【手続補正書】
【提出日】平成16年10月14日(2004.10.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
荷電ビーム源から発生された荷電ビームを所望の大きさ及び明るさに調整するコンデンサレンズと、荷電ビームを試料面上にフォーカスする対物レンズと、荷電ビームをブランキングするためのブランキング偏向器及びブランキングアパーチャと、試料面上の荷電ビームの位置を制御する対物偏向器とを備えた荷電ビーム描画装置であって、
前記対物レンズ及び対物偏向器を所定の平面内で機械的に可動にする駆動機構を設け、且つ前記対物レンズ及び対物偏向器よりも前記荷電ビーム源側に、前記駆動機構と同期して荷電ビームを偏向する光軸シフト用偏向器を設けてなることを特徴とする荷電ビーム描画装置。
【請求項２】
荷電ビーム源から発生された荷電ビームを所望の電流密度に調整するコンデンサレンズと、複数種のパターンを有しいずれかのパターンの選択により荷電ビームを成形するキャラクタアパーチャと、荷電ビームをブランキングするためのブランキング偏向器及びブランキングアパーチャと、キャラクタアパーチャで成形された荷電ビームを試料面上にフォーカスする対物レンズと、試料面上の荷電ビームの位置を制御する対物偏向器とを備えた荷電ビーム描画装置であって、
前記キャラクタアパーチャ，対物レンズ，及び対物偏向器を所定の平面内で可動にする駆動機構を設け、且つ前記キャラクタアパーチャよりも前記荷電ビーム源側に、前記駆動機構と同期して荷電ビームを偏向する光軸シフト用偏向器を設けてなることを特徴とする荷電ビーム描画装置。
【請求項３】
荷電ビーム源から発生された荷電ビームを所望の大きさ及び明るさに調整するコンデンサレンズと、荷電ビームを所望形状に成形するための複数の開口パターンを有するキャラクタアパーチャと、成形された荷電ビームを試料面上にフォーカスする対物レンズと、荷電ビームをブランキングするためのブランキング偏向器及びブランキングアパーチャと、試料面上の荷電ビームの位置を制御する対物偏向器とを備えた荷電ビーム描画装置であって、
前記キャラクタアパーチャを所定の平面内で機械的に可動にする第１の駆動機構を設けると共に、前記対物レンズ及び対物偏向器を所定の平面内で機械的に可動にする第２の駆動機構を設け、且つ前記対物レンズ及び対物偏向器よりも前記荷電ビーム源側に、第２の駆動機構と同期して荷電ビームを偏向する光軸シフト用偏向器を設けてなることを特徴とする荷電ビーム描画装置。
【請求項４】
荷電ビーム源から発生された荷電ビームを所望の電流密度に調整するコンデンサレンズと、複数種のパターンを有しいずれかのパターンの選択により荷電ビームを成形するキャラクタアパーチャと、荷電ビームをブランキングするためのブランキング偏向器及びブランキングアパーチャと、キャラクタアパーチャで成形された荷電ビームを試料面上にフォーカスする対物レンズと、試料面上の荷電ビームの位置を制御する対物偏向器とを備えた荷電ビーム描画装置であって、
前記キャラクタアパーチャを所定の平面内で機械的に可動にする第１の駆動機構を設けると共に、前記対物レンズ及び対物偏向器を所定の平面内で機械的に可動にする第２の駆動機構を設け、且つ前記キャラクタアパーチャよりも前記荷電ビーム源側に、第２の駆動機構と同期して荷電ビームを偏向する光軸シフト用偏向器を設けてなることを特徴とする荷電ビーム描画装置。
【請求項５】
荷電ビーム源から発生された荷電ビームを所望の大きさ及び明るさに調整するコンデンサレンズと、荷電ビームを試料面上にフォーカスする対物レンズと、荷電ビームをブランキングするためのブランキング偏向器及びブランキングアパーチャと、試料面上の荷電ビームの位置を制御する対物偏向器とを備えた荷電ビーム描画装置であって、
前記対物レンズ及び対物偏向器を所定の平面内で機械的に往復移動させる駆動機構を設け、且つ前記対物レンズ及び対物偏向器よりも前記荷電ビーム源側に、前記駆動機構と同期して荷電ビームを偏向する光軸シフト用偏向器を設けてなり、前記対物レンズ及び対物偏向器の移動速度が連続的に変化するように前記駆動機構を制御することを特徴とする荷電ビーム描画装置。
【請求項６】
荷電ビーム源から発生された荷電ビームを所望の電流密度に調整するコンデンサレンズと、複数種のパターンを有しいずれかのパターンの選択により荷電ビームを成形するキャラクタアパーチャと、荷電ビームをブランキングするためのブランキング偏向器及びブランキングアパーチャと、キャラクタアパーチャで成形された荷電ビームを試料面上にフォーカスする対物レンズと、試料面上の荷電ビームの位置を制御する対物偏向器とを備えた荷電ビーム描画装置であって、
前記キャラクタアパーチャ，対物レンズ，及び対物偏向器を所定の平面内で往復移動させる駆動機構を設け、且つ前記キャラクタアパーチャよりも前記荷電ビーム源側に、前記駆動機構と同期して荷電ビームを偏向する光軸シフト用偏向器を設けてなり、前記キャラクタアパーチャ，対物レンズ，及び対物偏向器の移動速度が連続的に変化するように前記駆動機構を制御することを特徴とする荷電ビーム描画装置。
【請求項７】
前記駆動機構は、荷電ビームの光軸方向（Ｚ方向）と直交する少なくとも２軸方向（Ｘ方向及びＹ方向）に機械的に可動であることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の荷電ビーム描画装置。
【請求項８】
前記駆動機構は、磁気力により駆動制御するアクチュエータからなることを特徴とする請求項７記載の荷電ビーム描画装置。
【請求項９】
前記光軸シフト用偏向器は、静電型偏向器であることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の荷電ビーム描画装置。
【請求項１０】
前記光軸シフト用偏向器は、少なくとも２段の偏向器からなり、荷電ビームを振り戻してビーム軸を平行にシフトするものであることを特徴とする請求項１〜６のいずれか又は９記載の荷電ビーム描画装置。
【請求項１１】
前記対物レンズは、静電型レンズであることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の荷電ビーム描画装置。
【請求項１２】
前記対物レンズ及び対物偏向器は共に静電型であり、一体形成されていることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の荷電ビーム描画装置。
【請求項１３】
前記駆動機構を正弦波によって制御することを特徴とする請求項５又は６記載の荷電ビーム描画装置。
【請求項１４】
前記駆動機構の駆動に同期して、前記対物偏向器によりビームを電気的に偏向し、一定の基準速度に対する前記駆動機構による移動速度の差分を補正することを特徴とする請求項５又は６記載の荷電ビーム描画装置。
【請求項１５】
前記駆動機構における機械的駆動周波数を一定としたことを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の荷電ビーム描画装置。
【請求項１６】
前記対物偏向器は主副２段の偏向器からなり、主偏向器で副偏向領域の位置決めを行い、副偏向器で副偏向領域の描画を行うものであり、試料を載置したステージは一方向に連続的に移動され、前記駆動機構による移動方向はステージ移動方向と交差する方向であり、
ステージ移動方向と交差する方向に沿った複数の副偏向領域からなる主偏向列の描画時間が一定となるように、描画条件に応じて主偏向列内の副偏向領域数及びショット数を可変にしたことを特徴とする請求項１５記載の荷電ビーム描画装置。
【請求項１７】
前記駆動機構により駆動される物体の移動位置を一定のサンプリング時間間隔で検出する位置センサと、この位置センサにより得られる位置データに基づいて前記物体が移動することに伴う荷電ビームの位置ずれを補正し、且つ前記位置センサにより得られる位置データからの補間により、前記サンプリング時間間隔より短い間隔で補間位置データを求め、この補間位置データに基づいて前記荷電ビームの位置ずれを補正する補正回路とを設けたことを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の荷電ビーム描画装置。
【請求項１８】
前記補正回路は、前記位置センサにより得られる位置データを基に前記物体の移動速度を算出し、算出した移動速度を積分器に入力して前記補間位置データを得るものであることを特徴とする請求項１７記載の荷電ビーム描画装置。
【請求項１９】
荷電ビーム源から発生された荷電ビームを所望の大きさ及び明るさに調整するコンデンサレンズと、荷電ビームを試料面上にフォーカスする対物レンズと、試料面上の荷電ビームの位置を制御する対物偏向器と、前記対物レンズ及び対物偏向器を所定の平面内で機械的に可動にする駆動機構と、前記対物レンズ及び対物偏向器よりも前記荷電ビーム源側に配置され、前記駆動機構と同期して荷電ビームを偏向する光軸シフト用偏向器とを具備してなり、
前記駆動機構は、前記対物レンズ及び対物偏向器の移動速度を連続的に変化させることを特徴とする荷電ビーム描画装置。
【請求項２０】
荷電ビーム源から発生された荷電ビームを所望の電流密度に調整するコンデンサレンズと、複数種のパターンを有しいずれかのパターンの選択により荷電ビームを成形するキャラクタアパーチャと、前記キャラクタアパーチャで成形された荷電ビームを試料面上にフォーカスする対物レンズと、試料面上の荷電ビームの位置を制御する対物偏向器と、前記キャラクタアパーチャ，対物レンズ，及び対物偏向器を所定の平面内で往復移動させる駆動機構と、前記キャラクタアパーチャよりも前記荷電ビーム源側に配置され、前記駆動機構と同期して荷電ビームを偏向する光軸シフト用偏向器とを具備してなり、
前記駆動機構は、前記キャラクタアパーチャ，対物レンズ，及び対物偏向器の移動速度を連続的に変化させることを特徴とする荷電ビーム描画装置。