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【手続補正書】
【提出日】令和3年7月28日(2021.7.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
実質的に巻回された形状を有する音響チャンバであって、
前記音響チャンバの底端における第１穴と、
前記音響チャンバの上端における第２穴と、
前記第１穴に位置し、かつ前記第１穴に進入する加圧ガスから１つ又は複数の音響波を生成するように構成される、振動機構と、を備える音響チャンバと、
前記音響チャンバを覆うように構成され、かつポート穴を備える、ボトルのキャップと、を備える、音響放出型キャップチャンバシステム。
【請求項２】
前記音響チャンバが、前記音響チャンバの内部である空洞空間を規定し、かつ前記音響チャンバの前記空洞空間の中へと突出する１つ又は複数の突起をさらに含み、
前記音響チャンバの各突起が、前記第１穴及び前記第２穴のうちの少なくとも一つの直径とは異なる直径によって規定され、これにより、前記加圧ガスからの前記１つ又は複数の音響波を妨害して、前記１つ又は複数の突起により規定される可聴特性を有する一連の音響を生成する、請求項１に記載の音響放出型ボトルキャップシステム。
【請求項３】
前記キャップが、キャッチをさらに備え、かつ
前記音響チャンバが、前記キャップの前記キャッチを収容するように構成されるトラックをさらに備える、請求項１に記載の音響放出型ボトルキャップシステム。
【請求項４】
前記キャップが、前記キャップの下面上に回転ピンをさらに備え、かつ
前記音響チャンバが、前記キャップの前記回転ピンを収容するように構成される回転穴をさらに備える、請求項３に記載の音響放出型ボトルキャップシステム。
【請求項５】
前記回転穴が、前記キャップの回転移動を容易にするように構成され、かつ
前記トラックが、前記トラックの長さの前記キャッチの進行を容易にするようにさらに構成される、請求項４に記載の音響放出型ボトルキャップシステム。
【請求項６】
前記第１穴が、前記キャップの前記回転移動の第１進行距離のところにおいて、前記キャップの前記ポート穴と位置合わせするように構成され、
前記加圧ガスが、前記第１穴と前記ポート穴との位置合わせの際に、前記音響チャンバを経由して、前記ポート穴及び前記第１穴を通って逃げる、請求項５に記載の音響放出型ボトルキャップシステム。
【請求項７】
前記音響チャンバの上面と前記キャップの下面との間に位置し、前記第１シールは、前記音響チャンバの前記上面を取り囲み、かつ前記音響チャンバの前記上面と前記キャップとの間の空間を経由して前記加圧ガスが逃げることを防止するように構成される第１シールをさらに備える、請求項１に記載の音響放出型ボトルキャップシステム。
【請求項８】
前記音響チャンバの上面と前記キャップの下面との間に位置し、前記第２穴を取り囲み、かつ前記第２穴において、前記音響チャンバの前記上面と前記キャップの前記下面との間の空間を経由して前記加圧ガスが逃げることを防止するように構成される、第２シールをさらに備える、請求項１に記載の音響放出型ボトルキャップシステム。
【請求項９】
前記振動機構が、前記第１穴を介して前記音響チャンバへと進入する加圧ガスに応答して振動するように構成される、請求項１に記載の音響放出型ボトルキャップシステム。
【請求項１０】
前記第１穴に対して取り付けられたガス吸入口をさらに含み、前記第１穴が、前記振動機構を備える、請求項１に記載の音響放出型ボトルキャップシステム。
【請求項１１】
前記キャップが、前記ボトルの１つ又は複数の対応するネジ山を介して前記ボトルに対して前記キャップを固定するように構成される１つ又は複数のネジ山をさらに含む、請求項１に記載の音響放出型ボトルキャップシステム。
【請求項１２】
音響放出型キャップチャンバ装置であって、
その内部に空洞空間を規定し、前記空洞空間が、実質的に巻回された形状を有し、かつその内部に１つ又は複数の突起を備える、導管と、
前記導管の底端に位置する第１穴と、
前記装置の上面で、かつ前記導管の上端に位置する第２穴と、
前記第１穴に位置し、かつ前記第１穴に進入する加圧ガスから１つ又は複数の音響波を生成するように構成される、振動機構と、を備える、音響放出型キャップチャンバ装置。
【請求項１３】
各突起が、前記第１穴及び前記第２穴のうちの少なくとも一つの直径とは異なる直径によって規定され、これにより前記加圧ガスからの前記１つ又は複数の音響波を妨害して、前記１つ又は複数の突起により規定される可聴特性を有する一連の音響を生成する、請求項１２に記載の音響放出型キャップチャンバ装置。
【請求項１４】
前記装置の前記上面内の凹所によって規定されるトラックをさらに備え、かつ前記キャップのキャッチを収容する、請求項１２に記載の音響放出型キャップチャンバ装置。
【請求項１５】
前記キャップの回転ピンを収容するように構成される回転穴をさらに含む、請求項１４に記載の音響放出型キャップチャンバ装置。
【請求項１６】
前記回転穴が、前記キャップに対する回転移動を容易にするように構成され、かつ前記トラックが、前記トラックの長さの前記キャッチの進行を容易にするようにさらに構成される、請求項１５に記載の音響放出型キャップチャンバ装置。
【請求項１７】
前記第１穴が、前記キャップの前記回転移動の第１進行距離のところにおいて前記キャップのポートと位置合わせするように構成され、かつ前記加圧ガスが、前記第１穴と前記ポートとの位置合わせの際に、前記導管を経由して、前記ポート及び前記第１穴を通って逃げる、請求項１６に記載の音響放出型キャップチャンバ装置。
【請求項１８】
前記装置の前記上面を取り囲む第１凹所をさらに含み、かつ前記第１凹所は、第１シールを収容するように構成される、請求項１２に記載の音響放出型キャップチャンバ装置。
【請求項１９】
前記装置の前記上面に位置する前記第２穴を取り囲む第２凹所をさらに含み、かつ前記第２凹所は、第２シールを収容するように構成される、請求項１８に記載の音響放出型キャップチャンバ装置。
【請求項２０】
前記振動機構が、前記第１穴を経由して前記導管に進入する加圧ガスに応答して振動するように構成される、請求項１２に記載の音響放出型キャップチャンバ装置。
【手続補正書】
【提出日】令和3年4月28日(2021.4.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
セラミックマトリックス複合材物品（１００）を処理する方法（３００）であって、
セラミック組成を有する物品であって、初期溶浸材（２６０）を用いた初期温度での初期溶浸を含むプロセスによって形成された物品を選択することにより、前記物品が少なくとも１つの処理可能な特徴（１１０）を有すること（３１０）と、
前記少なくとも１つの処理可能な特徴（１１０）の一部に隣接する領域からセラミック複合材（１２０）を除去して、処理領域（２１０）を形成すること（３２０）と、
補強用繊維を含む処理材（２３０）を前記処理領域（２１０）に配置すること（３３０）と、
第１の溶浸材（２６０）を用いた第１の溶浸によって前記処理材（２３０）の少なくとも一部を高密度化すること（３４０）とを含み、前記第１の溶浸材（２６０）がケイ素を含み、前記第１の溶浸が、前記初期溶浸の前記初期溶浸温度よりも低い第１の温度で行われる方法（３００）。
【請求項２】
第２の溶浸材（２６０）を用いた第２の溶浸によって前記処理材（２３０）の少なくとも一部を高密度化することをさらに含み、前記第２の溶浸材（２６０）がケイ素を含み、前記第２の溶浸が、前記第１の温度よりも低い第２の温度で行われる、請求項１に記載の方法（３００）。
【請求項３】
第３の溶浸材（２６０）を用いた第３の溶浸によって前記処理材（２３０）の少なくとも一部を高密度化することをさらに含み、前記第３の溶浸材（２６０）がケイ素を含み、前記第３の溶浸が、前記第２の温度よりも低い第３の温度で行われる、請求項２に記載の方法（３００）。
【請求項４】
前記第１の温度が、摂氏１４０４度から摂氏１３９４度である、請求項１に記載の方法（３００）。
【請求項５】
前記第１の溶浸材（２６０）がホウ素をさらに含む、請求項１に記載の方法（３００）。
【請求項６】
前記補強用繊維が、炭化ケイ素（ＳｉＣ）、ムライト、窒化ケイ素（Ｓｉ３Ｎ４）、アルミナ（Ａｌ２Ｏ３）、窒化アルミニウム（ＡｌＮ）、ホウ化チタン（ＴｉＢ２）、窒化チタン（ＴｉＮ）、炭化チタン（ＴｉＣ）または炭化ホウ素（Ｂ４Ｃ）のうちの少なくとも１つを含む、請求項１に記載の方法（３００）。
【請求項７】
前記処理材（２３０）が、炭化ケイ素（ＳｉＣ）、ムライト、窒化ケイ素（Ｓｉ３Ｎ４）、アルミナ（Ａｌ２Ｏ３）、窒化アルミニウム（ＡｌＮ）、ホウ化チタン（ＴｉＢ２）、窒化チタン（ＴｉＮ）、炭化チタン（ＴｉＣ）または炭化ホウ素（Ｂ４Ｃ）のうちの少なくとも１つを含むセラミックマトリックス材をさらに含む、請求項１に記載の方法（３００）。
【請求項８】
前記処理材（２３０）がさらに炭素を含む、請求項１に記載の方法（３００）。
【手続補正書】
【提出日】令和3年6月8日(2021.6.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遺伝子操作した腫瘍溶解性ジカウイルス（ＺＩＫＶ）と、製薬学的に許容可能な担体とを含む医薬組成物であって、前記遺伝子操作したＺＩＫＶが、野生型ＺＩＫＶと比較して弱毒化されている前記医薬組成物。
【請求項２】
前記弱毒化ＺＩＫＶにおいて、野生型ＺＩＫＶと比較して、２’−Ｏメチルトランスフェラーゼ活性が低減されているか、糖鎖結合が低減されているか、短鎖フラビウイルスＲＮＡの産生が阻止されているか、内皮バリアを通じた伝播が制限されているか、またはＩ型インターフェロンに感作されており、前記遺伝子操作したＺＩＫＶが、正常細胞では弱毒化されている一方で、がん細胞では溶解作用を保持している、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
前記遺伝子操作したＺＩＫＶが、以下の１以上の変異：
(i) ＮＳ５タンパク質に対する少なくとも１つの変異であって、ここで、ＧｅｎＢａｎｋアクセッション番号ＫＹ７８５４８０．１との配列アラインメントによって求めた場合に、少なくとも１つの変異が、２１８位のアミノ酸に対応する位置に見られる；
(ii) エンベロープ（Ｅ）タンパク質に対する少なくとも１つの変異；
(iii) ＮＳ１タンパク質に対する少なくとも１つの変異；
(iv) ＺＩＫＶゲノムの３’非翻訳領域に対する少なくとも１つの変異；
(v) ＮＳ４Ｂタンパク質に対する少なくとも１つの変異；および
(vi) ＮＳ３タンパク質に対する少なくとも１つの変異、
を含む、請求項１または２に記載の組成物。
【請求項４】
前記遺伝子操作したＺＩＫＶが、２１８位のアミノ酸に対応する位置に点変異を含み、２１８位のグルタミン酸が、アラニンに変異している、請求項３に記載の組成物。
【請求項５】
前記遺伝子操作したＺＩＫＶが、前記Ｅタンパク質に１つ以上の変異を含み、ＧｅｎＢａｎｋアクセッション番号ＫＹ７８５４８０．１との配列アラインメントによって求めた場合に、少なくとも１つの変異が、前記Ｅタンパク質のＶＮＤ配列に対応するアミノ酸で見られる、請求項３に記載の組成物。
【請求項６】
前記遺伝子操作したＺＩＫＶが、前記Ｅタンパク質に１つ以上の変異を含み、ＧｅｎＢａｎｋアクセッション番号ＫＹ７８５４８０．１との配列アラインメントによって求めた場合に、少なくとも１つの変異が、前記Ｅタンパク質の１５４位のアミノ酸または１５６位のアミノ酸に対応する位置に見られる、請求項３に記載の組成物。
【請求項７】
前記遺伝子操作したＺＩＫＶが、１５４位のアミノ酸に対応する位置に点変異を含み、１５４位のアスパラギンが、グルタミンに変異しているか、または１５６位のアミノ酸に対応する位置に点変異を含み、１５６位のトレオニンが、バリンに変異している、請求項６に記載の組成物。
【請求項８】
前記遺伝子操作したＺＩＫＶが、前記ＺＩＫＶゲノムの３’非翻訳領域において、ヌクレオチドの欠失を少なくとも１個含む、請求項３に記載の組成物。
【請求項９】
前記遺伝子操作したＺＩＫＶが、前記ＮＳ４Ｂタンパク質に１つ以上の変異を含み、ＧｅｎＢａｎｋアクセッション番号ＫＹ７８５４８０．１との配列アラインメントによって求めた場合に、少なくとも１つの変異が、１８位のアミノ酸に対応する位置に見られる、請求項３に記載の組成物。
【請求項１０】
前記遺伝子操作したＺＩＫＶが、前記ＮＳ４Ｂタンパク質の１８位のアミノ酸に対応する位置に点変異を含み、１８位のグリシンが、アルギニンに変異している、請求項９に記載の組成物。
【請求項１１】
前記遺伝子操作したＺＩＫＶが、前記ＮＳ３タンパク質に１つ以上の変異を含み、ＧｅｎＢａｎｋアクセッション番号ＫＹ７８５４８０．１との配列アラインメントによって求めた場合に、少なくとも１つの変異が、３９９位のアミノ酸に対応する位置に見られる、請求項３に記載の組成物。
【請求項１２】
前記遺伝子操作したＺＩＫＶが、前記ＮＳ３タンパク質の３９９位のアミノ酸に対応する位置に点変異を含み、３９９位のリシンが、アルギニンに変異している、請求項１１に記載の組成物。
【請求項１３】
対象におけるがんの治療のための、請求項１から１２のいずれか一項に記載の医薬組成物。
【請求項１４】
前記遺伝子操作したＺＩＫＶが、がん幹細胞を選択的に標的とする、請求項１３に記載の医薬組成物。
【請求項１５】
がん幹細胞が化学療法または放射線から受ける影響を大きくすることを特徴とする、請求項１４に記載の医薬組成物。
【請求項１６】
前記がん幹細胞が、静止グリオブラストーマ幹細胞である、請求項１４または１５に記載の医薬組成物。
【請求項１７】
腫瘍内送達、大脳内送達、頸動脈内送達またはこれらの組み合わせにより投与される、請求項１３から１６のいずれか一項に記載の医薬組成物。
【請求項１８】
静脈内送達または皮下送達により投与される、請求項１３から１６のいずれか一項に記載の医薬組成物。
【請求項１９】
化学療法剤の投与、免疫チェックポイント阻害剤の投与、放射線療法、ＣＡＲ  Ｔ細胞療法、インターフェロンベース療法またはインターロイキンベース療法が併用される、請求項１３から１８のいずれか一項に記載の医薬組成物。
【請求項２０】
前記がんが、グリオブラストーマ、鼻咽頭癌、滑膜癌、肝細胞癌、腎臓癌、結合組織の癌、メラノーマ、肺癌、腸癌、結腸癌、直腸癌、結腸直腸癌、脳腫瘍、咽喉癌、口腔癌、肝臓癌、骨癌、膵臓癌、絨毛癌、ガストリノーマ、褐色細胞腫、プロラクチノーマ、Ｔ細胞白血病／リンパ腫、神経腫、フォンヒッペル・リンドウ病、ゾリンジャー・エリソン症候群、副腎癌、肛門癌、胆管癌、膀胱癌、尿管癌、脳腫瘍、希突起神経膠腫、神経芽腫、髄膜腫、脊髄腫瘍、骨癌、骨軟骨腫、軟骨肉腫、ユーイング肉腫、原発部位不明癌、カルチノイド、胃腸管のカルチノイド、線維肉腫、乳癌、パジェット病、子宮頸癌、結腸直腸癌、直腸癌、食道癌、胆嚢癌、頭部癌、眼癌、頸部癌、腎臓癌、ウィルムス腫瘍、肝臓癌、カポジ肉腫、前立腺癌、肺癌、睾丸癌、ホジキン病、非ホジキンリンパ腫、口腔癌、皮膚癌、中皮腫、多発性骨髄腫、卵巣癌、内分泌性膵臓癌、グルカゴノーマ、膵臓癌、副甲状腺癌、陰茎癌、下垂体癌、軟部組織肉腫、網膜芽腫、小腸癌、胃癌、胸腺癌、甲状腺癌、トロホブラスト癌、胞状奇胎、子宮癌、子宮体癌、膣癌、外陰癌、聴神経腫、菌状息肉腫、インスリノーマ、カルチノイド症候群、ソマトスタチノーマ、歯肉癌、心臓癌、口唇癌、髄膜癌、口腔癌、神経癌、口蓋癌、耳下腺癌、腹膜癌、咽頭癌、胸膜癌、唾液腺癌、舌癌及び扁桃癌からなる群から選択される、請求項１３から１９のいずれか一項に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】令和3年5月26日(2021.5.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１つ以上のパッケージングシグナルを含むウイルス様粒子の集合に使用するための人工核酸カセットであって、２つ以上のパッケージングシグナルが連続して配置され、核酸によって分離されていて、前記パッケージングシグナルが、同種ウイルスカプシドタンパク質のためのヌクレオチド結合モチーフを含む核酸ループドメイン、及び分子内塩基対合による二本鎖領域を含む核酸ステムドメインを含み、
ａ）核酸パッケージングシグナルがＢ型肝炎ウイルスから単離され、かつ、前記ヌクレオチド結合モチーフがヌクレオチド配列ＲＧＡＧを含み、配列中、ＲがＧまたはＡのいずれかであるか、または
ｂ）核酸パッケージングシグナルがタバコ壊死サテライトウイルスから単離され、かつ、前記ヌクレオチド結合モチーフがヌクレオチド配列ＡＸＸＡまたはＡＸＸＸＡを含み、配列中、Ｘが任意のヌクレオチド塩基であり、かつ
前記人工核酸カセットが、複数の同種ウイルスカプシドタンパク質と接触すると、前記同種ウイルスカプシドタンパク質を集合させてＶＬＰにして、ＶＬＰ内に含有される前記核酸パッケージングシグナルをリボヌクレアーゼ消化から保護する、人工核酸カセット。
【請求項２】
前記人工核酸カセットが、非複製核酸である、及び／または、前記ＶＬＰが、動物対象に投与される場合、天然ウイルス粒子の免疫応答に類似した免疫応答を誘発する、請求項１に記載の人工核酸カセット。
【請求項３】
前記人工核酸カセットが、タンパク質をコードする核酸を含まない、請求項１または２に記載の人工核酸カセット。
【請求項４】
前記人工核酸カセットが、少なくとも２つ、３つ、４つまたは５つの核酸パッケージングシグナルを含む、請求項１〜３のいずれか１項に記載の人工核酸カセット。
【請求項５】
前記核酸パッケージングシグナルを分離させる非コードウイルス核酸が、少なくとも５〜５０ヌクレオチド長である、または、５０超のヌクレオチド長である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の人工核酸カセット。
【請求項６】
i）前記カプシド結合モチーフを含む前記ループドメインが、少なくとも４ヌクレオチド長である、
ii）前記ステムドメインが、少なくとも５塩基対（ｂｐ）長である、
iii）前記人工核酸カセットが、少なくとも５０ヌクレオチド長である、または
iv）前記核酸カセットが、５０〜１０００ヌクレオチド長である、
請求項１〜５のいずれか１項に記載の人工核酸カセット。
【請求項７】
前記人工核酸カセットが、少なくとも２または３つのＢ型肝炎ウイルスパッケージングシグナルを含み、前記核酸パッケージングシグナルのうち１つ以上が、前記ヌクレオチド結合モチーフＲＧＡＧを含む、請求項１に記載の人工核酸カセット。
【請求項８】
前記核酸カセットが、Ｂ型肝炎で同定された前記パッケージングシグナルのうち少なくとも１つを含み、前記核酸パッケージングシグナルの各々が、前記結合モチーフＲＧＡＧを含む、請求項７に記載の人工核酸カセット。
【請求項９】
前記人工核酸カセットが、
i）ヌクレオチド配列ＧＵＵＵＧＵＵＵＡＡＡＧＡＣＵＧＧＧＡＧＧＡＧＵＵＧＧＧＧＧＡＧＧＡＧ［配列番号：１］を含む核酸分子、
ii）配列番号：１に示される前記ヌクレオチド配列と少なくとも２５％同一であり、ヌクレオチド結合モチーフＧＧＧＡＧＧを含むヌクレオチド配列を含む核酸分子、
iii）ヌクレオチド配列ＧＧＧＣＣＣＵＣＵＧＡＣＡＧＵＵＡＡＵＧＡＡＡＡＡＡＧＧＡＧＡＵＵＡＡＡＡＵＵＡＡＵＵＡＵＧＣＣＵ［配列番号：２］を含む核酸分子、
iv）配列番号：２に示される前記ヌクレオチド配列と少なくとも２５％同一であり、ヌクレオチド結合モチーフＧＡＡＡＡＡＡＧＧＡＧを含むヌクレオチド配列を含む核酸分子、
v）ヌクレオチド配列ＧＧＣＵＧＧＣＡＵＵＣＵＡＵＡＵＡＡＧＡＧＡＧＡＡＡＣＵＡＣＡＣＧＣ［配列番号：３］を含む核酸分子、
vi）配列番号：３に示される前記ヌクレオチド配列と少なくとも２５％同一であり、ヌクレオチド結合モチーフＡＵＡＵＡＡＧＡＧを含むヌクレオチド配列を含む核酸分子、
vii）配列番号：１及び／または配列番号：２及び／または配列番号：３を含むヌクレオチド配列
からなる群から選択されるヌクレオチド配列を含む、請求項７または８に記載の人工核酸カセット。
【請求項１０】
前記人工核酸カセットが、配列番号４：ＣＵＧＧＧＡＧＧＡＧＵＵＧＧＧＧＧＡＧＧＡＧＡＵＵＡＧＧＵＵＡＡＡＧＧＵＣＵＵＵＧＵＡＣＵＡＧＧＡＧＧＣＵＧＵＡＧＧＣを含むヌクレオチド配列を含む、請求項８に記載の人工核酸カセット。
【請求項１１】
前記人工核酸カセットが、
i）配列番号：５に示されるヌクレオチド配列を含む核酸分子、
ii）配列番号：５に示される前記ヌクレオチド配列と少なくとも２５％同一であり、ヌクレオチド結合モチーフＡＸＸＡを含むヌクレオチド配列を含む核酸分子、
iii）配列番号：６に示されるヌクレオチド配列を含む核酸分子、
iv）配列番号：６に示される前記ヌクレオチド配列と少なくとも２５％同一であり、ヌクレオチド結合モチーフＡＸＸＡを含むヌクレオチド配列を含む核酸分子、
v）配列番号：７に示されるヌクレオチド配列を含む核酸分子、
vi）配列番号：７に示される前記ヌクレオチド配列と少なくとも２５％同一であり、ヌクレオチド結合モチーフＡＸＸＡを含むヌクレオチド配列を含む核酸分子、
vii）配列番号：８に示されるヌクレオチド配列を含む核酸分子、
viii）配列番号：８に示される前記ヌクレオチド配列と少なくとも２５％同一であり、ヌクレオチド結合モチーフＡＸＸＡを含むヌクレオチド配列を含む核酸分子
からなる群から選択されるヌクレオチド配列を含む、請求項１に記載の人工核酸カセット。
【請求項１２】
前記人工核酸カセットが、
i）ポリペプチドまたは機能性ＲＮＡをコードする核酸を転写するように適合させた核酸分子を含む転写カセット、
ii）前記ポリペプチドまたは機能性ＲＮＡをコードする前記核酸分子の発現を可能にするためのプロモーター配列及び終結配列、
iii）抗体または抗体断片などの治療用ポリペプチド、
iv）治療用ポリペプチドをコードするｍＲＮＡ、アンチセンスオリゴヌクレオチドまたはｓｉＲＮＡ
をさらに含む、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の人工核酸カセット。
【請求項１３】
請求項１〜１２のいずれか１項に記載の人工核酸カセットを含む、ウイルス様粒子。
【請求項１４】
請求項１３に記載のウイルス様粒子を含み、任意にアジュバント及び／または担体をさらに含む、ワクチンまたは免疫原性組成物。
【請求項１５】
請求項１３に記載のウイルス様粒子を含み、かつ薬学的に許容される賦形剤を含む、医薬組成物。
【請求項１６】
細胞への薬剤の送達に使用するための、請求項１３に記載のウイルス様粒子。
【手続補正書】
【提出日】令和3年7月7日(2021.7.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面処理物品であって、
ウェブが開いた嵩高の不織布繊維を含む円形基材であって、第１の主面を有する円形基材と、
前記第１の主面上に配置された研磨剤及び樹脂を含むコーティングと、
を備え、
前記研磨剤は、前記円形基材の中心から測定される第１の半径において第１の濃度を有し、
前記研磨剤は、前記円形基材の中心から測定される第２の半径において前記第１の濃度に等しくない第２の濃度を有し、前記第１の半径及び前記第２の半径は、異なる長さであり、前記第１の半径の長さは前記第２の半径の長さよりも小さく、
前記第１の濃度及び前記第２の濃度は、ゼロよりも大きい、表面処理物品。
【請求項２】
前記第１の濃度が、前記第２の濃度よりも高い、請求項１に記載の表面処理物品。
【請求項３】
前記第２の濃度が、前記第１の濃度よりも高い、請求項１に記載の表面処理物品。
【請求項４】
前記コーティングが、前記第１の主面上に径方向に不均一な勾配で配置される、請求項１に記載の表面処理物品。
【請求項５】
前記第１の半径における前記第２の半径までの前記研磨剤の濃度が、前記第１の濃度から前記第２の濃度まで勾配分布で減少する、請求項１に記載の表面処理物品。
【請求項６】
前記第１の半径における前記第２の半径までの前記研磨剤の濃度が、前記第１の濃度から前記第２の濃度まで勾配分布で増加する、請求項１に記載の表面処理物品。
【請求項７】
前記第１の濃度又は前記第２の濃度が、前記表面処理物品の前記第１の主面の最大研磨剤濃度である、請求項１に記載の表面処理物品。
【請求項８】
前記第１の濃度又は前記第２の濃度が、前記表面処理物品の前記第１の主面の最小研磨剤濃度である、請求項１に記載の表面処理物品。
【請求項９】
表面処理物品であって、
天然繊維、ポリアミド、ポリエステル、レーヨン、ポリエチレン、ポリプロピレン、又はこれらの組み合わせを有するとともに、第１の主面を有する、円形基材と、
前記第１の主面上に径方向に不均一な勾配で配置された単一の研磨剤配合物を含むコーティングと、
を備え、
前記単一の研磨剤配合物は、第１の半径において第１の濃度を有し、
前記単一の研磨剤配合物は、前記第１の半径とは異なる長さである第２の半径において第２の濃度を有し、前記第２の濃度に対する前記第１の濃度の比は、約２：１〜約１．１：１の範囲であり、前記第１の半径の長さは前記第２の半径の長さよりも小さい、表面処理物品。
【請求項１０】
表面処理物品であって、
天然繊維、ポリアミド、ポリエステル、レーヨン、ポリエチレン、ポリプロピレン、又はこれらの組み合わせを有するとともに、第１の主面を有する、円形基材と、
前記第１の主面上に径方向に不均一な勾配で配置された単一の研磨剤配合物を含むコーティングと、
を備え、
前記単一の研磨剤配合物は、前記基材の中心から測定される第１の半径において第１の濃度を有し、
前記単一の研磨剤配合物は、前記第１の半径とは異なる長さである、前記基材の中心から測定される第２の半径において第２の濃度を有し、前記第２の濃度に対する前記第１の濃度の比は、１：１．２〜約１：２．２であり、前記第１の半径の長さは前記第２の半径の長さよりも小さい、表面処理物品。
【手続補正書】
【提出日】令和3年5月7日(2021.5.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
旋削用インサートであって、
対向する第１面及び第２面と、
前記第１面及び第２面に垂直に接続し延在する、周方向に延在する周面と、
前記周面と前記第１面との交差部分に形成される周縁部であって、コーナー半径を備える少なくとも１つのコーナーを有する周縁部と、
前記周縁部の少なくとも一部分に沿って形成され、前記コーナー半径に沿って、かつ前記コーナーの異なる側に接続されその異なる側から延在する第１及び第２の縁部に沿って延在する切れ刃と、
前記第１面及び第２面に垂直であり、前記コーナー半径を二等分する二等分面（Ｐ１）と、
前記切れ刃と前記二等分面との交差部分に画定される二等分点（Ｐ）と、
前記周面に垂直であり、前記二等分点と交わる水平面と、
前記水平面から前記第２面に向かって垂直に方向づけられた下向き方向と、
前記下向き方向と対向する上向き方向と、
前記二等分面と前記周面との交差部分から前記インサートへと方向づけられた内向き方向と、
前記第１面に前記切れ刃に隣接して形成され、上面図において前記コーナー半径の両側に延在する１つの連続するｖ字溝からなる切屑形成配置構成と、を備え、
前記ｖ字溝は、
前記コーナー半径に隣接する湾曲した溝部分、及び前記湾曲した溝部分のいずれかの側に接続された２つの直線状の伸長部分と、
前記切れ刃から下向き内向き方向に前記ｖ字溝の最低点まで直接延在する下降面と、
前記最低点から上向き内向き方向に最高点まで延在する上昇面と、を備え、
前記二等分面に沿って、
前記最低点は、前記二等分点から第１水平距離Ｄ１にあり、条件０．５０ｍｍ≦Ｄ１≦１．２０ｍｍを満たし、
前記最低点は、前記水平面から下向きに第１高さ方向距離Ｈ１にあり、条件０．１５ｍｍ≦Ｈ１≦０．３０ｍｍを満たし、
前記最高点は、前記二等分点から第２水平距離Ｄ２にあり、条件１．１０ｍｍ≦Ｄ２≦１．７０ｍｍを満たす、旋削用インサート。
【請求項２】
前記第１水平距離Ｄ１が条件０．７０ｍｍ≦Ｄ１≦１．１０ｍｍを満たす、請求項１に記載のインサート。
【請求項３】
前記第１高さ方向距離Ｈ１が条件０．２０ｍｍ≦Ｈ１≦０．３０ｍｍを満たす、請求項１又は２に記載のインサート。
【請求項４】
前記第２水平距離Ｄ２が条件１．２０ｍｍ≦Ｄ２≦１．６０ｍｍを満たす、請求項１〜３のいずれか一項に記載のインサート。
【請求項５】
前記切屑形成配置構成が前記二等分面に関して対称的である、請求項１〜４のいずれか一項に記載のインサート。
【請求項６】
前記上昇面が、前記二等分面に沿って、滑らかな凹面状に延在する、請求項１〜５のいずれか一項に記載のインサート。
【請求項７】
前記下降面の大部分が、前記二等分面に沿って、直線状に延在する、請求項１〜６のいずれか一項に記載のインサート。
【請求項８】
前記最高点が前記水平面の上向きに位置する、請求項１〜７のいずれか一項に記載のインサート。
【請求項９】
前記最高点が、前記最低点から第２高さ方向距離Ｈ２にあり、条件Ｈ２＝Ｈ１±０．０５ｍｍを満たす、請求項１〜８のいずれか一項に記載のインサート。
【請求項１０】
前記最高点が前記水平面から０．１ｍｍ以内の距離にある、請求項９に記載のインサート。
【請求項１１】
前記第２水平距離Ｄ２が、前記二等分面以外の面に沿った比較距離と比べて最大距離である、請求項１〜１０のいずれか一項に記載のインサート。
【請求項１２】
前記ｖ字溝が、前記二等分面（Ｐ１）に沿って最も幅広く、前記湾曲した溝部分から離れる方向に、前記ｖ字溝の直線状の伸長部分の少なくとも一部分に沿って、漸進的に狭くなる、請求項１１に記載のインサート。
【請求項１３】
前記切れ刃が円形の半径を有する、請求項１〜１２のいずれか一項に記載のインサート。
【請求項１４】
前記第２面に形成されていることを除き、前記切屑形成配置構成と同じ特徴を有する追加の切屑形成配置構成をさらに備える、請求項１〜１３のいずれか一項に記載のインサート。
【請求項１５】
前記第１面及び第２面の各コーナーに、前記切屑形成配置構成と同じ特徴を有する追加の切屑形成配置構成を備える、請求項１〜１４のいずれか一項に記載のインサート。
【請求項１６】
前記切屑形成配置構成に隣接する前記切れ刃が、前記水平面と平行に延在する、請求項１〜１５のいずれか一項に記載のインサート。
【請求項１７】
前記第１高さ方向距離Ｈ１が、前記二等分面以外の面に沿った比較距離と比べて最大距離である、請求項１〜１６のいずれか一項に記載のインサート。
【請求項１８】
前記ｖ字溝が、前記二等分面（Ｐ１）に沿って最深であり、前記湾曲した溝部分から離れる方向に、前記ｖ字溝の直線状の伸長部分の少なくとも一部分に沿って、漸進的に浅くなる、請求項１７に記載のインサート。
【請求項１９】
前記ｖ字溝が、前記二等分面（Ｐ１）に沿って最も幅広く、前記湾曲した溝部分から離れる方向に、前記ｖ字溝の直線状の伸長部分の少なくとも一部分に沿って、漸進的に狭くなる、請求項１８に記載のインサート。
【手続補正書】
【提出日】令和3年4月28日(2021.4.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
等孔性内側表皮を有する被覆中空繊維膜を生産するための方法であって、支持膜に囲まれた管腔を有する中空繊維支持膜を準備すること；ならびに、まず好適な溶媒中の少なくとも１つの両親媒性ブロックコポリマーのポリマー溶液を、前記中空繊維支持膜の前記管腔にその内側表面に沿って通過させること、その後コアガス流を前記被覆中空繊維膜の前記管腔に圧送して、過剰なポリマー溶液を除去し、自己集合に十分な蒸発時間を提供すること、および沈殿剤として非溶媒を前記被覆中空繊維膜の前記管腔に通過させることによりその内側表面を被覆することを含む方法。
【請求項２】
前記支持膜に囲まれた管腔を有する前記中空繊維支持膜は、酢酸セルロース（ＣＡ）膜、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）膜、ポリエーテルイミド（ＰＥＩ）膜、ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）膜、ポリスルホン（ＰＳｆ）膜、ポリアクリロニトリル（ＰＡＮ）膜、ポリアミド−イミド（ＰＡＩ）膜、変性酢酸セルロース（ｍＣＡ）膜、変性ポリエーテルスルホン（ｍＰＥＳ）膜、変性ポリエーテルイミド（ｍＰＥＩ）膜、変性ポリフッ化ビニリデン（ｍＰＶＤＦ）膜、ポリスルホン（ｍＰＳｆ）膜、変性ポリアクリロニトリル（ｍＰＡＮ）膜、変性ポリアミド−イミド（ｍＰＡＩ）膜からなる群から選択されるポリマー性材料；セラミック膜；および金属膜である、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記中空繊維支持膜は、０．２から３．０ｍｍまでの範囲の内径を有する、請求項１または請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記中空繊維支持膜は、５ｃｍから８０ｃｍまでの長さを有する、請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
前記等孔性内側表皮の製作に使用される前記少なくとも１つの両親媒性ブロックコポリマーは、ポリスチレン−ブロック−ポリ（４−ビニルピリジン）（ＰＳ−ｂ−Ｐ４ＶＰ）ブロックコポリマーである、請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
前記ポリマー溶液は、少なくとも１つの金属塩または炭水化物をさらに含み、前記金属塩は、Ｍｇ、Ｃａ、またはＳｒの有機塩である、請求項１〜５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
前記コアガスは、圧縮空気、窒素、貴ガス、および／または二酸化炭素（ＣＯ2）から選択され、前記コアガスは、０．１ｍＬ／分〜５ｍＬ／分の流速で、前記支持膜の前記管腔に圧送されるかまたは吸引される、請求項１〜６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
前記非溶媒（沈殿剤）は、水、メタノール、エタノール、またはそれらの２つまたはそれよりも多くの混合物を含み、前記非溶媒は、０．１ｍＬ／分〜５ｍＬ／分の流速で、前記支持膜の前記管腔に圧送されるかまたは吸引される、請求項１〜７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
前記繊維を、水などの非溶媒で洗浄するステップをさらに含む、請求項１〜８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
被覆の前に、前記中空繊維支持膜は、支持膜用の非溶媒をその管腔に通過させることにより前処理され、前記非溶媒はジオキサンを含む、請求項１〜９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１】
前記支持膜に囲まれた前記管腔は、多細孔性の三角ポリゴンまたは星形の管腔構造を有する、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２】
請求項２〜１１のいずれか一項に記載の方法により生産される自己支持型被覆中空繊維膜。
【請求項１３】
導電性である、請求項２〜１１のいずれか一項に記載の方法により生産される自己支持型被覆中空繊維膜。
【請求項１４】
請求項１〜１１のいずれか一項に記載の方法により調製される少なくとも１つの中空繊維膜を含む濾過モジュール。
【手続補正書】
【提出日】令和3年5月31日(2021.5.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項８】
前記リフレクタ（２８）が耐堆積性表面を有することを特徴とする、請求項１に記載の流量計（１）用のリフレクタ。
【手続補正書】
【提出日】令和3年6月18日(2021.6.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
流量計であって、
測定チャネル（１８）の断面プロファイルが、ハイドロフォーミングによって形成され、
前記測定チャネル（１８）が、結合部材（２、４）に収容されたセンサ（６、８）のための凹部（１０ａ、１０ｂ）を有している、流量計。
【請求項２】
請求項１に記載の流量計において、
前記測定チャネル（１８）が、前記凹部（１０ａ、１０ｂ）の領域に、非円形断面を有している、流量計。
【請求項３】
請求項２に記載の流量計において、
前記断面は、測定信号の入力結合／出力結合方向で、幅（ｂ）よりも大きい高さ（ｈ）を有している、流量計。
【請求項４】
請求項３に記載の流量計において、
使用位置において、前記断面が水平方向に配置されることにより、より小さな前記幅（ｂ）が重力の方向に配置される、流量計。
【請求項５】
請求項１〜４のうちいずれか一項に記載の流量計において、
前記測定チャネル（１８）の移行セクション（３０ａ、３０ｂ、３２）が、変形の領域において、丸みを帯びている、流量計。
【請求項６】
請求項１〜５のうちいずれか一項に記載の流量計において、
前記測定チャネルが、フランジ付きまたは無しで一体部品として形成されている、流量計。
【請求項７】
請求項１〜６のうちいずれか一項に記載の流量計において、
ハイドロフォーミング中に、前記凹部（１０ａ、１０ｂ）の領域に膨らみが製造される、流量計。
【請求項８】
請求項７に記載の流量計において、
前記センサが、前記膨らみの領域に配置されている、流量計。
【請求項９】
請求項１〜８のうちいずれか一項に記載の流量計において、
入口（３４）および出口（３６）の領域における前記断面プロファイルが、円形プロファイルである、流量計。
【請求項１０】
請求項１、３、４、５、８のうちいずれか一項に記載の流量計において、
センサ（６、８）が、前記測定チャネルの壁を通して音を出す、流量計。
【請求項１１】
請求項１〜１０のうちいずれか一項に記載の流量計のための測定チャネルであって、
前記測定チャネルは、ハイドロフォーミングによって製造される、測定チャネル。
【手続補正書】
【提出日】令和3年5月7日(2021.5.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属を含む基板を備える物品を含むシステムであって、
前記基板の表面は、一次細孔および二次細孔を含み、
前記二次細孔は前記一次細孔内にあり、
前記一次細孔の平均直径は、前記二次細孔の平均直径より少なくとも４倍大きく、
前記システムは、光学システムを含む、前記システム。
【請求項２】
前記一次細孔の平均直径が、前記二次細孔の平均直径より少なくとも５倍大きい、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記一次細孔の平均直径が、少なくとも５００ｎｍである、請求項１に記載のシステム。
【請求項４】
前記一次細孔の平均直径が、少なくとも１μｍである、請求項１に記載のシステム。
【請求項５】
前記一次細孔の平均直径が、大きくとも５μｍである、請求項１に記載のシステム。
【請求項６】
前記物品が、前記一次細孔を含む領域を有し、前記物品の前記領域が、少なくとも０．１の細孔比率を有する、請求項１に記載のシステム。
【請求項７】
前記物品が、前記一次細孔を含む領域を有し、前記物品の前記領域が、大きくとも０．３の細孔比率を有する、請求項１に記載のシステム。
【請求項８】
前記二次細孔の平均直径が、大きくとも２５０ｎｍである、請求項１に記載のシステム。
【請求項９】
前記二次細孔の平均直径が、少なくとも５０ｎｍである、請求項１に記載のシステム。
【請求項１０】
前記二次細孔が、少なくとも１０の平均アスペクト比を有する、請求項１に記載のシステム。
【請求項１１】
前記二次細孔が、大きくとも４０の平均アスペクト比を有する、請求項１に記載のシステム。
【請求項１２】
光吸収剤をさらに含む、請求項１に記載のシステム。
【請求項１３】
前記二次細孔の少なくともいくつかが、前記光吸収剤を含む、請求項１２に記載のシステム。
【請求項１４】
前記光吸収剤が、可視光吸収剤を含む、請求項１３に記載のシステム。
【請求項１５】
前記光吸収剤が、染料を含む、請求項１３に記載のシステム。
【請求項１６】
前記染料が、水溶性染料を含む、請求項１５に記載のシステム。
【請求項１７】
前記物品の表面が、４００ｎｍ〜７００ｎｍの波長で大きくとも０．０００２の反射率を有する、請求項１に記載のシステム。
【請求項１８】
前記物品の表面が、４００ｎｍ〜７００ｎｍの第１の波長で第１の反射率を有し、
前記物品の表面が、４００ｎｍ〜７００ｎｍの第２の波長で第２の反射率を有し、
前記第１の波長は、前記第２の波長と異なり、
前記第１の反射率は、前記第２の反射率と異なる、請求項１に記載のシステム。
【請求項１９】
前記物品の表面が、１０ｎｍ〜４００ｎｍの波長で大きくとも０．０００２の反射率を有する、請求項１に記載のシステム。
【請求項２０】
前記金属が、アルミニウム、チタン、ニオブ、タンタル、マグネシウムおよび亜鉛からなる群から選択される要素を含む、請求項１に記載のシステム。
【請求項２１】
前記基板の一部が、酸化物を含み、前記酸化物は、前記金属を含む、請求項１に記載のシステム。
【請求項２２】
前記二次細孔が、前記酸化物の部分に存在する、請求項２１に記載のシステム。
【請求項２３】
前記物品の表面が、フルオロ−アルミネートを含む、請求項１に記載のシステム。
【請求項２４】
前記物品の表面が、水和酸化アルミニウムを含む、請求項１に記載のシステム。
【請求項２５】
ホログラフィック投影装置、カメラ、望遠鏡、色選択フィルタ、フォトニックセンサ用の筐体、太陽光集光器、太陽熱システム、情報表示システム、および感光性材料を保存するためのシステムからなる群から選択される要素を含む、請求項１に記載のシステム。
【請求項２６】
金属を含む基板を備える物品を含むシステムであって、
前記基板の表面は、一次細孔および二次細孔を含み、
前記二次細孔は前記一次細孔内にあり、
前記一次細孔の平均直径は、５００ｎｍ〜１５μｍであり、
前記二次細孔の平均直径は、５０ｎｍ〜約２５０ｎｍである、前記システム。
【請求項２７】
前記一次細孔の平均直径は、前記二次細孔の平均直径より少なくとも４倍大きい、請求項２６に記載のシステム。
【請求項２８】
ホログラフィック投影装置、カメラ、望遠鏡、色選択フィルタ、フォトニックセンサ用の筐体、太陽光集光器、太陽熱システム、情報表示システム、および感光性材料を保存するためのシステムからなる群から選択される要素を含む、請求項２６に記載のシステム。
【請求項２９】
前記システムは、光学システムを含む、請求項２６に記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】令和3年6月4日(2021.6.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
あるいは、第３のモノマーは、特にハロゲン化アルケン、特にハロゲン化プロペン又はエチレン選択でき、例えば、テトラフルオロプロペン（特に２，３，３，３−テトラフルオロプロペン）、クロロトリフルオロプロペン（特に２−クロロ−３，３，３−トリフルオロプロペン）、１−クロロ−２−フルオロエチレン、トリフルオロプロペン（特に３，３，３−トリフルオロプロペン）、ペンタフルオロプロペン（特に１，１，３，３，３−ペンタフルオロプロペン又は１，２，３，３，３−ペンタフルオロプロペン）、１−クロロ−２，２−ジフルオロエチレン、１−クロロ−２−フルオロエチレン、１−ブロモ−２，２−ジフルオロエチレン、ブロモトリフルオロエチレン、フルオロエチレン（又はフッ化ビニル）テトラフルオロエチレン及びヘキサフルオロプロペンより選択されてよい。第３のモノマーはまた、一般式Ｒｆ−Ｏ−ＣＦ＝ＣＦ２を有するペルフルオロアルキルビニルエーテルであってよく、Ｒｆは、好ましくは、Ｃ１〜Ｃ４のアルキル基である。好ましい例は、ＰＰＶＥ（ペルフルオロプロピルビニルエーテル）及びＰＭＶＥ（ペルフルオロメチルビニルエーテル）である。
【誤訳訂正書】
【提出日】令和3年4月22日(2021.4.22)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
２．１６ｋｇの荷重で、１９０℃においてＩＳＯ  １１３３に従って測定したＭＦＲ値が１００〜３００ｇ／１０分であるブテン−１重合体組成物であって：
Ａ）    ブテン−１単独重合体、または、共重合共単量体含量（ＣＡ）が５モル％以下である、エチレンおよび式ＣＨ２＝ＣＨＲ(式中、Ｒがメチルまたは３〜８個または３〜６個の炭素原子を含有するアルキルラジカルである)のアルファ−オレフィンから選択される１つ以上の共単量体とブテン−１との共重合体；
Ｂ）    共重合共単量体の含量（ＣＢ）が６〜２０モル％である、エチレンおよび式ＣＨ２＝ＣＨＲ（式中、Ｒがメチルまたは３〜８個または３〜６個の炭素原子を含有するアルキルラジカルである）のアルファ−オレフィンから選択される１つ以上の共単量体とブテン−１との共重合体を含み；
前記組成物は、総共重合共単量体含量がＡ）とＢの合計に対し、４〜１５モル％であり、そしてＡ）とＢ）の総重量に対し、決定される０℃でキシレン中の可溶性画分の含量が７５重量％以下であり；
前記ブテン−１重合体組成物が、メタロセン触媒を使用することによって得られたブテン−１重合体組成物であり、
前記ブテン−１重合体組成物が、遊離ラジカル発生剤を使用せずに得られたブテン−１重合体組成物であり；
１０℃／分に相応する走査速度で測定した、前記ブテン−１重合体組成物のＤＨ  ＴｍＩＩ値が４〜１５Ｊ／ｇであり；
前記ブテン−１重合体組成物のＭｗ／Ｍｎ値（但し、Ｍｗが重量平均モル質量であり、Ｍｎが数平均分子量である）が、両方ともＧＰＣによって測定するとき、３．５以下であり；
ＧＰＣによって測定するとき、前記ブテン−１重合体組成物のＭｚ値が９０，０００ｇ／ｍｏｌ以上であり；そして
前記ブテン−１重合体組成物のＭｗ値が５０，０００以上である、ブテン−１重合体組成物。
【請求項２】
Ａ）とＢ）の総重量を基準として、Ａ）が３０〜７０重量％であり、Ｂ）が３０〜７０重量％である、請求項１に記載のブテン−１重合体組成物。
【請求項３】
直列に連結された２つ以上の反応器で実行される少なくとも２つの連続段階を含み、ここで成分Ａ）およびＢ）は、第１段階を除いては、形成された重合体および以前の段階で使用された触媒の存在下に各々の段階で作動する別個の後続段階で製造される、請求項１に記載のブテン−１重合体組成物を製造するプロセス。
【請求項４】
以下を接触させることによって得られるメタロセン触媒の存在下に実行される、請求項３に記載のプロセス：
−立体剛性メタロセン化合物；
−アルモキサンまたはアルキルメタロセンカチオンを形成し得る化合物；および任意選択的に、
−有機アルミニウム化合物。
【請求項５】
前記立体剛性メタロセン化合物が、下記化学式：
【化１】
2020529504.tif 000001
（式中、
Ｍは、４族に属するものから選択される遷移金属の原子であり；
Ｘは、互いに同一であるか、異なり、水素原子、ハロゲン原子、Ｒ、ＯＲ、ＯＲ’Ｏ、ＯＳＯ２ＣＦ３、ＯＣＯＲ、ＳＲ、ＮＲ２またはＰＲ２基であり、ここでＲは、元素周期律表の１３〜１７族に属するヘテロ原子を任意選択的に含む、線状もしくは分枝状の、飽和もしくは不飽和のＣ１−Ｃ２０−アルキル、Ｃ３−Ｃ２０−シクロアルキル、Ｃ６−Ｃ２０−アリール、Ｃ７−Ｃ２０−アルキルアリールまたはＣ７−Ｃ２０−アリールアルキルラジカルであり、Ｒ’は、Ｃ１−Ｃ２０−アルキリデン、Ｃ６−Ｃ２０−アリーリデン、Ｃ７−Ｃ２０−アルキルアリーリデン、またはＣ７−Ｃ２０アリールアルキリデンラジカルであり；
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８およびＲ９は、互いに同一であるか、異なり、水素原子、または元素周期律表の１３〜１７族に属するヘテロ原子を任意選択的に含む、線状もしくは分枝状の、飽和もしくは不飽和のＣ１−Ｃ２０−アルキル、Ｃ３−Ｃ２０−シクロアルキル、Ｃ６−Ｃ２０−アリール、Ｃ７−Ｃ２０−アルキルアリールまたはＣ７−Ｃ２０−アリールアルキルラジカルであるか；もしくはＲ５およびＲ６、および／またはＲ８およびＲ９は、飽和または不飽和の５員または６員環を選択的に形成することができ、前記環は、Ｃ１−Ｃ２０−アルキルラジカルを置換基として有することができ；ただし、Ｒ６またはＲ７のうち、少なくとも１つは、元素周期律表の１３〜１７族に属するヘテロ原子を選択的に含む、線状もしくは分枝状の、飽和または不飽和のＣ１−Ｃ２０−アルキルラジカルであり；
Ｒ３およびＲ４は、互いに同一であるか、異なり、元素周期律表の１３〜１７族に属するヘテロ原子を任意選択的に含む、線状もしくは分枝状の、飽和もしくは不飽和のＣ１−Ｃ２０−アルキルである）
によって表される化合物である、請求項４に記載のプロセス。
【請求項６】
請求項１または２に記載のブテン−１重合体組成物からなるかまたはそれを含む、製造物品。
【請求項７】
フィルムまたは繊維の形態である、請求項６に記載の製造物品。
【請求項８】
請求項１または２に記載のブテン−１重合体組成物からなるかまたはそれを含む、ホットメルト接着剤組成物。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００８】
したがって、本発明は、２．１６ｋｇの荷重で、１９０℃においてＩＳＯ  １１３３に従って測定した溶融流量値（以下、「ＭＦＲ」と称する）が１００〜３００ｇ／１０分、好ましくは、１１０〜３００ｇ／１０分、より好ましくは、１５０〜２５０ｇ／１０分であるブテン−１重合体組成物であって：
Ａ）    ブテン−１単独重合体、または共重合共単量体含量（ＣＡ）が５モル％以下、好ましくは、４モル％以下であるエチレンおよび高級アルファ−オレフィンから選択される１つ以上の共単量体とブテン−１の共重合体；
Ｂ）    共重合共単量体の含量（ＣＢ）が６〜２０モル％、好ましくは、８〜１８モル％である、エチレンおよび高級アルファ−オレフィンから選択される１つ以上の共単量体とブテン−１の共重合体を含み；
前記組成物は、総共重合共単量体含量がＡ）とＢの合計に対し、４〜１５モル％、好ましくは、５〜１５モル％であり、そしてＡ）とＢ）の総重量に対し、決定される０℃でキシレン中の可溶性画分の含量が７５重量％以下、好ましくは、７０重量％以下である、ブテン−１重合体組成物を提供する。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１６】
成分Ａ）およびＢ）において、エチレンに加えて、またはその代替として、共単量体として存在し得る高級アルファ−オレフィンの具体例は、式ＣＨ２＝ＣＨＲ（式中、Ｒがメチルまたは３〜８個または３〜６個の炭素原子を含有するアルキルラジカルである）のアルファ−オレフィン、例えば、プロピレン、ヘキセン−１、オクテン−１である
【手続補正書】
【提出日】令和3年8月6日(2021.8.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表側、裏側、上部側、底部側、左側、及び右側を有する透明なプラスチック片と、
前記裏側の第１の部分に固定され、前記上部側と平行に配置された第１の順応性のある部材と、
前記裏側の第２の部分に固定され、前記底部側と平行に配置された第２の順応性のある部材と、
第１の端部を含む第１のストラップ部分と第２の端部を含む第２のストラップ部分とを有する少なくとも１つの第１のストラップであって、前記第１のストラップ部分及び前記第２のストラップ部分の一部が前記プラスチック片の上部側と平行に固定された、第１のストラップと、
第１の端部を含む第１のストラップ部分と第２の端部を含む第２のストラップ部分とを有する少なくとも１つの第２のストラップであって、前記第１のストラップ部分及び前記第２のストラップ部分の一部が前記プラスチック片の底部側と平行に固定された、第２のストラップと、
を含むフェイスマスク。
【請求項２】
前記第１の順応性のある部材及び前記第２の順応性のある部材は、接着剤で前記裏側に固定されているか、又は、前記裏側に成形若しくは形成されている、請求項１に記載のフェイスマスク。
【請求項３】
前記少なくとも１つの第１のストラップ及び前記少なくとも１つの第２のストラップは、弾性材料から形成されている、請求項１に記載のフェイスマスク。
【請求項４】
前記少なくとも１つの第１のストラップの第１の端部は、前記少なくとも１つの第２のストラップの第１の端部に固定され、第１のループを形成し、前記少なくとも１つの第１のストラップの第２の端部は、前記少なくとも１つの第２のストラップの第２の端部に固定され、第２のループを形成している、請求項３に記載のフェイスマスク。
【請求項５】
前記プラスチック片の上部側の一部が、前記第１の順応性のある部材が固定される場所から延びるように、前記第１の順応性のある部材は、前記裏側の第１の部分に固定され、前記プラスチック片の上部側と平行に配置されている、請求項１に記載のフェイスマスク。
【請求項６】
弾性バンドをさらに含み、前記弾性バンドの一部が、前記プラスチック片の上部側と平行に固定されている、請求項５に記載のフェイスマスク。
【請求項７】
前記第１の順応性のある部材が固定される場所から延びる前記プラスチック片の上部側の一部は、前記プラスチック片の左側及び右側に、複数のエッジを有する部分又は湾曲した部分を有する部分を含む、請求項５に記載のフェイスマスク。
【請求項８】
表側、裏側、上部側、底部側、左側、及び右側を有する透明なプラスチック片と、
前記表側の一部に固定され、前記上部側と平行に配置された第１の順応性のある部材と、
弾性バンドであり、その一部が前記プラスチック片の上部側と平行に固定されている弾性バンドと、
前記裏側の一部に固定され、前記底部側と平行に配置された第２の順応性のある部材と、
第１の端部を有する第１のストラップ部分、及び、第２の端部を有する第２のストラップ部分と、
を含むフェイスマスクであって、
前記第１のストラップ部分及び前記第２のストラップ部分の一部が、前記プラスチック片の底部側と平行に固定されている、フェイスマスク。
【請求項９】
単一のストラップが、前記第１のストラップ部分及び前記第２のストラップ部分を含むか、又は、第１のストラップが前記第１のストラップ部分を含み、第２のストラップが前記第２のストラップ部分を含む、請求項８に記載のフェイスマスク。
【請求項１０】
表側、裏側、上部側、底部側、左側、及び右側を有する透明なプラスチック片と、
前記裏側の第１の部分に固定され、前記上部側と平行に配置された第１の順応性のある部材と、
前記裏側の第２の部分に固定され、前記底部側と平行に配置された第２の順応性のある部材と、
第１の端部及び第２の端部を有する第１の弾性ストラップであって、前記第１の端部及び前記第２の端部は、前記左側の異なる部分に固定され、第１のループを形成している、第１の弾性ストラップと、
第１の端部及び第２の端部を有する第２の弾性ストラップであって、前記第１の端部及び前記第２の端部は、前記右側の異なる部分に固定され、第２のループを形成している、第２の弾性ストラップと、
を含むフェイスマスク。
【請求項１１】
前記左側は第１の複数のエッジを含み、前記右側は第２の複数のエッジを含む、請求項１又は１０に記載のフェイスマスク。
【請求項１２】
前記第１の複数のエッジは、前記第２の複数のエッジに対して対称であるか、又は、前記第１の複数のエッジは、第１の複数の角度付きエッジを含み、前記第２の複数のエッジは、第２の複数の角度付きエッジを含む、請求項１１に記載のフェイスマスク。
【請求項１３】
前記上部側は、複数のエッジを含む、請求項１又は１０に記載のフェイスマスク。
【請求項１４】
前記底部側は、湾曲したエッジを含む、請求項１又は１０に記載のフェイスマスク。
【請求項１５】
前記第１の順応性のある部材は、第１の表面を有し、前記第１の表面の少なくとも一部は、少なくとも１つの凹面部分を有するか、又は、前記第１の順応性のある部材は、第１の突出部及び第２の突出部を有する第１の表面を有する、請求項１又は１０に記載のフェイスマスク。
【請求項１６】
前記第２の順応性のある部材は、連続的に湾曲した第１の表面を有するか、又は、前記第２の順応性のある部材は、第１の表面を有し、前記第１の表面の一部は凹面である、請求項１、８、又は１０に記載のフェイスマスク。
【請求項１７】
前記第２の順応性のある部材は、凸面部分を有する第１の表面を有する、請求項１又は１０に記載のフェイスマスク。