【手続補正書】
【提出日】令和3年10月20日(2021.10.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
組織部位を処置するためにシステム内の流体を管理するための装置において、
外面、内面、及び前記内面から延在する複数の特徴を有する高分子フィルムを含む第１の層と、
組織に面する外面及び内面を有する高分子フィルムを含む第２の層において、前記第２の層は前記第１の層に結合され、前記第１の層の前記内面と前記第２の層の前記内面との間の閉囲空間及び前記閉囲空間内の複数の流体チャネルを形成するために前記複数の特徴を覆い、前記第２の層は前記閉囲空間に開く孔を有し、前記閉囲空間を前記組織部位に流体結合するように適合される、第２の層と、
前記孔を通って流体連通する前記閉囲空間内に第１の流体経路及び第２の流体経路を形成するために、前記第１の層の前記内面と前記第２の層の前記内面との間に結合された第１の壁と、
前記第１の流体経路及び前記第２の流体経路に流体結合されたポートとを含むことを特徴とする装置。
【請求項２】
請求項１に記載の装置において、前記複数の特徴は閉端を有する複数のブリスタであることを特徴とする装置。
【請求項３】
請求項２に記載の装置において、前記複数のブリスタは前記閉囲空間の中に延在することを特徴とする装置。
【請求項４】
請求項２に記載の装置において、前記ブリスタは、半球、円錐、円筒、又は測地線形状のいずれか１つである容積形状を有することを特徴とする装置。
【請求項５】
請求項２に記載の装置において、前記ブリスタは概ね管状である容積形状を有することを特徴とする装置。
【請求項６】
請求項１に記載の装置において、前記第２の層及び前記複数の特徴は、複数の閉鎖細胞を形成することを特徴とする装置。
【請求項７】
請求項６に記載の装置において、前記閉鎖細胞は大気圧より大きい内圧を有することを特徴とする装置。
【請求項８】
請求項１に記載の装置において、前記第２の層は前記閉囲空間の中に延在する複数の特徴を含むことを特徴とする装置。
【請求項９】
請求項１に記載の装置において、前記ポートは、前記第１の流体経路に結合され、負圧源に流体結合するように適合された第１のポートを含むことを特徴とする装置。
【請求項１０】
請求項９に記載の装置において、前記ポートは、前記第２の流体経路に結合され、圧力センサに流体結合するように適合された第２のポートを更に含むことを特徴とする装置。
【請求項１１】
請求項９に記載の装置において、前記ポートは、前記第２の流体経路に結合され、流体源に流体結合するように適合された第２のポートを更に含むことを特徴とする装置。
【請求項１２】
請求項１に記載の装置において、前記開放空間と流体連通した前記閉囲空間内に第３の流体経路を形成するために、前記第１の層の前記内面と前記第２の層の前記内面との間に第２の壁を更に含むことを特徴とする装置。
【請求項１３】
請求項１２に記載の装置において、前記ポートは、前記第１の流体経路に結合され、負圧源に流体結合するように適合された第１のポートを含むことを特徴とする装置。
【請求項１４】
請求項１３に記載の装置において、前記ポートは、前記第２の流体経路に結合された第２のポート及び前記第３の流体経路に結合された第３のポートを更に含み、前記第２のポート及び前記第３のポートの両方は、圧力センサに流体結合するように適合されることを特徴とする装置。
【請求項１５】
組織部位を処置するためにシステム内の流体を管理するための装置において、
上層の表面から延在する閉端を有する複数の細胞を有する高分子フィルムを含む前記上層と、
前記上層に結合され、前記周囲を中心に密封を形成する前記複数の細胞を覆う高分子フィルムを含む基層において、前記密封は前記上層と前記基層との間に閉囲空間を形成する、基層と、
前記基層内に形成された孔を有する前記閉囲空間の一端におけるアプリケータにおいて、前記孔は、前記組織部位に流体結合するように適合された凹部空間を画定するために前記複数の細胞の一部を露出する、アプリケータと、
前記アプリケータから前記閉囲空間の前記他端に延在し、前記閉囲空間の前記他端にポートを形成する橋梁と、
前記ポートと前記凹部空間との間で流体連通する前記閉囲空間内に３つの流体経路を形成するために、前記上層と前記基層との間を結合させた第１のバリア及び第２のバリアとを含むことを特徴とする装置。
【請求項１６】
請求項１５に記載の装置において、前記３つの流体経路は、前記第１のバリアと前記第２のバリアとの間に形成された第１の流体経路、前記密封と前記第１のバリアとの間に形成された第２の流体経路、及び前記密封と前記第２のバリアとの間に形成された第３の流体経路を含むことを特徴とする装置。
【請求項１７】
請求項１６に記載の装置において、前記基層は、前記第１の流体経路の前記閉囲空間の中に延在する閉端を有する複数の細胞を含むことを特徴とする装置。
【請求項１８】
請求項１７に記載の装置において、前記上層から延在する前記複数の細胞は、前記基層から延在する前記複数の細胞に接触するように配置されることを特徴とする装置。
【請求項１９】
請求項１８に記載の装置において、前記上層及び前記基層から延在する前記複数の細胞は、交互に配列された行に配置されることを特徴とする装置。
【請求項２０】
請求項１８に記載の装置において、前記上層及び前記基層から延在する前記複数の細胞は、位置合わせされた行に配置されることを特徴とする装置。
【請求項２１】
請求項１７に記載の装置において、前記上層から延在する前記複数の細胞は、前記基層から延在する前記複数の細胞と交互に挟むように配置されることを特徴とする装置。
【請求項２２】
請求項１７に記載の装置において、前記基層は、前記第２の流体経路及び前記第３の流体経路の前記閉囲空間の中に延在する複数の細胞を更に含むことを特徴とする装置。
【請求項２３】
請求項１６に記載の装置において、前記基層は、前記第２の流体経路及び前記第３の流体経路の前記閉囲空間の中に延在する閉端を有する、複数の細胞を更に含むことを特徴とする装置。
【請求項２４】
請求項１６に記載の装置において、前記アプリケータ内の前記第２の流体経路及び前記第３の流体経路は、前記凹部空間と流体連結する貫通孔内で終了する流体導体を含むことを特徴とする装置。
【請求項２５】
請求項１６に記載の装置において、前記ポートは、前記第１の流体経路に流体結合され、負圧源に流体結合するように適合された第１のポート、及び前記第２の流体経路及び前記第３の流体経路に流体結合された第２のポートを有する第２の凹部空間を含み、前記第１のポート及び前記第２のポートの両方は、圧力センサに流体結合するように適合されることを特徴とする装置。
【請求項２６】
請求項２５に記載の装置において、前記第２の凹部空間を通る前記第１の流体経路、前記第２の流体経路、及び前記第３の流体経路に流体結合された導管を更に含むことを特徴とする装置。
【請求項２７】
ドレッシングを負圧源に結合するための装置において、
積層関係にある第１の流体経路及び第２の流体経路において、前記第１の流体経路及び前記第２の流体経路は、互いから且つ遠位端内の孔を通る以外に周囲環境から空気圧で隔絶される、第１の流体経路及び第２の流体経路と、
前記第１の流体経路を支持するように構成された第１のマニホールドと、
前記第２の流体経路を支持するように構成された第２のマニホールドと、
前記第１の流体経路を前記負圧源に流体結合し、前記第２の流体経路を圧力センサに結合するように流体構成されたポートとを含むことを特徴とする装置。
【請求項２８】
請求項２７に記載の装置において、前記第１のマニホールド及び前記第２のマニホールドの少なくとも１つは、泡又はブリスタを有する高分子フィルムを含むことを特徴とする装置。
【請求項２９】
請求項２７又は２８のいずれか一項に記載の装置において、前記第１のマニホールド及び前記第２のマニホールドは疎水性であることを特徴とする装置。
【請求項３０】
請求項２９に記載の装置において、前記第１のマニホールドは前記第２のマニホールドより疎水性が低いことを特徴とする装置。
【請求項３１】
請求項２７〜３０のいずれか一項に記載の装置において、前記第１のマニホールドは、網状ポリウレタン発泡体又は織物を含むことを特徴とする装置。
【請求項３２】
請求項２７〜３１のいずれか一項に記載の装置において、前記第２のマニホールドは、網状ポリウレタン発泡体又は織物を含むことを特徴とする装置。