【手続補正書】
【提出日】令和3年5月6日(2021.5.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
細胞の近くの細菌を含む体積の処置または消毒のための装置であって、前記装置は、
ａ．電磁放射ビームを発生する手段であって、前記手段が、好ましくはレーザを備える、電磁放射ビームを発生する手段と、
ｂ．任意選択で、前記電磁放射ビームを広げる手段であって、前記広げる手段が、好ましくは発散レンズを備える、前記電磁放射ビームを広げる手段と、
ｃ．前記電磁放射ビームをコリメートする手段であって、前記コリメートする手段が、好ましくは集束レンズを備え、コリメートされた電磁放射ビームを提供する、前記電磁放射ビームをコリメートする手段と、
ｄ．前記コリメートされた電磁放射ビームの焦点を合わせる手段であって、前記焦点を合わせる手段が、好ましくは少なくとも１つの焦点レンズを備え、前記焦点を合わせる手段が、処置または消毒される前記体積の内部の少なくとも一つの焦点体積に、前記コリメートされた電磁放射ビームの焦点を合わせることを可能とする、前記コリメートされた電磁放射ビームの焦点を合わせる手段とを備え、
前記装置が、処置または消毒される前記体積内部の前記少なくとも１つの焦点体積の位置を変えることを可能とする手段を備え、
前記電磁放射が、前記細胞を実質的に傷害するには不充分なエネルギーを提供しながら、前記少なくとも一つの焦点体積内に充分なエネルギーを提供して、前記細菌を根絶または傷害することを可能にすることによって、前記装置が、前記細胞を実質的に無傷のままにしながら、前記電磁放射で前記細菌を根絶または傷害することを可能とするように適合される、装置。
【請求項２】
前記手段ｂ．が、発散レンズ、すなわち、負レンズを備える、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記手段ｃ．が、集光レンズまたは集束レンズ、すなわち、正レンズまたはコリメータを備える、請求項１または２に記載の装置。
【請求項４】
前記手段ｄ．が、マイクロアレイレンズなどの複数のレンズを備える、請求項１から３のいずれか一項に記載の装置。
【請求項５】
前記手段ｂ．、ｃ．およびｄ．のうちの少なくとも１つが、処置または消毒される前記体積内部の前記焦点体積の位置を変えることを可能とする、請求項１から４のいずれか一項に記載の装置。
【請求項６】
前記装置が、手段ｃ．と手段ｄ．の間の距離を変えるための手段を備え、処置または消毒される前記体積内部の前記焦点体積の位置を変えることを可能とする、請求項１から５のいずれか一項に記載の装置。
【請求項７】
前記装置が、少なくとも２つの独立した方向に、前記コリメートされた電磁方向に対して前記手段ｄ．の位置を変えるための手段を備え、処置または消毒される前記体積内部の前記焦点体積の位置を変えることを可能とする、請求項１から６のいずれか一項に記載の装置。
【請求項８】
細胞の近くの細菌を含む体積の処置または消毒のための装置であって、前記装置は、
ｅ．コリメートされた電磁放射を発生する手段と、
ｆ．前記コリメートされた電磁放射の焦点を合わせる手段であって、前記焦点を合わせる手段は、好ましくは、少なくとも１つの焦点光学レンズを備え、処置または消毒される前記体積の内部の少なくとも一つの焦点体積に、前記電磁放射の焦点を合わせることを可能とする、手段とを備え、
前記装置が、処置または消毒される前記体積内部の前記少なくとも１つの焦点体積の位置を変えることを可能とする手段を備え、
前記電磁が、前記細胞を実質的に傷害するには不充分なエネルギーを提供しながら、前記少なくとも一つの焦点体積内に充分なエネルギーを提供して、前記細菌を根絶または傷害することを可能にすることによって、前記装置は、前記細胞を実質的に無傷のままにしながら、前記電磁放射で前記細菌を根絶または傷害することを可能にするように適合される、装置。
【請求項９】
前記焦点体積が、１−１０，０００μｍ３、好ましくは２−５０００μｍ３、より好ましくは３−３０００μｍ３、好ましくは５−２０００μｍ３、より好ましくは１０−１０００μｍ３、好ましくは２０−５００μｍ３、より好ましくは３０−４００μｍ３、好ましくは５０−２００μｍ３、より好ましくは約１００μｍ３の体積を有する、請求項１から８のいずれか一項に記載の装置。
【請求項１０】
前記焦点体積が、少なくとも１μｍ３、好ましくは少なくとも２μｍ３、より好ましくは少なくとも３μｍ３、好ましくは少なくとも５μｍ３、より好ましくは少なくとも１０μｍ３、好ましくは少なくとも２０μｍ３、より好ましくは少なくとも５０μｍ３、好ましくは少なくとも１００μｍ３、より好ましくは少なくとも２００μｍ３、好ましくは少なくとも３００μｍ３、より好ましくは少なくとも５００μｍ３、好ましくは少なくとも１０００μｍ３、より好ましくは少なくとも２０００μｍ３の体積を有する、請求項１から９のいずれか一項に記載の装置。
【請求項１１】
前記焦点体積が、５０００μｍ３未満、好ましくは３０００μｍ３未満、より好ましくは２０００μｍ３未満、好ましくは１０００μｍ３未満、より好ましくは５００μｍ３未満、好ましくは３００μｍ３未満、より好ましくは２００μｍ３未満、好ましくは１００μｍ３未満、より好ましくは５０μｍ３未満、好ましくは３０μｍ３未満、より好ましくは２０μｍ３未満、好ましくは１０μｍ３未満、より好ましくは５μｍ３未満の体積を有する、請求項１から１０のいずれか一項に記載の装置。
【請求項１２】
焦点深度が、０．５−５００μｍ、好ましくは２−２００μｍ、より好ましくは３−１００μｍ、好ましくは５−５０μｍ、より好ましくは１０−２０μｍである、請求項１から１１のいずれか一項に記載の装置。
【請求項１３】
焦点スポットが、０．０５−１００μｍ２、好ましくは０．１−５０μｍ２、より好ましくは０．２−２０μｍ２、好ましくは０．５−１０μｍ２、より好ましくは１−５μｍ２の面積である、請求項１から１２のいずれか一項に記載の装置。
【請求項１４】
処置または消毒される前記体積が、慢性創傷などの創傷の少なくとも一部を含む、請求項１から１３のいずれか一項に記載の装置。
【請求項１５】
前記装置が、組織内の前記創傷の分布についての３Ｄ情報にアクセスできて、前記創傷の内部に電磁放射の焦点を合わせることを可能とする、請求項１４に記載の装置。
【請求項１６】
前記装置が、前記焦点体積に対して処置または消毒される前記体積を動かす手段をさらに備え、処置または消毒される前記体積に対する前記焦点体積の位置を変える、請求項１から１５のいずれか一項に記載の装置。
【請求項１７】
前記装置が、処置または消毒される前記体積を、前記装置に対して固定された位置に保持する手段をさらに備える、請求項１から１６のいずれか一項に記載の装置。
【請求項１８】
前記装置が、処置または消毒される前記体積内部の前記焦点体積の位置を、螺旋および／またはジグザグパターンで変えることを可能とする、請求項１から１７のいずれか一項に記載の装置。
【請求項１９】
前記装置が、前記焦点体積の位置を変えることを可能とし、処置または消毒される前記体積を通って、所定の間隔を有する線内を、前記焦点体積が移動することを可能にする、請求項１から１８のいずれか一項に記載の装置。
【請求項２０】
前記所定の間隔が、１−２００μｍ、好ましくは２−１００μｍ、より好ましくは３−５０μｍ、好ましくは５−４０μｍ、より好ましくは１０−３０μｍ、好ましくは１５−２５μｍ、より好ましくは約２０μｍである、請求項１９に記載の装置。
【請求項２１】
前記電磁放射が、１００−３０００ｎｍ、好ましくは２００−２５００ｎｍ、より好ましくは３００−２０００ｎｍ、好ましくは５００−１５００ｎｍ、より好ましくは７００−１４００ｎｍ、好ましくは８００−１３００ｎｍ、より好ましくは９００−１２００ｎｍ、好ましくは１０００−１１２５ｎｍ、より好ましくは１０２５−１１００ｎｍ、好ましくは１０５０−１０８０ｎｍ、より好ましくは１０６０−１０７０ｎｍ、好ましくは約１０６４ｎｍの波長を有する、請求項１から２０のいずれか一項に記載の装置。
【請求項２２】
前記装置が、前記電磁放射が電磁パルスとして提供されることを可能にする、請求項１から２１のいずれか一項に記載の装置。
【請求項２３】
前記電磁パルスが、０．０１−１０００ｎｓ、より好ましくは０．０５−１００ｎｓ、好ましくは０．１−２０ｎｓ、より好ましくは０．５−１０ｎｓ、好ましくは１−８ｎｓ、より好ましくは２−６ｎｓ、好ましくは３−５ｎｓ、より好ましくは約４ｎｓの持続時間を有する、請求項２２に記載の装置。
【請求項２４】
電磁パルスが、細胞を実質的に傷害するには不充分な持続期間を有しながら、細菌を根絶または傷害するための十分な持続期間を有する、請求項２２または２３に記載の装置。
【請求項２５】
前記電磁パルスがそれぞれ、前記少なくとも１つの焦点体積それぞれに、１−１０，０００ｎＪ、好ましくは５−５，０００ｎＪ、より好ましくは１０−２５００ｎＪ、好ましくは２０−１０００ｎＪ、より好ましくは３０−５００ｎＪ、好ましくは４０−１００ｎＪ、より好ましくは約５０ｎＪのエネルギー量を提供する、請求項２２から２４のいずれか一項に記載の装置。
【請求項２６】
前記電磁パルスがそれぞれ、前記少なくとも１つの焦点体積それぞれに、１０，０００ｎＪ未満、好ましくは５，０００ｎＪ未満、より好ましくは２５００ｎＪ未満、好ましくは１０００ｎＪ未満、より好ましくは５００ｎＪ未満、好ましくは１００ｎＪ未満、より好ましくは約５０ｎＪ未満のエネルギー量を提供する、請求項２２から２５のいずれか一項に記載の装置。
【請求項２７】
前記装置が、前記電磁パルスに、１−１００ｋＨｚ、より好ましくは５−５０ｋＨｚ、好ましくは１０−４０ｋＨｚ、より好ましくは１５−３０ｋＨｚ、好ましくは約２０ｋＨｚの周波数を提供することを可能とする、請求項２２から２６のいずれか一項に記載の装置。
【請求項２８】
電磁パルスが、前記パルス間に、１−２００μｍ、好ましくは２−１００μｍ、より好ましくは３−５０μｍ、好ましくは５−４０μｍ、より好ましくは１０−３０μｍ、好ましくは１５−２５μｍ、より好ましくは約２０μｍの距離で、処置または消毒される前記体積内部に焦点を合わせている、請求項２２から２５のいずれか一項に記載の装置。
【請求項２９】
処置または消毒される前記体積が表面を有し、前記少なくとも一つの焦点体積が前記表面から、少なくとも１μｍ、より好ましくは少なくとも２μｍ、好ましくは少なくとも５μｍ、より好ましくは少なくとも１０μｍ、好ましくは少なくとも２０μｍ、より好ましくは少なくとも５０μｍ、好ましくは少なくとも１００μｍ、より好ましくは少なくとも２００μｍの距離である、請求項１から２８のいずれか一項に記載の装置。
【請求項３０】
処置または消毒される前記体積が表面を有し、前記少なくとも一つの焦点体積が、前記表面から、１−５００μｍ、より好ましくは５−３００μｍ、好ましくは１０−２００μｍ、より好ましくは４０−１００μｍの距離である、請求項１から２９のいずれか一項に記載の装置。
【請求項３１】
焦点距離が、１−１００ｍｍ、より好ましくは２−５０ｍｍ、好ましくは３−３０ｍｍ、より好ましくは４−２０、好ましくは５−１０ｍｍである、請求項１から３０のいずれか一項に記載の装置。
【請求項３２】
処置または予防のための、請求項１から３１のいずれか一項に記載の装置の使用。
【請求項３３】
対象がヒトまたは動物であり、好ましくは哺乳類である、請求項３２に記載の使用。
【請求項３４】
処置または消毒される前記体積が、手足、脚または腕などの体の一部である、請求項３２または３３に記載の使用。
【請求項３５】
局所使用のための、請求項３２から３４のいずれか一項に記載の使用。
【請求項３６】
非侵襲的使用のための、請求項３２から３５のいずれか一項に記載の使用。
【請求項３７】
薬剤なしの使用のための、請求項３２から３６のいずれか一項に記載の使用。
【請求項３８】
化粧用目的などのインビトロまたは非医療目的の、請求項１から３１のいずれか一項の装置の請求項に記載の装置の使用。
【請求項３９】
細胞の近くの細菌を含む体積の処置または消毒のための方法であって、前記方法は、電磁放射が、前記細胞を実質的に傷害するには不充分なエネルギーを提供しながら、少なくとも一つの焦点体積内に充分なエネルギーを提供して、前記細菌を根絶または傷害することを可能にすることによって処置または消毒される前記体積の内部の前記少なくとも一つの焦点体積に、前記電磁を送出することを含む、方法。
【請求項４０】
処置または消毒される前記体積が表面を有し、前記少なくとも一つの焦点体積が前記表面から、少なくとも１μｍ、より好ましくは少なくとも２μｍ、好ましくは少なくとも５μｍ、より好ましくは少なくとも１０μｍ、好ましくは少なくとも２０μｍ、より好ましくは少なくとも５０μｍ、好ましくは少なくとも１００μｍ、より好ましくは少なくとも２００μｍの距離である、請求項３９に記載の方法。
【請求項４１】
処置または消毒される前記体積が表面を有し、前記少なくとも一つの焦点体積が、前記表面から１−５００μｍ、より好ましくは５−３００μｍ、好ましくは１０−２００μｍ、より好ましくは４０−１００μｍの距離である、請求項３９または４０に記載の方法。
【請求項４２】
前記電磁放射がレーザによって発生される、請求項３９から４１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項４３】
前記レーザが連続モードまたはパルスモードで作動される、請求項４２に記載の方法。
【請求項４４】
前記電磁が、前記細胞を実質的に傷害するには不充分なエネルギーを提供しながら、前記少なくとも一つの焦点体積内に充分なエネルギーを提供して、前記細菌を根絶または傷害することを可能とする速度で、前記少なくとも一つの焦点体積が、処置または消毒される前記体積内で動かされる、請求項３９から４３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項４５】
処置または消毒される前記体積が、慢性創傷などの創傷の少なくとも一部を含む、請求項１から４４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項４６】
前記電磁放射が前記創傷の内部に焦点を合わせている、請求項４５に記載の方法。
【請求項４７】
前記方法が、処置または消毒される前記体積内部の前記焦点体積の位置を、螺旋および／またはジグザグパターンで変えることを含む、請求項１から４６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項４８】
前記方法が、前記焦点体積の位置を変えることを含み、処置または消毒される前記体積を通って、所定の間隔を有する線内を、前記焦点体積が移動することを可能にする、請求項１から４７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項４９】
前記所定の間隔が、１−２００μｍ、好ましくは２−１００μｍ、より好ましくは３−５０μｍ、好ましくは５−４０μｍ、より好ましくは１０−３０μｍ、好ましくは１５−２５μｍ、より好ましくは約２０μｍである、請求項４８に記載の方法。
【請求項５０】
前記電磁放射が、１００−３０００ｎｍ、好ましくは２００−２５００ｎｍ、より好ましくは３００−２０００ｎｍ、好ましくは５００−１５００ｎｍ、より好ましくは７００−１４００ｎｍ、好ましくは８００−１３００ｎｍ、より好ましくは９００−１２００ｎｍ、好ましくは１０００−１１２５ｎｍ、より好ましくは１０２５−１１００ｎｍ、好ましくは１０５０−１０８０ｎｍ、より好ましくは１０６０−１０７０ｎｍ、好ましくは約１０６４ｎｍの波長を有する、請求項１から４９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５１】
前記電磁放射が、電磁パルスとして提供される、請求項１から５０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５２】
前記電磁パルスが、０．１−２０ｎｓ、より好ましくは０．５−１０ｎｓ、好ましくは１−８ｎｓ、より好ましくは２−６ｎｓ、好ましくは３−５ｎｓ、より好ましくは約４ｎｓの持続時間を有する、請求項５１に記載の方法。
【請求項５３】
電磁パルスが、細胞を実質的に傷害するには不充分な持続期間を有しながら、細菌を根絶または傷害するための十分な持続期間を有する、請求項５１または５２に記載の方法。
【請求項５４】
前記電磁パルスがそれぞれ、前記少なくとも１つの焦点体積それぞれに、１−１０，０００ｎＪ、好ましくは５−５，０００ｎＪ、より好ましくは１０−２５００ｎＪ、好ましくは２０−１０００ｎＪ、より好ましくは３０−５００ｎＪ、好ましくは４０−１００ｎＪ、より好ましくは約５０ｎＪのエネルギー量を提供する、請求項５１から５３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５５】
前記電磁パルスがそれぞれ、前記少なくとも１つの焦点体積それぞれに、１０，０００ｎＪ未満、好ましくは５，０００ｎＪ未満、より好ましくは２５００ｎＪ未満、好ましくは１０００ｎＪ未満、より好ましくは５００ｎＪ未満、好ましくは１００ｎＪ未満、より好ましくは約５０ｎＪ未満のエネルギー量を提供する、請求項５１から５４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５６】
前記電磁パルスが、１−１００ｋＨｚ、より好ましくは５−５０ｋＨｚ、好ましくは１０−４０ｋＨｚ、より好ましくは１５−３０ｋＨｚ、好ましくは約２０ｋＨｚの周波数を提供される、請求項５１から５５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５７】
電磁パルスが、前記パルス間に、１−２００μｍ、好ましくは２−１００μｍ、より好ましくは３−５０μｍ、好ましくは５−４０μｍ、より好ましくは１０−３０μｍ、好ましくは１５−２５μｍ、より好ましくは約２０μｍの距離で、処置または消毒される前記体積内部に焦点を合わせている、請求項５１から５６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５８】
前記焦点体積が、処置または消毒される前記体積内で動きまわされて、処置または消毒される前記体積のすべてあるいはほぼすべての処置および／または消毒を提供する、請求項１から５７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５９】
前記焦点体積が、複数のパスで、処置または消毒される前記体積内で複数回動きまわされる、請求項１から５８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６０】
細胞の近くの細菌を含む前記体積の中身が、実質的に固体または非液体または非流体である、請求項１から５９のいずれか一項に記載の方法。