【手続補正書】
【提出日】平成16年10月28日(2004.10.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】光学薄膜成膜装置、光学薄膜成膜方法およびこの方法により表面に薄膜が成膜された光学素子
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
密閉可能に形成された成膜室内に、光学素子を支持するとともにこの光学素子を公転もしくは自公転運動させる素子支持部、光学素子の表面に薄膜を形成させるための蒸着粒子を発生させる蒸着源、および前記素子支持部に支持された光学素子と前記蒸着源との間に配設されて前記光学素子表面への蒸着粒子の付着むらを調整する補正板を有して構成され、この補正板が、前記素子支持部に支持された光学素子の表面三次元形状、および前記素子支持部に支持された光学素子の公転軌道位置と前記蒸着源との三次元位置関係に基づいて、前記光学素子表面の成膜厚さを均一化するために最適な形状に形成されていることを特徴とする光学薄膜成膜装置。
【請求項２】
前記蒸着源が前記素子支持部の公転軸上に配設され、前記補正板が前記公転軸に直角な面内において前記公転軸から放射状に広がるようにして設けられた複数の補正羽根からなり、これら複数の補正羽根が全て同一形状であることを特徴とする請求項１に記載の光学薄膜成膜装置。
【請求項３】
前記蒸着源が前記素子支持部の公転軸から離れて配設され、前記補正板が前記公転軸に直角な面内において前記公転軸から放射状に広がるようにして設けられた複数の補正羽根からなり、これら複数の補正羽根がそれぞれ異なる形状であることを特徴とする請求項１に記載の光学薄膜成膜装置。
【請求項４】
平面状もしくは曲率の小さな表面形状を有した光学素子を前記素子支持部により支持するとともに前記補正板を取り外した状態で成膜したときの前記光学素子の表面薄膜厚さ分布に基づいて、薄膜厚さを均一化するために必要な前記補正板の基本形状を設定し、この基本形状を、成膜対象となる光学素子の表面三次元形状および前記素子支持部に支持された光学素子の公転軌道位置と前記蒸着源との三次元位置関係に基づいて決まる重み付け関数を用いて修正し、前記補正板が、このように修正された形状に形成されていることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の光学薄膜成膜装置。
【請求項５】
前記重み付け関数が、前記素子支持部に支持された光学素子の公転軌道位置と前記蒸着源との距離（ｄ）の二乗に逆比例し、前記素子支持部に支持された光学素子の公転軌道位置と前記蒸着源とを結ぶ線と前記公転軌道位置における光学素子表面の法線とのなす角（α）の余弦に比例し、前記素子支持部に支持された光学素子の公転軌道位置と前記蒸着源とを結ぶ線と垂線とのなす角（β）の余弦に比例する関数であることを特徴とする請求項４に記載の光学薄膜成膜装置。
【請求項６】
前記基本形状が前記重み付け関数を用いて修正された形状の補正板を用いて光学素子の成膜処理を行ったときのこの光学素子の表面薄膜厚さ分布に基づいて、補正板形状が追加修正されてなることを特徴とする請求項４もしくは５に記載の光学薄膜成膜装置。
【請求項７】
光学素子表面に複数の薄膜物質が成膜されるときには、各薄膜物質毎に均一な薄膜厚さ分布を得るに最適な補正板形状を設定し、これら複数の補正板形状を平均した形状の補正板を用いることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の光学薄膜成膜装置。
【請求項８】
前記各薄膜物質の膜厚変化に対する分光特性等の光学特性の影響度に基づいて重み付けを行った上で、前記複数の補正板形状を平均した補正板形状を求めることを特徴とする請求項７に記載の光学薄膜成膜装置。
【請求項９】
密閉可能に形成された成膜室内に光学素子を支持して、この支持された光学素子を公転運動もしくは自公転運動させ、前記光学素子の表面に薄膜を形成させるための蒸着源から蒸着粒子を発生させ、前記光学素子と前記蒸着源との間に配設された補正板によって前記光学素子表面への蒸着粒子の付着を調整して、前記光学素子の表面に薄膜を成膜する成膜工程と、
前記光学素子の表面三次元形状、および前記光学素子の公転軌道位置と前記蒸着源との三次元位置関係に基づいて、前記光学素子表面の成膜厚さを均一するために前記補正板を最適な形状に形成する形成工程とを備えることを特徴とする光学薄膜成膜方法。
【請求項１０】
前記形成工程は、前記蒸着源が前記素子支持部の公転軸上に配設された場合、
前記補正板に前記公転軸に直角な面内において前記公転軸から放射状に広がるようにして設けられた複数の補正羽根を、全て同一形状に形成することを特徴とする請求項９に記載の光学薄膜成膜方法。
【請求項１１】
前記形成工程は、前記蒸着源が前記素子支持部の公転軸から離れて配設された場合、
前記補正板に前記公転軸に直角な面内において前記公転軸から放射状に広がるようにして設けられた複数の補正羽根を、それぞれ異なる形状に形成することを特徴とする請求項９に記載の光学薄膜成膜方法。
【請求項１２】
前記成膜室内に平面状もしくは曲率の小さな表面形状を有した光学素子を支持して、前記補正板を取り外した状態で成膜したときの前記光学素子の表面薄膜厚さ分布に基づいて、薄膜厚さを均一化するために必要な前記補正板の基本形状を設定する基本形状設定工程と、
この基本形状を、成膜対象となる光学素子の表面三次元形状および前記素子支持部に支持された光学素子の公転軌道位置と前記蒸着源との三次元位置関係に基づいて決まる重み付け関数を用いて修正する基本形状修正工程とを含むことを特徴とする請求項９〜１１のいずれかに記載の光学薄膜成膜方法。
【請求項１３】
前記重み付け関数は、前記支持された光学素子の公転軌道位置と前記蒸着源との距離（ｄ）の二乗に逆比例し、前記支持された光学素子の公転軌道位置と前記蒸着源とを結ぶ線と前記公転軌道位置における光学素子表面の法線とのなす角（α）の余弦に比例し、前記支持された光学素子の公転軌道位置と前記蒸着源とを結ぶ線と垂線とのなす角（β）の余弦に比例する関数であることを特徴とする請求項１３に記載の光学薄膜成膜方法。
【請求項１４】
前記重み付け関数を用いて基本形状が修正された前記補正板を用いて前記成膜工程を行い、このとき前記光学素子の表面に成膜された膜厚分布に基づいて、前記補正板形状を追加修正する追加修正工程を含むことを特徴とする請求項１２または１３に記載の光学薄膜成膜方法。
【請求項１５】
光学素子表面に複数の薄膜物質を成膜する場合、各薄膜物質毎に均一な薄膜厚さ分布を得るに最適な補正板形状を設定し、これら複数の補正板形状を平均して、前記補正板の形状を形成する形状平均化工程を含むことを特徴とする請求項９〜１４のいずれかに記載の光学薄膜成膜方法。
【請求項１６】
前記複数の補正板形状を平均するときに、前記各薄膜物質の膜厚変化に対する分光特性等の光学特性の影響度に基づいて重み付けを行うことを特徴とする請求項１５に記載の光学薄膜成膜方法。
【請求項１７】
請求項９〜１６のいずれかに記載の光学薄膜成膜方法によって表面に薄膜が成膜されることを特徴とする光学素子。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光学レンズ、プリズム等のような光学素子の表面に光学薄膜（例えば、反射膜、反射防止膜等）を成膜させるための装置、方法およびこの方法により表面に薄膜が成膜された光学素子に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
成膜処理は、成膜室１０１内を真空排気した状態で、蒸着源１０２におけるヒーター又は電子銃１０２ａにより蒸着物質１０２ｂを加熱蒸発させて行われ、蒸着粒子を矢印Ａで示すように拡散させ、光学素子Ｌの表面に蒸着粒子を付着させて薄膜を成膜させる。このとき、蒸着源１０２からの粒子の到達距離等の関係から成膜された膜厚分布にむらが生じないように、補正板１０５が図示のように配設されている。この補正板１０５は光学素子Ｌの表面が平板状もしくは曲率の小さな（すなわち、曲率半径の大きな）曲面の場合に、膜厚むらが発生しないように形状が設定されていた。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
このような問題に鑑み、本発明は、曲率の大きなレンズの場合においても膜厚むらを小さく抑えることができるような光学薄膜成膜装置、光学薄膜成膜方法およびこの方法により表面に薄膜が成膜された光学素子を提供することを目的とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
【課題を解決するための手段】
このような目的達成のため、本発明においては、成膜室内に、光学素子を支持して公転もしくは自公転運動させる素子支持部（例えば、本実施形態における支持機構）、薄膜形成用の蒸着粒子を発生させる蒸着源および光学素子と蒸着源との間に配設されて蒸着粒子の付着むらを調整する補正板を有して光学薄膜成膜装置が構成され、このとき、この補正板が、素子支持部に支持された光学素子の表面三次元形状、およびこの光学素子の公転軌道位置と蒸着源との三次元位置関係に基づいて、光学素子表面の成膜厚さを均一化するために最適な形状に形成されている。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
なお、蒸着源が素子支持部の公転軸上に配設されるときには、補正板を公転軸に直角な面内において公転軸から放射状に広がる複数の補正羽根から構成するのが好ましく、このときにはこれら複数の補正羽根を全て同一形状にすれば良い。一方、蒸着源が素子支持部の公転軸から離れて配設されるときには、補正板を公転軸に直角な面内において公転軸から放射状に広がる複数の補正羽根から構成し、これら複数の補正羽根は蒸着源との距離に対応してそれぞれ異なる形状に形成される。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
なお、このときに、各薄膜物質の膜厚変化に対する分光特性等の光学特性の影響度に基づいて重み付けを行った上で、複数の補正板形状を平均した補正板形状を求めるのが最も好ましい。これにより、成膜処理が完成した光学素子の分光特性等の光学特性を最も最適なものとすることができる。また、本発明に係る光学薄膜成膜方法は、密閉可能に形成された成膜室内に光学素子を支持して、この支持された光学素子を公転運動もしくは自公転運動させ、前記光学素子の表面に薄膜を形成させるための蒸着源から蒸着粒子を発生させ、前記光学素子と前記蒸着源との間に配設された補正板によって前記光学素子表面への蒸着粒子の付着を調整して、前記光学素子の表面に薄膜を成膜する成膜工程と、前記光学素子の表面三次元形状、および前記光学素子の公転軌道位置と前記蒸着源との三次元位置関係に基づいて、前記光学素子表面の成膜厚さを均一するために前記補正板を最適な形状に形成する形成工程とを備える。なお、前記形成工程は、前記蒸着源が前記素子支持部の公転軸上に配設された場合、前記補正板に前記公転軸に直角な面内において前記公転軸から放射状に広がるようにして設けられた複数の補正羽根を、全て同一形状に形成する。また、前記形成工程は、前記蒸着源が前記素子支持部の公転軸から離れて配設された場合、前記補正板に前記公転軸に直角な面内において前記公転軸から放射状に広がるようにして設けられた複数の補正羽根を、それぞれ異なる形状に形成する。さらに、前記成膜室内に平面状もしくは曲率の小さな表面形状を有した光学素子を支持して、前記補正板を取り外した状態で成膜したときの前記光学素子の表面薄膜厚さ分布に基づいて、薄膜厚さを均一化するために必要な前記補正板の基本形状を設定する基本形状設定工程と、この基本形状を、成膜対象となる光学素子の表面三次元形状および前記素子支持部に支持された光学素子の公転軌道位置と前記蒸着源との三次元位置関係に基づいて決まる重み付け関数を用いて修正する基本形状修正工程とを含むことが好ましい。なお、前記重み付け関数は、前記支持された光学素子の公転軌道位置と前記蒸着源との距離（ｄ）の二乗に逆比例し、前記支持された光学素子の公転軌道位置と前記蒸着源とを結ぶ線と前記公転軌道位置における光学素子表面の法線とのなす角（α）の余弦に比例し、前記支持された光学素子の公転軌道位置と前記蒸着源とを結ぶ線と垂線とのなす角（β）の余弦に比例する関数であることが好ましい。また、前記重み付け関数を用いて基本形状が修正された前記補正板を用いて前記成膜工程を行い、このとき前記光学素子の表面に成膜された膜厚分布に基づいて、前記補正板形状を追加修正する追加修正工程を含むことが好ましい。また、光学素子表面に複数の薄膜物質を成膜する場合、各薄膜物質毎に均一な薄膜厚さ分布を得るに最適な補正板形状を設定し、これら複数の補正板形状を平均して、前記補正板の形状を形成する形状平均化工程を含むことが好ましい。なお、前記複数の補正板形状を平均するときに、前記各薄膜物質の膜厚変化に対する分光特性等の光学特性の影響度に基づいて重み付けを行うことが好ましい。本発明に係る光学素子は、上記のいずれかに記載の光学薄膜成膜方法によって表面に薄��が成膜される。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の好ましい実施形態について説明する。図１に本発明の第１実施例に係る光学薄膜成膜装置を示しており、この装置１０は、密閉されて真空排気可能な成膜室１１を有し、この成膜室１１内に、図示のように、蒸着源１２と、補正板１５と、レンズ（光学素子）Ｌを自公転自在に支持する支持機構（図示せず）とを配設している。これにより成膜工程においては、レンズＬは公転軸Ｘを中心として公転されるとともに、自転軸Ｙを中心として自転される。なお、レンズＬは公転軸Ｘから２００ｍｍ水平方向に離れた自転軸Ｙを有し、蒸着源１２は公転軸Ｘから水平方向に１００ｍｍ離れた位置に配設されており、レンズＬと蒸着源１２との垂直距離は１０００ｍｍである。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
補正板１５は平面視で図２に示すような形状をしており、公転軸Ｘから水平方向に放射状に広がる６本のフレーム１６と、各フレーム１６に取り付けられた補正羽根１７ａ〜１７ｆとから構成される。これにより成膜工程においては、これら各羽根により蒸着源１２から拡散されてレンズＬの表面に至る蒸着粒子の量を調整し、レンズＬの表面に均一な光学薄膜を形成させるようになっている。なお、補正板１５の補正羽根の形状は以下のような形成工程に基づいて設定される。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
まず、レンズＬの代わりに平面基板を配置し、さらに補正板１５を取り外した状態で、成膜室１１内を真空排気し、蒸着源１２から蒸着物質を蒸着させる。このとき、支持機構によりレンズＬの位置に配設した平面基板を自公転させる。そして、平面基板の成膜厚さを測定し、この測定結果を用いて補正羽根の基本形状を設定する（基本形状設定工程）。この基本形状の決め方は、レンズの公転軌道とフレーム１６との交差する位置における膜厚を測定し、膜厚の最も薄い部分に対する各位置での膜厚の比に基づいて各位置での補正羽根１７の幅を決定する。具体的には、膜厚の薄い部分は幅を狭くし、膜厚の厚い部分は幅を厚くするような補正羽根１７の形状を決定し、これを基本形状とする。これにより、図２に示すような各補正羽根の形状に近い略楕円状の基本形状が設定されるが、この基本形状は、全フレーム１６に対して全て同一の羽根形状である。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
次に、この基本形状を各フレーム１６の位置およびレンズＬの形状に対応した重み付け関数Ｆを用いて修正する（基本形状修正工程）。この重み付け関数Ｆは、蒸着源１２の蒸着粒子発生位置ａからレンズＬの表面位置ｂまでの距離ｄの二乗に逆比例し、蒸着粒子発生位置ａとレンズＬの表面位置ｂとを結ぶ線Ｓ１とレンズＬの表面位置ｂにおけるレンズ表面に対する法線Ｓ２とのなす角αの余弦に比例し、線Ｓ１と垂線Ｓ３とのなす角βの余弦に比例する関数であり、式（１）で表される。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
この重み付け関数Ｆは、蒸着粒子の平面密度は距離ｄの二乗に比例して薄くなること、角αが小さいほどレンズＬの表面位置ｂに対する蒸着粒子入射角が垂直入射に近づき、その付着効率および密度が高くなること、および角βが小さいほどレンズＬ全体に対する蒸着粒子の入射角が垂直入射に近くなり、全体としての蒸着粒子の付着効率および密度が高くなることを鑑みたものである。
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
この式（１）で表される重み付け関数Ｆを用いて基本形状を修正すると、図２に示すような形状の各補正羽根１７ａ〜１７ｆが決まる。この形状からも分かるように、補正羽根１７ａは蒸着源１２に最も近い位置にあるため、最も幅の広い形状となり、補正羽根１７ｄは蒸着源１２から最も離れるため、最も幅の狭い形状となる。また、補正羽根１７ｂと１７ｆとが同一形状となり、補正羽根１７ｃと１７ｅとが同一形状となる。
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
このようにして各補正羽根１７の形状が決められると、この形状の補正羽根を有した補正板１５が作成されて成膜室１１内に配設され、実際に成膜対象となるレンズＬを支持機構により保持して成膜処理（工程）が行われる。このようにして成膜されたレンズＬの場合には均一な膜厚分布（表面薄膜厚さ分布）を有する光学薄膜がレンズＬの表面に形成される。なお、このようにして成膜されたレンズＬの表面の膜厚分布を測定し、そのばらつきに基づいて補正羽根１７の形状をさらに修正し、試行錯誤的に最適な補正羽根形状を設定するのが好ましい（追加修正工程）。
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
このような光学薄膜成膜装置１０を用いてレンズＬの表面に光学薄膜を成膜するときに、異なる成膜物質の層を何層にも形成することが多いが、このような場合に各成膜層毎に適する補正板の補正羽根形状は異なる。しかしながら、各成膜層の成膜工程毎に補正板を交換することは行えない。このため、各成膜物質毎に最適な補正羽根形状を設定し、この形状を平均した形状の補正羽根を有した補正板を作成し（形状平均化工程）、これを用いて成膜処理（工程）が行われる。これにより、いずれの物質の成膜層においてもできる限り膜厚の均一化を図ることができる。
【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
但し、レンズＬの表面に形成される成膜層の膜厚を均一化する最大の目的はこの成膜層によるレンズＬの光学特性（例えば、分光特性）のばらつきをなくすことである。このため、上記のように各物質に対応する補正羽根形状を平均するときに、各成膜物質の膜厚変化に対する光学特性（例えば、分光特性）の影響度に基づく重み付けを行うのが好ましい。すなわち、膜厚変化に対する光学特性（例えば、分光特性）の影響が大きい成膜物質用の補正羽根形状については大きな重みを付け、この影響が小さいものについては重みを小さくして平均するのが好ましく、これにより、成膜処理（工程）が完了したレンズＬの光学特性（例えば、分光特性）のばらつきを最も小さくすることができる。
【手続補正１８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
本発明に係る光学薄膜成膜装置の第２実施例を図３に示す。この装置２０は、成膜室１１内における蒸着源１２の位置がレンズＬの公転軸Ｘ上であるという点が図１の装置１０と異なり、これに基づいて補正板２５の形状が異なるだけで、他は全て同一構成である。
【手続補正１９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
この場合にも、図１の装置１０と同様にして補正板２５の形状が決められるが、このときの補正板２５は図４に示すような形状となる。すなわち、蒸着源１２が公転軸上に位置するため、補正板２５の中心から放射状に延びた６本のフレーム２６における膜厚の影響度は同一であるため、各フレーム２６に設けられる補正羽根２７ａ〜２７ｆの形状は全て同一形状となる。
【手続補正２０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
【実施例】
まず、図２に示す補正板１５を用いた装置（図１の装置）による成膜処理（工程）を説明する。この補正板１５における各補正羽根１７ａ〜１７ｆの形状は図５に示すように設定されている。この表図には、公転軸からの所定の距離（ｍｍ）における各補正板１７ａ〜１７ｆの幅（ｍｍ）が記載されている。成膜対象となるレンズＬは、外径直径２００ｍｍ、曲率半径２００ｍｍである。このレンズＬに図１の成膜装置１０を用いて成膜物質ＭｇＦ2 を成膜したときの膜厚分布比を図６に示すが、この図から分かるように、小さなばらつきに抑えることができた。なお、このときの蒸着条件は、成膜室１１内の到達真空度が５×１０-6（torr）であり、基板（レンズ）加熱温度が摂氏３００度であり、レートが２（オングストローム）／ｓである。
【手続補正２１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
なお、参考までに上記と同一条件で、従来と同様の補正板、すなわち、基本形状（重み付け関数Ｆによる重み付けがなされていない形状）の補正板を用いて成膜処理（工程）を行った場合での膜厚分布比を図７に示す。このように、従来の補正板では大きなばらつきが生じる。
【手続補正２２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
次に、図４に示す補正板２５を用いた装置（図３の装置）による成膜処理（工程）を説明する。この補正板２５における各補正羽根２７ａ〜２７ｆの形状は図８に示すように設定されており（この表図の見方は図５と同じである）、これから分かるように全ての補正羽根が同一形状である。成膜対象となるレンズＬは、上記と同一で、外径直径２００ｍｍ、曲率半径２００ｍｍである。このレンズＬに図３の成膜装置２０を用いて成膜物質ＭｇＦ2 を成膜したときの膜厚分布比を図９に示す。なお、このときの蒸着条件は、成膜室１１内の到達真空度が５×１０-6（torr）であり、基板（レンズ）加熱温度が摂氏３００度であり、レートが２（オングストローム）／ｓである。
【手続補正２３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
さらに、参考までに上記と同一条件で、従来と同様の補正板、すなわち、基本形状（重み付け関数Ｆによる重み付けがなされていない形状）の補正板を用いて成膜処理（工程）を行った場合での膜厚分布比を図１０に示す。このように、この場合にも、従来の補正板では大きなばらつきが生じる。
【手続補正２４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
なお、蒸着源が素子支持部の公転軸上に配設されるときには、補正板を公転軸に直角な面内において公転軸から放射状に広がる複数の同一形状の補正羽根から構成することができる。一方、蒸着源が素子支持部の公転軸から離れて配設されるときには、補正板を公転軸に直角な面内において公転軸から放射状に広がる複数の且つそれぞれ異なる形状の補正羽根から構成することができる。
【手続補正２５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
このような補正板の形状設定（形成工程）に際しては、まず、平面状もしくは曲率の小さな表面形状を有した光学素子を素子支持部により支持するとともに補正板を取り外した状態で成膜したときの光学素子の表面薄膜厚さ分布に基づいて、薄膜厚さを均一化するために必要な補正板の基本形状を設定し、この基本形状を、成膜対象となる光学素子の表面三次元形状と、素子支持部に支持された光学素子の公転軌道位置と蒸着源との三次元位置関係とに基づいて決まる重み付け関数を用いて修正し、このように修正された形状に補正板を形成するのが好ましい。
【手続補正２６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
さらに、このようして形状設定が行われた補正板を用いて光学素子の成膜処理（工程）を行い、そのときの光学素子の表面薄膜厚さ分布に基づいて、補正板形状を追加修正するのが好ましく、これによりより一層の形状最適化を図ることが可能である。
【手続補正２７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
光学素子表面に複数の薄膜物質を成膜するときには、各薄膜物質毎に均一な薄膜厚さ分布を得るに最適な補正板形状を設定し、これら複数の補正板形状を平均した形状の補正板を用いるのが好ましい。複数の薄膜成膜を行うときに、通常は複数の成膜処理（工程）を一つの補正板のみで行うが、このように平均した形状の補正板を用いることにより、いずれの物質の成膜層においてもできる限り膜厚の均一化を図ることができる。
【手続補正２８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
なお、このときに、各薄膜物質の膜厚変化に対する分光特性等の光学特性の影響度に基づいて重み付けを行った上で、複数の補正板形状を平均した補正板形状を求めるのが最も好ましい。これにより、成膜処理（工程）が完成した光学素子の分光特性等の光学特性を最も最適なものとすることができる。
【手続補正２９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】符号の説明
【補正方法】変更
【補正の内容】
【符号の説明】
１０，２０ 光学薄膜成膜装置
１１ 成膜室
１２ 蒸着源
１５，２５ 補正板
１７，２７ 補正羽根
【手続補正３０】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２】
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