【手続補正書】
【提出日】令和3年3月26日(2021.3.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体処理チャンバのためのライナー部材であって、
第１の開口部を有する第１の端部と、前記第１の端部の反対側の第２の開口部を有する第２の端部とを備えたノズルであって、前記ノズルの前記第１の開口部は円形の断面を有し、前記ノズルの前記第２の開口部は、前記ノズルの前記第１の開口部よりも広く且つ浅い楕円形の断面を有し、前記ノズルの前記第２の開口部は、前記ノズルの前記第１の開口部の断面積と等しいかまたはそれより大きい断面積を有する、ノズルと、
第１の開口部を有する第１の端部と、前記第１の端部の反対側の第２の開口部を有する第２の端部とを備えたライナーであって、前記ライナーの前記第１の端部は前記ノズルの前記第２の端部に結合されており、前記ノズルの前記第２の開口部は、前記第１の開口部の断面より広い断面を有するが、実質的に高さは同じである、ライナーと、
前記ライナー部材に形成され、前記ノズルの前記第１の端部から前記ライナーの前記第２の端部まで延びるチャネルであって、前記ノズルの前記第１の端部におけるよりも前記ライナーの前記第２の端部においてより広く、前記ノズルの前記第１の端部におけるよりも前記ライナーの前記第２の端部においてより浅いチャネルと、
を備えるライナー部材。
【請求項２】
前記ライナー部材が石英を含む、請求項１に記載のライナー部材。
【請求項３】
前記チャネル内に配置された突起部を、さらに備える、請求項１に記載のライナー部材。
【請求項４】
前記チャネル内に配置された分流器をさらに備え、前記分流器は前記突起部によって前記ライナー部材に固定されており、前記分流器は前記ライナーの高さより低い高さを有する、請求項３に記載のライナー部材。
【請求項５】
前記分流器が三角形の形状を有する、請求項４に記載のライナー部材。
【請求項６】
ライナーアセンブリであって、
第１の開口部を有する第１の端部と、前記第１の端部の反対側の第２の開口部を有する第２の端部とを備えたコネクタであって、前記コネクタの第２の開口部は、前記コネクタの第１の開口部の断面積と等しいかまたはそれより大きい断面積を有し、前記コネクタの第１の端部はさらに、前記コネクタの前記第１の開口部から半径方向外側に延びる第１のフランジを備え、前記コネクタの第２の端部はさらに、前記コネクタの前記第２の開口部から半径方向外側に延びる第２のフランジを備える、コネクタと、
第１の開口部を有する第１の端部と、前記第１の端部の反対側の第２の開口部を有する第２の端部とを備えたノズルであって、前記ノズルの前記第１の端部は前記コネクタの前記第２の端部に直接結合されており、前記ノズルの前記第１の開口部は円形の断面を有し、前記ノズルの前記第２の開口部は、前記ノズルの前記第１の開口部よりも広く且つ浅い楕円形の断面を有し、前記ノズルの前記第２の開口部は、前記ノズルの前記第１の開口部の断面積と等しいかまたはそれより大きい断面積を有する、ノズルと、
第１の開口部を有する第１の端部と、前記第１の端部の反対側の第２の開口部を有する第２の端部とを備えたライナーであって、前記ライナーの前記第１の端部は前記ノズルの前記第２の端部に直接結合されており、前記ノズルの前記第２の開口部は、前記第１の開口部の断面より広い断面を有するが、実質的に高さは同じである、ライナーと、
前記ライナーアセンブリを通って形成され、前記コネクタの前記第１の端部から前記ライナーの前記第２の端部まで延びる導管であって、前記導管が、流体流路を画定し、前記流体流路は、前記流体流路の主軸に実質的に垂直な第１の方向に広がり、前記流体流路の主軸および前記第１の方向に実質的に垂直な第２の方向に狭くなる、導管と、
を有する、ライナーアセンブリ。
【請求項７】
前記コネクタの前記第１の開口部および前記第２の開口部が円形である、請求項６に記載のライナーアセンブリ。
【請求項８】
前記ノズルの前記第１の開口部が、前記コネクタの前記第２の開口部より大きい直径を有する、請求項６に記載のライナーアセンブリ。
【請求項９】
処理チャンバ、並びに
コネクタによって前記処理チャンバに結合された遠隔プラズマ源、
を備える処理システムであって、
前記処理チャンバは、
基板支持部、
前記基板支持部に結合されたチャンバ本体であって、前記チャンバ本体が、第１の側部および前記第１の側部の反対側の第２の側部を備え、前記チャンバ本体および前記基板支持部が、協働して処理容積部を画定する、チャンバ本体、
前記第２の側部に隣接して前記基板支持部に配置された分散ポンピング構造、および
前記第１の側部に配置されたライナーアセンブリ、
を備え、前記ライナーアセンブリは、
第１の開口部を有する第１の端部と、前記第１の端部の反対側の第２の開口部を有する第２の端部とを備えたノズルであって、前記ノズルの前記第１の開口部は円形の断面を有し、前記ノズルの前記第２の開口部は、前記ノズルの前記第１の開口部よりも広く且つ浅い楕円形の断面を有し、前記ノズルの前記第２の開口部は、前記ノズルの前記第１の開口部の断面積と等しいかまたはそれより大きい断面積を有する、ノズル、および
第１の開口部を有する第１の端部と、前記第１の端部の反対側の第２の開口部を有する第２の端部とを備えたライナーであって、前記ライナーの前記第１の端部は前記ノズルの前記第２の端部に結合されており、前記ノズルの前記第２の開口部は、前記第１の開口部の断面より広い断面を有するが、実質的に高さは同じである、ライナー、
を備え、
前記コネクタは、第１の開口部を有する第１の端部と、前記第１の端部の反対側の第２の開口部を有する第２の端部とを備え、前記コネクタの第２の開口部は、前記コネクタの第１の開口部の断面積と等しいかまたはそれより大きい断面積を有し、前記コネクタの前記第２の端部は、前記ライナーアセンブリの前記ノズルの前記第１の端部に接続されて、前記遠隔プラズマ源から前記処理容積部までの流体流路を形成し、前記流体流路は、前記流体流路の主軸に実質的に垂直な第１の方向に広がり、前記流体流路の主軸および前記第１の方向に実質的に垂直な第２の方向に狭くなる、処理システム。
【請求項１０】
前記分散ポンピング構造が、２つのポンピングポートを備える、請求項９に記載の処理システム。
【請求項１１】
前記２つのポンピングポートが、ガス流路に垂直な線に沿って離間している、請求項１０に記載の処理システム。
【請求項１２】
前記２つのポンピングポートが、前記処理チャンバの中心軸に関して対称的に配置されている、請求項１１に記載の処理システム。
【請求項１３】
２つのバルブをさらに備え、各バルブが、前記２つのポンピングポートのうちの対応するポンピングポートに接続されている、請求項１０に記載の処理システム。
【請求項１４】
分流器が、前記ライナーに配置されており、前記分流器は前記ライナーの高さよりも低い高さを有する、請求項９に記載の処理システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
【図１Ａ】本明細書に記載の実施形態による処理システムの断面図である。
【図１Ｂ】本明細書に記載の実施形態による処理システムの斜視図である。
【図１Ｃ】本明細書に記載の実施形態による処理システムの概略上面図である。
【図２Ａ】本明細書に記載の実施形態によるチャンバ本体の斜視図である。
【図２Ｂ】本明細書に記載の実施形態によるライナーアセンブリを含むチャンバ本体の一部の断面斜視図である。
【図３】本明細書に記載の実施形態による図１Ａ〜図１Ｃの処理システムの一部の断面図である。
【図４Ａ】本明細書に記載の実施形態によるライナーアセンブリの下部ライナーの斜視図である。
【図４Ｂ】本明細書に記載の実施形態による分流器の底面図である。
【図４Ｃ】本明細書に記載の実施形態によるライナーアセンブリの上部ライナーの斜視図である。
【図５】本明細書に記載の実施形態による図１Ａ〜図１Ｃの処理システムの一部の断面側面図である。
【図６Ａ】本明細書に記載の実施形態によるノズルの斜視図である。
【図６Ｂ】図６Ａのノズルの断面図である。
【図７】本明細書に記載の実施形態によるライナーの斜視図である。
【図８】本明細書に記載の実施形態による図１Ａ〜図１Ｃの処理システムの一部の断面側面図である。
【図９Ａ】本明細書に記載の実施形態によるライナーの斜視図である。
【図９Ｂ】本明細書に記載の実施形態による分流器の斜視図である。
【図９Ｃ】本明細書に記載の実施形態による留め具の斜視図である。
【図１０】本明細書に記載の実施形態による、留め具によってライナーに固定された分流器の斜視図である。