【手続補正書】
【提出日】平成17年4月27日(2005.4.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶パネル用基板に形成した透明導電膜の上にレジストを形成し前記レジストを露光し、現像し、エッチングにより前記透明導電膜の一部を除去して透明電極を形成する液晶装置の製造方法に於いて、
前記レジストの露光工程を少なくとも２回行うことを特徴とする液晶装置の製造方法。
【請求項２】
前記レジストの露光工程をレジストの現像工程よりも前および後に行うことを特徴とする請求項１に記載の液晶装置の製造方法。
【請求項３】
前記レジストの現像工程よりも前に行う前記露光工程の露光はレジストの一部を感光させ、残部を感光させない選択的な露光であり、前記現像工程よりも後に行う露光はレジストの全部を感光させる非選択的な露光であることを特徴とする請求項２に記載の液晶装置の製造方法。
【請求項４】
液晶パネル用基板に形成した透明導電膜の上にレジストを形成し、マスク露光し、現像し、ポストベークし、エッチングして前記透明導電膜の一部を除去して透明電極を形成する液晶装置の製造方法に於いて、
前記現像の工程と前記ポストベークの工程の間で非選択露光の工程を行うことを特徴とする液晶装置の製造方法。
【請求項５】
液晶パネル用基板に形成した透明導電膜の上にレジストを形成し前記レジストを露光、エッチングにより、前記透明導電膜の一部を除去して透明電極を形成する液晶装置の製造方法に於いて、
液晶パネル用基板上に透明導電膜を形成する工程、前記透明導電膜の上にレジストを形成する工程、前記レジストをマスクを用いて露光する工程、露光された前記レジストを現像する工程、前記レジストを非選択露光する工程、前記レジストをポストベークする工程、前記透明電極膜をエッチングする工程および前記レジストを剥離する工程を有することを特徴とする液晶装置の製造方法。
【請求項６】
液晶パネル用基板に形成した透明導電膜の上にレジストを形成し前記レジストを露光、エッチングにより、前記透明導電膜の一部を除去して透明電極を形成する液晶装置の製造方法に於いて、
液晶パネル用基板上にカラーフィルターを形成する工程、前記カラーフィルターの上に保護膜を形成する工程、前記保護膜の上に透明導電膜を形成する工程、前記透明導電膜の上にレジストを形成する工程、前記レジストをマスクを用いて露光する工程、露光された前記レジストを現像する工程、前記レジストを非選択露光する工程、前記レジストをポストベークする工程、前記透明電極膜をエッチングする工程および前記レジストを剥離する工程を有することを特徴とする液晶装置の製造方法。
【請求項７】
前記レジストはポジレジストであることを特徴とする請求項１乃至請求項６のいずれか一に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項８】
前記請求項１から７のいずれか一に記載の液晶装置の製造方法で製造されたことを特徴とする液晶装置。
【請求項９】
前記液晶装置は、その液晶パネル用基板にカラーフィルターを備えていることを特徴とする請求項８に記載の液晶装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
【課題を解決するための手段】
上記の課題を解決するための本発明の第１の手段は、液晶パネル用基板に形成した透明導電膜の上にレジストを形成し前記レジストを露光し、現像し、エッチングにより前記透明導電膜の一部を除去して透明電極を形成する液晶装置の製造方法に於いて、前記レジストの露光工程を少なくとも２回行うことを特徴とする液晶装置の製造方法である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
上記の課題を解決するための本発明の第２の手段は、本発明の第１の手段において前記レジストの露光工程をレジストの現像工程よりも前および後に行うことを特徴とする液晶装置の製造方法である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
上記の課題を解決するための本発明の第３の手段は、本発明の第２の手段において前記レジストの現像工程よりも前に行う前記露光工程の露光はレジストの一部を感光させ、残部を感光させない選択的な露光であり、前記現像工程よりも後に行う露光はレジストの全部を感光させる非選択的な露光であることを特徴とする液晶装置の製造方法である。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
上記の課題を解決するための本発明の第４の手段は、液晶パネル用基板に形成した透明導電膜の上にレジストを形成し、マスク露光し、現像し、ポストベークし、エッチングして前記透明導電膜の一部を除去して透明電極を形成する液晶装置の製造方法に於いて、前記現像の工程と前記ポストベークの工程の間で非選択露光の工程を行うことを特徴とする液晶装置の製造方法である。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
上記の課題を解決するための本発明の第５の手段は、液晶パネル用基板に形成した透明導電膜の上にレジストを形成し前記レジストを露光、エッチングにより、前記透明導電膜の一部を除去して透明電極を形成する液晶装置の製造方法に於いて、液晶パネル用基板上に透明導電膜を形成する工程、前記透明導電膜の上にレジストを形成する工程、前記レジストをマスクを用いて露光する工程、露光された前記レジストを現像する工程、前記レジストを非選択露光する工程、前記レジストをポストベークする工程、前記透明電極膜をエッチングする工程および前記レジストを剥離する工程を有することを特徴とする液晶装置の製造方法である。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
上記の課題を解決するための本発明の第６の手段は、液晶パネル用基板に形成した透明導電膜の上にレジストを形成し前記レジストを露光、エッチングにより、前記透明導電膜の一部を除去して透明電極を形成する液晶装置の製造方法に於いて、液晶パネル用基板上にカラーフィルターを形成する工程、前記カラーフィルターの上に保護膜を形成する工程、前記保護膜の上に透明導電膜を形成する工程、前記透明導電膜の上にレジストを形成する工程、前記レジストをマスクを用いて露光する工程、露光された前記レジストを現像する工程、前記レジストを非選択露光する工程、前記レジストをポストベークする工程、前記透明電極膜をエッチングする工程および前記レジストを剥離する工程を有することを特徴とする液晶装置の製造方法である。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
上記の課題を解決するための本発明の第７の手段は、本発明の第１乃至第６のいずれか一の手段において前記レジストはポジレジストであることを特徴とする液晶表示装置の製造方法である。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
上記の課題を解決するための本発明の第８の手段は、本発明の第１乃至第７のいずれか一の手段における前記液晶装置の製造方法で製造されたことを特徴とする液晶装置である。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
上記の課題を解決するための本発明の第９の手段は、本発明の第８の手段における前記液晶装置が、その液晶パネル用基板にカラーフィルターを備えていることを特徴とする液晶装置である。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５５】
本発明は以上に述べた実施の形態のように製造方法のみに限定されるものではなく、例えば第１の実施例、第２の実施例、又は第３の実施例の製造方法により製造された透明電極を備えたパネル基板を有する液晶装置を含むものである。かかる液晶装置はすでに説明した理由により、透明電極のパターン精度に優れているので高品位の液晶層制御により、高品位の表示、印字等を行うことができ、且つ、低いランニングコストと高いスループットにより製造され、製造コストが低いという利点を有する。
また、本発明は、第１ａの手段として、液晶パネル用基板に形成した透明導電膜の上にレジストを形成し、エッチングにより、前記透明導電膜の一部を除去して透明電極を形成する液晶装置の製造方法に於いて、前記レジストの露光工程を少なくとも２回行うことの特徴を有する液晶装置の製造方法である。さらに、本発明は第２ａの手段として、前記第１ａの手段に於いて前記レジストの露光工程をレジストの現像工程よりも前および後に於いて行うことの特徴を有する液晶装置の製造方法である。さらに発明は第３ａの手段として、前記第１ａの手段又は第２ａの手段に於いて前記レジストの現像工程よりも前に行う露光工程の露光はレジストの一部を感光させ、残部を感光させない選択的な露光であり、前記現像工程よりも後に行う露光はレジストの全部を感光させる非選択的な露光であることの特徴を有する液晶装置の製造方法である。
また、本発明は第４ａの手段として、液晶パネル用基板に形成した透明導電膜の上にレジストを形成し、露光し、現像し、ポストベークし、エッチングにより、前記透明導電膜の一部を除去して透明電極を形成する液晶装置の製造方法に於いて、前記レジストの現像工程と前記レジストのポストベーク工程の間に前記レジストの露光工程を行うことを特徴とする液晶装置の製造方法である。さらに、本発明は第５ａの手段として、前記第４ａの手段に於いて、前記レジストの現像工程よりも後のレジストの露光工程の露光により、ポストベーク工程後のレジストの密着性を保持しつつ該レジストをアルカリに可溶とすることを特徴とする液晶装置の製造方法である。
また、本発明は第６ａの手段として、液晶パネル用基板に形成した透明導電膜の上にレジストを形成し、エッチングにより、前記透明導電膜の一部を除去して透明電極を形成する液晶装置の製造方法に於いて、前記レジストのマスクを用いた露光工程及び前記レジストの現像工程及び前記レジストのマスクを用いない露光工程及び前記レジストのポストベーク工程及び前記透明導電膜のエッチング工程を有することを特徴とする液晶装置の製造方法である。
また、本発明は第７ａの手段として、液晶パネル用基板に形成した透明導電膜の上にレジストを形成する第１の工程、前記レジストをマスクを用いて露光する第２の工程、露光された前記レジストを現像する第３の工程、マスクを用いないで現像後の前記レジストを露光する第４の工程、現像後の前記レジストをポストベークする第５の工程、前記透明導電膜をエッチング第６の工程および現像後の前記レジストを剥離する第７の工程を有する液晶装置の製造方法に於いて、露光された前記レジストを現像する前記第３の工程と現像後の前記レジストをポストベークする前記第５の工程の間に、マスクを用いないで現像後の前記レジストを露光する前記第４の工程を行うことを特徴とする液晶装置の製造方法で
ある。
また、本発明は第８ａの手段として、液晶パネル用基板に形成した透明導電膜の上にレジストを形成し、エッチングにより、前記透明導電膜の一部を除去して透明電極を形成する液晶装置の製造方法により製造された透明電極を有する液晶装置に於いて、前記レジストの露光工程を少なくとも２回行う製造方法により製造された透明電極を有することを特徴とする液晶装置である。さらに、本発明は第９ａの手段として、前記第８ａの手段の液晶装置に於いて、前記レジストの露光工程をレジストの現像工程よりも前および後に於いて行う製造方法により製造された透明電極を有することを特徴とする液晶装置である。さらに、本発明は第１０ａの手段として、前記第８の手段又は第９ａの手段の液晶装置に於いて、前記レジストの現像工程よりも前に行う露光工程の露光はレジストの一部を感光させ、残部を感光させない選択的な露光であり、前記現像工程よりも後に行う露光はレジストの全部を感光させる非選択的な露光である製造方法により製造された透明電極を有することを特徴とする液晶装置である。
また、本発明は第１１ａの手段として、液晶パネル用基板に形成した透明導電膜の上にレジストを形成し、露光し、現像し、ポストベークし、エッチングにより、前記透明導電膜の一部を除去して透明電極を形成する液晶装置の製造方法により製造された透明電極を有する液晶装置に於いて、前記レジストの現像工程と前記レジストのポストベーク工程の間に前記レジストの露光工程を行うことにより製造された透明電極を有することを特徴とする液晶装置である。さらに、本発明は第１２ａの手段として、前記第１１ａの手段の液晶装置に於いて前記レジストの現像工程よりも後のレジストの露光工程の露光により、ポストベーク工程後のレジストの密着性を保持しつつ該レジストをアルカリに可溶とする製造方法により製造された透明電極を有することを特徴とする液晶装置である。
また、本発明は第１３ａの手段として、液晶パネル用基板に形成した透明導電膜の上にレジストを形成し、エッチングにより、前記透明導電膜の一部を除去して透明電極を形成する製造方法により製造された液晶装置に於いて、前記レジストのマスクを用いた露光工程及び前記レジストの現像工程及び前記レジストのマスクを用いない露光工程及び前記レジストのポストベーク工程及び前記透明導電膜のエッチング工程を有する製造方法により製造された透明導電膜を有することを特徴とする液晶装置である。
また、本発明は第１４ａの手段として、液晶パネル用基板に形成した透明導電膜の上にレジストを形成する第１の工程、前記レジストをマスクを用いて露光する第２の工程、露光された前記レジストを現像する第３の工程、マスクを用いないで現像後の前記レジストを露光する第４の工程、現像後の前記レジストをポストベークする第５の工程、前記透明導電膜をエッチング第６の工程および現像後の前記レジストを剥離する第７の工程を有する製造方法により製造される液晶装置に於いて、露光された前記レジストを現像する前記第３の工程と現像後の前記レジストをポストベークする前記第５の工程の間に、マスクを用いないで現像後の前記レジストを露光する前記第４の工程を行う製造方法により製造された透明電極を有することを特徴とする液晶装置である。
さらに、本発明は第１５ａの手段として、前記第１ａの手段乃至第７ａの手段のいずれか一の手段の製造方法に於いて前記レジストはポジレジストであることを特徴とする液晶装置の製造方法である。
さらに、本発明は第１６ａの手段として、前記第８ａの手段乃至第１４ａの手段のいずれか一の手段の液晶装置に於いて、前記液晶装置はその液晶パネル用基板にカラーフィルターを備えていることを特徴とする液晶装置である。