【手続補正書】
【提出日】令和3年4月14日(2021.4.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
マルチブロックポリマー構造物は、アイソポーラス構造物形成の前又は後に、フッ素化モノマーの直接重合及び／又は重合後の化学官能化により、フッ素原子を包含する。適当なフッ素化モノマー／ブロック物質としては、オクタフルオロプロパン（ペルフルオロプロパン）、デカフルオロブタン（ペルフルオロブタン）、ドデカフルオロペンタン（ペルフルオロペンタン）、テトラデカフルオロヘキサン（ペルフルオロヘキサン）、ドデカフルオロシクロヘキサン（ペルフルオロシクロヘキサン）等のペルフルオロ化Ｃ３−Ｃ６直鎖状化合物、ペルフルオロ化Ｃ３−Ｃ６環状化合物、フッ素化化合物があげられるが、これらに限定されず；フッ素化Ｃ６−Ｃ９芳香族化合物；２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７−ドデカフルオロへプチルアクリレート、３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１０，１１，１１，１２，１２，１２―へネイコサフルオロドデシルアクリレート、３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１０，１０−ヘプタデカフルオロデシルメタクリレート、２，２，３，３，４，４，４−ヘプタフルオロブチルアクリレート、２，２，３，３，４，４，４−ヘプタフルオロブチルメタクリレート、２，２，３，４，４，４−ヘキサフルオロブチルアクリレート、２，２，３，４，４，４−ヘキサフルオロブチルメタクリレート、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロイソプロピルアクリレート、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロイソプロピルメタクリレート、２，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロペンチルアクリレート、２，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロペンチルメタクリレート、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピルアクリレート、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピルメタクリレート、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−ぺルフルオロデシルアクリレート、２，２，３，３−テトラフルオロプロピルメタクリレート、３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８−トリデカフルオロオクチルアクリレート、３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８−トリデカフルオロオクチルメタクリレート、２，２，２−トリフルオロエチルメタクリレート，１，１，１−トリフルオロ−２−（トリフルオロメチル）−２−ヒドロキシ−４−メチル−５−ペンチルメタクリレート、２−[（１‘，１‘，１‘，−トリフルオロ−２’（トリフルオロメチル）−２‘−ヒドロキシ）プロピル]−３−ノルボミルメタクリレート等のフッ素化アクリル類があげられるがこれらに限定されず；２−フルオロスチレン、３−フルオロスチレン、４−フルオロスチレン、２，３，４，５，６−ペンタフルオロスチレン等のフルオロスチレンがあげられるがこれらに限定されず；エピフルオロヒドリン、グリシジル２，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロペンチルエーテル、グリシジル２，２，３、３−テトラフルオロプロピルエーテル、ペルフルオロヘキシルエチレン、３，３，４，４，５，５，６，６，６−ノナフルオロ−１−ヘキセン、３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０、１０、１０−ヘプタデカフルオロ−１−デセン、及び（２，２，���，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，９−ヘプタデカフルオロノニル）オキシラン等の他のフッ素含有ポリマーがあげられるがこれらに限定されない。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも２つの異なるポリマーブロックを含む、アイソポーラスマルチブロックフッ素化ポリマー材料であって、ここで、少なくとも１つの前記ポリマーブロックの少なくとも部分はフッ素化され、かつ、少なくとも１つの前記ポリマーブロックは、マクロ細孔、メソ細孔、又はミクロ細孔の少なくとも１つを含有する、アイソポーラスマルチブロックフッ素化ポリマー材料。
【請求項２】
前記材料は、２ブロック共重合体を含む、請求項１に記載の材料。
【請求項３】
前記材料は、非対称又は対称である、請求項１に記載の材料。
【請求項４】
さらに、単一の構造物内に、マクロ細孔ドメイン構造物及びメソ細孔壁構造物を含む、請求項１に記載の材料。
【請求項５】
さらに、連続マクロ細孔ドメインを含む、請求項１に記載の材料。
【請求項６】
前記材料には、大きさが約１〜２００ｎｍのメソ細孔がある、請求項１に記載の材料。
【請求項７】
フッ素化された少なくとも１のブロックは、ポリ（スチレン）ブロック、ポリ（イソプレン）ブロック、ポリ（４−ビニルピリジン）ブロックのいずれか１つである、請求項１に記載の材料。
【請求項８】
前記フッ素化された少なくとも１のブロックは、ポリ（ペンタフルオロスチレン）ブロック、ポリ（３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８−トリデカフルオロオクチル２−メチルプロパン酸）ブロック、ポリ（１，１−ジフルオロ−２，２，３−トリメチルシクロプロパン）ブロック、ポリ（４−エチルー１−（３，３，４，４，５，５，５―へプタフルオロペンチル）ピリジンー１−イウム）ブロック、ポリ（４−フルオロスチレン）ブロック、ポリ（２−メチルブチル  ヘプタフルオロブタン酸塩）ブロック、及びポリ（３−メチルブチル  ヘプタフルオロブタン酸塩）ブロックのいずれか一つである、請求項１に記載の材料。
【請求項９】
前記フッ素化された少なくとも１のブロックは、以下の：
Ｃ３−Ｃ６の直鎖及び環状のモノマー、場合によっては、前記Ｃ３−Ｃ６の直鎖及び環状のモノマーは、オクタフルオロプロパン、デカフルオロプロパン、ドデカフルオロペンタン、テトラデカフルオロヘキサン、ドデカフルオロシクロヘキサンから選択され；
Ｃ６−Ｃ９芳香族モノマー、場合によっては、前記Ｃ６−Ｃ９芳香族モノマーは、フルオロスチレンであり；又は
アクリルモノマー、場合によっては、前記アクリルモノマーは、２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７−ドデカフルオロへプチルアクリレート、３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１０，１１，１１，１２，１２，１２―へネイコサフルオロドデシル（heneicosafluorododecyl）アクリレート、３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１０，１０−ヘプタデカフルオロデシルメタクリレート、２，２，３，３，４，４，４−ヘプタフルオロブチルアクリレート、２，２，３，３，４，４，４−ヘプタフルオロブチルメタクリレート、２，２，３，４，４，４−ヘキサフルオロブチルアクリレート、２，２，３，４，４，４−ヘキサフルオロブチルメタクリレート、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロイソプロピルアクリレート、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロイソプロピルメタクリレート、２，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロペンチルアクリレート、２，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロペンチルメタクリレート、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピルアクリレート、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピルメタクリレート、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−ぺルフルオロデシルアクリレート、２，２，３，３−テトラフルオロプロピルメタクリレート、３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８−トリデカフルオロオクチルアクリレート、３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８−トリデカフルオロオクチルメタクリレート、２，２，２−トリフルオロエチルメタクリレート，１，１，１−トリフルオロ−２−（トリフルオロメチル）−２−ヒドロキシ−４−メチル−５−ペンチルメタクリレート、及び２−[（１‘，１‘，１‘，−トリフルオロ−２’（トリフルオロメチル）−２‘−ヒドロキシ）プロピル]−３−ノルボミル（norbomyl）のいずれか１つ、又は
エピフルオロヒドリン、グリシジル２，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロペンチルエーテル、グリシジル２，２，３、３−テトラフルオロプロピルエーテル、ペルフルオロヘキシルエチレン、３，３，４，４，５，５，６，６，６−ノナフルオロ−１−ヘキセン、３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０、１０、１０−ヘプタデカフルオロ−１−デセン、及び（２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，９−ヘプタデカフルオロノニル）オキシランのいずれか一つ
を含む、請求項１に記載の材料。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれか一項に記載のアイソポーラスマルチブロックフッ素化ポリマー材料を形成する方法であって、前記方法は、以下の：
ａ）  ポリマーを少なくとも１つの化学溶媒に溶解する工程、
ｂ）  ポリマー溶液を基板若しくは金型に、又はダイ又は鋳型を介して分配する工程、
ｃ）  前記ポリマーの少なくとも部分の自己組織化において、化学溶媒の少なくとも一部を除去する工程、
ｄ）  前記工程ｃ）で一部除去された溶媒材料を非溶媒に暴露して、前記ポリマーの少なくとも部分を沈殿させる工程、及び
ｅ）  場合によっては、洗浄工程、
を含む、方法。
【請求項１１】
対象分析物を媒体から単離又は検出するプロセスであって、前記方法は以下の：
前記対象分析物を含む媒体を、請求項１〜９のいずれか一項に記載のアイソポーラスマルチブロックフッ素化ポリマー材料に接触させる工程；及び、
前記対照分析物を前記媒体から、前記アイソポーラスマルチブロックフッ素化ポリマー材料で分離する工程；
を含む、プロセス。
【請求項１２】
前記アイソポーラスマルチブロックフッ素化ポリマー材料が、分離装置又は検出装置の構成要素である、請求項１１のプロセス。
【請求項１３】
前記材料の少なくとも部分が、アイソポーラス構造を形成する前にフッ素化される、請求項１０の方法。
【請求項１４】
前記材料の少なくとも部分が、アイソポーラス構造を形成した後にフッ素化される、請求項１０の方法。
【請求項１５】
工程ａ）の前に、さらに、以下の：
フッ素化したモノマーをモノマー供給物の少なくとも部分として包含する工程；及び、
前記モノマー供給物におけるモノマーを重合させて、重合体を形成する工程；
を含む、制空港１５に記載の方法。