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【手続補正書】
【提出日】平成17年4月20日(2005.4.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シェル（３２）を傾斜して貫通し冷却剤をそれから接線方向に吐出する複数の開口（３０）を含むことを特徴とするタービンノズル用のバッフル。
【請求項２】
前記開口（３０）の各々は、前記シェルの内部寄りに配置され冷却剤を受け入れる入口（３０ａ）と、前記シェルに沿って横方向に面して該シェルの外部寄りに配置され冷却剤を該シェルに沿って横方向に吐出する出口（３０ｂ）とを含むことを特徴とする、請求項１に記載のバッフル。
【請求項３】
前記シェル（３２）は管状であり、前記開口（３０）は前記シェルのスパンに沿って延びる列で配置されていることを特徴とする、請求項２に記載のバッフル。
【請求項４】
前記シェル（３２）は、前記開口（３０）の列のところで重なる複数のルーバ（３８）を更に含むことを特徴とする、請求項３に記載のバッフル。
【請求項５】
前記ルーバ（３８）は出口スロット（４０）のところで隣接しており、前記開口（３０）の列は、それぞれのルーバスロットと流体連通して配置され冷却剤をそれからまとめて吐出することを特徴とする、請求項４に記載のバッフル。
【請求項６】
前記開口（３０）は、前記隣接するルーバ（３８）の間に配置されたそれぞれの支柱（４２）により分離されていることを特徴とする、請求項５に記載のバッフル。
【請求項７】
前記開口入口（３０ａ）及び出口（３０ｂ）は、前記隣接するルーバ（３８）の間で垂直方向に延びていることを特徴とする、請求項６に記載のバッフル。
【請求項８】
前記ルーバ（３８）及び開口（３０）は、前記シェルの前方端と後方端との間で前記シェル（３２）の対向する側面に配置され、前記シェルの両側面の前記開口出口（３０ｂ）は前記シェルの後方端の方向に面していることを特徴とする、請求項６に記載のバッフル。
【請求項９】
前記シェルの後方端は、それを垂直方向に貫通する吐出孔（４４）の列を含み、
前記シェルの前方端は、それを垂直方向に貫通する吐出孔（４６）の複数の列を含むことを特徴とする、請求項８に記載のバッフル。
【請求項１０】
前記シェル（３２）は、前記開口（３０）に対応する複数のくぼみ（４８）を更に含んでおり、前記開口出口（３０ｂ）は前記くぼみの幅広端部において前記シェルから垂直方向外方に延びていることを特徴とする、請求項３に記載のバッフル。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
セラミックタービンノズルは、セラミックが断熱材であるので、この問題を悪化させる。その場合、セラミックノズルベーンの壁は、高温のガスがベーンの外部にある状態でのベーンの内部におけるインピンジメント冷却により、壁を横切る更に大きな温度差を受けることになる。セラミックノズル壁を横切る温度差が増大すると、それに対応する熱歪みの増大を生じ、セラミックの脆弱性のためにノズルの耐用年数を著しく縮めることになる。
【特許文献１】特開２０００−１３０７６０号公報
【手続補正書】
【提出日】平成17年2月10日(2005.2.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
環状のディスク側板（３０）であって、
周りを該環状のディスク側板（３０）が囲んでいる中心線（１５）と、
環状のプレートハブ（９０）と、
該プレートハブから軸方向前方に延びる環状のプレートシャフト延長部（９２）と、
前記プレートハブから半径方向外向きに延びるプレートウェブ（９６）と、
該プレートウェブから半径方向外向きに延びるプレートリム（９８）と、
該プレートリムから軸方向後方に延びる少なくとも一つの環状のシーリングリッジ（１００）と、
前記プレートシャフト延長部上に配置された、前記側板の回転を防止するための回転防止手段（１１０）と、
前記側板を貫通して配置された冷却空気穴（８８）と、
を備えることを特徴とする環状のディスク側板（３０）。
【請求項２】
前記冷却空気穴（８８）が、前記プレートウェブ（９６）を貫通して軸方向に延びることを特徴とする、請求項１に記載の環状のディスク側板（３０）。
【請求項３】
前記回転防止手段（１１０）が、半径方向に延びる周方向に離間して配置されたタブ（１１２）の周方向の列を含むことを特徴とする、請求項１又は請求項２に記載の環状のディスク側板（３０）。
【請求項４】
前記プレートシャフト延長部（９２）の半径方向最内方にある内側円筒形面（１０４）と、
該内側円筒形面（１０４）から半径方向外向きに間隔をおいて配置された、前記プレートシャフト延長部（９２）の外側円筒形面（１０６）と、
を更に備え、
前記プレートシャフト延長部（９２）は、該プレートシャフト延長部（９２）のシャフト壁厚Ｔのおよそ半ばの位置にある中央線（９７）から前記中心線（１５）まで測定された縮径半径Ｒと、前記シャフト壁厚Ｔとの積の平方根の少なくとも１．２５倍に等しい軸方向の縮径長Ｌを有する、
ことを特徴とする、請求項１、請求項２又は請求項３に記載の環状のディスク側板（３０）。
【請求項５】
軸方向後方に前記プレートハブ（９０）内まで延び、半径方向外側のラベット継手コーナ部（１１６）を有する凹部（１１４）を更に備えることを特徴とする、請求項４に記載の環状のディスク側板（３０）。
【請求項６】
ディスクハブ（５０）と、該ディスクハブ（５０）から軸方向前方に延びる環状のディスクシャフト延長部と、前記ディスクハブから半径方向外向きに延びるディスクウェブ（５２）と、該ディスクウェブから半径方向外向きに延びるディスクリム（５６）と、該ディスクリムに取り付けられ、該ディスクリムから半径方向外向きに延びる複数のロータブレードと、前記ディスクリム（５６）上で前方に向いたシール面とを備える環状のディスクと、
環状のプレートハブ（９０）と、該プレートハブから軸方向前方に延び、前記ディスクシャフト延長部上に取り付けられた環状のプレートシャフト延長部（９２）と、前記プレートハブから半径方向外向きに延びるプレートウェブ（９６）と、該プレートウェブから半径方向外向きに延びるプレートリム（９８）と、該プレートリムから後方に延びる少なくとも一つの環状のシーリングリッジと、を含み、回転防止手段（１１０）がその回転を防止し、冷却空気穴（８８）がそれを貫通して配置され、前記ディスクの前方に向いた面の側に取り付けられた環状のディスク側板（３０）と、
前記プレートシャフト延長部を前記ディスクシャフト延長部に軸方向に固定することによって、前記ディスクに対して押圧される前記側板の初期荷重をかけ、前記環状のシーリングリッジ（１００）に前記シール面に対するシールを形成させるための初期荷重付与手段（１４０）と、
を備えることを特徴とするロータ組立体（１４）。
【請求項７】
前記初期荷重付与手段（１４０）が、前記ディスクシャフト延長部（１２４）の半径方向外面にある環状の溝（１４２）と、該溝内に配置され、該溝及び前記ディスクシャフト延長部に軸方向に係合したリング（１４５）とを含むことを特徴とする、請求項６に記載のロータ組立体（１４）。
【請求項８】
前記回転防止手段（１１０）が、前記プレートシャフト延長部及びディスクシャフト延長部上に配置されていることを特徴とする、請求項６又は請求項７に記載のロータ組立体（１４）。
【請求項９】
前記回転防止手段（１１０）が、
前記プレートシャフト延長部（９２）から半径方向内向きに垂下し、該プレートシャフト延長部の周りに周方向に配置された複数の第１タブ（１４８）と、
前記ディスクシャフト延長部（１２４）から半径方向外向きに垂下し、該ディスクシャフト延長部の周りに周方向に配置された複数の第２タブ（１５０）と、
前記第１タブの間の第１タブ空間（１５２）と、
前記第２タブの間の第２タブ空間（１５４）と、
を備え、
前記第１タブが前記第２タブ空間内に配置され、前記第２タブが前記第１タブ空間（１５２）内に配置されるように、該第１及び第２タブが周方向に互いにかみ合わされる、
ことを特徴とする、請求項８に記載のロータ組立体（１４）。
【請求項１０】
前記リング（１４５）が、前記溝の後方に向いた面（１４７）と軸方向に係合し、前記プレートシャフト延長部（９２）の前方に向いた面（１４９）に軸方向に係合するようにされていることを特徴とする、請求項９に記載のロータ組立体（１４）。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
当該技術において公知である別の低位の半径のディスク側板の保持には、十分な部品保持を提供するボルト継手が用いられるが、これは、結果的に部品数が多く、重くてかさばる形状になる。更に、ボルトの大きさは、エンジンの大きさに応じて縮小されることがないので、通常、小さなガス発生器には、このような継手のための空間がない。
【特許文献１】特表２００２−５１０００９号公報
【手続補正書】
【提出日】平成16年8月30日(2004.8.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
これらウォータポンプ６４とオルタネータ６６とクランク軸２２との位置関係は側面視で概略逆三角形形状を呈し、エンジンシリンダ２４の中心軸線２４ｃを中心にして前方にウォータポンプ６４を、後方にオルタネータ６６を互いにほぼ対称位置になるように配設したものである。また、タイミングベルト６８の上側経路はほぼシリンダヘッド２６とシリンダ２４の合わせ面と概略平行になっている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
前記エンジンフード１４の最上部には、上方へ突出した膨出部１８を形成しており、この膨出部１８の前部に単体のヘッドランプ２０が、一方、膨出部１８の後部に車両状態を表示する計器パネル７２が設けられており、吸気系３４の少なくとも一部を、膨出部１８のヘッドランプ２０と計器パネル７２とで挟まれた空間内に収容したものである。また、この膨出部１８上を覆うように、運転者の風除けのためのフェアリング１９がステアリングハンドル５６よりも幅広に後ろ開きに形成されてエンジンフード１４上に設置されている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
また、前記エンジンシリンダ２４より排気マフラ７８が下方に位置し、排気マニホールド７４に繋がるエキゾーストパイプ７６が排気マフラ７８に向けて前方下がりに延在する。排気マニホールド７４は、入側部分が４サイクルエンジン１６の複数の排気ポート３６（実施形態ではシリンダが３気筒で３箇所）に対応して複数あり、エキゾーストパイプ７６に繋がる出側部分は一括しており、この一括した部分が前方下がりになっている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
また、前記排気マフラ７８は概略筒状体であってその筒状体軸７８ａが車幅方向に沿い、かつ、車幅方向一側（実施形態では車体左側）面部に概略Ｃ字形状に曲がったエキゾーストパイプ７６出側が繋がれ、このエキゾーストパイプ７６を介して４サイクルエンジン１６からの排気が前記排気マフラ７８内に導入されるようにしている。前記排気マフラ７８は、車幅方向の他側（実施形態では車体右側）に偏倚して設置されており、これにより、エンジンルーム４６内壁との間隔を開けて、エキゾーストパイプ７６の配設スペースを確保している。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
また、エンジンフード１４内では、４サイクルエンジン１６をそのクランク軸２２方向中心位置１６Ｃが車体幅方向中心位置ＳＣに対して一側に偏倚するように配置した（図４参照）。また、エンジンフード１４内には、４サイクルエンジン１６を挟んで車幅方向一側（実施形態では車体左側）にクラッチ装置８２を配設し、該車幅方向他側にバッテリ８６を配設している。クラッチ装置８２は、エンジンクランク軸出力端に設置されたドライブクラッチプーリ８２ａと、クローラ用ドライブスプロケット軸８４におけるスプロケット８４ａの反対端に設置されたドリブンクラッチプーリ８２ｂと、断面Ｖ字形状のＶベルト８４ｃとからなるＶベルト変速装置を兼用したものである。クラッチ装置８２のドライブクラッチプーリ８２ａの４サイクルエンジン１６側には、図示しないスタータモータに噛合ってその駆動力をクランク軸２２に伝達するリングギヤ８５が配設されている。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
また、排気系３８を、シリンダヘッド２６前部の排気ポート３６に繋がる排気マニホールド７４と、エンジン前方に位置すると共にエキゾーストパイプ７６を介して排気マニホールド７４出側部に繋がる排気マフラ７８とがエンジンフード１４内に配置されたものとし、該マフラ７８からの排気導出パイプ８０の開口８０ａを車体下面部の車幅方向中央部位置に設けて該開口８０ａから排気を車体外部に向けて放出するようにしたものにするので、排気を車体下面の車幅方向中央部から放出でき、排気音が車体下側から両側に分かれしかも車体前部であるので、操縦者から遠くなり運転時は排気音が運転者の耳障りになることがない。また、車幅中央であるので、運転時の排気音が車体左右に同じになり、かつ下向きとすることで雪面や操舵用そりで跳ね上げた雪による消音効果が期待できる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
また、エンジンシリンダ２４より排気マフラ７８が下方に位置し、排気マニホールド７４に繋がるエキゾーストパイプ７６が排気マフラ７８に向けて前方下がりに延在するので、エンジン１６からエキゾーストパイプ７６、排気マフラ７８に亘って前下がりになり、空力性能向上のために前下がりのエンジンフード１４形状に沿った形状になる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図面の簡単な説明
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図面の簡単な説明】
【図１】
本発明の実施形態に適用する４サイクルエンジンを搭載した雪上車の前部側方視拡大説明図である。
【図２】
同雪上車の全体側方視説明図である。
【図３】
同雪上車の全体平面視説明図である。
【図４】
図３の拡大詳細説明図である。
【図５】
雪上車の正面視説明図である。
【図６】
図４のＶＩ−ＶＩ線断面視したバッテリの配設説明図である。
【図７】
（ａ）、（ｂ）は前記４サイクルエンジンの外観側面視図、正面視図である。
【図８】
４サイクルエンジンの平面視図である。
【符号の説明】
１０  車体
１０ｃ  車体中心軸線
１４  エンジンフード
１６  ４サイクルエンジン
１７  ヒートエクスチェンジャー
２２  クランク軸
２４  シリンダ
２４ｃ  シリンダ中心軸線
２８  吸気ポート
３０  エアクリーナボックス
３２  スロットルボディ
３２ａ  インテークパイプ
３４  吸気系
３６  排気ポート
３８  排気系
７２  計器パネル
７４  排気マニホールド
７８  排気マフラ
【手続補正書】
【提出日】平成17年5月30日(2005.5.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
排気ガス駆動スーパーチャージャー（８）を持ちかつシリンダー当たり少なくとも二つの排気ガス弁（２，３）を持つ多気筒内燃機関を駆動する方法であって、排気ガスが一方では各シリンダーの第一排気ガス弁（２）を介して第一排気マニホールド（４）に、他方では各シリンダーの第二排気ガス弁（３）を介して第二排気マニホールド（５）に送出されるものにおいて、低回転では第一排気ガス弁（２）のみが開かれ、一方高回転では第一排気ガス弁（２）と第二排気ガス弁（３）の両方が開かれること、及び排気ガスが少なくとも一つのターボコンプレッサーの少なくとも一つの排気ガスタービンに導かれることを特徴とする方法。
【請求項２】
第一排気マニホールド（４）及び第二排気マニホールド（５）からの排気ガスが同じ排気ガスタービン（１３）の異なる入口（１５，１８）に導かれることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
第一排気マニホールド（４）及び第二排気マニホールド（５）からの排気ガスが二つの異なるターボコンプレッサー（２５，２６）の二つの異なる排気ガスタービン（２７，２８）に導かれることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項４】
より大きな排気ガス流が第一排気マニホールド（４）を通してより第二排気マニホールド（５）を通して導かれることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の方法。
【請求項５】
排気ガス駆動スーパーチャージャー（８）を持ちかつシリンダー当たり少なくとも二つの排気ガス弁（２，３）を持つ内燃機関であって、各シリンダーの第一排気ガス弁（２）が第一排気マニホールド（４）に連結されておりかつ各シリンダーの第二排気ガス弁（３）が第二排気マニホールド（５）に連結されているものにおいて、排気マニホールド（４，５）が少なくとも一つのターボコンプレッサーの少なくとも一つの排気ガスタービンに連結されていること及び第一排気ガス弁（２）が全回転数で開かれるように配置され、一方第二排気ガス弁（３）がより高い回転数でのみ開かれるように配置されていることを特徴とする内燃機関。
【請求項６】
第二排気マニホールド（５）が第一排気マニホールドより大きな排気ガス流のために第一排気マニホールド（４）より大きな断面積を持つことを特徴とする請求項５に記載の内燃機関。
【請求項７】
第一排気マニホールド（４）及び第二排気マニホールド（５）が二つの別個のターボコンプレッサー（２５，２６）のそれらのそれぞれの排気ガスタービン（２７，２８）に供給することを特徴とする請求項５または６に記載の内燃機関。
【請求項８】
第一排気マニホールド（４）及び第二排気マニホールド（５）が同じ排気ガスタービン（１３）にそれらのそれぞれの入口（１５，１８）を介して連結されていることを特徴とする請求項５または６に記載の内燃機関。
【請求項９】
少なくとも一つの入口（１５，１８）内にタービンホイール（１７）への排気ガス流を調整するための逃がしゲート弁（２２）があることを特徴とする請求項８に記載の内燃機関。
【請求項１０】
タービンホイール（１７）に隣接して二つの入口（１５，１８）に連結された二つのダクト（１６，１９）に共通の逃がしゲート弁（２２）があることを特徴とする請求項９に記載の内燃機関。
【手続補正書】
【提出日】平成17年7月27日(2005.7.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
環状のシェルを含む燃焼器ライナ（１２、１４）であって、前記シェルは第１の部分と第２の部分とを有しており、前記第１の部分はスロットフィルム冷却を施され、また前記第２の部分は多孔フィルム冷却を施されることを特徴とする燃焼器ライナ（１２、１４）。
【請求項２】
前記第１の部分は、前記第２の部分の前方に設置されることを特徴とする、請求項１に記載の燃焼器ライナ（１２、１４）。
【請求項３】
第１の軸方向位置で前記シェルに形成された第１のグループの希釈孔（７２）と、第２の軸方向位置で前記シェルに形成された第２のグループの希釈孔（７４）とを更に含んでおり、前記第１と第２のグループの希釈孔（７２、７４）は、主反応域と二次反応域（７６、７８）を形成するように配置され、前記第１の部分が前記主反応域（７６）に対応し、また前記第２の部分が前記二次反応域（７８）に対応することを特徴とする、請求項２に記載の燃焼器ライナ（１２、１４）。
【請求項４】
前記シェルは、前記第１の部分の前方に設置される第３の部分を含んでおり、該第３の部分は、多孔フィルム冷却を施されることを特徴とする、請求項２に記載の燃焼器ライナ（１２、１４）。
【請求項５】
前記第１の部分は第１の遮熱コーティング（１８２）を施され、また前記第２の部分は第２の遮熱コーティング（１８４）を施されることを特徴とする、請求項１に記載の燃焼器ライナ（１２、１４）。
【請求項６】
前端と後端とを有する環状の第１のパネルセクション（４２）と、
前端と後端とを有し、その前端で前記第１のパネルセクション（４２）の後端に接合された環状の第２のパネルセクション（４３）と、
前端と後端を有し、その前端で前記第２のパネルセクション（４３）の後端に接合された環状の第３のパネルセクション（４４）と、
を含んでおり、
前記パネルセクション（４２〜４４）の少なくとも１つは多孔フィルム冷却を備え、また前記第パネルセクション（４２〜４４）の少なくとも他の１つはスロットフィルム冷却を備えることを特徴とする燃焼器ライナ（１２、１４）。
【請求項７】
前記第１と第２のパネルセクション（４２、４３）はスロットフィルム冷却を施され、また前記第３のパネルセクション（４４）は多孔フィルム冷却を施されることを特徴とする、請求項６に記載の燃焼器ライナ（１２、１４）。
【請求項８】
前記少なくとも１つのパネルセクション（４２〜４４）は第１の遮熱コーティング（１８２）を施され、また前記少なくとも他の１つのパネルセクション（４２〜４４）は第２の遮熱コーティング（１８４）を施されることを特徴とする、請求項７に記載の燃焼器ライナ（１２、１４）。
【請求項９】
前記第１の遮熱コーティング（１８２）は、厚く、密な、垂直方向に微細亀裂が入った遮熱コーティングであることを特徴とする、請求項６、又は請求項８に記載の燃焼器ライナ（１２、１４）。
【請求項１０】
前記第２の遮熱コーティング（１８４）は多孔性の遮熱コーティングであることを特徴とする、請求項項６、請求項８又は請求項９に記載の燃焼器ライナ（１２、１４）。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
冷却手法に関係なく、ライナは運転中にホットスポット又は過熱領域を発生しがちである。異なるライナ設計は、異なる位置でホットスポットを発生する。どこでホットスポットが起こるかは、ライナ、ドーム組立体、及びスワーラの構成を含む多くの要素の関数である。例えば、スワーラにより引き起こされる燃焼流の旋回により、高温ガスはライナ表面の別の領域に衝突する可能性がある。これらの領域は、冷却フィルム有効度の低下を受け、従って熱劣化をより受けやすくなる。この作用は、冷却フィルムスクラッビングと通常呼ばれ、燃焼器の主反応域にしばしば起こるが、他の領域にもまた起こる可能性がある。
【特許文献１】特開２０００−１７９３５６号公報
【手続補正書】
【提出日】平成17年1月7日(2005.1.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
絶縁性基板、前記基板上に設けられた作用極と対極を有する電極系、少なくとも酸化還元酵素と電子メディエータを含む反応層、前記電極系と前記反応層とを含み、終端部側に空気孔を有する試料液供給路、試料液を導入するための試料液供給部、および前記試料液供給路と試料液供給部との間に設けられた、試料液をろ過するフィルタを具備し、前記フィルタでろ過されたろ液が毛細管現象によって前記試料液供給路内に吸引されるようにしたバイオセンサであって、
前記フィルタが前記試料液供給路内に侵入しておらず、前記試料液が前記フィルタを通過する方向が前記基板に対して垂直方向であり、さらに前記ろ液が前記試料液供給路の開口部から前記空気孔に向かって通過する方向が前記基板に対して水平方向であることを特徴とするバイオセンサ。
【請求項２】
前記フィルタの一次側部分に前記試料液を供給するための開口部を有することを特徴とする請求項１記載のバイオセンサ。
【請求項３】
前記フィルタの一次側部分から二次側部分までの領域において、前記フィルタの表面を一回り囲む空隙部を少なくとも１つ有することを特徴とする請求項１または２記載のバイオセンサ。
【請求項４】
前記フィルタの一次側部分の断面積が、前記試料液供給路の開口部の断面積よりも大きいことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のバイオセンサ。
【請求項５】
前記フィルタの一次側部分の断面積が、前記フィルタの二次側部分の断面積よりも大きいことを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載のバイオセンサ。
【請求項６】
前記フィルタがガラス繊維ろ紙で構成されていることを特徴とする請求項１記載のバイオセンサ。
【請求項７】
前記フィルタが前記電極系と非接触であることを特徴とする請求項１または６記載のバイオセンサ。
【請求項８】
前記フィルタの底面の少なくとも一部が前記絶縁性基板に接触していることを特徴とする請求項１、６または７記載のバイオセンサ。
【請求項９】
前記フィルタを構成する繊維がポリビニルアルコールでコーティングされていることを特徴とする請求項７記載のバイオセンサ。
【請求項１０】
前記フィルタの試料液滴下部から試料液供給路の開口部までの領域において、前記フィルタ表面を一回り囲む空隙部を少なくとも１つ有することを特徴とする請求項１および６〜９のいずれかに記載のバイオセンサ。
【請求項１１】
前記フィルタの一次側断面積が、前記試料液供給路の開口部の断面積よりも大きいことを特徴とする請求項６〜１０のいずれかに記載のバイオセンサ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
【課題を解決するための手段】     
本発明は、絶縁性の基板、前記基板上に設けられた作用極と対極を有する電極系、少なくとも酸化還元酵素と電子メディエータを含む反応層、前記電極系と前記反応層とを含み、終端部側に空気孔を有する試料液供給路、試料液を導入するための試料液供給部、および前記試料液供給路と試料液供給部との間に設けられた、試料液をろ過するフィルタを具備し、前記フィルタでろ過されたろ液が毛細管現象によって前記試料液供給路内に吸引されるようにしたバイオセンサであって、前記フィルタが前記試料液供給路内に侵入しておらず、前記試料液が前記フィルタを通過する方向が前記基板に対して垂直方向であり、さらに前記血漿が前記試料液供給路の開口部から前記空気孔に向かって通過する方向が前記基板に対して水平方向であることを特徴とするバイオセンサに関する。
【手続補正書】
【提出日】平成16年12月22日(2004.12.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
吸水井の水位計測に基づき所定の起動水位で運転開始され、所定の停止水位で運転停止されるポンプと、警報発信手段とを備えているポンプ場の監視システムであって、
ポンプの運転時間を計測し積算する手段と、吸水井への流入量を検出する手段と、ポンプの運転時間が増大傾向にあるときの流入量の増減傾向から運転時間長さが正常であるか否かを判定する手段とを具備しており、
運転時間長さが正常でないと判定されたとき、上記警報発信手段を動作させるように構成していることを特徴とするポンプ場の監視システム。
【請求項２】
上記吸水井への流入量の検出手段が、吸水井の水位が停止水位から起動水位に上昇するまでの時間長さとそれら両水位間の吸水井容量により平均流入量を演算し検出する手段である請求項１に記載のポンプ場の監視システム。
【手続補正書】
【提出日】平成17年5月27日(2005.5.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の光学素子にそれぞれ関連している少なくとも２つの光源（１０Ａ）（１０Ｂ）を含む照明及び表示装置において、
各第１の光学素子は、有限距離において、光源（１０Ａ）（１０Ｂ）の実像（１１Ａ）（１１Ｂ）を形成し、光源（１０Ａ）（１０Ｂ）の実像（１１Ａ）（１１Ｂ）は、副光源（Ｓ）をなす共通点で集光し、副光源（Ｓ）を通過する光軸（ＯＹ）を有する第２の光学素子は、副光源（Ｓ）から照明ビームまたは表示ビームを形成するようになっていることを特徴とする照明及び表示装置。
【請求項２】
第１の光学素子は、光源（１０Ａ）（１０Ｂ）の集光した実像（１１Ａ）（１１Ｂ）から副光源（Ｓ）を形成する収束レンズ（１４）からなっていることを特徴とする、請求項１に記載の照明及び表示装置。
【請求項３】
第１の光学素子は、光源（１０Ａ）（１０Ｂ）と一致する物体焦点をそれぞれ有する楕円体（２４）からなり、楕円体（２４）の全ての実像（１１Ａ）（１１Ｂ）は、集光して副光源（Ｓ）を形成していることを特徴とする、請求項１に記載の照明及び表示装置。
【請求項４】
第２の光学素子は、物体焦点が副光源（Ｓ）と一致し、照明ビームまたは表示ビームを形成する収束レンズ（Ｌ）からなっていることを特徴とする、請求項１に記載の照明及び表示装置。
【請求項５】
第２の光学素子は、物体焦点が副光源（Ｓ）と一致し、照明ビームまたは表示ビームを形成する反射面（Ｒ）からなっていることを特徴とする、請求項１に記載の照明及び表示装置。
【請求項６】
反射面（Ｒ）は、凸状であることを特徴とする、請求項５に記載の照明または表示装置。
【請求項７】
凸状の反射面（Ｒ）は、放物面の一部となっていることを特徴とする、請求項６に記載の照明及び表示装置。
【請求項８】
偏向ガラス面（Ｇ）は、第２の光学素子の下流側に設けられ、発生されたビームを所定の空間分布とするようになっている、請求項１〜７のいずれかに記載の照明及び表示装置。
【請求項９】
凸状の反射面（Ｒ）は、カットオフされた照明ビームまたは表示ビームを発生することができる少なくとも１つの領域を含んでいることを特徴とする、請求項６に記載の照明及び表示装置。
【請求項１０】
スクリーン（Ｃ）を、収束レンズ（Ｌ）の光軸と直交して設けてある、請求項１〜７のいずれかに記載の照明及び表示装置。
【請求項１１】
スクリーン（Ｃ）は、副光源（Ｓ）をなすビームの一部を遮断する第１の位置と、副光源（Ｓ）から発生する全ビームを通過させる第２の位置との間で可動であることを特徴とする、請求項９に記載の照明及び表示装置。
【請求項１２】
光源（１０Ａ）（１０Ｂ）は、ＬＥＤであることを特徴とする、請求項１〜１１のいずれかに記載の照明及び表示装置。
【請求項１３】
光源（１０Ａ）（１０Ｂ）は、光ファイバの端からなっていることを特徴とする、請求項１〜１０のいずれかに記載の照明または表示装置。
【請求項１４】
光源（１０Ａ）（１０Ｂ）を、選択的に点灯すさせるようにしてあることを特徴とする、請求項１〜１３のいずれかに記載の照明及び表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成16年4月12日(2004.4.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
計算機を搭載し診断対象設備まで移動して診断点検する診断車と、前記診断対象設備の過去の診断点検データと診断に必要とする試験データを含む診断データを格納している監視センターと、前記監視センターから前記診断対象設備の診断データを前記診断車に搭載した計算機に取込む通信手段と、前記診断車に搭載した計算機とデータの授受を行い点検するための点検作業員が所持するパソコンとを備えることを特徴とする設備診断作業支援システム。
【請求項２】
記憶容量の大きなパソコンを搭載し、診断対象設備の近くまで移動して診断点検する診断車と、前記診断対象設備の過去の診断点検データと診断に必要とする試験データを含む診断データを格納している監視センターと、前記監視センターから前記診断対象設備の診断データを前記診断車に搭載したパソコンに取込む携帯電話と、前記診断車に搭載したパソコンとデータの授受を行い点検するための点検作業員が所持するパソコンとを備え、前記診断車に搭載したパソコンは前記診断対象設備の診断点検結果の現地作業報告書を作成することを特徴とする設備診断作業支援システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明は、計算機を搭載し診断対象設備まで移動して診断点検する診断車と、前記診断対象設備の過去の診断点検データと診断に必要とする試験データを含む診断データを格納している監視センターと、前記監視センターから前記診断対象設備の診断データを前記診断車に搭載した計算機に取込む通信手段と、前記診断車に搭載した計算機とデータの授受を行い点検するための点検作業員が所持するパソコンとを備えることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成16年6月18日(2004.6.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シリンダと、前記シリンダ内に、往復自在のディスプレーサと駆動手段によって駆動されるピストンとを有し、前記ディスプレーサと前記シリンダ端部との間に膨張空間を、また前記ディスプレーサと前記ピストンとの間に圧縮空間を有し、さらに前記圧縮空間と前記膨張空間とを連通する前記シリンダ外のガス通路内に、前記圧縮空間と前記膨張空間とを熱的に隔離する再生器を備えるスターリング冷凍機関であって、
前記ガス通路内において、前記圧縮空間に開口する前記シリンダに開けられた通気孔に連接するガス通路端部空間に、前記ガス通路の流通を塞がないように、前記ガス通路端部空間の容積を減少させる充填物を備える、スターリング冷凍機関。
【請求項２】
前記充填物は、前記通気孔が前記ガス通路端部空間に開口するように前記ガス通路端部空間に配置され、その充填物の前記再生器側に面する表面が前記ガス通路の壁面を構成する、請求項１に記載のスターリング冷凍機関。
【請求項３】
前記充填物は、前記ガスの流動損失が少なくなるように、前記再生器側に向かって前記ガス通路の断面が広くなるテーパ形状を有する、請求項１または２に記載のスターリング冷凍機関。
【請求項４】
前記シリンダが円筒形であり、前記充填物が前記シリンダの外周に沿って位置する円環状のガス通路の前記ガス通路端部空間に配置されたリングである、請求項１〜３のいずれかに記載のスターリング冷凍機関。
【請求項５】
前記充填物が熱伝導性の低い材質で形成されている、請求項１〜４のいずれかに記載のスターリング冷凍機関。
【請求項６】
前記スターリング冷凍機関の作動状態を検知する作動状態検知手段と、
前記作動状態検出手段に検知された状態指標と、その状態指標において効率を最大化する前記充填物の前記ガス通路端部空間における位置との、予め求められた関係を記憶する最適位置記憶手段と、
前記最適位置記憶手段に記憶された情報に基いて効率を最大化する位置に前記充填物を自動的に移動させる充填物移動手段とを備える、請求項１〜５のいずれかに記載のスターリング冷凍機関。
【手続補正書】
【提出日】平成16年7月6日(2004.7.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材に半導体部品を挿入するとともに、上記基材のパターン形成面に上記半導体部品の回路接続部を露出させ、
上記回路接続部に接触して上記半導体部品と電気的に接続される回路パターンを上記パターン形成面上に形成することで当該回路パターンへの上記半導体部品の実装を行う、
ことを特徴とする半導体部品実装済部品の製造方法。
【請求項２】
上記基材は樹脂材にてなり、上記半導体部品の上記基材への挿入は、上記半導体部品及び上記基材を加熱しかつ上記半導体部品及び上記基材を相対的に押圧することでなされ、上記回路接続部の電気的接続面を上記基材の上記パターン形成面に露出させる、請求項１記載の半導体部品実装済部品の製造方法。
【請求項３】
上記回路接続部は上記半導体部品の電極である、請求項１又は２記載の半導体部品実装済部品の製造方法。
【請求項４】
上記回路接続部は上記半導体部品の電極及び該電極上に形成したバンプであり、上記半導体部品の上記基材への挿入は、該バンプを露出させて行われる、請求項１又は２記載の半導体部品実装済部品の製造方法。
【請求項５】
上記回路接続部は上記半導体部品の電極、該電極上に形成したバンプ、及び該バンプの部材形成面に形成した回路接続用部材であり、上記基材に上記半導体部品が挿入されたとき上記回路接続用部材は上記パターン形成面より突出した状態であり、上記回路パターンは上記回路接続用部材に接触する、請求項１又は２記載の半導体部品実装済部品の製造方法。
【請求項６】
上記回路パターンの形成後、さらに、上記回路パターン上に電子部品を装着する、請求項１ないし５のいずれかに記載の半導体部品実装済部品の製造方法。
【請求項７】
上記回路パターンは、上記半導体部品と無線にて情報の送受信を行うためのアンテナコイル用形状である、請求項１ないし６のいずれかに記載の半導体部品実装済部品の製造方法。
【請求項８】
請求項１ないし７のいずれかに記載の半導体部品実装済部品の製造方法にて製造された半導体部品実装済部品を樹脂材にて封止して半導体部品実装済完成品を製造する、
ことを特徴とする半導体部品実装済完成品の製造方法。
【請求項９】
上記半導体部品実装済部品の上記樹脂材による封止は、上記半導体部品実装済部品の厚み方向から２つの樹脂材にて上記半導体部品実装済部品をサンドイッチしてなされる、請求項８記載の半導体部品実装済完成品の製造方法。
【請求項１０】
上記樹脂材は熱可塑性樹脂シートにてなり、該熱可塑性樹脂シートは加熱され上記半導体部品実装済部品へ押圧されて上記半導体部品実装済部品の上記封止を行う、請求項９記載の半導体部品実装済完成品の製造方法。
【請求項１１】
請求項１ないし１０のいずれかに記載の半導体部品実装済完成品の製造方法を用いて製造されることを特徴とする半導体部品実装済完成品。
【請求項１２】
上記半導体部品実装済完成品は非接触ＩＣカードである、請求項１１記載の半導体部品実装済完成品。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明の第１態様である半導体部品実装済部品の製造方法は、基材に半導体部品を挿入するとともに、上記基材のパターン形成面に上記半導体部品の回路接続部を露出させ、
上記回路接続部に接触して上記半導体部品と電気的に接続される回路パターンを上記パターン形成面上に形成することで当該回路パターンへの上記半導体部品の実装を行う、
ことを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
又、上記基材は樹脂材にてなり、上記半導体部品の上記基材への挿入は、上記半導体部品及び上記基材を加熱しかつ上記半導体部品及び上記基材を相対的に押圧することでなされ、上記回路接続部の電気的接続面を上記基材の上記パターン形成面に露出させるようにしてもよい。
【手続補正書】
【提出日】平成17年10月13日(2005.10.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  下部導電層と、
前記下部導電層の上に設けられる第一絶縁層と、
前記第一絶縁層の上に設けられる上部導電層と、
前記第一絶縁層の上において、前記上部導電層の間を埋めるように設けられ、前記第一絶縁層とは異なる材料を含む第二絶縁層と、
前記第一絶縁層中に設けられ、前記下部導電層と前記上部導電層とを電気的に絶縁する層間接続部とを備える、半導体集積回路。
【請求項２】  前記第二絶縁層は、酸化シリコンよりも誘電率が低い材料を含む、請求項１に記載の半導体集積回路。
【請求項３】  前記第二絶縁層は、シリコンと酸素とを主成分とする材料を含む、請求項１に記載の半導体集積回路。
【請求項４】  前記第二絶縁層は、シリコーン高分子材料を含む、請求項２または３に記載の半導体集積回路。
【請求項５】  前記第一絶縁層は、炭素と酸素とを主成分とする材料、または、主鎖に少なくとも炭素または少なくとも炭素と酸素とを有する有機高分子材料を含む、請求項１から４のいずれかに記載の半導体集積回路。
【請求項６】  前記第二絶縁層が最下層部分に窒化膜を有する、請求項３または４に記載の半導体集積回路。
【請求項７】  前記第二絶縁層が前記窒化膜の上に酸化膜を含む、請求項６に記載の半導体集積回路。
【請求項８】  前記第二絶縁層が最上層部分に酸化膜を含む、請求項１から７のいずれかに記載の半導体集積回路。
【請求項９】  前記第一絶縁層は、最下層部分に窒化膜を備える、請求項１から８のいずれかに記載の半導体集積回路。
【請求項１０】  前記第二絶縁層の最下層部分に備えられる前記窒化膜は、シリコン、ホウ素もしくはこれらの組合せを含む窒化膜、または、シリコンと炭素もしくは酸素とを含む窒化膜である、請求項６または７に記載の半導体集積回路。
【請求項１１】  前記第一絶縁層の最下層部分に備えられる前記窒化膜は、シリコン、ホウ素もしくはこれらの組合せを含む窒化膜、または、シリコンと炭素もしくは酸素とを含む窒化膜である、請求項９に記載の半導体集積回路。
【請求項１２】  前記酸化膜は、シリコンまたはシリコンと炭素とを含む酸化膜である、請求項７または８に記載の半導体集積回路。
【請求項１３】  下部導電層の上に第一絶縁層を形成する第一絶縁層形成工程と、
前記第一絶縁層の上に前記第一絶縁層の材料と異なる材料を含む第二絶縁層を形成する第二絶縁層形成工程と、
前記第二絶縁層に上部導電層形成溝を形成する溝形成工程と、
前記第一絶縁層にビアホールを形成するビアホール形成工程と、
前記ビアホール内に層間接続部を形成する層間接続部形成工程と、
前記上部導電層形成溝内に上部導電層を形成する上部導電層形成工程とを備える、半導体集積回路の製造方法。
【請求項１４】  前記第一絶縁層形成工程は、前記第一絶縁層の最下層部分として下部窒化膜を形成する工程を含み、前記第二絶縁層形成工程は、前記第二絶縁層の最下層部分として上部窒化膜を形成する工程を含み、前記ビアホール形成工程は、前記下部窒化膜の除去と前記上部窒化膜の除去とを同時に行なう、請求項１３に記載の半導体集積回路の製造方法。
【請求項１５】  前記層間接続部形成工程と前記上部導電層形成工程とを同時に行なう請求項１３または１４に記載の半導体集積回路の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
さらに、上記発明において好ましくは、上記第一絶縁層は、炭素と酸素とを主成分とする材料、または、主鎖に少なくとも炭素または少なくとも炭素と酸素とを有する有機高分子材料を含む。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４５】
さらに、上記発明において好ましくは、第一絶縁層の最下層部分に窒化膜を備える。
【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４７】
上記発明において好ましくは、上記第一絶縁層形成工程は、上記第一絶縁層の最下層部分として下部窒化膜を形成する工程を含み、上記第二絶縁層形成工程は、上記第二絶縁層の最下層部分として上部窒化膜を形成する工程を含み、上記ビアホール形成工程は、上記下部窒化膜の除去と上記上部窒化膜の除去とを同時に行なう。
【手続補正１９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成16年3月29日(2004.3.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
【従来の技術】
３．５インチのフロッピーディスクをコンピュータの副記憶媒体として用いるには、フロッピーディスクを回転駆動するスピンドルモータ、フロッピーディスクからデータの再生・記録を行うための磁気ヘッド、およびこの磁気ヘッドをフロッピーディスクの半径方向に走査させるアクチュエータを備えるドライブ機構と、このドライブ機構を制御してフロッピーディスクから所定のデータを再生・記録するメカコントローラと、このメカコントローラとの間でデータの授受を行なうフロッピーディスクコントローラが必要である。


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
従来は、図５に示すように、フロッピーディスクコントローラ３０は、コンピュータ５内に搭載され、ドライブ機構１０およびメカコントローラ２０は、フロッピーディスク駆動装置１Ａに搭載されている。従って、磁気ヘッドでフロッピーディスク２から再生したデータは、メカコントローラ２０から汎用インターフェイス４０Ａを介して５００ｋｂｉｔ／ｓの転送レートでコンピュータ５内のフロッピーディスクコントローラ３０に入出力される。それ故、コンピュータ５とフロッピーディスク駆動装置１Ａは、フロッピーディスク２に記録・再生されるデータの他にも、メカコントローラ２０を制御するための各種信号が授受されるため、２６ピンないし３４ピンの汎用インターフェイス４０Ａで接続されている。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
近年、フロッピーディスク駆動装置として、ＵＳＢ（ユニバーサル・シリアル・バスインターフェイスを介してコンピュータと接続されるフロッピーディスクが用いられつつある。このようなＵＳＢ対応のフロッピーディスク駆動装置では、フロッピーディスク駆動装置内にドライブ機構、メカコントローラおよびフロッピーディスクコントローラが搭載され、ＵＳＢインターフェイスを介してコンピュータと１８Ｍｂｉｔ／ｓ以上の転送レートでデータの授受が可能である。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
従って、本発明を適用したＵＳＢ対応のフロッピーディスク駆動装置では、フロッピーディスク駆動装置内でデータ転送速度１Ｍｂｉｔ／ｓに設定し、従来の汎用フロッピーディスク駆動装置や従来のＵＳＢ対応のフロッピーディスク駆動装置のデータ転送速度を２倍以上に設定してあるので、フロッピーディスク駆動装置とコンピュータとの間でのデータ転送速度も２倍以上である。それ故、フロッピーディスク駆動装置におけるフロッピーディスクのデータ記録速度や再生速度も２倍以上となる。また、従来の汎用フロッピーディスク駆動装置や従来のＵＳＢ対応のフロッピーディスク駆動装置と比較して、データの記録・再生速度を高めるとともに、モータの回転速度も同じ倍率で高めてある。従って、本発明に係るフロッピーディスク駆動装置も、フロッピーディスクからみれば、データの線密度が従来の汎用フロッピーディスク駆動装置や従来のＵＳＢ対応のフロッピーディスク駆動装置と同一であるため、従来の汎用フロッピーディスク駆動装置や従来のＵＳＢ対応のフロッピーディ駆動装置との間でフロッピーディスクの互換性を確保できる。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の係るＵＳＢ対応のフロッピーディスク駆動装置では、フロッピーディスク駆動装置内でのデータ転送速度を１Ｍｂｉｔ／ｓに設定し、従来の汎用フロッピーディスク駆動装置や従来のＵＳＢ対応のフロッピーディスク駆動装置のデータ転送速度を２倍以上に設定してあるので、フロッピーディスク駆動装置とコンピュータとの間でのデータ転送速度も２倍以上である。それ故、フロッピーディスク駆動装置におけるフロッピーディスクのデータ記録速度や再生速度も２倍以上となる。また、従来の汎用フロッピーディスク駆動装置や従来のＵＳＢ対応のフロッピーディスク駆動装置と比較して、データの記録・再生速度を高めるとともに、モータの回転速度も同じ倍率で高めてある。従って、本発明に係るフロッピーディスク駆動装置は、フロッピーディスクからみれば、データの線密度が従来の汎用フロッピーディスク駆動装置や従来のＵＳＢ対応のフロッピーディスク駆動装置と同一である。よって、本発明を適用したフロッピーディスク駆動装置と、従来のフロッピーディスク駆動装置との間では、フロッピーディスクの互換性が確保できる。


【手続補正６】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２】
2001093224.tif 000001
【手続補正７】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図３】
2001093224.tif 000002
【手続補正書】
【提出日】平成16年3月4日(2004.3.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
磁気記録層を有する磁気記録媒体、該磁気記録媒体に情報を書き込む光記録ヘッドと該磁気記録媒体から記録情報を読み出す磁気抵抗効果型再生ヘッドまたは巨大磁気抵抗効果型再生ヘッドとを有するヘッド及び前記磁気記録媒体とヘッドとを相対運動させる駆動装置を有する装置において、該磁気記録層に記録した磁区形状の曲率半径Ｒ、記録トラック幅ＴW、記録ビット長Ｂと（巨大）磁気抵抗効果型再生ヘッドのシールド間隔Gsが、
B−(R−(R2−(Tw/2)2)0.5) ≧ k・Gs／２
なる関係を満たし、kが２／３であることを特徴とする磁気記録再生装置。
【請求項２】
磁気記録層を有する磁気記録媒体、該磁気記録媒体に情報を書き込む光記録ヘッドと該磁気記録媒体から記録情報を読み出す磁気抵抗効果型再生ヘッドまたは巨大磁気抵抗効果型再生ヘッドとを有するヘッド及び前記磁気記録媒体とヘッドとを相対運動させる駆動装置を有する装置において、該磁気記録層に記録した磁区形状の曲率半径Ｒ、記録トラック幅ＴW、記録ビット長Ｂと（巨大）磁気抵抗効果型再生ヘッドのシールド間隔Gsが、
B−(R−(R2−(Tw/2)2)0.5) ≧ k・Gs／２
なる関係を満たし、kが１であることを特徴とする磁気記録再生装置。
【請求項３】
前記光記録ヘッドの光流出側に絞りを設けたことを特徴とする請求項１又は２に記載の磁気記録再生装置。
【請求項４】
前記絞りの形状が長方形であることを特徴とする請求項３記載の磁気記録再生装置。
【手続補正書】
【提出日】平成16年11月12日(2004.11.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属イオンと、セルロース誘導体からなる水溶性樹脂と、水とを含む液に、還元剤を添加することにより金属微粒子を還元析出させ、加熱により前記水溶性樹脂をゲル化させることによって前記金属微粒子を分散させて得られる導電膜形成用塗布液。
【請求項２】
金属微粒子が、Ａｇ、Ａｕ、Ｐｄ、Ｒｕ、Ｐｔ、Ｉｒ、Ｒｅ、Ｒｈ、ＣｕおよびＮｉからなる群から選ばれた１種以上である請求項１に記載の導電膜形成用塗布液。
【請求項３】
金属微粒子の濃度が、塗布液全重量に対して０．０１〜５重量％である請求項１または２に記載の導電膜形成用塗布液。
【請求項４】
水溶性樹脂が、カルボキシメチルセルロース、メチルセルロース、エチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、エチルヒドロキシエチルセルロースおよびヒドロキシプロピルメチルセルロースからなる群から選ばれた１種以上である請求項１〜３いずれか１項に記載の導電膜形成用塗布液。
【請求項５】
水溶性樹脂の平均分子量が５０００〜５００００００である請求項１〜４いずれか１項に記載の導電膜形成用塗布液。
【請求項６】
水溶性樹脂の含有量が、金属微粒子に対して０．５〜１００重量％である請求項１〜５いずれか１項に記載の導電膜形成用塗布液。
【請求項７】
請求項１〜６いずれか１項に記載の導電膜形成用塗布液を基体上に塗布することにより形成された導電膜。
【請求項８】
導電膜の表面抵抗が１０×１０３Ω／□以下である請求項７に記載の導電膜。
【請求項９】
請求項７に記載の導電膜の上に、該導電膜よりも屈折率が低い膜が形成されてなる低反射導電膜。
【請求項１０】
低反射導電膜の表面抵抗が１０×１０３Ω／□以下である請求項９に記載の低反射導電膜。
【請求項１１】
ガラス基体上に、請求項７あるいは８に記載の導電膜、または請求項９あるいは１０に記載の低反射導電膜が形成されたガラス物品。