【手続補正書】
【提出日】令和3年4月23日(2021.4.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を提供すること、
複数の一時的要素を前記基板上に製造すること、ここで前記一時的要素は異なる要素特性を有する２つ以上の周期を含む周期的パターンで配置される、
第１の堆積層で前記一時的要素を少なくとも部分的に覆うように、前記基板上に前記第１の堆積層を堆積すること、
前記第１の堆積層で作られる第１の格子要素からなる調整された回折格子を前記基板上に形成するために、前記基板から前記一時的要素を除去すること、ここで前記格子は複数の第１の格子要素と前記第１の格子要素間の１つ以上のギャップとを各周期内に含む、
を含む、調整された光回折格子を製造する方法。
【請求項２】
各周期内の前記ギャップを少なくとも部分的に埋めるために、前記基板上に第２の堆積層を堆積することをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記第１の堆積層及び前記第２の堆積層が、同じ堆積材料を用いて堆積される、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記第２の堆積層を堆積するときに、前記第１の格子要素間の前記ギャップが完全に埋められる、請求項２又は請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記第２の堆積層を堆積した後の前記基板から、前記第２の堆積層の均一な層を、異方的に除去することを含む、請求項２〜請求項４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
前記第２の堆積層が、コンフォーマル層である、請求項２〜請求項５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
前記一時的要素が、前記回折格子としてライン格子を形成するための線要素である、請求項１〜請求項６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
異なる要素特性を有する前記２つ以上の周期が、異なる幅及び／又は数を有する要素を含み、それによって、フィルファクタが調整された回折格子が形成される、請求項１〜請求項７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
異なる要素特性を有する前記２つ以上の周期が、異なる高さを有する要素を含み、それによって、高さが調整された回折格子が形成される、請求項１〜請求項８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
前記第１の堆積層が、コンフォーマル層である、請求項１〜請求項９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１】
前記一時的要素を露出させるために、前記第１の堆積層を堆積した後の前記基板から、前記第１の堆積層の均一な層を、異方的に除去することを含む、請求項１〜請求項１０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２】
周期的なパターンで配置され、基板上に突出する、複数の格子要素を含み、
前記パターンの各周期が、互いに間隔を置いて配置され、実質的に同じ寸法特性を有する、２つ以上の第１の格子要素を含み、
異なる寸法特性を有する２つ以上の第１の格子要素を含む２つ以上の隣接する周期を含む、調整された光回折格子。
【請求項１３】
前記異なる寸法特性が、異なる格子要素の幅及び／又は高さを含む、請求項１２に記載の光回折格子。
【請求項１４】
少なくとも３つの第２の格子要素を各周期内にさらに含み、前記少なくとも３つの第２の格子要素のうち少なくとも１つは前記第１の格子要素同士の間に配置され、前記少なくとも３つの第２の格子要素のうち少なくとも２つは前記第１の格子要素の互いに反対の側面上（on opposite lateral sides of the first grating elements）に配置され、
前記第１の格子要素及び前記第２の格子要素は、同じ材料又は異なる材料で作られ、かつ各周期内で単一の一体化格子要素を形成し、
前記格子は、異なる寸法特性を有する一体化格子要素をそれぞれ含む２つ以上の隣接する周期を含む、請求項１２又は請求項１３に記載の光回折格子。
【請求項１５】
回折導波路ディスプレイのインカップリング格子、射出瞳拡大素子（exit pupil expander）格子、又はアウトカップリング格子である、請求項１２〜請求項１４のいずれか一項に記載の光回折格子。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５８】
先行技術文献リスト
特許文献
米国特許公報第７９７２９５９Ｂ２号
非特許文献
K. Jefimovs, “A zone doubling technique to produce ultra-high resolution x-ray optics” Physical Review Letters, 99 (2007)
C. David, "Fabrication of stair-case profiles with high aspect ratios for blazed diffractive optical elements", Microelectronic Engineering, 53 (2000)
本開示に係る態様は以下の態様も含む。
＜１＞
基板を提供すること、
複数の一時的要素を前記基板上に製造すること、ここで前記一時的要素は異なる要素特性を有する２つ以上の周期を含む周期的パターンで配置される、
第１の堆積層で前記一時的要素を少なくとも部分的に覆うように、前記基板上に前記第１の堆積層を堆積すること、
前記第１の堆積層で作られる第１の格子要素からなる調整された回折格子を前記基板上に形成するために、前記基板から前記一時的要素を除去すること、ここで前記格子は複数の第１の格子要素と前記第１の格子要素間の１つ以上のギャップとを各周期内に含む、
を含む、調整された光回折格子を製造する方法。
＜２＞
各周期内の前記ギャップを少なくとも部分的に埋めるために、前記基板上に第２の堆積層を堆積することをさらに含む、＜１＞に記載の方法。
＜３＞
前記第１の堆積層及び前記第２の堆積層が、同じ堆積材料を用いて堆積される、＜２＞に記載の方法。
＜４＞
前記一時的要素が、前記回折格子としてライン格子を形成するための線要素である、＜１＞〜＜３＞のいずれか一項に記載の方法。
＜５＞
異なる要素特性を有する前記２つ以上の周期が、異なる幅及び／又は数を有する要素を含み、それによって、フィルファクタが調整された回折格子が形成される、＜１＞〜＜４＞のいずれか一項に記載の方法。
＜６＞
異なる要素特性を有する前記２つ以上の周期が、異なる高さを有する要素を含み、それによって、高さが調整された回折格子が形成される、＜１＞〜＜５＞のいずれか一項に記載の方法。
＜７＞
前記第１の堆積層、及び任意で前記第２の堆積層が、コンフォーマル層である、＜１＞〜＜６＞のいずれか一項に記載の方法。
＜８＞
前記一時的要素を露出させるために、前記第１の堆積層を堆積した後の前記基板から、前記第１の堆積層の均一な層を、ドライエッチングなどで、異方的に除去することを含む、＜１＞〜＜７＞のいずれか一項に記載の方法。
＜９＞
前記第２の堆積層を堆積するときに、前記第１の格子要素間の前記ギャップが完全に埋められる、＜１＞〜＜８＞のいずれか一項に記載の方法。
＜１０＞
前記第２の堆積層を堆積した後の前記基板から、前記第２の堆積層の均一な層を、ドライエッチングなどで、異方的に除去することを含む、＜１＞〜＜９＞のいずれか一項に記載の方法。
＜１１＞
前記第１の堆積層、及び任意で前記第２の堆積層が、原子層堆積（ＡＬＤ）、化学蒸着（ＣＶＤ）、物理蒸着（ＰＶＤ）、又はこれらの変形法によって堆積される、＜１＞〜＜１０＞のいずれか一項に記載の方法。
＜１２＞
前記一時的要素は、エンボス加工、又は、光学リソグラフィ、電子ビームリソグラフィ、ナノインプリントリソグラフィなどのリソグラフィによって製造される、＜１＞〜＜１１＞のいずれか一項に記載の方法。
＜１３＞
一時的要素は、ウェットエッチングプロセス又はドライエッチングプロセスなど、選択的エッチングによって完全に除去される、＜１＞〜＜１２＞のいずれか一項に記載の方法。
＜１４＞
前記第１の堆積層、及び任意で前記第２の堆積層が、例えばＴｉＯ２、Ｓｉ３Ｎ４、又はＨｆＯ２のような、金属酸化物又は金属窒化物などの無機透明材料で形成され、前記材料は好ましくは１．７以上、特に２．０以上、例えば２．２以上の屈折率を有する、＜１＞〜＜１３＞のいずれか一項に記載の方法。
＜１５＞
前記基板がガラス基板又はポリマー基板など、光学的に透明な基板であり、特に導光体として働くことが可能な平坦基板である、＜１＞〜＜１４＞のいずれか一項に記載の方法。
＜１６＞
前記第１の堆積層、及び任意で前記第２の堆積層が、前記基板の材料の屈折率よりも高い屈折率を有する、＜１＞〜＜１５＞のいずれか一項に記載の方法。
＜１７＞
製造された前記回折格子の面積が１ｃｍ２以上であり、２ｃｍ２〜５００ｃｍ２などであり、前記パターンの前記周期が１０μｍ以下であり、特に１μｍ以下であり、２００ｎｍ〜８００ｎｍなどである、＜１＞〜＜１６＞のいずれか一項に記載の方法。
＜１８＞
製造された前記格子は、前記格子要素の平均フィルファクタが異なる複数のゾーンを含む、＜１＞〜＜１７＞のいずれか一項に記載の方法。
＜１９＞
ニア・ツー・アイディスプレイ又はヘッドアップディスプレイのアウトカップリング格子（out-coupling grating）、インカップリング格子（in-coupling grating）又は射出瞳拡大素子（exit pupil expander）のための回折格子が製造される、＜１＞〜＜１８＞のいずれか一項に記載の方法。
＜２０＞
周期的なパターンで配置され、基板上に突出する、複数の格子要素を含み、
前記パターンの各周期が、互いに間隔を置いて配置され、実質的に同じ寸法特性を有する、２つ以上の第１の格子要素を含み、
異なる寸法特性を有する２つ以上の第１の格子要素を含む２つ以上の隣接する周期を含む、調整された光回折格子。
＜２１＞
前記異なる寸法特性が、異なる格子要素の幅及び／又は高さを含む、＜２０＞に記載の格子。
＜２２＞
少なくとも３つの第２の格子要素を各周期内にさらに含み、前記少なくとも３つの第２の格子要素のうち少なくとも１つは前記第１の格子要素同士の間に配置され、前記少なくとも３つの第２の格子要素のうち少なくとも２つは前記第１の格子要素の互いに反対の側面上（on opposite lateral sides of the first grating elements）に配置され、
前記第１の格子要素及び前記第２の格子要素は、同じ材料又は異なる材料で作られ、かつ各周期内で単一の一体化格子要素を形成し、
前記格子は、異なる寸法特性を有する一体化格子要素をそれぞれ含む２つ以上の隣接する周期を含む、＜２０＞又は＜２１＞に記載の格子。
＜２３＞
＜１＞〜＜１９＞のいずれか一項に記載の方法で製造された格子である、＜２０＞〜＜２２＞のいずれか一項に記載の格子。
＜２４＞
回折導波路ディスプレイのインカップリング格子、射出瞳拡大素子（exit pupil expander）格子、又はアウトカップリング格子である、＜２０＞〜＜２３＞のいずれか一項に記載の格子。