【手続補正書】
【提出日】平成17年5月13日(2005.5.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】電気光学装置、電子機器、電気光学装置用基板及び電気光学装置の製造方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透過領域及び反射領域を有する複数の画素を備えた基板と、
前記透過領域及び前記反射領域に配置された透光層と、
前記反射領域における前記透光層上に配置された反射層と、
前記反射領域における前記反射層に重なり且つ前記透過領域に配置された着色層とを備え、
前記透光層は、前記透過領域と前記反射領域との境界部近傍に前記基板に対して傾斜した傾斜面を有し、
前記反射層は、前記傾斜面上に前記基板に対して傾斜している傾斜反射面を有し、且つ表面に可視光を散乱可能な凹凸を有しており、
前記反射層の縁は、前記傾斜面と重なって若しくは前記傾斜面から前記透過領域側に張り出して配置されており、
前記着色層は、前記傾斜反射面に重なる位置に配置され、
前記傾斜反射面に重なる前記着色層は、前記傾斜反射面に重なる領域を除く前記反射層に重なる前記着色層よりも膜厚が厚い部分を有し、
前記傾斜反射面は、反射する光が前記厚い部分を通過するように配置されていることを特徴とする電気光学装置。
【請求項２】
表面に凹凸が形成された下地層をさらに備え、
前記透光層は、前記下地層上に設けられており、且つ表面に前記下地層の凹凸を反映した凹凸が形成され、
前記反射層の凹凸は、前記透光層の凹凸を反映した凹凸であることを特徴とする請求項４に記載の電気光学装置。
【請求項３】
前記透光層は、前記基板に対して平行な平行面を有し、前記傾斜反射面は前記平行面上から前記傾斜面上に張り出すように配置されていることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の電気光学装置用基板。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載の電気光学装置と、該電気光学装置を制御する制御手段とを備えた電子機器。
【請求項５】
透過領域及び反射領域を有する複数の画素を備えた基板と、
前記透過領域及び前記反射領域に配置された透光層と、
前記反射領域における前記透光層上に配置された反射層と、
前記反射領域における前記反射層に重なり且つ前記透過領域に配置された着色層とを備え、
前記透光層は、前記透過領域と前記反射領域との境界部近傍に前記基板に対して傾斜した傾斜面を有し、
前記反射層は、前記傾斜面上に前記基板に対して傾斜している傾斜反射面を有し、且つ表面に可視光を散乱可能な凹凸を有しており、
前記反射層の縁は、前記傾斜面と重なって若しくは前記傾斜面から前記透過領域側に張り出して配置されており、
前記着色層は、前記傾斜反射面に重なる位置に配置され、
前記傾斜反射面に重なる前記着色層は、前記傾斜反射面に重なる領域を除く前記反射層に重なる前記着色層よりも膜厚が厚い部分を有し、
前記傾斜反射面は、反射する光が前記厚い部分を通過するように配置されていることを特徴とする電気光学装置用基板。
【請求項６】
透過領域及び反射領域を有する複数の画素を備えた基板上に透光層を形成する工程と、
前記透光層を軟化させて素材を流動させることにより前記透光層の一部に前記基板に対して傾斜している傾斜面を形成する工程と、
前記反射領域において、前記透光層と重なるように反射層を形成する工程と、
前記反射層と重なる領域及び前記透過領域に着色層を形成する工程とを有し、
前記反射層を形成する工程では、前記反射層の縁が前記傾斜面と重なるように若しくは前記傾斜面から前記透過領域側に張り出すように形成することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項７】
前記透光層を形成する工程では、前記透光層の表面に凹凸を形成し、
前記傾斜面を形成する工程では、前記透光層の凹凸が前記透光層の表面に残存するように前記透光層を軟化させ、
前記反射膜を形成する工程では、前記透光層上に前記反射膜を形成することにより、前記反射膜の表面に前記透光層の凹凸を反映させた凹凸を形成することを特徴とする請求項６に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項８】
透過領域及び反射領域を有する複数の画素を備えた基板上に、下地層を部分的に形成する工程と、
前記下地層上に、前記基板に対して傾斜している傾斜面を有する透光層を形成する工程と、
前記反射領域において、前記透光層と重なるように反射層を形成する工程と、
前記反射層と重なる領域及び前記透過領域に着色層を形成する工程とを有し、
前記透光層を形成する工程では、前記下地層の縁部近傍上に前記傾斜面が形成され、
前記反射層を形成する工程では、前記反射層の縁が前記傾斜面と重なるように若しくは前記傾斜面から前記透過領域側に張り出すように形成することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項９】
前記下地層を形成する工程では、前記下地層の表面に凹凸が形成され、
前記透光層を形成する工程では、前記下地層上に前記透光層を形成することにより、前記透光層の表面に前記下地層の凹凸を反映させた凹凸を形成し、
前記反射層を形成する工程では、前記透光層上に前記反射層を形成することにより、前記反射層の表面に前記透光層の凹凸を反映させた凹凸を形成することを特徴とする請求項８に記載の電気光学装置の製造方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために本発明の電気光学装置用基板は、透過領域及び反射領域を有する複数の画素を備えた基板と、前記透過領域及び前記反射領域に配置された透光層と、前記反射領域における前記透光層上に配置された反射層と、前記反射領域における前記反射層に重なり且つ前記透過領域に配置された着色層とを備え、前記透光層は、前記透過領域と前記反射領域との境界部近傍に前記基板に対して傾斜した傾斜面を有し、前記反射層は、前記傾斜面上に前記基板に対して傾斜している傾斜反射面を有し、且つ表面に可視光を散乱可能な凹凸を有しており、前記反射層の縁は、前記傾斜面と重なって若しくは前記傾斜面から前記透過領域側に張り出して配置されており、前記着色層は、前記傾斜反射面に重なる位置に配置され、前記傾斜反射面に重なる前記着色層は、前記傾斜反射面に重なる領域を除く前記反射層に重なる前記着色層よりも膜厚が厚い部分を有し、前記傾斜反射面は、反射する光が前記厚い部分を通過するように配置されていることを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４５】
次に、本発明の電気光学装置は、透過領域及び反射領域を有する複数の画素を備えた基板と、前記透過領域及び前記反射領域に配置された透光層と、前記反射領域における前記透光層上に配置された反射層と、前記反射領域における前記反射層に重なり且つ前記透過領域に配置された着色層とを備え、前記透光層は、前記透過領域と前記反射領域との境界部近傍に前記基板に対して傾斜した傾斜面を有し、前記反射層は、前記傾斜面上に前記基板に対して傾斜している傾斜反射面を有し、且つ表面に可視光を散乱可能な凹凸を有しており、前記反射層の縁は、前記傾斜面と重なって若しくは前記傾斜面から前記透過領域側に張り出して配置されており、前記着色層は、前記傾斜反射面に重なる位置に配置され、前記傾斜反射面に重なる前記着色層は、前記傾斜反射面に重なる領域を除く前記反射層に重なる前記着色層よりも膜厚が厚い部分を有し、前記傾斜反射面は、反射する光が前記厚い部分を通過するように配置されていることを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６１】
次に、本発明の電気光学装置の製造方法は、透過領域及び反射領域を有する複数の画素を備えた基板上に透光層を形成する工程と、前記透光層を軟化させて素材を流動させることにより前記透光層の一部に前記基板に対して傾斜している傾斜面を形成する工程と、前記反射領域において、前記透光層と重なるように反射層を形成する工程と、前記反射層と重なる領域及び前記透過領域に着色層を形成する工程とを有し、前記反射層を形成する工程では、前記反射層の縁が前記傾斜面と重なるように若しくは前記傾斜面から前記透過領域側に張り出すように形成することを特徴とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６７】
また、本発明の別の電気光学装置の製造方法は、透過領域及び反射領域を有する複数の画素を備えた基板上に、下地層を部分的に形成する工程と、前記下地層上に、前記基板に対して傾斜している傾斜面を有する透光層を形成する工程と、前記反射領域において、前記透光層と重なるように反射層を形成する工程と、前記反射層と重なる領域及び前記透過領域に着色層を形成する工程とを有し、前記透光層を形成する工程では、前記下地層の縁部近傍上に前記傾斜面が形成され、前記反射層を形成する工程では、前記反射層の縁が前記傾斜面と重なるように若しくは前記傾斜面から前記透過領域側に張り出すように形成することを特徴とする。