【手続補正書】
【提出日】令和3年5月31日(2021.5.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
測定機のための光学測定システムであって、
測定ビームを発生させるビーム源と、
異なるタイミングで一連の静止測定位置にわたって個別に移動することにより、前記測定ビームを試験対象物上の異なる位置に向かって操縦するように構成された少なくとも2つの走査装置と、
前記試験対象物から前記少なくとも２つの走査装置を経て戻る前記測定ビームの変化を検出する共通の検出器と、
前記少なくとも２つの走査装置に接続されたコンピュータと、
光学スイッチと、
を備え、
前記コンピュータは、異なるタイミングで一連の静止測定位置にわたって前記少なくとも２つの走査装置の移動を制御するように構成され、
前記光学スイッチは、前記少なくとも２つの走査装置のうち前記一連の静止測定位置の１つに静止したいずれか１つの走査装置を通るように、前記測定ビームの経路を選択する、光学測定システム。
【請求項２】
前記少なくとも２つの走査装置が、第１の走査装置と第２の走査装置を含み、
前記第１の走査装置は、第１の一連の静止測定位置にわたり間欠的に移動し、前記第1の一連の静止測定位置では、前記測定ビームが試験対象物上の第1の一連の異なる位置に向かい、この位置から戻るように方向付けられ、
前記第２の走査装置は、第２の一連の静止測定位置にわたり間欠的に移動し、前記第２の一連の静止測定位置では、前記測定ビームが試験対象物上の第２の一連の異なる位置に向かい、この位置から戻るように方向付けられる、請求項１に記載の光学測定システム。
【請求項３】
前記光学スイッチは、
（ａ）前記第１の走査装置が、前記第１の一連の静止測定位置における測定位置に静止している間に、前記測定ビームを前記第１の走査装置を介して試験対象物に向け、試験対象物からの前記測定ビームを前記第１の走査装置を介して前記共通の検出器に向け、（ｂ）前記第２の走査装置が、前記第２の一連の静止測定位置における測定位置に静止している間に、前記測定ビームを前記第２の走査装置を介して試験対象物に向け、試験対象物からの前記測定ビームを前記第２の走査装置を介して前記検出器に向けるように、構成されている、請求項２に記載の光学測定システム。
【請求項４】
前記コンピュータはコントローラであり、このコントローラは、前記第１、第２の走査装置の動作のタイミングを調整し、これにより、（ａ）前記第１の走査装置が前記第１の一連の静止測定位置における測定位置に静止している間に、前記第２の走査装置が移動し、（ｂ）前記第２の走査装置が前記第２の一連の静止測定位置における測定位置に静止している間に、前記第１の走査装置が移動する、請求項３に記載の光学測定システム。
【請求項５】
前記コントローラは、前記測定ビームが前記第１、第２の走査装置を交互に通るように方向付けるべく、前記光学スイッチを制御する、請  求項４に記載の光学測定システム。
【請求項６】
さらに、第１の走査ヘッドと第２の走査ヘッドとを備え、
前記第１の走査ヘッドは、前記第１の走査装置に関連付けられ、前記第１の走査装置によって試験対象物に向けられる前記測定ビームを成形するための光学系を含み、
前記第２の走査ヘッドは、前記第２の走査装置に関連付けられ、前記第２の走査装置によって試験対象物に向けられる前記測定ビームを成形するための光学系を含む、請求項３に記載の光学測定システム。
【請求項７】
前記第２の走査ヘッドは、前記第１の走査ヘッドに対して角度的に変位している、請求項６に記載の光学測定システム。
【請求項８】
さらに走査ヘッドを備え、この走査ヘッドは、前記第１および第２の走査装置に関連付けられ、前記第１および第２の走査装置によって試験対象物に向けられる前記測定ビームを成形するビーム成形光学系を含む、請求項３に記載の光学測定システム。 
【請求項９】
前記ビーム源は、ソースビームを出射するとともにビームスプリッタをさらに備え、このビームスプリッタは、前記ソースビームを参照ビームと測定ビームに分割し、前記参照ビームは参照アームに沿って伝播し、前記測定ビームは、前記光スイッチによって交互の対象アームとしての前記第１、第２の走査装置の一方または他方を通るように方向付けられる、請求項３に記載の光学測定システム。
【請求項１０】
前記検出器が、前記参照アームに沿って伝搬する前記参照ビームの部分と、前記交互の対象アームに沿って伝搬する前記測定ビームの部分を受け取る、請求項９に記載の光学測定システム。
【請求項１１】
前記検出器は、前記第１、第２の走査装置が前記第１、第２の一連の静止測定位置における測定位置に静止している間に、それぞれの測定インターバルにわたって前記測定ビームからの測定データを記録するように構成され、
プロセッサは、前記測定データを試験対象物の測定値として解釈するように構成されている請求項３に記載の光学測定システム。
【請求項１２】
（ａ）前記第１、第２の走査装置が、それぞれの移動インターバルにわたって前記第１、第２の静止測定位置間をそれぞれ移動し、（ｂ）前記第１の一連の静止測定位置における測定位置間での前記第１の走査装置の移動インターバルは、前記第２の走査装置が前記第２の一連の静止測定位置における測定位置で静止している間での前記第２の走査装置の測定インターバルと重なっており、（ｃ）前記第２の一連の静止測定位置における測定位置間での前記第２の走査装置の移動インターバルは、前記第１の走査装置が前記第１の一連の静止測定位置における測定位置で静止している間での前記第１の走査装置の測定インターバルと重なっている、請求項１１に記載の光学測定システム。
【請求項１３】
さらに第３の走査装置を備え、この第３の走査装置は、第３の一連の静止測定位置にわたり間欠的に移動し、前記第３の一連の静止測定位置では、前記測定ビームが試験対象物上の第３の一連の位置に向かい、この位置から戻るように方向付けられる、請求項２に記載の光学測定システム。 
【請求項１４】
前記検出器は、前記試験対象物から前記第３の走査装置を経て戻ってくる測定ビームからの測定データを記録し、
前記コンピュータは、前記第１、第２、第３の走査装置の動作のタイミングを調整し、これにより、（a）前記第１、第２の走査装置の少なくとも1つが前記第１または第２の一連の静止測定位置における測定位置で静止している間に、第３の走査装置が移動し、（b）前記第３の走査装置が前記第３の一連の静止測定位置における測定位置で静止している間に、第１、第２の走査装置の少なくとも1つが移動する、請求項１３に記載の光学測定システム。
【請求項１５】
前記光学スイッチは、前記第３の走査装置が前記第３の一連の静止測定位置における測定位置に静止している間に、前記測定ビームを前記第３の走査装置を経て試験対象物へと向け、試験対象物からの前記測定ビームを前記第３の走査装置を経て前記検出器へと向ける、請求項１４に記載の光学測定システム。
【請求項１６】
前記検出器は、前記第１、第２、第３の走査装置が前記第１、第２、第３の一連の静止測定位置における測定位置で静止している間に、それぞれの測定インターバルにわたって前記測定ビームからの測定データを記録するように構成され、
プロセッサは、前記測定データを試験対象物の測定値として解釈する、請求項１３に記載の光学測定システム。
【請求項１７】
前記コンピュータは、前記第３の走査装置が前記第３の一連の静止測定位置における測定位置に静止している間に、前記第１、第２の走査装置が移動するように、前記第１、第２、第３の走査装置の動作のタイミングを調整する、請求項１６に記載の光学測定システム。 
【請求項１８】
光学測定システムを用いて試験対象物を測定する方法であって、
測定ビームを発生させる工程と、
第１の一連の静止測定位置にわたって第１の走査装置を間欠的に移動させる工程であって、前記第１の一連の静止測定位置では、前記測定ビームが試験対象物上の第１の一連の位置に向けられ、前記第１の一連の位置から戻るように方向付けられる工程と、
第２の一連の静止測定位置にわたって第２の走査装置を間欠的に移動させる工程であって、前記第２の一連の静止測定位置では、前記測定ビームが試験対象物上の第２の一連の位置に向けられ、この第２の一連の位置から戻るように方向付けられる工程と、
試験対象物から前記第１、第２の走査装置を経て検出器に戻ってきた前記測定ビームから、測定データを記録する工程と、
前記第１、第２の走査装置の動作のタイミングを調整し、これにより、（a）前記第1の走査装置が前記第１の一連の静止測定位置における測定位置に静止している間に、前記第２の走査装置を移動させ、（b）前記第２の走査装置が前記第２の一連の静止測定位置における測定位置に静止している間に、前記第１の走査装置を移動させる工程と、
前記第１の走査装置が前記第１の一連の静止測定位置における測定位置に静止している間に、前記測定ビームを前記第１の走査装置を介して試験対象物に向け、試験対象物からの前記測定ビームを前記第１の走査装置を介して前記検出器に向ける工程と、
前記第２の走査装置が前記第２の一連の静止測定位置における測定位置に静止している間に、前記測定ビームを前記第２の走査装置を介して試験対象物に向け、試験対象物からの前記測定ビームを前記第２の走査装置を介して前記検出器に向ける工程と、
を備えた、方法。
【請求項１９】
第１の走査ヘッドが、前記第１の走査装置に関連付けられ、前記第１の走査装置によって試験対象物に向けられる前記測定ビームを成形するための光学系を含み、
第２の走査ヘッドが、前記第２の走査装置に関連付けられ、前記第２の走査装置によって試験対象物に向けられる前記測定ビームを成形するための光学系を含み、
さらに、前記第２の走査ヘッドを、試験対象物の異なる領域を測定するために前記第１の走査ヘッドに対して角度的に変位させる工程を備えた、請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
走査ヘッドが、前記第１、第２の走査装置に関連付けられるとともに前記測定ビームを成形するためのビーム成形光学系を含み、
前記測定ビームを前記第１の走査装置を介して方向付ける工程が、前記第１の走査装置が前記第１の一連の静止測定位置における測定位置に静止している間に、前記ビーム成形光学系によって成形された前記測定ビームを、前記第１の走査装置を介して試験対象物へと方向付けることを含み、
前記測定ビームを前記第２の走査装置を介して方向付ける工程が、前記第２の走査装置が前記第２の一連の静止測定位置における測定位置に静止している間に、前記ビーム成形光学系によって成形された前記測定ビームを、前記第２の走査装置を介して試験対象物へと方向付けることを含む、請求項１８に記載の方法。
【請求項２１】
前記測定ビームを発生させる工程が、ソースビームを、参照アームに沿って伝搬する参照ビームと、交互の対象アームとしての前記第１、第２の走査装置の一方または他方を通って伝搬する前記測定ビームに分割することを含む、請求項１８に記載の方法。
【請求項２２】
前記測定データを記録する工程は、前記第１、第２の走査装置が前記第１、第２の一連の静止測定位置における測定位置に静止している間に、それぞれの測定インターバルにわたって前記測定ビームから測定データを記録することを含む請求項１８に記載の方法。
【請求項２３】
前記動作のタイミングを調整する工程では、
前記第１、第２の走査装置を、それぞれの移動インターバルにわたり、前記第１、第２の静止測定位置間でそれぞれ移動させ、
前記第１の一連の静止測定位置の測定位置間での前記第１の走査装置の移動インターバルを、前記第２の走査装置が前記第２の一連の静止測定位置の測定位置に静止している間での前記第２の走査装置の前記測定インターバルに重ね、
前記第２の一連の静止測定位置の測定位置間での前記第２の走査装置の移動インターバルを、前記第１の走査装置が前記第１の一連の静止測定位置の測定位置に静止している間での前記第１の走査装置の前記測定インターバルに重ねる、請求項２２に記載の方法。
【請求項２４】
さらに、第３の走査装置を第３の一連の静止測定位置にわたって間欠的に移動させる追加の工程を備え、この第３の一連の静止測定位置において、前記測定ビームが、試験対象物上の第３の一連の位置に向けられ、この第３の一連の位置から戻るように方向付けられる、請求項１８に記載の方法。
【請求項２５】
前記測定データを記録する工程は、試験対象物から前記第３の走査装置を経て前記検出器に戻る前記測定ビームから測定データを記録することを含み、
前記動作のタイミングを調整する工程は、前記第１、第２、第３の走査装置の動作のタイミングを調整することを含み、これにより、（a）前記第1、第２の走査装置の少なくとも1つが第１又は第２の一連の静止測定位置における測定位置に静止している間に、前記第３の走査装置を移動させ、（b）前記第３の走査装置が前記第３の一連の静止測定位置における測定位置に静止している間に、前記第１、第２の走査装置の少なくとも１つを移動させる、請求項２４に記載の方法。
【請求項２６】
さらに追加の工程を備え、この工程では、前記第３の走査装置が前記第３の一連の静止測定位置における測定位置に静止している間に、前記測定ビームを、前記第３の走査装置を介して前記試験対象物に向け、前記試験対象物からの測定ビームを前記第３の走査装置を介して前記検出器に向ける、請求項２５に記載の方法。
【請求項２７】
前記測定データを記録する工程は、前記第１、第２、第３の走査装置が前記第１、第２、第３の一連の静止測定位置における測定位置に静止している間に、それぞれの測定インターバルわたって前記測定ビームからの測定データを記録することを含む、請求項２４に記載の方法。
【請求項２８】
前記動作のタイミングを調整する工程は、前記第１、第２、第３の走査装置の動作のタイミングを調整することを含み、これにより、前記第３の走査装置が前記第３の一連の静止測定位置における測定位置に静止する間において、前記第１、第２の走査装置の少なくとも一方を移動させる、請求項２７に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
全体的な光学レイアウトはマイケルソン干渉計の形で示されているが、光コヒーレンス断層撮影のために、フィゾー干渉計を含む他の干渉計レイアウトを用いてもよい。ソースビームをある波長帯域にわたって掃引（sweeping）する代わりに、ソースビームを同様の波長帯域で構成し、配列された検出器を分光器と組み合わせこともできる。分光器は、検出器の展開領域にわたって異なる波長の干渉位相を分離することができる。走査された測定ビームを用いる他の光学メカニズムも、試験対象物の測定データの収集に用いることができる。この光学メカニズムは、白色光スキャナーに基づくコヒーレンス走査干渉法を含む。測定システムは、様々な光ファイバー部品と共に示されているが、他の種類の部品（様々なビームを部品間の空間を通して方向づける部品を含む）と共に構成することができる。２つの走査ヘッド４１、４２は同じ参照アームを共有するものとして描かれているが、光スイッチ４０を干渉分割（interferometric division）のポイントの前に配置してもよく、その場合、各走査ヘッド４１、４２は、各々がカプラー／ビームスプリッタ及び参照アーム光学系を含む。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
走査装置は共通の公称配向で示されているが、走査装置１０２、１０４は位置または配向が異なっていてもよい。走査ヘッド１００内で走査装置をさらに分離または相対的に位置づけるために、折り畳みミラーやその他の中間光学系を用いてもよい。さらに、同じ走査ヘッド１００に３つ以上の走査装置を組み込むことができる。これは特に、異なるオフセット位置で光スイッチに接続された他の光ファイバーケーブルを追加することにより達成することができる。