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【手続補正書】
【提出日】平成17年9月30日(2005.9.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
処理室の内側に配置された試料台上に載置された試料を、前記処理室内に生成したプラズマを用いて処理するプラズマ処理装置において、
前記処理室内壁面に着脱可能に取り付けられ、かつ、前記プラズマと接する側の表面にＹ２Ｏ３、Ｙｂ２Ｏ３またはＹＦ３を主成分とした材料あるいはこれらの混合材から構成された被膜を有する部材を備えたことを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項２】
処理室の内側に配置された試料台上に載置された試料を、前記処理室内に生成したプラズマを用いて処理するプラズマ処理装置において、
前記処理室内壁面に着脱可能に取り付けられ、かつ、前記プラズマと接する側の表面を被覆する耐プラズマ性の高い材料またはこれらの混合材から構成された第１の被膜と前記処理室内壁面に取り付けられる側の面を被覆する前記耐プラズマ性の高い材料またはこれらの混合材よりも強度の高い材料からなる第２の被膜とを有する部材を備えたことを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項３】
請求項２に記載のプラズマ処理装置であって、
前記第１の被膜と前記第２の被膜との境界部では、前記第１の被膜が前記第２の被膜の上面を覆うように被覆されたことを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項４】
請求項２または３に記載のプラズマ処理装置であって、
前記第１の被膜がＹ２Ｏ３、Ｙｂ２Ｏ３またはＹＦ３を主成分とした材料あるいはこれらの混合材から構成されたことを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項５】
処理室の内側に配置された試料台上に載置された試料を、前記処理室内に生成したプラズマを用いて処理するプラズマ処理装置であって、
前記処理室内側に着脱可能に取り付けられ、かつ、表面を皮膜で被覆した部材を有し、該部材の表面の平坦部の被膜より角部の被膜が厚くされたことを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項６】
請求項１または４に記載のプラズマ処理装置であって、
前記Ｙ２Ｏ３、Ｙｂ２Ｏ３またはＹＦ３を主成分とした材料あるいはこれらの混合材から構成された被膜が溶射されて被覆され、該被膜の表面がフッ素樹脂、ＳｉＯ２、ポリイミドまたはシリコーンを用いた封孔処理が施されたことを特徴とするプラズマ処理装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明は、処理室の内側に配置された試料台上に載置された試料を、前記処理室内に生成したプラズマを用いて処理するプラズマ処理装置において、前記処理室内壁面に着脱可能に取り付けられ、かつ、前記プラズマと接する側の表面にＹ２Ｏ３、Ｙｂ２Ｏ３またはＹＦ３を主成分とした材料あるいはこれらの混合材から構成された被膜を有する部材を備えたプラズマ処理装置である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
また、本発明は、処理室の内側に配置された試料台上に載置された試料を、前記処理室内に生成したプラズマを用いて処理するプラズマ処理装置において、前記処理室内壁面に着脱可能に取り付けられ、かつ、前記プラズマと接する側の表面を被覆する耐プラズマ性の高い材料またはこれらの混合材から構成された第１の被膜と前記処理室内壁面に取り付けられる側の面を被覆する前記耐プラズマ性の高い材料またはこれらの混合材よりも強度の高い材料からなる第２の被膜とを有する部材を備えたプラズマ処理装置である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
そして、本発明は、前記第１の被膜と前記第２の被膜との境界部では、前記第１の被膜が前記第２の被膜の上面を覆うように被覆されたプラズマ処理装置である。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
更に、本発明は、前記第１の被膜がＹ２Ｏ３、Ｙｂ２Ｏ３またはＹＦ３を主成分とした材料あるいはこれらの混合材から構成されたプラズマ処理装置である。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
また、本発明は、処理室の内側に配置された試料台上に載置された試料を、前記処理室内に生成したプラズマを用いて処理するプラズマ処理装置であって、前記処理室内側に着脱可能に取り付けられ、かつ、表面を皮膜で被覆した部材を有し、該部材の表面の平坦部の被膜より角部の被膜が厚くされたプラズマ処理装置である。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
そして、本発明は、前記Ｙ２Ｏ３、Ｙｂ２Ｏ３またはＹＦ３を主成分とした材料あるいはこれらの混合材から構成された被膜が溶射されて被覆され、該被膜の表面がフッ素樹脂、ＳｉＯ２、ポリイミドまたはシリコーンを用いた封孔処理が施されたプラズマ処理装置である。
【手続補正書】
【提出日】平成17年10月12日(2005.10.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  筒状部材をセンターレス研削装置によって加工して円筒部材とする円筒部材の製法であって、筒状の本体部の一端部に軸部をもつ筒状部材の表面を回転自在な段付き研削砥石に当接させながら上記研削砥石を回転させ研削する円筒部材の製法において、上記本体部を支持しながら上記軸部の表面を切削装置により切削した後、上記本体部の表面と上記軸部の表面とを研削砥石で研削することを特徴とする円筒部材の製法。
【請求項２】  筒状部材は、本体部の研削代が軸部の研削代より大きく設定されていることとする請求項１に記載の円筒部材の製法。
【請求項３】  筒状部材をセンターレス研削装置によって加工して円筒部材とする円筒部材の製法であって、筒状の本体部の一端部に軸部をもつ筒状部材の表面を回転自在な段付き研削砥石に当接させながら上記研削砥石を回転させ研削すると共に、内面研削砥石又は内面切削刃物によって上記本体部の内面を研削又は切削する円筒部材の製法において、上記本体部を支持しながら上記軸部の表面を切削装置により切削した後、上記本体部の表面と上記軸部の表面とを研削砥石で研削すると共に、上記本体部の内面を内面研削砥石又は内面切削刃物で研削又は切削することを特徴とする円筒部材の製法。
【請求項４】  筒状部材は、本体部の研削代が軸部の研削代より大きく設定されていることとする請求項３に記載の円筒部材の製法。
【請求項５】  筒状部材をセンターレス研削装置によって加工して円筒部材とする円筒部材の製法であって、筒状の本体部の一端部に軸部をもつ筒状部材の表面を回転自在な段付き研削砥石に当接させながら上記研削砥石を回転させ研削する円筒部材の製法において、上記本体部を支持しながら上記軸部の表面を切削装置により切削した後、上記本体部の表面と上記軸部の表面とを研削砥石で研削し、その後、切削刃物によって上記本体部の内面を切削することを特徴とする円筒部材の製法。
【請求項６】  筒状部材は、本体部の研削代が軸部の研削代より大きく設定されていることとする請求項５に記載の円筒部材の製法。
【請求項７】  潜像担持体上に形成された潜像に現像剤を付与することにより上記潜像を可視画像とする現像装置であって、現像剤を担持する現像剤担持体を有し、現像剤担持体は、請求項１乃至請求項６のいずれか一項に記載の円筒部材であることを特徴とする現像装置。
【請求項８】  一連の画像形成プロセスによって形成された画像を記録媒体に記録する画像形成装置であって、潜像を担持する潜像担持体を有し、潜像担持体は、請求項１乃至請求項６のいずれか一項に記載された円筒部材の製法により製造された円筒部材であることを特徴とする画像形成装置。
【手続補正書】
【提出日】平成17年3月30日(2005.3.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
エンジンと、該エンジンに動力配分機構を介して連結されたモータジェネレータとを備えた車両の自動変速機の変速制御装置において、
前記自動変速機の変速が発生するか否かを判断する手段と、
自動変速機の入力軸が駆動状態、被駆動状態、あるいは駆動状態とも被駆動状態とも明確に判定できない曖昧な状態、の何れの状態にあるかを判断する手段と、
前記自動変速機の入力軸のトルクを前記モータジェネレータによって増減する制御手段と、を備え、
前記自動変速機の変速が発生すると判断され、且つ、前記車両が駆動状態とも被駆動状態とも明確に判断できない曖昧な状態であると判断されたときには、前記自動変速機の入力軸のトルクを前記モータジェネレータによって一時的に変更して該入力軸を駆動状態又は被駆動状態のいずれかに移行させた上で前記自動変速機の変速を実行する
ことを特徴とする車両の自動変速機の変速制御装置。
【請求項２】
エンジンと、該エンジンに動力配分機構を介して連結されたモータジェネレータとを備えた車両の自動変速機の変速制御装置において、
前記自動変速機において変速が発生するか否かを判断する手段を備え、
該変速を実行する際に、自動変速機の入力軸にかかるトルクを、前記モータジェネレータによって該入力軸にプラス又はマイナスのいずれか一方側のトルクを付加することによって変更し、アクセルペダルに対応した前記自動変速機の入力軸トルクを変更しながら当該変速を実行することを特徴とする車両の自動変速機の変速制御装置。
【請求項３】
エンジンと、該エンジンに連結されたモータジェネレータとを備えた車両の自動変速機の変速制御装置において、
前記自動変速機の変速が発生するか否かを判断する手段と、
自動変速機の入力軸が駆動状態、被駆動状態、あるいは駆動状態とも被駆動状態とも明確に判定できない曖昧な状態、の何れの状態にあるかを判断する手段と、
前記自動変速機の入力軸のトルクを前記モータジェネレータによって増減する制御手段と、を備え、
前記自動変速機の変速が発生すると判断され、且つ、前記車両が駆動状態とも被駆動状態とも明確に判断できない曖昧な状態であると判断されたときには、前記自動変速機の入力軸のトルクを前記モータジェネレータによって一時的に変更して該入力軸を駆動状態又は被駆動状態のいずれかに移行させた上で前記自動変速機の変速を実行する
ことを特徴とする車両の自動変速機の変速制御装置。
【手続補正書】
【提出日】平成17年7月22日(2005.7.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
乗員を拘束し保護するシートベルトの巻き取り及び引き出しをモータにより行う電動リトラクタを備えた車両用乗員拘束保護装置において、
第１の条件及び方法に基づいて前記乗員に快適性を付与する第１付与手段と、第２の条件及び方法に基づいて前記乗員に安全性を付与する第２付与手段と、前記乗員のシートベルトの使用状態に応じて、前記第１及び第２の条件及び方法のうち少なくとも１つ変更する変更手段とを備えることを特徴とする車両用乗員拘束保護装置。
【請求項２】
前記第１の条件及び方法は、前記シートベルトの弛み量、張力及び巻き取り力の少なくとも１つであり、前記第２の条件及び方法は、前記シートベルトの弛み量、張力、巻き取り力及び前記シートベルトの振動による警報でのシートベルトの振動パターンの少なくとも１つであることを特徴とする請求項１記載の車両用乗員拘束保護装置。
【請求項３】
前記変更手段による変更内容を調整するための調整手段をさらに備えていることを特徴とする請求項１又は２記載の車両用乗員拘束保護装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
請求項２記載の車両用乗員拘束保護装置は、請求項１記載の車両用乗員拘束保護装置において、前記第１の条件及び方法は、前記シートベルトの弛み量、張力及び巻き取り力の少なくとも１つであり、前記第２の条件及び方法は、前記シートベルトの弛み量、張力、巻き取り力及び前記シートベルトの振動による警報でのシートベルトの振動パターンの少なくとも１つであることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
請求項３記載の車両用乗員拘束保護装置は、請求項１又は２記載の車両用乗員拘束保護装置において、前記変更手段による変更内容を調整するための調整手段をさらに備えていることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成16年9月22日(2004.9.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
印刷媒体に画像を印刷するための印刷装置と、
自然光照明で見たとき肉眼では見えない不可視のインクのインク小滴を放出し、自然光で見たとき肉眼では見えない不可視の識別パターンを前記印刷媒体に印刷するインクジェット方式の印字ヘッドを備えるインクジェット印刷装置と、
確認に使用する前記識別パターンの像を作るために設置されているスキャナ装置であって、作像領域に不可視エネルギ成分を有する光を照明する光源及び前記印刷媒体からの不可視光を感知して前記不可視識別パターンの像を形成するカメラを有するスキャナ装置と、を備える文書印刷及び確認装置。
【請求項２】
更に、前記インクジェット印刷装置を制御し、前記スキャナ装置からの画像信号に応答して前記識別パターンを備えている印刷媒体の存在を確認する制御装置を備える請求項１記載の文書印刷及び確認装置。
【請求項３】
前記印字ヘッドは、前記印刷媒体の第１の表面に隣接して設置され、前記印刷媒体の前記第１の表面に識別パターンを印刷し、前記光源は作像領域で前記印刷媒体の第２の表面に隣接して設置され、前記作像領域の背面照明を行なう照明源を備えており、前記カメラは前記第１の表面に隣接して設置され、前記光源は十分なエネルギを印刷媒体に通過させて前記識別パターンを励起させる請求項１記載の文書印刷及び確認装置。
【請求項４】
前記印字ヘッドは、前記印刷媒体の第１の表面に隣接して設置されて、前記印刷媒体の前記第１の表面に識別パターンを印刷し、前記光源は、前記カメラの第１の側に隣接して設置されて作像領域の第１の側方照明を与える第１の照明源と、第１の照明源と前記作像領域との間の第１の光路に設置された第１の光学フィルタと、前記カメラの第２の側に隣接して設置されて前記作像領域の第２の側方照明を与える第２の照明源と、前記第２の照明源と前記作像領域との間の第２の光路に設置された第２の光学フィルタと、前記作像領域と前記カメラとの間の第３の光路に設置された第３の光学フィルタと、を備える請求項１、２又は３記載の文書印刷及び確認装置。
【請求項５】
前記印字ヘッドにより放出される前記インク小滴にはＦＲ／ＩＲ波長帯域の照明により励起される遠赤（ＦＲ）／赤外（ＩＲ）染料が含まれており、前記カメラが前記染料の励起に敏感で、前記印刷媒体に付されている前記励起されたＦＲ／ＩＲ染料の識別パターン画像を発生する請求項１から４のいずれかに記載の文書印刷及び確認装置。
【請求項６】
前記印字ヘッドにより放出される前記インク小滴にはＵＶ波長帯域の照明により励起されるＵＶ染料が含まれており、前記識別パターンは、前記ＵＶ波長帯域の光により照明されると肉眼で見える請求項１から５のいずれかに記載の文書印刷及び確認装置。
【請求項７】
前記スキャナ装置が更に前記光源からの不可視エネルギ成分を前記カメラから遮る光学フィルタ装置を備える請求項１から６のいずれかに記載の文書印刷及び確認装置。
【請求項８】
前記光学フィルタ装置が前記光源と前記作像領域との間の照明経路に設置された第１の光学フィルタ及び前記作像領域と前記カメラとの間に設置された第２の光学フィルタを備える請求項７記載の文書印刷及び確認装置。
【請求項９】
前記識別パターンがバーコードパターンである請求項１から８のいずれかに記載の文書印刷及び確認装置。
【請求項１０】
前記インクジェット印字ヘッドが少なくとも１インチあたり６０0ドットの高い解像度のインクジェット印刷を提供する高解像度印字ヘッドである請求項１から９のいずれかに記載の文書印刷及び確認装置。
【請求項１１】
文書ページを印刷するステップと、
インクジェットプリンタを使用して前記文書ページに、自然光照明のもとでは肉眼で見えないインクを用いて、識別パターンを印刷する印刷ステップと、
不可視の帯域にあるエネルギ成分を有する光エネルギで前記文書ページを照明する照明ステップと、
作像領域で前記識別パターンの像を電子的に取り込む、取込みステップと、
前記電子的に取り込まれた像を使用して確認手順を行なう確認ステップと、を備える文書の印刷及び確認方法。
【請求項１２】
前記印刷ステップは、ＦＲ／ＩＲエネルギにより励起される遠赤（ＦＲ）／赤外（ＩＲ）染料を含むインクを使用するステップ、前記照明ステップは、前記ＦＲ／ＩＲ染料が入っている前記インクにより形成された識別パターンを励起するため前記文書ページをＦＲ／ＩＲエネルギで照明するステップ、前記像を電子的に取り込む前記取込みステップは、前記識別パターンをＦＲ／ＩＲに敏感なカメラに結像させるステップを含む請求項１１記載の文書の印刷及び確認方法。
【請求項１３】
前記印刷ステップは、前記文書ページの第１の表面に前記識別パターンを印刷するステップを含み、前記像を電子的に取り込む前記取込みステップは、前記文書ページが作像領域に設置されるとき、前記文書ページの前記第１の表面に隣接することになる前記作像領域に隣接してカメラを設置するステップを含む請求項１１又は１２記載の文書の印刷及び確認方法。
【請求項１４】
前記照明ステップは、前記文書ページの前記第１の表面を前記ＦＲ／ＩＲエネルギで照明するステップを含む請求項１３記載の文書の印刷及び確認方法。
【請求項１５】
前記照明ステップは、ＦＲ／ＩＲの照明源を前記作像領域に設置するとき、前記文書ページの第２の表面に隣接して前記ＦＲ／ＩＲの照明源を設置するステップと、前記インク内の前記ＦＲ／ＩＲ染料を励起するため、ＦＲ／ＩＲエネルギを前記文書ページに十分貫通させるステップとを含む請求項１４記載の文書の印刷及び確認方法。
【請求項１６】
前記印刷ステップは、ＵＶ感度染料を含むインクを使用するステップを含み、前記文書ページを照明する前記照明ステップは、前記印刷ステップの目視チェックのため、前記識別パターンが肉眼で見えるよう前記文書ページをＵＶ光で照明するステップを含む請求項１１記載の文書の印刷及び確認方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年9月30日(2005.9.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
変速機のシフトポジションが非駆動ポジションであることを含む所定の停止条件でエンジンを自動停止させ、所定の復帰条件でエンジンを再始動するエンジンの自動停止始動装置において、
変速機のシフトポジションが非駆動ポジションから駆動ポジションへと変更されたことでエンジンが再始動したとき、車両にブレーキをかけるブレーキ手段を備えたことを特徴とするエンジンの自動停止始動装置。
【請求項２】
変速機のシフトポジションが非駆動ポジションであることを含む所定の停止条件でエンジンを自動停止させ、変速機のシフトポジションが非駆動ポジションから駆動ポジションへ変更されたことを含む所定の復帰条件でエンジンを再始動するエンジンの自動停止始動装置において、
エンジンの自動停止後に変速機のシフトポジションが非駆動ポジションから駆動ポジションへ変更されたときに、車両にブレーキをかけるブレーキ手段を備えたことを特徴とするエンジンの自動停止始動装置。
【請求項３】
前記ブレーキ手段は、所定時間ブレーキを保持することを特徴とする請求項１又は２記載のエンジンの自動停止始動装置。
【請求項４】
前記ブレーキ手段は、エンジン再始動時のエンジン回転数に応じてブレーキ力を変えることを特徴とする請求項１記載のエンジンの自動停止始動装置。
【請求項５】
前記ブレーキ手段によるブレーキ開始時において、ブレーキ力を徐々に変化させることを特徴とする請求項１又は２記載のエンジンの自動停止始動装置。
【請求項６】
前記ブレーキ手段によるブレーキ解放時において、ブレーキ力を徐々に変化させることを特徴とする請求項１又は２記載のエンジンの自動停止始動装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
そこで、本発明では、このような場合に、ブレーキ手段により、車両にブレーキをかけることとしている。ブレーキ手段としては、通常のブレーキシステムあるいはＡＢＳシステムなどにブレーキ信号を送ってブレーキの制動力で車輪を止めることや、変速機の特定のクラッチやブレーキを係合して、車輪を止めることが考えられる。この場合、車速は０となる。尚、本発明のように自動停止時にＮやＰの非駆動ポジションであったシフトポジションが、Ｄ他の駆動ポジションに変更されたことを条件にエンジンの再始動が行われる場合には、シフトポジションが非駆動ポジションから駆動ポジションへ変更された時点でブレーキ手段が車両にブレーキをかけるようにしてもよい。この場合は、エンジンの再始動がうまくいったか否かにかかわらず車両にブレーキがかかることになるが、エンジンの再始動がうまくいかなかったときはブレーキ手段が車両にブレーキをかけた状態を維持しておいてもよい。
【手続補正書】
【提出日】平成17年4月15日(2005.4.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
エンジンと、このエンジンによって駆動される第１の車輪と、ジェネレータと、このジェネレータで発電されたエネルギにより作動するモータと、このモータによって駆動される第２の車輪とを備えた車両の駆動制御装置であり、
前記モータによる第２の車輪の駆動が必要か否かを予測する予測手段と、
前記予測手段により前記モータによる第２の車輪の駆動が必要であると予測された場合に、前記ジェネレータを作動させて前記モータにより前記第２の車輪を駆動するモータ駆動制御手段と、
を備えたことを特徴とする車両の駆動制御装置。
【請求項２】
エンジンと、このエンジンによって駆動される第１の車輪と、ジェネレータと、このジェネレータで発電されたエネルギにより作動するモータと、このモータにより駆動される第２の車輪とを備えた車両の駆動制御装置であり、
前記モータへ電力を供給可能なバッテリと、
前記ジェネレータを作動させて前記モータにより第２の車輪を駆動するためのモータ駆動制御手段とを更に備え、
前記モータ駆動制御手段は、前記ジェネレータによる発電エネルギが前記モータの作動に不足である場合には前記バッテリに蓄電された電気エネルギを用いて前記モータを作動させることを特徴とする車両の駆動制御装置。
【請求項３】
請求項１において、前記予測手段は、前記車両の発進時に前記モータによる前記第２の車輪の駆動が必要であると予測することを特徴とする車両の駆動制御装置。
【請求項４】
請求項３において、前記予測手段は、車速が零であり且つシフトポジションが非中立ポジションにあるときにブレーキがオンからオフにされたことを条件に、前記車両が発進すると判定することを特徴とする車両の駆動制御装置。
【請求項５】
請求項１において、前記予測手段は、前記車両の低μ路走行時に前記モータによる前記第２の車輪の駆動が必要であると予測することを特徴とする車両の駆動制御装置。
【請求項６】
請求項１において、前記予測手段は、前記車両のスノーモード走行時に前記モータによる前記第２の車両の駆動が必要であると予測することを特徴とする車両の駆動制御装置。
【請求項７】
請求項１において、前記予測手段は、前記車両の坂路走行時に前記モータによる前記第２の車両の駆動が必要であると予測することを特徴とする車両の駆動制御装置。
【請求項８】
請求項７において、前記予測手段は、アクセル開度及び車速から定まる基準加速度と実際の加速度との差に基づいて前記車両が坂路走行しているか否かを判定することを特徴とする車両の駆動制御装置。
【請求項９】
請求項７において、前記予測手段は、ナビゲーションシステムの出力信号に基づいて前記車両が坂路走行しているか否かを判定することを特徴とする車両の駆動制御装置。
【請求項１０】
請求項１において、前記モータによる前記第２の車輪の駆動が開始された後に前記車両が高速走行状態になると、前記モータ駆動制御手段は、前記モータによる前記第２の車両の駆動を停止することを特徴とする車両の駆動制御装置。
【請求項１１】
請求項１において、前記モータにより前記第２の車輪の駆動が開始された後にシフトポジションが非駆動ポジションになると、前記モータ駆動制御手段は、前記モータによる前記第２の車両の駆動を停止することを特徴とする車両の駆動制御装置。
【請求項１２】
請求項２において、前記モータ駆動制御手段は、前記ジェネレータの発電量が所望の発電量に達すると、前記バッテリから前記モータへの電力供給を停止させることを特徴とする車両の駆動制御装置。
【請求項１３】
請求項２において、前記モータ駆動制御手段は、前記エンジンが第１の車輪を駆動することによって前記車両が走行している時に前記モータによる前記第２の車輪の駆動が必要になると、前記バッテリに蓄電された電気エネルギを用いて前記モータを作動させることを特徴とする車両の駆動制御装置。
【請求項１４】
請求項１３において、前記エンジンが第１の車輪を駆動することによって前記車両が走行している時に前記モータによる前記第２の車輪の駆動が必要になる場合は、前記第１の車輪又は前記第２の車輪がスリップしている場合であることを特徴とする車両の駆動制御装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明は、上記した課題を解決するために以下のような手段を採用した。すなわち、本発明に係る車両の駆動制御装置は、エンジンと、このエンジンによって駆動される第１の車輪と、ジェネレータと、このジェネレータで発電されたエネルギにより作動するモータと、このモータによって駆動される第２の車輪とを備えた車両の駆動制御装置であり、前記モータによる第２の車輪の駆動が必要か否かを予測する予測手段と、前記予測手段により前記モータによる第２の車輪の駆動が必要であると予測された場合に、前記ジェネレータを作動させて前記モータにより第２の車輪を駆動するモータ駆動制御手段と、を備えたことを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
その際、予測手段は、例えば、発進判定、低μ路判定、スノーモード判定、あるいは坂路判定等に基づいてモータによる第２の車輪の駆動が必要であるか否かを判別する。そして、予測手段がモータによる第２の車輪の駆動が必要であると予測した場合、モータ駆動制御段は、ジェネレータを作動させ、ジェネレータで発電されたエネルギをモータに供給する。これにより、モータが第２の車輪の駆動を開始し、車両がエンジンとモータとによる多輪駆動状態、またはモータによる車輪の単独駆動状態に切り換えられる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
また、本発明にかかる車両の駆動制御装置は、エンジンと、このエンジンによって駆動される第１の車輪と、ジェネレータと、このジェネレータで発電されたエネルギにより作動するモータと、このモータにより駆動される第２の車輪とを備えた車両の駆動制御装置であり、前記モータへ電力を供給可能なバッテリと、前記ジェネレータを作動させて前記モータにより第２の車輪を駆動するためのモータ駆動制御手段とを更に備え、前記モータ駆動制御手段は、前記ジェネレータによる発電エネルギが前記モータの作動に不足である場合には前記バッテリに蓄電された電気エネルギを用いて前記モータを作動させることを特徴とするようにしてもよい。尚、ここでいうバッテリは、大電流の出し入れが容易な電気二重層コンデンサからなるキャパシタ等も含むものとする。
【手続補正書】
【提出日】平成17年10月14日(2005.10.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
さらに、前記マニピュレータロボット２３には、前記各マガジン部に残された中仕切板及び中仕切板置部２２上の紐切り前の中仕切板束の排出機能が持たせられる。それらは前記コントローラにより行われ、前記各マガジン部に残された中仕切板は前記中仕切板置部２２と異なる位置、例えば、図１に示すＺ部に集積され、紐切り前の前記中仕切板束は排出コンベア２５上に排出される。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
【発明の効果】
本発明の請求項１によれば、組立開始時において、空きのマガジン部に中仕切板を人手によらずに供給することが可能であり、さらに中仕切板置部と各マガジン部がマニピュレータロボットを介して一体化されているため装置全体の省スペース化をはかることができ、請求項２によれば、中仕切板の自動供給により、その高速自動組立てが可能になり、また、組立作業の中断のおそれもなく、必然的に各マガジン部における中仕切板の数量監視及び中仕切板補給作業が不要になる。また、請求項３によれば、サイズの異なる中仕切板組立作業を行う場合に各マガジン部に残されている中仕切板を容易に排出し、次の組立作業に移ることができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図面の簡単な説明
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図面の簡単な説明】
【図１】
本発明の中仕切板自動組立装置の配置状態を示す平面図である。
【図２】
図１の要部拡大図である。
【図３】
図２の一部省略正面図である。
【図４】
左側面図である。
【図５】
横仕切板の供給及び起立装置部の概略側面図である。
【図６】
中仕切板減少マガジン部への仕切板供給状態を示すマニピュレータロボットの斜視図である。
【図７】
中仕切板組立て順序を示す斜視図である。
【図８】
中仕切板組立て順序を示す斜視図である。
【図９】
中仕切板組立て順序を示す斜視図である。
【図１０】
中仕切板組立て順序を示す斜視図である。
【図１１】
中仕切板組立て順序を示す斜視図である。
【図１２】
中仕切板組立て順序を示す斜視図である。
【符号の説明】
１ａ、１ｂ、１ｃ    横仕切板
２ａ、２ｂ、２ｃ    平行溝ガイド
３ａ、３ｂ    切込み部
５ａ、５ｂ    縦仕切板
１０、１１、１２、１３、１４    マガジン部
２１    残量検知手段
２２    中仕切板置部
２３ マニピュレータロボット
２４ マニピュレータ
【手続補正書】
【提出日】平成16年5月13日(2004.5.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）半導体基板上に第１絶縁膜を形成する工程と、
（ｂ）前記第１絶縁膜上に複数の配線を形成する工程と、
（ｃ）前記配線を覆うように第１温度で第２絶縁膜を高密度プラズマを用いた化学気相成長法で形成する工程と、
（ｄ）前記第２絶縁膜に第２温度で熱処理を施す工程と、
（ｅ）前記第２絶縁膜上に第１電極、誘電体膜及び第２電極からなるキャパシタを形成し、前記誘電体膜を第３温度で熱処理する工程と、を有し、
前記第２温度は前記第３温度より高いことを特徴とする半導体集積回路装置の製造方法。
【請求項２】
請求項１において、工程（ａ）と（ｂ）の間に、
前記第１絶縁膜に研磨を施すことを特徴とする半導体集積回路装置の製造方法。
【請求項３】
請求項１において、工程（ｃ）と（ｄ）の間に、
前記第２絶縁膜に研磨を施すことを特徴とする半導体集積回路装置の製造方法。
【請求項４】
請求項３において、前記第２絶縁膜に対する熱処理は、前記第２絶縁膜に対する研磨の前に実施することを特徴とする半導体集積回路装置の製造方法。
【請求項５】
請求項１において、工程（ａ）の前に
（ｆ）前記半導体基板上に第３絶縁膜を介して複数の導体片を形成する工程と、
（ｇ）前記導体片の両端の前記半導体基板表面に一対の半導体領域を形成する工程と、
を有し、
前記配線は前記一対の半導体領域の一方に接続されており、前記第１電極は前記一対の半導体領域の他方に接続されていることを特徴とする半導体集積回路装置の製造方法。
【請求項６】
請求項１において、前記配線はタングステンで形成することを特徴とする半導体集積回路装置の製造方法。
【請求項７】
請求項１において、前記熱処理はランプアニール法を用いることを特徴とする半導体集積回路装置の製造方法。
【請求項８】
請求項７において、前記熱処理は、昇温速度の速い第１段階と、前記第１段階より昇温速度の低い第２段階を経て、前記第２温度に達することを特徴とする半導体集積回路装置の製造方法。
【請求項９】
請求項１において、前記誘電体膜は酸化タンタル膜であることを特徴とする半導体集積回路装置の製造方法。
【請求項１０】
請求項１において、前記誘電体膜はチタン酸ジルコン酸鉛膜であることを特徴とする半導体集積回路装置の製造方法。
【請求項１１】
（ａ）半導体基板上に第１絶縁膜を形成する工程と、
（ｂ）前記第１絶縁膜上に複数の配線を形成する工程と、
（ｃ）前記配線を覆うように化学気相成長法により第２絶縁膜を形成する工程と、
（ｄ）前記第２絶縁膜上に塗布膜である第３絶縁膜を形成し、第１温度で熱処理をする工程と、
（ｅ）前記第３絶縁膜上に化学気相成長法により第４絶縁膜を形成する工程と、
（ｆ）前記第４絶縁膜上に第１電極、誘電体膜及び第２電極からなるキャパシタを形成する工程と、を有し、
前記誘電体膜の形成工程は前記誘電体膜を第２温度で熱処理する工程を含み、
前記第１温度は前記第２温度以上であることを特徴とする半導体集積回路装置の製造方法。
【請求項１２】
（ａ）半導体基板上に第１絶縁膜を形成する工程と、
（ｂ）前記第１絶縁膜上に複数の配線を形成する工程と、
（ｃ）前記配線を覆うように第２絶縁膜を高密度プラズマを用いた化学気相成長法で形成する工程と、
（ｄ）前記第２絶縁膜に第１温度で熱処理を施す工程と、
（ｅ）前記配線の表面を露出するように、前記第２絶縁膜に開口を形成するために前記第２絶縁膜にエッチングを施す工程と、
（ｆ）前記開口内に第１導体層を第２温度の化学気相成長法で形成する工程と、
（ｇ）前記第１導体層上に第２導体層を形成する工程と、
（ｈ）前記第２，第１導体層に研磨を施し、前記開口内に選択的に前記第１，第２導体層を残す工程と、を有し、
前記第１温度は前記第２温度以上であることを特徴とする半導体集積回路装置の製造方法。
【請求項１３】
請求項１２において、前記配線はタングステン膜であることを特徴とする半導体集積回路装置の製造方法。
【請求項１４】
請求項１３において、前記第１導体層は窒化チタン層であることを特徴とする半導体集積回路装置の製造方法。
【請求項１５】
請求項１２において、さらに、前記第２絶縁膜及び前記第２導体層上に第３導体層を形成する工程を有することを特徴とする半導体集積回路装置の製造方法。
【請求項１６】
請求項１５において、前記第３導体層はアルミニウム層からなることを特徴とする半導体集積回路装置の製造方法。
【請求項１７】
請求項１５において、前記第３導体層は銅層からなることを特徴とする半導体集積回路装置の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年10月13日(2004.10.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）基板の主面に素子分離領域を形成し、第１および第２の活性領域を形成する工程と、
（ｂ）前記第１および第２の活性領域の基板表面に絶縁膜を形成する工程と、
（ｃ）前記第２の活性領域上に開口部を有するレジストパターンを前記基板上に形成する工程と、
（ｄ）アッシングによって前記レジストパターンを削る工程と、
（ｅ）前記レジストパターンをマスクとして前記第２の活性領域の絶縁膜を除去する工程と、
（ｆ）前記レジストパターンを除去した後、前記第１の活性領域の基板表面に相対的に厚い絶縁膜を形成し、前記第２の活性領域の基板表面に相対的に薄い絶縁膜を形成する工程とを有することを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項２】
（ａ）基板の主面に素子分離領域を形成し、第１および第２の活性領域を形成する工程と、
（ｂ）前記第１および第２の活性領域の基板表面に絶縁膜を形成する工程と、
（ｃ）前記第２の活性領域上に開口部を有するレジストパターンを前記基板上に形成する工程と、
（ｄ）酸素プラズマを用いたアッシングによって前記レジストパターンを削る工程と、
（ｅ）前記レジストパターンをマスクとして前記第２の活性領域の絶縁膜を除去する工程と、
（ｆ）前記レジストパターンを除去した後、前記第１の活性領域の基板表面に相対的に厚い絶縁膜を形成し、前記第２の活性領域の基板表面に相対的に薄い絶縁膜を形成する工程とを有することを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項３】
（ａ）基板の主面に素子分離領域を形成し、第１および第２の活性領域を形成する工程と、
（ｂ）前記第１および第２の活性領域の基板表面に絶縁膜を形成する工程と、
（ｃ）前記第２の活性領域上に開口部を有するレジストパターンを前記基板上に形成する工程と、
（ｄ）基板温度を８０〜１００℃程度とするオゾンアッシングによって前記レジストパターンを削る工程と、
（ｅ）前記レジストパターンをマスクとして前記第２の活性領域の絶縁膜を除去する工程と、
（ｆ）前記レジストパターンを除去した後、前記第１の活性領域の基板表面に相対的に厚い絶縁膜を形成し、前記第２の活性領域の基板表面に相対的に薄い絶縁膜を形成する工程とを有することを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項４】
（ａ）基板の主面に素子分離領域を形成し、第１および第２の活性領域を形成する工程と、
（ｂ）前記第１および第２の活性領域の基板表面に絶縁膜を形成する工程と、
（ｃ）前記第２の活性領域上に開口部を有するレジストパターンを前記基板上に形成する工程と、
（ｄ）アッシングによって前記レジストパターンを削る工程と、
（ｅ）前記レジストパターンをマスクとして前記第２の活性領域の絶縁膜を除去する工程と、
（ｆ）前記レジストパターンを除去した後、前記第１の活性領域の基板表面に相対的に厚い絶縁膜を形成し、前記第２の活性領域の基板表面に相対的に薄い絶縁膜を形成する工程とを有し、
前記（ｄ）工程の前記レジストパターンのアッシング量は、５０ｎｍ以下とすることを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項５】
（ａ）基板の主面に素子分離領域を形成し、第１および第２の活性領域を形成する工程と、
（ｂ）前記第１および第２の活性領域の基板表面に絶縁膜を形成する工程と、
（ｃ）前記第２の活性領域上に開口部を有するレジストパターンを前記絶縁膜上に形成する工程と、
（ｄ）前記レジストパターンをアッシングにより削る工程と、
（ｅ）前記レジストパターンをマスクとして前記第２の活性領域の絶縁膜を除去する工程と、
（ｆ）前記レジストパターンを除去した後、前記第１の活性領域の基板表面に相対的に厚い絶縁膜を形成し、前記第２の活性領域の基板表面に相対的に薄い絶縁膜を形成する工程とを有し、
前記（ｃ）、（ｄ）、（ｅ）および（ｆ）工程を繰り返し行うことにより、互いに厚さの異なる３種類以上の絶縁膜を基板表面に形成することを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１項記載の半導体装置の製造方法において、前記（ｃ）工程は、前記第２の活性領域上に開口部を有し、かつ前記第２の活性領域と前記素子分離領域との境界を覆うレジストパターンを前記基板上に形成する工程であることを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか１項記載の半導体装置の製造方法において、前記（ｆ）工程は、前記基板に熱酸化処理を施すことによって行われることを特徴とする半導体装置の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年10月29日(2004.10.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
第２の層１２ｂは、
化学式  ＡｌaＢbＧａ1-a-bＮ
ここで、ａ、ｂは、０≦ａ＜１、０≦ｂ＜１、
ａ＋ｂ≦１
を満足する任意の数値、
で示すことができる材料から成るｎ形半導体の薄い膜である。即ち、第２の層１２ｂはＡｌ、Ｂ及びＧａから選択された少なくとも１つの元素とＮとを含む層であり、例えばＧａＮ、ＢＮ、ＡｌＮ、ＢＧａＮ、ＡｌＧａＮ、ＡｌＢＮ及びＡｌＢＧａＮから選択されたもので形成される。図１及び図２の実施形態では、前記式のａが０、ｂが０．３とされた材料に相当するＢ0.3Ｇａ0.7Ｎが第２の層１２ｂに使用されている。第２の層１２ｂの価電子帯と伝導帯との間のギャップ即ちバンドギャップが第１の層１２ａのバンドギャップよりも小さい。第２の層１２ｂの抵抗を小さくするために、Ａｌの割合ａを第１の層１２ａのＡｌの割合ｘよりも小さい例えば０．８以下、より好ましくは０．１以下に設定することが望ましい。第２の層１２ｂは抵抗値の比較的小さい半導体として機能し、第１の層１２ａの相互間の電気的接続機能を有する。
【手続補正書】
【提出日】平成17年5月30日(2005.5.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電磁波をアンテナ軸（Ω）に沿って送信及び受信する装置において、
第１の長径を定める送信エレクトロニクスカード（１４）と、
第２の長径を定める受信エレクトロニクスカード（１２）とを有し、
前記第１の長径は殆ど完全に前記アンテナ軸（Ω）から延長しており、
前記第２の長径は殆ど完全に前記アンテナ軸（Ω）から延長しており、
前記第１の長径及び第２の長径は、前記アンテナ軸（Ω）に垂直な面に射影すると少なくとも９０°となる角度をそれら長径の間に定める、ことを特徴とする電磁波を送信及び受信する装置
【請求項２】
前記エレクトロニクスカード（１２；１４）のうちの少なくとも１つは、前記装置の一部（２２）を基準として第１の軸の回りを回転可動である、請求項１記載の装置。
【請求項３】
前記送信エレクトロニクスカード（１４）及び受信エレクトロニクスカード（１２）は前記第１の軸の回りを回転可動であり、
前記送信エレクトロニクスカード（１４）及び受信エレクトロニクスカード（１２）は、それぞれ前記アンテナ軸（Ω）に沿って前記第１の軸のいずれかの側に配置されている、請求項２記載の装置。
【請求項４】
電磁波を送信及び受信する装置において、
アンテナ（２，４，６）と、
送信エレクトロニクスカード（１４）と、
受信エレクトロニクスカード（１２）とを有し、
前記送信エレクトロニクスカード（１４）は、アンテナ（２，４，６）接続端部の反対側に第１の端部を有し、
前記受信エレクトロニクスカード（１２）は、アンテナ（２，４，６）接続端部の反対側に第２の端部を有し、
前記第１の端部と第２の端部は、前記アンテナ（２，４，６）の軸に垂直な面に対して、前記アンテナ（２，４，６）を基準として少なくとも９０°の角度によって分離されている、ことを特徴とする電磁波を送信及び受信する装置。
【手続補正書】
【提出日】平成16年2月25日(2004.2.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
アナログ信号の各サンプルが１ビットで表わされた１ビット形式ディジタル信号と前記ディジタル信号のエラー訂正データとを含む信号を伝送するための伝送路に接続され、且つ前記ディジタル信号のエラーの発生を検出する機能、及び前記ディジタル信号のエラーが検出された時に前記エラー訂正データに基づいて前記ディジタル信号の前記エラーを訂正する機能、及び前記ディジタル信号のエラーの訂正が可能か否か又は可能であったか否かを判定する機能を有しているエラー検出及び訂正手段と、
前記ディジタル信号のエラー発生箇所に挿入するための補間データを発生するものであって、前記補間データとして、複数の論理の１と複数の論理の０とを含み、且つ前記論理の１の数と論理の０の数とが同一に決定され、且つ前記補間データをアナログ信号に変換した時に可聴周波数帯域を越える周波数を有するアナログ信号が得られるように論理の１と論理の０との配置が決定されているデータを発生する補間データ発生手段と、
前記エラー検出及び訂正手段と前記補間データ発生手段とに接続され、前記エラー検出及び訂正手段からエラー訂正が不可能であることを示す信号が発生した時に、前記補間データを前記ディジタル信号のエラー発生箇所に配置する補間データ配置手段と
から成るディジタル信号のエラー補償装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決し、上記目的を達成するための本発明は、アナログ信号の各サンプルが１ビットで表わされた１ビット形式ディジタル信号と前記ディジタル信号のエラー訂正データとを含む信号を伝送するための伝送路に接続され、且つ前記ディジタル信号のエラーの発生を検出する機能、及び前記ディジタル信号のエラーが検出された時に前記エラー訂正データに基づいて前記ディジタル信号の前記エラーを訂正する機能、及び前記ディジタル信号のエラーの訂正が可能か否か又は可能であったか否かを判定する機能を有しているエラー検出及び訂正手段と、前記ディジタル信号のエラー発生箇所に挿入するための補間データを発生するものであって、前記補間データとして、複数の論理の１と複数の論理の０とを含み、且つ前記論理の１の数と論理の０の数とが同一に決定され、且つ前記補間データをアナログ信号に変換した時に可聴周波数帯域を越える周波数を有するアナログ信号が得られるように論理の１と論理の０との配置が決定されているデータを発生する補間データ発生手段と、前記エラー検出及び訂正手段と前記補間データ発生手段とに接続され、前記エラー検出及び訂正手段からエラー訂正が不可能であることを示す信号が発生した時に、前記補間データを前記ディジタル信号のエラー発生箇所に配置する補間データ配置手段とから成るディジタル信号のエラー補償装置に係わるものである。
なお、本願請求項及び上記説明における「エラー発生箇所」とは、実際のエラー箇所のみでなく、エラー箇所の前又は後又は前後のビットを含む部分も意味する。
【手続補正書】
【提出日】平成16年12月27日(2004.12.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
送信機からリモート受信機へ入力データを送信するように構成された光通信システムであって、
前記入力データに従ってＲＺキャリアの位相を変調することによって前記入力データを符号化する手段と、
前記送信機から前記受信機へ分散制御光伝送媒体を通じて前記位相変調されたＲＺキャリアを送信する手段とを備えることを特徴とする光通信システム。
【請求項２】
発信地点からリモート宛先へディジタルデータを送信する装置であって、
前記ディジタルデータに従ってＲＺキャリアの位相を変調する変調器と、
前記発信地点から前記リモート宛先へ分散制御光伝送媒体を通じて前記変調器の出力を送信する手段とを備えることを特徴とする装置。
【請求項３】
前記変調器はＤＰＳＫ変調器である請求項２記載の装置。
【請求項４】
前記分散制御光伝送媒体は、前記伝送媒体に沿って伝搬するときに非常に急速に分散する、ビット期間に比べて非常に短いパルスを有する準線形伝送を使用するように構成される請求項２記載の装置。
【請求項５】
前記ＲＺキャリアは第１波長を有し、前記装置は、前記変調器の出力を、異なる波長のＲＺキャリアを有する他の位相変調信号と組み合わせるように構成された波長分割マルチプレクサをさらに有する請求項２記載の装置。
【請求項６】
前記変調器は、ＬｉＮｂＯ３位相変調器である請求項２記載の装置。
【請求項７】
前記リモート宛先は、前記位相変調信号から前記入力データを復元する平衡受信機を有することを特徴とする請求項２記載の装置。
【請求項８】
前記光伝送媒体で生じる損失を補償するために前記送信する手段からの光信号出力を増幅する手段をさらに有する請求項２記載の装置。
【請求項９】
送信機からリモート受信機へ入力データを送信する光通信方法であって、
前記入力データに従ってＲＺキャリアの位相を変調することによって前記入力データを符号化するステップと、
前記送信機から前記受信機へ分散制御光伝送媒体を通じて前記位相変調されたＲＺキャリアを送信するステップと、を有することを特徴とする光通信方法。
【請求項１０】
ＲＺキャリア信号を生成するステップと、
入力データに従って前記ＲＺキャリアの位相を変調するステップと、
前記変調するステップで生成された位相変調信号を分散制御光伝送リンクに送るステップとを有する光通信方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年5月6日(2004.5.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像データを取得する画像取得手段と、取得した画像データを記憶する画像記憶手段と、を備える画像処理装置において、
前記画像記憶手段に記憶された画像データを表示する画像表示手段と、
前記画像表示手段に表示された画像データの表示位置を変更して、該画像データを移動する画像移動手段と、
前記画像移動手段により移動された画像データを出力する画像出力手段と、
を備えたことを特徴とする画像処理装置。
【請求項２】
前記画像データは複数の画像データであり、
前記画像移動手段は、前記画像表示手段に表示された複数の画像データの内、少なくとも１つの画像データの表示位置を変更して、前記複数の画像データが部分的に重なり合う様に各画像データの位置関係を指定し、
前記画像移動手段により指定された位置関係に基づいて、前記複数の画像データを合成して合成データを形成する画像合成手段、を更に備え、
前記画像出力手段は、前記画像合成手段により形成された合成データを出力することを特徴とする請求項１記載の画像処理装置。
【請求項３】
前記画像データは複数の画像データであり、
前記画像移動手段は、前記画像表示手段に表示された複数の画像データの内、少なくとも１つの画像データの表示位置を変更して、前記複数の画像データが部分的に重なり合う様に各画像データの位置関係を指定し、
前記画像移動手段により指定された位置関係に基づいて、前記複数の画像データを合成して合成データを形成する画像合成手段、を更に備え、
前記画像出力手段は、前記画像合成手段により形成された合成データを出力することを特徴とする請求項２記載の画像処理装置。
【請求項４】
複数の画像データを取得する画像取得手段と、取得した複数の画像データを記憶する画像記憶手段と、を備える画像処理装置において、
前記画像記憶手段に記憶された複数の画像データが部分的に重なり合う様に各画像データの位置関係を決定する位置決定手段と、
前記位置決定手段により決定された位置関係に基づいて、前記複数の画像データを合成して合成データを形成する画像合成手段と、
前記画像合成手段により形成された合成データを出力する画像出力手段と、
を備えたことを特徴とする画像処理装置。
【請求項５】
前記画像記憶手段に記憶された複数の画像データの内、少なくとも１つの画像データを拡大縮小又は回転する合成前画像加工手段、を更に備えたことを特徴とする請求項４記載の画像処理装置。
【請求項６】
前記画像合成手段により形成された合成データを拡大縮小又は回転する合成後画像加工手段、を更に備えたことを特徴とする請求項４記載の画像処理装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
請求項１記載の発明は、
画像データを取得する画像取得手段と、取得した画像データを記憶する画像記憶手段と、を備える画像処理装置において、
前記画像記憶手段に記憶された画像データを表示する画像表示手段と、
前記画像表示手段に表示された画像データの表示位置を変更して、該画像データを移動する画像移動手段と、
前記画像移動手段により移動された画像データを出力する画像出力手段と、
を備えたことを特徴としている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
請求項２記載の発明は、請求項１記載の画像処理装置において、
前記画像データは複数の画像データであり、
前記画像移動手段は、前記画像表示手段に表示された複数の画像データの内、少なくとも１つの画像データの表示位置を変更して、前記複数の画像データが部分的に重なり合う様に各画像データの位置関係を指定し、
前記画像移動手段により指定された位置関係に基づいて、前記複数の画像データを合成して合成データを形成する画像合成手段、を更に備え、
前記画像出力手段は、前記画像合成手段により形成された合成データを出力することを特徴としている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
請求項３記載の発明は、請求項２記載の画像処理装置において、
前記画像合成手段により形成された合成データを拡大縮小又は回転又は位置変更する画像加工手段、を更に備えたことを特徴としている。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
請求項４記載の発明は、
複数の画像データを取得する画像取得手段と、取得した複数の画像データを記憶する画像記憶手段と、を備える画像処理装置において、
前記画像記憶手段に記憶された複数の画像データが部分的に重なり合う様に各画像データの位置関係（座標）を決定する位置決定手段と、
前記位置決定手段により決定された位置関係に基づいて、前記複数の画像データを合成して合成データを形成する画像合成手段と、
前記画像合成手段により形成された合成データを出力する画像出力手段と、
を備えたことを特徴としている。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
請求項５記載の発明は、請求項４記載の画像処理装置において、
前記画像記憶手段に記憶された複数の画像データの内、少なくとも１つの画像データを拡大縮小又は回転する合成前画像加工手段、を更に備えたことを特徴としている。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
請求項６記載の発明は、請求項４記載の画像処理装置において、
前記画像合成手段により形成された合成データを拡大縮小又は回転する合成後画像加工手段、を更に備えたことを特徴としている。