(57)【要約】【課題】洗浄液や異物の残留を抑えることが可能な蒸着用マスクを提供する。【解決手段】枠体４０に、マスク本体５０と対向する面に、開口４１に沿って段差部４２を設け、この段差部４２により、枠体４０およびマスク本体５０の間に隙間Ｇを形成する。隙間Ｇには、段差部４２と同じ高さの間隙保持部４３を点在させる。蒸着用マスク１を洗浄する際、洗浄液は隙間Ｇを流れ、隙間Ｇまたは貫通孔４５から排出される。よって、洗浄液がリンス液に置換されずにマスク本体５０と枠体４０との間に残ってしまい、表面張力でマスク本体５０と枠体４０とが密着してしまうことによる精度悪化が抑えられる。また、残った洗浄液や異物などからのガス発生により、蒸着のための真空室内にフッ素系の材料などが混入し、有機発光素子の寿命に影響を及ぼすおそれも小さくなる。【選択図】図７
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
開口を有する枠体と、
金属薄膜により構成され、前記開口に対応する位置に、蒸着材料通過用に配列された複数の通過孔からなる少なくとも１のパターン領域を有し、前記パターン領域の周縁部において前記枠体に対して固定し張設されるマスク本体と
を備え、
前記枠体および前記マスク本体の少なくとも一方は、
前記枠体および前記マスク本体の他方と対向する面に、前記開口に沿って形成された段差部と、
前記段差部により前記枠体および前記マスク本体の間に形成された隙間に点在する、前記段差部と同じ高さの間隙保持部と
を備えた蒸着用マスク。
【請求項２】
前記枠体は、前記隙間と、前記マスク本体との対向面以外の面とを連通させる貫通孔を有する
請求項１記載の蒸着用マスク。
【請求項３】
前記段差部および前記間隙保持部は、前記枠体に形成されている
請求項１または２記載の蒸着用マスク。
【請求項４】
前記段差部および前記間隙保持部は、前記マスク本体に形成されている
請求項１または２記載の蒸着用マスク。
【請求項５】
前記パターン領域は、基板に第１電極、発光層を含む有機層および第２電極が順に積層された有機発光素子を用いた表示装置の前記有機層を形成するために用いられるものであり、前記段差部は、少なくとも、前記枠体または前記マスク本体と前記基板との重なり領域に形成されている
請求項１記載の蒸着用マスク。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機発光素子等における成膜工程に用いられる蒸着用マスクに係り、特に、金属薄膜等のマスク本体を枠体に張設してなる蒸着用マスクに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、低分子材料を用いた有機発光素子の製造には、蒸着用マスクによる真空蒸着法が広く用いられている。蒸着用マスクは、例えば、枠体に対して金属薄膜よりなるマスク本体を一定の張力をもって取り付けた構成を有している。マスク本体には、蒸着材料通過用に多数の通過孔が設けられている。
【特許文献１】特開２００５−１７１２９０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、従来の蒸着用マスクでは、ウェットプロセスによる洗浄後に、枠体とマスク本体との間に洗浄液や異物が残ってしまい、精度悪化やガス発生などの問題が生じていた。
【０００４】
なお、特許文献１では、異物を除去するため枠体に貫通孔を設けることが提案されているが、更に改善の余地があった。
【０００５】
本発明はかかる問題点に鑑みてなされたもので、その目的は、洗浄液や異物の残留を抑えることが可能な蒸着用マスクを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明による蒸着用マスクは、開口を有する枠体と、金属薄膜により構成され、開口に対応する位置に、蒸着材料通過用に配列された複数の通過孔からなる少なくとも１のパターン領域を有し、パターン領域の周縁部において枠体に対して固定し張設されるマスク本体とを備え、枠体およびマスク本体の少なくとも一方は、枠体およびマスク本体の他方と対向する面に、開口に沿って形成された段差部と、段差部により枠体およびマスク本体の間に形成された隙間に点在する、段差部と同じ高さの間隙保持部とを備えたものである。
【０００７】
本発明の蒸着用マスクでは、枠体およびマスク本体の少なくとも一方に、枠体およびマスク本体の他方と対向する面に、開口に沿って段差部が形成されていると共に、この段差部により枠体およびマスク本体の間に形成された隙間には、段差部と同じ高さの間隙保持部が点在しているので、ウェットプロセスによる洗浄の際に、洗浄液は、段差部により枠体およびマスク本体の間に形成された隙間を流れる。よって、洗浄液や異物が、枠体およびマスク本体の間に残ってしまうことが抑えられる。
【発明の効果】
【０００８】
本発明の蒸着用マスクによれば、枠体およびマスク本体の少なくとも一方に、枠体およびマスク本体の他方と対向する面に、開口の沿って段差部を形成すると共に、この段差部により枠体およびマスク本体の間に形成された隙間に、段差部と同じ高さの間隙保持部を点在させるようにしたので、ウェットプロセスによる洗浄後に、洗浄液や異物の残留を抑えることが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。なお、説明は以下の順序で行う。
１．第１の実施の形態（枠体に段差部を設けた例）
２．第２の実施の形態（マスク本体に段差部を設けた例）
【００１０】
（第１の実施の形態）
まず、本発明の第１の実施の形態に係る蒸着用マスクの説明に先立ち、このマスクにより製造される表示装置の一例を具体的に説明する。
【００１１】
この表示装置は、例えば極薄型の有機発光ディスプレイとして用いられるものであり、図１に示したように、例えば、ガラス，シリコン（Ｓｉ）ウェハあるいは樹脂などよりなる基板１１の上に、後述する複数の有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂがマトリクス状に配置されてなる表示領域１１０が形成されると共に、この表示領域１１０の周辺に、映像表示用のドライバである信号線駆動回路１２０および走査線駆動回路１３０が形成されたものである。
【００１２】
表示領域１１０内には画素駆動回路１４０が形成されている。図２は、画素駆動回路１４０の一例を表したものである。この画素駆動回路１４０は、後述する第１電極１３の下層に形成され、駆動トランジスタＴｒ１および書き込みトランジスタＴｒ２と、その間のキャパシタ（保持容量）Ｃｓと、第１の電源ライン（Ｖｃｃ）および第２の電源ライン（ＧＮＤ）の間において駆動トランジスタＴｒ１に直列に接続された有機発光素子１０Ｒ（または１０Ｇ，１０Ｂ）とを有するアクティブ型の駆動回路である。駆動トランジスタＴｒ１および書き込みトランジスタＴｒ２は、一般的な薄膜トランジスタ（ＴＦＴ（Thin Film Transistor））により構成され、その構成は例えば逆スタガー構造（いわゆるボトムゲート型）でもよいしスタガー構造（トップゲート型）でもよく特に限定されない。
【００１３】
画素駆動回路１４０において、列方向には信号線１２０Ａが複数配置され、行方向には走査線１３０Ａが複数配置されている。各信号線１２０Ａと各走査線１３０Ａとの交差点が、有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂのいずれか一つ（サブピクセル）に対応している。各信号線１２０Ａは、信号線駆動回路１２０に接続され、この信号線駆動回路１２０から信号線１２０Ａを介して書き込みトランジスタＴｒ２のソース電極に画像信号が供給されるようになっている。各走査線１３０Ａは走査線駆動回路１３０に接続され、この走査線駆動回路１３０から走査線１３０Ａを介して書き込みトランジスタＴｒ２のゲート電極に走査信号が順次供給されるようになっている。
【００１４】
図３は、表示領域１１０の断面構成を表したものである。表示領域１１０には、赤色の光を発生する有機発光素子１０Ｒと、緑色の光を発生する有機発光素子１０Ｇと、青色の光を発生する有機発光素子１０Ｂとが、順に全体としてマトリクス状に形成されている。有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂは、例えば図４に示したように、短冊状（長方形）の平面形状を有し、発光色ごとに長手方向に列をなすように配置されている。なお、隣り合う有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの組み合わせが一つの画素（ピクセル）を構成している。
【００１５】
有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂは、それぞれ、基板１１の側から、上述した画素駆動回路１４０の駆動トランジスタＴｒ１、平坦化層１２、陽極としての第１電極１３、絶縁膜１４、後述する発光層１５Ｃを含む有機層１５、および陰極としての第２電極１６がこの順に積層された構成を有している。このうち、発光層１５Ｃを含む有機層１５は、本実施の形態の蒸着用マスクを用いて形成されたものである。
【００１６】
このような有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂは、必要に応じて、窒化ケイ素（ＳｉＮ）または酸化ケイ素（ＳｉＯ）などの保護膜１７により被覆され、更にこの保護膜１７上に、熱硬化型樹脂または紫外線硬化型樹脂などの接着層２０を間にしてガラスなどよりなる封止用基板３１が全面にわたって貼り合わされることにより封止されている。封止用基板３１には、必要に応じてカラーフィルタ３２およびブラックマトリクスとしての光遮蔽膜（図示せず）が設けられていてもよい。
【００１７】
駆動トランジスタＴｒ１は、平坦化層１２に設けられた接続孔１２Ａを介して第１電極１３に電気的に接続されている。平坦化層１２は、画素駆動回路１４０が形成された基板１１の表面を平坦化するためのものであり、微細な接続孔１２Ａが形成されるためパターン精度が良い材料により構成されていることが好ましい。平坦化層１２の構成材料としては、例えば、ポリイミド等の有機材料、あるいは酸化シリコン（ＳｉＯ2 ）などの無機材料が挙げられる。
【００１８】
第１電極１３は、有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの各々に対応して形成されている。また、第１電極１３は、反射層としての機能も兼ねており、例えば、白金（Ｐｔ），金（Ａｕ），銀（Ａｇ），クロム（Ｃｒ）あるいはタングステン（Ｗ）などの金属または合金により構成されている。絶縁膜１４は、第１電極１３と第２電極１６との絶縁性を確保すると共に、有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂにおける発光領域の形状を正確に所望の形状とするためのものであり、例えば、ポリイミドにより構成されている。
【００１９】
有機層１５は、例えば、正孔輸送層，発光層および電子輸送層が第１電極１３の側からこの順に積層された構造を有している。正孔輸送層は発光層への正孔注入効率を高めるためのものである。発光層は電界をかけることにより電子と正孔との再結合が起こり、光を発生するものである。電子輸送層は、発光層への電子注入効率を高めるためのものである。有機発光素子１０Ｒの正孔輸送層の構成材料としては、例えば、ビス［（Ｎ−ナフチル）−Ｎ−フェニル］ベンジジン（α−ＮＰＤ）が挙げられ、有機発光素子１０Ｒの発光層の構成材料としては、例えば、２，５−ビス−［４−［Ｎ−（４−メトキシフェニル）−Ｎ−フェニルアミノ］］スチリルベンゼン−１，４−ジカーボニトリル（ＢＳＢ）が挙げられ、有機発光素子１０Ｒの電子輸送層の構成材料としては、例えば、８−キノリノールアルミニウム錯体（Ａｌｑ3 ）が挙げられる。有機発光素子１０Ｂの正孔輸送層の構成材料としては、例えば、α−ＮＰＤが挙げられ、有機発光素子１０Ｂの発光層の構成材料としては、例えば、４，４´−ビス（２，２´−ジフェニルビニン）ビフェニル（ＤＰＶＢｉ）が挙げられ、有機発光素子１０Ｂの電子輸送層の構成材料としては、例えば、Ａｌｑ3 が挙げられる。有機発光素子１０Ｇの正孔輸送層の構成材料としては、例えば、α−ＮＰＤが挙げられ、有機発光素子１０Ｇの発光層の構成材料としては、例えば、Ａｌｑ3 にクマリン６（Ｃ６；Ｃｏｕｍａｒｉｎ６）を１体積％混合したものが挙げられ、有機発光素子１０Ｇの電子輸送層の構成材料としては、例えば、Ａｌｑ3 が挙げられる。
【００２０】
第２電極１６は、半透過性電極により構成されており、発光層で発生した光は第２電極１６の側から取り出されるようになっている。第２電極１６は、例えば、銀（Ａｇ），アルミニウム（Ａｌ），マグネシウム（Ｍｇ），カルシウム（Ｃａ），ナトリウム（Ｎａ）などの金属または合金により構成されている。
【００２１】
本実施の形態では、以上の有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの有機層１５を各色ごとに、蒸着用マスクを用いた真空蒸着法により形成するものである。本実施の形態に係る蒸着用マスク１は、図５に示したように、開口４１を有する枠体４０に、金属薄膜よりなるマスク本体５０を張設して構成したものである。
【００２２】
枠体４０は、有機層１５が形成される駆動用基板１１と同等の線熱膨張係数を有する材料により構成されていることが好ましい。蒸着時の温度変化に伴い、枠体１０と駆動用基板１１とを同期して膨張収縮させると共に、膨張収縮による寸法変化量を等しくすることができるからである。更に、枠体４０は、高い剛性および十分な厚みを有し、線熱膨張係数のほか、熱容量、表面の輻射射出率、周囲の支持体（図示せず）との熱伝導により流入流出する伝熱量、および蒸着源（図示せず）からの輻射熱を遮る断熱板（図示せず）により制限される流入熱量などを最適に調節して設計されていることが望ましい。
【００２３】
マスク本体５０は、例えば、厚みが０．０１ｍｍ〜０．０５ｍｍであり、ニッケル（Ｎｉ）もしくは銅（Ｃｕ）などの金属または合金、圧延ステンレス鋼などの金属薄膜により構成されている。マスク本体５０には、枠体４０の開口４１に対応する位置に、複数の通過孔６１からなる６面のパターン領域６０が全体として例えば２行×３列の矩形状に配置されており、６個の表示装置の有機層１５を同一の蒸着工程で形成することができるようになっている。各パターン領域６０には、有機層１５を形成するための蒸着材料を通過させる通過孔６１が配列されている。これらの通過孔６１は例えば長孔であると共に例えば６行×３列に配列され、パターン領域６０は矩形状をなしている。また、これらの通過孔６１は、図４に示したような有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの配置に従って有機層１５を各色ごとに形成するため、図６に拡大して示したように、長孔の長手方向における間隔Ｌ１が、長手方向に対して直交する方向における間隔Ｌ２よりも狭くなっている。パターン領域６０間には、電極端子を取り出すため、および各表示装置を切断して分離するため、分離領域７０が設けられている。
【００２４】
マスク本体５０は、パターン領域６０の周縁部８０において、例えば電気抵抗溶接法により、連続した点状の固定部８１で枠体４０に対して固定され張設されている。マスク本体５０に与えられる張力は、蒸着時の輻射熱による熱応力によりマスク本体５０に生じる歪み量が、張力によりマスク本体５０に生じる歪み量により相殺される大きさおよび方向に設定されていることが好ましい。蒸着時のマスク本体５０の熱膨張を吸収し、通過孔６１の位置精度を高めることができるからである。更に、マスク本体５０に与えられる張力は、マスク本体５０の場所により細かく調節されていればより好ましい。多数の通過孔６１が配列されているパターン領域６０と、分離領域７０および周縁部８０とでマスク本体５０の歪み量を均一化することができるからである。
【００２５】
図７は、蒸着用マスク１の断面構造を表したものであり、マスク本体５０上に駆動用基板１１を載せた状態を表している。固定部８１は、溶接による突起ができてしまうので、駆動用基板１１よりも外側に配置されている。また、枠体４０は、マスク本体５０の張力保持と共に、駆動用基板１１を支持する機能を有しており、駆動用基板１１は、周辺部が枠体４０に重なるようにマスク本体５０上に置かれている。
【００２６】
枠体４０には、マスク本体５０と対向する面に、開口４１に沿って段差部４２が設けられており、この段差部４２により、枠体４０およびマスク本体５０の間に隙間Ｇが形成されている。隙間Ｇには、段差部４２と同じ高さの間隙保持部４３が点在している。これにより、この蒸着用マスク１では、洗浄液や異物の残留を抑えることができるようになっている。
【００２７】
段差部４２は、枠体４０およびマスク本体５０の間に、洗浄液の流れを可能とする隙間Ｇを確保するためのものであり、少なくとも、マスク本体５０と駆動用基板１１との重なり領域４４に形成されていることが望ましい。段差部４２の高さすなわち隙間Ｇの大きさは特に限定されないが、例えば０．５ｍｍ程度であることが好ましい。
【００２８】
間隙保持部４３は、駆動用基板１１を支持するためのスペーサとしての機能を有している。すなわち、段差部４２内に間隙保持部４３を配置することにより、重なり領域４４において間隙保持部４３の上面とマスク本体５０の下面を同一高さにすることができ、枠体４０によって駆動用基板１１を支持することが可能となる。
【００２９】
間隙保持部４３は、駆動用基板１１の荷重を受ける最小限の寸法・面積を有していればよい。間隙保持部４３は、例えば、図８に示したような円形など、角のない形状が好ましい。洗浄などにより間隙保持部４３が損傷を受けるおそれがないからである。また、間隙保持部４３の形状は、図９に示したような矩形などでもよく、特に限定されない。なお、図８および図９では、洗浄液が流れる空間である隙間Ｇに網かけを付して現している。
【００３０】
枠体４０は、段差部４２すなわち隙間Ｇと、マスク本体５０との対向面以外の面（例えば、枠体４０の背面または側面）とを連通させる貫通孔４５を有していることが好ましい。隙間Ｇ内の洗浄液などを更に排出しやすくすることができるからである。貫通孔４５は、例えば図１０に示したように、開口４１に沿って適宜配置されていることが望ましい。
【００３１】
この蒸着マスク１は、例えば、次のようにして製造することができる。まず、パターン領域６０を有するマスク本体５０を、例えば機械加工，レーザ加工，エッチング，電気めっき法を用いて、上述した材料よりなる金属薄膜により形成する。
【００３２】
また、上述した材料よりなる枠体４０を用意し、例えば機械加工，レーザ加工，エッチングを用いて、段差部４２を形成すると共に段差部４２内に点在する間隙保持部４３を形成する。
【００３３】
次いで、マスク本体５０を、例えば電気抵抗溶接法により、連続した点状の固定部８１で枠体４０に対して固定し張設する。以上により、図５に示した蒸着用マスク１が完成する。
【００３４】
この蒸着マスク１では、図示しない蒸着源からの蒸着材料がパターン領域６０の通過孔６１を通過し、駆動用基板１１上に有機層１５が形成される。蒸着中に有機層１５の材料が蒸着マスク１上に堆積し、蒸着の精度が悪くなった場合には、その対策としてウェットプロセスによる洗浄を行う。すなわち、まず、図１１（Ａ）に示したように、蒸着用マスク１を縦にした状態で（縦型プロセス）、第１槽９１内の炭化水素系の洗浄液９１Ａに浸漬する。次いで、図１１（Ｂ）に示したように、同じく蒸着用マスク１を縦にした状態で、第２槽９２内のＩＰＡ（イソプロピルアルコール；（ＣＨ3 ）2 ＣＨＯＨ），ＨＦＥ（ハイドロフルオロエーテル）等のリンス液９２Ａに浸漬する。
【００３５】
ここでは、枠体４０の開口４１の周囲に段差部４２が設けられ、この段差部４２により枠体４０およびマスク本体５０の間に隙間Ｇが形成されているので、蒸着用マスク１を第１槽９１から取り出すと洗浄液９１Ａは隙間Ｇを流れ、隙間Ｇまたは貫通孔４５から排出される。よって、洗浄液９１Ａがリンス液９２Ａに置換されずにマスク本体５０と枠体４０との間に残ってしまい、表面張力でマスク本体５０と枠体４０とが密着してしまうことによる精度悪化が抑えられる。また、残った洗浄液９１Ａや異物などからのガス発生により、蒸着のための真空室内にフッ素系の材料などが混入し、有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの寿命に影響を及ぼすおそれも小さくなる。
【００３６】
これに対して、従来の蒸着用マスクでは、図１２に示したように、枠体４０によって駆動用基板１１を支持するため、固定部８８１よりも内側の領域８４６では、枠体８４０とマスク本体８５０との間に隙間がない構造となっていた。そのため、領域８４６では、洗浄液がリンス液に置換されずに枠体８４０とマスク本体８５０との間に残ってしまい、表面張力で両者が密着して精度悪化の原因となったり、ガス発生により有機発光素子の寿命特性に影響を及ぼすおそれがあった。なお、図１２では、図７に対応する構成要素には図７と同一の８００番台の符号を付して表している。
【００３７】
このように本実施の形態では、枠体４０に、マスク本体５０と対向する面に、開口４１に沿って段差部４２を形成すると共に、この段差部４２により枠体４０およびマスク本体５０の間に形成された隙間Ｇに、段差部４２と同じ高さの間隙保持部４３を点在させるようにしたので、ウェットプロセスによる洗浄後に、洗浄液９１Ａや異物の残留を抑え、精度悪化やガス発生による影響を抑えることが可能となる。
【００３８】
（第２の実施の形態）
図１３は、本発明の第２の実施の形態に係る蒸着用マスク１Ａの断面構成を表すものである。この蒸着用マスク１Ａは、段差部４２および間隙保持部４３をマスク本体５０に形成したことを除いては、第１の実施の形態の蒸着用マスク１と同一の構成を有し、その作用および効果も同一である。なお、この蒸着用マスク１Ａは、第１の実施の形態と同様にして製造することができるが、マスク本体５０はエッチングにより形成したものが望ましい。段差部４２および間隙保持部４３は、エッチングのほうが容易に形成することができ、めっき方式では難しいからである。
【００３９】
以上、実施の形態を挙げて本発明を説明したが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、種々変形が可能である。例えば、段差部４２および間隙保持部４３は、枠体４０およびマスク本体５０の両方に設けられていてもよい。
【００４０】
また、例えば、上記実施の形態では、通過孔６１が長孔である場合を例として説明したが、本発明は、通過孔６１が三角形、台形、楕円形、角の丸い長方形などの他の形状である場合にも適用することができる。
【００４１】
更に、例えば、上記実施の形態ではマスク本体５０が複数のパターン領域６０を有する場合について説明したが、パターン領域６０は少なくとも一つあればよい。
【００４２】
加えて、例えば、上記実施の形態では、マスク本体５０が、電気抵抗溶接法により、連続した点状の固定部８１で枠体４０に対して固定されている場合について説明したが、マスク本体５０は、レーザ溶接などの他の溶接方法により固定されていてもよい。また、マスク本体５０は、耐熱セラミックス系接着剤あるいは耐熱エポキシ樹脂接着剤などの温度変化に対する安定性の高い接着剤により枠体４０に対して固定されていてもよく、また、ビスなどの締結具により枠体４０に対して固定されていてもよい。
【００４３】
更にまた、例えば、上記実施の形態において説明した各層の材料および厚み、または成膜方法および成膜条件などは限定されるものではなく、他の材料および厚みとしてもよく、または他の成膜方法および成膜条件としてもよい。
【００４４】
加えてまた、上記実施の形態では、有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの構成を具体的に挙げて説明したが、全ての層を備える必要はなく、また、他の層を更に備えていてもよい。
【００４５】
更にまた、上記実施の形態では、本発明の蒸着用マスクを有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂを備えた表示装置の有機層１５の形成に適用した場合について説明したが、本発明は、半導体製造プロセスなどにも適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【００４６】
【図１】本発明の第１の実施の形態に係る蒸着用マスクを用いて製造される表示装置の構成を表す図である。
【図２】図１に示した画素駆動回路の一例を表す等価回路図である。
【図３】図１に示した表示領域の構成を表す断面図である。
【図４】図１に示した表示領域の構成を表す平面図である。
【図５】本発明の第１の実施の形態に係る蒸着用マスクを分解して表す斜視図である。
【図６】図４に示した通過孔の拡大平面図である。
【図７】図５に示した蒸着用マスクの構成を表す断面図である。
【図８】図７に示した間隙保持部の一例を表す平面図である。
【図９】間隙保持部の他の例を表す平面図である。
【図１０】図７に示した枠体を段差部の側から見た構成を表す平面図である。
【図１１】図５に示した蒸着用マスクの洗浄工程を説明するための図である。
【図１２】従来の蒸着用マスクの問題点を説明するための断面図である。
【図１３】本発明の第２の実施の形態に係る蒸着用マスクの構成を表す断面図である。
【符号の説明】
【００４７】
１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂ…有機発光素子、１１…駆動用基板、１３…第１電極（陽極）、１４…絶縁膜、１５…有機層、１６…第２電極（陰極）、２０…接着層、３１…封止用基板、４０…枠体、４１…開口、４２…段差部、４３…間隙保持部、４４…重なり領域、４５…貫通孔、５０…マスク本体、６０…パターン領域、６１…通過孔、７０…分離領域、８０…周縁部、８１…固定部、９１Ａ…洗浄液、９２Ａ…リンス液
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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