Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成17年8月31日(2005.8.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  以下の化合物よりなる群より選択される化合物またはその塩：
（＋）−７−（４’−フルオロ［１，１’−ビフェニル］−３−イル）−６，７−ジヒドロ−５Ｈ−ピロロ［１，２−ｃ］イミダゾール−７−オール、
（−）−７−（４’−フルオロ［１，１’−ビフェニル］−３−イル）−６，７−ジヒドロ−５Ｈ−ピロロ［１，２−ｃ］イミダゾール−７−オール、
（＋）−７−（４’−フルオロ［１，１’−ビフェニル］−４−イル）−６，７−ジヒドロ−５Ｈ−ピロロ［１，２−ｃ］イミダゾール−７−オール、
（−）−７−（４’−フルオロ［１，１’−ビフェニル］−４−イル）−６，７−ジヒドロ−５Ｈ−ピロロ［１，２−ｃ］イミダゾール−７−オール、
（＋）−６−（７−ヒドロキシ−６，７−ジヒドロ−５Ｈ−ピロロ［１，２−ｃ］イミダゾール−７−イル）−Ｎ−メチル−２−ナフタミド、
（−）−６−（７−ヒドロキシ−６，７−ジヒドロ−５Ｈ−ピロロ［１，２−ｃ］イミダゾール−７−イル）−Ｎ−メチル−２−ナフタミド、
（＋）−６−（７−ヒドロキシ−６，７−ジヒドロ−５Ｈ−ピロロ［１，２−ｃ］イミダゾール−７−イル）−２−ナフタミド、および
（−）−６−（７−ヒドロキシ−６，７−ジヒドロ−５Ｈ−ピロロ［１，２−ｃ］イミダゾール−７−イル）−２−ナフタミド。
【請求項２】  請求項１記載の化合物またはその塩を有効成分として含有する医薬組成物。
【請求項３】  ステロイドＣ１７,２０リアーゼ阻害剤である請求項２記載の医薬組成物。
【請求項４】  抗腫瘍剤である請求項２記載の医薬組成物。
【請求項５】  乳癌または前立腺癌の予防・治療剤である請求項２記載の医薬組成物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８１】
【化５０】
2003201282.tif 000001
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８２】
［式中、Ｍは金属またはその塩を示し、他の記号は前記と同意義である。］
Ｍで示される金属としてはリチウムまたはマグネシウム等が挙げられ、金属塩としては例えばマグネシウムクロリド、マグネシウムブロミド等の金属ハライド等が挙げられる。
Ｘ’で示される脱離基としては、ハロゲン原子（塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等）、アルキルまたはアリールスルホニルオキシ基（メタンスルホニルオキシ、エタンスルホニルオキシ、トリフルオロメタンスルホニルオキシ、ベンゼンスルホニルオキシ、ｐ−トルエンスルホニルオキシ等）等が挙げられる。
化合物（ＩＩＩ’）をアルキルリチウム等の金属化合物またはマグネシウム等の金属と反応させて有機金属化合物（ＩＩＩ’’）に変換した後、化合物（ＩＩ）と反応させることにより化合物（Ｉ）を得ることができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８３】
本反応で用いられるアルキルリチウムとしてはｎ−ブチルリチウム、ｓ−ブチルリチウム、ｔ−ブチルリチウム等のＣ1-4アルキルリチウムが挙げられ、特にｎ−ブチルリチウムが好ましい。本反応で用いられるアルキルリチウムの量は原料化合物（ＩＩＩ’）１当量に対して１ないし２当量、好ましくは１ないし１．２当量である。反応温度は−１２０℃から０℃、好ましくは−１００℃から−２０℃である。反応溶媒としてはＴＨＦ、トルエン等が好ましい。Ｘ’がハロゲン原子の場合はマグネシウムを反応させグリニヤール試薬（ＩＩＩ’’）を得た後化合物（ＩＩ）と反応させることができる。化合物（ＩＩＩ’）に対してマグネシウムを反応させる場合、反応温度は−４０℃から６０℃、好ましくは−２０℃から４０℃である。反応時間は５分から２０時間程度である。
本反応においてアルキルリチウムで化合物（ＩＩＩ’’）を生成させる際、２−ブロモベンゼントリフルオリドにアルキルリチウムを作用させて得られるアニオン（ベンゼントリフルオリドアニオン）を存在させることにより反応収率を向上させることができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８４】
化合物（ＩＩ’）は例えば以下の方法で合成することができる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８５】
【化５１】
2003201282.tif 000002
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８６】
［式中、Ｒは保護基（例、トリチル基）、Ｑは脱離基（例、メタンスルホニルオキシ基、ｐ−トルエンスルホニルオキシ基等）を示す。］
工程Ａは酢酸エチルをリチウムジイソプロピルアミドで処理して得られるリチウム塩（ＶＩ）と化合物（Ｖａ）を反応させ化合物（Ｖｂ）を得る工程である。反応温度は−８０℃から−４０℃、好ましくは−８０℃から−６０℃である。エステル部分を還元後、二酸化マンガン等の酸化剤により化合物（Ｖｄ）に導くことができる。さらにアルコールをメタンスルホン酸エステル等の脱離基に変換したのち塩基存在下加熱処理により化合物（ＩＩ’）を得ることができる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８７】
化合物（ＩＩ’）は下記の方法でも得ることができる。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８８】
【化５２】
2003201282.tif 000003
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８９】
文献（Cristiane Poupat ら, Tetrahedron vol. 56 (2000), pp.1837-1850）記載の化合物（Ｖｆ）を臭化水素酸処理によって化合物（Ｖｇ）に変換した後、塩基の処理によって化合物（ＩＩ’）に導くことができる。塩基としてはピリジン、トリエチルアミン等が好ましい。反応温度は０℃から１００℃、好ましくは３０℃から７０℃である。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９４】
【化５５】
2003201282.tif 000004
【手続補正書】
【提出日】平成17年6月1日(2005.6.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ブロック化されたメルカプトシランにおいて、該化合物が一般式Ｉ
（Ｒ１Ｏ）３Ｓｉ−Ｒ２−Ｓ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｃ１７Ｈ３５        （Ｉ）
［式中、Ｒ１は互いに独立してＨまたは（Ｃ１〜Ｃ８）アルキルを意味し、
Ｒ２は直鎖または分枝鎖、飽和または不飽和（Ｃ１〜Ｃ８）二価炭化水素を意味し、アルキル基Ｃ１７Ｈ３５は分枝鎖または直鎖である］に相応することを特徴とする、ブロック化されたメルカプトシラン。
【請求項２】
Ｒ１がエチルであり、Ｒ２がＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２であり、かつアルキル基Ｃ１７Ｈ３５が直鎖である、請求項１記載のブロック化されたメルカプトシラン。
【請求項３】
請求項１記載の一般式Ｉのブロック化されたメルカプトシランの製造方法において、補助塩基の存在で、適当な有機溶剤中で、式（Ｒ１Ｏ）３Ｓｉ−Ｒ２−ＳＨに相応するメルカプトシランをステアリン酸塩化物と反応させ、反応を完了させるために混合物を沸点まで加熱し、生成した固体残渣から濾別し、溶剤を留去することを特徴とする、請求項１記載の一般式Ｉのブロック化されたメルカプトシランの製造方法。
【請求項４】
ゴム混合物において、ゴム、充填剤および場合によっては他のゴム助剤、ならびに使用された酸化物充填剤の量に対して０．１〜１５質量％の量の請求項１記載の少なくとも１つのブロック化されたメルカプトシラン、および場合によっては脱ブロック化試薬を含有することを特徴とする、ゴム混合物。
【請求項５】
請求項４記載のゴム混合物の製造方法において、ゴムまたはゴムの混合物、充填剤、式Ｉ記載のブロック化されたメルカプトシランおよび場合によっては脱ブロック化試薬を混合ユニット中で混合することを特徴とする、請求項４記載のゴム混合物の製造方法。
【請求項６】
空気タイヤ、タイヤトレッド、ケーブル外装、ホース、駆動ベルト、コンベヤーベルト、ローラー被覆、タイヤ、靴底、パッキングリングおよび制動部材への請求項１記載のブロック化されたメルカプトシランの使用。
【手続補正書】
【提出日】平成16年5月25日(2004.5.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
ローターの山（１０）と谷（９）を描く方法として、両方のローターと同じ半径の二板の円板を用意する。片方の円板に隋円の形の板を伸縮する布を下からくるんで上部で止め、そして隋円を描く時の二本の針の位置を円の中心線とその延長線上に固定する。そして布の面にインクを塗る。もう一方の円板に隋円の形の板の布を張った方を下にして、両方の円板が滑らない様に接しつつ、板を上から軽く押えながら回転させ、谷の形をインクで形成させる。これが谷の形の基本である。この谷の形はこのままでは、ロータリーポンプにした場合、谷の角（１５）が、円板と円板の中心線上に到達した時から、山と谷と側面壁と円柱に囲まれた室が低圧になるので、回転に支障をきたす。これを無くすため、谷の角（１７）が円板と円板の中心線上に到達した時から、山と谷が広がる形とした。また反転させた場合は、反対側の谷の角（１６）が円板と円板の中心線上に到達した時から山と谷のすき間を広ける形とする。これが谷の形である。（１５）と（１７）の距離と（１４）と（１６）の距離は同じものとする。また山の形は隋円の形の板を筆記用具で周囲を描いた形である。山の形の隋円形は谷の形の基本を形成した場合、その内側に引っこんだ隋円の形は不可である。以上の構成よりなるロータリーポンプの山と谷の描き方である。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】【課題を解決するための手段】  両方のローターと同じ半径の二枚の円板を用意する。片方の円板（２４）に、隋円の山の形の板（２５）を伸縮する布を下からくるんで上部で止め、それを隋円を描く時の２本の針の位置を円の中心線（２６）とその延長線上に固定する。そして布の面にインクを塗る。もう一方の円板に隋円の形の板に布を張った方を下にして、両方の円板がすべらないよう接しつつ、山を上から軽く押さえながら回転させ、谷の形をインクで形成させた。これが谷の形の基本である。この谷の形はこのままでは、ロータリーポンプにした場合、谷の角（１５）が円板と円板の中心を結ぶ線に到達した時から山と谷と側面壁と円柱に囲まれた室が低圧となるので回転に支障をきたす。これを無くすため谷の角（１７）が円板と円板の中心を結ぶ線に到達した時から山（２５）とインクで形成された谷が広がる形とした。また、反転した場合は、反対側の谷の角（１６）が円板と円板の中心を結ぶ線に到達した時から山（２５）とインクで形成された谷が広がる形とした。これが谷の形である。尚（１５）と（１７）の距離と、（１４）と（１６）の距離は同じものとする。また山の形は隋円の形の板を筆記用具で周囲を描いた形である
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】【実施例】  両方のローターと同じ半径の二枚の円板を用意した。片方の円板（２４）に、隋円の形の板を、伸縮する布を下からくるんで上部で止め、それを隋円を描く時の２本の針の位置を、円の中心線とその延長線上に固定する。そして布の面にインクを塗る。もう一方の円板に隋円の形の布を張った方を下にして、両方の円板が滑らないように接しつつ、山を上から軽く押えながら回転させ、谷の形をインクで形成させた。これが谷の形の基本である。この谷の形はこのままではロータリーポンプにした場合、谷の角（１５）が円板と円板の中心を結ぶ線に到達した時から、山と谷と側面壁と円柱に囲まれた室が低圧となるので回転に支障をきたす。これを無くすため谷の角（１７）が円板と円板の中心を結ぶ線に到達した時から山（２５）とインクで形成された谷が広がる形とした。また反転した場合は、反対側の谷の角（１６）が円板と円板の中心を結ぶ線に到達した時から山とインクで形成された谷が広がる形とした。また（１５）と（１７）の距離と、（１４）と（１６）の距離は同じものとする。また山の形は隋円の形の板で描いた。これをロータリーポンプにした場合、両方のローターは相互間では回転に際し、接するか、小さなすきまを保つことができた。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】【発明の効果】イ、ロータリーポンプの山と谷の形を正確に描くことができた。ロ、ロータリーポンプの性能を最大限生かすことができた。ハ、ロータリーポンプを圧力回転機にした場合、タービンと同じく回転力を取り入れる事ができた。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図面の簡単な説明
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図面の簡単な説明】【図１】ロータリーポンプＡ−Ａ’断面図【図２】ロータリーポンプ平面図【図３】ロータリーポンプ谷の図の描き方
【手続補正書】
【提出日】平成16年12月24日(2004.12.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
【数１】
2003201972.tif 000001
以下にKpumpの算定方法について述べる。可変速度ポンプの流量Qpump、回転数Npump、揚程Hpumpとすると、可変速度ポンプの流量Qpumpと揚程Hpumpとの関係は２次式で近似することにより以下の（２）式で示される。（２）式のａ、ｂ、ｃは近似式の定数であり、定格回転数Nrでのポンプの運転試験データより求めることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成17年3月29日(2005.3.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面処理銅箔であって、銅箔の少なくとも片面に耐熱処理層、防錆処理層及びオレフィン系シランカップリング剤層を順に設けた表面処理銅箔。
【請求項２】
上記銅箔が電解銅箔であり、そのＭ面及び／又はＳ面に上記耐熱処理層、防錆処理層及びオレフィン系シランカップリング剤層が設けられている請求項１に記載の表面処理銅箔。
【請求項３】
上記耐熱処理層が、亜鉛、亜鉛−錫、亜鉛−ニッケル、亜鉛−コバルト、銅−亜鉛、銅−ニッケル−コバルト及びニッケル−コバルトのうち少なくとも１種類以上の薄膜であり、上記防錆処理層が亜鉛−クロメート又はクロメート処理による薄膜である請求項１又は２に記載の表面処理銅箔。
【請求項４】
上記耐熱処理層の上にさらにシロキサン被膜が形成され、該シロキサン被膜上に上記オレフィン系シランカップリング剤層が設けられている請求項１〜３のいずれか一項に記載の表面処理銅箔。
【請求項５】
上記銅箔の表面粗さが３．５μｍ以下である請求項１〜４のいずれか一項に記載の表面処理銅箔。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか一項に記載の銅箔を用いた高周波対応基板。
【請求項７】
請求項１〜５のいずれか一項に記載の銅箔を多層プリント回路内層に用いた高周波対応基板。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
（１）  表面処理銅箔であって、銅箔の少なくとも片面に耐熱処理層、防錆処理層及びオレフィン系シランカップリング剤層を順に設けた表面処理銅箔。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
（２）  上記銅箔が電解銅箔であり、そのＭ面及び／又はＳ面に上記耐熱処理層、防錆
処理層及びオレフィン系シランカップリング剤層が設けられている（１）に記載の表面処
理銅箔。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
（３）  上記耐熱処理層が、亜鉛、亜鉛−錫、亜鉛−ニッケル、亜鉛−コバルト、銅−
亜鉛、銅−ニッケル−コバルト及びニッケル−コバルトのうち少なくとも１種類以上の薄
膜であり、上記防錆処理層が亜鉛−クロメート又はクロメート処理による薄膜である（１
）又は（２）に記載の表面処理銅箔。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
（４）  上記耐熱処理層の上にまたは上記防錆処理層の上にさらにシロキサン被膜が形
成され、該シロキサン被膜上に上記オレフィン系シランカップリング剤層が設けられてい
る（１）〜（３）のいずれか一項に記載の表面処理銅箔。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
（５）  上記銅箔の表面粗さが３．５μｍ以下である（１）〜（４）のいずれか一項に
記載の表面処理銅箔。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
（６）  上記（１）〜（５）のいずれか一項に記載の銅箔を用いた高周波対応基板。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
（７）  上記（１）〜（５）のいずれか一項に記載の銅箔を多層プリント回路内層に用
いた高周波対応基板。
【手続補正書】
【提出日】平成17年4月12日(2005.4.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
多価アルコール型非イオン性界面活性剤とポリエチレングリコール型非イ
オン性界面活性剤の混合物により表面が被覆されてなる防曇性樹脂シート。
【請求項２】
多価アルコール型非イオン性界面活性剤がショ糖脂肪酸エステルおよび／又はポリグリセリン脂肪酸エステルである請求項１の防曇性樹脂シート。
【請求項３】
ポリエチレングリコール型非イオン性界面活性剤がポリオキシプロピレンポリオキシエチレンブロックコポリマーである請求項１又は２の防曇性樹脂シート。
【請求項４】
多価アルコール型非イオン性界面活性剤とポリエチレングリコール型非イオン性界面活性剤の混合物の固形分比率（重量比）が９０〜４０：１０〜６０である請求項１ないし３のいずれかの防曇性樹脂シート。
【請求項５】
ショ糖脂肪酸エステルとポリグリセリン脂肪酸エステルの固形分比率（重量比）が１０〜９０：９０〜１０である請求項２ないし４のいずれかの防曇性樹脂シート。
【請求項６】
コロナ放電処理後に、多価アルコール型非イオン性界面活性剤とポリエチレングリコール型非イオン性界面活性剤の混合物により表面を被覆する請求項１ないし５のいずれかの防曇性樹脂シート。
【請求項７】
樹脂シートが二軸延伸ポリスチレン系樹脂シートである請求項１ないし６のいずれかの防曇性樹脂シート。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
また、本発明では、防曇剤に予めシリコーンオイル等の公知の離型剤や滑剤を添加してもよいが、添加量が多すぎると目的とする防曇性（スッキリ感）を阻害するので、通常１mg/m2以下、好ましくは0.5 mg/m2以下で添加する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
防曇剤は主としてシート表面に塗布して用いられる。この場合、乾燥後の塗布量が固形分換算で、下限を通常10mg／m2以上、好ましくは20mg／m2以上、特に好ましくは30mg／m2以上とし、上限を通常100mg／m2以下、好ましくは60mg／m2以下、特に好ましくは50mg／m2以下になるように塗布する。防曇剤の乾燥後の塗布量が10mg／m2未満の場合は、良好な
スッキリ感は得られず、100mg／m2を超えるとベタツキによるシート同士のブロッキング
や透明性の低下が生じ、表面白化を起こすことがある。防曇剤の塗布方法としては、噴霧、ロールコーター、グラビアコーター、ナイフコーター、浸漬法等の既知の方法が用いられ、噴霧、ロールコーター法が好ましい。また、防曇剤溶液に用いる溶媒としては水が最も好ましいが、アルコール等の防曇剤を溶解し且つ樹脂シートを溶解しない溶媒で、しかも適用分野によっては安全を満たす溶媒であれば、適宜選択して用いてもよい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
【表１】
2003201355.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成16年11月1日(2004.11.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
（Ａ）カルボキシル基含有アクリル系ゴムと、（Ｂ）１級アミン、２級アミン、３級アミンのうち少なくとも１種以上のモノアミン化合物と、（Ｃ）グアニジン化合物と（Ｄ）下記の構造式（１）または（２）または化合物（３）で表される特殊ジアミン化合物のうちの少なくとも１種類以上からなるアクリル系ゴム組成物。
構造式（１）：Ｈ２Ｎ−Ｐｈ−（ＣＨ２）ｎ−Ｐｈ−ＮＨ２およびその塩酸塩
但し、ｎ＝０または１。Ｐｈは ベンゼン環を表す。Ｐｈは、（２，２’）または（３，３’）に置換基として−ＯＨ、−ＣＨ３、−ＣＦ３、−ＣＯＯＨ、ハロゲンを有する。
構造式（２）：Ｈ２Ｎ−Ｐｈ−Ｍ−Ｐｈ−ＮＨ２
但し、ＭはＯ、Ｓ、ＳＯ２、ＣＯＮＨまたはＯ−Ｒ−Ｏのうちの１種。
但しＯ−Ｒ−ＯのＲは、Ｐｈ、Ｐｈ−Ｐｈ、Ｐｈ−ＳＯ２−Ｐｈ、（ＣＨ２）ｍ……
但しｍ＝３〜５、Ｐｈ−Ｃ（ＣＸ３）２−Ｐｈ…Ｘ＝ＨまたはＦ、（ＣＨ２）Ｃ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）のうちの１種。
Ｐｈはベンゼン環を表す。
化合物（３）：３，７−ジアミノ２，８−ジメチルジベンゾチオフェン−５，５−ジオキシド
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、上記の課題を解決するために鋭意検討を重ねた結果、（Ａ）カルボキシル基含有アクリル系ゴムと、（Ｂ）１級アミン、２級アミン、３級アミンのうち少なくとも１種以上のモノアミン化合物と、（Ｃ）グアニジン化合物と（Ｄ）下記の構造式（１）または（２）または化合物（３）で表される特殊ジアミン化合物のうちの少なくとも１種類以上からなるアクリル系ゴム組成物。
構造式（１）：Ｈ２Ｎ−Ｐｈ−（ＣＨ２）ｎ−Ｐｈ−ＮＨ２およびその塩酸塩
但し、ｎ＝０または１。Ｐｈは ベンゼン環を表す。Ｐｈは、（２，２’）または（３，３’）に置換基として−ＯＨ、−ＣＨ３、−ＣＦ３、−ＣＯＯＨ、ハロゲンを有する。
構造式（２）：Ｈ２Ｎ−Ｐｈ−Ｍ−Ｐｈ−ＮＨ２
但し、ＭはＯ、Ｓ、ＳＯ２、ＣＯＮＨまたはＯ−Ｒ−Ｏのうちの１種。
但しＯ−Ｒ−ＯのＲは、Ｐｈ、Ｐｈ−Ｐｈ、Ｐｈ−ＳＯ２−Ｐｈ、（ＣＨ２）ｍ……
但しｍ＝３〜５、Ｐｈ−Ｃ（ＣＸ３）２−Ｐｈ…Ｘ＝ＨまたはＦ、（ＣＨ２）Ｃ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）のうちの１種。
Ｐｈはベンゼン環を表す。
化合物（３）：３，７−ジアミノ２，８−ジメチルジベンゾチオフェン−５，５−ジオキシド
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
特殊ジアミン化合物としては、構造式（１）（２）（３）で表される化合物のうち、少なくとも１種以上からなるものである。
構造式（１）：Ｈ２Ｎ−Ｐｈ−（ＣＨ２）ｎ−Ｐｈ−ＮＨ２およびその塩酸塩
但し、ｎ＝０または１。Ｐｈは ベンゼン環を表す。Ｐｈは、（２，２’）または（３，３’）に置換基として−ＯＨ、−ＣＨ３、−ＣＦ３、−ＣＯＯＨ、ハロゲンを有する。
構造式（２）：Ｈ２Ｎ−Ｐｈ−Ｍ−Ｐｈ−ＮＨ２
但し、ＭはＯ、Ｓ、ＳＯ２、ＣＯＮＨまたはＯ−Ｒ−Ｏのうちの１種。
但しＯ−Ｒ−ＯのＲは、Ｐｈ、Ｐｈ−Ｐｈ、Ｐｈ−ＳＯ２−Ｐｈ、（ＣＨ２）ｍ……
但しｍ＝３〜５、Ｐｈ−Ｃ（ＣＸ３）２−Ｐｈ…Ｘ＝ＨまたはＦ、（ＣＨ２）Ｃ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）のうちの１種。
Ｐｈはベンゼン環を表す。
化合物（３）：３，７−ジアミノ２，８−ジメチルジベンゾチオフェン−５，５−ジオキシド
【手続補正書】
【提出日】平成17年1月5日(2005.1.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）ポリトリメチレンテレフタレート樹脂１００重量部、（Ｂ）結晶核剤０．００５〜１重量部および（Ｃ）高級脂肪酸エステルおよび／または高級脂肪酸および／または高級脂肪酸アミド０．００５〜０．５重量部からなることを特徴とするポリトリメチレンテレフタレート樹脂組成物。
【請求項２】
該ポリトリメチレンテレフタレート樹脂組成物の極限粘度が０．７０以上であることを特徴とする請求項１記載のポリトリメチレンテレフタレート樹脂組成物。
【請求項３】
（Ａ）ポリトリメチレンテレフタレート樹脂の極限粘度［η］が０．９５以上であることを特徴とする請求項１または２に記載のポリトリメチレンテレフタレート樹脂組成物。
【請求項４】
（Ｂ）結晶核剤がタルク、窒化硼素、マイカ、カオリン、シリカ、クレー、無機カルボン酸塩、無機スルホン酸塩、炭酸塩、金属酸化物、有機カルボン酸塩、有機スルホン酸塩からなることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のポリトリメチレンテレフタレート樹脂組成物。
【請求項５】
（Ｂ）結晶核剤が下記一般式（１）で表される脂肪酸金属塩であることを特徴とする請求項４に記載のポリトリメチレンテレフタレート樹脂組成物。
【化１】
2003201394.tif 000001
【請求項６】
（Ｂ）成分が高級脂肪酸Ｎａおよび／または高級脂肪酸Ｃａおよび／または高級脂肪酸Ｌｉであることを特徴とする請求項５に記載のポリトリメチレンテレフタレート樹脂組成物。
【請求項７】
（Ｂ）成分がモンタン酸Ｎａおよび／またはモンタン酸Ｃａおよび／またはモンタン酸Ｌｉであることを特徴とする請求項６に記載のポリトリメチレンテレフタレート樹脂組成物。
【請求項８】
（Ｃ）が高級脂肪酸エステルであることを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載のポリトリメチレンテレフタレート樹脂組成物。
【請求項９】
（Ｂ）高級脂肪酸エステルがモンタン酸エステルワックスおよび／またはモンタン酸部分ケン化エステルワックスであることを特徴とする請求項８に記載のポリトリメチレンテレフタレート樹脂組成物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
すなわち本発明は、
１．（Ａ）ポリトリメチレンテレフタレート樹脂１００重量部、（Ｂ）結晶核剤０．００５〜１重量部、（Ｃ）高級脂肪酸エステルおよび／または高級脂肪酸および／または高級脂肪酸アミド０．００５〜０．５重量部からなることを特徴とするポリトリメチレンテレフタレート樹脂組成物。
２．該ポリトリメチレンテレフタレート樹脂組成物の極限粘度が０．７０以上であることを特徴とする１記載のポリトリメチレンテレフタレート樹脂組成物。
３．（Ａ）ポリトリメチレンテレフタレート樹脂の極限粘度［η］が０．９５以上であることを特徴とする１または２記載のポリトリメチレンテレフタレート樹脂組成物。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
４．（Ｂ）結晶核剤がタルク、窒化硼素、マイカ、カオリン、シリカ、クレー、無機カルボン酸塩、無機スルホン酸塩、炭酸塩、金属酸化物、有機カルボン酸塩、有機スルホン酸塩からなることを特徴とする上記１〜３のいずれかに記載のポリトリメチレンテレフタレート樹脂組成物。
５．（Ｂ）結晶核剤が下記一般式（１）で表される脂肪酸金属塩であることを特徴とする上記４に記載のポリトリメチレンテレフタレート樹脂組成物。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
６．（Ｂ）成分が高級脂肪酸Ｎａおよび／または高級脂肪酸Ｃａおよび／または高級脂肪酸Ｌｉであることを特徴とする上記５に記載のポリトリメチレンテレフタレート樹脂組成物。
７．（Ｂ）成分がモンタン酸Ｎａおよび／またはモンタン酸Ｃａおよび／またはモンタン酸Ｌｉであることを特徴とする上記６に記載のポリトリメチレンテレフタレート樹脂組成物。
８．（Ｃ）が高級脂肪酸エステルであることを特徴とする上記１〜７のいずれかに記載のポリトリメチレンテレフタレート樹脂組成物。
９．（Ｂ）高級脂肪酸エステルがモンタン酸エステルワックスおよび／またはモンタン酸部分ケン化エステルワックスであることを特徴とする上記８に記載のポリトリメチレンテレフタレート樹脂組成物。
である。
【手続補正書】
【提出日】平成17年1月5日(2005.1.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）ポリトリメチレンテレフタレート樹脂１００重量部および、下記一般式（１）で表される（Ｂ）脂肪酸金属塩を０．００５〜１重量部からなることを特徴とするポリトリメチレンテレフタレート樹脂組成物。
【化１】
2003201393.tif 000001
【請求項２】
該ポリトリメチレンテレフタレート樹脂組成物の極限粘度が０．７０以上であることを特徴とする請求項１に記載のポリトリメチレンテレフタレート樹脂組成物。
【請求項３】
（Ａ）ポリトリメチレンテレフタレート樹脂の極限粘度が０．９５以上であることを特徴とする請求項１または２に記載のポリトリメチレンテレフタレート樹脂組成物。
【請求項４】
（Ｂ）成分が高級脂肪酸Ｎａおよび／または高級脂肪酸Ｌｉであることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のポリトリメチレンテレフタレート樹脂組成物。
【請求項５】
（Ｂ）成分がモンタン酸Ｎａおよび／またはモンタン酸Ｌｉであることを特徴とする請求項４に記載のポリトリメチレンテレフタレート樹脂組成物。
【請求項６】
（Ａ）成分１００重量部、（Ｂ）成分０．００５〜１重量部および（Ｃ）下記一般式（２）で表される脂肪酸Ｃａ塩を０．００５〜１重量部からなることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載のポリトリメチレンテレフタレート樹脂組成物。
【化２】
2003201393.tif 000002
【請求項７】
（Ｃ）成分が高級脂肪酸Ｃａであることを特徴とする請求項６に記載のポリトリメチレンテレフタレート樹脂組成物。
【請求項８】
（Ｃ）成分がモンタン酸Ｃａであることを特徴とする請求項７に記載のポリトリメチレンテレフタレート樹脂組成物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
２．該ポリトリメチレンテレフタレート樹脂組成物の極限粘度が０．７０以上であることを特徴とする１に記載のポリトリメチレンテレフタレート樹脂組成物。
３．（Ａ）ポリトリメチレンテレフタレート樹脂の極限粘度が０．９５以上であることを特徴とする１または２に記載のポリトリメチレンテレフタレート樹脂組成物。
４．（Ｂ）成分が高級脂肪酸Ｎａおよび／または高級脂肪酸Ｌｉであることを特徴とする１〜３のいずれかに記載のポリトリメチレンテレフタレート樹脂組成物。
５．（Ｂ）成分がモンタン酸Ｎａおよび／またはモンタン酸Ｌｉであることを特徴とする４に記載のポリトリメチレンテレフタレート樹脂組成物。
６.（Ａ）成分１００重量部、（Ｂ）成分０．００５〜１重量部および（Ｃ）下記一般式（２）で表される脂肪酸Ｃａ塩を０．００５〜１重量部からなることを特徴とする１〜５のいずれかに記載のポリトリメチレンテレフタレート樹脂組成物。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
７．（Ｃ）成分が高級脂肪酸Ｃａであることを特徴とする６に記載のポリトリメチレンテレフタレート樹脂組成物。
８．（Ｃ）成分がモンタン酸Ｃａであることを特徴とする７に記載のポリトリメチレンテレフタレート樹脂組成物。
以下、本発明に関して具体的に説明する。
まず、本発明組成物の（Ａ）成分としてのポリトリメチレンテレフタレートについて記述する。
【手続補正書】
【提出日】平成16年12月7日(2004.12.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項６】
細骨材として水砕スラグに有害汚泥を混合して供給することを特徴とする、請求項５に記載する、主として産業廃棄物を利用したコンクリート製品の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年10月26日(2005.10.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
組み合わせＡにおけるアルコールとしては、特に限定はないが、例えば、脂肪族１価アルコール（メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブタノール、ｔ−ブチルアルコール、ステアリルアルコール等）、脂肪族不飽和１価アルコール（アリルアルコール、クロチルアルコール、プロパギルアルコール等）、脂環式１価アルコール（シクロペンタノール、シクロヘキサノール等）、芳香族１価アルコール（ベンジルアルコール、シンナミルアルコール、メチルフェニルカルビノール等）、フェノール類（エチルフェノール、オクチルフェノール、カテコール、キシレノール、グアヤコール、ｐ−クミルフェノール、クレゾール、ｍ−クレゾール、ｏ−クレゾール、ｐ−クレゾール、ドデシルフェノール、ナフトール、ノニルフェノール、フェノール、ベンジルフェノール、ｐ−メトキシエチルフェノール等）、複素環式１価アルコール（フルフリルアルコール等）等の１価アルコール類；アルキレングリコール（エチレングリコール、プロピレングリコール、トリメチレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，８−オクタンジオール、１，１０−デカンジオール、ピナコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール等）、脂環式グリコール（シクロペンタン−１，２−ジオール、シクロヘキサン−１，２−ジオール、シクロヘキサン−１，４−ジオール等）、および、ポリオキシアルキレングリコール（ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等）等のグリコール類；プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、３−メチル−３−メトキシブタノール、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノアセテート等の上記グリコール類のモノエーテルまたはモノエステル等の誘導体；グリセリンやトリメチロールエタン等の３価アルコール、エリスリトールやペンタエリスリトール等の４価アルコール、リピトールやキシリトール等の５価アルコール、ソルビトール等の６価アルコール等の３価以上の多価アルコール、ヒドロベンゾイン、ベンズピナコール、フタリルアルコール等の多価芳香族アルコール、カテコール、レゾルシン、ヒドロキノン等の２価フェノールや、ピロガロール、フロログルシン等の３価フェノール等の多価フェノール、および、これら多価アルコール類におけるＯＨ基の一部（１〜（ｎ−１）個（ただし、ｎは１分子当たりのＯＨ基の数））がエステル結合またはエーテル結合となった誘導体；等を挙げることができる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１６０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１６０】
−実施例７−
＜亜鉛含有溶液の調製＞
実施例５と同様の反応器を用意した。
この反応器に、酢酸亜鉛無水物８部、ｎ−ブタノール１５０部、メタノール５０部からなる混合物を仕込み、反応器内を窒素パージした後、混合物を常温（１９℃）より、１００℃に昇温した後、冷却し、エバポレーターによりメタノールおよびｎ−ブタノールの一部を留去し、ｎ−ブタノールで濃度調整することにより、透明溶液（７ａ）１００部を得た。
＜Ｍｎ含有溶液の調製＞
反応器に、酢酸マンガン（II）４水和物２．１４部、ｎ−ブタノール１５０部、メタノール５０部からなる混合物を仕込み、反応器内を窒素パージした後、混合物を、常温（１９℃）より、１００℃に昇温した後、冷却し、エバポレーターによりメタノールおよびｎ−ブタノールの一部を留去し、ｎ−ブタノールで濃度調整することにより、透明溶液（７ｂ）１００部を得た。
＜塗布液の調製＞
透明溶液（７ａ）１００部と、透明溶液（７ｂ）１０部とを混合することにより、亜鉛・Ｍｎ含有溶液を得、これを塗布液（７）とした。
＜薄膜の製造＞
塗布液（７）を、ガラス板にバーコーターで塗布し、２００℃で加熱された加熱炉に入れ、１０分間加熱した。
【手続補正書】
【提出日】平成16年11月16日(2004.11.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
周囲の雰囲気に含まれる湿分を吸着して該雰囲気を所定の湿度に調整する、調湿剤用シリカゲルであって、
（ａ）細孔容積が０．６〜２．０ｍｌ／ｇであり、
（ｂ）比表面積が３００〜１０００ｍ2／ｇであり、
（ｃ）細孔の最頻直径（Ｄmax）が２０ｎｍ未満であり、
（ｄ）直径がＤmax±２０％の範囲内にある細孔の総容積が、全細孔の総容積の５０％以上であり、
（ｅ）非晶質であり、
（ｆ）固体Ｓｉ−ＮＭＲでのＱ4ピークのケミカルシフトをδ（ｐｐｍ）とした場合に、δが下記式（Ｉ）
−０．０７０５×（Ｄmax）−１１０．３６＞δ    ・・・式（Ｉ）
を満足することを特徴とする、調湿剤用シリカゲル。
【請求項２】
周囲の雰囲気に含まれる湿分を吸着して該雰囲気を所定の湿度に調整する、調湿剤用シリカゲルであって、
（ａ）細孔容積が０．３〜１．６ｍｌ／ｇであり、
（ｂ）比表面積が２００〜９００ｍ2／ｇであり、
（ｃ）細孔の最頻直径（Ｄmax）が２０ｎｍ未満であり、
（ｄ）直径がＤmax±２０％の範囲内にある細孔の総容積が、全細孔の総容積の３０％以上であり、
（ｅ）非晶質であり、
（ｆ）該湿分と親和性の高い調湿補助剤を含有し、該調湿補助剤の含有率が１〜８０重量％の範囲であり、
（ｇ）固体Ｓｉ−ＮＭＲでのＱ4ピークのケミカルシフトをδ（ｐｐｍ）とした場合に、δが下記式（Ｉ）
−０．０７０５×（Ｄmax）−１１０．３６＞δ    ・・・式（Ｉ）
を満足することを特徴とする、調湿剤用シリカゲル。
【請求項３】
該調湿補助剤が、アルカリ金属塩及びアルカリ土類金属塩からなる群に属する金属塩の内、少なくとも一種類の金属塩からなることを特徴とする、請求項２記載の調湿剤用シリカゲル。
【請求項４】
上記のアルカリ金属塩及びアルカリ土類金属塩からなる群に属する金属塩として、少なくともリチウム塩類が含有されていることを特徴とする、請求項３記載の調湿剤用シリカゲル。
【請求項５】
該リチウム塩類として、少なくとも塩化リチウムが含有されていることを特徴とする、請求項４記載の調湿剤用シリカゲル。
【請求項６】
アルカリ金属及びアルカリ土類金属を除く金属不純物の総含有率が５００ｐｐｍ以下であることを特徴とする、請求項１〜５の何れか一項に記載の調湿剤用シリカゲル。
【請求項７】
最頻直径（Ｄmax）における微分細孔容積が、２〜２０ｍｌ／ｇであることを特徴とする、請求項１〜６の何れか一項に記載の調湿剤用シリカゲル。
【請求項８】
固体Ｓｉ−ＮＭＲ測定におけるＱ4／Ｑ3ピークの値が、１．３以上であることを特徴とする、請求項１〜７の何れか一項に記載の調湿剤用シリカゲル。
【請求項９】
シリコンアルコキシドを加水分解する工程を経て製造されることを特徴とする、請求項１〜８の何れか一項に記載の調湿剤用シリカゲル。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
すなわち、本発明の要旨は、調湿剤用シリカゲルが、（ａ）細孔容積が０．６〜２．０ｍｌ／ｇであり、（ｂ）比表面積が３００〜１０００ｍ2／ｇであり、（ｃ）細孔の最頻直径（Ｄmax）が２０ｎｍ未満であり、（ｄ）直径がＤmax±２０％の範囲内にある細孔の総容積が全細孔の総容積の５０％以上であり、（ｅ）非晶質であり、（ｆ）固体Ｓｉ−ＮＭＲでのＱ4ピークのケミカルシフトをδ（ｐｐｍ）とした場合にδが下記式（Ｉ）を満足することにある。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
−０．０７０５×（Ｄmax）−１１０．３６＞δ    ・・・式（Ｉ）
また、本発明の別の要旨は、調湿剤用シリカゲルが、（ａ）細孔容積が０．３〜１．６ｍｌ／ｇであり、（ｂ）比表面積が２００〜９００ｍ2／ｇであり、（ｃ）細孔の最頻直径（Ｄmax）が２０ｎｍ未満であり、（ｄ）直径がＤmax±２０％の範囲内にある細孔の総容積が、全細孔の総容積の３０％以上であり、（ｅ）非晶質であり、（ｆ）該湿分と親和性の高い調湿補助剤を含有し、該調湿補助剤の含有率が１〜８０重量％の範囲であり、（ｇ）固体Ｓｉ−ＮＭＲでのＱ4ピークのケミカルシフトをδ（ｐｐｍ）とした場合に、δが上式（Ｉ）を満足することにある。
【手続補正書】
【提出日】平成16年12月27日(2004.12.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
前記スラリーの粘度が１〜２０００ｃＰである請求項１記載の炭酸水素アルカリ金属塩水性スラリー。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】【課題を解決するための手段】  本発明者は、上記した目的を達成するべく鋭意研究したところ、以下の構成を有する本発明に到達したものである。（１）炭酸水素アルカリ金属塩粒子が３０〜７０質量％以上含まれる炭酸水素アルカリ金属塩水性スラリーであって、炭酸水素アルカリ金属塩粒子の平均粒子径が１〜２０μｍであり、該炭酸水素アルカリ金属塩粒子１００質量部に対して、１〜１５質量部の脂肪酸または脂肪酸塩が含まれることを特徴とする炭酸水素アルカリ金属塩水性スラリー。（２）前記スラリーの粘度が１〜２０００ｃＰである（１）に記載の炭酸水素アルカリ金属塩水性スラリー。（３）前記炭酸水素アルカリ金属塩が炭酸水素ナトリウムである（１）または（２）に記載の炭酸水素アルカリ金属塩水性スラリー。（４）前記脂肪酸または脂肪酸塩が炭素数８〜２０の脂肪酸のアルカリ金属塩である（１）〜（３）のいずれかに記載の炭酸水素アルカリ金属塩水性スラリー。（５）前記脂肪酸または脂肪酸塩の水性スラリー中の濃度が０．５〜１０質量％である（１）〜（４）のいずれかに記載の炭酸水素アルカリ金属塩水性スラリー。（６）炭酸水素アルカリ金属塩の粗粒子を脂肪酸または脂肪酸塩の存在下に湿式粉砕するか、または炭酸水素アルカリ金属塩の粗粒子を湿式粉砕した後、脂肪酸または脂肪酸塩を添加することを特徴とする（１）〜（５）のいずれかに記載の炭酸水素アルカリ金属塩水性スラリーの製造方法。（７）前記炭酸水素アルカリ金属塩の粗粒子を乾式で粉砕した後、脂肪酸または脂肪酸塩とともに水に分散することを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の炭酸水素アルカリ金属塩水性スラリーの製造方法。（８）請求項１〜５のいずれかに記載の炭酸水素アルカリ金属塩水性スラリーを含む洗浄剤。
【手続補正書】
【提出日】平成16年4月13日(2004.4.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
実施例１
〔下塗り用塗料の調製〕
顔料として、構造化カオリン（商品名：エクシロン／エンゲルハード社）５０部、重質炭酸カルシウム（商品名：ハイドロカーブ６０／備北粉化工業社）５０部を使用し、分散剤として、顔料に対しポリアクリル酸ソーダ０．２部を添加し、コーレス分散機を用いて固形分濃度が７０％の顔料スラリーを調製した。このスラリーにとうもろこしを原料澱粉とするリン酸エステル化澱粉（商品名：ＰＮ５００／三和澱粉社製、リン含有量：測定値１．５％）５部、およびガラス転移温度が−２３℃のスチレン−ブタジエン共重合体ラテックス（商品名：Ｘ−４００Ａ／ＪＳＲ社）１５部（いずれも固形分換算）をそれぞれ添加し、さらに水を加えて固形分濃度が６２％の塗料を調製した。


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
〔下塗り原紙の調製〕
表面層に晒化学パルプ、表面下層に脱墨古紙パルプ、中、裏面下層、裏面層には未脱墨古紙パルプを使用して５層に抄き合わされた米坪２９０ｇ／ｍ2の基紙の表面層上に、上記で得た下塗り用塗料をロッドコーターを用いて、片面当たり乾燥重量で１１ｇ／ｍ2となるように塗被、乾燥して下塗り原紙を得た。
〔オフセット印刷用塗工紙の調製〕
かくして得られた下塗り原紙に、上記で得た上塗り用塗料をブレードコーターを用いて、片面当たり乾燥重量で９ｇ／ｍ2となるように塗被、乾燥した後、金属ロール表面温度が１５０℃、２ニップのソフトキャレンダーに通紙して塗被層が２層の塗工白板紙を得た。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
実施例２
実施例１の下塗り用塗料および上塗り用塗料の調製において、リン酸エステル化澱粉を、とうもろこしを原料澱粉とするリン酸エステル化澱粉（商品名：ＰＮ７００／三和澱粉社製、リン含有量：測定値１．４％）に変更した以外は実施例１と同様にして塗工白板紙を得た。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
実施例３
実施例１の下塗り用塗料および上塗り用塗料の調製において、リン酸エステル化澱粉を、とうもろこしを原料澱粉とするリン酸エステル化澱粉（商品名：Ｐ−２６０／王子コンスターチ社製、リン含有量：測定値１．３％）に変更した以外は実施例１と同様にして塗工白板紙を得た。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
実施例６
実施例２において、基紙として米坪８０ｇ／ｍ2の上質紙を用いた以外は実施例２と同様にして塗工紙を得た。


【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
実施例７
実施例１の下塗り用塗料および上塗り用塗料の調製において、リン酸エステル化澱粉を、馬鈴薯を原料澱粉とするリン酸エステル化澱粉（商品名：ニールガムＡ８５／アベベ社製、リン含有量：測定値１．７％）に変更した以外は実施例１と同様にして塗工白板紙を得た。


【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
比較例１
実施例１の下塗り用塗料および上塗り用塗料の調製において、リン酸エステル化澱粉を、とうもろこしを原料澱粉とする酸化澱粉（商品名：エースＣ／王子コンスターチ社製）に変更した以外は実施例１と同様にして塗工白板紙を得た。


【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
比較例２
実施例１の下塗り用塗料および上塗り用塗料の調製において、リン酸エステル化澱粉を、とうもろこしを原料澱粉とするリン酸エステル化澱粉（商品名：ＵＰ３０５１／王子コンスターチ社製、リン含有量：０．３％）に変更した以外は実施例１と同様にして塗工白板紙を得た。


【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
比較例３
実施例１の下塗り用塗料および上塗り用塗料の調製において、リン酸エステル化澱粉を、とうもろこしを原料澱粉とするリン酸エステル化澱粉（商品名：ＭＳ４６００／日本食品加工社製、リン含有量：０．７％）に変更した以外は実施例１と同様にして塗工白板紙を得た。
【手続補正書】
【提出日】平成17年9月27日(2005.9.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  衣服であって、人の胴体の一部を少なくとも部分的に包囲するようになった部分と、管状部分とを有し、管状部分は、第１の端部が本体部分に結合され、第２の端部の周りに円周方向にぐるりと延びる第１の縁部を備えた上方管状部分と、第１の縁部に隣接して位置する上縁部及び上縁部から距離を置いて位置して下縁部を備えた拡張可能な部分と、第１の端部が下縁部に近接して位置する第２の縁部及び第２の端部は袖口縁部によって包囲された袖口開口部を備える下方管状部分とを有し、下縁部は、上縁部に直接結合でき、それにより管状部分が第１の長さに調節され、下縁部は、上縁部から分離可能であり、それにより管状部分は第２の長さに調節され、第２の長さは、第１の長さよりも長いことを特徴とする衣服。
【請求項２】  第２の長さは、第１の長さと前記距離の合計であることを特徴とする請求項１記載の衣服。
【請求項３】  上縁部に沿って延びる上列をなすジッパー歯と、下縁部に沿って延びる下列をなすジッパー歯とを更に有していることを特徴とする請求項１記載の衣服。
【請求項４】  ジッパー歯の上列とジッパー歯の下列を互いに接合することにより、管状部分は第１の長さに調節され、ジッパー歯の上列とジッパー歯の下列を互いに分離することにより、管状部分は第２の長さに調節されることを特徴とする請求項３記載の衣服。
【請求項５】  拡張可能な部分は、第１のジッパーストップ及び第２のジッパーストップを備えたジッパーを有し、第１のジッパーストップは、上縁と下縁との中間で布部分に固定され、第２のジッパーストップは、上縁と下縁部のうちの一方に固定されていることを特徴とする請求項１記載の衣服。
【請求項６】  ジッパーは、ジッパー引き具を有し、袖を第２の長さから第１の長さに調節するには、ジッパー引き具を第１のジッパーストップから第２のジッパーストップまで袖の周りに少なくとも完全に移動させることを特徴とする請求項５記載の衣服。
【請求項７】  衣服は、ジャケットであり、管状部分は、袖であることを特徴とする請求項１記載の衣服。
【請求項８】  衣服は、パンツであり、管状部分は、パンツ脚であることを特徴とする請求項１記載の衣服。
【手続補正書】
【提出日】平成16年12月10日(2004.12.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
音声波形から複数の微細素片を取得する取得工程と、
前記音声波形の韻律を制御するべく前記取得工程で取得した微細素片を処理する処理工程であって、前記複数の微細素片のうち選択された微細素片に対しては所定の韻律制御の実行が禁止される処理工程と、
前記処理工程によって韻律制御された音声波形を用いて合成音声を得る合成工程とを備えたことを特徴とする音声合成方法。
【請求項２】
前記処理工程は、前記音声波形に対応する制限情報に基づいて選択された前記微細素片に対する所定の韻律制御の実行が、前記制限情報に基づいて禁止されることを特徴とする請求項１記載の音声合成方法。
【請求項３】
前記処理工程は、制限情報が対応付けられていることによって選択された微細素片に対する所定の韻律制御の実行が、該制限情報に基づいて禁止されることを特徴とする請求項１記載の音声合成方法。
【請求項４】
前記処理工程は、韻律制御として合成音声の発声時間の時間短縮を行なう場合に、前記選択された微細素片の削除が禁止されることを特徴とする請求項１記載の音声合成方法。
【請求項５】
前記処理工程は、韻律制御として合成音声の時間伸長を行なう場合に、前記選択された微細素片の繰り返し使用が禁止されることを特徴とする請求項１記載の音声合成方法。
【請求項６】
前記処理工程は、韻律制御として合成音声の基本周波数の変更を行なう場合に、前記選択された微細素片の間隔変更が禁止されることを特徴とする請求項１記載の音声合成方法。
【請求項７】
時間軸に並ぶ複数の窓関数と、それらのうちの少なくとも一つの窓関数に対応付けられた制約情報を記憶する記憶手段を更に備え、
前記取得工程は、前記複数の窓関数を用いて音声波形から微細素片を切り出すことにより微細素片を取得し、
前記制限情報は、窓関数に該制約情報が対応付けられている場合に、その窓関数によって切り出された微細素片に対応付けられることを特徴とする請求項２記載の音声合成方法。
【請求項８】
前記処理工程は、音声波形上の特定位置に対応する微細素片に対する所定の韻律制御の実行が禁止されることを特徴とする請求項１記載の音声合成方法。
【請求項９】
前記特定位置が有声音部分と無声音部分との境界を含むことを特徴とする請求項８記載の音声合成方法。
【請求項１０】
前記特定位置が音素境界を含むことを特徴とする請求項８記載の音声合成方法。
【請求項１１】
前記特定位置が、破裂音を含む所定の範囲であって、該所定の範囲が複数の微細素片を含むことを特徴とする請求項８記載の音声合成方法。
【請求項１２】
音声波形から複数の微細素片を取得する取得手段と、
前記音声波形の韻律を制御するべく前記取得手段で取得した微細素片を処理する処理手段であって、前記複数の微細素片のうち選択された微細素片に対しては所定の韻律制御の実行が禁止される処理手段と、
前記処理手段によって韻律制御された音声波形を用いて合成音声を得る合成手段とを備えたことを特徴とする音声合成装置。
【請求項１３】
請求項１乃至１１のいずれかに記載の音声合成方法をコンピュータによって実現するための制御プログラムを格納したことを特徴とする記憶媒体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するための本発明の一態様による音声合成方法は例えば以下の構成を備える。即ち、音声波形から複数の微細素片を取得する取得工程と、前記音声波形の韻律を制御するべく前記取得工程で取得した微細素片を処理する処理工程であって、前記複数の微細素片のうち選択された微細素片に対しては所定の韻律制御の実行が禁止される処理工程と、前記処理工程によって韻律制御された音声波形を用いて合成音声を得る合成工程とを備える。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
また、上記の目的を達成するための本発明の他の態様による音声合成方法は例えば以下の構成を備える。すなわち、音声波形から複数の微細素片を取得する取得手段と、前記音声波形の韻律を制御するべく、前記取得手段で取得した微細素片を処理する処理手段であって、前記複数の微細素片のうち選択された微細素片に対しては所定の韻律制御の実行が禁止される処理手段と、前記処理手段によって韻律制御された音声波形を用いて合成音声を得る合成手段とを備える。