【手続補正書】
【提出日】令和2年11月27日(2020.11.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
坑井内のダウンホールの場所に位置するように構成されたダウンホールポンプと；
前記坑井内の前記ダウンホールポンプの入口の上流に位置するキャビテーション室と；を備え、
前記キャビテーション室は、前記ダウンホールポンプを通って流れる流体内においてキャビテーションを誘起するように構成され、前記流体はスケール生成物を備え、前記キャビテーションはスケール生成物を前記流体から析出させ、
前記キャビテーション室は化学コーティングを備え、前記化学コーティングは前記析出したスケール生成物による閉塞を防止するように構成されている、
ダウンホール生産組立体。
【請求項２】
前記キャビテーション室は、前記ダウンホールポンプの入口に取り付けられている、
請求項１に記載のダウンホール生産組立体。
【請求項３】
前記キャビテーション室の内面は、前記析出したスケール生成物による閉塞を防止するように構成されている、
請求項１に記載のダウンホール生産組立体。
【請求項４】
前記キャビテーション室は機械式洗浄器を備え、前記機械式洗浄器は前記析出したスケール生成物による閉塞を防止するように構成されている、
請求項１に記載のダウンホール生産組立体。
【請求項５】
前記キャビテーション室は超音波洗浄器を備え、前記超音波洗浄器は前記析出したスケール生成物による閉塞を防止するように構成されている、
請求項１に記載のダウンホール生産組立体。
【請求項６】
前記キャビテーション室は、前記流体内で回転することによって前記流体内に前記キャビテーションを誘起するように構成された回転キャビテータを備える、
請求項１に記載のダウンホール生産組立体。
【請求項７】
前記回転キャビテータは、前記ダウンホールポンプの回転軸に連結されるように構成されている、
請求項６に記載のダウンホール生産組立体。
【請求項８】
前記回転キャビテータは受動的に自由回転するように構成され、前記流体流は前記自由回転を引き起こす、
請求項６に記載のダウンホール生産組立体。
【請求項９】
前記キャビテーション室は、前記流体内に超音波周波数を放射することによって前記流体内に前記キャビテーションを誘起するように構成された超音波振動子を備える、
請求項１に記載のダウンホール生産組立体。
【請求項１０】
前記超音波振動子は、４０ｋＨｚ乃至１０ＭＨｚの周波数を生成するように構成されている、
請求項９に記載のダウンホール生成組立体。
【請求項１１】
前記超音波振動子の最大電力出力は２０ｋＷである、
請求項９に記載のダウンホール生産組立体。
【請求項１２】
前記キャビテーション室は、前記流体内にレーザを放射することによって前記流体内に前記キャビテーションを誘起するように構成されたレーザエミッタを備える、
請求項１に記載のダウンホール生産組立体。
【請求項１３】
前記レーザエミッタはパルスレーザを放射する、
請求項１２に記載のダウンホール生産組立体。
【請求項１４】
前記レーザエミッタは連続レーザを放射する、
請求項１２に記載のダウンホール生産組立体。
【請求項１５】
前記レーザエミッタの表面は、表面コーティング又は超音波振動子を備え、前記表面コーティング又は前記超音波振動子は前記析出したスケール生成物が前記レーザエミッタの表面に付着することを防止するように構成されている、
請求項１２に記載のダウンホール生産組立体。
【請求項１６】
前記キャビテーション室は、電気アークエミッタを備える、
請求項１記載のダウンホール生産組立体。
【請求項１７】
前記電気アークエミッタは、前記流体の流路内に電気アークを発生させるように構成されている、
請求項１６に記載のダウンホール生産組立体。
【請求項１８】
前記電気アークエミッタは、９０００Ｖの最大電圧定格を有する、
請求項１６に記載のダウンホール生産組立体。
【請求項１９】
前記電気アークエミッタは、パルス電気アークを発生するように構成されている、
請求項１６に記載のダウンホール生産組立体。
【請求項２０】
前記電気アークエミッタは、連続電気アークを発生するように構成されている、
請求項１６に記載のダウンホール生産組立体。
【請求項２１】
前記キャビテーション室に電力を供給するように構成されている電力供給システムを更に備える、
請求項１に記載のダウンホール生産組立体。
【請求項２２】
前記電力供給システムは、前記ダウンホールポンプに電力を供給するように構成されている、
請求項２１に記載のダウンホール生産組立体。
【請求項２３】
ダウンホールポンプのダウンホールポンプ入口の上流に位置するキャビテーション室内で、スケール生成物を備える坑井流体を受け入れるステップと；
前記キャビテーション室内の前記坑井流体内にキャビテーションを誘起して前記キャビテーション室内で前記スケール生成物を析出させるステップと；を備え、
レーザエミッタが、レーザビームを生成することによって前記流体内にキャビテーションを誘起するように構成されている、
方法。
【請求項２４】
前記キャビテーション室を前記坑井流体の流路内に配置するステップを更に備える、
請求項２３に記載の方法。
【請求項２５】
前記析出したスケール生成物を前記ダウンホールポンプ入口に取り込むステップを更に備える、
請求項２３に記載の方法。
【請求項２６】
前記キャビテーション室は回転キャビテータを備え、キャビテーションを前記流体内に誘起するステップは、前記キャビテーション室内で前記回転キャビテータを回転させるステップを備える、
請求項２３に記載の方法。
【請求項２７】
前記回転キャビテータを前記ダウンホールポンプのダウンホールポンプ軸に連結するステップと；
前記ダウンホールポンプ軸を回転させて前記回転キャビテータを回転させるステップと；を更に備える、
請求項２３の記載の方法。
【請求項２８】
前記坑井流体流は、前記回転キャビテータを回転させる、
請求項２３に記載の方法。
【請求項２９】
超音波振動子が、キャビテーションを前記流体内に誘起するように構成されている、
請求項２３に記載の方法。
【請求項３０】
前記超音波振動子は、４０ｋＨｚ乃至１０ＭＨｚの周波数の音波を発生するように構成されている、
請求項２９に記載の方法。
【請求項３１】
前記超音波振動子の最大電力定格は２０ｋＷである、
請求項２９に記載の方法。
【請求項３２】
前記レーザビームはパルスレーザである、
請求項２３に記載の方法。
【請求項３３】
電気アークが、前記流体内にキャビテーションを誘起するように構成されている、
請求項２３に記載の方法。
【請求項３４】
前記電気アークの最大電圧は９０００Ｖである、
請求項３３に記載の方法。
【請求項３５】
坑井流体を坑井から地上施設に導くように構成された産出管と；
前記坑井流体を、前記産出管を介して移動させるように構成され、前記産出管のダウンホール端に位置する、坑井ポンプと；
前記坑井流体を前記坑井ポンプ内に導くように構成された坑井ポンプ吸込口と；
前記坑井ポンプ吸込口の上流の前記坑井流体内に、スケール生成物を前記流体から析出させるキャビテーションを誘起するように構成されたキャビテーション室と；
前記坑井ポンプを回転させるように構成されたモータと；
前記モータを前記坑井流体から分離するように構成されたシールと；
前記坑井内の流体特性に関する情報を提供するように構成されたセンサモジュールと；
前記析出したスケール生成物を前記坑井流体から除去するように構成され、前記坑井ポンプの上方孔に配置されている、フィルタシステムと；を備える、
坑井生産システム。