Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成17年4月1日(2005.4.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被制御光を出射する第１の光源と、
第１のレーザ光と第２のレーザ光とが混合されて生成された制御光を出射する光出射手段と、
光カー効果を有し、上記光出射手段から出射された制御光と上記第１の光源から出射された被制御光とが入射され、制御光により屈折率が変化される光変調素子とを備え、
上記光変調素子を介して、上記被制御光は、上記光変調素子により変調され、上記光変調素子に入射されたときの周波数を中心として低周波側と高周波側に上記第１のレーザ光と第２のレーザ光との周波数の差分に等しい周波数間隔毎でサイドバンドを発生されることを特徴とする光周波数コム発生器。
【請求項２】
上記光変調素子を介して光入射側及び光出射側に配された一対のミラーを備え、
上記被制御光は、上記ミラー間を共振されることで上記光変調素子により変調され、上記光変調素子に入射されたときの周波数を中心として低周波側と高周波側に上記第１のレーザ光と第２のレーザ光との周波数の差分に等しい周波数間隔毎でサイドバンドを発生されることを特徴とする請求項１記載の光周波数コム発生器。
【請求項３】
上記一対のミラーは、上記被制御光に対してのみ高反射率を有することを特徴とする請求項２記載の光周波数コム発生器。
【請求項４】
上記一対のミラーは、上記制御光に対してのみ高反射率を有することを特徴とする請求項２記載の光周波数コム発生器。
【請求項５】
上記一対のミラーは、上記制御光及び被制御光に対して高反射率を有することを特徴とする請求項２記載の光周波数コム発生器。
【請求項６】
上記光変調素子の入射側に一対の第２のミラーを備え、上記被制御光は、上記一対の第２のミラー間で共振されてから上記光変調素子に入射されることを特徴とする請求項２記載の光周波数コム発生器。
【請求項７】
上記光変調素子の入射側に一対の第３のミラーを備え、上記被制御光は、上記一対の第３のミラー間で共振され、所定の周波数が選択されて出力されることを特徴とする請求項２記載の光周波数コム発生器。
【請求項８】
２以上の周波数を有する被制御光を出射する第２の光源を備え、上記第２の光源から出射された被制御光は、上記一対のミラー間を共振されることで上記光変調素子により変調され、上記光変調素子に入射された２以上の周波数を中心として低周波側と高周波側に上記第１のレーザ光と第２のレーザ光との周波数の差分に等しい周波数間隔毎でサイドバンドを発生されることを特徴とする請求項２記載の光周波数コム発生器。
【請求項９】
一の周波数を有するレーザ光と他の周波数を有するレーザ光とが混合されたレーザ光を出射する第３の光源を備え、上記光変調素子は、上記一の周波数を有するレーザ光と他の周波数を有するレーザ光との差周波数に応じて屈折率が変化され、上記一の周波数を有するレーザ光及び他の周波数を有するレーザ光を変調させることで、上記一の周波数を中心としたサイドバンドと上記他の周波数を中心としたサイドバンドとを発生させることを特徴とする請求項１記載の光周波数コム発生器。
【請求項１０】
上記光出射手段は、コムジェネレータを備え、当該コムジェネレータでサイドバンドが発生されたパルスを被制御光として出射することを特徴とする請求項１記載の光周波数コム発生器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上述の課題を解決する本発明に係る光周波数コム発生器は、被制御光を出射する第１の光源と、第１のレーザ光と第２のレーザ光とが混合されて生成された制御光を出射する光出射手段と、光カー効果を有し、上記光出射手段から出射された制御光と上記第１の光源から出射された被制御光とが入射され、制御光により屈折率が変化される光変調素子とを備える。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
この光周波数コム発生器では、上記光変調素子を介して、上記被制御光を上記光変調素子により変調させ、上記光変調素子に入射されたときの周波数を中心として低周波側と高周波側に上記第１のレーザ光と第２のレーザ光との周波数の差分に等しい周波数間隔毎でサイドバンドを発生させる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
【発明の効果】
以上詳細に説明したように、本発明に係る光周波数コム発生器は、被制御光を出射する第１の光源と、第１のレーザ光と第２のレーザ光とが混合されて生成された制御光を出射する光出射手段と、光カー効果を有し、上記光出射手段から出射された制御光と上記第１の光源から出射された被制御光とが入射され、制御光により屈折率が変化される光変調素子とを備えている。このような光周波数コム発生器は、被制御光を光変調素子により変調させ、光変調素子に入射させたときの周波数を中心として低周波側と高周波側に第１のレーザ光と第２のレーザ光との周波数の差分に等しい周波数間隔毎でサイドバンドを発生させることができる。したがって、この光周波数コム発生器によれば、電気光学素子を用いることなく被制御光にサイドバンドを発生させることができる。したがって、この光周波数コム発生器によれば、光変調素子の電気的帯域による制限を受けることなく、サイドバンドの周波数間隔を任意に変化させて発生させることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成17年3月28日(2005.3.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光第２高調波を発生する主鎖型光非線形性高分子薄膜を積層して成る反転ドメイン積層体を含む波長変換素子。
【請求項２】
光第２高調波を発生する主鎖型光非線形性高分子薄膜と液晶薄膜とを交互に積層して成る反転ドメイン積層体を含む波長変換素子。
【手続補正書】
【提出日】平成17年3月31日(2005.3.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
先端が尖っている金属バンプが形成されたべアチップを前記金属バンプを介して基板の電極に接続するボンディング方法において、
前記金属バンプが接続される前記基板の電極を含む前記基板のべアチップ搭載領域に封止樹脂を塗布する塗布工程と、
前記塗布工程後に前記金属バンプを超音波を印加しながら前記基板の電極に熱圧着する熱圧着工程とを具備することを特徴とするボンディング方法。
【請求項２】
前記超音波の印加は、前記金属バンプの前記基放の電極への接触時点以降又は前記接触時点より前から開始することを特徴とする請求項１記載のボンディング方法。
【請求項３】
前記封止樹脂は熱硬化型樹脂であり、熱圧着工程後に前記基板とベアチップとの間に介在している封止樹脂を硬化させる加熱工程を具備することを特徴とする請求項１記載のボンディング方法。
【請求項４】
金属バンプが形成されたべアチップを前記金属バンプを介して基板の電極に接続するボンディング装置において、
前記基板のべアチッフ°搭載領域に封止樹脂を塗布する塗布機構と、前記ベアチップを保持するボンディングツールと、前記ボンディングツールを介して前記ベアチップを前記基板に対して加圧する加圧機構と、前記金属バンプの前記電極への接触部位に、前記金属バンプの前記基板の電極への接触時点以降又は前記接触時点より前から超音波を印加する超音波印加機構とを具備することを特徴とするボンディング装置。
【請求項５】
前記基板は、ボンディングステージに保持され、このボンディングステージには前記基板を加熱する加熱手段が設けられていることを特徴とする請求項４記載のボンディング装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
【課題を解決するための手段】
請求項１の発明による解決手段は、先端が尖っている金属バンプが形成されたべアチップを前記金属バンプを介して基板の電極に接続するボンディング方法において、
前記金属バンプが接続される前記基板の電極を含む前記基板のべアチップ搭載領域に封止樹脂を塗布する塗布工程と、
前記塗布工程後に前記金属バンプを超音波を印加しながら前記基板の電極に熱圧着する熱圧着工程とを具備することを特徴とするボンディング方法にある。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
請求項２の発明による解決手段は、前記超音波の印加は、前記金属バンプの前記基放の電極への接触時点以降又は前記接触時点より前から開始することを特徴とする請求項１記載のボンディング方法にある。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
請求項３の発明による解決手段は、前記封止樹脂は熱硬化型樹脂であり、熱圧着工程後に前記基板とベアチップとの間に介在している封止樹脂を硬化させる加熱工程を具備することを特徴とする請求項１記載のボンディング方法にある。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
請求項４の発明による解決手段は、金属バンプが形成されたべアチップを前記金属バンプを介して基板の電極に接続するボンディング装置において、
前記基板のべアチッフ°搭載領域に封止樹脂を塗布する塗布機構と、前記ベアチップを保持するボンディングツールと、前記ボンディングツールを介して前記ベアチップを前記基板に対して加圧する加圧機構と、前記金属バンプの前記電極への接触部位に、前記金属バンプの前記基板の電極への接触時点以降又は前記接触時点より前から超音波を印加する超音波印加機構とを具備することを特徴とするボンディング装置にある。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
請求項５の発明による解決手段は、前記基板は、ボンディングステージに保持され、このボンディングステージには前記基板を加熱する加熱手段が設けられていることを特徴とする請求項４記載のボンディング装置にある。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成17年4月4日(2005.4.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体基板上の下地絶縁膜の上に多結晶シリコン層及びその上に金属シリサイド層としてタングステンシリサイド層を順次形成する工程と、
前記金属シリサイド層の上にレジスト膜を所定パターンに形成する工程と、
前記レジスト膜をエッチングマスクとして用いて、前記金属シリサイド層及び前記多結晶シリコン層を順次ドライエッチングする工程と
を有するドライエッチング方法において、
少なくとも前記金属シリサイド層のドライエッチングを、前記半導体基板を冷却しながら臭素を含むガスにより行い、前記金属シリサイド層を、前記半導体基板から遠い程幅広になる逆テーパー状断面に加工することを特徴とするドライエッチング方法。
【請求項２】
前記レジスト膜除去後、アンモニア水と過酸化水素水による後処理を行うことを特徴とする請求項１に記載のドライエッチング方法。
【請求項３】
前記後処理により、前記金属シリサイド層を、前記半導体基板に対し実質的に垂直な側面を有する断面形状に加工することを特徴とする請求項２に記載のドライエッチング方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
【課題を解決するための手段】
上述した課題を解決すべく、本発明では、半導体基板上の下地絶縁膜の上に多結晶シリコン層及びその上に金属シリサイド層としてタングステンシリサイド層を順次形成する工程と、前記金属シリサイド層の上にレジスト膜を所定パターンに形成する工程と、前記レジスト膜をエッチングマスクとして用いて、前記金属シリサイド層及び前記多結晶シリコン層を順次ドライエッチングする工程とを有するドライエッチング方法において、少なくとも前記金属シリサイド層のドライエッチングを、前記半導体基板を冷却しながら臭素を含むガスにより行い、前記金属シリサイド層を、前記半導体基板から遠い程幅広になる逆テーパー状断面に加工する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成17年4月14日(2005.4.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
原料ガスを供給し、化学気相反応により、薄膜を形成する反応室と、該反応室から排気ガスを排気する排気配管を備えた半導体製造装置において、上記排気配管の外周に上記排気配管を挟み込む溝を有する一対のヒータを挟着した半導体製造装置。
【請求項２】
上記一対のヒータは、断熱材として耐熱性のシリコーン系樹脂を用いたテープ状ヒータ、リボン状ヒータ、ベルト状ヒータのうちから選択される少なくとも１種の加熱ヒータにより作製したものであることを特徴とする上記請求項１の排気配管加熱用手段を備えた半導体製造装置。
【請求項３】
一対で配管の外周を覆うことが可能なヒータであって、配管を挟み込むための溝を有するヒータ。
【手続補正書】
【提出日】平成17年4月14日(2005.4.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】固体デバイス製造装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板保持体に基板が保持されているか否かを検知する基板検知装置を備えた固体デバイス製造装置において、前記基板保持体に取り付けられた電極と、この電極と基準電位との間の静電容量の変化を検出することにより、前記基板保持体に前記基板が保持されているか否かを検知する基板検知手段とを備えたことを特徴とする基板検知装置を備えた固体デバイス製造装置。
【手続補正書】
【提出日】平成16年8月27日(2004.8.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
前述した如く、炭素材料を負極として用いた場合、マンガン酸リチウムとの組合せによって炭素の界面抵抗の増加という問題がある。また、正極活物質自身高温での充放電によって充放電容量が低下するという問題もある。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
【課題を解決するための手段】
本発明は、この問題点を解決するため、正極活物質における主構成物質に、Ｌｉ1-z［Ｍｎ2-x-yＭxＬｉyＯ4］（ｘ，ｙはマンガンの置換量を示し、０＜ｘ＋ｙ≦１である。また、ｚは可逆的に使用可能なリチウム量を示し、−１≦ｚ≦１である。）を用いることにより、炭素材料との組合せや高温においても高容量、高エネルギー密度で、不可逆容量の少ない充放電サイクル特性の優れたリチウム二次電池を提供する。
負極活物質として炭素を考えた場合、炭素材料へのリチウムの吸蔵、放出（インターカレーション、デインターカレーション）が主に起こる反応だが、その反応を支配する因子の一つとして、電解液と炭素表面の間に生じる被膜状態が関与していることがわかった。例えば、リチウム金属を負極活物質にした場合で代表されるように、緻密でイオン導伝性の高い被膜はその電池特性も優れており、逆に厚くイオン伝導性の低い被膜はレート特性や、サイクル特性が悪いことが知られている。その場合、前者は炭酸リチウムや酸化リチウム等の被膜であり、後者はフッ化リチウム等の被膜であることが報告されている。これと同じことが炭素表面に生じる被膜についても考えられる。つまり、炭素材料の界面抵抗を増大させる要因の一つとして、炭素材料の表面にフッ化リチウム等のイオン伝導度の低い被膜の形成があげられる。このフッ化リチウムの被膜が形成される過程において、正極材料等から持ち込まれた水により電解質が分解して生成するフッ酸が関与していることが考えられる。本発明者らは、この問題点を解決するため種々検討した結果、スピネル構造を有するマンガン酸リチウムにおいて、マンガンの一部をリチウムと、カルシウム、クロム、インジウム、テルビウム、マグネシウム等のマンガン以外の元素で置換することにより、電池内部で生成するフッ酸を抑制することができることを見い出した。また、この正極材料は高温保存による電解液へのマンガンの溶出も抑制することが分かった。
【手続補正書】
【提出日】平成16年6月15日(2004.6.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
リチウムイオンをインターカレーション・デインターカレーションし得る活物質を主たる成分とする正極および負極を用いるリチウムイオン二次電池において、正極活物質として一次粒子が放射状に集まって平均粒径５〜２０μｍの球状ないし楕円状の二次粒子を形成している下記の一般式（Ｉ）
Ｌｉx Ｎｉy Ｃｏ1-y Ｏ2             （Ｉ）
（式中、ｘは充放電により変化する値であり、０＜ｘ＜１．１０、０．７５＜ｙ＜０．９０）
で表されるニッケルコバルト酸リチウムを含有することを特徴とするリチウムイオン二次電池。
【請求項２】
負極活物質が、（００２）面の面間隔（ｄ002 ）が０．３３８ｎｍ以下、平均粒径が２０μｍ以下の鱗片状炭素質材料であることを特徴とする請求項１記載のリチウムイオン二次電池。
【請求項３】
鱗片状炭素質材料の結晶サイズ（Ｌｃ）が３５〜５７ｎｍ、アスペクト比（長軸径／短軸径）が２〜２０であることを特徴とする請求項２記載のリチウムイオン二次電池。
【請求項４】
一般式（Ｉ）で表されるニッケルコバルト酸リチウムの二次粒子の比表面積が０．４〜１．２ｍ2 ／ｇであることを特徴とする請求項１記載のリチウムイオン二次電池。
【請求項５】
一般式（Ｉ）で表されるニッケルコバルト酸リチウムの一次粒子の平均粒径が０．３〜３μｍであることを特徴とする請求項１記載のリチウムイオン二次電池。
【請求項６】
正極の充填密度が２．８〜３．５ｇ／ｃｍ3 であることを特徴とする請求項１記載のリチウムイオン二次電池。
【請求項７】
セパレータとして、厚さが１０〜２５μｍの微孔性フィルムを用いた請求項１〜６のいずれかに記載のリチウムイオン二次電池。
【手続補正書】
【提出日】平成17年2月10日(2005.2.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上にＳｉを主体とし、骨格の一部もしくは全てがＳｉＯ2であるポーラス層を有し、該ポーラス層中に蛍光体微粒子が分散された構造を有することを特徴とする光機能性薄膜。
【請求項２】
前記ポーラス層がＳｉを主体とする材料の陽極酸化により作製されたものである請求項１記載の光機能性薄膜。
【請求項３】
前記ポーラス層がＳｉを主体とする材料の陽極化成により作製されたものである請求項１記載の光機能性薄膜。
【請求項４】
前記蛍光体微粒子が電子で励起可能な材料からなる請求項１記載の光機能性薄膜。
【請求項５】
前記蛍光体微粒子が電子で励起可能な材料と紫外線で励起が可能な材料の混合物からなる請求項１記載の光機能性薄膜。
【請求項６】
前記蛍光体微粒子が電着法により作製されたものである請求項１、４および５のいずれかの項に記載の光機能性薄膜。
【請求項７】
前記蛍光体微粒子がＺｎＯを含む材料である請求項１記載の光機能性薄膜。
【請求項８】
Ｓｉからなる基板を陽極酸化または陽極化成して基板上にＳｉを主体とし、骨格の一部もしくは全てがＳｉＯ2であるポーラス層を形成する工程、形成されたポーラス層中に蛍光体微粒子を分散させる工程を有することを特徴とする光機能性薄膜の製造方法。
【請求項９】
前記ポーラス層をフッ素を含有しない水溶液中で陽極酸化して作製する請求項８記載の光機能性薄膜の製造方法。
【請求項１０】
前記ポーラス層をフッ素を含有する水溶液中で陽極化成して作製する請求項８記載の光機能性薄膜の製造方法。
【請求項１１】
前記ポーラス層をフッ素を含有する水溶液中で陽極化成したのち、フッ素を含有しない水溶液中で陽極酸化することにより作製する請求項８記載の光機能性薄膜の製造方法。
【請求項１２】
前記ポーラス層中に蛍光体を電着させて蛍光体微粒子を分散させる請求項８記載の光機能性薄膜の製造方法。
【請求項１３】
前記陽極酸化もしくは陽極化成後、もしくは蛍光体の電着後にアニール処理する工程を有する請求項８記載の光機能性薄膜の製造方法。
【請求項１４】
少なくとも透明電極層と背面電極層を有し、且つその電極間にＳｉを主体とし、骨格の一部もしくは全てがＳｉＯ2であるポーラス層を有し、旦つ該ポーラス層中に蛍光体微粒子が分散された構造を有することを特徴とする発光デバイス。
【請求項１５】
前記Ｓｉを主体とするポーラス層の片側もしくは両側に絶縁層を有する請求項１４記載の発光デバイス。
【請求項１６】
前記ポーラス層がＳｉを主体とする材料の陽極酸化により作製されたものである請求項１４記載の発光デバイス。
【請求項１７】
前記ポーラス層がＳｉを主体とする材料の陽極化成により作製されたものである請求項１４記載の発光デバイス。
【請求項１８】
前記蛍光体微粒子が電子で励起可能な材料からなる請求項１４記載の発光デバイス。
【請求項１９】
前記蛍光体微粒子が電子で励起可能な材料と紫外線で励起が可能な材料の混合物からなる請求項１４記載の発光デバイス。
【請求項２０】
前記蛍光体微粒子が電着法により作製されたものである請求項１４、１８および１９のいずれかの項に記載の発光デバイス。
【請求項２１】
前記蛍光体微粒子がＺｎＯを含む材料である請求項１４記載の発光デバイス。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
【課題を解決するための手段】
上記の課題は本発明の以下の光機能性薄膜、及び発光デバイス、およびその製法により解決できる。
すなわち、基板上にＳｉを主体とし、骨格の一部もしくは全てがＳｉＯ2であるポーラス層を有し、該ポーラス層中に蛍光体微粒子が分散された構造を有することを特徴とする光機能性薄膜である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
次に、発光デバイスとしては、少なくとも透明電極層と背面電極層を有し、且つその電極間にＳｉを主体とし、骨格の一部もしくは全てがＳｉＯ2であるポーラス層を有し、旦つ該ポーラス層中に蛍光体微粒子が分散された構造を有することが有効である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
本発明は、上記の光機能性薄膜の作製方法をも提供する。
すなわち、Ｓｉからなる基板を陽極酸化または陽極化成して基板上にＳｉを主体とし、骨格の一部もしくは全てがＳｉＯ2であるポーラス層を形成する工程、形成されたポーラス層中に蛍光体微粒子を分散させる工程を有することを特徴とする光機能性薄膜の製造方法が有効である。
【手続補正書】
【提出日】平成16年6月9日(2004.6.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
監視領域内に設置され、警備モードを設定するモード設定手段と、監視領域を撮影し、撮影画像内に移動体が存在するか否かを判定する手段を有する画像センサと、前記画像センサが撮影した画像を記録する記憶手段とを具備する画像監視装置において、
前記モード設定手段が操作される状況を撮影する位置に配置され、かつ、撮影画面内に移動体が存在するか否かを判定する手段を有する最終画像センサと、
前記モード設定手段が操作される状況において、最終画像センサが移動体を検出したとき、その移動体を含む画像を前記記憶手段に記録する記録制御手段と
を具備することを特徴とする画像監視装置。
【手続補正書】
【提出日】平成17年9月13日(2005.9.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
無線通信により電力の供給とデータの送受信とが可能な無線カードにおいて、受信データを格納するための強誘電体不揮発性メモリを具備してなることを特徴とする無線カード。
【請求項２】
前記強誘電体不揮発性メモリは、前記受信データが順次書き込まれる第１の記憶領域と、この第１の記憶領域から読み出されて処理されたデータが格納される第２の記憶領域とを有することを特徴とする請求項１記載の無線カード。
【請求項３】
前記強誘電体不揮発性メモリは、前記第１の記憶領域から読み出されたデータの前記第２の記憶領域への書き込み処理に関する情報を記憶する第３の記憶領域を有することを特徴とする請求項２記載の無線カード。
【請求項４】
前記無線通信による電力の供給が開始された状態で、前記第３の記憶領域に記憶されている情報に基づいて、前記第１の記憶領域に残る未処理データの処理を行なう処理手段を備えていることを特徴とする請求項３記載の無線カード。
【請求項５】
データを含む搬送波を送信する通信システムに使用され、前記搬送波の到達範囲内に入ることにより電力の供給とデータの受信とが行なわれる無線カードにおいて、前記電力の供給状態で受信データを強誘電体不揮発性メモリの第１の記憶領域に順次書き込む第１の記録手段と、この第１の記録手段で前記第１の記憶領域に記録されたデータを、前記電力の供給状態で、前記第１の記憶領域から読み出し所定の処理を施して前記強誘電体不揮発性メモリの第２の記憶領域に格納する第２の記録手段とを具備してなることを特徴とする無線カード。
【請求項６】
前記第２の記録手段による前記第１の記憶領域から読み出されたデータの前記第２の記憶領域への書き込み処理に関する情報を、前記電力の供給状態で、前記強誘電体不揮発性メモリの第３の記憶領域に記録する第３の記録手段とを備えていること特徴とする請求項５記載の無線カード。
【請求項７】
データを含む搬送波を送信する通信機器と、この通信機器から送信される前記搬送波から電力の受電とデータの受信とを行なう無線カードとを備えた通信装置において、前記無線カード内に、前記受電状態で受信データを強誘電体不揮発性メモリの第１の記憶領域に書き込む第１の記録手段と、この第１の記録手段で前記第１の記憶領域に記録されたデータを、前記受電状態で、前記第１の記憶領域から読み出し所定の処理を施して前記強誘電体不揮発性メモリの第２の記憶領域に格納する第２の記録手段とを備えることを特徴とする無線カードを用いた通信装置。
【請求項８】
前記無線カードは、受電柱における前記第２の記録手段による前記第１の記憶領域から読み出されたデータの前記第２の記憶領域への書き込み処理に関する情報を、前記強誘電体不揮発性メモリの第３の記憶領域に記録する第３の記録手段とを備えていること特徴とする請求項７記載の無線カードを用いた通信装置。
【請求項９】
通信機器からデータを含む搬送波を送信して、無線カードに対する電力の供給とデータの受信とが行なわれる無線カードを用いた通信方法において、前記無線カード内に備えられた強誘電体不揮発性メモリに対して、前記電力の供給状態で受信データを第１の記憶領域に順次書き込む第１の工程と、この第１の工程で前記第１の記憶領域に記録されたデータを、前記電力の供給状態で、前記第１の記憶領域から読み出し所定の処理を施して第２の記憶領域に格納する第２の工程とを備えることを特徴とする無線カードを用いた通信方法。
【請求項１０】
前記無線カード内に備えられた強誘電体不揮発性メモリに対して、前記第２の記録手段による前記第１の記憶領域から読み出されたデータの前記第２の記憶領域への書き込み処理に関する情報を、前記電力の供給状態で、第３の記憶領域に記録する第３の工程とを備えていること特徴とする請求項９記載の無線カードを用いた通信方法。
【請求項１１】
自動改札機に設置されるリーダ／ライタが出力する電波を通信可能領域にて受信し、前記リーダ／ライタと無線にてデータ通信する無線媒体において、
前記通信可能領域内にて前記リーダ／ライタからの受信データを不揮発性メモリ領域に一時的に記録する第１の記憶手段と、
前記受信データが前記不揮発性メモリ領域に記録された後に、前記不揮発性メモリ領域に記録されたデータを読み出しデータ格納処理を実行する演算処理回路と、
前記演算処理回路が処理した処理データをデータ領域に格納する第２の記憶手段とを具備してなることを特徴とする無線通信媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成17年3月17日(2005.3.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源と、この光源からの出射光を集光する集光レンズと、この集光レンズにより集光された光を反射する光反射手段と、固定部と可動部と両者を接続する接続部とから構成され、前記光反射手段により反射された反射光を走査対象物に関して走査する光走査手段と、前記走査対象物からの戻り光を受光して検出する受光検出手段と、を具備する光学的スキャナ装置において、前記光反射手段は前記光走査手段の可動部表面の中央部付近に設けられており、かつ、前記受光検出手段は前記光走査手段の可動部表面であって、この光反射手段の周囲に設けられていることを特徴とする光学的スキャナ装置。
【請求項２】
前記受光手段は、前記光反射手段の周囲に分割されて設けられていることを特徴とする請求項１記載の光学的スキャナ装置。
【請求項３】
前記光反射手段の光反射面は、前記光走査手段の可動部表面に対して傾斜して設けられていることを特徴とする請求項１及び請求項２記載の光学的スキャナ装置。
【請求項４】
光源と、この光源からの出射光を集光する集光レンズと、固定部と可動部と両者を接続する接続部とから構成され、前記集光レンズにより集光された光を走査対象物に関して走査する光走査手段と、前記走査対象物からの戻り光を受光して検出する受光検出手段と、を具備する光学的スキャナ装置において、前記光源は前記光走査手段の可動部表面の中央部付近に設けられており、かつ、前記受光検出手段は前記光走査手段の可動部表面であって、前記光源の周囲に分割されて設けられていることを特徴とする光学的スキャナ装置。
【請求項５】
前記光走査手段の可動部の一部がＨ型形状に切り欠かれており、この切り欠かれた部分に前記接続部が形成されていることを特徴とする請求項１、請求項２及び請求項４のいずれか１つに記載の光学的スキャナ装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
【課題を解決するための手段】第１の発明に係る光学的スキャナ装置は、光源と、この光源からの出射光を集光する集光レンズと、この集光レンズにより集光された光を反射する光反射手段と、固定部と可動部と両者を接続する接続部とから構成され、前記光反射手段により反射された反射光を走査対象物に関して走査する光走査手段と、前記走査対象物からの戻り光を受光して検出する受光検出手段と、を具備する光学的スキャナ装置において、前記光反射手段は前記光走査手段の可動部表面の中央部付近に設けられており、かつ、前記受光検出手段は前記光走査手段の可動部表面であって、この光反射手段の周囲に設けられている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
また、第２の発明に係る光学的スキャナ装置は、第１の発明に係る光学的スキャナ装置において、前記受光手段は、前記光反射手段の周囲に分割されて設けられている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
また、第３の発明に係る光学的スキャナ装置は、第１の発明又は第２の発明に係る光学的スキャナ装置において、前記光反射手段の光反射面は、前記光走査手段の可動部表面に対して傾斜して設けられている。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
また、第４の発明に係る光学的スキャナ装置は、光源と、この光源からの出射光を集光する集光レンズと、固定部と可動部と両者を接続する接続部とから構成され、前記集光レンズにより集光された光を走査対象物に関して走査する光走査手段と、前記走査対象物からの戻り光を受光して検出する受光検出手段と、を具備する光学的スキャナ装置において、前記光源は前記光走査手段の可動部表面の中央部付近に設けられており、かつ、前記受光検出手段は前記光走査手段の可動部表面であって、前記光源の周囲に分割されて設けられている。
【手続補正書】
【提出日】平成16年12月24日(2004.12.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
イオンビームＬの入射位置の下方には、イオンビームＬの電流を測定するためのファラデー・カップ１２が配置されている。このファラデー・カップ１２による測定値を基準にして上記の非接触ビーム電流計８の計測値があらかじめ校正される。また、エンドステーション部１０Ｅの天井部にはウェーハ位置検出器１９が固定されている。ウェーハ位置検出器１９はＣＣＤ撮像カメラであり、ウェーハＷ内のアライメントマークを基準にしてウェーハ位置を検出するが、それ以外の検出器であってもよい。ウェーハ位置検出器１９からの位置検出信号は図示しない制御部へ入力され、制御部は後述するプラテン１３のＸ方向、Ｙ方向への機械的駆動機構１６、１７および回転機構１４、ティルト機構１５の作動を制御するようになっている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
図２はエンドステーション部１０Ｅ内における機器配置を示す概略図である。非接触ビーム電流計８を通過して下方へ向かうイオンビームＬがマスク９の開口を通過してビーム密度分布モニター１１に入射している場合を示す。後述の図３も参照して、マスク９はＸＹテーブル１８に取り付けられている。また、ウェーハＷを保持するプラテン１３は回転機構１４とティルト機構１５を備えると共に、支持柱１５ｓを介してＸ方向機械的駆動機構１６に固定され、Ｘ方向機械的駆動機構１６はＹ方向機械的駆動機構１７と連結されている。
【手続補正書】
【提出日】平成17年3月30日(2005.3.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プレイヤーからの操作信号を入力するゲーム機用入力操作装置において、
プレイヤーの左右両手にそれぞれ握持される握持部を左右に備え、
該左右の握持部は、入力操作装置本体の外周面を覆って、プレイヤーの上下方向軸、左右方向軸および前後方向軸を中心として傾動できるように、相互にまたは入力操作装置本体に結合され、
前記左右の握持部の３種類の傾動をそれぞれ検出する検出手段が設けられ、
該検出手段の検出信号をプレイヤーからの操作信号とし、
前記入力操作装置本体に対する前記左右握持部の当接でもって、前記３種類の最大傾動量がそれぞれ規定されることを特徴とするゲーム機用入力操作装置。
【請求項２】
前記左右の握持部は左右対称の形状をなし、
該左右の握持部の３種類の最大傾動量は略同程度に設定され、この傾動量に対応した操作信号が発信されることを特徴とする請求項１記載のゲーム機用入力操作装置。
【請求項３】
前記左右の握持部の３種類の傾動量に対応して操作反力を与える操作反力手段が設けられたことを特徴とする請求項２記載のゲーム機用入力操作装置。
【請求項４】
前記左右の握持部は左右対称の形状をなし、該左右の握持部は、入力操作装置本体の左右両側部より手前側へ指向したことを特徴とする請求項１ないし請求項３いずれか記載のゲーム機用入力操作装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
【課題を解決するための手段および効果】
本出願発明は、このような難点を克服したゲーム機用入力操作装置の改良に係り、請求項１記載の発明は、プレイヤーからの操作信号を入力するゲーム機用入力操作装置において、プレイヤーの左右両手にそれぞれ握持される握持部を左右に備え、該左右の握持部は、入力操作装置本体の外周面を覆って、プレイヤーの上下方向軸、左右方向軸および前後方向軸を中心として傾動できるように、相互にまたは入力操作装置本体に結合され、前記左右の握持部の３種類の傾動をそれぞれ検出する検出手段が設けられ、該検出手段の検出信号をプレイヤーからの操作信号とし、前記入力操作装置本体に対する前記左右握持部の当接でもって、前記３種類の最大傾動量がそれぞれ規定されることを特徴とするものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
さらに、通常のジョイパッドのように、プレイヤーの両手の掌で前記左右の握持部を支え、前記３種類の傾動操作を行うことができる。しかも前記左右握持部に、指による入力操作が可能な他の入力スイッチ等の入力手段を設け、または入力操作装置本体における前記左右握持部近傍個所に、前記指による入力操作が可能な入力手段を設けることにより、さらに多くの種類の操作信号を入力することができる。また前記入力操作装置本体に対する前記左右握持部の当接でもって、上下方向軸、左右方向軸および前後方向軸を中心とした最大傾動量がそれぞれ規定されうる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
また請求項２記載のように発明を構成することにより、プレイヤーの手、腕を
傾けまたはプレイヤーの手首を曲げあるいは捩じって、所要の操作信号を発信さ
せることができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
しかも、請求項２記載の発明では、その傾けまたは曲げの程度に対応したアナログ量の操作信号を発信させることができる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
さらに請求項３記載のように発明を構成することにより、プレイヤーは、操作量に対応した操作反力を受け、前記その操作反力による筋肉の力でもって、プレイヤーは、入力量を体感することができ、プレイの迫真性を著しく高めることができる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
しかも請求項４記載のように発明を構成することにより、プレイヤーの両手でもって握持部を握持することができ、一方の手でもって、操縦桿の操作のように縦横２種類の操作量を入力することができるとともに、前記握持部の長手方向を中心とする捩り操作量を入力することができ、左右両方の手で合計６種類以上（左右の組合せにより）の操作量を入力することができる結果、複雑な動作をゲーム機に入力することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成17年2月3日(2005.2.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】車両用灯具
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
反射鏡に対し１つの光源を移動させる移動手段により配光を切換えて成る車両用灯具において、前記移動手段が、少なくとも前記車両用灯具の車両への取付状態における左右方向への移動手段であることを特徴とする車両用灯具。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明は前記した従来の課題を解決するための具体的手段として、反射鏡に対し１つの光源を移動させる移動手段により配光を切換えて成る車両用灯具において、前記移動手段が、少なくとも前記車両用灯具の車両への取付状態における左右方向への移動手段であることを特徴とする車両用灯具を提供することで課題を解決するものである。
【手続補正書】
【提出日】平成17年3月31日(2005.3.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
部材を分離する分離方法であって、
その主表面の方向が第１の方向に一致する部材を受け取る受取工程と、
前記部材の主表面の方向を第２の方向に一致させる操作工程と、
束状の流体を利用して前記部材を分離する分離工程と、
を順に実行することを特徴とする分離方法。
【請求項２】
前記分離工程において分離された各部材の少なくとも１つの部材の主表面の方向を前記第１の方向に一致させる第２操作工程を更に含むことを特徴とする請求項１に記載の分離方法。
【請求項３】
前記第１の方向と前記第２の方向とが略直交することを特徴とする請求項１に記載の分離方法。
【請求項４】
前記第１の方向は、部材の主表面が略水平になる方向であることを特徴とする請求項１に記載の分離方法。
【請求項５】
処理対象の部材は板状部材であり、前記分離工程では、該板状部材を面方向に切断して２枚の板状部材に分離することを特徴とする請求項１に記載の分離方法。
【請求項６】
前記第２の方向は、板状部材の主表面が略垂直になる方向であり、前記分離工程では、板状部材に向かって鉛直方向に流体を噴射して該板状部材を２枚の板状部材に分離することを特徴とする請求項５に記載の分離方法。
【請求項７】
前記第１の方向は、板状部材の主表面が略水平になる方向であることを特徴とする請求項５に記載の分離方法。
【請求項８】
前記分離工程では、板状部材を両面から挟むようにして保持することを特徴とする請求項５に記載の分離方法。
【請求項９】
前記分離工程では、処理対象の部材をその主表面に直交する軸を中心として回転させながら、束状の流体を利用して該部材を分離することを特徴とする請求項１に記載の分離方法。
【請求項１０】
流体として水を使用することを特徴とする請求項１に記載の分離方法。
【請求項１１】
半導体基板の製造方法であって、
内部に多孔質層又は微小気泡層を有する第１の基板を作成する工程と、
前記第１の基板と第２の基板とを貼り合せて貼り合せ基板を作成する工程と、
請求項１に記載の分離方法を適用して、前記多孔質層又は微小気泡層を分離領域として前記貼り合せ基板を第１の基板側及び第２の基板側に分離する工程と、
を含むことを特徴とする半導体基板の製造方法。
【請求項１２】
前記多孔質層は、半導体基板に陽極化成処理を施して形成されることを特徴とする請求項１１に記載の半導体基板の製造方法。
【請求項１３】
前記微小気泡層は、半導体基板にイオンを注入して形成されることを特徴とする請求項１１に記載の半導体基板の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年3月31日(2005.3.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
部材を分離する分離装置であって、
部材の主表面の方向を変更する操作手段と、
束状の流体を利用して部材を分離する分離手段と、
を備え、前記操作手段は、部材をその主表面の方向が第１の方向に一致するように操作する機能と、該主表面の方向が第２の方向に一致するように操作する機能とを有することを特徴とする分離装置。
【請求項２】
前記操作手段は、その主表面の方向が前記第１の方向に一致する部材を受け取り、該主表面の方向を前記第２の方向に一致させると共に該部材を前記分離手段が処理可能な位置に移動させる他、前記分離手段により分離された各部材の少なくとも１つの部材の主表面の方向を前記第１の方向に一致させることを特徴とする請求項１に記載の分離装置。
【請求項３】
前記第１の方向と前記第２の方向とが略直交することを特徴とする請求項１に記載の分離装置。
【請求項４】
前記第１の方向は、部材の主表面が略水平になる方向であることを特徴とする請求項１に記載の分離装置。
【請求項５】
処理対象の部材は板状部材であり、前記分離手段は、該板状部材を面方向に切断して２枚の板状部材に分離することを特徴とする請求項１に記載の分離装置。
【請求項６】
前記第２の方向は、板状部材の主表面が略垂直になる方向であり、前記分離手段は、板状部材に向かって流体を鉛直方向に噴射して該板状部材を２枚の板状部材に分離することを特徴とする請求項５に記載の分離装置。
【請求項７】
前記操作手段は、前記分離手段により板状部材を分離する際に該板状部材を両面から挟むようにして保持する一対の保持手段を有することを特徴とする請求項５に記載の分離装置。
【請求項８】
部材をその主表面に直交する軸を中心として回転させる回転手段を更に備えることを特徴とする請求項１に記載の分離装置。
【請求項９】
装置を被うチャンバを更に備えることを特徴とする請求項１に記載の分離装置。
【請求項１０】
前記チャンバは、開閉可能なシャッタを有することを特徴とする請求項９に記載の分離装置。
【請求項１１】
処理対象の部材を前記操作手段に引き渡す他、分離された部材を前記操作手段から受け取るための搬送手段を更に備え、前記搬送手段は前記チャンバの外部に配置され、前記シャッタを開放した状態で、前記操作手段との間で部材の引き渡し及び受け取りを行うことを特徴とする請求項１０に記載の分離装置。
【請求項１２】
少なくとも前記分離手段により部材を分離する際には、前記シャッタを閉じることを特徴とする請求項１０に記載の分離装置。
【請求項１３】
処理対象の部材を前記操作手段に対して位置合せする位置合せ手段を更に備えることを特徴とする請求項１１に記載の分離装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】部材の分離装置
【手続補正書】
【提出日】平成16年12月22日(2004.12.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１６】
〈実験例６〉直径２２０ｎｍの記録媒体製造用原盤に対して、低圧水銀ランプを用いた光照度むら±７％の遠紫外線乾式表面改質（洗浄）装置（Ｊｅｌｉｇｈｔ  Ｃｏｍｐａｎｙ，Ｉｎｃ製、ＵＶＯｃｌｅａｎｅｒ）を用いて遠紫外線を照射することによって、全面にわたり表面荒れの非常に少ない記録媒体製造用原盤を均一に作製することができた。
【手続補正書】
【提出日】平成16年4月27日(2004.4.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
また、制御部１７で生成したトラッキングエラー信号はイコライザ１８にも供給される。イコライザ１８で波形整形されたトラッキングエラー信号はアクチュエータドライバ１３に供給される。そしてアクチュエータドライバ１３から出力される駆動信号をアクチュエータ１２に供給することにより、対物レンズ９をトラッキング方向に移動させて対物レンズ９の光軸Ｘ１のトラッキング調整を行う。この場合、制御手段がトラッキングエラー信号の低域周波数成分に基づいて算出されたスポット位置Ｌを目標スポット位置Ｌ０へ近づけるようにＳＩＬ１０をトラッキング方向に移動することになる。これは、ＳＩＬ１０を移動させるためのキャリッジ２の質量が大きく高帯域の駆動信号には応答できないからである。
【手続補正書】
【提出日】平成16年12月22日(2004.12.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
真空槽１１には、図１及び図２に示すように、天井部１１ｂの上面に環状の静圧軸受部２２が設けられている。静圧軸受部２２は、上述したヘッド回動駆動機構１４のヘッド取付部材３５を回転自在に支持する軸受であり、内周部分に全周に亘って軸受穴２２ａが形成されている。静圧軸受部２２は、例えば多孔質絞り部材等の絞りと数１０ミクロン以下のすきまで構成され、内部空間２３が高圧の空気流で満たされており、真空槽１１の内部空間部１７の真空条件を保持する作用も奏している。
【手続補正書】
【提出日】平成17年1月7日(2005.1.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表記内容が記録される表記内容記録領域が表面の一部に形成された記録メディアが内部に装填され、前記記録メディアに記録内容を記録する記録装置であって、
前記記録メディアの前記表記内容記録領域における前記表記内容の書き替えを行う表記内容書き込み手段を備え、
前記表記内容書き込み手段が、前記表記内容記録領域の表記内容として少なくとも、前記記録メディアの記録内容の再生の有無が分かるように表記することができるようにしたことを特徴とする記録装置。
【請求項２】
表記内容が記録される表記内容記録領域が表面の一部に形成された記録メディアが内部に装填され、前記記録メディアに記録内容を記録する記録装置の使用方法であって、
前記記録メディアの前記表記内容記録領域における前記表記内容の書き替えを行う表記内容書き込み手段を用いて、
前記記録メディアに新しい記録内容を記録したとき及び前記新しい記録内容の上から重ね書きしたときは前記表記内容書き込み手段が前記表記内容に少なくとも未再生と分かるように表記し、
前記記録メディアの再生時には前記表記内容書き込み手段が前記表記内容記録領域に再生したことが分かるように表記するようにしたことを特徴とする記録装置の使用方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために本発明は、表記内容が記録される表記内容記録領域が表面の一部に形成された記録メディアが内部に装填され、記録メディアに記録内容を記録する場合に、記録メディアの表記内容記録領域における表記内容の書き替えを行う表記内容書き込み手段を備え、表記内容書き込み手段が、表記内容記録領域の表記内容として少なくとも、記録メディアの記録内容の再生の有無が分かるように表記することができるようにしたものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
このような構成の記録装置及び記録装置の使用方法によれば、記録メディアに新しい記録内容を記録したときやその上から重ね書きしたときは、表記内容書き込み手段が表記内容記録領域に少なくとも未再生と分かるように表記し、記録媒体の再生時には表記内容書き込み手段が表記内容記録領域に再生したことが分かるように表記することができる。