【手続補正書】
【提出日】平成17年5月23日(2005.5.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、前記基板上に形成され、２つの電極間に発光層を有してなる複数の有機エレクトロルミネッセンス素子とを備えた有機エレクトロルミネッセンス装置において、
前記基板から見て、前記有機エレクトロルミネッセンス素子とは反対側に設けられたマイクロレンズアレイと、
前記複数の有機エレクトロルミネッセンス素子を画素領域として仕切る隔壁と、
前記隔壁の下部に設けられ、前記複数の有機エレクトロルミネッセンス素子をアクティブに駆動するトランジスタと、
を具備することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス装置。
【請求項２】
前記マイクロレンズアレイの各レンズは、前記複数の有機エレクトロルミネッセンス素子の各々に配置されていることを特徴とする請求項１記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。
【請求項３】
前記マイクロレンズアレイにおける２つ以上のレンズ毎に、１つの前記有機エレクトロルミネッセンス素子が対応するように、前記マイクロレンズアレイが配置されていることを特徴とする請求項１記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。
【請求項４】
前記マイクロレンズアレイにおける１つのレンズ毎に、２つ以上の前記有機エレクトロルミネッセンス素子が対応するように、前記マイクロレンズアレイが配置されていることを特徴とする請求項１記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。
【請求項５】
前記マイクロレンズアレイは、光硬化性を有する透明な樹脂で形成されていることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。
【請求項６】
前記マイクロレンズアレイは、屈折率が１．５４以上ある部材からなることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。
【請求項７】
前記マイクロレンズアレイは、前記基板の内部に形成されていることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。
【請求項８】
前記発光層から出射された光であって、該発光層から見て前記基板側に出射された光が、少なくとも前記マイクロレンズアレイと該基板を透過してから前記有機エレクトロルミネッセンス装置の外部へ出射するように、該発光層及びマイクロレンズアレイが配置されていることを特徴とする請求項７に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。
【請求項９】
前記マイクロレンズアレイは、複数のフレネルレンズからなることを特徴とする請求項７又は８記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。
【請求項１０】
前記基板は、複数の前記フレネルレンズを形成した後に、該フレネルレンズの上に層間絶縁膜を設けて平坦化したものであることを特徴とする請求項９記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。
【請求項１１】
前記層間絶縁膜の上面に少なくとも前記有機エレクトロルミネッセンス素子が設けられていることを特徴とする請求項１０記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。
【請求項１２】
基板と、前記基板上に形成され、２つの電極間に発光層を有してなる複数の有機エレクトロルミネッセンス素子とを備えた有機エレクトロルミネッセンス装置において、
前記有機エレクトロルミネッセンス素子の発光面側に設けられたマイクロレンズアレイと、
前記複数の有機エレクトロルミネッセンス素子を画素領域として仕切る隔壁と、
前記隔壁の下部に設けられ、前記複数の有機エレクトロルミネッセンス素子をアクティブに駆動するトランジスタと、
を具備することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス装置。
【請求項１３】
基板と、前記基板上に形成され、２つの電極間に発光層を有してなる複数の有機エレクトロルミネッセンス素子とを備えた有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法において、
前記基板上に前記有機エレクトロルミネッセンス素子を形成した後に、該有機エレクトロルミネッセンス素子の表面に酸化窒化シリコン膜を形成し、
該酸化窒化シリコン膜の表面に光硬化性を有する透明な樹脂を塗布し、
該樹脂に前記マイクロレンズアレイの型を密着させて、該樹脂に光を照射することで該樹脂を硬化させ、
前記マイクロレンズの型を前記樹脂から離すことにより、前記マイクロレンズを形成することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。
【請求項１４】
基板と、前記基板上に形成され、２つの電極間に発光層を有してなる複数の有機エレクトロルミネッセンス素子とを備えた有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法において、
前記基板の内部にマイクロレンズアレイを形成した後に、該基板の上に前記有機エレクトロルミネッセンス素子を形成することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。
【請求項１５】
前記マイクロレンズアレイを形成した後に、該マイクロレンズアレイの部位について層間絶縁膜によって平坦化し、該層間絶縁膜の上に少なくとも前記有機エレクトロルミネッセンス素子を形成することを特徴とする請求項１４記載の有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。
【請求項１６】
前記基板に酸化窒化シリコン膜を形成し、
前記酸化窒化シリコン膜にフォトリソグラフィ及び反応性イオンエッチングによって前記フレネルレンズを形成することを特徴とする請求項１４又は１５記載の有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。
【請求項１７】
前記酸化窒化シリコン膜は、酸素と窒素の組成比が原子濃度比で酸素が４０パーセントから８０パーセントであることを特徴とする請求項１６記載の有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。
【請求項１８】
基板と、前記基板上に形成され、２つの電極間に発光層を有してなる複数の有機エレクトロルミネッセンス素子とを備えた有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法において、
前記有機エレクトロルミネッセンス素子を形成した後に、
該有機エレクトロルミネッセンス素子を封止し、
前記基板を所望の厚さまで研削又は研磨し、
前記有機エレクトロルミネッセンス素子の位置に合わせてレンズを形成したマイクロレンズアレイ基板を、前記研削又は研磨した基板に貼り合わせることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。
【請求項１９】
前記マイクロレンズアレイと前記研削又は研磨した基板との貼り合わせは、光硬化性を有する透明な樹脂を用いて行うことを特徴とする請求項１８記載の有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。
【請求項２０】
前記樹脂は、屈折率が１．５４以上であることを特徴とする請求項１９記載の有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。
【請求項２１】
請求項１乃至１２のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置を備えたことを特徴とする電子機器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記した目的を達成するために、本発明の有機エレクトロルミネッセンス装置
は、基板と、前記基板上に形成され、２つの電極間に発光層を有してなる複数の
有機エレクトロルミネッセンス素子とを備えた有機エレクトロルミネッセンス装
置において、前記基板から見て、前記有機エレクトロルミネッセンス素子とは反
対側に設けられたマイクロレンズアレイと、前記複数の有機エレクトロルミネッ
センス素子を画素領域として仕切る隔壁と、前記隔壁の下部に設けられ、前記複
数の有機エレクトロルミネッセンス素子をアクティブに駆動するトランジスタと
、を具備することを特徴とする。
このような発明によれば、発光層から出射された光がマイクロレンズアレイに
よって集光されてから有機ＥＬ装置の外へ出射される。すなわち、発光層から出
射された光のうちで、基板面に対して斜めに出射された光でも、マイクロレンズ
アレイのレンズで、基板面に対して垂直方向に屈折されて装置の外部に出射する
。したがって、発光層から出射された光のほとんど全てを有機ＥＬ装置の外へ出
射させることができ、その光を肉眼へ到達させることができる。そこで、本発明
は、有機ＥＬ素子から出射された光を効率よく利用することができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
また、本発明の有機エレクトロルミネッセンス装置は、前記マイクロレンズア
レイの各レンズは、前記複数の有機エレクトロルミネッセンス素子の各々に配置
されていることが好ましい。
このような発明によれば、画素をなす複数の有機ＥＬ素子から出射された光が
、それぞれマイクロレンズアレイの各レンズによって集光されてから装置の外部
へ出射されるので、複数の画素を有する有機ＥＬ装置における発光効率を大幅に
向上させることができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
また、本発明の有機エレクトロルミネッセンス装置は、前記マイクロレンズア
レイにおける２つ以上のレンズ毎に、１つの前記有機エレクトロルミネッセンス
素子が対応するように、前記マイクロレンズアレイが配置されている構成でもよ
い。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
また、本発明の有機エレクトロルミネッセンス装置は、前記マイクロレンズア
レイにおける１つのレンズ毎に、２つ以上の前記有機エレクトロルミネッセンス
素子が対応するように、前記マイクロレンズアレイが配置されている構成でもよ
い。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
また、本発明の有機エレクトロルミネッセンス装置は、基板と、前記基板上に
形成され、２つの電極間に発光層を有してなる複数の有機エレクトロルミネッセ
ンス素子とを備えた有機エレクトロルミネッセンス装置において、前記有機エレ
クトロルミネッセンス素子の発光面側に設けられたマイクロレンズアレイと、前
記複数の有機エレクトロルミネッセンス素子を画素領域として仕切る隔壁と、前
記隔壁の下部に設けられ、前記複数の有機エレクトロルミネッセンス素子をアク
ティブに駆動するトランジスタと、を具備することを特徴とする。
このような発明によれば、基板の上面側から光を出射させる（基板の有機ＥＬ
層側から光を出射させる）封止側発光型の有機ＥＬ装置における発光効率を大幅
に向上させることができる。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
また、本発明の有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法は、基板と、前
記基板上に形成され、２つの電極間に発光層を有してなる複数の有機エレクトロ
ルミネッセンス素子とを備えた有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法に
おいて、前記基板上に前記有機エレクトロルミネッセンス素子を形成した後に、
該有機エレクトロルミネッセンス素子の表面に酸化窒化シリコン膜を形成し、該
酸化窒化シリコン膜の表面に光硬化性を有する透明な樹脂を塗布し、該樹脂に前
記マイクロレンズアレイの型を密着させて、該樹脂に光を照射することで該樹脂
を硬化させ、前記マイクロレンズの型を前記樹脂から離すことにより、前記マイ
クロレンズを形成することを特徴とする。
このような発明によれば、発光効率が高く、低消費電流で長寿命な有機ＥＬ装
置を、簡易に且つ低コストで製造することができる。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
また、本発明の有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法は、基板と、前
記基板上に形成され、２つの電極間に発光層を有してなる複数の有機エレクトロ
ルミネッセンス素子とを備えた有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法に
おいて、前記基板の内部にマイクロレンズアレイを形成した後に、該基板の上に
前記有機エレクトロルミネッセンス素子を形成することを特徴とする。
このような発明によれば、コンパクトでありながら発光効率が高く、低消費電
流で長寿命な有機ＥＬ装置を、簡易に且つ低コストで製造することができる。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
また、本発明の有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法は、基板と、前
記基板上に形成され、２つの電極間に発光層を有してなる複数の有機エレクトロ
ルミネッセンス素子とを備えた有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法に
おいて、前記有機エレクトロルミネッセンス素子を形成した後に、該有機エレク
トロルミネッセンス素子を封止し、前記基板を所望の厚さまで研削又は研磨し、
前記有機エレクトロルミネッセンス素子の位置に合わせてレンズを形成したマイ
クロレンズアレイ基板を、前記研削又は研磨した基板に貼り合わせることを特徴
とする。
このような発明によれば、従来の有機ＥＬ装置の製造方法を有効利用すること
ができる。
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６０】
次いで、図４（ｅ）に示すように、低温多結晶シリコンＴＦＴによるトランジ
スタ２２の形成と、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ：Indium Tin Oxide）による陽
極２５の形成と、ゲート線５１及び電源線５２などの形成を行い、ＴＦＴ基板を
完成させる。
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６１】
次いで、図４（ｆ）に示すように、基板２１上に層間絶縁膜（ＳｉＯ２）５３
をプラズマＣＶＤで成膜し、画素を形成すべき場所の層間絶縁膜をフォトリソグ
ラフィとドライエッチングで除去する。
次いで、図５（ｇ）に示すように、各画素を形成すべき領域の境部位に、樹脂
によって隔壁（バンク）２８を形成する。
【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６２】
次いで、図５（ｈ）に示すように、隔壁２８で仕切られた各画素領域に有機Ｅ
Ｌ膜２４をなす正孔輸送層２４ａ及び発光層（ＥＬ層）２４ｂを形成する。この
正孔輸送層２４ａ及び発光層２４ｂは、液滴吐出方式を用いて形成することが好
ましい。具体的には、インクジェットプリンタのヘッドから正孔輸送層２４ａの
構成材料のＰＥＤＯＴを各画素領域に滴下し、乾燥させた後、３原色であるＲＧ
Ｂの発光層となる材料をインクジェットプリンタのヘッドから所望位置に滴下さ
せることで、有機ＥＬ素子を形成する。