【手続補正書】
【提出日】令和3年11月8日(2021.11.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１１】
このようにして、アミン保護された含窒素複素環（例えば、Ｎ４−アリルシトシン、Ｎ６−アリルアデニン、Ｎ２−アリルグアニン）を備えたＤＮＡポリマーが合成される。全てのアミン保護された含窒素複素環が、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム処理されて、脱アリル化されて脱保護され、アミノ基が現れる。すると、ＤＮＡポリマーは、脱保護されたアミノ基を備えた含窒素複素環（例えば、Ｎ４−アセトリ（ａｃｅｔｌｙ）シトシンは脱保護されてシトシンとなり、Ｎ６−アリルアデニンは脱保護されてアデニンとなり、Ｎ２−アリルグアニンは脱保護されてグアニンとなる）から構成される。このＤＮＡポリマーは、下流に位置する分子生物学の応用のために使用できる。
本件出願は、以下の態様の発明を提供する。
（態様１）
アデニン、グアニン、シトシン、イソグアニン、イソシトシン及び２，６−ジアミノプリンなどのアミンが保護された含窒素複素環の誘導体の、酵素的核酸合成法における使用。
（態様２）
式（Ｉ）の化合物の、
（化１）
2021503003.tif 000001
（式中、
Ｒ１は、−Ｈ、−ＯＨ、−ＯＮＨ２、−ＯＮＣ（ＣＨ３）２、−ＯＣＨ２Ｎ３、−ＯＣＨ２ＣＨＣＨ２、−ＯＰＯ３２−、−ＯＣＨ２ＳＳＣＨ２ＣＨ３、−ＯＣＯＣＨ３、−ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＮ、−Ｏ−メトキシエチル、−Ｏ−アルキル、または−Ｏ−アルコキシを含む、脱保護されてヒドロキシル基を生じることのできる部分を表し、
Ｒ２は、−Ｈ、−ＯＨ、−ＯＮＨ２、−ＯＮＣ（ＣＨ３）２、−ＯＣＨ２Ｎ３、−ＯＣＨ２ＣＨＣＨ２、−ＯＰＯ３２−、−ＯＣＨ２ＳＳＣＨ２ＣＨ３、−ＯＣＯＣＨ３、−ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＮ、−Ｏ−メトキシエチル、−Ｏ−アルキル、もしくは−Ｏ−アルコキシまたは任意の他の分子部分を表し、
Ｘは、−ＯＨ基または１以上のリン酸基、チオリン酸基、ボラノリン酸基もしくはイミドリン酸基、またはそれらの任意の組み合わせを表し、該基は酵素的付加能を付与する能力があり、
Ｒ３はアミン保護基を表し、該アミノ基は相補性塩基との水素結合塩基対に関与しており、該アミノ基の脱アミノ化は相補性塩基との水素結合の変更を生じることができ、かつ
Ｂは含窒素複素環を表す。）
酵素的核酸合成法における使用。
（態様３）
前記式（Ｉ）の化合物は下記から選ばれる、態様２記載の使用
（化２）
2021503003.tif 000002
（式中、Ｒ２は、−ＯＨまたは−Ｈなどの、態様２で特定されたものである）。
（態様４）
前記式（Ｉ）の化合物は、（Ｉ）ｂなどの、式（Ｉ）ｂから（Ｉ）ｊの化合物から選ばれる、態様２記載の使用。
（態様５）
Ｘは−ＯＨ基または三リン酸基を表す態様２記載の使用。
（態様６）
前記水素結合塩基対は、ワトソン−クリック型、フーグスティーン型、または代替的／拡張された遺伝子コードの塩基対から選ばれる、態様２〜５のいずれか１項に記載の使用。
（態様７）
Ｒ１及びＲ２は独立して、−Ｈ、−ＯＨ、−ＯＮＨ２、−ＯＮＣ（ＣＨ３）２、−ＯＣＨ２Ｎ３、−ＯＣＨ２ＣＨＣＨ２、−ＯＰＯ３２−、−ＯＣＨ２ＳＳＣＨ２ＣＨ３、−ＯＣＯＣＨ３、−ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＮ、−Ｏ−メトキシエチル、−Ｏ−アルキル、もしくは−Ｏ−アルコキシ、または適切なヒドロキシ保護基を表す、態様２〜６のいずれか１項に記載の使用。
（態様８）
Ｒ３は、アジド（−Ｎ３）、ベンゾイルアミン（Ｎ−ベンゾイルまたは−ＮＨＣＯＰｈ）、Ｎ−メチル（−ＮＨＭｅ）、イソブチリルアミン、ジメチルホルムアミジルアミン、９−フルオレニルメチルカルバメート、ｔ−ブチルカルバメート、ベンジルカルバメート、アセトアミド（Ｎ−アセチルまたは−ＮＨＣＯＭｅ）、トリフルオロアセトアミド、プスラミド、ベンジルアミン（Ｎ−ベンジルまたは−ＮＨ−ＣＨ２−フェニル）、トリフェニルメチルアミン、ベンキシリデンアミン、トシルアミド、イソチオシアネート、Ｎ−アリル（Ｎ−ジメチルアリル（−ＮＨＣＨ２−ＣＨ＝ＣＨ２）など）及びＮ−アニソイル（−ＮＨＣＯＰｈ−ＯＭｅ）、例えば、アジド（−Ｎ３）、Ｎ−アセチル（−ＮＨＣＯＭｅ）、Ｎ−ベンジル（−ＮＨ−ＣＨ２−フェニル）、Ｎ−アニソイル（−ＮＨＣＯＰｈ−ＯＭｅ）、Ｎ−メチル（−ＮＨＭｅ）、Ｎ−ベンゾイル（−ＮＨＣＯＰｈ）、Ｎ−ジメチルアリル（−ＮＨＣＨ２−ＣＨ＝ＣＨ２）から選ばれる、態様２〜７のいずれか１項に記載の使用。
（態様９）
Ｂは、プリンもしくはピリミジン、またはそれらの誘導体から選ばれた含窒素複素環を表す、態様２〜８のいずれか１項に記載の使用。
（態様１０）
−Ｂ−Ｒ３は下式のいずれかを表す、態様２〜９のいずれか１項に記載の使用
（化３）
2021503003.tif 000003
。
（態様１１）
Ｒ３はアジド基（−Ｎ３）を表し、-Ｂ−Ｒ３は下記から選ばれる、態様２〜１０のいずれか１項に記載の使用
（化４）
2021503003.tif 000004
。
（態様１２）
式（Ｉ）ａの化合物
（化５）
2021503003.tif 000005
（式中、 
Ｒ１は、−Ｈ、−ＯＨ、−ＯＮＨ２、−ＯＮＣ（ＣＨ３）２、−ＯＣＨ２Ｎ３、−ＯＣＨ２ＣＨＣＨ２、−ＯＰＯ３２−、−ＯＣＨ２ＳＳＣＨ２ＣＨ３、−ＯＣＯＣＨ３、−ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＮ、−Ｏ−メトキシエチル、−Ｏ−アルキル、または−Ｏ−アルコキシを含む、脱保護されてヒドロキシル基を生じることのできる部分を表し、
Ｒ２は、−Ｈ、−ＯＨ、−ＯＮＨ２、−ＯＮＣ（ＣＨ３）２、−ＯＣＨ２Ｎ３、−ＯＣＨ２ＣＨＣＨ２、−ＯＰＯ３２−、−ＯＣＨ２ＳＳＣＨ２ＣＨ３、−ＯＣＯＣＨ３、−ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＮ、−Ｏ−メトキシエチル、−Ｏ−アルキル、もしくは−Ｏ−アルコキシまたは任意の他の分子部分を表し、
Ｘは、１以上のリン酸基、チオリン酸基、ボラノリン酸基もしくはイミドリン酸基、またはそれらの任意の組み合わせを表し、該基は酵素的付加能を付与する能力があり、
Ｒ３はアミン保護基を表し、該アミノ基は相補性塩基との水素結合塩基対に関与しており、該アミノ基の脱アミノ化は相補性塩基との水素結合の変更を生じることができ、
Ｂは含窒素複素環を表す）。
（態様１３）
Ｘは三リン酸基を表す、態様１２記載の化合物。
（態様１４）
Ｒ１及びＲ２は独立して、−Ｈ、−ＯＨ、−ＯＮＨ２、−ＯＮＣ（ＣＨ３）２、−ＯＣＨ２Ｎ３、−ＯＣＨ２ＣＨＣＨ２、−ＯＰＯ３２−、−ＯＣＨ２ＳＳＣＨ２ＣＨ３、−ＯＣＯＣＨ３、−ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＮ、−Ｏ−メトキシエチル、−Ｏ−アルキル、もしくは−Ｏ−アルコキシまたは適切なヒドロキシ保護基を表す、態様１２または１３に記載の化合物。
（態様１５）
Ｒ３は、アジド（−Ｎ３）、ベンゾイルアミン（Ｎ−ベンゾイルまたは−ＮＨＣＯＰｈ）、Ｎ−メチル（−ＮＨＭｅ）、イソブチリルアミン、ジメチルホルムアミジルアミン、９−フルオレニルメチルカルバメート、ｔ−ブチルカルバメート、ベンジルカルバメート、アセトアミド（Ｎ−アセチルまたは−ＮＨＣＯＭｅ）、トリフルオロアセトアミド、プスラミド、ベンジルアミン（Ｎ−ベンジルまたは−ＮＨ−ＣＨ２−フェニル）、トリフェニルメチルアミン、ベンキシリデンアミン、トシルアミド、イソチオシアネート、Ｎ−アリル（Ｎ−ジメチルアリル（−ＮＨＣＨ２−ＣＨ＝ＣＨ２）など）及びＮ−アニソイル（−ＮＨＣＯＰｈ−ＯＭｅ）、例えばアジド（−Ｎ３）、Ｎ−アセチル（−ＮＨＣＯＭｅ）、Ｎ−ベンジル（−ＮＨ−ＣＨ２−フェニル）、Ｎ−アニソイル（−ＮＨＣＯＰｈ−ＯＭｅ）、Ｎ−メチル（−ＮＨＭｅ）、Ｎ−ベンゾイル（−ＮＨＣＯＰｈ）、Ｎ−ジメチルアリル（−ＮＨＣＨ２−ＣＨ＝ＣＨ２）から選ばれる、態様１２〜１４のいずれか１項に記載の化合物。
（態様１６）
Ｂは、プリンまたはピリミジンから選ばれた含窒素複素環を表す、態様１２〜１５のいずれか１項に記載の化合物。
（態様１７）
−Ｂ−Ｒ３は下式のいずれかを表す、態様１２〜１６のいずれか１項に記載の化合物
（化６）
2021503003.tif 000006
。
（態様１８）
Ｒ３はアジド基（−Ｎ３）を表し、Ｂは下記から選ばれる、態様１２〜１７のいずれか１項に記載の化合物
（化７）
2021503003.tif 000007
。
（態様１９）
（１）、（２）または（３）などの、式（１）から（２７）の化合物から選ばれる、態様１２〜１８のいずれか１項に記載の化合物。
（態様２０）
式（Ｖ）の化合物の製造方法であって、
（化８）
2021503003.tif 000008
（式中、Ｘ、Ｒ１、Ｒ２及びＢは、態様２で特定されたとおりである）
式（Ｉ）の化合物を、
（化９）
2021503003.tif 000009
（式中、Ｘ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＢは、態様２で特定されたとおりである）
化学薬品で、電磁放射で、熱で、及び／または電流で、反応させることを含む、前記製造方法。
（態様２１）
式（ＩＩ）、（ＩＩＩ）または（ＩＶ）の化合物の製造方法であって、
（化１０）
2021503003.tif 000010
（式中、Ｘ、Ｒ１及びＲ２は、態様２で特定されたとおりである）
式（ＩＩ）ａ、（ＩＩＩ）ａまたは（ＩＶ）ａの化合物を、それぞれ、
（化１１）
2021503003.tif 000011
（式中、Ｘ、Ｒ１及びＲ２は、態様２で特定されたとおりである）
化学薬品で、電磁放射で、及び／または電流で、反応させることを含む、前記製造方法。
（態様２２）
態様２１記載の式（ＩＩ）、（ＩＩＩ）または（ＩＶ）の化合物の製造方法であって、
式（ＶＩ）の化合物を、
（化１２）
2021503003.tif 000012
（式中、Ｘ、Ｒ１、Ｒ２及びＢは、態様２で特定されたとおりである）
還元剤と反応させることを含む、前記製造方法。
（態様２３）
前記還元剤は、β−メルカプトエタノール、ジチオスレイトール、または、トリス（ヒドロキシメチル）ホスフィン（ＴＨＰ）、トリス（ヒドロキシプロピル）ホスフィン（ＴＨＰＰ）及びトリス（２−カルボキシルエチル）ホスフィン（ＴＣＥＰ）などのホスフィン系還元剤から選ばれる、態様２２記載の製造方法。
（態様２４）
式（ＶＩＩ）の化合物
（化１３）
2021503003.tif 000013
（式中、Ｒ２は、−Ｈ、−ＯＨ、−ＯＮＨ２、−ＯＮＣ（ＣＨ３）２、−ＯＣＨ２Ｎ３、−ＯＣＨ２ＣＨＣＨ２、−ＯＰＯ３２−、−ＯＣＨ２ＳＳＣＨ２ＣＨ３、−ＯＣＯＣＨ３、−ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＮ、−Ｏ−メトキシエチル、−Ｏ−アルキル、もしくは−Ｏ−アルコキシまたは適切なヒドロキシ保護基を表し、
Ｘは、１以上のリン酸基、チオリン酸基、ボラノリン酸基もしくはイミドリン酸基、またはそれらの任意の組み合わせを表し、
Ｒ４はＣ２−６アルキル、−Ｆ、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−Ｉ、アルコキシ、ビオチン、アルキルアミンまたはアジドを表す）。
（態様２５）
態様２４記載の式（ＶＩＩ）の化合物の、酵素的核酸合成法における使用。
（態様２６）
前記酵素的核酸合成は、可逆的に停止された酵素的核酸合成法、並びに、鋳型依存性及び鋳型非依存性デノボ、酵素的核酸合成法から選ばれる、態様１〜１１及び２５のいずれか１項に記載の使用。