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【手続補正書】
【提出日】平成16年9月22日(2004.9.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フッ化ビニリデン系共重合体と、フッ化ビニリデン単独重合体とからなる電線被覆用高分子組成物において、フッ化ビニリデン系共重合体が、フッ化ビニリデン９５〜７０重量％と、６フッ化プロピレン、３フッ化塩化エチレン及び４フッ化エチレンから選ばれる単量体５〜３０重量％とからなり、高分子組成物の結晶融点が１７０℃以上、１７７℃未満であることを特徴とする電線被覆用高分子組成物。
【請求項２】
フッ化ビニリデン系共重合体４０〜６０重量％と、フッ化ビニリデン単独重合体６０〜４０重量％とからなることを特徴とする請求項１に記載の電線被覆用高分子組成物。
【請求項３】
フッ化ビニリデン系共重合体のインヘレント粘度が０．８〜２ｄｌ／ｇ、フッ化ビニリデン単独重合体のインヘレント粘度が０．８〜２ｄｌ／ｇであり、これらのインヘレント粘度値の差が１ｄｌ／ｇ以内であることを特徴とする請求項１または２に記載の電線被覆用高分子組成物。
【請求項４】
請求項１〜３に記載の電線被覆用高分子組成物によって被覆されたことを特徴とする電線被覆体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
フッ化ビニリデンと共重合可能な単量体としては、エチレン、プロピレン等の炭化水素系単量体、フッ化ビニル、３フッ化エチレン、３フッ化塩化エチレン、４フッ化エチレン、６フッ化プロピレン、フルオロアルキルビニルエーテル等の含フッ素単量体を挙げることができる。上記の単量体の中でより望ましいのは６フッ化プロピレン、３フッ化塩化エチレン、４フッ化エチレン等である。これらは、フッ化ビニリデン系共重合体の結晶化度を乱す傾向が大きく、組成物の柔軟性を得やすいからである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
（１）インヘレント粘度
重合体の分子量の目安として、インヘレント粘度を用いた。フッ化ビニリデン単独重合体またはフッ化ビニリデン系共重合体４ｇを１リットルのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドに溶解させた溶液の３０℃における対数粘度を測定した。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
（フッ化ビニリデン系共重合体Ｃ１の製造）
内容積１０リットルのオートクレーブに、イオン交換水７６４４ｇ、メチルセルロース１．９５ｇ、ｎ−プロピルパーオキシジカーボネート３５．１ｇ、フッ化ビニリデン２０６７ｇ、６フッ化プロピレン４６８ｇを仕込み、２８℃で３．８時間懸濁重合を行った後、重合圧力を維持するようにフッ化ビニリデン１３６５ｇを約１１時間にわたり添加した。更に重合開始から約１６時間後に４０℃に昇温し、合計２０．７時間の懸濁重合を行った。重合完了後、重合体スラリーを脱水、水洗後、８０℃で２０時間乾燥して重合体粉末を得た。重合率は８７％であり、得られた重合体のインヘレント粘度は１．０１ｄｌ／ｇであった。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
図２のグラフから、フッ化ビニリデン単独重合体とフッ化ビニリデン系共重合体とからなる高分子組成物おいて、フッ化ビニリデン系共重合体の割合が増加するにつれ、ほぼ直線的に曲げ弾性率が減少しており、規定たわみ曲げ弾性率を低く維持するために、フッ化ビニリデン系共重合体配合量を２０重量％以上とし、より低く維持するためには、４０重量％以上とすることが望ましいことが判る。一方、図１のグラフから、フッ化ビニリデン系共重合体の配合量が８０重量％付近で急激に結晶融点が低下するので、一定以上の結晶融点を得るためにフッ化ビニリデン系共重合体の配合量を８０重量％以下とすることが望ましく、特に、より高い結晶融点を確保するためにはフッ化ビニリデン系共重合体の配合量を６０重量％以下とすることがより望ましいことが判る。
【手続補正書】
【提出日】平成16年8月4日(2004.8.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９８】
上記乳化剤のうちアニオン性界面活性剤としては特に限定されないが、例えば、次の化合物が挙げられる：ラウリン酸カリウム、ヤシ脂肪酸カリウム、ミリスチン酸カリウム、オレイン酸カリウム、ジエタノールアミン塩、オレイン酸ナトリウム、パルミチン酸カリウム、ステアリン酸カリウム、ステアリン酸ナトリウム、混合脂肪酸ソーダ石けん、半硬化牛脂脂肪酸ソーダ石けん、ヒマシ油カリ石けんなどの脂肪酸石けん；ドデシル硫酸ナトリウム、高級アルコール硫酸ナトリウム、ドデシル硫酸トリエタノールアミン、ドデシル硫酸アンモニウム、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸ナトリウム、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸トリエタノールアミン、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸ナトリウム、２−エチルヘキシル硫酸ナトリウムなどのアルキル硫酸エステル塩；ドデシルスルホン酸ナトリウムなどのアルキルスルホン酸ナトリウム；ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムなどのアルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム；ジ−２−エチルヘキシルスルホコハク酸ナトリウムなどのジアルキルスルホコハク酸ナトリウム；アルキルナフタレンスルホン酸ナトリウム；アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸ナトリウム；アルキルリン酸カリウム塩；ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物のナトリウム塩；ポリカルボン酸型高分子アニオン；アシル（牛脂）メチルタウリン酸ナトリウム；アシル（ヤシ）メチルタウリン酸ナトリウム；ココイルイセチオン酸ナトリウム；α−スルホ脂肪酸エステルナトリウム塩；アミドエーテルスルホン酸ナトリウム；オレイルザルコシン；ラウロイルザルコシンナトリウム；ロジン酸石けんなど。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０８】
工程（Ｉ）によるチオカルボニルチオ基含有重合体（ａ２）の生成を以下に示す。チオカルボニルチオ基を有する化合物（１）を用いた場合には、スキーム１に示すように、アクリル酸エステルを主成分とする単量体（ａ１）のラジカル重合を行なうことにより、チオカルボニルチオ基含有重合体（ａ２−１）が生成する（ｎは、単量体（ａ１）の繰り返し数である）。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１９】
上記水素−窒素含有化合物のうち、(iii-５)のアミド系化合物としては、特に限定されないが、次の化合物が挙げられる：２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸、アジピン酸ジヒドラジド、Ｎ−イソプロピルアクリルアミド、Ｎ−ｔ−オクチルアクリルアミド、カルボヒドラジド、グアニルチオ尿素、グリシルグリシン、Ｎ−〔３−（ジメチルアミノ）プロピル〕アクリルアミド、Ｎ−〔３−（ジメチルアミノ）プロピル〕メタクリルアミド、Ｎ，Ｎ’−エチレンビス（ステアロアミド）、オレイン酸アミド、ステアリン酸アミド、Ｎ，Ｎ’−メチレンビス（ステアロアミド）、Ｎ−（ヒドロキシメチル）ステアロアミド、ダイアセトンアクリルアミド、チオアセトアミド、チオカルボヒドラジド、チオセミカルバジド、チオ尿素、ドデカン二酸ジヒドラジド、セバシン酸ジヒドラジド、イソフタル酸ジヒドラジド、１，６−ヘキサメチレンビス（Ｎ，Ｎ−ジメチルセミカルバジド）、ホルムアミド、メタクリルアミド、Ｎ，Ｎ’−メチレンビス（アクリルアミド）、Ｎ−メチロールアクリルアミド、アセトアニリド、アセト酢酸ｏ−アニシダイド、アセト酢酸アニリド、アセト酢酸ｍ−キシリダイド、アセト酢酸ｏ−クロロアニリド、アセト酢酸２，５−ジメトキシ−４−クロロアニリド、アセト酢酸トルイダイド、１，１，１’、１’−テトラメチル−４，４’−（メチレンジ−ｐ−フェニレン）ジセミカルバジド、トルエンスルホンアミド、ｐ−ヒドロキシフェニルアセトアミド、フタルイミド、イソシアヌル酸、３−カルバモイル−２−ピラジンカルボン酸、コハク酸イミド、５，５−ジメチルヒダントイン、１，３−ビス（ヒドラジノカルボエチル）−５−イソプロピルヒダントイン、ヒダントイン、フェニルピラゾリドン、３−メチル−５−ピラゾロン、１−メチロール−５，５−ジメチルヒダントイン、３−（４−クロロフェニル）−１，１−ジメチル尿素、ブロムワレリル尿素、２，６−ジフルオロベンズアミド、２，２，２−トリフルオロアセトアミドなど。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２８】
工程（Ｉ）においてチオカルボニルチオ基を有する化合物（２）を用いてチオカルボニルチオ基含有重合体（ａ２−２）を得た場合には、スキーム４に示すように、これを処理剤と反応させることにより、該重合体のチオカルボニルチオ基が、メルカプト基に変換され、メルカプト基を有する重合体（Ａ−２）が得られる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１６０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１６０】
（製造例１）  両末端にメルカプト基を有するアクリル酸ｎ−ブチル−アクリル酸２−メトキシエチル共重合体の製造
撹拌機、温度計、窒素ガス導入管、還流冷却管、および滴下ろうとを備えた２Ｌ反応器に、乳化剤であるドデシル硫酸ナトリウム４１０ｍｇ、乳化剤であるノニオンＮＳ‐２７０（ＨＬＢ＝１８．７、日本油脂株式会社製）２０ｇ、および蒸留水８００ｇを入れ、８０℃に加熱撹拌しながら系内を窒素置換した。チオカルボニルチオ基を有する化合物として式（４）
【手続補正書】
【提出日】平成16年5月10日(2004.5.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４９】
本発明の粉末状重合体組成物は、ポリウレタン系ブロック共重合体（II）を、付加重合系ブロック共重合体（Ｉ）１００質量部に対して５０〜１５０質量部の割合で含有することが好ましい。また、熱可塑性ポリウレタンエラストマー（III）を、付加重合系ブロック共重合体（Ｉ）１００質量部に対して２００〜４００質量部の割合で含有することが好ましい。また、軟化剤（IV）を、付加重合系ブロック共重合体（Ｉ）１００質量部に対して５０〜２００質量部の割合で含有することが好ましい。
【手続補正書】
【提出日】平成16年9月29日(2004.9.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
真空脱ガス法で脱炭処理を行いつつ極低炭素鋼を溶製するに当たり、脱炭処理前の取鍋スラグ中の総鉄量(Ｔ．Ｆｅ）を６超〜１２％（質量％の意味、以下同じ）に制御し、脱炭処理終了時における溶鋼と取鍋スラグ中の酸素ポテンシャルが略同等となるようにすることを特徴とする極低炭素鋼の溶製方法。
【請求項２】
脱炭処理終了時における溶鋼中溶存酸素活量［Ｏ］ｆ（ｐｐｍ）と前記取鍋スラグ中総鉄量（Ｔ．Ｆｅ）（％）が、下記（１）式を満足するようにして前記総鉄量（Ｔ．Ｆｅ）を制御する請求項１に記載の溶製方法。
43.1×（Ｔ．Ｆｅ）−37.5≦［Ｏ］ｆ≦43.1×（Ｔ．Ｆｅ）−57.5  …（１）
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決することのできた本発明の溶製方法とは、真空脱ガス法で脱炭処理を行いつつ極低炭素鋼を溶製するに当たり、脱炭処理前の取鍋スラグ中の総鉄量(Ｔ．Ｆｅ）を６超〜１２％（質量％の意味、以下同じ）に制御し、脱炭処理終了時における溶鋼と取鍋スラグ中の酸素ポテンシャルが略同等となるようにする点に要旨を有するものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記本発明方法においては、脱炭処理終了時における溶鋼と取鍋スラグ中の酸素ポテンシャルが略同等となるようにするには、脱炭処理終了時における溶鋼中溶存酸素活量［Ｏ］ｆ（ｐｐｍ）と前記取鍋スラグ中総鉄量（Ｔ．Ｆｅ）（％）が、下記（１）式を満足するようにして前記総鉄量（Ｔ．Ｆｅ）を制御すれば良い。
【手続補正書】
【提出日】平成16年10月29日(2004.10.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項５】
前記伸縮強化用の伸縮性糸が動きを異にする複数の筬により導糸される複数グループの伸縮性糸よりなり、各グループの伸縮性糸によりそれぞれ帯状の強化伸縮部が形成され、そのーつの強化伸縮部が前記編地の側縁の曲線形状に沿って設けられてなる請求項１、２、４のいずれか１項に記載のレース編地。
【手続補正書】
【提出日】平成16年12月3日(2004.12.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ユーザの所定の特性を能動的に監視してこれら特性をユーザおよび他者に伝えるモジュールを備えたヘルメットを備えていることを特徴とするヘルメット装置。
【請求項２】
前記ヘルメットが内側シェル部を備え、前記内側シェル部がユーザの頭に適合するように衝撃吸収材料から作られていることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記ヘルメットが外側シェル部を備え、前記外側シェル部は、前記内側シェル部に固着され、頑丈な耐久性材料から作られていることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項４】
前記モジュールが前記ヘルメットのシェルに固着されていることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項５】
前記モジュールがユーザの位置および周囲環境との相互作用を能動的に監視していることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項６】
前記モジュールは、緊急状況において所定の電話番号を自動的に呼び出し、リアルタイム位置情報を与えるようプログラムされていることを特徴とする請求項５に記載の装置。
【請求項７】
前記モジュールが、少なくとも１つの環境センサ、広範囲位置探索システム、移動通信ネットワーク、表示パネル、マイクロホンおよび少なくとも１つのスピーカを備えていることを特徴とする請求項６に記載の装置。
【請求項８】
前記環境センサが加速度計またはジャイロスコープで構成されていることを特徴とする請求項７に記載の装置。
【請求項９】
前記広範囲位置探索システムがグローバルポジショニングシステム（ＧＰＳ）で構成されていることを特徴とする請求項７に記載の装置。
【請求項１０】
移動通信機は移動電話機器で構成されていることを特徴とする請求項７に記載の装置。
【請求項１１】
前記表示パネルがＬＣＤドットマトリックスディスプレイで構成されていることを特徴とする請求項７に記載の装置。
【請求項１２】
前記モジュールの操作を制御するためのプロセッサが設けられていることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項１３】
ヘルメットと、前記ヘルメットに固着され、集積回路の動作を制御するプロセッサ回路、少なくとも一つの環境センサ、表示装置、広範囲位置探索システム、移動通信装置、マイクロホンおよび少なくとも一つのスピーカを備えている集積回路とを備え、前記集積回路が前記ヘルメットのユーザの所定の特性を能動的に監視するようになっていることを特徴とするヘルメット装置。
【請求項１４】
前記ヘルメットが内側シェル部を備え、前記内側シェル部がユーザの頭に適合するように衝撃吸収材料から作られていることを特徴とする請求項１３に記載の装置。
【請求項１５】
前記ヘルメットが外側シェル部を備え、前記外側シェル部は、前記内側シェル部に固着され、頑丈な耐久性材料から作られていることを特徴とする請求項１３に記載の装置。
【請求項１６】
前記集積回路がヘルメットの殻に固着されていることを特徴とする請求項１３に記載の装置。
【請求項１７】
前記環境センサが加速度計またはジャイロスコープであることを特徴とする請求項１３に記載の装置。
【請求項１８】
前記広範囲位置探索システムが広範囲位置決定システムであることを特徴とする請求項１３に記載の装置。
【請求項１９】
前記移動通信装置は移動電話機器で構成されていることを特徴とする請求項１３に記載の装置。
【請求項２０】
前記表示パネルがＬＣＤドットマトリックスディスプレイで構成されていることを特徴とする請求項１３に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成16年10月7日(2004.10.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ceを発光元素とし、少なくともGd、Al、Ga及びOを含んだガーネット構造の母体結晶からなる蛍光体を用いた蛍光体素子であって、波長550nmの光に対する吸収係数μが0.6mm-1以下であることを特徴とする蛍光体素子。
【請求項２】
Ceを発光元素とし、少なくともGd、Al、Ga及びOを含んだガーネット構造の母体結晶からなる蛍光体を用いた蛍光体素子であって、厚さ1.8mmにおける光透過率が35％以上であることを特徴とする蛍光体素子。
【請求項３】
Ceを発光元素とし、少なくともGd、Al、Ga及びOを含んだガーネット構造の母体結晶からなる蛍光体を用いた蛍光体素子であって、60keVのＸ線に対する感度が、光透過率100％の感度を100とするとき、70以上であることを特徴とする蛍光体素子。
【請求項４】
請求項１ないし３いずれか１項記載の蛍光体素子であって、相対密度が99.8％以上であり、且つ平均結晶粒径が4μｍ以上であることを特徴とする蛍光体素子。
【請求項５】
請求項１ないし４いずれか１項記載の蛍光体素子であって、厚さが1.8mm以上であることを特徴とする蛍光体素子。
【請求項６】
前記蛍光体は、原料粉末を合成し、平均粒径が４μｍ以上の蛍光体粉末を得る工程と、前記蛍光体粉末を焼結する工程とを含む製造方法により製造されたことを特徴とする請求項１ないし５いずれか１項記載の蛍光体素子。
【請求項７】
前記蛍光体は、原料粉末を合成し、平均粒径が１μｍ以下の蛍光体粉末を得る工程と、前記蛍光体粉末を焼結する工程とを含む製造方法により製造されたことを特徴とする請求項１ないし５いずれか１項記載の蛍光体素子。
【請求項８】
前記蛍光体は、原料粉末を合成し、蛍光体粉末を得る工程と、前記蛍光体粉末を融点直下の温度で常圧焼結する工程とを含む製造方法により製造されたことを特徴とする請求項１ないし５いずれか１項記載の蛍光体素子。
【請求項９】
放射線により発光する蛍光体素子と、前記蛍光体による発光を検出する光電変換素子とを備えた放射線検出器において、前記蛍光体素子として請求項１ないし８いずれか１項記載の蛍光体素子を用いたことを特徴とする放射線検出器。
【請求項１０】
放射線源と、この放射線源に対向して配置された放射線検出器と、これら放射線源及び放射線検出器を保持し、被検体の周りで回転駆動される回転円板と、前記放射線で検出された放射線の強度に基づき前記被検体の断層像を画像再構成する画像再構成手段とを備えた医用画像診断装置において、前記放射線検出器として請求項９に記載の放射線検出器を用いたことを特徴とする医用画像診断装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
この焼結体の相対密度は99.9％であった。またこのシンチレータの波長550nmの光に対する吸収係数μは0.57mm-1であり、波長550nmの光に対する光透過率は36％であった。この場合、60keVのＸ線に対する感度は、光透過率100％の感度を100としたとき76以上であり、低エネルギー領域についても十分な検出感度を有することが示された。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
この焼結体の相対密度は99.9％であった。また、このシンチレータの波長550nmの光に対する吸収係数μは0.63mm-1であり、波長550nmの光に対する光透過率は32％であった。この場合、60keVのＸ線に対する感度は、光透過率100％の場合の感度を100とするとき68に低下し、低エネルギー領域については十分な検出感度が得られないことが示された。
【手続補正書】
【提出日】平成17年10月4日(2005.10.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４５】
本発明に従って用いるのに適したイソシアネート反応性組成物は、例えば、ポリイソシアネート成分のNCO基と反応できる水酸基２〜８個を含み、約１０６〜約１６００の分子量および約３１〜約２００未満の当量を有するイソシアネート反応性化合物を含む。本発明においてイソシアネート反応性組成物として使用するのに適した化合物は、例えば、ジオール、トリオールおよび他のより高官能性のポリオール、並びに例えばジ−、トリ−および高官能性出発分子（例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセロール、トリメチロールプロパン、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ペンタエリスリトール、ショ糖、ソルビトール）のアルコキシル化生成物を含むポリエーテルポリオール、２００未満の当量および２〜８の官能価を有するポリエーテルポリオールを包含する。適当なポリエーテルポリオールは、上記ヒドロキシ官能性化合物とアルキレンオキシド、例えばプロピレンオキシドおよび／またはエチレンオキシドとの反応により調製することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成16年9月7日(2004.9.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】香料成分としての第三アルコールまたはエステルの使用
【手続補正書】
【提出日】平成17年9月27日(2005.9.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  船舶用又は固定運転用の、残燃料油供給ディーゼルエンジン用潤滑油組成物であって、
（ａ）多量の、潤滑粘度を有する油；及び
（ｂ）少量の、油溶性又は油分散性モリブデン化合物
を含み、ASTM D-2896により測定されるＴＢＮが２０〜１００であり、かつ、ASTM D-445により測定される１００℃での粘度が９〜３０ｍｍ2ｓ-1である潤滑油組成物。
【請求項２】  モリブデン化合物が多核化合物である請求項１に記載の潤滑油組成物。
【請求項３】  モリブデン化合物が三核化合物である請求項２に記載の潤滑油組成物。
【請求項４】  ＴＢＮが３０〜９５であり、１００℃での粘度が９〜２５ｍｍ2ｓ-1である、残燃料供給クロスヘッド船舶ディーゼルエンジン用潤滑油組成物の形態にある請求項１〜３のいずれか１項に記載の潤滑油組成物。
【請求項５】  更に、（ｃ）１種又は２種以上の過塩基化金属清浄剤を含む清浄剤組成物を含む請求項１〜４のいずれか１項に記載の潤滑油組成物。
【請求項６】  更に、（ｄ）１００〜１００００の分子量を有する炭化水素主鎖を有する分散剤を含む請求項１〜５のいずれか１項に記載の潤滑油組成物。
【請求項７】  モリブデン化合物が、潤滑油組成物の質量をベースとして、１〜１００００質量ｐｐｍのモリブデン量で存在する請求項１〜６のいずれか１項に記載の潤滑油組成物。
【請求項８】  更に残燃料油を含む請求項１〜７のいずれか１項に記載の潤滑油組成物。
【請求項９】  ２ストローククロスヘッド船舶ディーゼルエンジンのシリンダと請求項１〜８のいずれか１項に記載の潤滑油組成物との組み合せであって、シリンダの出力が４０００ｋＷ又はそれより高い、組み合せ。
【請求項１０】  残燃料油供給ディーゼルエンジンのシリンダライナにおける、腐食性摩耗を低減するための、油溶性又は油分散性モリブデン化合物又は該モリブデン化合物を含む組成物の使用。
【請求項１１】  残燃料油供給ディーゼルエンジンのシリンダライナにおける腐食性摩耗を低減する方法であって、シリンダ壁へ、請求項１〜８のいずれか１項に記載の潤滑油組成物を供給することを含む方法。
【請求項１２】  （ａ）油溶性又は油分散性モリブデン化合物；及び（ｂ）１種又は２種以上の補助添加剤を含む添加剤組成物であって、
５〜４０質量％の添加剤組成物を含む潤滑油組成物の、ASTM D-2896により測定されるＴＢＮが２０〜１００となり、かつ、ASTM D-445により測定される１００℃での粘度が９〜３０ｍｍ2ｓ-1の範囲となる量で（ａ）及び（ｂ）を含む添加剤組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成16年9月14日(2004.9.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
調整器具本体に対して伸縮自在な伸縮部材と、この伸縮部材を任意の長さになるように所定位置で固定する固定具とを備え、前記伸縮部材の一端には縮方向に引掛可能な掛止部を有し、他端には伸縮両方向に引掛可能な掛止部を有することを特徴とする配筋固定スペーサ。
【請求項２】
前記伸縮部材の両端部には、伸縮両方向に引掛可能となる掛止部を有することを特徴とする請求項１に記載の配筋固定スペーサ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明では前記の技術的課題を解決するために次のような構成とした。すなわち、本発明の配筋固定スペーサは調整器具本体に対して伸縮自在な伸縮部材とこの伸縮部材を任意の長さになるように所定の位置で固定する固定具とを備え、前記伸縮部材の一端には縮方向に引掛可能な掛止部を有し、他端には伸縮両方向に引掛可能な掛止部を有することを特徴とする。このような配筋固定スペーサにより配筋の位置を調整し、固定する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
型枠等に対する配筋の位置を修正する際に、これを狭める方向に配筋を修正するには、両端に有する縮方向に引掛けが可能な掛止部にて型枠と配筋とをそれぞれ連結し、スペーサを縮めてその配筋位置を調整する。また、型枠等に対する配筋の位置を広げる方向に修正するには、他端に有する伸方向に引掛けが可能な掛止部を配筋に連結し、一端の固定部を型枠に当接してスペーサを伸ばし、その配筋位置を調整する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
（実施の形態１）
図１は本発明の実施の形態１を示す。本発明の配筋固定スペーサは、調整器具としてのターンバックル１、伸縮部材としてのネジ棒２を備えている。ネジ棒２の端部形状は、一端にその引掛方向が伸縮両方向を向いた両鈎型形状部３を設ける。他端には、その引掛方向が縮方向を向いた片鈎型形状部４を設ける。
この配筋固定スペーサを使用するには、図２に示す施工例のように、基準となるPCa床板１０と柱主筋１４との間に介在してそれぞれの位置の調整を行う。柱主筋１４との接合は両鈎型形状部３で行い、PCa床板１０と接する他端は、片鈎型形状部４を使用してPCa床板１０に接続される。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
【発明の効果】本発明によれば、これまで調整が難しかった調整の基準となる床板材等から離れた距離にある配筋も固定位置の調整が容易になったこと、これまで調整が不可能であった配筋を引張る方向にも調整可能で、固定が出来るようになったこと、配筋の位置を自由に調整できるようになったこと、により、コンクリートのかぶり厚等の微調整が容易に行える効果がある。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】符号の説明
【補正方法】変更
【補正の内容】
【符号の説明】
１ ターンバックル
２ ネジ棒
３ 両鈎型形状部
４ 片鈎型形状部
５ ネジ穴
６ ネジ山
１０ PCa床板
１１ トラス部材
１２ 配筋固定スペーサ
１３ 配筋固定スペーサ
１４ 柱主筋
１６ 両鈎型形状部
２０ 丸棒
２１ 貫入穴
２２ ネジ
２３ ストッパ側面
２４ ストッパ具
【手続補正書】
【提出日】平成16年10月8日(2004.10.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
整形外科領域における施術により生じる虚血再灌流障害を抑制するための薬剤であって、グリチルリチン及び/又はその薬理学上許容される塩を有効成分として含有する薬剤。
【請求項２】
整形外科領域における施術により生じる腫脹を伴う虚血再灌流障害を抑制するための、請求項１に記載の薬剤。
【請求項３】
筋組織又は皮膚・皮下組織で生じる虚血再灌流障害を抑制するための薬剤であって、グリチルリチン及び/又はその薬理学上許容される塩を有効成分として含有する薬剤。
【請求項４】
筋組織又は皮膚・皮下組織で生じる腫脹を伴う虚血再灌流障害を抑制するための、請求項３に記載の薬剤。
【手続補正書】
【提出日】平成16年9月7日(2004.9.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】
ヘプロニカートとビタミンＥの重量比が、１：１００〜１００：１である請求項第１項または第２項記載の経口投与製剤。
【手続補正書】
【提出日】平成16年9月7日(2004.9.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】
ビタミンＥ １重量部に対し、ヘプロニカートを０.１〜３０重量部配合する請求項第１項または第２項記載の血行改善薬。
【手続補正書】
【提出日】平成16年10月1日(2004.10.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下式（１）で表される光学活性化合物。
Ｒ1-Ａ1-Ｃ*ＨＸ-Ｙ-Ａ2-Ｚ1-Ａ3-Ｚ2-Ａ4-Ｒ2 …（１）
（ただし、式（１）中の記号は、
Ｃ* ：不斉炭素原子、
Ａ1 ：非置換の１，４−フェニレン基、１個以上のハロゲン原子を有する１，４−フェニレン基または非置換の２，６−ナフチレン基、
Ａ2 、Ａ3 、Ａ4 ：相互に独立して、非置換の１，４−フェニレン基、１個以上のハロゲン原子を有する１，４−フェニレン基または非置換のトランス−１，４−シクロへキシレン基、
Ｒ1 、Ｒ2 ：相互に独立して、炭素数１〜１０の脂肪族炭化水素基、１個以上のハロゲン原子を有する炭素数１〜１０の脂肪族炭化水素基、水素原子、ハロゲン原子またはシアノ基（ただし、炭素数１〜１０の脂肪族炭化水素基または１個以上のハロゲン原子を有する炭素数１〜１０の脂肪族炭化水素基である場合には、該基中の炭素−炭素結合間および／または該基と環とを連結する炭素−炭素結合間に、エーテル性の酸素原子（−Ｏ−）および／またはエステル結合（−ＣＯＯ−および／または−ＯＣＯ−）が挿入されていてもよい）、
Ｘ：−Ｆ、−ＣＨ3 、−ＣＨ2 Ｆ、−ＣＨＦ2 または−ＣＦ3 、
Ｙ：−ＣＨ2 −、−ＣＯ−、−ＣＨ2 ＣＨ2 −、−ＣＯＯ−、−ＣＨ2 ＣＯ−、−ＣＯＣＨ2 −、−ＣＨ2 Ｏ−、−ＣＨ2 ＣＨ2 ＣＨ2 −、−ＣＨ2 ＣＯＯ−、−ＣＯＯＣＨ2 −、−ＣＨ2 ＣＨ2 ＣＯ−、−ＣＨ2 ＣＯＣＨ2 −、−ＣＯＣＨ2 ＣＨ2 −、−ＣＨ2 ＣＨ2 Ｏ−または−ＣＨ2 ＯＣＨ2 −、
Ｚ1 、Ｚ2 ：相互に独立して、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ2 Ｏ−、−ＯＣＨ2 −、−ＣＨ2 ＣＨ2 −、−ＣＦ＝ＣＦ−または単結合、を表す。
ただし、Ａ2 が非置換の１，４−フェニレン基または１個以上のハロゲン原子を有する１，４−フェニレン基であり、かつ、Ａ3 およびＡ4 が共にトランス−１，４−シクロへキシレン基であり、かつ、Ｚ1 が単結合の場合は、Ｚ2 は、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ2 Ｏ−、−ＯＣＨ2 −、−ＣＦ＝ＣＦ−または単結合である。）
【請求項２】
式（１）において、Ｒ1 が水素原子である請求項１に記載の光学活性化合物。
【請求項３】
式（１）において、Ａ1 が非置換の１，４−フェニレン基または１〜２個のフッ素原子を有する１，４−フェニレン基であり、かつ、Ｘが−ＣＨ3 であり、かつ、Ｙが−ＣＨ2 −である請求項１または２に記載の光学活性化合物。
【請求項４】
式（１）において、Ａ2 、Ａ3 、Ａ4 が相互に独立して、非置換の１，４−フェニレン基、１〜２個のフッ素原子を有する１，４−フェニレン基または非置換のトランス−１，４−シクロへキシレン基であり、かつ、Ｚ1 、Ｚ2 が相互に独立して、−ＣＯＯ−、−ＣＨ2 ＣＨ2 −または単結合である請求項３に記載の光学活性化合物。
【請求項５】
式（１）において、Ａ4 が１〜２個のフッ素原子を有する１，４−フェニレン基であり、かつ、Ｒ2 がシアノ基である請求項４に記載の光学活性化合物。
【請求項６】
式（１）において、Ａ2 が１〜２個のフッ素原子を有する１，４−フェニレン基である請求項４に記載の光学活性化合物。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれかに記載の光学活性化合物のうち少なくとも一種を含有する液晶組成物。
【請求項８】
請求項７に記載の液晶組成物を、電極付の基板間に挟持してなる液晶電気光学素子。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
ここで前記光学活性化合物は、式（１）において、Ｒ1 が水素原子であることが好ましい。
また、前記光学活性化合物は、式（１）において、Ａ1 が非置換の１，４−フェニレン基または１〜２個のフッ素原子を有する１，４−フェニレン基であり、かつ、Ｘが−ＣＨ3 であり、かつ、Ｙが−ＣＨ2 −であることが好ましい。
【手続補正書】
【提出日】平成16年10月13日(2004.10.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
含まれる縮合環の数が８〜１４個である縮合多環系芳香族化合物からなり、かつ該芳香族化合物の前記縮合環のいずれかに、シラン基からなる官能基が導入されて溶媒に可溶化されていることを特徴とする導電性有機化合物。
【請求項２】
下記の一般式（Ｉ）により表されるオバレン誘導体：
【化１】
2003119161.tif 000001
（上式において、Ｒ1〜Ｒ8は、同一もしくは異なっていてもよく、それぞれ、水素原子を表すかもしくは任意の置換基を表し、ただし、Ｒ1〜Ｒ8のうちの少なくとも２個は、アルキル基、アリール基、エーテル基又はシラン基である）又は
下記の一般式（II）により表されるビアンスレン誘導体：
【化２】
2003119161.tif 000002
（上式において、Ｒ1〜Ｒ6は、同一もしくは異なっていてもよく、それぞれ、水素原子を表すかもしくは任意の置換基を表し、ただし、Ｒ1〜Ｒ6のうちの少なくとも２個は、アルキル基、アリール基、エーテル基又はシラン基である）であることを特徴とする請求項１に記載の導電性有機化合物。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の導電性有機化合物から形成された構成要素をその構造中に含んでなることを特徴とする電子素子。
【請求項４】
基板上にゲート電極、ソース電極、ドレイン電極及びチャネル層を含む有機薄膜トランジスタの形態をとり、前記チャネル層が前記導電性有機化合物から形成されていることを特徴とする請求項３に記載の電子素子。
【請求項５】
電子ペーパの形態をとることを特徴とする請求項３又は４に記載の電子素子。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
【従来の技術】
近年、電子ディスプレイの分野においては、液晶ディスプレイや有機ＥＬディスプレイの性能が飛躍的に向上し、高精細化・大型化の進展が著しい。その一方で、紙のような見やすさと、可とう性、すなわち、折り曲げにより形状を変更可能なフレキシブル性を兼ね備え、携帯性に優れたディスプレイ、いわゆる電子ペーパの実現が強く望まれている。この電子ペーパの実現には、プラスチック基板上に薄膜トランジスタなどを作り込めること、すなわち、フレキシブルな画素駆動回路の実現が必須である。しかし、現状の多結晶シリコンやアモルファスシリコンをはじめとする無機系材料を中心とした電子回路では、高温、高真空などの大型のプロセスが必要であり、プラスチック基板の耐熱性や高い製造コストなどの点から、一部の機器への適用にとどまり、広く実用化には至っていない。このような問題点を解決するため、可とう性に優れ、蒸着などの高温・真空プロセスを必要とせず、低コストな印刷手法の適用が可能と考えられる有機半導体に注目が
集まっている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明は、その１つの面において、含まれる縮合環の数が８〜１４個である縮合多環系芳香族化合物からなり、かつ該芳香族化合物の前記縮合環のいずれかに、シラン基からなる官能基が導入されて溶媒に可溶化されていることを特徴とする導電性有機化合物にある。
【手続補正書】
【提出日】平成17年6月24日(2005.6.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１０nm〜５μmの平均粒径を有しかつ以下の式（Ｉ）及び（II）の一つに対応する、ＵＶ照射を遮蔽するためのアリールビニレンケトン型の不溶性有機化合物：
2003119164.tif 000001
式中：
ｎ＝１又は２、
Ａは、ｎ＝１の場合の式（Ｉ）又は式（ＩＩ）において、以下の式（ａ）ないし（ｄ）から選択するアリール基であり、又はｎ＝２の場合の式（Ｉ）において、以下の式（ｅ）ないし（ｈ）から選択する基であり、
2003119164.tif 000002
式中：
記号Ｒ4はそれぞれ独立にＯＨ基、ハロゲン原子、任意にケイ素原子を含む直鎖又は分岐したＣ1-6アルキル基、任意にケイ素原子を含む直鎖又は分岐したＣ1-6アルコキシ基、直鎖又は分岐したＣ1-5アルコキシカルボニル基、又は任意にケイ素原子又はアミノ官能基を含む直鎖又は分岐したＣ1-6アルキルスルホンアミド基を表し、
ｐは０から４の両端を含む整数を表し、
ｑは０又は１を表し、
Ｒ1は水素又はＯＨ基を表し、
Ｒ2は水素、任意にケイ素原子を含む直鎖又は分岐したＣ1-6アルキル基、シアノ基、Ｃ1-6アルキルスルホニル基又はフェニルスルホニル基を表し、
Ｒ3は任意にケイ素原子を含む直鎖又は分岐したＣ1-6アルキル基又は二環式基を形成することができかつ任意に一又は二つの基Ｒ4で置換したフェニル基を表し、
又はＲ2とＲ3が一緒になって単環式、二環式又は三環式Ｃ2-10炭化水素残基を形成し、この場合一又は複数の窒素、硫黄及び酸素原子で中断されていてもよく、かつ任意に他のカルボニルを含んでもよく、かつ任意に直鎖又は分岐したＣ1-8アルキルスルホンアミド基で置換されていてもよく、かつ任意にケイ素原子又はアミノ酸官能基を含んでいてもよい；ただし、ｎ＝１の場合、Ｒ2及びＲ3はカンファー核を形成しない。
【請求項２】
ｎ＝１である式（Ｉ）の化合物を以下から選択することを特徴とする、請求項１に記載の不溶性有機化合物：スチリルケトン、ベンジリデンシネオール、ベンジリデンクロマノン、ベンジリデンチオクロマノン、ベンジリデンキヌクリジノン、ベンジリデンシクロアルカノン、ベンジリデンヒダントイン、ベンジリデンインダノン、ベンジリデンテトラロン、ベンジリデンフラノン、ベンジリデンベンゾフラノン、ベンジリデンインダンジオン、ベンジリデンベンゾチオフラノン、ベンジリデンバルビツール酸、ベンジリデンピラゾロン、ベンジリデンイミダゾロン、カルコン及びベンジリデンオン。
【請求項３】
ｎ＝２である式（Ｉ）の化合物を以下から選択することを特徴とする、請求項１に記載の不溶性有機化合物：フェニレンビス（メチリデン−ノル−カンファー）、フェニレンビス（メチリデンカンファー）、フェニレンビス（メチリデンカンファースルホンアミド）、フェニレンビス（メチリデンシネオール）、フェニレンビス（メチリデンケトトリシクロデカン）、ビス（フェニレンアルキレンケトン）、フェニレンビス（メチリデンフラノン）及びフェニレンビス（メチリデンキヌクリジノン）。
【請求項４】
式（II）の化合物をビス（ベンジリデンシクロアルカノン）及びγ−ピロンから選択することを特徴とする、請求項１に記載の不溶性有機化合物。
【請求項５】
平均粒径が１０nm〜２μm、好ましくは２０nm〜２μmである粒子の形態に化合物があることを特徴とする、先の請求項１ないし４のいずれか１項に記載の不溶性有機化合物。
【請求項６】
化粧品として受容可能な支持体中に先の請求項１ないし５のいずれか１項に記載のＵＶ照射を遮蔽する不溶性有機化合物の少なくとも一つを含む、化粧組成物。
【請求項７】
組成物が、請求項１ないし５に記載のもの以外のＵＶ−Ａ及び／又はＵＶ−Ｂ範囲で活性である有機日焼け止め剤を一又は複数さらに含むことを特徴とする、請求項６に記載の化粧組成物。
【請求項８】
一又は複数の無機顔料をさらに含むとことを特徴とする、請求項６ないし７のいずれか１項に記載の化粧組成物。
【請求項９】
少なくとも一つの皮膚の人工日焼け剤及び／又は褐色化剤をさらに含むことを特徴とする、請求項６ないし８のいずれか１項に記載の化粧組成物。
【請求項１０】
組成物が皮膚又は毛髪を保護する化粧組成物、日焼け止め組成物又はメイクアップ製品を構成することを特徴とする、請求項６ないし９のいずれか１項に記載の化粧組成物。
【請求項１１】
請求項６ないし１０のいずれか１項に記載の化粧組成物又は請求項１ないし５のいずれか１項に記載の化合物の有効量を皮膚又は毛髪に適用することから成ることを特徴とする、紫外線照射、特に太陽照射に対して皮膚又は毛髪を保護するための非治療目的の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年9月22日(2004.9.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記（ａ１）〜（ａ３）成分を反応させて得られるウレタン（メタ）アクリレート化合物（Ａ）と、
（ａ１）ポリブタジエングリコール類及び／又はポリイソプレングリコール類
（ａ２）脂環式有機ジイソシアネート化合物
（ａ３）ヒドロキシ基含有（メタ）アクリル酸エステル
下記一般式（Ｉ）で示される化合物（Ｂ）と、
【化１】
2003119231.tif 000001
（一般式（Ｉ）中、Ｘ1及びＸ2はアクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基を示し、Ｘ3はヒドロキシ基、アクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基を示し、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は炭素数１〜４のアルキル基を示す。）
その他のエチレン性不飽和化合物（Ｃ）とを含有することを特徴とする光ディスク用活性エネルギー線硬化性組成物。
【請求項２】
請求項１記載の光ディスク用活性エネルギー線硬化性組成物の硬化物層を有する光ディスク。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明の光ディスク用活性エネルギー線硬化性組成物は、（ａ１）〜（ａ３）成分を反応させて得られるウレタン（メタ）アクリレート化合物（Ａ）と、
（ａ１）ポリブタジエングリコール類及び／又はポリイソプレングリコール類
（ａ２）脂環式有機ジイソシアネート化合物
（ａ３）ヒドロキシ基含有（メタ）アクリル酸エステル
下記一般式（Ｉ）で示される化合物（Ｂ）と、
【化２】
2003119231.tif 000002
（一般式（Ｉ）中、Ｘ1及びＸ2はアクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基を示し、Ｘ3はヒドロキシ基、アクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基を示し、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は炭素数１〜４のアルキル基を示す。）
その他のエチレン性不飽和化合物（Ｃ）とを含有することを特徴とするものである。
ここで、エチレン性不飽和化合物（Ｃ）は、環状骨格を有する、前記化合物（Ｂ）以外の（メタ）アクリレートであることが望ましい。本発明の光ディスクは、上記光ディスク用活性エネルギー線硬化性組成物が硬化した厚みが２０〜２００μｍの硬化物層を有することを特徴とするものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の（Ａ）成分であるウレタン（メタ）アクリレート化合物は、組成物に低収縮性及び低吸水性を付与する成分である。
このようなウレタン（メタ）アクリレート化合物としては、下記（ａ１）〜（ａ３）の３成分から合成されたウレタン（メタ）アクリレートが挙げられる。
（ａ１）ポリブタジエングリコール類及び／又はポリイソプレングリコール類
（ａ２）脂環式有機ジイソシアネート化合物
（ａ３）ヒドロキシ基含有（メタ）アクリル酸エステル
（ａ１）成分は、本発明の組成物を重合硬化してなる硬化物層の低収縮性を維持し、特に低吸水性を向上させるための成分である。
（ａ１）成分としては、ブタジエンやイソプレンをそれぞれ重合して得られるホモポリマーから合成されるグリコールだけでなく、ブタジエン及びまたはイソプレンを主成分として、エチレン、プロピレン、１−ブテン、イソブチレン、１−ヘキセン、４−メチル−ペンテン、１−オクテン等のオレフィン類とのコポリマーから合成されるグリコール類も使用可能である。好ましくは、分子量３００００以下のポリブタジエン及びまたはポリイソプレン等のホモポリマーから合成されるグリコールである。
これらは、１種を単独で、または２種以上を併用して用いることができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
表１中の略号は、以下の通りである。
注１：反り角が測定装置の測定可能範囲（±１度）を大きく越え、測定不可能
Ｍ３１５：東亞合成（株）製アクリレート（トリス（２−アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート９４％、ビス（２−アクリロイルオキシエチル）ヒドロキシエチルトリイソシアヌレート６％の混合物）
Ｍ３１３：東亞合成（株）製アクリレート（トリス（２−アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート６５％、ビス（２−アクリロイルオキシエチル）ヒドロキシエチルトリイソシアヌレート３５％の混合物）
ＴＥ２０００：ポリブタジエングリコール（数平均分子量：約２０００）、トリレンジイソシアネート及び２−ヒドロキシエチルメタクリレートから合成されたウレタンメタクリレート（日本曹達（株）製）
ＴＨＦＡ：テトラヒドロフルフリルアクリレート
ＩＢＸＡ：イソボルニルアクリレート
ＴＣＡ：トリシクロデカニルアクリレート
ＴＣＤＡ：トリシクロデカンジメタノールジアクリレート
ＮＰＧＤＡ：ネオペンチルグリコールジアクリレート
ＴＭＰＴＡ：トリメチロールプロパントリアクリレート
ＢＰＡＥＡ：ビスフェノールＡ型エポキシアクリレート
ＨＣＰＫ：１−ヒドロキシ−シクロヘキシルフェニルケトン
ＢＮＰ：ベンゾフェノン
ＥＰＡ：ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
表１から明らかなように、実施例１〜４で得られた光ディスクにおいては、硬化収縮率、吸水率、反り角が小さく、硬度も十分で、光線透過率も高いものであった。
【手続補正書】
【提出日】平成17年9月15日(2005.9.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  化学式（１―１）
【化１】
2003119289.tif 000001
において、Ｒ１〜Ｒ６の少なくとも１つが結合手となって、無機または有機材料の分子中にボラジン骨格系構造が含有された材料を熱処理する低誘電率材料の製造方法。
（上式中、上記結合手以外のＲ１〜Ｒ６は、水素原子、炭素原子数１〜２０のアルキル基、アリル基、置換アリル基、アルケニル基、アミノ基、アルキルアミノ基、アルコキシル基、チオアルコキシル基、カルボニル基、シリル基、アルキルシリル基、ホスフィノ基、アルキルホスフィノ基またはＳｉ（ＯＲ７）（ＯＲ８）（ＯＲ９）であって、少なくとも１つは水素原子ではなく、Ｒ７〜Ｒ９は水素原子、炭素原子数１〜２０のアルキル基、アリル基、置換アリル基、アルケニル基、アミノ基、アルキルアミノ基、アルコキシル基、チオアルコキシル基、カルボニル基、シリル基、アルキルシリル基、ホスフィノ基またはアルキルホスフィノ基である。）
【請求項２】  化学式（１―２）で示されるボラジン骨格系構造が含有された材料を熱処理する低誘電率材料の製造方法。
【化２】
2003119289.tif 000002
（上式中、Ｒ１〜Ｒ６は、水素原子、炭素原子数１〜２０のアルキル基、アリル基、置換アリル基、アルケニル基、アミノ基、アルキルアミノ基、アルコキシル基、チオアルコキシル基、カルボニル基、シリル基、アルキルシリル基、ホスフィノ基、アルキルホスフィノ基またはＳｉ（ＯＲ７）（ＯＲ８）（ＯＲ９）であって、少なくとも１つは水素原子ではなく、Ｒ７〜Ｒ９は水素原子、炭素原子数１〜２０のアルキル基、アリル基、置換アリル基、アルケニル基、アミノ基、アルキルアミノ基、アルコキシル基、チオアルコキシル基、カルボニル基、シリル基、アルキルシリル基、ホスフィノ基またはアルキルホスフィノ基である。）
【請求項３】  無機または有機材料の分子中に、下記化学式（２）ないし化学式（４）のいずれかで示される、ボラジン骨格系構造を有する低誘電率材料。
【化３】
2003119289.tif 000003
（上式中、Ｒ１〜Ｒ４は、水素原子、炭素原子数１〜２０のアルキル基、アリル基、置換アリル基、アルケニル基、アミノ基、アルキルアミノ基、アルコキシル基、チオアルコキシル基、カルボニル基、シリル基、アルキルシリル基、ホスフィノ基、アルキルホスフィノ基またはＳｉ（ＯＲ７）（ＯＲ８）（ＯＲ９）であって、少なくとも１つは水素原子ではなく、Ｒ７〜Ｒ９は水素原子、炭素原子数１〜２０のアルキル基、アリル基、置換アリル基、アルケニル基、アミノ基、アルキルアミノ基、アルコキシル基、チオアルコキシル基、カルボニル基、シリル基、アルキルシリル基、ホスフィノ基またはアルキルホスフィノ基である。）
【請求項４】  下記化学式（２）ないし化学式（４）のいずれかで示される第１のボラジン骨格系構造における水素原子と、下記化学式（２）ないし化学式（４）のいずれかで示される第２のボラジン骨格系構造における水素原子とを共に脱離して、上記第１のボラジン骨格系構造と上記第２のボラジン骨格系構造とを結合することにより得られる第３のボラジン骨格系構造を有する低誘電率材料。
【化４】
2003119289.tif 000004
（上式中、Ｒ１〜Ｒ４は、水素原子、炭素原子数１〜２０のアルキル基、アリル基、置換アリル基、アルケニル基、アミノ基、アルキルアミノ基、アルコキシル基、チオアルコキシル基、カルボニル基、シリル基、アルキルシリル基、ホスフィノ基、アルキルホスフィノ基またはＳｉ（ＯＲ７）（ＯＲ８）（ＯＲ９）であって、少なくとも１つは水素原子ではなく、Ｒ７〜Ｒ９は水素原子、炭素原子数１〜２０のアルキル基、アリル基、置換アリル基、アルケニル基、アミノ基、アルキルアミノ基、アルコキシル基、チオアルコキシル基、カルボニル基、シリル基、アルキルシリル基、ホスフィノ基またはアルキルホスフィノ基である。）
【請求項５】  請求項３または請求項４に記載の低誘電率材料を用いた絶縁膜。
【請求項６】  請求項５に記載の絶縁膜を有する半導体装置。
【請求項７】  請求項５に記載の絶縁膜は絶縁材料からなり、上記絶縁材料が、アモルファス状であることを特徴とする絶縁膜。
【請求項８】  請求項５に記載の絶縁膜は絶縁材料からなり、上記絶縁材料が、微結晶とアモルファスの混合物からなることを特徴とする絶縁膜。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
本発明に係る第２の絶縁膜は、上記第１の絶縁膜は絶縁材料からなり、上記絶縁材料が、アモルファス状のものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
本発明に係る第３の絶縁膜は、上記第１の絶縁膜は絶縁材料からなり、上記絶縁材料が、微結晶とアモルファスの混合物からなるものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７１】
本発明の第２の絶縁膜は、上記第１の絶縁膜は絶縁材料からなり、上記絶縁材料が、アモルファス状のもので、製造が容易で、信頼性に優れるという効果がある。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７２】
本発明の第３の絶縁膜は、上記第１の絶縁膜は絶縁材料からなり、上記絶縁材料が、微結晶とアモルファスの混合物からなるもので、特に機械強度や耐熱性に優れるという効果がある。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７６
【補正方法】削除
【補正の内容】