【手続補正書】
【提出日】平成16年2月17日(2004.2.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】基板搬送方法および基板搬送容器


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のプロセス間で基板を搬送する方法において、第１のプロセスの雰囲気から、搬送容器に基板を取込み、該容器内で間歇的又は連続的に水分、粒子状物質、化学物質の少なくとも１つを選択的に除去し、有機物が１μｇ／ｍ３以下、及び又は、水分が４×１０−３ｇ／ｇ以下となるように制御し、該気体を前記基板に曝露させて保持し、第２のプロセスに前記容器から該基板を導入することを特徴とする基板搬送方法。
【請求項２】
前記容器内で流通する気体は、０．１μｍ以上の粒子が１０個／ｍ３以下であることを特徴とする請求項１記載の基板搬送方法。
【請求項３】
送風装置及び又は除湿装置の動作を制御し、前記容器内の環境制御を行うことを特徴とする請求項１記載の基板搬送方法。
【請求項４】
前記第１のプロセスにおける雰囲気の情報に基づき、前記容器内の環境制御を行うことを特徴とする請求項１記載の基板搬送方法。
【請求項５】
前記第１のプロセスにおける雰囲気の情報に基づいて、最適な機能を備えた容器を選択して用いることを特徴とする請求項１記載の基板搬送方法。
【請求項６】
基板を収納し、保管または、搬送するための基板搬送容器において、前記容器は容器本体とこれを密閉可能なドアとを備え、吸水率０．１％以下の材質を主要構成材とし、前記容器は直接又は間接的に基板に接触するとともに静電気を容器外に導出することができる導電性部位を有していることを特徴とする基板搬送容器。
【請求項７】
前記容器内にガス及び又は湿度のセンサを配備したことを特徴とする請求項６記載の基板搬送容器。
【請求項８】
前記センサの情報に基づいて、制御される送風装置及び又は除湿装置を備えたことを特徴とする請求項７記載の基板搬送容器。
【請求項９】
前記容器は、粒子を除去するフィルタ、化学物質を除去するフィルタ、または除湿装置の少なくとも１つを有することを特徴とする請求項６記載の基板搬送容器。
【請求項１０】
前記ドアの開閉を検知するセンサを備えたことを特徴とする請求項６記載の基板搬送容器。
【請求項１１】
前記容器内に基板の存在を検知するセンサを備えたことを特徴とする請求項９記載の基板搬送容器。
【請求項１２】
前記ドアの開閉を検知して送気手段及び又は除湿装置の運転を調整することを特徴とする請求項１０記載の基板搬送容器。
【請求項１３】
前記基板の存在を検知するセンサの信号に基づいて送気手段及び又は除湿装置の運転を調整することを特徴とする請求項１１記載の基板搬送容器。
【請求項１４】
前記容器は、内部空間に内部気体を循環させる送風装置を備えたことを特徴とする請求項９記載の基板搬送容器。
【請求項１５】
前記容器は、内部空間に内部気体の除湿手段を備えたことを特徴とする請求項９記載の基板搬送容器。
【請求項１６】
前記容器は、前記送風装置又は前記除湿手段に電力を供給する給電手段を有することを特徴とする請求項１４又は１５記載の基板搬送容器。
【請求項１７】
前記給電手段は、容器に付設される２次電池であることを特徴とする請求項１６記載の基板搬送容器。
【請求項１８】
前記２次電池を充電するための給電系を更に備えたことを特徴とする請求項１７記載の基板搬送容器。
【請求項１９】
前記給電手段は、電磁誘導による非接触構造であることを特徴とする請求項１６記載の基板搬送容器。
【請求項２０】
前記給電手段は、接点による接触構造であることを特徴とする請求項１６記載の基板搬送容器。
【請求項２１】
前記給電手段は、製造装置のロードポート、保管場所、搬送装置の少なくとも１つに配備されることを特徴とする請求項１６記載の基板搬送容器。
【請求項２２】
前記容器の前記給電手段への着座により給電が開始されることを特徴とする請求項１６記載の基板搬送容器。
【請求項２３】
基板を収納し、保管または、搬送するための基板搬送容器において、前記容器は容器本体とこれを密閉可能なドアとを備え、前記容器は直接又は間接的に基板に接触するとともに静電気を容器外に導出することができる導電性部位を有し、前記容器は、粒子を除去するフィルタ、化学物質を除去するフィルタ、または除湿装置の少なくとも１つを有し、前記容器は、内部空間に内部気体を循環させる送風装置を備えたことを特徴とする基板搬送容器。
【請求項２４】
前記フィルタと送風装置とが一体に形成されていることを特徴とする請求項２３記載の基板搬送容器。
【請求項２５】
前記フィルタは円筒状であり、その円筒状フィルタの半径方向に気体を流通させることを特徴とする請求項２３記載の基板搬送容器。
【請求項２６】
前記フィルタは柱状フィルタであり、該フィルタの長軸方向に気体を流通させることを特徴とする請求項２３記載の基板搬送容器。
【請求項２７】
前記フィルタを流通した気体を導くダクト及び又は整流装置を備えたことを特徴とする請求項２３乃至２６のいずれか１項に記載の基板搬送容器。
【請求項２８】
前記容器内に気体の流れを基板に案内する整流構造を備えたことを特徴とする請求項１４記載の基板搬送容器。
【請求項２９】
前記容器は内部に流通する気体の取入口と吐出口を有することを特徴とする請求項６記載の基板搬送容器。
【請求項３０】
前記取入口と吐出口の少なくとも一方に逆流防止機構を設けたことを特徴とする請求項２９記載の基板搬送容器。
【請求項３１】
前記取入口に連通するダクト及び又は整流装置を備えたことを特徴とする請求項２９記載の基板搬送容器。
【請求項３２】
化学物質を除去するフィルタと、粒子フィルタと、除湿装置の少なくとも１つは、前記容器の取入口及び又は吐出口の近傍に配置されたことを特徴とする請求項２９記載の基板搬送容器。
【請求項３３】
前記容器は、水平方向の重心を、収納する基板の中心から少なくとも基板半径の９０％、好ましくは７０％の半径をもつ円内に納めるように調整されることを特徴とする請求項９記載の基板搬送容器。
【請求項３４】
前記容器は、収納される基板のプロセス雰囲気に合せた内部環境を備え、複数のプロセス間で基板の搬送に用いられることを特徴とする請求項９記載の基板搬送容器。
【請求項３５】
第１のプロセス装置から取出される基板を取込む密閉可能な基板搬送容器と、該容器内で流通する気体中の粒子状物質を除去するフィルタ、化学物質を除去するフィルタ、または水分を除去する除湿装置の少なくとも１つと、前記気体を流通させる送風装置又はパージ手段と、前記基板を保持する保持装置とを備え、前記容器は、前記除湿装置及び又は前記送風装置の運転制御を行うためのデータ記憶手段と、前記除湿装置及び又は前記送風装置とデータ記憶手段を駆動する電源とを備えたことを特徴とする基板搬送装置。
【請求項３６】
容器自体を識別するＩＤと外部記憶手段と制御情報を送受信する手段とを備えたことを特徴とする請求項３５記載の基板搬送装置。
【請求項３７】
電気駆動部の制御情報の変更を、外部記憶手段と送受信する信号入出力部を用いて通信することを特徴とする請求項３６記載の基板搬送装置。
【請求項３８】
プロセス履歴管理情報の変更を、外部記憶手段と送受信する信号入出力部を用いて行うことを特徴とする請求項３６記載の基板搬送装置。
【請求項３９】
ロットの履歴情報の変更を、外部記憶手段と送受信する信号入出力部を用いて行うことを特徴とする請求項３６記載の基板搬送装置。
【請求項４０】
前記容器の洗浄時期は、前記容器のデータ記憶手段の持つ情報により管理されることを特徴とする請求項３５記載の基板搬送装置。
【請求項４１】
フィルタ交換時期又は洗浄時期又は２次電池の情報の変更を、外部記憶手段と送受信する信号入出力部を用いて管理することを特徴とする請求項３６記載の基板搬送装置。
【請求項４２】
前記容器のフィルタ交換時期は、前記気体中の汚染ガス処理量と前記送風装置又は除湿装置の運転時間の積から算出することを特徴とする請求項４０記載の基板搬送装置。
【請求項４３】
前記容器の洗浄時期は、前記送風装置の運転時間から推定することを特徴とする請求項４０記載の基板搬送装置。
【請求項４４】
前記容器に備えた２次電池の残量を測定し、必要給電量を充電することを特徴とする請求項３５記載の基板搬送装置。
【請求項４５】
前記容器のデータ記憶手段が有する情報を有線もしくは無線で送受信し、複数使用されている基板搬送容器の個々の情報をネットワークを介して管理することを特徴とする請求項３６記載の基板搬送装置。
【請求項４６】
基板を収納し、保管または、搬送するための基板搬送容器において、前記容器は容器本体とこれを密閉可能なドアとを備え、フィルタ、除湿装置、送風装置のいずれかを含む嫌湿部品をその洗浄のために着脱可能に備えたことを特徴とする基板搬送容器。
【請求項４７】
前記容器の洗浄機に、洗浄すべき容器の情報を送信し、該情報に従って前記容器を選択して洗浄することを特徴とする請求項３６記載の基板搬送装置。
【請求項４８】
前記基板表面にレジストが塗布された状態において、前記容器内の雰囲気を、アンモニア量を一定値以下に制限することを特徴とする請求項１記載の基板搬送方法。
【請求項４９】
嫌湿部品を取り外した後、プレートを装着することにより洗浄機によって洗浄が可能であることを特徴とする請求項４６記載の基板搬送容器。
【請求項５０】
前記容器は、粒子状汚染物質、メタル状汚染物質、イオン性汚染物質、有機汚染物質、水分のうち、除去対象成分を選択的に除去する汚染物質除去手段を備え、前記容器を各プロセス間の往復に使用することを特徴とする請求項１記載の基板搬送方法。
【請求項５１】
複数のプロセス間で半導体基板を搬送する方法において、第１のプロセスの雰囲気から、搬送容器に前記基板を取込み、該容器内で間歇的又は連続的に水分、粒子状物質、化学物質の少なくとも１つを選択的に除去した気体を流通させ、前記基板に曝露させて保持し、第２のプロセスに前記容器から前記基板を導入することを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項５２】
銅配線と低誘電率絶縁膜を用いた配線形成工程に、前記容器を使用することを特徴とする請求項１記載の基板搬送方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体ウエハ、フォトマスクまたはハードディスク等の被処理物を極めて清浄度の高い雰囲気下で保管または搬送するのに使用して好適な基板搬送容器（ポッド）の構造、性能及びその運用方法に関する。特に、前記基板搬送容器を利用した、半導体製造プロセスにおける基板搬送方法および基板搬送容器（ポッド）に関する。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は上述した事情に鑑みてなされたもので、銅配線と誘電率が３以下のいわゆる低誘電率絶縁膜を組合せた半導体チップ製造工程等に用いて好適な基板搬送方法および基板搬送容器を提供することを目的とする。また、線幅が微細化していくと作業者から発生する微量のアンモニアや有機物、そして作業服から発生するパーティクル状汚染物質による基板の汚染が深刻になってくる。また今後、半導体製品の需要の多様化により、ＤＲＡＭやＭＰＵのような少品種大量生産する製品よりもシステムＬＳＩのような多品種少量生産する製品が占める割合が増えていくことが予想されている。このため、半導体処理プロセスを容易に且つ、迅速に組替えることが可能な設備が必要になってくる。本発明は自動化された半導体製造工場において、多品種少量生産する半導体チップも含めた半導体デバイスの製造等に用いて好適な基板搬送方法および基板搬送容器を提供することを目的とする。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１８６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１８６】
【発明の効果】
以上説明したように本発明によれば、銅配線のように高導電率の配線材を使用し、かつ低誘電率の絶縁膜を用いた半導体デバイスの製造等に用いて好適な基板搬送方法および基板搬送容器が提供される。従って、半導体基板等の搬送や保管を良好な状態で行える。