【手続補正書】
【提出日】平成16年7月7日(2004.7.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項５】
さらに、磁束を発生させる薄膜コイルを備え、
その薄膜コイルが、前記ヨーク層のうちの前記記録媒体対向面から遠い側の一端部分を中心として巻回された巻線構造を有しており、
前記ヨーク層のうち、前記一端部分の端面の面積をＳＥとし、前記記録媒体対向面に平行な前記接続部分の断面の面積をＳＤとしたとき、面積比ＳＤ／ＳＥが０．００８≦ＳＤ／ＳＥ≦０．３の範囲内である
ことを特徴とする請求項４記載の薄膜磁気ヘッド。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
また、本発明の薄膜磁気ヘッドでは、ヨーク層が、記録媒体対向面よりも後退した第１の位置から後方の第２の位置まで延在し、磁極層が、記録媒体対向面から第１の位置と第２の位置との間の第３の位置まで延在しているようにしてもよい。この薄膜磁気ヘッドでは、ヨーク層が、磁極層に接続された部分を有する接続部分と、この接続部分の幅よりも大きな幅を有するヨーク拡幅部分とを有するようにしてもよい。この場合には、特に、さらに、磁束を発生させる薄膜コイルを備え、その薄膜コイルが、ヨーク層のうちの記録媒体対向面から遠い側の一端部分を中心として巻回された巻線構造を有しており、ヨーク層のうち、一端部分の端面の面積をＳＥとし、記録媒体対向面に平行な接続部分の断面の面積をＳＤとしたとき、面積比ＳＤ／ＳＥが０．００８≦ＳＤ／ＳＥ≦０．３の範囲内であるのが好ましい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
上記したように、磁極層１２は、ヨーク層１１上、すなわち、ヨーク層１１の、記録媒体の進行方向Ｂにおける媒体流出側に配設されており、その磁極層１２のうちの後端部１２Ｂの一部が、ヨーク層１１の一部とオーバーラップして接続されている。すなわち、図２に示したように、ヨーク層１１と磁極層１２とを接続する接続面ＡＭの面積ＳＡは、ヨーク層１１の平面形状の面積よりも小さくなっている。上記した「媒体流出側（またはトレーリング側ともいう。）」とは、記録媒体の進行方向Ｂに向かう記録媒体の移動状態を１つの流れと見た場合に、その流れの流出する側をいい、具体的には、ここでは厚さ方向（Ｚ軸方向）における上側を指す。なお、「媒体流出側」に対して、流れの流入する側、すなわち厚さ方向における下側は、「媒体流入側（またはリーディング側ともいう。）」と呼ばれる。図３に示したように、ヨーク層１１のうちの一端部分１１Ｅの端面（リターンヨーク層８と磁気的に連結されている端面）ＥＭの面積をＳＥとし、磁極層１２のうちの先端部１２Ａの断面（エアベアリング面２０に平行な断面）ＴＭの面積をＳＴとすると、面積ＳＴは面積ＳＥよりも小さくなっている（ＳＴ＜ＳＥ）。なお、図３では、接続面ＡＭ、端面ＥＭおよび断面ＴＭを見やすくするために、これらの面に網掛けを施している。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
この薄膜磁気ヘッドは、主に、めっき処理やスパッタリングなどの成膜技術、フォトリソグラフィ処理などのパターニング技術、ならびにドライエッチングなどのエッチング技術等を含む薄膜プロセスを利用して、各構成要素を順次形成して積層させることにより製造される。すなわち、まず、基板１上に絶縁層２を形成したのち、この絶縁層２上に、下部シールド層３と、ＭＲ素子６を埋設したシールドギャップ膜４と、上部シールド層５とをこの順に積層させることにより、再生ヘッド部１００Ａを形成する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４５】
続いて、再生ヘッド部１００Ａ上に非磁性層７を形成したのち、この非磁性層７上に、リターンヨーク層８と、薄膜コイル１０を埋設したギャップ層９（９Ａ，９Ｂ，９Ｃ）と、ギャップ層部分９Ａに設けられた開口９Ｋにおいてリターンヨーク層８と接続されたヨーク層１１と、このヨーク層１１に接続された磁極層１２とをこの順に積層させることにより、記録ヘッド部１００Ｂを形成する。磁極層１２の形成手法としては、例えば、めっき膜をパターン成長させるようにしてもよいし、あるいは磁極層１２を形成するための磁性層（前駆磁極層）を形成したのち、この前駆磁極層をエッチングしてパターニングするようにしてもよい。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４６】
最後に、記録ヘッド部１００Ｂを覆うようにオーバーコート層１３を形成したのち、機械加工や研磨加工を利用してエアベアリング面２０を形成することにより、薄膜磁気ヘッドが完成する。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４８】
図４〜図６は、本実施の形態に係る薄膜磁気ヘッドに対する比較例としての薄膜磁気ヘッドの構成を表しており、それぞれ図１〜図３に対応している。この比較例の薄膜磁気ヘッドは、本実施の形態におけるヨーク層１１および磁極層１２（先端部１２Ａ，後端部１２Ｂ）にそれぞれ対応するヨーク層１１１および磁極層１１２（先端部１１２Ａ，後端部１１２Ｂ）を含んだ上、磁極層１１２が位置Ｐ０から位置Ｐ２まで延在している点を除き、本実施の形態に係る薄膜磁気ヘッドと同様の構成を有している。なお、図６では、接続面ＡＭに網掛けを施している。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５３】
また、図７に示した場合には、ヨーク層１１が矩形状の平面形状を有するようにしたが、必ずしもこれに限られるものではなく、例えば、図２および図３にそれぞれ対応する図８および図９に示したように、ヨーク層１１が略Ｔ字型の平面形状を有するようにしてもよい。このヨーク層１１は、位置Ｐ１から位置Ｐ２に向かって順に、磁極層１２のうちの先端部１２Ａの幅Ｗ３よりも大きな一定幅Ｗ１を有する先端部１１Ａと、この先端部１１Ａの幅Ｗ１よりも大きな幅Ｗ２（Ｗ２＞Ｗ１）を有する後端部１１Ｂとを含んで構成されている。この後端部１１Ｂは、例えば、後方において一定幅Ｗ２を有し、かつ、前方において先端部１１Ａに近づくにしたがって次第に幅が狭まるように構成されている。ヨーク層１１のうちの先端部１１Ａの断面（エアベアリング面２０に平行な断面）ＤＭの面積をＳＤとすると、面積ＳＥ、面積ＳＤおよび面積ＳＴはこの順に小さくなっており（ＳＥ＞ＳＤ＞ＳＴ）、特に、面積比ＳＤ／ＳＥは０．００８≦ＳＤ／ＳＥ≦０．３の範囲内、より好ましくは０．００９≦ＳＤ／ＳＥ≦０．２の範囲内になっている。なお、図９では、端面ＥＭ、断面ＴＭおよび断面ＤＭに網掛けを施している。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７５】
また、図２１〜図２４に示した場合には、先端部１２Ａ，６２Ａの媒体流出側部分に磁束を集中させるために、磁束の流路が媒体流出側に狭まるように構成された磁極層１２，６０を備えるようにしたが、必ずしもこれに限られるものではなく、例えば、図２５に示したように、エアベアリング面２０に近い側から順に、先端部７０Ａと、この先端部７０Ａの厚さよりも大きな厚さを有する後端部７０Ｂとを含み、磁束の流路が媒体流入側（図中の下側）に狭まるように構成された磁極層７０を備えるようにしてもよい。この磁極層７０を備えた薄膜磁気ヘッドでは、後端部７０Ｂのうちの媒体流出側部分を流れていた磁束が、媒体流入側に絞り込まれて先端部７０Ａに流入した結果、その先端部７０Ａのうちの媒体流出側部分に磁束が集中し得るため、磁束の流路を媒体流出側に狭めた図２１〜図２４に示した場合と同様に、垂直磁界強度をより増加し得るのである。なお、図２５に示した薄膜磁気ヘッドに関する上記特徴以外の構成は、図２１〜図２４に示した場合と同様である。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７６】
また、本実施の形態では、前駆ヨーク層パターン５１Ｚをエッチングして窪ませることによりヨーク層５１を形成する際、前駆ヨーク層パターン５１Ｚのうち、磁極層１２の終端位置（位置Ｐ３）よりも後方の領域を窪ませるようにしたが、必ずしもこれに限られるものではなく、後端部５１Ｃおよびこの後端部５１Ｃよりも厚さが薄い中間部５１Ｂを含むようにヨーク層５１を形成可能な限り、前駆ヨーク層５１パターンＺに対する掘り下げ範囲は自由に変更可能である。具体的には、例えば、前駆ヨーク層５１パターンＺのうち、磁極層１２との接続面ＡＭ以外の部分を全て掘り下げるようにしてもよい。この場合に形成されるヨーク層５１および磁極層２１の斜視構成は、例えば、図２６に示したようになる。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
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【手続補正１２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２３】
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【手続補正１３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２４】
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