【手続補正書】
【提出日】令和3年1月7日(2021.1.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１３８】
本発明のさまざまな実施形態を説明した。これらの実施形態及び他の実施形態は、以下の特許請求の範囲に含まれる。以下、例示的実施形態について述べる。
［１］
微細構造化表面であって、前記微細構造化表面の平面に対して複数の斜面を備え、
前記微細構造化表面の約１０％は、約１０度未満の斜面を有し、前記微細構造化表面の約１５％は、約６０度を超える斜面を有し、前記微細構造化表面の約８０％は、約３０度未満〜約６０度の斜面を有し、
前記微細構造化表面は、複数の実質的にランダムに配置されたプリズム構造体を含み、各プリズム構造体は、ピークで合流する複数のファセットを含み、
前記複数のプリズム構造体のうちの少なくとも下位複数の各々に関して、各ファセットは、実質的に湾曲した周辺部分によって囲まれた実質的に平坦な中央部分を含む、微細構造化表面。
［２］
微細構造化表面であって、
複数の実質的にランダムに配置されたファセットを備え、
各ファセットは、前記微細構造化表面の平面に対して少なくとも１つの斜面を画定し、前記複数のファセットの前記少なくとも１つの斜面は、傾斜強度累積分布を規定し、約２０度の前記傾斜強度累積分布の変化率は、実質的に約６０度未満であり、約１０度の前記傾斜強度分布の変化率は、１度当たり約０．５％未満であり、約２０度の前記傾斜強度分布の変化率は、１度当たり約１％未満である、微細構造化表面。
［３］
微細構造化表面であって、
複数の実質的にランダムに配置されたファセットを備え、
各ファセットは、前記微細構造化表面の平面に対して斜面を画定する実質的に平坦な中央部分を含み、前記ファセットの前記平坦な中央部分の約２０％未満は、約４０度未満の斜面を有し、前記微細構造化表面の約１０％未満は、約２０度未満の斜面を有する、微細構造化表面。
［４］
微細構造化表面であって、
複数の実質的にランダムに配置されたファセットを備え、
各ファセットは、前記微細構造化表面の平面に対して斜面を画定する実質的に平坦な中央部分を含み、前記複数のファセットの前記斜面は、傾斜強度累積分布を規定し、約１０度未満の傾斜に関する前記傾斜強度累積分布の変化率は、１度当たり約１％未満であり、約３０度未満の傾斜に対する前記傾斜強度累積分布の変化率は、約２％未満である、微細構造化表面。
［５］
複数の実質的にランダムに配置されたプリズム構造体を備える微細構造化表面であって、
各プリズム構造体は、ピークで合流する複数のファセットを含み、各ファセットの中央部分は、前記微細構造化表面の平面の法線方向に対する方位角と、前記微細構造化表面の前記平面の前記法線方向に対する極角と、を規定し、０〜３６０度の前記方位角の前記分布の変動は、約２０％未満であり、前記複数のプリズム構造体の前記ファセットの前記極角の約５％未満は約１０度未満であり、前記極角の前記分布は最大で約１０〜６０度であり、前記法線方向に沿って入射する実質的なコリメート光に関して、前記微細構造化表面は、前記微細構造化表面の前記ピークの側から入射するコリメート光に対しては第１の全光透過率を有し、前記微細構造化表面の反対側から入射するコリメート光に対しては実質的により低い第２の全光透過率を有し、
前記法線方向に対して斜めの方向に沿って前記微細構造化表面の反対側から入射する実質的なコリメート光に対して前記微細構造化表面は、前記第２の全光透過率よりも大きい第３の全光透過率を有する、微細構造化表面。
［６］
微細構造化表面であって、
複数の実質的にランダムに配置されたファセットを備え、前記微細構造化表面の平面に対して複数の斜面を画定し、平方度の単位で、立体角当たりに約０の傾斜大きさを有する表面の割合は、約０．０００５％〜約０．０１％であり、平方度の単位で、立体角当たりに約０の傾斜大きさを有する表面の前記割合が、約０．００１％〜約０．００６％である、微細構造化表面。
［７］
微細構造化表面であって、
複数の実質的にランダムに配置されたファセットを備え、前記微細構造化表面の平面に対して複数の斜面を画定し、平方度の単位で、立体角当たりの前記微細構造化表面の約０．０１０％未満は、約１０度未満の傾斜大きさを有し、平方度単位で、立体角当たりの前記微細構造化表面の約０．００８％超は、約５０度の傾斜大きさを有する、微細構造化表面。
［８］
光学フィルムであって、複数のプリズム構造体を含み、基準平面と、前記基準平面に垂直な厚さ方向と、を画定する微細構造化表面を備え、
前記複数のプリズム構造体は、複数のファセットを含み、各ファセットは、前記厚さ方向に対する極角と、前記基準平面に沿った方位角と、を形成するファセット法線方向を有し、
前記微細構造化表面は、実質的に均一である、前記複数のファセットの面方位角分布を有し、
前記微細構造化表面は、軸外ピーク極分布を有する前記複数のファセットの面極分布を有し、
前記軸外ピーク極分布は、軸上極分布の少なくとも２倍大きく、
前記複数のプリズム構造体は、前記微細構造化表面にわたって不規則に分布し、
前記微細構造化表面は、少なくとも１０，０００個のファセットを含む解像度で実質的に均一であるファセットの面方位角分布を有する、光学フィルム。
［９］
光学フィルムであって、複数のプリズム構造体を含み、基準平面と、前記基準平面に垂直な厚さ方向と、を画定する微細構造化表面を備え、
前記複数のプリズム構造体は、複数のファセットを含み、各ファセットは、前記厚さ方向に対する極角と、前記基準平面に沿った方位角と、を形成するファセット法線方向を有し、
前記微細構造化表面は、コリメート光に対して実質的に均一である方位角透過率によって特徴付けられ、
前記微細構造化表面は、コリメート光の軸外ピーク極透過を有する極透過によって特徴付けられ、
前記軸外ピーク極透過は、軸上極透過の少なくとも２倍大きく、
前記複数のプリズム構造体は、前記微細構造化表面にわたって不規則に分布している、光学フィルム。
［１０］
金属テンプレートを含む電気メッキ溶液を調製することであって、前記金属テンプレートは、不規則プリズム構造体に対応する結晶形状を有する、調製することと、
金属層を前記電気メッキ溶液から基部上に電気メッキすることと、を含み、
前記金属層は不規則プリズム構造体を有する微細構造化表面に対応する不規則な突出部を含み、
前記微細構造化表面は、基準平面と前記基準平面に垂直な厚さ方向とを画定し、
前記不規則プリズム構造体は平坦なファセットを含み、
各平坦なファセットは、前記基準平面に対する極角と、前記基準平面に沿った方位角と、を形成するファセット法線方向を有し、
前記不規則プリズム構造体は、前記微細構造化表面の前記コリメート光の光透過特性が、円錐形プリズム構造体の集合体表面の前記コリメート光の光透過特性に近似するように、前記光学フィルムにわたって分布する、方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
微細構造化表面であって、前記微細構造化表面の平面に対して複数の斜面を備え、
前記微細構造化表面の約１０％は、約１０度未満の斜面を有し、前記微細構造化表面の約１５％は、約６０度を超える斜面を有し、前記微細構造化表面の約８０％は、約３０度未満〜約６０度の斜面を有し、
前記微細構造化表面は、複数の実質的にランダムに配置されたプリズム構造体を含み、各プリズム構造体は、ピークで合流する複数のファセットを含み、
前記複数のプリズム構造体のうちの少なくとも下位複数の各々に関して、各ファセットは、実質的に湾曲した周辺部分によって囲まれた実質的に平坦な中央部分を含む、微細構造化表面。
【請求項２】
微細構造化表面であって、
複数の実質的にランダムに配置されたファセットを備え、
各ファセットは、前記微細構造化表面の平面に対して少なくとも１つの斜面を画定し、前記複数のファセットの前記少なくとも１つの斜面は、傾斜強度累積分布を規定し、約２０度の前記傾斜強度累積分布の変化率は、実質的に約６０度未満であり、約１０度の前記傾斜強度分布の変化率は、１度当たり約０．５％未満であり、約２０度の前記傾斜強度分布の変化率は、１度当たり約１％未満である、微細構造化表面。
【請求項３】
複数の実質的にランダムに配置されたプリズム構造体を備える微細構造化表面であって、
各プリズム構造体は、ピークで合流する複数のファセットを含み、各ファセットの中央部分は、前記微細構造化表面の平面の法線方向に対する方位角と、前記微細構造化表面の前記平面の前記法線方向に対する極角と、を規定し、０〜３６０度の前記方位角の前記分布の変動は、約２０％未満であり、前記複数のプリズム構造体の前記ファセットの前記極角の約５％未満は約１０度未満であり、前記極角の前記分布は最大で約１０〜６０度であり、前記法線方向に沿って入射する実質的なコリメート光に関して、前記微細構造化表面は、前記微細構造化表面の前記ピークの側から入射するコリメート光に対しては第１の全光透過率を有し、前記微細構造化表面の反対側から入射するコリメート光に対しては実質的により低い第２の全光透過率を有し、
前記法線方向に対して斜めの方向に沿って前記微細構造化表面の反対側から入射する実質的なコリメート光に対して前記微細構造化表面は、前記第２の全光透過率よりも大きい第３の全光透過率を有する、微細構造化表面。