(57)【要約】      （修正有）【課題】従来の露光装置を用いながらも、タクトタイムを向上させることができる露光方法を提供する。【解決手段】露光後に、ワークＷを載置したステージ機構ＳＴ１は待機位置へと移動を開始し、ワークＷを載置したステージ機構ＳＴ２は露光位置へと移動を開始する。このとき、ステージ機構ＳＴ１のＸ軸ステージを、ガイドレール５に沿って、左方に移動させると同時に、ワーク支持部をＸ軸ステージに対して、移動させるようにしている。これにより、ワークＷは、矢印Ａ方向と矢印Ｂ方向に同時に移動して、ステージ機構ＳＴ１が待機位置に到達したときに、ワークローダＷＬ１に接近した位置に配置されることとなる。【選択図】図２
2010072191.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ワークを保持する１つもしくは複数のステージを用いた露光方法において、
あるステージの特定の移動に連動して、同じもしくは異なるステージを対応する方向に移動させることを特徴とする露光方法。
【請求項２】
ワークを保持して、主ガイドレールに沿って待機位置と露光位置との間を移動可能であり、且つ前記主ガイドレールに交差する方向に延在する副ガイドレールに沿って移動可能なステージを用いた露光方法において、
受け渡し位置と前記待機位置のステージとの間で、受け渡し手段を用いてワークを移送するステップと、
前記待機位置と前記露光位置との間で、ワークを保持した前記ステージを、前記主ガイドレール及び前記副ガイドレールに沿って移動させるステップと、
前記露光位置においてマスクのパターンをワークに露光するステップとを有することを特徴とする請求項１に記載の露光方法。
【請求項３】
前記露光位置から前記待機位置に向かうとき、ワークを保持した前記ステージを、前記主ガイドレールに沿って移動させた後、前記副ガイドレールに沿って移動させて前記受け渡し手段に近接させることを特徴とする請求項２に記載の露光方法。
【請求項４】
前記待機位置から前記露光位置に向かうとき、ワークを保持した前記ステージを、前記副ガイドレールに沿って移動させて前記受け渡し手段から離隔させた後、前記主ガイドレールに沿って移動させることを特徴とする請求項２又は３に記載の露光方法。
【請求項５】
前記露光位置から前記待機位置に向かうとき、ワークを保持した前記ステージを、前記主ガイドレールに沿って移動させると同時に、前記副ガイドレールに沿って移動させて前記受け渡し手段に近接させることを特徴とする請求項２に記載の露光方法。
【請求項６】
前記待機位置から前記露光位置に向かうとき、ワークを保持した前記ステージを、前記副ガイドレールに沿って移動させて前記受け渡し手段から離隔させると同時に、前記主ガイドレールに沿って移動させることを特徴とする請求項２又は５に記載の露光方法。
【請求項７】
ワークを保持して、主ガイドレールに沿って待機位置と露光位置との間を移動可能である少なくとも２つのステージを用いた露光方法において、
一方のステージに保持したワークの露光動作に応じて、未露光のワークを保持した他方のステージを、前記露光位置に向かって移動させることを特徴とする請求項１に記載の露光方法。
【請求項８】
前記ワークの露光は、ステップ・アンド・リピート方式もしくはステップ・アンド・スキャン方式で行われ、前記一方のステージに保持したワークとの間隔を所定範囲に維持しながら、未露光のワークを保持した前記他方のステージを、前記露光位置に向かって移動させることを特徴とする請求項７に記載の露光方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等の大型のフラットパネルディスプレイの基板上にマスクのマスクパターンを近接（プロキシミティ）露光転写するのに好適な露光方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
大型の薄形テレビ等に用いられる液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等の大型のフラットパネルディスプレイは、ワーク上にマスクのパターンを近接露光転写することで製造される。従来のこの種の露光装置としては、例えば、以下の特許文献１に示すものが知られている。
【特許文献１】特開２００５−１８９７７５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
ところで、特許文献１の露光装置においては、基板を載置するＸ軸移動テーブルが基板ステージに支持され、案内レールに沿って、受け渡し位置と露光位置との間を移動可能となっている。露光位置で露光された基板は、そのまま案内レールに沿って受け渡し位置まで移送され、ロボットアーム等を有するワークローダにより持ち上げられ、搬出位置まで移送させられる。ここで、基板ステージとの干渉を回避すべく、ある程度ワークローダを案内レールから遠ざける必要があるが、するとロボットアームの伸張長さが増大し、ワークローダによる基板の移送に時間がかかるという問題がある。
【０００４】
また、特許文献１の露光装置によれば、１つの露光部に対して、２つの待機位置からワークを供給できるようになっている。即ち、１つのワークを露光部で露光している間に、待機位置では露光済みのワークを未露光のワークに交換することで、１つの露光部を用いながらもタクトタイムの向上を図ることができる。しかしながら、タクトタイムを更に向上させたいという要求がある。
【０００５】
そこで本発明は、かかる従来技術の問題点に鑑み、従来の露光装置を用いながらも、タクトタイムを向上させることができる露光方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の露光方法は、ワークを保持する１つもしくは複数のステージを用いた露光方法において、
あるステージの特定の移動に連動して、同じもしくは異なるステージを対応する方向に移動させることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、あるステージの特定の移動に連動して、同じもしくは異なるステージを対応する方向に移動させるので、ステージの特定の移動が終了した後、同じもしくは異なるステージを移動させる場合に比べて、タクトタイムを向上させることができる。
【０００８】
更に、本発明によれば、ワークを保持して、主ガイドレールに沿って待機位置と露光位置との間を移動可能であり、且つ前記主ガイドレールに交差する方向に延在する副ガイドレールに沿って移動可能なステージを用いた露光方法において、受け渡し位置と前記待機位置のステージとの間で、受け渡し手段を用いてワークを移送するステップと、前記待機位置と前記露光位置との間で、ワークを保持した前記ステージを、前記主ガイドレール及び前記副ガイドレールに沿って移動させるステップと、前記露光位置においてマスクのパターンをワークに露光するステップとを有するので、前記ステージを前記主ガイドレールに沿ってのみ移動させる場合に比べて、前記待機位置にて前記受け渡し手段としてのワークローダ等に近接させることができるので、そのロボットアームの伸縮に必要な時間が短くなり、タクトタイムを向上させることができる。
【０００９】
前記露光位置から前記待機位置に向かうとき、ワークを保持した前記ステージを、前記主ガイドレールに沿って移動させた後、前記副ガイドレールに沿って移動させて前記受け渡し手段に近接させると好ましい。
【００１０】
前記待機位置から前記露光位置に向かうとき、ワークを保持した前記ステージを、前記副ガイドレールに沿って移動させて前記受け渡し手段から離隔させた後、前記主ガイドレールに沿って移動させると好ましい。
【００１１】
前記露光位置から前記待機位置に向かうとき、ワークを保持した前記ステージを、前記主ガイドレールに沿って移動させると同時に、前記副ガイドレールに沿って移動させて前記受け渡し手段に近接させると好ましい。
【００１２】
前記待機位置から前記露光位置に向かうとき、ワークを保持した前記ステージを、前記副ガイドレールに沿って移動させて前記受け渡し手段から離隔させると同時に、前記主ガイドレールに沿って移動させると好ましい。
【００１３】
更に、本発明によれば、ワークを保持して、主ガイドレールに沿って待機位置と露光位置との間を移動可能である少なくとも２つのステージを用いた露光方法において、一方のステージに保持したワークの露光動作に応じて、未露光のワークを保持した他方のステージを、前記露光位置に向かって移動させることを特徴とするので、一方のステージに保持したワークを前記露光位置で露光中に、未露光のワークを保持した他方のステージを静止したままとする場合に比べて、更にタクトタイムを向上させることができる。
【００１４】
前記ワークの露光は、ステップ・アンド・リピート方式もしくはステップ・アンド・スキャン方式で行われ、前記一方のステージに保持したワークとの間隔を所定範囲に維持しながら、未露光のワークを保持した前記他方のステージを、前記露光位置に向かって移動させると好ましい。
【００１５】
ここで、「ステップ・アンド・リピート方式」とは、ワークの一括露光ごとにワークをステップ移動して次の露光領域に移動する露光方法である。「ステップ・アンド・スキャン方式」とは、マスクに対してワークを連続的にスキャン（走査）してマスクパターンをウエハに露光すると共に、１ショットの露光終了後ワークをステップ移動して、次の露光領域に移動する露光方法である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、図面を参照して、本発明の好適な実施の形態について説明する。図１、２は、本実施の形態にかかる露光方法を実施できる、カラーフィルタ製造用の露光システムの上面図である。図３は、本実施の形態に用いる露光装置ＥＸの側面図である。図４は、露光装置ＥＸの主要部を示す図であり、ステージ機構ＳＴ１（ＳＴ２）が露光位置にある状態で示している。
【００１７】
まず図１，２を参照して露光システムについて説明する。露光装置ＥＸに隣接して、マスクローダＭＬが配置されている。概略的に示すマスクローダＭＬは、マスクストッカＭＳより必要に応じてマスクＭ（図１，２で不図示）を搬出し、露光装置ＥＸに装着することができる。マスクローダＭＬに隣接して、露光光学系ＯＰＳが配置されている。露光光学系ＯＰＳは、特開２００６−３５０３１５に記載されたものを用いることができる。
【００１８】
露光装置ＥＸのベース１の両端（待機位置）に対応して、受け渡し手段であるワークローダＷＬ１，ＷＬ２が同じ側（異なる側でも可）に配置されている。更に、ワークローダＷＬ１、ＷＬ２に隣接して、受け渡し位置ＰＡ１，ＰＡ２が設けられている。受け渡し位置ＰＡ１，ＰＡ２には、それぞれ不図示の搬送ラインを介して未露光のワークＷが搬送され、また露光済みのワークＷがここから搬出される。
【００１９】
ワークローダＷＬ１，ＷＬ２は、それぞれ基部ＢＳと、基部ＢＳに対して一端を回転可能に取り付けたアームＡ１と、アームＡ１の他端に一端を枢動自在に取り付けたアームＡ２と、アームＡ２の他端に取り付けられた爪部ＮＬとから構成されている。不図示のアクチュエータにより、アームＡ１は、基部ＢＳに対して任意の回転角度に駆動され、アームＡ２は、アームＡ１に対して任意の枢動角度に駆動されるようになっている。より具体的には、アームＡ２とアームＡ１とのなす角度を大きくすることで、爪部ＮＬを基部ＢＳから離隔させて、移送を待つワークＷの下面に差し込むことができ、更にアームＡ２とアームＡ１とのなす角度を小さくすることで、ワークＷを保持した爪部ＮＬを基部ＢＳに接近させて、小さな軌跡で回転可能となるように動作する。更に、基部ＢＳに対してアームＡ１を回転させることで、後述するように、待機位置のステージ機構ＳＴ１，ＳＴ２と受け渡し位置ＰＡ１、ＰＡ２とを選択できる。これらの動作の連動により、ワークローダＷＬ１，ＷＬ２は、待機位置のステージ機構ＳＴ１，ＳＴ２と受け渡し位置ＰＡ１，ＰＡ２との間で所望のタイミングでワークＷを移送することができる。
【００２０】
図３を参照して露光装置ＥＸを説明する。露光装置ＥＸは、定盤Ｇ上に多数のスペーサＳＰを介して支持されたベース１上に設けられており、ベース１に沿って移動可能な２つのステージ機構ＳＴ１、ＳＴ２を有している。ステージ機構ＳＴ１，ＳＴ２は、露光装置ＥＸにおけるそれぞれの待機位置（図３で実線で示す両側の位置）と、１つの露光位置（図３で二点鎖線で示す中央位置）との間で移動可能となっている。従って、ステージ機構ＳＴ１，ＳＴ２のいずれかは、露光位置を選択的にとりうることとなる。
【００２１】
更に図４において、ベース１は定盤Ｇ上に載置されている。ベース１上には、フレーム３が設置されている。フレーム３は、下端がベース１の縁に固定された４本の脚部３ａと、脚部３ａの上端に取り付けられた矩形枠状の天板３ｂとからなる。天板３ｂの中央には矩形開口３ｃが形成され、その周囲にマスクＭの周囲を吸着保持したマスクホルダ４が取り付けられている。又、天板３ｂには、ワークＷの位置を検出する測定装置（不図示）が取り付けられている。ベース１の上面には、３本のガイドレール５が平行に且つ図１〜３で左右方向（Ｘ軸方向）に延在するように配置されている。
【００２２】
次に、ステージ機構ＳＴ１について説明するが、ステージ機構ＳＴ２も同様の構成であるため説明を省略する。ガイドレール（主ガイドレールとする）５に沿って、スライダ６が移動自在に設けられている。スライダ６は、Ｘ軸ステージ７の下面に取り付けられている。ベース１とＸ軸ステージ７との間には、Ｘ軸リニアモータ（不図示）が設けられ、ベース１に対してＸ軸ステージ７を、ガイドレール５に沿ったＸ軸方向に駆動可能となっている。
【００２３】
Ｘ軸ステージ７の上面には、４本のガイドレール（副ガイドレールとする）９が平行に且つ図１で紙面垂直方向（Ｙ軸方向）に延在するように配置されている。各ガイドレール９に沿って、スライダ１０が移動自在に設けられている。スライダ１０は、ワーク支持部１１の下面に取り付けられている。Ｘ軸ステージ７とワーク支持部１１との間には、Ｙ軸リニアモータ１２が設けられ、Ｘ軸ステージ７に対してワーク支持部１１を、ガイドレール５に直交するＹ軸方向に駆動可能となっている。ワーク支持部１１は、ワーク（基板）Ｗを支持するワークステージ１１ａと、ワークステージ１１ａを図１で上下方向（Ｚ軸方向）及び傾き方向に駆動するＺ軸駆動部１１ｂとを有する。尚、スライダ６，Ｘ軸ステージ７、ガイドレール９、スライダ１０、ワーク支持部１１でステージ機構ＳＴ１（ＳＴ２）を構成する。
【００２４】
次に、本実施の形態の露光方法を含む露光装置ＥＸの露光動作について説明する。図１、２において、不図示のカラーレジスト塗布装置において任意色のカラーレジストを塗布されたワークが、不図示の搬送ラインを介して、その末端である受け渡し位置ＰＡ１，ＰＡ２に搬送されてきたものとする。ここで、ワークローダＷＬ１、ＷＬ２は、上述したように、爪部ＮＬにワークＷを載置して、受け渡し位置ＰＡ１、ＰＡ２と、待機位置に移動したステージ機構ＳＴ１，ＳＴ２との間でワークＷを移送することができる。
【００２５】
ここでは、まずステージ機構ＳＴ１に載置したワークＷを露光することとする。ワークローダＷＬ１は、受け渡し位置ＰＡ１から未露光のワークＷを受け取り、待機位置（図２参照）に待機したステージ機構ＳＴ１上にこのワークＷを移送する。
【００２６】
ワークＷを載置したステージ機構ＳＴ１は、ガイドレール５に沿って待機位置から露光位置（図１参照）へと移動する。更に、ワークステージ１１ａは、載置したワークＷをマスクＭに所定距離だけ近接して対向配置させる。かかる状態で、露光光学系ＯＰＳ（図１，２）からのパターン露光用の光Ｌを、図４で上方より、開口３ｃを介してマスクＭに向けて照射することにより、マスクＭのパターンをワークＷ上に露光転写することができる。これと並行して、ワークローダＷＬ２は、受け渡し位置ＰＡ２から未露光のワークＷを受け取り、待機位置（図１参照）に待機したステージ機構ＳＴ２上にこのワークＷを移送しておく。
【００２７】
露光後において、露光済みのワークＷを載置したステージ機構ＳＴ１は待機位置へと移動を開始し、未露光のワークＷを載置したステージ機構ＳＴ２は露光位置へと移動を開始する。このとき、ステージ機構ＳＴ１のＸ軸ステージ７を、ガイドレール５に沿って図１，２で左方に移動させると同時に、ワーク支持部１１をＸ軸ステージ７に対して、図１，２で下方に移動させるようにしている。これにより、ワークＷは、矢印Ａ方向と矢印Ｂ方向（図２）に同時に移動して、ステージ機構ＳＴ１が待機位置に到達したときに、ワークローダＷＬ１に接近した位置に配置されることとなる。従って、ワークローダＷＬ１のアームＡ１，Ａ２の伸縮量を大きくすることなくステージ機構ＳＴ１へのワークＷの乗せ換えが短時間で済み、タクトタイムを有効に低減できる。又、アームＡ１，Ａ２の長さをより短くできるので、ワークローダＷＬ１のコストを低く抑えることができると共に、動作時におけるアームＡ１，Ａ２の軌跡が小さくなることから、狭いスペースにも容易に設置できることとなる。
【００２８】
ワークローダＷＬ１が、受け渡し位置ＰＡ１に露光済みのワークＷを移送し、かつ未露光のワークＷを受け取り、待機位置のステージ機構ＳＴ１にこのワークＷを移送している間に、ガイドレール５の反対側で、ワークＷを載置したステージ機構ＳＴ２が、ガイドレール５に沿って待機位置から露光位置（図２参照）へと移動する。このとき、ステージ機構ＳＴ２のＸ軸ステージ７を、ガイドレール５に沿って図１，２で左方に移動させると同時に、ワーク支持部１１をＸ軸ステージ７に対して、図１，２で上方に移動させるようにしている。更に、ワークステージ１１ａは、載置したワークＷをマスクＭに所定距離だけ近接して対向配置させる。かかる状態で、露光光学系ＯＰＳ（図１，２）からのパターン露光用の光Ｌを、図４で上方より、開口３ｃを介してマスクＭに向けて照射することにより、マスクＭのパターンをワークＷ上に露光転写することができる。
【００２９】
露光後において、露光済みのワークＷを載置したステージ機構ＳＴ２は待機位置へと移動を開始し、未露光のワークＷを載置したステージ機構ＳＴ１は露光位置へと移動を開始する。このとき、ステージ機構ＳＴ２のＸ軸ステージ７を、ガイドレール５に沿って図１，２で右方に移動させると同時に、ワーク支持部１１をＸ軸ステージ７に対して、図１，２で下方に移動させるようにしている。これにより、ワークＷは、上述と同様に２方向に同時に移動して、ステージ機構ＳＴ２が待機位置に到達したときに、ワークローダＷＬ２に接近した位置に配置されることとなる。
【００３０】
ワークローダＷＬ２が、受け渡し位置ＰＡ２に露光済みのワークＷを移送し、かつ未露光のワークＷを受け取り、待機位置のステージ機構ＳＴ２にこのワークＷを移送している間に、ワークＷを載置したステージ機構ＳＴ１が、ガイドレール５に沿って待機位置から露光位置（図２参照）へと移動する。このときステージ機構ＳＴ１のＸ軸ステージ７を、ガイドレール５に沿って図１，２で左方に移動させると同時に、ワーク支持部１１をＸ軸ステージ７に対して、図１，２で上方に移動させるようにしている。以上の動作を繰り返すことで、ステージ機構ＳＴ１，ＳＴ２に載置したワークＷを交互に効率良く露光することが可能となる。尚、ステージ機構を単一とした場合にも、本発明は成立する。
【００３１】
更に、以上の変形例として、露光位置から待機位置への移動及び待機位置から露光位置への移動の少なくとも一方において、ステージ機構ＳＴ１、ＳＴ２のＸ軸ステージ７を、ガイドレール５に沿って図１，２で左右に移動させた後に、ワーク支持部１１をＸ軸ステージ７に対して、図１，２で上下に移動させるようにしてもよい。これにより、脚部３ａ同士の間隔を狭くした場合でも、ワーク支持部１１が脚部３ａと干渉することを抑制できる。
【００３２】
次に、別な実施の形態を、図５を参照して説明する。図５は、別な実施の形態にかかる露光装置を上方から見た図である。本実施の形態は、上述した実施の形態と同様の構成を有するので、詳細は省略する。但し、図５の実施の形態においては、ワークＷの全体が同時に露光されず、ステップ・アンド・リピート方式で、一部の領域への露光を組み合わせることで、全体の露光を行うようになっている。従って、露光部ＥＸＰ内において露光光が到達するのは、図５（ａ）に示す領域Ｒ１に限られる。
【００３３】
図５（ａ）において、ステップ・アンド・リピート方式で露光を行う場合、ステージ機構ＳＴ１上に載置されたワークＷの領域Ｒ１において露光が終了したときは、次に露光すべき隣接した領域Ｒ２の露光を行うべく、ガイドレール５に沿って、ワークＷをステージ機構ＳＴ１毎、図５で左方へと移動させて、領域Ｒ２の露光を行う（図５（ｂ））。このとき、未露光のワークＷを載置したステージ機構ＳＴ２を、ステージ機構ＳＴ１の移動と連動して、同じ量だけ図５で左方へと移動させる。尚、ステージ機構ＳＴ２の移動は、領域Ｒ２の露光と並行して行っても良いが、ステージ機構ＳＴ２の移動による振動が露光に与える影響を考慮すると、ステージ機構ＳＴ１の移動と同時に行うことが好ましい。
【００３４】
更に、ステージ機構ＳＴ１上に載置されたワークＷの領域Ｒ２において露光が終了したときは、次に露光すべき隣接した領域Ｒ３の露光を行うべく、ガイドレール５に沿って、ワークＷをステージ機構ＳＴ１毎、図５で左方へと移動させて、領域Ｒ３の露光を行う（図５（ｃ））。このとき、未露光のワークＷを載置したステージ機構ＳＴ２を、ステージ機構ＳＴ１の移動と連動して、同じ量だけ図５で左方へと移動させる。
【００３５】
ステージ機構ＳＴ１上に載置されたワークＷの領域Ｒ２において露光が終了したときは、ステージ機構ＳＴ１を待機位置（図２参照）へと移動させるが、これと並行して、ステージ機構ＳＴ２上に載置された未露光のワークＷの領域Ｒ１を、露光光が到達する位置（図５（ａ））へと移動する。このようにすれば、露光に先行するワークＷと、後行するワークＷとの間隔を所定範囲内に制御することができ、先行するワークＷの露光が終了した時点で、後行するワークＷが露光位置にかなり接近しているため、後行するワークＷの露光位置への導入を迅速に行うことが出来、タクトタイムを減少させることが可能となる。尚、ステップ・アンド・スキャン方式で露光を行う場合には、露光光に対してワークＷ上を連続的にスキャンしながら露光を行うので、先行するワークＷと共に後行するワークＷも連続的に移動させることが望ましい。
【００３６】
以上、本発明を実施の形態を参照して説明してきたが、本発明は上記実施の形態に限定して解釈されるべきではなく、適宜変更・改良が可能であることはもちろんである。例えば、カラーフィルター製造用の露光方法に限られない。
【図面の簡単な説明】
【００３７】
【図１】本実施の形態にかかる露光方法を実施できる、カラーフィルタ製造用の露光システムの上面図である。
【図２】本実施の形態にかかる露光方法を実施できる、カラーフィルタ製造用の露光システムの上面図である。
【図３】本実施の形態に用いる露光装置ＥＸの側面図である。
【図４】露光装置ＥＸの主要部を示す図である。
【図５】別な実施の形態にかかる露光装置を上方から見た図である。
【符号の説明】
【００３８】
１ ベース
３ フレーム
３ａ 脚部
３ｂ 天板
３ｃ 開口
４ マスクホルダ
５ ガイドレール
６ スライダ
７ Ｘ軸ステージ
９ ガイドレール
１０ スライダ
１１ ワーク支持部
１１ａ ワークステージ
１１ｂ Ｙ軸駆動部
１２ Ｙ軸リニアモータ
Ａ１ アーム
Ａ２ アーム
ＢＳ 基部
ＥＸ 露光装置
Ｇ 定盤
Ｌ 光
Ｍ マスク
ＭＬ マスクローダ
ＭＳ マスクストッカ
ＮＬ 爪部
ＯＰＳ 露光光学系
ＰＡ１ 受け渡し位置
ＰＡ２ 受け渡し位置
Ｒ１ 領域
Ｒ２ 領域
Ｒ３ 領域
ＳＰ スペーサ
ＳＴ１ ステージ機構
ＳＴ２ ステージ機構
Ｗ ワーク
ＷＬ１ ワークローダ
ＷＬ２ ワークローダ
【図１】
2010072191.tif 000003
【図２】
2010072191.tif 000004
【図３】
2010072191.tif 000005
【図４】
2010072191.tif 000006
【図５】
2010072191.tif 000007