【手続補正書】
【提出日】令和3年3月10日(2021.3.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
混合ガス流中の触媒反応性ガスの質量流量を制御する質量流量制御システムであって、
（ａ）触媒反応性ガスおよびキャリアガスを含む混合ガス流を提供する混合ガス源であって、触媒反応性ガスが、キャリアガスよりも低いモル流量を有する、混合ガス源と、
（ｂ）混合ガス流の第１の温度を測定するように構成された第１のプローブを含む第１のセンサと、
（ｃ）混合ガス流の一部を受け入れるように構成された分解チャンバであって、触媒反応性ガスを分解するように構成された触媒を含む分解チャンバと、
（ｄ）前記分解チャンバ内に配置されるとともに、触媒と触媒反応性ガスとの間の反応後の混合ガス流の第２の温度を測定するように構成された第２のプローブを含む第２のセンサと、
（ｅ）第１および第２のセンサと電気的に接続されたコントローラであって、混合ガス流と触媒との接触前後の温度の変化を測定することにより、触媒反応性ガスの質量流量を求めるように構成されたコントローラと、
（ｆ）コントローラと電気的に接続されたエフェクタであって、触媒反応性ガスの質量流量を変化させるように構成されたエフェクタとを備えることを特徴とする質量流量制御システム。
【請求項２】
請求項１に記載の質量流量制御システムにおいて、
触媒反応性ガスが液体源から生成され、前記エフェクタが、液体源の温度、液体源のヘッドスペースの圧力、キャリアガスの流量、またはそれらの任意の組合せを調整するように構成されていることを特徴とする質量流量制御システム。
【請求項３】
請求項１に記載の質量流量制御システムにおいて、
触媒反応性ガスの露点を超える温度まで触媒を加熱するように構成された第１の加熱器と、前記分解チャンバに配置されて、加熱された触媒の第３の温度を測定するように構成された第３のプローブを含む第３のセンサとをさらに備えることを特徴とする質量流量制御システム。
【請求項４】
請求項１に記載の質量流量制御システムにおいて、
触媒が、銀、白金、パラジウム、銅、ニッケル、酸化マンガン、二酸化マンガン、酸化銅、およびそれらの任意の組合せからなる群のなかから選択されていることを特徴とする質量流量制御システム。
【請求項５】
請求項１に記載の質量流量制御システムにおいて、
触媒反応性ガスが、過酸化水素ガスおよびヒドラジン（Ｈ２Ｎ４）からなる群のなかから選択されていることを特徴とする質量流量制御システム。
【請求項６】
請求項２に記載の質量流量制御システムにおいて、
液体源が、無水過酸化水素および無水ヒドラジンからなる群のなかから選択されていることを特徴とする質量流量制御システム。
【請求項７】
請求項１に記載の質量流量制御システムにおいて、
キャリアガスが、窒素、水素、アルゴン、ヘリウム、蒸気、清浄乾燥空気、酸素、ＮＨ３、二酸化炭素、およびそれらの任意の組合せからなる群のなかから選択されていることを特徴とする質量流量制御システム。
【請求項８】
請求項１に記載の質量流量制御システムにおいて、
混合ガス流が、約１０トール〜２バールの圧力で提供されることを特徴とする質量流量制御システム。
【請求項９】
請求項２に記載の質量流量制御システムにおいて、
前記エフェクタが、前記液体源の上流に配置された圧力調整弁、前記液体源の下流に配置された圧力調整弁、前記液体源の温度を調節するように構成された加熱器、および前記液体源の温度を調節するように構成された冷却器からなる群のなかから選択されていることを特徴とする質量流量制御システム。
【請求項１０】
請求項１に記載の質量流量制御システムにおいて、
当該システムによって供給される触媒反応性ガスの濃度が、約１００パーツパーミリオン（ｐｐｍ）〜１００，０００ｐｐｍであることを特徴とする質量流量制御システム。
【請求項１１】
請求項１に記載の質量流量制御システムにおいて、
真空下で動作するとき、当該システムに対して供給される混合ガス流の圧力が、約１０．０〜１００．０トールであることを特徴とする質量流量制御システム。
【請求項１２】
請求項１に記載の質量流量制御システムにおいて、
当該システムに対して供給される触媒反応性ガスの温度が、約１５℃〜８０℃であることを特徴とする質量流量制御システム。
【請求項１３】
請求項１乃至１２の何れか一項に記載の質量流量制御システムにおいて、
前記温度の変化が、触媒反応性ガスの質量流量の変化にほぼ比例し、かつ前記温度の変化が、混合ガス流の圧力または流量から相対的に独立していることを特徴とする質量流量制御システム。
【請求項１４】
請求項１に記載の質量流量制御システムにおいて、
前記第１のセンサ、第２のセンサおよび分解チャンバがハウジング内に配置されており、
当該ハウジングが、
（ａ）入口と、
（ｂ）前記入口と前記分解チャンバとの間の流体連通を提供するように構成された第１の管と、
（ｃ）出口と、
（ｄ）前記分解チャンバと前記出口との間の流体連通を提供するように構成された第２の管とを備え、
前記第１のセンサが、前記第１の管内に配置されていることを特徴とする質量流量制御システム。
【請求項１５】
請求項１４に記載の質量流量制御システムにおいて、
前記第２のセンサが、前記分解チャンバ内に配置されていることを特徴とする質量流量制御システム。
【請求項１６】
請求項３に記載の質量流量制御システムにおいて、
前記分解チャンバに入る前に混合ガス流を加熱するように構成された第２の加熱器をさらに備えることを特徴とする質量流量制御システム。
【請求項１７】
請求項１４に記載の質量流量制御システムにおいて、
前記ハウジングが、前記分解チャンバと接触して配置された第１の加熱器であって、触媒反応性ガスの露点より高い温度まで触媒を加熱するように構成された第１の加熱器と、前記分解チャンバに配置されて、触媒の第３の温度を測定するように構成された第３のプローブを含む第３のセンサとをさらに備えることを特徴とする質量流量制御システム。
【請求項１８】
請求項１４に記載の質量流量制御システムにおいて、
混合ガス流が約１５℃〜１５０℃で供給されることを特徴とする質量流量制御システム。
【請求項１９】
混合ガス流中の希薄触媒反応性ガスの質量流量を制御する方法であって、
（ａ）混合ガス源から混合ガス流を提供するステップであって、混合ガス流が、液体源から生成された希薄触媒反応性ガスとキャリアガスとを含む、ステップと、
（ｂ）混合ガス流の第１の温度を測定するステップと、
（ｃ）触媒反応性ガスと反応するように構成された触媒に、混合ガス流の少なくとも一部を曝すステップと、
（ｄ）触媒と触媒反応性ガスとの間の反応後の混合ガス流の第２の温度を測定するステップと、
（ｅ）混合ガス流と触媒との接触後の温度の変化を測定することにより、触媒反応性ガスの質量流量を測定するステップであって、温度の変化が、混合ガス流の圧力または流量から相対的に独立している、ステップと、
（ｆ）希釈触媒反応性ガスの所望の質量流量を達成するために、液体源の温度、液体源のヘッドスペースの圧力およびキャリアガスの流量のうちの１または複数を調整するステップとを含むことを特徴とする方法。
【請求項２０】
請求項１９に記載の方法において、
調整するステップが、液体源の上流に配置された圧力調整弁、液体源の下流に配置された圧力調整弁、液体源の温度を調節するように構成された加熱器、および液体源の温度を調節するように構成された冷却器からなる群のなかから選択されているエフェクタを使用して達成されることを特徴とする方法。
【請求項２１】
請求項１９に記載の方法において、
触媒が、銀、白金、パラジウム、銅、ニッケル、酸化マンガン、二酸化マンガン、酸化銅およびそれらの任意の組合せからなる群のなかから選択されることを特徴とする方法。
【請求項２２】
請求項２１に記載の方法において、
触媒反応性ガスが、過酸化水素ガスおよびＨ２Ｎ４からなる群のなかから選択されることを特徴とする方法。
【請求項２３】
請求項２１に記載の方法において、
キャリアガスが、窒素、水素、アルゴン、ヘリウム、蒸気、清浄乾燥空気、酸素、ＮＨ３、二酸化炭素、およびそれらの任意の組合せからなる群のなかから選択されることを特徴とする方法。
【請求項２４】
請求項２１に記載の方法において、
混合ガス流に曝す前に、触媒反応性ガスの露点を超える温度まで触媒を加熱するステップをさらに含むことを特徴とする方法。
【請求項２５】
請求項２４に記載の方法において、
触媒に曝す前に、混合ガス流を加熱するステップをさらに含むことを特徴とする方法。
【請求項２６】
請求項２１に記載の方法において、
混合ガス流が約０．０７６トール〜８００トールで提供されることを特徴とする方法。
【請求項２７】
請求項２１に記載の方法において、
希釈触媒反応性ガスの所望の質量流量を達成するために調整するステップの後に、さらにステップ（ｄ）−（ｆ）を繰り返すことを特徴とする方法。
【請求項２８】
請求項２１に記載の方法において、
混合ガス流が約１５℃〜１５０℃で提供されることを特徴とする方法。
【請求項２９】
請求項２１に記載の方法において、
混合ガス流中の希薄触媒反応性ガスの濃度が、約５００ｐｐｍ〜約２５，０００ｐｐｍであることを特徴とする方法。