Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成16年11月15日(2004.11.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
基板上に記録層を設けてなる光記録媒体において、該光記録媒体中に一般式（Ｉ）で示されるアゾ化合物と、金属、金属酸化物またはその塩からなるアゾ金属キレートアニオン化合物と、一般式（II）で示されるスチリル色素カチオン化合物からなる色素塩を少なくとも一種類含有することを特徴とする光記録媒体。
【化１】
2002225432.tif 000001
【化２】
2002225432.tif 000002
一般式（Ｉ）において、Ｒ1〜Ｒ8はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、カルボキシ基、アミノ基、置換もしくは未置換のアルキル基、置換もしくは未置換のアリール基、置換もしくは未置換の複素環残基、置換もしくは未置換のアルキルカルボニル基、置換もしくは未置換のアリールカルボニル基、置換もしくは未置換のアルキルオキシカルボニル基、置換もしくは未置換のアリールオキシカルボニル基、置換もしくは未置換のアルキルスルホニル基、置換もしくは未置換のアリールスルホニル基、置換もしくは未置換のアルキルチオオキシ基、置換もしくは未置換のアリールチオオキシ基、置換もしくは未置換のアルキルオキシ基、置換もしくは未置換のアリールオキシ基、置換もしくは未置換のアルキルアミノ基、置換もしくは未置換のアリールアミノ基、置換もしくは未置換のアルキルカルボニルアミノ基、置換もしくは未置換のアリールカルボニルアミノ基、置換もしくは未置換のアルキルカルバモイル基、置換もしくは未置換のアリールカルバモイル基、置換もしくは未置換のアルケニル基を表わし、ＸおよびＹは活性水素を有する基を表わす。また、Ｒ1とＲ2、Ｒ2とＲ3、Ｒ3とＲ4、Ｒ5とＲ6、Ｒ6とＲ7、もしくはＲ7とＲ8は連結して環を形成していても良い。
一般式（ＩＩ）において、Ｒ9〜Ｒ13はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、カルボキシ基、アミノ基、置換もしくは未置換のアルキル基、置換もしくは未置換のアリール基、置換もしくは未置換の複素環残基、置換もしくは未置換のアルキルカルボニル基、置換もしくは未置換のアリールカルボニル基、置換もしくは未置換のアルキルオキシカルボニル基、置換もしくは未置換のアリールオキシカルボニル基、置換もしくは未置換のアルキルスルホニル基、置換もしくは未置換のアリールスルホニル基、置換もしくは未置換のアルキルチオオキシ基、置換もしくは未置換のアリールチオオキシ基、置換もしくは未置換のアルキルオキシ基、置換もしくは未置換のアリールオキシ基、置換もしくは未置換のアルキルアミノ基、置換もしくは未置換のアリールアミノ基、置換もしくは未置換のアルキルカルボニルアミノ基、置換もしくは未置換のアリールカルボニルアミノ基、置換もしくは未置換のアルキルカルバモイル基、置換もしくは未置換のアリールカルバモイル基、置換もしくは未置換のアルケニル基を表わし、Ａ環はカチオン化された窒素原子を結合したヘテロ環残基を表わし、ｎは１または２を表わす。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
上記課題は、本発明の（１）「基板上に記録層を設けてなる光記録媒体において、該光記録媒体中に一般式（Ｉ）で示されるアゾ化合物と、金属、金属酸化物またはその塩からなるアゾ金属キレートアニオン化合物と、一般式（II）で示されるスチリル色素カチオン化合物からなる色素塩を少なくとも一種類含有することを特徴とする光記録媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成16年3月15日(2004.3.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
屈曲可能な少なくとも二本の綴じ足を、被固定面の面に沿う方向に倒伏することで書類を綴じ込み可能とした綴じ具において、
長手方向に延びるとともに、前記綴じ足を受容可能とする挿通路を備えたベースと、このベースに重なり合う位置に設けられるとともに、ベースの長手方向に沿って相対移動可能に設けられたスライド部材とを備え、
前記スライド部材が所定の第１の位置に設定されたときに、当該スライド部材とベースとの間に綴じ足を挟む倒伏姿勢として書類を綴じ込み可能とする一方、前記スライド部材が所定の第２の位置に設定されたときに、前記ベースと綴じ足とを分離可能とし、且つ、前記スライド部材がベースの長手方向端部から突出して全長を長くすることを特徴とする綴じ具。
【請求項２】
屈曲可能な少なくとも二本の綴じ足を、被固定面の面に沿う方向に倒伏することで書類を綴じ込み可能とした綴じ具において、
長手方向に延びるとともに、前記綴じ足を受容可能とする挿通路を備えたベースと、このベースに重なり合う位置に設けられるとともに、ベースの長手方向に沿って相対移動可能に設けられた単一のスライド部材とを備え、
前記スライド部材が所定の第１の位置に設定されたときに、当該スライド部材とベースとの間に綴じ足を挟む倒伏姿勢として書類を綴じ込み可能とする一方、前記スライド部材が所定の第２の位置に設定されたときに、前記ベースと綴じ足とを分離可能とし、且つ、前記スライド部材がベースの長手方向一端から突出して全長を長くすることを特徴とする綴じ具。
【請求項３】
前記挿通路は、ベースの側端を切り欠いて形成されていることを特徴とする請求項１又は２記載の綴じ具。
【請求項４】
前記挿通路は、ベースの側端に向かって拡開する案内部を備えるとともに、この案内部に連なってベースの長手方向に沿う脱落防止部を備えていることを特徴とする請求項３記載の綴じ具。
【請求項５】
前記ベース及びスライド部材の間には、当該スライド部材を前記第２の位置に設定したときに、前記相対移動を規制可能なストッパ機構が設けられていることを特徴とする請求項１から４の何れかに記載の綴じ具。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成16年9月16日(2004.9.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
冊子のページめくりローラと、
該ローラを駆動するアクチュエータ等からなるページめくり手段と、
冊子を搬送する搬送ローラと、固定された搬送ガイドと、ページめくり挙動に必要な空間を確保するために開閉可能なシャッタと、該シャッタの開閉手段とで構成される搬送手段と
を有するページ替え装置において、
前記ページめくりローラの回転駆動源を上記シャッタの開閉手段の開閉駆動源として共用し、前記ページめくりローラと連動して前記シャッタを開閉する構成を有することを特徴とするページ替え装置。
【請求項２】
前記シャッタの開閉手段は、前記ページめくりローラの順回転方向と逆回転方向に応じておのおのの順めくりシャッタ、および逆めくりシャッタを開閉する構成を有することを特徴とする請求項１記載のページ替え装置。
【請求項３】
前記搬送手段は、前記シャッタの閉じ押えの解除を前記シャッタの開閉手段と連動して動作させる構成を有することを特徴とする請求項１または２記載ページ替え装置。
【手続補正書】
【提出日】平成16年9月13日(2004.9.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
本発明は、このような点に鑑みて、ボデーの１次の曲げ共振に対してリヤフロアパネル或はバックドアの車室を構成するパネルの共振周波数の振動位相〔振動方向〕が正逆反転することに着眼したもので、重量増につながることなく、パネル部分のボデーに対する共振周波数の調整、つまり振動方向の調整によるワゴン車のこもり音低減方法を提供することを目的とする。
【手続補正書】
【提出日】平成16年10月7日(2004.10.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
印刷ヘッドの作動を制御するための集積回路を含むシリコン基板であって、該基板の長さに沿って形成されたインクチャネル群を有するシリコン基板と；
シリコン基板を覆う絶縁体層あるいは層群から成りかつ前記シリコン基板の長さ方向に沿って形成されたインクジェットノズルボア群を有する薄膜であって、各ノズルボアはそれぞれ前記インクチャネルのうちの異なる一つに連通すると共にその一つに整列するものであり、各インクチャネルはそれぞれのノズルボアより大きいサイズで形成されているところの薄膜と；
前記シリコン基板に形成されたリブ構造群であって、隣接するノズルボア対のそれぞれの間にリブ構造を備えるようにされたリブ構造群であって、前記リブ構造は前記シリコン基板に強度を付与するために前記基板の長さ方向を横切る方向に形成され、各リブ構造の厚さがリブ構造が前記薄膜に連動するように前記シリコン基板の全厚さであるところのリブ構造群と；を備えたインクジェット印刷ヘッド。
【請求項２】
印刷ヘッドの作動を制御するための集積回路を有するシリコン基板の長さに沿って形成されたインクチャネル群において加圧状態の液体インクを備える段階と；
インクドロップの偏向に影響を与えるために、複数のノズル開口のそれぞれでインクを異方的に加熱する段階であって、各ノズル開口が各ノズル開口より大きな各インクチャネルに連通すると共にその各インクチャネルに整列し、前記ノズル開口が基板上の薄層に形成されていると共に所定の方向に延びるアレイとして配置されているところの段階と；を備え、
各チャネルがシリコン基板に形成されたリブ構造によって画定され、各リブ構造はそれぞれ隣接するノズル開口対の間に配置し、リブ構造はノズル開口のアレイの方向を横切る方向を指向し、各リブ構造の厚さがリブ構造が前記薄膜に連動するように前記シリコン基板の全厚さである連続インクジェット印刷ヘッドの作動方法。
【請求項３】
印刷ヘッドの作動を制御するための集積回路を有するシリコン基板を備える段階であって、該シリコン基板はその上に絶縁体層若しくは層群を備え、該絶縁体層若しくは層群は前記シリコン基板に形成された回路に電気的に接続する導体を有するものであるところの段階と；
前記絶縁体層若しくは層群にインクジェットボア群若しくはアレイを直線状若しくはジグザグ状に配置するように形成する段階であって、このインクジェットボア群若しくはアレイは少なくともある方向に配列するところの段階と；
前記インクジェットボア群若しくはアレイの方向に沿ってインクチャネル群をシリコン基板に形成する段階と；
隣接するインクチャネルを分離するためにシリコン基板にシリコンリブ構造を保持する段階であって、リブ構造はインクジェットボアのアレイ群若しくはアレイの方向を横切る方向に形成されているところの段階と；を備えたインクジェット印刷ヘッドの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年8月6日(2004.8.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
原料を一時的に蓄えて順次送り出すものであって、傾斜した底面及びその底面の最下部に排出口を有する本体と、回転に伴って原料を排出口に向かって送ることができるように本体内部に底面に沿って底面の傾斜方向に配列して固定された複数本のローラとを備え、各ローラが、その外周に回転軸と同心で中央部を境にして反転する金属線材からなる螺旋状のガイドを有することを特徴とするホッパ。
【請求項２】
排出口にカットスクリューが取り付けられている請求項１に記載のホッパ。
【請求項３】
投入された原料がローラに載る前にそれを分断するブリッジカットナイフが、排出口の上方にローラの回転軸と平行に固定されている請求項１に記載のホッパ。
【請求項４】
請求項１ないし３のいずれかに記載のホッパから排出された原料を搬送する搬送手段と、搬送手段による搬送途中の原料に添加物を添加する添加手段と、搬送された原料を添加物とともに混合するミキサーとを備えた粉砕混合装置。
【請求項５】
前記ミキサーは、回転軸と、回転軸と接する根部、その根部よりも径小の円柱状の嵌合部及び嵌合部から延びる円柱を軸方向に平割りしてなる幹部からなる羽根ベースと、嵌合部と嵌合し根部を回転軸との間に挟んで回転軸にボルト締めされることにより羽根ベースを回転軸に固定する固定フランジと、幹部に固定される羽根とを備えた請求項４に記載の粉砕混合装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
しかもローラが、その外周に回転軸と同心で中央部を境にして反転する金属線材からなる螺旋状のガイドを有するので、原料はローラとともに回転しながら排出口に向かうと同時にガイドの螺旋に案内されてローラの中央部に移動する。従って、原料が両端に偏らない。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
更にこの発明のホッパの好ましい構成においては、各々のローラに大小２つのスプロケットが付けられ、下位にあるローラの小スプロケットと上位にあるローラの大スプロケットとが無端チェーンで連結されている。従って、ローラの駆動力が、連結されたスプロケットのギヤ比に反比例して下位から上位に減速されて伝達される。あるいはモータ等の駆動源の出力軸を最上位のローラと連結させたときは、上位から下位に加速されて伝達される。このため、下位にあるローラほど速く回転して、原料を渋滞させることなく順調に排出口に送ることができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
−実施形態２−
この発明の第二の実施形態を図面とともに説明する。図８は第二実施形態のホッパを示す正面図、図９はそのホッパの内部を示す斜視図である。
実施形態１で説明したようにホッパ１に投入された原料の大部分は排出口２２の両側から排出口２２に向かって送られるので、排出口２２の上方にある原料は後続の原料に圧縮される。従って、原料が粘土状である場合、実施形態１のホッパ１では、圧縮原料が排出口の上方でブリッジを形成して排出口を塞いでしまうことがある。
【手続補正書】
【提出日】平成16年9月9日(2004.9.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
タイヤ及び同タイヤを取り付けたホイール用のメンテナンス装置と共に使用され、各個別のタイヤ（Ｐ）に付されたタイヤ識別コードを読み取るコード検出器（２）と、複数のタイヤのタイヤ識別コード及び各個別のタイヤ（Ｐ）に関連するデータを格納可能なメモリ（３）と、前記コード検出器（２）によって検出されたタイヤ識別コードを前記メモリ（３）に既に格納されている既存のタイヤ識別コードと比較する比較回路（４）と、識別されたタイヤに関連する情報を表示する表示装置（５）とを有するタイヤ用のデータ入出力装置であって、
前記メモリ（３）に対するアクセス手段（７）と、前記タイヤ識別コード及びデータを前記メモリ（３）に格納し、これらのタイヤ識別コード及びデータを前記表示装置（５）に表示させるために、前記アクセス手段（７）と前記メモリ（３）の間に設けられたデコーダ（６）とを有することを特徴とするタイヤ用のデータ入出力装置。
【請求項２】
前記表示装置（５）は前記比較回路（４）に接続されていることを特徴とする請求項１に記載のタイヤ用のデータ入出力装置。
【請求項３】
更に、前記比較回路（４）の出力部と前記表示装置（５）との間に設けられた弁別器（８）を有することを特徴とする請求項１または２に記載のタイヤ用のデータ入出力装置。
【請求項４】
前記タイヤ及び同タイヤを取り付けたホイール用のメンテナンス装置は、タイヤをホイールに着脱するタイヤ着脱装置（１０）を含むことを特徴とする請求項１から３のいずれか一項に記載のタイヤ用のデータ入出力装置。
【請求項５】
前記タイヤ及び同タイヤを取り付けたホイール用のメンテナンス装置は、タイヤ膨張装置（１１）を含むことを特徴とする請求項１から３のいずれか一項に記載のタイヤ用のデータ入出力装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、タイヤ及び同タイヤを取り付けたホイール用のメンテナンス装置と共に使用され、各個別のタイヤに付されたタイヤ識別コードを読み取るコード検出器と、複数のタイヤのタイヤ識別コード及び各個別のタイヤに関連するデータを格納可能なメモリと、前記コード検出器によって検出されたタイヤ識別コードを前記メモリに既に格納されている既存のタイヤ識別コードと比較する比較回路と、識別されたタイヤに関連する情報を表示する表示装置とを有するタイヤ用のデータ入出力装置に関する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
【課題を解決するための手段】
上記の課題を解決するために、本発明の請求項１によるタイヤ用のデータ入出力装置は、前記メモリに対するアクセス手段と、前記タイヤ識別コード及びデータを前記メモリに格納し、これらのタイヤ識別コード及びデータを前記表示装置に表示させるために、前記アクセス手段と前記メモリの間に設けられたデコーダとを有することを特徴としている。
このような特徴を備えているために、本発明の請求項１によるタイヤ用のデータ入出力装置では、タイヤ（通常はその中心部）に備えられたバーコード等（又はマイクロチップ）に記されたタイヤ識別コードを検出装置によって読み取り、これによって得られたタイヤ識別コードに基づいて、そのタイヤの製造年月日、そのタイヤがこれまでに膨張された回数、そのタイヤがこれまでのメンテナンス作業で受けた負荷、その理想空気圧、或いは、その他技術特性等そのタイヤに関する情報を、タイヤのメンテナンス作業に従事する者に提供することが可能になる。また、新規のタイヤ識別コード乃至はデータをメモリに入力する必要が生じた場合には、表示装置に表れたデータ入力ボックス内にアクセス手段からそれらの新規のタイヤ識別コード乃至はデータを入力すると、入力されたタイヤ識別コード乃至はデータはデコーダでデコードされ、その新規のタイヤ識別コード乃至はデータデータがメモリ内に既存のデータか否かが判定され、必要に応じて、判定結果が表示装置に表示される。既存のデータではないとの判定結果が得られた場合には、新しい組み合わせの数字とアルファベット等からなる新規のタイヤ識別コード乃至はデータがメモリに格納される。作業者がメンテナンス作業を終えた時に、その作業内容やタイヤの点検結果をアクセス手段から入力すると、入力結果は新たな作業履歴としてタイヤ識別コードに関連付けられた形でメモリに追加され、その後のメンテナンス作業の際に役立てられる。これによって、作業者は、メンテナンス作業を施そうとしているタイヤに関する十分な情報に基づいて、最適なメンテナンス作業を実行でき、更に、最適なメンテナンス要領を比較的短時間で決定できる。また、このような特徴を備えているために、本発明の請求項１によるタイヤ用のデータ入出力装置と共にタイヤ及び同タイヤを取り付けたホイール用メンテナンス装置を用いれば、特殊な訓練を受けていない作業者や、経験の無い乃至は浅い作業者でも、最適なタイヤ及び同タイヤを取り付けたホイールのメンテナンス作業を実行し易くなる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
【発明の実施の形態】
図１から図４に示されたタイヤ用のデータ入出力装置１は、個別のタイヤＰに付されたタイヤ識別コードを読み取るバーコードリーダーからなるコード検出器２、メモリ３を備えたコンピュータ（図１の破線で囲まれた部位）、比較器４、ＣＲＴ乃至は液晶式のモニタからなる表示装置５、デコーダ６、及び、アクセス用のキーボード７（アクセス手段の一例）を有している。メモリ３は、所定数のタイヤ識別コードを格納可能な第１メモリ領域３ａと、１〜ｎからなる所定の数の数値を格納可能な第２メモリ領域３ｂと、第２メモリ領域３ｂ内の数値を認識し、必要に応じてそれらを表示装置５上に表示し、さらに、表示装置５上に表示すべき新規の文字を生成するように構成された第３メモリ領域３ｃとを有する。コード検出器２は、タイヤにタイヤ識別手段として取付けられたマイクロチップ（ＩＣチップなどで構成されている）内に書き込まれたタイヤ識別コードを読み取る手段で構成しても良い。
【手続補正書】
【提出日】平成16年12月7日(2004.12.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
容器を検査するためのシステムにおいて、
検査される容器を移動するためのコンベヤと、
コンベアと連動して動作するエンコーダと、
不合格の容器をコンベヤから取り除くためのリジェクタと、
リジェクタの上流にある容器を検査し、リジェクト信号を含む連続するデータの入力ストリームを生成する検査デバイスと、
入力ストリームを受け取ってランダムの時間インターバルで評価し、リジェクタへのリジェクト信号を含む連続するデータの出力ストリームを生成するコントローラと、
該コントローラをイネーブルしてランダムの時間インターバルで入力ストリームを処理させる手段であって、
エンコーダからの信号をクロック信号に変換し、該クロック信号を入力ストリーム及び出力ストリームに載せる手段と、
トラッキング信号を生成して、入力ストリーム及び出力ストリーム上に載せる手段と、
入力ストリーム上のトラッキング信号を評価して、該トラッキング信号の出力ストリームに現れる位置を決定し、リジェクト信号を出力ストリームの正しい位置に配置する
ように構成された処理手段と
からなることを特徴とする容器検査システム。
【請求項２】
容器を検査するためのシステムにおいて、
検査される容器を移動するためのコンベヤと、
不合格の容器をコンベヤから取り除くためのリジェクタと、
リジェクタの上流にある容器を検査し、リジェクト信号を含む連続するデータの入力ストリームを生成する検査デバイスであって、入力ストリームが、
容器が不合格になったことを、「０」から「１」への移行によって示す第１の連続行と、
「１」が連続するクロッキング群及び「０」が連続するクロッキング群を含み、「１」が連続する数と「０」が連続する数が等しい、第２の連続行と、
ランダム数で同数の「１」が連続する群及び「０」が連続する群によって定義される第１のトラッキング信号を含んだ第３の連続行と
によって構成されている、検査デバイスと、
入力ストリームを評価して、連続するデータの出力ストリームを生成するコントローラであって、出力ストリームが、
「１」及び「０」が交互にクロッキングする第１の連続行であって、「１」及び「０」が、入力ストリームの第２の連続行の中の「１」が連続する群及び「０」が連続する群に時間において対応して所定の分周比で分周したものであり、各「１」及び「０」が１サイクルを規定している、第１の連続行と、
第２のトラッキング信号を含んだ第２の連続行であって、第２のトラッキング信号が、第１のトラッキング信号中の「１」が連続する群及び「０」が連続する群の「１」及び「０」の数を、上記した所定の分周比によって分周した数の「１」が連続する群及び「０」が連続する群からなる、第２の連続行と、
リジェクタを駆動するための位置に対応する所定サイクル期間にわたる所定数の「１」を除いて、「０」が連続している第３の連続行であって、該所定サイクル期間が、入力ストリームの第１の連続行が「０」から「１」に移行した時点に対応する出力ストリーム上の位置に続いている、第３の連続行と
によって構成されている、コントローラと
からなることを特徴とする容器検査システム。
【請求項３】
請求項２記載の容器検査システムにおいて、
該システムはさらに、コンベアに応じて駆動されるデコーダを備え、
検査デバイスは、エンコーダからの信号を、「１」及び「０」を同数含む「１」が連続する群及び「０」が連続する群の第２の連続行に変換する手段を備え、
コントローラは、エンコーダからの信号を、「１」と「０」がクロッキングする第１の連続行に変換する手段を備えている
ことを特徴とする容器検査システム。
【手続補正書】
【提出日】平成17年7月11日(2005.7.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項７】
前記ハブ（７）はフランジ部（７ａ）を有しており、前記フランジ部（７ａ）の外径が前記アーマチュア（６）の内径部（６ａ）よりも大きくなっており、前記フランジ部（７ａ）を前記アーマチュア（６）の前記内径部（６ａ）に当接させて、前記アーマチュア（６）の前記ハブ（７）の軸方向への移動を規制することを特徴とする請求項５記載の電磁クラッチ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
請求項７記載の本発明では、ハブ（７）はフランジ部（７ａ）を有しており、フランジ部（７ａ）の外径がアーマチュア（６）の内径部（６ａ）よりも大きくなっており、フランジ部（７ａ）をアーマチュア（６）の内径部（６ａ）に当接させて、アーマチュア（６）のハブ（７）の軸方向への移動を規制することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成16年8月4日(2004.8.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
その結果、ΔＮ＞Ｎｉｎ−Ｎｔで回転差（Ｎｉｎ−Ｎｔ）が目標差回転ΔＮよりも小さい場合には、ステップＳ５からステップＳ６へ進んでデューティソレノイドバルブの駆動デューティｄｕｔｙを、偏差に応じた設定値αだけ減少させる（ｄｕｔｙ←ｄｕｔｙ−α）。また、ΔＮ＜Ｎｉｎ−Ｎｔであり、回転差（Ｎｉｎ−Ｎｔ）が目標差回転ΔＮよりも大きい場合には、ステップＳ５からステップＳ７へ進んでデューティソレノイドバルブの駆動デューティｄｕｔｙを、偏差に応じた設定値αだけ増大させる（ｄｕｔｙ←ｄｕｔｙ＋α）。
【手続補正書】
【提出日】平成17年3月16日(2005.3.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
検体およびその測定に必要な乾式分析素子を搭載するサンプルトレイと、検体を前記乾式分析素子に点着する点着機構とを備え、前記サンプルトレイに搭載した検体を前記点着機構により乾式分析素子に点着し成分濃度を測定する自動分析装置において、
前記検体を乾式分析素子に自動的に点着し測定する自動測定モードに加え、前記検体を乾式分析素子に手操作で点着し測定する手動測定モードを備え、
手動測定モードになったとき、自動測定モードで使用する前記点着機構が点着部の上方から離れて手動操作の妨げにならない待避位置へ移動するよう構成されてなることを特徴とする自動分析装置。
【請求項２】
前記点着機構が点着部の上方位置から側方のサンプルトレイ上の待避位置へ移動することを特徴とする請求項１に記載の自動分析装置。
【請求項３】
検体およびその測定に必要な乾式分析素子並びに消耗品を搭載するサンプルトレイと、検体を前記乾式分析素子に点着する点着機構とを備え、前記サンプルトレイに搭載した検体を前記点着機構により乾式分析素子に点着し成分濃度を測定する自動分析装置において、
前記サンプルトレイに前記消耗品を搭載する消耗品搭載モードを備え、この消耗品搭載モードが選択されたとき、前記サンプルトレイの消耗品搭載部が機器の開放部位に移動するよう構成されてなることを特徴とする自動分析装置。
【請求項４】
前記消耗品搭載部が前面側開放部位に移動することを特徴とする請求項３に記載の自動分析装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
【課題を解決するための手段】
本発明の自動分析装置は、検体およびその測定に必要な乾式分析素子を搭載するサンプルトレイと、検体を前記乾式分析素子に点着する点着機構を備え、前記サンプルトレイに搭載した検体を前記点着機構により乾式分析素子に点着し成分濃度を測定する自動分析装置において、
前記検体を乾式分析素子に自動的に点着し測定する自動測定モードに加え、前記検体を乾式分析素子に手操作で点着し測定する手動測定モードを備え、手動測定モードになったとき、自動測定モードで使用する前記点着機構が点着部の上方から離れて手動操作の妨げにならない待避位置へ移動するよう構成されてなることを特徴とするものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
また、本発明の他の自動分析装置は、検体およびその測定に必要な乾式分析素子並びに消耗品を搭載するサンプルトレイと、検体を前記乾式分析素子に点着する点着機構とを備え、前記サンプルトレイに搭載した検体を前記点着機構により乾式分析素子に点着し成分濃度を測定する自動分析装置において、
前記サンプルトレイに前記消耗品を搭載する消耗品搭載モードを備え、この消耗品搭載モードが選択されたとき、前記サンプルトレイの消耗品搭載部が機器の開放部位に移動するよう構成されてなることを特徴とするものである。
【手続補正書】
【提出日】平成17年3月24日(2005.3.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電源に接続されたアンプから延設されたファイバを具備し、前記アンプ側の発光素子により発せられた光を前記ファイバを介して照射し、当該ファイバを介して前記アンプ側の受光素子で光を検出することにより、ワークの有無を検知可能な光ファイバセンサにおいて、
前記ファイバは、
前記アンプと接続された第１ファイバ部と、
該第１ファイバ部とは分離して成り、先端が検知すべきワークの配設位置に向けられた第２ファイバ部と、
から成り、前記第１ファイバ部の先端と前記第２ファイバ部の基端とが当接又は近接して光の経路を成すとともに、当該第１ファイバ部と第２ファイバ部とが離間可能とされたことを特徴とする光ファイバセンサ。
【請求項２】
少なくとも前記第１ファイバ部の先端面及び第２ファイバ部の基端面には、光を収束させるためのレンズが配設されたことを特徴とする請求項１記載の光ファイバセンサ。
【請求項３】
前記第１ファイバ部の先端及び前記第２ファイバ部の基端には、それぞれ弾性部材が取り付けられるとともに、これら弾性部材には、互いに当接した状態にて当該第１ファイバ部の先端面から第２ファイバ部の基端面まで通じる連通孔が形成されたことを特徴とする請求項１記載の光ファイバセンサ。
【請求項４】
前記受光素子の光の検出感度が少なくとも２段階に調整可能とされ、前記弾性部材が当接したことを検出し得る検出感度、及びワークの有無を検出し得る検出感度を有することを特徴とする請求項３記載の光ファイバセンサ。
【請求項５】
前記アンプからの光がレーザー光から成り、前記第１ファイバ部の先端面と第２ファイバ部の基端面とを所定寸法離間した状態にて対向させることにより、当該レーザー光の送受が可能とされたことを特徴とする請求項１又は請求項２記載の光ファイバセンサ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
【課題を解決するための手段】
請求項１記載の発明は、電源に接続されたアンプから延設されたファイバを具備し、前記アンプ側の発光素子により発せられた光を前記ファイバを介して照射し、当該ファイバを介して前記アンプ側の受光素子で光を検出することにより、ワークの有無を検知可能な光ファイバセンサにおいて、前記ファイバは、前記アンプと接続された第１ファイバ部と、該第１ファイバ部とは分離して成り、先端が検知すべきワークの配設位置に向けられた第２ファイバ部とから成り、前記第１ファイバ部の先端と前記第２ファイバ部の基端とが当接又は近接して光の経路を成すとともに、当該第１ファイバ部と第２ファイバ部とが離間可能とされたことを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
請求項４記載の発明は、請求項３記載の光ファイバセンサにおいて、前記受光素子の光の検出感度が少なくとも２段階に調整可能とされ、前記弾性部材が当接したことを検出し得る検出感度、及びワークの有無を検出し得る検出感度を有することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成16年11月26日(2004.11.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
このゼルニケ多項式のうち、球面レンズのアライメント誤差として、Ｚ（０，０，ρ，θ）＝１、Ｚ（１，１，ρ，θ）＝ρｃｏｓ（θ），Ｚ（１，−１，ρ，θ）＝ρｓｉｎ（θ）、Ｚ（２，０，ρ，θ）＝２ρ2−１が、それぞれＤＣ成分を意味するピストン成分、ＸおよびＹティルト成分、デフォーカス成分を表している。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
ただし、［ ］は整数への丸めを意味している。数式５のｃｅｎｔＸおよびｃｅｎｔＹを用いて、
Ｉ１＝Ｉ−ｃｅｎｔＸ，Ｊ１＝Ｊ−ｃｅｎｔＹ …（数６）
とアドレスを表すベクトル変換をする。上式の如く各データのアドレスを表すベクトル変換後、Ｒ１を
Ｒ１＝Ｉ１.2＋Ｊ１.2 …（数７）
とする。行列の直後の”．”（ドット）は行列の要素についての演算を意味する。
Ｒ１の最大値をＭＡＸＲとする。ＭＡＸＲとＩ１、Ｊ１を用いて数式８の要領で座標Ｘ，Ｙを求める。
Ｘ＝Ｉ１／ＭＡＸＲ，Ｙ＝Ｊ１／ＭＡＸＲ …（数８）
この座標ＸおよびＹから数式３および数式４においてのρ、θを求める。
Ｒ＝√（Ｘ.2＋Ｙ.2），Ｔ＝ｔａｎ-1Ｙ.／Ｘ …（数９）
ここでＲがρに、Ｔがθに相当している。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
Ｒ、ＴおよびＺを列ベクトルに変換し、変換したものをＲｖ、Ｔｖと表記する。以降記号の語尾にｖをつけたものはベクトルを意味する。また、ｄａｔａ＿ＡＲをベクトル化したものをＺＡｖとする。数式４はゼルニケ多項式の線形結合であるので、ベクトルＲｖ、Ｔｖを用いて次のように表せる。
Ｗｖ＝ＣＡ …（数１０）
ただし
C=[C0,0 C1,-1 C1,0 ・・・ C15,14]t
A=[Z(0,0,Rv,Tv) Z(1,-1,Rv,Tv) Z(1,0,Rv,Tv) ・・・ Z(15,14,Rv,Tv) ]
Ｗｖは波面である。よって、各ゼルニケ係数Ｃは、
C=A-1ZAv …（数１１）
により算出できる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
最後にＺAｖからアライメント誤差であるピストン、ティルト、デフォーカスを差し引いた値ＺfAｖを得るには、
ＺfAｖ＝ＺAｖ−Ｃ’Ｂ …（数１２）
ただし
C'=[C0,0 C1,-1 C1,1 C2,0]t
B=[Z(0,0,R,T) Z(1,-1,R,T) Z(1,0,R,T) ・・・ Z(15,14,R,T) ]
とする。すなわちＢはアラインメント誤差を、Ｃ’はそのゼルニケ係数を表す。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４５】
ｄａｔａ＿ＢＲｓとｄａｔａ＿ＡＲｆとが重複している範囲のデータをそれぞれ抽出してｄａｔａ＿ＢＲｓＵ，ｄａｔａ＿ＡＲｆＵとする。ｄａｔａ＿ＢＲｓＵには形状情報とアライメント誤差が含まれている。また、ｄａｔａ＿ＡＲｆＵは形状情報のみであるので、ｄａｔａ＿ＢＲｓＵからｄａｔａ＿ＡＲｆＵを差し引いたデータ（ｄａｔａ＿ＳＢとする）は、アライメント誤差であるピストン、ティルト、デフォーカス成分のみから構成されている。これらアライメント誤差からピストン、ティルト、デフォーカスを成分ごとに分離するにはｄａｔａ＿ＢＲｓＵのＸＹ座標とｄａｔａ＿ＳＢのデータＺSBｖから数式１０の行列Ｂを生成して、
Ｃ’＝Ｂ-1ＺSBｖ           …（数１４）
とすればよい。ここで求めたゼルニケ係数Ｃ’とｄａｔａ＿ＢＲｓのＸＹ座標について数式１２の行列Ｂを生成して、数式１２の如くｄａｔａ＿ＢＲｓのアライメント誤差のみを除去する。ここでｄａｔａ＿ＢＲｓの面形状はＺBsで表されるから下記の数式１５により誤差が除去される。
ＺfBｖ＝ＺBsｖ−Ｃ’Ｂ      …（数１５）
ＺfBｖがＢの範囲の面形状であり、アライメント誤差を排除したＡの範囲のデータに対してＢの範囲の面形状が接続されたことになる。
【手続補正書】
【提出日】平成16年7月8日(2004.7.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
真空紫外線を該真空紫外線より長波長の輻射線に変換する第１の蛍光体と、変換された輻射線を可視光に変換する第２の蛍光体の少なくとも２種の蛍光体を含む蛍光体層を有し、第１の蛍光体が、蛍光体層全体に対して１〜７０重量％含まれていることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項２】
輻射線が、２５０〜４００ｎｍのピーク波長を有する請求項１記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項３】
蛍光体層が上層及び下層の２層構造を有し、上層が第１の蛍光体からなり、下層が第２の蛍光体からなる請求項１又は２に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項４】
真空紫外線を可視光に変換する第３の蛍光体と、赤外線を可視光に変換する第４の蛍光体の少なくとも２種の蛍光体を含む蛍光体層を有することを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項５】
蛍光体層が上層及び下層の２層構造を有し、上層が第３の蛍光体からなり、下層が第４の蛍光体からなる請求項４記載のプラズマディスプレイパネル。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
また、本発明の発明者は、真空紫外線は、蛍光体層の表面に存在する蛍光体を透過することができないことから、蛍光体層の内部（深部）に存在する蛍光体を有効に使用することにより蛍光体層の経時劣化を抑制できることも見いだしている。
かくして本発明によれば、真空紫外線を該真空紫外線より長波長の輻射線に変換する第１の蛍光体と、変換された輻射線を可視光に変換する第２の蛍光体の少なくとも２種の蛍光体を含む蛍光体層を有し、第１の蛍光体が、蛍光体層全体に対して１〜７０重量％含まれていることを特徴とするプラズマディスプレイパネルが提供される。このとき、第１の蛍光体は、第２の蛍光体より劣化に強い（比較的結合エネルギーの大きな）蛍光体でなければならない。
【手続補正書】
【提出日】平成16年7月28日(2004.7.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
集電体にアルミニウムを使用し、かつ高分子を含む混合液を保持した電極を、リン又はリン化合物を含む水で処理することを特徴とする非水電解質電池用電極の製造法。
【請求項２】
リン又はリン化合物の濃度が１×１０-7〜１ｍｏｌ／ｌであることを特徴とする請求項１記載の非水電解質電池用電極の製造法。
【請求項３】
請求項１又は２記載の製造法による電極を備えたことを特徴とする非水電解質電池。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
なお、第１又は２の発明にかかるリン又はリン化合物はリン酸であることが好ましい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
請求項１又は２の発明を用いて製造した電極を備えたことを特徴とする非水電解質電池である第３の発明。
【手続補正書】
【提出日】平成16年5月20日(2004.5.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
静電磁界複合対物レンズを持つ走査型電子顕微鏡に於いて、少なくとも１つの偏向系を有し、該偏向系により偏向された電子線の偏向軌道に対応して対物レンズ近傍に補正偏向磁場と補正偏向電場を重合わせたことを特徴とする電子線光学装置。
【請求項２】
補正偏向磁場、補正偏向電場の少なくとも１方により下記式を略満たす請求項１の電子線光学装置。
（１／２）ｒＢ′＋ｒ′Ｂ＋（１／２）ｒΦ″＋ｒ′Φ′
Ｂ：対物レンズの軸上磁場分布、Φ：対物レンズの軸上静電ポテンシャル、ｒ：光軸からの距離、′：光軸座標（Ｚ）に関する１階微分、″：光軸座標（Ｚ）に関する２階微分
【請求項３】
電子線を試料面上で光軸に対する略同心円状の各領域に偏向し、各領域での像を同時に表示する請求項１の電子線光学装置。
【請求項４】
互いに直交する２つの方向の４つの傾斜像を重合わせて同時に表示する請求項２の電子線光学装置。
【手続補正書】
【提出日】平成17年3月4日(2005.3.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ゲート電極と、該ゲート電極の表面に設けるマスク酸化膜と、該マスク酸化膜を挟むように前記ゲート電極の上部に設けるメモリゲート電極とを有し、半導体基板上に設ける半導体不揮発性記憶装置であって、
前記ゲート電極と前記メモリゲート電極との間の前記マスク酸化膜は、その一部の領域に、前記マスク酸化膜より膜厚の薄いメモリ酸化膜を有することを特徴とする半導体不揮発性記憶装置。
【請求項２】
前記メモリ酸化膜は、その周囲に前記マスク酸化膜を有するとともに、前記メモリゲート電極の端部より内側に設けることを特徴とする請求項１に記載の半導体不揮発性記憶装置。
【請求項３】
半導体基板上にフィールド酸化膜を形成する工程と、
前記フィールド酸化膜上に第１の多結晶シリコン膜を形成する工程と、
前記第１の多結晶シリコン膜上にマスク酸化膜を形成する工程と、
前記マスク酸化膜のメモリ酸化膜領域を開口して、該開口内の前記第１の多結晶シリコン膜上に、前記マスク酸化膜より薄い膜厚のメモリ酸化膜を形成する工程と、
全面に第２の多結晶シリコン膜を形成する工程と、
前記第２の多結晶シリコン膜を、エッチングガスに臭化水素を用いたドライエッチングにより、前記メモリ酸化膜上及びその周辺の前記マスク酸化膜上に亘る所定の大きさに加工して、メモリゲート電極を形成する工程と、
該メモリゲート電極を形成する工程の後、この半導体基板をフッ酸系水溶液に浸して、臭化水素の反応生成物である臭化物を除去する工程と、
前記第１の多結晶シリコン膜をエッチング加工して、ゲート電極を形成する工程と
を有することを特徴とする半導体不揮発性記憶装置の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
【課題を解決するための手段】
この発明による半導体不揮発性記憶装置は上記の目的を達成するため、ゲート電極と、該ゲート電極の表面に設けるマスク酸化膜と、該マスク酸化膜を挟むように上記ゲート電極の上部に設けるメモリゲート電極とを有し、半導体基板上に設ける半導体不揮発性記憶装置であって、上記ゲート電極とメモリゲート電極との間のマスク酸化膜は、その一部の領域に、上記マスク酸化膜より膜厚の薄いメモリ酸化膜を有する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
さらに、この半導体不揮発性記憶装置において、前記メモリ酸化膜は、その周囲に前記マスク酸化膜を有するとともに、上記メモリゲート電極の端部より内側に設けるのが好ましい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
また、この発明による半導体不揮発性記憶装置の製造方法は、上記の目的を達成するため、次の各工程を有する。
半導体基板上にフィールド酸化膜を形成する工程。
上記フィールド酸化膜上に第１の多結晶シリコン膜を形成する工程。
上記第１の多結晶シリコン膜上にマスク酸化膜を形成する工程。
上記マスク酸化膜のメモリ酸化膜領域を開口して、該開口内の前記第１の多結晶シリコン膜上に、前記マスク酸化膜より薄い膜厚のメモリ酸化膜を形成する工程。
全面に第２の多結晶シリコン膜を形成する工程。
上記第２の多結晶シリコン膜を、エッチングガスに臭化水素を用いたドライエッチングにより、前記メモリ酸化膜上及びその周辺の前記マスク酸化膜上に亘る所定の大きさに加工して、メモリゲート電極を形成する工程。
該メモリゲート電極を形成する工程の後、この半導体基板をフッ酸系水溶液に浸して、臭化水素の反応生成物である臭化物を除去する工程。
上記第１の多結晶シリコン膜をエッチング加工して、ゲート電極を形成する工程。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成16年3月24日(2004.3.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】ヒータ支持装置及び半導体製造装置及び半導体装置の製造方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被加熱体の周りに発熱線が配設され、鉛直方向に多数連設された保持用ピース間に空洞部が形成され、前記発熱線が前記空洞部を挿通し、前記保持用ピースを介して支持されたことを特徴とするヒータ支持装置。
【請求項２】
前記保持用ピースの上面と下面の少なくともどちらか一方に凹部を設けると共に他方に該凹部に嵌合可能な突起部を設けた請求項１のヒータ支持装置。
【請求項３】
前記保持用ピースがピースホルダに水平方向の動きが規制される様支持され、該ピースホルダが前記発熱線の周りに設けられた周囲断熱材に支持された請求項１又は請求項２のヒータ支持装置。
【請求項４】
前記保持用ピースと前記ピースホルダの少なくともどちらか一方に凹部を設けると共に該凹部側面に係止溝を形成し、前記保持用ピースが前記ピースホルダに前記係止溝を介して嵌脱可能とした請求項３のヒータ支持装置。
【請求項５】
前記ピースホルダの上端面と下端面の少なくともどちらか一方に凹部を設け、他方に該凹部に嵌合可能な凸部を設けた請求項３又は請求項４のヒータ支持装置。
【請求項６】
被処理基板を処理する炉と、該被処理基板の周りに配設され、鉛直方向に多数連設された保持用ピース間に空洞部が形成され、発熱線が前記空洞部を挿通し、前記保持用ピースを介して支持された加熱装置とを備えることを特徴とする半導体製造装置。
【請求項７】
被処理基板を処理する炉と、該被処理基板の周りに配設され、鉛直方向に多数連設された保持用ピース間に空洞部が形成され、発熱線が前記空洞部を挿通し、前記保持用ピースを介して支持された加熱装置と、前記炉内に反応ガスを導入するガス導入管と、前記炉内を排気する排気口とを備える半導体製造装置を用いて被処理基板を処理する半導体装置の製造方法であって、前記発熱線が前記炉内を加熱する工程と、前記ガス導入管により前記反応ガスを前記炉内に導入する工程と、前記排気口により前記炉内を排気する工程とを有することを特徴とする半導体装置の製造方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は半導体製造装置及び半導体装置の製造方法に関し、特に縦型炉に使用される半導体製造装置用ヒータの改良に関するものである。
【手続補正書】
【提出日】平成16年8月11日(2004.8.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
このように本実施形態によれば、エッチングや薄膜形成に重要な要素である反応性プラズマ中における炭素ラジカル密度を、測定された炭素ラジカル光線の吸収率に基づいて算出された吸収係数及び予め求められたアインシュタインＡ係数から絶対値として算出して表示装置３２或いはプリンター３４に出力して確認可能にする一方、演算された炭素ラジカルの絶対値密度に基づいて高周波アンテナ９に印加される高周波電力や載置台１５に印加されるバイアス電圧、真空容器３内に導入される原料ガス量、壁面ヒーター１２により真空容器３の温度、圧力可変バルブ２４により真空容器３内の圧力をリアルタイムで制御して真空容器３内の炭素ラジカル密度をほぼ一定にし、高精度エッチング及び薄膜形成を可能にしている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４９】
その際、例えば第１の反射鏡５３と第２の反射鏡５５の間にチョッパー５７を設け、先ずチョッパー５７を閉じて両者間の光路を遮断した状態で、被処理体１７の上方に生成しているプラズマ中における炭素ラジカルの発光強度を発光線検出装置２９により計測して基準発光強度Ｉｒｅｆ．とし、次にチョッパー５７を開いてプラズマ中から取出された炭素ラジカル光線を第１及び第２の反射鏡５３・５５を介してプラズマ中に照射して発光線検出装置２９に入射させて入射強度Ｉ１を計測する。そしてこれら入射強度Ｉｒｅｆ．とＩ１とにより、プラズマ中における炭素ラジカルによる炭素ラジカル光線の吸収率｛（Ｉ１−Ｉｒｅｆ．）／Ｉｒｅｆ．｝×１００を測定する。
【手続補正書】
【提出日】平成16年8月9日(2004.8.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
照明光によりマスク上の所定のスリット領域を照明し、前記マスクと感応基板とを同期して所定の走査方向に相対移動させつつ、前記マスクに形成されたパターンを前記感応基板上に露光する走査型露光装置であって、
前記マスクの位置に関連する物理量を計測する第１の計測装置と；
前記感応基板の位置に関連する物理量を計測する第２の計測装置と；
前記マスクと前記感応基板の前記相対移動中に前記第１及び第２の計測装置の計測値をモニタするモニタ装置と；
前記モニタ装置によるモニタ結果に基づいて前記マスクと前記感応基板との同期誤差を演算する第１の演算装置と；
前記第１の演算装置で演算された同期誤差に基づいて、前記感応基板上の任意の点が前記スリット領域に入ってから出るまでの間の前記同期誤差の平均値及び前記同期誤差の平均値のまわりの散らばり度合の少なくとも一方を演算する第２の演算装置とを有する走査型露光装置。
【請求項２】
前記モニタ装置による前記モニタが前記照明光の照射停止中の前記マスクと前記感応基板の前記相対移動中に行われることを特徴とする請求項１に記載の走査型露光装置。
【請求項３】
前記第２の演算装置の演算結果を表示するための表示装置と；
前記同期誤差の平均値と前記同期誤差の平均値のまわりの散らばり度合とを前記表示装置に同時又は別々に表示する表示制御装置とを更に有することを特徴とする請求項１又は２に記載の走査型露光装置。
【請求項４】
前記第２の演算装置の演算結果と所定の基準値との比較結果に応じて警告を発する警告装置を更に有する請求項１又は２に記載の走査型露光装置。
【請求項５】
前記第２の演算装置の演算結果に基づいて、前記マスクと前記感応基板の同期誤差の特性を検出し、該特性を補正するように前記マスクと前記感応基板との移動を制御する制御系を更に有することを特徴とする請求項１に記載の走査型露光装置
【請求項６】
前記第１の演算装置による同期誤差の演算及び前記第２の演算装置による前記同期誤差の平均値、前記同期誤差の平均値のまわりの散らばり度合の演算は、前記走査方向、これに直交する非走査方向及び回転方向に分離して行われることを特徴とする請求項１に記載の走査型露光装置。
【請求項７】
第１物体と第２物体とを同期して所定の移動方向に沿って相対移動させる第１工程と；
前記相対移動中に前記第１物体の位置に関連する物理量と前記第２物体の位置に関連する物理量をそれぞれ検出する第２工程と；
前記第２工程の結果に基づいて前記第１物体と前記第２物体との同期誤差を検出する第３工程と；
前記同期誤差に基づいて、前記第２物体が所定区間を通過する時間内での前記第１物体と第２物体との同期誤差の平均値及び前記同期誤差の平均値のまわりの散らばり度合との少なくとも一方を算出する第４工程とを含む同期誤差解析方法。
【請求項８】
第１物体と第２物体とを同期して所定の移動方向に沿って移動させる第１工程と；
前記同期移動中に前記第１物体の位置に関連する物理量と前記第２物体の位置に関連する物理量をそれぞれ検出する第２工程と；
前記第２工程の検出結果に基づいて、前記第１物体と前記第２物体との同期誤差の移動平均値と移動標準偏差値との少なくとも一方を算出する第３工程とを含む同期誤差解析方法。
【請求項９】
前記第１物体はマスクを保持して移動可能なマスクステージを含み、
前記第２物体は基板を保持して移動可能な基板ステージを含み、
前記マスクステージと前記基板ステージとは、前記マスクのパターンの像を前記基板上に投影することによって前記基板を走査露光する走査型露光装置に搭載されることを特徴とする請求項８に記載の同期誤差解析方法。
【請求項１０】
前記第３工程の算出結果に基づいて、前記同期移動によって前記基板上に形成されるパターンの像を評価する第４工程を更に含む請求項９に記載の同期誤差解析方法。
【請求項１１】
前記第４工程では、前記第３工程で算出された移動平均値に基づいて、前記基板上に形成されるパターンの像の位置ずれを評価することを特徴とする請求項１０に記載の同期誤差解析方法。
【請求項１２】
前記第４工程では、前記第３工程で算出された移動標準偏差値に基づいて、前記基板上に形成されるパターンの像の分解能劣化を評価することを特徴とする請求項１０又は１１に記載の同期誤差解析方法。