Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】令和3年2月22日(2021.2.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
材料をナノメートルサイズに粉砕するように構成された粉砕装置（１００）であり、
ミルコアに配置された第１のロータ（１２４ａ）及び第２のロータ（１２４ｂ）を含み、前記第１のロータ（１２４ａ）及び前記第２のロータ（１２４ｂ）は、それぞれ同心円状の列に配置された複数の空力翼（４２２ａ，４２２ｂ，４２２ｃ，４２２ｄ，４２２ｅ）を含み、
前記第１及び第２のロータ（１２４ａ，１２４ｂ）における前記同心円状の列は、前記ミルコア内の交互の同心領域を占め、
前記第１及び前記第２のロータ（１２４ａ，１２４ｂ）の回転により、隣接する同心領域の隣接する空力翼（４２２ｄ，４２２ｅ）が互いに横断し、隣接する空力翼（４２２ｄ，４２２ｅ）間の衝撃領域に粒子を運搬する空気動力学的流れが生成され、
前記粉砕装置内（１００）の材料の粒子サイズをモニターするように構成された粒子サンプリングシステム（１３０６）を含み、そして、
前記ミルコアから導出される前記材料の結晶格子構造を変化させるように構成された粒子プログラミングアレイ（１２１０）を含む、粉砕装置。
【請求項２】
前記第１及び第２のロータ（１２４ａ，１２４ｂ）は、共通の軸を中心として反対方向に回転するように構成される、請求項１に記載の粉砕装置。
【請求項３】
前記第１及び第２のロータ（１２４ａ，１２４ｂ）の共通の回転軸の近傍に材料投入ホッパ（１０１）を更に含む、請求項１に記載の粉砕装置。
【請求項４】
前記複数の空力翼（４２２ａ，４２２ｂ，４２２ｃ，４２２ｄ，４２２ｅ）のうちのいずれかの断面は、対称、又は、沿ったエアロフォイル状、の形状を含む、請求項１に記載の粉砕装置。
【請求項５】
前記粒子サンプリングシステム（１３０６）が、光学センサアレイ（１７０６）、粒子サンプリングアレイ（１７６１）、及び粒子分離器アレイ（１７６２）を含む、請求項１に記載の粉砕装置。
【請求項６】
前記粒子プログラミングアレイ（１２１０）が、超音波発生器（１９１８）、磁場発生器（１９１９）、高電圧周波数発生器（１９２０）、又はそれらの任意の組み合わせを含む、請求項１に記載の粉砕装置。
【請求項７】
前記ミルコアが、所定の温度、圧力、及び／又は組成を含む、請求項１に記載の粉砕装置。
【請求項８】
前記複数の空力翼（４２２ａ，４２２ｂ，４２２ｃ，４２２ｄ，４２２ｅ）の動きは、前記ミルコアの外側領域のチャネルに対して前記材料を向ける空力を発生させる、請求項１に記載の粉砕装置。
【請求項９】
前記ミルコアの外側領域のチャネルが、前記材料を材料投入ホッパ（１０１）、粒子サンプリングシステム（１３０６）、前記粒子プログラミングアレイ（１２１０）、粒子凝固チャンバ（１５１２ｂ）、及びパッケージングユニット（１９１７）、のいずれかに導く、請求項１に記載の粉砕装置。
【請求項１０】
前記複数の空力翼（４２２ａ，４２２ｂ，４２２ｃ，４２２ｄ，４２２ｅ）のいずれもが、傾斜角の範囲に沿って傾斜可能である、請求項１に記載の粉砕装置。
【請求項１１】
方法であって、
複数の空力翼（４２２ａ，４２２ｂ，４２２ｃ，４２２ｄ，４２２ｅ）をミルコア内に配置すること、を含み、前記ミルコアは、第１のロータ（１２４ａ）と第２のロータ（１２４ｂ）とを有し、前記第１のロータ（１２４ａ）と前記第２のロータ（１２４ｂ）は、共通の軸の周りを回転するように構成されており、
前記複数の空力翼（４２２ａ，４２２ｂ，４２２ｃ，４２２ｄ，４２２ｅ）のうち、第１の空力翼は、前記第１のロータ（１２４ａ）上に配置され、
前記複数の空力翼（４２２ａ，４２２ｂ，４２２ｃ，４２２ｄ，４２２ｅ）のうち、第２の空力翼は、前記第２のロータ（１２４ｂ）上に配置され、
前記第１及び第２のロータ（１２４ａ，１２４ｂ）を前記共通軸の周囲で回転させた際、前記第２の空力翼は、前記第１及び第２のロータ（１２４ａ，１２４ｂ）のいずれかが回転すると、前記第１の空力翼に隣接する領域を横断するように構成され、そして、
前記ミルコアから導出される材料の結晶格子構造の修正を行うことを含む、方法。
【請求項１２】
前記第１及び第２のロータ（１２４ａ，１２４ｂ）の回転は、前記ミルコアの内側領域から前記ミルコアの外側領域へと空力を発生させる、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
材料投入ホッパ（１０１）に材料を供給すること、を更に含み、前記材料投入ホッパ（１０１）は前記材料を前記ミルコアの内部領域に向けるように構成され、
前記ミルコアの前記内側領域に向けられた前記材料が、前記第１及び第２のロータ（１２４ａ，１２４ｂ）の回転によって発生される空力によって、前記ミルコアの外側領域に向かって推進され、
前記第１の空力翼を通過する前記第２の空力翼の横断が、反対方向に回転する空力翼の間の衝撃領域に粒子を推進する空力を生成し、
粒子サンプリングシステム（１３０６）によるモニタリングのために、前記ミルコア内の材料の一部を取り出し、
前記材料が閾値サイズを超えると判断された場合、前記材料の一部を前記ミルコアに戻し、そして、
前記材料が閾値サイズ未満であると判断された場合に、粒子プログラミングアレイ（１２１０）又は凝固チャンバ（１５１２ｂ）のいずれかに前記材料を導き、
前記粒子プログラミングアレイ（１２１０）は、前記ミルコアから導出される前記材料の結晶格子構造を変化させるように構成されている、請求項１１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】令和3年2月5日(2021.2.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２６】
実施例１Ａ及び１Ｂの試料を、上記の試験を用いて静的水接触角について試験した。実施例１Ａ及び１Ｂの静的水接触角は、それぞれ８８．７°及び８５．４°であった。
なお、以上の各実施形態に加えて以下の態様について付記する。
（付記１）
シリカ質層にシロキサン結合した少なくとも１つのＣ８〜Ｃ３６炭化水素シラン化合物を含む表面層であって、前記シリカ質層が１０％以下の多孔率及び１ミクロン以下の厚さを有する、表面層、
を含む物品。
（付記２）
前記シリカ質層が１０〜５０原子パーセントの炭素を含む、付記１に記載の物品。
（付記３）
前記シリカ質層がダイヤモンド様ガラス層である、付記１又は２に記載の物品。
（付記４）
前記シリカ質層が１．４５８より大きい屈折率を有する、付記１〜３のいずれか一項に記載の物品。
（付記５）
有機ポリマーベース部材を更に備える、付記１〜４のいずれか一項に記載の物品。
（付記６）
前記有機ポリマーベース部材がフィルムである、付記５に記載の物品。
（付記７）
前記物品が、前記有機ポリマーベース部材とダイヤモンド様ガラス層との間に配置されているハードコート層を更に備える、付記５又は６に記載の物品。
（付記８）
前記ハードコートが無機酸化物粒子を含む、付記７に記載の物品。
（付記９）
前記少なくとも１つのＣ８〜Ｃ３６炭化水素シランが、次式
Ｒ１−Ｓｉ（Ｒ２）３−ｘ（Ｒ３）ｘ
［式中、Ｒ１は８〜３６の炭化水素基であり、
Ｒ２は加水分解性基であり、
Ｒ３はＲ１ではない非加水分解性基であり、
ｘは０〜２の範囲である。］を有する、付記１〜８のいずれか一項に記載の物品。
（付記１０）
Ｒ２が、ヒドロキシル基又はＣ１〜Ｃ４アルコキシ基である、付記９に記載の物品。
（付記１１）
Ｒ１がＣ８〜Ｃ１７アルキル基である、付記９又は１０に記載の物品。
（付記１２）
Ｒ１がＣ１８〜Ｃ３６アルキル基である、付記９又は１０に記載の物品。
（付記１３）
付記９又は１０に記載の物品であって、前記表面層が、
ｉ）Ｒ１がＣ８〜Ｃ１７アルキル基である、少なくとも１つの第１の炭化水素シラン化合物と、
ｉｉ）Ｒ１がＣ１８〜Ｃ３６アルキル基である、少なくとも１つの第２の炭化水素シラン化合物と、の反応生成物を含む、物品。
（付記１４）
前記第１のシラン化合物が、前記第２のシラン化合物よりも多い量で存在する、付記１３に記載の物品。
（付記１５）
前記表面層が、Ｃ８〜Ｃ３６炭化水素シラン化合物の反応生成物を少なくとも９０又は９５重量％含む、付記１〜１４のいずれか一項に記載の物品。
（付記１６）
前記表面層が剥離層である、付記１〜１５のいずれか一項に記載の物品。
（付記１７）
前記物品が乾式消去ボードである、付記１〜１５のいずれか一項に記載の物品。
（付記１８）
油性マーカーが、乾燥した紙タオルで前記表面層から除去され得る、付記１７に記載の物品。
（付記１９）
シリカ質層にシロキサン結合した少なくとも１つのＣ８〜Ｃ２２炭化水素シラン化合物を含む表面層であって、前記シリカ質層が３０〜５０原子パーセントの炭素を含み、１ミクロン以下の厚さを有する、表面層、
を含む物品。
（付記２０）
付記３〜１８のいずれか一項又はそれらの組み合わせによって更に特徴付けられる、付記１９に記載の物品。
（付記２１）
ｉ）次式
Ｒ１−Ｓｉ（Ｒ２）３−ｘ（Ｒ３）ｘ
［式中、Ｒ１はＣ８〜Ｃ１７炭化水素シランであり、
Ｒ２は加水分解性基であり、
Ｒ３はＲ１ではない非加水分解性基であり、
ｘは０〜２の範囲である。］を有する少なくとも１つの炭化水素シラン化合物と、
ｉｉ）次式
Ｒ１−Ｓｉ（Ｒ２）３−ｘ（Ｒ３）ｘ
［式中、Ｒ１はＣ１８〜Ｃ３６炭化水素シランであり、
Ｒ２は加水分解性基であり、
Ｒ３は非加水分解性基であり、
ｘは０〜２の範囲である。］を有する少なくとも１つの炭化水素シラン化合物と、
ｉｉｉ）任意選択的に有機溶媒と、
を含むコーティング組成物。
（付記２２）
ｉ）及びｉｉ）が１：１より大きい重量比で存在する、付記２１に記載の組成物。
（付記２３）
シリカ質表面を有する付記２１又は２２に記載の組成物の反応生成物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シリカ質層にシロキサン結合した少なくとも１つのＣ８〜Ｃ３６炭化水素シラン化合物を含む表面層であって、前記シリカ質層が１０％以下の多孔率及び１ミクロン以下の厚さを有する、表面層、
を含む物品。
【請求項２】
前記シリカ質層が１０〜５０原子パーセントの炭素を含む、請求項１に記載の物品。
【請求項３】
前記シリカ質層がダイヤモンド様ガラス層である、請求項１又は２に記載の物品。
【請求項４】
フィルムである有機ポリマーベース部材を更に備える、請求項１〜３のいずれか一項に記載の物品。
【請求項５】
前記物品が、前記有機ポリマーベース部材とダイヤモンド様ガラス層との間に配置されているハードコート層を更に備える、請求項４に記載の物品。
【請求項６】
前記少なくとも１つのＣ８〜Ｃ３６炭化水素シランが、次式
Ｒ１−Ｓｉ（Ｒ２）３−ｘ（Ｒ３）ｘ
［式中、Ｒ１は８〜３６の炭化水素基であり、
Ｒ２は加水分解性基であり、
Ｒ３はＲ１ではない非加水分解性基であり、
ｘは０〜２の範囲である。］を有する、請求項１〜５のいずれか一項に記載の物品。
【請求項７】
Ｒ２が、ヒドロキシル基又はＣ１〜Ｃ４アルコキシ基である、請求項６に記載の物品。
【請求項８】
請求項６に記載の物品であって、前記表面層が、
ｉ）Ｒ１がＣ８〜Ｃ１７アルキル基である、少なくとも１つの第１の炭化水素シラン化合物と、
ｉｉ）Ｒ１がＣ１８〜Ｃ３６アルキル基である、少なくとも１つの第２の炭化水素シラン化合物と、の反応生成物を含む、物品。
【請求項９】
前記表面層が剥離層であり、前記物品が乾式消去ボードである、請求項１〜８のいずれか一項に記載の物品。
【請求項１０】
シリカ質層にシロキサン結合した少なくとも１つのＣ８〜Ｃ２２炭化水素シラン化合物を含む表面層であって、前記シリカ質層が３０〜５０原子パーセントの炭素を含み、１ミクロン以下の厚さを有する、表面層、
を含む物品。
【請求項１１】
請求項３〜９のいずれか一項又はそれらの組み合わせによって更に特徴付けられる、請求項１０に記載の物品。
【請求項１２】
ｉ）次式
Ｒ１−Ｓｉ（Ｒ２）３−ｘ（Ｒ３）ｘ
［式中、Ｒ１はＣ８〜Ｃ１７炭化水素シランであり、
Ｒ２は加水分解性基であり、
Ｒ３はＲ１ではない非加水分解性基であり、
ｘは０〜２の範囲である。］を有する少なくとも１つの炭化水素シラン化合物と、
ｉｉ）次式
Ｒ１−Ｓｉ（Ｒ２）３−ｘ（Ｒ３）ｘ
［式中、Ｒ１はＣ１８〜Ｃ３６炭化水素シランであり、
Ｒ２は加水分解性基であり、
Ｒ３は非加水分解性基であり、
ｘは０〜２の範囲である。］を有する少なくとも１つの炭化水素シラン化合物と、
ｉｉｉ）任意選択的に有機溶媒と、
を含むコーティング組成物。
【手続補正書】
【提出日】令和2年12月16日(2020.12.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
インコネル工作物を機械加工するためのセラミック正面フライスであって、前記正面フライスは、反対側の軸方向前方および後方方向ＤF、ＤR、ならびに反対側の回転切断および後続方向ＤP、ＤSを定義する中心回転軸ＡRの周りを回転するように構成され、前記正面フライスは、
シャンク部と、前記シャンク部から切断端面まで前方に延びる切断部と、を備え、
前記切断部は、
有効切断長ＬEと、前記切断端面に位置する直径ＤEと、複数の歯と、前記複数の歯の隣接する歯の各対間に位置するギャッシュと、を備え、
前記複数の歯のうちの歯は、
すくい面と、逃げ面と、前記すくい面および前記逃げ面の交差部に形成された切れ刃と、を備え、
前記切れ刃は、
前記切断端面に位置する軸方向副切れ刃と、前記切断部の周縁に沿って位置する径方向副切れ刃と、前記軸方向副切れ刃から前記径方向副切れ刃まで延び、コーナー半径ＲCを定義するコーナー副切れ刃と、を備え、
前記正面フライス全体は、
セラミック材料から作製され、単体モノリシック構造を有し、前記軸方向副切れ刃全体が正の軸方向すくい角αを有し、
隣接する歯の各対間の各ギャッシュが前記歯の対間の唯一のギャッシュである場合、前記隣接する歯の各対には、それに関連付けられた第２のギャッシュまたは溝がないことを意味する、セラミック正面フライス。
【請求項２】
前記軸方向副切れ刃の軸方向の最大すくい角α１は、条件：１°＜α１＜５°を満たす値を有する、請求項２に記載のセラミック正面フライス。
【請求項３】
前記１つの軸方向副切れ刃に隣接する前記コーナー副切れ刃の少なくとも一部分は、正のコーナーすくい角βを有する、請求項１または２に記載のセラミック正面フライス。
【請求項４】
前記コーナー副切れ刃全体が正のコーナーすくい角βを有する、請求項３に記載のセラミック正面フライス。
【請求項５】
前記コーナー副切れ刃の正の最小コーナーすくい角β１および前記軸方向副切れ刃の軸方向の最大すくい角α１は、条件：β１＜α１を満たす、請求項３または４に記載のセラミック正面フライス。
【請求項６】
前記コーナーすくい角βは、前記径方向副切れ刃に対する近接性が増大するにつれ、徐々に低減する、請求項３から５のいずれか一項に記載のセラミック正面フライス。
【請求項７】
隣接する歯の各対間の各ギャッシュは、ギャッシュ端へ後方に延び、前記ギャッシュ端は、前記切断部の周面に出る、請求項１から６のいずれか一項に記載のセラミック正面フライス。
【請求項８】
前記ギャッシュのうちの少なくとも１つの軸方向の長さＬAは、前記切断端面から、その前記ギャッシュ端まで測定可能であり、前記軸方向の長さＬAは、条件：ＬA＜ＤEを満たす、請求項７に記載のセラミック正面フライス。
【請求項９】
前記軸方向の長さＬAは、条件ＬA＜２ＲCを満たす、請求項８に記載のセラミック正面フライス。
【請求項１０】
前記複数の歯は、５個以上の歯である、請求項１から９のいずれか一項に記載のセラミック正面フライス。
【請求項１１】
前記複数の歯は、１１個以下の歯である、請求項１０に記載のセラミック正面フライス。
【請求項１２】
前記複数の歯は、５、７または９個に等しい歯である、請求項１１に記載のセラミック正面フライス。
【請求項１３】
前記複数の歯のうちの少なくとも１つの歯が中心より前方に位置決めされている場合、前記少なくとも１つの歯の切れ刃全体の全ての点は、前記切断部の切断端面の端面視において前記少なくとも１つの歯の軸方向副切れ刃の開始点に交差するように前記中心回転軸ＡRから延在する第１の径方向の仮想線ＬR1の後ろに配置されることを意味する、請求項１から１２のいずれか一項に記載のセラミック正面フライス。
【請求項１４】
更に冷却チャネルがない、請求項１から１３のいずれか一項に記載のセラミック正面フライス。
【請求項１５】
前記切断端面の端面図において、前記セラミック正面フライスは、３６０°を歯の数で除算した角度で回転対称である、請求項１から１４のいずれか一項に記載のセラミック正面フライス。
【請求項１６】
ＳｉＡｌＯＮ複合材料から作製される、請求項１から１５のいずれか一項に記載のセラミック正面フライス。
【請求項１７】
少なくとも１つのすくい面は湾曲している、請求項１から１６のいずれか一項に記載のセラミック正面フライス。
【請求項１８】
少なくとも１つの切れ刃全体は、前記切断端面の端面図において湾曲している、請求項１から１７のいずれか一項に記載のセラミック正面フライス。
【請求項１９】
インコネル工作物を機械加工する方法であって、
請求項１から１８のいずれか一項に記載のセラミック正面フライスを提供する工程と、
３００ｍ／分を超える速度で、最初に正の軸方向のすくい角が摩耗により負の軸方向すくい角に変形するのに十分な長さの時間にわたって、インコネル工作物を正面フライス加工する工程と、を含む、方法。
【手続補正書】
【提出日】令和3年3月1日(2021.3.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
ここで図１を参照すると、基板処理ツール１００の例の全体図が示されている。基板処理ツール１００は、複数の処理モジュール１０４を備える。例えのみでは、各処理モジュール１０４は、基板上で１つ以上のそれぞれのプロセスを実施するように構成されてよい。処理される基板は、装置フロントエンドモジュール（ＥＦＥＭ）１０８などの大気圧−真空（ＡＴＶ）搬送モジュールのローディングステーションのポートを介して基板処理ツール１００に搭載され、次に、１つ以上の処理モジュール１０４に搬入される。例えば、搬送ロボット１１２は、基板をローディングステーション１１６からエアロック１２０またはロードロック１２０に搬送するように配置され、真空搬送モジュール１２４の真空搬送ロボット１２８は、基板をロードロック１２０から様々な処理モジュール１０４に搬送するように配置されている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
他の特徴では、ＡＴＶ搬送モジュールは、さらに、横レールと、横レールに取り付けられた縦レールとを備える。搬送ロボットアセンブリは、縦レールに取り付けられ、縦レールで垂直方向に昇降するように構成されており、縦レールは、横レールで水平方向にスライドするように構成されている。搬送ロボットアセンブリは、２つのアームを備え、各アームは、アームセグメントおよびエンドエフェクタを備える。エンドエフェクタの長さは、アームセグメントの長さよりも長い。エンドエフェクタの長さは、アームセグメントの長さの２倍である。搬送ロボットアセンブリが折りたたまれた状態にあるときは、アームセグメントおよびエンドエフェクタは同軸である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
基板処理ツール２００は、処理段階の間に１つ以上の基板を格納するように構成された１つ以上の格納バッファ２３６を備えてよい。いくつかの例では、格納バッファ２３６は、ＶＴＭ２１２内に位置してよい。いくつかの例では、１つ以上の格納バッファ２３６は、処理モジュールまたは他の構成要素と置き換えられてよい。
【手続補正書】
【提出日】令和3年2月1日(2021.2.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ワイヤレス通信の方法であって、
ユーザ機器(UE)によって、前記UEに関連する制御チャネル探索空間リソースに少なくとも部分的に基づいて前記UEに関連するウェイクアップ信号リソースを識別するステップであって、前記ウェイクアップ信号リソースが、前記制御チャネル探索空間リソースにマップされ、前記制御チャネル探索空間リソースに先行する、ステップと、
前記UEによって、前記ウェイクアップ信号リソースを、前記制御チャネル探索空間リソースを監視すべきかどうかの指示について監視するステップと、
前記UEによって、前記制御チャネル探索空間リソースを監視すべきかどうかの前記指示に少なくとも部分的に基づいて前記制御チャネル探索空間リソースを選択的に監視するステップとを含む方法。
【請求項２】
前記UEは、前記ウェイクアップ信号リソースの前記監視が、前記制御チャネル探索空間リソースを監視すべきであることを示すときに前記制御チャネル探索空間リソースを監視するためのウェイクアップ手順を開始するように構成され、
前記UEは、前記ウェイクアップ信号リソースの前記監視が、前記制御チャネル探索空間リソースを監視すべきではないことを示すときに前記制御チャネル探索空間リソースの間スリープするように構成される、請求項1に記載の方法。
【請求項３】
前記ウェイクアップ信号リソースは、複数の制御チャネル探索空間リソースにマップされる、請求項1に記載の方法。
【請求項４】
前記複数の制御チャネル探索空間リソースは前記UEに関連付けられる、請求項3に記載の方法。
【請求項５】
前記複数の制御チャネル探索空間リソースは複数のUEに関連付けられる、請求項3に記載の方法。
【請求項６】
前記ウェイクアップ信号リソースは、前記ウェイクアップ信号リソースに関連する周期性または時間オフセットに少なくとも部分的に基づいて識別される、請求項1に記載の方法。
【請求項７】
前記ウェイクアップ信号リソースは、
前記UEに関連するUE識別子、
前記UEによって監視される制御チャネル通信に関連する無線ネットワーク一時識別子(RNTI)、
前記UEに関連する信号対雑音比、
前記UEに関連する最大反復レベル、
前記UEについての制御チャネル通信に関連する実際の反復レベル、
前記制御チャネル探索空間リソースに関連するキャリアインデックス、または
それらの何らかの組合せのうちの少なくとも1つに少なくとも部分的に基づいて識別される、請求項1に記載の方法。
【請求項８】
前記ウェイクアップ信号リソースは、前記制御チャネル探索空間リソースよりもある数のサブフレームほど前に生じる、請求項1に記載の方法。
【請求項９】
前記サブフレームの数は、
前記UEに関連する信号対雑音比、
前記UEに関連する最大反復レベル、
前記UEについての制御チャネル通信に関連する実際の反復レベル、または
それらの何らかの組合せのうちの少なくとも1つに少なくとも部分的に基づいて識別される、請求項8に記載の方法。
【請求項１０】
前記ウェイクアップ信号リソースは、複数のリソース要素を介して送信されるウェイクアップ信号に関連するリソース要素の数に対応し、
前記UEが前記ウェイクアップ信号について監視するように構成されるリソース要素の数は、制御チャネル通信の最大反復レベルまたは前記UEに関連する信号対雑音比に少なくとも部分的に基づいて決定される、請求項1に記載の方法。
【請求項１１】
前記ウェイクアップ信号の長さは、
前記制御チャネル探索空間リソースを含む制御チャネルに関連する最大反復レベル、
前記制御チャネルに関連する実際の反復レベル、
前記ウェイクアップ信号が送信ダイバーシティを使用して送信されるかどうかの判定、
前記ウェイクアップ信号が周波数ホッピングを使用して送信されるかどうかの判定、
前記UEに関連する不連続受信サイクル長、
無線リソース制御(RRC)構成メッセージ、または
それらの何らかの組合せのうちの少なくとも1つに少なくとも部分的に基づいて構成される、請求項10に記載の方法。
【請求項１２】
前記UEは、前記UEが条件を満たす反復レベルまたは信号対雑音比に関連付けられているとの判定に少なくとも部分的に基づいて前記ウェイクアップ信号リソースを識別または監視するように構成される、請求項1に記載の方法。
【請求項１３】
ワイヤレス通信の方法であって、
基地局によって、ユーザ機器(UE)に関連する制御チャネル探索空間リソースに少なくとも部分的に基づいて前記UEに関連するウェイクアップ信号リソースを識別するステップであって、前記ウェイクアップ信号リソースが、前記制御チャネル探索空間リソースにマップされ、前記制御チャネル探索空間リソースに先行する、ステップと、
前記基地局によって、前記制御チャネル探索空間リソースに関連する制御チャネル探索空間が、前記UEに関連する制御情報を含むことになるかどうかを判定するステップと、
前記基地局によって、前記制御チャネル探索空間が、前記UEに関連する制御情報を含むことになるかどうかの判定に少なくとも部分的に基づいて前記ウェイクアップ信号リソースにおけるウェイクアップ信号を選択的に送信するステップとを含む方法。
【請求項１４】
ワイヤレス通信のためのユーザ機器(UE)であって、
メモリと、
前記メモリに結合された1つまたは複数のプロセッサとを含み、前記メモリおよび前記1つまたは複数のプロセッサが、
前記UEに関連する制御チャネル探索空間リソースに少なくとも部分的に基づいて前記UEに関連するウェイクアップ信号リソースを識別することであって、前記ウェイクアップ信号リソースが、前記制御チャネル探索空間リソースにマップされ、前記制御チャネル探索空間リソースに先行する、識別することと、
前記ウェイクアップ信号リソースを、前記制御チャネル探索空間リソースを監視すべきかどうかの指示について監視することと、
前記制御チャネル探索空間リソースを監視すべきかどうかの指示に少なくとも部分的に基づいて前記制御チャネル探索空間リソースを選択的に監視することとを行うように構成されるユーザ機器。
【請求項１５】
ワイヤレス通信のための基地局であって、
メモリと、
前記メモリに結合された1つまたは複数のプロセッサとを含み、前記メモリおよび前記1つまたは複数のプロセッサが、
ユーザ機器(UE)に関連する制御チャネル探索空間リソースに少なくとも部分的に基づいて前記UEに関連するウェイクアップ信号リソースを識別することであって、前記ウェイクアップ信号リソースが、前記制御チャネル探索空間リソースにマップされ、前記制御チャネル探索空間リソースに先行する、識別することと、
前記制御チャネル探索空間リソースに関連する制御チャネル探索空間が、前記UEに関連する制御情報を含むことになるかどうかを判定することと、
前記制御チャネル探索空間が、前記UEに関連する制御情報を含むことになるかどうかの判定に少なくとも部分的に基づいて前記ウェイクアップ信号リソースにおけるウェイクアップ信号を選択的に送信することとを行うように構成される基地局。
【手続補正書】
【提出日】令和3年2月17日(2021.2.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ユーザ機器(UE)によるワイヤレス通信の方法であって、
セルのシステム帯域幅値を識別するステップと、
UE帯域幅能力を識別するステップと、
前記システム帯域幅値および前記UE帯域幅能力に基づいて、UE固有の帯域幅を各々が有するUE固有の帯域幅部分のセットを決定するステップであって、
各帯域幅部分は、コンポーネントキャリアとして使用され得るシステム帯域幅の一部である、ステップと、
前記UE固有の帯域幅部分のセットのうちの少なくとも1つの帯域幅部分において検出するステップによって、物理ブロードキャストチャネル(PBCH)または同期信号のうちの少なくとも1つのプレゼンスを決定するステップと、
前記PBCHまたは前記同期信号のうちの少なくとも1つの前記プレゼンスに基づいて、1つまたは複数の他のチャネルに対するレートマッチングを実行するステップと、
前記UE固有の帯域幅部分のセットのうちの少なくとも1つの帯域幅部分を使用して前記セルと通信するステップと
を含む、方法。
【請求項２】
前記UE固有の帯域幅部分のセットの各々の帯域幅部分が、同じ帯域幅を有する、請求項1に記載の方法。
【請求項３】
前記UE固有の帯域幅部分のセットのうちの少なくとも2つの帯域幅部分が、異なる帯域幅を有する、請求項1に記載の方法。
【請求項４】
前記UE固有の帯域幅部分のセットが、前記システム帯域幅値に実質的に対応する周波数範囲を有する単一の帯域幅部分を含む、請求項1に記載の方法。
【請求項５】
前記システム帯域幅値に関連付けられた基準帯域幅を有する帯域幅部分の基準セットを決定するステップをさらに含み、
前記UE固有の帯域幅部分のセットを決定するステップが、帯域幅部分の前記基準セットに基づいて決定するステップを含む、請求項1に記載の方法。
【請求項６】
通信に関して前記UE固有の帯域幅部分のセットを監視するステップをさらに含む、請求項1に記載の方法。
【請求項７】
前記UE固有の帯域幅部分のセットのうちの少なくとも1つの帯域幅部分において検出するステップが、前記UE固有の帯域幅部分のセットのうちの第1の帯域幅部分において前記PBCHまたは前記同期信号のうちの少なくとも1つの前記プレゼンスを検出するステップを含み、
前記UE固有の帯域幅部分のセットのうちの前記第1の帯域幅部分において前記プレゼンスを前記検出するステップに基づいて、前記UE固有の帯域幅部分のセットのうちの第2の帯域幅部分の前記1つまたは複数の他のチャネルに対するタイミングトラッキングまたは周波数トラッキングのうちの少なくとも1つを実行するステップをさらに含む、請求項1に記載の方法。
【請求項８】
前記PBCHおよび前記同期信号のうちの少なくとも1つの前記プレゼンスを決定するステップが、基地局によって送信されたプレゼンスインジケータを受信するステップをさらに含む、請求項1に記載の方法。
【請求項９】
前記UE固有の帯域幅部分のセットの帯域幅部分アグリゲーションを実行するステップをさらに含み、
前記UE固有の帯域幅部分のセットが、帯域内連続帯域幅、帯域内非連続帯域幅、または帯域間非連続帯域幅のうちの1つを含む、請求項1に記載の方法。
【請求項１０】
受信または送信された信号に関連付けられたランダムシーケンスが、広帯域シーケンスに対応すると決定するステップをさらに含み、
前記UE固有の帯域幅部分のセットのうちの少なくとも1つの帯域幅部分に対する前記広帯域シーケンスの一部を利用するステップをさらに含み、
前記受信または送信された信号が、復調基準信号(DM-RS)である、請求項1に記載の方法。
【請求項１１】
受信または送信された信号に関連付けられたランダムシーケンスが、帯域幅部分固有のシーケンスに対応すると決定するステップをさらに含み、かつ
広帯域シーケンスを定義するために、前記UE固有の帯域幅部分のセットの各々の帯域幅部分からのそれぞれの帯域幅部分固有のシーケンスを組み合わせるステップをさらに含む、請求項1に記載の方法。
【請求項１２】
受信または送信された信号に関連付けられた広帯域ベースのランダムシーケンスまたは狭帯域ベースのシーケンスが、すべてのチャネルまたは信号にわたって利用されると決定するステップをさらに含む、請求項1に記載の方法。
【請求項１３】
受信または送信された信号に関連付けられた広帯域ベースのランダムシーケンスまたは狭帯域ベースのシーケンスが、異なるチャネルまたは信号間で異なると決定するステップをさらに含む、請求項1に記載の方法。
【請求項１４】
前記通信するステップが、前記UE固有の帯域幅部分のセットのうちの1つの帯域幅部分の周波数範囲の境界内で定義される周波数サブバンド内でチャネル品質関連の信号を送信または受信するステップをさらに含む、請求項1に記載の方法。
【請求項１５】
ワイヤレス通信のためのユーザ機器(UE)であって、
命令を記憶するメモリと、
前記メモリと通信している少なくとも1つのプロセッサと
を備え、前記少なくとも1つのプロセッサが、
セルのシステム帯域幅値を識別し、
UE帯域幅能力を識別し、
前記システム帯域幅値および前記UE帯域幅能力に基づいて、UE固有の帯域幅を各々が有するUE固有の帯域幅部分のセットを決定し、
前記UE固有の帯域幅部分のセットのうちの少なくとも1つの帯域幅部分を使用して前記セルと通信する
ための命令を実行するように構成され、各帯域幅部分は、コンポーネントキャリアとして使用され得るシステム帯域幅の一部である、ユーザ機器(UE)。
【手続補正書】
【提出日】令和3年3月15日(2021.3.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
航空機内のセルラーネットワークを監視する方法であって、
ノイズ生成ユニットに動作可能に結合された汎用制御システムを備えるネットワーク制御ユニットを提供すること、
前記ノイズ生成ユニットを使用して、第１の信号構成を有する第１のノイズ信号を生成すること、
機内の複数のセルラー基地局のうちの少なくとも１つに供給された電力または当該少なくとも１つから受信した電力を監視すること、
前記複数のセルラー基地局のうちの少なくとも１つに供給された電力の損失または当該少なくとも１つから受信した電力の損失を特定すること、
前記複数のセルラー基地局のうちの少なくとも１つに供給された電力の損失または当該少なくとも１つから受信した電力の損失を特定したときに、前記第１の信号構成とは異なる第２の信号構成を有する第２のノイズ信号を前記ノイズ生成ユニットにより生成すること、を備え、
前記第１の信号構成は、前記複数のセルラー基地局の周波数と重複する周波数の広帯域伝送、周波数範囲が減衰されるノッチを含む広帯域伝送、および本質的に送信が行われない周波数サブレンジを含む広帯域伝送からなる群から選択される、方法。
【請求項２】
前記第２の信号構成は、前記複数のセルラー基地局の周波数と重複する周波数の広帯域伝送、周波数範囲が減衰されるノッチを含む広帯域伝送、および本質的に送信が行われない周波数サブレンジを含む広帯域伝送からなる群から選択される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記複数のセルラー基地局のうちの少なくとも１つに供給された電力に関連する情報が前記ノイズ生成ユニットに向けられる、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
前記複数のセルラー基地局のうちの少なくとも１つから受信した電力がブロードキャスト電力である、請求項１〜３のうちのいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
前記ブロードキャスト電力が、前記ノイズ生成ユニットに通信可能に結合されたアンテナから受信される、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
航空機内のセルラーネットワークを監視するためのシステムであって、
汎用制御システムを備えるネットワーク制御ユニットと、
前記ネットワーク制御ユニットに動作可能に結合され、第１の信号構成を有する第１のノイズ信号および第２の信号構成を有する第２のノイズ信号を生成するように構成されたノイズ生成ユニットと、を備え、
前記ネットワーク制御ユニットと前記ノイズ生成ユニットのうちの一方は、機内の複数のセルラー基地局のうちの少なくとも１つに供給された電力または当該少なくとも１つから受信した電力を監視し、前記複数のセルラー基地局のうちの少なくとも１つに供給された電力の損失または当該少なくとも１つから受信した電力の損失を特定し、前記複数のセルラー基地局のうちの少なくとも１つに供給された電力の損失または当該少なくとも１つから受信した電力の損失を特定したときに、前記第１のノイズ信号から前記第２のノイズ信号へ移行するように前記ノイズ生成ユニットに対して指示するように構成されたアルゴリズムを備え、
前記第２の信号構成は、前記複数のセルラー基地局の周波数と重複する周波数の広帯域伝送、周波数範囲が減衰されるノッチを含む広帯域伝送、および本質的に送信が行われない周波数サブレンジを含む広帯域伝送からなる群から選択される、システム。
【請求項７】
前記第１の信号構成は、前記複数のセルラー基地局の周波数と重複する周波数の広帯域伝送、周波数範囲が減衰されるノッチを含む広帯域伝送、および本質的に送信が行われない周波数サブレンジを含む広帯域伝送からなる群から選択される、請求項６に記載のシステム。
【請求項８】
前記複数のセルラー基地局のうちの少なくとも１つに供給された電力に関連する情報が前記ノイズ生成ユニットに向けられる、請求項６または７に記載のシステム。
【請求項９】
前記複数のセルラー基地局のうちの少なくとも１つから受信した電力がブロードキャスト電力である、請求項６〜８のうちのいずれか一項に記載のシステム。
【請求項１０】
前記複数のセルラー基地局のうちの少なくとも１つからの伝送を受信するように構成され、前記ノイズ生成ユニットに通信可能に結合されたアンテナをさらに備える請求項９に記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】令和3年3月3日(2021.3.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
以上、本発明の各種実施形態について説明したが、これらの例示的実施形態は例示であり、本発明の範囲はこれに限定されるものではない。当業者であれば、本発明の詳細な説明及び添付の図面を参照して、以下の特許請求の範囲によって定義される本発明の趣旨及び範囲から逸脱することなく、様々な変更及び修正が可能であることが理解されるであろう。したがって、本発明の保護範囲は、以下の特許請求の範囲だけでなく、これらの同等物も含むものと解釈すべきである。
なお、以上の各実施形態に加えて以下の態様について付記する。
（付記１）
無線充電システムであって、
入力端子に入力される第１の直流電圧を第２の直流電圧にブーストするように構成されたブーストコンバータと、
前記ブーストコンバータから前記ブーストされた第２の直流電圧を受け取り、前記受け取った第２の直流電圧を交流電力に変換するように構成されたＤＣ／ＡＣインバータと、
前記ＤＣ／ＡＣインバータに電気的に接続されて、前記交流電力からの無線供給のための時間的に可変な磁界を生成する送信コイル構造と、
を備え、
前記ブーストコンバータから出力された前記第２の直流電圧が、６Ｖ〜７Ｖの範囲内の所定の固定値に維持され、
前記送信コイル構造が、磁気シート上にワイヤを複数回巻くことによって、内径ｒｉｎと外径ｒｏｕｔとを有する円形状に形成される、又は一辺２ｒｏｕｔの正方形状に形成される、無線充電システム。
（付記２）
前記ブーストコンバータが、前記無線充電システムの外部に配設された電源装置と前記ＤＣ／ＡＣインバータとの間に配設されて、前記電源装置の供給電圧とは異なる所定のブースト電圧を前記ＤＣ／ＡＣインバータに印加する、付記１に記載の無線充電システム。
（付記３）
前記無線充電システムが、非接触方式で無線通信デバイスに電力を供給する、付記１又は２に記載の無線充電システム。
（付記４）
前記第１の直流電圧が、４．５Ｖ〜５．０Ｖの範囲内の値である、付記２に記載の無線充電システム。
（付記５）
前記送信コイル構造を形成する前記ワイヤの断面半径ｒ０が０．６４５ｍｍであり、前記巻きワイヤの内径ｒｉｎが９．６５ｍｍであり、外径ｒｏｕｔが２４ｍｍであり、前記巻きワイヤのピッチｐが１．３９ｍｍであり、前記コイルの巻き数Ｎが１１である、付記４に記載の無線充電システム。
（付記６）
前記ブーストコンバータによってブーストされた前記第２の直流電圧の前記所定の固定値が６Ｖであるとき、
（ｉ）前記送信コイル構造の中心から受信コイル構造までの垂直距離Ｚが５ｍｍであり、前記受信コイル構造の中心と前記送信コイル構造の中心との間の水平方向の変位が１３．９ｍｍである場合、前記中心における充電効率が７５％以上であり、
（ｉｉ）前記垂直距離Ｚが８ｍｍ、前記水平方向の変位が１１．７ｍｍである場合、前記中心における充電効率が７０％以上である、付記５に記載の無線充電システム。
（付記７）
前記送信コイル構造が、異なる断面積を有するワイヤを直列に接続することによって形成された複数のコイル構造を含む、付記１に記載の無線充電システム。
（付記８）
前記複数のコイル構造が、第１のコイル構造と、前記第１のコイル構造上に積層された第２のコイル構造とを含み、前記第２のコイル構造を形成するワイヤの断面半径が、前記第１のコイル構造を形成するワイヤの断面半径よりも小さい、付記７に記載の無線充電システム。
（付記９）
前記複数のコイル構造が、第１のコイル構造及び第２のコイル構造を含み、前記第１のコイル構造及び前記第２のコイル構造が、同じ平面上に配置される、付記７に記載の無線充電システム。
（付記１０）
前記第１のコイル構造及び前記第２のコイル構造が、異なるピッチで形成される、付記８又は９に記載の無線充電システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
無線充電システムであって、
入力端子に入力される第１の直流電圧を第２の直流電圧にブーストするように構成されたブーストコンバータと、
前記ブーストコンバータから前記ブーストされた第２の直流電圧を受け取り、前記受け取った第２の直流電圧を交流電力に変換するように構成されたＤＣ／ＡＣインバータと、
前記ＤＣ／ＡＣインバータに電気的に接続されて、前記交流電力からの無線供給のための時間的に可変な磁界を生成する送信コイル構造と、
を備え、
前記ブーストコンバータから出力された前記第２の直流電圧が、６Ｖ〜７Ｖの範囲内の所定の固定値に維持され、
前記送信コイル構造が、磁気シート上にワイヤを複数回巻くことによって、内径ｒｉｎと外径ｒｏｕｔとを有する円形状に形成される、又は一辺２ｒｏｕｔの正方形状に形成される、無線充電システム。
【請求項２】
前記ブーストコンバータが、前記無線充電システムの外部に配設された電源装置と前記ＤＣ／ＡＣインバータとの間に配設されて、前記電源装置の供給電圧とは異なる所定のブースト電圧を前記ＤＣ／ＡＣインバータに印加する、請求項１に記載の無線充電システム。
【手続補正書】
【提出日】令和3年3月5日(2021.3.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
正端子；
マイナス端子；そして
ハウジング；を備えたバッテリーであって、
前記ハウジングは、
電源；  そして
正端子、負端子、および電源に動作可能に接続された電圧調整装置；を備え、
バッテリーは、正端子と負端子の間の出力電圧を有し、
電圧調整装置は、電圧調整装置の動作モードを選択するように構成されたスイッチを備え、
さらに、電圧調整装置は、出力電圧をプログラムされた可変レベルに調整するように構成されている、バッテリー。
【請求項２】
前記スイッチは、前記電圧調整装置の低電力動作モードと前記電圧調整装置のアクティブ動作モードとの間で切り替えるように動作可能である、請求項１に記載のバッテリー。
【請求項３】
前記スイッチは、前記電源の電圧を監視し、電源電圧が、
ｉ）第１の所定の閾値電圧を下回ることと、
ｉｉ）第２の所定の閾値電圧を上回ること、
のいずれかになった時に、前記電圧調整装置を前記低電力動作モードと前記アクティブ動作モードとの間の移行を行わせるように構成されている、請求項２に記載のバッテリー。
【請求項４】
前記スイッチは、バッテリー充電器への接続又は当該バッテリー充電器からの切断を検出し、検出時に、電圧調整装置を前記低電力動作モードと前記アクティブ動作モードとの間で移行するように構成されている、請求項２又は３のいずれか一項に記載のバッテリー。
【請求項５】
前記電圧調整装置は、切断モードをさらに備え、前記バッテリー端子は、前記切断モードで前記電源から動作可能に切断される、請求項１〜４のいずれか一項に記載のバッテリー。
【請求項６】
前記スイッチは、前記電源の電圧が、
ｉ）第３の所定の閾値を下回ること、
ｉｉ）第４の所定の閾値電圧を上回ること、
のいずれかになった時に、前記電圧調整装置を前記切断モードと前記低電力又はアクティブ動作モードとの間の移行を行わせるように構成されている、請求項２に記載のバッテリー。
【請求項７】
前記スイッチは、物理的起動手段を備え、
前記物理起動手段は、ボタン；磁気スイッチ；または取り外し可能な断熱タブの少なくとも１つを含む、請求項１〜６のいずれか一項に記載のバッテリー。
【請求項８】
前記アクティブ動作モードにおいて、前記電圧調整装置は、プログラムされた可変レベルで前記出力電圧を調整し、前記低電力動作モードにおいて、前記電圧調整装置は、出力電圧を調整しない、請求項２〜７のいずれか一項に記載のバッテリー。
【請求項９】
前記電圧調整装置は、前記出力電圧を、前記電源の電圧未満の又は前記電源の電圧を超えているプログラムされた可変レベルに調整するように構成された少なくとも１つの第１調整器を備える、請求項１〜８のいずれか一項に記載のバッテリー。
【請求項１０】
前記電圧調整装置は、バッテリー充電器によって提供される電圧を前記内部電源を充電するための電圧に調整するように構成された少なくとも１つのレギュレータをさらに備える、請求項１〜９のいずれか一項に記載のバッテリー。
【請求項１１】
前記バッテリーは、前記正端子、前記負端子、前記電源、および前記電圧調整装置の１つ以上の構成要素に動作可能に接続されたコントローラをさらに備え、
前記コントローラは、以下のうちの１つ以上を実行するように構成されている、
ｉ）電源電圧が所定のレベルまで低下した場合、より低い出力電圧を提供する、
ｉｉ）電源の電流フローおよび／またはプログラムされた可変レベルに従って出力電圧を調整する、
ｉｉｉ）バッテリーが放電の終わりに近づいたときに表示を提供するために、電源の電流および／または電圧レベルを監視する、
請求項１〜１０のいずれか一項に記載のバッテリー。
【請求項１２】
前記電圧調整装置は、バッテリー充電器への接続を決定するように適合された少なくとも１つのセンサーを備え、前記少なくとも１つのセンサーは、以下の１つ以上を実行するように適合される、請求項１１に記載のバッテリー。
ｉ）充電器からの電圧を検出することにより、充電器への接続を決定する、
ｉｉ）充電器からの電流を検出することにより、充電器への接続を決定する、
ｉｉｉ）電源を充電するための充電器の検出電圧を調整するために、コントローラに電圧情報を提供する、または
ｉｖ）電源を充電するためのバッテリー充電器の検出電圧を調整するために、コントローラに電流情報を提供する。
【請求項１３】
前記電圧調整装置は、前記コントローラに動作可能に接続された少なくとも１つの電流センサーを備え、前記少なくとも１つの電流センサーは、以下の２つ以上を検出するように適合される、請求項１１又は１２に記載のバッテリー。
ｉ）使用中にユーザーの製品／装置によって消費される電流、
ｉｉ）放電中に電源で使用されている電流、
ｉｉｉ）電源から排出される電流、そして
ｉｖ）電源が再充電可能な場合、電源の再充電に使用される電流。
【手続補正書】
【提出日】令和3年3月3日(2021.3.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
方法における使用のための免疫抑制剤を含む合成ナノキャリアを含む組成物であって、必要とする対象に、１）該組成物と、２）ウリカーゼを含む組成物とを併用投与することを含み；および、さらに、３）抗炎症性治療剤を含む組成物を投与することを含み、ここで、抗炎症性治療剤を含む組成物が、免疫抑制剤を含む合成ナノキャリアを含む組成物およびウリカーゼを含む組成物と併用して投与される、前記組成物。
【請求項２】
請求項１に記載の使用のための組成物であって、抗炎症性治療剤を含む組成物が、免疫抑制剤を含む合成ナノキャリアを含む組成物およびウリカーゼを含む組成物の前に投与される、前記組成物。
【請求項３】
請求項１または２に記載の使用のための組成物であって、抗炎症性治療剤が、前に、少なくとも１回、任意に一週間前に投与される、前記組成物。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項に記載の使用のための組成物であって、対象に、輸注反応治療剤を含む１つ以上の組成物を投与することをさらに含み、任意にここで、輸注反応治療剤を含む１つ以上の組成物が、抗ヒスタミン剤および／または副腎皮質ステロイドを含み、例えば、抗ヒスタミン剤が、フェキソフェナジンであり、および／または、副腎皮質ステロイドが、メチルプレドニゾロン、プレドニゾロンまたはデキサメタゾンである、前記組成物。 
【請求項５】
請求項４に記載の使用のための組成物であって、輸注反応治療剤を含む１つ以上の組成物が、免疫抑制剤を含む合成ナノキャリアを含む組成物およびウリカーゼを含む組成物よりも前に、少なくとも１回、投与され、任意にここで、（ａ）輸注反応治療剤を含む組成物が、免疫抑制剤を含む合成ナノキャリアを含む組成物およびウリカーゼを含む組成物の前に、少なくとも２回、投与され；および／または
（ｂ）輸注反応治療剤を含む組成物が、免疫抑制剤を含む合成ナノキャリアを含む組成物およびウリカーゼを含む組成物の２４時間以内に投与される、前記組成物。
【請求項６】
対象が、
（ａ）ヒトであり；および／または
（ｂ）上昇した血清尿酸レベルおよび／または望ましくない尿酸沈着を有する対象であり；および／または
（ｃ）高尿酸血症を有し；および／または
（ｄ）痛風または痛風に関連する状態を有し；および／または
（ｅ）急性痛風；痛風結節を伴うかまたはこれを伴わない慢性痛風；特発性痛風；慢性難治性痛風などの難治性痛風；続発性痛風；不特定痛風；心血管の状態、腎臓の状態、肺の状態、神経の状態、眼の状態、皮膚科学的状態または肝臓の状態に関連する痛風を有するか；または、痛風発作または痛風フレアを既に有した、請求項１〜５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
１）、２）および３）の組成物の投与が繰り返され、任意に、
（ａ）１）、２）および３）の組成物の投与が、毎月繰り返され；および／または
（ｂ）
各繰り返し投与の抗炎症性治療剤を含む組成物が、免疫抑制剤を含む合成ナノキャリアを含む組成物およびウリカーゼを含む組成物の対応する繰り返し投与の時間に対して相対的に、請求項２または３において定義されるとおりに与えられ；および／または
（ｃ）各繰り返し投与の抗炎症性治療剤を含む組成物が、免疫抑制剤を含む合成ナノキャリアを含む組成物およびウリカーゼを含む組成物の対応する繰り返し投与の時間に対して相対的に、請求項５において定義されるとおりに与えられる、請求項１〜６のいずれか一項に記載の使用のための組成物。
【請求項８】
以下：１）免疫抑制剤を含む合成ナノキャリアを含む組成物、および２）ウリカーゼを含む組成物を含み；およびさらに３）抗炎症性治療剤を含む組成物を投与することを含む、組成物。
【請求項９】
抗炎症性治療剤が、ＮＳＡＩＤ、コルヒチンまたはイブプロフェンである、請求項１〜８のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項１０】
輸注反応治療剤を含む１つ以上の組成物をさらに含み、任意に
輸注反応治療剤を含む１つ以上の組成物が、抗ヒスタミン剤および／または副腎皮質ステロイドを含み、例えば
抗ヒスタミン剤が、フェキソフェナジンであり、および／または
副腎皮質ステロイドが、メチルプレドニゾロン、プレドニゾロンまたはデキサメタゾンである、請求項１〜９のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項１１】
ウリカーゼが、ペグ化ウリカーゼであり、任意に
ペガドリカーゼまたはペグロチカーゼである、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項１２】
免疫抑制剤が、（ａ）ｍＴＯＲ阻害剤であり、任意にラパログであり、例えばラパマイシンであり；および／または
免疫抑制剤が、（ｂ）合成ナノキャリア中に被包される、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項１３】
合成ナノキャリアが、ポリマー性合成ナノキャリアであり、任意にここで：（ａ）ポリマー性合成ナノキャリアが、疎水性ポリエステルを含み、例えば
疎水性ポリエステルが、ＰＬＡ、ＰＬＧ、ＰＬＧＡまたはポリカプロラクトンを含み；および／または
（ｂ）ポリマー性合成ナノキャリアが、ＰＥＧをさらに含み、任意に
ＰＥＧが、ＰＬＡ、ＰＬＧ、ＰＬＧＡまたはポリカプロラクトンに抱合しており、例えばポリマー性合成ナノキャリアが、ＰＬＡ、ＰＬＧ、ＰＬＧＡまたはポリカプロラクトン、およびＰＬＡ、ＰＬＧ、ＰＬＧＡまたはポリカプロラクトンに抱合しているＰＥＧを含み、例えばポリマー性合成ナノキャリアが、ＰＬＡおよびＰＬＡ−ＰＥＧを含む、請求項１〜１２のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項１４】
合成ナノキャリアの動的光散乱を用いて得られた粒子サイズ分布の平均値が、（ａ）１２０、１５０、２００または２５０ｎｍより大きな直径であり；および／または（ｂ）５００、４５０、４００、３５０、３００、２５０または２００ｎｍより小さい、請求項１〜１３のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項１５】
合成ナノキャリアの免疫抑制剤の充填量が、７〜１２重量％または８〜１２重量％であり、任意に
（ａ）７〜１０重量％または８〜１０重量％であり；または
（ｂ）７重量％、８重量％、９重量％、１０重量％、１１重量％、または１２重量％である、請求項１〜１４のいずれか一項に記載の組成物。