【手続補正書】
【提出日】平成17年1月24日(2005.1.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】画素マトリクス回路、電気光学装置および電気光学装置の作製方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上にＴＦＴと画素電極を有する画素マトリクス回路であって、
前記画素電極は、前記ＴＦＴと接する第１の金属層と第２の金属層との積層構造からなり、
前記第１の金属層と前記ＴＦＴとが接続するコンタクト部において、前記第１の金属層と前記第２の金属層との間に絶縁物が挟み込まれ、
前記絶縁物の上面及び前記第１の金属層の上面は同一平面をなすことを特徴とする画素マトリクス回路。
【請求項２】
基板上にＴＦＴと画素電極を有する画素マトリクス回路であって、
前記ＴＦＴ上に形成された第１の層間絶縁膜と、
前記第１の層間絶縁膜上に形成されたドレイン電極と、
前記ドレイン電極を覆う窒化珪素膜と、
前記ドレイン電極上に、前記窒化珪素膜を介して形成された容量電極と、
前記窒化珪素膜及び前記容量電極上に形成された第２の層間絶縁膜と、
前記第２の層間絶縁膜上に形成された第３の層間絶縁膜と、
前記窒化珪素膜、前記第２の層間絶縁膜、及び前記第３の層間絶縁膜に設けられた前記ドレイン電極の一部を露呈する開孔部と、
前記第３の層間絶縁膜及び前記開孔部に接して形成された第１の金属層と、
前記開孔部に埋めこまれた前記第１の金属層上に形成された絶縁物と、
前記絶縁物及び前記第１の金属層上に接して形成された第２の金属層とを有することを特徴とする画素マトリクス回路。
【請求項３】
基板上にＴＦＴと画素電極を有する画素マトリクス回路であって、
前記ＴＦＴ上に形成された第１の層間絶縁膜と、
前記第１の層間絶縁膜上に形成されたドレイン電極と、
前記ドレイン電極を覆う窒化珪素膜と、
前記ドレイン電極上に、前記窒化珪素膜を介して形成された容量電極と、
前記窒化珪素膜及び前記容量電極上に形成された第２の層間絶縁膜と、
前記第２の層間絶縁膜上に形成されたブラックマスクと、
前記ブラックマスクを覆う第３の層間絶縁膜と、
前記窒化珪素膜、前記第２の層間絶縁膜、及び前記第３の層間絶縁膜に設けられた前記ドレイン電極の一部を露呈する開孔部と、
前記第３の層間絶縁膜及び前記開孔部に接して形成された第１の金属層と、
前記開孔部に埋めこまれた前記第１の金属層上に形成された絶縁物と、
前記絶縁物及び前記第１の金属層上に接して形成された第２の金属層とを有することを特徴とする画素マトリクス回路。
【請求項４】
請求項２又は請求項３において、前記開孔部の断面形状はテーパー状であることを特徴とする画素マトリクス回路。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれか一において、前記第１の金属層は単層または積層構造からなることを特徴とする画素マトリクス回路。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５のいずれか一において、前記第２の金属層は単層または積層構造からなることを特徴とする画素マトリクス回路。
【請求項７】
請求項１乃至請求項６のいずれか一において、前記第１の金属層はＴｉ、Ｃｒ、Ｔａ、Ｗ、Ｍｏ、ＮｂまたはＳｉから選ばれた材料で構成され、前記第２の金属層はＡｌ、Ｃｕ、Ａｇまたはそれらを主成分とする金属膜から選ばれた材料で構成されることを特徴とする画素マトリクス回路。
【請求項８】
請求項１乃至請求項６のいずれか一において、前記第１の金属層及び前記第２の金属層は、透明導電膜が用いられていることを特徴とする画素マトリクス回路。
【請求項９】
請求項１乃至請求項８のいずれか一において、前記第２の金属層は、平坦化されていることを特徴とする画素マトリクス回路。
【請求項１０】
請求項１乃至請求項９のいずれか一において、前記絶縁物はポリイミド、ポリアミド、ポリイミドアミド、アクリルから選ばれた一種または複数種の有機性樹脂膜であることを特徴とする画素マトリクス回路。
【請求項１１】
請求項１乃至請求項９のいずれか一において、前記絶縁物は顔料またはカーボン系材料を含むことを特徴とする画素マトリクス回路。
【請求項１２】
請求項１乃至請求項９のいずれか一において、前記絶縁物は光吸収層であることを特徴とする画素マトリクス回路。
【請求項１３】
請求項１乃至請求項１２のいずれか一に記載の画素マトリクス回路を用いた表示装置。
【請求項１４】
請求項１乃至請求項１２のいずれか一に記載の画素マトリクス回路を用いたビデオカメラ。
【請求項１５】
請求項１乃至請求項１２のいずれか一に記載の画素マトリクス回路を用いたスチルカメラ。
【請求項１６】
請求項１乃至請求項１２のいずれか一に記載の画素マトリクス回路を用いたプロジェクター。
【請求項１７】
請求項１乃至請求項１２のいずれか一に記載の画素マトリクス回路を用いたプロジェクションＴＶ。
【請求項１８】
請求項１乃至請求項１２のいずれか一に記載の画素マトリクス回路を用いたヘッドマウントディスプレイ。
【請求項１９】
請求項１乃至請求項１２のいずれか一に記載の画素マトリクス回路を用いたカーナビゲーション。
【請求項２０】
請求項１乃至請求項１２のいずれか一に記載の画素マトリクス回路を用いたパーソナルコンピュータ。
【請求項２１】
請求項１乃至請求項１２のいずれか一に記載の画素マトリクス回路を用いた携帯電話。
【請求項２２】
請求項１乃至請求項１２のいずれか一に記載の画素マトリクス回路を用いたモバイルコンピュータ。
【請求項２３】
電極と、
前記電極上に形成され、当該電極の一部を露呈する開孔部を有する層間絶縁膜と、
前記層間絶縁膜及び前記開孔部に接して形成された第１の金属層と、
前記開孔部に埋めこまれた前記第１の金属層上に形成された絶縁物と、
前記絶縁物及び前記第１の金属層上に接して形成された第２の金属層を有することを特徴とする電気光学装置。
【請求項２４】
第１の電極と、第２の電極を有し、
前記第２の電極は、前記第１の電極と接する第１の金属層と第２の金属層との積層構造からなり、
前記第１の金属層と前記第１の電極とが接続するコンタクト部において、前記第１の金属層と前記第２の金属層との間に絶縁物が挟み込まれ、
前記絶縁物の上面及び前記第１の金属層の上面は同一平面をなすことを特徴とする電気光学装置。
【請求項２５】
第１の電極と、当該第１の電極に接続された第２の電極とを有し、
前記第２の電極は、第１の金属層と第２の金属層との積層構造からなり、
前記第１の金属層が形成する凹部には絶縁物が埋め込まれ、当該第１の金属層及び当該絶縁物を覆って前記第２の金属層が形成され、
前記絶縁物の上面及び前記第１の金属層の上面は同一平面をなすことを特徴とする電気光学装置。
【請求項２６】
請求項２３乃至請求項２５のいずれか一において、前記第１の金属層は単層または積層構造からなることを特徴とする電気光学装置。
【請求項２７】
請求項２３乃至請求項２６のいずれか一において、前記第２の金属層は単層または積層構造からなることを特徴とする電気光学装置。
【請求項２８】
請求項２３乃至請求項２７のいずれか一において、前記第１の金属層はＴｉ、Ｃｒ、Ｔａ、Ｗ、Ｍｏ、ＮｂまたはＳｉから選ばれた材料で構成され、前記第２の金属層はＡｌ、Ｃｕ、Ａｇまたはそれらを主成分とする金属膜から選ばれた材料で構成されることを特徴とする電気光学装置。
【請求項２９】
請求項２３乃至請求項２７のいずれか一において、前記第１の金属層及び前記第２の金属層は、透明導電膜が用いられていることを特徴とする電気光学装置。
【請求項３０】
請求項２３乃至請求項２９のいずれか一において、前記第２の金属層は、平坦化されていることを特徴とする電気光学装置。
【請求項３１】
請求項２３乃至請求項３０のいずれか一において、前記絶縁物はポリイミド、ポリアミド、ポリイミドアミド、アクリルから選ばれた一種または複数種の有機性樹脂膜であることを特徴とする電気光学装置。
【請求項３２】
請求項２３乃至請求項３０のいずれか一において、前記絶縁物は顔料またはカーボン系材料を含むことを特徴とする電気光学装置。
【請求項３３】
請求項２３乃至請求項３０のいずれか一において、前記絶縁物は光吸収層であることを特徴とする電気光学装置。
【請求項３４】
電極を形成し、
前記電極を覆って第１の絶縁層を形成し、
前記第１の絶縁層に前記電極上面の一部を露呈する開孔部を形成し、
前記第１の絶縁層及び前記開孔部に接して第１の金属層を形成し、
前記第１の金属層上に第２の絶縁層を形成し、
前記第２の絶縁層をエッチングまたは研磨して、前記第１の金属層に形成された凹部のみを当該第２の絶縁層で埋め込み、
前記第１の金属層及び埋め込まれた前記第２の絶縁層に接して第２の金属層を形成することを特徴とする電気光学装置の作製方法。
【請求項３５】
請求項３４において、前記第１の金属層は単層または積層構造からなることを特徴とする電気光学装置の作製方法。
【請求項３６】
請求項３４又は請求項３５において、前記第２の金属層は単層または積層構造からなることを特徴とする電気光学装置の作製方法。
【請求項３７】
請求項３４乃至請求項３６のいずれか一において、前記第１の金属層はＴｉ、Ｃｒ、Ｔａ、Ｗ、Ｍｏ、ＮｂまたはＳｉから選ばれた材料で構成され、前記第２の金属層はＡｌ、Ｃｕ、Ａｇまたはそれらを主成分とする金属膜から選ばれた材料で構成されることを特徴とする電気光学装置の作製方法。
【請求項３８】
請求項３４乃至請求項３６のいずれか一において、前記第１の金属層及び前記第２の金属層は、透明導電膜が用いられていることを特徴とする電気光学装置の作製方法。
【請求項３９】
請求項３４乃至請求項３８のいずれか一において、前記第２の金属層は、平坦化されていることを特徴とする電気光学装置の作製方法。
【請求項４０】
請求項３４乃至請求項３９のいずれか一において、前記第２の絶縁層はポリイミド、ポリアミド、ポリイミドアミド、アクリルから選ばれた一種または複数種の有機性樹脂膜であることを特徴とする電気光学装置の作製方法。
【請求項４１】
請求項３４乃至請求項３９のいずれか一において、前記第２の絶縁層は顔料またはカーボン系材料を含むことを特徴とする電気光学装置の作製方法。
【請求項４２】
請求項３４乃至請求項３９のいずれか一において、前記第２の絶縁層は光吸収層であることを特徴とする電気光学装置の作製方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９４】
また、特開平８−１５６８６号公報に記載された技術の様に、マイクロレンズアレイを用いる構成にしても良い。