(57)【要約】【課題】基板搬送機構の通り精度のみに依存することなく、θ方向のズレ量を補正して、露光精度を向上することができるスキャン露光装置およびスキャン露光装置の基板搬送方法を提供する。【解決手段】スキャン露光装置１では、基板搬送機構１４の各基板駆動ユニット１６，１７は、基板Ｗを吸着保持する吸着パッド５６，５７と、吸着パッド５６，５７をＸ方向に搬送するためのＸ方向搬送機構５０，５１と、互いに平行に配置され、且つ互いに独立して駆動可能な第１及び第２のボールねじ機構６４，６５を備えて、吸着パッド５６，５７をＹ方向に移動可能、且つ、θ方向に揺動可能なＹ方向搬送機構５４，５５と、を有する。【選択図】図１
2010072615.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定の方向に沿って往復自在に基板を搬送可能であるとともに、前記所定の方向と直交する方向に前記基板を移動可能な基板搬送機構と、
複数のマスクをそれぞれ保持する複数のマスク保持部と、
前記複数のマスク保持部の上方にそれぞれ配置され、露光用光を照射する複数の照射部と、
を備え、前記搬送される基板に対して前記複数のマスクを介して前記露光用光を照射し、前記基板に前記各マスクのパターンを露光するスキャン露光装置であって、
前記基板搬送機構は、前記基板を保持する保持部材と、前記保持部材を前記所定の方向に搬送するための第１の送り機構と、互いに平行に配置され、且つ互いに独立して駆動可能な第１及び第２の駆動部を備えて、該保持部材を前記直交方向に移動可能、且つ、前記所定の方向及び前記直交方向に垂直な法線回りのθ方向に揺動可能な第２の送り機構と、
を有することを特徴とするスキャン露光装置。
【請求項２】
前記第１の送り機構が前記所定の方向に移動する際、前記第１の送り機構のθ方向におけるズレ量を相殺するように、前記第２の送り機構の第１及び第２の駆動部を相対的に変位させる制御部をさらに備えることを特徴とする請求項１に記載のスキャン露光装置。
【請求項３】
前記基板搬送機構の第２の送り機構は、前記第１及び第２の駆動部が取り付けられた支持板の前記直交方向への移動を案内する直動案内部を有することを特徴とする請求項１または２に記載のスキャン露光装置。
【請求項４】
前記基板搬送機構には、前記保持部材の前記直交方向の移動領域より基板側で前記基板を保持する基板支持部材が取り付けられていることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のスキャン露光装置。
【請求項５】
所定の方向に沿って往復自在に基板を搬送可能であるとともに、前記所定の方向と直交する方向に前記基板を移動可能な基板搬送機構と、
複数のマスクをそれぞれ保持する複数のマスク保持部と、
前記複数のマスク保持部の上方にそれぞれ配置され、露光用光を照射する複数の照射部と、
を備え、前記基板搬送機構は、前記基板を保持する保持部材と、前記保持部材を前記所定の方向に搬送するための第１の送り機構と、互いに平行に配置され、且つ互いに独立して駆動可能な第１及び第２の駆動部を備えて、該保持部材を前記直交方向に移動可能、且つ、前記所定の方向及び前記直交方向に垂直な法線回りのθ方向に揺動可能な第２の送り機構と、を有し、前記搬送される基板に対して前記複数のマスクを介して前記露光用光を照射し、前記基板に前記各マスクのパターンを露光するスキャン露光装置の基板搬送方法であって、
前記第１の送り機構が前記所定の方向に移動する際、前記第１の送り機構のθ方向におけるズレ量を測定する工程と、
前記第１の送り機構が前記所定の方向に移動する際の、前記ズレ量が許容値以下となる、前記第２の送り機構の第１及び第２の駆動部の相対的な位置関係を含む補正テーブルを作成する工程と、
該補正テーブルに基づいて、前記第２の送り機構の第１及び第２の駆動部を駆動する工程と、
を有することを特徴とするスキャン露光装置の基板搬送方法。
【請求項６】
前記補正テーブルは、第１及び第２の駆動部のメカニカルな相対的位置誤差を含むことを特徴とする請求項５に記載のスキャン露光装置の基板搬送方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、スキャン露光装置およびスキャン露光装置の基板搬送方法に関し、より詳細には、液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等の大型のフラットパネルディスプレイの基板上にマスクのマスクパターンを露光転写するのに好適なスキャン露光装置およびスキャン露光装置の基板搬送方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
大型の薄形テレビ等に用いられる液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等の大型のフラットパネルディスプレイは、基板上にマスクのパターンを分割逐次露光方式で近接露光転写することで製造されている。この種の分割逐次露光方法としては、例えば、パネルと同寸のマスクを用い、該マスクをマスクステージで保持すると共に基板をワークステージで保持して両者を近接して対向配置する。そして、ワークステージをマスクに対してステップ移動させる毎にマスク側から基板にパターン露光用の光を照射して、複数のマスクパターンを基板上に露光転写する。
【０００３】
また、他の露光方法として、マスクを細分化して、これらマスクを保持する複数のマスク保持部を千鳥状に配置し、基板を一方向に移動させながら露光を行うスキャン露光方式が知られている（例えば、特許文献１参照。）。この露光方式では、基板に形成されるパターンに、ある程度繰り返される部位があることを前提として、これをつなぎ合わせることで大きなパターンを形成できることを利用したものである。この場合、マスクは、パネルに合わせて大きくする必要がなく、比較的安価なマスクを用いることができる。
【０００４】
また、スキャン露光方式では、ラインセンサによってブラックマトリクスが形成された基板の基準線を観測することにより、基板の搬送方向と直交する方向におけるズレ量を検出し、このズレ量に対応してマスクを移動させることで補正動作を行っている（例えば、特許文献２参照。）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００７−５７７９１号公報
【特許文献２】特開２００６−２９２９５５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところで、特許文献２に記載のスキャン露光装置では、該直交方向におけるズレ量を補正することができるが、基板搬送機構によって生じる、該搬送方向及び直交方向の両方に垂直な法線回りのθ方向のズレ量については補正がなされていない。このため、θ方向のズレ量は、基板搬送機構の通り精度に依存し、マスクのパターンが複雑な場合には、このθ方向のズレ量がそのまま露光精度となっていた。
【０００７】
また、近年、基板の大型化に伴う装置の大型化やツインステージへの適用等により、基板搬送機構による搬送距離が長くなっており、機械的な調整だけで通り精度を保持することは困難である。
【０００８】
本発明は、前述した課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、基板搬送機構の通り精度のみに依存することなく、θ方向のズレ量を補正して、露光精度を向上することができるスキャン露光装置およびスキャン露光装置の基板搬送方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の上記目的は、下記の構成により達成される。
（１）  所定の方向に沿って往復自在に基板を搬送可能であるとともに、前記所定の方向と直交する方向に前記基板を移動可能な基板搬送機構と、
複数のマスクをそれぞれ保持する複数のマスク保持部と、
前記複数のマスク保持部の上方にそれぞれ配置され、露光用光を照射する複数の照射部と、
を備え、前記搬送される基板に対して前記複数のマスクを介して前記露光用光を照射し、前記基板に前記各マスクのパターンを露光するスキャン露光装置であって、
前記基板搬送機構は、前記基板を保持する保持部材と、前記保持部材を前記所定の方向に搬送するための第１の送り機構と、互いに平行に配置され、且つ互いに独立して駆動可能な第１及び第２の駆動部を備えて、該保持部材を前記直交方向に移動可能、且つ、前記所定の方向及び前記直交方向に垂直な法線回りのθ方向に揺動可能な第２の送り機構と、
を有することを特徴とするスキャン露光装置。
（２）  前記第１の送り機構が前記所定の方向に移動する際、前記第１の送り機構のθ方向におけるズレ量を相殺するように、前記第２の送り機構の第１及び第２の駆動部を相対的に変位させる制御部をさらに備えることを特徴とする（１）に記載のスキャン露光装置。
（３）  前記基板搬送機構の第２の送り機構は、前記第１及び第２の駆動部が取り付けられた支持板の前記直交方向への移動を案内する直動案内部を有することを特徴とする（１）または（２）に記載のスキャン露光装置。
（４）  前記基板搬送機構には、前記保持部材の前記直交方向の移動領域より基板側で前記基板を保持する基板支持部材が取り付けられていることを特徴とする（１）〜（３）のいずれかに記載のスキャン露光装置。
（５）  所定の方向に沿って往復自在に基板を搬送可能であるとともに、前記所定の方向と直交する方向に前記基板を移動可能な基板搬送機構と、
複数のマスクをそれぞれ保持する複数のマスク保持部と、
前記複数のマスク保持部の上方にそれぞれ配置され、露光用光を照射する複数の照射部と、
を備え、前記基板搬送機構は、前記基板を保持する保持部材と、前記保持部材を前記所定の方向に搬送するための第１の送り機構と、互いに平行に配置され、且つ互いに独立して駆動可能な第１及び第２の駆動部を備えて、該保持部材を前記直交方向に移動可能、且つ、前記所定の方向及び前記直交方向に垂直な法線回りのθ方向に揺動可能な第２の送り機構と、を有し、前記搬送される基板に対して前記複数のマスクを介して前記露光用光を照射し、前記基板に前記各マスクのパターンを露光するスキャン露光装置の基板搬送方法であって、
前記第１の送り機構が前記所定の方向に移動する際、前記第１の送り機構のθ方向におけるズレ量を測定する工程と、
前記第１の送り機構が前記所定の方向に移動する際の、前記ズレ量が許容値以下となる、前記第２の送り機構の第１及び第２の駆動部の相対的な位置関係を含む補正テーブルを作成する工程と、
該補正テーブルに基づいて、前記第２の送り機構の第１及び第２の駆動部を駆動する工程と、
を有することを特徴とするスキャン露光装置の基板搬送方法。
（６）  前記補正テーブルは、第１及び第２の駆動部のメカニカルな相対的位置誤差を含むことを特徴とする（５）に記載のスキャン露光装置の基板搬送方法。
【発明の効果】
【００１０】
本発明のスキャン露光装置によれば、基板搬送機構は、基板を保持する保持部材と、保持部材を所定の方向に搬送するための第１の送り機構と、互いに平行に配置され、且つ互いに独立して駆動可能な第１及び第２の駆動部を備えて、保持部材を直交方向に移動可能、且つ、所定の方向及び前記直交方向に垂直な法線回りのθ方向に揺動可能な第２の送り
機構と、を有するので、基板搬送機構の通り精度のみに依存することなく、θ方向のズレ量を補正して、露光精度を向上することができる。
【００１１】
また、本発明のスキャン露光装置の基板搬送方法によれば、上記構成を備え、第１の送り機構が所定の方向に移動する際、第１の送り機構のθ方向におけるズレ量を測定する工程と、第１の送り機構が所定の方向に移動する際の、ズレ量が許容値以下となる、第２の送り機構の第１及び第２の駆動部の相対的な位置関係を含む補正テーブルを作成する工程と、補正テーブルに基づいて、第２の送り機構の第１及び第２の駆動部を駆動する工程と、を有するので、基板搬送機構の通り精度のみに依存することなく、θ方向のズレ量を補正して、露光精度を向上することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明の一実施形態であるスキャン露光装置の平面図である。
【図２】図１におけるスキャン露光装置の拡大平面図である。
【図３】図２におけるスキャン露光装置の拡大正面図である。
【図４】Ｘ方向搬送機構の拡大断面図である。
【図５】（ａ）は、Ｙ方向搬送機構の上面図であり、（ｂ）は、ボールねじ機構の拡大断面図である。
【図６】（ａ）は、基板搬入・搬出時における第１のプリアライメント台を模式的に示す上面図であり、（ｂ）は、基板搬入・搬出時におけるプリアライメント台の側面図であり、（ｃ）は、基板が吸着保持された状態におけるプリアライメント台の側面図である。
【図７】第１の交換領域から搬入・搬出される基板の露光動作と、第２の交換領域から搬入・搬出される基板の露光動作を示すフローチャートである。
【図８】第１の交換領域から搬入される基板と、第２の交換領域から搬入される基板の動作説明図である。
【図９】（ａ）は、基板搬送方向の各位置での、測定器具で測定されたヨーイング成分を示すグラフであり、（ｂ）は、基板搬送方向の各位置での、第１のボールねじ機構に対して第２のボールねじ機構の相対的なシフト量を示すグラフである。
【図１０】第１のボールねじ機構のストロークに対する、第２のボールねじ機構の位置関係を示すグラフである。
【図１１】基板搬送方向の各位置での、Ｙ方向のズレ量を測定した結果を示すグラフである。
【図１２】第１実施形態の変形例に係るスキャン露光装置の平面図である。
【図１３】第２実施形態に係る基板搬送機構を示す上面図である。
【図１４】（ａ）は、図１３のXIV−XIV線に沿った断面図であり、（ｂ）は、図１３のXIV´−XIV´線に沿った断面図である。
【図１５】第３実施形態に係る基板搬送機構を示し、基板Ｗが吸排気エアパッド寄りに位置する際の基板搬送機構の上面図である。
【図１６】図１５のXVI−XVI線に沿った断面図である。
【図１７】基板ＷをＹ方向に引き込んだ際の基板搬送機構の上面図である。
【図１８】図１７のXVIII−XVIII線に沿った断面図である。
【図１９】本発明の第４実施形態に係るスキャン露光装置の平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、本発明に係るスキャン露光装置及びスキャン露光装置の基板搬送方法の各実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。
【００１４】
（第１実施形態）
先ず、本実施形態のスキャン露光装置１の構成について概略説明する。図１に示すように、本実施形態のスキャン露光装置１は、基板Ｗを浮上搬送させながら基板Ｗに露光を行う露光機本体２と、露光機本体２の搬送方向両側に位置し、基板Ｗの搬入・搬出及びプリアライメントが行われる一対のプリアライメント台３，４と、各プリアライメント台３，４と図示しない基板ストッカとの間で基板Ｗの搬入・搬出を行う一対の基板搬送ロボット５，６と、基板搬送ロボット５，６との間に位置する配電盤７と、露光機本体２に対して配電盤７と反対側に位置し、スキャン露光装置１の各作動部分の動きを操作及び制御する操作パネルを兼ねた制御部８と、マスク搬送ロボット９と、マスクストッカ１０と、を備える。
【００１５】
図２及び図３に示すように、露光機本体２は、基板Ｗを浮上させて支持すると共に、所定の方向であるＸ方向および該所定の方向と直交する方向であるＹ方向に搬送する基板搬送機構１４と、Ｙ方向に沿って並んでそれぞれ配置され、複数のマスクＭをそれぞれ保持する複数（図１に示す実施形態において６個）のマスク保持部１１と、マスク保持部１１をそれぞれ駆動する複数のマスク駆動部１２と、複数のマスク保持部１１の上部にそれぞれ配置されて露光用光を照射する複数の照射部１３と、を主に備える。
【００１６】
基板搬送機構１４は、浮上ユニット１５ａ，１５ｂと、基板ＷのＹ方向一側（図１において上辺）を保持してＸ方向に搬送可能、且つＹ方向に移動可能な第１及び第２の基板駆動ユニット１６，１７とを備える。浮上ユニット１５ａ，１５ｂは、複数のフレーム１８，１９上にそれぞれ設けられた複数の排気エアパッド２０及び吸排気エアパッド２１を備え、ポンプ（図示せず）やソレノイドバルブ（図示せず）を介して排気エアパッド２０や吸排気エアパッド２１からエアを排気或いは、吸排気する。これにより、基板Ｗは、浮上ユニット１５ａ，１５ｂ上に空気流によって浮上した状態で保持され、基板Ｗを抵抗なく搬送可能とする。
【００１７】
第１及び第２の基板駆動ユニット１６，１７は、図２に示すように、第１の送り機構であるＸ方向搬送機構５０，５１と、これらＸ方向搬送機構５０，５１によってＸ方向に沿って往復搬送される移動基台５２，５３と、各移動基台５２，５３上に配設される第２の送り機構であるＹ方向搬送機構５４，５５と、これらＹ方向搬送機構５４，５５によってＹ方向に沿って往復搬送され、吸着によって基板Ｗを保持する保持部材である吸着パッド５６，５７と、をそれぞれ備える。
【００１８】
Ｘ方向搬送機構５０，５１は、図４に示すように、移動基台５２，５３の裏面にスライダ５８が取り付けられ、該スライダ５８は、露光機本体２と、一対のプリアライメント台３，４の側方に亘って設けられたベース部材５９上にＸ方向に沿って平行に設置された一対の案内レール６０に転動体（図示せず）を介して跨架されている。
【００１９】
また、Ｘ方向搬送機構５０，５１は、駆動手段としてリニアモータ６１を採用し、ベース部材５９の略中央にＸ方向に沿って形成された溝５９ａの両側壁に表面の極性がＮ極、Ｓ極で交互に変わるように並べられた複数の永久磁石６２と、移動基台５２，５３の裏面にＸ方向に沿って設けられた凸条５２ａ，５３ａの両側面に取り付けられた電機子６３とを備え、電機子６３に流す電流を制御することで、移動基台５２，５３を介して吸着パッド５６，５７をＸ方向に沿って往復搬送する。なお、駆動手段としては、リニアモータ６１の代わりに、ボールねじ機構であってもよい。
【００２０】
Ｙ方向搬送機構５４，５５は、図５に示すように、互いに平行に配置され、且つ互いに独立して駆動可能な第１及び第２の駆動部である第１及び第２のボールねじ機構６４，６５をそれぞれ備えている。各ボールねじ機構６４，６５は、ボールねじ６４ａ，６５ａのねじ軸を回転駆動する駆動モータ６４ｂ，６５ｂを備えると共に、ボールねじ６４ａ，６５ａのナット６４ｃ，６５ｃには、ベアリング６６を介して吸着パッド５６，５７の端部を回動自在に支持する支持軸６７が設けられている。これにより、Ｙ方向搬送機構５４，５５は、吸着パッド５６，５７を移動基台５２，５３に対してＹ方向に移動可能、且つ、Ｘ方向及びＹ方向に垂直な法線回りのθ方向に揺動可能とする。
【００２１】
また、図３に示すように、第１の浮上ユニット１５ａが設けられる複数のフレーム１８は、地面にレベルブロック２２を介して設置されたメインベッド２３上に他のレベルブロック２４を介して配置されている。また、第２の浮上ユニット１５ｂが設けられる他のフレーム１９は、地面にレベルブロック２５を介して設置されたサブベッド２６ａ，２６ｂ上に他のレベルブロック２７を介して配置されている。
従って、メインベッド２３上には、後述する露光領域Ａ、及び露光領域Ａの上流側及び下流側にそれぞれ設けられる第１及び第２の基板保持領域Ｂ１，Ｂ２における基板Ｗを浮上搬送するための第１の浮上ユニット１５ａと、複数のマスク保持部１１と、複数の照射部１３と、が配置される。また、プリアライメント台３，４を構成する各サブベッド２６ａ，２６ｂ上には、第１及び第２の基板保持領域Ｂ１，Ｂ２に対して露光領域Ａと反対側にそれぞれ設けられる各第１及び第２の基板交換領域Ｃ１、Ｃ２における基板Ｗを浮上搬送するための各第２の浮上ユニット１５ｂがそれぞれ配置される。
【００２２】
マスク駆動部１２は、フレーム（図示せず）に取り付けられ、マスク保持部１１をＸ方向に沿って駆動するＸ方向駆動部３１と、Ｘ方向駆動部３１の先端に取り付けられ、マスク保持部１１をＹ方向に沿って駆動するＹ方向駆動部３２と、Ｙ方向駆動部３２の先端に取り付けられ、マスク保持部１１をθ方向（Ｘ，Ｙ方向からなる水平面の法線回り）に回転駆動するθ方向駆動部３３と、θ方向駆動部３３の先端に取り付けられ、マスク保持部１１をＺ方向（Ｘ，Ｙ方向からなる水平面の鉛直方向）に駆動するＺ方向駆動部３４と、を有する。これにより、Ｚ方向駆動部３４の先端に取り付けられたマスク保持部１１は、マスク駆動部１２によってＸ，Ｙ，Ｚ，θ方向に駆動可能である。なお、Ｘ，Ｙ，θ，Ｚ方向駆動部３１，３２，３３，３４の配置の順序は、適宜変更可能である。
【００２３】
また、図２に示すように、Ｙ方向に沿って配置された複数のマスク保持部１１には、各マスク保持部１１のマスクＭを同時に交換可能なマスクチェンジャ３７が配設されている。マスクチェンジャ３７により搬送される使用済み或いは未使用のマスクＭは、マスクストッカ１０との間でマスクローダー９により受け渡しが行われる。なお、マスクストッカ９とマスクチェンジャ３７とで受け渡しが行われる間にマスクプリアライメント機構（図示せず）によってマスクＭのプリアライメントが行われる。
【００２４】
図３に示すように、各マスク保持部１１の上部に配置される複数の照射部１３は、ＹＡＧレーザーや、エキシマレーザーなどの光源４１と、この光源４１から照射された光を集光する凹面鏡４２と、この凹面鏡４２の焦点近傍に光路方向に移動可能な機構を有するオプチカルインテグレータ４３と、光路の向きを変えるための平面ミラー４５及び球面ミラー４６と、この平面ミラー４５とオプチカルインテグレータ４３との間に配置されて照射光路を開閉制御する露光制御用シャッター４４と、を備える。
【００２５】
マスク保持部１１に保持されるマスクＭは、露光用光ＥＬの照射によりマスクパターンを基板Ｗ上のフォトレジストに露光転写させるものであり、本実施形態のマスクＭは、２種類のマスクパターン８５、８６を備える（図８参照）。２種類のマスクパターン８５、８６は、マスク駆動部１２によってマスク保持部１１を移動させることにより、いずれか一方のマスクパターン８５、８６が、照射部１３からの露光用光ＥＬの照射領域内に配置されることで切り替えられる。即ち、露光に際しては、２種類のマスクパターン８５、８６が切り替えられて、いずれか一方のマスクパターン８５、８６が有効となって基板Ｗに露光転写される。
【００２６】
また、Ｙ方向に並べて配置される複数のマスク保持部１１では、後述する往路で使用される隣接するマスクパターン８５の間隔Ｇが、復路で使用されるマスクパターン８６のＹ方向の幅と、往復動作によって重ね合わせて露光される両側の幅とを考慮して設定されている。ただし、マスクパターン８５の間隔Ｇやマスクパターン８６のＹ方向の幅は、後述する基板ＷのＹ方向への移動量をできるだけ小さくするように設定されている。
【００２７】
マスク保持部１１の下方に配置されたフレーム１８には、基板ＷとマスクＭの相対位置を検知する検知部である複数の撮像手段３５が、複数のマスク保持部１１ごとに配置されている。撮像手段３５は、Ｘ方向に沿って配置された移動案内軸３６に案内されてＸ方向に移動可能であり、制御部８からの指令に基づいて作動する駆動装置（図示せず）によって駆動されて、マスクＭに対して基板Ｗの搬送方向上流側である第１検知位置ＳＰ１と、基板Ｗの搬送方向下流側である第２検知位置ＳＰ２との間を移動する。
【００２８】
このようなスキャン露光装置１は、浮上ユニット１５ａ，１５ｂの排気エアパッド２０及び吸排気エアパッド２１の空気流によって基板Ｗを浮上させ、基板Ｗの一端を第１或いは第２の基板駆動ユニット１６，１７で吸着・保持して、第１或いは第２の基板保持領域Ｂ１，Ｂ２から露光領域ＡへとＸ方向に搬送する。そして、露光領域Ａにおいては、マスク保持部１１の下方に位置する基板Ｗに対して、照射部１３からの露光用光ＥＬがマスクＭを介して照射され、マスクＭのパターンを基板Ｗに塗布されたフォトレジストに転写する。このとき、基板ＷとマスクＭとの位置誤差は、複数のマスク保持部１１ごとに設けられた撮像手段３５が検出する基板Ｗ及びマスクＭの位置データに基づいて制御部から出力される指令信号によって、θ方向駆動部３３、及びＹ方向駆動部３２が作動してマスクＭの位置を微調整することで補正（位置合わせ）される。
【００２９】
また、図６に模式的に示すように、基板Ｗの搬入・搬出及びプリアライメントが行われる一対のプリアライメント台３，４（図６は、プリアライメント台３のみ示す。）では、Ｚ方向に進退可能な複数の基板リフトピン７０と、Ｚ方向に進退して基板Ｗの側面に当接しながら、Ｘ方向或いはＹ方向に移動することで、機械的に基板Ｗのアライメントを調整する複数の機械式アライメントピン７１と、Ｚ方向に進退して基板Ｗを吸着可能であるとともにＹ方向に移動可能な一対の光学アライメントピン７２と、基板Ｗの位置を下方から検出する光学アライメント用カメラ７３と、が配置されている。基板リフトピン７０、機械式アライメントピン７１、光学アライメントピン７２、光学アライメント用カメラ７３は、それぞれ排気エアパッド２０と干渉しない位置で、他のフレーム１９上に配置されている。
【００３０】
従って、各プリアライメント台３，４に露光済みの基板Ｗが搬送されてきた際には、まず、排気エアパッド２０から排気されるエアによって基板Ｗは浮上支持される。この状態で、基板リフトピン７０を所定の吸着高さまで上昇させて、基板リフトピン７０によって基板Ｗを吸着し、その後、第１の基板駆動ユニット１６の吸着パッド５６による吸着を解除する。そして、図６（ｂ）に示すように、基板リフトピン７０を基板受け渡し位置までさらに上昇させ、基板搬送ロボット５によって露光済みの基板Ｗが搬出され、未露光の基板Ｗが搬入される。基板搬送ロボット５は、２本のアームを有するハンドリングロボットで、これら２本のアームを同時に使用して、一方のアームで基板Ｗをプリアライメント台３から搬出した後、すぐに、他方のアームが基板Ｗをプリアライメント台３に搬入する。
【００３１】
その後、排気エアパッド２０によるエアの排気を停止した状態で、搬入された基板Ｗが載置された基板リフトピン７０を所定の吸着高さまで下降させた後、基板リフトピン７０の吸着を解除し、さらに、基板Ｗが載置された状態で基板リフトピン７０を下降させる。この状態で、基板Ｗは、その側面が機械式アライメントピン７１と当接可能な高さとなり、これらピン７１によってアライメント調整される。
【００３２】
そして、機械的なアライメント調整を完了した後に、これらアライメントピン７１を基板Ｗから退避させ、光学アライメントピン７２を上昇させるとともに、これら光学アライメントピン７２によって基板Ｗを吸着する。また、排気エアパッド２０によるエアの排気を開始して基板Ｗを浮上させ、光学アライメント用カメラ７３で基板Ｗを見ながら２つの光学アライメントピン７２をＹ方向に駆動して、θ方向の補正を行う。その後、第１の基板駆動ユニット１６の吸着パッド５６によって基板Ｗを吸着して、光学アライメントピン７２を下降させるとともに、光学アライメントピン７２による吸着を解除する。
なお、第１及び第２の基板駆動ユニット１６，１７は、光学アライメントピン７２を設ける代わりに、第１及び第２のボールねじ機構６４，６５が使用されてもよい。
【００３３】
次に、このように構成されたスキャン露光装置１の動作について、図７のフローチャート及び図８の動作説明図を用いて説明する。なお、図７のフローチャートにおいて、左のフローは、第１の基板交換領域Ｃ１から搬入・搬出される基板Ｗの一連の露光動作を示し、右のフローは、第２の基板交換領域Ｃ２から搬入・搬出される基板Ｗ´の一連の露光動作を示しており、二点鎖線で仕切られた左右の各工程は、同じ時間内で動作していることを示している。
【００３４】
まず、第１の基板駆動ユニット１６が第１の基板交換領域Ｃ１に移動した状態で（ステップＳ１ａ）、基板搬送ロボット５によって第１の基板交換領域Ｃ１に基板Ｗの搬入が行われる（ステップＳ２ａ）。そして、上述したように、搬入された基板Ｗのプリアライメントが行われた後（ステップＳ３ａ）、基板Ｗが第１の基板駆動ユニット１６の吸着バッド５６によって吸着・保持される（ステップＳ４ａ）。
【００３５】
その後、第１の基板駆動ユニット１６を駆動して、浮上ユニット１５ａ，１５ｂからの空気流によって浮上支持された状態で一定の速度でＸ方向に搬送され、基板Ｗは、図８（ａ）に示すように、第１の基板保持領域Ｂ１へ移動する（ステップＳ５ａ）。このとき、第２の基板駆動ユニット１７は、第２の基板交換領域Ｃ２へ移動する（ステップＳ１ｂ）。
【００３６】
さらに、基板Ｗは、一定の速度でＸ方向に搬送され、マスクパターン８５，８６を形成した面を下にしてマスク保持部１１に保持されるマスクＭと近接対向する露光領域Ａ内に進入する。ここで、２種類のマスクパターン８５，８６のうち、マスクパターン８５が照射部１３からの露光用光ＥＬの照射領域内に配置されており、マスクパターン８５が有効となっている。また、撮像手段３５は、マスク保持部１１に対して基板Ｗの搬送方向上流側である第１検知位置ＳＰ１に位置する。
【００３７】
図８（ｂ）に示すように、第１の基板駆動ユニット１６によってＸ方向に搬送される基板Ｗが、第１検知位置ＳＰ１に達すると、撮像手段３５が基板ＷとマスクＭの相対位置を検知し、この位置データに基づいて制御部から出力される指令信号によってマスク駆動部１２が作動してマスク保持部１１を移動させることにより、基板Ｗへのマスクパターン８５の露光転写に先立って、基板ＷとマスクＭとの位置誤差が修正される。
【００３８】
位置誤差が修正されて搬送される基板Ｗには、それぞれのマスクＭを介して照射部１３から露光用光ＥＬが照射されてマスクパターン８５が露光転写される。これにより、露光領域Ａを通過して第２の基板保持領域Ｂ２に位置する基板Ｗには、Ｙ方向に所定の間隔Ｇずつ離れた複数（図３に示す実施例では６本）の第１の転写パターン８３が形成される（ステップＳ６ａ）。なお、隣接する第１の転写パターン８３間の部分は未露光部である。
【００３９】
次に、第１の転写パターン８３形成後、露光領域Ａを越えた基板Ｗを保持する第２の基板保持領域Ｂ２では、図８（ｃ）に示すように、第１の基板駆動ユニット１６のＹ方向搬送機構５４によって、基板Ｗを保持する吸着パッド５６をマスク保持部１１に対してＹ方向に所定の距離Ｌだけ移動させる（ステップＳ７ａ）。具体的に、各マスクパターン８５，８６のＹ方向における中心位置が一致している本実施形態においては、所定の距離Ｌは、隣接するマスクＭのマスクパターン８５，８６のＹ方向における中心間距離Ｄの略１／２である。
【００４０】
また、同時に、図示しない駆動装置を作動させて、撮像手段３５を第１検知位置ＳＰ１から第２検知位置ＳＰ２に移動させる。これにより、基板Ｗの往路搬送および復路搬送のいずれの搬送時にも、基板ＷがマスクＭの下方に位置する前に、即ち、マスクパターンの露光転写に先立って、基板ＷとマスクＭとの相対位置を検知して位置誤差を修正することができる。
【００４１】
更に、マスクパターン８６が照射部１３からの露光用光の照射領域内に位置するように、マスク駆動部１２によってマスク保持部１１を移動させ、有効なマスクパターンをマスクパターン８５からマスクパターン８６に切り替える。
【００４２】
そして、第１の基板駆動ユニット１６は、Ｘ方向搬送機構５０は基板Ｗの搬送方向をＸ方向と逆方向に切り替えて、第２の基板保持領域Ｂ２に保持されていた基板Ｗを、Ｘ方向と逆方向に搬送する。そして、基板Ｗが第２検知位置ＳＰ２に達すると、撮像手段３５が基板ＷとマスクＭの相対位置を検知し、マスク駆動部１２がマスク保持部１１を移動させて基板ＷとマスクＭとの位置誤差を修正する。そして、照射部１３からの露光用光ＥＬを、それぞれのマスクＭを介して照射して、第１の転写パターン８３間の未露光部にマスクパターン８６を露光転写して第２の転写パターン８４を形成する（ステップＳ８ａ）。このとき、第２の転写パターン８４の幅は、未露光部の幅より僅かに大きいので、第１の転写パターン８３と第２の転写パターン８４には、重ね合わせ部が形成されて、基板Ｗの全面にマスクパターン８５，８６が露光転写される。
【００４３】
この一連のステップＳ６ａ〜Ｓ８ａの露光動作中に、第２の基板交換領域Ｃ２では、基板Ｗ´の搬入（ステップＳ２ｂ）、基板Ｗ´のプリアライメント（ステップＳ３ｂ）、第２の基板駆動ユニット１７の吸着バッド５７による吸着・保持が行われる（ステップＳ４ｂ）。
【００４４】
そして、図８（ｅ）に示すように、第１の基板駆動ユニット１６によって保持された露光済みの基板Ｗが、第１の基板保持領域Ｂ１から第１の基板交換領域Ｃ１へ移動する（ステップＳ１ａ）際に、同時に、第２の基板駆動ユニット１７によって保持された未露光の基板Ｗ´が第２の基板保持領域Ｂ２へ露光動作時の速度より速い速度で移動される（ステップＳ５ｂ）。  同時に、マスクパターン８５が照射部１３からの露光用光の照射領域内に位置するように、マスク駆動部１２によってマスク保持部１１を移動させ、有効なマスクパターンをマスクパターン８６からマスクパターン８５に切り替える。
【００４５】
なお、第１の交換領域Ｃ１から搬入・搬出される基板Ｗが、第１の転写パターン８３を露光後に第２の転写パターン８４を露光する一方、第２の交換領域Ｃ２から搬入・搬出される基板Ｗ´が、第２の転写パターン８４を露光した後に第１の転写パターン８３を露光する場合には、上記マスクパターンの切換え動作を行う必要がない。
【００４６】
そして、第１の基板交換領域Ｃ１では、露光済み基板Ｗの搬出と、未露光基板Ｗの搬入（ステップＳ２ａ）、未露光基板Ｗのプリアライメント（ステップＳ３ａ）、未露光基板Ｗの吸着保持が行われる。一方、この間に、第２の駆動ユニット５１によって保持された基板Ｗ´も上述した同様の露光動作によって、往路によるスキャン露光(ステップＳ６ｂ)によって第１の転写パターン８３が露光され、次に、第１の基板保持領域Ｂ１に保持された基板Ｗ´に対してＹ方向への基板Ｗの移動（ステップＳ７ｂ）を行い、復路によるスキャン露光（ステップＳ８ｂ）によって第２の転写パターン８４が露光される。その後、上記と同様の動作が繰り返される。
【００４７】
ここで、本実施形態では、第１及び第２の基板駆動ユニット１６，１７のＸ方向搬送機構５０，５１がＸ方向に移動する際、即ち、Ｘ方向搬送機構５０では、第１基板交換領域Ｃ１から第２基板保持領域Ｂ２まで、Ｘ方向搬送機構５１では、第１基板保持領域から第２基板交換領域Ｃ２まで移動する際に発生する、各Ｘ方向搬送機構５０，５１のθ方向（ヨーイング方向）におけるズレ量を相殺するように、制御部８は、以下に示す基板搬送方法により、Ｙ方向搬送機構５４，５５の各ボールねじ機構６４，６５を相対的に変位させる。
【００４８】
（１）まず、各Ｙ方向搬送機構５４，５５の第１及び第２のボールねじ機構６４，６５のナット６４ｃ，６５ｃの位置関係が機械的にＸ方向と平行となる基準位置（Ｙ方向位置が一致）を治具により取得する。
（２）サーボアンプ、調整ゲインを二軸同一とし、駆動モータ６４ｂ、６５ｂの応答性を同一とする。
【００４９】
（３）次に、Ｘ方向搬送機構５０，５１がＸ方向に移動する際に発生する各Ｘ方向搬送機構５０，５１のθ方向におけるズレ量を、移動範囲での各位置で、オートコリメータ等の測定治具を用いて測定する（図９（ａ）参照。）。そして、θ方向におけるズレ量に対して、第１のボールねじ機構６４に対して第２のボールねじ機構６５を前後に動作し、θ方向のズレ量が許容値以下になる座標を探し、第１のボールねじ機構６４に対して第２のボールねじ機構６５の相対的な位置関係（シフト量）を元にθ補正用の補正テーブルを作成する。即ち、図９（ｂ）に示されたシフト量のグラフがθ補正用の補正テーブルとなる。
【００５０】
（４）また、θ方向におけるズレ量を補正するには、第１及び第２のボールねじ機構６４，６５の正確なストロークが要求される。このため、ボールねじ６４ａ，６５ａのリードピッチや機構部の組み付けによって発生するメカニカルな相対的位置誤差を第１及び第２のボールねじ機構６４，６５の位置偏差から把握し、図１０に示すようなボールねじ機構６４，６５のストロークの相対関係の補正テーブルを作成する。
【００５１】
（５）さらに、θ補正用の補正テーブル、及びストローク相対関係の補正テーブルを取得後、これらを元に、Ｙ方向のズレ量を測定し、図１１に示す補正テーブルを作成する。ここで、レーザー測長機等、Ｙ方向のズレ量を測定する測定手段が設けられている場合には、実測されたＹ方向のズレ量と、２つの補正テーブルを用いて、図１１に示す補正テーブルを作成する。一方、測定手段がない場合には、本実施形態の倣いカメラを使用して、基板Ｗのブラックマトリクスの線をトレースして、Ｙ方向のズレ量を計測したものをＹ方向の補正テーブルとして取得してもよい。
【００５２】
（６）そして、各Ｘ方向搬送機構５０，５１が基板ＷをＸ方向に搬送する際、駆動モータ６４ｂ，６５ｂの同期制御において理論上生成される指令パルスに（５）で得られた補正テーブルにて算出される補正データを加え、各ボールねじ機構６４，６５のサーボアンプに対して指令パルスを出力し、各ボールねじ機構６４，６５を駆動する。
【００５３】
（７）第１のボールねじ機構６４と第２のボールねじ機構６５間の位置偏差を監視して、偏差が規定値（２軸偏差拡大エラー量）以上の場合、追従アラームとして基板搬送機構１４を保護する。
【００５４】
以上説明したように、本実施形態のスキャン露光装置１によれば、基板搬送機構１４の各基板駆動ユニット１６，１７は、基板Ｗを吸着保持する吸着パッド５６，５７と、吸着パッド５６，５７をＸ方向に搬送するためのＸ方向搬送機構５０，５１と、互いに平行に配置され、且つ互いに独立して駆動可能な第１及び第２のボールねじ機構６４，６５を備えて、吸着パッド５６，５７をＹ方向に移動可能、且つ、θ方向に揺動可能なＹ方向搬送機構５４，５５と、を有するので、基板搬送機構１４のＸ方向搬送機構５０，５１の通り精度のみに依存することなく、θ方向のズレ量を補正して、露光精度を向上することができる。
【００５５】
特に、本実施形態のような、ツインステージのスキャン露光装置１においては、Ｘ方向搬送機構５０，５１の移動距離が長くなるため、θ方向のズレ量を補正することは、露光精度向上に非常に有効である。
【００５６】
また、本発明のスキャン露光装置１の基板搬送方法によれば、上記構成を備え、Ｘ方向搬送機構５０，５１がＸ方向に移動する際、第１の送り機構のθ方向におけるズレ量を測定する工程と、Ｘ方向搬送機構５０，５１がＸ方向に移動する際の、ズレ量が許容値以下となる、Ｙ方向搬送機構５４，５５の第１及び第２のボールねじ機構６４，６５の相対的な位置関係を含む補正テーブルを作成する工程と、補正テーブルに基づいて、これらボールねじ機構６４，６５を駆動する工程と、を有するので、基板搬送機構１４のＸ方向搬送機構５０，５１の通り精度のみに依存することなく、θ方向のズレ量を補正して、露光精度を向上することができる。
【００５７】
さらに、補正テーブルは、第１及び第２のボールねじ機構６４，６５のメカニカルな相対的位置誤差を含むので、ボールねじ機構６４，６５の組み付けやリードピッチによる誤差によって影響されることなく、θ方向のズレ量を補正することができ、露光精度をさらに向上することができる。
【００５８】
なお、本実施形態では、基板交換領域Ｃ１，Ｃ２にプリアライメント台３，４を配置して、基板Ｗの搬入・搬出とプリアライメントとを同じ位置で行っているが、図１２に示すように、基板交換部８０，８１をプリアライメント台３，４とを別々に設けて、基板の搬入・搬出とプリアライメントとを別な位置で行っても良い。
この場合、基板搬送機構１４によるＸ方向における移動距離はさらに長くなるので、本発明のθ方向のズレ量を補正することは有効である。
【００５９】
或いは、第１及び第２の基板保持領域にそれぞれプリアライメント機構を設けて、プリアライメント及び露光動作を行っている間に、基板の搬入・搬出を行うように構成してもよい。
【００６０】
さらに、本実施形態では、往路搬送から復路搬送に切り替える際の、複数のマスクＭと基板Ｗとが直交方向に移動する所定の距離Ｌは、隣接するマスクＭのマスクパターン８５，８６のＹ方向における中心間距離Ｄの略１／２としたが、コストとタクトとの関係が供される範囲で、中心間距離Ｄの略１／３あるいは略１／４であってもよい。
【００６１】
また、撮像手段３５は、１台の撮像手段３５を第１検知位置ＳＰ１と第２検知位置ＳＰ２との間で移動させるようにしたが、撮像手段３５を２台準備してそれぞれ第１検知位置ＳＰ１および第２検知位置ＳＰ２に固定設置してもよい。或いは、１台の撮像手段３５を第１検知位置ＳＰ１に固定設置すると共に、第１検知位置ＳＰ１および第２検知位置ＳＰ２にそれぞれ可動ミラーおよび固定ミラーを配置して、第１検知位置ＳＰ１においては直接、撮像手段３５で基板ＷとマスクＭの相対位置を検知し、第２検知位置ＳＰ２においてはミラーを介して基板ＷとマスクＭの相対位置を検知するようにしてもよい。
【００６２】
（第２実施形態）
次に、本発明の第２実施形態に係るスキャン露光装置１について、図１３及び図１４を参照して説明する。なお、第１実施形態と同一又は同等部分いついては、同一符号を付して説明を省略或いは簡略化する。本実施形態は、第１及び第２の基板駆動ユニット１６，１７の構成において、一対の案内レールと一対のリニアガイドを追加した以外は、第１実施形態の構成と同様であり、これらの構成を以下に説明する。
【００６３】
図１３及び図１４に示すように、第１及び第２の基板駆動ユニット１６，１７では、第１実施形態と同様、移動基台５２，５３は、Ｘ方向搬送機構５０，５１によってＸ方向に沿って往復搬送される。一方、移動基台５２，５３上に配設される第２の送り機構である本実施形態のＹ方向搬送機構５４，５５は、第１及び第２の駆動軸（ボールねじ機構）６４，６５、直動案内部としての一対のリニアガイド９３ａ，９３ｂ、支持板９４、支持軸９５、転がり軸受９６、軸受ハウジング９７をそれぞれ備える。また、各Ｙ方向搬送機構５４，５５の軸受ハウジング９７の上面には、吸着パッド５６，５７を備えたチャックベース９８の両端部がそれぞれ取り付けられている。
【００６４】
Ｙ方向搬送機構５４，５５の各第１及び第２のボールねじ機構６４，６５は、互いに平行に配置され、且つ互いに独立して駆動可能な第１及び第２の駆動部を構成する。各第１及び第２のボールねじ機構６４，６５は、断面が略コ字状に形成され、Ｙ方向に沿って延びる凹部１００ａを形成するベース１００と、ベース１００の凹部１００ａ内で、外周面に形成された螺旋状のねじ溝１０１ａを有してＹ方向に沿って延びるねじ軸１０１と、平らな支持板９４の裏面に取り付けられ、ねじ軸１０１に沿って移動可能なスライダ１０２と、このねじ軸１０１の両端側に設けられ、図示しない軸受がそれぞれ取り付ける軸受板１０３ａ，１０３ｂと、軸受板１０３ａを越えて延びるねじ軸１０１の一端に連結される駆動モータ１０４と、を備える。スライダ１０２には、ねじ軸１０１のねじ溝１０１ａと対向して螺旋状通路を形成するねじ溝が設けられており、この螺旋状通路内を図示しない転動体が循環することでスライダ１０２がねじ軸１０１に沿って移動する。
【００６５】
ベース１００の凹部１００ａを画成する幅方向両内側面には、Ｙ方向に沿って延びる一対の案内レール１００ｂが形成されている。なお、図示しないが、この一対の案内レール１００ｂとスライダ１０２の幅方向外側面との間、及びスライダ１０２内には、転動体が循環する転動体循環路が形成されており、転動体の転動を介してナット１０２が一対の案内レール１００ｂによってスライド可能に案内される。
【００６６】
また、一対のリニアガイド９３ａ，９３ｂは、第１及び第２のボールねじ機構６４，６５のＸ方向両側に配置されており、支持板９４の裏面にスライダ１１０ａ、１１０ｂが取り付けられ、該スライダ１１０ａ，１１０ｂは、移動基台５２，５３上にＹ方向に沿って平行に配置された一対の案内レール１１１ａ，１１１ｂに転動体（図示せず）を介して跨架されている。
【００６７】
従って、駆動モータ１０４によってねじ軸１０１が回転駆動することで、案内レール１００ｂ及び一対のリニアガイド９３ａ，９３ｂによって案内されながら、スライダ１０２が取り付けられた支持板９４がＹ方向に沿って移動する。
【００６８】
また、支持板９４には、支持軸９５が立設されており、支持軸９５と軸受ハウジング９７との間に転がり軸受９６が介在している。これら支持軸９５、転がり軸受９６、及び軸受ハウジング９７は、チャックベース９８と支持板９４との間に設けられ、支持板９４に対してチャックベース９８のθ方向への移動を許容する角度調整機構を構成する。なお、転がり軸受９６には、玉軸受やころ軸受等の任意の軸受が適用できる。
【００６９】
これにより、Ｙ方向搬送機構５４，５５は、各第１及び第２のボールねじ機構６４，６５を同期して駆動することで、チャックベース９８の吸着パッド５６、５７を移動基台５２，５３に対してＹ方向に移動することができる。また、Ｙ方向搬送機構５４，５５は、各第１及び第２のボールねじ機構６４，６５の移動量を変えて支持板９４のＹ方向位置を変更することで、転がり軸受９６によってチャックベース９８の吸着パッド５６、５７を移動基台５２，５３に対してθ方向に揺動可能とする。
【００７０】
従って、本実施形態の第１及び第２の基板駆動ユニット１６，１７においても、上記構成とすることで、θ方向のズレ量をリアルタイムで補正することができ、露光精度を向上することができる。また、このような構成により、図６に示すようなアライメントピン７２によるθ方向の補正を行うことなく、基板Ｗを第１及び第２の基板駆動ユニット１６，１７に載置した後で該補正を行うことができる。
さらに、Ｙ方向搬送機構５４，５５によるＹ方向駆動は、第１及び第２のボールねじ機構６４，６５の案内レール１００ｂと、一対のリニアガイド９３ａ，９３ｂによって精度良く案内することができる。
【００７１】
（第３実施形態）
次に、本発明の第３実施形態に係るスキャン露光装置１について、図１５〜図１８を参照して説明する。なお、第１及び第２実施形態と同一又は同等部分いついては、同一符号を付して説明を省略或いは簡略化する。なお、本実施形態は、第１及び第２の基板駆動ユニット１６，１７の構成において、基板支持部材２１を追加した以外は、第２実施形態の構成と同様であり、これらの構成を以下に説明する。
【００７２】
本実施形態の第１及び第２基板搬送ユニット１６，１７には、第２実施形態のＹ方向搬送機構５４，５５に加え、移動基台５２，５３の上面にボルト固定されるＬ字状の基板支持部材１２０が設けられている。基板支持部材１２０の自由端は、基板ＷのＸ方向の幅より長く形成され、その自由端側の上端面は、吸着パッド５６，５７のＹ方向の移動領域より基板側、即ち、吸着パッド５６，５７が基板Ｗ側（吸排気エアパッド２１寄り）に移動した位置よりもさらに基板側となる位置に設けられ、吸着パッド５６，５７の吸着面と略等しい高さを有して、基板Ｗの下面を支持する。なお、基板支持部材の形状は、移動するチャックベース９８と干渉しない構成であればよく、Ｌ字状に限定されるものでない。
【００７３】
このように基板支持部材１２０を配置することで、図１７及び図１８に示すように、第１実施形態の露光工程のステップＳ７ａ，Ｓ７ｂに示す、吸着パッド５６，５７をＹ方向に移動させて基板Ｗを引き込んだ際、吸排気エアパッド２１と吸着パッド５６，５７との間の基板Ｗは、基板支持部材１２０の上端面１２０ａによって支持される。従って、基板Ｗが吸排気エアパッド２１と吸着パッド５６，５７との間で撓むのを防止することができる。
【００７４】
（第４実施形態）
次に、本発明の第４実施形態に係るスキャン露光装置１ａについて、図１９を参照して説明する。なお、第１実施形態と同一又は同等部分いついては、同一符号を付して説明を省略或いは簡略化する。
【００７５】
本実施形態のスキャン露光装置１ａでは、複数のマスク保持部１１がＹ方向に千鳥状に二列に並んで配置される。また、基板ＷがＸ方向において一方向からのみ搬送されて露光される構成であり、基板搬送機構１４は１台の基板駆動ユニット１６を備える。
【００７６】
このような本実施形態のスキャン露光装置１ａにおいても、基板駆動ユニット１６が第２又は第３実施形態と同様の構成を備え、同様の基板搬送方法が適用されることで、基板搬送機構１４の通り精度のみに依存することなく、θ方向のズレ量を補正して、露光精度を向上することができる。
【００７７】
尚、本発明は、前述した実施形態に限定されるものではなく、適宜、変形、改良、等が可能である。
【００７８】
また、本実施形態では、基板搬送ロボットとして、２本のアームを有するハンドリングロボットを使用したが、コンベアやエア浮上させて駆動する機構等、他の搬送方法であってもよい。
【００７９】
さらに、本実施形態においては、基板搬送機構１４は、浮上ユニット１５ａ，１５ｂと第１及び第２基板駆動ユニット１６，１７によって基板Ｗを浮上して保持しながら搬送する場合について述べたが、これに限らず、基板Ｗを上面に載置しながら保持及び搬送するものであってもよい。
【符号の説明】
【００８０】
１，１ａ      スキャン露光装置
３，４  プリアライメント台
１０    基板搬送機構
１１    マスク保持部
１３    照射部
１６    第１の基板駆動ユニット
１７    第２の基板駆動ユニット
３５    撮像手段
５０，５１  Ｘ方向搬送機構（第１の送り機構）
５４，５５  Ｙ方向搬送機構（第２の送り機構）
６４  第１のボールねじ機構（第１の駆動軸）
６５  第２のボールねじ機構（第２の駆動軸）
８３    第１の転写パターン
８４    第２の転写パターン
８５，８６    マスクパターン
９３ａ，９３ｂ  リニアガイド
９４  支持板
９５  支持軸（角度調整機構）
９６  転がり軸受（角度調整機構）
９７  軸受ハウジング（角度調整機構）
Ａ      露光領域
Ｂ１    第１の基板保持領域
Ｂ２    第２の基板保持領域
Ｃ１    第１の基板交換領域
Ｃ２    第２の基板交換領域
Ｌ      所定の距離
Ｍ      マスク
Ｗ      基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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