Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成17年2月16日(2005.2.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
地図情報を表示する表示手段と、
ユーザの操作に基づいて車両の走行ルートを選択する選択手段と、
上記選択手段によって選択された走行ルートに沿って上記表示手段による地図情報の表示を目的地に近づく方向へ道なりにスクロールする表示制御手段とを有し、
上記表示制御手段は、所定の条件に基づいて上記スクロールの速度を可変制御する
ことを特徴とするナビゲーション装置。
【請求項２】
上記ナビゲーション装置は、
上記車両の現在位置を測定する測定手段を有し、
上記表示制御手段は、
上記測定手段によって測定された現在位置と上記目的地との距離により、上記スクロール速度を可変制御する
ことを特徴とする請求項１記載のナビゲーション装置。
【請求項３】
上記表示制御手段は、
上記現在位置と上記目的地との距離が大きい程、上記スクロール速度を速くする
ことを特徴とする請求項２記載のナビゲーション装置。
【請求項４】
上記ナビゲーション装置は、
上記車両の現在位置を測定する測定手段を有し、
上記表示制御手段は、
上記測定手段によって測定された上記現在位置と上記目的地との距離、及び上記現在位置と出発地との距離により、上記スクロール速度を可変制御する
ことを特徴とする請求項１記載のナビゲーション装置。
【請求項５】
上記表示制御手段は、
上記現在位置と上記目的地又は上記出発地との距離が大きい程、上記スクロール速度を速くする
ことを特徴とする請求項４記載のナビゲーション装置。
【請求項６】
上記表示制御手段は、
上記走行ルートの道路属性に応じて上記スクロールの速度を可変制御する
ことを特徴とする請求項１記載のナビゲーション装置。
【請求項７】
上記表示制御手段は、
上記走行ルートの道路属性が高速道路の部分では、上記スクロール速度を速くし、上記走行ルートの道路属性が細街路の部分では、上記スクロール速度を遅くする
ことを特徴とする請求項６記載のナビゲーション装置。
【請求項８】
上記表示制御手段は、
上記車両の現在位置を測定する測定手段を有し、
上記表示制御手段は、
上記測定手段によって測定された上記現在位置と上記目的地との距離、及び上記走行ルートの道路属性に応じて上記スクロールの速度を可変制御する
ことを特徴とする請求項１記載のナビゲーション装置。
【請求項９】
上記選択手段は、
予め登録されたデータベースを参照して決定された奨励ルートを上記走行ルートとして選択する
ことを特徴とする請求項１記載のナビゲーション装置。
【請求項１０】
上記選択手段は、ユーザの操作によって入力される出発地、経由地、目的地、及び探索条件によって推奨ルートを選択する
ことを特徴とする請求項９記載のナビゲーション装置。
【請求項１１】
地図情報を表示する表示ステップと、
ユーザの操作に基づいて車両の走行ルートを選択する選択ステップと、
上記選択ステップによって選択された走行ルートに沿って上記表示ステップによる地図情報の表示を目的地に近づく方向に道なりにスクロールする表示制御ステップとを有し、
上記表示制御ステップは、所定の条件に基づいて上記スクロールの速度を可変制御する
ことを特徴とする地図スクロール速度制御方法。
【請求項１２】
コンピュータを、
地図情報を表示する表示手段、
ユーザの操作に基づいて車両の走行ルートを選択する選択手段、
上記選択手段によって選択された走行ルートに沿って上記表示手段による地図情報の表示を目的地に近づく方向へ道なりにスクロールする表示制御手段
として機能させ、
上記表示制御手段は、所定の条件に基づいて上記スクロールの速度を可変制御する
ことを特徴とする地図スクロール速度制御プログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
【課題を解決するための手段】
かかる課題を解決するため本発明においては、地図情報を表示する表示手段と、ユーザの操作に基づいて車両の走行ルートを選択する選択手段と、当該選択手段によって選択された走行ルートに沿って表示手段による地図情報の表示を目的地に近づく方向へ道なりにスクロールする表示制御手段とを有し、当該表示制御手段は、所定の条件に基づいてスクロールの速度を可変制御することを特徴とする。
また本発明においては、地図情報を表示する表示ステップと、ユーザの操作に基づいて車両の走行ルートを選択する選択ステップと、当該選択ステップによって選択された走行ルートに沿って表示ステップによる地図情報の表示を目的地に近づく方向に道なりにスクロールする表示制御ステップとを有し、当該表示制御ステップは、所定の条件に基づいて上記スクロールの速度を可変制御することを特徴とする。
さらに本発明においては、コンピュータを、地図情報を表示する表示手段、ユーザの操作に基づいて車両の走行ルートを選択する選択手段、当該選択手段によって選択された走行ルートに沿って表示手段による地図情報の表示を目的地に近づく方向へ道なりにスクロールする表示制御手段として機能させ、当該表示制御手段は、所定の条件に基づいてスクロールの速度を可変制御することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成17年4月14日(2005.4.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
撮影光学系を透過する光量を調節するための光学部材と、該光学部材を保持する保持部材と、該光学部材を該撮影光学系の有効光束の内外に出し入れするため該保持部材を手動または自動で操作するための操作部材とを有し、該保持部材は該光学部材の移動方向に開放されたＵ字形状の光学部材取付部と光軸のほぼ水平方向に回転軸を有することを特徴とする光量調節装置。
【請求項２】
該光学部材は該撮影光学系の有効光束内に挿入する際、端面形状が円弧状であり、該光学部材が完全に有効光束を覆うまでの間、該光学部材の端面がほぼ水平に掛かることを特徴とする光量調節装置。
【請求項３】
該光学部材はＮＤフイルターであることを特徴とする請求項１または２記載の光量調節装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
【発明の実施の態様】
請求項１に示す本発明は、撮影光学系を透過する光量を調節するための光学部材と、該光学部材を保持する保持部材と、該光学部材を該撮影光学系の有効光束の内外に出し入れするため該保持部材を手動または自動で操作するための操作部材とを有し、該保持部材は該光学部材の移動方向に開放されたＵ字形状の光学部材取付部と光軸のほぼ水平方向に回転軸を有することにより、ＮＤフイルター等の光学部材を光路上に出し入れする場合、光学部材の保持部が移動方向に開放されているので、撮影中であっても保持枠が画面内に写り込むことがなく、急激な画像変化のない撮影が可能になる。また、保持部材の回転中心が光軸に対してほぼ水平方向としたことにより、画面中心でＮＤフイルター等の光学部材の端面が水平に掛かっていくことが可能になり、オートフォーカス制御の際、被写体の輝度を水平方向に検出し、そのコントラスト情報から最良ピント位置を判断するため、検出誤差を生じない。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
請求項２に示す本発明は該光学部材は該撮影光学系の有効光束内に挿入する際、端面形状が円弧状であり、該光学部材が完全に有効光束を覆うまでの間、該光学部材の端面がほぼ水平に掛かることにより、請求項１に示す本発明と同様に、オートフォーカス制御に与える影響を低減したまま撮影中にＮＤフイルター等の光学部材を光路内に出し入れすることができ、また、有効光束全体に掛かりきるまで光学部材の端面がほぼ水平に移動するため、点光源を撮影した際等に絞り形状を原因とするぼけ形状が見苦しくならない。請求項３に示す本発明は該光学部材はＮＤフイルターであることにより、光量調節が簡単かつ適切にできる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
【発明の効果】
以上説明したように、請求項１に示す本発明は、撮影光学系を透過する光量を調節するための光学部材と、該光学部材を保持する保持部材と、該光学部材を該撮影光学系の有効光束の内外に出し入れするため該保持部材を手動または自動で操作するための操作部材とを有し、該保持部材は該光学部材の移動方向に開放されたＵ字形状の光学部材取付部と光軸のほぼ水平方向に回転軸を有することにより、ＮＤフイルター等の光学部材を光路上に出し入れする場合、撮影中であっても保持枠が画面内に写り込むことがなく、急激な画像変化のない撮影が可能になる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
請求項２に示す本発明は該光学部材は該撮影光学系の有効光束内に挿入する際、端面形状が円弧状であり、該光学部材が完全に有効光束を覆うまでの間、該光学部材の端面がほぼ水平に掛かることにより、オートフォーカス制御に与える影響を低減したまま撮影中にＮＤフイルター等の光学部材を光路内に出し入れすることができ、また、点光源を撮影した際等に絞り形状を原因とするぼけ形状が見苦しくならない。請求項３に示す本発明は該光学部材はＮＤフイルターであることにより、光量調節が確実にできる。
【手続補正書】
【提出日】平成17年4月8日(2005.4.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
外部からの周波電圧の印加によって機械エネルギーに変換される電気・機械エネルギー変換手段と、
前記電気・機械エネルギー変換手段の駆動により、開口面積の異なる絞り値に変化される絞り羽根を有するとともに、
前記電気・機械エネルギー変換手段は、セラミック圧電素子、セラミック電歪材料、高分子圧電材料、若しくは高分子複合材料の何れかであることを特徴とする絞り装置。
【請求項２】
前記電気・機械エネルギー変換手段は、円盤状に形成された複数の電気・機械エネルギー変換素子を有することを特徴とする請求項１に記載の絞り装置。
【請求項３】
前記電気・機械エネルギー変換手段における振動数は、１０ｋＨｚ以上、１０ＭＨｚ以下であることを特徴とする請求項１または２に記載の絞り装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００8】
【課題を解決するための手段】
上記課題は、外部からの周波電圧の印加によって機械エネルギーに変換される電気・機械エネルギー変換手段と、前記電気・機械エネルギー変換手段の駆動により、開口面積の異なる絞り値に変化される絞り羽根を有するとともに、 前記電気・機械エネルギー変換手段は、セラミック圧電素子、セラミック電歪材料、高分子圧電材料、若しくは高分子複合材料の何れかであることを特徴とする絞り装置により解決される。
【手続補正書】
【提出日】平成17年3月30日(2005.3.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶駆動ＩＣと、信号電極と走査電極との交差部に画素を備え、該液晶駆動ＩＣを搭載する基板と、を有し、前記液晶駆動ＩＣの端子面と前記基板の電極面とを向かい合わせにして接着して電気的に接続している液晶表示装置において、
前記液晶駆動ＩＣの端子の一部と前記信号電極もしくは前記走査電極とは、配線パターンで接続し、
前記液晶駆動ＩＣの端子は、入力端子群と走査電極用の出力端子群と信号電極用の出力端子群とその他の端子群とを有し、
前記走査電極用の出力端子群の一部または全てと前記入力端子群とは、前記液晶駆動ＩＣの一方の長辺側に配列し、前記信号電極用の出力端子群は、前記液晶駆動ＩＣの他方の長辺側に配列することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
前記信号電極用の出力端子に接続する前記配線パターンは、前記他方の長辺側の前記基板に列をなして配置し、
前記走査電極用の出力端子群の一部または全てと接続する前記配線パターンは、前記液晶駆動ＩＣの短辺と交差するように前記基板に配置することを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記入力端子および前記その他の端子群は、前記一方の長辺に沿って配列するとともに、前記短辺側には、前記走査電極用の出力端子群を配列することを特徴とする請求項１または２に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記走査電極用の出力端子群に接続する前記配線パターンは、前記液晶駆動ＩＣの中心に対して前記短辺と交差する配置が対称となるように配置することを特徴とする請求項２または３に記載の液晶表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成16年8月27日(2004.8.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
図１７の従来の装置の動作について説明する。赤外線光学系１への入射光は、フィルタ部２ｂのダミーフィルタ３０を透過して赤外線撮像部３ａに入射し、検知器１７ａで光電変換され電気信号に変換される。検知器１７ａから出力されたアナログ信号は、アンプ回路１８で増幅されてＡ／Ｄ変換回路１９でデジタル信号に変換され、補正演算回路２０で各素子の感度バラツキを補正して赤外画像信号として目標追尾処理部４ａに出力される。赤外線撮像部３ａは、各画素の輝度を１２ＢＩＴデータとしており、画面全体の輝度データの分布を求め、その最大値を１２ＢＩＴの中央値に合うよう画面全体の輝度レベルを補正することで高輝度目標に対してもダイナミックレンジを十分に使用できるようにしている。赤外線撮像部３ａから出力された赤外画像信号は、目標追尾処理部４ａにおいて、ある一定輝度以上の部分を１の値にし、それ以外の部分を０の値にする二値化処理を行って目標候補を選択し、選択した候補に関して画面上の位置、画素の輝度及び面積などの特徴量計測を行い、予め入力されている目標の画素輝度や面積などの特徴量と比較することにより目標を決定し追尾を行うと共に、視軸中心に対する角度データなどの目標情報及び映像信号１１をシステム制御部７に出力する。ミサイル以外で運用される目標追尾装置の場合、太陽光反射の影響で赤外画像上にクラッタが多数発生する様な状況下では、操作者がモニタ画像で状況を確認してモータ制御器１６へフィルタ装着指令信号９を出力し、モータ制御器１６はモータ１５へ駆動電力を出力して減光器１４ｂを切り換える。このとき、赤外線光学系１への入射光は、フィルタ部２ｂのロングパスフィルタ２１を通過することにより太陽光の反射の影響を比較的強く受ける近赤外域を抑圧された赤外光に制限され赤外線撮像部３ａに入射し、赤外画像信号として出力され、目標追尾処理部４ａにおいて上記処理が行われて目標を追尾する。ミサイルで運用される目標追尾装置の場合、操作者によるフィルタ装着指令信号９は出力できないため、フィルタの切り換えは行わず、ロングパスフィルタ２１が装着されていると考えられる。従って、ミサイルで運用される目標追尾装置では、フィルタ部２ｂのモータ１５及びモータ制御器１６は存在しないと考えられる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
【発明の実施の形態】
実施の形態１
図１は、この発明の実施の形態１を示す目標追尾装置のブロック図である。図１において、１，３ａ，４ａ，７，１１は従来の装置と同一のものである。２ａは開口径の異なる複数の絞りを有し選択して切り換えて光量を調節するフィルタ部、５ａは画面全体の輝度分布データの特性及び映像信号のレベルを検出する信号レベル検出部である。６は目標追尾装置の構成範囲である。８は各画素の輝度分布データ及び映像信号、９はフィルタ部２ａに対する駆動指令信号、１０は追尾の可否状態及び目標像の大きさなどの信号（データ）である。図２は、目標追尾装置の細部構成品を示す図である。図２において、１２〜１３，１５〜２０は従来の装置と同等品である。１４ａは複数の絞りで構成される減光器である。図３は減光器１４ａの構成例を示す図である。図３において、２１ａから２１ｅはそれぞれ開口径の異なるピンホールである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１７】
1999295408.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成17年1月28日(2005.1.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】筒内直噴式火花点火エンジンの燃焼室構造
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
燃焼室のルーフに開口する吸気ポートを通過して供給される吸気にタンブル流を生起させる筒内直噴式火花点火エンジンの燃焼室構造において、
上記燃焼室のルーフに開口されている上記吸気ポートと排気ポートとの間に、シリンダの軸線に対して該排気ポート側へ第一の傾斜角だけ傾けられたインジェクタが配設され、
上記吸気ポートが上記排気ポート側のルーフに沿って吸気タンブル流を形成するように、上記排気ポート側のルーフへ傾斜し或いは該排気ポート側のルーフと平行に配設され、
ピストンの頂面に上記インジェクタから噴射された燃料噴霧を吸気タンブル流とともに上記吸気ポート側のルーフ方向へ反射させる曲面形状のピストンキャビティが形成され、
上記吸気ポート側のルーフに点火プラグが配設され、
上記点火プラグの電極が上記吸気タンブル流及び上記ピストンキャビティによって反射された燃料噴霧の流出位置に臨まされていることを特徴とする筒内直噴式火花点火エンジンの燃焼室構造。
【請求項２】
燃焼室のルーフに開口する吸気ポートを通過して供給される吸気にタンブル流を生起させる筒内直噴式火花点火エンジンの燃焼室構造において、
上記燃焼室のルーフに開口されている上記吸気ポートと排気ポートとの間に、シリンダの軸線に対して該排気ポート側へ第一の傾斜角だけ傾けられたインジェクタが配設され、
上記吸気ポートが上記吸気をピストンへ直接衝突させて吸気タンブル流を形成するようにシリンダの軸線に対して第二の傾斜角だけ傾斜され、
ピストンの頂面に上記インジェクタから噴射された燃料噴霧を吸気タンブル流とともに上記排気ポート側のルーフ方向へ反射させる曲面形状のピストンキャビティが形成され、
上記吸気ポート側のルーフに点火プラグが配設され、
上記点火プラグの電極が上記吸気タンブル流及び上記ピストンキャビティによって反射された燃料噴霧の流出位置に臨まされていることを特徴とする筒内直噴式火花点火エンジンの燃焼室構造。
【請求項３】
上記第一の傾斜角は０〜２０°の範囲にあることを特徴とする請求項１記載の筒内直噴式火花点火エンジンの燃焼室構造。
【請求項４】
上記第一の傾斜角は０〜−２０°の範囲にあることを特徴とする請求項２記載の筒内直噴式火花点火エンジンの燃焼室構造。
【請求項５】
上記吸気ポートが上記排気ポート側のルーフに対して平行を含む鋭角に配設され、該鋭角が０〜１５°の範囲にあることを特徴とする請求項１或いは請求項３記載の筒内直噴式火花点火エンジンの燃焼室構造。
【請求項６】
上記第二の傾斜角は０〜２０°の範囲にあることを特徴とする請求項２或いは請求項４記載の筒内直噴式火花点火エンジンの燃焼室構造。
【請求項７】
上記タンブル流のエンジン１回転あたりの回転量を０．５〜１．７の範囲としたことを特徴とする請求項１乃至６の何れかに記載の筒内直噴式火花点火エンジンの燃焼室構造。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
【課題を解決するための手段】
本発明による第一の筒内直噴式火花点火エンジンの燃焼室構造は、
燃焼室のルーフに開口されている吸気ポートと排気ポートとの間に、シリンダの軸線に対して排気ポート側へ第一の傾斜角だけ傾けられたインジェクタが配設され、
吸気ポートが排気ポート側のルーフに沿って吸気タンブル流を形成するように、上記排気ポート側のルーフへ傾斜し或いは排気ポート側のルーフと平行に配設され、
ピストンの頂面にインジェクタから噴射された燃料噴霧を吸気タンブル流とともに吸気ポート側のルーフ方向へ反射させる曲面形状のピストンキャビティが形成され、
吸気ポート側のルーフに点火プラグが配設され、
点火プラグの電極が吸気タンブル流及びピストンキャビティによって反射された燃料噴霧の流出位置に臨まされていることを特徴としている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
本発明による第二の筒内直噴式火花点火エンジンの燃焼室構造は、
燃焼室のルーフに開口する吸気ポートを通過して供給される吸気にタンブル流を生起させる筒内直噴式火花点火エンジンの燃焼室構造において、
燃焼室のルーフに開口されている吸気ポートと排気ポートとの間に、シリンダの軸線に対して排気ポート側へ第一の傾斜角だけ傾けられたインジェクタが配設され、
吸気ポートが吸気をピストンへ直接衝突させて吸気タンブル流を形成するようにシリンダの軸線に対して第二の傾斜角だけ傾斜され、
ピストンの頂面にインジェクタから噴射された燃料噴霧を吸気タンブル流とともに排気ポート側のルーフ方向へ反射させる曲面形状のピストンキャビティが形成され、
吸気ポート側のルーフに点火プラグが配設され、
点火プラグの電極が吸気タンブル流及びピストンキャビティによって反射された燃料噴霧の流出位置に臨まされていることを特徴としている。
【手続補正書】
【提出日】平成16年8月3日(2004.8.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
使用中に真空ポンプの性能を監視しその将来の動作特性を予測するための方法において、
前記ポンプを駆動するためのモータのロータの回転中に、モータ負荷に応答して回転トルクまたはモータ電流を周期的に測定し、
前記測定された回転トルクまたは前記測定されたモータ電流に対応する信号を発生し、
計算手段にて、
前記発生された信号を処理して一連のトルクデータを与える処理ステップと、
回転中に前記ロータの回転位置に関連するデータと前記トルクデータとを対とするステップと、
前記トルクデータの回転位置につれての変動から前記ポンプの将来の動作特性を予測するステップとを含む、
ことを特徴とする方法。
【請求項２】
前記回転トルクが測定され、前記処理ステップ中に、フィルタリングアルゴリズムを使用して最も真に近いデータを抽出し前記トルクデータとしてトルクの推定値を得る請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記モータ電流が測定され、前記処理ステップ中に、前記トルクデータが前記モータの前に決定された電流対トルク特性から得られる請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記トルクデータの回転位置につれての変動の軌跡が発生され、将来の動作特性がそれから予測されうるようにする請求項１または２または３に記載の方法。
【請求項５】
前記軌跡の発生前に、前記トルクデータが該トルクデータに対するノイズの影響を減ずるように平滑化される請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記トルクまたは電流は、前記モータの動作を制御する電力制御手段を通して測定される請求項１から５のうちのいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
前記電力制御手段は、前記モータを回転させるパワーを発生する請求項６に記載の方法。
【請求項８】
インターフェイス手段が前記発生された信号を前記計算手段によって受け取られ得るデジタル信号へ変換する請求項１から７のうちのいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
前記インターフェイス手段は、前記発生された信号を出力する前記電力制御手段の一部分にリンクされた通信ポートと、データバスラインにて通信されうるように前記信号を解釈するインタプリタ手段であって前記データバスラインにはメモリ手段および該バスラインにてのデータ転送を制御する通信コントローラが接続されているようなインタプリタと、前記計算手段に接続されるインタプリタポートおよび通信ポートの別の対とを備える請求項６に従属する請求項８に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年3月29日(2005.3.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
このような本発明のＳｉＧｅ−ＨＢＴによると、図２（ａ）に示すように、Ｓｉキャップ層１５３の上部（第２堆積酸化膜１１２の直下の領域）に高濃度のボロンがドープされているので、空乏層１５４の幅（第１の空乏層端から第２の空乏層端までの距離），特に，Ｓｉキャップ層１５３の上部において空乏層幅が縮小されることになる。その結果、空乏層１５４においてキャリアが拡散して再結合する量が低減し、再結合電流が低減することになる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2001332563.tif 000001
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２】
2001332563.tif 000002
【手続補正書】
【提出日】平成16年6月17日(2004.6.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定のスペクトル分布を生成する半導体照明装置であって、
異なる色の複数の発光ダイオードと、該複数の発光ダイオードからの入射光を測定する少なくとも１つのフォトセンサとを備えており、
前記発光ダイオード及び前記フォトセンサが制御回路に接続され、
該制御回路が、複数のドライバ手段であって、その各々が、所定の一色の１つ又は２つ以上の前記発光ダイオードを駆動する、複数のドライバ手段と、
前記フォトセンサの出力を前記所定のスペクトル分布と比較する比較手段と、
該比較手段に接続され、前記フォトセンサの出力が前記所定のスペクトル分布と一致するように前記ドライバ手段を調節する、調節手段とを備えている、所定のスペクトル分布を生成する照明装置。
【請求項２】
前記フォトセンサは、フォトダイオードであることを特徴とする、請求項１に記載の照明装置。
【請求項３】
前記ドライバ手段は、リニアドライバ又はスイッチングコンバータであることを特徴とする、請求項１に記載の照明装置。
【請求項４】
前記フォトセンサが、異なる色の前記複数の発光ダイオードにより生成された光に応答する、請求項１に記載の証明装置。
【請求項５】
前記比較手段及び前記調節手段は、単一の発光ダイオードの色を選択する選択手段と、前記発光ダイオードから前記フォトセンサに入る入射光と前記所定のスペクトル分布とを比較する比較手段と、前記選択された色の発光ダイオードの出力が前記所定のスペクトル分布と一致するように該選択された色の発光ダイオードに関する前記ドライバ手段を調節する調節手段と、他の発光ダイオードについて上記処理を繰り返す手段とを備えていることを特徴とする、請求項１に記載の照明装置。
【請求項６】
前記フォトセンサは、前記発光ダイオード間に隔置して取り付けられ、前記複数の発光ダイオードからの入射光を測定するようになっている、請求項１に記載の照明装置。
【請求項７】
前記フォトセンサ及び前記発光ダイオードが共通の基板上に取り付けられている、請求項１に記載の照明装置。
【請求項８】
前記フォトセンサが複数のグループに分けられ、前記複数のグループの各々のフォトセンサが異なる色の発光ダイオードにそれぞれ応答し、前記比較手段及び前記調節手段は、各グループの前記フォトセンサの出力を前記所定のスペクトル分布と比較する手段と、各色の前記発光ダイオードの出力が前記所定のスペクトル分布と一致するように、前記フォトセンサの各グループ毎に、関連する前記発光ダイオードの色について前記ドライバを調節する調節手段とを備えている、請求項１に記載の照明装置。
【請求項９】
前記複数の発光ダイオードは、低波長、中間波長、及び高波長の照明光を生成し、前記複数のフォトセンサは、２つのグループに分けられ、第１のグループのフォトセンサは、低波長及び中間波長の発光ダイオードの照明光に応答し、第２のグループのフォトセンサは、高波長及び中間波長の発光ダイオードの照明光に応答し、前記比較手段及び前記調節手段が、前記中間波長の前記発光ダイオードの出力を所定のレベルに調節する手段と、前記発光ダイオードの前記低波長及び前記中間波長の照明に応じて前記第１のグループのフォトセンサにより測定された入射光を、前記発光ダイオードの前記中間波長及び前記高波長の照明に応じて前記第２のグループのフォトセンサにより測定された入射光と比較する比較手段と、前記所定のスペクトル分布が達成されるように前記低波長及び前記高波長の前記発光ダイオードに関する前記ドライバを調節する調節手段とを備えている、請求項１に記載の照明装置。
【請求項１０】
異なる色の複数の発光ダイオードと、該発光ダイオードからの入射光を検出する１つ又は２つ以上のフォトセンサとを備えた半導体照明装置において、所定のスペクトル分布を生成する方法であって、
所定の色の発光ダイオードを選択し、該選択された発光ダイオードを発光させ、該発光ダイオードからの入射光を前記フォトセンサを用いて測定し、該測定された前記入射光を所定のスペクトル分布と比較し、前記フォトセンサにより測定された前記入射光が前記所定のスペクトル分布と一致するように前記選択された前記発光ダイオードの出力を調節し、残りの色について前記発光ダイオードに関する前記処理を繰り返す、という各ステップを有することを特徴とする、半導体照明装置において所定のスペクトル分布を生成する方法。
【請求項１１】
異なる色の複数の発光ダイオードと、該発光ダイオードからの入射光を検出する１つ又は２つ以上のフォトセンサとを備えた半導体照明装置において所定のスペクトル分布を生成する方法であって、
前記フォトセンサを複数のグループに分けてその各グループのフォトセンサが前記発光ダイオードの単一色に応答するようにし、該複数のグループの前記フォトセンサを使用して前記発光ダイオードの入射光を測定し、前記複数のグループの前記フォトセンサの出力を前記所定のスペクトル分布と比較し、前記複数のグループの前記フォトセンサの前記出力が前記所定のスペクトル分布と一致するように、対応する色の前記発光ダイオードの前記出力を調節する、という各ステップを有する、半導体照明装置において所定のスペクトル分布を生成する方法。
【請求項１２】
低波長、中間波長、及び高波長の発光ダイオードと、該発光ダイオードからの入射光を検出する複数のフォトセンサとを備えた半導体照明装置であって、前記フォトセンサが、前記低波長及び前記中間波長の前記発光ダイオードの照明に応答する第１のグループと、前記中間波長及び前記高波長の前記発光ダイオードの照明に応答する第２のグループとに分けられている、半導体照明装置において、所定のスペクトル分布を生成する方法であって、
前記中間波長の前記発光ダイオードの前記出力を前記所定のスペクトル分布と一致するよう調節し、前記低波長及び前記中間波長の前記発光ダイオードの照明に応答する前記第１のグループのフォトセンサにより測定された前記入射光を、前記中間波長及び前記高波長の前記発光ダイオードの照明に応答する前記第２のグループのフォトセンサにより測定された前記入射光と比較し、前記所定のスペクトル分布が得られるように前記低波長及び前記高波長の前記発光ダイオードの前記出力を調節する、という各ステップを有する、半導体照明装置において所定のスペクトル分布を生成する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年4月23日(2004.4.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像表示装置の製造法において、
ａ：導電体と該導電体に接続された配線とが形成された基板を支持体上に配置し、該配線の一部分を除き、基板上の導電体を容器で覆い、該容器内を所望の雰囲気とし、該一部分の配線を通じて該導電体に電圧を印加し、これによって該導電体の一部に電子放出素子を形成し、これによって電子源基板を作成する工程、
ｂ：電子放出素子により発光する蛍光体を配置した蛍光体基板を用意し、上記電子源基板と該蛍光体基板とを真空雰囲気下に配置する工程、
ｃ：上記電子源基板と蛍光体基板のうちの一方又は両方の基板を、真空雰囲気のゲッタ処理室に真空雰囲気下で搬入し、搬入した一方の基板又は搬入した両方の基板のうちの一方又は両方の基板をゲッタ処理する工程、並びに
ｄ：上記電子源基板と蛍光体基板を真空雰囲気の封着処理室に真空雰囲気下で搬入して対向状態で加熱封着する工程
を有することを特徴とする画像表示装置の製造法。
【請求項２】
上記工程ｂ、ｃ及びｄは、インライン内に設定された工程であることを特徴とする請求項１記載の画像表示装置の製造法。
【請求項３】
上記工程ｂ、ｃ及びｄは、インライン内に設定された工程であって、上記ゲッタ処理室と封着処理室との間に熱遮蔽部材が配置されていることを特徴とする請求項１記載の画像表示装置の製造法。
【請求項４】
上記工程ｂ、ｃ及びｄは、インライン内に設定された工程であって、上記ゲッタ処理室と封着処理室との間にゲートバルブが配置されていることを特徴とする請求項１記載の画像表示装置の製造法。
【請求項５】
上記工程ｂ、ｃ及びｄは、スター配置された工程であることを特徴とする請求項１記載の画像表示装置の製造法。
【請求項６】
上記工程ｂ、ｃ及びｄは、スター配置され、上記ゲッタ処理室と封着処理室とは独立の部屋によって仕切られていることを特徴とする請求項１記載の画像表示装置の製造法。
【請求項７】
画像表示装置の製造装置において、
ａ：導電体が形成された基板を支持する支持体と、気体導入口及び気体排気口を有し、該基板面の一部の領域を覆う容器と、該気体導入口に接続された、該容器内に気体を導入する手段と、該気体排気口に接続された、該容器内を排気する手段と、該導電体に電圧を印加し、該導電体の一部に電子放出素子を形成し、これによって電子源基板を製造する電子源基板製造装置、
ｂ：上記電子源基板製造装置によって得た電子源基板及び蛍光体を設けた蛍光体基板を搬送する搬送手段、
ｃ：上記搬送手段によって、上記電子源基板と蛍光体基板のうちの一方又は両方の基板を真空雰囲気下で搬入可能な第１の真空室、
ｄ：上記第１の真空室内に配置したゲッタ前駆体及び該ゲッタ前駆体を活性化させるゲッタ活性化手段を有するゲッタ付与手段、
ｅ：上記搬送手段によって、上記電子源基板と蛍光体基板を真空雰囲気下で搬入可能な第２の真空室、
ｆ：上記第２の真空室内に配置した、上記電子放出素子と上記蛍光体とをそれぞれ内側に向けて、電子源基板と蛍光体基板とを互いに対向配置させる基板配置手段、並びに
ｇ：上記第２の真空室内に配置した、上記基板配置手段によって対向配置させた電子源基板と蛍光体基板とを所定温度で加熱封着する封着手段
を有する画像表示装置の製造装置。
【請求項８】
上記第１の真空室と第２の真空室とは、インライン内に配置されてなることを特徴とする請求項７記載の製造装置。
【請求項９】
上記第１の真空室と第２の真空室とは、インライン内に配置され、各部屋は、熱遮蔽部材で仕切られていることを特徴とする請求項７記載の製造装置。
【請求項１０】
上記第１の真空室と第２の真空室とは、一ライン上に配置され、各部屋は、ゲートバルブで仕切られていることを特徴とする請求項７記載の製造装置。
【請求項１１】
上記第１の真空室と第２の真空室とは、スター配置されてなり、各部屋は、独立した部屋で仕切られていることを特徴とする請求項７記載の製造装置。
【手続補正書】
【提出日】平成17年3月24日(2005.3.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
微細な連続孔を有する多孔質構造を持ち、空孔率が１５−８０％である高耐熱性樹脂フィルムからなる多孔質絶縁材料。
【請求項２】
誘電率が２．５以下である請求項１に記載の多孔質絶縁材料。
【請求項３】
高耐熱性樹脂フィルムがポリイミドフィルムである請求項１に記載の多孔質絶縁材料。
【請求項４】
請求項１に記載の多孔質絶縁材料の片面あるいは両面に耐熱性の接着剤層を積層し、さらにその上に保護フィルムを設けた積層体。
【請求項５】
請求項１に記載の多孔質絶縁材料の片面あるいは両面に直接あるいは耐熱性の接着剤層を介して電子回路用の導電性金属層を積層した積層体。
【請求項６】
電子回路用の導電性金属箔の片面に多孔質化したポリイミド前駆体多孔質フィルムを重ね合わせた後、加熱乾燥してイミド化を完了させることによって得られるものである請求項５に記載の積層体。
【請求項７】
請求項１に記載の多孔質絶縁材料の片面に無機あるいは金属基板を他の面に導電性金属層をそれぞれ耐熱性の接着剤層を介して積層した積層体。
【手続補正書】
【提出日】平成16年10月22日(2004.10.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
〔弾力性付与率の評価法〕
２０代女性の健常な毛髪を下記表１に示す実施例１〜４及び比較例１〜４の溶液に６時間浸漬処理後、２０℃、湿度６０％で一晩乾燥した。
浸漬処理前後のヤング率を比較し、下記式により弾力性付与率を求めた。
【数１】
2000319116.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成17年10月14日(2005.10.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】タイム・スタンプを管理するためのシステムであって、
（ａ）前記各タイム・スタンプを読み取る手段と、
（ｂ）前記各タイム・スタンプを前進させるかどうかを個別に判定する判定手段と、
（ｃ）前記判定手段に応答して前記各タイム・スタンプを個別に前進させる手段と
を備えるシステム。 
【請求項２】前記各タイム・スタンプに対応する乱数を生成する手段を含み、
前記判定手段が各タイム・スタンプおよび対応する各乱数から各タイム・スタンプを前進させるかどうかを判定する手段を含む、
請求項１に記載のシステム。 
【請求項３】前記判定手段が、
（ａ）複数のタイム・スタンプ値および複数の増分しきい値を有し、前記各増分しきい値が前記タイム・スタンプ値の１つと関連付けられている索引テーブルと、
（ｂ）各タイム・スタンプを前記索引テーブルの前記タイム・スタンプ値の１つと一致させる手段と、
（ｃ）対応する各乱数を、一致する各タイム・スタンプ値に関連する各増分しきい値と比較する手段と
を含み、
前記対応する乱数が前記関連する増分値と等しいとき、各タイム・スタンプを前進させる、
請求項２に記載のシステム。 
【請求項４】乱数を生成する手段を含み、
前記判定手段が前記乱数および各タイム・スタンプから各タイム・スタンプを前進させるかどうかを判定する手段を含む、
請求項１に記載のシステム。 
【請求項５】前記判定手段が、
（ａ）複数のタイム・スタンプ値および複数の増分しきい値を有し、前記各増分しきい値が前記タイム・スタンプ値の１つと関連付けられている索引テーブルと、
（ｂ）各タイム・スタンプを前記索引テーブルの前記タイム・スタンプ値の１つと一致させる手段と、
（ｃ）前記乱数を、一致する各タイム・スタンプ値に関連する各増分しきい値と比較する手段と
を含み、
前記乱数が前記関連する増分値と等しいとき、各タイム・スタンプを前進させる、
請求項４に記載のシステム。 
【請求項６】タイム・スタンプを管理する方法であって、
（ａ）各タイム・スタンプを読み取るステップと、
（ｂ）各タイム・スタンプを前進させる（５０）かどうかを個別に判定するステップと、
（ｃ）判定する（４０）ステップに応答して各タイム・スタンプを個別に前進させるステップと
を備える方法。 
【請求項７】前記各タイム・スタンプに対応する乱数を生成するステップを含み、
前記判定するステップが各タイム・スタンプおよび対応する各乱数から各タイム・スタンプを前進させるかどうかを判定するステップを含む、
請求項６に記載の方法。 
【請求項８】前記判定するステップが、
（ａ）各タイム・スタンプを索引テーブルの前記タイム・スタンプ値の１つと一致させるステップと、
（ｂ）対応する各乱数を前記一致するタイム・スタンプ値に関連する各増分しきい値と比較するステップと
を含み、
前記対応する乱数が前記関連する増分値と等しいとき、各タイム・スタンプを前進させる、
請求項７に記載の方法。 
【請求項９】乱数を生成するステップを含み、
前記判定するステップが前記乱数および各タイム・スタンプから各タイム・スタンプを前進させるかどうかを判定するステップを含む、
請求項６に記載の方法。 
【請求項１０】前記判定するステップが、
（ａ）各タイム・スタンプを索引テーブルの前記タイム・スタンプ値の１つと一致させるステップと、
（ｂ）前記乱数を、一致する各タイム・スタンプ値に関連する各増分しきい値と比較するステップと
を含み、
前記乱数が前記関連する増分値と等しいとき、各タイム・スタンプを前進させる、
請求項９に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年12月13日(2004.12.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＤＣ／ＤＣコンバータの昇圧用コイルへの通電をオン／オフさせる第１のスイッチング手段と、前記コンバータの出力をオン／オフさせる第２のスイッチング手段と、前記コンバータの出力とは異なるシステム電源により動作し、前記コンバータの出力を目標電圧にするために前記コンバータの実出力電圧に応じて前記第１のスイッチング手段をオンさせるためのスイッチング信号を生成するとともに、外部からの作動／停止指令に応じて前記第２のスイッチング手段をオン／オフ制御する制御手段と、この制御手段により生成されたスイッチング信号を前記システム電源の電圧から前記コンバータの出力電圧を振幅とする信号に変換して前記第１スイッチング手段に出力するレベルシフト手段とを有し、
前記レベルシフト手段は、前記制御手段が前記第２のスイッチング手段をオフさせているときに、所定ＬＯＷレベルの信号を前記第１スイッチング手段に出力することを特徴とするＤＣ／ＤＣコンバータの制御装置。
【請求項２】
前記レベルシフト手段は、前記コンバータの出力電圧を電源とするＣＭＯＳ構成のインバータを出力部として有しており、
このインバータのＰ−ｃｈトランジスタを前記コンバータの出力電圧を振幅とする信号で制御し、Ｎ−ｃｈトランジスタを前記システム電源の電圧を振幅とする信号で制御することを特徴とする請求項１に記載のＤＣ／ＤＣコンバータの制御装置。
【請求項３】
前記レベルシフト手段は、前記コンバータの出力電圧を電源とするＣＭＯＳ構成のインバータを出力部として有しており、このインバータのＰ−ｃｈトランジスタを前記コンバータの出力電圧を振幅とする信号で制御し、Ｎ−ｃｈトランジスタを前記システム電源の電圧を振幅とする信号で制御するとともに、
前記制御手段のスイッチング信号出力から前記Ｎ−ｃｈトランジスタおよびＰ−ｃｈトランジスタまでのＣＭＯＳ構成のゲート段数が等しいことを特徴とする請求項１に記載のＤＣ／ＤＣコンバータの制御装置。
【請求項４】
前記レベルシフト手段は、前記コンバータの出力電圧を電源とするＣＭＯＳ構成のインバータ出力にＮ−ｃｈトランジスタの出力が接続された出力部を有しており、
前記Ｎ−ｃｈトランジスタは、前記制御手段が前記第２のスイッチング手段をオフしている間、オン制御されることを特徴とする請求項１に記載のＤＣ／ＤＣコンバータの制御装置。
【請求項５】
前記制御手段と前記レベルシフト手段とが、同一基板上に構成されるＩＣであることを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載のＤＣ／ＤＣコンバータの制御装置。
【手続補正書】
【提出日】平成16年12月14日(2004.12.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
燃料ガスが所定圧力で供給される燃料極と空気が供給される空気極とを有する燃料電池装置において、前記燃料極の表面に付着した或いは周囲の空間における不純物を、衝撃力を与えて除去する除去手段が備えられている、ことを特徴とする燃料電池装置。
【請求項２】
前記除去手段は、前記燃料極表面への前記不純物の被覆による出力低下を検出する手段と、出力低下を検出した場合、衝撃力を与える手段と、を有する請求項1記載の燃料電池装置。
【請求項３】
前記除去手段は前記燃料ガスの供給圧力を前記圧力よりも高くなるように制御して衝撃力を与える制御装置を有する請求項１又は２に記載の燃料電池装置。
【請求項４】
前記除去手段は燃料ガスを前記燃料極の表面に沿って流通させる案内板を有する請求項１から３のいずれかに記載の燃料電池装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
【発明を解決するための手段】
本願発明者らは上記の課題を解決すべく鋭意検討を重ねてきた結果、燃料極の表面に生成水、二酸化炭素、窒素等の不純物が付着して若しくは燃料極の表面の周囲の空間においてこれら不純物の濃度が高くなって、反応に寄与する電極面積が減少し、これが出力を不安定にする一因となることに気が付いた。
この発明は、このような本発明者らによる新たな知見に基づいてなされた。
請求項１に記載の発明は次の通りである。即ち、
燃料ガスが所定圧力で供給される燃料極と空気が供給される空気極とを有する燃料電池装置において、前記燃料極の表面に付着した或いは周囲の空間における不純物を、衝撃力を与えて除去する除去手段が備えられている、ことを特徴とする燃料電池装置である
請求項２に記載の発明は次の通りである。即ち、
前記除去手段は、前記燃料極表面への前記不純物の被覆による出力低下を検出する手段と、出力低下を検出した場合、衝撃力を与える手段と、を有する請求項1記載の燃料電池装置である。
請求項３に記載の発明は次の通りである。即ち、
前記除去手段は前記燃料ガスの供給圧力を前記圧力よりも高くなるように制御して衝撃力を与える制御装置を有する請求項１又は２に記載の燃料電池装置である。
請求項４に記載の発明は次の通りである。即ち、
前記除去手段は燃料ガスを前記燃料極の表面に沿って流通させる案内板を有する請求項１から３のいずれかに記載の燃料電池装置である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
【発明の作用・効果】
請求項１に記載の発明によると、燃料極の表面の被覆物が除去される。これにより、燃料極の実効表面積が除去以前より大きくなり、もって燃料電池の出力が回復する。
請求項２に記載の発明によると、請求項１に記載の発明と同様の効果が奏される。
請求項３に記載の発明によると、強い流れの燃料ガスを排気することができるため、より好適に不純物の被覆を除去することができる。
請求項４に記載の発明によると、案内板によって燃料ガス流を流通させることにより、燃料極の表面の不純物の被覆を除去することができる。
なお、燃料極の表面の被覆物を除去することにより燃料電池の出力を回復させることは、燃料排気ガスを間欠的に空気極に導入するタイプの装置において特に有効であることは既述の通りであるが、この発明の技術を他のタイプ、即ち燃料排気ガスを燃料電池装置の系外へ直接排出するものに適用できることは言うまでもない。この場合においても、燃料極の実効表面積が除去以前より大きくなるので、燃料電池の出力が安定する。
【手続補正書】
【提出日】平成17年5月10日(2005.5.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
非晶質半導体膜上の一部の領域または全面に対してニッケル含有層を形成する工程と、
第１の加熱処理を行い、前記非晶質半導体膜の一部の領域または全面を結晶性半導体膜に変成させる工程と、
前記結晶性半導体膜中に１５族から選ばれた元素を選択的に添加する工程と、
第２の加熱処理を行い、前記１５族から選ばれた元素が添加された領域に、当該領域に隣接する領域から前記ニッケルをゲッタリングさせる工程と、
前記結晶性半導体膜をパターニングする工程と、
前記パターニングされた結晶性半導体膜を覆って絶縁膜を形成する工程と、
前記絶縁膜の形成後に酸化性雰囲気中で加熱処理を行う工程と、
を含むことを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項２】
非晶質半導体膜上にマスク絶縁膜を選択的に形成する工程と、
前記マスク絶縁膜を用いて前記非晶質半導体膜にニッケルが添加された領域を形成する工程と、
第１の加熱処理を行い、前記非晶質半導体膜の少なくとも一部を結晶性半導体膜に変成させる工程と、
前記結晶性半導体膜に１５族から選ばれた元素が添加された領域を形成する工程と、
第２の加熱処理を行い、前記１５族から選ばれた元素が添加された領域に、当該領域に隣接する領域から前記ニッケルをゲッタリングさせる工程と、
前記結晶性半導体膜をパターニングする工程と、
前記パターニングされた結晶性半導体膜を覆ってゲイト絶縁膜を形成する工程と、
前記ゲイト絶縁膜の形成後に酸化性雰囲気中で加熱処理を行う工程と、
を含むことを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項３】
非晶質半導体膜上にマスク絶縁膜を選択的に形成する工程と、
前記マスク絶縁膜を用いて前記非晶質半導体膜にニッケルが添加された領域を形成する工程と、
第１の加熱処理を行い、前記非晶質半導体膜の少なくとも一部を結晶性半導体膜に変成させる工程と、
前記マスク絶縁膜をそのまま利用して前記結晶性半導体膜に１５族から選ばれた元素が添加された領域を形成する工程と、
第２の加熱処理を行い、前記１５族から選ばれた元素が添加された領域に、当該領域に隣接する領域から前記ニッケルをゲッタリングさせる工程と、
前記結晶性半導体膜をパターニングする工程と、
前記パターニングされた結晶性半導体膜を覆ってゲイト絶縁膜を形成する工程と、
前記ゲイト絶縁膜の形成後に酸化性雰囲気中で加熱処理を行う工程と、を含み、
前記ニッケルが添加された領域と前記１５族から選ばれた元素が添加された領域とは同一の領域であることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項４】
非晶質半導体膜上にニッケル含有層を形成する工程と、
第１の加熱処理を行い、前記非晶質半導体膜を結晶性半導体膜に変成させる工程と、
前記結晶性半導体膜中に１５族から選ばれた元素を選択的に添加する工程と、
第２の加熱処理を行い、前記１５族から選ばれた元素が添加された領域に、当該領域に隣接する領域から前記ニッケルをゲッタリングさせる工程と、
前記結晶性半導体膜をパターニングする工程と、
前記パターニングされた結晶性半導体膜を覆って絶縁膜を形成する工程と、
前記絶縁膜の形成後に酸化性雰囲気中で加熱処理を行う工程と、
を含むことを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれか一項において、前記１５族から選ばれた元素としてリンを用いることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５のいずれか一項において、前記１５族から選ばれた元素が添加された領域には１×１０19〜１×１０21ａｔｏｍｓ／ｃｍ3の濃度で当該元素が添加されることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年2月4日(2004.2.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の領域を含む主回路と、
上記複数の領域の各々に含まれる第１ＭＯＳトランジスタに供給される基板バイアス電圧を制御する基板バイアス制御回路と、
上記基板バイアス制御回路を制御して、上記主回路の状態を第１状態または第２状態に制御するスタンバイ制御回路と、
上記基板バイアス制御回路により制御され、上記第１状態において上記基板バイアス電圧を駆動する複数の駆動トランジスタとを有し、
上記複数の駆動トランジスタの各々のソース・ドレイン経路は、複数の上記領域に含まれる第１ＭＯＳトランジスタのソース・ウェル間に設けられており、
上記基板バイアス制御回路は、上記第２状態における第１ＭＯＳトランジスタのしきい値電圧の絶対値が上記第１状態における第１ＭＯＳトランジスタのしきい値電圧の絶対値よりも高くなるように上記基板バイアスを制御し、
上記基板バイアス電圧は、上記第１状態においては上記複数の駆動トランジスタのソース・ドレイン経路を介して供給され、上記第２状態においては上記基板バイアス制御回路から供給される半導体集積回路装置。
【請求項２】
請求項１において、
上記複数の駆動トランジスタのゲートは基板制御線に接続され、
上記基板バイアス制御回路は、上記複数の駆動トランジスタのゲートを駆動する基板制御信号を上記基板制御線に出力する半導体集積回路装置。
【請求項３】
請求項２において、
上記基板バイアス制御回路は、上記第２状態から上記第１状態に遷移する過程での上記基板制御信号の出力インピーダンスを上記第１状態に遷移した後でのインピーダンスよりも大きくなるように制御する半導体集積回路装置。
【請求項４】
請求項２または３において、
上記基板バイアス制御回路は、上記基板制御線を通って上記基板バイアス制御回路に戻ってくる上記基板制御信号の戻り信号を受け、
上記戻り信号の電位に基づき、上記第１ＭＯＳトランジスタのウェルの電位状態を検出する半導体集積回路装置。
【請求項５】
請求項２乃至４のいずれかにおいて、
上記基板制御信号の振幅は上記駆動トランジスタのゲート耐圧よりも大きい半導体集積回路装置。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれかにおいて、
負電圧発生回路を有し、
上記基板バイアス制御回路は、上記第２状態での上記負電圧発生回路の出力インピーダンスを、上記第１状態での上記負電圧発生回路の出力インピーダンスよりも小さくなるように制御する半導体集積回路装置。
【請求項７】
請求項６において、
上記負電圧発生回路は、第１チャージポンプ回路と第２チャージポンプ回路とを有し、
上記基板バイアス制御回路は、上記第２状態では上記第１チャージポンプ回路を用いて負電圧を発生させ、上記第１状態では上記第２チャージポンプ回路を用いて負電圧を発生させ、
上記第１チャージポンプ回路のポンピングコンデンサの容量は、上記第２チャージポンプ回路のポンピングコンデンサの容量よりも小さい半導体集積回路装置。
【請求項８】
請求項１乃至７のいずれかにおいて、
上記駆動トランジスタのしきい値電圧の絶対値は上記第１ＭＯＳトランジスタのしきい値電圧の絶対値よりも大きい半導体集積回路装置。
【請求項９】
請求項１乃至８のいずれかにおいて、
上記半導体集積回路装置の外部とのインターフェースをするＩ／Ｏ回路を有し、
上記Ｉ／Ｏ回路を構成する少なくとも一つの第２ＭＯＳトランジスタのゲート絶縁膜厚は、上記第１ＭＯＳトランジスタのゲート絶縁膜厚よりも厚い半導体集積回路装置。
【請求項１０】
アクティブ状態で基板バイアスを駆動する駆動力がスタンバイ状態で基板バイアスを駆動する駆動力よりも大きい半導体集積回路装置。