【誤訳訂正書】
【提出日】令和3年9月7日(2021.9.7)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
連続基板を処理するための装置であって、
第１の空間を有する第１のチャンバと、
前記第１の空間に流体連結された第２の空間を有する第２のチャンバと、
複数の処理チャンバであって、それぞれが前記第１のチャンバと前記第２のチャンバの間に処理経路を規定する処理空間を有し、各処理チャンバの前記処理空間は互いに、並びに前記第１の空間及び前記第２の空間に流体連結されており、前記第１のチャンバ、前記第２のチャンバ、及び前記複数の処理チャンバは、前記第１のチャンバから前記複数の処理チャンバを通って前記第２のチャンバに延びる連続基板を処理するように構成されている、複数の処理チャンバとを備え、
各処理チャンバが、それぞれの隣接する処理チャンバの処理空間に流体連結された第３の空間を有する第３のチャンバによって分離されており、前記第３のチャンバが、駆動される複数のローラを含む、装置。
【請求項２】
前記連続基板がセラミック繊維のトウであり、前記複数の処理チャンバのうちの少なくとも１つが化学気相堆積チャンバまたは化学気相含浸チャンバである、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記第１のチャンバに連結された第４のチャンバであって、前記第１のチャンバに流体連結されている第４の空間を有し、前記第１のチャンバに対して選択的に密封可能である第４のチャンバをさらに備える、請求項１または２に記載の装置。
【請求項４】
前記複数の処理チャンバの各処理空間が、前記第１のチャンバと前記第２のチャンバの間に直線的に位置している、請求項１または２に記載の装置。
【請求項５】
前記複数の処理チャンバが前記第１のチャンバの上に積み上げられており、前記第２のチャンバが前記複数の処理チャンバの上に積み上げられている、請求項４に記載の装置。
【請求項６】
各処理空間が互いに対して平行に位置している、請求項１または２に記載の装置。
【請求項７】
前記第１のチャンバから前記複数の処理チャンバを通る前記第２のチャンバまでの前記処理経路が蛇行しているか、または前記第１のチャンバから前記複数の処理チャンバを通る前記第２のチャンバまでの前記処理経路が非直線的である、請求項６に記載の装置。
【請求項８】
各処理空間が互いに対して角度をもって位置している、請求項１または２に記載の装置。
【請求項９】
前記角度及び前記角度の転換方向が、前記複数の処理チャンバの連続する処理空間それぞれの間で同一である、請求項８に記載の装置。
【請求項１０】
連続基板を処理するための装置であって、
第１の空間を有する第１のチャンバと、
前記第１の空間に流体連結された第２の空間を有する第２のチャンバと、
複数の処理チャンバであって、それぞれが前記第１のチャンバと前記第２のチャンバの間に処理経路を規定する処理空間を有し、各処理チャンバの前記処理空間は互いに、並びに前記第１の空間及び前記第２の空間に流体連結されており、前記第１のチャンバ、前記第２のチャンバ、及び前記複数の処理チャンバは、前記第１のチャンバから前記複数の処理チャンバを通って前記第２のチャンバに延びる連続基板を処理するように構成されている、複数の処理チャンバと、
前記第１のチャンバの前記第１の空間内を移動可能な第１のキャリッジと、
前記第１の空間内に移動可能に配置された第１のロボットアセンブリと、
前記複数の処理チャンバを通って移動可能に配置された移送アセンブリと、
前記第２の空間内に移動可能に配置された第２のロボットアセンブリと、
前記第２のチャンバの前記第２の空間内で移動可能な第２のキャリッジであって、前記第１のロボットアセンブリ、前記移送アセンブリ、及び前記第２のロボットアセンブリが、前記第１のキャリッジ上に回転可能に配置された第１のスプール上にある連続基板の最初の部分を、前記複数の処理チャンバを通って、前記第２のキャリッジ上に配置された回転可能なスプールまで移送するように動作する、第２のキャリッジと
を備える、装置。
【請求項１１】
前記第１のロボットアセンブリが、
前記第１のチャンバの内側の側壁に連結された第１の支持ビームと、
前記第１の支持ビームに移動可能に連結された第１の端部を有する第１の作動アームであって、前記第１の作動アームは第１の位置と第２の位置との間で移動可能であり、前記第２の位置では、前記第１の作動アームの第１の側壁と第１の底部とによって規定される第１の溝を有する前記第１の作動アームの第２の端部は、前記処理チャンバの前記処理空間内にあり、前記第１の溝は、前記連続基板の第１の端部が取り付けられたロッドを保持するように構成されている、第１の作動アームとを備え、
前記移送アセンブリが、
前記処理チャンバの内側の側壁に連結された第２の支持ビームと、
第２の作動アームであって、前記第２の支持ビームに移動可能に連結された第１の端部及び、前記第２の作動アームの第２の側壁と第２の底部とによって規定される第２の溝を有する第２の端部を有し、前記第２の溝は前記第１の作動アームから前記ロッドを受容するように構成されており、前記第２の作動アームは、前記処理チャンバ内の前記第１のチャンバに近い第１の位置から、前記処理チャンバ内の前記第２のチャンバに近い第２の位置まで移動可能である、第２の作動アームとを備え、
前記第２のロボットアセンブリが、
前記第２のチャンバの内側の側壁に連結された第３の支持ビームと、
第３の作動アームであって、前記第３の支持ビームに移動可能に連結された第１の端部及び、前記第３の作動アームの第３の側壁と第３の底部とによって規定される第３の溝を有する第２の端部を有し、前記第３の作動アームは、前記第２の空間内の第１の位置から第２の位置まで移動可能であり、前記第３の作動アームの前記第２の端部は、前記処理空間内の前記第２の作動アームから前記ロッドを受容する前記第１の位置にある、第３の作動アームとを備える、
請求項１０に記載の装置。
【請求項１２】
連続基板を処理する方法であって、
第１のチャンバから複数の処理チャンバを通って第２のチャンバまで連続基板を給送することであって、前記連続基板が前記第１のチャンバ内の第１のスプールから送り出されて前記第２のチャンバ内の第２のスプールに巻き取られる、連続基板を給送することと、
前記複数の処理チャンバ内でセラミックまたは金属の材料を前記連続基板上に堆積することとを含み、
各処理チャンバが、それぞれの隣接する処理チャンバの処理空間に流体連結された空間を有する第３のチャンバによって分離されており、前記第３のチャンバが、駆動される複数のローラを含む、
方法。
【請求項１３】
前記連続基板が繊維の束であり、前記セラミックまたは金属の材料を前記連続基板上に堆積することが化学気相堆積または化学気相含浸処理を含む、請求項１２に記載の方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２０】
例えば図１Ａ、図１Ｂ、図１Ｆ、及び図１Ｇに示すある実施形態では、各処理チャンバ１１０は、それぞれ隣接する処理チャンバ１１０の処理空間１１２に流体連結されている第４の空間１１８を有する第４のチャンバ１１６によって、隣接する処理チャンバ１１０から分離されている。第４のチャンバ１１６は、駆動される複数のローラを含む。トウは、トウ内の個別の繊維を互いに対して動かすローラの間を通過し、それによって処理チャンバ１１０内で実施される化学気相含浸処理の効率性が向上する。