Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】令和3年8月5日(2021.8.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遠端部及び長軸を持ち、患者の身体管腔内に配置される可撓性長尺部材と、
前記可撓性長尺部材の前記遠端部に配置されると共に該可撓性長尺部材の前記長軸の周りで周方向に沿って配置されるトランスジューサアレイであって、複数の微細加工超音波トランスジューサ（ＭＵＴ）を有するトランスジューサアレイと、
を有し、
前記トランスジューサアレイは、第１電気信号に応答して前記身体管腔の超音波撮像データを取得し、
前記トランスジューサアレイが、第２電気信号に応答して前記身体管腔内で超音波治療を付与し、
前記複数のＭＵＴは、
ａ）第１複数の圧電微細加工トランスジューサ（ＰＭＵＴ）及び第２複数のＰＭＵＴを有し、
前記第１複数のＰＭＵＴの各々は第１厚さのトランスジューサ膜を含み、
前記第２複数のＰＭＵＴの各々が前記第１厚さとは異なる第２厚さのトランスジューサ膜を含むか、又は、

ｂ）第１複数の静電容量型微細加工トランスジューサ（ＣＭＵＴ）及び第２複数のＣＭＵＴを有し、
前記第１複数のＣＭＵＴの各々は第１バイアス電圧の下で動作し、
前記第２複数のＣＭＵＴの各々が、前記第１バイアス電圧とは異なる第２バイアス電圧の下で動作する、
管腔内超音波装置。
【請求項２】
前記トランスジューサアレイは前記第１電気信号に応答して第１周波数範囲で動作し、該トランスジューサアレイが前記第２電気信号に応答して前記第１周波数範囲とは異なる第２周波数範囲で動作する、請求項１に記載の管腔内超音波装置。
【請求項３】
前記複数のＭＵＴが、複数のフレキシブル回路により相互接続された複数のＭＵＴの副アレイを有する、請求項１に記載の管腔内超音波装置。
【請求項４】
前記トランスジューサアレイと通信する制御回路を更に有し、該制御回路が前記第１電気信号及び前記第２電気信号を生成する、請求項１に記載の管腔内超音波装置。
【請求項５】
前記第１電気信号の電圧が前記第２電気信号の電圧とは異なる、請求項４に記載の管腔内超音波装置。
【請求項６】
前記複数のＣＭＵＴがバイアス電圧の下で動作する、請求項４に記載の管腔内超音波装置。
【請求項７】
前記第１及び第２バイアス電圧の一方が零ボルトである、請求項１に記載の管腔内超音波装置。
【請求項８】
前記複数のＭＵＴが複数の静電容量型微細加工超音波トランスジューサ（ＣＭＵＴ）及び複数の圧電微細加工超音波トランスジューサ（ＰＭＵＴ）を有する、請求項１に記載の管腔内超音波装置。
【請求項９】
前記第１周波数範囲及び前記第２周波数範囲が重ならない、請求項２に記載の管腔内超音波装置。
【請求項１０】
前記第１周波数範囲が１０ＭＨｚと７０ＭＨｚとの間の周波数を有し、前記第２周波数範囲が１ＫＨｚと２０ＭＨＺとの間の周波数を有する、請求項２に記載の管腔内超音波装置。
【請求項１１】
患者の身体管腔内の目標部位を治療するシステムであって、
請求項１から１０の何れか一項に記載の管腔内超音波装置と、
前記管腔内超音波装置による超音波撮像データの取得及び超音波治療の付与を制御すると共に、前記目標部位を有する前記身体管腔の画像を生成する処理システムと、
を有する、システム。
【請求項１２】
前記処理システムが、超音波撮像と超音波治療の付与とを交互に行うように前記管腔内超音波装置を制御する、請求項１１に記載のシステム。
【請求項１３】
前記処理システムが、超音波撮像と超音波治療の付与とを同時に行うように前記管腔内超音波装置を制御する、請求項１１に記載のシステム。
【請求項１４】
前記処理システムが、前記管腔内超音波装置の管腔を介して前記目標部位に薬剤を投与する、請求項１３に記載のシステム。
【請求項１５】
前記薬剤が、前記超音波治療の付与と同時に投与される、請求項１４に記載のシステム。
【請求項１６】
前記薬剤の投与量が前記超音波治療の間において変化し得る、請求項１５に記載のシステム。
【請求項１７】
前記投与量が、前記目標部位の前記超音波撮像データに基づくものである、請求項１６に記載のシステム。
【請求項１８】
患者の身体管腔内の目標部位を治療する方法であって、前記方法は、
第１周波数範囲で動作するトランスジューサアレイにより前記身体管腔の超音波撮像データを取得するステップであって、前記トランスジューサアレイは管腔内超音波装置における可撓性長尺部材の遠端部に配置され、該管腔内超音波装置が、
前記遠端部及び長軸を持つと共に前記患者の前記身体管腔内に配置される前記可撓性長尺部材、及び
前記可撓性長尺部材の前記遠端部に配置されると共に該可撓性長尺部材の前記長軸の周りで周方向に沿って配置される前記トランスジューサアレイであって、第１電気信号に応答して前記身体管腔の超音波撮像データを取得すると共に第２電気信号に応答して前記身体管腔内で超音波治療を付与し、且つ、複数の微細加工超音波トランスジューサ（ＭＵＴ）を有するトランスジューサアレイ、
を有する、取得するステップと；
第２周波数範囲で動作する前記トランスジューサアレイにより前記身体管腔内の前記目標部位に超音波治療を施すステップと；
を有する、方法。
【請求項１９】
前記管腔内超音波装置が超音波処理システムと通信し、
前記身体管腔の超音波撮像データを取得した後に、前記超音波処理システムにより前記身体管腔の直径及び前記目標部位の石灰化のレベルを前記取得された超音波撮像データに基づいて決定するステップと；
前記第２電気信号を、前記決定された前記身体管腔の直径及び前記目標部位の石灰化のレベルに基づいて修正するステップと；
を更に有する、請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
前記目標部位に前記超音波治療を施した後に、前記トランスジューサアレイを用いて前記身体管腔の超音波撮像データを取得するステップと；
前記超音波処理システムを使用することにより、前記身体管腔の更新された直径及び前記目標部位の石灰化の更新されたレベルを、前記取得された超音波撮像データに基づいて決定するステップと；
前記第２電気信号を、前記身体管腔の前記更新された直径及び前記目標部位の石灰化の前記更新されたレベルに基づいて修正するステップと；
前記トランスジューサアレイにより前記身体管腔内の前記目標部位に前記超音波治療を施すステップと；
を更に有する、請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】
治療用カテーテルにより前記目標部位を処置するステップであって、該治療用カテーテルがバルーンカテーテル、ステント留置カテーテル、薬剤供給カテーテル、アブレーションカテーテル又は電極を備えるカテーテルを有する、処置するステップ、
を更に有する、請求項１８に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】令和3年8月13日(2021.8.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
個人の認知スキルの数量的指標を生成するシステムであって、
１つ又は複数のプロセッサと、
プロセッサ実行可能命令を記憶するための、前記１つ又は複数のプロセッサと通信可能に結合されたメモリと、
を備え、
前記１つ又は複数のプロセッサにより前記プロセッサ実行可能命令が実行されると、前記１つ又は複数のプロセッサは、
ユーザインタフェースを生成し、
前記ユーザインタフェースを介して干渉を伴う課題の第１インスタンスを前記ユーザインタフェース上に提示して、前記干渉の存在下で前記課題の前記第１インスタンスに対する前記個人からの第１応答を要求し、
前記ユーザインタフェースを介して前記課題の前記第１インスタンスを提示して、前記干渉がない場合の前記課題の前記第１インスタンスに対する前記個人からの第２応答を要求し、
前記課題の前記第１インスタンス及び前記干渉の少なくとも１つは、前記個人による前記課題又は前記干渉の少なくとも１つの実行の成功の度合いを示すものとして、リアルタイムで調整可能なコンピュータ制御調整可能要素を含み、
前記課題の前記第１インスタンスに対する前記個人からの前記第１応答及び前記干渉に対する前記個人からの前記応答を略同時に測定し、
前記第１応答及び前記第２応答を示すデータを受信し、
前記第１応答及び前記第２応答を示す前記データを分析して、前記個人の認知能力の１つ以上の数量的指標を含む１つ以上の成績指標を生成する、
ように構成される、システム。
【手続補正書】
【提出日】令和3年5月19日(2021.5.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５２】
ＣＡＮＣＡＮの効率は、達成される双極性相殺の程度に直接比例することが期待される。したがって、各実験セットでは、本発明者らは、位相の数および振幅を含むｎｓＥＰパラメータを変更して、双極性相殺、ひいてはＣＡＮＣＡＮの効率を試験した。本発明者らは、二相および三相のｎｓＥＰを適用する場合の両方において、成功したＣＡＮＣＡＮを観察した。最も効率的なＣＡＮＣＡＮ効果は、第１の位相の１００／７０／４０％である位相振幅を有する三相ｎｓＥＰを使用したときに発生した（図７Ｆおよび図７Ｇ）。５０％の第２の位相振幅が最良の相殺効率を提供したことを示した本発明者らの先の結果（３９）を本発明者らが考えるならば、これは予想外であった。本発明者らの先の研究の結果に基づいて、本発明者らは、４０％の第２の位相振幅が、５０％の振幅と同様の程度に生体効果を相殺し得ると推測することができる。したがって、第３の位相を４０％の振幅で追加することにより、それ自体で十分な相殺がもたらされ、第２の位相からの効果と組み合わせると、全体的な双極性相殺効率を増強したことが考えられる。特に、本発明者らの実験結果は、電場モデル化においてなされた予測を裏付けた（図５Ａ〜図５Ｄ）。異なる位相振幅に対するＥの減少率を定量化すると、第２の位相が第１の位相の７０％であるときに電極付近のＥの減少は少なく、より標的化されたＣＡＮＣＡＮ効果が示唆された。実際、本発明者らの実験結果はこれを実証し、これにより、２つのｎｓＥＰの同期化送達は、双極性相殺が優勢である電極付近では違わないが、双極性相殺の程度に一致して、非同期送達よりも最大で約３倍大きい効果を生み出した。したがって、最大の電場無効化が期待される領域では、ＣＡＮＣＡＮによるエレクトロポレーションの増強は、双極性相殺の程度に基づいて理論的に可能な最大であった。したがって、電場モデル化と実験的アプローチとの組み合わせを使用して、本発明者らは、ＣＡＮＣＡＮによる最も効率的な標的化エレクトロポレーションは、第１の位相の１００／７０／４０％のｎｓＥＰ振幅で起こることを示す。
【手続補正書】
【提出日】令和3年5月14日(2021.5.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
患者の逆流疾患を治療するための外科的処置で使用するための、噴門括約筋（１４）の動きを制限するように適合された動き制限装置（１０）の腹部配置のための外科用器具（１００）であり、
前記外科用器具は、
−スリーブ（１１３）、
−前記スリーブ内に配置され、前記スリーブに対して変位可能に構成され、運動制限装置と係合するように構成された保持装置（１１１）、
−前記スリーブに接続された第１のハンドリング部（１０１）、
−前記保持装置に接続された第２のハンドリング部（１０２）、
とを備え、
第１および第２の前記ハンドリング部の少なくとも一方のハンドリングは、前記スリーブに対する前記保持装置の相対変位を生じ、これにより、保持装置を運動制限装置から外して運動制限装置の配置を実行する、外科用器具（１００）。
【請求項２】
前記外科用器具は、
使用時に患者の身体に入るように構成された遠位部分(ＤＰ)と、使用時に患者の身体の外側に残るように構成された近位部分(ＰＰ)とを備え、 
保持装置は遠位部分に配置され、第１および第２の取り扱い部分は近位部分内に配置される、 請求項１に記載の外科用器具。
【請求項３】
前記保持装置は、前記第２のハンドリング部に接続された細長い部材（１）上に配置されている、請求項１または２のいずれかに記載の外科用器具。
【請求項４】
前記保持装置は、前記運動制限デバイスの凹部と係合するように構成された突出部材を備える、請求項１〜３のいずれかに記載の外科用器具。
【請求項５】
前記第１のハンドリング部は、前記器具の主長軸（ＬＡ）に沿って、前記第２のハンドリング部に対して直線的に変位可能である、請求項１〜４のいずれかに記載の外科用器具。
【請求項６】
前記第１のハンドリング部は、前記器具の主長さ軸の周りで前記第２のハンドリング部に対して回転変位可能である、請求項１〜５のいずれかに記載の外科用器具。
【請求項７】
前記第１のハンドリング部は、ねじ部（１０１Ｔ）と、第２のハンドリング部およびスリーブの少なくとも一方が対応するねじ部分(１１３Ｔ)を備え、第２のハンドリング部に対する第１のハンドリング部の回転変位は、器具の主長軸に沿って第２のハンドリング部に対する第１のハンドリング部の線形変位を生じさせる、請求項６に記載の外科用器具。
【請求項８】
前記遠位部分は、前記外科用器具の前記一次長軸に対して曲げられている、請求項１〜７のいずれかに記載の外科用器具。
【請求項９】
前記遠位部分は、前記外科用器具の前記一次長軸に対して２０°よりも大きく曲げられている、請求項８に記載の外科用器具。
【請求項１０】
前記スリーブの遠位部分は剛性であり、前記細長い部材の遠位部分が可撓性である、請求項１〜９のいずれか１項に記載の外科用器具。
【請求項１１】
前記スリーブの遠位部分が可撓性であり、前記細長い部材の遠位部分が剛性である、請求項１〜９のいずれか１項に記載の外科用器具。
【請求項１２】
前記遠位部は、前記遠位部が前記器具の前記一次長軸に対して屈曲可能であるように可撓性である、請求項１〜７のいずれか１項に記載の外科用器具。
【請求項１３】
前記遠位部分は、前記外科処置中に外科医が前記遠位部分を曲げることができるように、動作可能に可撓性である、請求項１２に記載の外科用器具。
【請求項１４】
前記細長い部材は、外科手術中に外科医が前記遠位部分を曲げることができるように、動作可能に可撓性である、請求項１２に記載の外科用器具。
【請求項１５】
前記近位部分が、前記外科処置中に前記作動的に柔軟な前記遠位部分を操作するための第３のハンドリング部（１０３）をさらに含む、請求項１２〜１４のいずれかに記載の外科用器具。
【請求項１６】
前記第３のハンドリング部は、前記外科処置中に前記操作可能な可撓性遠位部分を操作するために、前記器具の主長軸に沿って前記第２のハンドリング部に対して直線的に変位可能である、請求項１５に記載の外科用器具。
【請求項１７】
前記第３のハンドリング部は、前記外科処置中に前記操作可能な柔軟な遠位部分を操作するために、前記器具の主長軸周りに前記第２のハンドリング部に対して回転変位可能である、請求項１５に記載の外科用器具。
【請求項１８】
前記第３のハンドリング部がねじ部分(１０３Ｔ)を含み、前記第３のハンドリング部が対応するねじ部分(１０２Ｔ)を含み、前記第２の取り扱い部分に対する前記第３のハンドリング部の回転変位が、前記器具の前記第１の長さ軸に沿った前記第２のハンドリング部に対する前記第３の取り扱い部分の直線変位を生成する、外科用器具 外科手術中に動作可能に可撓性の遠位部分を操作するための手段を含む、請求項１７に記載の外科用器具。
【請求項１９】
前記外科用器具の少なくとも一部は、トロカールを通して患者の腹部に挿入されるように構成されている、請求項１〜１８のいずれかに記載の外科用器具。
【請求項２０】
前記スリーブは、剛性部分と、屈曲するように構成された可撓性部分（１１２）とを含み、前記スリーブは、屈曲が開始可能な前記手術器具上の点を移動させることができるように、前記保持装置に対して変位可能である、請求項１〜１９のいずれかに記載の外科用器具。
【請求項２１】
前記第１のハンドリング部（１０１）は、前記第２のハンドリング部（１０２）の少なくとも一部を収容するように適合された少なくとも１つの溝または凹部を含む、請求項１〜２０のいずれかに記載の外科用器具。
【請求項２２】
前記少なくとも１つの溝または凹部は、前記第２のハンドリング部（１０２）と前記第１のハンドリング部（１０２）との相対変位を許容するように適合されている、請求項２１に記載の外科用器具。
【請求項２３】
前記保持装置は、前記第２のハンドリング部（１０２）に接続された前記細長い部材（１０２）と一体化されている、請求項３に記載の外科用器具。
【請求項２４】
前記第２のハンドリング部（１０２）は、前記細長い部材（１１４）と一体化されている、請求項２２に記載の外科用器具。
【請求項２５】
前記第２のハンドリング部は、前記運動制限装置（１１０）より遠位の前記細長い部材（１１４）の端部から形成される、請求項２３〜２４のいずれかに記載の外科用器具。
【請求項２６】
前記保持装置は、前記運動制限装置（１１０）に近接した前記細長い部材（１１４）の端部から形成されている、請求項２３〜２５のいずれかに記載の外科用器具。
【請求項２７】
前記第２のハンドリング部（１０２）の少なくとも一部は、湾曲した形状を有する、請求項１〜２６のいずれかに記載の外科用器具。
【手続補正書】
【提出日】令和3年8月26日(2021.8.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
配列番号４１に示されるアミノ酸配列を含むことを特徴とする、ポリペプチド。
【請求項２】
配列番号４４に示されるアミノ酸配列を含むことを特徴とする、ポリペプチド。
【請求項３】
配列番号４７に示されるアミノ酸配列を含むことを特徴とする、ポリペプチド。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項に記載のポリペプチドに特異的に結合するタンパク質。
【請求項５】
前記タンパク質とヒトｐｒｏ−ＢＤＮＦの結合親和性は、＜１０ ｎＭであることを特徴とする、請求項４に記載のタンパク質。
【請求項６】
前記タンパク質は、抗体または抗体断片であることを特徴とする、請求項４または５に記載のタンパク質。
【請求項７】
前記抗体または抗体断片の軽鎖可変領域は、
配列番号４または配列番号１４に示されるＣＤＲ１、
配列番号５または配列番号１５に示されるＣＤＲ２、および
配列番号６または配列番号１６に示されるＣＤＲ３
を有することを特徴とする、
請求項６に記載のタンパク質。
【請求項８】
前記抗体または抗体断片の軽鎖可変領域は、
配列番号４に示されるＣＤＲ１、配列番号５に示されるＣＤＲ２、および配列番号６に示されるＣＤＲ３、または
配列番号１４に示されるＣＤＲ１、配列番号１５に示されるＣＤＲ２、および配列番号１６に示されるＣＤＲ３
を有することを特徴とする、
請求項７に記載のタンパク質。
【請求項９】
前記抗体または抗体断片の重鎖可変領域は、
配列番号１または配列番号１１に示されるＣＤＲ１、
配列番号２または配列番号１２に示されるＣＤＲ２、および
配列番号３または配列番号１３に示されるＣＤＲ３
を有することを特徴とする、
請求項６に記載のタンパク質。
【請求項１０】
前記抗体または抗体断片の重鎖可変領域は、
配列番号１に示されるＣＤＲ１、配列番号２に示されるＣＤＲ２、および配列番号３に示されるＣＤＲ３、または
配列番号１１に示されるＣＤＲ１、配列番号１２に示されるＣＤＲ２、および配列番号１３に示されるＣＤＲ３
を有することを特徴とする、
請求項９に記載のタンパク質。
【請求項１１】
前記抗体または抗体断片は、
重鎖可変領域は配列番号１、配列番号２および配列番号３に示される配列を含み、軽鎖可変領域は、配列番号４、配列番号５および配列番号６に示される配列を含む、抗体または抗体断片（ａ）、
重鎖可変領域は配列番号１１、配列番号１２および配列番号１３に示される配列を含み、軽鎖可変領域は配列番号１４、配列番号１５および配列番号１６に示される配列を含む抗体または抗体断片（ｂ）、
抗体または抗体断片（ａ）または抗体または抗体断片（ｂ）の変異体であり、抗体（ａ）または抗体（ｂ）の活性を有する、または基本的に有する抗体または抗体断片（ｃ）
から選択されることを特徴とする、
請求項６〜１０のいずれか一項に記載のタンパク質。
【請求項１２】
前記抗体または抗体断片は、
配列番号７に示される重鎖可変領域および配列番号８に示される軽鎖可変領域を有する抗体または抗体断片（ｄ）、
配列番号１７に示される重鎖可変領域および配列番号１８に示される軽鎖可変領域を有する抗体または抗体断片（ｅ）、
配列番号２１に示されるアミノ配列を有する抗体または抗体断片（ｇ）、
配列番号２２に示されるアミノ配列を有する抗体または抗体断片（ｈ）、
抗体または抗体断片（ｄ）、または抗体または抗体断片（ｅ）、または抗体または抗体断片（ｇ）、または抗体または抗体断片（ｈ）の変異体であり、抗体または抗体断片（ｄ）、または抗体または抗体断片（ｅ）、または抗体または抗体断片（ｇ）、または抗体または抗体断片（ｈ）の活性を有するか、基本的に有する抗体または抗体断片（ｆ）
から選択されることを特徴とする、
請求項６に記載のタンパク質。
【請求項１３】
前記タンパク質は、請求項１〜３のいずれか一項に記載のポリペプチドで動物を免疫させることにより得られるか、または請求項１〜３のいずれか一項に記載のポリペプチドを用いてファージライブラリーをスクリーニングすることにより得られることを特徴とする、
請求項４または５に記載のタンパク質。
【請求項１４】
請求項４〜１３のいずれか一項に記載のタンパク質および任意の１つまたは複数の薬学的に許容される賦形剤、希釈剤または担体を含むことを特徴とする、薬学的組成物。
【請求項１５】
自己免疫疾患の予防、治療または診断用の薬物を製造するための、請求項４〜１３のいずれか一項に記載のタンパク質または請求項１４に記載の薬学的組成物の用途。
【請求項１６】
ｐｒｏ−ＢＤＮＦ媒介疾患の予防、治療または診断用の薬物を製造するための、請求項４〜１３のいずれか一項に記載のタンパク質または請求項１４に記載の薬学的組成物の用途。
【請求項１７】
ＴＮＦ−α、ＩＬ−２、ＩＬ−６またはＩＬ−４の分泌を阻害することにより、疾患を予防、治療または診断するための薬物を製造するための、請求項４〜１３のいずれか一項に記載のタンパク質または請求項１４に記載の薬学的組成物の用途。
【請求項１８】
前記自己免疫疾患は、関節炎、関節リウマチ、強直性脊椎炎、再生不良性貧血、乾癬、インスリン依存性糖尿病、多発性硬化症、クリオグロブリン血症、慢性閉塞性肺疾患、全身性エリテマトーデス（ＳＬＥ）、ループス腎炎、喘息、多発性硬化症または嚢胞性線維症であることを特徴とする、請求項１５〜１７のいずれか一項に記載の用途。
【請求項１９】
疼痛を緩和するための薬物を製造するための、請求項４〜１３のいずれか一項に記載のタンパク質または請求項１４に記載の薬学的組成物の用途。
【請求項２０】
請求項４〜１３のいずれか一項に記載のタンパク質をコードする核酸。
【請求項２１】
請求項２０に記載の核酸を含むベクター。
【請求項２２】
請求項２１に記載のベクターを含む、またはゲノムに組み込まれた請求項２０に記載の核酸を有する、細胞。
【請求項２３】
請求項１〜３のいずれか一項に記載のポリペプチドを用いて動物を免疫させるか、または請求項１〜３のいずれか一項に記載のポリペプチドを用いてファージライブラリーをスクリーニングするステップを含むことを特徴とする、抗体をスクリーニングするための方法。
【手続補正書】
【提出日】令和3年8月11日(2021.8.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ｉ）の配列を含むアデノウイルスであって、
５’ＩＴＲ−Ｂ１−ＢＡ−Ｂ２−ＢＸ−ＢＢ−ＢＹ−Ｂ３−３’ＩＴＲ（Ｉ）
式中、
Ｂ１は結合であるか、Ｅ１Ａ、Ｅ１ＢまたはＥ１Ａ−Ｅ１Ｂを含み；
ＢＡは−Ｅ２Ｂ−Ｌ１−Ｌ２−Ｌ３−Ｅ２Ａ−Ｌ４を含み；
Ｂ２は結合であるか、Ｅ３を含み；
ＢＸは結合であるか、制限酵素認識部位、１もしくは複数の導入遺伝子、またはその両方を含むＤＮＡ配列であり；
ＢＢはＬ５を含み；
ＢＹは、ＦＡＰ−ＢｉＴＥ、ＣＸＣＬ１０、ＣＸＣＬ９、およびＩＦＮαをそれぞれコードする４つの導入遺伝子を含有する導入遺伝子カセットを含み；
Ｂ３は結合であるか、Ｅ４を含む、
前記アデノウイルス。
【請求項２】
前記コードされたＦＡＰ−ＢｉＴＥが、配列番号５、またはそれに対して少なくとも９５％の同一性を有する配列（配列番号５など）、に示される抗ＣＤ３を含む、請求項１に記載のアデノウイルス。
【請求項３】
前記ＦＡＰ−ＢｉＴＥが、配列番号９、またはそれ対して少なくとも９５％の同一性を有する配列（配列番号９など）、に示される抗ＦＡＰを含む、請求項１または請求項２に記載のアデノウイルス。
【請求項４】
前記コードされたＦＡＰ−ＢｉＴＥが、配列番号７５、配列番号７６、またはそのうちのいずれか１つに対して少なくとも９５％の同一性を有する配列、から選択される配列を含む、請求項１に記載のアデノウイルス。
【請求項５】
前記導入遺伝子カセットが、配列番号１００、またはそれに対して少なくとも９５％の同一性を有する配列（配列番号１００など）、に示されるＣＸＣＬ１０をコードする、請求項１〜４のいずれか一項に記載のアデノウイルス。
【請求項６】
前記導入遺伝子カセットが、配列番号９９、またはそれに対して少なくとも９５％の同一性を有する配列（配列番号９９など）、に示されるＣＸＣＬ９をコードする、請求項１〜５のいずれか一項に記載のアデノウイルス。
【請求項７】
前記導入遺伝子カセットが、配列番号９８、またはそれに対して少なくとも９５％の同一性を有する配列に示されるＩＦＮαをコードする、請求項１〜６のいずれか一項に記載のアデノウイルス。
【請求項８】
各前記導入遺伝子が機能的に連結されている、請求項１〜７のいずれか一項に記載のアデノウイルス。
【請求項９】
各前記導入遺伝子が３つの異なる高効率自己開裂型ペプチドで隔てられている、請求項１〜８のいずれか一項に記載のアデノウイルス。
【請求項１０】
前記各自己開裂型ペプチドが独立してＥ２Ａ、Ｆ２Ａ、Ｐ２Ａ、およびＴ２Ａから選択される、請求項９に記載のアデノウイルス。
【請求項１１】
Ｌ５からＥ４までの各前記導入遺伝子の相対的順序が、ＦＡＰ−ＢｉＴＥ、ＣＸＣＬ１０、ＣＸＣＬ９、およびＩＦＮαである、請求項１〜１０のいずれか一項に記載のアデノウイルス。
【請求項１２】
前記導入遺伝子カセットが、配列番号９５に示されるポリヌクレオチド配列、または同一のアミノ酸配列をコードするポリヌクレオチド配列を有する、請求項１〜１１のいずれか一項に記載のアデノウイルス。
【請求項１３】
配列番号８４を含む、請求項１〜１２のいずれか一項に記載のアデノウイルス。
【請求項１４】
複製適格性である、請求項１〜１３のいずれか一項に記載のアデノウイルス。
【請求項１５】
腫瘍溶解性である、請求項１〜１４のいずれか一項に記載のアデノウイルス。
【請求項１６】
Ａｄ１１由来のヘキソンおよびファイバーを有する、請求項１〜１５のいずれか一項に記載のアデノウイルス。
【請求項１７】
請求項１〜１６のいずれか一項に記載のアデノウイルス、および賦形剤、希釈剤、または担体、を含む医薬組成物。
【請求項１８】
請求項１〜１６のいずれか一項に記載のアデノウイルス、または請求項１７に記載の医薬組成物を含む治療剤。
【請求項１９】
請求項１〜１６のいずれか一項に記載のアデノウイルスまたは請求項１７に記載の医薬組成物を含むがん治療剤。
【手続補正書】
【提出日】令和3年8月13日(2021.8.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
−  ４〜３５重量％の脂肪；
−  ０．２〜０．５重量％のアニオン性乳化剤、及び；
−  ２０℃において２％の水溶液中で２０〜１０００ｃＰの粘度を有する０．０５〜１重量％の低粘度ヒドロキシプロピルメチルセルロース（ＨＰＭＣ）
を含むタンパク質非含有植物性泡立て用クリームであって、５℃で線状粘弾性領域において、２５Ｐａ未満の複素弾性率によるレオロジーを有する、タンパク質非含有植物性泡立て用クリーム。
【請求項２】
０．２〜０．５重量％の前記低粘度ＨＰＭＣを含む、請求項１に記載の泡立て用クリーム。
【請求項３】
０．３〜０．５重量％の前記アニオン性乳化剤を含む、請求項１又は２に記載の泡立て用クリーム。
【請求項４】
前記アニオン性乳化剤は、ステアロイル乳酸ナトリウム（ＳＳＬ）である、請求項１〜３の何れか一項に記載の泡立て用クリーム。
【請求項５】
前記脂肪は、ココナッツ油、パーム核油、パーム油、落花生油、大豆油、菜種油、ヒマワリ種子油、綿実油、オリーブ油、コーン油又はブドウ種子油からなる群から選択される植物油であって、前記油の分画化、部分水素化又は完全水素化バージョンを含む植物油をベースとする、請求項１〜４の何れか一項に記載の泡立て用クリーム。
【請求項６】
前記アニオン性乳化剤と前記低粘度ＨＰＭＣとの間の比率は、１：３〜８：１である、請求項１〜５の何れか一項に記載の泡立て用クリーム。
【請求項７】
−  高アシル型ジェラン、低アシル型ジェラン、グアールガム、イナゴマメガム、アルギン酸塩、カラギーナン、ペクチン及びキサンタンガムからなる群から選択される親水コロイド；
−  脂肪酸のポリグリセロールエステル（ＰＧＥ）、ポリソルベート、モノグリセリド、モノ−ジグリセリド、モノグリセリド及びジグリセリドの乳酸エステル（ｌａｃｔｅｍ）、モノグリセリド及びジグリセリドのジアセチル酒石酸エステル（ｄａｔｅｍ）、モノグリセリド及びジグリセリドのクエン酸エステル（ｃｉｔｒｅｍ）、レシチン、ソルビタンモノステアレート並びにそれらの組み合わせからなる群から選択される少なくとも１種の他の乳化剤；
−  糖、甘味料、増量剤、例えばマルトデキストリン又はポリデキストロース、香料、塩
からなる群から選択される１種以上の成分を更に含む、請求項１〜６の何れか一項に記載の泡立て用クリーム。
【請求項８】
１６〜３５重量％の脂肪を含む、請求項１〜７の何れか一項に記載の泡立て用クリーム。
【請求項９】
アニオン性乳化剤及び低粘度ＨＰＭＣを１：３〜８：１の比率で含む起泡剤用添加物。
【請求項１０】
前記アニオン性乳化剤は、ステアロイル乳酸ナトリウム（ＳＳＬ）である、請求項９に記載の起泡剤用添加物。
【請求項１１】
ＨＡジェランを更に含有し、ＨＡジェランと前記低粘度ＨＰＭＣとの間の比率は、１：１００〜１：１である、請求項９又は１０に記載の起泡剤用添加物。
【請求項１２】
−  高アシル型ジェラン、低アシル型ジェラン、グアールガム、イナゴマメガム、アルギン酸塩、カラギーナン、ペクチン及びキサンタンガムからなる群から選択される親水コロイド；
−  脂肪酸のポリグリセロールエステル（ＰＧＥ）、ポリソルベート、モノグリセリド、モノ−ジグリセリド、モノグリセリド及びジグリセリドの乳酸エステル（ｌａｃｔｅｍ）、モノグリセリド及びジグリセリドのジアセチル酒石酸エステル（ｄａｔｅｍ）、モノグリセリド及びジグリセリドのクエン酸エステル（ｃｉｔｒｅｍ）、レシチン、ソルビタンモノステアレート並びにそれらの組み合わせからなる群から選択される少なくとも１種の他の乳化剤；
−  糖、甘味料、増量剤、例えばマルトデキストリン又はポリデキストロース、香料、塩
からなる群から選択される１種以上の成分を更に含む、請求項９〜１１の何れか一項に記載の起泡剤用添加物。
【請求項１３】
請求項１〜８の何れか一項に記載のタンパク質非含有植物性泡立て用クリームにおける、請求項９〜１２の何れか一項に記載の起泡剤用添加物の使用。
【手続補正書】
【提出日】令和3年2月19日(2021.2.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
堆積されると、レーザエネルギーは、ビルドアップ材料を処理し／溶融し、それはその後、所望のパーツまたはコンポーネントを形成するための超合金材料の層を形成するために固化する。ベース合金およびろう付け合金粉末の混合物は、層ごとに検証されることが可能であり、堆積しかつレーザ処理するステップは、所望のコンポーネントの形状および／または幾何学構造が達成されるまで繰り返されてもよいということを理解すべきである。本発明者らの新規なＬＭＤプロセスを介したコンポーネントの修理は、ベース材料と同じ材料である同じベース合金材料を使用することによってコンポーネントの構造修理を可能にする。すなわち、ＬＭＤプロセスは、例えば、下にある（ベース）基板１０と同一のまたは同一に近い組成を有する材料（付加材料）を用いてコンポーネントの修理を可能にする。
【手続補正書】
【提出日】令和3年8月20日(2021.8.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７７】
本発明の様々な実施形態を説明した。これらの実施形態及び他の実施形態は、以下の特許請求の範囲に含まれる。
なお、以上の各実施形態に加えて以下の態様について付記する。
（付記１）
繰り返し微細構造を有する表面層であって、
平面を画定する頂部主表面と、
前記頂部主表面の反対側の底部主表面と、
前記頂部主表面の前記平面から延びる複数の突起であって、前記頂部主表面の表面積の約０．１％〜約４０％の面密度を有する複数の突起と、
前記複数の突起から延びる複数の微細構造と、を備える表面層；及び、
前記底部主表面において前記表面層の少なくとも一部に結合されたベース層、
を備える、物品。
（付記２）
前記複数の突起の各々は、少なくとも約２０μｍの突起高さを有する、付記１に記載の物品。
（付記３）
前記複数の突起の各々は、少なくとも約１ｍｍの突起幅を有する、付記１に記載の物品。
（付記４）
前記複数の突起の少なくとも一部は、円形突起である、付記１に記載の物品。
（付記５）
前記複数の突起の前記一部は、前記物品の長さにわたって延びている、付記４に記載の物品。
（付記６）
前記複数の突起の少なくとも一部は、軸方向の縞状突起である、付記１に記載の物品。
（付記７）
前記複数の突起の前記一部は、前記物品の半径方向に延びている、付記６に記載の物品。
（付記８）
前記複数の突起の少なくとも一部は、平行縞状突起である、付記１に記載の物品。
（付記９）
前記複数の突起は、２つの隣接する突起間に少なくとも１ｃｍの間隔を有する、付記１に記載の物品。
（付記１０）
前記ベース層は、感圧性接着剤を含む、付記１に記載の物品。
（付記１１）
前記ベース層は、前記頂部主表面の前記平面から延びる前記複数の突起に対応する複数の構造を含む、付記１に記載の物品。
（付記１２）
中間層を更に備え、前記中間層は、前記表面層の少なくとも一部と前記ベース層の少なくとも一部との間に複数のスペーサを備え、かつ前記頂部主表面の前記平面から延びる前記複数の突起に対応する、付記１に記載の物品。
（付記１３）
前記複数の微細構造の各々は、約１ｍｍ未満の微細構造高さを有する、付記１に記載の物品。
（付記１４）
前記複数の突起は、前記頂部主表面の表面積の約１％〜約１０％の面密度を有する、付記１に記載の物品。
（付記１５）
前記複数の突起は、１００平方インチ当たりの突起が約３〜約２００個の密度を有する、付記１に記載の物品。
（付記１６）
基材を保持するように構成されたキャリアアセンブリと、
付記１に記載の物品を備える研磨パッドと、
前記研磨パッドに結合されたプラテンと、
流体成分及び研磨剤成分を含む研磨スラリーと、を含み、
前記研磨パッドを前記基材に対して相対的に移動させるように構成されている、システム。
（付記１７）
前記研磨パッドの前記複数の突起は、前記基材の幅よりも小さい間隔を有する、付記１６に記載のシステム。
（付記１８）
主表面を有する基材を準備することと、
付記１に記載の物品を備える研磨パッドを準備することと、
流体成分及び研磨剤成分を含む研磨スラリーを準備することと、
前記研磨パッドと前記基材の前記主表面との間に相対運動が存在する間に、前記基材の前記主表面を前記研磨パッド及び前記研磨スラリーに接触させることと、を含む方法。
（付記１９）
前記基材の前記主表面上に力変調を発生させることを更に含み、前記力変調のピークは、前記基材の前記主表面と前記研磨パッドの突起とが接触することに対応する、付記１８に記載の方法。
（付記２０）
前記力変調は、前記研磨パッドの前記複数の突起の高さに対応する振幅、前記研磨パッドの前記複数の突起の間隔に対応する周波数、及び前記研磨パッドの前記複数の突起の幅に対応する周期性を含む、付記１９に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
繰り返し微細構造を有する表面層であって、
平面を画定する頂部主表面と、
前記頂部主表面の反対側の底部主表面と、
前記頂部主表面の前記平面から延びる複数の突起であって、前記頂部主表面の表面積の約０．１％〜約４０％の面密度を有する複数の突起と、
前記複数の突起から延びる複数の微細構造と、を備える表面層；及び、
前記底部主表面において前記表面層の少なくとも一部に結合されたベース層、
を備える、物品。
【請求項２】
前記複数の突起の各々は、少なくとも約２０μｍの突起高さを有する、請求項１に記載の物品。
【請求項３】
前記複数の突起の各々は、少なくとも約１ｍｍの突起幅を有する、請求項１に記載の物品。
【請求項４】
前記複数の突起の少なくとも一部は、円形突起である、請求項１に記載の物品。
【請求項５】
前記複数の突起の少なくとも一部は、軸方向の縞状突起である、請求項１に記載の物品。
【請求項６】
前記複数の突起の少なくとも一部は、平行縞状突起である、請求項１に記載の物品。
【請求項７】
前記複数の突起は、２つの隣接する突起間に少なくとも１ｃｍの間隔を有する、請求項１に記載の物品。
【請求項８】
前記ベース層は、前記頂部主表面の前記平面から延びる前記複数の突起に対応する複数の構造を含む、請求項１に記載の物品。
【請求項９】
中間層を更に備え、前記中間層は、前記表面層の少なくとも一部と前記ベース層の少なくとも一部との間に複数のスペーサを備え、かつ前記頂部主表面の前記平面から延びる前記複数の突起に対応する、請求項１に記載の物品。
【請求項１０】
前記複数の突起は、前記頂部主表面の表面積の約１％〜約１０％の面密度を有する、請求項１に記載の物品。
【請求項１１】
前記複数の突起は、１００平方インチ当たりの突起が約３〜約２００個の密度を有する、請求項１に記載の物品。
【請求項１２】
基材を保持するように構成されたキャリアアセンブリと、
請求項１に記載の物品を備える研磨パッドと、
前記研磨パッドに結合されたプラテンと、
流体成分及び研磨剤成分を含む研磨スラリーと、を含み、
前記研磨パッドを前記基材に対して相対的に移動させるように構成されている、システム。
【請求項１３】
前記研磨パッドの前記複数の突起は、前記基材の幅よりも小さい間隔を有する、請求項１２に記載のシステム。
【請求項１４】
主表面を有する基材を準備することと、
請求項１に記載の物品を備える研磨パッドを準備することと、
流体成分及び研磨剤成分を含む研磨スラリーを準備することと、
前記研磨パッドと前記基材の前記主表面との間に相対運動が存在する間に、前記基材の前記主表面を前記研磨パッド及び前記研磨スラリーに接触させることと、を含む方法。
【請求項１５】
前記基材の前記主表面上に力変調を発生させることを更に含み、前記力変調のピークは、前記基材の前記主表面と前記研磨パッドの突起とが接触することに対応する、請求項１４に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】令和3年8月27日(2021.8.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
強化されたリン耐性を有するＴＷＣ触媒物品であって、
基材上に触媒材料を含み、前記触媒材料が前記基材上に配置された第１の層及び前記第１の層上に配置された第２の層を含み、
前記第２の層が、
アルカリ土類金属成分及び金属酸化物を含むリン捕捉材料を含み、
前記アルカリ土類金属成分が、前記金属酸化物上に担持されるか、又は前記金属酸化物との複合体の形態であり、及び
リン耐性担体材料に含浸ロジウム成分を含み、
前記触媒材料が、一酸化炭素及び炭化水素を酸化し、窒素酸化物を還元させる三元変換に効果的である、ＴＷＣ触媒物品。
【請求項２】
前記リン耐性担体材料がジルコニアをベースとする担体材料であり、
前記ジルコニアをベースとする担体材料が、ジルコニア、ランタナ−ジルコニア、チタニア−ジルコニア、チタニア−ランタナ−ジルコニア、アルミナ−ジルコニア、バリア−ジルコニア、ストロンチア−ジルコニア、ネオジミア−ジルコニア、プラセオジミア−ジルコニア、酸化タングステン−ジルコニア、ニオビア−ジルコニア、イットリア−ジルコニア、又はそれらの任意の組合せである、請求項１に記載のＴＷＣ触媒物品。
【請求項３】
前記ジルコニアをベースとする担体材料がランタナ−ジルコニアであり、
前記ランタナ−ジルコニアが、８０質量％〜９９質量％の量のジルコニアを含む、請求項２に記載のＴＷＣ触媒物品。
【請求項４】
前記第２の層が、０．０５質量％〜５質量％の量のロジウム成分を含有する、請求項１から３のいずれか一項に記載のＴＷＣ触媒物品。
【請求項５】
前記アルカリ土類金属成分が、酸化バリウム、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化ストロンチウム及びそれらの組合せから選択される、請求項１から４のいずれか一項に記載のＴＷＣ触媒物品。
【請求項６】
前記アルカリ土類金属成分が酸化バリウムであり、
前記酸化バリウムの量が１質量％〜４０質量％である、請求項５に記載のＴＷＣ触媒物品。
【請求項７】
前記金属酸化物が、アルミナ、ジルコニア、チタニア、セリア又はそれらの組合せである、請求項１から６のいずれか一項に記載のＴＷＣ触媒物品。
【請求項８】
前記リン捕捉材料が酸化バリウムとアルミナの複合体である、請求項１から７のいずれか一項に記載のＴＷＣ触媒物品。
【請求項９】
第２のロジウム成分をさらに含み、前記第２のロジウム成分が、アルミナ、ランタナ−アルミナ、セリア−アルミナ、ジルコニア−アルミナ、セリア−ジルコニア−アルミナ、ランタナ−ジルコニア−アルミナ、ランタナ−ネオジミアアルミナ、及びそれらの組合せから選択された耐火性金属酸化物担体に含浸される、請求項１から８のいずれか一項に記載のＴＷＣ触媒物品。
【請求項１０】
セリア−ジルコニア、ランタナ−セリア−ジルコニア、ネオジミア−セリア−ジルコニア、プラセオジミア−セリア−ジルコニア、イットリア−セリア−ジルコニア、ニオビア−セリア−ジルコニア、ストロンチア−セリア−ジルコニア、又はそれらの組合せに含浸された第２のロジウム成分をさらに含む、請求項１から９のいずれか一項に記載のＴＷＣ触媒物品。
【請求項１１】
前記第１の層が、第１の担体材料に含浸された白金族金属（ＰＧＭ）成分を含み、前記第１の担体材料の少なくとも一部が、セリア、ジルコニア、ランタナ、イットリア、ネオジミア、プラセオジミア、ニオビア、及びそれらの組合せから選択された酸素貯蔵成分であり、
前記第１の担体材料の少なくとも一部が、アルミナ、ランタナ−アルミナ、セリア−アルミナ、ジルコニア−アルミナ、セリア−ジルコニア−アルミナ、ランタナ−ジルコニア−アルミナ、ランタナ−ネオジミア−アルミナ、及びそれらの組合せから選択された耐火性金属酸化物担体である、請求項１から１０のいずれか一項に記載のＴＷＣ触媒物品。
【請求項１２】
前記第１の層が、酸化バリウム、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化ストロンチウム、酸化ランタン、酸化セリウム、酸化ジルコニウム、酸化マンガン、酸化銅、酸化鉄、酸化プラセオジム、酸化イットリウム、酸化ネオジム、又はそれらの任意の組合せをさらに含む、請求項１１に記載のＴＷＣ触媒物品。
【請求項１３】
前記第２の層が、前記リン捕捉材料と、前記リン耐性担体材料に含浸された前記ロジウム成分との物理的混合物である、請求項１から１２のいずれか一項に記載のＴＷＣ触媒物品。
【請求項１４】
前記アルカリ土類金属成分が、前記第２の層の１質量％〜２０質量％の量で存在する、請求項１から１３のいずれか一項に記載のＴＷＣ触媒物品。
【請求項１５】
前記リン耐性担体材料がランタナ−ジルコニアであり、前記アルカリ土類金属成分が酸化バリウムであり、前記酸化バリウムが、アルミナに担持されているか、又は酸化バリウム−アルミナ複合体の形態である、請求項１から１４のいずれか一項に記載のＴＷＣ触媒物品。
【請求項１６】
前記第１の層が、セリア−ジルコニア及びランタナ−アルミナに含浸されたパラジウムを含み、前記第１の層が酸化バリウムをさらに含む、請求項１から１５のいずれか一項に記載のＴＷＣ触媒物品。
【請求項１７】
前記第２の層が上流ゾーン及び下流ゾーンに分けられ、前記上流ゾーンが前記リン捕捉材料を含む、請求項１から１６のいずれか一項に記載のＴＷＣ触媒物品。
【請求項１８】
前記基材が金属又はセラミックのモノリシックハニカム基材である、請求項１から１７のいずれか一項に記載のＴＷＣ触媒物品。
【請求項１９】
ガス流中のＣＯ、ＨＣ及びＮＯＸレベルを低下させる方法であって、ガス流中のＣＯ、ＨＣ及びＮＯＸのレベルを低下させるのに十分な時間及び温度で、前記ガス流を請求項１から３０のいずれか一項に記載のＴＷＣ触媒物品と接触させることを含み、
前記ガス流中の前記ＣＯ、ＨＣ及びＮＯＸレベルを、前記ＴＷＣ触媒物品と接触させる前の前記ガス流中の前記ＣＯ、ＨＣ及びＮＯＸレベルと比較して、少なくとも５０％低下させる、方法。
【請求項２０】
排気ガス流の処理のための排出処理システムであって、
排気ガス流を生成するエンジン；及び
前記排気ガス流と流体連通して前記エンジンの下流に配置され、ＣＯ及びＨＣの低減及びＮＯＸのＮ２への変換に適している請求項１から１８のいずれか一項に記載のＴＷＣ触媒物品を含む、排出処理システム。
【請求項２１】
前記エンジンが、ガソリンエンジン又は圧縮天然ガス（ＣＮＧ）エンジン、又はガソリン車、ガソリンオートバイ、ＣＮＧ車、及びＣＮＧオートバイから選択される移動発生源、又は発電機又はポンプ場から選択される固定発生源である、請求項２０に記載の排出処理システム。
【手続補正書】
【提出日】令和3年8月6日(2021.8.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
流体チャネルと前記流体チャネル内の流体を加熱するために使用されるように配置された加熱エレメントを有するベース構造体を備え、
さらに前記流体チャネルを冷却するために使用されるように配置された冷却手段を備えることを特徴とする加熱装置。
【請求項２】
前記加熱エレメントは、少なくとも１つの前記流体チャネルの流体チャネル経路に少なくとも部分的に合致する請求項１に記載の加熱装置。
【請求項３】
前記ベース構造体は、板状構造体を含む請求項１または２に記載の加熱装置。
【請求項４】
前記ベース構造体は、前記流体チャネルと前記冷却手段との間で熱が交換される熱伝導性材料を含む請求項１乃至３のいずれか１項に記載の加熱装置。
【請求項５】
前記冷却手段は、冷却チャネルを備える請求項１乃至４のいずれか１項に記載の加熱装置。
【請求項６】
前記冷却チャネルは、前記流体チャネルに加熱された流体が実質的にないときに、前記流体チャネルを冷却するために使用されるように配置されている、請求項５に記載の加熱装置。
【請求項７】
前記冷却チャネルの少なくとも一部は、前記流体チャネルの少なくとも一部とは別個のチャネルである、請求項５または６に記載の加熱装置。
【請求項８】
前記冷却チャネルの少なくとも一部は、前記流体チャネルの少なくとも一部の少なくとも１つの辺に隣接している、請求項５乃至７のいずれか１項に記載の加熱装置。
【請求項９】
前記冷却チャネルの少なくとも一部は、前記流体チャネルの少なくとも一部の少なくとも２つの異なる辺に隣接している、請求項５乃至８のいずれか１項に記載の加熱装置。
【請求項１０】
前記冷却チャネルの少なくとも一部は、前記流体チャネルの少なくとも一部の少なくとも１つの辺に当接又は接触している、請求項５乃至９のいずれか１項に記載の加熱装置。
【請求項１１】
前記冷却チャネルの少なくとも一部は、前記流体チャネルの前記少なくとも一部の少なくとも２つの異なる辺、好ましくは対向する二つの辺に当接又は接触している、請求項１０に記載の加熱装置。
【請求項１２】
前記流体チャネルの少なくとも一部及び前記冷却チャネルの少なくとも一部は、前記ベース構造体の少なくとも一部を横切ってまたは通る交互するパターンで配置されている、請求項５乃至１１のいずれか１項に記載の加熱装置。
【請求項１３】
前記流体チャネルの少なくとも一部及び前記冷却チャネルの少なくとも一部は、直線ではない請求項５乃至１２のいずれか１項に記載の加熱装置。
【請求項１４】
請求項１乃至１３のいずれか１項に記載の加熱装置の前記流体チャネルを冷却する冷却方法であって、
ａ．加熱された流体を前記流体チャネルを通して搬送するステップと、
ｂ．冷却手段を使用して前記流体チャネルを冷却するステップと、
を含む、冷却方法。
【請求項１５】
請求項１乃至１３のいずれか１項に記載の加熱装置を備える飲料調製機器。
【請求項１６】
前記飲料調製機器が、煎出飲料調製機器である、請求項１５に記載の飲料調製機器。
【請求項１７】
１つ以上の飲料を調製する調製方法であって、
請求項１５または１６に記載の飲料調製装置の前記加熱エレメントの前記流体チャネル内の飲料流体を加熱するステップと、
前記加熱された飲料流体を前記流体チャネルから吐出するステップと、
前記流体チャネルを冷却するステップと、
任意選択により、更なる流体を前記流体チャネルに通過させるステップとを含む
調製方法。
【手続補正書】
【提出日】令和3年6月16日(2021.6.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
家庭用電気システムであって、例えばアイロン掛け用であり、アイロンなどの機器を備え、少なくとも下記を含むコードで基部（ベース）に接続されている、家庭用電気システムであり、
・該機器の動作電力のＨＶ（高電圧）送電用の第１導線セットで形成された第１電線、
・該機器内に配置された回路基板への電力のＬＶ（低電圧）供給のための第２導線セットによって形成された第２電線、
・該基部と該機器間の双方向データ送信を提供するための第３電線；
ここで、第３電線は第２導線セットによって形成され；該システムは、第２電線と第３電線、または専ら第３電線をアクティブ化するために、第２導線セットを通る電圧および／または電流を変調することに適した変調器をさらに含み；
前記機器は、電源を含み、該電源は、前記基部から独立しており、第２電線が非アクティブ化したときに前記機器の前記回路基板に電力を供給することに適していることを特徴とする、
家庭用電気システム。
【請求項２】
独立した電源はバッテリーである、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
独立した電源はキャパシタである、請求項１に記載のシステム。
【請求項４】
前記基部が蒸気発生器を含む、請求項１に記載のシステム。
【請求項５】
前記機器は、少なくとも１つのアクチュエータを含み、
該アクチュエータは、前記基部の動作を制御するために手動でアクティブ化され得る、請求項１〜４のいずれか１項に記載のシステム。
【請求項６】
データが前記基部から前記機器へ、およびその逆に送信されることを特徴とし、請求項１〜５のいずれか１項に定義されるようなテキスタイルを処理するためのシステムの使用。
【請求項７】
蒸気発生器を用い、該発生器の圧力は前記機器から調整される、請求項１〜６のいずれか１項に記載の使用。
【請求項８】
前記機器の前記動作電力が、前記機器から調整される、請求項６または７に記載の使用。