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【手続補正書】
【提出日】令和3年6月8日(2021.6.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
神経変性眼科学的病状の治療に使用するための血清であって、前記血清が神経成長因子−β（ＮＧＦ−β）を含む血清。
【請求項２】
前記神経成長因子−β（ＮＧＦ−β）が、５ｐｇ／ｍｌと同等かそれ以上の濃度の存在する、請求項１に記載の血清。
【請求項３】
６ｐｇ／ｍｌと同等かそれ以上の濃度、好ましくは７ｐｇ／ｍｌと同等かそれ以上の濃度、より好ましくは８ｐｇ／ｍｌと同等かそれ以上の濃度の前記神経成長因子−β（ＮＧＦ−β）を含む、請求項１に記載の血清。
【請求項４】
５ｐｇ／ｍｌと同等かそれ以下の濃度、好ましくは０．５〜５ｐｇ／ｍｌ、有利には０．７〜４ｐｇ／ｍｌの濃度の前記神経成長因子−β（ＮＧＦ−β）を含む、請求項１に記載の血清。
【請求項５】
好ましくは９５００ｐｇ／ｍｌと同等かそれ以上の濃度の脳由来神経栄養因子（ＢＤＮＦ）をさらに含む、請求項１に記載の血清。
【請求項６】
−  好ましくは５００ｐｇ／ｍｌと同等かそれ以上の濃度である、上皮成長因子（ＥＧＦ）；
−  好ましくは５０ｐｇ／ｍｌと同等かそれ以上又は５０ｐｇ／ｍｌと同等かそれ以下の濃度である、形質転換成長因子−α（ＴＧＦ−α）；
−  好ましくは５０００ｐｇ／ｍｌと同等かそれ以上の濃度である、血小板由来成長因子（ＰＤＧＦ）；
−  好ましくは２００ｐｇ／ｍｌと同等かそれ以上の濃度である、線維芽細胞成長因子（ＦＧＦ）；
−  好ましくは５ｐｇ／ｍｌと同等かそれ以上の濃度である、インターロイキン１０（ＩＬ−１０）；
−  好ましくは１００ｐｇ／ｍｌと同等かそれ以上の濃度である、インターロイキン１３（ＩＬ−１３）；
−  好ましくは０．５ｐｇ／ｍｌと同等かそれ以上の濃度である、グリア細胞系統由来神経栄養因子（ＧＤＮＦ）、
からなる群から選択される１つ以上の分子をさらに含む、請求項１〜５の何れか１項に記載の血清。
【請求項７】
前記血清が、臍帯血由来の血清である、請求項１〜６の何れか１項に記載の血清。
【請求項８】
前記血清が、ヒト血液由来の血清である、請求項１〜７の何れか１項に記載の血清。
【請求項９】
前記神経変性眼科学的病状が、網膜の変性病状、視覚神経の変性病状、及び進行が神経炎症プロセスの活性化に関連する眼科学的病状からなる群から選択される、請求項１〜８の何れか１項に記載の血清。
【請求項１０】
前記神経変性眼科学的病状が、緑内障である、請求項９に記載の血清。
【請求項１１】
前記進行が神経炎症プロセスの活性化に関連する眼科学的病状が、網膜色素変性症、加齢黄斑変性症（ＡＭＤ）、糖尿病性網膜症又はアッシャー症候群の中から選択される、請求項９に記載の血清。
【請求項１２】
以下の；
−  対応する血液サンプルから得られた血清サンプル中のＮＧＦ−βの濃度を分析する工程； 及び
−  ５ｐｇ／ｍｌと同等かそれ以上のＮＧＦ−βの濃度を有する血清サンプルを選択する工程、
を含む、請求項１〜１１の何れか１項に記載の血清の調製方法。
【請求項１３】
以下の；
ｉ．対応する血液サンプルから得られた血清サンプル中のＢＤＮＦの濃度を分析する工程； 及び
ｉｉ．ＢＤＮＦの濃度が、９５００ｐｇ／ｍｌと同等かそれ以上の血清サンプルを選択する工程、
を含む、請求項１〜１１の何れか１項に記載の血清の調製方法。
【請求項１４】
前記１つ以上の血液サンプルが、ヒト臍帯からの血液サンプルである、請求項１２又は１３に記載の方法。
【請求項１５】
請求項１〜１１の何れか１項に記載の血清、及び任意で、ヒトの使用に許容される１つ以上の賦形剤及び／又は担体及び／又は保存料を含む組成物。
【請求項１６】
前記１つ以上の賦形剤が、生理学的水性溶液である、請求項１５に記載の組成物。
【請求項１７】
前記組成物が、洗眼剤、点眼薬又は点鼻薬、眼用軟膏又は鼻用軟膏、眼用ゲル又は鼻用ゲル、又は鼻スプレーからなる群から選択される形態である、請求項１５又は請求項１６に記載の組成物。
【手続補正書】
【提出日】令和3年5月7日(2021.5.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
炭化水素供給原料を分解ガスに変換するための分解炉システムであって、
対流部、放射部及び冷却部を備えており、
前記対流部は、炭化水素供給原料を受けて予熱するように構成された複数の対流バンクを有しており、
前記放射部は、熱分解反応を可能にする温度に前記炭化水素供給原料を加熱するように構成された少なくとも１つの放射コイルを有する火室を有しており、
前記冷却部は、少なくとも１つの移送ライン交換器を有しており、
前記分解炉システムは、前記炭化水素供給原料を前記放射部に送る前に前記移送ライン交換器によって予熱するように構成されていることを特徴とする分解炉システム。
【請求項２】
前記対流部は、飽和蒸気を発生させるように構成されたボイラコイルを有しており、前記ボイラコイルは、好ましくは前記対流部の底部に設けられていることを特徴とする請求項１に記載の分解炉システム。
【請求項３】
前記対流部は、前記炭化水素供給原料を希釈剤、好ましくは希釈蒸気と混合して、供給原料−希釈剤の混合物を与えるように更に構成されており、
前記移送ライン交換器は、前記供給原料−希釈剤の混合物を前記放射部に送る前に予熱するように構成されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の分解炉システム。
【請求項４】
二次移送ライン交換器を更に備えており、前記二次移送ライン交換器は、飽和高圧蒸気を発生させるように構成されていることを特徴とする請求項１又は３に記載の分解炉システム。
【請求項５】
二次移送ライン交換器を更に備えており、前記二次移送ライン交換器は、飽和高圧蒸気を発生させるように構成されていることを特徴とする請求項２に記載の分解炉システム。
【請求項６】
前記ボイラコイル及び／又は前記二次移送ライン交換器に連結されている蒸気ドラムを更に備えていることを特徴とする請求項５に記載の分解炉システム。
【請求項７】
前記対流部は、飽和蒸気を発生させるためにボイラ給水を予熱するように構成されたエコノマイザを有していることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１つに記載の分解炉システム。
【請求項８】
前記対流部は、好ましくは前記対流部の下流側に設けられた酸化剤予熱器を有しており、前記酸化剤予熱器は、酸化剤、例えば燃焼空気及び／又は酸素を前記火室に導入する前に予熱するように構成されていることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１つに記載の分解炉システム。
【請求項９】
好ましくは煙道ガスが外部で再循環しない状態で、酸素を前記放射部に導入するように構成されていることを特徴とする請求項１〜８のいずれか１つに記載の分解炉システム。
【請求項１０】
火炎温度を制御するために煙道ガスの少なくとも一部を回収して、前記煙道ガスを前記放射部に再循環させるように構成された煙道ガス外部再循環回路を更に備えており、
前記煙道ガス外部再循環回路は、前記火室に送る前に酸素を、再循環する煙道ガスに導入するように構成された煙道ガス放出器を有していることを特徴とする請求項１〜９のいずれか１つに記載の分解炉システム。
【請求項１１】
前記対流部に設けられた蒸発器コイルと凝縮器とを有するヒートポンプ回路を更に備えており、
前記ヒートポンプ回路は、前記蒸発器コイルが前記対流部から熱を回収して、前記凝縮器が前記熱をボイラ給水に伝えるように構成されていることを特徴とする請求項１〜１０のいずれか１つに記載の分解炉システム。
【請求項１２】
分解炉システムで炭化水素供給原料を分解するための方法であって、
第１の供給原料予熱工程、及び第２の供給原料予熱工程を有し、
前記第１の供給原料予熱工程では、炭化水素供給原料を分解炉システムの高温の煙道ガスによって予熱し、
前記第２の供給原料予熱工程では、前記炭化水素供給原料を前記分解炉システムの放射部に送る前に、前記炭化水素供給原料を前記分解炉システムの分解ガスの廃熱によって更に予熱することを特徴とする方法。
【請求項１３】
前記分解炉システムは、請求項１〜１１のいずれか１つに記載の分解炉システムであることを特徴とする請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記放射部は、熱分解反応を可能にする温度に前記炭化水素供給原料を加熱するように構成された少なくとも１つの放射コイルを有する火室を有していることを特徴とする請求項１２又は１３に記載の方法。
【請求項１５】
ボイラ水を前記分解炉システムの蒸気ドラムから前記分解炉システムの対流部内のボイラコイルに送り、前記ボイラ水を高温の煙道ガスによって加熱し、好ましくは蒸発させて、水及び蒸気の混合物を前記蒸気ドラムに戻すことを特徴とする請求項１２〜１４のいずれか１つに記載の方法。
【請求項１６】
移送ライン交換器の下流側に設けられた二次移送ライン交換器を使用して、前記分解炉システムの分解ガスの廃熱によって高圧蒸気を発生させることを特徴とする請求項１２〜１５のいずれか１つに記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】令和3年6月3日(2021.6.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
−フッ化ビニリデンに由来する単位を含むＰＦポリマーと、
−（メタ）アクリルモノマーに由来する単位と、イミダゾリドニル、トリアゾリル、トリアジニル、ビス−ウレイル及びウレイド−ピリミジル基の中から選択される少なくとも１つの会合基を含む単位とを含むＰＡポリマーと
を溶媒中の溶液で含む組成物。
【請求項２】
前記ＰＦポリマーが、式ＣＸ１Ｘ２＝ＣＸ３Ｘ４の少なくとも１つの他のモノマーに由来する単位も含み、該式中、各々のＸ１、Ｘ２、Ｘ３及びＸ４基は、独立して、Ｈ、Ｃｌ、Ｆ、Ｂｒ、Ｉ並びに部分的に又は完全にハロゲン化されていてもよい、１〜３個の炭素原子を含むアルキル基の中から選択される、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
前記ＰＦポリマーが、トリフルオロエチレンに由来する単位を含む、請求項１又は２に記載の組成物。
【請求項４】
前記ＰＦポリマーが、追加のモノマーに由来する単位をさらに含む、請求項１〜３のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項５】
前記ＰＦポリマーが、ヘキサフルオロプロペンに由来する単位を含む、請求項１〜４のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項６】
前記ＰＡポリマーが、
第１のモノマーに由来するＡ単位、
第２のモノマーに由来し、会合基を含むＢ単位、
任意選択で、少なくとも第３のモノマーに由来するＣ単位
を含む、請求項１〜５のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項７】
前記ＰＡポリマーが、モル比率５０〜９９％のＡ単位、同１〜２０％のＢ単位、及び同０〜４９％のＣ単位を含む、請求項６に記載の組成物。
【請求項８】
前記ＰＦポリマーが、７０〜９９．９重量％の割合で存在し、前記ＰＡポリマーが０．１〜３０重量％の割合で存在する（ただし、当該割合は、前記ＰＦポリマーと前記ＰＡポリマーとの合計に対する割合である）、請求項１〜７のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項９】
前記溶媒が、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、ケトン、特にアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン及びシクロペンタノン、フラン、特にテトラヒドロフラン；エステル、特に酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル及びプロピレングリコールメチルエーテル、カーボネート、特にジメチルカーボネート、ホスフェート、特にトリエチルホスフェート、及びそれらの混合物の中から選択される、請求項１〜８のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項１０】
前記ＰＦポリマーを溶解し、前記ＰＡポリマーを溶解し、それらを前記溶媒中で混合することを含む、請求項１〜９のいずれか１項に記載の組成物の調製方法。
【請求項１１】
前記ＰＡポリマーが前記溶媒の第１の部分に溶解され、前記ＰＦポリマーが前記溶媒の第２の部分に溶解され、次いで該溶媒の第１の部分と該溶媒の第２の部分とが混合される、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
請求項１〜９のいずれか１項に記載の組成物を基板上に堆積させ、該組成物から前記溶媒を蒸発させることを含む、ポリマーフィルムの製造方法。
【請求項１３】
請求項１２に記載の方法に従って製造されたポリマーフィルムでコーティングされた基板を含む電子デバイス。
【請求項１４】
前記ポリマーフィルムが電気活性ポリマーフィルムであるか、又は前記ポリマーフィルムが保護フィルムである、請求項１３に記載の電子デバイス。
【請求項１５】
オプトエレクトロニクスデバイスであり、及び／又は、特に電界効果を有するトランジスタ、チップ、バッテリ、光電池、発光ダイオード、特に有機発光ダイオード、センサ、アクチュエータ、変圧器、触覚デバイス、微小電気機械システム及び検出器の中から選択される、請求項１３又は１４に記載の電子デバイス。
【手続補正書】
【提出日】令和3年5月28日(2021.5.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
硬化性エポキシ／チオール樹脂組成物であって、
１分子当たり少なくとも２つのエポキシド基を有するエポキシ樹脂を含むエポキシ樹脂成分と、
少なくとも２つの一級チオール基を有するポリチオール化合物を含むチオール成分と、
以下の一般式（ＩＩ）：
（Ｘ）ｍ−Ｙ−（Ｓｉ（Ｒ２）３）ｎ
（式中、Ｘは、エポキシ基又はチオール基であり、
Ｙは、脂肪族基であり、
ｍ及びｎは独立して、１〜３であり、
各Ｒ２は独立して、アルコキシ基である）を有するシラン官能化接着促進剤と、
前記エポキシ樹脂を硬化させるための窒素含有触媒と、を含み、
前記エポキシ樹脂成分及び／又は前記チオール成分は、円筒形マンドレル屈曲試験によって亀裂を生じないかつ／又は引張弾性率及び引張伸び試験によって少なくとも１００％の引張伸びを有する硬化ポリマー材料を提供するように選択される、硬化性エポキシ／チオール樹脂組成物。
【請求項２】
一成分型組成物である、請求項１に記載の硬化性エポキシ／チオール樹脂組成物。
【請求項３】
硬化抑制剤を更に含む、請求項１又は２に記載の硬化性エポキシ／チオール樹脂組成物。
【請求項４】
前記硬化抑制剤が、ルイス酸を含む、請求項３に記載の硬化性エポキシ／チオール樹脂組成物。
【請求項５】
前記ルイス酸硬化抑制剤が、ホウ酸エステル、ＣａＮＯ３、ＭｎＮＯ３、及びそれらの組み合わせから選択される、請求項４に記載の硬化性エポキシ／チオール樹脂組成物。
【請求項６】
前記硬化抑制剤が、弱いブレンステッド酸を含む、請求項３〜５のいずれか一項に記載の硬化性エポキシ／チオール樹脂組成物。
【請求項７】
前記弱いブレンステッド酸硬化抑制剤が、バルビツール酸誘導体、１，３−シクロヘキサンジオン、２，２−ジメチル−１，３−ジオキサン−４，６−ジオン、及びそれらの組み合わせから選択される、請求項６に記載の硬化性エポキシ／チオール樹脂組成物。
【請求項８】
基剤及び促進剤を含む二成分型組成物であって、前記基剤が、前記エポキシ樹脂成分及び前記シラン官能化接着促進剤を含み、前記促進剤は前記チオール成分及び前記窒素含有触媒を含む、請求項１に記載の硬化性エポキシ／チオール樹脂組成物。
【請求項９】
前記エポキシ樹脂が、多価フェノールのポリグリシジルエーテル、多価アルコールとエピクロロヒドリンとの反応生成物、エポキシド化（ポリ）オレフィン樹脂、エポキシド化フェノールノボラック樹脂、エポキシド化クレゾールノボラック樹脂、脂環式エポキシ樹脂、グリシジルエーテルエステル、ポリグリシジルエステル、ウレタン変性エポキシ樹脂、又はそれらの組み合わせを含む、請求項１〜８のいずれか一項に記載の硬化性エポキシ／チオール樹脂組成物。
【請求項１０】
前記エポキシ樹脂成分が、可撓性である、請求項１〜９のいずれか一項に記載の硬化性エポキシ／チオール樹脂組成物。
【請求項１１】
前記エポキシ樹脂成分が、直鎖若しくは環状脂肪族構造を有するエポキシ化合物、ポリエーテルのジグリシジルエーテル、カシューナッツ油又は他の天然油、ビスフェノールＡのアルキル官能化ジグリシジルエーテル、エトキシル化若しくはプロポキシル化ビスフェノールＡジグリシジルエポキシ誘導体、又はそれらの組み合わせを含む、請求項１０に記載の硬化性エポキシ／チオール樹脂組成物。
【請求項１２】
前記エポキシ樹脂成分が、単官能性反応性希釈剤を含む、請求項１０に記載の硬化性エポキシ／チオール樹脂組成物。
【請求項１３】
前記エポキシ樹脂成分が、前記硬化性エポキシ／チオール樹脂組成物の総重量に基づいて、２０重量％〜８０重量％の量で存在する、請求項１〜１２のいずれか一項に記載の硬化性エポキシ／チオール樹脂組成物。
【請求項１４】
前記ポリチオール化合物が、トリメチロールプロパントリス（β−メルカプトプロピオネート）、トリメチロールプロパントリス（チオグリコレート）、ペンタエリスリトールテトラキス（チオグリコレート）、ペンタエリスリトールテトラキス（β−メルカプトプロピオネート）、ジペンタエリスリトールポリ（β−メルカプトプロピオネート）、エチレングリコールビス（β−メルカプトプロピオネート）、（Ｃ１〜Ｃ１２）アルキルポリチオール、（Ｃ６〜Ｃ１２）芳香族ポリチオール、又はそれらの組み合わせを含む、請求項１〜１３のいずれか一項に記載の硬化性エポキシ／チオール樹脂組成物。
【請求項１５】
前記チオール成分が、可撓性である、請求項１〜１４のいずれか一項に記載の硬化性エポキシ／チオール樹脂組成物。
【手続補正書】
【提出日】令和3年5月10日(2021.5.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
モノアルケニルアレーンのポリマーである第１のブロックと、共役ジエンのポリマーである第２のブロックと、モノアルケニルアレーンのポリマーである第３のブロックとを含む高度に非対称性なトリブロック（「ＨＡＴ」）コポリマー組成物であって、
前記ブロックコポリマーが１０，０００〜５００，０００ｇ／ｍｏｌの範囲のピーク分子量を有し、
前記第３のブロックが第１のブロックのピーク分子量の０．０６〜０．４の範囲のピーク分子量を有し、
前記組成物が１５〜４０重量％の範囲の総アレーン含有量を有する、ＨＡＴコポリマー組成物。
【請求項２】
前記組成物が、式Ａ１−Ｂ−Ａ２又は（Ａ２−Ｂ−Ａ１）ｎＸを有するコポリマーの混合物を含み、式中、Ａ１及びＡ２の両方がモノアルケニルアレーンブロックであり、Ｂが共役ジエンブロックであり、ｎが２〜６の整数であり、Ｘがカップリング剤の残基であり、Ａ１ブロックがＡ２ブロックのピーク分子量の少なくとも２．５倍であるピーク分子量を有する、請求項１に記載のＨＡＴコポリマー組成物。
【請求項３】
前記組成物が式（Ａ２−Ｂ−Ａ１）ｎＸを有し、前記コポリマーがＡ２ブロックでカップリング剤に結合している、請求項２に記載のＨＡＴコポリマー組成物。
【請求項４】
ＨＡＴコポリマーが、ＨＡＴコポリマーとは異なる第２のポリマーと少なくともブレンドされ、ブレンドされたＨＡＴコポリマーを形成する、請求項１又は２に記載のＨＡＴコポリマー組成物。
【請求項５】
前記組成物が、ＡＳＴＭ  Ｄ４１２又はＡＳＴＭ  Ｄ６３８に従って決定される０．１ＭＰａ〜１０ＭＰａの引張強度を有することを特徴とする、請求項１又は２に記載のＨＡＴコポリマー組成物。
【請求項６】
前記組成物が、５ｋｇの質量で２００℃で測定したＡＳＴＭ  Ｄ１２３８に従って決定される、５ｇ／１０分〜２００ｇ／１０分の範囲のメルトインデックスを有することを特徴とする、請求項１又は２に記載のＨＡＴコポリマー組成物。
【請求項７】
前記共役ジエンが水素化され、水素化された高度に非対称なトリブロックコポリマーとなっている、請求項１又は２に記載のＨＡＴコポリマー組成物。
【請求項８】
前記第２のブロックが、１０：９０〜９０：１０の範囲の比率の２つのジエンの量を有する混合中間ブロックである、請求項１又は２に記載のＨＡＴコポリマー組成物。
【請求項９】
前記第２のブロックがイソプレンとスチレン又はスチレンとミルセンとの混合物を有する混合中間ブロックであり、前記共役ジエンが実質的に純粋なモノマーであるスチレンモノマー又はイソプレンモノマーから形成され、前記ブタジエンが前記第２のブロック全体の総重量の少なくとも２０重量％の量で存在する、請求項１又は２に記載のＨＡＴコポリマー組成物。
【請求項１０】
共役ジエンがブタジエンモノマーから形成され、共役ジエンブロックが８ｍｏｌ％〜９５ｍｏｌ％の範囲のビニル含有量を有する、請求項１又は２に記載のＨＡＴコポリマー組成物。
【請求項１１】
前記共役ジエンがブタジエンモノマーから形成され、前記共役ジエンブロックが、前記ブロックにわたって徐々に増加するビニル含有量を有する、請求項１又は２に記載のＨＡＴコポリマー組成物。
【請求項１２】
請求項１又は２に記載のＨＡＴコポリマー組成物３０〜６０重量％、粘着付与樹脂３０〜６０重量％、油０〜４５重量％、及び酸化防止剤０〜３重量％を含む接着剤組成物（重量％は、接着剤組成物の総重量に基づく）を含む接着剤層を積層又は塗布することによって形成されるラベル又は表面保護フィルム。
【請求項１３】
ａ）請求項１又は２に記載のＨＡＴコポリマー組成物；ｂ）アスファルトバインダー；及びｃ）任意に化学架橋剤を含み、ブレンド中のＨＡＴポリマーのパーセンテージが２％〜２０％である、アスファルト組成物又は瀝青乳剤。
【請求項１４】
高度に非対称なトリブロック（「ＨＡＴ」）コポリマー組成物を調製するための方法であって、
十分な量の第１のモノアルキルアレーンを重合して第１のポリマーブロックを形成し、
共役ジエンを添加し、共役ジエンを重合して、前記第１のポリマーブロックに付加された第２のポリマーブロックを形成し、
十分な量の第２のモノアルキルアレーンを添加し、重合して、前記第２のポリマーブロックに付加された第３のポリマーブロックを形成し、ＨＡＴコポリマーを形成し、
任意でカップリング剤Ｘを添加することを含み、
前記第１のブロックのピーク分子量に対する前記第３のブロックのピーク分子量の比は、０．０６〜０．４の範囲である、方法。
【手続補正書】
【提出日】令和3年5月31日(2021.5.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コーティングを形成するように構成された鉄系合金であって、
前記コーティングは、
少なくとも９０モル％のオーステナイトを含むマトリクスと、
前記コーティングにおいて１５体積％を超える量で含まれた１０００ＨＶを超える硬さを有する極めて硬質な粒子と、
１０００Ｋ以下のＦＣＣ−ＢＣＣ遷移温度とを含み、
前記極めて硬質な粒子は、前記コーティングにおいて５体積％を超える量で含まれた任意の一方向において２５μｍよりも大きい寸法を有する極めて硬質な大きな粒子を含む、鉄系合金。
【請求項２】
前記合金は、１．０４μ以下の相対透磁率を含む前記コーティングを形成するように構成されている、請求項１に記載の鉄系合金。
【請求項３】
前記合金は、
ＡＳＴＭ  Ｇ６５に準拠した１．５ｇ以下の摩耗量と、
２０Ｊの衝撃における６，０００以上の耐衝撃性とを含む前記コーティングを形成するように構成されている、請求項１又は２に記載の鉄系合金。
【請求項４】
前記コーティングは、１％以上の過共晶硬質相モル分率を含む、請求項１〜３のいずれか１項に記載の鉄系合金。
【請求項５】
前記コーティングは、１５モル％以上の総硬質相を含む、請求項１〜４のいずれか１項に記載の鉄系合金。
【請求項６】
前記コーティングは、少なくとも９５モル％のオーステナイトを含む、請求項１〜５のいずれか１項に記載の鉄系合金。
【請求項７】
前記合金は、Ｆｅ、Ｃ、Ｃｒ、及びＭｎを含む、請求項１〜６のいずれか１項に記載の鉄系合金。
【請求項８】
前記合金は、Ｆｅと、
約３〜約６重量％のＣと、
約１２〜約２１重量％のＣｒと、
約９〜約１７重量％のＭｎとを含む、請求項１〜７のいずれか１項に記載の鉄系合金。
【請求項９】
前記合金は、約３〜６重量％のＣ、約１２〜２１重量％のＣｒ、約９〜１７重量％のＭｎ、及び残部のＦｅを含む前記コーティングを形成するように構成されている、請求項１〜８のいずれか１項に記載の鉄系合金。
【請求項１０】
前記ＦＣＣ−ＢＣＣ遷移温度は、９５０Ｋ以下であり、
前記コーティングは、実質的にオーステナイトからなり、少なくとも３５体積％の前記極めて硬質な粒子を含み、少なくとも２５体積％の前記極めて硬質な大きな粒子を含み、１モル％以上の過共晶硬質相モル分率を含むマトリックスを含み、
前記合金は、
１．０１μ以下の相対透磁率と、
ＡＳＴＭ  Ｇ６５に準拠した０．３０ｇ以下の摩耗量と、
２０Ｊの衝撃における１０，０００以上の耐衝撃性とを含むコーティングを形成するように構成されている、請求項１に記載の鉄系合金。
【請求項１１】
１３００Ｋにおける前記マトリックスのニッケル及びクロム当量は、シェフラー組織図のオーステナイト領域に達している、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の鉄系合金。
【請求項１２】
前記合金は、粉末である、請求項１〜８、１０及び１１のいずれか１項に記載の鉄系合金。
【請求項１３】
前記合金は、１つ以上のワイヤである、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の鉄系合金。
【請求項１４】
少なくとも６０重量％のＦｅと、
約３〜４重量％のＣと、
約１２〜１４重量％のＣｒと、
約９〜１２重量％のＭｎと、を含み、
１０００ＨＶを超える硬さと、任意の一方向において２５μｍよりも大きい寸法とを有を有する極めて硬質な大きい相を５体積％を超える量で含み、
１３００Ｋでの１モル％以上の総過共晶硬質相を含む、耐摩耗性オーステナイト合金であって、
前記合金の１３００Ｋでのマトリックスのニッケル及びクロム当量は、シェフラー組織図のオーステナイト領域に達する、耐摩耗性オーステナイト合金。
【請求項１５】
前記合金は、１３００Ｋでの１．５モル％以上の総過共晶硬質相分率を含む、請求項１４に記載の耐摩耗性オーステナイト合金。
【請求項１６】
前記合金は、１３００Ｋでの２モル％以上の総過共晶硬質相分率を含む、請求項１４又は１５に記載の耐摩耗性オーステナイト合金。
【請求項１７】
前記合金は、１０００Ｋ以下のＦＣＣ−ＢＣＣ遷移温度を含む、請求項１４〜１６のいずれか１項に記載の耐摩耗性オーステナイト合金。
【請求項１８】
前記マトリックスは、１５モル％以上の総硬質相を含む、請求項１４〜１７のいずれか１項に記載の耐摩耗性オーステナイト合金。
【請求項１９】
マトリックスを有する耐摩耗性オーステナイト合金であって、
少なくとも６０重量％のＦｅと、
約３〜４重量％のＣと、
約１２〜１４重量％のＣｒと、
約９〜１２重量％のＭｎと、を含み、
１０００ＨＶを超える硬さと、任意の一方向において２５μｍよりも大きい寸法とを有を有する極めて硬質な大きい相を５体積％を超える量で含み、
前記マトリックスは、少なくとも９０モル％のオーステナイトを含む、耐摩耗性オーステナイト合金。
【請求項２０】
前記極めて硬質な大きい相の体積分率は、１０％以上である、請求項１９に記載の耐摩耗性オーステナイト合金。
【請求項２１】
前記極めて硬質な大きい相の体積分率は、１５％以上である、請求項１９又は２０に記載の耐摩耗性オーステナイト合金。
【請求項２２】
前記マトリックスは、少なくとも９５モル％のオーステナイトを含む、請求項１９〜２１のいずれか１項に記載の耐摩耗性オーステナイト合金。
【請求項２３】
前記マトリックスは、少なくとも９９モル％のオーステナイトを含む、請求項１９〜２２のいずれか１項に記載の耐摩耗性オーステナイト合金。
【請求項２４】
少なくとも６０重量％のＦｅと、
約３〜４重量％のＣと、
約１２〜１４重量％のＣｒと、
約９〜１２重量％のＭｎと、を含み、
１０００ＨＶを超える硬さと、任意の一方向において２５μｍよりも大きい寸法とを有を有する極めて硬質な大きい相を５体積％を超える量で含み、
破損することなく２０Ｊでの６，０００の衝撃に耐えるように形成された衝撃靭性と、
ＡＳＴＭ  Ｇ６５に準拠した１．５ｇ以下の摩耗量とを含む、耐摩耗性オーステナイト合金。
【請求項２５】
前記合金は、破損するまで２０Ｊで７，０００以上の衝撃に耐え得る、請求項２４に記載の耐摩耗性オーステナイト合金。
【請求項２６】
前記合金は、破損するまで２０Ｊで８，０００以上の衝撃に耐え得る、請求項２４又は２５に記載の耐摩耗性オーステナイト合金。
【請求項２７】
前記合金は、ＡＳＴＭ  Ｇ６５に準拠した１．２５ｇ以下の摩耗量を有する、請求項２４〜２６のいずれか１項に記載の耐摩耗性オーステナイト合金。
【請求項２８】
前記合金は、ＡＳＴＭ  Ｇ６５に準拠した１.１ｇ以下の摩耗量を有する、請求項２４〜２７のいずれか１項に記載の耐摩耗性オーステナイト合金。
【誤訳訂正書】
【提出日】令和3年5月12日(2021.5.12)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】請求項１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項１】
視界空間を有するシェル（１）を備えるヘルメットであって、ユーザの両耳が位置する２つの端部のそれぞれにおいて、前記シェル中の聴覚穴（１４）と、前記シェル（１）の外側に結合された耳形状要素（８）と、イヤーパッド（４）にトランペット（１０）によって接合されたコーン（５）であって、前記シェル（１）の内側に取り付けられるコーンとを備え、前記耳形状要素（８）、前記コーン（５）、前記トランペット（１０）および前記イヤーパッド（４）それぞれは、聴覚穴（１７、１６、１３）を備え、これらの聴覚穴は、互いに整列されるとともに、前記シェル（１）中の前記聴覚穴（１４）とも整列され、前記耳形状要素（８）、前記コーン（５）、前記トランペット（１０）および前記イヤーパッド（４）は、前記ユーザの外耳道が延びる方向に対して垂直に配置されることを特徴とする、ヘルメット。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２２】
[0021]すべての聴覚穴（１３、１４、１６、および１７）は整列されており、耳形状要素（８）、コーン（５）、トランペット（１０）およびイヤーパッド（４）は、ユーザの外耳道の延びる方向に対して垂直に配置される。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２４】
[0023]本発明の好ましい実施形態では、イヤーパッド（４）は模造皮革で作製可能であり、フィルタ（６）は防風フォーム製とすることができ、ファブリック片（７）はプラッシュとすることができ、シェル（１）はポリカーボネートで作製可能であり、耳形状要素（８）はシリコ− ンで作製可能であり、ライニング（９）は熱および紫外線に耐性があるファブリックで作製可能である。ただし、このリストは限定的なものではなく、類似の材料を使用することができる。
【手続補正書】
【提出日】令和3年4月22日(2021.4.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
医療用フレーム付きバリア及び排出型フェイスマスクは、顔領域にマスク下空間を形成する中空フレームであり、前記中空フレームは、空気の入口及び出口を含むチャンネルの形態で作製されており、前記中空フレームは、鼻のレベルより下方の顔の下部のための前記マスク下空間を形成し、且つ、空気流が通過するための少なくとも１つの入口及び少なくとも１つの出口を含む少なくとも１つのチャンネルの形態を取り、さらに、前記フレームの外側面は空気不透過性であり、前記顔の表面と接触する側面は通気性材料で作製されている、医療用マスク。
【請求項２】
前記顔の前記表面と接触する前記フレームの前記側面は、口の周囲に切り欠き部を有する、請求項１に記載の医療用マスク。
【請求項３】
前記通気性材料は前記フレームを越えて延在する、請求項１に記載の医療用マスク。
【請求項４】
少なくとも１つの入口及び／又は出口は、呼気を、前記顔の前記表面と接触する材料へと方向付ける追加的な構成要素を含み、前記構成要素は前記フレームを越えて延在する、請求項１又は３に記載の医療用マスク。
【請求項５】
前記フレームを越えて延在する通気性材料が、前記呼気の水分を保持するための追加的な装置を含む、請求項３に記載の医療用マスク。
【請求項６】
前記フレームの前記外側面が、ひだ又はプリーツの形態の折り畳み部を有する、請求項１に記載の医療用マスク。
【請求項７】
前記マスクを頭部領域に取り付けるための少なくとも１つの装置を含む、請求項１に記載の医療用マスク。
【請求項８】
医療用フレーム付きバリア及び排出型フェイスマスクは、顔領域にマスク下空間を形成し、且つ、空気の入口及び出口を含むチャンネルの形態に作製された中空フレームであり、前記中空フレームは、前記顔の前記下部のためにマスク下空間を形成し、前記中空フレームは、前記空気流が通過するための少なくとも１つの入口及び少なくとも１つの出口を含む少なくとも１つのチャンネルの形態を取り、前記フレームはさらに、前記顔の表面に接触せずに少なくとも鼻の下部を閉鎖し、自由な鼻呼吸のために開いており且つ前記フレームと一緒に仕切りを形成する可能性を持って作製されるシールドを含み、前記仕切りは少なくとも１つの空気開口部を含む、医療用マスク。
【請求項９】
少なくとも１つの弁が少なくとも１つの空気開口部に存在する、請求項８に記載の医療用マスク。
【請求項１０】
医療用フレーム付きバリア及び排出型フェイスマスクは、顔領域にマスク下空間を形成し、且つ、空気の入口及び出口を含むチャンネルの形態に作製される中空フレームであり、前記中空フレームは、前記顔の前記下部のためにマスク下空間を形成し、前記中空フレームは、前記空気流が通過するための少なくとも１つの入口及び少なくとも１つの出口を含む少なくとも１つのチャンネルの形態を取り、さらに、下部フレームと一緒に共通の仕切りを形成する、鼻の周囲の前記顔の中央部の表面に隣接する上部構造を含み、さらに、前記フレームの前記外側面及び前記上部構造は前記口領域及び前記鼻領域において空気不透過性であり、他の部分はフィルタ材製であり、少なくとも１つのチャンネルは、閉鎖することができる少なくとも１つの装置を有する、医療用マスク。
【請求項１１】
前記フレームが全てフィルタ材製である、請求項１０に記載の医療用マスク。
【誤訳訂正書】
【提出日】令和3年5月31日(2021.5.31)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１７】
［００２４］処理チャンバ２００は、複数のカソード２５０Ａ〜Ｅを含み、この複数のカソードは、チャンバリッド２４０内の開口部を通して配置された５つのカソード（図２Ｃに示す２５０Ｄ〜Ｅ）を含み、チャンバリッド２４０において、複数のカソード２５０Ａ〜Ｅは各々、基板２２８上に一又は複数の材料をスパッタするように構成される。この実施形態では、第１のカソード２５０Ａはニッケルターゲット２５２からニッケルをスパッタするように構成され、第２のカソード２５０Ｂはシリコンターゲット２６２からシリコンを同時にスパッタ（同時スパッタ）するように構成され、これにより、基板２２８の表面に均質なニッケルシリサイド層が堆積する。ここで、第３のカソード２５０Ｃは窒素又はアンモニア等の窒素含有反応性ガスの存在下でチタンターゲット２６４からチタンをスパッタするように構成され、これにより基板２２８の表面に窒化チタン層が堆積する。他の実施形態では、第３のカソード２５０Ｃは窒化チタンターゲットから窒化チタンをスパッタするように構成される。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３２】
［００３８］作業４２５において、方法４００は、基板上及び／又はその上に配置された特徴上にニッケル及びシリコンターゲットからの材料を同時スパッタリングすることによって、均質なニッケルシリサイド層５３９（ｘが０．０１から０．９９の間、例えば０．１から０．９の間であるＮｉｘＳｉ１−ｘ）を堆積させることを含む。図５Ｂに、基板２２８に堆積させた複数の特徴５３５上へのニッケルシリサイド層５３９の堆積を示す。図５Ｃに、上述した方法に従って形成された複数の配線５４１を示す。図５Ｃにおいて、ニッケルシリサイド層５３９の一部は、電子デバイスを形成するためにエッチング又は化学的機械的研磨処理等の好適な処理を使用して複数の特徴５３５の表面から除去されている。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
層を堆積させる方法であって、
処理チャンバ内の基板支持体上に基板を位置づけすることであって、前記処理チャンバは、その中に配置されたニッケルターゲットとシリコンターゲットとを有し、前記ニッケルターゲットと前記シリコンターゲットの前記基板に向いている部分は各々、前記ターゲットに向いている前記基板の表面から１０度から５０度の間の角度を有する、処理チャンバ内の基板支持体上に基板を位置づけすることと、
前記処理チャンバの中にガスを流入させることと、
前記ニッケルターゲットにＲＦ電力を印加すると同時に前記シリコンターゲットにＤＣ電力を印加することと、
前記シリコンターゲット及び前記ニッケルターゲットのそれぞれからシリコン及びニッケルを同時にスパッタリングすることと、
前記基板に、ｘが０．０１から０．９９の間であるＮｉｘＳｉ１−ｘ層を堆積させることと
を含む方法。
【請求項２】
前記ＮｉｘＳｉ１−ｘ層が３０μｏｈｍ−ｃｍ未満の抵抗値を有する、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
ｘが０．４から０．６の間である、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記ＤＣ電力が８００ワットから１２００ワットの間である、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記ＲＦ電力が３００ワットから５００ワットの間である、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記ＮｉｘＳｉ１−ｘ層が３０μｏｈｍ−ｃｍから６０μｏｈｍ−ｃｍの間の抵抗値を有する、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記ｘが０．６を上回る、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記ＮｉｘＳｉ１−ｘ層が６０μｏｈｍ−ｃｍから２００μｏｈｍ−ｃｍの間の抵抗値を有する、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記ｘが０．４未満である、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
デバイスを形成する方法であって、
処理チャンバ内部の基板支持体上に基板を位置づけすることであって、前記基板はその上に配置された複数の特徴と、前記複数の特徴の間に配置された複数の開口部とを有する、処理チャンバ内部の基板支持体上に基板を位置づけすることと、
前記処理チャンバの中へガスを流入させることと、
ニッケルターゲットにＲＦ電力を印加すると同時にシリコンターゲットにＤＣ電力を印加することであって、前記ニッケルターゲットと前記シリコンターゲットとは前記処理チャンバ内に配置され、前記基板に向いているそれらの表面は各々、前記ターゲットに向いている前記基板の表面に対して１０度から５０度の間の角度を有する、前記ニッケルターゲットにＲＦ電力を印加すると同時に前記シリコンターゲットにＤＣ電力を印加することと、
前記シリコンターゲット及び前記ニッケルターゲットのそれぞれからシリコン及びニッケルを同時にスパッタリングすることと、
複数の配線を形成するために、前記基板にｘが０．０１から０．９９であるＮｉｘＳｉ１−ｘ層を堆積させることと
を含む方法。
【請求項１１】
電子デバイスであって、
誘電体層と、前記誘電体層内に配置された複数の配線特徴とを含むパターン基板であって、前記複数の配線特徴は均質なＮｉｘＳｉ１−ｘを含み且つ２００μｏｈｍ−ｃｍ以下の有効抵抗値を有する、パターン基板
を含む電子デバイス。
【請求項１２】
ｘが０．４から０．６である、請求項１１に記載の電子デバイス。
【請求項１３】
前記配線特徴の一又は複数が２０ｎｍ未満の幅を有する、請求項１２に記載の電子デバイス。
【請求項１４】
前記配線特徴の一又は複数が前記幅の２倍以上の高さを有する、請求項１３に記載の電子デバイス。
【請求項１５】
前記複数の配線が３０μｏｈｍ−ｃｍ未満の有効抵抗値を有する、請求項１４に記載の電子デバイス。
【手続補正書】
【提出日】令和3年5月13日(2021.5.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
二次資源から貴金属を回収する方法であって、
（ａ）少なくとも０．０００１％ｂ．ｗ．の量の貴金属を含む固形廃棄材料の供給源を提供する工程と；
（ｂ）前記廃棄材料を、シアン化水素酸を産生および放出することができる従属栄養微生物と接触させる工程と；
（ｃ）溶媒、または前記微生物の栄養源となり得る栄養素水溶液を、混合物に添加する工程と；
（ｄ）前記金属と、前記微生物によって放出された前記シアン化水素酸との錯体形成により、前記廃棄材料から、そこに含まれる前記貴金属を枯渇させる工程と；
（ｅ）金属−シアノ錯体を含む液体から、枯渇させた前記固体廃棄材料を分離する工程と；
（ｆ）既知の方法で、前記貴金属を、それらのシアノ錯体から回収する工程と
を含む、または、それらの工程からなる方法。
【請求項２】
前記固体廃棄材料は、フライアッシュ、廃棄物焼却灰、金属スコリアおよび電子スクラップからなる群から選択される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記貴金属は、金、銀、白金、パラジウム、ロジウム、イリジウムおよびそれらの混合物からなる群から選択される、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記固形廃棄材料は、約０．２〜０．０００１％ｂ．ｗ．の貴金属を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記固形廃棄材料は、５ｍｍ未満の粒径を示す、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記従属栄養微生物は、バチルス・メガテリウム、バチルス・マイコイデス、クロモバクテリウム・アクアチカム、シュードモナス属、ロドコッカス属、ステノトロホモアス属、ストレプトマイセス属、および特にシュードモナス１１５７１からなる群から選択される、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記枯渇させる工程は、前記廃棄材料中に存在する前記貴金属の１００％を金属シアノ錯体に変えるのに必要な非生物性シアン化水素酸の濃度の最大５０％である、前記微生物により放出される生物由来のシアン化水素酸の濃度、で行われる請求項１記載の方法。
【請求項８】
前記栄養素水溶液は、ミネラル微量元素および／または炭水化物を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記廃棄材料の枯渇は約２０から約４０℃の温度で行われる、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
液体からの固体の分離は、重力、濾過または遠心分離によって行われる、請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
工程（ｅ）から得られた前記液体を、前記金属−シアノ錯体と物理的に結合して液層から取り出すことができる吸着剤と接触させる、請求項１に記載の方法。
【請求項１２】
前記吸着剤は樹脂または木炭である、請求項１０に記載の方法。
【請求項１３】
前記貴金属は、前記金属−シアノ錯体の溶媒溶出、前記溶媒の除去、およびｐＨ変化による金属のそれらの錯体からの遊離により、前記吸着剤から回収される、請求項１０に記載の方法。
【請求項１４】
請求項１に記載の方法を実施するための装置であって、
（ｉ）廃金属を浸出させることができる反応器、好ましくは攪拌容器と、
（ｉｉ）枯渇した固体残留物を液相から分離できる分離ユニットと、
（ｉｉｉ）希釈された金属シアノ錯体を前記液相から吸着することができる適切な吸着剤を含む吸着ユニットと、
（ｉｖ）前記吸着剤から前記貴金属または前記金属シアノ錯体を放出できる回収ユニットと
を含む、または、からなる装置。
【請求項１５】
ブーミングプロセスおよび／またはバイオリーチングプロセスを可能にする微生物を識別する方法であって、
（ｉ）４ｍＭのＫＣＮおよび１００μｇ／ｍｌのナイスタチンを補足した０．５ｘＨＤ栄養寒天プレートに０．８５％ＮａＣｌの土壌懸濁液をプレーティングする工程と；
（ｉｉ）新鮮な寒天プレート上の「クリーンストリーク」によって、出現している微生物コロニーを移植および精製し、続いてシアン化水素酸の産生と、二次資源からの貴金属の浸出効率とを分析する工程と；
（ｉｉｉ）性能基準を満たす微生物を、１６Ｓ  ｒＤＮＡ分析、ゲノムシーケンスおよび生理学的テスト（Ａｎａｌｙｔｉｃａｌ  Ｐｒｏｆｉｌｅ  Ｉｎｄｅｘ／ＡＰＩシステム、Ｂｉｏｌｏｇ  ＰＭ１およびＰＭ２ａテストプレート）により、系統学的に特徴付ける工程と、を含む方法。
【手続補正書】
【提出日】令和3年3月24日(2021.3.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
種々の応用で使用される例えば貯留層からの流体の送達に関して改善された効率を提供する、より優れた多孔質繊維媒体が市場で求められている。
この出願の発明に関連する先行技術文献情報としては、以下のものがある（国際出願日以降国際段階で引用された文献及び他国に国内移行した際に引用された文献を含む）。
（先行技術文献）
（特許文献）
（特許文献１）  米国特許第４，０３２，６８８号明細書
（特許文献２）  米国特許第５，４０３，４８２号明細書
（特許文献３）  米国特許第５，５６２，８２５号明細書
（特許文献４）  米国特許第５，６０７，７６６号明細書
（特許文献５）  米国特許第５，６２０，６４１号明細書
（特許文献６）  米国特許第５，６３３，０８２号明細書
（特許文献７）  米国特許第５，６４３，５０７号明細書
（特許文献８）  米国特許第５，６７２，３９９号明細書
（特許文献９）  米国特許第６，１０３，１８１号明細書
（特許文献１０）  米国特許第６，１６９，０４５号明細書
（特許文献１１）  米国特許第６，２７３，９３８号明細書
（特許文献１２）  米国特許第６，３３０，８８３号明細書
（特許文献１３）  米国特許第６，８４０，６９２号明細書
（特許文献１４）  米国特許第７，０１８，０３１号明細書
（特許文献１５）  米国特許第７，８８８，２７５号明細書
（特許文献１６）  米国特許第８，９３９，２９５号明細書
（特許文献１７）  米国特許第９，５８５，４５６号明細書
（特許文献１８）  米国特許出願公開第２００３／０２２６３３９号明細書
（特許文献１９）  米国特許出願公開第２００４／００２３６８９号明細書
（特許文献２０）  米国特許出願公開第２００４／００６０２６９号明細書
（特許文献２１）  米国特許出願公開第２０１０／０１８１２４９号明細書
（特許文献２２）  米国特許出願公開第２０１０／０２０６８０３号明細書
（特許文献２３）  米国特許出願公開第２０１１／００７０４２３号明細書
（特許文献２４）  米国特許出願公開第２０１１／０２９０７１６号明細書
（特許文献２５）  米国特許出願公開第２０１１／０３１８２４４号明細書
（特許文献２６）  米国特許出願公開第２０１２／０１０７３８７号明細書
（特許文献２７）  米国特許出願公開第２０１３／００１２６８９号明細書
（特許文献２８）  米国特許出願公開第２０１３／００１４８８３号明細書
（特許文献２９）  米国特許出願公開第２０１３／０２０６６８３号明細書
（特許文献３０）  米国特許出願公開第２０１５／０２３１５３１号明細書
（特許文献３１）  米国特許出願公開第２０１５／０２９０５６２号明細書
（特許文献３２）  米国特許出願公開第２０１８／００２３２１５号明細書
（特許文献３３）  中国特許出願公開第１０６１３３２２６号明細書
（特許文献３４）  独国特許発明第６９４０４０２８号明細書
（特許文献３５）  国際公開第２０１５／１２７１２０号
（特許文献３６）  国際公開第２０１７／０１６６０８号
（特許文献３７）  国際公開第２０１８／２３１５３７号
（非特許文献）
（非特許文献１）  Ｄｕ  ｅｔ  ａｌ．（Ｆｉｂｅｒｓ  ａｎｄ  Ｐｏｌｙｍｅｒｓ  ２００８；９（１）：２７−３３）  （Ｙｅａｒ：  ２００８）
（非特許文献２）  Ｆｉｂｅｒ  Ｍｅａｓｕｒｅｍｅｎｔ  Ｃｏｎｖｅｒｓｉｏｎｓ  ［ｏｎｌｉｎｅ］  ｒｅｔｒｉｅｖｅｄ  ｏｎ  ８／１９／２０  ｆｒｏｍ：  ｈｔｔｐｓ：／／ｗｗｗ．ｍｉｎｉｆｉｂｅｒｓ．ｃｏｍ／ｏｕｒ−ｃｏｍｐａｎｙ／ａｂｏｕｔ−ｆｉｂｅｒｓ／ｆｉｂｅｒ−ｍｅａｓｕｒｅｍｅｎｔ−ｃｏｎｖｅｒｓｉｏｎｓ／；  ｐａｇｅ  （Ｙｅａｒ：  ２０２０）
【手続補正書】
【提出日】令和3年6月3日(2021.6.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）コア／シェルのナノ構造、及び
（ｂ）前記ナノ構造の表面に結合しているチオール化リガンドであって、前記チオール化リガンドが、下記式（Ｉ）を有し、
【化１】
2020523434.tif 000001
式中、
ｘは、１０〜２０であり、
ｙは、１〜１０であり、
ｚは、０又は１であり、
Ｒ１Ａ及びＲ１Ｂは、独立に、Ｈ又はＣ１〜２０アルキルであり、
Ｒ２は、Ｃ１〜２０アルキルであり、
Ｒ３は、Ｃ１〜２０アルキル、Ｃ３〜８シクロアルキル、又はＣ６〜１４アリールであり、
Ｒ４は、−Ｏ−、Ｃ１〜２０アルキル、又はアミドである、組成物。
【請求項２】
前記ナノ構造が、ＩｎＰ、ＩｎＺｎＰ、ＩｎＧａＰ、ＣｄＳｅ、ＣｄＳ、ＣｄＳＳｅ、ＣｄＺｎＳｅ、ＣｄＺｎＳ、ＺｎＳｅ、ＺｎＳＳｅ、ＩｎＡｓ、ＩｎＧａＡｓ、及びＩｎＡｓＰからなる群から選択されるコアを含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
前記ナノ構造が、ＩｎＰのコアを含む、請求項１〜２のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項４】
前記ナノ構造が、少なくとも１つのシェルを含み、前記少なくとも１つのシェルが、亜鉛、硫黄、セレン、テルル、及びカドミウムからなる群から選択される少なくとも２つの材料の混合物を含む、請求項１〜３のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項５】
Ｒ１Ｂが、Ｃ１〜５アルキルである、請求項１〜４のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項６】
Ｒ２が、−ＣＨ２ＣＨ２−である、請求項１〜５のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項７】
（ａ）における前記ナノ構造が、ＩｎＰコア及び２つのシェルを含み、（ｂ）の式（Ｉ）において、ｘが、１９であり、ｙが、３であり、Ｒ１Ｂが、ＣＨ３であり、Ｒ２が、−ＣＨ２ＣＨ２−である、請求項１〜６のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項８】
（ａ）コア／シェルのナノ構造の少なくとも１つの集団であって、ナノ構造の少なくとも１つの集団中のリガンドの約２０〜約１００モルパーセントは、前記ナノ構造に結合しているチオール化リガンドを含み、前記チオール化リガンドが下記式（Ｉ）を有する、ナノ構造の少なくとも１つの集団、
【化２】
2020523434.tif 000002
式中、
ｘは、１０〜２０であり、
ｙは、１〜１０であり、
ｚは、０又は１であり、
Ｒ１Ａ及びＲ１Ｂは、独立に、Ｈ又はＣ１〜２０アルキルであり、
Ｒ２は、Ｃ１〜２０アルキルであり、
Ｒ３は、Ｃ１〜２０アルキル、Ｃ３〜８シクロアルキル、又はＣ６〜１４アリールであり、
Ｒ４は、−Ｏ−、Ｃ１〜２０アルキル、又はアミドである、及び
（ｂ）チオール官能化樹脂である少なくとも１種の有機樹脂
を含む、ナノ構造組成物。
【請求項９】
ナノ構造の前記少なくとも１つの集団が、ＩｎＰ、ＩｎＺｎＰ、ＩｎＧａＰ、ＣｄＳｅ、ＣｄＳ、ＣｄＳＳｅ、ＣｄＺｎＳｅ、ＣｄＺｎＳ、ＺｎＳｅ、ＺｎＳＳｅ、ＩｎＡｓ、ＩｎＧａＡｓ、及びＩｎＡｓＰからなる群から選択されるコアを含有する、請求項８に記載のナノ構造組成物。
【請求項１０】
少なくとも１種の有機樹脂が、メルカプト官能性化合物である、請求項８又は９に記載のナノ構造組成物。
【請求項１１】
前記少なくとも１種の有機樹脂が、トリメチロール−プロパントリ（３−メルカプトプロピオネート）、グリコールジ（３−メルカプト−プロピオネート）、トリス［２５−（３−メルカプトプロピオニルオキシ）エチル］イソシアヌレート、ジ−ペンタエリスリトールヘキサ（３−メルカプトプロピオネート）、エトキシ化トリメチロールプロパントリ（３−メルカプトプロピオネート）、ポリカプロラクトンテトラ（３−メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラメルカプトアセテート、トリメチロール−プロパントリメルカプトアセテート、グリコールジメルカプトアセテート、及びペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）からなる群から選択される、請求項８〜１０のいずれか一項に記載のナノ構造組成物。
【請求項１２】
（ａ）におけるナノ構造の少なくとも１つの集団が、ＩｎＰコア及び少なくとも２つのシェルを含み、前記少なくとも１種の有機樹脂が、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）である、請求項８〜１１のいずれか一項に記載のナノ構造組成物。
【請求項１３】
ナノ構造上の第１のリガンドを第２のリガンドで置き換える方法であって、前記第２のリガンドが前記第１のリガンドを置換し、前記ナノ構造に非共有結合をするように、前記ナノ構造に非共有結合をしている第１のリガンドを有するコア／シェルのナノ構造の集団とチオール化リガンドである第２のリガンドとを含む反応混合物を混合することを含み、ここで、前記チオール化リガンドは、下記式を有し、
【化３】
2020523434.tif 000003
式中、
ｘは、１〜１００であり、
ｙは、１〜１００であり、
ｚは、０又は１であり、
Ｒ１Ａ及びＲ１Ｂは、独立に、Ｈ又はＣ１〜２０アルキルであり、
Ｒ２は、Ｃ１〜２０アルキルであり、
Ｒ３は、Ｃ１〜２０アルキル、Ｃ３〜８シクロアルキル、又はＣ６〜１４アリールであり、
Ｒ４は、−Ｏ−、Ｃ１〜２０アルキル、又はアミドである、方法。
【請求項１４】
ナノ構造組成物を調製する方法であって、
（ａ）コア／シェルのナノ構造の少なくとも１つの集団を含む組成物を提供することであって、ナノ構造の前記集団中のリガンドの約２０〜約１００モルパーセントは、前記ナノ構造に結合しているチオール化リガンドを含み、前記チオール化リガンドが下記式を有することと、
【化４】
2020523434.tif 000004
式中、
ｘは、１〜１００であり、
ｙは、１〜１００であり、
ｚは、０又は１であり、
Ｒ１Ａ及びＲ１Ｂは、独立に、Ｈ又はＣ１〜２０アルキルであり、
Ｒ２は、Ｃ１〜２０アルキルであり、
Ｒ３は、Ｃ１〜２０アルキル、Ｃ３〜８シクロアルキル、又はＣ６〜１４アリールであり、
Ｒ４は、−Ｏ−、Ｃ１〜２０アルキル、又はアミドである、及び
（ｂ）少なくとも１種の有機樹脂と（ａ）の前記組成物とを混合することであって、少なくとも１種の有機樹脂は、チオール官能化樹脂であることと、を含む、方法。
【請求項１５】
（ａ）ナノ構造の少なくとも１つの集団であって、ナノ構造の前記集団中のリガンドの約２０〜約１００モルパーセントは、前記ナノ構造に結合しているチオール化リガンドを含み、前記チオール化リガンドが下記式を有する、ナノ構造の少なくとも１つの集団、
【化５】
2020523434.tif 000005
式中、
ｘは、１〜１００であり、
ｙは、１〜１００であり、
ｚは、０又は１であり、
Ｒ１Ａ及びＲ１Ｂは、独立に、Ｈ又はＣ１〜２０アルキルであり、
Ｒ２は、Ｃ１〜２０アルキルであり、
Ｒ３は、Ｃ１〜２０アルキル、Ｃ３〜８シクロアルキル、又はＣ６〜１４アリールであり、
Ｒ４は、−Ｏ−、Ｃ１〜２０アルキル、又はアミドである、及び
（ｂ）チオール官能化樹脂である少なくとも１種の有機樹脂
を含む、ナノ構造フィルム層。