Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成16年10月1日(2004.10.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１つ以上の電子吸引性置換基を有する芳香族化合物からなる群から選ばれる基質をフッ素化する方法であり、基質を次の式Ｉのトリ（ハロ−もしくはトリフルオロメチル）置換Ｎ−フルオロトリアジニウム塩と接触させることを含む方法：
【化１】
2002255861.tif 000001
ここで：
３つのＡ部分は独立してＣＲであり、各Ｒは独立してハロゲンもしくはトリフルオロメチルであり；
２つのＡ部分は独立してＺであり、各Ｚは独立して窒素もしくは４級窒素原子であり；そして
Ｙ-はフッ素による化学的攻撃に不活性である対イオンもしくは対イオン群である。
【請求項２】
Ｎ−フルオロトリアジニウム塩が次の式ＩＡのＮ−フルオロ−１，２，４−トリアジニウム化合物である請求項１記載の方法：
【化２】
2002255861.tif 000002
ここで：
Ｒ1，Ｒ2およびＲ3は独立してハロゲンもしくはトリフルオロメチル；
Ｚ1およびＺ2は独立して窒素もしくは４級窒素原子；そして
Ｙ-はフッ素による化学的攻撃に不活性である対イオンもしくは対イオン群である。
【請求項３】
Ｎ−フルオロトリアジニウム塩が次の式ＩＢのＮ−フルオロ−１，３，５−トリアジニウム化合物である請求項１記載の方法：
【化３】
2002255861.tif 000003
ここで：
Ｒ1，Ｒ2およびＲ3は独立してハロゲンもしくはトリフルオロメチル；
Ｚ1およびＺ2は独立して窒素もしくは４級窒素原子；そして
Ｙ-はフッ素による化学的攻撃に不活性である対イオンもしくは対イオン群である。
【請求項４】
Ｒ置換基、すなわちＲ1，Ｒ2およびＲ3が塩素、フッ素およびトリフルオロメチルからなる群から選ばれる請求項１〜３のいずれかに記載の方法。
【請求項５】
芳香族基質がクロロベンゼンおよびニトロベンゼンからなる群から選ばれる請求項４記載の方法。
【請求項６】
Ｒ置換基、すなわちＲ1，Ｒ2およびＲ3が同一である請求項１〜５のいずれかに記載の方法。
【請求項７】
各Ｒ、すなわちＲ1，Ｒ2およびＲ3のそれぞれが塩素である請求項６記載の方法。
【請求項８】
各Ｒ、すなわちＲ1，Ｒ2およびＲ3のそれぞれがフッ素である請求項６記載の方法。
【請求項９】
非置換芳香族化合物および１つ以上の電子吸引性置換基を有する芳香族化合物からなる群から選ばれる基質をフッ素化する方法であり、基質を次の式Ｉのトリ（ハロ−もしくはトリフルオロメチル）置換Ｎ−フルオロトリアジニウム塩と接触させることを含む方法：
【化４】
2002255861.tif 000004
ここで：
３つのＡ部分は独立してＣＲであり、各Ｒは独立してトリフルオロメチルであり；
２つのＡ部分は独立してＺであり、各Ｚは独立して窒素もしくは４級窒素原子であり；そして
Ｙ-はフッ素による化学的攻撃に不活性である対イオンもしくは対イオン群である。
【請求項１０】
両方のＺ、すなわちＺ1およびＺ2の両方が窒素もしくはフッ素化した４級窒素である請求項１〜９のいずれかに記載の方法。
【請求項１１】
両方のＺ、すなわちＺ1およびＺ2の両方が窒素である請求項１０記載の方法。
【請求項１２】
Ｎ−フルオロトリアジニウム塩が次の式ＩＩのＮ−フルオロ−１，３，５−トリアジニウム化合物である請求項１１記載の方法：
【化５】
2002255861.tif 000005
ここでＲ1，Ｒ2，Ｒ3およびＹ-は請求項３に規定されたとおりである。
【請求項１３】
Ｎ−フルオロトリアジニウム塩が次の式ＩＩＡのＮ−フルオロ−２，４，６−トリクロロ−１，３，５−トリアジニウム化合物である請求項１２記載の方法：
【化６】
2002255861.tif 000006
ここでＹ-はフッ素による化学的攻撃に不活性である対イオンもしくは対イオン群である。
【請求項１４】
Ｎ−フルオロトリアジニウム塩が次の式ＩＩＢのＮ−フルオロ−２，４，６−トリフルオロ−１，３，５−トリアジニウム化合物である請求項１２記載の方法：
【化７】
2002255861.tif 000007
ここでＹ-はフッ素による化学的攻撃に不活性である対イオンもしくは対イオン群である。
【請求項１５】
非置換芳香族化合物および１つ以上の電子吸引性置換基を有する芳香族化合物からなる群から選ばれる基質をフッ素化する方法であり、基質を次の式ＩＩＣのＮ−フルオロ−２，４，６−トリス（トリフルオロメチル）−１，３，５−トリアジニウム化合物と接触させることを含む方法：
【化８】
2002255861.tif 000008
ここで、Ｙ-はフッ素による化学的攻撃に不活性である対イオンもしくは対イオン群である。
【請求項１６】
Ｙ-が、フッ化物、フルオロ硫酸塩、アルカンスルホン酸塩、アルキル硫酸塩、ペルフルオロアルカンスルホン酸塩、アレーンスルホン酸塩、アルカンカルボン酸塩、ペルフルオロアルカンカルボン酸塩、テトラフルオロホウ酸塩、テトラフェニルホウ酸塩、ヘキサフルオロリン酸塩、ヘキサフルオロアンチモン酸塩、ヘキサフルオロヒ酸塩、塩素酸塩、硫酸塩（＝２Ｙ-）、硫酸水素塩およびＦ（ＨＦ）x-（ｘは少くとも１）からなる群から選ばれる請求項１〜１５のいずれかに記載の方法。
【請求項１７】
Ｙ-がフッ化物、テトラフルオロホウ酸塩、トリフレート、トシレート、ヘキサフルオロヒ酸塩およびヘキサフルオロリン酸塩からなる群から選ばれる請求項１６記載の方法。
【請求項１８】
Ｙ-がトリフレートである請求項１７記載の方法。
【請求項１９】
接触がニトロメタンを含む溶媒中で行われる請求項１〜１８のいずれかに記載の方法。
【請求項２０】
１つ以上の電子吸引性置換基を有する芳香族化合物からなる群から選ばれる基質をフッ素化する方法であり、基質を次の式ＩＩのＮ−フルオロ−１，３，５−トリアジニウム化合物と接触させることを含む方法：
【化９】
2002255861.tif 000009
ここで：
Ｒ1，Ｒ2およびＲ3は塩素、フッ素およびトリフルオロメチルからなる群から選ばれ、そして
Ｙ-は、フッ化物、フルオロ硫酸塩、アルカンスルホン酸塩、アルキル硫酸塩、ペルフルオロアルカンスルホン酸塩、アレーンスルホン酸塩、アルカンカルボン酸塩、ペルフルオロアルカンカルボン酸塩、テトラフルオロホウ酸塩、テトラフェニルホウ酸塩、ヘキサフルオロリン酸塩、ヘキサフルオロアンチモン酸塩、ヘキサフルオロヒ酸塩、塩素酸塩、硫酸塩（＝２Ｙ-）、硫酸水素塩およびＦ（ＨＦ）x-（ｘは少くとも１）からなる群から選ばれる。
【請求項２１】
Ｙ-がフッ化物、テトラフルオロホウ酸塩、トリフレート、トシレート、ヘキサフルオロヒ酸塩およびヘキサフルオロリン酸塩からなる群から選ばれる請求項２０記載の方法。
【請求項２２】
Ｒ1，Ｒ2およびＲ3のそれぞれが同一である請求項２１記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年4月19日(2005.4.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】多孔質セラミック部材の欠陥検査方法、多孔質セラミック部材の製造方法、及び、多孔質セラミック部材の欠陥検査装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
多孔質セラミック部材に存在する欠陥の検出を行う欠陥検査方法であって、前記多孔質セラミック部材は、その長手方向に多数の貫通孔が並設され、前記貫通孔の一端部は、市松模様に充填材が充填されており、かつ、他端部は、前記一端部に充填材が充填されていない貫通孔に充填材が充填されている柱状の多孔質セラミック部材であり、前記多孔質セラミック部材の欠陥の検出は、前記多孔質セラミック部材の一端から前記多孔質セラミック部材の貫通孔に平行になるように光を照射し、前記多孔質セラミック部材の他端部に漏洩してくる光を検出することにより行うことを特徴とする多孔質セラミック部材の欠陥検査方法。
【請求項２】
多数の貫通孔が長手方向に並設され、前記貫通孔の一端部に市松模様に充填材が充填され、他端部には、前記一端部に充填材が充填されていない貫通孔に充填材が充填された成形体を焼成して多孔質セラミック部材を製造した後、該多孔質セラミック部材の一端から前記貫通孔に平行になるように光を照射し、他端部から漏洩してくる光を検出して、欠陥検査を行い、欠陥が検出されなかった多孔質セラミック部材を製品とすることを特徴とする多孔質セラミック部材の製造方法。
【請求項３】
多孔質セラミック部材はセラミックフィルタとして機能することを特徴とする請求項２に記載の多孔質セラミック部材の製造方法。
【請求項４】
多孔質セラミック部材に存在する欠陥の検出を行う欠陥検査装置であって、前記多孔質セラミック部材は、その長手方向に多数の貫通孔が並設され、前記貫通孔の一端部は、市松模様に充填材が充填されており、かつ、他端部は、前記一端部に充填材が充填されていない貫通孔に充填材が充填されている柱状の多孔質セラミック部材であり、前記欠陥検査装置は、前記多孔質セラミック部材の一端から前記多孔質セラミック部材の貫通孔に平行になるように光を照射する光照射手段と、前記多孔質セラミック部材の他端部に漏洩してくる光を検出する光検出手段と、前記多孔質セラミック部材を、前記光照射手段と前記光検出手段とを結ぶ直線と前記貫通孔とが平行になるように、前記光照射手段と前記光検出手段との間に前記多孔質セラミック部材を移動させた後、前記多孔質セラミック部材の一端部から前記充填材で目封じされた貫通孔を含む全ての貫通孔に光が照射されるように、前記多孔質セラミック部材を逐次移動させるように構成された移動手段とを備えていることを特徴とする多孔質セラミック部材の欠陥検査装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、多孔質セラミック部材の欠陥の検出を行うための多孔質セラミック部材の欠陥検査方法、多孔質セラミック部材の製造方法、及び、この多孔質セラミック部材の欠陥検査に用いられる検査装置に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、これらの問題を解決するためになされたもので、多孔質セラミック部材の欠陥を安価で安全に、しかも、精度よく検出することができる多孔質セラミック部材の欠陥検査方法、該欠陥検査方法を用いた多孔質セラミック部材の製造方法、及び、上記多孔質セラミック部材の検査方法に用いられる検査装置を提供することを目的とするものである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明の多孔質セラミック部材の欠陥検査方法は、多孔質セラミック部材に存在する欠陥の検出を行う欠陥検査方法であって、上記多孔質セラミック部材は、その長手方向に多数の貫通孔が並設され、上記貫通孔の一端部は、市松模様に充填材が充填されており、かつ、他端部は、上記一端部に充填材が充填されていない貫通孔に充填材が充填されている柱状の多孔質セラミック部材であり、上記多孔質セラミック部材の欠陥の検出は、上記多孔質セラミック部材の一端から上記多孔質セラミック部材の貫通孔に平行になるように光を照射し、上記多孔質セラミック部材の他端部に漏洩してくる光を検出することにより行うことを特徴とするものである。
また、本発明の多孔質セラミック部材の製造方法は、多数の貫通孔が長手方向に並設され、上記貫通孔の一端部に市松模様に充填材が充填され、他端部には、上記一端部に充填材が充填されていない貫通孔に充填材が充填された成形体を焼成して多孔質セラミック部材を製造した後、該多孔質セラミック部材の一端から上記貫通孔に平行になるように光を照射し、他端部から漏洩してくる光を検出して、欠陥検査を行い、欠陥が検出されなかった多孔質セラミック部材を製品とすることを特徴とするものである。
【手続補正書】
【提出日】平成17年9月6日(2005.9.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】
前記ジョブ情報が、
ユーザインターフェース設定情報と、
分析ソフトウエアの操作を自動化または半自動化するために、分析ソフトウエアの機能の呼び出し順と機能実行に必要なパラメタが記述された機能呼び出し情
報と、
からなる請求項１記載の分析システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４】
前記ジョブ情報が、
ユーザインターフェース設定情報と、
機能呼び出し情報と、
分析ソフトウエアの分析結果出力の書式が記述された出力書式情報と、
からなる請求項１記載の分析システム。
【手続補正書】
【提出日】平成16年7月6日(2004.7.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図面の簡単な説明
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図面の簡単な説明】
【図１】
実施例１に係る赤外線ズームレンズの望遠端におけるレンズ構成を示す図
【図２】
上記実施例１に係る赤外線ズームレンズの、望遠端（Ａ）、中間位置（Ｂ）、広角端（Ｃ）における各レンズ群の位置関係を示す図
【図３】
実施例２に係る赤外線ズームレンズの望遠端におけるレンズ構成を示す図
【図４】
上記実施例２に係る赤外線ズームレンズの、望遠端（Ａ）、中間位置（Ｂ）、広角端（Ｃ）における各レンズ群の位置関係を示す図
【図５】
実施例３に係る赤外線２焦点レンズの望遠端におけるレンズ構成を示す図
【図６】
上記実施例３に係る赤外線２焦点レンズの、望遠端（Ａ）、広角端（Ｂ）における各レンズ群の位置関係を示す図
【図７】
上記実施例１に係る赤外線ズームレンズの諸収差を示す収差図
【図８】
上記実施例２に係る赤外線ズームレンズの諸収差を示す収差図
【図９】
上記実施例３に係る赤外線２焦点レンズの諸収差を示す収差図
【図１０】
上記実施例３に係る赤外線２焦点レンズを備えたパノラマ観察光学系の構成を示す概略図
【図１１】
従来の赤外線用パノラマ観察光学系の構成を示す概略図
【手続補正書】
【提出日】平成17年2月1日(2005.2.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
それぞれが少なくとも１つのメインプロセッサを備える複数のセルボードと、
前記セルボードのそれぞれに接続されるサービス・プロセッサと、
を備え、各パーティションが少なくとも１つの前記セルボードを備え、前記サービス・プロセッサは前記パーティションの動作を管理し、各パーティションは異なるパーティションのメモリのアクセスを防止され、前記サービス・プロセッサは、許可を受けたユーザにアクセスを制限して、コンピュータ・システムのセキュリティを維持する、マルチパーティション・コンピュータ・システム。
【請求項２】
それぞれが少なくとも１つのセルボードを有する複数のパーティションと、それぞれが少なくとも１つのメインプロセッサを備える複数のセルボードとを有するコンピュータ・システムの動作方法であって、
前記セルボードのそれぞれに接続されるサービス・プロセッサを提供するステップと、
前記サービス・プロセッサを介して前記パーティションの動作を管理するステップと、
それぞれのパーティションが異なるパーティションのメモリにアクセスしないようにするステップと、
前記サービス・プロセッサが前記コンピュータ・システムのＪＴＡＧ走査試験を助けるステップと、
を含む方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年2月4日(2005.2.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のパーティションを備えるコンピュータシステムであって、
それぞれが少なくとも１つのメインプロセッサを含む複数のセルボードと、
前記セルボードのそれぞれに接続されたサービス・プロセッサと、
前記コンピュータシステムの構成を記述するデータと、
を備え、
前記パーティションのそれぞれが少なくとも１つの前記セルボードを含んでおり、前記サービス・プロセッサが前記パーティションの構成を管理しており、
前記サービス・プロセッサおよび前記セルボードのそれぞれが前記データのコピーを格納しており、前記サービス・プロバイダは前記コンピュータシステムがオンライン状態の間に置き換えられることが可能である、コンピュータシステム。
【請求項２】
複数のパーティションおよび複数のセルボードを備えるコンピュータシステムを操作する方法であって、
前記セルボードのそれぞれに接続されたサービス・プロセッサを提供するステップと、
前記コンピュータシステムの構成を記載するデータを提供するステップと、
前記データのコピーを前記サービス・プロバイダおよび前記セルボードのそれぞれに格納するステップと、
前記サービス・プロセッサを介して、前記パーティションの構成を管理するステップと、
少なくとも１つのＵＳＢ形式バスを使用して、前記サービス・プロセッサと前記セルボードとの間の通信を提供するステップと、
を有する方法。
【請求項３】
複数のパーティションを備えるコンピュータシステムであって、
複数のセルボードを有し、
前記パーティションのそれぞれが少なくとも１つのセルボードを含んでおり、前記セルボードのそれぞれは、他のセルボードが他のパーティションから独立に該パーティションの一部であっても良いかどうかを判定することが可能であり、
前記コンピュータシステムは、
前記セルボードのそれぞれに接続されたサービス・プロセッサを有し、
該サービス・プロセッサは前記パーティションの構成を管理しており、前記サービス・プロセッサおよび前記セルボードのそれぞれが前記コンピュータシステムの構成を記述するデータのコピーを格納しており、
リセット後に、前記セルボードのそれぞれは、他のセルボードが該パーティションの一部にならないようにするデフォルト構成を入力し、前記サービス・プロセッサは各セルの前記デフォルト構成を別の構成に変更する、コンピュータシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成16年2月25日(2004.2.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アプリケーションが表示するログイン画面に対して自動的にログイン操作を代行する自動ログインシステムにおいて、アプリケーションが表示するパスワード変更画面に対して自動的に応答することにより、自動ログインシステムが保持するパスワードとアプリケーションが保持するパスワードを同時に変更することを特徴とするパスワード変更方法。
【請求項２】
アプリケーションプログラムを利用するためのパスワードを格納する第二のログイン情報データベースを保持する第二の計算機と、
前記アプリケーションプログラムへのログイン操作に使用するパスワードを格納する第一のログイン情報データベースと、
前記アプリケーションプログラムへのログイン画面が表示されていることを検出した場合に、前記第一のログイン情報データベースから取得したパスワードの前記ログイン画面への入力操作を実行する自動ログイン画面監視部と、
前記アプリケーションプログラムを利用するための前記パスワードの変更指示を受付けるパスワード変更画面が表示されているか否かを判定するパスワード変更画面監視部と、
前記パスワード変更画面監視部による前記判定結果に応じて、前記アプリケーションプログラムを利用するための新パスワードを取得し、前記第二のログイン情報データベースに格納されている前記パスワード及び前記第一のログイン情報データベースに格納されている前記パスワードとを、取得した前記新パスワードに変更するパスワード変更処理部とを有する第一の計算機と
を含む自動ログインシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成16年11月29日(2004.11.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被測定信号を所定周期で周波数掃引して中間周波数信号に変換して出力する受信部（６）と、
前記中間周波数信号を受けて、被測定信号のポジティブピーク値及びネガティブピーク値を検出して出力するとともにクロックでリセットされる検波部（１８）と、
前記所定周期内に所定サンプリング数ｍ（整数）で前記検波部の出力を前記クロックに同期してサンプリングしてデジタルデータに変換して出力するＡ／Ｄ変換部（１９）と、
前記所定周期内のデジタルデータを受けてｋ（１以上ｍ以下の整数）個のサンプリング数毎に前記ポジティブピーク値とネガティブピーク値との平均値を求めて出力する信号処理部（２１）と、
前記信号処理部の出力を受けて前記被測定信号のスペクトラム波形として表示する表示部（１７）と、
を備えたことを特徴とするスペクトラムアナライザ。
【請求項２】
前記表示部（１７）は、前記被測定信号のポジティブピーク値を基にしたスペクトラム波形、被測定信号のネガティブピーク値を基にしたスペクトラム波形、被測定信号のポジティブピーク値とネガティブピーク値との平均値を基にしたスペクトラム波形のいずれかを選択して、又は同時に表示可能とした請求項１記載のスペクトラムアナライザ。
【請求項３】
前記Ａ／Ｄ変換部（１９）は、１個のＡ／Ｄ変換器を有し、前記検波部（１８）が検出した被測定信号のポジティブピーク値又はネガティブピーク値を交互に前記クロック毎に切り替えてデジタルデータに変換し、
前記信号処理部（２１）は、前記Ａ／Ｄ変換器から交互に変換されたポジティブピーク値とネガティブピーク値とを取り込み、ｈ（２以上ｍ以下の整数）個のサンプリング数毎にポジティブピーク値とネガティブピーク値との平均値を求める請求項１，２のいずれかに記載のスペクトラムアナライザ。
【請求項４】
前記検波部（１８）は、前記被測定信号の入力信号経路に対し互いに並列接続されたポジティブピーク検出回路（２６）及びネガティブピーク検出回路（２７）と、
前記ポジティブピーク検出回路及びネガティブピーク検出回路にそれぞれ設けられ各検出したピーク値を保持する保持回路とを有し、
前記Ａ／Ｄ変換部（１９）は、前記ポジティブピーク検出回路とネガティブピーク検出回路の出力をそれぞれ独立してＡ／Ｄ変換する請求項１、２のいずれかに記載のスペクトラムアナライザ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、本発明のスペクトラムアナライザは、被測定信号を所定周期で周波数掃引して中間周波数信号に変換して出力する受信部（６）と、  前記中間周波数信号を受けて、被測定信号のポジティブピーク値及びネガティブピーク値を検出して出力するとともにクロックでリセットされる検波部（１８）と、
前記所定周期内に所定サンプリング数ｍ（整数）で前記検波部の出力を前記クロックに同期してサンプリングしてデジタルデータに変換して出力するＡ／Ｄ変換部（１９）と、
前記所定周期内のデジタルデータを受けてｋ（１以上ｍ以下の整数）個のサンプリング数毎に前記ポジティブピーク値とネガティブピーク値との平均値を求めて出力する信号処理部（２１）と、
前記信号処理部の出力を受けて前記被測定信号のスペクトラム波形として表示する表示部（１７）と、
を備えたことを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
また、前記表示部（１７）は、前記被測定信号のポジティブピーク値を基にしたスペクトラム波形、被測定信号のネガティブピーク値を基にしたスペクトラム波形、被測定信号のポジティブピーク値とネガティブピーク値との平均値を基にしたスペクトラム波形のいずれかを選択して、又は同時に表示可能な構成にできる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
また、前記Ａ／Ｄ変換部（１９）は、１個のＡ／Ｄ変換器を有し、前記検波部（１８）が検出した被測定信号のポジティブピーク値又はネガティブピーク値を交互に前記クロック毎に切り替えてデジタルデータに変換し、
前記信号処理部（２１）は、前記Ａ／Ｄ変換器から交互に変換されたポジティブピーク値とネガティブピーク値とを取り込み、ｈ（２以上ｍ以下の整数）個のサンプリング数毎にポジティブピーク値とネガティブピーク値との平均値を求める構成としてもよい。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
上記構成によれば、入力される被測定信号のポジティブピーク値とネガティブピーク値が検出される。また、これらポジティブピーク値とネガティブピーク値との平均値が算出される。表示部上にはポジティブピーク値、ネガティブピーク値、これらの平均値のスペクトラム波形が選択的、あるいは同時に波形表示される。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
これにより、表示部１７上には、図４の表示例の如く、所定の周波数範囲でポジティブピーク値とネガティブピーク値（いずれも点線で図示）との平均値（実線）を表示できるようになる。図中横軸方向は上記Ａ／Ｄ変換部１９の所定クロック（例えば５０１回）分の周波数範囲、縦軸は各周波数におけるレベルが表示されることになる。
そして、上記構成の装置によれば、上記ポジティブピーク値及びネガティブピーク値の取得単位（ＰＯＳ、ＮＥＧの表示書き換え周期）で平均値が算出された周波数部分の表示がリアルタイムに順次更新されていく。
【手続補正書】
【提出日】平成16年3月15日(2004.3.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
走査検出機構１７は試料ディスク１の上面側にて半径方向へ数値制御可能で往復移動可能に支持されたキャリッジ３１に設けられ、光源３３からのレーザ光を、試料ディスク１上面にて所定のビーム径で収束するように照射する対物レンズ３５と、キャリッジ３１を半径方向へ数値制御可能に移動する直線駆動装置３７と、試料ディスク１の上面から反射した光の内、例えば蛍光物質の蛍光を受光して電気信号を出力する受光部材３９とから構成される。なお、受光部材３９には蛍光波長のみを通過させる光学的フィルター（図示せず）が設けられている。


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】符号の説明
【補正方法】変更
【補正の内容】
【符号の説明】
１−試料ディスク、３−プラスチック基板、５−記録層、７−試料プローブ、１１−試料解析装置
【手続補正書】
【提出日】平成16年5月17日(2004.5.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
図２は、転送データＤｉ〜Ｄｌ、転送クロックＴＣｉ〜ＴＣｌ、転送データ確定信号Ｓ２、及び走査電極駆動制御信号Ｓ１の各波形を示すタイミングチャートである。図２に示すように、転送データＤｉ〜Ｄｌは、例えばシステムクロックの１クロック分だけ互いに位相を異ならせて、信号処理回路７から出力されている。同様に転送クロックＴＣｉ〜ＴＣｌも、例えばシステムクロックの１クロック分だけ互いに位相を異ならせて、制御回路６から出力されている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
実施の形態３．
図５は、図１に示した信号処理回路７の具体的な構成を示すブロック図である。図５では特に、信号処理回路７の出力部分の構成を示している。また、１本の走査電極２に６４個の放電セルが含まれており、第ｉ〜第ｌの各群にそれぞれ１６本のアドレス電極３が含まれている場合を想定している。画像データ記憶部８は半導体メモリによって構成されており、８ビットのディジタルデータを一単位として出力する。
【手続補正書】
【提出日】平成16年4月23日(2004.4.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】書画カメラ装置付きプロジェクタ
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
撮像対象物を載置する書画卓と、
前記撮像対象物を撮像する書画カメラ部と、
光源からの光を、複数の小レンズ群で成る第１，第２のマルチレンズアレイを介してパネルに照射し、前記書画カメラで撮像した映像を前記パネルに表示可能とし、前記パネルから出射した映像光を投写レンズにより投射するプロジェクタ本体部と、
前記光源から第１のマルチレンズアレイを介して前記第２のマルチレンズアレイの周囲に集束する光を光伝送路に入射する光入射手段と、
前記光伝送路から出射した光を利用して前記書画卓を照明する照明装置とを具備したことを特徴とする書画カメラ装置付きプロジェクタ。
【請求項２】
前記光入射手段は、前記光伝送路の入射側に配置され、前記第２のマルチレンズアレイの周囲に集束する光を集光して前記光伝送路に入射するためのプリズムにて成ることを特徴とする請求項１記載の書画カメラ装置付きプロジェクタ。
【請求項３】
前記光伝送路は、複数の光ファイバ束にて構成したことを特徴とする書画カメラ装置付きプロジェクタ。
【請求項４】
前記照明装置は、前記光伝送路からの出射光を複数の光路に分散する光分散手段と、分散された光を拡散して前記撮像対象物を照明する拡散板とを含んで成ることを特徴とする請求項１記載の書画カメラ装置付きプロジェクタ。
【請求項５】
前記書画卓は前記プロジェクタ本体部の天面部に配置されて成ることを特徴とする請求項１記載の書画カメラ装置付きプロジェクタ。
【請求項６】
撮像対象物を撮像する書画カメラと、
光源からの光を、複数の小レンズ群で成る第１，第２のマルチレンズアレイを介してパネルに照射し、前記書画カメラで撮像した映像を前記パネルに表示可能とし、前記パネルから出射した映像光を投写レンズにより投射するプロジェクタ本体と、
前記プロジェクタ本体の天面部に配置した書画載置部と、
前記プロジェクタ本体に一端が取り付けられ、他端に前記書画載置部に置かれた書画を撮像可能に前記書画カメラを固定したアームと、
前記光源から第１のマルチレンズアレイを介して前記第２のマルチレンズアレイの周囲に集束する光を集光して出射するプリズムと、
前記プリズムから出射した光が入射される光ファイバと、
前記アームに取り付けられ、光ファイバから出射した光を拡散して書画載置部を照明する照明器具とを具備したことを特徴とする書画カメラ装置付きプロジェクタ。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、書類等の撮像対象物を撮像し、スクリーンにその撮像内容を投射する書画カメラ装置付きプロジェクタに関する。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
この発明は上記問題点を除去し、パネルの照明効率を損なわず、明るい照明光で撮像対象物の照明を行うことができる書画カメラ装置付きプロジェクタの提供を目的とする。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
【課題を解決するための手段】
本発明は、撮像対象物を載置する書画卓と、前記撮像対象物を撮像する書画カメラ部と、光源からの光を、複数の小レンズ群で成る第１，第２のマルチレンズアレイを介してパネルに照射し、前記書画カメラで撮像した映像を前記パネルに表示可能とし、前記パネルから出射した映像光を投写レンズにより投射するプロジェクタ本体部と、前記光源から第１のマルチレンズアレイを介して前記第２のマルチレンズアレイの周囲に集束する光を光伝送路に入射する光入射手段と、前記光伝送路から出射した光を利用して前記書画卓を照明する照明装置とを具備したことを特徴とする。


【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
上記構成によれば、光入射手段が、光源から第１のマルチレンズアレイを介して前記第２のマルチレンズアレイの周囲に集束する光を光伝送路に入射し、照明装置が、前記光伝送路から出射した光を利用して前記書画卓を照明するので、パネルの照明効率を損なわず、明るい照明光で撮像対象物の照明を行うことができる。


【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
図１乃至図６は本発明の実施の形態に係る書画カメラ装置付きプロジェクタを示し、図１はプロジェクタ本体部の光学系の構造を示す断面図、図２は書画カメラ装置付きプロジェクタの全体構成を示す説明図、図３はマルチレンズアレイとを拡大して示す正面図、図４は光源とマルチレンズアレイとを拡大して示す断面図、図５はプリズムと光ファイバ束の入射側を拡大して示す断面図、図６は光ファイバ束の出射側とフロスト処理板とを示す断面図である。


【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図面の簡単な説明
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る書画カメラ装置付きプロジェクタの光学系の構造を示す断面図。
【図２】本発明に係る書画カメラ装置付きプロジェクタの全体構成を示す説明図。
【図３】図１の光源とマルチレンズアレイとを拡大して示す正面図。
【図４】図１の光源とマルチレンズアレイとを拡大して示す断面図。
【図５】図１のプリズムと光ファイバ束の入射側を拡大して示す断面図。
【図６】図１の照明器具における光ファイバ束の出射側を示す断面図。
【図７】従来の書画カメラ装置付き液晶プロジェクタの液晶の光学系の構造を示す断面図。
【図８】図７の光源とマルチレンズアレイとを拡大して示す断面図。
【図９】図７の光源とマルチレンズアレイとを拡大して示す正面図。
【手続補正書】
【提出日】平成16年9月24日(2004.9.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
天地面、前後面および両側面
（第１の実施の形態）
図１および図２に本発明の第１の実施の形態を示す。第１の実施の形態に係るガゼット包装袋１は、たとえばポリエチレンなどの筒状プラスチックチューブの両側を各々谷折りしてまちを形成し、かつ所定長に切断した上下端部をヒートシールしてほぼ直方体形状としたものである。これにより左右側面２，２、前面３、後面４、天面５および下面６が形成される。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
紙おむつＰとしては、図２に示されているように、たとえばパンツ型紙おむつであり、腰回り部分を下にして、一方の側面２から他方の側面２にわたって、多数の紙おむつＰ，Ｐ…を圧縮状態でかつ縦向きに重ね合わせた状態で収納されている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
第１の実施の形態に限らず全ての実施の形態においてミシン目に代えて使用者の操作により破断可能な切れ目であってもよい。アーチ状のミシン目７の具体例としては、図示されているように、アーチの天部に膨出する指入れ切離し用部分７ａと、これに繋がるゆるやかな裾拡がり天部７ｂ，７ｂと、これに繋がって水平稜８Ａ，８Ａに平行に前面３に形成された開き部７ｃ，７ｃとを有する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
（第３の実施の形態）
図４は第３の実施の形態を示したもので、上部シール部に適宜の形状の把手部１１を切欠したものである。また、図示されているように、上部シール部の上下に補強用部材１０，１０を介在させて一体化することもできる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
（第４の実施の形態）
図５は第４の実施の形態を示したもので、天面５側に縦面（両側面２，２および前後面３，４）から延びるリブ部２２を形成し、この前後リブ部２２，２２に、手提げループ２０，２０の各両端部を適宜の結合手段２１，２１により取付けたものである。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
他の実施の形態においては、側面２の中央に指入れ切離し用部分７ａを形成してあるが、紙おむつＰ，Ｐ…は圧縮状態で収納されているので、その抵抗により、指入れ切離し用部分７ａを破断することに若干の困難性を伴うのに対して、この第４の実施の形態のようにミシン目７Ａを形成すると、指入れ切離し用部分７ａが存在する箇所においては、紙おむつＰ，Ｐ…の圧縮状態が弱いために、指入れ切離し用部分７ａの破断が容易である。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
（その他）
紙おむつＰは腰バンド側を上にしてもよい。紙おむつとして、パンツ型のものに限らず、テープ式紙おむつであってもよく、本発明の効果に相違はない。本発明のアーチ形状とは、例示のものに限定されることなく、たとえば逆Ｕ字状のものであってもよい。
【手続補正書】
【提出日】平成17年8月1日(2005.8.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項９】
キノン触媒が、６，１３−ジヒドロキナクリドンの重量０．００５〜０．１倍の量で存在し、かつ好ましくはアントラキノン、アントラキノンモノスルホン酸及びアントラキノンジスルホン酸、又はその塩よりなる群から選択され、最も好ましくはアントラキノン−２−スルホン酸、そのナトリウム塩又はそのカリウム塩である、請求項１記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年7月26日(2005.7.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
成分
（ａ）トリアジン、ベンゾトリアゾール、ビニル基含有アミド、ケイ皮酸アミドおよびスルホン化ベンゾイミダゾールからなる群より選ばれた、０．０１〜２μｍの範囲に平均粒径を有する微粉砕された有機紫外線吸収剤；
（ｂ）ｐ−アミノ安息香酸誘導体、サリチル酸誘導体、ベンゾフェノン誘導体、ジベンゾイルメタン誘導体、ジフェニルアクリレート誘導体、ベンゾフラン誘導体、１個以上のケイ素有機残基を含有する高分子紫外線吸収剤、ケイ皮酸エステル、カンファー誘導体、トリアニリノ−ｓ−トリアジン誘導体、フェニルベンゾイミダゾールスルホン酸またはその塩、ウロカニン酸（３−イミダゾール−４−イル−アクリル酸）またはそのエチルエステル、アントラニル酸メンチル、ベンゾトリアゾール、ヒドロキシフェニルトリアジン誘導体、およびビス−レソルシノール−ジアルキルアミノトリアジンからなる群より選ばれた油溶性の微粉砕されていない紫外線吸収剤および／または無機ミクロ顔料；及び
（ｃ）中空球状高分子添加物
を含む日光防御剤。
【請求項２】
微粉砕された有機紫外線吸収剤が下記式のトリアジン化合物
【化１】
1999100317.tif 000001
［式中、各基R５は同種または異種でありそしてその各々は、水素；アルカリ金属；アンモニウム基Ｎ（R６）４（ここでR６は水素または有機残基である）；Ｃ１-Ｃ３ アルキル；または１乃至１０のエチレンオキシド単位を有しそしてその末端ＯＨ基が場合によってはＣ１-Ｃ３ アルコールによってエーテル化されていてもよいポリオキシエチレン残基である］である請求項１に記載の日光防御剤。
【請求項３】
微粉砕された有機紫外線吸収剤が下記式のベンゾトリアゾール
【化２】
1999100317.tif 000002
（式中、Ｔ２ は水素またはC1−C12アルキルである）である請求項１記載の日光防御剤。
【手続補正書】
【提出日】平成16年9月15日(2004.9.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
真空チャンバと、
前記真空チャンバ内に回転自在に設置され、前記複数の基板が回転円上の取付位置に配してそれぞれ取り付けられた回転テーブルと、
前記基板の回転軌跡に対応した配設円上に配置され、複数の前記ターゲットを前記基板に対向させて個々に保持する電極と、
前記真空チャンバにおける前記基板の取付位置並びに前記電極の配設円の各々の中央部に形成された排気通路と、
を備えていることを特徴とするスパッタリング装置。
【請求項２】
真空チャンバに、複数のターゲットの各々の近傍箇所にそれぞれ個別にプロセスガスを供給する複数のガス導入管が設けられている請求項１に記載のスパッタリング装置。
【請求項３】
それぞれターゲットを保持した複数の電極が、真空チャンバの径方向に位置する複数の仕切り壁により分離されている請求項１または２に記載のスパッタリング装置。
【請求項４】
真空チャンバに、その内壁から径中心方向に向けて延びる複数の仕切り壁が一体形成されている請求項３に記載のスパッタリング装置。
【請求項５】
真空チャンバの内部が、回転テーブルの上面と前記真空チャンバの内周壁とで囲まれて基板およびターゲットが配設された上部空間と、前記回転テーブルの下面と前記真空チャンバの内周壁とで囲まれた下部空間とに分離され、前記上部空間の排気通路と前記下部空間の排気通路とが個別に設けられている請求項１ないし４のいずれかに記載のスパッタリグ装置。
【請求項６】
リング状の仕切り部材が、回転テーブルの周端面と真空チャンバの内周壁との環状の間隙に対向させて、前記回転テーブルの下面に近接した配置で前記真空チャンバの内周壁に設けられている請求項５に記載のスパッタリング装置。
【請求項７】
回転テーブルの中央部には、排気コンダクタンスが大きい径を有する排気用開口部が設けられ、
前記回転テーブルは、その下面における前記排気用開口部の周縁部が回転保持機構を介して真空チャンバの底板部に回転自在に支持され、
前記真空チャンバの底板部には、排気口が前記回転保持機構の取付部に対し内方位置で前記排気用開口部に対向して設けられているとともに、前記排気口と前記回転保持機構の取付部の外周に沿って形成された複数の排気用連通孔とを介してそれぞれ連通する排気通路部が一体に設けられ、
前記排気用開口部、前記排気口および前記排気通路部により前記真空チャンバの上部空間の排気通路が構成されているとともに、前記排気用連通孔および前記排気通路部により前記真空チャンバの下部空間の排気通路が構成されている請求項５または６に記載のスパッタリング装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、請求項１の発明は、真空チャンバと、前記真空チャンバ内に回転自在に設置され、前記複数の基板が回転円上の取付位置に配してそれぞれ取り付けられた回転テーブルと、前記基板の回転軌跡に対応した配設円上に配置され、複数の前記ターゲットを前記基板に対向させて個々に保持する電極と、前記真空チャンバにおける前記基板の取付位置並びに前記電極の配設円の各々の中央部に形成された排気通路と、を備えて構成されている。
【手続補正書】
【提出日】平成16年9月24日(2004.9.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フッ化炭素ラジカルにより被処理体に炭素系薄膜を成膜したり、被処理体をエッチングするプロセス処理において、処理容器内に配置されたフッ化樹脂材料にレーザ照射手段からレーザ光を照射して気化させてＣx Ｆy ラジカル（x ＝1 ，2 ，3 ……，y ＝0 ，1 ，2 ，3 ……）を発生させて、前記プロセスを実行することを特徴とするプロセス処理方法。
【請求項２】
フッ化炭素ラジカルにより被処理体を処理するプロセス処理において、
フッ化樹脂材料にレーザ照射手段からレーザ光を照射して気化させてＣx Ｆy ガス（x ＝1 ，2 ，3 ……，y ＝0 ，1 ，2 ，3 ……）を発生させて、前記Ｃx Ｆy ガスから得られるＣx Ｆy ラジカル（x ＝1 ，2 ，3 ……，y ＝0 ，1 ，2 ，3 ……）により、前記プロセス処理を行うことを特徴とするプロセス処理方法。
【請求項３】
被処理体に炭素系薄膜を成膜したり、被処理体をエッチングする領域であるプロセス領域と、該プロセス処理領域又は該プロセス処理領域に対して区画された領域に設けられるフッ化樹脂材料にレーザ光を照射するレーザ照射装置とを備え、フッ化樹脂材料に対するレーザ光の照射により気化してＣx Ｆy ラジカル（x ＝1 ，2 ，3 ……，y ＝0 ，1 ，2 ，3 ……）又はＣx Ｆy ガス（x ＝1 ，2 ，3 ……，y ＝0 ，1 ，2 ，3 ……）を発生させて、前記被処理体をプロセス処理することを特徴とする装置。
【請求項４】
フッ化樹脂材料にレーザ照射手段からレーザ光を照射してＣx Ｆy ガス（x ＝1 ，2 ，3 ……，y ＝0 ，1 ，2 ，3 ……）を発生させることを特徴とする装置。
【請求項５】
前記フッ化樹脂材料は所要の回転数で回転可能に設けると共にレーザ照射装置は前記フッ化樹脂材料に対してレーザ光を往復走査可能とした請求項１又は請求項２に記載のプロセス方法。
【請求項６】
前記フッ化樹脂材料は所要の回転数で回転可能に設けると共にレーザ照射装置は前記フッ化樹脂材料に対してレーザ光を往復走査可能とした請求項３又は請求項４に記載の装置。
【請求項７】
前記フッ化樹脂材料は四フッ化樹脂或いは三フッ化樹脂の何れかからなることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載のプロセス処理方法。
【請求項８】
前記プロセス領域に対して区画された領域で発生された、前記Ｃx Ｆy ラジカル（x ＝1 ，2 ，3 ……，y ＝0 ，1 ，2 ，3 ……）又はＣx Ｆy ガス（x ＝1 ，2 ，3 ……，y ＝0 ，1 ，2 ，3 ……）をプラズマ雰囲気である又はプラズマ雰囲気となる前記プロセス領域に注入して、前記プロセス処理をすることを特徴とする請求項３に記載のプロセス処理装置。
【請求項９】
前記プロセスはプラズマ処理であり、前記レーザ光はパルスレーザ光であり、前記パルスレーザ光に同期して、プラズマを発生させる高周波電力を変調制御することを特徴とする請求項１、２、５、又は７に記載のプロセス処理方法。
【請求項１０】
プラズマ発生手段を有し、前記レーザ照射装置はパルスレーザ光を照射するパルスレーザ発振装置であり、前記パルスレーザ光に同期して、前記プラズマ発生手段に印加される高周波電力を変調制御することを特徴とする請求項３、６、又は８に記載の装置。
【請求項１１】
前記Ｃx Ｆy ラジカル（x ＝1 ，2 ，3 ……，y ＝0 ，1 ，2 ，3 ……）の密度を測定して、この測定値に基づいて、前記Ｃx Ｆy ラジカルの発生量を制御することを特徴とする請求項１、２、５、７、又は９に記載のプロセス処理方法。
【請求項１２】
前記Ｃx Ｆy ラジカル（x ＝1 ，2 ，3 ……，y ＝0 ，1 ，2 ，3 ……）の密度を測定する密度測定手段と、この密度測定手段による測定値に基づいて、前記Ｃx Ｆy ラジカルの発生量を制御する発生量制御手段とを有することを特徴とする請求項３、６、８、又は１０に記載のプロセス処理方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】プロセス処理方法および装置
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、フッ化炭素ラジカルにより被処理体上に炭素系薄膜を成膜したり、被処理体に所要のパターンをエッチングするプロセス処理におけるプロセス処理方法及び装置に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
【問題点を解決するための手段】
このため請求項１は、フッ化炭素ラジカルにより被処理体に炭素系薄膜を成膜したり、被処理体をエッチングするプロセス処理において、処理容器内に配置されたフッ化樹脂材料にレーザ照射手段からレーザ光を照射して気化させてＣx Ｆy ラジカル（x ＝1 ，2 ，3 ……，y ＝0 ，1 ，2 ，3 ……）を発生させて、プロセスを実行することを特徴としている。
また、請求項２の発明は、フッ化炭素ラジカルにより被処理体を処理するプロセス処理において、フッ化樹脂材料にレーザ照射手段からレーザ光を照射して気化させてＣx Ｆy ガス（x ＝1 ，2 ，3 ……，y ＝0 ，1 ，2 ，3 ……）を発生させて、Ｃx Ｆy ガスから得られるＣx Ｆy ラジカル（x ＝1 ，2 ，3 ……，y ＝0 ，1 ，2 ，3 ……）により、プロセス処理を行うことを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
また、請求項３の発明は、被処理体に炭素系薄膜を成膜したり、被処理体をエッチングする領域であるプロセス領域と、該プロセス処理領域又は該プロセス処理領域に対して区画された領域に設けられるフッ化樹脂材料にレーザ光を照射するレーザ照射装置とを備え、フッ化樹脂材料に対するレーザ光の照射により気化してＣx Ｆy ラジカル（x ＝1 ，2 ，3 ……，y ＝0 ，1 ，2 ，3 ……）又はＣx Ｆy ガス（x ＝1 ，2 ，3 ……，y ＝0 ，1 ，2 ，3 ……）を発生させて、被処理体をプロセス処理することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成16年9月21日(2004.9.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
直立した複数のフェイス板ガラスの側端を突き合わせてガラス壁面を構成し、該ガラス壁面に対して直交して配置されたリブ板ガラスの一側端をガラス壁面に接着して該ガラス壁面を支持させる板ガラスの支持構造において、リブ板ガラス上部に、該リブ板ガラスの板厚方向に貫通する偶数個の孔を、ガラス壁面に交差する方向に並ぶように穿設し、隣接する孔の一方に一端部が対峙しかつ隣接する孔の他方に他端部が対峙する装着部材を、リブ板ガラス両側に配置し、各孔に挿通した挿通部材を装着部材に取り付け、該装着部材の該挿通部材の間に位置する部分を、躯体に固定された支持部材にピン結合したことを特徴とする板ガラスの支持構造。
【請求項２】
直立した複数のフェイス板ガラスの側端および上下端を突き合わせてガラス壁面を構成し、該ガラス壁面に対して直交して配置した複数の小板ガラスの上下端を突き合わせたリブ板ガラスの一側端をガラス壁面に接着して該ガラス壁面を支持させる板ガラスの支持構造において、隣接する小板ガラスの上下部に、該小板ガラスの板厚方向に貫通する偶数個の孔を、ガラス壁面に交差する方向に並ぶように穿設し、隣接する孔の一方の一端部が対峙しかつ隣接する孔の他方に他端部が対峙する装着部材を、小板ガラス両側に配置し、各孔に挿通した挿通部材を装着部材に取り付け、該装着部材の該挿通部材の間に位置する部分を、隣接する小板ガラスの突き合わせ部を挟んで対峙する把持部材にピン結合したことを特徴とする板ガラスの支持構造。
【請求項３】
装着部材に取り付けられる２つの挿通部材のうちの少なくとも一方が、装着部材に穿設した長孔に挿通されるていることを特徴とする請求項１または２記載の板ガラスの支持構造。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、本発明は、直立した複数のフェイス板ガラスの側端を突き合わせてガラス壁面を構成し、該ガラス壁面に対して直交して配置されたリブ板ガラスの一側端をガラス壁面に接着して該ガラス壁面を支持させる板ガラスの支持構造において、リブ板ガラス上部に、該リブ板ガラスの板厚方向に貫通する偶数個の孔を、ガラス壁面に交差する方向に並ぶように穿設し、隣接する孔の一方に一端部が対峙しかつ隣接する孔の他方に他端部が対峙する装着部材を、リブ板ガラス両側に配置し、各孔に挿通した挿通部材を装着部材に取り付け、該装着部材の該挿通部材の間に位置する部分を、躯体に固定された支持部材にピン結合した、板ガラスの支持構造を提供する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
また、本発明は、直立した複数のフェイス板ガラスの側端および上下端を突き合わせてガラス壁面を構成し、該ガラス壁面に対して直交して配置した複数の小板ガラスの上下端を突き合わせたリブ板ガラスの一側端をガラス壁面に接着して該ガラス壁面を支持させる板ガラスの支持構造において、隣接する小板ガラスの上下部に、該小板ガラスの板厚方向に貫通する偶数個の孔を、ガラス壁面に交差する方向に並ぶように穿設し、隣接する孔の一方の一端部が対峙しかつ隣接する孔の他方に他端部が対峙する装着部材を、小板ガラス両側に配置し、各孔に挿通した挿通部材を装着部材に取り付け、該装着部材の該挿通部材の間に位置する部分を、隣接する小板ガラスの突き合わせ部を挟んで対峙する把持部材にピン結合した、板ガラスの支持構造を提供する。