【手続補正書】
【提出日】平成16年11月25日(2004.11.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
リソグラフィ装置であって、
放射の投影ビームを供給するための照射システムと、
前記投影ビームの断面にパターンを与える役割を果たすパターン化手段と、
基板を支持するための基板テーブルと、
前記パターン化したビームを前記基板の標的部分の上に投影するための投影システムと、
前記投影システムが前記パターン化したビームを前記基板上に投影するための位置に前記基板がある間に、前記基板を検査するための検出器と、
前記検出器からの情報に応答して、前記基板上に投影された前記パターンの前記基板に対する位置、前記基板上に投影された前記パターンの倍率、及び最適焦点像平面の少なくとも１つを調整するための制御器とを備え、
前記検出器が前記基板の複数の部分を前記基板の全幅にわたって同時に検査するための複数のセンサを有し、さらに前記パターン化手段及び前記投影システムが前記基板の全幅を露光するように配置され、それによって前記装置に対する前記基板の１回の通過で前記基板を検査しかつ露光することができる、リソグラフィ装置。
【請求項２】
リソグラフィ装置であって、
放射の投影ビームを供給するための照射システムと、
前記投影ビームの断面にパターンを与える役割を果たすパターン化手段と、
基板を支持するための基板テーブルと、
前記パターン化したビームを前記基板の標的部分の上に投影するための投影システムと、
前記投影システムが前記パターン化したビームを前記基板上に投影するための位置に前記基板がある間に、前記基板の部分を検査するための検出器と、
前記検出器からの情報に応答して、前記基板上に投影された前記パターンの前記基板に対する位置、前記基板上に投影された前記パターンの倍率、及び最適焦点像平面の少なくとも１つを調整するための制御器とを備え、
前記検出器が、先行する処理工程によって作成された、前記基板上に形成されているデバイスの機能形状構成を検査する、リソグラフィ装置。
【請求項３】
リソグラフィ装置であって、
放射の投影ビームを供給するための照射システムと、
前記投影ビームの断面にパターンを与える役割を果たすパターン化手段と、
基板を支持するための基板テーブルと、
前記パターン化したビームを前記基板の標的部分の上に投影するための投影システムと、
前記投影システムが前記パターン化したビームを前記基板上に投影するための位置に前記基板がある間に、前記基板の部分を検査するための検出器とを備え、
前記検出器からの情報に応答して、前記基板上に投影された前記パターンの倍率を調整するための制御器をさらに備える、リソグラフィ装置。
【請求項４】
前記検出器が、前記基板の前記部分を検査する工程から、１つ又は複数の方向における前記検出器に対する前記基板の前記部分の位置及び／又は配向の少なくとも１つと、標準尺に対する前記基板の前記部分の膨張／収縮とを測定する、請求項１、２、又は３に記載のリソグラフィ投影装置。
【請求項５】
前記投影システムに対する前記検出器の位置が実質的に固定されかつ知られている、請求項１から４のいずれか一項に記載のリソグラフィ投影装置。
【請求項６】
前記投影システムに対する前記検出器の位置を監視するための位置センサをさらに備える、請求項１から５のいずれか一項に記載のリソグラフィ投影装置。
【請求項７】
前記基板の異なる領域を連続的に露光するために、前記投影システム及び前記検出器に対して前記基板を移動させる位置決め手段をさらに備え、
前記所与の領域が露光される前に、前記検出器が前記基板の前記領域を検査するように配置されている、請求項１から６のいずれかに記載のリソグラフィ投影装置。
【請求項８】
前記基板が、一連の複数の露光を通じて又は露光時に、前記投影システム及び前記検出器に対して前記基板を実質的に一定の速度で移動するように構成されている、請求項１から７のいずれか一項に記載のリソグラフィ投影装置。
【請求項９】
前記投影システム及び／又は前記パターン化手段及び／又は前記基板の少なくとも１つを物理的に移動させることによって、かつ前記露光のタイミングを調整することによって、前記基板上に投影されたパターンの位置を調整する、請求項１から８のいずれか一項に記載のリソグラフィ投影装置。
【請求項１０】
前記パターン化手段が個別制御可能要素アレイを含む、請求項１から９のいずれか一項に記載のリソグラフィ投影装置。
【請求項１１】
前記基板上に投影されたパターンの位置が、パターンを前記個別制御可能要素アレイ上に設定するタイミングの調整及び前記個別制御可能要素アレイ上に設定されている前記パターンの位置の電子的調整の少なくとも１つによって調整される、請求項１０に記載のリソグラフィ投影装置。
【請求項１２】
前記基板上に投影されたパターンの倍率が、前記個別制御可能要素アレイ上に設定された前記パターンを電子的に調整することによって調整される、請求項１０に記載のリソグラフィ投影装置。
【請求項１３】
前記パターン化手段が、相互に離間して設定された複数の個別制御可能要素アレイを含み、さらに
前記個別制御可能要素アレイの少なくとも１つのアレイに対応して、前記制御器が、前記基板上に投影された前記パターンの位置、前記基板上に投影された前記パターンの倍率、及び前記最適焦点像平面の少なくとも１つを別個に調整することができる、請求項１から１２のいずれか一項に記載のリソグラフィ投影装置。
【請求項１４】
前記検出器が、相互に離間して設定された、前記基板の複数の部分を同時に検査するための複数のセンサを有する、請求項１から１３のいずれか一項に記載のリソグラフィ投影装置。
【請求項１５】
前記検出器が前記基板上の位置合わせ標識を検査する、請求項１から１４のいずれか一項に記載のリソグラフィ投影装置。
【請求項１６】
前記検出器が、先行する処理工程によって作成された、前記基板上に形成されているデバイスの形状構成を検査する、請求項１から１５のいずれか一項に記載のリソグラフィ投影装置。
【請求項１７】
デバイスを製造する方法であって、
基板を提供する工程と、
照射システムを使用して放射の投影ビームを供給する工程と、
前記投影ビームの断面にパターンを与えるためにパターン化手段を使用する工程と、
前記放射のパターン化したビームを前記基板の標的部分上に投影する工程と、
前記投影システムが前記パターン化したビームを前記基板上に投影するための位置に前記基板がある間に、前記基板の部分を検査するために検出器を使用する工程と、
前記検出器からの情報に応答して、前記基板上に投影された前記パターンの前記基板に対する位置、前記基板上に投影された前記パターンの倍率、及び最適焦点像平面の少なくとも１つを調整する工程とを含み、
前記検出器が前記基板の複数の部分を前記基板の全幅にわたって同時に検査するための複数のセンサを有し、さらに前記パターン化手段及び前記投影システムが前記基板の全幅を露光するように配置され、さらに
前記装置に対する前記基板の１回の通過で、前記基板を検査しかつ前記基板上にパターンを露光する工程をさらに含む、方法。
【請求項１８】
デバイスを製造する方法であって、
基板を提供する工程と、
照射システムを使用して放射の投影ビームを供給する工程と、
前記投影ビームの断面にパターンを与えるためにパターン化手段を使用する工程と、
前記放射のパターン化したビームを前記基板の標的部分上に投影する工程と、
前記投影システムが前記パターン化したビームを前記基板上に投影するための位置に前記基板がある間に、前記基板の部分を検査するために検出器を使用する工程と、
前記検出器からの情報に応答して、前記基板上に投影された前記パターンの前記基板に対する位置、前記基板上に投影された前記パターンの倍率、及び最適焦点像平面の少なくとも１つを調整する工程とを含み、
前記検出器が、先行する処理工程によって作成された、前記基板上に形成されているデバイスの機能形状構成を検査する、方法。
【請求項１９】
デバイスを製造する方法であって、
基板を提供する工程と、
照射システムを使用して放射の投影ビームを供給する工程と、
前記投影ビームの断面にパターンを与えるためにパターン化手段を使用する工程と、
前記放射のパターン化したビームを前記基板の標的部分上に投影する工程と、
前記投影システムが前記パターン化したビームを前記基板上に投影するための位置に前記基板がある間に、前記基板の部分を検査するために検出器を使用する工程と、
前記検出器からの情報に応答して、基板上に投影されたパターンの倍率を調整する工程とを含む方法。
【請求項２０】
放射を提供する放射源と、
光エンジンのアレイであって、各光エンジンが、前記放射を受け、該放射をパターン化するように配列及び構成された個々に制御可能な要素のアレイと、パターン化された放射を受け、該パターン化された放射を基板上に投影する投影光学系を有する、光エンジンのアレイと、
前記基板を支持する基板テーブルと、を有したリソグラフィ投影装置であって、
前記パターン化された放射に対する前記基板の放射の際、前記基板テーブルが前記光エンジンのアレイに対して動くように配列及び構成されているリソグラフィ投影装置。
【請求項２１】
前記パターン化された放射に対する前記基板の放射の際、前記基板テーブルが前記光エンジンのアレイに直交する方向に動くように配列及び構成されている、請求項２０に記載のリソグラフィ投影装置。
【請求項２２】
放射を提供する放射源と、
光エンジンのアレイであって、各光エンジンが、前記放射を受け、該放射をパターン化するように配列及び構成された個々に制御可能な要素のアレイと、パターン化された放射を受け、該パターン化された放射を基板上に投影する投影光学系を有する、光エンジンのアレイと、
前記基板を支持する基板テーブルと、を有したリソグラフィ投影装置であって、
前記パターン化された放射に対する前記基板の放射の際、前記光エンジンのアレイが前記光基板テーブルに対して動くように配列及び構成されているリソグラフィ投影装置。
【請求項２３】
前記基板は前記パターン化された放射の１回の通過でその全幅が露光される、請求項２０から２２のいずれか一項に記載のリソグラフィ投影装置。
【請求項２４】
前記光エンジンのおのおのが微小レンズ・アレイを有している、請求項２０から２３のいずれか一項に記載のリソグラフィ投影装置。
【請求項２５】
請求項２０から２４のいずれか一項に記載のリソグラフィ投影装置で、基板を放射に対して露光させる方法。
【請求項２６】
前記基板がガラス基板である、請求項２５に記載の方法。
【請求項２７】
前記基板が光感応層を有している、請求項２５又は２６に記載の方法。
【請求項２８】
請求項２５から２７のいずれか一項に記載の方法によって得られた平面パネル・ディスプレイ。
【請求項２９】
個々に制御可能な要素の複数のアレイを照射し、複数のパターン化された投影ビームを生成させることと、
光感応性層を有した基盤の全幅を前記パターン化された複数の投影ビームに一回の通過で露光することを有するデバイス製造方法。
【請求項３０】
前記露光の際、前記基板を前記複数のアレイに対して動かすことをさらに有している、請求項２９に記載のデバイス製造方法。
【請求項３１】
前記露光の際、前記複数のアレイを前記基板に対して動かすことをさらに有している、請求項２９又は３０に記載のデバイス製造方法。
【請求項３２】
前記複数のパターン化されたビームの各々が別の光学システムを介して前記基板上に投影される、請求項２９から３１に記載のデバイス製造方法。
【請求項３３】
請求項２９から３２のいずれか一項に記載の方法によって得られた平面パネル・ディスプレイ。