【手続補正書】
【提出日】令和3年3月3日(2021.3.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
オレフィン重合触媒系であって、
（Ａ）第１のオレフィン重合プロ触媒と、
（Ｂ）第２のオレフィン重合プロ触媒と、
（Ｃ）チェーンシャトリング剤と、を含み、
前記第１のオレフィン重合プロ触媒（Ａ）は、式（Ｉ）の金属−配位子錯体を含み、
【化１】
2020511573.tif 000001
、式中、
Ｍは、ジルコニウムまたはハフニウムであり、
Ｒ２０は、出現ごとに独立して、水素を含まない５〜２０個の原子を含有する二価の
芳香族基または不活性に置換された芳香族基であり、
Ｔ３は、水素を含まない３〜２０個の原子を有する二価の炭化水素もしくはシラン基
、またはそれらの不活性に置換された誘導体であり、
ＲＤは、出現ごとに独立して、水素を含まない１〜２０個の原子の一価配位子基であ
るか、または２つのＲＤ基は、一緒になって、水素を含まない１〜２０個の原子の二価配
位子基であり、
前記第２のオレフィン重合プロ触媒（Ｂ）は、式（ＩＩ）の金属−配位子錯体を含
み、
【化２】
2020511573.tif 000002
、式中、
ＭＡは、各々独立して＋２、＋３、または＋４の形式酸化状態にある、チタン、ジル
コニウム、またはハフニウムであり、
ｎｎは０〜３の整数であり、ｎｎが０であるとき、ＸＡは存在せず、
各ＸＡは、独立して、中性、モノアニオン性、もしくはジアニオン性の単座配位子で
あるか、または２つのＸＡが一緒になって、中性、モノアニオン性、もしくはジアニオン
性である二座配位子を形成し、
ＸＡおよびｎｎは、前記式（ＩＩ）の金属−配位子錯体が全体として中性であるよう
に選択され、
各Ｚ１は、独立して、Ｏ、Ｓ、Ｎ（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル、またはＰ（Ｃ１
〜Ｃ４０）ヒドロカルビルであり、
Ｌは、（Ｃ３〜Ｃ４０）ヒドロカルビレンまたは（Ｃ３〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカル
ビレンであり、前記（Ｃ３〜Ｃ４０）ヒドロカルビレンは、式（ＩＩ）中の前記Ｚ１原子
を連結する３炭素原子〜１０炭素原子のリンカー骨格を含む部分（これにＬが結合してい
る）を有し、前記（Ｃ３〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレンは、式（ＩＩ）中の前記Ｚ１
原子を連結する３原子〜１０原子のリンカー骨格を含む部分を有し、前記（Ｃ３〜Ｃ４０
）ヘテロヒドロカルビレンの前記３原子〜１０原子のリンカー骨格の前記３〜１０個の原
子の各々は、独立して、炭素原子またはヘテロ原子であり、各ヘテロ原子は、独立して、
Ｏ、Ｓ、Ｓ（Ｏ）、Ｓ（Ｏ）２、Ｓｉ（ＲＣ１）２、Ｇｅ（ＲＣ１）２、Ｐ（ＲＰ）、ま
たはＮ（ＲＮ）であり、独立して、各ＲＣ１は、（Ｃ１〜Ｃ３０）ヒドロカルビルであり
、各ＲＰは、（Ｃ１〜Ｃ３０）ヒドロカルビルであり、各ＲＮは、（Ｃ１〜Ｃ３０）ヒド
ロカルビルであるかまたは存在せず、
Ｑ１、Ｑ１６、またはそれらの両方は、式（ＩＩＩ）を含み、好ましくは、Ｑ１およ
びＱ１６が同じであり、
【化３】
2020511573.tif 000003
Ｑ１〜２４は、（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル、（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカ
ルビル、Ｓｉ（ＲＣ１）３、Ｇｅ（ＲＣ１）３、Ｐ（ＲＰ）２、Ｎ（ＲＮ）２、ＯＲＣ１
、ＳＲＣ１、ＮＯ２、ＣＮ、ＣＦ３、ＲＣ１Ｓ（Ｏ）−、ＲＣ１Ｓ（Ｏ）２−、（ＲＣ１
）２Ｃ＝Ｎ−、ＲＣ１Ｃ（Ｏ）Ｏ−、ＲＣ１ＯＣ（Ｏ）−、ＲＣ１Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ）−、
（ＲＣ１）２ＮＣ（Ｏ）−、ハロゲン原子、水素原子、およびそれらの組み合わせからな
る群から選択され、
Ｑ２２がＨであるときには、Ｑ１９は、（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル；（Ｃ１〜
Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビル；Ｓｉ（ＲＣ１）３、Ｇｅ（ＲＣ１）３、Ｐ（ＲＰ）２、
Ｎ（ＲＮ）２、ＯＲＣ１、ＳＲＣ１、ＮＯ２、ＣＮ、ＣＦ３、ＲＣ１Ｓ（Ｏ）−、ＲＣ１
Ｓ（Ｏ）２−、（ＲＣ１）２Ｃ＝Ｎ−、ＲＣ１Ｃ（Ｏ）Ｏ−、ＲＣ１ＯＣ（Ｏ）−、ＲＣ
１Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ）−、（ＲＣ１）２ＮＣ（Ｏ）−、またはハロゲン原子であり、かつ／
あるいは
Ｑ１９がＨであるときには、Ｑ２２は、（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル；（Ｃ１〜
Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビル；Ｓｉ（ＲＣ１）３、Ｇｅ（ＲＣ１）３、Ｐ（ＲＰ）２、
Ｎ（ＲＮ）２、ＯＲＣ１、ＳＲＣ１、ＮＯ２、ＣＮ、ＣＦ３、ＲＣ１Ｓ（Ｏ）−、ＲＣ１
Ｓ（Ｏ）２−、（ＲＣ１）２Ｃ＝Ｎ−、ＲＣ１Ｃ（Ｏ）Ｏ−、ＲＣ１ＯＣ（Ｏ）−、ＲＣ
１Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ）−、（ＲＣ１）２ＮＣ（Ｏ）−、またはハロゲン原子であり、かつ／
あるいは
好ましくは、Ｑ２２およびＱ１９は、両方とも、（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル；
（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビル；Ｓｉ（ＲＣ１）３、Ｇｅ（ＲＣ１）３、Ｐ（Ｒ
Ｐ）２、Ｎ（ＲＮ）２、ＯＲＣ１、ＳＲＣ１、ＮＯ２、ＣＮ、ＣＦ３、ＲＣ１Ｓ（Ｏ）−
、ＲＣ１Ｓ（Ｏ）２−、（ＲＣ１）２Ｃ＝Ｎ−、ＲＣ１Ｃ（Ｏ）Ｏ−、ＲＣ１ＯＣ（Ｏ）
−、ＲＣ１Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ）−、（ＲＣ１）２ＮＣ（Ｏ）−、またはハロゲン原子であり
、かつ／あるいは
Ｑ８がＨであるときには、Ｑ９は、（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル；（Ｃ１〜Ｃ４
０）ヘテロヒドロカルビル；Ｓｉ（ＲＣ１）３、Ｇｅ（ＲＣ１）３、Ｐ（ＲＰ）２、Ｎ（
ＲＮ）２、ＯＲＣ１、ＳＲＣ１、ＮＯ２、ＣＮ、ＣＦ３、ＲＣ１Ｓ（Ｏ）−、ＲＣ１Ｓ（
Ｏ）２−、（ＲＣ１）２Ｃ＝Ｎ−、ＲＣ１Ｃ（Ｏ）Ｏ−、ＲＣ１ＯＣ（Ｏ）−、ＲＣ１Ｃ
（Ｏ）Ｎ（Ｒ）−、（ＲＣ１）２ＮＣ（Ｏ）−、またはハロゲン原子であり、かつ／ある
いは
Ｑ９がＨであるときには、Ｑ８は、（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル；（Ｃ１〜Ｃ４
０）ヘテロヒドロカルビル；Ｓｉ（ＲＣ１）３、Ｇｅ（ＲＣ１）３、Ｐ（ＲＰ）２、Ｎ（
ＲＮ）２、ＯＲＣ１、ＳＲＣ１、ＮＯ２、ＣＮ、ＣＦ３、ＲＣ１Ｓ（Ｏ）−、ＲＣ１Ｓ（
Ｏ）２−、（ＲＣ１）２Ｃ＝Ｎ−、ＲＣ１Ｃ（Ｏ）Ｏ−、ＲＣ１ＯＣ（Ｏ）−、ＲＣ１Ｃ
（Ｏ）Ｎ（Ｒ）−、（ＲＣ１）２ＮＣ（Ｏ）−、またはハロゲン原子であり、かつ／ある
いは
好ましくは、Ｑ８およびＱ９は、両方とも、（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル；（Ｃ
１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビル；Ｓｉ（ＲＣ１）３、Ｇｅ（ＲＣ１）３、Ｐ（ＲＰ）
２、Ｎ（ＲＮ）２、ＯＲＣ１、ＳＲＣ１、ＮＯ２、ＣＮ、ＣＦ３、ＲＣ１Ｓ（Ｏ）−、Ｒ
Ｃ１Ｓ（Ｏ）２−、（ＲＣ１）２Ｃ＝Ｎ−、ＲＣ１Ｃ（Ｏ）Ｏ−、ＲＣ１ＯＣ（Ｏ）−、
ＲＣ１Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ）−、（ＲＣ１）２ＮＣ（Ｏ）−、またはハロゲン原子であり、か
つ／あるいは
任意選択で、２つ以上のＱ基（例えば、Ｑ９〜１５、Ｑ９〜１３、Ｑ９〜１２、Ｑ２
〜８、Ｑ４〜８、Ｑ５〜８からの）は、一緒に組み合わさって、環構造となることができ
、かかる環構造は、いずれの水素原子も除いて前記環中に３〜５０個の原子を有し、
前記アリール、ヘテロアリール、ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビル、Ｓｉ（Ｒ
Ｃ１）３、Ｇｅ（ＲＣ１）３、Ｐ（ＲＰ）２、Ｎ（ＲＮ）２、ＯＲＣ１、ＳＲＣ１、ＲＣ
１Ｓ（Ｏ）−、ＲＣ１Ｓ（Ｏ）２−、（ＲＣ１）２Ｃ＝Ｎ−、ＲＣ１Ｃ（Ｏ）Ｏ−、ＲＣ
１ＯＣ（Ｏ）−、ＲＣ１Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ）−、（ＲＣ１）２ＮＣ（Ｏ）−、ヒドロカルビ
レン、およびヘテロヒドロカルビレン基の各々は、独立して、置換されていないか、また
は１つ以上のＲＳ置換基で置換されており、
各ＲＳは、独立して、ハロゲン原子、ポリフルオロ置換、ペルフルオロ置換、非置換
（Ｃ１〜Ｃ１８）アルキル、Ｆ３Ｃ−、ＦＣＨ２Ｏ−、Ｆ２ＨＣＯ−、Ｆ３ＣＯ−、Ｒ３
Ｓｉ−、Ｒ３Ｇｅ−、ＲＯ−、ＲＳ−、ＲＳ（Ｏ）−、ＲＳ（Ｏ）２−、Ｒ２Ｐ−、Ｒ２
Ｎ−、Ｒ２Ｃ＝Ｎ−、ＮＣ−、ＲＣ（Ｏ）Ｏ−、ＲＯＣ（Ｏ）−、ＲＣ（Ｏ）Ｎ（Ｒ）−
、またはＲ２ＮＣ（Ｏ）−であるか、あるいは前記ＲＳのうちの２つが一緒になって非置
換（Ｃ１〜Ｃ１８）アルキレンを形成し、各Ｒが、独立して、非置換（Ｃ１〜Ｃ１８）ア
ルキルであり、
任意選択で、２つ以上のＱ基（例えば、Ｑ１７〜２４、Ｑ１７〜２０、Ｑ２０〜２４
からの）は、一緒に組み合わさって、環構造となることができ、かかる環構造は、いずれ
の水素原子も除いて前記環中に３〜５０個の原子を有し、
前記アリール、ヘテロアリール、ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビル、Ｓｉ（Ｒ
Ｃ１）３、Ｇｅ（ＲＣ１）３、Ｐ（ＲＰ）２、Ｎ（ＲＮ）２、ＯＲＣ１、ＳＲＣ１、ＲＣ
１Ｓ（Ｏ）−、ＲＣ１Ｓ（Ｏ）２−、（ＲＣ１）２Ｃ＝Ｎ−、ＲＣ１Ｃ（Ｏ）Ｏ−、ＲＣ
１ＯＣ（Ｏ）−、ＲＣ１Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ）−、（ＲＣ１）２ＮＣ（Ｏ）−、ヒドロカルビ
レン、およびヘテロヒドロカルビレン基の各々は、独立して、置換されていないか、また
は１つ以上のＲＳ置換基で置換されており、
各ＲＳは、独立して、ハロゲン原子、ポリフルオロ置換、ペルフルオロ置換、非置換
（Ｃ１〜Ｃ１８）アルキル、Ｆ３Ｃ−、ＦＣＨ２Ｏ−、Ｆ２ＨＣＯ−、Ｆ３ＣＯ−、Ｒ３
Ｓｉ−、Ｒ３Ｇｅ−、ＲＯ−、ＲＳ−、ＲＳ（Ｏ）−、ＲＳ（Ｏ）２−、Ｒ２Ｐ−、Ｒ２
Ｎ−、Ｒ２Ｃ＝Ｎ−、ＮＣ−、ＲＣ（Ｏ）Ｏ−、ＲＯＣ（Ｏ）−、ＲＣ（Ｏ）Ｎ（Ｒ）−
、またはＲ２ＮＣ（Ｏ）−であるか、あるいは前記ＲＳのうちの２つは、一緒になって、
非置換（Ｃ１〜Ｃ１８）アルキレンを形成し、各Ｒが、独立して、非置換（Ｃ１〜Ｃ１８
）アルキルである、オレフィン重合触媒系。
【請求項２】
（Ｄ）活性化剤をさらに含む、請求項１に記載のオレフィン重合触媒系。
【請求項３】
前記第１のオレフィン重合プロ触媒（Ａ）および前記第２のオレフィン重合プロ触媒
（Ｂ）は、重合条件下での比（ｒ１Ａ／ｒ１Ｂ）が０．５以下であるように、それぞれの
反応性比ｒ１Ａおよびｒ１Ｂを有する、請求項１または２に記載のオレフィン重合触媒系
。
【請求項４】
前記第１のオレフィン重合プロ触媒（Ａ）は、以下の構造の金属−配位子錯体を含み
、
【化４】
2020511573.tif 000004
式中、
Ａｒ４は、出現ごとに独立して、Ｃ６〜２０アリールまたはその不活性に置換された
誘導体、特に、３，５−ジ（イソプロピル）フェニル、３，５−ジ（イソブチル）フェニ
ル、ジベンゾ−１Ｈ−ピロール−１−イル、ナフチル、アントラセン−５−イル、１，２
，３，４，６，７，８，９−オクタヒドロアントラセン−５−イルであり、
Ｔ４は、出現ごとに独立して、プロピレン−１，３−ジイル基、ビス（アルキレン）
シクロヘキサン−１，２−ジイル基、または各々最大２０個の炭素を有する１〜５個のア
ルキル、アリール、もしくはアラルキル置換基で置換された、それらの不活性に置換され
た誘導体であり、
Ｒ２１は、出現ごとに独立して、水素、ハロ、水素を含まない最大５０個の原子のヒ
ドロカルビル、トリヒドロカルビルシリル、トリヒドロカルビルシリルヒドロカルビル、
アルコキシ、またはアミノであり、
ＲＤは、出現ごとに独立して、ハロ、または水素を含まない最大２０個の原子のヒド
ロカルビルもしくはトリヒドロカルビルシリル基であるか、あるいは２つのＲＤ基は、一
緒になって、水素を含まない最大４０個の原子の二価ヒドロカルビレン、ヒドロカルバジ
イル、またはトリヒドロカルビルシリル基である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の
オレフィン重合触媒系。
【請求項５】
前記第１のオレフィン重合プロ触媒（Ａ）は、以下の構造を有する金属−配位子錯体
であり、
【化５】
2020511573.tif 000005
、式中、
Ａｒ４は、出現ごとに独立して、３，５−ジ（イソプロピル）フェニル、３，５−ジ
（イソブチル）フェニル、ジベンゾ−１Ｈ−ピロール−１−イル、またはアントラセン−
５−イルであり、
Ｒ２１は、出現ごとに独立して、水素、ハロ、水素を含まない最大５０個の原子のヒ
ドロカルビル、トリヒドロカルビルシリル、トリヒドロカルビルシリルヒドロカルビル、
アルコキシ、またはアミノであり、
Ｔ４は、プロパン−１，３−ジイルまたはビス（メチレン）シクロヘキサン−１，２
−ジイルであり、
ＲＤは、出現ごとに独立して、ハロ、または水素を含まない最大２０個の原子のヒド
ロカルビルもしくはトリヒドロカルビルシリル基であるか、あるいは２つのＲＤ基は、一
緒になって、水素を含まない最大４０個の原子のヒドロカルビレン、ヒドロカルバジイル
、またはヒドロカルビルシランジイル基である、請求項１〜４のいずれか一項に記載のオ
レフィン重合触媒系。
【請求項６】
前記第１のオレフィン重合プロ触媒（Ａ）は、
【化６】
2020511573.tif 000006
からなる群から選択される、請求項１〜５のいずれか一項に記載のオレフィン重合触媒
系。
【請求項７】
前記第２のオレフィン重合プロ触媒（Ｂ）は、以下の構造
【化７】
2020511573.tif 000007
を有する、請求項１〜６のいずれか一項に記載のオレフィン重合触媒系。
【請求項８】
前記チェーンシャトリング剤が、１〜１２個の炭素を有する少なくとも１つのヒドロ
カルビル置換基を含有する、アルミニウム、亜鉛、またはガリウム化合物である、請求項
１〜７のいずれか一項に記載のオレフィン重合触媒系。
【請求項９】
１つ以上の付加重合性モノマーを、付加重合条件下で、請求項１〜８のいずれか一項
に記載のオレフィン重合触媒系と接触させることを含む、マルチブロックコポリマーを調
製するためのプロセス。
【請求項１０】
エチレンおよびエチレン以外の少なくとも１つの重合性コモノマーを、付加重合条件
下で、請求項１〜８のいずれか一項に記載のオレフィン重合触媒系と接触させることを含
む、マルチブロックコポリマーを調製するためのプロセス。