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【手続補正書】
【提出日】令和3年10月12日(2021.10.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
口腔洗浄装置に使用するための光ガイドユニットであって、前記光ガイドユニットは、光源に結合されるように構成され、前記光ガイドユニットは、
前記光源からの光がそれに沿ってガイドされる長さを有する均一化構成要素を有し、前記均一化構成要素は、ガイドされる前記光の屈折量及び前記ガイドされる光の内部反射量の少なくとも１つが、前記均一化構成要素の長さに沿って、前記均一化構成要素の外に透過する光の量を均一化するよう前記長さに沿って変化するように構成され、
前記均一化構成要素は、前記ガイドされる光の前記屈折量及び前記ガイドされる光の前記内部反射量の少なくとも１つを前記長さに沿って変化させることによって、前記均一化構成要素の外に透過される光の量を前記均一化構成要素の前記長さに沿って均一にする方法で、前記均一化構成要素の内周に沿って分散されるとともに前記内周に沿って変化する寸法を有する複数の凹部要素を有し、前記複数の凹部要素の各々は、凹部を形成するように材料が除去されている前記内周に沿った位置において前記均一化構成要素の部分に対応する、
光ガイドユニット。
【請求項２】
前記均一化構成要素の前記複数の凹部要素の各々は、それぞれの前記凹部要素と、前記光源からの光が前記均一化構成要素に入射する点との間の距離が増加するにつれて、前記それぞれの凹部要素のサイズが増加するように構成される、
請求項１に記載の光ガイドユニット。
【請求項３】
前記均一化構成要素の前記複数の凹部要素の各々は、プリズム形、半球形、及びピラミッド形のうちの１つである、
請求項１又は２に記載の光ガイドユニット。
【請求項４】
前記均一化構成要素は、前記ガイドされる光の前記屈折量及び前記ガイドされる光の前記内部反射量の少なくとも１つを前記均一化構成要素の前記長さに沿って変化させるように前記長さに沿った断面積が変化するように構成される、
請求項１乃至３のいずれか１項に記載の光ガイドユニット。
【請求項５】
前記均一化構成要素は、前記光源からの光が前記均一化構成要素に入射する点からの距離が増加するにつれて、前記断面積のサイズが減少するように構成される、
請求項４に記載の光ガイドユニット。
【請求項６】
前記均一化構成要素は、前記長さに沿って、前記ガイドされる光の前記屈折量及び前記ガイドされる光の前記内部反射量のうちの少なくとも１つを前記長さに沿って変化させるために、内部反射部分及び散乱要素のうちの少なくとも１つを有する、
請求項１乃至５のいずれか１項に記載の光ガイドユニット。
【請求項７】
前記光源からの光を前記均一化構成要素にガイドするように構成される少なくとも１つのガイド構成要素をさらに有する、
請求項１乃至６のいずれか１項に記載の光ガイドユニット。
【請求項８】
前記少なくとも１つのガイド構成要素は、その長手方向軸が前記均一化構成要素の前記長さに実質的に垂直であるように構成される、
請求項７に記載の光ガイドユニット。
【請求項９】
前記均一化構成要素は、前記均一化構成要素の長さに沿って進むよう前記ガイド構成要素からの光を方向転換するように構成されるダイバート部分を有する、
請求項７又は８に記載の光ガイドユニット。
【請求項１０】
前記ダイバート部分は、前記ガイド構成要素からの光を前記均一化構成要素内で２方向に方向転換するように構成されるＶ字型凹部である、
請求項９に記載の光ガイドユニット。
【請求項１１】
前記ダイバート部分は、前記ガイド構成要素からの光を前記均一化構成要素内で反射するように構成される反射層を有する、
請求項９又は１０に記載の光ガイドユニット。
【請求項１２】
前記均一化構成要素は、リング形状を有し得、前記ガイド構成要素は、前記均一化構成要素の湾曲に適合するように成形される、
請求項７乃至１１のいずれか１項に記載の光ガイドユニット。
【請求項１３】
ユーザに口腔洗浄装置の使用のフィードバックを提供するために前記口腔洗浄装置で使用する視覚インジケータであって、前記視覚インジケータは：
請求項１乃至１２のいずれか１項に記載の光ガイドユニットであって、光源に結合される、光ガイドユニットと；
前記光ガイドユニットに結合された光拡散ユニットであって、前記光ガイドユニットから拡散光を出力するように構成される、光拡散ユニットと；
を有する、
視覚インジケータ。
【請求項１４】
口腔洗浄装置で使用するための光ガイドユニットで光をガイドする方法であって、前記光ガイドユニットは、光源からの光がそれに沿ってガイドされる長さを有する均一化構成要素を有し、前記方法は、
前記均一化構成要素の長さに沿って、前記均一化構成要素の外に透過する光の量を均一化するように、前記均一化構成要素内でガイドされる光の屈折量及び前記ガイドされる光の内部反射量の少なくとも１つを前記長さに沿って変化させることを含み、
前記均一化構成要素は、前記ガイドされる光の前記屈折量及び前記ガイドされる光の前記内部反射量を前記長さに沿って変化させることによって、前記均一化構成要素の外に透過される光の量を前記均一化構成要素の前記長さに沿って均一にする方法で、前記均一化構成要素の内周に沿って分散されるとともに前記内周に沿って変化する寸法を有する複数の凹部要素を有し、前記複数の凹部要素の各々は、凹部を形成するように材料が除去されている前記内周に沿った位置において前記均一化構成要素の部分に対応する、
方法。
【請求項１５】
それぞれの前記凹部要素のサイズが、前記それぞれの凹部要素と、前記光源からの光が前記均一化構成要素に入射する点との間の距離が増加するにつれて、増加する、
請求項１乃至１２のいずれか１項に記載の光ガイドユニット。
【請求項１６】
前記均一化構成要素は、前記均一化構成要素の外周から光を発する、
請求項１乃至１２、１５のいずれか１項に記載の光ガイドユニット。
【請求項１７】
ユーザに口腔洗浄装置の使用のフィードバックを提供するために前記口腔洗浄装置で使用する視覚インジケータであって、前記視覚インジケータは：
光源に結合される光ガイドユニットであって：
前記光源からの光がそれに沿ってガイドされる長さを有する均一化構成要素を含み、前記均一化構成要素は、ガイドされる前記光の屈折量及び前記ガイドされる光の内部反射量の少なくとも１つが、前記均一化構成要素の長さに沿って、前記均一化構成要素の外に透過する光の量を均一化するよう前記長さに沿って変化するように構成され、
前記均一化構成要素は、前記ガイドされる光の前記屈折量及び前記ガイドされる光の前記内部反射量の少なくとも１つを前記長さに沿って変化させることによって、前記均一化構成要素の外に透過される光の量を前記均一化構成要素の前記長さに沿って均一にする方法で、前記均一化構成要素の前記長さに沿って分散されるとともに前記長さに沿って変化する寸法を有する複数の凹部要素を有し、前記複数の凹部要素の各々は、凹部を形成するように材料が除去されている前記長さに沿った位置において前記均一化構成要素の部分に対応する、
光ガイドユニットと；
前記光ガイドユニットに結合された光拡散ユニットであって、前記光ガイドユニットから拡散光を出力するように構成される、光拡散ユニットと；
を有する、
視覚インジケータ。
【手続補正書】
【提出日】令和3年10月14日(2021.10.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４８】
この場合において、エラストマースリーブにより再度提供された、減衰要素４が、ここでは、変換器ハウジング２の外壁に取り付けられて、クランプリング９により変換器ハウジング２に対して押圧される限りにおいて、図５は、図４に示される実施の形態とは異なる本発明の第５の実施の形態を示す。従って、この実施の形態においても、第４の実施の形態においてと同様に、減衰要素４は、変換器ハウジング２の外壁に対して力で押圧されて、この場合において、減衰要素４は、ここでは、クランプリング９により生成される応力効果により力が加えられるので、より小さい寸法である必要はない。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
交流電圧を機械的な超音波振動に変換するための変換器（１）と、前記変換器（１）に振動するように結合されたソノトロードと、を有する超音波振動ユニットであって、
前記ソノトロード及び前記変換器（１）は、固有振動数ｆで前記超音波振動ユニットが振動できるようにお互いに調和して、少なくとも１つの振動節と少なくとも２つの振動腹とを有する垂直縦波が前記超音波振動ユニット内に生じる超音波振動ユニットにおいて、
結合要素（３）を介して前記超音波振動ユニットに接続する減衰振動吸収ユニット（２）を備え、
前記結合要素（３）は振動節において前記超音波振動ユニットに接続し、前記振動吸収ユニット（２）は前記減衰振動吸収ユニット（２）の振動を減衰させるように設計された減衰要素（４）に接続する、ことを特徴とする超音波振動ユニット。
【請求項２】
前記減衰要素（４）は前記減衰振動吸収ユニット（２）とは異なる材料を具備し、好ましくは前記減衰要素（４）はエラストマーを具備する、ことを特徴とする請求項１に記載の超音波振動ユニット。
【請求項３】
前記減衰要素（４）は該減衰要素（４）が前記減衰振動吸収ユニット（２）と接触する接触面を有し、該接触面は、２ｃｍ2よりも大きいことが好ましく、１０ｃｍ2よりも大きいことが特に好ましく、２０ｃｍ2よりも大きいことが最も好ましい、ことを特徴とする請求項２に記載の超音波振動ユニット。
【請求項４】
前記減衰要素（４）は、前記接触面を介して前記減衰振動吸収ユニット（２）に力を作用させるように構成され、
好ましくは前記減衰要素（４）は前記接触面を介して、前記減衰振動吸収ユニット（２）に向かう方向において力を作用させる、ことを特徴とする請求項３に記載の超音波振動ユニット。
【請求項５】
前記減衰振動吸収ユニット（２）の質量は、前記超音波振動ユニットの質量の、１０％未満、好適には１％と８％との間、更に最も好適には３と５％との間、にあることを特徴とする請求項１〜４の何れか一項に記載の超音波振動ユニット。
【請求項６】
前記減衰要素（４）は、前記減衰振動吸収ユニット（２）を、５％と５０％との間の、及び好適には７．５％と２０％との間の、減衰度で減衰するように構成及び配置されている、ことを特徴とする請求項１〜５の何れか一項に記載の超音波振動ユニット。
【請求項７】
前記結合要素（３）は前記変換器（１）に配置される、ことを特徴とする請求項１〜６の何れか一項に記載の超音波振動ユニット。
【請求項８】
前記変換器（１）は円筒形形状の外面を有し、
前記結合要素（３）は、少なくとも部分的に、前記変換器（１）の前記円筒形形状の外面に接続する、フランジの形態であり、
好ましくは前記フランジは前記変換器（１）に一体的に接続する、ことを特徴とする請求項７に記載の超音波振動ユニット。
【請求項９】
前記減衰振動吸収ユニット（２）は、前記ソノトロードから離れた端部において前記変換器（１）を囲む変換器ハウジング（２）の形態であり、
好ましくは前記変換器ハウジング（２）はハウジング底部と円筒形ハウジング壁とを有し、
前記円筒形ハウジング壁は前記結合要素（３）に接続する、ことを特徴とする請求項７又は８に記載の超音波振動ユニット。
【請求項１０】
前記減衰要素（４）は前記変換器ハウジング（２）を取り囲む、スリーブの形態であり、
好ましくは前記減衰要素（４）は前記変換器ハウジング（２）に力を作用させるように弾性的に付勢される、ことを特徴とする請求項９に記載の超音波振動ユニット。
【請求項１１】
前記減衰要素（４）は、前記変換器ハウジング（２）内に配置され、そして接触面全体にわたって前記変換器ハウジング（２）に接続するか、又はクランプ要素により前記減衰振動吸収ユニット（２）に対して押圧されるかの何れかである、ことを特徴とする請求項９に記載の超音波振動ユニット。
【請求項１２】
前記クランプ要素は円錐形の外部輪郭を有し、エラストマーを具備する減衰要素は対応する円錐形の内部輪郭を有する、ことを特徴とする請求項１１に記載の超音波振動ユニット。
【手続補正書】
【提出日】令和3年11月8日(2021.11.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２９】
この第２の実施形態によると、工程ａ）における接触配置は、以下の連続的な工程：
ａ１）  アルミナまたはシリカまたはシリカ−アルミナをベースとする担体に、第ＶＩＢ族の元素を含む少なくとも１種の化合物、第ＶＩＩＩ族の元素を含む少なくとも１種の化合物および場合によるリンを含有している少なくとも１種の溶液を含浸させて、含浸済みの担体を得る工程、
ａ２）  工程ａ１）において得られた含浸済み担体を、２００℃より低い温度で乾燥させて、含浸・乾燥済みの担体を得、この含浸・乾燥済みの担体を、場合によっては焼成して、含浸・焼成済みの担体を得る工程、
ａ３）  工程ａ２）において得られた、含浸の後に乾燥させ、場合によっては焼成した担体に、少なくともフラン化合物を含んでいる含浸溶液を含浸させて、触媒前駆体を得る工程、
ａ４）  場合による、工程ａ３）において得られた触媒前駆体を静置熟成させる工程
を含み、これらの工程は、以下に詳細に説明されることになる。
後含浸の実施の工程ａ１）において、第ＶＩＢ族および第ＶＩＩＩ族の元素および場合によるリンの担体上への導入は、有利には、担体上の過剰の溶液による１回または複数回の含浸を介して、または好ましくは、１回または複数回の乾式含浸を介して、および、好ましくは、前記担体の１回のみの乾式含浸を介して行われてよく、金属前駆体（１種または複数種）および好ましくはリン前駆体を含有している溶液（１種または複数種）、好ましくは水溶液（１種または複数種）が用いられる。
【手続補正書】
【提出日】令和2年5月27日(2020.5.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
図面はそれぞれ、丸鋸刃１５を解除可能に接続可能に収容するための手持ち式工作機械１１に関する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
手持ち式工作機械であって、前記手持ち式工作機械（１１）の少なくとも１つの運転状態で丸鋸刃（１５）の回転面（Ｒｅ）を含有する鋸刃収容領域（１３）と、駆動装置ハウジング（１７）によって包囲された駆動装置ユニット（１９）と、前記駆動装置ユニット（１９）に電気エネルギを供給するための、前記駆動装置ハウジング（１７）に配置されたエネルギアキュムレータユニット（２１）と、を有している形式のものにおいて、
前記駆動装置ユニット（１９）および前記エネルギアキュムレータユニット（２１）が、前記鋸刃収容領域（１３）若しくは前記回転面（Ｒｅ）に対して平行に配置されていることを特徴とする、手持ち式工作機械。
【請求項２】
マイタ歯車として構成された第１の伝動装置ユニット（３３）が設けられていて、該第１の伝動装置ユニット（３３）が、前記駆動装置ユニット（１９）の駆動運動を前記丸鋸刃（１５）に伝達することを特徴とする、請求項１記載の手持ち式工作機械。
【請求項３】
前記第１の伝動装置ユニット（３３）が、フェースギヤ伝動装置またはかさ歯車伝動装置を有していることを特徴とする、請求項２記載の手持ち式工作機械。
【請求項４】
前記エネルギアキュムレータユニット（２１）が、前記鋸刃収容領域（１３）若しくは前記回転面（Ｒｅ）に対して、前記駆動装置ユニット（１９）よりも大きい間隔を保って配置されていることを特徴とする、請求項１から３までのいずれか１項記載の手持ち式工作機械。
【請求項５】
ハンドルエレメント（３９）が設けられており、該ハンドルエレメント（３９）が、前記駆動装置ユニット（１９）および／または前記鋸刃収容領域（１３）若しくは前記回転面（Ｒｅ）と前記エネルギアキュムレータユニット（２１）との間に配置されていることを特徴とする、請求項１から４までのいずれか１項記載の手持ち式工作機械。
【請求項６】
前記鋸刃収容領域（１３）若しくは前記回転面（Ｒｅ）に対して直角に配置された鉛直線（Ｌｏ）が、前記エネルギアキュムレータユニット（２１）および前記駆動装置ユニット（１９）と交差することを特徴とする、請求項１から５までのいずれか１項記載の手持ち式工作機械。
【請求項７】
前記駆動装置ハウジング（１７）が、エネルギアキュムレータユニット収容領域（４１）を有しており、該エネルギアキュムレータユニット収容領域（４１）は、このエネルギアキュムレータユニット収容領域（４１）が、前記手持ち式工作機械（１１）のハンドルエレメント（３９）に向いた方向でおよび／または工作物に向いた方向から前記駆動装置ハウジング（１７）に接続可能であることを特徴とする、請求項１から６までのいずれか１項記載の手持ち式工作機械。
【請求項８】
前記駆動装置ユニット（１９）が、前記手持ち式工作機械（１１）の載設ユニット（４５）に対して曲げられていて、前記載設ユニット（４５）に対して、２０°より大きい角度を成していることを特徴とする、請求項１から７までのいずれか１項記載の手持ち式工作機械。
【請求項９】
前記手持ち式工作機械（１１）が、少なくとも１つの運転状態で前記丸鋸刃（１５）を駆動する被駆動軸（２９）の下側に位置する重心を有していることを特徴とする、請求項１から８までのいずれか１項記載の手持ち式工作機械。
【請求項１０】
電子回路ユニット（６３）が設けられており、該電子回路ユニット（６３）が、操作および／または表示ユニット（６５）（ＨＭＩ）を有していることを特徴とする、請求項１から９までのいずれか１項記載の手持ち式工作機械。
【請求項１１】
前記駆動装置ユニット（１９）の駆動運動を前記丸鋸刃（１５）に伝達する、平歯車伝動装置として構成された第２の伝動装置ユニット（３３）が設けられていることを特徴とする、請求項１から１０までのいずれか１項記載の手持ち式工作機械。
【請求項１２】
前記鋸刃収容領域（１３）が、前記丸鋸刃（１５）を解除可能に収容可能であることを特徴とする、請求項１から１１までのいずれか１項記載の手持ち式工作機械。
【請求項１３】
前記エネルギアキュムレータユニット（２１）が、バッテリパック（２１）であることを特徴とする、請求項１から１２までのいずれか１項記載の手持ち式工作機械。
【請求項１４】
手持ち式丸鋸であることを特徴とする、請求項１から１３までのいずれか１項記載の手持ち式工作機械。
【手続補正書】
【提出日】令和3年11月15日(2021.11.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被覆研磨ディスクであって、
外周を有するディスクバッキングと、
前記ディスクバッキングの上に配置された研磨層であって、少なくとも１つの結合剤材料によって前記ディスクバッキングの主表面に固着された三角形研磨小板を備え、前記三角形研磨小板が、前記外周に向かって外側に延びる算術的螺旋パターンに沿って規則的な間隔で並んだ箇所の少なくとも７０パーセントに配置される、研磨層と、
を備え、
前記三角形研磨小板の各々は、互いに接続されると共に３つの側壁によって分離されたそれぞれの頂部表面及び底部表面を有し、
それぞれ、前記三角形研磨小板の各々の少なくとも９０パーセントの１つの側壁が、前記ディスクバッキングに面すると共に前記ディスクバッキングに近接して配置され、前記算術的螺旋パターンに対して接線方向から１０度以内に縦方向に整列される、
被覆研磨ディスク。
【請求項２】
前記三角形研磨小板が平均厚さを有し、前記算術的螺旋パターンが、前記三角形研磨小板の前記平均厚さの１．２〜３倍のピッチを有する、請求項１に記載の被覆研磨ディスク。
【請求項３】
前記研磨層が、破砕研磨粒子又は非研磨粒子を更に含む、請求項１に記載の被覆研磨ディスク。
【請求項４】
前記ディスクバッキングが加硫ファイバを含む、請求項１に記載の被覆研磨ディスク。
【請求項５】
前記研磨層が、メーク層と、前記メーク層及び前記三角形研磨小板の上に配置されたサイズ層と、を備える、請求項１に記載の被覆研磨ディスク。
【請求項６】
前記三角形研磨小板がアルファ・アルミナを含む、請求項１に記載の被覆研磨ディスク。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか一項に記載の被覆研磨ディスクの前記研磨層の一部を基板と摩擦接触させることと、前記基板を研磨するために、前記基板及び前記被覆研磨ディスクのうちの少なくとも一方を他方に対して移動させることと、を含む研磨方法。
【請求項８】
前記基板が軟鋼溶接部を備え、前記研磨層が前記軟鋼溶接部に接触する、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
被覆研磨ディスクを製造する方法であって、
硬化性メーク層前駆体を外周を有するディスクバッキングの主表面に配置することと、
三角形研磨小板を前記硬化性メーク層前駆体の中に接着することであって、前記三角形研磨小板が、外周に向かって外側に延びる算術的螺旋パターンに沿って規則的な間隔で並んだ箇所の少なくとも７０パーセントに配置され、
前記三角形研磨小板が三角形研磨小板を備え、前記三角形研磨小板の各々が、互いに接続されると共に３つの側壁によって分離されたそれぞれの頂部表面及び底部表面を有し、
それぞれ、前記三角形研磨小板の各々の少なくとも９０パーセントの１つの側壁が、その全体が前記ディスクバッキングに近接して配置され、前記算術的螺旋パターンに対して接線方向から１０度以内に縦方向に整列される、接着することと、
前記硬化性メーク層前駆体を少なくとも部分的に硬化させてメーク層を提供することと、
硬化性サイズ層前駆体を、前記メーク層及び前記三角形研磨小板の上に配置することと、
前記硬化性サイズ層前駆体を少なくとも部分的に硬化させてサイズ層を提供することと、
を含む、方法。
【請求項１０】
前記三角形研磨小板が平均厚さを有し、前記算術的螺旋パターンが、前記三角形研磨小板の前記平均厚さの１．２〜３倍のピッチを有する、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
研磨層が、破砕研磨粒子又は非研磨粒子を更に含む、請求項９に記載の方法。
【請求項１２】
前記ディスクバッキングが加硫ファイバを含む、請求項９に記載の方法。
【請求項１３】
前記三角形研磨小板がアルファ・アルミナを含む、請求項９に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】令和3年11月15日(2021.11.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被覆研磨ディスクであって、
ディスクバッキングと、
前記ディスクバッキングの上に配置された研磨層であって、少なくとも１つの結合剤材料によって前記ディスクバッキングの主表面に固着された研磨要素を備え、前記研磨要素が、長方形格子パターンの水平線と垂直線との交点に配置され、前記交点の少なくとも７０パーセントに、前記研磨要素のうちの１つが配置されている、研磨層と、
を備え、
前記研磨要素の各々が２つの三角形研磨小板を有し、前記三角形研磨小板の各々が、互いに接続されると共に３つの側壁によって分離されたそれぞれの頂部表面及び底部表面を有し、それぞれ、前記三角形研磨小板の少なくとも９０パーセントの１つの側壁が、前記ディスクバッキングに面すると共に前記ディスクバッキングに近接して配置され、
前記研磨要素が、直交して隣接する研磨要素中の前記三角形研磨小板が、互いに直交から１０度以内のＺ軸回転配置方向を有するように配置される、
被覆研磨ディスク。
【請求項２】
前記交点の少なくとも９０パーセントに、前記研磨要素のうちの１つが配置されている、請求項１に記載の被覆研磨ディスク。
【請求項３】
それぞれ、前記三角形研磨小板の少なくとも９０パーセントの１つの側壁が、前記ディスクバッキングに面すると共に前記ディスクバッキングに近接して配置され、個々の水平線に沿って交互の交点に隣接して配置された前記三角形研磨小板が、前記水平線から５度以内のＺ軸回転配置方向を有し、個々の垂直線に沿って交互の交点に隣接して配置された前記三角形研磨小板が、前記垂直線から５度以内のＺ軸回転配置方向を有する、請求項１に記載の被覆研磨ディスク。
【請求項４】
前記研磨層が、破砕研磨粒子又は非研磨粒子を更に含む、請求項１に記載の被覆研磨ディスク。
【請求項５】
前記ディスクバッキングが、加硫ファイバを含む、請求項１に記載の被覆研磨ディスク。
【請求項６】
前記研磨層が、メーク層と、前記メーク層及び前記研磨要素の上に配置されたサイズ層と、を備える、請求項１に記載の被覆研磨ディスク。
【請求項７】
前記三角形研磨小板がアルファ・アルミナを含む、請求項１に記載の被覆研磨ディスク。
【請求項８】
ワークピースを研磨する方法であって、請求項１に記載の被覆研磨ディスクの前記研磨層の一部を前記ワークピースと摩擦接触させることと、前記ワークピースを研磨するために、前記ワークピース及び研磨物品のうちの少なくとも一方を他方に対して移動させることと、を含む、方法。
【請求項９】
前記ワークピースが軟鋼溶接部を含み、前記研磨層が前記軟鋼溶接部に接触する、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
被覆研磨ディスクを製造する方法であって、
硬化性メーク層前駆体をディスクバッキングの主表面に配置することと、
研磨要素を前記硬化性メーク層前駆体に接着することであって、
前記研磨要素が、長方形格子パターンの水平線と垂直線との交点に配置され、前記交点の少なくとも７０パーセントに、前記研磨要素のうちの１つが配置されており、
前記研磨要素の各々が２つの三角形研磨小板を有し、前記三角形研磨小板の各々が、互いに接続されると共に３つの側壁によって分離されたそれぞれの頂部表面及び底部表面を有し、それぞれ、前記三角形研磨小板の少なくとも９０パーセントの１つの側壁が、前記ディスクバッキングに面すると共に前記ディスクバッキングに近接して配置され、
前記研磨要素が、直交して隣接する研磨要素中の前記三角形研磨小板が、互いに直交から１０度以内のＺ軸回転配置方向を有するように配置される、
研磨要素を前記硬化性メーク層前駆体に接着することと、
前記メーク層前駆体を少なくとも部分的に硬化することと、
硬化性サイズ層前駆体を、少なくとも部分的に硬化したメーク層前駆体及び三角形研磨小板の上に配置することと、
サイズ層を提供するために、硬化性サイズ層前駆体を少なくとも部分的に硬化させることと、
を含む、方法。
【請求項１１】
前記交点の少なくとも９０パーセントに、前記研磨要素のうちの１つが配置されている、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
それぞれ、前記三角形研磨小板の少なくとも９０パーセントの１つの側壁が、前記ディスクバッキングに面すると共に前記ディスクバッキングに近接して配置され、個々の水平線に沿って交互の交点に隣接して配置された前記三角形研磨小板が、前記水平線から５度以内のＺ軸回転配置方向を有し、個々の垂直線に沿って交互の交点に隣接して配置された前記三角形研磨小板が、前記垂直線から５度以内のＺ軸回転配置方向を有する、請求項１０に記載の方法。
【請求項１３】
研磨層が破砕研磨粒子又は非研磨粒子を更に含む、請求項１０に記載の方法。
【請求項１４】
前記ディスクバッキングが加硫ファイバを含む、請求項１０に記載の方法。
【請求項１５】
前記三角形研磨小板がアルファ・アルミナを含む、請求項１０に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】令和3年11月15日(2021.11.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ディスクバッキングの主表面の少なくとも一部に配置された研磨層であって、前記研磨層が、少なくとも１つの結合剤材料によって前記ディスクバッキングの主表面に固着された三角形研磨小板を備え、三角形研磨小板が、長方形格子パターンの水平線と垂直線との交点で前記主表面から外側に向かって配置され、前記長方形格子パターンの前記交点が、Ｃ／（ＬＴ）によって定義される面積密度を有し、Ｃが、０．１〜０．４の値を有する無単位被覆率であり、Ｌが平均主三角形研磨小板側面長であり、Ｔが平均三角形研磨小板厚さであり、前記交点の少なくとも７０パーセントに、三角形研磨小板が配置されている、研磨層を備え、
前記三角形研磨小板の各々が、互いに接続されると共に３つの側壁によって分離されたそれぞれの頂部表面及び底部表面を有し、
それぞれ、前記三角形研磨小板の少なくとも９０パーセントの前記ディスクバッキングに面する１つの側壁が、前記垂直線から１０度以内のＺ軸回転配置方向を有する、
被覆研磨ディスク。
【請求項２】
前記交点の少なくとも９０パーセントに、前記三角形研磨小板のうちの１つが配置されている、請求項１に記載の被覆研磨ディスク。
【請求項３】
それぞれ、前記三角形研磨小板の少なくとも９０パーセントの前記ディスクバッキングに面する１つの側壁が、前記垂直線から５度以内のＺ軸回転配置方向を有する、請求項１に記載の被覆研磨ディスク。
【請求項４】
前記研磨層が、破砕研磨粒子又は非研磨粒子を更に含む、請求項１に記載の被覆研磨ディスク。
【請求項５】
前記ディスクバッキングが、加硫ファイバを含む、請求項１に記載の被覆研磨ディスク。
【請求項６】
前記研磨層が、メーク層と、前記メーク層及び前記三角形研磨小板の上に配置されたサイズ層と、を備える、請求項１に記載の被覆研磨ディスク。
【請求項７】
前記三角形研磨小板がアルファ・アルミナを含む、請求項１に記載の被覆研磨ディスク。
【請求項８】
ワークピースを研磨する方法であって、請求項１による被覆研磨ディスクの前記研磨層の一部を前記ワークピースと摩擦接触させることと、前記ワークピースを研磨するために、前記ワークピース及び研磨ディスクのうちの少なくとも一方を他方に対して移動させることと、を含む方法。
【請求項９】
前記ワークピースが軟鋼溶接部を含み、前記研磨層が前記軟鋼溶接部に接触する、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
被覆研磨ディスクを製造する方法であって、
硬化性メーク層前駆体をディスクバッキングの少なくとも主表面に配置することと、
三角形研磨小板を前記硬化性メーク層前駆体中に埋め込むことであって、前記三角形研磨小板が、水平線及び垂直線の長方形格子パターンの連続する交点で前記主表面から外側に向かって配置され、前記長方形格子パターンの前記交点が、Ｃ／（ＬＴ）によって定義される面積密度を有し、Ｃが、０．１〜０．４の値を有する無単位被覆率であり、Ｌが平均主三角形研磨小板側面長であり、Ｔが平均三角形研磨小板厚さであり、前記交点の少なくとも７０パーセントに、前記三角形研磨小板のうちの１つが配置されており、
前記三角形研磨小板の各々が、互いに接続されると共に３つの側壁によって分離されたそれぞれの頂部表面及び底部表面を有し、
それぞれ、前記三角形研磨小板の少なくとも９０パーセントの前記ディスクバッキングに面する１つの側壁が、垂直線から１０度以内のＺ軸回転配置方向を有する、
三角形研磨小板を硬化性メーク層前駆体中に埋め込むことと、
メーク層を提供するために、前記硬化性メーク層前駆体を少なくとも部分的に硬化させることと、
硬化性サイズ層前駆体を、前記少なくとも部分的に硬化したメーク層前駆体及び三角形研磨小板の上に配置することと、
サイズ層を提供するために、前記硬化性サイズ層前駆体を少なくとも部分的に硬化させることと、
を含む、方法。
【請求項１１】
前記交点の少なくとも９０パーセントに、前記三角形研磨小板のうちの１つが配置されている、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
それぞれ、前記三角形研磨小板の少なくとも９０パーセントの１つの側壁が前記ディスクバッキングに面し、かつ、前記垂直線から５度以内のＺ軸回転配置方向を有する、請求項１０に記載の方法。
【請求項１３】
研磨層が破砕研磨粒子を更に含む、請求項１０に記載の方法。
【請求項１４】
前記ディスクバッキングが加硫ファイバを含む、請求項１０に記載の方法。
【請求項１５】
前記三角形研磨小板がアルファ・アルミナを含む、請求項１０に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】令和3年11月1日(2021.11.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
中心コアを取り囲む架橋ヒドロゲル外殻をそれぞれ含む複数のカプセルの製造方法であって、ここで、ヒドロゲル溶液および中心コアを形成するように設計された対象となる組成物は、同心円状に共押出されて、それぞれが対象組成物の液滴を取り囲むヒドロゲル溶液の層を含む混合液滴を形成し、
該方法は、混合された液滴が架橋性エアロゾルを通過するように、共押出工程が前記架橋性エアロゾルの上で実行され、その結果、ヒドロゲル溶液の層が前記エアロゾルと接触する対象組成物の液滴の周りで少なくとも部分的に架橋することを含み、ここで、
前記カプセルは球状であり、50〜500μmの直径を有し、
対象組成物は水性組成物であり、及び
架橋性エアロゾルの浸透濃度は、カプセルの中心コアを形成する対象組成物の浸透濃度の0.3〜10倍である、
方法。
【請求項２】
架橋性エアロゾルは、架橋性溶液の微小液滴から形成され、その直径は有利には0.5〜20μm、好ましくは1〜10μm、好ましくは5μm±2μmに等しい、請求項1に記載のカプセル製造方法。
【請求項３】
エアロゾルを形成する架橋性溶液の微小液滴は、混合液滴が架橋性エアロゾルを通る押出し流によって投射される速度よりも遅い落下速度を有する、請求項2に記載のカプセル製造方法。
【請求項４】
カプセルは架橋性エアロゾルを通過した後に回収浴に浸漬され、前記回収浴は有利には架橋性溶液を含む、請求項1〜3のいずれかに記載のカプセル製造方法。
【請求項５】
混合液滴は界面活性剤を含まない、請求項1〜4のいずれかに記載のカプセル製造方法。
【請求項６】
架橋性エアロゾル及びカプセルの中心コアを形成する対象組成物は等浸透圧である、請求項1〜5のいずれかに記載のカプセル製造方法。
【請求項７】
混合液滴は分散するように荷電され、架橋性エアロゾルは反対に荷電されているかまたは中性である、請求項1〜6のいずれかに記載のカプセル製造方法。
【請求項８】
中心コアを形成するための対象組成物は、細胞溶液、食品組成物、化粧品組成物または医薬組成物から選択される、請求項1〜7のいずれかに記載のカプセル製造方法。
【請求項９】
ヒドロゲル溶液はアルギン酸塩溶液であり、中心コアを形成するための対象組成物は細胞を含み、架橋性エアロゾルは塩化カルシウム溶液の微小液滴を含む、請求項1〜8のいずれかに記載のカプセル製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５２】
カプセル化後の処理：
ステップ1：カプセルを40μmのセルシーブで回収し、溶液1ですすいだ後、20mLの溶液4+が入った75cm2フラスコに保存する。
ステップ2：フラスコを37℃、5%CO2のインキュベーターで12時間保持する。
ステップ3：溶液4の培地を交換して、嚢胞を形成させる。
ステップ4：24から72時間後、数ダースの細胞の嚢胞がカプセル内に形成される。細胞のマイクロコンパートメントは、5〜10日後に成熟する。
本発明の好ましい態様は以下を包含する。
〔１〕中心コアを取り囲む架橋ヒドロゲル外殻をそれぞれ含む複数のカプセルの製造方法であって、ここで、ヒドロゲル溶液および中心コアを形成するように設計された対象となる水性組成物は、同心円状に共押出されて、それぞれが対象組成物の液滴を取り囲むヒドロゲル溶液の層を含む混合液滴を形成し、混合された液滴が架橋性エアロゾルを通過するように、共押出工程が前記架橋性エアロゾルの上で実行され、その結果、ヒドロゲル溶液の層が前記エアロゾルと接触する対象組成物の液滴の周りで少なくとも部分的に架橋することを特徴とし、前記カプセルは球状であり、50〜500μmの直径を有する、方法。
〔２〕架橋性エアロゾルは、架橋性溶液の微小液滴から形成され、その直径は有利には0.5〜20μm、好ましくは1〜10μm、好ましくは5μm±2μmに等しい、〔１〕に記載のカプセル製造方法。
〔３〕エアロゾルを形成する架橋性溶液の微小液滴は、混合液滴が架橋性エアロゾルを通る押出し流によって投射される速度よりも遅い落下速度を有する、〔２〕に記載のカプセル製造方法。
〔４〕カプセルは架橋性エアロゾルを通過した後に回収浴に浸漬され、前記回収浴は有利には架橋性溶液を含む、〔１〕〜〔３〕のいずれかに記載のカプセル製造方法。
〔５〕混合液滴は界面活性剤を含まない、〔１〕〜〔４〕のいずれかに記載のカプセル製造方法。
〔６〕架橋性エアロゾルの浸透濃度は、カプセルの中心コアを形成する対象組成物の浸透濃度の0.1〜10倍、好ましくはカプセルの中心コアを形成する対象組成物の浸透濃度の0.3〜3倍である、または、架橋性エアロゾル及びカプセルの中心コアを形成する対象組成物は等浸透圧である、〔１〕〜〔５〕のいずれかに記載のカプセル製造方法。
〔７〕混合液滴は分散するように荷電され、架橋性エアロゾルは反対に荷電されているかまたは中性である、〔１〕〜〔６〕のいずれかに記載のカプセル製造方法。
〔８〕中心コアを形成するための対象組成物は、細胞溶液、食品組成物、化粧品組成物または医薬組成物から選択される、〔１〕〜〔７〕のいずれかに記載のカプセル製造方法。
〔９〕ヒドロゲル溶液はアルギン酸塩溶液であり、中心コアを形成するための対象組成物は細胞を含み、架橋性エアロゾルは塩化カルシウム溶液の微小液滴を含む、〔１〕〜〔８〕のいずれかに記載のカプセル製造方法。
【手続補正書】
【提出日】令和3年10月25日(2021.10.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
自動電気アーク溶接の方法であって、
相対位置センサを使用することにより、実際の溶接経路に対する溶接トーチの相対位置を判定するステップと、
絶対位置センサを使用することにより、前記溶接トーチの絶対位置を判定するステップと、
前記実際の溶接経路が、計画されている溶接経路と異なっている際に、前記実際の溶接経路に対する前記溶接トーチの前記相対位置及び前記溶接トーチの前記絶対位置に基づいて補正ベクトルを算出するステップと、
前記計画されている溶接経路及び前記補正ベクトルに従って前記溶接トーチを運動させるステップと、
を有する方法。
【請求項２】
前記実際の溶接経路に対する前記溶接トーチの前記相対位置に基づいて、溶接トーチ位置の補正が必要とされているかどうかを判定するステップを更に有し、且つ／又は、
前記補正ベクトルを実装する時点を判定するステップを更に有する請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記計画されている溶接経路及び前記補正ベクトルに基づいて、調節済みの溶接経路を算出するステップを更に有し、且つ、前記計画されている溶接経路及び前記補正ベクトルに従って前記溶接トーチを運動させるステップは、前記調節済みの溶接経路に従って前記溶接トーチを運動させるステップを有する請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
前記計画されている溶接経路及び初期ベクトルに従って前記溶接トーチを運動させるステップを更に有し、前記補正ベクトルを算出するステップは、初期ベクトルに適用される調節ベクトルを算出するステップを有する請求項１乃至３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
前記補正ベクトルを算出するステップは、前記相対位置センサの複数の読取りと、前記絶対位置センサの複数の読取りと、を有する周期的なインターバルにおいて発生し、
前記補正ベクトルは、前記実際の溶接経路と前記計画されている溶接経路の間の平均差を有する請求項１乃至４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
前記実際の溶接経路又は前記計画されている溶接経路のうちの少なくとも１つは、一連の位置を有する請求項１乃至５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
前記補正ベクトルを第１補正ベクトルとして保存するステップと、
第２補正ベクトルを算出するステップと、
前記第２補正ベクトルと前記第１補正ベクトルの間の差が閾値超であるかどうかを判定するステップと、
前記差が前記閾値超である場合に、前記第２補正ベクトルを前記補正ベクトルとして保存するステップと、
を更に有する請求項１乃至６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
前記相対位置センサは、電流センサを有し、且つ／又は、
前記絶対位置センサは、少なくとも１つの加速度計を有する請求項１乃至７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
前記補正ベクトルの第１成分は、第１アルゴリズムに従って算出され、前記補正ベクトルの第２成分は、第２アルゴリズムに従って算出され、且つ、前記第１アルゴリズムは、前記第２アルゴリズムとは異なっている請求項１乃至８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１０】
溶接システムであって、
溶接トーチを有する溶接装置と、
実際の溶接経路に対する前記溶接トーチの相対位置を検知する相対位置センサと、
前記溶接トーチの絶対位置を検知する絶対位置センサと、
計画されている溶接経路及び補正ベクトルに基づいて前記溶接トーチの運動を制御する溶接コントローラと、
を有し、
前記溶接コントローラは、前記実際の溶接経路が前記計画されている溶接経路と異なっている際に、前記実際の溶接経路に対する前記溶接トーチの前記相対位置及び前記溶接トーチの前記絶対位置に基づいて前記補正ベクトルを算出するロジックを有する、システム。
【請求項１１】
前記計画されている溶接経路を保存するメモリを更に有する請求項１０に記載のシステム。
【請求項１２】
前記相対位置センサは、電流センサを有し、且つ／又は、
前記絶対位置センサは、少なくとも１つの加速度計を有し、前記相対位置センサは、溶接経路追跡システムと関連付けられている請求項１０又は１１に記載のシステム。
【請求項１３】
前記溶接トーチを運動させるロボットと、
前記ロボットの運動を制御するロボットコントローラと、
を更に有し、
前記ロボットコントローラは、前記補正ベクトルに基づいて前記ロボットの運動を調節している請求項１０乃至１２のいずれか１項に記載のシステム。
【請求項１４】
前記溶接トーチは、前記実際の溶接経路に沿って、少なくとも５０インチ／秒において運動している請求項１０乃至１３のいずれか１項に記載のシステム。
【請求項１５】
溶接システムであって、
溶接トーチによって溶接する手段と、
計画されている溶接経路及び補正ベクトルに従って前記溶接トーチを運動させる手段と、
実際の溶接経路に対する溶接トーチの相対位置を判定する、且つ、前記溶接トーチの絶対位置を判定する、手段と、
前記実際の溶接経路に対する前記溶接トーチの前記相対位置及び前記溶接トーチの前記絶対位置に基づいて前記溶接トーチの前記運動に対する補正を算出する手段と、
を有するシステム。
【手続補正書】
【提出日】令和3年10月11日(2021.10.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
スリッティングカッター（２０）であって、
カッター回転軸（ＡＣ）の周りに回転方向（Ｒ）を定義するカッター回転軸（ＡＣ）、対向する第１および第２の本体側面（２４ａ、２４ｂ）、およびそれらの間に延在する本体周面（２６）、を有するディスク形状のカッター本体（２２）と、
前記本体周面（２６）の周りに円周方向に間隔を置いて配置された複数のインサート受容部分（２８）、およびそこに着脱可能に保持された複数のカッティングインサート（３０）であって、
前記第１および第２の本体側面（２４ａ、２４ｂ）の少なくとも半径方向外側部分は、それぞれ第１および第２の基準面（Ｐ１、Ｐ２）に含まれ、前記第１および第２の基準面（Ｐ１、Ｐ２）は本体幅（ＷＢ）だけオフセットされ、
各インサート受容部分（２８）は、インサート受容スロット（３６）だけ離れた第１および第２のクランピングジョー（３２、３４）を有し、前記第１のクランピングジョー（３２）は、前記第２のクランピングジョー（３４）に対して弾性的に変位可能で、かつ弾性回転軸（ＡＲ）を有し、
各カッティングインサート（３０）は、それぞれのインサート受容スロット（３６）に弾性的にクランプされ、前記第１および第２の基準面（Ｐ１、Ｐ２）と交差する刃先（４２）を有し、各刃先（４２）は、本体幅（ＷＢ）よりも大きい刃幅（ＷＣ）に及び、
複数のインサート受容部分（２８）および複数のカッティングインサート（３０）と、を含み、
前記複数の刃先（４２）は、外側切削直径（ＤＯ）を有する外側仮想円（ＣＯ）を規定し、前記複数の弾性回転軸（ＡＲ）は、内側切削直径（ＤＩ）を有する内側仮想円（Ｃｌ）を規定し、
前記スリッティングカッター（２０）に弾性的にクランプされたカッティングインサート（３０）の数Ｎは、ミリメートル単位の内側切削直径（ＤＩ）に間隔係数（ＦＳ）を掛けた値であり、
前記間隔係数（ＦＳ）は０．１５と０．３０との間である、
スリッティングカッター（２０）。
【請求項２】
前記間隔係数（ＦＳ）は０．２０と０．３０との間である、
請求項１に記載のスリッティングカッター（２０）。
【請求項３】
前記本体幅（ＷＢ）は、少なくとも０．４０ｍｍ、最大で１．２０ｍｍである、
請求項１または２に記載のスリッティングカッター（２０）。
【請求項４】
各第１のクランピングジョー（３２）は、補助スロット（３８）によって円周方向に隣接するインサート受容部分（２８）の前記第２のクランピングジョー（３４）から離間し、各補助スロット（３８）は、占有されていない、
請求項１〜３のいずれか１項に記載のスリッティングカッター（２０）。
【請求項５】
各補助スロット（３８）は、同じインサート受容部分（２８）に関連する前記インサート受容スロット（３６）の回転方向前方に配置される、
請求項４に記載のスリッティングカッター（２０）。
【請求項６】
前記スリッティングカッター（２０）の側面図において、
各インサート受容スロット（３６）は、半径方向最内側の受容スロット点（ＮＲ）を有し、
前記補助スロット（３８）は、半径方向最内側の補助スロット点（ＮＡ）を有し、
前記弾性回転軸（ＡＲ）は、半径方向最内側の前記受容スロット点（ＮＲ）と、半径方向最内側の前記補助スロット点（ＮＡ）との間に配置される、
請求項４または５に記載のスリッティングカッター（２０）。
【請求項７】
半径方向最内側の前記補助スロット点（ＮＡ）は、半径方向最内側の前記受容スロット点（ＮＲ）の半径方向内側に配置されている、
請求項６に記載のスリッティングカッター（２０）。
【請求項８】
各インサート受容スロット（３６）および各補助スロット（３８）は、前記本体周面（２６）のチップ排出凹部（４０）と連通する、
請求項４〜７のいずれか１項に記載のスリッティングカッター（２０）。
【請求項９】
各チップ排出凹部（４０）は、それぞれの前記弾性回転軸（ＡＲ）の半径方向外側に全体的に配置される、
請求項８に記載のスリッティングカッター（２０）。
【請求項１０】
前記第２のクランピングジョー（３４）は、前記第１のクランピングジョー（３２）よりも高い剛性を有し、
各カッティングインサート（３０）は、前記第１のクランピングジョー（３２）の弾性および前記第２のクランピングジョー（３４）の剛性に依存し、追加のいかなる非一体型インサート保持部材もない、自己保持方式でそれぞれの前記インサート受容スロット（３６）内にクランプされている、
請求項１〜９のいずれか１項に記載のスリッティングカッター（２０）。
【請求項１１】
各第１のクランピングジョー（３２）は、細長く、その弾性回転軸（ＡＲ）から半径方向外向きに延びる、
請求項１〜１０のいずれか１項に記載のスリッティングカッター（２０）。
【請求項１２】
前記内側切削直径（ＤＩ）は、１２ｍｍから１８５ｍｍの範囲であり、
前記本体幅（ＷＢ）は、０．４０ｍｍからｌ．２０ｍｍの範囲であり、
前記本体幅（ＷＢ）に対する前記内側切削直径（ＤＩ）の比率は、１０と２４０との間である、
請求項１〜１１のいずれか１項に記載のスリッティングカッター（２０）。
【請求項１３】
環状切削部（４４）は、内側仮想円（Ｃ１）と外側仮想円（ＣＯ）との間に形成され、外側切削直径（ＤＯ）と内側切削直径（ＤＩ）との間の差の半分に等しい第１の半径方向範囲（ＥＲ１）を有する、
請求項１〜１２のいずれか１項に記載のスリッティングカッター（２０）。
【請求項１４】
前記環状切削部（４４）の第１の半径方向範囲（ＥＲ１）は、１０ｍｍより小さい、
請求項１３に記載のスリッティングカッター（２０）。
【請求項１５】
少なくとも前記環状切削部（４４）の第１の半径方向範囲（ＥＲ１）に及ぶ、前記第１および第２の本体側面（２４ａ、２４ｂ）の半径方向外側部分は、それぞれ第１および第２の基準面（Ｐ１、Ｐ２）に含まれる、
請求項１３または１４に記載のスリッティングカッター（２０）。
【手続補正書】
【提出日】令和3年11月15日(2021.11.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被覆研磨ディスクであって、
ディスクバッキングと、
前記ディスクバッキングの上に配置された研磨層であって、少なくとも１つの結合剤材料によって前記ディスクバッキングの主表面に固着された研磨要素を備え、前記研磨要素が、長方形格子パターンの水平線と垂直線との交点に配置され、前記交点の少なくとも７０パーセントに、前記研磨要素のうちの１つが配置されている、研磨層と、
を備え、
前記研磨要素の各々が２つの三角形研磨小板を有し、前記三角形研磨小板の各々が、互いに接続されると共に３つの側壁によって分離されたそれぞれの頂部表面及び底部表面を有し、それぞれ、前記三角形研磨小板の少なくとも９０パーセントの１つの側壁が、前記ディスクバッキングに面すると共に前記ディスクバッキングに近接して配置され、
前記研磨要素の第１の部分が、交互の第１の列に配置され、前記第１の列の前記三角形研磨小板が、前記垂直線から１０度以内で縦方向に整列して配置され、前記研磨要素の第２の部分が、交互の第２の列に配置され、前記第２の列の前記三角形研磨小板が、前記水平線から１０度以内で縦方向に整列して配置され、
前記第１の列及び前記第２の列が、前記垂直線に沿って反復的に交互になっている、
研磨ディスク。
【請求項２】
前記交点の少なくとも９０パーセントに、前記研磨要素のうちの１つが配置されている、請求項１に記載の被覆研磨ディスク。
【請求項３】
前記第１の列の前記三角形研磨小板が、前記垂直線から５度以内で縦方向に整列して配置され、前記第２の列の前記三角形研磨小板が、前記水平線から５度以内で縦方向に整列して配置される、請求項１に記載の被覆研磨ディスク。
【請求項４】
前記研磨層が、破砕研磨粒子又は非研磨粒子を更に含む、請求項１に記載の被覆研磨ディスク。
【請求項５】
前記ディスクバッキングが、加硫ファイバを含む、請求項１に記載の被覆研磨ディスク。
【請求項６】
前記研磨層が、メーク層と、前記メーク層及び前記研磨要素の上に配置されたサイズ層と、を備える、請求項１に記載の被覆研磨ディスク。
【請求項７】
前記三角形研磨小板がアルファ・アルミナを含む、請求項１に記載の被覆研磨ディスク。
【請求項８】
ワークピースを研磨する方法であって、請求項１に記載の被覆研磨ディスクの前記研磨層の一部を前記ワークピースと摩擦接触させることと、前記ワークピースを研磨するために、前記ワークピース及び被覆研磨ディスクのうちの少なくとも一方を他方に対して移動させることと、を含む方法。
【請求項９】
前記ワークピースが軟鋼溶接部を含み、前記研磨層が前記軟鋼溶接部に接触する、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
被覆研磨ディスクを製造する方法であって、
硬化性メーク層前駆体をディスクバッキングの主表面に配置することと、
研磨要素を前記硬化性メーク層前駆体の中に埋め込むことであって、
前記研磨要素が、水平線及び垂直線の長方形格子パターンの交点に隣接して配置され、前記交点の少なくとも７０パーセントに、前記研磨要素のうちの１つが配置されており、
前記研磨要素の各々が２つの三角形研磨小板を有し、前記三角形研磨小板の各々が、互いに接続されると共に３つの側壁によって分離されたそれぞれの頂部表面及び底部表面を有し、それぞれ、前記三角形研磨小板の少なくとも９０パーセントの１つの側壁が、前記ディスクバッキングに面すると共に前記ディスクバッキングに近接して配置され、
前記研磨要素の第１の部分が、交互の第１の列に配置され、前記第１の列の前記三角形研磨小板が、垂直線から１０度以内で縦方向に整列して配置され、前記研磨要素の第２の部分が、交互の第２の列に配置され、前記第２の列の前記三角形研磨小板が、水平線から１０度以内で縦方向に整列して配置され、
前記第１の列及び第２の列が、前記垂直線に沿って反復的に交互になっている、
研磨要素を前記硬化性メーク層前駆体の中に埋め込むことと、
硬化性メーク層前駆体を少なくとも部分的に硬化させてメーク層を提供することと、
硬化性サイズ層前駆体を、少なくとも部分的に硬化した前記メーク層前駆体及び三角形研磨小板の上に配置することと、
サイズ層を提供するために、前記硬化性サイズ層前駆体を少なくとも部分的に硬化させることと、
を含む、方法。
【請求項１１】
前記交点の少なくとも９０パーセントに、前記研磨要素のうちの１つが配置されている、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記研磨要素の前記第１の部分が第１の列に配置され、前記三角形研磨小板が、前記水平線から５度以内で縦方向に整列して配置され、前記研磨要素の第２の部分が第２の列に配置され、前記三角形研磨小板が、前記垂直線から５度以内で縦方向に整列して配置される、請求項１０に記載の方法。
【請求項１３】
研磨層が破砕研磨粒子又は非研磨粒子を更に含む、請求項１０に記載の方法。
【請求項１４】
前記ディスクバッキングが加硫ファイバを含む、請求項１０に記載の方法。
【請求項１５】
前記三角形研磨小板がアルファ・アルミナを含む、請求項１０に記載の方法。