【手続補正書】
【提出日】平成16年12月28日(2004.12.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、前記基板の上方に載置された電子素子と、前記基板又は前記電子素
子の少なくとも一部を覆うように前記電子素子の上方に配設された相分離構造を有する相分離膜と、を具備し、
前記相分離膜は光を反射する機能を有することを特徴とする素子基板。
【請求項２】
基板と、前記基板の上方に載置された電子素子と、前記電子素子の下方に配設された相分離構造を有する相分離膜と、を具備したことを特徴とする素子基板。
【請求項３】
基板と、前記基板の上方に載置された電子素子 と、前記基板又は前記電子素子の少なくとも一部を覆うように前記電子素子の上方に配設されたミクロ相分離構造を有する相分離膜と、を具備することを特徴とする素子基板。
【請求項４】
前記相分離膜は、前記電子素子に対応する部分に分割されて配置されていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の素子基板。
【請求項５】
前記相分離膜は、互いに非相溶性である複数の物質相から構成されていることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の素子基板。
【請求項６】
前記電子素子は、スイッチング素子であることを特徴とする請求項１乃至５のいずれかの１項に記載の素子基板。
【請求項７】
前記相分離膜は、前記基板と接触しないように設けられていることを特徴とする請求項１に記載の素子基板。
【請求項８】
基板と、前記基板上に配設された、複数のスイッチング素子を含む電子素子 層、及び、前記電子素子層の上方に該電子素子層の少なくとも一部を覆うように配設された相分離構造を有する絶縁膜と、を具備し、
前記絶縁膜は光の反射機能を有することを特徴とする素子基板。
【請求項９】
基板と、前記基板上に配設された、複数のスイッチング素子を含む電子素子 層、及び、前記電子素子層の上方に該電子素子層の少なくとも一部を覆うように配設された絶縁膜と、を具備し、
前記絶縁膜はミクロ相分離構造を有することを特徴とする素子基板。
【請求項１０】
前記相分離構造は、互いに非相溶性である複数の物質相から構成されていることを特徴とする請求項８に記載の素子基板。
【請求項１１】
前記ミクロ相分離構造は、互いに非相溶性である複数の物質相から構成されていることを特徴とする請求項９に記載の素子基板。
【請求項１２】
基板上に電子素子 を形成する素子 製造工程と、
前記電子素子の少なくとも一部を覆うように互いに非相溶性の複数の物質を含む混合物を、塗布することにより相分離構造を有する相分離膜を形成する膜製造工程と、を具備し、
前記相分離膜は光の反射機能を有することを特徴とする素子基板の製造方法。
【請求項１３】
基板上に電子素子を形成する素子製造工程と、
前記電子素子の少なくとも一部を覆う ように互いに非相溶性の複数の物質を含む混合物を、液状体吐出法を用いて塗布することにより相分離構造を有する相分離膜を形成する膜製造工程と、を具備したことを特徴とする素子基板の製造方法。
【請求項１４】
前記混合物として、前記複数の物質の種類または量比が異なるように調製された複数の混合物を用いることを特徴とする請求項１２又は１３に記載の素子 基板の製造方法。
【請求項１５】
前記混合物として、前記複数の物質の種類または量比が異なるように調製された複数の混合物を用い、前記複数の混合物の各々を液状体吐出法により所定の位置に配置することを特徴とする請求項１４に記載の素子基板の製造方法。
【請求項１６】
前記膜製造工程の後に、溶媒を除去するための乾燥工程を具備したことを特徴とする請求項１２乃至１５のいずれかの１項に記載の素子基板の製造方法。
【請求項１７】
前記膜製造工程の後に、熱処理する工程を具備したことを特徴とする請求項１２乃至１６のいずれかの１項に記載の素子基板の製造方法。
【請求項１８】
請求項１乃至１１のいずれかの１項に記載の素子基板と、光学素子と、を具備したことを特徴とする電子装置。
【請求項１９】
基板と、前記基板の上方に載置された光学素子と、前記光学素子に対して光の取り出し方向とは反対側に相分離構造を有する反射膜と、を具備してなることを特徴とする光学装置。
【請求項２０】
基板と、前記基板の上方に配置された複数のスイッチング素子を含む電子素子層と、前記電子素子層の上方に配置された相分離構造を有する反射膜と、前記反射膜の上方に配置された光学素子層と、を具備してなることを特徴とする光学装置。
【請求項２１】
基板と、前記基板の上方に配置された複数のスイッチング素子を含む電子素子層と、前記電子素子層の上方に配置された光学素子層と、前記光学素子層の上方に配置された相分離構造を有する反射膜と、を具備してなることを特徴とする光学装置。
【請求項２２】
基板上に電子素子を形成する素子製造工程と、前記電子素子の少なくとも一部を覆うように、互いに非相溶性の複数の物質を含む混合物を塗布することにより相分離 構造を有する膜を形成する膜製造工程と、を具備したことを特徴とする電子装置の製造方法。
【請求項２３】
基板上にスイッチング素子層を含む電子素子層を形成する素子製造工程と、  前記電子素子層の上方に非相溶性の複数の物質を含む混合物を、液状体吐出法を用いて塗布することにより相分離 構造を有する膜を形成する膜製造工程と、を具備したことを特徴とする光学装置の製造方法。
【請求項２４】
少なくとも請求項１８に記載の電子装置または請求項１９乃至２１のいずれかの１項に記載の光学装置を備えたことを特徴とする電子機器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本発明は上記課題を解決するために、基板と、前記基板の上方に載置された電子素子と、前記基板又は前記電子素子の少なくとも一部を覆うように前記電子素子の上方に配設された相分離構造を有する相分離膜と、を具備したことを特徴とする第一の素子基板を提供する。
上記の素子基板において、前記相分離膜は光を反射する機能を有していることが好ましい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
また本発明は、基板と、前記基板の上方に載置された電子素子と、前記電子素子の下方に配設された相分離 構造を有する膜と、を具備したことを特徴とする第二の素子基板を提供する。
本発明は上記課題を解決するために、基板と、前記基板の上方に載置された電子素子と、前記基板又は前記電子素子の少なくとも一部を覆うように前記電子素子の上方に配設されたミクロ相分離構造を有する相分離膜と、を具備したことを特徴とする第三の素子基板を提供する。
上記構成からなる２種類の素子 基板すなわち第一あるいは第二の素子基板であれば、その上に発光素子を載置する際に必要となる機能を予め備えることができる。例えば発光素子の駆動用として使われる電子素子や、発光素子が発した光を反射する能力をもつ相分離構造を有する膜を、予め基板上に形成してなる構造の素子基板を提供することが可能となる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
また、第一あるいは第二の素子基板を選択することにより、発光素子の下に重ねて配置されるものの順番を変更できる。つまり、第一の素子基板上に発光素子を設けた場合は、相分離 構造を有する膜が電子素子より発光素子の近傍に配置される。一方、第二の素子基板上に発光素子を設けた場合は、電子素子が相分離構造より発光素子の近傍に配置される。後述するように、本発明に係る相分離構造を有する膜はこの膜を構成する物質相の組合せを適宜選択することにより、反射機能に加えて絶縁機能も兼ね備えることが可能なので、電子素子と発光素子との間において好ましい位置に設けることによって絶縁膜としての役割も兼ねることができる。その結果、従来に比べて必要とする層数を減少させることができるので、素子基板の製造コストの低下を図ることが可能となる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
この相分離構造を有する膜は、例えば互いに非相溶性である複数の物質相から構成されていることを特徴としている。例えば２つの物質（ここでは仮に第１の物質、第２の物質と呼ぶ）から構成された物質相の場合は、たとえ見かけ上単層膜の形態であっても第１の物質と第２の物質をなす材料を各々適宜に選択することにより、この膜は反射機能を有することが可能となる。したがって、この相分離 構造を有する膜を備えるにより、反射層を備えた素子基板の提供が可能となる。また、互いに非相溶性である物質を適宜選択することによって、  上記反射機能の特性制御、例えば極大あるいは最大の反射率を有する波長域や半値幅などの制御が可能となる。さらに、互いに非相溶性である物質を適宜選択することによって、上記反射機能に加えて、電気的な絶縁機能も兼ね備えることもできる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
このような反射機能に加えて、電気的な絶縁機能も兼ね備えた相分離 構造を有する膜を備えた構成からなる素子基板であれば、この相分離 構造を有する膜は、基板と素子との間に配置され、基板と素子との絶縁膜として機能するとともに、素子に対しては反射膜として作用することができる。
この構成によれば、例えば従来は素子と絶縁部材との間に導電機能に加え反射機能も併せ持つ材料で作製された電極が必要であったが、素子の上下に位置する電極としては透明電極が同時に使えることとなり、素子は上下同じ材料に挟まれた構造となるので素子が電極から受ける応力のバランスがとれるので、内部歪みの発生が抑えられる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
上記素子基板を構成する電子素子とは、トランジスタやダイオード等のスイッチング機能を備えた素子であり、例えばこの素子基板上に載置された発光素子を駆動あるいは制御させる機能を発揮するものである。具体的には、レーザー用途の半導体素子や、発光ダイオード、反射型の液晶素子、ＥＬ素子等における駆動素子や制御素子などが挙げられる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
この相分離構造を有する膜は、その作製に高価な真空プロセスを必要せず、例えば大気圧下で塗布法によって容易に形成できるので、極めて安価な素子基板の提供が可能となる。
従来、このような素子基板の片面を実現するためには、作製するために真空プロセスを要する膜を用いる必要があり、高コスト化が避けられなかった。また、最適な反射機能を有する層とするためには複数の膜を重ねてなる積層構造とする必要もあり、これは更なるコストの増大を招いていた。このような問題を本発明に係る素子基板は解消することができる。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
本発明に係る素子基板を構成する相分離構造を有する膜において前記電子素子に対応する部分に分割されて配置されていることが好ましい。この構成によれば、例えば基板上に複数の電子素子が存在し、これらの電子素子が異なる波長の光を発する発光素子の各々を駆動するような場合、相分離構造を有する膜がそれぞれの電子素子に対応する部分に分割されて配置されているので、各々の相分離 構造を有する膜は各発光素子が発する光の波長に適する反射特性をもつように設けることが可能となる。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
換言すると、上記構成ならば、各々の相分離 構造を有する膜は、個々の発光素子の発光特性に合わせた反射能力を有する膜として設けることができる。例えば、赤、緑、青と異なる発光色をもつ発光素子が基板の一方の面に２次元状に配置される場合、個々の発光素子が発する光の波長に合わせて反射能力を変えた膜を相分離構造を有する膜として、個々の発光素子に対してそれぞれ電子素子 が設けられた領域に対応する部分のみに配置することで、最も効率的な反射が実現できる素子基板の提供が可能となる。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
上記相分離 構造を有する膜は、素子が載置された基板の一方の面に、個々の電子素子に対応する部分に分割されて配置されてもよい。この構成によれば、基板に載置された個々の電子素子が離間して設けられていても、個々の電子素子間の距離に応じて、所望の位置に適切な範囲を覆うように相分離構造を有する膜を設けることが可能となる。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
また、本発明に係る素子基板を構成する相分離構造を有する膜は、前記基板と接触しないように設けられていることを特徴としている。
この構成によれば、少なくとも基板の一方の面上に設けられる他の膜や構造体を相分離 構造を有する膜より先に作製した後、これらの他の膜や構造体の上を被覆するような位置に配置された発光素子が発した光を反射する膜として相分離 構造を有する膜を形成できる。このように、他の膜や構造体を作製した後に形成できる相分離 構造を有する膜であれば、他の膜や構造体を通過してきた光の特性に合わせた反射能力を確実に備えた膜を相分離 構造を有する膜として常に形成できるので、反射機能の安定性に優れた素子基板が得られる。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
このように相分離 構造を有する膜を基板と接触しないように設ける構成としては、発光素子が発する光を基板側に反射する場合と基板とは反対側に反射する場合の２通りが挙げられる。発光素子が発する光を基板側に反射する場合は、基板の表面上に設けられた発光素子の上方に相分離構造を有する膜が配置される。これに対して、発光素子が発する光を基板とは反対側に反射する場合は、基板の表面上に設けられた発光素子 の下方に相分離 構造を有する膜が配置されるが、その配置可能な構成としては、基板の表面上で発光素子との間に設ける構成と、基板の裏面の上方に設ける構成の２通りがある。
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
特に、相分離構造を有する膜を基板と接触しないように設ける構成において、この膜が素子および基板より外側に配置され、この膜の内側にある素子に対しては反射膜として作用すると共に、この膜の外側に対しては絶縁部材として機能する場合には、外部からの静電破壊に対する耐性が高まる。例えば、この膜の外側を機械加工し、平坦化を施すことにより、素子を外部から封止する部材を兼務させることも可能となる。
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
例えば、上述した電子素子と相分離構造を有する膜を具備してなる素子基板を用い、この素子基板上に少なくとも光学素子として有機ＥＬ素子を設けてなる電子装置は、内部歪みの発生が抑制されたこと、あるいは外部からの静電破壊に対する耐性が改善したことにより、素子の電気的、光学的あるいは機械的な不具合の発生が解消されるので、従来より高い長期信頼性を備えることが可能となる。
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
さらに本発明は、基板と、前記基板上に配設された、複数のスイッチング素子を含む電子素子層、及び、前記電子素子層の上方に該電子素子層の少なくとも一部を覆うように配設された相分離構造を有する絶縁膜と、を具備したことを特徴とする第四の素子基板を提供する。
上記の素子基板において、前記絶縁膜は反射機能を有していることが好ましい。
この第四の素子基板によれば、素子基板上すなわち相分離構造を有する絶縁膜上に例えば光学素子を後で設けた場合に、相分離構造を有する絶縁膜は複数のスイッチング素子を含む電子素子層と光学素子との間を電気的に絶縁できる。その際、相分離構造を有する絶縁膜を電子素子層の少なくとも一部を覆う ように配設することによって、例えば電子素子層を構成する特定のスイッチング素子のみ光学素子の所定な箇所と電気的な導通も同時に兼ね備えることの可能となる。
さらに本発明は、基板と、前記基板上に配設された、複数のスイッチング素子 を含む電子素子層、及び、前記電子素子層の上方に該電子素子層の少なくとも一部を覆うように配設された絶縁膜と、を具備し、前記絶縁膜ははミクロ相分離構造を有することを特徴とする第五の素子基板を提供する。
【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
上記のような相分離構造あるいはミクロ相分離構造を有する絶縁膜は、互いに非相溶性である複数の物質相から構成し、電気的な絶縁特性を有する物質相あるいは物質相の組合せを適宜選択することにより得られる。その際、前述したように、反射機能も合わせ持つような物質相を選択しても構わない。
相分離構造を有する絶縁膜は、互いに非相溶性である物質を適宜選択することによって、上記電気的な絶縁機能に加えて、反射機能も兼ね備えることも可能なので、この場合は、第一の膜は見かけ上単層構造であってもこの両機能を同時に満たすことができる。ゆえに、この場合は、従来の絶縁膜と反射膜とを積層した構造体では存在した界面に起因する問題、すなわち電気的、光学的あるいは機械的な不具合の発生を回避できる素子基板の提供にも寄与する。
【手続補正１８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
なお、上記の相分離構造を有する膜は、互いに非相溶性である物質から構成されていることを特徴としている。
この構成によれば、相分離構造を有する膜は、互いに非相溶性である、少なくとも２つの物質（ここでは、第１の物質、第２の物質と呼ぶ）を含む液状材料を基板上に塗布することによって容易に形成できる。例えば、基板の一方の面を全てこの膜で被覆された状態とする場合は、スピンコート法やディップコート法に代表される一般的な全ての塗布法を用いることができる。
しかしながら、この膜を所望の領域のみ、すなわち、素子が載置された領域に対応する部分のみに配置する場合、特に膜を設ける領域が小さくかつ局所的あるいは分散して存在している場合には、微小領域へ均一な塗布膜を形成する能力に優れたインクジェット法が好適である。
【手続補正１９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
なお、上記構成において、第１の物質と第２の物質とを含む液状材料とは、第１の物質をなすブロックコポリマーに、このブロックコポリマーを構成する各ブロック鎖（ポリマー鎖とも呼ぶ）の一方と相溶性のあるホモポリマーを第２の物質として混合して生成された液体材料Ｌ１を、ブロックコポリマーの系の「秩序−無秩序転移温度（ＴＯＤＴ  ）以上の温度に加熱して溶融するか、または第一の物質と第二の物質の共通溶媒に溶解することにより、完全に混合した無秩序混合状態をなす液体材料Ｌ２を意味する。
【手続補正２０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
本発明に係る第一の素子基板の製造方法は、基板上に電子素子を形成する素子製造工程と、前記電子素子の少なくとも一部を覆うように互いに非相溶性の複数の物質を含む混合物を、塗布することにより相分離構造を有する相分離膜を形成する膜製造工程と、を具備し、前記相分離膜は光の反射機能を有することを特徴としている。
予め素子製造工程において電子素子を基板上に形成し、この電子素子の少なくとも一部を覆うように相分離構造を有する膜を、塗布法によって作製する膜製造工程を備えてさえいれば、この膜が形成される位置が基板のいかなる箇所であっても、所望の反射機能を有する反射膜を、適宜、所定の位置に最適な領域を覆うように形成することができる。塗布法としては、例えばディッピング法やスピンコート法などが挙げられる。
【手続補正２１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
また、この素子基板の製造方法は、塗布工程により所望の膜を形成できるので、従来の真空プロセスを必要とした作製法とは異なり、大気中において膜の形成が可能であり、高価な真空プロセス対応の設備を不要とするので、膜作製コストの大幅な低減を図れる。
【手続補正２２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
本発明に係る第二の素子基板の製造方法は、基板上に電子素子を形成する素子製造工程と、前記電子素子の少なくとも一部を覆う ように互いに非相溶性の複数の物質を含む混合物を、液状体吐出法を用いて塗布することにより相分離 構造を有する膜を形成する膜製造工程と、を具備したことを特徴としている。
この第二の素子基板の製造方法であれば、液状体吐出法を用いて塗布することにより、複数の物質を塗り分けることが可能となる。
【手続補正２３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
前述したように、２つ以上の物質として、互いに非相溶性である第１の物質と第２の物質を用い、液状体吐出法の一つであるインクジェット法でこの２種類の物質を微細なノズル孔を通して吐出する場合、例えば基板に到達した一方の物質からなる微小領域の隣には他の物質からなる微小領域が配置されるように、ノズル孔を通して第１の物質と第２の物質とを各々吐出したり、あるいはノズル孔を備えたインクジェットヘッドの位置を制御することによって、得られた膜が第１の物質と第２の物質とを塗り分けて構成されるように形成することができる。特に、間欠的に塗り分けて膜を形成する塗布工程を用いると、第１の物質と第２の物質の吐出量を高精度に制御できるので、膜厚の均一化も図れる。
【手続補正２４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
また、インクジェット法によれば、高価な真空プロセスを用いる必要がなく、さらには他の塗布法、例えばスピンコート法やディップコート法に比べて材料の使用効率を向上できる。ゆえに、素子基板の製造コストを抑制することも可能となる。
前述した第一または第二の素子基板の製造方法における混合物として、複数の物質の種類または量比が異なるように調製された複数の混合物を用いることにより、複数の物質、例えば第１の物質と第２の物質とを塗り分けて形成することが可能となる。
【手続補正２５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
特に、第二の素子基板の製造方法における混合物として、複数の物質の種類または量比が異なるように調製された複数の混合物を用い、この複数の混合物の各々を液状体吐出法により所定の位置に配置することにより、局所的な塗り分けも可能となるので、微細な電子素子のパターンや配置に対応させて、相分離 構造を有する膜を形成することができる。
【手続補正２６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
また、本発明に係る第一または第二の素子基板の製造方法は、膜製造工程の後に、溶媒を除去するための乾燥工程を設けてもよい。
溶媒を除去するための乾燥工程は、前述した塗布工程で形成した膜から溶媒を蒸発させて取り除くことにより、膜に規則正しい秩序構造を形成させ、例えば格子間隔が１００ｎｍ以上である各ポリマー相（ブロック鎖相とも呼ぶ）からなるミクロ相分離 構造の膜が得られる。なお、この乾燥工程は、膜からの溶媒除去の効率を上げるため減圧雰囲気で行っても構わない。
【手続補正２７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
さらに、本発明に係る第一または第二の素子基板の製造方法は、前述した膜製造工程の後に、熱処理する工程を具備してもよい。
膜製造工程により形成された膜に対し、第一の物質と第二の物質からなる液体材料Ｌ２  のＴＯＤＴ  より低い温度に熱処理する冷却工程を施すことによって、膜に規則正しい秩序構造を形成させ、例えば格子間隔が１００ｎｍ以上である各ポリマー相（ブロック鎖相とも呼ぶ）からなるミクロ相分離 構造の膜が得られる。特に、この冷却工程を乾燥工程により溶媒除去が行われた膜に対して行うことにより、この作用・効果がより一層得られるので好ましい。
【手続補正２８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
本発明に係る電子装置は、上述した構成からなる素子基板と、光学素子と、を具備したことを特徴としている。
上述した構成からなる素子基板であれば、予め素子基板の内部に反射機能や絶縁機能を有する膜を備えているので、光学素子を素子基板上に設ける際に新たにこのような機能を有する膜を作製する必要が無い。つまり、上述した構成からなる素子基板を用いた場合には、光学素子のみを作製するプロセスに特化した製造ラインを構築するだけで、所望の電子装置が得られる。したがって、電子装置をより安価に提供することが可能となる。また、
【手続補正２９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
本発明に係る電子装置の製造方法は、基板上に電子素子を形成する素子製造工程と、前記電子素子の少なくとも一部を覆う ように、互いに非相溶性の複数の物質を含む混合物を塗布することにより相分離 構造を有する膜を形成する膜製造工程と、を具備したことを特徴としている。
この構成からなる電子装置の製造方法であれば、前述したように、電子素子 の少なくとも一部を覆う ように、互いに非相溶性の複数の物質を含む混合物を塗布することにより相分離 構造を有する膜を形成する膜製造工程では、従来必要とした真空プロセスが不要なので、電子装置の製造コストを抑制することが可能となる。
この真空プロセスが不要となる作用・効果は、大気圧下にて膜を製造する塗布法を用いて相分離 構造を有する膜を形成することで得られるものであるから、上記電子装置の製造方法に限定されるものではない。
【手続補正３０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
本発明に係る光学装置の製造方法は、基板上にスイッチング素子層を含む電子素子層を形成する素子製造工程と、前記電子素子層の上方に非相溶性の複数の物質を含む混合物を、液状体吐出法を用いて塗布することにより相分離 構造を有する膜を形成する膜製造工程と、を具備したことを特徴としている。
この構成からなる光学装置の製造方法であれば、前述したように、電子素子 層の上方に非相溶性の複数の物質を含む混合物を、液状体吐出法を用いて塗布することにより相分離 構造を有する膜を形成する膜製造工程では、従来必要とした真空プロセスが不要なので、光学装置の製造コストを抑制することが可能となる。
【手続補正３１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
本発明に係る電子機器は、少なくとも上述した電子装置または上述した光学装置を備えたことを特徴としている。
上記構成の電子機器であれば、従来より製造コストを抑えた電子装置または光学装置を搭載しているので、従来より安価な製品の提供ができる。