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【手続補正書】
【提出日】令和3年2月18日(2021.2.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
分散ポリマーおよび乳化シリコーン樹脂ポリマーを含む水性接着剤であって、
反応性基を介して後架橋可能であることを特徴とする接着剤。
【請求項２】
一液型である、請求項１に記載の接着剤。
【請求項３】
前記分散ポリマーが、熱可塑性ポリマーである、請求項１または２に記載の接着剤。
【請求項４】
前記熱可塑性ポリマーが、極性基を有する、請求項３に記載の接着剤。
【請求項５】
前記シリコーン樹脂ポリマーが、有機側基を有するポリシロキサンである、請求項１〜４のいずれか１項に記載の接着剤。
【請求項６】
固形分が、５０％重量％超である、請求項１〜５のいずれか１項に記載の接着剤。
【請求項７】
ｐＨ６〜９を有する、請求項１〜６のいずれか１項に記載の接着剤。
【請求項８】
１０００〜５００００ｍＰａ・ｓの粘度を有する、請求項１〜７のいずれか１項に記載の接着剤。
【請求項９】
少なくとも２つの基板を用意するステップと、
接着剤を、第１の基板および／または第２の基板の少なくとも一部に塗布するステップと、
前記２つの基板を接合し、結合するステップと
を含む、少なくとも２つの異なる基板を、請求項１〜８のいずれか１項に記載の接着剤を用いて結合する方法。
【請求項１０】
前記接着剤が、ローラー、ステンシル、ナイフまたは噴霧により塗布される、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
１つの基板が、金属であり、第２の基板が、以下の群：ガラス繊維、シリケート繊維、ポリアミド繊維、ポリアクリロニトリル繊維および／または炭素繊維から選択される、請求項９または１０に記載の方法。
【請求項１２】
接着剤が、水に分散した少なくとも１つのポリマーを含み、反応性基を介して後架橋可能である、水性接着剤中でのシリコーン樹脂ポリマーの使用。
【請求項１３】
請求項１に記載の接着剤と結合している絶縁材料。
【請求項１４】
少なくとも２つの結合した基板を含み、第１の基板が、金属であり、第２の基板が、以下の群：ガラス繊維、シリケート繊維、ポリアミド繊維、ポリアクリロニトリル繊維および／または炭素繊維から選択される、請求項１３に記載の絶縁材料。
【請求項１５】
前記接着剤が、縮合反応を介して、後架橋可能である、請求項１に記載の接着剤。
【請求項１６】
前記熱可塑性ポリマーが、以下の群：アクリレートコポリマー、スチレン−アクリレートコポリマー、エチレン−酢酸ビニルコポリマー、アクリレート−ウレタンコポリマー、ポリウレタンコポリマー、エチレン−アクリル酸コポリマーから選択されるコポリマーまたはコポリマーの組み合わせである、請求項３または４に記載の接着剤。
【請求項１７】
前記有機側基が、以下の群：メチル、フェニル、ヒドロキシおよび／またはアルコキシ基から選択される、請求項５に記載の接着剤。
【請求項１８】
固形分が、６０％〜８０％である、請求項６に記載の接着剤。
【請求項１９】
前記金属がアルミニウムである、請求項１１に記載の方法。
【請求項２０】
接着剤が縮合反応を介して後架橋可能である、請求項１２に記載の使用。
【請求項２１】
前記金属がアルミニウムである、請求項１４に記載の絶縁材料。
【手続補正書】
【提出日】令和3年5月10日(2021.5.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
固体状電解質組成物であって、
非イオン導電性ポリマーマトリックス中にイオン導電性無機粒子を含み、前記非イオン導電性ポリマーマトリックスは、架橋ポリマーネットワークを含み、
前記固体状電解質組成物は実質的に添加塩を含まず、
かつ、前記固体状電解質組成物の室温でのイオン導電性は、少なくとも１×１０−４Ｓｃｍ−１である、
固体状電解質組成物。
【請求項２】
前記イオン導電性無機粒子は、前記固体状電解質組成物の少なくとも５０重量％である、
請求項１に記載の固体状電解質組成物。
【請求項３】
前記非イオン導電性ポリマーマトリックスは、前記固体状電解質組成物の２．５〜６０重量％である、
請求項１に記載の固体状電解質組成物。
【請求項４】
前記非イオン導電性ポリマーマトリックスは、前記固体状電解質組成物の少なくとも２０重量％である、
請求項１に記載の固体状電解質組成物。
【請求項５】
前記非イオン導電性ポリマーマトリックスは、ｉｎ−ｓｉｔｕで完全にまたは部分的に重合されている、
請求項１から４のいずれか一項に記載の固体状電解質組成物。
【請求項６】
前記非イオン導電性ポリマーマトリックスは、ｉｎ−ｓｉｔｕ重合反応を特定する化学的痕跡を含み、
前記化学的痕跡は、未反応の反応物および副生成物を含む、
請求項５に記載の固体状電解質組成物。
【請求項７】
前記架橋ポリマーネットワークは、ポリ（ウレタン）、ポリ（ウレアウレタン）、ポリ（チオウレタン）、ポリ（アクリレート）、ポリ（メタクリレート）、ポリ（マレイミド）、ポリ（アクリルアミド）、ポリ（メタクリルアミド）、ポリオレフィン、またはポリスチレンを含む、
請求項１から６のいずれか一項に記載の固体状電解質組成物。
【請求項８】
前記固体状電解質組成物は、重合反応における未反応の反応物または副生成物を１または複数含む、
請求項１から７のいずれか一項に記載の固体状電解質組成物。
【請求項９】
前記未反応の反応物は、イソシアネート官能基を含む、
請求項８に記載の固体状電解質組成物。
【請求項１０】
前記イソシアネート官能基はブロックされている、
請求項９に記載の固体状電解質組成物。
【請求項１１】
前記未反応の反応物は、アミン官能基、アルコール官能基、チオール官能基、およびブロックイソシアネートから選択される官能基を含む、
請求項８に記載の固体状電解質組成物。
【請求項１２】
前記未反応の反応物は、１または複数の機能性架橋剤を含む、
請求項８から１１のいずれか一項に記載の固体状電解質組成物。
【請求項１３】
前記未反応の反応物は、ラジカル開始剤を含む、
請求項８から１２のいずれか一項に記載の固体状電解質組成物。
【請求項１４】
前記未反応の反応物は、アクリル官能基、メタクリル官能基、アクリルアミド官能基、メチルアクリルアミド官能基、スチレン系官能基、アルケニル官能基、アルキニル官能基、ビニル官能基、アリル官能基、およびマレイミド官能基の１または複数から選択される官能基を含む、
請求項８から１３のいずれか一項に記載の固体状電解質組成物。
【請求項１５】
前記未反応の反応物は、エポキシ樹脂、オキシラン類、グリシジル基、およびアルケン酸化物の１または複数から選択される官能基を含む、
請求項８から１３のいずれか一項に記載の固体状電解質組成物。
【請求項１６】
前記固体状電解質組成物は、
０．１ＭＰａおよび９５ＭＰａの加圧下で同じイオン伝導性を示す、
請求項１から１５のいずれか一項に記載の固体状電解質組成物。
【請求項１７】
前記架橋ポリマーネットワークは、
１）−−ＣＨ２ＣＨ（Ｈ／ＣＨ３）（Ｒ）、式中、Ｒ＝−Ｃ（Ｏ）−Ｏ−、−Ｃ（Ｏ）−ＮＲ−、−Ｃ６Ｈ４−、または、
【化１６】
2020509132.tif 000001
２）−ＮＨ−Ｃ（Ｏ）−ＮＲ−、式中、Ｒは、Ｈ、アルキルまたはアリール；
３）−ＮＨ−Ｃ（Ｏ）−Ｏ−；および
４）−ＮＨ−Ｃ（Ｏ）−Ｓ−
から選択される１または複数を含む、
請求項１から１６のいずれか一項に記載の固体状電解質組成物。
【請求項１８】
前記非イオン導電性ポリマーマトリックスは、添加塩を含まない、
請求項１から１７のいずれか一項に記載の固体状電解質組成物。
【請求項１９】
電池であって、
アノードと、
カソードと、
請求項１に記載の固体状電解質組成物を含む固体状電解質とを備える、
電池。
【請求項２０】
方法であって、
ポリマーマトリックス前駆体とイオン導電性無機粒子との混合物を提供する段階であって、前記イオン導電性無機粒子は等方性の導電経路を含む段階と、
前記混合物に対して少なくとも１０ＭＰａの圧力を加えながらポリマーマトリックス前駆体を重合して、非イオン導電性でありかつ実質的に添加塩を含まないポリマーマトリックスを形成する段階と、
前記ポリマーマトリックス前駆体の重合後に、加えられた圧力を開放する段階とを備える、
方法。
【請求項２１】
前記重合は、前記混合物中の前記イオン導電性無機粒子の結晶化温度よりも低い温度で行われる、
請求項２０に記載の方法。
【請求項２２】
前記イオン導電性無機粒子は、ガラスセラミック粒子を含む、
請求項２０または２１に記載の方法。
【請求項２３】
前記イオン導電性無機粒子は、非晶質ガラス粒子を含む、
請求項２０または２１に記載の方法。
【請求項２４】
前記ポリマーマトリックス前駆体は、オリゴマーであり、かつ、前記方法は、さらに、前記混合物を提供する前に前記オリゴマーを形成する段階を含む、
請求項２０から２３のいずれか一項に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】令和3年2月22日(2021.2.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
防汚剤組成物であって、
１つ以上の抗酸化剤、
１つ以上の抗重合剤、
１つ以上の分散剤、および
１つ以上の溶媒
の組み合わせを含む、組成物。
【請求項２】
前記防汚剤組成物が、約１重量％〜約１５重量％の抗酸化剤と、約１重量％〜約１５重量％の抗重合剤と、約５０重量％〜約９５重量％の分散剤と、約１０重量％〜約５０重量％の溶媒と、を含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
前記１つ以上の抗酸化剤が、１，４−フェニレンジアミン、そのアルキル化またはフェニル誘導体、およびそれらの組み合わせから選択される、請求項１または２に記載の組成物。
【請求項４】
前記抗重合剤が、２，２，６，６−テトラメチルピペリジニル−１−オキシル、１−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジニル−１−オキシル、４−オキソ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジニル−１−オキシル、１，４−ジヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、および１−ヒドロキシ−４−オキソ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、またはそれらの組み合わせから選択される、請求項１〜３のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項５】
前記分散剤が、２つ以上の脂肪酸アミドのブレンドであり、第１の脂肪酸アミドと第２の脂肪酸アミドとの比が約１：１〜約１：１０、または約１：１〜約１：２である、請求項１〜４のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項６】
前記第１の脂肪酸アミドが、脂肪酸とトリエタノールアミン（ＴＥＡ）との反応生成物であり、前記第２の脂肪酸アミドが、脂肪酸とテトラエチレンペンタミン（ＴＥＰＡ）との反応生成物である、請求項５に記載の組成物。
【請求項７】
エチレン分解プロセスにおけるプロセス機器の汚れを低減または防止するための、請求項１〜６のいずれか一項に記載の組成物の使用。
【請求項８】
工業プロセスで使用されるプロセス機器の汚れを防止または低減する方法であって、
前記プロセス機器に防汚剤組成物を導入することであって、前記防汚剤組成物が、
１つ以上の抗酸化剤、
１つ以上の抗重合剤、
１つ以上の分散剤、および
１つ以上の溶媒
の組み合わせを含む、導入することを含む、方法。
【請求項９】
前記導入が、前記防汚剤組成物に洗浄油または調温水を注入することである、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記工業プロセスが、エチレン分解プロセスである、請求項８または９に記載の方法。
【請求項１１】
前記防汚剤組成物が、前記防汚剤組成物中に約１重量％〜約１５重量％の抗酸化剤と、約１重量％〜約１５重量％の抗重合剤と、約５０重量％〜約９５重量％の分散剤と、約１０重量％〜約５０重量％の溶媒と、を含む、請求項８〜１０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２】
前記１つ以上の抗酸化剤が、１，４−フェニレンジアミン、そのアルキル化またはフェニル誘導体、およびそれらの組み合わせから選択される、請求項８〜１１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１３】
前記抗重合剤が、２，２，６，６−テトラメチルピペリジニル−１−オキシル、１−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジニル−１−オキシル、４−オキソ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジニル−１−オキシル、１，４−ジヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、および１−ヒドロキシ−４−オキソ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、またはそれらの組み合わせから選択される、請求項８〜１２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１４】
前記分散剤が、２つ以上の脂肪酸アミドのブレンドであり、第１の脂肪酸アミドと第２の脂肪酸アミドとの比が約１：１〜約１：１０、または約１：１〜約１：２である、請求項８〜１３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１５】
前記第１の脂肪酸アミドが、脂肪酸とトリエタノールアミン（ＴＥＡ）との反応生成物であり、前記第２の脂肪酸アミドが、脂肪酸とテトラエチレンペンタミン（ＴＥＰＡ）との反応生成物である、請求項１４に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】令和3年2月22日(2021.2.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ノズルを形成する方法であって、該方法は、
基板の上層に、第１の幅を有する第１の開口を形成する工程であって、前記基板が、前記上層および該上層と異なる材料の下層の第２の層を含む工程、
パターン層を、該パターン層が前記基板の上層の上にあるように前記基板の上面に形成する工程であって、前記パターン層が、前記上層の前記第１の開口に亘る第２の開口を有し、前記第２の開口が前記第１の幅よりも大きい第２の幅を有する工程、
前記基板の前記上面で終端する湾曲側面を形成するため、前記パターン層をリフローする工程、
前記上層の前記第１の開口の外縁で前記第２の層内に直立壁凹所を形成して、前記直立壁凹所の境界を画成するため、前記基板の前記上層の前記第１の開口を通して、前記基板の前記第２の層をエッチングする工程であって、前記直立壁凹所が前記第１の幅と下面と前記基板の前記上面に対して実質的に垂直な側面とを有する工程、および
前記直立壁凹所が形成された後、前記直立壁凹所の前記下面および前記側面がエッチングに曝露されている間に、前記パターン層の前記湾曲側面、前記基板の前記上層および前記基板の前記第２の層をエッチングする工程
を含み、ここで、該エッチングにより、前記直立壁凹所を、該凹所の直立壁下部に徐々にかつ滑らかに接合する湾曲側壁または前記下面で終端する湾曲側壁を有する漏斗状凹所へ変形させる、方法。
【請求項２】
前記第２の開口は、前記第１の開口より約１μｍ大きい、請求項１記載の方法。
【請求項３】
ステッパを使用して、前記パターン層を、前記第１の開口を有する前記基板の前記上面に正確にアライメントする、請求項２記載の方法。
【請求項４】
前記第１の開口を、薄膜ノンリフローレジストでのエッチングにより形成する、請求項１記載の方法。
【請求項５】
前記基板は、半導体基板であり、前記第２の層は、ボッシュエッチングプロセスに対して高選択性を有する酸化物層である、請求項４記載の方法。
【請求項６】
前記パターン層をリフローする工程は、
前記第２の開口の上縁が表面張力の作用のもとで丸みを帯びるようになるまで、前記パターン層を加熱によって軟化させる工程、および
加熱による軟化の後、前記第２の開口の前記上縁に丸みを帯びさせたまま、前記パターン層を再硬化させる工程
を含む、請求項１記載の方法。
【請求項７】
前記基板の前記上面に堆積された前記パターン層は、少なくとも１０μｍの厚さを有する、請求項６記載の方法。
【請求項８】
前記パターン層を加熱によって軟化させる工程は、さらに、
前記パターン層の材料が表面張力の作用のもとでリフローするまで、真空環境において、内部に形成された前記第２の開口を有する前記パターン層を加熱する工程
を含む、請求項６記載の方法。
【請求項９】
前記パターン層を加熱する工程は、
前記パターン層を１６０℃から２５０℃までの温度へ加熱する工程
を含む、請求項６記載の方法。
【請求項１０】
前記パターン層を再硬化させる工程は、
前記第２の開口の前記上縁に丸みを帯びさせたまま、前記パターン層を冷却する工程
を含む、請求項６記載の方法。
【請求項１１】
前記湾曲側壁の上部開口は、前記湾曲側壁の下部開口の少なくとも４倍の幅を有する、請求項１記載の方法。
【請求項１２】
前記直立壁凹所を形成するため、前記基板の前記上面をエッチングする工程は、
ボッシュプロセスを用いて、前記パターン層の前記開口を通して、前記基板の前記上面をエッチングする工程
を含む、請求項１記載の方法。
【請求項１３】
前記漏斗状凹所を形成するための前記エッチングは、前記パターン層と前記基板とに対して実質的に等しいエッチングレートを有する、請求項１記載の方法。
【請求項１４】
前記漏斗状凹所を形成するための前記エッチングは、ＣＦ４／ＣＨＦ３ガス混合物を使用したエッチングを含む、請求項１記載の方法。
【請求項１５】
前記パターン層の前記第１の開口は、前記パターン層の露出した上面に対して平行な平面において、円形の断面形状を有する、請求項１記載の方法。
【請求項１６】
前記漏斗状凹所は、前記基板の前記上面に対して平行な平面において、円形の断面形状を有する、請求項１記載の方法。
【請求項１７】
請求項１記載の方法を使用して複数のノズルを形成する方法であって、
前記複数のノズルは、０．１５μｍ未満のノズル幅の標準偏差を有する、方法。
【請求項１８】
前記凹所は、前記上層を貫通して延在している、請求項１記載の方法。
【請求項１９】
ノズルを形成する方法であって、該方法は、
パターン層を、該パターン層が基板の上層の上にあるように前記基板の上面に形成する工程であって、前記パターン層が、前記上層の第１の開口に亘る第２の開口を有し、前記第２の開口が前記第１の幅よりも大きい第２の幅を有する工程、
前記基板の前記上面で終端する湾曲側面を形成するため、前記パターン層をリフローする工程、
前記上層の前記第１の開口の外縁で第２の層内に直立壁凹所を形成して、前記直立壁凹所の境界を画成するため、前記基板の前記上層の前記第１の開口を通して、前記基板の前記第２の層をエッチングする工程であって、前記直立壁凹所が前記第１の幅と下面と前記基板の前記上面に対して実質的に垂直な側面とを有し、前記基板の前記第２の層が該基板の前記上層の下層にある工程、および
前記直立壁凹所が形成された後、前記直立壁凹所の前記下面および前記側面がエッチングに曝露されている間に、前記パターン層の前記湾曲側面、前記基板の前記上層および前記基板の前記第２の層をエッチングする工程
を含み、ここで、該エッチングにより、前記直立壁凹所を、該凹所の直立壁下部に徐々にかつ滑らかに接合する湾曲側壁または前記下面で終端する湾曲側壁を有する漏斗状凹所へ変形させる、方法。
【請求項２０】
前記第２の開口は、前記第１の開口より約１μｍ大きい、請求項１９記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】令和2年12月4日(2020.12.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
乾燥植物バイオマスのポリフェノールに富む抽出物の調製方法であって、
（ａ）前記乾燥バイオマスを水性溶媒と接触させることによって前記乾燥バイオマスを抽出する工程と、（ｂ）ポリフェノールに富む水相を回収する工程とを含み、前記抽出工程（ａ）において、前記植物バイオマス／水性溶媒混合物が、
（ｉ）９１５ＭＨｚ〜２８ＧＨｚの範囲の周波数の電磁波と、
（ｉｉ）前記混合物の撹拌、および／または
（ｉｉｉ）５，０００〜９５，０００Ｐａ（５０〜９５０ｍｂａｒ）の圧力と
によって同時にまたは連続的に処理されることを特徴とする、方法。
【請求項２】
前記水性溶媒が、水、または１０〜７０体積％のエタノールを含むエタノール／水混合物である、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記水性溶媒が、３０〜５０％のエタノールを含むエタノール／水混合物である、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記乾燥植物バイオマスの水性溶媒に対する質量比が、１／５〜１／３０である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
前記乾燥植物バイオマスの水性溶媒に対する質量比が、１／１０〜１／２０である、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記電磁波の周波数が９１５ＭＨｚ〜２．４５ＧＨｚの範囲である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
前記電磁波の出力が、３００Ｗ〜１００ｋＷの範囲である、請求項１〜６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
前記電磁波の出力が、１〜７５ｋＷの範囲である、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記抽出工程（ａ）が、その周波数が２５ｋＨｚ〜１ＭＨｚの範囲である超音波処理（ｉｖ）をさらに含んでなる、請求項１〜８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
前記超音波出力が２００〜４０００Ｗの範囲である、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記植物バイオマスが、ブドウ種のブドウの苗条からなるものである、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２】
前記水性溶媒を部分的または全体的に蒸発させることによって前記ポリフェノールを濃縮する工程（ｃ）を含んでなる、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１３】
前記濃縮（ｃ）が前記回収された水相を凍結乾燥することによって達成される、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
請求項１〜１３のいずれか一項に記載の方法によって得られる、ポリフェノールに富む抽出物。
【請求項１５】
請求項１４に記載の抽出物およびその使用に適した担体を含んでなる、組成物。
【請求項１６】
植物の真菌感染症の予防および治療のための、請求項１４に記載の抽出物または請求項１５に記載の組成物の使用。
【請求項１７】
収穫後の果物および植物の真菌感染症の予防および治療のための、請求項１４に記載の抽出物または請求項１５に記載の組成物の使用。
【請求項１８】
植物における酸化ストレスの予防および／または治療のための、請求項１４に記載の抽出物または請求項１５に記載の組成物の使用。
【請求項１９】
化粧用組成物または食品組成物における抗酸化剤としての、請求項１４に記載の抽出物または請求項１５に記載の組成物の使用。
【請求項２０】
治療において使用するための、請求項１４に記載の抽出物または請求項１５に記載の組成物。
【請求項２１】
皮膚感染症の治療において使用するための、請求項１４に記載の抽出物または請求項１５に記載の組成物。
【請求項２２】
前記皮膚感染症がざ瘡である、請求項２１に記載の使用のための、請求項１４に記載の抽出物または請求項１５に記載の組成物。
【請求項２３】
ヒトまたは動物における酸化ストレスの治療において使用するための、請求項１４に記載の抽出物または請求項１５に記載の組成物。
【手続補正書】
【提出日】令和3年3月8日(2021.3.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
合成ガスの転化のための触媒であって、前記触媒は第１触媒要素及び第２触媒要素を有し、
前記第１触媒要素は、第１多孔質酸化物担体上に担持された、Ｒｈ、Ｍｎ、アルカリ金属Ｍ、及びＦｅを有し、且つ、前記第２触媒要素は、第２多孔質酸化物担体上に担持された、Ｃｕ、及びＣｕ以外の遷移金属を有する、触媒。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１８】
（ｉｉｉ）の前に（ｉ）で準備された前記触媒が還元され、前記触媒の還元は、好ましくは、水素を有するガス流と該触媒との接触を含み、該ガス流の好ましくは少なくとも９５容積％、好ましくは少なくとも９８容積％、より好ましくは少なくとも９９容積％が、水素からなり、水素を有する該ガス流は、好ましくは２５０〜３５０℃までの範囲内、より好ましくは２７５〜３２５℃までの範囲内のガス流温度で前記触媒と接触され、且つ、水素を有する該ガス流は、好ましくは１０〜１００ｂａｒ（ａｂｓ）までの範囲内、好ましくは２０〜８０ｂａｒ（ａｂｓ）までの範囲内のガス流圧力で前記触媒と接触される、請求項１７に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】令和3年3月16日(2021.3.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
患者の血管系内の血管内欠陥の治療のためのデバイスであって、
近位端、遠位端、および縦軸を有する自己拡張性の透過性シェルを含み、前記シェルは、編組み構造を有する複数の延びた弾力性のフィラメントを含み、前記フィラメントは、前記透過性シェルの近位端または遠位端のうち少なくとも１つで留め付けられており、前記透過性シェルは、マイクロカテーテル内でデリバリされるように構成されて径方向に拘束され延びている状態にあって、前記径方向に拘束された状態に対して軸方向に短縮された構成を有する拡張状態にあり、
前記透過性シェルの拡張された形状は、前記透過性シェルの前記近位端と前記遠位端との間に実質的に延びた複数の裂片、および前記複数の裂片のそれぞれの間に配置され、前記透過性シェルの前記近位端と前記遠位端との間に延びる複数のチャネルを形成し；
周方向に整列された複数の裂片はそれぞれ湾曲の第１の半径を有する第１の側面と、湾曲の第２の半径を有する第の側面と、前記第１の側面と前記第２の側面との間の湾曲の第３の半径を有する中心部分とを備え、湾曲の前記第３の半径は、湾曲の前記第１の半径および湾曲の前記第２の半径よりも大きい、
デバイス。
【請求項２】
前記複数の前記裂片は、圧縮力に対する抵抗を増加する径方向の湾曲を有する、請求項１に記載のデバイス。
【請求項３】
前記周方向に整列した裂片は、前記透過性シェルの前記縦軸の周りに均等に配置される、請求項１に記載のデバイス。
【請求項４】
前記透過性シェルは、周方向に整列した２個〜１６個の裂片を含む、請求項１に記載のデバイス。
【請求項５】
前記透過性シェルは、前記チャネルのそれぞれに沿ってひだを付けるように構成される、請求項４に記載のデバイス。
【請求項６】
それ自体の拡張状態にある前記透過性シェルは、外径Ｄを有し、前記周方向に整列した複数の裂片のそれぞれは、半径ｒを有し、ｒ＜Ｄ／２である、請求項１に記載のデバイス。
【請求項７】
前記複数の延びた弾力性のフィラメントのそれぞれは、第１の末端、中心区画、および第２の末端を有し、前記複数のフィラメントの第１および第２の末端は、前記透過性シェルの近位端で留め付けられており、前記複数のフィラメントのそれぞれの中心区画は、前記透過性シェルの遠位領域を通過する、請求項６に記載のデバイス。
【請求項８】
それ自体の拡張状態にある前記透過性シェルは、約２ミリメートルと約１４ミリメートルとの間の外径Ｄを有する、請求項１に記載のデバイス。
【請求項９】
前記透過性シェルは、外径Ｄを有し、前記透過性シェルは、前記複数の縦方向のチャネルを画定する内径ｄを有し、前記外径と前記内径との比は、約１．０５と約１．３５との間である、請求項１に記載のデバイス。
【請求項１０】
前記透過性シェルは、前記透過性シェルの外周の少なくとも一部分の周りで周囲に延在する少なくとも１つの陥凹をさらに含む、請求項１に記載のデバイス。
【請求項１１】
前記少なくとも１つの陥凹は、前記縦軸の周りに３６０度で延在する連続的なぎざぎざのある環を含む、請求項１０に記載のデバイス。
【請求項１２】
前記少なくとも１つの陥凹は、実質的に半円形の断面を有する、請求項１１に記載のデバイス。
【請求項１３】
患者の血管系内の血管内欠陥の治療のためのデバイスであって、
半径方向に圧縮された形状および径方向に拡張された形状を有する複数のフィラメントから形成された編組みメッシュを備えるシェルを備え；
前記シェルは、近位端、遠位端、および前記近位端と前記遠位端とを通して延びる縦軸を有し、前記径方向に拡張した形状において、前記メッシュがそれぞれ、前記縦軸に整列し、かつそれぞれ前記縦軸から外側に湾曲して曲げに対する抵抗を増加させる複数の裂片を形成し；
前記複数の周方向に整列された裂片は、それぞれ湾曲の第１の半径を有する第１の側面と、湾曲の第２の半径を有する第２の側面と、前記第１の側部と前記第２の側部との間の湾曲の第３の半径を有する中心部分とを備え、湾曲の前記第３の半径は、湾曲の前記第１の半径および湾曲の前記第２の半径よりも大きい、
デバイス。
【請求項１４】
さらに、前記縦軸に相対して周方向および垂直方向に延びる陥凹を含む、請求項１３に記載のデバイス。
【請求項１５】
患者の血管系内の血管内欠陥の治療のためのデバイスであって、
複数のフィラメントから形成された織組メッシュから形成され、径方向に圧縮された形状および径方向に拡張された形状を有するシェルを備えており；前記シェルは、近位端、遠位端、および前記近位端と前記遠位端とを通して延びる縦軸を有し、前記フィラメントは前記近位端で互いに連結され；
前記近位端は、デリバリーデバイスから選択的に外れる取り外しデバイスを有し；前記径方向に拡張した形状において、前記メッシュが、それぞれ前記縦軸に整列し、かつそれぞれ前記縦軸から外側に湾曲して曲げに対する抵抗を増加させる複数の裂片を形成し；
前記複数の周方向に整列された裂片は、それぞれ湾曲の第１の半径を有する第１の側面と、湾曲の第２の半径を有する第２の側面と、前記第１の側部と前記第２の側部との間の湾曲の第３の半径を有する中心部分とを備え、湾曲の前記第３の半径は、湾曲の前記第１の半径および湾曲の前記第２の半径よりも大きい、
デバイス。
【請求項１６】
さらに、前記縦軸に相対して周方向および垂直方向に延びる陥凹を含む、請求項１５に記載のデバイス。
【手続補正書】
【提出日】令和3年2月1日(2021.2.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
照射ビームを放出するための光源であって、前記照射ビームが黄斑を照射し、前記照射ビームの一部が前記黄斑から反射されて検出ビームを形成し、前記検出ビームが前記黄斑内の黄斑色素を表す、光源と、
前記照射ビームを前記黄斑に向けて反射し、前記黄斑からの前記検出ビームを反射するための第１のミラーと、を含み、
前記照射ビーム及び前記検出ビームが、前記黄斑と前記第１のミラーとの間で離隔された状態を維持する、ヒトの目の黄斑を照射するための反射率測定機器。
【請求項２】
前記照射ビーム及び前記検出ビームが、互いにオフセットされて前記第１のミラーで反射する、請求項１に記載の反射率測定機器。
【請求項３】
前記第１のミラーにおける、前記照射ビームの入射光線及び前記検出ビームの反射光線が平行である、請求項１に記載の反射率測定機器。
【請求項４】
前記照射ビームを前記黄斑に向けて反射し、前記黄斑からの前記検出ビームを反射するための一連のミラーをさらに含み、
前記第１のミラーが、前記一連のミラー内に含まれる、請求項１に記載の反射率測定機器。
【請求項５】
前記一連のミラーが、Ｄ字形ミラーを含み、前記Ｄ字形ミラーが、前記照射ビームが前記Ｄ字形ミラーを通過することができるように前記照射ビームの経路に対して配置され、前記検出ビームを反射するように前記検出ビームの経路に対して配置された、請求項４に記載の反射率測定機器。
【請求項６】
前記検出ビームを測定するための分光器と、
前記一連のミラーと前記分光器との間の光ファイバーケーブルと、をさらに含み、
前記一連のミラーが、前記検出ビームを前記光ファイバーケーブル内に反射するように構成された、請求項４に記載の反射率測定機器。
【請求項７】
前記照射ビーム及び前記検出ビームが、互いにオフセットされた前記一連のミラーの各ミラーで反射し、
前記一連のミラーが、無限焦点ミラーリレーである、請求項４に記載の反射率測定機器。
【請求項８】
目をモデル化し、既知の反射の反射率標準を有する較正ターゲットをさらに含み、
前記一連のミラーが、前記ヒトの目を画像化するための、または前記反射率測定機器を較正するために前記ヒトの目の場所に配置された前記較正ターゲットを選択的に画像化するための可動ミラーを含む、請求項４に記載の反射率測定機器。
【請求項９】
前記黄斑内の黄斑色素の量を決定するために、前記検出ビームを受け取り、測定するための検出システムと、
ヒトの目を前記照射ビームで照射する前に、前記ヒトの目のライブ画像を提供するための画像化システムと、をさらに含む、請求項１に記載の反射率測定機器。
【請求項１０】
前記画像化システム内の前記光源を収容する筐体であって、前記筐体が前記ヒトの目からの光を通過させることを可能にする窓を含む、筐体をさらに含み、
前記画像化システムが、前記ヒトの目からの光を受け取るのに応答して前記ライブ画像を生成するためのカメラを含む、請求項９に記載の反射率測定機器。
【請求項１１】
前記画像化システムが、前記ライブ画像内に表示されたレティクルに基づいて、前記反射率測定機器の位置を前記ヒトの目に関連付けるように構成された、請求項１０に記載の反射率測定機器。
【請求項１２】
前記ヒトの目と前記無限焦点ミラーリレーとの間であって、前記照射ビームの経路及び前記検出ビームの経路内に、ダイクロイック折り返しミラーをさらに含む、請求項７に記載の反射率測定機器。
【請求項１３】
前記検出ビームを前記分光器に伝送するための第１の無限焦点レンズリレーであって、前記第１の無限焦点レンズリレーが、前記ヒトの目の屈折率誤差を調整するために前記検出ビームの経路に沿って並進するように構成された第１の無限焦点レンズを含む第１の無限焦点レンズリレーと、
前記照射ビームを前記ヒトの目に伝送するための第２の無限焦点レンズリレーであって、前記第２の無限焦点レンズリレーが、前記照射ビームを前記黄斑に集束するために、前記照射ビームの経路に沿って並進するように構成された第２の無限焦点レンズを含む、第２の無限焦点レンズリレーと、をさらに含む、請求項６に記載の反射率測定機器。
【請求項１４】
黄斑から反射する検出ビームを生成するように、照射源から黄斑へ、一連のミラーを介して照射ビームを向ける段階と、
前記検出ビームを前記黄斑から分光器へ、前記一連のミラーを介して向ける段階であって、前記検出ビーム及び前記照射ビームが離隔された状態を維持するように、前記検出ビームが、前記照射ビームからオフセットされて前記一連のミラーで反射する、段階と、
前記検出ビームを前記分光器で受け取る段階と、
黄斑色素の量を決定するために、前記分光器において前記検出ビームの特性を測定する段階と、を含む、ヒトの目の黄斑内の黄斑色素の量を決定する方法。
【請求項１５】
照射システム、検出システム及びビームダンプを含む筐体であって、前記照射システムが前記光源を含み、前記検出システムが、前記黄斑内の黄斑色素の量を決定するために、前記検出ビームを受け取り、測定するように構成され、前記ビームダンプが、前記反射率測定機器内の迷光を吸収するために、前記検出システムの光学入力と光学的に位置合わせされた、筐体と、
前記筐体に接続され、環境光が前記筐体に入るのを防ぐために、ヒトの目とインターフェースするように構成されたアイピースと、を含み、
前記ビームダンプ及び前記アイピースが、前記反射率測定機器が照明の点灯した環境内で前記黄斑の前記黄斑色素を測定することができるようにする、請求項１に記載の反射率測定機器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
本開示のさらなる態様によれば、ヒトの目の黄斑を照射するための反射率測定機器が提供される。機器は、光源と、分光器と、無限焦点ミラーリレーと、を含む。光源は、黄斑を照射する照射ビームを放出する。分光器は、黄斑から反射された照射ビームの一部である検出ビームを測定する。検出ビームは、黄斑内の黄斑色素の量を表す。無限焦点ミラーリレーは、照射ビームを光源から黄斑に向けて反射し、検出ビームを黄斑から分光器に向けて反射する。照射ビーム及び検出ビームは、黄斑の後に、離隔された状態を維持するために、互いにオフセットされて無限焦点ミラーリレーの各ミラーで反射する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
本開示の別の態様によれば、ヒトの目の黄斑を照射するための反射率測定機器が提供される。機器は、黄斑を照射するために照射ビームを放出するための照射システムと、検出ビームを測定するための分光器と、を含む。検出ビームは、黄斑で反射された照射ビームの一部であり、黄斑内の黄斑色素の量を表す。機器はまた、照射ビームを光源から黄斑に向けて反射し、検出ビームを黄斑から分光器に向けて反射するための無限焦点ミラーリレーを含む。反射率測定機器は、黄斑色素の量を測定するために、黄斑の画像を１秒当たり少なくとも１００回取得し、処理するように構成される。
【手続補正書】
【提出日】令和3年3月3日(2021.3.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
２層以上のナノチャネル形成連続グラフェンを含み、それぞれのナノチャネルが２層以上の近隣グラフェンシート内の近隣グラフェングレインの不整合間のグラフェンフィルム中の重なるグレインバンダリーの接合部に位置し、該ナノチャネルが連続透過性グラフェンフィルムの一方の面から他方の面に流体通路を提供する、連続透過性グラフェンフィルム。
【請求項２】
２〜１０層のグラフェンシートを含む、請求項１に記載の連続透過性グラフェンフィルム。
【請求項３】
請求項１に記載の連続透過性グラフェンフィルムによって覆われた透過性支持膜を含む透過性膜。
【請求項４】
バインダをさらに含む、請求項３に記載の透過性膜。
【請求項５】
連続透過性グラフェンフィルムが0.34〜3.0 nmの範囲の機能的ポアサイズを有する、請求項３に記載の透過性膜。
【請求項６】
２成分膜の形式であって、透過性支持膜およびグラフェンフィルムが互いに近隣であるかまたは互いに結合している、あるいは、透過性支持膜が２つの連続透過性グラフェンフィルム間に挟まれ、それぞれの連続透過性グラフェンフィルムはそれを貫通する複数のナノチャネルまたはナノポアを有する、請求項３に記載の透過性膜。
【請求項７】
密閉された周囲環境で、金属基板および過剰な炭素源を、蒸気が金属基板と接触するように炭素源から炭素を含む蒸気を生成する温度まで加熱し、グラフェン格子を形成するのに十分な時間その温度を維持し、減圧下、遅い冷却速度で長時間（delay time）、試料を冷却し、ついで、減圧下で基板をフラッシュ冷却して堆積透過性ナノチャネルグラフェンを形成するステップを含む、堆積透過性連続ナノチャネルグラフェンフィルムを調製する方法。
【請求項８】
周囲環境が大気圧の空気または真空である、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
金属基板がニッケルであって、周囲環境が大気圧の空気であるか、または金属基板が銅であって、周囲環境が密閉および加熱する前の排気チャンバーである、請求項７に記載の方法。
【請求項１０】
炭素源がバイオマスであるかバイオマス由来のものである、請求項７に記載の方法。
【請求項１１】
原料ガスを使用しない、請求項７に記載の方法。
【請求項１２】
金属基板および炭素源を650℃〜900℃の範囲のグラフェン格子を形成するのに十分な温度まで加熱する、請求項７に記載の方法。
【請求項１３】
遅い冷却速度を5℃〜10℃／分の速度で行う、請求項７に記載の方法。
【請求項１４】
フラッシュ冷却を25℃／分〜100℃／分の速度で行う、請求項７に記載の方法。
【請求項１５】
請求項７に記載の基板上に堆積透過性連続ナノチャネルグラフェンフィルムを調製する方法であって、基板からフィルムを離して、遊離の透過性連続ナノチャネルグラフェンフィルムを提供し、ついで遊離の透過性連続ナノチャネルグラフェンフィルムを支持膜に適用する、支持膜上に堆積透過性連続ナノチャネルグラフェンフィルムを調製する方法。
【請求項１６】
遊離の透過性連続ナノチャネルグラフェンフィルムに結合したバインダを利用するステップを含む、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
グラフェンフィルムを支持膜に適用した後に溶解によってバインダを除去する、請求項１５に記載の方法。
【請求項１８】
汚染物質を含むフィードウォーターがフィード側として連続透過性グラフェンフィルムに接触し、水をろ液側に透過性膜に通過させてろ液を提供し、それによって汚染物質がフィードウォーター側に保持されるように、請求項３に記載の透過性膜にフィードウォーターを供することを含む、汚染物質を含むフィードウォーターを精製する方法。
【請求項１９】
汚染物質が界面活性剤、油もしくは石油または界面活性剤、油もしくは石油製品の残留物である、請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
フィードウォーターがNa+およびCl−を含む無機種および有機種を含む脱塩用の水である、請求項１８に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】令和3年3月1日(2021.3.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
印刷材料の堆積のための、３Ｄ印刷装置用のプリンタユニットであって、
ノズルを含むプリンタヘッドであって、前記ノズルが、前記ノズルに供給される印刷材料の少なくとも１つのフィラメントを、垂直方向に、及び下に存在する材料上に堆積させるように構成されており、
前記プリンタヘッドが、少なくとも１つの弾性手段によって、前記プリンタユニット内に前記垂直方向で弾性的に吊り下げられていることにより、前記印刷材料の堆積の間の、前記プリンタヘッドの垂直移動を可能にし、
平衡状態にある吊り下げ式前記プリンタヘッドが、堆積の前に、前記下に存在する材料の上方に垂直距離で位置決め可能であり、
堆積の間、前記少なくとも１つの弾性手段が、前記下に存在する材料上の前記印刷材料からの、前記ノズルに対する垂直力によって、バイアスされるように構成されており、それにより、前記プリンタヘッドが、前記プリンタヘッドの平衡状態から、前記下に存在する材料からの所望の垂直距離における位置へと移動する、プリンタヘッドを備える、プリンタユニットであって、
前記プリンタユニットは、前記プリンタヘッドの前記垂直移動を少なくとも部分的に妨げるように構成されている、第１のアクチュエータを更に備える、プリンタユニット。
【請求項２】
前記少なくとも１つの弾性手段が、少なくとも１つのバネを含む、請求項１に記載のプリンタユニット。
【請求項３】
前記弾性手段の力定数を制御するように構成されている、第１の制御ユニットを更に備える、請求項１又は２に記載のプリンタユニット。
【請求項４】
前記少なくとも１つの弾性手段の前記力定数が、
前記印刷材料の粘度、
前記下に存在する材料のトポグラフィ、及び
前記印刷材料の前記堆積の流量のうちの少なくとも１つの、関数として決定される、請求項１乃至３のいずれか一項に記載のプリンタユニット。
【請求項５】
前記第１のアクチュエータが、前記プリンタヘッドの前記垂直移動を阻止するように構成されている、請求項１乃至４のいずれか一項に記載のプリンタユニット。
【請求項６】
前記第１のアクチュエータが、電磁気、油圧、及び空気圧のうちの少なくとも１つによって動作可能である、請求項１乃至５のいずれか一項に記載のプリンタユニット。
【請求項７】
前記第１のアクチュエータが、少なくとも１つの減衰手段を含む、請求項１乃至６のいずれか一項に記載のプリンタユニット。
【請求項８】
請求項１乃至７のいずれか一項に記載のプリンタユニットと、
前記プリンタユニットを垂直方向に変位させるように構成されている、第２のアクチュエータと、
を備える、３Ｄ印刷装置。
【請求項９】
複数の印刷ヘッドを更に備える、請求項８に記載の３Ｄ印刷装置。
【請求項１０】
請求項１乃至７のいずれか一項に記載のプリンタユニットと、
水平面内に配置されているビルドプレートと、を備え、
前記ノズルが、前記ビルドプレート上に、印刷材料の１つ以上のフィラメントを堆積させるように構成されている、
３Ｄ印刷構成。
【請求項１１】
前記ビルドプレートを加熱するように構成されている、少なくとも１つの加熱ユニットを更に備える、請求項１０に記載の３Ｄ印刷構成。
【請求項１２】
請求項１乃至７のいずれか一項に記載のプリンタユニットを準備するステップと、
下に存在する材料上に印刷材料を堆積させる前に、平衡位置にある前記吊り下げ式プリンタヘッドを、前記下に存在する材料の上方に垂直距離で位置決めするステップと、
前記ノズルによって、前記下に存在する材料上に、前記ノズルに供給される印刷材料の少なくとも１つのフィラメントを堆積させるステップであって、前記少なくとも１つの弾性手段が、前記下に存在する材料上の前記印刷材料からの、前記ノズルに対する垂直力によって、バイアスされるように構成されており、それにより、前記プリンタヘッドが、前記プリンタヘッドの平衡状態から、前記下に存在する材料からの所望の垂直距離における位置へと移動する、ステップと、
を含む方法。
【手続補正書】
【提出日】令和3年3月16日(2021.3.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
開口したアンプル（１）の折断された首部（４）と係合するキャップ部（１２）と、
前記キャップ部（１２）から延設する弾性的に変形可能な円筒形状のスカート部（１１）であって、少なくとも一部が折り畳まれた第１の状態から、伸展して拡がり前記キャップ部（１２）から離れた第２の状態に移行する円筒形状のスカート部（１１）と、を有するアンプル（１）用の閉塞部材（１０）。
【請求項２】
前記第１の状態において、前記スカート部（１１）は丸く巻かれている請求項１に記載の閉塞部材（１０）。
【請求項３】
前記キャップ部（１２）は外周溝部（１６）を有し、前記第１の状態の時、該外周溝部（１６）の中に前記スカート部（１１）が入り、前記スカート部（１１）の遠位端部は拡大したリム（１５）を有し、該リム（１５）は前記第１の状態の時に前記外周溝に入る請求項１または２に記載の閉塞部材（１０）。
【請求項４】
前記スカート部（１１）の内側の前記キャップ部（１２）の表面は突起部（７６）を有し、該突起部（７６）は好ましくは円錐形状である請求項１乃至３のいずれかに記載の閉塞部材（１０）。
【請求項５】
前記スカート部（１１）の内側の前記キャップ部（１２）の下側部分は変形可能な材料で形成されている請求項１乃至４に記載の閉塞部材（１０）。
【請求項６】
前記スカート部（１１）の内部の前記キャップ部（１２）の下面から前記キャップ部（１２）の上面まで前記キャップ部（１２）を貫通して延設された流路（１３）を有し、好ましくはアンプル（１）内部から内容物の抜き取りを可能にする逆止弁（３３６）を前記流路（１３）は有する請求項１乃至５のいずれかに記載の閉塞部材（１０）。
【請求項７】
前記流路（１３）は前記キャップ部（１２）の上面に取り付けられたコネクタ素子（３１）と接続する請求項６に記載の閉塞部材（１０）。
【請求項８】
前記流路（１３）内にフィルタ（４０）を備える請求項６または７のいずれかに記載の閉塞部材（１０）。
【請求項９】
前記キャップ部（１２）と前記スカート部（１１）が一体的に形成されている請求項１乃至８のいずれかに記載の閉塞部材（１０）。
【請求項１０】
前記スカート部（１１）は透明である請求項１乃至９のいずれかに記載の閉塞部材（１０）。
【請求項１１】
前記キャップ部（１２）の上面を覆う蓋（７２）をさらに有する請求項１乃至１０のいずれかに記載の閉塞部材（１０）。
【請求項１２】
使用する際にアンプル（１）の外部をアンプル（１）の内部と連通させる一つ以上の空気流路（３５４）であって、フィルタ（３５６）を有することが好ましい一つ以上の空気流路（３５４）をさらに含む請求項１乃至１１のいずれかに記載の閉塞部材（１０）。
【請求項１３】
キャップ部（１２）と前記キャップ部（１２）から延設される円筒形状のスカート部（１１）とを有する閉塞部材（１０）を形成する工程であって、少なくとも前記円筒形状のスカート部（１１）の内側表面を画定する第１成形ピース（４００）に被せて成形する工程を含む閉塞部材（１０）を形成する工程と、
前記第１成形ピース（４００）を取り除く前に、前記円筒形状のスカート部（１１）を巻き上げて、前記キャップ部（１２）に当てる工程と、を含む閉塞部材（１０）を作製する方法。
【請求項１４】
前記円筒形状のスカート部（１１）の巻き上げは巻き上げ機械によってなされる請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
前記円筒形状のスカート部（１１）の巻き上げは、一つ以上の可動摩擦表面を前記スカート部（１１）に接触させ、前記スカート部（１１）が前記キャップ部（１２）に向かうように前記スカート部（１１）の外側表面に力をかけることによって行われ、好ましくは前記一つ以上の可動摩擦表面のそれぞれはホイール（４１０）またはホイール（４１０）の一部分であり、さらに、好ましくは前記円筒形状のスカート部（１１）を巻き上げる間に、前記ホイール（４１０）または前記ホイール（４１０）の一部分が前記キャップ部（１２）に向かって軸方向に動く請求項１４に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】令和3年3月4日(2021.3.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つの剛毛体が突出する一掃部と、
この一掃部の少なくとも一部を取り囲み且つ取り付ける一掃部ハウジングと、
を備え、
前記一掃部ハウジングが前記一掃部に滑り嵌合する少なくとも１つのハウジング凹状トラック及び少なくとも１つのハウジング凸状トラックを有し、並びに、少なくとも１つの前記剛毛体が剛毛ヘッド及びこの剛毛ヘッドから延びた１つ以上の剛毛を有することを特徴とする障害物一掃装置。
【請求項２】
前記の少なくとも１つの剛毛体が、前記一掃部に着脱自在に取り付けられた剛毛取り付け部から突出する請求項１に記載の障害物一掃装置。
【請求項３】
前記一掃部が、少なくとも１つの一掃用トラックを有し、この少なくとも１つの一掃用トラックが前記一掃部ハウジングに滑り嵌合する請求項１に記載の障害物一掃装置。
【請求項４】
前記一掃部が矩形角柱体を有し、この角柱体がさらに前記一掃部ハウジングに滑り嵌合する少なくとも１つの一掃用凹状トラックおよび前記一掃部ハウジングに滑り嵌合する少なくとも１つの一掃用凸状トラックを有する請求項１に記載の障害物一掃装置。
【請求項５】
前記一掃部ハウジングが前記一掃部に固定されている請求項１に記載の障害物一掃装置。
【請求項６】
さらに、前記一掃部が少なくとも１つの一掃用凹状トラックおよび少なくとも１つの一掃用凸状トラックを有し、
前記の少なくとも１つの一掃用凹状トラックが前記ハウジング凸状トラックに滑り嵌合し、そして、
前記の少なくとも１つの一掃用凸状トラックが前記ハウジング凹状トラックに滑り嵌合する請求項１に記載の障害物一掃装置。
【請求項７】
さらに、前記一掃部ハウジングに接続して且つこの一掃部ハウジングに対して前記一掃部を固定するロッキング機構を有する請求項１に記載の障害物一掃装置。
【請求項８】
障害物一掃装置において、
少なくとも１つの剛毛体を突き出した一掃部と、
滑り可能に取り付けて保持し、且つ一掃部の少なくとも一部を取り囲む一掃部ハウジングと、
前記一掃部に設けた第１端部および第２端部と、
を有し、
前記一掃部ハウジングが前記第１端部と前記第２端部との間の前記一掃部で滑り嵌合することを特徴とする障害物一掃装置。
【請求項９】
前記の少なくとも１つの剛毛体が、前記一掃部に着脱自在に取り付けられた剛毛取り付け部から突出する請求項８に記載の障害物一掃装置。
【請求項１０】
前記一掃部が、前記一掃部ハウジングに滑り嵌合する少なくとも１つの一掃用凹状トラック、および、前記一掃部ハウジングに滑り嵌合する少なくとも１つの一掃用凸状トラックを有する請求項８に記載の障害物一掃装置。
【請求項１１】
前記一掃部ハウジングが、前記一掃部に滑り嵌合する少なくとも１つのハウジング凹状トラックおよび少なくとも１つのハウジング凸状トラックを有する請求項８に記載の障害物一掃装置。
【請求項１２】
さらに、前記一掃部が少なくとも一つの一掃用凹状トラックおよび少なくとも一つの一掃用凸状トラックを有し、
前記の少なくとも一つの一掃用凹状トラックが前記ハウジング凸状トラックに滑り嵌合し、そして
前記の少なくとも一つの一掃用凸状トラックが前記ハウジング凹状トラックに滑り嵌合する請求項１１に記載の障害物一掃装置。
【請求項１３】
さらに、前記一掃部ハウジングに接続して且つこの一掃部ハウジングに対して前記一掃部を固定するロッキング機構を有する請求項８に記載の障害物一掃装置。
【請求項１４】
障害物一掃装置において、
一掃部と、
前記一掃部に取り付けた少なくとも１つの剛毛体と、
前記剛毛体に設けた剛毛ヘッドと、
前記剛毛ヘッドから延びた１つ以上の剛毛と、
を備え、
前記一掃部の少なくとも一部を取り付けて且つ前記一部を取り囲む非回転の一掃部ハウジングを有し、そして、前記一掃部が第１端部と第２端部とを有し、
前記一掃部ハウジングが、前記第１端部と前記第２端部との間の前記一掃部と滑り嵌合することを特徴とする障害物一掃装置。
【請求項１５】
前記一掃部に着脱自在に取り付けられた前記の少なくとも１つの剛毛体である請求項１４に記載の障害物一掃装置。
【請求項１６】
前記一掃部が少なくとも１つの一掃用トラックを有し、この少なくとも１つの一掃用トラックが前記一掃部ハウジングに滑り嵌合する請求項１４に記載の障害物一掃装置。
【請求項１７】
前記一掃部が矩形角柱体を有し、この角柱体がさらに前記一掃部ハウジングに滑り嵌合する少なくとも１つの一掃用凹状トラックおよび前記一掃部ハウジングに滑り嵌合する少なくとも１つの一掃用凸状トラックを有する請求項１４に記載の障害物一掃装置。
【請求項１８】
前記一掃部ハウジングが、前記一掃部に滑り嵌合する少なくとも１つのハウジング凹状トラックおよび少なくとも１つのハウジング凸状トラックを有する請求項１４に記載の障害物一掃装置。
【請求項１９】
さらに、前記一掃部が少なくとも１つの一掃用凹状トラックおよび少なくとも１つの一掃用凸状トラックを有し、
前記の少なくとも１つの一掃用凹状トラックが前記ハウジング凸状トラックに滑り嵌合し、そして
前記の少なくとも１つの一掃用凸状トラックが前記ハウジング凹状トラックに滑り嵌合する請求項1８に記載の障害物一掃装置。
【請求項２０】
さらに、前記一掃部ハウジングに接続して且つこの一掃部ハウジングに対して前記一掃部を固定するロッキング機構を有する請求項１４に記載の障害物一掃装置。