(57)【要約】【課題】  所望の光学的距離をもつ光共振器を含む有機ＥＬ装置を提供する。【解決手段】有機ＥＬ装置は、基板上にマトリクス状配列に従って並べられた複数の有機ＥＬ素子と、前記基板の法線方向に沿ってみて有機ＥＬ素子の一方の側に配置される反射層と、その他方の側に配置される半透明半反射層と、を備える。このうちの反射層及び半透明半反射層は、有機ＥＬ素子から発せられた光のうち特定の波長をもつ光を共振させる共振器を構成する。そして、複数の有機ＥＬ素子の各々は、前記光を発する発光層（１８３）と、当該発光層と反射層又は半透明半反射層との間に形成され、当該複数の有機ＥＬ素子に関して、反射層及び半透明半反射層間の光学的距離（Ｌ）を一致させるような膜厚をもつ光学的距離補正層（１８１）と、を含む。【選択図】図３
2010146738.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
前記基板上にマトリクス状配列に従って並べられた複数の発光素子と、
前記基板の法線方向に沿ってみて前記発光素子の一方の側に配置され、当該発光素子か
ら発せられた光を反射する反射層と、
その他方の側に配置され、前記光の一部を反射し他の部分を透過させる半透明半反射層
と、
を備え、
前記反射層及び前記半透明半反射層は、
前記光のうち特定の波長をもつ光を共振させる共振器を構成し、
前記複数の発光素子の各々は、
前記光を発する発光層と、
当該発光層と前記反射層又は前記半透明半反射層との間に形成され、当該複数の発光素
子に関して、前記反射層及び前記半透明半反射層間の光学的距離を一致させるような膜厚
をもつ光学的距離補正層と、
を含む、
ことを特徴とする発光装置。
【請求項２】
前記光学的距離補正層は、液滴塗布法により製造される、
ことを特徴とする請求項１に記載の発光装置。
【請求項３】
前記光学的距離補正層は、
正孔注入層、正孔輸送層、電子輸送層及び電子注入層の少なくとも１つの機能を兼ねる
、
ことを特徴とする請求項１又は２に記載の発光装置。
【請求項４】
前記発光素子は、前記発光層及び前記光学的距離補正層に加えて、
正孔注入層、正孔輸送層、電子輸送層及び電子注入層のうちの少なくとも１つ、を含み
、
当該発光素子に含まれる各層は、
前記光学的距離補正層を除いて、低分子材料から作られる、
ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の発光装置。
【請求項５】
前記複数の発光素子は、相異なる複数の色ごとに対応する複数のグループに分けられ、
前記光学的距離補正層は、
前記グループごと且つ当該グループの１個の中で、前記光学的距離を一致させるような
膜厚をもつ、
ことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の発光装置。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれか一項に記載の発光装置を備える、
ことを特徴とする電子機器。
【請求項７】
複数の発光素子の各々から発せられた光のうち特定の波長をもつ光を共振させる共振器
を、当該複数の発光素子の各々について備える発光装置を製造する方法であって、
基板上に前記光を反射する反射層を形成する工程、及び、
前記基板上に前記光の一部を反射し他の部分を透過させる半透明半反射層を形成する工
程、を含んで、
前記共振器を形成する工程と、
前記基板上に前記光を発する発光層を形成する工程、及び、
当該発光層を形成する工程と前記反射層又は前記半透明半反射層を形成する工程との間
に、前記複数の発光素子に関して、前記反射層及び前記判明半反射層間の光学的距離を一
致させるような膜厚で、光学的距離補正層を、前記基板上に形成する補正層形成工程、を
含んで、
前記発光素子を形成する工程と、
を備える、
ことを特徴とする発光装置の製造方法。
【請求項８】
前記補正層形成工程では、液滴塗布法が用いられ、
前記膜厚の調整が、前記液滴塗布法における原材料の塗布量の調整によって行われる、
ことを特徴とする請求項７に記載の発光装置の製造方法。
【請求項９】
前記共振器又は前記発光素子を構成する各層のうち、前記光学的距離補正層を除く各層
を形成する工程では、蒸着法が用いられ、
前記膜厚の調整が、
前記蒸着法によって形成される前記各層による前記光学的距離に関する、前記複数の発
光素子間で生じるバラツキに基づいて行われる、
ことを特徴とする請求項７又は８に記載の発光装置の製造方法。
【請求項１０】
前記蒸着法によって形成される前記各層には、
正孔注入層、正孔輸送層、電子輸送層及び電子注入層のうちの少なくとも１つ、が含ま
れる、
ことを特徴とする請求項９に記載の発光装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、エレクトロルミネセンスにより発光する発光装置及びその製造方法、並びに
電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
薄型で軽量な発光源として、ＯＬＥＤ（organic light emitting diode）、即ち有機Ｅ
Ｌ（ＥＬectro luminescent）素子がある。有機ＥＬ素子は、有機材料を含む少なくとも
一層の有機薄膜を画素電極と対向電極とで挟んだ構造を有する。このうち画素電極は例え
ば陽極として、対向電極は陰極として機能する。両者間に電流が流されると同時に、前記
有機薄膜にも電流が流れ、これにより、当該有機薄膜ないしは有機ＥＬ素子は発光する。
このような有機ＥＬ素子を多数並べ、かつ、その各々につき発光及び非発光を適当に制御
すれば、所望の意味内容をもつ画像等の表示が可能となる。また、前記有機薄膜として色
付きの光を発するものを利用し、あるいは適当なカラーフィルタを利用する等すれば、カ
ラー画像の表示も可能になる。
このような有機ＥＬ素子、ないしはこれを備えた画像表示装置としては、例えば特許文
献１及び２に開示されているようなものが知られている。
【特許文献１】特許第２７９７８８３号公報
【特許文献２】特許第３５５５７５９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
ところで、上述のような有機ＥＬ素子に関しては、その外部に取り出される光の発光ス
ペクトルのかたちが、より高品質の画像を表示するにあたって大事である。例えば、青を
より青らしく発光させるためには、波長４７０ｎｍ付近にピークをもつ発光スペクトルが
得られるなどすれば好適である。
【０００４】
そこで、これを調整する技術がある。上述の特許文献１及び２はその一例を開示する。
例えば、特許文献１は、「発光層と、（その）両面に形成された反射鏡と」からなる「微
小光共振器」によって構成され、そのうちの「反射鏡間の光学的距離が異なる画素を少な
くとも２個以上有する…多色発光素子」を開示する（以上「」内は、特許文献１の〔請求
項１〕から抜粋（ただし、（）内は出願人加筆））。これによれば、前記「距離に応じた
異なる発光スペクトルの光（即ち多色光）を、同一基板上の素子から高効率で取り出すこ
とができる」（特許文献１の〔００１５〕）。これは、反射鏡間の光学的距離を変えるこ
とにより、その反射鏡間における共振波長が変わることによっている（特許文献１の〔０
０１８〕〔図２〕等参照）。
【０００５】
また、特許文献２は、特許文献１と同様「光共振器」を備えるが、それに加えて、この
「光共振器」を、ＲＧＢのうちのある一色、例えば「Ｂの外光反射（４５０〜５００ｎｍ
付近）が最小」（特許文献２の〔００１７〕）となるように構成する等の工夫が加えられ
ている（なお、特許文献２の〔請求項１〕も参照）。これにより、特許文献２は、「外光
による特定の色の反射が抑制され、全体としてのコントラストが向上する」とする（特許
文献２の〔００１０〕）。この場合の光共振器も、「反射層１２」及び「半透明反射層２
２」間（特許文献２の〔図２〕〔００１２〕〔００１３〕等参照）の光学的距離の調整を
行うことによって、前記発光スペクトルを調整しているという点では、前記特許文献１と
同様である。
【０００６】
しかしながら、これらの特許文献１及び２、あるいはより一般的に、それらの文献に開
示される「光共振器」については以下のような問題点がある。すなわち、１枚の基板上で
複数のパネルを一挙に製造する場合等において、その１パネル内、あるいは複数のパネル
内に含まれる全部の画素について、所期した通りの光学的距離をもつ共振器構造を製造す
ることが困難なことである。例えば、前記有機薄膜を構成する電子注入層、電子輸送層、
発光層、正孔注入層、正孔輸送層等を蒸着法等によって成膜する場合、蒸発源により近い
発光層等々と、より遠いそれとで、膜厚が異なるということが生じ得る。そうすると、あ
るパネルでは、所望の光学的距離をもつ光共振器が構成されても、他のパネルではそうで
はないということが生じ、そのような両者間では、取り出される発光スペクトルのかたち
が異なってしまう場合が生じてしまう。前述の特許文献１及び２では、そのような問題点
に対する対処法については特別に開示するところはない。
【０００７】
本発明は、上述した課題の少なくとも一部を解決することの可能な発光装置及びその製
造方法、並びに電子機器を提供することを課題とする。
また、本発明は、かかる態様の発光装置、その製造方法、あるいは電子機器において生
起する課題を解決可能な、発光装置、その製造方法、あるいは電子機器を提供することを
も課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明に係る発光装置は、上述した課題を解決するため、基板と、前記基板上にマトリ
クス状配列に従って並べられた複数の発光素子と、前記基板の法線方向に沿ってみて前記
発光素子の一方の側に配置され、当該発光素子から発せられた光を反射する反射層と、そ
の他方の側に配置され、前記光の一部を反射し他の部分を透過させる半透明半反射層と、
を備え、前記反射層及び前記半透明半反射層は、前記光のうち特定の波長をもつ光を共振
させる共振器を構成し、前記複数の発光素子の各々は、前記光を発する発光層と、当該発
光層と前記反射層又は前記半透明半反射層との間に形成され、当該複数の発光素子に関し
て、前記反射層及び前記半透明半反射層間の光学的距離を一致させるような膜厚をもつ光
学的距離補正層と、を含む。
【０００９】
本発明によれば、例えば、簡単に、「発光素子」が３個あるとすると、それら各々につ
いての「共振器」が構成される。この場合、前述した事情等によって、「共振器」を構成
する反射層及び半透明半反射層間の「光学的距離」にはバラツキが生じる可能性が大きい
。例えば、第１の共振器の光学的距離がＤ１として、第２及び第３の共振器の光学的距離
が、それぞれＤ２、Ｄ３（ただし、Ｄ１＞Ｄ２＞Ｄ３）となる、などというようである。
このようであると、前述のように、取り出される発光スペクトルのかたちが異なってしま
う。
しかるに、本発明においては、発光素子の各々が「光学的距離補正層」を含み、かつ、
その光学的距離補正層が、「複数の発光素子に関して、…反射層及び…半透明半反射層間
の光学的距離を一致させるような膜厚」をもつ。例えば、上の例に従えば、ある一定の光
学的距離ＬＣを仮定するとして、前記第１から第３までの共振器の光学的距離が、ＬＣ＝
Ｄ１＋Ｈ１＝Ｄ２＋Ｈ２＝Ｄ３＋Ｈ３（ただし、Ｈ１＜Ｈ２＜Ｈ３）として規定されるよ
うな、Ｈ１，Ｈ２，Ｈ３に対応する膜厚をもつ光学的距離補正層が、これら３つの共振器
各々について成膜されるということになる。なお、ここにいう「膜厚」とは、物理的厚さ
を意味する（したがって、「光学的距離補正層」の屈折率をｎとすれば、その光学的距離
Ｈ１，Ｈ２又はＨ３は、“ｎ×（膜厚）”で与えられる。）。
このようにして、本発明によれば、当該発光装置の外部に取り出される発光スペクトル
のかたちを揃えることが可能になる。
【００１０】
なお、本発明にいう「発光素子」の具体的な構造や材料は基本的に自由に定められ得る
が、例えば、有機ＥＬ材料や無機ＥＬ材料からなる発光層を電極間に介在させた素子が本
発明の発光素子として採用され得る。さらに、ＬＥＤ（Light Emitting Diode）素子や、
プラズマの放電により発光する素子など様々な発光素子を本発明に利用することができる
。
【００１１】
この発明の発光装置では、前記光学的距離補正層は、液滴塗布法により製造される、よ
うに構成してもよい。
この態様によれば、光学的距離補正層が液滴塗布法により製造されるので、前記膜厚の
調整が原材料塗布量の調整を通じて行うことが可能となる等、当該調整が極めて容易に、
また正確に行われ得る。
【００１２】
また、本発明の発光装置では、前記光学的距離補正層は、正孔注入層、正孔輸送層、電
子輸送層及び電子注入層の少なくとも１つの機能を兼ねる、ように構成してもよい。
この態様によれば、例えば、光学的距離補正層が、前述の正孔注入層、正孔輸送層、電
子輸送層及び電子注入層とは別個に、独立の層として設けられる場合に比べて、発光装置
全体の構造の効率化・合理化・狭小化が実現される。
【００１３】
また、本発明の発光装置では、前記発光素子は、前記発光層及び前記光学的距離補正層
に加えて、正孔注入層、正孔輸送層、電子輸送層及び電子注入層のうちの少なくとも１つ
、を含み、当該発光素子に含まれる各層は、前記光学的距離補正層を除いて、低分子材料
から作られる、ように構成してもよい。
この態様によれば、発光素子に含まれる各層が、光学的距離補正層を除いて、低分子材
料から作られるので、当該発光素子の発光寿命の長期化が実現される。これは、一般に、
低分子材料からなる発光材料のほうが、高分子材料からなるそれに比べて、発光寿命の長
期化が期待できることによる。
【００１４】
また、本発明の発光装置では、前記複数の発光素子は、相異なる複数の色ごとに対応す
る複数のグループに分けられ、前記光学的距離補正層は、前記グループごと且つ当該グル
ープの１個の中で前記光学的距離を一致させるような膜厚をもつ、ように構成してもよい
。
この態様によれば、例えば、複数の発光素子が、赤色、緑色及び青色それぞれに対応す
る赤色対応発光素子群、緑色対応発光素子群、及び青色対応発光素子群に区分される。そ
して、前述の光学的距離補正層は、これら群ごと且つ各群内で、前述の光学的距離を一致
させるような膜厚をもつ。例えば、それぞれ９つずつある発光素子及び共振器という例に
従っていえば、赤色対応発光素子群（９つの発光素子のうちの３つ）に対応する共振器で
実現されるべき光学的距離がＬＣＲと設定され、同じく、緑色対応発光素子群（残る６つ
の発光素子のうちの３つ）及び青色対応発光素子群（残る３つの発光素子）に関してＬＣ
Ｇ、ＬＣＢと設定される。これに、前述のＤ１，Ｄ２，Ｄ３（Ｄ１＞Ｄ２＞Ｄ３）が生じ
る事情を組み合わせれば、結局、
ＬＣＲ＝ＤＲ１＋ＨＲ１， ＬＣＲ＝ＤＲ２＋ＨＲ２， ＬＣＲ＝ＤＲ３＋ＨＲ３（但し、
ＨＲ１＜ＨＲ２＜ＨＲ３）
ＬＣＧ＝ＤＧ１＋ＨＧ１， ＬＣＧ＝ＤＧ２＋ＨＧ２， ＬＣＧ＝ＤＧ３＋ＨＧ３（但し、
ＨＧ１＜ＨＧ２＜ＨＧ３）
ＬＣＢ＝ＤＢ１＋ＨＢ１， ＬＣＢ＝ＤＢ２＋ＨＢ２， ＬＣＢ＝ＤＢ３＋ＨＢ３（但し、
ＨＢ１＜ＨＢ２＜ＨＢ３）
なる各式によって規定される、合計９つのＨＲ１〜ＨＲ３，ＨＧ１〜ＨＧ３，ＨＢ１〜Ｈ
Ｂ３なる補正用光学的距離が求められる。なお、これらの式において、ＤＲ１〜ＤＲ３，
ＤＧ１〜ＤＧ３，ＤＢ１〜ＤＢ３に関しては、それぞれ、ＤＲ１＞ＤＲ２＞ＤＲ３，ＤＧ
１＞ＤＧ２＞ＤＧ３，ＤＢ１＞ＤＢ２＞ＤＢ３が成立する。これは、前述のＤ１〜Ｄ３を
反映した変数であり、同色に属する各発光素子間でも前述したような意味におけるＤ１〜
Ｄ３に係る光学的距離が異なることを表現している。
本態様では、このようなＨＲ１，…，ＨＢ３に対応する膜厚をもつ光学的距離補正層が
、前記９つの発光素子ないし共振器について成膜される。
このような態様によれば、色別に、当該発光装置の外部に取り出される発光スペクトル
のかたちを揃えることが可能になる。
【００１５】
また、本発明の電子機器は、上記課題を解決するために、上述した各種の発光装置を備
える。
本発明の電子機器は、前述した各種態様の発光装置を備えてなるので、その外部に取り
出される発光スペクトルのかたちが揃っている。したがって、より高品質な画像表示等が
可能になる。
【００１６】
一方、本発明の発光装置の製造方法は、上記課題を解決するため、複数の発光素子の各
々から発せられた光のうち特定の波長をもつ光を共振させる共振器を、当該複数の発光素
子の各々について備える発光装置を製造する方法であって、基板上に前記光を反射する反
射層を形成する工程、及び、前記基板上に前記光の一部を反射し他の部分を透過させる半
透明半反射層を形成する工程、を含んで、前記共振器を形成する工程と、前記基板上に前
記光を発する発光層を形成する工程、及び、当該発光層を形成する工程と前記反射層又は
前記半透明半反射層を形成する工程との間に、前記複数の発光素子に関して、前記反射層
及び前記判明半反射層間の光学的距離を一致させるような膜厚で、光学的距離補正層を、
前記基板上に形成する補正層形成工程、を含んで、前記発光素子を形成する工程と、を備
える。
【００１７】
本発明によれば、前述した本発明に係る発光装置によって奏された作用効果と本質的に
異ならない作用効果が奏される発光装置が、好適に製造される。
なお、本発明においては、前記各工程の実施順序を特に限定する意図は有しない。例え
ば、反射層を形成する工程と、発光層を形成する工程との実施順序につき特別な限定は加
えられない。ただし、「補正層形成工程」に限っては、前記の規定ぶり（「…工程と…工
程との間に」）から明らかなように、“反射層の形成後、発光層の形成前”とか、あるい
は、その逆で“発光層の形成後、反射層の形成前”、等々の限定が自ずと付される。
また、本発明にいう「発光素子」の意義は、前述と同様である。
【００１８】
この発明の発光装置の製造方法では、前記補正層形成工程では、液滴塗布法が用いられ
、前記膜厚の調整が、前記液滴塗布法における原材料の塗布量の調整によって行われる、
ように構成してもよい。
この態様によれば、光学的距離補正層が液滴塗布法により製造され、前記膜厚の調整が
原材料塗布量の調整を通じて行われるので、当該膜厚の調整が極めて容易に、また正確に
行われ得る。
【００１９】
また、本発明の発光装置の製造方法では、前記共振器又は前記発光素子を構成する各層
のうち、前記光学的距離補正層を除く各層を形成する工程では、蒸着法が用いられ、前記
膜厚の調整が、前記蒸着法によって形成される前記各層による前記光学的距離に関する、
前記複数の発光素子間で生じるバラツキに基づいて行われる、ように構成してもよい。
この態様によれば、共振器又は発光素子を構成する各層のうち、光学的距離補正層を除
く各層が蒸着法によって形成される。これによると、当該各層は低分子材料から作られる
ことが通常は想定されるので、当該製造方法によって製造された発光素子についての発光
寿命の長期化が実現される。
また、本態様では、光学的距離補正層の膜厚の調整が、そのような蒸着法によって形成
される各層による光学的距離のバラツキに基づいて行われる。ここで、この「バラツキ」
は、実測により、あるいは、予めの推測によって、把握されてよい。例えば、前記各工程
が、仮に、反射層、光学的距離補正層、発光層、半透明半反射層という順序に従って行わ
れるとするならば、光学的距離補正層の形成前に既に形成された反射層は実測によって、
光学的距離補正層の形成後に形成されることとなる発光層に関しては何らかの手段による
推測（例えば、理論的推測、実験に基づく帰納的推測等々）によって、前記「バラツキ」
の見積もり（あるいは、最終的に構築されるべき共振器の光学的距離の見積もり）が行わ
れる、などということになる。むろん、光学的距離補正層の形成前後を問わず、予めの推
測によって、前記「バラツキ」は把握されてよい。
なお、本態様にいう「蒸着法」という用語は、ＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）
法、ＰＶＤ（Physical Vapor Deposition）法のほか、特に、スパッタリング法等、所定
の材料飛散点から材料を飛散させることで基板上に当該材料を堆積させていく手法を含む
。
【００２０】
なお、この態様において、前述の蒸着法によって形成される前記各層には、好適には、
正孔注入層、正孔輸送層、電子輸送層及び電子注入層のうちの少なくとも１つ、が含まれ
る。
この態様によれば、発光素子の発光効率の向上等が実現されるが、前記「バラツキ」の
把握の方法に関しては、層数が増えるだけで先に述べた事情と本質的な変更はない。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
＜有機ＥＬ装置の構成＞
以下では、本発明に係る実施の形態について図１及び図２を参照しながら説明する。な
お、ここに言及した図１及び図２に加え、以下で参照する各図面においては、各部の寸法
の比率が実際のものとは適宜に異ならせてある場合がある。
【００２２】
図１は、本発明の実施の形態に係る有機ＥＬ装置１００の概要を示す斜視図であり、図
２は、図１に示すＡＡ´線における断面図である。なお、図１においては、図２に示され
た要素のうちいくつかの要素についての図示が省略されている。
【００２３】
有機ＥＬ装置１００は、素子基板７と、この素子基板７上に形成された複数の有機ＥＬ
素子（発光素子）８とを備える。素子基板７の上には、この有機ＥＬ素子８を含む積層構
造物２５０が構築されている。この積層構築物２５０は、図２に示すように、図中下から
順に、回路素子薄膜１１、絶縁膜３０２及び３０４、反射層３４、画素電極１３、発光機
能層１８、対向電極５、及び充填材６０からなる。
【００２４】
回路素子薄膜１１は、有機ＥＬ素子８それぞれに給電して発光させるための複数のＴＦ
Ｔ（薄膜トランジスタ）を含む。また、この回路素子薄膜１１は、前記ＴＦＴのほか、容
量素子や配線等の各種の回路素子を含むが、図においては極めて簡略化されたかたちで描
かれている。
絶縁膜３０２は、前述の回路素子薄膜１１の上に形成されている。これにより、隣接す
る回路素子薄膜１１間、あるいは反射層３４と回路素子薄膜１１との間等の所定の要素間
で短絡が生じるのが防止される。このような絶縁膜３０２は、例えばＳｉＯ２、あるいは
ＳｉＮ等から作られる。
なお、絶縁膜３０４はこの絶縁膜３０２と同じ材料から作られ得るが、その形成位置は
、当該絶縁膜３０２及び後述する反射層３４の上で、かつ、後述する画素電極１３の一部
を覆うように形成される。絶縁膜３０４は、画素電極１３の一部を覆うように形成される
ことによって、有機ＥＬ素子８の発光領域を規定する機能を持ちうる。
【００２５】
反射層３４は、前述の絶縁膜３０２の上に形成されている。この反射層３４は、発光機
能層１８から発せられた光を反射する。この反射光は、図２に示すように、図中上方に向
かって進行する。このように、発光機能層１８から発せられた光が、素子基板７が存在す
る側とは反対側に進行するようになっているので、本実施形態の有機ＥＬ装置１００は、
いわゆるトップエミッション型である。このため、素子基板７は、必ずしも、透光性材料
から作られている必要はない。具体的には、セラミックスや金属等の不透明材料であって
よい。もっとも、ガラス等の透光性材料であってはいけないという理由は特にない。
このような反射層３４は、上述の反射機能をよりよく発揮するため、光反射性能の比較
的高い材料から作られているとよい。例えば、アルミニウムや銀等を利用することができ
る。
【００２６】
有機ＥＬ素子８は、画素電極１３、発光機能層１８及び対向電極５から構成される。
画素電極１３は、反射層３４上にマトリクス状に配列するように形成されている。有機
ＥＬ素子８がマトリクス状に配列されているということは、このように画素電極１３がマ
トリクス状に配列されているということに即応する（図１及び図２参照）。
この画素電極１３は、コンタクトホール３６３を介して、前述の回路素子薄膜１１と電
気的に接続されている。これにより、この画素電極１３は、発光機能層１８に所定の電流
を印加可能である。
このような画素電極１３は、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）等の透光性かつ導電性
の材料から作られている。
【００２７】
平面視して、隣接する画素電極１３間の領域には、図２に示すように、隔壁（バンク）
３４０が形成されている。このような隔壁３４０は、前述のＳｉＯ２等のほか、例えば絶
縁性の透明樹脂材料、例えばアクリル、エポキシ、あるいはポリイミドなどにより形成可
能である。
【００２８】
発光機能層１８は、図２に示すように、画素電極１３上に、素子基板７の全面を覆うか
のようにして形成されている。
発光機能層１８は、少なくとも有機発光層を含み、有機発光層は正孔と電子が再結合し
て発光する有機ＥＬ物質を含む。図２において、発光機能層１８は、赤色用、緑色用及び
青色用の別に応じて異なる物質からなる（符号１８Ｒ、１８Ｇ、１８Ｂ参照。なお、符号
１８は、これらを総称する符号として使用する）。これら発光機能層１８Ｒ，１８Ｇ，１
８Ｂは、各色に対応した光を発する。
本実施形態に係る有機ＥＬ装置１００は、この発光機能層１８に関し特徴的な構成要素
を含むが、その点については後に改めて説明する。
【００２９】
対向電極５は、複数の有機ＥＬ素子８の発光機能層１８に接触している。つまり、対向
電極５は、複数の画素電極１３に共通するように、隔壁３４０で画定された発光機能層１
８の区域及び隔壁３４０上に広がっている。この実施の形態では、画素電極１３は陽極で
、対向電極５は陰極だが、その逆であってもよい。
このような対向電極５は、例えばＭｇＡｌ、ＭｇＣｕ、ＭｇＡｕ、ＭｇＡｇ等の合金又
は金属材料から作られる。また、この対向電極５は、例えば５〜２０〔ｎｍ〕程度の厚さ
等、そこに到達する光の一部が透過可能であるような厚さをもつ。これにより、対向電極
５は、半透明半反射性能を備える。
【００３０】
充填材６０は、対向電極５の上に、素子基板７の全面を覆うようにして形成されている
。この充填材６０は、例えばエポキシ樹脂等の材料から作られる。この充填材６０は、後
述する対向基板５０と素子基板７とを接合する接着剤として機能する。
【００３１】
なお、前記隔壁３４０は、必ずしも設ける必要はない。ただ、このような隔壁３４０は
、例えば絶縁膜３０２に適宜形成されたコンタクトホール等の穴埋めを目的とした成膜を
実行する結果、半ば必然的に形成される場合もある（これにより、素子基板７上の積層構
造物の表面を平坦化することが可能となる。）。
また、このような隔壁３４０は、発光機能層１８から発した光が隣の有機ＥＬ素子８の
方向へと進行するのを、規制する機能を発揮することが期待できる（例えば、当該光が、
隣の有機ＥＬ素子８へと進行する際には、隔壁３４０を透過する場合があるから、その場
合、当該光のエネルギは、少なくともその透過に応じた分減少する等）。その意味におい
て、当該隔壁３４０は有用ということができる。
【００３２】
以上が、素子基板７側の積層構造物２５０であるが、有機ＥＬ装置１００は、このよう
な積層構造物２５０に加えて、対向基板５０を備え、更に、この対向基板５０の上に前記
とは別の積層構造物を備えていてもよい。この積層構造物は、図２に示すように、対向基
板５０を基準として、その図中下側に向かって順に、カラーフィルタ５１及び遮光膜５９
１からなる。本実施形態においては、上述のように発光機能層１８ないし有機ＥＬ素子８
が各色別に対応しているので、必ずしも、カラーフィルタ５１等を設ける必要はないが、
これを設ければ、色純度が高められるという効果が得られる。
【００３３】
まず、対向基板５０は、例えばガラスや石英、プラスチックなどの透光性材料で作られ
る。
カラーフィルタ５１は、平面視して画素電極１３の形成領域に対応する領域に形成され
ている。カラーフィルタ５１は、赤色フィルタ５１Ｒ、緑色フィルタ５１Ｇ及び青色フィ
ルタ５１Ｂを含む。これら各色のフィルタ（５１Ｒ，５１Ｇ，５１Ｂ）はマトリクス状に
配列されているが、本実施形態では、図１に示すように、各色のフィルタ（５１Ｒ，５１
Ｇ，５１Ｂ）は、図１に示すＸ方向に従っては、この順に配列され、かつ、図１に示すＹ
方向に従っては、同一色のフィルタが一列に並ぶように配列されている。
カラーフィルタ５１は、発光機能層１８から届く光のうち、所定の波長域の光だけを透
過させる。すなわち、赤色フィルタ５１Ｒは、例えばピーク波長６１０ｎｍ及びその付近
の波長域の光を透過させ、緑色フィルタ５１Ｇは、ピーク波長５２０ｎｍ及びその付近の
波長域の光を透過させ、青色フィルタ５１Ｂは、ピーク波長４７０ｎｍ及びその付近の波
長域の光を透過させる。なお、ここに挙げたピーク波長の具体的数値は、単なる一例であ
る。
このようなカラーフィルタ５１は、光透過性の樹脂材料等から作られる。当該樹脂材料
は、各色に対応する顔料等を含みうる。
【００３４】
遮光膜５９１は、平面視して画素電極１３の形成領域を縁取るように、あるいは当該形
成領域以外の領域に対応するように形成されている。あるいは、対向基板５０側の要素だ
けでいえば、遮光膜５９１は、マトリクス状に配列されたカラーフィルタ５１間の間隙を
埋めるようにして形成されている。
このような遮光膜５９１は、光吸収性、あるいは光反射性の金属、樹脂等の適当な遮光
性材料で作られる。金属材料に関して特に具体的に例示すれば、Ｃｒ等が好適に挙げられ
る。なお、遮光膜５９１は、図１において直接には図示されていないが、当該遮光膜５９
１が位置すべき場所について、符号５９１を付しておいた。
【００３５】
＜発光機能層１８の構成及び作用効果＞
以上に加えて、本実施形態の有機ＥＬ装置１００は特に、前述した各種要素のうち有機
ＥＬ素子８の構成、とりわけそのうちの発光機能層１８の構成及び作用について特徴があ
る。以下では、この点について、既に参照した図１及び図２に加えて、図３乃至図９を参
照しながら説明する。
まず、発光機能層１８は、より詳細には、図３に示すように、正孔注入層（HIL;Hole I
njection Layer）１８１、正孔輸送層（HTL;Hole Transport Layer）１８２、発光層（EM
L;EMissive Layer）１８３、電子輸送層・注入層（ETL/EIL;Electron Transport/Injecti
on Layer）１８４からなる。
このうち発光層１８３は、蛍光又は燐光を発するに適した材料から作られる。当該材料
には、例えば、Ａｌｑ３、ＤＰＶＢｉなどのホスト材料にナイルレッド、ＤＣＭ、ルブレ
ン、ぺリレン、ローダミンなどをドープしたもの、またはホスト材料単独のもの、等々が
含まれる。なお、上述のように、発光機能層１８Ｒ，１８Ｇ，１８Ｂが色別に設けられる
ということは、この発光層１８３の構成材料が相異なっているということに概ね対応する
。
この発光層１８３は、（ｉ）当該発光層１８３に、陽極たる画素電極１３からホール（
正孔）が、陰極たる対向電極５から電子が、それぞれ注入される、（ｉｉ）これらホール
及び電子の再結合により励起子が生成される、（ｉｉｉ）この励起子が基底状態に遷移す
るときに、エネルギ放出、即ち発光現象が生じる、というメカニズムに基づいて発光する
。
【００３６】
電子輸送層・注入層１８４は、図２に示す対向電極５と接触し、対向電極５から発光層
１８３への電子の円滑な移動に適し、かつ、発光層１８３から供給されてくる正孔の進行
を遮るのに適した材料から作られる。当該材料には、例えば、８−ヒドロキシキノリン又
はその誘導体とその金属錯体、トリアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾ
ール誘導体、等々が含まれる。
また、正孔輸送層１８２は、画素電極１３から発光層１８３への正孔の円滑な移動に適
し、かつ、発光層１８３から供給されてくる電子の進行を遮るのに適した材料から作られ
る。当該材料には、例えば、ポリフルオレン誘導体、ポリパラフェニレンビニレン誘導体
、ポリパラフェニレン誘導体、ポリビニルカルバゾール、ポリチオフェン誘導体、等々が
含まれる。これらに関するモノマーあるいはオリゴマーは、正孔輸送層１８２を構成する
低分子材料として使用され得る。
【００３７】
そして、正孔注入層１８１は、正孔注入のエネルギ障壁を低下させるのに適した材料か
ら作られる。この正孔注入層１８１は、例えばＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ等をその材料とし、イ
ンクジェット法（液滴塗布法）によって成膜される。
ここで、この正孔注入層１８１は、本実施形態において、光学的距離を補正するための
層として機能する（図３等では、その旨が単に「補正層」と表記されることで表現されて
いる。）。すなわち、図３に示すように、ある１個の有機ＥＬ素子８についての画素電極
１３及び電子輸送層・注入層１８４間の光学的距離と、他の１個の有機ＥＬ素子８につい
てのそれとが一致するように、正孔注入層１８１の物理的厚さは調整される。図３の左方
では、正孔注入層１８１を除いた、発光層１８３等の各層によって規定される光学的距離
が、図３の右方に比べて大きいために、図３の左方の正孔注入層１８１はより薄く、図３
の右方のそれはより厚くなることが概念的に表現されている。
【００３８】
光学的距離は、各層がもつ屈折率と物理的厚さによって規定される。すなわち、電子輸
送層・注入層１８４の屈折率及び物理的厚さをそれぞれｎ１，ｌ１とし、以下同様に、発
光層１８３、正孔輸送層１８２、画素電極１３に関して、ｎ２，ｌ２、ｎ３，ｌ３、並び
に、ｎ４，ｌ４、とすると、その光学的距離Ｌは、
Ｌ＝（ｎｈ・ｌｈ）＋Σ（ｎｐ・ｌｐ）  ……  （１）
と表現される。ただし、この式中、「Σ」は、順次にｐ＝１，２，３，４とした場合のｎ
ｐ・ｌｐの総和を表す記号である。また、ｎｈは正孔注入層１８１の屈折率、ｌｈはその
物理的厚さである。
本実施形態では、この光学的距離Ｌはまた、以下の式で表される条件を満たす。
Ｌ＝｛（２πＮ＋θ１＋θ２）・λ｝／（４π）  ……  （２）
ただし、この式中、θ１は反射層３４における位相変化量（より正確には、反射層３４
と画素電極１３との界面における位相変化量）、θ２は対向電極５における位相変化量（
より正確には、対向電極５と電子輸送層・注入層１８４との界面における位相変化量）、
λは共振対象波長、Ｎは適当な整数である。
以上の２つの式から、本実施形態の有機ＥＬ装置１００は、一種の光共振器を含むこと
になる。すなわち、反射層３４と、半透明半反射層としての対向電極５との間の光学的距
離が適当に設定されることにより、特定の波長成分（前記の共振対象波長λ）をもつ光の
強度が増大させられる。例えば、前述の青色用の発光機能層１８Ｂに対応する有機ＥＬ素
子８については、式（２）において、λ＝λＢ≒４７０ｎｍとされ、かつ、式（１）の右
辺の値及び式（２）の右辺の値が等しくなるように、ｎ１，ｌ１，…，ｎ４，ｌ４，ｎｈ
，ｌｈの値が定められると、取り出される光の発光スペクトルは、波長４７０ｎｍ付近に
ピークをもつものとなる。なお、この場合、式（２）中のＮは、通常、比較的小さな値、
例えば１などとして設定される。
【００３９】
ところで、この場合、図３を参照して説明したように、前記式（１）中のΣ（ｎｐ・ｌ
ｐ）の値は、１パネル内において、あるいは、複数のパネルを１枚の基板上に形成する場
合における当該複数のパネル間で、変動し得る。これは、画素電極１３が例えばスパッタ
法によって製造され、あるいは、発光層１８３等が蒸着法によって製造される結果、その
ターゲットないし蒸発源の位置と、素子基板７上の面内各点の位置との関係が相異なるこ
とによる。
例えば、仮に、図１に示したような１枚の素子基板７のみを１枚の材料基板上で形成す
る場合を想定すると、図４乃至図６に示すように、蒸発源ＶＰにより近い材料基板の中央
部分付近では発光層１８３等の膜厚がより大きく、蒸発源ＶＰにより遠い材料基板の辺縁
部分付近では膜厚がより小さくなる、ということが生じ得る（図６では、実線の曲線・参
照）。このようであると、前記光学的距離Ｌが、材料基板の中央部分付近ではより長くな
り、その辺縁部分付近ではより短くなってしまうことになるから、図７に示すように、外
部に取り出される光の発光スペクトルのかたちが変わってしまう。図７では、たまたま緑
色光に関する図示がなされている。すなわち、材料基板の中央部分付近では、所望どおり
の光学的距離Ｌが実現され、緑色光のピークが５２０ｎｍ付近で現れている（符号Ｇｃの
実線の曲線参照）のに対して、辺縁部分付近では、そのピークがずれてしまっている一例
が示されている（符号Ｇｆの破線の曲線参照）。
【００４０】
このようなことは、例えば図８及び図９に示すように、１枚の材料基板７ｇｇ上に、複
数のパネル、即ち図１に示したような素子基板７を複数一挙に形成する場合にもあてはま
る。この場合は、これら図８及び図９に示すように、ある素子基板７ｇ３については発光
層１８３等の膜厚が大きく、他の素子基板７ｇ１については膜厚が小さいというように、
パネルごとに膜厚の相違が発生するということが生じ得るから、例えば、パネルが変わる
と同じ緑色が表現できない、といった不具合が生じることになる。その意味では、このよ
うな場合のほうがむしろ、前述の場合に比べて不都合の度合いがより大きいということも
いえる。
【００４１】
いずれにせよ、本実施形態では、上に述べたような不具合の発生が極力低減される。こ
れは、前述のように、正孔注入層１８１がインクジェット法によって成膜されることで、
その物理的厚さｌｈが調整されているからである。すなわち、例えば、既に参照した図６
中の実線のような膜厚分布が生じることが予め推測され、あるいは、実際に計測されると
きは、図６中の破線及びハッチングで表現されるように、それをあたかも打ち消すような
物理的厚さｌｈをもつ正孔注入層１８１が、インクジェット法によって成膜されていれば
よい。図６中の破線等では、材料基板の中央部でより薄く、辺縁部でより厚い正孔注入層
１８１が形成される一例が示されている。
【００４２】
なお、最終的に達成すべき目標は、全有機ＥＬ措置８に関する「光学的距離」の一致で
あって（図３参照）、物理的厚さの一致ではない。したがって、図６の破線等で示すよう
に、物理的厚さの次元でみると、各有機ＥＬ素子８に関してバラツキが生じる場合でも、
「光学的距離」の次元では一致しているということはあり得る。これは、正孔注入層１８
１を如何なる材料から作るか、あるいは、前記発光層１８３等の各層をそれぞれ如何なる
材料から作るかに応じて、それら各層の屈折率（ｎｈ，ｎ１，ｎ２，ｎ３，ｎ４）が異な
ってくることによっている。
また、上述した、蒸発源等と素子基板７上の面内各点の位置との関係から、蒸着法によ
って成膜される膜の厚さが異なるということを重視すると、それに応じた正孔注入層１８
１の膜厚は、素子基板７上の面内において一定の傾向に従って調整されるべきことになる
はずである（例えば、図６参照）。しかし、実現されるべき光学的距離は、共振させるべ
き波長に応じても当然異なってくる（前記式（２）参照）。特に、本実施形態のように、
赤色、緑色及び青色それぞれに対応する発光機能層１８Ｒ、１８Ｇ及び１８Ｂが一定の配
列秩序に従って並べられる場合においては（図２参照）、これら各発光機能層１８Ｒ，１
８Ｇ，１８Ｂに対応する隣接する有機ＥＬ素子８に関して、実現されるべき光学的距離は
異なってくる。この場合、正孔注入層１８１の膜厚調整は、前述した蒸着法に起因する膜
厚の面内分布に加えて、各有機ＥＬ素子８における共振対象波長λも勘案された上で行わ
れることになる。
以上を要するに、正孔注入層１８１の厚さは、単に、蒸着法に起因する膜厚の面内分布
に応じて定められるだけではなく、その他、種々の要因が考慮されて定められ得る。
【００４３】
以上述べたように、本実施形態に係る有機ＥＬ装置１００によれば、素子基板７全面あ
るいは全有機ＥＬ素子８に関し、あるいは、一挙に製造される複数の素子基板７の全部に
関し、その光学的距離が極端にばらつくという事象は殆ど発生しない。したがって、本実
施形態では、図７中の破線の曲線Ｇｆで示したような、発光スペクトルのかたちが変わる
という不都合が発生することが極力抑制され、取り出される光は、所望どおりの発光スペ
クトルをもつことになる。
しかも、本実施形態では、正孔注入層１８１がインクジェット法によって形成されるた
め、上述したような物理的厚さの調整が極めて好適に行われる。これは、インクジェット
法では、基本的に塗布すべきインク量の調整等を行うだけで、塗布後の液滴の物理的厚さ
の予測がつきやすいからであり、また、１個１個の有機ＥＬ素子８に関して、比較的正確
に、その塗布されるべきインク量等の遵守が相当程度の確度で期待できるからである。こ
のことは、前述したような蒸着法に起因する膜厚の面内分布以外の理由によって、１個１
個の有機ＥＬ素子８に関する正孔注入層１８１の膜厚調整が必要となる場合があることに
鑑みるに、好適である。
結局、本実施形態では、正孔注入層１８１の物理的厚さの調整が個々の有機ＥＬ素子８
に関し正確に行われ、その結果、光学的距離の統一がよりよく実現されることになる。
【００４４】
＜実施例＞
以下に示す表１は、全有機ＥＬ素子８に関する光学的距離の統一を図った、より具体的
な一例（シミュレーション結果）である。
【表１】
2010146738.tif 000003
【００４５】
この表１は、前段部分が、素子基板７の中央部付近に位置する、ある１個の有機ＥＬ素
子８を構成する各層の物理的厚さ、光学的距離等を示しており、後段部分が、その辺縁部
付近に位置する、他の１個の有機ＥＬ素子８を構成する各層の物理的厚さ、光学的距離等
を示している。
また、この表１は、画素電極１３はＩＴＯ、正孔注入層１８１はＰＥＤＯＴ−ＰＳＳ、
正孔輸送層１８２はＮＰＤ（Ｎ，Ｎ’−ジ（１−ナフチル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−１
，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミン（α−ＮＰＤ））、発光層１８３は、緑色用材
料として、ホスト材料に出光興産製ＢＨ２１５、ドーピング材料に出光興産製ＧＤ２０６
、電子輸送層・注入層１８４はＡｌｑ３にＬｉＦを積層したもの、から、それぞれ構成さ
れていることを前提におく。さらに、正孔注入層１８１はインクジェット法により、画素
電極１３はスパッタ法により、その他の各層は蒸着法により、それぞれ形成されている。
加えて、これら各層の厚さ（特に、「素子基板の中央部」として示される厚さ）は、緑
色光についての共振が生じることを目的として定められている。
なお、緑色用以外の発光層１８３を構成する材料としては、青色用としては、ホスト材
料に出光興産製ＢＨ２１５、ドーピング材料に出光興産製ＢＤ０５２、赤色用としては、
ホスト材料にＣＢＰ（４，４’−Ｎ，Ｎ−ジカルバゾールビフェニル）、ドーピング材料
にＢｔｐ２Ｉｒ（ａｃａｃ）（ビス（２−（２’−ベンゾチエニル）ピリジナト−Ｎ，Ｃ
３’イリジウム（アセチルアセトネート）、ホールブロック材料にＢＡｌｑ（ビス−（２
−メチル−８−キノリノラト−４−（フェニルフェノラート）アルミニウム、が挙げられ
る。
【００４６】
この表１では、素子基板７の中央部においては、正孔注入層１８１を除く発光層１８３
等の各層の物理的厚さの合計が２００ｎｍ、光学的距離が４００．７ｎｍとなっており、
その辺縁部においては、物理的厚さの合計が１８０ｎｍ、光学的距離が３６０．７ｎｍと
なっている。これら両者の物理的厚さの差２０ｎｍ（＝２００ｎｍ−１８０ｎｍ）は、前
述した蒸発源等と素子基板７上の面内各点の位置との相違に基づいて生じたものであり、
両者の光学的距離の差４０ｎｍ（＝４００．７ｎｍ−３６０．７ｎｍ）は、その物理的厚
さの差によって生じたものである。
そこで、この表１では、正孔注入層１８１の物理的厚さが、素子基板７の中央部で４２
．０ｎｍ、辺縁部で６２．２ｎｍとされていて、後者が前者より厚くされている。これに
よって、この正孔注入層１８１を含む全層についての光学的距離は、素子基板７の中央部
で４７２．１ｎｍ、辺縁部で４６６．４ｎｍとなり、両者ほぼ同じ値となっている。その
結果、両者に係る有機ＥＬ素子８は双方とも、既に参照した図７に示す曲線Ｇｃのような
発光スペクトルをもつ緑色光を発することが確認されている。
【００４７】
なお、この表１によって示唆されるように、光学的距離の一致といっても、それは必ず
しも完全一致を意味するものではない。上述のように、素子基板７の中央部で４７２．１
ｎｍ、辺縁部で４６６．４ｎｍというように、両者間にある程度の差が生じたとしても、
所期した通りの効果は達成可能である。本願出願人は、試行錯誤の結果、基板中央部にあ
る有機ＥＬ素子８の光学的距離を基準とすると、その±１０％前後の誤差があっても、概
ね期待通りの効果が達成されることを確認した（ちなみに、上述の実施例（表１）では、
このような基準でみて、「素子基板の辺縁部」の光学的距離の誤差が、約１．２％と算出
される（＝（（４７２．１−４６６．４）／４７２．１）×１００））。
本発明に言う「光学的距離を一致させるような…」という文言は、このような事情を含
意する。
【００４８】
＜有機ＥＬ装置の製造方法＞
次に、以上に述べた本実施形態に係る有機ＥＬ装置１００の製造方法について、既に参
照した図１乃至図９に加えて、図１０を参照しながら説明する。なお、以下では、有機Ｅ
Ｌ装置１００のうち、本発明に特に関連する部分についての製造方法、即ち図２に示す対
向電極５よりも図中下層側に位置する各種要素についての製造方法の説明を行う。
まず、素子基板７の上に、回路素子薄膜１１、絶縁膜３０２、反射層３４、画素電極１
３及び絶縁膜３０４・隔壁層３４０が形成される（図２参照）。これらのいずれの成膜に
おいても、既知であるところの、例えばＰＶＤ法、ＣＶＤ法やスパッタ法等の成膜方法や
、あるいはフォトリソグラフィ法等が適宜利用される。その際、回路素子薄膜１１の成膜
では、有機ＥＬ素子８を駆動するためのＴＦＴ（Thin Film Transistor）等の製造が含ま
れるから、その半導体層へのドーピング工程等も行われ、絶縁膜３０２の成膜では、そこ
にコンタクトホール３６３を形成するために、適当なエッチング工程等も行われる。また
、画素電極１３については、図１等に示したようなマトリクス状配列が実現されるように
、フォトリソグラフィ等を用いたパターニング処理も実施される。
【００４９】
なお、この工程において、反射層３４はアルミニウムから作られて好適であるが、これ
に代えて、ＡｌＮｄ、Ａｇ、あるいはＩＴＯ／Ａｇ／ＩＴＯ等の積層膜が形成されてもよ
い。
また、この工程では、アルミニウム等の各種の材料からなる反射層３４の上に、ＩＴＯ
等の材料からなる画素電極１３が形成されるが、この場合、当該画素電極１３の上に更に
、ＳｉＮ等からなる電食防止用の薄膜が形成されてもよい。この薄膜の厚さは、例えば５
０ｎｍ程度とするとよい。
【００５０】
続いて、図１０に示すように、発光機能層１８のうちの正孔注入層１８１が形成される
。
正孔注入層１８１は、インクジェット法によって形成される。すなわち、液滴吐出装置
の液滴吐出ヘッド（不図示）に正孔注入層１８１の形成材料（正孔注入材料）を含む液体
材料を充填し、液滴吐出ヘッドと素子基板７とを相対移動しながら、液滴吐出ヘッドから
１滴当たりの液量が制御された液体材料ＤＲを隔壁層３４０間の開口部（図１０では、隔
壁層３４０及びそれらの間の“開口部”は不図示。なお図２参照）に吐出する。そして、
液体材料ＤＲ中の溶媒を乾燥することにより、開口部に露出した画素電極１３上に正孔注
入材料の薄膜（正孔注入層）を形成する。
正孔注入材料としては、既述のように、例えばＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ等の高分子材料が好
適に用いられる。当該材料を含む液体材料ＤＲは、液滴吐出法で素子基板７上に塗布され
た後、大気中にてホットプレートで２００℃、１０分加熱処理される。
【００５１】
この際、本実施形態においては特に、液体材料ＤＲの液量は、前工程で形成済みの画素
電極１３の膜厚、及び、後に控えている正孔輸送層１８３以後の各層の膜厚の総計がどの
程度になるかが、当該の正孔注入層１８１の形成前に予め推測された上で決定される。
すなわち、これら各層の形成においては、画素電極１３が例えばスパッタ法によって製
造され、あるいは、発光層１８３等が蒸着法によって製造される結果、そのターゲットな
いし蒸発源の位置と、素子基板７上の面内各点の位置との関係が相異なることから（図５
参照）、当該素子基板７上の面内において、これら各層の膜厚の分布が生じる可能性が大
きい（図６参照）。
そこで、前述の液体材料ＤＲの液量は、このような事情を勘案し、かつ、最終的に成膜
されることになる画素電極１３から電子輸送層・注入層１８４まで（正孔注入層１８１を
除く。）の光学的距離が各有機ＥＬ素子８に関して一致するように、決定される（図３参
照）。
図１０は、そのように決定された液体材料ＤＲの液量、あるいは、それによって形成さ
れる正孔注入層１８１のわかりやすい一例を概念的・視覚的に表現している。この図１０
では、素子基板７の中央部分に近づくにつれ、液体材料ＤＲは少量となり、したがって、
より薄い正孔注入層１８１が形成されていくのに対して、素子基板７の辺縁部分に近づく
につれ、液体材料ＤＲは多量となり、したがって、より厚い正孔注入層１８１が形成され
ていく例が示されている（図６、あるいは図３も参照）。
このように、最終的に形成されるべき有機ＥＬ素子８ごとの正孔注入層１８１の膜厚は
、当該有機ＥＬ素子８ごとの液体材料ＤＲの塗布量の調整によって、調整される。
【００５２】
このようにして正孔注入層１８１が形成された後には、続いて、正孔輸送層１８２、発
光層１８３、電子輸送層・注入層１８４、対向電極５が形成される。これらの各層は、既
知であるところの、例えばＰＶＤ法、ＣＶＤ法等の蒸着法によって成膜される（図５参照
）。この際、これら各層は素子基板７の全面を覆うかのように形成されるが、蒸発源の位
置と素子基板７上の面内各点の位置との関係の如何によって、当該面内で膜厚が相異なっ
て成膜され得ることについては既に述べた。なお、本実施形態においては、発光層１８３
について、前述の表１の説明の際に触れたような、相異なる材料から構成する必要がある
ため、メタルマスク等を適宜用いながらの、いわゆる塗り分け的な蒸着法等が実施される
（他の層に関しては必須ではないが、同様の方法が用いられてよい。）。
【００５３】
なお、前述した各層の膜厚（正孔注入層１８１の膜厚を除く。）の設定をどのようにす
るかについては、前記の表１が概ねの目安を提供する。実際上は、表１に示される各層の
物理的厚さを基準として、±５０％程度の膜厚となるように成膜されることが目指されて
好適である。ただし、このような各層の膜厚の設定に当たっては、前記の式（１）及び式
（２）に係る条件に考慮が払われる。これにより、各有機ＥＬ素子８に関して、ある特定
の波長を持つ光についての共振器構造が形成されることになる。
【００５４】
以上述べたような製造方法、ないしはそれによって製造された有機ＥＬ装置１００によ
れば、既述した本実施形態に係る各種の効果が享受されることは勿論である。
加えて、上述のように、光学的距離を補正するための正孔注入層１８１だけがインクジ
ェット法によって製造され、その他の各層が基本的には蒸着法によって製造される形態に
よれば、最終的に構築される有機ＥＬ素子８の電気的特性を好適に維持することが可能で
ある。これは、以下の事情による。
すなわち、図１０等に示されるように、光学的距離を補正するための層の膜厚は、場合
によっては比較的大きなものとなる可能性を秘めるが、当該の膜厚があまりに大きくなっ
てしまうと、発光層１８３への正孔の移動に障害を与えるおそれが出てくる。この点、高
分子材料のほうが、低分子材料に比べて、そのような懸念が少ないことが知られている。
つまり、光学的距離を補正するための層を、本実施形態のように高分子材料から作る場合
は、その膜厚が比較的大きくなったとしても、当該の層が、正孔の移動の障害となるよう
な懸念が少なくなるのである。このような意味において、光学的距離を補正するための層
に使用される材料としては、高分子材料のほうが、低分子材料に比べて、安心して利用す
ることができ、また、そのようにしておけば、最終的に構築される有機ＥＬ素子８の電気
的特性、ひいては発光特性を好適に維持することが可能となるのである。
他方、逆に、有機ＥＬ素子８の発光寿命という観点からみた場合、より長寿命を実現で
きるのは、高分子材料よりも、低分子材料のほうが有利であることが知られている。そう
すると、上記の製造方法は、この観点からも有利であることになる（なぜなら、正孔注入
層１８１以外は、蒸着法によって製造されるからである。）。
以上を要するに、上記の製造方法は、光学的距離を補正するための正孔注入層１８１だ
けがインクジェット法によって製造され、その他の各層が基本的には蒸着法によって製造
される形態であることから、総じて、有機ＥＬ素子８の電気的特性を好適な状態とするの
に適している。
【００５５】
以上、本発明に係る実施の形態について説明したが、本発明に係る発光装置は、上述し
た形態に限定されることはなく、各種の変形が可能である。
（１）  上記実施形態では、発光機能層１８が発光機能層１８Ｒ，１８Ｇ，１８Ｂを含み
、各色別に作り分けられる態様について説明しているが、本発明は、かかる形態に限定さ
れない。
例えば、発光機能層１８は、素子基板７の全面を覆うかのように形成されてよい。この
場合、当該の発光機能層は一様に、例えば白色光を発する。
なお、このような場合において、カラー画像表示を行おうとする場合には、上記実施形
態とは異なって、その実施形態中に述べたカラーフィルタ５１を設けることが殆ど必須と
なる（上記実施形態では、カラーフィルタ５１の設置・非設置は任意である。）。
【００５６】
（２）  上記実施形態の有機ＥＬ装置１００は、図２及び図３に示したように、素子基板
７の側から見て、順に、反射層３４、画素電極１３、正孔注入層１８１、正孔輸送層１８
２、発光層１８３、電子輸送層・注入層１８４、及び対向電極５、という積層構造をもち
、かつ、このうちの正孔注入層１８１は、本発明にいう「光学的距離補正層」としての機
能を、また、対向電極５は、本発明にいう「半透明半反射層」としての機能をもつ、とい
う構成をもっているが、本発明は、かかる形態に限定されるわけでは勿論ない。
例えば、本発明にいう「光学的距離補正層」は、場合によっては、共振器内の光学的距
離を調整するためだけの機能をもつ層として、「発光装置」の一部を構成し得る（つまり
、正孔注入層と光学的距離補正層とが機能分離されると同時に、それぞれ物理的に別個の
層として形成される。）。その場合、当該の光学的距離補正層は、例えば、図２でいう画
素電極１３及び反射層３４間に配置されることも可能である。
また、上記実施形態の有機ＥＬ装置１００はトップエミッション型であるが、本発明は
、ボトムエミッション型、あるいはデュアルエミッション型に対して適用可能である。こ
のような場合、本発明にいう「反射層」及び「半透明半反射層」と「基板」との配置関係
は上記実施形態とは異なることとなって、図２の構造はとり得ない場合がありえ、また、
図２に示す対向電極５が半透明半反射機能をもつことが不都合となる、などといった様々
な変更必要点が生じることになる。が、例えば、ボトムエミッション型を前提とすれば、
当該対向電極５に本発明にいう「反射層」としての機能を兼ねさせ、あるいは、「光学的
距離補正層」に「電子輸送層」を兼ねさせる、等々の適当な変更を上記実施形態に加えれ
ば、容易に本発明の適用が可能である。
いずれにせよ、上記実施形態は、本発明の一具体例を呈示しているに止まる。
なお、上記実施形態のように、対向電極５が「半透明半反射層」としての機能をもつ場
合は、「発光素子」の構成要素である対向電極５が、同時に、共振器の構成要素である「
半透明半反射層」を兼ねているということができるが、このような態様であっても、本発
明において、「半透明半反射層」が、「基板の法線方向に沿ってみて…発光素子…の他方
の側に配置され」る、といわれる場合に該当する。前述した、対向電極５が「反射層」を
兼ねる場合も同様に、「反射層」が、「基板の法線方向に沿ってみて…発光素子の一方の
側に配置され」る、といわれる場合に該当する。
【００５７】
（３）  また、本発明においては、場合により、以下のような形態をとることが可能であ
る。
すなわち、前記の式（１）のように、光学的距離Ｌは、屈折率と物理的厚さの積によっ
て求められるが、各有機ＥＬ素子８に関する光学的距離を一致させるにあたっては、上記
実施形態のように、光学的補正層たる正孔注入層１８１の物理的厚さを変更するのではな
く、屈折率を変えるという手法（材料を変えることが含まれる。）がなくはない。具体的
には例えば、正孔注入層１８１を除く各層の光学的距離が、図３の左方及び右方のように
見積もられるときには、正孔注入層１８１の膜厚を変えるのではなく、又は、それととと
もに、図３の左方ではより小さな屈折率をもつ材料によって正孔注入層を形成し、図３の
右方ではより大きな屈折率をもつ材料によって正孔注入層を形成する、などというようで
ある。
あるいは、このような手法を若干変形させて、前述の発光機能層１８Ｒ、１８Ｇ及び１
８Ｂの別に対応するように異なる屈折率をもつ正孔注入層を形成する、という手法もあり
得る。この場合、例えば、色ごとに異ならせるべき光学的距離の調整は、屈折率変更を伴
う正孔注入層の材料選択によって対応するとともに、素子基板７の面内膜厚分布に応じて
異ならせるべき光学的距離の調整は、各色内で、正孔注入層の物理的厚さの変更によって
対応する、などという手法が具体的にはとられ得る。
以上のような構成をもつ有機ＥＬ装置であっても、インクジェット法によれば、１個１
個の有機ＥＬ素子に対応した液滴の吐出制御が可能であるから、その製造は基本的には可
能である。
また、当然ながら、このような有機ＥＬ装置でも、上述の実施形態によって奏された作
用効果と本質的に異ならない作用効果が奏される。
【００５８】
＜応用＞
次に、本発明に係る発光装置を適用した電子機器について説明する。
図１１は、上記実施形態に係る有機ＥＬ装置１００を画像表示装置に利用したモバイル
型のパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。パーソナルコンピュータ２００
０は、表示装置としての有機ＥＬ装置１００と本体部２０１０とを備える。本体部２０１
０には、電源スイッチ２００１およびキーボード２００２が設けられている。
図１２に、上記実施形態に係る有機ＥＬ装置１００を適用した携帯電話機を示す。携帯
電話機３０００は、複数の操作ボタン３００１およびスクロールボタン３００２、ならび
に表示装置としての有機ＥＬ装置を備える。スクロールボタン３００２を操作することに
よって、有機ＥＬ装置１００に表示される画面がスクロールされる。
図１３に、上記実施形態に係る有機ＥＬ装置１００を適用した情報携帯端末（ＰＤＡ：
Personal Digital Assistant）を示す。情報携帯端末４０００は、複数の操作ボタン４０
０１および電源スイッチ４００２、ならびに表示装置としての有機ＥＬ装置１００を備え
る。電源スイッチ４００２を操作すると、住所録やスケジュール帳といった各種の情報が
有機ＥＬ装置１００に表示される。
【００５９】
本発明に係る発光装置が適用される電子機器としては、図１１から図１３に示したもの
のほか、デジタルスチルカメラ、テレビ、ビデオカメラ、カーナビゲーション装置、ペー
ジャ、電子手帳、電子ペーパー、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ
電話、ＰＯＳ端末、ビデオプレーヤ、タッチパネルを備えた機器等が挙げられる。
【図面の簡単な説明】
【００６０】
【図１】本発明の実施の形態に係る有機ＥＬ装置を示す斜視図である。
【図２】図１のＡ-Ａ’線断面図である。
【図３】図２の符号Ｃ１を付した円内を拡大視して示す断面図である。
【図４】蒸発源（ＶＰ）の位置と素子基板（７ｇ１）上の面内各点の位置との相対的関係を説明するための説明図（その１）である。
【図５】蒸発源（ＶＰ）の位置と素子基板（７ｇ１）上の面内各点の位置との相対的関係を説明するための説明図（その２）である。
【図６】図４のＸ１‐Ｘ１’線に沿ってみた膜厚分布を表す図である。
【図７】図６の膜厚分布によって生じる発光スペクトルのかたちの変化（Ｇｃ→Ｇｆ）を表す図である。
【図８】蒸発源（ＶＰ）の位置と材料基板（７ｇｇ）上の面内各点の位置との相対的関係を説明するための説明図である。
【図９】図８のＸ２‐Ｘ２’線に沿ってみた膜厚分布を表す図である。
【図１０】図１の有機ＥＬ装置の製造工程中、正孔注入層（１８１）の形成の様子を概念的・視覚的に表現する説明図である。
【図１１】本発明に係る有機ＥＬ装置を適用した電子機器を示す斜視図である。
【図１２】本発明に係る有機ＥＬ装置を適用した他の電子機器を示す斜視図である。
【図１３】本発明に係る有機ＥＬ装置を適用したさらに他の電子機器を示す斜視図である。
【符号の説明】
【００６１】
７，７ｇ１，７ｇ２，７ｇ３……素子基板、７ｇｇ……材料基板、５０……対向基板、８
……有機ＥＬ素子、１３……画素電極、１８……発光機能層、５……対向電極、１８１…
…正孔注入層（光学的距離補正層）、１８２……正孔輸送層、１８３……発光層、１８４
……電子輸送層・注入層、３０２，３０４……絶縁膜、３４０……隔壁層、ＤＲ……液体
材料（原材料）
【図１】
2010146738.tif 000004
【図２】
2010146738.tif 000005
【図３】
2010146738.tif 000006
【図４】
2010146738.tif 000007
【図５】
2010146738.tif 000008
【図６】
2010146738.tif 000009
【図７】
2010146738.tif 000010
【図８】
2010146738.tif 000011
【図９】
2010146738.tif 000012
【図１０】
2010146738.tif 000013
【図１１】
2010146738.tif 000014
【図１２】
2010146738.tif 000015
【図１３】
2010146738.tif 000016