Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成17年1月7日(2005.1.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
パターン密度の異なる複数のパターンを有するマスクと、
前記パターンを転写すべき基板が載置されたステージと、
パターン密度をパラメータとして荷電ビームの最適なビーム調整パラメータを記憶する描画パラメータテーブルを有し、該描画パラメータテーブルに基づいて前記基板に照射される荷電ビームを制御する制御部とを具備してなり、
前記パターン密度に応じた最適なビーム調整パラメータを前記描画パラメータテーブルから前記パターン毎に選択してパターン転写を行うことを特徴とする荷電ビーム露光装置。
【請求項２】
前記描画パラメータテーブルは、ビーム調整パラメータを変化させつつ前記パターンを通過させた荷電ビームで、ステージ又は前記基板上に前記パターンに対応する形状をもって形成されたビーム調整用マークを走査して得られる反射電子信号を前記パターンの少なくとも２つについて求めた結果に基づいて作成することを特徴とする請求項１に記載の荷電ビーム露光装置。
【請求項３】
前記ビーム調整用マークは、予め前記基板又は前記ステージ上に形成され、対応する前記パターンと相似した形状を有することを特徴とする請求項２に記載の荷電ビーム露光装置。
【請求項４】
前記ビーム調整用マークは、前記パターンの転写により形成されてなり、該パターンと相似した形状を有することを特徴とする請求項２に記載の荷電ビーム露光装置。
【請求項５】
前記マスクは、パターン密度の異なる複数のビーム調整用開口部と、パターン露光に用いられる複数のパターン露光用開口部を有することを特徴とする請求項１に記載の荷電ビーム露光装置。
【請求項６】
前記マスクは、パターン密度の異なる複数のビーム調整用開口部と、パターン露光に用いられる複数のパターン露光用開口部を有し、
前記複数のビーム調整用開口部の少なくとも１つは、前記複数のパターン露光用開口部の間に配置されていることを特徴とする請求項１に記載の荷電ビーム露光装置。
【請求項７】
前記マスクは、パターン密度の異なる複数のビーム調整用開口部と、パターン露光に用いられる複数のパターン露光用開口部を有し、
少なくとも２つのパターン露光開口部群の各々は、少なくとも２つの複数の前記ビーム調整用開口部により構成され、
少なくとも１つの前記ビーム調整用開口部は、前記複数のパターン露光用開口部群の間に配置されていることを特徴とする請求項１に記載の荷電ビーム露光装置。
【請求項８】
前記マスクは、パターン密度の異なる複数のビーム調整用開口部と、パターン露光に用いられる複数のパターン露光用開口部を有し、
少なくとも２つのパターン露光開口部群の各々は、少なくとも二つの複数の前記ビーム調整用開口部により構成され、
少なくとも１つの前記ビーム調整用開口部は、前記複数のパターン露光用開口部群から離れた前記マスクの中央近傍に配置されていることを特徴とする請求項１に記載の荷電ビーム露光装置。
【請求項９】
少なくとも２つのパターン密度を有する複数のパターンが設けられたマスクに該パターン毎にビーム調整を行い荷電ビームを照射して試料表面上にパターン転写する荷電ビーム露光方法であって、
複数の異なるパターン密度を有し、前記パターンを前記試料面上に転写して形成され、あるいは予め該試料面上に該パターンを転写した形状とほぼ同一の形状をもって形成された複数のビーム調整用マークに荷電ビームを照射し、該ビーム調整用マークに対応する前記パターン毎にビーム調整するパラメータを種々変更して前記試料面からの反射電子を検出し、最適ビーム調整パラメータを求める第１の工程と、
パターン密度をパラメータとした前記荷電ビーム調整パラメータが記憶された描画パラメータテーブルを作成する第２の工程と、
前記描画パラメータテーブルに基づいて前記最適ビーム調整パラメータを選択して前記パターンを前記試料面上に転写する第３の工程と
を有することを特徴とする荷電ビーム露光方法。
【請求項１０】
前記マスクには、複数のパターン密度を有する複数のビーム調整用開口部が設けられてなり、該ビーム調整用開口部により前記ビーム調整用マークを形成することを特徴とする請求項９に記載の荷電ビーム露光方法。
【請求項１１】
前記試料面からの反射電子信号が最大となる前記荷電ビームた調整パラメータを最適なビーム調整パラメータとすることを特徴とする請求項９に記載の荷電ビーム露光方法。
【請求項１２】
前記マスクは、パターン密度の異なる複数のビーム調整用開口部と、パターン露光に用いられる複数のパターン露光用開口部を有し、
前記複数のビーム調整用マークの少なくとも１つは、前記複数のパターン露光用開口部の間に配置されていることを特徴とする請求項９に記載の荷電ビーム露光方法。
【請求項１３】
前記マスクは、パターン密度の異なる複数のビーム調整用開口部と、パターン露光に用いられる複数のパターン露光用開口部を有し、
少なくとも２つのパターン露光開口部群の各々は、少なくとも２つの複数の前記ビーム調整用開口部により構成され、
少なくとも１つの前記ビーム調整用開口部は、前記複数のパターン露光用開口部群の間に配置されていることを特徴とする請求項９に記載の荷電ビーム露光装置。
【請求項１４】
前記複数のビーム調整用開口部の少なくとも１つは、前記複数のパターン露光用開口部の間に配置されていることを特徴とする請求項１３に記載の荷電ビーム露光方法。
【請求項１５】
少なくとも２つのパターン露光開口部群の各々は、少なくとも二つの複数の前記ビーム調整用開口部により構成され、
少なくとも１つの前記ビーム調整用開口部は、前記複数のパターン露光用開口部群から離れた前記マスクの中央近傍に配置されていることを特徴とする請求項１３に記載の荷電ビーム露光方法。
【請求項１６】
少なくとも２つのパターン露光開口部群の各々は、少なくとも二つの複数の前記ビーム調整用開口部により構成され、
少なくとも１つの前記ビーム調整用開口部は、前記複数のパターン露光用開口部群から離れた前記マスクの中央近傍に配置されていることを特徴とする請求項１３に記載の荷電ビーム露光方法。
【請求項１７】
前記マスクは、パターン密度の異なる複数のビーム調整用開口部と、パターン露光に用いられる複数のパターン露光用開口部を有し、
少なくとも２つのパターン露光開口部群の各々は、少なくとも二つの複数の前記ビーム調整用開口部により構成され、
少なくとも１つの前記ビーム調整用開口部は、前記複数のパターン露光用開口部群から離れた前記マスクの中央近傍に配置されていることを特徴とする請求項９に記載の荷電ビーム露光方法。
【請求項１８】
露光に用いられる荷電ビームの照射条件を調整するために設けられ、パターン密度の異なる複数のビーム調整用開口部と、
パターン露光に用いられる複数のパターン露光用開口部と
を具備してなることを特徴とする荷電ビーム露光マスク。
【手続補正書】
【提出日】平成16年10月12日(2004.10.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
部品の装着を受ける基板を装着位置に応じて水平面内で移動させるとともに、ヘッドに吸着ノズルが取り付けられ、部品供給位置で前記吸着ノズルが取り出した部品を前記ヘッドの移動により部品装着位置に移動させ、前記吸着ノズルが保持している部品を前記基板に装着するに際し、
部品装着位置に到着した吸着ノズルを、前記基板における前回の部品装着位置と今回の部品装着位置との違いに応じて前記ヘッドの移動とは独立して水平移動させて前記基板の移動量を前記吸着ノズルの前記水平移動で補填する電子部品装着方法。
【請求項２】
部品装着位置に到着してから吸着ノズルをヘッドの移動とは独立して水平移動させるのに代わって、部品装着位置に到着するまでに吸着ノズルをヘッドの移動とは独立して水平移動させ始める
請求項１記載の電子部品装着方法。
【請求項３】
吸着ノズルをヘッドの移動とは独立して水平移動させるとともに吸着ノズルの軸心回りに自転させて吸着中の部品の前記基板に対する水平角度を補正する
請求項１または請求項２記載の電子部品装着方法。
【請求項４】
部品の装着を受ける基板を装着位置に応じて水平面内で移動させるとともに、ヘッドに吸着ノズルが取り付けられ、部品供給位置で前記吸着ノズルが取り出した部品を前記ヘッドの移動により部品装着位置に移動させ、前記吸着ノズルが保持している部品を前記基板に装着する電子部品装着装置において、
前記ヘッドのノズル取り付け位置であるハウジングには、このハウジングの軸心周りに水平方向に回転駆動可能な回転ロッドを設け、
前記回転ロッドの先端に吸着ノズルを直接に取り付けるか吸着ノズルをその軸心周りに自転させる回転駆動体を介して取り付けた
電子部品装着装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
【発明の実施の形態】
本発明の請求項１記載の電子部品装着方法は、部品の装着を受ける基板を装着位置に応じて水平面内で移動させるとともに、ヘッドに吸着ノズルが取り付けられ、部品供給位置で前記吸着ノズルが取り出した部品を前記ヘッドの移動により部品装着位置に移動させ、前記吸着ノズルが保持している部品を前記基板に装着するに際し、部品装着位置に到着した吸着ノズルを、前記基板における前回の部品装着位置と今回の部品装着位置との違いに応じて前記ヘッドの移動とは独立して水平移動させて前記基板の移動量を前記吸着ノズルの前記水平移動で補填することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
本発明の請求項２記載の電子部品装着方法は、請求項１において、部品装着位置に到着してから吸着ノズルをヘッドの移動とは独立して水平移動させるのに代わって、部品装着位置に到着するまでに吸着ノズルをヘッドの移動とは独立して水平移動させ始めることを特徴とする。
本発明の請求項３記載の電子部品装着方法は、請求項１または請求項２において、吸着ノズルをヘッドの移動とは独立して水平移動させるとともに吸着ノズルの軸心回りに自転させて吸着中の部品の前記基板に対する水平角度を補正することを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
本発明の請求項４記載の電子部品装着装置は、部品の装着を受ける基板を装着位置に応じて水平面内で移動させるとともに、ヘッドに吸着ノズルが取り付けられ、部品供給位置で前記吸着ノズルが取り出した部品を前記ヘッドの移動により部品装着位置に移動させ、前記吸着ノズルが保持している部品を前記基板に装着する電子部品装着装置において、前記ヘッドのノズル取り付け位置であるハウジングには、このハウジングの軸心周りに水平方向に回転駆動可能な回転ロッドを設け、前記回転ロッドの先端に吸着ノズルを直接に取り付けるか吸着ノズルをその軸心周りに自転させる回転駆動体を介して取り付けたことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成16年9月6日(2004.9.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】半導体装置の製造方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体基板上に酸化膜を形成する工程と、
前記酸化膜上に窒化膜を形成する工程と、
前記酸化膜および前記窒化膜の形成された前記半導体基板に、前記酸化膜および前記窒化膜を貫通する分離用溝を形成する工程と、
前記分離溝が形成された半導体基板上に、前記溝を埋め且つ前記窒化膜を覆うように酸化物からなる絶縁膜を形成する工程と、
前記分離溝に埋め込まれた酸化物絶縁膜の表面部分および前記窒化膜上の酸化物絶縁膜を除去し前記分離溝部以外の窒化膜が露出するように前記半導体基板の表面を平坦化する工程と、
前記平坦化した半導体基板を、窒素含有ガス雰囲気中で加熱し、前記分離溝の内壁と前記分離溝中の酸化物絶縁膜との界面に酸窒化膜を形成する工程、および
前記分離溝部を除く前記半導体基板上の前記酸化膜および窒化膜を除去する工程を備えたことを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項２】
前記窒素含有ガス雰囲気は、ＮＯ，Ｎ２Ｏ、ＮＯ２およびＮＨ３からなる群から選ばれた少なくとも1種であることを特徴とする請求項1記載の半導体装置の製造方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
【課題を解決するための手段】  本発明は、基板と埋め込み酸化膜との界面に酸窒化膜を形成することを特徴とするものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
本発明の第1の半導体装置用製造方法は、半導体基板上に酸化膜を形成する工程と、前記酸化膜上に窒化膜を形成する工程と、前記酸化膜および前記窒化膜の形成された前記半導体基板に前記酸化膜および前記窒化膜を貫通する分離用溝を形成する工程と、前記分離溝が形成された半導体基板上に、前記溝を埋め且つ前記窒化膜を覆うように酸化物からなる絶縁膜を形成する工程と、
前記分離溝に埋め込まれた酸化物絶縁膜の表面部分および前記窒化膜上の酸化物絶縁膜を除去し前記分離溝部以外の窒化膜が露出するように前記半導体基板の表面を平坦化する工程と、前記平坦化した半導体基板を、窒素含有ガス雰囲気中で加熱し、前記分離溝の内壁と前記分離溝中の酸化物絶縁膜との界面に酸窒化膜を形成する工程、および前記分離溝部を除く前記半導体基板上の前記酸化膜および窒化膜を除去する工程を備えたことを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
第2の半導体装置用製造方法は、半導体基板上に第1の酸化膜を形成する工程と、前記第1酸化膜上に窒化膜を形成する工程と、前記第1酸化膜および前記窒化膜の形成された前記半導体基板に前記第1酸化膜および前記窒化膜を貫通する分離用溝を形成する工程と、前記溝部に第２の酸化膜をが形成する工程と、前記第２の酸化膜に窒素を導入し酸窒化膜を形成する工程と、前記酸窒化膜を有する前記溝を埋め且つ溝部以外の窒化膜を覆うように酸化物からなる埋め込み絶縁膜を形成する工程と、前記埋め込み絶縁膜の表面を前記窒化膜が露出するように除去・平坦化する工程と、および前記第1の酸化膜および窒化膜を除去する工程を備えたことを特徴とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
本発明の半導体装置製造方法においては、分離用溝と埋め込み絶縁膜との界面への窒素導入による酸窒化膜の形成、或いは形成された分離溝表面への酸窒化膜の形成は、ＮＯ，Ｎ２Ｏ、ＮＯ２およびＮＨ３からなる群から選択される窒素含有ガス雰囲気中で熱処理することによりなされる。好ましくは、ＮＯまたはＮ２Ｏガス雰囲気中で熱処理すると、シリコン基板と酸化膜との界面近傍に窒素濃度ピークを持つ酸窒化膜が形成される。また、加熱は減圧の窒素含有雰囲気で行われる。この場合には、シリコン基板の分離溝と埋め込み酸化絶縁膜の界面に、窒素が集中し、好適な酸窒化膜が形成される。この減圧加熱法を用いることにより、より容易に且つ安定して前記分離溝内壁と埋め込み絶縁膜との界面に酸窒化膜の形成が可能となった。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
また、本発明の窒素を導入する酸窒化工程は、ＣＶＤ埋め込み後のデンシファイの代替となる工程であるため、工程数を減らして低コストを実現するという効果も奏する。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
埋め込み絶縁体として、シリコン酸化膜が用いられる場合には、ＣＶＤ用ガス材料としては、無機出発材料として、４塩化珪素(SiCl4)、ジクロロシラン(SiH2Cl2)、シラン(SiH4)等が用いられ、これらのガスを使用して高温（約７５０〜９００℃）で作成される高温酸化膜ＨＴＯ、低温（約４００℃）で作成される低温酸化膜ＬＴＯが必要とされる性能に応じて形成される。また、ＣＶＤシリコン酸化膜用有機出発ガスとしては、テトラエトキシシランＴＥＯＳ，テトラメトキシシランＴＭＯＳ，テトラプロポキシシランＴＰＯＳ、ジアセトキシジターシャリブトキシシランＤＡＤＢＳ等が使用される。これらの有機ガスをＣＶＤ材料としてシリコン酸化膜を製造することも出来る。また前述の酸化珪素のみならず、リン珪酸ガラスＰＳＧ、ホウ珪酸ガラスＢＳＧ、リンホウ珪酸ガラスＢＰＳＧが必要に応じて使用される。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
次に、図2に示すように、ＣＭＰ技術を用いて、窒化珪素保護膜3が露出するように平坦化した。平坦化は例えばＣＭＰ（化学的機械的研磨）により行う。平坦化後、ＢＨＦ（ＨＦとＮＨ４Ｆの混合液）によってトレンチの酸化部の高さ調整を行なった後に、減圧されたＮＯガスを含む窒素ガス雰囲気で、温度７５０℃で、６０分間の熱処理を行った。この酸窒化プロセス条件は次の通りであった。ＮＯ／Ｎ２ガス比は１/９slm、1.0 x 1014 atom/cm2 の濃度で１５分間、1.６ x 1014 atom/cm2 の濃度で３０分間、1.８ x 1014 atom/cm2 の濃度で１５分間とした。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
この後、図４に示すように、シリコン窒化膜３およびシリコン酸化膜２を除去し、さらにＢＨＦエッチングによりＳＴＩ形状を調整する。熱窒化処理により窒化された部分の酸窒化膜のＢＨＦによるエッチングレートは酸化膜より小さくなる。この程度は、熱窒化条件により調整可能である。
【手続補正書】
【提出日】平成17年3月7日(2005.3.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
真空室にガスを供給するガス供給部と、
前記真空室に配置され基板を載置する電極と、
前記電極に対向して配置されたコイルと、
前記コイルに高周波電圧を印加する高周波電源と
を有するプラズマ処理装置において、
前記ガス供給部は、前記電極の中心点上から先端部が外周部に向かって放射状に延びる複数のガス供給管で構成され、前記ガス供給管にガス吹出し孔を設けた
プラズマ処理装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
【発明の実施の形態】
本発明の請求項１記載のプラズマ処理装置は、真空室にガスを供給するガス供給部と、前記真空室に配置され基板を載置する電極と、前記電極に対向して配置されたコイルと、前記コイルに高周波電圧を印加する高周波電源とを有するプラズマ処理装置において、前記ガス供給部は、前記電極の中心点上から先端部が外周部に向かって放射状に延びる複数のガス供給管で構成され、前記ガス供給管にガス吹出し孔を設けたことを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
この構成によると、電極の中心に基板の中心を合わせて載置することによって、ガス供給部へのガス導入が基板の中心点上から行われるとともに、基板の中心点上から放射状に複数のガス供給管が設置されているため、ガス吹出し孔から供給される処理ガスの流量のばらつきを抑え、基板の全面に均一性の高いガス供給を行える。
以下、本発明のプラズマ処理装置を具体的な実施の形態に基づいて説明する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
【発明の効果】
以上のように本発明のプラズマ処理装置によれば、ガス供給部は、電極の中心点上から先端部が外周部に向かって放射状に延びる複数のガス供給管からなり、前記ガス供給管にガス吹出し孔を設けた構成であるため、それぞれのガス吹出し孔から出るガス流量のばらつきを抑えて大面積の基板であっても全体に均一性の高いガスを供給でき、基板面内の処理速度の均一性の高いプラズマ処理が実現できる。
【手続補正書】
【提出日】平成16年9月14日(2004.9.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】
マイコンが複数糸の糸張力を一括で制御する請求項１記載のミシンの糸張力制御装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
【課題を解決するための手段】
本発明は、一端をミシン本体の一部に固定され糸を係合する糸調子軸と、前記糸調子軸に配置される一対の糸調子皿と、該一対の糸調子皿の少なくとも一方に付勢する駆動ロッドを有するエアシリンダとを備え、糸調子軸に係合された糸を一対の糸調子皿の間に介在させ、エアシリンダによって発生する一対の糸調子皿間の糸圧接力をエアシリンダのエアレギュレータで調節するミシンの糸張力制御装置において、前記エアレギュレータを電空式にするとともに、該電空式エアレギュレータの設定エア圧力をマイコンで制御することを特徴とする。なお、エアシリンダに電磁弁を接続し、マイコンの指令に基づいて電磁弁を作動させることで、一対の糸調子皿間に挟持された糸への圧接力を解放して糸弛め操作を可能にするのが望ましく、またマイコンで複数糸の糸張力を一括制御するのが望ましい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
エアシリンダ５とエア供給源Ｓの間にはエアレギュレータ７が介在している。このレギュレータ７は電圧／空圧変換の電空式となっており、入力電圧値と出力エア圧値は線形の関係で変換される特性を持っている。エアレギュレータ７はマイコン８からの指令に基づいてエアシリンダ５に供給されるエアの設定圧力を素早く可変調整する。マイコン８はＤ／Ａコンバータ９を付設し、Ｄ／Ａコンバータ９はマイコン８からのデジタル指令をアナログ制御電圧（設定電圧）に変換する。このアナログ制御電圧が電空式のエアレギュレータ７に供給されるとともに、この電圧値に応じたエア圧がエアシリンダ５に供給される。その結果、駆動ロッド５ａが進退されて一対の糸調子皿２，３間に介在する糸Ｔに所定の糸圧接力が素早く付与される。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
図２は、前記糸張力制御装置の制御ブロック図である。マイコン８は、ＣＰＵ１１、ＲＯＭ１２、ＲＡＭ１３、インターフェイス１４及びデータバス１５を備えている。布検知センサ１６、スイッチ類１７、レギュレータ駆動回路及び表示器１９はインターフェイス１４に接続されている。布検知センサ１６は、ミシンの縫製部（図示せず）近傍に配置され、縫製部における布地の有無を判別する信号を出力している。各電空式レギュレータ７は、レギュレータ駆動回路（図示せず）を備え、Ｄ／Ａコンバータ９に接続されている。スイッチ類１７を操作すると、Ｄ／Ａコンバータ９を介して各電空式レギュレータ７に所定のエア圧が供給される。これにより、マイコンが複数糸の糸張力を一括で制御することとなる。なお、本実施の形態では詳述していないが、布検知センサ１６の出力信号を利用して糸調子の切替えを行うようにしてもよい。
【手続補正書】
【提出日】平成16年12月8日(2004.12.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５５】
本実施形態の商品データベースは、風適法における「遊技客が得た玉数と等価の物品を提供しなければならない」という規定を遵守する為、各インターネットショップ３の商品について、玉１個４円で一商品毎に商品区分に整理されたものである。
【手続補正書】
【提出日】平成17年6月24日(2005.6.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
スプレー装置であって、
スプレーされる与圧された液体の供給源に結合される液体流路（２０）を有する主要な本体（１４）と、
前記主要な本体（１４）に固定され、前記液体通路（２０）からの液体を所定のスプレーパターンで導くスプレーノズル（４６）と、
座端部（７４）を有し、前記ノズル（４６）を通して液体が放出するのを可能にする縮んだ開位置と前記ノズル（４６）から液体が放出されるのを防止する閉位置との間で、前記本体（１４）内で選択的に長手方向に移動し得る弁ニードル（１５）と、
前記弁ニードルが閉位置にあるとき、弾力的に係合し、前記弁ニードル端部（７４）の周囲に液体シールを生成する、環状の弾力性のあるシーリング部材（７８）と、
を備え、
前記スプレーノズル（４６）は、前記弁ニードルが閉位置にあるとき、座位置を心出しして正確に位置決めする為に、液体放出用オリフィス（６１）と、前記液体放出オリフィス（６１）に対して間隔をあけた上流側に堅固な弁座（７０）と、を画成し、
前記環状のシーリング部材（７８）は、前記シーリング部材（７８）に対し前記弁ニードル（１５）の前記閉位置への移動に付随して弾力的に係合し、前記弁ニードル（１５）の周囲に液体シールを生成する為に、前記堅固な弁座（７０）の上流側の前記ノズル（４６）内で固定された関係で長手方向に取り付けられる、
スプレー装置。
【請求項２】
前記ノズルは、液体噴口（６１）及び前記堅固な弁座（７０）を画成するオリフィス本体部材（４６）を含む、請求項１に記載のスプレー装置。
【請求項３】
前記弾力性のあるシーリング部材（７８）は、Ｏ−リングである、請求項２に記載のスプレー装置。
【請求項４】
前記弁ニードル（１５）及びオリフィス本体部材（４６）は金属で作製され、
前記弁ニードル（１５）が閉位置にあるとき、前記堅固な弁座（７０）及び弁ニードル座部分（７４）は金属−金属接触を形成する、請求項１に記載のスプレー装置。
【請求項５】
前記オリフィス本体部材（４６）に対し所定の関係で前記弾力性のあるシーリング部材（７８）を固定する、前記オリフィス本体部材（４６）の上流端部内に配置し得る環状のリテーナー（８１）を含む、請求項２に記載のスプレー装置。
【請求項６】
前記リテーナー（８１）は、前記弾力性のあるシーリング部材（７８）と係合しかつこれを前記オリフィス本体部材（４６）に関して半径方向に内側へ変形させる、請求項５に記載のスプレーノズルアセンブリ。
【請求項７】
前記オリフィス部材（４６）は、前記弾力性のあるシーリング部材（７８）の下流側に第１の堅固な弁座（７０）を画成し、前記ノズル（４６）は、前記弾力性のあるシーリン
グ部材（７８）の上流側に第２の堅固な弁座（８８ａ）を画成する、請求項２に記載のスプレー装置。
【請求項８】
前記弾力性のあるシーリング部材（７８）は、前記第２の堅固な弁座（８８ａ）より大きな距離で放射状に外側に延びる、請求項７に記載のスプレー装置。
【請求項９】
前記オリフィス本体部材（４６）に対し所定の関係で前記弾力性のあるシーリング部材（７８）を固定する、前記オリフィス本体部材（４６）の上流端部内に配置し得る環状のリテーナー（８１）を含み、前記第１の堅固な弁座（７０）は、前記オリフィス本体部材（４６）内でテーパの付いた通路によって画成され、下流の方向で互いに収束し前記噴口（６１）と連通し、前記第２の堅固な弁座（８８ａ）は、前記リテーナー（８１）によって画成される、請求項５または７に記載のスプレー装置。
【手続補正書】
【提出日】平成16年11月1日(2004.11.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一定間隔をもって搬走路上を搬送されてくる各基板とフィルム供給ロールから繰り出したフィルムを該搬走路に設置してあるラミネートローラ間を通過させることで各基板表面上にフィムルを貼り付けるフィルムラミネート方法において、
基板へのフィルムラミネート前にフィルムの状態を監視し、フィルムに不良個所を含むか否かを判断し、不良個所を検出した時は、フィルムの該不良個所を含む領域を廃棄し、良好領域を基板に貼り付けるようにしたことを特徴とするフィルムラミネート方法。
【請求項２】
上記請求項１に記載のものにおいて、フィルムに不良個所を含むか否かを判断し、不良個所を検出した時は、不良個所を含む基板１枚分に相当する長さのフィルムを不良個所領域として廃棄することを特徴とするフィルムラミネート方法。
【請求項３】
上記請求項１に記載のものにおいて、前記不良個所が基板に貼り付ける領域に含まれている場合に、該不良個所を含む基板１枚分に相当する長さのフィルムを不良個所領域として廃棄することを特徴とするフィルムラミネート方法。
【請求項４】
上記請求項１に記載のものにおいて、フィルムは各基板表面上に貼り付けるフィルム層とこのフィルム層を支持するベースフィルム層の多層構成を有し、フィルムの状態を監視し基板へのフィルムラミネートをする前に、フィルムのフィルム層が基板の前後端部に接触しないようにするフィルムの基板間処理を行うことを特徴とするフィルムラミネート方法。
【請求項５】
上記請求項４に記載のものにおいて、フィルムの状態を監視してフィルムの基板間処理を行う領域に不良個所を検出した時はそのまま基板間処理をして良好領域を基板に貼り付けるようにしたことを特徴とするフィルムラミネート方法。
【請求項６】
上記請求項４に記載のものにおいて、基板間処理は基板間とフィルムのフィルム層が基板の前後端部に接触することを望まない領域とに相当するフィルムのフィルム層を除去する処理か該相当するフィルムのフィルム層上にテープを貼り付ける処理であることを特徴とするフィルムラミネート方法。
【請求項７】
一定間隔をもって搬走路上を搬送されてくる各基板とフィルム供給ロールから繰り出したフィルムを該搬走路に設置してあるラミネートローラ間を通過させることで各基板表面上にフィムルを貼り付けるフィルムラミネート装置において、
基板へのフィルムラミネート前にフィルムの状態を監視する監視手段、該監視手段で得た検出結果からフィルムに不良個所を含むか否かを判断する判断手段、該判断手段が不良個所を検出した時にフィルムの不良個所領域を廃棄して良好領域を基板に貼り付ける手段、を有することを特徴とするフィルムラミネート装置。
【請求項８】
上記請求項７に記載のフィルムラミネート装置において、該監視手段の下流にフィルムに対し基板間処理を行ってフィルムが基板の前後端部に接触しないようにする手段を備えたことを特徴とするフィルムラミネート装置。
【請求項９】
上記請求項７に記載のものにおいて、該監視手段は色成分検知及び明暗検知によるデジタルカラー判別を行う光学センサであり、該判断手段は良品としてのフィルム色にどれだけ近いかを一致度で判定し、該一致度がしきい値よりも大きい時は良好と判定し、小さい時は不良と判定するものであることを特徴とするフィルムラミネート装置。
【手続補正書】
【提出日】平成16年3月8日(2004.3.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
【発明の効果】
本発明の熱収縮性ポリスチレン系樹脂フィルムは、実用上充分に熱収縮率が大きく、熱収縮時に、収縮工程での温度のゆらぎや不均一にかかわりなく均等に収縮して、収縮むらが発生せず、美麗な外観を呈する。さらに収縮後に高温条件下にさらされても、たるみやしわが発生せず、その外観を安定して保持し、装着後に被装着物が軋轢や停滞することなく、搬送可能であり、好適に使用できる。また、外部からの機械的な刺激や光線から被包装物を保護でき、被包装物の劣化を防止できる。
【表１】
2003062905.tif 000001
主体樹脂
ＰＳ１：４−メチルスチレン共重合シンジオタクティックポリスチレン
ＰＳ３：シンジオタクティックポリスチレン
ゴム成分
Ｇ１：スチレン（２５ｗｔ％）−ブタジエン共重合体
改質剤
ａ：ハイスチレンゴム（スチレン８５ｗｔ％）
ｂ：ハイスチレン水添物
ｃ：スチレングラフトポリブタジエン
ｄ：スチレングラフト−スチレンブタジエンゴム
滑剤
Ｋ１：非晶質アルミノシリケート粒子（平均粒径０．８５μｍ）
Ｋ２：シリカ粒子（平均粒径１．８０μｍ）
Ｋ３：架橋アクリル系樹脂粒子（平均粒径２．００μｍ）
Ｋ４：架橋スチレン系樹脂粒子（平均粒径１．５０μｍ）
Ｋ５：炭酸カルシウム粒子（平均粒径１．００μｍ）
【表２】
2003062905.tif 000002
【手続補正書】
【提出日】平成17年5月26日(2005.5.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】平らな被印刷体を処理する機械の排紙装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
処理方向に供給された枚葉紙を、ある受け取り高さで受け取って、ある引き渡し高さで離す枚葉紙制動装置を備えている、平らな被印刷体を処理する機械、特に枚葉紙を処理する輪転印刷機の排紙装置において、
前記枚葉紙制動装置（１１．１；１１．１’；１１．１’’）は、前記受け取り高さ（Ｎ１）と前記引き渡し高さ（Ｎ２）を変更できるように位置調節可能に配置されていることを特徴とする、平らな被印刷体を処理する機械の排紙装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】
前記処理方向（１０’）に関して下流側が上り勾配になるように配置された案内部（２５）を備えており、前記枚葉紙制動装置（１１．１；１１．１’；１１．１’’）は、この案内部に沿って、前記処理方向にもそれと反対方向にも位置調節可能である、請求項２に記載の排紙装置。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４】
前記処理方向（１０）に向いた案内部（２５）が設けられており、前記枚葉紙制動装置（１１．１）は高さ調節可能に配置されている、請求項２に記載の排紙装置。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項８】
前記枚葉紙制動装置（１１．１；１１．１’；１１．１’’）は、制動車間部（１１．３）を構成する、運転によって循環運動する無端の吸引ベルト（１１．２）を有しており、前記制動車間部（１１．３）の、前記処理方向に関して下流側にある端部をその都度さまざまな高さに合わせることができるように、回転式に位置調節可能に配置されている、請求項７に記載の排紙装置。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項９】
平らな被印刷体を処理する機械、特に枚葉紙を処理する輪転印刷機において、請求項１から８までのいずれか１項に記載の排紙装置を備えていることを特徴とする、平らな被印刷体を処理する機械。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、処理方向に供給された枚葉紙を、ある受け取り高さで受け取って、ある引き渡し高さで離す枚葉紙制動装置を備えている、平らな被印刷体を処理する機械、特に枚葉紙を処理する輪転印刷機の排紙装置と、このような排紙装置を備えている、平らな被印刷体を処理する機械、特に枚葉紙を処理する輪転印刷機に関する。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
【従来の技術】
平らな被印刷体を処理する機械、特に枚葉紙を処理する輪転印刷機などの枚葉紙制動装置は、処理された被印刷体を処理速度から排紙速度に減速させる働きをするものであり、然るべき低速で運動し、真空が全体に亘って作用する制動部材が、特に、被印刷体を枚葉紙制動装置に向かう方向へ運ぶ循環運動するくわえづめ装置の形態の搬送装置によって、制動部材上で解放される被印刷体を吸引し、この被印刷体が排紙速度まで減速された後にこれを搬送装置側で離し、その結果、減速させられた被印刷体は、もはや、機械で処理される被印刷体のあらゆるサイズに対して同一の位置をとる、パイルを形成するために設けられた前縁ストッパに向かう方向へ自由に運動する、という原理に基づいて作動する。制動部材から解放された被印刷体が自由に進む経路をできるだけ短く抑えるために、枚葉紙制動装置は、処理される被印刷体のうちの小さいサイズに合うように処理方向の下流側に移動させられて、その都度、サイズに合った位置に調節される。このように作動して位置決め可能な枚葉紙制動装置は、たとえばドイツ特許発明明細書第４４２４４８３Ｃ２号により公知である。
【手続補正書】
【提出日】平成16年10月26日(2004.10.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
可変表示装置の変動表示領域に識別情報が設定された図柄オブジェクトを変動表示する変動表示ゲームの制御を行う表示制御手段を備え、前記変動表示ゲームの結果態様に関連して特定の遊技価値を付与可能な遊技機において、
前記表示制御手段は、
前記図柄オブジェクトを、立体の面に前記識別情報を貼付して構成し、
前記変動表示領域を含んで設けられた仮想空間内に設定された変動表示軌道に沿って前記図柄オブジェクトを複数配置して、前記変動表示軌道に沿って前記図柄オブジェクトを移動表示させる移動表示手段と、
前記変動表示軌道に沿って配置される複数の図柄オブジェクトの配置間隔を制御する配置間隔制御手段と、
を備えたことを特徴とする遊技機。
【請求項２】
前記変動表示領域には、各図柄オブジェクトに設定された識別情報を停止態様として有効に表示する停止図柄表示領域を設け、
前記表示制御手段は、前記図柄オブジェクトが前記停止図柄表示領域を通過するように規制しながら、前記変動表示軌道を変化させる軌道制御手段を備えたことを特徴とする請求項１に記載の遊技機。
【請求項３】
前記表示制御手段は、前記仮想空間内に複数の変動表示軌道を設定し、
前記軌道制御手段は、前記停止図柄表示領域において、前記変動表示軌道同士が近接するように表示制御することを特徴とする請求項２に記載の遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
【発明を解決するための手段】
第１の発明は、可変表示装置の変動表示領域に識別情報が設定された図柄オブジェクトを変動表示する変動表示ゲームの制御を行う表示制御手段を備え、前記変動表示ゲームの結果態様に関連して特定の遊技価値を付与可能な遊技機において、前記表示制御手段は、前記図柄オブジェクトを、立体の面に前記識別情報を貼付して構成し、前記変動表示領域を含んで設けられた仮想空間内に設定された変動表示軌道に沿って前記図柄オブジェクトを複数配置して、前記変動表示軌道に沿って前記図柄オブジェクトを移動表示させる移動表示手段と、前記変動表示軌道に沿って配置される複数の図柄オブジェクトの配置間隔を制御する配置間隔制御手段と、を備えた。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
第２の発明は、第１の発明において、前記変動表示領域には、各図柄オブジェクトに設定された識別情報を停止態様として有効に表示する停止図柄表示領域を設け、前記表示制御手段は、前記図柄オブジェクトが前記停止図柄表示領域を通過するように規制しながら、前記変動表示軌道を変化させる軌道制御手段を備えたことを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
第３の発明は、第２の発明において、前記表示制御手段は、前記仮想空間内に複数の変動表示軌道を設定し、前記軌道制御手段は、前記停止図柄表示領域において、前記変動表示軌道同士が近接するように表示制御することを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
【発明の作用および効果】
第１の発明では、表示制御装置には、変動表示軌道に沿って配置される複数の図柄オブジェクトの配置間隔を制御する配置間隔制御手段を備えたので、遊技者に疎に配置されている（又は、密に配置されている）図柄オブジェクトで変動表示が停止することの期待感を持たせる演出をすることができる。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
第２の発明では、前記表示制御手段は、前記図柄オブジェクトが前記停止図柄表示領域を通過するように規制しながら、前記変動表示軌道を変化させる軌道制御手段を備えたので、表示領域を移動させることなく、変動表示軌道の変化によって停止図柄表示領域を形成することができる。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
第３の発明では、前記表示制御手段は、前記仮想空間内に複数の変動表示軌道を設定し、前記軌道制御手段は、前記停止図柄表示領域において、前記変動表示軌道同士が近接するように表示制御するので、変動表示ゲームの表示に多様性を持たせることができ、遊技に対する興趣を向上することができるとともに、停止した識別情報を停止図柄表示領域に近接して表示することができるので、識別情報の停止状態では識別情報を大きく表示することができ、遊技者が容易に変動表示ゲームの結果態様を認識することができる。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成16年11月24日(2004.11.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
可変表示装置の変動表示領域に識別情報が設定された図柄オブジェクトを変動表示する変動表示ゲームの制御を行う表示制御手段を備え、前記変動表示ゲームの結果態様に関連して特定の遊技価値を付与可能な遊技機において、
前記表示制御手段は、
前記変動表示領域を含んで設けられた仮想空間内に設定された変動表示軌道に沿って前記図柄オブジェクトを複数配置して、前記変動表示軌道に沿って前記図柄オブジェクトを移動表示させる移動表示手段と、
前記移動表示手段によって移動表示する前記図柄オブジェクトを回転表示させる回転表示手段とを備え、
前記回転表示手段は、前記変動表示ゲームの結果態様と前記図柄オブジェクトの自転パターンとが対応したテーブルから図柄オブジェクトの自転パターンを選択することによって、変動表示ゲームの進行に関連付けて前記図柄オブジェクトの回転軸数を変更可能であることを特徴とする遊技機。
【請求項２】
前記表示制御手段は、前記移動表示手段による前記図柄オブジェクトの移動表示を停止した状態で、前記回転表示手段によって該図柄オブジェクトの回転表示を行うことにより、前記識別情報の仮停止状態の実現が可能であることを特徴とする請求項１に記載の遊技機。
【請求項３】
前記回転表示手段は、変動表示ゲームの進行に関連付けて、前記図柄オブジェクトの回転速度を変更可能であることを特徴とする請求項１又は２に記載の遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
【課題を解決するための手段】
第１の発明は、可変表示装置の変動表示領域に識別情報が設定された図柄オブジェクトを変動表示する変動表示ゲームの制御を行う表示制御手段を備え、前記変動表示ゲームの結果態様に関連して特定の遊技価値を付与可能な遊技機において、前記表示制御手段は、前記変動表示領域を含んで設けられた仮想空間内に設定された変動表示軌道に沿って前記図柄オブジェクトを複数配置して、前記変動表示軌道に沿って前記図柄オブジェクトを移動表示させる移動表示手段と、前記移動表示手段によって移動表示する前記図柄オブジェクトを回転表示させる回転表示手段とを備え、前記回転表示手段は、前記変動表示ゲームの結果態様と前記図柄オブジェクトの自転パターンとが対応したテーブルから図柄オブジェクトの自転パターンを選択することによって、変動表示ゲームの進行に関連付けて前記図柄オブジェクトの回転軸数を変更可能であることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
第２の発明は、第１の発明において、前記表示制御手段は、前記移動表示手段による前記図柄オブジェクトの移動表示を停止した状態で、前記回転表示手段によって該図柄オブジェクトの回転表示を行うことにより、前記識別情報の仮停止状態の実現が可能であることを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
第３の発明は、第１又は第２の発明において、前記回転表示手段は、変動表示ゲームの進行に関連付けて、前記図柄オブジェクトの回転速度を変更可能であることを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
【発明の作用および効果】
第１の発明では、可変表示装置の変動表示領域に識別情報が設定された図柄オブジェクトを変動表示する変動表示ゲームの制御を行う表示制御手段を備え、変動表示ゲームの結果態様に関連して特定の遊技価値を付与可能な遊技機において、表示制御手段は、変動表示領域を含んで設けられた仮想空間（例えば、仮想三次元空間）内に設定された変動表示軌道に沿って図柄オブジェクトを配置して、変動表示軌道に沿って図柄オブジェクトを移動表示させる移動表示手段と、移動表示手段によって移動表示する図柄オブジェクトを回転表示させる回転表示手段とを備え、回転表示手段は図柄オブジェクトを変動表示ゲームの進行に関連付けて回転表示を行うので、変動表示ゲームの表示に多様性を持たせることができ、遊技に対する興趣を向上することができる。そして、識別情報が変動表示軌道に沿って配置されているので、図柄が登場する順序を容易に理解することができる。また、回転表示手段は、変動表示ゲームの進行に関連付けて、図柄オブジェクトの回転軸数を変更可能なので、回転軸数によって信頼度を変えることができ、多様な予告表示をすることが可能となる。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
第２の発明では、表示制御手段は、移動表示手段による図柄オブジェクトの移動表示を停止した状態で、回転表示手段によって該図柄オブジェクトの回転表示を行うことにより、識別情報の仮停止状態の実現が可能なので、多様な変動表示によって遊技に対する興趣を向上させることができる。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
第３の発明では、回転表示手段は、変動表示ゲームの進行に関連付けて、図柄オブジェクトの回転速度を変更可能なので、回転速度によって信頼度を変えることができ、より多様な予告表示をすることが可能となる。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成16年2月19日(2004.2.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
装着開口及び砥剤保持表面を有する研磨ディスクに関し、これを貫通する３つから８つの観察開口を有し、前記観察開口の各々は使用中のディスクの回転方向で規定される上流側に前縁と下流側に後縁を有し、前記後縁はディスクの砥剤保持表面の平面からディスクの反対側表面の方向へ変形されており、且つ、観察開口の前記後縁から遠ざかる方向へ延長しかつディスクの材料がディスクの砥剤表面の平面からディスクの裏面方向へ変形されることを可能にするスリットを設けられていることを特徴とする研磨ディスク。
【請求項２】
対称的に配置された偶数の観察開口があり、その半数の外方の開口の最も内方の周辺は、内方の開口の最も外方の周辺よりも中心に近いことを特徴とする請求項１に記載の研磨ディスク。
【請求項３】
研磨ディスクは硬質であり、押え板を要せずして研削盤の軸に直接に装着されるに適したものであることを特徴とする請求項１又は２に記載の研磨ディスク。
【請求項４】
前記砥剤保持表面は複数の研磨フラップ部材により提供され、研磨フラップ部材の各々は取り付けエッジと対向する自由エッジを有し、研磨フラップ部材はディスクに取り付けエッジに沿って取り付けられ、各自由エッジが相隣る研磨フラップ部材の取り付けられたエッジに重なって、フラップ部材が開口部を除いて研磨ディスクの周縁に沿って重複関係で整列することを特徴とする請求項１、２又は３に記載の研磨ディスク。
【請求項５】
前記砥剤保持表面は少なくとも一部の繊維に砥粒が接着された不織繊維マットにより提供されることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の研磨ディスク。