【手続補正書】
【提出日】令和3年2月25日(2021.2.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（i）オキサザホスホリジンキラル補助ホスホラミダイトモノマーをヌクレオシドの5'-OH基にカップリングする段階、続いて（ii）オキサザホスホリジンキラル補助基のアミン基をカルバメート保護基で保護する段階、および（iii）硫化段階
を含む、立体的に規定された（stereodefined）ホスホロチオエートオリゴヌクレオチドの合成のための方法であって、
カップリング段階（i）の後でかつアミン保護段階（ii）の前または後に硫化段階（iii）を実施する、該方法。
【請求項２】
前記アミン保護段階の前に硫化段階（iii）を実施する、請求項1に記載の方法。
【請求項３】
前記アミン保護段階の後に硫化段階（iii）を実施する、請求項1に記載の方法。
【請求項４】
アミン保護段階（ii）の後に実施するキャッピング段階（iv）をさらに含む、請求項1〜3のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
硫化段階（iii）の前または後に前記キャッピング段階を実施する、請求項4に記載の方法。
【請求項６】
固体支持体上で前記オリゴヌクレオチドを合成する、請求項1〜5のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
鎖伸長が完了すると、包括的オリゴヌクレオチド脱保護/前記固体支持体からの切断の最中にアミンカルバメート保護基を除去する、請求項1〜6のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
鎖伸長が完了すると、包括的脱保護/前記固体支持体からの切断の前にアミンカルバメート保護基を除去する、請求項1〜6のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
アミンカルバメート保護基を除去した後、包括的脱保護/前記固体支持体からの切断の前に前記キラル補助基を除去する、請求項8に記載の方法。
【請求項１０】
アミンカルバメート保護基を除去した後、包括的脱保護/前記固体支持体からの切断の最中に前記キラル補助基を除去する、請求項8に記載の方法。
【請求項１１】
アミンカルバメート保護基除去の段階を8時間未満にわたって実施する、請求項8〜10のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２】
アミンカルバメート保護基除去の段階を室温で実施する、請求項8〜11のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１３】
段階（i）で用いるオキサザホスホリジンキラル補助ホスホラミダイトモノマーが、式A：
2020512360.tif 000001
のものであり、
式中、
Xはヌクレオシドの3'酸素であり；
R1は、水素およびC1〜3アルキルからなる群より選択され；
R9は水素であり；
Rは、アリール、ヘテロアリール、置換アリール、置換ヘテロアリール、ニトロ、ハロゲン、シアノ、シリル、置換シリル、スルホン、置換スルホン（アリール置換スルホン）、フルオレン、および置換フッ素からなる群より選択され；
R5およびR6は独立して、水素、アルキル、シクロ-アルキル、アリール、ヘテロアリール、置換アルキル、置換シクロ-アルキル、置換アリール、および置換ヘテロアリールからなる群より選択されるか、またはR5およびR6は一緒になって、3〜16個の炭素原子を含む複素環を式AのN原子と共に形成する、
請求項1〜12のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１４】
前記アミンカルバメート保護基［段階（ii）において言及］が、式：
2020512360.tif 000002
の置換エチルカルバメート保護基であり、
式中、
Nは前記キラル補助基中に存在する窒素であり、かつ、
Ra、および任意で、存在する場合にRbは、β脱離による該カルバメート保護基の脱保護を可能にする基、例えば、-CN、-SO2Rc、-SiRc3、-F、-Cl、-CF3、および-CO-Rcからなる群より独立して選択される基であり、ここでRcは、水素、置換されていてもよいC1〜10アルキル基、置換されていてもよいC2〜6アルケニル基、置換されていてもよいC2〜6アルキニル基、置換されていてもよいC3〜7シクロアルキル基、置換されていてもよいC1〜10アルキルオキシ基、およびアリール基からなる群より独立して選択されるか、または、
Rbは、水素、置換されていてもよいC1〜10アルキル基、置換されていてもよいC2〜6アルケニル基、置換されていてもよいC2〜6アルキニル基、置換されていてもよいC3〜7シクロアルキル基、置換されていてもよいC1〜10アルキルオキシ基、およびアリール基からなる群より選択される、
請求項1〜13のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１５】
アミンカルバメート保護基［段階（ii）において言及］が、式：
2020512360.tif 000003
の置換されていてもよい2'-スルホニルカルバメート保護基であり、
式中、
Nは前記キラル補助基中に存在する窒素であり、かつ
Rcは、水素、置換されていてもよいC1〜10アルキル基、置換されていてもよいC2〜6アルケニル基、置換されていてもよいC2〜6アルキニル基、置換されていてもよいC3〜7シクロアルキル基、置換されていてもよいC1〜10アルキルオキシ基、およびアリール基からなる群より独立して選択される、請求項1〜13のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１６】
アミンカルバメート保護基［段階（ii）において言及］が、
2020512360.tif 000004
からなる群より選択され、ここで、
Nは前記キラル補助基中に存在するNであり、かつ
Rdは、水素、置換されていてもよいC1〜10アルキル基、置換されていてもよいC2〜6アルケニル基、置換されていてもよいC2〜6アルキニル基、置換されていてもよいC3〜7シクロアルキル基、置換されていてもよいC1〜10アルキルオキシ基、およびアリール基からなる群より選択される、
請求項1〜13のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１７】
段階（ii）が、前記カルバメート保護基による前記キラル補助基の窒素の置換を可能にする条件下で、カルバメート前駆体と段階（i）で提供されるカップリングしたアミン含有キラル補助ホスホラミダイトモノマーとを反応させることを含む、請求項1〜16のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１８】
前記カルバメート前駆体が、
2020512360.tif 000005
からなる群より選択され、ここで、
Rdが、水素、置換されていてもよいC1〜10アルキル基、置換されていてもよいC2〜6アルケニル基、置換されていてもよいC2〜6アルキニル基、置換されていてもよいC3〜7シクロアルキル基、置換されていてもよいC1〜10アルキルオキシ基、およびアリール基からなる群より選択され、かつ
R'が、
2020512360.tif 000006
からなる群より選択される脱離基などの脱離基である、
請求項17に記載の方法。
【請求項１９】
前記オキサザホスホリジンキラル補助ホスホラミダイトモノマーが、式1または2：
2020512360.tif 000007
のものである、請求項1〜18のいずれか一項に記載の方法：
式中、
塩基は核酸塩基であり；
R5およびR6は独立して、水素、アルキル、シクロ-アルキル、アリール、ヘテロアリール、置換アルキル、置換シクロ-アルキル、置換アリール、および置換ヘテロアリールからなる群より選択されるか、またはR5およびR6は一緒になって、3〜16個の炭素原子を含む複素環を式（I）のN原子と共に形成し；
R1は、水素およびC1〜3アルキルからなる群より選択され；
R9は水素であり；
Rは、アリール、ヘテロアリール、置換アリール、置換ヘテロアリール、ニトロ、ハロゲン、シアノ、シリル、置換シリル、スルホン、置換スルホン（アリール置換スルホン）、フルオレン、および置換フッ素からなる群より選択され； 
R3は、CH2ODMTr、CH2-アルキル-O-DMTr、CH-Me-O-DMTr、CH2OMMTr、CH2-アルキル-O-MMTr、CH(Me)-O-MMTr、CH-Ra-O-DMTrRb、およびCH-Ra-O-MMTrRbからなる群より選択され；
R2は、ハロ、例えば-F、アミノ、アジド、-SH、-CN、-OCN、-CF3、-OCF3、-O(Rm)-アルキル、-S(Rm)-アルキル、-N(Rm)-アルキル、-O(Rm)-アルケニル、-S(Rm)-アルケニル、-N(Rm)-アルケニル；-O(Rm)-アルキニル、-S(Rm)-アルキニル、または-N(Rm)-アルキニル；O-アルキレニル-O-アルキル、アルキニル、アルカリール、アラルキル、O-アルカリール、O-アラルキル、O(CH2)2SCH3、O-(CH2)2-O-N(Rm)(Rn)またはO-CH2C(=O)-N(Rm)(Rn)、-O-(CH2)2OCH3、および-O-CH3からなる群より選択され、ここで各RmおよびRnは独立して、H、アミノ保護基、または置換もしくは無置換C1〜10アルキルであり；
R4は、アルキル、シクロ-アルキル、シクロ-ヘテロアルキル、O-アルキル、S-アルキル、NH-アルキル、および水素からなる群より選択されるか；または、
R2およびR4は一緒になって、-C(RaRb)-、-C(Ra)=C(Rb)、-C(Ra)=N、O、-Si(Ra)2-、S-、-SO2-、-N(Ra)-、および>C=Zからなる群より選択される1、2、3つの基/原子からなる二価の架橋を示し；
ここでRaおよび存在する場合にRbはそれぞれ独立して、水素、置換されていてもよいC1〜6-アルキル、置換されていてもよいC2〜6-アルケニル、置換されていてもよいC2〜6-アルキニル、ヒドロキシ、置換されていてもよいC1〜6-アルコキシ、C2〜6-アルコキシアルキル、C2〜6-アルケニルオキシ、カルボキシ、C1〜6-アルコキシカルボニル、C1〜6-アルキルカルボニル、ホルミル、アリール、アリールオキシ-カルボニル、アリールオキシ、アリールカルボニル、ヘテロアリール、ヘテロアリールオキシ-カルボニル、ヘテロアリールオキシ、ヘテロアリールカルボニル、アミノ、モノ(C1〜6-アルキル)アミノおよびジ(C1〜6-アルキル)アミノ、カルバモイル、モノ(C1〜6-アルキル)-アミノ-カルボニルおよびジ(C1〜6-アルキル)-アミノ-カルボニル、アミノ-C1〜6-アルキル-アミノカルボニル、モノ(C1〜6-アルキル)アミノ-C1〜6-アルキル-アミノカルボニルおよびジ(C1〜6-アルキル)アミノ-C1〜6-アルキル-アミノカルボニル、C1〜6-アルキル-カルボニルアミノ、カルバミド、C1〜6-アルカノイルオキシ、スルホノ、C1〜6-アルキルスルホニルオキシ、ニトロ、アジド、スルファニル、C1〜6-アルキルチオ、ハロゲンより選択され、ここでアリールおよびヘテロアリールは置換されていてもよく、かつここで2つのジェミナルの置換基RaおよびRbは一緒になって、置換されていてもよいメチレン（=CH2）を示してもよく、ここですべてのキラル中心について、不斉基はR配向またはS配向のいずれかで見い出されてもよい。
【請求項２０】
R4およびR2が水素である、請求項19に記載の方法。
【請求項２１】
前記キラル補助ホスホラミダイトモノマーが、式3または4：
2020512360.tif 000008
のものであり、式中、塩基は核酸塩基であり、かつR、R1、R3、R5、R6、およびR9は請求項19において定義するとおりである、請求項19に記載の方法。
【請求項２２】
前記キラル補助ホスホラミダイトモノマーが、式5または6：
2020512360.tif 000009
のものであり、式中、塩基は核酸塩基であり、かつR、R1、R3、R5、R6、およびR9は請求項19において定義するとおりである、請求項19に記載の方法。
【請求項２３】
前記キラル補助ホスホラミダイトモノマーが、式7または8：
2020512360.tif 000010
のものであり、式中、塩基は核酸塩基であり、かつR、R1、R3、R5、R6、およびR9は請求項19において定義するとおりである、請求項19に記載の方法。
【請求項２４】
カップリング段階（i）が、アセトニトリルおよび芳香族複素環式溶媒と任意で活性化物質とを含むアセトニトリル溶媒組成物中で行われる、請求項1〜23のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２５】
前記芳香族複素環式溶媒が、20℃の水中で4〜7または7〜17のpKaを有する、請求項24に記載の方法。
【請求項２６】
前記芳香族複素環式溶媒が芳香族複素環式塩基である、請求項24または25に記載の方法。
【請求項２７】
前記芳香族複素環式溶媒が芳香族複素環式酸である、請求項24または25に記載の方法。
【請求項２８】
前記芳香族複素環式溶媒が、ピリジン、2-ピコリン、4-ピコリン、3-ピコリン、ルチジン、およびピロールからなる群より選択される、請求項24〜27のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２９】
アセトニトリル中の芳香族複素環式溶媒の濃度（v/v）が約0.1％〜約50％（v/v）である、請求項24〜28のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３０】
アセトニトリル中の芳香族複素環式溶媒の濃度（v/v）が、約0.5％〜約10％、例えば約1％〜約5％、例えば約2〜3％、例えば約2.5％である、請求項24〜29のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３１】
前記活性化物質がN-メチルイミダゾールを含む、請求項24〜30のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３２】
前記溶媒組成物が、0.01〜約1M N-メチルイミダゾール、例えば約0.1M N-メチルイミダゾールの濃度でN-メチルイミダゾールを含む、請求項24〜31のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３３】
前記活性化物質が、4,5-ジシアノイミダゾール（DCI）、テトラゾール、または5-(ベンジルチオ)-1H-テトラゾールを含む、請求項24〜32のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３４】
前記溶媒組成物が、約0.5〜約2M DCI（または請求項11に記載の他の活性化物質）、例えば約1M DCM（または請求項11に記載の他の活性化物質）を含む、請求項24〜33のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３５】
請求項1〜34のいずれか一項に記載のカップリング段階、硫化段階、および保護段階、（i）、（ii）、および（iii）をそれぞれが含む少なくとも2回の合成サイクルを含む、請求項1〜34のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３６】
前記方法によって合成した前記オリゴヌクレオチドがLNAオリゴヌクレオチドである、請求項1〜35のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３７】
最も3'側のヌクレオシドがLNAヌクレオシドである、請求項36に記載の方法。
【請求項３８】
包括的脱保護および固体支持体からの切断の段階を、8時間未満、例えば約4時間の時間で実施する、請求項37に記載の方法。
【請求項３９】
（a）固体支持体または該固体支持体に結合した先行のヌクレオシドのいずれかに結合したブロックされた末端-OH基（末端5'-OH基）を含む該固体支持体を提供する段階、
（b）該末端-OH基を非ブロック化する段階、
（c）請求項1〜38のいずれか一項に記載の方法を実施する段階、
（d）任意で、段階（a）〜（c）を1回または複数回のさらなるサイクル数繰り返す段階（鎖伸長）、
（e）前記カルバメート保護基を除去する段階、
（f）前記キラル補助基を除去する段階、
（g）前記オリゴヌクレオチドを該固体支持体から切断する段階
を含み、
段階（e）、（f）、および（g）を連続してもしくは同時に実施するか、または、該キラル補助基を除去する段階および該固体支持体から切断する段階の前に段階（e）を実施する、方法。
【請求項４０】
立体的に規定されたホスホロチオエートオリゴヌクレオチドの合成の最中にオリゴヌクレオチドの鎖切断を防止するための、キラル補助基におけるカルバメート直交保護基の使用。
【請求項４１】
式21または22：
2020512360.tif 000011
の化合物：
式中、
Xは、固体支持体、または該固体支持体に結合した先行のヌクレオシド（末端5'-OH基）のいずれかであり；
塩基は核酸塩基であり；
R、R1、R3、R5、R6、およびR9は請求項19において定義するとおりであり、かつ
Zは請求項1〜40のいずれか一項に記載のカルバメート保護基である。
【請求項４２】
前記カルバメート保護基が、式21の基からなる群より選択される、請求項41に記載の化合物。
【請求項４３】
R2およびR4が、水素であるか、または請求項19に記載のキラル補助モノマーにおいて示すとおりである、請求項41または42に記載の化合物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明は、式21または22：
2020512360.tif 000012
の化合物を提供し、
式中、Xは、固体支持体、または固体支持体に結合した先行のヌクレオシド（末端5'-OH基）のいずれかであり；塩基は核酸塩基であり；
R5およびR6は独立して、水素、アルキル、シクロ-アルキル、アリール、ヘテロアリール、置換アルキル、置換シクロ-アルキル、置換アリール、および置換ヘテロアリールからなる群より選択されるか、または、R5およびR6は一緒になって、3〜16個の炭素原子を含む複素環を式（I）のN原子と共に形成し；
R1は、水素およびC1〜3アルキルよりなる群より選択され；R9は水素であり；
Rは、アリール、ヘテロアリール、置換アリール、置換ヘテロアリール、ニトロ、ハロゲン、シアノ、シリル、置換シリル、スルホン、置換スルホン（アリール置換スルホン）、フルオレン、および置換フッ素からなる群より選択され；
R3は、CH2ODMTr、CH2-アルキル-O-DMTr、CH-Me-O-DMTr、CH2OMMTr、CH2-アルキル-O-MMTr、CH(Me)-O-MMTr、CH-Ra-O-DMTrRb、およびCH-Ra-O-MMTrRbからなる群より選択され；
R2は、ハロ、例えば-F、アミノ、アジド、-SH、-CN、-OCN、-CF3、-OCF3、-O(Rm)-アルキル、-S(Rm)-アルキル、-N(Rm)-アルキル、-O(Rm)-アルケニル、-S(Rm)-アルケニル、-N(Rm)-アルケニル；-O(Rm)-アルキニル、-S(Rm)-アルキニル、または-N(Rm)-アルキニル；O-アルキレニル-O-アルキル、アルキニル、アルカリール、アラルキル、O-アルカリール、O-アラルキル、O(CH2)2SCH3、O-(CH2)2-O-N(Rm)(Rn)またはO-CH2C(=O)-N(Rm)(Rn)、-O-(CH2)2OCH3、および-O-CH3からなる群より選択され、ここで各RmおよびRnは独立してH、アミノ保護基または置換もしくは無置換C1〜10アルキルであり；
R4は、アルキル、シクロ-アルキル、シクロ-ヘテロアルキル、O-アルキル、S-アルキル、NH-アルキル、および水素からなる群より選択されるか；
または、R2およびR4は一緒になって、-C(RaRb)-、-C(Ra)=C(Rb)、-C(Ra)=N、O、-Si(Ra)2-、S-、-SO2-、-N(Ra)-、および>C=Zからなる群より選択される1、2、3つの基/原子からなる二価の架橋を示し；
ここで、Raおよび存在する場合にRbはそれぞれ独立して、水素、置換されていてもよいC1〜6-アルキル、置換されていてもよいC2〜6-アルケニル、置換されていてもよいC2〜6-アルキニル、ヒドロキシ、置換されていてもよいC1〜6-アルコキシ、C2〜6-アルコキシアルキル、C2〜6-アルケニルオキシ、カルボキシ、C1〜6-アルコキシカルボニル、C1〜6-アルキルカルボニル、ホルミル、アリール、アリールオキシ-カルボニル、アリールオキシ、アリールカルボニル、ヘテロアリール、ヘテロアリールオキシ-カルボニル、ヘテロアリールオキシ、ヘテロアリールカルボニル、アミノ、モノ(C1〜6-アルキル)アミノおよびジ(C1〜6-アルキル)アミノ、カルバモイル、モノ(C1〜6-アルキル)-アミノ-カルボニルおよびジ(C1〜6-アルキル)-アミノ-カルボニル、アミノ-C1〜6-アルキル-アミノカルボニル、モノ(C1〜6-アルキル)アミノ-C1〜6-アルキル-アミノカルボニルおよびジ(C1〜6-アルキル)アミノ-C1〜6-アルキル-アミノカルボニル、C1〜6-アルキル-カルボニルアミノ、カルバミド、C1〜6-アルカノイルオキシ、スルホノ、C1〜6-アルキルスルホニルオキシ、ニトロ、アジド、スルファニル、C1〜6-アルキルチオ、ハロゲンより選択され、ここでアリールおよびヘテロアリールは置換されていてもよく、かつここで2つのジェミナルの置換基RaおよびRbは一緒になって、置換されていてもよいメチレン（=CH2）を示してもよく、ここですべてのキラル中心について、不斉基はR配向またはS配向のいずれかで見い出されてもよく；かつ、Zはカルバメート保護基である。
[本発明1001]
（i）オキサザホスホリジンキラル補助ホスホラミダイトモノマーをヌクレオシドの5'-OH基にカップリングする段階、続いて（ii）オキサザホスホリジンキラル補助基のアミン基をカルバメート保護基で保護する段階、および（iii）硫化段階
を含む、立体的に規定された（stereodefined）ホスホロチオエートオリゴヌクレオチドの合成のための方法であって、
カップリング段階（i）の後でかつアミン保護段階（ii）の前または後に硫化段階（iii）を実施する、該方法。
[本発明1002]
前記アミン保護段階の前に硫化段階（iii）を実施する、本発明1001の方法。
[本発明1003]
前記アミン保護段階の後に硫化段階（iii）を実施する、本発明1001または1002の方法。
[本発明1004]
アミン保護段階（ii）の後に実施するキャッピング段階（iv）をさらに含む、本発明1001〜1003のいずれかの方法。
[本発明1005]
硫化段階（iv）の前または後に前記キャッピング段階を実施する、本発明1004の方法。
[本発明1006]
固体支持体上の前記オリゴヌクレオチドを合成する、本発明1001〜1005のいずれかの方法。
[本発明1007]
鎖伸長が完了すると、包括的オリゴヌクレオチド脱保護/前記固体支持体からの切断の最中にアミンカルバメート保護基を除去する、本発明1001〜1006のいずれかの方法。
[本発明1008]
鎖伸長が完了すると、包括的脱保護/前記固体支持体からの切断の前にアミンカルバメート保護基を除去する、本発明1001〜1006のいずれかの方法。
[本発明1009]
アミンカルバメート保護基を除去した後、包括的脱保護/前記固体支持体からの切断の前に前記キラル補助基を除去する、本発明1008の方法。
[本発明1010]
アミンカルバメート保護基を除去した後、包括的脱保護/前記固体支持体からの切断の最中に前記キラル補助基を除去する、本発明1008の方法。
[本発明1011]
アミンカルバメート保護基除去の段階を8時間未満にわたって実施する、本発明1008〜1010のいずれかの方法。
[本発明1012]
アミンカルバメート保護基除去の段階を室温で実施する、本発明1008〜1011のいずれかの方法。
[本発明1013]
段階（i）で用いるオキサザホスホリジンキラル補助ホスホラミダイトモノマーが、式A：
2020512360.tif 000013
のものであり、
式中、Xはヌクレオシドの3'酸素であり；
R1は、水素およびC1〜3アルキルからなる群より選択され；R9は水素であり；
Rは、アリール、ヘテロアリール、置換アリール、置換ヘテロアリール、ニトロ、ハロゲン、シアノ、シリル、置換シリル、スルホン、置換スルホン（アリール置換スルホン）、フルオレン、および置換フッ素からなる群より選択され；
R5およびR6は独立して、水素、アルキル、シクロ-アルキル、アリール、ヘテロアリール、置換アルキル、置換シクロ-アルキル、置換アリール、および置換ヘテロアリールからなる群より選択されるか、またはR5およびR6は一緒になって、3〜16個の炭素原子を含む複素環を式AのN原子と共に形成する、本発明1001〜1012のいずれかの方法。
[本発明1014]
前記アミンカルバメート保護基［段階（ii）において言及］が、式：
2020512360.tif 000014
の置換エチルカルバメート保護基であり、
式中、Nは前記キラル補助基中に存在する窒素であり、かつ、Ra、および任意で、存在する場合にRbは、β脱離による該カルバメート保護基の脱保護を可能にする基、例えば、-CN、-SO2Rc、-SiRc3、-F、-Cl、-CF3、および-CO-Rcからなる群より独立して選択される基であり、ここでRcは、水素、置換されていてもよいC1〜10アルキル基、置換されていてもよいC2〜6アルケニル基、置換されていてもよいC2〜6アルキニル基、置換されていてもよいC3〜7シクロアルキル基、置換されていてもよいC1〜10アルキルオキシ基、もしくはアリール基からなる群より独立して選択されるか、
または、Rbは、水素、置換されていてもよいC1〜10アルキル基、置換されていてもよいC2〜6アルケニル基、置換されていてもよいC2〜6アルキニル基、置換されていてもよいC3〜7シクロアルキル基、置換されていてもよいC1〜10アルキルオキシ基、もしくはアリール基からなる群より選択される、本発明1001〜1013のいずれかの方法。
[本発明1015]
アミンカルバメート保護基［段階（ii）において言及］が、式：
2020512360.tif 000015
の置換されていてもよい2'-スルホニルカルバメート保護基であり、
式中、Nは前記キラル補助基中に存在する窒素であり、かつRcは、水素、置換されていてもよいC1〜10アルキル基、置換されていてもよいC2〜6アルケニル基、置換されていてもよいC2〜6アルキニル基、置換されていてもよいC3〜7シクロアルキル基、置換されていてもよいC1〜10アルキルオキシ基、もしくはアリール基からなる群より独立して選択されるか；
または、Rbは、水素、置換されていてもよいC1〜10アルキル基、置換されていてもよいC2〜6アルケニル基、置換されていてもよいC2〜6アルキニル基、置換されていてもよいC3〜7シクロアルキル基、置換されていてもよいC1〜10アルキルオキシ基、もしくはアリール基からなる群より選択される基である、本発明1001〜1013のいずれかの方法。
[本発明1016]
アミンカルバメート保護基［段階（ii）において言及］が、
2020512360.tif 000016
からなる群より選択され、ここで、Nは前記キラル補助基中に存在するNであり、かつRdは、水素、置換されていてもよいC1〜10アルキル基、置換されていてもよいC2〜6アルケニル基、置換されていてもよいC2〜6アルキニル基、置換されていてもよいC3〜7シクロアルキル基、置換されていてもよいC1〜10アルキルオキシ基、またはアリール基からなる群より選択される、本発明1001〜1013のいずれかの方法。
[本発明1017]
段階（ii）が、前記カルバメート保護基による前記キラル補助基の窒素の置換を可能にする条件下で、カルバメート前駆体と段階（i）で提供されるカップリングしたアミン含有キラル補助ホスホラミダイトモノマーとを反応させることを含む、本発明1001〜1016のいずれかの方法。
[本発明1018]
前記カルバメート前駆体が、
2020512360.tif 000017
からなる群より選択され、ここで、Rdが、水素、置換されていてもよいC1〜10アルキル基、置換されていてもよいC2〜6アルケニル基、置換されていてもよいC2〜6アルキニル基、置換されていてもよいC3〜7シクロアルキル基、置換されていてもよいC1〜10アルキルオキシ基、またはアリール基からなる群より選択され、かつR'が、
2020512360.tif 000018
からなる群より選択される脱離基などの脱離基である、本発明1017の方法。
[本発明1020]
前記オキサザホスホリジンキラル補助ホスホラミダイトモノマーが、式1または2：
2020512360.tif 000019
のものである、本発明1001〜1019のいずれかの方法：
式中、塩基は核酸塩基であり；
R5およびR6は独立して、水素、アルキル、シクロ-アルキル、アリール、ヘテロアリール、置換アルキル、置換シクロ-アルキル、置換アリール、および置換ヘテロアリールからなる群より選択されるか、またはR5およびR6は一緒になって、3〜16個の炭素原子を含む複素環を式（I）のN原子と共に形成し；
R1は、水素およびC1〜3アルキルからなる群より選択され；R9は水素であり；
Rは、アリール、ヘテロアリール、置換アリール、置換ヘテロアリール、ニトロ、ハロゲン、シアノ、シリル、置換シリル、スルホン、置換スルホン（アリール置換スルホン）、フルオレン、および置換フッ素からなる群より選択され； 
R3は、CH2ODMTr、CH2-アルキル-O-DMTr、CH-Me-O-DMTr、CH2OMMTr、CH2-アルキル-O-MMTr、CH(Me)-O-MMTr、CH-Ra-O-DMTrRb、およびCH-Ra-O-MMTrRbからなる群より選択され；
R2は、ハロ、例えば-F、アミノ、アジド、-SH、-CN、-OCN、-CF3、-OCF3、-O(Rm)-アルキル、-S(Rm)-アルキル、-N(Rm)-アルキル、-O(Rm)-アルケニル、-S(Rm)-アルケニル、-N(Rm)-アルケニル；-O(Rm)-アルキニル、-S(Rm)-アルキニル、または-N(Rm)-アルキニル；O-アルキレニル-O-アルキル、アルキニル、アルカリール、アラルキル、O-アルカリール、O-アラルキル、O(CH2)2SCH3、O-(CH2)2-O-N(Rm)(Rn)またはO-CH2C(=O)-N(Rm)(Rn)、-O-(CH2)2OCH3、および-O-CH3からなる群より選択され、ここで各RmおよびRnは独立して、H、アミノ保護基、または置換もしくは無置換C1〜10アルキルであり；
R4は、アルキル、シクロ-アルキル、シクロ-ヘテロアルキル、O-アルキル、S-アルキル、NH-アルキル、および水素からなる群より選択されるか；
または、R2およびR4は一緒になって、-C(RaRb)-、-C(Ra)=C(Rb)、-C(Ra)=N、O、-Si(Ra)2-、S-、-SO2-、-N(Ra)-、および>C=Zからなる群より選択される1、2、3つの基/原子からなる二価の架橋を示し；
ここでRaおよび存在する場合にRbはそれぞれ独立して、水素、置換されていてもよいC1〜6-アルキル、置換されていてもよいC2〜6-アルケニル、置換されていてもよいC2〜6-アルキニル、ヒドロキシ、置換されていてもよいC1〜6-アルコキシ、C2〜6-アルコキシアルキル、C2〜6-アルケニルオキシ、カルボキシ、C1〜6-アルコキシカルボニル、C1〜6-アルキルカルボニル、ホルミル、アリール、アリールオキシ-カルボニル、アリールオキシ、アリールカルボニル、ヘテロアリール、ヘテロアリールオキシ-カルボニル、ヘテロアリールオキシ、ヘテロアリールカルボニル、アミノ、モノ(C1〜6-アルキル)アミノおよびジ(C1〜6-アルキル)アミノ、カルバモイル、モノ(C1〜6-アルキル)-アミノ-カルボニルおよびジ(C1〜6-アルキル)-アミノ-カルボニル、アミノ-C1〜6-アルキル-アミノカルボニル、モノ(C1〜6-アルキル)アミノ-C1〜6-アルキル-アミノカルボニルおよびジ(C1〜6-アルキル)アミノ-C1〜6-アルキル-アミノカルボニル、C1〜6-アルキル-カルボニルアミノ、カルバミド、C1〜6-アルカノイルオキシ、スルホノ、C1〜6-アルキルスルホニルオキシ、ニトロ、アジド、スルファニル、C1〜6-アルキルチオ、ハロゲンより選択され、ここでアリールおよびヘテロアリールは置換されていてもよく、かつここで2つのジェミナルの置換基RaおよびRbは一緒になって、置換されていてもよいメチレン（=CH2）を示してもよく、ここですべてのキラル中心について、不斉基はR配向またはS配向のいずれかで見い出されてもよい。
[本発明1021]
R4およびR2が水素である、本発明1017の方法。
[本発明1022]
前記キラル補助ホスホラミダイトモノマーが、式3または4：
2020512360.tif 000020
のものであり、
式中、塩基は核酸塩基であり、かつR、R1、R3、R5、R6、およびR9は本発明1016において定義するとおりである、本発明1017の方法。
[本発明1023]
前記キラル補助ホスホラミダイトモノマーが、式5または6：
2020512360.tif 000021
のものであり、
式中、塩基は核酸塩基であり、かつR、R1、R3、R5、R6、およびR9は本発明1016において定義するとおりである、本発明1017の方法。
[本発明1024]
前記キラル補助ホスホラミダイトモノマーが、式7または8：
2020512360.tif 000022
のものであり、
式中、塩基は核酸塩基であり、かつR、R1、R3、R5、R6、およびR9は本発明1016において定義するとおりである、本発明1017の方法。
[本発明1025]
カップリング段階（i）が、アセトニトリルおよび芳香族複素環式溶媒と任意で活性化物質とを含むアセトニトリル溶媒組成物中で行われる、本発明1001〜1021のいずれかの方法。
[本発明1026]
前記芳香族複素環式溶媒が、20℃の水中で4〜7または7〜17のpKaを有する、本発明1025の方法。
[本発明1027]
前記芳香族複素環式溶媒が芳香族複素環式塩基である、本発明1025または1026の方法。
[本発明1028]
前記芳香族複素環式溶媒が芳香族複素環式酸である、本発明1025〜1027のいずれかの方法。
[本発明1029]
前記芳香族複素環式溶媒が、ピリジン、2-ピコリン、4-ピコリン、3-ピコリン、ルチジン、およびピロールからなる群より選択される、本発明1025〜1028のいずれかの方法。
[本発明1030]
アセトニトリル中の芳香族複素環式溶媒の濃度（v/v）が約0.1％〜約50％（v/v）である、本発明1025〜1029のいずれかの方法。
[本発明1031]
アセトニトリル中の芳香族複素環式溶媒の濃度（v/v）が、約0.5％〜約10％、例えば約1％〜約5％、例えば約2〜3％、例えば約2.5％である、本発明1025〜1030のいずれかの方法。
[本発明1032]
前記活性化物質がN-メチルイミダゾールを含む、本発明1025〜1031のいずれかの方法。
[本発明1033]
前記溶媒組成物が、0.01〜約1M N-メチルイミダゾール、例えば約0.1M N-メチルイミダゾールの濃度でN-メチルイミダゾールを含む、本発明1025〜1032のいずれかの方法。
[本発明1034]
前記活性化物質が、4,5-ジシアノイミダゾール（DCI）、テトラゾール、または5-(ベンジルチオ)-1H-テトラゾールを含む、本発明1025〜1033のいずれかの方法。
[本発明1035]
前記溶媒組成物が、約0.5〜約2M DCI（または本発明1011の他の活性化物質）、例えば約1M DCM（または本発明1011の他の活性化物質）を含む、本発明1025〜1034のいずれかの方法。
[本発明1036]
カップリング段階、硫化段階、および保護段階の本発明1001〜1016のいずれかの（i）、（ii）、および（iii）をそれぞれが含む少なくとも2回の合成サイクルを含む、本発明1001〜1035のいずれかの方法。
[本発明1037]
前記方法によって合成した前記オリゴヌクレオチドがLNAオリゴヌクレオチドである、本発明1001〜1036のいずれかの方法。
[本発明1038]
最も3'側のヌクレオシドがLNAヌクレオシドである、本発明1037の方法。
[本発明1039]
包括的脱保護および固体支持体からの切断の段階を、8時間未満、例えば約4時間の時間で実施する、本発明1038の方法。
[本発明1040]
（a）固体支持体または該固体支持体に結合した先行のヌクレオシドのいずれかに結合したブロックされた末端-OH基（末端5'-OH基）を含む該固体支持体を提供する段階、
（b）該末端-OH基を非ブロック化する段階、
（c）前記本発明のいずれかの方法を実施する段階、
（d）任意で、段階（a）〜（c）を1回または複数回のさらなるサイクル数繰り返す段階（鎖伸長）、
（e）前記カルバメート保護基を除去する段階、
（f）前記キラル補助基を除去する段階、
（g）前記オリゴヌクレオチドを該固体支持体から切断する段階
を含み、
段階（e）、（f）、および（g）を連続してもしくは同時に実施するか、または、該キラル補助基を除去する段階および該固体支持体から切断する段階の前に段階（e）を実施する、本発明1001〜1039のいずれかの方法。
[本発明1041]
立体的に規定されたホスホロチオエートオリゴヌクレオチドの合成の最中にオリゴヌクレオチドの鎖切断を防止するための、キラル補助基におけるカルバメート直交保護基の使用。
[本発明1042]
式21または22：
2020512360.tif 000023
の化合物：
式中、Xは、固体支持体、または該固体支持体に結合した先行のヌクレオシド（末端5'-OH基）のいずれかであり；塩基は核酸塩基であり；R、R1、R3、R5、R6、およびR9は本発明1016において定義するとおりであり、かつZは前記本発明のいずれかのカルバメート保護基である。
[本発明1043]
前記カルバメート保護基が、21の基からなる群より選択される、本発明1042の化合物。
[本発明1044]
R2およびR4が、水素であるか、または本発明1018、1019、もしくは1020のいずれかのキラル補助モノマーにおいて示すとおりである、本発明1042または1043の化合物。