(57)【要約】【課題】  蛍光体側の電極を陰極とした放電を実施する際のプライミング電子を効率よく発生させるプラズマディスプレイパネルを提供すること。【解決手段】  プラズマディスプレイパネルは、第１方向に延在する複数の表示電極が設けられた第１基板と、放電空間を介して第１基板に対向する第２基板とを有している。例えば、第２基板には、第２方向に延在する複数のアドレス電極と、蛍光体層とが設けられている。例えば、蛍光体層は、酸化マグネシウム結晶体および複数種類の蛍光体を含み、蛍光体の種類毎に分けられている。そして、複数種類の蛍光体の１種類であるマンガン付活珪酸亜鉛は、少なくとも１種類の元素が酸化した酸化物である被覆酸化物により、粒子の表面が被覆されている。なお、例えば、被覆酸化物の酸素を除く含有元素の電気陰性度の平均は、珪酸亜鉛の酸素を除く含有元素の電気陰性度の平均より小さい。【選択図】    図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１方向に延在する複数の表示電極が設けられた第１基板と、
放電空間を介して前記第１基板に対向する第２基板と、
前記第２基板に設けられ、前記第１方向と交差する第２方向に延在する複数のアドレス電極と、
前記放電空間を仕切るために、前記第２基板に設けられた隔壁と、
前記第２基板に設けられ、酸化マグネシウム結晶体および複数種類の蛍光体を含み、前記蛍光体の種類毎に分けられた蛍光体層とを備え、
前記複数種類の蛍光体の１種類であるマンガン付活珪酸亜鉛は、少なくとも１種類の元素が酸化した酸化物である被覆酸化物により、粒子の表面が被覆され、
前記被覆酸化物の酸素を除く含有元素の電気陰性度の平均は、珪酸亜鉛の酸素を除く含有元素の電気陰性度の平均より小さいことを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項２】
請求項１記載のプラズマディスプレイパネルにおいて、
前記被覆酸化物は、１．６７以下の電気陰性度の元素を少なくとも１種類有し、かつ、酸素を除く含有元素の電気陰性度の平均は、１．６７以下であることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項３】
請求項１記載のプラズマディスプレイパネルにおいて、
前記酸化マグネシウム結晶体は、２００〜３００ｎｍの波長域にピークを有するカソードルミネッセンス発光を行う特性を有していることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項４】
請求項１記載のプラズマディスプレイパネルにおいて、
前記酸化マグネシウム結晶体は、フッ素を１〜１００００ｐｐｍ含有していることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項５】
請求項１記載のプラズマディスプレイパネルにおいて、
前記被覆酸化物は、マグネシウム、アルミニウムおよびランタンの少なくとも１種類を有していることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項６】
請求項５記載のプラズマディスプレイパネルにおいて、
前記被覆酸化物は、酸化マグネシウム、酸化アルミニウムおよび酸化ランタンのいずれかであることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）は、２枚のガラス基板（前面ガラス基板および背面ガラス基板）を互いに貼り合わせて構成されており、ガラス基板の間に形成される空間（放電空間）に放電を発生させることで画像を表示する。画像における画素に対応するセルは、自発光型であり、放電により発生する紫外線を受けて赤、緑、青の可視光を発生する蛍光体が塗布されている。
【０００３】
一般的なＰＤＰでは、Ｘ電極およびＹ電極は前面ガラス基板に配置され、アドレス電極は背面ガラス基板に配置されている。また、アドレス電極上には、誘電体層を介して、叙述の蛍光体（蛍光体層）が設けられている。この種の３電極構造のＰＤＰは、サステイン期間に、Ｘ電極およびＹ電極間でサステイン放電を発生させることで、画像を表示する。サステイン放電を発生させるセル（点灯させるセル）は、例えば、アドレス期間において、Ｙ電極およびアドレス電極間で選択的にアドレス放電を発生させることにより、選択される。また、アドレス期間の前には、全てのセルを初期化するためのリセット期間が存在する。
【０００４】
リセット期間の放電（リセット放電）により発生する光の輝度が高い場合、ＰＤＰの黒表示の際の背景輝度が高くなり、画像のコントラスト（暗コントラスト）が低下する。一般的なＰＤＰでは、Ｘ電極およびＹ電極間の面放電によるリセット放電が実施される。近年、蛍光体層の下側に配置されたアドレス電極を陰極とする対向放電の強度を減少させるために、２次電子を放出する酸化マグネシウム（ＭｇＯ）結晶体を含む蛍光体層を形成し、アドレス電極およびＹ電極間の対向放電によるリセット放電を実施することにより、暗コントラストの低下を防止するＰＤＰが提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２００８−６６１７６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ＭｇＯ結晶体から放出された電子は、放電の種火となるプライミング電子として放電空間に残留する。したがって、ＭｇＯ結晶体の電子放出能力が低下した場合、放電空間に残留するプライミング電子が減少するため、蛍光体層の下側に配置されたアドレス電極を陰極とする対向放電が不安定になる。本発明者らが鋭意研究を行ったところ、緑の可視光を発生する蛍光体（緑色蛍光体）がマンガン付活珪酸亜鉛（Ｚｎ２ＳｉＯ４：Ｍｎ）の場合、長時間の点灯により、緑色蛍光体の蛍光体層に含まれるＭｇＯ結晶体の電子放出能力が低下し、緑色蛍光体層の下側に配置されたアドレス電極を陰極とする放電が不安定になることが明らかになった。
【０００６】
本発明の目的は、蛍光体側の電極を陰極とした放電を実施する際のプライミング電子を効率よく発生させるＰＤＰを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
プラズマディスプレイパネルは、第１方向に延在する複数の表示電極が設けられた第１基板と、放電空間を介して第１基板に対向する第２基板とを有している。例えば、第２基板には、第１方向と交差する第２方向に延在する複数のアドレス電極と、放電空間を仕切るための隔壁と、蛍光体層とが設けられている。例えば、蛍光体層は、酸化マグネシウム結晶体および複数種類の蛍光体を含み、蛍光体の種類毎に分けられている。そして、複数種類の蛍光体の１種類であるマンガン付活珪酸亜鉛は、少なくとも１種類の元素が酸化した酸化物である被覆酸化物により、粒子の表面が被覆されている。なお、例えば、被覆酸化物の酸素を除く含有元素の電気陰性度の平均は、珪酸亜鉛の酸素を除く含有元素の電気陰性度の平均より小さい。
【発明の効果】
【０００８】
本発明では、蛍光体側の電極を陰極とした放電を実施する際のプライミング電子を効率よく発生させるＰＤＰを提供できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
以下、本発明の実施形態を図面を用いて説明する。
【００１０】
図１は、本発明の一実施形態におけるプラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰとも称する）の要部を示している。図中の矢印Ｄ１は、第１方向Ｄ１を示し、矢印Ｄ２は、第１方向Ｄ１に画像表示面に平行な面内で直交する第２方向Ｄ２を示している。ＰＤＰ１０は、画像表示面を構成する前面基板部１２（第１基板）と、前面基板部１２に対向する背面基板部１４（第２基板）とにより構成されている。前面基板部１２と背面基板部１４の間（より詳細には、背面基板部の凹部）に放電空間ＤＳが形成される。
【００１１】
前面基板部１２は、ガラス基材ＦＳのガラス基材ＲＳに対向する面上（図では下側）に第１方向Ｄ１に延在して設けられ、互いに間隔を置いて配置された複数のＸ電極ＸＥ（表示電極、維持電極）およびＹ電極ＹＥ（表示電極、走査電極）を有している。Ｘ電極ＸＥは、第１方向Ｄ１に延在するＸバス電極ＸｂとＸバス電極Ｘｂに接続されたＸ透明電極Ｘｔとにより構成され、Ｙ電極ＹＥは、第１方向Ｄ１に延在するＹバス電極ＹｂとＹバス電極Ｙｂに接続されたＹ透明電極Ｙｔとにより構成されている。例えば、互いに対をなすＸ電極ＸＥおよびＹ電極ＹＥ間（より具体的には、Ｘ透明電極ＸｔおよびＹ透明電極Ｙｔ間）で繰り返して放電（サステイン放電）を発生させる。
【００１２】
Ｘ電極ＸＥおよびＹ電極ＹＥは、誘電体層ＤＬ１に覆われており、誘電体層ＤＬ１の表面は、保護層ＰＬに覆われている。例えば、保護層ＰＬは、放電を容易に発生させるために、陽イオンの衝突による２次電子の放出特性の高い酸化マグネシウム（ＭｇＯ）膜で形成される。例えば、ＭｇＯ膜等の保護層ＰＬから放出された電子は、放電の種火となるプライミング電子として放電空間ＤＳに残留する。
【００１３】
放電空間ＤＳを介して前面基板部１２に対向する背面基板部１４は、ガラス基材ＲＳの放電空間ＤＳ側の面上に、互いに平行に形成されたアドレス電極ＡＥを有している。アドレス電極ＡＥは、バス電極Ｘｂ、Ｙｂに直交する方向（第２方向Ｄ２）に延在して配置されている。アドレス電極ＡＥは、誘電体層ＤＬ２に覆われている。誘電体層ＤＬ２には、放電空間ＤＳを仕切るための隔壁（バリアリブ）ＢＲが形成されている。例えば、隔壁ＢＲは、第２方向Ｄ２に延在する第１隔壁ＢＲ１と第１方向Ｄ１に延在する第２隔壁ＢＲ２とにより格子状に形成される。なお、隔壁ＢＲは、第２隔壁ＢＲ２が設けられずに、第２方向Ｄ２に延在する第１隔壁ＢＲ１のみにより構成されてもよい。
【００１４】
隔壁ＢＲ１、ＢＲ２の側面と、隔壁ＢＲ１、ＢＲ２に囲まれた部分の誘電体層ＤＬ２上とには、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の可視光を発生する蛍光体層ＰＨＬｒ、ＰＨＬｇ、ＰＨＬｂが、それぞれ設けられている。例えば、緑の可視光を発生する蛍光体層ＰＨＬｇは、紫外線により励起されて緑の可視光を発生する蛍光体（後述する図２の蛍光体ＰＨｇ）と、電子を放出するＭｇＯ結晶体（後述する図２のＭｇＯ結晶体ＭＯＣ）とを有している。同様に、例えば、赤の可視光を発生する蛍光体層ＰＨＬｒは、紫外線により励起されて赤の可視光を発生する蛍光体（図示せず）と、電子を放出するＭｇＯ結晶体（図示せず）とを有している。
【００１５】
また、例えば、青の可視光を発生する蛍光体層ＰＨＬｂは、紫外線により励起されて青の可視光を発生する蛍光体（図示せず）と、電子を放出するＭｇＯ結晶体（図示せず）とを有している。以下、可視光の色毎に区別しない場合等、蛍光体層ＰＨＬｒ、ＰＨＬｇ、ＰＨＬｂを、蛍光体層ＰＨＬとも称する。上述したように、蛍光体層ＰＨＬは、ＭｇＯ結晶体および複数種類の蛍光体を含み、蛍光体の種類毎に分けられている。なお、１つのアドレス電極ＡＥ上に配置される蛍光体層ＰＨＬに含まれる蛍光体は、互いに同じ種類である。すなわち、１つのアドレス電極ＡＥ上に配置される蛍光体層ＰＨＬは、互いに同じ色の可視光を発生する。
【００１６】
ここで、例えば、蛍光体層ＰＨＬは、スクリーン印刷法により、蛍光体ペーストを背面基板部１４に印刷して形成される。例えば、蛍光体ペーストは、蛍光体、ＭｇＯ結晶体およびバインダを混合して形成される。また、蛍光体層ＰＨＬに含まれるＭｇＯ結晶体から放出された電子は、放電の種火となるプライミング電子として放電空間ＤＳに残留する。以下、ＭｇＯ膜等の保護層ＰＬおよびＭｇＯ結晶体から放出される電子をプライミング電子とも称する。
【００１７】
ＰＤＰ１０の１つの画素は、赤、緑および青の光を発生する３つのセルにより構成される。ここで、１つのセル（一色の画素）は、例えば、隔壁ＢＲ１、ＢＲ２で囲われる領域に形成される。このように、ＰＤＰ１０は、画像を表示するためにセルをマトリックス状に配置し、かつ互いに異なる色の光を発生する複数種のセルを交互に配列して構成されている。
【００１８】
ＰＤＰ１０は、前面基板部１２および背面基板部１４を、保護層ＰＬと隔壁ＢＲ１が互いに接するように貼り合わせ、Ｎｅ、Ｘｅ等の放電ガスを放電空間ＤＳに封入することで構成される。
【００１９】
図２は、図１に示したＰＤＰ１０の第２方向Ｄ２に沿う断面を示している。なお、図２は、蛍光体層ＰＨＬｇが配置された位置の断面を示している。図中の矢印Ｄ２の意味は、上述した図１と同じである。なお、図では、ＭｇＯ結晶体ＭＯＣと蛍光体ＰＨｇとを区別するため、ＭｇＯ結晶体ＭＯＣを四角で示し、蛍光体ＰＨｇを丸（より詳細には、２重丸の内側の丸）で示している。
【００２０】
上述したように、緑の可視光を発生する蛍光体層ＰＨＬｇは、紫外線により励起されて緑の可視光を発生する蛍光体ＰＨｇ（以下、緑色蛍光体ＰＨｇとも称する）と、プライミング電子を放出するＭｇＯ結晶体ＭＯＣとを有している。例えば、蛍光体層ＰＨＬに含まれる複数種類の蛍光体の１種類である緑色蛍光体ＰＨｇは、マンガン付活珪酸亜鉛（Ｚｎ２ＳｉＯ４：Ｍｎ）であり、粒子（マンガン付活珪酸亜鉛の粒子）の表面が酸化物ＯＸ（以下、被覆酸化物ＯＸとも称する）で被覆されている。例えば、被覆酸化物ＯＸは、１種類の元素が酸化した酸化物（酸化マグネシウム、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）、酸化ランタン（Ｌａ２Ｏ３）等）である。
【００２１】
例えば、被覆酸化物の含有元素（酸化マグネシウムのマグネシウム、酸化アルミニウムのアルミニウム、酸化ランタンのランタン等）を含む溶液に、緑色蛍光体ＰＨｇ（マンガン付活珪酸亜鉛）の粒子を浸し、沈殿後、焼成することにより、緑色蛍光体ＰＨｇの粒子の表面は、被覆酸化物ＯＸで被覆される。あるいは、例えば、被覆酸化物ＯＸの微粒子と、緑色蛍光体ＰＨｇ（マンガン付活珪酸亜鉛）の粒子とを混合することにより、緑色蛍光体ＰＨｇの粒子の表面は、被覆酸化物ＯＸで被覆される。
【００２２】
例えば、後述する図５に示すサンプルＳＰＬ１、ＳＰＬ２、ＳＰＬ３では、被覆酸化物ＯＸの微粒子と、緑色蛍光体ＰＨｇ（マンガン付活珪酸亜鉛）の粒子とをアセトン中で混合し、乾燥させることにより、緑色蛍光体ＰＨｇの粒子の表面を被覆酸化物ＯＸで被覆している。なお、例えば、赤および青の可視光を発生する蛍光体では、粒子の表面を被覆酸化物ＯＸで被覆する必要がないため、粒子の表面を被覆酸化物ＯＸで被覆するための工程は、実施されない。
【００２３】
また、例えば、プライミング電子を放出するＭｇＯ結晶体ＭＯＣは、２００〜３００ｎｍの波長域にピークを有するカソードルミネッセンス発光を行う。なお、例えば、ＭｇＯ結晶体ＭＯＣは、フッ素を５０ｐｐｍ含有して形成されてもよい。ここで、“ｐｐｍ”は、重量濃度を示している。
【００２４】
図３は、１画面の画像を表示するためのフィールドＦＬＤの構成例を示している。１つのフィールドＦＬＤの長さは、１／６０秒（約１６．７ｍｓ）であり、例えば、８個のサブフィールドＳＦ（ＳＦ１−ＳＦ８）で構成される。図の例では、各サブフィールドＳＦは、リセット期間ＲＳＴ、アドレス期間ＡＤＲおよびサステイン期間ＳＵＳを有している。
【００２５】
リセット期間ＲＳＴは、全てのセルを初期化するために、リセット放電を発生させる期間である。例えば、リセット期間ＲＳＴでは、アドレス電極ＡＥがＹ電極ＹＥに対して負極性になるように、アドレス電極ＡＥおよびＹ電極ＹＥ間に電圧が印加される。これにより、アドレス電極ＡＥおよびＹ電極ＹＥ間の対向放電によるリセット放電が発生する。例えば、リセット放電により、各電極ＸＥ、ＹＥ、ＡＥに蓄積される壁電荷の量が調整され、全てのセルの放電開始電圧（アドレス期間ＡＤＲのアドレス放電が発生し始める電圧）が合わせられる。ここで、壁電荷とは、例えば、各セルにおいて、図１に示したＭｇＯ等の保護層ＰＬの表面に蓄積されるプラス電荷およびマイナス電荷である。
【００２６】
アドレス期間ＡＤＲは、サステイン期間ＳＵＳに点灯させるセルを選択する期間である。例えば、サステイン期間ＳＵＳに点灯させるセルは、アドレス期間ＡＤＲにおいて、Ｙ電極ＹＥおよびアドレス電極ＡＥ間で選択的にアドレス放電を発生させることにより、選択される。
【００２７】
サステイン期間ＳＵＳは、アドレス期間ＡＤＲに選択されたセル（点灯させるセル）のＸ電極ＸＥおよびＹ電極ＹＥ間でサステイン放電を発生させる期間である。例えば、サステイン期間ＳＵＳでは、互いに極性の異なるサステインパルスが、Ｘ電極ＸＥおよびＹ電極ＹＥに繰り返して印加される。これにより、アドレス期間ＡＤＲに選択されたセルの放電（サステイン放電）が繰り返し行われる。なお、サステイン期間ＳＵＳでは、電極ＸＥ、ＹＥ間のサステイン放電の他に、アドレス電極ＡＥを陰極とする対向放電（電極ＡＥ、ＹＥ間の放電や電極ＡＥ、ＸＥ間の放電）が少ない割合で発生している。
【００２８】
サステイン期間ＳＵＳの長さは、サブフィールドＳＦにより異なり、セルの放電回数（輝度）に依存する。このため、点灯させるサブフィールドＳＦの組み合わせを変えることにより、画像を多階調で表示することが可能になる。この例では、サブフィールドＳＦ１−８に予め設定されているサステイン放電の回数は、それぞれ４、８、１６、３２、６４、１２８、２５６、５１２である。例えば、１回のサステイン放電で、セルは２回放電する。
【００２９】
なお、例えば、１つのフィールドＦＬＤは、複数のサブフィールドＳＦで構成されていればよく、７個以下のサブフィールドＳＦで構成されてもよいし、９個以上のサブフィールドＳＦで構成されてもよい。また、サブフィールドのサステイン放電の回数は、２のｎ乗（ｎ＝２以上の整数）に限定されない。さらに、フィールドＦＬＤ内のサブフィールドＳＦ１−８は、順次に配列されなくてもよい。例えば、サブフィールドＳＦ８がフィールドＦＬＤの中央付近に配置されてもよい。
【００３０】
図４は、図１に示したＰＤＰ１０の放電遅れを測定するための測定波形の一例を示している。なお、図４は、上述した図２に示した蛍光体層ＰＨＬｇ側の電極であるアドレス電極ＡＥを陰極とした放電の放電遅れを測定するために、各電極ＸＥ、ＹＥ、ＡＥに印加される電圧の波形の一例を示している。ここで、放電遅れは、例えば、測定期間ＭＥＡで、６０Ｖおよび０Ｖの電圧がＹ電極ＹＥおよびアドレス電極ＡＥにそれぞれ印加されてから電極ＹＥ、ＡＥ間で放電が発生するまでの時間である。
【００３１】
初期期間ＩＮＩは、全てのセルを初期化するために、電極ＸＥ、ＹＥ、ＡＥ間で放電を発生させる期間である。例えば、初期期間ＩＮＩでは、正および負の初期パルス（２００Ｖ、−２００Ｖ）が、Ｘ電極ＸＥおよびＹ電極ＹＥにそれぞれ印加される（図４（ａ））。そして、負および正の初期パルス（−２００Ｖ、２００Ｖ）が、Ｘ電極ＸＥおよびＹ電極ＹＥにそれぞれ印加される（図４（ｂ））。なお、初期期間ＩＮＩでは、アドレス電極ＡＥは、正および負の初期パルスの中間の電圧（０Ｖ）に維持される。
【００３２】
生成期間ＰＲＤは、プライミング電子を生成する期間である。例えば、生成期間ＰＲＤでは、正および負の生成パルス（８５Ｖ、−８５Ｖ）が、Ｘ電極ＸＥおよびＹ電極ＹＥに繰り返して印加される（図４（ｃ）、（ｄ））。これにより、電極ＸＥ、ＹＥ間で放電が発生し、プライミング電子が生成される。例えば、上述した図１に示したＭｇＯ膜等の保護層ＰＬに陽イオンが衝突することにより、ＭｇＯ膜等の保護層ＰＬからプライミング電子が放出される。
【００３３】
そして、生成期間ＰＲＤのうち、所定の回数（図の例では、２回）の生成パルスが印加された後の期間では、Ｘ電極ＸＥは、正の生成パルスの高レベル電圧（８５Ｖ）に維持され（図４（ｅ））、Ｙ電極ＸＥは、負の生成パルスの低レベル電圧（−８５Ｖ）に維持される（図４（ｆ））。また、生成期間ＰＲＤでは、バイアス電圧（２００Ｖ）が、最初の生成パルスに同期して、アドレス電極ＡＥに印加され、その後、アドレス電極ＡＥは、バイアス電圧（２００Ｖ）に維持される（図４（ｇ））。なお、生成期間ＰＲＤの最後では、電極ＸＥ、ＹＥ、ＡＥに蓄積される壁電荷の量が調整され、壁電荷を含めた電極ＸＥ、ＹＥ、ＡＥの電圧は、互いに同じ電圧に調整される。
【００３４】
休止期間ＩＤＬでは、生成期間ＰＲＤの最後の状態（８５Ｖ、−８５Ｖおよび２００Ｖが電極ＸＥ、ＹＥ、ＡＥにそれぞれ印加された状態）を、測定期間ＭＥＡまで維持する。例えば、休止期間ＩＤＬの長さは、５０ｍｓである。ここで、プライミング電子は、放電直後（例えば、生成期間ＰＲＤに発生した放電の直後）に最も多く発生し、次第に減少していく。したがって、放電空間ＤＳに存在するプライミング電子の量は、休止期間ＩＤＬ中に、次第に減少していく。
【００３５】
測定期間ＭＥＡは、蛍光体層ＰＨＬ側の電極であるアドレス電極ＡＥを陰極とした放電の放電遅れを測定する期間である。したがって、測定期間ＭＥＡでは、アドレス電極ＡＥがＹ電極ＹＥに対して負極性になるように、Ｙ電極ＹＥおよびアドレス電極ＡＥ間に電圧が印加される。例えば、測定期間ＭＥＡでは、先ず、第１測定電圧（６０Ｖ）および第２測定電圧（０Ｖ）が、Ｙ電極ＹＥおよびアドレス電極ＡＥにそれぞれ印加される（図４（ｈ））。
【００３６】
すなわち、測定期間ＭＥＡの開始時に、Ｙ電極ＹＥに印加される電圧は、休止期間ＩＤＬの電圧（−８５Ｖ）から第１測定電圧（６０Ｖ）に変化し、アドレス電極ＡＥに印加される電圧は、休止期間ＩＤＬの電圧（２００Ｖ）から第２測定電圧（０Ｖ）に変化する。したがって、放電遅れは、測定期間ＭＥＡの開始時点から電極ＹＥ、ＡＥ間で放電が発生するまでの時間である。なお、測定期間ＭＥＡでは、Ｘ電極ＸＥは、休止期間ＩＤＬ（生成期間ＰＲＤの最後）の電圧（８５Ｖ）に維持される。このため、電極ＸＥ、ＡＥ間の放電は発生しない。このように、図４に示した測定波形を電極ＸＥ、ＹＥ、ＡＥに印加することにより、蛍光体層ＰＨＬ側の電極であるアドレス電極ＡＥを陰極とした放電の放電遅れを測定することができる。
【００３７】
図５は、複数のサンプルにおける放電遅れｔｄの測定結果を示している。なお、図中の各サンプルＳＰＬ１、ＳＰＬ２、ＳＰＬ３、ＳＰＬ４の放電遅れｔｄは、上述した図４の測定波形を用いて放電開始までの時間を１０００回測定し、累積放電確率が９０％になる時間を示している。また、図中の“６８ｈ点灯後”（網掛け）は、ＰＤＰを６８時間（６８ｈ）点灯させた後（例えば、６８ｈ実動作させた後）の放電遅れｔｄ（単位はμｓ）を示し、図中の“点灯前”は、ＰＤＰを６８時間点灯させる前の放電遅れｔｄ（単位はμｓ）を示している。例えば、ＰＤＰを６８時間点灯させた後の放電遅れは、ＰＤＰを６８時間点灯させた後に、図４の測定波形を用いて放電開始までの時間を１０００回測定し、累積放電確率が９０％になる時間である。
【００３８】
サンプルＳＰＬ１、ＳＰＬ２、ＳＰＬ３は、上述した図２で説明したように、被覆酸化物ＯＸの微粒子と、緑色蛍光体ＰＨｇ（マンガン付活珪酸亜鉛）の粒子とをアセトン中で混合し、乾燥させることにより、緑色蛍光体ＰＨｇの粒子の表面を被覆酸化物ＯＸで被覆したサンプルである。なお、サンプルＳＰＬ１、ＳＰＬ２、ＳＰＬ３の被覆酸化物ＯＸは、それぞれ酸化マグネシウム、酸化アルミニウムおよび酸化ランタンである。また、サンプルＳＰＬ４は、緑色蛍光体ＰＨｇの粒子の表面が被覆酸化物ＯＸで被覆されていない比較用のサンプルである。
【００３９】
また、蛍光体層ＰＨＬに含まれるＭｇＯ結晶体は、フッ素を５０ｐｐｍ含有して形成されている。したがって、蛍光体層ＰＨＬを形成する際に用いられる蛍光体ペーストは、フッ素が５０ｐｐｍ添加されたＭｇＯ結晶体と、蛍光体と、バインダとを混合して形成される。例えば、サンプルＳＰＬ１、ＳＰＬ２、ＳＰＬ３では、図２に示した被覆酸化物ＯＸで被覆された緑色蛍光体ＰＨｇと、フッ素が５０ｐｐｍ添加されたＭｇＯ結晶体ＭＯＣとの重量比は、１００：２．５である。また、例えば、サンプルＳＰＬ４では、被覆酸化物ＯＸで被覆されていない緑色蛍光体ＰＨｇと、フッ素が５０ｐｐｍ添加されたＭｇＯ結晶体ＭＯＣとの重量比は、１００：２．５である。
【００４０】
緑色蛍光体ＰＨｇの粒子の表面が被覆酸化物ＯＸで被覆されたサンプルＳＰＬ１、ＳＰＬ２、ＳＰＬ３では、ＰＤＰを６８時間点灯させた前後で、放電遅れｔｄは、殆ど変化せず、０．４μｓ付近で安定している。これに対し、緑色蛍光体ＰＨｇの粒子の表面が被覆酸化物ＯＸで被覆されていない比較用のサンプルＳＰＬ４では、ＰＤＰを６８時間点灯させた後の放電遅れｔｄは、約１．２５μｓであり、６８時間点灯前の放電遅れｔｄ（約０．５μｓ）に比べて、大幅に劣化している。
【００４１】
ここで、放電遅れは、プライミング電子の量に依存して変化する。このため、放電遅れを測定することにより、プライミング電子が効率よく発生しているか否かを判断できる。すなわち、図５の測定結果は、例えば、ＰＤＰを６８時間点灯させた後では、サンプルＳＰＬ１、ＳＰＬ２、ＳＰＬ３が、プライミング電子を効率よく発生していることを示し、サンプルＳＰＬ４が、プライミング電子を効率よく発生していないことを示している。したがって、サンプルＳＰＬ１、ＳＰＬ２、ＳＰＬ３は、ＰＤＰを６８時間点灯させた後でも、プライミング電子を効率よく発生させることができる。これに対し、サンプルＳＰＬ４は、ＰＤＰを６８時間点灯させた後では、プライミング電子を効率よく発生させることができない。
【００４２】
すなわち、被覆酸化物ＯＸで緑色蛍光体ＰＨｇの粒子（マンガン付活珪酸亜鉛の粒子）の表面を被覆することにより、アドレス電極ＡＥ（蛍光体層ＰＨＬ側の電極）を陰極とした放電を実施する際のプライミング電子を効率よく発生させることができる。なお、後述する図６で説明するように、被覆酸化物ＯＸの酸素を除く含有元素の電気陰性度は、珪酸亜鉛の酸素を除く含有元素の電気陰性度の平均より小さい。
【００４３】
図６は、被覆酸化物ＯＸの電気陰性度と放電遅れｔｄとの関係の一例を示している。図中の“６８ｈ点灯後”および“点灯前”の意味は、上述した図５と同じである。すなわち、図中の黒の三角は、ＰＤＰを６８時間点灯させた後の放電遅れｔｄ（単位はμｓ）を示し、図中の四角は、ＰＤＰを６８時間点灯させる前の放電遅れｔｄ（単位はμｓ）を示している。なお、図中の各サンプルＳＰＬ１、ＳＰＬ２、ＳＰＬ３、ＳＰＬ４の放電遅れｔｄは、上述した図４の測定波形を用いて放電開始までの時間を１０００回測定し、累積放電確率が９０％になる時間を示している。
【００４４】
そして、図の横軸は被覆酸化物ＯＸの電気陰性度を示し、縦軸は放電遅れｔｄ（単位はμｓ）を示している。ここで、被覆酸化物ＯＸの電気陰性度は、被覆酸化物ＯＸの酸素を除く含有元素の電気陰性度の平均である。なお、図中のサンプルＳＰＬ４の放電遅れｔｄは、被覆酸化物ＯＸの電気陰性度に対する放電遅れｔｄの代わりに、珪酸亜鉛（Ｚｎ２ＳｉＯ４）の酸素を除く含有元素の電気陰性度の平均（１．７３）に対する放電遅れｔｄを示している。
【００４５】
例えば、サンプルＳＰＬ１（被覆酸化物ＯＸが酸化マグネシウムの場合）では、被覆酸化物ＯＸの電気陰性度は、被覆酸化物ＯＸの酸素を除く含有元素がマグネシウムのみであるため、マグネシウムの電気陰性度１．３１である。同様に、例えば、サンプルＳＰＬ２（被覆酸化物ＯＸが酸化アルミニウムの場合）では、被覆酸化物ＯＸの電気陰性度は、アルミニウムの電気陰性度１．６１である。また、例えば、サンプルＳＰＬ３（被覆酸化物ＯＸが酸化ランタンの場合）では、被覆酸化物ＯＸの電気陰性度は、ランタンの電気陰性度１．１である。
【００４６】
なお、緑色蛍光体ＰＨｇの粒子の表面が被覆酸化物ＯＸで被覆されていない比較用のサンプルＳＰＬ４では、上述したように、被覆酸化物ＯＸの電気陰性度の代わりに、珪酸亜鉛（Ｚｎ２ＳｉＯ４）の酸素を除く含有元素の電気陰性度の平均を算出している。例えば、珪酸亜鉛の酸素を除く含有元素は、２個の亜鉛（Ｚｎ）および１個の珪素（Ｓｉ、シリコン）である。したがって、珪酸亜鉛の酸素を除く含有元素の電気陰性度の平均は、亜鉛の電気陰性度１．６５の３分の２と、珪素の電気陰性度１．９０の３分の１との和（１．１＋０．６３＝１．７３）から算出され、１．７３である。
【００４７】
図に示すように、被覆酸化物ＯＸの電気陰性度が１．６１以下では、ＰＤＰを６８時間点灯させた前後で、放電遅れｔｄは、殆ど変化せず、０．４μｓ付近で安定している。そして、電気陰性度が１．６１〜１．７３の間では、ＰＤＰを６８時間点灯させた前後で、放電遅れｔｄが大きく変化している。これは、上述した図２に示したＭｇＯ結晶体ＭＯＣの劣化（例えば、プライミング電子の放出能力の低下）と、被覆酸化物ＯＸの電気陰性度との間に相関があることを示唆している。
【００４８】
例えば、図６は、電気陰性度が１．６７（（１．６１＋１．７３）／２）以下の元素の酸化物ＯＸ（被覆酸化物ＯＸ）で、緑色蛍光体ＰＨｇの粒子（マンガン付活珪酸亜鉛の粒子）の表面を被覆した場合、点灯時間に拘わらず、放電遅れｔｄが１．０μｓ以下であることを示唆している。すなわち、被覆酸化物ＯＸの電気陰性度が１．６７以下のＰＤＰでは、アドレス電極ＡＥ（蛍光体層ＰＨＬ側の電極）を陰極とした放電を実施する際のプライミング電子を効率よく発生させることができる。
【００４９】
図７は、図１に示したＰＤＰ１０を用いて構成されたプラズマディスプレイ装置の一例を示している。プラズマディスプレイ装置（以下、ＰＤＰ装置とも称する）は、四角板形状を有するＰＤＰ１０、ＰＤＰ１０の画像表示面１６側（光の出力側）に設けられる光学フィルタ２０、ＰＤＰ１０の画像表示面１６側に配置された前筐体３０、ＰＤＰ１０の背面１８側に配置された後筐体４０およびベースシャーシ５０、ベースシャーシ５０の後筐体４０側に取り付けられ、ＰＤＰ１０を駆動するための回路部６０、およびＰＤＰ１０をベースシャーシ５０に貼り付けるための両面接着シート７０を有している。回路部６０は、複数の部品で構成されるため、図では、破線の箱で示している。光学フィルタ２０は、前筐体３０の開口部３２に取り付けられる保護ガラス（図示せず）に貼付される。なお、光学フィルタ２０は、電磁波を遮蔽する機能を有してもよい。また、光学フィルタ２０は、保護ガラスではなく、ＰＤＰ１０の画像表示面１６側に直接貼付されてもよい。
【００５０】
以上、この実施形態では、緑色蛍光体ＰＨｇの粒子（マンガン付活珪酸亜鉛の粒子）の表面は、珪酸亜鉛の酸素を除く含有元素の電気陰性度の平均より小さい電気陰性度の元素の酸化物（被覆酸化物ＯＸ）で被覆されている。これにより、ＰＤＰの点灯時間に拘わらず、放電遅れｔｄを小さくすることができる。特に、被覆酸化物ＯＸが酸化マグネシウム、酸化アルミニウムおよび酸化ランタンのいずれかの場合、ＰＤＰの点灯時間に拘わらず、小さい放電遅れｔｄで安定させることができる。すなわち、この実施形態では、蛍光体層ＰＨＬ側（蛍光体側）の電極であるアドレス電極ＡＥを陰極とした放電を実施する際のプライミング電子を効率よく発生させるＰＤＰを提供できる。
【００５１】
なお、上述した実施形態では、１つの画素が、３つのセル（赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ））により構成される例について述べた。本発明はかかる実施形態に限定されるものではない。例えば、１つの画素を４つ以上のセルにより構成してもよい。あるいは、１つの画素が、緑（Ｇ）の色を発生するセルと、赤（Ｒ）、青（Ｂ）以外の色を発生するセルとにより構成されてもよく、１つの画素が、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）以外の色を発生するセルを含んでもよい。
【００５２】
上述した実施形態では、第２方向Ｄ２が、第１方向Ｄ１に直交する例について述べた。本発明はかかる実施形態に限定されるものではない。例えば、第２方向Ｄ２は、第１方向Ｄ１と、ほぼ直角方向（例えば、９０度±５度）に交差してもよい。この場合にも、上述した実施形態と同様の効果を得ることができる。
【００５３】
上述した実施形態では、被覆酸化物ＯＸが１種類の元素の酸化物で形成される例について述べた。本発明はかかる実施形態に限定されるものではない。例えば、被覆酸化物ＯＸは、複数の種類の元素が酸化した酸化物でもよい。例えば、マグネシウム、アルミニウムおよびランタンの少なくとも１種類を含む複数の種類の元素が酸化した酸化物でもよい。すなわち、被覆酸化物ＯＸは、少なくとも１種類の元素が酸化した酸化物である。この場合、被覆酸化物ＯＸの酸素を除く含有元素の電気陰性度の平均を、被覆酸化物ＯＸの電気陰性度として算出する。したがって、被覆酸化物ＯＸの酸素を除く含有元素の電気陰性度の平均は、珪酸亜鉛の酸素を除く含有元素の電気陰性度の平均より小さい。あるいは、被覆酸化物ＯＸの酸素を除く含有元素の電気陰性度の平均は、１．６７以下である。この場合にも、上述した実施形態と同様の効果を得ることができる。
【００５４】
上述した実施形態では、蛍光体層ＰＨＬに含まれるＭｇＯ結晶体が、フッ素を５０ｐｐｍ含有して形成される例について述べた。本発明はかかる実施形態に限定されるものではない。例えば、蛍光体層ＰＨＬに含まれるＭｇＯ結晶体は、フッ素の含有量が１００００ｐｐｍ程度以下であればよく、フッ素の含有量が５０ｐｐｍより多くてもよいし、フッ素の含有量が５０ｐｐｍより少なくてもよい。すなわち、蛍光体層ＰＨＬに含まれるＭｇＯ結晶体は、フッ素を１〜１００００ｐｐｍ含有して形成されてもよいし、フッ素を含まずに形成されてもよい。この場合にも、上述した実施形態と同様の効果を得ることができる。
【００５５】
なお、ＭｇＯ結晶体のフッ素の含有量（１〜１００００ｐｐｍ）は、発明者等によって本発明前に検討されたＰＤＰの試験結果に基づいて算出している。例えば、この試験に用いられたＰＤＰは、上述した図５で説明した比較用のサンプルＳＰＬ４の構成から蛍光体層ＰＨＬ内のＭｇＯ結晶体が省かれ、保護層ＰＬを覆うプライミング電子放出層が追加された構成である。例えば、プライミング電子放出層は、フッ素が添加されたＭｇＯ結晶体により形成される。そして、発明者等は、プライミング電子放出層を形成するＭｇＯ結晶体のフッ素の含有量が互いに異なる複数のサンプルを測定し、ＭｇＯ結晶体のフッ素の含有量と放電遅れとの関係を検討した。なお、この構成では、プライミング電子放出層側の電極（Ｙ電極ＹＥ）を陰極にして電極ＡＥ、ＹＥ間で放電を発生させ、放電遅れが測定される。また、放電遅れを測定する際の休止期間（上述した図４に示した休止期間ＩＤＬに対応）の長さは、５０ｍｓである。発明者等によって本発明前に検討されたＰＤＰの試験結果の一例を以下に示す。
【００５６】
例えば、ＭｇＯ結晶体のフッ素の含有量が２４ｐｐｍ、４８ｐｐｍ、８０ｐｐｍ、１６０ｐｐｍおよび４４０ｐｐｍのＰＤＰでは、放電遅れは、それぞれ０．４３１μｓ、０．４８４μｓ、０．４８５μｓ、０．４７４μｓおよび０．６２２μｓである。また、フッ素を含まないＭｇＯ結晶体によりプライミング電子放出層が形成されたＰＤＰでは、放電遅れは、１．２３１μｓである。このように、フッ素の含有量が２４〜４４０ｐｐｍの範囲では、放電遅れの変化が小さい。したがって、フッ素の含有量が１〜１００００ｐｐｍ程度の範囲では、放電遅れの変化が小さく、プライミング電子が効率よく発生されることを示唆していると考えられる。
【００５７】
なお、上述した図１に示したＰＤＰでは、蛍光体層ＰＨＬに含まれるＭｇＯ結晶体がフッ素を含まずに形成された場合でも、緑色蛍光体ＰＨｇの粒子（マンガン付活珪酸亜鉛の粒子）の表面は、被覆酸化物ＯＸで被覆されている。このため、この場合にも、上述した図５および図６に示したように、長時間の点灯後に、放電遅れｔｄが劣化することを防止できる。したがって、この場合にも、蛍光体層ＰＨＬ側の電極（アドレス電極ＡＥ）を陰極とした放電を実施する際のプライミング電子を効率よく発生させるＰＤＰを提供できる。
【００５８】
上述した実施形態では、２００〜３００ｎｍの波長域にピークを有するカソードルミネッセンス発光を行うＭｇＯ結晶体ＭＯＣが蛍光体層ＰＨＬに含まれる例について述べた。本発明はかかる実施形態に限定されるものではない。例えば、ＭｇＯ結晶体ＭＯＣは、２００〜３００ｎｍの波長域以外にピークを有するカソードルミネッセンス発光を行う特性でもよい。この場合にも、上述した実施形態と同様の効果を得ることができる。
【００５９】
以上、本発明について詳細に説明してきたが、上記の実施形態およびその変形例は発明の一例に過ぎず、本発明はこれに限定されるものではない。本発明を逸脱しない範囲で変形可能であることは明らかである。
【産業上の利用可能性】
【００６０】
本発明は、プラズマディスプレイパネルに適用できる。
【図面の簡単な説明】
【００６１】
【図１】一実施形態におけるＰＤＰの要部を示す図である。
【図２】図１に示したＰＤＰの第２方向に沿う断面を示す図である。
【図３】１画面の画像を表示するためのフィールドの構成例を示す図である。
【図４】放電遅れを測定するための測定波形の一例を示す図である。
【図５】複数のサンプルにおける放電遅れの測定結果を示す図である。
【図６】被覆酸化物の電気陰性度と放電遅れとの関係の一例を示す図である。
【図７】図１に示したＰＤＰを用いて構成されたプラズマディスプレイ装置の一例を示す図である。
【符号の説明】
【００６２】
１０‥プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）；１２‥前面基板；１４‥背面基板；１６‥ＰＤＰの画像表示面；１８‥ＰＤＰの背面；２０‥光学フィルタ；３０、４０‥筺体；３２‥筺体の開口部；５０‥ベースシャーシ；６０‥回路部；７０‥両面接着シート；ＡＥ‥アドレス電極；ＢＲ‥隔壁；ＤＬ‥誘電体層；ＤＳ‥放電空間；ＦＳ、ＲＳ‥ガラス基材；ＭＯＣ‥酸化マグネシウム結晶体；ＯＸ‥被覆酸化物；ＰＨ‥蛍光体；ＰＨＬ‥蛍光体層；ＰＬ‥保護層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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