【手続補正書】
【提出日】令和3年5月21日(2021.5.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
移相ターゲットを有するフォトマスクの移相量を判別する方法であって、
検査又は計量システムを用い入射ビームを前記ターゲットへと差し向けるステップであり、前記ターゲットが、基板上に堆積された移相層で形成された第１部分と、そこからその移相層が除去された第２部分とを備え、前記入射ビームを前記ターゲットの前記第１部分と前記第２部分のそれぞれに差し向けるステップと、
前記入射ビームに応じた前記ターゲットの前記第１部分と前記第２部分のそれぞれの透過による複数個の第１の強度値を前記検査又は計量システムを用い計測するステップであり、前記第１の強度値は、その上で前記検査又は計量システムの瞳面が形成される１個又は複数個の検出器で計測されるステップと、
前記ターゲットの前記第１部分と前記第２部分それぞれからの前記第１の強度値の計測に基づき前記ターゲットに係る移相量の値を判別して格納するステップと、
前記入射ビームに応じた前記フォトマスクの透過による複数個の第２の強度値を前記検査又は計量システムを用い計測するステップであり、前記第２の強度値は、その上でフォトマスク面が結像される１個又は複数個の検出器で計測されるステップと、
前記第２の強度値の計測に基づき欠陥を検出するステップと、
を有する方法。
【請求項２】
請求項１に記載の方法であって、前記ターゲットの前記第１部分及び前記第２部分が、前記入射ビームが前記第１部分及び前記第２部分のそれぞれに差し向けられたときに、前記入射ビームの照明野を完全に満たすサイズを有する方法。
【請求項３】
請求項２に記載の方法であって、前記ターゲットが、更に、前記移相層内にエッチング形成された１個又は複数個の格子が備わる第３部分を備え、前記第１の強度値はさらに結像回折次数毎に取得される方法。
【請求項４】
請求項３に記載の方法であって、前記第３部分が２個以上の格子を備える方法。
【請求項５】
請求項３に記載の方法であって、前記１個又は複数個の格子が、前記移相層からエッチング形成された複数本の線で形成されている方法。
【請求項６】
請求項３に記載の方法であって、前記１個又は複数個の格子が、前記移相層からエッチング形成された孔又はピラー（柱）の二次元アレイで形成されている方法。
【請求項７】
請求項１に記載の方法であって、更に、
前記入射ビームに応じた前記ターゲットでの反射による複数個の第１の反射強度値を計測するステップであり、前記移相量の値がそれら第１の反射強度値にも基づくステップと、
前記入射ビームに応じた前記フォトマスクから反射した複数個の第２の反射強度値を計測するステップを有し、欠陥検出はさらに前記第２の反射強度値に基づく
方法。
【請求項８】
請求項１に記載の方法であって、前記第１の強度値がベルトランレンズを用い前記瞳面の瞳像から取得され、前記ベルトランレンズは、前記第１の強度値の計測の間に前記入射ビームに応じて前記ターゲットから透過した出射ビームの経路に挿入され、前記第２の強度値の計測の間に前記出射ビームから除去される方法。
【請求項９】
請求項８に記載の方法であって、前記検査又は計量システムはレティクル検査システムである方法。
【請求項１０】
請求項９に記載の方法であって、前記レティクル検査システムが対物系を備え、その対物系の瞳面の瞳像から前記第１の強度値が取得される方法。
【請求項１１】
請求項１０に記載の方法であって、前記対物系が反射又は屈折素子である方法。
【請求項１２】
請求項１に記載の方法であって、それにより計算される強度値と前記第１の強度値との間の差分が最小化されるまで強度値計算モデルのパラメタ複数個を調整し、その上でそれらモデルパラメタに係る最終値に基づきそのモデルを用い移相量を判別することによって、前記移相量が判別される方法。
【請求項１３】
基板上に堆積された移相層で形成された第１部分と、そこからその移相層が除去された第２部分とを備えた移相ターゲットを有するフォトマスクの移相量を判別するシステムであって、
入射ビームを前記フォトマスクと前記ターゲットの前記第１部分と前記第２部分それぞれへと差し向ける照明光学系と、
前記入射ビームに応じた前記ターゲットの前記第１部分及び前記第２部分の透過による複数個の第１の強度値を計測し、前記フォトマスクの透過による複数個の第２の強度値を計測する、１個又は複数個の検出器を有する集光光学系と、
前記第１の強度値に基づき前記ターゲットに係る移相量の値を判別して格納し、前記第１の強度値は、その上で前記システムの瞳面が形成される１個又は複数個の検出器で計測され、前記第２の強度値の計測に基づいて欠陥を検出し、前記第２の強度値は、その上でフォトマスク面が結像される１個又は複数個の検出器で計測されるよう構成されたコントローラと、
を備えるシステム。
【請求項１４】
請求項１３に記載のシステムであって、前記ターゲットの前記第１部分及び前記第２部分が、前記入射ビームが前記第１部分及び前記第２部分のそれぞれに差し向けられたときに、前記入射ビームの照明野を完全に満たすサイズを有するシステム。
【請求項１５】
請求項１４に記載のシステムであって、前記ターゲットが、更に、前記移相層内にエッチング形成された１個又は複数個の格子が備わる第３部分を備え、前記第１の強度値はさらに結像回折次数毎に取得されるシステム。
【請求項１６】
請求項１５に記載のシステムであって、前記第３部分が２個以上の格子を備えるシステム。
【請求項１７】
請求項１５に記載のシステムであって、前記１個又は複数個の格子が、前記移相層からエッチング形成された複数本の線で形成されているシステム。
【請求項１８】
請求項１５に記載のシステムであって、前記１個又は複数個の格子が、前記移相層からエッチング形成された孔又はピラー（柱）の二次元アレイで形成されているシステム。
【請求項１９】
請求項１３に記載のシステムであって、前記コントローラが、更に、
前記入射ビームに応じた前記ターゲットでの反射による複数個の第１の反射強度値を計測し、前記移相量の値が前記第１の反射強度値に基づいており、
前記入射ビームに応じた前記フォトマスクから反射した複数個の第２の反射強度値を計測し、欠陥検出はさらに前記第２の反射強度値に基づくよう構成されているシステム。
【請求項２０】
請求項１３に記載のシステムであって、さらにベルトランレンズを備え、前記第１の強度値がベルトランレンズを用い瞳面の瞳像から取得され、前記ベルトランレンズは、前記第１の強度値の計測の間に前記入射ビームに応じて前記ターゲットから透過した出射ビームの経路に挿入され、前記第２の強度値の計測の間に前記出射ビームから除去されるシステム。
【請求項２１】
請求項２０に記載のシステムであって、レティクル検査システムの形態を採るシステム。
【請求項２２】
請求項２１に記載のシステムであって、更に対物系を備え、その対物系の瞳面の瞳像から前記第１の強度値が取得されるシステム。
【請求項２３】
請求項２２に記載のシステムであって、前記対物系が反射又は屈折素子であるシステム。
【請求項２４】
請求項１３に記載のシステムであって、それにより計算される強度値と前記第１の強度値との間の差分が最小化されるまで強度値計算モデルのパラメタ複数個を調整し、その上でそれらモデルパラメタに係る最終値に基づきそのモデルを用い移相量を判別することによって、前記移相量が判別されるシステム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２】
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