Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】令和2年11月30日(2020.11.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１または複数の隣接したフォノボルタイックセルのフォノボルタイックパイルの一部として有用なフォノボルタイックセルにおいて、
第１の導体層と、
第１の導体層と接する第１のホウ素層であって、正二十面体のホウ素及び水素を含んでおり、ホウ素の相対原子濃度が他の如何なる原子よりも高い、第１のホウ素層と、
第１のホウ素層と接する第２のホウ素層であって、正二十面体のホウ素及び水素を含んでおり、ホウ素の相対原子濃度が他の如何なる原子よりも高い、第２のホウ素層と、
第２のホウ素層と接する第２の導体層と、
を備えており、
第１の導体層と第２の導体層との間に電位が発生する、フォノボルタイックセル。
【請求項２】
第１のホウ素層がケイ素をさらに含み、好ましくは、第１のホウ素層がシラボランであり、より好ましくは、第１のホウ素層がピコ結晶シラボランである、請求項１に記載のフォノボルタイックセル。
【請求項３】
シラボラン層が、式（Ｂ１２Ｈｗ）ｘＳｉｙを有するシラボランであって、３≦ｗ≦５、２≦ｘ≦４、及び３≦ｙ≦５であり、好ましくは、式（Ｂ１２Ｈ４）ｘＳｉｙＯｚを有するシラボランであって、２≦ｘ≦４、及び３≦ｙ≦５であり、より好ましくは、式（Ｂ１２Ｈ４）３Ｓｉ５を有するシラボランである、請求項２に記載のフォノボルタイックセル。
【請求項４】
第２のホウ素層がケイ素をさらに含み、好ましくは、第２のホウ素層がオキシシラボランであり、より好ましくは、第２のホウ素層がピコ結晶オキシシラボランである、請求項１に記載のフォノボルタイックセル。
【請求項５】
オキシシラボランが、式（Ｂ１２Ｈｗ）ｘＳｉｙＯｚを有するオキシシラボランであって、３≦ｗ≦５、２≦ｘ≦４、３≦ｙ≦５、及び０＜ｚ≦３であり、好ましくは、式（Ｂ１２Ｈ４）ｘＳｉｙＯｚを有するピコ結晶オキシシラボランであって、２≦ｘ≦４、３≦ｙ≦５、及び０＜ｚ≦３であり、より好ましくは、式（Ｂ１２Ｈ４）２Ｓｉ４Ｏ２を有するオキシシラボランである、請求項４に記載のフォノボルタイックセル。
【請求項６】
第１及び第２の導体層がそれぞれ金属電極であり、好ましくは、金属電極がアルミニウムである、請求項１に記載のフォノボルタイックセル。
【請求項７】
第１のホウ素層及び第２のホウ素層におけるホウ素の相対原子濃度が、他のどの原子よりも少なくとも５０％大きい、請求項１に記載のフォノボルタイックセル。
【請求項８】
第１及び第２のホウ素層の正二十面体対称性は、ヤーン‐テラー歪みを含まない、請求項１に記載のフォノボルタイックセル。
【請求項９】
第１のホウ素層が約４ｎｍ以下の厚さを有し、第２のホウ素層が約４ｎｍ以下の厚さを有する、請求項１に記載のフォノボルタイックセル。
【請求項１０】
フォノボルタイックパイルは、少なくとも２つのフォノボルタイックセルから形成されており、第１のフォノボルタイックセルの第２の導体は、第２のフォノボルタイックセルの第１の導体を形成する、請求項１に記載のフォノボルタイックセル。
【請求項１１】
第１の導体層と、
第１の導体層と接する第１のホウ素層であって、正二十面体のホウ素及び水素を含んでおり、ホウ素の相対原子濃度が他の如何なる原子よりも高い、第１のホウ素層と、
第１のホウ素層と接する第２のホウ素層であって、正二十面体のホウ素及び水素を含んでおり、ホウ素の相対原子濃度が他の如何なる原子よりも高い、第２のホウ素層と、
第２のホウ素層と接する第２の導体層と、
を備えており、
第１の導体層と第２の導体層との間で非対称的な電気伝導性がある、整流器。
【請求項１２】
集積回路であって、
第１の回路素子と、
第２の回路素子と、
二十面体ホウ素及び水素を含んでおり、ホウ素の相対原子濃度が他の如何なる原子よりも高い導体と、
を備えており、
導体はさらに微量の貨幣金属を含んでおり、
導体は、集積回路内で第１の回路素子を第２の回路素子に電気的に接続する、集積回路。
【請求項１３】
導体がオキシシラボランであり、好ましくは、導体がピコ結晶オキシシラボランであり、より好ましくは、導体が、式（Ｂ１２Ｈｗ）ｘＳｉｙＯｚを有するオキシシラボランであって、３≦ｗ≦５、２≦ｘ≦４、３≦ｙ≦５、及び０＜ｚ≦３であり、更に好ましくは導体が、式（Ｂ１２Ｈ４）ｘＳｉｙＯｚを有するピコ結晶オキシシラボランであって、２≦ｘ≦４、３≦ｙ≦５、及び０＜ｚ≦３であり、最も好ましくは、導体が、式（Ｂ１２Ｈ４）２Ｓｉ４Ｏ２を有するピコ結晶オキシシラボランである、請求項１２に記載の集積回路。
【請求項１４】
（ａ）導体が実質的にグレインを含まない、
（ｂ）導体が気相堆積を用いて形成できる、
（ｃ）貨幣金属が約１０１８ｃｍ−３以下の原子濃度で導体に含まれる、
（ｄ）導体の抵抗は、寸法が同じである銅導体の抵抗よりも小さい、
（ｅ）貨幣金属が金であり、好ましくは金が約１０１８ｃｍ−３以下の原子濃度で導体に含まれる、
（ｆ）導体は、電荷を運搬することなく電気エネルギーを運ぶ、または
（ｇ）導体がＢＥＯＬ相互接続を形成する、
請求項１２に記載の集積回路。
【請求項１５】
第１の導体層と、
第１の導体層と接する第１のホウ素層であって、正二十面体のホウ素及び水素を含んでおり、ホウ素の相対原子濃度が他の如何なる原子よりも高い、第１のホウ素層と、
第１のホウ素層と接する第２のホウ素層であって、正二十面体のホウ素及び水素を含んでおり、ホウ素の相対原子濃度が他の如何なる原子よりも高い、第２のホウ素層と、
第２のホウ素層と接する第２の導体層と、
を備えている、デバイス。
【請求項１６】
第１の導体層と第２の導体層との間で非対称的な電気伝導性がある整流器である、
或いは、１または複数の隣接したフォノボルタイックセルのフォノボルタイックパイルの一部として有用なフォノボルタイックセルであって、第１の導体層と第２の導体層との間に電位が発生する、請求項１５に記載のデバイス。
【手続補正書】
【提出日】令和3年1月22日(2021.1.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
いくつかの実施形態では、非一時的なコンピューター可読媒体が命令を格納して有し、この命令を実行することで、マルチレベルパルス高周波電力を使用してプラズマ強化基板処理システムを動作させる方法が提供される。実施される方法は、（ａ）第１デューティサイクルの間に、複数の高周波発生器からの複数のパルス高周波電力波形を含む、基板を処理するための処理レシピを受け取る工程と、（ｂ）第１デューティサイクルを複数の均等な時間間隔に分割する工程と、（ｃ）各高周波発生器について、すべての間隔のための周波数指令セットを決定し、周波数指令セットを高周波発生器に送信する工程であって、周波数指令セットは、複数の均等な時間間隔の各間隔のための周波数設定点を含んでいる工程と、（ｄ）各高周波発生器に送信された周波数指令セットに従って、第１デューティサイクルの間に、複数の高周波発生器から処理チャンバへ複数の高周波電力波形を供給する工程とを含んでもよい。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
本開示のいくつかの実施形態では、発生器１４０、１４４、及び１４８によって供給されるパルス信号は、位相が変化する。図３Ａから３Ｄは、コントローラ１６０により位相差がどのように変化するかを示しており、それぞれ０°、９０°、１８０°、２７０°の位相差でのソースとバイアスの電力波形を重ね合わせて示している。ここで、位相差は、第２パルス出力の第１パルス出力に対する遅れとして定義されている。図３Ａは、図２Ｂの位相差ゼロの実施例に対応している。図３Ｂは、バイアス電力パルス出力がソース電力パルス出力より９０°遅れている場合を示している。図３Ｃは、バイアス電力パルス出力がソース電力パルス出力より１８０°遅れている場合を示している。図３Ｄは、バイアス電力パルス出力がソース電力パルス出力より２７０°遅れている場合を示している。図３Ａ〜３Ｄは、位相が変化する２つのパルス高周波信号のみを示しているが、本開示と合致する諸実施形態では、位相が変化する３つ以上のパルス高周波信号も含み得る。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
図４では、インピーダンス及び反射電力レベルを変化させて、異なる周波数４３２及び進行波電力ごとに１つずつ、４つの別個の間隔／ストローク４３０が示される。図４に示す実施例では、どの間隔／時間も同様の周波数を有していない。ただし、図４では供給された総進行波電力が変化する新しい間隔ごとに、システムが調整して、供給された総進行波電力に基づいて新しい反射電力を補正する。場合によっては、供給される総進行波電力の変化が大きい場合、調整も大きくなる場合がある。反射電力をさらに最小化するために、本発明者らは方法及び装置を開発した。この方法及び装置は、複数のインピーダンスレベルをより速く調整して、図５Ａ及び５Ｂに示し、以下で説明する方法を用いて、平均反射電力を最小化している。
【誤訳訂正書】
【提出日】令和3年9月2日(2021.9.2)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
単一又は複数パートのコアと外層とを備えた複合要素を製造するための方法であって、
前記単一又は複数パートのコアと前記外層は互いに力決定的に組合せされており、及び
少なくとも、
（ｉ）内部に存在する気体を排気可能な有機材料の単一又は複数パートのコアを準備する工程と、
（ｉｉ）前記コアを外層で少なくとも部分的に包み、前記コアに並置する前記外層の表面が熱可塑性材料から成る複合要素前駆体を得る工程と、
（ｉｉｉ）前記複合要素前駆体を、前記内部に存在する気体を排気可能な有機材料及び前記コアに並置する前記外層の表面が少なくとも部分的に、軟化することになる期間にわたり処理する工程と、
を備え、
工程（ｉｉｉ）は、熱処理と、１．５バールから３バールの圧力で外層をコアに対して押圧することによって、１０秒から１０分までの範囲の期間行われ、
前記コアと前記外層との間には、前記外層以外の追加的な層又は接着剤は使用されず、及び
工程（ｉｉ）の後かつ工程（ｉｉｉ）の前に、工程（ａ）及び工程（ｂ）、すなわち
（ａ）前記複合要素前駆体を排気する工程と、
（ｂ）前記外層を閉じて排気済みの複合要素前駆体を得る工程と、を備え、
前記内部に存在する気体を排気可能な有機材料は、有機エーロゲル、有機キセロゲル及び硬質有機発泡体から成る群から選択され、
前記コアに並置する前記外層の表面は熱可塑性材料から成り、前記コアに並置する前記外層の表面は、内部に存在する気体を排気可能な有機材料と直接接触し、且つDIN EN ISO 527-1に応じて決定される１００Ｎから３００Ｎの範囲の力で前記内部に存在する気体を排気可能な有機材料に付着し、閉じた前記外層内に０．０１ミリバールから２００ミリバールの範囲の圧力が存在する、ことを特徴とする方法。
【請求項２】
前記処理は、加熱、赤外線又は超音波を介する熱処理を備える、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記単一又は複数パートのコアは、板状の外形である、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
前記外層は多層構造である、請求項１から３の何れか１つに記載の方法。
【請求項５】
前記コアに並置する前記外層の表面は、ポリエチレン及びポリプロピレンから成る群から選択された熱可塑性材料から成る、請求項１から４の何れか１つに記載の方法。
【請求項６】
前記外層は耐気体拡散性である、請求項１から５の何れか１つに記載の方法。
【請求項７】
前記外層は、ＤＩＮ５３３８０に従い測定される気体透過度が１ｃｍ３／（ｍ２ｄ）未満である、請求項１から６の何れか１つに記載の方法。
【請求項８】
前記外層は、ＤＩＮ５３３８０に従い測定される水蒸気透過度が１ｇ／（ｍ２ｄ）未満である、請求項１から７の何れか１つに記載の方法。
【請求項９】
請求項１から８の何れか１つに記載の方法により入手し又は入手可能である、ことを特徴とする複合要素。
【請求項１０】
請求項１から８の何れか１つに記載の方法により入手し又は入手可能な複合要素、又は請求項９に記載の複合要素を真空断熱パネルとして使用する、ことを特徴とする方法。
【請求項１１】
請求項１から８の何れか１つに記載の方法により入手し又は入手可能な複合要素、又は請求項９に記載の複合要素を断熱材として使用する、ことを特徴とする方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２１】
本発明によれば、熱可塑性材料から成る外層の表面はコアに並置する。従って、本発明の文脈では、コアと外層との間に、これ以外の層又は接着剤は使用しない。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２７】
本発明によれば、コアの２つ以上の側面／表面を外層に力決定的に連結（圧力ばめ連結）することも可能である。１つの可能な例では、例えば、コアは外層で完全に覆われ、本発明の方法は、コアと外層との間に力決定的結合（ドイツ語；kraftschluessige Verbindung：圧力ばめ結合）を提供する。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４６】
外層として有用なホイルは、例えば「バリアホイル」という用語によって公知である。本発明の目的にとって特に適切なホイルは、具体的には、空気不透過性又は耐気体拡散性である。別の実施形態では、外層は、１バール圧力及び室温に基づく体積データで、気体透過度が１ｃｍ３／（ｍ２ｄ）未満である、及び／又は、水蒸気透過度が１ｇ／（ｍ２ｄ）未満である。他に定義しない限り、気体透過度は、DIN53380に従って決定する。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００６１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００６１】
コアに対する外層の圧力ばめ結合の強さは、例えばDIN EN ISO 5271に応じて測定できる。本発明によれば、コアに並置する外層の表面は、排気可能な有機材料に直接接触し、且つDIN EN ISO 5271に応じて決定される１００Ｎから３００Ｎの範囲の力で、排気可能な有機材料に付着する。
【手続補正書】
【提出日】令和3年4月9日(2021.4.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
無線送受信ユニット（ＷＴＲＵ）によって実行される方法であって、
前記ＷＴＲＵによって、データ無線ベアラ情報およびサービス品質（ＱｏＳ）フロー情報を含む構成情報を受信することと、
前記ＷＴＲＵによって、少なくとも第１のデータフローおよび第２のデータフローを生成することと、
前記第１のデータフローに関連付けられた第１のサービス品質（ＱｏＳ）フローインジケータに基づいてデータ無線ベアラを確立することと、
前記ＷＴＲＵによって、第１のＱｏＳフローインジケータを含む第１のデータユニットを生成することと、
第２の、異なるＱｏＳフローインジケータに関連付けられた前記第２のデータフローが前記確立されたデータ無線ベアラに対応するかどうかを判定することと、
第２のＱｏＳフローインジケータに関連付けられた前記第２のデータフローが前記確立されたデータ無線ベアラに対応するという条件で、
前記ＷＴＲＵによって、第２のＱｏＳフローインジケータを含む第２のデータユニットを生成することと、
前記第１のデータユニットおよび前記第２のデータユニットを少なくともトランスポートブロックの一部分として組み合わせることと、
前記ＷＴＲＵによって、前記第１のデータユニットおよび前記第２のデータユニットを含む前記トランスポートブロックを含むデータ送信を行うことと
を備える方法。
【請求項２】
前記第１のデータユニットおよび前記第２のデータユニットは、レイヤ２データユニットである、請求項１の方法。
【請求項３】
前記第１のＱｏＳフローインジケータの値に基づく前記データ無線ベアラの確立より前に、１つまたは複数のマッピングルールに基づいて複数のデータフローの前記第１のデータフローを前記データ無線ベアラにマッピングすることと、
前記第１のＱｏＳフローインジケータの異なる値に基づく前記確立されたデータ無線ベアラに、１つまたは複数の他のマッピングルールに基づいて前記複数のデータフローの前記第２のデータフローをマッピングすることと
をさらに備える、請求項１の方法。
【請求項４】
前記第１のデータフローおよび前記第２のデータフローを生成することは、前記第１のＱｏＳフローインジケータを含む前記第１のデータユニットの第１のレイヤ２ヘッダ、および前記第２のＱｏＳフローインジケータを含む前記第２のデータユニットの第２のレイヤ２ヘッダを生成することを含む、請求項１の方法。
【請求項５】
前記第１のＱｏＳフローインジケータの値は、前記第１のデータフローに関連付けられた第１の保証されたフロービットレートまたは第１の最大フロービットレートを示し、前記第２のＱｏＳフローインジケータの値は、前記第２のデータフローに関連付けられた第２の、異なる保証されたフロービットレートまたは第２の、異なる最大フロービットレートを示す、請求項３の方法。
【請求項６】
前記確立されたデータ無線ベアラは、それぞれ、ＱｏＳフローインジケータの異なる値を有する複数のデータフローに関連付けられる、請求項１の方法。
【請求項７】
前記確立されたデータ無線ベアラは、新しい無線（ＮＲ）のデータ無線ベアラである、請求項１の方法。
【請求項８】
前記トランスポートブロックの第１、および第２のデータユニットの少なくとも前記第１のＱｏＳフローインジケータおよび第２のＱｏＳフローインジケータを含む複数のＱｏＳフローインジケータに基づいて、前記トランスポートブロックを送信するために使用される、（１）１つまたは複数の物理リソース、（２）１つまたは複数のセル、（３）１つまたは複数のキャリア、（４）１つまたは複数の送信ポイント、または（５）１つまたは複数の無線アクセス技術（ＲＡＴ）のうちの任意のものを判定することをさらに備える、請求項１の方法。
【請求項９】
前記第１のデータユニットは、ＵＲＬＬＣ（Ultra Reliable Low Latency Service）に関連付けられ、前記第２のデータユニットは、ｅＭＢＢ（enhanced Mobile Broadband）サービスに関連付けられる、請求項１の方法。
【請求項１０】
無線送受信ユニット（ＷＴＲＵ）であって、
データ無線ベアラ情報およびサービス品質（ＱｏＳ）フロー情報を含む構成情報を受信するように構成された送受信ユニットと、
少なくとも第１のデータフローおよび第２のデータフローを生成し、
前記第１のデータフローに関連付けられた第１のサービス品質（ＱｏＳ）フローインジケータに基づいてデータ無線ベアラを確立し、
第１のＱｏＳフローインジケータを含む第１のデータユニットを生成し、
第２の、異なるＱｏＳフローインジケータに関連付けられた前記第２のデータフローが前記確立されたデータ無線ベアラに対応するかどうかを判定し、
第２のＱｏＳフローインジケータに関連付けられた前記第２のデータフローが前記確立されたデータ無線ベアラに対応するという条件で、
第２のＱｏＳフローインジケータを含む第２のデータユニットを生成し、
前記第１のデータユニットおよび前記第２のデータユニットを少なくともトランスポートブロックの一部分として組み合わせる、
ように構成されたプロセッサと
を備え、
前記送受信ユニットは、前記第１のデータユニットおよび前記第２のデータユニットを含む前記トランスポートブロックを含むデータ送信を行うように構成される
ＷＴＲＵ。
【請求項１１】
前記第１のデータユニットおよび前記第２のデータユニットは、レイヤ２データユニットである、請求項１０のＷＴＲＵ。
【請求項１２】
前記プロセッサは、前記第１のＱｏＳフローインジケータの値に基づく前記データ無線ベアラの確立より前に、１つまたは複数のマッピングルールに基づいて複数のデータフローの前記第１のデータフローを前記データ無線ベアラにマッピングするように構成される、請求項１０のＷＴＲＵ。
【請求項１３】
前記プロセッサは、前記第１のＱｏＳフローインジケータの異なる値に基づく前記確立されたデータ無線ベアラに、１つまたは複数の他のマッピングルールに基づいて前記複数のデータフローの前記第２のデータフローをマッピングするように構成される、請求項１２のＷＴＲＵ。
【請求項１４】
前記プロセッサは、前記第１のＱｏＳフローインジケータを含む前記第１のデータユニットの第１のレイヤ２ヘッダ、および前記第２のＱｏＳフローインジケータを含む前記第２のデータユニットの第２のレイヤ２ヘッダを生成するように構成される、請求項１０のＷＴＲＵ。
【請求項１５】
前記第１のＱｏＳフローインジケータの値は、前記第１のデータフローに関連付けられた第１の保証されたフロービットレートまたは第１の最大フロービットレートを示し、前記第２のＱｏＳフローインジケータの値は、前記第２のデータフローに関連付けられた第２の、異なる保証されたフロービットレートまたは第２の、異なる最大フロービットレートを示す、請求項１３のＷＴＲＵ。
【誤訳訂正書】
【提出日】令和3年7月26日(2021.7.26)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
新規の滑膜内層の形成による哺乳動物の滑膜炎の予防および／または治療における使用のためのポリアクリルアミドヒドロゲル。
【請求項２】
滑膜下層および前記新規の滑膜内層の形成による哺乳動物の滑膜炎の予防および／または治療における、請求項１に記載の使用のためのポリアクリルアミドヒドロゲル。
【請求項３】
前記滑膜下層および／または新規の滑膜内層が、最大１５ヶ月まで、たとえば１８ヶ月まで、たとえば２４ヶ月まで存在／持続する、請求項１から２のいずれかに記載の使用のためのポリアクリルアミドヒドロゲル。
【請求項４】
前記ポリアクリルアミドヒドロゲルを無菌条件下での注射によって投与する、請求項１から３のいずれかに記載の使用のためのポリアクリルアミドヒドロゲル。
【請求項５】
前記ポリアクリルアミドヒドロゲルを関節内注射によって投与する、請求項１から４のいずれかに記載の使用のためのポリアクリルアミドヒドロゲル。
【請求項６】
０．１〜２０ｍｌのポリアクリルアミドヒドロゲルを関節内腔への注射によって投与する、請求項１から５のいずれか一項に記載の使用のためのポリアクリルアミドヒドロゲル。
【請求項７】
０．１〜２０ｍｌのポリアクリルアミドヒドロゲルを、少なくとも１回、たとえば２回、たとえば３回、たとえば４回、たとえば５回、たとえば６回、たとえば７回、たとえば８回、たとえば９回、たとえば１０回、関節内腔への注射によって投与する、請求項１から６のいずれか一項に記載の使用のためのポリアクリルアミドヒドロゲル。
【請求項８】
０．１〜２０ｍｌのポリアクリルアミドヒドロゲルを、規則的な間隔で、たとえば２週間ごとに１回、たとえば４週間ごと、たとえば６週間ごと、たとえば８週間ごと、たとえば１０週間ごと、たとえば１２週間ごと、たとえば１４週間ごと、たとえば１６週間ごと、またはさらにそれ以上の期間ごとに１回、関節内腔への注射によって投与する、請求項１から６のいずれか一項に記載の使用のためのポリアクリルアミドヒドロゲル。
【請求項９】
前記哺乳動物が、ヒト、レーシング動物またはコンパニオン動物である、請求項１から８のいずれか一項に記載の使用のためのポリアクリルアミドヒドロゲル。
【請求項１０】
前記治療される哺乳動物がヒトであり、前記注射される１つまたは複数の関節が、膝、股関節、肘、手足の中手指節関節および指節間関節、種子骨関節ならびに／または顎関節である、請求項１から９のいずれか一項に記載のポリアクリルアミドヒドロゲル。
【請求項１１】
前記治療される哺乳動物がウマであり、前記注射される１つまたは複数の関節が、後肢の球節、蹄、繋、後膝および／または膝関節である、請求項１から９のいずれか一項に記載の使用のためのポリアクリルアミドヒドロゲル。
【請求項１２】
前記治療される哺乳動物がイヌであり、前記注射される１つまたは複数の関節が前肢の肘または後肢の膝関節もしくは股関節である、請求項１から９のいずれか一項に記載の使用のためのポリアクリルアミドヒドロゲル。
【請求項１３】
前記哺乳動物が滑膜炎に罹患している、請求項１から１２のいずれか一項に記載の使用のためのポリアクリルアミドヒドロゲル。
【請求項１４】
前記哺乳動物が、変形性関節症もしくは関節リウマチなどの関節炎、狼瘡または痛風に罹患している、請求項１から１３のいずれか一項に記載の使用のためのポリアクリルアミドヒドロゲル。
【請求項１５】
前記哺乳動物が変形性関節症または関節リウマチに罹患している、請求項１４に記載の使用のためのポリアクリルアミドヒドロゲル。
【請求項１６】
新規の滑膜内層の形成による哺乳動物の滑膜炎疼痛の予防および／または治療における使用のためのポリアクリルアミドヒドロゲル。
【請求項１７】
滑膜下層および新規の滑膜内層の形成による哺乳動物の滑膜炎疼痛の予防および／または治療における、請求項１６に記載の使用のためのポリアクリルアミドヒドロゲル。
【請求項１８】
前記使用が請求項２から１５のいずれか一項で定義される通りである、請求項１６または１７に記載の使用のためのポリアクリルアミドヒドロゲル。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４５】
さらに別の実施形態では、０．１〜２０ｍｌのポリアクリルアミドヒドロゲルを、規則的な間隔で、たとえば２週間ごとに１回、たとえば４週間ごと、たとえば６週間ごと、たとえば８週間ごと、たとえば１０週間ごと、たとえば１２週間ごと、たとえば１４週間ごと、たとえば１６週間ごと、またはさらにそれ以上の期間ごとに１回、関節内腔への注射によって投与する。
【誤訳訂正書】
【提出日】令和3年7月2日(2021.7.2)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４５】
開示されたバンドは従来の解決策に対して幾多の利点を有する。腕へのバンドの取り付けと、部位へのバブルの最終的な位置決めとは別のことである。スライド可能なバブルアセンブリは最大効果でバブルの高精度な位置決めを可能とする。バブルは典型的には従来技術のデバイスより小さく、圧力のピンポイントでの集中が可能とする。膨張したバブルにより印加される圧力は図２Ａの矢印１５８で示されるような軸方向からずれて、動脈を直接的に患者の骨に押圧する。これは、単に、骨に対して垂直でないかもしれない方向に動脈を押圧するのではない。（その場合にはより非効果的となるであろう。）本開示によれば、圧力が印加される角度は変更されうる。部位を透視する表面の個数は従来の解決策に比べて低減される。収縮時に、バブルは自分自身の中へ後退し、皮膚に対して凹部を形成し、これにより、バブルが当該皮膚と非接触状態に保たれる。従来のデバイスと異なり、バンドとバブルの位置は、バブルの膨張時にほとんど回転しない。本デバイスは、患者の手首に対して、側部から手首にバンドを滑り込ませることにより容易に装着され、次いで、ストラップが取り付けられて、締め付けられることにより、当該バンドを患者に固定することができる。患者の手首は、バンドを装着するために持ち上げられる必要はない。従来のデバイスは、ほとんど止血帯のように作用して、患者の手首全体を締め付けがちであったが、本デバイスのバンドの比較的剛性の材料はその代わりに、ヒンジのように動作する。これにより、手首全体に圧力が印加されるのでなく、バブルによって必要とされる箇所に特定の圧力印加を可能とする。これは、橈骨バンドが利用できないときになされるような、医療関係者の指により印加される圧力を模擬する。以上に説明した構成のバブルは好適には１０  ｐｓｉ（pounds per square inch）にまで膨張可能であり、これは充分以上である。上述した膨張媒体は空気であるが、バブルを膨張させるために、流体または他の気体を用いてもよい。バブルには低速漏れ機能を持たせることができる。これにより、バブルは、介入なくして自分自身で時間とともにゆっくりと収縮し、その結果、止血を可能とする十分な時間の経過後に、バブル圧力が解放される。バブルの皮膚接触面には、当該機能を支援するための薬剤または他の物質を付与することができる。
【誤訳訂正書】
【提出日】令和3年6月2日(2021.6.2)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
微粒子フィルタであって、 
ハニカム構造であって、該ハニカム構造の入口端と出口端との間に、軸方向に延在している交差多孔質セル壁のマトリクスを含む、ハニカム構造を含み、該マトリクスが、複数の入口セルおよび出口セル、ならびにそれぞれの入口セルおよびそれぞれの出口セルによって画定された、対応する入口チャネルおよび出口チャネルを画定し、該出口チャネルの少なくとも一部は、いずれの入口チャネルよりも断面積が大きく、
前記マトリクスが、複数の反復構造単位を含み、
前記反復構造単位の各々が、非正方長方形の形状の断面を有するそれぞれの出口チャネルを画定している壁の群と、該それぞれの出口チャネルに当接している入口チャネルを画定している壁の群とを含み、
前記反復構造単位の各々が、出口を画定している一組の壁を有する互いに接続している壁の群と、該出口を画定している一組の壁以外であって、対応する出口セルの角の間の中間位置のＴ字交点で、該出口を画定している一組の壁のうちの１つと相互接続している少なくとも１つの壁とを含む、微粒子フィルタ。
【請求項２】
各反復構造単位が、軸方向(z方向)に延在している壁を含み、該壁が、第1の方向に対して平行に整列された側壁の第1の群と、第2の方向に対して平行に整列された側壁の第2の群と、からなり、該第1の方向が、該第2の方向に対して直角であり、該第1の方向および該第2の方向が各々、該軸方向に対して直角である、請求項１記載のフィルタ。
【請求項３】
前記出口を画定している一組の壁が、前記反復構造単位において、対応する出口セルを総じて画定するように、第2の組の前記第2の群の前記壁と相互接続されている、第1の組の前記第1の群の前記壁からなり、該出口セルが、複数の角を有する、請求項２記載のフィルタ。
【請求項４】
前記反復構造単位が、複数の出口セルを含む、請求項２記載のフィルタ。
【請求項５】
前記反復構造単位が、異なる断面積を有する少なくとも２つの出口セル含む、請求項４記載のフィルタ。
【請求項６】
前記第1の群の１つの側壁が、前記第２の群の１つの側壁と相互接続している、請求項２記載のフィルタ。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００７】
別の態様では、ハニカム構造を提供し、このハニカム構造は、ハニカム構造の入口端と出口端との間に、軸方向に延在している交差多孔質セル壁のマトリクスを含み、マトリクスが、複数の入口セルおよび出口セル、ならびにそれぞれの入口セルおよびそれぞれの出口セルによって画定された、対応する入口チャネルおよび出口チャネルを画定し、出口チャネルの少なくとも一部は、いずれの入口チャネルよりも断面積が大きく、出口チャネルのうちの少なくともいくつかは、長方形の形状の断面を含む。
【誤訳訂正書】
【提出日】令和3年6月4日(2021.6.4)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１２】
サイクロンではなくて、非スワール分離装置を使用することの１つの利点は、多段階分離が実施可能であることにある。例えば、非スワール分離装置は、相対的に大きな液滴用の上流非スワール分離装置と、相対的に小さな液滴用の下流非スワール分離装置とから成る直列の配列を有していてよい。これにより、液滴除去効率が著しく改善されることがわかった。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１３】
上流非スワール分離装置が、ベーン式ミスト除去装置、例えばジグザグの流路を画成するように成形された平行な複数のバッフルから成る少なくとも１つの列を有する、シェブロン型のコアレッサなどのミスト除去装置を有しているならば、極めて良好な結果が得られる。適したシェブロン型のコアレッサは例えば、Ｓｕｌｚｅｒ社製のMellachevron（登録商標）コアレッサである。このような分離装置は、相対的に大きな液滴、例えば少なくとも約１５μｍの液滴サイズを有する液滴のために特に効果的である。シェブロン型のコアレッサによる圧力降下は、一般的に少なくとも約２．９ｍｂａｒであり、例えば最大約３．６ｍｂａｒであろう。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１４】
相対的に小さな液滴の除去のために特に効果的であるのは、格子状メッシュまたはニットメッシュなどの、ワイヤメッシュの組み合わせを有する流入区分と、ベーン式ミスト除去装置、特にシェブロン型のコアレッサ、特にSulzer Mellachevron（登録商標）コアレッサを有する流出区分を備えた非スワール分離装置である。市販されている適切なワイヤメッシュ分離装置の例は、KnitMesh（商標）Wire Mesh Mist Eliminators、Sulzer KnitMesh V- MISTER（商標）、KnitMesh XCOAT（商標）、またはHigh-Performance KnitMesh（商標） 9797 Mist Eliminatorであり、全てSulzer社から入手できる。このようなワイヤメッシュ分離装置では、小さな液滴が合体して、より大きな液滴を形成し、このより大きな液滴を、後続のベーン式の分離装置でより効率的に分離することができる。このようなニットメッシュのコアレッサによる圧力降下は、一般的に少なくとも約３．６ｍｂａｒであり、例えば最大で約６ｍｂａｒであろう。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２１】
本発明は、液状金属製造炉プラント自体のみに関するものではなく、液状金属製造のための炉から排出される炉ガスを処理するプロセスにも関する。上述したように、ガスは最初に、湿式スクラバで、好適にはベンチュリスクラバで、より好適には環状ギャップスクラバで処理され、次いで、少なくとも１つの非スワール分離装置を有するミスト除去装置内で処理される。相対的に大きな液滴は、例えば上流の分離装置で分離することができ、次いで相対的に小さな液滴は、下流の分離装置で分離される。選択的に、炉ガスはまずは、Shell Schoepentoeter（商標）などの入口ディフューザを通過する。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３９】
次いで、ガス流は、Sulzer Mellachevron（商標）３０に到達する。ガスは四角形の装置内に流れ、フィルタエレメント３１を介してこの四角形の装置から出ていく。フィルタエレメント３１内では、ガス流は、ジグザグ通路３３内で複数回変向される。液滴は、バッフル３２および屈曲ストリップ３５に衝突し、重力によって垂直に排水される。これにより、特に相対的に大きな液滴がガス流から分離される。分離された液滴は、容器の底部３８へと流れ、水出口４０を介して排出される。
【誤訳訂正６】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
炉プラント（１）であって、液状の金属を製造するための炉（２）と、湿式スクラバを備えた炉ガス用の排出ラインと、前記湿式スクラバの下流にあるミスト除去装置（７）と、を有しており、前記ミスト除去装置は、相対的に大きな液滴用の上流非スワール分離装置（３０）と、相対的に小さな液滴用の下流非スワール分離装置（３６）とから成る直列の配列を有している、炉プラント（１）。
【請求項２】
前記ミスト除去装置（７）は、入口ディフューザを有している、請求項１記載の炉プラント。
【請求項３】
前記ミスト除去装置（７）は、入口ディフューザを、ベーン式の入口装置を有している、請求項２記載の炉プラント。
【請求項４】
前記上流非スワール分離装置（３０）は、ジグザグの流路を画成するように成形された複数の平行なバッフルから成る少なくとも１つの列を有している、請求項１から３までのいずれか１項記載の炉プラント。
【請求項５】
前記下流非スワール分離装置（３６）は、別のベーン式のミスト除去装置を備えた格子状メッシュおよび／またはニットメッシュ（３６）を有している、請求項１から４までのいずれか１項記載の炉プラント。
【請求項６】
前記湿式スクラバは、ベンチュリスクラバを有している、請求項１から５までのいずれか１項記載の炉プラント。
【請求項７】
前記液状の金属は、鋼、鉄、アルミニウム、ニッケル、亜鉛、または銅である、請求項１から６までのいずれか１項記載の炉プラント。
【請求項８】
液状の金属を製造するための炉（２）から排出される炉ガスを処理するプロセスであって、
前記炉ガスを最初に、湿式スクラバ（６）内で処理し、次いで、ミスト除去装置内で処理し、前記ミスト除去装置は、相対的に大きな液滴用の少なくとも１つの上流非スワール分離装置（３０）と、相対的に小さな液滴用の下流非スワール分離装置（３６）とから成る直列の配列を有している、炉ガスを処理するプロセス。
【請求項９】
前記上流非スワール分離装置（３０）は、ベーン式のミスト除去装置を有している、請求項８記載のプロセス。
【請求項１０】
前記下流非スワール分離装置（３６）は、ベーン式のミスト除去装置を備えた格子状メッシュおよび／またはニットメッシュを有している、請求項８または９記載のプロセス。
【請求項１１】
前記湿式スクラバは環状ギャップスクラバ（６）である、請求項８から１０までのいずれか１項記載のプロセス。
【請求項１２】
前記湿式スクラバの下流かつ前記非スワール分離装置（３０，３６）の上流で、炉ガス流を水平にする、請求項８から１１までのいずれか１項記載のプロセス。
【請求項１３】
前記湿式スクラバの下流かつ前記非スワール分離装置（３０，３６）の上流で、入口ディフューザを用いて、炉ガス流を水平にする、請求項１２記載のプロセス。
【請求項１４】
前記液状の金属は、鋼、鉄、アルミニウム、ニッケル、亜鉛、または銅である、請求項８から１３までのいずれか１項記載のプロセス。
【誤訳訂正書】
【提出日】令和3年6月28日(2021.6.28)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属表面の防食処理のための方法であって、前記表面を、以下の水性組成物：
ｉ）アルカリ性又は酸性洗浄剤組成物と、
ｉｉ）第一のすすぎ組成物、または、ｉｉｉ）前記ｉｉ）の代わりの、第一のすすぎ組成物およびそれに続く第二のすすぎ組成物と、
ｉｖ）酸性転化組成物、または、ｖ）前記ｉｖ）の代わりの、酸性転化組成物およびそれに続く第三のすすぎ組成物と、
ｖｉ）（メタ）アクリレート系、及び／又はエポキシド系カソード電着コーティングを含む組成物と、に連続して接触させ、
前記アルカリ性又は酸性洗浄剤組成物、第一のすすぎ組成物、第二のすすぎ組成物、および第三のすすぎ組成物の少なくとも１種が、少なくとも１種の式Ｉ
Ｒ１Ｏ−（ＣＨ２）ｘ−Ｚ−（ＣＨ２）ｙ−ＯＲ２  （Ｉ）
の化合物を含み、
Ｒ１及びＲ２は、それぞれ互いに独立してＨ又はＨＯ−（ＣＨ２）ｗ−基（ｗ≧２である）であり、ｘ及びｙは、それぞれ互いに独立して１〜４であり、且つＺは、Ｓ原子又はＣ−Ｃ三重結合であり、前記金属表面が裸鋼及び／又は亜鉛めっき鋼である、方法。
【請求項２】
前記洗浄剤組成物ｉ）が、少なくとも１種の式Ｉの化合物を含む請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記少なくとも１種の式Ｉの化合物の濃度が、６〜６２５ｍｇ／ｌの範囲（２−ブチン−１，４−ジオールとして計算した）である請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記少なくとも１種の式Ｉの化合物の濃度が、３１〜３１３ｍｇ／ｌの範囲（２−ブチン−１，４−ジオールとして計算した）である請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記第一のすすぎ組成物、前記第二のすすぎ組成物及び／又は前記第三のすすぎ組成物が、少なくとも１種の式Ｉの化合物を含む請求項１〜４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
前記少なくとも１種の式Ｉの化合物の濃度が、１〜１００ｍｇ／ｌの範囲（２−ブチン−１，４−ジオールとして計算した）である請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記少なくとも１種の式Ｉの化合物の濃度が、６〜６０ｍｇ／ｌの範囲（２−ブチン−１，４−ジオールとして計算した）である請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記洗浄剤組成物ｉ）が、アルカリ性である請求項１〜７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
前記洗浄剤組成物ｉ）が、９．５以上のｐＨを有する請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記第一のすすぎ組成物が、６〜９の範囲のｐＨを有し、前記第二のすすぎ組成物が、７〜９の範囲のｐＨを有し、前記第三のすすぎ組成物が、４〜９の範囲のｐＨを有する請求項１〜９のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１１】
前記転化組成物が、チタン、ジルコニウム及び／又はハフニウム化合物を含む不動態化組成物である請求項１〜１０のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１２】
前記不動態化組成物が、マンガンを含まないか、又は１０ｍｇ／ｌ未満のマンガンを含む請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記不動態化組成物が、銅イオン及び／又は銅イオンを遊離する化合物を含み、且つ／又は亜鉛イオン及び／又は亜鉛イオンを遊離する化合物を含む請求項１１又は１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記不動態化組成物が、オルガノアルコキシシラン、並びに／又はその加水分解生成物及び／若しくは縮合生成物を含む請求項１１〜１３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１５】
前記少なくとも１種の式Ｉの化合物が、Ｒ１及びＲ２が、両方ともＨである式Ｉの化合物と、Ｒ１及びＲ２が、それぞれ互いに独立してＨＯ−（ＣＨ２）ｗ−基（ｗ≧２である）である式Ｉの化合物との混合物である請求項１〜１４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１６】
前記Ｒ１及びＲ２が、両方ともＨである式Ｉの化合物と、前記Ｒ１及びＲ２が、それぞれ互いに独立して、ＨＯ−（ＣＨ２）ｗ−基（ｗ≧２である）である式Ｉの化合物との質量％における混合比が、０．５：１〜２：１の範囲（２−ブチン−１，４−ジオール及び２−ブチン−１，４−ジオールビス（２−ヒドロキシエチル）エーテルとして計算した）である請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
前記Ｒ１及びＲ２が、両方ともＨである式Ｉの化合物と、前記Ｒ１及びＲ２が、それぞれ互いに独立して、ＨＯ−（ＣＨ２）ｗ−基（ｗ≧２である）である式Ｉの化合物との質量％における混合比が、０．７５：１〜１．７５：１の範囲（２−ブチン−１，４−ジオール及び２−ブチン−１，４−ジオールビス（２−ヒドロキシエチル）エーテルとして計算した）である請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
前記Ｒ１及びＲ２が、両方ともＨである式Ｉの化合物と、前記Ｒ１及びＲ２が、それぞれ互いに独立して、ＨＯ−（ＣＨ２）ｗ−基（ｗ≧２である）である式Ｉの化合物との質量％における混合比が、１：１〜１．５：１の範囲（２−ブチン−１，４−ジオール及び２−ブチン−１，４−ジオールビス（２−ヒドロキシエチル）エーテルとして計算した）である請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
前記少なくとも１種の式Ｉの化合物において、Ｒ１及びＲ２が、両方ともＨ又はＨＯ−（ＣＨ２）２−基であり、前記ｘ及びｙの合計が、２〜５であり、Ｚが、Ｃ−Ｃ三重結合である請求項１〜１８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２０】
前記少なくとも１種の式Ｉの化合物が、２−ブチン−１，４−ジオール及び／又は２−ブチン−１，４−ジオールビス（２−ヒドロキシエチル）エーテルである請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】
前記少なくとも１種の式Ｉの化合物が、２−ブチン−１，４−ジオールと、２−ブチン−１，４−ジオールビス（２−ヒドロキシエチル）エーテルとの混合物である請求項２０に記載の方法。
【請求項２２】
前記金属表面が、裸鋼及び／又は亜鉛めっき鋼に加えて、アルミニウム又はアルミニウム合金をさらに含む請求項１〜２１のいずれか１項に記載の方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３８】
ここで、前記Ｒ１及びＲ２が、両方ともＨである式Ｉの化合物と、前記Ｒ１及びＲ２が、それぞれ互いに独立して、ＨＯ−（ＣＨ２）ｗ−基（ｗ≧２である）である式Ｉの化合物との質量％における混合比は、０．５：１〜２：１の範囲、好ましくは０．７５：１〜１．７５：１の範囲、特に好ましくは１：１〜１．５：１の範囲（２−ブチン−１，４−ジオール及び２−ブチン−１，４−ジオールビス（２−ヒドロキシエチル）エーテルとして計算した）である。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４１】
前記少なくとも１種の式Ｉの化合物は、特に好ましくは２−ブチン−１，４−ジオール及び２−ブチン−１，４−ジオールビス（２−ヒドロキシエチル）エーテルの混合物であり、前記質量％における混合比は、０．５：１〜２：１の範囲、好ましくは０．７５：１〜１．７５：１の範囲、特に好ましくは１：１〜１．５：１の範囲である。
【誤訳訂正書】
【提出日】令和3年8月2日(2021.8.2)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つの薄型複屈折レンズの直径の１５％以下の厚さを有する前記少なくとも１つの薄型複屈折レンズと、最適ホログラム面の拡散を低減するために、前記少なくとも１つの薄型複屈折レンズによって生じた色シフトを補償するように配置された少なくとも１つの非複屈折レンズとを、含む複数のレンズを備える光学装置であって、
前記複数のレンズが、
顕微鏡から、非コヒーレント光である電磁放射を受け取り、
共通の経路中を伝搬する２つ以上の差分変調された電磁波を生成するために、受け取った前記電磁放射を、前記少なくとも１つの薄型複屈折レンズ及び前記少なくとも１つの非複屈折レンズを使用する透過によって変換し、
電磁干渉を生成するために、前記差分変調された電磁波を提供し、
前記電磁干渉からホログラムを形成する
ように構成されている、光学装置。
【請求項２】
前記少なくとも１つの薄型複屈折レンズが、固体結晶材料で作製された複屈折フレネルレンズ又は液晶材料で作製された複屈折フレネルレンズのうちの１つを含む、請求項１に記載の光学装置。
【請求項３】
前記少なくとも１つの薄型複屈折レンズが、パターン化された複屈折性の固体又は液晶材料を含む、請求項１又は２に記載の光学装置。
【請求項４】
前記少なくとも１つの薄型複屈折レンズが、ナノ構造化された非複屈折材料を含み、前記複屈折性が、前記ナノ構造において符号化されたパターンによって加えられる、請求項１から３のいずれか一項に記載の光学装置。
【請求項５】
前記少なくとも１つの薄型複屈折レンズが、１つ又は複数の２次の球面位相パターンを符号化する、請求項４に記載の光学装置。
【請求項６】
前記少なくとも１つの薄型複屈折レンズが、２次の球面位相パターン以外の１つ又は複数の位相パターンをさらに符号化する、請求項４に記載の光学装置。
【請求項７】
前記少なくとも１つの薄型複屈折レンズが、２次の球面位相パターンを符号化する、請求項１から６のいずれか一項に記載の光学装置。
【請求項８】
前記少なくとも１つの薄型複屈折レンズが、２次の球面位相パターン以外の位相パターンをさらに符号化する、請求項７に記載の光学装置。
【請求項９】
前記少なくとも１つの薄型複屈折レンズが、略平坦構造を有する、請求項１から８のいずれか一項に記載の光学装置。
【請求項１０】
前記少なくとも１つの薄型複屈折レンズの焦点距離が、前記少なくとも１つの非複屈折レンズの焦点距離よりも長い、請求項１に記載の光学装置。
【請求項１１】
前記少なくとも１つの薄型複屈折レンズが、１０００ｍｍよりも長い焦点距離を有し、前記少なくとも１つの非複屈折レンズが、３００ｍｍの焦点距離を有し、前記複数のレンズが、４０ｍｍ顕微鏡帯域幅の光軸に沿って２０ｍｍ未満にわたって拡散された合成焦点距離を有する、請求項１０に記載の光学装置。
【請求項１２】
前記少なくとも１つの薄型複屈折レンズが、２つの偏波依存的な焦点距離を有する、請求項１に記載の光学装置。
【請求項１３】
前記複数のレンズが、構成可能な間隔因子又はホログラム距離のうちの１つ又は複数を有する、請求項１２に記載の光学装置。
【請求項１４】
走査ホログラフィック顕微鏡をさらに備え、前記生成された電磁干渉が、前記走査ホログラフィック顕微鏡に、光学式走査ホログラフィのための励起ビームとして提供される、請求項１に記載の光学装置。
【請求項１５】
前記光学装置が、第１の顕微鏡部分及びＦＩＮＣＨ顕微鏡部分を含み、前記ＦＩＮＣＨ顕微鏡部分が、前記少なくとも１つの薄型複屈折レンズを含む、請求項１から１４のいずれか一項に記載の光学装置。
【請求項１６】
前記光学装置が、眼底応用例のために構成されている、請求項１５に記載の光学装置。
【請求項１７】
前記第１の顕微鏡が、反射顕微鏡又は蛍光顕微鏡のいずれかである、請求項１５に記載の光学装置。
【請求項１８】
前記少なくとも１つの薄型複屈折レンズが、アルファＢＢＯレンズを含む、請求項１から１７のいずれか一項に記載の光学装置。
【請求項１９】
前記アルファＢＢＯレンズが、単結晶アルファＢＢＯレンズである、請求項１８に記載の光学装置。
【誤訳訂正書】
【提出日】令和3年3月17日(2021.3.17)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】請求項６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項６】
粉末が、銅Cu0、酸化および/または含リンを、好ましくは金属粉末の60質量％から100質量％までの比率で含むことを特徴とする、請求項1〜5のいずれか一項記載の複合材。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００９０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００９０】
さらにより有利には、本発明の複合材は、粉末が銅Cu0、酸化または含リンを、好ましくは金属粉末の60質量％から100質量％までの比率で含むことを特徴とする。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００９１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００９１】
より詳細には、本発明の目的は、上で定義した銅Cu0、酸化および/または含リン粉末の組成物であって、銅の質量が粉末組成物の全質量に対して65質量％以上、有利には70質量％超、より有利には75質量％超、より有利には80質量％超、さらにより有利には85質量％超、さらにより有利には90質量％超、さらにより有利には95質量％超、さらにより有利には97質量％超、さらにより有利には98質量％超、さらにより有利には99質量％超、さらにより有利には99.5質量％超、さらにより有利には99.9質量％超である組成物に関する。