【手続補正書】
【提出日】令和3年5月26日(2021.5.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
組織部位の表面を通る開口部を閉鎖するためのシステムにおいて、前記システムは：
前記開口部の上側を覆って位置決めされるように適合された付着層であって：
硬度係数を有する材料、及び
前記付着層を貫通して延在する複数の孔であって、前記孔は、ボイドスペースを形成し、且つ前記付着層を、第２の方向に対して第１の方向に潰すように構成された穿孔形状係数及びストラット角を有する、複数の孔
を含む、付着層と；
前記付着層の下側に位置決めされるように適合された第１の層であって、少なくとも１つの穿孔を有する第１の層と；
前記付着層の上側に位置決めされるように適合された第２の層であって、少なくとも１つの穿孔を有する第２の層と；
前記付着層を覆って密閉空間を形成するように適合されたドレッシングと；
前記密閉空間に陰圧をもたらすように、前記密閉空間に流体的に結合されるように適合された陰圧源と
を含み；
前記付着層は、前記組織部位の前記表面に対して実質的に平行である前記第１の方向に閉鎖力を生成して、前記陰圧の適用に応答して前記開口部を閉鎖することを特徴とする、システム。
【請求項２】
請求項１に記載のシステムにおいて、前記第１の層及び前記第２の層はそれぞれ、シリコーン接着剤を含むことを特徴とする、システム。
【請求項３】
請求項１に記載のシステムにおいて、前記第１の層及び前記第２の層はそれぞれ、約１００ｇｓｍ〜約２００ｇｓｍの塗布量を有するシリコーン接着剤を含むことを特徴とする、システム。
【請求項４】
請求項１に記載のシステムにおいて、前記第１の層及び前記第２の層はそれぞれ、ポリウレタン材料を含むことを特徴とする、システム。
【請求項５】
請求項１に記載のシステムにおいて、前記第１の層及び前記第２の層はそれぞれ、ヒドロゲルを含むことを特徴とする、システム。
【請求項６】
請求項１、２、３、４、又は５に記載のシステムにおいて、前記第１の層及び前記第２の層は、単一の連続的な材料シートを含むことを特徴とする、システム。
【請求項７】
請求項１、２、３、４、５、又は６に記載のシステムにおいて、前記第１の層の前記少なくとも１つの穿孔が、複数の穿孔を含むことを特徴とする、システム。
【請求項８】
請求項７に記載のシステムにおいて、前記第２の層の前記少なくとも１つの穿孔が、複数の穿孔を含むことを特徴とする、システム。
【請求項９】
請求項１、２、３、４、５、又は６に記載のシステムにおいて、前記第２の層の前記少なくとも１つの穿孔が、複数の穿孔を含むことを特徴とする、システム。
【請求項１０】
請求項１、２、３、４、５、６、７、８、又は９に記載のシステムにおいて、前記複数の孔が、約５ｍｍの平均有効径を有することを特徴とする、システム。
【請求項１１】
請求項１、２、３、４、５、６、７、８、９、又は１０に記載のシステムにおいて、前記複数の孔が、２つ以上の平行な列に形成されることを特徴とする、システム。
【請求項１２】
請求項１、２、３、４、５、６、７、８、９、１０、又は１１に記載のシステムにおいて、前記ストラット角が約９０度であることを特徴とする、システム。
【請求項１３】
請求項１、２、３、４、５、６、７、８、９、１０、又は１１に記載のシステムにおいて、前記ストラット角が約９０度未満であることを特徴とする、システム。
【請求項１４】
請求項１、２、３、４、５、６、７、８、９、１０、１１、１２、又は１３に記載のシステムにおいて、各孔の前記穿孔形状係数が約１未満であることを特徴とする、システム。
【請求項１５】
請求項１、２、３、４、５、６、７、８、９、１０、１１、１２、１３、又は１４に記載のシステムにおいて、前記付着層の厚さは約１５ｍｍであることを特徴とする、システム。
【請求項１６】
請求項１、２、３、４、５、６、７、８、９、１０、１１、１２、１３、１４、又は１５に記載のシステムにおいて、前記硬度係数は約５であることを特徴とする、システム。
【請求項１７】
請求項１、２、３、４、５、６、７、８、９、１０、１１、１２、１３、１４、又は１５に記載のシステムにおいて、前記硬度係数は約３であることを特徴とする、システム。
【請求項１８】
請求項１、２、３、４、５、６、７、８、９、１０、１１、１２、１３、１４、１５、１６、又は１７に記載のシステムにおいて、前記複数の孔の各孔の形状が楕円形であることを特徴とする、システム。
【請求項１９】
請求項１、２、３、４、５、６、７、８、９、１０、１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、又は１８に記載のシステムにおいて、前記付着層はフェルト発泡体を含むことを特徴とする、システム。
【請求項２０】
請求項１、２、３、４、５、６、７、８、９、１０、１１、１２、１２、１４、１５、１６、１７、１８、又は１９に記載のシステムにおいて、前記ドレッシングは：
ベース層であって、前記ベース層を貫通して延在する複数のアパーチャを有し、前記複数のアパーチャの少なくとも一部分は、前記ベース層を横切って流体を通すように構成される、ベース層と；
前記ベース層の上側を覆って位置決めされた流体管理アセンブリであって：
第１のウィッキング層；
前記第１のウィッキング層の上側を覆って配置された吸収体、及び
前記吸収体の上側を覆って配置され、且つ前記吸収体を囲むために、前記第１のウィッキング層の周辺に結合された周辺を有する、第２のウィッキング層
を含む、流体管理アセンブリと；
前記流体管理アセンブリの上側を覆って配置されたシール部材と；
前記ベース層の周辺と前記シール部材との間に位置決めされた接着層であって、前記流体管理アセンブリを取り囲むために、前記ベース層を前記シール部材に結合する接着層と
を含むことを特徴とする、システム。
【請求項２１】
請求項２０に記載のシステムにおいて、前記ベース層にある前記複数のアパーチャは：
前記ベース層の中心部分に配置され且つ第１の直径を有する第１の群のアパーチャと；
前記ベース層の外周部分に配置され且つ第２の直径を有する第２の群のアパーチャであって、前記第１の群のアパーチャ及び前記第２の群のアパーチャは、境界部によって分離されている、第２の群のアパーチャと
を含み；及び
前記第２の群のアパーチャの平均直径は、前記第１の群のアパーチャの前記平均直径よりも大きいことを特徴とする、システム。
【請求項２２】
組織部位の表面を通る開口部を閉鎖するための装置において、前記装置は：
前記開口部の上側を覆って位置決めされるように適合された収縮層であって：
硬度係数を有する材料、及び
前記収縮層を貫通して延在する複数の孔であって、前記孔は、ボイドスペースを形成し、且つ第２の方向に対して第１の方向に前記収縮層を潰すように構成された穿孔形状係数及びストラット角を有する、複数の孔
を含む、収縮層と；
前記収縮層の下側に位置決めされるように適合された下層であって、少なくとも１つの穿孔を有する下層と；
前記収縮層の上側に位置決めされるように適合された上層であって、少なくとも１つの穿孔を有する上層と
を含み；
前記収縮層は、前記組織部位の前記表面に対して実質的に平行な閉鎖力を生成し、陰圧の適用に応答して、前記開口部を閉鎖することを特徴とする、装置。
【請求項２３】
請求項２２に記載の装置において、前記下層及び前記上層はそれぞれ、シリコーン接着剤を含むことを特徴とする、装置。
【請求項２４】
請求項２２に記載の装置において、前記下層及び前記上層はそれぞれ、約１００ｇｓｍ〜約２００ｇｓｍの塗布量を有するシリコーン接着剤を含むことを特徴とする、装置。
【請求項２５】
請求項２２に記載の装置において、前記下層及び前記上層はそれぞれ、ポリウレタン材料を含むことを特徴とする、装置。
【請求項２６】
請求項２２に記載の装置において、前記下層及び前記上層はそれぞれ、ヒドロゲルを含むことを特徴とする、装置。
【請求項２７】
請求項２２、２３、２４、２５、又は２６の装置において、前記下層及び前記上層は、単一の連続的な材料シートを含むことを特徴とする、装置。
【請求項２８】
請求項２２、２３、２４、２５、２６、又は２７の装置において、前記下層の前記少なくとも１つの穿孔は、複数の穿孔を含むことを特徴とする、装置。
【請求項２９】
請求項２８に記載の装置において、前記上層の前記少なくとも１つの穿孔は、複数の穿孔を含むことを特徴とする、装置。
【請求項３０】
請求項２２、２３、２４、２５、２６、又は２７の装置において、前記上層の前記少なくとも１つの穿孔は、複数の穿孔を含むことを特徴とする、装置。
【請求項３１】
請求項２２、２３、２４、２５、２６、２７、２８、２９、又は３０の装置において、前記複数の孔は、約５ｍｍの平均有効径を有することを特徴とする、装置。
【請求項３２】
請求項２２、２３、２４、２５、２６、２７、２８、２９、３０、又は３１の装置において、前記複数の孔は、２つ以上の平行な列に形成されることを特徴とする、装置。
【請求項３３】
請求項２２、２３、２４、２５、２６、２７、２８、２９、３０、３１、又は３２の装置において、前記ストラット角は約９０度であることを特徴とする、装置。
【請求項３４】
請求項２２、２３、２４、２５、２６、２７、２８、２９、３０、３１、又は３２の装置において、前記ストラット角は約９０度未満であることを特徴とする、装置。
【請求項３５】
請求項２２、２３、２４、２５、２６、２７、２８、２９、３０、３１、３２、３３、又は３４の装置において、各孔の前記穿孔形状係数は約１未満であることを特徴とする、装置。
【請求項３６】
請求項２２、２３、２４、２５、２６、２７、２８、２９、３０、３１、３２、３３、３４、又は３５の装置において、前記収縮層の厚さは約１５ｍｍであることを特徴とする、装置。
【請求項３７】
請求項２２、２３、２４、２５、２６、２７、２８、２９、３０、３１、３２、３３、３４、３５、又は３６の装置において、前記硬度係数は約５であることを特徴とする、装置。
【請求項３８】
請求項２２、２３、２４、２５、２６、２７、２８、２９、３０、３１、３２、３３、３４、３５、又は３６の装置において、前記硬度係数は約３であることを特徴とする、装置。
【請求項３９】
請求項２２、２３、２４、２５、２６、２７、２８、２９、３０、３１、３２、３３、３４、３５、３６、３７、又は３８の装置において、前記複数の孔の各孔の形状は楕円形であることを特徴とする、装置。
【請求項４０】
請求項２２、２３、２４、２５、２６、２７、２８、２９、３０、３１、３２、３３、３４、３５、３６、３７、３８、又は３９の装置において、前記収縮層は圧縮発泡体を含むことを特徴とする、装置。
【請求項４１】
請求項２２、２３、２４、２５、２６、２７、２８、２９、３０、３１、３２、３３、３４、３５、３６、３７、３８、３９、又は４０の装置において、さらに、前記収縮層の上側を覆って密閉空間を形成するように構成されたドレッシングを含み、前記ドレッシングは：
ベース層であって、前記ベース層を貫通して延在する複数のアパーチャを有し、前記複数のアパーチャの少なくとも一部分は、前記ベース層を横切って流体を通すように構成されている、ベース層と；
前記ベース層の上側を覆って位置決めされた流体管理アセンブリであって：
第１のウィッキング層；
前記第１のウィッキング層の上側を覆って配置された吸収体、及び
前記吸収体の上側を覆って配置され、且つ前記吸収体を囲むために、前記第１のウィッキング層の周辺に結合された周辺を有する、第２のウィッキング層
を含む、流体管理アセンブリと；
前記流体管理アセンブリの上側を覆って配置されたシール部材と；
前記ベース層の周辺と前記シール部材との間に位置決めされた接着層であって、前記流体管理アセンブリを取り囲むために、前記ベース層を前記シール部材に結合する接着層と
を含むことを特徴とする、装置。
【請求項４２】
請求項４１に記載の装置において、前記ベース層にある前記複数のアパーチャは：
前記ベース層の中心部分に配置され且つ第１の直径を有する第１の群のアパーチャと；
前記ベース層の外周部分に配置され且つ第２の直径を有する第２の群のアパーチャであって、前記第１の群のアパーチャ及び前記第２の群のアパーチャは境界部によって分離されている、第２の群のアパーチャと
を含み、
前記第２の群のアパーチャの平均直径は、前記第１の群のアパーチャの平均直径よりも大きいことを特徴とする、装置。