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【手続補正書】
【提出日】令和1年5月9日(2019.5.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ドローン型洗浄システムに適用されるドローン型洗浄方法であって、
前記ドローン型洗浄システムが、ドローン、給水管、及び洗剤供給管を備え、前記ドローンが洗浄装置及び接続末端部を備え、前記洗浄装置が前記ドローンの腹部上に配置され、前記ドローンが前記接続末端部を介して前記給水管に接続され、前記ドローンが、前記接続末端部を介して前記洗剤供給管に接続され、
前記方法が、
前記ドローンが前記洗浄対象物を洗浄する洗浄指示を受信した場合に、洗浄対象物の指定位置まで飛行することと、
前記洗浄対象物の外側表面の指定位置に対応する洗浄領域を決定することと、
前記洗浄領域の環境情報を取得することと、
前記環境情報に従って、前記ドローンの下方から前記外側表面と平行な位置へと前記ドローンの前記洗浄装置をフリップさせるように制御すること、及び
前記洗浄領域を洗浄するように、前記洗浄装置を制御することと、を含む、ドローン型洗浄方法。
【請求項２】
前記ドローンが環境監視装置を備え、
前記洗浄領域の環境情報を取得することが、
前記ドローンの前記環境監視装置に基づいて前記洗浄領域を検出して、塵埃情報を取得することと、
前記塵埃情報に基づいて分析を行い、前記環境情報を取得することと、を含む、請求項１に記載のドローン型洗浄方法。
【請求項３】
前記ドローンがカメラを備え、
前記洗浄領域の環境情報を取得することが、
前記ドローンの前記カメラに基づいて、前記洗浄領域の対象物画像を取得することと、
前記対象物画像における画像分析を実施して、前記環境情報を取得することと、を含む、請求項１に記載のドローン型洗浄方法。
【請求項４】
前記洗浄領域を洗浄するために前記洗浄装置を制御することが、
前記環境情報に従って、洗浄戦略を決定することと、
前記洗浄戦略に従って、前記洗浄装置を制御して前記洗浄領域を洗浄することと、を含む、請求項１〜３のいずれか一項に記載のドローン型洗浄方法。
【請求項５】
前記ドローンがエアバッグを備え、
前記方法が、
前記ドローンの飛行パラメータを取得することと、
前記飛行パラメータが予め設定された条件を満たす場合に、前記エアバッグを開くことと、を更に含む、請求項１〜３のいずれか一項に記載のドローン型洗浄方法。
【請求項６】
前記ドローンがエアバッグを備え、前記方法が、
前記ドローンの飛行パラメータを取得することと、
前記飛行パラメータが予め設定された条件を満たす場合に、前記エアバッグを開くことと、を更に含む、請求項４に記載のドローン型洗浄方法。
【請求項７】
前記ドローン型洗浄システムが、前記接続末端部に接続されたセキュリティロックを更に備える、請求項１〜６のいずれか一項に記載のドローン型洗浄方法。
【請求項８】
ドローン型洗浄システムであって、
前記ドローン型洗浄システムが、
前記ドローン型洗浄システムのドローンが前記洗浄対象物を洗浄する洗浄指示を受信した場合に、洗浄対象物の指定位置まで飛行するように構成された制御ユニットと、
前記洗浄対象物の外側表面の指定位置に対応する洗浄領域を決定するように構成された判定ユニットと、
前記洗浄領域の環境情報を取得するように構成された取得ユニットと、
を備え、
前記制御ユニットが、前記環境情報に従って、前記ドローンの下方から前記外側表面と平行な位置へと前記ドローンの洗浄装置をフリップさせるよう制御し、及び前記洗浄領域を洗浄するように前記洗浄装置を制御するように更に構成された、ドローン型洗浄システム。
【請求項９】
前記ドローンが環境監視装置を備え、
前記取得ユニットが、前記ドローンの前記環境監視装置に基づいて前記洗浄領域を検出して塵埃情報を取得し、前記塵埃情報に基づいて分析を行い、前記環境情報を取得するように構成されている、請求項８に記載のドローン型洗浄システム。
【請求項１０】
前記ドローンがカメラを備え、
前記取得ユニットが、前記ドローンの前記カメラに基づいて前記洗浄領域の対象物画像を取得し、及び前記対象物画像上で画像分析を行って、前記環境情報を取得するように構成されている、請求項８に記載のドローン型洗浄システム。
【請求項１１】
前記洗浄領域を洗浄するために前記洗浄装置を制御する際、前記制御ユニットが、前記環境情報に基づいて洗浄戦略を決定するように構成され、及び前記洗浄戦略に従って前記洗浄領域を洗浄するように前記洗浄装置を制御する、請求項８〜１０のいずれか一項に記載のドローン型洗浄システム。
【請求項１２】
前記ドローンがエアバッグを備え、
前記取得ユニットが前記ドローンの飛行パラメータを取得するように構成され、及び前記制御ユニットが、前記飛行パラメータが予め設定された条件を満たした場合に、前記エアバッグを開くように更に構成されている、請求項８〜１０のいずれか一項に記載のドローン型洗浄システム。
【請求項１３】
前記ドローンがエアバッグを含み、
前記取得ユニットが、前記ドローンの飛行パラメータを取得するように構成され、及び
前記制御ユニットが、前記飛行パラメータが予め設定された条件を満たした場合に、前記エアバックが開くように更に構成されていることを含む、請求項１１に記載のドローン型洗浄システム。
【請求項１４】
前記ドローン型洗浄システムが、
前記ドローンに浄水を供給する給水管が接続される前記ドローンの接続末端部と、
前記接続末端部に接続されたセキュリティロックと
を更に備える、請求項８〜１３のいずれか一項に記載のドローン型洗浄システム。
【手続補正書】
【提出日】令和2年6月26日(2020.6.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
重量％で、Ｓｉ：２．０〜４．５％、Ｃ：０．００５％以下（０％を除外する）、Ｍｎ：０．００１〜０．０８％、Ｐ：０．００１〜０．１％、Ｃｕ：０．００１〜０．１％、Ｓ：０．０００５〜０．０５％、Ｓｅ：０．０００５〜０．０５％、Ｂ：０．０００１〜０．０１％、及びＭｏ：０．０１〜０．２％を含み、残部はＦｅおよびその他の不可避不純物からなり、
ＳおよびＳｅをその合計量で０．００５〜０．０５重量％含む、方向性電磁鋼板。
【請求項２】
Ｂ：０．００１１〜０．０１重量％を含む請求項１に記載の方向性電磁鋼板。
【請求項３】
Ａｌ：０．０００１〜０．０１重量％及びＮ：０．０００５〜０．００５重量％をさらに含む請求項１又は２に記載の方向性電磁鋼板。
【請求項４】
Ｃｒ：０．００１〜０．１重量％、Ｓｎ：０．００５〜０．２重量％、及びＳｂ：０．００５〜０．２重量％のうちの１種以上をさらに含む請求項１乃至３のいずれか１項に記載の方向性電磁鋼板。
【請求項５】
重量％で、Ｓｉ：２．０〜４．５％、Ｃ：０．００１〜０．１重量％、Ｍｎ：０．００１〜０．０８％、Ｐ：０．００１〜０．１％、Ｃｕ：０．００１〜０．１％、Ｓ：０．０００５〜０．０５％、Ｓｅ：０．０００５〜０．０５％、Ｂ：０．０００１〜０．０１％、及びＭｏ：０．０１〜０．２％を含み、残部はＦｅおよびその他の不可避不純物からなり、Ｓ及びＳｅをその合計量で０．００５〜０．０５重量％含むスラブを製造する段階と、
前記スラブを加熱する段階と、
前記スラブを熱間圧延して熱延板を製造する段階と、
前記熱延板を冷間圧延して冷延板を製造する段階と、
前記冷延板を１次再結晶焼鈍する段階と、
１次再結晶焼鈍が完了した冷延板を２次再結晶焼鈍する段階とを含む方向性電磁鋼板の製造方法。
【請求項６】
前記熱延板を製造する段階以後、前記熱延板はエッジクラック最大深さが２０ｍｍ以下である請求項５に記載の方向性電磁鋼板の製造方法。
【請求項７】
前記１次再結晶焼鈍が完了した冷延板は、（Ｆｅ、Ｍｎ、Ｃｕ）Ｓおよび（Ｆｅ、Ｍｎ、Ｃｕ）Ｓｅのうちの１種以上の析出物を含む請求項５又は６に記載の方向性電磁鋼板の製造方法。
【請求項８】
前記１次再結晶焼鈍する段階は、５０℃〜７０℃の露点温度および水素および窒素混合雰囲気で行われる請求項５乃至７のいずれか１項に記載の方向性電磁鋼板の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】令和3年10月7日(2021.10.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フリーラジカル重合性成分と、
フリーラジカル光開始剤と、
充填剤構成要素と、
１種以上の光吸収成分と、
を含む付加造形用放射線硬化性組成物であって、
前記組成物が、５３２ｎｍにおいて、少なくとも１０の吸光度を有するように構成される、付加造形用放射線硬化性組成物。
【請求項２】
全組成物を基準にした重量で、前記フリーラジカル重合性成分が５〜４０重量％の量で存在し、且つ前記充填剤構成要素が２５〜６５重量％の量で存在し、前記１種以上の光吸収成分が、０．００５〜１０重量％の量で存在する、請求項１に記載の放射線硬化性組成物。
【請求項３】
前記組成物が、３５５ｎｍで試験したとき、２．５〜４．５の浸透深さ（Ｄｐ）を有し、前記組成物が、５３２ｎｍにおいて、３０〜８０の吸光度を有するように構成されている、請求項１又は２に記載の放射線硬化性組成物。
【請求項４】
カチオン重合性成分とカチオン光開始剤とをさらに含み、すべての重量を全組成物の重量を基準にして表したとき、前記カチオン重合性成分が１０〜５０重量％の量で存在し、且つ前記カチオン光開始剤が０．１〜５重量％の量で存在する、請求項１〜３のいずれか一項に記載の放射線硬化性組成物。
【請求項５】
前記１種以上の光吸収成分が、顔料、レーザー色素、又は環状ラクトン色素前駆体を含む、請求項１〜４のいずれか一項に記載の放射線硬化性組成物。
【請求項６】
前記組成物が、顔料とレーザー色素と又は顔料と環状ラクトン色素前駆体とを含む、請求項１〜５のいずれか一項に記載の放射線硬化性組成物。
【請求項７】
前記レーザー色素が、以下の式：
【化１】
2021509172.tif 000001
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、及びＲ６は、各々独立して、水素原子、置換メチル若しくはアルキル基、又は無置換メチル若しくはアルキル基を表し、且つＲ７は、無置換フェニル基又は置換フェニル基を表す）
の化合物を含む、請求項５又は６に記載の放射線硬化性組成物。
【請求項８】
Ｒ７が安息香酸エステル基である、請求項７に記載の放射線硬化性組成物。
【請求項９】
全組成物の重量を基準にして、
（ａ）２５〜６５重量％の充填剤構成要素と、
（ｂ）１０〜５０重量％のカチオン重合性構成要素と、
（ｃ）５〜４０重量％のフリーラジカル重合性構成要素と、
（ｄ）有効量のカチオン光開始剤と、
（ｅ）有効量のフリーラジカル光開始剤と、
（ｆ）光吸収成分と、
を含む、付加造形用放射線硬化性組成物。
【請求項１０】
前記光吸収成分が、以下の式（ＩＶ）：
【化２】
2021509172.tif 000002
（式中、
Ｘ及びＸ’は、Ｃｌ−、Ｂｒ−、Ｉ−、ＳＯ４２−、ＮＯ３−、ＣｌＯ４−、ＡｓＦ６−、ＳｂＦ６−、ＰＦ６−、ＢＦ４−、（ＣＦ３ＣＦ２）３ＰＦ３−、（Ｃ６Ｆ５）４Ｂ−、（（ＣＦ３）２Ｃ６Ｈ３）４Ｂ−、（Ｃ６Ｆ５）４Ｇａ−、（（ＣＦ３）２Ｃ６Ｈ３）４Ｇａ−、トリフルオロメタンスルホネート、ノナフルオロブタンスルホネート、メタンスルホネート、ブタンスルホネート、ベンゼンスルホネート、又はｐ−トルエンスルホネートを表し、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、及びＲ６は、各々独立して、水素原子、置換メチル基若しくはアルキル基、又は無置換メチル基若しくはアルキル基を表し、且つ
Ｒ７は、水素原子、無置換フェニル基、又は置換フェニル基を表す）
に従う、請求項９に記載の放射線硬化性組成物。
【請求項１１】
Ｘ又はＸ’が、Ｃｌ−、Ｂｒ−、Ｉ−、ＳＯ４２−、ＮＯ３−、ＣｌＯ４−、ＡＳＦ６−、ＳｂＦ６−、又はＰＦ６−を表し、好ましくはＸ又はＸ’がヘキサフルオロアンチモン（ＳｂＦ６）−イオンを表す、請求項９又は１０に記載の放射線硬化性組成物。
【請求項１２】
前記カチオン光開始剤がアニオンをさらに含み、前記アニオンもＸ又はＸ’により定義され、前記カチオン光開始剤の前記アニオンが、前記光吸収成分中のＸ又はＸ’の部分と同一の部分を有する、請求項９〜１１のいずれか一項に記載の放射線硬化性組成物。
【請求項１３】
前記光吸収成分がフルオロアンチモンカウンターイオンを含み、且つさらに前記光吸収化合物が（ｄ）とは異なる、請求項１２に記載の放射線硬化性組成物。
【請求項１４】
フルオロアンチモン修飾化合物がＳｂＦ６修飾レーザー色素であるか又は環状ラクトン前駆体由来の修飾トリアリールメタンカチオン色素である、請求項１３に記載の放射線硬化性組成物。
【請求項１５】
顔料と、全組成物の重量を基準にして０．００１重量％〜０．５重量％の安定剤をさらに含む、請求項９〜１４のいずれか一項に記載の放射線硬化性組成物。
【請求項１６】
前記充填剤構成要素が、複数の有機又は無機のマイクロ粒子又はナノ粒子を含む、請求項９〜１５のいずれか一項に記載の放射線硬化性組成物。
【請求項１７】
前記充填剤構成要素が無機マイクロ粒子と無機ナノ粒子との組合せから本質的になる、請求項９〜１６のいずれか一項に記載の放射線硬化性組成物。
【請求項１８】
前記無機マイクロ粒子対前記無機ナノ粒子の重量比が１：１〜１２：１である、請求項１６又は１７に記載の放射線硬化性組成物。
【請求項１９】
前記無機マイクロ粒子及び前記無機ナノ粒子が平均サイズを有し、前記無機マイクロ粒子の平均粒子サイズ対前記無機ナノ粒子の平均粒子サイズの比が２．４１：１〜２００未満：１、又は２．４１：１〜１００：１、又は６．４６：１〜２００未満：１、又は６．４６：１〜１００：１であり、前記無機マイクロ粒子及び前記無機ナノ粒子の前記平均粒子サイズがＩＳＯ１３３２０：２００９により決定される、請求項１６〜１８のいずれか一項に記載の放射線硬化性組成物。
【請求項２０】
前記無機ナノ粒子の平均粒子サイズが５０ナノメートル（ｎｍ）〜２００ｎｍ又は５０〜１００ｎｍであり、前記無機マイクロ粒子の平均粒子サイズが２ミクロン〜８ミクロンである、請求項１６〜１９のいずれか一項に記載の放射線硬化性組成物。
【手続補正書】
【提出日】令和3年7月8日(2021.7.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
発電プラント内の複数の供給源の間でエネルギーを伝達する蒸気発生器であって、
一次流入口と、
一次流出口と、
前記蒸気発生器の内部に螺旋経路を有し、前記蒸気発生器を通って流れる一次熱交換流体と直接接触するように構成され、第1の内径及び第1の螺旋曲率を有する複数の第1の熱交換管を含む第1の二次導管を備え、
前記一次流入口および前記一次流出口が、熱源および前記蒸気発生器を通る前記一次熱交換流体のループを形成するように、熱源の異なる端部に接合するように構成される、
蒸気発生装置。
【請求項２】
前記蒸気発生器内の前記第1の二次導管とは分離した螺旋経路を有し、
前記蒸気発生器を通って流れる第1の熱交換流体と直接接触するように構成され、
第2の内径および第1の螺旋曲率とは異なる第2の螺旋曲率を有する複数の第2の熱交換管を含む、第2の二次導管をさらに備えた、
請求項1に記載の蒸気発生器。
【請求項３】
前記第1の二次導管は、第1の入口および出口を含み、前記第1の入口および出口および前記第2の入口および出口は、前記蒸気発生器の端部上で互いに完全に異なる、請求項2に記載の蒸気発生器。
【請求項４】
前記第2内径は、前記第1内径よりも約50％〜100％大きく、前記第2螺旋曲率は、前記第1螺旋曲率よりも大きい、請求項2に記載の蒸気発生器。
【請求項５】
前記第1の二次導管及び前記第2の二次導管は、前記第1の二次導管が前記第2の二次導管よりも前記蒸気発生器の中心になるように、同じ軸方向レベルにある、請求項4に記載の蒸気発生器。
【請求項６】
前記第2の二次導管が、前記第2の二次導管を通って流れる二次熱交換流体を旋回させるように前記導管の内壁に固定された螺旋翼を含む、請求項1に記載の蒸気発生器。
【請求項７】
前記第2の二次導管は、前記第2の二次導管を通って流れる二次熱交換流体中の細流を破壊するように、前記螺旋経路の中心に向かって内向きに延在する細流止めを含む、請求項1に記載の蒸気発生器。
【請求項８】
一次熱交換流体を加熱する熱源と、
二次熱交換流体からエネルギーを抽出する第1のタービンと、
発電プラント内の一次熱交換流体と二次熱交換流体との間でエネルギーを伝達するための蒸気発生器を備え、当該蒸気発生器は、
一次入口と、
一次出口と、
前記蒸気発生器の内部に螺旋経路を有し、前記蒸気発生器を通って流れる一次熱交換流体と直接接触するように構成され、第1のタービンに接合された第1の二次出口を含む第1の二次導管を含み、
前記一次入口および前記一次出口が、熱源および蒸気発生器を通る一次熱交換流体のためのループを形成するように、熱源の異なる端部に接合する、発電プラント。
【請求項９】
前記蒸気発生器は、
第2の二次導管は、蒸気発生器を通って流れる第1の熱交換流体と直接接触するように構成され、第2の内径および第1の螺旋曲率とは異なる第2の螺旋曲率を有する複数の第2の熱交換チューブを含む、
請求項８に記載のプラント。
【請求項１０】
前記一次熱交換流体が液体ナトリウムであり、前記熱源が高速原子炉であり、前記二次熱交換流体が水である、請求項８に記載のプラント。
【手続補正書】
【提出日】令和3年7月26日(2021.7.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
その中に空洞と上部表面を画定するハウジング；及び
当該接触要素が外部表面を含み、前記空洞内に囲まれた接触要素；
を含み
前記空洞が内部表面を有する少なくとも１つの壁を備え、
前記少なくとも１つの壁が、それに取り付けられ、前記少なくとも１つ壁の前記内部表面に対して整列した検知装置を有し；
前記接触要素が、前記外部表面への機械的相互作用の適用時、前記接触要素と前記検知装置の間に物理的接触を提供するように構成され；
前記外部表面及び前記上部表面が前記外部表面から前記上部表面まで延びる実質的に同一平面の輪郭を提供し；そして
前記検知装置が、適用時機械的相互作用の力の大きさ及び位置を検出するように構成される
入力力を検出するセンサ。
【請求項２】
前記検知装置が３次元デカルト軸の大きさ及び位置を検出するように構成されている、請求項１記載のセンサ。
【請求項３】
前記検知装置が単一点圧力センサである、請求項１又は請求項２記載のセンサ。
【請求項４】
前記単一点圧力センサが量子トンネル複合材料を含む、請求項３記載のセンサ。
【請求項５】
前記空洞が４つの側壁と１つの底壁を備え、各前記壁に１つの前記検出装置が取り付けられている、請求項１ないし４のいずれか１項記載のセンサ。
【請求項６】
前記空洞が、２つの長手方向側壁と１つの底壁を有する細長い溝を備え、各前記長手方向側壁と前記底壁が１つの前記検知装置を備える、請求項１ないし４のいずれか１項記載のセンサ。
【請求項７】
前記接触要素及び前記空洞はそれぞれ、相互に協働する輪郭を含む、請求項１ないし６のいずれか１項記載のセンサ。
【請求項８】
前記接触要素がＶ字形の断面プロファイルを含む、請求項１ないし７のいずれか１項記載のセンサ。
【請求項９】
前記外部表面が弾性材料を含む、請求項１ないし８のいずれか１項記載のセンサ。
【請求項１０】
前記外部表面が、指形状の輪郭を含む成型部分を含む、請求項１ないし９のいずれか１項記載のセンサ。
【請求項１１】
前記センサ保護バンパーを提供するように構成されている、請求項１ないし１０のいずれか１項記載のセンサ。
【請求項１２】
その中に空洞を画定するハウジングと、前記空洞で囲まれた接触要素を有するセンサを提供し；
前記接触要素の外部表面に機械的相互作用を適用し、前記外部表面と前記ハウジングの上部表面が、前記外部表面から前記上部表面に延びる実質的に同一平面の輪郭を提供し；
前記接触要素と前記空洞の側壁の内部表面に取り付けられて整列された検知装置の間に物理的接触を提供し；そして
前記物理的接触に応答して前記機械的相互作用の３軸に沿った力の大きさ及び力の位置を検出する；
上記ステップを含む入力力を検出する方法。
【請求項１３】
保護バンパーを提供するために、前記センサと接触している外部物体を検出するステップを更に含む、請求項１２記載の入力力を検出する方法。
【請求項１４】
機械的相互作用を加える前記ステップが前記外部表面に沿って摺動力を提供することを含む、請求項１２記載の入力力を検出する方法。
【請求項１５】
機械的相互作用を適用する前記ステップが、前記外部表面に沿ってトグル機能を提供することを含む、請求項１２又は請求項１３記載の入力力を検出する方法。
【請求項１６】
上部表面を有するハウジングを製造し；
少なくとも１つの壁を含む空洞を前記ハウジングに設け；
前記少なくとも１つの壁の内部表面に対して、機械的相互作用の適用時、該機械的相互作用の力の大きさ及び力の位置を検出する検知装置を位置合わせし；
前記少なくとも１つの壁の前記内部表面に前記検知装置を取り付け；そして
当該接触要素が前記空洞に囲まれ、当該接触要素の外部表面と前記上部表面が、前記外部表面から前記上部表面まで延びる実質的に同一平面の輪郭を提供するように、前記空洞に接触要素を配置する、
上記ステップを含み、
前記接触要素が、前記外部表面への機械的相互作用の適用時、前記接触要素と前記検知装置の間の物理的接触を提供することができる、
入力力を検出するセンサを製造する方法。
【請求項１７】
前記接触要素を空洞内に配置する前記ステップにおいて、前記接触要素は、前記空洞と相互に協働するように配置される、請求項１６記載の製造方法。
【請求項１８】
前記接触要素は、Ｖ字形の断面輪郭を有するように製造される、請求項１７記載の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
［発明の簡単な説明］
本発明の一観点によれば、その中に空洞と上部表面を画定するハウジング；及び当該接触要素が外部表面を含み、前記空洞内に囲まれた接触要素；を含み、前記空洞が内部表面を有する少なくとも１つの壁を備え、前記少なくとも１つの壁が、それに取り付けられ、前記少なくとも１つ壁の前記内部表面に対して整列した検知装置を有し；前記接触要素が、前記外部表面への機械的相互作用の適用時、前記接触要素と前記検知装置の間に物理的接触を提供するように構成され；前記外部表面及び前記上部表面が前記外部表面から前記上部表面まで延びる実質的に同一平面の輪郭を提供し；そして、前記検知装置が、適用時機械的相互作用の力の大きさ及び位置を検出するように構成される入力力を検出するセンサが提供される。
本発明の更なる観点によれば、その中に空洞を画定するハウジングと、前記空洞で囲まれた接触要素を有するセンサを提供し；前記接触要素の外部表面に機械的相互作用を適用し、前記外部表面と前記ハウジングの上部表面が、前記外部表面から前記上部表面に延びる実質的に同一平面の輪郭を提供し；前記接触要素と前記空洞の側壁の内部表面に取り付けられて整列された検知装置の間に物理的接触を提供し；そして、前記物理的接触に応答して前記機械的相互作用の３軸に沿った力の大きさ及び力の位置を検出する；上記ステップを含む入力力を検出する方法が提供される。
本発明の更に別の観点によれば、上部表面を有するハウジングを製造し；少なくとも１つの壁を含む空洞を前記ハウジングに設け；前記少なくとも１つの壁の内部表面に対して、機械的相互作用の適用時、該機械的相互作用の力の大きさ及び力の位置を検出する検知装置を位置合わせし；前記少なくとも１つの壁の前記内部表面に前記検知装置を取り付け；そして、当該接触要素が前記空洞に囲まれ、当該接触要素の外部表面と前記上部表面が、前記外部表面から前記上部表面まで延びる実質的に同一平面の輪郭を提供するように、前記空洞に接触要素を配置する、上記ステップを含み、前記接触要素が、前記外部表面への機械的相互作用の適用時、前記接触要素と前記検知装置の間の物理的接触を提供することができる、入力力を検出するセンサを製造する方法が提供される。
【手続補正書】
【提出日】令和3年9月30日(2021.9.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
モバイルフォンとともに用いられるデバイスであって、
モバイルフォンの背面に直接取り付けられるように構成され、コーティングを備える金属含有プレートを備え、
前記金属含有プレートは、前記モバイルフォンによって放出される電磁無線周波放射を前記モバイルフォンのユーザから逸らすように偏向させ、吸収し、または反射するように構成される、デバイス。
【手続補正書】
【提出日】令和3年10月25日(2021.10.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
直流モータ（１０）とブレーキパッド（１８）とを含んだブレーキ部材（６）を含み、前記モータが、シャフト（１４）を備え且つ前記シャフト（１４）の回転に伴い前記ブレーキパッド（１８）を移動可能に駆動するように構成される、ブレーキアクチュエータ（２）において、
経時的に、前記モータ（１０）が流す電流及び前記モータ（１０）の端子（２０）間の電圧を測定し、
カルマンフィルタを実行することによって、前記モータ（１０）が流すフィルタリング後の電流及び前記モータ（１０）の前記シャフト（１４）のフィルタリング後の回転速度を、測定した電流及び電圧に基づいて計算し、
前記ブレーキアクチュエータ（２）が生成するクランプ力を、前記モータ（１０）が流すフィルタリング後の電流の値及び前記モータ（１０）の前記シャフト（１４）のフィルタリング後の回転速度の値に基づいて計算し、
計算後のクランプ力の値が所定の設定点に達したときに、前記モータ（１０）の停止を制御するように構成された計算機（８）を含むことを特徴とするブレーキアクチュエータ（２）。
【請求項２】
前記ブレーキ部材（６）が、前記モータ（１０）の前記シャフト（１４）と前記ブレーキパッド（１８）との間に配置された減速機（１２）を更に含み、前記ブレーキパッド（１８）が、前記減速機（１２）の出力スクリュー（１６）に取り付けられており、
前記計算機（８）が、以下のようなクランプ力を計算するように構成される請求項１に記載のブレーキアクチュエータ（２）。
【数１】
2021509378.tif 000001
Ｆ：Ｎで表されるクランプ力
Ｋ：前記モータ（１０）の起電力定数
Ｊ：前記モータ（１０）の慣性モーメント
ｆ：前記モータ（１０）の粘性摩擦係数
η：前記ブレーキ部材（６）の効率
ｒ：前記減速機（１２）の減速機比
Ｓ：前記減速機（１２）の前記出力スクリュー（１６）のピッチ
ｄ／ｄｔ：「時間微分」演算子
ｉ：前記モータ（１０）が流すフィルタリング後の電流
ｉ０：前記ブレーキ部材（６）の無負荷電流
ω：前記モータ（１０）の前記シャフト（１４）のフィルタリング後の回転速度
ω０：前記ブレーキ部材（６）の無負荷回転速度
【請求項３】
前記計算機（８）が、前記モータ（１０）が定常状態動作にある時間間隔の間に、前記モータ（１０）が流す電流及び前記モータ（１０）の前記電気端子（２０）間の電圧の測定値に基づき、前記無負荷電流及び前記無負荷回転速度を測定するように構成される請求項２に記載のブレーキアクチュエータ（２）。
【請求項４】
前記カルマンフィルタが、以下のように与えられる状態モデルを有し、
【数２】
2021509378.tif 000002
ここで、ｘは、ｉがモータが流す電流であり、ωがモータのシャフトの回転速度である、以下のように表される、前記ブレーキ部材（６）の状態ベクトルであり、
【数３】
2021509378.tif 000003
ここで、ｕは、Ｕが前記モータ（１０）の前記端子（２０）間の測定電圧であり、Ｃｕが前記モータ（１０）の前記シャフト（１４）の有効トルクである、以下のように表される入力制御ベクトルであり、
【数４】
2021509378.tif 000004
ここで、Ａは、Ｒが前記モータ（１０）の内部抵抗であり、Ｋが前記モータ（１０）の磁気定数であり、Ｊが前記モータ（１０）の慣性モーメントであり、ｆが前記モータ（１０）の粘性摩擦係数であり、Ｌが前記モータ（１０）の内部インダクタンスである、以下のように表される前記カルマンフィルタの状態遷移行列であり、
【数５】
2021509378.tif 000005
ここで、Ｂは、以下のように表される前記カルマンフィルタの制御入力行列であり、
【数６】
2021509378.tif 000006
ここで、Ｃ及びＤは、それぞれ以下のような行列である、
【数７】
2021509378.tif 000007
【数８】
2021509378.tif 000008
請求項１〜３のいずれか一項に記載のブレーキアクチュエータ（２）。
【請求項５】
前記計算機（８）が、
前記ブレーキアクチュエータ（２）を起動する指令に対応する初期瞬間から、前記モータ（１０）に電気エネルギーを供給させ、
初期瞬間と、それに続く最終瞬間との間の時間間隔の間、前記モータ（１０）が流す電流の値を記憶し、
所定のモデルのパラメータを最適化して、前記モータ（１０）の内部抵抗の値及び／又は前記モータ（１０）の磁気定数の値を測定し、
前記カルマンフィルタの状態遷移行列の係数を、前記モータ（１０）の内部抵抗の測定値及び／又は前記モータ（１０）の磁気定数の測定値として更新するように構成される請求項１〜４のいずれか一項に記載のブレーキアクチュエータ（２）。
【請求項６】
前記カルマンフィルタが、以下の数式に等しい数量を含み、
【数９】
2021509378.tif 000009
ここで、Ａは、カルマンフィルタの状態遷移行列であり、
Ｔｅは、カルマンフィルタの状態ベクトルの連続する２つの予測を隔てる時間間隔であり、
Ｉは、状態遷移行列の階数に等しい階数の「単位」行列であり、
「！」は、「階乗」演算子であり、
ｍは、ゼロ以外の所定の自然整数であり、
前記計算機（８）が、昇べきの順に、項（Ａ．Ｔｅ）のべき指数を連続的に計算するように構成され、ｐが１とｍとの間に含まれる任意の整数である、得られるべき指数（Ａ．Ｔｅ）ｐが、項（Ａ．Ｔｅ）によって事前に計算されたひとつ下のべき指数（Ａ．Ｔｅ）ｐ−１を乗算することで求められる、請求項１〜５のいずれか一項に記載のブレーキアクチュエータ（２）。
【請求項７】
直流モータ（１０）とブレーキパッド（１８）とを含み、前記モータ（１０）が、シャフト（１４）を備え且つ前記シャフト（１４）の回転に伴い前記ブレーキパッド（１８）を移動可能に駆動するように構成される、ブレーキアクチュエータ（２）を制御する方法であって、
前記モータ（１０）に電気エネルギーを供給するステップと、
経時的に、前記モータ（１０）が流す電流及び前記モータ（１０）の端子（２０）間の電圧を測定するステップと、
カルマンフィルタを実行することによって、前記モータ（１０）が流すフィルタリング後の電流及び前記モータ（１０）の前記シャフト（１４）のフィルタリング後の回転速度を、測定した電流及び電圧に基づいて計算するステップと、
前記ブレーキアクチュエータ（２）が生成するクランプ力を、前記モータ（１０）が流すフィルタリング後の電流の値及び前記モータ（１０）の前記シャフト（１４）のフィルタリング後の回転速度の値に基づいて計算するステップと、
計算後のクランプ力の値が所定の設定点に達したときに、前記モータ（１０）の停止を制御するステップとを含む方法。
【手続補正書】
【提出日】令和2年7月3日(2020.7.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の気体噴射ホールを含み、気体噴射ホールが密集されて群集を成す複数のスパウトノズルを含む分散板であって、
分散板の中心に１個のスパウトノズルが配置され、
分散板の中心から分散板の端部まで複数の仮想同心円に沿って複数のスパウトノズルが配置され、
隣接する二つの仮想同心円に対して、分散板の中心を基準で、外側同心円に沿って配置されたスパウトノズルの個数は、内側同心円に沿って配置されたスパウトノズルの個数の２倍であり、
外側同心円に沿って配置されたスパウトノズルの配置間隔は、内側同心円に沿って配置されたスパウトノズルの配置間隔の半分であることを特徴とする、分散板。
【請求項２】
各同心円間の間隔は、同一であり、同一同心円内に配置された各スパウトノズル間の間隔は、同一であることを特徴とする、請求項１に記載の分散板。
【請求項３】
各スパウトノズルの直径は、分散板の直径に対して２〜２０％であり、各同心円間の間隔は、分散板の直径に対して５〜４０％、またスパウトノズル直径に対して５０〜４００％であることを特徴とする、請求項１または２に記載の分散板。
【請求項４】
スパウトノズルを除いた各同心円の間の領域ごとに気体噴射ホールの開口割合が異なることを特徴とする、請求項１〜３のいずれか一項に記載の分散板。
【請求項５】
最外側同心円の外側に該当する第１領域の開口割合は、第１領域と隣接した第２領域の開口割合より小さく、第１領域の開口割合は、最内側同心円の内側に該当する第３領域の開口割合より小さく、第２領域の開口割合は、第３領域の開口割合より大きいか同一であることを特徴とする、請求項４に記載の分散板。
【請求項６】
第２領域の開口割合は、第１領域の開口割合の２〜５倍であり、第３領域の開口割合は、第１領域の開口割合の１．５〜４倍であり、第２領域の開口割合は、第３領域の開口割合の０．５〜２倍であることを特徴とする、請求項５に記載の分散板。
【請求項７】
各同心円ごとにスパウトノズルの流量が異なることを特徴とする、請求項１〜６のいずれか一項に記載の分散板。
【請求項８】
チャンバ；及び
チャンバの内部に設置される請求項１〜７のいずれか一項に記載の分散板を含むことを特徴とする、コーティング装置。
【請求項９】
分散板の下部に形成されたウインドボックス内に配置されて気体の流れをガイドする構造物をさらに含むことを特徴とする、請求項８に記載のコーティング装置。
【請求項１０】
構造物は、チャンバの直径方向全体にわたって形成されて中央にホールを具備して気体の流れをチャンバの中央側に誘導する第１構造物；及び第１構造物の上部に第１構造物と同心で配置され、チャンバの直径方向に対してチャンバ壁側を除いて部分的に形成されて気体の流れをチャンバの壁側に誘導する第２構造物を含むことを特徴とする、請求項９または１０に記載のコーティング装置。
【請求項１１】
第１構造物は、チャンバの直径が下方に行くほど減少するテーパー領域に配置され、第２構造物の直径は、チャンバ直径に対して２０〜５０％、また第１構造物のホール直径に対して５０〜１５０％であり、第１構造物と第２構造物の間隔は、第２構造物の直径に対して２０〜１５０％であることを特徴とする、請求項１０に記載のコーティング装置。
【誤訳訂正書】
【提出日】令和3年8月23日(2021.8.23)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】図面
【訂正対象項目名】全図
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【図１】
2021509398.tif 000001
【図２】
2021509398.tif 000002
【図３Ａ】
2021509398.tif 000003
【図３Ｂ】
2021509398.tif 000004
【図４Ａ】
2021509398.tif 000005
【図４Ｂ】
2021509398.tif 000006
【図５】
2021509398.tif 000007
【図６Ａ−Ｂ】
2021509398.tif 000008
【図６Ｃ−Ｄ】
2021509398.tif 000009
【手続補正書】
【提出日】令和3年11月5日(2021.11.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
肝臓がんの治療を、それを必要とする患者に行う方法における使用のためのミルシクリブ、またはその薬学的に許容される塩、異性体、もしくは互変異性体を含む医薬組成物であって、前記方法は、前記患者に、治療上有効な量のミルシクリブ、またはその薬学的に許容される塩、異性体、もしくは互変異性体を、治療上有効な量の他の抗がん薬と組み合わせて投与することを含み、ここで前記他の抗がん薬は、ソラフェニブ、レンバチニブ、レゴラフェニブ、またはその薬学的に許容される塩である、前記医薬組成物。
【請求項２】
前記肝臓がんが、肝細胞癌である、請求項１に記載の医薬組成物。
【請求項３】
前記他の抗がん薬が、ソラフェニブまたはその薬学的に許容される塩である、請求項１に記載の医薬組成物。
【請求項４】
前記ソラフェニブの治療上有効な量が、１日２回４００ｍｇ、１日２回２００ｍｇ、または１日１回２００ｍｇである、請求項３に記載の医薬組成物。
【請求項５】
前記がんが、肝細胞癌である、請求項３に記載の医薬組成物。
【請求項６】
前記他の抗がん薬が、レンバチニブまたはその薬学的に許容される塩である、請求項１に記載の医薬組成物。
【請求項７】
前記レンバチニブの治療上有効な量が、１日１回８、１０、１２、１４、１８、２０、２２、２４、２６、２８、３０、３２、または３４ｍｇである、請求項６に記載の医薬組成物。
【請求項８】
前記他の抗がん薬が、レゴラフェニブまたはその薬学的に許容される塩である、請求項１に記載の医薬組成物。
【請求項９】
前記レゴラフェニブの治療上有効な量が、８０、１００、または１２０ｍｇであり、１日１回、３週間投与され、その後、無投与が１週間続き、このサイクルが任意選択により繰り返される、請求項８に記載の医薬組成物。
【請求項１０】
前記ミルシクリブの治療上有効な量が、５０、７５、１００、１２５、または１５０ｍｇであり、１日１回、４日間連続で投与され、その後、無投与が３日間連続し、このサイクルが任意選択で繰り返される、請求項１に記載の医薬組成物。
【請求項１１】
ミルシクリブ及び前記他の抗がん薬が、前記患者に同時に投与される、請求項１に記載の医薬組成物。
【請求項１２】
ミルシクリブ及び前記他の抗がん薬が、薬学的に許容される賦形剤を更に含む単一医薬製剤で投与される、請求項１に記載の医薬組成物。
【請求項１３】
前記医薬製剤が、制御放出形態である、請求項１２に記載の医薬組成物。
【請求項１４】
ミルシクリブ及び前記他の抗がん薬が、別個の医薬製剤でそれぞれ投与され、各製剤は、薬学的に許容される賦形剤を更に含む、請求項１に記載の医薬組成物。
【請求項１５】
前記医薬製剤の一方または両方が、制御放出形態である、請求項１４に記載の医薬組成物。
【請求項１６】
ミルシクリブ及び前記他の抗がん薬が、前記患者に逐次的に投与される、請求項１に記載の医薬組成物。
【請求項１７】
ミルシクリブの投与が、前記他の抗がん薬を前記患者に投与する前に開始される、請求項１６に記載の医薬組成物。
【請求項１８】
ミルシクリブの投与が、前記他の抗がん薬を前記患者に投与した後に開始される、請求項１６に記載の医薬組成物。
【請求項１９】
ミルシクリブが、薬学的に許容される賦形剤を更に含む単一医薬製剤で投与される、請求項１７に記載の医薬組成物。
【請求項２０】
前記医薬製剤が、経口投与用に製剤化される、請求項１９に記載の医薬組成物。
【請求項２１】
前記医薬製剤が、錠剤、丸剤、またはカプセル剤の形態である、請求項２０に記載の医薬組成物。
【請求項２２】
肝細胞癌の治療を、それを必要とする患者に行う方法における使用のためのミルシクリブ、またはその薬学的に許容される塩、異性体、もしくは互変異性体を含む医薬組成物であって、前記方法は、前記患者に、治療上有効な量のミルシクリブ、またはその薬学的に許容される塩、異性体、もしくは互変異性体を、治療上有効な量のソラフェニブ、またはその薬学的に許容される塩、異性体、もしくは互変異性体と組み合わせて投与することを含む、前記医薬組成物。
【請求項２３】
前記ソラフェニブの治療上有効な量が、１日２回４００ｍｇ、１日２回２００ｍｇ、または１日１回２００ｍｇである、請求項２２に記載の医薬組成物。
【請求項２４】
前記ミルシクリブの治療上有効な量が、５０、７５、１００、１２５、または１５０ｍｇであり、１日１回、４日間連続で投与され、その後、無投与が３日間連続し、このサイクルが任意選択で繰り返される、請求項２２に記載の医薬組成物。
【請求項２５】
ミルシクリブ及び前記他の抗がん薬が、時間的に近接して投与される、請求項１に記載の医薬組成物。
【請求項２６】
ミルシクリブが、薬学的に許容される賦形剤を更に含む単一医薬製剤で投与される、請求項１８に記載の医薬組成物。
【請求項２７】
前記医薬製剤が、経口投与用に製剤化される、請求項２６に記載の医薬組成物。
【請求項２８】
前記医薬製剤が、錠剤、丸剤、またはカプセル剤の形態である、請求項２７に記載の医薬組成物。
【請求項２９】
肝細胞癌の治療を、それを必要とする患者に行う方法における使用のためのミルシクリブ、またはその薬学的に許容される塩、異性体、もしくは互変異性体を含む医薬組成物であって、前記方法は、前記患者に、
（ａ）２００、４００、または８００ｍｇ／日のソラフェニブ；および
（ｂ）５０、７５、１００、１２５、または１５０ｍｇ／日のミルシクリブ
を投与することを含む、前記医薬組成物。
【請求項３０】
前記ミルシクリブが、前記患者に、４日間連続で投与され、その後、無投与が３日間連続し、このサイクルが任意選択で繰り返される、請求項２９に記載の医薬組成物。
【手続補正書】
【提出日】令和3年8月12日(2021.8.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ネイティブピクセルサイズを有している検出器サブシステムを有するＸ線イメージング装置と、
信号処理システムと
を有し、
前記信号処理システムは、
Ｘ線放射曝露に応答して前記検出器サブシステムで生成された信号を結合し、第１データセット及び第２データセットの少なくとも一方を取得するよう構成される結合器であり、前記第１データセット及び前記第２データセットの一方ではピクセルサイズが前記ネイティブピクセルサイズであり、他方のデータセットでは前記ネイティブピクセルサイズの倍数である、前記結合器と、
２つの前記データセットに基づいて、相関係数を有する関数モデルによって電荷共有効果の推定値を計算するよう構成される推定器と、
前記電荷共有効果について、前記推定値に基づいて、前記検出器サブシステム又は他の検出器によって生成された第３データセットを補正するよう構成される補正器と
を有する、
撮像装置。
【請求項２】
前記結合器は、前記検出器サブシステムで生成された前記信号をビニングするビニング回路を含む、
請求項１に記載の撮像装置。
【請求項３】
前記推定器は、前記推定値を得るように前記第１データセット及び前記第２データセットに従う値に基づいて１つ以上の比を形成することによって前記相関係数を形成するよう構成される、
請求項１に記載の撮像装置。
【請求項４】
前記検出器サブシステムは、エネルギ分解型である、
請求項１に記載の撮像装置。
【請求項５】
第１データセット及び第２データセットの少なくとも一方を取得するように、ネイティブピクセルサイズを有している検出器サブシステムによってＸ線放射曝露に応答して生成された信号を結合することであり、前記第１データセット及び前記第２データセットの一方ではピクセルサイズが前記ネイティブピクセルサイズであり、他方のデータセットでは前記ネイティブピクセルサイズの倍数である、前記結合することと、
２つの前記データセットに基づいて、相関係数を有する関数モデルを用いて電荷共有効果の推定値を計算することと、
前記推定値に基づいて、前記電荷共有効果について、前記検出器サブシステムによって又は他の検出器によって生成された第３データセットを補正することと
を有する信号処理方法。
【請求項６】
少なくとも１つの処理ユニットによって実行される場合に、該少なくとも１つの処理ユニットに、
第１データセット及び第２データセットの少なくとも一方を取得するように、ネイティブピクセルサイズを有している検出器サブシステムによってＸ線放射曝露に応答して生成された信号を結合することであり、前記第１データセット及び前記第２データセットの一方ではピクセルサイズが前記ネイティブピクセルサイズであり、他方のデータセットでは前記ネイティブピクセルサイズの倍数である、前記結合することと、
２つの前記データセットに基づいて、相関係数を有する関数モデルを用いて電荷共有効果の推定値を計算することと、
前記推定値に基づいて、前記電荷共有効果について、前記検出器サブシステムによって又は他の検出器によって生成された第３データセットを補正することと
を有する信号処理方法を実行させる実行可能命令を記憶している非一時的なコンピュータ可読媒体。
【手続補正書】
【提出日】令和3年5月31日(2021.5.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
対象における急性肺損傷を処置するための治療的に有効な量のPIC1ペプチドを含む薬学的組成物であって、
該PIC1ペプチドが、IALILEPICCQERAA-dPEG24 (SEQ ID NO: 19)の配列を含み、
該PIC1ペプチドが、該対象の体重1 kg当たり5〜160 mgの用量で投与され、かつ
該対象が該PIC1ペプチドを受容してから6時間以内に同種血液製剤輸血を受容していない、
薬学的組成物。
【請求項２】
対象における炎症を阻害するために有効である、請求項1記載の薬学的組成物。
【請求項３】
対象における炎症性組織傷害を阻害するために有効である、請求項1記載の薬学的組成物。
【請求項４】
対象における正常な肺構造を保つために有効である、請求項1記載の薬学的組成物。
【請求項５】
肺損傷、肺組織への好中球の浸潤、および肺組織におけるMPO活性のうちの1つまたは複数を阻害するために有効である、請求項1記載の薬学的組成物。
【請求項６】
対象における補体系の免疫複合体活性化をモジュレートするために有効である、請求項1記載の薬学的組成物。
【請求項７】
対象におけるNET形成をモジュレートするために有効である、請求項1記載の薬学的組成物。
【請求項８】
前記NET形成が、細菌、真菌、寄生虫、またはウイルスのうちの少なくとも1つによって刺激される、請求項7記載の薬学的組成物。
【請求項９】
前記NET形成がウイルスによって刺激される、請求項8記載の薬学的組成物。
【請求項１０】
前記PIC1ペプチドが、対象の体重1 kg当たり5〜100 mgの用量で投与される、請求項1〜9のいずれか一項記載の薬学的組成物。
【請求項１１】
静脈内投与される、請求項1〜10のいずれか一項記載の薬学的組成物。
【請求項１２】
対象における急性呼吸窮迫症候群を処置するための治療的に有効な量のPIC1ペプチドを含む薬学的組成物であって、
該PIC1ペプチドが、IALILEPICCQERAA-dPEG24 (SEQ ID NO: 19)の配列を含み、
該PIC1ペプチドが、該対象の体重1 kg当たり5〜160 mgの用量で投与され、かつ
該対象が該PIC1ペプチドを受容してから6時間以内に同種血液製剤輸血を受容していない、
薬学的組成物。
【請求項１３】
対象における炎症を阻害するために有効である、請求項12記載の薬学的組成物。
【請求項１４】
対象における炎症性組織傷害を阻害するために有効である、請求項12記載の薬学的組成物。
【請求項１５】
対象における正常な肺構造を保つために有効である、請求項12記載の薬学的組成物。
【請求項１６】
肺損傷、肺組織への好中球の浸潤、および肺組織におけるMPO活性のうちの1つまたは複数を阻害するために有効である、請求項12記載の薬学的組成物。
【請求項１７】
対象における補体系の免疫複合体活性化をモジュレートするために有効である、請求項12記載の薬学的組成物。
【請求項１８】
対象におけるNET形成をモジュレートするために有効である、請求項12記載の薬学的組成物。
【請求項１９】
前記NET形成が、細菌、真菌、寄生虫、またはウイルスのうちの少なくとも1つによって刺激される、請求項18記載の薬学的組成物。
【請求項２０】
前記NET形成がウイルスによって刺激される、請求項19記載の薬学的組成物。
【請求項２１】
前記PIC1ペプチドが、対象の体重1 kg当たり5〜100 mgの用量で投与される、請求項12〜20記載の薬学的組成物。
【請求項２２】
静脈内投与される、請求項12〜21のいずれか一項記載の薬学的組成物。
【手続補正書】
【提出日】令和3年2月18日(2021.2.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１４】
前記ＶＥＧＦアンタゴニストの各用量は３ｍｇ〜６ｍｇである、請求項１〜１３のいずれか一項に記載の組成物。
【手続補正書】
【提出日】令和2年7月6日(2020.7.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ｓ１）重量平均分子量が３００，０００以上である非グラフト化ポリオレフィン、重量平均分子量が３００，０００以上であるシラングラフトされたポリオレフィン、希釈剤、開始剤、炭素−炭素二重結合基含有アルコキシシラン化合物及び架橋触媒を押出機に投入し混合した後、２００℃以上で反応押出してシラングラフトされたポリオレフィン組成物を製造する段階と、
（Ｓ２）前記反応押出されたシラングラフトされたポリオレフィン組成物をシート状に成形及び延伸する段階と、
（Ｓ３）前記延伸されたシートから希釈剤を抽出して多孔性膜を製造する段階と、
（Ｓ４）前記多孔性膜を熱固定する段階と、
（Ｓ５）前記多孔性膜を水分存在下で架橋させる段階とを含み、
前記炭素−炭素二重結合基含有アルコキシシラン化合物の含量が、前記非グラフト化ポリオレフィン、前記シラングラフトされたポリオレフィン及び前記希釈剤の合計１００重量部を基準にして０．０１〜２重量部である、架橋ポリオレフィン分離膜の製造方法。
【請求項２】
前記非グラフト化ポリオレフィンとシラングラフトされたポリオレフィンとの重量比が９０：１０〜２０：８０である、請求項１に記載の架橋ポリオレフィン分離膜の製造方法。
【請求項３】
前記非グラフト化ポリオレフィンの重量平均分子量が３００，０００〜１，５００，０００である、請求項１または２に記載の架橋ポリオレフィン分離膜の製造方法。
【請求項４】
前記シラングラフトされたポリオレフィンの重量平均分子量が３００，０００〜１，０００，００００である、請求項１から３のいずれか一項に記載の架橋ポリオレフィン分離膜の製造方法。
【請求項５】
前記反応押出の温度が２００℃〜２５０℃である、請求項１から４の何れか一項に記載の架橋ポリオレフィン分離膜の製造方法。
【請求項６】
前記炭素−炭素二重結合基含有アルコキシシラン化合物が、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、（３−メタクリルオキシプロピル）トリメトキシシラン、（３−メタクリルオキシプロピル）トリエトキシシラン、ビニルメチルジメトキシシラン、ビニル−トリス（２−メトキシエトキシ）シラン、ビニルメチルジエトキシシラン、またはこれらのうち少なくとも２以上を含む、請求項１から５の何れか一項に記載の架橋ポリオレフィン分離膜の製造方法。
【請求項７】
前記炭素−炭素二重結合基含有アルコキシシラン化合物の含量が、前記非グラフト化ポリオレフィン、前記シラングラフトされたポリオレフィン及び前記希釈剤の合計１００重量部を基準にして０．０５〜１．２重量部である、請求項１から６の何れか一項に記載の架橋ポリオレフィン分離膜の製造方法。
【請求項８】
前記非グラフト化ポリオレフィンの重量平均分子量が３００，０００〜１，０００，０００であり、
前記シラングラフトされたポリオレフィンの重量平均分子量が３００，０００〜１，０００，０００であり、
前記非グラフト化ポリオレフィンと前記シラングラフトされたポリオレフィンとの重量比が９０：１０〜５０：５０であり、
前記反応押出の温度が２００〜２３０℃であり、
前記炭素−炭素二重結合基含有アルコキシシラン化合物の含量が、前記非グラフト化ポリオレフィン、前記シラングラフトされたポリオレフィン及び前記希釈剤の合計１００重量部を基準にして０．１〜０．５重量部である、請求項１から７の何れか一項に記載の架橋ポリオレフィン分離膜の製造方法。
【請求項９】
前記熱固定の温度が１００〜２３０℃である、請求項１から８の何れか一項に記載の架橋ポリオレフィン分離膜の製造方法。
【請求項１０】
前記（Ｓ５）段階の後に、無機物粒子、バインダー高分子、溶媒を含む多孔性コーティング層形成用スラリーを塗布及び乾燥する段階をさらに含む、請求項１から９の何れか一項に記載の架橋ポリオレフィン分離膜の製造方法。
【請求項１１】
前記（Ｓ１）段階の押出機に炭素−炭素二重結合基含有リン系化合物をさらに投入する、請求項１から１０の何れか一項に記載の架橋ポリオレフィン分離膜の製造方法。
【請求項１２】
前記（Ｓ１）段階は、重量平均分子量が３００，０００以上である非グラフト化ポリオレフィン、重量平均分子量が３００，０００以上であるシラングラフトされたポリオレフィン、希釈剤、開始剤、アルコキシ基含有ビニルシラン、炭素−炭素二重結合基含有リン系化合物及び架橋触媒を押出機に投入し混合した後、２００℃以上で反応押出して、ポリオレフィンの主鎖にシラン化合物及びリン系化合物がグラフトされたポリオレフィン組成物を製造する段階である、請求項１１に記載の架橋ポリオレフィン分離膜の製造方法。
【請求項１３】
前記炭素−炭素二重結合基含有リン系化合物が、ジフェニルビニルホスフィンオキシド、ジフェニルビニルホスフィン、ジメチルビニルホスホネート、ジエチルビニルホスホネート、ジフェニルビニルホスフェート、ジメチルビニルホスフェート、ジエチルビニルホスフェート、エテニルジヒドロゲンホスフェート、イソプロペニルジヒドロゲンホスフェート、ビニルホスホン酸、またはこれらのうち少なくとも２種以上の混合物を含む、請求項１１または１２に記載の架橋ポリオレフィン分離膜の製造方法。
【請求項１４】
前記炭素−炭素二重結合基含有アルコキシシラン化合物と前記炭素−炭素二重結合基含有リン系化合物との総含量が、前記非グラフト化ポリオレフィン、前記シラングラフトされたポリオレフィン及び前記希釈剤の合計１００重量部を基準にして０．０１〜２重量部である、請求項１１から１３の何れか一項に記載の架橋ポリオレフィン分離膜の製造方法。
【請求項１５】
前記炭素−炭素二重結合基含有アルコキシシラン化合物と前記炭素−炭素二重結合基含有リン系化合物との重量比が９０：１０〜３０：７０である、請求項１１から１４の何れか一項に記載の架橋ポリオレフィン分離膜の製造方法。
【請求項１６】
前記分離膜のシャットダウン温度が１３５℃以下であり、前記分離膜のメルトダウン温度が１８５℃以上である、請求項１１から１５の何れか一項に記載の架橋ポリオレフィン分離膜の製造方法。
【請求項１７】
前記分離膜のシャットダウン温度とメルトダウン温度との差が３０℃以上である、請求項１１から１６の何れか一項に記載の架橋ポリオレフィン分離膜の製造方法。
【請求項１８】
請求項１１から１７のいずれか一項に記載の方法によって製造された架橋ポリオレフィン分離膜であって、
ポリオレフィンの主鎖にシラン化合物及びリン系化合物がグラフトされ、シラン由来の架橋構造を含む、架橋ポリオレフィン分離膜。
【請求項１９】
請求項１から１０のいずれか一項に記載の方法によって製造された架橋ポリオレフィン分離膜。