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【手続補正書】
【提出日】平成16年12月8日(2004.12.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６８】
「レベルｎのコアリング処理の条件を、ｎよりレベルの高い高周波信号を参照して変化させる」とは、例えばレベルｎの高周波成分Ｗｄnの座標（ｘ，ｙ）における信号値をコアリング処理するのにあたり、その閾値あるいは変換曲線を、レベルｎ＋ｉの対応する高周波成分Ｗｄn+iの座標（ｘ／２i，ｙ／２i）の信号値に応じて選択することを意味する。ここで高レベルの高周波成分Ｗｄn+iの座標（ｘ／２i，ｙ／２i）の信号値が大きい場合は、コアリング対象のＷｄnの座標（ｘ，ｙ）は大域的にみて被写体エッジ部に相当する可能性が高く、被写体エッジ部に相当する座標の高周波成分信号値は抑制しない方が好ましいので、コアリングの条件は緩められる。逆に高レベルの高周波成分Ｗｄn+iの座標（ｘ／２i，ｙ／２i）の信号値が小さい場合は、コアリング対象のＷｄnの座標（ｘ，ｙ）は大域的にみて被写体の平坦部に相当する可能性が高く、平坦部における粒状ノイズは目立ちやすので、コアリングの条件は強くされる。以上の判定のために参照するｎよりレベルの高い高周波信号としては、コアリング対象の高周波信号のレベルより１〜３レベル上の高周波信号を用いることが好ましい。すなわち上記の実例では１≦ｉ≦３が好ましい。参照するレベルは１つでも良いが、複数のレベルを参照してその重み付き平均値などで判定を行なってもよい。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７７】
多重解像度変換の方法としてウエーブレット変換のように１レベルの変換毎にｘ方向・ｙ方向の画素数が１／２になる変換を用いている場合を例にとって説明する。レベルｎの高周波成分Ｗｄnの座標（ｘ，ｙ）における信号値のコアリング処理条件を決めるために、レベルｎ＋ｉの低周波成分Ｓn+1における座標（ｘ／２i，ｙ／２i）の信号値を参照すると、参照された信号値はコアリング処理の対象であるレベルｎの高周波成分Ｗｄnの座標（ｘ，ｙ）近傍２i＊２i画素の平均輝度を示している。従って、本発明により近隣画素の輝度をも勘案した大局的な輝度によりコアリング処理条件を決めることができるのである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８３】
上記をさらに詳しく説明する。人間の顔・肌や青空など特定の被写体においては粒状が特に目立ち易いことが良く知られている。例えば、元画像を表す画像信号をＹＩＱ基底で輝度信号Ｙと色差信号Ｉ、Ｑに変換し、それぞれをウエーブレット変換で多重解像度変換した場合を例にとって説明する。前述のように、輝度Ｙのレベルｎ高周波成分Ｗｄnの座標（ｘ，ｙ）における信号値のコアリング処理条件を決める際に、輝度Ｙのレベルｎ＋ｉの低周波成分Ｓn+1における座標（ｘ／２i，ｙ／２i）の信号値を参照すれば、参照された信号値はコアリング処理の対象であるレベルｎの高周波成分Ｗｄnの座標（ｘ，ｙ）近傍２i＊２i画素の平均輝度を示している。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８４】
さらに、色差Ｉのレベルｎ＋ｉの低周波成分Ｓn+1における座標（ｘ／２i，ｙ／２i）の信号値と、色差Ｑのレベルｎ＋ｉの低周波成分Ｓn+1における座標（ｘ／２i，ｙ／２i）の信号値を参照することで、コアリング処理の対象であるレベルｎの高周波成分Ｗｄnの座標（ｘ，ｙ）近傍２i＊２i画素の領域が大局的にどのような色彩であったかを知ることができる。この色彩が肌色や空色など特定の領域に含まれる場合は、この領域が人間の顔・肌や青空など特定の被写体である可能性がある。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８５】
さらに、輝度Ｙのレベルｎ＋ｉの高周波成分Ｗｈn+i・Ｗｖn+i・Ｗｄn+iの座標（ｘ／２i，ｙ／２i）の信号値を参照することで、コアリング処理の対象であるレベルｎの高周波成分Ｗｄnの座標（ｘ，ｙ）近傍２i＊２i画素の領域が大局的にどの程度複雑な構造を有していたかの情報を得ることができる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２２】
2003134352.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成16年9月30日(2004.9.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子透かし埋め込み処理を実行する電子透かし埋め込み処理装置であり、
電子透かし埋め込み対象データに対して適用する電子透かし埋め込みアルゴリズムを、予め適用可能な複数のアルゴリズム中から設定情報に基づいて選択決定する第１パラメータ設定手段と、
電子透かし埋め込み対象データに対して適用する電子透かし埋め込みアルゴリズムを、予め適用可能な複数のアルゴリズム中から、ユーザ指定情報に基づいて選択決定する第２パラメータ設定手段と、
前記第１パラメータ設定手段と、前記第２パラメータ設定手段において決定したアルゴリズムに基づいて実行アルゴリズムを設定する出力アルゴリズム決定手段と、
電子透かしとして埋め込むべき付加情報に基づく電子透かし情報を生成する電子透かし情報信号生成手段と、
前記電子透かし情報信号生成手段において生成した電子透かし情報に基づいて、前記出力アルゴリズム決定手段において決定した電子透かし埋め込みアルゴリズムを適用した電子透かしパターンを生成する電子透かしレベル制御手段と、
前記電子透かしレベル制御手段の出力する電子透かしパターンを、電子透かし埋め込み対象データに対して埋め込む処理を実行する電子透かし重畳手段と、
を有することを特徴とする電子透かし埋め込み処理装置。
【請求項２】
電子透かし埋め込み処理を実行する電子透かし埋め込み処理方法であり、
電子透かし埋め込み対象データに対して適用する電子透かし埋め込みアルゴリズムを、予め適用可能な複数のアルゴリズム中から設定情報に基づいて選択決定する第１パラメータ設定ステップと、
電子透かし埋め込み対象データに対して適用する電子透かし埋め込みアルゴリズムを、予め適用可能な複数のアルゴリズム中から、ユーザ指定情報に基づいて選択決定する第２パラメータ設定ステップと、
前記第１パラメータ設定ステップと、前記第２パラメータ設定ステップにおいて決定したアルゴリズムに基づいて実行アルゴリズムを設定する出力アルゴリズム決定ステップと、
電子透かしとして埋め込むべき付加情報に基づく電子透かし情報を生成する電子透かし情報信号生成ステップと、
前記電子透かし情報信号生成ステップにおいて生成した電子透かし情報に基づいて、前記出力アルゴリズム決定ステップにおいて決定した電子透かし埋め込みアルゴリズムを適用した電子透かしパターンを生成する電子透かしレベル制御ステップと、
前記電子透かしレベル制御ステップにおいて出力する電子透かしパターンを、電子透かし埋め込み対象データに対して埋め込む処理を実行する電子透かし重畳ステップと、
を有することを特徴とする電子透かし埋め込み処理方法。
【請求項３】
前記電子透かし埋め込み処理方法は、さらに、
電子透かし埋め込み対象データのデータ領域を分割する重畳部分選択ステップを有し、
前記第１パラメータ設定ステップ、または、前記第２パラメータ設定ステップの少なくともいずれかは、前記重畳部分選択ステップにおいて分割したデータ領域の各々について適用する電子透かし埋め込みアルゴリズムを、予め適用可能な複数のアルゴリズム中から選択決定する処理を実行することを特徴とする請求項２に記載の電子透かし埋め込み処理方法。
【請求項４】
前記重畳部分選択ステップは、
電子透かし埋め込み対象データのデータ領域を周波数特性に基づいて分割する処理を実行し、
前記第１パラメータ設定ステップ、または、前記第２パラメータ設定ステップの少なくともいずれかは、周波数特性に基づいて分割されたデータ領域の各々に対して適用する電子透かし埋め込みアルゴリズムを、予め適用可能な複数のアルゴリズム中から選択決定する処理を実行することを特徴とする請求項３に記載の電子透かし埋め込み処理方法。
【請求項５】
前記重畳部分選択ステップは、
電子透かし埋め込み対象データのデータ領域をエッジ領域の判別に基づいて分割する処理を実行し、
前記第１パラメータ設定ステップ、または、前記第２パラメータ設定ステップの少なくともいずれかは、エッジ領域に基づいて分割されたデータ領域の各々に対して適用する電子透かし埋め込みアルゴリズムを、予め適用可能な複数のアルゴリズム中から選択決定する処理を実行することを特徴とする請求項３に記載の電子透かし埋め込み処理方法。
【請求項６】
前記重畳部分選択ステップは、
電子透かし埋め込み対象データのデータ領域を時系列のデータフレームのフレーム単位での分割を実行し、
前記第１パラメータ設定ステップ、または、前記第２パラメータ設定ステップの少なくともいずれかは、データフレームに基づいて分割されたデータ領域の各々に対して適用する電子透かし埋め込みアルゴリズムを、予め適用可能な複数のアルゴリズム中から選択決定する処理を実行することを特徴とする請求項３に記載の電子透かし埋め込み処理方法。
【請求項７】
前記重畳部分選択ステップは、
電子透かし埋め込み対象データのデータ領域を空間位置情報に基づいて分割する処理を実行し、
前記第１パラメータ設定ステップ、または、前記第２パラメータ設定ステップの少なくともいずれかは、空間位置情報に基づいて分割されたデータ領域の各々に対して適用する電子透かし埋め込みアルゴリズムを、予め適用可能な複数のアルゴリズム中から選択決定する処理を実行することを特徴とする請求項３に記載の電子透かし埋め込み処理方法。
【請求項８】
前記電子透かし重畳ステップは、
電子透かし埋め込み対象データの多階調変換処理を実行するステップを含み、該多階調処理における電子透かし埋め込み対象データの多階調変換処理後のデータに、前記電子透かしレベル制御ステップにおいて出力する電子透かしパターンを埋め込む処理を実行することを特徴とする請求項２に記載の電子透かし埋め込み処理方法。
【請求項９】
電子透かし埋め込み処理を実行するコンピュータ・プログラムであって、
電子透かし埋め込み対象データに対して適用する電子透かし埋め込みアルゴリズムを、予め適用可能な複数のアルゴリズム中から設定情報に基づいて選択決定する第１パラメータ設定ステップと、
電子透かし埋め込み対象データに対して適用する電子透かし埋め込みアルゴリズムを、予め適用可能な複数のアルゴリズム中から、ユーザ指定情報に基づいて選択決定する第２パラメータ設定ステップと、
前記第１パラメータ設定ステップと、前記第２パラメータ設定ステップにおいて決定したアルゴリズムに基づいて実行アルゴリズムを設定する出力アルゴリズム決定ステップと、
電子透かしとして埋め込むべき付加情報に基づく電子透かし情報を生成する電子透かし情報信号生成ステップと、
前記電子透かし情報信号生成ステップにおいて生成した電子透かし情報に基づいて、前記出力アルゴリズム決定ステップにおいて決定した電子透かし埋め込みアルゴリズムを適用した電子透かしパターンを生成する電子透かしレベル制御ステップと、
前記電子透かしレベル制御ステップにおいて出力する電子透かしパターンを、電子透かし埋め込み対象データに対して埋め込む処理を実行する電子透かし重畳ステップと、
を有することを特徴とするコンピュータ・プログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成16年10月12日(2004.10.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
複数の画像を合成し、ダイナミックレンジの広い画像を得る画像合成装置において、合成する画像間の差異が被写体ぶれによるものか手ぶれによるものかを判定するぶれ種類判定手段と、該ぶれ種類判定手段からのぶれ判定信号に応じて画像合成方法を切り換える切換手段とを備え、前記ぶれ種類判定手段は、前記複数の画像のうち一方の画像と他方の画像との間で画像全体としての１つの動きベクトルを検出して出力する動きベクトル検出部と、該動きベクトル検出部で検出された前記動きベクトルより画像が被写体ぶれ、手ぶれのいずれであるかを判定し、ぶれ判定信号として出力するぶれ判定手段とを有することを特徴とする画像合成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、複数の画像を合成し、画像信号のダイナミックレンジを拡大して出力する画像合成装置に関する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
図20に、露光量の異なる２つの画像を合成してダイナミックレンジの広い画像を得る方法の概念図を示す。図20において、図20の（Ｂ）に示す長時間露光画像は人物や木に露出があっており背景が白とびしているとする。また、図20の（Ａ）に示す短時間露光画像は背景に露出があっており人物が黒つぶれしているとする。これらの画像の合成は、例えば以下の方法で行うことができる。まず、長時間露光画像に対して適当な閾値を設定し画素値が閾値以上の領域が白とびの領域と一致するようにする。次いで、前記閾値以上の領域については、短時間露光画像の対応する（同位置の）画像を貼り付けて合成する。このようにして合成することで、図20の（Ｃ）に示すように、背景、人物共に露出のあったダイナミックレンジの広い画像を得ることができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するため、請求項１に係る発明は、複数の画像を合成し、ダイナミックレンジの広い画像を得る画像合成装置において、合成する画像間の差異が被写体ぶれによるものか手ぶれによるものかを判定するぶれ種類判定手段と、該ぶれ種類判定手段からのぶれ判定信号に応じて画像合成方法を切り換える切換手段とを備え、前記ぶれ種類判定手段は、前記複数の画像のうち一方の画像と他方の画像との間で画像全体としての１つの動きベクトルを検出して出力する動きベクトル検出部と、該動きベクトル検出部で検出された前記動きベクトルより画像が被写体ぶれ、手ぶれのいずれであるかを判定し、ぶれ判定信号として出力するぶれ判定手段とで、画像合成装置を構成するものである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
この請求項５に係る発明の実施の形態には、第１及び第２の実施の形態が対応する。そして、請求項５における構成要件の比較部には、図６に示す比較部33が対応し、二値画像比較結果には図７における二値画像不一致領域情報が対応する。また比較結果が一定数連続して不一致となる場合は、二値画像不一致領域情報をカウンタ42で計数したものを比較器43で連続検出量閾値と比較して求めている。そして、セレクタ44の切り換えを、前記比較器43の出力を用いて行うことにより、「比較結果が一定数連続して不一致となる場合に限り」動きベクトル検出領域を出力することを、実現している。
【手続補正書】
【提出日】平成16年10月25日(2004.10.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像を所定の読み取り速度で読み取り、画像データを生成する画像読取手段を有する画像読取装置の制御方法において、
前記画像データに施す画像処理を選択する画像処理選択工程と、
前記画像処理選択工程における選択結果に基づいて前記画像読取手段の読取速度を決定する読み取り速度決定工程と、
前記読み取り速度決定工程で決定した速度に基づいて前記画像読取手段の前記読み取り速度を制御する読取速度制御工程と、
前記画像処理選択工程で選択した画像処理を前記画像データに施す画像処理工程とを有することを特徴とする画像読取装置の制御方法。
【請求項２】
前記画像処理工程は、前記画像読取手段において１枚の画像の読取走査が終了するより前に開始される画像処理工程であることを特徴とする請求項１に記載の画像読取装置の制御方法。
【請求項３】
画像を所定の読み取り速度で読み取り、画像データを生成する画像読取手段と、
前記画像データに施す画像処理を選択する画像処理選択手段と、
前記画像処理選択手段による選択結果に基づいて前記画像読取手段の読取速度を決定する読み取り速度決定手段と、
前記読み取り速度決定手段で決定した速度に基づいて前記画像読取手段の前記読み取り速度を制御する読取速度制御手段と、
前記画像処理選択手段で選択した画像処理を前記画像データに施す画像処理手段とを有することを特徴とする画像読取装置。
【請求項４】
前記画像処理は、前記画像読取手段において１枚の画像の読取走査が終了するより前に前記画像処理手段にて開始される画像処理であることを特徴とする請求項３に記載の画像読取装置。
【請求項５】
請求項３または請求項４に記載の画像読取装置の各構成要素としてコンピュータを機能させるためのプログラム。
【請求項６】
請求項５に記載のプログラムを記録した記録媒体。
【請求項７】
画像を所定の読み取り速度で読み取り、画像データを生成する画像読取手段を有する画像読取装置と、前記画像読取装置に接続された画像処理装置とで構成される画像読取システムの制御プログラムにおいて、
前記画像データに施す画像処理を選択する画像処理選択工程と、
前記画像処理選択工程における選択結果に基づいて前記画像読取手段の読取速度を決定する読み取り速度決定工程と、
前記読み取り速度決定工程で決定した速度に基づいて前記画像読取手段の前記読み取り速度を制御する読取速度制御工程と、
前記画像処理選択工程で選択した画像処理を前記画像データに施す画像処理工程とを有する制御を行うことを特徴とする画像読取システムの制御プログラム。
【請求項８】
前記画像処理工程は、前記画像読取手段において１枚の画像の読取走査が終了するより前に開始される画像処理工程であることを特徴とする請求項７に記載の画像読取システムの制御プログラム。
【請求項９】
請求項７または請求項８に記載の制御プログラムを記憶した記憶媒体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
［請求項７］画像を所定の読み取り速度で読み取り画像データを生成する画像読取手段を有する画像読取装置と、前記画像読取装置に接続された画像処理装置とで構成される画像読取システムの制御プログラムにおいて、前記画像データに施す画像処理を選択する画像処理選択工程と、前記画像処理選択工程における選択結果に基づいて前記画像読取手段の読取速度を決定する読み取り速度決定工程と、前記読み取り速度決定工程で決定した速度に基づいて前記画像読取手段の前記読み取り速度を制御する読取速度制御工程と、前記画像処理選択工程で選択した画像処理を前記画像データに施す画像処理工程とを有する制御を行うことを特徴とする画像読取装置の制御プログラム。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
［請求項８］前記画像処理工程は、前記画像読取手段において１枚の画像の読取走査が終了するより前に開始される画像処理工程であることを特徴とする請求項７に記載の画像読取システムの制御プログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成17年2月23日(2005.2.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シート媒体を受取るように形成され、拡大開口を有する支持構造と、
前記拡大開口のベースに形成され、過剰媒体が更に前記支持構造内に送り込まれないように前記過剰媒体に当接する入れ過ぎ制御機構と、
を具備することを特徴とする媒体入力トレイ機構。
【請求項２】
前記支持構造は、シート媒体を内部に滑動可能に支持する側部調節器の一部として形成されていることを特徴とする、請求項１に記載の媒体入力トレイ機構。
【請求項３】
前記支持構造は、第１の量のシート媒体を受取るように形成され、
前記拡大開口は、前記第１の量より多い第２の量のシート媒体を受取るように形成され、
前記過剰媒体は、前記第１の量と前記第２の量との差に相当することを特徴とする、請求項１に記載の媒体入力トレイ機構。
【請求項４】
間に媒体通過領域を形成するように設置され、第１のギャップを有する少なくとも第１および第２の支持構造と、
該支持構造の少なくとも１つに結合する、前記媒体通過領域の前記第１のギャップより広いギャップを形成する傾斜面または湾曲面と、
前記媒体通過領域と前記傾斜面または湾曲面との交差部分に固定設置されて、前記第１のギャップを通して前記媒体通過領域に媒体を入れ過ぎることを防止する当接部と、
を備えることを特徴とする媒体受取り機構。
【請求項５】
第２のギャップが、前記当接部により前記支持構造間に形成され、該第２のギャップは、前記媒体通過領域の前記第１のギャップより広いことを特徴とする、請求項４に記載の媒体受取り機構。
【請求項６】
第１の量のシート媒体を受取る第１のギャップを有する受取り領域と、
該受取り領域に結合し、前記第１のギャップより広い少なくとも第２のギャップを形成する拡大開口領域と
を備え、
該拡大開口領域と前記受取り領域とが固定棚部を介して接続されることにより、前記開口領域から前記受取り領域へ入ろうとする前記第１の量より過剰なシート媒体はすべて、前記固定棚部によって前記受取り領域に入るのを突然止められることを特徴とする、イメージ形成装置用媒体保持機構。
【請求項７】
前記拡大開口領域は、該保持機構内にシート媒体を滑動可能に支持する側部調節器の一部として形成されていることを特徴とする、請求項６に記載のイメージ形成装置用媒体保持機構。
【請求項８】
イメージ形成装置であって、
プリントエンジンを有するハウジングと、
該ハウジングに嵌合し、シート媒体を外部供給源から受取り、続いて前記プリントエンジンに送り込むように設置されている入力トレイ機構とを備え、
該入力トレイ機構は、第２の構造と協動して前記シート媒体を前記第２の構造との間の第１のギャップで受取るよう形成されている第１の構造、及び、該第１の構造に結合して前記第１のギャップの近くに固定設置される棚部とを備え、
前記棚部は、該第１のギャップを通過可能なシート媒体の量より過剰なシート媒体をすべて捕捉し、前記過剰なシート媒体が前記外部供給源から前記入力トレイ機構に送り込まれるとき、前記第１のギャップを通って入ることを禁止することを特徴とするイメージ形成装置。
【請求項９】
前記棚部は、第１の構造と第２の構造との間に前記第１のギャップより広い第２のギャップを形成することを特徴とする、請求項８に記載のイメージ形成装置。
【請求項１０】
前記第１の構造および前記第２の構造は、シート媒体を前記入力トレイ機構の中に滑動可能に支持する側部調節器の一部として形成されることを特徴とする、請求項８に記載のイメージ形成装置。
【手続補正書】
【提出日】平成17年3月4日(2005.3.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
媒体フィード装置であって、
前記装置のフレームと、
トレイであり、該トレイ上に前記装置によってフィードされる媒体を保持するトレイと、
ギア列を担持して、該ギア列の従動ギアと同心状の軸の回りに、前記トレイへ向かって旋回すべく且つ該トレイから遠ざかるように旋回すべく取付けられたブラケットと、
前記ギア列によって回転させられるように、前記ブラケット上に取付けられた少なくとも１つの媒体フィード・ローラと、
前記従動ギアと同心状の中心を具備する、前記フレームに取付けられたシャフトと、
前記ブラケットに固定された端部を有して回転自在要素回りに巻かれているバネであり、前記ブラケットが前記トレイから遠ざかるように移動する際に巻戻されて、前記ブラケットが前記トレイから遠ざかるように移動する際に前記要素に摩擦牽引を付与すべく該要素と充分な摩擦接触を為して、前記ブラケットの上方移動に抵抗するバネと、
を備える媒体フィード装置。
【請求項２】
媒体フィード装置であって、
前記装置のフレームと、
トレイであり、該トレイ上に前記装置によってフィードされる媒体を保持するトレイと、
ギア列を担持して、該ギア列の従動ギアと同心状の軸の回りに、前記トレイへ向かって旋回すべく且つ該トレイから遠ざかるように旋回するべく取付けられたブラケットと、
前記ギア列によって回転させられるように、前記ブラケット上に取付けられた少なくとも１つの媒体フィード・ローラと、
前記従動ギアと同心状の中心を具備する、前記フレームに取付けられたシャフトと、
中央保持部で前記シャフト上に取付けられたアーバであり、前記ブラケット近傍の第１円筒部と第２円筒部とを有するアーバと、
前記ブラケットに固定された端部を有して前記アーバの前記第１円筒部上に巻かれている第１バネであり、前記ブラケットが前記トレイから遠ざかるように移動する際に巻戻されるように巻かれて、前記ブラケットが前記トレイから遠ざかるように移動する際に前記アーバに摩擦牽引を付与すべく該アーバの前記第１円筒部と充分な摩擦接触を為して、前記ブラケットの上方移動に抵抗する第１バネと、
前記フレームに固定された端部を有して前記アーバの前記第２円筒部上に巻かれている第２バネであり、前記ブラケットが前記トレイから遠ざかるように移動する際に更に巻かれる第２バネと、
を備える媒体フィード装置。
【請求項３】
前記第２バネが前記アーバの前記第２円筒部と軽く接触した状態で巻かれて、前記ブラケットが前記トレイへ向かって移動する際に前記アーバに充分な摩擦牽引を付与して、前記ブラケットのバウンドを低減する、請求項２に記載の媒体フィード装置。
【請求項４】
前記アーバの前記第１円筒部と前記第２円筒部とが実質的に同一の外径であり、前記第１バネが前記アーバの前記第１円筒部の回りに緊密に嵌合した状態で巻かれている、請求項３に記載の媒体フィード装置。
【請求項５】
前記アーバの前記第１円筒部と前記第２円筒部とが実質的に同一の外径であり、前記第１バネが前記アーバの前記第１円筒部の回りに緊密に嵌合した状態で巻かれている、請求項２に記載の媒体フィード装置。
【請求項６】
媒体フィード装置であって、
前記装置のフレームと、
トレイであり、該トレイ上に前記装置によってフィードされる媒体を保持するトレイと、
ギア列を担持して、該ギア列の従動ギアと同心状の軸の回りに、前記トレイへ向かって旋回すべく且つ該トレイから遠ざかるように旋回すべく取付けられたブラケットと、
前記ギア列によって回転させられるように、前記ブラケット上に取付けられた少なくとも１つの媒体フィード・ローラと、
前記従動ギアと同心状の中心を具備する、前記フレームに取付けられたシャフトと、
中央保持部で前記シャフト上に取付けられたアーバであり、前記ブラケット近傍の第１円筒部と第２円筒部とを有するアーバと、
前記ブラケットに固定された端部を有して前記アーバの前記第１円筒部上に巻かれている第１バネと、
前記フレームに固定された端部を有して前記アーバの前記第２円筒部上に巻かれている第２バネと、
前記第１バネ及び前記第２バネの内の一方が、前記ブラケットが前記トレイから遠ざかるように移動する際に巻き戻されるように巻かれ、前記ブラケットが前記トレイから遠ざかるように移動する際に前記アーバに摩擦牽引を付与すべく前記一方のバネが巻かれている前記アーバの前記円筒部と充分な摩擦接触を為して、前記ブラケットの上方移動に抵抗することと、
前記第１バネ及び前記第２バネの内の他方が、前記ブラケットが前記トレイから遠ざかるように移動する際に更に巻かれるべく巻かれることと、
を含む媒体フィード装置。
【請求項７】
前記他方のバネが前記アーバと軽く接触した状態で巻かれて、前記ブラケットのバウンドを低減すべく前記ブラケットが前記トレイへ向かって移動する際に前記アーバに充分な摩擦牽引を付与する、請求項６に記載の媒体フィード装置。
【請求項８】
前記アーバの前記第１円筒部と前記第２円筒部とが実質的に同一の外径であり、前記一方のバネが前記アーバ回りに緊密に嵌合した状態で巻かれている、請求項７に記載の媒体フィード装置。
【請求項９】
前記アーバの前記第１円筒部と前記第２円筒部とが実質的に同一の外径であり、前記一方のバネが前記アーバ回りに緊密に嵌合した状態で巻かれている、請求項６に記載の媒体フィード装置。
【手続補正書】
【提出日】平成16年3月24日(2004.3.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アンプルを収納するストック容器を搬送装置で送られるバケットに対して昇降自在に設け、このストック容器の底板を開閉機構により開閉自在とし、ストック容器の下方位置で底板のロックを開放し、ストック容器を上昇させながら底板を開いてストック容器内に投入されたアンプルを排出するようにしたアンプル受渡装置。
【請求項２】
前記開閉機構を回転レバーを含むリンク手段により構成し、回転レバーの端で底板に連結されているロック板を押圧して底板をロックするようにしたことを特徴とする請求項１に記載のアンプル受渡装置。
【手続補正書】
【提出日】平成16年2月13日(2004.2.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、セメント強化用のポリプロピレン繊維に関し、さらに詳しくは引張強度、曲げ強度、耐衝撃性、耐亀裂性等を改良したセメント成形品（コンクリート成形品を含む）を得るためにセメント中に配合する強化繊維として、特定の紡糸、解繊、捲縮、切断工程を経ることでセメントとの親和性、分散性に優れた特殊形状のセメント強化用ポリプロピレン繊維に関する。


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
出願人は、先に特開平9-86984号において個々のフィラメントが分離可能に連結した連糸テープの短繊維からなるセメント強化用ポリプロピレン繊維を提案した。この短繊維は、図５及び図６に示すように、単糸フィラメント２が分離可能な連接部３によって連結した連糸テープ１からなる短繊維である。したがって、連糸テープの短繊維はセメント混練時に適度に分離し、その結果適度の集束性を有しているためにセメントとの分散性が向上してセメント成形物の曲げ強度や衝撃強度が著しく改良された。
しかしながら、分離可能に連結した連糸テープは、セメント混練時に混練動作により自動的に分離するにとどまるため、用途に応じて集束性を調整することがやや困難であり、かつ分離した短繊維の形状は単純であるために短繊維同士のからまりがやや不充分で場合によりセメントから抜けて連糸形状にした効果が十分に発揮できず、さらなる改良が要望されていた。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
次に、本発明のセメント強化用ポリプロピレン繊維を製造する方法について図面により説明する。図１は、連糸テープの仮撚糸短繊維の顕微鏡写真(50倍)からスケッチした平面図である。図２は連糸テープの仮撚糸を更に捲縮した仮撚捲縮糸短繊維の顕微鏡写真(50倍)からスケッチした平面図である。また、図３は連糸テープの紡糸から部分的に解繊した仮撚糸とする工程の一例を示す概略説明図である。


【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
1998265246.tif 000001
【手続補正５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２】
1998265246.tif 000002
【手続補正書】
【提出日】平成17年3月3日(2005.3.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）１以上の農薬；及び
（ｂ）（１）１以上の水不溶性ポリマー；及び（２）１以上の水溶性ポリマー；を含む１以上の再分散性ポリマー；
を含む固体農薬組成物。
【請求項２】
（１）１以上の水不溶性ポリマー；及び（２）１以上の水溶性ポリマー；を含む再分散性ポリマーの農薬アジュバントとしての使用。
【請求項３】
請求項１に記載の固体農薬組成物を、有害生物、有害生物の所在箇所又は有害生物の食物源に施すことを特徴とする有害生物の防除方法。
【請求項４】
（ａ）１以上の農薬５〜９０重量％；
（ｂ）少なくとも一つの水不溶性ポリマー５〜８０重量％；及び
（ｃ）少なくとも一つの水溶性ポリマー１〜４０重量％；
を含む請求項１に記載の固体農薬組成物。
【請求項５】
組成物が水中で、４０ミクロン未満の寸法の粒子に分散する請求項１に記載の農薬組成物。
【請求項６】
水不溶性ポリマーが、エチレン及びビニルエステルからなる群の１以上から誘導される単位を含み、該ポリマーが−２０〜４０℃のガラス転移温度を有する請求項１に記載の組成物。
【請求項７】
水不溶性ポリマーが、２−エチルヘキシルアクリレート、ブチルアクリレート、エチルアクリレート、メチルアクリレート及びビニルアセテートの１以上から誘導されるポリマー単位を独立して含む１以上のホモポリマー又はコポリマーから選択され、該水不溶性ポリマーが０〜６０℃のガラス転移温度を有する請求項１に記載の組成物。
【請求項８】
水不溶性ポリマーが０〜４０℃のガラス転移温度を有する請求項７に記載の組成物。
【請求項９】
存在するビニルアセテートから誘導される全ての単位の３％を超える量が加水分解されている請求項７に記載の組成物。
【請求項１０】
農薬が、水和剤及び分散性粒状物からなる群から選択される請求項１に記載の組成物。
【請求項１１】
農薬が、マンコゼブ、マネブ、ジラム、クロロタロニル、銅ヒドロキシド、マイクロブタニル、フェンブコナゾール、キャプタン、カルバリール、カルタップ、カルボフラン、テブフェノジド、ジコフォール，ジノキャップ、プロパニル及びオキシフルオルフェンからなる群から選択される請求項１に記載の組成物。
【請求項１２】
（ａ）少なくとも一つの農薬５〜９０重量％；
（ｂ）エマルジョンで調製された少なくとも一つの水不溶性高分子量ポリマー５〜８０重量％；及び
（ｃ）２，０００ａｍｕを超える分子量を有する少なくとも一つの水溶性ポリマー１〜４０重量％；
を含み、疎水性基材上に噴霧すると、ポリマーを有しない組成物と比較して、雨による洗い流しに対する改良された耐性を有する、水中で４０ミクロンより小さな粒子に分散する固体組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成16年3月23日(2004.3.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シーリング材表面を処理するための組成物であって、脂肪族炭化水素系溶剤および該溶剤に可溶性の含フッ素重合体を含有することを特徴とするシーリング材処理用組成物。
【請求項２】
脂肪族炭化水素系溶剤が脂肪族炭化水素を８０重量％以上含有する請求項１に記載のシーリング材処理用組成物。
【請求項３】
脂肪族炭化水素系溶剤の沸点が８０〜３００℃である請求項１または２に記載のシーリング材処理用組成物。
【請求項４】
含フッ素重合体が、ポリフルオロアルキル基を含むアクリレートの重合単位またはポリフルオロアルキル基を含むメタクリレートの重合単位を含む重合体である請求項１、２または３に記載のシーリング材処理用組成物。
【請求項５】
含フッ素重合体中のフッ素含有量が２０〜３５重量％である請求項１、２、３または４に記載のシーリング材処理用組成物。
【請求項６】
請求項１、２、３、４または５に記載のシーリング材処理用組成物により、シーリング材表面を処理することを特徴とする処理方法。
【請求項７】
請求項１、２、３、４または５に記載のシーリング材処理用組成物により処理されたシーリング材が用いられた建築部材。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
フッ素樹脂を主成分とする溶剤型の防汚加工剤には、溶剤として塩素化フッ素化炭化水素や塩素化炭化水素が用いられてきたが、近年環境上の配慮から該溶剤以外の他の溶剤を選択する必要がでてきた。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
本発明における重合体中のフッ素量は２０〜３０重量％が好ましい。フッ素量が少なすぎると、効果を得るためのシーリング材処理用組成物の使用量が多くなり、外観への影響やクラックの発生の恐れが高くなる。一方フッ素量が多すぎると樹脂の溶剤への溶解性が低下し、不溶解部が発生する恐れがある。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
本発明のシーリング材処理用組成物は、上記の脂肪族炭化水素系溶剤と含フッ素重合体を含む。シーリング材処理用組成物中の含フッ素重合体量は特に限定されないが、濃度が低すぎると効果の程度が低くなる恐れや、多量に塗布する必要から液垂れが起こる恐れがあり、濃度が高すぎると不経済であるため、組成物の１００重量部に対して含フッ素重合体を０．１〜１５重量部含ませるのが好ましく、特に０．３〜８重量部含ませるのが好ましい。さらに脂肪族炭化水素系溶剤は、該組成物の１００重量部に対して８５〜９９．９重量部含ませるのが好ましく、特に９２〜９９．７重量％含ませるのが好ましい。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
本発明のシーリング材処理用組成物は、上記の脂肪族炭化水素系溶剤と含フッ素重合体のみからなるものでもよいが、必要に応じて他の添加物を含んでいてもよい。他の添加物としては、香料、消泡剤、防カビ剤等が挙げられる。また、他の添加物を含む場合には、該組成物の１００重量部に対して０．０１〜１重量部含ませるのが好ましく、特に０．０５〜０．５重量％含ませるのが好ましい。


【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
本発明のシーリング材処理用組成物は、シーリング材表面に適用し、該シーリング材表面に被膜を形成させることにより、汚れの付着を防止できる。
シーリング材としては変成シリコーン系、変成ポリスルフィド系またはポリウレタン系の樹脂からなるシーリング材が好ましく、特に変成シリコーン系の樹脂が好ましい。


【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
シーリング材表面に適用する方法としては、特に限定されず、シーリング材をパテ等で付けた後、シーリング材処理組成物を刷毛、ロール、スプレー等によって該シーリング材表面に塗布する方法が挙げられる。また、塗布の時期については特に限定されず、シーリング材の硬化後または、硬化前のいずれであってもよい。また、目地部周辺にあらかじめマスキングテープを貼って、シーリング材処理用組成物の壁材への付着を防止してもよい。
【手続補正書】
【提出日】平成16年3月15日(2004.3.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
このような２−ベンゾイル−環状１，３−ジケトン化合物の製造方法としては、
（ａ）エノールエステルの転位による製造方法、
（ｂ）ベンゾイルシアナイドを経由する製造方法、
（ｃ）縮合剤（ＤＣＣ等）による脱水縮合反応による製造方法などが知られている。


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
（ｂ）ベンゾイルシアナイドを経由する製造方法は、置換ベンゾイルシアナイドを合成後、塩化亜鉛とトリエチルアミンの存在下、環状１，３−ジケトン類と反応させ、２−ベンゾイル−環状１，３−ジケトン化合物を得るものである（特開昭58-180451号公報、特開平6-211780号公報）。しかしながら、置換ベンゾイルシアナイドの合成収率は満足なものではなく、更にシアン化物を大量に使用する必要があり、安全上に問題がある。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
反応の終点は、高速液体クロマトグラフィ（ＨＰＬＣ）等で原料の消失により確認できる。この時、ある種の２−ベンゾイル−環状１，３−ジケトン誘導体はアルミニウムとの錯体を反応液中で形成しているので、次の単離処理工程後、錯体の解離処理を行なう。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
抽出溶媒を濃縮することにより目的物の２−ベンゾイル−環状１，３−ジケトン誘導体及びそのアルミニウム錯体の粗生成物を得ることができ、さらに水溶性溶媒に溶解後、鉱酸酸性水溶液を徐々に加えることにより、目的物の結晶を析出させることができる。この結晶析出操作を行なうことにより、アルミニウム錯体からアルミニウムを解離させることができ、遠心分離あるいはろ過操作により目的の２−ベンゾイル−環状１，３−ジケ卜ン誘導体の結晶を、高純度でかつ高収率で得ることができる。使用できる水溶性溶媒としては、メタノール、エタノールなどのアルコール類、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン類、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジオキサンなどのエーテル類、アセトニトリルなどのニトリル類が挙げられるが、安価なメタノール、アセトンなどが有利である。また、鉱酸酸性水溶液は塩酸などの強酸性水溶液が好ましく、１〜６規定塩酸水溶液を使用した場合には、使用量は目的物１重量部に対して水溶性溶媒２〜２０重量部、鉱酸酸性水溶液0.5〜２０重量部使用される。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
一般式（２）中、Ｒ7が表わす１〜３個のフッ素原子によって置換されていてもよいＣ１〜２の低級アルキル基とは、メチル基、エチル基、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、フルオロエチル基、ジフルオロエチル基、トリフルオロエチル基及びそれらの異性体基であり、Ｃ１〜２の低級アルキルスルホニル基とは、メタンスルホニル基、エタンスルホニル基である。


【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
実施例５〜１３
環状１，３−ジオンとベンゾイルクロライド化合物として相当する化合物を用い実施例１乃至４と同様の処理をして表１に記載の２−ベンゾイル−環状１，３−ジケトン誘導体を得た。
【手続補正書】
【提出日】平成16年12月17日(2004.12.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５６】
構造Ａの新規のシュウ酸ペルオキシド化合物の例示的な例
構造Ａの新規のシュウ酸ペルオキシド化合物の非限定的な例には、実施例のものに加えて、次のものが包含される：
・３−ｔ−ブチルペルオキシ−１，１−ジメチルプロピルクロルオキサレート、
・３−ｔ−ブチルペルオキシ−１，１−ジメチルブチルブロムオキサレート、
・ペルオキシ−２−エチルヘキサン酸３−クロルカルボニルカルボニルオキシ−１，１−ジメチルブチル、
・ペルオキシネオヘプタン酸３−クロルカルボニルカルボニルオキシ−１，１−ジメチルブチル、
・ペルオキシ−２−メチル安息香酸３−クロルカルボニルカルボニルオキシ−１，１−ジメチルブチル、
・モノペルオキシコハク酸ＯＯ−（３−クロルカルボニルカルボニルオキシ−１，１−ジメチルブチル）Ｏ−エチル、
・２−（３−クロルカルボニルカルボニルオキシ−１，１−ジメチルブチルペルオキシ）−２−メトキシプロパン、
・シュウ酸水素３−ｔ−ブチルペルオキシ−１，１−ジメチルプロピル、
・ペルオキシ−２−エチルヘキサン酸３−ヒドロキシカルボニルカルボニルオキシ−１，１−ジメチルブチル、
・ペルオキシネオヘプタン酸３−ヒドロキシカルボニルカルボニルオキシ−１，１−ジメチルブチル、
・ペルオキシ−２−メチル安息香酸３−ヒドロキシカルボニルカルボニルオキシ−１，１−ジメチルブチル、
・モノペルオキシコハク酸ＯＯ−（３−ヒドロキシカルボニルカルボニルオキシ−１，１−ジメチルブチル）Ｏ−エチル、
・ジ−（３−ヒドロキシカルボニルカルボニルオキシ−１，１−ジメチルブチル）ペルオキシド、
・シュウ酸ブチル３−ｔ−ブチルペルオキシ−１，１−ジメチルブチル、
・シュウ酸ブチル３−ｔ−ブチルペルオキシ−１，１−ジメチルプロピル、
・シュウ酸アリル３−ｔ−ブチルペルオキシ−１，１−ジメチルプロピル、
・シュウ酸メチル３−ｔ−ブチルペルオキシ−１，１−ジメチルブチル、
・シュウ酸ドデシル３−ｔ−ブチルペルオキシ−１，１−ジメチルブチル、
・シュウ酸シクロヘキシル３−ｔ−ブチルペルオキシ−１，１−ジメチルブチル、
・シュウ酸フェニル３−ｔ−ブチルペルオキシ−１，１−ジメチルブチル、
・シュウ酸２−アクリロイルオキシエチル３−ｔ−ブチルペルオキシ−１，１−ジメチルブチル、
・シュウ酸ベンジル３−ｔ−ブチルペルオキシ−１，１−ジメチルブチル、
・ジ−（３−エトキシカルボニルカルボニルオキシ−１，１−ジメチルブチル）ペルオキシド、
・ジ−（３−アリルオキシカルボニルカルボニルオキシ−１，１−ジメチルブチル）ペルオキシド、
・モノペルオキシコハク酸ＯＯ−（３−ブトキシカルボニルカルボニルオキシ−１，１−ジメチルブチル）Ｏ−エチル、
・Ｎ−ブチルオキサミド酸３−ｔ−ブチルペルオキシ−１，１−ジメチルブチル、
・Ｎ−ブチルオキサミド酸３−ｔ−ブチルペルオキシ−１，１−ジメチルプロピル、
・Ｎ−アリルオキサミド酸３−ｔ−ブチルペルオキシ−１，１−ジメチルプロピル、
・Ｎ−メチルオキサミド酸３−ｔ−ブチルペルオキシ−１，１−ジメチルブチル、
・Ｎ−ドデシルオキサミド酸３−ｔ−ブチルペルオキシ−１，１−ジメチルブチル、
・Ｎ−シクロヘキシルオキサミド酸３−ｔ−ブチルペルオキシ−１，１−ジメチルブチル、
・Ｎ−フェニルオキサミド酸３−ｔ−ブチルペルオキシ−１，１−ジメチルブチル、
・オキサミド酸３−ｔ−ブチルペルオキシ−１，１−ジメチルブチル、
・ジ−（３−アリルアミノカルボニルカルボニルオキシ−１，１−ジメチルブチル）ペルオキシド、
・モノペルオキシコハク酸ＯＯ−（３−ブチルアミノカルボニルカルボニルオキシ−１，１−ジメチルブチル）Ｏ−エチル、
・モノペルオキシシュウ酸ＯＯ−ｔ−ブチルＯ−（３−ｔ−ブチルペルオキシ−１，１−ジメチルブチル）、
・モノペルオキシシュウ酸ＯＯ−ｔ−アミルＯ−（３−ｔ−ブチルペルオキシ−１，１−ジメチルブチル）、
・モノペルオキシシュウ酸ＯＯ−ｔ−ブチルＯ−（３−ｔ−ブチルペルオキシ−１，１−ジメチルプロピル）、
・モノペルオキシシュウ酸ＯＯ−α−クミルＯ−（３−ｔ−ブチルペルオキシ−１，１−ジメチルブチル）、
・モノペルオキシシュウ酸ＯＯ−（４−ｔ−ブチルペルオキシ−１，１，４，４−テトラメチルブチル）Ｏ−（３−ｔ−ブチルペルオキシ−１，１−ジメチルブチル）、
・シュウ酸３−ｔ−ブチルペルオキシ−１，１−ジメチルブチル３−（２−エチルヘキサノイルペルオキシ）−１，１−ジメチルブチル、
・シュウ酸３−ｔ−ブチルペルオキシ−１，１−ジメチルブチル３−（２−メチルベンゾイルペルオキシ）−１，１−ジメチルブチル、
並びに
・次の構造：
【化３５】
1998265455.tif 000001
【化３６】
1998265455.tif 000002
【化３７】
1998265455.tif 000003
及び
【化３８】
1998265455.tif 000004
の化合物。
【手続補正書】
【提出日】平成16年9月30日(2004.9.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
非架橋性液晶性モノマーを５０〜９５重量％、および、架橋性モノマーを５〜５０重量％含む液晶性組成物を重合させた液晶高分子。
【請求項２】
非架橋性液晶性モノマーが下式１で表されるアクリル酸誘導体化合物である請求項１記載の液晶高分子。
【化１】
1998265531.tif 000001
（式１中、Ａ1はフッ素原子、塩素原子、水素原子、またはメチル基であり、ｍは０〜８の整数であり、ｍが０または１である場合のｎは０であり、ｍが２〜８の整数である場合のｎは１であり、Ｘ1は単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、または−ＣＨ2ＣＨ2−であり、Ｙは１，４−フェニレン基または１，４−トランス−シクロヘキシレン基であり、Ｚ1は炭素数１〜８のアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシル基、フッ素原子、塩素原子、またはシアノ基である。）
【請求項３】
架橋性モノマーが下式２で表されるジアクリル酸誘導体化合物である請求項１記載の液晶高分子。
【化２】
1998265531.tif 000002
（式２中、Ａ2は、フッ素原子、塩素原子、水素原子、またはメチル基であり、ｑは０〜８の整数であり、ｑが０または１である場合のｒは０であり、ｑが２〜８の整数である場合のｒは１であり、Ｘ2は単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、または−ＣＨ2ＣＨ2−であり、ｓは０または１であり、ｐは０または１であり、ｐが０である場合のＸ3は単結合であり、ｐが１である場合のＸ3はＸ2と同一構造である。）
【請求項４】
本文中に定義する複屈折率の温度依存性が０．９０以上である請求項１、２または３記載の液晶高分子。
【請求項５】
請求項１、２、３または４記載の液晶高分子を用いた光学素子。
【請求項６】
光学素子が偏光ホログラム素子である請求項５記載の光学素子。
【請求項７】
請求項６記載の光学素子を用いた光ピックアップモジュール。
【手続補正書】
【提出日】平成16年2月13日(2004.2.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
［比較例３］実施例３の途中で製造された化合物（Ａ３）１５ｇに対して、トルエン１５ｍｌとオクタン酸スズ５０ｍｇの存在下、Ｄ−ラクタイド０．７ｇ、Ｌ−ラクタイド３４．３ｇとを共重合させた。得られたポリマーは透明で弾性を持ち、Ｍｎ＝４２０００、Ｍｗ＝９８０００であった。


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４５】
［比較例４］実施例４の途中で製造された化合物（Ａ４）１５ｇに対して、トルエン１５ｍｌとオクタン酸スズ５０ｍｇの存在下、Ｄ−ラクタイド０．７ｇ、Ｌ−ラクタイド３４．３ｇとを共重合させた。得られたポリマーは透明で弾性を持ち、Ｍｎ＝４２０００、Ｍｗ＝９８０００であった。