【手続補正書】
【提出日】令和2年12月3日(2020.12.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６１】
当業者には、特許請求される主題の趣旨および範囲から逸脱することなく、本明細書に記載される実施形態に対して様々な修正および変更がなされ得ることが明らかであろう。したがって、本明細書は、本明細書に記載された様々な実施形態の改変および変形を包含するが、かかる改変および変形は、添付の特許請求の範囲およびそれらの等価物の範囲内に入るものとすることが意図される。
以下、本発明の好ましい実施形態を項分け記載する。
実施形態１
ガス分離膜を作製する方法であって、
ポリ（エーテル−ｂ−アミド）（ＰＥＢＡ）コポリマーを溶媒に溶解してポリマー溶液を形成することと、
前記溶液を、型に流し込むことと、
前記溶媒を蒸発させてフィルムを形成することと、
前記フィルムを架橋溶液に浸漬して、架橋フィルムを形成することであって、前記溶液が、式（Ｉ）によるジイソシアネートポリエーテルを含む、形成することと、
【化４】
2020532419.tif 000001
式中、
Ｒ６が、独立して、アルキルまたは−Ｈであり、
ｘが、１〜２００であり、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、およびＲ１１が、独立して、−Ｃ＝Ｎ＝Ｏ、アルキルまたは−Ｈであるが、ただし、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５のうちの少なくとも１つかつ２つ以下が−Ｃ＝Ｎ＝Ｏであり、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０およびＲ１１のうちの少なくとも１つかつ２つ以下が、独立して−Ｃ＝Ｎ＝Ｏであり、
前記フィルムを乾燥させて、前記ガス分離膜を形成することと、を含む、ガス分離膜を作製する方法。
実施形態２
前記ポリ（エーテル−ｂ−アミド）コポリマーが、２５〜８０重量％のポリエーテルセグメントおよび７５〜２０重量％のポリアミドセグメントを含む、実施形態１に記載のガス分離膜を作製する方法。
実施形態３
Ｒ６が、メチルまたは−Ｈである、実施形態１に記載のガス分離膜を作製する方法。
実施形態４
Ｒ４およびＲ８が、−Ｃ＝Ｎ＝Ｏであり、Ｒ３およびＲ９が、メチルである、実施形態１に記載のガス分離膜を作製する方法。
実施形態５
前記ポリマー溶液が、１〜９９重量パーセントのポリ（エーテル−ｂ−アミド）コポリマーを含む、実施形態１に記載のガス分離膜を作製する方法。
実施形態６
前記架橋溶液が、式（Ｉ）による前記架橋剤を２〜４０重量パーセント含む、実施形態１に記載のガス分離膜を作製する方法。
実施形態７
前記架橋溶液が、３５〜８５℃の温度を有していた、実施形態１に記載のガス分離膜を作製する方法。
実施形態８
前記ガス分離膜を、３５〜９０℃の温度で乾燥させた、実施形態１に記載のガス分離膜を作製する方法。
実施形態９
ガス分離の方法であって、
ガス分離膜を通してガス流を流すことであって、前記ガス分離膜が、式（Ｉ）によるジイソシアネートポリエーテルにより架橋されたポリエーテルブロックアミド（ＰＥＢＡ）を含む、流すことと、
【化５】
2020532419.tif 000002
式中、
各Ｒ６が、独立して、アルキルまたは−Ｈであり、
ｘが、１〜２００であり、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、およびＲ１１が、独立して、−Ｃ＝Ｎ＝Ｏ、アルキルまたは−Ｈであるが、ただし、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５のうちの少なくとも１つかつ２つ以下が、−Ｃ＝Ｎ＝Ｏであり、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０およびＲ１１のうちの少なくとも１つかつ２つ以下が、独立して−Ｃ＝Ｎ＝Ｏであり、
前記ガス分離膜を介して前記ガスを分離することと、を含む、ガス分離の方法。
実施形態１０
前記ガス分離膜が、ポリ（エーテル−ｂ−アミド）コポリマーと比較した場合に、１００％を超える機械的引張応力の増加を達成する、実施形態９に記載のガス分離の方法。
実施形態１１
架橋ポリ（エーテル−ｂ−アミド）コポリマーを含むガス分離膜であって、前記ポリ（エーテル−ｂ−アミド）コポリマーが、ポリ（エーテル−ｂ−アミド）コポリマーと式（Ｉ）によるジイソシアネートポリエーテルとの反応生成物であるウレタン架橋を含み、
【化６】
2020532419.tif 000003
式中、
各Ｒ６が、独立して、アルキルまたは−Ｈであり、
ｘが、１〜２００であり、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、およびＲ１１が、独立して、−Ｃ＝Ｎ＝Ｏ、アルキルまたは−Ｈであるが、ただし、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５のうちの少なくとも１つかつ２つ以下が、−Ｃ＝Ｎ＝Ｏであり、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０およびＲ１１のうちの少なくとも１つかつ２つ以下が、独立して−Ｃ＝Ｎ＝Ｏである、ガス分離膜。
実施形態１２
前記ガス分離膜が、３０〜７０マイクロメートル（μｍ）の厚さをさらに含む、実施形態１１に記載のガス分離膜。
実施形態１３
Ｒ６が、メチルまたは−Ｈである、実施形態１１に記載のガス分離膜。
実施形態１４
Ｒ４およびＲ８が、−Ｃ＝Ｎ＝Ｏであり、Ｒ３およびＲ９が、メチルである、実施形態１１に記載のガス分離膜。
実施形態１５
前記ガス分離膜が、１〜９９重量％のポリ（エーテル−ｂ−アミド）コポリマーをさらに含む、実施形態１１に記載のガス分離膜。
実施形態１６
前記ガス分離膜が、式（Ｉ）による２〜４０重量％のジイソシアネートポリエーテルをさらに含む、実施形態１１に記載のガス分離膜。
実施形態１７
ガス分離膜を作製する方法であって、
ポリ（エーテル−ｂ−アミド）（ＰＥＢＡ）コポリマーおよびある量の式（Ｉ）のジイソシアネートポリエーテルを溶媒に溶解して、ポリマー架橋溶液を形成することと、
【化７】
2020532419.tif 000004
式中、
Ｒ６が、独立して、アルキルまたは−Ｈであり、
ｘが、１〜２００であり、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、およびＲ１１が、独立して、−Ｃ＝Ｎ＝Ｏ、アルキルまたは−Ｈであるが、ただし、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５のうちの少なくとも１つかつ２つ以下が−Ｃ＝Ｎ＝Ｏであり、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、およびＲ１１のうちの少なくとも１つかつ２つ以下が、独立して−Ｃ＝Ｎ＝Ｏであり、
前記ポリマー架橋溶液を、型に流し込むことと、
前記溶媒を蒸発させて架橋フィルムを形成することと、
前記フィルムを乾燥させて、前記ガス分離膜を形成することと、を含む、ガス分離膜を作製する方法。
実施形態１８
前記ポリ（エーテル−ｂ−アミド）コポリマーが、２５〜８０重量％のポリエーテルセグメントおよび７５〜２０重量％のポリアミドセグメントを含む、実施形態１７に記載のガス分離膜を作製する方法。
実施形態１９
Ｒ６が、メチルまたは−Ｈである、実施形態１７に記載のガス分離膜を作製する方法。
実施形態２０
Ｒ４およびＲ８が、−Ｃ＝Ｎ＝Ｏであり、Ｒ３およびＲ９が、メチルである、実施形態１７に記載のガス分離膜を作製する方法。
実施形態２１
前記ポリマー架橋溶液が、１〜９９重量パーセントのポリ（エーテル−ｂ−アミド）コポリマーを含む、実施形態１７に記載のガス分離膜を作製する方法。
実施形態２２
前記ポリマー架橋溶液が、式（Ｉ）による前記ジイソシアネートポリエーテルを２〜４０重量パーセント含む、実施形態１７に記載のガス分離膜を作製する方法。
実施形態２３
前記ポリマー架橋溶液が、３５〜８５℃の温度で加熱された、実施形態１７に記載のガス分離膜を作製する方法。
実施形態２４
前記ガス分離膜を、３５〜５０℃の温度で乾燥させた、実施形態１７に記載のガス分離膜を作製する方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガス分離膜を作製する方法であって、
ポリ（エーテル−ｂ−アミド）（ＰＥＢＡ）コポリマーを溶媒に溶解してポリマー溶液を形成することと、
前記溶液を、型に流し込むことと、
前記溶媒を蒸発させてフィルムを形成することと、
前記フィルムを架橋溶液に浸漬して、架橋フィルムを形成することであって、前記溶液が、式（Ｉ）によるジイソシアネートポリエーテルを含む、形成することと、
【化１】
2020532419.tif 000005
式中、
Ｒ６が、独立して、アルキルまたは−Ｈであり、
ｘが、１〜２００であり、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、およびＲ１１が、独立して、−Ｃ＝Ｎ＝Ｏ、アルキルまたは−Ｈであるが、ただし、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５のうちの少なくとも１つかつ２つ以下が−Ｃ＝Ｎ＝Ｏであり、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０およびＲ１１のうちの少なくとも１つかつ２つ以下が、独立して−Ｃ＝Ｎ＝Ｏであり、
前記フィルムを乾燥させて、前記ガス分離膜を形成することと、を含む、ガス分離膜を作製する方法。
【請求項２】
前記ポリ（エーテル−ｂ−アミド）コポリマーが、２５〜８０重量％のポリエーテルセグメントおよび７５〜２０重量％のポリアミドセグメントを含む、請求項１に記載のガス分離膜を作製する方法。
【請求項３】
Ｒ６が、メチルまたは−Ｈである、請求項１に記載のガス分離膜を作製する方法。
【請求項４】
Ｒ４およびＲ８が、−Ｃ＝Ｎ＝Ｏであり、Ｒ３およびＲ９が、メチルである、請求項１に記載のガス分離膜を作製する方法。
【請求項５】
前記ポリマー溶液が、１〜９９重量パーセントのポリ（エーテル−ｂ−アミド）コポリマーを含む、請求項１に記載のガス分離膜を作製する方法。
【請求項６】
前記架橋溶液が、式（Ｉ）による前記架橋剤を２〜４０重量パーセント含む、請求項１に記載のガス分離膜を作製する方法。
【請求項７】
前記架橋溶液が、３５〜８５℃の温度を有していた、請求項１に記載のガス分離膜を作製する方法。
【請求項８】
前記ガス分離膜を、３５〜９０℃の温度で乾燥させた、請求項１に記載のガス分離膜を作製する方法。
【請求項９】
ガス分離の方法であって、
ガス分離膜を通してガス流を流すことであって、前記ガス分離膜が、式（Ｉ）によるジイソシアネートポリエーテルにより架橋されたポリエーテルブロックアミド（ＰＥＢＡ）を含む、流すことと、
【化２】
2020532419.tif 000006
式中、
各Ｒ６が、独立して、アルキルまたは−Ｈであり、
ｘが、１〜２００であり、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、およびＲ１１が、独立して、−Ｃ＝Ｎ＝Ｏ、アルキルまたは−Ｈであるが、ただし、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５のうちの少なくとも１つかつ２つ以下が、−Ｃ＝Ｎ＝Ｏであり、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０およびＲ１１のうちの少なくとも１つかつ２つ以下が、独立して−Ｃ＝Ｎ＝Ｏであり、
前記ガス分離膜を介して前記ガスを分離することと、を含む、ガス分離の方法。
【請求項１０】
架橋ポリ（エーテル−ｂ−アミド）コポリマーを含むガス分離膜であって、前記ポリ（エーテル−ｂ−アミド）コポリマーが、ポリ（エーテル−ｂ−アミド）コポリマーと式（Ｉ）によるジイソシアネートポリエーテルとの反応生成物であるウレタン架橋を含み、
【化３】
2020532419.tif 000007
式中、
各Ｒ６が、独立して、アルキルまたは−Ｈであり、
ｘが、１〜２００であり、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、およびＲ１１が、独立して、−Ｃ＝Ｎ＝Ｏ、アルキルまたは−Ｈであるが、ただし、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５のうちの少なくとも１つかつ２つ以下が、−Ｃ＝Ｎ＝Ｏであり、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０およびＲ１１のうちの少なくとも１つかつ２つ以下が、独立して−Ｃ＝Ｎ＝Ｏである、ガス分離膜。
【請求項１１】
前記ガス分離膜が、３０〜７０マイクロメートル（μｍ）の厚さをさらに含む、請求項１０に記載のガス分離膜。
【請求項１２】
Ｒ６が、メチルまたは−Ｈである、請求項１０に記載のガス分離膜。
【請求項１３】
Ｒ４およびＲ８が、−Ｃ＝Ｎ＝Ｏであり、Ｒ３およびＲ９が、メチルである、請求項１０に記載のガス分離膜。
【請求項１４】
前記ガス分離膜が、１〜９９重量％のポリ（エーテル−ｂ−アミド）コポリマーをさらに含む、請求項１０に記載のガス分離膜。
【請求項１５】
前記ガス分離膜が、式（Ｉ）による２〜４０重量％のジイソシアネートポリエーテルをさらに含む、請求項１０に記載のガス分離膜。
【請求項１６】
ガス分離膜を作製する方法であって、
ポリ（エーテル−ｂ−アミド）（ＰＥＢＡ）コポリマーおよびある量の式（Ｉ）のジイソシアネートポリエーテルを溶媒に溶解して、ポリマー架橋溶液を形成することと、
【化４】
2020532419.tif 000008
式中、
Ｒ６が、独立して、アルキルまたは−Ｈであり、
ｘが、１〜２００であり、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、およびＲ１１が、独立して、−Ｃ＝Ｎ＝Ｏ、アルキルまたは−Ｈであるが、ただし、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５のうちの少なくとも１つかつ２つ以下が−Ｃ＝Ｎ＝Ｏであり、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、およびＲ１１のうちの少なくとも１つかつ２つ以下が、独立して−Ｃ＝Ｎ＝Ｏであり、
前記ポリマー架橋溶液を、型に流し込むことと、
前記溶媒を蒸発させて架橋フィルムを形成することと、
前記フィルムを乾燥させて、前記ガス分離膜を形成することと、を含む、ガス分離膜を作製する方法。
【請求項１７】
前記ポリ（エーテル−ｂ−アミド）コポリマーが、２５〜８０重量％のポリエーテルセグメントおよび７５〜２０重量％のポリアミドセグメントを含む、請求項１６に記載のガス分離膜を作製する方法。
【請求項１８】
Ｒ６が、メチルまたは−Ｈである、請求項１６に記載のガス分離膜を作製する方法。
【請求項１９】
Ｒ４およびＲ８が、−Ｃ＝Ｎ＝Ｏであり、Ｒ３およびＲ９が、メチルである、請求項１６に記載のガス分離膜を作製する方法。
【請求項２０】
前記ポリマー架橋溶液が、１〜９９重量パーセントのポリ（エーテル−ｂ−アミド）コポリマーを含む、請求項１６に記載のガス分離膜を作製する方法。
【請求項２１】
前記ポリマー架橋溶液が、式（Ｉ）による前記ジイソシアネートポリエーテルを２〜４０重量パーセント含む、請求項１６に記載のガス分離膜を作製する方法。
【請求項２２】
前記ポリマー架橋溶液が、３５〜８５℃の温度で加熱された、請求項１６に記載のガス分離膜を作製する方法。
【請求項２３】
前記ガス分離膜を、３５〜５０℃の温度で乾燥させた、請求項１６に記載のガス分離膜を作製する方法。