(57)【要約】【課題】主磁極の体積を確保しつつも、サイドイレーズを抑制可能な磁気ヘッドスライダを提供する。【解決手段】本発明の磁気ヘッドスライダは、磁気ディスクと対向する媒体対向面まで延び、媒体対向面側端面２１ａから記録磁界を発する主磁極２１を含む単磁極型記録ヘッド、を有する磁気ヘッドスライダであって、媒体対向面側端面２１ａは、磁性を劣化させる不純物が注入された注入領域２１ｉと、不純物が注入されない非注入領域２１ｎと、に分けられ、非注入領域２１ｎは、リーディング側ＬＤの端部の幅がトレーリング側ＴＲの端部の幅よりも狭い形状を有する。【選択図】図３
2010146646.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
磁気ディスクと対向する媒体対向面まで延び、媒体対向面側端面から記録磁界を発する主磁極を含む単磁極型記録ヘッド、
を有する磁気ヘッドスライダであって、
前記媒体対向面側端面は、磁性を劣化させる不純物が注入された注入領域と、前記不純物が注入されない非注入領域と、に分けられ、
前記非注入領域は、リーディング側の端部の幅がトレーリング側の端部の幅よりも狭い形状を有する、
ことを特徴とする磁気ヘッドスライダ。
【請求項２】
前記非注入領域のリーディング側の端部の幅が、前記媒体対向面側端面の幅よりも狭い、
請求項１に記載の磁気ヘッドスライダ。
【請求項３】
前記非注入領域のリーディング側の端部が、角状に形成される、
請求項１に記載の磁気ヘッドスライダ。
【請求項４】
前記非注入領域のリーディング側の端部が、前記主磁極のリーディング側の端から離間する、
請求項１に記載の磁気ヘッドスライダ。
【請求項５】
前記注入領域から前記主磁極内に注入される前記不純物の注入深さが、前記主磁極のリーディング側の端から前記非注入領域のリーディング側の端部に近づくに従って浅くなる、
請求項４に記載の磁気ヘッドスライダ。
【請求項６】
前記非注入領域のトレーリング側の端部の幅が、前記媒体対向面側端面の幅よりも狭い、
請求項１に記載の磁気ヘッドスライダ。
【請求項７】
前記主磁極は、前記媒体対向面まで延び、先端に前記媒体対向面側端面を有する棒状部と、前記棒状部の基端側に繋がる、前記棒状部よりも幅広な幅広部と、を含み、
前記不純物は、前記棒状部の範囲内に注入される、
請求項１に記載の磁気ヘッドスライダ。
【請求項８】
前記注入領域から前記主磁極内に注入される前記不純物の注入深さが、前記非注入領域の外縁に近づくに従って浅くなる、
請求項１に記載の磁気ヘッドスライダ。
【請求項９】
前記注入領域から前記主磁極内に注入される前記不純物の濃度が、前記媒体対向面側端面に近づくに従って高くなる、
請求項１に記載の磁気ヘッドスライダ。
【請求項１０】
前記非注入領域のトレーリング側の端部が幅方向に分割され、その間に前記注入領域が形成される、
請求項１に記載の磁気ヘッドスライダ。
【請求項１１】
前記主磁極は、前記媒体対向面側端面から所定の距離に、前記不純物の通過を抑制するシールド層を含む、
請求項１に記載の磁気ヘッドスライダ。
【請求項１２】
前記シールド層は、前記主磁極のトレーリング側の端に近づくに従って前記媒体対向面側端面との距離が短くなる、
請求項１１に記載の磁気ヘッドスライダ。
【請求項１３】
前記主磁極は、前記シールド層に対して前記媒体対向面側端面と同じ側の第１の部分と、前記媒体対向面側端面とは逆側の第２の部分と、を含み、
前記第２の部分が、前記第１の部分よりも厚い、
請求項１１に記載の磁気ヘッドスライダ。
【請求項１４】
請求項１に記載の磁気ヘッドスライダを有する磁気ディスク装置。
【請求項１５】
磁気ディスクと対向する媒体対向面まで延び、媒体対向面側端面から記録磁界を発する主磁極を含む単磁極型記録ヘッド、
を有する磁気ヘッドスライダの製造方法であって、
基板上に前記主磁極を含む薄膜部を形成し、
前記薄膜部が形成された基板を、前記媒体対向面側端面が現れるよう切断し、
前記媒体対向面側端面に、磁性を劣化させる不純物を、該不純物が注入されない非注入領域がリーディング側の端部の幅がトレーリング側の端部の幅よりも狭い形状を有するように、注入する、
磁気ヘッドスライダの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気ヘッドスライダ、その製造方法及び磁気ディスク装置に関し、特には単磁極型記録ヘッドに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、特許文献１には、垂直磁気記録を実現する単磁極型記録ヘッドにおいて、隣接トラックへの誤記録（いわゆる、サイドイレーズ）を防止するために、記録磁界を発する主磁極の媒体対向面側端面をトレーリング側よりもリーディング側が幅狭な台形状に形成する技術が開示されている。
【特許文献１】特開２００６−１３９８４８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
ところで、近年のトラック密度の向上に伴って、主磁極の媒体対向面側端面には幅や厚さの狭小化が求められており、その結果、主磁極の体積が減少して、記録磁界の強度の確保が困難となっている。特に、上記従来技術では、主磁極のリーディング側の端が尖鋭化するため、薄膜形成技術による主磁極の形成時に、略逆三角形状のパターンが倒れてしまう等の問題がある。
【０００４】
本発明は、上記実情に鑑みて為されたものであり、主磁極の体積を確保しつつも、サイドイレーズを抑制可能な磁気ヘッドスライダ、その製造方法及び磁気ディスク装置を提供することを主な目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記課題を解決するため、本発明の磁気ヘッドスライダは、磁気ディスクと対向する媒体対向面まで延び、媒体対向面側端面から記録磁界を発する主磁極を含む単磁極型記録ヘッド、を有する磁気ヘッドスライダであって、前記媒体対向面側端面は、磁性を劣化させる不純物が注入された注入領域と、前記不純物が注入されない非注入領域と、に分けられ、前記非注入領域は、リーディング側の端部の幅がトレーリング側の端部の幅よりも狭い形状を有する、ことを特徴とする。
【０００６】
また、本発明の一態様では、前記非注入領域のリーディング側の端部の幅が、前記媒体対向面側端面の幅よりも狭い。
【０００７】
また、本発明の一態様では、前記非注入領域のリーディング側の端部が、角状に形成される。
【０００８】
また、本発明の一態様では、前記非注入領域のリーディング側の端部が、前記主磁極のリーディング側の端から離間する。
【０００９】
また、この態様では、前記注入領域から前記主磁極内に注入される前記不純物の注入深さが、前記主磁極のリーディング側の端から前記非注入領域のリーディング側の端部に近づくに従って浅くなってもよい。
【００１０】
また、本発明の一態様では、前記非注入領域のトレーリング側の端部の幅が、前記媒体対向面側端面の幅よりも狭い。
【００１１】
また、本発明の一態様では、前記主磁極は、前記媒体対向面まで延び、先端に前記媒体対向面側端面を有する棒状部と、前記棒状部の基端側に繋がる、前記棒状部よりも幅広な幅広部と、を含み、前記不純物は、前記棒状部の範囲内に注入される。
【００１２】
また、本発明の一態様では、前記注入領域から前記主磁極内に注入される前記不純物の注入深さが、前記非注入領域の外縁に近づくに従って浅くなる。
【００１３】
また、本発明の一態様では、前記注入領域から前記主磁極内に注入される前記不純物の濃度が、前記媒体対向面側端面に近づくに従って高くなる。
【００１４】
また、本発明の一態様では、前記非注入領域のトレーリング側の端部が幅方向に分割され、その間に前記注入領域が形成される。
【００１５】
また、本発明の一態様では、前記主磁極は、前記媒体対向面側端面から所定の距離に、前記不純物の通過を抑制するシールド層を含む。
【００１６】
また、この態様では、前記シールド層は、前記主磁極のトレーリング側の端に近づくに従って前記媒体対向面側端面との距離が短くなってもよい。
【００１７】
また、この態様では、前記主磁極は、前記シールド層に対して前記媒体対向面側端面と同じ側の第１の部分と、前記媒体対向面側端面とは逆側の第２の部分と、を含み、前記第２の部分が、前記第１の部分よりも厚くてもよい。
【００１８】
また、本発明の磁気ディスク装置は、上記磁気ヘッドスライダを有する。
【００１９】
また、本発明の磁気ヘッドスライダの製造方法は、磁気ディスクと対向する媒体対向面まで延び、媒体対向面側端面から記録磁界を発する主磁極を含む単磁極型記録ヘッド、を有する磁気ヘッドスライダの製造方法であって、基板上に前記主磁極を含む薄膜部を形成し、前記薄膜部が形成された基板を、前記媒体対向面側端面が現れるよう切断し、前記媒体対向面側端面に、磁性を劣化させる不純物を、該不純物が注入されない非注入領域がリーディング側の端部の幅がトレーリング側の端部の幅よりも狭い形状を有するように、注入する。
【発明の効果】
【００２０】
本発明によれば、主磁極の媒体対向面側端面のうちの非注入領域が、リーディング側の端部の幅がトレーリング側の端部の幅よりも狭い形状を有するので、主磁極の体積が確保されると共に、サイドイレーズの抑制が可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
本発明の磁気ヘッドスライダ、その製造方法及び磁気ディスク装置の実施形態を、図面を参照しながら説明する。
【００２２】
図１は、磁気ディスク装置１の斜視図である。同図では、トップカバーの図示が省略されている。磁気ディスク装置１の筐体には、磁気ディスク２及びヘッドアッセンブリ４が収納されている。磁気ディスク２は、筐体の底部に設けられたスピンドルモータ３に取り付けられている。ヘッドアッセンブリ４は、磁気ディスク２の隣で旋回可能に支承されている。このヘッドアッセンブリ４の先端側には、サスペンションアーム５が設けられ、その先端部に磁気ヘッドスライダ１０が支持されている。他方、ヘッドアッセンブリ４の後端部には、ボイスコイルモータ７が設けられている。ボイスコイルモータ７は、ヘッドアッセンブリ４を旋回駆動することで、磁気ヘッドスライダ１０を磁気ディスク２上で略半径方向に移動させる。
【００２３】
図２は、磁気ヘッドスライダ１０の要部断面図である。同図において、矢印ＤＲは磁気ディスク２の回転方向を表し、矢印ＴＲは磁気ヘッドスライダ１０のトレーリング方向を表し、矢印ＬＤは磁気ヘッドスライダ１０のリーディング方向を表す。磁気ヘッドスライダ１０の、磁気ディスク２と対向する媒体対向面１０ａには、空気軸受面（ＡＢＳ）が形成されている。磁気ヘッドスライダ１０は、磁気ディスク２の回転により生じる気体流を受けて、磁気ディスク２上に浮上する。この磁気ヘッドスライダ１０は、基板上に形成された薄膜部１２内に、記録ヘッド２０及び再生ヘッド３０を有している。
【００２４】
記録ヘッド２０は、垂直磁気記録を実現する単磁極型記録ヘッドである。この記録ヘッド２０は、パーマロイ等の軟磁性材料からなる、磁気的に接続された主磁極２１、補助磁極２３及び連結部２５を有している。この主磁極２１は、媒体対向面１０ａまで延びており、コイル２７により励磁されて、媒体対向面側端面２１ａから記録磁界を出力する。媒体対向面側端面２１ａから出力される記録磁界は、磁気ディスク２内で折り返されて、補助磁極２３に吸収される。また、主磁極２１の媒体対向面側端面２１ａの周囲には、磁気シールド２９が設けられている。
【００２５】
再生ヘッド３０は、記録ヘッド２０よりもリーディング側に、磁気シールド４０を隔てて配置されている。この再生ヘッド３０は、磁気抵抗効果素子からなる再生素子３２と、これを挟み込む一対の磁気シールド３４とを有している。
【００２６】
図３は、主磁極２１の一態様を表す斜視図である。同図では、主磁極２１の端２１９ａ，２１９ｂに沿った方向（図中横方向）が幅方向であり、主磁極２１の端２１９ｃに沿った方向（図中縦方向）が厚さ方向である。主磁極２１は、先端に矩形状の媒体対向面側端面２１ａを有する棒状部２１２と、この棒状部２１２の基端側から幅方向に広がる幅広部２１４と、を有している。
【００２７】
この主磁極２１の媒体対向面側端面２１ａの一部には、磁性を劣化させる不純物としてのイオンが所定の深さまで注入されている。このため、主磁極２１の媒体対向面側端面２１ａは、イオンが注入された非磁性の注入領域２１ｉと、イオンが注入されない強磁性の非注入領域２１ｎと、に分かれている。記録磁界は、この非注入領域２１ｎから出力される。
【００２８】
非注入領域２１ｎは、主磁極２１の媒体対向面側端面２１ａのうち幅方向の中央部に形成され、注入領域２１ｉは、この非注入領域２１ｎに対して幅方向の両側に形成される。非注入領域２１ｎと注入領域２１ｉとの境界は、主磁極２１のトレーリング側の端２１９ａからリーディング側の端２１９ｂに至っている。これらの境界は、リーディング側に向かうに従って幅方向の中央に近づき、リーディング側の端２１９ｂで互いに接している。なお、厚さ方向に沿った直線に対して、非注入領域２１ｎと注入領域２１ｉとの境界が為す角度αを、ベベル角という。
【００２９】
このため、非注入領域２１ｎの幅は、トレーリング側からリーディング側に向けて徐々に狭まっており、リーディング側の端部２１１ｑの幅がトレーリング側の端部２１１ｐの幅よりも狭くなっている。このように、非注入領域２１ｎは、リーディング側の端部２１１ｑが角状の、三角形状とされる。これに対し、注入領域２１ｉの幅は、トレーリング側からリーディング側に向けて徐々に広がっている。
【００３０】
これによれば、図４に示されるように、主磁極２１の媒体対向面側端面２１ａの向きが磁気ディスク２のトラック２ｔに対して傾いて、スキュー角θが生じても、非注入領域２１ｎがトラック２ｔの幅内に収まるので、隣接トラックへの誤記録（サイドイレーズ）が抑制される。上記ベベル角αは、このスキュー角θの最大値と同程度に設定される。なお、非注入領域２１ｎから出力される記録磁界は、トレーリング側の端部２１１ｐで比較的強くなるので、非注入領域２１ｎのリーディング側の端部２１１ｑの幅が狭まっていても、十分な記録磁界が確保できる。
【００３１】
また、主磁極２１の媒体対向面側端面２１ａに部分的にイオンが注入されることで、記録磁界が出力される領域（すなわち、非注入領域２１ｎ）の形状および大きさが制御されるので、主磁極２１の体積が十分に確保され、その結果、記録磁界の強度が十分に確保できる。また、主磁極２１のリーディング側の端を尖鋭化する必要がないので、薄膜形成技術により主磁極２１を形成する際にパターンが倒れてしまう等の問題が生じない。
【００３２】
また、非注入領域２１ｎのトレーリング側の端部２１１ｐは、主磁極２１の媒体対向面側端面２１ａの幅よりも狭く、幅方向の両端２１９ｃから離れている。この非注入領域２１ｎのトレーリング側の端部２１１ｐの幅は、トラック２ｔの幅に応じて定められる（図４を参照）。これに対し、主磁極２１の媒体対向面側端面２１ａの幅はトラック２ｔの幅による制約を受けないので、主磁極２１の媒体対向面側端面２１ａの幅をトラック２ｔの幅よりも広げることが可能である。従って、主磁極２１の体積が十分に確保され、その結果、記録磁界の強度が十分に確保できる。
【００３３】
また、注入領域２１ｉから主磁極２１内に注入されるイオンは、媒体対向面側端面２１ａから例えば約３５ｎｍ以上の深さまで注入されることが好ましい。注入用のイオンとしては、例えばＣｒ等の金属系のイオンやＡｒ等のガス系のイオンが適用可能である。Ｃｒ等の金属系のイオンを用いる場合、主磁極２１の磁性を劣化させる効率が比較的高い。Ａｒ等のガス系のイオンを用いる場合、イオン化が比較的容易である。なお、注入用のイオンとしては、主磁極２１の耐食性を劣化させないものが好ましい。
【００３４】
図５Ａ及び図５Ｂは、主磁極２１の他の態様を表す斜視図及び断面図である。上記の態様と重複する構成については、同番号を付すことで詳細な説明を省略する。本態様では、非注入領域２１ｎのリーディング側の端部２１１ｑが、主磁極２１のリーディング側の端２１９ｂから離間している。
【００３５】
この非注入領域２１ｎの厚さは、サイドイレーズを抑制する観点から定められる。すなわち、トラック２ｔの幅が狭まるほど、非注入領域２１ｎのトレーリング側の端部２１１ｐの幅が狭まり、これに伴って、非注入領域２１ｎの厚さを短縮する必要が生じる。これに対し、主磁極２１の媒体対向面側端面２１ａの厚さはこうした制約を受けない。このため、主磁極２１の媒体対向面側端面２１ａの厚さを、非注入領域２１ｎの厚さよりも大きくすることができる。従って、主磁極２１の体積が十分に確保され、その結果、記録磁界の強度が十分に確保できる。
【００３６】
また、図５Ｂに示されるように、注入領域２１ｉから主磁極２１内に注入されるイオンの注入深さは、主磁極２１のリーディング側の端２１９ｂから非注入領域２１ｎのリーディング側の端部２１１ｑに近づくに従って浅くなっている。これによれば、主磁極２１内に形成される磁路が、主磁極２１の媒体対向面側端面２１ａに向けて徐々に狭まるので、主磁極２１内に生じる記録磁界が、非注入領域２１ｎに向けて滑らかに集中する。なお、イオンの注入深さは、これに限られず、階段状や曲線状に変化してもよい。
【００３７】
図６Ａ及び図６Ｂは、主磁極２１の他の態様を表す斜視図である。上記の態様と重複する構成については、同番号を付すことで詳細な説明を省略する。非注入領域２１ｎは、これらの図に示されるような略Ｔ字形状とされてもよい。これらの態様によれば、記録磁界が比較的強くなる非注入領域２１ｎのトレーリング側の端部２１１ｐの幅が十分に確保される一方で、その他の部分の幅がより一層狭められるので、サイドイレーズの更なる抑制が可能である。なお、エッチング等を用いて主磁極を略Ｔ字状に形成することは大変困難であるが、本態様によれば、イオン注入を用いているので、記録磁界が出力される領域（すなわち、非注入領域２１ｎ）を略Ｔ字状に形成することは容易である。
【００３８】
図７は、主磁極２１の他の態様を表す斜視図である。上記の態様と重複する構成については、同番号を付すことで詳細な説明を省略する。主磁極２１の媒体対向面側端面２１ａは、この図に示されるように、トレーリング側の端２１９ａよりもリーディング側の端２１９ｂが幅狭な台形状に形成されてもよい。この場合であっても、非注入領域２１ｎのリーディング側の端部２１１ｑが、主磁極２１のリーディング側の端２１９ｂよりも狭く、幅方向の両端２１９ｃから離れていることで、上記と同様のサイドイレーズの抑制効果が得られる。また、主磁極２１のリーディング側の端を尖鋭化する必要がないので、薄膜形成技術により主磁極２１を形成する際に、逆三角形状のパターンが倒れてしまう等の問題が生じない。
【００３９】
図８Ａ及び図８Ｂは、主磁極２１の他の態様を表す斜視図である。上記の態様と重複する構成については、同番号を付すことで詳細な説明を省略する。これらの態様では、注入領域２１ｉから主磁極２１内に注入されるイオンの注入深さが、非注入領域２１ｎと注入領域２１ｉとの境界（非注入領域２１ｎの外縁）に近づくに従って浅くなっている。これによれば、主磁極２１内に形成される磁路が、主磁極２１の媒体対向面側端面２１ａに向けて徐々に狭まるので、主磁極２１内に生じる記録磁界が、非注入領域２１ｎに向けて滑らかに集中する。なお、イオンの注入深さは、これに限られず、階段状や曲線状に変化してもよい。
【００４０】
また、図８Ｂに示されるように、棒状部２１２と幅広部２１４との境界付近にイオンの注入深さが設定されると共に、イオンの注入深さの傾きが幅広部２１４の傾きに合わせられてもよい。これによれば、幅広部２１４から棒状部２１２に架けて急激に狭まる磁路が、滑らかな形状となる。
【００４１】
図９は、主磁極２１の他の態様を表す斜視図である。上記の態様と重複する構成については、同番号を付すことで詳細な説明を省略する。この態様では、注入領域２１ｉから主磁極２１内に注入されるイオンの濃度が、主磁極２１の媒体対向面側端面２１ａに近づくに従って高くなっている。こうした濃度特性は、比較的低エネルギーのイオンがより多く、比較的高エネルギーのイオンがより少なく注入されることで実現される。これによれば、主磁極２１内に形成される磁路が、主磁極２１の媒体対向面側端面２１ａに向けて徐々に狭まる、という上記図８Ａ及び図８Ｂの態様と同様の効果が得られ、主磁極２１内に生じる記録磁界が、非注入領域２１ｎに向けて滑らかに集中する。
【００４２】
図１０は、主磁極２１の他の態様を表す斜視図である。上記の態様と重複する構成については、同番号を付すことで詳細な説明を省略する。この態様では、非注入領域２１ｎのトレーリング側の端部２１１ｐの中央部にも、注入領域２１ｉが形成されている。すなわち、トレーリング側の端部２１１ｐは幅方向に分割され、その間に注入領域２１ｉが形成されている。これによれば、非注入領域２１ｎのトレーリング側の端部２１１ｐのうち、記録磁界の強度が高まりやすい中央部に非注入領域２１ｎが形成されるので、非注入領域２１ｎから出力される記録磁界の強度分布が、幅方向に沿って均一化される。
【００４３】
図１１Ａ及び図１１Ｂは、主磁極２１の他の態様を表す斜視図および側面図である。上記の態様と重複する構成については、同番号を付すことで詳細な説明を省略する。この態様では、主磁極２１は、媒体対向面側端面２１ａから所定の距離だけ離れた位置に、イオンの通過を抑制するシールド層２２３を含んでいる。主磁極２１のうち、シールド層２２３に対して媒体対向面側端面２１ａと同じ側の部分が第１の部分２２１とされ、シールド層２２３に対して媒体対向面側端面２１ａとは逆側の部分が第２の部分２２５とされる。このシールド層２２３の厚さは、第１の部分２２１と第２の部分２２５との磁気的な接続が維持される程度に設定される。
【００４４】
このシールド層２２３は、主磁極２１のトレーリング側の端２１９ａに近づくに従って、媒体対向面側端面２１ａとの距離が短くなっている。このため、注入領域２１ｉから主磁極２１内に注入されるイオンの注入深さは、主磁極２１のトレーリング側の端２１９ａに近づくに従って浅くなる。これによれば、主磁極２１内に生じる記録磁界が、非注入領域２１ｎのトレーリング側の端部２１１ｐにより集中しやすくなる。従って、非注入領域２１ｎのトレーリング側の端部２１１ｐから出力される記録磁界の強度が、より高められる。
【００４５】
こうした主磁極２１は、まず第１の部分２２１が形成され、その次にシールド層２２３が形成され、その次に第２の部分２２５が形成されることで、製造される。このように第１の部分２２１と第２の部分２２５とが個別に形成されることから、これらの厚さを異ならせることが可能である。本態様では、第２の部分２２５が第１の部分２２１よりも厚く形成されている。これによれば、主磁極２１の体積が十分に確保され、その結果、記録磁界の強度が十分に確保できる。
【００４６】
なお、シールド層２２３には、注入領域２１ｉから第１の部分２２１内に注入されるイオンよりも重い材料が用いられる。具体的には、シールド層２２３には、例えばＴｉ，Ｃｒ，Ｃｕ，Ｎｂ，Ｍｏ，Ｒｕ，Ｒｈ，Ｐｄ，Ｈｆ，Ｔａ，Ｗ，Ｒｅ，Ｏｓ，Ｉｒ，Ｐｔ，Ａｕ等の１種または２種以上が用いられる。
【００４７】
図１２Ａは、磁気ヘッドスライダ１０の製造方法の説明図である。磁気ヘッドスライダ１０は、主に（１）ウエハー工程、（２）ロウバー工程、（３）スライダー工程により製造される。その後、（４）ＨＧＡ工程において、磁気ヘッドスライダ１０とサスペンションアーム５とが接着され、ヘッドジンバルアッセンブリ（ＨＧＡ）が得られる。
【００４８】
（１）ウエハー工程では、基板上に、上記の記録ヘッド２０及び再生ヘッド３０を含む薄膜部１２が形成される。（２）ロウバー工程では、薄膜部１２が形成された基板が切断されて、ロウバーが得られる。このとき、薄膜部１２は、上記主磁極２１の媒体対向面側端面２１ａが現れるように切断される。
【００４９】
また、（２）ロウバー工程では、図１２Ｂに示されるＳ１ないしＳ４の工程が行われる。研磨工程（Ｓ１）では、上記主磁極２１が所定の長さとなるまで、ロウバーが研磨される。ＡＢＳ形成工程（Ｓ２）では、イオンミリングやエッチング等により、研磨されたロウバーに空気軸受面（ＡＢＳ）が形成される。イオン注入工程（Ｓ３）では、上記主磁極２１の媒体対向面側端面２１ａの一部にイオンが注入され、上記注入領域２１ｉ及び非注入領域２１ｎが形成される。こうしたイオン注入は、公知のイオン注入装置を用いることで実現される。皮膜形成工程（Ｓ４）では、ロウバーに形成された空気軸受面に保護皮膜が形成される。なお、ＡＢＳ工程（Ｓ２）及びイオン注入工程（Ｓ３）の順序が逆であってもよい。
【００５０】
その後、（３）スライダー工程において、ロウバーは切断され、磁気ヘッドスライダ１０が得られる。
【００５１】
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、種々の変形実施が当業者にとって可能であるのはもちろんである。
【図面の簡単な説明】
【００５２】
【図１】本発明の一実施形態に係る磁気ディスク装置の斜視図である。
【図２】本発明の一実施形態に係る磁気ヘッドスライダの要部断面図である。
【図３】同磁気ヘッドスライダの主磁極の一態様を表す斜視図である。
【図４】同態様の効果説明図である。
【図５Ａ】主磁極の他の態様を表す斜視図である。
【図５Ｂ】同態様の断面図である。
【図６Ａ】主磁極の他の態様を表す斜視図である。
【図６Ｂ】主磁極の他の態様を表す斜視図である。
【図７】主磁極の他の態様を表す斜視図である。
【図８Ａ】主磁極の他の態様を表す斜視図である。
【図８Ｂ】主磁極の他の態様を表す斜視図である。
【図９】主磁極の他の態様を表す斜視図である。
【図１０】主磁極の他の態様を表す斜視図である。
【図１１Ａ】主磁極の他の態様を表す斜視図である。
【図１１Ｂ】同態様の側面図である。
【図１２Ａ】本発明の一実施形態に係る磁気ヘッドスライダの製造方法の説明図である。
【図１２Ｂ】同製造方法の一部を具体的に表すフローチャートである。
【符号の説明】
【００５３】
１  磁気ディスク装置、２  磁気ディスク、３  スピンドルモータ、４  ヘッドアッセンブリ、５  サスペンションアーム、７  ボイスコイルモータ、９  ランプ部、１０  磁気ヘッドスライダ、１０ａ  媒体対向面、１２  薄膜部、２０  記録ヘッド（単磁極型記録ヘッド）、２１  主磁極、２１ａ  媒体対向面側端面、２１ｉ  注入領域、２１ｎ  非注入領域、２１２  棒状部、２１１ｐ  トレーリング側の端部、２１１ｑ  リーディング側の端部、２１９ａ〜２１９ｃ  主磁極の端、２１４  幅広部、２２１  第１の部分、２２３  シールド層、２２５  第２の部分、２３  補助磁極、２５  連結部、２７  コイル、２９  磁気シールド、３０  再生ヘッド、３２  再生素子、３４  磁気シールド、４０  磁気シールド。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５Ａ】
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【図５Ｂ】
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【図６Ａ】
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【図６Ｂ】
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【図７】
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【図８Ａ】
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【図８Ｂ】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１Ａ】
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【図１１Ｂ】
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【図１２Ａ】
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【図１２Ｂ】
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