【手続補正書】
【提出日】平成17年1月27日(2005.1.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】現像処理装置及び現像処理方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板に対して現像処理を行う現像処理装置であって，
前記基板に現像液を供給して現像液の液膜を基板に形成する現像液供給室と，
前記現像液の液膜が形成された基板を静止状態に保つ現像液静止室と，
前記基板から現像液の液膜を除去する現像液除去室とが個別に備えられていることを特徴とする，現像処理装置。
【請求項２】
前記現像液供給室と前記現像液静止室との間で基板を搬送する第１の搬送手段と，前記現像液静止室と前記現像液除去室との間で基板を搬送する第２の搬送手段とが装置内に備えられていることを特徴とする，請求項１に記載の現像処理装置。
【請求項３】
基板に対して現像処理を行う現像処理装置であって，
前記基板に現像液を供給して現像液の液膜を基板に形成し，前記現像液の液膜が形成された基板を静止状態に保つ現像液供給室と，
前記基板から現像液の液膜を除去する現像液除去室とが個別に備えられていることを特徴とする，現像処理装置。
【請求項４】
前記現像液供給室と前記現像液除去室との間で基板を搬送する搬送手段が装置内に設けられたことを特徴とする，請求項３に記載の現像処理装置。
【請求項５】
前記現像液除去室に，基板を回転自在に保持する回転保持手段が設けられていることを特徴とする，請求項１，２，３又は４に記載の現像処理装置。
【請求項６】
開閉自在なシャッタと，内部雰囲気を排気する排気手段が前記現像液除去室に設けられていることを特徴とする，請求項１，２，３，４又は５に記載の現像処理装置。
【請求項７】
基板に対して現像処理を行う現像処理装置であって，
基板を水平に保持する載置台と，前記載置台に載置された基板に現像液を供給する現像液供給ノズルとを有する現像液供給部と，
前記現像液供給部において現像液が供給された基板を載置し静止状態に保つ載置部を有する現像液静止部と，
前記現像静止部から搬送された基板を回転自在に保持するスピンチャックと，前記スピンチャックに保持された基板に現像液の除去液を供給する除去液供給ノズルと，前記スピンチャックを囲むカップと，前記カップ内の液体を排液するための排液管と，前記カップ内の雰囲気を排気するための排気管とを有する現像液除去部と，を備え，
前記現像液供給部，前記現像液静止部及び現像液除去部は，ケーシングで囲まれており，
前記現像液静止部と前記現像液除去部との間には，前記現像液静止部と前記現像液除去部を仕切る壁部と，当該壁部を開閉自在なシャッタが設けられていることを特徴とする，現像処理装置。
【請求項８】
基板に対して現像処理を行う現像処理装置であって，
基板を水平に保持する載置台と，前記載置台に載置された基板に現像液を供給する現像液供給ノズルとを有する現像液供給部と，
前記現像液供給部から搬送された基板を回転自在に保持するスピンチャックと，前記スピンチャックに保持された基板に現像液の除去液を供給する除去液供給ノズルと，前記スピンチャックを囲むカップと，前記カップ内の液体を排液するための排液管と，前記カップ内の雰囲気を排気するための排気管とを有する現像液除去部と，を備え，
前記現像液供給部及び現像液除去部は，ケーシングで囲まれており，
前記現像液供給部と前記現像液除去部との間には，前記現像液供給部と前記現像液除去部を仕切る壁部と，当該壁部を開閉自在なシャッタが設けられていることを特徴とする，現像処理装置。
【請求項９】
基板に対して現像処理を行う現像処理方法であって，
現像液供給室の載置台に基板を保持し前記基板に現像液を供給する工程と，
前記載置台上で現像液が供給された基板を現像液静止室の載置部に搬送し，当該載置部で基板を所定の時間載置し静止現像させる工程と，
前記静止現像された基板を現像液除去室のスピンチャックに搬送し，当該スピンチャックにより基板を回転させつつ当該基板に除去液を供給して基板上の現像液を除去する工程と，を有し，
前記現像液を除去する工程では，前記現像液除去室を密閉状態にし，前記現像液除去室から排気を行うことを特徴とする，現像処理方法。
【請求項１０】
基板に対して現像処理を行う現像処理方法であって，
現像液供給室の載置台に基板を保持し前記基板に現像液を供給し，さらに当該基板を所定の時間載置し静止現像させる工程と，
前記静止現像された基板を現像液除去室のスピンチャックに搬送し，当該スピンチャックにより基板を回転させつつ当該基板に除去液を供給して基板上の現像液を除去する工程と，を有し，
前記現像液を除去する工程では，前記現像液除去室を密閉状態にし，前記現像液除去室から排気を行うことを特徴とする，現像処理方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は，例えばＬＣＤ基板や半導体ウェハのような基板に現像液を供給し現像処理を行う装置及び現像処理方法に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明はこのような点に鑑みてなされたものであり，装置に設けられた各構成機器の稼働効率を高めることができる現像処理装置及び現像処理方法を提供して上記問題の解決を図ることを目的としている。さらに，本発明は，現像液の液膜を除去する際には，排気量が少なくて済む現像処理装置及び現像処理方法を提供することを目的としている。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
請求項６に記載したように，開閉自在なシャッタと，内部雰囲気を排気する排気手段が前記現像液除去室に設けられていれば，シャッタを閉めて現像除去室を密閉状態にし，排気手段を通じて現像液除去室から現像液のミストを排気する。ここで，現像液除去室には，現像液を除去するのに必要な構成機器だけが設けられていればよいので，室内空間が従来よりもコンパクトになっている。従って，このような現像液除去室のみを排気すれば足りるので，従来よりも排気量を少なくすることができる。
別の観点による本発明は，基板に対して現像処理を行う現像処理装置であって，基板を水平に保持する載置台と，前記載置台に載置された基板に現像液を供給する現像液供給ノズルとを有する現像液供給部と，前記現像液供給部において現像液が供給された基板を載置し静止状態に保つ載置部を有する現像液静止部と，前記現像静止部から搬送された基板を回転自在に保持するスピンチャックと，前記スピンチャックに保持された基板に現像液の除去液を供給する除去液供給ノズルと，前記スピンチャックを囲むカップと，前記カップ内の液体を排液するための排液管と，前記カップ内の雰囲気を排気するための排気管とを有する現像液除去部と，を備え，前記現像液供給部，前記現像液静止部及び現像液除去部は，ケーシングで囲まれており，前記現像液静止部と前記現像液除去部との間には，前記現像液静止部と前記現像液除去部を仕切る壁部と，当該壁部を開閉自在なシャッタが設けられていることを特徴とする。
別の観点による本発明は，基板に対して現像処理を行う現像処理装置であって，基板を水平に保持する載置台と，前記載置台に載置された基板に現像液を供給する現像液供給ノズルとを有する現像液供給部と，前記現像液供給部から搬送された基板を回転自在に保持するスピンチャックと，前記スピンチャックに保持された基板に現像液の除去液を供給する除去液供給ノズルと，前記スピンチャックを囲むカップと，前記カップ内の液体を排液するための排液管と，前記カップ内の雰囲気を排気するための排気管とを有する現像液除去部と，を備え，前記現像液供給部及び現像液除去部は，ケーシングで囲まれており，前記現像液供給部と前記現像液除去部との間には，前記現像液供給部と前記現像液除去部を仕切る壁部と，当該壁部を開閉自在なシャッタが設けられていることを特徴とする。
別の観点による本発明は，基板に対して現像処理を行う現像処理方法であって，現像液供給室の載置台に基板を保持し前記基板に現像液を供給する工程と，前記載置台上で現像液が供給された基板を現像液静止室の載置部に搬送し，当該載置部で基板を所定の時間載置し静止現像させる工程と，前記静止現像された基板を現像液除去室のスピンチャックに搬送し，当該スピンチャックにより基板を回転させつつ当該基板に除去液を供給して基板上の現像液を除去する工程と，を有し，前記現像液を除去する工程では，前記現像液除去室を密閉状態にし，前記現像液除去室から排気を行うことを特徴とする。
別の観点による本発明は，基板に対して現像処理を行う現像処理方法であって，現像液供給室の載置台に基板を保持し前記基板に現像液を供給し，さらに当該基板を所定の時間載置し静止現像させる工程と，前記静止現像された基板を現像液除去室のスピンチャックに搬送し，当該スピンチャックにより基板を回転させつつ当該基板に除去液を供給して基板上の現像液を除去する工程と，を有し，前記現像液を除去する工程では，前記現像液除去室を密閉状態にし，前記現像液除去室から排気を行うことを特徴とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
現像液供給室９１では，ウェハＷが回転載置台９７上に保持されると，現像液供給ノズル９８がウェハＷの上方の所定の位置まで移動する。そして，図１０に示すように，ウェハＷを少なくとも半回転させてウェハＷの表面に均一を現像液を供給し，現像液の液膜を形成する。かかる現像液の液膜が表面に形成されたウェハＷは，第１の搬送アーム９４によって，現像液供給室９１から現像液静止室９２へ搬送され，図７に示したように，載置部１３０に載置されて，所定の時間，静止状態に保たれる。この間，一方で現像液供給室９１に主搬送装置５０によって次のウェハＷが搬入されることになり，このウェハＷに対して現像液の供給が行われる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４７】
【発明の効果】
本発明によれば，現像液の供給，静止，現像液の除去といった現像処理における一連の現像工程を流れ作業方式で行える構成なので，装置に備えられた各構成機器の待機状態を減らし，各構成機器の稼働効率を高めることができる。従って，各構成機器の有効活用を図ることができる。