(57)【要約】【課題】情報記録部分の欠陥を高精度で検出して効率良く高品質のＤＴＲメディアである磁気ディスクを製造することができる磁気ディスクの製造方法を提供すること。【解決手段】本発明の磁気ディスクの製造方法は、ＤＴＲメデイアの磁気ディスクの検査工程において、磁気ディスク１００の表面へ光を照射し、ＣＣＤ７を有する光学画像処理装置８で磁気ディスク１００の表面上の光照射部５からの反射光を受光する。そして、受光して得られたＣＣＤ光信号７Ａを第１の閾値と比較して非磁性領域１４０からの反射光に対応する溝信号９とトラック１３０からの反射光に対応する情報記録部信号１０とを識別し、さらに情報記録部信号１０を、第１の閾値１５の値より十分に小さい値に設定した第２の閾値１６と比較し、トラック１３０にある情報記録部実欠陥信号１１を検出する。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
非磁性領域により分離された磁性領域を含むディスクリートトラック磁性層が、磁気ディスク用基板上に少なくとも形成されてなる磁気ディスクの製造方法であって、前記ディスクリートトラック磁性層を形成した磁気ディスクに対して光を照射する工程と、前記光が照射された際の反射光の強度に対して信号検出用閾値及び欠陥検出用閾値を用いて欠陥検出を行う工程と、を具備することを特徴とする磁気ディスクの製造方法。
【請求項２】
前記信号検出用閾値の反射光強度が前記欠陥検出用閾値の反射光強度よりも高いことを特徴とする請求項１記載の磁気ディスクの製造方法。
【請求項３】
前記信号検出用閾値の反射光強度を超えた反射光強度の領域を非磁性領域と判定することを特徴とする請求項２記載の磁気ディスクの製造方法。
【請求項４】
前記ディスクリートトラック磁性層は、前記磁性領域を溝により分離することを特徴とする請求項１から請求項３のいずれかに記載の磁気ディスクの製造方法。
【請求項５】
前記溝に非磁性材料が埋め込まれていることを特徴とする請求項４記載の磁気ディスクの製造方法。
【請求項６】
前記ディスクリートトラック磁性層は、前記磁性領域にイオン注入して非磁性化することにより前記非磁性領域を形成してなることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれかに記載の磁気ディスクの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ディスクリートトラック磁性層を備えたディスクリートトラック型の磁気ディスクの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年の情報処理の大容量化に伴い、ハードディスクドライブ（ＨＤＤ）などに搭載される磁気ディスクの高密度化が進展している。なかでも、磁気ディスクを高密度化することで、所謂”熱揺らぎ”と呼ばれる現象（すなわち、トラック間で情報が打ち消し合ってしまう現象）の発生を抑えることが可能なディスクリートトラック型の磁気ディスク（ディスクリートトラックメディア（Discrete  Truck  Recording  Medium、以下、”ＤＴＲメディア”と略称する））の開発も行われている（特許文献１参照）。この種の磁気ディスクは、電子線リソグラフィーやナノインプリントなどの最新の半導体技術を用いてガラス基板上の磁性層に物理的に溝を形成したものである。
【特許文献１】特開２００８−１７１５０６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
ところで、上述したＤＴＲメディアである磁気ディスクは、磁性層が形成されたガラス基板に円周方向に沿って溝を形成し、そこに非磁性材料を埋め込んだ構造である。このような構成においては、偏心などの影響で磁気ヘッドが溝を横切ってしまうと、再生信号出力が激減して再生不能となるので、磁気ヘッドの位置決め精度を高くする必要があり、ＤＴＲメディアの欠陥検査を行う際には、トラッキングサーボを働かせて常にオントラック状態でリード／ライト検査をする必要がある。このため、磁気抵抗効果素子（ＭＲ素子）の実素子を有する現行の実ヘッドを用いた磁気変換読み出しによる欠陥検出検査では、装置の大掛かりな改造が必要であり、しかも専用のヘッドを必要とする。
【０００４】
本発明はかかる点に鑑みてなされたものであり、情報記録部分の欠陥を高精度で検出して効率良く高品質のＤＴＲメディアである磁気ディスクを製造することができる磁気ディスクの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の磁気ディスクの製造方法は、非磁性領域により分離された磁性領域を含むディスクリートトラック磁性層が、磁気ディスク用基板上に少なくとも形成されてなる磁気ディスクの製造方法であって、前記ディスクリートトラック磁性層を形成した磁気ディスクに対して光を照射する工程と、前記光が照射された際の反射光の強度に対して信号検出用閾値及び欠陥検出用閾値を用いて欠陥検出を行う工程と、を具備することを特徴とする。
【０００６】
この方法によれば、磁性領域、非磁性領域及び欠陥の反射光強度の違いを用いて、磁性領域と非磁性領域とを識別する反射光強度の閾値と、磁性領域と欠陥とを識別する反射光強度の閾値とを設けるので、磁性領域と非磁性領域とを識別すると共に磁性領域と欠陥とを識別して、磁性領域上の欠陥を検出でき、効率良く高品質のＤＴＲメディアである磁気ディスクを製造することができる。
【０００７】
本発明の磁気ディスクの製造方法においては、前記信号検出用閾値の反射光強度が前記欠陥検出用閾値の反射光強度よりも高いことが好ましい。この場合において、前記信号検出用閾値の反射光強度を超えた反射光強度の領域を非磁性領域と判定することが好ましい。
【０００８】
本発明の磁気ディスクの製造方法においては、前記ディスクリートトラック磁性層は、前記磁性領域を溝により分離することが好ましい。この場合においては、前記溝に非磁性材料が埋め込まれていることが好ましい。
【０００９】
本発明の磁気ディスクの製造方法においては、前記ディスクリートトラック磁性層は、前記磁性領域にイオン注入して非磁性化することにより前記非磁性領域を形成してなることが好ましい。
【発明の効果】
【００１０】
本発明の磁気ディスクの製造方法は、非磁性領域により分離された磁性領域を含むディスクリートトラック磁性層が、磁気ディスク用基板上に少なくとも形成されてなる磁気ディスクの製造方法であって、前記ディスクリートトラック磁性層を形成した磁気ディスクに対して光を照射する工程と、前記光が照射された際の反射光の強度に対して信号検出用閾値及び欠陥検出用閾値を用いて欠陥検出を行う工程と、を具備するので、情報記録部分の欠陥を高精度で検出して効率良く高品質のＤＴＲメディアである磁気ディスクを製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、本発明の実施の形態について添付図面を参照して詳細に説明する。なお、本実施の形態においては、ＤＴＲメディアが、磁性領域を溝により分離し、その溝に非磁性材料を埋め込んでなるディスクリートトラック磁性層を有する場合について説明する。
【００１２】
図１は、本発明の実施の形態に係る磁気ディスクの製造方法によって最終的に製造された磁気ディスクの構造図である。図１に示すように、磁気ディスク１００は、ＤＴＲメディアであり、その拡大断面図を参照すると、ガラス基板１１０の上に軟磁性層１２０が形成されており、さらにその上には、ディスクリートトラック磁性層が形成されている。このディスクリートトラック磁性層は、情報が記録される複数のトラック（情報記録部分：磁性領域）１３０と、各トラック１３０間に情報が記録されない非磁性領域（溝部分）１４０とが形成されている。トラックピッチは、典型的には２００ｎｍ程度である。
【００１３】
(磁気ディスクの製造方法)
図２は、図１に示すＤＴＲメディアの磁気ディスク１００の製造方法を示す図である。図２（ａ）に示すように、まず電子線リソグラフィー法を用いて原盤となるスタンパ２００を作製する。このスタンパ２００にはデータトラックなどのパターンが形成されている。出来上がったスタンパ２００を用いて、ナノインプリントリソグラフィ法によりメディア上に形成したレジスト樹脂２１０にパターンを転写する。次に、図２（ｂ）に示すように、転写された樹脂パターンをマスク材として、ドライエッチング手法でメディア表面に溝を加工形成する。そして図２（ｃ）に示すように、磁気ヘッドの浮上安定性を確保するために、形成した溝に非磁性材料１４０Ａを埋め込み、平坦化する。非磁性領域１４０が形成される位置には情報が記録されないため、磁気ヘッドによる読み書き動作は行われない。なお、本実施の形態では、データトラック間の溝部分に非磁性材料１４０Ａを埋め込んだが、情報が記録されない非記録領域１４０はデータトラックを磁気的に分離していればよく、必ずしも非磁性材料を埋め込む必要はない。
【００１４】
ＤＴＲメディアは、ディスク基体上に、上記軟磁性層や中間層を介してディスクリートトラック磁性層が形成されてなる。また、必要に応じてディスクリート磁性層上に保護膜及び潤滑膜を形成する。
【００１５】
ディスク基体（磁気ディスク用基板）としては、例えば、ガラス基板、アルミニウム基板、シリコン基板、プラスチック基板などを用いることができる。軟磁性層としては、例えば、ＦｅＣｏＴａＺｒ膜などを用いることができる。また、中間層としては、配向制御層や下地層などを挙げることができる。ディスクリートトラック磁性層の磁性材料としては、Ｃｏ，Ｃｒ，Ｐｔなどを挙げることができ、非磁性材料としては、Ｔａなどを挙げることができる。保護膜の材料としては、水素化カーボンなどを挙げることができる。また、潤滑層の材料としては、パーフルオロポリエーテルなどを挙げることができる。
【００１６】
(磁気ディスクの検査方法)
上述した製造方法で磁気ディスク１００が製造された後、検査を行う。
本発明者は、ディスクリートトラック磁性層に光を照射すると、磁性領域と非磁性領域とで反射光強度が異なることに着目した。一方で、磁性領域に傷や異物などの欠陥が存在すると、この部分も反射光の強度が異なる。そこで、本発明者は、磁性領域、非磁性領域及び欠陥の反射光強度の違いを用いて、磁性領域と非磁性領域とを識別する反射光強度の閾値と、磁性領域と欠陥とを識別する反射光強度の閾値とを設けることにより、磁性領域と非磁性領域とを識別すると共に磁性領域と欠陥とを識別して、磁性領域上の欠陥を検出できることを見出し本発明をするに至った。
【００１７】
すなわち、本発明の骨子は、磁気ディスク用基板上に、少なくとも前記ディスクリートトラック磁性層を形成した磁気ディスクに対して光を照射して、前記光が照射された際の反射光の強度に対して信号検出用閾値及び欠陥検出用閾値を用いて欠陥検出を行うことにより、情報記録部分の欠陥を高精度で検出して効率良く高品質のＤＴＲメディアである磁気ディスクを製造することである。
【００１８】
図３は、本発明者が案出した磁気ディスクの検査方法の概要を示す模式図である。図３に示すように、光源装置３から磁気ディスク１００の表面へ光４を照射し、光４が当たった磁気ディスク１００上の光照射部５からの反射光６を撮像素子の１つであるＣＣＤ（Charge  Coupled  Device）７を有する光学画像処理装置８で受光する。光源装置３から出力される光は、例えば波長が３５０ｎｍ〜７５０ｎｍ、輝度が１００万ｌｘ以上である。
【００１９】
磁気ディスク１００に対する光４の照射は、磁気ディスク１００の半径方向に直線的に行われるので、反射光６を受光して得られるＣＣＤ光信号７Ａには、図３の拡大図に示すように、溝部分である非磁性領域１４０からの反射光に対応する溝信号９と、情報記録部分であるトラック１３０からの反射光に対応する情報記録部信号１０とが含まれる。さらに、トラック１３０にキズ、埃、異物等の欠陥がある場合には、該欠陥からの反射光に対応する情報記録部実欠陥信号１１も含まれる。これらの信号を含むＣＣＤ光信号７Ａが光学画像処理装置８に取り込まれる。
【００２０】
光学画像処理装置８は、取り込んだＣＣＤ光信号７Ａを処理し、第１の閾値（信号検出用閾値：反射光強度）１５によって溝信号９と情報記録部信号１０とを識別する。すなわち、第１の閾値の反射光強度を超えた反射光強度の領域を非磁性領域（溝信号９）と判定して、ＣＣＤ光信号７Ａから溝信号９を取り除く。この際、第１の閾値１５の値を溝信号９の値（信号レベル）よりも若干低い値に設定することで、溝信号９のみが第１の閾値１５を上回るので、溝信号９と情報記録部信号１０を容易に識別することができる。
【００２１】
次いで、情報記録部信号１０を第１の閾値１５の値より小さい値に設定した第２の閾値（欠陥検出用閾値）１６と比較し、トラック１３０にある情報記録部実欠陥信号１１を検出する。信号検出用閾値（第１の閾値）は、欠陥検出用閾値（第２の閾値）よりも十分に高い、すなわち、信号検出用閾値（第１の閾値）と欠陥検出用閾値（第２の閾値）との反射光強度差が十分に大きいことが好ましい。これにより、磁性領域と非磁性領域とを識別すると共に磁性領域と欠陥とを識別して、磁性領域上の欠陥を容易に検出することができる。
【００２２】
このように、ＣＣＤ信号７Ａに対して値の異なる２つの閾値を設けることで、実欠陥のみを精度良く検出することができる。また、この方法によれば、ＣＣＤ７の１ピクセルのサイズを基に溝部分である非磁性領域１４０の実サイズ（溝部分の形状や深さ）２０や情報記録部分であるトラック１３０上の欠陥の実サイズ２１の判定ができ、これによりサイズ別の検出レベルを設定することができ、検査精度の向上を図ることができる。
【００２３】
次に、本発明の効果を明確にするために行った実施例について説明する。なお、ここでは、磁気ディスク用基板としてガラス基板を用いた場合について説明する。
本実施例において、磁気ディスクの製造工程は、素材加工工程及び第１ラッピング工程；端部形状工程（穴部を形成するコアリング工程、端部（外周端部及び／又は内周端部）に面取り面を形成するチャンファリング工程（面取り面形成工程））；端面研磨工程（外周端部及び内周端部）；第２ラッピング工程；主表面研磨工程（第１及び第２研磨工程）；化学強化工程などの工程を含む。
【００２４】
上述した工程を経て得られたガラス基板上に軟磁性層を介してＣｏ，Ｃｒ，Ｐｔで構成された磁性層を形成した。電子線リソグラフィー法を用いて原盤となるスタンパ２００を作製した。このスタンパ２００には、データトラックなどのパターンが形成されている。出来あがったスタンパ２００を用いて、ナノインプリントリソグラフィ法によりメディア上に形成したレジスト樹脂２１０にパターンを転写した。次に、図２（ｂ）に示すように、転写された樹脂パターンをマスク材として、ドライエッチング手法でメディア表面（磁性層）に溝を加工形成してトラック１３０を形成した。そして、図２（ｃ）に示すように、磁気ヘッドの浮上安定性を確保するために、形成した溝に非磁性材料１４０Ａを埋め込み、平坦化した後、保護膜、潤滑膜を形成した。このようにしてＤＴＲメディアを形成した。
【００２５】
上述した磁気ディスク製造工程を経て製造された磁気ディスクに対して検査を行った。磁気ディスクの検査工程においては、磁気ディスク１００の表面へ光を照射し、ＣＣＤ７を有する光学画像処理装置８で磁気ディスク１００の表面上の光照射部５からの反射光を受光する。光学画像処理装置８は、受光して得られたＣＣＤ光信号７Ａを第１の閾値と比較して非磁性領域１４０からの反射光に対応する溝信号９とトラック１３０からの反射光に対応する情報記録部信号１０とを識別し、さらに情報記録部信号１０を、第１の閾値１５の値より十分に小さい値に設定した第２の閾値１６と比較し、トラック１３０にある情報記録部実欠陥信号１１を検出した。
【００２６】
このように、本発明の磁気ディスクの製造方法によれば、磁性領域、非磁性領域及び欠陥の反射光強度の違いを用いて、磁性領域と非磁性領域とを識別する反射光強度の閾値と、磁性領域と欠陥とを識別する反射光強度の閾値とを設けるので、磁性領域と非磁性領域とを識別すると共に磁性領域と欠陥とを識別して、磁性領域上の欠陥を検出でき、効率良く高品質のＤＴＲメディアである磁気ディスクを製造することができる。
【００２７】
本発明は上記実施の形態に限定されず、適宜変更して実施することができる。上記実施の形態においては、ＤＴＲメディアが、磁性領域を溝により分離し、その溝に非磁性材料を埋め込んでなるディスクリートトラック磁性層を有する場合について説明しているが、本発明はこれに限定されず、ＤＴＲメディアが、磁性領域にイオン注入して非磁性化することにより前記非磁性領域を形成してなるディスクリートトラック磁性層を有する場合にも同様に適用することができる。また、上記実施の形態における材質、個数、サイズ、処理手順などは一例であり、本発明の効果を発揮する範囲内において種々変更して実施することが可能である。その他、本発明の目的の範囲を逸脱しない限りにおいて適宜変更して実施することが可能である。
【産業上の利用可能性】
【００２８】
本発明は、非磁性領域により分離された磁性領域を含むディスクリートトラック磁性層が、磁気ディスク用基板上に少なくとも形成されてなるＤＴＲメディアに適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【００２９】
【図１】本発明の実施の形態に係る磁気ディスクの製造方法によって最終的に製造される磁気ディスクの構造図である。
【図２】図１に示すＤＴＲメディアとしての磁気ディスクの製造方法を示す図である。
【図３】本発明の実施の形態に係る磁気ディスクの製造方法において、図１の磁気ディスクの検査方法の概要を示す模式図である。
【符号の説明】
【００３０】
３  光源装置
４  光
５  光照射部
６  反射光
７  ＣＣＤ
７Ａ  ＣＣＤ光信号
８  光学画像処理装置
９  溝信号
１０  情報記録部信号
１１  情報記録部実欠陥信号
１５  第１の閾値
１６  第２の閾値
２０  非磁性領域の実サイズ
２１  トラック上の欠陥の実サイズ
１００  磁気ディスク
１１０  ガラス基板
１２０  軟磁性層
１３０  トラック
１４０  非磁性領域
２００  スタンパ
２１０  レジスト樹脂
【図１】
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【図２】
2010086590.tif 000004
【図３】
2010086590.tif 000005