【手続補正書】
【提出日】平成16年4月27日(2004.4.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
処理対象の基板に対して所定の処理を施す基板処理装置と、前記基板の位置決めを行う位置決め装置との間で前記基板を搬送する基板搬送方法において、
前記基板を保持して、前記基板処理装置と前記位置決め装置との間で移動する基板保持部材を使用し、
前記位置決め装置において、前記基板保持部材に前記基板を載置する際に前記基板保持部材を所定の位置に位置決めしておき、
前記基板保持部材から前記基板処理装置に前記基板を受け渡す際に、前記基板処理装置の所定の位置に前記基板保持部材を位置決めしておくと共に、
前記基板処理装置と前記位置決め装置とは別々に設置されており、
前記基板処理装置と前記位置決め装置との間で生じた相対変位を吸収する搬送機構に沿って前記基板保持部材が移動することを特徴とする基板搬送方法。
【請求項２】
マスク及び感光基板をそれぞれ位置決めするステージ系を備え、前記マスク上のパターンの像を前記感光基板に露光する露光装置において、
前記露光に先立って前記マスク又は前記感光基板よりなる処理対象の基板に所定の処理を施す前処理装置と、
前記処理対象の基板を保持して、前記前処理装置と前記ステージ系との間で移動する基板保持装置と、
前記基板保持装置に前記基板を載置する際に前記基板保持装置の少なくとも一部を所定の位置に位置決めする第１の位置決め部材と、
前記基板保持装置から前記ステージ系に前記処理対象の基板を受け渡す際に、前記ステージ系の所定の位置に前記基板保持装置の少なくとも一部を位置決めする第２の位置決め部材とを有すると共に、
前記ステージ系と前記前処理装置とは別々に設置されており、
前記基板保持装置は、前記ステージ系と前記前処理装置との間で生じた相対変位を吸収する搬送機構を有していることを特徴とする露光装置。
【請求項３】
処理対象の基板に対して所定の処理を施す基板処理装置と、前記基板の位置決めを行う位置決め装置との間で前記基板を搬送する基板搬送方法において、
前記基板を保持して、前記基板処理装置と前記位置決め装置との間で移動すると共に、位置検出用マークを備えた基板保持部材を使用し、
前記位置決め装置において、前記基板保持部材に前記基板を載置する際に前記基板保持部材を所定の位置に位置決めしておき、
前記位置決め装置に載置された前記基板のエッジ位置を計測し、
前記所定の位置に位置決めされた前記基板保持部材上の前記位置検出マークを検出し、
前記基板保持部材から前記基板処理装置に前記基板を受け渡す際に、前記基板処理装置の所定の位置に、前記基板保持部材を位置決めしておくことを特徴とする基板搬送方法。
【請求項４】
前記位置検出用マークは、２次元の位置検出用マークであることを特徴とする請求項３に記載の基板搬送方法。
【請求項５】
マスク及び感光基板をそれぞれ位置決めするステージ系を備え、前記マスク上のパターンの像を前記感光基板に露光する露光装置において、
前記露光に先立って前記マスク又は前記感光基板よりなる処理対象の基板に所定の処理を施す前処理装置と、
前記処理対象の基板を保持して、前記前処理装置と前記ステージ系との間で移動すると共に、２次元の位置検出用マークを備えた基板保持装置と、
前記基板保持装置に前記基板を載置する際に、前記基板保持装置の少なくとも一部が所定の位置に位置決めされたかを検出すると共に、前記基板保持装置から前記ステージ系に前記処理対象の基板を受け渡す際に、前記ステージ系に対する所定の位置に前記基板保持装置の少なくとも一部が位置決めされたかを検出する検出手段と、を有し、
前記前処理装置は、前記基板の複数のエッジ位置を計測する複数の第１撮像装置と、前記基板保持部材上の前記位置検出マークを計測する第２撮像装置とを備えることを特徴とする露光装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
また、本発明においては、更に基板処理装置（１）と位置決め装置（２５，２７）とは別々に設置されており、このときにその基板処理装置とその位置決め装置との間で生じた相対変位を吸収する搬送機構（２３）に沿って基板保持部材（２４）が移動する。これによって位置決め装置側で発生する振動が基板処理装置側に伝わりにくくなると共に、その相対変位があっても基板保持部材（２４）を円滑に移動させることができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
斯かる本発明の露光装置によれば、第１及び第２の位置決め部材に順次基板保持装置（２２〜２４）の一部を位置決めしてそれぞれ基板の載置及び取り出しを行うことによって、本発明の基板搬送方法が実施できる。
この場合にも、そのステージ系とその前処理装置とは別々に設置されており、その基板保持装置は、そのステージ系とその前処理装置との間で生じた相対変位を吸収する搬送機構（２３）を有している。これによって、その前処理装置側で発生する振動がそのステージ系側に伝わりにくくなると共に、その基板を円滑に搬送できる。
また、本発明による別の基板搬送方法は、処理対象の基板（Ｗ１）に対して所定の処理を施す基板処理装置（１）と、その基板の位置決めを行う位置決め装置（２５，２７）との間でその基板を搬送する基板搬送方法において、その基板を保持して、その基板処理装置とその位置決め装置との間で移動すると共に、位置検出用マーク（５０）を備えた基板保持部材（４４）を使用し、その位置決め装置において、その基板保持部材にその基板を載置する際にその基板保持部材を所定の位置に位置決めしておき、その位置決め装置に載置されたその基板のエッジ位置を計測し、その所定の位置に位置決めされたその基板保持部材上のその位置検出マークを検出し、その基板保持部材からその基板処理装置にその基板を受け渡す際に、その基板処理装置の所定の位置に、その基板保持部材を位置決めしておくものである。
この発明によれば、位置決め装置及び基板処理装置でそれぞれ基板保持部材の位置決めを行うことによって、その基板処理装置とその位置決め装置とが相対的に変位しても、その基板処理装置側ではその基板の外形検出等を行うことなく、その基板処理装置側にその基板を所定の位置関係で受け渡すことができる。
本発明において、一例としてその位置検出用マークは、２次元の位置検出用マークである。
また、本発明による別の露光装置は、マスク及び感光基板をそれぞれ位置決めするステージ系（７，１２）を備え、そのマスク上のパターンの像をその感光基板に露光する露光装置において、その露光に先立ってそのマスク又はその感光基板よりなる処理対象の基板（Ｗ１）に所定の処理を施す前処理装置（２５，２７）と、その処理対象の基板を保持して、その前処理装置とそのステージ系との間で移動すると共に、２次元の位置検出用マーク（５０）を備えた基板保持装置（４４）と、その基板保持装置にその基板を載置する際に、その基板保持装置の少なくとも一部が所定の位置に位置決めされたかを検出すると共に、その基板保持装置からそのステージ系にその処理対象の基板を受け渡す際に、そのステージ系に対する所定の位置にその基板保持装置の少なくとも一部が位置決めされたかを検出する検出手段（４６Ａ，４６Ｂ）と、を有し、その前処理装置は、その基板の複数のエッジ位置を計測する複数の第１撮像装置（３０Ａ，３０Ｂ，３０Ｃ）と、その基板保持部材上のその位置検出マーク（５０）を計測する第２撮像装置（５１）とを備えるものである。この発明によれば、その基板搬送方法を実施できる。