(57)【要約】      （修正有）【課題】化学反応の溶媒、触媒およびガス混合物の精製などに有用であるイオン性液体を提供する。【解決手段】下記一般式で表されるイオン性化合物。［式中、Ｒはアルキル基、アリール基などを表し、Ｌは、（Ｃ（Ｒ３）２）ｍ，（Ｃ（Ｒ３）２）ｎＪ（Ｃ（Ｒ３）２）ｍ，または（Ｃ（Ｒ３）２）ｎＡｒ（Ｃ（Ｒ３）２）ｍを表し；Ｚは−ＳＯ３Ｈ，−ＣＯ２Ｈ，−ＣＯ２Ｒ，−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ”）２，−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ”）Ｎ（Ｒ”）２，−Ｎ（Ｒ’）２，−アルケニル又はアルキニルを表し；Ｘ−はアリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミドなどのアニオン性部位を表す。］2010100630.tif 000216【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
１：
【化１】
2010100630.tif 000174
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
【化２】
2010100630.tif 000175
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩。
【請求項２】
Ｒが、各々の存在について独立してアリールを表す、請求項１に記載の塩。
【請求項３】
Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表す、請求項１に記載の塩。
【請求項４】
Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表す、請求項１に記載の塩。
【請求項５】
Ｘ−が、四フッ化ホウ素、六フッ化リン、メタンスルホネート、トリフルオロメタンスルホネート、ベンゼンスルホネート、ｐ−トルエンスルホネート、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表す、請求項１に記載の塩。
【請求項６】
Ｘ−が、メタンスルホネート、トリフルオロメタンスルホネート、ベンゼンスルホネート、ｐ−トルエンスルホネート、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表す、請求項１に記載の塩。
【請求項７】
Ｘ−が、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表す、請求項１に記載の塩。
【請求項８】
Ｘ−が、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミドまたは（トリフルオロメタンスルホニル）（トリフルオロアセチル）アミドを表す、請求項１に記載の塩。
【請求項９】
Ｒが、各々の存在について独立してアリールを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表す、請求項１に記載の塩。
【請求項１０】
Ｒが、各々の存在について独立してアリールを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表す、請求項１に記載の塩。
【請求項１１】
Ｒが、各々の存在について独立してアリールを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、四フッ化ホウ素、六フッ化リン、メタンスルホネート、トリフルオロメタンスルホネート、ベンゼンスルホネート、ｐ−トルエンスルホネート、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表す、請求項１に記載の塩。
【請求項１２】
Ｒが、各々の存在について独立してアリールを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、メタンスルホネート、トリフルオロメタンスルホネート、ベンゼンスルホネート、ｐ−トルエンスルホネート、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表す、請求項１に記載の塩。
【請求項１３】
Ｒが、各々の存在について独立してアリールを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表す、請求項１に記載の塩。
【請求項１４】
Ｒが、各々の存在について独立してアリールを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミドまたは（トリフルオロメタンスルホニル）（トリフルオロアセチル）アミドを表す、請求項１に記載の塩。
【請求項１５】
２：
【化３】
2010100630.tif 000176
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルもしくは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；または＋ＮＲ３は、一緒に、ピリジニウム、イミダゾリウム、ベンズイミダゾリウム、ピラゾリウム、ベンズピラゾリウム、インダゾリウム、チアゾリウム、ベンズチアゾリウム、オキサゾリウム、ベンゾオキサゾリウム、イソオキサゾリウム、イソチアゾリウム、イミダゾリデニウム、グアニジニウム、キヌクリジニウム、トリアゾリウム、テトラゾリウム、キノリニウム、イソキノリニウム、ピペリジニウム、ピロリジニウム、モルホリニウム、ピリダジニウム、ピラジニウム、ピペラジニウム、トリアジニウム、アゼピニウムもしくはジアゼピニウムを表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
【化４】
2010100630.tif 000177
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩。
【請求項１６】
Ｒが、各々の存在について独立してアルキルまたはアリールを表す、請求項１５に記載の塩。
【請求項１７】
Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表す、請求項１５に記載の塩。
【請求項１８】
Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表す、請求項１５に記載の塩。
【請求項１９】
Ｘ−が、四フッ化ホウ素、六フッ化リン、メタンスルホネート、トリフルオロメタンスルホネート、ベンゼンスルホネート、ｐ−トルエンスルホネート、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表す、請求項１５に記載の塩。
【請求項２０】
Ｘ−が、メタンスルホネート、トリフルオロメタンスルホネート、ベンゼンスルホネート、ｐ−トルエンスルホネート、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表す、請求項１５に記載の塩。
【請求項２１】
Ｘ−が、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表す、請求項１５に記載の塩。
【請求項２２】
Ｘ−が、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミドまたは（トリフルオロメタンスルホニル）（トリフルオロアセチル）アミドを表す、請求項１５に記載の塩。
【請求項２３】
Ｒが、各々の存在について独立してアルキルまたはアリールを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表す、請求項１５に記載の塩。
【請求項２４】
Ｒが、各々の存在について独立してアルキルまたはアリールを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表す、請求項１５に記載の塩。
【請求項２５】
Ｒが、各々の存在について独立してアルキルまたはアリールを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、四フッ化ホウ素、六フッ化リン、メタンスルホネート、トリフルオロメタンスルホネート、ベンゼンスルホネート、ｐ−トルエンスルホネート、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表す、請求項１５に記載の塩。
【請求項２６】
Ｒが、各々の存在について独立してアルキルまたはアリールを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、メタンスルホネート、トリフルオロメタンスルホネート、ベンゼンスルホネート、ｐ−トルエンスルホネート、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表す、請求項１５に記載の塩。
【請求項２７】
Ｒが、各々の存在について独立してアルキルまたはアリールを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表す、請求項１５に記載の塩。
【請求項２８】
Ｒが、各々の存在について独立してアルキルまたはアリールを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミドまたは（トリフルオロメタンスルホニル）（トリフルオロアセチル）アミドを表す、請求項１５に記載の塩。
【請求項２９】
３：
【化５】
2010100630.tif 000178
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
Ｒ４は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ５は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
【化６】
2010100630.tif 000179
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩。
【請求項３０】
Ｒが、各々の存在について独立してアルキルを表す、請求項２９に記載の塩。
【請求項３１】
Ｒ４が、各々の存在について独立してＨまたはアルキルを表す、請求項２９に記載の塩。
【請求項３２】
Ｒ５が、各々の存在について独立してＨまたはアルキルを表す、請求項２９に記載の塩。
【請求項３３】
Ｒ５が、各々の存在について独立してアルキルを表す、請求項２９に記載の塩。
【請求項３４】
Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表す、請求項２９に記載の塩。
【請求項３５】
Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表す、請求項２９に記載の塩。
【請求項３６】
Ｘ−が、四フッ化ホウ素、六フッ化リン、メタンスルホネート、トリフルオロメタンスルホネート、ベンゼンスルホネート、ｐ−トルエンスルホネート、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表す、請求項２９に記載の塩。
【請求項３７】
Ｘ−が、メタンスルホネート、トリフルオロメタンスルホネート、ベンゼンスルホネート、ｐ−トルエンスルホネート、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表す、請求項２９に記載の塩。
【請求項３８】
Ｘ−が、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表す、請求項２９に記載の塩。
【請求項３９】
Ｘ−が、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミドまたは（トリフルオロメタンスルホニル）（トリフルオロアセチル）アミドを表す、請求項２９記載の塩。
【請求項４０】
Ｒが、各々の存在について独立してアルキルを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表す、請求項２９に記載の塩。
【請求項４１】
Ｒが、各々の存在について独立してアルキルを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表す、請求項２９に記載の塩。
【請求項４２】
Ｒが、各々の存在について独立してアルキルを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、四フッ化ホウ素、六フッ化リン、メタンスルホネート、トリフルオロメタンスルホネート、ベンゼンスルホネート、ｐ−トルエンスルホネート、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表す、請求項２９に記載の塩。
【請求項４３】
Ｒが、各々の存在について独立してアルキルを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、メタンスルホネート、トリフルオロメタンスルホネート、ベンゼンスルホネート、ｐ−トルエンスルホネート、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表す、請求項２９に記載の塩。
【請求項４４】
Ｒが、各々の存在について独立してアルキルを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表す、請求項２９に記載の塩。
【請求項４５】
Ｒが、各々の存在について独立してアルキルを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミドまたは（トリフルオロメタンスルホニル）（トリフルオロアセチル）アミドを表す、請求項２９に記載の塩。
【請求項４６】
Ｒが、各々の存在について独立してアルキルを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、四フッ化ホウ素、六フッ化リン、メタンスルホネート、トリフルオロメタンスルホネート、ベンゼンスルホネート、ｐ−トルエンスルホネート、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表し；Ｒ４が、各々の存在について独立してＨまたはアルキルを表す、請求項２９に記載の塩。
【請求項４７】
Ｒが、各々の存在について独立してアルキルを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、メタンスルホネート、トリフルオロメタンスルホネート、ベンゼンスルホネート、ｐ−トルエンスルホネート、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表し；Ｒ４が、各々の存在について独立してＨまたはアルキルを表す、請求項２９に記載の塩。
【請求項４８】
Ｒが、各々の存在について独立してアルキルを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表し；Ｒ４が、各々の存在について独立してＨまたはアルキルを表す、請求項２９に記載の塩。
【請求項４９】
Ｒが、各々の存在について独立してアルキルを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミドを表し；Ｒ４が、各々の存在について独立してＨまたはアルキルを表す、請求項２９に記載の塩。
【請求項５０】
Ｒが、各々の存在について独立してアルキルを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、四フッ化ホウ素、六フッ化リン、メタンスルホネート、トリフルオロメタンスルホネート、ベンゼンスルホネート、ｐ−トルエンスルホネート、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表し；Ｒ４が、各々の存在について独立してＨまたはアルキルを表し；Ｒ５が、各々の存在について独立してＨまたはアルキルを表す、請求項２９に記載の塩。
【請求項５１】
Ｒが、各々の存在について独立してアルキルを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、メタンスルホネート、トリフルオロメタンスルホネート、ベンゼンスルホネート、ｐ−トルエンスルホネート、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表し；Ｒ４が、各々の存在について独立してＨまたはアルキルを表し；Ｒ５が、各々の存在について独立してＨまたはアルキルを表す、請求項２９に記載の塩。
【請求項５２】
Ｒが、各々の存在について独立してアルキルを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表し；Ｒ４が、各々の存在について独立してＨまたはアルキルを表し；Ｒ５が、各々の存在について独立してＨまたはアルキルを表す、請求項２９に記載の塩。
【請求項５３】
Ｒが、各々の存在について独立してアルキルを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミドを表し；Ｒ４が、各々の存在について独立してＨまたはアルキルを表し；Ｒ５が、各々の存在について独立してＨまたはアルキルを表す、請求項２９に記載の塩。
【請求項５４】
Ｒが、各々の存在について独立してアルキルを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、四フッ化ホウ素、六フッ化リン、メタンスルホネート、トリフルオロメタンスルホネート、ベンゼンスルホネート、ｐ−トルエンスルホネート、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表し；Ｒ４が、各々の存在について独立してＨまたはアルキルを表し；Ｒ５が、各々の存在について独立してアルキルを表す、請求項２９に記載の塩。
【請求項５５】
Ｒが、各々の存在について独立してアルキルを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、メタンスルホネート、トリフルオロメタンスルホネート、ベンゼンスルホネート、ｐ−トルエンスルホネート、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表し；Ｒ４が、各々の存在について独立してＨまたはアルキルを表し；Ｒ５が、各々の存在について独立してアルキルを表す、請求項２９に記載の塩。
【請求項５６】
Ｒが、各々の存在について独立してアルキルを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表し；Ｒ４が、各々の存在について独立してＨまたはアルキルを表し；Ｒ５が、各々の存在について独立してアルキルを表す、請求項２９に記載の塩。
【請求項５７】
Ｒが、各々の存在について独立してアルキルを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミドを表し；Ｒ４が、各々の存在について独立してＨまたはアルキルを表し；Ｒ５が、各々の存在について独立してアルキルを表す、請求項２９に記載の塩。
【請求項５８】
二酸化炭素、硫化カルボニル、二酸化硫黄、三酸化硫黄、硫化水素または１つのカルボニル含有化合物を、１つの気体状または液体状混合物から除去する方法であって、１つの気体状または液体状混合物を、
１：
【化７】
2010100630.tif 000180
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
【化８】
2010100630.tif 000181
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩；
２：
【化９】
2010100630.tif 000182
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルもしくは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；または＋ＮＲ３は、一緒に、ピリジニウム、イミダゾリウム、ベンズイミダゾリウム、ピラゾリウム、ベンズピラゾリウム、インダゾリウム、チアゾリウム、ベンズチアゾリウム、オキサゾリウム、ベンゾオキサゾリウム、イソオキサゾリウム、イソチアゾリウム、イミダゾリデニウム、グアニジニウム、キヌクリジニウム、トリアゾリウム、テトラゾリウム、キノリニウム、イソキノリニウム、ピペリジニウム、ピロリジニウム、モルホリニウム、ピリダジニウム、ピラジニウム、ピペラジニウム、トリアジニウム、アゼピニウムもしくはジアゼピニウムを表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
【化１０】
2010100630.tif 000183
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩；および
３：
【化１１】
2010100630.tif 000184
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
Ｒ４は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ５は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
【化１２】
2010100630.tif 000185
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩
からなる群から選択された１つの塩に暴露する段階を含む、前記方法。
【請求項５９】
Ｚが、各々の存在について独立して−Ｎ（Ｒ’）２を表す、請求項５８に記載の方法。
【請求項６０】
前記気体状または液体状混合物が、天然ガスである、請求項５８に記載の方法。
【請求項６１】
Ｚが、各々の存在について独立して−Ｎ（Ｒ’）２を表し；前記気体状または液体状混合物が、天然ガスである、請求項５８に記載の方法。
【請求項６２】
二酸化炭素、硫化カルボニル、二酸化硫黄、三酸化硫黄、硫化水素または１つのカルボニル含有化合物を、１つの第１の気体状または液体状混合物から１つの第２の気体状または液体状混合物に輸送する方法であって、１つの第１の気体状または液体状混合物を、
１：
【化１３】
2010100630.tif 000186
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
【化１４】
2010100630.tif 000187
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩；
２：
【化１５】
2010100630.tif 000188
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルもしくは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；または＋ＮＲ３は、一緒に、ピリジニウム、イミダゾリウム、ベンズイミダゾリウム、ピラゾリウム、ベンズピラゾリウム、インダゾリウム、チアゾリウム、ベンズチアゾリウム、オキサゾリウム、ベンゾオキサゾリウム、イソオキサゾリウム、イソチアゾリウム、イミダゾリデニウム、グアニジニウム、キヌクリジニウム、トリアゾリウム、テトラゾリウム、キノリニウム、イソキノリニウム、ピペリジニウム、ピロリジニウム、モルホリニウム、ピリダジニウム、ピラジニウム、ピペラジニウム、トリアジニウム、アゼピニウムもしくはジアゼピニウムを表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
【化１６】
2010100630.tif 000189
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩；および
３：
【化１７】
2010100630.tif 000190
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
Ｒ４は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ５は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
【化１８】
2010100630.tif 000191
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩
からなる群から選択された１つの塩に暴露し、
その後前記塩を、１つの第２の気体状または液体状混合物に暴露し、これにより、二酸化炭素、硫化カルボニル、二酸化硫黄、三酸化硫黄、硫化水素または１つのカルボニル含有化合物を、前記第２の気体状または液体状混合物に輸送する段階を含む、前記方法。
【請求項６３】
Ｚが、各々の存在について独立して−Ｎ（Ｒ’）２を表す、請求項６２に記載の方法。
【請求項６４】
前記塩が、１つの半透膜内に含まれる、請求項６２に記載の方法。
【請求項６５】
Ｚが、各々の存在について独立して−Ｎ（Ｒ’）２を表し；前記塩が、１つの半透膜内に含まれる、請求項６２に記載の方法。
【請求項６６】
１つのアルケン、アルキンまたは一酸化炭素を１つの混合物から除去する方法であって、１つの混合物を、１つの遷移金属と：
１：
【化１９】
2010100630.tif 000192
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
【化２０】
2010100630.tif 000193
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩；
２：
【化２１】
2010100630.tif 000194
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルもしくは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；または＋ＮＲ３は、一緒に、ピリジニウム、イミダゾリウム、ベンズイミダゾリウム、ピラゾリウム、ベンズピラゾリウム、インダゾリウム、チアゾリウム、ベンズチアゾリウム、オキサゾリウム、ベンゾオキサゾリウム、イソオキサゾリウム、イソチアゾリウム、イミダゾリデニウム、グアニジニウム、キヌクリジニウム、トリアゾリウム、テトラゾリウム、キノリニウム、イソキノリニウム、ピペリジニウム、ピロリジニウム、モルホリニウム、ピリダジニウム、ピラジニウム、ピペラジニウム、トリアジニウム、アゼピニウムもしくはジアゼピニウムを表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
【化２２】
2010100630.tif 000195
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩；および
３：
【化２３】
2010100630.tif 000196
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
Ｒ４は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ５は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
【化２４】
2010100630.tif 000197
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩
からなる群から選択された１つの塩とから形成された１つの錯体に暴露する段階を含む、前記方法。
【請求項６７】
Ｚが、各々の存在について独立してアルケニルまたはアルキニルを表し；遷移金属が、周期表の８〜１１族から選択されている、請求項６６に記載の方法。
【請求項６８】
Ｚが、各々の存在について独立してアルケニルまたはアルキニルを表し；遷移金属が、鉄、コバルト、ニッケル、銅、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、銀、イリジウムまたは白金である、請求項６６に記載の方法。
【請求項６９】
Ｚが、各々の存在について独立してアルケニルまたはアルキニルを表し；遷移金属が、銀である、請求項６６に記載の方法。
【請求項７０】
１つの生成物を得るための１つの酸で触媒された化学反応を触媒する方法であって、１つの反応体混合物を：
１：
【化２５】
2010100630.tif 000198
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
【化２６】
2010100630.tif 000199
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩；
２：
【化２７】
2010100630.tif 000200
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルもしくは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；または＋ＮＲ３は、一緒に、ピリジニウム、イミダゾリウム、ベンズイミダゾリウム、ピラゾリウム、ベンズピラゾリウム、インダゾリウム、チアゾリウム、ベンズチアゾリウム、オキサゾリウム、ベンゾオキサゾリウム、イソオキサゾリウム、イソチアゾリウム、イミダゾリデニウム、グアニジニウム、キヌクリジニウム、トリアゾリウム、テトラゾリウム、キノリニウム、イソキノリニウム、ピペリジニウム、ピロリジニウム、モルホリニウム、ピリダジニウム、ピラジニウム、ピペラジニウム、トリアジニウム、アゼピニウムもしくはジアゼピニウムを表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
【化２８】
2010100630.tif 000201
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩；および
３：
【化２９】
2010100630.tif 000202
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
Ｒ４は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ５は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
【化３０】
2010100630.tif 000203
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩
からなる群から選択された１つの塩に暴露する段階を含む、前記方法。
【請求項７１】
Ｚが、各々の存在について独立して−ＳＯ３Ｈを表す、請求項７０に記載の方法。
【請求項７２】
前記反応体混合物が、１つのアルコールを含み；前記生成物が、１つのエーテルである、請求項７０に記載の方法。
【請求項７３】
前記反応体混合物が、１つのアルコールおよび１つのカルボン酸を含み；前記生成物が、１つのエステルである、請求項７０に記載の方法。
【請求項７４】
前記反応体混合物が、１つのエステルおよび水を含み；前記生成物が、１つのカルボン酸である、請求項７０に記載の方法。
【請求項７５】
前記反応体混合物が、１つのアルコールおよび１つの第１のエステルを含み；前記生成物が、１つの第２のエステルである、請求項７０に記載の方法。
【請求項７６】
前記反応体混合物が、１つの１，２−ジオールを含み；前記生成物が、１つのケトンである、請求項７０に記載の方法。
【請求項７７】
前記反応体混合物が、１つのアルコールを含み；前記生成物が、１つのアルケンである、請求項７０に記載の方法。
【請求項７８】
前記反応体混合物が、１つの第１のアルケンを含み；前記生成物が、１つの第２のアルケンである、請求項７０に記載の方法。
【請求項７９】
前記反応混合物が、１つの第１の芳香族化合物および１つのニトロ化剤を含み；前記生成物が、１つのニトロ基を含む１つの第２の芳香族化合物である、請求項７０に記載の方法。
【請求項８０】
前記反応混合物が、１つの第１の芳香族化合物および１つのアルコールを含み；前記生成物が、１つのアルキル基を含む１つの第２の芳香族化合物である、請求項７０に記載の方法。
【請求項８１】
前記反応混合物が、１つの第１の芳香族化合物および１つのカルボン酸を含み；前記生成物が、１つのアシル基を含む１つの第２の芳香族化合物である、請求項７０に記載の方法。
【請求項８２】
Ｚが、各々の存在について独立して−ＳＯ３Ｈを表し；前記反応体混合物が、１つのアルコールを含み；前記生成物が、１つのエーテルである、請求項７０に記載の方法。
【請求項８３】
Ｚが、各々の存在について独立して−ＳＯ３Ｈを表し；前記反応体混合物が、１つのアルコールおよび１つのカルボン酸を含み；前記生成物が、１つのエステルである、請求項７０に記載の方法。
【請求項８４】
Ｚが、各々の存在について独立して−ＳＯ３Ｈを表し；前記反応体混合物が、１つのエステルおよび水を含み；前記生成物が、１つのカルボン酸である、請求項７０に記載の方法。
【請求項８５】
Ｚが、各々の存在について独立して−ＳＯ３Ｈを表し；前記反応体混合物が、１つのアルコールおよび１つの第１のエステルを含み；前記生成物が、１つの第２のエステルである、請求項７０に記載の方法。
【請求項８６】
Ｚが、各々の存在について独立して−ＳＯ３Ｈを表し；前記反応体混合物が、１つの１，２−ジオールを含み；前記生成物が、１つのケトンである、請求項７０に記載の方法。
【請求項８７】
Ｚが、各々の存在について独立して−ＳＯ３Ｈを表し；前記反応体混合物が、１つのアルコールを含み；前記生成物が、１つのアルケンである、請求項７０に記載の方法。
【請求項８８】
Ｚが、各々の存在について独立して−ＳＯ３Ｈを表し；前記反応体混合物が、１つの第１のアルケンを含み；前記生成物が、１つの第２のアルケンである、請求項７０に記載の方法。
【請求項８９】
Ｚが、各々の存在について独立して−ＳＯ３Ｈを表し；前記反応体混合物が、１つの第１の芳香族化合物および１つのニトロ化剤を含み；前記生成物が、１つのニトロ基を含む１つの第２の芳香族化合物である、請求項７０に記載の方法。
【請求項９０】
Ｚが、各々の存在について独立して−ＳＯ３Ｈを表し；前記反応体混合物が、１つの第１の芳香族化合物および１つのアルコールを含み；前記生成物が、１つのアルキル基を含む１つの第２の芳香族化合物である、請求項７０に記載の方法。
【請求項９１】
Ｚが、各々の存在について独立して−ＳＯ３Ｈを表し；前記反応体混合物が、１つの第１の芳香族化合物および１つのカルボン酸を含み；前記生成物が、１つのアシル基を含む１つの第２の芳香族化合物である、請求項７０に記載の方法。
【請求項９２】
１つの生成物を得るための１つの塩基で触媒された化学反応を触媒する方法であって、１つの反応体混合物を：
１：
【化３１】
2010100630.tif 000204
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
【化３２】
2010100630.tif 000205
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩；
２：
【化３３】
2010100630.tif 000206
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルもしくは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；または＋ＮＲ３は、一緒に、ピリジニウム、イミダゾリウム、ベンズイミダゾリウム、ピラゾリウム、ベンズピラゾリウム、インダゾリウム、チアゾリウム、ベンズチアゾリウム、オキサゾリウム、ベンゾオキサゾリウム、イソオキサゾリウム、イソチアゾリウム、イミダゾリデニウム、グアニジニウム、キヌクリジニウム、トリアゾリウム、テトラゾリウム、キノリニウム、イソキノリニウム、ピペリジニウム、ピロリジニウム、モルホリニウム、ピリダジニウム、ピラジニウム、ピペラジニウム、トリアジニウム、アゼピニウムもしくはジアゼピニウムを表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
【化３４】
2010100630.tif 000207
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩；および
３：
【化３５】
2010100630.tif 000208
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
Ｒ４は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ５は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
【化３６】
2010100630.tif 000209
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩
からなる群から選択された１つの塩に暴露する段階を含む、前記方法。
【請求項９３】
Ｚが、各々の存在について独立して−Ｎ（Ｒ’）２を表す、請求項９２に記載の方法。
【請求項９４】
１つの溶液の製造方法であって、１つの溶質と１つの溶媒とを混ぜ合わせて、１つの溶液を得る段階を含み、ここで、前記溶媒を：
１：
【化３７】
2010100630.tif 000210
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
【化３８】
2010100630.tif 000211
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩；
２：
【化３９】
2010100630.tif 000212
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルもしくは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；または＋ＮＲ３は、一緒に、ピリジニウム、イミダゾリウム、ベンズイミダゾリウム、ピラゾリウム、ベンズピラゾリウム、インダゾリウム、チアゾリウム、ベンズチアゾリウム、オキサゾリウム、ベンゾオキサゾリウム、イソオキサゾリウム、イソチアゾリウム、イミダゾリデニウム、グアニジニウム、キヌクリジニウム、トリアゾリウム、テトラゾリウム、キノリニウム、イソキノリニウム、ピペリジニウム、ピロリジニウム、モルホリニウム、ピリダジニウム、ピラジニウム、ピペラジニウム、トリアジニウム、アゼピニウムもしくはジアゼピニウムを表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
【化４０】
2010100630.tif 000213
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩；および
３：
【化４１】
2010100630.tif 000214
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
Ｒ４は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ５は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
【化４２】
2010100630.tif 000215
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩
からなる群から選択する、前記方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
発明の背景
イオン性液体
室温のイオン性液体は、イオンからなる。しかし、慣用の溶融塩（例えば溶融塩化ナトリウム）とは異なり、これらの物質は、しばしば１００℃より低温で溶融する。融点が低いため、イオン性液体は、反応を行うことができる溶媒として作用することができ、液体が、分子ではなくイオンから形成されているため、このような反応は、しばしば、慣用の有機溶媒と比較して、明確な選択性および反応性を提供する。
【０００２】
室温のイオン性液体は、環境に優しい化学のための清浄な溶媒および触媒として、並びに電池、光化学および電気合成のための電解質として用いられている。これらは、顕著な蒸気圧を有せず、従って揮発性の有機汚染物を生じない。これらはまた、イオン性液体を損失せずに、直接的な蒸留による有機分子の容易な分離を可能にする。これらの液体範囲は、３００℃程度と大きいことができ、これにより、大きい反応速度支配が可能であり、これにより、これらの良好な溶媒特性と組み合わせて、小さい反応容積を用いることが可能である。乏しい求核性陰イオン、例えば［ＢＦ４］−、［ＰＦ６］−、［ＣＦ３ＣＯ２］−および［ＣＦ３ＳＯ３］−に基づく塩は、水および空気に非感受性であり、顕著に高い熱安定性を有する。これらの物質の多くは、イミダゾリウム陽イオン、１−アルキル−３−メチルイミダゾリウムの周囲に基礎を形成する。陰イオンまたは陽イオン上のアルキル鎖を変化させることにより、特性、例えば疎水性、粘度、密度および溶媒和における広範囲の変化を、得ることができる。例えば、イオン性液体は、広範囲の有機分子に、相当の程度に溶解し、溶解度は、対陰イオンの性質により影響される。
【０００３】
イオン性液体の独特の物理的特性は、多くの用途においてある利点を提供することが見出された。例えば、Koch et al.による米国特許第5,827,602号には、電池、電気化学的キャパシタ、触媒、化学的分離および他の使用における用途のための、改善された特性を有するイオン性液体が開示されている。Koch et al.に記載されているイオン性液体は、性質が疎水性であり、水に乏しく可溶であり、非ルイス酸陰イオンのみを含む。フッ素化された際には、これらは、高度に反応性の化学物質のための圧媒液および不活性液体希釈剤として特に有用であることが見出された。さらに、イオン性液体は、
【表１】
2010100630.tif 000002
【０００４】
広範囲の化学的方法のための溶媒として用いるためのイオン性液体が、開示された。いくつかの場合において、触媒および溶媒の両方として作用することができる、これらのイオン性液体は、これらが、顕著な環境的利点を約束するため工業から増大する関心を引きつけている。例えばこれらが不揮発性であるため、これらは、蒸気を揮散しない。従って、例えば、これらは、ブテン二量化方法において用いられた。WO 95/21871、WO 95/21872およびWO 95/21806は、イオン性液体並びに、炭化水素変換反応、例えば重合およびアルキル化反応を触媒するためのこれらの使用に関する。この方法のために記載されたイオン性液体は、好ましくは、塩化１−（Ｃ１〜Ｃ４アルキル）−３−（Ｃ６〜Ｃ３０アルキル）イミダゾリウムおよび特に塩化１−メチル−３−Ｃ１０アルキル−イミダゾリウムまたはハロゲン化１−ヒドロカルビルピリジニウムであり、ここで、ヒドロカルビル基は、例えば、エチル、ブチルまたは他のアルキルである。Lamanna et al.によるＰＣＴ公報WO 01/25326には、非ポリマー系窒素オニウム陽イオンおよび弱く配位した有機フッ素陰イオンからなる、少なくとも１種のイオン性塩を含む、帯電防止組成物が、開示されており、陰イオンの共役酸は、熱可塑性ポリマーと組み合わせて、超酸である。この組成物は、広範囲の湿度レベルにわたり、良好な帯電防止性能を示すことが見出された。
【０００５】
ブレンステッド酸触媒
学部の実験室から化学的製造プラントまで、強いブレンステッド酸の使用は、遍在的である。Smith, M. B.; March, J. March's Advanced Organic Chemistry; Wiley-Interscience: New York, 2001; 第８章。これに関連して、固体酸は、不揮発性物質として、これらが伝統的な液体酸よりも毒性が低いと見なされるため、一層広く用いられている。Ritter, S. K. Chem. Eng. News, 2001, 79(40), 63-67。しかし、固体酸には、欠点がある。これらの一層厄介なものの中に、マトリックス結合酸性部位の制限された接近可能性、高いｍｗ／活性部位比率およびコーキングからの急速な失活がある。
【表２】
2010100630.tif 000003
【０００６】
固体酸の利点および欠点の両方を念頭に置いて、固体様不揮発性を有するブレンステッド酸であるが、運動性、一層大きい有効表面積および液相の潜在的な活性を明らかにする系についての研究が、継続している。これらの特性を組み合わせたのみで、イオン性液体（ＩＬ）は、最も有望な新規な反応媒体の１つとして記載された。Seddon, K. R. J. Chem. Technol. Biotechnol. 1997, 68, 351-356。これらの特異な物質は、多くの有機および無機物質を溶解することができるのみならず、これらはまた、容易にリサイクルされ、特定の化学的課題に整調可能である。
【表３】
2010100630.tif 000004
【０００７】
さらに、化学工業は、現在有機合成における溶媒として用いられている揮発性有機化合物を置き換えるために、顕著な苦難の下にある。これらの溶媒の多く、例えば塩素化炭化水素は、大気中へのこれらの揮散および水性流出液の汚染のために、有毒であり、環境に有害である。イオン性液体（ＩＬ）は、この問題にも解決策を提供すると見られる。イオン性液体は、測定可能な蒸気圧を有しない。このことは、これらが蒸発せず、従ってこれらが、大気中に有害な蒸気を揮散せず、溶媒の補給が必要ではないことを意味する。また、この特性により、揮発性生成物の容易な分離が可能である。ＩＬは、広範囲の有機、無機および有機金属化合物を溶解することができる。とりわけ、これらの特性を、ＩＬの陽イオンまたは陰イオンを変化させることにより調整することができ、反応の精密な整調が可能である。
【０００８】
さらに、多くの有機変換、例えばフィッシャーエステル化、アルコール脱水二量化およびピナコール／ベンゾピナコール転位には、酸性の触媒が必要である。現在、不揮発性化合物として、固体の酸が、伝統的な液体の酸よりも無害であるため、固体の酸が用いられている。上記したように、これらは、比較的無害であるが、固体酸は、いくつかの欠点、例えばマトリックス結合酸性部位の制限された接近可能性、高い分子量／活性部位比率、およびコーキングからの急速な失活を有する。
【表４】
2010100630.tif 000005
【０００９】
ガス混合物の精製
石油、石炭および天然ガスが、来るべき数年にわたり主要な地球的燃料および化学的供給原料源であり続けることには、疑義はほとんどない。Mills, Mark P. Energy Policy in the Electron Age, Mills-McCarthy & Associates, Inc. http://www.fossifuels.org/electric/electron.htm。天然ガスは、これらの物質の中で最も清浄であると考えられ、従って加速するペースで消費されている。清浄な燃料としてのこの評判にもかかわらず、天然ガスは、通常、種々の不所望な物質、特にＣＯ２およびＨ２Ｓで汚染されている。この汚染のレベルは、いくつかの給源からのガス（スイートガス）において極めて低い一方、他のものからのガス（サワーガス）においてははるかに高い。スイートガス埋蔵が枯渇すると、サワーガスの増大した使用について苦難が度を増す。
【表５】
2010100630.tif 000006
混合されたＣＯ２により、天然ガスの燃料価値が低下するため、サワーガス中に存在する大量のこれにより、燃焼前のこの除去が余儀なくされる。ＣＯ２と地球温暖化との間の関連と組み合わせて、サワーガスについての一層低い燃料価値により、ＣＯ２捕集が、商業的に重要であり、環境的に望ましいプロセスになる。
【００１０】
ガス流中のガスの混合物からの目的化合物の分離のための、最も魅力的な方法の１つは、液体中への選択的吸収である。
【表６】
2010100630.tif 000007
ガスと、純粋な液体または溶液との間のこのような相互作用は、ＣＯ２を天然ガスから除去するための商業的な系を含む、多くのガス分離手法のための基礎である。これらのスクラビングプロセスは、目的ガスの液相中への簡単であり、示差的な溶解が、原理的に重要であるものを含む。一層一般的なのは、目的ガスの、液相中の溶質との化学反応が、金属イオン封鎖の主要な方式であるプロセスである。ガス除去のいずれの方式を伴っても、溶媒自体の蒸気圧は、通常これらに損害を与えて、ガス−液体プロセスにおいて顕著な作用を奏する。大規模ＣＯ２捕集の場合において、水性アミンを用いて、ＣＯ２を、カルバミン酸アンモニウム生成により、化学的に捕集する。これらの系において、水のガス流中への取り込みは、特に問題である。水取り込みの困難の複合は、揮発性アミン金属イオン封鎖剤のガス流中への損失である。
【００１１】
ガス流中への捕集剤または溶媒の同時の損失を伴わずに、ガスの金属イオン封鎖を容易にすることができる液体は、このような用途における優れた物質であることが明らかにならなければならない。このために、イオン性液体（低温溶融塩）が、ガス分離のための溶媒−試薬として提案された。
【表７】
2010100630.tif 000008
これらの液体のイオン間のクーロン引力のために、これらは、一般的には＞３００℃のこれらの熱分解点まで、測定可能な蒸気圧を示さない。この蒸気圧の欠如により、これらの物質が、ガス加工のために高度に魅力的になる。実際に、この目的のために、これらを、両方の最も有用な物理的特性のいくつかを含む「液体固体」として考えることができる。
【００１２】
従って、ガス処理におけるイオン性液体（ＩＬ）の一般的な約束にもかかわらず、ＣＯ２分離について遠い用いられる溶融塩は、一般的に、「すぐ入手できる」物質、例えば、しばしば他の揮発性試薬である水に依存して、この目的のために最適化されていない、（ＣＨ３）４ＮＦ四水和物である。
【表８】
2010100630.tif 000009
例えば、後者の塩は、極めて弱く塩基性である、酸性フッ化物イオンを用いて、ＣＯ２および水からの重炭酸塩の正味の発生を推進する。
【００１３】
官能基を含むイオンを有する広範囲のイオン性液体を製造するための見込みは、良好である。Freemantle, M. Chemical & Engineering News, ２０００年５月１５日、37。さらに、あるこれらの新規な「課題特異性」イオン性液体は、合成および分離用途の両方において、有用であることが明らかになった。
【表９】
2010100630.tif 000010
【発明の概要】
【００１４】
発明の概要
ある態様において、本発明は、１：
【化１】
2010100630.tif 000011
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
【００１５】
【化２】
2010100630.tif 000012
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩に関する。
【００１６】
ある態様において、本発明は、２：
【化３】
2010100630.tif 000013
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルもしくは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；または＋ＮＲ３は、一緒に、ピリジニウム、イミダゾリウム、ベンズイミダゾリウム、ピラゾリウム、ベンズピラゾリウム、インダゾリウム、チアゾリウム、ベンズチアゾリウム、オキサゾリウム、ベンゾオキサゾリウム、イソオキサゾリウム、イソチアゾリウム、イミダゾリデニウム、グアニジニウム、キヌクリジニウム、トリアゾリウム、テトラゾリウム、キノリニウム、イソキノリニウム、ピペリジニウム、ピロリジニウム、モルホリニウム、ピリダジニウム、ピラジニウム、ピペラジニウム、トリアジニウム、アゼピニウムもしくはジアゼピニウムを表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
【００１７】
【化４】
2010100630.tif 000014
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩に関する。
【００１８】
ある態様において、本発明は、３：
【化５】
2010100630.tif 000015
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
【００１９】
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
Ｒ４は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ５は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
【化６】
2010100630.tif 000016
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
【００２０】
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩に関する。
【００２１】
ある態様において、本発明は、二酸化炭素、硫化カルボニル、二酸化硫黄、三酸化硫黄、硫化水素または１つのカルボニル含有化合物を、１つの気体状または液体状混合物から除去する方法であって、１つの気体状または液体状混合物を、
１：
【化７】
2010100630.tif 000017
、
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
【００２２】
【化８】
2010100630.tif 000018
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩；
【００２３】
２：
【化９】
2010100630.tif 000019
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルもしくは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；または＋ＮＲ３は、一緒に、ピリジニウム、イミダゾリウム、ベンズイミダゾリウム、ピラゾリウム、ベンズピラゾリウム、インダゾリウム、チアゾリウム、ベンズチアゾリウム、オキサゾリウム、ベンゾオキサゾリウム、イソオキサゾリウム、イソチアゾリウム、イミダゾリデニウム、グアニジニウム、キヌクリジニウム、トリアゾリウム、テトラゾリウム、キノリニウム、イソキノリニウム、ピペリジニウム、ピロリジニウム、モルホリニウム、ピリダジニウム、ピラジニウム、ピペラジニウム、トリアジニウム、アゼピニウムもしくはジアゼピニウムを表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
【００２４】
【化１０】
2010100630.tif 000020
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩；および
【００２５】
３：
【化１１】
2010100630.tif 000021
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
【００２６】
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
Ｒ４は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ５は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
【化１２】
2010100630.tif 000022
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
【００２７】
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩
からなる群から選択された１つの塩に暴露する段階を含む、前記方法に関する。
【００２８】
ある態様において、本発明は、二酸化炭素、硫化カルボニル、二酸化硫黄、三酸化硫黄、硫化水素または１つのカルボニル含有化合物を、１つの第１の気体状または液体状混合物から１つの第２の気体状または液体状混合物に輸送する方法であって、１つの第１の気体状または液体状混合物を、
１：
【化１３】
2010100630.tif 000023
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
【００２９】
【化１４】
2010100630.tif 000024
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩；
【００３０】
２：
【化１５】
2010100630.tif 000025
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルもしくは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；または＋ＮＲ３は、一緒に、ピリジニウム、イミダゾリウム、ベンズイミダゾリウム、ピラゾリウム、ベンズピラゾリウム、インダゾリウム、チアゾリウム、ベンズチアゾリウム、オキサゾリウム、ベンゾオキサゾリウム、イソオキサゾリウム、イソチアゾリウム、イミダゾリデニウム、グアニジニウム、キヌクリジニウム、トリアゾリウム、テトラゾリウム、キノリニウム、イソキノリニウム、ピペリジニウム、ピロリジニウム、モルホリニウム、ピリダジニウム、ピラジニウム、ピペラジニウム、トリアジニウム、アゼピニウムもしくはジアゼピニウムを表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
【００３１】
【化１６】
2010100630.tif 000026
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩；および
【００３２】
３：
【化１７】
2010100630.tif 000027
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
【００３３】
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
Ｒ４は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ５は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
【化１８】
2010100630.tif 000028
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
【００３４】
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩
からなる群から選択された１つの塩に暴露し、
その後前記塩を、１つの第２の気体状または液体状混合物に暴露し、これにより、二酸化炭素、硫化カルボニル、二酸化硫黄、三酸化硫黄、硫化水素または１つのカルボニル含有化合物を、前記第２の気体状または液体状混合物に輸送する段階を含む、前記方法に関する。
【００３５】
ある態様において、本発明は、１つのアルケン、アルキンまたは一酸化炭素を１つの混合物から除去する方法であって、１つの混合物を、１つの遷移金属と：
１：
【化１９】
2010100630.tif 000029
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
【００３６】
【化２０】
2010100630.tif 000030
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩；
【００３７】
２：
【化２１】
2010100630.tif 000031
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルもしくは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；または＋ＮＲ３は、一緒に、ピリジニウム、イミダゾリウム、ベンズイミダゾリウム、ピラゾリウム、ベンズピラゾリウム、インダゾリウム、チアゾリウム、ベンズチアゾリウム、オキサゾリウム、ベンゾオキサゾリウム、イソオキサゾリウム、イソチアゾリウム、イミダゾリデニウム、グアニジニウム、キヌクリジニウム、トリアゾリウム、テトラゾリウム、キノリニウム、イソキノリニウム、ピペリジニウム、ピロリジニウム、モルホリニウム、ピリダジニウム、ピラジニウム、ピペラジニウム、トリアジニウム、アゼピニウムもしくはジアゼピニウムを表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
【００３８】
【化２２】
2010100630.tif 000032
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩；および
【００３９】
３：
【化２３】
2010100630.tif 000033
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
【００４０】
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
Ｒ４は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ５は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
【化２４】
2010100630.tif 000034
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
【００４１】
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩
からなる群から選択された１つの塩とから形成された１つの錯体に暴露する段階を含む、前記方法に関する。
【００４２】
ある態様において、本発明は、１つの生成物を得るための１つの酸で触媒された化学反応を触媒する方法であって、１つの反応体混合物を：
１：
【化２５】
2010100630.tif 000035
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
【００４３】
【化２６】
2010100630.tif 000036
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩；
【００４４】
２：
【化２７】
2010100630.tif 000037
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルもしくは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；または＋ＮＲ３は、一緒に、ピリジニウム、イミダゾリウム、ベンズイミダゾリウム、ピラゾリウム、ベンズピラゾリウム、インダゾリウム、チアゾリウム、ベンズチアゾリウム、オキサゾリウム、ベンゾオキサゾリウム、イソオキサゾリウム、イソチアゾリウム、イミダゾリデニウム、グアニジニウム、キヌクリジニウム、トリアゾリウム、テトラゾリウム、キノリニウム、イソキノリニウム、ピペリジニウム、ピロリジニウム、モルホリニウム、ピリダジニウム、ピラジニウム、ピペラジニウム、トリアジニウム、アゼピニウムもしくはジアゼピニウムを表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
【００４５】
【化２８】
2010100630.tif 000038
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩；および
【００４６】
３：
【化２９】
2010100630.tif 000039
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
【００４７】
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
Ｒ４は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ５は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
【化３０】
2010100630.tif 000040
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
【００４８】
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩
からなる群から選択された１つの塩に暴露する段階を含む、前記方法に関する。
【００４９】
ある態様において、本発明は、１つの生成物を得るための１つの塩基で触媒された化学反応を触媒する方法であって、１つの反応体混合物を：
１：
【化３１】
2010100630.tif 000041
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
【００５０】
【化３２】
2010100630.tif 000042
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩；
【００５１】
２：
【化３３】
2010100630.tif 000043
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルもしくは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；または＋ＮＲ３は、一緒に、ピリジニウム、イミダゾリウム、ベンズイミダゾリウム、ピラゾリウム、ベンズピラゾリウム、インダゾリウム、チアゾリウム、ベンズチアゾリウム、オキサゾリウム、ベンゾオキサゾリウム、イソオキサゾリウム、イソチアゾリウム、イミダゾリデニウム、グアニジニウム、キヌクリジニウム、トリアゾリウム、テトラゾリウム、キノリニウム、イソキノリニウム、ピペリジニウム、ピロリジニウム、モルホリニウム、ピリダジニウム、ピラジニウム、ピペラジニウム、トリアジニウム、アゼピニウムもしくはジアゼピニウムを表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
【００５２】
【化３４】
2010100630.tif 000044
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩；および
【００５３】
３：
【化３５】
2010100630.tif 000045
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
【００５４】
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
Ｒ４は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ５は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
【化３６】
2010100630.tif 000046
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
【００５５】
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩
からなる群から選択された１つの塩に暴露する段階を含む、前記方法に関する。
【００５６】
ある態様において、本発明は、１つの溶液の製造方法であって、１つの溶質と１つの溶媒とを混ぜ合わせて、１つの溶液を得る段階を含み、ここで、前記溶媒を：
１：
【化３７】
2010100630.tif 000047
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
【００５７】
【化３８】
2010100630.tif 000048
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩；
【００５８】
２：
【化３９】
2010100630.tif 000049
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルもしくは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；または＋ＮＲ３は、一緒に、ピリジニウム、イミダゾリウム、ベンズイミダゾリウム、ピラゾリウム、ベンズピラゾリウム、インダゾリウム、チアゾリウム、ベンズチアゾリウム、オキサゾリウム、ベンゾオキサゾリウム、イソオキサゾリウム、イソチアゾリウム、イミダゾリデニウム、グアニジニウム、キヌクリジニウム、トリアゾリウム、テトラゾリウム、キノリニウム、イソキノリニウム、ピペリジニウム、ピロリジニウム、モルホリニウム、ピリダジニウム、ピラジニウム、ピペラジニウム、トリアジニウム、アゼピニウムもしくはジアゼピニウムを表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
【００５９】
【化４０】
2010100630.tif 000050
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩；および
【００６０】
３：
【化４１】
2010100630.tif 000051
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
【００６１】
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
Ｒ４は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ５は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
【化４２】
2010100630.tif 000052
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
【００６２】
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩
からなる群から選択する、前記方法に関する。
【図面の簡単な説明】
【００６３】
【図１】トルエンスルホン酸トリフェニル（プロピル−３−スルホニル）ホスホニウム、トルエンスルホン酸またはナフィオン（登録商標）１１７により触媒された、ｎ−オクタノールからのｎ−オクチルエーテルの生成についての収率を、図および表に示すものである。
【発明を実施するための形態】
【００６４】
発明の詳説
ここで、本発明を、添付した例を参照して、一層十分に記載し、ここで、本発明のある好ましい態様を示す。しかし、本発明を、多くの種々の形態で具体化することができ、本明細書中に述べた態様に限定されるものと考えるべきではない；むしろ、これらの態様を提供して、この開示が、十分かつ完全であり、当業者に本発明の範囲を完全に伝達するようにする。
【００６５】
２つの好ましい態様の概観
トリフェニルホスフィンまたはＮ−ブチルイミダゾールの、環式スルトンとの反応により、双性イオンが生成し、これをその後、トリフルオロメタンスルホン酸またはｐ−トルエンスルホン酸との反応により、イオン性液体に変換する。得られたイオン性液体は、アルカンスルホン酸基が結合する陽イオンを有する。これらのブレンステッド酸性イオン性液体は、フィッシャーエステル化、アルコール脱水二量化およびピナコール転位を含む、数種の有機反応のための有用な溶媒／触媒である。イオン性液体は、低い揮発性および、通常固体酸触媒と関連する生成物からの分離の容易さを併せ持ち、一層高い活性および収率は、通常慣用の液体酸を用いて見出された。
【化４３】
2010100630.tif 000053
【００６６】
１−ブチルイミダゾールの３−ブロモプロピルアミン臭化水素酸塩との反応、続いて精製操作(work-up)および陰イオン交換により、付加されたアミン基を有する陽イオンを含む、室温のイオン性液体が得られる。このイオン性液体は、ＣＯ２と可逆的に反応し、ガスをカルバミン酸塩として可逆的に金属イオン封鎖する。この役割において繰り返してリサイクルすることができるイオン性液体は、ＣＯ２捕集についての効率において、商業的なアミン金属イオン封鎖剤と匹敵し、尚不揮発性であり、機能するために水を必要としない。
【化４４】
2010100630.tif 000054
【００６７】
ブレンステッド酸性イオン性液体および二元的溶媒−触媒としてのこれらの使用
特に、本発明者らは、強力なブレンステッド酸である第１のイオン性液体を開発した。
【表１０】
2010100630.tif 000055
各々のＩＬについて、アルカンスルホン酸基は、ＩＬ陽イオンに共有結合している。
【００６８】
双性イオン性前駆体を酸性ＩＬに組み立てるために用いる合成方法は、十分に慣例化されている。中性求核試薬であるＮ−ブチルイミダゾールまたはトリフェニルホスフィンの、それぞれ１，４−ブタンスルトンまたは１，３−プロパンスルトンとの反応により、所要の双性イオンが、優れた収率で得られる。Yoshizawa, M.; Hirao, M.; Ito-Akita, K. and Ohno, H. J. Mater. Chem. 2001, 11, 1057-1062を参照。第２の段階において、双性イオンの潜在的な酸性と、イオン性液体へのこれらの変換との同時の実現が、達成される。双性イオン精製と酸性化段階との両方についての化学的収率は、本質的に定量的である。さらに、いずれの反応においても副生成物が生成しないため、ＩＬ合成は、１００％原子効率的である。
【００６９】
双性イオンの酸性化を、双性イオンを、ペンダントスルホン酸基をアルカンスルホン酸に変換するために十分低いｐＫａを有する酸と１：１モル量で混ぜ合わせることにより達成し、後者のｐＫａは、〜−２である。結果は、双性イオンの、付加されたスルホン酸基を有するＩＬ陽イオンへの変換であり、外来性の酸の共役塩基は、ＩＬ陰イオンになる。これらの系が、酸性プロトンあたり２つの正式な負の電荷を含むため、これらを、内部で自己緩衝されていると考えることができる。ここで報告したＩＬ系について、ドナー酸は、トリフルオロメタンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸水和物（ｐＴＳＡ・Ｈ２Ｏ）、硫酸、ＨＰＦ４、ＨＰＦ６および（ＣＦ３Ｓ（Ｏ）２）２ＮＨを含んでいた。次に、２種の酸を用いて、双性イオン１および２を、それぞれＩＬ１ａおよび２ａに変換した。酸性化を、純粋な試薬を一緒に攪拌し、温和に２〜２４時間加温することにより、達成した。
【化４５】
2010100630.tif 000056
【００７０】
ブレンステッド酸性ＩＬおよび前駆体双性イオン
ＩＬ１ａは、室温でいくらか粘性の液体である一方、２ａは、８０℃の周辺で液化する硬性ガラスである。他のＩＬの挙動と共に保持するにあたり、１ａも２ａも、しばしば有毒な蒸気を揮散し続ける、慣用のＩＬに溶解した強酸とは異なり、発煙せず、観察可能な程度の蒸気圧を明らかにしない。さらに、１ａの減圧（１０ｔｏｒｒ）の下での１５０℃での処理の結果、トリフリック(triflic)酸（ＣＦ３ＳＯ３Ｈ、７６０ｔｏｒｒにおいて沸点＝１６２℃）の観察された損失はない。さらに、２ａのトルエンまたはジエチルエーテルでの洗浄の結果、遊離のｐＴＳＡ（いずれの液体にも可溶）の抽出はもたらされない。これらの挙動の両方は、溶解した双性イオンを有する、加えられた強酸の残留する単純な混合物よりむしろ、これらのそれぞれのＩＬ構造中に完全に導入されたドナー酸と整合しており、この場合において、予備混合特性（例えばトリフリック酸揮発性）のいくらかの保存が、予想される。
【００７１】
両方の新規なＩＬを、数種の古典的な酸促進有機反応のための溶媒／触媒としてスクリーニングしたが、本発明者らは、２ａの化学を探索することに重点を置いた（以下参照）。スクリーニングした反応タイプは、フィッシャーエステル化、アルコール脱水二量化およびピナコール／ベンゾピナコール転位であった。反応および結果を、スキーム１に以下に概説する。
【化４６】
2010100630.tif 000057
【００７２】
両方の新規なイオン性液体は、これらの反応において触媒的に活性であることが明らかになった。しかし、本発明者らは、本発明者らの研究のこの初期の段階において、２ａの化学を完全に探索することに重点を置いた。このようにすることについての本発明者らの動機付けは、最近の報告において、Karodiaおよび共同研究者により発し、ここで、テトラオルガノホスホニウムトシレート塩（融点＞７０℃）を、いくつかの有機反応のための溶媒として用いた。
【表１１】
2010100630.tif 000058
これらの報告において、反応の完了による溶媒の冷却により、固体としてのＩＬの分離がもたらされた。本発明者らは、２ａが、同様に挙動し得、固体酸が反応媒体から除去される方式と類似する、分離、デカンテーションの慣用のモードへの直接のアクセスを提供すると理由付けした。予測されたように、これは、２ａを用いる反応のほとんどにおける場合であることが明らかになった。
【００７３】
アルコールの強酸との反応は、アルケンおよびエーテル合成の両方に用いられ、好ましい生成物は、酸および反応条件の賢明な選択により選択される。基質／２ａの化学量論に依存して、１−オクタノールは、オクチルエーテルに、１６％〜５６％の単離された収率で、最小の副生成物の生成を伴って、選択的に変換される。対照実験において、ｐＴＳＡ・Ｈ２Ｏは、一層良好な収率のオクチルエーテルを生じたが、一層多量の副生成物が生成し、反応環境からのｐＴＳＡの分離は、顕著に一層困難であった。ナフィオン−１１７◆を対照として用いて、本発明者らは、触媒／生成物の分離は、容易であり、副生成物の生成は、最小であるが、オクチルエーテルの収率は、極めて乏しい（３％）ことを見出した。
【００７４】
ピナコールのピナコロンへの転位は、顕著な工業的重要性を有する方法である。後者は、合成的アントレーをトリメチルピルビン酸塩、および次にｔｅｒｔ−ロイシン、数種のペプチドミメトリック(peptidomimetric)薬およびキラルな触媒の成分に提供する。Stinson, S. E. Chem. Eng. News、http://www.pubs.acs.org/hotartcl/cenear/960715/page.html.におけるオンライン。在来の手順が、Ｈ２ＳＯ４またはＨ３ＰＯ４を用いて、反応を触媒するが、興味が、これらの種の固体酸による代用において示された。種々の固体酸触媒を用いて、ピナコロンの報告された収率は、２％〜７１％の範囲内であるが、長い反応期間が典型的であり、揮発性有機溶媒の使用が必要であり、単離が複雑になる。
【表１２】
2010100630.tif 000059
２ａを触媒／溶媒として用いて、本発明者らは、３５％のピナコロンの最適化されていない収率を、１時間の反応時間の間に得、ベンゾピナコロンの８８％の収率を、２時間の時間にわたり得た。さらに、ピナコロンは、反応環境から連続した純粋な化合物として容易に蒸留され、未反応ピナコールは、溶媒／触媒相により保持される。
【００７５】
最終的に、これらのＩＬがリサイクルされる容易さは、これらの使用に重要である。従って、本発明者らは、重要な商品エステルである酢酸エチルの、エタノールおよび酢酸からの、２ａを溶媒／触媒としてバッチタイプの方法での、即ち２ａをリサイクルさせて用いた生成を、試験した。Otera, J. Angew. Chem. Int. Ed. 2001, 40, 2044-2045。リサイクル実験の代表的なラウンドの結果を、以下の表１にまとめる。
【００７６】
【表１３】
2010100630.tif 000060
【００７７】
示されているように、エステルの収率は、サイクル１から３まで増大し、サイクル４において再び低下するに過ぎない。これらのサイクルの間、溶媒／触媒媒体の質量もまた増大し、冷却された触媒相による物質の捕集に匹敵する。ＩＬのＧＣおよびＮＭＲによるサイクル後分析は、水および酢酸の認識可能な量の保存に匹敵した。真空下で加熱して、これらの揮発性の物質を除去した際に、２ａの触媒活性は、水が系から除去される程度と一致して、増大したことが見出された。
【００７８】
水が生成物である平衡反応について、サイクル１〜３における水の保存を伴うエステル収率の最初の増大は、予測されなかった。尚決定されるべき理由により、イオン性液体中の水のしきい値量の存在は、一層高い反応収率に寄与すると考えられる。この理論の妥当性を試験するために、本発明者らは、２ａの乾燥試料を、サイクル１および２の後に保存された累積的量に等しいと評価される、大量の(a bolus of)水と共に装入し；本発明者らは、酢酸エチルの収率（項目５）が、乾燥２ａ（項目１）を用いて得られた収率よりも大きいことを見出した。
【００７９】
概して、ＩＬは、試験した反応のための多能の溶媒／触媒であり、イオン性液体が特定の化学的用途のために構築される可能性のさらなる例を提供する。これらは、良好な生成物選択性および、均一な酸触媒を用いて達成可能な収率と、不均一な触媒により提供される触媒／基質分離の容易さとの間のバランスを提供する。
【００８０】
課題特異性イオン性液体による二酸化炭素捕集
特に、本発明者らは、ＣＯ２を捕集するＩＬを見出した。この新規な課題特異性イオン性液体の陽イオンは、第一アミン部分が共有結合するイミダゾリウムイオンからなる。この塩は、ＣＯ２を、容易かつ可逆的に金属イオン封鎖する。イオン性液体は、商業的に入手できる出発物質から製造される。陽イオン核は、１−ブチルイミダゾールの、２−ブロモプロピルアミン臭化水素酸塩のエタノール中での反応により、組み立てられる。還流下で２４時間後、エタノールを、真空において除去し、固体残留物を、最小量の水に溶解し、これを、固体ＫＯＨを少量に分割して加えることにより、〜ｐＨ８とする。次に、生成物臭化イミダゾリウムを、ＫＢｒ副生成物から、水の蒸発により分離し、続いて残留物をエタノール−ＴＨＦで抽出し、ここで、イミダゾリウム塩は、可溶である。ＮａＢＦ４をエタノール／水中で用いた、その後のイオン交換により、生成物塩１が、５８％の全体的収率で得られた。ＮＭＲおよびＦＡＢ−ＭＳにより、ＩＬの構造および組成が明らかである。８０℃で真空の下で乾燥した後に、生成物は、ＣＯ２金属イオン封鎖のために直接用いることができる、比較的粘性の、水を含まない液体である。スキーム２を参照。
【化４７】
2010100630.tif 000061
【００８１】
Brenneckeおよび共同研究者による観察と整合して、１ａｔｍにおけるＣＯ２は、「慣用の」イオン性液相である１−ヘキシル−３−メチルイミダゾリウムヘキサフルオロホスフェート［６−ｍｉｍ］ＰＦ６への固有の可溶性を示す。Blanchard, L.A. et al. Nature 1999, 399, 28-31；およびBlanchard, L.A. et al. J. Phys. Chem. B 2001, 105, 2437。このことは、ＣＯ２への暴露によるＩＬの質量の０．０８８１％の増大並びにまた、２３８０および２４００ｃｍ−１において、溶解したＣＯ２に特有のピークを有する、ガスで処理したＩＬのＦＴ−ＩＲスペクトルにより明らかにされる。同様の方式において、１は、ＣＯ２に暴露された際に、質量の増大を示すが、［６−ｍｉｍ］ＰＦ６を用いて観察されたものを顕著に超えるものを示す。１．２８９６ｇの純粋な１を、乾燥ＣＯ２の流れに１ａｔｍで室温で（〜２９５Ｋ）３時間暴露した際には、０．０９４８ｇ（７．４％）の合計の質量獲得が観察され、これは、［６−ｍｉｍ］ＰＦ６について観察されたものよりも非常に大きい増大である。
【００８２】
【表１４】
2010100630.tif 000062
【００８３】
３時間の暴露時間の間の、ＴＳＩＬ１ｍｏｌあたりのＣＯ２のモル吸収は、カルバミン酸アンモニウム塩としてのＣＯ２金属イオン封鎖についての理論的な最大値である０．５に接近する。アミンを付加されたＴＳＩＬによる、ＣＯ２のこの１ｍｏｌあたりの吸収は、標準的な金属イオン封鎖アミン、例えばモノエタノールアミン（ＭＥＡ）、β，β’−ヒドロキシアミノエチルエーテル（ＤＧＡ）およびジイソプロパノールアミン（ＤＩＰＡ）の吸収と匹敵する。ＣＯ２吸収のプロセスは、可逆的である；ＣＯ２は、ＩＬから、真空下で数時間加熱する（８０℃〜１００℃）ことにより、押し出された。回収されたイオン性液体は、効率の損失が観察されずに、ＣＯ２吸収についてリサイクルされた（５サイクル）。
【００８４】
顕著に、ＴＳＩＬによるＣＯ２の金属イオン封鎖は、ガスで処理していない、およびガスで処理した物質のＦＴ−ＩＲおよびＮＭＲスペクトルを比較することにより、証明される。ＦＴ−ＩＲにおいて、ＣＯ２で処理された物質のスペクトルにより、カルバミン酸塩Ｃ＝Ｏ伸長に相当する、１６６６ｃｍ−１における新たな吸収が明らかである。他の顕著なＩＲ変化の中には、Ｎ−Ｈ共鳴に関連するものがある。３２３８ｃｍ−１に集中して、顕著な微細構造を有する広いアミドＮ−Ｈ帯域が、ここでは存在する。他の広い新たな帯域は、３６２３ｃｍ−１付近に集中し、アンモニウムＮ−Ｈ伸長と指定される。等しく注目すべきなのは、溶解したＣＯ２に関連する帯域の事実上の不存在である。真空下での加熱を施した際に、試料のＦＴ−ＩＲスペクトルは、ＣＯ２暴露前の外見に戻る。
【００８５】
ＣＯ２で処理された生成物の１３Ｃ−ＮＭＲスペクトルはまた、ＴＳＩＬ−カルバミン酸アンモニウムの生成を支持する。最も注目すべきことに、新たな共鳴は、δ  １５８．１１において観察され、カルバミン酸塩カルボニル炭素に起因する。また新たなのは、５６．５２ｐｐｍにおけるピークであり、これは、カルバミン酸塩窒素原子に結合したメチレン炭素と一致する。スペクトルの他の特徴は、一般的に、出発遊離アミンＴＳＩＬのものに近いピークからなる。しかし、新たな共鳴は、各々カルバミン酸塩およびアンモニウムが付加した種となるアミンＴＳＩＬの半分のために、「２倍化」されている。
【００８６】
イオン性液体の種々の用途
数種のガス性種を優先的に溶解するイオン性液体を、慣用のガス吸収用途において用いることができる。イオン性液体の不揮発性性質は、２つの重要な役割を奏する。先ず、操作の間の溶媒によるガス流の交差汚染がない。このことは、溶媒損失がなく、空気汚染がないことを意味する。第２に、溶媒の再生が容易である；単純なフラッシュまたは温和な蒸留段階は、再び交差汚染を伴わずに、溶媒からのガスを除去するのに必要であるすべてである。
【００８７】
慣用の吸収剤としてのこれらの使用に加えて、イオン性液体を、支持体上に固定し、支持された液体膜（ＳＬＭ）において用いることができる。膜は、ガスが液体に優先的に溶解する場合に、作動する。ＳＬＭを、再生段階を伴わずに、連続的分離プロセスにおいて用いることができる。慣用のＳＬＭ手法は、ガスが溶解した液体が、最終的に蒸発し、従って膜を無用にするという事実により、損なわれる。イオン性液体が、完全に不揮発性であるため、この問題は、解消される。
【００８８】
イオン性液体はまた、褐炭および油頁岩の、価値が付加された生成物、例えば代替の合成燃料および／または高品質の化学的供給原料への変換において、用途が見出されている。例えば、１−ブチル−３−メチルイミダゾリウムは、エストニア油頁岩油母から有機化合物を、種々の温度において抽出するために用いられていた。１７５℃における結果により、慣用の有機溶媒を用いて得られたよりも１０倍増大した可溶性生成物が得られた。
【００８９】
ブレンステッド酸性ＩＬはまた、プロトンシャトルとして作用し、プロトンを、酸性樹脂表面（例えばナフィオン）から周囲の媒体に機能的に移動させ、ここで、これらは、プロトンが、ポリマー表面に保持される場合よりも、自由に反応する。さらに、ブレンステッド酸性ＩＬは、水に溶解した際に、蒸気圧を絶対的に有しない。例えば、ＨＣｌの比較的濃厚な溶液により、ＨＣｌガスが発生し；対照的に、ブレンステッド酸性ＩＬにより、ガス性酸は発生しない−−表面の上方に吊されたｐＨ紙は、色が変化しない。
【００９０】
特に石油化学の分野における、多くの生成物流は、オレフィンおよび非オレフィンを含む。例えば、エタンクラッカーは、エタンとエチレンとの混合物を生成する傾向がある。エチレンは、典型的には、エタンから、蒸留により分離される。エチレンおよびエタンの沸点が、互いに比較的近いため、蒸留は、典型的には、極めて低い温度および／または高い圧力において行われ；分離は、比較的高価である。同一の問題が、プロパンをプロピレンから、脱水素設備において分離する際に、観察される。イオン性液体は、このような混合物を分離するにあたり、有用である。例えば、オレフィンのパイ結合に配位するペンダント官能基を有するイオン性液体を用いて、このような混合物のオレフィン系成分を選択的に溶解することができる。同様に、オレフィンのパイ結合に配位することができる遷移金属を配位するペンダント官能基を有するイオン性液体を用いて、このような混合物のオレフィン系成分を選択的に溶解することができる。いずれの場合においても、溶解したオレフィンを、その後脱着により単離することができる。
【００９１】
定義
好都合のために、明細書、例および添付した特許請求の範囲において用いるいくつかの用語を、ここに集める。
冠詞「１つの(a)」および「１つの(an)」は、ここでは、１つまたは１つより多い（即ち、少なくとも１つの）冠詞の文法的な対象を表すために用いられる。例えば、「１つの要素」は、１つの要素または１つより多い要素を意味する。
本明細書中で用いる用語「イオン性液体」は、約１５０℃より低い融点を有する有機塩またはこの水和物を意味する。
本明細書中で用いる用語「ヘテロ原子」は、炭素または水素以外のすべての元素の原子を意味する。好ましいヘテロ原子は、ホウ素、窒素、酸素、リン、硫黄およびセレンである。
【００９２】
用語「電子求引基」は、業界において認識されており、隣接する原子から価電子を引きつける置換基の傾向を示し、即ち、置換基は、隣接する原子に関して電気陰性である。電子求引能力のレベルの定量化は、ハメットシグマ（σ）定数により定められる。この十分知られている定数は、多くの参考文献、例えばJ. March, Advanced Organic Chemistry, McGraw Hill Book Company, New York, （１９７７年版） pp.251-259に記載されている。ハメット定数値は、一般的に、電子供与基については負であり（ＮＨ２についてσ［Ｐ］＝−０．６６）、電子求引基については正であり（ニトロ基についてσ［Ｐ］＝０．７８）、σ［Ｐ］は、パラ置換を示す。例示的な電子求引基には、ニトロ、アシル、ホルミル、スルホニル、トリフルオロメチル、シアノ、塩化物などが含まれる。例示的な電子供与基には、アミノ、メトキシなどが含まれる。
【００９３】
用語「アルキル」は、直鎖状アルキル基、分枝状アルキル基、シクロアルキル（脂環式）基、アルキル置換シクロアルキル基およびシクロアルキル置換アルキル基を含む、飽和脂肪族基の基を意味する。好ましい態様において、直鎖状または分枝状アルキルは、この主鎖中に３０個またはこれより少ない炭素原子（例えば、直鎖についてＣ１〜Ｃ３０、分枝状鎖についてＣ３〜Ｃ３０）、一層好ましくは２０個またはこれより少ない炭素原子を有する。同様に、好ましいシクロアルキルは、これらの環構造中に、３〜１０個の炭素原子、一層好ましくは５、６または７個の炭素を、環構造中に有する。
【００９４】
炭素の数を他に特定しない限り、本明細書中で用いる「低級アルキル」は、前に定義した通りであるが、１〜１０個の炭素、一層好ましくは１〜６個の炭素原子をこの主鎖構造中に有する、アルキル基を意味する。同様に、「低級アルケニル」および「低級アルキニル」は、同様の鎖の長さを有する。好ましいアルキル基は、低級アルキルである。好ましい態様において、本明細書中でアルキルと表す置換基は、低級アルキルである。
【００９５】
本明細書中で用いる用語「アラルキル」は、アリール基（例えば芳香族または複素芳香族基）で置換されたアルキル基を意味する。
用語「アルケニル」および「アルキニル」は、上記に記載したアルキルと長さおよび可能な置換が同様であるが、それぞれ少なくとも１つの二重または三重結合を含む、不飽和脂肪族基を意味する。
【００９６】
本明細書中で用いる用語「アリール」は、０〜４個のヘテロ原子を含むことができる、５、６または７員環単環式芳香族基、例えばベンゼン、ナフタレン、アントラセン、ピレン、ピロール、フラン、チオフェン、イミダゾール、オキサゾール、チアゾール、トリアゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジンおよびピリミジンなどを含む。環構造中にヘテロ原子を有するこれらのアリール基はまた、「アリール複素環」または「ヘテロ芳香族」と呼ばれ得る。芳香環は、１つまたは２つ以上の環の位置において、上記に記載した置換基、例えばハロゲン、アジド、アルキル、アラルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アルコキシル、アミノ、ニトロ、スルフヒドリル、イミノ、アミド、ホスホネート、ホスフィネート、カルボニル、カルボキシル、シリル、エーテル、アルキルチオ、スルホニル、スルホンアミド、ケトン、アルデヒド、エステル、ヘテロシクリル、芳香族またはヘテロ芳香族部分、−ＣＦ３、−ＣＮなどで置換されていることができる。用語「アリール」はまた、２個または３個以上の環式環を有し、ここで２個または３個以上の炭素は、２個の接合環に共通であり（この環は、「縮合環」である）、ここで、環の少なくとも１つは、芳香族であり、例えば、他の環式環は、シクロアルキル、シクロアルケニル、シクロアルキニル、アリールおよび／またはヘテロシクリルである、多環式環系を含む。
【００９７】
用語オルト、メタおよびパラは、それぞれ、１，２−、１，３−および１，４−二置換ベンゼンに該当する。例えば、名称１，２−ジメチルベンゼンおよびオルト−ジメチルベンゼンは、同義である。
【００９８】
用語「ヘテロシクリル」または「複素環式基」は、環構造が１〜４個のヘテロ原子を含む、３〜１０員環構造、さらに好ましくは３〜７員環構造を意味する。複素環はまた、多環であることができる。ヘテロシクリル基には、例えば、チオフェン、チアントレン、フラン、ピラン、イソベンゾフラン、クロメン、キサンテン、フェノキサチイン、ピロール、イミダゾール、ピラゾール、イソチアゾール、イソキサゾール、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、インドリジン、イソインドール、インドール、インダゾール、プリン、キノリジン、イソキノリン、キノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、カルバゾール、カルボリン、フェナントリジン、アクリジン、ピリミジン、フェナントロリン、フェナジン、フェナルサジン、フェノチアジン、フラザン、フェノキサジン、ピロリジン、オキソラン、チオラン、オキサゾール、ピペリジン、ピペラジン、モルホリン、ラクトン、ラクタム、例えばアゼチジノンおよびピロリジノン、スルタム、スルトンなどが含まれる。複素環式環は、１つまたは２つ以上の位置において、上記に記載した置換基、例えばハロゲン、アルキル、アラルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、ニトロ、スルフヒドリル、イミノ、アミド、ホスホネート、ホスフィネート、カルボニル、カルボキシル、シリル、エーテル、アルキルチオ、スルホニル、ケトン、アルデヒド、エステル、ヘテロシクリル、芳香族または複素芳香族部分、−ＣＦ３、−ＣＮなどで置換されていることができる。
【００９９】
用語「ポリシクリル」または「多環式基」は、２個または３個以上の炭素が２個の接合されている環に共通であり、例えば環が「縮合環」である、２つまたは３つ以上の環（例えばシクロアルキル、シクロアルケニル、シクロアルキニル、アリールおよび／またはヘテロシクリル）を意味する。隣接していない原子により接合された環は、「架橋された」環と名付けられる。多環の各々の環は、上記に記載した置換基、例えばハロゲン、アルキル、アラルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、ニトロ、スルフヒドリル、イミノ、アミド、ホスホネート、ホスフィネート、カルボニル、カルボキシル、シリル、エーテル、アルキルチオ、スルホニル、ケトン、アルデヒド、エステル、ヘテロシクリル、芳香族または複素芳香族部分、−ＣＦ３、−ＣＮなどで置換されていることができる。
【０１００】
本明細書中で用いる、用語「ニトロ」は、−ＮＯ２を意味し；用語「ハロゲン」は、−Ｆ、−Ｃｌ、−Ｂｒまたは−Ｉを示し；用語「スルフヒドリル」は、−ＳＨを意味し；用語「ヒドロキシル」は、−ＯＨを意味し；用語「スルホニル」は、−ＳＯ２−を意味する。
【０１０１】
用語「アミン」および「アミノ」は、業界で認識されており、非置換および置換アミンの両方、例えば一般式：
【化４８】
2010100630.tif 000063
式中、Ｒ９、Ｒ１０およびＲ’１０は、各々独立して、原子価の規則により許可された基を表す、
により表すことができる部分を意味する。
【０１０２】
用語「アシルアミノ」は、業界において認識されており、一般式：
【化４９】
2010100630.tif 000064
式中、Ｒ９は、上記で定義した通りであり、Ｒ’１１は、水素、アルキル、アルケニルまたは−（ＣＨ２）ｍ−Ｒ８を表し、式中ｍおよびＲ８は、上記で定義した通りである、
により表すことができる部分を意味する。
【０１０３】
用語「アミド」は、アミノ置換カルボニルとして業界で認識されており、一般式：
【化５０】
2010100630.tif 000065
式中、Ｒ９、Ｒ１０は、上記で定義した通りである、
により表すことができる部分を含む。アミドの好ましい態様は、不安定であり得るイミドを含まない。
【０１０４】
用語「アルキルチオ」は、硫黄基が結合した、上記で定義したアルキル基を意味する。好ましい態様において、「アルキルチオ」部分は、−Ｓ−アルキル、−Ｓ−アルケニル、−Ｓ−アルキニルおよび−Ｓ−（ＣＨ２）ｍ−Ｒ８の１つにより表され、式中、ｍおよびＲ８は、上記で定義されている。代表的なアルキルチオ基は、メチルチオ、エチルチオなどを含む。
【０１０５】
用語「カルボニル」は、業界で認識されており、一般式：
【化５１】
2010100630.tif 000066
式中、Ｘは、結合であるか、または酸素もしくは硫黄を表し、Ｒ１１は、水素、アルキル、アルケニル、−（ＣＨ２）ｍ−Ｒ８または薬学的に許容し得る塩を表し、Ｒ’１１は、水素、アルキル、アルケニルまたは−（ＣＨ２）ｍ−Ｒ８を表し、式中、ｍおよびＲ８は、上記で定義した通りである、
により表すことができる部分を含む。Ｘが酸素であり、Ｒ１１またはＲ’１１が水素ではない場合には、この式は、「エステル」を表す。Ｘが酸素であり、Ｒ１１が、上記で定義した通りである場合には、この部分を、本明細書中で、カルボキシル基と表し、特にＲ１１が水素である場合には、この式は、「カルボン酸」を表す。
【０１０６】
Ｘが酸素であり、Ｒ’１１が水素である場合には、この式は、「ギ酸塩」を表す。一般的に、前述の式の酸素原子が、硫黄により置換されている場合には、この式は、「チオカルボニル」基を表す。Ｘが硫黄であり、Ｒ１１またはＲ’１１が水素ではない場合には、この式は、「チオールエステル」を表す。Ｘが硫黄であり、Ｒ１１が水素である場合には、この式は、「チオカルボン酸」を表す。Ｘが硫黄であり、Ｒ’１１が水素である場合には、この式は、「チオールギ酸塩」を表す。他方、Ｘが結合であり、Ｒ１１が水素ではない場合には、前述の式は、「ケトン」基を表す。Ｘが結合であり、Ｒ１１が水素である場合には、前述の式は、「アルデヒド」基を表す。
【０１０７】
本明細書中で用いる用語「アルコキシル」または「アルコキシ」は、上記に定義したように、酸素基がこれに結合したアルキル基を意味する。代表的なアルコキシル基には、メトキシ、エトキシ、プロピルオキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシなどが含まれる。「エーテル」は、酸素により共有結合した２個の炭化水素である。従って、当該アルキルをエーテルにするアルキルの置換基は、アルコキシルであるか、またはこれに類似しており、例えば、−Ｏ−アルキル、−Ｏ−アルケニル、−Ｏ−アルキニル、−Ｏ−（ＣＨ２）ｍ−Ｒ８の１つにより表すことができ、ここでｍおよびＲ８は、上記に記載されている。
【０１０８】
用語「スルホネート」は、業界において認識されており、一般式：
【化５２】
2010100630.tif 000067
式中、Ｒ４１は、電子対、水素、アルキル、シクロアルキルまたはアリールである、
により表すことができる部分を含む。
【０１０９】
トリフリル、トシル、メシルおよびノナフリルの用語は、業界において認識されており、それぞれトリフルオロメタンスルホニル、ｐ−トルエンスルホニル、メタンスルホニルおよびノナフルオロブタンスルホニル基を意味する。トリフレート、トシレート、メシレートおよびノナフレートの用語は、業界において認識されており、それぞれトリフルオロメタンスルホン酸エステル、ｐ−トルエンスルホン酸エステル、メタンスルホン酸エステルおよびノナフルオロブタンスルホン酸エステル官能基並びに前述の基を含む分子を意味する。
【０１１０】
Ｍｅ、Ｅｔ、Ｐｈ、Ｔｆ、Ｎｆ、Ｔｓ、Ｍｓの略語は、それぞれメチル、エチル、フェニル、トリフルオロメタンスルホニル、ノナフルオロブタンスルホニル、ｐ−トルエンスルホニルおよびメタンスルホニルを表す。業界における通常の技術を有する有機化学者により用いられる略語の一層包括的なリストは、Journal of Organic Chemistryの各々の巻の第１版中に見出され；このリストは、典型的には、題名Standard List of Abbreviationsの表中に示されている。前述のリスト中に含まれている略語および、業界における通常の技術を有する有機化学者により用いられるすべての略語を、参照により本明細書中に組み込む。
【０１１１】
用語「サルフェート」は、業界において認識されており、一般式：
【化５３】
2010100630.tif 000068
式中、Ｒ４１は、上記で定義した通りである、
により表すことができる部分を含む。
【０１１２】
用語「スルホニルアミノ」は、業界において認識されており、一般式：
【化５４】
2010100630.tif 000069
により表すことができる部分を含む。
【０１１３】
用語「スルファモイル」は、業界において認識されており、一般式：
【化５５】
2010100630.tif 000070
により表すことができる部分を含む。
【０１１４】
本明細書中で用いる用語「スルホニル」は、一般式：
【化５６】
2010100630.tif 000071
式中、Ｒ４４は、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、ヘテロシクリル、アリールまたはヘテロアリールからなる群から選択されている、
により表すことができる部分を表す。
【０１１５】
本明細書中で用いる用語「スルホキシド」は、一般式：
【化５７】
2010100630.tif 000072
式中、Ｒ４４は、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、ヘテロシクリル、アラルキルまたはアリールからなる群から選択されている、
により表すことができる部分を意味する。
【０１１６】
「セレノアルキル」は、置換されたセレノ基が結合したアルキル基を意味する。アルキル上で置換されていることができる、例示的な「セレノエーテル」は、−Ｓｅ−アルキル、−Ｓｅ−アルケニル、−Ｓｅ−アルキニルおよび−Ｓｅ−（ＣＨ２）ｍ−Ｒ７の１つから選択されており、ｍおよびＲ７は、上記で定義されている。
【０１１７】
同様の置換を、アルケニルおよびアルキニル基に対して行って、例えばアミノアルケニル、アミノアルキニル、アミドアルケニル、アミドアルキニル、イミノアルケニル、イミノアルキニル、チオアルケニル、チオアルキニル、カルボニル置換アルケニルまたはアルキニルを得ることができる。
【０１１８】
本明細書中で用いる、各々の表現、例えばアルキル、ｍ、ｎなどの定義は、これが、すべての構造において１回よりも多く存在する際には、同一の構造における他の箇所のこの定義とは独立であることを意図する。
【０１１９】
「置換」または「で置換されている」は、このような置換が、置換された原子および置換基の許可された原子価に従い、置換の結果、例えば転位、環化、除去などにより自発的に変換を受けない安定な化合物が得られるという、間接的な条件を含むことが理解されるべきである。
【０１２０】
本明細書中で用いる用語「置換された」は、有機化合物のすべての許容される置換基を含むことを意図する。広い観点において、許容される置換基には、有機化合物の非環式および環式、分枝状および非分枝状、炭素環式および複素環式、芳香族および非芳香族置換基が含まれる。例示的な置換基には、例えば、本明細書中に上記で記載したものが含まれる。許容される置換基は、適切な有機化合物について１つまたは２つ以上、および同一であるかまたは異なることができる。本発明の目的のために、窒素などのヘテロ原子は、水素置換基および／または、ヘテロ原子の原子価を満たす、本明細書中に記載した有機化合物のすべての許容される置換基を有することができる。本発明は、有機化合物の許容される置換基により、いかなる方法によっても限定されることを意図しない。
【０１２１】
本明細書中で用いる表現「保護基」は、潜在的に反応性の官能基を、不所望な化学的変換から保護する、一時的な置換基を意味する。このような保護基の例には、カルボン酸のエステル、アルコールのシリルエーテル、並びにそれぞれアルデヒドおよびケトンのアセタールおよびケタールが含まれる。保護基化学の分野は、論評された(Greene, T.W.; Wuts, P.G.M. Protective Groups in Organic Synthesis, 2nd ed.; Wiley: New York, 1991)。
【０１２２】
本発明の数種の化合物は、特に、幾何学的または立体異性体形態で存在することができる。本発明は、シスおよびトランス異性体、ＲおよびＳ鏡像体、ジアステレオマー、（Ｄ）−異性体、（Ｌ）−異性体、これらのラセミ混合物および本発明の範囲内にあるこれらの他の混合物を含む、すべてのこのような化合物を意図する。追加の不斉炭素原子は、アルキル基などの置換基中に存在することができる。すべてのこのような異性体、およびこれらの混合物を、本発明中に包含させることを意図する。
【０１２３】
例えば、本発明の化合物の特定の鏡像体が望ましい場合には、これを、不斉合成により、またはキラル補助での誘導により製造することができ、ここで得られたジアステレオマー混合物を分離し、補助基を切断して、純粋な所望の鏡像体を得る。あるいはまた、分子が、塩基性官能基、例えばアミノまたは酸性官能基、例えばカルボキシルを含む場合には、ジアステレオマー塩が、適切な光学的に活性な酸または塩基と共に生成し、続いて、このようにして生成したジアステレオマーを、分別結晶または業界において十分知られているクロマトグラフィー手段により分割し、その後純粋な鏡像体を回収する。さらに、ラセミ体混合物の鏡像体を、キラルクロマトグラフィー、例えばキラルＨＰＬＣを用いて分離することができる。
【０１２４】
上記の化合物の意図された等価物には、他の方法でこれに相当し、この同一の一般的な特性を有する化合物（例えば鎮痛剤として機能する）が含まれ、ここで、シグマレセプターに結合するにあたり化合物の効能に悪影響を与えない置換基の１種または２種以上の単純な変化を、行う。一般的に、本発明の化合物を、例えば以下に記載する一般的な反応スキーム中に例示する方法により、またはこれらの変法により、容易に入手可能な出発物質、試薬および慣用の合成手順を用いて、製造することができる。これらの反応において、これら自体知られているが、本明細書中では述べない変法を用いることも可能である。
【０１２５】
本発明の目的のために、化学的元素を、元素の周期表、ＣＡＳバージョン、Handbook of Chemistry and Physics, 67th Ed., 1986-87, 内表紙に従って識別する。
【０１２６】
本発明の化合物
ある態様において、本発明は、１：
【化５８】
2010100630.tif 000073
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
【０１２７】
【化５９】
2010100630.tif 000074
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩に関する。
【０１２８】
ある態様において、本発明は、Ｒが、各々の存在について独立してアリールを表す、１および付随する定義により表される塩に関する。
ある態様において、本発明は、Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表す、１および付随する定義により表される塩に関する。
ある態様において、本発明は、Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表す、１および付随する定義により表される塩に関する。
【０１２９】
ある態様において、本発明は、Ｘ−が、四フッ化ホウ素、六フッ化リン、メタンスルホネート、トリフルオロメタンスルホネート、ベンゼンスルホネート、ｐ−トルエンスルホネート、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表す、１および付随する定義により表される塩に関する。
【０１３０】
ある態様において、本発明は、Ｘ−が、メタンスルホネート、トリフルオロメタンスルホネート、ベンゼンスルホネート、ｐ−トルエンスルホネート、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表す、１および付随する定義により表される塩に関する。
【０１３１】
ある態様において、本発明は、Ｘ−が、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表す、１および付随する定義により表される塩に関する。
ある態様において、本発明は、Ｘ−が、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミドまたは（トリフルオロメタンスルホニル）（トリフルオロアセチル）アミドを表す、１および付随する定義により表される塩に関する。
【０１３２】
ある態様において、本発明は、Ｒが、各々の存在について独立してアリールを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表す、１および付随する定義により表される塩に関する。
ある態様において、本発明は、Ｒが、各々の存在について独立してアリールを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表す、１および付随する定義により表される塩に関する。
【０１３３】
ある態様において、本発明は、Ｒが、各々の存在について独立してアリールを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、四フッ化ホウ素、六フッ化リン、メタンスルホネート、トリフルオロメタンスルホネート、ベンゼンスルホネート、ｐ−トルエンスルホネート、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表す、１および付随する定義により表される塩に関する。
【０１３４】
ある態様において、本発明は、Ｒが、各々の存在について独立してアリールを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、メタンスルホネート、トリフルオロメタンスルホネート、ベンゼンスルホネート、ｐ−トルエンスルホネート、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表す、１および付随する定義により表される塩に関する。
【０１３５】
ある態様において、本発明は、Ｒが、各々の存在について独立してアリールを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表す、１および付随する定義により表される塩に関する。
【０１３６】
ある態様において、本発明は、Ｒが、各々の存在について独立してアリールを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミドまたは（トリフルオロメタンスルホニル）（トリフルオロアセチル）アミドを表す、１および付随する定義により表される塩に関する。
【０１３７】
ある態様において、本発明は、２：
【化６０】
2010100630.tif 000075
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルもしくは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；または＋ＮＲ３は、一緒に、ピリジニウム、イミダゾリウム、ベンズイミダゾリウム、ピラゾリウム、ベンズピラゾリウム、インダゾリウム、チアゾリウム、ベンズチアゾリウム、オキサゾリウム、ベンゾオキサゾリウム、イソオキサゾリウム、イソチアゾリウム、イミダゾリデニウム、グアニジニウム、キヌクリジニウム、トリアゾリウム、テトラゾリウム、キノリニウム、イソキノリニウム、ピペリジニウム、ピロリジニウム、モルホリニウム、ピリダジニウム、ピラジニウム、ピペラジニウム、トリアジニウム、アゼピニウムもしくはジアゼピニウムを表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
【０１３８】
【化６１】
2010100630.tif 000076
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩に関する。
【０１３９】
ある態様において、本発明は、Ｒが、各々の存在について独立してアルキルまたはアリールを表す、２および付随する定義により表される塩に関する。
ある態様において、本発明は、Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表す、２および付随する定義により表される塩に関する。
ある態様において、本発明は、Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表す、２および付随する定義により表される塩に関する。
【０１４０】
ある態様において、本発明は、Ｘ−が、四フッ化ホウ素、六フッ化リン、メタンスルホネート、トリフルオロメタンスルホネート、ベンゼンスルホネート、ｐ−トルエンスルホネート、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表す、２および付随する定義により表される塩に関する。
【０１４１】
ある態様において、本発明は、Ｘ−が、メタンスルホネート、トリフルオロメタンスルホネート、ベンゼンスルホネート、ｐ−トルエンスルホネート、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表す、２および付随する定義により表される塩に関する。
【０１４２】
ある態様において、本発明は、Ｘ−が、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表す、２および付随する定義により表される塩に関する。
ある態様において、本発明は、Ｘ−が、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミドまたは（トリフルオロメタンスルホニル）（トリフルオロアセチル）アミドを表す、２および付随する定義により表される塩に関する。
【０１４３】
ある態様において、本発明は、Ｒが、各々の存在について独立してアルキルまたはアリールを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表す、２および付随する定義により表される塩に関する。
ある態様において、本発明は、Ｒが、各々の存在について独立してアルキルまたはアリールを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表す、２および付随する定義により表される塩に関する。
【０１４４】
ある態様において、本発明は、Ｒが、各々の存在について独立してアルキルまたはアリールを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、四フッ化ホウ素、六フッ化リン、メタンスルホネート、トリフルオロメタンスルホネート、ベンゼンスルホネート、ｐ−トルエンスルホネート、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表す、２および付随する定義により表される塩に関する。
【０１４５】
ある態様において、本発明は、Ｒが、各々の存在について独立してアルキルまたはアリールを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、メタンスルホネート、トリフルオロメタンスルホネート、ベンゼンスルホネート、ｐ−トルエンスルホネート、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表す、２および付随する定義により表される塩に関する。
【０１４６】
ある態様において、本発明は、Ｒが、各々の存在について独立してアルキルまたはアリールを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表す、２および付随する定義により表される塩に関する。
【０１４７】
ある態様において、本発明は、Ｒが、各々の存在について独立してアルキルまたはアリールを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミドまたは（トリフルオロメタンスルホニル）（トリフルオロアセチル）アミドを表す、２および付随する定義により表される塩に関する。
【０１４８】
ある態様において、本発明は、３：
【化６２】
2010100630.tif 000077
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
【０１４９】
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
Ｒ４は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ５は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
【化６３】
2010100630.tif 000078
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
【０１５０】
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩に関する。
【０１５１】
ある態様において、本発明は、Ｒが、各々の存在について独立してアルキルを表す、３および付随する定義により表される塩に関する。
ある態様において、本発明は、Ｒ４が、各々の存在について独立してＨまたはアルキルを表す、３および付随する定義により表される塩に関する。
ある態様において、本発明は、Ｒ５が、各々の存在について独立してＨまたはアルキルを表す、３および付随する定義により表される塩に関する。
【０１５２】
ある態様において、本発明は、Ｒ５が、各々の存在について独立してアルキルを表す、３および付随する定義により表される塩に関する。
ある態様において、本発明は、Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表す、３および付随する定義により表される塩に関する。
ある態様において、本発明は、Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表す、３および付随する定義により表される塩に関する。
【０１５３】
ある態様において、本発明は、Ｘ−が、四フッ化ホウ素、六フッ化リン、メタンスルホネート、トリフルオロメタンスルホネート、ベンゼンスルホネート、ｐ−トルエンスルホネート、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表す、３および付随する定義により表される塩に関する。
【０１５４】
ある態様において、本発明は、Ｘ−が、メタンスルホネート、トリフルオロメタンスルホネート、ベンゼンスルホネート、ｐ−トルエンスルホネート、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表す、３および付随する定義により表される塩に関する。
【０１５５】
ある態様において、本発明は、Ｘ−が、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表す、３および付随する定義により表される塩に関する。
ある態様において、本発明は、Ｘ−が、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミドまたは（トリフルオロメタンスルホニル）（トリフルオロアセチル）アミドを表す、３および付随する定義により表される塩に関する。
【０１５６】
ある態様において、本発明は、Ｒが、各々の存在について独立してアルキルを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表す、３および付随する定義により表される塩に関する。
ある態様において、本発明は、Ｒが、各々の存在について独立してアルキルを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表す、３および付随する定義により表される塩に関する。
【０１５７】
ある態様において、本発明は、Ｒが、各々の存在について独立してアルキルを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、四フッ化ホウ素、六フッ化リン、メタンスルホネート、トリフルオロメタンスルホネート、ベンゼンスルホネート、ｐ−トルエンスルホネート、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表す、３および付随する定義により表される塩に関する。
【０１５８】
ある態様において、本発明は、Ｒが、各々の存在について独立してアルキルを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、メタンスルホネート、トリフルオロメタンスルホネート、ベンゼンスルホネート、ｐ−トルエンスルホネート、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表す、３および付随する定義により表される塩に関する。
【０１５９】
ある態様において、本発明は、Ｒが、各々の存在について独立してアルキルを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表す、３および付随する定義により表される塩に関する。
【０１６０】
ある態様において、本発明は、Ｒが、各々の存在について独立してアルキルを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミドまたは（トリフルオロメタンスルホニル）（トリフルオロアセチル）アミドを表す、３および付随する定義により表される塩に関する。
【０１６１】
ある態様において、本発明は、Ｒが、各々の存在について独立してアルキルを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、四フッ化ホウ素、六フッ化リン、メタンスルホネート、トリフルオロメタンスルホネート、ベンゼンスルホネート、ｐ−トルエンスルホネート、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表し；Ｒ４が、各々の存在について独立してＨまたはアルキルを表す、３および付随する定義により表される塩に関する。
【０１６２】
ある態様において、本発明は、Ｒが、各々の存在について独立してアルキルを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、メタンスルホネート、トリフルオロメタンスルホネート、ベンゼンスルホネート、ｐ−トルエンスルホネート、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表し；Ｒ４が、各々の存在について独立してＨまたはアルキルを表す、３および付随する定義により表される塩に関する。
【０１６３】
ある態様において、本発明は、Ｒが、各々の存在について独立してアルキルを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表し；Ｒ４が、各々の存在について独立してＨまたはアルキルを表す、３および付随する定義により表される塩に関する。
【０１６４】
ある態様において、本発明は、Ｒが、各々の存在について独立してアルキルを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミドを表し；Ｒ４が、各々の存在について独立してＨまたはアルキルを表す、３および付随する定義により表される塩に関する。
【０１６５】
ある態様において、本発明は、Ｒが、各々の存在について独立してアルキルを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、四フッ化ホウ素、六フッ化リン、メタンスルホネート、トリフルオロメタンスルホネート、ベンゼンスルホネート、ｐ−トルエンスルホネート、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表し；Ｒ４が、各々の存在について独立してＨまたはアルキルを表し；Ｒ５が、各々の存在について独立してＨまたはアルキルを表す、３および付随する定義により表される塩に関する。
【０１６６】
ある態様において、本発明は、Ｒが、各々の存在について独立してアルキルを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、メタンスルホネート、トリフルオロメタンスルホネート、ベンゼンスルホネート、ｐ−トルエンスルホネート、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表し；Ｒ４が、各々の存在について独立してＨまたはアルキルを表し；Ｒ５が、各々の存在について独立してＨまたはアルキルを表す、３および付随する定義により表される塩に関する。
【０１６７】
ある態様において、本発明は、Ｒが、各々の存在について独立してアルキルを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表し；Ｒ４が、各々の存在について独立してＨまたはアルキルを表し；Ｒ５が、各々の存在について独立してＨまたはアルキルを表す、３および付随する定義により表される塩に関する。
【０１６８】
ある態様において、本発明は、Ｒが、各々の存在について独立してアルキルを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミドを表し；Ｒ４が、各々の存在について独立してＨまたはアルキルを表し；Ｒ５が、各々の存在について独立してＨまたはアルキルを表す、３および付随する定義により表される塩に関する。
【０１６９】
ある態様において、本発明は、Ｒが、各々の存在について独立してアルキルを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、四フッ化ホウ素、六フッ化リン、メタンスルホネート、トリフルオロメタンスルホネート、ベンゼンスルホネート、ｐ−トルエンスルホネート、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表し；Ｒ４が、各々の存在について独立してＨまたはアルキルを表し；Ｒ５が、各々の存在について独立してアルキルを表す、３および付随する定義により表される塩に関する。
【０１７０】
ある態様において、本発明は、Ｒが、各々の存在について独立してアルキルを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、メタンスルホネート、トリフルオロメタンスルホネート、ベンゼンスルホネート、ｐ−トルエンスルホネート、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表し；Ｒ４が、各々の存在について独立してＨまたはアルキルを表し；Ｒ５が、各々の存在について独立してアルキルを表す、３および付随する定義により表される塩に関する。
【０１７１】
ある態様において、本発明は、Ｒが、各々の存在について独立してアルキルを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表し；Ｒ４が、各々の存在について独立してＨまたはアルキルを表し；Ｒ５が、各々の存在について独立してアルキルを表す、３および付随する定義により表される塩に関する。
【０１７２】
ある態様において、本発明は、Ｒが、各々の存在について独立してアルキルを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミドを表し；Ｒ４が、各々の存在について独立してＨまたはアルキルを表し；Ｒ５が、各々の存在について独立してアルキルを表す、３および付随する定義により表される塩に関する。
【０１７３】
本発明の方法
ある態様において、本発明は、付加されたアミン（例えば第一、第二、第三または複素環式）を有するＩＬの、Ｈ２Ｓ、ＣＯ２、ＣＯＳ、ＳＯ２およびＳＯ３を含むがこれらには限定されない酸性ガスのガス相からの捕集のための使用に関する。
ある態様において、本発明は、付加されたアミン（例えば第一、第二、第三または複素環式）を有するＩＬの、水と併せての、酸性ガスのガス相からの捕集のための使用に関する。
ある態様において、本発明は、分子状溶媒または他のイオン性液体に溶解した、付加されたアミン（例えば第一、第二、第三または複素環式）を有するＩＬの、酸性ガスのガス相からの捕集のための使用に関する。
【０１７４】
ある態様において、本発明は、水または他の溶媒に溶解した、付加されたアミンを有するＩＬの、一般的な塩基で触媒された反応のための、無臭の、不揮発性の塩基としての使用に関する。
ある態様において、本発明は、付加されたアミンを有するＩＬの、溶液相におけるアミン反応性物質のための掃去剤としての使用に関する。
ある態様において、本発明は、付加されたアミンを有するＩＬの、溶媒としての使用に関する。
【０１７５】
ある態様において、本発明は、付加されたアミン（例えば第一、第二、第三または複素環式）を有するＩＬの、単独での、または有機分子、例えばサリチルアルデヒドと併せての、金属イオンの水溶液からの抽出のための使用に関する。
ある態様において、本発明は、付加されたアミンを有するＩＬの、イオン交換樹脂、粘土またはゼオライトと併せての、前述の用途のすべてのための使用に関する。
【０１７６】
ある態様において、本発明は、付加された酸性基を有するＩＬの、純粋な物質としての、または他のイオン性液体もしくは分子溶媒に溶解した溶液としての、一般的な、または特別の酸触媒のための使用に関する。このような反応には、フィッシャーエステル化、ピナコール転位、アルコール脱水、転位、異性体化、フリーデル−クラフツアルキル化およびアシル化、または芳香族ニトロ化が含まれるが、これらには限定されない。
【０１７７】
ある態様において、本発明は、付加された酸性基を有するＩＬの、ガス相または溶液相における酸反応性物質のための掃去剤としての使用に関する。
ある態様において、本発明は、付加された酸性基を有するＩＬの、脱水剤または乾燥剤としての使用に関する。
ある態様において、本発明は、付加された酸を有するＩＬの、イオン交換樹脂、粘土またはゼオライトと併せての、前述の用途のすべてのための使用に関する。
ある態様において、本発明は、付加された酸性基を有するＩＬの、溶媒としての使用に関する。
【０１７８】
ある態様において、本発明は、付加されたフルオロケトンまたはフルオロアルコール基を有するＩＬの、溶媒として；酸として；または酸化反応において用いるための過酸化物の活性剤としての使用に関する。
ある態様において、本発明は、付加されたスルホン、スルホキシドまたはスルホンアミド基を有するＩＬの、石油または石油化学製品の精製における分離を含む液体−液体または液体−気体分離における使用に関する。
ある態様において、本発明は、付加されたスルホン、スルホキシドまたはスルホンアミド基を有するＩＬの、生体分子、例えば糖類、アミノ酸、核酸、タンパク質、酵素、ＤＮＡおよびＲＮＡを含むがこれらには限定されない極性分子のための溶媒としての使用に関する。
【０１７９】
ある態様において、本発明は、付加されたスルホン、スルホキシドまたはスルホンアミド基を有するＩＬの、溶媒としての使用に関する。
ある態様において、本発明は、付加されたスルホン、スルホキシドまたはスルホンアミド基を有するＩＬの、過臨界溶媒、例えば過臨界ＣＯ２と併せて用いるための相転移補助剤としての使用に関する。
ある態様において、本発明は、付加されたハロゲン化スルホニル基を有するＩＬの、反応性種と併せて用いるための掃去剤としての使用に関する。
【０１８０】
ある態様において、本発明は、付加されたスルホンまたはスルホキシド基を有するＩＬの、イオン交換可能な材料、例えばイオン交換樹脂、粘土およびゼオライトと併せての、前述の用途のすべてのための使用に関する。
ある態様において、本発明は、付加されたアミド、尿素またはチオ尿素基を有するＩＬの、石油または石油化学製品の精製における分離を含む液体−液体または液体−気体分離における使用に関する。
ある態様において、本発明は、付加されたアミド、尿素またはチオ尿素基を有するＩＬの、生体分子、例えば糖類、アミノ酸、核酸、タンパク質、酵素、ＤＮＡおよびＲＮＡを含むがこれらには限定されない極性分子のための溶媒としての使用に関する。
【０１８１】
ある態様において、本発明は、付加されたアミド、尿素またはチオ尿素基を有するＩＬの、溶媒としての使用に関する。
ある態様において、本発明は、付加されたアミド、尿素またはチオ尿素基を有するＩＬの、イオン交換可能な材料、例えばイオン交換樹脂、粘土およびゼオライトと併せての、前述の用途のすべてのための使用に関する。
ある態様において、本発明は、付加されたアミド、尿素またはチオ尿素基を有するＩＬの、過臨界溶媒、例えば過臨界ＣＯ２と併せて用いるための相転移補助剤としての使用に関する。
【０１８２】
ある態様において、本発明は、ホスホラミド(phosphoramide)が付加されたＩＬの、単独での、または他のイオン性液体もしくは分子状溶媒と併せての、溶媒としての、または鉱石もしくは不混和性溶液相からの金属の抽出のための使用に関する。
ある態様において、本発明は、官能化されたＩＬの、溶媒、試薬−溶媒または触媒−溶媒としての、重合またはポリマー加工操作のための使用に関する。
ある態様において、本発明は、官能化されたＩＬの、例えば溶液、石油または石油化学製品における帯電防止剤としての使用に関する。
【０１８３】
ある態様において、本発明は、二酸化炭素、硫化カルボニル、二酸化硫黄、三酸化硫黄、硫化水素または１つのカルボニル含有化合物を、１つの気体状または液体状混合物から除去する方法であって、１つの気体状または液体状混合物を、
１：
【化６４】
2010100630.tif 000079
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
【０１８４】
【化６５】
2010100630.tif 000080
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩；
【０１８５】
２：
【化６６】
2010100630.tif 000081
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルもしくは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；または＋ＮＲ３は、一緒に、ピリジニウム、イミダゾリウム、ベンズイミダゾリウム、ピラゾリウム、ベンズピラゾリウム、インダゾリウム、チアゾリウム、ベンズチアゾリウム、オキサゾリウム、ベンゾオキサゾリウム、イソオキサゾリウム、イソチアゾリウム、イミダゾリデニウム、グアニジニウム、キヌクリジニウム、トリアゾリウム、テトラゾリウム、キノリニウム、イソキノリニウム、ピペリジニウム、ピロリジニウム、モルホリニウム、ピリダジニウム、ピラジニウム、ピペラジニウム、トリアジニウム、アゼピニウムもしくはジアゼピニウムを表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
【０１８６】
【化６７】
2010100630.tif 000082
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩；および
【０１８７】
３：
【化６８】
2010100630.tif 000083
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
【０１８８】
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
Ｒ４は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ５は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
【化６９】
2010100630.tif 000084
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
【０１８９】
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩
からなる群から選択された１つの塩に暴露する段階を含む、前記方法に関する。
【０１９０】
ある態様において、本発明は、Ｚが、各々の存在について独立して−Ｎ（Ｒ’）２を表す、前述の方法および付随する定義に関する。
ある態様において、本発明は、前記気体状または液体状混合物が、天然ガスである、前述の方法および付随する定義に関する。
【０１９１】
ある態様において、本発明は、二酸化炭素を除去する、前述の方法および付随する定義に関する。
ある態様において、本発明は、塩を水に溶解する、前述の方法および付随する定義に関する。
ある態様において、本発明は、Ｚが、各々の存在について独立して−Ｎ（Ｒ’）２を表し；前記気体状または液体状混合物が、天然ガスである、前述の方法および付随する定義に関する。
【０１９２】
ある態様において、本発明は、二酸化炭素、硫化カルボニル、二酸化硫黄、三酸化硫黄、硫化水素または１つのカルボニル含有化合物を、１つの第１の気体状または液体状混合物から１つの第２の気体状または液体状混合物に輸送する方法であって、１つの第１の気体状または液体状混合物を、
１：
【化７０】
2010100630.tif 000085
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
【０１９３】
【化７１】
2010100630.tif 000086
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩；
【０１９４】
２：
【化７２】
2010100630.tif 000087
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルもしくは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；または＋ＮＲ３は、一緒に、ピリジニウム、イミダゾリウム、ベンズイミダゾリウム、ピラゾリウム、ベンズピラゾリウム、インダゾリウム、チアゾリウム、ベンズチアゾリウム、オキサゾリウム、ベンゾオキサゾリウム、イソオキサゾリウム、イソチアゾリウム、イミダゾリデニウム、グアニジニウム、キヌクリジニウム、トリアゾリウム、テトラゾリウム、キノリニウム、イソキノリニウム、ピペリジニウム、ピロリジニウム、モルホリニウム、ピリダジニウム、ピラジニウム、ピペラジニウム、トリアジニウム、アゼピニウムもしくはジアゼピニウムを表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
【０１９５】
【化７３】
2010100630.tif 000088
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩；および
【０１９６】
３：
【化７４】
2010100630.tif 000089
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
【０１９７】
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
Ｒ４は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ５は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
【化７５】
2010100630.tif 000090
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
【０１９８】
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩
からなる群から選択された１つの塩に暴露し、
その後前記塩を、１つの第２の気体状または液体状混合物に暴露し、これにより、二酸化炭素、硫化カルボニル、二酸化硫黄、三酸化硫黄、硫化水素または１つのカルボニル含有化合物を、前記第２の気体状または液体状混合物に輸送する段階を含む、前記方法に関する。
【０１９９】
ある態様において、本発明は、Ｚが、各々の存在について独立して−Ｎ（Ｒ’）２を表す、前述の方法および付随する定義に関する。
ある態様において、本発明は、前記塩が、１つの半透膜内に含まれる、前述の方法および付随する定義に関する。
ある態様において、本発明は、Ｚが、各々の存在について独立して−Ｎ（Ｒ’）２を表し；前記塩が、１つの半透膜内に含まれる、前述の方法および付随する定義に関する。
【０２００】
ある態様において、本発明は、１つのアルケン、アルキンまたは一酸化炭素を１つの混合物から除去する方法であって、１つの混合物を、１つの遷移金属と：
１：
【化７６】
2010100630.tif 000091
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
【０２０１】
【化７７】
2010100630.tif 000092
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩；
【０２０２】
２：
【化７８】
2010100630.tif 000093
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルもしくは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；または＋ＮＲ３は、一緒に、ピリジニウム、イミダゾリウム、ベンズイミダゾリウム、ピラゾリウム、ベンズピラゾリウム、インダゾリウム、チアゾリウム、ベンズチアゾリウム、オキサゾリウム、ベンゾオキサゾリウム、イソオキサゾリウム、イソチアゾリウム、イミダゾリデニウム、グアニジニウム、キヌクリジニウム、トリアゾリウム、テトラゾリウム、キノリニウム、イソキノリニウム、ピペリジニウム、ピロリジニウム、モルホリニウム、ピリダジニウム、ピラジニウム、ピペラジニウム、トリアジニウム、アゼピニウムもしくはジアゼピニウムを表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
【０２０３】
【化７９】
2010100630.tif 000094
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩；および
【０２０４】
３：
【化８０】
2010100630.tif 000095
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
【０２０５】
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
Ｒ４は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ５は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
【化８１】
2010100630.tif 000096
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
【０２０６】
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩
からなる群から選択された１つの塩とから形成された１つの錯体に暴露する段階を含む、前記方法に関する。
【０２０７】
ある態様において、本発明は、Ｚが、各々の存在について独立してアルケニルまたはアルキニルを表し；遷移金属が、周期表の８〜１１族から選択されている、前述の方法および付随する定義に関する。
ある態様において、本発明は、Ｚが、各々の存在について独立してアルケニルまたはアルキニルを表し；遷移金属が、鉄、コバルト、ニッケル、銅、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、銀、イリジウムまたは白金である、前述の方法および付随する定義に関する。
ある態様において、本発明は、Ｚが、各々の存在について独立してアルケニルまたはアルキニルを表し；遷移金属が、銀である、前述の方法および付随する定義に関する。
【０２０８】
ある態様において、本発明は、１つの生成物を得るための１つの酸で触媒された化学反応を触媒する方法であって、１つの反応体混合物を：
１：
【化８２】
2010100630.tif 000097
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
【０２０９】
【化８３】
2010100630.tif 000098
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩；
【０２１０】
２：
【化８４】
2010100630.tif 000099
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルもしくは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；または＋ＮＲ３は、一緒に、ピリジニウム、イミダゾリウム、ベンズイミダゾリウム、ピラゾリウム、ベンズピラゾリウム、インダゾリウム、チアゾリウム、ベンズチアゾリウム、オキサゾリウム、ベンゾオキサゾリウム、イソオキサゾリウム、イソチアゾリウム、イミダゾリデニウム、グアニジニウム、キヌクリジニウム、トリアゾリウム、テトラゾリウム、キノリニウム、イソキノリニウム、ピペリジニウム、ピロリジニウム、モルホリニウム、ピリダジニウム、ピラジニウム、ピペラジニウム、トリアジニウム、アゼピニウムもしくはジアゼピニウムを表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
【０２１１】
【化８５】
2010100630.tif 000100
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩；および
【０２１２】
３：
【化８６】
2010100630.tif 000101
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
【０２１３】
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
Ｒ４は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ５は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
【化８７】
2010100630.tif 000102
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
【０２１４】
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩
からなる群から選択された１つの塩に暴露する段階を含む、前記方法に関する。
【０２１５】
ある態様において、本発明は、Ｚが、各々の存在について独立して−ＳＯ３Ｈを表す、前述の方法および付随する定義に関する。
ある態様において、本発明は、前記反応体混合物が、１つのアルコールを含み；前記生成物が、１つのエーテルである、前述の方法および付随する定義に関する。
ある態様において、本発明は、前記反応体混合物が、１つのアルコールおよび１つのカルボン酸を含み；前記生成物が、１つのエステルである、前述の方法および付随する定義に関する。
【０２１６】
ある態様において、本発明は、前記反応体混合物が、１つのエステルおよび水を含み；前記生成物が、１つのカルボン酸である、前述の方法および付随する定義に関する。
ある態様において、本発明は、前記反応体混合物が、１つのアルコールおよび１つの第１のエステルを含み；前記生成物が、１つの第２のエステルである、前述の方法および付随する定義に関する。
ある態様において、本発明は、前記反応体混合物が、１つの１，２−ジオールを含み；前記生成物が、１つのケトンである、前述の方法および付随する定義に関する。
【０２１７】
ある態様において、本発明は、前記反応体混合物が、１つのアルコールを含み；前記生成物が、１つのアルケンである、前述の方法および付随する定義に関する。
ある態様において、本発明は、前記反応体混合物が、１つの第１のアルケンを含み；前記生成物が、１つの第２のアルケンである、前述の方法および付随する定義に関する。
ある態様において、本発明は、前記反応混合物が、１つの第１の芳香族化合物および１つのニトロ化剤を含み；前記生成物が、１つのニトロ基を含む１つの第２の芳香族化合物である、前述の方法および付随する定義に関する。
【０２１８】
ある態様において、本発明は、前記反応混合物が、１つの第１の芳香族化合物および１つのアルコールを含み；前記生成物が、１つのアルキル基を含む１つの第２の芳香族化合物である、前述の方法および付随する定義に関する。
ある態様において、本発明は、前記反応混合物が、１つの第１の芳香族化合物および１つのカルボン酸を含み；前記生成物が、１つのアシル基を含む１つの第２の芳香族化合物である、前述の方法および付随する定義に関する。
ある態様において、本発明は、Ｚが、各々の存在について独立して−ＳＯ３Ｈを表し；前記反応体混合物が、１つのアルコールを含み；前記生成物が、１つのエーテルである、前述の方法および付随する定義に関する。
【０２１９】
ある態様において、本発明は、Ｚが、各々の存在について独立して−ＳＯ３Ｈを表し；前記反応体混合物が、１つのアルコールおよび１つのカルボン酸を含み；前記生成物が、１つのエステルである、前述の方法および付随する定義に関する。
ある態様において、本発明は、Ｚが、各々の存在について独立して−ＳＯ３Ｈを表し；前記反応体混合物が、１つのエステルおよび水を含み；前記生成物が、１つのカルボン酸である、前述の方法および付随する定義に関する。
ある態様において、本発明は、Ｚが、各々の存在について独立して−ＳＯ３Ｈを表し；前記反応体混合物が、１つのアルコールおよび１つの第１のエステルを含み；前記生成物が、１つの第２のエステルである、前述の方法および付随する定義に関する。
【０２２０】
ある態様において、本発明は、Ｚが、各々の存在について独立して−ＳＯ３Ｈを表し；前記反応体混合物が、１つの１，２−ジオールを含み；前記生成物が、１つのケトンである、前述の方法および付随する定義に関する。
ある態様において、本発明は、Ｚが、各々の存在について独立して−ＳＯ３Ｈを表し；前記反応体混合物が、１つのアルコールを含み；前記生成物が、１つのアルケンである、前述の方法および付随する定義に関する。
ある態様において、本発明は、Ｚが、各々の存在について独立して−ＳＯ３Ｈを表し；前記反応体混合物が、１つの第１のアルケンを含み；前記生成物が、１つの第２のアルケンである、前述の方法および付随する定義に関する。
【０２２１】
ある態様において、本発明は、Ｚが、各々の存在について独立して−ＳＯ３Ｈを表し；前記反応体混合物が、１つの第１の芳香族化合物および１つのニトロ化剤を含み；前記生成物が、１つのニトロ基を含む１つの第２の芳香族化合物である、前述の方法および付随する定義に関する。
ある態様において、本発明は、Ｚが、各々の存在について独立して−ＳＯ３Ｈを表し；前記反応体混合物が、１つの第１の芳香族化合物および１つのアルコールを含み；前記生成物が、１つのアルキル基を含む１つの第２の芳香族化合物である、前述の方法および付随する定義に関する。
ある態様において、本発明は、Ｚが、各々の存在について独立して−ＳＯ３Ｈを表し；前記反応体混合物が、１つの第１の芳香族化合物および１つのカルボン酸を含み；前記生成物が、１つのアシル基を含む１つの第２の芳香族化合物である、前述の方法および付随する定義に関する。
【０２２２】
ある態様において、本発明は、１つの生成物を得るための１つの塩基で触媒された化学反応を触媒する方法であって、１つの反応体混合物を：
１：
【化８８】
2010100630.tif 000103
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
【０２２３】
【化８９】
2010100630.tif 000104
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩；
【０２２４】
２：
【化９０】
2010100630.tif 000105
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルもしくは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；または＋ＮＲ３は、一緒に、ピリジニウム、イミダゾリウム、ベンズイミダゾリウム、ピラゾリウム、ベンズピラゾリウム、インダゾリウム、チアゾリウム、ベンズチアゾリウム、オキサゾリウム、ベンゾオキサゾリウム、イソオキサゾリウム、イソチアゾリウム、イミダゾリデニウム、グアニジニウム、キヌクリジニウム、トリアゾリウム、テトラゾリウム、キノリニウム、イソキノリニウム、ピペリジニウム、ピロリジニウム、モルホリニウム、ピリダジニウム、ピラジニウム、ピペラジニウム、トリアジニウム、アゼピニウムもしくはジアゼピニウムを表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
【０２２５】
【化９１】
2010100630.tif 000106
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩；および
【０２２６】
３：
【化９２】
2010100630.tif 000107
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
【０２２７】
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
Ｒ４は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ５は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
【化９３】
2010100630.tif 000108
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
【０２２８】
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩
からなる群から選択された１つの塩に暴露する段階を含む、前記方法に関する。
【０２２９】
ある態様において、本発明は、Ｚが、各々の存在について独立して−Ｎ（Ｒ’）２を表す、前述の方法および付随する定義に関する。
【０２３０】
ある態様において、本発明は、１つの溶液の製造方法であって、１つの溶質と１つの溶媒とを混ぜ合わせて、１つの溶液を得る段階を含み、ここで、前記溶媒を：
１：
【化９４】
2010100630.tif 000109
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
【０２３１】
【化９５】
2010100630.tif 000110
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩；
【０２３２】
２：
【化９６】
2010100630.tif 000111
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルもしくは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；または＋ＮＲ３は、一緒に、ピリジニウム、イミダゾリウム、ベンズイミダゾリウム、ピラゾリウム、ベンズピラゾリウム、インダゾリウム、チアゾリウム、ベンズチアゾリウム、オキサゾリウム、ベンゾオキサゾリウム、イソオキサゾリウム、イソチアゾリウム、イミダゾリデニウム、グアニジニウム、キヌクリジニウム、トリアゾリウム、テトラゾリウム、キノリニウム、イソキノリニウム、ピペリジニウム、ピロリジニウム、モルホリニウム、ピリダジニウム、ピラジニウム、ピペラジニウム、トリアジニウム、アゼピニウムもしくはジアゼピニウムを表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
【０２３３】
【化９７】
2010100630.tif 000112
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩；および
【０２３４】
３：
【化９８】
2010100630.tif 000113
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
【０２３５】
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
Ｒ４は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ５は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
【化９９】
2010100630.tif 000114
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
【０２３６】
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩
からなる群から選択する、前記方法に関する。
【０２３７】
例示
本発明を、ここで、一般的に記載し、これは、以下の例を参照することにより、一層容易に理解され、これは、単に本発明のある観点および態様の例示の目的のために含まれ、本発明を限定することを意図しない。
【０２３８】
例１
ブレンステッド酸性イオン性液体および触媒−溶媒としてのこれらの使用
一般的考慮
１Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ）および１３Ｃ  ＮＭＲ（７５ＭＨｚ）スペクトルを、ＣＤＣｌ３またはＤ２Ｏのいずれかに溶解した溶液として得た。化学シフトを、百万あたりの部（ｐｐｍ、δ）において報告し、ＣＨＣｌ３（δ  ７．２７）またはＤ２Ｏ（δ  ４．８８）を参照した。赤外線スペクトルを、塩化ナトリウム上での薄膜として記録し、吸収を、波数（ｃｍ−１）において報告した。融点は、補正されていない。蒸留を、クゲルロア(Kugelrohr)ボール管蒸留装置を用いて実施した。ガスクロマトグラフィー分析を、アジレント(Agilent)６８５０システム（ＦＩＤ）を用いて実施した。ＴＬＣ分析を、ホワットマン（Whatman)可撓性ポリエステル裏打ちＴＬＣプレート上で、蛍光指示器を用いて実施した。検出を、ＵＶ吸収（２５４ｎｍ）および水に溶解した１０％のＫＭｎＯ４で炭化させることにより実施した。ベーカー(Baker)シリカゲル（４７〜６１ミクロン）を、すべてのクロマトグラフィー分離のために用いた。無水有機溶媒を乾燥し、次に用いる前に蒸留した。酢酸、無水酢酸、ベンゾピナコール、エタノール、ヘキサン酸、１−オクタノール、ピナコールおよびｐ−トルエンスルホン酸は、用いる前に精製しなかった。合成手順のために用いるすべての他の化学物質は、試薬階級またはこれよりも良好であった。溶液を、真空において回転蒸発器を用いて濃縮し、残留物を、他に特定しない限り、シリカゲルカラムを用いて精製した。
【０２３９】
トルエンスルホン酸トリフェニル（プロピル−３−スルホニル）ホスホニウムの合成
【化１００】
2010100630.tif 000115
トリフェニルホスフィンおよび１，３−プロパンスルトンを、トルエン中で等モル量で混ぜ合わせ、還流とした。一晩、白色沈殿が生成し、これを、濾過により単離し、乾燥した。固体の分析により、これが所望の双性イオンであることが明らかになり、定量的収率で生成した。所望の双性イオンは、いかなるさらなる精製をもせずに用いるのに十分な純度であった。イオン性液体への変換を、等モル量のｐＴＳＡ水和物と双性イオンとを混ぜ合わせ、７０℃に２４時間加熱することにより達成し、この間固体が液化し、この結果トルエンスルホン酸トリフェニル（プロピル−３−スルホニル）ホスホニウムが生成する。次に、ＩＬ相を、トルエンおよびエーテルで繰り返し洗浄して、非イオン性残留物を除去し、真空において乾燥した。生成物が、物質収支およびＮＭＲ分光法により評価して、定量的に、および高い純度で生成した。
【表１５】
2010100630.tif 000116
【０２４０】
ベンゾピナコロン（２，２，２−トリフェニルアセトフェノン）の合成
【化１０１】
2010100630.tif 000117
攪拌棒および還流凝縮器を備えた５ｍＬの反応円錐バイアルに、８８２ｍｇのトルエンスルホン酸トリフェニル（プロピル−３−スルホニル）ホスホニウムを加えた。次に、一部で、５８．８ｍｇのベンゾピナコールを加えた。反応を、２時間にわたり１４０℃に加温した。次に得られた単相を、放冷して室温とし、この時点において、二相を、１．０ｍＬの水および２．０ｍＬのＥｔＯＡｃを加えた後に、ＥｔＯＡｃ（３×２．０ｍＬ）で洗浄した。混ぜ合わせた有機相を、無水ＭｇＳＯ４で乾燥し、濾過し、真空において濃縮した。粗製の生成物（７１．１ｍｇ）は、ＧＣ（（ＨＰ−１メチルシロキサン）１００℃（２分）、１０℃／分、２７５℃（１０分））１１．３２分（ベンゾピナコール）；２１．３８分（ベンゾピナコロン）により、ベンゾピナコールからベンゾピナコロンへの９９％を超える変換が明らかになった。シリカゲルクロマトグラフィー（ＥｔＯＡｃ／Ｈｅｘ  １：８）による精製により、所望の物質が、４９．５ｍｇ（単離された収率８８％）で、白色結晶固体として得られた。この物質のスペクトルデータは、商業的に入手できる物質のスペクトルデータと一致した。
【０２４１】
ｎ−オクチルエーテルの合成
【化１０２】
2010100630.tif 000118
攪拌棒および還流凝縮器を備えた５ｍＬの反応円錐バイアルに、１．０ｇ（１．９１ｍｍｏｌ）のトルエンスルホン酸トリフェニル（プロピル−３−スルホニル）ホスホニウムを加えた。次に、１．０ｍＬ（６．３５ｍｍｏｌ）の１−オクタノールを一部で加えた。反応を、２時間にわたり１７５℃に加温した。次に得られた単層を、放冷して室温とし、この時点において、二相を、１．０ｍＬの水および２．０ｍＬのＥｔＯＡｃを加えた後に、ＥｔＯＡｃ（３×２．０ｍＬ）で洗浄した。混ぜ合わせた有機相を、無水ＭｇＳＯ４で乾燥し、濾過し、真空において濃縮した。バルブからバルブへの(bulb-to-bulb)蒸留（沸点１３０℃／３ｍｍＨｇ（空気浴温度））による精製により、所望の物質が、４３２ｍｇ（単離された収率５６％）で、透明な無色の油状物として得られた。
【０２４２】
アルコール対ＩＬの比率は、オクチルエーテル生成の全体的な収率に影響した。約３００ｍｇ（０．５７ｍｍｏｌ）のトルエンスルホン酸トリフェニル（プロピル−３−スルホニル）ホスホニウムと０．４５ｍＬの１−オクタノールとの組み合わせから、５５ｍｇ（単離された収率１６％）が得られた一方、７７１ｍｇ（１．４７ｍｍｏｌ）のトルエンスルホン酸トリフェニル（プロピル−３−スルホニル）ホスホニウムと０．５ｍＬ（３．１８ｍｍｏｌ）の１−オクタノールとの組み合わせから、９６．８ｍｇ（単離された収率２５％）が得られた。各々の試行における生成物を、ＧＣ（（ＨＰ−１メチルシロキサン）１００℃（２分）、１０℃／分、２７５℃（１０分））４．８３分（１−オクタノール）；１２．０３分（オクチルエーテル）により分析し、ＮＭＲにより確認した。この物質のスペクトルデータは、商業的に入手できる物質のスペクトルデータと一致した。
【０２４３】
ＰＴＳＡを用いた対照反応：１−オクタノール（０．５ｍＬ、３．１７ｍｍｏｌ）とｐ−トルエンスルホン酸（２８０ｍｇ、１．４７ｍｍｏｌ（一水和物を用いて））との組み合わせから、バルブからバルブへの蒸留（沸点１３０℃／３ｍｍＨｇ（空気浴温度））による粗製の生成物の精製に基づいて、１８７ｍｇのｎ−オクチルエーテル（単離された収率４９％）が得られた。
【０２４４】
ＮＡＦＩＯＮ１１７を用いた対照反応：０．５ｍＬの１−オクタノール（３．１７ｍｍｏｌ）と０．３１４ｇのＮＡＦＩＯＮ１１７（０．２８ｍｅｑ（０．８９ｍｅｑ／ｇ））との組み合わせから、溶媒として３．０ｍＬのトルエン（１．１Ｍ）中で、バルブからバルブへの蒸留（沸点１３０℃／３ｍｍＨｇ（空気浴温度））による粗製の生成物（９０：１０（オクタノール：オクチルエーテル）のＧＣ比）の精製により、１２．４ｍｇのｎ−オクチルエーテル（単離された収率３％）が得られた。
【０２４５】
ピナコロン（３，３−ジメチル−２−ブタノン）の合成
【化１０３】
2010100630.tif 000119
５ｍＬの反応円錐バイアルに、攪拌棒およびヒンクマン−ヒンクル(Hinkman-Hinkle)静止ヘッドを備え付けた。静止ヘッドの上に、乾燥管を有する還流凝縮器を取り付けた。反応円錐バイアルに、約１．０ｇのトルエンスルホン酸トリフェニル（プロピル−３−スルホニル）ホスホニウムを加えた。次に、１部で、反応バイアルに、２９０ｍｇのピナコールを加えた。反応を、合計で１時間にわたり、１８０℃の最大温度に加温した。次に、得られた単相を、放冷して室温とし、この時点において、蒸留物を、他のフラスコに移送し、ＧＣ（（ＨＰ−１メチルシロキサン）５０℃（２分）、１０℃／分、２７５℃（１０分））４．０７分（ピナコロン）；６．１７分（ピナコール）およびＮＭＲにより分析した。バルブからバルブへの蒸留（沸点１２５℃／３ｍｍＨｇ（空気浴温度））による粗製の生成物の精製により、所望の物質が、８６ｍｇ（単離された収率３５％）で、透明な無色の油状物として得られた。この物質のスペクトルデータは、商業的に入手できる物質のスペクトルデータと一致した。
【０２４６】
トリフルオロメタンスルホン酸３−ブチル−１−（ブチル−４−スルホニル）イミダゾリウムの合成
【化１０４】
2010100630.tif 000120
１−ブチルイミダゾールと１，４−ブタンスルトンとの組み合わせから、優れた収率で生成した。塩をジエチルエーテルおよびトルエンで洗浄して、すべての未反応出発物質を除去した後に、固体を、真空において乾燥した。次に、化学量論量のトリフルオロメタンスルホン酸を加え、混合物を、２時間にわたり４０℃で攪拌し、この間、固体の双性イオンは、溶解／液化し、この結果、トリフルオロメタンスルホン酸３−ブチル−１−（ブチル−４−スルホニル）イミダゾリウムが生成した。次に、ＩＬ相を、トルエンおよびエーテルで繰り返し洗浄して、非イオン性残留物を除去し、真空において乾燥した。生成物が、物質収支およびＮＭＲ分光法により評価して、定量的に、および高い純度で生成した。
【表１６】
2010100630.tif 000121
【０２４７】
ヘキサン酸ｎ−オクチルの合成
【化１０５】
2010100630.tif 000122
攪拌棒を備えた５ｍＬの反応バイアルに、約２００μＬのトリフルオロメタンスルホン酸３−ブチル−１−（ブチル−４−スルホニル）イミダゾリウム（１．９Ｍ）を加えた。次に、シリンジにより、１−オクタノール（６０μＬ、０．３８ｍｍｏｌ）、続いてヘキサン酸（４８μＬ、０．３８ｍｍｏｌ）を加えた。得られた単相を、７日間にわたり室温で攪拌し、この時点において、油状物を、トルエン（５×２ｍＬ）で洗浄した。また、一層高い反応温度を用いた、一層短い反応時間により、酸からエステルへの優れた変換が得られた。１−オクタノールと酢酸との反応の結果、４０℃で７２時間にわたり、酢酸ｎ−オクチルへの８９％の変換が得られ、一方８３％の変換が、４０℃で４８時間にわたり観察された。採集された有機洗浄物を、真空において濃縮して、７６ｍｇのヘキサン酸ｎ−オクチルが得られた。粗製の生成物のＧＣ分析により、有機洗浄物の微小量のみの出発物質が明らかになった。粗製の無色の油状物の、バルブからバルブへの蒸留による精製により、所望の化合物が、７２ｍｇ（０．３１ｍｍｏｌ、収率８２％）で、透明な無色の油状物（沸点１３０℃／３ｍｍＨｇ（空気浴温度））として得られた。
【表１７】
2010100630.tif 000123
【０２４８】
例２
ブレンステッド酸イオン性液体の酢酸エチルの生成における再使用
【化１０６】
2010100630.tif 000124
合成的変換におけるＩＬの再使用を例示するために用いられる反応装備は、磁気的回転羽根を備えた５ｍＬの反応円錐バイアルからなっていた。円錐バイアルに、自体クライゼンアダプターおよび還流凝縮器を備えた、ヒンクマン−ヒンクル静止ヘッドを取り付けた。クライゼンアダプターの２つの入口の１つの適切な配列は、シリンジポンプによる試薬の添加に必須であった。この装備は、ＣａＣｌ２を封入した乾燥管を備えており、砂浴により外部から加熱した。
【０２４９】
代表的な手順
２．１ｇのＩＬ（４．０ｍｍｏｌ）を装入した５ｍＬの反応円錐バイアルに、シリンジにより、酢酸（１．０ｍＬ、１７．５ｍｍｏｌ）およびエタノール（１．０ｍＬ、１７．５ｍｍｏｌ）を加えた。反応混合物を、１７５℃（外部温度）の最大温度に、４５分にわたり加温した。反応の完了が、最大温度に達する前に観察されたが、反応装備／ＩＬの再使用により、すべての揮発性成分を、蒸留により、次のサイクルの前に除去することが必要になった。各々のサイクルについて、反応の完了を、ＧＣ分析［ＧＣ（（ＨＰ−１メチルシロキサン；ｆ＝１．０ｍＬ／分）５０℃（２分）、１０℃／分、２７５℃（１０分））３．２１分（ＥｔＯＨ）、３．３７分（ＥｔＯＡｃ）、３．４２分（ＡｃＯＨ）］により確認し、得られた蒸留物の質量により立証した。各々のサイクルにより、純粋な酢酸エチルが、認識可能な量の出発物質を伴わずに（ＥｔＯＨ／ＥｔＯＡｃ共沸によるＥｔＯＨの＜７％の推定の損失（３１重量％および７８℃の沸点））得られた。二相混合物を分離し、生成物の生成に考慮したのは、３．３％の最大の水含量であった。
【０２５０】
対照反応
５ｍＬの反応円錐バイアルに、酢酸（１．０ｍＬ、１７．５ｍｍｏｌ）およびエタノール（１．０ｍＬ、１７．５ｍｍｏｌ）を装入した。反応混合物を、１７５℃（外部温度）の最大温度に、４５分にわたり加温した。４５分の時間枠の後の３０分の連続的な加熱の後にも、認識可能な量の蒸留物は、観察されなかった。採集された蒸留物は、ＥｔＯＨ（９７％）およびＥｔＯＡｃ（７％）からなっていた。反応円錐バイアル中の残りは、ＡｃＯＨであった。
【０２５１】
イオン性液体の再生およびその後の再使用
複数のサイクルの後の系は、顕著な量の物質、主に水を保持しており、これは、１５１％を超える質量百分率の上昇に関連した。反応サイクルの物質収支および生成物収率に基づいて、質量の増大は、水および酢酸からなっていた。大気圧での熱（＜１７５℃）を用いたＶＯＣの除去は、不成功であった。しかし、装備を排気し（１０Ｔｏｒｒ）、６５℃に５時間にわたり加温した際に、観察されたのは、反応バイアル中に含まれる容積の損失であった。得られたイオン性液体は、尚１Ｈ  ＮＭＲ分析に基づいて、ＡｃＯＨ（４２％）を含んでいた。サイクル２からの結果を用いて、０．４４１ｍＬの水を、水：ＩＬ比率を模擬する目的で、エタノールおよび酢酸の添加の前に加えた。この対照実験により、１．３ｇの酢酸エチル（単離された収率８７％）が得られた。
【０２５２】
ブレンステッド酸性イオン性液体のリサイクルからの結果の表での例示
【化１０７】
2010100630.tif 000125
ａ単離された収率。ｂ再生されたイオン性液体（試行の前に０．４４１ｍＬの水を加える）を用いた、単離された収率。
【０２５３】
例３
チオエーテルＩＬ１およびスルホキシドＩＬ１の合成および特徴づけ
【化１０８】
2010100630.tif 000126
１部
７
【０２５４】
例５
チオエーテルＩＬ２およびスルホキシドＩＬ２の合成および特徴づけ
【化１０９】
2010100630.tif 000127
１部
１００ｍＬの丸底フラスコに、磁石攪拌棒、５０ｍＬのトルエンおよび３．２９ｇ（４０ｍｍｏｌ）の１−メチルイミダゾールを装入した。次に、この溶液に、５．０ｇ（４０ｍｍｏｌ）の２−（クロロエチル）エチルスルフィドを加えた。凝縮器を取り付け、溶液を、１２時間にわたり還流に加熱し、維持した。この間、濃密な黄茶色の液相が、トルエンから分離した。冷却後、トルエン層を分離し、廃棄し、下方のイオン性液体層を、２×５０ｍＬのジエチルエーテルで洗浄した。粘性の液体を、真空において一晩乾燥した（７．４１ｇ、８９％）。
【０２５５】
２部
１部からの塩化イミダゾリウム生成物（７．４１ｇ、３５．８ｍｍｏｌ）を、２５ｍＬのアセトニトリルに溶解し、８．０１ｇ（３５．８ｍｍｏｌ）のリチウムビス（トリフルオロメタンスルホニルイミド）で処理した。後者の溶解に、ＬｉＣｌの沈殿が迅速に続いた。一晩攪拌した後に、懸濁液を濾過し、溶媒を真空において除去して、イミダゾリウム陽イオンのビス（トリフリル）イミド塩（１２．０２ｇ、８６％）が残留した。
【０２５６】
３部
１００ｍＬのフラスコに、攪拌棒および２部において単離された生成物塩１．５１ｇ（３．９ｍｍｏｌ）を装入した。次に、これを、５０ｍＬのジクロロメタンに溶解し、溶液を、０℃に冷却した。冷却した攪拌した溶液に、１０ｍＬのジクロロメタンに溶解した１．００ｇのｍ−クロロペルオキシ安息香酸（アッセイにより６６．９％の過酸化物活性、３．９ｍｍｏｌの活性過酸化物）の溶液を滴加した。この溶液を、室温に加温し、この間白色沈殿が生成した。１２時間攪拌した後に、溶媒を、真空において除去し、白色固体残留物を、５×５０ｍＬの部分のエーテルで抽出した。副生成物のｍ−クロロ安息香酸を、エーテル洗浄物中に完全に抽出し、黄白色の液体生成物が残留した。
【０２５７】
スルホキシドＩＬ２についての特徴づけデータ
【表１８】
2010100630.tif 000128
【０２５８】
チオエーテルＩＬ２（前述の２部の生成物）についての特徴づけデータ
【表１９】
2010100630.tif 000129
【０２５９】
例６
スルホンＩＬ２の合成および特徴づけ
【化１１０】
2010100630.tif 000130
チオエーテルＩＬ２から。例５を参照。
磁石攪拌棒を装入した１００ｍＬのフラスコ中で、１．５０ｇ（３．９ｍｍｏｌ）の１−メチル−３−（２−エチルスルフィド）エチルイミダゾリウムビフ（トリフリル）イミド［前述の２部の生成物］を、５０ｍＬのジクロロメタンに溶解し、溶液を、氷浴中で冷却した。冷却した、攪拌した溶液に、２０ｍＬのジクロロメタンに溶解した１．９９ｇのｍ−クロロペルオキシ安息香酸（アッセイにより６６．９％の過酸化物活性、７．８ｍｍｏｌの活性過酸化物）の溶液を滴加した。この溶液を、室温に加温し、この間白色沈殿が生成した。１４時間攪拌した後に、溶媒を、真空において除去し、白色固体残留物を、５×５０ｍＬの部分のエーテルで抽出した。副生成物のｍ−クロロ安息香酸を、エーテル洗浄物中に完全に抽出し、黄白色の液体生成物が残留した。
【表２０】
2010100630.tif 000131
【０２６０】
例７
チオエーテルＩＬ３およびスルホキシドＩＬ３の合成および特徴づけ
【化１１１】
2010100630.tif 000132
１部
２５０ｍＬの丸底フラスコに、磁石攪拌棒、７５ｍＬのトルエンおよび１１．５５ｇ（１２０ｍｍｏｌ）の１，２−ジメチルイミダゾールを装入した。次に、この溶液に、１４．９７ｇ（１２０ｍｍｏｌ）の２−（クロロエチル）エチルスルフィドを加えた。凝縮器を取り付け、溶液を、１２時間にわたり還流に加熱し、維持した。この間、濃密な黄茶色の液相が、トルエンから分離した。冷却後、トルエン層を分離し、廃棄し、下方のイオン性液体層を、２×５０ｍＬのジエチルエーテルで洗浄した。粘性の液体を、真空において一晩乾燥し、この間低融点の黄褐色結晶固体に固化した（１８．０６ｇ、６８％）。
【０２６１】
２部
１部からの塩化イミダゾリウム生成物（７．７０ｇ、３５．０ｍｍｏｌ）を、２５ｍＬのアセトニトリルに溶解し、１０．０４ｇ（３５．０ｍｍｏｌ）のリチウムビス（トリフルオロメタンスルホニルイミド）で処理した。後者の溶解に、ＬｉＣｌの沈殿が迅速に続いた。一晩攪拌した後に、懸濁液を濾過し、溶媒を真空において除去して、イミダゾリウム陽イオンのビス（トリフリル）イミド塩（１２．２０ｇ、７５％）が残留した。
【０２６２】
３部
１００ｍＬのフラスコに、攪拌棒および１部において単離された塩化物塩４．３５ｇ（１９．８ｍｍｏｌ）を装入した。次に、これを、５０ｍＬのジクロロメタンに溶解し、溶液を、０℃に冷却した。冷却した攪拌した溶液に、１０ｍＬのジクロロメタンに溶解した５．１０ｇのｍ−クロロペルオキシ安息香酸（アッセイにより６６．９％の過酸化物活性、１９．８ｍｍｏｌの活性過酸化物）の溶液を滴加した。この溶液を、室温に加温し、１２時間攪拌し、この時点の後に、溶媒を、真空において除去し、白色固体残留物を、５×５０ｍＬの部分のエーテルで抽出した。副生成物のｍ−クロロ安息香酸を、エーテル洗浄物中に完全に抽出し、黄白色のガラスが残留し、これは、ＮＭＲにより、尚ｍ−クロロ安息香酸を含むと示された。次に、このガラスを、５０／５０（ｖ／ｖ）アセトニトリル／メタノールに溶解し、シリカゲル上でクロマトグラフィー分離した。黄白色バンドの溶離により、生成物ＩＬスルホキシド塩化物塩が、黄色のガラスとして得られ、これは、適度の加熱により液化する（２．４ｇ、５０％）。
【０２６３】
スルホキシドＩＬ３についての特徴づけデータ
【表２１】
2010100630.tif 000133
式中、
【０２６４】
チオエーテルＩＬ３（前述の２部の生成物）についての特徴づけデータ
【表２２】
2010100630.tif 000134
【０２６５】
例８
スルホキシドＩＬ４の調製および特徴づけ
【化１１２】
2010100630.tif 000135
５０ｍＬのフラスコに、磁石攪拌棒、１．０ｇ（４．２ｍｍｏｌ）のスルホキシドＩＬ３（例８）および１０ｍＬの脱イオン水を装入した。光から遮蔽した別のフラスコ中で、０．４０ｇ（４．５ｍｍｏｌ）のナトリウムジシアナミドを、１０ｍＬの脱イオン水に溶解した。この溶液に、０．７７ｇ（４．５ｍｍｏｌ）の硝酸銀を加え、溶液を、４時間攪拌した。この時間の終了時に、懸濁した固体（ＡｇＣ２Ｎ３）を、濾過により迅速に回収し、小さい部分の水で洗浄し、スルホキシドＩＬ３を含むフラスコ中に加えた。このフラスコを、暗中で２時間攪拌し、この時間の後に、沈殿した塩化銀を、濾過により除去した。真空における水の黄橙色の溶液からの除去により、粘性の黄茶色液体生成物（０．９５ｇ、３．６ｍｍｏｌ、８５％）が得られた。
【表２３】
2010100630.tif 000136
【０２６６】
例９
スルホキシドＩＬ５の調製および特徴づけ
【化１１３】
2010100630.tif 000137
１部
１００ｍＬのフラスコに、磁石攪拌棒および８．０ｇ（９４ｍｍｏｌ）のＮ−メチルピロリドンを装入した。アミンに、４０ｍＬのアセトニトリルおよび１４．０ｇ（９６ｍｍｏｌ）の２−クロロエチルエチルスルフィドを加えた。次に、溶液を、２４時間にわたり還流において加熱し、この時点の後に、揮発性物質を、真空において除去した。粘着性の茶褐色(tan-brown)残留物を、小さい部分のトルエンおよび次にエーテルで繰り返し洗浄した。不純な生成物を、５０／５０ｖ／ｖのアセトニトリル／メタノール中に吸収させ、短いシリカカラムを通して濾過した。溶媒を、真空において除去し、黄褐色の固体（５．９ｇ、２７％、最適化されていない）が残留した。
【０２６７】
２部
１００ｍＬのフラスコに、攪拌棒および２．０ｇ（８．６ｍｍｏｌ）の１部から単離された塩化ピロリジニウム塩を装入した。この固体に、２５ｍＬのアセトニトリルおよび２．５ｇ（８．６ｍｍｏｌ）のリチウムビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミドを加えた。後者の溶解に、塩化リチウムの沈殿が続き、これを、濾過により除去した。アセトニトリルの蒸発により、粘性の、黄白色液体（３．３ｇ、８０％）が得られた。
【０２６８】
３部
２部から単離された生成物（６．９ｍｍｏｌ）を、磁石攪拌棒をも装入した１００ｍＬのフラスコ中で、５０ｍＬのジクロロメタンに溶解した。この攪拌した溶液に、１０ｍＬのジクロロメタンに溶解した１．７８ｇのｍ−クロロペルオキシ安息香酸（アッセイにより６６．９％の過酸化物活性、６．９ｍｍｏｌの活性過酸化物）を加えた。この溶液を、一晩攪拌し、この時間の間、白色固体が生成した。溶媒を、真空において除去し、白色固体残留物を、４×５０ｍＬ部分のエーテルで抽出した。副生成物のｍ−クロロ安息香酸を、エーテル洗浄物中に抽出し、粘性の無色の液体生成物が残留した。
【０２６９】
例１０
ＴＨＦ付加イオン性液体１の合成および特徴づけ
【化１１４】
2010100630.tif 000138
１部
アルゴンの雰囲気下で、攪拌棒を備え、還流凝縮器を取り付けた１００ｍＬのフラスコに、トルエンに溶解したトリブチルホスフィン（２４．６ｍｍｏｌホスフィン）の５０重量％溶液１０．０ｇを装入した。不活性雰囲気を維持しながら、３．０ｇ（２５．０ｍｍｏｌ）の塩化テトラヒドロフルフリルを加え、溶液を、還流とした。１２時間後、白色固体が沈殿し、これを、濾過により単離した（７．４９ｇ、９４％）。
【０２７０】
２部
１部において単離された固体塩化物塩を、７５ｍＬのアセトニトリルに溶解し、無色の溶液が得られた。この攪拌した溶液に、６．６４ｇ（２３ｍｍｏｌ）のリチウムビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミドを加えた。前者をアセトニトリルに溶解した後、短い時間内に、塩化リチウムの沈殿が続いた。２時間にわたり攪拌した後、固体を、濾過により除去し、溶媒を、真空において除去した。残留した無色の油状物を、３×２０ｍＬのエーテルで洗浄し、真空において乾燥し、無色油状物（１０．８ｇ、８２％）が残留した。
【０２７１】
ＴＨＦ−ＩＬ１についての特徴づけデータ
【表２４】
2010100630.tif 000139
【０２７２】
例１１
ＴＨＦ付加ＩＬ２の合成および特徴づけ
【化１１５】
2010100630.tif 000140
磁石攪拌棒を備えた２５０ｍＬのフラスコ中で、１０．０ｇ（９９ｍｍｏｌ）のフルフリルアミンを、１００ｍＬの脱イオン水に溶解した。この攪拌した溶液に、水に溶解したテトラフルオロホウ酸の４８重量％溶液（９９ｍｍｏｌ酸）１８．１ｇを加えた。２日間攪拌した後に、１．４９ｇ（４９．５ｍｍｏｌ）の粉末状ホルムアルデヒドを、黄色の溶液に加え、次にこれを、７０℃に加熱し、この点において、混合物は均一になった。次に、溶液を、室温に冷却し、この点において、７．２ｇの４０％水性グリオキサール（４９．５ｍｍｏｌグリオキサール）を加え、攪拌を、３時間継続し、この時間の間、溶液は、色が橙褐色となった。次に、水溶液を、３つの１００ｍＬの部分のジクロロメタンで抽出し、次にこれを混ぜ合わせ、硫酸マグネシウム上で乾燥した。次に、固体を、濾過により除去し、溶媒を、真空において除去し、比較的可動性の赤茶色液体１１．６ｇ（３８ｍｍｏｌ、７６％）が残留した。
【０２７３】
特徴づけデータ
【表２５】
2010100630.tif 000141
【０２７４】
例１２
環式アミド付加ＩＬ１の合成および特徴づけ
【化１１６】
2010100630.tif 000142
攪拌棒を装入し、アルゴンを流した１００ｍＬのフラスコ中で、５．０ｇ（２３．８ｍｍｏｌ）のテトラフルオロホウ酸２，４，６−トリメチルピリリウムを、４０ｍＬのジクロロメタン中に懸濁させた。攪拌した懸濁液に、３．４ｇ（２４ｍｍｏｌ）のＮ−（３−アミノプロピル）ピロリジノンを加えた。この懸濁液を、４０℃で一晩攪拌し、この時間の間、出発テトラフルオロホウ酸塩は、溶解し、赤橙色の溶液が得られた。溶媒を、真空において除去し、粘着性の茶色固体が得られた。固体を、３０ｍＬのアセトニトリルに溶解し、シリカゲルの短いプラグを通してフラッシュ濾過し、シリカは、ある程度の色を保持した。採集した溶離剤を蒸発させ、赤茶色の油状物が残留した。
【表２６】
2010100630.tif 000143
【０２７５】
例１３
環式アミド付加ＩＬ２の合成および特徴づけ
【化１１７】
2010100630.tif 000144
１部
還流凝縮器を取り付けた２５０ｍＬのフラスコに、攪拌棒、１００ｍＬのアセトニトリルおよび５ｇ（３５ｍｍｏｌ）のＮ−（３−アミノプロピル）ピロリジノンを装入した。攪拌した溶液に、１７ｇの重炭酸ナトリウム（過剰）および２６．６ｇ（１５８ｍｍｏｌ）のヨウ化プロピルを加えた。溶液／懸濁液を、１２時間還流に加熱した。冷却後、固体を、濾過により除去し、溶媒を、真空において除去し、黄褐色の固体が残留した。固体を、分光学的に決定して、不純であった。次に、これを、１０ｍＬのアセトニトリルに溶解し、シリカカラム（２ｃｍ×１６ｃｍ）上に負荷させた。カラムを、純粋なアセトニトリルから純粋なメタノールまで変化する溶媒勾配を用いて溶離させた。メタノールが豊富なフラクションを有する生成物が、溶離した。溶媒を、真空において除去し、白色固体（６．８ｇ、２０ｍｍｏｌ、５７％）が残留した。
【０２７６】
２部
１部からの生成物を、５０ｍＬのアセトニトリルに溶解し、５．７ｇ（２０ｍｍｏｌ）のリチウムビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミドで処理した。短い時間内に、後者は溶解し、次にこれに、塩化リチウムの沈殿が続いた。一晩攪拌した後、固体を、濾過により除去し、溶媒を、真空において除去し、無色の粘性の液体が残留した。
【０２７７】
特徴づけデータ
【表２７】
2010100630.tif 000145
【０２７８】
例１４
非環式アミドＩＬ１の合成および特徴づけ
【化１１８】
2010100630.tif 000146
１部
攪拌棒を装入し、アルゴンを流した２５０ｍＬのフラスコ中で、１０．０ｇ（８０ｍｍｏｌ）のＮ−（３−アミノプロピル）イミダゾールを、１００ｍＬのジエチルエーテルに溶解した。攪拌した溶液に、６．３ｇ（８０ｍｍｏｌ）の塩化アセチルを滴加した。数秒以内に、溶液は、アセチルアミノプロピルイミダゾール塩の塩酸塩が沈殿するのに伴って、濁った。１時間攪拌した後に、生成物を、濾過により単離し、２×１０ｍＬのエーテルで洗浄し、真空において乾燥した（１６．２ｇ、８０ｍｍｏｌ、１００％）。
【０２７９】
２部
１部において単離された塩酸塩を、２５ｍＬの水に溶解し、化学量論量の固体水酸化ナトリウムペレットを、小さい部分において加え、溶液温度が、５０℃を超えないように注意した。いくらかの顆粒状の結晶固体が、反応が進行するに従って生成した。３時間後、溶液を、３×１００ｍＬのジクロロメタンで抽出した。この抽出物を混ぜ合わせ、無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、溶媒を、真空において除去した。単離された生成物は、無色液体（１１．７ｇ、８８％）であった。
【０２８０】
３部
２部において単離された、アセチル化イミダゾール生成物（７０ｍｍｏｌ）を、磁石攪拌棒および還流凝縮器を取り付けたフラスコ中で、５０ｍＬのジクロロメタンに溶解した。攪拌した溶液に、１０．０ｇ（７０．４ｍｍｏｌ）のヨウ化メチルを加えた。溶液を、４０℃に１２時間にわたり加熱し、この時点の後に、溶媒および過剰のヨウ化メチルを、真空において除去した。残留物を、２×２５ｍＬのエーテルで洗浄し、真空において乾燥し、無色の半固体（２１ｇ、６８ｍｍｏｌ）が残留した。
【０２８１】
４部
３部の生成物（２１ｇ）を、１００ｍＬのアセトニトリルに溶解し、７．５ｇ（７２ｍｍｏｌ）のテトラフルオロホウ酸アンモニウムを、固体として加えた。得られた懸濁液を、一晩攪拌し、この時間の後に、溶媒を、真空において除去した。粘着性の残留物を、４×１００ｍＬのジクロロメタンで抽出し、固体を、濾過により除去した。真空における溶媒の除去により、所望の生成物が、粘性液体（２１．１ｇ、７８％）として得られた。
【０２８２】
特徴づけデータ
【表２８】
2010100630.tif 000147
【０２８３】
例１５
非環式アミドＩＬ２の合成および特徴づけ
【化１１９】
2010100630.tif 000148
磁石攪拌棒を装入した２５０ｍＬのフラスコ中で、１０．０ｇ（３６ｍｍｏｌ）のヨウ化１−ブチル−３−エチルイミダゾリウムを、５０ｍＬの脱イオン水に溶解した。攪拌した溶液に、７．０ｇ（３６ｍｍｏｌ）のナトリウムＮ−アセチルタウリンを加えた。溶液を、一晩攪拌し、水を、真空において除去した。ゴム状の残留物を、２×１００ｍＬのアセトニトリルで抽出し、固体を、濾過により除去し、アセトニトリルを、真空において除去し、生成物が、堅いガラス（９．６ｇ、８４％）として残留した。
【０２８４】
特徴づけデータ
【表２９】
2010100630.tif 000149
【０２８５】
例１６
尿素官能基を含む非環式アミドＩＬ３の合成および特徴づけ
【化１２０】
2010100630.tif 000150
磁石攪拌棒を装入し、アルゴン雰囲気下に維持した、１００ｍＬのフラスコ中で、３．０ｇ（２１ｍｍｏｌ）の１−（３−アミノプロピル）−２−メチルイミダゾールを、２５ｍＬのジクロロメタンに溶解した。攪拌した溶液に、１．８ｇ（２２ｍｍｏｌ）のｎ−プロピルイソシアネートを加えた。３時間攪拌した後に、ジクロロメタンを、真空において除去し、濃厚な油状物（４．７ｇ、９９％）が残留した。その後、この油状物を、５０ｍＬのアセトニトリルに再び溶解し、３．０ｇ（２２ｍｍｏｌ）のヨウ化メチルを加えた。溶液を、４０℃に加温し、この温度で一晩攪拌した［注意−過熱の結果、不所望な副生成物がＯ−アルキル化から生成し得る］。冷却後、６．０２ｇのリチウムビス（トリフルオロメチルスルホニルイミド）を加えた。攪拌を、さらに４時間継続し、次に溶媒を、真空において除去した。茶色の残留物を、４×１００ｍＬのジクロロメタンで抽出し、濾過し、溶媒を、再び真空において除去し、黄色の油状物（７．６ｇ、６６％）が残留した。
【０２８６】
特徴づけデータ
【表３０】
2010100630.tif 000151
【０２８７】
例１７
アミン付加ＩＬ１の合成および特徴づけ
【化１２１】
2010100630.tif 000152
磁石攪拌棒を装入し、還流凝縮器を取り付けた、５００ｍＬのフラスコ中で、２６．０ｇ（２７０ｍｍｏｌ）の１，２−ジメチルイミダゾールを、２００ｍＬの無水エタノールに溶解した。攪拌した溶液に、５８．６ｇ（２７０ｍｍｏｌ）の３−ブロモプロピルアミン臭化水素酸塩を加えた。溶液を、還流の下で１２時間攪拌し、この時間の間、大量の固体が沈殿した。次に、溶媒を、真空において除去し、粘着性の白色物質が残留した。この残留物を、１５０ｍＬの蒸留水に溶解し、次に１０．８ｇの固体水酸化ナトリウムを、攪拌しながら小さい部分において加えた。溶液は、温かくなり、無色の顆粒状固体が、ゆっくりと沈殿した。１時間後、水を、真空において除去し、残留物をメタノール中に抽出し、濾過し、溶媒を、再び真空において除去し、堅い黄色のガラス（５９．９ｇ、９５％）が残留した。前の段階からのガラスを、２００ｍＬのメタノールに再び溶解し、７３．５ｇ（２５５ｍｍｏｌ）のリチウムビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミドを、固体として加えた。一晩攪拌した後に、溶媒を、真空において除去し、残留物を、３×１００ｍＬの５０／５０ジクロロメタン／エタノールで抽出した。固体を、濾過により除去し、溶媒を、真空において除去し、黄色の液体（８２．３ｇ、１９０ｍｍｏｌ、７５％）が残留した。
【０２８８】
アミンＩＬ１についての特徴づけデータ
【表３１】
2010100630.tif 000153
【０２８９】
例１８
アミン付加ＩＬ２の合成および特徴づけ
【化１２２】
2010100630.tif 000154
攪拌棒および還流凝縮器を取り付けた、１００ｍＬのフラスコ中で、５．０ｇ（３６ｍｍｏｌ）の１−ブチル−２−メチルイミダゾールを、４０ｍＬの無水エタノールに溶解した。攪拌した溶液に、１部で、１０．３ｇ（３６ｍｍｏｌ）のＮ−（２−ブロモエチル）ジイソプロピルアミン臭化水素酸塩を加えた。得られた溶液を、還流の下で１２時間加熱し、この時間の後に、１．５ｇ（３６ｍｍｏｌ）の水酸化ナトリウムを加え、攪拌を、さらに４時間継続した。溶液を濾過し、溶媒を、真空において蒸発させ、黄白色の物質が残留した。その後、残留物を、１００ｍＬのメタノールに溶解し、次に２ｍＬの水および８．０ｇ（過剰）のヘキサフルオロリン酸カリウムを加えた。一晩攪拌した後に、懸濁した固体を、濾過により除去し、溶媒を、真空において除去した。残留物を、ジクロロメタン中に再び抽出し、懸濁した固体を、濾過により除去し、溶媒を、真空において除去し、生成物が、黄色の油状物（９．５ｇ、６４％）として残留した。
【０２９０】
特徴づけデータ
【表３２】
2010100630.tif 000155
【０２９１】
例１９
アミン付加ＩＬ３の合成および特徴づけ
【化１２３】
2010100630.tif 000156
磁石攪拌棒を装入し、還流凝縮器を取り付けた、２５０ｍＬのフラスコ中で、１０．０ｇ（８１ｍｍｏｌ）の１−ブチルイミダゾールを、１００ｍＬの無水エタノールに溶解した。攪拌した溶液に、１７．５ｇ（８１ｍｍｏｌ）の３−ブロモプロピルアミン臭化水素酸塩を加えた。溶液を、還流の下で１２時間攪拌し、この時間の間、大量の固体が沈殿した。次に、溶媒を、真空において除去し、粘着性の白色物質が残留した。この残留物を、１００ｍＬのメタノールに溶解／懸濁させ、次に３．２ｇの固体水酸化ナトリウムを、攪拌しながら小さい部分において加えた。４時間後、懸濁液を濾過し、溶媒を、真空において除去した。残留物を、アセトニトリル（１００ｍＬ）中に抽出し、２３．１ｇのリチウムビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミドを、固体として加えた。一晩攪拌した後に、溶媒を、真空において除去し、残留物を、３×５０ｍＬの７５／２５（ｖ／ｖ）ジクロロメタン／エタノールで抽出した。固体を、濾過により除去し、溶媒を、真空において除去し、黄色の液体（１７．３ｇ、４２％）が残留した。
【０２９２】
特徴づけデータ
【表３３】
2010100630.tif 000157
【０２９３】
例２０
アミン付加ＩＬ４の合成および特徴づけ
【化１２４】
2010100630.tif 000158
アルゴン雰囲気下で、磁石攪拌棒および還流凝縮器を備えた、１００ｍＬのフラスコ中で、５．０ｇ（１９ｍｍｏｌ）のトリフェニルホスフィンを、５０ｍＬの無水エタノールに溶解／懸濁させた。攪拌した溶液に、４．７ｇ（１９ｍｍｏｌ）のＮ−（３−ブロモプロピル）ジメチルアミン臭化水素酸塩を加えた。混合物を、２４時間還流下で攪拌し、この時間の後に、溶媒を、真空において除去した。固体を、５０ｍＬの水に溶解し、１Ｍの水性水酸化ナトリウムを、溶液ｐＨが８．５に達するまで加えた。次に、水溶液を、３×１００ｍＬのジクロロメタンで抽出した。有機抽出物を混ぜ合わせ、無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過した。真空における溶媒の除去により、無色のガラス（３．３ｇ）が得られた。このガラスを、６０ｍＬのアセトニトリルに溶解し、２．４ｇ（７．８ｍｍｏｌ）のリチウムビス（トリフルオロメチルスルホニル）アミドを、固体として加えた。溶液を、一晩攪拌し、この時間の後に、溶液を濾過し、溶媒を、真空において除去し、生成物が、粘性液体（４．７ｇ、全体で４２％）として残留した。
【０２９４】
特徴づけデータ
【表３４】
2010100630.tif 000159
【０２９５】
例２１
アミン付加ＩＬ５の合成および特徴づけ
【化１２５】
2010100630.tif 000160
磁石棒を備えた１００ｍＬのフラスコ中で、４．０ｇ（１４ｍｍｏｌ）のヨウ化１−ブチル−３−エチルイミダゾリウムを、５０ｍＬの無水エタノールに溶解した。攪拌した溶液に、２．１０ｇ（わずかに過剰）の固体タウリン化ナトリウム(sodium tauride)を加えた。溶液／懸濁液を、一晩攪拌し、この時間の後に、懸濁した固体を濾過し、溶媒を、濾液から、真空の下で除去した（１．５ｇ、３８％）。
【０２９６】
特徴づけデータ
【表３５】
2010100630.tif 000161
【０２９７】
例２２
アミン付加ＩＬ６の合成および特徴づけ
【化１２６】
2010100630.tif 000162
磁石棒を備えた１００ｍＬのフラスコ中で、１０．０ｇ（６０ｍｍｏｌ）のジラール試薬Ｔ［（カルボキシメチル）トリメチルアンモニウムクロリドヒドラジド］を、５０ｍＬの１：１（ｖ／ｖ）アセトニトリル／メタノールに溶解／懸濁させた。攪拌した溶液に、１７．１ｇ（６０ｍｍｏｌ）のリチウムビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミドを加えた。一晩攪拌した後に、溶媒を、真空において除去した。残留物を、２×５０ｍＬのアセトニトリルで抽出し、濾過し、蒸発させて、色ガラスが残留し、これは、放置した際に、低融点固体（２２．３ｇ、９０％）に固化する。
【０２９８】
特徴づけデータ
【表３６】
2010100630.tif 000163
【０２９９】
例２３
アミン付加ＩＬ７の合成および特徴づけ
【化１２７】
2010100630.tif 000164
磁石棒を備えた１００ｍＬのフラスコ中で、５．０ｇ（２９ｍｍｏｌ）の塩化（２−アミノエチル）−トリメチルアンモニウム塩酸塩を、５０ｍＬの脱イオン水に溶解／懸濁させた。水性相のｐＨを、ｐＨ８．５に、１Ｍの水酸化ナトリウムを加えることにより調整した。攪拌した溶液に、８．６ｇ（３０ｍｍｏｌ）のリチウムビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミドを加え、溶液を、一晩攪拌した。水を、真空において除去し、残留物を、３×１００ｍＬの１：１（ｖ／ｖ）無水エタノール／アセトニトリルで抽出した。混ぜ合わせた抽出物を、紙を通して濾過し、次にシリカゲルの短いプラグを通してフラッシュ濾過した。溶出液の蒸発により、生成物が、ガラス（７．９７ｇ、６６％）として得られた。
【０３００】
例２４
フルオロアルコールＩＬ１の合成および特徴づけ
【化１２８】
2010100630.tif 000165
攪拌棒および還流凝縮器を備えた、５０ｍＬのフラスコ中で、１．０ｇ（５．２ｍｍｏｌ）の３−ブロモ−１，１，１−トリフルオロ−２−プロパノールを、１５ｍＬのアセトニトリルに溶解した。この溶液に、１．５ｇ（わずかに過剰）の１，２−ジメチルイミダゾールを加えた。混合物を、還流の下で一晩攪拌し、この時間の後に、揮発性物質を、真空において除去した。残留物を、シリカゲル上で、アセトニトリルで開始し、増大する比率のメタノールで勾配方式で溶離させて、クロマトグラフィー分離した。所望の臭化物塩が、メタノールが豊富なフラクションと共に溶離した。真空における溶媒の除去により、黄色のガラス（０．４３ｇ、１７％）が残留した。その後、ガラスを、２５ｍＬのアセトンに溶解し、０．２０ｇ（０．８８ｍｍｏｌ）のトリフルオロ酢酸銀を、固体として加えた。溶液を、暗中で１時間攪拌し、この時間の後に、これを濾過し、溶媒を、真空において除去し、生成物が、黄色の油状物（０．５１ｇ、９８％）として残留した。
【０３０１】
特徴づけデータ
【表３７】
2010100630.tif 000166
【０３０２】
例２５
フルオロケトンＩＬ１の合成および特徴づけ
【化１２９】
2010100630.tif 000167
窒素雰囲気下で、磁石攪拌棒を備えた、１００ｍＬのフラスコ中で、５．０ｇ（２２．８ｍｍｏｌ）を、５０ｍＬのジクロロメタンに懸濁させた。攪拌した溶液に、３．４ｇ（２２．８ｍｍｏｌ）のテトラフルオロホウ酸トリメチルオキソニウムを加え、溶液／懸濁液を、一晩攪拌した。真空における揮発性物質の除去により、低融点固体（５．１５ｇ、９６％）が残留した。
【０３０３】
特徴づけデータ
【表３８】
2010100630.tif 000168
【０３０４】
例２６
ホスホラミドＩＬ１の合成および特徴づけ
【化１３０】
2010100630.tif 000169
磁石攪拌棒を装入し、還流凝縮器を取り付けた、２５０ｍＬのフラスコ中で、１０．０ｇ（８０ｍｍｏｌ）の１−（３−アミノプロピル）イミダゾールを、６０ｍＬのジクロロメタンに溶解した。これに、先ず、８．１ｇ（８０ｍｍｏｌ）のトリエチルアミン、続いて１８．９ｇの塩化ジフェニルホスフィン(diphenylphosphinic chloride)を加えた。溶液を、一晩還流に加熱し、この時間の後に、６０ｍＬのジエチルエーテルを加えた。沈殿した固体を、濾過により除去し、溶媒を、濾液から蒸発させた。残留物を、直ちに１００ｍＬのアセトニトリルに再び溶解し、１２．６ｇ（過剰）のヨードエタンを加えた。溶液を、５０℃で一晩攪拌し、この時間の後に、揮発性物質を、真空において除去し、黄色の油状物（１５．２ｇ）が残留した。
【表３９】
2010100630.tif 000170
【０３０５】
例２７
結合した酸性基を有する課題に特異的なイオン性液体（ＴＳＩＬ）の合成および使用
【化１３１】
2010100630.tif 000171
一般的考慮
出発物質Ｎ−ブチルイミダゾール、トリフェニルホスフィン、１，４−ブタン−スルトンおよび１，３−プロパン−スルトンを、Aldrichから購入した。出発物質トリブチルホスフィンを、Cytecから購入した。試薬トリフルオロメタンスルホン酸(Aldrich)、ｐ−トルエンスルホン酸水和物(Aldrich)およびビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド(Rhodia)を、商業的に購入した。溶媒トルエン(Fischer)、アセトニトリル(Fischer)およびジエチルエーテル(Fischer)を、さらに精製せずに用いた。１Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ）および１３Ｃ  ＮＭＲ（７５ＭＨｚ）スペクトルを、Ｄ２Ｏ中で、JOEL Eclipse 300 ＮＭＲ分光計上で得た。化学シフトを、百万あたりの部（ｐｐｍ、δ）において報告し、Ｄ２Ｏ（δ  ４．８８）を参照した。
【０３０６】
ＩＬ１の合成
１，４−ブタンスルトン（４７．８３ｇ、０．３５１３ｍｏｌ）のアセトニトリル溶液（１５０ｃｍ３）に、Ｎ−ブチルイミダゾール（４３．６２ｇ、０．３５１３ｍｏｌ）を、小さい部分において加えた。混合物を加熱し、還流において一晩攪拌した。溶液を、真空において濃縮し、固体双性イオンが得られた。双性イオンを、ジエチルエーテル（５０ｃｍ３）で洗浄し、真空において回転蒸発器で、続いて機械的ポンプを用いて一晩真空により乾燥した。９０．１５ｇの白色固体の双性イオン中間体が得られた（収率９８．６％）。乾燥した双性イオン（８．８５ｇ、０．０３３３２ｍｏｌ）の試料に、純粋なトリフルオロメタンスルホン酸（５．１０ｇ、０．０３３３２ｍｏｌ）を加えた。混合物を、室温において１２時間攪拌し、粘性のイオン性液体生成物（１３．９５ｇ、１００％）の生成がもたらされた。
【表４０】
2010100630.tif 000172
【０３０７】
ＩＬ２の合成
１，３−プロパンスルトン（１９．８０ｇ、０．１６２１ｍｏｌ）のトルエン溶液（２００ｃｍ３）中に、トリフェニルホスフィン（４２．５２ｇ、０．１６２１ｍｏｌ）を、小さい部分で加えた。混合物を加熱し、還流において一晩攪拌した。次に、溶液を、真空において回転蒸発器で濃縮した。得られた固体双性イオンを、ジエチルエーテル（５０ｃｍ３）で洗浄し、真空において回転蒸発器および機械的ポンプで乾燥した（６１．８８ｇ、９９．３％）。乾燥した双性イオンの部分（３．４７ｇ、０．００９０３４ｍｏｌ）を、固体ｐ−トルエンスルホン酸水和物（１．７２ｇ、０．００９０３４ｍｏｌ）を加えることにより酸性化した。固体の混合物を、４５℃〜６０℃に一晩加温し、攪拌し、固体の液化がもたらされた；液体の冷却の後に、堅いガラスが生成し、これは、８５℃より低い温度で再び液化する。最初の塩中の水の存在（塩の１ｍｏｌｅあたり７〜１０分子）により、一層低い融点が誘発される。無水塩は、１８０℃において溶融する。
【表４１】
2010100630.tif 000173
【０３０８】
ＩＬ３の合成
トリブチルホスフィン（トルエン中５０重量％、０．０２２２ｍｏｌ）のトルエン溶液（１０．０ｃｍ３）中に、１，３−プロパンスルトン（２．７２ｇ、０．０２２２７ｍｏｌ）を加えた。混合物を加熱し、還流において一晩、アルゴン雰囲気下で攪拌し、白色沈殿の生成がもたらされた。次に、この溶液を、真空において回転蒸発器で、この最初の容積の半分に濃縮し、次に固体生成物を、濾過により単離した。双性イオンを、ジエチルエーテル（５０ｃｍ３）で洗浄し、真空において回転蒸発器および機械的ポンプで乾燥した（４．７７ｇ、６６％）。乾燥した双性イオン（４．００ｇ、０．０１２３ｍｏｌ）を、固体ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド（３．４７ｇ、０．０１２３ｍｏｌ）を加えることにより酸性化した。混合物を、５０℃において一晩、アルゴンの下で加熱し、固体の液化およびいくらか粘性の液体（７．４５ｇ、９９％）の生成がもたらされ、これは、温和な（４５℃）加熱の際にも粘度が低下する。
【０３０９】
ＩＬを酸触媒として用いた酢酸エチルの合成
ＩＬ２（２．１ｇ、４．０ｍｍｏｌ）に、シリンジにより、酢酸（１．０ｍＬ、１７．５ｍｍｏｌ）およびエタノール（１．０ｍＬ、１７．５ｍｍｏｌ）を加えた。反応混合物を、１７５℃（外部温度）の最大温度に、４５分にわたり加温した。反応の完了が、最大温度に達する前に観察されたが、反応装備／ＩＬの再使用により、すべての揮発性成分を、次のサイクルの前に蒸留により除去することが必要になった。各々のサイクルと共に、反応の完了を、ＧＣ分析［ＧＣ（（ＨＰ−１メチルシロキサン；ｆ＝１．０ｍＬ／分）５０℃（２分）、１０℃／分、２７５℃（１０分））３．２１分（ＥｔＯＨ）、３．３７分（ＥｔＯＡｃ）、３．４２分（ＡｃＯＨ）］により確認し、得られた蒸留物の質量により立証した。各々のサイクルにより、純粋な酢酸エチルが、認識可能な量の出発物質を伴わずに（ＥｔＯＨ／ＥｔＯＡｃ共沸によるＥｔＯＨの＜７％の推定の損失（３１重量％および７８℃の沸点））得られた。二相混合物を分離し、生成物の生成に考慮したのは、３．３％の最大の水含量であった。
【０３１０】
参照による導入
本明細書中に引用したすべての特許明細書および刊行物を、参照により本明細書中に組み込む。
【０３１１】
等価物
当業者は、常習的を超えない実験を用いて、本明細書中に記載した本発明の特定の態様の多くの等価物を認識するか、または確認することができる。このような等価物は、特許請求の範囲により包含されることを意図する。
【図１】
2010100630.tif 000217
【手続補正書】
【提出日】平成22年1月6日(2010.1.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１：
【化１】
2010100630.tif 000218
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
【化２】
2010100630.tif 000219
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩。
【請求項２】
Ｒが、各々の存在について独立してアリールを表す、請求項１に記載の塩。
【請求項３】
Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表す、請求項１に記載の塩。
【請求項４】
Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表す、請求項１に記載の塩。
【請求項５】
Ｘ−が、四フッ化ホウ素、六フッ化リン、メタンスルホネート、トリフルオロメタンスルホネート、ベンゼンスルホネート、ｐ−トルエンスルホネート、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表す、請求項１に記載の塩。
【請求項６】
Ｘ−が、メタンスルホネート、トリフルオロメタンスルホネート、ベンゼンスルホネート、ｐ−トルエンスルホネート、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表す、請求項１に記載の塩。
【請求項７】
Ｘ−が、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表す、請求項１に記載の塩。
【請求項８】
Ｘ−が、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミドまたは（トリフルオロメタンスルホニル）（トリフルオロアセチル）アミドを表す、請求項１に記載の塩。
【請求項９】
Ｒが、各々の存在について独立してアリールを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表す、請求項１に記載の塩。
【請求項１０】
Ｒが、各々の存在について独立してアリールを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表す、請求項１に記載の塩。
【請求項１１】
Ｒが、各々の存在について独立してアリールを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、四フッ化ホウ素、六フッ化リン、メタンスルホネート、トリフルオロメタンスルホネート、ベンゼンスルホネート、ｐ−トルエンスルホネート、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表す、請求項１に記載の塩。
【請求項１２】
Ｒが、各々の存在について独立してアリールを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、メタンスルホネート、トリフルオロメタンスルホネート、ベンゼンスルホネート、ｐ−トルエンスルホネート、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表す、請求項１に記載の塩。
【請求項１３】
Ｒが、各々の存在について独立してアリールを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、ビス（メタンスルホニル）アミド、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、ビス（ベンゼンスルホニル）アミドまたはビス（ｐ−トルエンスルホニル）アミドを表す、請求項１に記載の塩。
【請求項１４】
Ｒが、各々の存在について独立してアリールを表し；Ｚが、−ＳＯ３Ｈまたは−Ｎ（Ｒ’）２を表し；Ｌが、（Ｃ（Ｒ３）２）ｎを表し；Ｘ−が、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミドまたは（トリフルオロメタンスルホニル）（トリフルオロアセチル）アミドを表す、請求項１に記載の塩。
【請求項１５】
二酸化炭素、硫化カルボニル、二酸化硫黄、三酸化硫黄、硫化水素または１つのカルボニル含有化合物を、１つの気体状または液体状混合物から除去する方法であって、１つの気体状または液体状混合物を、
１：
【化３】
2010100630.tif 000220
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
【化４】
2010100630.tif 000221
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩；
からなる群から選択された１つの塩に暴露する段階を含む、前記方法。
【請求項１６】
Ｚが、各々の存在について独立して−Ｎ（Ｒ’）２を表す、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
前記気体状または液体状混合物が、天然ガスである、請求項１５に記載の方法。
【請求項１８】
Ｚが、各々の存在について独立して−Ｎ（Ｒ’）２を表し；前記気体状または液体状混合物が、天然ガスである、請求項１５に記載の方法。
【請求項１９】
二酸化炭素、硫化カルボニル、二酸化硫黄、三酸化硫黄、硫化水素または１つのカルボニル含有化合物を、１つの第１の気体状または液体状混合物から１つの第２の気体状または液体状混合物に輸送する方法であって、１つの第１の気体状または液体状混合物を、
１：
【化５】
2010100630.tif 000222
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
【化６】
2010100630.tif 000223
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩；
からなる群から選択された１つの塩に暴露し、
その後前記塩を、１つの第２の気体状または液体状混合物に暴露し、これにより、二酸化炭素、硫化カルボニル、二酸化硫黄、三酸化硫黄、硫化水素または１つのカルボニル含有化合物を、前記第２の気体状または液体状混合物に輸送する段階を含む、前記方法。
【請求項２０】
Ｚが、各々の存在について独立して−Ｎ（Ｒ’）２を表す、請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】
前記塩が、１つの半透膜内に含まれる、請求項１９に記載の方法。
【請求項２２】
Ｚが、各々の存在について独立して−Ｎ（Ｒ’）２を表し；前記塩が、１つの半透膜内に含まれる、請求項１９に記載の方法。
【請求項２３】
１つのアルケン、アルキンまたは一酸化炭素を１つの混合物から除去する方法であって、１つの混合物を、１つの遷移金属と：
１：
【化７】
2010100630.tif 000224
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
【化８】
2010100630.tif 000225
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩；
からなる群から選択された１つの塩とから形成された１つの錯体に暴露する段階を含む、前記方法。
【請求項２４】
Ｚが、各々の存在について独立してアルケニルまたはアルキニルを表し；遷移金属が、周期表の８〜１１族から選択されている、請求項２３に記載の方法。
【請求項２５】
Ｚが、各々の存在について独立してアルケニルまたはアルキニルを表し；遷移金属が、鉄、コバルト、ニッケル、銅、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、銀、イリジウムまたは白金である、請求項２３に記載の方法。
【請求項２６】
Ｚが、各々の存在について独立してアルケニルまたはアルキニルを表し；遷移金属が、銀である、請求項２３に記載の方法。
【請求項２７】
１つの生成物を得るための１つの酸で触媒された化学反応を触媒する方法であって、１つの反応体混合物を：
１：
【化９】
2010100630.tif 000226
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
【化１０】
2010100630.tif 000227
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩；
からなる群から選択された１つの塩に暴露する段階を含む、前記方法。
【請求項２８】
Ｚが、各々の存在について独立して−ＳＯ３Ｈを表す、請求項２７に記載の方法。
【請求項２９】
前記反応体混合物が、１つのアルコールを含み；前記生成物が、１つのエーテルである、請求項２７に記載の方法。
【請求項３０】
前記反応体混合物が、１つのアルコールおよび１つのカルボン酸を含み；前記生成物が、１つのエステルである、請求項２７に記載の方法。
【請求項３１】
前記反応体混合物が、１つのエステルおよび水を含み；前記生成物が、１つのカルボン酸である、請求項２７に記載の方法。
【請求項３２】
前記反応体混合物が、１つのアルコールおよび１つの第１のエステルを含み；前記生成物が、１つの第２のエステルである、請求項２７に記載の方法。
【請求項３３】
前記反応体混合物が、１つの１，２−ジオールを含み；前記生成物が、１つのケトンである、請求項２７に記載の方法。
【請求項３４】
前記反応体混合物が、１つのアルコールを含み；前記生成物が、１つのアルケンである、請求項２７に記載の方法。
【請求項３５】
前記反応体混合物が、１つの第１のアルケンを含み；前記生成物が、１つの第２のアルケンである、請求項２７に記載の方法。
【請求項３６】
前記反応混合物が、１つの第１の芳香族化合物および１つのニトロ化剤を含み；前記生成物が、１つのニトロ基を含む１つの第２の芳香族化合物である、請求項２７に記載の方法。
【請求項３７】
前記反応混合物が、１つの第１の芳香族化合物および１つのアルコールを含み；前記生成物が、１つのアルキル基を含む１つの第２の芳香族化合物である、請求項２７に記載の方法。
【請求項３８】
前記反応混合物が、１つの第１の芳香族化合物および１つのカルボン酸を含み；前記生成物が、１つのアシル基を含む１つの第２の芳香族化合物である、請求項２７に記載の方法。
【請求項３９】
Ｚが、各々の存在について独立して−ＳＯ３Ｈを表し；前記反応体混合物が、１つのアルコールを含み；前記生成物が、１つのエーテルである、請求項２７に記載の方法。
【請求項４０】
Ｚが、各々の存在について独立して−ＳＯ３Ｈを表し；前記反応体混合物が、１つのアルコールおよび１つのカルボン酸を含み；前記生成物が、１つのエステルである、請求項２７に記載の方法。
【請求項４１】
Ｚが、各々の存在について独立して−ＳＯ３Ｈを表し；前記反応体混合物が、１つのエステルおよび水を含み；前記生成物が、１つのカルボン酸である、請求項２７に記載の方法。
【請求項４２】
Ｚが、各々の存在について独立して−ＳＯ３Ｈを表し；前記反応体混合物が、１つのアルコールおよび１つの第１のエステルを含み；前記生成物が、１つの第２のエステルである、請求項２７に記載の方法。
【請求項４３】
Ｚが、各々の存在について独立して−ＳＯ３Ｈを表し；前記反応体混合物が、１つの１，２−ジオールを含み；前記生成物が、１つのケトンである、請求項２７に記載の方法。
【請求項４４】
Ｚが、各々の存在について独立して−ＳＯ３Ｈを表し；前記反応体混合物が、１つのアルコールを含み；前記生成物が、１つのアルケンである、請求項２７に記載の方法。
【請求項４５】
Ｚが、各々の存在について独立して−ＳＯ３Ｈを表し；前記反応体混合物が、１つの第１のアルケンを含み；前記生成物が、１つの第２のアルケンである、請求項２７に記載の方法。
【請求項４６】
Ｚが、各々の存在について独立して−ＳＯ３Ｈを表し；前記反応体混合物が、１つの第１の芳香族化合物および１つのニトロ化剤を含み；前記生成物が、１つのニトロ基を含む１つの第２の芳香族化合物である、請求項２７に記載の方法。
【請求項４７】
Ｚが、各々の存在について独立して−ＳＯ３Ｈを表し；前記反応体混合物が、１つの第１の芳香族化合物および１つのアルコールを含み；前記生成物が、１つのアルキル基を含む１つの第２の芳香族化合物である、請求項２７に記載の方法。
【請求項４８】
Ｚが、各々の存在について独立して−ＳＯ３Ｈを表し；前記反応体混合物が、１つの第１の芳香族化合物および１つのカルボン酸を含み；前記生成物が、１つのアシル基を含む１つの第２の芳香族化合物である、請求項２７に記載の方法。
【請求項４９】
１つの生成物を得るための１つの塩基で触媒された化学反応を触媒する方法であって、１つの反応体混合物を：
１：
【化１１】
2010100630.tif 000228
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
【化１２】
2010100630.tif 000229
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩；
からなる群から選択された１つの塩に暴露する段階を含む、前記方法。
【請求項５０】
Ｚが、各々の存在について独立して−Ｎ（Ｒ’）２を表す、請求項４９に記載の方法。
【請求項５１】
１つの溶液の製造方法であって、１つの溶質と１つの溶媒とを混ぜ合わせて、１つの溶液を得る段階を含み、ここで、前記溶媒を：
１：
【化１３】
2010100630.tif 000230
式中、
Ｒは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ’は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ”は、各々の存在について独立して、Ｈ、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ８を表し；
Ｒ３は、各々の存在について独立して、Ｈ、Ｆまたはアルキルを表し；
【化１４】
2010100630.tif 000231
Ａｒは、各々の存在について独立して、アリールまたはヘテロアリールを表し；
Ｊは、各々の存在について独立して、Ｏ、Ｓ、ＮＲ’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し；
Ｘ−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス（アルキルスルホニル）アミド、ビス（フルオロアルキルスルホニル）アミド、ビス（アリールスルホニル）アミド、（フルオロアルキルスルホニル）（フルオロアルキルカルボニル）アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または１つの陽イオン交換樹脂の１つの陰イオン性部位を表し；
Ｒ８は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し；
ｍは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表し；
ｎは、各々の存在について独立して、両端を含む１〜１０の範囲内の整数を表す、
により表される塩；
からなる群から選択する、前記方法。