【手続補正書】
【提出日】令和2年12月17日(2020.12.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ウェハ上の一組のパターンから検査データを獲得するステップと、
獲得した検査データに基づき前記ウェハ上の一通り又は複数通りの不備パターンタイプを識別するステップと、
前記一通り又は複数通りの不備パターンタイプのうちの類似パターンタイプを一組のパターングループへとグループ分けするステップと、
前記一組のパターングループのうち第１グループにグループ分けされた第１パターンタイプの２個以上の変化インスタンスであり、焦点、照射量、又はオーバレイの少なくとも１つを含む別々のコンディションで以て形成された、第１パターンタイプの２個以上の変化インスタンスから、画像データを獲得するステップと、
第１パターンタイプの前記２個以上のインスタンスの１個又は複数個の共通構造から得た２枚以上の画像を比較して第１パターンタイプの一部分における一通り又は複数通りの局所的相違を識別するステップと、
第１パターンタイプの前記部分における１個又は複数個の計量サイトであり、第１パターンタイプのその部分における前記一通り又は複数通りの局所的相違の居所付近にあるものを、識別するステップと、
を有する方法。
【請求項２】
請求項１に記載の方法であって、更に、
前記一組のパターングループのうち付加的グループにグループ分けされた付加的パターンタイプの２個以上の変化インスタンスから画像データを獲得するステップと、
前記付加的パターンタイプの前記２個以上のインスタンスの１個又は複数個の共通構造から得た２枚以上の画像を比較してその付加的パターンタイプの一部分における一通り又は複数通りの局所的相違を識別するステップと、
前記付加的パターンタイプの前記部分における１個又は複数個の計量サイトであり、その付加的パターンタイプのその部分における前記一通り又は複数通りの局所的相違の居所付近にあるものを、識別するステップと、
を有する方法。
【請求項３】
請求項２に記載の方法であって、更に、
第１パターンタイプの前記部分にて識別された１個又は複数個の計量サイトと、前記付加的パターンタイプの前記部分にて識別された１個又は複数個の計量サイトと、に基づき計量標本化プランを生成するステップを有する方法。
【請求項４】
請求項１に記載の方法であって、ウェハ上の一組のパターンから検査データを獲得するステップが、
ウェハ上の一組のパターンから広帯域検査ツールで以て検査データを獲得するステップを含む方法。
【請求項５】
請求項４に記載の方法であって、ウェハ上の一組のパターンから広帯域検査ツールで以て検査データを獲得するステップが、
ウェハ上の一組のパターンから広帯域プラズマ式検査ツールで以て検査データを獲得するステップを含む方法。
【請求項６】
請求項４に記載の方法であって、ウェハ上の一組のパターンから広帯域検査ツールで以て検査データを獲得するステップが、
ウェハ上の一組のパターンから走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）で以て検査データを獲得するステップを含む方法。
【請求項７】
請求項１に記載の方法であって、前記一通り又は複数通りの不備パターンタイプのうちの類似パターンタイプを一組のパターングループへとグループ分けするステップが、
デザインベースビニング（ＤＢＢ）プロセスを実行することで前記一通り又は複数通りの不備パターンタイプのうちの類似パターンタイプを一組のパターングループへとグループ分けするステップを含む方法。
【請求項８】
請求項１に記載の方法であって、前記一組のパターングループのうち第１グループにグループ分けされた第１パターンタイプの２個以上の変化インスタンスから画像データを獲得するステップが、
前記一組のパターングループのうち第１グループにグループ分けされた第１パターンタイプの２個以上の変化インスタンスからレビューツールで以て画像データを獲得するステップを含む方法。
【請求項９】
請求項１に記載の方法であって、前記一組のパターングループのうち第１グループにグループ分けされた第１パターンタイプの２個以上の変化インスタンスからレビューツールで以て画像データを獲得するステップが、
前記一組のパターングループのうち第１グループにグループ分けされた第１パターンタイプの２個以上の変化インスタンスから走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）で以て画像データを獲得するステップを含む方法。
【請求項１０】
請求項１に記載の方法であって、第１パターンタイプの前記２個以上の変化インスタンスが、
公称パターンと、少なくとも１個の変調パターンと、を含み、当該少なくとも１個の変調パターンが、その公称パターンに対し変調された一通り又は複数通りのコンディションを有する方法。
【請求項１１】
請求項１に記載の方法であって、第１パターンタイプの前記２個以上の変化インスタンスが、別々の焦点、別々の照射量及び別々のオーバレイのうち少なくとも一つで以て形成されている方法。
【請求項１２】
請求項１に記載の方法であって、第１パターンタイプの前記２個以上のインスタンスの１個又は複数個の共通構造から得た２枚以上の画像を比較して第１パターンタイプの一部分における一通り又は複数通りの局所的相違を識別するステップが、
第１パターンタイプの前記２個以上のインスタンスの１個又は複数個の共通構造を対象にタイバーシティサンプリングプロセスを実行して第１パターンタイプの一部分における一通り又は複数通りの局所的相違を識別するステップを含む、方法。
【請求項１３】
請求項１に記載の方法であって、第１パターンタイプの前記２個以上のインスタンスの１個又は複数個の共通構造から得た２枚以上の画像を比較して第１パターンタイプの一部分における一通り又は複数通りの局所的相違を識別するステップが、
前記２枚以上の画像のうち１枚又は複数枚を対象にして画像平滑化プロセスを実行するステップと、
前記画像平滑化プロセスの後に、第１パターンタイプの前記２個以上のインスタンスの１個又は複数個の共通構造から得た前記２枚以上の画像を比較して第１パターンタイプの前記部分における一通り又は複数通りの局所的相違を識別するステップと、
を含む方法。
【請求項１４】
請求項１に記載の方法であって、第１パターンタイプの前記２個以上のインスタンスの１個又は複数個の共通構造から得た２枚以上の画像を比較して第１パターンタイプの一部分における一通り又は複数通りの局所的相違を識別するステップが、
第１パターンタイプの前記２個以上のインスタンスの１個又は複数個の共通構造から得た２枚以上の画像間で画像減算を実行して第１パターンタイプの一部分における一通り又は複数通りの局所的相違を識別するステップを含む方法。
【請求項１５】
請求項１に記載の方法であって、更に、
識別された１個又は複数個の計量サイトの居所をデザインルールチェック（ＤＲＣ）、マスクルールチェック（ＭＲＣ）及び一通り又は複数通りのシミュレーションプロセスのうち少なくとも一つで以て確認するステップを有する方法。
【請求項１６】
ウェハ上の一通り又は複数通りの不備パターンタイプを識別するステップと、
前記一通り又は複数通りの不備パターンタイプのうちの類似パターンタイプを一組のパターングループへとグループ分けするステップと、
第１パターンタイプの２個以上の変化インスタンスであり、焦点、照射量、又はオーバレイの少なくとも１つを含む別々のコンディションで以て形成された、第１パターンタイプの２個以上の変化インスタンスの、１個又は複数個の共通構造から得た２枚以上の画像を比較して、第１パターンタイプの一部分における一通り又は複数通りの局所的相違を識別するステップと、
第１パターンタイプの前記部分における１個又は複数個の計量サイトであり、第１パターンタイプのその部分における前記一通り又は複数通りの局所的相違の居所付近にあるものを、識別するステップと、
を有する方法。
【請求項１７】
検査ツールと、
レビューツールと、
メモリ上に保持されている一組のプログラム命令を実行するよう構成された１個又は複数個のプロセッサを有するコントローラと、を備え、当該１個又は複数個のプロセッサが、
ウェハ上の一組のパターンから検査データを獲得するよう前記検査ツールに指令し、
獲得した検査データに基づき前記ウェハ上の一通り又は複数通りの不備パターンタイプを識別し、
前記一通り又は複数通りの不備パターンタイプのうちの類似パターンタイプを一組のパターングループへとグループ分けし、
前記一組のパターングループのうち第１グループにグループ分けされた第１パターンタイプの２個以上の変調インスタンスであり、焦点、照射量、又はオーバレイの少なくとも１つを含む別々のコンディションで以て形成された、第１パターンタイプの２個以上の変調インスタンスから、画像データを獲得するよう、前記レビューツールに指令し、
第１パターンタイプの前記２個以上のインスタンスの１個又は複数個の共通構造から得た２枚以上の画像を比較して第１パターンタイプの一部分における一通り又は複数通りの局所的相違を識別し、
第１パターンタイプの前記部分における１個又は複数個の計量サイトであり、第１パターンタイプのその部分における前記一通り又は複数通りの局所的相違の居所付近にあるものを識別するよう、
前記プログラム命令が構成されたシステム。
【請求項１８】
請求項１７に記載のシステムであって、前記検査ツールが、
広帯域検査ツールを備えるシステム。
【請求項１９】
請求項１８に記載のシステムであって、前記検査ツールが、
広帯域プラズマ式検査ツールを備えるシステム。
【請求項２０】
請求項１７に記載のシステムであって、前記検査ツールが、
走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）式検査ツールを備えるシステム。
【請求項２１】
請求項１７に記載のシステムであって、前記レビューツールが、
走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）式レビューツールを備えるシステム。
【請求項２２】
請求項１７に記載のシステムであって、前記１個又は複数個のプロセッサが、更に、
前記一組のパターングループのうち付加的グループにグループ分けされた付加的パターンタイプの２個以上の変化インスタンスから画像データを獲得し、
前記付加的パターンタイプの前記２個以上のインスタンスの１個又は複数個の共通構造から得た２枚以上の画像を比較してその付加的パターンタイプの一部分における一通り又は複数通りの局所的相違を識別し、
前記付加的パターンタイプの前記部分における１個又は複数個の計量サイトであり、その付加的パターンタイプのその部分における一通り又は複数通りの局所的相違の居所付近にあるものを識別するよう、
前記プログラム命令が構成されたシステム。
【請求項２３】
請求項２２に記載のシステムであって、前記１個又は複数個のプロセッサが、更に、
第１パターンタイプの前記部分にて識別された１個又は複数個の計量サイトと、前記付加的パターンタイプの前記部分にて識別された１個又は複数個の計量サイトと、に基づき計量標本化プランを生成するよう、前記プログラム命令が構成されたシステム。
【請求項２４】
請求項１７に記載のシステムであって、前記１個又は複数個のプロセッサが、
デザインベースビニング（ＤＢＢ）プロセスを実行することで、前記一通り又は複数通りの不備パターンタイプのうちの類似パターンタイプを一組のパターングループへとグループ分けすることによって、
前記一通り又は複数通りの不備パターンタイプのうちの類似パターンタイプを一組のパターングループへとグループ分けするよう、前記プログラム命令が構成されたシステム。
【請求項２５】
請求項１７に記載のシステムであって、第１パターンタイプの前記２個以上の変化インスタンスが、
公称パターンと、少なくとも１個の変調パターンと、を含み、当該少なくとも１個の変調パターンが、その公称パターンに対し変調された一通り又は複数通りのコンディションを有するシステム。
【請求項２６】
請求項１７に記載のシステムであって、第１パターンタイプの前記２個以上の変化インスタンスが、別々の焦点、別々の照射量及び別々のオーバレイのうち少なくとも一つで以て形成されているシステム。
【請求項２７】
請求項１７に記載のシステムであって、前記１個又は複数個のプロセッサが、
第１パターンタイプの前記２個以上のインスタンスの１個又は複数個の共通構造を対象にしてダイバーシティサンプリングプロセスを実行することで、第１パターンタイプの一部分における一通り又は複数通りの局所的相違を識別することによって、
第１パターンタイプの前記２個以上のインスタンスの１個又は複数個の共通構造から得た２枚以上の画像を比較して第１パターンタイプの一部分における一通り又は複数通りの局所的相違を識別するよう、前記プログラム命令が構成されたシステム。
【請求項２８】
請求項１７に記載のシステムであって、前記１個又は複数個のプロセッサが、
前記２枚以上の画像のうち１枚又は複数枚を対象にして画像平滑化プロセスを実行し、
前記画像平滑化プロセスの後に、第１パターンタイプの前記２個以上のインスタンスの１個又は複数個の共通構造から得た前記２枚以上の画像を比較して第１パターンタイプの前記部分における一通り又は複数通りの局所的相違を識別することによって、
第１パターンタイプの前記２個以上のインスタンスの１個又は複数個の共通構造から得た２枚以上の画像を比較して第１パターンタイプの一部分における一通り又は複数通りの局所的相違を識別するよう、前記プログラム命令が構成されたシステム。
【請求項２９】
請求項１７に記載のシステムであって、前記１個又は複数個のプロセッサが、
第１パターンタイプの前記２個以上のインスタンスの１個又は複数個の共通構造から得た２枚以上の画像間で画像減算を実行して第１パターンタイプの一部分における一通り又は複数通りの局所的相違を識別することによって、
第１パターンタイプの前記２個以上のインスタンスの１個又は複数個の共通構造から得た２枚以上の画像を比較して第１パターンタイプの一部分における一通り又は複数通りの局所的相違を識別するよう、前記プログラム命令が構成されたシステム。
【請求項３０】
請求項１７に記載のシステムであって、前記１個又は複数個のプロセッサが、更に、
識別された前記１個又は複数個の計量サイトの居所をデザインルールチェック（ＤＲＣ）、マスクルールチェック（ＭＲＣ）及び一通り又は複数通りのシミュレーションプロセスのうち少なくとも一つで以て確認するよう、前記プログラム命令が構成されたシステム。
【請求項３１】
メモリ上に保持されている一組のプログラム命令を実行するよう構成された１個又は複数個のプロセッサを有するコントローラを備え、当該１個又は複数個のプロセッサが、
ウェハ上の一組のパターンから検査データを獲得するよう検査ツールに指令し、
獲得した検査データに基づき前記ウェハ上の一通り又は複数通りの不備パターンタイプを識別し、
前記一通り又は複数通りの不備パターンタイプのうちの類似パターンタイプを一組のパターングループへとグループ分けし、
前記一組のパターングループのうち第１グループにグループ分けされた第１パターンタイプの２個以上の変調インスタンスであり、焦点、照射量、又はオーバレイの少なくとも１つを含む別々のコンディションで以て形成された、第１パターンタイプの２個以上の変調インスタンスから、画像データを獲得するようレビューツールに指令し、
第１パターンタイプの前記２個以上のインスタンスの１個又は複数個の共通構造から得た２枚以上の画像を比較して第１パターンタイプの一部分における一通り又は複数通りの局所的相違を識別し、
第１パターンタイプの前記部分における１個又は複数個の計量サイトであり、第１パターンタイプのその部分における前記一通り又は複数通りの局所的相違の居所付近にあるものを識別するよう、
前記プログラム命令が構成されたシステム。