(57)【要約】【課題】ディスプレイに装着し易く且つ接地し易いアース用電極部を精度良く且つ容易に露出させることが可能なアース用電極部を有するディスプレイ用光学フィルタの製造方法を提供する。【解決手段】透明基材１１０、その一方の面全体に設けられたパターン状の電磁波シールド層１２０、及び電磁波シールド層１２０全面に形成された機能性層１３０を含む積層体の前記機能性層１３０の周縁部の少なくとも一部を、超音波振動が付与された切削バイト１４０で切削することにより、電磁波シールド層１２０の一部を露出させてアース用電極部１２０'を形成することを特徴とするアース用電極部を有するディスプレイ用光学フィルタの製造方法。【選択図】図１
2010034136.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材、その一方の面全体に設けられたパターン状の電磁波シールド層、及び電磁波シールド層全面に形成された機能性層を含む積層体の前記機能性層の周縁部の少なくとも一部を、超音波振動が付与された切削バイトで切削することにより、電磁波シールド層の一部を露出させてアース用電極部を形成することを特徴とするアース用電極部を有するディスプレイ用光学フィルタの製造方法。
【請求項２】
機能性層が、ハードコート層であることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
切削バイトがヘールバイトであることを特徴とする請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
超音波振動の振動方向が、切削バイトの中心軸方向であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
予め透明基板の他方の面からの機能性層表面の距離の変化状態を測定し、得られた測定データに従って切削バイトを移動させて切削深さが一定となるように制御して、切削を行うことを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
切削深さが最も深い値と、切削深さが最も浅い値との差を１μｍ以内とすることを特徴とする請求項５に記載の方法。
【請求項７】
切削を、機能性層の切削部を冷却しながら行うことを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
透明基材、前記透明基材の一方の面全体に設けられたパターン状の電磁波シールド層、及び前記透明基材の他方の面全体に形成された機能性層を含む積層体の前記機能性層及び前記透明基材の周縁部の少なくとも一部を、超音波振動が付与された切削バイトで切削することにより、前記透明基材の他方の面において電磁波シールド層の一部を露出させてアース用電極部を形成することを特徴とするアース用電極部を有するディスプレイ用光学フィルタの製造方法。
【請求項９】
機能性層が、ハードコート層であることを特徴とする請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
切削バイトがヘールバイトであることを特徴とする請求項８又は９に記載の方法。
【請求項１１】
超音波振動の振動方向が、切削バイトの中心軸方向であることを特徴とする請求項８〜１０のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１２】
切削を、機能性層及び透明基材の切削部を冷却しながら行うことを特徴とする請求項８〜１１のいずれか１項に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、ブラウン管（ＣＲＴ）ディスプレイ、液晶ディスプレイ、有機ＥＬ（電界発光）ディスプレイ、表面電界型ディスプレイ（ＳＥＤ）を含む電界放出型ディスプレイ（ＦＥＤ）等の各種ディスプレイに対して反射防止、近赤外線遮断、電磁波遮蔽等の各種機能を有する光学フィルタの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、ＥＬディスプレイ等のフラットパネルディスプレイ、及びＣＲＴディスプレイは、近年、大画面表示が主流となり、次世代の大画面表示デバイスとしてＰＤＰが一般的になってきている。しかしながら、このＰＤＰでは画像表示のため発光部に高周波パルス放電を行っているため、不要な電磁波の輻射や赤外線リモコン等の誤動作の原因ともなる赤外線の輻射の恐れがある。
【０００３】
このため、ＰＤＰなどのディスプレイに用いられるフィルタとして、透明基材上に電磁波シールド層が形成されたものなどが知られている。電磁波シールド層には、例えば、（１）金属銀を含む透明導電薄膜、（２）金属線又は導電性繊維を網状にした導電メッシュ、（３）銅箔等の金属箔に開口部を設けたメッシュ状の導電層、（４）導電性インクをメッシュ状に印刷した導電層などが用いられる。なかでも、開口部により高い光透過性が得られることから（２）〜（４）のメッシュ状の導電層が好適に用いられている。導電性のメッシュの部分によって電磁波がシールドされ、開口部によって光の透過が確保される。
【０００４】
さらに、従来のディスプレイ用光学フィルタには、耐傷付き性を付与するためのハードコート層、蛍光灯などの外部光源から照射された光線の反射を抑制して視認性を向上させるための反射防止層、さらに、赤外線を遮蔽するために近赤外線遮蔽層などの機能性層を積層して用いられる。
【０００５】
このようなディスプレイ用光学フィルタを作製するには、電磁波シールド層が形成された透明基材上に、機能性層を塗工によって形成する方法が用いられている。このような塗工方法によれば、各機能性層を別途作製して貼り合わせる方法に比べて、生産性の向上及びコストの低減が図れる。
【０００６】
ディスプレイ用光学フィルタでは、電磁波シールド性を良好なものとするために、電磁波シールド層をＰＤＰ本体に接地（アース）する必要がある。このため、機能性層の一部を除去して、電磁波シールド層の一部をアース用電極部として露出させる必要がある。しかしながら、上記のように塗工によって各機能性層を形成すると、各機能性層により電磁波シールド層が露出しない状態となるためアース用電極部を得ることができない。また、機能性層は非常に薄膜であるため、塗工範囲を調整することにより電磁波シールド層を精度よく露出させるのも困難であった。
【０００７】
そこで、特許文献１では、表面に、メッシュ状金属層及びその周囲の枠状金属層からなる導電層が設けられた透明基材の当該導電層全表面に、紫外線硬化性樹脂組成物を含む未硬化の機能性層を形成し、透明基材の導電層が形成されていない側の表面に紫外線を照射し、枠状金属層の上に設けられた未硬化の機能性層を溶剤により除去してアース用電極部として枠状金属層を露出させる工程を含むディスプレイ用光学フィルタの製造方法が開示されている。
【０００８】
前記方法では透明基材の裏面から紫外線を照射しているが、特許文献１では、さらに、透明基材の表面から紫外線を照射する方法も開示されている。具体的には、メッシュ状金属層の全表面に、紫外線硬化性樹脂組成物を含む未硬化の機能性層を形成し、機能性層の上から金属層の外縁の枠状領域に紫外線が当たらないようにフォトマスクを介して紫外線を照射し、その金属層の枠状領域上に設けられた未硬化の機能性層を溶剤により除去して、枠状領域をアース用電極部として露出させる工程を含むディスプレイ用光学フィルタの製造方法が開示されている。
【０００９】
【特許文献１】特開２００７−３２８２８６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
特許文献１で開示された方法によれば、未硬化の機能性層に、枠状金属導電層又はフォトマスクを利用して部分的に紫外線照射することにより、精度良く且つ効率良く、電磁波シールド層の一部をアース用電極部を露出させることが可能となる。しかしながら、このような方法は、枠状金属導電層又はフォトマスクを用意して、紫外線の照射範囲を調整する必要があるため煩雑である。一方で、ディスプレイ用光学フィルタの製造方法には、さらなる生産性の向上が望まれている。
【００１１】
したがって、本発明は、ディスプレイに装着し易く且つ接地し易いアース用電極部を精度良く且つ容易に露出させることが可能なアース用電極部を有するディスプレイ用光学フィルタの製造方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明の第１の方法は、
透明基材、その一方の面全体に設けられたパターン状の電磁波シールド層、及び電磁波シールド層全面に形成された機能性層を含む積層体の前記機能性層の周縁部の少なくとも一部を、超音波振動が付与された切削バイトで切削することにより、電磁波シールド層の一部を露出させてアース用電極部を形成することを特徴とするアース用電極部を有するディスプレイ用光学フィルタの製造方法である。
【００１３】
本発明の第２の方法は、
透明基材、前記透明基材の一方の面全体に設けられたパターン状の電磁波シールド層、及び前記透明基材の他方の面全体に形成された機能性層を含む積層体の前記機能性層及び前記透明基材の周縁部の少なくとも一部を、超音波振動が付与された切削バイトで切削することにより、前記透明基材の他方の面において電磁波シールド層の一部を露出させてアース用電極部を形成することを特徴とするアース用電極部を有するディスプレイ用光学フィルタの製造方法である。
【発明の効果】
【００１４】
本発明では、切削バイトに超音波振動を印加して機能性層、さらには透明基材の切削を行うことにより、切削部位を容易に設計することができ、高い精度で切削することができる。また、フォトマスクの使用や枠状金属導電層を設ける必要もないことから、機能性層の切削部位の設計変更も容易であり、電磁波シールド層の設計も自由に行うことができる。したがって、本願発明によれば、ディスプレイに装着し易く且つ接地し易いアース用電極部を精度良く且つ容易に露出させることが可能なディスプレイ用光学フィルタの製造方法を提供することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
（第１の方法）
本発明の第１の方法では、透明基材、その一方の面全体に設けられたパターン状の電磁波シールド層、及び電磁波シールド層全面に形成された機能性層を含む積層体を用いる。機能性層は、電磁波シールド層上に形成された何らかの機能を示す合成樹脂を含む層であればどのようなものでも良い。本発明の方法では、ハードコート層が好ましく用いられる。この機能性層の周縁部の少なくとも一部を、超音波振動が付与された切削バイトで切削することにより、電磁波シールド層の一部を露出させてアース用電極部を形成する。
【００１６】
図１に、機能性層の一部を切削バイトにより切削する工程の要部を説明するための図を示す。図１において、１１０は透明基材であり、１２０は透明基材１１０の一方の面全体に設けられた電磁波シールド層であり、１３０は電磁波シールド層１２０の全面に形成された機能性層である。１４０は保持部１５０に装着された切削バイトである。また、保持部１５０には、切削バイト１４０に超音波振動を付与するための超音波発生装置１６０がさらに連結されている。
【００１７】
図１に示すように、本発明の方法では、切削バイト１４０をＸ軸方向に移動させることにより、機能性層１３０の一部を切削する。さらに、切削バイト１４０には超音波発生装置１６０により超音波振動が印加され、このように切削バイト１４０を微振動させることで機能性層の切削部を局所的に溶解させるとともに切削を行う。これにより、他の部位に切削による損傷を与えることなく、機能性層１４０の所望する部位を高い寸法精度で容易に切削することができ、電磁波シールド層１２０の一部を露出させてアース用電極部１２０’を形成することができる。
【００１８】
切削バイトとしては、ヘールバイトを用いるのが好ましい。ヘールバイトは、シャンク（つかみの部分）と刃先との間に逆さＵ字の構造を有するものである。このようなヘールバイトを使用することにより、切削反力を弾性的に吸収することができ、機能性層の所望する部位を均一な厚さで切削することができる。
【００１９】
切削バイトに用いられる材料は、特に制限されないが、ダイヤモンド、タングステン・カーバイト、キュービック・ボロン・ナイトライド（Ｃｕｂｉｃ−Ｂｏｒｏｎ  Ｎｉｔｒｉｄｅ）、セラミックス、超硬合金、サーメットなどからなるのが好ましい。
【００２０】
切削バイトのすくい角は、０〜３０度、特に０〜１０度とするのが好ましい。また、切削バイトの逃げ角は、５〜２０度、特に１０〜１５度とするのが好ましい。切削バイト先端をこのような形状にすることで切削性を向上させることができ、合成樹脂からなる機能性層を切削除去することができる。
【００２１】
なお、本発明において、すくい角とは、機能性層の切削面に対して垂直な面と、切削バイトの刃先の進行方向の前面（すくい面）とが形成する角度θをいう。逃げ角とは、機能性層を切削バイトで切削した後の被加工面と切削バイトの刃先の進行方向の裏面（逃げ面）とが形成する角度θをいう。
【００２２】
切削バイトの移動速度は、０．５〜１０ｃｍ／秒、特に１〜５ｃｍ／秒とするのが好ましい。
【００２３】
本発明では、機能性層を切削する際に、切削バイトに超音波振動を付与する。切削バイトに超音波振動を付与するには、超音波発生装置を用いて行うことができる。超音波発生装置として具体的には、ピエゾ振動子などを用いることができる。
【００２４】
切削バイトに付与する超音波の振動方向は、切削バイトの中心軸方向とするのが好ましい。このように、切削バイトを縦振動させることにより、機能性層を局所的に軟化させることができ、切削性を向上させることができる。
【００２５】
超音波振動による切削バイトの振幅は、５〜３０μｍ、特に１０〜２０μｍとするのが好ましい。また、振動数は、１０〜１００ｋＨｚ、特に２０〜３５ｋＨｚとするのが好ましい。
【００２６】
切削バイトによる切削は、機能性層の表面から一定の深さで行われるようにするのが好ましい。このように切削する際の基準面を機能性層表面とすることによって、切削深さをより均一にすることができ、平坦な表面を有し、接地し易いアース用電極部を形成することができる。
【００２７】
このように切削深さを制御するには、予め透明基板の他方の面からの機能性層表面の距離の変化状態を測定し、得られた測定データに従って切削バイトを移動させて切削深さが一定となるように制御することで行うことができる。具体的には、図１に示すように、切削バイトを移動させる方向（図１におけるＸ軸方向）において切削部の直前に透明基板の機能性層が形成された面とは反対側の他方の面と機能性層表面との距離（図１におけるｔ）を測定できる変位計１７０を配置し、この変位計１７０を切削バイトとともにＸ軸方向に移動させる。変位計１７０による検出信号は、例えば、計測アンプ（図示せず）により増幅させてＮＣコントローラー（図示せず）に入力し、ＮＣコントローラーに入力された検出信号に応じて切削バイトを機能性層表面に対して垂直方向（図１におけるＺ軸方向）に移動させる。このようにして、機能性層表面の凹凸形状に応じて切削バイトを移動させることにより、切削深さを一定に制御することができる。
【００２８】
変位計は、透明基板の他方の面と機能性層表面との距離を測定するものであり、例えば、エアマイクロメータ、レーザー式変位計、静電容量式変位計、超音波式変位計、ＬＥＤ式変位計などが好ましく用いられる。
【００２９】
切削深さが最も深い値（ＤH）と、切削深さが最も浅い値（ＤL）との差（ＤH−ＤL）は、１μｍ以内、特に０．５μｍ以内とするのが好ましい。これにより、切削深さのばらつきがなく、均一な厚さで電磁波シールド層を露出させることができる。
【００３０】
機能性層の表面からの切削深さは、５．０〜６．０μｍ、特に５．６〜５．９μｍとするのが好ましい。また、電磁波シールド層を十分に露出させるために、切削を複数回行ってもよい。
【００３１】
本発明の方法では、機能性層の表面の切削部を冷却しながら、切削を行うのが好ましい。合成樹脂からなる機能性層は切削により局所的に高温となり、場合によっては溶融している。このような機能性層を、冷却しながら切削を行うことにより、他の部位に損傷を与えることなく、優れた精度で切削を行うことができる。
【００３２】
冷却手段としては、液体窒素、水、圧縮空気などの冷媒を噴射する手段などが用いられる。これにより、冷却とともに切削カスや粉塵の除去を行うことができる。冷媒は、液体窒素を用いるのが特に好ましい。液体窒素を噴射することにより、機能性層表面の切削部を−２０〜−４００℃、特に−４０〜−２００℃とするのが好ましい。
【００３３】
機能性層を上述の通りにして切削する部位は、露出させた電磁波シールド層がディスプレイに装着しやすく接地しやすいアース用電極部を形成するように決定すればよく、機能性層の周縁部の少なくとも一部とするのが好ましい。
【００３４】
本発明の第１の方法では、機能性層の周縁部のうち対向する２辺を削除するのが好ましく、特に機能性層の周縁部全体を削除するのが好ましい。具体的には、図２に示すように、機能性層１３０の周縁部全体を削除して、電磁波シールド層を露出させることによりアース用電極部１２０’を得るのが特に好ましい。これによりディスプレイに接地し易いアース用電極部とすることができる。
【００３５】
また、機能性層を削除する部位は、上述したものの他にも、図３に示すように、機能性層１３０をその周縁部において額縁状に切削して、電磁波シールド層を露出させることによりアース用電極部１２０’を形成してもよい。さらに、図４に示すように、機能性層１３０をその周縁部において間欠的に切削して、電磁波シールド層を露出させることによりアース用電極部１２０’を形成してもよい。
【００３６】
機能性層を帯状に切削して電磁波シールド層を露出させる幅（例えば、図２におけるＬ1）は、１〜１００ｍｍ、特に２〜５０ｍｍとするのが好ましい。
【００３７】
また、図４などに示すように、機能性層の周縁部を間欠的に切削する場合、機能性層における切削部の平面視形状は、円形、矩形状など、いかなる形状であってもよい。例えば、切削部の形状が円形であった場合、切削部の直径は、０．１〜１５ｍｍ、特に１〜５ｍｍとするのが好ましい。また、切削部の形状が正方形であった場合、貫通孔の一辺の長さは、０．１〜１０ｍｍ、特に１〜５ｍｍとするのが好ましい。
【００３８】
間欠的に形成される切削部の間隔（図４におけるＬ2）は、１〜２０ｍｍ、特に５〜１５ｍｍとするのが好ましい。これにより、電磁波シールド層を十分に露出させることができ、電気的導通に優れるアース用電極部が得られる。
【００３９】
本発明の第１の方法により得られるディスプレイ用光学フィルタの断面図を図５に示す。図５に示す断面図は、図２に示すディスプレイ用光学フィルタの上面図の線ＡＡ’間における断面図に相当する。なお、図５では、本発明の方法により得られるディスプレイ用光学フィルタの好ましい一実施形態を示しているが、本発明のディスプレイ用光学フィルタが図５に示す構成に限定されるわけではない。
【００４０】
本発明のディスプレイ用光学フィルタは、図５に示すように、矩形状の透明基材１２０の一方の面全体上に形成された電磁波シールド層上に、さらに機能性層１３０が形成され、電磁波シールド層の周縁部の少なくとも一部、好ましくは周縁部全体が露出されることによりアース用電極部が形成されている。なお、電磁波シールド層の開口部には、切削により除去されなかった機能性層の成分が残存する。
【００４１】
本発明の第１の方法により得られるディスプレイ用光学フィルタを、ディスプレイに適用する場合、パターン状の電磁波シールド層が視聴者側となるように配置するのが好ましい。
【００４２】
以下に、本発明の方法に使用されるディスプレイ用光学フィルタの各材料について説明する。
【００４３】
（機能性層）
本発明において、機能性層としては、合成樹脂を含む何らかの機能を示す層であればどのようなものでも良い。機能性層としては、近赤外線吸収層、ハードコート層、又は反射防止層などが挙げられる。ハードコート層は一般的に硬度が高く、アース電極の形成が特に困難であり、したがって本願発明による効果を最も高く発揮できることから、機能性層はハードコート層であるのが最も好ましい。
【００４４】
なお、本発明において、ハードコート層とは、ＪＩＳ５６００−５−４（１９９９）で規定される鉛筆硬度試験でＨ以上の硬度を有するものをいう。
【００４５】
機能性層としてハードコート層を形成するには、合成樹脂組成物を含む塗工液を透明基材上に設けられた電磁波シールド層上に塗工し、得られた塗工層を硬化させる方法が好ましく用いられる。なお、後述する第２の方法では、前記塗工液を、透明基材上に直接、塗工する。
【００４６】
ハードコート層の形成に使用される合成樹脂組成物は、少なくとも合成樹脂を含む。前記合成樹脂は、一般に熱硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂であり、紫外線硬化性樹脂が好ましい。紫外線硬化性樹脂は、短時間で硬化させることができ、優れた表面平滑性を有する機能性層を形成することが可能となる。
【００４７】
熱硬化性樹脂としては、フェノール樹脂、レゾルシノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、フラン樹脂、シリコン樹脂などを挙げることができる。
【００４８】
紫外線硬化性樹脂（モノマー、オリゴマー）としては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシルポリエトキシ（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、フェニルオキシエチル（メタ）アクリレート、トリシクロデカンモノ（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルホリン、Ｎ−ビニルカプロラクタム、２−ヒドロキシ−３−フェニルオキシプロピル（メタ）アクリレート、ｏ−フェニルフェニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジプロポキシジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメチロールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、トリス〔（メタ）アクリロキシエチル〕イソシアヌレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレートモノマー類；ポリオール化合物（例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、１，６−ヘキサンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，９−ノナンジオール、２−エチル−２−ブチル−１，３−プロパンジオール、トリメチロールプロパン、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、１，４−ジメチロールシクロヘキサン、ビスフェノールＡポリエトキシジオール、ポリテトラメチレングリコール等のポリオール類、前記ポリオール類とコハク酸、マレイン酸、イタコン酸、アジピン酸、水添ダイマー酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸等の多塩基酸又はこれらの酸無水物類との反応物であるポリエステルポリオール類、前記ポリオール類とε−カプロラクトンとの反応物であるポリカプロラクトンポリオール類、前記ポリオール類と前記、多塩基酸又はこれらの酸無水物類のε−カプロラクトンとの反応物、ポリカーボネートポリオール、ポリマーポリオール等）と有機ポリイソシアネート（例えば、トリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−４，４’−ジイソシアネート、ジシクロペンタニルジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、２，４，４’−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、２，２’−４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等）と水酸基含有（メタ）アクリレート（例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェニルオキシプロピル（メタ）アクリレート、シクロヘキサン−１，４−ジメチロールモノ（メタ）アクリ��ート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート等）の反応物であるポリウレタン（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂等のビスフェノール型エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸の反応物であるビスフェノール型エポキシ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレートオリゴマー類等を挙げることができる。これら化合物は１種又は２種以上、混合して使用することができる。これらの紫外線硬化性樹脂を、熱重合開始剤とともに用いて熱硬化性樹脂として使用してもよい。
【００４９】
上記の紫外線硬化性樹脂（モノマー、オリゴマー）のうち、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の硬質の多官能モノマーを主に使用することが好ましい。
【００５０】
ハードコート層の形成に使用される合成樹脂組成物は、さらに、紫外線硬化性樹脂の光重合開始剤を含むのが好ましい。前記光重合開始剤としては、紫外線硬化性樹脂の性質に適した任意の化合物を使用することができる。例えば、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルホリノプロパン−１などのアセトフェノン系、ベンジルジメチルケタールなどのベンゾイン系、ベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノンなどのベンゾフェノン系、イソプロピルチオキサントン、２−４−ジエチルチオキサントンなどのチオキサントン系、その他特殊なものとしては、メチルフェニルグリオキシレートなどが使用できる。特に好ましくは、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルホリノプロパン−１、ベンゾフェノン等が挙げられる。これら光重合開始剤は、必要に応じて、４−ジメチルアミノ安息香酸のごとき安息香酸系叉は、第３級アミン系などの公知慣用の光重合促進剤の１種または２種以上を任意の割合で混合して使用することができる。また、光重合開始剤のみの１種または２種以上の混合で使用することができる。特に１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(チバ・スペシャリティケミカルズ社製、イルガキュア（登録商標）１８４）が好ましい。
【００５１】
光重合開始剤の含有量は、合成樹脂組成物に対して一般に０．１〜１０質量％、好ましくは０．１〜５質量％である。
【００５２】
ハードコート層の形成に使用される合成樹脂組成物は、さらに、シリコーンオイルを含有するのが好ましい。これにより、機能性層の表面平滑性を向上させることが可能となる。前記シリコーンオイルとしては、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル、及びメチルハイドロジェンシリコーンオイルなどが好ましく挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよく、２種以上を混合して使用してもよい。
【００５３】
シリコーンオイルの含有量は、合成樹脂１００質量部に対して、好ましくは０．０００５〜０．１質量部、より好ましくは０．００１〜０．０５質量部である。これにより、透明性及び表面平滑性に優れるハードコート層が得られる。
【００５４】
機能性層がハードコート層である場合、機能性層は、合成樹脂のみを含んでいてもよいが、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、老化防止剤、塗料加工助剤、着色剤などの他の成分をさらに含んでいても良い。紫外線吸収剤、特にベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤又はベンゾフェノン系紫外線吸収剤を含むことが好ましい。これによりフィルタの黄変などの防止を効率的に行うことができる。他の成分の含有量は、合成樹脂組成物に対して、一般に０．１〜１０質量％、好ましくは０．１〜５質量％である。
【００５５】
ハードコート層形成用塗工液は、合成樹脂組成物を、有機溶剤中に分散又は溶解させたものである。有機溶剤としては、特に制限されないが、乾燥が容易なものが好ましい。具体的には、アセトン、メチルエチルケトン、メチルエチルイソブチルケトン等のケトン類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、トルエン、キシレン等の芳香族類、メタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類を用いることができる。アセトン、メチルエチルケトン、酢酸メチル、酢酸エチルが好ましい。これらは、一種単独で用いてもよく、二種以上を混合して用いてもよい。
【００５６】
ハードコート層形成用塗工液における有機溶剤の含有量は、合成樹脂組成物１００質量部に対して、好ましくは５０質量部以下、好ましくは２０〜４０質量部、特に好ましくは２５〜３５質量部である。このような含有量であれば、塗工層の硬化時に有機溶剤が揮発することによって表面に発生し得る凹凸を抑制することができ、優れた表面平滑性を有する機能性層を形成することが可能となる。
【００５７】
ハードコート層形成用塗工液を塗工するには、例えば、グラビアコーター、ロールコーター（サイズプレス、ゲートロールコーター等）、バーコーター、エアナイフコーター、ブレードコーター、ディッピング、バーコーター、ブレードコーター、ナイフコーター、リバースロールコーター、グラビアロールコーター、スクイズコーター、カーテンコーター、スプレーコーター、ダイコーターなどの塗工手段を用いて行うことができる。
【００５８】
ハードコート層形成用塗工液を塗工した後に硬化させるには、加熱又は紫外線照射などの手段を用いて行えばよい。これにより、ハードコート層が得られる。優れた表面平滑性を有するハードコート層を形成することが可能となることから、紫外線硬化性の合成樹脂組成物を使用し、紫外線照射により塗工層を硬化させるのが好ましい。したがって、紫外線硬化性の合成樹脂組成物は、上述した紫外線硬化性樹脂及び光重合開始剤を含むのが好ましい。
【００５９】
紫外線硬化の場合、光源として紫外〜可視領域に発光する多くのものが採用でき、例えば超高圧、高圧、低圧水銀灯、ケミカルランプ、キセノンランプ、ハロゲンランプ、マーキュリーハロゲンランプ、カーボンアーク灯、白熱灯、レーザ光等を挙げることができる。照射時間は、ランプの種類、光源の強さによって一概には決められないが、数秒〜数分程度である。また、硬化促進のために、予め塗工層を４０〜１２０℃に加熱し、これに紫外線を照射してもよい。
【００６０】
機能性層としてハードコート層を形成する場合、ハードコート層の厚さは、通常は１〜５０μｍ、好ましくは５〜４０μｍ、特に好ましくは５〜３５μｍである。
【００６１】
本発明の方法では、上述の通りにして形成したハードコート層上に、他の機能性層として反射防止層をさらに形成してもよい。このように反射防止層を形成することによって、反射防止性をさらに向上させることができる。
【００６２】
反射防止層としては、屈折率の低い低屈折率層及び／又は屈折率の高い高屈折率層が挙げられる。反射防止層として、ハードコート層上に、（１）ハードコート層より屈折率の低い低屈折率層のみが形成されてもよく、（２）ハードコート層より屈折率の高い高屈折率層と、前記高屈折率層より屈折率の低い低屈折率層とがこの順で積層されて形成されてもよい。
【００６３】
低屈折率層を形成するには、合成樹脂、好ましくは紫外線硬化性樹脂のモノマー、オリゴマー、光重合開始剤の他、シリカ、フッ素樹脂等の微粒子、好ましくは中空シリカを含む塗工液が用いられる。
【００６４】
高屈折率層を形成するには、合成樹脂、好ましくは紫外線硬化性樹脂のモノマー、オリゴマー、光重合開始剤の他、ＩＴＯ、ＡＴＯ、Ｓｂ2Ｏ3、ＺｒＯ2、ＳｂＯ2、Ｉｎ2Ｏ3、ＳｎＯ2、ＺｎＯ、ＡｌをドープしたＺｎＯ、ＴｉＯ2等の金属酸化物微粒子を含む塗工液が用いられる。金属酸化物微粒子は、平均粒径１０〜１００００ｎｍ、好ましくは１０〜５０ｎｍのものが好ましい。ＩＴＯ、特に平均粒径１０〜５０ｎｍのものが好ましい。
【００６５】
低屈折率層及び高屈折率層の形成に使用される塗工液は、それぞれ有機溶剤を含んでいてもよい。前記塗工液に使用される合成樹脂、光重合開始剤及び有機溶剤は、ハードコート層において上述したものと同じものをそれぞれ使用できる。また、低屈折率層及び高屈折率層は、ハードコート層上に各塗工液を順次、塗工した後、ハードコート層と同様にして硬化させることにより形成することができる。
【００６６】
低屈折率層の厚さは、通常は１０〜５００ｎｍの範囲、好ましくは２０〜２００ｎｍである。また、低屈折率層の屈折率は、１．３５〜１．４５が好ましい。この屈折率が１．４５超であると、反射防止フィルムの反射防止特性が低下する。
【００６７】
高屈折率層の厚さは、通常は１０〜５００ｎｍ、好ましくは２０〜２００ｎｍである。また、高屈折率層の屈折率は１．６４以上であるのが好適である。高屈折率層の屈折率を１．６４以上とすることにより反射防止層の表面反射率の最小反射率を１．５％以内にすることができ、１．６９以上、好ましくは１．６９〜１．８２とすることにより反射防止層の表面反射率の最小反射率を１．０％以内にすることができる。
【００６８】
（透明基材）
本発明の方法に使用される透明基材としては、透明度及び可とう性を備え、その後の処理に耐えるものであれば特に制限はない。透明基材の材質としては、例えば、ガラス、ポリエステル（例、ポリエチレンテレフタレート、（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート）、アクリル樹脂（例、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ））、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリスチレン、セルローストリアセテート、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール、金属イオン架橋エチレン−メタクリル酸共重合体、ポリウレタン、セロファン等を挙げることができる、これらの中で、加工処理（加熱、溶剤、折り曲げ）による劣化が少なく、透明性の高い材料であるＰＥＴ、ＰＣ、ＰＭＭＡが好ましい。なかでも、安価であり優れた耐久性を有することから、ＰＥＴであるのが好ましい。透明基材は、これらの材質からなるシート、フィルム、または板として用いられる。
【００６９】
前記透明基材の厚さは、特に制限されないが、６〜２５０μｍ、特に６〜１５０μｍ程度であるのが好ましい。
【００７０】
（電磁波シールド層）
透明基材上に設けられるパターン状の電磁波シールド層は、金属を含み導電性を有する層である。例えば、（１）銅などの金属からなるもの、（２）バインダ樹脂中に導電性粒子を分散させたもの、等を挙げることができる。
【００７１】
前記（１）金属からなる電磁波シールド層において、前記金属としては、銅、ステンレス、アルミニウム、ニッケル、鉄、真鍮、或いはこれらの合金、好ましくは銅、ステンレス、アルミニウムが用いられる。
【００７２】
前記（１）の電磁波シールド層を作製するには、まず、スパッタリング、イオンプレーティング、電子ビーム蒸着、真空蒸着、化学蒸着等の気相製膜法や、印刷、塗工などの方法を用いて透明基材上に前記金属からなる金属箔を形成し、その後、前記金属箔をエッチングして開口部を設けることによりパターン状にする方法など、公知の方法を用いて行えばよい。
【００７３】
前記（１）の電磁波シールド層を作製するには、上記方法の他にも、透明基材上に、溶剤に対して可溶な材料によってドットを形成し、フィルム面に溶剤に対して不溶な導電材料からなる導電材料層を形成し、フィルム面を溶剤と接触させてドット及びドット上の導電材料層を除去する方法を用いても良い。このような方法は、例えば、特開２００１−３３２８８９号公報などに記載されている。
【００７４】
（２）バインダ樹脂中に導電性粒子を分散させた電磁波シールド層において、前記導電性粒子としては、例えば、アルミニウム、ニッケル、インジウム、クロム、金、バナジウム、スズ、カドミウム、銀、プラチナ、銅、チタン、コバルト、鉛等の金属、合金；或いはＩＴＯ、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化インジウム−酸化スズ（ＩＴＯ、いわゆるインジウムドープ酸化スズ）、酸化スズ−酸化アンチモン（ＡＴＯ、いわゆるアンチモンドープ酸化スズ）、酸化亜鉛−酸化アルミニウム（ＺＡＯ；いわゆるアルミニウムドープ酸化亜鉛）等の導電性酸化物等を挙げることができる。特に、ＩＴＯが好ましい。
【００７５】
バインダ樹脂の例としては、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、マレイン酸樹脂、メラミン樹脂、ユリア樹脂、ポリイミド樹脂、含ケイ素樹脂等を挙げることができる。さらに、これらの樹脂のうち熱硬化性樹脂であることが好ましい。
【００７６】
（２）の電磁波シールド層を作製するには、導電性粒子をバインダ樹脂に分散させた導電性インクを透明基材上にパターン状に印刷する方法を用いることができる。前記導電性インクは導電性粒子及びバインダ樹脂の他に、適度な粘度に調整するため、さらに溶剤を含んでいてもよい。導電性インクを透明基材上にパターン状に印刷するには、グラビア印刷、フレキソ印刷、グラビアオフセット印刷、スクリーン印刷、インクジェット印刷、静電印刷など公知の方法を用いて行えばよい。その後、必要に応じ室温〜１２０℃で乾燥させて硬化させる。
【００７７】
電磁波シールド層としては、防眩性及び導電性に優れることから、上述したもののうち（１）の電磁波シールド層を用いるのが好ましい。
【００７８】
電磁波シールド層が有するパターン形状は、ストライプ状、メッシュ状であるのが好ましい。これらのパターンを有する電磁波シールド層は、パターン形成部分により導電性を確保でき、開口部によって光の透過を確保できるため好ましい。
【００７９】
電磁波シールド層におけるメッシュパターンの形状には特に制限はなく、例えば四角形の開口部が形成された格子状や、円形、六角形、三角形又は楕円形の開口部が形成されたパンチングメタル状などが挙げられる。また、開口部は規則的に並んだものに限らず、ランダムパターンとしても良い。
【００８０】
メッシュ状の電磁波シールド層の線幅は、一般に５０μｍ以下、好ましくは５〜４５μｍ、特に５〜３０μｍである。線のピッチは２００μｍ以下が好ましい。また、開口率は５０〜９５％であることが好ましく、特に５５〜８０％である。なお、開口率とはメッシュの線幅と１インチ幅に存在する線の数から計算で求めたものである。
【００８１】
電磁波シールド層をさらに低い抵抗値にして、電磁波シールド効果を向上させたい場合は、電磁波シールド層上に金属メッキ層を形成することが好ましい。
【００８２】
金属メッキ層は、公知の電解メッキ法、無電解メッキ法により形成することができる。メッキに使用される金属としては、一般に銅、銅合金、ニッケル、銀、金、亜鉛又はスズ等を使用することが可能であり、これらは単独で使用しても、２種以上の合金として使用しても良い。金属メッキ層の厚さは、０．０１〜５μｍとするのが好ましい。
【００８３】
また、電磁波シールド層に防眩性能を付与しても良い。この防眩化処理は、電磁波シールド層の表面に黒化処理を行って、黒化層を設けることにより行っても良い。例えば、硫化処理、酸化処理、クロム合金等の黒色メッキ等により行うことができる。
【００８４】
電磁波シールド層上に黒化層が形成されていた場合、本発明の第１の方法では、電磁波シールド層上に形成された機能性層とともに、電気抵抗が比較的高い黒化層も切削除去することもできる。これにより、電気的導通に優れるアース用電極部を形成することができる。したがって、本発明の第１の方法では、電磁波シールド層上に黒化層が形成されているのが好ましく、切削により黒化層も除去するのが好ましい。
【００８５】
（第２の機能性層）
本発明の第１の方法では、上述の通り、機能性層を切削除去してアース用電極部を形成するが、前記透明基材の電磁波シールド層を形成した面とは反対側の面上に、さらに第２の機能性層を形成する工程を実施してもよい。
【００８６】
第２の機能性層は、透明基材の電磁波シールド層が形成された面とは反対側の面に形成され、何らかの機能を示す合成樹脂を含む層であればどのようなものでも良い。第２の機能性層としては、一般に、近赤外線吸収層又は透明粘着剤層、或いはこれらの組合せである。第２の機能性層として具体的には、（１）近赤外線吸収層のみからなるもの、（２）透明粘着剤層からなるもの、又は（３）近赤外線吸収層及び透明粘着剤層からなるもの（この順で透明基材上に設けられている）からなることが好ましい。
【００８７】
第２の機能性層として用いられる近赤外線吸収層（即ち、近赤外線遮蔽層）は、一般に、透明基材の表面に色素等を含む層を形成することにより得られる。近赤外線吸収層は、例えば色素及びバインダとして紫外線硬化性又は電子線硬化性の合成樹脂を含む塗工液を塗工、必要により乾燥、そして硬化させることにより得られる。
【００８８】
色素としては、一般に８００〜１２００ｎｍの波長に吸収極大を有するもので、例としては、フタロシアニン系色素、金属錯体系色素、ニッケルジチオレン錯体系色素、シアニン系色素、スクアリリウム系色素、ポリメチン系色素、アゾメチン系色素、アゾ系色素、ポリアゾ系色素、ジイモニウム系色素、アミニウム系色素、アントラキノン系色素、を挙げることができ、特にシアニン系色素又はスクアリリウム系色素が好ましい。これらの色素は、単独又は組み合わせて使用することができる。
【００８９】
バインダとしての合成樹脂の例としては、アクリル樹脂、フッ素樹脂、ポリエステル樹脂、塩化ビニル樹脂、スチレン樹脂、およびノルボルネン樹脂などが好ましく用いられる。これらは、１種単独で用いられてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。
【００９０】
本発明では、近赤外線吸収層に、ネオン発光の吸収機能を付与することにより色調の調節機能を持たせても良い。したがって、近赤外線吸収層形成用塗工液にネオン発光の選択吸収色素を含有させても良い。また、光学特性に大きな影響を与えない限り、近赤外線吸収層形成用塗工液に、さらに着色用の色素、紫外線吸収剤、酸化防止剤、色調補正用色素等を加えても良い。
【００９１】
近赤外線吸収層の厚さは、特に制限はないが、近赤外線の吸収性及び可視光透過性の点で、０．５〜５０μｍ程度が好ましい。
【００９２】
透明粘着剤層は、本発明のディスプレイ用光学フィルタをディスプレイに接着するための層であり、接着機能を有するものであればどのような樹脂でも使用することができる。
【００９３】
透明粘着剤層における接着機能を有する樹脂としては、例えば、エチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）、エチレン−アクリル酸メチル共重合体、アクリル樹脂（例、エチレン−（メタ）アクリル酸共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸エチル共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸メチル共重合体、金属イオン架橋エチレン−（メタ）アクリル酸共重合体）、部分鹸化エチレン−酢酸ビニル共重合体、カルボキシル化エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−（メタ）アクリル−無水マレイン酸共重合体、エチレン−酢酸ビニル−（メタ）アクリレート共重合体等のエチレン系共重合体を挙げることができる（なお、「（メタ）アクリル」は「アクリル又はメタクリル」を示す。）。その他、ポリビニルブチラール（ＰＶＢ）樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、シリコン樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、ゴム系粘着剤、ＳＥＢＳ（スチレン／エチレン／ブチレン／スチレン）及びＳＢＳ（スチレン／ブタジエン／スチレン）等の熱可塑性エラストマー等も用いることができるが、良好な接着性が得られやすいのはアクリル樹脂系粘着剤、エポキシ樹脂である。ＥＶＡなどを使用する場合、透明粘着剤層はさらに架橋剤を含んでいてもよい。
【００９４】
透明粘着剤層の厚さは、一般に１０〜５０μｍ、好ましくは、２０〜３０μｍの範囲が好ましい。ディスプレイ用光学フィルタは、一般に上記粘着剤層をディスプレイのガラス板に加熱圧着することによる装備することができる。
【００９５】
有機過酸化物は通常ＥＶＡに対し押出機、ロールミル等で混練されるが、有機溶媒、可塑剤、ビニルモノマー等に溶解し、ＥＶＡのフィルムに含浸法により添加しても良い。透明粘着剤層は、例えばＥＶＡと上述の添加剤とを混合し、押出機、ロール等で混練した後、カレンダー、ロール、Ｔダイ押出、インフレーション等の成膜法により所定の形状にシート成形することにより製造される。
【００９６】
透明粘着剤層上には、ポリカーボネート、ポリメチルメタアクリレート、ポリビニルクロライド、ポリスチレン、ポリエチレンテレフタレートなどからなる剥離シートをさらに設けるのが好ましい。
【００９７】
（第２の方法）
上述した第１の方法では、透明基材の一方の面上に電磁波シールド層及び機能性層を形成したが、各層が形成される位置はこれに限定されない。例えば、透明基材の一方の面全体上に電磁波シールド層を形成し、透明基材の他方の面全体上に機能性層が形成されていてもよい。そして、機能性層及び透明基材を部分的に除去することにより、透明基材の他方の面において電磁波シールド層の一部を露出させてアース用電極部を形成することもできる。
【００９８】
すなわち、本発明の第２の方法は、透明基材、前記透明基材の一方の面全体に設けられたパターン状の電磁波シールド層、及び前記透明基材の他方の面全体に形成された機能性層を含む積層体を使用する。機能性層は、合成樹脂を含む何らかの機能を示す層であればどのようなものでも良い。本発明の方法では、ハードコート層が好ましく用いられる。前記積層体の機能性層及び透明基材の周縁部の少なくとも一部を、超音波振動が付与された切削バイトで切削することにより、前記透明基材の他方の面において電磁波シールド層の一部を露出させてアース用電極部を形成する。このように切削バイトに超音波発生装置などにより超音波振動を印加して微振動させることで、機能性層及び透明基材の切削部を局所的に溶解させるとともに切削を行う。これにより、他の部位に切削による損傷を与えることなく、機能性層及び透明基材の所望する部位を高い寸法精度で容易に切削することができる。
【００９９】
本発明の第２の方法においても、上述した第１の方法と同様にして、機能性層及び透明基材の一部を切削バイトにより切削する。
【０１００】
切削バイトとしては、ヘールバイトを用いるのが好ましい。これにより、切削反力を弾性的に吸収することができ、透明基材及び機能性層の所望する部位を均一な厚さで切削することができる。切削バイトに用いられる材料は、第１の方法において上述したのと同様である。
【０１０１】
切削バイトのすくい角は、０〜３０度、特に０〜１０度とするのが好ましい。また、切削バイトの逃げ角は、５〜２０度、特に１０〜１５度とするのが好ましい。これにより、切削バイトの切削性を向上させ、透明基材及び合成樹脂からなる機能性層を切削除去することができる。
【０１０２】
切削バイトの移動速度は、０．５〜１０ｃｍ／秒、特に１〜５ｃｍ／秒とするのが好ましい。
【０１０３】
機能性層を切削する際に、切削バイトに超音波振動を付与するには、第１の方法において上述したのと同様にして超音波発生装置を用いて行うことができる。
【０１０４】
切削バイトに付与する超音波の振動方向は、切削バイトの中心軸方向であるのが好ましい。このように、切削バイト縦振動させることにより、機能性層及び透明基材を局所的に軟化させることができ、切削性を向上させることができる。
【０１０５】
超音波振動による切削バイトの振幅は、５〜３０μｍ、特に１０〜２０μｍとするのが好ましい。また、振動数は、１０〜１００ｋＨｚ、特に２０〜３５ｋＨｚとするのが好ましい。
【０１０６】
切削深さが最も深い値（ＤH）と、切削深さが最も浅い値（ＤL）との差（ＤH−ＤL）は、１μｍ以内、特に０．５μｍ以内とするのが好ましい。これにより、切削深さのばらつきがなく、均一な厚さで電磁波シールド層を露出させることができる。
【０１０７】
機能性層の表面からの切削深さは、５．０〜６．０μｍ、特に５．６〜５．９μｍとするのが好ましい。また、電磁波シールド層を十分に露出させるために、切削を複数回行ってもよい。
【０１０８】
このような切削深さの制御は、予め機能性層の表面粗さを測定し、得られた測定データに従って切削バイトを移動させて切削深さが一定となるように制御することにより行うのが好ましい。具体的には、第１の方法において上述したのと同様に、切削バイトを移動させる方向において切削部の直前に配置した変位計により得られた検出信号により、機能性層表面の凹凸形状に応じて切削バイトを機能性層表面に対して垂直方向に移動させることにより切削深さを一定に制御することができる。
【０１０９】
本発明の方法では、透明基材及び機能性層の切削部を冷却しながら、切削を行うのが好ましい。これらの層は切削により局所的に高温となり、場合によっては溶融している。したがって、冷却しながら切削を行うことにより、他の部位に損傷を与えることなく、優れた精度で切削を行うことができる。
【０１１０】
冷却手段としては、液体窒素、水、圧縮空気などの冷媒を噴射する手段などが用いられる。これにより、冷却とともに切削カスや粉塵の除去を行うことができる。冷媒は、液体窒素を用いるのが特に好ましい。液体窒素を噴射することにより、透明基材及び機能性層の切削部を−２０〜−４００℃、特に−４０〜−２００℃とするのが好ましい。
【０１１１】
透明基材及び機能性層を上述の通りにして切削する部位は、露出させた電磁波シールド層がディスプレイに装着しやすく接地しやすいアース用電極部を形成するように決定すればよく、透明基材及び機能性層の周縁部の少なくとも一部とするのが好ましい。
【０１１２】
本発明の第２の方法では、図４などに示すように、透明基材及び機能性層をこれらの周縁部において間欠的に切削することにより、電磁波シールド層を部分的に露出させて、アース用電極部を形成するのが好ましい。
【０１１３】
間欠的に形成される切削部の平面視形状は、円形、矩形状など、いかなる形状であってもよい。例えば、切削部の形状が円形であった場合、切削部の直径は、０．１〜１５ｍｍ、特に１〜５ｍｍとするのが好ましい。また、切削部の形状が正方形であった場合、貫通孔の一辺の長さは、０．１〜１０ｍｍ、特に１〜５ｍｍとするのが好ましい。
【０１１４】
間欠的に形成される切削部の間隔（図４におけるＬ2）は、１〜２０ｍｍ、特に５〜１５ｍｍとするのが好ましい。これにより、電磁波シールド層を十分に露出させることができ、電気的導通に優れるアース用電極部が得られる。
【０１１５】
また、透明基材及び機能性層を削除する部位は、上述したものの他にも、図３に示すように、透明基材及び機能性層をその周縁部において額縁状に切削して、電磁波シールド層を露出させることによりアース用電極部を形成してもよい。
【０１１６】
透明基材及び機能性層を帯状に切削して電磁波シールド層を露出させる幅は、１〜１００ｍｍ、特に２〜５０ｍｍとするのが好ましい。
【０１１７】
本発明の第２の方法により得られるディスプレイ用光学フィルタの断面図を図６に示す。図６に示す断面図は、図４に示すディスプレイ用光学フィルタの上面図の線ＢＢ’間における断面図を示す。なお、図６では、本発明の方法により得られるディスプレイ用光学フィルタの好ましい一実施形態を示しているが、本発明のディスプレイ用光学フィルタが図６に示す構成に限定されない。
【０１１８】
本発明のディスプレイ用光学フィルタは、図６に示すように、矩形状の透明基材１２０の一方の面全体上に電磁波シールド層１２０を有し、透明基材１２０の他方の面全体上に機能性層１３０を有し、透明基材１１０及び機能性層１３０の周縁部の少なくとも一部が切削除去され、透明基材１１０の他方の面側において電磁波シールド層１２０の一部が露出することによりアース用電極部１２０’が形成されている。
【０１１９】
なお、電磁波シールド層は透明基材上に所定のパターン状で連続的に形成されるため、透明基材及び機能性層が切削除去されてもディスプレイ用光学フィルタから脱落せずに形状を保持することができる。
【０１２０】
本発明の第２の方法により得られるディスプレイ用光学フィルタを、ディスプレイに適用する場合、機能性層が視聴者側となるように配置するのが好ましい。また、本発明の第２の方法に使用されるディスプレイ用光学フィルタの各材料については、第１の方法において上述したのと同様である。
【０１２１】
本発明の第２の方法では、電磁波シールド層上にさらに第２の機能性層を形成する工程を実施してもよい。なお、第２の機能性層を形成する工程につては、第１の方法において上述したのと同様に実施することができる。
【０１２２】
上述した本発明の第１及び第２の方法により製造されるディスプレイ用光学フィルタは、特に制限されないが、ディスプレイの画像表示ガラス板の表面に透明粘着層を介して貼合する等の手段を用いて、ディスプレイに適用できる。このようなディスプレイとしては、表面電界型ディスプレイ（ＳＥＤ）を含む電界放出型ディスプレイ（ＦＥＤ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、ＥＬディスプレイ等のフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）、及びＣＲＴディスプレイなどが挙げられる。
【０１２３】
ディスプレイ用光学フィルタをディスプレイ本体に接地するには、例えば、導電性粘着テープを用いて行うことができる。導電性粘着テープの一方の端部を電磁波シールド層のアース電極部の少なくとも一部、好ましくは全領域を覆うようにして接着させ、導電性粘着テープの他方の端部を光学フィルタの裏面に接着させるのが好ましい。これにより、電子ディスプレイ本体への接地を確実に行うことができる。
【０１２４】
導電性粘着テープは、金属箔の一方の面に、導電性粒子含有接着剤の塗布層を設けたものなどが用いられる。導電材料含有接着剤は、導電性粒子を接着剤、及び適宜有機溶剤中に分散させたものである。
【０１２５】
導電性粒子としては、電磁波シールド層において上述したものと同じものが用いられる。また、接着剤としては、ブチルアクリレート等から形成されたアクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、ＳＥＢＳ（スチレン／エチレン／ブチレン／スチレン）及びＳＢＳ（スチレン／ブタジエン／スチレン）等の熱可塑性エラストマー（ＴＰＥ）を主成分とするＴＰＥ系粘着剤及び接着剤等も用いることができる。
【０１２６】
導電性粘着テープの基材となる金属箔としては、銅、銀、ニッケル、アルミニウム、ステンレス等の箔を用いることができ、その厚さは通常の場合、１〜１００μｍ程度とされる。
【０１２７】
導電性材料含有接着剤層は、この金属箔に、前記導電性粒子、接着剤、及び適宜有機溶剤を所定の割合で均一に混合した導電性材料含有接着剤をロールコーター、ダイコーター、ナイフコーター、マイカバーコーター、フローコーター、スプレーコーター等により塗工することにより容易に形成することができる。導電性粒子含有接着剤層の厚さは通常の場合５〜１００μｍ程度とされる。
【０１２８】
ディスプレイ用光学フィルタをディスプレイ本体に接地するには、上述した導電性粘着テープを使用せずに、ディスプレイパネルの周囲に設けられた金属カバーを直接接触させて行うこともできる。また、ディスプレイパネルの周囲に設けられた金属カバーとアース用電極部との間に導電性ガスケットやシールドフィンガー（板バネ状金属部品）などを介在させることにより、金属カバーとアース用電極部とを確実に電気的接触させることもできる。
【実施例】
【０１２９】
以下、本発明を実施例により説明する。本発明は、以下の実施例により制限されるものではない。
【０１３０】
（実施例１）
１．メッシュ状の電磁波シールド層の形成
ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（厚さ１００μｍ、寸法６００ｍｍ×４００ｍｍ）の表面上に、ポリビニルアルコールの２０％水溶液をドット状に印刷した。ドット１個の大きさは１辺が２３４μｍの正方形状であり、ドット同士間の間隔は２０μｍであり、ドット配列は正方格子状である。印刷厚さは、乾燥後で５μｍである。
【０１３１】
その上に、銅を平均膜厚４μｍとなるように真空蒸着した。次いで、常温の水に浸漬し、スポンジで擦ることによりドット部分を溶解除去し、次いで水でリンスした後、乾燥してポリエチレンフィルムの全面にメッシュ状の電磁波シールド層を形成した。
【０１３２】
このフィルム表面の電磁波シールド層は、正確にドットのネガパターンに対応した正方格子状のものであり、平均厚さは４μｍ、平均線幅は２０μｍ、平均ピッチは２５４μｍ、開口率は７７％であった。
【０１３３】
２．ハードコート層の形成
樹脂成分としてペンタエリスリトールトリアクリレート１００質量部に対して、重合開始剤（イルガキュア（登録商標）１８４（チバスペシャリティケミカル社製））５質量部を添加し、固形分Ａを得た。一方、２−プロパノールとシクロヘキサノンとを質量比７：３で混合することにより溶剤Ａを得た。固形分Ａと溶剤Ａとを質量比２：８で混合し、さらにシリコーンオイル（ＫＦ９６−２００ＣＳ  信越シリコーン）を０．０２質量％添加し、室温で１時間撹拌することにより、ハードコート層形成用塗工液を調製した。
【０１３４】
次に、ハードコート層形成用塗工液をＰＥＴフィルム表面上に形成された電磁波シールド層上にバーコータにより塗布し、紫外線照射により硬化させることにより、ハードコート層（厚さ１０μｍ）を形成した。
【０１３５】
３．アース用電極部の形成
ハードコート層１３０の周縁部全体を、図１に示すように、切削バイト１４０を用いて切削除去した。切削バイト１４０先端の形状は、すくい角を８度とし、逃げ角を１５度とした。切削バイト１４０の移動速度は２．５ｃｍ／秒とした。超音波発生装置１６０としてピエゾ素子を用いて、ハードコート層１３０表面に対して垂直方向に振動するように切削バイト１４０に超音波振動を付与した。超音波振動の振幅は１５μｍとし、振動数は３５ｋＨｚとした。また、ＰＥＴフィルムの裏面からのハードコート層１３０の表面の距離を測定するレーザー変位計１７０を切削部の直前に配置して、ハードコート層表面からの切削深さが５．９μｍ以内となるように制御しながら切削を行った。さらに、液体窒素を噴射することにより、ハードコート層の切削部を−７５℃に冷却しながら切削を行った。
【０１３６】
これにより、図２に示すように、ハードコート層１３０の全周囲に、電磁波シールド層が幅（Ｌ1）４ｍｍで露出することによりアース用電極部１２０’が形成されているディスプレイ用光学フィルタを得た。
【０１３７】
（評価）
光学フィルタのアース用電極部（相対する２個の電極部）に抵抗計（ミリオームハイテスタ；日置電機（株）製）を接続して、抵抗値を測定した。実施例１で得られ光学フィルタの抵抗値は２２０ｍΩであった。
【０１３８】
また、実施例１で得られた光学フィルタは、実際にＰＤＰに貼付しても透明性、電磁波遮蔽性等において、従来のものと遜色はなく、ＰＤＰへの貼付も極めて容易に行うことができた。
【図面の簡単な説明】
【０１３９】
【図１】機能性層の一部を切削バイトにより切削する工程の要部の説明図である。
【図２】アース用電極部として電磁波シールド層を露出させる部位のパターンの一例を示す図である。
【図３】アース用電極部として電磁波シールド層を露出させる部位のパターンの一例を示す図である。
【図４】アース用電極部として電磁波シールド層を露出させる部位のパターンの一例を示す図である。
【図５】本発明の第１の方法により得られたディスプレイ用光学フィルタの断面図を示す。
【図６】本発明の第２の方法により得られたディスプレイ用光学フィルタの断面図を示す。
【符号の説明】
【０１４０】
１１０    透明基材、
１２０    電磁波シールド層、
１２０’  アース用電極部、
１３０    機能性層、
１４０    切削バイト、
１５０    保持部、
１６０    超音波発生装置、
１７０    変位計。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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