【手続補正書】
【提出日】令和3年10月8日(2021.10.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
個々の二酸化チタン粒子間のスペーサとして機能するシリカコーティング層でコーティングされた、非凝集の離散的に分布した二酸化チタン粒子を製造する方法であって：
ｉ）二酸化チタン粒子を含有する水性分散体を形成する工程、ここで、前記二酸化チタン粒子の平均粒子サイズｄ５０が７〜１０００ｎｍの範囲内である、工程と；
ｉｉ）一定の混合下で、前記分散体にケイ素含有化合物を導入して、アルカリ性分散体を得る工程と；
ｉｉｉ）前記工程ｉｉ）で得られた前記アルカリ性分散体に酸を添加してｐＨを低下させて、前記分散体から前記二酸化チタン粒子へのケイ素酸化物の析出を開始させる工程と；
ｉｖ）前記工程ｉｉｉ）で得られた前記二酸化チタン粒子に対して前記工程ｉｉ）及び前記工程ｉｉｉ）を１回以上繰り返して、非凝集の離散的に分布した二酸化チタン粒子を得る工程と、
を含む方法。
【請求項２】
前記工程ｉｉ）は、一定の混合下で、塩基を添加し、前記分散体にケイ素含有化合物を導入して、アルカリ性分散体を得る工程である、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記塩基は、ＮａＯＨ、ＫＯＨ、Ｎａ２ＣＯ３、又はアンモニアである、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記工程ｉｖ）は、前記工程ｉｉｉ）で得られた前記二酸化チタン粒子に対して前記工程ｉｉ）及び前記工程ｉｉｉ）を１回以上繰り返して、非凝集の離散的に分布した二酸化チタン粒子を得る工程であって、前記得られた製造物を濾過及び洗浄する前に、前記分散体のｐＨを１．９〜９．０の範囲内に低下させる工程である、請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
前記ケイ素含有化合物は、水ガラス、シリカゾル、ＳｉＯ２、及び有機ケイ素化合物からなる群から選択される、請求項１〜請求項４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
前記分散体の温度が、４０〜１００℃の範囲内である、請求項１〜請求項５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
前記ケイ素含有化合物の添加後のｐＨが、９．３〜１２の範囲内である、請求項１〜請求項６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
前記酸の添加後のｐＨが、４〜９．３の範囲内である、請求項１〜請求項７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
前記酸は、硫酸（ｓｕｌｐｈｕｒｉｃ  ａｃｉｄ）、ＨＣｌ、ＨＮＯ３、又は有機酸を含む、請求項１〜請求項８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
前記工程ｉｉ）及び前記ｉｉｉ）は、２回以上繰り返される、請求項１〜請求項９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１】
前記工程ｉ）及び／又は前記工程ｉｉ）における反応時間が、１分以上である、請求項１〜請求項１０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２】
前記分散体中の二酸化チタン濃度が、７０〜４００ｇ／ｌの範囲内である、請求項１〜請求項１１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１３】
前記二酸化チタン粒子は、８０％（ｗ／ｗ）以上がルチル型である、請求項１〜請求項１２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１４】
ＳｉＯ２層でコーティングされており、平均粒子サイズが１００〜１０００ｎｍの範囲内であり、９５％（ｗ／ｗ）以上のルチル型二酸化チタンコア粒子を含む、コーティングされた二酸化チタン製造物であって、完全に対称なＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合を示す、固相ＮＭＲ（核磁気共鳴）スペクトルにおける（−１０５）〜（−１１５）ｐｐｍに２９Ｓｉ化学シフトピークを有する、コーティングされた二酸化チタン製造物。
【請求項１５】
請求項１〜請求項１３のいずれか一項に記載の方法によって製造される、請求項１４に記載のコーティングされた二酸化チタン製造物。
【請求項１６】
ＢＥＴ表面積が１５ｍ２／ｇ以下である、請求項１４又は請求項１５に記載のコーティングされた二酸化チタン製造物。
【請求項１７】
油吸収が３１％未満である、請求項１４〜請求項１６のいずれか一項に記載のコーティングされた二酸化チタン製造物。
【請求項１８】
底色ｂ＊が−６未満である、請求項１４〜請求項１７のいずれか一項に記載のコーティングされた二酸化チタン製造物。
【請求項１９】
着色力Ｌ＊（グレーペースト）が６４超である、請求項１４〜請求項１８のいずれか一項に記載のコーティングされた二酸化チタン製造物。
【請求項２０】
前記ＳｉＯ２スペーサコーティング層の量が、前記コーティングされた二酸化チタン製造物の２〜４％（ｗ／ｗ）の範囲内である、請求項１４〜請求項１９のいずれか一項に記載のコーティングされた二酸化チタン製造物。
【請求項２１】
ＳｉＯ２層でコーティングされており、平均粒子サイズが１００ｎｍ未満であり、８０％（ｗ／ｗ）以上のルチル型の透明二酸化チタンコア粒子を含む、コーティングされた二酸化チタン製造物であって、完全に対称なＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合を示す、固相ＮＭＲ（核磁気共鳴）スペクトルにおける（−１０５）〜（−１１５）ｐｐｍに２９Ｓｉ化学シフトピークを有する、コーティングされた二酸化チタン製造物。
【請求項２２】
請求項１〜請求項１３のいずれか一項に記載の方法によって製造される、請求項２１に記載のコーティングされた二酸化チタン製造物。
【請求項２３】
請求項１４〜請求項２０のいずれか一項又は請求項２１若しくは請求項２２に記載のコーティングされた二酸化チタン製造物を含む、印刷インク組成物。
【請求項２４】
請求項１４〜請求項１９のいずれか一項又は請求項２１若しくは請求項２２に記載のコーティングされた二酸化チタン製造物を含むサンスクリーン組成物。
【請求項２５】
請求項１４〜請求項１９のいずれか一項又は請求項２１若しくは請求項２２に記載のコーティングされた二酸化チタン製造物を含む塗料組成物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１７４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１７４】
Ｌｉｏｆｏｌ  ＵＲ  ３９６６−２１  ５０ｇ
Ｌｉｏｆｏｌ  ＬＡ  ６０７４−２１  ３．８ｇ
酢酸エチル                          ４０ｇ
本開示は下記＜１＞〜＜２１＞の態様も含む。
＜１＞
個々の二酸化チタン粒子間のスペーサとして機能するシリカコーティング層でコーティングされた、非凝集の離散的に分布した二酸化チタン粒子を製造する方法であって：
ｉ）二酸化チタン粒子を含有する水性分散体を形成する工程、ここで、前記二酸化チタン粒子の平均粒子サイズｄ５０が７〜１０００ｎｍの範囲内である、工程と；
ｉｉ）一定の混合下で、所望により塩基を添加し、前記分散体にケイ素含有化合物を導入して、アルカリ性分散体を得る工程と；
ｉｉｉ）前記工程ｉｉ）で得られた前記アルカリ性分散体に酸を添加してｐＨを低下させて、前記分散体から前記二酸化チタン粒子へのケイ素酸化物の析出を開始させる工程と；
ｉｖ）前記工程ｉｉ）及び前記ｉｉｉ）を１回以上繰り返して、非凝集の離散的に分布した二酸化チタン粒子を得る工程、ここで、好ましくは、前記得られた製造物を濾過及び洗浄する前に、前記分散体のｐＨを１．９〜９．０の範囲内、好ましくは３〜８．５の範囲内の値に低下させる、工程と、
を含む方法。
＜２＞
前記ケイ素含有化合物は、水ガラス、シリカゾル、ＳｉＯ２、及びオルトケイ酸塩若しくはテトラエチルオルトケイ酸塩などの有機ケイ素化合物からなる群から選択され、好ましくは水ガラスである、＜１＞に記載の方法。
＜３＞
前記塩基は、ＮａＯＨ、ＫＯＨ、Ｎａ２ＣＯ３、又はアンモニアであり、好ましくはＮａＯＨである、＜１＞又は＜２＞に記載の方法。
＜４＞
前記分散体の温度が、４０〜１００℃の範囲内、好ましくは５０〜９０℃の範囲内、最も好ましくは６０〜８５℃の範囲内である、＜１＞〜＜３＞のいずれか一つに記載の方法。
＜５＞
前記ケイ素含有化合物、及び所望による前記塩基の添加後のｐＨが、９．３〜１２の範囲内、好ましくは９．５〜１１の範囲内である、＜１＞〜＜４＞のいずれか一つに記載の方法。
＜６＞
前記酸の添加後のｐＨが、４〜９．３の範囲内、好ましくは４．３〜８の範囲内、より好ましくは４．５〜７．８の範囲内、最も好ましくは５〜７．５の範囲内である、＜１＞〜＜５＞のいずれか一つに記載の方法。
＜７＞
前記酸は、硫酸（ｓｕｌｐｈｕｒｉｃ  ａｃｉｄ）、ＨＣｌ、ＨＮＯ３、又はギ酸、酢酸、若しくはシュウ酸などの有機酸を含み、好ましくは、前記酸は硫酸である、＜１＞〜＜６＞のいずれか一つに記載の方法。
＜８＞
前記工程ｉｉ）及び前記ｉｉｉ）は、２回以上、３回以上、４回以上、又は５回以上繰り返される、＜１＞〜＜７＞のいずれか一つに記載の方法。
＜９＞
前記工程ｉ）及び／又は前記工程ｉｉ）における反応時間が、１分以上、好ましくは３分以上である、＜１＞〜＜８＞のいずれか一つに記載の方法。
＜１０＞
前記分散体中の二酸化チタン濃度が、７０〜４００ｇ／ｌの範囲内、好ましくは１５０〜３５０ｇ／ｌの範囲内、より好ましくは２００〜３２０ｇ／ｌの範囲内であり、例えば２２０〜３１０ｇ／ｌの範囲内である、＜１＞〜＜９＞のいずれか一つに記載の方法。
＜１１＞
前記二酸化チタン粒子は、８０％（ｗ／ｗ）以上、好ましくは９０％（ｗ／ｗ）以上、より好ましくは９５％（ｗ／ｗ）以上、最も好ましくは９７％（ｗ／ｗ）以上がルチル型である、＜１＞〜＜１０＞のいずれか一つに記載の方法。
＜１２＞
ＳｉＯ２層でコーティングされており、平均粒子サイズが１００〜１０００ｎｍの範囲内であり、９５％（ｗ／ｗ）以上のルチル型二酸化チタンコア粒子を含み、好ましくは＜１＞〜＜１１＞のいずれか一つに記載の方法によって製造される、コーティングされた二酸化チタン製造物であって、完全に対称なＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合を示す、固相ＮＭＲ（核磁気共鳴）スペクトルにおける（−１０５）〜（−１１５）ｐｐｍに２９Ｓｉ化学シフトピークを有する、コーティングされた二酸化チタン製造物。
＜１３＞
ＢＥＴ表面積が１５ｍ２／ｇ以下、好ましくは１２ｍ２／ｇ以下である、＜１２＞に記載のコーティングされた二酸化チタン製造物。
＜１４＞
油吸収が３１％未満、好ましくは２８％未満である、＜１２又は＜１３＞に記載のコーティングされた二酸化チタン製造物。
＜１５＞
底色ｂ＊が−６未満である、＜１２＞〜＜１４＞のいずれか一つに記載のコーティングされた二酸化チタン製造物。
＜１６＞
着色力Ｌ＊（グレーペースト）が６４超である、＜１２＞〜＜１５＞のいずれか一つに記載のコーティングされた二酸化チタン製造物。
＜１７＞
前記ＳｉＯ２スペーサコーティング層の量が、前記コーティングされた二酸化チタン製造物の２〜４％（ｗ／ｗ）の範囲内である、＜１２＞〜＜１６＞のいずれか一つに記載のコーティングされた二酸化チタン製造物。
＜１８＞
ＳｉＯ２層でコーティングされており、平均粒子サイズが１００ｎｍ未満であり、８０％（ｗ／ｗ）以上のルチル型の透明二酸化チタンコア粒子を含み、好ましくは＜１＞〜＜１１＞のいずれか一つに記載の方法によって製造される、コーティングされた二酸化チタン製造物であって、完全に対称なＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合を示す、固相ＮＭＲ（核磁気共鳴）スペクトルにおける（−１０５）〜（−１１５）ｐｐｍに２９Ｓｉ化学シフトピークを有する、コーティングされた二酸化チタン製造物。
＜１９＞
好ましくは反転又はラミネート印刷インクである、＜１２＞〜＜１７＞のいずれか一つ又は＜１８＞に記載のコーティングされた二酸化チタン製造物を含む、印刷インク組成物。
＜２０＞
＜１２＞〜＜１６＞のいずれか一つ又は＜１８＞に記載のコーティングされた二酸化チタン製造物を含むサンスクリーン組成物であって、好ましくは、前記ＳｉＯ２層の量が、前記コーティングされた二酸化チタン製造物の４〜２５％（ｗ／ｗ）の範囲内である、サンスクリーン組成物。
＜２１＞
＜１２＞〜＜１６＞のいずれか一つ又は＜１８＞に記載のコーティングされた二酸化チタン製造物を含む塗料組成物であって、好ましくは、前記ＳｉＯ２層の量が、前記コーティングされた二酸化チタン製造物の２〜１４％（ｗ／ｗ）の範囲内である、塗料組成物。