Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成16年5月28日(2004.5.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光ディスクに記録されたデータを読み出す読出手段と、この読出手段によって読み出されたデータに信号処理を施す複数のＬＳＩによって構成される信号処理手段と、この信号処理手段により信号処理されたデータを外部へ出力する出力手段とを有する情報再生装置において、
上記複数のＬＳＩが少なくとも１つのシリアル接続が成されている場合に、上記ＬＳＩのシリアル接続された高速処理クロックもしくは高速信号の入口端子または入力パッド近傍にシリアル／パラレル変換手段を具備することを特徴とする情報再生装置。
【請求項２】
光ディスクに記録されたデータを読み出す読出手段と、この読出手段によって読み出されたデータに信号処理を施すＬＳＩと、このＬＳＩにより信号処理されたデータを外部へ出力する出力手段とを有する情報再生装置において、
上記ＬＳＩに構成される信号処理回路が少なくとも１つのシリアル接続が成されている場合に、このシリアル接続された高速処理クロックもしくは高速信号の入口端子または入力パッド近傍にシリアル／パラレル変換手段を具備することを特徴とする情報再生装置。
【請求項３】
情報記録媒体に記録された情報を読み出す読出手段と、この読出手段によって読み出された情報に信号処理を施す大規模集積回路と、この大規模集積回路により信号処理された情報を外部へ出力する出力手段とを有する情報再生装置において、
上記大規模集積回路に構成される信号処理回路が少なくとも１つのシリアル接続が成されている場合に、このシリアル接続された高速処理クロックもしくは高速信号の入口端子または入力パッド近傍にシリアル／パラレル変換手段を具備することを特徴とする情報再生装置。
【請求項４】
光ディスクに記録されたデータを読み出す読出手段と、
この読出手段によって読み出されたデータに信号処理を施してシリアルデータを出力すると共に、このシリアルデータに同期したクロックを生成する第１の信号処理回路と、この第１の信号処理回路から出力されるシリアルデータを入口端子または入力パッド近傍に設けられたシリアル／パラレル変換手段で上記生成されたクロックを用いてシリアル／パラレル変換した後、信号処理を施す第２の信号処理回路とを有する大規模集積回路と、
この大規模集積回路により信号処理されたデータを外部へ出力する出力手段と、
を具備することを特徴とする情報再生装置。
【請求項５】
光ディスクに記録されたデータを読み出し、この読み出されたデータにＬＳＩにより信号処理を施し、この信号処理されたデータを外部へ出力する情報再生方法であって、
上記ＬＳＩに構成される信号処理回路が少なくとも１つのシリアル接続が成されている場合に、このシリアル接続された高速処理クロックもしくは高速信号の入口端子または入力パッド近傍にシリアル／パラレル変換手段を設けてシリアル／パラレル変換した後、信号処理を施すようにしたことを特徴とする情報再生方法。
【請求項６】
情報記録媒体に記録された情報を読み出し、この読み出された情報に大規模集積回路により信号処理を施し、この信号処理された情報を外部へ出力する情報再生方法であって、
上記大規模集積回路に構成される信号処理回路が少なくとも１つのシリアル接続が成されている場合に、このシリアル接続された高速処理クロックもしくは高速信号の入口端子または入力パッド近傍にシリアル／パラレル変換手段を設けてシリアル／パラレル変換した後、信号処理を施すようにしたことを特徴とする情報再生方法。
【請求項７】
光ディスクに記録されたデータを読み出し、この読み出したデータに第１の信号処理回路で信号処理を施してシリアルデータを出力すると共に、このシリアルデータに同期したクロックを生成し、この第１の信号処理回路から出力されるシリアルデータを第２の信号処理回路の入口端子または入力パッド近傍に設けられたシリアル／パラレル変換手段で上記生成されたクロックを用いてシリアル／パラレル変換した後、信号処理を施し、上記第１の信号処理回路と第２の信号処理回路とを有するＬＳＩにより信号処理されたデータを外部へ出力するようにしたことを特徴とする情報再生方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
この発明の情報再生方法は、光ディスクに記録されたデータを読み出し、この読み出されたデータにＬＳＩにより信号処理を施し、この信号処理されたデータを外部へ出力する情報再生方法であって、上記ＬＳＩに構成される信号処理回路が少なくとも１つのシリアル接続が成されている場合に、このシリアル接続された高速処理クロックもしくは高速信号の入口端子または入力パッド近傍にシリアル／パラレル変換手段を設けてシリアル／パラレル変換した後、信号処理を施すようにしたことを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成16年5月27日(2004.5.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ビデオテープに記録された映像信号の所望部分を被編集素材として登録し、当該登録した被編集素材に基づいて編集順序を規定した編集リストを作成することができるようになされた編集装置において、
上記ビデオテープに上記映像信号と共に記録された所定情報に基づいて上記映像信号に基づく各フレーム画像にそれぞれ付与されたタイムコードの付与形態を検出する検出手段と、
上記検出手段の検出結果に基づいて、処理モードを上記タイムコードの上記付与形態と対応するモードに設定する設定手段と
を具えることを特徴とする編集装置。
【請求項２】
上記設定手段は、
オペレータから与えられたタイムコードが上記付与形態と異なるときに当該タイムコードを上記付与形態に応じて修正する
ことを特徴とする請求項１に記載の編集装置。
【請求項３】
外部から供給された映像信号の所望部分を被編集素材として登録し、当該登録した被編集素材に基づいて編集順序を規定した編集リストを作成することができるようになされた編集装置において、
上記映像信号に付随する所定情報に基づいて上記映像信号に基づく各フレーム画像にそれぞれ付与されたタイムコードの付与形態を検出する検出手段と、
上記検出手段の検出結果に基づいて、処理モードを上記タイムコードの上記付与形態と対応するモードに設定する設定手段と
を具えることを特徴とする編集装置。
【請求項４】
上記設定手段は、
オペレータから与えられたタイムコードが上記付与形態と異なるときに当該タイムコードを上記付与形態に応じて修正する
ことを特徴とする請求項３に記載の編集装置。
【手続補正書】
【提出日】平成16年5月31日(2004.5.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つのメモリセルアレイを有する半導体記憶装置において、
コラム選択信号で選択したコラムにあるメモリセルに、該コラムに設けられたセンスアンプを介してデータを書き込む際、コラム選択信号に同期して選択されたビット線対をイコライズする制御回路を設け、
該制御回路は、ビット線対をイコライズする間は前記ビット線対及び前記センスアンプを、書き込みデータが通るデータバスから切り離す回路を具備することを特徴とする半導体記憶装置。
【請求項２】
前記制御回路は、コラム選択信号が立ち下がる前に、選択されたビット線対のイコライズを終了することを特徴とする請求項１記載の半導体記憶装置。
【請求項３】
前記制御回路は、
ビット線対をショートしてイコライズするトランジスタを有する第１の制御回路と、
コラム選択信号に基づいて前記トランジスタを制御する信号を発生する第２の制御回路と
を有することを特徴とする請求項１又は２記載の半導体記憶装置。
【請求項４】
前記トランジスタを制御する信号は、コラム選択信号で制御されることを特徴とする請求項３記載の半導体記憶装置。
【請求項５】
前記切り離す回路は、ビット線対とデータバスとの間に設けられたトランジスタであり、ビット線対をイコライズしている間は該トランジスタをオフさせる制御信号をコラム選択を指示する信号に基づいて生成する回路を具備することを特徴とする請求項１記載の半導体記憶装置。
【請求項６】
前記制御回路は、
コラム選択信号に応答してビット線対をショートしてイコライズする第１のトランジスタと、ビット線対と書き込みデータが通るデータバスとの間に設けられた第２及び第３のトランジスタを有する第１の制御回路と、
コラム選択を指示する信号に基づいて前記第２及び第３のトランジスタを制御する信号を発生する第２の制御回路と
を有することを特徴とする請求項１記載の半導体記憶装置。
【請求項７】
前記トランジスタを制御する信号は、ビット線電圧に等しいかそれよりも高い電圧であることを特徴とする請求項６記載の半導体記憶装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
【課題を解決するための手段】
請求項１に記載の発明は、少なくとも１つのメモリセルアレイ（図２に示す実施例のメモリセルアレイ１２に相当）を有する半導体記憶装置において、コラム選択信号（図２のＣＬ１〜ＣＬｍに相当）で選択したコラムにあるメモリセル（図２のＭＣに相当）に、該コラムに設けられたセンスアンプ（図２の１３に相当）を介してデータを書き込む際、コラム選択信号に同期して選択されたビット線対（図２のＢＬ１、／ＢＬ１に相当）をイコライズする制御回路（図２の２０、３０に相当）を設け、該制御回路は、ビット線対をイコライズする間は前記ビット線対及び前記センスアンプを、書き込みデータが通るデータバスから切り離す回路（図３のトランジスタＱ１１、Ｑ１２に相当）を具備することを特徴とする半導体記憶装置である。データを書き込むコラムのみ書き込み時にビット線対をイコライズ、すなわちビット線対の電位を同一に設定する動作を行うので、反転書き込み（ビット線対上のデータとは反対のデータの書き込み）はイコライズされた状態から開始でき、センスアンプの駆動負荷が小さくなり、高速にデータを書き込め、特に低電圧下で顕著な効果が得られ、ビット線対及び前記センスアンプを書き込みデータが通るデータバスから切り離した状態でイコライズするため、データバスに影響を与えることなく、選択されたビット線対のみをイコライズできる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
請求項４に記載の発明は、請求項３に記載の前記トランジスタを制御する信号が、コラム選択信号で制御されることを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
請求項５に記載の発明は、請求項１に記載の前記切り離す回路が、ビット線対とデータバスとの間に設けられたトランジスタ（Ｑ１１、Ｑ１２）であり、ビット線対をイコライズしている間は該トランジスタをオフさせる制御信号（ＷＴ）をコラム選択を指示する信号（ＣＬ）に基づいて生成する回路を具備することを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
請求項６に記載の発明は、請求項１に記載の前記制御回路が、コラム選択信号に応答してビット線対をショートしてイコライズする第１のトランジスタ（図３のトランジスタＱ１３に相当）と、ビット線対と書き込みデータが通るデータバス（ＬＤＢ、／ＬＤＢ）との間に設けられた第２及び第３のトランジスタ（図３のトランジスタＱ１１、Ｑ１２に相当）を有する第１の制御回路（２０）と、コラム選択を指示する信号（ＣＬ）に基づいて前記第２及び第３のトランジスタを制御する信号を発生する第２の制御回路（３０）とを有することを特徴とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
請求項７に記載の発明は、請求項６に記載の前記トランジスタを制御する信号が、ビット線電圧に等しいかそれよりも高い電圧であることを特徴とする。ビット線対に設けられた第２、第３のトランジスタの抵抗値が実質的に問題なければビット線対と等しい電圧でよいが、抵抗値を下げることが好ましい場合には、上記制御する信号をビット線対の電圧よりも高い電圧とすることもできる。
【手続補正書】
【提出日】平成16年7月9日(2004.7.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
ビット線、
前記ビット線と交差して設けられる複数のワード線、
前記ビット線と前記複数のワード線の交点に対応して設けられ、それぞれが前記ビット線に接続されるドレインと、対応するワード線に接続されるコントロールゲートを有する複数の不揮発性メモリセル、および
通常の読み出し動作時は、アドレス信号に応答して前記複数のワード線のなかから選択されるワード線に選択電位を与えると共に、非選択のワード線に前記選択電位よりも低い非選択電位を与え、所定のモード時は、前記アドレス信号に応答して前記複数のワード線のなかから選択されるワード線に前記選択電位を与えると共に、非選択のワード線に前記非選択電位よりも低い所定電位を与えるワード線電位付与手段を備える不揮発性半導体記憶装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
【課題を解決するための手段】
この発明に係る不揮発性半導体記憶装置は、ビット線、ビット線と交差して設けられる複数のワード線、ビット線と複数のワード線の交点に対応して設けられ、それぞれがビット線に接続されるドレインと、対応するワード線に接続されるコントロールゲートを有する複数の不揮発性メモリセル、および、通常の読み出し動作時は、アドレス信号に応答して複数のワード線のなかから選択されるワード線に選択電位を与えると共に、非選択のワード線に選択電位よりも低い非選択電位を与え、所定のモード時は、アドレス信号に応答して複数のワード線のなかから選択されるワード線に選択電位を与えると共に、非選択のワード線に非選択電位よりも低い所定電位を与えるワード線電位付与手段を備えるものである。
【手続補正書】
【提出日】平成16年8月3日(2004.8.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定電圧レベルの基準電圧を発生する少なくとも１つの基準電圧発生手段、
前記少なくとも１つの基準電圧発生手段からの基準電圧に対応する電圧と内部電源線上の電圧とを比較し、該比較結果に従って前記内部電源線上の電圧レベルを調整する内部電源電圧発生手段、
パッド、および
前記少なくとも１つの基準電圧発生手段の出力と前記パッドとの間に設けられ、前記少なくとも１つの基準電圧発生手段の出力する基準電圧を受けて前記基準電圧と実質的に同じ電圧レベルの電圧を発生して前記パッドへ伝達する駆動手段を備える、半導体集積回路装置。
【請求項２】
前記駆動手段は、テストモード指示信号に応答して前記電圧発生動作を活性化する手段を含む、請求項１記載の半導体集積回路装置。
【請求項３】
前記駆動手段に結合され、前記駆動手段を間欠的に活性化する手段をさらに備える、請求項１記載の半導体集積回路装置。
【請求項４】
前記駆動手段は、ボルテージフォロア構成の差動増幅回路を含む、請求項１から３のいずれかに記載の半導体集積回路装置。
【請求項５】
前記少なくとも１つの基準電圧発生手段は複数の別々に設けられる基準電圧発生手段を含み、さらに、
前記複数の基準電圧発生手段の出力各々と前記駆動手段の入力との間に設けられ、選択信号に従って対応の基準電圧発生手段の出力を前記駆動手段の入力に電気的に接続する手段をさらに備える、請求項１から４のいずれかに記載の半導体集積回路装置。
【請求項６】
前記駆動手段は、その出力電圧を前記基準電圧に対応する電圧として前記内部電源電圧発生手段へ伝達し、かつテストモード指示信号に応答して自身の電流駆動力を大きくする手段を含む、請求項１記載の半導体集積回路装置。
【請求項７】
前記パッドと前記少なくとも１つの基準電圧発生手段の出力との間に設けられ、テストモード時導通状態とされかつ通常モード時非導通状態とされる接続手段をさらに備える、請求項１から４のいずれかに記載の半導体集積回路装置。
【請求項８】
前記複数の基準電圧発生手段の出力各々と前記パッドとの間に設けられ、第２の選択信号に応答して前記パッドと対応の基準電圧発生手段の出力とを電気的に接続する複数の接続手段をさらに備える、請求項５記載の半導体集積回路装置。
【請求項９】
前記駆動手段の出力と前記パッドとの間に設けられ、テスト動作時導通状態とされかつ通常動作モード時非導通状態とされる接続手段をさらに備える、請求項１から６のいずれかに記載の半導体集積回路装置。
【請求項１０】
前記接続手段はヒューズ素子を備える、請求項７または９に記載の半導体集積回路装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１３８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１３９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１４０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成16年10月13日(2004.10.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
飛翔体、
上記飛翔体に搭載され、地球表面を指向する撮像機、
地上局、
上記地上局に設置され、上記飛翔体の運用管制条件及び上記撮像機の動作条件を解析する計算機、
地球上各地の地理情報及び位置情報を具備するデータベース、
上記計算機及びデータベースにアクセスする端末、
上記端末で操作して上記計算機及びデータベースにアクセスするソフトウェアを格納したメモリとにより構成され、
更に上記メモリは、上記データベース内の地理情報から監視目標を選択して決定処理する監視目標探索ソフトと、上記監視目標探索ソフトで決定処理された監視目標の位置座標を特定の座標系上の位置座標として数値化する位置座標生成ソフトと、上記位置座標生成ソフトにより数値化された位置座標を上記撮像機で指向するための飛翔体軌道条件及び撮像条件を解析して撮像機視線方向が上記監視目標を指向する条件を解析する撮像条件解析ソフトとを格納してあることを特徴とする監視装置。
【請求項２】
飛翔体、
上記飛翔体に搭載され、地球表面を指向する撮像機、
上記飛翔体に搭載され、上記飛翔体の運用条件及び上記撮像機の動作条件を解析する搭載計算機、
上記飛翔体に搭載され、上記搭載計算機上で動作するソフトウェアを格納した搭載メモリ、
地上局、
上記地上局に設置され、上記飛翔体の運用管制条件及び上記撮像機の動作条件を解析する計算機、
地球上各地の地理情報及び位置情報を具備するデータベース、
上記計算機及びデータベースにアクセスする端末、
上記端末で操作して上記計算機及びデータベースにアクセスするソフトウェアを格納したメモリとにより構成され、
更に上記メモリは、上記データベース内の地理情報から監視目標を選択して決定処理する監視目標探索ソフトと、上記監視目標探索ソフトで決定処理された監視目標の位置座標を特定の座標系上の位置座標として数値化する位置座標生成ソフトとを格納してあり、かつ上記搭載メモリには上記位置座標生成ソフトにより数値化された位置座標を上記撮像機で指向するための飛翔体軌道条件及び撮像条件を解析して撮像機視線方向が上記監視目標を指向する条件を解析する撮像条件解析ソフトとを格納してあることを特徴とする監視装置。
【請求項３】
地上局に設置され、地球表面を指向する撮像機を搭載した飛翔体に対する、運用管制条件及び上記撮像機の動作条件を解析する計算機、
地球上各地の地理情報及び位置情報を具備するデータベース、
及び上記計算機及びデータベースにアクセスするソフトウェアを格納したメモリとにより構成され、
更に上記メモリは、上記データベース内の地理情報から監視目標を選択して決定処理する監視目標探索ソフトと、上記監視目標探索ソフトで決定処理された監視目標の位置座標を特定の座標系上の位置座標として数値化する位置座標生成ソフトと、上記位置座標生成ソフトにより数値化された位置座標を、上記撮像機に指向させるための飛翔体軌道条件及び撮像条件を解析し、撮像機視線方向が上記監視目標を指向する条件を解析する撮像条件解析ソフトとを格納してあることを特徴とする監視装置。
【請求項４】
地上局に設置された計算機、
地球上各地の地理情報及び位置情報を具備するデータベース、
上記計算機及びデータベースにアクセスするソフトウェアを格納したメモリとにより構成され、
更に上記メモリは、上記データベース内の地理情報から監視目標を選択して決定処理する監視目標探索ソフトと、上記監視目標探索ソフトで決定処理された監視目標の位置座標を特定の座標系上の位置座標として数値化する位置座標生成ソフトとを格納してあり、
かつ、上記計算機は、地球表面を指向する撮像機を有する飛翔体に対し、上記位置座標生成ソフトにより数値化された位置座標を伝送して、上記撮像機が当該位置座標を指向するための飛翔体軌道条件及び撮像条件と、撮像機視線方向が上記監視目標を指向する条件とを、上記飛翔体に対して解析させることを特徴とする監視装置。
【手続補正書】
【提出日】平成17年4月27日(2005.4.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
ＦＲＰ製のスキン部材の間にコアー部材が挟まれたサンドイッチ構造体において、コアー部材の厚さ方向に貫通しかつ、スキン部材と一体化してなるＦＲＰ製の補強部材を有し、該補強部材の厚みが、２〜５．５ｍｍであるか、または、スキン部材の厚みの０．８〜２倍であることを特徴とするサンドイッチ構造体。
【手続補正書】
【提出日】平成17年9月7日(2005.9.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ケーシング内に受容されている、回転軸線を中心として回転するクランク軸を有するピストン内燃機関のための回転振動制振器であって、クランク軸がクランクアーム領域（２０５，４０５）を有し、該クランクアーム領域（２０５，４０５）に回転振動制振器（２１０，４１０，５１０）が、ケーシング内へクランク軸（２０３，４０３）が取付けられる前にユニットとして取付け可能であり、回転振動制振器（２１０，４１０，５１０）がU字形に構成された保持部分（４３０）を有し、該保持部分（４３０）が該保持部分（４３０）に対しかつクランク軸の回転軸線（８）に関し振動可能な慣性質量体（４１５，４１６）を受容しており、該慣性質量体（４１５，４１６）が緩衝手段に抗して前記保持部分（４３０）に対して振動可能であり、U字形の前記保持部分（４３０）が２つの側方の、半径方向に延びる領域（２３５，２３６）を有し、該領域（２３５，２３６）がクランクアーム領域（２０５，４０５）を側方から取囲んでおり、かつその自由端部の領域で前記クランクアーム領域（２０５，４０５）に対し、ねじ結合を有すると共に形状による結合（４６７，４６８）を有し、該形状による結合（４６７，４６８）で回転振動制振器に作用する遠心力が支えられ、これにより、前記ねじ結合に作用する前記遠心力による負荷が少なくとも部分的に軽減されていることを特徴とする、ピストン内燃機関のための回転振動制振器。
【請求項２】  回動振動制振器の、クランク軸とねじ結合され、前記保持部分によって形成された入力部分と少なくとも１つの慣性質量体との間に、エネルギ蓄力器が設けられており、該エネルギ蓄力器が前記入力部分に対する前記慣性質量体の相対運動に抗して作用する、請求項１記載の回転振動制振器。
【請求項３】  前記回転振動制振器の入力部分と少なくとも１つの慣性質量体との間に摩擦緩衝装置が存在している、請求項１又は２記載のピストン機関。
【請求項４】  少なくとも１つのクランクアーム領域が１つの回転振動制振器を保持している、請求項１から３までのいずれか１項記載の回転振動制振器。
【請求項５】  前記回転振動制振器の入力部分がクランク軸に回転剛性的に結合されている、請求項１から４までのいずれか１項記載の回転振動制振器。
【請求項６】  半径方向に延びる前記領域（２３５，２３６）が、半径方向に延びる該領域（２３５，２３６）の延びる方向に対しほぼ直角に向けられた区分（５６６）を有している、請求項１から５までのいずれか１項記載の回転振動制振器。
【請求項７】  前記回転振動制振器の慣性質量体が、軸方向に間隔をおいた、互いに回転不能に結合された２つのリング状の円板体から形成されており、該円板体がその間に少なくとも、前記回転振動制振器のリング状の入力部分の範囲を受容しており、この場合、前記円板体と前記入力部分とに切欠きが存在しており、該切欠きがコイルばねを受容するために互いに適当に対応配置されている、請求項１から６までのいずれか１項記載の回転振動制振器。
【請求項８】  少なくとも１つの慣性質量体と前記入力部分との間に、摩擦装置の構成部分であるエネルギ蓄力器（２４）が緊縮されている、請求項７記載の回転振動制振器。
【請求項９】  実質的にクランクアームの代りに設けられている、請求項１から８までのいずれか１項記載の回転振動制振器。
【請求項１０】  クランク軸がクランクアーム領域に楕円形の、側部の面取りされた、クランク軸軸線に対して半径方向に延びるフランジ範囲（２０５，４０５）を有しており、制振器がＵ字形に構成され、前記フランジ範囲を取囲んでおり、回転振動制振器のＵ字形の構成によって形成された側脚部が少なくとも部分的に前記フランジ範囲に接触させられている、請求項１から９までのいずれか１項記載の回転振動制振器。
【請求項１１】  回転振動制振器の前記入力部分を形成する前記保持体部分（２３０，４３０）が閉じられたケーシングを形成し、該ケーシングが少なくとも１つの室（２３１）を制限し、該室（２３１）内に１つの慣性質量体（２１５）が受容されている、請求項１記載の回転振動制振器。
【請求項１２】  前記室（２３１）に潤滑手段が設けられている、請求項１１記載の回転振動制振器。
【請求項１３】  前記室（２３１）内に油が入れられている、請求項１１又は１２記載の回転振動制振器。
【手続補正書】
【提出日】平成16年10月20日(2004.10.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
形成、充填、密封包装機械に統合され、この包装機械の生産品源、消毒流体源および排出路と連通する弁組立体において、
第１弁であって、該第１弁を貫く流路を形成する内部表面を備え、生産品源に連通する第１弁と、
第２弁であって、該第２弁を貫く流路を形成する内部表面を備え、第１弁に連通する第２弁とを含み、
第１弁を通る流路が、自己排出と滞留表面の減少とのために、第２弁の流路と直交状に配向される、弁組立体。
【請求項２】
さらに、第３弁であって、該第３弁を貫く流路を形成する内部表面を備え、消毒流体に連通する第３弁と、第４弁であって、該第４弁を貫く流路を形成する内部表面を備え、第１弁および第２弁に連通する第３弁とを含み、第３弁を通る流路が、自己排出と滞留表面の減少とのために、第４弁の流路と直交状に配向される、請求項１による弁組立体。
【請求項３】
第４弁が包装機械の充填ステーションと連通する、請求項２による弁組立体。
【請求項４】
さらに、第２弁と排出路の間に並置された第５弁を有する、請求項２による弁組立体。
【請求項５】
形成、充填、密封包装機械に統合され、この包装機械の生産品源および排出路と連通する弁組立体において、
第１流路を形成して、包装機械の生産品源および充填ステーションに連通する第１弁と、
第２流路を形成して、排出路に連通し、第１弁に連通する第２弁とを含み、
第１流路が、自己排出と滞留表面の減少とのために、第２流路と直交状に配向される、弁組立体。
【手続補正書】
【提出日】平成17年8月26日(2005.8.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
次に図５及び図６を参照するに、静翼段３２を通過してファン１２、圧縮機１４又はタービン１８のロータ段３４の通路に流れる中心ガス流れ２４を表わす速度プロフィール６８は、典型的に、周方向に分配された複数の高速度領域７０及び低速度領域７２を包含する。低速度領域７２は、静翼４０の下流に位置して、静翼４０と整列する。高速度領域７０は、静翼４０間の通路７４の下流に位置して、該通路と整列する。高速度領域７０及び低速度領域７２を通過する動翼４２は、“ΔＦ”として前述した周期的励起力に出会う。この周期的励起力は、ロータ段３４の固有周波数に一致する周波数を有するとき、すなわち共振状態となったときに特に問題である。すなわち、励起力とロータ段３４の固有周波数との共振は、ロータ段３４の振動及び付随応力レベルを増大せしめるものである。図７は、励起力の周波数７８と、ロータ段の固有周波数８０と、ロータ段の回転速度との関係を示す。特定のロータ段の回転速度（ＲＶ1、ＲＶ2、ＲＶ3）での、励起力の周波数７８とロータ段の固有周波数８０との間に示される交点８２は、共振レスポンスがたぶん発生するところである。
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
1999141307.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成17年1月20日(2005.1.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
対象物を走査するスキャナであって、
第１および第２の光監視素子と、走査システムと、を備え、
前記走査システムが、
センサと、
前記対象物ならびに前記第１および第２の光監視素子から光が反射されるように、光を前記対象物ならびに前記第１および第２の光監視素子に向けて照射する光源と、
第１のモードにおいて、前記対象物および前記第１の光監視素子からの反射光を前記センサで集束するように動作可能であり、かつ第２のモードにおいて、前記対象物および前記第２の光監視素子からの反射光を前記センサで集束するように動作可能な光方向転換システムと、を具備することを特徴とするスキャナ。
【請求項２】
前記第１および第２の光監視素子の少なくとも一方は白色光監視素子であることを特徴とする請求項１記載のスキャナ。
【請求項３】
前記光源はランプであることを特徴とする請求項１記載のスキャナ。
【請求項４】
前記対象物は走査方向内で走査され、前記第１および第２の光監視素子は前記走査方向においてずらされることを特徴とする請求項１記載のスキャナ。
【請求項５】
前記第１および第２の光監視素子は、前記走査方向に直交する方向においてずらされることを特徴とする請求項４記載のスキャナ。
【請求項６】
前記センサは参照領域を有し、前記第１の光監視素子からの反射光は、前記第１のモードにおいて前記参照領域に反射され、前記第２の光監視素子からの反射光は、前記第２のモードにおいて前記参照領域に反射されることを特徴とする請求項４記載のスキャナ。
【請求項７】
前記走査システムは、走査線を画定する前記対象物の直線部分を順次走査し、前記第１の走査モードにおける走査線は、前記第２の走査モードにおける走査線より長いことを特徴とする請求項４記載のスキャナ。
【請求項８】
前記走査線は長手方向端部を画定し、前記第１の光監視素子は、前記第１のモードにおいて走査される前記走査線の長手方向両端の一方に配置され、前記第２の光監視素子は、前記第２のモードにおいて走査される前記走査線の長手方向両端の一方に配置されることを特徴とする請求項７記載のスキャナ。
【請求項９】
前記光方向転換システムは第１および第２のレンズアセンブリを備え、前記第１のレンズアセンブリは第１の動作可能位置と第１の非動作可能位置の間で移動可能であり、前記第２のレンズアセンブリは第２の動作可能位置と第２の非動作可能位置の間で移動可能であることを特徴とする請求項１記載のスキャナ。
【請求項１０】
前記第１の動作可能位置は、前記第２の動作可能位置から少なくとも一方向においてずらされることを特徴とする請求項９記載のスキャナ。
【手続補正書】
【提出日】平成16年10月18日(2004.10.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
夫々の第一の端部により相互に関節結合された二つの分岐部を備えたブレスレット用留め具であって、これらの分岐部の内の第一の分岐部をこれらの分岐部の内の第二の分岐部上に且つ／又は第二の分岐部内に折り畳むと共に前記第一の分岐部を概ね該第二の分岐部の延長線上に載置すべく前記第一の分岐部を拡開することを可能とする一方、当該二つの分岐部の各第二の端部はブレスレットの二つの端部に接続するようになっており、これらの二つの分岐部は各分岐部を折畳み位置に保持する相互取付手段を含む、ブレスレット用留め具において、
前記第一の関節結合用分岐部の前記第二の端部は、平行な関節結合軸心を有するリンク手段を含み、ひとつの関節結合軸心は前記リンク手段を該第一の関節結合用分岐部に接続し、且つ、少なくとも第二の関節結合軸心は、前記ブレスレットの一端に対し且つ前記相互取付手段を分離し得る力を及ぼす起動部材に対して前記リンク手段を接続する、
ブレスレット用留め具。
【請求項２】
前記リンク手段は三つの平行な関節結合軸心を有し、第一の関節結合軸心は前記リンク手段を前記第一の関節結合用分岐部に接続し、別の関節結合軸心は前記リンク手段を前記ブレスレットの一端に接続し、且つ、第三の関節結合軸心は前記相互取付手段を分離し得る力を及ぼすべく前記起動部材に対して前記リンク手段を接続する、請求項１記載の留め具。
【請求項３】
前記起動部材はレバーを含み、該レバーの一端は前記第二の関節結合分岐部に当接し、且つ、該レバーの他端は前記相互取付手段を分離する前記力を及ぼす把持手段を形成する、請求項１または２に記載の留め具。
【請求項４】
前記相互取付手段は、前記各関節結合分岐部の一方と一体的な円筒状要素を含む、請求項１から３のいずれか一項に記載の留め具。
【請求項５】
前記結合手段のひとつは、前記円筒状要素の回りで自由枢動する管状要素から成る、請求項４記載の留め具。
【請求項６】
前記リンク手段の一部であって前記第一の分岐部と関節結合された前記リンク手段の一部は略半円筒状の表面を有することにより、該第一の関節結合用分岐部がその折畳み位置からその拡開位置へと通過する間に、前記一部の関節結合軸心の回りにて１８０°に亙り該一部が回動するのを許容する、請求項１から５のいずれか一項に記載の留め具。
【請求項７】
前記リンク手段は二つの要素を含み、
一方の要素はカバーから成り、該カバーは、前記各関節結合分岐部上を少なくとも部分的にカバーする表面と、これらの分岐部の各側上に延在する二つの側面であって前記ブレスレットを該カバーに選択的に固定すべく当該留め具に関して横手方向に整列され且つ長手方向に離間された数対の固定要素を有する二つの側面と、を備え、且つ、
他方の要素は、前記カバーに対して位置決めする手段と、該位置決め手段により画成された相対位置において前記二つの要素をリンクする役割を果たす組立て手段とを有することを特徴とする、請求項１から６のいずれか一項に記載の留め具。
【請求項８】
前記筒状結合要素がその上で枢動する前記円筒は、前記各関節結合分岐部のひとつに着脱可能に固定される、請求項４または５に記載の留め具。
【請求項９】
結合位置において前記相互取付手段の一方を他方から離間する距離を変更すべく前記相互取付手段の一方には調節手段が組合される、請求項１から８のいずれか一項に記載の留め具。
【請求項１０】
前記起動部材を休止位置に保持する第二の相互取付手段を含む、請求項１から９のいずれか一項に記載の留め具。
【請求項１１】
前記第一の分岐部に対する前記起動部材の枢動を制限する手段を含む、請求項１から１０のいずれか一項に記載の留め具。
【手続補正書】
【提出日】平成17年6月9日(2005.6.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項５】
けん引フレームの左右縦桁の中間部内側に垂直に固定し左右対向に設けた角筒ソケットに、それぞれ上下摺動自在に内嵌する左右の車輪昇降角柱の下端部に車軸を左右対称かつ水平に固着し、この車軸の両端部に運搬車輪を軸支し、前記左右の角筒ソケットの内側面に基部を固着し垂直な逆V形に立設した運搬車輪取付けフレームの上端部にブラケットを左右対向に設け、このブラケットの間に複動形油圧シリンダの基端部を連結し、この複動形油圧シリンダのピストンロッドの先端部を前記車軸の中央部に連結した請求項１記載の圃場用複合作業機。
【手続補正書】
【提出日】平成17年1月17日(2005.1.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】アンチセンスオリゴヌクレオチドを含有する医薬組成物
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ミッドカインｍＲＮＡに相補できるアンチセンスオリゴヌクレオチドを含み、細胞のミッドカイン発現を抑え、又は細胞の増殖を抑える医薬組成物。
【請求項２】
前記アンチセンスオリゴヌクレオチドとして、リン酸エステル結合がチオリン酸エステル結合となっているチオ化アンチセンスオリゴヌクレオチドを用いる、請求項１の医薬組成物。
【請求項３】
前記チオ化アンチセンスオリゴヌクレオチドとして、配列番号１のＤＮＡのリン酸エステル結合がチオリン酸エステル結合となっているチオ化アンチセンスオリゴヌクレオチドを用いる、請求項１又は２の医薬組成物。
【請求項４】
対象の細胞は癌細胞である、請求項１〜３のいずれかの医薬組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成16年7月22日(2004.7.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１次側回路から２次側回路に電圧変換を行うトランスに設けられた第１、第２のドライブ巻線により駆動する第１、第２のスイッチを備えた整流回路により、二次側回路の整流を行うＤＣ／ＤＣコンバータにおいて、
出力の軽負荷を検出し、軽負荷時に前記第１、第２のスイッチをオフする軽負荷検出部を設けたことを特徴とするＤＣ／ＤＣコンバータ。
【請求項２】
１次側巻線と２次側巻線と第１のドライブ巻線と第２のドライブ巻線とを備えたトランスと、
電源からの電力を前記１次側巻線に断続的に通電させるメインスイッチと、
前記１次側巻線に並列に接続され、コンデンサとサブスイッチの直列回路と、
前記メインスイッチと前記サブスイッチとを交互にオンオフさせる制御信号を出力する制御部と、
前記第１のドライブ巻線により駆動する第１のスイッチと前記第２のドライブ巻線により駆動する第２のスイッチとを備え、前記２次側巻線の発生する電流を整流する整流回路と、
この整流回路の出力を入力する出力コンデンサと、
前記２次側巻線と前記出力コンデンサとの間に設けられるインダクタンス素子と
を有するＤＣ／ＤＣコンバータにおいて、
出力の軽負荷を検出し、軽負荷時に前記第１、第２のスイッチをオフする軽負荷検出部を設けたことを特徴とするＤＣ／ＤＣコンバータ。
【請求項３】
前記インダクタンス素子は、コイル、または、前記トランスに設けられた第３の巻線の少なくとも一つを具備することを特徴とする請求項２記載のＤＣ／ＤＣコンバータ。
【請求項４】
前記軽負荷検出部は、軽負荷時に、前記第１、第２のスイッチをダイオード整流に切り換えることを特徴とする請求項１〜３記載のＤＣ／ＤＣコンバータ。
【請求項５】
前記第１のドライブ巻線と前記第１のスイッチとの間に設けられる第３のスイッチと、前記第２のドライブ巻線と前記第２のスイッチとの間に設けられる第４のスイッチとを具備し、
前記軽負荷検出部は、軽負荷時に前記第３、第４のスイッチをオフする
ことを特徴とする請求項１〜４記載のＤＣ／ＤＣコンバータ。
【請求項６】
前記第３、第４のスイッチにダイオードを並列に設けたことを特徴とする請求項５記載のＤＣ／ＤＣコンバータ。
【請求項７】
前記トランスは、前記トランスの２次側巻線と前記整流回路の出力を入力する出力コンデンサとの間に設けられた第３の巻線を具備することを特徴とする請求項１記載のＤＣ／ＤＣコンバータ。
【請求項８】
フォワード型であることを特徴とする請求項１〜７記載のＤＣ／ＤＣコンバータ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
【課題を解決するための手段】
本発明は、以下のことを特徴とするものである。
（１）１次側回路から２次側回路に電圧変換を行うトランスに設けられた第１、第２のドライブ巻線により駆動する第１、第２のスイッチを備えた整流回路により、二次側回路の整流を行うＤＣ／ＤＣコンバータにおいて、出力の軽負荷を検出し、軽負荷時に前記第１、第２のスイッチをオフする軽負荷検出部を設けたことを特徴とするＤＣ／ＤＣコンバータ。
（２）１次側巻線と２次側巻線と第１のドライブ巻線と第２のドライブ巻線とを備えたトランスと、電源からの電力を前記１次側巻線に断続的に通電させるメインスイッチと、前記１次側巻線に並列に接続され、コンデンサとサブスイッチの直列回路と、前記メインスイッチと前記サブスイッチとを交互にオンオフさせる制御信号を出力する制御部と、前記第１のドライブ巻線により駆動する第１のスイッチと前記第２のドライブ巻線により駆動する第２のスイッチとを備え、前記２次側巻線の発生する電流を整流する整流回路と、この整流回路の出力を入力する出力コンデンサと、前記２次側巻線と前記出力コンデンサとの間に設けられるインダクタンス素子とを有するＤＣ／ＤＣコンバータにおいて、出力の軽負荷を検出し、軽負荷時に前記第１、第２のスイッチをオフする軽負荷検出部を設けたことを特徴とするＤＣ／ＤＣコンバータ。
（３）前記インダクタンス素子は、コイル、または、前記トランスに設けられた第３の巻線の少なくとも一つを具備することを特徴とする（２）記載のＤＣ／ＤＣコンバータ。
（４）前記軽負荷検出部は、軽負荷時に、前記第１、第２のスイッチをダイオード整流に切り換えることを特徴とする（１）〜（３）記載のＤＣ／ＤＣコンバータ。
（５）前記第１のドライブ巻線と前記第１のスイッチとの間に設けられる第３のスイッチと、前記第２のドライブ巻線と前記第２のスイッチとの間に設けられる第４のスイッチとを具備し、前記軽負荷検出部は、軽負荷時に前記第３、第４のスイッチをオフすることを特徴とする（１）〜（４）記載のＤＣ／ＤＣコンバータ。
（６）前記第３、第４のスイッチにダイオードを並列に設けたことを特徴とする（５）記載のＤＣ／ＤＣコンバータ。
（７）前記トランスは、前記トランスの２次側巻線と前記整流回路の出力を入力する出力コンデンサとの間に設けられた第３の巻線を具備することを特徴とする請求項１記載のＤＣ／ＤＣコンバータ。
（８）フォワード型であることを特徴とする（１）〜（７）記載のＤＣ／ＤＣコンバータ。
【手続補正書】
【提出日】平成16年3月29日(2004.3.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定の流動体を付着させてパターン化された薄膜を形成するための基板の製造方法であって、
前記流動体に対し親和性を示す基台上に所定の金属により金属層を形成する工程と、
前記パターン化された薄膜を形成するパターン形成領域内において前記流動体に対し親和性のある親和性領域を配置する領域にエネルギーを供給し前記金属層を除去する工程と、
前記金属が選択的に除去された基台を、硫黄化合物を含む混合液に浸漬する工程と、を備えたことを特徴とする基板の製造方法。
【請求項２】
所定の流動体を付着させてパターン化された薄膜を形成するための基板の製造方法であって、
前記流動体に対し非親和性を示す基台上に所定の金属により金属層を形成する工程と、
前記パターン化された薄膜を形成するパターン形成領域以外の領域にエネルギーを供給し前記金属層を除去する工程と、
前記パターン化された薄膜を形成するパターン形成領域内において前記流動体に対し親和性のない非親和性領域を配置する領域にエネルギーを供給し前記金属層を除去する工程と、
前記金属が選択的に除去された基台を、硫黄化合物を含む混合液に浸漬する工程と、を備えたことを特徴とする基板の製造方法。
【請求項３】
前記硫黄化合物は、前記流動体に対する親和性に関し、前記基台表面と反対の性質を備える請求項１または請求項２のいずれか一項に記載の基板の製造方法。
【請求項４】
所定の流動体を付着させてパターン化された薄膜を形成するための基板の製造方法であって、
前記流動体に対し非親和性を示す基台上において、前記パターン化された薄膜を形成するパターン形成領域以外の領域を覆いかつ当該パターン形成領域において前記流動体に対し親和性のない非親和性領域を覆う様にメッシュマスクでマスクする工程と、
前記メッシュマスクがされた基台に紫外線を照射して表面を改質処理する工程と、を備えることを特徴とする基板の製造方法。
【請求項５】
所定の流動体を付着させてパターン化された薄膜を形成するための基板の製造方法であって、
前記流動体に対し親和性を示す基台上において、前記パターン化された薄膜を形成するパターン形成領域において、前記流動体に対し親和性のある親和性領域を覆う様にメッシュマスクでマスクする工程と、
前記メッシュマスクがされた基台に紫外線を照射して表面を改質処理する工程と、を備えることを特徴とする基板の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
また、上記第２の課題を解決する他の発明は、所定の流動体を付着させてパターン化された薄膜を形成するための基板の製造方法であって、
前記流動体に対し親和性を示す基台上に所定の金属により金属層を形成する工程と、
前記パターン化された薄膜を形成するパターン形成領域内において前記流動体に対し親和性のある親和性領域を配置する領域にエネルギーを供給し前記金属層を除去する工程と、
前記金属が選択的に除去された基台を、硫黄化合物を含む混合液に浸漬する工程と、を備えたことを特徴とする。
また、上記第２の課題を解決する他の発明は、所定の流動体を付着させてパターン化された薄膜を形成するための基板の製造方法であって、
前記流動体に対し非親和性を示す基台上に所定の金属により金属層を形成する工程と、
前記パターン化された薄膜を形成するパターン形成領域以外の領域にエネルギーを供給し前記金属層を除去する工程と、
前記パターン化された薄膜を形成するパターン形成領域内において前記流動体に対し親和性のない非親和性領域を配置する領域にエネルギーを供給し前記金属層を除去する工程と、
前記金属が選択的に除去された基台を、硫黄化合物を含む混合液に浸漬する工程と、を備えたことを特徴とする。
また、上記第２の課題を解決する他の発明は、所定の流動体を付着させてパターン化された膜を形成するための基板を製造する方法であって、
ａ）基台上に所定の金属により金属層を形成する工程と、
ｂ）パターン化された膜を形成するパターン形成領域以外の領域にエネルギーを供給し金属層を除去する工程と、
ｃ）パターン形成領域内において流動体に対し親和性のある親和性領域が当該流動体に対し親和性のない非親和性領域の間で所定の規則にしたがって配置されるように当該非親和性領域に沿ってエネルギーを供給し当該非親和性領域の金属層を除去する工程と、
ｄ）金属が選択的に除去された基台を硫黄化合物を含む混合液に浸漬する工程と、を備えたことを特徴とする基板の製造方法である。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
さらにまた上記第２の課題を解決する他の発明は、所定の流動体を付着させてパターン化された薄膜を形成するための基板の製造方法であって、
前記流動体に対し非親和性を示す基台上において、前記パターン化された薄膜を形成するパターン形成領域以外の領域を覆いかつ当該パターン形成領域において前記流動体に対し親和性のない非親和性領域を覆う様にメッシュマスクでマスクする工程と、
前記メッシュマスクがされた基台に紫外線を照射して表面を改質処理する工程と、を備えることを特徴とする。
さらにまた上記第２の課題を解決する他の発明は、所定の流動体を付着させてパターン化された薄膜を形成するための基板の製造方法であって、
前記流動体に対し親和性を示す基台上において、前記パターン化された薄膜を形成するパターン形成領域において、前記流動体に対し親和性のある親和性領域を覆う様にメッシュマスクでマスクする工程と、
前記メッシュマスクがされた基台に紫外線を照射して表面を改質処理する工程と、を備えることを特徴とする。
さらにまた上記第２の課題を解決する他の発明は、所定の流動体を付着させてパターン化された膜を形成するための基板の製造方法であって、
ａ）パターン化された膜を形成するパターン形成領域以外の領域を覆いかつ当該パターン形成領域にいて流動体に対し親和性のある親和性領域が当該流動体に対し親和性のない非親和性領域との間で所定の規則にしたがって配置されるように当該非親和性領域を覆うメッシュマスクでマスクする工程と、
ｂ）メッシュマスクがされた基台に紫外線を照射して表面を改質処理する工程と、を備えることを特徴とする基板の製造方法である。