【誤訳訂正書】
【提出日】令和3年4月9日(2021.4.9)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
α，βエチレン性不飽和カルボン酸またはエステルの製造方法において、塩基性金属塩の存在下にてホルムアルデヒドまたはその供給源と、式Ｒ３−ＣＨ２−ＣＯＯＲ４（式中、Ｒ４はアルキル基であり、Ｒ３はメチルである）で表される非環式カルボン酸エステルとを液相反応させる工程からなり、前記塩基性金属塩は、第Ｉ族金属または第ＩＩ族金属の塩である、方法。
【請求項２】
Ｒ４はＣ１〜Ｃ４アルキル基である、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記塩基性金属塩は、第Ｉ族金属または第ＩＩ族金属の、酸化物、水酸化物、炭酸塩、炭酸水素塩、メチル炭酸塩、アルコキシド（メトキシド、ｔ−ブトキシド等）、フッ化物およびリン酸塩から選択される、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
前記塩基性金属塩は、酸化カリウム、酸化セシウム、酸化ナトリウム、酸化ルビジウム、酸化バリウム、水酸化カリウム、水酸化セシウム、水酸化ナトリウム、水酸化ルビジウム、水酸化バリウム、リン酸カリウム、リン酸セシウム、リン酸ナトリウム、リン酸ルビジウム、リン酸バリウム、ナトリウムメトキシド、カリウムメトキシド、ルビジウムメトキシド、ナトリウムｔ−ブトキシド、カリウムｔ−ブトキシド、ルビジウムｔ−ブトキシド、セシウムｔ−ブトキシド、フッ化ナトリウム、フッ化カリウム、フッ化ルビジウム、フッ化セシウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、炭酸ナトリウム、炭酸ルビジウム、炭酸バリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素ルビジウム、炭酸水素セシウム、炭酸水素バリウム、メチル炭酸カリウム、メチル炭酸ナトリウム、メチル炭酸セシウム、メチル炭酸ルビジウムまたはメチル炭酸バリウムから選択される、請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
前記反応は３００℃未満の温度で実施される、請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
前記反応は５〜２０００ｐｓｉの圧力で実施される、請求項１〜５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
前記ホルムアルデヒドの供給源は、ホルマリン（ホルムアルデヒド、メタノール、水）、低分子量ポリホルムアルデヒド（パラホルムアルデヒド）、気体状ホルムアルデヒド、ホルムアルデヒドヘミアセタール（アルコホルム）、トリオキサンまたは無水ホルムアルデヒドから選択することができる、請求項１〜６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
前記プロセスは回分式または連続式プロセスである、請求項１〜７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
前記反応媒体中において、前記非環式カルボン酸エステルは、前記ホルムアルデヒドまたはその供給源と比較してモル過剰に維持される、請求項１〜８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
前記ホルムアルデヒドまたはその供給源は、前記非環式カルボン酸エステルに対し１〜１０ｍｏｌ％／分の速度で反応器に添加される、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
ホルムアルデヒドまたはその供給源の前記非環式カルボン酸エステルに対するモル比は、前記反応が行われる間、１：１００〜１：２に維持される、請求項９または１０に記載の方法。
【請求項１２】
ホルムアルデヒドまたはその供給源の前記非環式カルボン酸エステルに対するモル比は、前記反応が行われる間、１：５０〜１：５に維持される、請求項９〜１１のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１３】
前記ホルムアルデヒドまたはその供給源は、前記非環式カルボン酸エステルと一緒に、１．１：１〜１：１のモル比で反応器に供給される、請求項９に記載の方法。
【請求項１４】
前記プロセスは１種または２種以上の溶媒をさらに含む、請求項１〜１３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１５】
前記溶媒は完全に非プロトン性である、請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
前記溶媒は、非プロトン性親プロトン性溶媒または非プロトン性疎プロトン性溶媒である、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
前記溶媒は、非プロトン性親プロトン性溶媒である、請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
前記溶媒は、ジメチルホルムアミド、ジエチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）、１，３−ジメチル−３，４，５，６−テトラヒドロ−２（１Ｈ）−ピリミジノン（ＤＭＰＵ）、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン（ＤＭＥＵまたはＤＭＩ）、３−メチル−２−オキサゾリジノン、炭酸プロピレン、ジエチルアセトアミド、１−メチル−２−ピロリジノン、ヘキサメチルリン酸トリアミド、ピリジン、テトラメチル尿素、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル、プロピオニトリル、ベンゾニトリル、アセトン、２−ブタノン、３−ペンタノン、アセトフェノン、ニトロメタン、ニトロベンゼン、テトラヒドロチオフェン１，１−ジオキシド（スルホラン）、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、１，４−ジオキサン、炭酸ジメチル、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、ジグリム、ベンゼン、シクロヘキサン、キシレンまたはトルエンから選択される、請求項１６に記載の方法。
【請求項１９】
ホルムアルデヒドまたはその供給源を、式Ｒ３−ＣＨ２−ＣＯＯＲ４（式中、Ｒ４はアルキル基であり、Ｒ３はメチルである）で表される非環式カルボン酸エステルと液相反応させることによりα，βエチレン性不飽和カルボン酸またはエステルを製造するための、第Ｉ族金属または第ＩＩ族金属の塩である塩基性金属塩の使用方法。
【請求項２０】
Ｒ４はＣ１〜Ｃ４アルキル基である、請求項１９に記載の方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２７】
したがって、本発明のプロセスは、場合により、１種以上の溶媒をさらに含むことができる。
好適には、溶媒は、完全にまたは実質的に非プロトン性である。好適な非プロトン性溶媒が、Ｊｏｓｅｆ  Ｂａｒｔｈｅｌ，Ｈｅｉｎｅｒ−Ｊ．Ｇｏｒｅｓ，Ｇｅｏｒｇ  Ｓｃｈｍｅｅｒ  ａｎｄ  Ｒｕｄｏｌｆ  Ｗａｃｈｔｅｒ著，“Ｎｏｎ−Ａｑｕｅｏｕｓ  Ｅｌｅｌｃｔｒｏｌｙｔｅ  Ｓｏｌｕｔｉｏｎｓ  ｉｎ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  ａｎｄ  Ｍｏｄｅｒｎ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ”，Ｔｏｐｉｃｓ  ｉｎ  Ｃｕｒｒｅｎｔ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，Ｖｏｌ．１１１，ｐａｇｅ  ３３，１９８３のｐｐ１１２〜１１４に、“Ａｐｒｏｔｉｃ  ｐｒｏｔｏｐｈｉｌｉｃ  ｓｏｌｖｅｎｔｓ”、“Ａｐｒｏｔｉｃ  ｐｒｏｔｏｐｈｏｂｉｃ  ｓｏｌｖｅｎｔｓ”、“Ｌｏｗ  ｐｅｒｍｉｔｔｉｖｉｔｙ  ｅｌｅｃｔｒｏｎ  ｄｏｎｏｒ  ｓｏｌｖｅｎｔｓ”および“Ｉｎｅｒｔ  ｓｏｌｖｅｎｔｓ”と題した表Ａ−１に記載されている。好適には、溶媒は非プロトン性親プロトン性（ｐｒｏｔｏｐｈｉｌｉｃ）溶媒または非プロトン性疎プロトン性溶媒、より好適には、非プロトン性親プロトン性溶媒である。好適には、溶媒は、ジメチルホルムアミド、ジエチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）、１，３−ジメチル−３，４，５，６−テトラヒドロ−２（１Ｈ）−ピリミジノン（ＤＭＰＵ）、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン（ＤＭＥＵまたはＤＭＩ）、３−メチル−２−オキサゾリジノン、炭酸プロピレン、ジエチルアセトアミド、１−メチル−２−ピロリジノン、ヘキサメチルリン酸トリアミド、ピリジン、テトラメチル尿素、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル、プロピオニトリル、ベンゾニトリル、アセトン、２−ブタノン、３−ペンタノン、アセトフェノン、ニトロメタン、ニトロベンゼン、テトラヒドロチオフェン１，１−ジオキシド（スルホラン）、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、１，４−ジオキサン、炭酸ジメチル、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、ジグリム、ベンゼン、シクロヘキサン、キシレンまたはトルエンから選択される。より好適には、溶媒は、ジメチルホルムアミド、ジエチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）、１，３−ジメチル−３，４，５，６−テトラヒドロ−２（１Ｈ）−ピリミジノン（ＤＭＰＵ）、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン（ＤＭＥＵまたはＤＭＩ）、３−メチル−２−オキサゾリジノン、ジエチルアセトアミド、１−メチル−２−ピロリジノン、ヘキサメチルリン酸トリアミド、ピリジン、テトラメチル尿素、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル、プロピオニトリル、ベンゾニトリル、アセトン、２−ブタノン、３−ペンタノン、アセトフェノン、ニトロメタン、ニトロベンゼン、テトラヒドロチオフェン１，１−ジオキシド（スルホラン）、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタンまたはジグリムから選択される。最適には、溶媒は、ジメチルホルムアミド、ジエチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）、１，３−ジメチル−３，４，５，６−テトラヒドロ−２（１Ｈ）−ピリミジノン（ＤＭＰＵ）、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン（ＤＭＥＵまたはＤＭＩ）、３−メチル−２−オキサゾリジノ���、ジエチルアセトアミド、１−メチル−２−ピロリジノン、ヘキサメチルリン酸トリアミド、ピリジン、テトラメチル尿素、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル、プロピオニトリル、ニトロメタンまたはテトラヒドロチオフェン１，１−ジオキシド（スルホラン）から選択される。