【手続補正書】
【提出日】令和3年7月9日(2021.7.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を搬送するための真空ホイールであって、前記真空ホイールが、
吸引源に接続可能である固定導管と、
前記真空ホイールの周囲における少なくとも１つの真空面であって、前記真空面が、前記周囲に沿って分布している複数の真空開口部を含み、したがって、前記吸引源によって前記固定導管に吸引力が印加されるとき、前記複数の真空開口部のうち、前記固定導管にその時点で流体的に接続されている１つまたは複数の真空開口部に吸引力が印加されるように、前記真空ホイールの回転に起因して、前記複数の真空開口部の真空開口部が前記固定導管に連続して流体的に接続される、前記少なくとも１つの真空面と、
前記真空ホイールの前記周囲における少なくとも１つの接触面であって、前記少なくとも１つの接触面が、前記真空面に隣接しており、かつ前記真空面より外向きに突き出しており、したがって、前記複数の真空開口部のうちの前記１つまたは複数の真空開口部に前記吸引力が印加されるとき、前記基板が前記真空面に接触することなく前記少なくとも１つの接触面に接触するように、かつ、前記真空ホイールが回転するときに前記基板を搬送するための摩擦力が前記少なくとも１つの接触面と前記基板との間に印加されるように、前記基板が前記真空面の方に引っ張られる、前記少なくとも１つの接触面と、
を備えている、真空ホイール。
【請求項２】
前記複数の真空開口部が、１列に配置されている、請求項１に記載の真空ホイール。
【請求項３】
前記複数の真空開口部の一対の隣り合う真空開口部の間の距離が、実質的に一定である、請求項２に記載の真空ホイール。
【請求項４】
前記複数の真空開口部それぞれが、真空導管を介して前記真空ホイールのリム部の内面に接続されている、請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の真空ホイール。
【請求項５】
前記固定導管の方位角範囲が、軸方向における前記固定導管の幅より長い、請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の真空ホイール。
【請求項６】
前記固定導管の前記方位角範囲が、前記真空ホイールが回転するときに前記複数の真空開口部の少なくとも１つが前記固定導管につねに流体的に接続されているような十分な大きさである、請求項５に記載の真空ホイール。
【請求項７】
前記少なくとも１つの接触面が２つの接触面を備えており、前記２つの接触面が前記真空面の両側に位置している、請求項１から請求項６のいずれか１項に記載の真空ホイール。
【請求項８】
前記２つの接触面が、前記真空面の前記真空開口部から等距離にある、請求項７に記載の真空ホイール。
【請求項９】
前記複数の接触面の接触面が、交換可能である、請求項１から請求項８のいずれか１項に記載の真空ホイール。
【請求項１０】
前記交換可能な接触面が、Ｏリングを備えている、請求項９に記載の真空ホイール。
【請求項１１】
前記真空ホイールのリム部が、前記交換可能な接触面を所定の位置に保持する保持構造を含む、請求項９または請求項１０に記載の真空ホイール。
【請求項１２】
前記保持構造が溝を備えている、請求項１１に記載の真空ホイール。
【請求項１３】
前記真空ホイールを回転させるモータ、をさらに備えている、請求項１から請求項１２のいずれか１項に記載の真空ホイール。
【請求項１４】
基板を支持および搬送する非接触の支持テーブルであって、前記支持テーブルが、
前記支持テーブルの表面全体にわたり分布している複数の圧力孔と、
複数の真空ホイールであって、前記真空ホイールそれぞれが、前記真空ホイールそれぞれの端部が前記支持テーブルの表面より突き出すように前記支持テーブルに取り付けられている、前記複数の真空ホイールと、
を備えており、前記真空ホイールそれぞれが、
吸引源に接続可能である固定導管と、
前記真空ホイールの周囲における少なくとも１つの真空面であって、前記真空面が、前記周囲に沿って分布している複数の真空開口部を含み、したがって、前記吸引源によって前記固定導管に吸引力が印加されるとき、前記複数の真空開口部のうち、前記固定導管にその時点で流体的に接続されている１つまたは複数の真空開口部に記吸引力が印加されるように、前記真空ホイールの回転に起因して、前記複数の真空開口部の真空開口部が前記固定導管に連続して流体的に接続される、前記少なくとも１つの真空面と、
前記真空ホイールの前記周囲における少なくとも１つの接触面であって、前記少なくとも１つの接触面が、前記真空面に隣接しており、かつ前記真空面より外向きに突き出しており、したがって、前記複数の真空開口部のうちの前記１つまたは複数の真空開口部に前記吸引力が印加されるとき、前記基板が前記真空面に接触することなく前記少なくとも１つの接触面に接触するように、かつ、前記真空ホイールが回転するときに前記基板を搬送するための摩擦力が前記少なくとも１つの接触面と前記基板との間に印加されるように、前記基板が前記真空面の方に引っ張られる、前記少なくとも１つの接触面と、
を備えている、
非接触の支持テーブル。
【請求項１５】
前記支持テーブルが、複数のホイール開口部を備えており、前記真空ホイールそれぞれの前記端部が、前記複数のホイール開口部の１つのホイール開口部を通じて前記支持テーブルの表面より突き出している、請求項１４に記載の非接触の支持テーブル。
【請求項１６】
前記複数の真空ホイールの真空ホイールが、前記支持テーブルの表面に隣接して配置されている、請求項１４または請求項１５に記載の非接触の支持テーブル。
【請求項１７】
複数のアイドラーホイールをさらに備えている、請求項１４から請求項１６のいずれか１項に記載の非接触の支持テーブル。
【請求項１８】
前記複数のホイールの真空ホイールの回転方向が、互いに平行である、請求項１４から請求項１７のいずれか１項に記載の非接触の支持テーブル。
【請求項１９】
前記複数の真空ホイールの真空ホイールの配置編成において、前記配置編成の各真空ホイールが、前記配置編成の、隣接する真空ホイールに対して横方向に回転されている、請求項１４から請求項１８のいずれか１項に記載の非接触の支持テーブル。
【請求項２０】
基板を支持および搬送する支持システムであって、前記支持システムが、
回転軸が互いに平行である複数のアイドラーホイールと、
回転軸が前記アイドラーホイールの前記回転軸に平行である複数の真空ホイールと、
を備えており、前記真空ホイールそれぞれが、
吸引源に接続可能である固定導管と、
前記真空ホイールの周囲における少なくとも１つの真空面であって、前記真空面が、前記周囲に沿って分布している複数の真空開口部を含み、したがって、前記吸引源によって前記固定導管に吸引力が印加されるとき、前記複数の真空開口部のうち、前記固定導管にその時点で流体的に接続されている１つまたは複数の真空開口部に前記吸引力が印加されるように、前記真空ホイールの回転に起因して、前記複数の真空開口部の真空開口部が前記固定導管に連続して流体的に接続される、前記少なくとも１つの真空面と、
前記真空ホイールの前記周囲における少なくとも１つの接触面であって、前記少なくとも１つの接触面が、前記真空面に隣接しており、かつ前記真空面より外向きに突き出しており、したがって、前記複数の真空開口部のうちの前記１つまたは複数の真空開口部に前記吸引力が印加されるとき、前記基板が前記真空面に接触することなく前記少なくとも１つの接触面に接触するように、かつ、前記真空ホイールが回転するときに前記基板を搬送するための摩擦力が前記少なくとも１つの接触面と前記基板との間に印加されるように、前記基板が前記真空面の方に引っ張られる、前記少なくとも１つの接触面と、
を備えている、
支持システム。
【請求項２１】
吸引源に連通する開口が形成された固定構造部と、
前記固定構造部に回転可能に支持され、前記開口を介して前記吸引源に連通する複数の貫通孔を有するホイールリム部と、を備え、
前記ホイールリム部は、前記複数の貫通孔の開口が配置された円筒面と、前記円筒面よりも径方向外側に配置された少なくとも１つの接触面とを備える、
真空ホイール。
【請求項２２】
前記少なくとも１つの接触面は、前記円筒面と同心のリング形状を有する、
請求項２１に記載の真空ホイール。
【請求項２３】
前記少なくとも１つの接触面は、前記ホイールリム部の軸方向に沿って前記円筒面の両側に配置された一対の接触面を備えている、
請求項２１または２２に記載の真空ホイール。