(57)【要約】【課題】微小サイズの異物が排除された状況下でナノインプリント用のテンプレートを洗浄することが可能なテンプレート洗浄方法、洗浄システム、及び洗浄装置を提供する。【解決手段】ナノインプリント用のテンプレート（３０１）を洗浄するテンプレート洗浄装置（１０１）であって、前記テンプレート洗浄装置は、ウエハ（２０１）及び前記テンプレートを収容するためのチャンバ（１１１）と、前記チャンバ内に設けられ、前記ウエハ及び前記テンプレートを設置可能なステージ（１３１）と、前記ウエハ及び前記テンプレートを前記チャンバ内に搬送可能な搬送アーム（１２３）とを備える。【選択図】図１
2010135368.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ナノインプリント用のテンプレートを洗浄するテンプレート洗浄方法であって、
チャンバ内に設けられたステージ上にウエハを設置し、
前記ステージ上に設置された前記ウエハを洗浄し、
前記ウエハの洗浄後に、前記ウエハ上の異物検査を行い、
前記異物検査後に、前記ステージ上に前記テンプレートを設置し、
前記ステージ上に設置された前記テンプレートを洗浄する、
ことを特徴とするテンプレート洗浄方法。
【請求項２】
前記ウエハ及び前記テンプレートを洗浄する際には、前記ウエハ及び前記テンプレートを回転させ、前記ウエハ及び前記テンプレートの表面に薬液を供給することで、前記ウエハ及び前記テンプレートを洗浄し、
前記ウエハ及び前記テンプレートの前記洗浄では、前記ウエハ及び前記テンプレートを、同一の回転軸を中心に回転させる、
ことを特徴とする請求項１に記載のテンプレート洗浄方法。
【請求項３】
前記テンプレートには、レジスト充填幅が５０ｎｍ以下のパターンが形成されていることを特徴とする請求項１又は２に記載のテンプレート洗浄方法。
【請求項４】
ナノインプリント用のテンプレートを洗浄するテンプレート洗浄システムであって、
ウエハ及び前記テンプレートを収容するためのチャンバと、
前記チャンバ内に設けられ、前記ウエハ及び前記テンプレートを設置可能なステージと、
前記ウエハ及び前記テンプレートを前記チャンバ内に搬送可能な搬送アームと、
前記ウエハ上の異物検査を行うための異物検査装置と、
を備えることを特徴とするテンプレート洗浄システム。
【請求項５】
ナノインプリント用のテンプレートを洗浄するテンプレート洗浄装置であって、
ウエハ及び前記テンプレートを収容するためのチャンバと、
前記チャンバ内に設けられ、前記ウエハ及び前記テンプレートを設置可能なステージと、
前記ウエハ及び前記テンプレートを前記チャンバ内に搬送可能な搬送アームと、
を備えることを特徴とするテンプレート洗浄装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、テンプレート洗浄方法、洗浄システム、及び洗浄装置に関し、例えば、ナノインプリント用のテンプレートの洗浄に使用されるものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、半導体デバイスの微細化が進んでおり、３０ｎｍ以下の極微細構造のデバイスを製造する必要が生じている。その際、ナノインプリント技術を採用する場合には、テンプレートのレジスト充填幅と等倍のパーティクル（異物）を対象とする洗浄プロセスが必要になる。
【０００３】
現在、テンプレート上の欠陥を検査可能な欠陥検査装置は、検出可能な最小サイズが５０ｎｍ程度である。一方、ナノインプリント技術で５０ｎｍ以下、例えば、１０〜４０ｎｍ程度の極微細構造のデバイスを製造する場合には、１０〜４０ｎｍ程度の微小サイズの異物をテンプレート上から洗浄、除去する必要がある。しかしながら、現在の欠陥検査装置では、このような微小サイズの異物を検出することができない。
【０００４】
従って、テンプレートを洗浄する際には、このような微小サイズの異物を排除したテンプレート洗浄装置で洗浄する必要がある。現在の欠陥検査装置では、このような微小サイズの異物が欠陥としてテンプレート上に付着していても検出できないからである。
【０００５】
なお、特許文献１には、ナノインプリント技術を用いたパターン形成装置及び形成方法の例が記載されている。
【特許文献１】特開２００８−２７０６８６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、微小サイズの異物が排除された状況下でナノインプリント用のテンプレートを洗浄することが可能なテンプレート洗浄方法、洗浄システム、及び洗浄装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の一の態様は例えば、ナノインプリント用のテンプレートを洗浄するテンプレート洗浄方法であって、チャンバ内に設けられたステージ上にウエハを設置し、前記ステージ上に設置された前記ウエハを洗浄し、前記ウエハの洗浄後に、前記ウエハ上の異物検査を行い、前記異物検査後に、前記ステージ上に前記テンプレートを設置し、前記ステージ上に設置された前記テンプレートを洗浄する、ことを特徴とするテンプレート洗浄方法である。
【０００８】
本発明の別の態様は例えば、ナノインプリント用のテンプレートを洗浄するテンプレート洗浄システムであって、ウエハ及び前記テンプレートを収容するためのチャンバと、前記チャンバ内に設けられ、前記ウエハ及び前記テンプレートを設置可能なステージと、前記ウエハ及び前記テンプレートを前記チャンバ内に搬送可能な搬送アームと、前記ウエハ上の異物検査を行うための異物検査装置と、を備えることを特徴とするテンプレート洗浄システムである。
【０００９】
本発明の別の態様は例えば、ナノインプリント用のテンプレートを洗浄するテンプレート洗浄装置であって、ウエハ及び前記テンプレートを収容するためのチャンバと、前記チャンバ内に設けられ、前記ウエハ及び前記テンプレートを設置可能なステージと、前記ウエハ及び前記テンプレートを前記チャンバ内に搬送可能な搬送アームと、を備えることを特徴とするテンプレート洗浄装置である。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、微小サイズの異物が排除された状況下でナノインプリント用のテンプレートを洗浄することが可能なテンプレート洗浄方法、洗浄システム、及び洗浄装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
本発明の実施形態を、図面に基づいて説明する。
【００１２】
（第１実施形態）
図１は、第１実施形態のテンプレート洗浄装置１０１の構成を示す側方断面図である。
【００１３】
図１のテンプレート洗浄装置１０１は、ナノインプリント用のテンプレートを洗浄するための装置であるが、ウエハを洗浄することも可能である。図１では、ウエハが２０１で示され、ナノインプリント用のテンプレートが３０１で示されている。本実施形態では、微小サイズの異物が排除された状況下でテンプレート３０１を洗浄すべく、ウエハ２０１の洗浄後にテンプレート３０１の洗浄を行う。
【００１４】
図２は、第１実施形態のテンプレート洗浄システム４０１の構成を示すブロック図である。図２のテンプレート洗浄システム４０１は、図１のテンプレート洗浄装置１０１と、異物検査装置１０２とを備える。異物検査装置１０２は、ウエハ２０１上の異物検査を行う装置である。本実施形態において、異物検査装置１０２は、洗浄前及び洗浄後のウエハ２０１上の異物検査用に使用される。
【００１５】
ここで、テンプレート上の欠陥を検査可能な欠陥検査装置、及びウエハ上の異物を検査可能な異物検査装置について説明する。
【００１６】
現在、欠陥検査装置は、検出可能な欠陥の最小サイズが５０ｎｍ程度であるのに対し、異物検査装置は、３０ｎｍ程度の異物を検出可能である。一方、ナノインプリント技術で５０ｎｍ以下、例えば、１０〜４０ｎｍ程度の極微細構造のデバイスを製造する際には、１０〜４０ｎｍ程度の微小サイズの異物をテンプレート上から洗浄、除去する必要がある。このような微小サイズの異物は、欠陥検査装置では検出不可能であるが、異物検査装置であれば検出可能である。
【００１７】
そこで、本実施形態では、テンプレート洗浄装置１０１でテンプレート３０１を洗浄する際には、事前に、テンプレート洗浄装置１０１でウエハ２０１を洗浄する。次に、異物検査装置１０２で、洗浄後のウエハ２０１上の異物検査を行う。そして、ウエハ２０１上に、５０ｎｍ以下、例えば、３０ｎｍ程度の微小サイズの欠陥が存在するか否かを確認する。上述のように、異物検査装置１０２であれば、このような微小サイズの欠陥を検出可能である。そして、欠陥数が基準値以下であれば、チャンバ１１１（図１参照）内は清浄であると判断し、テンプレート洗浄装置１０１でテンプレート３０１の洗浄を行う。
【００１８】
以下、図１に戻り説明を続ける。
【００１９】
図１のテンプレート洗浄装置１０１は、チャンバ１１１と、スピンチャック１２１と、複数本のノズル１２２と、搬送アーム１２３とを備える。
【００２０】
チャンバ１１１は、ウエハ２０１及びテンプレート３０１を収容可能である。ウエハ２０１を洗浄する際には、チャンバ１１１内にウエハ２０１が収容され、テンプレート３０１を洗浄する際には、チャンバ１１１内にテンプレート３０１が収容される。
【００２１】
スピンチャック１２１は、ステージ１３１と、スピン軸１３２と、複数のチャックピン１３３と、上下可動軸１３４と、突き上げボート１３５と、回転用モータ１３６と、上下駆動用モータ１３７とを有する。
【００２２】
ステージ１３１は、チャンバ１１１内に設けられている。ステージ１３１には、ウエハ２０１及びテンプレート３０１を設置可能である。図１に示すように、ステージ１３１は平坦なステージ面Ｓを有し、ステージ面Ｓの中央には穴Ｈが設けられている。ウエハ２０１は、ステージ面Ｓ上に設置され、テンプレート３０１は、穴Ｈの内部に設置される。
【００２３】
ステージ１３１の裏面には、スピン軸１３２が取り付けられている。スピン軸１３２には、回転用モータ１３６が装着されており、回転用モータ１３６が回転すると、ステージ１３１及びスピン軸１３２が、回転軸Ａを中心に回転する。これにより、ステージ１３１上に設置されたウエハ２０１及びテンプレート３０１が、回転軸Ａを中心に回転する。このように、スピンチャック１２１は、ウエハ２０１及びテンプレート３０１を、同一の回転軸Ａを中心に回転させることができる。
【００２４】
ステージ１３１の表面には、ウエハ２０１を挟持するための複数のチャックピン１３３が設けられている。チャックピン１３３の個数はいくつでもよいが、本実施形態では６個とする（図３参照）。図３は、ステージ１３１上に設置されたウエハ２０１を示す上面図である。
【００２５】
スピンチャック１２１には、ステージ１３１及びスピン軸１３２を上下方向に貫通する上下可動軸１３４が設けられている。上下可動軸１３４は、図１に示すように、穴Ｈを貫通する位置に設けられている。上下可動軸１３４の上端には、ウエハ２０１及びテンプレート３０１を上下方向に動かすための突き上げボート１３５が取り付けられている。
【００２６】
上下可動軸１３４にはさらに、上下駆動用モータ１３７が装着されており、上下駆動用モータ１３７が動作すると、上下可動軸１３４及び突き上げボート１３５が上下方向に動く。これにより、突き上げボート１３５に支持されるウエハ２０１及びテンプレート３０１が上下方向に動く。これにより、スピンチャック１２１は、ウエハ２０１及びテンプレート３０１をステージ１３１上に設置することができる（図４及び図５参照）。図４及び図５は、ウエハ２０１及びテンプレート３０１がステージ１３１上に設置される様子を示す。
【００２７】
図１には、複数本のノズル１２２として、第１及び第２のノズル１２２Ａ及びＢが示されている。
【００２８】
第１のノズル１２２Ａは、ステージ１３１上に設置されたウエハ２０１及びテンプレート３０１の表面に、薬液を供給するためのノズルである。この薬液は、ウエハ２０１及びテンプレート３０１を洗浄する際に使用される。テンプレート洗浄装置１０１は、ウエハ２０１及びテンプレート３０１を洗浄する際、スピンチャック１２１によりこれらを回転させ、第１のノズル１２２Ａによりこれらの表面に薬液を供給する。これにより、ウエハ２０１及びテンプレート３０１が洗浄される。ウエハ２０１及びテンプレート３０１は、回転軸Ａ上に位置する回転中心のまわりを回転し、薬液は、回転中心付近に供給される。
【００２９】
第２のノズル１２２Ｂは、ステージ１３１上に設置されたウエハ２０１及びテンプレート３０１の表面に、純水を供給するためのノズルである。この純水は、ウエハ２０１及びテンプレート３０１上の薬液を除去する際に使用される。テンプレート洗浄装置１０１は、ウエハ２０１及びテンプレート３０１上の薬液を除去する際、スピンチャック１２１によりこれらを回転させ、第２のノズル１２２Ｂによりこれらの表面に純水を供給する。これにより、ウエハ２０１及びテンプレート３０１上の薬液が除去される。ウエハ２０１及びテンプレート３０１は、回転軸Ａ上に位置する回転中心のまわりを回転し、純水は、回転中心付近に供給される。
【００３０】
なお、本実施形態では、ウエハ２０１の洗浄とテンプレート３０１の洗浄に、同じ薬液が使用される。この薬液は、ウエハ２０１の洗浄時にもテンプレート３０１の洗浄時にも、第１のノズル１２２Ａから供給される。この薬液の例としては、硫酸と過酸化水素水の混合溶液（ＳＰＭ）が挙げられる。
【００３１】
搬送アーム１２３は、ウエハ２０１及びテンプレート３０１をチャンバ１１１内に搬送可能である。搬送アーム１２３の構成については、図６を参照して説明する。
【００３２】
図６は、搬送アーム１２３の構成を示す上面図である。搬送アーム１２３は、図６に示すように、アーム本体１４１と、複数の支持部材１４２と、複数のチャックピン１４３とを有する。
【００３３】
支持部材１４２は、アーム本体１４１に直接的又は間接的に取り付けられている。支持部材１４２は、搬送対象のウエハ２０１及びテンプレート３０１を支持するために使用される。
【００３４】
図６には、支持部材１４２として、第１から第４の支持部材１４２ＡからＤが示されている。第１及び第２の支持部材１４２Ａ及びＢは、アーム本体１４１に平行に取り付けられている。また、第３及び第４の支持部材１４２Ｃ及びＤは、それぞれ第１及び第２の支持部材１４２Ａ及びＢの先端に取り付けられており、これらの先端にＶ字型に取り付けられている。
【００３５】
チャックピン１４３は、支持部材１４２の上面に設けられている。チャックピン１４３は、支持部材１４２に支持されるウエハ２０１及びテンプレート３０１を挟持するために使用される。
【００３６】
図６には、チャックピン１４３として、第１から第４のチャックピン１４３ＡからＤが示されている。第１から第４のチャックピン１４３ＡからＤはそれぞれ、第１から第４の支持部材１４２ＡからＤに設けられている。
【００３７】
図６では、第１の支持部材１４２Ａと第２の支持部材１４２Ｂとの間の隙間が、Ｇで示されている。本実施形態では、隙間Ｇの幅を、突き上げボート１３５の上面の幅（直径）よりも広く設定する。これにより、テンプレート洗浄装置１０１は、隙間Ｇの間に突き上げボート１３５を差し込み、ウエハ２０１及びテンプレート３０１を、搬送アーム１２３から突き上げボート１３５に移し替えることができる。
【００３８】
ここで、ウエハ２０１及びテンプレート３０１の取り合い処理について説明する。
【００３９】
図７から図１０は、ウエハ２０１の取り合い処理の流れを説明するための図である。なお、図７(Ａ)から図１０(Ａ)は、搬送アーム１２３の上面図に相当し、図７(Ｂ)から図１０(Ｂ)は、テンプレート洗浄装置１０１の側方断面図に相当する。
【００４０】
まず、図７に示すように、搬送アーム１２３が、ウエハ２０１を、ステージ１３１の上方まで搬送する。図７には、ウエハ２０１が、支持部材１４２により支持され、チャックピン１４３により挟持されている様子が示されている。
【００４１】
次に、図８に示すように、上下可動軸１３４及び突き上げボート１３５が上昇し、突き上げボート１３５が隙間Ｇに入り込む。また、チャックピン１４３が緩められ、チャックピン１４３による挟持から、ウエハ２０１が解放される。
【００４２】
次に、図９に示すように、搬送アーム１２３が、ウエハ２０１をステージ１３１の上方に残し、ステージ１３１の遠方に後退する。
【００４３】
次に、図１０に示すように、上下可動軸１３４及び突き上げボート１３５がウエハ２０１と共に下降し、ウエハ２０１がステージ面Ｓに到達する。このようにして、ウエハ２０１がステージ１３１上に設置される。
【００４４】
図１１から図１４は、テンプレート３０１の取り合い処理の流れを説明するための図である。なお、図１１(Ａ)から図１４(Ａ)は、搬送アーム１２３の上面図に相当し、図１１(Ｂ)から図１４(Ｂ)は、テンプレート洗浄装置１０１の側方断面図に相当する。
【００４５】
図１１から図１４までの処理の流れは、図７から図１０までの処理の流れと同様である。図１１から図１４までの処理の結果、テンプレート３０１が、穴Ｈの内部に到達する。このようにして、テンプレート３０１がステージ１３１上に設置される。
【００４６】
ここで、図１に戻り、ウエハ２０１及びテンプレート３０１について説明する。
【００４７】
ウエハ２０１は例えば、３００ｍｍ径のシリコンウエハとする。但し、ウエハ２０１のサイズや材質は、その他のサイズや材質でも構わない。ウエハ２０１は例えば、シリコン酸化膜が主面に形成されたシリコンウエハでも構わない。なお、本実施形態では、ウエハ２０１として、パターンの形成されていないウエハを使用する。
【００４８】
テンプレート３０１は、上述の通り、ナノインプリント用のテンプレートである。テンプレート３０１は例えば、ガラス（シリコン酸化物）により形成される。なお、テンプレート３０１の形状については、図１５を参照して説明する。
【００４９】
図１５は、テンプレート３０１の形状を説明するための図である。図１５(Ａ)は、テンプレート３０１の形状を示す斜視図であり、図１５(Ｂ)は、テンプレート３０１の形状を示す拡大側方断面図である。
【００５０】
本実施形態のテンプレート３０１は、図１５(Ａ)に示すように、正方形のテンプレート面を有する。テンプレート３０１のテンプレート面のサイズは、６５ｍｍ×６５ｍｍとし、テンプレート３０１の厚さは、６．４ｍｍとする。また、テンプレート３０１は、１５０ｍｍ×１５０ｍｍのフォトマスクを、４個にダイシングすることで作製される。
【００５１】
また、本実施形態のテンプレート３０１には、図１５(Ｂ)に示すように、ナノインプリント用のパターンが形成されている。図１５(Ｂ)には、そのようなパターンの一例が示されている。本実施形態では、テンプレート３０１に、レジスト充填幅が５０ｎｍ以下のパターンが形成されているとする。図１５(Ｂ)では、レジスト充填幅の一例がＷで示されている。
【００５２】
以上のように、本実施形態では、テンプレート洗浄装置１０１内のチャンバ１１１が、ウエハ２０１及びテンプレート３０１を洗浄可能なように構成されている。これにより、本実施形態では、テンプレート洗浄装置１０１でウエハ２０１を洗浄し、異物検査装置１０２でウエハ２０１上の異物検査を行うことで、洗浄を行うシステムが清浄であるか否かを確認することができる。即ち、洗浄時に微小サイズの異物がテンプレート３０１上に付着する可能性が高いか否かを確認することができる。これにより、本実施形態では、５０ｎｍ以下の微小サイズの異物による逆汚染を気にすることなく、テンプレート３０１を洗浄することが可能になる。なお、本実施形態のチャンバ１１１は、枚様式洗浄チャンバに相当する。
【００５３】
また、本実施形態では、ステージ１３１は、ウエハ２０１及びテンプレート３０１を設置可能なように構成されている。また、本実施形態では、搬送アーム１２３は、ウエハ２０１及びテンプレート３０１を搬送可能なように構成されている。これにより、本実施形態では、ウエハ２０１及びテンプレート３０１を、同一のチャンバ１１１内に設置及び搬送することが可能となっている。
【００５４】
また、本実施形態では、スピンチャック１２１は、ウエハ２０１及びテンプレート３０１を、同一の回転軸Ａを中心に回転させることができる。また、本実施形態では、ノズル１２２は、ウエハ２０１及びテンプレート３０１の表面に、同一の薬液を供給することができる。これにより、本実施形態では、ウエハ２０１とテンプレート３０１を、物理的、化学的に同一の洗浄条件で洗浄することが可能となる。
【００５５】
本実施形態では、ウエハ２０１に関する検査結果をテンプレート３０１が適切に洗浄されるか否かの判断基準とするため、ウエハ２０１の洗浄条件とテンプレート３０１の洗浄条件は、なるべく共通させることが望ましい。そのため、本実施形態では、上記のように、回転軸や薬液を共通させることが望ましい。また、ステージ１３１やノズル１２２が共通であることは、例えば、薬液の供給角度や供給速度を共通化することを可能にする。
【００５６】
また、本実施形態では、テンプレート３０１は、ステージ１３１に設けられた穴Ｈの内部に設置される。本実施形態では、穴Ｈの平面形状は、テンプレート３０１の平面形状とほぼ同じ形状に設定し、穴Ｈの深さは、テンプレート３０１の厚さとほぼ同じ値に設定する。よって、テンプレート３０１を穴Ｈの内部に設置すると、穴Ｈがほぼ完全に埋まり、ステージ１３１の上面がほぼ平坦になる。これにより、ステージ１３１の上面の形状が、ウエハ２０１の上面の形状と同様に平坦になり、洗浄条件が更に共通化される。
【００５７】
また、本実施形態では、テンプレート３０１が、ガラス（シリコン酸化物）で形成されている場合には、ウエハ２０１は、シリコン酸化膜が主面に形成されたシリコンウエハとすることが望ましい。これにより、ウエハ２０１の表面の材質とテンプレート３０１の材質とが共通化され、これらの濡れ性が同じになる。これにより、洗浄条件が更に共通化される。このように、ウエハ２０１は、テンプレート３０１の形成材料と同じ材料が主面に形成されたウエハとすることが望ましい。
【００５８】
また、本実施形態におけるテンプレート洗浄は、特に、レジスト充填幅が５０ｎｍ以下のパターンを有するテンプレート３０１に有効である。本実施形態によれば、欠陥検査装置では検出不可能な微小サイズの異物に対処することが可能であるからである。なお、本実施形態のテンプレート洗浄装置１０１及びテンプレート洗浄システム４０１は、レジスト充填幅が５０ｎｍ以下のパターンを有していないテンプレート３０１の洗浄に使用しても構わない。
【００５９】
本実施形態では、ステージ１３１及びスピン軸１３２の回転により、ウエハ２０１を回転させる。しかしながら、本実施形態では、上下可動軸１３４及び突き上げボート１３５の回転により、ウエハ２０１を回転させても構わない。この場合、スピンチャック１２１に、上下可動軸１３４及び突き上げボート１３５を回転させる回転用モータを設ける必要がある。
【００６０】
同様に、本実施形態では、上下可動軸１３４及び突き上げボート１３５の回転により、テンプレート３０１を回転させても構わない。この場合、穴Ｈの平面形状は、テンプレート３０１が回転できるような形状に設定する必要がある。また、この場合には、ステージ１３１に穴Ｈを設けなくても構わない。これは、ステージ１３１及びスピン軸１３２でテンプレート３０１を回転させる場合にも同様である。
【００６１】
図１６は、第１実施形態のテンプレート洗浄方法を示すフローチャートである。以下の文中に登場する参照符号については、図１及び図２を参照されたい。
【００６２】
まず、テンプレート洗浄装置１０１でウエハ２０１を洗浄する前に、異物検査装置１０２で、ウエハ２０１上の異物検査を行う（ステップＳ１）。これにより、ウエハ２０１の単位面積あたりの欠陥数が計測される。
【００６３】
次に、ウエハ２０１を、搬送アーム１２３によりチャンバ１１１内に搬入し、ステージ１３１上に設置する（ステップＳ２）。次に、ステージ１３１上に設置されたウエハ２０１を、薬液を用いて洗浄する（ステップＳ３）。続いて、ウエハ２０１上の薬液を、純水を用いて除去する。次に、ウエハ２０１を、搬送アーム１２３によりチャンバ１１１内から搬出する（ステップＳ４）。このようにして、ウエハ２０１の洗浄が完了する。
【００６４】
次に、テンプレート洗浄装置１０１でウエハ２０１を洗浄した後に、異物検査装置１０２で、ウエハ２０１上の異物検査を行う（ステップＳ５）。これにより、ウエハ２０１の単位面積あたりの欠陥数が計測される。
【００６５】
次に、Ｓ１の検査結果及び／又はＳ５の検査結果に基づいて、洗浄を行うシステムが清浄であるか否かを判断する（ステップＳ６）。Ｓ６では例えば、Ｓ５の欠陥数が所定値以下であるか否かに基づいて、清浄性を判断してもよいし、Ｓ５の欠陥数をＳ１の欠陥数で割った値が所定値以下であるか否かに基づいて、清浄性を判断してもよい。なお、後者の場合には、Ｓ１の検査は不実施としてもよい。
【００６６】
次に、システムが清浄であると判断された場合には、テンプレート３０１の洗浄を行う（ステップＳ７〜Ｓ９）。一方、システムが清浄でないと判断された場合には、テンプレート３０１の洗浄は行わない（ステップＳ１０）。
【００６７】
テンプレート３０１の洗浄ではまず、テンプレート３０１を、搬送アーム１２３によりチャンバ１１１内に搬入し、ステージ１３１上に設置する（ステップＳ７）。次に、ステージ１３１上に設置されたテンプレート３０１を、薬液を用いて洗浄する（ステップＳ８）。続いて、テンプレート３０１上の薬液を、純水を用いて除去する。次に、テンプレート３０１を、搬送アーム１２３によりチャンバ１１１内から搬出する（ステップＳ９）。このようにして、テンプレート３０１の洗浄が完了する。
【００６８】
なお、本洗浄方法では、システムが清浄でないと判断された場合には、Ｓ５の異物検査をもう一度行うようにしてもよい。この場合、Ｓ６の判断処理ももう一度行う。そして、清浄であると判断された場合には、洗浄を行い、再び清浄でないと判断された場合には、洗浄を行わない。
【００６９】
また、本洗浄方法では、システムが清浄でないと判断された場合には、種々の対策を講じることが考えられる。例えば、テンプレート洗浄装置１０１のフィルタを交換することが考えられる。
【００７０】
また、本洗浄方法では、Ｓ５の異物検査は異物検査装置１０２が行うものの、Ｓ６の判断処理は人間が行うものと想定されている。しかしながら、Ｓ６の判断処理は、異物検査装置１０２が自動で行うことにしてもよい。
【００７１】
Ｓ６の判断処理を自動化したテンプレート洗浄システム４０１の例を、図１７に示す。図１７のテンプレート洗浄システム４０１は、テンプレート洗浄装置１０１と、異物検査装置１０２とを備える。そして、異物検査装置１０２は、Ｓ５の異物計測を行う異物検査部４１１と、異物計測を通じて得られた値を基準値と比較する比較部４１２と、この比較結果に基づいてＳ６の判断処理を行う判断部４１３とを備える。異物計測を通じて得られた値の例としては、Ｓ５の欠陥数や、Ｓ５の欠陥数をＳ１の欠陥数で割った値が挙げられる。なお、比較部４１２及び判断部４１３は例えば、ＨＤＤやＲＯＭ等の記憶装置内に記録されたプログラムを、異物検査装置１０２内のプロセッサが実行することで実現可能である。また、この場合には、上記のフィルタ交換も、異物検査装置１０２が自動で行うことにしてもよい。
【００７２】
以上のように、本実施形態では、チャンバ１１１は、ウエハ２０１及びテンプレート３０１を収容可能なように構成されている。これにより、本実施形態では、異物検査装置１０２でウエハ２０１上の異物検査を行うことを通じて、微小サイズの異物が排除された状況下でテンプレート３０１を洗浄することが可能となっている。
【００７３】
また、本実施形態では、ステージ１３１は、ウエハ２０１及びテンプレート３０１を設置可能なように構成されている。また、本実施形態では、搬送アーム１２３は、ウエハ２０１及びテンプレート３０１を搬送可能なように構成されている。これにより、本実施形態では、ウエハ２０１及びテンプレート３０１を、同一のチャンバ１１１内に設置及び搬送することが可能となっている。
【００７４】
以下、本発明の第２実施形態について説明する。第２実施形態は、第１実施形態の変形例であり、第２実施形態については、第１実施形態との相違点を中心に説明する。
【００７５】
（第２実施形態）
図１８は、第２実施形態の搬送アーム１２３の構成を示す上面図である。第２実施形態のテンプレート洗浄装置１０１は、第１実施形態のテンプレート洗浄装置１０１と同様、図１に示す構造を有する。一方、第１実施形態の搬送アーム１２３は、図６に示す構造を有するのに対し、第２実施形態の搬送アーム１２３は、図１８に示す構成を有する。
【００７６】
図１８(Ａ)の搬送アーム１２３は、アーム本体１４１と、３本の支持部材１４２ＡからＣと、４個のチャックピン１４３ＡからＤを有する。図１８(Ａ)の支持部材１４２Ｃは、図６の２本の支持部材１４２Ｃ及びＤを１本に繋げたような構造を有し、Ｕ字型の形状を有している。図１８(Ａ)の支持部材１４２Ｃには、２個のチャックピン１４３Ｃ及びＤが設けられている。
【００７７】
図１８(Ｂ)の搬送アーム１２３は、アーム本体１４１と、２本の支持部材１４２ＡからＢと、３個のチャックピン１４３ＡからＣを有する。図１８(Ｂ)の支持部材１４２Ａは、図１８(Ａ)の２本の支持部材１４２Ａ及びＢを１本にまとめたような構造を有し、棒状の形状を有している。図１８(Ｂ)の支持部材１４２Ａには、１個のチャックピン１４３Ａが設けられている。
【００７８】
なお、図１８(Ａ)及び(Ｂ)の場合、突き上げボート１３５は、Ｕ字型の支持部材のくびれの部分を通過する。図１８(Ａ)及び(Ｂ)の構造は例えば、２本の支持部材を１本に繋げる又はまとめることで、支持部材の強度を増したい場合等に有効である。
【００７９】
図１８(Ｃ)の搬送アーム１２３は、アーム本体１４１と、８本の支持部材１４２ＡからＨと、８個のチャックピン１４３ＡからＨを有する。図１８(Ｃ)の支持部材１４２Ｃ及びＥは、図６の１本の支持部材１４２Ｃを２本の支持部材に置き換えたような構造を有し、支持部材１４２Ａの先端にＶ字型に取り付けられている。同様に、図１８(Ｃ)の支持部材１４２Ｄ及びＦは、図６の１本の支持部材１４２Ｄを２本の支持部材に置き換えたような構造を有し、支持部材１４２Ｂの先端にＶ字型に取り付けられている。また、図１８(Ｃ)の支持部材１４２Ｇ及びＨは、支持部材１４２Ａ及びＢと同様に、アーム本体１４１に平行に取り付けられている。図１８(Ｃ)の支持部材１４２ＣからＨにはそれぞれ、チャックピン１４３ＣからＨが設けられている。
【００８０】
図１８(Ｄ)の搬送アーム１２３は、アーム本体１４１と、６本の支持部材１４２ＡからＦと、８個のチャックピン１４３ＡからＨを有する。図１８(Ｄ)の支持部材１４２Ｃは、図１８(Ｃ)の２本の支持部材１４２Ｃ及びＥの先端同士を繋げたような構造を有し、三角状の形状を有している。図１８(Ｄ)の支持部材１４２Ｃには、２個のチャックピン１４３Ｃ及びＥが設けられている。同様に、図１８(Ｄ)の支持部材１４２Ｄは、図１８(Ｃ)の２本の支持部材１４２Ｄ及びＦの先端同士を繋げたような構造を有し、三角状の形状を有している。図１８(Ｄ)の支持部材１４２Ｄには、２個のチャックピン１４３Ｄ及びＦが設けられている。また、図１８(Ｄ)の支持部材１４２Ｅ及びＦは、支持部材１４２Ａ及びＢと同様に、アーム本体１４１に平行に取り付けられている。図１８(Ｄ)の支持部材１４２Ｅ及びＦにはそれぞれ、チャックピン１４３Ｇ及びＨが設けられている。
【００８１】
なお、図１８(Ｃ)及び(Ｄ)の場合、チャックピン１４３Ｃ，Ｄ，Ｇ，Ｈは、ウエハ２０１の挟持用のみに使用され、チャックピン１４３Ａ，Ｂ，Ｅ，Ｆは、テンプレート３０１の挟持用のみに使用される。図１８(Ｃ)及び(Ｄ)の構造は例えば、ウエハ２０１用のチャックピンとテンプレート３０１用のチャックピンを、別々に分けたい場合等に有効である。この場合には、ウエハ２０１用のチャックピンの形状と、テンプレート３０１用のチャックピンの形状を、互いに異なる形状にしてもよい。
【００８２】
本実施形態の搬送アーム１２３は、第１実施形態の搬送アーム１２３と同様に、ウエハ２０１及びテンプレート３０１を搬送可能なように構成されている。これにより、本実施形態では、ウエハ２０１及びテンプレート３０１を、同一のチャンバ１１１内に搬送することが可能となっている。これにより、本実施形態では、異物検査装置１０２でウエハ２０１上の異物検査を行うことを通じて、微小サイズの異物が排除された状況下でテンプレート３０１を洗浄することが可能となっている。
【００８３】
なお、搬送アーム１２３は、第１及び第２実施形態で説明した構成以外の構成を有していても構わない。
【００８４】
以上、本発明の具体的な態様の例を、第１及び第２実施形態により説明したが、本発明は、これらの実施形態に限定されるものではない。
【図面の簡単な説明】
【００８５】
【図１】第１実施形態のテンプレート洗浄装置の構成を示す側方断面図である。
【図２】第１実施形態のテンプレート洗浄システムの構成を示すブロック図である。
【図３】ステージ上に設置されたウエハを示す上面図である。
【図４】ステージ上にウエハが設置される様子を示す側方断面図である。
【図５】ステージ上にテンプレートが設置される様子を示す側方断面図である。
【図６】第１実施形態の搬送アームの構成を示す上面図である。
【図７】ウエハの取り合い処理の流れを説明するための図（１／４）である。
【図８】ウエハの取り合い処理の流れを説明するための図（２／４）である。
【図９】ウエハの取り合い処理の流れを説明するための図（３／４）である。
【図１０】ウエハの取り合い処理の流れを説明するための図（４／４）である。
【図１１】テンプレートの取り合い処理の流れを説明するための図（１／４）である。
【図１２】テンプレートの取り合い処理の流れを説明するための図（２／４）である。
【図１３】テンプレートの取り合い処理の流れを説明するための図（３／４）である。
【図１４】テンプレートの取り合い処理の流れを説明するための図（４／４）である。
【図１５】テンプレートの形状を説明するための図である。
【図１６】第１実施形態のテンプレート洗浄方法を示すフローチャートである。
【図１７】図２のテンプレート洗浄システムの変形例を示すブロック図である。
【図１８】第２実施形態の搬送アームの構成を示す上面図である。
【符号の説明】
【００８６】
１０１  テンプレート洗浄装置
１０２  異物検査装置
１１１  チャンバ
１２１  スピンチャック
１２２  ノズル
１２３  搬送アーム
１３１  ステージ
１３２  スピン軸
１３３  チャックピン
１３４  上下可動軸
１３５  突き上げボート
１３６  回転用モータ
１３７  上下駆動用モータ
１４１  アーム本体
１４２  支持部材
１４３  チャックピン
２０１  ウエハ
３０１  テンプレート
４０１  テンプレート洗浄システム
４１１  異物検査部
４１２  比較部
４１３  判断部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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