【手続補正書】
【提出日】令和3年7月16日(2021.7.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
検査システムであって、
実体的検査装置（ＰＩＤ）と、保存されたＰＩＤデータを分析するよう構成された仮想的検査装置（ＶＩＤ）と、欠陥確認装置（ＤＶＤ）と、に可通信結合されたコントローラを備え、そのコントローラが１個又は複数個のプロセッサを有し、当該１個又は複数個のプロセッサが、命令を実行することで、
プロセスウィンドウを定める指定リソグラフィコンフィギュレーションで以て作成された複数個のパターンを有する標本のパターンレイアウトを受け取り、そのパターンレイアウトにより、その標本上におけるそれら複数個のパターンの居所をそのプロセスウィンドウのリソグラフィコンフィギュレーションに関連付け、
その標本を前記ＰＩＤで分析することで察知されたＰＩＤ察知欠陥の居所を受け取り、それらＰＩＤ察知欠陥を前記ＤＶＤに確認させ、
それらＰＩＤ察知欠陥の居所に係る一通り又は複数通りのリソグラフィコンフィギュレーションを、前記プロセスウィンドウから除外し、
前記プロセスウィンドウを反復的に精密化し、特定の反復において、
保存されたＰＩＤデータのうち一部分を前記ＶＩＤでの分析のために選択し、
保存されたＰＩＤデータの前記選択した部分を前記ＶＩＤで分析することにより察知されたＶＩＤ察知欠陥の居所を受け取り、それらＶＩＤ察知欠陥を前記ＤＶＤに確認させ、
ＶＩＤ察知欠陥に係る一通り又は複数通りのリソグラフィコンフィギュレーションを前記プロセスウィンドウから除外し、
指定されている終了条件が成立したときに前記プロセスウィンドウを出力として提示するよう、
構成されている検査システム。
【請求項２】
請求項１に記載の検査システムであって、
前記１個又は複数個のプロセッサが、命令を実行することで、更に、
前記複数個のパターンが欠陥をもって作成されるプロセスウィンドウにおける、リソグラフィコンフィギュレーションの個数を示す性能指数を、それら複数個のパターンに割り当て、保存されたＰＩＤデータのうち前記ＶＩＤにより分析される前記選択部分をその性能指数に基づき選択するよう、構成されている検査システム。
【請求項３】
請求項２に記載の検査システムであって、
保存されたＰＩＤデータの前記一部分を前記ＶＩＤでの分析のために選択することが、
ある指定範囲内の性能指数を呈するパターンの種数を、ある指定仕様内で最大化させることで、保存されたＰＩＤデータのうち前記一部分を前記ＶＩＤでの分析のために選択することを含む検査システム。
【請求項４】
請求項２に記載の検査システムであって、
保存されたＰＩＤデータの前記一部分を前記ＶＩＤでの分析のために選択することが、
ある指定範囲内の性能指数を呈するパターンの個数を、ある指定仕様内で最大化させることで、保存されたＰＩＤデータのうち前記一部分を前記ＶＩＤでの分析のために選択することを含む検査システム。
【請求項５】
請求項２に記載の検査システムであって、
前記特定の反復において、更に、
前記プロセスウィンドウから除外された前記ＶＩＤ察知欠陥にもとづき前記性能指数を更新する検査システム。
【請求項６】
請求項２に記載の検査システムであって、
前記１個又は複数個のプロセッサが、命令を実行することで、更に、
前記ＰＩＤでの前記標本の分析の１個又は複数個のスワスに前記複数個のパターンを関連付け、且つ
前記１個又は複数個のスワスにおけるそれら複数個のパターンの性能指数に基づき、当該１個又は複数個のスワスに学習ポテンシャル値を割り当て、保存されたＰＩＤデータのうち前記ＶＩＤにより分析される前記選択部分を、当該１個又は複数個のスワスの学習ポテンシャル値に基づき選択するよう、構成されている検査システム。
【請求項７】
請求項６に記載の検査システムであって、
前記学習ポテンシャル値が、指定されている基準を満たす性能指数を呈するパターンの種数、並びに当該指定されている基準を満たす性能指数を呈するパターンの個数、のうち少なくとも一方を示すものである検査システム。
【請求項８】
請求項６に記載の検査システムであって、
前記１個又は複数個のスワスの学習ポテンシャル値が、当該１個又は複数個のスワスに製造欠陥が含まれることについての予測確率を示すものである検査システム。
【請求項９】
請求項６に記載の検査システムであって、
保存されたＰＩＤデータの前記一部分を前記ＶＩＤでの分析のために選択することが、
保存されたＰＩＤデータのうち少なくとも一部分のスワスを前記学習ポテンシャルに基づき前記ＶＩＤでの分析のために選択することを含む検査システム。
【請求項１０】
請求項８に記載の検査システムであって、
前記特定の反復において、更に、
前記１個又は複数個のスワスの前記学習ポテンシャル値を、前記ＶＩＤ察知欠陥にもとづき更新する検査システム。
【請求項１１】
請求項１０に記載の検査システムであって、
前記１個又は複数個のスワスの学習ポテンシャル値を、前記ＶＩＤ察知欠陥にもとづき更新することが、前記１個又は複数個のスワスの前記学習ポテンシャル値をデクリメントすることを含む検査システム。
【請求項１２】
請求項１１に記載の検査システムであって、
前記指定されている終了条件に、前記１個又は複数個のスワスの学習ポテンシャル値が選択された閾値を下回ることが含まれる検査システム。
【請求項１３】
請求項２に記載の検査システムであって、
前記１個又は複数個のプロセッサが、命令を実行することで、更に、
前記ＤＶＤの１個又は複数個の視野に前記複数個のパターンを関連付け、且つ
前記１個又は複数個の視野における前記複数個のパターンの性能指数に基づき当該１個又は複数個の視野に学習ポテンシャル値を割り当て、保存されたＰＩＤデータのうち前記ＶＩＤにより分析される前記選択された部分を、当該１個又は複数個の視野の学習ポテンシャル値に基づき選択するよう、構成されている検査システム。
【請求項１４】
請求項１３に記載の検査システムであって、
前記学習ポテンシャル値が、指定されている基準を満たす性能指数を呈するパターンの種数、並びに当該指定されている基準を満たす性能指数を呈するパターンの個数のうち、少なくとも一方を示すものである検査システム。
【請求項１５】
請求項１３に記載の検査システムであって、
前記１個又は複数個の視野の前記学習ポテンシャル値が、当該１個又は複数個の視野に製造欠陥が含まれることについての予測確率を示すものである検査システム。
【請求項１６】
請求項１３に記載の検査システムであって、
保存されたＰＩＤデータの前記一部分を前記ＶＩＤでの分析のために選択することが、
前記１個又は複数個の視野のうち少なくとも１個の視野を前記学習ポテンシャルに基づき前記ＶＩＤで選択することを含む検査システム。
【請求項１７】
請求項１３に記載の検査システムであって、
前記特定の反復において、更に、
前記指定した少なくとも１個の視野の学習ポテンシャル値を、前記ＶＩＤ察知欠陥にもとづき更新する検査システム。
【請求項１８】
請求項１７に記載の検査システムであって、
前記指定した少なくとも１個の視野の学習ポテンシャル値を、前記ＶＩＤ察知欠陥にもとづき更新することが、
指定した少なくとも１個の視野の学習ポテンシャル値をデクリメントすることを含む検査システム。
【請求項１９】
請求項１８に記載の検査システムであって、
前記指定されている終了条件が、前記１個又は複数個の視野の学習ポテンシャル値が選択された閾値を下回ることを含む検査システム。
【請求項２０】
請求項１に記載の検査システムであって、
前記指定されている終了条件が、選択された反復回数を含む検査システム。
【請求項２１】
請求項１に記載の検査システムであって、
前記指定されている終了条件が、選択されたランタイムを含む検査システム。
【請求項２２】
請求項１に記載の検査システムであって、
前記ＰＩＤが、光学検査システム及び電子ビーム式検査システムのうち少なくとも一方を備える検査システム。
【請求項２３】
請求項１に記載の検査システムであって、
前記ＤＶＤが、レビュー用走査型電子顕微鏡、限界寸法走査型電子顕微鏡及び検査用走査型電子顕微鏡のうち少なくとも一つを備える検査システム。
【請求項２４】
請求項１に記載の検査システムであって、
前記１個又は複数個のプロセッサが、命令を実行することで、更に、
前記プロセスウィンドウを反復的に精密化する前に、前記ＰＩＤ察知欠陥の前記居所に関連する一通り又は複数通りのリソグラフィコンフィギュレーションを前記プロセスウィンドウから除外する検査システム。
【請求項２５】
検査システムであって、
実体的検査装置（ＰＩＤ）と、
保存されたＰＩＤデータを分析するよう構成された仮想的検査装置（ＶＩＤ）と、
欠陥確認装置（ＤＶＤ）と、
前記ＰＩＤ、前記ＶＩＤ及び前記ＤＶＤに可通信結合されたコントローラと、
を備え、前記コントローラが１個又は複数個のプロセッサを有し、当該１個又は複数個のプロセッサが、命令を実行することで、
プロセスウィンドウを定める指定リソグラフィコンフィギュレーションで以て作成された複数個のパターンを有する標本のパターンレイアウトを受け取り、そのパターンレイアウトにより、その標本上におけるそれら複数個のパターンの居所をそのプロセスウィンドウのリソグラフィコンフィギュレーションに関連付け、
その標本を前記ＰＩＤで以て分析することで察知されたＰＩＤ察知欠陥の居所を受け取り、それらＰＩＤ察知欠陥を前記ＤＶＤに確認させ、
前記プロセスウィンドウを反復的に精密化し、特定の反復において、
保存されたＰＩＤデータのうち一部分を前記ＶＩＤでの分析のために選択し、
保存されたＰＩＤデータの前記選択した部分を前記ＶＩＤで分析することにより察知されたＶＩＤ察知欠陥の居所を受け取り、それらＶＩＤ察知欠陥を前記ＤＶＤに確認させ、
ＶＩＤ察知欠陥に係る一通り又は複数通りのリソグラフィコンフィギュレーションを前記プロセスウィンドウから除外し、
指定されている終了条件が成立したときに前記プロセスウィンドウを出力として提示するよう、
構成されている検査システム。
【請求項２６】
請求項２５に記載の検査システムであって、
前記１個又は複数個のプロセッサが、命令を実行することで、更に、
前記プロセスウィンドウを反復的に精密化する前に、前記ＰＩＤ察知欠陥の前記居所に関連する一通り又は複数通りのリソグラフィコンフィギュレーションを前記プロセスウィンドウから除外する検査システム。
【請求項２７】
プロセスウィンドウを定める指定リソグラフィコンフィギュレーションで作成された複数個のパターンを有する標本のパターンレイアウトを１個または複数個のプロセッサで受け取り、そのパターンレイアウトにより、その標本上におけるそれら複数個のパターンの居所をそのプロセスウィンドウのリソグラフィコンフィギュレーションに関連付けるステップと、
その標本を実体的検査装置（ＰＩＤ）で検査することでＰＩＤ察知欠陥を生成するステップと、
それらＰＩＤ察知欠陥を欠陥確認装置（ＤＶＤ）で確認するステップと、
前記プロセスウィンドウを反復的に精密化するステップであって、特定の反復において、
保存されたＰＩＤデータの一部を仮想的検査装置（ＶＩＤ）での分析のために、１個または複数個のプロセッサで選択し、
保存されたＰＩＤデータの選択された部分を前記ＶＩＤで分析することで察知されたＶＩＤ察知欠陥の居所を１個または複数個のプロセッサで受け取り、それらＶＩＤ察知欠陥を前記ＤＶＤにより確認し、
ＶＩＤ察知欠陥に係る一通り又は複数通りのリソグラフィコンフィギュレーションを１個または複数個のプロセッサで前記プロセスウィンドウから除外する、ステップと、
指定されている終了条件が成立したときに前記プロセスウィンドウを出力として１個または複数個のプロセッサで提示するステップと、
を有する検査方法。
【請求項２８】
請求項２７に記載の検査方法であって、更に、
前記複数個のパターンが欠陥をもって作成されるプロセスウィンドウにおける、リソグラフィコンフィギュレーションの個数を示す性能指数を、１個または複数個のプロセッサで、それら複数個のパターンに割り当てるステップを有し、
保存されたＰＩＤデータのうち一部分を前記ＶＩＤでの分析のために選択するステップが、保存されたＰＩＤデータのうちその部分を、前記性能指数に基づき前記ＶＩＤでの分析のために選択するステップを含む検査方法。
【請求項２９】
請求項２８に記載の検査方法であって、
保存されたＰＩＤデータのうち一部分を前記性能指数に基づき前記ＶＩＤでの分析のために選択するステップが、
前記複数個のパターンのうち指定個数のパターンであり、プロセスウィンドウ内の指定個数のリソグラフィコンフィギュレーションを製造欠陥に関連付けるものが含まれるよう、保存されたＰＩＤデータの前記部分を選択するステップを含む検査方法。
【請求項３０】
請求項２８に記載の検査方法であって、
保存されたＰＩＤデータのうち一部分を前記性能指数に基づき前記ＶＩＤでの分析のために選択するステップが、
前記複数個のパターンのうち指定種数のパターンであり、プロセスウィンドウ内の指定個数のリソグラフィコンフィギュレーションを製造欠陥に関連付けるものが含まれるよう、保存されたＰＩＤデータの前記部分を選択するステップを含む検査方法。
【請求項３１】
請求項２８に記載の検査方法であって、
前記反復に、更に、前記プロセスウィンドウから除外された前記ＶＩＤ察知欠陥にもとづき前記性能指数を更新するステップが含まれる検査方法。
【請求項３２】
請求項２７に記載の検査方法であって、さらに、
前記プロセスウィンドウを反復的に精密化する前に、前記１個又は複数個のプロセッサで、前記ＰＩＤ察知欠陥の前記居所に関連する一通り又は複数通りのリソグラフィコンフィギュレーションを前記プロセスウィンドウから除外するステップを含む検査方法。