(57)【要約】【課題】保護層表面の変質層を均一性よく除去するＰＤＰ製造方法を提供する。【解決手段】(ｉ）基板Ａ上に電極Ａと誘電体層Ａと保護層とが形成された前面板、および、基板Ｂ上に電極Ｂと誘電体層Ｂと隔壁と蛍光体層とが形成された背面板を準備する工程、 (ｉｉ) 基板Ａまたは基板Ｂの周縁領域にガラスフリット材料を供する工程、（ｉｉｉ）ガラスフリット材料を挟むように前面板と背面板とを対向配置する工程、（ｉｖ）加熱下において前面板および背面板のいずれかに設けられた開口部からガスを吹き込み、前面板と背面板との間にガスを流す工程、ならびに、（ｖ）ガラスフリット材料を溶融させ、前面板と背面板とを封着させる工程を含んで成り、工程（ｉｖ）で吹き込まれるガスは、工程（ｉｉ）で供されたガラスフリット材料によって前面板と背面板との間へと全体的に案内される、プラズマディスプレイパネルの製造方法。【選択図】図１
2010146890.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラズマディスプレイパネルの製造方法であって、
(ｉ）基板Ａ上に電極Ａと誘電体層Ａと保護層とが形成された前面板、および、基板Ｂ上に電極Ｂと誘電体層Ｂと隔壁と蛍光体層とが形成された背面板を準備する工程、
(ｉｉ) 基板Ａまたは基板Ｂの周縁領域にガラスフリット材料を供する工程、
（ｉｉｉ）供されたガラスフリット材料を挟むように前面板と背面板とを対向配置する工程、
（ｉｖ）前面板および背面板を加熱下においた状態で、前面板および背面板のいずれかに設けられた開口部からガスを吹き込み、対向配置された前面板と背面板との間にガスを流す工程、ならびに
（ｖ）ガラスフリット材料を溶融させて、前面板と背面板とを封着させる工程
を含んで成り、
前記工程（ｉｖ）で吹き込まれるガスは、前記工程（ｉｉ）で供されたガラスフリット材料によって前面板と背面板との間へと全体的に案内されることを特徴とする、製造方法。
【請求項２】
前記工程（ｉｉ）で供されたガラスフリット材料の少なくとも一部の領域に複数の溝部を形成し、
前記工程（ｉｖ）で吹き込まれたガスが前記溝部を通過することを特徴とする、請求項１に記載の製造方法。
【請求項３】
前記工程（ｉｉ）では、前記周縁領域にて一続きの環を成すようにガラスフリット部ａを形成すると共に、前記ガラスフリット部ａの内部領域において前面板または背面板のエッジの一辺に対して平行となるようにガラスフリット部ｂを形成し、前記ガラスフリット部ｂに複数の溝部を形成することを特徴とする、請求項２に記載の製造方法。
【請求項４】
前記ガラスフリット部ａがペースト状のガラスフリット材料から成り、
前記ガラスフリットｂが、予め溝部が形成された固形状のガラスフリット材料から成ることを特徴とする、請求項３に記載の製造方法。
【請求項５】
前記工程（ｉｉ）において、複数の溝部を備えた固形状のガラスフリット部材を前面板または背面板のエッジの一辺に沿って配置し、前記ガラスフリット部材と共に前記周縁領域にて一続きの環を成すようにペースト状のガラスフリット材を塗布することを特徴とする、請求項１に記載の製造方法。
【請求項６】
前記工程（ｉｖ）の実施に際して、前記工程（ｖ）を併せて実施することを特徴とする、請求項１〜５のいずれかに記載の製造方法。
【請求項７】
前記工程（ｖ）において、ガラスフリット材料の溶融に起因して前記溝部が塞がれ、それによって、前面板と背面板との間の空間へと供されるガスの吹き込みが停止することを特徴とする、請求項２〜５のいずれかに従属する請求項６に記載の製造方法。
【請求項８】
前記工程（ｉｖ）において、前記開口部から吹き込むガスが、保護層に対して不活性なガスであって、窒素ガス、希ガスおよび乾燥空気から成る群から選択される少なくとも１種以上のガスであることを特徴とする、請求項１〜７のいずれかに記載の製造方法。
【請求項９】
保護層が、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化ストロンチウムおよび酸化バリウムから成る群から選択される少なくとも１種類以上の酸化金属を含んで成ることを特徴とする、請求項１〜８のいずれかに記載の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイパネルの製造方法に関する。より詳細には、プラズマディスプレイパネルの製造に際して「前面板の保護層表面に形成された変質層」を除去する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
高品位テレビジョン画像を大画面で表示するためのディスプレイ装置として、プラズマディスプレイパネル（以下、“ＰＤＰ”とも称す）を用いたディスプレイ装置への期待は高まっている。
【０００３】
ＰＤＰ（例えば３電極面放電型ＰＤＰ）は、映像を見る人から見て表面側となる前面板とその裏側の背面板とを対向配置して、それらの周辺部を封着材で封着した構造を有している。前面板と背面板との間に形成された放電空間にはネオンおよびキセノンなどの放電ガスが封入されている。前面板は、ガラス基板上に形成された走査電極と維持電極とから成る表示電極と、これらの電極を覆う誘電体層と保護層とを備えている。背面板は、ガラス基板に上記表示電極と直交する方向にストライプ状に形成された複数のアドレス電極と、これらのアドレス電極を覆う下地誘電体層と、放電空間をアドレス電極毎に区画する隔壁（リブ）と、隔壁の側面および下地誘電体層上に形成された赤色（Ｒ）・緑色（Ｇ）・青色（Ｂ）の蛍光体層とを備えている（例えば特許文献１参照）。
【０００４】
表示電極とアドレス電極とは直交していて、その交差部が放電セルを成している。これらの放電セルはマトリクス状に配列されており、赤色・緑色・青色の蛍光体層を有する３個の放電セルがフルカラー表示のための画素となっている。このようなＰＤＰでは、順次、走査電極とアドレス電極間、および走査電極と維持電極間に所定の電圧が印加されてガス放電を発生させている。そして、かかるガス放電で生じる紫外線により蛍光体層を励起させ可視光を発光させることによってカラー画像表示を実現している。
【０００５】
このようなＰＤＰの保護層の成分としては、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）が一般に広く用いられている。ＰＤＰの動作電圧は、この保護層の２次電子放出係数に依存している。従って、動作電圧の低電圧化を図るため、仕事関数がより小さいアルカリ土類金属の酸化物（たとえば、酸化カルシウム、酸化ストロンチウム、酸化バリウムなど）を保護層成分として用いることが提案されている。しかしながら、これらのアルカリ土類金属の酸化物は吸湿性が高く、保護層の形成後に周囲雰囲気中の水分を吸着し得る。これにより、保護層の表面領域が水酸化物に変質することになり、不安定な放電特性が引き起こされるといった問題があった。
【０００６】
上記問題に対処すべく、保護層形成工程後から封着工程までを乾燥雰囲気中で連続して行う方法（例えば、特許文献２参照）や、保護層形成工程後から封着工程までを真空雰囲気中で連続して行う方法（例えば、特許文献３参照）が提案されている。このような方法は、保護層形成後において保護層に水分等の不純物を吸着させないことを意図している。しかしながら、前者の方法（「保護層形成工程後から封着工程までを乾燥雰囲気中で連続して行う方法」）では、乾燥空気中にある量の水分や二酸化炭素が含まれているので、その含有量が十分小さくない限り、数十分〜数時間の曝露によって変質層が形成されてしまう（例えば、露点−２０℃の乾燥空気中には０．１％の水分、露点−４０℃の乾燥空気中には０．０１３％の水分、露点−６０℃の乾燥空気中には０．００１１％[１１ｐｐｍ]の水分が含まれている）。ＰＤＰの製造工程では、一般に、保護層形成工程から封着工程までには数時間分以上の工程在庫があるため、仮に極めて露点の低い乾燥空気（例えば露点−６０℃以下の乾燥空気）を用いたとしても、変質層の形成は避けられないといえる。また、後者の方法（「保護層形成工程後から封着工程までを真空雰囲気中で連続して行う方法」）であっても、搬送系及び封着装置の構成が極めて複雑となり、現実的ではない。また、広大な空間を常時真空に保つ必要があり、多大のコストを要してしまう。
【０００７】
不純物が吸着された保護層を清浄化しながら封着する方法も提案されている。この方法は、不純物をガス状態で保護層から脱離させることで、結果的に不純物を含んだ変質層を除去することを意図している。例えば、前面板または背面板に第１ガラス管及び第２ガラス管を設け、第１ガラス管からパネル内部を排気しながら第２ガラス管から乾燥ガスをパネル内部に供給することによって、パネル内部の残留不純物を低減させる方法が開示されている（特許文献４参照）。しかしながら、かかる方法では、２つのガラス管が必要となるので封着装置の構成が極めて複雑となり、実現は容易ではない。仮にこれを実現したとしても、給気ガラス管に近い位置と遠い位置とでは、乾燥ガスの流速や不純物ガス濃度の点で大きな違いが生じるため、パネルの動作電圧に面内ムラを生じる（即ち、パネルの動作電圧がパネル面において均一とならない）。ガラス管を１つとし、封着前まではこのガラス管から乾燥ガスをパネル内に供給し、封着後に同一のガラス管から排気を行う場合であっても、給気ガラス管に近い位置と遠い位置とでは、乾燥ガスの流速や不純物ガス濃度に大きな違いが生じるため、パネルの動作電圧に面内ムラを生じてしまう。
【０００８】
また、加熱炉内に「対向配置させた前面板および背面板」を仕込んで加熱炉を密閉し、その後、加熱炉内ヘと雰囲気ガスを導入しつつ加熱炉からガスを排出することによって、パネル封着を行う方法も提案されている（例えば、特許文献５参照）。しかしながら、かかる方法では、乾燥ガスの多くがパネルの外部を流れることになり、ガス使用量が多大となる。更に、加熱炉を容器として密閉構造とする必要があるだけでなく、高温で背面板を動かす必要があり、装置としての構成が極めて複雑となってしまう。高温で背面板を動かすことは、“アライメントずれ”の危険性を引き起こし得る。
【０００９】
以上のように、従来のＰＤＰ製造では、保護層表面の変質層を均一性よく、簡単かつ低コストに除去できないといった問題点があった。
【特許文献１】特開２００２−２１６６２０号公報
【特許文献２】特開２００２−２３１１２９号公報
【特許文献３】特開２０００−１５６１６０号公報
【特許文献４】特開２００２−１５０９３８号公報
【特許文献５】特開２００１−３５３７２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明は、上記事情に鑑みて為されたものである。つまり、本発明の課題は、保護層表面の変質層を均一性よく、簡単かつ低コストに除去できる製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記課題を解決するため、本発明は、プラズマディスプレイパネルの製造方法であって、
(ｉ）基板Ａ上に電極Ａと誘電体層Ａと保護層とが形成された前面板、および、基板Ｂ上に電極Ｂと誘電体層Ｂと隔壁と蛍光体層とが形成された背面板を準備する工程、
(ｉｉ) 基板Ａまたは基板Ｂの周縁領域にガラスフリット材料を供する工程、
（ｉｉｉ）供されたガラスフリット材料を挟むように前面板と背面板とを対向配置する工程、
（ｉｖ）前面板および背面板を加熱下においた状態で、前面板および背面板のいずれかに設けられた開口部からガスを吹き込み、対向配置された前面板と背面板との間にガスを流す工程、ならびに
（ｖ）ガラスフリット材料を溶融させて、前面板と背面板とを封着させる工程
を含んで成り、
工程（ｉｖ）で吹き込まれるガスは、工程（ｉｉ）で供されたガラスフリット材料によって前面板と背面板との間へと全体的に案内されることを特徴とする製造方法を提供する。本発明の製造方法では、工程（ｉｉ）で供されたガラスフリット材料の少なくとも一部の領域に複数の溝部を形成することによって、工程（ｉｖ）で吹き込まれるガスを溝部を介して前面板と背面板との間へと流す。尚、本発明において、保護層は、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化ストロンチウムおよび酸化バリウムから成る群から選択される少なくとも１種類以上の酸化金属を含んで成ることが好ましく、開口部から吹き込むガスは、保護層に対して不活性なガスであって、例えば窒素ガス、希ガスおよび乾燥空気から成る群から選択される少なくとも１種以上のガスであることが好ましい。
【００１２】
本発明は、吹き込まれるガスが「基板Ａまたは基板Ｂに対して供されたガラスフリット材料」の形態・構造によって導かれ、前面板と背面板との間へと全体的に案内されることを特徴の１つとしている（図１参照）。つまり、本発明では、前面板および背面板の外部にガス供給部材（特に「前面板と背面板との間へと全体的にガスを分散させるガス供給部材」）を用いることなく、基板の開口部からガスを吹き込むことによって、ガスを効果的に分散させることができる。より具体的には、前面板および背面板のいずれかに設けられた開口部からガスを吹き込むと、その吹き込まれたガスが、ガラスフリット材料に設けられた複数の溝部を通過するよう導かれ、それによって、前面板と背面板との間へと全体的にガスを流すことができる。このように、ガラスフリット材料に形成された複数の溝部は、前面板と背面板とが対向配置された際、吹き込まれるガスの通気経路を確保してガスを効果的に分散させる機能を有している。
【００１３】
本明細書において「前面板と背面板との間にガスを流す」とは、前面板と背面板との隙間へとガスを流すことを実質的に意味しており、特に、前面板と背面板とが対向する方向に対して実質的に垂直な方向（例えば“水平方向”）に沿って前面板と背面板との隙間にガスを流すことを意味している（図１参照）。また、本明細書において「基板Ａまたは基板Ｂの周縁領域」とは、基板上に設けられた各種要素の外側に位置する周囲領域であって、一般的なＰＤＰ製造において封着材料が塗布される領域を実質的に意味している。更に、本明細書にいう「変質層の除去」とは、不純物が吸着された保護層から不純物を取り除くこと、あるいは、保護層が水酸化物になったり炭酸化物になったりした部分を本来の酸化物に回復させることを実質的に意味している。
【００１４】
ある好適な態様において、工程（ｉｉ）では、基板の周縁領域にて一続きの環を成すようにガラスフリット部ａを形成すると共に、ガラスフリット部ａの内部領域において前面板または背面板のエッジの一辺と実質的に平行となるようにガラスフリット部ｂを形成し、そのガラスフリット部ｂに複数の溝部を形成する。かかる場合、ガラスフリット部ａがペースト状のガラスフリット材料から成り、その一方で、ガラスフリットｂが「予め溝部が形成された固形状のガラスフリット材料」から成るものであってよい。尚、本明細書において「ペースト状」とは、常温（２３℃程度）における粘度が５０〜２００Ｐａ・ｓであるものを指しており、「固形状」または「固形」とは、流動性を全く有さず一定の形状を保持しているものを指している。
【００１５】
ある好適な態様において、工程（ｉｉ）では、「複数の溝部を備えた固形状のガラスフリット部材」を前面板または背面板のエッジの一辺に沿って配置し、このガラスフリット部材と共に基板の周縁領域にて一続きの環を成すようにペースト状のガラスフリット材料を塗布する。
【００１６】
工程（ｉｖ）の実施に際しては、工程（ｖ）を併せて行うことができる。この場合、ガラスフリット材料の溶融に起因して、ガラスフリット材料に設けられた溝部が塞がれることになる。その結果、基板Ａと基板Ｂとの間が全体的に周辺領域において塞がれるので、「前面板と背面板との間の空間へのガスの吹き込み」が自動的に又は自然に停止することになる。
【００１７】
尚、本発明の製造方法では、工程（ｖ）の後に、（ｖｉ）前面板と背面板との間の空間のガスを排気し、前面板と背面板との間に放電ガスを封入する工程を更に含んで成る。工程（ｖｉ）では、前面板または背面板に設けられた貫通孔を介して排気および封入を行うことができる。
【発明の効果】
【００１８】
本発明の製造方法によれば、保護層表面の変質層を均一性よく、簡単かつ低コストに除去でき、パネル寿命に優れたプラズマディスプレイパネルを得ることができる。詳述すると以下のようになる：
【００１９】
本発明の製造方法では、保護層の表面近傍にてガス流れ（例えば窒素などの不活性ガス流れ）が存在する状態で加熱されるため、変質層を成す不純物が脱離してガス流れに同伴される。それゆえ、保護層表面から変質層が除去されることになり、保護層が清浄化する。
【００２０】
特に、吹き込まれたガスは、「ガラスフリット材料に設けられた複数の溝部」を通過するように導かれる。つまり、「ガラスフリット材料に設けられた複数の溝部」から並列的にガスが流出して前面板と背面板との間を流れることになるので、結果として、前面板と背面板との間へとガスを全体的に流すことができる。つまり、吹き込まれたガス流れのパネル面内での均一性は良いといえる。それゆえ、保護層の清浄度の面内均一性を向上させることができ、駆動電圧、輝度、色度等のパネル諸特性の均一性が向上したＰＤＰを実現することが可能となる。即ち、特許文献４に開示されているような従来技術では、給気ガラス管に近い位置と遠い位置とにおいて、吹き込むガスの流速や不純ガス濃度に大きな違いが生じるため、パネルの駆動電圧、輝度、色度等に面内ムラが生じる。「ガラス管を１つとし、封着前まではこのガラス管から乾燥ガスをパネル内に供給し、封着後にガラス管から排気を行う」といった従来技術であっても同様に、給気ガラス管に近い位置と遠い位置とでは、乾燥ガスの流速や不純ガス濃度に大きな違いが生じるため、パネルの駆動電圧、輝度、色度等に面内ムラを生じることになる。この点、本発明の製造方法では、概ね面内に均一な“ガス流れ”を形成できるので、保護層の清浄度の面内均一性が良いといえ、駆動電圧、輝度、色度等のパネル諸特性の均一性を向上させることができる。また、「ガラス管を１つとし、封着前まではこのガラス管から乾燥ガスをパネル内に供給し、封着後にガラス管から排気を行う」場合では、乾燥ガスの供給中に２枚の基板間の内圧が上がり過ぎないよう、ガラスフリット材料の軟化点以上の温度においては、窒素ガスの吹き込み量を少なくするか、あるいは、窒素ガスの吹き込み量を実質的にゼロにする必要がある。つまり、かかる従来技術では、ガス流量の変更をタイミング良く行わなければならないといった点で煩雑といえる。この点、本発明の製造方法では、ガラスフリット材料の軟化とともにパネル内（即ち、前面板と背面板との間の空間）に吹き込まれるガス流量が実質的に低下していくことになるので、ガス流量を変更するタイミングは大雑把でよいといった利点がある。
【００２１】
更に言えば、本発明の製造方法では、保護層の表面のみならず、背面板の隔壁や蛍光体層の表面にも水分や二酸化炭素等がほとんど吸着していないＰＤＰを製造することができる。つまり、製造されるＰＤＰの内部には、水分、二酸化炭素など保護層表面を変質・劣化させる要因となるガスがほとんど含まれない。その結果、ＰＤＰを長時間駆動させても、「Ｈ２ＯやＣＯ２などの不純ガスが放電空間に放出されることに起因して保護層や蛍光体層が変質する」といったことが防止され、放電電圧・輝度等の変化が少なく、パネル寿命に優れたＰＤＰを実現できる。また、「保護層の表面に変質層がなく、背面板におけるガス吸着がない」ということは、エージングが実質的に不要か、あるいは必要であっても極めて短時間で済むことになる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
以下にて、図面を参照して、本発明のプラズマディスプレイパネルの製造方法を詳細に説明する。尚、図面に示す各種の要素は、本発明の理解のために模式的に示したにすぎず、寸法比や外観などは実物と異なり得ることに留意されたい。
【００２３】
［プラズマディスプレイパネルの構成］
まず、本発明の製造方法を経ることによって最終的に得られるプラズマディスプレイパネルを簡単に説明する。図２（ａ）に、ＰＤＰの構成を断面斜視図により模式的に示すと共に、図２（ｂ）にＰＤＰの前面板の断面図を模式的に示す。
【００２４】
本発明のＰＤＰ（１００）の構成は、図２（ａ）に示すように、「基板Ａ（１０）に電極Ａ（１１）と誘電体層Ａ（１５）と保護層（１６）とが設けられた前面板（１）」および「基板Ｂ（２０）上に電極Ｂ（２１）と誘電体層Ｂ（２２）と隔壁（２３）と蛍光体層（２５）とが設けられた背面板（２）」からなる。
【００２５】
図示するように、前面板（１）では基板Ａ（１０）上に電極Ａ（１１）が設けられ、電極Ａ（１１）を覆うように誘電体層Ａ（１５）が基板Ａ（１０）上に設けられ、また、誘電体層Ａ（１５）上に保護層（１６）が設けられている。背面板（２）では基板Ｂ（２０）上に電極Ｂ（２１）が設けられ、電極Ｂ（２１）を覆うように誘電体層Ｂ（２２）が基板Ｂ（２０）上に設けられ、誘電体層Ｂ（２２）上に隔壁（２３）および蛍光体層（２５）が設けられている。前面板（１）と背面板（２）とは、保護層（１６）と蛍光体層（２５）とが互いに向き合うように対向配置されている。前面板（１）および背面板（２）の周縁部は、例えば低融点フリットガラス材料などから成る封着部材によって気密封着されている（図示せず）。前面板（１）と背面板（２）との間に形成された放電空間（３０）には放電ガス（ヘリウム、ネオンまたはキセノンなど）が好ましくは２０ｋＰａ〜８０ｋＰａの圧力で封入されている。
【００２６】
更に具体的に、本発明のＰＤＰ（１００）を説明していく。本発明のＰＤＰ（１００）の前面板（１）は、上述したように、基板Ａ（１０）、電極Ａ（１１）、誘電体層Ａ（１５）および保護層（１６）を有して成る。基板Ａ（１０）は、透明で絶縁性を有する基板（厚さは例えば約１．０ｍｍ以上かつ約３ｍｍ以下）である。基板Ａ（１０）としては、例えば、フロート法などで製造されたフロートガラス基板を挙げることができる他、ソーダライムガラス基板またはホウケイ酸塩ガラス基板などを挙げることができる。電極Ａ（１１）は、基板Ａ（１０）上にストライプ状に平行に複数配置されるものであり、例えば、走査電極（１２）および維持電極（１３）から成る表示電極である。この場合、走査電極（１２）および維持電極（１３）は、それぞれ「酸化インジウム（ＩＴＯ）または酸化スズ（ＳｎＯ２）などから成る透明導電膜である透明電極（１２ａ、１３ａ）」、および、かかる透明電極上に形成された「銀を主成分としたバス電極（１２ｂ、１３ｂ）」から構成される（図２（ｂ）参照）。透明電極（１２ａ、１３ａ）は、蛍光体層で発生した可視光を透過させる電極として主に機能する一方、バス電極（１２ｂ、１３ｂ）は、透明電極の長手方向に導電性を付与するための電極として主に機能する。透明電極（１２ａ、１３ａ）の厚さは、好ましくは約５０ｎｍ〜約５００ｎｍである。また、バス電極（１２ｂ、１３ｂ）の厚さは、好ましくは約１μｍ以上かつ約２０μｍ以下である。尚、図２（ａ）に示すように、基板Ａ（１０）上にはブラックストライプ（１４）（遮光層）もパターン形成され得る。
【００２７】
誘電体層Ａ（１５）は、基板Ａ（１０）の表面に形成された電極Ａ（１１）を覆うように設けられている。かかる誘電体層Ａ（１５）は、主としてガラス成分およびビヒクル成分（＝バインダ樹脂および有機溶剤を含んだ成分）から成る誘電体原料ペーストを塗布および熱処理して得られるガラス組成から成る膜である。誘電体層Ａ（１５）の上には、例えば酸化マグネシウム（ＭｇＯ）から成る保護層（１６）が形成されている（厚さは例えば約０．５μｍ以上かつ約１．５μｍ以下）。保護層（１６）は、放電の衝撃（より具体的には「プラズマによるイオン衝撃」）から誘電体層Ａ（１５）を守る機能を有している。
【００２８】
本発明のＰＤＰの背面板（２）は、上述したように、基板Ｂ（２０）、電極Ｂ（２１）、誘電体層Ｂ（２２）、隔壁（２３）および蛍光体層（２５）を有して成る。基板Ｂ（２０）は、透明で絶縁性を有する基板（厚さは例えば約１．０ｍｍ以上かつ約３ｍｍ以下）であることが好ましく、例えば、フロート法などで製造されたフロートガラス基板を挙げることができる他、ソーダライムガラス基板、ホウケイ酸塩ガラス基板または各種セラミック基板などを挙げることができる。電極Ｂ（２１）は、基板Ｂ（２０）上にストライプ状に複数形成される銀を主成分とした電極（厚さは例えば約１μｍ以上かつ約１０μｍ以下）であり、例えば、アドレス電極（またはデータ電極）である。アドレス電極は、各放電セルを選択的に放電させる機能を主に有している。
【００２９】
誘電体層Ｂ（２２）は、下地誘電体層と一般に呼ばれるものであり、基板Ｂ（２０）の表面に形成された電極Ｂ（２１）を覆うように設けられている。かかる誘電体層Ｂ（２２）は、主としてガラス成分およびビヒクル成分（＝バインダ樹脂および有機溶剤を含んだ成分）から成る誘電体原料ペーストを塗布および熱処理して得られるガラス組成から成る膜である。誘電体層Ｂ（２２）の厚さは、例えば約５μｍ以上かつ約５０μｍ以下である。誘電体層Ｂ（２２）の上には、蛍光体材料を主成分とした蛍光体層（２５）が形成されている（厚さは例えば約５μｍ以上かつ約２０μｍ以下程度）。蛍光体層（２５）は、放電によって放射された紫外線を可視光線に変換する機能を主に有している。かかる蛍光体層（２５）は、赤色、緑色および青色を発する蛍光体層を構成単位としており、それぞれが隔壁（２３）で区切られている。隔壁（２３）は、放電空間をアドレス電極（２１）毎に区画する目的で、ストライプ状または井桁状に誘電体層Ｂ（２２）上に形成されている。かかる隔壁（２３）は、ガラス成分、ビヒクル成分およびフィラー等を含んで成るペースト原料から形成される。
【００３０】
本発明のＰＤＰ（１００）では、前面板（１）の表示電極（１１）と背面板（２）のアドレス電極（２１）とが直交するように、前面板（１）と背面板（２）とが放電空間（３０）を挟んで対向して配置されている。このようなＰＤＰ（１００）では、隔壁（２３）によって仕切られ、アドレス電極（２１）と表示電極（１１）とが交差する放電空間（３０）が放電セル（３２）として機能することになる。換言すれば、マトリクス状に配列されている放電セルが画像表示領域を構成している。従って、外部駆動回路から表示電極（１１）に映像信号電圧を選択的に印加することによって放電ガスを放電させ、かかる放電によって生じる紫外線によって、各色の蛍光体層を励起させて赤色、緑色および青色の可視光を発生させる結果、カラー画像表示が実現される。
【００３１】
［ＰＤＰの一般的な製造方法］
次に、ＰＤＰの一般的な製造方法について簡潔に説明する。本発明に係るＰＤＰは、原則、一般的なＰＤＰ製造法に基づいて得ることができる。本発明では、特に言及しない限り、各種構成部材の原材料（原料ペースト）／構成材料などは、一般的なＰＤＰ製造法で常套的に用いられているものであってよい。
【００３２】
まず、ガラス基板である基板Ａ（１０）上に、走査電極（１２）と維持電極（１３）とから構成される表示電極（１１）を形成すると共に遮光層（１４）も形成する。走査電極（１２）および維持電極（１３）のそれぞれの透明電極（１２ａ、１３ａ）とバス電極（１２ｂ、１３ｂ）とは、露光・現像するフォトリソグラフィ法などを用いてパターニングできる。透明電極（１２ａ、１３ａ）は薄膜プロセスなどを用いて形成でき、バス電極（１２ｂ、１３ｂ）は銀（Ａｇ）材料を含むペーストを乾燥（１００〜２００℃程度）および焼成（４００〜６００℃程度）に付すことによって形成できる。また、遮光層（１４）も同様に、黒色顔料を含んだ原料ペーストをスクリーン印刷する方法や黒色顔料を含んだ原料をガラス基板の全面に設けた後、露光・現像するフォトリソグラフィ法を用いてパターニングし、焼成することによって形成できる。次いで、走査電極（１２）、維持電極（１３）および遮光層（１４）を覆うように基板Ａ（１０）上に、ガラス成分（ＳｉＯ２、Ｂ２Ｏ３などから形成される材料）とビヒクル成分とを主成分とした誘電体原料ペーストをダイコート法または印刷法などにより塗布して誘電体ペースト層を形成する。塗布した後、所定の時間放置すると塗布された誘電体ペーストの表面がレベリングされて平坦な表面になる。その後、誘電体ペースト層を焼成すると誘電体層Ａ（１５）が形成される。誘電体層Ａ（１５）を形成した後、かかる誘電体層Ａ（１５）上に保護膜（１６）を形成する。保護膜（１６）は、真空蒸着法、ＣＶＤ法またはスパッタリング法などを用いて形成できる。
【００３３】
以上の工程により、基板Ａ（１０）上に所定の構成部材である電極Ａ（走査電極（１２）および維持電極（１３））、誘電体層Ａ（１５）および保護層（１６）が形成され、前面板（１）が完成する。
【００３４】
一方、背面板（２）は次のようにして形成する。まず、ガラス基板である基板Ｂ（２０）上に、銀（Ａｇ）材料を含むペーストをスクリーン印刷する方法や、銀を主成分とした金属膜を全面に形成した後、露光・現像するフォトリソグラフィ法を用いてパターニングする方法などによって前駆体層を形成し、それを所望の温度（例えば約４００〜約６００℃）で焼成することによりアドレス電極（２１）を形成する。この「アドレス電極」は、クロム／銅／クロムの３層薄膜上にフォトレジストを塗布したものをフォトリソグラフィ及びウェットエッチングによりパターニングして形成してもよい。次いで、アドレス電極（２１）が形成された基板Ｂ（２０）上に、下地誘電体層となる誘電体層Ｂ（２２）を形成する。まず、「ガラス成分（ＳｉＯ２、Ｂ２Ｏ３などから形成される材料）およびビヒクル成分などを主成分とした誘電体原料ペースト」をダイコート法などにより塗布して誘電体ペースト層を形成する。その後、かかる誘電体ペースト層を焼成することによって誘電体層Ｂ（２２）を形成できる。次いで、隔壁（２３）を形成する。具体的には、誘電体層Ｂ（２２）上に隔壁形成用原料ペーストを塗布して所定の形状にパターニングすることにより、隔壁材料層を形成し、その後、それを焼成に付して隔壁（２３）を形成する。例えば、低融点ガラス材料、ビヒクル成分およびフィラー等を主成分とした原料ペーストをダイコート法または印刷法によって塗布して約１００℃〜２００℃の乾燥に付した後、露光・現像するフォトリソグラフィ法でパターニングし、次いで、約４００℃〜約６００℃の焼成に付すことによって隔壁（２３）を形成する。尚、隔壁（２３）は、サンドブラスト法、エッチング法または成型法などを用いることによっても形成できる。次いで、蛍光体層（２５）を形成する。隣接する隔壁（２３）間の誘電体層Ｂ（２２）上および隔壁（２３）の側面に蛍光体材料を含む蛍光体原料ペーストを塗布し、焼成することによって蛍光体層（２５）を形成する。より具体的には、蛍光体粉末およびビヒクル成分等を主成分とした原料ペーストをダイコート法、印刷法、ディスペンス法またはインクジェット法などによって塗布し、次いで、約１００℃の乾燥に付すことによって蛍光体層（２５）を形成する。
【００３５】
以上の工程により、基板Ｂ（２０）上に、所定の構成部材たる電極Ｂ（アドレス電極（２１））、誘電体層Ｂ（２２）、隔壁（２３）および蛍光体層（２５）が形成され、背面板（２）が完成する。
【００３６】
このようにして所定の構成部材を備えた前面板（１）と背面板（２）とは、表示電極（１１）とアドレス電極（２１）とが直交するように対向配置させる。次いで、前面板（１）と背面板（２）の周囲をガラスフリットで封着すると共に、形成される放電空間（３０）に放電ガス（ヘリウム、ネオンまたはキセノンなど）を封入することによってＰＤＰ（１００）が完成する。
【００３７】
［本発明の製造方法］
本発明は、上述のＰＤＰの製造工程の中でも、特に前面板および背面板の形成後からパネル封着までの製造工程に特色を有している。
【００３８】
本発明の製造方法では、まず、工程（ｉ）を実施する。即ち、基板Ａ上に電極Ａと誘電体層Ａと保護層とが形成された前面板、および、基板Ｂ上に電極Ｂと誘電体層Ｂと隔壁と蛍光体層とが形成された背面板を準備する。かかる前面板および背面板の準備は、上述の［ＰＤＰの一般的な製造方法］で説明しているので、重複を避けるために説明を省略する。尚、保護層は典型的には酸化マグネシウムであるが、これに微量の元素（シリコン、アルミニウムなど）を添加したものであってもよい。更に言えば、保護層は、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化ストロンチウムおよび酸化バリウムから成る群から選択される少なくとも１種類以上を含むことが望ましい。保護層の成分として、酸化カルシウム、酸化ストロンチウムまたは酸化バリウム等を用いることにより、駆動電圧のより低いＰＤＰが実現できるだけでなく、ガス吹込みによる清浄化の効果が特に大きくなることが期待される。尚、仕事関数が酸化マグネシウムよりも小さいアルカリ土類金属の酸化物（即ち、酸化カルシウム、酸化ストロンチウム、酸化バリウムなど）を保護層として用いた場合であっても、本発明では“変質層除去の効果”に起因して安定な放電特性を得ることができる。
【００３９】
工程（ｉ）に引き続いて、工程（ｉｉ）を実施する。即ち、基板Ａまたは基板Ｂの周縁領域にガラスフリット材料を供する。供されるガラスフリット材料は、後に行う「封着工程（ｖ）」で前面基板と背面基板との周縁をシールする機能を有するだけでなく、工程（ｉｖ）で吹き込まれるガスを前面板と背面板との間へと全体的に案内する機能も有している。従って、本発明の製造方法において、基板に供されたガラスフリット材料は“ガス流れ案内部材”または“ガス分配部材”とみなすことができるので、外付けのガス流れ分配手段を用いることなく、常套の封着材たるガラスフリット材料でもってガス流れを効果的に案内・分配することができる。
【００４０】
供されるガラスフリット材料は、一般的なＰＤＰの製造において同様の目的（封着する目的）で用いられるものであれば特に制限はなく、低融点ガラス材料（例えば酸化鉛−酸化硼素−酸化珪素系、酸化鉛−酸化硼素−酸化珪素−酸化亜鉛系など）から成るガラスフリット材料であってよい。また、塗布し易いようにビヒクル成分などを含んで成るものであってよい。例えば、ＰｂＯ系、Ｐ２Ｏ５―ＳｎＯ系またはＢｉ２Ｏ３系の低融点ガラス粉末とフィラーとを均一に混合した封着材料に対して「メチルセルロース、ニトロセルロース等の樹脂」と「α−ターピネオール、酢酸アミル等の溶媒」とを含有するビヒクルを添加して、混合攪拌によりペースト状にしたものをガラスフリット材料として用いることができる。
【００４１】
工程（ｉｖ）で吹き込まれるガスが前面板と背面板との間へと全体的に案内されるように、供されたガラスフリット材料の一部の領域に複数の溝部を形成する。例えば、図３に示すように、前面板（１）の周縁領域にて一続きの環を成すようにガラスフリット部ａ（８３ａ）を形成すると共に、ガラスフリット部ａの内部領域において前面板のエッジの一辺に対して平行となるようにガラスフリット部ｂ（８３ｂ）を形成し、ガラスフリット部ｂに複数の溝部（８５）を形成する。ガラスフリット部ａは、最終的には外周シールとして機能し得る一方、ガラスフリット部ｂは、ガス流れを分配させる部材として機能し得る。つまり、ガラスフリット部ｂの複数の溝部（８５）は、前面板（１）と背面板（２）とが対向配置された際、吹き込まれるガスの通気経路を確保して前面板（１）と背面板（２）との間の空間へとガスを全体的に流す機能を有している（図４（ａ）参照）。
【００４２】
特に、ガラスフリット部ｂ（８３ｂ）は、図４（ａ）に示すように、前面板（１）または背面板（２）のエッジの長辺に沿って設けることが好ましい。これにより、吹き込まれたガスが“長辺側”から全体的に流れることになるので、“短辺側”にガラスフリット部ｂを設ける場合と比べて、前面板と背面板との間で形成されるガス流線を短くすることができ、結果的に保護層表面の変質層をより均一性良く除去できる。また、図５に示すように、隔壁は井桁状に形成されており、パネルの長辺方向に沿った隔壁（２３ａ）は短辺方向に沿った隔壁（２３ｂ）よりも低くなっている。従って、“長辺側”からガスを流し込むことによって、より効果的に前面板と背面板との間にガスを流すことができる。
【００４３】
「基板上のガラスフリット材料の複数の溝部」は、基板上に断続的にガラスフリット材料を供することによって、あるいは、基板上に供するガラスフリット材料の量を局所的に調整することによって（即ち、溝部に相当する箇所の供給量を少なくすることによって）形成できる。更には、基板上に連続的にガラスフリット材料を供した後で“溝部に相当する部分”を局所的に除去することによっても溝部を形成できる。尚、本明細書で用いる「複数の溝部」にいう「複数」とは、２〜１６程度の個数を実質的に意味している。
【００４４】
ガラスフリット部ａ（８３ａ）およびガラスフリット部ｂ（８３ｂ）の寸法形状について説明する。図３の下方右側に示すようなガラスフリット部８３’を例にとると、ガラスフリット部（即ち、ガラスフリット部ａおよびガラスフリット部ｂ）の平均幅寸法ｗは３〜１０ｍｍ程度であり、その高さ寸法ｈは２００〜６００μｍ程度であることが好ましい。また、図３の下方左側に示すような溝部８５を例にとると、溝部の幅寸法Ｌａは０．５〜３ｍｍ程度であり、その深さ寸法ｈａは１００〜５００μｍ程度であることが好ましい。更に、図４（ａ）に示すような溝部のピッチＬｂは、基板のサイズや溝部の個数・幅寸法などによって変わり得るものの、例えば５０〜５００ｍｍ程度であること好ましい。尚、後述でも触れるが、ガラスフリット部ｂ（８３ｂ）は、工程（ｖ）の封着に際してその溝部を埋めるように軟化するので、封着時では溝部の空隙に起因してガラスフリット部ｂの高さが減じられることになる。即ち、封着時においては、ガラスフリット部ｂ（８３ｂ）はガラスフリット部ａ（８３ａ）よりも高さが減じられることになる。従って、それを考慮して、ガラスフリット部ｂはガラスフリット部ａよりも予め少し高く設けることが好ましい（例えばガラスフリット部ｂは、ガラスフリット部ａよりも１０〜２００μｍ分だけ高く設けることが好ましい）。
【００４５】
基板上に供されるガラスフリット材料の態様は、図３および４に示す態様に必ずしも限定されず、図６に示すような態様であってもよい。図６に示す態様では、ガラスフリット部ａ（８３ａ’）がペースト状のガラスフリット材料から成るのに対して、ガラスフリット部ｂ（８３ｂ’）が、予め溝部（８５’）が形成された固形状のガラスフリット材料から成っている。ガラスフリット部ａ（８３ａ’）は、上述のペースト状のガラスフリット材料を塗布して形成する一方、ガラスフリット部ｂ（８３ｂ’）は固形化されたガラスフリット材料を配置して設ける。かかる態様であっても、“固形ガラスフリット部ｂ（８３ｂ’）に予め設けられた複数の溝部（８５’）”が、前面板と背面板とが対向配置された際、吹き込まれるガスの通気経路を確保して前面板と背面板との間の空間へとガスを全体的に流す機能を有している。かかる固形ガラスフリット部ｂ（８３ｂ’）は、例えば、ペースト状のガラスフリット材料（即ち、上述で説明した「ガラスフリット材料」）を金型に充填し、プレス成型した上で、約２００〜３５０℃で仮焼成して樹脂成分を揮発・燃焼させた後、３３０〜４３０℃で焼結することによって作製することができる。かかる固形ガラスフリット部ｂ（８３ｂ’）の作製に使用する材料はペースト状のガラスフリット部ａ（８３ａ’）と同じであるので、ガラスフリット部ａと同一設備を利用できる点でコスト的に有利である。また、このように固形ガラスフリット部ｂ（８３ｂ’）はガラスフリット部ａ（８３ａ’）と材質的には同一であるので溶融温度も同じであるものの、固形ガラスフリット部ｂ（８３ｂ’）は金型でプレス成型を行うことで、ペースト状のガラスフリットの場合と比べて、溝部等の所望の形状を精度良く作製できる点でも有利である。尚、図６に示すような態様の場合、ガラスフリット部ｂ（８３ｂ’）は、基板（図示する態様では背面板）の開口部（９２）から吹き込まれたガスの流れを一旦せき止めるように機能し得るので、かかるガラスフリット部ｂ（８３ｂ’）を“せき止め用ガラスフリット部”と称すこともできる。
【００４６】
また別法にて、基板上に供されるガラスフリット材料の形態は図７および図８に示すような形態であってもよい。図７および図８に示す態様では、複数の溝部（８５”）を備えた固形状のガラスフリット部材（８３ｂ”）が前面板（１）のエッジの一辺に沿って配置されていると共に、かかるガラスフリット部材（８３ｂ”）と共に前面板（１）の周縁領域にて一続きの環を成すようにペースト状のガラスフリット材料（８３ａ”）が塗布されている。換言すれば、固形状のガラスフリット部材（８３ｂ”）は、図示するように基板エッジの１つの長辺に沿うように基板同士が重なり合う部分の周縁部に配置されるのに対して、ペースト状のガラスフリット材料（８３ａ”）は基板同士が重なり合う部分を囲うように前記長辺を除く３辺に沿うように“コの字型”に形成されている。このような態様であっても、固形状のガラスフリット部材（８３ｂ”）に設けられた複数の溝部（８５”）が、前面板と背面板とが対向配置された際、吹き込まれるガスの通気経路を確保して前面板と背面板との間の空間へと全体的にガスを流す機能を有している。固形状のガラスフリット部材（８３ｂ”）も、例えば、ペースト状のガラスフリット材料（即ち、上述で説明した「ガラスフリット材料」）を金型に充填し、プレス成型した上で、約２００〜３５０℃で仮焼成して樹脂成分を揮発・燃焼させた後、３３０〜４３０℃で焼結することによって作製できる。かかる固形状のガラスフリット部材（８３ｂ”）の作製に使用する材料は、ペースト状のガラスフリット部ａ（８３ａ”）と同じであるので、溶融温度も同じであるものの、金型でプレス成型を行うことで、ペースト状のガラスフリットの場合と比べて、溝部等の所望形状を精度良く作製することができる点で有利である。尚、固形状のガラスフリット部材（８３ｂ”）というものは、封着処理に際して前面板と背面板との周縁部をシールする機能を奏するので、「ガス分散機能」と「シール機能」とを兼ね備えた部材であるといえる。
【００４７】
図９に示すように、固形状のガラスフリット部材（８３ｂ”）では、その長手方向にガス拡散溝部８４が形成され、短手方向に複数の溝部８５”（「ガス流出溝」）が形成されている。図示するように、ガス拡散溝部８４はガスマニホールドの役割を果たすべく溝部８５”よりも深く形成されていることが好ましい（例えば、ガス拡散溝部８４は溝部８５”よりも５０〜３００μｍ深くなっている）。固形状のガラスフリット部材（８３ｂ”）の寸法形状や溝部の幅寸法やピッチなどは、上述したガラスフリット部（即ち、ガラスフリット部ａおよびガラスフリット部ｂ）と同様である。尚、ガラスフリット部材（８３ｂ”）の高さ寸法について言えば、封着に際して溶融したガラスフリット部材（８３ｂ”）がガス拡散溝部８４および溝部８５”の体積を埋めることになるので、ガラスフリット部ａ（８３ａ”）よりも少し高く（例えば１０〜２００μｍ分だけ高く）しておくことが好ましい（図７の右下側の一部拡大図を参照のこと）。尚、ガラスフリット部材（８３ｂ”）の中央領域が、基板同士のアラメント処理後に基板の吹込み用開口部９２に位置することが好ましい。
【００４８】
工程（ｉｉ）に引き続いて、工程（ｉｉｉ）を実施する。つまり、ガラスフリット材料の供給後、ガラスフリット材料が基板Ａと基板Ｂとの間に位置するように、前面板と背面板とを相互に対向して配置する（例えば図１０参照）。別の表現を用いれば、前面板と背面板とは、保護層と蛍光体層とが互いに向き合うように対向して配置されると共に、表示電極とアドレス電極とが直交するように、前面板と背面板とが実質的に平行に配置される。対向配置された前面板および背面板は、以後に動かないようにクリップ７０（図１０の下図参照）などによって保持することが好ましい。対向配置された前面板と背面板との間の間隔（即ち、ギャップ幅）は、塗布されたガラスフリット材料の厚さなどに依存するが、例えば、好ましくは１００〜６００μｍであり、より好ましくは３００〜６００μｍである。ちなみに、背面板（２）には隔壁（２３）が設けられているが、図４（ｂ）または図８（ｂ）に示すように、封着処理前の状態では隔壁（２３）の高さよりもガラスフリット材料（８３ａ，８３ｂ，８３ｂ”）の高さの方が大きいため、隔壁（２３）の頂部は前面板（１）とは接触していない。
【００４９】
工程（ｉｉｉ）に引き続いて、工程（ｉｖ）を実施する。即ち、前面板および背面板を加熱下においた状態で、前面板および背面板のいずれかに設けられた開口部（図示する態様では背面板（２）に設けられた開口部（９２））からガスを吹き込み、対向配置された前面板と背面板との間にガスを流す。
【００５０】
対向配置された前面板および背面板を封排炉などのチャンバーに投入することによってそれらを加熱下におくことができる。ガスの吹込みを常温にて開始しつつ、ガスを吹込みながら「対向配置された前面板および背面板」を炉内で加熱することが好ましい。加熱温度は、「保護層表面の変質層を成す不純物（例えば保護層成分に結合しているＣＯ３２−やＯＨ−など）」が脱離することになる限り特に制限はなく、例えば３５０〜４５０℃程度である。
【００５１】
前面板または背面板の開口部から吹き込まれるガスは、保護層に対して不活性なガスであることが好ましい。例えば、窒素ガスを挙げることができる。また、ヘリウム、アルゴン、ネオンまたはキセノン等の希ガスを用いてもよい。ちなみに、吹き込まれるガスは、少なくとも、水蒸気をほとんど含まないガスであることが望まれる。例えば、吹き込まれるガスの水分濃度は１ｐｐｍ以下が好ましい。ここでいう「ガスの水分濃度（ｐｐｍ）」は、ガスの全体積（０℃１気圧の標準状態）に占める水分（水蒸気）の体積割合を百万分率で示したものであり、常套の露点計で測定することによって得られる値を指している。窒素ガスは比較的高価であるので、乾燥空気を用いるとコスト的に効率の良いＰＤＰ製造法が実現できる。吹込まれるガス流量は、パネルの大きさ、溝部の個数や幅寸法、ガラスフリット材料の厚さやその頂部凹凸の大きさ等によって最適値は変わってくるものの、概ね０．１ＳＬＭ〜１０ＳＬＭの範囲である（ＳＬＭ：気体の標準状態において１分間に供給したガスの量をリットルで示す単位）。ガス流量が少なすぎると外部の大気が混入したり、清浄化が不十分になるおそれがある一方、逆にガス流量が多すぎるとコスト的に不利になり得る。
【００５２】
開口部（９２）からのガスの吹き込みは、図４（ｂ）または図８（ｂ）に示すようなガス吹込み管（９１）（即ち、「ガス吹き込み治具」）を用いることが好ましい。尚、図示するガス吹込み管（９１）は、それぞれ図４（ａ）または図８（ａ）における線Ａ−Ａ’および線Ｂ−Ｂ’に沿って切り取った断面図で示している。このガス吹込み管（９１）自体は、ガス流れを分配する機能を有しておらず（即ち、その内部にマニホールドとして機能する中空部を有しておらず、かつ、その中空部と流体連通した複数の供給口も有していない）、単にガスを流し入れる機能を有するものである。図示する態様から分かるように、前面板（１）と背面板（２）とは、ガス吹込み管（９１）が設けられている部分においては、ガラスフリット材料（８３ａ，８３ｂ，８３ｂ”）を介して向かい合った状態である。図示する態様では、ガラスフリット材料（８３ａ，８３ｂ，８３ｂ”）は前面板（１）に設けられており、そのガラスフリット材料の頂部が背面板（２）と接触している。かかるガス吹込み管（９１）は、その中心と吹込み用開口部（９２）の中心とが一致するように押し付けられ、吹込み用開口部（９２）の直下にはガラスフリット材料のガス拡散溝部の中央領域が位置することが好ましい。ガス吹込み管（９１）は、繰り返し封着温度にまで昇温されても変形・破損などがないようにステンレス鋼などの耐熱性の金属で製作され、その形状は、円筒形で先端がフレア形状になっていることが好ましい。これにより、ガス供給装置（図示せず）から供給された窒素ガスは、ガス供給管（９３）およびガス吹込み管（９１）を経由して、吹込み用開口部（９２）からパネル内部へと供給される。そして、パネル内部に吹き込まれたガスは、ガラスフリット材料のガス拡散溝によって長辺方向に沿って拡散され、その後、複数の溝部を通過することによって前面板と背面板との間へと全体的に流れることになる。ガス吹込み管（９１）は、その先端をフレア状にすることで基板表面との接触面積が大きくなり、背面板（２）とガス吹込み管（９１）との間からのガス漏洩を少なくすることができるとともに、ガス吹込み管（９１）と吹込み用開口部（９２）との中心が相互にずれても、その影響を受けにくくなる。
【００５３】
吹込み用開口部（９２）は、例えば、前面板または背面板を準備した後に、ドリル加工またはレーザー加工などの適当な方法で形成することができる。吹込み用開口部（９２）を背面板に設ける場合、蛍光体のペースト原料を塗布して乾燥させた後に開口部（９２）を設けることが好ましい。このような「吹込み用開口部（９２）」は、ガス吹込み管（９１）からのガス吹込みに供するものであれば、どのような形状・形態・サイズであってもかまわない（例えば、円形状の吹込み用開口部（９２）の場合、直径サイズは１〜５ｍｍ程度であってよい）。
【００５４】
ガス吹込み管（９１）からガスが吹き込まれると、その吹き込まれたガスが、ガラスフリット材料に設けられた複数の溝部を通過するよう導かれ、結果として、前面板と背面板との間へとガスが全体的に流れることになる。例えば、ペースト状のガラスフリット部ａおよび固形ガラスフリットｂを設ける場合（即ち、図６に示す態様）では、吹き込まれたガスは、ガラスフリット部ａ（８３ａ’）とガラスフリット部ｂ（８３ｂ’）との間の領域（図６で示すＰの部分）を通ることによって基板の長辺方向に沿って拡散され、その後、ガラスフリット部ｂ（８３ｂ’）に設けられた複数の溝部（８５’）から流出するように、前面板（１）と背面板（２）との間の空間に向かって流れていく。また、固形状のガラスフリット部材（８３ｂ”）を用いる場合（即ち、図７に示す態様）でも同様に、吹き込まれたガスがガス拡散溝部によって長手方向に拡散し、その後、複数の溝部（８５”）から流出して前面板（１）と背面板（２）との間の空間に向かって流れていく。尚、図示する態様から分かるように、本明細書において「前面板と背面板との間へと全体的に流す」とは、前面板と背面板とを対向配置させた際に相互に重なり合う領域を通るように流すことを実質的に意味している。
【００５５】
ここで、「前面板（１）に供されたガラスフリット材料」の頂部と背面板（２）とは接触しているとはいえ、ガラスフリット材料の頂部は完全な平面ではなく数十〜百μｍ程度の凹凸が存在している。従って、「前面板（１）と背面板（２）との間の空間」へと流れ込んだガスは、ガラスフリット材料と基板との間の隙間（例えば、図４（ａ）または図８（ａ）における領域Ｍまたは領域Ｎ）から、ガスが排出され得る（ちなみに、チップ管に繋がっているガス供給装置及び排気装置は作動させず、これらの装置とはバルブによって遮断しておく）。尚、必要に応じて、供されたガラスフリットの一部に排出溝部を設けておき、そこから「前面板と背面板との間の空間」へと流れ込んだガスを積極的に排出するようにしてもよい。
【００５６】
工程（ｉｖ）に引き続いて、工程（ｖ）を実施する。即ち、ガラスフリット材料を溶融させることによって、前面板と背面板とを封着させる。より具体的には、加熱によりガラスフリット材料を溶融させ、その後に降温により溶融したガラスフリット材料を固化させることによって、前面板と背面板とを周辺領域にて気密接合させる。工程（ｖ）の加熱温度は、ガラスフリットが溶融できる温度であれば特に制限はない（即ち、一般的なＰＤＰの製造に際して用いられる「封着温度」であってよく、例えば４００℃〜５００℃程度である）。工程（ｖ）の封着の実施に際して、工程（ｉｖ）のガスの吹き込みを併せて行ってもよい。これについて詳述する。ガスの吹込みは、常温において開始する。また、ガスを吹込みながら「対向配置された前面板および背面板」を炉内で加熱する。ガラスフリットの軟化点を越えるとガラスフリット材料が軟化し、徐々にガラスフリット材料と背面板との間の隙間が埋まっていく。また、ガラスフリット材料の軟化と共にガス溝部も埋まっていくことなになり、また、吹込み用開口部（９２）の下方側開口端もガラスフリット材料によって塞がれることになる。これにより、開口部（９２）から吹き込まれるガスが、前面板と背面板との間に流れることができず、パネル内部へのガス供給が停止することになる。例えば、ペースト状のガラスフリット部ａ（８３ａ’）および固形状のガラスフリット部ｂ（８３ｂ’）を設ける場合（即ち、図６に示す態様）では、ガラスフリット部ａ（８３ａ’）が軟化し、徐々にガラスフリット部ａ（８３ａ’）と背面板（２）との間の隙間が埋まっていくと共に、ガラスフリット部ｂ（８３ｂ’）についても、ガラスフリット部ａと同じ材質であるために軟化し、最終的にはガラスフリット部ａおよびガラスフリット部ｂの横方向への広がりに起因して吹込み用開口部（９２）が塞がることになる。
【００５７】
溶融後、ガラスフリット材料が完全に溶融する温度域（例えばガラスフリットの溶融温度よりも１０〜７０℃程度高い温度）にて数分〜十数分パネルを保持した後で冷却することによって、ガラスフリットが硬化し、前面板と背面板とが封着される。次いで、「封着された前面板および背面板」を封着時よりも若干低温（即ち、ガラスフリットの固化状態が維持される温度であって、例えば「ガラスフリットの溶融温度よりも１０〜５０℃程度低い温度」）に保持しながら、前面板と背面板との間を真空排気する。以上のように処理を行うと、ガラスフリットが完全に溶融する温度域では、ガラスフリットに起因して、吹き込まれるガスが「前面板と背面板との間の空間」へと入っていかないので、実質的なガス吹込みが停止することなり、ガスの使用量を最小限に抑制できる。
【００５８】
尚、「工程（ｉｉｉ）の対向配置」を実施した後に「工程（ｉｖ）のガス吹き込み」を経てから「工程（ｖ）の封着」を行うということは、アライメント後はガラスフリットの頂部と背面板とが接触した状態で加熱を実施することを意味している。従って、本発明の製造方法では、“封着時のアライメントずれ”が起きにくく、信頼性の高い製造方法を実現できる。
【００５９】
前面板と背面板とを封着させた後、前面板と背面板との間を排気し、前面板と背面板との間に放電ガスを封入する。封入すべき放電ガスとしては、ＸｅとＮｅの混合ガスを例示できるものの、Ｘｅのみを封入してもよいし、Ｈｅを混入させたものであってもよい。このような排気および封入は、前面板または背面板に設けられた貫通孔を介して行うことが好ましい。図１１には、背面板（２）に設けられた貫通孔（２９）が示されている。かかる「貫通孔」は、対向配置された前面板と背面板との間のガスを排気し、放電ガスを供給することを可能にするものであれば、どのような形状・形態・サイズであってもかまわない（例えば、円形状の貫通孔の場合、直径サイズは１〜５ｍｍ程度である）。また、貫通孔（２９）は、ガラスフリット材料が供される領域よりも内側に位置することが必要であるものの、完成されたＰＤＰの画像表示を妨げることがないように、ＰＤＰ表示部ではない前面板または背面板の周辺部分に位置することが好ましい。貫通孔の形成は、例えば、前面板または背面板を準備した後に、ドリル加工またはレーザー加工などの適当な方法で形成することができる。貫通孔を背面板側に設ける場合、蛍光体のペースト原料を塗布して乾燥させた後に貫通孔を設けることが好ましい。
【００６０】
「貫通孔（２９）」およびそれに関連するパーツについて詳述する。貫通孔（２９）には、図１１に示すように、チップ管（５５）がフリットリング（５６）を介して設けられている。チップ管（５５）の端部には、配管（５８）の先端部を構成するチャックヘッド（５７）が接続されている。チャックヘッド（５７）には水冷配管・シール機構（図示せず）が配置されており、チップ管（５５）および配管（５８）が封着温度にまで昇温された場合においても一体的に密閉構造が維持されるように構成されている。配管（５８）にはガス供給装置及び排気装置（図示せず）が接続されているので、貫通孔（２９）を介して、前面板と背面板との間のガスを排気できたり、あるいは、かかる空間へと放電ガスを供給できるようになっている。尚、フリットリング（５６）は、固形状のガラスフリット部ｂ（８３ｂ’）またはガラスフリット部材（８３ｂ”）と同じ製法で製作された環状の固形物である。従って、炉内を溶融温度まで昇温した後に降温すると、フリットリング（５６）はガラスフリット材料と同様に溶融・固化するので、背面板（２）とチップ管（５５）とが相互に接着され得る。
【００６１】
ちなみに、ガス吹込み時においては、貫通孔（２９）は実質的に“閉”の状態にされていることに留意されたい。より具体的には、チップ管（５５）は、フリットリング（５６）を介して貫通穴（２９）に合わせて背面板（２）に押し当てられるものであるが、「チップ管（５５）とフリットリング（５６）が接触する面」および「フリットリング（５６）と背面板（２）が接触する面」が平滑面なので、これらの面におけるガスの漏洩はほとんど無い。また、チップ管（５５）と連通した配管（５８）に設けられたバルブのうち、もっともチップ管（５５）に近い側のバルブを閉じた状態でガスを吹込むので、チップ管（５５）を介したガスの漏洩もほとんど無いことになる。
【００６２】
次に、本発明の実施形態を経時的に説明しておく。図１２は、本発明に係るＰＤＰ製造方法の概略を示すフローチャートである。図示するように、まず、前面板と背面板とを準備する（図示するフローチャートでは、背面板側に対してガラスフリット・ペーストを塗布すると共に、ガラスフリット固形物を配置する）。次いで、アライメント装置内にて前面板および背面板の位置合わせを行った後、前面板と背面板とをガラスフリット材料を介して対向させて保持する。次に、吹込み用開口部にガス吹込み管を取り付ける。また、基板に設けた貫通穴に合わせてチップ管を取り付ける。保護層の形成からこの時点までは、保護層が大気に曝露されるため、保護層表面には変質層が形成され得る。次いで、ガス吹込み管およびガラスフリット固形物を介して「前面板と背面板との間の空間」へとガス（例えば窒素ガス）を流し込む。そして、ガスを流し込みながら前面板及び背面板を炉内で加熱し、ガラスフリットを溶融させて前面板と背面板とを封着する。引き続いて、前面板および背面板を封着時よりも若干低温に保持しながら、前面板と背面板との間の空間が真空状態になるまでチップ管を介してガス排気する。この排気処理が完了した後、前面板および背面板をほぼ常温になるまで冷却させる。かかる冷却後、ガス吹込み管を基板から取り外す。そして、「表面板と背面板との間の空間」に放電ガスを導入し、所定の圧力にて放電ガスの導入を停止する（封入）。そして、最終的にはチップ管を溶かしてガス封止・切断することでＰＤＰが完成する。
【００６３】
以上、本発明の実施形態について説明してきたが、あくまでも典型例を例示したに過ぎない。従って、本発明はこれに限定されず、種々の改変がなされ得ることを当業者は容易に理解されよう。
【００６４】
例えば、固形状のガラスフリット部ｂ（８３ｂ’）またはガラスフリット部材（８３ｂ”）は一体品となっている場合を例示したが、複数のパーツの組み合わせから成るものであってもよい。例えばガラスフリット部材（８３ｂ”）の長手方向に沿って別個にパーツを形成した後でそれらを相互に一体化させてよい（例えば、図１３に示す点線部分で区切られたパーツをそれぞれ別個に作製してから最後に組み合わせてもよい）。複数のパーツから一体化することで、各パーツのサイズが小さくなり操作性に富むだけでなく、異なるサイズのパネルに対しても共通のパーツを使用することができるため、低コスト化に寄与し得る。
【００６５】
また、ガラスフリット部ｂ（８３ｂ’）またはガラスフリット部材（８３ｂ”）が前面板または背面板のエッジの一辺に平行となるように延在する態様について例示したが、必ずしもその態様に限定されない。例えば、ガラスフリット部ｂ（８３ｂ’）またはガラスフリット部材（８３ｂ”）を前面板または背面板のエッジの一辺に対して非平行に延在させてもよく、あるいは、ガラスフリット部ｂ（８３ｂ’）またはガラスフリット部材（８３ｂ”）が直線状に延在しておらず曲線状に延在している態様であってもよい。
【００６６】
ガスの吹込みは、常温において開始する場合を例示したが、使用ガス量を更に減じるべく、変質層の除去に有効な温度域のみでガスの吹込みを行ってもよい。
【００６７】
更に、ガラスフリットを塗布した後かつアライメントの前において、フリットの仮焼成を行ってもよい。あるいは、蛍光体層形成ステップにおいて蛍光体層の焼成を経ずに、フリットの仮焼成と同時に一括で焼成することも可能である。
【産業上の利用可能性】
【００６８】
本発明の製造方法を通じて最終的に得られるＰＤＰは、パネル寿命に優れているので、一般家庭向けのプラズマテレビおよび商業用プラズマテレビとして好適に用いることができる他、その他の各種表示デバイスとしても好適に用いることができる。
【図面の簡単な説明】
【００６９】
【図１】本発明の概念を模式的に示した断面図および平面図
【図２（ａ）】ＰＤＰの概略構成を模式的に示す斜視図
【図２（ｂ）】ＰＤＰ前面板を模式的に示す断面図
【図３】供されたガラスフリット材料の態様を示す斜視図
【図４】図４（ａ）：供されたガラスフリット材料の態様を示す平面図、図４（ｂ）：図４（ａ）に示す線Ａ−Ａ’に沿って切り取った断面図
【図５】隔壁の形態を模式的に示す斜視図
【図６】供されたガラスフリット材料の態様（ペースト状のガラスフリット部ａと固形ガラスフリット部ｂとを設ける態様）を示す斜視図
【図７】供されたガラスフリット材料の態様（ペースト状のガラスフリット部と固形状のガラスフリット部材とを設ける態様）を示す斜視図
【図８】図８（ａ）：供されたガラスフリット材料の態様（ペースト状のガラスフリット部と固形状のガラスフリット部材とを設ける態様）を示す平面図、図８（ｂ）：図８（ａ）に示す線Ｂ−Ｂ’に沿って切り取った断面図
【図９】固形状のガラスフリット部材の平面図（図９（ａ）：上面図、図９（ｂ）：正面図、図９（ｃ）：側断面図）および斜視図
【図１０】前面板と背面板とを対向配置させた態様を模式的に示す斜視図
【図１１】封着処理後の態様を模式的に示す断面図
【図１２】本発明の製造方法に係るＰＤＰの製造工程の概略を示すフローチャート
【図１３】複数のパーツを組み合わせることによって形成される固形状のガラスフリット部材の態様を模式的に示す斜視図
【符号の説明】
【００７０】
１        前面板
２        背面板
１０      前面板側の基板Ａ
１１      前面板側の電極Ａ（表示電極）
１２      走査電極
１２ａ    透明電極
１２ｂ    バス電極
１３      維持電極
１３ａ    透明電極
１３ｂ    バス電極
１４      ブラックストライプ（遮光層）
１５      前面板側の誘電体層Ａ
１６      保護層
２０      背面板側の基板Ｂ
２１      背面板側の電極Ｂ（アドレス電極）
２２      背面板側の誘電体層Ｂ
２３      隔壁
２３ａ    長辺方向に沿って延在する隔壁
２３ｂ    短辺方向に沿って延在する隔壁
２５      蛍光体層
２９      貫通穴（封入処理用）
３０      放電空間
３２      放電セル
５５      チップ管
５６      フリットリング
５７      チャックヘッド
５８      配管
６１      ガス導入溝
６２      ガス排出溝
７０      クリップ
８３      基板上に供されたガラスフリット材料
８３’    基板上に供されたガラスフリット材料（一部拡大図）
８３ａ    ガラスフリット部ａ
８３ａ’  ペースト状のガラスフリット部ａ
８３ａ”  ペースト状のガラスフリット部ａ
８３ｂ    ガラスフリット部ｂ
８３ｂ’  固形ガラスフリット部ｂ            
８３ｂ”  固形状のガラスフリット部材
８４      ガス拡散部（またはガラスフリット材料に設けられたガス拡散溝部）
８５      ガラスフリット材料に設けられた溝部  
８５’    固形ガラスフリット部ｂに設けられた溝部
８５”    固形状のガラスフリット部材に設けられた溝部
９１      ガス吹き込み管
９２      吹込み用開口部
９３      ガス供給管
１００    ＰＤＰ
【図１】
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【図２（ａ）】
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【図２（ｂ）】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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