【手続補正書】
【提出日】令和3年5月24日(2021.5.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
独立変数のインターバル内で入射放射線の１つ以上の変数を測定するための方法であって、前記１つ以上の変数は独立変数に依存して変化し、前記方法は、
測定対象の入射放射線を収集する工程、
空間変調器または時間変調器を用いて、各インターバルにおける入射放射線の半分より多くを少なくとも２つの別個の経路の１つに方向付ける工程であって、前記変調器は構成の１つのシーケンスを受けて、前記シーケンスの各メンバーが前記インターバル内で入射放射線の様々な組み合わせを各経路に方向付け、ここで、すべての別個の経路の放射線強度の合計は、全体の入射放射線の少なくとも６０％である、工程、
複数の検出器出力を提供するために、各変調器構成のための検出器を用いて各経路における放射線の全強度を測定する工程、および
測定対象の放射線の従属変数に関する情報を取得するために、検出器出力を統計的に分析する工程
を含む、方法。
【請求項２】
前記変調器は、Ｍ個の構成のシーケンスを循環し、各構成において、放射線が変調器に入射する位置および／または時間に従って入射放射線をＮ個の部分に分割し、および入射放射線の各部分の大部分をＰ個の別個の経路の１つに方向付け、ここで、Ｐは２以上Ｎ未満であり、ＭはＮ以上であり、変調器の構成シーケンスは、各部分の大部分が異なる経路に方向付けられる少なくとも２つの構成を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
放射線は、光源の位置、波長、位相、または偏光によって空間的に分離され、かつ測定面に特徴付けられるＮ＞２の異なる領域に方向付けられ、変調器は、前記測定面に配置される空間変調器である、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
放射線は、前記シーケンスに従って変調されるゲート変調器を使用して、Ｎ＞２の部分に時間的に分割される、請求項１〜３のいずれかに記載の方法。
【請求項５】
構成のシーケンスＺの行列表現は、ＺＴＺが非特異である特性を有するように、変調器の構成のシーケンスが選択され、ここで、ＺはＭＰ行とＮ列を有し、Ｚの各行は１つの検出器での測定を表し、Ｚの各列は独立パラメータの１つの範囲を表し、そしてＺの要素は前記行の各範囲からの粒子束の割合を表す、請求項１〜４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
Ｚの少なくとも１つの要素は非整数である、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
行列に畳み込みを適用すると、符号化パターンは２進法でも直交でもない、請求項５または６に記載の方法。
【請求項８】
放射線が、光源の位置、波長、位相、または偏光のセットから選択される独立した特性によって空間的に分離され、測定面に特徴付けられるＮ＞２の異なる領域に方向付けられ、変調器が前記測定面に配置された空間変調器である、請求項１〜７のいずれかに記載の方法。
【請求項９】
放射線は、独立した特性によって異なる経路に分離され、前記独立した特性は時間であり、前記放射線は、ゲート変調器を使用して時間的に分離される、請求項１〜８のいずれかに記載の方法。
【請求項１０】
変調器の異なる構成の数は、独立した特性の区分の数以上である、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
変調器の構成シーケンスは、各区分について少なくとも２つの構成を含み、その区分内の大部分の放射線が異なる経路に方向付けられる、請求項１〜１０のいずれかに記載の方法。
【請求項１２】
各経路が複数の検出器を有し、各検出器が異なるエネルギー範囲内で前記経路に沿って伝播する放射線を測定する、請求項１〜１１のいずれかに記載の方法。
【請求項１３】
各経路が複数の検出器を有し、１つの経路の各検出器が、異なる起源の領域からの放射線を測定する、請求項１〜１２のいずれかに記載の方法。
【請求項１４】
測定対象の放射線が、分散分光計、フーリエ変換分光計、イメージング分光計、干渉パターン、回折計、ラマン散乱から、グレインカーネル、飛行時間型質量分析計、蛍光減衰、流体の流れを測定するためのフローセル、分析中の粒子から反射する光、振動するエネルギーを与えられた固体材料から反射する放射線および参照表面から反射する放射線によって生成される干渉パターンの１つからのものである、請求項１〜１３のいずれかに記載の方法。
【請求項１５】
前記空間変調器が、屈折、反射、回折のうちの１つである、請求項１〜１４のいずれかに記載の方法。
【請求項１６】
各経路上の検出器がアナログ電圧を生成し、前記アナログ電圧がデジタル形式への変換の前に減算されたベース電圧レベルを有する、請求項１〜１５のいずれかに記載の方法。
【請求項１７】
変調器は、少なくとも２つの別個の領域を有するベースマスクのサイクル順列を生成する、請求項１〜１６のいずれかに記載の方法。
【請求項１８】
各測定領域の異なる方向それぞれに方向付けられた放射線の割合は、マスク領域が前記方向に放射線を方向付けている時間加重幾何学的割合として計算される、請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
変調器は、ベースマスクのサイクル順列を生成し、マスク特性の少なくとも一部は、測定期間中の前記マスクの動きによって決定される、請求項１７または１８に記載の方法。
【請求項２０】
変調器の少なくとも１つの要素が少なくとも２つの異なる構成を有する、請求項１７〜１９のいずれかに記載の方法。
【請求項２１】
変調器が動的テプリッツマスクを備え、サンプリングレートを変更することにより解像度が変更される、請求項１７〜２０のいずれかに記載の方法。
【請求項２２】
各検出器出力が、検出器出力の合計に対して正規化される、請求項１〜２１のいずれかに記載の方法。
【請求項２３】
測定対象の放射線の特性が多変量最小二乗分析によって取得される、請求項１〜２２のいずれかに記載の方法。
【請求項２４】
測定対象の放射線の情報が、生の検出器出力または正規化された検出器出力の多変量統計分析によって取得される、請求項１〜２３のいずれかに記載の方法。
【請求項２５】
測定対象の放射線の情報が、生の検出器出力または正規化された検出器出力の相関分析によって取得される、請求項１〜２４のいずれかに記載の方法。
【請求項２６】
Ｎ個の領域を有する放射線パターンが、スペクトル中のより少ない数ｍの潜在変数を発見するための統計分析、ｍ回の測定を行うこと、および各潜在変数の値を推測するために統計分析を使用することにより分析される、請求項１〜２５のいずれかに記載の方法。
【請求項２７】
すべての検出器にわたって合計された放射線の全体の強度が、空間変調器構成の少なくともいくつかについて変化し、各変調器構成において、各検出器において生の強度値が生成され、ここで、前記変調器構成の全体の強度はＣ＝ＳＵＭ（検出器強度ｄｉ）であり、データベクトルに値ｄｉ’＝ｄｉ／Ｃがロードされ、その結果、この正規化は強度の変化を補正する、請求項１〜２６のいずれかに記載の方法。
【請求項２８】
バンドパスフィルタが、測定システムを通って伝搬する波長の範囲を制限して、分析システムの境界条件を確立する、請求項１〜２７のいずれかに記載の方法。
【請求項２９】
特定の分析物の測定に対するスペクトルバンドの重要性に比例して異なるスペクトルバンドの透過に重み付けすることにより、特定の分析物の測定システムにおける測定のために、バンドパスフィルタが使用されて機器の感度を最適化する、請求項２８に記載の方法。
【請求項３０】
放射線の強度が複数のサンプルのそれぞれについて変化し、各時間サンプルにおいて、第１の検出器Ａおよび第２の検出器Ｂにおいて生の強度値が生成され、時間ステップの全体の強度はＣ＝Ａ＋Ｂであり、データベクトルに値ａ’＝Ａ／Ｃおよびｂ’＝Ｂ／Ｃがロードされ、その結果、この正規化は強度の変化を補正する、請求項１〜２９のいずれかに記載の方法。
【請求項３１】
入射放射線をＮ個のパケットに分割する工程であって、各パケットは、異なる値の第１の特性を有する放射線を含む、工程、時間変調器または空間変調器を使用して前記放射線パケットを時間的または空間的に分離する工程、入射放射線パケットの少なくともＮ個の異なる組み合わせを少なくとも２つの別個の経路に方向付けるために、変調器シーケンスを使用して変調器を変化させる工程を含み、各測定において各検出器によって受信された全体の強度に対する各帯域の時間加重寄与を推定する工程、および時間加重寄与を明示的にモデル化するためにＺ行列の係数を設定する工程を含む、請求項１〜３０のいずれかに記載の方法。
【請求項３２】
空間変調器ならびに関連する光学機器および検出器が、測定対象の放射線源に対して相対運動をしており、前記相対運動が所望の変調を生成する、請求項１〜３１のいずれかに記載の方法。
【請求項３３】
前記変調器は、Ｍ個の構成のシーケンスを循環し、各構成において、放射線が変調器に入射する位置に従って入射放射線をＮ個の部分に分割し、入射放射線の各部分の大部分をＰ個の別個の経路の１つに方向付け、Ｐは２以上かつＮ未満であり、ＭはＮ以上であり、変調器の構成シーケンスは、各部分の大部分が異なる経路に方向付けられる少なくとも２つの構成を含む、請求項１〜３２のいずれかに記載の方法。
【請求項３４】
前記変調器は、Ｍ個の構成のシーケンスを循環し、各構成において、放射線が変調器に入射する時間に従って入射放射線をＮ個の部分に分割し、入射放射線の各部分の大部分をＰ個の別個の経路の１つに方向付け、Ｐは２以上かつＮ未満であり、ＭはＮ以上であり、変調器の構成シーケンスは、各部分の大部分が異なる経路に方向付けられる少なくとも２つの構成を含む、請求項１〜３３のいずれかに記載の方法。
【請求項３５】
前記変調器は、単一性比質量偏差を提供する領域間に間隙なく配置される、請求項１〜３４のいずれかに記載の方法。
【請求項３６】
空間変調器は、各測定の間、固定された構成に保持される、請求項１〜３５のいずれかに記載の方法。