【手続補正書】
【提出日】平成16年9月24日(2004.9.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アウタハウジング内にインナハウジングを組み込んで、インナハウジングの外周囲に所定温度の高圧ガスが供給されるガスチャンバを設け、前記インナハウジングには、その内部に形成された粉砕室内に粉体原料を供給する原料噴射ノズルと、ガスチャンバ内の高圧ガスを粉砕室内に噴射するガス噴射ノズルとを設け、前記インナハウジングには粉砕室内において粉砕された粉砕粒子の排出口を形成した粉砕装置。
【請求項２】
前記粉砕室を円形とし、その円形粉砕室内の中央部に粉砕粒子の排出口を設け、前記原料噴射ノズルから噴射される粉体原料およびガス噴射ノズルから噴射される高圧ガスを粉砕室内の外周接線方向に向けて噴射させるようにした請求項１に記載の粉砕装置。
【請求項３】
前記ガスチャンバ内の高圧ガスを原料噴射ノズルに供給する循環路を設けた請求項１又は２に記載の粉砕装置。
【請求項４】
粉砕室内に磁石粒子のキュリー温度以上の不活性ガスを噴射して前記粉砕室内に供給される磁石粒子を上記不活性ガスとの衝突により粉砕しながら高温処理する粉砕方法。
【請求項５】
アウタハウジング内にガスチャンバが形成され、そのガスチャンバ内に設けられたインナハウジング内に粉砕室が形成された粉砕装置を用い、その粉砕装置の前記ガスチャンバに対する所定温度の高圧ガスの供給によりインナハウジングの全体を加熱して前記粉砕室内を全体にわたり一定の温度に保ち、その粉砕室内に粉体原料を供給し、かつガスチャンバ内の高圧ガスをガス噴射ノズルにより粉砕室内に噴射して、その噴射ガスとの衝突により粉体原料を粉砕し、前記粉砕室に連通する排出口から吸引排出される粉砕粒子を冷却したのち、捕集装置によって回収するようにした粉砕方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
このため、上記のような渦流式のジェットミルによって磁石粒子を高温状態で微粉砕処理しようとすると、粉砕室内に高圧ガスを噴射するガス噴射ノズルに高温の高圧ガスを供給する必要が生じる。このとき、粉砕室内のガス噴射位置での温度が高く、粉砕室内の全体を均一の温度に保つことが困難であって磁石粒子の全体を均一に加熱することができず、磁石粒子の凝集を完全に防止することができない。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
この発明の課題は、粉砕室内の温度の均一化を図り、一定の温度条件下で粉体原料を粉砕処理することができるようにして、粉体原料の凝集をほぼ完全に防止することができるようにした粉砕効率の高い粉砕装置および粉砕方法を提供することである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
上記のように構成すれば、ガスチャンバ内に所定温度の高圧ガスを供給することによりインナハウジングの全体が加熱されるため、粉砕室内の温度は全体にわたって均一化されることになり、ガス噴射ノズルから噴射される高圧ガスとの衝突によって、一定温度の条件下で粉体原料の粉砕処理を行なうことができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
この発明に係る粉砕方法においては、粉砕室内に磁石粒子のキュリー温度以上の不活性ガスを噴射して前記粉砕室内に供給される磁石粒子を上記不活性ガスとの衝突により粉砕しながら高温処理するようにした構成を採用したのである。
また、この発明に係る粉砕方法においては、前記粉砕装置のガスチャンバに対する所定温度の高圧ガスの供給によりインナハウジングの全体を加熱して前記粉砕室内を全体にわたり一定の温度に保ち、その粉砕室内に粉体原料を供給し、かつガスチャンバ内の高圧ガスをガス噴射ノズルにより粉砕室内に噴射して、その噴射ガスとの衝突により粉体原料を粉砕し、前記粉砕室に連通する排出口から吸引排出される粉砕粒子を冷却したのち、捕集装置によって回収するようにした構成を採用したのである。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
アウタハウジング１１にガスチャンバ１２に連通するガス供給口１５が設けられ、そのガス供給口１５に図１に示すガス供給路２が接続され、上記ガス供給口１５からガスチャンバ１２内に所定温度の高圧ガスが供給されるようになっている。
なお、供給する高圧ガスは粉砕材料に応じて最適な温度に設定する。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
ガス供給ノズル１９に対する高圧ガスの供給に際し、ここでは、高圧ガス源１の高圧ガスをガス噴射ノズル１７に供給するガス供給路２’とガスチャンバ１２とを循環路２２で連通し、その循環路２２に設けた切換バルブ２３ａとガス供給路２’に設けた切換バルブ２３ｂの操作によってガス源１の高圧ガスとガスチャンバ１２内の高温の高圧ガスを選択的にガス供給ノズル１９内に供給し得るようにしているが、高圧ガス源１の高圧ガスのみをガス供給ノズル１９に送り込むようにしてもよく、あるいは、ガスチャンバ１２内の高温の高圧ガスのみをガス供給ノズル１９に送り込むようにしてもよい。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
実施の形態で示す粉砕処理装置は上記の構造から成り、その粉砕処理装置を用いて、例えば、Ｓｍ−Ｆｅ−Ｎ系磁石の粗粉砕された磁石原料の粉砕に際しては、その磁石原料を原料ホッパ２１内に供給する。また、高圧ガス源１からガス供給路２に供給される不活性ガスから成る高圧ガスをヒータ装置３により加熱して、高圧ガスを磁石粒子のキュリー温度、例えば３００〜６５０℃の高温状態とし、その高温の高圧ガスを粉砕装置１０のガス供給口１５からガスチャンバ１２内に供給する。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
このとき、ガスチャンバ１２内に供給される高温の高圧ガスによってインナハウジング１３の全体が均一に加熱され、そのインナハウジング１３内の粉砕室１４内は全体にわたって均一な高温状態に保持され、その高温雰囲気中において磁石原料が旋回する。このため、磁石原料は全体にわたって均一に加熱されることになり、一定の温度に保持される。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
一方、ガスチャンバ１２内の高温の高圧ガスはガス噴射ノズル１７から粉砕室１４内に向けて噴射され、その噴射ガスとの衝突および磁石原料同士の衝突によって磁石原料は微粉砕される。その粉砕によって得られた粉砕粒子は高温の雰囲気に保持された粉砕室１４内を旋回するため、高温状態に保持されて磁化および保持力が極めて小さくなり、あるいは消失されるので、凝集が防止される。このため、磁石原料をきわめて効果的に粉砕することができる。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
このように、ガスチャンバ１２内に高温の高圧ガスを供給することにより、インナハウジング１３の全体が均一に加熱されて、粉砕室１４内の温度が全体にわたって均一な高温状態とされ、その高温雰囲気中において磁石原料が粉砕されるため、微粒子の磁化および保持力をきわめて小さくすることができ、あるいは消失させることができるので、磁石原料の凝集を完全に防止することができ、磁石原料をきわめて効果的に粉砕処理することができる。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
また、ガスチャンバ１２内に高温の高圧ガスを供給することによってインナハウジング１３の全体が均一に加熱されるため、粉砕室１４内の全体が均一に昇温することになる。このため、粉砕室１４内の温度むらがなく、粉砕室１４内の温度管理が容易であり、微粒子を所定の温度まで確実に昇温させることができる。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
ここで、ガスチャンバ１２内の高温の高圧ガスを循環路２２からガス供給ノズル１９を介して原料噴射ノズル１６内に供給することにより、磁石原料を予熱することができるため、粉砕室１４内において磁石原料を直ちに所定の温度まで加熱することができ、粉砕効果をより向上させることができる。
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４５】
したがって、磁石原料の粉砕に際しては、微粉砕された微粒子の凝集を防止し、磁石原料をきわめて効果的に粉砕処理することができる。