【手続補正書】
【提出日】令和3年5月7日(2021.5.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
酸溶解に抵抗するように歯の硬組織を治療するためのシステムであって、前記システムは、
レーザビームの少なくとも１つのパルスを発生させるためのレーザ源と、
前記レーザ源と光通信する少なくとも１つの光学系であって、前記少なくとも１つの光学系は、レーザビーム幅を画定し、前記歯の硬組織の表面またはその近傍において前記レーザビームを集束させるように適合される、少なくとも１つの光学系と、
前記画定されたビーム幅に基づいて、パルスエネルギーを制御するように適合されるコントローラであって、前記レーザビームパルスは、
上限閾値フルエンス未満の最大局所フルエンスであって、前記上限閾値フルエンスは、前記歯の硬組織の表面改質を引き起こす最小フルエンスとして定義される、最大局所フルエンスと、
下限閾値フルエンスを上回る少なくとも１つの他の局所フルエンスであって、前記下限閾値フルエンスは、（ｉ）前記歯の硬組織の酸溶解抵抗の最小限の増加と、（ｉｉ）前記歯の硬組織の表面炭酸塩の量の最小限の減少とのうちの少なくとも１つを引き起こすフルエンスとして定義される、少なくとも１つの他の局所フルエンスと
を有するフルエンスプロファイルを焦点において有する、コントローラと
を備える、システム。
【請求項２】
前記表面改質は、融解およびアブレーションのうちの少なくとも１つを含む、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記融解は、２００倍、５００倍、および１，０００倍のうちの少なくとも１つの倍率において、治療された表面の目視検査によって決定される、請求項２に記載のシステム。
【請求項４】
前記アブレーションは、２００倍、５００倍、および１，０００倍のうちの少なくとも１つの倍率において、治療された表面の目視検査によって決定される、請求項２に記載のシステム。
【請求項５】
前記酸溶解抵抗は、酸性負荷およびｐＨ循環研究のうちの少なくとも１つによって決定される、請求項１に記載のシステム。
【請求項６】
前記酸性負荷は、クエン酸、酢酸、および乳酸のうちの少なくとも１つを使用することを含む、請求項５に記載のシステム。
【請求項７】
前記表面炭酸塩の量は、反射率ＦＴＩＲ、ＦＴＩＲ−ＡＴＲ、ラマン分光法、およびＸＲＤのうちの少なくとも１つによって測定される、請求項１に記載のシステム。
【請求項８】
前記フルエンスプロファイルは、ガウスプロファイル、近ガウスプロファイル、およびトップハットプロファイルのうちの少なくとも１つをさらに備える、請求項１に記載のシステム。
【請求項９】
前記レーザ源は、８〜１２ミクロンの範囲内の波長を有するレーザビームを生成する、請求項１に記載のシステム。
【請求項１０】
前記コントローラは、パルス持続時間、平均レーザ入力電力、および平均レーザ出力電力のうちの少なくとも１つを制御し、前記パルスエネルギーを制御するように適合される、請求項１に記載のシステム。
【請求項１１】
前記レーザパルスは、０．１〜１，０００マイクロ秒の範囲内のパルス持続時間を備える、請求項１に記載のシステム。
【請求項１２】
前記レーザパルスは、０．０５〜１００ｍＪの範囲内のパルスエネルギーを備える、請求項１に記載のシステム。
【請求項１３】
前記場所は、０．１〜１０ミリメートルの範囲内の幅を備える、請求項１に記載のシステム。
【請求項１４】
前記歯の硬組織の上に、および前記歯の硬組織を横断してのうちの少なくとも１つで流動するように流体を指向するための流体システムをさらに備える、請求項１に記載のシステム。
【請求項１５】
前記流体は、空気、窒素、および水のうちの少なくとも１つを含む、請求項１４に記載のシステム。
【請求項１６】
前記流体は、液体を含む、請求項１４に記載のシステム。
【請求項１７】
前記流体は、フッ化物を含む、請求項１４に記載のシステム。
【請求項１８】
前記流体は、圧縮性流体を含む、請求項１４に記載のシステム。
【請求項１９】
前記流体システムは、流体膨張要素をさらに備える、請求項１８に記載のシステム。
【請求項２０】
前記流体が、前記レーザパルスと非同期的に、前記歯の硬組織の上に、および前記歯の硬組織を横断してのうちの少なくとも１つで指向されるように、前記流体システムを制御する流体コントローラをさらに備える、請求項１４に記載のシステム。
【請求項２１】
前記流体が、前記レーザパルスと同時に、前記歯の硬組織の上に、および前記歯の硬組織を横断してのうちの少なくとも１つで指向されるように、前記流体システムを制御する流体コントローラをさらに備える、請求項１４に記載のシステム。
【請求項２２】
いかなるレーザビームパルスも前記場所に向かって指向されていない間に、前記場所の表面温度を低下した温度まで減少させるために十分な前記流体の流率を調節するための流量コントローラをさらに備え、前記低下した温度および温度上昇量の合計は、最大でも上昇した温度に等しい、請求項１４に記載のシステム。
【請求項２３】
前記流体は、圧縮空気を含み、
前記流率は、１ＳＬＰＭ〜１００ＳＬＰＭの範囲内である、
請求項２２に記載のシステム。
【請求項２４】
前記流体システムは、前記歯の硬組織を横断して前記流体を流動させる陰圧差を発生させるように適合される真空源を備える、請求項１４に記載のシステム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
別の側面では、本発明は、酸溶解に抵抗するように歯の硬組織を治療する別の方法に関する。本方法は、レーザビームの少なくとも１つのパルスを発生させるステップと、少なくとも１つの光学系を使用して、レーザビーム幅を画定し、歯の硬組織の表面またはその近傍においてレーザビームを集束させるステップと、レーザビームパルスが、上限閾値フルエンス未満の最大局所フルエンスを有する、フルエンスプロファイルを焦点において有し、上限閾値フルエンスが、歯の硬組織の表面改質を引き起こす最小フルエンスとして定義されるように、定義されたビーム幅に基づいてパルスエネルギーを制御するステップと、治療後溶液を歯の硬組織に送達するステップとを含むことができる。種々の実施形態では、治療後溶液は、過酸化水素、フッ化物、キトサン、キシリトール、カルシウム、および／またはリン酸塩を含むことができる。ある事例では、パルスエネルギーを制御するステップは、パルス持続時間、平均レーザ入力電力、および／または平均レーザ出力電力を制御するステップを含む。
本発明は、例えば、以下を提供する。
（項目１）
酸溶解に抵抗するように歯の硬組織を治療するためのシステムであって、前記システムは、
レーザビームの少なくとも１つのパルスを発生させるためのレーザ源と、
前記レーザ源と光通信する少なくとも１つの光学系であって、前記少なくとも１つの光学系は、レーザビーム幅を画定し、前記歯の硬組織の表面またはその近傍において前記レーザビームを集束させるように適合される、少なくとも１つの光学系と、
前記画定されたビーム幅に基づいて、パルスエネルギーを制御するように適合されるコントローラであって、前記レーザビームパルスは、
上限閾値フルエンス未満の最大局所フルエンスであって、前記上限閾値フルエンスは、前記歯の硬組織の表面改質を引き起こす最小フルエンスとして定義される、最大局所フルエンスと、
下限閾値フルエンスを上回る少なくとも１つの他の局所フルエンスであって、前記下限閾値フルエンスは、（ｉ）前記歯の硬組織の酸溶解抵抗の最小限の増加と、（ｉｉ）前記歯の硬組織の表面炭酸塩の量の最小限の減少とのうちの少なくとも１つを引き起こすフルエンスとして定義される、少なくとも１つの他の局所フルエンスと
を有する、フルエンスプロファイルを焦点において有する、コントローラと
を備える、システム。
（項目２）
前記表面改質は、融解およびアブレーションのうちの少なくとも１つを含む、項目１に記載のシステム。
（項目３）
前記融解は、２００倍、５００倍、および１，０００倍のうちの少なくとも１つの倍率において、治療された表面の目視検査によって決定される、項目２に記載のシステム。
（項目４）
前記アブレーションは、２００倍、５００倍、および１，０００倍のうちの少なくとも１つの倍率において、治療された表面の目視検査によって決定される、項目２に記載のシステム。
（項目５）
前記酸溶解抵抗は、酸性負荷およびｐＨ循環研究のうちの少なくとも１つによって決定される、項目１に記載のシステム。
（項目６）
前記酸性負荷は、クエン酸、酢酸、および乳酸のうちの少なくとも１つを使用することを含む、項目５に記載のシステム。
（項目７）
前記表面炭酸塩の量は、反射率ＦＴＩＲ、ＦＴＩＲ−ＡＴＲ、ラマン分光法、およびＸＲＤのうちの少なくとも１つによって測定される、項目１に記載のシステム。
（項目８）
前記フルエンスプロファイルはさらに、ガウスプロファイル、近ガウスプロファイル、およびトップハットプロファイルのうちの少なくとも１つを備える、項目１に記載のシステム。
（項目９）
前記レーザ源は、８〜１２ミクロンの範囲内の波長を有するレーザビームを生成する、項目１に記載のシステム。
（項目１０）
前記コントローラは、パルス持続時間、平均レーザ入力電力、および平均レーザ出力電力のうちの少なくとも１つを制御し、前記パルスエネルギーを制御するように適合される、項目１に記載のシステム。
（項目１１）
前記レーザパルスは、０．１〜１，０００マイクロ秒の範囲内のパルス持続時間を備える、項目１に記載のシステム。
（項目１２）
前記レーザパルスは、０．０５〜１００ｍＪの範囲内のパルスエネルギーを備える、項目１に記載のシステム。
（項目１３）
前記場所は、０．１〜１０ミリメートルの範囲内の幅を備える、項目１に記載のシステム。
（項目１４）
前記歯の硬組織の上に、およびそれを横断してのうちの少なくとも１つで流動するように流体を指向するための流体システムをさらに備える、項目１に記載のシステム。
（項目１５）
前記流体は、空気、窒素、および水のうちの少なくとも１つを含む、項目１４に記載のシステム。
（項目１６）
前記流体は、液体を含む、項目１４に記載のシステム。
（項目１７）
前記流体は、フッ化物を含む、項目１４に記載のシステム。
（項目１８）
前記流体は、圧縮性流体を含む、項目１４に記載のシステム。
（項目１９）
前記流体システムはさらに、流体膨張要素を備える、項目１８に記載のシステム。
（項目２０）
前記流体が、前記レーザパルスと非同期的に、前記歯の硬組織の上に、およびそれを横断してのうちの少なくとも１つで指向されるように、前記流体システムを制御する流体コントローラをさらに備える、項目１４に記載のシステム。
（項目２１）
前記流体が、前記レーザパルスと同時に、前記歯の硬組織の上に、およびそれを横断してのうちの少なくとも１つで指向されるように、前記流体システムを制御する流体コントローラをさらに備える、項目１４に記載のシステム。
（項目２２）
いかなるレーザビームパルスも前記場所に向かって指向されていない間に、前記場所の表面温度を低下した温度まで減少させるために十分な前記流体の流率を調節するための流量コントローラをさらに備え、前記低下した温度および温度上昇量の合計は、最大でも上昇した温度に等しい、項目１４に記載のシステム。
（項目２３）
前記流体は、圧縮空気を含み、
前記流率は、１ＳＬＰＭ〜１００ＳＬＰＭの範囲内である、
項目２２に記載のシステム。
（項目２４）
前記流体システムは、前記歯の硬組織を横断して前記流体を流動させる陰圧差を発生させるように適合される真空源を備える、項目１４に記載のシステム。
（項目２５）
酸溶解に抵抗するように歯の硬組織を治療する方法であって、前記方法は、
レーザビームの少なくとも１つのパルスを発生させるステップと、
少なくとも１つの光学系を使用して、レーザビーム幅を画定し、前記歯の硬組織の表面またはその近傍において前記レーザビームを集束させるステップと、
前記画定されたビーム幅に基づいて、パルスエネルギーを制御するステップであって、前記レーザビームパルスは、
上限閾値フルエンス未満の最大局所フルエンスであって、前記上限閾値フルエンスは、前記歯の硬組織の表面改質を引き起こす最小フルエンスとして定義される、最大局所フルエンスと、
下限閾値フルエンスを上回る少なくとも１つの他の局所フルエンスであって、前記下限閾値フルエンスは、（ｉ）前記歯の硬組織の酸溶解抵抗の最小限の増加と、（ｉｉ）前記歯の硬組織の表面炭酸塩の量の最小限の減少とのうちの少なくとも１つを引き起こすフルエンスとして定義される、少なくとも１つの他の局所フルエンスと
を有する、フルエンスプロファイルを焦点において有する、ステップと
を含む、方法。
（項目２６）
前記表面改質は、融解およびアブレーションのうちの少なくとも１つを含む、項目２５に記載の方法。
（項目２７）
前記融解は、２００倍、５００倍、および１，０００倍のうちの少なくとも１つの倍率において、治療された表面の目視検査によって決定される、項目２６に記載の方法。
（項目２８）
前記アブレーションは、２００倍、５００倍、および１，０００倍のうちの少なくとも１つの倍率において、治療された表面の目視検査によって決定される、項目２６に記載の方法。
（項目２９）
前記酸溶解抵抗は、酸性負荷およびｐＨ循環研究のうちの少なくとも１つによって決定される、項目２５に記載の方法。
（項目３０）
前記酸性負荷は、クエン酸、酢酸、および乳酸のうちの少なくとも１つを使用することを含む、項目２９に記載の方法。
（項目３１）
前記表面炭酸塩の量は、反射率ＦＴＩＲ、ＦＴＩＲ−ＡＴＲ、ラマン分光法、およびＸＲＤのうちの少なくとも１つによって測定される、項目２５に記載の方法。
（項目３２）
前記フルエンスプロファイルはさらに、ガウスプロファイル、近ガウスプロファイル、およびトップハットプロファイルのうちの少なくとも１つを備える、項目２５に記載の方法。
（項目３３）
前記レーザビームパルスは、８〜１２ミクロンの範囲内の波長を有する、項目２５に記載の方法。
（項目３４）
前記パルスエネルギーを制御するステップは、パルス持続時間、平均レーザ入力電力、および平均レーザ出力電力のうちの少なくとも１つを制御するステップを含む、項目２５に記載の方法。
（項目３５）
治療後溶液を前記歯の硬組織に適用するステップをさらに含む、項目２５に記載の方法。
（項目３６）
前記治療後溶液は、過酸化水素、フッ化物、キトサン、キシリトール、カルシウム、およびリン酸塩のうちの少なくとも１つを含む、項目３５に記載の方法。
（項目３７）
前記レーザパルスは、０．１〜１００マイクロ秒の範囲内のパルス持続時間を備える、項目２５に記載の方法。
（項目３８）
前記レーザパルスは、０．０５〜１００ｍＪの範囲内のパルスエネルギーを備える、項目２５に記載の方法。
（項目３９）
前記場所は、０．１〜１０ミリメートルの範囲内の幅を備える、項目２５に記載の方法。
（項目４０）
前記歯の硬組織の上に、およびそれを横断してのうちの少なくとも１つで流動するように流体を指向するステップをさらに含む、項目２５に記載の方法。
（項目４１）
前記流体は、空気、窒素、および水のうちの少なくとも１つを含む、項目４０に記載の方法。
（項目４２）
前記流体は、液体を含む、項目４０に記載の方法。
（項目４３）
前記流体は、フッ化物を含む、項目４０に記載の方法。
（項目４４）
前記流体は、圧縮性流体を含み、前記方法はさらに、前記歯の硬組織上に前記流体を指向することに先立って、前記流体を膨張させるステップを含む、項目４０に記載の方法。
（項目４５）
前記流体を指向するステップは、前記レーザパルスを生成するステップと非同期的である、項目４０に記載の方法。
（項目４６）
前記流体を指向するステップは、前記レーザパルスを生成するステップ中に起こる、項目４０に記載の方法。
（項目４７）
いかなるパルスバーストも前記場所に向かって指向されていない間に、前記場所の表面温度を低下した温度まで減少させるために十分な前記流体の流率を調節するステップをさらに含み、前記低下した温度および温度上昇量の合計は、最大でも上昇した温度に等しい、項目４０に記載の方法。
（項目４８）
前記流体は、圧縮空気を含み、
前記流率は、１ＳＬＰＭ〜１００ＳＬＰＭの範囲内である、
項目４７に記載の方法。
（項目４９）
前記流体を指向するステップは、前記歯の硬組織を横断して前記流体を流動させる陰圧差を発生させるステップを含む、項目４０に記載の方法。
（項目５０）
治療後溶液を前記歯の硬組織に適用するステップをさらに含む、項目４０に記載の方法。
（項目５１）
前記治療後溶液は、過酸化水素、フッ化物、キトサン、キシリトール、カルシウム、およびリン酸塩のうちの少なくとも１つを含む、項目４０に記載の方法。
（項目５２）
酸溶解に抵抗するように歯の硬組織を治療するためのシステムであって、前記システムは、
レーザビームの複数のパルスを発生させるためのレーザ源と、
ビーム誘導システムであって、
初期場所の表面温度が、第１のレーザパルス中に初期表面温度から上昇した表面温度まで上昇され、前記上昇した温度が、前記歯の硬組織の表面改質を引き起こす最低温度として定義される上限温度閾値を下回るように、前記第１のレーザパルスを前記歯の硬組織の治療領域内の前記初期場所に指向することと、
１つ以上の中間レーザパルスを前記治療領域内の１つ以上の中間場所に指向することと、
前記初期場所の冷却が前記表面温度と前記初期表面温度との間の差を前記上昇した温度の５０％以下にさせる、冷却周期後に、別のレーザパルスを前記初期場所に指向することと
を行うように適合される、ビーム誘導システムと
を備える、システム。
（項目５３）
前記初期表面温度は、摂氏２０〜４０度の範囲内である、項目５２に記載のシステム。
（項目５４）
前記上昇した表面温度は、摂氏３００〜１，８００度の範囲内である、項目５２に記載のシステム。
（項目５５）
前記第１のレーザパルスは、０．１〜１００マイクロ秒の範囲内のパルス持続時間を備える、項目５２に記載のシステム。
（項目５６）
前記第１のレーザパルスは、０．０５〜１００ｍＪの範囲内のパルスエネルギーを備える、項目５２に記載のシステム。
（項目５７）
前記初期場所は、０．１〜１０ミリメートルの範囲内の幅を有する、項目５２に記載のシステム。
（項目５８）
前記冷却周期は、少なくとも５００マイクロ秒である、項目５２に記載のシステム。
（項目５９）
前記１つ以上の中間場所は、前記初期場所に重複しない、項目５２に記載のシステム。
（項目６０）
前記１つ以上の中間場所は、規定閾値量を超えない量だけ前記初期場所に重複する、項目５２に記載のシステム。
（項目６１）
前記規定閾値量は、レーザパルスエネルギーおよびレーザビーム幅のうちの少なくとも１つの関数である、項目６０に記載のシステム。
（項目６２）
前記レーザビームは、８〜１２ミクロンの範囲内の波長を有する、項目５２に記載のシステム。
（項目６３）
前記波長は、９〜１０ミクロンの範囲内である、項目６２に記載のシステム。
（項目６４）
前記波長は、１０〜１１ミクロンの範囲内である、項目６２に記載のシステム。
（項目６５）
前記上昇した温度は、（ｉ）前記歯の硬組織の酸溶解抵抗の最小限の増加と、（ｉｉ）前記歯の硬組織の表面炭酸塩の量の最小限の減少とのうちの少なくとも１つを引き起こす温度として定義される下限温度閾値と少なくとも等しい、項目５２に記載のシステム。
（項目６６）
酸溶解に抵抗するように歯の硬組織を治療する方法であって、前記方法は、
第１のレーザパルスを前記歯の硬組織の治療領域内の初期場所に指向するステップと、
前記初期場所の表面温度を、前記第１のレーザパルス中に、初期表面温度から上昇した表面温度まで上昇させるステップであって、前記上昇した温度は、前記歯の硬組織の表面改質を引き起こす最低温度として定義される上限温度閾値を下回る、ステップと、
１つ以上の中間レーザパルスを前記治療領域内の１つ以上の中間場所に指向するステップと、
前記初期場所の冷却が前記表面温度と前記初期表面温度との間の差を前記上昇した温度の５０％以下にさせる冷却周期後に、別のレーザパルスを前記初期場所に指向するステップと
を含む、方法。
（項目６７）
前記初期表面温度は、摂氏２０〜４０度の範囲内である、項目６６に記載の方法。
（項目６８）
前記上昇した表面温度は、摂氏３００〜１，８００度の範囲内である、項目６６に記載の方法。
（項目６９）
前記第１のレーザパルスは、０．１〜１００マイクロ秒の範囲内のパルス持続時間を備える、項目６６に記載の方法。
（項目７０）
前記第１のレーザパルスは、０．０５〜１００ｍＪの範囲内のパルスエネルギーを備える、項目６６に記載の方法。
（項目７１）
前記初期場所は、０．１〜１０ミリメートルの範囲内の幅を有する、項目６６に記載の方法。
（項目７２）
前記冷却周期は、少なくとも５００マイクロ秒である、項目６６に記載の方法。
（項目７３）
前記１つ以上の中間場所は、前記初期場所に重複しない、項目６６に記載の方法。
（項目７４）
前記１つ以上の中間場所は、規定閾値量を超えない量だけ前記初期場所に重複する、項目６６に記載の方法。
（項目７５）
前記規定閾値量は、レーザパルスエネルギーおよびレーザビーム幅のうちの少なくとも１つの関数である、項目７４に記載の方法。
（項目７６）
前記レーザビームは、８〜１２ミクロンの範囲内の波長を有する、項目６６に記載の方法。
（項目７７）
前記波長は、９〜１０ミクロンの範囲内である、項目７６に記載の方法。
（項目７８）
前記波長は、１０〜１１ミクロンの範囲内である、項目７６に記載の方法。
（項目７９）
前記上昇した温度は、（ｉ）前記歯の硬組織の酸溶解抵抗の最小限の増加と、（ｉｉ）前記歯の硬組織の表面炭酸塩の量の最小限の減少とのうちの少なくとも１つを引き起こす温度として定義される下限温度閾値と少なくとも等しい、項目６６に記載の方法。
（項目８０）
治療後溶液を前記歯の硬組織に適用するステップをさらに含む、項目６６に記載の方法。
（項目８１）
前記治療後溶液は、過酸化水素、フッ化物、キトサン、キシリトール、カルシウム、およびリン酸塩のうちの少なくとも１つを含む、項目８０に記載の方法。
（項目８２）
酸溶解に抵抗するように歯の硬組織を治療するためのシステムであって、前記システムは、
レーザビームの複数のパルスを発生させるためのレーザ源と、
レーザビーム幅を画定するように適合される少なくとも１つの光学構成要素と、
前記レーザビームパルスが、前記歯の硬組織の表面にフルエンスプロファイルを有するように、前記画定されたビーム幅に基づいて、パルスエネルギーを制御するように適合されるコントローラであって、前記プロファイルは、（ｉ）前記歯の硬組織の酸溶解抵抗の最小限の増加と、（ｉｉ）前記歯の硬組織の表面炭酸塩の量の最小限の減少とのうちの少なくとも１つを引き起こすフルエンスとして定義される下限閾値フルエンスと少なくとも等しい局所フルエンスを備える、コントローラと、
前記複数のレーザビームパルスを前記歯の硬組織上の個別の場所に指向するように適合されるビーム誘導システムであって、
第１のレーザビームパルスは、第１の場所に指向され、
別のレーザビームパルスは、前記レーザビーム幅に基づく間隔によって前記第１の場所から分離される別の場所に指向される、
ビーム誘導システムと
を備える、システム。
（項目８３）
前記酸溶解抵抗は、酸性負荷およびｐＨ循環研究のうちの少なくとも１つによって決定される、項目８２に記載のシステム。
（項目８４）
前記酸性負荷は、クエン酸、酢酸、および乳酸のうちの少なくとも１つを使用することを含む、項目８３に記載のシステム。
（項目８５）
前記表面炭酸塩の量は、反射率ＦＴＩＲ、ＦＴＩＲ−ＡＴＲ、ラマン分光法、およびＸＲＤのうちの少なくとも１つによって測定される、項目８２に記載のシステム。
（項目８６）
前記フルエンスプロファイルはさらに、ガウスプロファイル、近ガウスプロファイル、およびトップハットプロファイルのうちの少なくとも１つを備える、項目８２に記載のシステム。
（項目８７）
前記複数のレーザビームパルスは、８〜１２ミクロンの範囲内の波長を備える、項目８２に記載のシステム。
（項目８８）
前記コントローラは、パルス持続時間、平均レーザ入力電力、および平均レーザ出力電力のうちの少なくとも１つを制御し、前記パルスエネルギーを制御するように適合される、項目８２に記載のシステム。
（項目８９）
前記間隔はさらに、治療フルエンス幅に基づく、項目８２に記載のシステム。
（項目９０）
酸溶解に抵抗するように歯の硬組織を治療する方法であって、前記方法は、
レーザビームの複数のパルスを発生させるステップと、
少なくとも１つの光学構成要素を使用して、レーザビーム幅を画定するステップと、
前記レーザビームパルスが、前記歯の硬組織の表面にフルエンスプロファイルを有するように、前記画定されたビーム幅に基づいて、パルスエネルギーを制御するステップであって、前記プロファイルは、（ｉ）前記歯の硬組織の酸溶解抵抗の最小限の増加と、（ｉｉ）前記歯の硬組織の表面炭酸塩の量の最小限の減少とのうちの少なくとも１つを引き起こすフルエンスとして定義される下限閾値フルエンスと少なくとも等しい局所フルエンスを備える、ステップと、
第１のレーザビームパルスを前記歯の硬組織上の第１の場所に指向するステップと、
別のレーザビームパルスを、前記レーザビーム幅に基づく間隔によって前記第１の場所から分離される別の場所に指向するステップと
を含む、方法。
（項目９１）
前記酸溶解抵抗は、酸性負荷およびｐＨ循環研究のうちの少なくとも１つによって決定される、項目９０に記載の方法。
（項目９２）
前記酸性負荷は、クエン酸、酢酸、および乳酸のうちの少なくとも１つを使用することを含む、項目９１に記載の方法。
（項目９３）
前記表面炭酸塩の量は、反射率ＦＴＩＲ、ＦＴＩＲ−ＡＴＲ、ラマン分光法、およびＸＲＤのうちの少なくとも１つによって測定される、項目９０に記載の方法。
（項目９４）
前記フルエンスプロファイルはさらに、ガウスプロファイル、近ガウスプロファイル、およびトップハットプロファイルのうちの少なくとも１つを備える、項目９０に記載の方法。
（項目９５）
前記複数のレーザビームパルスは、８〜１２ミクロンの範囲内の波長を備える、項目９０に記載の方法。
（項目９６）
前記パルスエネルギーを制御するステップは、パルス持続時間、平均レーザ入力電力、および平均レーザ出力電力のうちの少なくとも１つを制御するステップを含む、項目９０に記載の方法。
（項目９７）
前記間隔はさらに、治療フルエンス幅に基づく、項目９０に記載の方法。
（項目９８）
治療後溶液を前記歯の硬組織に適用するステップをさらに含む、項目９０に記載の方法。
（項目９９）
前記治療後溶液は、過酸化水素、フッ化物、キトサン、キシリトール、カルシウム、およびリン酸塩のうちの少なくとも１つを含む、項目９８に記載の方法。
（項目１００）
酸溶解に抵抗するように歯の硬組織の治療領域を治療するためのシステムであって、前記治療領域は、前記治療領域に付着した染色薄膜を備え、
前記治療領域内の場所に向かって指向されるレーザビームの少なくとも１つのパルスを発生させるためのレーザ源と、
前記場所の表面温度が、前記レーザパルス中に、少なくとも、前記染色薄膜の少なくとも一部の除去のために必要な温度まで上昇されるように、前記レーザ源を制御するように適合される、コントローラと
を備える、システム。
（項目１０１）
前記染色は、エリスロシン、フロキシン、ビスマルクブラウン、ムチカルミン、および食品着色料のうちの少なくとも１つを含む、項目１００に記載のシステム。
（項目１０２）
前記コントローラはさらに、前記レーザパルス中に、（ｉ）前記歯の硬組織の酸溶解抵抗の最小限の増加と、（ｉｉ）前記歯の硬組織の表面炭酸塩の量の最小限の減少とのうちの少なくとも１つを引き起こす温度として定義される下限治療閾値温度を上回って、前記場所の表面温度を上昇させるように適合される、項目１００に記載のシステム。
（項目１０３）
前記下限治療閾値温度は、摂氏３００度を上回る、項目１０２に記載のシステム。
（項目１０４）
前記レーザパルスは、０．１〜１００マイクロ秒の範囲内のパルス持続時間を備える、項目１００に記載のシステム。
（項目１０５）
前記レーザパルスは、０．０５〜１００ｍＪの範囲内のパルスエネルギーを備える、項目１００に記載のシステム。
（項目１０６）
前記場所は、０．１〜１０ミリメートルの範囲内の幅を備える、項目１００に記載のシステム。
（項目１０７）
前記レーザビームは、８〜１２ミクロンの範囲内の波長を有する、項目１００に記載のシステム。
（項目１０８）
前記波長は、９〜１０ミクロンの範囲内である、項目１０７に記載のシステム。
（項目１０９）
前記波長は、１０〜１１ミクロンの範囲内である、項目１０８に記載のシステム。
（項目１１０）
前記染色は、過酸化水素、フッ化物、キトサン、キシリトール、カルシウム、およびリン酸塩のうちの少なくとも１つを含む、項目１００に記載のシステム。
（項目１１１）
酸溶解に抵抗するように歯の硬組織の治療領域を治療する方法であって、前記治療領域は、前記治療領域に付着した染色薄膜を備え、前記方法は、
レーザ源からレーザビームの少なくとも１つのパルスを発生させるステップと、
前記治療領域内の場所に向かって前記レーザパルスを指向するステップと、
前記場所の表面温度が、前記レーザパルス中に、少なくとも、前記染色薄膜の少なくとも一部の除去のために必要な温度まで上昇されるように、前記レーザ源を制御するステップと
を含む、方法。
（項目１１２）
前記染色は、エリスロシン、フロキシン、ビスマルクブラウン、ムチカルミン、および食品着色料のうちの少なくとも１つを含む、項目１１１に記載の方法。
（項目１１３）
前記レーザパルス中に、下限治療温度を上回って前記場所の表面温度を上昇させるステップをさらに含む、項目１１１に記載の方法。
（項目１１４）
前記下限治療閾値温度は、（ｉ）前記歯の硬組織の酸溶解抵抗の最小限の増加と、（ｉｉ）前記歯の硬組織の表面炭酸塩の量の最小限の減少とのうちの少なくとも１つを引き起こす温度として定義される、項目１１３に記載の方法。
（項目１１５）
前記下限治療閾値温度は、摂氏３００度を上回る、項目１１３に記載の方法。
（項目１１６）
前記レーザパルスは、０．１〜１００マイクロ秒の範囲内のパルス持続時間を備える、項目１１１に記載の方法。
（項目１１７）
前記レーザパルスは、０．０５〜１００ｍＪの範囲内のパルスエネルギーを備える、項目１１１に記載の方法。
（項目１１８）
前記場所は、０．１〜１０ミリメートルの範囲内の幅を備える、項目１１１に記載の方法。
（項目１１９）
前記レーザビパルスは、８〜１２ミクロンの範囲内の波長を備える、項目１１１に記載の方法。
（項目１２０）
前記波長は、９〜１０ミクロンの範囲内である、項目１１１に記載の方法。
（項目１２１）
前記波長は、１０〜１１ミクロンの範囲内である、項目１２０に記載の方法。
（項目１２２）
前記染色は、過酸化水素、フッ化物、キトサン、キシリトール、カルシウム、およびリン酸塩のうちの少なくとも１つを含む、項目１１１に記載の方法。
（項目１２３）
治療後溶液を前記歯の硬組織に適用するステップをさらに含む、項目１１１に記載の方法。
（項目１２４）
前記治療後溶液は、過酸化水素、フッ化物、キトサン、キシリトール、カルシウム、およびリン酸塩のうちの少なくとも１つを含む、項目１２３に記載の方法。
（項目１２５）
酸溶解に抵抗するように歯の硬組織を治療するためのシステムであって、前記システムは、
レーザビームの複数のパルスを発生させるためのレーザ源と、
前記レーザ源と光通信する少なくとも１つの光学系であって、前記少なくとも１つの光学系は、前記歯の硬組織の表面またはその近傍において前記レーザビームを集束させるように適合される、少なくとも１つの光学系と、
前記複数のレーザパルスの少なくとも一部のエネルギーを測定するために適合されるレーザエネルギーセンサと、
コントローラであって、前記コントローラは、前記複数のレーザビームパルスのうちの各１つが、上限閾値フルエンス未満の最大局所フルエンスを有するフルエンスプロファイルを焦点において有し、前記上限閾値フルエンスが、前記歯の硬組織の表面改質を引き起こす最小フルエンスとして定義されるように、前記測定されたエネルギーに応答して、前記レーザ源を制御するように適合される、コントローラと
を備える、システム。
（項目１２６）
前記レーザエネルギーセンサは、ヒ化インジウムセンサ、水銀カドミウムテルルセンサ、熱電対列、フォトダイオード、および光検出器のうちの少なくとも１つを備える、項目１２５に記載のシステム。
（項目１２７）
前記レーザエネルギーセンサに向かって前記複数のレーザパルスの一部を指向するように適合されるビームピックオフをさらに備える、項目１２５に記載のシステム。
（項目１２８）
前記ビームピックオフは、反射性減光フィルタ、部分的透過性ミラー、およびビーム合成器のうちの少なくとも１つを備える、項目１２７に記載のシステム。
（項目１２９）
前記ビームピックオフは、前記レーザエネルギーセンサの損傷閾値に基づいて選択される、項目１２７に記載のシステム。
（項目１３０）
前記コントローラは、パルスあたりのレーザエネルギーに従って、焦点における前記レーザビームの幅および前記レーザビームのテーパ化を制御するように適合される、項目１２５に記載のシステム。
（項目１３１）
前記コントローラは、前記焦点における前記レーザビームの幅に従って、（ｉ）レーザ電力と、（ｉｉ）パルス持続時間とのうちの少なくとも１つを制御するように適合される、項目１２５に記載のシステム。
（項目１３２）
酸溶解に抵抗するように歯の硬組織を治療する方法であって、前記方法は、
レーザ源からレーザビームの複数のパルスを発生させるステップと、
前記レーザ源と光通信する少なくとも１つの光学系を使用して、前記歯の硬組織の表面またはその近傍において前記レーザビームを集束させるステップと、
前記複数のレーザビームパルスの少なくとも一部のエネルギーを測定するステップと、
前記複数のレーザビームパルスのうちの各１つが、
上限閾値フルエンス未満の最大局所フルエンスを有するフルエンスプロファイルを焦点において有し、前記上限閾値フルエンスが、前記歯の硬組織の表面改質を引き起こす最小フルエンスとして定義される
ように、前記測定されたエネルギーに応答して、前記レーザ源を制御するステップと
を含む、方法。
（項目１３３）
前記測定されたエネルギーは、（ｉ）各レーザビームパルスからのエネルギーの一部と、（ｉｉ）各レーザビームパルスからの前記エネルギーの実質的に全てとのうちの少なくとも１つを備える、項目１３２に記載の方法。
（項目１３４）
前記複数のレーザビームパルスの少なくとも一部の測定されたエネルギーを感知するステップをさらに含む、項目１３２に記載の方法。
（項目１３５）
前記複数のレーザビームパルスからエネルギーの信号部分を取り出すステップをさらに含み、前記複数のレーザビームパルスの少なくとも一部の測定されたエネルギーを感知するステップは、前記エネルギーの信号部分の測定されたエネルギーを感知するステップを含む、項目１３４に記載の方法。
（項目１３６）
焦点における前記レーザビームの幅を制御するステップと、
パルスあたりのレーザエネルギーに従って、前記レーザビームをテーパ化するステップと
をさらに含む、項目１３２に記載の方法。
（項目１３７）
前記焦点における前記レーザビームの幅に従って、（ｉ）レーザ電力と、（ｉｉ）パルス持続時間とのうちの少なくとも１つを制御するステップをさらに含む、項目１３２に記載の方法。
（項目１３８）
治療後溶液を前記歯の硬組織に適用するステップをさらに含む、項目１３２に記載の方法。
（項目１３９）
前記治療後溶液は、過酸化水素、フッ化物、キトサン、キシリトール、カルシウム、およびリン酸塩のうちの少なくとも１つを含む、項目１３８に記載の方法。
（項目１４０）
酸溶解に抵抗するように歯の硬組織を治療するためのシステムであって、前記システムは、
レーザビームの少なくとも１つのパルスを発生させるためのレーザ源と、
前記レーザ源と光通信する少なくとも１つの光学系であって、前記少なくとも１つの光学系は、レーザビーム幅を画定し、前記歯の硬組織の表面またはその近傍において前記レーザビームを集束させるように適合される、少なくとも１つの光学系と、
コントローラであって、前記コントローラは、前記レーザビームパルスが、上限閾値フルエンス未満の最大局所フルエンスを有するフルエンスプロファイルを焦点において有し、前記上限閾値フルエンスが、前記歯の硬組織の表面改質を引き起こす最小フルエンスとして定義されるように、前記定義されたビーム幅に基づいてパルスエネルギーを制御するように適合される、コントローラと、
治療後溶液を前記歯の硬組織に適用するように適合される治療後送達システムと
を備える、システム。
（項目１４１）
前記治療後溶液は、過酸化水素、フッ化物、キトサン、キシリトール、カルシウム、およびリン酸塩のうちの少なくとも１つを含む、項目１４０に記載のシステム。
（項目１４２）
前記コントローラは、パルス持続時間、平均レーザ入力電力、および平均レーザ出力電力のうちの少なくとも１つを制御し、前記パルスエネルギーを制御するように適合される、項目１４０に記載のシステム。
（項目１４３）
酸溶解に抵抗するように歯の硬組織を治療する方法であって、前記方法は、
レーザビームの少なくとも１つのパルスを発生させるステップと、
少なくとも１つの光学系を使用して、レーザビーム幅を画定し、前記歯の硬組織の表面またはその近傍において前記レーザビームを集束させるステップと、
前記レーザビームパルスが、上限閾値フルエンス未満の最大局所フルエンスを有するフルエンスプロファイルを焦点において有し、前記上限閾値フルエンスが、前記歯の硬組織の表面改質を引き起こす最小フルエンスとして定義されるように、前記定義されたビーム幅に基づいてパルスエネルギーを制御するステップと、
治療後溶液を前記歯の硬組織に送達するステップと
を含む、方法。
（項目１４４）
前記治療後溶液は、過酸化水素、フッ化物、キトサン、キシリトール、カルシウム、およびリン酸塩のうちの少なくとも１つを含む、項目１４３に記載の方法。
（項目１４５）
前記パルスエネルギーを制御するステップは、パルス持続時間、平均レーザ入力電力、および平均レーザ出力電力のうちの少なくとも１つを制御するステップを含む、項目１４４に記載の方法。