Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成17年3月7日(2005.3.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも陽極と、陰極と、前記陽極と前記陰極との間に設けられた発光層とを有する有機ＥＬ表示装置の製造方法において、
フィルム上に光−熱変換層および熱伝播層を形成し、
該熱伝播層上に、前記陰極と前記発光層とを重ねて多重層を形成し、
前記多重層を形成した前記フィルムと前記陽極を形成した基板とを貼り付けた後、レーザーを前記フィルムの裏面から光−熱変換層に照射し、前記多重層を前記フィルム上から前記基板上に転写することを特徴とする有機ＥＬ表示装置の製造方法。
【請求項２】
前記発光層は、前記陽極と前記多重層とを接着する接着層であることを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬ表示装置の製造方法。
【請求項３】
前記多重層は、前記発光層上にさらに正孔注入層を含み、
前記正孔注入層は、前記陽極と前記多重層とを接着する接着層であり、
前記発光層と前記陽極との間に前記正孔注入層が形成されることを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬ表示装置の製造方法。
【請求項４】
前記陽極は、前記基板上にストライプ状に形成されており、
前記多重層を前記フィルム上から前記基板上に転写するとともに、前記多重層は前記陽極に交わるストライプ状にパターニングされることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の有機ＥＬ表示装置の製造方法。
【請求項５】
インクジェットヘッドで異なる色に発光する発光物質をそれぞれ塗布することにより、前記発光層を前記フィルム上に形成したことを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載の有機ＥＬ表示装置の製造方法。
【請求項６】
インクジェットヘッドで前記発光物質を塗布する前に、各色領域の間にインク分離手段を施したことを特徴とする請求項５記載の有機ＥＬ表示装置の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
【課題を解決するための手段】
問題を解決するため本発明の有機ＥＬ表示装置の製造方法は、少なくとも陽極と、陰極と、前記陽極と前記陰極との間に設けられた発光層とを有する有機ＥＬ表示装置の製造方法において、フィルム上に光−熱変換層および熱伝播層を形成し、該熱伝播層上に、前記陰極と前記発光層とを重ねて多重層を形成し、前記多重層を形成した前記フィルムと前記陽極を形成した基板とを貼り付けた後、レーザーを前記フィルムの裏面から光−熱変換層に照射し、前記多重層を前記フィルム上から前記基板上に転写することを特徴とする。この構成によれば、極めて不安定でパターニングしにくい陰極をレーザーで容易に有機ＥＬ層転写と同時にパターニングできる。
また、本発明の有機ＥＬ表示装置の製造方法は、上記の製造方法において、前記発光層は、前記陽極と前記多重層とを接着する接着層であることを特徴とする。この構成によれば、接着層に発光機能を兼ねさせられるので製造工程が簡略化できる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明の有機ＥＬ表示装置の製造方法は、上記の製造方法において、前記多重層は、前記発光層上にさらに正孔注入層を含み、前記正孔注入層は、前記陽極と前記多重層とを接着する接着層であり、前記発光層と前記陽極との間に前記正孔注入層が形成されることを特徴とする。この構成によれば、簡単な構成で極めて不安定でパターニングしにくい陰極をレーザーで容易に有機ＥＬ層転写と同時にパターニングできる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
また、本発明の有機ＥＬ表示装置の製造方法は、上記の製造方法において、前記多重層は、前記発光層と前記陰極層との間に電子注入層を含んでもよい。すなわち、前記多重層を形成する工程は、陰極と、電子注入層と、発光層とをこの順で形成する工程であってもよい。また、前記多重層を形成する工程は、陰極と、電子注入層と、発光層と、正孔注入層とをこの順で形成する工程であってもよい。これにより、上記構成において発光効率を改善することができる。
また、本発明の有機ＥＬ表示装置の製造方法は、上記の製造方法において、前記陽極は、前記基板上にストライプ状に形成されており、前記多重層を前記フィルム上から前記基板上に転写するとともに、前記多重層は前記陽極に交わるストライプ状にパターニングされることを特徴とする。この構成によれば、極めて不安定でパターニングしにくい陰極をレーザーで容易に有機ＥＬ層転写と同時にパターニングできる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本発明の有機ＥＬ表示装置の製造方法は、上記の製造方法において、インクジェットヘッドで異なる色に発光する発光物質をそれぞれ塗布することにより、前記発光層を前記フィルム上に形成したことを特徴とする。この手段によれば、あらかじめ異なる色の発光層をフィルム上に容易に形成できるため、極めて容易に有機ＥＬ素子を作製することができる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
本発明の有機ＥＬ表示装置の製造方法は、上記の製造方法において、インクジェットヘッドで前記発光物質を塗布する前に、各色領域の間にインク分離手段を施したことを特徴とする。これにより、各色発光層をインクジェットヘッドで製膜するする際、隣り合う画素に染み出すことなくストライプ状に発光層を形成することができる。
また、本発明の有機ＥＬ表示装置の製造方法では、前記多重層を転写した基板に駆動手段を接続し、封止処理を施してもよい。
【手続補正書】
【提出日】平成16年12月20日(2004.12.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】照明装置及び調光装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
交流電圧で放電することにより発光する発光手段と、
前記発光手段の放電時に流れる交流電流を流すための交流電圧を発生させる交流電圧発生手段と、
前記発光手段への交流電圧の電圧値を調整する電圧調整手段と、
前記発光手段への交流電圧を一定周期で間欠的に発生するようにすると共にこの交流電圧が発生する時間幅を調整する幅調整手段と、
操作に応じて輝度を調整する制御手段であって、前記輝度を基準レベルより高くするときには、前記交流電圧を連続的に発生させるような第１の制御信号を前記幅調整手段に出力するとともに、調整する輝度に応じて前記交流電圧のレベルを増大させる第２の制御信号を前記電圧調整手段に出力し、前記輝度を基準レベルより低くするときには、前記第２の制御信号を一定とするとともに、調整する輝度に応じて交流電圧が発生する時間幅を小さくするような第１の制御信号を出力するよう制御する制御手段と
を有するようにしたことを特徴とする照明装置。
【請求項２】
放電により発光する発光装置に対して交流電圧を発生させる交流電圧発生手段と、
前記発光装置への交流電圧の電圧値を調整する電圧調整手段と、
前記発光装置への交流電圧を一定周期で間欠的に発生するようにすると共にこの交流電圧が発生する時間幅を調整する幅調整手段と、
操作に応じて輝度を調整する制御手段であって、前記輝度を基準レベルより高くするときには、前記交流電圧を連続的に発生させるような第１の制御信号を前記幅調整手段に出力するとともに、調整する輝度に応じて前記交流電圧のレベルを増大させる第２の制御信号を前記電圧調整手段に出力し、前記輝度を基準レベルより低くするときには、前記第２の制御信号を一定とするとともに、調整する輝度に応じて交流電圧が発生する時間幅を小さくするような第１の制御信号を出力するよう制御する制御手段と
を有するようにしたことを特徴とする調光装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は例えば大型の液晶ディスプレイのバックライト装置として使用して好適な照明装置及び調光装置に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
【課題を解決するための手段】
本発明は交流電圧で放電することにより発光する発光手段と、この発光手段の放電時に流れる交流電流を流すための交流電圧を発生させる交流電圧発生手段と、この発光手段への交流電圧の電圧値を調整する電圧調整手段と、この発光手段への交流電圧を一定周期で間欠的に発生するようにすると共にこの交流電圧が発生する時間幅を調整する幅調整手段と、操作に応じて輝度を調整する制御手段であって、この輝度を基準レベルより高くするときには、この交流電圧を連続的に発生させるような第１の制御信号をこの幅調整手段に出力するとともに、調整する輝度に応じてこの交流電圧のレベルを増大させる第２の制御信号をこの電圧調整手段に出力し、この輝度を基準レベルより低くするときには、この第２の制御信号を一定とするとともに、調整する輝度に応じて交流電圧が発生する時間幅を小さくするような第１の制御信号を出力するよう制御する制御手段とを有するようにしたものである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
【発明の実施の形態】
以下、図１、図２を参照して本発明、照明装置及び調光装置の実施の形態の例につき説明しよう。この図１において、図３、図５に対応する部分には同一符号を付して示す。
【手続補正６】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
1999260585.tif 000001
【手続補正７】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図３】
1999260585.tif 000002
【手続補正８】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図４】
1999260585.tif 000003
【手続補正書】
【提出日】平成17年10月27日(2005.10.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  基板（３８）上にチップを置くための装置であって、
第１シャフト（４）が第１位置（Ａ）と第２位置（Ｂ）との双方から等距離の位置に設けられたものである場合に、この第１シャフト（４）に対して一端が取り付けられた第１回転レバー（１０）と、
前記第１回転レバー（１０）の他端に対して第２シャフト（１４）を介して取り付けられた第２回転レバー（１２）であるとともに、前記第１および第２回転レバー（１０、１２）の長さの合計が、前記第１シャフト（４）から前記第１位置（Ａ）までの距離、あるいは、前記第１シャフト（４）から前記第２位置（Ｂ）までの距離、と等しいものとされているような、第２回転レバー（１２）と、
この第２回転レバー（１２）の一端に配置されたチップグリッパー（２０）と、
前記第１回転レバー（１０）が前記第１位置（Ａ）を向いている第１端部位置（Ｅａ）と、前記第１回転レバー（１０）が前記第２位置（Ｂ）を向いている第２端部位置（Ｅｂ）と、の間の角度範囲（Φ）の間にわたる各回転方向に前記第１回転レバー（１０）を交互に回転駆動させるための回転アクチュエータと、
前記第１回転レバー（１０）の回転方向とは逆方向に前記第２回転レバー（１２）を回転駆動させるための駆動機構と、
を具備し、
前記第１回転レバー（１０）の前記第１および第２端部位置（Ｅａ、Ｅｂ）においては、前記第１および第２回転レバー（１０，１２）が互いに直線状をなしていることを特徴とする装置。
【請求項２】  前記２つの回転レバー（１０，１２）は、前記基板（３８）に対して垂直な平面内において回転することを特徴とする請求項１記載の装置。
【請求項３】  前記端部位置（Ｅａ、Ｅｂ）どうしの間にわたっての、前記第１回転レバー（１０）の回転範囲（Φ）が１８０°であることを特徴とする請求項１または２記載の装置。
【請求項４】  前記第２回転レバー（１２）の他端には、ガイド部材（１９）に沿って移動可能でありかつ前記チップグリッパー（２０）を搭載したスライド体（１８）が連結されていることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の装置。
【請求項５】  前記２つの回転レバー（１０’，１２’）は、前記基板（３８）に対して平行な平面内において回転することを特徴とする請求項１記載の装置。
【請求項６】  前記端部位置（Ｅａ、Ｅｂ）どうしの間にわたっての、前記第１回転レバー（１０’）の回転範囲（Φ）が１２０°であることを特徴とする請求項５記載の装置。
【請求項７】  前記チップグリッパー（２０’）が、前記第２回転レバー（１２’）の前記他端に堅固に固定されていることを特徴とする請求項５または６記載の装置。
【請求項８】  前記端部位置（Ｅａ、Ｅｂ）に、前記第２回転レバー（１２’）のための規制手段（４４）が、前記チップグリッパー（２０）の移動方向に関して側方に設けられていることを特徴とする請求項５〜７のいずれか１項に記載の装置。
【請求項９】  前記駆動機構が、前記第１シャフト（４）上に同軸的に固定された第１歯車（５）と、前記第２シャフト（１４）上に同軸的に固定された第２歯車（７）と、これら第１および第２歯車（５、７）の間にわたって巻回されたベルト（６）と、を備えていることを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載の装置。
【請求項１０】  前記駆動機構が、前記第１シャフト（４）上に同軸的に固定された第１歯車（５）と、前記第２シャフト（１４）上に同軸的に固定された第２歯車（７）と、これら第１および第２歯車（５、７）に対して係合しつつ前記第１回転レバー（１０）上に取り付けられた中間歯車と、を備えていることを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成17年3月2日(2005.3.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）可撓性を有する有機絶縁性フィルム上に、接着剤層および保護フィルム層を有する積層体より構成され、該接着剤層がポリアミド樹脂、および少なくとも１種以上の一般式（１）で示される２核体から成るフェノール誘導体を必須成分として含むことを特徴とするＴＡＢ用接着剤付きテープ。
【化１】
1999260865.tif 000001
（Ｘは硫黄、酸素原子の少なくとも１つを含む基あるいは結合を示す。Ｙ１、Ｙ２は炭素数１〜５までの炭化水素基を示し、Ｙ１およびＹ２は同じでも異なっていてもよい。またｌは０≦ｌ≦３、ｍは０≦ｍ≦３、ｎは０≦ｎ≦１である整数を示す。但し、両ベンゼン核において、ｌが同時に０となることはない。）
【請求項２】
接着剤層がエポキシ樹脂を含有することを特徴とする請求項１記載のＴＡＢ用接着剤付きテープ。
【請求項３】
ポリアミド樹脂が炭素数３６のジカルボン酸を必須成分として含むことを特徴とする請求項１記載のＴＡＢ用接着剤付きテープ。
【請求項４】
接着剤層が少なくとも１種類以上のフェノール樹脂を含有することを特徴とする請求項１記載のＴＡＢ用接着剤付きテープ。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか記載のＴＡＢ用接着剤付きテープを用いた半導体集積回路接続用基板。
【請求項６】
請求項５記載の半導体集積回路接続用基板を用いた半導体装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
【化２】
1999260865.tif 000002
（Ｘは硫黄、酸素原子の少なくとも１つを含む基あるいは結合を示す。Ｙ１、Ｙ２は炭素数１〜５までの炭化水素基を示し、Ｙ１およびＹ２は同じでも異なっていてもよい。またｌは０≦ｌ≦３、ｍは０≦ｍ≦３、ｎは０≦ｎ≦１である整数を示す。但し、両ベンゼン核において、ｌが同時に０となることはない。）
【手続補正書】
【提出日】平成17年3月7日(2005.3.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラズマにより処理されるウェハを絶縁膜との間に発生させた静電吸着力により支持する静電吸着電極のクリーニング方法において、
前記静電吸着電極上にウェハを載置しない状況で、かつ前記絶縁膜の削れが生じないようにレジストを主成分とする反応生成物とウェハ成分を主成分とする反応生成物を異ガス種によって第１ステップのプラズマクリーニングと第２ステップのプラズマクリーニングを行い、異ガス種によって上記静電吸着電極に印加する高周波電圧を変えることを特徴とする静電吸着電極のクリーニング方法。
【請求項２】
プラズマにより処理されるウェハを絶縁膜との間に発生させた静電吸着力により支持する静電吸着電極のクリーニング方法において、
前記静電吸着電極上にウェハを載置しない状態で、かつ前記絶縁膜の削れが０．０１μｍ/ｍｉｎ以下であって、前記静電吸着電極の寿命に影響を与えない高周波電圧を該静電吸着電極に印加した状態でレジストを主成分とする反応生成物とウェハ成分を主成分とする反応生成物を異ガス種によって第１ステップのプラズマクリーニングと第２ステップのプラズマクリーニングを行い、異ガス種によって上記静電吸着電極に印加する高周波電圧を変えることを特徴とする静電吸着電極のクリーニング方法。
【請求項３】
請求項１または２において、ウェハ成分を主成分とする反応生成物を、上記静電吸着電極に２００Ｖ以下の電圧を印加することによってクリーニングすることを特徴とする静電吸着電極のクリーニング方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年11月7日(2005.11.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ウエハを用意し；
ウエハの少なくとも１つの主面上にパッドスタックを形成し；
ウエハの主面の一次チップ領域を保護するためにパッドスタックをパターニングするが、一方ビード領域を保護せずに残し；かつ
パッドスタックによって保護されないウエハの領域に誘電体層を形成し、誘電体層が、ブラックシリコンの形成を減少するために後続のエッチングプロセスの間に追加的な保護を提供する
ことを特徴とする、ブラックシリコンの形成を減少する方法を含む半導体装置の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年2月23日(2005.2.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも２つの真空容器を相互に接続するアダプタを備えた処理装置であって，前記アダプタは，被処理体を前記各真空容器間で搬送する搬送路と，一の前記真空容器から他の前記真空容器への伝熱経路中に設けられたバッファ空間を有することを特徴とする，処理装置。
【請求項２】
前記バッファ空間は，少なくとも一方の前記真空容器との接続面に形成されたリセス内に形成され，前記リセスの開口部は，前記アダプタの挿着時に前記真空容器の外壁面に開口するものであることを特徴とする，請求項１に記載の処理装置。
【請求項３】
前記バッファ空間は，前記アダプタ内に設けられた中空部内に形成されることを特徴とする，請求項１に記載の処理装置。
【請求項４】
前記バッファ空間は，前記搬送路と別構成の貫通口内に形成され，前記貫通口の両開口部は，前記アダプタの挿着時に前記真空容器の外壁面に開口するものであることを特徴とする，請求項１に記載の処理装置。
【請求項５】
前記搬送路の開口部を囲うようにＯリングが介装されることを特徴とする，請求項１に記載の処理装置。
【請求項６】
前記バッファ空間内には，断熱材が装填されることを特徴とする，請求項１，２，３，４又は５のいずれかに記載の処理装置。
【請求項７】
前記バッファ空間内は，前記搬送路内と連通することを特徴とする，請求項１，２，３，４又は５のいずれかに記載の処理装置。
【請求項８】
前記バッファ空間内の圧力雰囲気は，大気圧以下に設定されることを特徴とする，請求項１，２，３，４，５又は７のいずれかに記載の処理装置。
【請求項９】
前記アダプタは，セラミックスとアルミニウムのいずれか一方又は双方の材料から形成されることを特徴とする，請求項１，２，３，４，５，６，７又は８のいずれかに記載の処理装置。
【請求項１０】
前記アダプタは，プロセスチャンバとトランスファチャンバとを相互に接続するものであることを特徴とする，請求項１，２，３，４，５，６，７，８又は９のいずれかに記載の処理装置。
【手続補正書】
【提出日】平成17年6月30日(2005.6.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
照明光学系により照明されたマスクからのパターンの像を、基板ステージ上に保持される感光基板上に投影光学系により投射するようにした露光装置の該投影光学系の結像面近傍における照明光の照度を計測する照度計において、
前記感光基板と同様に搬送可能なように薄板状に形成され照度検知部が一体的に設けられたダミー基板を含むことを特徴とする照度計。
【請求項２】
請求項１に記載の照度計であって、さらに、前記照度検知部で計測された結果データを無線発信する無線通信装置を有することを特徴とする照度計。
【請求項３】
請求項２に記載の照度計であって、前記無線通信装置が、前記ダミー基板上に前記照度検知部とともに一体的に設けられることを特徴とする照度計。
【請求項４】
露光対象としての感光基板と同様に搬送可能なように薄板状に形成され照度検知部が一体的に設けられたダミー基板を含む照度計を用い、複数の露光装置間で該照度計を前記感光基板と同様に基板ステージ上に順次搬入及び搬出しつつ、各露光装置の投影光学系の結像面近傍における照明光の照度を計測するようにしたことを特徴とする照度計測方法。
【請求項５】
請求項４に記載の照度計測方法において、前記照度計は前記照度検知部で検知された結果データを無線発信する無線通信装置を備え、前記照度計を用いて計測された結果データを無線発信することを特徴とする照度計測方法。
【請求項６】
照明光学系により照明されたマスクからのパターンの像を、基板ステージ上に載置された基板ホルダに保持される感光基板上に投影光学系により投射するようにした露光装置において、
前記基板ホルダは、前記基板ステージに対して着脱自在に構成され、かつ前記感光基板に対する保持面に一体的に照度検知部を有することを特徴とする露光装置。
【請求項７】
基板ステージに対して着脱自在に構成され、かつ一体的に照度検知部を有する基板ホルダを、複数の露光装置の基板ステージ上に順次載置しつつ、各露光装置の投影光学系の結像面近傍における照度を計測するようにしたことを特徴とする照度計測方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明に係る照度計は、照明光学系により照明されたマスク（１１）からのパターンの像を、基板ステージ（２８）上に保持される感光基板（１４）上に投影光学系（１３）により投射するようにした露光装置の該投影光学系の結像面近傍における照明光の照度を計測する照度計（５０）において、前記感光基板と同様に搬送可能なように薄板状に形成され照度検知部（５２）が一体的に設けられたたダミー基板（５１）を含むことを特徴とする。本発明に係る照度計において、さらに、前記照度検知部で計測された結果データを無線発信する無線通信装置を有することができる。この場合において、前記無線通信装置を、前記ダミー基板上に前記照度検知部とともに一体的に設けることができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本発明に係る照度計測方法は、露光対象としての感光基板（１４）と同様に搬送可能なように薄板状に形成され照度検知部（５２）が一体的に設けられたダミー基板（５１）を含む照度計（５０）を用い、複数の露光装置（３０ａ，３０ｂ，３０ｃ，３０ｄ）間で該照度計を前記感光基板と同様に基板ステージ（２８）上に順次搬入及び搬出しつつ、各露光装置の投影光学系（１３）の結像面近傍における照明光の照度を計測するようにしたことを特徴とする。本発明に係る照度計測方法において、前記照度計は前記照度検知部で検知された結果データを無線発信する無線通信装置を備え、前記照度計を用いて計測された結果データを無線発信するようにできる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
本発明に係る露光装置は、照明光学系により照明されたマスク（１１）からのパターンの像を、基板ステージ（２８）上に載置された基板ホルダ（１５１）に保持される感光基板（１４）上に投影光学系（１３）により投射するようにした露光装置において、前記基板ホルダは、前記基板ステージに対して着脱自在に構成され、かつ前記感光基板に対する保持面に一体的に照度検知部（５２）を有することを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
本発明に係る照度計測方法は、基板ステージ（２８）に対して着脱自在に構成され、かつ一体的に照度検知部（５２）を有する基板ホルダ（１５１）を、複数の露光装置（３０ａ，３０ｂ，３０ｃ，３０ｄ）の基板ステージ上に順次載置しつつ、各露光装置の投影光学系の結像面近傍における照度を計測するようにしたことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成17年1月24日(2005.1.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】基板洗浄装置及び基板洗浄方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
処理されるべき基板を保持する基板保持台と、前記基板を洗浄するための洗浄ブラシと、前記洗浄ブラシ及び前記基板保持台の少なくとも一方を回転駆動する電動駆動手段と、前記洗浄ブラシと前記基板保持台との相対的位置を定める位置決め機構と、前記位置決め機構を制御する制御手段と、を備えた基板洗浄装置であって、
前記制御手段は、前記電動駆動手段における駆動電力に応じて前記位置決め機構を制御することを特徴とする基板洗浄装置。
【請求項２】
前記駆動電力が急激に増大したときに前記位置決め機構の駆動を停止し、そのときの前記相対的位置を基準位置として記憶することを特徴とする請求項１に記載の基板洗浄装置。
【請求項３】
前記駆動電力の大きさに応じて前記位置決め機構を更に継続して駆動することを特徴とする請求項２に記載の基板洗浄装置。
【請求項４】
前記基板保持台の近傍において洗浄ブラシ受け台を更に有することを特徴とする請求項１に記載の基板洗浄装置。
【請求項５】
処理されるべき基板を保持する基板保持台と、前記基板を洗浄するための洗浄ブラシと、前記洗浄ブラシ及び前記基板保持台の少なくとも一方を回転駆動する電動駆動手段と、前記洗浄ブラシと前記基板保持台との相対的位置を定める位置決め機構と、前記位置決め機構を制御する制御手段と、を備えた基板洗浄装置であって、
前記基板保持台の近傍に回転自在に設けられた洗浄ブラシ受け台と、
前記受け台の回転数を検知する回転計と、を更に有し、
前記制御手段は、前記回転計の出力に応じて前記位置決め機構を制御することを特徴とする基板洗浄装置。
【請求項６】
基板保持台上に保持された基板に対して、前記基板保持台及び洗浄ブラシの少なくとも一方を回転させ、前記洗浄ブラシを前記基板に接触させて洗浄する基板洗浄方法であって、
前記基板保持台及び前記洗浄ブラシの少なくとも一方を回転させる駆動手段における電気的変化に応じて前記洗浄ブラシの位置を調整し洗浄を行うことを特徴とする基板洗浄方法。
【請求項７】
前記洗浄ブラシの位置を調整することは、前記電気的変化としての前記駆動手段における駆動電流値が所定値になるように前記洗浄ブラシの位置を移動することを特徴とする請求項６記載の基板洗浄方法。
【請求項８】
前記所定値は、予め設定した前記洗浄ブラシを前記基板への所定の押し込み量としたときの駆動電流値であることを特徴とする請求項７記載の基板洗浄方法。
【請求項９】
基板保持台上に保持された基板に対して、前記基板保持台及び洗浄ブラシの少なくとも一方を回転させる駆動手段により前記基板保持台及び前記洗浄ブラシの少なくとも一方を回転させ、前記洗浄ブラシを前記基板に接触させて洗浄する基板洗浄方法であって、
前記洗浄ブラシを移動する移動手段により予め前記基板上へ前記洗浄ブラシを移動させ、前記基板と前記洗浄ブラシとが接触した際の、前記駆動手段における電気的変化を検知し、
前記電気的変化を検知した際の前記洗浄ブラシの高さを基準点として記憶し、
所定の押し込み量となるように、前記基準点から前記洗浄ブラシを前記基板上に向けて所定量の移動を行い、前記基板の洗浄を行う、ことを特徴とする基板洗浄方法。
【請求項１０】
前記基板の洗浄において、さらに、水平な表面を有するブラシ受け台の該表面に前記洗浄ブラシを接触させ、該接触により前記電気的変化を検知し、前記電気的変化を検知した際の洗浄ブラシの高さに基づいて、前記押し込み量の調整を行うことを特徴とする請求項９記載の基板洗浄方法。
【請求項１１】
前記基板の洗浄において、さらに、回転可能な表面を有する回転部の該表面に前記洗浄ブラシを接触させ、該接触による前記回転部からの信号に基づいて、前記基板の表面に対する前記洗浄ブラシの位置を定めることを特徴とする請求項９記載の基板洗浄方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年4月14日(2005.4.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
筒状のヒータと、該ヒータ内に配設された反応管と、前記ヒータと反応管とが成す空間に連通され該空間より雰囲気ガスを排出する排熱系とを具備する熱処理炉に於いて、前記ヒータの成型断熱部材中に上下に伸びる冷却媒体導入路を所要数設け、前記成型断熱部材の内壁側より前記冷却媒体導入路迄貫通する様急冷吹出口を穿設したことを特徴とする熱処理炉。
【請求項２】
前記急冷吹出口は斜め上方に向かって開口する様にした請求項１の熱処理炉。
【手続補正書】
【提出日】平成16年4月30日(2004.4.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
陽極シリンダーの内部に放射状に設置した複数の陽極ベインで形成された空洞共振器群に発生したマイクロ波を、一端が前記空洞共振器に接続され、他端が主力部を構成するドーム形のアンテナセラミック内に配置されたアンテナリードを通して外部に放射するマグネトロンにおいて、
前記ドーム形のアンテナセラミックはアルミナと酸化珪素とを含み、前記アルミナと前記酸化珪素とで９６重量％以上であり、前記アルミナが９２重量％以上、前記酸化珪素が６〜８重量％、前記酸化珪素を除く他の金属酸化物が２重量％以下である構成材料からなることを特徴とするマグネトロン。
【請求項２】
前記ドーム形のアンテナセラミックのドーム状先端に平坦部を有することを特徴とする請求項1に記載のマグネトロン。
【請求項３】
前記ドーム形のアンテナセラミックのドーム状先端に凹陥部を有することを特徴とするマグネトロン。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
マイクロ波の出力が小さいもの、例えばマイクロ波出力が2kW以下のマグネトロンにおいては、誘電正接tanδが6×10-4以上でも発熱量が小さいので、信頼性上問題となるまでに至らない。このため、出力部を冷却することなく使用している。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
【課題を解決するための手段】
すなわち、本発明は、アンテナドームのセラミックの誘電率正接tanδを6×10-4以下とするために、セラミック材料の組成分を、アルミナ＋酸化珪素で９６重量%以上としたものであり、またアンテナドームの先端形状を平坦あるいは凹陥形として熱応力を吸収したものであり、特に下記(1)〜(3)に記載の構成としたことを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
本実施例では、アンテナドーム4の構成材料として、アルミナと酸化珪素が96重量%以上含んだものを使用する(例えば、アルミナ92重量%以上、酸化珪素6〜8重量%、この誘電正接は6×10-4以下)ことで、アンテナリード3から放出されたマイクロ波がアンテナドーム4を通る際に、当該アンテナドーム4がマイクロ波を吸収する量が非常に少なくなり、アンテナドームの温度上昇が低減される。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
図3はアンテナドームを構成するセラミック材料の誘電正接とアンテナドームの温度上昇の関係の一例を説明する特性図であり、マグネトロン出力が5kWで計測した結果を示す。図3において、誘電正接tanδを6×10-4以下とすることで、アンテナドームの温度は着３００℃以下に抑制されることが分かる。上記本実施例で説明したアンテナドームの材料とすることにより、当該アンテナドーム4がマイクロ波を吸収する量が非常に少なくなり、アンテナドームの温度上昇が低減され、出力部を強制的に冷却する必要がなくなり、従来技術のようにアンテナドームにクラックが発生することに起因するマグネトロンの破壊が防止される。図4は本発明によるドーム形アンテナセラミックを備えたマグネトロンの1実施例におけるアンテナドームの1形状例の説明図であり、(a)は部分断面した側面図、(b)はそのドーム状先端の形状を示す上面図である。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５３】
本発明は、特に、マイクロ波出力が2kWを越えるマグネトロンに前記で説明したアンテ
ナドームを採用することにより、熱破壊が防止されて信頼性の高い、かつ強制冷却を必要としない特性の均一な大出力のマグネトロンを得ることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成16年8月3日(2004.8.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
【発明の実施の形態】
以下、この発明の実施形態を図に基づいて説明する。
図１はオリフィスプレートを製造する型の斜視図である。
図１において、１１は型を示し、弾性体、例えばエラストマ系樹脂で作製され、一主表面１２ａに一定の深さ、例えば０．１ｍｍ〜０．５ｍｍで円形の凹部１３が設けられ、この凹部１３の周縁に異なる間隔で内側へ突出する異形の突部１４，１５が設けられた基板部１２と、この基板部１２に設けられた凹部１３内の一主表面１２ａに一体的に設けられ、オリフィスを形成する円柱状の複数の突起１６とで構成されている。
なお、複数の突起１６は、基板部１２の他主表面１２ｂ側の一点を中心として放射状となるように配設されている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
次に、図１に示した型を使用してオリフィスプレートを製造するこの発明の第２実施形態を、図２を参照しながら説明する。
まず、図２（ａ）に示すように、型１１を弾性体（エラストマ系樹脂）で作製する。
なお、各突起１６は、第１実施形態で説明したように、凹部１３内の一主表面１２に設けられている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
このようにメッキ層２２を成長させると、突起１６の外表面にも下地メッキ層２１が設けられているので、突起１６の部分にもメッキ層２２が成長し、突起１６の部分が一段と高くなったプレート２３となる。
そして、型１１が弾性体で構成されているので、突起１６自身の弾性を利用して突起１６をプレート２３から抜き出すことにより、型２２とプレート２３とを分離する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
そして、活性化処理する下地メッキ層２１をパラジウムとしたが、白金族などの錯体構造を有する金属であってもよい。
さらに、メッキ層２２をニッケルとしたが、下地メッキ層２１の上にメッキすることができる金属であれば他の金属、例えばニッケル−リン、ニッケル−ホウ素、ニッケル−鉄、ニッケル−タングステン、ニッケル−マンガンなどの２元合金、複数組成合金など、オリフィスプレートの用途に合わせた単一金属若しくは合金であってもよい。
【手続補正書】
【提出日】平成16年7月20日(2004.7.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
略円形状をなす所定の遊技領域を有する遊技盤と、
前記遊技盤の前側に、前記遊技領域と略同一形状をなす窓部を有する扉枠とを備えた遊技機において、
前記扉枠の前面側における前記窓部周縁の少なくとも一部において、遊技状態に応じて発光する複数の発光手段と、該発光手段の発する光を反射させる反射体と、前記発光手段及び反射体を覆う装飾カバーとを備えるよう構成し、
前記窓部は、少なくともその左右端部と前記扉枠の左右端部との間にそれぞれ前記装飾カバーを取付けるための幅を残す位置まで拡張され、
前記複数の発光手段は、前記窓部周縁の円弧形状に沿って列状に配設され、
前記反射体は、前記遊技機の正面から見て、前記複数の発光手段よりなる発光手段列に対応するよう円弧状に湾曲した略平板体であって、前記各発光手段の発する光を前記遊技機の前面側に通す複数の貫通孔と、各貫通孔間において前記遊技機の前面側に突出し、かつ、前記各発光手段の発する光を反射させる複数の反射部材とを備え、
前記装飾カバーは、前記窓部の形状に沿って円弧状に湾曲し、かつ、透光性を有する複数のカバーを重ね合わせた複層構造となっていることを特徴とする遊技機。
【手続補正書】
【提出日】平成16年12月2日(2004.12.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
識別情報が設定された複数の図柄オブジェクトを仮想三次元空間に配置し、
前記仮想三次元空間に含まれる変動表示領域を設け、
前記複数の図柄オブジェクトを変動表示領域で変動表示する変動表示手段と、前記変動表示手段における変動表示ゲームの制御を行う表示制御手段とを備え、前記変動表示ゲームの結果態様に関連して特定の遊技価値を付与可能な遊技機において、
前記表示制御手段は、
どの識別情報かを認識できる面及びどの識別情報かを認識できない面からなる立体図形で前記図柄オブジェクトを構成し、
前記変動表示領域で前記図柄オブジェクトを移動させ、また、回転させることによって、該図柄オブジェクトの変動表示を行い、
前記図柄オブジェクトの全ての面に、この図柄オブジェクトに設定された識別情報に対応して決定されたテクスチャをマッピングすることによって、図柄オブジェクトが回転していかなる向きで表示されても、図柄オブジェクトに設定された識別情報が認識可能となるような識別性をテクスチャに設定することを特徴とする遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
第１の発明は、識別情報が設定された複数の図柄オブジェクトを仮想三次元空間に配置し、前記仮想三次元空間に含まれる変動表示領域を設け、前記複数の図柄オブジェクトを変動表示領域で変動表示する変動表示手段と、前記変動表示手段における変動表示ゲームの制御を行う表示制御手段とを備え、前記変動表示ゲームの結果態様に関連して特定の遊技価値を付与可能な遊技機において、前記表示制御手段は、どの識別情報かを認識できる面及びどの識別情報かを認識できない面からなる立体図形で前記図柄オブジェクトを構成し、前記変動表示領域で前記図柄オブジェクトを移動させ、また、回転させることによって、該図柄オブジェクトの変動表示を行い、前記図柄オブジェクトの全ての面に、この図柄オブジェクトに設定された識別情報に対応して決定されたテクスチャをマッピングすることによって、図柄オブジェクトが回転していかなる向きで表示されても、図柄オブジェクトに設定された識別情報が認識可能となるような識別性をテクスチャに設定する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
【発明の作用および効果】
第１の発明では、識別情報が設定された複数の図柄オブジェクトを仮想三次元空間に配置し、前記仮想三次元空間に含まれる変動表示領域を設け、前記複数の図柄オブジェクトを変動表示領域で変動表示する変動表示手段と、前記変動表示手段における変動表示ゲームの制御を行う表示制御手段とを備え、前記変動表示ゲームの結果態様に関連して特定の遊技価値を付与可能な遊技機において、前記表示制御手段は、どの識別情報かを認識できる面及びどの識別情報かを認識できない面からなる立体図形で前記図柄オブジェクトを構成し、前記変動表示領域で前記図柄オブジェクトを移動させ、また、回転させることによって、該図柄オブジェクトの変動表示を行い、前記図柄オブジェクトの全ての面に、この図柄オブジェクトに設定された識別情報に対応して決定されたテクスチャをマッピングすることによって、図柄オブジェクトが回転していかなる向きで表示されても、図柄オブジェクトに設定された識別情報が認識可能となるような識別性をテクスチャに設定するので、図柄オブジェクトの回転又は視点の移動があっても、図柄オブジェクトに設定された識別情報を容易に認識することができる。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成16年8月20日(2004.8.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
再利用可能な樹脂構成部材を無駄に廃棄することなく、資源を有効に再利用することができることを特徴とする遊技機。
【手続補正書】
【提出日】平成16年2月5日(2004.2.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
霧化された薬液が内部を通過し、一端に霧化装置の噴霧口に通ずる第１の開口を有し、他端に使用者が口または鼻若しくはその両方を当てる第２の開口を有する筒状部を備えた霧化装置用吸入補助具であって、
前記筒状部は、外部から空気を導く第３の開口と、前記霧化装置に設けられた液溜め部に、液滴化した薬液やよだれを案内する鍔部とを備えた、霧化装置用吸入補助具。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４】
薬液を霧化する霧化手段と、前記霧化手段によって霧化された薬液を噴出する噴霧口とを有する本体と、前記本体に着脱自在に取付けられる吸入補助具とを備えた霧化装置であって、
前記本体は、さらに、液滴化した薬液やよだれを貯留する液溜め部を備え、
前記吸入補助具は、前記霧化手段によって霧化された薬液が内部を通過し、一端に前記噴霧口に通ずる第１の開口を有し、他端に使用者が口または鼻若しくはその両方を当てる第２の開口を有する筒状部を備え、
前記筒状部は、外部から空気を導く第３の開口と、前記液溜め部に、液滴化した薬液やよだれを案内する鍔部とを備えた、霧化装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明の霧化装置用吸入補助具は、霧化された薬液が内部を通過し、一端に霧化装置の噴霧口に通ずる第１の開口を有し、他端に使用者が口または鼻若しくはその両方を当てる第２の開口を有する筒状部を備えており、筒状部は、外部から空気を導く第３の開口と、霧化装置に設けられた液溜め部に、液滴化した薬液やよだれを案内する鍔部とを備えている。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
本発明の霧化装置は、薬液を霧化する霧化手段と、霧化手段によって霧化された薬液を噴出する噴霧口とを有する本体と、本体に着脱自在に取付けられる吸入補助具とを備えており、本体は、さらに、液滴化した薬液やよだれを貯留する液溜め部を備え、吸入補助具は、霧化手段によって霧化された薬液が内部を通過し、一端に噴霧口に通ずる第１の開口を有し、他端に使用者が口または鼻若しくはその両方を当てる第２の開口を有する筒状部を備え、筒状部は、外部から空気を導く第３の開口と、液溜め部に、液滴化した薬液やよだれを案内する鍔部とを備えている。
【手続補正書】
【提出日】平成17年7月28日(2005.7.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
呼吸システムの肺力学の検査のためのオペレーティングシステムにおいて、
該オペレーティングシステムは呼気の期間に少なくとも次の手段：
呼吸システムから流出するガス流（４２Ａ）を変調するための手段、
呼吸システムから流出するガス量を時間に関連して突き止めるための手段、
呼吸システムにおける圧力の変化を時間に関連して突き止めるための手段、および
前記量／時間関係および圧力／時間関係から呼気圧力−量関係（５２）を突き止めるための手段
を有している
ことを特徴とする方法。
【請求項２】
吸気期間の間
呼吸システムに流入するガス流（４０Ａ）を変調するための手段、
呼吸システムから流入するガス量を時間に関連して突き止めるための手段、
呼吸システムにおける圧力の変化を時間に関連して突き止めるための手段、および
前記量／時間関係および圧力／時間関係から吸気圧力−量関係（５４Ａ−５４Ｄ）を突き止めるための手段
を有している
ことを特徴とする請求項１記載のオペレーティングシステム。
【請求項３】
吸気（４２Ａ）に直接先行する呼気（５０Ａ，５０Ｂ）の持続期間を延長するための手段を有している
請求項２記載のオペレーティングシステム。
【請求項４】
次の付加的な手段：
吸気圧力−量関係（５４Ａ−５４Ｄ）を呼気圧力−量関係（５２）と比較するための手段および
両関係間のヒステリシスを求めるための手段
を有する
請求項２または３記載のオペレーティングシステム。
【請求項５】
前記複数の量（５６Ａ−５６Ｄ）の差を突き止めることによって、吸気圧力−量関係（５４Ａ−５４Ｄ）および呼気圧力−量関係（５２）の間の、圧力に対する所定の値に対してヒステリシスを確立するための手段が設けられている
請求項４記載のオペレーティングシステム。
【請求項６】
圧力勾配を突き止めることによって、吸気圧力−量関係（５４Ａ−５４Ｄ）および呼気圧力−量関係（５２）の間の、量に対する所定の値に対してヒステリシスを突き止める
請求項４記載のオペレーティングシステム。
【請求項７】
次のうちの少なくとも１つ：呼気終末陽圧（positive end-expiratory pressure＝ＰＥＥＰ）、ピーク吸気圧力（peak inspiratory pressure＝ＰＩＰ）および一回換気量に対する異なった出力パラメータを有する複数の呼吸サイクルから導出される複数の吸気および呼気圧力−量関係に対してヒステリシスを突き止める
請求項４から６までのいずれか１項記載のオペレーティングシステム。
【請求項８】
呼吸系（４）の肺力学の検査および処置に使用される呼吸装置システム（２）であって、
呼吸装置システムは、ガスの流れおよび圧力を調整するためのニューマチックユニット（６）と、圧力および流れを測定するための測定センサシステム（２２Ａ−２２Ｅ，２４Ａ−２４Ｆ）と、該ニューマチックユニット（６）に接続されていて、該ニューマチックユニットおよび測定センサシステム（２２Ａ−２２Ｅ，２４Ａ−２４Ｆ）を制御して該測定センサシステム（２２Ａ−２２Ｅ，２４Ａ−２４Ｆ）から測定信号が受信されるようにするコントロールユニット（２６）と、ニューマチックユニット（６）に接続されておりかつ呼吸部（４）に接続可能である管系（１４，１６，１８）とを有している形式のものにおいて、
前記コントロールユニット（２６）は、前記ニューマチックユニット（６）が呼吸系（４）からのガス流を変調するように、呼気の期間にニューマチックユニット（６）を制御できるのに適しており、かつ
前記コントロールユニット（２６）は、前記測定センサシステム（２２Ａ−２２Ｅ，２４Ａ−２４Ｆ）からの測定信号から呼気の圧力−量関係を突き止めるのに適している
ことを特徴とする呼吸装置システム。
【請求項９】
前記コントロールユニット（２６）は、前記ニューマチックユニット（６）が呼吸系（４）に向かって流れるガス流を変調するように、吸気の期間にニューマチックユニット（６）を制御するのに適しており、かつ
前記コントロールユニット（２６）は、前記測定センサシステム（２２Ａ−２２Ｅ，２４Ａ−２４Ｆ）からの測定信号から吸気の圧力−量関係を突き止めるのに適している
請求項６記載の呼吸装置システム。
【請求項１０】
コントロールユニット（２６）は、吸気圧力−量関係および呼気圧力−量関係を比較しかつ両関係間のヒステリシスを突き止める
請求項９記載の呼吸装置システム。
【請求項１１】
コントロールユニット（２６）は、ヒステリシスに依存して、少なくとも１つの呼気終末陽圧（ＰＥＥＰ）または一回換気量に対して自動アクションするのに適している
請求項１０記載の呼吸装置システム。
【請求項１２】
情報を表示しかつパラメータをエントリするためのユーザインタフェース（３２）を備えている
請求項８から１１までのいずれか１項記載の呼吸装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、呼吸シ系の肺力学を検査するためのオペレーティングシステムに関する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の１つの目的は公知の方法を用いた上述した問題点の少なくともいくつかを解決する肺力学を検査するためのオペレーティングシステムを提供することである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
【課題を解決するための手段および実施の形態】
この目的に適うオペレーティングシステムは、請求項１の特徴部分に記載の手段を有する本発明により実現される。