(57)【要約】【課題】磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法において、主表面の低粗さを実現しつつ必要な端部形状を同時に満たすことが可能な磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供する。【解決手段】ガラス基板の主表面を研磨して磁気ディスク用ガラス基板を製造する製造方法において、研磨パッドは、厚みが０．５５ｍｍ〜０．９ｍｍ、押圧力が６６ｇ／ｃｍ２〜１３０ｇ／ｃｍ２である場合に、パッドモジュラス値からパッドの圧縮変形量値を引いた値が７０乃至１００である。【選択図】図１
2010086597.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
円盤状のガラス基板の両主表面に、研磨パッドを押圧させ、これらガラス基板及び研磨パッドとの間に研磨材を含む研磨液を供給しながら、前記ガラス基板と前記研磨パッドとを相対的に移動させて、前記ガラス基板の主表面を研磨して、磁気ディスク用ガラス基板を製造する製造方法において、
前記研磨パッドは、厚みが０．５５ｍｍ〜０．９ｍｍ、押圧力が６６ｇ／ｃｍ２〜１３０ｇ／ｃｍ２である場合に、パッドモジュラス値からパッドの圧縮変形量値を引いた値が７０乃至１００である
ことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
【請求項２】
前記研磨パッドは、少なくとも表層が、発泡樹脂からなる
ことを特徴とする請求項１記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
【請求項３】
前記研磨パッドの少なくとも表層をなす発泡樹脂は、Ｅｓｔｅｒ／Ｅｔｈｅｒの混合樹脂である
ことを特徴とする請求項２記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
【請求項４】
前記研磨材は、粒径３０ｎｍ以下のシリカ砥粒である
ことを特徴とする請求項１記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
【請求項５】
前記研磨パッドを用いた研磨は、押圧力６６ｇ／ｃｍ２〜１３０ｇ／ｃｍ２、研磨機回転速度１２ｒｐｍ〜２６ｒｐｍ、研磨材流量３００ｍｌ／ｍｉｎ〜１５００ｍｌ／ｍｉｎ、パッド研磨時間８ｍｉｎ〜６０ｍｉｎの条件で行う
ことを特徴とする請求項１記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
【請求項６】
前記研磨パッドを用いて研磨を行う前に、プレ研磨材及びプレ研磨パッドを用いて前記ガラス基板の主表面を研磨するプレ研磨工程を有し、
前記プレ研磨材は、セリウム砥粒である
ことを特徴とする請求項１記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
【請求項７】
請求項１乃至請求項６のいずれか一に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法により得られたガラス基板の表面に、少なくとも磁性層を形成する
ことを特徴とする磁気ディスクの製造方法。
【請求項８】
前記磁気ディスクは、垂直磁気記録方式用磁気ディスクであって、
前記磁性層は、複数の層からなり、少なくとも１層は、軟磁性層である
ことを特徴とする請求項７記載の磁気ディスクの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、コンピュータ等の記録媒体として用いられる磁気ディスク用のガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、情報技術の高度化に伴い、情報記録技術、特に磁気記録技術は著しく進歩している。磁気記録媒体のひとつであるＨＤＤ（ハードディスクドライブ）等の磁気記録媒体用基板としては、アルミニウム基板が広く用いられてきた。しかし磁気ディスクの小型化、薄板化、及び高記録密度化に伴い、アルミニウム基板に比べ基板表面の平坦性及び基板強度に優れたガラス基板に徐々に置き換わりつつある。
【０００３】
また、磁気ディスクの主表面を有効利用するために、従来のＣＳＳ（Ｃｏｎｔａｃｔ  Ｓｔａｒｔ  Ｓｔｏｐ）方式に代えて、ＬＵＬ（Ｌｏａｄ  ＵｎＬｏａｄ）方式が用いられるようになってきた。ＣＳＳ方式は、磁気ディスクの主表面上に設けたＣＳＳゾーンに磁気ヘッドを接触させて退避させる方式であり、ＬＵＬ方式は磁気ディスクの外部に設けたランプ（傾斜部）に磁気ヘッドを退避させる方式である。ＣＳＳゾーンは記録領域として使用できないばかりか、磁気ヘッドの吸着を防止するためにある程度の表面粗さとする必要があった。しかし、ＬＵＬ方式を採用したことにより磁気ディスク全面を記録領域として利用可能となるとともに、その表面にあえて凹凸形状を設ける必要がなく、磁気ディスク表面を極めて平滑化することが可能となった。
【０００４】
また、磁気記録技術の高密度化に伴い、磁気ヘッドの方も薄膜ヘッドから、磁気抵抗型ヘッド（ＭＲヘッド）、大型磁気抵抗型ヘッド（ＧＭＲヘッド）へと推移してきている。しかし、ＧＭＲヘッドは感度が高く、また高記録密度化もあいまって、ヘッドと基板が離れていては隣接する記録ビットの情報を拾ってしまうために、磁気ヘッドの浮上量を低く抑える必要がある。
【０００５】
これらの事情から、磁気ヘッドの低浮上量化が求められており、磁気ヘッドの基板からの浮上量が８ｎｍ程度にまで狭くなってきている。
【０００６】
磁気ヘッドを低浮上量化した場合、ヘッドクラッシュ障害やサーマルアスペリティ障害を引き起こす場合がある。ヘッドクラッシュ障害は、磁気ヘッドが磁気ディスクの凸部に衝突して損傷する障害である。サーマルアスペリティ障害とは、磁気ディスク面上の微小な凸形状あるいは凹形状上を磁気ヘッドが浮上飛行しながら通過するときに、空気の断熱圧縮または接触により磁気抵抗効果型素子が加熱されることにより、読み出しエラーを生じる障害である。したがって磁気抵抗型素子を搭載した磁気ヘッドに対しては、磁気ディスク表面は極めて高度な平滑度及び平坦度、すなわち低粗さが求められる。
【０００７】
特に、最近では、特許文献１に記載されているように、記録密度をより一層向上させるために、垂直磁気記録方式が主式方式となりつつある。この垂直磁気記録媒体の場合には、面内磁気記録方式の場合と比べて、記録密度が高いため、ガラス基板の粗さの影響がより顕著に表れやすい。このため、ガラス基板には、より一層の低粗さが求められる。
【０００８】
上記のような状況において、ガラス基板の表面粗さを決定する因子に研磨パッドが挙げられ、より低粗さを実現するためには軟質パッドを用いることが一般的である。
【０００９】
【特許文献１】特開２００５−４４４６４公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
ところで、たとえ磁気ディスク表面の平均粗さが低くても、実際にハードディスクとして稼働させた場合に、ヘッドのクラッシュ及びヘッドの墜落が起きる場合がある。これは、磁気ディスクの基板端部の形状がジャンプ形状及び急激なダレ形状となっている場合に起きることがある。基板端部がジャンプ形状である場合、ヘッドがジャンプ部に接触し、ヘッドクラッシュを発生させる場合がある。また、基板端部が急激なダレ形状である場合、端部でヘッドの浮上力が失われ、ヘッドの墜落を発生させる場合がある。したがって、磁気ディスクの基板端部の形状は、最外周部までフラットもしくは緩やかなダレ形状であることが求められる。
【００１１】
しかしながら、軟質パッドを用いて磁気ディスク用ガラス基板の研磨を行った場合、基板端部の形状は、急激なダレ形状となることがわかっている。よって、従来の技術では、低粗さとフラットもしくは緩やかなダレ形状とを、同時に成立させることができない。端部形状をフラットもしくは緩やかなダレ形状に形成するためには、硬質パッドを用いる必要があり、その場合、必要な低粗さを得ることができない。
【００１２】
すなわち、磁気ディスク用ガラス基板の表面の低粗さと良質な端部形状とは、基本的にトレードオフの関係にあり、両者は同時に成り立たないこととなる。
【００１３】
そこで、本発明は、低粗さを実現しつつも必要な端部形状を同時に満たすことが可能な磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明者は、上述の問題について検討した結果、表面粗さに効果的な物性は、研磨パッドのモジュラス値（ｋｇ／ｃｍ２）であり、端部形状に効果的な物性は、パッドの圧縮変形量であることをつきとめた。さらに、両者の値を特定の範囲とすることにより、従来のトレードオフの関係を打ち消し、低粗さと良質な端部形状とを有する磁気ディスク用ガラス基板を作製できる研磨パッドの発明に至った。
【００１５】
表面粗さに効果的な物性であるモジュラス値（ｋｇ／ｃｍ２）は、パッドの軟硬質性を表すものであり、値が小さくなるほど軟らかいパッドになる。
【００１６】
端部形状に効果的な物性である圧縮変形量は、規定の値を加えた際にパッドがどれだけ沈み込むかを表したものであり、値が小さいほど硬質パッドになる。
【００１７】
低粗さで良質な端部形状を得るためにはモジュラス値は低く、圧縮変形量も低いパッドを用いるのが最も効果的であるが、低モジュラス値の樹脂を使用した場合には、圧縮変形量は高くなるのが一般的である。
【００１８】
そこで、低モジュラス値の樹脂を使用しても圧縮変形量を低く抑制できる処置を施すことにより、低粗さで良質な端部形状を得ることができる。ただし、圧縮変形量を低く抑制できる限界は決まっているため、モジュラス値の低減値は規定の範囲内である必要がある。
【００１９】
すなわち、本発明は、以下の構成のいずれか一を有するものである。
【００２０】
〔構成１〕
円盤状のガラス基板の両主表面に研磨パッドを押圧させ、これらガラス基板及び研磨パッドとの間に研磨材を含む研磨液を供給しながら、ガラス基板と研磨パッドとを相対的に移動させて、ガラス基板の主表面を研磨して、磁気ディスク用ガラス基板を製造する製造方法において、研磨パッドは、厚みが０．５５ｍｍ〜０．９ｍｍ、押圧力が６６ｇ／ｃｍ２〜１３０ｇ／ｃｍ２である場合に、パッドモジュラス値からパッドの圧縮変形量値を引いた値が７０乃至１００であることを特徴とするものである。
【００２１】
〔構成２〕
構成１を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、研磨パッドは、少なくとも表層が、発泡樹脂からなることを特徴とするものである。
【００２２】
〔構成３〕
構成２を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、研磨パッドの少なくとも表層をなす発泡樹脂は、Ｅｓｔｅｒ／Ｅｔｈｅｒの混合樹脂であることを特徴とするものである。
【００２３】
〔構成４〕
構成１を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、研磨材は、粒径３０ｎｍ以下のシリカ砥粒であることを特徴とするものである。
【００２４】
〔構成５〕
構成１を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、研磨パッドを用いた研磨は、押圧力６６ｇ／ｃｍ２〜１３０ｇ／ｃｍ２、研磨機回転速度１２ｒｐｍ〜２６ｒｐｍ、研磨材流量３００ｍｌ／ｍｉｎ〜１５００ｍｌ／ｍｉｎ、パッド研磨時間８ｍｉｎ〜６０ｍｉｎの条件で行うことを特徴とするものである。
【００２５】
〔構成６〕
構成１を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、研磨パッドを用いて研磨を行う前に、プレ研磨材及びプレ研磨パッドを用いてガラス基板の主表面を研磨するプレ研磨工程を有し、プレ研磨材は、セリウム砥粒であることを特徴とするものである。
【００２６】
〔構成７〕
磁気ディスクの製造方法であって、構成１乃至構成６のいずれか一を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法により得られたガラス基板の表面に、少なくとも磁性層を形成することを特徴とするものである。
【００２７】
〔構成８〕
構成７を有する磁気ディスクの製造方法において、磁気ディスクは、垂直磁気記録方式用磁気ディスクであって、磁性層は、複数の層からなり、少なくとも１層は、軟磁性層であることを特徴とするものである。
【発明の効果】
【００２８】
本発明によれば、モジュラス値から圧縮変形量を引いた値が範囲内に収まっているパッドを使用することにより、低モジュラス値による粗さの低減効果と低圧縮変形量による端部形状の良化効果とを得ることができる。すなわち、本発明によれば、粗さと端部形状品質を同時に満たした磁気ディスク用ガラス基板を作製することができる。
【００２９】
すなわち、本発明は、低粗さを実現しつつも必要な端部形状を同時に満たすことが可能な磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法を提供することができるものである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３０】
以下、本発明を実施するための最良の実施の形態について説明する。
【００３１】
本発明においては、磁気ディスク用ガラス基板の主表面を研磨する研磨パッドをなす材料について、モジュラス値（ｋｇ／ｃｍ２）及び圧縮変形量の最適値を検証した結果、モジュラス値から圧縮変形量値を引いた値が特定の範囲に収まる場合に、磁気ディスク用ガラス基板の表面粗さと端部形状との両立ができることを見出した。その範囲外では、粗さもしくは端部形状のいずれかの品質を満たすことができるものの、両立させて品質を満たすことはできない。
【００３２】
表面粗さに効果的な物性であるモジュラス値は、パッドの軟硬質性を表すものであり、値が小さくなるほど軟らかいパッドになる。
【００３３】
端部形状に効果的な物性である圧縮変形量は、規定の値を加えた際にパッドがどれだけ沈み込むかを表したものであり、値が小さいほど硬質パッドになる。
【００３４】
研磨パッドは、厚みが０．５５ｍｍ〜０．９ｍｍ、押圧力が６６ｇ／ｃｍ２〜１３０ｇ／ｃｍ２である場合に、パッドモジュラス値からパッドの圧縮変形量値を引いた値が７０乃至１００であることが好ましい。
【００３５】
図１は、モジュラス値から圧縮変形量を引いた値と粗さ、端部形状品質の関係を示す図である。
【００３６】
図１に示すように、その範囲は以下の通りである。
〔モジュラス値〕−〔圧縮変形量〕＝７０以下：端部形状品質ＮＧ
〔モジュラス値〕−〔圧縮変形量〕＝７０以上：端部形状品質ＯＫ
〔モジュラス値〕−〔圧縮変形量〕＝１００以下：粗さ品質ＯＫ
〔モジュラス値〕−〔圧縮変形量〕＝１００以上：粗さ品質ＮＧ
〔モジュラス値〕−〔圧縮変形量〕＝７０〜１００：粗さ及び端部形状品質ＯＫ
【００３７】
このように、モジュラス値−圧縮変形量＝７０〜１００になる場合、粗さと端部形状を両立して満たすことができる。
【００３８】
また、研磨パッドは、少なくとも表層が、発泡樹脂からなることが好ましい。さらに、研磨パッドの少なくとも表層をなす発泡樹脂は、Ｅｓｔｅｒ／Ｅｔｈｅｒの混合樹脂であることが好ましい。
【００３９】
研磨材は、粒径３０ｎｍ以下のシリカ砥粒を用いることが好ましい。
【００４０】
そして、研磨パッドを用いた研磨は、押圧力６６ｇ／ｃｍ２〜１３０ｇ／ｃｍ２、研磨機回転速度１２ｒｐｍ〜２６ｒｐｍ、研磨材流量３００ｍｌ／ｍｉｎ〜１５００ｍｌ／ｍｉｎ、パッド研磨時間８ｍｉｎ〜６０ｍｉｎの条件で行うことが好ましい。
【００４１】
なお、研磨パッドを用いて研磨を行う前に、プレ研磨材及びプレ研磨パッドを用いてガラス基板の主表面を研磨するプレ研磨工程を有し、プレ研磨材は、セリウム砥粒であることが好ましい。
【実施例】
【００４２】
以下、本発明を適用した磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスクの製造方法について実施例を説明する。この磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスクは、０．８インチ型ディスク（内径６ｍｍ、外径２１．６ｍｍ、板厚０．３８１ｍｍ）、１．０インチ型ディスク（内径７ｍｍ、外径２７．４ｍｍ、板厚０．３８１ｍｍ）、１．８インチ型磁気ディスク（内径１２ｍｍ、外径４８ｍｍ、板厚０．５０８ｍｍ）などの所定の形状を有する磁気ディスクとして製造される。また、２．５インチ型ディスクや３．５インチ型ディスクとして製造してもよい。
【００４３】
（１）形状加工工程及び第１ラッピング工程
まず、溶融させたアルミノシリケートガラスを上型、下型、胴型を用いたダイレクトプレスによりディスク形状に成型し、アモルファスの板状ガラスを得た。なお、アルミノシリケートガラスはＳｉＯからなる網目状のガラス骨格と、修飾イオンとしてアルミニウムを含む構造を有し、アルカリ金属元素を含むガラスである。ダイレクトプレス以外に、ダウンドロー法やフロート法で形成したシートガラスから研削砥石で切り出して円盤状の磁気ディスク用ガラス基板を得てもよい。なお、アルミノシリケートガラスとしては、ＳｉＯ２：５８〜７５重量％、Ａｌ２Ｏ３：５〜２３重量％、Ｌｉ２Ｏ：３〜１０重量％、Ｎａ２Ｏ：４〜１３重量％を主成分として含有する化学強化ガラスを使用した。
【００４４】
次に、この板状ガラスの両主表面をラッピング加工し、ディスク状のガラス母材とした。ラッピング加工は、板状ガラスの主表面にラップ定盤を押圧し、荒削りする研削加工である。
【００４５】
（２）切り出し工程（コアリング、フォーミング）
次に、円筒状のダイヤモンドドリルを用いて中心部に内孔を形成した（コアリング）。そして内周端面及び外周端面をダイヤモンド砥石によって研削し、所定の面取り加工を施した（フォーミング）。
【００４６】
（３）端面研磨工程
次に、ガラス基板の端面について、ブラシ研磨方法により、鏡面研磨を行った。この端面研磨工程により、ガラス基板の端面は、パーティクル等の発塵を防止できる鏡面状態に加工された。
【００４７】
（４）第２ラッピング工程
次に、得られたガラス基板の両主表面について、第１ラッピング工程と同様に、第２ラッピング加工を行った。この第２ラッピング工程を行うことにより、前工程である切り出し工程や端面研磨工程において主表面に形成された微細な凹凸形状を予め除去しておくことができ、後続の主表面に対する研磨工程を短時間で完了させることができるようになる。
【００４８】
第２ラッピング工程では、砥粒の粒度として＃１０００を選択し、主表面の平坦度を３μｍ、表面粗さＲｍａｘが２μｍ程度、算術平均粗さＲａを０．２μｍ程度とした（Ｒｍａｘ及びＲａは日本工業規格（ＪＩＳ）Ｂ０６０１に従う）。なお、Ｒｍａｘ、Ｒａは原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）（デジタルインスツルメンツ社製ナノスコープ）にて測定した。平坦度は平坦度測定装置で測定したもので、基板表面の最も高い部分と、最も低い部分との上下方向（表面に垂直な方向）の距離（高低差）である。
【００４９】
（５）主表面の第１研磨工程（プレ研磨工程）
主表面の研磨工程として、まず第１研磨工程を施した。この第１研磨工程は次工程である第２研磨工程（鏡面研磨工程）に先立って予め主表面を研磨し、前述のラッピング工程において主表面に残留したキズや歪みを除去することを主たる目的とするものである。
【００５０】
この第１研磨工程においては、一度に１００枚から２００枚のガラス基板を研磨可能な両面研磨装置によって研磨した。この両面研磨装置は、上記多数枚のガラス基板を研磨布を介して上方定盤及び下方定盤によって挟持し、遊星歯車機構によって相対的に移動させることにより研磨を行う。第１研磨工程における研磨布としては、硬質樹脂ポリッシャを用いた。研磨材としては酸化セリウム砥粒を用い、粒径の最大値が３．５μｍ、平均値が１．１μｍ、Ｄ５０値が１．１μｍのものを水に混入させて用いた。
【００５１】
この第１研磨工程を終えたガラス基板を、中性洗剤、純水、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）、の各洗浄槽に順次浸漬して、洗浄した。
【００５２】
（６）主表面の第２研磨工程
次に、主表面の研磨工程として、第２研磨工程を施した。この第２研磨工程は、主表面を鏡面状に仕上げることを目的とする。この第２研磨工程においては、第１研磨工程と同様の両面研磨装置により、前出の範囲内の値である研磨布として軟質発泡樹脂ポリッシャ、具体的には発泡ポリウレタンを用いて、主表面の鏡面研磨を行った。
【００５３】
すなわち、研磨パッドは、厚みが０．５５ｍｍ〜０．９ｍｍ、押圧力が６６ｇ／ｃｍ２〜１３０ｇ／ｃｍ２である場合に、パッドモジュラス値からパッドの圧縮変形量値を引いた値が７０乃至１００である。
【００５４】
研磨材としては、粒径３０ｎｍのコロイド状シリカ砥粒を準備し、水と、全解離性の無機酸として硫酸、緩衝作用のある薬液として、有機酸である酒石酸加えて研磨液を作製した。研磨液中のシリカの含有量は５〜４０重量％とすることが好ましい。本実施例では１０重量％とした。研磨液中の残部は超純水である。
【００５５】
そして、研磨条件は、押圧力６６ｇ／ｃｍ２〜１３０ｇ／ｃｍ２、研磨機回転速度１２ｒｐｍ〜２６ｒｐｍ、研磨材流量３００ｍｌ／ｍｉｎ〜１５００ｍｌ／ｍｉｎ、パッド研磨時間８ｍｉｎ〜６０ｍｉｎとした。
【００５６】
（７）鏡面研磨処理後の洗浄工程
第２研磨工程を終えたガラス基板を、濃度３〜５ｗｔ％のＮａＯＨ水溶液に浸漬してアルカリ洗浄を行った。尚、洗浄は超音波を印加して行った。さらに、中性洗剤、純水、純水、ＩＰＡ、ＩＰＡ（蒸気乾燥）の各洗浄槽に順次浸漬して洗浄した。なお、各洗浄槽には、超音波を印加した。
【００５７】
（８）化学強化工程
次に、前述のラッピング工程及び第１研磨工程、第２研磨工程を終えたガラス基板に、化学強化を施した。化学強化は、硝酸カリウム（６０％）と硝酸ナトリウム（４０％）を混合した化学強化溶液を用意し、この化学強化溶液を３７５℃に加熱しておくとともに、洗浄済みのガラス基板を３００℃に予熱し、化学強化溶液中に約３時間浸漬することによって行った。この浸漬の際には、ガラス基板の表面全体が化学強化されるようにするため、複数のガラス基板が端面で保持されるように、ホルダに収納した状態で行った。
【００５８】
このように、化学強化溶液に浸漬処理することによって、ガラス基板の表層のリチウムイオン及びナトリウムイオンが、化学強化溶液中のナトリウムイオン及びカリウムイオンにそれぞれ置換され、ガラス基板が強化される。ガラス基板の表層に形成された圧縮応力層の厚さは、約１００μｍから２００μｍであった。
【００５９】
化学強化処理を終えたガラス基板を、２０℃の水槽に浸漬して急冷し、約１０分間維持した。そして、急冷を終えたガラス基板を、約４０℃に加熱した濃硫酸に浸漬して洗浄を行った。さらに、硫酸洗浄を終えたガラス基板を純水、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）の各洗浄槽に順次浸漬して洗浄した。
【００６０】
（９）磁気ディスク用ガラス基板の検査工程
以上のように製造された磁気ディスク用ガラス基板の検査を行った。ガラス基板の表面は清浄な鏡面状態であった。表面には、磁気ヘッドの浮上を妨げる異物や、サーマルアスペリティ障害の原因となる異物は存在しなかった。すなわち、平坦、かつ、平滑な、高剛性の磁気ディスク用ガラス基板を得た。
【００６１】
以上のように製造された磁気ディスク用のガラス基板を用いて垂直磁気記録方式の磁気ディスクを製造した。
【００６２】
（１０）磁気ディスク製造工程
上述した工程を経て得られたガラス基板の両面に、ガラス基板の表面にＣｒ合金からなる付着層、ＣｏＴａＺｒ基合金からなる軟磁性層、Ｒｕからなる下地層、ＣｏＣｒＰｔ基合金からなる垂直磁気記録層、水素化炭素からなる保護層、パーフルオロポリエーテルからなる潤滑層を順次成膜することにより、垂直磁気記録ディスクを製造した。なお、本構成は垂直磁気ディスクの構成の一例であるが、面内磁気ディスクとして磁性層等を構成してもよい。
【００６３】
（１１）磁気ディスクの検査工程
以上のように製造された磁気ディスクの検査を行った。浮上量が１０ｎｍである検査用ヘッドを用いて磁気ディスク上を浮上走行させるヘッドクラッシュ試験を行ったところ、磁気ヘッドが異物等に接触することがなく、クラッシュ障害は生じなかった。
【００６４】
次に、実施例のガラス基板からなる磁気ディスクに対し、浮上量が８ｎｍであって、再生素子部が磁気抵抗効果型素子、記録素子部が単磁極型素子を用いて、垂直記録方式による記録再生試験を行ったところ、正常に情報が記録、再生されることを確認した。再生信号にサーマルアスペリティ信号が検出されることも無かった。１平方インチ当り１００ギガビットで記録再生を行うことができた。
【００６５】
次に、実施例のガラス基板からなる磁気ディスクに対し、グライドハイト試験を行った。この試験は、検査用ヘッドの浮上量を次第に低下させた場合に、どの浮上量で検査用ヘッドと磁気ディスクとの接触が生じるのかを確認する試験である。結果、本実施例の磁気ディスクでは、磁気ディスクの内縁部分から外縁部分に渡って、浮上量が４ｎｍであっても接触が生じなかった。磁気ディスクの外縁部分においては、グライドハイトは３．７ｎｍであった。
【００６６】
以上、本発明の好適な実施例について説明したが、本発明は係る例に限定されないことは言うまでもない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
【図面の簡単な説明】
【００６７】
【図１】モジュラス値−圧縮変形量の値と粗さ、端部形状品質の関係を表した図である。
【図１】
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