【手続補正書】
【提出日】令和3年3月2日(2021.3.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ディスプレイデバイスであって、
第１の表面を備える光学導波管と、
少なくとも前記第１の表面の直ぐ上の吸光体であって、前記吸光体は、炭素の同素体およびブラックシリコンのうちの少なくとも１つを含む蒸着膜を備える、吸光体と、
画像コンテンツを有する光を前記導波管の中に投入するように構成される画像投入デバイスと
を備え、
前記蒸着膜は、吸光するように構成されるナノ構造表面を備える、ディスプレイデバイス。
【請求項２】
前記炭素の同素体は、カーボンナノチューブ、非晶質炭素、およびフラーレンのうちの１つ以上のものを含む、請求項１に記載のディスプレイデバイス。
【請求項３】
前記炭素の同素体は、フラーレンを含む、請求項２に記載のディスプレイデバイス。
【請求項４】
前記光学導波管は、導波管スタックの一部である、請求項１に記載のディスプレイデバイス。
【請求項５】
前記光学導波管は、内部結合光学要素および外部結合光学要素を前記導波管の１つ以上の主要表面上にさらに備える、請求項１に記載のディスプレイデバイス。
【請求項６】
前記ディスプレイデバイスは、頭部搭載型拡張現実ディスプレイシステムであり、
画像コンテンツを有する光を出力するように構成される空間光変調器をさらに備え、
前記画像投入デバイスは、画像コンテンツを有する前記光を前記導波管の中に前記内部結合光学要素を通して投入するように構成され、
前記外部結合光学要素は、前記導波管内を伝搬する光を吐出するように構成される、請求項５に記載のディスプレイデバイス。
【請求項７】
前記蒸着膜は、約１００ｎｍを上回る厚さを有する、請求項１に記載のディスプレイデバイス。
【請求項８】
前記光学導波管は、上部主要表面と、底部主要表面と、少なくとも１つの縁表面とを備え、前記光学導波管の前記第１の表面は、前記少なくとも１つの縁表面である、請求項１に記載のディスプレイデバイス。
【請求項９】
前記光学導波管は、吸光体を前記第１の表面に面した前記導波管の第２の表面上に備え、前記第１の表面および前記第２の表面は、前記導波管の縁である、請求項１に記載のディスプレイデバイス。
【請求項１０】
前記吸光体は、波長３５０〜８５０ｎｍを有する入射光の少なくとも７０％を吸収する、請求項１に記載のディスプレイデバイス。
【請求項１１】
吸光体を光学導波管上に形成するためのプロセスであって、前記プロセスは、
前記光学導波管を反応チャンバ内に提供することであって、前記導波管は、第１の表面を備える、ことと、
吸光膜を前記第１の表面上に形成することであって、前記吸光膜を形成することは、
前記第１の表面と空中浮遊前駆体種とを前記反応チャンバ内で接触させ、前記前駆体種の薄膜を前記第１の表面の直ぐ上に堆積させることを含み、
前記薄膜は、炭素の同素体およびシリコンのうちの少なくとも１つを含み、前記堆積された薄膜は、波長３５０〜８５０ｎｍを有する入射光の少なくとも７０％を吸収する、ことと
を含む、プロセス。
【請求項１２】
前記薄膜は、フラーレンまたはブラックシリコンを含む、請求項１１に記載のプロセス。
【請求項１３】
前記薄膜は、少なくとも１００ｎｍの厚さを有する、請求項１２に記載のプロセス。
【請求項１４】
前記吸光体を形成することは、前記薄膜を蒸着させることを含み、
前記薄膜を蒸着させることは、
原材料を蒸発させ、前記原材料の種を含む蒸気を形成することと、
少なくとも１つの光学要素の少なくとも前記第１の表面と前記蒸気とを接触させることと
を含む、請求項１１に記載のプロセス。
【請求項１５】
前記蒸気は、粉末を含む、請求項１４に記載のプロセス。
【請求項１６】
前記粉末は、フラーレンを含む、請求項１５に記載のプロセス。
【請求項１７】
前記吸光膜を形成することは、
前記吸光膜をエッチングし、ナノ構造を前記膜内に形成すること
をさらに含む、請求項１１に記載のプロセス。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
２２．吸光膜を形成することはさらに、
吸光膜をエッチングし、ナノ構造を膜内に形成すること
を含む、実施形態１５に記載のプロセス。
本発明は、例えば、以下を提供する。
（項目１）
光学デバイスであって、
第１の表面を備える光学導波管と、
少なくとも前記第１の表面の直ぐ上の吸光体であって、前記吸光体は、炭素の同素体およびブラックシリコンのうちの少なくとも１つを含む膜を備える、吸光体と
を備える、光学デバイス。
（項目２）
前記炭素の同素体は、カーボンナノチューブ、非晶質炭素、およびフラーレンのうちの１つ以上のものを含む、項目１に記載の光学デバイス。
（項目３）
前記炭素の同素体は、フラーレンを含む、項目２に記載の光学デバイス。
（項目４）
前記フラーレンは、Ｃ６０である、項目３に記載の光学デバイス。
（項目５）
前記光学導波管は、導波管スタックの一部である、項目１に記載の光学デバイス。
（項目６）
前記光学導波管はさらに、内部結合光学要素および外部結合光学要素を前記導波管の１つ以上の主要表面上に備える、項目１に記載の光学デバイス。
（項目７）
前記光学デバイスは、頭部搭載型拡張現実ディスプレイシステムであり、
画像コンテンツを有する光を出力するように構成される空間光変調器と、
画像コンテンツを有する前記光を前記導波管の中に前記内部結合光学要素を通して投入するように構成される画像投入デバイスと
をさらに備え、前記外部結合光学要素は、前記導波管内を伝搬する光を吐出するように構成される、項目６に記載の光学デバイス。
（項目８）
前記膜は、約１００ｎｍを上回る厚さを有する、項目１に記載の光学デバイス。
（項目９）
前記光学導波管は、上部主要表面と、底部主要表面と、少なくとも１つの縁表面とを備え、前記光学導波管の前記第１の表面は、前記少なくとも１つの縁表面である、項目１に記載の光学デバイス。
（項目１０）
前記光学導波管は、吸光体を前記第１の表面に面した前記導波管の第２の表面上に備える、項目１に記載の光学デバイス。
（項目１１）
前記第１および第２の表面は、前記導波管の縁である、項目１０に記載の光学デバイス。
（項目１２）
ディスプレイデバイスであって、
第１および第２の主要表面と、その間に延在する縁表面とを備える光学導波管と、
空間光変調器と、
前記空間光変調器からの光を前記導波管の中に投入するように構成される画像投入デバイスと、
少なくとも１つの縁表面上の吸光体と
を備え、前記吸光体は、炭素の同素体およびシリコンのうちの少なくとも１つを含む膜を備え、前記吸光体は、波長３５０〜８５０ｎｍを有する入射光の少なくとも７０％を吸収する、光学デバイス。
（項目１３）
前記膜は、カーボンナノチューブ、非晶質炭素、フラーレン、またはブラックシリコンのうちの少なくとも１つを含む、項目１２に記載の光学デバイス。
（項目１４）
前記吸光体は、波長３５０〜８５０ｎｍを有する入射光の少なくとも９０％を吸収する、項目１２に記載の光学デバイス。
（項目１５）
吸光体を光学導波管上に形成するためのプロセスであって、前記プロセスは、
前記光学導波管を反応チャンバ内に提供することであって、前記導波管は、第１の表面を備える、ことと、
吸光膜を前記第１の表面上に形成することであって、前記吸光膜を形成することは、
前記第１の表面と空中浮遊前駆体種とを前記反応チャンバ内で接触させ、前記前駆体種の薄膜を前記第１の表面の直ぐ上に堆積させることを含み、
前記薄膜は、炭素の同素体およびシリコンのうちの少なくとも１つを含み、前記堆積された薄膜は、波長３５０〜８５０ｎｍを有する入射光の少なくとも７０％を吸収する、ことと
を含む、プロセス。
（項目１６）
前記堆積された薄膜は、フラーレンを含む、項目１５に記載のプロセス。
（項目１７）
前記炭素の薄膜は、少なくとも約１００ｎｍの厚さを有する、項目１６に記載のプロセス。
（項目１８）
前記堆積された薄膜は、ブラックシリコンを含む、項目１５に記載のプロセス。
（項目１９）
前記薄膜を蒸着させることは、
原材料を蒸発させ、前記原材料の種を含む蒸気を形成することと、
前記少なくとも１つの光学要素の少なくとも前記第１の表面と前記蒸気とを接触させることと
を含む、項目１５に記載のプロセス。
（項目２０）
前記蒸気は、粉末を含む、項目１９に記載のプロセス。
（項目２１）
前記粉末は、フラーレンを含む、項目２０に記載のプロセス。
（項目２２）
前記吸光膜を形成することはさらに、
前記吸光膜をエッチングし、ナノ構造を前記膜内に形成すること
を含む、項目１５に記載のプロセス。