(57)【要約】【課題】基板上に凹凸がある場合にも略均一な厚さで配向膜を形成可能な液晶パネルの製造方法を提供する。【解決手段】本発明の液晶パネル１１の製造方法は、一対の基板３０，４０のうち少なくとも一方の基板３０における液晶層５０側の面に、画素部を構成する画素部要素３３を形成する画素部要素形成工程と、隣り合う前記画素部の間に、前記画素部要素３３よりも前記液晶層５０側に突出し、前記基板３０の板面内において線状に延びる線状突起部３７を形成する突起部形成工程と、前記画素部要素３３上及び前記線状突起部３７上に配向膜３９を印刷する配向膜印刷工程と、を含み、前記配向膜印刷工程は、転写体ＰＲの表面に形成した配向膜材料を転写することで、前記配向膜３９を印刷するものであり、前記転写体ＰＲの展開方向は、前記線状突起部３７の軸線方向と交わる方向とされていることを特徴とする。【選択図】図１１
2010072447.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の基板間に液晶層を介在させてなる液晶パネルの製造方法であって、
前記一対の基板のうち少なくとも一方の基板における前記液晶層側の面に、画素部を構成する画素部要素を形成する画素部要素形成工程と、
隣り合う前記画素部の間に、前記画素部要素よりも前記液晶層側に突出し、前記基板の板面内において線状に延びる線状突起部を形成する突起部形成工程と、
前記基板の板面内に配向膜を印刷する配向膜印刷工程と、を含み、
前記配向膜印刷工程は、転写体の表面に形成した配向膜材料を、当該転写体の展開に伴って転写することで、前記配向膜を印刷するものであり、前記転写体の展開方向は、前記線状突起部の軸線方向と交わる方向とされていることを特徴とする液晶パネルの製造方法。
【請求項２】
前記配向膜印刷工程では、前記転写体の展開方向は、前記線状突起部の軸線方向と垂直をなす方向とされていることを特徴とする請求項１に記載の液晶パネルの製造方法。
【請求項３】
前記突起部形成工程では、前記線状突起部の形成と、前記液晶層を構成する液晶分子の配向を規制するための配向規制部の形成とを同一工程で行うことを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の液晶パネルの製造方法。
【請求項４】
前記突起部形成工程では、前記線状突起部の形成と、前記一対の基板間の距離を規制するための距離規制部の形成とを同一工程で行うことを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の液晶パネルの製造方法。
【請求項５】
前記突起部形成工程では、前記線状突起部を、前記画素部要素を形成した材料を含んで形成することを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の液晶パネルの製造方法。
【請求項６】
前記突起部形成工程では、前記線状突起部をフォトリソグラフィ法により形成することを特徴とする請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の液晶パネルの製造方法。
【請求項７】
前記突起部形成工程では、前記線状突起部をインクジェット法により形成することを特徴とする請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の液晶パネルの製造方法。
【請求項８】
前記画素部形成工程では、前記画素部として着色層を形成し、
前記突起部形成工程は、隣り合う前記着色層の間に遮光層を形成する工程を含むことを特徴とする請求項１から請求項７のいずれか１項に記載の液晶パネルの製造方法。
【請求項９】
前記液晶層をネガ型の液晶分子により形成し、
前記配向膜形成工程では、前記配向膜を、前記液晶分子を垂直配向させる垂直配向膜として形成することを特徴とする請求項１から請求項８のいずれか１項に記載の液晶パネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶パネルの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、液晶パネルは、２枚の基板の間に液晶層が挟持された構造を有している。これら基板のうち、一方はアレイ基板と呼ばれ、液晶層側の面にＴＦＴ（Thin Film Transistor）等のスイッチング素子、画素電極、及び配向膜等が形成されている。他方の基板はＣＦ基板と呼ばれ、液晶層側の面にカラーフィルタ、対向電極、及び配向膜等が形成されている（特許文献１参照）。
【特許文献１】特開平８−１６０４３２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
上記した特許文献１に開示の液晶パネルは、両基板にそれぞれ垂直配向膜が設けられ、該配向膜は視角特性の１８０度異なるドメインに分割された多数の微小な領域を形成しており、さらに該配向膜が配向材料の微細な印刷パターンからなるものとされている。これにより、ドメイン毎に液晶分子の配向を規制し、コントラスト及び視角特性が優れたものを得られるとされている。
【０００４】
ところで、一般に、配向膜は配向材料を印刷して形成されることが多く、例えば基板上に凹凸があると印刷ムラを生じ、配向膜の厚さが不均一となる場合がある。このように配向膜の厚さが不均一となると、液晶分子の配向の規則性に乱れが生じる。特に、周囲と厚さが異なる配向膜のドメインが形成されると、当該ドメインがマクロな表示ムラとなり、表示品質を著しく低下させることとなる。
【０００５】
本発明は、上記のような事情に基づいてなされたものであって、基板上に凹凸がある場合にも略均一な厚さで配向膜を形成可能な液晶パネルの製造方法を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決するために、本発明の液晶パネルの製造方法は、一対の基板間に液晶層を介在させてなる液晶パネルの製造方法であって、前記一対の基板のうち少なくとも一方の基板における前記液晶層側の面に、画素部を構成する画素部要素を形成する画素部要素形成工程と、隣り合う前記画素部の間に、前記画素部要素よりも前記液晶層側に突出し、前記基板の板面内において線状に延びる線状突起部を形成する突起部形成工程と、前記画素部要素上及び前記線状突起部上に配向膜を印刷する配向膜印刷工程と、を含み、前記配向膜印刷工程は、転写体の表面に形成した配向膜材料を転写することで、前記配向膜を印刷するものであり、前記転写体の展開方向は、前記線状突起部の軸線方向と交わる方向とされていることを特徴とする。
【０００７】
画素部を構成する画素部要素が、隣り合う画素部の間の部位（すなわち非画素部）を構成する要素より液晶層側に突出した構成とされると、液晶層のうち非画素部に対応する部分では、画素部に対応する部分に比して多くの液晶を封入する必要がある。しかしながら、非画素部に対応する液晶は、当該液晶パネルを備える表示装置において表示に寄与しないため、コスト面から可能な限り少量とされることが好ましい。そこで、本発明のように非画素部において画素部要素より液晶層側へ突出した線状突起部を形成することにより、当該非画素部における液晶量を抑制することができ、コストダウンに寄与することが可能となる。
【０００８】
ところで、このように基板上に線状突起部を形成した場合に、線状突起部の軸線方向に沿って配向膜を印刷すると、例えば印刷ロール等の転写体が線状突起部の突先端部と接触することで、当該線状突起部の両側周辺部には接触し難いものとなる。これにより、線状突起部の両側周辺部では、配向膜の厚さが小さくなる（場合によっては配向膜が印刷されない）場合がある。このように、配向膜の厚さが不均一なものとなると、液晶層を構成する液晶分子の配向の規則性に乱れが生じる。特に、線状突起部の軸線方向に沿って、配向膜の厚さが小さい部分が線状をなすように形成されると、当該液晶パネルを備える表示装置において、線状の表示ムラが発生し、表示品質を著しく低下させることとなる。
【０００９】
かかる配向膜の厚さの不均一を抑制すべく、本発明では、線状突起部の軸線方向と交わる方向に配向膜を印刷するものとしている。これによれば、転写体が線状突起部の段差に倣って移動し得るため、当該線状突起部の周辺部に配向膜の厚さが小さい部分を形成することを抑制することが可能となる。すなわち、基板全体として配向膜の厚さが略均一となる液晶パネルを製造することができ、その結果、当該液晶パネルを備える表示装置において、表示ムラがない、高い表示品質を実現することが可能となる。
【００１０】
また、前記配向膜印刷工程では、前記転写体の展開方向は、前記線状突起部の軸線方向と垂直をなす方向とすることができる。
このようにすれば、線状突起部の段差に倣って配向膜を印刷し易くなるため、配向膜の厚さをより一層均一なものとすることが可能となる。
【００１１】
また、前記突起部形成工程では、前記線状突起部の形成と、前記液晶層を構成する液晶分子の配向を規制するための配向規制部の形成とを同一工程で行うものとすることができる。
このように、線状突起部と、液晶分子の配向を規制するための配向規制部とを同一の工程で形成することにより、これらの形成に係る作業効率を向上させることができ、コストダウンに寄与することが可能となる。
【００１２】
また、前記突起部形成工程では、前記線状突起部の形成と、前記一対の基板間の距離を規制するための距離規制部の形成とを同一工程で行うものとすることができる。
このように、線状突起部と、基板間の距離を規制するための距離規制部とを同一の工程で形成することにより、これらの形成に係る作業効率を向上させることができ、コストダウンに寄与することが可能となる。
【００１３】
また、前記突起部形成工程では、前記線状突起部を、前記画素部要素を形成した材料を含んで形成することができる。
これにより、材料を変更する手間の省略等、作業の効率化を図ることができ、コストダウンに一層寄与することが可能となる。
【００１４】
また、前記突起部形成工程では、前記線状突起部をフォトリソグラフィ法により形成するものとすることができる。
また、前記突起部形成工程では、前記線状突起部をインクジェット法により形成するものとすることができる。
このように、フォトリソグラフィ法やインクジェット法を用いることで、所望の形状を有する線状突起部を好適に形成することができる。
【００１５】
また、前記画素部要素形成工程では、前記画素部要素として着色層を形成し、前記突起部形成工程は、隣り合う前記着色層の間に遮光層を形成する工程を含むものとすることができる。
【００１６】
このように、着色層と遮光層とからなるカラーフィルタを形成した場合には、表示に寄与しない液晶を可能な限り少量とするため、遮光層が形成された部位の高さが着色層より大きいことが好ましい。そこで、本発明のように、遮光層に線状突起部を形成することにより、液晶量を抑制することができ、コスト削減に寄与することが可能となる。
【００１７】
また、前記液晶層をネガ型の液晶分子により形成し、前記配向膜形成工程では、前記配向膜を、前記液晶分子を垂直配向させる垂直配向膜として形成するものとすることができる。
【００１８】
このように、ネガ型の（負の誘電異方性を有する）液晶分子を垂直配向させる、いわゆるＶＡ（Vertical Alignment）型の液晶パネルに対しても本発明の製造方法を好適に用いることができる。特に、当該ネガ型の液晶分子の配向（傾倒方向）を規制するための配向規制部を基板上に形成する場合には、当該配向規制部を上述のように線状突起部と同一工程で作成することができるため、特に好適である。
【発明の効果】
【００１９】
本発明の製造方法によると、基板上に凹凸がある場合にも略均一な厚さで配向膜が形成された液晶パネルを得ることが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
＜実施形態１＞
本発明の実施形態１を図１ないし図１２によって説明する。本実施形態では、液晶パネル１１を備える液晶表示装置１０について例示する。
図１は本発明に係る製造方法によって作成された液晶表示装置の概略構成を示す分解斜視図、図２は図１の液晶表示装置の長辺方向に沿った断面構成を示す断面図、図３は図１の液晶表示装置に備わる液晶パネルの一部分の構成を示す断面図、図４は図３の液晶パネルを構成するＣＦ基板の概略構成を示す要部拡大平面図である。
【００２１】
液晶表示装置（表示装置）１０は、図１及び図２に示すように、矩形をなす液晶パネル１１と、外部光源であるバックライト装置１２とを備え、これらがベゼル１３などにより一体的に保持されるようになっている。
バックライト装置１２は、所謂直下型のバックライト装置であって、液晶パネル１１のパネル面（表示面）の背面直下に、当該パネル面に沿って光源（ここでは冷陰極管１７）が並列配置された構成を具備している。バックライト装置１２は、上面側が開口した矩形の略箱型をなす金属製のシャーシ１４と、シャーシ１４の開口部を覆うようにして取り付けられる複数の光学部材１５（図示下側から順に拡散板、拡散シート、レンズシート、反射型偏光板）と、これら光学部材１５をシャーシ１４に保持するためのフレーム１６と、を備える。さらに、バックライト装置１２は、シャーシ１４内に、冷陰極管１７と、冷陰極管１７をシャーシ１４に取り付けるためのランプクリップ１８と、冷陰極管１７の両端部を保持するためのゴム製（例えばシリコンゴム製）のホルダ１９と、冷陰極管１７群及びホルダ１９群を一括して覆うランプホルダ２０とを備える。
【００２２】
液晶パネル１１は、図３に示すように、一対の基板３０，４０が所定のギャップを空けた状態で貼り合わされるとともに、両基板３０，４０間に液晶が封入された構成とされ、当該液晶により液晶層５０が形成されている。液晶層５０を構成する液晶分子は、ネガ型とされ、電圧非印加時には両基板３０，４０面に対してほぼ垂直に配向し、電圧印加時には両基板３０，４０面に対してほぼ平行に配向する。すなわち、当該液晶パネル１１は、いわゆる垂直配向型（ＶＡ型）液晶パネル１１となっている。
【００２３】
両基板３０，４０は、表側（正面側、表示側）がＣＦ基板３０とされ、裏側（背面側、バックライト装置１２側）がアレイ基板４０とされる。
アレイ基板４０は、ガラス基板４１の液晶層５０側に形成されたスイッチング素子であるＴＦＴ（Thin Film Transistor）４３と、当該ＴＦＴ４３に対して電気的に接続された画素電極４４と、液晶層５０を構成する液晶分子の配向を規制するリブ４６と、を備えている。さらに、これらＴＦＴ４３、画素電極４４、及びリブ４６を覆う形で配向膜４５が形成されている。なお、ガラス基板４１の液晶層５０側とは反対側には偏光板４２が配設されている。
【００２４】
画素電極４４は、例えばＩＴＯ（インジウム錫酸化物）等の透明導電膜からなり、アレイ基板４０の液晶層５０側にマトリクス状のパターンで形成されている。また、配向膜４５は、例えばポリイミドの薄膜とされており、液晶分子を垂直配向させる垂直配向膜として形成されている。偏光板４２は、例えば透明フィルムにヨウ素や染料を染み込ませたものを、一方向に延伸してなるものを採用している。
【００２５】
一方、ＣＦ基板３０には、透明な（透光性を有する）ガラス基板３１の内面側（液晶層５０側、アレイ基板４０との対向面側）に、多数個の着色層（画素部要素）３３と遮光層３４とから構成されるカラーフィルタ３５が形成されている。詳しくは、着色層３３は、赤色着色層３３Ｒ，緑色着色層３３Ｇ，青色着色層３３Ｂの３色が所定位置に配置されており、各着色層３３，３３同士の間に、混色を防ぐための遮光層３４が形成されている（図４参照）。着色層３３は、アレイ基板４０に形成された画素電極４４と対向する位置に配置されることで画素部ＰＡを構成する一方、遮光層３４は、アレイ基板４０に形成されたＴＦＴ４３と対向する位置に配置され、非画素部ＮＰＡを構成している。
【００２６】
着色層３３は、それぞれＲ（赤色），Ｇ（緑色），Ｂ（青色）を呈する染料や顔料を分散させた樹脂からなる。樹脂材料としては、例えばポリイミド等を用いることができる。
一方、遮光層３４は、遮光材を分散させた樹脂とされる。樹脂材料としては、例えば、ポリイミド、アクリル等が用いられる。また、遮光材となる黒色顔料の例としてカーボンブラック、チタンブラックなどが挙げられる。上記した各材料は、これに限定されるものではなく、種々の材料を選択しても良い。
【００２７】
さらに、着色層３３の液晶層５０側の面には、図３に示すように、液晶層５０を構成する液晶分子の配向を規制するためのリブ（配向規制部）３６が複数突設されている。一方、遮光層３４の液晶層５０側の面には、当該面内において遮光層３４の一方向と軸線方向を同じくする線状突起部３７が延設されている（図４参照）。本実施形態では、線状突起部３７もまた、液晶分子の配向を規制する機能を有するものとされており、さらに、当該線状突起部３７は、画素部を構成する着色層３３及びリブ３６よりも液晶層５０側へ突出するものとされている。これらリブ３６と線状突起部３７とは、例えばフェノール系樹脂等の同一材料により形成されている。
【００２８】
上記したカラーフィルタ３５の液晶層５０側には、ＩＴＯ（インジウム錫酸化物）等の透明導電膜からなる対向電極３８、リブ３６及び線状突起部３７が形成されている。対向電極３８、リブ３６及び線状突起部３７の液晶層５０側の面には配向膜３９が形成されている。配向膜３９は、ポリイミドの薄膜とされており、液晶分子を垂直配向させる垂直配向膜として形成されている。なお、ガラス基板３１の液晶層５０側とは反対側には偏光板３２が配設されている。当該偏光板３２は、例えば透明フィルムにヨウ素や染料を染み込ませたものを、一方向に延伸してなるものを採用している。
【００２９】
次に、本実施形態の液晶表示装置１０の製造方法について説明する。ここでは特に、当該製造方法のうち、ＣＦ基板３０の製造工程について詳細に説明するものとする。
まず、図５に示すように、ガラス基板３１を用意し、そのガラス基板３１上に遮光層３４を、フォトリソグラフィ法を用いて作製する。
【００３０】
続いて、図６に示すように、着色層３３を、赤色着色層３３Ｒ→緑色着色層３３Ｇ→青色着色層３３Ｂの順にフォトリソグラフィ法を用いて作製する（画素部要素形成工程）。この際、各着色層３３の端部が遮光層３４の一部と積層するように形成する。これにより、光漏れがなく、確実にＲ，Ｇ，Ｂの各色を呈することが可能となる。
【００３１】
次に、図７に示すように、カラーフィルタ３５（着色層３３及び遮光層３４）を覆う形で、対向電極３８をスパッタリング法により形成する。続いて、図８に示すように、対向電極３８上にフェノール系樹脂からなる突起部用樹脂層３００を形成し、突起部用樹脂層３００に対し、フォトリソグラフィ法を用いて露光・現像を行うことにより、図９に示すように、対向電極３８上にリブ３６、及び線状突起部３７を形成する。
【００３２】
具体的には、着色層３３と重畳する位置にリブ３６を形成し、遮光層３４と重畳する位置に線状突起部３７を形成する（突起部形成工程）。この際、突起部用樹脂層３００のうち着色層３３と重畳する部位に対して、ハーフトーン等の手段を用いることにより所定量のエッチングを行うことで、線状突起部３７がリブ３６より大きい高さを有する形で形成しておく。すなわち、線状突起部３７は、画素部要素たる着色層３３及びリブ３６に比して、ガラス基板３１面からより突出したものとなっている。このようなリブ３６及び線状突起部３７を形成した後、配向膜３９を印刷する配向膜印刷工程に移行する。
【００３３】
配向膜印刷工程では、図１０に示すような印刷ローラ（転写体）ＰＲを用いる。具体的には、印刷ローラＰＲの表面にポリイミドを供給し、当該印刷ローラＰＲを回転させながらガラス基板３１の基板面に沿って移動させる。この際、印刷ローラＰＲを、図１１に示すように、ガラス基板３１上の線状突起部３７の軸線方向に対して交わる方向に、より詳細には垂直をなす方向に進行（展開）させる（図中、印刷ローラＰＲの進行方向を矢印で示す）。当該方向に印刷ローラＰＲを進行させることにより、図１２に示すように、印刷ローラＰＲの表面がガラス基板３１上の線状突起部３７による段差に倣って移動することが可能となる。これにより、当該印刷ローラＰＲの進行に従って、ポリイミドを対向電極３８、線状突起部３７、リブ３６上に万遍なく転写することができ、略均一な膜厚の配向膜３９を印刷することが可能となる。なお、本実施形態では、印刷ローラＰＲをガラス基板３１面に沿って移動させるものとしたが、回転可能に位置固定された印刷ローラＰＲに対してガラス基板３１を移動させることで、配向膜３９を印刷する方法を用いても良い。
【００３４】
以上説明したような方法により形成されるＣＦ基板３０を備える液晶パネル１１は、配向膜３９の厚さを略均一なものとすることが可能となる。つまり、ＣＦ基板３０に形成された線状突起部３７の軸線方向と交わる方向に印刷ローラＰＲを展開することにより、当該線状突起部３７の周辺部にも略均一な厚さの配向膜３９を印刷することが可能となる。
【００３５】
本実施形態のように、非画素部要素たる遮光層３４の一部に、画素部要素たる着色層３３が重なる形でカラーフィルタ３５を形成する場合には、カラーフィルタ３５において遮光層３４の高さが相対的に小さくなる。言い換えれば、ＣＦ基板３０において遮光層３４に対応する部分が窪んだ状態となる。その結果、液晶層５０のうち遮光層３４に対向する部分では、着色層３３に対応する部分に比して多くの液晶を封入する必要が生じる。遮光層３４に対応する液晶は、当該液晶パネル１１を備える表示装置において表示に寄与しないため、コスト面から可能な限り少量とされることが好ましい。そこで、遮光層３４上に、着色層３３より液晶層５０側へ突出した線状突起部３７を形成することにより、当該遮光層３４に対応する液晶量を抑制することができ、コストダウンに寄与することが可能となる。
【００３６】
そして、このようにガラス基板３１上に線状突起部３７を形成した場合において、当該線状突起部３７の軸線方向と交わる方向に印刷ローラＰＲを展開することにより、線状突起部３７の周辺部にも略均一な厚さの配向膜３９を印刷することができる。その結果、当該液晶パネル１１を備える表示装置において、表示ムラがない、高い表示品質を安価に実現することが可能となる。
【００３７】
特に、本実施形態では、印刷ローラＰＲの進行方向（展開方向）を、線状突起部３７の軸線方向と垂直をなす方向としているため、線状突起部３７の段差に倣って配向膜３９を印刷し易くなり、配向膜３９の厚さをより一層均一なものとすることが可能となる。
【００３８】
また、本実施形態では、突起部形成工程において、線状突起部３７とリブ３６とを同一材料、同一工程で形成するものとなっているため、これらの形成に係る作業効率を向上させることができ、コストダウンに寄与することが可能となる。
【００３９】
また、本実施形態では、液晶層５０をネガ型の液晶分子により形成し、配向膜３９を、液晶分子を垂直配向させる垂直配向膜として形成している。
このように、液晶分子を垂直配向させる、いわゆるＶＡ（Vertical Alignment）型の液晶パネル１１において、当該ネガ型の液晶分子の配向（傾倒方向）を規制するためのリブ３６をガラス基板３１上に形成する場合には、リブ３６と線状突起部３７とを同一工程で作成することができるため、特に好適である。
【００４０】
＜実施形態２＞
次に、本発明の実施形態２を図１３によって説明する。この実施形態２では、線状突起部の形成工程を変更したものを示し、その他は前記実施形態と同様である。前記実施形態と同一部分には、同一符号を付して重複する説明を省略する。
図１３は本実施形態に係る液晶パネルの一部分の構成を示す断面図である。
【００４１】
本実施形態のＣＦ基板６０においては、図１３に示すように、線状突起部６１は遮光層３４上に各着色層３３Ｒ，３３Ｇ，３３Ｂが積層されることで形成されている。かかる線状突起部６１は、フォトリソグラフィ法を用いて、着色層３３を形成する工程と同一工程で、すなわち画素部要素形成工程と突起部形成工程とを同一に行うことで形成することができる。具体的には、まず、赤色着色層３３Ｒを、画素部となる所定位置に形成するとともに、遮光層３４上に線状をなす形で形成する。続いて、緑色着色層３３Ｇを画素部となる所定位置に形成するとともに、遮光層３４に積層された赤色着色層３３Ｒ上にも残存させる形で形成する。さらに、青色着色層３３Ｂを画素部となる所定位置に形成するとともに、遮光層３４と重畳する位置に形成した緑色着色層３３Ｇ上にも形成する。これにより、各着色層３３Ｒ，３３Ｇ，３３Ｂが積層されてなる線状突起部６１は、画素部要素たる着色層３３よりも高さが大きく（すなわち着色層３３よりも液晶層５０側に突出した形で）、ガラス基板３１の板面内において線状に延びるものとなる。
【００４２】
次に、カラーフィルタ３５（着色層３３及び遮光層３４）上に対向電極３８をスパッタリング法により形成し、フォトリソグラフィ法を用いてリブ３６を形成し、続いて、印刷ローラＰＲを線状突起部６１の軸線方向に対して垂直をなす方向に進行（展開）させることで、対向電極３８上に配向膜３９を印刷する（配向膜印刷工程）。
【００４３】
以上のようにして形成されるＣＦ基板６０を備える液晶パネル１１では、ＣＦ基板６０に形成された線状突起部６１の軸線方向と交わる方向に印刷ローラＰＲを展開することにより、印刷ローラＰＲの表面をガラス基板３１上の線状突起部６１による段差に倣って移動させることができ、当該線状突起部６１の周辺部にも略均一な厚さの配向膜３９を印刷することが可能となる。
【００４４】
また、突起部形成工程では、線状突起部６１を、画素部要素たる着色層３３を形成した材料を含んで形成しているため、材料を変更する手間の省略等、作業の効率化を図ることができ、コストダウンに一層寄与することが可能となる。
【００４５】
＜実施形態３＞
次に、本発明の実施形態３を図１４によって説明する。前記実施形態１，２との相違は、アレイ基板とＣＦ基板との間に柱状のフォトスペーサ（柱状スペーサ）を形成したところにあり、その他は前記実施形態と同様である。前記実施形態と同一部分には、同一符号を付して重複する説明を省略する。
図１４は本実施形態に係る液晶パネルの一部分の構成を示す断面図である。
【００４６】
液晶パネル１１は、図１４に示すように、ＣＦ基板７０に形成された各遮光層３４の液晶層５０側の面に、線状突起部７１と柱状スペーサ（距離規制部）７２が形成されている。柱状スペーサ７２は、略四角形（台形）の水平断面を有し、その先端部（実際には当該先端部に形成された配向膜３９）がアレイ基板４０に当接している。これにより、当該柱状スペーサ７２は、ＣＦ基板７０とアレイ基板４０との間の距離を規制する機能を有するものとなっている。
【００４７】
一方、線状突起部７１は、遮光層３４に沿ってガラス基板３１の面内において線状に延びる形とされる。当該線状突起部７１は、着色層３３よりも液晶層５０側へ突出するものとされる一方、上記した柱状スペーサ７２よりも高さが小さいものとなっている。
【００４８】
次に、上記した柱状スペーサ７２及び線状突起部７１の製造方法について説明する。柱状スペーサ７２及び線状突起部７１は、ガラス基板３１上に着色層３３及び遮光層３４、対向電極３８を形成した後、これらを覆う形で樹脂層を形成し、その後、フォトリソグラフィ法を用いてエッチングを施すことで形成することができる（突起部形成工程）。ここで、当該樹脂層のうち、線状突起部７１に相当する部位に対して、ハーフトーン等の手段を用いることによりエッチング量を調整することで、線状突起部７１の高さが柱状スペーサ７２より小さいものとして形成することができる。
【００４９】
続いて、印刷ローラＰＲを線状突起部７１の軸線方向に対して垂直をなす方向に進行（展開）させることで、配向膜３９を印刷する（配向膜印刷工程）。
【００５０】
以上説明したような方法により形成されるＣＦ基板７０を備える液晶パネル１１では、ＣＦ基板７０に形成された線状突起部７１の軸線方向と交わる方向に印刷ローラＰＲを展開することにより、印刷ローラＰＲの表面をガラス基板３１上の線状突起部７１による段差に倣って移動させることができ、当該線状突起部７１の周辺部にも略均一な厚さの配向膜３９を印刷することが可能となる。
さらに、ＣＦ基板７０とアレイ基板４０との間の距離を規制する柱状スペーサ７２を形成しているため、液晶層５０の厚さが変化し難いものとなり、当該液晶パネル１１を備える表示装置において表示ムラがない、高い表示品質を実現することが可能となる。
【００５１】
また、突起部形成工程では、線状突起部７１の形成と、一対の基板４０，７０間の距離を規制するための柱状スペーサ７２の形成とを同一工程で行うものとしている。
このような製造方法によれば、線状突起部７１及び柱状スペーサ７２の形成に係る作業効率を向上させることができ、コストダウンに寄与することが可能となる。
【００５２】
＜実施形態４＞
次に、本発明の実施形態４を図１５によって説明する。前記実施形態３との相違は、線状突起部の形成工程を変更したところにあり、その他は前記実施形態と同様である。前記実施形態と同一部分には、同一符号を付して重複する説明を省略する。
図１５は本実施形態に係る液晶パネルの一部分の構成を示す断面図である。
【００５３】
本実施形態のＣＦ基板８０においては、図１５に示すように、線状突起部８１及び柱状スペーサ８２は、遮光層３４上に各着色層３３Ｒ，３３Ｇ，３３Ｂが積層されることで形成されている。かかる線状突起部８１及び柱状スペーサ８２は、フォトリソグラフィ法を用いて、着色層３３を形成する工程と同一工程（画素部要素形成工程及び突起部形成工程）で形成することができる。以下に、線状突起部８１及び柱状スペーサ８２の形成工程を詳細に説明する。
【００５４】
まず、赤色着色層３３Ｒを、画素部となる所定位置に形成するとともに、遮光層３４上に線状をなす形で形成する。続いて、緑色着色層３３Ｇを画素部となる所定位置に形成するとともに、遮光層３４に積層された赤色着色層３３Ｒ上にも残存させる形で形成する。さらに、青色着色層３３Ｂを画素部となる所定位置に形成するとともに、遮光層３４と重畳する位置に形成した緑色着色層３３Ｇ上にも形成する。ここで、線状突起部８１を形成する部位においては、ハーフトーン等の手段を用いることにより、青色着色層３３Ｂに対して所定量のエッチングを行うことで、線状突起部８１を柱状スペーサ８２より高さが小さいものとして形成することができる。なお、線状突起部８１の高さを柱状スペーサ８２より小さくするために、例えば図１６に示すように、最上段に積層された青色着色層３３Ｂをエッチングすることで、線状突起部８３を２つの着色層３３Ｒ，３３Ｇが積層したものとして形成しても良い。
【００５５】
次に、着色層３３、線状突起部８１、及び柱状スペーサ８２を覆う形で対向電極３８をスパッタリング法により形成する。続いて、印刷ローラＰＲを線状突起部８１の軸線方向に対して垂直をなす方向に進行（展開）させることで、対向電極３８上に配向膜３９を印刷する（配向膜印刷工程）。
【００５６】
以上のようにして形成されるＣＦ基板８０を備える液晶パネル１１は、ＣＦ基板８０に形成された線状突起部８１の軸線方向と交わる方向に印刷ローラＰＲを展開することにより、印刷ローラＰＲの表面をガラス基板３１上の線状突起部８１による段差に倣って移動させることができ、当該線状突起部８１の周辺部にも略均一な厚さの配向膜３９を印刷することが可能となる。
さらに、本実施形態では、線状突起部８１及び柱状スペーサ８２を、画素部要素たる着色層３３を形成した材料を含んで形成しているため、材料を変更する手間の省略等、作業の効率化を図ることができ、コストダウンに一層寄与することが可能となる。
【００５７】
＜実施形態５＞
次に、本発明の実施形態５を図１７によって説明する。各前記実施形態との相違は、線状突起部の形成工程を変更したところにあり、その他は前記実施形態と同様である。前記実施形態と同一部分には、同一符号を付して重複する説明を省略する。
図１７は本実施形態に係る液晶パネルの一部分の構成を示す断面図である。
【００５８】
本実施形態のＣＦ基板９０においては、図１７に示すように、遮光層９１が着色層３３よりも液晶層５０側へ突出したカラーフィルタ９２が形成されている。かかるカラーフィルタ９２は、例えばインクジェット法を用いて、ガラス基板３１上にストライプ状に遮光層９１を形成し（突起部形成工程）、隣り合う遮光層９１，９１の間に着色層３３を形成する（画素要素形成工程）ことにより得られる。この場合、着色層３３の高さを遮光層９１より小さいものとして形成することにより、着色層３３同士の混色を抑止することができる。なお、本実施形態では、ストライプ状に形成された遮光層９１が、本発明にいう線状突起部となる。
【００５９】
かかるカラーフィルタ９２上に対向電極３８をスパッタリング法により形成し、さらに、印刷ローラＰＲを遮光層（線状突起部）９１の軸線方向に対して垂直をなす方向に進行（展開）させることで、対向電極３８上に配向膜３９を印刷する（配向膜印刷工程）。当該方向に印刷ローラＰＲを進行させることにより、印刷ローラＰＲの表面をガラス基板３１上の遮光層９１と着色層３３との間の段差に倣って移動させることができる。その結果、当該印刷ローラＰＲの表面に供給された配向膜材料が対向電極３８上に転写されることで、略均一な膜厚の配向膜３９を印刷することが可能となる。
【００６０】
＜他の実施形態＞
以上、本発明の実施形態について示したが、本発明は上記記述及び図面によって説明した実施形態に限定されるものではなく、例えば次のような実施形態も本発明の技術的範囲に含まれる。
上記した実施形態では、配向膜材料の転写体としてローラ状のものを例示したが、転写体はこれに限られるものではなく、例えばヘラ状、刷毛状の転写体等、基板面に接することで配向膜材料を転写するものであれば本発明に含まれる。
上記した実施形態では、ローラの展開方向を線状突起部の軸線方向に対して垂直をなす方向としたが、当該液晶パネルの製造の作業性等を鑑み、少なくとも線状突起部の軸線方向に対して交わる方向にローラを展開するものとすれば良い。
上記した実施形態では、線状突起部とリブ、あるいは線状突起部と柱状スペーサとを同一工程で形成する例を示したが、これら線状突起部、リブ、及び柱状スペーサを同一工程で形成するものとしても良い。さらにこの場合、線状突起部、リブ、及び柱状スペーサを着色層が積層した形で形成するものとしても良い。
上記した実施形態では、液晶パネルに備わるＣＦ基板に線状突起部を設けた構成を例示したが、アレイ基板に線状突起部を設ける場合にも本発明は適用可能である。
上記した実施形態では、ＶＡ型の液晶パネルを例示したが、いわゆるＴＮ型やＳＴＮ型等の液晶パネルを製造する場合にも本発明は適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【００６１】
【図１】本発明の実施形態１に係る液晶表示装置の概略構成を示す分解斜視図
【図２】図１の液晶表示装置の長辺方向に沿った断面構成を示す断面図
【図３】図１の液晶表示装置に備わる液晶パネルの一部分の構成を示す断面図
【図４】図３の液晶パネルを構成するＣＦ基板の概略構成を示す要部拡大平面図
【図５】図３の液晶パネルに備わるＣＦ基板の製造方法に係る一工程を示す説明図
【図６】図３の液晶パネルに備わるＣＦ基板の製造方法に係る一工程を示す説明図
【図７】図３の液晶パネルに備わるＣＦ基板の製造方法に係る一工程を示す説明図
【図８】図３の液晶パネルに備わるＣＦ基板の製造方法に係る一工程を示す説明図
【図９】図３の液晶パネルに備わるＣＦ基板の製造方法に係る一工程を示す説明図
【図１０】図３の液晶パネルに備わるＣＦ基板の製造方法に係る一工程を示す説明図
【図１１】図３の液晶パネルに備わるＣＦ基板の製造方法に係る一工程を示す説明図
【図１２】本発明に係る印刷ローラの展開方向による作用を示す模式図
【図１３】本発明の実施形態２に係る液晶パネルの一部分の構成を示す断面図
【図１４】本発明の実施形態３に係る液晶パネルの一部分の構成を示す断面図
【図１５】本発明の実施形態４に係る液晶パネルの一部分の構成を示す断面図
【図１６】液晶パネルの一変形例を示す断面図
【図１７】本発明の実施形態５に係る液晶パネルの一部分の構成を示す断面図
【符号の説明】
【００６２】
１１…液晶パネル、３０…ＣＦ基板（基板）、３３…着色層（画素部要素）、３４…遮光層、３６…リブ（配向規制部）、３７…線状突起部、３９…配向膜、４０…アレイ基板（基板）、５０…液晶層、７２…柱状スペーサ（距離規制部）、ＰＲ…印刷ローラ（転写体）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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