【手続補正書】
【提出日】令和3年11月12日(2021.11.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
物体に対応する複数のプリミティブの各プリミティブについて、ディスプレイの複数のディスプレイ素子の各ディスプレイ素子への電磁（ＥＭ）場の寄与を、３次元（３Ｄ）座標系内で、前記プリミティブから前記ディスプレイ素子へのＥＭ場の伝搬を計算することによって決定するステップと、
前記複数のディスプレイ素子の各ディスプレイ素子について、前記複数のプリミティブから前記ディスプレイ素子への前記ＥＭ場の寄与の合計を生成するステップと
を含む方法。
【請求項２】
前記プリミティブについて、前記ディスプレイの前記複数のディスプレイ素子の各ディスプレイ素子への前記ＥＭ場の寄与を決定するステップが、
前記３Ｄ座標系内で、前記ディスプレイ素子の対応する座標情報および前記プリミティブの対応する座標情報に基づいて、前記ディスプレイ素子と前記プリミティブとの間の少なくとも１つの距離を決定するステップと、
前記プリミティブおよび前記少なくとも１つの距離に対して事前に決定される式に基づいて前記プリミティブから前記ディスプレイ素子への前記ＥＭ場の寄与を決定するステップと
を含み、
前記事前に決定される式が、
前記プリミティブから前記ディスプレイ素子への前記ＥＭ場の伝搬を解析的に計算した結果、
前記ディスプレイによって定義された境界条件付きのマクスウェル方程式の解、または
正弦関数、余弦関数、および指数関数を含む関数から成る群から選択された少なくとも１つの要素
のうちの少なくとも１つを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記複数のディスプレイ素子の各ディスプレイ素子について、前記複数のプリミティブから前記ディスプレイ素子への前記ＥＭ場の寄与の合計に基づいて各制御信号を生成するステップであって、前記各制御信号が、前記複数のプリミティブから前記ディスプレイ素子への前記ＥＭ場の寄与の合計に基づいて、前記ディスプレイ素子の少なくとも１つの特性を変調するように構成される、ステップと、
タイミング制御信号を発光デバイスに送信して前記ディスプレイに光を当てるステップと、
前記各制御信号を前記複数のディスプレイ素子に送信して前記複数のディスプレイ素子を変調することにより、３Ｄ空間内の前記物体に対応する体積光照射野を形成するステップと
をさらに含む、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
前記複数のプリミティブの各プリミティブから前記複数のディスプレイ素子の各ディスプレイ素子への各ＥＭ場の寄与を計算するステップを含み、
前記各ＥＭ場の寄与の前記計算が、前記物体の形状を前記複数のディスプレイ素子に拡大すること、波面をまとめる前に可視性テストを適用すること、および、前記複数のプリミティブの異なるプリミティブに対する並列計算間の意思決定または通信することから成る群から選択される少なくとも１つの要素を含まず、
前記各ＥＭ場の寄与の前記計算が、複数のプリミティブの並列計算を、速度、コスト、サイズ、またはエネルギー最適化に合わせて調整すること、描画を開始して結果を表示する準備ができるまでの待ち時間を短縮すること、固定小数点表現を使用して精度を向上させること、および、数学関数を最適化することによって計算速度を最適化することから成る群から選択される少なくとも１つの要素を引き起こすように構成されている、請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
前記物体に対応する前記複数のプリミティブの各プリミティブデータを取得するステップと、
前記各プリミティブデータを第１のプリミティブおよび第２のプリミティブに使用して、事前に決定される係数によって前記第２のプリミティブに隣接する前記第１のプリミティブの大きさを変更するステップと、
前記大きさの変更の結果に基づいて前記第１のプリミティブの前記各プリミティブデータを更新するステップと
をさらに含み、
前記大きさの変更するステップは、３Ｄ空間内の前記第１のプリミティブと前記第２のプリミティブとの間の再構築のギャップが、前記第１および第２のプリミティブを分離して重なりの影響を最小限に抑えるほど十分大きくなり、前記再構築に継ぎ目がないように見えるようにするほど十分小さくなるように実行される、請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
前記複数のプリミティブの１つまたは複数のプリミティブの指定された表面にマッピングされる画像の複数の離散余弦変換（ＤＣＴ）加重を取得するステップと、
前記画像の前記ＤＣＴ加重をデコードして、前記画像の各ピクセルの各ＤＣＴ振幅を取得するステップと、
前記画像の前記ピクセルの前記各ＤＣＴ振幅に関連付けられた値を、前記１つまたは複数のプリミティブのプリミティブデータと一緒に格納するステップと、
前記画像の前記ピクセルの前記各ＤＣＴ振幅に関連付けられた前記値を使用して、前記１つまたは複数のプリミティブの各々から前記複数のディスプレイ素子の各々への前記各ＥＭ場の寄与を計算することによって、前記１つまたは複数のプリミティブの各々から前記複数のディスプレイ素子の各ディスプレイ素子への各ＥＭ場の寄与を決定するステップとを含む、請求項１〜５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
特定のプリミティブおよび前記特定のプリミティブの閉塞体の情報を取得するステップであって、前記特定のプリミティブが、前記物体に対応する前記複数のプリミティブ内にある、ステップと、
前記閉塞体の影響で前記特定のプリミティブの再構築に寄与しない１つまたは複数の特定のディスプレイ素子を決定するステップと、
前記１つまたは複数の特定のディスプレイ素子の各々について、前記特定のプリミティブから前記特定のディスプレイ素子へのＥＭ場の寄与を除外することによって、前記複数のプリミティブから前記特定のディスプレイ素子へのＥＭ場の寄与の各合計を生成するステップと
を含み、
前記１つまたは複数の特定のディスプレイ素子を決定するステップが、
前記特定のプリミティブを前記閉塞体の端点に接続するステップと、
前記接続を前記ディスプレイに伸ばして、前記接続と前記ディスプレイとの間の交点を決定するステップと、
前記交点によって定義された前記ディスプレイの特定の範囲が、前記閉塞体の前記影響で前記特定のプリミティブの前記再構築に寄与しない前記１つまたは複数の特定のディスプレイ素子であるということを決定するステップと
を含む、請求項１〜６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
特定のプリミティブおよび前記特定のプリミティブの閉塞体の情報を取得するステップであって、前記特定のプリミティブが、前記物体に対応する前記複数のプリミティブ内にある、ステップと、
前記複数のディスプレイ素子の各ディスプレイ素子について、前記閉塞体の影響で前記ディスプレイ素子へのＥＭ場の寄与を行わない前記特定のプリミティブの各部分を決定するステップと、
前記複数のディスプレイ素子の各ディスプレイ素子について、前記特定のプリミティブの前記各部分から前記ディスプレイ素子へのＥＭ場の寄与を除外することによって、前記複数のプリミティブから前記ディスプレイ素子へのＥＭ場の寄与の合計を生成するステップとを含み、
前記閉塞体の影響で前記ディスプレイ素子へのＥＭ場の寄与を行わない前記特定のプリミティブの各部分を決定するステップが、
前記ディスプレイ素子を前記閉塞体の端点に接続するステップと、
前記接続と前記特定のプリミティブとの間の交点を決定するステップと、
前記交点によって囲まれている前記特定のプリミティブの特定の部分が、前記特定のプリミティブの前記各部分であるということを決定するステップと
を含む、請求項１〜７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
前記物体に対応する前記複数のプリミティブの各プリミティブの各プリミティブデータを取得するステップと、
前記複数のプリミティブの各プリミティブの各幾何学的鏡面反射情報を取得するステップと、
前記各幾何学的鏡面反射情報を、前記複数のプリミティブの各プリミティブの各プリミティブデータと共に格納するステップと、
前記プリミティブの前記各幾何学的鏡面反射情報を考慮することによって、前記複数のプリミティブの各プリミティブから前記複数のディスプレイ素子の各ディスプレイ素子への各ＥＭ場の寄与を決定するステップと
を含む、請求項１〜８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
前記ディスプレイの各ディスプレイ素子について、事前に決定される較正値を使用して各制御信号を変更することと、前記各変更された制御信号を前記ディスプレイの各ディスプレイ素子に適用することと、前記ディスプレイ上の入射光の出力を測定することと、前記光の前記出力の前記測定に基づいて前記事前に決定される較正値を評価すること、または
前記ディスプレイの各ディスプレイ素子について、前記物体に対応する前記複数のプリミティブからのＥＭ場の寄与の各合計を取得することと、各数学的変換を前記ディスプレイ素子のＥＭ場の寄与の前記各合計に適用して、前記ディスプレイ素子のＥＭ場の寄与の各変換された合計を取得することと、前記ディスプレイ素子のＥＭ場の寄与の前記各変換された合計に基づいて、各制御信号を決定することと、前記ディスプレイ素子の前記決定された各制御信号に基づいて、前記ディスプレイ素子の特性を変調すること
のうちの１つにより、前記ディスプレイを較正するステップをさらに含む、請求項１〜９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１】
少なくとも１つのプロセッサと、
前記少なくとも１つのプロセッサに結合され、前記少なくとも１つのプロセッサにより実行されるプログラミング命令を格納している１つまたは複数のメモリと
を備えた装置であって、
前記プログラミング命令は、前記少なくとも１つのプロセッサに、
物体に対応する複数のプリミティブの各プリミティブについて、ディスプレイの複数のディスプレイ素子の各ディスプレイ素子への電磁（ＥＭ）場の寄与を、３次元（３Ｄ）座標系内で前記プリミティブから前記ディスプレイ素子へのＥＭ場の伝搬を計算することによって決定させ、
前記複数のディスプレイ素子の各ディスプレイ素子について、前記複数のプリミティブから前記ディスプレイ素子への前記ＥＭ場の寄与の合計を生成させる、前記装置。
【請求項１２】
複数のディスプレイ素子を備えているディスプレイと、
前記ディスプレイに結合されたコントローラと
を備えたシステムであって、
前記コントローラは、
物体に対応する複数のプリミティブの各プリミティブについて、ディスプレイの複数のディスプレイ素子の各ディスプレイ素子への電磁（ＥＭ）場の寄与を、３次元（３Ｄ）座標系内で前記プリミティブから前記ディスプレイ素子へのＥＭ場の伝搬を計算することによって決定し、
前記複数のディスプレイ素子の各ディスプレイ素子について、前記複数のプリミティブから前記ディスプレイ素子への前記ＥＭ場の寄与の合計を生成する
ように構成されている、前記システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２８５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２８５】
対象の特定の実装が説明された。当業者にとって明らかであろうように、説明された実装のその他の実装、修正、および並べ替えが以下の特許請求の範囲に含まれる。図面または特許請求の範囲において、特定の順序で動作が示されているが、望ましい結果を達成するために、そのような動作が、示されている特定の順序で、または連続的順序で実行される必要があると理解されるべきではなく、すべての示されている動作が実行される必要があると理解されるべきではない（一部の動作は、任意選択的であると見なされてよい）。特定の環境では、適切と見なされる場合に、マルチタスクまたは並列処理が有利であってよく、実行されてよい。
なお、本発明には以下の態様が含まれることを付記する。
〔態様１〕
３次元（３Ｄ）空間内の物体に対応する複数のプリミティブの各々について、ディスプレイの複数の素子の各々への電磁（ＥＭ）場の寄与を、３Ｄ座標系内で、前記プリミティブから前記素子へのＥＭ場の伝搬を計算することによって決定することと、
前記複数の素子の各々について、前記複数のプリミティブから前記素子への前記ＥＭ場の寄与の合計を生成することとを含む、方法。
〔態様２〕
前記ＥＭ場の寄与が、位相の寄与および振幅の寄与から成る群から選択された少なくとも１つの要素を含む、態様１に記載の方法。
〔態様３〕
前記プリミティブが、点プリミティブ、線プリミティブ、および多角形プリミティブから成る群から選択された少なくとも１つの要素を含む、態様１または２に記載の方法。
〔態様４〕
前記プリミティブが、グラデーション色、テクスチャ色、および陰影効果から成る群から選択された少なくとも１つの要素を含む線プリミティブを有する、態様１から３のいずれか一項に記載の方法。
〔態様５〕
前記プリミティブが、グラデーション色、テクスチャ色、および陰影効果から成る群から選択された少なくとも１つの要素を含む多角形プリミティブを有する、態様１から４のいずれか一項に記載の方法。
〔態様６〕
前記複数のプリミティブが特定の順序でインデックス付けされる、態様１から５のいずれか一項に記載の方法。
〔態様７〕
前記複数のプリミティブの各々の各プリミティブデータを取得することをさらに含む、態様１から６のいずれか一項に記載の方法。
〔態様８〕
前記複数のプリミティブの各々の前記各プリミティブデータが、前記プリミティブの各色情報を含み、前記素子の各々に対して前記決定されたＥＭ場の寄与が、前記プリミティブの前記各色情報に対応する情報を含む、態様７に記載の方法。
〔態様９〕
前記色情報が、テクスチャ色およびグラデーション色から成る群から選択された少なくとも１つの要素を含む、態様８に記載の方法。
〔態様１０〕
前記複数のプリミティブの各々の前記各プリミティブデータが、前記プリミティブのテクスチャ情報を含む、態様７から９のいずれか一項に記載の方法。
〔態様１１〕
前記複数のプリミティブの各々の前記各プリミティブデータが、前記プリミティブの１つまたは複数の表面上の陰影情報を含む、態様７から１０のいずれか一項に記載の方法。
〔態様１２〕
前記陰影情報が、前記プリミティブの前記１つまたは複数の表面上の色および前記プリミティブの前記１つまたは複数の表面上の明るさのうちの少なくとも１つから成る群から選択された少なくとも１つの要素に対する変調を含む、態様１１に記載の方法。
〔態様１３〕
前記複数のプリミティブの各々の前記各プリミティブデータが、前記３Ｄ座標系内の前記プリミティブの各座標情報を含む、態様７から１２のいずれか一項に記載の方法。
〔態様１４〕
前記３Ｄ座標系内の前記複数の素子の各々の各座標情報が、前記３Ｄ座標系内の前記複数のプリミティブの前記各座標情報に基づいて決定される、態様１３に記載の方法。
〔態様１５〕
前記素子の各々の前記各座標情報が、メモリに格納された前記素子の論理メモリアドレスに対応する、態様１４に記載の方法。
〔態様１６〕
前記複数のプリミティブの各々について、前記複数の素子の各々への前記ＥＭ場の寄与を決定することが、前記３Ｄ座標系内で、前記素子の前記各座標情報および前記プリミティブの前記各座標情報に基づいて、前記素子と前記プリミティブとの間の少なくとも１つの距離を決定することを含む、態様１４または１５に記載の方法。
〔態様１７〕
前記複数のプリミティブの各々について、前記複数の素子の各々への前記ＥＭ場の寄与を決定することが、
第１のプリミティブの前記各座標情報および第１の素子の前記各座標情報に基づいて、前記複数のプリミティブのうちの前記第１のプリミティブと前記複数の素子のうちの前記第１の素子との間の第１の距離を決定することと、
前記第１の距離および前記第１の素子と前記第２の素子との間の距離に基づいて、前記第１のプリミティブと前記複数の素子のうちの第２の素子との間の第２の距離を決定することとを含む、態様１６に記載の方法。
〔態様１８〕
前記第１の素子と前記第２の素子との間の前記距離が、前記ディスプレイの前記複数の素子のピッチに基づいて事前に決定される、態様１７に記載の方法。
〔態様１９〕
前記複数のプリミティブのうちの少なくとも１つが、第１および第２の端点を含む線プリミティブであり、前記素子と前記プリミティブとの間の少なくとも１つの距離を決定することが、
前記素子と前記線プリミティブの前記第１の端点との間の第１の距離を決定することと、
前記素子と前記線プリミティブの前記第２の点との間の第２の距離を決定することとを含む、態様１６から１８のいずれか一項に記載の方法。
〔態様２０〕
前記複数のプリミティブのうちの少なくとも１つが、第１、第２、および第３の端点を含む三角形プリミティブであり、前記素子と前記プリミティブとの間の少なくとも１つの距離を決定することが、
前記素子と前記三角形プリミティブの前記第１の端点との間の第１の距離を決定することと、
前記素子と前記三角形プリミティブの前記第２の点との間の第２の距離を決定することと、
前記素子と前記三角形プリミティブの前記第３の点との間の第３の距離を決定することとを含む、態様１６から１８のいずれか一項に記載の方法。
〔態様２１〕
前記複数のプリミティブの各々について、前記複数の素子の各々への前記ＥＭ場の寄与を決定することが、前記プリミティブおよび前記少なくとも１つの距離に対して事前に決定される式に基づいて前記プリミティブから前記素子への前記ＥＭ場の寄与を決定することを含む、態様１６から２０のいずれか一項に記載の方法。
〔態様２２〕
前記事前に決定される式が、前記プリミティブから前記素子への前記ＥＭ場の伝搬を解析的に計算することによって決定される、態様２１に記載の方法。
〔態様２３〕
前記事前に決定される式が、マクスウェル方程式を解くことによって決定される、態様２１に記載の方法。
〔態様２４〕
前記マクスウェル方程式が、前記ディスプレイの表面で定義された境界条件を提供することによって解かれる、態様２３に記載の方法。
〔態様２５〕
前記境界条件がディリクレ境界条件またはコーシー境界条件を含む、態様２４に記載の方法。
〔態様２６〕
前記複数のプリミティブおよび前記複数の素子が、前記３Ｄ空間内に存在し、前記ディスプレイの表面が、前記３Ｄ空間の境界面の一部を形成する、態様２１から２５のいずれか一項に記載の方法。
〔態様２７〕
前記事前に決定される式が、正弦関数を含む関数、余弦関数を含む関数、および指数関数を含む関数から成る群から選択された少なくとも１つの要素を含み、
前記ＥＭ場の寄与を決定することが、メモリに格納されたテーブル内の前記関数のうちの前記少なくとも１つの値を識別することを含む、態様２１から２６のいずれか一項に記載の方法。
〔態様２８〕
前記複数のプリミティブの各々について、前記複数の素子の各々への前記ＥＭ場の寄与を決定し、前記複数の素子の各々に関する前記場の寄与の前記合計を生成することが、
前記複数のプリミティブから前記複数の素子のうちの第１の素子への第１のＥＭ場の寄与を決定し、前記第１の素子に対する前記第１のＥＭ場の寄与を合計することと、
前記複数のプリミティブから前記複数の素子のうちの第２の素子への第２のＥＭ場の寄与を決定し、前記第２の素子に対する前記第２のＥＭ場の寄与を合計することとを含む、態様１から２７のいずれか一項に記載の方法。
〔態様２９〕
前記複数のプリミティブから前記第１の素子への前記第１のＥＭ場の寄与を決定することが、
前記複数のプリミティブのうちの第２のプリミティブから前記第１の素子へのＥＭ場の寄与を決定することと並列に、前記複数のプリミティブのうちの第１のプリミティブから前記第１の素子へのＥＭ場の寄与を決定することを含む、態様２８に記載の方法。
〔態様３０〕
前記複数のプリミティブの各々について、前記複数の素子の各々への前記ＥＭ場の寄与を決定することが、
前記複数のプリミティブのうちの第１のプリミティブから前記複数の素子の各々への第１の各ＥＭ場の寄与を決定することと、
前記複数のプリミティブのうちの第２のプリミティブから前記複数の素子の各々への第２の各ＥＭ場の寄与を決定することと
を含み、
前記複数の素子の各々に関する前記場の寄与の前記合計を生成することが、
前記素子について前記第２の各ＥＭ場の寄与を、素子に対する前記第１の各ＥＭ場の寄与に加算することによって、前記素子のＥＭ場の寄与を累算すること
を含む、態様１から２７のいずれか一項に記載の方法。
〔態様３１〕
前記第１のプリミティブから前記複数の素子の各々への前記第１の各ＥＭ場の寄与を決定することが、前記第２のプリミティブから前記複数の素子の各々への前記第２の各ＥＭ場の寄与を決定することと並列に実行される、態様３０に記載の方法。
〔態様３２〕
前記複数のプリミティブの各々について、前記複数の素子の各々への前記ＥＭ場の寄与を決定することが、
前記複数のプリミティブのうちの第２のプリミティブから第１の素子への第２のＥＭ場の寄与を決定することと並列に、前記複数のプリミティブのうちの第１のプリミティブから前記複数の素子のうちの前記第１の素子への第１のＥＭ場の寄与を決定することを含む、態様１から３１のいずれか一項に記載の方法。
〔態様３３〕
前記複数の素子の各々について、前記複数のプリミティブから前記素子への前記ＥＭ場の寄与の前記合計に基づいて各制御信号を生成することをさらに含み、前記各制御信号が、前記複数のプリミティブから前記素子への前記ＥＭ場の寄与の前記合計に基づいて、前記素子の少なくとも１つの特性を変調するために存在する、態様１から３２のいずれか一項に記載の方法。
〔態様３４〕
前記素子の前記少なくとも１つの特性が、屈折率、振幅指数、複屈折、および位相差から成る群から選択された少なくとも１つの要素を含む、態様３３に記載の方法。
〔態様３５〕
前記各制御信号が、電気信号、光信号、磁気信号、または音響信号を含む、態様３３または３４に記載の方法。
〔態様３６〕
スケール係数を前記素子の各々に関する前記場の寄与の前記合計に乗算して、前記場の寄与の大きさを変更された合計を取得することをさらに含み、
前記各制御信号が、前記素子に関する前記場の寄与の前記大きさを変更された合計に基づいて生成される、態様３３から３５のいずれか一項に記載の方法。
〔態様３７〕
前記素子の各々に関する前記場の寄与の前記合計を正規化することをさらに含み、
前記各制御信号が、前記素子に関する前記場の寄与の前記正規化された合計に基づく、態様３３から３６のいずれか一項に記載の方法。
〔態様３８〕
前記各制御信号を前記素子に送信することをさらに含む、態様３３から３７のいずれか一項に記載の方法。
〔態様３９〕
制御信号を発光体に送信することをさらに含み、
前記制御信号が、前記発光体が前記ディスプレイ上で発光するように、前記発光体をオンにすることを示す、態様１から３８のいずれか一項に記載の方法。
〔態様４０〕
前記制御信号が、前記複数の素子の各々に関する前記場の寄与の前記合計の取得の完了を決定することに応答して送信される、態様３９に記載の方法。
〔態様４１〕
前記ディスプレイの前記変調素子が、前記光を異なる方向に伝搬させ、前記３Ｄ空間内の前記物体に対応する体積光照射野を形成する、態様３９または４０に記載の方法。
〔態様４２〕
前記体積光照射野が、前記ディスプレイの前記変調素子によって定義された境界条件付きのマクスウェル方程式の解に対応する、態様４１に記載の方法。
〔態様４３〕
前記光が白色光を含み、前記ディスプレイが、前記白色光を異なる色を有する光に回折するように構成されている、態様３９から４２のいずれか一項に記載の方法。
〔態様４４〕
計算時に固定小数点表現を使用して値を表すことをさらに含む、態様１から４３のいずれか一項に記載の方法。
〔態様４５〕
前記値の各々が、暗黙のスケール係数を使用して整数として表される、態様４４に記載の方法。
〔態様４６〕
固定小数点表現を使用して数学関数を実行することをさらに含む、態様１から４５のいずれか一項に記載の方法。
〔態様４７〕
前記数学関数が、正弦、余弦、および逆正接から成る群から選択された少なくとも１つの要素を含む、態様４６に記載の方法。
〔態様４８〕
前記数学関数を実行することが、
第１の固定小数点形式で式を受信することと、
前記第１の固定小数点形式の精度と異なるレベルの精度を有する第２の固定小数点形式で値を出力することとを含む、態様４６または４７に記載の方法。
〔態様４９〕
前記数学関数を実行することが、前記数学関数の計算用のテーブルを検索することを含み、
前記テーブルが、完全に列挙されたルックアップテーブル、補間されたテーブル、多項式関数に基づくセミテーブル、および完全なミニマックス多項式に基づくセミテーブルから成る群から選択された少なくとも１つの要素を含む、態様４６から４８のいずれか一項に記載の方法。
〔態様５０〕
前記数学関数を実行することが、
特殊な範囲縮小を入力に適用することを含む、態様４６から４９のいずれか一項に記載の方法。
〔態様５１〕
前記数学関数を実行することが、
範囲［−π，π］の三角関数計算を範囲［−１，１］内の符号付き２の補数表現に変換することを含む、態様４６から５０のいずれか一項に記載の方法。
〔態様５２〕
第１のプリミティブの再構築が第２のプリミティブの再構築と重ならないように、事前に決定される係数によって、前記第２のプリミティブに隣接する前記第１のプリミティブの大きさを変更することをさらに含む、態様１から５１のいずれか一項に記載の方法。
〔態様５３〕
前記事前に決定される係数が、前記ディスプレイの解像度に少なくとも部分的に基づいて決定される、態様５２に記載の方法。
〔態様５４〕
前記複数のプリミティブの各々の各プリミティブデータを取得することと、ここで、前記複数のプリミティブの各々の前記各プリミティブデータが、前記３Ｄ座標系内の前記プリミティブの各座標情報を含み、
前記第１のプリミティブの前記各座標情報および前記事前に決定される係数に基づいて前記第１のプリミティブの新しい各座標情報を決定することと
をさらに含む、態様５２または５３に記載の方法。
〔態様５５〕
前記第１のプリミティブの前記新しい各座標情報に基づいて、前記第１のプリミティブから前記複数の素子の各々へのＥＭ場の寄与を決定することをさらに含む、態様５４に記載の方法。
〔態様５６〕
前記事前に決定される係数によって前記第２のプリミティブの大きさを変更することをさらに含む、態様５２から５５のいずれか一項に記載の方法。
〔態様５７〕
前記第１のプリミティブおよび前記第２のプリミティブが共通部分を共有し、
前記第１のプリミティブの大きさを変更することが、前記第１のプリミティブの前記共通部分の大きさを変更することを含む、態様５２から５６のいずれか一項に記載の方法。
〔態様５８〕
前記第１のプリミティブの大きさを変更することが、
事前に決定される方向に前記第１のプリミティブの大きさを変更することを含む、態様５２から５７のいずれか一項に記載の方法。
〔態様５９〕
３次元（３Ｄ）空間内の物体に対応する複数のプリミティブの各プリミティブデータを取得することと、
前記複数のプリミティブのうちの第１のプリミティブからディスプレイの複数の素子の各々への第１の各電磁（ＥＭ）場の寄与を計算することと、
前記複数のプリミティブのうちの第２のプリミティブから前記ディスプレイの前記複数の素子の各々への第２の各ＥＭ場の寄与を計算することとを含み、
前記第１のプリミティブからの前記第１の各ＥＭ場の寄与を計算することが、前記第２のプリミティブからの前記第２の各ＥＭ場の寄与を計算することと、少なくとも部分的に並列になる、方法。
〔態様６０〕
前記第１のプリミティブから前記複数の素子のうちの第１の素子への第１のＥＭ場の寄与を計算することが、前記複数のプリミティブのうちの第２のプリミティブから前記第１の素子への第２のＥＭ場の寄与を計算することと並列になる、態様５９に記載の方法。
〔態様６１〕
前記複数のプリミティブの各々から前記複数の素子の各々への各ＥＭ場の寄与を計算することを含む、態様５９または６０に記載の方法。
〔態様６２〕
前記各ＥＭ場の寄与の前記計算が、
前記物体の形状を前記複数の素子に拡大することと、
波面をまとめる前に可視性テストを適用することと、
異なるプリミティブに対する並列計算間の意思決定または通信とから成る群から選択された少なくとも１つの要素を含まない、態様６１に記載の方法。
〔態様６３〕
前記各ＥＭ場の寄与の前記計算が、
異なるプリミティブの並列計算を、速度、コスト、サイズ、またはエネルギー最適化に合わせて調整することと、
描画を開始して、結果を表示する準備ができるまでの待ち時間を短縮することと、
固定小数点表現を使用して精度を向上させることと、
数学関数を最適化することによって計算速度を最適化することと
から成る群から選択された少なくとも１つの要素を引き起こすように構成されている、態様６１または６２に記載の方法。
〔態様６４〕
計算時に固定小数点表現を使用して値を表すことをさらに含む、態様５９から６３のいずれか一項に記載の方法。
〔態様６５〕
前記固定小数点表現を使用して値を表すことが、
徐々のアンダーフローのための非正規浮動小数と、
ゼロ除算を含む演算からのＮａＮの結果を処理することと、
浮動小数点の丸めモードを変更することと、
浮動小数点例外をオペレーティングシステムに上げることと
から成る群から選択された少なくとも１つの要素を含まない、態様６４に記載の方法。
〔態様６６〕
前記複数の素子の各々について、前記素子に対する前記第２の各ＥＭ場の寄与を前記素子に対する前記第１の各ＥＭ場の寄与に加算することによって、前記素子に対するＥＭ場の寄与を累算することをさらに含む、態様５９から６５のいずれか一項に記載の方法。
〔態様６７〕
前記複数の素子の各々について、前記複数のプリミティブから前記素子への前記ＥＭ場の寄与の合計に基づいて各制御信号を生成することをさらに含み、前記各制御信号が、前記複数のプリミティブから前記素子への前記ＥＭ場の寄与の前記合計に基づいて、前記素子の少なくとも１つの特性を変調するために存在する、態様５９から６６のいずれか一項に記載の方法。
〔態様６８〕
３次元（３Ｄ）空間内の物体に対応する複数のプリミティブの各プリミティブデータを取得することと、
前記各プリミティブデータを第１のプリミティブおよび第２のプリミティブに使用して、事前に決定される係数によって前記第２のプリミティブに隣接する前記第１のプリミティブの大きさを変更することと、
前記大きさの変更の結果に基づいて前記第１のプリミティブの前記各プリミティブデータを更新することとを含む、方法。
〔態様６９〕
前記複数のプリミティブの各々の前記各プリミティブデータが、３Ｄ座標系内の前記プリミティブの各座標情報を含み、
前記各プリミティブデータを更新することが、
前記第１のプリミティブの前記各座標情報および前記事前に決定される係数に基づいて前記第１のプリミティブの新しい各座標情報を決定することを含む、態様６８に記載の方法。
〔態様７０〕
前記事前に決定される係数が、前記３Ｄ空間内で前記第１のプリミティブの再構築が前記第２のプリミティブの再構築に重ならないように決定される、態様６８または６９に記載の方法。
〔態様７１〕
前記３Ｄ空間内の前記第１のプリミティブの再構築と前記第２のプリミティブの再構築との間のギャップが、前記第１および第２のプリミティブを分離して重なりの影響を最小限に抑えるほど十分大きくなり、前記再構築に継ぎ目がないように見えるようにするほど十分小さくなるように、前記大きさの変更が実行される、態様６８から７０のいずれか一項に記載の方法。
〔態様７２〕
前記事前に決定される係数が、前記ディスプレイの解像度に少なくとも部分的に基づいて決定される、態様６８から７１のいずれか一項に記載の方法。
〔態様７３〕
前記第１のプリミティブの前記更新されたプリミティブデータをバッファに格納することをさらに含む、態様６８から７２のいずれか一項に記載の方法。
〔態様７４〕
前記複数のプリミティブの前記各プリミティブデータを取得するために、前記物体のレンダリングプロセスの間に、前記大きさの変更が実行される、態様６８から７３のいずれか一項に記載の方法。
〔態様７５〕
前記複数のプリミティブの更新されたプリミティブデータをコントローラに送信することをさらに含み、
前記コントローラが、前記複数のプリミティブの前記更新されたプリミティブデータに基づいて、前記複数のプリミティブの各々からディスプレイの複数の素子の各々への各電磁（ＥＭ）場の寄与を決定するように構成されている、態様６８から７４のいずれか一項に記載の方法。
〔態様７６〕
前記第１のプリミティブの前記更新されたプリミティブデータに基づいて、前記第１のプリミティブからディスプレイの複数の素子の各々へのＥＭ場の寄与を決定することをさらに含む、態様６８から７４のいずれか一項に記載の方法。
〔態様７７〕
前記事前に決定される係数によって前記第２のプリミティブの大きさを変更することをさらに含む、態様６８から７６のいずれか一項に記載の方法。
〔態様７８〕
前記第１のプリミティブおよび前記第２のプリミティブが共通部分を共有し、
前記第１のプリミティブの大きさを変更することが、前記第１のプリミティブの前記共通部分の大きさを変更することを含む、態様６８から７７のいずれか一項に記載の方法。
〔態様７９〕
前記第１のプリミティブの大きさを変更することが、
事前に決定される方向に前記第１のプリミティブの大きさを変更することを含む、態様６８から７８のいずれか一項に記載の方法。
〔態様８０〕
前記第１のプリミティブの大きさを変更することが、
第１の事前に決定される係数によって前記第１のプリミティブの第１の部分の大きさを変更することと、
第２の事前に決定される係数によって前記第２のプリミティブの第２の部分の大きさを変更することとを含み、
前記第１の事前に決定される係数が、前記第２の事前に決定される係数と異なっている、態様６８から７９のいずれか一項に記載の方法。
〔態様８１〕
３次元（３Ｄ）空間内の物体に対応する複数のプリミティブのうちの特定のプリミティブの指定された表面にマッピングされる画像の複数の離散余弦変換（ＤＣＴ）加重を取得することと、
前記画像の前記複数のＤＣＴ加重の影響を考慮することによって、前記特定のプリミティブからディスプレイの複数の素子の各々への各ＥＭ場の寄与を決定することとを含む、方法。
〔態様８２〕
前記特定のプリミティブの前記指定された表面にマッピングされる前記画像の解像度を決定することと、
前記解像度に基づいて前記画像の前記複数のＤＣＴ加重を決定することとをさらに含む、態様８１に記載の方法。
〔態様８３〕
前記画像の前記ＤＣＴ加重をデコードして、前記画像の各ピクセルの各ＤＣＴ振幅を取得することをさらに含む、態様８１または８２に記載の方法。
〔態様８４〕
前記画像の前記ピクセルの前記各ＤＣＴ振幅に関連付けられた値を、前記特定のプリミティブのプリミティブデータと一緒に格納することをさらに含む、態様８３に記載の方法。
〔態様８５〕
前記各ＥＭ場の寄与を決定することが、
前記画像の前記ピクセルの前記各ＤＣＴ振幅に関連付けられた前記値を使用して、前記特定のプリミティブから前記複数の素子の各々への前記各ＥＭ場の寄与を計算することを含む、態様８３または８４に記載の方法。
〔態様８６〕
前記各ＥＭ場の寄与の前記決定に含められる特定のＤＣＴ項を選択することをさらに含み、前記特定のＤＣＴ項の各々が、事前に決定されるしきい値より大きい各ＤＣＴ加重を含む、態様８１から８５のいずれか一項に記載の方法。
〔態様８７〕
特定のプリミティブおよび前記特定のプリミティブの閉塞体の情報を取得することと、ここで、前記特定のプリミティブが、３次元（３Ｄ）空間内の物体に対応する複数のプリミティブ内にあり、
前記閉塞体の影響で前記特定のプリミティブの再構築に寄与しないディスプレイの複数の素子のうちの１つまたは複数の特定の素子を決定することとを含む、方法。
〔態様８８〕
前記特定の素子の前記情報を、前記特定のプリミティブおよび前記閉塞体の前記情報と共に格納することをさらに含む、態様８７に記載の方法。
〔態様８９〕
前記複数のプリミティブのプリミティブデータを取得するために、前記物体のレンダリングプロセスの間に、前記決定が実行される、態様８７または８８に記載の方法。
〔態様９０〕
前記特定の素子の前記格納された情報を、前記特定のプリミティブおよび前記閉塞体の前記情報と共に、前記ディスプレイの前記複数の素子への前記複数のプリミティブの電磁気（ＥＭ）の寄与を計算するように構成されたコントローラに送信することをさらに含む、態様８７から８９のいずれか一項に記載の方法。
〔態様９１〕
前記特定の素子の各々について、前記特定のプリミティブから前記特定の素子のうちの前記１つへのＥＭ場の寄与を除外することによって、前記複数のプリミティブから前記特定の素子のうちの前記１つへの電磁（ＥＭ）場の寄与の合計を生成することをさらに含む、態様８７から８９のいずれか一項に記載の方法。
〔態様９２〕
前記特定の素子以外の前記複数の素子の各々について、前記複数のプリミティブから前記素子へのＥＭ場の寄与の各合計を生成することをさらに含む、態様８７から９１のいずれか一項に記載の方法。
〔態様９３〕
前記特定のプリミティブへの前記特定の素子のＥＭ場の寄与をマスクすることをさらに含む、態様８７から９２のいずれか一項に記載の方法。
〔態様９４〕
前記１つまたは複数の特定の素子を決定することが、
前記特定のプリミティブを前記閉塞体の端点に接続することと、
前記接続を前記ディスプレイに伸ばして、前記接続と前記ディスプレイとの間の交点を決定することと、
前記交点によって定義された特定の範囲が、前記閉塞体の前記影響で前記特定のプリミティブの前記再構築に寄与しない前記特定の素子であるということを決定することと
を含む、態様８７から９３のいずれか一項に記載の方法。
〔態様９５〕
特定のプリミティブおよび前記特定のプリミティブの閉塞体の情報を取得することと、ここで前記特定のプリミティブが、３次元（３Ｄ）空間内の物体に対応する複数のプリミティブ内にあり、
ディスプレイの複数の素子の各々について、前記閉塞体の影響で前記素子への電磁（ＥＭ）場の寄与を行わない前記特定のプリミティブの各部分を決定することと
を含む、方法。
〔態様９６〕
前記特定のプリミティブの前記各部分の前記情報を、前記特定のプリミティブおよび前記閉塞体の前記情報と共に格納することをさらに含む、態様８８に記載の方法。
〔態様９７〕
前記複数のプリミティブのプリミティブデータを取得するために、前記物体のレンダリングプロセスの間に、前記決定が実行される、態様９５または９６に記載の方法。
〔態様９８〕
前記特定の情報の前記各部分の前記格納された情報を、前記特定のプリミティブおよび前記閉塞体の前記情報と共に、前記ディスプレイの前記複数の素子への前記複数のプリミティブの電磁気（ＥＭ）の寄与を計算するように構成されたコントローラに送信することをさらに含む、態様９５から９７のいずれか一項に記載の方法。
〔態様９９〕
前記特定のプリミティブの前記各部分への前記複数の素子の各々のＥＭ場の寄与をマスクすることをさらに含む、態様９５から９８のいずれか一項に記載の方法。
〔態様１００〕
前記複数の素子の各々について、前記特定のプリミティブの前記各部分から前記素子へのＥＭ場の寄与を除外することによって、前記複数のプリミティブから前記素子へのＥＭ場の寄与の合計を生成することをさらに含む、態様９５から９９のいずれか一項に記載の方法。
〔態様１０１〕
前記複数のプリミティブから前記素子へのＥＭ場の寄与の前記合計を生成することが、
前記素子への前記特定のプリミティブの前記各部分の前記ＥＭの寄与を、前記閉塞体の前記影響なしで、前記複数のプリミティブから前記素子へのＥＭ場の寄与の前記合計から引くことを含む、態様１００に記載の方法。
〔態様１０２〕
前記複数のプリミティブから前記素子へのＥＭ場の寄与の前記合計を生成することが、
前記特定のプリミティブの１つまたは複数の他の部分から前記素子へのＥＭ場の寄与を合計することを含み、前記各部分および前記１つまたは複数の他の部分が、前記特定のプリミティブを形成する、態様１００に記載の方法。
〔態様１０３〕
前記閉塞体の影響で前記素子へのＥＭ場の寄与を行わない前記特定のプリミティブの各部分を決定することが、
前記素子を前記閉塞体の端点に接続することと、
前記接続と前記特定のプリミティブとの間の交点を決定することと、
前記交点によって囲まれている前記特定のプリミティブの特定の部分が、前記閉塞体の前記影響で前記素子への前記ＥＭ場の寄与を行わない前記特定のプリミティブの前記各部分であるということを決定することとを含む、態様９５から１０２のいずれか一項に記載の方法。
〔態様１０４〕
３次元（３Ｄ）空間内の物体に対応する複数のプリミティブの各々の各プリミティブデータを取得することと、
前記複数のプリミティブの各々の各幾何学的鏡面反射情報を取得することと、
前記各幾何学的鏡面反射情報を、前記複数のプリミティブの各々の各プリミティブデータと共に格納することとを含む、方法。
〔態様１０５〕
前記複数のプリミティブの各々の前記各幾何学的鏡面反射情報が、
視野角での前記プリミティブの表面の反射率を含む、態様１０４に記載の方法。
〔態様１０６〕
前記プリミティブの前記各幾何学的鏡面反射情報を考慮することによって、前記複数のプリミティブの各々からディスプレイの複数の素子の各々への各ＥＭ場の寄与を決定することをさらに含む、態様１０４または１０５に記載の方法。
〔態様１０７〕
３次元（３Ｄ）空間内の物体に対応する複数のプリミティブの各プリミティブデータを含むグラフィックデータを取得することと、
前記複数のプリミティブの各々について、ディスプレイの複数の素子の各々への電磁（ＥＭ）場の寄与を、３Ｄ座標系内で、前記プリミティブから前記素子へのＥＭ場の伝搬を計算することによって決定することと、
前記複数の素子の各々について、前記複数のプリミティブから前記素子への前記ＥＭ場の寄与の合計を生成することと、
前記複数の素子の各々について、各制御信号を前記素子に送信することと、ここで前記制御信号が、前記素子への前記ＥＭ場の寄与の前記合計に基づいて、前記素子の少なくとも１つの特性を変調するために存在し、
前記ディスプレイの前記変調素子によって前記光が生じ、前記物体に対応する体積光照射野を形成するように、タイミング制御信号を発光体に送信して前記発光体を作動させ、前記ディスプレイに光を当てることとを含む、方法。
〔態様１０８〕
ディスプレイの複数の素子の各々について、事前に決定される較正値を使用して各制御信号を変更することと、
前記各変更された制御信号を前記ディスプレイの前記複数の素子に適用することと、
前記ディスプレイ上の入射光の出力を測定することと、
前記光の前記出力の前記測定に基づいて前記事前に決定される較正値を評価することとを含む、方法。
〔態様１０９〕
前記事前に決定される較正値が、前記複数の素子の各々で同じである、態様１０８に記載の方法。
〔態様１１０〕
デジタル／アナログコンバータ（ＤＡＣ）によって前記複数の素子の前記各制御信号を変換することをさらに含み、
前記複数の素子の前記各制御信号を変更することが、
前記事前に決定される較正値を使用して前記各制御信号のデジタル信号を変更することを含む、態様１０８または１０９に記載の方法。
〔態様１１１〕
前記事前に決定される値が複数のビットを含む、態様１０８から１１０のいずれか一項に記載の方法。
〔態様１１２〕
前記評価の結果に基づいて前記事前に決定される較正値を調整することをさらに含む、態様１０８から１１１のいずれか一項に記載の方法。
〔態様１１３〕
前記事前に決定される較正値を調整することが、
前記複数のビットの１つまたは複数の値を変更することを含む、態様１１２に記載の方法。
〔態様１１４〕
前記事前に決定される較正値を調整することが、
前記事前に決定される較正値および以前の評価から決定された別の較正値に基づいて、前記複数のビットの値の組み合わせを決定することを含む、態様１１２に記載の方法。
〔態様１１５〕
前記光の前記出力が、前記光の前記出力と背景との間の前記光の位相変化または強度差を含む、態様１０８から１１４のいずれか一項に記載の方法。
〔態様１１６〕
前記素子の前記各制御信号が、３Ｄ空間内の物体に対応する複数のプリミティブから前記素子への電磁（ＥＭ）場の寄与の合計に基づいて決定される、態様１０８から１１５のいずれか一項に記載の方法。
〔態様１１７〕
ディスプレイの複数の素子の各々について、
３次元（３Ｄ）空間内の複数のプリミティブからの電磁（ＥＭ）場の寄与の各合計を取得することと、ここで前記複数のプリミティブが前記３Ｄ空間内の物体に対応し、
各数学的変換を前記素子のＥＭ場の寄与の前記各合計に適用して、前記素子のＥＭ場の寄与の各変換された合計を取得することと、
前記素子のＥＭ場の寄与の前記各変換された合計に基づいて、各制御信号を決定することと、
前記素子の前記決定された各制御信号に基づいて、前記素子の特性を変調することとを含む、方法。
〔態様１１８〕
前記ディスプレイの前記複数の素子上に入射光を導入することと、
前記光の第１の出力を測定することと、
前記光の前記第１の出力の前記測定の結果に基づいて、前記複数の素子の前記各数学的変換の１つまたは複数の係数を調整することとをさらに含む、態様１１７に記載の方法。
〔態様１１９〕
前記ディスプレイの視野内の前記物体に対応するホログラフィックパターンの深度を変更することと、
前記光の第２の出力を測定することと、
前記第１および第２の出力に基づいて、前記各数学的変換の前記１つまたは複数の係数を調整することとをさらに含む、態様１１８に記載の方法。
〔態様１２０〕
第１のホログラフィックパターンに対応する前記複数のプリミティブを、第２のホログラフィックパターンに対応する第２の複数のプリミティブに変更することと、
前記光の第２の出力を測定することと、
前記第１および第２の出力に基づいて、前記各数学的変換の前記１つまたは複数の係数を調整することとをさらに含む、態様１１８に記載の方法。
〔態様１２１〕
前記第１のホログラフィックパターンおよび前記第２のホログラフィックパターンが前記物体に対応する、態様１２０に記載の方法。
〔態様１２２〕
前記第２のホログラフィックパターンが、前記第１のホログラフィックパターンに関連する前記物体と異なる第２の物体に対応する、態様１２０に記載の方法。
〔態様１２３〕
前記光の前記第１の出力が画像センサによって測定される、態様１１８から１２０のいずれか一項に記載の方法。
〔態様１２４〕
前記画像センサが、マシンビジョンアルゴリズムを使用して、表示されているものを決定し、適合度パラメータを計算するように構成されている、態様１２３に記載の方法。
〔態様１２５〕
前記第１および第２のホログラフィックパターンの各々が点のグリッドを含み、
前記適合度パラメータが、
前記点が互いにどの程度近いか、
前記点がどの程度中心の近くに配置されているか、
および前記点がどの程度変形しているかから成る群から選択された少なくとも１つの要素である、態様１２４に記載の方法。
〔態様１２６〕
前記数学的変換がゼルニケ多項式から導出される、態様１１７から１２５のいずれか一項に記載の方法。
〔態様１２７〕
前記複数の素子の前記数学的変換が素子ごとに変化する、態様１１７から１２６のいずれか一項に記載の方法。
〔態様１２８〕
ディスプレイに光を当てることによって、一連の既知の色および強度のサンプルを再現することと、
ＣＩＥ標準観察者曲線に較正された比色計デバイスを使用して出力光を測定することと、
ＣＩＥ  ＸＹＺ色空間内で前記ディスプレイの前記出力光を定義することとをさらに含む、態様１０８から１２７のいずれか一項に記載の方法。
〔態様１２９〕
既知の標準値からの前記定義された出力光の値のずれを決定することと、
前記ディスプレイ上の出力色を適応させて、出力色を正しい色に調整することとをさらに含む、態様１２８に記載の方法。
〔態様１３０〕
液晶（ＬＣ）ディスプレイの表示素子のピッチに基づいて、前記ＬＣディスプレイのセルギャップを決定することと、
前記ＬＣディスプレイの前記セルギャップおよび事前に決定される位相差に基づいて、ＬＣ混合物の複屈折の最小値を計算することとを含む、方法。
〔態様１３１〕
前記最小値を超えるＬＣ混合物の前記複屈折を維持しながら、前記ＬＣディスプレイのスイッチング速度を改善することをさらに含む、態様１３０に記載の方法。
〔態様１３２〕
前記スイッチング速度を改善することが、
前記ＬＣ混合物の誘電異方性を増やすことと、
前記ＬＣ混合物の前記回転粘度を減らすこととから成る群から選択された少なくとも１つの要素を含む、態様１３１に記載の方法。
〔態様１３３〕
前記ＬＣディスプレイが、シリコンバックプレーンを備えるＬＣＯＳ（liquid crystal on silicon）デバイスを含む、態様１３０から１３２のいずれか一項に記載の方法。
〔態様１３４〕
前記ＬＣディスプレイが、
液晶層と、
共通電極として前記液晶層の上にある透明導電層と、
前記液晶層の下にある複数の金属電極を備えているバックプレーンとを備えており、
前記複数の金属電極の各々が互いに分離されており、前記バックプレーンが、前記複数の金属電極の各々の電圧を制御するように構成されている、態様１３０から１３３のいずれか一項に記載の方法。
〔態様１３５〕
バックプレーンと、
前記バックプレーン上の複数の表示素子とを備えているディスプレイであって、
前記複数の表示素子のうちの少なくとも２つが異なるサイズを有している、ディスプレイ。
〔態様１３６〕
前記少なくとも２つの表示素子のうちの大きい方がバッファを備えており、前記少なくとも２つの表示素子のうちの小さい方がバッファを備えていない、態様１３５に記載のディスプレイ。
〔態様１３７〕
前記より大きい表示素子が、導電線によって第１の複数の表示素子に接続されており、
前記第１の複数の表示素子内の第２の複数の表示素子のみに電圧が加えられるように、前記バッファが、前記導電線に加えられる前記電圧をバッファするように構成され、前記第２の複数の表示素子の数が、前記第１の複数の表示素子の数より少ない、態様１３６に記載のディスプレイ。
〔態様１３８〕
前記バッファが、トランジスタの形態でのアナログ回路または論理ゲートの形態でのデジタル回路を備えている、態様１３５から１３７のいずれか一項に記載のディスプレイ。
〔態様１３９〕
前記複数の表示素子のサイズの分布が、前記少なくとも２つの表示素子のうちの小さい方のサイズと実質的に同一である、態様１３５から１３８のいずれか一項に記載のディスプレイ。
〔態様１４０〕
ＬＣＯＳ（liquid crystal on silicon）デバイスになるように構成されている、態様１３５から１３９のいずれか一項に記載のディスプレイ。
〔態様１４１〕
バックプレーンと、
前記バックプレーン上の複数の表示素子とを備えているディスプレイであって、
前記複数の表示素子のうちの少なくとも２つが異なる形状を有している、ディスプレイ。
〔態様１４２〕
前記バックプレーンが、前記表示素子の各々の各回路を備えており、
前記少なくとも２つの表示素子の各前記回路が、前記少なくとも２つの表示素子の前記異なる形状に対応する形状を有している、態様１４１に記載のディスプレイ。
〔態様１４３〕
前記複数の表示素子のサイズの分布が事前に決定されるサイズと実質的に同一である、態様１４１または１４２に記載のディスプレイ。
〔態様１４４〕
ＬＣＯＳ（liquid crystal on silicon）デバイスになるように構成されている、態様１４１から１４２のいずれか一項に記載のディスプレイ。
〔態様１４５〕
１つまたは複数のプロセッサと、
前記１つまたは複数のプロセッサと通信し、前記１つまたは複数のプロセッサによって実行可能な命令を格納しており、そのような前記命令の実行時に、前記１つまたは複数のプロセッサに、態様１から１３４のいずれか一項に記載の方法を実行させる、非一過性コンピュータ可読ストレージ媒体とを備えている、デバイス。
〔態様１４６〕
１つまたは複数のプロセッサによって実行可能な命令を格納しており、そのような前記命令の実行時に、前記１つまたは複数のプロセッサに、態様１から１３４のいずれか一項に記載の方法を実行させる、非一過性コンピュータ可読ストレージ媒体。
〔態様１４７〕
複数の素子を備えているディスプレイと、
前記ディスプレイに結合され、態様１から１３４のいずれか一項に記載の方法を実行するように構成されているコントローラとを備えている、システム。
〔態様１４８〕
前記コントローラが、複数のコンピューティングユニットを備えており、前記コンピューティングユニットの各々が、３次元（３Ｄ）空間内の物体に対応する複数のプリミティブのうちの１つまたは複数のプリミティブに対して動作を実行するように構成されている、態様１４７に記載のシステム。
〔態様１４９〕
前記コントローラが前記ディスプレイにローカルに結合され、前記コンピューティングユニットの各々が、前記ディスプレイの１つまたは複数の各素子に結合され、各制御信号を前記１つまたは複数の各素子の各々に送信するように構成されている、態様１４８に記載のシステム。
〔態様１５０〕
前記コンピューティングユニットが並列に動作するように構成されている、態様１４８または１４９に記載のシステム。
〔態様１５１〕
前記コントローラが、特定用途向け集積回路（ＡＳＩＣ）、フィールドプログラマブルゲートアレイ（ＦＰＧＡ）、プログラマブルゲートアレイ（ＰＧＡ）、中央処理装置（ＣＰＵ）、グラフィックスプロセッシングユニット（ＧＰＵ）、および標準計算セルから成る群から選択された少なくとも１つの要素を備えている、態様１４７から１５０のいずれか一項に記載のシステム。
〔態様１５２〕
前記ディスプレイが、デジタルマイクロミラーデバイス（ＤＭＤ）またはＬＣＯＳ（liquid crystal on silicon）デバイスを含む空間光変調器（ＳＬＭ）を備えている、態様１４７から１５１のいずれか一項に記載のシステム。
〔態様１５３〕
前記ディスプレイが、位相変調、振幅変調、または位相変調および振幅変調を実行されるように構成されている、態様１４７から１５２のいずれか一項に記載のシステム。
〔態様１５４〕
前記コントローラが、メモリバッファを介して前記ディスプレイに結合されている、態様１４７から１５３のいずれか一項に記載のシステム。
〔態様１５５〕
前記ディスプレイに隣接して配置され、前記ディスプレイ上で発光するように構成された発光体をさらに備えている、態様１４７から１５４のいずれか一項に記載のシステム。
〔態様１５６〕
前記発光体が、前記コントローラに結合され、前記コントローラからの制御信号に基づいてオン／オフされるように構成されている、態様１５５に記載のシステム。
〔態様１５７〕
前記発光体が、メモリバッファを介して、前記発光体内の１つまたは複数の発光素子の振幅または明るさを制御するように構成された前記コントローラに結合される、態様１５５または１５６に記載のシステム。
〔態様１５８〕
前記発光体の前記メモリバッファが、前記ディスプレイのメモリバッファより小さいサイズを有している、態様１５７に記載のシステム。
〔態様１５９〕
前記発光体内の前記発光素子の数が、前記ディスプレイの前記素子の数より少ない、態様１５７または１５８に記載のシステム。
〔態様１６０〕
前記コントローラが、前記発光体の前記１つまたは複数の発光素子を同時に作動させるように構成されている、態様１５７から１５９のいずれか一項に記載のシステム。
〔態様１６１〕
前記発光体がコヒーレント光源、半コヒーレント光源、または非コヒーレント光源である、態様１５５から１６０のいずれか一項に記載のシステム。
〔態様１６２〕
前記発光体が、異なる色を有する光を発するようにそれぞれ構成された２つ以上の発光素子を備えている、態様１５５から１６１のいずれか一項に記載のシステム。
〔態様１６３〕
前記コントローラが、第１の期間中に第１の色に関連付けられた情報を使用して前記ディスプレイを連続的に変調し、第２の連続的期間中に第２の色に関連付けられた情報を使用して前記ディスプレイを変調するように構成されており、
前記コントローラが、前記発光体を制御して、前記第１の期間中に第１の発光素子を連続的にオンにして、前記第１の色を有する光を発し、前記第２の期間中に第２の発光素子を連続的にオンにして、前記第２の色を有する光を発するように構成されている、態様１５５から１６２のいずれか一項に記載のシステム。
〔態様１６４〕
前記発光体が白色光を発するように構成されており、前記ディスプレイが、前記白色光を異なる色を有する光に回折するように構成されている、態様１５５から１６１のいずれか一項に記載のシステム。
〔態様１６５〕
前記発光体が、前記ディスプレイの表面の前に配置され、０度〜９０度の範囲内の入射角で前記ディスプレイの前記表面に前記光を発するように構成されており、前記放射光が前記ディスプレイの表面から反射される、態様１５５から１６４のいずれか一項に記載のシステム。
〔態様１６６〕
前記発光体から前記放射される光がコリメート光を含む、態様１６５に記載のシステム。
〔態様１６７〕
前記発光体から前記放射される光が発散光を含む、態様１６５に記載のシステム。
〔態様１６８〕
前記発光体から前記放射される光が半コリメート光を含む、態様１６５に記載のシステム。
〔態様１６９〕
前記発光体が、前記ディスプレイの裏面の後に配置され、前記ディスプレイの前記裏面に発散光を発するように構成されており、
前記放射された光が、前記ディスプレイを介して、前記ディスプレイの前面から前記ディスプレイの外へ送信される、態様１５５から１６４のいずれか一項に記載のシステム。
〔態様１７０〕
前記発光体が、
前記光を発するように構成された光源と、
前記光源に結合され、前記ディスプレイに隣接して配置された導波管とを備えており、前記導波管が、前記光源から前記放射された光を受信し、前記放射された光を前記ディスプレイに誘導するように構成されている、態様１５５から１６４のいずれか一項に記載のシステム。
〔態様１７１〕
前記光源からの前記光が、光カプラを介して前記導波管の垂直断面から前記導波管に結合される、態様１７０に記載のシステム。
〔態様１７２〕
前記光源および前記導波管が、平面的形態で統合され、前記ディスプレイの表面に配置される、態様１７０に記載のシステム。
〔態様１７３〕
前記導波管が、前記光を誘導して前記ディスプレイを均一に照らすように構成されている、態様１７０から１７２のいずれか一項に記載のシステム。
〔態様１７４〕
前記導波管が前記ディスプレイの裏面に配置され、前記光が、前記ディスプレイを介して送信するように誘導され、前記ディスプレイの前面から前記ディスプレイの外へ回折される、態様１７０から１７３のいずれか一項に記載のシステム。
〔態様１７５〕
前記コントローラが前記導波管の裏面に配置される、態様１７４に記載のシステム。
〔態様１７６〕
前記導波管が前記ディスプレイの前面に配置され、前記光が、前記ディスプレイの前記前面に入射されるように誘導され、前記前面によって反射される、態様１７０から１７３のいずれか一項に記載のシステム。
〔態様１７７〕
素子の配列を備えているディスプレイと、
コンピューティングユニットの配列を備えている集積回路とを備えているシステムであって、前記コンピューティングユニットの各々が、前記ディスプレイの１つまたは複数の各素子に結合されており、
複数のプリミティブのうちの少なくとも１つのプリミティブから前記素子の配列の各々への電磁（ＥＭ）場の寄与を計算することと、
前記１つまたは複数の各素子の各々について、前記複数のプリミティブから前記素子への前記ＥＭ場の寄与の各合計を生成することとを実行するように構成されている、システム。
〔態様１７８〕
前記コンピューティングユニットの各々が、
前記コンピューティングユニットの配列のうちの他のコンピューティングユニットから、前記複数のプリミティブのうちの他のプリミティブから前記１つまたは複数の各素子の各々への計算されたＥＭ場の寄与を受信することと、
前記１つまたは複数の各素子の各々について、前記受信された、前記他のプリミティブから前記素子への計算されたＥＭ場の寄与を加算することによって、前記ＥＭ場の寄与の前記各合計を生成することとを実行するように構成されている、態様１７７に記載のシステム。
〔態様１７９〕
前記コンピューティングユニットの各々が、前記１つまたは複数の各素子の各々について、前記素子への前記ＥＭ場の寄与の前記各合計に基づいて、前記素子の少なくとも１つの特性を変調するための各制御信号を生成するように構成されている、態様１７７または１７８に記載のシステム。
〔態様１８０〕
前記集積回路と前記ディスプレイの間に配置され、前記集積回路から制御信号を受信して、前記制御信号に基づいて前記ディスプレイに光を当てるように構成された、発光体をさらに備えており、前記集積回路、前記発光体、および前記ディスプレイが、単一のユニットとして統合されている、態様１７７から１７９のいずれか一項に記載のシステム。
〔態様１８１〕
前記集積回路が、前記複数のプリミティブから前記ディスプレイの前記素子の各々への前記計算されたＥＭ場の寄与の累算結果を格納するように構成された各累算器を備えている、態様１７７から１８０のいずれか一項に記載のシステム。
〔態様１８２〕
前記集積回路が、計算動作の開始時に前記累算器を初期化するように構成されている、態様１８１に記載のシステム。
〔態様１８３〕
前記集積回路が、前記素子の各々の各メモリバッファを備えており、
前記集積回路が、前記複数のプリミティブから前記素子への前記計算されたＥＭ場の寄与を累算して、前記各累算器内の最終的な累算結果として、前記ＥＭ場の寄与の前記各合計を取得し、前記最終的な累算結果を前記各累算器から前記素子の前記各メモリバッファに転送するように構成されている、態様１８１または１８２に記載のシステム。
〔態様１８４〕
３次元（３Ｄ）空間内の物体に対応する複数のプリミティブの各プリミティブデータを含むデータを生成するように構成されたコンピューティングデバイスを備えている、システム、および
態様１４７から１８３のいずれか一項に記載のシステムであって、
前記コンピューティングデバイスから前記グラフィックデータを受信し、前記３Ｄ空間内の前記物体を提示するための前記グラフィックデータを処理するように構成されている、システム。
〔態様１８５〕
前記コンピューティングデバイスが、前記物体のコンピュータ生成（ＣＧ）モデルをレンダリングすることによって、前記各プリミティブデータを含む前記プリミティブを作成するように構成された、アプリケーションプログラミングインターフェイス（ＡＰＩ）を備えている、態様１８４に記載のシステム。