【手続補正書】
【提出日】平成17年11月1日(2005.11.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  被処理体を搬送する搬送アームを有する搬送室と、この搬送室に開閉可能になされたゲート弁を介して連結されて、前記被処理体に対して所定の処理を行なう処理室と、前記搬送室に開閉可能になされたゲート弁を介して連結されて、内部に受け渡し台を有して真空引き可能になされたロードロック室とを少なくとも有する処理ユニットを複数組設け、前記複数の処理ユニットのロードロック室を共通の被処理体搬出入ステージに臨ませ、前記複数の処理ユニットの搬送室同士間に、内部に載置台を有して真空引き可能になされた中間パス室を設け、この中間パス室と前記各搬送室間に開閉可能になされたゲート弁を介在させるようにしたことを特徴とする真空処理システム。
【請求項２】  前記各搬送室には、複数の処理室が連結されていることを特徴とする請求項１記載の真空処理システム。
【請求項３】  前記処理室は、前記被処理体に対して成膜を施す処理室であり、前記処理ユニット間では互いに異なる金属を含む成膜ガスを用いることを特徴とする請求項１または２記載の真空処理システム。
【請求項４】  被処理体を搬送するために屈伸及び旋回可能になされた搬送アームを有する搬送室と、この搬送室に開閉可能になされたゲート弁を介して連結されて、前記被処理体に対して所定の処理を行なう処理室と、前記搬送室に開閉可能になされたゲート弁を介して連結されて、内部に受け渡し台を有して真空引き可能になされたロードロック室とを少なくとも有する処理ユニットを複数組設け、前記複数の処理ユニットのロードロック室を共通の被処理体搬出入ステージに臨ませ、前記複数の処理ユニットの搬送室同士の容器を連結して１つの搬送容器として内部を連通すると共に、前記複数の搬送アーム間に前記被処理体を受け渡すための載置台を設けるようにしたことを特徴とする真空処理システム。
【請求項５】  前記各搬送室には、複数の処理室が開閉可能になされたゲート弁を介して連結されていることを特徴とする請求項４記載の真空処理システム。
【請求項６】  前記処理室は、前記被処理体に対して成膜を施す処理室であり、前記処理ユニット間では互いに同じ金属を含む成膜ガスを用いることを特徴とする請求項４または５記載の真空処理システム。
【請求項７】
前記搬送室には、前記被処理体の位置合わせと予備加熱とを同時に行う加熱室が連結されていることを特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載の真空処理システム。
【請求項８】
被処理体を収納するカセット容器を複数配置するカセット台と、
前記複数のカセット容器に対して前記被処理体を搬出入自在に搬送する第１搬送装置を備える共通搬送室と、
前記被処理体に対して所定の処理を行う処理室及び該処理室に対して前記被処理体を搬出入する第２搬送装置を備える真空搬送室を有する複数の処理ユニットとを設け、
前記複数の処理ユニットの真空搬送室同士間に、内部に載置台を有して真空引き可能になされた中間パス室を設け、該中間パス室と前記各真空搬送室間に開閉可能になされたゲート弁を介在させるようにしたことを特徴とする真空処理システム。
【請求項９】
被処理体を収納するカセット容器を複数配置するカセット台と、
前記複数のカセット容器に対して前記被処理体を搬出入自在に搬送する第１搬送装置を備える共通搬送室と、
前記被処理体に対して所定の処理を行う処理室及び該処理室に対して前記被処理体を搬出入する第２搬送装置を備える真空搬送室を有する複数の処理ユニットとを設け、
前記複数の処理ユニットの真空搬送室同士の容器を連結して１つの搬送容器として内部を連通すると共に、前記複数の第２搬送装置間に前記被処理体を受け渡すための載置台を設けるようにしたことを特徴とする真空処理システム。
【請求項１０】
前記真空搬送室には、前記被処理体の位置合わせと予備加熱とを同時に行う加熱室が連結されていることを特徴とする請求項８または９記載の真空処理システム。
【請求項１１】
前記中間パス室に、冷却機構及び加熱機構の内の少なくとも一方が設けられていることを特徴とする請求項１乃至１０のいずれかに記載の真空処理システム。
【請求項１２】  請求項１乃至１１に規定する真空処理システムを複数組並列に設け、前記真空処理システム間の所定の搬送室同士間に、内部に載置台を有して真空引き可能になされたシステム間パス室を設け、このシステム間パス室と前記各搬送室間に開閉可能になされたゲート弁を介在させるようにしたことを特徴とする真空処理システム。
【請求項１３】  前記所定の処理は、エッチング処理、アニール処理、アッシング処理、スパッタ処理の内のいずれか１つであることを特徴とする請求項１乃至１２のいずれかに記載の真空処理システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
【課題を解決するための手段】
請求項１に規定する発明は、被処理体を搬送するために屈伸及び旋回可能になされた搬送アームを有する搬送室と、この搬送室に開閉可能になされたゲート弁を介して連結されて、前記被処理体に対して所定の処理を行なう処理室と、前記搬送室に開閉可能になされたゲート弁を介して連結されて、内部に受け渡し台を有して真空引き可能になされたロードロック室とを少なくとも有する処理ユニットを複数組設け、前記複数の処理ユニットのロードロック室を共通の被処理体搬出入ステージに臨ませ、前記複数の処理ユニットの搬送室同士間に、内部に載置台を有して真空引き可能になされた中間パス室を設け、この中間パス室と前記各搬送室間に開閉可能になされたゲート弁を介在させるようにしたものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
また、請求項５に規定するように、前記各搬送室には、複数の処理室が開閉可能になされたゲート弁を介して連結されているようにしてもよい。
更に、ここでは、搬送室が開放状態で連通されていることから、請求項６に規定するように、前記処理室は、前記被処理体に対して成膜を施す処理室であり、前記処理ユニット間では互いに同じ金属を含む成膜ガスを用いる。
また請求項７に規定するように、前記搬送室には、前記被処理体の位置合わせと予備加熱とを同時に行う加熱室が連結されている。
請求項８に規定する発明は、被処理体を収納するカセット容器を複数配置するカセット台と、前記複数のカセット容器に対して前記被処理体を搬出入自在に搬送する第１搬送装置を備える共通搬送室と、前記被処理体に対して所定の処理を行う処理室及び該処理室に対して前記被処理体を搬出入する第２搬送装置を備える真空搬送室を有する複数の処理ユニットとを設け、前記複数の処理ユニットの真空搬送室同士間に、内部に載置台を有して真空引き可能になされた中間パス室を設け、該中間パス室と前記各真空搬送室間に開閉可能になされたゲート弁を介在させるようにしたことを特徴とする真空処理システムである。
請求項９に規定する発明は、被処理体を収納するカセット容器を複数配置するカセット台と、前記複数のカセット容器に対して前記被処理体を搬出入自在に搬送する第１搬送装置を備える共通搬送室と、前記被処理体に対して所定の処理を行う処理室及び該処理室に対して前記被処理体を搬出入する第２搬送装置を備える真空搬送室を有する複数の処理ユニットとを設け、前記複数の処理ユニットの真空搬送室同士の容器を連結して１つの搬送容器として内部を連通すると共に、前記複数の第２搬送装置間に前記被処理体を受け渡すための載置台を設けるようにしたことを特徴とする真空処理システムである。
また請求項１０に規定するように、前記真空搬送室には、前記被処理体の位置合わせと予備加熱とを同時に行う加熱室が連結されている。
また請求項１１に規定するように、前記中間パス室に、冷却機構及び加熱機構の内の少なくとも一方が設けられている。
また、請求項１２に規定するように、上記各処理システムを複数組並列に設け、前記処理システム間の所定の搬送室同士間に、内部に載置台を有して真空引き可能になされたシステム間パス室を設け、このシステム間パス室と前記各搬送室間に開閉可能になされたゲート弁を介在させるようにしてもよい。これによれば、更に多くの処理システムを連結させて、スループットを向上させることが可能となる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の真空処理システムによれば、次のように優れた作用効果を発揮することができる。
請求項１乃至３及び請求項８に規定する発明によれば、処理室と搬送室とロードロック室よりなる処理ユニットを複数組並設し、搬送室同士を、ゲート弁を介して中間パス室で連結して被処理体の移動を可能にしたので、被処理体の搬送経路が交錯することがなくなって迅速な搬送ができ、スループットを向上させることができる。
また、処理ユニット間に亘って被処理体を搬送する場合には、中間パス室のゲート弁を適宜操作することにより、両搬送室間が直接連通することなく搬送することができ、従って、金属汚染の発生を抑制することができる。
また、請求項４乃至６に規定する発明によれば、処理室と搬送室とロードロック室よりなる処理ユニットを複数組並設し、搬送室同士を中間パス室で連結して被処理体の移動を可能にしたので、被処理体の搬送経路が交錯することがなくなって迅速な搬送ができ、スループットを向上させることができる。
請求項９に規定する発明によれば、複数の処理ユニットの真空搬送室同士の容器を連結して１つの搬送容器として内部を連通すると共に、複数の第２搬送装置間に被処理体を受け渡すための載置台を設けるようにしたので、被処理体の搬送経路が交錯することがなくなって迅速な搬送ができ、スループットを向上させることができる。
特に、請求項１２に規定する発明によれば、金属汚染の発生を抑制しつつ、複数の処理ユニット間に亘って被処理体を移動でき、搬送経路がシンプルなのでスループットを向上させることができる。