【手続補正書】
【提出日】平成16年10月27日(2004.10.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
放射ビームでマスクを照射する照明光学系と、前記マスク上に形成されたパターンの像を基板上に投影する投影光学系とを備えた投影露光装置において、
前記投影光学系の光軸に沿った方向への前記投影光学系の結像面の移動によって生じる、該結像面内での前記投影像のシフトを補償するために、前記投影像の前記光軸に沿った方向の位置と前記光軸と垂直な平面内での位置との関係に基づいて、前記光軸に沿った方向に関する前記基板の位置又は移動量に応じた前記平面内での前記投影像の位置又はシフト量を算出する計算装置と、
前記算出された位置又はシフト量に基づいて、前記光軸と垂直な平面に沿って前記投影像と前記基板とを相対移動する第１位置合わせ装置とを備えたことを特徴とする投影露光装置。
【請求項２】
前記第１位置合わせ装置は、前記マスクを保持して前記投影光学系の光軸と直交する方向に移動するマスクステージと、前記基板を保持して前記光軸と垂直な平面に沿って移動する基板ステージとを含み、前記光軸に沿った方向への前記基板の移動に応じて、前記マスクステージと前記基板ステージの少なくとも一方を駆動することを特徴とする請求項１に記載の投影露光装置。
【請求項３】
前記投影光学系の結像面は、前記放射ビームの前記投影光学系への入射と、前記投影光学系が設置される環境の変化との少なくとも一方に起因して移動し、
前記投影光学系の結像面の移動に応じて、前記投影像と前記基板とを前記投影光学系の光軸に沿った方向に相対移動する第２位置合わせ装置を更に備えたことを特徴とする請求項１又は２に記載の投影露光装置。
【請求項４】
前記第２位置合わせ装置は、前記基板を保持して前記投影光学系の光軸に沿った方向に移動する基板ステージを含み、前記投影光学系の結像面の移動に追従して前記基板ステージを駆動することを特徴とする請求項３に記載の投影露光装置。
【請求項５】
前記計算装置は、前記基板ステージによる前記基板の前記投影光学系の光軸に沿った方向への移動に応じて生じる、前記光軸と垂直な平面に沿った方向での前記投影像と前記基板との相対的なシフト量を更に算出し、
前記第１位置合わせ装置は、該算出されたシフト量を相殺するように前記投影像と前記基板とを相対移動することを特徴とする請求項２又は４に記載の投影露光装置。
【請求項６】
前記投影像と前記基板との相対的なシフトは、前記基板ステージの駆動誤差と前記投影光学系のテレセントリシティとの少なくとも一方に起因して生じることを特徴とする請求項５に記載の投影露光装置。
【請求項７】
前記投影光学系の収差及び／又は倍率を調整するために、前記マスクと前記基板との間に配置される少なくとも１つの光学素子を移動する調整装置を更に備え、
前記計算装置は、前記少なくとも１つの光学素子の移動によって生じる、前記投影光学系の光軸と垂直な平面に沿った方向での前記投影像と前記基板との相対的なシフト量を更に算出し、
前記第１位置合わせ装置は、該算出されたシフト量を相殺するように前記投影像と前記基板とを相対移動することを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の投影露光装置。
【請求項８】
前記投影光学系は、前記光軸に沿って配列される複数の光学素子を有し、
前記調整装置は、前記複数の光学素子の少なくとも１つを前記光軸に沿った方向に移動することを特徴とする請求項７に記載の投影露光装置。
【請求項９】
前記基板の露光中、前記投影光学系の結像面と前記基板とを前記投影光学系の光軸に沿った方向に相対移動する装置を更に備え、
前記計算装置は、前記結像面と前記基板との相対移動によって生じる、前記投影光学系の光軸と垂直な平面に沿った方向での前記投影像と前記基板との相対的なシフト量を更に算出し、
前記第１位置合わせ装置は、該算出されたシフト量を相殺するように前記投影像と前記基板とを相対移動することを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載の投影露光装置。
【請求項１０】
前記照明光学系は、２次光源を形成するオプチカルインテグレータと、前記２次光源の強度分布を変更する光学装置とを含み、
前記計算装置は、前記強度分布の変更に応じて、前記投影像の前記投影光学系の光軸に沿った方向の位置と前記光軸と垂直な平面内での位置との関係を変更し、該変更された関係に基づいて、前記投影光学系の光軸と垂直な平面内での前記投影像の位置又はシフト量を算出することを特徴とする請求項１〜９のいずれか１項に記載の投影露光装置。
【請求項１１】
前記光学装置は、開口の形状と大きさとの少なくとも一方が互いに異なる複数の開口絞りを含み、前記複数の開口絞りがそれぞれ交換可能に前記オプチカルインテグレータの近傍に配置され、
前記計算装置は、前記複数の開口絞りにそれぞれ対応した前記投影像の前記光軸に沿った方向の位置と前記光軸と垂直な平面内での位置との関係を格納するメモリを含むことを特徴とする請求項１０に記載の投影露光装置。
【請求項１２】
前記照明光学系は、前記パターンよりも小さい前記マスク上の領域を前記放射ビームで照射し、
前記放射ビームに対して前記マスクを前記投影光学系の光軸と直交する方向に相対移動するとともに、該マスクの移動に同期して、前記投影光学系に対して前記基板を前記光軸と直交する方向に相対移動する走査システムを更に備えたことを特徴とする請求項１〜１１のいずれか１項に記載の投影露光装置。
【請求項１３】
放射ビームでマスクを照射する照明光学系と、前記マスク上に形成されたパターンの像を基板上に投影する投影光学系とを備えた投影露光装置において、
前記投影光学系の収差及び／又は倍率を調整するために、前記投影光学系を構成する少なくとも１つの光学素子を、前記投影光学系の光軸に沿って移動する調整装置と、
前記少なくとも１つの光学素子の移動によって生じる、前記投影光学系の光軸と垂直な平面内での前記投影像のシフト量を算出し、該算出されたシフト量に基づいて、前記投影像と前記基板とを前記平面に沿って相対移動する補正装置とを備えたことを特徴とする投影露光装置。
【請求項１４】
放射ビームでマスクを照射する照明光学系と、前記マスク上に形成されたパターンの像を基板上に投影する投影光学系とを備えた投影露光装置において、
前記投影光学系の光軸に沿った方向への前記投影光学系の結像面の移動によって生じる、該結像面内での前記投影像のシフトを補償するように、前記光軸と垂直な平面に沿って前記投影像と前記基板とを相対移動する位置合わせ装置を備えたことを特徴とする投影露光装置。
【請求項１５】
環境の変化を検出するセンサを更に備え、
前記位置合わせ装置は、前記センサの検出結果に基づいて、前記環境の変化に起因する前記結像面の移動によって生じる前記投影像のシフトを補償するように、前記投影像と前記基板とを相対移動する請求項１４記載の投影露光装置。
【請求項１６】
前記投影光学系の収差及び／又は倍率を調整するために、前記マスクと前記基板との間に配置される少なくとも１つの光学素子を移動する調整装置を更に備え、
前記位置合わせ装置は、前記少なくとも１つの光学素子の移動によって生じる、前記投影光学系の光軸と垂直な平面に沿った方向での前記投影像と前記基板との相対的なシフト量を相殺するように前記投影像と前記基板とを相対移動する請求項１４又は請求項１５に記載の投影露光装置。
【請求項１７】
放射ビームでマスクを照射する照明光学系と、前記マスク上に形成されたパターンの像を基板上に投影する投影光学系とを備えた投影露光装置において、
前記投影光学系の結像性能を調整するために、前記マスクと前記基板との間に配置される少なくとも１つの光学素子を動かす調整装置と、
前記少なくとも１つの光学素子の移動によって生じる、前記投影光学系の光軸と垂直な平面に沿った方向での前記投影像と前記基板との相対的なシフト量を相殺するように前記投影像と前記基板とを相対移動する位置合わせ装置と、
を備えたことを特徴とする投影露光装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
また本発明は、放射ビームでマスク（８）を照射する照明光学系（１〜７）と
、マスク（８）上に形成されたパターンの像を基板（１４）上に投影する投影光
学系（１３）とを備えた投影露光装置において、投影光学系（１３）の収差（Ｄ
）及び／又は倍率（Ｍ）を調整するために、投影光学系を構成する少なくとも１
つの光学素子（９ａ，９ｂ）を、投影光学系の光軸（３０）に沿って移動する調
整装置（１０，１１）と、少なくとも１つの光学素子の移動によって生じる、投
影光学系の光軸と垂直な平面（ＸＹ）内での投影像のシフト量（Ｓ４，Ｓ５）を
算出し、算出されたシフト量（Ｓ４，Ｓ５）に基づいて、投影像と基板とを平面
（ＸＹ）に沿って相対移動する補正装置（４０，４１；１７，２０）とを備えた
ことを特徴とする投影露光装置である。
また本発明は、放射ビームでマスク（８）を照射する照明光学系（７など）と、マスク（８）上に形成されたパターンの像を基板（１４）上に投影する投影光学系（１３）とを備えた投影露光装置において、投影光学系（１３）の光軸に沿った方向（Ｚ方向）への投影光学系の結像面の移動によって生じる、結像面（ＸＹ平面）内での投影像のシフトを補償するように、光軸と垂直な平面（ＸＹ平面）に沿って投影像と基板（１４）とを相対移動する位置合わせ装置（１７，２０など）を備えたことを特徴とする投影露光装置である。
また本発明は、放射ビームでマスク（８）を照射する照明光学系（７など）と、マスク（８）上に形成されたパターンの像を基板（１４）上に投影する投影光学系（１３）とを備えた投影露光装置において、投影光学系（１３）の結像性能（Ｄ，Ｍなど）を調整するために、マスク（８）と基板（１４）との間に配置される少なくとも１つの光学素子（９ａ，９ｂ）を動かす調整装置（１０，１１など）と、少なくとも１つの光学素子（９ａ，９ｂ）の移動によって生じる、投影光学系の光軸と垂直な平面（ＸＹ平面）に沿った方向での投影像と基板との相対的なシフト量を相殺するように投影像と基板とを相対移動する位置合わせ装置（１７，２０など）を備えたことを特徴とする投影露光装置である。