【手続補正書】
【提出日】令和3年4月9日(2021.4.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板（１０）を提供すること、
第１の材料からなる複数の一時的要素（１２）を前記基板（１０）上に製造すること、ここで前記要素は、ギャップによって離間され、異なる要素高さを有する２つ以上の周期を含む周期的構造として配置される、
前記ギャップを充填し、前記複数の一時的要素（１２）を覆うように、第２の材料からなるコーティング層（１４Ａ）を前記一時的要素（１２）上に付与すること、
前記一時的要素（１２）を露出させるために、第２の材料の均一な層を除去すること、及び
前記第２の材料の高さ調整されたパターンを光回折格子として前記基板（１０）上に形成するために、前記第１の材料を除去すること、
を含む、高さ調整された光回折格子を製造する方法。
【請求項２】
前記一時的要素（１２）が、光回折ライン格子を形成するための線要素である、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
第２の材料の高さ及びフィルファクタが調整されたパターンを前記光回折格子として形成するために、前記一時的要素（１２）が、異なる要素幅を有する２つ以上の周期を含む周期構造として配置される、請求項１又は請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記コーティング層（１４Ａ）は、前記均一な層を除去する工程の前に、各一時的要素の上部において本質的に一定の厚さを有する、請求項１〜請求項３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
前記コーティング層（１４Ａ）がコンフォーマル層である請求項１〜請求項４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
前記第２の材料の均一層を除去することが、ドライエッチング又はウェットエッチングなどのエッチングを含む、請求項１〜請求項５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
前記第１の材料を除去することが、ドライエッチング又はウェットエッチングなどのエッチングを含む、請求項１〜請求項６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
前記一時的要素（１２）を製造する工程の後、エッチ停止層を前記基板（１０）上に付与することを含み、及び所望により、前記第１の材料を除去した後に前記エッチ停止層を除去することを含む、請求項１〜請求項７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
前記コーティング層（１４Ａ）は、原子層堆積（ＡＬＤ）、化学蒸着（ＣＶＤ）、又は物理蒸着（ＰＶＤ）を使用して付与される、請求項１〜請求項８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
前記第２の材料は、例えばＴｉＯ２、Ｓｉ３Ｎ４又はＨｆＯ２のような、酸化物化合物又は窒化物化合物などの無機透明材料である、請求項１〜請求項９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１】
前記第２の材料の屈折率は、１．７以上、特に２．０以上、例えば２．２以上である、請求項１〜請求項１０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２】
前記基板（１０）は、ガラス基板又はポリマー基板などの光学的透明基板、特に導光体として作用可能な平坦基板である、請求項１〜請求項１１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１３】
前記第２の材料は、前記基板の材料の屈折率よりも高い屈折率を有する光学的透明材料を含む、請求項１〜請求項１２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１４】
請求項１〜請求項１３のいずれか一項に記載の方法を使用して製造される、高さ調整された光回折格子。
【請求項１５】
前記高さ調整された光回折格子は、回折導波路ディスプレイのインカップリング格子（in-coupling grating）、射出瞳拡張格子（exit pupil expander grating）又はアウトカップリング格子（out-coupling grating）である、請求項１４に記載の高さ調整された光回折格子。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４５】
先行技術文献リスト
非特許文献
C. David, "Fabrication of stair-case profiles with high aspect ratios for blazed diffractive optical elements", Microelectronic Engineering, 53 (2000)
本開示に係る態様は以下の態様も含む。
＜１＞
基板を提供すること、
第１の材料からなる複数の一時的要素を前記基板上に製造すること、ここで前記要素は、ギャップによって離間され、異なる要素高さを有する２つ以上の周期を含む周期的構造として配置される、
前記ギャップを充填し、前記複数の一時的要素を覆うように、第２の材料からなるコーティング層を前記一時的要素上に付与すること、
前記一時的要素を露出させるために、第２の材料の均一な層を除去すること、及び
前記第２の材料の高さ調整されたパターンを光回折格子として前記基板上に形成するために、前記第１の材料を除去すること、
を含む、高さ調整された光回折格子を製造する方法。
＜２＞
前記一時的要素が、光回折ライン格子を形成するための線要素である、＜１＞に記載の方法。
＜３＞
第２の材料の高さ及びフィルファクタが調整されたパターンを前記光回折格子として形成するために、前記一時的要素が、異なる要素幅を有する２つ以上の周期を含む周期構造として配置される、＜１＞又は＜２＞に記載の方法。
＜４＞
前記コーティング層は、前記均一な層を除去する工程の前に、各一時的要素の上部において本質的に一定の厚さを有する、＜１＞〜＜３＞のいずれか１つに記載の方法。
＜５＞
前記コーティング層がコンフォーマル層である＜１＞〜＜４＞のいずれか１つに記載の方法。
＜６＞
前記第２の材料の均一層を除去することが、ドライエッチング又はウェットエッチングなどのエッチングを含む、＜１＞〜＜５＞のいずれか１つに記載の方法。
＜７＞
前記第１の材料を除去することが、ドライエッチング又はウェットエッチングなどのエッチングを含む、＜１＞〜＜６＞のいずれか１つに記載の方法。
＜８＞
前記一時的要素を製造する工程の後、エッチ停止層を前記基板上に付与することを含み、及び所望により、前記第１の材料を除去した後に前記エッチ停止層を除去することを含む、＜１＞〜＜７＞のいずれか１つに記載の方法。
＜９＞
前記コーティング層は、原子層堆積（ＡＬＤ）、化学蒸着（ＣＶＤ）、物理蒸着（ＰＶＤ）、又はこれらの変形法を使用して付与される、＜１＞〜＜８＞のいずれか１つに記載の方法。
＜１０＞
前記第２の材料は、例えばＴｉＯ２、Ｓｉ３Ｎ４又はＨｆＯ２のような、酸化物化合物又は窒化物化合物などの無機透明材料である、＜１＞〜＜９＞のいずれか１つに記載の方法。
＜１１＞
前記第２の材料の屈折率は、１．７以上、特に２．０以上、例えば２．２以上である、＜１＞〜＜１０＞のいずれか１つに記載の方法。
＜１２＞
前記基板は、ガラス基板又はポリマー基板などの光学的透明基板、特に導光体として作用可能な平坦基板である、＜１＞〜＜１１＞のいずれか１つに記載の方法。
＜１３＞
前記第２の材料は、前記基板の材料の屈折率よりも高い屈折率を有する光学的透明材料を含む、＜１＞〜＜１２＞のいずれか１つに記載の方法。
＜１４＞
＜１＞〜＜１３＞のいずれか１つに記載の方法を使用して製造される、高さ調整された光回折格子。
＜１５＞
前記格子は、回折導波路ディスプレイのインカップリング格子（in-coupling grating）、射出瞳拡張格子（exit pupil expander grating）又はアウトカップリング格子（out-coupling grating）である、＜１４＞に記載の格子。