(57)【要約】【課題】拡散層の微細パターンを簡易、且つ安価に形成できる導光板を提供する。【解決手段】本発明に係る導光板１００は、面光源装置を構成するべく、光源９が端面に配置される導光板である。導光板基材１の裏面若しくは表面、又は両面に光拡散微粒子２１及び透光性バインダ２２を含む塗布液２を塗布することによって拡散層３が塗工されている。光拡散微粒子２１は凝集体２１０とされ、導光板基材１の塗工面における凝集体２１０が占める平面積と塗布液２の塗布面積との比率は０．１％以上７０％以下である。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
面光源装置を構成するべく、光源が端面に配置される導光板であって、
導光板基材の裏面若しくは表面、又は両面に光拡散微粒子及び透光性バインダを含む塗布液を塗布することによって拡散層が塗工されており、
前記光拡散微粒子は凝集体とされ、前記導光板基材の塗工面における前記凝集体が占める平面積と前記塗布液の塗布面積との比率は０．１％以上７０％以下である導光板。
【請求項２】
前記塗布液は、当該塗布液をノズルから噴霧させるスプレー塗工法によって、前記導光板基材の裏面若しくは表面、又は両面に塗布することを特徴とする請求項１に記載の導光板。
【請求項３】
前記塗布液の塗布面積と前記導光板基材の塗工面の面積との塗工面積比率が５％以上９５％以下であることを特徴とする請求項１又は２に記載の導光板。
【請求項４】
１つの前記凝集体に含まれる光拡散微粒子の個数は１０個以上１００００個以下であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の導光板。
【請求項５】
前記光源から離れるにつれて、前記導光板基材の塗工面における前記凝集体が占める平面積と前記塗布液の塗布面積との比率又は前記塗布液の塗布面積と前記導光板基材の塗工面の面積との塗工面積比率が高くなることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の導光板。
【請求項６】
前記光源の近傍における前記塗工面積比率Ｓ１が５％以上５０％以下であり、前記光源から最も離れた位置における前記塗工面積比率Ｓ２が２０％以上９５％以下であり、Ｓ２＞Ｓ１であることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の導光板。
【請求項７】
前記光源の近傍における前記塗工面の（２π／３６０）×６０ｒａｄグロス値ＧＳ１が４０以上９０以下であり、前記光源から最も離れた位置における前記塗工面の（２π／３６０）×６０ｒａｄグロス値ＧＳ２が１０以上６０以下であり、ＧＳ２＞ＧＳ１であることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の導光板。
【請求項８】
前記光源の近傍における面方向のヘイズ値Ｈ１が５％以上３０％以下であり、前記光源から最も離れた位置における面方向のヘイズ値Ｈ２が１０％以上４０％以下であり、Ｈ２＞Ｈ１であることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の導光板。
【請求項９】
前記凝集体の屈折率と前記透光性バインダの屈折率との差が０．００１以上０．５以下であることを特徴とする請求項１に記載の導光板。
【請求項１０】
前記凝集体における微細凹凸の算術平均表面粗さが０．０１μｍ以上１０μｍ以下であることを特徴とする請求項９に記載の導光板。
【請求項１１】
前記透光性バインダの屈折率と前記導光板基材の屈折率との差が±０．１以内であることを特徴とする請求項１に記載の導光板。
【請求項１２】
前記光源の近傍における照度と前記光源から最も離れた位置における照度との比が０．８以上１．２以下であり、かつ、導光長９００ｍｍ以上であることを特徴とする請求項１乃至１１のいずれか１項に記載の導光板。
【請求項１３】
前記導光板基材の曲率は±１．６１×１０−４（１／ｍｍ）以内であることを特徴とする請求項１に記載の導光板。
【請求項１４】
前記拡散層は塗布部と未塗布部とがランダムに配置されていることを特徴とする請求項１乃至１３のいずれか１項に記載の導光板。
【請求項１５】
前記光源の近傍における前記塗工面積比率Ｓ１と、前記光源から最も離れた位置における前記塗工面積比率Ｓ２との比Ｓ２／Ｓ１の値が８０％以上１２０％以下であることを特徴とする請求項６に記載の導光板。
【請求項１６】
面光源装置を構成するべく、光源が端面に配置される導光板の製造方法であって、
導光板基材の裏面若しくは表面、又は両面に光拡散微粒子及び透光性バインダを含む塗布液を微細液滴状態で塗布することによって拡散層を塗工し、前記光拡散微粒子は凝集体とし、前記導光板基材の塗工面における前記凝集体が占める平面積と前記塗布液の塗布面積との比率を０．１％以上７０％以下とする導光板の製造方法。
【請求項１７】
前記塗布液は、当該塗布液をノズルから噴霧させるスプレー塗工法によって、前記導光板基材の裏面若しくは表面、又は両面に塗布することを特徴とする請求項１６に記載の導光板の製造方法。
【請求項１８】
前記ノズルから前記導光板基材における塗工面までの間隔は７０ｍｍ以上３００ｍｍ以下であることを特徴とする請求項１６又は１７に記載の導光板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示パネルや看板などの背面から光を照射する面光源装置、所謂バックライト装置用の導光板及び導光板の製造方法に関し、特に導光板の少なくとも表面又は裏面に拡散層を形成した導光板及び導光板の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示パネルや看板などの背面から光を照射するバックライト装置は、光源を面状に配置して拡散板等によって面均一発光を形成する直下型と、線光源を導光板の端面に配置したエッジライト又はサイドライトと呼ばれる導光板方式が知られている。
【０００３】
近年では、より薄型で軽量、省エネ型のものが望まれてきており、そのようなバックライト装置として導光板方式が着目されている。特に、光源として従来の蛍光灯や冷陰極管に代わり、高輝度で長寿命、省エネの観点からＬＥＤ（Light Emitting Diode）が注目されつつある。
【０００４】
バックライト装置用の導光板は、導光板内部に拡散材を分散させたり、表面や裏面の少なくとも一方に拡散層もしくは拡散パターンを設けたりしている。この導光板は、端面に設けられた冷陰極管やＬＥＤアレイ光源から当該導光板内へ光を入光させ、出射側へ光を出射させて面光源装置を形成するものである。
【０００５】
このような透過型液晶表示パネルや看板などに用いられる導光板方式のバックライト装置として、光出射面の明るさが均一となるよう、光源から離れるほど拡散層である白ペイント層の面積やピッチを変化させる技術が知られている（特許文献１を参照）。
【０００６】
拡散層や拡散パターンによってグラデーション分布を設ける方法として、予めグラデーションパターンを設けた金型によって、射出成型やプレス成型によって凹凸パターンを転写する方法、光拡散性のインクをスクリーン印刷法によってドット印刷する方法（特許文献２を参照）などが知られている。
【特許文献１】特開昭５７−１２８３８３号公報
【特許文献２】特許第３７３４５４７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
導光板基材に形成された拡散層は、当該拡散層のパターンが目立たないよう個々の拡散部を微細化、小ピッチ化する必要がある。ところで近年、表示装置には薄型化が要求されている。しかし導光板を薄くすると当該拡散層のパターンが目立ち易くなるため、当該拡散層のパターンを一層微細化、小ピッチ化する必要がある。
しかし、版や金型を用いた射出成型やプレス成型、及びスクリーン印刷法では、拡散層のパターンを十分微細化することが困難である。また、設計パターンに不備がある場合には、再設計はもとより、高額な版や金型、及びスクリーン版を作り直すこととなり、コストアップに繋がっていた。
【０００８】
本発明は、拡散層の微細パターンを簡易、且つ安価に形成できる導光板及び導光板の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明に係る導光板は、面光源装置を構成するべく、光源が端面に配置される導光板であって、導光板基材の裏面若しくは表面、又は両面に光拡散微粒子及び透光性バインダを含む塗布液を塗布することによって拡散層が塗工されており、前記光拡散微粒子は凝集体とされ、前記導光板基材の塗工面における前記凝集体が占める平面積と前記塗布液の塗布面積との比率は０．１％以上７０％以下である。複数の光拡散微粒子の凝集体は、高いアスペクト比を有し、微細パターンの拡散層を成す。それ故に、従来のように版や金型を作成しなくても、塗布液を導光板基材に塗布すると、微細パターンの光拡散能力に優れた拡散層を簡単、且つ安価に形成できる。
【００１０】
前記塗布液は、当該塗布液をノズルから噴霧させるスプレー塗工法によって、前記導光板基材の裏面若しくは表面、又は両面に塗布すること、が好ましい。スプレー塗工法は、軽量で小さなノズルをＸ−Ｙ方向に走査するだけであるから、安価な設備で目的が達せられる。すなわち、スプレー塗工法は、大型導光板にも安価な設備にて適用される。
【００１１】
前記塗布液の塗布面積と前記導光板基材の塗工面の面積との塗工面積比率が５％以上９５％以下であること、が好ましい。
１つの前記凝集体に含まれる光拡散微粒子の個数は１０個以上１００００個以下であること、が好ましい。
【００１２】
前記光源から離れるにつれて、前記導光板基材の塗工面における前記凝集体が占める平面積と前記塗布液の塗布面積との比率又は前記塗布液の塗布面積と前記導光板基材の塗工面の面積との塗工面積比率が高くなること、が好ましい。これにより、導光板の輝度を略均一とすることができる。
前記光源の近傍における前記塗工面積比率Ｓ１が５％以上５０％以下であり、前記光源から最も離れた位置における前記塗工面積比率Ｓ２が２０％以上９５％以下であり、Ｓ２＞Ｓ１であること、が好ましい。
前記光源の近傍における前記塗工面の（２π／３６０）×６０ｒａｄグロス値ＧＳ１が４０以上９０以下であり、前記光源から最も離れた位置における前記塗工面の（２π／３６０）×６０ｒａｄグロス値ＧＳ２が１０以上６０以下であり、ＧＳ２＞ＧＳ１であること、が好ましい。
前記光源の近傍における面方向のヘイズ値Ｈ１が５％以上３０％以下であり、前記光源から最も離れた位置における面方向のヘイズ値Ｈ２が１０％以上４０％以下であり、Ｈ２＞Ｈ１であること、が好ましい。
【００１３】
前記凝集体の屈折率と前記透光性バインダの屈折率との差が０．００１以上０．５以下であること、が好ましい。
前記凝集体における微細凹凸の算術平均表面粗さが０．０１μｍ以上１０μｍ以下であること、が好ましい。
前記透光性バインダの屈折率と前記導光板基材の屈折率との差が±０．１以内であること、が好ましい。
前記光源の近傍における照度と前記光源から最も離れた位置における照度との比が０．８以上１．２以下であり、かつ、導光長９００ｍｍ以上であること、が好ましい。
前記導光板基材の曲率は±１．６１×１０−４（１／ｍｍ）以内であること、が好ましい。
前記拡散層は塗布部と未塗布部とがランダムに配置されていること、が好ましい。
前記光源の近傍における前記塗工面積比率Ｓ１と、前記光源から最も離れた位置における前記塗工面積比率Ｓ２との比Ｓ２／Ｓ１の値が８０％以上１２０％以下であること、が好ましい。
【００１４】
本発明に係る導光板の製造方法は、面光源装置を構成するべく、光源が端面に配置される導光板の製造方法であって、導光板基材の裏面若しくは表面、又は両面に光拡散微粒子及び透光性バインダを含む塗布液を微細液滴状態で塗布することによって拡散層を塗工し、前記光拡散微粒子は凝集体とし、前記導光板基材の塗工面における前記凝集体が占める平面積と前記塗布液の塗布面積との比率を０．１％以上７０％以下とする。複数の光拡散微粒子の凝集体は、高いアスペクト比を有し、微細パターンの拡散層を成す。それ故に、従来のように版や金型を作成しなくても、塗布液を導光板基材に塗布すると、微細パターンの光拡散能力に優れた拡散層を簡単、且つ安価に形成できる。
【００１５】
前記塗布液は、当該塗布液をノズルから噴霧させるスプレー塗工法によって、前記導光板基材の裏面若しくは表面、又は両面に塗布すること、が好ましい。スプレー塗工法は、軽量で小さなノズルをＸ−Ｙ方向に走査するだけであるから、安価な設備で目的が達せられる。すなわち、スプレー塗工法は、大型導光板にも安価な設備にて適用される。
前記ノズルから前記導光板基材における塗工面までの間隔は７０ｍｍ以上３００ｍｍ以下であること、が好ましい。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、拡散層の微細パターンを簡易、且つ安価に形成できる導光板及び導光板の製造方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下に、本発明に係る導光板及び導光板の製造方法の実施形態を図面に基づいて説明する。但し、本発明が以下の実施形態に限定される訳ではない。また、説明を明確にするため、以下の記載及び図面は、適宜、簡略化されている。
【００１８】
先ず、本発明の技術的思想を想到した経緯について説明し、その後、各実施形態の詳細を説明する。
導光板基材に拡散層を形成する技術には、スクリーン印刷法やオフセット印刷法等が挙げられるが、いずれも最初に印刷版や金型といったマスターとなるパターンを作成する必要がある。例えば、スクリーン印刷版ではレーザー描画やインクジェットプリンターで精密に光学設計されたパターンを作画し、感光乳剤を塗布したシルク上にできたパターン画を選択感光、洗浄して当該導光板に拡散層を形成する。
【００１９】
これらの工程においては、それぞれ微細化に限界があり、例えばレーザー描画の線幅や乳剤の感光感度による制約や、洗浄時のこびりつき等の問題をクリアしなければならない。また仮に当該版ができたとしても、微細化に伴う印刷不良や転写率変動による製品の性能変動といった印刷工程や性能の問題を誘発し、印刷技術の向上も同時に必要となる。さらに設計パターンや作成した版が不良であった場合には、高額なマスター版を作り直すことになる。これらの問題を回避するためには、マスター版を必要としない拡散層形成手法が本質的にふさわしい。
【００２０】
一方で大サイズ導光板においては光出射面の輝度を均一にしたいとの観点から、拡散層にグラデーションパターンを形成することがある。すなわち、光源近傍は低い光拡散能力のパターンとし、光源から離れるにつれて、高い光拡散能力のパターンを形成する方法である。光拡散能力を小さくするには、例えばパターンのピッチや面積を小さくするといった幾何学的パターンニングで行う方法と、拡散材や反射材の濃度を下げる等の拡散層の光拡散能力自体を物理的に低下させる方法が挙げられる。しかし、拡散材や反射材の濃度変更は著しく生産性を落とすため、塗布部の面積密度やピッチ、高さで調整するのが一般的である。ところが前記の理由で精密パターニング印刷が障壁となり、導光板の大型化が困難となっている。
【００２１】
そこで、本発明はこれらの問題に鑑み、版や金型を作成することなく、微細パターンの拡散層を簡易、且つ安価に形成できる導光板及び導光板の製造方法を提供しようとした。
即ち、本発明に係る導光板及び導光板の製造方法は、以下のような構成及び工程とした。
【００２２】
＜実施形態１＞
本発明の実施形態１を以下に説明する。本発明に係る導光板は、液晶表示パネルや看板などの背面から光を照射するバックライト装置を構成するべく、光源が端面に配置される導光板である。
【００２３】
この導光板は、図１及び２に示すように、導光板基材１の裏面若しくは表面、又は両面に光拡散微粒子２１及び透光性バインダ２２を含む塗布液２を微細液滴状態で塗布することによって拡散層３を塗工し、当該光拡散微粒子２１は凝集体２１０とする。
【００２４】
具体的に云うと、先ず導光板基材１を用意する。導光板基材１としては、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリカーボネート樹脂など一般の透明樹脂基板が好適に用いられる。特に、大型導光板基板としては、最も透明性に優れるポリメチルメタクリレート樹脂基板がより好適である。また導光板基材１のソリが曲率（最も湾曲している部分の曲率）で±１．６１×１０−４（１／ｍｍ）以内であることが好ましい。
【００２５】
次に、導光板基材１の裏面若しくは表面、又は両面（但し、本実施形態では表面のみであり、塗工面という。）に光拡散微粒子２１及び透光性バインダ２２を含む塗布液２を塗布する。ちなみに、本実施形態の拡散層３は、図２に示すように、塗布部と未塗布部とがランダムに配置されるように、塗布液２を塗布した。但し、図２の図示例では島状の塗布部がランダムに配置されているが、図３に示すように、島状の未塗布部がランダムに配置されていてもよい。
【００２６】
ここで、面光源装置に用いられる導光板とは、臨界角以下の角度で入光した光が気相と個相との界面(以下、気個界面という場合がある。)で全反射を繰り返しながら当該導光板内を進行することを利用して光源から離れたところまで光を伝播させ、光を取り出したい界面の全反射を阻害することで光を取り出す部材である。従って、発光させたい部分に拡散層を形成するのは勿論であるが、発光させたくない部分では界面をそのまま残す技術が必要となる。すなわち、拡散層を形成するのは勿論であるが、意図的に気個界面を残す技術が必要である。この要求に対応する拡散層形成手法としては、塗布液を気体の噴出とともに噴霧するスプレーコート法が好ましい。
【００２７】
一般的に版を用いない塗工装置は、全面均一に塗ることを目的としており、意図的に未塗布部を作ることは困難である。塗布液不足による掠れでも未塗布部はできるが、制御が極めて不安定であり、また時折、不測の事態としてピンホール等の未塗布部が発生することがあるが、本来は制御不能の欠点である。一方、スプレーコート法は微細液滴状態の塗布液を噴霧するため、極小単位の塗布部と未塗布部を本質的に内包しているという優れた特長がある。
【００２８】
そのため、本実施形態においては、スプレーコート法によって塗布液２を導光板基材１に塗布する。すなわち、塗工装置としては、流量安定性に優れ、ノズルの詰まりなどの心配がないものを好適に用いるが、塗布液２を均一な微細液滴状態に噴霧でき、導光板基材１の平面領域外に塗布液２が飛散することが殆どない、塗布効率が高いスプレーコータ４が用いられる。但し、拡散層形成手法は、スプレーコート法に限らず、要するに塗布液２を微細液滴状態で導光板基材１に塗布できるスプレー塗工法であれば良い。
【００２９】
スプレーコータ４は、ノズル５に気体を圧送して噴出させ、当該噴出された気体に、貯蔵槽６からポンプ等によってノズル５に圧送された塗布液２を同伴させて、導光板基材１に噴霧する構成とされている。ノズル５に圧送される気体及び塗布液２の流量は、それぞれ流量制御部７、８によって、制御される。
【００３０】
ノズル５は、旋回流（スパイラルフロー）タイプのものが望ましい。旋回流ノズルは噴霧流体が渦巻き状となり噴霧角が狭くなるので、光拡散微粒子２１が凝集し易く、また導光板基材１に到着するときの法線方向の流速が低いことから、光拡散微粒子２１の凝集を壊すことなく導光板基材１に付着させることができる。
【００３１】
ノズル５は、Ｘ方向及びＹ方向に移動可能な構成とされており、導光板基材１の平面全領域（但し、一部分でも良い。）に塗布液２を噴霧できる構成とされている。ノズル５は、さらに上下方向に移動可能な構成とされており、ノズル５と導光板基材１との間隔を変化させることができる構成とされていることが好ましい。ちなみに、ノズル５のＸ・Ｙ方向への駆動機構、及び上下方向への駆動機構は、特に限定されない。但し、本実施形態では、ノズル５をＸ・Ｙ方向及び上下方向へ移動可能な構成としたが、導光板基材１を支持するステージ（図示を省略）をＸ・Ｙ方向及び上下方向へ移動可能な構成としても良い。
【００３２】
気体としては、例えば乾燥空気、乾燥窒素などを使用できる。可燃性の溶媒を使用する場合は静電気などによる着火を防ぐため、乾燥窒素を使用することが好ましい。なお、後述するように光拡散微粒子２１の凝集を促進させるため、キャリアとなる気体を噴霧前に例えば３０℃以上１２０℃以下に加熱してもよい。
【００３３】
塗布液２は、上述したように光拡散微粒子２１及び透光性バインダ２２を含む混合物である。光拡散微粒子２１は、光を透過拡散する部材である。光拡散微粒子２１としては、シリカ、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、酸化チタン、酸化アルミニウム等の無機系微粒子や、シリコーンビーズ、ＰＭＭＡビーズ、ＭＳビーズ、スチレンビーズ等の有機系微粒子を用いることができる。
【００３４】
なお、導光板基材１の表面（光出射面）に塗布液２を塗布する場合は、光拡散微粒子２１として透過散乱する透明ガラス微粒子、透明樹脂微粒子を使用することが好ましい。導光板基材１の裏面（光反射面）に塗布液２を塗布する場合は、光拡散微粒子２１として反射散乱する白色粒子、顔料を使用することが好ましい。
【００３５】
光拡散微粒子２１の形状は、真球状、球状、鱗片状、不定形状等であってよく、特に限定されるものではない。
光拡散微粒子２１の平均粒径は、１μｍ以上５０μｍ以下が好ましい。当該平均粒径が前述した下限値より小さいと、光を拡散する能力が不足したり、拡散光が着色したりする恐れがある。当該平均粒径が前述した上限値より大きいと、ノズルを使用した際に詰まり易くなったり、塗布密度が小さい部分で当該光拡散微粒子２１による拡散光が輝点となって目立ったりする恐れがある。特に当該平均粒径は、１μｍ以上２０μｍ以下が好ましい。
【００３６】
塗布液２に対して光拡散微粒子２１が占める割合としては、１ｗｔ％以上２０ｗｔ％以下が好ましい。当該割合が前述した範囲から外れていると、光拡散微粒子２１の凝集体の生成が起こり難い場合がある。また当該割合が前述した下限値より低いと、高いアスペクト比を得難く、光拡散能力が不足する場合がある。
【００３７】
透光性バインダ２２は、光拡散微粒子２１を導光板基材１に接着する部材である。透光性バインダ２２としては、例えば溶剤型接着剤、熱硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂などを使用できる。また透光性バインダ２２としては、後述するように、溶剤希釈中は密着せずに溶剤乾燥後に密着力を発現する樹脂成分、例えばアクリル系粘着剤を用いてもよい。透光性バインダ２２は光透過率の高いものが好ましい。
【００３８】
導光板の導光方向の長さが６００ｍｍ以下の場合は、透光性バインダ２２の屈折率と光拡散微粒子２１の屈折率との差が±０．１以上であることが好ましい。光の拡散効果が表面の凹凸および屈折率差の両方により発揮されるため、比較的短い導光距離で面方向に効率よく光を取り出すことができるためである。導光板の導光方向の長さが３００ｍｍ以上の場合は、透光性バインダ２２の屈折率と光拡散微粒子２１の屈折率との差が±０．１以内であることが好ましい。光の拡散効果が主として表面の凹凸のみにより発揮されるため、徐々に光を取り出すことができ、比較的長い導光距離に向いている。光源付近では屈折率差の小さい光拡散微粒子２１を主に使用し、光源から離れた位置では屈折率差の大きい光拡散微粒子２１を主に使用してもよい。導光方向で光の拡散効果をよりダイナミックに変化させることができ、長い導光距離でかつ高い光の取り出し効率を両立できる。
【００３９】
透光性バインダ２２の粘度は１ｍＰａ・ｓ以上１００ｍＰａ・ｓ以下が好ましい。当該粘度が前述した下限値より小さいと、導光板基材１でレベリングが起き易く光拡散能力が低下する。また当該粘度が前述した上限値より大きいと、塗りムラを生じ易い。特に好ましくは１ｍＰａ・ｓ以上２０ｍＰａ・ｓ以下である。
透光性バインダ２２の屈折率と導光板基材１の屈折率との差が±０．１以内であることが好ましい。透光性バインダ２２と導光板基材１との界面での屈折反射を考慮しなくて良いので光学設計が簡単である。
【００４０】
ところで、スプレーコータを用いて透光性バインダのみを塗布した場合、導光板基材に塗布された透光性バインダがレベリング現象を生じる。当該レベリング現象によって光拡散を起こすのに十分な、すなわち全反射を阻害するのに十分な表面凹凸、特に凹凸高さ÷凹凸の平均ピッチ（以下、アスペクト比という場合がある。）を形成し難く、平坦化してしまう可能性がある。また、何度も透光性バインダを重ね塗りすると、その表面張力から微細液滴状態の塗布液同士が互いに密着して、やはり平坦化してしまう可能性がある。
【００４１】
これらを改善するために、高粘度の透光性バインダを塗布する方法や、光拡散微粒子を透光性バインダに添加（混合）し、凹凸を形成する方法が考えられる。しかし、透光性バインダの高粘度化は噴霧時に塗りムラを生じ易い。また、大きな径の光拡散微粒子を透光性バインダに添加した塗布液を塗布すると、スプレーコータのノズルの詰まりや透光性バインダ中に光拡散微粒子が沈降を起こす可能性がある。
【００４２】
そこで、本実施形態では溶媒で１．１〜１０倍程度に希釈した、例えば１ｍＰａ・ｓ以上２０ｍＰａ・ｓ以下の低粘度の透光性バインダに、１μｍ以上２０μｍ以下の小粒径の光拡散微粒子を添加し、ノズルから導光板基材までの間で噴霧した塗布液２の光拡散微粒子２１を再凝集させることで光拡散能力の高い拡散層３を得る（図２、３を参照）。
【００４３】
すなわち、ノズル５から噴霧された塗布液２は、溶媒の含有量が多いうちは分散した状態であるが、乾燥すると表面張力で一つの光拡散微粒子２１を核として再凝集し、葡萄のフサ状の凝集体２１０となり導光板基材１に付着する。このとき、溶媒が多量に残っていると付着後にレベリングを起こすため芳しくないので、ホットエアーを用いて凝集を促進させてもよい。
【００４４】
導光板基材１へ到達する時の速度が速いと、図４に示すように葡萄のフサが潰れて光拡散微粒子２１が個別に並んだようになり光拡散能力の低下を招く。これらはノズル５から導光板基材１までの間隔Ｔ（図１）を調整することで解消できる。例えば、ノズル５から導光板基材１までの間隔Ｔとしては、７０ｍｍ以上３００ｍｍ以下とすることが好ましい。当該間隔Ｔが前述した下限値より短いと、溶媒の乾燥が不十分となり、光拡散微粒子２１の凝集体の生成が起りにくく、各光拡散微粒子２１が透光性バインダ２２中に沈降して光拡散能力が著しく低下する場合がある。また、導光板基材１の塗工面への塗着速度が速いため凝集体が壊れ易い。当該間隔Ｔが前述した上限値より長いと、塗布液２が導光板基材１の塗工面に到達するまでの間に流速が著しく低くなり、塗布液２が当該導光板基材１の塗工面に塗着せず外方へ飛散する量が多くなるためである。
【００４５】
溶媒としては、ケトン系、アルコール系、エステル系等制約はないが、光拡散微粒子２１の再凝集を安定化させるために沸点６０℃以上２００℃以下のもので、沈降防止の点から比重０．８以上１．３のものが好ましい。当該沸点や比重が前述した上限値より高いと、溶媒の乾燥が不十分となり光拡散微粒子２１の凝集体の生成が起こり難い場合がある。当該沸点や比重が前述した下限値より低いと、比較的粘度が低いものが多く、光拡散微粒子２１の沈降が起きやすいなどの問題が生じる場合がある。特に当該沸点は１２０℃以上１７０℃以下が好ましい。さらに当該沸点は１３０℃以上１６０℃以下が好ましい。
【００４６】
溶媒に対する光拡散微粒子２１及び透光性バインダ２２の混合体の混合比率は、２ｗｔ％以上５０ｗｔ％以下が好ましい。当該混合比率が前述した上限値より多いと、光拡散微粒子２１の凝集体２１０の生成が起こり難い場合や、塗工性に劣る場合がある。当該混合比率が前述した下限値より少なくても光拡散微粒子２１の凝集体の生成は特に顕著にならず、溶媒の使用量増大によるコスト増が問題になる場合がある。特に当該混合比率は３ｗｔ％以上３０ｗｔ％以下が好ましい。
【００４７】
次に、塗布液２をスプレー塗布した導光板基材１は、当該溶剤を自然風乾や熱風などによって乾燥させる。透光性バインダ２２が紫外線硬化樹脂からなる場合は、その後の工程にて紫外線を照射して当該透光性バインダ２２を硬化させる。その結果、図２、３に示すように、一つの光拡散微粒子２１を核として複数の光拡散微粒子２１が葡萄のフサ状の凝集体２１０となり、導光板基材１の塗工面に付着する。この複数の光拡散微粒子２１の凝集体２１０は、高いアスペクト比を有し、微細パターンの拡散層３を成す。それ故に、従来のように版や金型を作成しなくても、塗布液２を導光板基材１に塗布すると、微細パターンの光拡散能力に優れた拡散層３を簡単、且つ安価に形成できる。しかも、スプレー塗工法により塗布液２を導光板基材１に重ね塗りしても、光拡散微粒子２１は凝集状態で密着するので平坦化し難い。そのため、良好にスプレー塗工法により塗布液２を導光板基材１に重ね塗りすることができる。
【００４８】
ここで、導光板基材１の塗工面における凝集体が占める平面積と塗布液２の塗布面積との比率Ｒは０．１％以上７０％以下とされる。当該比率Ｒが前述した下限値より少ないと、導光板１００の光拡散能力が不足する場合がある。当該比率Ｒが前述した上限値より大きいと、導光板１００の光拡散能力が大きくなりすぎ、導光長Ｌ（図５）が長い場合に光源から離れた位置での出射光量が不足する場合がある。
【００４９】
上述のように製造された導光板１００は、導光板基材１の表面に光拡散微粒子２１及び透光性バインダ２２を含む塗布液２を塗布することによって拡散層３が塗工されており、光拡散微粒子２１は凝集体２１０とされ、導光板基材１の塗工面における凝集体２１０が占める平面積と塗布液２の塗布面積との比率Ｒは０．１％以上７０％以下となる。この導光板１００は、例えば図５に示したように、一端部に設置されたＬＥＤアレイ等の線光源９と、裏面側に設置された拡散反射フィルム１０と、表面側に設置された拡散フィルム１１と、で面光源装置を構成する。複数の光拡散微粒子２１の凝集体２１０は、高いアスペクト比を有し、微細パターンの拡散層３を成す。それ故に、従来のように版や金型を作成しなくても、塗布液２を導光板基材１に塗布すると、微細パターンの光拡散能力に優れた拡散層３を簡単、且つ安価に形成できる。ちなみに、導光板基材１と拡散層３との間に、光拡散微粒子２１を含まない透光性バインダを、帯電防止層、ハードコート層などとして導光板基材１の上面全領域に均一な厚みで塗布してもよい。
【００５０】
なお、塗布液２の塗布面積（拡散層の平面積）と導光板基材１の塗工面の面積との塗工面積比率Ｓが５％以上９５％以下であることが好ましい。当該塗工面積比率Ｓが前述した下限値より少ないと、導光板１００の光拡散能力が不足する場合がある。当該塗工面積比率Ｓが前述した上限値より大きいと、透光性バインダ２２による光の吸収が無視できなくなり、明るさが不足する場合がある。
【００５１】
１つの凝集体２１０に含まれる光拡散微粒子２１の個数は１０個以上１００００個以下であることが好ましい。当該個数が前述した下限値より少ないと、導光板１００の光拡散能力が不足する場合がある。当該個数が前述した上限値より大きいと、ムラやザラザラ感、輝点といった外観不良を生じ易い。
【００５２】
一回の塗布で光拡散能力が不足する場合は、重ね塗りをしても良いが、重ね塗りをして、光拡散微粒子２１の凝集体同士が密着・一体化しても当該凝集体２１０の高いアスペクト比が保たれる。そのため、光拡散能力が高く外観不良を起こし難い利点がある。
【００５３】
一回の塗布で生成する凝集体中の光拡散微粒子２１の個数はムラが生じ難いなどの点で、１０個以上１０００個以下が好ましい。但し、凝集体同士の隣接、積層によって生じた凝集体２１０に含まれる光拡散微粒子２１の個数は１０００個を越えてもよい。
凝集体２１０に含まれる光拡散微粒子２１の個数は３００〜１０００倍程度の光学顕微鏡又はレーザー顕微鏡などの観察によって数えることができる他、凝集体２１０を採取して透光性バインダ２２を除去した後、光学顕微鏡などの観察によって数えることができる。
【００５４】
なお、導光板基材１の塗工面には光拡散微粒子２１の個数が１０個以上１００００個以下である凝集体以外に、単分散した光拡散微粒子２１や１０個未満の光拡散微粒子２１からなる凝集体２１０が存在していても良いが、光拡散微粒子の総数の２０％未満であることが好ましい。
【００５５】
凝集体の屈折率と透光性バインダの屈折率との差が０．００１以上０．５以下であることが好ましい。光拡散能力は、実質的に透明な材料と屈折率が異なる物質の屈折率差、物質の体積、物質の体積濃度、物質の形状（真球等の定形・不定形）や、表面の微細凹凸等により変化するが、当該屈折率差が前述した下限値より小さいと、屈折散乱性が少なく照度均一化効果が得難い。当該屈折率差が前述した上限値より大きいと、界面（気個界面）における反射が多くなることから、例えば３００ｍｍ以上といった比較的導光長が長い場合に照度均一化効果が得難い。
【００５６】
凝集体２１０における微細凹凸の算術平均表面粗さは０．０１μｍ以上１０μｍ以下であることが好ましい。当該算術平均表面粗さが前述した下限値より小さいと、反射散乱性が少なく全体的に暗くなりやすい。また、当該算術平均表面粗さが前述した上限値より大きいと、反射散乱要素が物理的に大きいことから、光源付近が局所的に明るい等、照度均一化効果が得難い。
【００５７】
＜実施形態２＞
本発明の実施形態２を以下に説明する。本実施形態の導光板及び導光板の製造方法は、実施形態１の導光板及び導光板の製造方法と略同様であるが、導光板の輝度が略均一となるように、光源から離れるにつれて、導光板基材の塗工面における凝集体が占める平面積と塗布液の塗布面積との比率Ｒ又は塗布液の塗布面積と導光板基材の塗工面の面積との塗工面積比率Ｓを高くした。
【００５８】
近年の表示装置の大型化に伴い、バックライトも大型化が要求されている。即ち導光長Ｌ（図５）を長くする必要があるが、導光板の光出射面の輝度を均一化するためには、特に導光板における光源近傍の拡散層の光拡散能力を小さくし、一方で導光板において光源から離れるほど光拡散能力を大きくする必要がある。そのため、導光板における光源から最も離れた位置では拡散層の光拡散能力を顕著に大きくする必要がある。当該拡散層のパターンニングが不適切である場合、またパターン設計できたとしても印刷精度が劣る場合には、導光板における光源近傍の端部のみが明るく中央部が暗い、すなわち導光板としての本質的性能が満たされないという問題や、光出射面の輝度ムラが発生するという問題がある。これらの観点から拡散層のパターンの微細化と、その拡散部を光源に近いほど粗であり、光源から離れるほど密になるパターン配置を正確に形成する必要がある。なお、「光源の近傍」とは、導光板の有効光出射部における最も光源寄りに位置する部位をいい、すなわち、光源が設置される側の端部をいう。「光源から最も離れた位置」とは、導光板の有効光出射部における最も光源から離れた部位をいい、すなわち、図５に示す導光板の場合は、光源９が設置される側の端部と対向する側の端部をいう。
【００５９】
本実施形態では、実施形態１と略同様にスプレー塗工法により塗布液２を導光板基材１に塗布し、一つの光拡散微粒子２１を核として複数の光拡散微粒子２１が葡萄のフサ状に凝集した凝集体２１０を、光源から離れるほど密になるグラデーション分布のパターン配置とする。
【００６０】
図６は、塗布液２を塗布する際の各パラメータ及び各種塗工法を整理したものである。ここでは、導光板基材１の左右両端面Ａ、ＢにＬＥＤアレイなどの線光源を設置する両端光源タイプの導光板を製造する場合を考える。
【００６１】
両端光源タイプの場合には、面内の輝度分布を一定にするため、光源から離れるにつれて、当該比率Ｒ又は塗工面積比率Ｓを高くする。他の条件は、光拡散微粒子２１が良好に凝集体２１０となって導光板基材１に付着するように設定する。なお、本実施形態では、Ｘ方向を導光板基材１の長さ方向、すなわち導光方向とし、Ｙ方向を導光板基材１の幅寸法方向とした。
【００６２】
図６（ｂ）の表中で、各パラメータとしては、ノズル５の走査方向、ノズル５の走査速度、ノズル５の送りピッチ、塗布液２の単位時間あたりの塗布量などが考えられる。これらのいずれか１つまたは複数のパラメータを制御し、他のパラメータを一定とする。
【００６３】
具体的に云うと、図６（ｂ）に示す塗工法（１）は、以下のように塗布液２を塗布するものである。
先ず、図７（ａ）に示すように、全てのパラメータを一定として、透明な導光板基材１の全体又は一部に均一に塗布液２を塗布する。次に、中央部周辺に同様にして均一に塗布液２を重ねて塗布する。すなわち、全てのパラメーラを一定として、中央部周辺で塗布液２の塗布を繰り返す。
【００６４】
これにより、光源から離れるにつれて、当該比率Ｒ又は塗工面積比率Ｓを高くしている。
なお、このような多層重ね塗りについては、塗布液２の塗布量、ノズル５の走査速度、ノズル５の送りピッチなどを変えて適宜調整しながら、重ね塗りを実施しても良い。
【００６５】
図６（ｂ）に示す塗工法（２）は、Ｘ方向への送りピッチのみを連続的に変化させ、他のパラメータを一定とした塗工法である。
塗布される光拡散微粒子２１の塗布密度は、ノズル５の送りピッチに逆比例して増減する。すなわち、図７（ｂ）に示すように、両端部においてはノズル５の送りピッチが広く、中央部周辺においてはノズル５の送りピッチが狭くするように、設計したグラデーション分布関数の逆比例関係となるように連続的に送りピッチを増減する。
【００６６】
これにより、光源から離れるにつれて、当該比率Ｒ又は塗工面積比率Ｓを高くしている。この塗工法（２）は、塗布液２の重ね塗りをしなくても、所望のパターン配置が得られて生産性が高く、しかも不連続点が生じない完全なグラデーション分布であるので、輝度ムラのない高品位の面光源装置が得られる。
【００６７】
図６（ｂ）に示す塗工法（３）は、ノズル５の走査毎に走査速度のみを変化させ、他のパラメータを一定とした塗工法である。
光拡散微粒子２１の塗布密度はノズル５の走査速度に反比例するので、図７（ｃ）に示すように、導光板基材１の両端部はノズル５の走査速度を早く、中央部周辺では遅くし、所望のグラデーション分布の逆比例関係によって、ノズル５の走査毎の走査速度を連続的に変化させながら塗布する。
【００６８】
これにより、光源から離れるにつれて、当該比率Ｒ又は塗工面積比率Ｓを高くしている。この塗工法（３）も、生産性と輝度ムラ品位の両面において好ましい。
【００６９】
図６（ｂ）に示す塗工法（４）は、ノズル５の走査毎に塗布液２の塗布流量のみを変化させ、他のパラメータを一定とした塗工法である。
すなわち、図７（ｄ）に示すように、ノズル５を所定のピッチで、端面Ａ側から中央部に送るにつれ、塗布液２の塗布量を多くし、中央部から光源が設置される端面Ｂ側に送るにつれ、塗布液２の塗布量を少なくする。逆に、端面Ａ側では塗布液２の塗布量を過剰にして光拡散微粒子２１の凝集体２１０を透光性バインダ２２に沈降させ、ノズル５を中央部に送るにつれ、当該塗布液２の塗布量を適量とし、ノズル５を中央部から端面Ｂ側に送るにつれ、再び塗布液２の塗布量を過剰にして光拡散微粒子２１の凝集体２１０を透光性バインダ２２に沈降させてもよい。
【００７０】
これにより、光源から離れるにつれて、当該比率Ｒ又は塗工面積比率Ｓを高くしている。塗工中に、塗布液２の塗布量設定を迅速、簡便に、しかも高精度で再現性よく設定可能であるスプレー塗工法においては、この塗工法（４）も、生産性と輝度ムラ品位の両面において好ましい。
【００７１】
図６（ｂ）に示す塗工法（５）は、ノズル５をＸ方向に移動させる走査を、Ｙ方向に所定の送りピッチで繰り返す塗工法である。具体的に云うと、ノズル５の走査中に連続的に走査速度を変化させ、他のパラメータは一定とする。
すなわち、図７（ｅ）に示すように、導光板基材１の両端部でノズル５の走査速度を速く、中央部周辺で遅くなるように所望のノズル５の走査中において、グラデーション分布関数の逆関数関係によって当該ノズル５の走査速度を連続的に変化させながらノズル５を走査する。
【００７２】
これにより、光源から離れるにつれて、当該比率Ｒ又は塗工面積比率Ｓを高くしている。この塗工法（５）も、生産性と輝度ムラ品位の両面において好ましい。
【００７３】
図６（ｂ）に示す塗工法（６）も、ノズル５をＸ方向に移動させる走査を、Ｙ方向に所定の送りピッチで繰り返す塗工法である。具体的に云うと、ノズル５の走査中に連続的に塗布液２の塗布量を変化させ、他のパラメータは一定とする。
すなわち、図７（ｆ）に示すように、ノズル５の走査中において、導光板基材１の両端部で塗布液２の塗布量を少なく、中央部周辺で多く噴出する。逆に、両端部では塗布液２の塗布量を過剰にして光拡散微粒子２１の凝集体２１０を透光性バインダ２２に沈降させ、中央部では当該塗布液２の塗布量を適量としてもよい。
【００７４】
これにより、光源から離れるにつれて、当該比率Ｒ又は塗工面積比率Ｓを高くしている。この塗工法（６）も、生産性と輝度ムラ品位の両面において好ましい。また、塗布液の塗布量を高速に可変できる場合には、この塗工法（６）によって所望のグラデーション分布が簡便に実現できる。
【００７５】
このような塗工法（１）乃至（６）を用いて製造された導光板は、導光板基材１の表面に光拡散微粒子及び透光性バインダを含む塗布液を塗布することによって拡散層が塗工されており、光拡散微粒子は凝集体とされ、導光板基材１の塗工面における凝集体が占める平面積と塗布液の塗布面積との比率は０．１％以上７０％以下となる。本実施形態でも、複数の光拡散微粒子の凝集体は、高いアスペクト比を有し、微細パターンの拡散層を成す。それ故に、従来のように版や金型を作成しなくても、塗布液を導光板基材１に塗布すると、微細パターンの光拡散能力に優れた拡散層を簡単、且つ安価に形成できる。
【００７６】
しかも、スプレー塗工法は、例えば５０インチサイズ以上の大型の導光板にも容易に適用できる。射出成型やプレス成型、ドット印刷等はいずれも大型の精密金型やスクリーン版が必要の他に、大型の設備が必要で、投資コストが高い。また、インクジェット印刷法においても、大判対応とするには巨額の投資が必要である。スプレー塗工法であれば、軽量で小さなノズルをＸ−Ｙ方向に走査するだけであるから、安価な設備で目的が達せられる。すなわち、本発明のスプレー塗工法は、大型導光板にも安価な設備にて適用される。特に、導光長Ｌが９００ｍｍ以上の導光板に好適であり、この場合、光源の近傍における照度と光源から最も離れた位置における照度との比が０．８以上１．２以下であることが好ましい。
【００７７】
ちなみに、光源の近傍における塗工面積比率Ｓ１が５％以上５０％以下であり、光源から最も離れた位置における塗工面積比率Ｓ２が２０％以上９５％以下であり、Ｓ２＞Ｓ１であることが好ましい。
【００７８】
また、光源の近傍における導光板基材の塗工面の（２π／３６０）×６０ｒａｄグロス値ＧＳ１が４０以上９０以下であり、光源から最も離れた位置における導光板基材１の塗工面の（２π／３６０）×６０ｒａｄグロス値ＧＳ２が１０以上６０以下であり、ＧＳ２＞ＧＳ１であってもよい。
【００７９】
さらに、光源の近傍における面方向のヘイズ値Ｈ１が５％以上３０％以下であり、光源から最も離れた位置におけるヘイズ値Ｈ２が１０％以上４０％以下であり、Ｈ２＞Ｈ１であってもよい。
【００８０】
ちなみに、本実施形態では光拡散微粒子の凝集体を一次元方向にグラデーション分布としたが、上述した各パラメータを制御することによって、二次元方向にグラデーション分布としてもよい。勿論、上述した塗工法（１）乃至（６）を組み合わせて、光拡散微粒子の凝集体のグラデーション分布を実現してもよい。
【００８１】
＜実施形態３＞
上記実施形態１では、光拡散微粒子２１の凝集体２１０を導光板基材１にランダムに付着させ、上記実施形態２では、光源９から離れるにつれて、導光板基材１の塗工面における凝集体２１０が占める平面積と塗布液２の塗布面積との比率Ｒ又は塗布液２の塗布面積と導光板基材１の塗工面の面積との塗工面積比率Ｓを高くしている。しかし、光拡散微粒子２１の凝集体２１０を導光板基材１に略均一に付着させてもよい。すなわち、光源９の近傍における塗工面積比率Ｓ１と、光源９から最も離れた位置における塗工面積比率Ｓ２との比Ｓ２／Ｓ１の値が８０％以上１２０％以下であるように構成される。
【００８２】
＜実施形態４＞
上記実施形態１乃至３の導光板の製造方法において、生産性を考えた場合、１つのノズルだけで広い面積の導光板基材の塗工面上を塗工することは時間がかかるので必ずしも得策ではない。図８は、例えばＹ方向、すなわち走査方向と略直交方向に等間隔に複数個のノズル５を並列に配置し、当該複数個のノズル５をＸ方向に走査するようにした一例である。但し、Ｙ方向に走査する構成でも良い。このようにマルチノズルとすることで塗布時間を大幅に短縮させることができる。隣接するノズル５と５の間隔は塗布時に互いに干渉しない十分広い間隔が必要であったり、場合によっては隣接するノズルをＸ方向にずらして互い違いに配置したりすることも考えられる。
【００８３】
これらの複数個のノズル５は、個別又は共通に制御され、塗布液を導光板基材１にスプレー塗布する。
【００８４】
１次元グラデーション分布の場合は、例えば塗工法（５）又は（６）を応用して並列に配置したノズル５をＸ方向に１回走査させる。このとき、各々のノズル５は同一の流量とする。次に、輝度ムラを生じさせない十分小さいＹ方向送りピッチ、例えば１０ｍｍほどＹ方向にずらして、塗工法（５）又は（６）によりＸ方向に走査する。これをノズル間隔分走査することで全面に均一に塗布することができる。
【００８５】
２次元グラデーション分布の場合は、Ｙ方向への光拡散微粒子の塗布密度分布に対応させるように各々のノズル５からの塗布液２の塗布量を、独立に、走査毎に制御することで可能となる。
【００８６】
図９は、透光性バインダが紫外線硬化型で、溶剤も併用した光拡散微粒子の塗布液を用いてスプレー塗布する場合の試作・製造プロセスを示す。先ず、塗布液２を導光板基材１にスプレー塗布した後に、温風などによって溶剤を乾燥させる。次いで、紫外線を照射して透光性バインダを硬化させて、光拡散微粒子を導光板基材の表面に永久接着させる。
【００８７】
多くの場合は、１回のグラデーション分布設計にて所望の輝度均一な導光板が得られることは少ない。しかし、本発明によれば図９に示すように、直ちに面輝度測定器１２を用いて輝度分布を測定評価し、所望の均一度が得られない場合には各パラメータに微調整を加えて、再度塗工する。これを必要に応じて繰り返せば、短時間にしかも容易に光拡散微粒子の凝集体のグラデーション分布を実現することが可能となる。
【実施例】
【００８８】
常盤（ステージ）上に導光板基材を置き、上方からノズルによって塗布液を噴霧した。全面に塗布液を塗布するためノズルを導光板基材の平面方向（即ち、Ｘ、Ｙ方向）に移動させながら噴霧し、また導光板基材の長さ方向（即ち、Ｘ方向）によって塗布量を変化させ、Ｘ方向における中央部で最も多く塗布されるよう、場所によりノズルの送りピッチ１０〜４０mmで１回〜８回の重ね塗りを行った。
【００８９】
以下に、本実施例に用いた部材及び条件を示す。
導光板基材：アクリル樹脂シート
導光板基材の寸法：長さ（導光方向の長さ）１２００ｍｍ、幅１０００ｍｍ、厚み８ｍｍ
塗布液：透光性バインダ＋溶媒＋光拡散微粒子（５ｗｔ％、固形分換算）
透光性バインダ：アクリル系紫外線硬化樹脂
溶媒：ケトン系溶剤
光拡散微粒子：樹脂微粒子（屈折率１．５６、平均粒径３μｍφ）
塗工面：出射面（導光板基材の表面）
塗布手段：スプレーコータ
吐出量：０．５〜４．０ｇｒ／分
ノズル移動：２００〜４００ｍｍ／ｓｅｃ
ノズル高さ：導光板基材の上面から１００〜２００ｍｍ
【００９０】
その結果、塗工による表面状態は光源近傍でグロス８５、長さ方向６００ｍｍ位置でグロス１５となった。
次いで導光板基材の両端部に白色ＬＥＤを線状に配置した光源を設置し、当該導光板基材の裏面側に白色拡散反射シート、表面側となる塗工面に光拡散フィルムを積層し、サイドライト式バックライトを作製した。
当該サイドライト式バックライトを正面２ｍ離れた位置から目視により観察したところ、全面で均一な輝度であり、輝点などの輝度ムラも目立たなかった。
【００９１】
以上、本発明に係る導光板及び導光板の製造方法の実施形態及び実施例を説明したが、上述した実施形態及び実施例に限られず、本発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の変更が可能である。
【図面の簡単な説明】
【００９２】
【図１】本発明に係る導光板の製造方法において、導光板基材の塗工面に塗布液をスプレー塗工する様子を示す概略図である。
【図２】（ａ）は、塗布液が導光板基材にスプレー塗工法で塗布された状態を示す側面図である。（ｂ）は、塗布液が導光板基材にスプレー塗工法で塗布された状態を示す平面図である。
【図３】（ａ）は、塗布液が導光板基材にスプレー塗工法で塗布された状態を示す側面図である。（ｂ）は、塗布液が導光板基材にスプレー塗工法で塗布された状態を示す平面図である。
【図４】（ａ）は、光拡散微粒子が個別に並んだ状態を示す側面図である。（ｂ）は、光拡散微粒子が個別に並んだ状態を示す平面図である。
【図５】本発明に係る導光板を用いた面光源装置を概略的に示す構造図である。
【図６】（ａ）は、塗布液をスプレー塗工法で塗布する際のノズルの走査方向及び送り方向を規定した図である。（ｂ）は、本発明の導光板の製造方法に用いる塗工法の条件を詳細に示す図である。
【図７】（ａ）〜（ｆ）は、図６（ｂ）に示した塗工法によるノズルの軌跡を示す図である。
【図８】複数個のノズルによって、導光板基材の塗工面に塗布液をスプレー塗工する様子を示す概略図である。
【図９】本発明に係る導光板の製造方法の各工程順を示す概略図である。
【符号の説明】
【００９３】
１  導光板基材
２  塗布液、２１  光拡散微粒子、２２  透光性バインダ
３  拡散層
４  スプレーコータ、５  ノズル、６  貯蔵槽、７、８  流量制御部
９  光源
１０  拡散反射フィルム
１１  拡散フィルム
１００  導光板
２１０  凝集体
【図１】
2010146771.tif 000003
【図２】
2010146771.tif 000004
【図３】
2010146771.tif 000005
【図４】
2010146771.tif 000006
【図５】
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【図６】
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【図７】
2010146771.tif 000009
【図８】
2010146771.tif 000010
【図９】
2010146771.tif 000011