【手続補正書】
【提出日】平成16年9月6日(2004.9.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
水素原子を、水素原子の共鳴収縮エネルギーと実質的に等しいエネルギー孔を有する触媒に接触させる工程を有する水素原子からエネルギーを放出する方法であって、該水素原子の電子が低いエネルギー準位に移り、かつ該触媒にエネルギーを放出することを特徴とする、前記方法。
【請求項２】
該触媒が、少なくとも１の電子を、第１原子、イオン又は分子の１つから、第２の原子、イオン又は分子の１つに移す触媒系を含むことを特徴とする、請求項１記載の方法。
【請求項３】
第１原子、イオン又は分子のイオン化エネルギーと、第２の原子、イオン又は分子のイオン化エネルギーとの差が、約ｍ×２７．２ｅＶ（式中、ｍは整数である。）である、請求項２記載の方法。
【請求項４】
第１原子、イオン又は分子のイオン化エネルギーの合計と、第２の原子、イオン又は分子のイオン化エネルギーの合計との差が、約ｍ×２７．２１ｅＶ（式中、ｍは整数である。）である、請求項２記載の方法。
【請求項５】
触媒の前記給源がルビジウムの塩を含む、請求項１記載の方法。
【請求項６】
前記触媒がカリウムの塩を含む、請求項１記載の方法。
【請求項７】
前記触媒がチタンの塩を含む、請求項１記載の方法。
【請求項８】
前記触媒が、ＲｂＯＨ、Ｒｂ２ＳＯ４、Ｒｂ２ＣＯ３、及びＲｂ３ＰＯ４からなる群から選ばれるルビジウムの塩を含む、請求項１記載の方法。
【請求項９】
前記触媒が、ＫＯＨ、Ｋ２ＳＯ４、Ｋ２ＣＯ３、及びＫ３ＰＯ４からなる群から選ばれるカリウムの塩を含む、請求項１記載の方法。
【請求項１０】
該触媒がＫ２ＣＯ３を含む、請求項１記載の方法。
【請求項１１】
該触媒が、１以上の陽イオン、及び酸化物、硝酸塩、硫酸塩、リン酸塩、炭酸塩及び水酸化物からなる群から選ばれる少なくとも１の陰イオンの塩である、請求項１記載の方法。
【請求項１２】
該触媒が、溶液中の（Ｒｂ＋）、（Ｍｏ２＋）、及び（Ｔｉ２＋）からなる群から選ばれるイオンを含む、請求項１記載の方法。
【請求項１３】
該触媒が、（Ａｌ２＋）、（Ａｒ＋）、（Ｔｉ２＋）、（Ａｓ２＋）、（Ｒｂ＋）、（Ｍｏ２＋）、（Ｒｕ２＋）、（Ｉｎ２＋）、及び（Ｔｅ２＋）からなる群から選ばれる少なくとも１のイオンを含む、請求項１記載の方法。
【請求項１４】
該触媒が、２６．８から２８．５ｅＶの範囲のエネルギーを吸収することができることを特徴とする、請求項１記載の方法。
【請求項１５】
該触媒が、下記の群から選ばれる少なくとも１対のイオンを含むことを特徴とする；（Ｓｎ４＋，Ｓｉ４＋）、（Ｐｒ３＋，Ｃａ２＋）、（Ｓｒ２＋，Ｃｒ２＋）、（Ｃｒ３＋，Ｔｂ３＋）、（Ｓｂ３＋，Ｃｏ２＋）、（Ｂｉ３＋，Ｎｉ２＋）、（Ｐｄ２＋，Ｉｎ＋）、（Ｌａ３＋，Ｄｙ３＋）、（Ｌａ３＋，Ｈｏ３＋）、（Ｋ＋，Ｋ＋）、（Ｖ３＋，Ｐｄ２＋）、（Ｌｕ３＋，Ｚｎ２＋）、（Ａｓ３＋，Ｈｏ３＋）、（Ｍｏ５＋，Ｓｎ４＋）、（Ｓｂ３＋，Ｃｄ２＋）、（Ａｇ２＋，Ａｇ＋）、（Ｌａ３＋，Ｅｒ３＋）、（Ｖ４＋，Ｂ３＋）、（Ｆｅ３＋，Ｔｉ３＋）、（Ｃｏ２＋，Ｔｉ＋）、（Ｂｉ３＋，Ｚｎ２＋）、（Ａｓ３＋，Ｄｙ３＋）、（Ｈｏ３＋，Ｍｇ２＋）、（Ｋ＋，Ｒｂ＋）、（Ｃｒ３＋，Ｐｒ３＋）、（Ｓｒ２＋，Ｆｅ２＋）、（Ｎｉ２＋，Ｃｕ＋）、（Ｌｉ＋，Ｐｂ２＋）、（Ｓｒ２＋，Ｍｏ２＋）、（Ｙ３＋，Ｚｒ４＋）、（Ｃｄ２＋，Ｂａ２＋）、（Ｈｏ３＋，Ｐｂ２＋）、（Ｅｕ３＋，Ｍｇ２＋）、（Ｅｒ３＋，Ｍｇ２＋）、（Ｂｉ４＋，Ａｌ３＋）、（Ｃａ２＋，Ｓｍ３＋）、（Ｖ３＋，Ｌａ３＋）、（Ｇｄ３＋，Ｃｒ２＋）、（Ｍｎ２＋，Ｔｉ＋）、（Ｙｂ３＋，Ｆｅ２＋）、（Ｎｉ２＋，Ａｇ＋）、（Ｚｎ２＋，Ｙｂ２＋）、（Ｓｅ４＋，Ｓｎ４＋）、（Ｓｂ３＋，Ｂｉ２＋）、及び（Ｅｕ３＋，Ｐｂ２＋）、請求項１記載の方法。
【請求項１６】
該触媒が、原子、イオン、分子、イオン性化合物及び分子化合物からなる群から選ばれる単一種からの単一電子イオン化を含む、請求項１記載の方法。
【請求項１７】
該触媒が、原子、イオン、分子、イオン性化合物及び分子化合物からなる群から選ばれる２種間の１電子転移を含む、請求項１記載の方法。
【請求項１８】
該触媒が、原子、イオン、分子、イオン性化合物及び分子化合物からなる群から選ばれる２種間の２電子転移を含む、請求項１記載の方法。
【請求項１９】
該触媒が、Ｃｕ、Ａｓ、Ｐｄ、Ｔｅ、Ｃｓ、及びＰｔからなる群から選ばれる少なくとも１の原子と結合した酸素を含む、請求項１記載の方法。
【請求項２０】
該触媒が、（Ｂ，Ｌｉ＋）、（Ｓ，Ｌｉ＋）、（Ｂｒ，Ｌｉ＋）、（Ｐｍ＋，Ｌｉ＋）、（Ｓｍ＋，Ｌｉ＋）、（Ｔｂ＋，Ｌｉ＋）、（Ｄｙ＋，Ｌｉ＋）、（Ｓｂ＋，Ｈ＋）、及び（Ｂｉ＋，Ｈ＋）からなる群から選ばれる少なくとも１対を含む、請求項１記載の方法。
【請求項２１】
該触媒がガス状触媒であることを特徴とする、請求項１記載の方法。
【請求項２２】
該触媒が下記の群から選ばれる少なくとも１を含む、請求項１記載の方法：
【表１１−１】
2005099016.tif 000001
【表１１−２】
2005099016.tif 000002
【表１１−３】
2005099016.tif 000003
【表１１−４】
2005099016.tif 000004
【表１１−５】
2005099016.tif 000005
【表１１−６】
2005099016.tif 000006
【表１１−７】
2005099016.tif 000007
【表１１−８】
2005099016.tif 000008
【表１１−９】
2005099016.tif 000009
【表１１−１０】
2005099016.tif 000010
【表１１−１１】
2005099016.tif 000011
【表１１−１２】
2005099016.tif 000012
。
【請求項２３】
該触媒が下記の群から選ばれる少なくとも１対を含む、請求項１記載の方法：
【表１２−１】
2005099016.tif 000013
【表１２−２】
2005099016.tif 000014
【表１２−３】
2005099016.tif 000015
【表１２−４】
2005099016.tif 000016
【表１２−５】
2005099016.tif 000017
。
【請求項２４】
該触媒が、電気化学的、化学的、光化学的、熱的、フリーラジカル、超音波、核、非弾性光子、粒子拡散反応又はこれらの混成を提供するための構造を含む、請求項１記載の方法。
【請求項２５】
水素分子を、水素分子の共鳴収縮エネルギーと実質的に等しいエネルギー孔を有する触媒に接触させる工程を有する水素分子からエネルギーを放出する方法であって、該水素分子の電子が低いエネルギー準位に移り、かつ該触媒にエネルギーを放出することを特徴とする、前記方法。
【請求項２６】
水素分子において電子が、１５．５ｅＶの基底状態よりも低いエネルギー状態に移行したことを特徴とする請求項２５記載の方法。
【請求項２７】
該エネルギー孔が、原子、イオン、分子、イオン性及び分子化合物を含む関連する種の間の少なくとも１電子の移転により提供され、ここで総エネルギー転移がほぼｍｐ２×４８．６ｅＶ（式中、ｍ及びｐは正の整数である。）と同じであることを特徴とする、請求項２５記載の方法。
【請求項２８】
該エネルギー孔が、原子、イオン、分子、イオン性及び分子化合物を含む関連する種の間の少なくとも１電子の移転により提供され、ここで総エネルギー転移がほぼｍ×３１．９４ｅＶ（式中、ｍは正の整数である。）と同じであることを特徴とする、請求項２５記載の方法。
【請求項２９】
該エネルギー孔が、原子、イオン、分子、イオン性及び分子化合物を含む関連する種の間の少なくとも１電子の移転により提供され、ここで総エネルギー転移がほぼｍ×９５．７ｅＶ（式中、ｍは正の整数である。）と同じであることを特徴とする、請求項２５記載の方法。
【請求項３０】
該エネルギー孔が、原子、イオン、分子、イオン性及び分子化合物を含む関連する種の間の少なくとも１電子の移転により提供され、ここで総エネルギー転移がほぼｍ×６７．８ｅＶ（式中、ｍは正の整数である。）と同じであることを特徴とする、請求項２５記載の方法。
【請求項３１】
容器；ガス状水素原子の給源；及び該水素原子の共鳴収縮エネルギーと実質的に同じエネルギー孔を有する触媒の給源；を含むガスエネルギー反応器。
【請求項３２】
該触媒が、少なくとも１の電子を、第１原子、イオン又は分子の１つから、第２の原子、イオン又は分子の１つに移す触媒系を含むことを特徴とする、請求項３１記載の方法。
【請求項３３】
第１原子、イオン又は分子のイオン化エネルギーと、第２の原子、イオン又は分子のイオン化エネルギーとの差が、約ｍ×２７．２ｅＶ（式中、ｍは整数である。）である、請求項３２記載のガスエネルギー反応器。
【請求項３４】
第１原子、イオン又は分子のイオン化エネルギーの合計と、第２の原子、イオン又は分子のイオン化エネルギーの合計との差が、約ｍ×２７．２１ｅＶ（式中、ｍは整数である。）である、請求項３２記載の方法。
【請求項３５】
触媒の前記給源が、前記反応器に伴う水素原子の１３．６／ｎ２（式中ｎ＝１／Ｉで、かつＩは１以上の正の整数である。）の低エネルギー準位への遷移を触媒しすることを特徴とする、請求項３１記載のエネルギー反応器。
【請求項３６】
Ｉが２、３、又は４であることを特徴とする、請求項３５記載のガスエネルギー反応器。
【請求項３７】
前記容器が、真空又は大気圧よりも高い圧力となり得ることを特徴とする、請求項３１記載のガスエネルギー反応器。
【請求項３８】
触媒の前記給源が前記容器に入っていることを特徴とする、請求項３１記載のガスエネルギー反応器。
【請求項３９】
水素原子の前記給源が前記反応容器に入っていることを特徴とする、請求項３１記載のガスエネルギー反応器。
【請求項４０】
水素原子の前記給源が前記反応容器と連絡している外部給源を含む、請求項３１記載のガスエネルギー反応器。
【請求項４１】
さらに、前記触媒の給源を加熱するヒータを含む、請求項３１記載のガスエネルギー反応器。
【請求項４２】
加圧水素ガスセルを含むことを特徴とする、請求項３１記載のガスエネルギー反応器。
【請求項４３】
水素ガス放出セルを含むことを特徴とする、請求項３１記載のガスエネルギー反応器。
【請求項４４】
水素原子の給源が、水素含有化合物、及び該水素含有化合物を水素原子に分離する分離器を含むことを特徴とする、請求項３１記載のガスエネルギー反応器。
【請求項４５】
前記分離器がＵＶ光を含むことを特徴とする、請求項４４記載のガスエネルギー反応器。
【請求項４６】
前記分離器が水の電気分解用陰極を含むことを特徴とする、請求項４４記載のガスエネルギー反応器。
【請求項４７】
前記分離器が、遷移元素からなる群から選ばれる少なくとも１種の元素を含むことを特徴とする、請求項４４記載のガスエネルギー反応器。
【請求項４８】
前記分離器が、内部遷移元素からなる群から選ばれる少なくとも１種の元素を含むことを特徴とする、請求項４４記載のガスエネルギー反応器。
【請求項４９】
前記分離器が、Ｓｃ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｃｏ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｙ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｔｃ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ａｇ、Ｃｄ、Ｌａ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ａｕ、Ｈｇ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｖｂ、Ｌｕ、Ｔｈ、Ｐａ、及びＵからなる群から選ばれる少なくとも１種を含むことを特徴とする、請求項４４記載のガスエネルギー反応器。
【請求項５０】
前記水素含有化合物がＨ２ガスである、請求項４４記載のガスエネルギー反応器。
【請求項５１】
前記水素含有化合物が、水素化合物を含むことを特徴とする、請求項４４記載のガスエネルギー反応器。
【請求項５２】
前記水素含有化合物が金属−水素溶体であることを特徴とする、請求項４４記載のガスエネルギー反応器。
【請求項５３】
水素原子の前記給源が、炭化水素及び改質器を含むことを特徴とする、請求項３１記載のガスエネルギー反応器。
【請求項５４】
前記改質器がニッケル、コバルト、鉄及び白金族金属からなる群から選ばれる少なくとも１種を含むことを特徴とする、請求項５３記載のガスエネルギー反応器。
【請求項５５】
前記水素含有化合物が、金属−水素化合物を含み、前記分離器がヒータを含む、請求項５３記載のガスエネルギー反応器。
【請求項５６】
さらに、前記金属−水素化合物の分解速度をコントロールする温度コントローラを含む、請求項５５記載のガスエネルギー反応器。
【請求項５７】
前記水素含有化合物が１Ｈを含むことを特徴とする、請求項４４記載のガスエネルギー反応器。
【請求項５８】
前記水素含有化合物が２Ｈを含むことを特徴とする、請求項４４記載のガスエネルギー反応器。
【請求項５９】
前記水素含有化合物が３Ｈを含むことを特徴とする、請求項４４記載のガスエネルギー反応器。
【請求項６０】
水素原子の前記給源が水の熱分解をする構造を含むことを特徴とする、請求項３１記載のガスエネルギー反応器。
【請求項６１】
水素原子の前記給源が１Ｈ、２Ｈ、３Ｈ、又はこれらの混合物を含むことを特徴とする、請求項３１記載のガスエネルギー反応器。
【請求項６２】
水素原子の前記給源が、主として１Ｈ原子からなり、かつ実質的に２Ｈ、及び３Ｈ原子を含まない水素を提供できることを特徴とする、請求項３１記載のガスエネルギー反応器。
【請求項６３】
水素原子の前記給源が、主として２Ｈ原子からなり、かつ実質的に１Ｈ、及び３Ｈ原子を含まない水素を提供できることを特徴とする、請求項３１記載のガスエネルギー反応器。
【請求項６４】
水素原子の前記給源が、主として３Ｈ原子からなり、かつ実質的に１Ｈ、及び２Ｈを含まない水素を提供できることを特徴とする、請求項３１記載のガスエネルギー反応器。
【請求項６５】
エネルギー孔の前記給源が、前記水素原子が低エネルギー状態への遷移を受けた場合に、前記水素原子によって放出されるエネルギーを共鳴吸収するよう適合されていることを特徴とする、請求項３１記載のガスエネルギー反応器。
【請求項６６】
触媒の前記給源がルビジウムの塩を含むことを特徴とする、請求項３１記載のガスエネルギー反応器。
【請求項６７】
触媒の前記給源がカリウムの塩を含むことを特徴とする、請求項３１記載のガスエネルギー反応器。
【請求項６８】
触媒の前記給源がチタンの塩を含むことを特徴とする、請求項３１記載のガスエネルギー反応器。
【請求項６９】
触媒の前記給源がＲｂＯＨ、Ｒｂ２ＳＯ４、Ｒｂ２ＣＯ３、及びＲｂ３ＰＯ４からなる群から選ばれるルビジウムの塩を含むことを特徴とする、請求項３１記載のガスエネルギー反応器。
【請求項７０】
触媒の前記給源が、ＫＯＨ、Ｋ２ＳＯ４、Ｋ２ＣＯ３、及びＫ３ＰＯ４からなる群から選ばれるカリウムの塩を含むことを特徴とする、請求項３１記載のガスエネルギー反応器。
【請求項７１】
触媒の前記給源がＫ２ＣＯ３を含むことを特徴とする、請求項３１記載のガスエネルギー反応器。
【請求項７２】
触媒の前記給源が、１以上の陽イオン、及び酸化物、硝酸塩、硫酸塩、リン酸塩、炭酸塩及び水酸化物からなる群から選ばれる少なくとも１の陰イオンの塩を含むことを特徴とする、請求項３１記載のガスエネルギー反応器。
【請求項７３】
触媒の前記給源が、溶液中の（Ｒｂ＋）、（Ｍｏ２＋）、及び（Ｔｉ２＋）からなる群から選ばれるイオンを含むことを特徴とする、請求項３１記載のガスエネルギー反応器。
【請求項７４】
触媒の前記給源が、（Ａｌ２＋）、（Ａｒ＋）、（Ｔｉ２＋）、（Ａｓ２＋）、（Ｒｂ＋）、（Ｍｏ２＋）、（Ｒｕ２＋）、（Ｉｎ２＋）、及び（Ｔｅ２＋）からなる群から選ばれる少なくとも１のイオンを含む、請求項３１記載のガスエネルギー反応器。
【請求項７５】
触媒の給源が、２６．８から２８．５ｅＶの範囲のエネルギーを吸収することができることを特徴とする、請求項３１記載のガスエネルギー反応器。
【請求項７６】
触媒の前記給源が、下記の群から選ばれる少なくとも１対のイオンを含むことを特徴とする；（Ｓｎ４＋，Ｓｉ４＋）、（Ｐｒ３＋，Ｃａ２＋）、（Ｓｒ２＋，Ｃｒ２＋）、（Ｃｒ３＋，Ｔｂ３＋）、（Ｓｂ３＋，Ｃｏ２＋）、（Ｂｉ３＋，Ｎｉ２＋）、（Ｐｄ２＋，Ｉｎ＋）、（Ｌａ３＋，Ｄｙ３＋）、（Ｌａ３＋，Ｈｏ３＋）、（Ｋ＋，Ｋ＋）、（Ｖ３＋，Ｐｄ２＋）、（Ｌｕ３＋，Ｚｎ２＋）、（Ａｓ３＋，Ｈｏ３＋）、（Ｍｏ５＋，Ｓｎ４＋）、（Ｓｂ３＋，Ｃｄ２＋）、（Ａｇ２＋，Ａｇ＋）、（Ｌａ３＋，Ｅｒ３＋）、（Ｖ４＋，Ｂ３＋）、（Ｆｅ３＋，Ｔｉ３＋）、（Ｃｏ２＋，Ｔｉ＋）、（Ｂｉ３＋，Ｚｎ２＋）、（Ａｓ３＋，Ｄｙ３＋）、（Ｈｏ３＋，Ｍｇ２＋）、（Ｋ＋，Ｒｂ＋）、（Ｃｒ３＋，Ｐｒ３＋）、（Ｓｒ２＋，Ｆｅ２＋）、（Ｎｉ２＋，Ｃｕ＋）、（Ｌｉ＋，Ｐｂ２＋）、（Ｓｒ２＋，Ｍｏ２＋）、（Ｙ３＋，Ｚｒ４＋）、（Ｃｄ２＋，Ｂａ２＋）、（Ｈｏ３＋，Ｐｂ２＋）、（Ｅｕ３＋，Ｍｇ２＋）、（Ｅｒ３＋，Ｍｇ２＋）、（Ｂｉ４＋，Ａｌ３＋）、（Ｃａ２＋，Ｓｍ３＋）、（Ｖ３＋，Ｌａ３＋）、（Ｇｄ３＋，Ｃｒ２＋）、（Ｍｎ２＋，Ｔｉ＋）、（Ｙｂ３＋，Ｆｅ２＋）、（Ｎｉ２＋，Ａｇ＋）、（Ｚｎ２＋，Ｙｂ２＋）、（Ｓｅ４＋，Ｓｎ４＋）、（Ｓｂ３＋，Ｂｉ２＋）、及び（Ｅｕ３＋，Ｐｂ２＋）、請求項３１記載のガスエネルギー反応器。
【請求項７７】
触媒の前記給源が、原子、イオン、分子、イオン性化合物及び分子化合物からなる群から選ばれる単一種間の１電子イオン化を含む、請求項３１記載のガスエネルギー反応器。
【請求項７８】
触媒の前記給源が、原子、イオン、分子、イオン性化合物及び分子化合物からなる群から選ばれる２種間の１電子転移を含む、請求項３１記載のガスエネルギー反応器。
【請求項７９】
触媒の前記給源が、原子、イオン、分子、イオン性化合物及び分子化合物からなる群から選ばれる２種間の２電子転移を含むことを特徴とする、請求項３１記載のガスエネルギー反応器。
【請求項８０】
触媒の前記給源が、Ｃｕ、Ａｓ、Ｐｄ、Ｔｅ、Ｃｓ、及びＰｔからなる群から選ばれる少なくとも１の原子と結合した酸素を含むことを特徴とする、請求項３１記載のガスエネルギー反応器。
【請求項８１】
触媒の前記給源が、（Ｂ，Ｌｉ＋）、（Ｓ，Ｌｉ＋）、（Ｂｒ，Ｌｉ＋）、（Ｐｍ＋，Ｌｉ＋）、（Ｓｍ＋，Ｌｉ＋）、（Ｔｂ＋，Ｌｉ＋）、（Ｄｙ＋，Ｌｉ＋）、（Ｓｂ＋，Ｈ＋）、及び（Ｂｉ＋，Ｈ＋）からなる群から選ばれる少なくとも１対を含むことを特徴とする、請求項３１記載のガスエネルギー反応器。
【請求項８２】
触媒の前記給源がガス状触媒であることを特徴とする、請求項３１記載のガスエネルギー反応器。
【請求項８３】
触媒の前記給源が下記の群から選ばれる少なくとも１を含むことを特徴とする、請求項３１記載のガスエネルギー反応器：
【表１３−１】
2005099016.tif 000018
【表１３−２】
2005099016.tif 000019
【表１３−３】
2005099016.tif 000020
【表１３−４】
2005099016.tif 000021
【表１３−５】
2005099016.tif 000022
【表１３−６】
2005099016.tif 000023
【表１３−７】
2005099016.tif 000024
【表１３−８】
2005099016.tif 000025
【表１３−９】
2005099016.tif 000026
【表１３−１０】
2005099016.tif 000027
【表１３−１１】
2005099016.tif 000028
【表１３−１２】
2005099016.tif 000029
。
【請求項８４】
触媒の前記給源が、下記の群から選ばれる少なくとも１対を含むことを特徴とする、請求項３１記載のガスエネルギー反応器：
【表１４−１】
2005099016.tif 000030
【表１４−２】
2005099016.tif 000031
【表１４−３】
2005099016.tif 000032
【表１４−４】
2005099016.tif 000033
【表１４−５】
2005099016.tif 000034
。
【請求項８５】
触媒の前記給源が、電気化学的、化学的、光化学的、熱的、フリーラジカル、超音波、核、非弾性光子又は粒子拡散反応又はこれらの混成を提供するための構造を含むことを特徴とする、請求項３１記載のガスエネルギー反応器。
【請求項８６】
さらに、前記容器内の水素ガスの圧力をコントロールするバルブを含む、請求項３１記載のガスエネルギー反応器。
【請求項８７】
さらに、コンピュータ化されたモニタ、及び該ガスエネルギー反応器のパワー出力をコントロールするコントロールシステムを含む、請求項３１記載のガスエネルギー反応器。
【請求項８８】
さらに、エネルギー孔の給源のコントロールにより、ガスエネルギー反応器のパワー出力をコントロールするためのコントロール構造を含む、請求項３１記載のガスエネルギー反応器。
【請求項８９】
さらに、エネルギー孔と水素原子との間の接触表面積又は容量のコントロールにより、ガスエネルギー反応器のパワー出力をコントロールするためのコントロール構造を含む、請求項３１記載のガスエネルギー反応器。
【請求項９０】
容器；ガス状水素分子の給源；及び該水素分子の共鳴収縮エネルギーと実質的に同じエネルギー孔を有する触媒の給源；を含むガスエネルギー反応器。
【請求項９１】
該触媒が、水素分子の電子を、１５．５ｅＶの基底状態よりも低いエネルギー状態に転移することを特徴とする、請求項９０記載のガスエネルギー反応器。
【請求項９２】
該エネルギー孔が、原子、イオン、分子、イオン性及び分子化合物を含む関連する種の間の少なくとも１電子の転移により提供され、ここで総エネルギー転移がほぼｍｐ２×４８．６ｅＶ（式中、ｍ及びｐは正の整数である。）と同じであることを特徴とする、請求項９０記載のガスエネルギー反応器。
【請求項９３】
該エネルギー孔が、原子、イオン、分子、イオン性及び分子化合物を含む関連する種の間の少なくとも１電子の転移により提供され、ここで総エネルギー転移がほぼｍ×３１．９４ｅＶ（式中、ｍは正の整数である。）と同じであることを特徴とする、請求項９０記載のガスエネルギー反応器。
【請求項９４】
該エネルギー孔が、原子、イオン、分子、イオン性及び分子化合物を含む関連する種の間の少なくとも１電子の移転により提供され、ここで総エネルギー転移がほぼｍ×９５．７ｅＶ（式中、ｍは正の整数である。）と同じであることを特徴とする、請求項９０記載のガスエネルギー反応器。
【請求項９５】
該エネルギー孔が、原子、イオン、分子、イオン性及び分子化合物を含む関連する種の間の少なくとも１電子の移転により提供され、ここで総エネルギー転移がほぼｍ×６７．８ｅＶ（式中、ｍは正の整数である。）と同じであることを特徴とする、請求項９０記載のガスエネルギー反応器。