【誤訳訂正書】
【提出日】令和3年7月21日(2021.7.21)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３１】
したがって、本発明は以下の範囲に及ぶ：
−  Ｓｉ、Ａｌ及びＺｒの酸化物から選択される少なくとも１つの化合物の含有量が、酸化物として計算して酸化物の総重量の２〜５０重量％、好ましくは２〜３０重量％の量であり、硫黄含有量が、酸化物の総重量に対して１５０ｐｐｍ未満、好ましくは１００ｐｐｍ未満、より好ましくは８０ｐｐｍ未満である、アナターゼ二酸化チタン；
−  Ｓｉ、Ａｌ及びＺｒの酸化物から選択される少なくとも１つの化合物の含有量が、酸化物として計算して酸化物の総重量の３〜２０重量％、より好ましくは４〜１２重量％の量であり、硫黄含有量が、酸化物の総重量に対して１５０ｐｐｍ未満、好ましくは１００ｐｐｍ未満、より好ましくは８０ｐｐｍ未満である、アナターゼ二酸化チタン；
−  ＳｉＯ２の含有量が、酸化物として計算して酸化物の総重量の２〜３０重量％、好ましくは３〜２０重量％、より好ましくは４〜１２重量％の量であり、硫黄含有量が、酸化物の総重量に対して１００ｐｐｍ未満、好ましくは８０ｐｐｍ未満である、アナターゼ二酸化チタン；
並びに：
−  Ｓｉ、Ａｌ及びＺｒの酸化物から選択される少なくとも１つの化合物の含有量が、酸化物として計算して酸化物の総重量の２〜５０重量％、好ましくは２〜３０重量％、より好ましくは３〜２０重量％、最も好ましくは４〜１２重量％の量であり、硫黄含有量が、酸化物の総重量に対して１５０ｐｐｍ未満、好ましくは１００ｐｐｍ未満、より好ましくは８０ｐｐｍ未満である、本発明のアナターゼ二酸化チタンを調製する方法であって、この方法では
メタチタン酸又は硫酸チタニルから選択されるチタン化合物を、Ｓｉ、Ａｌ及びＺｒの酸化物及び／若しくは水酸化物から選択される少なくとも１つの化合物、又はそれらの前駆体と、水性媒体中で混合し、
Ｓｉ、Ａｌ及びＺｒの酸化物及び／又は水酸化物から選択される少なくとも１つの化合物を析出させ、
酸化物の総重量に対して、アルカリ含有量が２００ｐｐｍを超える場合、得られた生成物を処理してそのアルカリ含有量を最大で２００ｐｐｍのレベルまで低下させ、
生成物を任意選択でろ過し、任意選択で水で洗浄し、任意選択で乾燥させ、
次いで、５００℃超、好ましくは８００℃〜１２００℃の範囲の温度で、硫酸などの残留硫黄含有化合物を、酸化物の総重量に対して１５０ｐｐｍ未満、好ましくは１００ｐｐｍ未満、より好ましくは８０ｐｐｍ未満のレベルまで分解するのに十分な時間をかけて、好ましくは０．５〜１２時間の時間をかけて、生成物をか焼処理に付す。
−  メタチタン酸をＳｉＯ２前駆体化合物と混合し、Ｓｉの酸化物及び／又は水酸化物の少なくとも１つを析出させ、酸化物の総重量に対して、アルカリ含有量が２００ｐｐｍを超える場合、得られた生成物を処理してそのアルカリ含有量を最大で２００ｐｐｍのレベルまで低下させ、得られた生成物を任意選択でろ過し任意選択で洗浄し、得られた生成物を任意選択で乾燥させ、５００℃超、好ましくは８００℃〜１２００℃の範囲の温度で、硫酸などの残留硫黄含有化合物を酸化物の総重量に対して１００ｐｐｍ未満、好ましくは８０ｐｐｍ未満のレベルまで分解するのに十分な時間をかけて、好ましくは０．５〜１２時間の時間をかけて、生成物をか焼処理に付す、本発明のアナターゼ二酸化チタンの実施形態を調製する方法、
−  ＴｉＯ２ゾルから選択されるチタン化合物をＳｉＯ２ゾルと混合し、析出物が得られるようにｐＨを調整し、酸化物の総重量に対して、アルカリ含有量が２００ｐｐｍを超える場合、得られた析出物を処理してアルカリ含有量を最大で２００ｐｐｍのレベルまで低下させ、得られた生成物を任意選択でろ過し、任意選択で洗浄し、任意選択で乾燥させ、５００℃超、好ましくは８００℃〜１２００℃の範囲の温度で、硫酸などの残留硫黄含有化合物を酸化物の総重量に対して１５０ｐｐｍ未満、好ましくは１００ｐｐｍ未満、より好ましくは８０ｐｐｍ未満のレベルまで分解するのに十分な時間をかけて、好ましくは８００℃〜１２００℃の範囲の温度で、好ましくは０．５〜１２時間の時間をかけて、得られた生成物をか焼処理に付す、アナターゼ二酸化チタンを調製する方法、
−  ある含有量の安定化剤を有するアナターゼチタニアを、５００℃超、好ましくは８００〜１２００℃の範囲の温度で、硫酸などの残留硫黄含有化合物を酸化物の総重量に対して１５０ｐｐｍ未満、好ましくは１００ｐｐｍ未満、より好ましくは８０ｐｐｍ未満のレベルまで分解するのに十分な時間をかけて、好ましくは少なくとも３０分の時間をかけて処理し、安定化剤が、Ｓｉ、Ａｌ及びＺｒの酸化物から選択され、安定化剤の含有量が、酸化物として計算して酸化物の総重量の２〜５０重量％、好ましくは２〜３０重量％の範囲である、安定化アナターゼチタニアの硫黄含有量を低下させる方法、
−  Ｓｉ、Ａｌ及びＺｒの酸化物から選択される少なくとも１つの化合物の含有量が、酸化物として計算して酸化物の総重量の２〜５０重量％、好ましくは２〜３０重量％の量である安定化アナターゼチタニアの硫黄含有量を、酸化物の総重量に対して１５０ｐｐｍ未満、好ましくは１００ｐｐｍ未満、より好ましくは８０ｐｐｍ未満のレベルまで低下させるための、５００℃を超える温度でのか焼処理の使用。
−  触媒反応、ガス・ツー・リキッド反応（ｇａｓ−ｔｏ−ｌｉｑｕｉｄ  ｒｅａｃｔｉｏｎｓ）、例えば特にフィッシャー・トロプシュ触媒作用、選択的触媒還元（ＳＣＲ）、酸化触媒作用、光触媒作用、水素化処理触媒作用、クラウス触媒作用、フタル酸触媒作用における触媒又は触媒担体としての、本発明の方法に従って得られる本発明のアナターゼ二酸化チタンの使用。
−  本発明の方法に従って得られる本発明のアナターゼ二酸化チタンを含む、触媒又は触媒担体。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５５】
本発明による例及び比較例並びに触媒試験の上記の結果は、本発明の材料の特性の組み合わせ、すなわち、高い比表面積、アナターゼ含有量及び低い硫黄含有量が、そのより優れた触媒特性をもたらすことを示している。
なお、本願は、特許請求の範囲に記載の発明に関するものであるが、他の態様として以下も包含し得る。
１．Ｓｉ、Ａｌ及びＺｒの酸化物から選択される少なくとも１つの化合物の含有量が、酸化物として計算して酸化物の総重量の２〜５０重量％、好ましくは２〜３０重量％の量であり、硫黄含有量が、酸化物の総重量に対して１５０ｐｐｍ未満、好ましくは１００ｐｐｍ未満、より好ましくは８０ｐｐｍ未満である、アナターゼ二酸化チタン。
２．Ｓｉ、Ａｌ及びＺｒの酸化物から選択される少なくとも１つの化合物の含有量が、酸化物として計算して酸化物の総重量の３〜２０重量％、好ましくは４〜１２重量％の量であり、硫黄含有量が、酸化物の総重量に対して１５０ｐｐｍ未満、好ましくは１００ｐｐｍ未満、より好ましくは８０ｐｐｍ未満である、上記１に記載のアナターゼ二酸化チタン。
３．ＳｉＯ２の含有量が、酸化物として計算して酸化物の総重量の２〜３０重量％、好ましくは３〜２０重量％、より好ましくは４〜１２重量％の量であり、硫黄含有量が、酸化物の総重量に対して１００ｐｐｍ未満、好ましくは８０ｐｐｍ未満である、上記１に記載のアナターゼ二酸化チタン。
４．Ｓｉ、Ａｌ及びＺｒの酸化物から選択される少なくとも１つの化合物の含有量が、酸化物として計算して酸化物の総重量の２〜５０重量％、好ましくは２〜３０重量％、より好ましくは３〜２０重量％．最も好ましくは４〜１２重量％の量であり、硫黄含有量が、酸化物の総重量に対して１５０ｐｐｍ未満、好ましくは１００ｐｐｍ未満、より好ましくは８０ｐｐｍ未満である、上記１に記載のアナターゼ二酸化チタンを調製する方法であって、
−  メタチタン酸又は硫酸チタニルから選択されるチタン化合物を、Ｓｉ、Ａｌ及びＺｒの酸化物及び／若しくは水酸化物から選択される少なくとも１つの化合物、又はそれらの前駆体と、水性媒体中で混合し、
−  Ｓｉ、Ａｌ及びＺｒの酸化物及び／又は水酸化物から選択される少なくとも１つの化合物を析出させ、
−  酸化物の総重量に対して、アルカリ含有量が２００ｐｐｍを超える場合、得られた生成物を処理してアルカリ含有量を最大で２００ｐｐｍのレベルまで低下させ、
−  生成物を任意選択でろ過し、任意選択で水で洗浄し、任意選択で乾燥させ、
−  次いで、５００℃超、好ましくは８００℃〜１２００℃の範囲の温度で、硫酸などの残留硫黄含有化合物を、酸化物の総重量に対して１５０ｐｐｍ未満、好ましくは１００ｐｐｍ未満、より好ましくは８０ｐｐｍ未満のレベルまで分解するのに十分な時間をかけて、好ましくは０．５〜１２時間の時間をかけて、生成物をか焼処理に付す、
方法。
５．メタチタン酸をＳｉＯ２前駆体化合物と混合し、Ｓｉの少なくとも１つの酸化物及び／又は水酸化物を析出させ、酸化物の総重量に対して、アルカリ含有量が２００ｐｐｍを超える場合、得られた生成物を処理してアルカリ含有量を最大で２００ｐｐｍのレベルまで低下させ、得られた生成物を任意選択でろ過し任意選択で洗浄し、得られた生成物を任意選択で乾燥させ、次いで、５００℃超、好ましくは８００℃〜１２００℃の範囲の温度で、硫酸などの残留硫黄含有化合物を酸化物の総重量に対して１００ｐｐｍ未満、好ましくは８０ｐｐｍ未満のレベルまで分解するのに十分な時間をかけて、好ましくは０．５〜１２時間の時間をかけて、生成物をか焼処理に付す、上記３に記載のアナターゼ二酸化チタンを調製する方法。
６．ＴｉＯ２ゾルから選択されるチタン化合物をＳｉＯ２ゾルと混合し、析出物を得るためにｐＨを調整し、酸化物の総重量に対して、アルカリ含有量が２００ｐｐｍを超える場合、得られた析出物を処理してアルカリ含有量を酸化物の総重量に対して最大で２００ｐｐｍのレベルまで低下させ、得られた生成物を任意選択でろ過し、任意選択で洗浄し、任意選択で乾燥させ、５００℃超、好ましくは８００℃〜１２００℃の範囲の温度で、硫酸などの残留硫黄含有化合物を酸化物の総重量に対して１５０ｐｐｍ未満、好ましくは１００ｐｐｍ未満、より好ましくは８０ｐｐｍ未満のレベルまで分解するのに十分な時間をかけて、好ましくは８００℃〜１２００℃の範囲の温度で、好ましくは０．５〜１２時間の時間をかけて、得られた生成物をか焼処理に付す、上記３に記載のアナターゼ二酸化チタンを調製する方法。
７．安定化剤を含有するアナターゼチタニアを、５００℃超、好ましくは８００〜１２００℃の範囲の温度で、硫酸などの残留硫黄含有化合物を酸化物の総重量に対して１５０ｐｐｍ未満、好ましくは１００ｐｐｍ未満、より好ましくは８０ｐｐｍ未満のレベルまで分解するのに十分な時間をかけて、好ましくは少なくとも３０分の時間をかけて処理し、安定化剤が、Ｓｉ、Ａｌ及びＺｒの酸化物から選択され、安定化剤の含有量が、酸化物として計算して酸化物の総重量の２〜５０重量％、好ましくは２〜３０重量％の範囲である、安定化アナターゼチタニアの硫黄含有量を低下させる方法。
８．安定化アナターゼチタニアの硫黄含有量を、酸化物の総重量に対して１５０ｐｐｍ未満、好ましくは１００ｐｐｍ未満、より好ましくは８０ｐｐｍ未満のレベルまで低下させるための、５００℃を超える温度でのか焼処理の使用。
９．触媒反応、ガス・ツー・リキッド反応、例えば特にフィッシャー・トロプシュ触媒作用、選択的触媒還元（ＳＣＲ）、酸化触媒作用、光触媒作用、水素化処理触媒作用、クラウス触媒作用、フタル酸触媒作用における、触媒又は触媒担体としての、上記１〜３のいずれか一つに記載の又は上記４〜７のいずれか一つに記載の方法に従って得られるアナターゼ二酸化チタンの使用。
１０．上記１〜３のいずれか一つに記載の又は上記４〜７のいずれか一つに記載の方法に従って得られるアナターゼ二酸化チタンを含む、触媒又は触媒担体。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｓｉ及びＺｒの酸化物から選択される少なくとも１つの化合物の、またはＳｉ、Ａｌ及びＺｒの酸化物から選択される少なくとも２つの化合物の含有量が、酸化物として計算して酸化物の総重量の２〜５０重量％の量であり、硫黄含有量が、酸化物の総重量に対して１５０ｐｐｍ未満である、アナターゼ二酸化チタン。
【請求項２】
Ｓｉ及びＺｒの酸化物から選択される少なくとも１つの化合物の、またはＳｉ、Ａｌ及びＺｒの酸化物から選択される少なくとも２つの化合物の含有量が、酸化物として計算して酸化物の総重量の３〜２０重量％の量であり、硫黄含有量が、酸化物の総重量に対して１５０ｐｐｍ未満である、請求項１に記載のアナターゼ二酸化チタン。
【請求項３】
ＳｉＯ２の含有量が、酸化物として計算して酸化物の総重量の２〜３０重量％の量であり、硫黄含有量が、酸化物の総重量に対して１００ｐｐｍ未満である、請求項１に記載のアナターゼ二酸化チタン。
【請求項４】
Ｓｉ及びＺｒの酸化物から選択される少なくとも１つの化合物の、またはＳｉ、Ａｌ及びＺｒの酸化物から選択される少なくとも２つの化合物の含有量が、酸化物として計算して酸化物の総重量の２〜５０重量％の量であり、硫黄含有量が、酸化物の総重量に対して１５０ｐｐｍ未満である、請求項１に記載のアナターゼ二酸化チタンを調製する方法であって、
−  メタチタン酸又は硫酸チタニルから選択されるチタン化合物を、Ｓｉ及びＺｒの酸化物及び／若しくは水酸化物から選択される少なくとも１つの化合物、またはＳｉ、Ａｌ及びＺｒの酸化物から選択される少なくとも２つの化合物、あるいはそれらの前駆体と、水性媒体中で混合し、
−  Ｓｉ及びＺｒの酸化物及び／又は水酸化物から選択される少なくとも１つの化合物、またはＳｉ、Ａｌ及びＺｒの酸化物から選択される少なくとも２つの化合物を析出させ、
−  酸化物の総重量に対して、アルカリ含有量が２００ｐｐｍを超える場合、得られた生成物を処理してアルカリ含有量を最大で２００ｐｐｍのレベルまで低下させ、
−  生成物を任意選択でろ過し、任意選択で水で洗浄し、任意選択で乾燥させ、
−  次いで、５００℃超の温度で、残留硫黄含有化合物を酸化物の総重量に対して１５０ｐｐｍ未満のレベルまで分解するのに十分な時間をかけて、生成物をか焼処理に付す、
方法。
【請求項５】
メタチタン酸をＳｉＯ２前駆体化合物と混合し、Ｓｉの少なくとも１つの酸化物及び／又は水酸化物を析出させ、酸化物の総重量に対して、アルカリ含有量が２００ｐｐｍを超える場合、得られた生成物を処理してアルカリ含有量を最大で２００ｐｐｍのレベルまで低下させ、得られた生成物を任意選択でろ過し任意選択で洗浄し、得られた生成物を任意選択で乾燥させ、次いで、５００℃超の温度で、残留硫黄含有化合物を酸化物の総重量に対して１００ｐｐｍ未満のレベルまで分解するのに十分な時間をかけて、生成物をか焼処理に付す、請求項３に記載のアナターゼ二酸化チタンを調製する方法。
【請求項６】
ＴｉＯ２ゾルから選択されるチタン化合物をＳｉＯ２ゾルと混合し、析出物を得るためにｐＨを調整し、酸化物の総重量に対して、アルカリ含有量が２００ｐｐｍを超える場合、得られた析出物を処理してアルカリ含有量を酸化物の総重量に対して最大で２００ｐｐｍのレベルまで低下させ、得られた生成物を任意選択でろ過し、任意選択で洗浄し、任意選択で乾燥させ、５００℃超の温度で、残留硫黄含有化合物を酸化物の総重量に対して１５０ｐｐｍ未満のレベルまで分解するのに十分な時間をかけて、得られた生成物をか焼処理に付す、請求項３に記載のアナターゼ二酸化チタンを調製する方法。
【請求項７】
前記のか焼処理が、０．５〜１２時間の時間をかけて実施される、請求項４〜６のいずれか１つに記載のアナターゼ二酸化チタンを調製する方法。
【請求項８】
安定化剤を含有するアナターゼチタニアを、５００℃超の温度で、残留硫黄含有化合物を酸化物の総重量に対して１５０ｐｐｍ未満のレベルまで分解するのに十分な時間をかけて処理し、安定化剤が、Ｓｉ及びＺｒの酸化物、またはＳｉ、Ａｌ及びＺｒの酸化物から選択される少なくとも２つの化合物から選択され、安定化剤の含有量が、酸化物として計算して酸化物の総重量の２〜５０重量％の範囲である、安定化アナターゼチタニアの硫黄含有量を低下させる方法。
【請求項９】
安定化アナターゼチタニアの硫黄含有量を、酸化物の総重量に対して１５０ｐｐｍ未満のレベルまで低下させるための、５００℃を超える温度でのか焼処理の使用であって、
安定化剤が、Ｓｉ及びＺｒの酸化物、またはＳｉ、Ａｌ及びＺｒの酸化物から選択される少なくとも２つの化合物から選択され、そして、安定化剤の含有量が、酸化物として計算して酸化物の総重量の２〜５０重量％の範囲である、前記使用。
【請求項１０】
触媒反応、ガス・ツー・リキッド反応、選択的触媒還元（ＳＣＲ）、酸化触媒作用、光触媒作用、水素化処理触媒作用、クラウス触媒作用、フタル酸触媒作用における、触媒又は触媒担体としての、請求項１〜３のいずれか一つに記載の又は請求項４〜８のいずれか一つに記載の方法に従って得られるアナターゼ二酸化チタンの使用。
【請求項１１】
請求項１〜３のいずれか一つに記載のアナターゼ二酸化チタンを含む、触媒又は触媒担体。