【手続補正書】
【提出日】平成17年4月28日(2005.4.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光ディスク原盤に形成されるパターンに基づいて設定された記録パルス列に基づいて、パルス状のレーザ光を感光性膜上に照射するレーザ照射手段と、
前記記録パルス列のパルス長が短くなるにつれて前記レーザ照射手段によって照射されるレーザ光の強度を強くすると共に、前記レーザ光のパルス長を補正するレーザ制御手段と、を備え、
前記レーザ制御手段は、強度が補正されたレーザ光のパルス中心と補正以前のレーザ光のパルス中心とが一致するように前記記録パルス列を補正することを特徴とする光ディスク原盤製造装置。
【請求項２】
光ディスク原盤に形成されるパターンに基づいて設定された記録パルス列に基づいて、パルス状のレーザ光を感光性膜上に照射するレーザ照射手段と、前記記録パルス列のパルス長が短くなるにつれて前記レーザ照射手段によって照射されるレーザ光の強度を強くすると共に前記レーザ光のパルス長を補正するレーザ制御手段と、を備え、前記レーザ制御手段は、強度が補正されたレーザ光のパルス中心と補正以前のレーザ光のパルス中心とが一致するように前記記録パルス列を補正する光ディスク原盤製造装置によって製造されることを特徴とする光ディスク原盤。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
【課題を解決するための手段】
上記した課題を解決し、目的を達成するため、請求項１に記載の発明にかかる光ディスク原盤製造装置は、光ディスク原盤に形成されるパターンに基づいて設定された記録パルス列に基づいて、パルス状のレーザ光を感光性膜上に照射するレーザ照射手段と、前記記録パルス列のパルス長が短くなるにつれて前記レーザ照射手段によって照射されるレーザ光の強度を強くすると共に、前記レーザ光のパルス長を補正するレーザ制御手段と、を備え、前記レーザ制御手段が、強度が補正されたレーザ光のパルス中心と補正以前のレーザ光のパルス中心とが一致するように前記記録パルス列を補正することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
また、この請求項１に記載の発明によれば、強度の補正以前と以降とで、レーザ光のパルス中心がずれることをなくすことができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
請求項２に記載の発明にかかる光ディスク原盤は、光ディスク原盤に形成されるパターンに基づいて設定された記録パルス列に基づいて、パルス状のレーザ光を感光性膜上に照射するレーザ照射手段と、前記記録パルス列のパルス長が短くなるにつれて前記レーザ照射手段によって照射されるレーザ光の強度を強くすると共に前記レーザ光のパルス長を補正するレーザ制御手段と、を備え、前記レーザ制御手段は、強度が補正されたレーザ光のパルス中心と補正以前のレーザ光のパルス中心とが一致するように前記記録パルス列を補正する光ディスク原盤製造装置によって製造されることを特徴とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
この請求項２に記載の発明によれば、記録パルス列のパルス長が短くなるにつれてレーザ照射手段によって照射されるレーザ光の強度を強くすると共に、レーザ光のパルス長を補正して製造された光ディスク原盤を得ることができる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
また、この請求項２に記載の発明によれば、強度の補正以前と以降とで、パルス中心がずれることがないレーザ光を用いて製造された光ディスク原盤を得ることができる。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
図２は、変調器制御部１０２の構成において、パルス長とレーザ光強度の補正にかかる構成を示すブロック図である。変調器制御部１０２は、第１ＲＯＭ（ＲＯＭ１）２０３、第２ＲＯＭ（ＲＯＭ２）２１０、第３ＲＯＭ（ＲＯＭ３）２０６、ディジタル／アナログコンバータ２０４、ＭＵＸ２０５、第１ＰＤＬＹ（プログラマブル遅延素子：ＰＤＬＹ１）２１１、第２ＰＤＬＹ（ＰＤＬＹ２）２０７、ＡＮＤ回路２０８、ＯＲ回路２０９を備えている。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
図４（ａ）のように、露光パルスＰDは、立上がり、立下がりに時間を要する。このため、ピークを高めたパルス（破線で示す）がピークに達して一定の値を維持する時間は、ピークを高めないパルス（実線で示す）が一定の値を維持する時間よりも短くなる。パルスの立上がり傾きをＡ（Ｖ／ｓ）、ピークを高める増加量をΔＶ（Ｖ）とすると、上記各パルスの一定の値を維持する時間の差はΔｔ＝ΔＶ／Ａとなる。したがって、露光パルスの中心Ｔ1とＴ0とに時間差が発生し、その大きさはΔＶ／２Ａとなる。このずれ量は露光パルスのピークを高めた場合にいっそう大きくなり、また、パルス幅が短くなるほどパルスに対する割合が大きくなり、露光プロセスにおいて無視できなくなる。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
また、本実施の形態は、図４（ｃ）のように、露光パルスＰDの立上がりにかかる時間を考慮して記録パルスＰLの始端部をΔｔ2だけ長く補正する。このようにすることにより、強度の変更前の露光パルスＰDのパルス幅中心Ｔ0と強度の変更後の露光パルスＰDのパルス幅中心Ｔ1とを一致させることもできる。なお、本実施の形態は、Δｔ1、Δｔ2の値を、ピットに必要な幅などを考慮して予め決定しておくものとする。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
すなわち、本実施の形態の原盤は、光ディスク原盤に形成されるパターンに基づいて設定された記録パルスに基づいて、パルス状のレーザ光を感光性膜上に照射するＡｒレーザ１０５と、記録パルスのパルス長が短くなるにつれてＡｒレーザ１０５によって照射されるレーザ光の強度を強くすると共にレーザ光のパルス長を補正する変調器制御部１０２および光変調器１０４とを備える原盤製造装置によって製造される。また、本実施の形態の原盤は、パルス長が補正されたレーザ光のパルス中心が、補正以前のパルス状のレーザ光のパルス中心と一致するレーザ光によって露光されたパターンに基づいて製造される。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
また、請求項１に記載の発明は、パルス長を補正してもパルス中心が変動することがない。このため、特にシンメトリの良好な再生信号が得られる光ディスクを製造することができる光ディスク原盤製造装置を提供することができるという効果を奏する。
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
請求項２に記載の発明は、光ディスク原盤製造装置が記録パルス長に応じてレーザ光の強度と共にパルス長を補正することから、記録パルス長の長さによらずレジストに安定した光量が供給されるようにレーザ光の強度やパルス幅を制御することができる。このため、ジッタが少なく、かつ、シンメトリの良好な再生信号が得られるピットを備えた光ディスクを製造できる光ディスク原盤を提供することができるという効果を奏する。
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
また、請求項２に記載の発明は、光ディスク原盤製造像装置がパルス長を補正してもパルス中心が変動することがない。このため、特にシンメトリの良好な再生信号が得られるピットを備えた光ディスクを製造できる光ディスク原盤を提供することができるという効果を奏する。
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図面の簡単な説明
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図面の簡単な説明】
【図２】
図１に示した変調器制御部のパルス長とレーザ光強度の補正にかかる構成を示すブロック図である。
【手続補正１７】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図４】
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