【手続補正書】
【提出日】平成17年1月19日(2005.1.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のパターンを投影光学系を介して感応基板上の所定領域にそれぞれ重ね合わせ露光する投影露光方法であって、
所定方向のラインパターンから成る第１のパターンが形成されたマスクを前記投影光学系に関して前記感応基板と共役な位置に配設するとともに、該マスク面のほぼフーリエ変換相当面、もしくはその近傍の面内の光軸に関する点対称位置にそれぞれの中心を有する２つの偏心領域に照明光を透過させて、前記光軸に対して前記第１のパターンのライン方向と直交する方向に所定量だけ傾いた照明光束により前記第１のパターンを照明する第１の露光工程と；
前記第１のパターンに直交する方向のラインパターンから成る第２のパターンが形成されたマスクを前記投影光学系に関して前記感応基板と共役な位置に配設するとともに、該マスク面のほぼフーリエ変換相当面、もしくはその近傍の面内の光軸に関する点対称位置にそれぞれの中心を有する２つの偏心領域に照明光を透過させて、前記光軸に対して前記第２のパターンのライン方向と直交する方向に所定量だけ傾いた照明光束により前記第２のパターンを照明する第２の露光工程と；
を含む投影露光方法。
【請求項２】
前記感応基板上に形成された前記第１のパターンの少なくとも両端部の露光不良部分を除去すべく前記第２のパターンを重ね合わせ露光することを特徴とする請求項１に記載の投影露光方法。
【請求項３】
前記第１の露光工程と前記第２の露光工程による重ね合わせ露光の結果、前記感応基板上に形成されたパターンのうち特定のパターンに対応するパターンから成る第３のパターンを同一又は異なるマスクに形成し、
前記第２の露光工程後に、前記第３のパターンが形成されたマスク面のほぼフーリエ変換相当面、もしくはその近傍の面内に光軸を中心とした輪帯状の領域に光源からの照明光を透過させた照明光束により、前記第３のパターンを照明する第３の露光工程をさらに有することを特徴とする請求項１又は２に記載の投影露光方法。
【請求項４】
照明光により照明された所定の照明領域に対してマスクを走査方向に移動するのに同期して前記照明領域に共役な露光領域に対して感応基板を前記走査方向に移動させることにより前記マスクのパターンを感応基板に露光する走査型の投影露光装置であって、
前記マスクを複数搭載して、前記マスクをその面内で駆動可能で且つ、前記走査方向と直交する非走査方向の側部に反射面が形成されたマスクステージと；
予め計測された前記反射面の表面湾曲データが各マスクに対応して独立に記憶された記憶手段と；
前記記憶手段に記憶された前記反射面の表面湾曲データに基づいて前記マスクステージ位置を制御する制御部と；
を有する投影露光装置。
【請求項５】
複数のマスクに形成されたパターンの像を投影光学系を介して感応基板上にそれぞれ投影露光する投影露光装置であって、
第１のマスクを搭載して２次元平面内を移動可能な第１のマスクステージと；
第２のマスクを搭載して前記第１のマスクステージと同一平面内を前記第１のマスクステージとは独立に移動可能な第２のマスクステージと；
前記投影光学系とは別に設けられ、前記第１のマスク及び前記第２のマスクのマークを検出するマスクアライメント系と；
前記第１のマスクステージ及び前記第２のマスクステージとの間でマスクの受け渡しを行う搬送システムと；
前記第１のマスクステージ及び前記第２のマスクステージのいずれか一方のマスクステージ上のマスクを用いて前記投影光学系を介した露光が行われる間に、他方のマスクステージで前記搬送システムによるマスク交換、あるいは前記マスクアライメント系によるマーク検出のうち少なくとも一方が並行処理されるように、前記第１のマスクステージ、前記第２のマスクステージ及び前記搬送システムをそれぞれ制御する制御部と；
を有することを特徴とする投影露光装置。
【請求項６】
前記マスクアライメント系は、前記第１のマスクステージ上の第１のマスクのマークを検出する第１のマスクアライメント系と、前記投影光学系と前記第１のマスクアライメント系とを結ぶ第１軸方向で前記投影光学系を介して前記第１のマスクアライメント系と反対側に設けられ、前記第２のマスクステージ上の第２のマスクのマークを検出する第２のマスクアライメント系とを有し、
前記第１軸方向の一方側から前記第１のマスクステージの前記第１軸方向の位置を常に計測する第１測長軸と、前記第１軸方向の他方側から前記第２のマスクステージの前記第１軸方向の位置を常に計測する第２測長軸と、前記投影光学系の露光位置で前記第１軸と垂直に交差する第３測長軸と、前記第１のマスクアライメント系の検出位置で前記第１軸と垂直に交差する第４測長軸と、前記第２のマスクアライメント系の検出位置で前記第１軸と垂直に交差する第５測長軸とを有し、これらの測長軸により前記第１のマスクステージ及び前記第２のマスクステージの２次元位置をそれぞれ計測する干渉計システムをさらに備え、
前記制御部は、前記第１のマスクステージを、前記干渉計システムの前記第４測長軸の計測値を用いて管理される位置から露光位置へ移動させた際に、前記第３測長軸の計測値を用いて前記マスクステージの位置計測が可能な状態で第３測長軸の干渉計をリセットし、前記第１のマスクステージを、前記第３測長軸の計測値を用いて管理される位置からアライメント位置へ移動させた際に、前記第４測長軸の計測値を用いて前記マスクステージの位置計測が可能な状態で第４測長軸の干渉計をリセットするとともに、
前記第２のマスクステージを、前記干渉計システムの前記第５測長軸の計測値を用いて管理される位置から露光位置へ移動させた際に、前記第３測長軸の計測値を用いて前記マスクステージの位置計測が可能な状態で第３測長軸の干渉計をリセットし、前記第２のマスクステージを、前記第３測長軸の計測値を用いて管理される位置からアライメント位置へ移動させた際に、前記第５測長軸の計測値を用いて前記マスクステージの位置計測が可能な状態で第５測長軸の干渉計をリセットすることを特徴とする請求項５に記載の投影露光装置。
【請求項７】
複数のマスクに形成されたパターンの像を投影光学系を介して感応基板上にそれぞれ投影露光する投影露光装置であって、
前記各マスクを独立して収納可能な収納領域が複数設けられ、前記各収納領域にそれぞれマスクを収納する収納容器と；
前記収納容器を容器単位で収容するマスクライブラリと；
を有する投影露光装置。
【請求項８】
複数のマスクに形成されたパターンの像を投影光学系を介して感応基板上にそれぞれ投影露光する投影露光装置であって、
前記各マスクをそれぞれ個別に収納する複数の個別収納容器と；
前記個別収納容器を複数まとめて固定する固定具と；
前記固定具で固定され一体化された複数の個別収納容器及び前記個別収納容器単体を収容可能なマスクライブラリと；
を有する投影露光装置。
【請求項９】
前記固定具は、前記個別収納容器を複数重ね合わせ方向に所定間隔を隔てた状態で連結する連結具であることを特徴とする請求項８に記載の投影露光装置。
【請求項１０】
マスクに形成されたパターンの像を投影光学系を介して感応基板上に投影露光する投影露光装置であって、
マスクを搭載して２次元平面内を移動可能な第１のマスクステージと；
マスクを搭載して、前記第１のマスクステージとは独立に移動可能な第２のマスクステージと；
前記投影光学系とは別に設けられ、マスクのマークを検出する検出系と；
マスクの交換を行うための搬送システムと；
前記第１のマスクステージ及び前記第２のマスクステージの一方のマスクステージ上のマスクを用いて前記投影光学系を介した露光が行われる間に、他方のマスクステージ側で前記搬送システムによるマスク交換、あるいは前記検出系によるマーク検出のうち少なくとも一方が並行処理されるように、前記第１のマスクステージ、及び前記第２のマスクステージの移動を制御する制御部と；
を備える投影露光装置。
【請求項１１】
感応基板を保持して２次元方向に移動可能な第１基板ステージと；
感応基板を保持して、前記第１基板ステージとは独立に、２次元方向に移動可能な第２基板ステージとを更に備え、
前記制御部は、前記第１基板ステージ及び第２基板ステージのうちの一方の基板ステージに保持された感応基板上のマーク検出を行うアライメントシーケンスを実行している間に、他方の基板ステージに保持された感応基板の露光を行う露光シーケンスが実行されるように、前記第１基板ステージと前記第２基板ステージの移動をそれぞれ制御する請求項４、５、１０のいずれか一項に記載の投影露光装置。
【請求項１２】
複数のマスクに形成されたパターンの像を投影光学系を介して感応基板上にそれぞれ投影露光する投影露光方法であって、
第１マスクを用いて第１基板ステージに保持された感応基板を露光した後に、第２マスクを用いて前記第１基板ステージに保持された感応基板を露光し；
前記第１基板ステージに保持された感応基板を露光している間に、第２基板ステージに保持された感応基板上のアライメントマークを検出し；
前記第１基板ステージに保持された感応基板を前記第２マスクを用いて露光した後であって、前記第２基板ステージに保持された感応基板上のアライメントマークを検出した後に、前記第２基板ステージに保持された感応基板を前記第２マスクを用いて露光し；
前記第２基板ステージに保持された感応基板を前記第２マスクを用いて露光した後に、前記第２基板ステージに保持された感応基板を前記第１マスクを用いて露光する投影露光方法。
【請求項１３】
前記第1基板ステージに保持された感応基板を露光している間に、前記第２基板ステージに保持された感応基板上のアライメントマークを検出することによって、前記第２基板ステージに設けられた基準と前記第２基板ステージに保持された感応基板上のショット領域との位置関係を求め；
前記第１基板ステージに保持された感応基板を前記第２マスクを用いて露光した後であって、前記第２基板ステージに保持された感応基板上のアライメントマークを検出した後に、前記第２マスクのマークと前記第２基板ステージに設けられた基準との位置関係を前記投影光学系を介して検出し、前記求められた前記第２基板ステージの基準と前記ショット領域との位置関係と、前記検出された前記第２基板ステージの基準と前記２マスクのマークとの位置関係とに基づいて、前記第２基板ステージに保持された感応基板を前記第２マスクを用いて露光し；
前記第２基板ステージに保持された感応基板を前記第２マスクを用いて露光した後に、前記第１マスクのマークと前記第２基板ステージに設けられた基準との位置関係を前記投影光学系を介して検出し、前記求められた前記第２基板ステージの基準と前記ショット領域との位置関係と、前記検出された前記第２基板ステージの基準と前記１マスクのマークとの位置関係とに基づいて、前記第２基板ステージに保持された感応基板を前記第１マスクを用いて露光する請求項１２に記載の投影露光方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５４】
この場合、固定具は複数の個別収納容器を直接重ね合わせて固定するものでも良いが、請求項９に記載の発明の如く、個別収納容器（例えば、２３２、２３４、２３６）を複数重ね合わせ方向に所定間隔を隔てた状態で連結する連結具（２３８ａ、２３８ｂ）であっても良い。このように、複数の個別収納容器を所定間隔を隔てて重ね合わせ方向に連結させた場合、例えば、連結された各個別収納容器の間に入り込んで個別に支持する支持ガイドがマスクライブラリ側に設けられていると、個別収納容器が単体であっても、個別収納容器が連結されていても、同一のマスクライブラリに対して無理なく収容することが可能となり、従来のマスクを個別に収納するためのカセット用のマスクライブラリをそのまま使用することが可能である。
また本発明は、マスクに形成されたパターンの像を投影光学系を介して感応基板上に投影露光する投影露光装置であって、マスクを搭載して２次元平面内を移動可能な第１のマスクステージ（３１２）と；マスクを搭載して、第１のマスクステージ（３１２）とは独立に移動可能な第２のマスクステージ（３１６）と；投影光学系（ＰＬ）とは別に設けられ、マスクのマークを検出する検出系（３２６Ｌ１，３２６Ｒ１）と；マスクの交換を行うための搬送システム（３２２，３２４）と；第１のマスクステージ（３１２）及び第２のマスクステージ（３１６）の一方のマスクステージ（例えば３１２）上のマスクを用いて投影光学系（ＰＬ）を介した露光が行われる間に、他方のマスクステージ（３１６）側で搬送システム（３２２，３２４）によるマスク交換、あるいは検出系（３２６Ｌ１，３２６Ｒ１）によるマーク検出のうち少なくとも一方が並行処理されるように、第１のマスクステージ（３１２）、及び第２のマスクステージ（３１６）の移動を制御する制御部（９０）と；を備えることを特徴とするものである。
これによれば、一方のマスクステージ上のマスクを用いて投影光学系を介した露光が行われている間に、他方のマスクステージ上でマスクのマーク検出、あるいはマスク交換の少なくとも一方が並行処理されるように、第１のマスクステージ、及び第２のマスクステージの動作が制御されることから、スループットを向上させることができる。
また本発明は、複数のマスクに形成されたパターンの像を投影光学系を介して感応基板上にそれぞれ投影露光する投影露光方法であって、第１マスク（例えば３１６）を用いて第１基板ステージ（例えばＷＳ１）に保持された感応基板を露光した後に、第２マスク（例えば３１８）を用いて第１基板ステージ（ＷＳ１）に保持された感応基板を露光し、第１基板ステージ（ＷＳ１）に保持された感応基板を露光している間に、第２基板ステージ（ＷＳ２）に保持された感応基板上のアライメントマークを検出し、第１基板ステージ（ＷＳ１）に保持された感応基板を第２マスク（３１８）を用いて露光した後であって、第２基板ステージ（ＷＳ２）に保持された感応基板上のアライメントマークを検出した後に、第２基板ステージ（ＷＳ２）に保持された感応基板を第２マスク（３１８）を用いて露光し、第２基板ステージ（ＷＳ２）に保持された感応基板を第２マスク（３１８）を用いて露光した後に、第２基板ステージ（ＷＳ２）に保持された感応基板を第１マスク（３１６）を用いて露光することを特徴とするものである。
これによれば、一方の基板ステージで感応基板の露光を行っている間に、他方の基板ステージで感応基板上のアライメントマークの検出を行うようにしているばかりでなく、一方の基板ステージに保持された感応基板の露光処理終了後に、マスクを交換せずに、他方の基板ステージに保持された感応基板の露光処理を行うようにしているので、多重露光処理を行う場合にもスループットを向上させることができる。