【手続補正書】
【提出日】平成17年4月28日(2005.4.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定雰囲気に設置された投影光学系を介して露光光によりマスクのパターンを基板上に転写する露光方法において、
前記露光光の照射熱や前記所定雰囲気の変化に伴う前記投影光学系の結像性能の変化に応じて、当該照射熱の吸収量や当該所定雰囲気の変化から予定される前記結像性能の変化した値より少ない値を補正対象値とし、当該補正対象値に基づいて当該結像性能を補正することを特徴とする露光方法。
【請求項２】
前記補正対象値は、前記結像性能の変化に設定されるしきい値であることを特徴とする請求項１記載の露光方法。
【請求項３】
前記マスクのパターンの情報から、前記結像性能の変化が前記しきい値を超えるときに前記パターンの転写を中止することを特徴とする請求項２記載の露光方法。
【請求項４】
前記補正対象値は、前記結像性能の変化した値を所定割合で小さく変換した値であることを特徴とする請求項１記載の露光方法。
【請求項５】
投影光学系を介してマスクのパターンを基板上に転写する露光方法において、
前記基板上での前記パターンの像特性とそれに対応する許容値との偏差、又は前記偏差をほぼ零とするのに必要な光学部材の第１調整量に応じて、前記偏差に対応する前記像特性の第１補正量、又は前記第１調整量を用いる第１モードと、前記第１補正量、又は前記第１調整量よりも少ない第２補正量、又は第２調整量を用いる第２モードとの一方を選択し、前記選択したモードに従って前記像特性を調整することを特徴とする露光方法。
【請求項６】
前記光学部材は、前記マスクと前記基板との間に配設される複数の光学素子、前記マスク、及び前記基板の内の２つに挟まれた気体室と、前記複数の光学素子と、前記マスクと、前記基板との少なくとも１つであることを特徴とする請求項５記載の露光方法。
【請求項７】
前記パターンの第１像特性は前記第１モードで常時調整され、前記パターンの第２像特性は前記第１及び第２モードから選択される１つのモードで調整されることを特徴とする請求項５または６記載の露光方法。
【請求項８】
前記第１像特性は、前記投影光学系の焦点、及び倍率を含み、前記第２像特性は、前記投影光学系のコマ収差、及び球面収差の少なくとも１つであることを特徴とする請求項７記載の露光方法。
【請求項９】
前記像特性は、前記投影光学系の焦点、倍率、像面湾曲、ディストーション、非点収差、コマ収差、球面収差、テレセントリシティ、及びコントラストの少なくとも１つであることを特徴とする請求項５または６記載の露光方法。
【請求項１０】
前記第２調整量は、前記光学部材の最大調整量以下に設定されることを特徴とする請求項５、６、７、８または９のいずれか一項に記載の露光方法。
【請求項１１】
所定雰囲気に設置された投影光学系を介して露光光によりマスクのパターンを基板上に転写する露光装置において、
前記露光光の照射熱や前記所定雰囲気の変化に伴う前記投影光学系の結像性能の変化に応じて、当該照射熱の吸収量や当該所定雰囲気の変化から予定される前記結像性能の変化した値より少ない値を補正対象値と設定する制御手段と、当該制御手段からの前記補正対象値に基づいて前記結像性能を補正する補正手段とを備えることを特徴とする露光装置。
【請求項１２】
所定雰囲気に設置された投影光学系を介して露光光によりマスクのパターンを基板上に転写する露光装置において、
前記投影光学系の結像性能を補正する補正手段と、
所定条件の変化に応じて、前記所定条件の変化に伴う前記結像性能の実際の変化より少ない値を補正対象値として、前記補正手段を制御する制御手段と、
を備えたことを特徴とする露光装置。
【請求項１３】
前記所定条件の変化は、前記露光光の照射による前記投影光学系の熱吸収量の変化を含む請求項１２記載の露光装置。
【請求項１４】
前記所定条件の変化は、前記雰囲気の変化を含む請求項１２または１３記載の露光装置。
【請求項１５】
前記制御手段は、前記所定条件の所定リミット値を超える変化に対して前記結像性能は変化しないものとして前記補正手段を制御する請求項１２から１４のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項１６】
前記制御手段は、前記補正手段の調整量を節約するように、前記補正対象値を設定する請求項１２から１５のいずれか一項記載の露光装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
【課題を解決するための手段】
請求項１に係る発明は、所定雰囲気に設置された投影光学系を介して露光光によりマスクのパターンを基板上に転写する露光方法において、露光光の照射熱や所定雰囲気の変化に伴う投影光学系の結像性能の変化に応じて、照射熱の吸収量や所定雰囲気の変化から予定される結像性能の変化した値より少ない値を補正対象値とし、この補正対象値に基づいて結像性能を補正する技術が採用される。
請求項２に係る発明は、請求項１の露光方法において、補正対象値が、結像性能の変化に設定されるしきい値である技術が適用される。
請求項３に係る発明は、請求項２の露光方法において、マスクのパターンの情報から、結像性能の変化がしきい値を超えるときにパターンの転写を中止する技術が適用される。
請求項４に係る発明は、請求項１の露光方法において、補正対象値が、結像性能の変化した値を所定割合で小さく変換した値である技術が適用される。
請求項５に係る発明は、投影光学系を介してマスクのパターンを基板上に転写する露光方法において、基板上でのパターンの像特性とそれに対応する許容値との偏差、又は偏差をほぼ零とするのに必要な光学部材の第１調整量に応じて、偏差に対応する像特性の第１補正量、又は第１調整量を用いる第１モードと、第１補正量、又は第１調整量よりも少ない第２補正量、又は第２調整量を用いる第２モードとの一方を選択し、選択したモードに従って像特性を調整する技術が採用される。
請求項６に係る発明は、請求項５の露光方法において、光学部材が、マスクと基板との間に配設される複数の光学素子、マスク、及び基板の内の２つに挟まれた気体室と、複数の光学素子と、マスクと、基板との少なくとも１つである技術が適用される。
請求項７に係る発明は、請求項５または６の露光方法において、パターンの第１像特性が第１モードで常時調整され、パターンの第２像特性が第１及び第２モードから選択される１つのモードで調整される技術が適用される。
請求項８に係る発明は、請求項７の露光方法において、第１像特性が、投影光学系の焦点、及び倍率を含み、第２像特性が、投影光学系のコマ収差、及び球面収差の少なくとも１つである技術が適用される。
請求項７に係る発明は、請求項５または６の露光方法において、像特性が、投影光学系の焦点、倍率、像面湾曲、ディストーション、非点収差、コマ収差、球面収差、テレセントリシティ、及びコントラストの少なくとも１つである技術が適用される。
請求項１０に係る発明は、請求項５、６、７、８または９の露光方法において、第２調整量が、光学部材の最大調整量以下に設定される技術が適用される。
請求項１１に係る発明は、所定雰囲気に設置された投影光学系を介して露光光によりマスクのパターンを基板上に転写する露光装置において、露光光の照射熱や所定雰囲気の変化に伴う投影光学系の結像性能の変化に応じて、照射熱の吸収量や所定雰囲気の変化から予定される結像性能の変化した値より少ない値を補正対象値と設定する制御手段と、制御手段からの補正対象値に基づいて結像性能を補正する補正手段とを備える技術が採用される。
また、請求項１２に係る発明は、所定雰囲気に設置された投影光学系を介して露光光によりマスクのパターンを基板上に転写する露光装置において、投影光学系の結像性能を補正する補正手段と、所定条件の変化に応じて、所定条件の変化に伴う結像性能の実際の変化より少ない値を補正対象値として、補正手段を制御する制御手段とを備える技術が採用される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図７】
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【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図８】
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