【手続補正書】
【提出日】平成17年3月28日(2005.3.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
高純度流体処理システムを構成する方法であって、
直径（Ｄ）、及び少なくとも粒径ナンバー５を持つ金属チューブの提供;
前記金属チューブにおいて、前記チューブの前記直径の１．５倍の半径を持つ折り曲げの造形；及び
前記高純度流体処理システムへの前記チューブの設置
からなる方法。
【請求項２】
前記高純度流体処理システムへの前記チューブの設置の段階が、前記チューブを折り曲げ後の加熱処理にかけない前記高純度流体処理システムの設置を含むことを特徴とする、請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記高純度流体処理システムへの前記チューブの設置の段階が、前記チューブを折り曲げ後の研磨工程にかけない前記高純度流体処理システムの設置を含むことを特徴とする、請求項１記載の方法。
【請求項４】
前記金属チューブがステンレスからなることを特徴とする、請求項１記載の方法。
【請求項５】
前記金属チューブが３００シリーズのステンレスからなることを特徴とする、請求項４記載の方法。
【請求項６】
前記金属チューブが３０４Ｌステンレス及び３１６Ｌステンレスの中の１つから選択された金属から造形されることを特徴とする、請求項５記載の方法。
【請求項７】
前記金属チューブが少なくとも粒径ナンバー８を持つことを特徴とする、請求項１記載の方法。
【請求項８】
前記折り曲げが前記金属チューブの少なくとも２倍の半径を持つことを特徴とする、請求項１記載の方法。
【請求項９】
前記金属チューブが少なくとも粒径ナンバー８を持つことを特徴とする、請求項８記載の方法。
【請求項１０】
前記金属チューブがステンレスからなることを特徴とする、請求項９記載の方法。
【請求項１１】
前記高純度流体処理システムへの前記チューブの設置の段階が、前記チューブを折り曲げ後の加熱処理にかけない前記高純度流体処理システムの設置を含むことを特徴とする、請求項１０記載の方法。
【請求項１２】
前記高純度流体処理システムへの前記チューブの設置の段階が、前記チューブを折り曲げ後の研磨工程にかけない前記高純度流体処理システムの設置を含むことを特徴とする、請求項１０記載の方法。
【請求項１３】
前記折り曲げ角度が４５度あるいは９０度以外であることを特徴とする、請求項１記載の方法。
【請求項１４】
前記チューブで折り曲げを造形する前記段階が前記折り曲げを造形するためにマンドレルを用いることを含むことを特徴とする、請求項１記載の方法。
【請求項１５】
前記チューブの前記直径が少なくとも１インチであることを特徴とする、請求項１記載の方法。
【請求項１６】
前記チューブの前記直径が１インチ未満；及び
前記折り曲げの前記半径が前記直径のわずか３倍であることを特徴とする、請求項１記載の方法。
【請求項１７】
前記チューブの前記半径が前記直径のわずか２倍であることを特徴とする、請求項１６記載の方法。
【請求項１８】
前記チューブの内側の表面が前記チューブでの折り曲げの造形の前記段階の後及び前記チューブの設置の前記段階の前に電解研磨されることを特徴とする、請求項１記載の方法。
【請求項１９】
前記金属チューブでの折り曲げの造形の前記段階が前記チューブ中に、各折り曲げが前記チューブの前記直径の１．５倍の半径を持つ複数の折り曲げからなることを特徴とする、請求項１記載の方法。
【請求項２０】
前記高純度流体処理システムが半導体加工システムであり、及び、前記チューブが液体供給ラインとして設置されている、
ことを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項２１】
前記高純度流体処理システムが製薬システムであり、及び、前記チューブが液体供給ラインとして設置されている、
ことを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項２２】
前記チューブが真空前段ラインとして設置されていることを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項２３】
チャンバー、及び、
前記高純度ラインが少なくとも粒径ナンバー５を持つ金属から造形され、直径（Ｄ）と内部に造形された折り曲がりを持ち、前記折り曲がりが前記直径の１．５倍よりも大きい半径を持つ、前記チャンバーとの流体コミュニケーションでの高純度ライン、からなる高純度流体システム。
【請求項２４】
前記高純度ラインが曲げた後に加熱処理を受けていないことを特徴とする請求項２３記載の高純度流体処理システム。
【請求項２５】
前記高純度ラインが曲げた後に研磨工程を受けていないことを特徴とする請求項２４記載の高純度流体処理システム。
【請求項２６】
前記高純度ラインがステンレスからなることを特徴とする請求項２４記載の高純度流体処理システム。
【請求項２７】
前記高純度ラインが３００シリーズステンレスからなることを特徴とする請求項２６記載の高純度流体処理システム。
【請求項２８】
前記高純度ラインが３０４Ｌステンレス及び３１６Ｌステンレスの１つから選ばれた材料から構成されたことを特徴とする請求項２７記載の高純度流体処理システム。
【請求項２９】
前記高純度ラインが少なくとも粒径ナンバー８を持つ材料から構成されていることを特徴とする請求項２３記載の高純度流体処理システム。
【請求項３０】
前記折り曲がりが、前記高純度ラインの前記直径の少なくとも２倍の半径を持つことを特徴とする請求項２３記載の高純度流体処理システム。
【請求項３１】
前記高純度ラインが少なくとも粒径ナンバー８を持つ材料から造形することを特徴とする請求項３０記載の高純度流体処理システム。
【請求項３２】
前記高純度ラインがステンレスからなることを特徴とする請求項３１記載の高純度流体処理システム。
【請求項３３】
前記高純度ラインが折り曲げた後に加熱処理を必要としていないことを特徴とする請求項３２記載の高純度流体処理システム。
【請求項３４】
前記高純度ラインが折り曲げた後に研磨工程を必要としていないことを特徴とする請求項３２記載の高純度流体処理システム。
【請求項３５】
前記折り曲がりが４５度もしくは９０度以外であることを特徴とする請求項２３記載の高純度流体処理システム。
【請求項３６】
前記折り曲がりが非金属マンドレルを使用し造形していることを特徴とする請求項２３記載の高純度流体処理システム。
【請求項３７】
前記高純度ラインの前記直径が少なくとも１インチであることを特徴とする請求項２３記載の高純度流体処理システム。
【請求項３８】
前記高純度ラインの前記直径が１インチ以下であること、及び、前記折り曲がりの前記半径が前記直径の３倍以上でないことを特徴とする請求項２３記載の高純度流体処理システム。
【請求項３９】
前記折り曲がりの前記半径が前記直径の２倍以上でないことを特徴とする請求項３８記載の高純度流体処理システム。
【請求項４０】
前記高純度ラインの内側表面が電解研磨されていることを特徴とする請求項２３記載の高純度流体処理システム。
【請求項４１】
前記高純度流体処理システムが半導体システムであり、及び、前記高純度ラインが液体供給ラインであることを特徴とする請求項２３記載の高純度流体処理システム。
【請求項４２】
前記高純度流体処理システムが製薬システムであり、及び、前記高純度ラインが生成ラインであることを特徴とする請求項２３記載の高純度流体処理システム。
【請求項４３】
前記高純度ラインが真空前段ラインであることを特徴とする請求項２３記載の高純度流体処理システム。
【請求項４４】
前記高純度ラインが複数の折り曲がりを含み、その折り曲がりが各々で、前記高純度ラインの前記直径の１．５倍よりも大きな半径を持つことを特徴とする請求項２３記載の高純度流体処理システム。
【請求項４５】
高純度流体処理システムに設置される金属チューブを準備する方法であって、
前記チューブの粒径ナンバーに少なくとも部分的に基づいて金属チューブを選択する段階と、
前記金属チューブに曲げ部分を形成する段階からなり、
前記チューブの内壁が平均粗さ２５μｍ若しくはそれ以下となるように、前記曲げ部分の曲げ半径が大きな曲率を備えるようにされることを特徴とする方法。
【請求項４６】
前記金属チューブが、ステンレス鋼からなることを特徴とする請求項４５記載の方法。
【請求項４７】
前記金属チューブが、３００シリーズのステンレス鋼からなることを特徴とする請求項４６記載の方法。
【請求項４８】
前記曲げ半径が、前記金属チューブの直径に対して少なくとも１．５倍以上であることを特徴とする請求項４５記載の方法。
【請求項４９】
前記曲げ半径が、前記金属チューブの直径の少なくとも２倍以上であることを特徴とする請求項４８記載の方法。
【請求項５０】
前記金属チューブが、少なくとも５以上の粒径ナンバーを備えることを特徴とする請求項４５記載の方法。
【請求項５１】
前記金属チューブが、少なくとも８以上の粒径ナンバーを備えることを特徴とする請求項５０記載の方法。
【請求項５２】
前記曲げ部分が、前記金属チューブの直径の少なくとも１．５倍以上の曲げ半径であることを特徴とする請求項５１記載の方法。
【請求項５３】
前記曲げ部分が、前記金属チューブの直径の少なくとも２倍以上の曲げ半径を備えることを特徴とする請求項５０記載の方法。
【請求項５４】
前記曲げ部分が、４５°若しくは９０°以外の曲げ角度であることを特徴とする請求項４５記載の方法。
【請求項５５】
前記チューブの曲げ部分を形成する段階が、非金属製マンドレルを用いて、前記曲げ部分を形成する段階を備えることを特徴とする請求項４５記載の方法。
【請求項５６】
前記チューブの直径が、少なくとも１インチ以上であることを特徴とする請求項４５記載の方法。
【請求項５７】
前記チューブの直径が１インチを超えず、且つ、前記曲げ部分の曲率半径が前記チューブの直径の３倍を超えないことを特徴とする請求項４５記載の方法。
【請求項５８】
前記曲げ部分の曲率半径が、前記直径の２倍を超えないことを特徴とする請求項５７記載の方法。
【請求項５９】
前記チューブの曲げ部分を形成する段階の後に、
前記チューブの内面が電解研磨されることを特徴とする請求項４５記載の方法。
【請求項６０】
前記金属チューブに曲げ部分を形成する段階が、前記チューブに複数の曲げ部分を形成する段階を備え、
前記チューブの内壁が平均粗さ２５μｍ若しくはそれ以下となるように、前記曲げ部分それぞれの曲げ半径が大きな曲率を備えるようにされることを特徴とする請求項４５記載の方法。
【請求項６１】
高純度流体処理システムに設置される金属チューブを準備する方法であって、
前記チューブの粒径ナンバーに少なくとも部分的に基づいて金属チューブを選択する段階と、
前記金属チューブに曲げ部分を形成する段階からなり、
前記チューブの内壁が平均粗さ２５μｍ若しくはそれ以下となるように、前記粒径ナンバーが高くされることを特徴とする方法。
【請求項６２】
前記金属チューブが、ステンレス鋼からなることを特徴とする請求項６１記載の方法。
【請求項６３】
前記金属チューブが、３００シリーズのステンレス鋼からなることを特徴とする請求項６２記載の方法。
【請求項６４】
前記曲げ部分の前記曲げ半径が、前記金属チューブの直径に対して少なくとも１．５倍以上であることを特徴とする請求項６１記載の方法。
【請求項６５】
前記曲げ部分の前記曲げ半径が、前記金属チューブの直径の少なくとも２倍以上であることを特徴とする請求項６４記載の方法。
【請求項６６】
前記金属チューブが、少なくとも５以上の粒径ナンバーを備えることを特徴とする請求項６１記載の方法。
【請求項６７】
前記金属チューブが、少なくとも８以上の粒径ナンバーを備えることを特徴とする請求項６６記載の方法。
【請求項６８】
前記曲げ部分が、前記金属チューブの直径の少なくとも１．５倍以上の曲げ半径であることを特徴とする請求項６７記載の方法。
【請求項６９】
前記曲げ部分が、前記金属チューブの直径の少なくとも２倍以上の曲げ半径を備えることを特徴とする請求項６６記載の方法。
【請求項７０】
前記曲げ部分が、４５°若しくは９０°以外の曲げ角度であることを特徴とする請求項６１記載の方法。
【請求項７１】
前記チューブの曲げ部分を形成する段階が、非金属製マンドレルを用いて、前記曲げ部分を形成する段階を備えることを特徴とする請求項６１記載の方法。
【請求項７２】
前記チューブの直径が、少なくとも１インチ以上であることを特徴とする請求項６１記載の方法。
【請求項７３】
前記チューブの直径が１インチを超えず、且つ、前記曲げ部分の曲率半径が前記チューブの直径の３倍を超えないことを特徴とする請求項６１記載の方法。
【請求項７４】
前記曲げ部分の曲率半径が、前記直径の２倍を超えないことを特徴とする請求項７３記載の方法。
【請求項７５】
前記チューブの曲げ部分を形成する段階の後に、
前記チューブの内面が電解研磨されることを特徴とする請求項６１記載の方法。
【請求項７６】
前記金属チューブに曲げ部分を形成する段階が、前記チューブに複数の曲げ部分を形成する段階を備えることを特徴とする請求項６１記載の方法。