【手続補正書】
【提出日】令和3年9月10日(2021.9.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
集積デバイスにおいて、
前記集積デバイスの第１の層に配置されている複数のサンプルウェルであって、前記複数のサンプルウェルのうちの個々のサンプルウェルは、励起光に反応して発光を放出するように構成されている少なくとも１つの蛍光マーカでラベリングされているサンプルを受け取るように構成されている、複数のサンプルウェルと、
励起光を前記複数のサンプルウェルの一部に結合するように構成されている少なくとも１つの導波路と、
前記集積デバイスの第２の層に配置されているとともに、前記複数のサンプルウェルから放出された発光の光子を受け取るように位置決めされている複数の光検出器であって、前記複数のサンプルウェルのうちの個々のサンプルウェルは、前記複数の光検出器のうちの少なくとも１つの光検出器と位置合わせする、複数の光検出器と、
個々のサンプルウェルとそのそれぞれの少なくとも１つの光検出器との間に位置決めされている少なくとも１つのフォトニック構造であって、前記励起光を前記発光に対して減衰させるように構成されており、前記少なくとも１つの光検出器によって発生される信号は、発光の光子の検出を示し、及び、前記少なくとも１つのフォトニック構造は前記少なくとも１つの導波路と前記第２の層の間に設けられる、少なくとも１つのフォトニック構造と、を備える、集積デバイス。
【請求項２】
前記少なくとも１つのフォトニック構造は、共通の軸上で、個々のサンプルウェルおよびそのそれぞれの少なくとも１つの光検出器と位置合わせする少なくとも１つの開口部を有する、請求項１に記載の集積デバイス。
【請求項３】
前記少なくとも１つの導波路のうちの第１の導波路は、共通の軸に沿って、前記サンプルウェルの一部のうちの第１のサンプルウェル、および、前記複数の光検出器のうちの第１の光検出器に重なるように位置決めされ、
前記少なくとも１つのフォトニック構造は、前記共通の軸に沿って、前記第１の導波路と前記第１の光検出器との間に位置決めされている、請求項１に記載の集積デバイス。
【請求項４】
前記少なくとも１つのフォトニック構造は、前記複数のサンプルウェルの少なくとも一部と少なくとも１つの金属層とに重なるとともに、前記励起光の少なくとも一部の透過を阻止するように構成されている、少なくとも１つの開口部を有する少なくとも１つの空間フィルタを含む、請求項１に記載の集積デバイス。
【請求項５】
前記集積デバイスは、前記少なくとも１つの金属層を含む回路部をさらに備え、該回路部は、前記複数の光検出器のうちの少なくとも１つの光検出器に電気的に結合されている、請求項４に記載の集積デバイス。
【請求項６】
前記少なくとも１つの空間フィルタは、前記複数のサンプルウェルに近接して位置決めされている第１の空間フィルタ、および、前記複数の光検出器に近接して位置決めされている第２の空間フィルタを含み、
前記第１の空間フィルタは、第１のサイズを有する開口部を有し、前記第２の空間フィルタは、第２のサイズを有する開口部を有し、前記第１のサイズは前記第２のサイズよりも大きい、請求項４に記載の集積デバイス。
【請求項７】
前記少なくとも１つのフォトニック構造は、少なくとも１つのスペクトルフィルタを含み、前記少なくとも１つのスペクトルフィルタは第１の空間フィルタと第２の空間フィルタとの間に位置決めされ、かつ、第２の範囲の波長よりも大きい第１の範囲の波長を透過させるように構成され、前記第１の範囲の波長は、前記発光の少なくとも１つの特徴的な波長を含み、前記第２の範囲の波長は、前記励起光の少なくとも１つの特徴的な波長を含む、請求項１に記載の集積デバイス。
【請求項８】
前記少なくとも１つのスペクトルフィルタは、低屈折率材料を有する複数の低屈折率の交互の層、および、高屈折率材料を有する複数の高屈折率の層を含む、請求項７に記載の集積デバイス。
【請求項９】
前記集積デバイスは、励起光のビームを受け取るとともに、励起光を前記集積デバイスの導波路に光学的に結合するように構成されている励起源結合領域をさらに含み、前記少なくとも１つのスペクトルフィルタは、前記励起源結合領域に重なる、請求項７に記載の集積デバイス。
【請求項１０】
前記少なくとも１つのフォトニック構造は、横電界（ＴＥ）偏光を有する光の透過を減衰させるように構成されている少なくとも１つの偏光フィルタを含む、請求項１に記載の集積デバイス。
【請求項１１】
前記少なくとも１つのフォトニック構造は、少なくとも１つの空間フィルタ、および、前記少なくとも１つの空間フィルタと前記複数の光検出器の少なくとも一部との間に位置決めされている鉛直な側壁を含む、請求項１に記載の集積デバイス。
【請求項１２】
前記少なくとも１つのフォトニック構造は、第１の空間フィルタ、第２の空間フィルタ、および、前記第１の空間フィルタと前記第２の空間フィルタとの間に位置決めされている鉛直な側壁を含む、請求項１に記載の集積デバイス。
【請求項１３】
前記少なくとも１つのフォトニック構造は空間フィルタを含み、前記集積デバイスは、前記空間フィルタと前記複数の光検出器のうちの少なくとも１つの光検出器との間に位置決めされている第１の誘電材料を有する領域、および、前記空間フィルタと、前記少なくとも１つの光検出器に重なるサンプルウェルとの間に位置決めされている第２の誘電材料を有する領域をさらに備え、前記第１の誘電材料は、前記第２の誘電材料よりも高い屈折率を有する、請求項１に記載の集積デバイス。
【請求項１４】
前記少なくとも１つのフォトニック構造は複数の開口部を有した少なくとも１つの空間フィルタを含み、前記複数の開口部の個々の開口部は前記複数のサンプルウェルのうちの対応するサンプルウェルに重なるとともに、対応するサンプルウェルの寸法よりも大きい寸法を有する、請求項１に記載の集積デバイス。
【請求項１５】
前記複数の開口部の個々の開口部の寸法は対応するサンプルウェルの底面の寸法よりも大きく、又は、前記複数の開口部の個々の開口部の面積は、対応するサンプルウェルの底面の面積よりも大きい、請求項１４に記載の集積デバイス。
【請求項１６】
前記第１の層と前記少なくとも１つのフォトニック構造との間に設けられた少なくとも１つの導波路をさらに備える、請求項１に記載の集積デバイス。
【請求項１７】
システムにおいて、
請求項１に記載の集積デバイスと、
励起光のパルスを放出するように構成されている励起源と、
励起光が前記集積デバイスの前記少なくとも１つの導波路に結合されるように、励起光のビームを前記集積デバイスに位置合わせするように構成されている少なくとも１つの位置合わせ構成要素と、を備える機器と、を備える、システム。
【請求項１８】
集積デバイスの製造方法において、
前記集積デバイスの第１の層に配置される複数のサンプルウェルを形成する工程であって、前記複数のサンプルウェルのうちの個々のサンプルウェルは、励起光に反応して発光を放出するように構成されている少なくとも１つの蛍光マーカでラベリングされるサンプルを受け取るように構成されている、複数のサンプルウェルを形成する工程と、
励起光を前記複数のサンプルウェルの一部と結合する少なくとも１つの導波路を形成する工程と、
前記集積デバイスの第２の層に配置されるとともに、前記複数のサンプルウェルから放出される発光の光子を受け取るように位置決めされる複数の光検出器を形成する工程であって、前記複数のサンプルウェルのうちの個々のサンプルウェルは、前記複数の光検出器のうちの少なくとも１つの光検出器と位置合わせする、光検出器を形成する工程と、
共通の軸上で、個々のサンプルウェルおよびそのそれぞれの少なくとも１つの光検出器と位置合わせするように位置決めされる少なくとも１つのフォトニック構造を形成する工程であって、前記少なくとも１つのフォトニック構造は、前記励起光を前記発光に対して減衰させるように構成されており、前記少なくとも１つの光検出器によって発生される信号は、発光の光子の検出を示す、フォトニック構造を形成する工程とを備え、
前記少なくとも１つのフォトニック構造は、前記少なくとも１つの導波路と前記第２の層との間に設けられる、方法。