Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成16年4月28日(2004.4.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
大気環境中の塗装金属体表面の任意の部分に、塩化物イオンを含む電解液を電解した際に酸素発生が支配的な耐久性電極を該金属体と電気的に絶縁して装着し、該耐久性電極周囲の塗装金属体表面の任意の範囲を親水性層で被覆するとともに該耐久性電極周辺に該親水性層とに接する保水層を装着し、該耐久性電極を直流電源装置の正極に、該塗装金属体を該直流電源装置の負極に接続して構成したことを特徴とする大気環境中の塗装金属体の電気防食装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかるに、電解質の中で、塩化物イオンを含む電解液中での電機分解における陽極反応には、
２Ｃ1-→Ｃ１2＋２e-                        （１）
Ｈ2Ｏ→１／２Ｏ2＋２Ｈ+２ｅ-               （２）
の２つがあるが、上記した白金および白金族金属を始めとして、従来から電気防食用の不溶性陽極として使用されているものは表１に示すように（１）の反応が支配的である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために本発明の大気環境中の塗装金属体の電気防食装置は、大気環境中の塗装金属体表面の任意の部分に、塩化物イオンを含む電解液を電解した際に酸素発生が支配的な耐久性電極を該金属体と電気的に絶縁して装着し、該耐久性電極周囲の塗装金属体表面の任意の範囲を親水性層で被覆するとともに該耐久性電極周辺に該親水性層とに接する保水層を装着し、該耐久性電極を直流電源装置の正極に、該塗装金属体を該直流電源装置の負極に接続したものである。
【手続補正書】
【提出日】平成16年4月1日(2004.4.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５６】
以上説明したように、本発明のスパッタリング装置２、５２では、基板１２が回転しても、各スパッタリングカソード３1〜３6が回転してもよい。要するに、基板１２と各スパッタリングカソード３1〜３6とが相対的に回転し、各スパッタリングカソード３1〜３6の中心が、基板ホルダの相対回転の中心軸線を中心とする同心円上に配置されていればよく、基板１２とスパッタリングカソード３1〜３6とが両方とも回転するスパッタリング装置も含まれる。
【手続補正書】
【提出日】平成16年5月25日(2004.5.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
表１の比較例１はシリカおよび樹脂の配合されていない標準的なゴム組成物である。比較例２はシリカを配合し樹脂を配合しないもの、比較例５は逆にシリカを配合せず樹脂を配合したものである。比較例２は比較例１に比しウエット性能は向上するもののドライ性能が低下している。また、比較例５は比較例１に比しドライ性能は向上するもののウエット性能が低下している。一方、比較例３および比較例４は、シリカおよび本発明で特定する樹脂以外の樹脂が配合されているゴム組成物である。これらはウエット性能は向上するが、ドライ性能の向上はみられない。これに対し、実施例１〜３は本発明で特定する樹脂とシリカを規定量配合したものである。これは実施例は、いずれも比較例対比性能が向上しており、特にウェット性能とドライ性能のバランスが良好である。
【手続補正書】
【提出日】平成16年6月29日(2004.6.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）とポリウレタン（ＰＵ）とからなり、両者が均一に混合されていることを特徴とするブレンド物。
【請求項２】
ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）とポリウレタン（ＰＵ）とからなり、両者が均一に混合され、透明であることを特徴とする成形品。
【請求項３】
ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）とポリウレタン（ＰＵ）とを両者の共通溶媒に溶解させた後、貧溶媒に注入することを特徴とするブレンド物の製造方法。
【請求項４】
共通溶媒が、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）又はジメチルホルムアマイド（ＤＭＦ）である請求項３に記載のブレンド物の製造方法。
【請求項５】
貧溶媒が、メタノールである請求項３又は４に記載のブレンド物の製造方法
【請求項６】
ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）とポリウレタン（ＰＵ）とを両者の共通溶媒に溶解させた後、貧溶媒に注入してブレンド物を得た後、これを乾燥し、熱成形することを特徴とする成形品の製造方法。
【請求項７】
共通溶媒が、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）又はジメチルホルムアマイド（ＤＭＦ）である請求項６に記載の成形品の製造方法。
【請求項８】
貧溶媒が、メタノールである請求項６又は７に記載の成形品の製造方法。
【請求項９】
１００〜１８０℃の温度で熱成形する請求項６〜８のいずれかに記載の成形品の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年5月11日(2005.5.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１）下記式Ｉ
グリコシル−Y−〔-C(=Y)-X-〕p-W(R)n-X-C(=Y)−活性化合物   (Ｉ)
〔式中、グリコシルは酵素的に開裂されうる多糖、オリゴ糖または単糖であり、Ｗは共役二重結合を有する芳香族、複素芳香族もしくは脂肪族の基またはグリコシル基の開裂後に環化するアミノ酸誘導体であり、ここで置換基については、Ｒは水素原子、メチル、メトキシ、カルボニル、ＣＮ、メチルカルボニル、ヒドロキシル、ニトロ、フッ素、塩素、臭素、スルホニル、スルホンアミドまたはスルホン−(Ｃ1〜Ｃ4)−アルキルアミドであり、ｐは０または１であり、ｎは整数であり、Ｘは酸素原子、ＮＨ、メチレンオキシ、メチレンアミノまたはメチレン−(Ｃ1〜Ｃ4)−アルキルアミノであり、Ｙは酸素原子またはＮＨであり、そして活性化合物はヒドロキシル、アミノまたはイミノ基を介して連結した生物活性を有する化合物である〕の化合物および／または式Ｉの化合物の生理学的に許容されうる塩、
２）糖および／または糖アルコール、および
３）薬学的に許容されうる担体
を含有する製剤。
【請求項２】
２価のイオンが更に存在する請求項１記載の製剤。
【請求項３】
製剤が溶液として存在し、Ｃａ2+イオン、マンニトールおよび化合物II：
【化１】
1999029497.tif 000001
を含有する請求項２記載の製剤。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
Ｃａ／マンニトール中化合物IIを３×１２０mg／kgでMacaca fascicularis monkeyに静脈内投与した実験においても同様に有利な観察結果が得られた。このように極めて高用量においても供試動物は重篤な副作用の兆候を示すことなく生存した。０.１Ｍ リン酸塩緩衝液pH７.３５中の化合物IIの溶液は最高１×４０mg／kgの用量まで許容性が認められた。これらの試験によれば、化合物IIは本発明のＣａ／マンニトール中で有意に良好な許容性を示すのみならず、明らかにより高い活性を示すことが解った。
【手続補正書】
【提出日】平成16年7月14日(2004.7.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＴＣＦ−IIを有効成分とする放射線障害予防及び／又は治療剤。
【請求項２】
ＴＣＦ−IIを有効成分とする放射線障害予防及び／又は治療剤であって、該放射線障害が放射線治療における放射線照射によるものである、放射線障害予防及び／又は治療剤。
【請求項３】
ＴＣＦ−IIを有効成分とする、放射線照射による白血球減少抑制剤であって、該放射線照射の照射量が全身照射での亜致死線量である、白血球減少抑制剤。
【請求項４】
ヒトＴＣＦ−IIを有効成分として０．６〜６００ｍｇ含有する、放射線照射による白血球減少抑制剤であって、該放射線照射の照射量が全身照射での亜致死線量である、白血球減少抑制剤。
【請求項５】
ヒトＴＣＦ−IIを有効成分として６〜６０ｍｇ含有する、放射線照射による白血球減少抑制剤であって、該放射線照射の照射量が全身照射での亜致死線量である、白血球減少抑制剤。
【手続補正書】
【提出日】平成16年5月20日(2004.5.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、電子材料用洗浄水に関する。さらに詳しくは、本発明は、微粒子により汚染された半導体用シリコン基板、液晶用ガラス基板などの電子材料を、使用する薬剤の量が少なく、超音波を用いて、しかも効率よく高い汚染物除去率で洗浄することができる電子材料用洗浄水に関する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、微粒子により汚染された半導体用シリコン基板、液晶用ガラス基板などの電子材料を、使用する薬剤の量が少なく、しかも効率よく高い汚染物除去率で洗浄することができる電子材料用洗浄水を提供することを目的としてなされたものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
【発明の実施の形態】
本発明の電子材料用洗浄水は、溶存水素濃度が０.７mg／リットル以上飽和濃度以下であり、pHが６〜１２である超純水からなる洗浄水である。本発明の電子材料用洗浄水により洗浄することができる電子材料としては、例えば、半導体用シリコン基板、液晶用ガラス基板、精密電子部品、これらの製造装置の部品などを挙げることができる。
本発明に用いる超純水の製造方法には特に制限はなく、例えば、脱イオン水、蒸留水などの１次純水を、逆浸透膜、限外ろ過膜、精密ろ過膜などを用いて処理することによって得ることができる。本発明に用いる超純水は、２５℃における電気抵抗率が１８ＭΩ・cm以上であり、有機体炭素が１０μｇ／リットル以下であり、微粒子が１０,０００個／リットル以下であることが好ましい。
図１は、本発明の電子材料用洗浄水の製造工程の一態様の工程系統図である。超純水は、流量計１を経由して脱気膜装置２に送られる。脱気膜装置は、ガス透過膜を介して超純水と接する気相側が真空ポンプ３により減圧状態に保たれ、超純水中に溶存しているガス分が除去される。脱気された超純水は、次いで溶解膜装置４に送られる。溶解膜装置においては、水素供給器５から供給された水素ガスが気相側に送られ、ガス透過膜を介して超純水に供給される。溶存水素濃度が所定の値に達した超純水には、薬液貯槽６から薬注ポンプ７によりアンモニア水などの薬液が供給され、所定のpH値に調整される。水素を溶解し、アルカリ性となった超純水は、最後に精密ろ過装置８に送られ、ＭＦフィルターなどにより微粒子を除去して本発明の電子材料用洗浄水が得られる。
【手続補正書】
【提出日】平成16年6月7日(2004.6.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式（１）で表される加水分解性ケイ素基を有する重合体を含有する室温硬化性組成物であって、式（１）中のａが３である加水分解性ケイ素基を有する重合体（Ａ）、硬化触媒（Ｂ）、および、式（２）で表される基を有しかつ加水分解によりＲ２３ＳｉＯＨを生成するケイ素化合物（Ｃ）を含有する、室温硬化性組成物。
−ＳｉＸａＲ１３−ａ      ・・・（１）
（式（１）中、Ｒ１は炭素数１〜２０の置換または非置換の１価の有機基であり、Ｘは水酸基または加水分解性基であり、ａは１、２または３である。ただし、Ｒ１が複数個存在するときは同じでも異なってもよく、Ｘが複数個存在するときは同じでも異なってもよい。）
Ｒ２３−Ｓｉ−      ・・・（２）
（式（２）中、Ｒ２は炭素数１〜２０の置換または非置換の１価の炭化水素基、または水素原子であり、複数個のＲ２は同じでも異なってもよい。）
【請求項２】
式（１）中のａが１または２である加水分解性ケイ素基および式（１）中のａが３である加水分解性ケイ素基を併有する重合体を含有する、請求項１記載の室温硬化性組成物。
【請求項３】
式（１）中のａが１または２である加水分解性ケイ素基を有する重合体および式（１）中のａが３である加水分解性ケイ素基を有する重合体の両方を含有する、請求項１記載の室温硬化性組成物。
【請求項４】
式（１）で表される加水分解性ケイ素基を有する重合体が、加水分解性ケイ素基として式（１）中のａが３である加水分解性ケイ素基のみを有する重合体である、請求項１記載の室温硬化性組成物。
【請求項５】
重合体（Ａ）が、複合金属シアン化物錯体を触媒として開始剤にアルキレンオキシドを重合させて得られるポリオキシアルキレン鎖を主鎖とすることを特徴とする、請求項１、２、３または４記載の室温硬化性組成物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
これらのうち炭素原子を有する加水分解性基の炭素数は６以下が好ましく、４以下が特に好ましい。好ましいＸは炭素数４以下の低級アルコキシ基、特にメトキシ基、エトキシ基またはプロポキシ基が例示できる。またＸが複数個存在するときは同じでも異なってもよい。
【手続補正書】
【提出日】平成16年12月3日(2004.12.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項９】
−１０〜６０重量％の、少なくとも一種の式Ｉで表わされる化合物、
−５〜４０重量％の、少なくとも一種の式Ｉ”で表わされる化合物、
−０〜４０重量％の、少なくとも一種の式ＩＩで表わされる化合物、
−０〜３０重量％の、少なくとも一種の式ＩＩＩで表わされる化合物、
および
−５〜５０重量％の、少なくとも一種の式ＩＶで表わされる化合物、
を含有することを特徴とする、請求項８に記載の液晶媒体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１０】
−下記式Ｉａおよび／または式Ｉｂから選択される化合物の少なくとも一種、
【化８】
1999029771.tif 000001
下記式Ｉ*ａ〜式Ｉ*ｆから選択される化合物の少なくとも一種、
【化９】
1999029771.tif 000002
−下記式ＩＩａ、ＩＩｂ、ＩＩｃ、および／またはＩＩｄから選択される化合物の少なくとも一種、
【化１０】
1999029771.tif 000003
−式ＩＩＩａ、ＩＩＩｂおよびＩＩＩｃから選択される化合物の少なくとも一種、
【化１１】
1999029771.tif 000004
−式ＩＶａおよびＩＶｂから選択される化合物の少なくとも一種、
【化１２】
1999029771.tif 000005
を含有することを特徴とする、請求項８または９に記載の液晶媒体：
式Ｉ*ａ〜式Ｉ*ｆにおいて
ｚは１〜１２であり、
Ｒ*は、Ｈ、ＣＨ3、Ｃ2Ｈ5、またはｎ−Ｃ3Ｈ7であり、そして
Ｌ1とＬ2とはそれぞれ相互に独立して、ＨまたはＦであり、
式ＩＶａおよび式ＩＶｂにおいて、
【化１３】
1999029771.tif 000006
そして、
上記各式において、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｌ1およびＬ2はそれぞれ上記定義のとおりである。
【手続補正書】
【提出日】平成16年6月25日(2004.6.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
この分枝鎖状のオルガノポリシロキサンとしては、特に、Ｒ2ＳｉＯ2/2単位、ＲＳｉＯ3/2単位、およびＲ3ＳｉＯ1/2単位からなる重合体であることが好ましい。これらの単位中のＲとしては、メチル基、エチル基、プロピル基等のアルキル基；ビニル基、アリル基、ブテニル基、ヘキセニル基等のアルケニル基；フェニル基、トリル基等のアリール基；３，３，３−トリフロロプロピル基等のハロゲン化アルキル基等の一価炭化水素基が例示され、極少量の水酸基、さらにはメトキシ基等のアルコキシ基を有していてもよいが、この重合体中の少なくとも２個のＲはアルケニル基であることが必要である。また、これらの単位の比率は限定されないが、この重合体において、Ｒ2ＳｉＯ2/2単位が８０．００〜９９．６５モル％の範囲内の量であり、ＲＳｉＯ3/2単位が０．１０〜１０．００モル％の範囲内の量であり、および残りのモル％がＲ3ＳｉＯ1/2単位であることが好ましい。
【手続補正書】
【提出日】平成16年12月27日(2004.12.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
細菌嫌忌性および場合により細胞増殖阻止性のポリマー表面を製造するための方法において、
（ａ）一般式
式Ｉ：                Ｒ−（Ａ）ａ
［式中Ｒは価ａを有する脂肪族不飽和の有機基を表わし、
Ａはカルボキシル基−ＣＯＯＨ、硫酸基−ＯＳＯ２ＯＨ、スルホン酸基−ＳＯ３Ｈ、リン酸基−ＯＰＯ（ＯＨ）２、ホスホン酸基−ＰＯ（ＯＨ）２、亜リン酸基−ＯＰ（ＯＨ）２、フェノール性ヒドロキシル基または記述した基の塩を表わし、かつａは１、２または３を表わす］の少なくとも１種のモノマー、ただし、式Ｉのモノマーがカルボキシル基−ＣＯＯＨまたはカルボキシレート基を有する場合には、このモノマーはＡに対して記述した他の意味を有する少なくとも１種の別の基Ａを含有するか、あるいはＡに対し記述した他の意味を有する基Ａを含有する式Ｉの少なくとも１種の別のモノマーを一緒に使用する；および
（ｂ）少なくとも１種の他の脂肪族不飽和モノマー
をラジカル重合することによって得られる水不溶性ポリマーＡを使用することを特徴とする、細菌嫌忌性および場合により細胞増殖阻止性のポリマー表面の製造方法。
【請求項２】
（ｃ）成分Ｉとして、カルボキシル基および／またはカルボキシレート基を含有する少なくとも１種の脂肪族不飽和モノマーまたはこれらモノマーの相応する官能化誘導体、
（ｄ）成分ＩＩとして、スルホン酸基および／またはスルホネート基を含有する脂肪族不飽和モノマーまたはこれらモノマーの相応する官能化誘導体および
（ｂ）成分ＩＩＩとして、少なくとも１種の別の不飽和モノマー
をラジカル重合することによって得られる、水不溶性、細菌嫌忌性および場合により細胞増殖阻止性のポリマー、その際、相当する官能化誘導体は、必要である場合には、共重合後に、少なくとも表面上で、カルボキシル基またはカルボキシレート基またはスルホン酸基またはスルホネート基にそれぞれ変換される。
【請求項３】
成分（Ｉ＋ＩＩ）として、カルボキシル基および／またはカルボキシレート基ならびにスルホン酸基またはスルホネート基を含有する二官能価脂肪族不飽和モノマーを使用することを特徴とする請求項２記載のポリマー。
【請求項４】
成分Ｉと成分ＩＩとの全量がポリマーの０．５〜３０モル％であることを特徴とする請求項２または３記載のポリマー。
【請求項５】
ポリマー中に含まれているカルボキシル基またはカルボキシレート基とスルホン酸基またはスルホネート基とのモル比が０．４〜３であり、ポリマーが細菌嫌忌性および細胞増殖阻止性である表面を有することを特徴とする請求項２から４までのいずれか１項記載のポリマー。
【請求項６】
水不溶性、細菌嫌忌性および場合により細胞増殖阻止性のポリマーＢを製造するための方法において、
（ｃ）成分Ｉとして、カルボキシル基またはカルボキシレート基を含有する少なくとも１種の脂肪族不飽和モノマー、またはこれらのモノマーの相応する官能化誘導体、
（ｄ）成分ＩＩとして、スルホン酸基および／またはスルホネート基を含有する少なくとも１種の脂肪族不飽和モノマー、またはこれらのモノマーの相応する官能化誘導体および
（ｂ）成分ＩＩＩとして、少なくとも１種の脂肪族不飽和モノマー、
をラジカル共重合させ、その際、相当する官能化誘導体は必要である場合には、共重合後に、かつ少なくとも表面上で、それぞれカルボキシル基またはカルボキシレート基またはスルホン酸基またはスルホネート基に変換されていることを特徴とする、水不溶性、細菌嫌忌性および場合により細胞増殖阻止性のポリマーＢの製造方法。
【請求項７】
ポリマー中に含まれているカルボキシル基またはカルボキシレート基とスルホン酸基またはスルホネート基とのモル比が０．４〜３でありかつポリマー表面が細菌嫌忌性および細胞増殖阻止性であることを特徴とする請求項６に記載の方法。
【請求項８】
細菌嫌忌性および場合により細胞増殖阻止性の表面を有する製作物の製造方法において、請求項１から５までのいずれか１項記載のポリマーを用いて全部または部分的に製品を製造することか、あるいは請求項１から５までのいずれか１項に記載のポリマーで、プラスチック、セラミックまたは金属材料から成る製品の表面を被覆することを特徴とする、細菌嫌忌性および場合により細胞増殖阻止性の表面を有する製作物の製造方法。
【請求項９】
細菌嫌忌性および場合により細胞増殖阻止性の表面を有する製作物の製造方法において、プラスチック、セラミックまたは金属材料から成る製品の表面を、請求項１から５までのいずれか１項記載のポリマーで被覆することを特徴とする、細菌嫌忌性および場合により細胞増殖阻止性の被覆を有する製作物の製造方法。
【請求項１０】
請求項１から５までのいずれか１項に記載の水不溶性、細菌嫌忌性のポリマーからなる、細菌嫌忌性および場合により細胞増殖阻止性の表面を有する製品。
【請求項１１】
プラスチック、セラミックまたは金属材料から成る支持体および支持体表面の細胞嫌忌性被覆を含む製品において、被覆が、請求項１から５までのいずれか１項に記載の水不溶性、細菌嫌忌性のポリマーを含有することを特徴とする、製品。
【請求項１２】
成分Ｉがアクリル酸、メタクリル酸、ビニル酢酸、マレイン酸、ソルビン酸、カフェー酸およびフマル酸から選択されたカルボン酸であり、かつポリマー中で遊離カルボキシル基または生理学的に認容性の塩の形で存在し；
成分ＩＩがビニルスルホン酸、アリルスルホン酸、メタリルスルホン酸、ビニルベンゼンスルホン酸、ビニルトルエンスルホン酸およびビニルキシレンスルホン酸または生理学的に認容性のこれらの塩から成る群から選択されたスルホン酸であり、かつポリマー中に生理学的に認容性の塩の形で存在し；
成分ＩＩＩが水中でポリマーを不溶にするのに十分な量で含まれる非イオン性モノマーであり、かつ、ビニルアルキルケトン、ビニルエステル、アルキル（メト）アクリレート、（メト）アクリロニトリル、（メト）アクリルアミド、１−ブテン、１−ヘキセン、１，３−ブタジエン、イソプレン、クロロピレン、ビニルクロリド、ビニリデンクロリド、スチレン、メチルスチレン、ハロゲノスチレン、トリス（トリメチルシロキシ）−メタアクリロイルオキシプロピルシランおよびトリス（トリメチルシロキシ）−アクリロキシプロピルシランから成る群から選択されており；かつ、
成分ＩおよびＩＩは、Ｉ／ＩＩのモル比が０．４〜１０であり、かつポリマーに対して全量が０．５〜３０ｍｏｌ％である、請求項２に記載のポリマー。
【請求項１３】
Ｉ／ＩＩのモル比が０．４〜３である、請求項１２に記載のポリマー。
【手続補正書】
【提出日】平成16年11月29日(2004.11.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
メタノール及び硫化水素から成る出発物質気体混合物を蒸気相中で反応温度３００〜５００℃で作業圧力５〜１５バールで、酸化アルミニウムを基礎とする触媒床に接して反応させ、引き続きメチルメルカプタンを生成物気体混合物から吸着及び蒸留により分離し、使用されなかったメタノール及び硫化水素を循環させ、不活性気体及び廃水を除去し、使用したメタノール及び硫化水素を補充することによってメチルメルカプタンを連続的に製造するに当たり、出発物質気体混合物を下記方法：
ａ）硫化水素−新製気体を液体メタノールの添加下で中間圧まで圧縮し、
ｂ）循環させた硫化水素気体を新製気体と混合し、混合物を作業圧まで圧縮し、ｃ）更なるメタノールをメタノール蒸気の形で圧縮気体混合物に供給してメタノールに対する硫化水素のモル比１．１〜３を有する出発物質気体混合物を生じさせ、
ｄ）出発物質気体混合物を１５０〜２００℃の予熱温度まで加熱し、
ｅ）更に出発物質気体混合物を、触媒床の所で発生する反応熱と熱交換して反応温度まで加熱し、
ｆ）メタノール及び硫化水素を触媒床に接して反応させてメチルメルカプタンにする：によって得ることを特徴とする、メチルメルカプタンの連続的製法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年12月3日(2004.12.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）式：Ｒ1 a Ｈb ＳｉＸ4-a-b （式中、各Ｒ1 は１〜２０個の炭素原子を含有するアルキル、４〜１２個の炭素原子を含有するシクロアルキル、及びアリールから独立に選ばれ、各Ｘはハロゲン原子から独立に選ばれ、ａは０〜３の値であり、ｂは１〜３の値であるが、ａ＋ｂは１〜４の値である。）により表される水素化ケイ素と
（Ｂ）(i) 置換及び非置換不飽和有機化合物、
(ii)  置換または非置換不飽和有機置換基を含有するケイ素化合物、並びに
(iii) (i) と(ii)の混合物、
から選ばれる不飽和反応物とを、白金化合物及び白金錯体から選ばれる白金触媒並びに１，７−オクタジイン、１，５−ヘキサジイン、５−ビニル−２−ノルボルネン、２，５−ビス（ｔ−ブチルペルオキシ）−２，５−ジメチルヘキサン、フラン、４Ｈ−ピラン−４−オン、無水マレイン酸、 cis−４，７−ジヒドロ−１，３−ジオキセピン及びジメチルジアリルマロネートから選ばれる促進剤の存在下で接触させることを含むヒドロシリル化方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年10月15日(2004.10.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（１）
【化１】
1998195063.tif 000001
［式中、Ｒ1 及びＲ2 はそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、置換基を有することもあるアルキル基、置換基を有することもあるシクロアルキル基、またはＲ1 とＲ2 が一緒になって形成する環を意味し；Ａは置換基を有することもあるフェニル基、置換基を有することもあるピリジル基、置換基を有することもあるフリル基、置換基を有することもあるチエニル基、置換基を有することもあるベンゾフラニル基、置換基を有することもあるベンゾ［ｂ］チエニル基、置換基を有することもあるベンゾオキサゾリル基、置換基を有することもあるベンゾチアゾリル基、置換基を有することもあるピリド［１，２−ａ］ピリミジニル基、置換基を有することもあるキナゾリニル基、置換基を有することもあるベンゾトリアジニル基、または置換基を有することもある２Ｈ−クロメニル基を意味し；Ｇ1 は酸素原子、カルボニル基、エチニル基、基−ＮＲ3 ＣＯ−、基−ＮＲ4 −、基−ＮＲ5 ＳＯ2 −、基−ＳＯ2 ＮＲ6 −、基−ＣＯＮＲ7 −、基−Ｃ（＝ＣＨＲ8 ）−、または、基−ＣＲ9 ＝ＣＲ10−（式中、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ6 、及びＲ7 は、水素原子、水酸基、または置換基を有することもあるアルキル基を意味し、Ｒ8 はシアノ基、カルボキシル基、または置換基を有することもあるアルコキシカルボニル基を意味し、Ｒ9 及びＲ10は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有することもあるアルキル基、置換基を有することもあるシクロアルキル基、置換基を有することもあるアリール基、またはＲ9 及びＲ10が一緒になって形成する環を意味する。）を意味し；Ｇ2 は置換基を有することもあるフェニル基、置換基を有することもあるピリジル基、置換基を有することもあるチアゾリル基、置換基を有することもあるイソオキサゾリル基、置換基を有することもあるチエニル基、置換基を有することもあるピリミジニル基、基−ＣＨＲ11−ＣＨＲ12−、または基−ＣＲ13＝ＣＲ14−（ＣＲ15＝ＣＲ16）ｙ−（ここで、式中、Ｒ11とＲ12は一緒になって形成する環を意味し、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、及びＲ16はそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、置換基を有することもあるアルキル基、置換基を有することもあるアリール基、Ｒ13とＲ14またはＲ15とＲ16が一緒になって形成する環を意味し、ｙは０から３の整数を意味する。）を意味し；ｍ及びｎは、それぞれ独立に、０または１の整数を意味し；Ｑはカルボキシル基、置換基を有することもあるアルコキシカルボニル基、−ＣＯＮＨ−（５−テトラゾリル）基、置換基を有することもある５−テトラゾリル基、置換基を有することもある１，２，３−トリアゾリル基、置換基を有することもある２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イリデニル基、置換基を有することもある４−オキソ−２−チオキソチアゾリジン−５−イリデニル基、置換基を有することもある５−オキソ−４−テトラゾリル基、置換基を有することもある３−（５−オキソ）−［１，２，４］オキサジアゾリジニル基、置換基を有することもある２−（３，５−ジオキソ）−［１，２，４］オキサジアゾリニル基、置換基を有することもある５−（３−オキソ）−［１，２，４］オキサジアゾリジニル基、または置換基を有することもある３−（５−オキソ）−イソオキサゾリジル基で表される基を意味する。）］
（ただし、ｍおよびｎが０であり、かつＱがカルボキシル基またはアルコキシカルボニル基である場合を除く。）で表される化合物及びそれらの塩。
【請求項２】
式（１）中のＲ1 が水素原子である請求項１に記載の化合物及びそれらの塩。
【請求項３】
式（１）中のＲ2 が置換基を有することもあるアルキル基または置換基を有することもあるシクロアルキル基である請求項１ないし２のいずれか１項に記載の化合物及びそれらの塩。
【請求項４】
式（１）中のＡが置換基を有することもあるフェニル基である請求項１ないし３のいずれか１項に記載の化合物及びそれらの塩。
【請求項５】
式（１）中のＡで示される基がフェニル基であり、２−エチニルチアゾリル基と−（Ｇ1)m −（Ｇ2 ）n −Ｑで表される基とがメタ配置である請求項１ないし４のいずれか１項に記載の化合物及びそれらの塩。
【請求項６】
式（１）中のＱが５−テトラゾリル基である請求項１ないし５のいずれか１項に記載の化合物及びそれらの塩。
【請求項７】
式（１）中のｍ及びｎが０である請求項１ないし６のいずれか１項に記載の化合物及びそれらの塩。
【請求項８】
式（１）中のｍ及びｎが１であり、Ｇ1 が−ＮＲ3 ＣＯ−であり、Ｇ2 が１または２以上の置換基を有することもあるフェニル基である請求項１ないし６のいずれか１項に記載の化合物及びそれらの塩。
【請求項９】
式（１）中のＧ2 が１または２以上の置換基を有することもあるフェニル基であり、Ｇ1 とＱとがパラ配置である請求項１ないし６または請求項８のいずれか１項に記載の化合物及びそれらの塩。
【請求項１０】
式（１）中のｍ及びｎが１であり、Ｇ1 が−ＮＲ3 ＣＯ−でありＧ2 が−ＣＲ13＝ＣＲ14−（ＣＲ15＝ＣＲ16）ｙ−である請求項１ないし６のいずれか１項に記載の化合物及びそれらの塩。
【請求項１１】
請求項１ないし１０のいずれか１項に記載の化合物又はそれらの塩からなる医薬。
【請求項１２】
請求項１ないし１０のいずれか１項に記載の化合物又はそれらの塩を有効成分として含有するアレルギー性疾患の治療及び／又は予防薬。
【請求項１３】
アレルギー性疾患がロイコトリエンが関与するアレルギー性疾患である請求項１２に記載の治療及び／又は予防薬。
【請求項１４】
アレルギー性疾患がヒスタミンが関与するアレルギー性疾患である請求項１２に記載の治療及び／又は予防薬。
【請求項１５】
アレルギー性疾患がロイコトリエン及びヒスタミンが同時に関与するアレルギー性疾患である請求項１２に記載の治療及び／又は予防薬。
【請求項１６】
５−（３−（２−（４−シクロブチル−２−チアゾリル）エチニル）フェニル）−１Ｈ−テトラゾール。
【請求項１７】
（Ｅ）−Ｎ−（３−（２−（４−シクロブチル−２−チアゾリル）エチニル）フェニル）−２−フルオロ−３−（１Ｈ−テトラゾール−５−イル）プロペンアミド。
【請求項１８】
Ｎ−（３−（２−（４−シクロブチル−２−チアゾリル）エチニル）フェニル）−２−フルオロ−４−（１Ｈ−テトラゾール−５−イル）ベンズアミド。
【手続補正書】
【提出日】平成16年5月14日(2004.5.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シリコーンエラストマーに硬化可能なオルガノシロキサン組成物であって：
（Ａ）１００重量部の、分子当り平均で少なくとも２個のケイ素結合したアルケニル基を有するアルケニル含有ポリジオルガノシロキサン；
（Ｂ）成分（Ａ）１００重量部当たり５〜１００重量部の、分子当り平均で少なくとも２個のケイ素結合した水素原子を有し、存在するオルガノ水素シロキサンの量が、成分（Ｂ）中のケイ素結合した水素原子の、成分（Ａ）中のケイ素結合したアルケニル基に対する比が、０．８：１〜３：１となるのに十分な量であるオルガノ水素シロキサン；
（Ｃ）オルガノシロキサン組成物を硬化させるのに十分な白金族触媒；及び
（Ｄ）成分（Ａ）１００重量部当り０．１〜１０重量部の、分子当たり平均で少なくとも２個のアルケニル基及び４００〜１５，０００ｇ／モルの数平均分子量（Ｍｎ）を有し、かつ実験式：
(R3SiO1/2)a (R2SiO2/2)b  (RSiO3/2)c (SiO4/2)d
（式中、ａ＞０、ｄ＞０、ｂ≧０、ｃ≧０、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＝１、０≦（ｂ＋ｃ）≦０．２であり、Ｒは、水素、ヒドロキシル、アルキル、アルケニル、アルコキシ、−ＯＺ及びＺ（但し、Ｚはフッ素原子含有基である）から独立に選択された一価の基である）
を有する、樹脂状オルガノシロキサンコポリマーを含んでなり、成分（Ａ）中の分子当たりのケイ素結合したアルケニル基の平均数と、成分（Ｂ）中の分子当たりのケイ素結合した水素原子の平均数との合計が４より大きい組成物。
【請求項２】
成分（Ｂ）のケイ素結合した有機基の少なくとも１個が、ペルフルオロブチルエチル及び３，３，３−トリフルオロプロピルから選択される、請求項１に記載のオルガノシロキサン組成物。
【請求項３】
容器からの炭化水素液体の漏洩を最少にする方法であって、（Ｉ）請求項１又は２に記載のオルガノシロキサン組成物を製造する工程；
（II）このオルガノシロキサン組成物を容器の表面に適用する工程；及び
(III)この組成物を硬化させる工程
からなる方法。
【請求項４】
容器からの炭化水素液体の漏洩を最少にする方法であって、（Ｉ）請求項１又は２に記載のオルガノシロキサン組成物を製造する工程；
（II）この組成物を硬化させてシリコーンエラストマーにする工程；及び
(III)硬化したエラストマーを容器の表面に付着させることによって容器をシールする工程
からなる方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年12月24日(2004.12.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フリーラジカル共重合により製造されていて、かつ
−成分（Ｉ）：カルボキシレート基を含有する少なくとも１種の脂肪族不飽和モノマーの繰り返し単位；
−成分（ＩＩ）：スルホネート基を含有する少なくとも１種の脂肪族不飽和モノマーの繰り返し単位；及び
−成分（ＩＩＩ）：成分（Ｉ）または（ＩＩ）の繰り返し単位以外の少なくとも１種の脂肪族不飽和モノマーの繰り返し単位
からなる、細胞増殖促進性の、水に不溶性のポリマー。
【請求項２】
成分（Ｉ）の繰り返し単位のカルボキシレート基が遊離カルボキシル基（−ＣＯＯＨ）またはその生理学的に認容性の塩であり；かつ成分（ＩＩ）の繰り返し単位のスルホネート基がスルホン酸基の生理学的に認容性の塩である、請求項１に記載のポリマー。
【請求項３】
カルボキシレート基対スルホネート基のモル比が３〜１０である、請求項１又は２に記載のポリマー。
【請求項４】
成分（Ｉ）及び成分（ＩＩ）の繰り返し単位の含分の合計が成分（Ｉ）、（ＩＩ）および（ＩＩＩ）の繰り返し単位の含分の合計に対して５〜３０モル％である、請求項１から３までのいずれか１項記載のポリマー。
【請求項５】
成分（Ｉ）の繰り返し単位が式（ＣｎＨ２ｎ-１）ＣＯＯＨ（ここで、ｎは２、３、４、５または６である）の遊離カルボン酸またはそのアルカリ金属塩であり；
成分（ＩＩ）の繰り返し単位が式：
【化１】
1998195143.tif 000001
（ここで、ｍは２、３、４、５または６であり、ｐは０、１、２または３）のスルホン酸のアルカリ金属塩であり、
成分（ＩＩＩ）の繰り返し単位がビニル化合物、アリル化合物、アクリル化合物、オレフィン、ジエンおよび不飽和ハロゲン化炭化水素からなる群から選択された少なくとも１種の非イオンモノマーである、請求項１から４までのいずれか１項記載のポリマー。
【請求項６】
−成分（Ｉ）：カルボキシレート基またはその相応する官能性化誘導体を含有する少なくとも１種の脂肪族不飽和モノマー；
−成分（ＩＩ）：スルホネート基またはその相応する官能性化誘導体を含有する少なくとも１種の脂肪族不飽和モノマー；及び
−成分（ＩＩＩ）：成分（Ｉ）または（ＩＩ）以外の少なくとも１種の脂肪族不飽和モノマー
をラジカル共重合してポリマーを形成し、かつ必要な場合には、共重合の後に１種または複数種の官能性化誘導体をカルボキシレート基またはスルホネート基またはカルボキシレート基およびスルホネート基に変換することからなる、請求項１から５までのいずれか１項記載の水に不溶性のポリマーの製法。
【請求項７】
細胞増殖促進性表面を有する製品を製造するための、請求項１から５までのいずれか１項記載の水に不溶性ポリマーの使用。
【請求項８】
製品が医療品である請求項７記載の使用。
【請求項９】
水不溶性のポリマーから成る細胞増殖促進性の被覆を有する製品を製造するための、請求項１から５までのいずれか１項記載の水に不溶性ポリマーの使用。
【請求項１０】
製品が前記被覆を有するプラスチック、セラミック又は金属材料から成る医療品である請求項９記載の使用。
【請求項１１】
基材および請求項１から５までのいずれか１項記載の水に不溶性のポリマーから成る細胞増殖促進性被覆層を有する製品。
【請求項１２】
医療品である請求項１１記載の製品。
【請求項１３】
請求項１から５までのいずれか１項記載の水に不溶性ポリマーから成り、細胞増殖促進性表面を有する製品。
【請求項１４】
医療品である、請求項１３記載の製品。
【請求項１５】
ヒトの身体に置くときヒト細胞を増殖促進する表面を有する医学的適用のための製品であって、この製品は水に不溶性のポリマーから形成されているかまたは基材上に水に不溶性のポリマーからなる被覆を有しており、その際この水に不溶性のポリマーは、
−成分（Ｉ）：アクリル酸、メタクリル酸またはその生理学的に認容性の塩の繰り返し単位；
−成分（ＩＩ）：スチレンスルホン酸の生理学的に認容性の塩の繰り返し単位；及び
−成分（ＩＩＩ）：ビニル化合物、アリル化合物、アクリル化合物、オレフィン、ジエンおよび不飽和ハロゲン化炭化水素からなる群から選択された非イオンモノマーからなる繰り返し単位；
から成るラジカル共重合製品であり、かつ、
その際、成分（Ｉ）及び成分（ＩＩ）の繰り返し単位の含分の合計が成分（Ｉ）、（ＩＩ）および（ＩＩＩ）の繰り返し単位の含分の合計に対して５〜３０モル％であり、繰り返し単位（Ｉ）対繰り返し単位（ＩＩ）のモル比が３〜１０である、
医療適用のための製品。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
実験式：
（Ｃ６Ｈ６-ｋ-ｉ-ｐ）ＫｋＬｉ（ＯＨ）ｐ
のベンゼンから誘導可能なモノマー成分も本発明によるポリマーを製造するために、例えば成分ＩＩとして好適であり、式中
Ｋ=（ＣｍＨ２ｍ-ｓ-ｙ-１）（ＳＯ３Ｒｌ）ｙ
（式中、ｄ=０、１、２、３又は４、ｅ=０、１、２又は３、ｉ=０、１、２又は３、ｋ=０、１、２又は３、ｍ=０、２、３、４、５又は６、ｐ=０、１、２又は３、ｓ=０又は２、ｙ=０、１又は２である）及び
Ｌ=−ＣＯＯＨ、−ＳＯ３Ｈ、−ＮＨ２、−Ｎ＋（ＣＨ３）３、−Ｏ−ＰＯ３Ｈ、−ＯＳＯ３Ｈ又はＬ=−Ｏ−ＰＯ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｎ＋（ＣＨ３）３を表わす。
【手続補正書】
【提出日】平成16年12月13日(2004.12.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも９０重量％の飽和物含量と少なくとも１０５の粘度指数を有する潤滑油基油を、潤滑油原料の溶剤精製によって得たラフィネートを選択的に水素転化することにより製造する方法であって、
（ａ）潤滑油原料を溶剤抽出域に導入して、芳香族に富む抽出物とパラフィンに富むラフィネートに分離し、
（ｂ）溶剤のラフィネートをストリッピングして、粘度指数が８５〜１０５で、最終沸点が６５０℃を越えない脱ロウ油を含有するラフィネート原料を製造し、
（ｃ）ラフィネート原料を第一の水素転化域に通し、そのラフィネート原料を非酸性触媒の存在下、３４０℃〜４２０℃の温度で、水素分圧が１０００〜２５００ｐｓｉｇ（７．０〜１７．３ｍＰａ）、空間速度が０．２〜３．０ＬＨＳＶ及び水素と原料との比が５００〜５０００Ｓｃｆ／Ｂ（８９〜８９０ｍ３／ｍ３）の条件で処理して、第一の水素転化されたラフィネートを得て、
（ｄ）第一の水素転化域で水素転化されたラフィネートを第二の水素転化域へ通し、その水素転化されたラフィネートを非酸性触媒の存在下、３４０℃〜４００℃で第一の水素転化域よりも高くない温度で、水素分圧が１０００〜２５００ｐｓｉｇ（７．０〜１７．３ｍＰａ）、空間速度が０．２〜３．０ＬＨＳＶ及び水素と原料との比が５００〜５０００Ｓｃｆ／Ｂ（８９〜８９０ｍ３／ｍ３）の条件で処理し、第二の水素転化されたラフィネートを得て、
（ｅ）第二の水素転化域で水素転化されたラフィネートを水素化仕上げ反応域へ通し、その第二の水素転化されたラフィネートを水素化仕上げ触媒の存在下、２６０℃〜３６０℃で第一の水素転化域よりも高くない温度で、水素分圧が１０００〜２５００ｐｓｉｇ（７．０〜１７．３ｍＰａ）、空間速度が０．２〜５ＬＨＳＶ及び水素と原料との比が５００〜５０００Ｓｃｆ／Ｂ（８９〜８９０ｍ３／ｍ３）の条件で低温水素化仕上げ処理し、水素化仕上げされたラフィネートを得て、
（ｆ）その水素化仕上げされたラフィネートを分離域へ通し、沸点が２５０℃以下の生成物を除去し、
（ｇ）その水素化仕上げされたラフィネートを分離域から脱ロウ域へ通し、ラフィネート原料よりも少なくとも１０以上粘度指数が高く、１００℃での粘度が３．５〜６．５ｃＳｔの範囲内で、同じ粘度におけるラフィネート原料のＮＯＡＣＫ蒸発量向上が少なくとも３重量％以上で、飽和物含量が少なくとも９０重量％で、ＩＰ３４６又はＦＤＡ（ｃ）試験に合格する低毒性を有し、粘度指数が少なくとも１０５である脱ロウされた基油を製造する、
以上の工程を含むことを特徴とする方法。
【請求項２】
潤滑油原料の溶剤精製によって得たラフィネートを選択的に水素転化する方法であって、
（ａ）潤滑油原料を溶剤抽出域に導入して、芳香族に富む抽出物とパラフィンに富むラフィネートに分離し、
（ｂ）その溶剤のラフィネートをストリッピングして、粘度指数が８５〜１０５で最終沸点が６５０℃を越えない脱ロウ油を含有するラフィネート原料を製造し、
（ｃ）そのラフィネート原料を第一の水素転化域に通し、ラフィネート原料を非酸性触媒の存在下、３４０℃〜４２０℃の温度で、水素分圧が１０００〜２５００ｐｓｉｇ（７．０〜１７．３ｍＰａ）、空間速度が０．２〜３．０ＬＨＳＶ及び水素と原料との比が５００〜５０００Ｓｃｆ／Ｂ（８９〜８９０ｍ３／ｍ３）の条件で処理し、第一の水素転化されたラフィネートを得て、
（ｄ）第一の水素転化域で水素転化されたラフィネートを第二の水素転化域へ通し、、その水素転化されたラフィネートを非酸性触媒の存在下、３４０℃〜４００℃で第一の水素転化域よりも高くない温度で、水素分圧が１０００〜２５００ｐｓｉｇ（７．０〜１７．３ｍＰａ）、空間速度が０．２〜３．０ＬＨＳＶ及び水素と原料との比が５００〜５０００Ｓｃｆ／Ｂ（８９〜８９０ｍ３／ｍ３）の条件で処理し、第二の水素転化されたラフィネートを得て、
（ｅ）第二の水素転化域からの水素転化されたラフィネートを水素化仕上げ反応域へ通し、その第二の水素転化されたラフィネートを水素化仕上げ触媒の存在下、２６０℃〜３６０℃で第一の水素転化域よりも高くない温度で、水素分圧が１０００〜２５００ｐｓｉｇ（７．０〜１７．３ｍＰａ）、空間速度が０．２〜５ＬＨＳＶ及び水素と原料との比が５００〜５０００Ｓｃｆ／Ｂ（８９〜８９０ｍ３／ｍ３）の条件で低温水素化仕上げ処理し、水素化仕上げされたラフィネートを得る、
以上の工程を含むことを特徴とする方法。
【請求項３】
第一の水素転化域、第二水素転化域及び水素化仕上げ反応域の間は、離脱されていないことを特徴とする請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
基油は、少なくとも９５重量％の飽和物が含有されていることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項５】
ラフィネートは、不充分に抽出されたものであることを特徴とする請求項１又は２に記載の方法。
【請求項６】
非酸性触媒が、アルミナを担体とするコバルト／モリブデン、ニッケル／モリブデン又はニッケル／タングステンであることを特徴とする請求項１又は２に記載の方法。
【請求項７】
第一の水素転化域、第二水素転化域又は水素化仕上げ反応域における水素分圧が、１０００〜２０００ｐｓｉｇ（７．０〜１２．５ｍＰａ）であることを特徴とする請求項１又は２に記載の方法。
【請求項８】
水素化仕上げ域の温度が、２９０〜３５０℃であることを特徴とする請求項１又は２に記載の方法。
【請求項９】
非酸性触媒が、少なくともシリカ、アルミナ又はチタニア金属酸化物の１以上であることを特徴とする請求項１又は２に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年6月17日(2005.6.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
【従来の技術】
この種のディーゼルエンジン用燃料噴射管としては、例えば図１に示すごとく、厚肉鋼管１１の端部に設けてなる外側周面を直線状シート面１３とする截頭円錐状の接続頭部１２、あるいは図２に示すごとく、厚肉鋼管２１の端部に設けてなる外側周面を円弧状シート面２３とする接続頭部２２が、それぞれ外方からのパンチ部材による軸芯方向への押圧による挫屈加工によって成形されたものなどが知られている。
このようなディーゼルエンジン用燃料噴射管には、一般に引張り強さ３４０Ｎ／ｍｍ２級〜４１０Ｎ／ｍｍ２級の鋼管（ＪＩＳＧ３４５５のＳＴＳ３７０、４１０）が使用されてきたが、ディーゼルエンジンの排ガス規制による浄化技術の開発に伴い、燃料を高圧、微粒化噴射することによってエンジンシリンダー内の燃料をより完全に近づけ排ガスを清浄化する手法がとられるようになったことから、燃料噴射管には従来の１２００ｂａｒからそれ以上の高内圧が負荷されるようになり、高い内圧疲労強度が要求されるようになり、その対応策として、引張り強さ４９０Ｎ／ｍｍ２級〜６００Ｎ／ｍｍ２級の高抗張力鋼管が使用される傾向にある。
このような高抗張力鋼管は、一般に引抜き加工によって製造されるが、引抜き加工により製造される高抗張力鋼管は、インゴットから熱間で製管する際、およびその太径管から引抜き加工（伸管）にて必要寸法に加工する際に、内面に深さ１００μｍ程度の微細なしわ疵（欠陥）が発生することがある。このしわ疵は、管加工時に管の外側よりダイスにより縮径し内側よりプラグにて圧延するときに発生する、外側と内側との材料の流れの差に起因することが知られて居る。すなわち、このような現象は、張力と伸び（延性、加工性）がほぼ逆比例することにより起こる伸びの不足によるものであり、厚肉管においては顕著に発生する。また、プラグにより圧延される内側のしわも延性が少ないためにしわ疵となって残る。特に、管内面に深さ１００μｍ程度の微細なしわ疵が存在すると、管内に１２００ｂａｒ〜１６００ｂａｒの高内圧が繰返してかかったときに当該しわ疵部分に生じる応力集中により疲労破壊が起こり管破裂の可能性がある。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明に係る高圧燃料噴射管は、後述する加工を伴わなくてもＪＩＳＧ３４５５のＳＴＳ３７０、４１０等よりは高抗張力の変態誘起塑性型強度鋼製母管を用いて伸管・熱処理を繰返した後、残留オーステナイト析出のための処理を施して最終伸管加工を施し、製品寸法においての完全焼鈍を行なうことなく、継手部
形、曲げを行なうことにより抗張力をさらに高めて内圧および曲げ疲労強度を高めたものであり、また変態誘起塑性型強度鋼製母管を用いて伸管・熱処理を繰返し、最終伸管工程を経て製品寸法に仕上げた後に残留オーステナイト析出のための処理を施し、さらに継手部成形および曲げ加工を施して製作した管体の内表面層を塑性加工することによりマルテンサイト変態を誘起させて抗張力をさらに高めて高強度としたものである。
また、本発明に係る高圧燃料噴射管は、変態誘起塑性型強度鋼成分を有する鋼管において、内表面の疵取り加工および伸管加工を施し所望のサイズに仕上げた後、当該鋼管を９５０℃に加熱しオーステナイト単層とし、しかる後急冷し、３５０℃〜５００℃の間でオーステンパー処理を施し、冷却後、内表面の平滑化を施し、しかる後継手部成形、曲げ加工を行なうことにより内圧および曲げ疲労強度を高めたものであり、さらに前記曲げ加工後に塑性加工することによりマルテンサイト変態を誘起させ高強度としたものである。
なお、前記塑性加工は、内圧をかけて内周表面のみ塑性変形（オートフレッテージ加工）させる方法を用いることができる。また、内表面の平滑化の後、または継手部成形の後、あるいは曲げ加工の後に、内表面の清浄化処理を少なくとも１回施してもよい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
実施例２
表１に示す成分を有するＴＲＩＰ型ベイナイト鋼（ＴＢ鋼）製であって、寸法が外径３４ｍｍ、肉厚４．５ｍｍ、内径２５ｍｍのシームレス鋼管（母管）を用い、所定の伸管、焼鈍を繰返した後、最終伸管加工を施して製品寸法が外径６ｍｍ、肉厚２ｍｍ、内径２ｍｍのＴＢ鋼製管を得、得られたＴＢ鋼製管を９５０℃×２０分間のオーステナイト化後、３５０℃から４７５℃の範囲で３分間保持のオーステンパー処理を施し、しかる後製品寸法での継手部成形、曲げ加工およびオートフレッテージ加工（内圧は内表面から肉厚の５０％までが塑性変形する圧力）を施した。
本実施例においても、得られた製品は、最終伸管加工によって誘起されるマルテンサイト変態により耐内圧疲労特性が優れ、かつ曲げ形状安定性も良好であった。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
実施例４
表１に示す成分を有するＴＲＩＰ型ベイナイト鋼（ＴＢ鋼）製であって、寸法が外径１８ｍｍ、肉厚３．８ｍｍ、内径１０．４ｍｍのシームレス鋼管（母管）を用い、切削加工により内表面の疵取り加工を施し、所定の伸管、焼鈍を繰返した後、最終伸管加工を施して製品寸法が外径６ｍｍ、肉厚１．８ｍｍ、内径２．４ｍｍのＴＢ鋼製管を得、得られたＴＢ鋼製管を９５０℃×２０分間のオーステナイト化後、４００℃の温度で３分間保持のオーステンパー処理を施し、冷却後、内面清浄化処理および外面防錆処理を施し、しかる後、製品寸法での継手部成形、曲げ加工およびオートフレッテージ加工（内圧は内表面から肉厚の５０％までが塑性変形する圧力）を施して製品とした。
本実施例においても、得られた製品は、最終伸管加工によって誘起されるマルテンサイト変態により耐内圧疲労特性が優れ、かつ曲げ形状安定性も良好であった。
【手続補正書】
【提出日】平成16年12月14日(2004.12.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
【発明の実施の形態】
図１に示すように、本発明の一実施形態に係る自動車排ガス脱臭集じん装置１は、筒状体に形成され、自動車の排気筒（図示せず）に接合された後、ハンガーバンド２を介して自動車車体に装着可能とされている。筒状体の外形は外壁カバー３として例えば鉄やステンレス等の金属で形成される。外壁カバー３の内側には、最内側より順次螺旋体としての金属製コイル４、内側釜５、外側釜６、集じん筒７が配置される。集じん筒７の外側は貯炭室７Ｃとされる。内側及び外側の釜５、６は、いずれも陶器粘土と耐火レンガ及び緑泥片岩の粉末を混合した粗材を焼結して構成され、直径３〜１２ｍｍの多数の穴を明けたものである。これらのことから、各釜は、穴目釜と総称される。内側釜の詳細を図２に示す。外側釜６も図２のものと同様である。図示の如く、中心から半径方向に向けて多数の穴８が明けられている。この穴８は半径方向でのガス流９の通路となるものである。