【手続補正書】
【提出日】令和3年11月12日(2021.11.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）式（Ｉ）
【化１】
2021503470.tif 000001
（式中、Ａは、アリール、ヘテロアリール、Ｃ1〜Ｃ6アルキル、Ｃ2〜Ｃ6アルケニル、Ｃ2〜Ｃ6アルキニル及びＣ3〜Ｃ7シクロアルキルから選択され、そのアリール、ヘテロアリール、Ｃ1〜Ｃ6アルキル、Ｃ2〜Ｃ6アルケニル、Ｃ2〜Ｃ6アルキニル及びＣ3〜Ｃ7シクロアルキルは、非置換であるか、又はハロゲン、シアノ、Ｃ1〜Ｃ6アルキル、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキル、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルコキシ、Ｃ2〜Ｃ6アルケニル、Ｃ2〜Ｃ6アルキニル、Ｃ1〜Ｃ6アルキルスルファニル、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキルスルファニル、Ｃ1〜Ｃ6アルキルスルフィニル、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキルスルフィニル、Ｃ1〜Ｃ6アルキルスルホニル、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキルスルホニル、Ｃ2〜Ｃ6ハロアルケニル及びＣ2〜Ｃ6ハロアルキニルから独立して選択される１つ以上の置換基で置換されている）
の化合物のニトリル部分を還元してアルデヒドにする工程であって；
前記式（Ｉ）の化合物の前記ニトリル部分の還元が、Ｈ2及び金属触媒を適用する対応する中間体イミンへの部分水素化、引き続く式（ＩＩ）
【化２】
2021503470.tif 000002
の化合物へのその後の加水分解によって実施される工程と、次に
（ｂ）好適なルイス酸の存在下で前記式（ＩＩ）の化合物を反応させて式（ＩＩＩ）
【化３】
2021503470.tif 000003
（式中、＊は立体中心を示す）
の化合物を得る工程と、次に
（ｃ）式（ＩＩＩ）の化合物を、キラル遷移金属触媒の存在下でアンモニウム塩及びＨ2と反応させて式（ＩＶ）
【化４】
2021503470.tif 000004
（式中、＊は立体中心を示す）
の鏡像異性的に及びジアステレオマー的に富化したアミンを得、次に
前記式（ＩＶ）のアミンを、式（Ｘ）
【化５】
2021503470.tif 000005
（式中、Ｙは、ＯＨ、ＯＲ又はハロゲン、好ましくはクロロなどの好適な脱離基であり、ＲはＣ1〜Ｃ6アルキルであり、Ｅは、アリール、ヘテロアリール、水素、Ｃ1〜Ｃ6アルキル、Ｃ2〜Ｃ6アルケニル、Ｃ2〜Ｃ6アルキニル及びＣ3〜Ｃ7シクロアルキルから選択され、そのアリール、ヘテロアリール、Ｃ1〜Ｃ6アルキル、Ｃ2〜Ｃ6アルケニル、Ｃ2〜Ｃ6アルキニル及びＣ3〜Ｃ7シクロアルキルは、非置換であるか、又はハロゲン、シアノ、Ｃ1〜Ｃ6アルキル、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキル、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルコキシ、Ｃ2〜Ｃ6アルケニル、Ｃ2〜Ｃ6アルキニル、Ｃ1〜Ｃ6アルキルスルファニル、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキルスルファニル、Ｃ1〜Ｃ6アルキルスルフィニル、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキルスルフィニル、Ｃ1〜Ｃ6アルキルスルホニル、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキルスルホニル、Ｃ2〜Ｃ6ハロアルケニル及びＣ2〜Ｃ6ハロアルキニルから独立して選択される１つ以上の置換基で置換されている）
の化合物と更に反応させ；
式（ＶＩＩ）
【化６】
2021503470.tif 000006
の鏡像異性的に及びジアステレオマー的に富化したアミドを形成する工程と、
を含む鏡像異性的に及びジアステレオマー的に富化したシクロブタンアミドの調製方法。
【請求項２】
Ａ及びＥは、アリール及びヘテロアリールから選択され、そのアリール及びヘテロアリールが非置換であるか、又はハロゲン、シアノ、Ｃ1〜Ｃ6アルキル、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキル、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシ及びＣ1〜Ｃ6ハロアルコキシから独立して選択される１つ以上の置換基で置換されている、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
Ａはフェニルであり、Ｅはヘテロアリールであり、そのフェニル及びヘテロアリールが非置換であるか、又はハロゲン、シアノ、Ｃ1〜Ｃ6アルキル、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキル、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシ及びＣ1〜Ｃ6ハロアルコキシから独立して選択される１つ以上の置換基で置換されている、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
ＡｌＣｌ3及びＧａＣｌ3、好ましくはＡｌＣｌ3から選択されるルイス酸の存在下で工程（ｂ）において前記式（ＩＩ）の化合物を反応させる、請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
式（ＩＩ）の化合物に対して１．０〜１．５モル当量のＡｌＣｌ3又はＧａＣｌ3が工程（ｂ）において添加される、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
工程（ｃ）における前記キラル遷移金属触媒は、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｉｒ及びＰｄ、好ましくはＲｕから選択される遷移金属と、一般式（ＶＩＩＩ）
【化７】
2021503470.tif 000007
（式中、Ｚは連結基であり、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は、アリール、ヘテロアリール、Ｃ1〜Ｃ6アルキル及びＣ1〜Ｃ6シクロアルキルから独立して選択され、それらのそれぞれは、非置換であるか、又はＣ1〜Ｃ6アルキル、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキル及びハロゲンから独立して選択される１つ以上の置換基で置換されている）
の二座リンを持ったキラル配位子とを含む、請求項１〜５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
前記連結基Ｚは、（Ｒ又はＳ）−１，１’−ビナフチル、（Ｒ又はＳ）−４，４’−ビ−１，３−ベンゾジオキソール、（Ｒ又はＳ）−２，２’，６，６’−テトラメトキシ−３，３’−ビピリジン、（Ｒ又はＳ）−６，６’−ジメトキシ−１，１’−ビフェニル、（Ｒ又はＳ）−４，４’，６，６’−テトラメトキシ−１，１’−ビフェニル、２，２’−ビス−［（Ｒ）−ｃｘ−（ジメチルアミノ）ベンジル］フェロセン、フェロセニルメチル、フェロセン、ベンゼン及びエチル、好ましくは（Ｒ又はＳ）−１，１’−ビナフチルから選択される、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記キラル配位子は、
（Ｒ）−２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル、
（Ｒ）−２，２’−ビス（ジ−ｐ−トリルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル、
（Ｒ）−２，２’−ビス［ジ（３，５−キシリル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル、
（Ｒ）−５，５’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−４，４’−ビ−１，３−ベンゾジオキソール、
（Ｒ）−５，５’−ビス（ジ［３，５−キシリル］ホスフィノ）−４，４’−ビ−１，３−ベンゾジオキソール、
（Ｒ）−５，５’−ビス［ジ（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシフェニル）ホスフィノ］−４，４’−ビ−１，３−ベンゾジオキソール、
（Ｓ）−１，１３−ビス（ジフェニルホスフィノ）−７，８−ジヒドロ−６Ｈ−ジベンゾ［ｆ，ｈ］［１，５］ジオキシン、
（Ｒ）−２，２’，６，６’−テトラメトキシ−４，４’−ビス（ジ（３，５−キシリル）ホスフィノ）−３，３’−ビピリジン、
（Ｒ）−２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−６，６’−ジメトキシ−１，１’−ビフェニル、
（Ｒ）−２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−４，４’，６，６’−テトラメトキシ−１，１’−ビフェニル、
（Ｒ）−６，６’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−２，２’，３，３’−テトラヒドロ−５，５’−ビ−１，４−ベンゾジオキシン、
（Ｒ）−（＋）−２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−５，５’，６，６’，７，７’，８，８’−オクタヒドロ−１，１’−ビナフチル、
（Ｒ）−（＋）−２，２’−ビス（ジ−３，５−キシリルホスフィノ）−５，５’，６，６’，７，７’，８，８’−オクタヒドロ−１，１’−ビナフチル、
（Ｒ）−５，５’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−２，２，２’，２’−テトラフルオロ−４，４’−ビ−１，３−ベンゾジオキソール、
（Ｓ）−１−［（Ｓ）−１−［ジ（３，５−キシリル）ホスフィノ］エチル］−２−［２−［ジ（３，５−キシリル）ホスフィノ］フェニル］フェロセン、
及び
（Ｓ）−１−［（Ｓ）−１−［ビス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ホスフィノ］エチル］−２−［２−（ジフェニルホスフィノ）フェニル］フェロセン
から選択される、請求項６又は７に記載の方法。
【請求項９】
前記キラル遷移金属触媒は、［ＲｕＣｌ（ｐ−シメン）（（Ｓ）−ＤＭ−ＳＥＧＰＨＯＳ）］Ｃｌ、［ＲｕＣｌ（ｐ−シメン）（（Ｒ）−ＤＭ−ＳＥＧＰＨＯＳ）］Ｃｌ、［ＮＨ2Ｍｅ2］［（ＲｕＣｌ（（Ｒ）−ｘｙｌｂｉｎａｐ））2（ｕ−Ｃｌ）3］、［ＮＨ2Ｍｅ2］［（ＲｕＣｌ（（Ｓ）−ｘｙｌｂｉｎａｐ））2（ｕ−Ｃｌ）3］、Ｒｕ（ＯＡｃ）2［（Ｒ）−ｂｉｎａｐ］、Ｒｕ（ＯＡｃ）2［（Ｓ）−ｂｉｎａｐ］、Ｒｕ（ＯＡｃ）2［（Ｒ）−ｘｙｌｂｉｎａｐ］、Ｒｕ（ＯＡｃ）2［（Ｓ）−ｘｙｌｂｉｎａｐ］、ＲｕＣｌ2［（Ｒ）−ｘｙｌｂｉｎａｐ］［（Ｒ）−ｄａｉｐｅｎ］、ＲｕＣｌ2［（Ｓ）−ｘｙｌｂｉｎａｐ］［（Ｓ）−ｄａｉｐｅｎ］、ＲｕＣｌ2［（Ｒ）−ｘｙｌｂｉｎａｐ］［（Ｒ，Ｒ）−ｄｐｅｎ］及びＲｕＣｌ2［（Ｓ）−ｘｙｌｂｉｎａｐ］［（Ｓ，Ｓ）−ｄｐｅｎ］から選択される、請求項６に記載の方法。
【請求項１０】
式（ＩＩ）
【化８】
2021503470.tif 000008

の化合物を好適なルイス酸と反応させる工程を含む、式（ＩＩＩ）
【化９】
2021503470.tif 000009

（式中、Ａは、請求項１〜３のいずれか一項に定義された通りであり、*は、立体中心を示す）
の化合物の調製方法。
【請求項１１】
式（ＩＩ）
【化１０】
2021503470.tif 000010
の化合物を、ＡｌＣｌ3及びＧａＣｌ3、好ましくはＡｌＣｌ3から選択されるルイス酸と反応させる工程を含む、式（ＩＩＩ）
【化１１】
2021503470.tif 000011
（式中、Ａは、請求項１〜３のいずれか一項に定義された通りであり、*は立体中心を示す）
の化合物の調製方法。
【請求項１２】
前記式（ＩＩ）の化合物に対して１．０〜１．５モル当量のＡｌＣｌ3又はＧａＣｌ3が添加される、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
請求項１０〜１２のいずれか一項に記載の方法であって、前記式（ＩＩＩ）
【化１２】
2021503470.tif 000012

（式中、Ａは、請求項１〜３のいずれか一項に定義された通りであり、*は、立体中心を示す）
の化合物を、キラル遷移金属触媒の存在下でアンモニウム塩及びＨ2と更に反応させて式（ＩＶ）
【化１３】
2021503470.tif 000013

（式中、*は、立体中心を示す）
の鏡像異性的に及びジアステレオマー的に富化したアミンを得て、次に、
前記式（ＩＶ）のアミンを式（Ｘ）
【化１４】
2021503470.tif 000014

（式中、Ｙは、ＯＨ、ＯＲ又はハロゲン、好ましくはクロロなどの好適な脱離基であり、Ｒは、Ｃ1〜Ｃ6アルキルであり、Ｅは、アリール、ヘテロアリール、水素、Ｃ1〜Ｃ6アルキル、Ｃ2〜Ｃ6アルケニル、Ｃ2〜Ｃ6アルキニル及びＣ3〜Ｃ7シクロアルキルから選択され、そのアリール、ヘテロアリール、Ｃ1〜Ｃ6アルキル、Ｃ2〜Ｃ6アルケニル、Ｃ2〜Ｃ6アルキニル及びＣ3〜Ｃ7シクロアルキルは、非置換であるか、又はハロゲン、シアノ、Ｃ1〜Ｃ6アルキル、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキル、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルコキシ、Ｃ2〜Ｃ6アルケニル、Ｃ2〜Ｃ6アルキニル、Ｃ1〜Ｃ6アルキルスルファニル、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキルスルファニル、Ｃ1〜Ｃ6アルキルスルフィニル、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキルスルフィニル、Ｃ1〜Ｃ6アルキルスルホニル、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキルスルホニル、Ｃ2〜Ｃ6ハロアルケニル及びＣ2〜Ｃ6ハロアルキニルから独立して選択される１つ以上の置換基で置換されている）
の化合物と更に反応させて、式（ＶＩＩ）
【化１５】
2021503470.tif 000015

の鏡像異性的に及びジアステレオマー的に富化したアミドを形成する
方法。
【請求項１４】
前記キラル遷移金属触媒は、請求項６〜９のいずれか一項に定義された通りである、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
式（ＩＩ）
【化１６】
2021503470.tif 000016
の化合物を、ＡｌＣｌ3及びＧａＣｌ3、好ましくはＡｌＣｌ3から選択されるルイス酸の存在下で反応させて式（ＩＩＩ）
【化１７】
2021503470.tif 000017
の化合物を得る工程と、
前記式（ＩＩＩ）の化合物を、アセトニトリル及び好適な添加物（ここで、前記添加物はアシルクロリド、酸無水物又はエステルから選択され、好ましくは前記添加物はアセチルクロリド、酢酸イソプロペニル、４−メトキシベンゾイルクロリド及びｐ−アニス酸無水物から選択される）と更に反応させる工程と
を含む、式（Ｖ）
【化１８】
2021503470.tif 000018
（式中、Ａは、請求項１〜３のいずれか一項に定義された通りである）
の化合物の調製方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２３５】
実施例２１３：        
トルエン（２０ｇ）中の（１Ｓ，２Ｓ）−２−（２，４−ジクロロフェニル）シクロブタンアミン（２０．０ｇ、８７．３ｍｍｏｌ）と水（４０ｇ）との二相混合物を０℃に冷却し、水和物形態での生成物の種晶（１．５３ｇ）を添加した。トルエン（６０ｇ）中の２−（トリフルオロメチル）ピリジン−３−カルボニルクロリド（１９．７ｇ、９１．６ｍｍｏｌ）の溶液を、ｐＨが７〜９に保たれるようなやり方で２ｈにわたって３０％水性ＮａＯＨ（１４．０ｇ、１０５ｍｍｏｌ）と並行して投与する。投与の終了後に、反応物を更なる３ｈ撹拌した。結果として生じた濃い懸濁液を濾過し、フィルターケーキを水（２×２５ｇ）で洗浄し、１５０ミリバールで１６ｈ乾燥させてＮ−［（１Ｓ，２Ｓ）−２−（２，４−ジクロロフェニル）シクロブチル］−２−（トリフルオロメチル）ピリジン−３−カルボキサミド（３６．４ｇ、７％水を含有する）を一水和物としてもたらした。
ＦＴ−ＩＲ  ３４０３，３２３２，３０７９，２９４８，１６６０，１６４５，１５９３，１５７５，１４７１，１３２６，１１８６，１１２６，１０７６，１０５４ｃｍ-1．
本発明のまた別の態様は、以下のとおりであってもよい。
〔１〕（ａ）式（Ｉ）
【化１】
2021503470.tif 000019

（式中、Ａは、アリール、ヘテロアリール、Ｃ1〜Ｃ6アルキル、Ｃ2〜Ｃ6アルケニル、Ｃ2〜Ｃ6アルキニル及びＣ3〜Ｃ7シクロアルキルから選択され、そのアリール、ヘテロアリール、Ｃ1〜Ｃ6アルキル、Ｃ2〜Ｃ6アルケニル、Ｃ2〜Ｃ6アルキニル及びＣ3〜Ｃ7シクロアルキルは、非置換であるか、又はハロゲン、シアノ、Ｃ1〜Ｃ6アルキル、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキル、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルコキシ、Ｃ2〜Ｃ6アルケニル、Ｃ2〜Ｃ6アルキニル、Ｃ1〜Ｃ6アルキルスルファニル、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキルスルファニル、Ｃ1〜Ｃ6アルキルスルフィニル、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキルスルフィニル、Ｃ1〜Ｃ6アルキルスルホニル、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキルスルホニル、Ｃ2〜Ｃ6ハロアルケニル及びＣ2〜Ｃ6ハロアルキニルから独立して選択される１つ以上の置換基で置換されている）
の化合物のニトリル部分を還元してアルデヒドにする工程であって；
前記式（Ｉ）の化合物の前記ニトリル部分の還元が、Ｈ2及び金属触媒を適用する対応する中間体イミンへの部分水素化、引き続く式（ＩＩ）
【化２】
2021503470.tif 000020

の化合物へのその後の加水分解によって実施される工程と、次に
（ｂ）好適なルイス酸の存在下で前記式（ＩＩ）の化合物を反応させて式（ＩＩＩ）
【化３】
2021503470.tif 000021

（式中、＊は立体中心を示す）
の化合物を得る工程と、次に
（ｃ）式（ＩＩＩ）の化合物を、キラル遷移金属触媒の存在下でアンモニウム塩及びＨ2と反応させて式（ＩＶ）
【化４】
2021503470.tif 000022

（式中、＊は立体中心を示す）
の鏡像異性的に及びジアステレオマー的に富化したアミンを得、次に
前記式（ＩＶ）のアミンを、式（Ｘ）
【化５】
2021503470.tif 000023

（式中、Ｙは、ＯＨ、ＯＲ又はハロゲン、好ましくはクロロなどの好適な脱離基であり、ＲはＣ1〜Ｃ6アルキルであり、Ｅは、アリール、ヘテロアリール、水素、Ｃ1〜Ｃ6アルキル、Ｃ2〜Ｃ6アルケニル、Ｃ2〜Ｃ6アルキニル及びＣ3〜Ｃ7シクロアルキルから選択され、そのアリール、ヘテロアリール、Ｃ1〜Ｃ6アルキル、Ｃ2〜Ｃ6アルケニル、Ｃ2〜Ｃ6アルキニル及びＣ3〜Ｃ7シクロアルキルは、非置換であるか、又はハロゲン、シアノ、Ｃ1〜Ｃ6アルキル、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキル、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルコキシ、Ｃ2〜Ｃ6アルケニル、Ｃ2〜Ｃ6アルキニル、Ｃ1〜Ｃ6アルキルスルファニル、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキルスルファニル、Ｃ1〜Ｃ6アルキルスルフィニル、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキルスルフィニル、Ｃ1〜Ｃ6アルキルスルホニル、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキルスルホニル、Ｃ2〜Ｃ6ハロアルケニル及びＣ2〜Ｃ6ハロアルキニルから独立して選択される１つ以上の置換基で置換されている）
の化合物と更に反応させ；
式（ＶＩＩ）
【化６】
2021503470.tif 000024

の鏡像異性的に及びジアステレオマー的に富化したアミドを形成する工程と、
を含む鏡像異性的に及びジアステレオマー的に富化したシクロブタンアミドの調製方法。
〔２〕Ａ及びＥは、アリール及びヘテロアリールから選択され、そのアリール及びヘテロアリールが非置換であるか、又はハロゲン、シアノ、Ｃ1〜Ｃ6アルキル、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキル、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシ及びＣ1〜Ｃ6ハロアルコキシから独立して選択される１つ以上の置換基で置換されている、前記〔１〕に記載の方法。
〔３〕Ａはフェニルであり、Ｅはヘテロアリールであり、そのフェニル及びヘテロアリールが非置換であるか、又はハロゲン、シアノ、Ｃ1〜Ｃ6アルキル、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキル、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシ及びＣ1〜Ｃ6ハロアルコキシから独立して選択される１つ以上の置換基で置換されている、前記〔１〕に記載の方法。
〔４〕ＡｌＣｌ3及びＧａＣｌ3、好ましくはＡｌＣｌ3から選択されるルイス酸の存在下で工程（ｂ）において前記式（ＩＩ）の化合物を反応させる、前記〔１〕〜〔３〕のいずれか一項に記載の方法。
〔５〕工程（ｂ）において使用される溶媒は、塩素化炭化水素又は塩素化芳香族溶媒、特にジクロロメタン、クロロベンゼン又はジクロロベンゼンである、前記〔４〕に記載の方法。
〔６〕前記式（ＩＩ）の化合物に対して１．０〜１．５モル当量のＡｌＣｌ3又はＧａＣｌ3が工程（ｂ）において添加される、前記〔４〕又は〔５〕に記載の方法。
〔７〕工程（ｃ）における前記キラル遷移金属触媒は、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｉｒ及びＰｄ、好ましくはＲｕから選択される遷移金属と、一般式（ＶＩＩＩ）
【化７】
2021503470.tif 000025

（式中、Ｚは連結基であり、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は、アリール、ヘテロアリール、Ｃ1〜Ｃ6アルキル及びＣ1〜Ｃ6シクロアルキルから独立して選択され、それらのそれぞれは、非置換であるか、又はＣ1〜Ｃ6アルキル、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキル及びハロゲンから独立して選択される１つ以上の置換基で置換されている）
の二座リンを持ったキラル配位子とを含む、前記〔１〕〜〔６〕のいずれか一項に記載の方法。
〔８〕前記連結基Ｚは、（Ｒ及びＳ）−１，１’−ビナフチル、（Ｒ及びＳ）−４，４’−ビ−１，３−ベンゾジオキソール、（Ｒ及びＳ）−２，２’，６，６’−テトラメトキシ−３，３’−ビピリジン、（Ｒ及びＳ）−６，６’−ジメトキシ−１，１’−ビフェニル、（Ｒ及びＳ）−４，４’，６，６’−テトラメトキシ−１，１’−ビフェニル、２，２’−ビス［（Ｒ）−ｃｘ−（ジメチルアミノ）ベンジル］フェロセン、フェロセニルメチル、フェロセン、ベンゼン及びエチル、好ましくは（Ｒ及びＳ）−１，１’−ビナフチルから選択される、前記〔７〕に記載の方法。
〔９〕前記キラル配位子は、
（Ｒ）−２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル、
（Ｒ）−２，２’−ビス（ジ−ｐ−トリルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル、
（Ｒ）−２，２’−ビス［ジ（３，５−キシリル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル、
（Ｒ）−５，５’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−４，４’−ビ−１，３−ベンゾジオキソール、
（Ｒ）−５，５’−ビス（ジ［３，５−キシリル］ホスフィノ）−４，４’−ビ−１，３−ベンゾジオキソール、
（Ｒ）−５，５’−ビス［ジ（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシフェニル）ホスフィノ］−４，４’−ビ−１，３−ベンゾジオキソール、
（Ｓ）−１，１３−ビス（ジフェニルホスフィノ）−７，８−ジヒドロ−６Ｈ−ジベンゾ［ｆ，ｈ］［１，５］ジオキシン、
（Ｒ）−２，２’，６，６’−テトラメトキシ−４，４’−ビス（ジ（３，５−キシリル）ホスフィノ）−３，３’−ビピリジン、
（Ｒ）−２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−６，６’−ジメトキシ−１，１’−ビフェニル、
（Ｒ）−２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−４，４’，６，６’−テトラメトキシ−１，１’−ビフェニル、
（Ｒ）−６，６’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−２，２’，３，３’−テトラヒドロ−５，５’−ビ−１，４−ベンゾジオキシン、
（Ｒ）−（＋）−２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−５，５’，６，６’，７，７’，８，８’−オクタヒドロ−１，１’−ビナフチル、
（Ｒ）−（＋）−２，２’−ビス（ジ−３，５−キシリルホスフィノ）−５，５’，６，６’，７，７’，８，８’−オクタヒドロ−１，１’−ビナフチル、
（Ｒ）−５，５’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−２，２，２’，２’−テトラフルオロ−４，４’−ビ−１，３−ベンゾジオキソール、
（Ｓ）−１−［（Ｓ）−１−［ジ（３，５−キシリル）ホスフィノ］エチル］−２−［２−［ジ（３，５−キシリル）ホスフィノ］フェニル］フェロセン、
及び
（Ｓ）−１−［（Ｓ）−１−［ビス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ホスフィノ］エチル］−２−［２−（ジフェニルホスフィノ）フェニル］フェロセン
から選択される、前記〔７〕又は〔８〕に記載の方法。
〔１０〕前記キラル遷移金属触媒は、［ＲｕＣｌ（ｐ−シメン）（（Ｓ）−ＤＭ−ＳＥＧＰＨＯＳ）］Ｃｌ、［ＲｕＣｌ（ｐ−シメン）（（Ｒ）−ＤＭ−ＳＥＧＰＨＯＳ）］Ｃｌ、［ＮＨ2Ｍｅ2］［（ＲｕＣｌ（（Ｒ）−ｘｙｌｂｉｎａｐ））2（ｕ−Ｃｌ）3］、［ＮＨ2Ｍｅ2］［（ＲｕＣｌ（（Ｓ）−ｘｙｌｂｉｎａｐ））2（ｕ−Ｃｌ）3］、Ｒｕ（ＯＡｃ）2［（Ｒ）−ｂｉｎａｐ］、Ｒｕ（ＯＡｃ）2［（Ｓ）−ｂｉｎａｐ］、Ｒｕ（ＯＡｃ）2［（Ｒ）−ｘｙｌｂｉｎａｐ］、Ｒｕ（ＯＡｃ）2［（Ｓ）−ｘｙｌｂｉｎａｐ］、ＲｕＣｌ2［（Ｒ）−ｘｙｌｂｉｎａｐ］［（Ｒ）−ｄａｉｐｅｎ］、ＲｕＣｌ2［（Ｓ）−ｘｙｌｂｉｎａｐ］［（Ｓ）−ｄａｉｐｅｎ］、ＲｕＣｌ2［（Ｒ）−ｘｙｌｂｉｎａｐ］［（Ｒ，Ｒ）−ｄｐｅｎ］及びＲｕＣｌ2［（Ｓ）−ｘｙｌｂｉｎａｐ］［（Ｓ，Ｓ）−ｄｐｅｎ］から選択される、前記〔７〕又は〔８〕に記載の方法。
〔１１〕式（ＩＩ）
【化８】
2021503470.tif 000026

の化合物を、ＡｌＣｌ3及びＧａＣｌ3、好ましくはＡｌＣｌ3から選択されるルイス酸の存在下で反応させる工程を含む、式（ＩＩＩ）
【化９】
2021503470.tif 000027

（式中、Ａは、前記〔１〕〜〔３〕のいずれか一項に定義された通りであり、*は立体中心を示す）
の化合物の調製方法。
〔１２〕前記式（ＩＩ）の化合物に対して１．０〜１．５モル当量のＡｌＣｌ3又はＧａＣｌ3が添加される、前記〔１１〕に記載の方法。
〔１３〕前記反応は、５０〜６０℃の温度で、塩素化芳香族溶媒中で実施される、前記〔１１〕及び〔１２〕のいずれか一項に記載の方法。
〔１４〕式（ＩＩＩ）
【化１０】
2021503470.tif 000028

の化合物を、キラル遷移金属触媒の存在下でアンモニウム塩及びＨ2と反応させる工程であって、反応混合物に添加されるキラル遷移金属触媒の量が、前記式（ＩＩＩ）の化合物に対して０．０００１〜０．１モル当量、好ましくは前記式（ＩＩＩ）の化合物に対して０．０００５〜０．０１モル当量であり、及び前記反応混合物に、
（ｉ）前記式（ＩＩＩ）の化合物に対して１〜１０モル当量の、酢酸アンモニウム、２−メトキシプロピオン酸アンモニウム、テトラヒドロフラン−２−カルボン酸アンモニウム、ｏ−メトキシ安息香酸アンモニウム、ｐ−メトキシ安息香酸アンモニウム、クロロ酢酸アンモニウム、メトキシ酢酸アンモニウム、フェノキシ酢酸アンモニウム、ｐ−クロロフェノキシ酢酸アンモニウム、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ酢酸アンモニウム、フラン−２−カルボン酸アンモニウム及びサリチル酸アンモニウムから選択される前もって形成されたアンモニウム塩を、又は
（ｉｉ）その場で前記アンモニウム塩を形成するために、前記式（ＩＩＩ）の化合物に対して１〜１０モル当量のアンモニアと、酢酸、メトキシ酢酸、２−メトキシプロピオン酸、テトラヒドロフラン−２−カルボン酸、ｏ−メトキシ安息香酸、ｐ−メトキシ安息香酸、フェノキシ酢酸、２−フランカルボン酸、ｐ−クロロフェノキシ酢酸、サリチル酸、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ酢酸、酢酸及びクロロ酢酸から選択される酸とを
装入する工程を含む、
式（ＩＶ）
【化１１】
2021503470.tif 000029

（式中、*は立体中心を示し、式中、Ａは、前記〔１〕〜〔３〕のいずれか一項に記載に定義された通りである）
の鏡像異性的に及びジアステレオマー的に富化したシクロブタンアミンの調製方法。
〔１５〕式（ＩＩ）
【化１２】
2021503470.tif 000030

の化合物を、ＡｌＣｌ3及びＧａＣｌ3、好ましくはＡｌＣｌ3から選択されるルイス酸の存在下で反応させて式（ＩＩＩ）
【化１３】
2021503470.tif 000031

の化合物を得る工程と、
前記式（ＩＩＩ）の化合物を、アセトニトリル及び好適な添加物（ここで、前記添加物はアシルクロリド、酸無水物又はエステルから選択され、好ましくは前記添加物はアセチルクロリド、酢酸イソプロペニル、４−メトキシベンゾイルクロリド及びｐ−アニス酸無水物から選択される）と更に反応させる工程と
を含む、式（Ｖ）
【化１４】
2021503470.tif 000032

（式中、Ａは、前記〔１〕〜〔３〕のいずれか一項に定義された通りである）
の化合物の調製方法。