また、第１の実施の形態のように、ノッチに対して設定された直交座標系でのマーク種データの配置状態についてもチェックする場合には、配置チェックルールは、１製品ごとに管理されているものとする。
【００８４】
つぎに、マーク配置検査方法の第２の実施の形態による具体的な処理手順について第１の実施の形態の図１１と図１２のフローチャートにしたがって説明する。
【００８５】
ステップＳ１１で、使用者によって所定の形状およびパターンを有する情報が入力部１１から入力され、各レイヤ（工程）で使用されるマークデータが設計されると、ステップＳ１２で、マーク種データ設計部１２は、マークデータに検査目印を配置し、マーク種データを作成する。ここでは、図１７に示されるように第１の点１５１Ａと第２の点１５２とからなる検査目印が設定され、各点１５１Ａ，１５１Ｂに属性情報１５２Ａ，１５２Ｂも設定される。第１の点１５１Ａの属性情報１５２Ａは「ＡＡ」であり、第２の点１５１Ｂの属性情報１５２Ｂは「ＡＡ＠ｗｌ」であるものとする。そして、作成されたマーク種データ１５０は、マーク種データ格納部１３に格納される。
【００８６】
ステップＳ１３では、マーク種データ格納部１３に格納されたマーク種データが、使用者が入力部１１を介して行うことによって、またはマーク配置部１４が予め設定されたマーク種データ配置規則にしたがって配置することによって、各レイヤのスクライブライン上に配置され、スクライブラインデータが作成される。図２１は、マーク種データがスクライブライン上に配置された状態の一例を示す図である。この図２１では、下方にノッチ１０１を配置したときに、左右方向がＸ軸となり、上下方向がＹ軸となる直交座標系を、マスクデータ１００Ｂの中央（重心）が原点となるようにマスクデータ１００Ｂに配置している。そして、スクライブライン１２１ＹＲには、図１７の状態のマーク種データ１５０−１，１５０−２が配置され、スクライブライン１２１ＹＬには、図１７の状態から反時計回りに１８０度回転させた状態のマーク種データ１５０−３，１５０−４が配置されている。
【００８７】
ステップＳ１４では、配置情報検出部１６は、スクライブラインデータ格納部１５からあるレイヤのマスクデータについてのスクライブラインデータを読み出し、そのスクライブラインデータからスクライブライン上に配置されているマーク種データの第１の点と第２の点を用いて配置情報を取得する。具体的には、以下に示すステップＳ１４１〜Ｓ１４３によって、配置情報を取得する。
【００８８】
ステップＳ１４１では、レイヤＡＡのマスクデータ１００Ｂを示す図２１の例では、マスクの中心がマスクの座標系の原点となっている。また、このマスクデータ１００Ｂには、４つのマーク種データ１５０−１〜１５０−４が配置されている。マスクの座標系におけるマーク種データ１５０−１の第１の点Ｆ１と第２の点Ｓ１の位置は、それぞれ（ｘ１，ｙ１）、（ｘ１＋ｕ，ｙ１＋ｖ）である。また、マーク種データ１５０−２の第１の点Ｆ２と第２の点Ｓ２の位置は、それぞれ（ｘ２，ｙ２）、（ｘ２＋ｕ，ｙ２＋ｖ）であり、マーク種データ１５０−３の第１の点Ｆ３と第２の点Ｓ３の位置は、それぞれ（ｘ３，ｙ３）、（ｘ３−ｕ，ｙ３−ｖ）である。さらに、マーク種データ１５０−４の第１の点Ｆ４と第２の点Ｓ４の位置は、それぞれ（ｘ４，ｙ４）、（ｘ４−ｕ，ｙ４−ｖ）である。
【００８９】
また、配置情報検出部１６は、取得した情報を配置チェック情報に入力していく。図２２は、配置チェック情報の一例を示す図である。以上の処理によって、図２２（ａ）に示されるように、配置チェック情報中の「ブロック名」、「属性値」、「第１の点の座標」および「製品のワード線方向」に対応する項目が入力される。「ブロック名」と「属性値」は、読み込んだスクライブラインデータから取得することができ、「第１の点の座標」は、上記の配置情報検出部１６によって求められた第１の点の座標値である。また、「製品のワード線方向」は、検査目印配置チェックルール格納部１７に格納されている対象製品のワード線水平／垂直定義である。上記したように、１製品１定義であり、１つの製品のマーク種データについてまとめて検査を行うようにしているので、この検査を行っている製品のすべてのレコードについて同じ値が入力される。ここでは、「製品のワード線水平／垂直定義」は水平方向であるものとする。なお、この図２２では、属性値（レイヤ名）が「ＡＡ」のマーク種データ（ブロック名）しか入力されていないが、実際には、１つの製品について作成された各レイヤ（工程）のマスクデータに含まれるすべてのマーク種データが抽出され、上記配置チェック情報に入力される。
【００９０】
ステップＳ１４２では、配置情報検出部１６は、各マーク種データの検査目印について求めた座標から、相対位置情報を取得する。図２１の例においては、マーク種データ１５０−１〜１５０−４の検査目印については、第１の点Ｆ１〜Ｆ４を基準とした第２の点Ｓ１〜Ｓ４の位置を求める。このとき、第２の点Ｓ１〜Ｓ４には、第１の点Ｆ１〜Ｆ４の属性情報に「＠ｗｌ」が付加された属性情報が設定されているので、この「＠ｗｌ」の有無によって第１の点Ｆ１〜Ｆ４と第２の点Ｓ１〜Ｓ４とを区別することができる。
【００９１】
マーク種データ１５０−１の場合には、属性情報が「ＡＡ＠ｗｌ」である第２の点Ｓ１の座標（ｘ１＋ｕ，ｙ１＋ｖ）の、属性情報が「ＡＡ」である第１の点Ｆ１の座標（ｘ１，ｙ１）に対する相対位置情報を算出する。その結果、（ｕ，ｖ）という相対位置情報が得られる。マーク種データ１５０−２〜１５０−３についても同様に、それぞれ相対位置情報として、（ｕ，ｖ）、（−ｕ，−ｖ）、（−ｕ，−ｖ）が得られる。
【００９２】
ステップＳ１４３では、配置情報検出部１６は、算出した相対位置情報から、マスクの座標系を基準とした配置されたマーク種データの回転角度を算出し、さらに、回転角度−ワード線方向対応情報を用いてマーク種データで許可されるワード線の方向（以下、マーク許可ワード線方向という）を取得する。図２３は、回転角度−ワード線方向対応情報の一例を示す図である。この図に示されるように、マスク座標系に配置された検査目印の相対位置情報を、マスク座標系での回転角度に対応付けることができ、さらにその回転角度にマーク許可ワード線方向を対応付けることができる。
【００９３】
図２１の例の場合、マーク種データ１５０−１，１５０−２の検査目印の相対位置情報は（ｕ，ｖ）であるので、図２３からマスク座標系での回転角度は０°となる。さらに、０°の場合には、マーク許可ワード線方向は水平となる。このようにして、回転角度とマーク許可ワード線方向とを含む配置情報が得られる。同様に、マーク種データ１５０−３，１５０−４の検査目印の相対位置情報は（−ｕ，−ｖ）であるので、図２３からマスク座標系での回転角度は１８０°であり、マーク許可ワード線方向は水平となる。そして、この結果が、図２２（ｂ）の配置チェック情報に格納される。すなわち、第１の点の座標が「（ｘ１，ｙ１）」と「（ｘ２，ｙ２）」であるレコードの「マスク座標系を基準とした回転角」には「０°」が入力され、「マーク許可ワード線方向」には「水平」が入力される。また、第１の点の座標が「（ｘ３，ｙ３）」と「（ｘ４，ｙ４）」であるレコードの「マスク座標系を基準とした回転角」には「１８０°」が入力され、「マーク許可ワード線方向」には「水平」が入力される。
【００９４】
ステップＳ１５では、検査目印配置チェック部１８は、配置チェック情報に格納されたレコードについて、そのマーク許可ワード線方向が、製品のワード線方向の値と一致しているか否かを判定する処理を行う。具体的には、図２２（ｂ）に示される配置チェック情報に格納されているレコード、たとえばブロック名が「ＢＬＫ＿ＡＡ」で、属性値が「ＡＡ」で、座標が「（ｘ１，ｙ１）」であるレコードの「マーク許可ワード線方向」の値「水平」と、「製品のワード線方向」の値「水平」とを比較し、両者が一致するか否かを判定する。判定の結果、両者が一致するので、配置チェック情報の「判定結果」の項目に、正しく配置されていることを示す情報（ここでは「ＯＫ」）を格納する。他のブロック名と属性値と座標で特定されるレコードも同様にして、正しい配置か否かが判定され、図２２−３に示されるように、その判定結果が入力される。なお、両者が一致しない場合には、「判定結果」に正しく配置されていない情報（「ＮＧ」など）が格納される。
【００９５】
ステップＳ１６では、結果表示処理部１９は、判定結果が入力された配置チェック情報を表示部２０に表示する。このとき、誤って配置されたレコードを強調表示したり、誤って配置されたレコードのみを表示部に表示したりしてもよい。そして、マーク配置検査方法の処理が終了する。
【００９６】
判定結果にＮＧが発生した場合には、使用者は、対応するマーク種データの回転方向を修正する。ただし、回転することによって第１の実施の形態のノッチ方向に対するマークの制約を満たせなくなる場合もあるので、その場合は、新たなマーク種データを作成する必要がある。
【００９７】
なお、同一プロセス（製造工程が同等）の場合、スクライブラインのマークは基本的に同じものを利用することができ、配置チェックルールなども同じものを流用することができる。しかし、同一プロセスであっても、ワード線の向きが製品間で異なる場合には、図２０の対象製品のワード線水平／垂直定義において、ノッチ方向とワード線方向の関係を修正すれば、それ以外のルールをそのまま用いることができる。
【００９８】
さらに、上記した説明では、本体チップ内に形成（設計）されるワード線（ＷＬ）の方向に依存性を有するマークデータのチェックを行う場合について説明したが、ワード線だけでなく、チップ内の所定のパターンの方向に依存性を有するマークデータのチェックや、非対称照明の向きに対する配置許可などについて、この実施の形態を適用することができる。
【００９９】
また、第１の実施の形態と同様に、この第２の実施の形態のマーク配置検査方法をコンピュータに実行させるプログラムとすることも可能である。
【０１００】
この第２の実施の形態によれば、露光時に使用される照明の解像度が直交する２方向で異なり、いずれかの解像度の方向にワード線の延在方向を一致させる必要がある場合に、ワード線の配置許可方向を示す検査目印を、マスクには転写されない設計上のデータとして設定したマーク種データをスクライブライン上に配置し、スクライブラインデータ上に配置されたマーク種データの検査目印を用いて、製品で規定されるワード線の延在方向と、マーク種データのワード線の配置許可方向とが一致するかを、情報処理装置などの装置上で判定するようにした。その結果、ワード線に対して配置されるべきマーク種データの配置方向についての誤配置を容易に検出することができるという効果を有する。
【０１０１】
なお、上述した説明では、半導体装置の製造で使用されるマスクの設計データ内のアライメントマークや計測マークについて検査する場合を例に挙げた。しかし、各処理間の相対位置を確保するための位置合わせ用のアライメントマークや、位置ずれや処理結果を検査するための計測マークなどをスクライブライン上に設けて製造される装置（たとえば液晶表示装置など）で使用するマスクの設計データ内のアライメントマークや計測マークのマークデータの検査を行う場合にも、上述した説明を適用することができる。
【符号の説明】
【０１０２】
１０…マーク配置検査装置、１１…入力部、１２…マーク種データ設計部、１３…マーク種データ格納部、１４…マーク配置部、１５…スクライブラインデータ格納部、１６…配置情報検出部、１７…検査目印配置チェックルール格納部、１８…検査目印配置チェック部、１９…結果表示処理部、２０…表示部、２１…制御部。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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