【手続補正書】
【提出日】平成17年6月23日(2005.6.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定のパターンを有する被測定基板を照明する照明系と、
前記被測定基板からの光を集光して前記パターン像を形成する結像光学系と、
前記パターン像を光電的に検出する光電検出部と、
前記光電検出部からの出力に基づいて前記パターンの位置を検出する位置検出系と、
前記光電検出部の検出視野内での前記パターン像の位置に依存して生ずる位置ずれ情報を記憶する記憶系と、
前記位置ずれ情報に基づいて、前記パターンの位置情報を補正する補正系とを有することを特徴とする位置検出装置。
【請求項２】
所定のパターンを有する被測定基板を照明する照明系と、
前記被測定基板からの光を集光して前記パターン像を形成する結像光学系と、
前記パターン像を光電的に検出する光電検出部と、
前記光電検出部からの検出信号に基づいて前記パターンの位置を算出する演算処理系とを有する位置検出装置において、
前記光電検出部の検出視野内での前記パターン像の位置に依存して生ずる位置ずれ誤差の情報を記憶する記憶系を配置し、前記演算処理系は、前記位置ずれ誤差の情報に基づいて、前記光電検出部からの検出信号を補正することを特徴とする位置検出装置。
【請求項３】
前記位置ずれ情報は、前記結像光学系の収差、前記結像光学系の製造誤差または前記光電検出部の電気的特性による位置ずれ誤差を含むことを特徴とする請求項１または請求項２に記載の位置検出装置。
【請求項４】
請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の位置検出装置と、
前記被測定基板としての感光性基板を載置するステージと、
マスク上に形成されたパタ−ンを前記感光性基板に投影する投影光学系と、
前記マスクを照明する照明装置とを備えたことを特徴とする露光装置。
【請求項５】
請求項４に記載の露光装置を用いた露光方法において、
前記マスクのパターンを前記照明装置によって照明する照明工程と、
前記投影光学系によって前記マスクのパターン像を前記感光性基板に投影する投影工程とを含むことを特徴とする露光方法。
【請求項６】
第１物体に形成された所定の第１パターンの像を結像光学系を介して光電的に検出し、該光電検出された前記第１パターンの像の情報に基づいて、検出視野内での前記パターン像の位置に依存して生ずる前記第１パターンの位置ずれを計測する第１計測工程と、
第２物体に形成された所定の第２パターンの像を結像光学系を介して光電検出し、該光電検出された前記第２パターンの像の情報に基づいて前記第２パターンの位置を求める第２計測工程と、
前記第１計測工程にて計測された前記第１パターンの位置ずれ情報に基づいて、前記第２計測工程にて計測された前記第２パターンの位置情報を補正する補正工程とを有することを特徴とする位置検出方法。
【請求項７】
前記第１物体は前記第１パターンとして補正用のパターンが形成された補正用基板であり、
前記第２物体は前記第２パターンとして少なくとも２つの検出用マークが形成された検出用基板であり、
前記補正工程は、前記第１計測工程にて計測された前記第１パターンの位置ずれ情報に基づいて、前記検出用基板に形成された少なくとも２つのマークの相対位置を補正することを特徴とする請求項６記載の位置検出方法。
【請求項８】
前記第１物体及び第２物体は所定の検出用パターンが形成された同一の検出用基板であり、
前記検出用基板の検出用パターンは、前記第１計測工程において前記第１パターンとして用いられると共に、前記第２計測工程において前記第２パターンとして用いられることを特徴とする請求項７に記載の位置検出方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、請求項１記載の発明では、所定のパターンを有する被測定基板を照明する照明系と、前記被測定基板からの光を集光して前記パターン像を形成する結像光学系と、前記パターン像を光電的に検出する光電検出部と、前記光電検出部からの出力に基づいて前記パターンの位置を検出する位置検出系と、前記光電検出部の検出視野内での前記パターン像の位置に依存して生ずる位置ずれ情報を記憶する記憶系と、前記位置ずれ情報に基づいて、前記パターンの位置情報を補正する補正系とを有することを特徴とする位置検出装置を提供する。
また、請求項２記載の発明では、所定のパターンを有する被測定基板を照明する照明系と、前記被測定基板からの光を集光して前記パターン像を形成する結像光学系と、前記パターン像を光電的に検出する光電検出部と、前記光電検出部からの検出信号に基づいて前記パターンの位置を算出する演算処理系とを有する位置検出装置において、前記光電検出部の検出視野内での前記パターン像の位置に依存して生ずる位置ずれ誤差の情報を記憶する記憶系を配置し、前記演算処理系は、前記位置ずれ誤差の情報に基づいて、前記光電検出部からの検出信号を補正することを特徴とする位置検出装置を提供する。
また、請求項３記載の発明では、前記位置ずれ情報は、前記結像光学系の収差、前記結像光学系の製造誤差または前記光電検出部の電気的特性による位置ずれ誤差を含むことを特徴とする位置検出装置を提供する。
また、請求項４記載の発明では、請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の位置検出装置と、前記被測定基板としての感光性基板を載置するステージと、マスク上に形成されたパタ−ンを前記感光性基板に投影する投影光学系と、前記マスクを照明する照明装置とを備えたことを特徴とする露光装置を提供する。
また、請求項５記載の発明では、請求項４に記載の露光装置を用いた露光方法において、前記マスクのパターンを前記照明装置によって照明する照明工程と、前記投影光学系によって前記マスクのパターン像を前記感光性基板に投影する投影工程とを含むことを特徴とする露光方法を提供する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
また、請求項６記載の発明では、第１物体に形成された所定の第１パターンの像を結像光学系を介して光電的に検出し、該光電検出された前記第１パターンの像の情報に基づいて、検出視野内での前記パターン像の位置に依存して生ずる前記第１パターンの位置ずれを計測する第１計測工程と、第２物体に形成された所定の第２パターンの像を結像光学系を介して光電検出し、該光電検出された前記第２パターンの像の情報に基づいて前記第２パターンの位置を求める第２計測工程と、前記第１計測工程にて計測された前記第１パターンの位置ずれ情報に基づいて、前記第２計測工程にて計測された前記第２パターンの位置情報を補正する補正工程とを有することを特徴とする位置検出方法を提供する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
また、請求項７記載の発明では、前記第１物体は前記第１パターンとして補正用のパターンが形成された補正用基板であり、前記第２物体は前記第２パターンとして少なくとも２つの検出用マークが形成された検出用基板であり、前記補正工程は、前記第１計測工程にて計測された前記第１パターンの位置ずれ情報に基づいて、前記検出用基板に形成された少なくとも２つのマークの相対位置を補正することを特徴とする位置検出方法を提供する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
また、請求項８記載の発明では、前記第１物体及び第２物体は所定の検出用パターンが形成された同一の位置検出用基板であり、前記検出用基板の検出用パターンは、前記第１計測工程において前記第１パターンとして用いられると共に、前記第２計測工程において前記第２パターンとして用いられることを特徴とする位置検出方法を提供する。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５２】
また、本発明は、上記実施形態に限られず、以下の（１）から（３）記載の構成とすることもできる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５７】
また、請求項６記載の発明では、パターン像を測定することで位置ずれ情報を算出している。したがって、結像光学系の収差や製造誤差等に起因する位置ずれ情報を求めることができるので、パターン位置を正確に求めることができる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５８】
また、請求項７記載の発明では、補正用パターン像を測定することで位置ずれ情報を算出し、データ補正に用いているので、複数の位置検出用マーク相互間の相対的位置を正確に検出できる。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５９】
また、請求項８記載の発明では、位置ずれ情報を求める為のパターンと測定対象であるパターンとが同一のものを用いている。したがって、正確にパターン位置を検出できる。