【手続補正書】
【提出日】平成16年12月13日(2004.12.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
光導波路中に形成されたグレーティングであって、
該光導波路は、コアと呼ばれる光導波部と、前記光導波部の周辺に形成されたクラッドと呼ばれる部位で構成されており、
前記グレーティングは、前記コア中または、前記コア中に光を伝搬させた際、その光の電界分布が広がる前記光導波部近傍のクラッド中に、イオンを遮蔽するイオン遮蔽部と、イオンが通過するスリットとを有したマスクを介して加速されたイオンを注入することにより、該スリットを通過してきたイオンを当該光導波部または当該光導波部近傍のクラッドに注入することによって形成された周期的屈折率変化部により構成され、
前記イオン遮蔽部に照射されたイオンは、前記光導波部から離れた位置にあるクラッド中に注入され、前記光導波部に到達していないことを特徴とする光導波路グレーティング。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
光導波路中に形成されたグレーティングであって、
該光導波路は、コアと呼ばれる光導波部と、前記光導波部の周辺に形成されたクラッドと呼ばれる部位で構成されており、
前記グレーティングは、前記コア中または、前記コア中に光を伝搬させた際、その光の電界分布が広がる前記光導波部近傍のクラッド中に、イオンを遮蔽するイオン遮蔽部と、イオンが通過するスリットとを有したマスクを介して加速されたイオンを注入することにより、該スリットを通過してきたイオンを当該光導波部または当該光導波部近傍のクラッドに注入することによって形成された周期的屈折率変化部により構成され、
前記イオン遮蔽部に照射されたイオンは、前記光導波部から離れた位置にあるクラッド中に注入され、前記グレーティングを形成すべき部位に到達していないことを特徴とする光導波路グレーティング。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】
前記光導波路グレーティングは、周期的屈折率変化部の周期が光導波路中に伝搬される光のブラッグ反射条件を満たすことを特徴とする請求項１または２に記載の光導波路グレーティング。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４】
光導波路中にグレーティングを形成する方法で、
コアと呼ばれる光導波部と、前記光導波部の周辺にクラッドと呼ばれる部位を持つ前記光導波路を用意し、
前記コア中または、前記コア中に光を伝搬させた際、その光の電界分布が広がる前記光導波部近傍のクラッド中に、イオンを遮蔽するイオン遮蔽部と、イオンが通過するスリットとを有したマスクを介して加速されたイオンを注入することにより、該スリットを通過してきたイオンを当該光導波部または当該光導波部近傍のクラッドに注入することによってグレーティングとなる周期的屈折率変化部を形成し、
さらに前記イオン遮蔽部に照射されたイオンは、前記光導波部から離れた位置にあるクラッド中に注入され、前記光導波部に到達しないことを特徴とする光導波路グレーティング形成方法。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項５】
光導波路中にグレーティングを形成する方法で、
コアと呼ばれる光導波部と、前記光導波部の周辺にクラッドと呼ばれる部位を持つ前記光導波路を用意し、
前記コア中または、前記コア中に光を伝搬させた際、その光の電界分布が広がる前記光導波部近傍のクラッド中に、イオンを遮蔽するイオン遮蔽部と、イオンが通過するスリットとを有したマスクを介して加速されたイオンを注入することにより、該スリットを通過してきたイオンを当該光導波部または当該光導波部近傍のクラッドに注入することによってグレーティングとなる周期的屈折率変化部を形成し、
さらに前記イオン遮蔽部に照射されたイオンは、前記光導波部から離れた位置にあるクラッド中に注入され、前記グレーティングを形成すべき部位に到達しないことを特徴とする光導波路グレーティング形成方法。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項６】
前記マスクは幅が５０ｎｍ〜５μｍの前記スリットを、５０ｎｍ〜５μｍの間隔で複数個配置した格子状マスクであることを特徴とする請求項４または５に記載の光導波路グレーティング形成方法。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項７】
前記光導波路グレーティングは、周期的屈折率変化部の周期が光導波路中に伝搬される光のブラッグ反射条件を満たすことを特徴とする請求項４ないし６のいずれかに記載の光導波路グレーティング形成方法。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項８】
前記マスクは、光導波路クラッド表面に、スリット及びスリット形成部に対応する格子状に金属材料、半導体材料、セラミック材料、又はポリマー材料を塗布、堆積、又は蒸着することにより形成されたマスクであることを特徴とする請求項４ないし７のいずれかに記載の光導波路グレーティング形成方法。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項９】
前記マスクは、研磨又はエッチングにより、スリット及びスリット形成部に対応する周期的な凹凸を光導波路クラッド表面に付与することにより形成されたマスクであることを特徴とする請求項４ないし７のいずれかに記載の光導波路グレーティング形成方法。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１０】
イオン注入を用いた光導波路グレーティング形成用マスクであって、
該マスクは平板上に、イオンが通過するスリットに対応する凹部、およびイオンを遮蔽するスリット形成部に対応する凸部を周期的に複数個形成したマスクであることを特徴とする光導波路グレーティング形成用マスク。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１１】
前記マスクは、スリットに対応する前記凹部に、マスクに用いた材料よりもイオン阻止能の低い固体の材料を埋め込んだことを特徴とする請求項１０に記載の光導波路グレーティング形成用マスク。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１２】
イオン注入を用いた光導波路グレーティング形成用マスクであって、
該マスクは平板上にスリットに対応する開口穴を周期的に複数個形成したマスクであり、前記開口穴には、マスクに用いた材料よりもイオン阻止能の低い固体の材料を埋め込んだことを特徴とする光導波路グレーティング形成用マスク。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１３】
前記マスクは幅が５０ｎｍ〜５μｍのスリットを、５０ｎｍ〜５μｍの間隔で複数個配置した格子状マスクであることを特徴とする請求項１０ないし１２のいずれかに記載の光導波路グレーティング形成用マスク。
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１４】
前記マスクにおけるスリットの配置周期は、前記光導波路グレーティングを形成する光導波路中に伝搬される光のブラッグ反射条件を満たすことを特徴とする請求項１０ないし１３のいずれかに記載の光導波路グレーティング形成用マスク。
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１５】
前記マスクは、金属材料、半導体材料、セラミック材料、ポリマー材料、又はこれらの複合により形成されたマスクであることを特徴とする請求項１０ないし１４のいずれかに記載の光導波路グレーティング形成用マスク。
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１６】
光導波路中に形成されたグレーティングであって、
該光導波路は、コアと呼ばれる光導波部と、前記光導波部の周辺に形成されたクラッドと呼ばれる部位で構成されており、
前記グレーティングは、前記コア中または、前記コア中に光を伝搬させた際、その光の電界分布が広がる前記光導波部近傍のクラッド中に、イオンを遮蔽するイオン遮蔽部と、イオンが通過するスリットとを有したマスクを介して加速されたイオンを注入することにより、該スリットを通過してきたイオンを当該光導波部または当該光導波部近傍のクラッドに注入することによって形成された周期的屈折率変化部により構成され、
前記イオンの注入時に、該イオンの前記光導波路内でのラテラル・ストラッグリングが、形成する前記周期的屈折率変化部の周期の４分の３以下になるように、該イオンの加速エネルギーが選択されたことを特徴とする光導波路グレーティング。
【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１７】
光導波路中に形成されたグレーティングであって、
該光導波路は、コアと呼ばれる光導波部と、前記光導波部の周辺に形成されたクラッドと呼ばれる部位で構成されており、
前記グレーティングは、前記コア中または、前記コア中に光を伝搬させた際、その光の電界分布が広がる前記光導波部近傍のクラッド中に、イオンを遮蔽するイオン遮蔽部と、イオンが通過するスリットとを有したマスクを介して加速されたイオンを注入することにより、該スリットを通過してきたイオンを当該光導波部または当該光導波部近傍のクラッドに注入することによって形成された周期的屈折率変化部により構成され、
前記イオンの注入時に、該イオンの一部又は全部が前記周期的屈折率変化を形成したい部分を完全に通過してしまうような加速エネルギーが前記イオンに対して選択されたことを特徴とする光導波路グレーティング。
【手続補正１８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２３】
コアと呼ばれる光導波部と、前記光導波部の周辺にクラッドと呼ばれる部位を持つ光導波路を用意し、
前記コア中または、前記コア中に光を伝搬させた際、その光の電界分布が広がる前記光導波部近傍のクラッド中に、イオンを遮蔽するイオン遮蔽部と、イオンが通過するスリットとを有したマスクを介して加速されたイオンを注入することにより、該スリットを通過してきたイオンを当該光導波部または当該光導波部近傍のクラッドに注入することによってグレーティングとなる周期的屈折率変化部を形成する方法で、
前記イオンの注入時に、該イオンの前記光導波路内でのラテラル・ストラッグリングが、形成する前記周期的屈折率変化部の周期の４分の３以下になるように、該イオンの加速エネルギーを選択したことを特徴とする光導波路グレーティング形成方法。
【手続補正１９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２４】
コアと呼ばれる光導波部と、前記光導波部の周辺にクラッドと呼ばれる部位を持つ光導波路を用意し、
前記コア中または、前記コア中に光を伝搬させた際、その光の電界分布が広がる前記光導波部近傍のクラッド中に、イオンを遮蔽するイオン遮蔽部と、イオンが通過するスリットとを有したマスクを介して加速されたイオンを注入することにより、該スリットを通過してきたイオンを当該光導波部または当該光導波部近傍のクラッドに注入することによってグレーティングとなる周期的屈折率変化部を形成する方法で、
前記イオンの注入時に、該イオンの一部又は全部が前記周期的屈折率変化を形成したい部分を完全に通過してしまうような加速エネルギーを選択するイオン注入方法を用いたことを特徴とする光導波路グレーティング形成方法。
【手続補正２０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、本発明の光導波路グレーティングの第１の態様は、光導波路中に形成されたグレーティングであって、該光導波路は、コアと呼ばれる光導波部と、前記光導波部の周辺に形成されたクラッドと呼ばれる部位で構成されており、前記グレーティングは、前記コア中または、前記コア中に光を伝搬させた際、その光の電界分布が広がる前記光導波部近傍のクラッド中に、イオンを遮蔽するイオン遮蔽部と、イオンが通過するスリットとを有したマスクを介して加速されたイオンを注入することにより、該スリットを通過してきたイオンを当該光導波部または当該光導波部近傍のクラッドに注入することによって形成された周期的屈折率変化部により構成され、前記イオン遮蔽部に照射されたイオンは、前記光導波部から離れた位置にあるクラッド中に注入され、前記光導波部に到達していないことを特徴とする。
【手続補正２１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
また、本発明の光導波路グレーティングの第２の態様は、光導波路中に形成されたグレーティングであって、該光導波路は、コアと呼ばれる光導波部と、前記光導波部の周辺に形成されたクラッドと呼ばれる部位で構成されており、前記グレーティングは、前記コア中または、前記コア中に光を伝搬させた際、その光の電界分布が広がる前記光導波部近傍のクラッド中に、イオンを遮蔽するイオン遮蔽部と、イオンが通過するスリットとを有したマスクを介して加速されたイオンを注入することにより、該スリットを通過してきたイオンを当該光導波部または当該光導波部近傍のクラッドに注入することによって形成された周期的屈折率変化部により構成され、前記イオン遮蔽部に照射されたイオンは、前記光導波部から離れた位置にあるクラッド中に注入され、前記グレーティングを形成すべき部位に到達していないことを特徴とする。
【手続補正２２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
ここで、好ましくは、前記光導波路グレーティングは、周期的屈折率変化部の周期が光導波路中に伝搬される光のブラッグ反射条件を満たす、とすることができる。
【手続補正２３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
上記目的を達成するため、本発明の光導波路グレーティング形成方法の第１の態様は、光導波路中にグレーティングを形成する方法で、コアと呼ばれる光導波部と、前記光導波部の周辺にクラッドと呼ばれる部位を持つ前記光導波路を用意し、前記コア中または、前記コア中に光を伝搬させた際、その光の電界分布が広がる前記光導波部近傍のクラッド中に、イオンを遮蔽するイオン遮蔽部と、イオンが通過するスリットとを有したマスクを介して加速されたイオンを注入することにより、該スリットを通過してきたイオンを当該光導波部または当該光導波部近傍のクラッドに注入することによってグレーティングとなる周期的屈折率変化部を形成し、さらに前記イオン遮蔽部に照射されたイオンは、前記光導波部から離れた位置にあるクラッド中に注入され、前記光導波部に到達しないことを特徴とする。
【手続補正２４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
また、本発明の光導波路グレーティング形成方法の第２の態様は、光導波路中にグレーティングを形成する方法で、コアと呼ばれる光導波部と、前記光導波部の周辺にクラッドと呼ばれる部位を持つ前記光導波路を用意し、前記コア中または、前記コア中に光を伝搬させた際、その光の電界分布が広がる前記光導波部近傍のクラッド中に、イオンを遮蔽するイオン遮蔽部と、イオンが通過するスリットとを有したマスクを介して加速されたイオンを注入することにより、該スリットを通過してきたイオンを当該光導波部または当該光導波部近傍のクラッドに注入することによってグレーティングとなる周期的屈折率変化部を形成し、さらに前記イオン遮蔽部に照射されたイオンは、前記光導波部から離れた位置にあるクラッド中に注入され、前記グレーティングを形成すべき部位に到達しないことを特徴とする。
【手続補正２５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
ここで、好ましくは、前記マスクは幅が５０ｎｍ〜５μｍの前記スリットを、５０ｎｍ〜５μｍの間隔で複数個配置した格子状マスクである、とすることができる。
また、好ましくは、前記光導波路グレーティングは、周期的屈折率変化部の周期が光導波路中に伝搬される光のブラッグ反射条件を満たす、とすることができる。
【手続補正２６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
また、好ましくは、前記マスクは、光導波路クラッド表面に、スリット及びスリット形成部に対応する格子状に金属材料、半導体材料、セラミック材料、又はポリマー材料を塗布、堆積、又は蒸着することにより形成されたマスクである、とすることができる。
【手続補正２７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
また、好ましくは、前記マスクは、研磨又はエッチングにより、スリット及びスリット形成部に対応する周期的な凹凸を光導波路クラッド表面に付与することにより形成されたマスクである、とすることができる。
【手続補正２８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
上記目的を達成するため、本発明の、光導波路グレーティング形成用マスクの第１の態様は、イオン注入を用いた光導波路グレーティング形成用マスクであって、該マスクは平板上に、イオンが通過するスリットに対応する凹部、およびイオンを遮蔽するスリット形成部に対応する凸部を周期的に複数個形成したマスクであることを特徴とする。
【手続補正２９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
ここで、好ましくは、前記マスクは、スリットに対応する前記凹部に、マスクに用いた材料よりもイオン阻止能の低い固体の材料を埋め込んだ、とすることができる。
【手続補正３０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
また、本発明の、光導波路グレーティング形成用マスクの第２の態様は、イオン注入を用いた光導波路グレーティング形成用マスクであって、該マスクは平板上にスリットに対応する開口穴を周期的に複数個形成したマスクであり、前記開口穴には、マスクに用いた材料よりもイオン阻止能の低い固体の材料を埋め込んだことを特徴とする。
【手続補正３１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
ここで、好ましくは、前記マスクは幅が５０ｎｍ〜５μｍのスリットを、５０ｎｍ〜５μｍの間隔で複数個配置した格子状マスクである、とすることができる。
【手続補正３２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
また、好ましくは、前記マスクにおけるスリットの配置周期は、前記光導波路グレーティングを形成する光導波路中に伝搬される光のブラッグ反射条件を満たす、とすることができる。
【手続補正３３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
また、好ましくは、前記マスクは、金属材料、半導体材料、セラミック材料、ポリマー材料、又はこれらの複合により形成されたマスクである、とすることができる。
【手続補正３４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
上記目的を達成するため、本発明の光導波路グレーティングの第１の態様は、光導波路中に形成されたグレーティングであって、該光導波路は、コアと呼ばれる光導波部と、前記光導波部の周辺に形成されたクラッドと呼ばれる部位で構成されており、前記グレーティングは、前記コア中または、前記コア中に光を伝搬させた際、その光の電界分布が広がる前記光導波部近傍のクラッド中に、イオンを遮蔽するイオン遮蔽部と、イオンが通過するスリットとを有したマスクを介して加速されたイオンを注入することにより、該スリットを通過してきたイオンを当該光導波部または当該光導波部近傍のクラッドに注入することによって形成された周期的屈折率変化部により構成され、前記イオンの注入時に、該イオンの前記光導波路内でのラテラル・ストラッグリングが、形成する前記周期的屈折率変化部の周期の４分の３以下になるように、該イオンの加速エネルギーが選択されたことを特徴とする。
【手続補正３５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
また、本発明の光導波路グレーティングの第２の態様は、光導波路中に形成されたグレーティングであって、該光導波路は、コアと呼ばれる光導波部と、前記光導波部の周辺に形成されたクラッドと呼ばれる部位で構成されており、前記グレーティングは、前記コア中または、前記コア中に光を伝搬させた際、その光の電界分布が広がる前記光導波部近傍のクラッド中に、イオンを遮蔽するイオン遮蔽部と、イオンが通過するスリットとを有したマスクを介して加速されたイオンを注入することにより、該スリットを通過してきたイオンを当該光導波部または当該光導波部近傍のクラッドに注入することによって形成された周期的屈折率変化部により構成され、前記イオンの注入時に、該イオンの一部又は全部が前記周期的屈折率変化を形成したい部分を完全に通過してしまうような加速エネルギーが前記イオンに対して選択されたことを特徴とする。
【手続補正３６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
上記目的を達成するため、本発明の光導波路グレーティング形成方法の第１の態様は、コアと呼ばれる光導波部と、前記光導波部の周辺にクラッドと呼ばれる部位を持つ光導波路を用意し、前記コア中または、前記コア中に光を伝搬させた際、その光の電界分布が広がる前記光導波部近傍のクラッド中に、イオンを遮蔽するイオン遮蔽部と、イオンが通過するスリットとを有したマスクを介して加速されたイオンを注入することにより、該スリットを通過してきたイオンを当該光導波部または当該光導波部近傍のクラッドに注入することによってグレーティングとなる周期的屈折率変化部を形成する方法で、前記イオンの注入時に、該イオンの前記光導波路内でのラテラル・ストラッグリングが、形成する前記周期的屈折率変化部の周期の４分の３以下になるように、該イオンの加速エネルギーを選択したことを特徴とする。
【手続補正３７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
また、本発明の光導波路グレーティング形成方法の第２の態様は、コアと呼ばれる光導波部と、前記光導波部の周辺にクラッドと呼ばれる部位を持つ光導波路を用意し、前記コア中または、前記コア中に光を伝搬させた際、その光の電界分布が広がる前記光導波部近傍のクラッド中に、イオンを遮蔽するイオン遮蔽部と、イオンが通過するスリットとを有したマスクを介して加速されたイオンを注入することにより、該スリットを通過してきたイオンを当該光導波部または当該光導波部近傍のクラッドに注入することによってグレーティングとなる周期的屈折率変化部を形成する方法で、前記イオンの注入時に、該イオンの一部又は全部が前記周期的屈折率変化を形成したい部分を完全に通過してしまうような加速エネルギーを選択するイオン注入方法を用いたことを特徴とする。