Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】令和3年10月4日(2021.10.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
石油を含有するダウンホール地層における水と石油のエマルジョンの形成を防止する方法であって、
水と複数の非官能化ナノ粒子との分散液を調製する工程であって、前記複数の非官能化ナノ粒子中の各ナノ粒子が、少なくとも３００ナノメートルのサイズを有する工程と、
前記分散液をダウンホールに注入して、ダウンホールで前記石油と接触させる工程と、
を含み、
前記複数の非官能化ナノ粒子の存在が、前記注入された水と前記石油との間のエマルジョンの形成を防止する、方法。
【請求項２】
前記複数の非官能化ナノ粒子がシリカを含み、いずれの表面改質もないそれぞれの表面を有する、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記複数の非官能化ナノ粒子の前記それぞれの表面に、前記シリカの前記それぞれの表面の特性を改質するいずれの化学基もない、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記水が蒸留されたものであり、前記複数の非官能化ナノ粒子が約０．２重量パーセントの濃度で前記水に分散される、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記水が塩を含有し、前記複数の非官能化ナノ粒子が約１．６重量パーセントの濃度で前記水に分散される、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記水が、最大で約３．５重量パーセントまでの塩濃度を有する、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記複数の非官能化ナノ粒子中のナノ粒子の各々が、３００〜５００ナノメートルの範囲のサイズを有する、請求項１〜６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
複数の非官能化ナノ粒子の分散液を含む水と石油のエマルジョンの形成を防止するために使用する組成物であって、ナノ粒子の各々が、水に分散した少なくとも３００ナノメートルのサイズを有する、組成物。
【請求項９】
前記複数の非官能化ナノ粒子が、シリカで構成される、請求項８に記載の組成物。
【請求項１０】
前記水が蒸留されたものであり、前記複数の非官能化ナノ粒子が約０．２重量パーセントの濃度で前記水に分散される、請求項８に記載の組成物。
【請求項１１】
前記水が塩をさらに含み、前記複数の非官能化ナノ粒子が約１．６重量パーセントの濃度で前記水に分散されている、請求項８に記載の組成物。
【請求項１２】
前記水が、約３．５重量パーセントの塩濃度を有する、請求項１１に記載の組成物。
【請求項１３】
前記複数の非官能化ナノ粒子中のナノ粒子の各々が、３００〜５００ナノメートルの範囲のサイズを有する、請求項８〜１２のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項１４】
石油を含有するダウンホール地層における水と石油のエマルジョンの形成を防止する方法であって、
水と複数のナノ粒子との分散液を調製する工程であって、前記複数のナノ粒子中の各ナノ粒子が、少なくとも３００ナノメートルのサイズを有する工程と、
前記分散液をダウンホールに注入して、ダウンホールで前記石油と接触させる工程と、
を含み、
前記複数のナノ粒子の存在が、前記注入された水と前記石油との間のエマルジョンの形成を防止する、方法。
【請求項１５】
前記複数のナノ粒子が、シリカで構成される、請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
前記水が蒸留されたものであり、前記複数のナノ粒子が約０．２重量パーセントの濃度で前記水に分散される、請求項１４に記載の方法。
【請求項１７】
前記水が塩を含有し、前記複数のナノ粒子が約１．６重量パーセントの濃度で前記水に分散される、請求項１４に記載の方法。
【請求項１８】
前記水が、約３．５重量パーセントの塩濃度を有する、請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
前記複数のナノ粒子中のナノ粒子の各々が、３００〜５００ナノメートルの範囲のサイズを有する、請求項１４〜１８のいずれか一項に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】令和3年9月8日(2021.9.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ヒト個体におけるがんの処置における使用のための、可溶性細胞外ドメインヒトＣＤ３９（ＮＴＰＤａｓｅ１）タンパク質に結合し、そのＡＴＰａｓｅ活性を阻害することができる抗体であって、処置が、（ａ）可溶性細胞外ドメインヒトＣＤ３９（ＮＴＰＤａｓｅ１）タンパク質に結合し、そのＡＴＰａｓｅ活性を阻害することができる抗体、ここで該抗体は、アミノ酸配列ＤＹＮＭＨ（配列番号８）を含むＨＣＤＲ１；アミノ酸配列ＹＩＶＰＬＮＧＧＳＴＦＮＱＫＦＫＧ（配列番号９）を含むＨＣＤＲ２；アミノ酸配列ＧＧＴＲＦＡＹ（配列番号１０）を含むＨＣＤＲ３；アミノ酸配列ＲＡＳＥＳＶＤＮＦＧＶＳＦＭＹ（配列番号１１）を含むＬＣＤＲ１；アミノ酸配列ＧＡＳＮＱＧＳ（配列番号１２）を含むＬＣＤＲ２領域；およびアミノ酸配列ＱＱＴＫＥＶＰＹＴ（配列番号１３）を含むＬＣＤＲ３領域を含む、および（ｂ）ヒトＣＤ７３の５’−エクトヌクレオチダーゼ活性を中和する抗体を含む、抗体。
【請求項２】
ＣＤ７３陽性がんを有する個体におけるがんの処置における使用のための、可溶性細胞外ドメインヒトＣＤ３９（ＮＴＰＤａｓｅ１）タンパク質に結合し、そのＡＴＰａｓｅ活性を阻害することができる抗体であって、ここで該抗体は、アミノ酸配列ＤＹＮＭＨ（配列番号８）を含むＨＣＤＲ１；アミノ酸配列ＹＩＶＰＬＮＧＧＳＴＦＮＱＫＦＫＧ（配列番号９）を含むＨＣＤＲ２；アミノ酸配列ＧＧＴＲＦＡＹ（配列番号１０）を含むＨＣＤＲ３；アミノ酸配列ＲＡＳＥＳＶＤＮＦＧＶＳＦＭＹ（配列番号１１）を含むＬＣＤＲ１；アミノ酸配列ＧＡＳＮＱＧＳ（配列番号１２）を含むＬＣＤＲ２領域；およびアミノ酸配列ＱＱＴＫＥＶＰＹＴ（配列番号１３）を含むＬＣＤＲ３領域を含む、抗体。
【請求項３】
処置が、個体に、ヒトＣＤ７３の５’−エクトヌクレオチダーゼ活性を中和する抗体を投与することをさらに含む、請求項２に記載の使用のための抗体。
【請求項４】
ヒトＣＤ３９のＡＴＰａｓｅ活性を中和する抗体が、ヒトＣＤ７３の５’−エクトヌクレオチダーゼ活性を中和する抗体の投与の前に投与される、請求項１または３に記載の使用のための抗体。
【請求項５】
ヒトＣＤ３９のＡＴＰａｓｅ活性を中和する抗体およびＣＤ７３の５’−エクトヌクレオチダーゼ活性を中和する抗体が、別々の投与のために製剤化され、同時的に、または連続的に投与される、請求項１、３または４のいずれか一項に記載の使用のための抗体。
【請求項６】
可溶性細胞外ドメインヒトＣＤ３９（ＮＴＰＤａｓｅ１）タンパク質に結合し、そのＡＴＰａｓｅ活性を阻害することができる抗体がＦｃドメインを欠くか、またはＦｃドメインとＦｃγ受容体との結合を減少させるように改変されたＦｃドメインを含む、請求項１から５のいずれか一項に記載の使用のための抗体。
【請求項７】
ＣＤ７３の５’−エクトヌクレオチダーゼ活性を中和する抗体がＦｃドメインを欠くか、またはＦｃドメインとＦｃγ受容体との結合を減少させるように改変されたＦｃドメインを含む、請求項１または３から６のいずれか一項に記載の使用のための抗体。
【請求項８】
個体が、高レベルのＣＤ７３を発現する細胞を特徴とする腫瘍組織および／または腫瘍隣接組織を含む、請求項１から７のいずれか一項に記載の使用のための抗体。
【請求項９】
個体が、ヒトＣＤ７３ポリペプチドを阻害する薬剤を用いた以前の処置の後に進行または再発したがんを有する、請求項１から８のいずれか一項に記載の使用のための抗体。
【請求項１０】
個体が固形腫瘍を有する、請求項１から９のいずれか一項に記載の使用のための抗体。
【請求項１１】
個体が卵巣がんを有する、請求項１から１０のいずれか一項に記載の使用のための抗体。
【請求項１２】
個体が胃がんを有する、請求項１から１０のいずれか一項に記載の使用のための抗体。
【請求項１３】
個体が肺がんを有する、請求項１から１０のいずれか一項に記載の使用のための抗体。
【請求項１４】
個体が結腸がんを有する、請求項１から１０のいずれか一項に記載の使用のための抗体。
【請求項１５】
個体が食道がんを有する、請求項１から１０のいずれか一項に記載の使用のための抗体。
【手続補正書】
【提出日】令和3年9月30日(2021.9.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ヒト対象においてデング熱ウイルスに対する中和抗体の応答を誘発するためのブースターワクチン接種の方法における使用のためのワクチン組成物であって、前記組成物が、血清型１から４の各々のデング熱抗原を含み、前記デング熱抗原の各々が、（ａ）生の減弱されたデング熱ウイルスおよび（ｂ）生の減弱されたキメラデング熱ウイルスからなるリストから独立に選択され、
前記対象が、デング熱ウイルスの血清型１から４の各々に対する初回ワクチン接種コースを以前に受けており、前記対象が前記初回ワクチン接種コースの前にはデング熱にナイーブであり、
前記ブースターワクチン接種が、前記初回ワクチン接種コースの終了後少なくとも１年に投与され、血清型１から４の各々に対する中和抗体力価の少なくとも２倍の増大を生ずる、
前記ワクチン組成物。
【請求項２】
前記ブースターワクチン投与は、前記初回ワクチン接種コースの終了後少なくとも２年に投与される、請求項１に記載のワクチン組成物。
【請求項３】
前記初回ワクチン接種コースは、１回、２回または３回の用量で投与される、請求項１または２に記載のワクチン組成物。
【請求項４】
前記対象は、少なくとも１１歳または１２歳である、請求項１〜３のいずれか一項に記載のワクチン組成物。
【請求項５】
前記対象は、ブースター投与前に、血清型１から４の各々に対して、少なくとも１０および１５０未満、好ましくは１２０未満の中和抗体力価を有する、請求項１〜４のいずれか一項に記載のワクチン組成物。
【請求項６】
血清型１から４の各々に対する中和抗体の力価の前記２倍の増大が、前記ブースターワクチン接種後２０と６０日の間に、好ましくは、前記ブースターワクチン接種後２８日に測定される、請求項１〜５のいずれか一項に記載のワクチン組成物。
【請求項７】
前記中和抗体力価が、デング熱プラーク減少中和試験（ＰＲＮＴ５０）の試験を使用して測定される、請求項１〜６のいずれか一項に記載のワクチン組成物。
【請求項８】
ブースターワクチン接種のために投与される前記ワクチン組成物は、初回ワクチン接種コース中に以前に投与されたワクチン組成物と同一である、請求項１〜７のいずれか一項に記載のワクチン組成物。
【請求項９】
ブースターワクチン接種のために投与される前記ワクチン組成物は、初回ワクチン接種コース中に以前に投与されたワクチン組成物と異なる、請求項１〜８のいずれか一項に記載のワクチン組成物。
【請求項１０】
前記対象は、以前にデング熱ウイルスに自然に感染したことがない、請求項１〜９のいずれか一項に記載のワクチン組成物。
【請求項１１】
ヒト対象においてデング熱ウイルスに対する中和抗体の応答を誘発する方法における使用のためのワクチン組成物であって、前記組成物が、血清型１から４の各々のデング熱抗原を含み、前記血清型１から４のデング熱抗原は、生の減弱されたデング熱ウイルスおよび生の減弱されたキメラデング熱ウイルスからなる群から各々独立に選択され；
前記組成物が、
（ａ）初回ワクチン接種と、それに続く前記初回ワクチン接種コースの終了後少なくとも１年に、
（ｂ）ブースターワクチン接種により
投与され、
前記ヒト対象が最初はデング熱にナイーブである、
前記ワクチン組成物。
【請求項１２】
前記ブースターワクチン投与は、前記初回ワクチン接種コースの終了後少なくとも２年に投与される、請求項１１に記載のワクチン組成物。
【請求項１３】
前記初回ワクチン接種コースは、１回、２回または３回の用量で投与される、請求項１１または１２に記載のワクチン組成物。
【請求項１４】
前記対象は少なくともおよそ９歳である、請求項１１〜１３のいずれか一項に記載のワクチン組成物。
【請求項１５】
前記ブースターワクチン接種は、血清型１から４の各々に対する中和抗体力価において、初回ワクチン接種後に誘発された中和抗体力価と比較して、少なくとも２倍の増大を生ずる、請求項１１〜１４のいずれか一項に記載のワクチン組成物。
【請求項１６】
血清型１から４の各々に対する中和抗体の力価の前記２倍の増大は、前記ブースターワクチン接種後２０日と６０日の間に、好ましくは、前記ブースターワクチン接種後２８日に測定される、請求項１５に記載のワクチン組成物。
【請求項１７】
前記中和抗体の力価は、デング熱プラーク減少中和試験（ＰＲＮＴ５０）の試験を使用して測定される、請求項１５または１６に記載のワクチン組成物。
【請求項１８】
前記ヒト対象が、デング熱疾患に対して、好ましくは重症のデング熱疾患に対して保護される、請求項１〜１７のいずれか一項に記載のワクチン組成物。
【請求項１９】
前記対象は、９カ月と６０歳の間の年齢である、請求項１〜１８のいずれか一項に記載のワクチン組成物。
【請求項２０】
前記初回ワクチン接種コースは、３回のワクチン用量の投与にあり、第２の用量は、初回用量の約６カ月後に投与され、第３の用量は、第２の用量の約６カ月後に投与される、請求項１１に記載のワクチン組成物。
【請求項２１】
前記ブースター免疫は、初回ワクチン接種コースの終了後２０年未満、好ましくは１０年未満に投与される、請求項１〜２０のいずれか一項に記載のワクチン組成物。
【請求項２２】
前記ヒト対象は、デング熱流行地域に居住している、請求項１〜２１のいずれか一項に記載のワクチン組成物。
【請求項２３】
血清型１から４の各々のデング熱抗原を含み、前記デング熱抗原のそれぞれが、生の減弱されたキメラデング熱ウイルスである、請求項１〜２２のいずれか一項に記載のワクチン組成物。
【請求項２４】
前記生の減弱されたキメラデング熱ウイルスは、ｐｒＭ−Ｅ配列がデング熱ウイルスのｐｒＭ−Ｅ配列で置き換えられている、第１のフラビウイルス由来のゲノムを含む、請求項１〜２３のいずれか一項に記載のワクチン組成物。
【請求項２５】
前記第１のフラビウイルスは、黄熱病ウイルスまたはデング熱ウイルス、好ましくは黄熱病ウイルスである、請求項２４に記載のワクチン組成物。
【請求項２６】
請求項１〜２５のいずれか一項に記載のワクチン組成物および前記ワクチン組成物の使用のための使用説明書を含むキット。
【手続補正書】
【提出日】令和3年6月8日(2021.6.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
本発明によるターゲット材料は、ＤＣ（「直流」）スパッタリング工程又はパルスＤＣスパッタリング工程を用いる、酸化モリブデン含有層の気相堆積に使用するのが好ましい。直流電圧スパッタリング、又はＤＣスパッタリングでは、カソードとして接続されているスパッタリングターゲットとアノード（通常、コーティング装置のハウジング及び／又は真空チャンバ内のシールドプレート）との間に直流電圧が印加される。ＤＣスパッタリング工程又はパルスＤＣスパッタリング工程は、希ガス雰囲気中、特に、アルゴンガス雰囲気中で、追加の酸素の供給なしに非反応的に行うのが好ましい。堆積層は、すでに述べた酸素欠乏に基づいてコーティング工程では、使用するターゲット材料よりもわずかに少ない酸素含有量を有し、堆積層の正確な酸素含有量は、個々のコーティング装置のサイズと構造設計に依存する。ターゲット材料の酸素含有量よりも酸素含有量がより高い酸化モリブデン層を製造するために、ターゲット材料は、最大で２０体積％の酸素の供給下で反応的にスパッタリングしてもよい。ターゲット材料の酸素含有量は、幅広いパラメータ範囲内に設定され、ターゲット材料は、それぞれの用途に対応して個別に適合できるため、一般に、供給される酸素の量は、比較的少ない。従って、反応性スパッタリングの欠点（ヒステリシス効果、堆積層の不均一性の可能性）は、それほど大きな影響を与えない。
本発明の好ましい形態は次のとおりであるが、本発明はこれらに限定されない。
１．１つ以上の準化学量論的ＭｏＯ３−ｙ相によって構成される、準化学量論的酸化モリブデン相含有量が、少なくとも６０体積％の準化学量論的酸化モリブデン相から成り、ｙがそれぞれ０．０５〜０．２５の範囲にあり、ＭｏＯ２相が２〜２０体積％であり、ＭｏＯ３相が、任意選択的に０〜２０体積％である、導電性酸化物ターゲット材料。
２．前記ＭｏＯ３相の含有量は、≦１体積％であることを特徴とする、上記の１に記載のターゲット材料。
３．前記準化学量論的酸化モリブデン相含有量は、少なくとも８５体積％であり、前記ＭｏＯ２相の前記含有量は、２〜１５体積％の範囲にあることを特徴とする、上記の１又は２に記載のターゲット材料。
４．前記準化学量論的酸化モリブデン相含有量は、準化学量論的相Ｍｏ４Ｏ１１、Ｍｏ１７Ｏ４７、Ｍｏ５Ｏ１４、Ｍｏ８Ｏ２３、Ｍｏ９Ｏ２６及びＭｏ１８Ｏ５２のうちの少なくとも１つによって構成されることを特徴とする、上記１〜３のいずれか一つに記載のターゲット材料。
５．前記ターゲット材料は、少なくとも４５体積％まで前記準化学量論的相Ｍｏ４Ｏ１１からなることを特徴とする、上記の１〜４のいずれか一つに記載のターゲット材料。
６．前記ターゲット材料は、ドーパントとして、金属質又は酸化物で存在する、０．５モル％〜２０モル％のモリブデン以外の金属を追加的に含有することを特徴とする、上記の１〜５のいずれか一つに記載のターゲット材料。
７．前記ドーパントは、タンタル、ニオブ、チタン、クロム、ジルコニウム、バナジウム、ハフニウム、タングステンから成る群から選択された金属であることを特徴とする、上記の６に記載のターゲット材料。
８．前記ドーパントは、タンタルであり、少なくとも部分的に酸化タンタルからなる別の相として存在することを特徴とする、上記の６又は７に記載のターゲット材料。
９．前記ドーパントは、ニオブであり、少なくとも部分的に酸化ニオブからなる別の相として存在することを特徴とする、上記の６又は７に記載のターゲット材料。
１０．前記準化学量論的酸化モリブデン相含有量は、さらなる相が埋め込まれているマトリックスとして形成されていることを特徴とする、上記の１〜９のいずれか一つに記載のターゲット材料。
１１．前記ターゲット材料の相対密度は、＞９８％であることを特徴とする、上記の１〜１０のいずれか一つに記載のターゲット材料。
１２．前記ターゲット材料の酸素含有量は、７１．４〜７４．５原子％であることを特徴とする、上記の１〜１１のいずれか一つに記載のターゲット材料。
１３．上記の１〜１２のいずれか一つに記載のターゲット材料の製造方法であって、
前記製造されるターゲット材料に適合した酸素含有量を有する、酸化モリブデン含有粉末又は酸化モリブデン含有粉末混合物を提供する工程と、
前記粉末混合物を金型に充填する工程と、
前記粉末混合物を圧力及び／又は温度により圧縮する工程と、
を含むことを特徴とする、製造方法。
１４．前記圧縮は、熱間プレス、熱間静水圧プレス、放電プラズマ焼結又はプレス焼結を用いて行われることを特徴とする、上記の１３に記載の方法。
１５．酸化モリブデン含有層の気相堆積のための上記の１〜１２のいずれ一つに記載のターゲット材料の使用であって、スパッタリング法は、ＤＣスパッタリング法又はパルスＤＣスパッタリング法として、酸素を含まないか、又は反応ガスとして最大２０体積％の酸素を供給する希ガス雰囲気中で行われることを特徴とする、ターゲット材料の使用。
【手続補正書】
【提出日】令和2年11月10日(2020.11.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
付加製造方法を用いて高エネルギービームにより溶融されて立体構造物となる、モリブデン、モリブデン系合金、タングステン又はタングステン系合金からなる、多数の個々の粉末粒子を含む、部品であって、
０．１原子％以下の酸素含有量を有することを特徴とする、部品。
【請求項２】
前記部品は、０．０８原子％以上の炭素含有量を有することを特徴とする、請求項１に記載の部品。
【請求項３】
前記部品は、２５原子％以下の炭素含有量を有することを特徴とする、請求項１又は２に記載の部品。
【請求項４】
前記炭素含有量（原子％単位）は、前記酸素含有量（原子％単位）以上であることを特徴とする、請求項２又は３に記載の部品。
【請求項５】
前記部品は、純モリブデン又は純タングステンからなるマトリックスに埋め込まれている炭化物を有することを特徴とする、請求項２〜４のいずれか１項に記載の部品。
【請求項６】
含有炭素の総含有量に基づいて、２５原子％超の炭化モリブデン又は炭化タングステンが存在することを特徴とする、請求項２〜５のいずれか１項に記載の部品。
【請求項７】
前記部品は、造形方向に対して平行な破断面において、破断面の少なくとも５０％で粒内破壊特性を有することを特徴とする、請求項１〜６のいずれか１項に記載の部品。
【請求項８】
前記部品は、造形方向に対して垂直な破断面において、破断面の少なくとも５０％で粒内破壊特性を有することを特徴とする、請求項１〜７のいずれか１項に記載の部品。
【請求項９】
前記部品は、金属間化合物相を含まないことを特徴とする、請求項１〜８のいずれか１項に記載の部品。
【請求項１０】
金属合金元素の合計は２原子％以下であり、この値がタングステン中にモリブデンを合金元素として含まないか、又はモリブデン中にタングステンを合金元素として含まないことを特徴とする、請求項１〜９のいずれか１項に記載の部品。
【請求項１１】
造形方向に対して平行な平面における平均ＧＡＲ値は、５未満であることを特徴とする、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の部品。
【請求項１２】
部品を製造するための付加製造方法であって、
モリブデン、モリブデン系合金、タングステン又はタングステン系合金からなる粒子を有し、ここで、
前記粒子が造粒、又は溶融相によって製造され、そして、前記粉末が０．１５原子％以上の範囲の炭素含有量を有する、出発物質を提供する工程と、
高エネルギービームを用いて前記出発粉末の前記粒子を積層溶融する工程と、
を含む、付加製造方法。
【請求項１３】
前記粉末の前記炭素含有量は、２５原子％以下であることを特徴とする、請求項１２に記載の付加製造方法。
【請求項１４】
前記出発粉末を提供する工程は、前記溶融相における炭化及び晶粒生成を含み、前記炭化の工程は、前記晶粒生成の工程前、前記晶粒生成の工程中又は前記晶粒生成の工程後に実施されることを特徴とする、請求項１２又は１３に記載の付加製造方法。
【請求項１５】
前記晶粒生成は、溶融相においてプラズマ中の炭素含有雰囲気下で実施されることを特徴とする、請求項１４に記載の付加製造方法。
【請求項１６】
前記出発粉末を提供する工程は、炭素質が添加されている原料粉末の造粒を含むことを特徴とする、請求項１２〜１５のいずれか１項に記載の付加製造方法。
【請求項１７】
前記積層溶融の工程では、製造される前記部品に追加的に熱エネルギーを供給することを特徴とする、請求項１２〜１６のいずれか１項に記載の付加製造方法。
【請求項１８】
付加製造方法のための、モリブデン、モリブデン系合金、タングステン又はタングステン系合金からなる粒子を含み、ここで、
前記粒子が造粒、又は溶融相によって製造され、そして、前記粉末が０．１５原子％以上の範囲の平均炭素含有量を有する、粉末の使用。
【請求項１９】
前記付加製造方法は、選択的レーザ溶融、選択的電子ビーム溶融又はレーザ金属堆積であることを特徴とする、請求項１８に記載の粉末の使用。
【手続補正書】
【提出日】令和3年10月20日(2021.10.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
駆出率が保持された心不全（ＨＦＰＥＦ）を治療又は予防する方法で使用するための、イメグリミンを含む組成物であって、前記方法が、ＨＦＰＥＦを有するか、又は発症するリスクがある患者に治療上有効量のイメグリミンを投与することを含む組成物。
【請求項２】
ＨＦＰＥＦを治療又は予防する方法で使用するための、イメグリミンを含む組成物であって、前記方法が、ＨＦＰＥＦを有するか、又は発症するリスクがある患者に、治療上有効量のイメグリミン及び少なくとも１種の薬学的に許容される担体を含む医薬組成物を投与することを含む組成物。
【請求項３】
前記患者がヒト、好ましくは成人である、請求項１又は２に記載の組成物。
【請求項４】
前記患者が女性のヒトである、請求項３に記載の組成物。
【請求項５】
前記患者が、少なくとも５０歳、好ましくは少なくとも６０歳、より好ましくは少なくとも７５歳である、請求項３又は４に記載の組成物。
【請求項６】
前記患者の駆出率が、４５％以上、好ましくは５０％以上、より好ましくは５５％以上である、請求項１〜５のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項７】
前記イメグリミンが、前記方法において、約１０ｍｇ／体重ｋｇ／日〜約１００ｍｇ／体重ｋｇ／日、好ましくは約１５ｍｇ／体重ｋｇ／日〜約６０ｍｇ／体重ｋｇ／日、好ましくは約２０ｍｇ／体重ｋｇ／日〜約５０ｍｇ／体重ｋｇ／日、より好ましくは約３０ｍｇ／体重ｋｇ／日〜約４５ｍｇ／体重ｋｇ／日の量で前記患者に投与される、請求項１〜６のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項８】
前記方法において投与されるイメグリミンの前記量が、１日当たり約５００ｍｇ〜約３０００ｍｇである、請求項１〜６のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項９】
前記方法において投与されるイメグリミンの前記量が、１日当たり約１０００ｍｇ〜約３０００ｍｇである、請求項８に記載の組成物。
【請求項１０】
前記方法において投与されるイメグリミンが経口投与される、請求項１〜９のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項１１】
前記方法においてイメグリミンが、１日当たり１回、２回、又は３回投与される、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項１２】
前記方法においてイメグリミンが１日に１回投与される、請求項１１に記載の組成物。
【請求項１３】
前記方法においてイメグリミンが、その遊離塩基又は薬学的に許容される塩の形態で投与される、請求項１〜１２のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項１４】
前記方法においてイメグリミンが、塩酸塩の形態で投与される、請求項１３に記載の組成物。
【請求項１５】
前記患者が、代謝症候群、好ましくは、肥満及び糖尿病、特に２型糖尿病、単一遺伝子性糖尿病、及び新生児一過性高血糖症からなる群から選択される代謝症候群に罹患している、請求項１〜１４のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項１６】
前記患者が、２型糖尿病に罹患している、請求項１５に記載の組成物。
【請求項１７】
前記方法においてイメグリミンが第２の医薬品と共に投与される、請求項１〜１６のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項１８】
前記方法においてイメグリミンが前記第２の医薬品と同時に投与される、請求項１７に記載の組成物。
【請求項１９】
前記方法においてイメグリミンが前記第２の医薬品に続いて投与される、請求項１７に記載の組成物。
【請求項２０】
前記第２の医薬品が抗糖尿病薬である、請求項１７〜１９のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項２１】
前記第２の医薬品が、インスリン、αグルコシダーゼ阻害剤、ビグアニド、ドーパミンアゴニスト、ＤＰＰ−４阻害剤、グルカゴン様ペプチド、メグリチニド、ナトリウム・グルコース輸送体（ＳＧＬＴ２又はＳＧＬＴ１／２）阻害剤、スルホニル尿素、チアゾリジンジオン、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される、請求項２０に記載の組成物。
【手続補正書】
【提出日】令和3年8月2日(2021.8.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マイクロアレイを製造し、前記マイクロアレイの品質を検証するための方法であって、
ａ）少なくとも１つの試薬を用意するステップと、
ｂ）前記少なくとも１つの試薬を、所定の配置で定量供給プリントヘッドに装填するステップと、
ｃ）印刷ジョブにおける第１の印刷パスで、前記プリントヘッドに対する命令を生成し、前記プリントヘッドを基板に対して移動させ、前記少なくとも１つの試薬を前記基板に印刷して、マイクロアレイを得るステップと、
ｄ）前記第１の印刷パス中に前記印刷されたマイクロアレイの画像をカメラによって取得するステップと、
ｅ）前記印刷されたマイクロアレイの前記取得された画像を処理して、前記印刷されたマイクロアレイの品質を示すパラメータを計算するステップと、
ｆ）前記印刷ジョブにおける前記第１の印刷パスの終了時に、前記印刷されたマイクロアレイに関する前記計算されたパラメータを前記マイクロアレイに関する所定の基準と比較して、生じ得る印刷欠陥を特定するステップと、
ｇ）印刷欠陥が特定された場合、前記印刷されたマイクロアレイについて、ステップｆ）の前記特定された印刷欠陥を比較するステップと、
ｈ）ステップｇ）の前記比較の結果を使用して、前記特定された印刷欠陥をランダム印刷欠陥又は非ランダム印刷欠陥として分類するステップと、
ｉ）後続の印刷パスの印刷前に、ステップｈ）の前記分類を使用して補正措置を選択し、前記マイクロアレイの品質を改善するステップと
を含む方法。
【請求項２】
ｊ）ステップｈ）での前記印刷欠陥が非ランダム印刷欠陥として分類された場合、
ｋ）前記非ランダム印刷欠陥に関する考えられる原因を選択するステップと、
ｌ）後続の印刷パスの印刷前に、前記プリントヘッドに対する命令の生成を修正する、及び／又は前記プリントヘッドの配置を修正するステップと
を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記非ランダム印刷欠陥に関して考えられる原因を選択する前記ステップが、試薬の問題に関連付けられる前記印刷欠陥の原因を選択することを含む、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
後続の印刷パスの印刷前に、前記プリントヘッドに対する命令の生成を修正する、及び／又は前記プリントヘッドの配置を修正する前記ステップが、新しい試薬を装填することを含む、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記非ランダム印刷欠陥に関して考えられる原因を選択する前記ステップが、ノズルの機能不全に関連付けられる前記印刷欠陥の原因を選択することを含む、請求項２に記載の方法。
【請求項６】
後続の印刷パスの印刷前に、前記プリントヘッドに対する命令の生成を修正する、及び／又は前記プリントヘッドの配置を修正する前記ステップが、前記機能不全のノズルとは異なるノズルの使用を命令することを含む、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
ｍ）ステップｈ）での前記印刷欠陥がランダム印刷欠陥として分類された場合、
ｎ）前記非ランダム印刷欠陥を検討するステップと、
ｏ）ステップｏ）の前記検討の結果を使用して、マイクロアレイ又はその個々のスポット要素の印刷を継続するか印刷し直すかを選択することを決定するステップと
を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記印刷されたマイクロアレイの画像をカメラによって取得する前記ステップが、
ｐ）マイクロアレイごとに、前記プリントヘッドの前方に配置された第１のカメラによって前記マイクロアレイの印刷前に前記基板の第１の画像を取得し、前記基板への前記マイクロアレイの印刷後に前記基板の第２の画像を取得するステップ
を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記印刷されたマイクロアレイの前記取得された画像を処理する前記ステップが、
ｑ）マイクロアレイごとに、前記第１のカメラによって取得された前記基板の前記画像、及び第２のカメラによって取得された前記基板の前記画像を処理して、前記印刷されたマイクロアレイの品質を示すパラメータを計算するステップ
を含む、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
マイクロアレイを製造し、前記マイクロアレイの品質を検証するためのデバイスであって、
少なくとも１つの試薬を含むように構成された定量供給プリントヘッドと、
前記プリントヘッドに対する命令を生成し、印刷ジョブにおける第１の印刷パス中に前記プリントヘッドを基板に対して移動させて、前記少なくとも１つの試薬を前記基板に印刷して、マイクロアレイを得るための手段と、
前記第１の印刷パス中に前記基板の画像を取得することが可能な少なくとも第１のカメラであって、前記基板にはマイクロアレイが印刷されている、第１のカメラと、
前記少なくとも第１のカメラに接続され、前記少なくとも第１のカメラからの前記画像を受信するように構成され、前記印刷されたマイクロアレイの品質を示すパラメータを計算するように構成された処理手段であって、前記第１の印刷パスの終了時に、前記印刷されたマイクロアレイに関する前記計算されたパラメータを前記マイクロアレイに関する所定の基準と比較し、生じ得る印刷欠陥を特定し、印刷欠陥が特定された場合に、前記印刷されたマイクロアレイに関して、前記印刷されたマイクロアレイに関する前記特定された印刷欠陥を比較し、この比較の結果を使用して、前記特定された印刷エラーをランダム印刷欠陥又は非ランダムの印刷欠陥として分類し、後続の印刷パスの印刷前に、前記分類を使用して補正措置を選択し、前記マイクロアレイの品質を改善するようにさらに構成された処理手段と
を備えるデバイス。
【請求項１１】
マイクロアレイが印刷されるべき前記基板の画像を取得することが可能な少なくとも第２のカメラをさらに備え、前記プリントヘッドの移動方向で見て、前記少なくとも第１のカメラが前記プリントヘッドの後方に配置され、前記少なくとも第２のカメラが前記プリントヘッドの前方に配置されている、請求項１０に記載のデバイス。
【手続補正書】
【提出日】令和3年9月27日(2021.9.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
３Ｄナノポアデバイスの製造方法において、
第１の誘電体層の上に第１のＳｉ３Ｎ４層を堆積するステップと、
前記第１のＳｉ３Ｎ４層の上に第１の金属層を堆積するステップと、
前記第１の金属層の上に第２の誘電体層を堆積するステップと、
前記第２の誘電体層の上に第２のＳｉ３Ｎ４層を堆積するステップと、
前記第２のＳｉ３Ｎ４層の上に第２の金属層を堆積するステップと、
前記第２の金属層の上に第３の誘電体層を堆積するステップと、
前記第３の誘電体層の上に第３のＳｉ３Ｎ４層を堆積するステップと、
前記第３のＳｉ３Ｎ４層の上に第３の金属層を堆積するステップと、
前記第２の金属層をエッチングおよびパターニングして、第１の複数の細長いゲート電極を形成するステップと、
前記第３の金属層をエッチングおよびパターニングして、第２の複数の細長いゲート電極を形成するステップと、を含み、
前記第１の複数の細長いゲート電極のそれぞれが、前記第２の金属層に堆積されており、
前記第１の複数の細長いゲート電極のそれぞれが、前記第１の複数の細長いゲート電極の他の細長いゲート電極と平行であり、
前記第２の複数の細長いゲート電極のそれぞれが、前記第３の金属層に堆積されており、
前記第２の複数の細長いゲート電極のそれぞれが、前記第２の複数の細長いゲート電極の他の細長いゲート電極と平行であり、
前記第１および第２の複数の細長いゲート電極が、前記第２および第３の金属層にそれぞれ沿って、互いに直交していることを特徴とする方法。
【請求項２】
請求項１に記載の方法が、さらに、平行で線形の前記第１および第２の複数の電極と、前記第２および第３のＳｉ３Ｎ４層と、前記第２および第３の誘電体層とをエッチングして、これらを通る複数のナノポアチャネルを形成するステップを含むことを特徴とする方法。
【請求項３】
請求項２に記載の方法が、さらに、前記第１の誘電体層と、前記第１のＳｉ３Ｎ４層と、前記第１の金属層とを、前記第２の誘電体層に対する反対側からエッチングして、下部チャンバを前記複数のナノポアチャネルに流体結合するステップを含むことを特徴とする方法。
【請求項４】
請求項２に記載の方法がさらに、前記第１の誘電体層と、前記第１のＳｉ３Ｎ４層と、前記第１の金属層と、前記第２の誘電体層と、前記第２のＳｉ３Ｎ４層と、前記第２の金属層とを、上部チャンバおよび下部チャンバの間にある中間チャンバに堆積するステップを含み、
前記上部チャンバと下部チャンバが前記複数のナノポアチャネルによって流体的に結合されるように、前記上部チャンバ、中間チャンバ、および下部チャンバが電解液を含むことを特徴とする方法。
【請求項５】
請求項３に記載の方法が、さらに、ナノポアのパターニングの後に、生体分子が相互作用するように前記複数のナノポアチャネルのうちの１つのナノポアチャネルの内部表面を機能化し、感知用のゲート電極誘電体を形成し、ナノポアの幅を調整するために、上部および内部の表面誘電体コーティングを堆積させるステップを含むことを特徴とする方法。
【請求項６】
請求項１に記載の方法において、高アスペクト比の反応性イオンエッチングを用いて、複数の誘電体層と、Ｓｉ３Ｎ４層と、金属層とのスタックをエッチングして、ナノポアチャネルを形成することを特徴とする方法。
【手続補正書】
【提出日】令和3年9月30日(2021.9.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
エアロゾル形成基体を加熱することによってエアロゾルを発生するように構成されたエアロゾル発生装置であって、前記装置が、前記エアロゾル形成基体を受容するための装置ハウジングと、前記装置ハウジング内の加熱される標的表面の温度を決定するための高温計と、を備え、前記高温計が、少なくとも第一の波長帯および第二の波長帯で熱放射を測定するように構成された二重波長高温計または多波長高温計であり、前記第二の波長帯が前記第一の波長よりも広く、前記高温計が少なくとも第一および第二のセンサーを備える検出器を含み、前記第一および前記第二のセンサーが相互に隣接して横並びに配置されており、前記高温計が前記加熱される標的表面から放射される熱放射を収集するための光学系を備え、前記光学系が、散乱表面である前記標的表面の遠位側にレンズ表面を有するレンズを備える、エアロゾル発生装置。
【請求項２】
周辺光から前記高温計を遮蔽するための光遮蔽をさらに含む、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
第一の光バンドパスまたはロングパスまたはショートパスフィルターが前記第一のセンサーの前に配置されている、請求項１〜２のいずれか一項に記載の装置。
【請求項４】
第二の光バンドパスまたはロングパスまたはショートパスフィルターが前記第二のセンサーの前に配置されている、請求項１〜３のいずれか一項に記載の装置。
【請求項５】
前記検出器が少なくとも第三のセンサーを備える、請求項１〜４のいずれか一項に記載の装置。
【請求項６】
前記第三のセンサーのスペクトル感度が前記第一および第二のセンサーのスペクトル感度とは異なる、請求項５に記載の装置。
【請求項７】
前記検出器が少なくとも第四のセンサーを備える、請求項５または６のいずれか一項に記載の装置。
【請求項８】
前記第四のセンサーのスペクトル感度が前記第一および第二のセンサーのスペクトル感度とは異なる、請求項７に記載の装置。
【請求項９】
第三の光バンドパスフィルターが前記第三のセンサーの前に配置され、第四の光バンドパスフィルターが前記第四のセンサーの前に配置され、前記第三のバンドパスフィルターの波長帯が前記第四のバンドパスフィルターの波長帯とは異なる、請求項７または８のいずれか一項に記載の装置。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれか一項に記載のエアロゾル発生装置と、エアロゾル形成基体を含み、前記装置と共に使用するためのエアロゾル発生物品と、を備える、エアロゾル発生システム。
【請求項１１】
前記装置が、前記物品の前記エアロゾル形成基体内に配置されているかまたは配置可能な発熱体に熱を発生させるためのヒーターを備え、前記発熱体が前記加熱される標的表面を備える、請求項１０に記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】令和3年8月10日(2021.8.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
真空ポンプ内の転動体回転子軸受のための軸受ケージ保持器であって、前記軸受は、外輪、内輪、及び回転可能な軸受ケージ内に保持された複数の別個の転動体を含み、前記真空ポンプは、前記軸受の前記外輪の長手方向軸変位を制限するように構成され、前記軸受ケージ保持器は、前記軸受ケージ保持器の方向の前記外輪の最大長手方向軸変位限界において、前記軸受ケージ保持器が前記軸受ケージと係合しない作動配列と、前記軸受ケージ保持器の方向の前記外輪に対する前記軸受ケージの長手方向軸変位による前記軸受ケージの転位によって特徴付けられ、前記軸受ケージ保持器が前記軸受ケージと係合し、前記軸受ケージが前記軸受内での前記転動体の離間距離を維持する故障構成と、を有する、軸受ケージ保持器。
【請求項２】
前記故障構成では、前記軸受ケージ保持器は、前記転動体の各々が前記軸受の前記外輪及び前記内輪の両方と転動及び／又は摺動係合するように、前記軸受ケージを支持する、請求項１に記載の軸受ケージ保持器。
【請求項３】
前記軸受ケージ保持器は、前記軸受ケージ保持器が故障構成にある場合、前記軸受ケージが回転可能であるように構成され、好ましくは、前記軸受ケージの回転軸は、前記内輪の回転軸及び／又は前記真空ポンプのロータ軸と実質的に同軸である、請求項１又は２に記載の軸受ケージ保持器。
【請求項４】
前記軸受が回転している場合、前記作動配列から前記故障構成への移行時に、前記軸受ケージ保持器は、前記軸受が故障していることを示す可聴信号及び／又は検出可能な振動の変化をもたらす、請求項１から３のいずれかに記載の軸受ケージ保持器。
【請求項５】
前記故障構成において前記軸受ケージとの摩擦摺動係合のための、少なくとも１つの軸受ケージ制動面を含む、請求項１から４のいずれかに記載の軸受ケージ保持器。
【請求項６】
前記少なくとも１つの制動面は、実質的に環状又は部分環状である、請求項５に記載の軸受ケージ保持器。
【請求項７】
前記制動面の半径方向の幅と、前記軸受ケージの半径方向の幅との比率は、約１：１〜約１：２である、請求項５又は６に記載の軸受ケージ保持器。
【請求項８】
前記故障構成では、前記少なくとも１つの制動面は前記軸受ケージのみと係合する、請求項５から７のいずれかに記載の軸受ケージ保持器。
【請求項９】
前記作動配列では、前記少なくとも１つの制動面は、前記軸受の前記外輪及び／又は前記内輪と交差する平面にあり、好ましくは、前記平面は、実質的に前記軸受の回転軸の接線方向にある、請求項５から８のいずれかに記載の軸受ケージ保持器。
【請求項１０】
部分環状ボスを含み、前記少なくとも１つの制動面は、前記ボスの前記軸受ケージ側の表面である、請求項５から９のいずれかに記載の軸受ケージ保持器。
【請求項１１】
前記故障構成にある場合に前記軸受ケージと係合するように構成されたスラストレース軸受を備える、請求項１から４のいずれかに記載の軸受ケージ保持器。
【請求項１２】
前記転動体はボールであり、前記故障構成では、前記ボールの各々の少なくとも半球は、前記内輪と前記外輪との間に位置したままである、請求項１から１１のいずれかに記載の軸受ケージ保持器。
【請求項１３】
請求項１から１２のいずれかに記載の軸受ケージ保持器を備えるターボ分子ポンプであって、前記ターボ分子ポンプは、外輪、内輪、及び回転可能な軸受ケージ内に位置する複数の転動体を含む転動体回転子軸受と、少なくとも１つの実質的に環状のロータアレイに結合した回転可能なロータ軸と、前記ロータアレイに隣接してそれとは動作可能に離間する少なくとも１つの実質的に環状のステータアレイと、をさらに備え、前記回転可能なロータ軸は、前記軸受の前記内輪に結合し、前記軸受ケージ保持器が故障構成にある場合、前記ロータアレイ及び前記ステータアレイは離間したままである、ターボ分子ポンプ。
【請求項１４】
請求項１から１２のいずれかに記載の軸受ケージ保持器を備える、ターボ分子ポンプの軸受ダンパ用の軸受保持ナット。
【請求項１５】
ターボ分子ポンプ用の転動体回転子軸受システムであって、
外輪、内輪、及び回転可能な軸受ケージ内に保持された複数の別個の転動体を含む転動体回転子軸受と、
前記軸受の前記外輪の長手方向軸の変位を制限するように構成された軸方向バックストップと、
前記軸受ケージの下方に位置する軸受ケージ保持器であって、前記軸受ケージ保持器は、前記外輪の前記長手方向軸の方向の最大変位限界において前記軸受ケージから離れるように構成された、軸受ケージ保持器と、
を備え、
前記軸受ケージ保持器の方向における、前記外輪に対する前記軸受ケージの前記長手方向軸変位による前記軸受ケージの転位によって特徴付けられた故障構成では、前記軸受ケージ保持器は、前記軸受ケージと係合して前記外輪に対する前記軸受ケージの前記軸方向変位をある程度制限し、前記軸受ケージが前記軸受内での前記転動体の離間距離を維持するようになっている、転動体回転子軸受システム。
【手続補正書】
【提出日】令和2年11月4日(2020.11.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
デジタル走査装置であって、前記デジタル走査装置は、
標本を支持し、ほぼ一定の速度で前記標本を移動させるように構成された電動式ステージと、
視野を照らすように構成された照明システムと、
前記照らされた視野をカメラに光学的に結合する光路を画定する対物レンズと、
少なくとも１つのプロセッサと、
を備え、
前記カメラは、複数の線形アレイ内に配置された複数の光応答性素子を含み、前記カメラが前記光路に対して傾けられることで、前記複数の線形アレイの各々は、前記光路に対して、他の複数の線形アレイのいずれとも異なる、複数の画像面のうちの１つに位置決めされ、前記複数の線形アレイの各々は、前記電動式ステージの前記ほぼ一定の速度に同期して画像データの複数のラインを生成するように構成され、前記複数の線形アレイの各々にある画像データの前記複数のラインの各々は、他の複数の線形アレイの各々にある画像データの前記複数のラインのうちの１つに対応し、
前記少なくとも１つのプロセッサは、前記電動式ステージ上の標本に対して、
前記複数の線形アレイの各々について、その線形アレイによって生成された画像データの前記複数のラインの各々に関する対照値を決定し、
前記複数の線形アレイによって生成された画像データの対応するラインの各々のセットに関する前記対照値を比較して、画像データの対応するラインの各セットに関して画像データの最も高い対照ラインを決定し、画像データの前記最も高い対照ラインは、画像データの対応するラインのそれぞれのセットの中で最も高い対照値を有しており、
画像データの対応するラインの各セットからの画像データの前記最も高い対照ラインを結合して前記標本の少なくとも一部分の画像を生成する、
ように構成される、
デジタル走査装置。
【請求項２】
前記複数の線形アレイの数は、３つ以上である、
請求項１に記載のデジタル走査装置。
【請求項３】
前記複数の線形アレイの各々の被写界深度は、その線形アレイに隣接する前記複数の線形アレイの各々の被写界深度と実質的に当接する、
請求項１に記載のデジタル走査装置。
【請求項４】
前記複数の線形アレイの各々の被写界深度は、その線形アレイに隣接する前記複数の線形アレイの各々の被写界深度に重なる、
請求項１に記載のデジタル走査装置。
【請求項５】
前記複数の線形アレイの被写界深度は、少なくとも１００ミクロンである、
請求項１に記載のデジタル走査装置。
【請求項６】
前記少なくとも１つのプロセッサは、前記標本全体の画像になるように前記標本の一部分の複数の画像を位置合わせするようにさらに構成される、
請求項１に記載のデジタル走査装置。
【請求項７】
前記複数の線形アレイの各々は、カラー線形アレイを備える、
請求項１に記載のデジタル走査装置。
【請求項８】
前記複数の線形アレイの各々は、時間遅延積分（ＴＤＩ）線形アレイを備える、
請求項１に記載のデジタル走査装置。
【請求項９】
前記ＴＤＩ線形アレイは、カラーＴＤＩ線形アレイを備える、
請求項８に記載のデジタル走査装置。
【請求項１０】
前記複数の線形アレイの各々の被写界深度は、その線形アレイに隣接する前記複数の線形アレイの各々の被写界深度と実質的に当接する、
請求項２に記載のデジタル走査装置。
【請求項１１】
前記複数の線形アレイの各々の被写界深度は、その線形アレイに隣接する前記複数の線形アレイの各々の被写界深度に重なる、
請求項２に記載のデジタル走査装置。
【請求項１２】
前記複数の線形アレイの被写界深度は、少なくとも１００ミクロンである、
請求項２に記載のデジタル走査装置。
【請求項１３】
前記少なくとも１つのプロセッサは、前記標本全体の画像になるように前記標本の一部分の複数の画像を位置合わせするようにさらに構成される、
請求項２に記載のデジタル走査装置。
【請求項１４】
前記複数の線形アレイの各々は、カラー線形アレイを備える、
請求項２に記載のデジタル走査装置。
【請求項１５】
前記複数の線形アレイの各々は、時間遅延積分（ＴＤＩ）線形アレイを備える、
請求項２に記載のデジタル走査装置。
【請求項１６】
前記ＴＤＩ線形アレイは、カラーＴＤＩ線形アレイを備える、
請求項１５に記載のデジタル走査装置。
【請求項１７】
前記複数の線形アレイの各々の被写界深度は、その線形アレイに隣接する前記複数の線形アレイの各々の被写界深度に重なる、
請求項３に記載のデジタル走査装置。
【請求項１８】
前記複数の線形アレイの被写界深度は、少なくとも１００ミクロンである、
請求項３に記載のデジタル走査装置。
【請求項１９】
前記少なくとも１つのプロセッサは、前記標本全体の画像になるように前記標本の一部分の複数の画像を位置合わせするようにさらに構成される、
請求項３に記載のデジタル走査装置。
【請求項２０】
前記複数の線形アレイの各々は、カラー線形アレイを備える、
請求項３に記載のデジタル走査装置。
【請求項２１】
前記複数の線形アレイの各々は、時間遅延積分（ＴＤＩ）線形アレイを備える、
請求項３に記載のデジタル走査装置。
【請求項２２】
前記ＴＤＩ線形アレイは、カラーＴＤＩ線形アレイを備える、
請求項２１に記載のデジタル走査装置。
【請求項２３】
前記複数の線形アレイの被写界深度は、少なくとも１００ミクロンである、
請求項４に記載のデジタル走査装置。
【請求項２４】
前記少なくとも１つのプロセッサは、前記標本全体の画像になるように前記標本の一部分の複数の画像を位置合わせするようにさらに構成される、
請求項４に記載のデジタル走査装置。
【請求項２５】
前記複数の線形アレイの各々は、カラー線形アレイを備える、
請求項４に記載のデジタル走査装置。
【請求項２６】
前記複数の線形アレイの各々は、時間遅延積分（ＴＤＩ）線形アレイを備える、
請求項４に記載のデジタル走査装置。
【請求項２７】
前記ＴＤＩ線形アレイは、カラーＴＤＩ線形アレイを備える、
請求項２６に記載のデジタル走査装置。
【請求項２８】
前記少なくとも１つのプロセッサは、前記標本全体の画像になるように前記標本の一部分の複数の画像を位置合わせするようにさらに構成される、
請求項５に記載のデジタル走査装置。
【請求項２９】
前記複数の線形アレイの各々は、カラー線形アレイを備える、
請求項５に記載のデジタル走査装置。
【請求項３０】
前記複数の線形アレイの各々は、時間遅延積分（ＴＤＩ）線形アレイを備える、
請求項５に記載のデジタル走査装置。
【請求項３１】
前記ＴＤＩ線形アレイは、カラーＴＤＩ線形アレイを備える、
請求項３０に記載のデジタル走査装置。
【請求項３２】
前記複数の線形アレイの各々は、カラー線形アレイを備える、
請求項６に記載のデジタル走査装置。
【請求項３３】
前記複数の線形アレイの各々は、時間遅延積分（ＴＤＩ）線形アレイを備える、
請求項６に記載のデジタル走査装置。
【請求項３４】
前記ＴＤＩ線形アレイは、カラーＴＤＩ線形アレイを備える、
請求項３３に記載のデジタル走査装置。