【手続補正書】
【提出日】令和3年8月10日(2021.8.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シールリングアセンブリであって、前記シールリングアセンブリは、
シリンダのボアに対してシールするように構成されている第１のシール要素であって、前記第１のシール要素は、第１の篏合表面を備えている、第１のシール要素と、
前記シリンダの前記ボアに対してシールするように構成されている第２のシール要素であって、前記第２のシール要素は、第２の篏合表面を備えている、第２のシール要素と、
前記第１のシール要素の少なくとも一部を横断し、かつ前記第２のシール要素の少なくとも一部を横断して延びている高圧境界と、
前記第１のシール要素の少なくとも一部を横断し、かつ前記第２のシール要素の少なくとも一部を横断して延びている低圧境界と
を備え、
前記第１の篏合表面および前記第２の篏合表面のうちの少なくとも一方は、前記低圧境界に開放し、かつ前記高圧境界に開放していない陥凹を備え、それによって、前記第１の篏合表面は、前記第１のシール要素に作用する第１の力と前記第２のシール要素に作用する第２の力とによって、前記第２の篏合表面に対してシールされるように構成されている、シールリングアセンブリ。
【請求項２】
前記第１のシール要素に作用する前記第１の力は、前記第２のシール要素に作用する前記第２の力と反対に向けられている、請求項１に記載のシールリングアセンブリ。
【請求項３】
前記陥凹は、前記第１および第２の力に前記第１のシール要素と前記第２のシール要素との相対位置を維持させるように構成されている、請求項１に記載のシールリングアセンブリ。
【請求項４】
前記第１の篏合表面は、半径方向、軸方向、および方位角方向のうちの少なくとも１つにおいて前記第２の篏合表面に対してシールされている、請求項１に記載のシールリングアセンブリ。
【請求項５】
ピストンのランドに対してシールするように構成された後部軸面と、
前記高圧境界と前記低圧境界との間においてシリンダのボアに対してシールするように構成された半径方向外側面と
をさらに備えている、請求項１に記載のシールリングアセンブリ。
【請求項６】
前記陥凹は、溝を備えている、請求項１に記載のシールリングアセンブリ。
【請求項７】
前記陥凹は、前記第１の篏合表面の第１の陥凹であり、前記第２の篏合表面は、前記第１の陥凹と界面接触するように構成された第２の陥凹を備えている、請求項１に記載のシールリングアセンブリ。
【請求項８】
前記第１のシール要素は、第１のリングセグメントを備え、前記第２のシール要素は、第２のリングセグメントを備えている、請求項１に記載のシールリングアセンブリ。
【請求項９】
前記第１のシール要素は、リングセグメントを備え、前記第２のシール要素は、間隙カバー要素を備えている、請求項１に記載のシールリングアセンブリ。
【請求項１０】
前記第１および第２のシール要素のうちの少なくとも一方は、半径方向内向きの力を引き起こすように構成された半径方向圧力釣り合い特徴を備えている、請求項１に記載のシールリングアセンブリ。
【請求項１１】
前記第１の篏合表面と第２の篏合表面とは、互いに対してシールすることにより、前記陥凹が前記高圧境界に開放することを防止する、請求項１に記載のシールリングアセンブリ。
【請求項１２】
ピストンアセンブリであって、前記ピストンアセンブリは、
円周溝を備えているピストンと、
前記円周溝の中に配置されたシールリングアセンブリと
を備え、
前記シールリングアセンブリは、
シリンダのボアに対してシールするように構成されている第１のシール要素であって、前記第１のシール要素は、第１の篏合表面を備えている、第１のシール要素と、
前記シリンダの前記ボアに対してシールするように構成されている第２のシール要素であって、前記第２のシール要素は、第２の篏合表面を備えている、第２のシール要素と、
前記第１のシール要素の少なくとも一部を横断し、かつ前記第２のシール要素の少なくとも一部を横断して延びている高圧境界と、
前記第１のシール要素の少なくとも一部を横断し、かつ前記第２のシール要素の少なくとも一部を横断して延びている低圧境界と
を備え、
前記第１の篏合表面および前記第２の篏合表面のうちの少なくとも一方は、前記低圧境界に開放し、かつ前記高圧境界に開放していない陥凹を備え、それによって、前記第１の篏合表面は、前記第１のシール要素に作用する第１の力と前記第２のシール要素に作用する第２の力とによって、前記第２の篏合表面に対してシールされている、ピストンアセンブリ。
【請求項１３】
前記第１のシール要素に作用する前記第１の力は、前記第２のシール要素に作用する前記第２の力と反対に向けられている、請求項１２に記載のピストンアセンブリ。
【請求項１４】
前記陥凹は、前記第１および第２の力に前記第１のシール要素と前記第２のシール要素との相対位置を維持させるように構成されている、請求項１２に記載のピストンアセンブリ。
【請求項１５】
前記ピストンは、ランドをさらに備え、シリンダのボア内で移動するように構成され、前記シールリングアセンブリは、
前記ランドに対してシールするように構成された後部軸面と、
前記高圧境界と前記低圧境界との間において前記ボアに対してシールするように構成された半径方向外側面と
をさらに備えている、請求項１２に記載のピストンアセンブリ。
【請求項１６】
前記陥凹は、溝を備えている、請求項１２に記載のピストンアセンブリ。
【請求項１７】
前記陥凹は、前記第１の篏合表面の第１の陥凹であり、前記第２の篏合表面は、前記第１の陥凹と界面接触するように構成された第２の陥凹を備えている、請求項１２に記載のピストンアセンブリ。
【請求項１８】
前記第１のシール要素は、第１のリングセグメントを備え、前記第２のシール要素は、第２のリングセグメントを備えている、請求項１２に記載のピストンアセンブリ。
【請求項１９】
前記第１のシール要素は、リングセグメントを備え、前記第２のシール要素は、間隙カバー要素を備えている、請求項１２に記載のピストンアセンブリ。
【請求項２０】
前記第１および第２のシール要素のうちの少なくとも一方は、半径方向内向きの力を引き起こすように構成された半径方向圧力釣り合い特徴を備えている、請求項１２に記載のピストンアセンブリ。
【請求項２１】
前記第１の篏合表面と第２の篏合表面とは、互いに対してシールすることにより、前記陥凹が前記高圧境界に開放することを防止する、請求項１２に記載のピストンアセンブリ。
【請求項２２】
デバイスであって、前記デバイスは、
高圧領域と低圧領域とを備えているボアを備えているシリンダと、
円周溝を備えているピストンであって、前記ピストンは、前記ボア内で軸方向に移動するように構成されている、ピストンと、
前記円周溝の中に配置されたシールリングアセンブリと
を備え、
前記シールリングアセンブリは、前記ボアに対してシールし、前記高圧領域および前記低圧領域を画定するように構成され、前記シールリングアセンブリは、
前記シリンダの前記ボアに対してシールするように構成されている第１のシール要素であって、前記第１のシール要素は、第１の篏合表面を備えている、第１のシール要素と、
前記シリンダの前記ボアに対してシールするように構成されている第２のシール要素であって、前記第２のシール要素は、第２の篏合表面を備えている、第２のシール要素と
を備え、
前記第１および第２の篏合表面のうちの少なくとも一方は、前記低圧領域に開放し、かつ前記高圧領域に開放していない陥凹を備え、それによって、前記第１の篏合表面は、前記第１のシール要素に作用する第１の力と前記第２のシール要素に作用する第２の力とによって、前記第２の篏合表面に対してシールされている、デバイス。
【請求項２３】
前記円周溝は、軸方向後部ランドをさらに備え、
前記シールリングアセンブリは、前記軸方向後部ランドに対してシールするようにさらに構成されている、請求項２２に記載のデバイス。
【請求項２４】
前記第１のシール要素に作用する前記第１の力は、前記第２のシール要素に作用する前記第２の力と反対に向けられている、請求項２２に記載のデバイス。
【請求項２５】
前記陥凹は、前記第１および第２の力に前記第１のシール要素と前記第２のシール要素との相対位置を維持させるように構成されている、請求項２２に記載のデバイス。
【請求項２６】
前記シールリングアセンブリは、前記ボアに対してシールするように構成された半径方向外側面をさらに備えている、請求項２２に記載のデバイス。
【請求項２７】
前記シーリングアセンブリは、
前記第１のシール要素の少なくとも一部および前記第２のシール要素の少なくとも一部を横断して延び、前記高圧領域に開放している第１の境界と、
前記第１のシール要素の少なくとも一部および前記第２のシール要素の少なくとも一部を横断して延び、前記低圧領域に開放している第２の境界と
をさらに備え、
前記陥凹は、前記第１の境界に開放し、かつ前記第２の境界に開放していない、請求項２２に記載のデバイス。
【請求項２８】
前記第１のシール要素は、第１のリングセグメントを備え、前記第２のシール要素は、第２のリングセグメントを備えている、請求項２２に記載のデバイス。
【請求項２９】
前記第１のシール要素は、リングセグメントを備え、前記第２のシール要素は、間隙カバー要素を備えている、請求項２２に記載のデバイス。
【請求項３０】
前記第１の篏合表面と第２の篏合表面とは、互いに対してシールすることにより、前記陥凹が前記高圧領域に開放することを防止するように構成されている、請求項２２に記載のデバイス。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
いくつかの実施形態では、シールリングアセンブリは、ボアとピストンとの間をシールするように構成されている。例えば、シールリングアセンブリは、ボア内の低圧領域からボア内の高圧領域をシールするように構成されている。
本発明は、例えば、以下を提供する。
（項目１）
シールリングアセンブリであって、前記シールリングアセンブリは、
第１の篏合表面を備えている第１のシール要素と、
第２の篏合表面を備えている第２のシール要素と、
前記第１のシール要素の少なくとも一部を横断し、かつ前記第２のシール要素の少なくとも一部を横断して延びている高圧境界と、
前記第１のシール要素の少なくとも一部を横断し、かつ前記第２のシール要素の少なくとも一部を横断して延びている低圧境界と
を備え、
前記第１の篏合表面および前記第２の篏合表面のうちの少なくとも一方は、前記低圧境界に開放し、かつ前記高圧境界に開放していない陥凹を備え、それによって、前記第１の篏合表面は、前記第１のシール要素に作用する第１の力と前記第２のシール要素に作用する第２の力とによって、前記第２の篏合表面に対してシールされるように構成されている、シールリングアセンブリ。
（項目２）
前記第１のシール要素に作用する前記第１の力は、前記第２のシール要素に作用する前記第２の力と反対に向けられている、項目１に記載のシールリングアセンブリ。
（項目３）
前記陥凹は、第１および第２の力に前記第１のシール要素と前記第２のシール要素との相対位置を維持させるように構成されている、項目１に記載のシールリングアセンブリ。
（項目４）
前記第１の篏合表面は、半径方向、軸方向、および方位角方向のうちの少なくとも１つにおいて前記第２の篏合表面に対してシールされている、項目１に記載のシールリングアセンブリ。
（項目５）
ピストンのランドに対してシールするように構成された後部軸面と、
前記高圧境界と前記低圧境界との間においてシリンダのボアに対してシールするように構成された半径方向外側面と
をさらに備えている、項目１に記載のシールリングアセンブリ。
（項目６）
前記陥凹は、溝を備えている、項目１に記載のシールリングアセンブリ。
（項目７）
前記陥凹は、前記第１の篏合表面の第１の陥凹であり、前記第２の篏合表面は、前記第１の陥凹と界面接触するように構成された第２の陥凹を備えている、項目１に記載のシールリングアセンブリ。
（項目８）
前記第１のシール要素は、第１のリングセグメントを備え、前記第２のシール要素は、第２のリングセグメントを備えている、項目１に記載のシールリングアセンブリ。
（項目９）
前記第１のシール要素は、リングセグメントを備え、前記第２のシール要素は、間隙カバー要素を備えている、項目１に記載のシールリングアセンブリ。
（項目１０）
前記第１および第２のシール要素のうちの少なくとも一方は、半径方向内向きの力を引き起こすように構成された半径方向圧力釣り合い特徴を備えている、項目１に記載のシールリングアセンブリ。
（項目１１）
前記第１の篏合表面と第２の篏合表面とは、互いに対してシールすることにより、前記陥凹が前記高圧境界に開放することを防止する、項目１に記載のシールリングアセンブリ。
（項目１２）
ピストンアセンブリであって、前記ピストンアセンブリは、
円周溝を備えているピストンと、
前記円周溝の中に配置されたシールリングアセンブリと
を備え、
前記シールリングアセンブリは、
第１の篏合表面を備えている第１のシール要素と、
第２の篏合表面を備えている第２のシール要素と、
前記第１のシール要素の少なくとも一部を横断し、かつ前記第２のシール要素の少なくとも一部を横断して延びている高圧境界と、
前記第１のシール要素の少なくとも一部を横断し、かつ前記第２のシール要素の少なくとも一部を横断して延びている低圧境界と
を備え、
前記第１の篏合表面および前記第２の篏合表面のうちの少なくとも一方は、前記低圧境界に開放し、かつ前記高圧境界に開放していない陥凹を備え、それによって、前記第１の篏合表面は、前記第１のシール要素に作用する第１の力と前記第２のシール要素に作用する第２の力とによって、前記第２の篏合表面に対してシールされている、
ピストンアセンブリ。
（項目１３）
前記第１のシール要素に作用する前記第１の力は、前記第２のシール要素に作用する前記第２の力と反対に向けられている、項目１２に記載のピストンアセンブリ。
（項目１４）
前記陥凹は、前記第１および第２の力に前記第１のシール要素と前記第２のシール要素との相対位置を維持させるように構成されている、項目１２に記載のピストンアセンブリ。
（項目１５）
前記ピストンは、ランドをさらに備え、シリンダのボア内で移動するように構成され、前記シールリングアセンブリは、
前記ランドに対してシールするように構成された後部軸面と、
前記高圧境界と前記低圧境界との間において前記ボアに対してシールするように構成された半径方向外側面と
をさらに備えている、項目１２に記載のピストンアセンブリ。
（項目１６）
前記陥凹は、溝を備えている、項目１２に記載のピストンアセンブリ。
（項目１７）
前記陥凹は、前記第１の篏合表面の第１の陥凹であり、前記第２の篏合表面は、前記第１の陥凹と界面接触するように構成された第２の陥凹を備えている、項目１２に記載のピストンアセンブリ。
（項目１８）
前記第１のシール要素は、第１のリングセグメントを備え、前記第２のシール要素は、第２のリングセグメントを備えている、項目１２に記載のピストンアセンブリ。
（項目１９）
前記第１のシール要素は、リングセグメントを備え、前記第２のシール要素は、間隙カバー要素を備えている、項目１２に記載のピストンアセンブリ。
（項目２０）
前記第１および第２のシール要素のうちの少なくとも一方は、半径方向内向きの力を引き起こすように構成された半径方向圧力釣り合い特徴を備えている、項目１２に記載のピストンアセンブリ。
（項目２１）
前記第１の篏合表面と第２の篏合表面とは、互いに対してシールすることにより、前記陥凹が前記高圧境界に開放することを防止する、項目１２に記載のピストンアセンブリ。
（項目２２）
デバイスであって、前記デバイスは、
高圧領域と低圧領域とを備えているボアを備えているシリンダと、
円周溝を備えているピストンであって、前記ピストンは、前記ボア内で軸方向に移動するように構成されている、ピストンと、
前記円周溝の中に配置されたシールリングアセンブリと
を備え、
前記シールリングアセンブリは、前記ボアに対してシールし、前記高圧領域および前記低圧領域を画定するように構成され、前記シールリングアセンブリは、
第１の篏合表面を備えている第１のシール要素と、
第２の篏合表面を備えている第２のシール要素と
を備え、
前記第１および第２の篏合表面のうちの少なくとも一方は、前記低圧領域に開放し、かつ前記高圧領域に開放していない陥凹を備え、それによって、前記第１の篏合表面は、前記第１のシール要素に作用する第１の力と前記第２のシール要素に作用する第２の力とによって、前記第２の篏合表面に対してシールされている、デバイス。
（項目２３）
前記円周溝は、軸方向後部ランドをさらに備え、
前記シールリングアセンブリは、前記軸方向後部ランドに対してシールするようにさらに構成されている、項目２２に記載のデバイス。
（項目２４）
前記第１のシール要素に作用する前記第１の力は、前記第２のシール要素に作用する前記第２の力と反対に向けられている、項目２２に記載のデバイス。
（項目２５）
前記陥凹は、前記第１および第２の力に前記第１のシール要素と前記第２のシール要素との相対位置を維持させるように構成されている、項目２２に記載のデバイス。
（項目２６）
前記シールリングアセンブリは、前記ボアに対してシールするように構成された半径方向外側面をさらに備えている、項目２２に記載のデバイス。
（項目２７）
前記シーリングアセンブリは、
前記第１のシール要素の少なくとも一部および前記第２のシール要素の少なくとも一部を横断して延び、前記高圧領域に開放している第１の境界と、
前記第１のシール要素の少なくとも一部および前記第２のシール要素の少なくとも一部を横断して延び、前記低圧領域に開放している第２の境界と
をさらに備え、
前記陥凹は、前記第１の境界に開放し、かつ前記第２の境界に開放していない、項目２２に記載のデバイス。
（項目２８）
前記第１のシール要素は、第１のリングセグメントを備え、前記第２のシール要素は、第２のリングセグメントを備えている、項目２２に記載のデバイス。
（項目２９）
前記第１のシール要素は、リングセグメントを備え、前記第２のシール要素は、間隙カバー要素を備えている、項目２２に記載のデバイス。
（項目３０）
前記第１の篏合表面と第２の篏合表面とは、互いに対してシールすることにより、前記陥凹が前記高圧領域に開放することを防止するように構成されている、項目２２に記載のデバイス。