Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成17年7月28日(2005.7.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
リング状部材の軸方向の一側面に開口部を有するボールポケットが円周方向に等間隔で複数形成され、該ボールポケットによって転動体を抱持する転がり軸受用保持器において、
前記ボールポケットの内面は、前記転動体の外周面の形状に沿った球面であり、その底部には、前記リング状部材の軸方向に垂直で前記転動体に当接する平面部が形成されており、該平面部は、その周囲が前記球面で完全に囲まれていることを特徴とする転がり軸受用保持器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
【従来の技術】
従来の転がり軸受用保持器（以下、単に保持器という）を図５に基づいて説明する。図は荷重が径方向に沿ってかかる軸受、すなわち、ラジアル玉軸受に用いられている保持器１の一例を示したものである。保持器１はリング状の部材により形成されており、その軸方向の一側面にはボール等の転動体（図示なし）を保持するボールポケット２が複数個（図においては、八個）形成されている。これらのボールポケット２の内周面（凹面）は転動体の外周面の形状に合わせて球面に形成されている。この保持器１に転動体を装着することによって、転がり軸受用の軸受本体が形成される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
【課題を解決するための手段】
上記の課題を解決するために、請求項１記載の発明は、リング状部材の軸方向の一側面に開口部を有するボールポケットが円周方向に等間隔で複数形成され、該ボールポケットによって転動体を抱持する転がり軸受用保持器において、
前記ボールポケットの内面は、前記転動体の外周面の形状に沿った球面であり、その底部には、前記リング状部材の軸方向に垂直で前記転動体に当接する平面部が形成されており、該平面部は、その周囲が前記球面で完全に囲まれていることを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
請求項１に記載した発明においては、リング状部材の軸方向の一側面に円周方向で等間隔に形成した複数のボールポケットの内面を球面とし、この内面の底部に、リング状部材の軸方向に垂直で、転動体に当接し、かつ、周囲が球面で完全に囲まれた平面部を形成し、この平面部によってボールポケットに嵌合させた転動体の動きを抑制する。また、ボールポケット内の平面部以外の内面と転動体との間の隙間を大きく形成して、潤滑油の流れを良くして転動体の潤滑性を向上させる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
保持器３に形成されたボールポケット４の球面状の内面の底部には、保持器３の軸方向に垂直な平面部５が形成されており、この平面部５は、その全周がボールポケット４の内面を形成する球面で囲まれている。保持器３が転動体を支持する際は、従来では、凹面（球面）で支持していたのに対し、本発明においては、上記平面部５により転動体を線及び点で支持することになる。このように平面部５を設けたことにより、ボールポケット４内の転動体の動きはこの平面部５により抑えられることになる。すなわち、保持器３の転動体に対する動き量が抑制される。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
上記したように、保持器３のボールポケット４内に平面部５を一か所形成したので、この平面部５により転動体を狭い状態で抱持、すなわち、転動体と凹面との間に隙間を発生させないようにして抱持すれば、保持器３の転動体に対する動き量が少なくなって、振動が抑制される。また、平面部５以外の凹面（球面）の部位では凹面と転動体との間に充分な隙間をとることができるので、この隙間に潤滑油が効率よく行き渡り潤滑性能が向上する。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
【発明の効果】
請求項１に記載された発明によれば、ボールポケットの内面を球面とし、この内面の底部に、リング状部材の軸方向に垂直で、転動体に当接し、かつ、周囲が球面で完全に囲まれた平面部を形成したので、この平面部によって、球面の曲率を小さくしなくても、転動体を抑えた状態で抱持することができる。これによって、保持器の転動体に対する動き量が抑制されて、保持器の振動を低減させることができる。したがって、軸受の回転時には、振動の発生が減少して、防音機能及び回転性能を向上させることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成17年7月28日(2005.7.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
この設備Ｂは、酸素検知紙３５をガイドロール３１乃至３４を介して脱酸素剤帯体１に繰り出す酸素検知紙テープアンリール３０を備えている。また、前記設備Ｃは、プラスチック製片面粘着テープ４４を、ガイドロール４１，４２を介して前記脱酸素剤帯体１に向けて繰り出す粘着テープロール４３と、このロール４３が掛けられたテープアンリール４０とを備えている。
【手続補正書】
【提出日】平成17年7月25日(2005.7.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
疎水性粒子の表面にアルコール性水酸基を有する多孔性架橋重合体からなる充填剤。
【請求項２】
多孔性架橋重合体の粒径が１〜５００ミクロン、細孔径が４０〜１２０オングストロームである請求項１に記載の充填剤。
【請求項３】
前記アルコール性水酸基が３ｍｅｑ／ｇ以上有する多孔性架橋重合体である請求項１または２に記載の充填剤。
【請求項４】
疎水性粒子の表面にエポキシ基と反応性を有する官能基が導入された、粒径が１〜５００ミクロン、細孔径が４０〜１２０オングストロームの多孔性架橋重合体にエポキシ化合物を反応させ、疎水性粒子の表面にアルコール性水酸基を導入することを特徴とする充填剤の製造方法。
【請求項５】
疎水性粒子が、非架橋性モノマー、架橋性モノマー及び前記モノマー類を溶解し、重合反応には不活性でかつ重合体を溶解しない希釈剤の混合物を水性懸濁重合により製造した多孔性架橋重合体である請求項４に記載の充填剤の製造方法。
【請求項６】
疎水性粒子が、化学的修飾法によりエポキシ基と反応する官能基を導入した多孔性架橋重合体である請求項４または５に記載の充填剤の製造方法。
【請求項７】
疎水性粒子が、非架橋性モノマー及び架橋性モノマーのうち少なくともその１つのモノマーがエポキシ基と反応する官能基を有するモノマーを共重合させ、エポキシ基と反応する官能基が導入された多孔性架橋重合体とした請求項４または５に記載の充填剤の製造方法。
【請求項８】
エポキシ化合物がグリシドールである請求項４〜７のいずれか１項に記載の充填剤の製造方法。
【請求項９】
請求項４〜８のいずれか１項に記載の方法により製造された充填剤。
【請求項１０】
請求項１〜３及び９のいずれか１項に記載の充填剤からなる液体クロマトグラフ用充填剤。
【請求項１１】
請求項１〜３及び９のいずれか１項に記載の充填剤からなる除タンパク処理用充填剤。
【請求項１２】
請求項１〜３及び９のいずれか１項に記載の充填剤からなる除タンパク前処理用充填剤。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明は、
［１］  疎水性粒子の表面にアルコール性水酸基を有する多孔性架橋重合体からなる充填剤、
［２］  多孔性架橋重合体の粒径が１〜５００ミクロン、細孔径が４０〜１２０オングストロームである上記［１］に記載の充填剤、
［３］  前記アルコール性水酸基が３ｍｅｑ／ｇ以上有する多孔性架橋重合体である上記［１］または［２］に記載の充填剤、
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
［４］  疎水性粒子の表面にエポキシ基と反応性を有する官能基が導入された、粒径が１〜５００ミクロン、細孔径が４０〜１２０オングストロームの多孔性架橋重合体にエポキシ化合物を反応させ、疎水性粒子の表面にアルコール性水酸基を導入することを特徴とする充填剤の製造方法、
［５］  疎水性粒子が、非架橋性モノマー、架橋性モノマー及び前記モノマー類を溶解し、重合反応には不活性でかつ重合体を溶解しない希釈剤の混合物を水性懸濁重合により製造した多孔性架橋重合体である上記［４］に記載の充填剤の製造方法、
［６］  疎水性粒子が、化学的修飾法によりエポキシ基と反応する官能基を導入した多孔性架橋重合体である上記［４］または［５］に記載の充填剤の製造方法、
［７］  疎水性粒子が、非架橋性モノマー及び架橋性モノマーのうち少なくともその１つのモノマーがエポキシ基と反応する官能基を有するモノマーを共重合させ、エポキシ基と反応する官能基が導入された多孔性架橋重合体とした上記［４］または［５］に記載の充填剤の製造方法、
［８］  エポキシ化合物がグリシドールである上記［４］〜［７］のいずれかに記載の充填剤の製造方法、
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
［９］  上記［４］〜［８］のいずれかに記載の方法により製造された充填剤、
［１０］  上記［１］〜［３］及び［９］のいずれかに記載の充填剤からなる液体クロマトグラフ用充填剤、
［１１］  上記［１］〜［３］及び［９］のいずれかに記載の充填剤からなる除タンパク処理用充填剤、及び
［１２］  上記［１］〜［３］及び［９］のいずれかに記載の充填剤からなる除タンパク前処理用充填剤、
を開発することにより上記の目的を達成した。
【手続補正書】
【提出日】平成16年9月13日(2004.9.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項５】
表面に印刷部分の存在するＰＴＰシートに光を照射する光源と、
前記ＰＴＰシートから反射する反射光のうち赤外線光を選択的に撮像するカメラと、
前記カメラが撮像した映像データを演算することにより、前記ＰＴＰシートのシール不良を検出するシール不良判断手段とを有することを特徴とするＰＴＰシール検査装置。
【手続補正書】
【提出日】平成17年8月2日(2005.8.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１のステージに載置された検査基板のマクロ画像を撮像するマクロ撮像手段を備えたマクロ撮像部と、
第２のステージに載置された前記検査基板上の欠陥部を拡大して観察するミクロ観察系を備えたミクロ観察部と、
前記マクロ撮像部で撮像されたマクロ画像を保存するマクロ画像保存部と、
前記マクロ画像保存部より読み出された前記マクロ画像を表示する表示部と、
前記表示部に表示された前記マクロ画像中の欠陥部を指定する欠陥位置指定手段と、
前記欠陥位置指定手段により指定された各欠陥部に対し前記検査基板上の座標を演算し、この座標情報に基づいて前記検査基板上で指定された各欠陥部に前記ミクロ観察系の光軸が一致するように前記第２のステージを移動制御する制御部と、
を具備したことを特徴とする基板検査装置。
【請求項２】
前記表示部と前記欠陥位置指定手段と前記制御部は、前記ミクロ観察部に設けられ、ミクロ観察する際に前記マクロ画像保存部よりマクロ画像を読み出して前記表示部に表示することを特徴とする請求項１記載の基板検査装置。
【請求項３】
前記マクロ撮像部及び前記ミクロ観察部は、ネットワークを介して複数ずつ接続され、このネットワークに前記各マクロ撮像部に対して共有の前記マクロ画像保存部を接続し、前記各マクロ撮像部からのマクロ画像データを前記ネットワークを介して保存するとともに、前記ネットワークを介して前記各ミクロ観察部から前記マクロ画像保存部のマクロ画像データを読み出せるようにしたことを特徴とする請求項１記載の基板検査装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するために、本願発明の基板検査装置は、第１のステージに載置された検査基板のマクロ画像を撮像するマクロ撮像手段を備えたマクロ撮像部と、第２のステージに載置された前記検査基板上の欠陥部を拡大して観察するミクロ観察系を備えたミクロ観察部と、前記マクロ撮像部で撮像されたマクロ画像を保存するマクロ画像保存部と、前記マクロ画像保存部より読み出された前記マクロ画像を表示する表示部と、前記表示部に表示された前記マクロ画像中の欠陥部を指定する欠陥位置指定手段と、前記欠陥位置指定手段により指定された各欠陥部に対し前記検査基板上の座標を演算し、この座標情報に基づいて前記検査基板上で指定された各欠陥部に前記ミクロ観察系の光軸が一致するように前記第２のステージを移動制御する制御部とにより構成している。
【手続補正書】
【提出日】平成16年4月1日(2004.4.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
水酸化ニッケルとオゾン又は／及び酸素とをアルカリ性溶液中で処理する工程を備えたアルカリ電池用正極活物質の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明によるアルカリ電池用正極活物質の製造方法は、水酸化ニッケルとオゾン又は／及び酸素とをアルカリ性溶液中で処理する工程を備えることによって、不純物を含まない、高純度のアルカリ電池用正極活物質であるオキシ水酸化ニッケルが得られることを特徴としている。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
【発明の実施の形態】
本発明は、ニッケルカドミウム蓄電池、ニッケル亜鉛蓄電池およびニッケル水素蓄電池などに用いられる、アルカリ電池用正極活物質の製造方法の、製造条件の改善に関するものであり、水酸化ニッケルとオゾン又は／及び酸素とをアルカリ性溶液中で処理する工程を備えることを特徴としている。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
【発明の効果】
本発明は、ニッケルカドミウム蓄電池、ニッケル亜鉛蓄電池およびニッケル水素蓄電池などに用いられる、アルカリ電池用正極活物質オキシ水酸化ニッケルの製造方法の、製造条件の改善に関するものであり、水酸化ニッケルとオゾン又は／及び酸素とをアルカリ性溶液中で処理する工程を備えたことを特徴とするものである。
【手続補正書】
【提出日】平成17年7月20日(2005.7.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定のパターンを有する光によって発熱する反射鏡の形状制御装置であって、
前記反射鏡の温度を測定する測定器と、
前記測定器の測定結果に基づき、前記反射鏡の表面温度分布を検出する検出装置と、
前記検出装置の検出結果に基づき、前記反射鏡を少なくとも部分的に加熱又は冷却し、それにより前記反射鏡の表面温度分布を調整する温度調整装置とを備えたことを特徴とする反射鏡の形状制御装置。
【請求項２】
前記測定器は、前記反射鏡の表面に対向して配置されることを特徴とする請求項１に記載の反射鏡の形状制御装置。
【請求項３】
前記測定器は、前記反射鏡の裏面に配置されることを特徴とする請求項１に記載の反射鏡の形状制御装置。
【請求項４】
前記検出装置は、前記測定器の測定結果に基づいて、前記反射鏡の表面温度分布を解析することを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の反射鏡の形状制御装置。
【請求項５】
前記検出装置が、前記反射鏡の表面温度分布を解析した結果、前記反射鏡の表面内の温度差が所定値以下であると判断したときに、前記温度調整装置の動作を停止させる停止装置を更に備えたことを特徴とする請求項４に記載の反射鏡の形状制御装置。
【請求項６】
前記温度調整装置は、前記反射鏡の裏面を加熱するヒータ−を備えることを特徴とする請求項１から請求項５のいずれか一項に記載の反射鏡の形状制御装置。
【請求項７】
所定のパターンの像を感光基板上に露光する露光装置であって、
反射鏡を含み、前記パターン像を感光基板上に投影する投影光学系と、
前記反射鏡の形状を制御するために、請求項１から請求項６のいずれか一項に記載の反射鏡の形状制御装置と、を備えたことを特徴とする露光装置。
【請求項８】
所定のパターンを有する光によって発熱する反射鏡の形状制御方法であって、
前記反射鏡の温度を測定するステップと、
測定した前記温度に基づき、前記反射鏡の表面温度分布を検出するステップと、
前記表面温度分布に基づき、前記反射鏡を少なくとも部分的に加熱又は冷却するステップと、を備えたことを特徴とする反射鏡の形状制御方法。
【請求項９】
熱変形により生ずる反射鏡の歪みが許容値を超えるか否か判断するステップを有し、
前記加熱又は冷却するステップは、前記熱変形により生ずる反射鏡の歪みが許容値を超えると判断したときに、前記反射鏡の表面を少なくとも部分的に加熱又は冷却することを特徴とする請求項８に記載の反射鏡の形状制御装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本願発明の、所定のパターンを有する光によって発熱する反射鏡の形状制御装置は、反射鏡（Ｍ２）の温度を測定する測定器（１０５，２０５，３０５）と、測定器（１０５，２０５，３０５）の測定結果に基づき、反射鏡（Ｍ２）の表面温度分布を検出する検出装置（１０６，２０４，３０４）と、検出装置（１０６，２０４，３０４）の検出結果に基づき、反射鏡（Ｍ２）を少なくとも部分的に加熱又は冷却し、それにより反射鏡（Ｍ２）の表面温度分布を調整する温度調整装置（１０１，１０２，２０１，３０１）とを備えたことを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本願発明の反射鏡の形状制御装置によれば、温度調整装置（１０１，１０２，２０１，３０１）が、検出装置（１０６，２０４，３０４）の検出結果に基づき、反射鏡（Ｍ２）を少なくとも部分的に加熱又は冷却し、反射鏡（Ｍ２）の表面温度分布を調整するので、反射鏡（Ｍ２）の温度は全体で均一に近づき、その熱変形は極力抑えられることになる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本願発明の、所定のパターンの像を感光基板上に露光する露光装置は、反射鏡（Ｍ２）を含み、パターン像を感光基板上に投影する投影光学系（ＰＬ）と、反射鏡（Ｍ２）の形状を制御するために、上述した反射鏡の形状制御装置とを備えたことを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本願発明の露光装置によれば、反射鏡（Ｍ２）の温度は全体で均一に近づき、その熱変形は極力抑えられることになる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
本願発明の、所定のパターンを有する光に基づき発熱する反射鏡の形状制御方法は、反射鏡（Ｍ２）の温度を測定するステップと、測定した温度に基づき、反射鏡（Ｍ２）の表面温度分布を検出するステップと、表面温度分布に基づき、反射鏡（Ｍ２）を少なくとも部分的に加熱又は冷却するステップとを備えたことを特徴とする。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
本願発明の反射鏡の形状制御方法によれば、表面温度分布に基づき、反射鏡（Ｍ２）を少なくとも部分的に加熱又は冷却するので、必要に応じて反射鏡（Ｍ２）の熱変形が防止でき、それにより高精度な露光を達成できると共に無駄な電力消費を防止することができる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４８】
【発明の効果】
以上述べたように、本願発明の反射鏡の形状制御装置または露光装置によれば、温度調整装置が、検出装置の検出結果に基づき、反射鏡を少なくとも部分的に加熱又は冷却し、反射鏡の表面温度分布を調整するので、反射鏡の温度は全体で均一に近づき、その熱変形は極力抑えられることになる。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４９】
更に本願発明の反射鏡の形状制御方法によれば、表面温度分布に基づき、反射鏡を少なくとも部分的に加熱又は冷却するので、必要に応じて反射鏡の熱変形が防止でき、それにより高精度な露光を達成できると共に無駄な電力消費を防止することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成16年3月19日(2004.3.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】半導体装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
配線が形成されて、中央部に開口部を設けたパッケージ基板と、
前記パッケージ基板の第１の面に、その主面を前記パッケージ基板と対向させて、弾性体を介して接着された第１の半導体チップと、
前記パッケージ基板の前記第１の面の裏面である第２の面に、その主面を前記パッケージ基板と対向させて、弾性体を介して接着された第２の半導体チップとを有する半導体装置であって、
前記第１の半導体チップは、インナーリードによって前記パッケージ基板の配線と接続され、
前記第２の半導体チップは、前記パッケージ基板の開口部を介して、インナーリードによって前記パッケージ基板の配線と接続され、
前記パッケージ基板の前記第２の面上の前記第２の半導体チップの周囲に、はんだバンプが配列されていることを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
請求項１記載の半導体装置であって、
前記弾性体は、シリコーン樹脂であることを特徴とする半導体装置。
【請求項３】
請求項１または２記載の半導体装置であって、
前記パッケージ基板は、ポリイミドフィルムであることを特徴とする半導体装置。
【請求項４】
請求項１、２または３記載の半導体装置であって、
前記第１の半導体チップの主面に設けられた配線接続部または前記第２の半導体チップの主面に設けられた配線接続部と、前記パッケージ基板上に形成された配線との接続が、
Ａｕバンプを介したフリップチップボンディングにより接続された第１の構成、
Ａｕワイヤを介したワイヤボンディングにより接続された第２の構成、
前記パッケージ基板の端部から延在された配線リードのインナーリード部を介して接続された第３の構成、
の何れかの構成を有することを特徴とする半導体装置。
【請求項５】
請求項１記載の半導体装置において、前記インナーリードを樹脂により封止していることを特徴とする半導体装置。
【手続補正書】
【提出日】平成16年7月2日(2004.7.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
試料を保持するトレイを搬送アーム上に載置して搬送する搬送装置において、
前記トレイと搬送アームのそれぞれの接触面のいずれか一方の面には、ホール座と、Ｖ溝座と、平面座とがそれぞれ配設され、他方の面には、前記ホール座とＶ溝座と平面座にそれぞれ係合当接する球座が配設されていることを特徴とする搬送装置。
【請求項２】
試料を保持するトレイを搬送アーム上に載置して搬送する搬送装置において、
前記トレイの裏面には、ホール座と、Ｖ溝座と、平面座とがそれぞれ配設され、前記搬送アームの上面には、前記ホール座とＶ溝座と平面座にそれぞれ係合当接する球座が配設されていることを特徴とする搬送装置。
【請求項３】
前記球座は、二等辺三角形の各頂点の関係となるように配置されることを特徴とする請求項１または２記載の搬送装置。
【請求項４】
前記ホール座は、円錐孔があけられた形状であって、前記円錐孔の中心が前記Ｖ溝座のＶ溝頂線の延長線上に位置するように配置されることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の搬送装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
【課題を解決するための手段】
一実施の形態の図１に対応づけて本発明を説明すると、請求項１の発明は、試料Ｗを保持するトレイ２０を搬送アーム１０上に保持して搬送する搬送装置に適用される。そして、上述の目的は、トレイ２０と搬送アーム１０のそれぞれの接触面のいずれか一方の面２０ｂには、ホール座２１と、Ｖ溝座２２と、平面座２３とをそれぞれ配設し、他方の面１０ａには、ホール座２１とＶ溝座２２と平面座２３にそれぞれ係合当接する球座１３〜１５を配設することにより達成される。
ホール座２１と、Ｖ溝座２２と、平面座２３をトレイ２０の裏面２０ｂに設け、ホール座２１とＶ溝座２２と平面座２３にそれぞれ係合当接する球座１３〜１５を搬送アーム１０の上面１０ａに設けることができる。
また、球座１３〜１５を、二等辺三角形の各頂点の関係となるように配置しても良い。
さらに、ホール座２１を円錐孔があけられた形状とし、円錐孔の中心がＶ溝座２２のＶ溝頂線の延長線上に位置するように配置しても良い。
【手続補正書】
【提出日】平成16年3月25日(2004.3.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
正負の電極を１枚ずつ以上交互にセパレータを介して巻回または積層することにより発電要素を形成する電池の製造方法において、
少なくともいずれか一方の電極にセパレータを固着するセパレータ固着工程と、このセパレータ固着工程によって電極にセパレータを固着する前に、この電極にリード端子の基部を接続固定するリード端子接続固定工程とを備えたことを特徴とする電池の製造方法。
【請求項２】
正負の電極を１枚ずつ以上交互にセパレータを介して巻回または積層することにより発電要素を形成する電池の製造方法において、
正負の電極をセパレータを介して固着するセパレータ固着工程と、
このセパレータ固着工程によって正負の電極をセパレータを介して固着する前に、これら正負の電極にそれぞれリード端子の基部を接続固定するリード端子接続固定工程とを備えたことを特徴とする電池の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
【課題を解決するための手段】
即ち、本発明は、上記課題を解決するために、請求項１に記載の発明は、正負の電極を１枚ずつ以上交互にセパレータを介して巻回または積層することにより発電要素を形成する電池の製造方法において、
少なくともいずれか一方の電極にセパレータを固着するセパレータ固着工程と、このセパレータ固着工程によって電極にセパレータを固着する前に、この電極にリード端子の基部を接続固定するリード端子接続固定工程とを備えたことを特徴とする。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
請求項１に記載の発明の手段によれば、まずリード端子接続固定工程によって電極にリード端子を接続固定し、次にセパレータ固着工程によってこの電極にセパレータを固着するので、リード端子を接続固定するためにセパレータの一部を剥がしたり、このリード端子の接続固定部を避けてセパレータを固着する面倒をなくすことができる。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
また、請求項２に記載の発明は、正負の電極を１枚ずつ以上交互にセパレータを介して巻回または積層することにより発電要素を形成する電池の製造方法において、
正負の電極をセパレータを介して固着するセパレータ固着工程と、
このセパレータ固着工程によって正負の電極をセパレータを介して固着する前に、これら正負の電極にそれぞれリード端子の基部を接続固定するリード端子接続固定工程とを備えたことを特徴とする電池の製造方法。
工程とを備えたことを特徴とする。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
請求項２に記載の発明の手段によれば、セパレータ固着工程によって正負双方の電極をセパレータを介して固着するので、発電要素を完全に一体化することができる。そして、この場合には、リード端子接続固定工程によって予め正負双方の電極にリード端子を接続固定しておくことにより、このリード端子をセパレータの固着後に接続固定する際の面倒を解消することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成17年7月21日(2005.7.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】絶縁ゲートトランジスタ素子
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（イ）チャネル形成領域と、
（ロ）該チャネル形成領域と接し、且つ、互いに離間して設けられたソース／ドレイン領域と、
（ハ）チャネル形成領域に対向して、絶縁膜を介して設けられたゲート領域と、
（ニ）バイアス付与手段と、
（ホ）容量性素子、
から構成された絶縁ゲートトランジスタ素子であって、
チャネル形成領域には、不動作時の絶縁ゲートトランジスタ素子のゲート閾値電圧を制御するための電位が該バイアス付与手段を介して印加され、且つ、
チャネル形成領域には、ゲート領域に供給される信号と略同相の信号が該容量性素子を介して供給されることを特徴とする絶縁ゲートトランジスタ素子。
【請求項２】
チャネル形成領域に印加される電位は、一方のソース／ドレイン領域に印加される電位とは異なる電位であり、且つ、他方のソース／ドレイン領域に印加される電位とも異なる電位であることを特徴とする請求項１に記載の絶縁ゲートトランジスタ素子。
【請求項３】
バイアス付与手段は、チャネル形成領域の延在領域に設けられた抵抗素子から成ることを特徴とする請求項１に記載の絶縁ゲートトランジスタ素子。
【請求項４】
バイアス付与手段は、ゲート部、チャネル形成部及びソース／ドレイン部から構成されたトランジスタ素子から成り、
不動作時の絶縁ゲートトランジスタ素子のゲート閾値電圧を制御するための電位を該ソース／ドレイン部の一方に生じさせる電位が、該ソース／ドレイン部の他方に印加されることを特徴とする請求項１に記載の絶縁ゲートトランジスタ素子。
【請求項５】
トランジスタ素子は、チャネル形成領域の延在領域に設けられていることを特徴とする請求項４に記載の絶縁ゲートトランジスタ素子。
【請求項６】
トランジスタ素子のチャネル形成部表面に誘起されるチャネルの導電型は、絶縁ゲートトランジスタ素子のチャネル形成領域表面に誘起されるチャネルの導電型とは逆の導電型を有し、
該トランジスタ素子のゲート部には、絶縁ゲートトランジスタ素子のゲート領域に供給される信号と略同相の信号が供給されることを特徴とする請求項４に記載の絶縁ゲートトランジスタ素子。
【請求項７】
容量性素子は、ゲート領域の延在領域から構成された第１の導電領域と、チャネル形成領域の延在領域から構成された第２の導電領域と、該第１の導電領域と第２の導電領域によって挟まれた誘電体膜から成ることを特徴とする請求項１に記載の絶縁ゲートトランジスタ素子。
【請求項８】
誘電体膜は、前記絶縁膜の延在領域から成ることを特徴とする請求項７に記載の絶縁ゲートトランジスタ素子。
【請求項９】
容量性素子は、接合容量から構成されていることを特徴とする請求項１に記載の絶縁ゲートトランジスタ素子。
【請求項１０】
チャネル形成領域及びソース／ドレイン領域は、絶縁層の上に形成されていることを特徴とする請求項１に記載の絶縁ゲートトランジスタ素子。
【請求項１１】
（イ）対向する第１の面及び第２の面を有するチャネル形成領域と、
（ロ）該チャネル形成領域と接し、且つ、互いに離間して設けられたソース／ドレイン領域と、
（ハ）チャネル形成領域の該第１の面に対向して、第１の絶縁膜を介して設けられた第１のゲート領域と、
（ニ）チャネル形成領域の該第２の面に対向して、第２の絶縁膜を介して設けられた第２のゲート領域と、
（ホ）バイアス付与手段と、
（ヘ）容量性素子、
から構成された絶縁ゲートトランジスタ素子であって、
第２のゲート領域には、該バイアス付与手段を介して所定の電位が印加され、且つ、第１のゲート領域に供給される信号と略同相の信号が該容量性素子を介して供給されることを特徴とする絶縁ゲートトランジスタ素子。
【請求項１２】
第２のゲート領域に印加される所定の電位は、不動作時の絶縁ゲートトランジスタ素子の第１のゲート領域のゲート閾値電圧を制御するための電位であることを特徴とする請求項１１に記載の絶縁ゲートトランジスタ素子。
【請求項１３】
バイアス付与手段は、第２のゲート領域の延在領域に設けられた抵抗素子から成ることを特徴とする請求項１１に記載の絶縁ゲートトランジスタ素子。
【請求項１４】
バイアス付与手段は、ゲート部、チャネル形成部及びソース／ドレイン部から構成されたトランジスタ素子から成り、
不動作時の絶縁ゲートトランジスタ素子の第１のゲート領域のゲート閾値電圧を制御するための電位を該ソース／ドレイン部の一方に生じさせる電位が、該ソース／ドレイン部の他方に印加されることを特徴とする請求項１１に記載の絶縁ゲートトランジスタ素子。
【請求項１５】
トランジスタ素子は、第２のゲート領域の延在領域に設けられていることを特徴とする請求項１４に記載の絶縁ゲートトランジスタ素子。
【請求項１６】
トランジスタ素子のチャネル形成部表面に誘起されるチャネルの導電型は、絶縁ゲートトランジスタ素子のチャネル形成領域表面に誘起されるチャネルの導電型とは逆の導電型を有し、
該トランジスタ素子のゲート部には、絶縁ゲートトランジスタ素子の第１のゲート領域に供給される信号と略同相の信号が供給されることを特徴とする請求項１４に記載の絶縁ゲートトランジスタ素子。
【請求項１７】
容量性素子は、第１の導電領域、第２の導電領域、及び該第１の導電領域と第２の導電領域によって挟まれた誘電体膜から構成され、該第１の導電領域は第１のゲート領域の延在領域から構成され、該第２の導電領域は第２のゲート領域の延在領域から構成されていることを特徴とする請求項１１に記載の絶縁ゲートトランジスタ素子。
【請求項１８】
誘電体膜は、前記第２の絶縁膜の延在領域から構成されていることを特徴とする請求項１７に記載の絶縁ゲートトランジスタ素子。
【請求項１９】
第１の絶縁膜を形成する際、誘電体膜が同時に形成されることを特徴とする請求項１７に記載の絶縁ゲートトランジスタ素子。
【請求項２０】
第１の導電領域と誘電体膜との間に、容量性素子の電極としての導電領域が形成されており、該導電領域はコンタクトプラグを介して第１の導電領域と接続されていることを特徴とする請求項１７に記載の絶縁ゲートトランジスタ素子。
【請求項２１】
容量性素子は、接合容量から構成されていることを特徴とする請求項１１に記載の絶縁ゲートトランジスタ素子。
【請求項２２】
チャネル形成領域及びソース／ドレイン領域は、絶縁層の上に形成されていることを特徴とする請求項１１に記載の絶縁ゲートトランジスタ素子。
【手続補正書】
【提出日】平成16年3月24日(2004.3.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
照明光学系によってマスク上のパターンを照明し、該パターンを透過した露光光を投影光学系によって基板上に投影露光する露光装置において、
前記基板上の照度分布を変更できるように前記照明光学系に照度分布調整手段を設け、
前記基板上の照度分布を測定できるように前記基板の平面方向に移動自在に光センサーを配置し、
該光センサーによって検出した基板上の照度分布に基づいて前記照度分布調整手段を駆動するコントローラを設けたことを特徴とする露光装置。
【請求項２】
照明光学系によってマスク上のパターンを照明し、該パターンを透過した露光光を投影光学系によって基板上に投影露光する露光装置において、
前記露光光の基板側のテレセントリシティを変更できるように前記照明光学系にテレセントリシティ調整手段を設け、
前記露光光の基板側のテレセントリシティを測定できるように前記基板の法線方向に移動自在に光センサーを配置し、
該光センサーによって検出した基板側のテレセントリシティに基づいて前記テレセントリシティ調整手段を駆動するコントローラを設けたことを特徴とする露光装置。
【請求項３】
複数の独立した照明系ユニットを１方向に並べることによって前記照明光学系を構成し、前記照明系ユニットごとに前記照度分布調整手段又は前記テレセントリシティ調整手段を設け、
前記マスクと基板とを前記１方向と直交する方向に走査可能に配置することにより、一時に投影される範囲よりも前記走査方向に長い範囲の前記パターンを前記基板上に投影露光できるように構成した、請求項１又は２記載の露光装置。
【請求項４】
前記テレセントリシティ調整手段は、前記照明系ユニットを構成するレンズの光軸方向の移動量に基づいて調整することを特徴とする請求項２又は３記載の露光装置。
【手続補正書】
【提出日】平成16年3月18日(2004.3.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レジストが塗布された基板上にパターンを露光する露光装置と、この露光装置に接続された前記基板の処理装置とを備えたリソグラフィシステムであって、
前記露光装置をその内部に備えた露光装置用チャンバと；
前記露光装置用チャンバの近傍に該露光装置用チャンバとは別に設けられ、前記処理装置をその内部に備えた処理装置用チャンバと；
前記露光装置用チャンバ及び前記処理装置用チャンバの少なくとも一方に設けられ、前記両チャンバの少なくとも一方のチャンバ内の部分的な環境を計測する環境センサと；
前記環境センサの計測値に基づいて、前記露光装置用チャンバ側の少なくとも一部の環境と前記処理装置用チャンバ側の少なくとも一部の環境とがほぼ同じになるように、前記両チャンバのうちの少なくとも他方の環境を制御する制御装置と；を有するリソグラフィシステム。
【請求項２】
前記環境センサは、装置内部の圧力、温度、及び湿度の少なくとも１つを測定することを特徴とする請求項１に記載のリソグラフィシステム。
【請求項３】
前記処理装置は、レジスト塗布機能及び現像機能の少なくとも一方を備えた装置であることを特徴とする請求項２に記載のリソグラフィシステム。
【請求項４】
前記基板上に塗布されるレジストは、化学増幅型レジストであることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載のリソグラフィシステム。
【請求項５】
前記環境センサは、前記露光装置用チャンバと前記処理装置用チャンバのうちの一方のチャンバ内の、他方のチャンバとの接続部近傍に配置されていることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載のリソグラフィシステム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
【課題を解決するための手段】
請求項１に記載の発明は、レジストが塗布された基板（Ｗ）上にパターンを露光する露光装置（２０）と、この露光装置に接続された前記基板の処理装置（４０）とを備えたリソグラフィシステムであって、前記露光装置をその内部に備えた露光装置用チャンバ（２４）と；前記露光装置用チャンバの近傍に該露光装置用チャンバとは別に設けられ、前記処理装置をその内部に備えた処理装置用チャンバ（４４）と；前記露光装置用チャンバ及び前記処理装置用チャンバの少なくとも一方に設けられ、前記両チャンバの少なくとも一方のチャンバ内の部分的な環境を計測する環境センサ（６０、６２）と；前記環境センサの計測値に基づいて、前記露光装置用チャンバ側の少なくとも一部の環境と前記処理装置用チャンバ側の少なくとも一部の環境とがほぼ同じになるように、前記両チャンバのうちの少なくとも他方の環境を制御する制御装置（６４）と；を有する。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
また、請求項１ないし３に記載の各リソグラフィシステムは、基板上に塗布されるレジストについて特に限定していないが、請求項４に記載の発明の如く、化学増幅型レジストであっても良い。この化学増幅型レジストは、ＤＵＶ露光、エキシマレーザ露光、Ｘ線露光、あるいは電子線露光等に対応可能な高感度なレジストであるが、周囲の化学的環境に非常に敏感であるため（特に、アルカリ性物質に反応し易い）、露光装置と処理装置の化学的環境を一致させる必要がある。すなわち、化学増幅型レジストは、塗布されてから現像されるまで有害化学物質（ここでは、アルカリ性物質）が除去された環境中に置いておく必要があるため、露光装置と処理装置の何れにも有害化学物質を取り除くケミカルフィルタを装備することにより、化学的環境を一致させることもできる。
【手続補正書】
【提出日】平成17年3月1日(2005.3.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
集積回路（ＩＣ）に集積される増幅器（Ｔ１，Ｔ２）と該増幅器（Ｔ１，Ｔ２）に結合するＬＣ共振回路（ＣＢＥ，ＣＥＥ，ＬＦ，ＤＣ）を有する発振器を具備し、
該増幅器は差動増幅器（Ｔ１，Ｔ２）を有し、該差動増幅器に前記ＬＣ共振回路（ＣＢＥ，ＣＥＥ，ＬＦ，ＤＣ）が平衡した形で結合し、
前記ＬＣ共振回路は固定キャパシタンス（ＣＢＥ，ＣＥＥ）とインダクタンス（ＬＦ，ＤＣ）を有し、該ＬＣ共振回路（ＣＢＥ，ＣＥＥ，ＬＦ，ＤＣ）の素子は閉ループに構成される回路において、
前記ＬＣ共振回路は集積回路（ＩＣ）に集積化される固定キャパシタンス（ＣＢＥ，ＣＥＥ）と前記集積回路（ＩＣ）の２つの接続ピン（ＬＰ）を介して接続される外部部分（ＬＦ，ＤＣ）とから構成され、
該接続ピン（ＬＦ）は、前記ＬＣ共振回路にふくまれるインダクタンスとして作用して前記ＬＣ共振回路の全インダクタンスの一部を構成して、寄生無線周波発振モードを回避し、
前記外部部分は可変キャパシタンスダイオード（ＤＣ）に直列接続されるインダクタンス（ＬＦ）をふくむことを特徴とする回路。
【請求項２】
前記接続ピン（ＬＦ）がプリント基板上のボンディング・ワイヤ，ハウジング及び接続リードをふくみ、妨害要素を形成しインダクタンスとして用いられる請求項１記載の回路。
【請求項３】
外部の可変キャパシタンスダイオード（ＤＣ）は直列共振回路で周波数同調の働きをする請求項１記載の回路。
【請求項４】
前記差動増幅器（Ｔ１，Ｔ２）のコレクタとベースは集積化キャパシタンス（ＣＣＢ）を介して交差接続される請求項１記載の回路。
【請求項５】
前記の交差接続は直列の２つのキャパシタンス（ＣＣＢ）と２つのエミッタフォロア（Ｔ３，Ｔ４）から形成される請求項４記載の回路。
【請求項６】
前記差動増幅器は２つのトランジスタ（Ｔ１，Ｔ２）を有し、これらに集積化キャパシタンス（ＣＢＥ，ＣＥＥ）が結合し、該集積化キャパシタンスは各トランジスタのベースとエミッタの間のキャパシタンス（ＣＢＥ）と２つのトランジスタ（Ｔ１，Ｔ２）のエミッタの間のキャパシタンス（ＣＥＥ）をふくむ、請求項１−５のいずれかひとつに記載の回路。
【請求項７】
２つのトランジスタ（Ｔ１，Ｔ２）のエミッタの間の前記キャパシタンス（ＣＥＥ）は２つのキャパシタンスの直列接続で構成され、該直列接続の中央点は接地に結合する、請求項６記載の回路。
【手続補正書】
【提出日】平成17年10月27日(2005.10.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
インクジェットプリンタのインクカートリッジであって、
少なくとも１つのチャンバを有するハウジングを含み、
前記チャンバは
底部にはオリフィスを有するインク流出口と、
頂部には通気オリフィスと、を含み、
前記少なくとも１つのチャンバは、インクを吸収するための多孔質貯蔵体で満たされ、
インク流出口は軟質の弾力性のある材料のリング状のシール部を有し、
前記シール部は前記オリフィスに挿入され、
前記ハウジングの外側に配置されるシール表面を形成し、
流出口オリフィスを周設する
ことを特徴とするインクジェットプリンタのインクカートリッジ。
【請求項２】
前記シール部は前記ハウジングの外側に対して配置される接触プレートと、
前記ハウジングと対向する側に隣接し、流出口オリフィスと連結する流路を周設するリング部と、を含み、
該外部は前記オリフィスの端部に対向して配置されて、
該端部において前記接触プレートから離間するリング部は外方に突出する突出部を有し、
好ましくは円形のつば部の態様で
ハウジング内部で前記オリフィス端部を越えて突出することで
シール部がオリフィス内で留まることを特徴とする請求項１に記載のインクカートリッジ。
【請求項３】
前記接触プレートは実質的に矩形であることを特徴とする請求項２に記載のインクカートリッジ。
【請求項４】
前記シール部はエラストマーからなることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載のインクカートリッジ。
【請求項５】
多孔質材料の誘導構成要素は前記排出口オリフィスにあることを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載のインクカートリッジ。
【請求項６】
前記多孔質材料の誘導構成要素は前記シール部に連結されることを特徴とする請求項５に記載のインクカートリッジ。
【請求項７】
前記誘導構成要素は、前記チャンバの内部から外方に向く並列ファイバを実質的に含むことを特徴とする請求項５または６のいずれかに記載のインクカートリッジ。
【請求項８】
前記インクカートリッジに、前記流出口オリフィスを閉じ前記シール部表面に対向して配置された態様で、取り外し可能に取り付けられた閉部をさらに含むことを特徴とするインクカートリッジを含む請求項１から７のいずれかに記載のインクカートリッジユニット。
【請求項９】
前記閉部は弾力性があり、スナップロック式で前記インクカートリッジに固定されることを特徴とする請求項８に記載のインクカートリッジユニット。
【請求項１０】
前記閉部は留め具の態様で、流出口オリフィスおよび２対の保持ウイングを閉じる閉部プレートを含み、このウイングは略平行に突出し、前記インクカートリッジの前記ハウジングの対向する側に位置することを特徴とする請求項９に記載のインクカートリッジユニット。
【請求項１１】
前記インクカートリッジが取り付けられ、下方側にノズルオリフィスを設けられたノズルプレートを有し、かつ、
前記ノズルオリフィスの少なくとも一部のノズルに連結されたインク用の受け止めオリフィスを有し、
前記インクカートリッジが取り付けられると、流出口オリフィスを周設し、その前記シール表面に対向して配置されるフレームにより周設されるアダプタを含むことを特徴とする請求項１から７のいずれかに記載の少なくとも１つのインクカートリッジを含むインクジェットプリントヘッド。
【請求項１２】
前記アダプタは、前記インクカートリッジが挿入され、前記底部に前記受け止めオリフィスが配置される前記レセプタクルを含むことを特徴とする請求項１１に記載のインクジェットプリントヘッド。
【請求項１３】
特にスクリーン様のフィルタを、前記受け止めオリフィスと、前記ノズルプレートとの間の前記アダプタ内に有することを特徴とする請求項１１または１２のいずれかに記載のインクジェットプリントヘッド。
【請求項１４】
前記フィルタは前記受け止めオリフィス内に配置されたことを特徴とする請求項１３に記載のインクジェットプリントヘッド。
【請求項１５】
前記インクカートリッジは前記アダプタに留められることを特徴とする請求項１１から１４のいずれかに記載のインクジェットプリントヘッド。
【手続補正書】
【提出日】平成17年8月22日(2005.8.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
グリース潤滑されている一対の転がり軸受と、前記転がり軸受に外嵌されたハウジングと、前記転がり軸受の軸受空間にグリースを補給するためのグリース補給孔を有するグリース補給機構とを備えた軸受装置であって、
前記グリース補給孔が前記転がり軸受の外輪内径面に開口しており、一対の前記転がり軸受のそれぞれの軸受空間の、他方の転がり軸受に対向する側とは反対側にグリース排出用空間が設けられ、グリース補給時にそれぞれの軸受空間から他方の転がり軸受の軸受空間に向けてグリースが移動するのを抑制する抑制手段が前記一対の転がり軸受間に設けられていることを特徴とする軸受装置。
【請求項２】
グリース潤滑されている転がり軸受と、前記転がり軸受に外嵌されたハウジングと、前記転がり軸受の軸受空間にグリースを補給するためのグリース補給孔を有するグリース補給機構とを備えた軸受装置であって、
前記グリース補給孔が前記転がり軸受の外輪内径面に開口しており、前記ハウジング内における前記転がり軸受の軸受空間の軸方向両側にグリース排出用空間が設けられていることを特徴とする軸受装置。
【請求項３】
前記グリース補給孔が前記外輪内径面の外輪軌道内の接触点からずれた箇所に開口していることを特徴とする請求項１又は２に記載の軸受装置。  
【請求項４】
前記転がり軸受の軌道輪に当接する間座を更に備え、該間座に前記グリース排出用空間の少なくとも一部が設けられている請求項２に記載の軸受装置。
【請求項５】
前記軸受空間の軸方向両側に設けられたグリース排出用空間のうち、一方の空間を他方の空間より狭くし、一方の狭い空間より他方の広い空間へグリースが多く排出されるようにした請求項２又は４に記載の軸受装置。
【請求項６】
前記軸受空間の軸方向一方側にシール部材が設けられ、前記シール部材が設けられた側とは反対側のグリース排出用空間へグリースが多く排出されるようにした請求項１に記載の軸受装置。
【請求項７】
前記グリース排出用空間に連通して定期的に吸引する吸引路を備え、該吸引路を介して前記グリース排出用空間からグリースが吸引される請求項１〜６のいずれかに記載の軸受装置。
【請求項８】
前記軸受空間にグリースを封入して慣らし運転をした後、グリースを補給して、ｄｍＮ１５０万を超える高速回転域で使用される請求項１〜７のいずれかに記載の軸受装置。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれかに記載の軸受装置によって工作機械主軸用スピンドルを支持したスピンドル装置。
【請求項１０】
請求項１〜８のいずれかに記載の軸受装置によってＡＣサーボモータ用スピンドルを支持したスピンドル装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明の目的は、下記構成により達成される。
（１） グリース潤滑されている一対の転がり軸受と、前記転がり軸受に外嵌されたハウジングと、前記転がり軸受の軸受空間にグリースを補給するためのグリース補給孔を有するグリース補給機構とを備えた軸受装置であって、前記グリース補給孔が前記転がり軸受の外輪内径面に開口しており、一対の前記転がり軸受のそれぞれの軸受空間の、他方の転がり軸受に対向する側とは反対側にグリース排出用空間が設けられ、グリース補給時にそれぞれの軸受空間から他方の転がり軸受の軸受空間に向けてグリースが移動するのを抑制する抑制手段が前記一対の転がり軸受間に設けられていることを特徴とする軸受装置。
（２） グリース潤滑されている転がり軸受と、前記転がり軸受に外嵌されたハウジングと、前記転がり軸受の軸受空間にグリースを補給するためのグリース補給孔を有するグリース補給機構とを備えた軸受装置であって、前記グリース補給孔が前記転がり軸受の外輪内径面に開口しており、前記ハウジング内における前記転がり軸受の軸受空間の軸方向両側にグリース排出用空間が設けられていることを特徴とする軸受装置。
（３）前記グリース補給孔が前記外輪内径面の外輪軌道内の接触点からずれた箇所に開口していることを特徴とする前記（１）又は（２）に記載の軸受装置。
（４） 前記転がり軸受の軌道輪に当接する間座を更に備え、該間座に前記グリース排出用空間の少なくとも一部が設けられている前記（２）に記載の軸受装置。
（５） 前記軸受空間の軸方向両側に設けられたグリース排出用空間のうち、一方の空間を他方の空間より狭くし、一方の狭い空間より他方の広い空間へグリースが多く排出されるようにした前記（２）又は（４）に記載の軸受装置。
（６） 前記軸受空間の軸方向一方側にシール部材が設けられ、前記シール部材が設けられた側とは反対側のグリース排出用空間へグリースが多く排出されるようにした前記（１）に記載の軸受装置。
（７） 前記グリース排出用空間に連通して定期的に吸引する吸引路を備え、該吸引路を介して前記グリース排出用空間からグリースが吸引される前記（１）〜（６）のいずれかに記載の軸受装置。
（８）前記軸受空間にグリースを封入して慣らし運転をした後、グリースを補給して、ｄｍＮ１５０万を超える高速回転域で使用される前記（１）〜（７）のいずれかに記載の軸受装置。
（９）前記（１）〜（８）のいずれかに記載の軸受装置によって工作機械主軸用スピンドルを支持したスピンドル装置。
（１０）前記（１）〜（８）のいずれかに記載の軸受装置によってＡＣサーボモータ用スピンドルを支持したスピンドル装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
以下、図面に基づいて本発明の実施形態を説明する。以下に説明する実施形態は、工作機械主軸用スピンドルや、ＡＣサーボモータ用スピンドルを支持するのに好適に用いられ、ｄｍＮ１５０万を越える高速回転域で使用される軸受装置に関する。図１に、本発明第１実施形態の軸受装置１０を示す。軸受装置１０は、ハウジング１１内に、外輪カウンタボアのアンギュラ玉軸受である一対の転がり軸受１２，１２が軸方向に間隔をあけて組み込まれている。転がり軸受１２は、その内周面に外輪軌道を有する外輪１３と、その外周面に内輪軌道を有する内輪１４と、外輪軌道と内輪軌道との間に転動自在に複数配された玉１５と、それら玉１５を転動自在に保持する保持器１６とを備えている。図示しないが、ハウジング１１内に他の転がり軸受（アンギュラ玉軸受や円筒ころ軸受等）が複数組み込まれていてもよい。