【手続補正書】
【提出日】平成16年4月19日(2004.4.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラズマディスプレイパネルを構成する基板を所定の温度プロファイルに基づいて熱処理するに際し、
前記温度プロファイルを複数の温度ゾーンに分割し、上下に多段に積層された複数の炉の内部温度をそれぞれ前記分割した各温度ゾーンの温度に制御する工程と、前記各温度ゾーンの温度に制御された各炉に前記基板を順次に搬入・搬出する工程とを有することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項２】
基板を搬入・搬出するタイミングや基板搬入後の経過時間に基づいて各炉へのガスの供給排気量を制御することを特徴とする請求項１記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項３】
プラズマディスプレイパネルを構成する基板を所定の温度プロファイルに基づいて熱処理する炉設備であって、
上下に多段に積層された複数の炉と、前記複数の炉の内部温度を個別に前記温度プロファイルを複数の温度ゾーンに分割した各温度ゾーンの温度に制御する温度制御手段と、前記各温度ゾーンの温度に制御された各炉に前記基板を順次に搬入・搬出する搬入搬出手段とを有することを特徴とする炉設備。
【請求項４】
基板を搬入・搬出するタイミングや基板搬入後の経過時間に基づき各炉へのガスの供給排気量を制御する給排気制御手段を有する請求項３記載の炉設備。
【請求項５】
プラズマディスプレイパネルを構成する基板を所定の温度プロファイルに基づいて熱処理する炉設備であって、
前記基板を昇温させる昇温炉と降温させる降温炉とを請求項３または請求項４記載の炉設備でそれぞれ構成し、これら昇温炉と降温炉の高温領域どうしを連通させたことを特徴とする炉設備。
【請求項６】
炉の内外でガスを供給するガス供給手段を備え、前記ガス供給手段の基板に対向しない位置にガス噴出孔が設けられたことを特徴とする請求項３〜請求項５のいずれかに記載の炉設備。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、本発明のプラズマディスプレイパネルの製造方法は、プラズマディスプレイパネルを構成する基板を所定の温度プロファイルに基づいて熱処理するに際し、前記温度プロファイルを複数の温度ゾーンに分割し、上下に多段に積層された複数の炉の内部温度をそれぞれ前記分割した各温度ゾーンの温度に制御する工程と、前記各温度ゾーンの温度に制御された各炉に前記基板を順次に搬入・搬出する工程とを有することを特徴とする。これによれば、各炉を個別に温度制御するので、各炉に順次に搬入搬出するワークに対して、複雑な温度プロファイルを実現可能である。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記構成のプラズマディスプレイパネルの製造方法において、基板を搬入・搬出するタイミングや基板搬入後の経過時間に基づいて各炉へのガスの供給排気量を制御する特徴とする。つまり、ワークが搬出されている間は排気量を大きくすることにより、炉内で蒸発したバインダ等の溶剤の蒸発ガスを短時間で排出し、炉内のガス雰囲気を初期状態に戻す。このことにより、順次に搬入される複数のワークの乾燥あるいは焼成の状態を均一にできる。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明の炉設備は、プラズマディスプレイパネルを構成する基板を所定の温度プロファイルに基づいて熱処理する炉設備であって、上下に多段に積層された複数の炉と、前記複数の炉の内部温度を個別に前記温度プロファイルを複数の温度ゾーンに分割した各温度ゾーンの温度に制御する温度制御手段と、前記各温度ゾーンの温度に制御された各炉に前記基板を順次に搬入・搬出する搬入搬出手段とを有することを特徴とする。これによれば、複数の炉（ゾーン）を平面配置する構成に比べて、設置スペースを低減できるとともに、表面積を低減することができ、効率よく温度制御することが可能になる。また、炉設備全体を運転停止することなく各炉をメンテナンス可能である。


【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
上記構成の炉設備において、基板を搬入・搬出するタイミングや基板搬入後の経過時間に基づき各炉へのガスの供給排気量を制御する給排気制御手段を有することを特徴とする。


【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
また本発明の炉設備は、プラズマディスプレイパネルを構成する基板を所定の温度プロファイルに基づいて熱処理する炉設備であって、前記基板を昇温させる昇温炉と降温させる降温炉とを請求項３または請求項４記載の炉設備でそれぞれ構成し、これら昇温炉と降温炉の高温領域どうしを連通させたことを特徴とする。


【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
上記構成の炉設備において、炉の内外でガスを供給するガス供給手段を備え、前記ガス供給手段の基板に対向しない位置にガス噴出孔が設けられたことを特徴とする。


【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
次いで、ローダ・アンローダ１１が１段降下し、ワーク７は、上記と同様にして、最下段のコンベア１０を介して最下段の炉４に搬入され、炉４内のローラ８上に載置され、シャッタ４ｂが閉じられた炉４内に図１のキープゾーン(3)を満足する時間まで留まり、コンベア１０を介してローダ・アンローダ１１に搬出される。


【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
なお、ヒータ１４ａ，給気管１５は、各段のコンベア１０の全てに配置してもよいし、上記したように必要な段に対してのみ配置してもよい。またヒータ１４ａ，給気管１５の位置は上記した位置に限定されず、たとえば給気管１５はローラ８と並列に配置してもよい。カバー１４は、ワーク７の２次輻射を有効利用できるように反射板として構成してもよく、コンベア１０全体を覆うように筒状などに構成してもよい。
（実施の形態３）
図７は本発明の実施の形態３における炉設備を示す。この炉設備１Ｂが上記した炉設備１Ａと異なるのは、炉２，３，４のそれぞれに弁装置１６を介して排気ファン１７が連通した排気系（上記した各炉設備で図示を省略した排気系）の排気量を、ワーク７の搬入・搬出のタイミングに合わせて増減制御するように、各弁装置１６とコンベヤ１０のモータ１２とに接続して、コントローラ１８が設けられている点である。


【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
初期状態に戻った炉内にワーク７が搬入され、当初は排気量を低く制御することにより、バインダの溶剤などを徐々に蒸発させ、乾燥ムラを防止する。そしてワーク７の乾燥が進むにつれて排気量を増減させることにより、ワーク７中に含まれる前記溶剤などの温度をほぼ一定に維持し、均一に蒸発または燃焼させる。このときにはたとえば、ワーク７の表面温度を放射温度計などの温度検出手段（図示せず）によりモニタする。
（実施の形態４）
図８は本発明の実施の形態４における炉設備を示す。この炉設備２１は、昇温のための多段昇温炉２２と、温度キープのためのキープ炉２３と、降温のための多段降温炉２４とを有している。