(57)【要約】【課題】ラビング処理面の凹凸による配向処理むらが生じることを防止可能な液晶装置の製造装置および液晶装置の製造方法を提供すること。【解決手段】本適用例のラビング装置２００は、ワークＷが載置されるステージ２０１と、ステージ２０１を所定の方向に移動させる移動機構２０２，２０６と、ラビングローラー２０３と、ラビングローラー２０３を回転させる回転機構２０４と、ラビングローラー２０３のローラー面２０３ｂに巻き付けられたラビング布と、を備え、移動機構２０２はラビングローラー２０３に対してステージ２０１を第１の方向（Ｙ軸方向）に相対移動させ、移動機構２０６はラビング処理面の凹凸とラビング布との接触点が相対移動において配向膜に接触しないように第１の方向に交差する第２の方向（Ｘ軸方向）にステージ２０１を移動させる。【選択図】図５
2010191136.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板に設けられた配向膜をラビングして配向処理を施す液晶装置の製造装置であって、
前記基板が載置されるステージと、
第１の方向と前記第１の方向に交差する第２の方向とに前記ステージを移動可能な移動機構と、
前記第１及び第２の方向に対して交差する方向に配設されたラビングローラーと、
前記ラビングローラーを回転させる回転機構と、
前記ラビングローラーに巻き付けられたラビング布と、を備え、
前記移動機構は、前記ラビングローラーに対して前記ステージを前記第１の方向に相対移動させると共に、ラビング処理面の凹凸と前記ラビング布との接触点が前記相対移動において前記配向膜に接触しないように前記ステージを前記第２の方向に移動させることを特徴とする液晶装置の製造装置。
【請求項２】
前記凹凸が前記基板の外周端と前記ステージの載置面との段差であり、
前記移動機構は、前記接触点が前記基板の外周よりも外側に位置するように前記ステージを移動させることを特徴とする請求項１に記載の液晶装置の製造装置。
【請求項３】
基板に設けられた配向膜をラビングして配向処理を施す液晶装置の製造装置であって、
前記基板が載置されるステージと、
少なくとも第１の方向に前記ステージを移動可能な第１移動機構と、
前記第１の方向に対して交差する方向に配設されたラビングローラーと、
前記ラビングローラーを回転させる回転機構と、
前記ラビングローラーの回転軸に沿って前記ラビングローラーを移動可能な第２移動機構と、
前記ラビングローラーに巻き付けられたラビング布と、を備え、
前記第２移動機構は、前記第１移動機構が前記ラビングローラーに対して前記ステージを前記第１の方向に相対移動させる間に、ラビング処理面の凹凸と前記ラビング布との接触点が前記相対移動において前記配向膜と接触しないように前記回転軸に沿って前記ラビングローラーを移動させることを特徴とする液晶装置の製造装置。
【請求項４】
前記凹凸が前記基板の外周端と前記ステージの載置面との段差であり、
前記第２移動機構は、前記接触点が前記基板の外周よりも外側に位置するように前記ラビングローラーを移動させることを特徴とする請求項３に記載の液晶装置の製造装置。
【請求項５】
ラビング布を有するラビングローラーを用いて、ウェハ状の基板に設けられた配向膜を回転ラビングする配向処理工程を有する液晶装置の製造方法であって、
前記ラビングローラーは、回転軸が第１の方向と交差するように傾斜して配置されており、
前記配向処理工程は、回転する前記ラビングローラーと前記基板とを接触させた状態で前記第１の方向に相対移動させると共に、ラビング処理面の凹凸と前記ラビング布との接触点が前記相対移動において前記配向膜と接触しないように、前記第１の方向に交差する第２の方向に前記基板を移動させる、または前記回転軸に沿った方向に前記ラビングローラーを移動させることを特徴とする液晶装置の製造方法。
【請求項６】
ラビング布を有するラビングローラーを用いて、四角形の基板に設けられた配向膜を回転ラビングする配向処理工程を有する液晶装置の製造方法であって、
前記ラビングローラーは、回転軸が第１の方向と交差するように配置され、
前記基板は、隣り合う２辺が互いに前記回転軸に対して交差するように傾斜して配置され、
前記配向処理工程は、回転する前記ラビングローラーと前記基板とを接触させた状態で前記第１の方向に相対移動させると共に、ラビング処理面の凹凸と前記ラビング布との接触点が前記相対移動において前記配向膜と接触しないように、前記第１の方向に交差する第２の方向に前記基板を移動させる、または前記回転軸に沿った方向に前記ラビングローラーを移動させることを特徴とする液晶装置の製造方法。
【請求項７】
前記基板はステージ上に載置され、
前記凹凸が前記基板の外周端と前記ステージの載置面との段差であり、
前記接触点が前記基板の外周よりも外側に位置するように前記基板または前記ラビングローラーを移動させることを特徴とする請求項５または６に記載の液晶装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶装置の製造装置、液晶装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
一対の基板により挟持された液晶層を有する液晶装置は、非駆動時に液晶層の液晶分子を所定の方向に配向させるために、液晶層に面する基板上に配向処理が施された配向膜を有している。一方で配向膜が形成される基板の表面は必ずしも平坦ではなく、例えば、アクティブ駆動型の液晶装置では、画素を構成する電極をスイッチング制御するスイッチング素子や配線などが形成されているため凹凸を有している。
それゆえに、これらを覆うように形成された配向膜の表面も凹凸を有することになり、配向処理が上記凹凸に対応して均一に行われないと配向不良が発生するという課題があった。
【０００３】
この課題を解決するために、例えば特許文献１には、ラビング用毛付きロールと基板との接触点における毛の移動方向と基板の移動方向とが同一方向となるようにラビングするラビング配向処理方法が開示されている。
また、特許文献２には、回転するラビングローラーに対して基板が載置されたステージを所定の方向に相対移動させ、複数の基板を連続してラビング処理する場合、処理する基板ごとに上記所定の方向に対して垂直な方向においてステージ上の異なる位置に基板を位置決めする位置決め機構を備えたラビング処理装置が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平７−１８１４９４号公報
【特許文献２】特開２００８−２５７１０５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上記従来のラビング配向処理方法やラビング処理装置では、回転するラビングローラーに対して、ラビング処理する基板をステージ上に位置決めした状態で、ステージを所定の方向に相対移動させることによりラビング処理を行っている。したがって、ラビングローラーに対する基板の相対的な配置によっては、例えばラビングローラーが接触するラビング処理面の凹凸によりラビング毛の乱れが生じた部分が配向膜に掛かってラビングされてしまい、部分的に配向むらが発生するという課題があった。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。
【０００７】
［適用例１］本実施形態の液晶装置の製造装置は、基板に設けられた配向膜をラビングして配向処理を施す液晶装置の製造装置であって、前記基板が載置されるステージと、第１の方向と前記第１の方向に交差する第２の方向とに前記ステージを移動可能な移動機構と、前記第１及び第２の方向に対して交差する方向に配設されたラビングローラーと、前記ラビングローラーを回転させる回転機構と、前記ラビングローラーに巻き付けられたラビング布と、を備え、前記移動機構は、前記ラビングローラーに対して前記ステージを前記第１の方向に相対移動させると共に、ラビング処理面の凹凸と前記ラビング布との接触点が前記相対移動において前記配向膜に接触しないように前記ステージを前記第２の方向に移動させることを特徴とする。
【０００８】
この構成によれば、移動機構は、ラビングローラーと基板との相対移動における第１の方向だけでなく、第１の方向と交差する第２の方向にステージを移動させることができる移動軸を有している。そして、ラビング処理面に凹凸がある場合には、該凹凸とラビング布との接触点が配向膜に掛からないようにステージを第２の方向に移動させる。したがって、該接触点におけるラビング毛の乱れが配向膜に掛かって配向むらが生ずることを防止することができる。すなわち、配向膜に配向処理むらが生じ難い液晶装置の製造装置を提供することができる。
【０００９】
［適用例２］上記適用例の液晶装置の製造装置において、前記凹凸が前記基板の外周端と前記ステージの載置面との段差であり、前記移動機構は、前記接触点が前記基板の外周よりも外側に位置するように前記ステージを移動させることを特徴とする。
この構成によれば、基板の外周端と載置面との段差によるラビング毛の乱れが配向膜に掛からないようにラビング処理を施すことができる。
【００１０】
［適用例３］本適用例の他の液晶装置の製造装置は、基板に設けられた配向膜をラビングして配向処理を施す液晶装置の製造装置であって、前記基板が載置されるステージと、少なくとも第１の方向に前記ステージを移動可能な第１移動機構と、前記第１の方向に対して交差する方向に配設されたラビングローラーと、前記ラビングローラーを回転させる回転機構と、前記ラビングローラーの回転軸に沿って前記ラビングローラーを移動可能な第２移動機構と、前記ラビングローラーに巻き付けられたラビング布と、を備え、前記第２移動機構は、前記第１移動機構が前記ラビングローラーに対して前記ステージを前記第１の方向に相対移動させる間に、ラビング処理面の凹凸と前記ラビング布との接触点が前記相対移動において前記配向膜と接触しないように前記回転軸に沿って前記ラビングローラーを移動させることを特徴とする。
【００１１】
この構成によれば、ラビングローラーと基板とを第１の方向に相対移動させる第１移動機構だけでなく、ラビングローラーを回転軸に沿った方向に相対移動させる第２移動機構を有している。そして、ラビング処理面に凹凸がある場合には、該凹凸とラビング布との接触点が配向膜に掛からないようにラビングローラーを回転軸に沿って移動させる。したがって、該接触点におけるラビング毛の乱れが配向膜に掛かって配向むらが生ずることを防止することができる。すなわち、配向膜に配向処理むらが生じ難い液晶装置の製造装置を提供することができる。
【００１２】
［適用例４］上記適用例の液晶装置の製造装置において、前記凹凸が前記基板の外周端と前記ステージの載置面との段差であり、前記第２移動機構は、前記接触点が前記基板の外周よりも外側に位置するように前記ラビングローラーを移動させることを特徴とする。
この構成によれば、基板の外周端と載置面との段差によるラビング毛の乱れが配向膜に掛からないようにラビング処理を施すことができる。
【００１３】
［適用例５］本適用例の液晶装置の製造方法は、ラビング布を有するラビングローラーを用いて、ウェハ状の基板に設けられた配向膜を回転ラビングする配向処理工程を有する液晶装置の製造方法であって、前記ラビングローラーは、回転軸が第１の方向と交差するように傾斜して配置されており、前記配向処理工程は、回転する前記ラビングローラーと前記基板とを接触させた状態で前記第１の方向に相対移動させると共に、ラビング処理面の凹凸と前記ラビング布との接触点が前記相対移動において前記配向膜と接触しないように、前記第１の方向に交差する第２の方向に前記基板を移動させる、または前記回転軸に沿った方向に前記ラビングローラーを移動させることを特徴とする。
【００１４】
この方法によれば、ラビング処理面に凹凸がある場合には、該凹凸とラビング布との接触点が配向膜に掛からないように基板を第２の方向に移動させる、またはラビングローラーを回転軸に沿って移動させる。したがって、該接触点におけるラビング毛の乱れが配向膜に掛かって配向むらが生ずることを防止することができる。すなわち、ウェハ状の基板に設けられた配向膜に配向処理むらが生じ難い液晶装置の製造方法を提供することができる。
【００１５】
［適用例６］本適用例の他の液晶装置の製造方法は、ラビング布を有するラビングローラーを用いて、四角形の基板に設けられた配向膜を回転ラビングする配向処理工程を有する液晶装置の製造方法であって、前記ラビングローラーは、回転軸が第１の方向と交差するように配置され、前記基板は、隣り合う２辺が互いに前記回転軸に対して交差するように傾斜して配置され、前記配向処理工程は、回転する前記ラビングローラーと前記基板とを接触させた状態で前記第１の方向に相対移動させると共に、ラビング処理面の凹凸と前記ラビング布との接触点が前記相対移動において前記配向膜と接触しないように、前記第１の方向に交差する第２の方向に前記基板を移動させる、または前記回転軸に沿った方向に前記ラビングローラーを移動させることを特徴とする。
【００１６】
この方法によれば、ラビング処理面に凹凸がある場合には、該凹凸とラビング布との接触点が配向膜に掛からないように基板を第２の方向に移動させる、またはラビングローラーを回転軸に沿って移動させる。したがって、該接触点におけるラビング毛の乱れが配向膜に掛かって配向むらが生ずることを防止することができる。すなわち、四角形の基板に設けられた配向膜に配向処理むらが生じ難い液晶装置の製造方法を提供することができる。
【００１７】
［適用例７］上記適用例の液晶装置の製造方法において、前記基板はステージ上に載置され、前記凹凸が前記基板の外周端と前記ステージの載置面との段差であり、前記接触点が前記基板の外周よりも外側に位置するように前記基板または前記ラビングローラーを移動させることを特徴とする。
この方法によれば、基板の外周端と載置面との段差によるラビング毛の乱れが配向膜に掛からないようにラビング処理を施すことができる。特に、四角形の基板の場合には、ラビングローラーに向かって進入する基板の角部がラビング布と接触することによるラビング毛の乱れが配向膜に掛かることを防止して、むらなく配向処理を施すことができる。
【００１８】
また、これらの適用例の液晶装置の製造方法を用いて液晶装置を製造すれば、配向処理むらに起因する表示むらの発生が防止され、優れた表示品質を有する液晶装置を歩留まりよく製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】（ａ）は液晶装置の構成を示す概略正面図、（ｂ）は（ａ）のＨ−Ｈ'線で切った概略断面図。
【図２】（ａ）および（ｂ）は液晶装置の光学設計の１例を示す模式図。
【図３】マザー基板を示す概略平面図。
【図４】液晶装置の製造方法を示すフローチャート。
【図５】（ａ）および（ｂ）は液晶装置の製造装置としてのラビング装置の構成を示す模式図。
【図６】（ａ）および（ｂ）は基本的なラビング方法を示す概略図。
【図７】実施形態１のラビング方法を示す概略平面図。
【図８】ラビング毛の乱れ方を説明する概略断面図。
【図９】実施例１のラビング方法を説明するグラフ。
【図１０】実施例２のラビング方法を説明するグラフ。
【図１１】実施形態２のラビング装置およびラビング方法を示す概略平面図。
【図１２】実施例３のラビング方法を説明するグラフ。
【図１３】実施例４のラビング方法を説明するグラフ。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
以下、本発明を具体化した実施形態について図面に従って説明する。なお、使用する図面は、説明する部分が認識可能な状態となるように、適宜拡大または縮小して表示している。
【００２１】
（実施形態１）
＜液晶装置＞
まず、本実施形態の液晶装置の製造装置および液晶装置の製造方法を適用する液晶装置の１例について、図１〜図３を参照して説明する。図１（ａ）は液晶装置の構成を示す概略正面図、同図（ｂ）は同図（ａ）のＨ−Ｈ'線で切った概略断面図、図２（ａ）および（ｂ）は液晶装置の光学設計の１例を示す模式図、図３はマザー基板を示す概略平面図である。
【００２２】
図１（ａ）および（ｂ）に示すように、液晶装置１００は、対向配置された一対の基板としての素子基板１０および対向基板２０と、素子基板１０と対向基板２０との間に挟持された液晶層４０とを備えている。素子基板１０および対向基板２０は、例えば透明な石英などの基板であり、例えば熱硬化型または紫外線硬化型の接着剤からなるシール材４２によって貼り合わされている。
【００２３】
液晶装置１００は、表示領域１０ａ内にマトリクス状に配置された複数の画素１０３を有する。素子基板１０上には画素１０３を構成する、例えばＩＴＯ（Indium  Tin  Oxide）などの透明電極からなる画素電極９と、画素電極９を駆動制御するスイッチング素子としての薄膜トランジスター（ＴＦＴ；Thin  Film  Transistor）３０とが設けられている。また、これら画素電極９などを覆うと共にラビングなどの配向処理が施された例えばポリイミド樹脂などからなる配向膜１６が設けられている。
【００２４】
対向基板２０の液晶層４０に面する側には、ほぼ全面に例えばＩＴＯなどの透明電極からなる対向電極２１と、対向電極２１を覆うと共にラビングなどの配向処理が施された例えばポリイミド樹脂などからなる配向膜２２が設けられている。
【００２５】
また、対向基板２０には、液晶層４０に向かって対向電極２１の下（図面では上方）に画素１０３を格子状に区画する遮光膜２３と、表示領域１０ａの周辺部に配置された遮光膜２４とが設けられている。遮光膜２３，２４は、例えば遮光性を有するＣｒなどの金属や金属酸化物などの無機化合物、あるいは遮光性を有する有機化合物が用いられている。
【００２６】
素子基板１０と対向基板２０とを接合するシール材４２は、額縁状に設けられた辺部の一部が欠落した注入口１０８を有している。素子基板１０と対向基板２０との隙間に注入口１０８から液晶が注入され、封止材１０９で封止されている。
【００２７】
素子基板１０は対向基板２０に比べて一回り大きく、対向基板２０から突出した一辺部には、データ線駆動回路１０１と、複数の外部接続端子１０２とが設けられている。
素子基板１０のシール材４２の内側には、表示領域１０ａを挟んで一対の走査線駆動回路１０４と、この間を繋ぐ配線１０５とが設けられている。対向基板２０の遮光膜２４は、平面的に走査線駆動回路１０４に重なるように設けられている。
【００２８】
素子基板１０と対向基板２０との間には、シール材４２の４つのコーナー部に上下導通材１０６が配設されており、同じく上下導通材１０６に対応して配設された上下導通端子１０７により、対向基板２０側の対向電極２１が素子基板１０側に電気的に導かれ、複数の外部接続端子１０２のうちの指定された端子に接続されている。
【００２９】
図２（ａ）に示すように、液晶装置１００の光学設計条件の１例としては、素子基板１０と対向基板２０およびこれらの基板に挟持された液晶層４０とを含む構成を液晶セル１２０とし、液晶セル１２０の一方の面側に配置された偏光板１２１と一方の面側に対して反対側の他方の面側に配置された偏光板１２２とを備える。例えば、偏光板１２２の背後に照明装置からの光が入射する場合、液晶セル１２０に対して偏光板１２１を上偏光板１２１と呼び、偏光板１２２を下偏光板１２２と呼ぶこととする。
【００３０】
図２（ｂ）に示すように、液晶セル１２０における素子基板１０のラビング方向と、対向基板２０のラビング方向とは直交している。すなわち、液晶層４０において液晶分子が９０度ツイストするように配向処理が施されている。これに対して上下偏光板１２１，１２２の透過軸の方向は、素子基板１０のラビング方向と平行となっている。
したがって、下偏光板１２２の背面側から入射した光は、まず下偏光板１２２により直線偏光に変換されて液晶セル１２０に入射する。液晶セル１２０に入射した直線偏光は、液晶層４０における液晶分子のツイストによって９０度旋光し、対向基板２０側から射出する。ところが、上偏光板１２１の透過軸の方向は、９０度旋光した直線偏光に対して直交する方向となっているため、直線偏光は上偏光板１２１を透過することができない。
ゆえに、液晶装置１００が非駆動状態のとき、表示領域１０ａの各画素１０３は光が透過せず遮光された黒表示状態となっている。このような光学設計に基づく表示モードをノーマリーブラックという。
なお、液晶装置１００における表示モード（光学設計）は、これに限定されず、非駆動時に画素１０３が光を透過するノーマリーホワイトでもよい。
【００３１】
上記液晶装置１００の製造方法としては、例えば複数個分の素子基板１０が面付けされたマザー基板に対して対向基板２０を個々に貼り合わせ、その隙間に液晶を注入・封止してから、これを所定の位置で切断することにより、個々の液晶装置１００を取り出す方法が挙げられる。
【００３２】
図３は複数の素子基板１０が面付けされたマザー基板１１０を示している。マザー基板１１０は、例えば大きさが８インチのウェハ状であって、厚みが１．２ｍｍの石英基板である。四角形（長方形）の素子基板１０はマザー基板１１０の表面にマトリクス状に面付けされている。１つの素子基板１０の大きさは対角線の長さにしておよそ１インチ程度である。この場合の面付け数は４０個である。このような設計条件の下に、マザー基板１１０の表面に、前述した画素電極９およびＴＦＴ３０、データ線駆動回路１０１、走査線駆動回路１０４、これらを繋ぐ配線等が形成されている。さらにこれらの構成要素を覆う配向膜１６は、各素子基板１０に対応して設定された膜形成領域ＡＥ内に設けられている。
なお、ウェハ状とは、図３に示したように平面的に円形であることに限定されず、例えば円周の一部が切り欠かれたオリフラを有するものを含む概念である。
【００３３】
上記液晶装置１００において、配向膜１６は後述する本実施形態の液晶装置の製造装置および液晶装置の製造方法を適用した配向処理が施されている。詳細は、後述するが基板表面の凹凸に係わらずほぼ均一に配向処理が施されている。
【００３４】
＜液晶装置の製造方法＞
次に、液晶装置１００の製造方法について、図４〜図１０を参照して説明する。図４は液晶装置の製造方法を示すフローチャート、図５（ａ）および（ｂ）は液晶装置の製造装置としてのラビング装置の構成を示す模式図、図６（ａ）および（ｂ）は基本的なラビング方法を示す概略図、図７は実施形態１のラビング方法を示す概略平面図、図８はラビング毛の乱れ方を説明する概略断面図、図９は実施例１のラビング方法を説明するグラフ、図１０は実施例２のラビング方法を説明するグラフである。
【００３５】
図４に示すように、本実施形態の液晶装置の製造方法は、マザー基板１１０に半導体素子であるＴＦＴ３０やこれに繋がる配線等を形成する素子形成工程（ステップＳ１）と、画素電極９を形成する画素電極形成工程（ステップＳ２）と、配向膜１６を形成して配向処理を施す配向処理工程（ステップＳ３）とを備えている。
【００３６】
また、対向基板２０に対向電極２１を形成する対向電極形成工程（ステップＳ４）と、配向膜２２を形成して配向処理を施す配向処理工程（ステップＳ５）とを備えている。
【００３７】
さらに、マザー基板１１０の素子基板１０ごとに対向基板２０を貼り合せて組み立てる組立工程（ステップＳ６）と、液晶注入・封止工程（ステップＳ７）とを備えている。
ステップＳ１、ステップＳ２、ステップＳ４、ステップＳ６、ステップＳ７はそれぞれ公知の製造方法を適用することができる。したがって、主にステップＳ３とステップＳ５の配向処理工程について説明する。
【００３８】
図４の素子形成工程（ステップＳ１）では、マザー基板１１０の一方の表面に半導体素子であるＴＦＴ３０やＴＦＴ３０に接続する配線等を形成する。ＴＦＴ３０の形成方法としては、公知の形成方法を用いることができる。例えば、ＴＦＴ３０を構成する半導体層や絶縁膜は、それぞれを構成する材料を含む処理ガスに対して膜形成面を所定の圧力、温度などのもとで暴露して反応させる減圧ＣＶＤや常圧ＣＶＤを用いて形成することができる。
【００３９】
半導体層に接続される走査線や信号線などの配線の形成方法は、例えば低抵抗配線材料であるアルミなどの金属またはその化合物を蒸着法やスパッタ法により成膜し、フォトリソグラフィ法によりパターニングする方法が挙げられる。そして、ステップＳ２へ進む。
【００４０】
図４の画素電極形成工程（ステップＳ２）では、透明導電膜であるＩＴＯを蒸着法やスパッタ法により成膜し、これをフォトリソグラフィ法を用いてパターニングすることにより、所定の形状の画素電極９を形成する。ステップＳ４の対向電極形成工程も同様であり、遮光膜２３が設けられた対向基板２０にＩＴＯを成膜することにより、対向電極２１を形成する。そして、素子基板側はステップＳ３、対向基板側はステップＳ５へ進む。
【００４１】
図４の素子基板側の配向処理工程（ステップＳ３）ではマザー基板１１０に配向膜１６を形成し、後述するラビング装置およびラビング方法を用いて配向処理を施す。ステップＳ５の対向基板側の配向処理工程では対向基板２０に配向膜２２を形成し、素子基板側と同様な方法で配向処理を施す。例えば、マザー基板１１０の膜形成領域ＡＥに配向膜１６を形成する方法は、公知の方法を適用することができ、配向膜形成材料を含む液状体を樹脂凸版を用いて転写するフレキソ印刷法や、該液状体を液滴としてインクジェットヘッドのノズルから膜形成領域ＡＥに吐出する液滴吐出法などが挙げられる。そして、ステップＳ６へ進む。
【００４２】
図４の組立工程（ステップＳ６）では、配向処理されたマザー基板１１０の素子基板１０ごとに同じく配向処理された対向基板２０を貼り付ける。貼付方法としては、例えばマザー基板１１０側においてシール材４２を印刷法や吐出法により素子基板１０ごとに額縁状に配置し、対向基板２０を所定の位置で圧接して熱硬化または紫外線硬化させる方法が挙げられる。そして、ステップＳ７へ進む。
【００４３】
図４の液晶注入・封止工程（ステップＳ７）では、対向基板２０が接合されたマザー基板１１０をチャンバー内に放置して減圧し、素子基板１０と対向基板２０との隙間を真空状態とする。注入口１０８を塞ぐように所定量の液晶を滴下した状態でチャンバー内を大気圧に戻す。これにより、液晶が上記隙間に真空注入される。液晶注入後、注入口１０８を封止材１０９を用いて封止する（図１（ａ）参照）。
【００４４】
このようにしてできあがったマザー基板１１０をスクライブ法やダイシング法あるいはレーザー照射により所定の位置で切断する。これにより、個々の液晶装置１００がマザー基板１１０から取り出される。
【００４５】
上記ステップＳ３やステップＳ５の配向処理工程では、配向膜１６，２２の表面をラビング処理することにより配向処理を行っている。ラビング処理において処理むらが生ずると液晶分子の配向むらが発生する。本実施形態の液晶装置１００は小型な表示装置であって、例えば投影型映像表示装置のライトバルブに用いられている。それゆえに、液晶装置１００の画素１０３は直接視認されずスクリーンなどに拡大投影されるため、わずかな配向処理むらに起因する表示むらも目立ってしまう。したがって、配向処理工程（ステップＳ３およびステップＳ５）は液晶装置１００の表示品質を左右する重要な工程となっている。以降、本実施形態におけるラビング処理について詳細に説明する。
【００４６】
図５は液晶装置の製造装置としてのラビング装置２００の構成を示すものである。同図（ａ）に示すように、ラビング装置２００は、ワークＷが載置されるステージ２０１と、ラビングローラー２０３とを備えている。
【００４７】
また、ステージ２０１を所定の方向に移動可能な移動機構２０２，２０６と、載置面２０１ａのほぼ中央の点２０１ｃを中心としてステージ２０１を回転可能な回転機構２０９とを備えている。
【００４８】
さらに、ラビングローラー２０３を回転軸２０３ａを中心にして所定の方向に回転可能な回転機構２０４と、回転軸２０３ａに沿ってラビングローラー２０３を平行移動可能な移動機構２０５とを備えている。
【００４９】
ステージ２０１は、ウェハ状のワークＷをほぼ水平な状態で載置面２０１ａに固定することができる。固定方法としては、載置面２０１ａに吸着孔を設けワークＷを真空吸着する方法が挙げられる。
【００５０】
ラビングローラー２０３は、例えば硬質な金属や樹脂などの無垢材からなり、直径がおよそ１０〜２０ｃｍである。回転軸２０３ａを中心に回転させたときに偏心せず、ほぼ水平に配設されたステージ２０１の載置面２０１ａに対してローラー面２０３ｂがほぼ平行となるように基台（図示省略）上に配設されている。
【００５１】
各移動機構２０２，２０５，２０６の詳細は図示省略したが、例えば空気圧や油圧を利用したアクチュエーターや、サーボモーターなどを駆動源として用い、ガイドレール上を移動させる構成が挙げられる。
【００５２】
回転機構２０４，２０９の詳細は図示省略したが、例えばサーボモーターなどを駆動源として用いて直接または間接的にステージ２０１やラビングローラー２０３を回転させる構成が挙げられる。
【００５３】
ラビング装置２００は、上記構成以外に制御部２０８を備えている。制御部２０８は、ＣＰＵなどの演算部や半導体メモリーなど記憶部を備え、記憶部に格納された制御プログラムに基づいて上記構成の駆動を制御する。
【００５４】
図５（ｂ）に示すように、平面的に移動機構２０２によるステージ２０１の移動方向を第１の方向としてのＹ軸方向とし、移動機構２０６によるステージ２０１の移動方向をＹ軸方向に直交する第２の方向としてのＸ軸方向とする。ステージ２０１とラビングローラー２０３とは、Ｘ軸に対して所定の角度θをなして交差するように基台上に配置されている。軸２０３ａはラビングローラー２０３の回転軸である。すなわち、回転軸２０３ａは所定の角度θでＸ軸と交差している。回転軸２０３ａに沿った方向をＲ軸とする。移動機構２０５はＲ軸に沿った方向すなわちＲ軸方向にラビングローラー２０３を移動させる。
【００５５】
このようなラビング装置２００を用いたラビング方法は、基本的に回転ラビングと呼ばれるものである。図６（ａ）に示すように、ラビングローラー２０３には植毛が外側を向くようにラビング布２０７がローラー面２０３ｂに巻き付けられる。巻き付けられたラビング布２０７が所定の押し込み量ＰでワークＷの表面に押し付けられるように、ステージ２０１の載置面２０１ａに対してラビングローラー２０３の高さが調整される。ラビングローラー２０３に対してステージ２０１の載置面２０１ａの高さを調整できるようにしてもよい。
ラビング布２０７は、例えばレーヨンなどの繊維が柔軟性を有する基材に植毛されたものである。毛の長さが一定となるように加工されており、例えばその長さは１．５ｍｍ程度である。その場合の押し込み量Ｐは０．５ｍｍ程度である。以降、植毛された繊維をラビング毛と呼ぶ。押し込み量Ｐが一定となるようにラビング毛の消耗度合いにより、適宜調整される。
ラビングローラー２０３を回転させた状態でワークＷが載置されたステージ２０１をラビングローラー２０３に向かって移動させ、ワークＷの表面をラビング布２０７によってこする。ラビングローラー２０３の回転速度は、例えば５００〜１０００ｒｐｍである。
【００５６】
このようなラビング方法によれば、図６（ｂ）に示すように、実際のラビング方向は、ワークＷの進行方向（Ｙ軸方向）におけるベクトルと、ラビングローラー２０３の回転方向のベクトルとが合成された方向となる。実際には、むらなく均一にラビング処理するために、ステージ２０１の移動速度はラビングローラー２０３の回転による周速度に比べて小さく設定されるため、ワークＷの進行方向におけるベクトルが小さくなり、所謂ラビング方向はラビングローラー２０３の回転方向とほぼ合致した方向となる。
【００５７】
なお、本実施形態では、ワークＷの進行方向に対して抗するようにラビングローラー２０３の回転方向が設定されているが、これに限定されるものではない。ワークＷの進行方向に対して順ずるようにラビングローラー２０３を回転させてもよい。
また、図５（ｂ）においてワークＷを載置したステージ２０１をラビングローラー２０３に対してＹ軸方向に往復移動させてラビング処理を行ってもよい。往復移動させる場合には、当然ながら往動と復動とで実質的なラビング方向が同一の方向となるように、往動時に対して復動時の回転方向が逆方向となるように、制御部２０８は回転機構２０４を制御してラビングローラー２０３を回転させる。
【００５８】
図７は本実施形態のラビング方法の詳細を示す概略平面図であって、ラビング時におけるラビングローラー２０３とウェハ状のワークＷとの相対的な位置関係を示すものである。
【００５９】
図７に示すように、ラビングローラー２０３に向かってウェハ状のワークＷが進行してゆくと、ラビング布２０７とワークＷとの接触は点から線（接触ライン）へと広がってゆく。接触ラインのＸ軸方向における長さは、接触ラインがワークＷの中心Ｗ0を通過するときに最大（Ｌｍａｘ）となる。したがって、Ｌｍａｘ＝２ｒｃｏｓθである。ｒはウェハ状のワークＷの半径、θはＸ軸に対する回転軸の傾斜角度であり４５度以下で設定される。
【００６０】
ラビング布２０７のワークＷに対する接触部と非接触部との境界は、進行方向の前方側に位置する境界線Ｒａと、進行方向の後方側に位置する境界線Ｒｂで示されている。
【００６１】
図８はラビング毛の乱れ方を説明する概略断面図であって、上記境界線Ｒａ，Ｒｂ上における状態を示したものである。図８に示すように、ステージ２０１の載置面２０１ａとワークＷの表面との間には段差が生じている。この場合の段差は、前述したワークＷの厚みに相当し、およそ１．２ｍｍである。前述した押し込み量Ｐが１．２ｍｍ未満であれば、ラビング布２０７はワークＷにだけ接触した状態となって、接触部と非接触部との境界では、ラビング毛が他の部分に比べて最も乱れた状態となる。ラビングローラー２０３は回転しているため、このラビング毛が乱れた部分はラビングローラー２０３の円周上に発生する。なお、ラビング布２０７はワークＷに押し付けられているため、ラビング布２０７上の境界線Ｒａ，Ｒｂ、すなわちラビング毛の乱れた部分は押し込み量Ｐに応じたある程度の幅を持っている。
【００６２】
ワークＷがラビングローラー２０３に向かって進行しラビング処理が開始されて接触ラインの長さが最大となるまでは、境界線Ｒａ，Ｒｂはそれぞれウェハ状のワークＷの外周より外側に押やられてゆく。
ワークＷをそのまま進行させると、接触ラインの長さが最大となった後には、前方側の境界線Ｒａにおけるラビング毛が乱れた部分がワークＷの外周から内側に入ってラビングされる。ラビング毛が乱れた部分によりラビングされる領域は図７に示した斜線でハッチングした領域となる。当該領域に配向膜が形成されている場合には、配向処理むらが生じることが判明した。なお、進行方向に対して後方側に位置する境界線Ｒｂ上においてもラビング毛が乱れた部分が発生するが、このままワークＷが進行しても、以降当該部分がワークＷの外周から内側に入ってくることがないのは明らかである。
そこで、本実施形態の液晶装置の製造方法としてのラビング方法では、次の実施例１または実施例２に示す方法で上記配向処理むらを回避している。
なお、図７に示すように、ラビングローラー２０３に対してワークＷが向かって行く往動時のＹ軸方向を＋Ｙ方向とする。したがって、復動時のワークＷの移動方向は−Ｙ方向となる。同様に、Ｙ軸に直交するＸ軸上では、紙面に向かって右側にステージ２０１が移動する方向を＋Ｘ方向とし、左側に移動する方向を−Ｘ方向とする。Ｒ軸上では、Ｒ軸に沿って右上にラビングローラー２０３が移動する方向を＋Ｒ方向、左下に移動する方向を−Ｒ方向とする。
【００６３】
（実施例１）
実施例１のラビング方法では、図７に示したラビング布２０７の境界線Ｒａが斜線でハッチングされた領域に侵入しないように、ラビング装置２００の制御部２０８は移動機構２０２，２０６を駆動制御する。すなわち、ラビングローラー２０３に対するワークＷの往動と復動とに同期して、ステージ２０１をＸ軸方向に移動させる。
【００６４】
図９は実施例１のラビング方法におけるステージの移動方法を示すグラフである。具体的には、図９に示すように例えば往動時において接触ラインの長さが最大になったときのワークＷ（ステージ２０１）の中心Ｗ0のＸ座標を「０」、Ｙ座標を「−ｒｓｉｎθ」とすると、ワークＷ（ステージ２０１）がＹ軸方向においてＹ座標「−ｒｓｉｎθ」からＹ座標「ｒｓｉｎθ」まで移動する往動の間に、ワークＷ（ステージ２０１）をＸ軸方向においてＸ座標「０」からＸ座標「−Ｌ1」を経由して再びＸ座標「０」に移動させる。
【００６５】
実施例１では、ラビングローラー２０３に対してワークＷを相対的に往復させることによりラビング処理を行っているので、復動時は往動時に対して逆のワークＷ（ステージ２０１）の動作となる。すなわち、復動時において接触ラインの長さが最大になったときのワークＷ（ステージ２０１）の中心Ｗ0のＸ座標を「０」、Ｙ座標を「ｒｓｉｎθ」とすると、ワークＷ（ステージ２０１）がＹ軸方向においてＹ座標「ｒｓｉｎθ」からＹ座標「−ｒｓｉｎθ」まで移動する間に、ワークＷ（ステージ２０１）をＸ軸方向においてＸ座標「０」からＸ座標「Ｌ1」を経由して再びＸ座標「０」に移動させる。Ｌ1の長さは、ｒ−ｒｃｏｓθによって与えられる。すなわち、ワークＷ（ステージ２０１）の移動による境界線Ｒａの軌跡は、ラビングローラー２０３の傾斜角度θの三角関数によって与えられる。
【００６６】
実施例１のラビング方法を実現するラビング装置２００の最低限必要な移動軸の構成は、移動機構２０２と移動機構２０６である。
【００６７】
（実施例２）
実施例２のラビング方法では、図７に示したラビング布２０７の境界線Ｒａが斜線でハッチングされた領域に侵入しないように、ラビング装置２００の制御部２０８は移動機構２０２，２０５を駆動制御する。すなわち、ラビングローラー２０３に対するワークＷの往動と復動とに同期して、ラビングローラー２０３を回転軸２０３ａ（Ｒ軸）に沿って平行移動させる。
【００６８】
図１０は実施例２のラビング方法におけるラビングローラーの移動方法を示すグラフである。具体的には、図１０に示すように往動時において接触ラインの長さが最大になったときのラビングローラー２０３のＲ座標を「０」、ワークＷの中心Ｗ0のＹ座標を「−ｒｓｉｎθ」とすると、ワークＷ（ステージ２０１）がＹ軸方向においてＹ座標「−ｒｓｉｎθ」からＹ座標「ｒｓｉｎθ」まで移動する間に、ラビングローラー２０３をＲ軸上においてＲ座標「０」からＲ座標「Ｌ2」を経由して再びＲ座標「０」に移動させる。
【００６９】
実施例２でもラビングローラー２０３に対してワークＷを相対的に往復させることによりラビング処理を行うので、復動時は往動時に対して逆のラビングローラー２０３の動作となる。すなわち、復動時において接触ラインの長さが最大になったときのラビングローラー２０３のＲ座標を「０」、ワークＷの中心Ｗ0のＹ座標を「ｒｓｉｎθ」とすると、ワークＷ（ステージ２０１）がＹ軸方向においてＹ座標「ｒｓｉｎθ」からＹ座標「−ｒｓｉｎθ」まで移動する間に、ラビングローラー２０３をＲ軸上においてＲ座標「０」からＲ座標「−Ｌ2」を経由して再びＲ座標「０」に移動させる。Ｌ2の長さは、（ｒ／ｃｏｓθ）−ｒによって与えられる。
【００７０】
実施例２のラビング方法を実現するラビング装置２００の最低限必要な移動軸の構成は、移動機構２０２と移動機構２０５である。
【００７１】
＜実施形態１の作用・効果＞
実施例１および実施例２のラビング方法によれば、ラビング布２０７の境界線ＲａがワークＷの外周に沿って相対的に移動することになる。これによって、図７に示した斜線部に配向処理むらが発生することを防止できる。
また、ラビングローラー２０３に対してワークＷを相対的に移動させて往復のラビング処理が施される。ステージ２０１のＸ軸方向への移動およびラビングローラー２０３のＲ軸上での移動は、それぞれ往復のラビング処理に対応してＸ座標またはＲ座標が「０」に戻るので、複数のワークＷを継続して効率よくラビング処理することができる。
それゆえに、ラビングローラー２０３の長さをむやみに長くしたり、ステージ２０１の移動範囲をむやみに広げる必要がないので、ラビング装置２００がむやみに大型化しない。
【００７２】
（実施形態２）
次に他の実施形態の液晶装置の製造装置および液晶装置の製造方法について、図１１〜図１３を参照して説明する。図１１は実施形態２のラビング装置およびラビング方法を示す概略平面図、図１２は実施例３のラビング方法を示すグラフ、図１３は実施例４のラビング方法を示すグラフである。なお、上記実施形態１と同様な構成の部分については同じ符合を付して詳細な説明は省略する。上記実施形態１のラビング装置２００およびラビング方法と異なる構成について主に説明する。
【００７３】
図１１に示すように、ラビング処理が施されるワーク（基板）はウェハ状に限らない。実施形態２のワークＷｑは平面的に長方形（四角形）である。
【００７４】
本実施形態における第１の方向はワークＷｑの進行方向すなわちＹ軸方向であり、第２の方向はＹ軸方向と直交するＸ軸方向であって、Ｒ軸はＸ軸と合致している。
この場合も、上記実施形態１と同様に、ラビングローラー２０３に対してワークＷｑが向かって行く往動時のＹ軸方向を＋Ｙ方向とする。したがって、復動時のワークＷｑの移動方向は−Ｙ方向となる。同様に、Ｙ軸に直交するＸ軸上では、紙面に向かって右側にステージ２０１が移動する方向を＋Ｘ方向とし、左側に移動する方向を−Ｘ方向とする。Ｒ軸上では、Ｒ軸に沿って右側にラビングローラー２０３が移動する方向を＋Ｒ方向、左側に移動する方向を−Ｒ方向とする。
【００７５】
例えば、ラビング装置２００のステージ２０１にワークＷｑを傾斜させて載置して、Ｙ軸方向に対して回転軸Ｒが交差（直交）するように配置されたラビングローラー２０３を用いてラビング処理する場合を例に説明する。なお、四角形のステージ２０１の辺部に沿うようにワークＷｑを載置してから回転機構２０９によりステージ２０１を回転させてもよい。ワークＷｑの長辺ｑ1と回転軸Ｒとがなす傾斜角度をθ1とする。傾斜角度θ1は４５度以下の角度である。
また、ワークＷｑの短辺ｑ2の長さを２ａとし、長辺ｑ1の長さを２ｂとする。長辺ｑ1とＹ軸とがなす角度をθ2とする。
【００７６】
このようにラビングローラー２０３に対して傾斜角度θ1を付けてワークＷｑを配置することは、ウェハ状のワークＷに対してラビングローラー２０３を傾斜させる上記実施形態１と同様に、それぞれのワークＷ，Ｗｑに設けられたスイッチング素子や配線、電極などを含むデバイスのパターンの方向とワークＷ，Ｗｑのラビング時の進行方向とが合致しないようにラビング処理される。したがって、デバイスのパターンの特異的な方向とラビング時の進行方向とが合致することによるラビング処理むら（ラビング不良）の発生を防ぐことができる。
【００７７】
進行方向に対して傾斜して配置されたワークＷｑをラビングローラー２０３に向かって進行させると、まずワークＷｑの進行方向における前方側の角部Ｃ1がラビングローラー２０３（ラビング布２０７）と接触する。
【００７８】
ラビング布２０７と角部Ｃ1と接触点は、上記実施形態１の図８にて説明したと同様にワークＷｑの表面と載置面２０１ａとの間には、ワークＷｑの厚みに応じた段差がある。このままワークＷｑが進行すると、ラビング毛は長辺ｑ1と短辺ｑ2とに沿って押し広げられ、ワークＷｑに対するラビング布２０７の接触は点から線（接触ライン）へと拡大する。図１１に示すように接触ラインのＸ軸方向の長さの最大値は角部Ｃ2から角部Ｃ3までのＬｍａｘである。
【００７９】
この場合、接触ラインの長さが最大となったときのラビング布２０７における接触部と非接触部の境界線Ｒｄ，Ｒｅは、このままワークＷｑが進行したとしてもワークＷｑの外周から内側に入らないので、上記実施形態１のような配向処理むらの心配はない。
一方で角部Ｃ1によって生ずるラビング毛の乱れは、長辺ｑ1側と短辺ｑ2側とに押し広がる。異なった方向に押し広げられたラビング布２０７の境界を境界線Ｒｃで示す。境界線Ｒｃと短辺ｑ2とのなす角度は、ワークＷｑの傾斜角度θ1と同じである。境界線Ｒｃと長辺ｑ1とがなす角度をθ2とすると、θ2≧θ1となる。境界線Ｒｃと短辺ｑ2とがなす角度θ1が角度θ2に比べて鋭角になると、長辺ｑ1側に比べて短辺ｑ2側のラビング毛の乱れがきつくなって配向処理むらを生ずることが判明した。配向処理むらが生ずる領域は斜線でハッチングした領域であって、この場合、進行方向の短辺ｑ2側の角部Ｃ1から角部Ｃ3に向かってラビング処理される領域である。
本実施形態では、該領域に配向処理むらを生じさせないラビング処理を行う。以下、実施例３、実施例４においてそのラビング方法を説明する。
【００８０】
（実施例３）
実施例３のラビング方法では、図１１に示した斜線でハッチングされた領域に配向処理むらを生じさせないように、ラビング装置２００の制御部２０８は移動機構２０２，２０６を駆動制御する。すなわち、ラビングローラー２０３に対するワークＷｑの往動と復動とに同期して、ステージ２０１をＸ軸方向において移動させる。
【００８１】
図１２は実施例３のラビング方法におけるステージの移動方法を示すグラフである。具体的には、角部Ｃ1から対角側の角部Ｃ4までのＹ軸方向における距離は、２ａｃｏｓθ1＋２ｂｓｉｎθ1で与えられる。短辺ｑ2における一方の角部Ｃ1と他方の角部Ｃ3とのＸ軸方向の距離Ｌ3は、２ａｓｉｎθ1で与えられる。往復でのラビング処理は、実施形態１と同様である。そこで、角部Ｃ1がラビングローラー２０３と接触したときのＸ座標を「０」、Ｙ座標を「−（ａｃｏｓθ1＋ｂｓｉｎθ1）」として、往動時にワークＷｑがＹ座標「−（ａｃｏｓθ1＋ｂｓｉｎθ1）」からＹ座標「ａｃｏｓθ1＋ｂｓｉｎθ1」まで移動する間に、制御部２０８は移動機構２０６を駆動制御してワークＷｑ（ステージ２０１）をＸ軸方向においてＸ座標「０」からＸ座標「−Ｌ3」を経由して再びＸ座標「０」に移動させる。Ｘ座標が「−Ｌ3」となるときのＹ座標は「ａｃｏｓθ1−ｂｓｉｎθ1」である。また、Ｘ座標が再び「０」となるときのＹ座標は「ａｃｏｓθ1」である。
【００８２】
同様にして、復動時では、ワークＷｑ（角部Ｃ4）がＹ座標「ａｃｏｓθ1＋ｂｓｉｎθ1」からＹ座標「−（ａｃｏｓθ1＋ｂｓｉｎθ1）」まで移動する間に、制御部２０８は移動機構２０６を駆動制御してワークＷｑ（ステージ２０１）をＸ軸方向においてＸ座標「０」からＸ座標「Ｌ3」を経由して再びＸ座標「０」に移動させる。Ｘ座標が「Ｌ3」となるときのＹ座標は「−ａｃｏｓθ1＋ｂｓｉｎθ1」である。また、Ｘ座標が再び「０」となるときのＹ座標は「−ａｃｏｓθ1」である。
【００８３】
実施例３のラビング方法を実現するラビング装置２００の最低限必要な移動軸の構成は、移動機構２０２と移動機構２０６である。
【００８４】
（実施例４）
実施例４のラビング方法では、図１１に示した斜線でハッチングされた領域に配向処理むらを生じさせないように、ラビング装置２００の制御部２０８は移動機構２０２，２０５を駆動制御する。すなわち、ラビングローラー２０３に対するワークＷｑの往動と復動とに同期して、ラビングローラー２０３をＲ軸方向（この場合はＸ軸方向と同じ）において移動させる。
【００８５】
図１３は実施例４のラビング方法におけるラビングローラーの移動方法を示すグラフである。具体的には、角部Ｃ1がラビングローラー２０３と接触したときのＲ座標を「０」とする。往動時にワークＷｑ（角部Ｃ1）がＹ座標「−（ａｃｏｓθ1＋ｂｓｉｎθ1）」からＹ座標「ａｃｏｓθ1＋ｂｓｉｎθ1」まで移動する間に、制御部２０８は移動機構２０５を駆動制御してラビングローラー２０３をＲ軸方向においてＲ座標「０」からＲ座標「Ｌ3」を経由して再びＲ座標「０」に移動させる。Ｒ座標が「Ｌ3」となるときのＹ座標は「ａｃｏｓθ1−ｂｓｉｎθ1」である。また、Ｒ座標が再び「０」となるときのＹ座標は「ａｃｏｓθ1」である。
【００８６】
同様にして、復動時では、ワークＷｑ（角部Ｃ4）がＹ座標「ａｃｏｓθ1＋ｂｓｉｎθ1」からＹ座標「−（ａｃｏｓθ1＋ｂｓｉｎθ1）」まで移動する間に、制御部２０８は移動機構２０５を駆動制御してラビングローラー２０３をＲ軸方向においてＲ座標「０」からＲ座標「−Ｌ3」を経由して再びＲ座標「０」に移動させる。Ｒ座標が「−Ｌ3」となるときのＹ座標は「−ａｃｏｓθ1＋ｂｓｉｎθ1」である。また、Ｒ座標が再び「０」となるときのＹ座標は「−ａｃｏｓθ1」である。
【００８７】
実施例４のラビング方法を実現するラビング装置２００の最低限必要な移動軸の構成は、移動機構２０２と移動機構２０５である。
【００８８】
＜実施形態２の作用・効果＞
このような実施例３および実施例４のラビング方法によれば、往動時には角部Ｃ1とラビング布２０７が接触することによる境界線Ｒｃの短辺ｑ2側のラビング毛の乱れを短辺ｑ2と長辺ｑ3の外周に沿って移動させる。ラビングにおける該ラビング毛の乱れの軌跡は、短辺ｑ2と長辺ｑ3とに沿った直線の組み合わせによって与えられる。したがって、図１１の斜線でハッチングした領域において配向処理むらが生じない。
復動時には角部Ｃ4とラビング布２０７が接触することによる境界線Ｒｃの短辺ｑ4側のラビング毛の乱れを短辺ｑ4と長辺ｑ1の外周に沿って移動させる。ラビングにおける該ラビング毛の乱れの軌跡は、短辺ｑ4と長辺ｑ1とに沿った直線の組み合わせによって与えられる。往動時と同様に配向処理むらが生じない。
なお、効率的な往復ラビングの効果や、ラビング装置２００がむやみに大型化しない効果は上記実施形態１と同様である。
【００８９】
上記実施形態１および上記実施形態２において、ラビング処理面の凹凸がワークＷ，Ｗｑとステージ２０１の載置面２０１ａとの段差である場合、上記実施形態１では、ラビングローラー２０３の傾斜角度θが０度のときには、当該段差に起因するラビング毛の乱れがワークＷの外周から内側に入らないので、実質的に配向処理むらは発生しない。言い換えれば、実施例１および実施例２のラビング方法の効果が得られるのは、ラビングローラー２０３の傾斜角度θが０度より大きく設定された場合である。
同様に、上記実施形態２では、ラビングローラー２０３の回転軸２０３ａに対して四角形のワークＷｑの長辺ｑ１が平行となるように配置されたときには、実質的に配向処理むらは発生しない。言い換えれば、実施例３および実施例４のラビング方法の効果が得られるのは、ラビングローラー２０３に回転軸２０３ａに対してワークＷｑの隣り合う２辺が互いに交差するように配置された場合である。
【００９０】
上記実施形態以外にも様々な変形例が考えられる。以下、変形例を挙げて説明する。
【００９１】
（変形例１）上記実施形態１のラビング装置２００の構成は、これに限定されない。例えば、ステージ２０１を固定とし、ラビングローラー２０３が移動方向が異なる３軸の移動機構２０２，２０５，２０６のうち移動機構２０２および移動機構２０５、または移動機構２０２および移動機構２０６を有する構成としてもよい。
【００９２】
（変形例２）上記実施形態１および上記実施形態２において、ラビング毛が乱れる要因は、ワークＷ，Ｗｑの表面とステージ２０１の載置面２０１ａとの段差、すなわち、ワークＷ，Ｗｑの外周端に起因する段差に限定されない。例えば、ワークＷ，Ｗｑ上に配置されたフォトスペーサーなどの構造物の凹凸に起因するラビング毛の乱れであっても、上記実施例１〜実施例４のラビング方法を適用して配向処理むらを低減することができる。
【００９３】
（変形例３）上記実施形態１および上記実施形態２において、往復のラビング処理に限定されない。例えば、ラビングローラー２０３に対するステージ２０１の往動または復動のいずれか一方においてラビング処理を行うとしてもよい。
【００９４】
（変形例４）上記実施形態１において、実施例１と実施例２のラビング方法とを組み合わせてもよい。同様に上記実施形態２において、実施例３と実施例４のラビング方法とを組み合わせてもよい。例えば、往動時にはステージ２０１をＸ軸方向に移動させ、復動時にはラビングローラー２０３を回転軸２０３ａに沿って移動させる。これによれば、それぞれを移動させる移動機構の移動範囲を狭く設定することが可能である。
【００９５】
（変形例５）上記実施形態１において、液晶装置１００の製造方法はこれに限定されない。例えば、複数の素子基板１０が面付けされたマザー基板１１０に対して複数の対向基板２０が面付けされたマザー基板を液晶層４０を挟んで接合してから個々の液晶装置１００を取り出す方法としてもよい。配向処理はそれぞれのマザー基板に対して施される。
【００９６】
（変形例６）上記実施形態１および上記実施形態２のラビング装置２００を用いたラビング方法を適用可能な液晶装置１００は、スイッチング素子を有するアクティブ駆動型に限定されない。例えば、パッシンブ駆動型の液晶装置にも適用可能であり、さらには透過型、反射型、半透過反射型などの表示形態に寄らず適用可能である。
【符号の説明】
【００９７】
１０…基板としての素子基板、２０…基板としての対向基板、１６，２２…配向膜、１００…液晶装置、２００…液晶装置の製造装置としてのラビング装置、２０１…ステージ、２０１ａ…載置面、２０２，２０５，２０６…移動機構、２０３…ラビングローラー、２０３ａ…回転軸、２０３ｂ…ローラー面、２０４…回転機構、２０７…ラビング布、Ｗ…ウェハ状の基板としてのワーク、Ｗｑ…四角形の基板としてのワーク。
【図１】
2010191136.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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