Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成16年10月26日(2004.10.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
受信信号６０１が、低域フィルタ６０２を介して、バッファ６０３に蓄えられる第１段階と、
前記バッファ６０３からの出力信号６０４が、チャネル推定値６１０,６１１,６１２と決定信号６１３,６１４,６１５とを出力する複数の検出器６０７,６０８,６０９に、加算器を介して、それぞれ入力される第２段階と、
前記複数の検出器６０７,６０８,６０９から出力された前記各決定信号６１３,６１４,６１５が選択制御器６１６に入力され、当該選択制御器６１６が、前記チャネル推定値６１０,６１１,６１２に含まれる振幅成分に基づき定まる電力の大きさ順に、前記決定信号６１３,６１４,６１５の内から、１以上の決定信号を順次選択する第３段階と、
前記第３段階で選択された決定信号が出力されるように前記選択制御器６１６の出力端子のスイッチが制御され、当該スイッチを介して、前記第３段階で選択された決定信号がシグニウム関数６２０,６２１,６２２にそれぞれ入力される第４段階と、
前記シグニウム関数６２０,６２１,６２２から出力された(＋１,−１)二進データ信号が処理器６２６,６２７,６２８に入力され、当該(＋１,−１)二進データ信号の基底帯域信号が再生される第５段階と、
前記バッファ６０３からの出力信号６０４から、前記第５段階で再生された基底帯域信号が除去される第６段階と、
前記第５段階で再生された基底帯域信号を、前記加算器に帰還６３８,６３９,６４０させて、前記第６段階を経た信号に加算し、前記第３段階で選択された決定信号に対応する検出器に入力すべき新たな信号６０６,６０８,６０９が生成される第７段階と、
前記複数の検出器において、前記新たな信号６０６,６０８,６０９を用いてチャネル推定値６１０,６１１,６１２が更新される第８段階と、
前記選択制御器６１６によって以前に選択された決定信号に対応する検出器が、前記更新されたチャネル推定値６１０,６１１,６１２を用いて雑音除去過程を引き続き実行し、前記選択制御器６１６に選択されている決定信号に対応する検出器が雑音処理過程に関わる間、以前に選択された決定信号に対応する検出器が、決定値６２３,６２４,６２５を、雑音除去後の信号６０６,６０８,６０９を基に逐次更新することにより雑音除去過程を引き続き実行する第９段階と、
雑音除去過程の完了後、制御信号６４２,６４３,６４４を用いた復旧動作により(＋１,−１)二進データ信号６４６,６４７,６４８を出力させる第１０段階と、
を有することを特徴とする適応型直並列混合雑音除去方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年11月12日(2004.11.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
抵抗器占有領域を有し、第１の抵抗器用パッド及び第２の抵抗器用パッドを必要とする表面実装用抵抗器と、トランジスタ占有領域を有し、第１のトランジスタ用パッド、第２のトランジスタ用パッド、及び第３のトランジスタ用パッドを必要とする表面実装用トランジスタとの、どちらを搭載することも可能な複数のパッドを提供するプリント回路板において、
プリント回路板用絶縁性基板と、
第１の抵抗器用パッドと、第２の抵抗器用パッドと、前記第１の抵抗器用パッドとの間に重なり部を有する第１のトランジスタ用パッドと、前記第２の抵抗器用パッドとの間に重なり部を有する第２のトランジスタ用パッドと、第３のトランジスタ用パッドとを含んでいる導体レイアウトと
を備えていることを特徴とするプリント回路板。
【請求項２】
請求項１記載のプリント回路板において、前記複数の抵抗器用パッドに対して相対的に位置が定まる抵抗器占有領域と、前記複数のトランジスタ用パッドに対して相対的に位置が定まるトランジスタ占有領域との間に重なり部が存在して、前記複数のパッド上には、表面搭載抵抗器と表面搭載トランジスタとのいずれか一方のみが搭載可能であり、両者を共に搭載することが不可能であることを特徴とするプリント回路板。
【請求項３】
請求項１記載のプリント回路板において、前記第１のトランジスタ用パッドがソース・ピンに接続するためのパッドであり、前記第２のトランジスタ用パッドがドレイン・ピンに接続するためのパッドであることを特徴とするプリント回路板。
【手続補正書】
【提出日】平成16年8月9日(2004.8.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｕ形横断面を有し印刷回路板の表面に沿って置かれる盛りはんだであって、横方向のブリッジ部分及び前記ブリッジ部分から縦方向に前記印刷回路板の表面に沿って延びる第１及び第２の腕の先端を有する盛りはんだを設けることと、
傾斜した盛りはんだの先端を形成し、前記傾斜した盛りはんだの先端の間に傾斜した盛りはんだの開口を横方向に形成するために、前記ブリッジ部分から縦方向に前記印刷回路板の表面に沿って延びる前記第１及び第２の腕の先端を傾斜させることと、
前記傾斜した盛りはんだの開口の近傍に構成要素リードを置くことと、
前記構成要素リードを前記傾斜した盛りはんだの先端に沿わせて前記傾斜した盛り半だの開口に位置合わせすることと、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項２】
前記構成要素リードを位置合わせすることには、前記傾斜した盛りはんだの開口が前記構成要素リードを受け入れるように、前記構成要素リードを前記傾斜した盛りはんだの先端の少なくとも一つに接触させて前記印刷回路板の表面に沿って滑らせることが含まれることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年12月7日(2004.12.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
送信機、受信機及び少なくとも１つの集積回路が設けられており、これらすべてが、接続部（３）を有する共通のハウジング（２）内に配置されている、光学データ伝送を行うトランシーバ構成要素（１）において、もっぱら送信機のために駆動電流を供給するためのトランシーバ構成要素の接続部が設けられていることを特徴とする、光学データ伝送を行うトランシーバ構成要素。
【請求項２】
受信機及び集積回路の給電電圧を供給するための別の接続部が設けられていることを特徴とする、請求項１記載のトランシーバ構成要素。
【請求項３】
共通の基準電位を供給するための別の接続部が設けられていることを特徴とする、請求項１又は２記載のトランシーバ構成要素。
【請求項４】
送信データを供給するため及び受信データを送出するためのそれぞれ１つの別の接続部が設けられていることを特徴とする、請求項１ないし３の１つに記載のトランシーバ構成要素。
【請求項５】
トランシーバ構成要素が表面取付けに適するように、接続部が形成されていることを特徴とする、請求項１ないし４の１つに記載のトランシーバ構成要素。
【請求項６】
取付け平面に対して垂直に又は平行に表面取付けを行う際の整列が行なわれることを特徴とする、請求項１ないし５の１つに記載のトランシーバ構成要素。
【請求項７】
送信機用駆動電流を供給するための接続部が、調整されない電源（１０）に直接接続され、別の接続部が、調整される電源（１１）に接続されていることを特徴とする、請求項１記載のトランシーバ構成要素。
【請求項８】
トランシーバ構成要素がドライバを持ち、集積回路の電圧供給の遮断により送信機も遮断可能であるように、ドライバにより送信機の供給電圧が集積回路から制御可能であることを特徴とする、請求項１記載のトランシーバ構成要素。
【手続補正書】
【提出日】平成17年8月11日(2005.8.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
粒子寸法が４５０ｎｍ未満の粒子を含有する分散液から塗布された導電性ポリマーを含むフィルムであって、該導電性ポリマーがチエノ［３，４−ｂ］チオフェンの置換された又は無置換の、電荷を持たない又は電荷を持つ重合した単位を含み、且つ該分散液からドロップキャストしたフィルムの導電率が４点プローブ法を用いて測定して１０-1〜１０-6Ｓ／ｃｍである、導電性ポリマーを含むフィルム。
【請求項２】
前記粒子寸法が２００ｎｍ未満である、請求項１に記載のフィルム。
【請求項３】
前記フィルムの導電率が１０-2〜１０-6Ｓ／ｃｍである、請求項１又は２に記載のフィルム。
【請求項４】
前記フィルムの導電率が１０-2〜１０-5Ｓ／ｃｍである、請求項１又は２に記載のフィルム。
【請求項５】
前記導電性ポリマーが、
【化１】
2005206839.tif 000001
（上式中、Ｒは水素、置換された又は無置換の（Ｃ1〜Ｃ18）アルキル、（Ｃ3〜Ｃ7）シクロアルキル、（Ｃ1〜Ｃ18）アルキルオキシ、（Ｃ2〜Ｃ18）アルキルオキシエステル、フェニル、置換されたフェニル、又はＳＦ5である）
の置換された又は無置換の、電荷を持たない又は電荷を持つ重合した単位を含む、請求項１に記載のフィルム。
【請求項６】
Ｒが（Ｃ1−Ｃ10）アルキル又は（Ｃ1−Ｃ10）アルキルオキシである、請求項５に記載のフィルム。
【請求項７】
Ｒが（Ｃ1−Ｃ6）アルキルである、請求項５に記載のフィルム。
【請求項８】
Ｒがｔ−ブチルである、請求項７に記載のフィルム。
【請求項９】
粒子寸法が４５０ｎｍ未満の粒子を含有する導電性ポリマーを含む分散液であって、該導電性ポリマーがチエノ［３，４−ｂ］チオフェンの置換された又は無置換の、電荷を持たない又は電荷を持つ重合した単位を含み、且つ該分散液からドロップキャストしたフィルムの導電率が４点プローブ法を用いて測定して１０-1〜１０-6Ｓ／ｃｍである、導電性ポリマーを含む分散液。
【請求項１０】
前記粒子寸法が２００ｎｍ未満である、請求項９に記載の分散液。
【請求項１１】
前記フィルムの導電率が１０-2〜１０-6Ｓ／ｃｍである、請求項９又は１０に記載の分散液。
【請求項１２】
前記フィルムの導電率が１０-2〜１０-5Ｓ／ｃｍである、請求項９又は１０に記載の分散液。
【請求項１３】
前記導電性ポリマーが、
【化２】
2005206839.tif 000002
（上式中、Ｒは水素、置換された又は無置換の（Ｃ1〜Ｃ18）アルキル、（Ｃ3〜Ｃ7）シクロアルキル、（Ｃ1〜Ｃ18）アルキルオキシ、（Ｃ2〜Ｃ18）アルキルオキシエステル、フェニル、置換されたフェニル、又はＳＦ5である）
の置換された又は無置換の、電荷を持たない又は電荷を持つ重合した単位を含む、請求項９に記載の分散液。
【請求項１４】
Ｒが（Ｃ1−Ｃ10）アルキル又は（Ｃ1−Ｃ10）アルキルオキシである、請求項１３に記載のフィルム。
【請求項１５】
Ｒが（Ｃ1−Ｃ6）アルキルである、請求項１３に記載のフィルム。
【請求項１６】
Ｒがｔ−ブチルである、請求項１５に記載のフィルム。
【請求項１７】
粒子寸法が４５０ｎｍ未満の粒子を含有する分散液から塗布された導電性ポリマーを含むフィルムを含むオプトエレクトロニックデバイスであって、該導電性ポリマーがチエノ［３，４−ｂ］チオフェンの置換された又は無置換の、電荷を持たない又は電荷を持つ重合した単位を含み、且つ該分散液からドロップキャストしたフィルムの導電率が４点プローブ法を用いて測定して１０-1〜１０-6Ｓ／ｃｍである、オプトエレクトロニックデバイス。
【請求項１８】
該デバイスが、発光ダイオード、光起電力デバイス及びレーザーダイオードからなる群から選択される、請求項１７に記載のオプトエレクトロニックデバイス。
【請求項１９】
前記フィルムが、（ａ）正孔注入層、（ｂ）正孔輸送層、又は（ｃ）正孔注入且つ正孔輸送層である、請求項１７に記載のオプトエレクトロニックデバイス。
【請求項２０】
前記フィルムの導電率が１０-2〜１０-6Ｓ／ｃｍである、請求項１７に記載のオプトエレクトロニックデバイス。
【請求項２１】
前記フィルムの導電率が１０-2〜１０-5Ｓ／ｃｍである、請求項１７に記載のオプトエレクトロニックデバイス。
【手続補正書】
【提出日】平成17年10月18日(2005.10.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
メッキ液が注入されるメッキ槽と、
表面の一部が前記メッキ液に浸漬されるように配置された回転可能な基体と、
前記基体と前記メッキ槽の間に電界を印加する電界印加手段と、
前記基体の回転方向下流側に配置され、前記メッキ液より引き上げた基体表面上の金属メッキ膜に被転写材を押圧する転写手段と、を有するメッキ膜形成装置であって、
前記基体は、その表層部が中核部に対して着脱可能に構成されることを特徴とするメッキ膜形成装置。
【請求項２】
前記基体の表層部は、複数のブロックで区画されることを特徴とする請求項１記載のメッキ膜形成装置。
【請求項３】
前記基体は、円柱状又は円筒状の表面を有することを特徴とする請求項１又は２に記載のメッキ膜形成装置。
【請求項４】
前記基体は、その表面の曲率半径が５０ｍｍ〜２０００ｍｍであることを特徴とする請求項３に記載のメッキ膜形成装置。
【請求項５】
前記表層部は、前記基体の表面に形成された導電性膜を有して成ることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載のメッキ膜形成装置。
【請求項６】
前記表層部は、前記基体の表面に形成された導電性膜と、該導電性膜の表面に形成され前記金属メッキ膜の析出領域を規制するマスク層と、を有して成ることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載のメッキ膜形成装置。
【請求項７】
前記導電性膜は、その表面粗さが最大高さＲｙで０．５μｍ以下であり、且つ、その比抵抗が１０−２Ωｃｍ以下であることを特徴とする請求項５又は６に記載のメッキ膜形成装置。
【請求項８】
前記導電性膜は、窒化チタンアルミニウム、窒化クロム、窒化チタン、窒化チタンクロム、炭窒化チタン、炭化チタン及び導電性ＤＬＣの少なくとも一種から成ることを特徴とする請求項５乃至７のいずれかに記載のメッキ膜形成装置。
【請求項９】
前記マスク層は、ダイヤモンド・ライク・カーボン（ＤＬＣ）もしくはグラファイト・ライク・カーボン（ＧＬＣ）から成ることを特徴とする請求項６乃至８のいずれかに記載のメッキ膜形成装置。
【請求項１０】
前記マスク層の側面と底面との間に形成される角部の角度αがα≦９０°であることを特徴とする請求項６乃至９のいずれかに記載のメッキ膜形成装置。
【請求項１１】
前記メッキ液は非導電性微粒子を含んで成り、該非導電性微粒子が基体表面に析出した金属成分に付着することによって非導電性微粒子を含む金属メッキ膜が形成されることを特徴とする請求項１乃至１０のいずれかに記載のメッキ膜形成装置。
【請求項１２】
前記非導電性微粒子はセラミック又は樹脂からなることを特徴とする請求項１乃至１１のいずれかに記載のメッキ膜形成装置。
【請求項１３】
前記転写手段に対して、前記基体の回転方向上流側に、前記金属メッキ膜の表面に残存するメッキ液を除去するための洗浄手段を配置させていることを特徴とする請求項１乃至１２のいずれかに記載のメッキ膜形成装置。
【請求項１４】
前記洗浄手段に対して、前記基体の回転方向下流側に、金属メッキ膜表面に残存する洗浄液を除去する洗浄液吸引手段が配置されていることを特徴とする請求項１３記載のメッキ膜形成装置。
【請求項１５】
前記洗浄手段に対して、前記基体の回転方向上流側に、前記金属メッキ膜表面に残存するメッキ液を吸収・除去するためのメッキ液吸引手段が配置されていることを特徴とする請求項１３又は１４に記載のメッキ膜形成装置。
【請求項１６】
請求項１乃至１５のいずれかに記載のメッキ膜形成装置を用いて形成されたメッキ膜。
【請求項１７】
請求項１乃至１５のいずれかに記載のメッキ膜形成装置を用いて形成された電子部品。
【請求項１８】
表層部が中核部に対して着脱可能に構成された基体の表面に金属メッキ膜を析出させる工程と、
前記金属メッキ膜を前記基体より剥離させる工程と、を有して成るメッキ膜の形成方法。
【請求項１９】
前記基体は円柱状又は円筒状の表面を有して成り、且つ、
前記金属メッキ膜の析出工程は、前記基体を軸周りに回転させながら、前記表面の一部をメッキ槽のメッキ液に浸漬するとともに前記基体と前記メッキ槽との間に電界を印加することによって行なうことを特徴とする請求項１８記載のメッキ膜の形成方法。
【請求項２０】
表層部が中核部に対して着脱可能に構成された基体の表面に金属メッキ膜を析出させる工程と、
前記金属メッキ膜を前記基体から被転写材へ転写する工程と、を有してなる電子部品の形成方法。
【請求項２１】
前記基体は円柱状又は円筒状の表面を有して成り、且つ、
前記金属メッキ膜の析出工程は、前記基体を軸周りに回転させながら、前記表面の一部をメッキ槽のメッキ液に浸漬するとともに前記基体と前記メッキ槽との間に電界を印加することによって行なうことを特徴とする請求項２０記載の電子部品の形成方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年5月11日(2004.5.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】
第１段階においてプロピレンとエチレンとを共重合し、第２段階において、懸濁液中、３０〜１５０℃の温度下、１０〜１００ｂａｒの圧力下、３０分〜６時間の反応時間の間、触媒、有機アルミニウム化合物（Ｂ）及び有機ケイ素化合物（Ｃ）の存在下で、プロピレンを重合するか、又は所望の場合には４〜２０個の炭素原子を有する他の１−オレフィンと共重合することによって請求項１に記載のプロピレン−エチレン反応容器ブレンドを製造する方法であって、第１段階において、懸濁媒体がモノマーでもあり、この段階において５００〜１４００ｍｌ／ｇの粘度を有するエチレン−プロピレンコポリマーが調製されて、これが全ポリマーの２０〜８０％の割合を形成し、第２段階において、２００〜４００ｍｌ／ｇの粘度及び６〜２０の多分散度Ｍw／Ｍnを有するプロピレンポリマーを調製することを特徴とする方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明は、また、第１段階においてプロピレンとエチレンとを共重合し、第２段階において、懸濁液中、３０〜１５０℃の温度下、１０〜１００ｂａｒの圧力下、３０分〜６時間の反応時間の間、市販の触媒（例えば、Ｍｏｎｔｅｌｌ，Ｍｉｌａｎ，Ｉｔａｌｙの触媒ＦＴ４Ｓ）、有機アルミニウム化合物（Ｂ）、及び所望の場合には有機ケイ素化合物（Ｃ）の存在下で、プロピレンを重合するか、又は所望の場合には４〜２０個の炭素原子を有する他の１−オレフィンと共重合することによってプロピレン−エチレン反応容器ブレンドを製造する方法にも関する。本方法の特徴は、第１段階において、懸濁媒体がモノマーでもあり、この段階において５００〜１４００ｍｌ／ｇの粘度を有するエチレン−プロピレンコポリマーが調製されて、これが全ポリマーの２０〜８０％の割合を形成し、第２段階において、２００〜４００ｍｌ／ｇの粘度及び６〜２０の多分散度Ｍw／Ｍnを有するプロピレンポリマーが調製されることである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
困難なく処理が行われ、パイプの内表面及び外表面のいずれも極めて平滑であることが確認された。パイプの表面は、同一の条件下で同一のパイプ押出物ユニットを用いてより狭い分子量分布を有する粒状物（比較例１参照；Ｍw／Ｍn＝４）から得られたパイプと比較することによって、特徴づけられた。実施例２の粒状物から製造されたパイプは、弾性衝撃試験及びクリープ破壊強度試験に関するＤＩＮ８０７８（一般的な品質の要求及び試験）の要求を満足するものであった。
【手続補正書】
【提出日】平成16年4月19日(2004.4.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１以上のエチレン性不飽和モノマーと、多核芳香族炭化水素及びその置換芳香族誘導体からなる群から選択されるケイ光化合物とを共重合することによってケイ光ポリマーを製造する方法であって、得られるポリマーがケイ光基を有することを特徴とする方法。
【請求項２】
ケイ光化合物が、ナフタレン、アントラセン、フェナントレン、フルオランテン、アクリジン、カルバゾール、ピレン、クリセン、トリフェニレン及びペリレン並びにこれらの置換芳香族誘導体からなる群から選択される請求項１に記載の方法。
【請求項３】
エチレン性不飽和モノマーと、多核芳香族炭化水素及びその置換芳香族誘導体からなる群から選択されるケイ光化合物と、ペンダントケイ光官能基を有するエチレン性不飽和モノマーとを共重合することによって得られるケイ光ポリマーを含む、向上せしめられたＵＶ耐性を有する被覆組成物。
【請求項４】
ケイ光化合物の量が、モノマーの全重量を基準として０．００１〜３．０重量％である請求項３に記載の被覆組成物。
【請求項５】
ケイ光化合物が、ナフタレン、アントラセン、フェナントレン、フルオランテン、アクリジン、カルバゾール、ピレン、クリセン、トリフェニレン、ペリレン及びそれらの置換芳香族誘導体、並びに、ナフチルメチルメタクリレート、ナフチルエチルメタクリレート、９−アントリルメタクリレート、９−アントリルメチルメタクリレート、２−（９−アントリル）エチルメタクリレート、１’−（９−アントリル）エチルメタクリレート、３−ヒドロキシ−２−メチレン−３−（１−ナフチル）プロピオン酸、Ｎ−ジベンゾスベレニルアクリルアミド、（９−フェナントリル）メチルメタクリレート及び９−ビニルフェナントレンからなる群から選択される請求項３に記載の被覆組成物。
【請求項６】
ケイ光化合物が、ナフタレン、アントラセン、フェナントレン、フルオランテン及びそれらの置換芳香族誘導体、並びに、ナフチルエチルメタクリレート、９−アントリルメタクリレート、３−ヒドロキシ−２−メチレン−３−（１−ナフチル）プロピオン酸、（９−フェナントリル）メチルメタクリレート、９−ビニルフェナントレン及びこれらの組合せからなる群から選択される請求項５に記載の被覆組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成16年4月28日(2004.4.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
でんぷん又は化工でんぷんをアルカリ性条件下でその場で活性化された塩素を生じることができる次亜塩素酸塩と反応させることによって得られることを特徴とする、熱に安定な高粘性でんぷん。
【請求項２】
当該でんぷんがナトリウム又はカルシウム塩の形の次亜塩素酸塩──１００−４０００ｐｐｍ活性塩素に相当──と７．５−１１．５のｐＨで反応させることによって得られる、請求項１記載の安定化した高粘性でんぷん。
【請求項３】
でんぷんがワクシイ、根及び塊茎でんぷん又はその化工された形より成る群から選ばれる、請求項１又は２記載のでんぷん。
【請求項４】
化工された形がでんぷんアルケニルコハク酸エステルである、請求項３記載のでんぷん。
【請求項５】
アルケニルコハク酸エステルがｎ- オクテニルコハク酸エステルである、請求項４記載のでんぷん。
【請求項６】
でんぷんが二重変異でんぷんの群から選ばれる、請求項１又は２記載のでんぷん。
【請求項７】
二重変異でんぷんが duwx 又は wxshr-1タイプである、請求項６記載のでんぷん。
【請求項８】
でんぷんを先ず無水ｎ- オクテニルコハク酸で、次いでアルカリ性条件下で次亜塩素酸塩で処理することによって得られるでんぷん生成物。
【請求項９】
でんぷん又は化工でんぷんをアルカリ条件下で次亜塩素酸塩と反応させることを特徴とする、熱に安定な高粘性でんぷんを製造する方法。
【請求項１０】
反応をｐＨ７．５〜１１．５で次亜塩素酸１００〜４０００ｐｐｍを用いて行う、請求項９記載の方法。
【請求項１１】
でんぷんがワクシイ、根、塊茎でんぷん又はその化工された形及び二重変異でんぷんから成る群から選ばれる、請求項９又は１０記載の方法。
【請求項１２】
請求項１ないし８のいずれかに記載のでんぷんを含有する食品。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
極めて膨潤した（粘性）調理用安定なでんぷんは、多くの異なる料理、たとえばスープ、ソース、肉製品、ドレッシング、電子レンジ用食品の調製に及び製パン用クリーム及び詰め物の調製に使用される。
インスタント食品は（８０〜１００℃に）加熱後高い粘度及びなめらかなテクスチャーを有しなければならない。安定化された高粘性でんぷんは、上記適用に最適である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
ときどき調節が困難な化学的架橋結合反応（たとえばオキシ塩化リン、トリメタリン酸ナトリウム又は無水アジピン酸による）を、アルカリ性塩素処理に代えようとする試みがあるという事実にもかかわらず、このような化工処理との組合せが、一層高められた粘度安定化に対しても有利に働くことができる。
本発明の次亜塩素酸塩の代りにその場で活性塩素を生じることができる化合物の組合せ、たとえば過剰クロライドイオンの存在下で過酢酸及び（又は）過酸化水素を使用することができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
ワクシイメイズでんぷんの反応は例１に記載した様に行われる。但し反応時間は１時間に決められ、反応ｐＨは７．５〜１０．５の間を変化する。図２のブラベンダー曲線から、最高の安定化作用はｐＨ１０．５で得られること及びｐＨ７．５で９５℃での粘度はまだ僅かに低下することが実証される。したがって低下した粘度はｐＨの上昇と共により高くなる。
〔例３〕
この例中、ワクシイメイズでんぷん以外のでんぷんを例１に記載した方法に従って処理する。反応はワクシイ大麦でんぷん及びジャガイモでんぷんに対してｐＨ９．５で１時間、タピオカでんぷんに対してｐＨ８．５で行われる。下記表中に、９５℃で３０分後（ＢＵ−９５／３０′）の粘度比較を示す。これは次亜塩素酸塩処理されたでんぷんの５０℃に冷却後（ＢＵ−５０）の熱安定性に関する、対応する対照物との比較測定である。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
図３から、アセチル化されたワクシイメイズでんぷんに対する過酸化水素又は過酢酸処理と比較して次亜塩素酸塩の粘度を改良する作用は驚くべきことであることが実証される。
〔例５〕
この例によって、ｎ- オクテニルスクシニル化と次亜塩素酸塩処理の組合せの特別な利点を実証する。反応順序は、安定化作用にとって重要である。曲線ａは、ワクシイメイズでんぷんを３０℃、ｐＨ８．５で３％無水ｎ- オクテニルコハク酸で１時間処理することによって得られたｎ- オクテニルスクシニルでんぷんの変化である。曲線ｂは３０℃で活性塩素２０００ｐｐｍで１時間処理し、次いでａに記載した様にｎ- オクテニルスクシニル化した後に得られる変化を示す。曲線ｃは、ｂに記載したのと逆の順序で処理されたでんぷんから得られる。
【手続補正書】
【提出日】平成16年4月1日(2004.4.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（１）ハロゲン含有アクリルゴムに、（２）トリアジンチオール化合物、（３）ジチオカルバミン酸誘導体および／またはチウラムスルフィド化合物、（４）ハイドロタルサイト化合物および／または有機錫化合物、（５）芳香族カルボン酸化合物および／またはその酸無水物、（６）ｐＨが２〜１０の範囲にある白色充填剤、並びに（７）シランカップリング剤を配合してなる架橋可能なアクリルゴム組成物。
【請求項２】
（８）アルキルアクリレートおよび／またはアルコキシアルキルアクリレートを主成分とするポリマー（但し、架橋点を有するアクリルゴムを除く。）と請求項１に記載の成分（２）および／または成分（４）とを予め混合した混合物に、請求項１に記載の成分（１）、成分（３）、成分（５）、成分（６）および成分（７）を、成分（２）および成分（４）のうち予め混合されない成分と共に配合してなる架橋可能なアクリルゴム組成物。
【請求項３】
（１）ハロゲン含有アクリルゴム１００重量部に対して、（２）トリアジンチオール化合物０．０５〜５重量部、（３）ジチオカルバミン酸誘導体および／またはチウラムスルフィド化合物０．１〜１０重量部、（４）ハイドロタルサイト化合物および／または有機錫化合物０．１〜１０重量部、（５）芳香族カルボン酸化合物および／またはその酸無水物０．０５〜５重量部、（６）ｐＨが２〜１０の範囲にある白色充填剤２０〜２００重量部、並びに（７）シランカップリング剤０．１〜１０重量部を配合してなる、請求項１または請求項２に記載の架橋可能なアクリルゴム組成物。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかに記載の架橋可能なアクリルゴム組成物の架橋物。
【請求項５】
請求項２に記載の成分（８）と請求項１に記載の成分（２）および／または成分（４）とを予め混合した混合物に、請求項１に記載の成分（１）、成分（３）、成分（５）、成分（６）および成分（７）を、成分（２）および成分（４）のうち予め混合されない成分と共に配合することを特徴とする請求項２に記載の架橋可能なアクリルゴム組成物の調製方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
【従来の技術】
アクリルゴムは、アルキルアクリレートおよび／またはアルコキシアルキルアクリレートを主成分とするエラストマー状（共）重合体で、耐油性、耐熱性、耐候性、耐オゾン性、圧縮永久歪等が良好であり、該ゴムを含有するゴム組成物は、従来からパッキング、ガスケット等を含むシール材や、各種成形品として使用されている。
このようなアクリルゴムは、例えば、ハロゲン系、エポキシ系、ジエン系等からなる架橋点を有しており、各架橋点に応じた架橋剤、架橋促進剤等を配合してゴム組成物に調製されている。
特にハロゲン含有アクリルゴムに対する架橋剤としては、脂肪酸金属石鹸と硫黄または硫黄供与体とからなる系、トリアジン誘導体とジチオカルバミン酸誘導体とからなる系等が知られているが、これらのうち、脂肪酸金属石鹸系架橋剤は、架橋速度、圧縮永久歪、耐水性が劣っており、トリアジン誘導体系架橋剤も、架橋速度が不十分で、耐スコーチ性、貯蔵安定性が低く、また架橋時における金属腐食や金属汚染も問題となっている。
このような問題を解決するため、脂肪酸金属石鹸系架橋剤については、例えば特公昭５５−３９１８１号公報に、（イ）有機カルボン酸アルカリ金属塩、（ロ）硫黄または硫黄供与体および（ハ）尿素類、チオ尿素類、イミダゾリン類あるいはアミノ酸類からなる系が提案されているが、該架橋剤は、架橋速度が低く、また圧縮永久歪の面でも十分とはいえない。
トリアジン誘導体系架橋剤については、例えば特開昭５８−１８０５３９号公報に、（イ）トリチオシアヌール酸と（ロ）有機カルボン酸アルカリ金属塩とからなる系が、例えば特開平５−３２０４５６号公報に、（イ）トリアジンチオール化合物、（ロ）第四級アンモニウム塩および（ハ）有機カルボン酸アルカリ金属塩からなる系、あるいは（ニ）トリアジンチオール化合物と第四級アンモニウム塩との反応生成物からなる系がそれぞれ提案されているが、これらの架橋剤は、貯蔵安定性、耐スコーチ性、架橋速度等の面で不十分である。また特公平５−８２４１３号公報には、トリアジントリチオール架橋剤を含有するハロゲン含有ゴム組成物に、ｐＨが約２〜７の補強剤および／または充填剤を添加することにより、耐スコーチ性が改良されることが開示されているが、該組成物は、架橋速度の点で満足できない。
さらに、架橋時の金属腐食を防止する方法に関して、ハロゲン含有アクリルゴムにハイドロタルサイト類を配合する方法（例えば特開平２−１５０４０９号公報参照）や、ハロゲン含有アクリルゴムにシリカ系補強性充填剤とハイドロタルサイト類とを配合する方法（例えば特開平７−２２８７４６号公報参照）等が提案されているが、これらのゴム組成物も、特に貯蔵安定性と架橋速度とのバランスの点で不十分である。
即ち、従来のハロゲン含有アクリルゴム組成物はいずれも、貯蔵安定性、架橋速度、圧縮永久歪、金属腐食や金属汚染等を総合した特性バランスの点では、未だ満足すべきレベルに達しているとはいえない。
【手続補正書】
【提出日】平成16年5月25日(2004.5.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
０．１０〜０．４５ｄｌ／ｇの間の固有粘度（ＩＶ）を有する芳香族ポリエステル樹脂の固体状態における連続重縮合による製造方法であって、
樹脂を可動床反応器に上から供給し、下から放出して、樹脂の供給とともに上流方向へおよび下流方向へ不活性ガスを循環させ、反応器の温度を１８０〜２５０℃に保ち、樹脂の平均滞留時間は、ポリマーの固有粘度を少なくとも０．３ｄｌ／ｇ増大させるように十分長く、
反応器を出るガスとポリマーの単位時間あたり質量流量の比Ｒが、０．１〜０．６の間にある方法。
【請求項２】
ポリマーのＩＶが０．１５〜０．３０ｄｌ／ｇの間である請求項１に記載の方法。
【請求項３】
比Ｒが０．２〜０．５の間である請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
反応器の温度が２１０〜２３５℃の間である請求項１、２または３に記載の方法。
【請求項５】
不活性ガスが窒素である請求項１、２、３または４に記載の方法。
【請求項６】
窒素を、ポリマーとともに下流方向へ循環させる請求項５に記載の方法。
【請求項７】
ポリエステル樹脂がポリエチレンテレフタレート、イソフタル酸から誘導された単位を１〜２０％含むコポリエチレンテレフタレートおよびポリブチレンテレフタレートからなる群から選択される請求項１〜６のいずれかに記載の方法。
【請求項８】
メタン当量として１０ｐｐｍ未満の不純物値に達するまで有機不純物を精製した後に、反応器で窒素を再利用する請求項１〜７のいずれかに記載の方法。
【請求項９】
固体状態で重縮合反応に付した樹脂に、０．０１〜１重量％の量でテトラカルボン酸二無水物を添加する請求項１〜８のいずれかに記載の方法。
【請求項１０】
二無水物が、ピロメリト酸二無水物である請求項９に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
ＵＳ−Ａ−４１６１５７８は、固体状態での結晶化／重縮合方法を記載し、その方法では、１８０〜２３５℃の温度で操作する強制循環器を有する装置内で、少なくとも１．３８５ｇ／ｃｍ３の密度に対応する結晶化度を得るまで顆粒状のポリマーを結晶化し、その後、強制重縮合反応器に供給し、ポリマーを、結晶化工程に使用した温度より高い温度で加熱している。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
【課題を解決するための手段】
驚くべきことに、０．１〜０．６の比Ｒを使用しても、固体状態で重縮合をしたポリエステル樹脂が０．１〜０．４５ｄｌ／ｇの比較的低い固有粘度を有するときでさえ、重縮合反応副生物を効果的に除去し、したがって高反応速度を得ることが可能であることが見いだされた。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本発明は、０．１０〜０．４５ｄｌ／ｇの間の固有粘度（ＩＶ）を有する芳香族ポリエステル樹脂の固体状態における連続重縮合による製造方法であって、
樹脂を可動床反応器に上から供給し、下から放出して、上流方向へまたは下流方向へ不活性ガスを循環させ、反応器の温度を１８０〜２５０℃に保ち、樹脂の平均滞留時間は、ポリマーの固有粘度を少なくとも０．３ｄｌ／ｇ増大させるように十分長く、
反応器を出るガスとポリマーの単位時間あたり質量流量の比Ｒが、０．１〜０．６の間にある方法を提供する。
これらの低い比を使用すると、ガス吹込操作においてエネルギーを多量に節約できる。
使用される比Ｒは、好ましくは０．２〜０．５の間である。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
本発明の方法において、重縮合反応を、１８０〜２５０℃、好ましくは２１０〜２３５℃の温度で行う。ＳＳＰ反応を受けるポリマーの結晶化度は、一般に４０〜５０重量％である。
プレポリマーは、一般に、例えば、ポリマーを孔付ヘッドに通して、水浴中に得られたポリマー滴を集めることによって得られる回転楕円状またはレンズ状の粒子の形態である。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
ＳＳＰ反応器から出てくる不活性ガス流は、不活性ガス中に存在する有機生成物の不純物を除去する精製工程を受ける。操作は、ＷＯ−Ａ−９５０２４４６に記載の方法に従って行う。
ＳＳＰ反応器中の平均滞留時間は、ポリマーの固有粘度を少なくとも０．３ｄｌ／ｇ増大させるように、十分に長い；一般に１５〜４０時間である。結晶化より前の工程で溶融状態で、付加反応によってポリエステルの末端基ＯＨおよびＣＯＯＨと反応できる２つまたはそれ以上の基を含む多官能性化合物とポリマーを混合すると、固有粘度の増加が非常に大きくなる。これらの化合物の例としては、ピロメリト酸無水物、一般に、芳香族または脂肪族テトラカルボン酸の二無水物が挙げられる。これらの化合物は、ポリマーに対して０．０１〜２重量％の量で使用される。
【手続補正書】
【提出日】平成16年7月8日(2004.7.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
粉末Ｘ線回折パターンにおいて、２θで表される下記回折角度にピークを有し、
【表１】
1998053576.tif 000001
臭化カリウム中の赤外吸収スペクトルにおいて、波数 463、502、563、589、604、701、750、759、799、860、922、947、972、1012、1038、1104、1120、1128、1175、1192、1218、1250、1267、1316、1368、1410、1433、1440、1455、1472、1502、1591、1606、1644、1684、2412、2530、2559、2595、2620、2717、2840、2858、2924、3004、3074、3259、3373、3547、3589cm-1に吸収を有することを特徴とする下記化学式で表される塩酸ドネペジルの多形結晶(I)。
【化１】
1998053576.tif 000002
【手続補正書】
【提出日】平成16年5月10日(2004.5.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
タイヤ用のトレッドに使用可能な、１種又は２種以上のジエンエラストマーをベースとするゴム組成物であって、強化充填剤としての高分散性白色充填剤及びカップリング剤を含有し（ジエンエラストマー／白色充填剤）、
ａ）前記強化白色充填剤が、全体としてまたは部分的に、20〜300phr（エラストマー100重量部当たりの重量部）のアルミナからなり、該アルミナが、
−  主結晶相がγ、δまたはθ型であり；
−  BET表面積（ブルナウアー・エメット・テラー法により決定した値）が30〜400m2/gの範囲内であり；
−  超音波解凝集（600Wのプローブを使用）した後、遠心分離沈降により測定した平均粒径が500nm以下である、
という特性を有するものであり、
ｂ）前記カップリング剤の量が、アルミナの平方メートル当たり10-7〜10-5モルの範囲内である、
ことを特徴とする、前記組成物。
【請求項２】
前記アルミナの主結晶相がγ型である、請求項１記載の組成物。
【請求項３】
前記アルミナのBET表面積が80〜250m2/gの範囲である、請求項１または２に記載の組成物。
【請求項４】
前記アルミナの平均粒径が200nm以下である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成16年5月31日(2004.5.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（２）式で得られるＳＢ値が（１）式を満足し、かつ（４）式で得られるＳＮ値が（３）式を満足し、かつＳＢ×ＳＮが（５）式を満足する布帛。
【数１】
1998053941.tif 000001
【数２】
1998053941.tif 000002
【数３】
1998053941.tif 000003
【数４】
1998053941.tif 000004
【数５】
1998053941.tif 000005
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
【課題を解決するための手段】
本発明は、（２）式で得られるＳＢ値が（１）式を満足し、かつ（４）式で得られるＳＮ値が（３）式を満足し、かつＳＢ×ＳＮが（５）式を満足する布帛である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
【数７】
1998053941.tif 000006
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
【数８】
1998053941.tif 000007
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
【数９】
1998053941.tif 000008
【手続補正書】
【提出日】平成16年5月7日(2004.5.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
セルロース性繊維材料に反応染料又は直接染料を固定するための方法であって、
染色の前、最中又は後に、式（１ａ）、（１ｂ）又は（２）：
【化１】
1998053971.tif 000001
〔式中、
Ｒ1 は、非置換であるか、あるいはヒドロキシ、カルボキシ、シアノ、カルバモイル、基：−ＣＯＮＨ−（ａｌｋ）−Ｔ、Ｎ，Ｎ−ジ−Ｃ1 −Ｃ4 アルキルカルバモイル、アミノフェニルスルホニル、アミノ、基：−ＮＨＲ3 、−Ｎ（Ｒ3)2 、−Ｎ（Ｒ3)3+Ｙ- 、−ＣＯＯ−（ａｌｋ）−Ｔ、又は下記式：
【化２】
1998053971.tif 000002
で示される基で置換されているＣ1 −Ｃ12アルキルであり；
Ｔは、水素又は基：−ＮＨ2 、−ＮＨＲ3 、−Ｎ（Ｒ3)2 、−Ｎ（Ｒ3)3+Ｙ- であり；
Ｒ3 は、Ｃ1 −Ｃ8 アルキルであり；
Ｙ- は、アニオンであり；
（ａｌｋ）は、直鎖又は分岐鎖Ｃ1 −Ｃ10アルキレン基であり；そして
Ｒ及びＲ2 は、それぞれ他と独立に、水素若しくはベンジルであるか、又は独立に、上記Ｒ1 の意味の１つを有する〕で示される繰り返し構造を含有するホモ−又はコポリマーを含むことを特徴とする液で、繊維材料を処理することを特徴とする方法。
【請求項２】
式（１）のＲ1 が、Ｃ1 −Ｃ2 アルキル、ヒドロキシ−Ｃ1 −Ｃ2 アルキル、シアノ−Ｃ1 −Ｃ3 アルキル、Ｎ，Ｎ−ジ−Ｃ1 −Ｃ2 アルキルアミノ−Ｃ1 −Ｃ3 アルキル、又は式（３ａ）、（３ｂ）若しくは（３ｃ）：
−ＣＨ2 −ＣＨ（ＯＨ）−（ＣＨ2)n −Ｔ              （３ａ）
−ＣＨ2 −ＣＨ（Ｒ4 ）−ＣＯＯ−（ＣＨ2)m −Ｔ      （３ｂ）
−ＣＨ2 −ＣＨ（Ｒ4 ）−ＣＯＮＨ−（ＣＨ2)m −Ｔ    （３ｃ）
で示される基であり、Ｒ4 が、水素又はメチルであり、ｎが、１又は２であり、ｍが、１〜３の数であり、Ｔが、Ｎ，Ｎ−ジ−Ｃ1 −Ｃ2 アルキルアミノ又は基−Ｎ（Ｒ3)3+Ｙ- であり、ここで、Ｒ3 は、メチル又はエチルであり；そしてＹ- は、臭化物又は塩化物アニオンである、請求項１記載の方法。
【請求項３】
セルロース性繊維材料の重量に基づいて、ホモ−又はコポリマーが、０．２〜４重量％の活性含量の量で液中に存在する、請求項１〜２のいずれか１項記載の方法。
【請求項４】
ホモ−又はコポリマーを含む液による処理が、吸尽法により行われる、請求項１〜３のいずれか１項記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年4月28日(2004.4.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式Ｉ
【化１】
1998053712.tif 000001
（式中、ＸとＹとは互いに独立的に、Ｈ、Ｆ、Ｃl ，Ｃ１-Ｃ３ アルキルおよびＣ１-Ｃ３ アルコキシからなる群より選択された１個または２個の置換基である）のキナクリドンを、対応する下記式II
【化２】
1998053712.tif 000002
の６、１３−ジヒドロキナクリドンの酸化によって製造する方法において、
（ａ）式IIの６、１３−ジヒドロキナクリドンを亜顔料サイズに予備摩砕し、
（ｂ）予備摩砕された６、１３−ジヒドロキナクリドンを、塩基性の水性反応媒質中において触媒の存在下で過酸化水素を使用して酸化し、そして
（ｃ）式Ｉのキナクリドンを単離することを特徴とする方法。
【請求項２】
６、１３−ジヒドロキナクリドンをアトライター中において予備摩砕する請求項１記載の方法。
【請求項３】
工程（ｂ）が８０乃至１０３℃の温度において実施される請求項１記載の方法。
【請求項４】
触媒が、アントラキノン、アントラキノンモノスルホン酸およびアントラキノンジスルホン酸またはそれらの塩からなる群より選択される請求項１記載の方法。
【請求項５】
該水性反応媒質が、６、１３−ジヒドロキナクリドンを基準にして、０．１乃至６重量％の泡防止剤を含有している請求項１記載の方法。
【請求項６】
キナクリドン顔料が、キナクリドン、２、９−ジクロロキナクリドン、２、９−ジフルオロキナクリドン、４、１１−ジクロロキナクリドン、２、９−ジメチルキナクリドンまたは２、９−ジメトキシキナクリドンであるか、またはキナクリドン／２、９−ジクロロキナクリドン固溶体、キナクリドン／２、９−ジメチルキナクリドン固溶体、キナクリドン／キナクリドンキノン固溶体、２、９−ジクロロキナクリドン／２、９−ジメチルキナクリドン固溶体、または２、９−ジクロロキナクリドン／２、９−ジメトキシキナクリドン固溶体である請求項１記載の方法。
。
【手続補正書】
【提出日】平成16年4月30日(2004.4.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
次のＡ部およびＢ部の反応生成物からなり、摂氏２５度±５度の範囲で約２５，０００ｍＰａ・ｓ未満の初期粘度を示す柔軟性包装用積層接着剤として有用なイソシアネート系配合物、
Ａ）次の１）、２）および３）の縮合生成物からなる１以上の高分子ポリオール（Ａ部）；
１）１以上のアルキレンジオール、
２）ペンダント脂肪族鎖を有する１以上のジオール、
３）１以上のジカルボン酸、そして、
Ｂ）次の１）および２）の反応生成物からなる１以上のＮＣＯ末端ポリウレタンプレポリマ（Ｂ部）；
１）１以上のポリエーテルポリオール、
２）１以上のポリイソシアネート、
ただし、該Ｂ部は約０．１重量％未満の残留イソシアネートモノマーを有する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
ペンダント脂肪族鎖を有する１以上の低分子量ジオール成分が、Ａ部成分の調製に使用される。用語「ペンダント」は、ポリマ鎖から伸びる疎水基として定義される。これらのジオールのヒドロキシル価は、約１３０〜約１，２５０、好ましくは約９５０〜約１，２５０の範囲である。例として、１，２−プロパンジオール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、２，３−ブタンジオール、２，２−メチル−１，３−プロパンジオール、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオール、ネオペンチルグリコール、２−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオール、およびビス−２−ヒドロキシエチルラオルアミドおよび１，２−ドデカンジオールがある。これらのジオールは、全体で１００部のＡ部固形物を基にして、約５．０重量％〜約５０．０重量％、好ましくは約１０．０重量％〜約４０．０重量％の範囲でＡ部成分中に存在しうる。要約すると、接着剤配合物の独特な特性の一部は、Ａ部成分に存在するペンダント脂肪族鎖による。
【手続補正書】
【提出日】平成17年9月29日(2005.9.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
また、複数の短冊状の受光素子が、狭幅にされた光の方向に対し、平行で且つ発光素子の光軸面に対象に配置されるのが好ましい。
以上のごとく、本発明によれば、具体的に言えば、受光チップ上の短冊状受光素子（例えばフォトダイオード）が直線的に複数配列されている方向に対し光強度分布の均一化を安価に図れ、且つ発光チップの位置のバラツキに対しても照射光量が安定した光学系を得ることができる光結合装置を提供することができる。
以下、図面に基づき参考例および本発明の実施の形態について説明する。なお、これによって本発明が限定されるものではない。
図１は、光結合装置の1つの参考例の主要部品の構成説明斜視図である。
図１において、発光素子１は、直方体で、一対の電極を備えてそれらの電極間で発光する、いわゆる全面発光のチップよりなり、リードフレーム２の側面にダイボンドされ、金線３により電気的にもう１つのリードフレーム２ａに接続された後、光透過性樹脂（又は透光性樹脂、例えばエポキシ樹脂）によってモールドされて、モールド体としての発光側透光性樹脂体（発光素子）４を形成し、全体として光結合装置Ｈを構成している。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
図２は、本発明に係る光結合装置の実施の形態の主要部品の構成説明斜視図、図３は図２の構成説明側面図である。
図２〜３において、発光素子１１は、発光チップ（全面発光のチップ）よりなり、その照射側チップ天面（主発光面）の一方の電極１１ｂの形状が受光素子アレイ５ａに対向する天面、つまり矩形面の一辺に沿って一定幅で帯状に形成されている。なお、他方の電極は発光チップの、リードフレーム２への装着側の面にある。
発光素子１１の天面から出射された光はモールド体４が収納されるケース９（遮光性樹脂等の遮光性材料）に形成された受光素子アレイ５ａの配列方向（Ｘ−Ｘ’軸方向）に対して狭幅のスリット９ａで絞られコリメーティングレンズ２０を介し受光側へ照射され、受光素子アレイ５ａの配列方向には均一な光量分布が得られることになる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
図４は、光結合装置のもう１つの参考例の主要部品の構成説明斜視図、図５は図４の構成説明側面図である。
図４〜５において、発光素子１は、発光チップ（全面発光のチップ）よりなり、リードフレーム２の側面にダイボンドされ、金線３により電気的に接続された後、光透過性樹脂（エポキシ樹脂等）によってモールドされ、モールド体としての発光側透光性樹脂体４を形成している。
このとき発光チップのＰ−Ｎ接合面１ａは、受光素子アレイ５ａ（フォトダイオード等）の配列方向（図中Ｘ−Ｘ’軸方向）か、それに対し平行になるように配置されている。なお、電極の位置は図１の場合と同様であり、説明を省略する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
【図１】光結合装置の1つの参考例の主要部品の構成説明斜視図である。
【図２】本発明による光結合装置の実施の形態の主要部品の構成説明斜視図である。
【図３】図２の実施の形態の構成説明側面図である。
【図４】光結合装置のもう1つの参考例の主要部品の構成斜視図である。
【図５】図４のもう１つの参考例の構成説明側面図である。
【図６】（ａ）は従来例の光結合装置の構造説明断面図である。  （ｂ）は同従来例の発光チップ（全面発光チップ）の斜視図である。
【図７】（ａ）は同従来例の図６（ａ）のＡ−Ａ’断面図（チップずれなし）である。  （ｂ）は他の従来例の図６（ａ）のＡ−Ａ’断面相当図（チップずれあり）である。
【手続補正書】
【提出日】平成16年9月22日(2004.9.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
奏法波形を記述する奏法モジュールにおいて、所定の演奏イベントにタイミング合わせすべき位置を示す位置情報を該奏法波形の時間軸の途中に含んでおり、生成すべき奏法波形についての奏法モジュールを演奏イベントと共に指定するステップと、
指定された奏法モジュールにおける前記位置情報と指定された演奏イベントに応じて、該奏法モジュールにおける所定の楽音特性の制御タイミングを決定するステップと、
前記制御タイミングが決定された前記奏法モジュールの奏法波形に基づき、該奏法モジュールに対応する楽音を合成するステップと
を具備する波形生成方法。
【請求項２】
前記所定の演奏イベントは、発音開始タイミングを指示するイベントである請求項１に記載の波形生成方法。
【請求項３】
前記所定の演奏イベントは、消音開始タイミングを指示するイベントである請求項１に記載の波形生成方法。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか記載の波形生成方法をコンピュータに実行させるためのプログラム。
【請求項５】
請求項４に記載のプログラムを記憶した記憶媒体。
【請求項６】
奏法波形を記述する奏法モジュールにおいて、所定の演奏イベントにタイミング合わせすべき位置を示す位置情報を該奏法波形の時間軸の途中に含んでおり、生成すべき奏法波形についての奏法モジュールを演奏イベントと共に指定する手段と、
指定された奏法モジュールにおける前記位置情報と指定された演奏イベントに応じて、該奏法モジュールにおける所定の楽音特性の制御タイミングを決定する手段と、
前記制御タイミングが決定された前記奏法モジュールの奏法波形に基づき、該奏法モジュールに対応する楽音を合成する手段と
を具備する波形生成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
【課題を解決するための手段】  本発明に係る波形生成方法は、奏法波形を記述する奏法モジュールにおいて、所定の演奏イベントにタイミング合わせすべき位置を示す位置情報を該奏法波形の時間軸の途中に含んでおり、生成すべき奏法波形についての奏法モジュールを演奏イベントと共に指定するステップと、指定された奏法モジュールにおける前記位置情報と指定された演奏イベントに応じて、該奏法モジュールにおける所定の楽音特性の制御タイミングを決定するステップと、前記制御タイミングが決定された前記奏法モジュールの奏法波形に基づき、該奏法モジュールに対応する楽音を合成するステップとを具備する。