【手続補正書】
【提出日】令和3年10月4日(2021.10.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
化合物（１）：
【化１】
2020536879.tif 000001
を調製する方法であって、化合物（２）：
【化２】
2020536879.tif 000002
を、フランと反応させること、
ここで反応は、ルイス酸の不在下で行われ；かつ
ここで反応は、ほぼ大気圧で行われる；
を含む、前記方法。
【請求項２】
（ａ）反応が、添加酸の不在下で行われる、
（ｂ）反応が、ペルクロラートの不在下で行われる、
（ｃ）反応が、ブレンステッド酸の不在下で行われる、
（ｄ）反応が、およそ１ａｔｍの圧力で行われる、または
（ｅ）反応が、添加酸の不在下、かつ増大した圧力の不在下で行われる、
（ｆ）反応が、溶媒中で行われる、
（ｇ）反応が、溶媒中で行われ、溶媒が、イオン性液体である、
（ｈ）反応が、溶媒中で行われ、溶媒が、イオン性液体でない、
（ｉ）反応が、溶媒中で行われ、溶媒が、非プロトン性極性溶媒である、
（ｊ）反応が、溶媒中で行われ、溶媒が、ＮＭＰ、アセトン、アセトニトリル、ＤＭＦ、またはＤＭＰＵである、または
（ｋ）反応が、溶媒中で行われ、溶媒が、ＮＭＰである、
（ｌ）反応が、ボールミルリアクター中で行われる、
（ｍ）反応が、ボールミルリアクター中で、溶媒の不在下で行われる、
（ｎ）反応が、化合物（２）に関して、溶液中１〜２０ｍｏｌ／Ｌの濃度で行われる、
（ｏ）反応が、化合物（２）に関して、溶液中５〜１５ｍｏｌ／Ｌの濃度で行われる、
（ｐ）反応が、化合物（２）に関して、溶液中１０〜１５ｍｏｌ／Ｌの濃度で行われる、
（ｑ）反応が、化合物（２）に関して、溶液中約１２ｍｏｌ／Ｌの濃度で行われる、
（ｒ）反応が、１００℃未満の温度で行われる、
（ｓ）反応が、室温〜１００℃の温度で行われる、
（ｔ）反応が、３０〜６０℃の温度で行われる、
（ｕ）反応が、４０〜５０℃の温度で行われる、
（ｖ）反応が、ほぼ４５℃で行われる、
（ｗ）反応が、添加酸の不在下で、ほぼ大気圧で、極性溶媒中で、かつ室温〜１００℃の温度で行われる、
（ｘ）反応が、添加酸の不在下で、ほぼ大気圧で、ＮＭＰ中で、かつ４０〜５０℃の温度で行われる、
（ｙ）反応が、添加酸の不在下で、ほぼ大気圧で、ＮＭＰ中で、およそ４５℃で行われる、
（ｚ）フランが、反応混合物中化合物（２）の量に対して、１当量超で存在する、
（ａａ）反応混合物中の化合物（２）とフランとの比率が、１：４〜１：５である、
（ｂｂ）反応混合物中の化合物（２）とフランとの比率が、約１：４．１、１：４．２、１：４．３、１：４．４、１：４．５、１：４．６、１：４．７、１：４．８、または１：４．９である、
（ｃｃ）化合物（１）が、約７０：３０〜９９：１のエキソ／エンド比率において形成される、
（ｄｄ）化合物（１）が、約７５：２５であるのエキソ／エンド比率において形成される、
（ｅｅ）化合物（１）が、約８０：２０〜９０：１０のエキソ／エンド比率において形成される、
（ｆｆ）化合物（１）が、約８４：１６のエキソ／エンド比率において形成される、
（ｇｇ）化合物（１）が、約９８：２のエキソ／エンド比率において形成される、
（ｈｈ）化合物（１）が、５０％超の収率で単離される、または
（ｉｉ）化合物（１）が、約５０〜６０％の収率で単離される、
請求項１に記載の方法。
【請求項３】
（ａ）化合物（１）を再結晶化するステップをさらに含む、
（ｂ）化合物（１）を再結晶化するステップをさらに含み、化合物（１）が、ＥｔＯＡｃおよびヘキサンから再結晶化される、
（ｃ）化合物（１）を再結晶化するステップをさらに含み、化合物（１）が、再結晶後、９０：１０超のエキソ／エンド比率で単離される、
（ｄ）化合物（１）を再結晶化するステップをさらに含み、化合物（１）が、再結晶後、９５：５、９６：４、９７：３、９８：２、または９９：１のエキソ／エンド比率で単離される、
（ｅ）化合物（１）を再結晶化するステップをさらに含み、化合物（１）が、再結晶後、約９８：２のエキソ／エンド比率で単離される、
（ｆ）化合物（１）を再結晶化するステップをさらに含み、化合物（１）が、再結晶後、３０％超の収率で単離される、または
（ｇ）化合物（１）を再結晶化するステップをさらに含み、化合物（１）が、再結晶後、３０〜４０％の収率で単離される、
請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法で調製した化合物（１）を水素化するステップを含む、化合物（３）：
【化３】
2020536879.tif 000003
を調製する方法。
【請求項５】
（ａ）水素化するステップが、Ｈ２および／または１，４−シクロヘキサジエンの存在下で行われる、または
（ｂ）水素化するステップが、Ｐｄ／Ｃ、Ｐｄ、ＰｄＣｌ２、ＰｔＯ２、Ｐｔ／Ｃ、またはラネーニッケルの存在下で行われる、
請求項４に記載の方法。
【請求項６】
請求項４または５に記載の方法で調製した化合物（３）：
【化４】
2020536879.tif 000004
を還元するステップを含む、カンタリジン：
【化５】
2020536879.tif 000005
を調製する方法。
【請求項７】
（ａ）還元するステップが、還元剤の存在下で行われる、
（ｂ）還元するステップが、還元剤の存在下で行われ、還元剤が、ラネーニッケル、Ｎｉ（ＩＩ）／ＮａＢＨ４、Ｃｏ（ＩＩ）／ＮａＢＨ４、Ｌｉ／ＥｔＮＨ２、ＬＡＨ／ＴｉＣｌ３、ＬＡＨ／ＣｕＣｌ２、Ｎｉ（ＩＩ）／Ｚｎ、Ｎｉ（ＩＩ）／Ａｌ、およびＬＡＨ／Ｃｐ２Ｎｉからなる群から選択される、または
（ｃ）水素化するステップおよび還元するステップが、同じ反応で行われる、
請求項６に記載の方法。
【請求項８】
式（ＩＶ）：
【化６】
2020536879.tif 000006
で表される化合物を調製する方法であって、
式（ＩＩＩ）：
【化７】
2020536879.tif 000007
で表される化合物をフランの存在下で反応させることを含み、式中：
ｎは、０、１、２、３、４、または５であり；
Ｒ３の各存在は、独立して、水素、ハロゲン、−ＣＮ、−ＮＯ２、−Ｎ３、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいアルケニル、任意に置換されていてもよいアルキニル、任意に置換されていてもよいカルボシクリル、任意に置換されていてもよいヘテロシクリル、任意に置換されていてもよいアリール、任意に置換されていてもよいヘテロアリール、任意に置換されていてもよいアシル、任意に置換されていてもよいスルホニル、任意に置換されていてもよいスルフィニル、−ＯＲＯ、−Ｎ（ＲＮ）２、または−ＳＲＳであり；
ＲＯの各存在は、独立して、水素、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいカルボシクリル、任意に置換されていてもよいヘテロシクリル、任意に置換されていてもよいアリール、任意に置換されていてもよいヘテロアリール、任意に置換されていてもよいアシル、または酸素保護基であり；
ＲＮの各存在は、独立して、水素、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいアルケニル、任意に置換されていてもよいアルキニル、任意に置換されていてもよいカルボシクリル、任意に置換されていてもよいヘテロシクリル、任意に置換されていてもよいアリール、任意に置換されていてもよいヘテロアリール、任意に置換されていてもよいアシル、または窒素保護基；または任意に、同じ窒素上の２つのＲＮは、介在原子と一緒に連結して、任意に置換されていてもよいヘテロシクリルまたは任意に置換されていてもよいヘテロアリールを形成し；および
ＲＳの各存在は、独立して、水素、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいアルケニル、任意に置換されていてもよいアルキニル、任意に置換されていてもよいカルボシクリル、任意に置換されていてもよいヘテロシクリル、任意に置換されていてもよいアリール、任意に置換されていてもよいヘテロアリール、任意に置換されていてもよいアシル、または硫黄保護基である；
前記方法。
【請求項９】
（ａ）反応が、ルイス酸の存在下で行われる、
（ｂ）反応が、増大した圧力下で行われる、
（ｃ）反応が、添加酸の不在下、かつ増大した圧力の不在下で行われる、
（ｄ）反応が、ペルクロラートの不在下で行われる、
（ｅ）反応が、過塩素酸リチウムおよび過塩素酸マグネシウムの不在下で行われる、
（ｆ）反応が、リチウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドの不在下で行われる、または
（ｇ）反応が、およそ１ａｔｍの圧力で行われる、
（ｈ）反応が、溶媒中で行われる、
（ｉ）反応が、溶媒中で行われ、溶媒が、イオン性液体である、
（ｊ）反応が、溶媒中で行われ、溶媒が、イオン性液体でない、
（ｋ）反応が、溶媒中で行われ、溶媒が、非プロトン性極性溶媒である、または
（ｌ）反応が、溶媒中で行われ、溶媒が、ＮＭＰ、アセトン、アセトニトリル、ＤＭＦ、またはＤＭＰＵである、
（ｍ）反応が、ボールミルリアクター中で行われる、
（ｎ）反応が、式（ＩＩＩ）で表される化合物に関して、溶液中１〜２０ｍｏｌ／Ｌの濃度で行われる、
（ｏ）反応が、室温〜１００℃の温度で行われる、
（ｐ）反応が、４０〜６０℃の温度で行われる、
（ｑ）反応が、添加酸の不在で、ほぼ大気圧で、極性溶媒中で、かつ４０℃〜６０℃の温度で行われる、または
（ｒ）フランが、反応混合物中式（ＩＩＩ）で表される化合物の量に対して、１当量超で存在する、
（ｓ）式（ＩＶ）で表される化合物が、約７０：３０〜９９：１のエキソ／エンド比率において形成される、
（ｔ）式（ＩＶ）で表される化合物が、約８０：２０〜９０：１０のエキソ／エンド比率において形成される、
（ｕ）式（ＩＶ）で表される化合物が、５０％超の収率で単離される、
（ｖ）式（ＩＶ）で表される化合物を再結晶化するステップをさらに含む、または
（ｗ）式（ＩＶ）で表される化合物を再結晶化するステップをさらに含み、式（ＩＶ）で表される化合物が、再結晶後、９０：１０超のエキソ／エンド比率で単離される、
請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
式（Ｖ）：
【化８】
2020536879.tif 000008
で表される化合物を調製する方法であって、式（ＩＶ）：
【化９】
2020536879.tif 000009
で表される化合物を水素化することを含み、式中：
ｎは、０、１、２、３、４、または５であり；
Ｒ３の各存在は、独立して、水素、ハロゲン、−ＣＮ、−ＮＯ２、−Ｎ３、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいアルケニル、任意に置換されていてもよいアルキニル、任意に置換されていてもよいカルボシクリル、任意に置換されていてもよいヘテロシクリル、任意に置換されていてもよいアリール、任意に置換されていてもよいヘテロアリール、任意に置換されていてもよいアシル、任意に置換されていてもよいスルホニル、任意に置換されていてもよいスルフィニル、−ＯＲＯ、−Ｎ（ＲＮ）２、または−ＳＲＳであり；
ＲＯの各存在は、独立して、水素、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいカルボシクリル、任意に置換されていてもよいヘテロシクリル、任意に置換されていてもよいアリール、任意に置換されていてもよいヘテロアリール、任意に置換されていてもよいアシル、または酸素保護基であり；
ＲＮの各存在は、独立して、水素、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいアルケニル、任意に置換されていてもよいアルキニル、任意に置換されていてもよいカルボシクリル、任意に置換されていてもよいヘテロシクリル、任意に置換されていてもよいアリール、任意に置換されていてもよいヘテロアリール、任意に置換されていてもよいアシル、または窒素保護基であるか；または任意に、同じ窒素上の２つのＲＮは、介在原子と一緒に連結して、任意に置換されていてもよいヘテロシクリルまたは任意に置換されていてもよいヘテロアリールを形成し；
ＲＳの各存在は、独立して、水素、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいアルケニル、任意に置換されていてもよいアルキニル、任意に置換されていてもよいカルボシクリル、任意に置換されていてもよいヘテロシクリル、任意に置換されていてもよいアリール、任意に置換されていてもよいヘテロアリール、任意に置換されていてもよいアシル、または硫黄保護基である；
前記方法。
【請求項１１】
（ａ）水素化するステップが、Ｈ２および／または１，４−シクロヘキサジエンの存在下で行われる、または
（ｂ）水素化するステップが、Ｐｄ／Ｃ、Ｐｄ、ＰｄＣｌ２、ＰｔＯ２、Ｐｔ／Ｃ、またはラネーＮｉの存在下で行われる、
請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
式（ＶＩ）：
【化１０】
2020536879.tif 000010
で表される化合物を調製する方法であって、式（Ｖ）：
【化１１】
2020536879.tif 000011
で表される化合物を還元することを含み、
式中：
ｎは、０、１、２、３、４、または５であり；
Ｒ３の各存在は、独立して、水素、ハロゲン、−ＣＮ、−ＮＯ２、−Ｎ３、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいアルケニル、任意に置換されていてもよいアルキニル、任意に置換されていてもよいカルボシクリル、任意に置換されていてもよいヘテロシクリル、任意に置換されていてもよいアリール、任意に置換されていてもよいヘテロアリール、任意に置換されていてもよいアシル、任意に置換されていてもよいスルホニル、任意に置換されていてもよいスルフィニル、−ＯＲＯ、−Ｎ（ＲＮ）２、または−ＳＲＳであり；
ＲＯの各存在は、独立して、水素、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいカルボシクリル、任意に置換されていてもよいヘテロシクリル、任意に置換されていてもよいアリール、任意に置換されていてもよいヘテロアリール、任意に置換されていてもよいアシル、または酸素保護基であり；
ＲＮの各存在は、独立して、水素、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいアルケニル、任意に置換されていてもよいアルキニル、任意に置換されていてもよいカルボシクリル、任意に置換されていてもよいヘテロシクリル、任意に置換されていてもよいアリール、任意に置換されていてもよいヘテロアリール、任意に置換されていてもよいアシル、または窒素保護基であるか；または任意に、同じ窒素上の２つのＲＮは、介在原子と一緒に連結して、任意に置換されていてもよいヘテロシクリルまたは任意に置換されていてもよいヘテロアリールを形成し；および
ＲＳの各存在は、独立して、水素、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいアルケニル、任意に置換されていてもよいアルキニル、任意に置換されていてもよいカルボシクリル、任意に置換されていてもよいヘテロシクリル、任意に置換されていてもよいアリール、任意に置換されていてもよいヘテロアリール、任意に置換されていてもよいアシル、または硫黄保護基である；
前記方法。
【請求項１３】
（ａ）還元するステップが、還元剤の存在下で行われる、
（ｂ）還元するステップが、還元剤の存在下で行われ、還元剤が、ラネーＮｉ、Ｎｉ（ＩＩ）／ＮａＢＨ４、Ｃｏ（ＩＩ）／ＮａＢＨ４、Ｌｉ／ＥｔＮＨ２、ＬＡＨ／ＴｉＣｌ３、ＬＡＨ／ＣｕＣｌ２、Ｎｉ（ＩＩ）／Ｚｎ、Ｎｉ（ＩＩ）／Ａｌ、またはＬＡＨ／Ｃｐ２Ｎｉである、または
（ｃ）還元するステップが、還元剤の存在下で行われ、還元剤が、ラネーＮｉである、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
カンタリジン：
【化１２】
2020536879.tif 000012
を調製する方法であって、
（ａ）式（ＶＩ）：
【化１３】
2020536879.tif 000013
で表される化合物を加水分解して、式：
【化１４】
2020536879.tif 000014
で表される化合物またはその塩を生産すること；および
（ｂ）好適な条件下でステップ（ａ）において形成された化合物を脱水して、カンタリジンを形成すること；式中：
ｎは、０、１、２、３、４、または５であり；
Ｒ３の各存在は、独立して、水素、ハロゲン、−ＣＮ、−ＮＯ２、−Ｎ３、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいアルケニル、任意に置換されていてもよいアルキニル、任意に置換されていてもよいカルボシクリル、任意に置換されていてもよいヘテロシクリル、任意に置換されていてもよいアリール、任意に置換されていてもよいヘテロアリール、任意に置換されていてもよいアシル、任意に置換されていてもよいスルホニル、任意に置換されていてもよいスルフィニル、−ＯＲＯ、−Ｎ（ＲＮ）２、または−ＳＲＳであり；
ＲＯの各存在は、独立して、水素、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいカルボシクリル、任意に置換されていてもよいヘテロシクリル、任意に置換されていてもよいアリール、任意に置換されていてもよいヘテロアリール、任意に置換されていてもよいアシル、または酸素保護基であり；
ＲＮの各存在は、独立して、水素、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいアルケニル、任意に置換されていてもよいアルキニル、任意に置換されていてもよいカルボシクリル、任意に置換されていてもよいヘテロシクリル、任意に置換されていてもよいアリール、任意に置換されていてもよいヘテロアリール、任意に置換されていてもよいアシル、または窒素保護基であるか；または任意に、同じ窒素上の２つのＲＮは、介在原子と一緒に連結して、任意に置換されていてもよいヘテロシクリルまたは任意に置換されていてもよいヘテロアリールを形成し；および
ＲＳの各存在は、独立して、水素、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいアルケニル、任意に置換されていてもよいアルキニル、任意に置換されていてもよいカルボシクリル、任意に置換されていてもよいヘテロシクリル、任意に置換されていてもよいアリール、任意に置換されていてもよいヘテロアリール、任意に置換されていてもよいアシル、または硫黄保護基である；
を含む、前記方法。
【請求項１５】
（ａ）加水分解するステップが、塩基の存在下で行われる、
（ｂ）加水分解するステップが、水酸化物の存在下で行われる、
（ｃ）脱水するステップが、脱水をもたらすことができる試薬の存在下で行われる、または
（ｄ）脱水するステップが、プロピルホスホン酸無水物、無水酢酸、塩化チオニル、またはＰＯＣｌ３から選択される脱水をもたらすことができる試薬の存在下で行われる、
請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
化合物（３）：
【化１５】
2020536879.tif 000015
を調製する方法であって、
（ａ）式（Ｖ）：
【化１６】
2020536879.tif 000016
で表される化合物を加水分解して、式：
【化１７】
2020536879.tif 000017
で表される化合物またはその塩を生産すること；および
（ｂ）好適な条件下でステップ（ａ）において形成された化合物を脱水して、化合物（３）を形成すること；式中：
ｎは、０、１、２、３、４、または５であり；
Ｒ３の各存在は、独立して、水素、ハロゲン、−ＣＮ、−ＮＯ２、−Ｎ３、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいアルケニル、任意に置換されていてもよいアルキニル、任意に置換されていてもよいカルボシクリル、任意に置換されていてもよいヘテロシクリル、任意に置換されていてもよいアリール、任意に置換されていてもよいヘテロアリール、任意に置換されていてもよいアシル、任意に置換されていてもよいスルホニル、任意に置換されていてもよいスルフィニル、−ＯＲＯ、−Ｎ（ＲＮ）２、または−ＳＲＳであり；
ＲＯの各存在は、独立して、水素、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいアルケニル、任意に置換されていてもよいアルキニル、任意に置換されていてもよいカルボシクリル、任意に置換されていてもよいヘテロシクリル、任意に置換されていてもよいアリール、任意に置換されていてもよいヘテロアリール、任意に置換されていてもよいアシル、または酸素保護基であり；
ＲＮの各存在は、独立して、水素、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいアルケニル、任意に置換されていてもよいアルキニル、任意に置換されていてもよいカルボシクリル、任意に置換されていてもよいヘテロシクリル、任意に置換されていてもよいアリール、任意に置換されていてもよいヘテロアリール、任意に置換されていてもよいアシル、または窒素保護基であるか；または任意に、同じ窒素上の２つのＲＮは、介在原子と一緒に連結して、任意に置換されていてもよいヘテロシクリルまたは任意に置換されていてもよいヘテロアリールを形成し；および
ＲＳの各存在は、独立して、水素、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいアルケニル、任意に置換されていてもよいアルキニル、任意に置換されていてもよいカルボシクリル、任意に置換されていてもよいヘテロシクリル、任意に置換されていてもよいアリール、任意に置換されていてもよいヘテロアリール、任意に置換されていてもよいアシル、または硫黄保護基である；
を含む、前記方法。
【請求項１７】
（ａ）加水分解するステップが、塩基の存在下で行われる、
（ｂ）加水分解するステップが、水酸化物の存在下で行われる、
（ｃ）脱水するステップが、脱水をもたらすことができる試薬の存在下で行われる、または
（ｄ）脱水するステップが、プロピルホスホン酸無水物、無水酢酸、塩化チオニル、またはＰＯＣｌ３から選択される、脱水をもたらすことができる試薬の存在下で行われる、
請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
請求項１６または１７で調製された化合物（３）を好適な条件下で還元するステップを含む、カンタリジンを調製する方法。
【請求項１９】
（ａ）還元するステップが、還元剤の存在下で行われる、
（ｂ）還元するステップが、ラネーＮｉ、Ｎｉ（ＩＩ）／ＮａＢＨ４、Ｃｏ（ＩＩ）／ＮａＢＨ４、Ｌｉ／ＥｔＮＨ２、ＬＡＨ／ＴｉＣｌ３、ＬＡＨ／ＣｕＣｌ２、Ｎｉ（ＩＩ）／Ｚｎ、Ｎｉ（ＩＩ）／Ａｌ、およびＬＡＨ／Ｃｐ２Ｎｉからなる群から選択される還元剤の存在下で行われる、または
（ｃ）還元するステップが、ラネーＮｉの存在下で行われる、
請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
式（Ｉ）：
【化１８】
2020536879.tif 000018
で表される化合物を調製する方法であって、式（ＩＩ）：
【化１９】
2020536879.tif 000019
で表される化合物を、パラジウム、一酸化炭素、および式Ｒ２ＯＨの試薬の存在下で反応させること；式中：
Ｘ１は、ハロゲン、任意に置換されていてもよいスルホナート、または任意に置換されていてもよいホスホナートであり；
Ｒ１およびＲ２は、独立して、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいアリール、任意に置換されていてもよいヘテロアリール、任意に置換されていてもよいカルボシクリル、任意に置換されていてもよいヘテロシクリル、または酸素保護基である；
を含む、前記方法。
【請求項２１】
（ａ）パラジウムが、パラジウム塩である、
（ｂ）パラジウムが、パラジウム（ＩＩ）である、
（ｃ）パラジウムが、パラジウム（０）である、
（ｄ）パラジウムが、塩化パラジウム（ＰｄＣｌ２）、酢酸パラジウム（Ｐｄ（ＯＡｃ）２）、またはトリフルオロ酢酸パラジウム（Ｐｄ（ＴＦＡ）２）である、
（ｅ）パラジウムが、酢酸パラジウム（Ｐｄ（ＯＡｃ）２）である、
（ｆ）パラジウムが、Ｐｄ２（ｄｂａ）３である、
（ｇ）パラジウムが、式（ＩＩ）で表される化合物に対して、触媒量で存在する、
（ｈ）パラジウムが、１〜１０ｍｏｌ％で存在する、
（ｉ）パラジウムがおよそ５ｍｏｌ％で存在する、
（ｊ）パラジウムがおよそ１．５ｍｏｌ％で存在する、
（ｋ）反応が、ホスフィンの存在下で行われる、
（ｌ）反応が、ホスフィンの存在下で行われ、ホスフィンが、トリフェニルホスフィン（Ｐｈ３Ｐ）である、
（ｍ）反応が、ホスフィンの存在下で行われ、ホスフィンが、ｄｐｐｆである、
（ｎ）反応が、ホスフィンの存在下で行われ、ホスフィンが、触媒量で存在する、
（ｏ）反応が、ホスフィンの存在下で行われ、ホスフィンが、１０〜２０ｍｏｌ％で存在する、
（ｐ）反応が、ホスフィンの存在下で行われ、ホスフィンが、１〜１０ｍｏｌ％で存在する、
（ｑ）反応が、ホスフィンの存在下で行われ、ホスフィンが、およそ１４ｍｏｌ％で存在する、
（ｒ）反応が、ホスフィンの存在下で行われ、ホスフィンが、およそ３ｍｏｌ％で存在する、
（ｓ）反応が、溶媒中で行われる、
（ｔ）反応が、溶媒中で行われ、溶媒が、極性溶媒である、
（ｕ）反応が、溶媒中で行われ、溶媒が、ＤＭＦである、
（ｖ）反応が、ほぼ室温で行われる、
（ｗ）反応が、室温超で行われる、または
（ｘ）式（Ｉ）で表される化合物が、５０％以上の収率で単離される、
請求項２０に記載の方法。
【請求項２２】
（ａ）Ｘ１が、任意に置換されていてもよいスルホナートである、
（ｂ）Ｘ１が、メシラート（−ＯＳＯ２ＣＨ３）、トシラート（−ＯＳＯ２Ｃ６Ｈ４ｐ−ＣＨ３）、またはトリフラート（−ＯＳＯ２ＣＦ３）である、
（ｃ）Ｘ１が、トリフラート（−ＯＳＯ２ＣＦ３）である、
（ｄ）Ｒ１およびＲ２が、同じである、
（ｅ）Ｒ１が、任意に置換されていてもよいＣ１〜６アルキルである、
（ｆ）Ｒ１が、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソ−プロピル、ｎ−ブチル、イソ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、またはｔｅｒｔ−ブチルである、
（ｇ）Ｒ１が、メチルである、
（ｈ）Ｒ２が、任意に置換されていてもよいＣ１〜６アルキルである、
（ｉ）Ｒ２が、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソ−プロピル、ｎ−ブチル、イソ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、またはｔｅｒｔ−ブチルである、
（ｊ）Ｒ２が、メチルである、または
（ｋ）Ｒ１およびＲ２が、メチルである、
請求項２０または２１に記載の方法。
【請求項２３】
式（ＩＩ）：
【化２０】
2020536879.tif 000020
式中：
Ｘ１は、ハロゲン、任意に置換されていてもよいスルホナート、または任意に置換されていてもよいホスホナートであり；
Ｒ１は、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいアリール、任意に置換されていてもよいヘテロアリール、任意に置換されていてもよいカルボシクリル、任意に置換されていてもよいヘテロシクリル、または酸素保護基である；
で表される化合物。
【請求項２４】
（ａ）Ｘ１が、任意に置換されていてもよいスルホナートである、
（ｂ）Ｘ１が、メシラート（−ＯＳＯ２ＣＨ３）、トシラート（−ＯＳＯ２Ｃ６Ｈ４ｐ−ＣＨ３）、またはトリフラート（−ＯＳＯ２ＣＦ３）である、
（ｃ）Ｒ１が、任意に置換されていてもよいＣ１−６アルキルである、
（ｄ）Ｒ１が、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソ−プロピル、ｎ−ブチル、イソ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、またはｔｅｒｔ−ブチルである、または
（ｅ）Ｒ１が、メチルである、請求項２３に記載の化合物。
【請求項２５】
（ａ）化合物が式：
【化２１】
2020536879.tif 000021
で表される、または
（ｂ）化合物が
【化２２】
2020536879.tif 000022
である、請求項２３または２４に記載の化合物。
【請求項２６】
式（ＩＶ）：
【化２３】
2020536879.tif 000023
式中：
ｎは、０、１、２、３、４、または５であり；
Ｒ３の各存在は、独立して、水素、ハロゲン、−ＣＮ、−ＮＯ２、−Ｎ３、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいアルケニル、任意に置換されていてもよいアルキニル、任意に置換されていてもよいカルボシクリル、任意に置換されていてもよいヘテロシクリル、任意に置換されていてもよいアリール、任意に置換されていてもよいヘテロアリール、任意に置換されていてもよいアシル、任意に置換されていてもよいスルホニル、任意に置換されていてもよいスルフィニル、−ＯＲＯ、−Ｎ（ＲＮ）２、または−ＳＲＳであり；
ＲＯの各存在は、独立して、水素、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいアルケニル、任意に置換されていてもよいアルキニル、任意に置換されていてもよいカルボシクリル、任意に置換されていてもよいヘテロシクリル、任意に置換されていてもよいアリール、任意に置換されていてもよいヘテロアリール、任意に置換されていてもよいアシル、または酸素保護基であり；
ＲＮの各存在は、独立して、水素、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいアルケニル、任意に置換されていてもよいアルキニル、任意に置換されていてもよいカルボシクリル、任意に置換されていてもよいヘテロシクリル、任意に置換されていてもよいアリール、任意に置換されていてもよいヘテロアリール、任意に置換されていてもよいアシル、または窒素保護基であるか；または任意に、同じ窒素上の２つのＲＮは、介在原子と一緒に連結して、任意に置換されていてもよいヘテロシクリルまたは任意に置換されていてもよいヘテロアリールを形成し；および
ＲＳの各存在は、独立して、水素、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいアルケニル、任意に置換されていてもよいアルキニル、任意に置換されていてもよいカルボシクリル、任意に置換されていてもよいヘテロシクリル、任意に置換されていてもよいアリール、任意に置換されていてもよいヘテロアリール、任意に置換されていてもよいアシル、または硫黄保護基である；
で表される化合物。
【請求項２７】
式（Ｖ）：
【化２４】
2020536879.tif 000024
式中：
ｎは、０、１、２、３、４、または５であり；
Ｒ３の各存在は、独立して、水素、ハロゲン、−ＣＮ、−ＮＯ２、−Ｎ３、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいアルケニル、任意に置換されていてもよいアルキニル、任意に置換されていてもよいカルボシクリル、任意に置換されていてもよいヘテロシクリル、任意に置換されていてもよいアリール、任意に置換されていてもよいヘテロアリール、任意に置換されていてもよいアシル、任意に置換されていてもよいスルホニル、任意に置換されていてもよいスルフィニル、−ＯＲＯ、−Ｎ（ＲＮ）２、または−ＳＲＳであり；
ＲＯの各存在は、独立して、水素、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいアルケニル、任意に置換されていてもよいアルキニル、任意に置換されていてもよいカルボシクリル、任意に置換されていてもよいヘテロシクリル、任意に置換されていてもよいアリール、任意に置換されていてもよいヘテロアリール、任意に置換されていてもよいアシル、または酸素保護基であり；
ＲＮの各存在は、独立して、水素、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいアルケニル、任意に置換されていてもよいアルキニル、任意に置換されていてもよいカルボシクリル、任意に置換されていてもよいヘテロシクリル、任意に置換されていてもよいアリール、任意に置換されていてもよいヘテロアリール、任意に置換されていてもよいアシル、または窒素保護基であるか；または任意に、同じ窒素上の２つのＲＮは、介在原子と一緒に連結して、任意に置換されていてもよいヘテロシクリルまたは任意に置換されていてもよいヘテロアリールを形成し；および
ＲＳの各存在は、独立して、水素、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいアルケニル、任意に置換されていてもよいアルキニル、任意に置換されていてもよいカルボシクリル、任意に置換されていてもよいヘテロシクリル、任意に置換されていてもよいアリール、任意に置換されていてもよいヘテロアリール、任意に置換されていてもよいアシル、または硫黄保護基である；
で表される化合物。
【請求項２８】
式（ＶＩ）：
【化２５】
2020536879.tif 000025
式中：
ｎは、０、１、２、３、４、または５であり；
Ｒ３の各存在は、独立して、水素、ハロゲン、−ＣＮ、−ＮＯ２、−Ｎ３、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいアルケニル、任意に置換されていてもよいアルキニル、任意に置換されていてもよいカルボシクリル、任意に置換されていてもよいヘテロシクリル、任意に置換されていてもよいアリール、任意に置換されていてもよいヘテロアリール、任意に置換されていてもよいアシル、任意に置換されていてもよいスルホニル、任意に置換されていてもよいスルフィニル、−ＯＲＯ、−Ｎ（ＲＮ）２、または−ＳＲＳであり；
ＲＯの各存在は、独立して、水素、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいアルケニル、任意に置換されていてもよいアルキニル、任意に置換されていてもよいカルボシクリル、任意に置換されていてもよいヘテロシクリル、任意に置換されていてもよいアリール、任意に置換されていてもよいヘテロアリール、任意に置換されていてもよいアシル、または酸素保護基であり；
ＲＮの各存在は、独立して、水素、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいアルケニル、任意に置換されていてもよいアルキニル、任意に置換されていてもよいカルボシクリル、任意に置換されていてもよいヘテロシクリル、任意に置換されていてもよいアリール、任意に置換されていてもよいヘテロアリール、任意に置換されていてもよいアシル、または窒素保護基であるか；または任意に、同じ窒素上の２つのＲＮは、介在原子と一緒に連結して、任意に置換されていてもよいヘテロシクリルまたは任意に置換されていてもよいヘテロアリールを形成し；および
ＲＳの各存在は、独立して、水素、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいアルケニル、任意に置換されていてもよいアルキニル、任意に置換されていてもよいカルボシクリル、任意に置換されていてもよいヘテロシクリル、任意に置換されていてもよいアリール、任意に置換されていてもよいヘテロアリール、任意に置換されていてもよいアシル、または硫黄保護基である；
で表される化合物。
【請求項２９】
式（ＩＩＩ）：
【化２６】
2020536879.tif 000026
式中：
ｎは、０、１、２、３、４、または５であり；
Ｒ３の各存在は、独立して、水素、ハロゲン、−ＣＮ、−ＮＯ２、−Ｎ３、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいアルケニル、任意に置換されていてもよいアルキニル、任意に置換されていてもよいカルボシクリル、任意に置換されていてもよいヘテロシクリル、任意に置換されていてもよいアリール、任意に置換されていてもよいヘテロアリール、任意に置換されていてもよいアシル、任意に置換されていてもよいスルホニル、任意に置換されていてもよいスルフィニル、−ＯＲＯ、−Ｎ（ＲＮ）２、または−ＳＲＳであり；
ＲＯの各存在は、独立して、水素、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいアルケニル、任意に置換されていてもよいアルキニル、任意に置換されていてもよいカルボシクリル、任意に置換されていてもよいヘテロシクリル、任意に置換されていてもよいアリール、任意に置換されていてもよいヘテロアリール、任意に置換されていてもよいアシル、または酸素保護基であり；
ＲＮの各存在は、独立して、水素、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいアルケニル、任意に置換されていてもよいアルキニル、任意に置換されていてもよいカルボシクリル、任意に置換されていてもよいヘテロシクリル、任意に置換されていてもよいアリール、任意に置換されていてもよいヘテロアリール、任意に置換されていてもよいアシル、または窒素保護基であるか；または任意に、同じ窒素上の２つのＲＮは、介在原子と一緒に連結して、任意に置換されていてもよいヘテロシクリルまたは任意に置換されていてもよいヘテロアリールを形成し；および
ＲＳの各存在は、独立して、水素、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいアルケニル、任意に置換されていてもよいアルキニル、任意に置換されていてもよいカルボシクリル、任意に置換されていてもよいヘテロシクリル、任意に置換されていてもよいアリール、任意に置換されていてもよいヘテロアリール、任意に置換されていてもよいアシル、または硫黄保護基である；
で表される化合物。
【請求項３０】
請求項２３〜２８のいずれか一項に記載の化合物またはその薬学的許容し得る塩、および薬学的に許容し得る賦形剤を含む、医薬組成物。
【請求項３１】
対象における疾患または状態を処置するための、または対象における疾患または状態を処置するための医薬の製造のための請求項３０に記載の医薬組成物。
【請求項３２】
（ａ）疾患または状態が、感染性疾患または皮膚状態である、または
（ｂ）疾患または状態が、先端線維角化腫、腸性先端皮膚炎、尖端角化類弾力線維症、紫外線角化症（日光角化症）、皮脂腺腫、被角血管腫、アトピー性皮膚炎、基底細胞癌、良性線維性組織球腫、膀胱がん、ボーウェンン病、乳房がん、ブシュケ・オレンドルフ症候群、子宮頸がん、子宮頸部異形成、老人性血管腫、慢性結節性耳輪軟骨皮膚炎、尋常性疣贅、皮膚子宮内膜症、皮膚白血病、皮膚リンパ腫、皮膚髄膜腫、皮膚粘液腫、ダリエー病、真皮樹状細胞過誤腫、皮膚線維腫、隆起性皮膚線維肉腫、エクリン血管腫様過誤腫、外胚葉異形成、表皮封入体嚢胞、表皮母斑、類上皮細胞組織球腫、家族性粘液血管線維腫（Familial myxovascular fibromas）、真菌皮膚疾患、顆粒細胞腫、グルカゴノーマ症候群、性器疣贅、魚鱗癬、特発性滴状低メラニン症、乳児先端膿疱症、乳児線維腫症、カポジ肉腫、ケロイド、ケラトアカントーマ、角化嚢胞、ナックルパッド、黒子（Lentigo）、黒色腫、微小血管腫（Microvenular hemangioma）、伝染性軟属腫、モートン神経腫、多巣性リンパ管内皮腫（Multifocal lymphangioendotheliomatosis）、多核細胞血管組織球腫（Multinucleate cell angiohistocytoma）、多発性皮膚平滑筋腫、菌状息肉腫、皮膚神経腫、神経莢腫、火炎状母斑、表在性脂肪腫性母斑、指皮膚肥厚症（Pachydermodactyly）、柵状被包性神経腫、寄生虫皮膚疾患、毛孔性紅色粃糠疹、立毛筋性平滑筋腫（Piloleiomyomas）、足底疣贅、叢状線維性組織球性腫瘍、有孔角化エクリンおよび真皮管母斑（Porokeratotic eccrine ostial and Dermal duct nevus）、進行性結節性組織球腫乾癬（Progressive nodular histiocytoma Psoriasis）、汗孔角化症、脂漏性皮膚炎、脂漏性角化症、鼻瘤、単発性皮膚平滑筋腫、クモ状血管腫、標的様ヘモジデリン性血管腫、扁平上皮細胞癌、房状血管、腫静脈湖、色素性じんましん、黄色板組織肥満細胞症（Xanthelasmoidal mastocytosis）、帯状疱疹様転移（Zosteriform metastasis）、良性表皮嚢腫、痣、胼胝腫、ウオノメ、湿疹、小斑点、黒子（Mole）、色素沈着障害、薬物誘発性色素過剰症、遺伝性対側性色素異常症、遺伝性汎発性色素異常症、家族性進行性色素過剰症、ガリガリ病、ヘモシデリン色素過剰症、特発性滴状低メラニン症、鉄金属性変色（Iron metallic discoloration）、白斑症、黒皮症、ムカメル症候群（Mukamel syndrome）、ヴィーナスのネックレス（Necklace of Venus）、貧血性母斑、脱色素性母斑、パリスター・キリアン症候群、葉状低メラニン症（Phylloid hypomelanosis）、まだら症、網状顔面色素沈着（Pigmentatio reticularis faciei et colli）、毛嚢胞（Pilar Cysts）、白色粃糠疹、シヴァット多形皮膚萎縮症、血管性先端多形皮膚萎縮症（Poikiloderma vasculare atrophicans）、炎症後色素沈着過剰症、進行性黄斑状低メラニン症、掻痒、弯曲部網状色素異常症（Reticular pigmented anomaly of the flexures）、網状肢端色素沈着症、リール黒皮症、シャー・ワールデンブルグ症候群、シイタケ皮膚炎、タール黒皮症、チタン金属性変色、一過性新生児膿疱性黒皮症、バガボンド白斑黒皮症（Vagabond’s leukomelanoderma）、血管攣縮性斑、ウェンデ・バックス症候群（Wende-Bauckus syndrome）、Ｘ連鎖性網状色素沈着症、イエメン人視聴覚障害低色素症候群、瘢痕、軟性線維腫、刺青除去、または白斑である、請求項３０または３１に記載の医薬組成物。