【手続補正書】
【提出日】令和3年8月23日(2021.8.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コントローラによって、ウェハ上の、少なくとも４層を有する膜スタックに係る第１有効媒体分散モデルであって、該膜スタックの全体に満たない部分の光学特性をモデル化する第１有効媒体分散モデルを展開するステップと、
前記コントローラによって、前記第１有効媒体分散モデルを用いて、前記膜スタックの第１層の厚みを判別するステップと、
を含む方法であって、
前記第１有効媒体分散モデルが前記膜スタックの少なくとも第２層、第３層、および第４層を代替し、前記第１層が前記ウェハと反対側の、前記膜スタックの頂部層である、方法。
【請求項２】
請求項１に記載の方法であって、さらに、
前記コントローラによって、前記第１層の厚みに基づき、前記膜スタックの前記全体に満たない部分の光学特性をモデル化する、前記膜スタックに係る第２有効媒体分散モデルを展開するステップと、
前記コントローラによって、前記第２有効媒体分散モデルを用いて、前記第１層に隣接する前記第２層の厚みを判別するステップと、
を含み、
前記第２有効媒体分散モデルが少なくとも前記第３層および前記第４層を代替する、方法。
【請求項３】
請求項２に記載の方法であって、さらに、
前記コントローラによって、前記第１層の厚み及び前記第２層の厚みに基づき、前記膜スタックの前記全体に満たない部分の光学特性をモデル化する、前記膜スタックに係る第３有効媒体分散モデルを展開するステップと、
前記コントローラによって、前記第３有効媒体分散モデルを用いて、前記第３層の厚みを判別するステップと、
を含み、
前記第３有効媒体分散モデルが少なくとも前記第４層を代替し、前記第３層が前記第２層に隣接する、方法。
【請求項４】
請求項３に記載の方法であって、前記第１有効媒体分散モデルが酸化物層、高ｋ層、ＴｉＮ層、ＴａＮ層、ＴａＬ層を代替し、前記第２有効媒体分散モデルが酸化物層、高ｋ層、ＴｉＮ層及びＴａＮ層を代替し、前記第３有効媒体分散モデルが酸化物層、高ｋ層及びＴｉＮ層を代替する方法。
【請求項５】
請求項４に記載の方法であって、前記第１有効媒体分散モデル、前記第２有効媒体分散モデル及び前記第３有効媒体分散モデルが、それぞれ、異なる光学特性を有する方法。
【請求項６】
請求項１に記載の方法であって、更に、回転偏光子回転補償器分光エリプソメトリデータ、フルミュラー行列成分データ、回転偏光子分光エリプソメトリデータ、リフレクトメトリデータ、レーザ駆動分光リフレクトメトリデータ、Ｘ線データの生成のうち、１つ又は複数により前記膜スタックを計測するステップを有する方法。
【請求項７】
請求項１に記載の方法であって、前記第１有効媒体分散モデルを展開するステップが、
前記膜スタックの光学応答を収集するステップと、
モデル構築モジュールを用い、少なくとも前記第２層、前記第３層、および前記第４層を第１有効媒体内で結合させることで、第１スキャタロメトリモデルを構築するステップと、
前記第１有効媒体に係り、分散式を含む分散モデルを生成するステップと、
前記光学応答を複数の入射角で当て嵌め分析モジュールにて受け取るステップと、
前記当て嵌め分析モジュールを用い、各スペクトル回帰にて前記分散モデルを浮動させつつ前記光学応答に対する並列当て嵌めを実行するステップと、
前記入射角における前記分散モデルの１つ又は複数の成果を評価することで類似性を判別するステップと、
前記分散モデルをテーブルに変換するステップと、
前記分散モデルが前記テーブルとして固定され且つ前記第１層の厚みが浮動している状態で、前記第１スキャタロメトリモデルを用い当て嵌め分析を実行するステップと、
前記第１層の厚みを計測するステップと、
前記第１層の厚みを基準と比較するステップと、
を含む方法。
【請求項８】
請求項７に記載の方法であって、更に、前記分散モデルを最適化するよう構成されたフィードバックループを前記評価後に適用するステップを有し、前記フィードバックループが、前記分散モデルのパラメタ群を固定し又は浮動させるよう構成されている方法。
【請求項９】
請求項７に記載の方法であって、前記分散モデルの少なくとも１個のパラメタが前記並列当て嵌め中に共通のものとして扱われる方法。
【請求項１０】
請求項２に記載の方法であって、前記第２有効媒体分散モデルを展開するステップが、
モデル構築モジュールを用い、少なくとも前記第３層及び前記第４層を第２有効媒体内で結合させることで、第２スキャタロメトリモデルを構築するステップと、
前記第１層の厚みを前記第２スキャタロメトリモデルに送り込むステップと、
前記第２有効媒体に係り、分散式を含む分散モデルを生成するステップと、
前記光学応答を複数の入射角で当て嵌め分析モジュールにて受け取るステップと、
前記当て嵌め分析モジュールを用い、各スペクトル回帰にて前記分散モデルを浮動させつつ前記光学応答に対する並列当て嵌めを実行するステップと、
前記入射角における前記分散モデルの１つ又は複数の成果を評価することで類似性を判別するステップと、
前記分散モデルをテーブルに変換するステップと、
前記分散モデルが固定されている状態で前記第２スキャタロメトリモデルを用い当て嵌め分析を実行するステップと、
を含む方法。
【請求項１１】
請求項１０に記載の方法であって、更に、前記分散モデルを最適化するよう構成されたフィードバックループを前記評価後に適用するステップを有し、前記フィードバックループが、前記分散モデルのパラメタ群を固定し又は浮動させるよう構成されている方法。
【請求項１２】
請求項１０に記載の方法であって、前記分散モデルの少なくとも１個のパラメタが前記並列当て嵌め中に共通のものとして扱われ、或いは前記第１層の厚みが前記並列当て嵌め中に共通のものとして扱われる方法。
【請求項１３】
請求項３に記載の方法であって、前記第３有効媒体分散モデルを展開するステップが、
モデル構築モジュールを用い、少なくとも前記第４層を第３有効媒体内で結合させることで、第３スキャタロメトリモデルを構築するステップと、
前記第１層の厚み及び前記第２層の厚みを前記第３スキャタロメトリモデルに送り込むステップと、
前記第３有効媒体に係り分散式を含む分散モデルを生成するステップと、
前記光学応答を複数の入射角で当て嵌め分析モジュールにて受け取るステップと、
前記当て嵌め分析モジュールを用い、各スペクトル回帰にて前記分散モデルを浮動させつつ前記光学応答に対する並列当て嵌めを実行するステップと、
前記入射角における前記分散モデルの１つ又は複数の成果を評価することで類似性を判別するステップと、
前記分散モデルをテーブルに変換するステップと、
前記分散モデルが固定されている状態で前記第３スキャタロメトリモデルを用い当て嵌め分析を実行するステップと、
を含む方法。
【請求項１４】
請求項１３に記載の方法であって、更に、前記分散モデルを最適化するよう構成されたフィードバックループを前記評価後に適用するステップを有し、前記フィードバックループが、前記分散モデルのパラメタ群を固定し又は浮動させるよう構成されている方法。
【請求項１５】
請求項１３に記載の方法であって、前記分散モデルの少なくとも１個のパラメタが前記並列当て嵌め中に共通のものとして扱われ、或いは前記第１層の厚みが当該並列当て嵌め中に共通のものとして扱われる方法。
【請求項１６】
請求項１に記載の方法であって、前記膜スタックが１Ｄ膜スタック、２Ｄ膜オン格子、３Ｄ膜オン格子のうち１つである方法。
【請求項１７】
請求項１に記載の方法であって、前記少なくとも４層が、それぞれ、ＳｉＯ２、ＨｆＯ２、ＨｆＳｉＯＮ、窒素濃縮を伴うＨｆＯＮ、ＴｉＮ、ＴａＮ、ＴａＡｌＣ、ＴｉＡｌＣ、Ｗ、Ｃｏ、ＷＣ、ＴａＯのうち１つである方法。
【請求項１８】
請求項１７に記載の方法であって、前記４層のうち少なくとも１層がＨｆＯＮ、ＴｉＮ、ＴａＮのうち１つであり、更に、窒素濃度を判別するステップを有する方法。
【請求項１９】
請求項３に記載の方法であって、前記第１有効媒体分散モデル、前記第２有効媒体分散モデル、前記第３有効媒体分散モデルのうち１個が、素材の光学特性を光子エネルギ又は波長の関数としてモデル化する分散式である方法。
【請求項２０】
コンピュータ可読プログラムが体現された非一時的コンピュータ可読格納媒体を備えるコンピュータプログラム製品であって、そのコンピュータ可読プログラムが、請求項１の方法を実行するよう構成されているコンピュータプログラム製品。
【請求項２１】
ウェハを計測するよう構成された計測システムと、
プロセッサと、該プロセッサと電子通信する電子データ格納ユニットとを有し、前記計測システムと電子通信するコントローラと、
を備えるシステムであって、
前記プロセッサが１つまたは複数のソフトウェアモジュールを実行するように構成され、
前記１つ又は複数のソフトウェアモジュールが、
コントローラを用いて、ウェハ上の、少なくとも４層を有する膜スタックに係る第１有効媒体分散モデルであり、前記膜スタックの全体に満たない部分の光学特性をモデル化する第１有効媒体分散モデルを展開し、
前記第１有効媒体分散モデルを用い前記膜スタックの第１層の厚みを判別する、
ように構成され、
前記第１有効媒体分散モデルが前記膜スタックの少なくとも第２層、第３層、および第４層を代替し、前記第１層が前記ウェハと反対側の、前記膜スタックの頂部層である、システム。
【請求項２２】
請求項２１に記載のシステムであって、前記ソフトウェアモジュールが、更に、
前記コントローラを用いて、前記第１層の厚みに基づき、前記膜スタックの前記全体に満たない部分の光学特性をモデル化する、前記膜スタックに係る第２有効媒体分散モデルを展開し、
前記第２有効媒体分散モデルを用い前記第１層に隣接する前記第２層の厚みを判別する、
ように構成され、
前記第２有効媒体分散モデルが少なくとも前記第３層および前記第４層を代替する、システム。
【請求項２３】
請求項２２に記載のシステムであって、前記ソフトウェアモジュールが、更に、
前記コントローラを用いて、前記第１層の厚み及び前記第２層の厚みに基づき、前記膜スタックの前記全体に満たない部分の光学特性をモデル化する、前記膜スタックに係る第３有効媒体分散モデルを展開し、
前記第３有効媒体分散モデルを用い前記第３層の厚みを判別する、
ように構成され、
前記第３有効媒体分散モデルが少なくとも前記第４層を代替し、前記第３層が前記第２層に隣接する、システム。
【請求項２４】
請求項２１に記載のシステムであって、前記計測システムが、回転偏光子回転補償器分光エリプソメトリデータ、フルミュラー行列成分データ、回転偏光子分光エリプソメトリデータ、リフレクトメトリデータ、レーザ駆動分光リフレクトメトリデータ、Ｘ線データのうち１つを提供するシステム。