【手続補正書】
【提出日】令和3年1月14日(2021.1.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学システムであって、
光学的に透過性の基板と、
前記基板を覆うメタ表面であって、前記メタ表面は、複数のナノ構造を備える、メタ表面と、
前記メタ表面のナノ構造にわたって共形的に配置される光学的に透明な材料を含む反射防止コーティングであって、前記光学的に透明な材料は、前記ナノ構造の屈折率未満の屈折率を有する、反射防止コーティングと
を備える、光学システム。
【請求項２】
前記反射防止コーティングは、干渉コーティングである、請求項１に記載の光学システム。
【請求項３】
前記メタ表面は、回折格子を備える、請求項１に記載の光学システム。
【請求項４】
前記メタ表面は、非対称回折格子を備える、請求項３に記載の光学システム。
【請求項５】
前記メタ表面は、パンチャラトナムベリー位相光学要素（ＰＢＯＥ）を備える、請求項１に記載の光学システム。
【請求項６】
前記メタ表面は、多段ナノ構造を備える、請求項１に記載の光学システム。
【請求項７】
前記光学的に透明な材料は、ポリマーを含む、請求項１に記載の光学システム。
【請求項８】
前記光学的に透明な材料は、フォトレジストを含む、請求項７に記載の光学システム。
【請求項９】
前記光学的に透明な材料は、屈折率約１．２〜約２を有する、請求項１に記載の光学システム。
【請求項１０】
前記ナノ構造の最上表面から前記反射防止コーティングの最上表面までの距離は、約１０ｎｍ〜約１ミクロンである、請求項１に記載の光学システム。
【請求項１１】
前記ナノ構造の最上表面から前記反射防止コーティングの最上表面までの距離は、約３０ｎｍ〜約２５０ｎｍである、請求項１０に記載の光学システム。
【請求項１２】
前記反射防止コーティングは、前記ナノ構造間にかつ前記ナノ構造にわたって延在する平面化層を形成する、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の光学システム。
【請求項１３】
光学システムであって、
メタ表面を備える光学要素のための反射防止コーティングであって、前記反射防止コーティングは、
１よりも大きく、かつ、前記メタ表面を構成する材料の屈折率未満である屈折率を有する光学的に透明な材料の層を備え、
ポリマー材料層の層が、前記メタ表面にわたって共形的に配置される、
反射防止コーティング
を備える、光学システム。
【請求項１４】
前記光学的に透明な材料は、ポリマーを含む、請求項１３に記載の反射防止コーティング。
【請求項１５】
前記光学的に透明な材料は、フォトレジストを含む、請求項１４に記載の反射防止コーティング。
【請求項１６】
前記光学的に透明な材料は、屈折率約１．２〜約２を有する、請求項１３に記載の反射防止コーティング。
【請求項１７】
前記メタ表面の最上表面から前記反射防止コーティングの最上表面までの距離は、約１０ｎｍ〜約１ミクロンである、請求項１３に記載の反射防止コーティング。
【請求項１８】
前記反射防止コーティングは、前記反射防止コーティングを含まない実質的に類似するメタ表面によって反射された入射光の量と比較して、約５０％よりも多く前記メタ表面によって反射された入射光の量を低減させる、請求項１３に記載の反射防止コーティング。
【請求項１９】
前記入射光は、入射角約−２０°〜２０°を有する、請求項１８に記載の反射防止コーティング。
【請求項２０】
反射防止コーティングをメタ表面上に形成するための方法であって、前記方法は、
メタ表面を備える光学的に透過性の基板を提供することであって、前記メタ表面は、複数のナノ構造を備える、ことと、
光学的に透明な材料の層を前記複数のナノ構造にわたって堆積させることと
を含み、
前記光学的に透明な材料の層は、前記反射防止コーティングを形成する、方法。
【請求項２１】
前記光学的に透明な材料は、ポリマーを含む、請求項２０に記載の方法。
【請求項２２】
前記光学的に透明な材料は、フォトレジストを含む、請求項２１に記載の方法。
【請求項２３】
前記ナノ構造の最上表面から前記形成される反射防止コーティングの最上表面までの距離は、約１０ｎｍ〜約１ミクロンである、請求項２０〜２２のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２４】
前記光学的に透明な材料を共形的に堆積させることは、前記光学的に透明な材料を前記ナノ構造にわたってスピンコーティングすることを含む、請求項２０に記載の方法。
【請求項２５】
前記光学的に透明な材料を共形的に堆積させることは、化学蒸着（ＣＶＤ）プロセスを実施することを含む、請求項２０に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
２５．光学的に透明な材料を共形的に堆積させることは、化学蒸着（ＣＶＤ）プロセスを実施することを含む、実施形態２０−２３のいずれか１項に記載の方法。
本発明は、例えば、以下を提供する。
（項目１）
光学システムであって、
光学的に透過性の基板と、
前記基板を覆うメタ表面であって、前記メタ表面は、複数のナノ構造を備える、メタ表面と、
前記メタ表面のナノ構造にわたって共形的に配置される光学的に透明な材料を含む反射防止コーティングであって、前記光学的に透明な材料は、前記ナノ構造の屈折率未満の屈折率を有する、反射防止コーティングと
を備える、光学システム。
（項目２）
前記反射防止コーティングは、干渉コーティングである、項目０に記載の光学システム。
（項目３）
前記メタ表面は、回折格子を備える、項目０に記載の光学システム。
（項目４）
前記メタ表面は、非対称回折格子を備える、項目０に記載の光学システム。
（項目５）
前記メタ表面は、パンチャラトナムベリー位相光学要素（ＰＢＯＥ）を備える、項目０に記載の光学システム。
（項目６）
前記メタ表面は、多段ナノ構造を備える、項目０に記載の光学システム。
（項目７）
前記光学的に透明な材料は、ポリマーを含む、項目０に記載の光学システム。
（項目８）
前記光学的に透明な材料は、フォトレジストを含む、項目０に記載の光学システム。
（項目９）
前記光学的に透明な材料は、屈折率約１．２〜約２を有する、項目０に記載の光学システム。
（項目１０）
前記ナノ構造の最上表面から前記反射防止コーティングの最上表面までの距離は、約１０ｎｍ〜約１ミクロンである、項目０に記載の光学システム。
（項目１１）
前記ナノ構造の最上表面から前記反射防止コーティングの最上表面までの距離は、約３０ｎｍ〜約２５０ｎｍである、項目０に記載の光学システム。
（項目１２）
前記反射防止コーティングは、前記ナノ構造間にかつそれにわたって延在する平面化層を形成する、項目０−０のいずれか１項に記載の光学システム。
（項目１３）
光学システムであって、
メタ表面を備える光学要素のための反射防止コーティングであって、前記反射防止コーティングは、
１よりも大きく、かつ、前記メタ表面を構成する材料の屈折率未満である屈折率を有する光学的に透明な材料の層を備え、
ポリマー材料層の層が、前記メタ表面にわたって共形的に配置される、
反射防止コーティング
を備える、光学システム。
（項目１４）
前記光学的に透明な材料は、ポリマーを含む、項目０に記載の反射防止コーティング。
（項目１５）
前記光学的に透明な材料は、フォトレジストを含む、項目０に記載の反射防止コーティング。
（項目１６）
前記光学的に透明な材料は、屈折率約１．２〜約２を有する、項目０に記載の反射防止コーティング。
（項目１７）
前記メタ表面の最上表面から前記反射防止コーティングの最上表面までの距離は、約１０ｎｍ〜約１ミクロンである、項目０に記載の反射防止コーティング。
（項目１８）
前記反射防止コーティングは、前記反射防止コーティングを含まない実質的に類似するメタ表面によって反射された入射光の量と比較して、約５０％よりも多く前記メタ表面によって反射された入射光の量を低減させる、項目０に記載の反射防止コーティング。
（項目１９）
前記入射光は、入射角約−２０°〜２０°を有する、項目１８に記載の反射防止コーティング。
（項目２０）
反射防止コーティングをメタ表面上に形成するための方法であって、前記方法は、
メタ表面を備える光学的に透過性の基板を提供することであって、前記メタ表面は、複数のナノ構造を備える、ことと、
光学的に透明な材料の層を前記複数のナノ構造にわたって堆積させることと
を含み、
前記光学的に透明な材料の層は、前記反射防止コーティングを形成する、方法。
（項目２１）
前記光学的に透明な材料は、ポリマーを含む、項目０に記載の方法。
（項目２２）
前記光学的に透明な材料は、フォトレジストを含む、項目０に記載の方法。
（項目２３）
前記ナノ構造の最上表面から前記形成される反射防止コーティングの最上表面までの距離は、約１０ｎｍ〜約１ミクロンである、項目０−０のいずれか１項に記載の方法。
（項目２４）
前記光学的に透明な材料を共形的に堆積させることは、前記光学的に透明な材料を前記ナノ構造にわたってスピンコーティングすることを含む、項目０に記載の方法。
（項目２５）
前記光学的に透明な材料を共形的に堆積させることは、化学蒸着（ＣＶＤ）プロセスを実施することを含む、項目０に記載の方法。