(57)【要約】【課題】両面加工した場合に生じるエラーレートの局所的な劣化を改善できるパターンド媒体を提供する。【解決手段】媒体基板の両面に、磁気記録層を成膜した後、紫外線硬化樹脂を塗布し、前記媒体基板の両面から、製造すべきパターンド媒体における記録トラックまたは記録ビットおよびサーボ情報に対応する凹凸パターンが形成された第１および第２の樹脂スタンパを、前記媒体基板の中心位置から前記第１の樹脂スタンパの中心位置へ向かうベクトルの方向と前記第２の樹脂スタンパの中心位置へ向かうベクトルの方向とをずらせた状態で押し付け、前記紫外線硬化樹脂に凹凸パターンをインプリントし、前記第１および第２の樹脂スタンパを通して紫外線を照射し、前記紫外線硬化樹脂を硬化させるとを含むことを特徴とするパターンド媒体の製造方法。【選択図】図４
2010198697.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
媒体基板の両面に、磁気記録層を成膜した後、紫外線硬化樹脂を塗布し、
前記媒体基板の両面から、製造すべきパターンド媒体における記録トラックまたは記録ビットおよびサーボ情報に対応する凹凸パターンが形成された第１および第２の樹脂スタンパを、前記媒体基板の中心位置から前記第１の樹脂スタンパの中心位置へ向かうベクトルの方向と前記第２の樹脂スタンパの中心位置へ向かうベクトルの方向とをずらせた状態で押し付け、前記紫外線硬化樹脂に凹凸パターンをインプリントし、
前記第１および第２の樹脂スタンパを通して紫外線を照射し、前記紫外線硬化樹脂を硬化させる
ことを含むことを特徴とするパターンド媒体の製造方法。
【請求項２】
前記媒体基板の中心位置から前記第１の樹脂スタンパの中心位置へ向かうベクトルの方向と前記第２の樹脂スタンパの中心位置へ向かうベクトルの方向とのずれが５度以上であることを特徴とする請求項１に記載のパターンド媒体の製造方法。
【請求項３】
前記媒体基板の中心位置から前記第１の樹脂スタンパの中心位置へ向かうベクトルの長さおよび前記第２の樹脂スタンパの中心位置へ向かうベクトルの長さが、０．１μｍ以上、４０μｍ以下であることを特徴とする請求項１または２に記載のパターンド媒体の製造方法。
【請求項４】
前記第１および第２の樹脂スタンパの凹凸パターンのトラックピッチが１００ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１ないし３のいずれか１項に記載のパターンド媒体の製造方法。
【請求項５】
媒体基板と、媒体基板の両面に形成された記録トラックまたは記録ビットおよびサーボ情報をなす磁気記録層の凹凸パターンとを有し、前記媒体基板の中心位置から一方の面に形成された記録トラックまたは記録ビットの中心位置へ向かうベクトルの方向と他方の面に形成された記録トラックまたは記録ビットの中心位置へ向かうベクトルの方向とがずれていることを特徴とするパターンド媒体。
【請求項６】
前記媒体基板の中心位置から一方の面に形成された記録トラックまたは記録ビットの中心位置へ向かうベクトルの方向と他方の面に形成された記録トラックまたは記録ビットの中心位置へ向かうベクトルの方向とのずれが５度以上であることを特徴とする請求項５に記載のパターンド媒体の製造方法。
【請求項７】
前記媒体基板の中心位置から一方の面に形成された記録トラックまたは記録ビットの中心位置へ向かうベクトルの長さおよび他方の面に形成された記録トラックまたは記録ビットの中心位置へ向かうベクトルの長さが、０．１μｍ以上、４０μｍ以下であることを特徴とする請求項５または６に記載のパターンド媒体。
【請求項８】
前記磁気記録層の凹凸パターンのトラックピッチが１００ｎｍ以下であることを特徴とする請求項５ないし７のいずれか１項に記載のパターンド媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はパターンド媒体およびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、ハードディスクドライブ（ＨＤＤ）の記録密度を向上させる技術として、パターンド媒体が研究されている。パターンド媒体には、ディスクリートトラック媒体（ＤＴＭ）およびビットパターンド媒体（ＢＰＭ）が含まれる。ＤＴＭは磁気記録層を記録トラック単位に加工したパターンを有し、隣接トラック間の干渉を抑制することによって記録密度を向上させる。ＢＰＭは磁気記録層を記録ビット単位に加工したパターンを有し、従来の媒体に比べて磁化反転ユニットの体積を大きくして熱揺らぎ現象を抑制することによって記録密度を向上させる。
【０００３】
ＤＴＭおよびＢＰＭのいずれも、現行の磁気記録媒体と同様にドライブの付加価値を高めるためには媒体の両面に記録ができることが必要である。そのためには、媒体の両面で磁気記録層の加工を施す必要がある。
【０００４】
ＤＴＭまたはＢＰＭは、たとえば以下のような方法で製造される。まず、Ｓｉ基板上にレジストを塗布し、電子線描画によって微細パターンを描画する。レジストを現像してレジストの凹凸パターンを有する原盤を作製する。原盤にＮｉ膜をスパッタ成膜し、その上にＮｉめっき層を堆積し、Ｎｉ膜およびＮｉめっき層を剥離してＮｉスタンパを作製する。Ｎｉスタンパを射出成形機に設置し、それをモールドとして樹脂成形を行い、樹脂からなるスタンパのレプリカ（樹脂スタンパ）を作製する。通常の方法で磁気記録層を成膜した媒体基板の両面に紫外線（ＵＶ）硬化樹脂を塗布し、樹脂スタンパを両面から押し付ける。両面の樹脂スタンパを通してＵＶを照射しＵＶ硬化樹脂を硬化させる。樹脂スタンパを引き剥がし、媒体基板の両面にＵＶ硬化樹脂からなるエッチングマスクパターンを形成する。ＵＶ硬化樹脂のパターンをマスクとして反応性イオンエッチング（ＲＩＥ）やイオンミリングなどによって、磁気記録層をエッチングする。必要に応じてエッチングされた磁気記録層の凹部に非磁性体を埋め込み、表面を平坦化させ、潤滑層を堆積し、潤滑剤を塗布してＤＴＭまたはＢＰＭを製造する。
【０００５】
本発明者らは、このプロセスによるパターンド媒体の両面加工を検討してきたところ、両面でエラーレートが局所的に劣化する現象に遭遇した。片面のみを加工したパターンド媒体の場合にもエラーレートの局所的な劣化は見られるが、それはスタンパの溝形状不良や加工ダメージによるものであった。しかし、媒体の両面を加工した場合に生じるエラーレートの局所的な劣化は、溝形状不良や加工ダメージによるものとは異なる傾向を示した。このため、エラーレートの局所的な劣化は、両面加工したパターンド媒体に特有のものであり、かつ媒体基板の中心とスタンパの中心とが偏心していることが原因になっていることが予測された。
【０００６】
特許文献１には、偏心があるディスクリート媒体を、トラッキングサーボ制御をかけずに評価する方法が開示されている。特許文献１には、トラックの中心が媒体の中心に対して偏心して形成されること、およびディスクリートトラック媒体を評価装置に設置した際にもモータの回転中心に対してトラックの中心が偏心することが開示されている。しかし、これはディスクリート媒体の偏心を考慮した評価技術であり、上記のように媒体を両面加工した場合に生じるエラーレートの局所的な劣化を改善するものではない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００４−１９２７３３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明の目的は、両面加工した場合に生じるエラーレートの局所的な劣化を改善できるパターンド媒体を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の一実施形態によれば、媒体基板の両面に、磁気記録層を成膜した後、紫外線硬化樹脂を塗布し、前記媒体基板の両面から、製造すべきパターンド媒体における記録トラックまたは記録ビットおよびサーボ情報に対応する凹凸パターンが形成された第１および第２の樹脂スタンパを、前記媒体基板の中心位置から前記第１の樹脂スタンパの中心位置へ向かうベクトルの方向と前記第２の樹脂スタンパの中心位置へ向かうベクトルの方向とをずらせた状態で押し付け、前記紫外線硬化樹脂に凹凸パターンをインプリントし、前記第１および第２の樹脂スタンパを通して紫外線を照射し、前記紫外線硬化樹脂を硬化させることを含むことを特徴とするパターンド媒体の製造方法が提供される。
【００１０】
本発明の他の実施形態によれば、媒体基板と、媒体基板の両面に形成された記録トラックまたは記録ビットおよびサーボ情報をなす磁気記録層の凹凸パターンとを有し、前記媒体基板の中心位置から一方の面に形成された記録トラックまたは記録ビットの中心位置へ向かうベクトルの方向と他方の面に形成された記録トラックまたは記録ビットの中心位置へ向かうベクトルの方向とがずれていることを特徴とするパターンド媒体が提供される。
【発明の効果】
【００１１】
本発明の方法により製造されたパターンド媒体は、両面加工した場合に生じるエラーレートの局所的な劣化を改善できる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】ディスクリートトラック媒体（ＤＴＭ）の周方向に沿う平面図。
【図２】ビットパターンド媒体（ＢＰＭ）の周方向に沿う平面図。
【図３】媒体基板の中心位置とその片面に押し付けられた樹脂スタンパの中心位置との関係を模式的に示す図。
【図４】本発明における媒体基板の中心位置とその両面に押し付けられた第１および第２の樹脂スタンパの中心位置との関係を模式的に示す図。
【図５】ＵＶ樹脂からなるパターンに生じる歪みの例を示す図。
【図６】パターンド媒体において発生するエラーレートの分布を模式的に示す図。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
本発明者らは、両面加工されたパターンド媒体のエラーレートの局所劣化をなくすために、加工プロセスの各段階における条件を変えるなどして詳細に調べた。その結果、樹脂スタンパを両面に押し付ける工程が原因となって劣化が発生しているとの結論に至った。具体的には、磁気記録層を成膜した媒体基板の両面にＵＶ硬化樹脂を塗布し、樹脂スタンパを両面から押し付け、両面の樹脂スタンパを通してＵＶを照射しＵＶ硬化樹脂を硬化させるときに、媒体基板の中心位置から樹脂スタンパへ向かう方向が両面でずれている場合にエラーレートの局所的な劣化が改善されることがわかった。
【００１４】
図１にディスクリートトラック媒体（ＤＴＭ）の周方向に沿う平面図を示す。図１に示すように、ディスクリートトラック媒体（ＤＴＭ）１の周方向に沿って、サーボ領域１０とデータ領域２０が交互に形成されている。１組のサーボ領域１０およびデータ領域２０によって構成される領域はセクタと呼ばれ、記録面には多数のセクタが形成されている。サーボ領域１０には、磁気ヘッドをトラック上に位置決めするためのサーボ情報としてプリアンブル部１１、アドレス部１２、バースト部１３などが形成されている。データ領域２０には互いに分離されたディスクリートトラック２１が同心円状に形成され、ユーザデータが記録される。
【００１５】
図２にビットパターンド媒体（ＢＰＭ）２の周方向に沿う平面図を示す。図２に示すように、サーボ領域１０は図１と同様な構成を有する。データ領域２０には互いに分断された磁性ドット２２が形成されている。各々の磁性ドット２２を１ビットとしてユーザデータが記録される。
【００１６】
図３に媒体基板の中心位置とその片面に押し付けられた樹脂スタンパの中心位置との関係を模式的に示す。この図では、媒体基板３１の片面に押し付けられた樹脂スタンパのあるトラック３２を図示している。媒体基板３１の中心位置３１ｃに対して樹脂スタンパのトラック３２の中心位置３２ｃが偏心している。媒体基板３１の中心位置３１ｃから樹脂スタンパのトラック３２の中心位置３２ｃへ向かうベクトルｖを示している。図３ではベクトルｖの方向は右上方向であり、ベクトルｖの長さは偏心の大きさに相当する。
【００１７】
図４に本発明における媒体基板の中心位置とその両面に押し付けられた第１および第２の樹脂スタンパの中心位置との関係を模式的に示す。この図では、媒体基板３１の表面に押し付けられた第１の樹脂スタンパのあるトラック３２、媒体基板３１の裏面に押し付けられた第２の樹脂スタンパのあるトラック３３を図示している。媒体基板３１の中心位置３１ｃから第１の樹脂スタンパのトラック３２の中心位置３２ｃへ向かうベクトルｖ１の方向と、媒体基板３１の中心位置３１ｃから第２の樹脂スタンパのトラック３３の中心位置３３ｃへ向かうベクトルｖ２の方向は互いにずれている。ベクトルｖ１の方向とベクトルｖ２の方向とがなす角をθで示す。
【００１８】
本発明者らは、両面加工されたパターンド媒体においてエラーレートの局所的な劣化をなくすには、２つのベクトルｖ１の方向とベクトルｖ２の方向とのなす角θがある程度の大きさ、具体的には５度以上であればよいことを見出した。
【００１９】
一般的に、パターンド媒体に対しては、媒体基板の中心位置とトラックの中心位置をできる限り一致させることが要請されている。その理由は、両者の中心位置のずれはトラックの一次偏心を生み出し、磁気ヘッドの高精度なトラッキング制御に悪影響を与えるからである。本発明のパターンド媒体は、上記の一般的な要請にあえて反する手法を用いることによってエラーレートの局所的な劣化を改善するに至ったものである。ただし、ベクトルｖ１の長さおよびベクトルｖ２の長さが４０μｍを超えると偏心が大きくすぎて高精度のトラッキング動作が困難になる。
【００２０】
ＤＴＭとＢＰＭとでは、エラーレートの局所的な劣化の程度や現れ方が異なるが、いずれの場合も、媒体基板の中心位置から第１の樹脂スタンパの中心位置へ向かうベクトルの方向と第２の樹脂スタンパの中心位置へ向かうベクトルの方向とをずらせることにより、エラーレートの局所的な劣化を改善できることがわかった。
【００２１】
本発明の効果が得られるメカニズムは解明されていない。しかし、ＤＴＭにもＢＰＭにも共通して効果が得られることから、図１および図２に示すようなサーボ領域とデータ領域とに分かれた加工パターンが起因していると思われる。
【００２２】
以下、想定されるメカニズムを説明する。図１にマクロに示すように、ＤＴＭでは、データ領域に周方向に沿って長いディスクリートトラック２１のマクロなパターンが形成されているのに対して、サーボ領域にプリアンブル１１などのように径方向に長いマクロなパターンが形成されている。図２に示すＢＰＭでは、データ領域に周方向に沿ってビット単位で分断された数千個の磁性ドット２２のパターンが規則的に並んで形成されており、周方向に沿って長いマクロなパターンとみなすことができる。サーボ領域はＢＰＭもＤＴＭと同様である。
【００２３】
インプリント工程においてＵＶ硬化樹脂を硬化させる際には、必ず樹脂の収縮過程が起こる。この収縮によりマクロなパターンの方向に沿った応力が発生しやすい。また、図１および図２に示すように、セクタに着目すると、データ領域の周方向に沿ったマクロなパターンがサーボ領域で分断された構造であるので、この応力はセクタ毎に独立して作用すると思われる。応力の作用方向はパターンの状態によって変わるので一概に決められないが、たとえば中心に向かう応力が生じた場合、セクタ毎に中心に向けて引っ張られる。これらの応力が作用する結果、ごくわずかであるが、ＵＶ樹脂からなるパターンが歪む。
【００２４】
図５に、ＵＶ樹脂からなるパターンに生じる歪みの例を示す。図５に示すように、データ領域１０は矢印Ｓｃ１およびＳｃ２に示すように周方向に歪み、サーボ領域２０は矢印Ｓｒ１およびＳｒ２に示すように径方向に歪む。データ領域１０はサーボ領域２０によって分断された構造になっているので、周方向の歪Ｓｃ１およびＳｃ２はそれぞれ独立して作用し、結果として各セクタで生じる歪みの程度は異なる。このようにランダムに生じる歪みがエラーレートの局所的な劣化を招くと思われる。
【００２５】
図６にパターンド媒体において発生するエラーレートの分布を模式的に示す。横軸は周方向位置を示し、縦軸は径方向位置を示す。各セクタでビットエラーレート（ｂＥＲ）を評価し、ｂＥＲが１０-3より大きいセクタを表示している。
【００２６】
片方のハッチングで表示した部分（Ａ１〜Ａ３）は、片面のみを加工したパターンド媒体でも発生するｂＥＲ劣化セクタである。より詳細に分類すると、外周部のインプリント不良によるｂＥＲ劣化セクタ（Ａ１）、パターン欠けや加工ミスによる局所的なｂＥＲ劣化セクタ（Ａ２）、インプリント不良と位置決め精度悪化による群発的なｂＥＲ劣化セクタ（Ａ３）などである。実際には、図６のようにＡ１〜Ａ３のすべてが発生するとは限らず、いずれかのｂＥＲ劣化セクタが単独で生じる場合もあれば、２種類のｂＥＲ劣化セクタが組み合わさって生じる場合もある。なお、上述した原因がひとつに特定できず、複合的に作用している場合もある。
【００２７】
別のハッチングで表示した部分（Ｂ）は、両面を加工したパターンド媒体で新たに発生したｂＥＲ劣化セクタである。ＢのｂＥＲ劣化セクタは、Ａ１〜Ａ３のｂＥＲ劣化セクタに比べてやや広い範囲で生じ、１８０度の回転対称性を持つこともある。本発明者らは、ＢのｂＥＲ劣化セクタの低減を目指して種々の実験を繰り返すうちに、媒体基板の中心位置に対して両面の２つの樹脂スタンパの中心位置をずらせばよいことを見出し、本発明をなすに至った。
【００２８】
ＨＤＤ媒体は中心孔を有するドーナツ構造であるので、歪みはＨＤＤ媒体の径方向または周方向に対して最も効率的に作用し、径方向または周方向に力が加わった場合に最も大きい変形を示す。また、媒体基板の片面に樹脂スタンパを押し付けた場合、図３に示すように、媒体基板の中心位置と樹脂スタンパのトラックの中心位置を結んだベクトルｖの方向においてパターンの歪みが大きくなる。もし、媒体基板の両面の２枚の樹脂スタンパを押し付けたときに、媒体基板の中心位置と両面の樹脂スタンパの中心位置を結んだベクトルの方向が同じかまたは近い場合には、ベクトルｖの方向においてパターンの歪みがより大きくなる。
【００２９】
これに対して、図４に示すように、媒体基板３１の中心位置３１ｃから第１の樹脂スタンパのトラック３２の中心位置３２ｃへ向かうベクトルｖ１の方向と、媒体基板３１の中心位置３１ｃから第２の樹脂スタンパのトラック３３の中心位置３３ｃへ向かうベクトルｖ２の方向がある角度を持ってずれていると、パターンに作用する歪みが打ち消しあうために、全体としてパターンの歪みは小さくなる。すなわち、媒体基板の両面において異なる方向に応力が作用し、かつ作用しやすい方向が異なるので、ＵＶ樹脂の硬化による歪みの発生を抑制できるものと思われる。
【実施例】
【００３０】
実施例１
以下の方法によりディスクリートトラック媒体（ＤＴＭ）を製造した。本実施例で製造しようとするＤＴＭは、幅６０ｎｍのディスクリートトラックを有し、トラックピッチが１００ｎｍまたは８０ｎｍである。
【００３１】
Ｓｉ基板上にレジストを塗布し、電子線描画によって製造しようとするＤＴＭに対応するパターンを描画した。レジストを現像してレジストの凹凸パターンを有する原盤を作製した。原盤にＮｉ膜をスパッタ成膜し、その上にＮｉめっき層を堆積し、Ｎｉ膜およびＮｉめっき層を剥離してＮｉスタンパを作製した。Ｎｉスタンパを射出成形機に設置し、それをモールドとして樹脂成形を行い、樹脂スタンパを作製した。
【００３２】
媒体基板の両面に磁気記録層およびカーボンハードマスクを成膜し、ＵＶ硬化樹脂を塗布し、樹脂スタンパを両面から押し付けてインプリントした。
【００３３】
このとき、あるサンプル（従来例）では、従来の方法に従い、両面の第１および第２の樹脂スタンパで中央孔部分のある方向を同様に位置合わせピンに押し当てることにより媒体基板の中心位置から両面の第１及び第２の樹脂スタンパの中心位置への方向を合わせた。
【００３４】
別のサンプル（実施例１）では、本発明の方法に従い、第１の樹脂スタンパと第２の樹脂スタンパとで独立に中央孔部分のある方向を位置合わせピンに押し当て、かつ媒体基板の中心位置から第１および第２の樹脂スタンパの中心位置への方向を目視で３０度程度ずらした。
【００３５】
それぞれのサンプルについて、両面の樹脂スタンパを通してＵＶを照射しＵＶ硬化樹脂を硬化させた。樹脂スタンパを引き剥がし、媒体基板の両面にＵＶ硬化樹脂からなるエッチングマスクパターンを形成した。
【００３６】
両面のＵＶ硬化樹脂の凹部に残存している残渣を酸素ＲＩＥで除去し、さらにカーボンハードマスクをエッチングして、カーボンハードマスクにパターンを転写した。両面からＡｒイオンを照射して磁気記録層を加工した。両面でスパッタリングにより磁気記録層の凹部にカーボンを埋め込み、Ａｒイオンを照射してカーボンを平坦化した。両面に潤滑剤を塗布してＤＴＭを製造した。従来例および実施例１のＤＴＭを、トラッキングができる記録再生評価装置に設置してｂＥＲの評価を行った。
【００３７】
媒体基板の中心位置から両面の第１及び第２の樹脂スタンパの中心位置への方向を合わせた従来例のＤＴＭでは、トラックピッチが１００ｎｍおよび８０ｎｍのいずれのものでも、図６に模式的に示したように、両面加工に起因する局所的なｂＥＲ劣化セクタ（Ｂ）が見られた。
【００３８】
これに対して、媒体基板の中心位置から第１の樹脂スタンパの中心位置へ向かうベクトルの方向と第２の樹脂スタンパの中心位置へ向かうベクトルの方向とを３０度ほどずらした実施例１のＤＴＭでは片面加工の場合のｂＥＲ劣化セクタ（Ａ１、Ａ２、Ａ３）らしいものは見られたが、これらと明確に区別できる両面加工に起因するｂＥＲ劣化セクタ（Ｂ）は見られなかった。
【００３９】
また、以下の方法によりビットパターンド媒体（ＢＰＭ）を製造した。本実施例で製造しようとするＢＰＭは、周方向にビットピッチ３０ｎｍ、グルーブ幅１０ｎｍで分断した磁性ドットを有し、トラックピッチが１００ｎｍまたは８０ｎｍである。
【００４０】
上記と同様に、Ｓｉ基板上に塗布されたレジストに、電子線描画によってＢＰＭに対応するパターンを描画し現像し、Ｎｉスタンパを作製し、さらに樹脂スタンパを作製した。上記と同様に、ＵＶインプリントにおいて、両面の第１および第２の樹脂スタンパで中央孔部分のある方向を同様に位置合わせピンに押し当てることにより媒体基板の中心位置から両面の第１及び第２の樹脂スタンパの中心位置への方向を合わせたサンプル（従来例）と、第１の樹脂スタンパと第２の樹脂スタンパとで独立に中央孔部分のある方向を位置合わせピンに押し当て、かつ媒体基板の中心位置から第１および第２の樹脂スタンパの中心位置への方向を目視で３０度程度ずらしたサンプル（実施例１）を作製し、ＢＰＭを製造した。
【００４１】
厳密にはビットエラーレートではないが、すべてのビットを一方向に着磁し、ａｌｌ−ｏｎｅパターンを再生する実験を行い、従来例のＢＰＭと実施例１のＢＰＭとでｂＥＲの違いを調べた。この場合、ｂＥＲの閾値を１０-4とした。媒体基板の中心位置から両面の第１及び第２の樹脂スタンパの中心位置への方向を合わせた従来例のＢＰＭでは図６に模式的に示したように両面加工に起因する局所的なｂＥＲ劣化セクタ（Ｂ）が見られた。これに対して、媒体基板の中心位置から第１の樹脂スタンパの中心位置へ向かうベクトルの方向と第２の樹脂スタンパの中心位置へ向かうベクトルの方向とを３０度ほどずらした実施例１のＢＰＭでは両面加工に起因する局所的なｂＥＲ劣化セクタ（Ｂ）は見られなかった。このように、ビットパターンド媒体（ＢＰＭ）でも、媒体基板の中心位置に対する第１および第２の樹脂スタンパの中心位置の方向をずらすことによって両面加工に起因するｂＥＲの局所的な劣化を有効に抑制できることがわかる。
【００４２】
実施例２
実施例１と同様の方法でトラックピッチ１００ｎｍのディスクリートトラック媒体（ＤＴＭ）を製造した。その際、両面加工に伴うｂＥＲの局所的な劣化の抑制効果を調べるために、媒体基板の中心位置に対する第１および第２の樹脂スタンパの中心位置の方向のずれ（角度θ）を５、１５、３０、６０、９０、１２０、１５０度としてＤＴＭを製造した。また、比較のために、媒体基板の中心位置に対する第１および第２の樹脂スタンパの中心位置の方向のずれ（角度θ）を０度としてＤＴＭを製造した。
【００４３】
それぞれの角度θでＤＴＭを１０枚試作した。得られたＤＴＭを記録再生評価装置に設置してｂＥＲの評価を行った。本実施例では、内周５００トラック、外周５００トラックを除いた部位でｂＥＲが１０-3以下になるセクタが１０以下であるものを合格品とした。なお、ｂＥＲ劣化セクタが周方向に連続して３個以内、トラック方向に連続して３個以内である場合には、転写エラーなどによる単純なｂＥＲ劣化セクタ（図６のＡ２に相当する）と判定し、エラーセクタとしてカウントしていない。表１に、角度θと合格した媒体数との関係を示す。
【表１】
2010198697.tif 000003
【００４４】
表１の結果から、媒体基板の中心位置から第１の樹脂スタンパの中心位置へ向かうベクトルの方向と第２の樹脂スタンパの中心位置へ向かうベクトルの方向とのずれが５度以上であれば、両面加工に伴うｂＥＲの局所的な劣化を抑制できることがわかった。
【００４５】
なお、上記実験は、第１の樹脂スタンパおよび第２の樹脂スタンパを位置合わせピンに押し当てる角度を意図的にずらすことによって作製した媒体の評価結果であるが、トラッキングの評価の際にわかるトラッキングエラー信号（ポジションエラー信号ＰＥＳ）によって一次偏心の向きを知ることもできる。各媒体について、一次偏心の向きを調べたところ、作製時の設定角度ずれの±５度程度の範囲でばらついていることがわかった。表１の設定角度５度の場合の不合格品３点はいずれもこのばらつきが大きく、ずれ角度θが概ね０度とみなせるものであることがわかった。いずれにしろ、角度ずれが５度以上になるように調整することによってｂＥＲの局所的な劣化を抑制できることがわかった。
【００４６】
実施例３
実施例２の合格閾値をｂＥＲが１０-4以下になるセクタが１０以下であるものを合格品として評価を行った結果を表２に示す。
【表２】
2010198697.tif 000004
【００４７】
表２に示されるように、すべての角度において合格数が減った。ただし、不合格となったものの一次偏心量を調べたところ、いずれも４０μｍより大きかった。すなわち、一次偏心が大きくなったためにトラッキング制御の精度が劣化し、エラーレートが劣化したものと思われる。より高精度の制御が要求されるような、たとえばサーバー向けのドライブに供する媒体に関しては、両面の樹脂スタンパの角度ずれを管理することに加えて、媒体基板の中心位置から両面の樹脂スタンパの中心位置までのずれ量を４０μｍ以下とする管理が必要になる。中心位置間のずれ量は小さければ小さいほどよいが、小さくしすぎるとプロセスコストが増加する。このため、中心位置間のずれ量を０．１μｍ未満に制御するのはコストを考えるとオーバースペックといえる。
【００４８】
評価の厳しさは、媒体の用途によって、すなわち利用者が想定しているドライブの仕様によって決めるべきものであり、本発明の技術的思想に基づいて限定されるものではない。
【符号の説明】
【００４９】
１…ディスクリートトラック媒体（ＤＴＭ）、２…ビットパターンド媒体（ＢＰＭ）、１０…サーボ領域、１１…プリアンブル部、１２…アドレス部、１３…バースト部、２０…データ領域、２１…ディスクリートトラック、２２…磁性ドット、３１…媒体基板、３１ａ…媒体基板の中心位置、３２…第１の樹脂スタンパのトラック、３２ｃ…トラックの中心位置、３３…第２の樹脂スタンパのトラック、３３ｃ…トラックの中心位置。
【図１】
2010198697.tif 000005
【図２】
2010198697.tif 000006
【図３】
2010198697.tif 000007
【図４】
2010198697.tif 000008
【図５】
2010198697.tif 000009
【図６】
2010198697.tif 000010
【手続補正書】
【提出日】平成22年4月28日(2010.4.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
媒体基板の両面に、磁気記録層を成膜した後、紫外線硬化樹脂を塗布し、
前記媒体基板の両面から、製造すべきパターンド媒体における記録トラックまたは記録ビットおよびサーボ情報に対応する凹凸パターンが形成された第１および第２の樹脂スタンパを押し付け、このとき前記媒体基板の中心位置から前記第１の樹脂スタンパの中心位置へ向かうベクトルの方向と前記第２の樹脂スタンパの中心位置へ向かうベクトルの方向とをずらし、前記紫外線硬化樹脂に凹凸パターンをインプリントし、
前記第１および第２の樹脂スタンパを通して紫外線を照射し、前記紫外線硬化樹脂を硬化させる
ことを含むことを特徴とするパターンド媒体の製造方法。
【請求項２】
前記媒体基板の中心位置から前記第１の樹脂スタンパの中心位置へ向かうベクトルの方向と前記第２の樹脂スタンパの中心位置へ向かうベクトルの方向とのずれが５度に等しいかまたはそれより大きいことを特徴とする請求項１に記載のパターンド媒体の製造方法。
【請求項３】
前記媒体基板の中心位置から前記第１の樹脂スタンパの中心位置へ向かうベクトルの長さおよび前記第２の樹脂スタンパの中心位置へ向かうベクトルの長さが、０．１μｍから４０μｍまでであることを特徴とする請求項１に記載のパターンド媒体の製造方法。
【請求項４】
前記第１および第２の樹脂スタンパの凹凸パターンのトラックピッチが１００ｎｍに等しいかそれより短いことを特徴とする請求項１に記載のパターンド媒体の製造方法。
【請求項５】
媒体基板と、媒体基板の両面の、凹凸パターンを含む記録トラックまたは記録ビットおよびサーボ情報を含む磁気記録層とを有し、前記媒体基板の中心位置から第1の面に形成された記録トラックまたは記録ビットの中心位置へ向かうベクトルの方向と第２の面に形成された記録トラックまたは記録ビットの中心位置へ向かうベクトルの方向とがずれていることを特徴とするパターンド媒体。
【請求項６】
前記媒体基板の中心位置から第１の面に形成された記録トラックまたは記録ビットの中心位置へ向かうベクトルの方向と第２の面に形成された記録トラックまたは記録ビットの中心位置へ向かうベクトルの方向とのずれが５度に等しいかまたはそれより大きいことを特徴とする請求項５に記載のパターンド媒体の製造方法。
【請求項７】
前記媒体基板の中心位置から第１の面に形成された記録トラックまたは記録ビットの中心位置へ向かうベクトルの長さおよび第２の面に形成された記録トラックまたは記録ビットの中心位置へ向かうベクトルの長さが、０．１μｍから４０μｍまでであることを特徴とする請求項５に記載のパターンド媒体。
【請求項８】
前記磁気記録層の凹凸パターンのトラックピッチが１００ｎｍに等しいかそれより短いことを特徴とする請求項５に記載のパターンド媒体。