(57)【要約】【課題】液晶セルの配向方向と偏光板の光学軸との位置ズレを低減するとともに位置合わせおよび貼り付けの工数増加を抑える液晶装置の製造方法を提供すること。【解決手段】液晶装置の製造方法は、液晶セル５０を用意する工程と、素子基板１０の外側に素子基板１０と対向させて基準偏光子４６を配置するとともに、対向基板３０の外側に対向基板３０と対向させて偏光板４５を配置して、基準偏光子４６と液晶セル５０と偏光板４５とを透過した光５７の強度を測定する工程と、液晶セル５０と偏光板４５とを対向させた状態を維持しながら対向する面内で回転させて、光５７の強度の測定結果に基づいて光５７の強度が最小または最大となるように、基準偏光子４６と液晶セル５０と偏光板４５との相対的な面内での位置関係を決定し、偏光板４５を液晶セル５０に貼り付ける貼付工程と、を含むことを特徴とする。【選択図】図７
2010072394.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに対向して配置された一対の基板と、前記一対の基板の間に挟持された液晶層と、を備えた液晶セルを用意する工程と、
前記液晶セルの前記一対の基板のうち一方の基板の外側に前記一方の基板と対向させて第１の偏光体を配置するとともに、前記一対の基板のうち他方の基板の外側に前記他方の基板と対向させて第２の偏光体を配置して、前記第１の偏光体と前記液晶セルと前記第２の偏光体とを透過した光の強度を測定する工程と、
前記第１の偏光体と前記液晶セルと前記第２の偏光体とのうちの少なくとも２つを対向させた状態を維持しながら対向する面内で回転させて、前記光の強度の測定結果に基づいて前記光の強度が最小または最大となるように、前記第１の偏光体と前記液晶セルと前記第２の偏光体との相対的な面内での位置関係を決定し、前記第１の偏光体および前記第２の偏光体の少なくとも一方を前記液晶セルに貼り付ける貼付工程と、
を含むことを特徴とする液晶装置の製造方法。
【請求項２】
請求項１に記載の液晶装置の製造方法であって、
前記貼付工程では、前記第１の偏光体を前記液晶セルに貼り付け、
前記貼付工程の後に、前記第２の偏光体を前記液晶セルに貼り付ける工程をさらに含むことを特徴とする液晶装置の製造方法。
【請求項３】
請求項１に記載の液晶装置の製造方法であって、
前記貼付工程では、前記第１の偏光体および前記第２の偏光体の双方を前記液晶セルに貼り付けることを特徴とする液晶装置の製造方法。
【請求項４】
請求項１に記載の液晶装置の製造方法であって、
前記第１の偏光体は基準偏光子であり、
前記貼付工程では、前記基準偏光子に対する前記液晶セルと前記第２の偏光体との相対的な面内での位置関係を決定して、前記第２の偏光体を前記液晶セルに貼り付け、
前記貼付工程の後に、前記液晶セルの前記第２の偏光体が貼り付けられた側とは反対側に第３の偏光体を配置して、前記第２の偏光体と前記液晶セルと前記第３の偏光体とを透過した光の強度を測定する工程と、
前記液晶セルと前記第３の偏光体とのうちの少なくとも１つを対向する面内で回転させて、前記光の強度の測定結果に基づいて前記光の強度が最小または最大となるように、前記液晶セルに対する前記第３の偏光体の相対的な面内での位置関係を決定し、前記第３の偏光体を前記液晶セルに貼り付ける工程と、
をさらに含むことを特徴とする液晶装置の製造方法。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか一項に記載の液晶装置の製造方法であって、
前記第１の偏光体と前記第２の偏光体と前記第３の偏光体とのうちの少なくとも１つは、偏光板と、前記偏光板に積層された光学補償板と、を備えていることを特徴とする液晶装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶装置は、対向配置された一対の基板の間に液晶層が挟持された液晶セルと、液晶セルの両外側に配置された一対の偏光板とを備えている。液晶装置は、偏光光を利用して表示を行うため、液晶層における液晶分子の配向方向と、一対の偏光板の光学軸とが所定の位置関係となるように設定されている。したがって、液晶セルに偏光板を貼り付ける工程において、液晶セルと偏光板との所定の配置位置にズレが生じると、液晶装置のコントラスト低下等により表示品質の低下を招くこととなる。
【０００３】
そこで、液晶セルの一方の基板に設けられたアライメントマークを基準にして、偏光板の外形との位置合わせを行う方法が提案されている（例えば、特許文献１参照）。また、マスタ偏光板の光学軸を基準にして液晶セルの配向方向と偏光板の光学軸との位置合わせを行う方法が提案されている（例えば、特許文献２および特許文献３参照）。
【０００４】
【特許文献１】特開２０００−２２１４６１号公報
【特許文献２】特開平８−２０１８０１号公報
【特許文献３】特開２００３−１０７４５２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、上記特許文献１に記載された方法では、アライメントマークと偏光板の外形とで位置合わせを行うため、設定された位置に対する液晶セルのアライメントマークと配向方向とのズレや偏光板の外形と光学軸とのズレがある場合、液晶セルに対して偏光板の光学軸を正確に位置合わせすることが難しいという課題がある。上記特許文献２および特許文献３に記載された方法では、マスタ偏光板の光学軸を基準にして液晶セルの配向方向や各偏光板の光学軸を個別に位置合わせして貼り付けるため、位置合わせおよび貼り付けの工程が多くなり工数が増加するという課題がある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。
【０００７】
［適用例１］本適用例に係る液晶装置の製造方法は、互いに対向して配置された一対の基板と、前記一対の基板の間に挟持された液晶層と、を備えた液晶セルを用意する工程と、前記液晶セルの前記一対の基板のうち一方の基板の外側に前記一方の基板と対向させて第１の偏光体を配置するとともに、前記一対の基板のうち他方の基板の外側に前記他方の基板と対向させて第２の偏光体を配置して、前記第１の偏光体と前記液晶セルと前記第２の偏光体とを透過した光の強度を測定する工程と、前記第１の偏光体と前記液晶セルと前記第２の偏光体とのうちの少なくとも２つを対向させた状態を維持しながら対向する面内で回転させて、前記光の強度の測定結果に基づいて前記光の強度が最小または最大となるように、前記第１の偏光体と前記液晶セルと前記第２の偏光体との相対的な面内での位置関係を決定し、前記第１の偏光体および前記第２の偏光体の少なくとも一方を前記液晶セルに貼り付ける貼付工程と、を含むことを特徴とする。
【０００８】
この構成によれば、第１の偏光体と液晶セルと第２の偏光体とを透過した光の強度が最小または最大となるように、第１の偏光体と液晶セルと第２の偏光体との相対的な面内での位置関係を決定する。このため、液晶セルの配向方向と一対の偏光体の光学軸とを、光の強度の測定結果に基づいて所定の位置に合わせることができる。これにより、液晶セルと偏光体との相対的な位置ズレを低減できる。この結果、液晶装置のコントラスト低下が抑えられるので、液晶装置の表示品質を向上できる。
【０００９】
また、一つの工程において、一対の偏光体と液晶セルとの位置関係を決定するとともに、一対の偏光体の少なくとも一方を液晶セルに貼り付けるので、位置合わせおよび貼り付けによる工数増加を抑えることができる。
【００１０】
［適用例２］上記適用例に係る液晶装置の製造方法であって、前記貼付工程では、前記第１の偏光体を前記液晶セルに貼り付け、前記貼付工程の後に、前記第２の偏光体を前記液晶セルに貼り付ける工程をさらに含んでいてもよい。
【００１１】
この構成によれば、一つの工程において一対の偏光体と液晶セルとの位置関係を決定するとともに一対の偏光体の一方を液晶セルに貼り付け、次の工程で他方の偏光体を液晶セルに貼り付けるので、液晶セルとの相対的な位置ズレを低減して一対の偏光体を貼り付けることができる。
【００１２】
［適用例３］上記適用例に係る液晶装置の製造方法であって、前記貼付工程では、前記第１の偏光体および前記第２の偏光体の双方を前記液晶セルに貼り付けてもよい。
【００１３】
この構成によれば、一つの工程において、一対の偏光体と液晶セルとの位置関係を決定するとともに、一対の偏光体の双方を液晶セルに貼り付けるので、位置合わせおよび貼り付けによる工数増加をより抑えることができる。
【００１４】
［適用例４］上記適用例に係る液晶装置の製造方法であって、前記第１の偏光体は基準偏光子であり、前記貼付工程では、前記基準偏光子に対する前記液晶セルと前記第２の偏光体との相対的な面内での位置関係を決定して、前記第２の偏光体を前記液晶セルに貼り付け、前記貼付工程の後に、前記液晶セルの前記第２の偏光体が貼り付けられた側とは反対側に第３の偏光体を配置して、前記第２の偏光体と前記液晶セルと前記第３の偏光体とを透過した光の強度を測定する工程と、前記液晶セルと前記第３の偏光体とのうちの少なくとも１つを対向する面内で回転させて、前記光の強度の測定結果に基づいて前記光の強度が最小または最大となるように、前記液晶セルに対する前記第３の偏光体の相対的な面内での位置関係を決定し、前記第３の偏光体を前記液晶セルに貼り付ける工程と、をさらに含んでいてもよい。
【００１５】
この構成によれば、基準偏光子の光学軸を基準にして液晶セルの配向方向と第２の偏光体の光学軸とを所定の位置に合わせるので、液晶セルの配向方向と第２の偏光体の光学軸との位置ズレをより低減できる。また、第２の偏光体が光学軸を所定の位置に合わせて貼り付けられた液晶セルと第３の偏光体とを、光の強度の測定結果に基づいて所定の位置に合わせるので、液晶セルの配向方向と第３の偏光体の光学軸との位置ズレを低減できる。
【００１６】
［適用例５］上記適用例に係る液晶装置の製造方法であって、前記第１の偏光体と前記第２の偏光体と前記第３の偏光体とのうちの少なくとも１つは、偏光板と、前記偏光板に積層された光学補償板と、を備えていてもよい。
【００１７】
この構成によれば、偏光体が偏光板と光学補償板とを備えていても、液晶セルの配向方向と一対の偏光体の光学軸とを光の強度の測定結果に基づいて所定の位置に合わせるので、液晶セルと偏光体との相対的な位置ズレを低減できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下に、本実施の形態について図面を参照して説明する。なお、参照する各図面において、構成をわかりやすく示すため、各構成要素の層厚や寸法の比率、角度等は適宜異ならせてある。
【００１９】
＜液晶装置＞
まず、本実施の形態に係る液晶装置の製造方法を用いて製造される液晶装置の一例について図を参照して説明する。図１は、液晶装置の一例の概略構成を示す図である。詳しくは、図１（ａ）は斜視図であり、図１（ｂ）は図１（ａ）中のＡ−Ａ’線に沿った断面図である。図２は、液晶装置の一例の画素の構成を示す平面図である。詳しくは、対向基板側から見たときの平面図であり、対向基板の図示を省略している。図３は、図２中のＢ−Ｂ’線に沿った断面図である。図４は液晶装置の一例の光学設計条件を示す図である。
【００２０】
液晶装置の一例としての液晶装置１００は、例えば、スイッチング素子としてＴＦＴ（Thin Film Transistor：薄膜トランジスタ）素子を備えたアクティブマトリクス型の液晶装置であるとともに、ＦＦＳ（Fringe-Field Switching）方式の透過型の液晶装置である。
【００２１】
図１（ａ）および（ｂ）に示すように、液晶装置１００は、液晶セル５０を備えている。液晶セル５０は、素子基板１０と、素子基板１０に対向して配置された対向基板３０と、素子基板１０と対向基板３０との間に挟持された液晶層４０とを備えている。素子基板１０と対向基板３０とは、枠状のシール剤４１を介して対向して貼り合わされている。液晶層４０は、素子基板１０と対向基板３０とシール剤４１とによって囲まれた空間に封入されている。
【００２２】
素子基板１０の液晶層４０とは反対側の面には、偏光板４４が配置されている。対向基板３０の液晶層４０とは反対側の面には、偏光板４５が配置されている。図示しないが、偏光板４４の側には、偏光板４４に対向してバックライト等の照明装置が配置されている。
【００２３】
素子基板１０は、対向基板３０より大きく、一部が対向基板３０に対して張り出した状態で貼り合わされている。この張り出した部位には、液晶層４０を駆動するためのドライバＩＣ４２が実装されている。液晶装置１００は、液晶層４０が封入された表示領域２において表示を行う。
【００２４】
図２に示すように、表示領域２には、走査線１２と信号線１４とが交差するように形成され、走査線１２と信号線１４との交差に対応して画素４が設けられている。画素４は、互いに隣り合う画素４同士の間に間隔が空くようにマトリクス状に配置されている。画素４は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のいずれかの表示に寄与し、Ｒ、Ｇ、Ｂの各表示に寄与する３つの画素４から１つの画素群が構成されている。液晶装置１００では、各画素群において３つの画素４のそれぞれの輝度を適宜変えることで、種々の色の表示を行うことができる。
【００２５】
画素４には、画素電極１６と、画素電極１６との間で横電界を発生させるための共通電極１８と、画素電極１６を制御するためのＴＦＴ素子２０とが設けられている。なお、図２では、構成をわかりやすく示すため、画素電極１６に斜線を施して表示している。
【００２６】
画素電極１６は、矩形状に形成されており、複数のスリット状の開口部１６ａを有している。スリット状の開口部１６ａは、例えば信号線１４の延在方向に沿う方向に、互いに平行に形成されている。画素電極１６は、絶縁層２４（図３参照）を貫通するコンタクトホール２４ａを介して、ＴＦＴ素子２０のドレイン電極２０ｄに電気的に接続されている。画素電極１６は、透光性を有する導電材料からなり、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）からなる。
【００２７】
共通電極１８は、矩形状に形成されており、画素電極１６に平面的に重なるように設けられている。共通電極１８は、一辺部において共通配線１７に重なっており、この部分で共通配線１７に電気的に接続されている。共通電極１８は、透光性を有する導電材料からなり、例えばＩＴＯからなる。
【００２８】
ＴＦＴ素子２０は、ゲート電極２０ｇと半導体層２０ａとソース電極２０ｓとドレイン電極２０ｄとを備えている。ゲート電極２０ｇは、走査線１２の一部である。半導体層２０ａは、ゲート電極２０ｇに平面的に重なる位置に形成されている。ソース電極２０ｓは、信号線１４から分岐した部分であり、その一部が半導体層２０ａの一部（ソース側）を覆うように形成されている。ドレイン電極２０ｄは、一部が半導体層２０ａの一部（ドレイン側）を覆うように形成されている。
【００２９】
図３に示すように、素子基板１０は、基板１１を基体として構成されており、基板１１上に、ＴＦＴ素子２０と、共通配線１７と、共通電極１８と、ゲート絶縁層２２と、絶縁層２４と、画素電極１６と、配向膜２８とを備えている。基板１１は、透光性を有する材料からなり、例えば、ガラス、石英、樹脂等からなる。
【００３０】
基板１１の液晶層４０側には、ゲート電極２０ｇと、共通配線１７と、共通電極１８とが形成されている。ゲート絶縁層２２は、基板１１とゲート電極２０ｇと共通配線１７と共通電極１８とを覆うように形成されている。ゲート絶縁層２２上には、半導体層２０ａとソース電極２０ｓとドレイン電極２０ｄとが形成されている。
【００３１】
絶縁層２４は、ゲート絶縁層２２と、半導体層２０ａと、ソース電極２０ｓと、ドレイン電極２０ｄとを覆うように形成されている。画素電極１６は、絶縁層２４上に形成されている。画素電極１６と共通電極１８とはゲート絶縁層２２と絶縁層２４とを介して対向しており、画素電極１６と共通電極１８との間に挟まれたゲート絶縁層２２と絶縁層２４とを誘電体膜とする保持容量が形成されている。
【００３２】
素子基板１０では、画素電極１６と共通電極１８との間に電圧が印加されると、スリット状の開口部１６ａおよびその周辺に素子基板１０に平行な方向の横電界が発生する。この横電界によって、液晶層４０の液晶分子の配向が制御される。なお、画素電極１６と共通電極１８との配置はこの形態に限定されない。共通電極１８が画素電極１６よりも液晶層４０側に配置されていてもよい。このような構成の場合は、共通電極１８がスリット状の開口部を有することとなる。
【００３３】
素子基板１０の液晶層４０に接する側には配向膜２８が形成されている。配向膜２８は、例えばポリイミド樹脂からなる。配向膜２８の表面には、液晶分子を所定の方向に配向させるラビング処理等の配向処理が施されている。
【００３４】
次に、対向基板３０は、液晶装置１００の観察側に位置している。対向基板３０は、基板３１を基体として構成されており、基板３１上に、遮光層３２と、カラーフィルタ層３４と、オーバーコート層３５と、配向膜３６とを備えている。
【００３５】
基板３１は、透光性を有する材料からなり、例えば、ガラス、石英、樹脂等からなる。遮光層３２とカラーフィルタ層３４とは、基板３１上に形成されている。遮光層３２は、基板３１上の隣り合う画素４同士の間の領域に配置されている。カラーフィルタ層３４は、画素４の領域に対応して配置されている。カラーフィルタ層３４は、例えばアクリル樹脂等からなり、Ｒ、Ｇ、Ｂの各色に対応する色材を含有している。オーバーコート層３５は、遮光層３２とカラーフィルタ層３４とを覆うように形成されている。
【００３６】
対向基板３０の液晶層４０に接する側には配向膜３６が形成されている。配向膜３６は、例えばポリイミド樹脂からなる。配向膜３６の表面には、素子基板１０の配向膜２８の配向方向に平行であって、配向膜２８のラビングの向きとは１８０度異なる向きにラビング処理等の配向処理が施されている。
【００３７】
液晶層４０は、素子基板１０と対向基板３０との間に配置されている。液晶層４０の液晶分子は、画素電極１６と共通電極１８との間に電界が発生していない状態（オフ状態）では、配向膜２８と配向膜３６とに施された配向処理によって規制される方向に沿って水平に配向する。また、液晶層４０の液晶分子は、画素電極１６と共通電極１８との間に電界が発生している状態（オン状態）では、開口部１６ａの延在方向と直交する方向に発生する電界に沿って配向する。このように、液晶層４０では、オフ状態とオン状態とにおける液晶分子の配向状態の差異に基づく複屈折性を利用して液晶層４０を通過する光に対して位相差を付与している。
【００３８】
次に、図４を参照して、液晶装置１００の光学設計条件について説明する。偏光板４４，４５は、光学軸としての透過軸および吸収軸を有している。図４（ａ）に、偏光板４４の透過軸と偏光板４５の透過軸とを示す。偏光板４４の透過軸と偏光板４５の透過軸とは、互いに直交するように配置されている。
【００３９】
図４（ｂ）に示すように、画素電極１６のスリット状の開口部１６ａは、信号線１４の延在方向に沿って延在している。オン状態において画素電極１６と共通電極１８との間に発生する電界の方向は、信号線１４の延在方向と直交する方向、すなわち走査線１２の延在方向に沿った方向である。
【００４０】
素子基板１０側の配向膜２８には、例えば、信号線１４の延在方向に対して時計回りの方向に５度の角度をなす方向にラビング処理が施されている。対向基板３０側の配向膜３６には、信号線１４の延在方向に対して時計回りの方向に５度の角度をなす方向であって、配向膜２８のラビングの向きとは１８０度異なる向きにラビング処理が施されている。したがって、配向膜２８，３６のラビング方向は、開口部１６ａの延在方向に対して時計回りの方向に５度の角度をなす方向となる。
【００４１】
偏光板４４の透過軸は配向膜２８，３６のラビング方向と平行であり、偏光板４５の透過軸は配向膜２８，３６のラビング方向と直交している。偏光板４４，４５の透過軸と配向膜２８，３６のラビング方向とがこのような所定の位置に配置された場合、液晶装置１００は、オフ状態において照明装置から入射した光が遮断されて暗表示となる。したがって、液晶装置１００はノーマリーブラックモードである。なお、偏光板４４の透過軸が配向膜２８，３６のラビング方向と直交しており、偏光板４５の透過軸が配向膜２８，３６のラビング方向に平行であってもよい。
【００４２】
ところで、配向膜２８，３６のラビング方向と偏光板４４，４５の透過軸との相対的な位置関係にズレが生じると、オフ状態において入射した光が少量ではあるが透過してしまい、表示のコントラスト低下を招くこととなる。このため、液晶装置１００の製造工程において、配向膜２８，３６のラビング方向と偏光板４４，４５の透過軸との相対的な位置関係を調整して精度良く光学設計上の所定の位置に合わせることが、液晶装置１００の表示品質を確保する上で重要である。
【００４３】
なお、液晶装置１００において、画素電極１６の開口部１６ａの延在方向、配向膜２８，３６のラビング方向等の光学設計条件は、上記の形態に限定されるものではない。また、液晶装置１００は、オフ状態で照明装置から入射した光が透過して明表示となるノーマリーホワイトモードであってもよい。液晶装置１００がノーマリーホワイトモードの場合は、偏光板４４の透過軸と偏光板４５の透過軸とが互いに平行に配置される。
【００４４】
＜液晶装置の製造方法＞
（第１の実施形態）
次に、第１の実施形態に係る液晶装置の製造方法について図を参照して説明する。図５は、第１の実施形態に係る液晶装置の製造方法を説明するフローチャートである。以下、液晶装置１００を製造する場合を例に取り説明する。
【００４５】
図５において、工程Ｐ１１および工程Ｐ１２は素子基板１０を製造する工程であり、工程Ｐ２１および工程Ｐ２２は対向基板３０を製造する工程である。工程Ｐ１１および工程Ｐ１２と、工程Ｐ２１および工程Ｐ２２とはそれぞれ独立に行われる。工程Ｐ３１および工程Ｐ３２は、素子基板１０と対向基板３０とを組み合わせて液晶セル５０を用意する工程である。工程Ｐ３３は、一対の偏光板４４，４５を液晶セル５０に貼り付ける工程である。なお、工程Ｐ１１、工程Ｐ１２、工程Ｐ２１、工程Ｐ２２、工程Ｐ３１、工程Ｐ３２については詳述しないが、これらの工程においては公知の技術を適用することができる。
【００４６】
まず、素子基板１０を製造する工程と対向基板３０を製造する工程とを説明する。工程Ｐ１１では、基板１１上にＴＦＴ素子２０、共通配線１７、共通電極１８、ゲート絶縁層２２、絶縁層２４、画素電極１６等を形成する。続いて、工程Ｐ１２では、これらの素子、電極等が形成された素子基板１０の表面に配向膜２８を形成し、配向膜２８の表面に図４（ｂ）に示す方向にラビング処理を施す。
【００４７】
次に、工程Ｐ２１では、基板３１上に遮光層３２、カラーフィルタ層３４、オーバーコート層３５等を形成する。続いて、工程Ｐ２２では、対向基板３０の表面に配向膜３６を形成し、配向膜３６の表面に図４（ｂ）に示す方向にラビング処理を施す。
【００４８】
次に、工程Ｐ３１では、素子基板１０と対向基板３０との貼り合わせを行う。貼り合わせは、素子基板１０または対向基板３０にシール剤４１を塗布し、アライメント（位置合わせ）をした後、素子基板１０と対向基板３０とを接触させ、圧着して行われる。続いて、工程Ｐ３２では、シール剤４１の開口部（注入口）から素子基板１０と対向基板３０との間に液晶を注入し、注入口を封止する。以上により、液晶セル５０が用意される。
【００４９】
次に、図６、図７および図８を参照して第１の実施形態に係る偏光板の貼り付け方法を詳しく説明する。
【００５０】
工程Ｐ３３は、液晶セル５０と第１の偏光体としての基準偏光子４６と第２の偏光体としての偏光板４５との相対的な面内での位置関係を調整して偏光板４５を液晶セル５０に貼り付ける偏光板４５貼付工程（図６および図７参照）と、偏光板４５が貼り付けられた液晶セル５０と第３の偏光体としての偏光板４４との相対的な面内での位置関係を調整して偏光板４４を液晶セル５０に貼り付ける偏光板４４貼付工程（図８参照）とを含んでいる。
【００５１】
工程Ｐ３３では、先に偏光板４５貼付工程を行う。まず、図６に示すように、液晶セル５０の両外側に、基準偏光子４６と偏光板４５とを互いに対向するように配置する。基準偏光子４６は素子基板１０の外側に素子基板１０と対向させて配置し、偏光板４５は対向基板３０の外側に対向基板３０と対向させて配置する。液晶セル５０と基準偏光子４６と偏光板４５とは、互いに平行に保持される。基準偏光子４６は、図４（ｂ）に示す偏光板４４の透過軸と同じ方向の透過軸を有している。
【００５２】
液晶セル５０は、例えば、枠形状を有する保持部５２により保持される。保持部５２は、液晶セル５０の外周側面や一方の面（図６では素子基板１０の表面）の周囲等を支持するように構成されている。また、液晶セル５０は、液晶セル５０の表面（素子基板１０、対向基板３０の表面）の法線方向を回転軸として回転可能に保持される。
【００５３】
基準偏光子４６と偏光板４５とは、例えば、吸着孔等を有し吸着固定可能な保持部５４により保持される。また、基準偏光子４６と偏光板４５とは、それぞれの表面の法線方向を回転軸として回転可能に保持される。保持部５４は、例えば透光性を有する材料からなる。保持部５４の材料が非透光性である場合は、保持部５４に光を透過させる貫通孔等が設けられていてもよい。
【００５４】
続いて、基準偏光子４６の液晶セル５０とは反対側に光源５６を配置する。また、偏光板４５の液晶セル５０とは反対側に受光部５８を配置する。そして、光源５６からの光を、基準偏光子４６と液晶セル５０と偏光板４５とに順次入射させる。この基準偏光子４６と液晶セル５０と偏光板４５とを透過した光５７を受光部５８で受光し、光５７の強度を測定する。
【００５５】
このとき、光源５６として、例えば可視光領域の波長を有する光を発するランプを用いてもよいし、発光ダイオード（ＬＥＤ）やレーザダイオードを用いてもよい。また、受光部５８として、例えばフォトマルチメータ等を用いて、光５７の強度を電気信号に変換して測定してもよい。あるいは、受光部５８として輝度計等を用いて、光５７の輝度を測定してもよい。なお、光源５６から射出される光が液晶セル５０の法線方向から入射するように、液晶セル５０に対して光源５６を相対的に配置することが望ましい。また、光源５６と受光部５８との位置関係は、図面上において上下逆であってもよい。
【００５６】
次に、図７に示すように、基準偏光子４６と液晶セル５０と偏光板４５とのうちの少なくとも２つを対向させた状態を維持しながら対向する面内で回転させて、光５７の強度が最小となるように、基準偏光子４６と液晶セル５０と偏光板４５との相対的な面内での位置関係を調整する。このとき、基準偏光子４６の透過軸が素子基板１０の配向膜２８のラビング方向（図４（ｂ）参照）に平行になり、偏光板４５の透過軸が対向基板３０の配向膜３６のラビング方向（図４（ｂ）参照）に直交する所定の位置において、光５７の強度が最小となる。なお、図７では、保持部５２と保持部５４との図示を省略している。
【００５７】
ここでは、例えば、基準偏光子４６の位置を固定し、液晶セル５０と偏光板４５とを回転させる。このとき、先に液晶セル５０を回転させて光５７の強度が最小となる位置で固定し、次に偏光板４５を回転させて光５７の強度がさらに小さくなる位置を探す、という工程を繰り返してもよい。また、先に偏光板４５を回転させてもよいし、液晶セル５０と偏光板４５とをともに回転させてもよい。
【００５８】
光５７の強度が最小となったところで、基準偏光子４６と液晶セル５０と偏光板４５との相対的な面内での位置関係を決定し、偏光板４５を液晶セル５０に貼り付ける。このとき、偏光板４５を保持部５４により液晶セル５０側に移動させてもよいし、液晶セル５０を保持部５２により偏光板４５側に移動させてもよい。
【００５９】
次に、偏光板４５貼付工程に続いて偏光板４４貼付工程を行う。図８に示すように、液晶セル５０の偏光板４５が貼り付けられた側とは反対側、すなわち素子基板１０の側に、偏光板４４を配置する。液晶セル５０と偏光板４４とは、互いに平行に保持される。図示しないが、偏光板４４は保持部５４により保持される。液晶セル５０は、保持部５２または保持部５４により保持される。
【００６０】
液晶セル５０の偏光板４５が貼り付けられた側に光源５６を配置し、偏光板４４の液晶セル５０とは反対側に受光部５８を配置する。光源５６と受光部５８との位置関係は、上下逆であってもよい。偏光板４５と液晶セル５０と偏光板４４とを透過した光５７を受光部５８で受光し、光５７の強度を測定する。
【００６１】
次に、液晶セル５０と偏光板４４とのうちの少なくとも１つを対向する面内で回転させて、光５７の強度が最小となるように、液晶セル５０と偏光板４４との相対的な面内での位置関係を調整する。このとき、偏光板４５の透過軸は対向基板３０の配向膜３６のラビング方向（図４（ｂ）参照）に直交するように配置されているので、偏光板４４の透過軸が素子基板１０の配向膜２８のラビング方向（図４（ｂ）参照）に平行になる所定の位置において、光５７の強度が最小となる。
【００６２】
光５７の強度が最小となったところで、液晶セル５０と偏光板４４との相対的な面内での位置関係を決定し、偏光板４４を液晶セル５０に貼り付ける。以上により液晶装置１００が完成する。
【００６３】
本実施形態では液晶装置１００がノーマリーブラックモードである場合を例としたが、本実施形態に係る液晶装置の製造方法は、液晶装置１００がノーマリーホワイトモードである場合にも適用することができる。液晶装置１００がノーマリーホワイトモードである場合は、工程Ｐ３３において、光５７の強度が最大となるように、液晶セル５０と偏光板４４，４５との相対的な位置関係を調整すればよい。例えば、偏光板４５貼付工程においては、基準偏光子４６の透過軸が素子基板１０の配向膜２８のラビング方向に平行になり、偏光板４５の透過軸が対向基板３０の配向膜３６のラビング方向に平行になる所定の位置において、光５７の強度が最大となる。
【００６４】
また、本実施形態では偏光板４５貼付工程を先に行い、その後に偏光板４４貼付工程を行ったが、偏光板４４貼付工程を先に行ってもよい。この場合、偏光板４４貼付工程において、偏光板４５の透過軸と同じ方向の透過軸を有する基準偏光子４６を、対向基板３０側に配置すればよい。
【００６５】
ところで、液晶セル５０において、配向膜２８のラビング方向と配向膜３６のラビング方向とが平行からずれている場合がある。このようなズレは、例えば、工程Ｐ１２の素子基板１０の配向処理におけるラビング方向のズレ、あるいは工程Ｐ２２の対向基板３０の配向処理におけるラビング方向のズレや、工程Ｐ３１の素子基板１０と対向基板３０との貼り合わせにおける相対的な位置ズレ等により生じる。
【００６６】
このように配向膜２８のラビング方向と配向膜３６のラビング方向とが平行からずれている場合、液晶層４０内の液晶分子は、配向膜２８のラビング方向と配向膜３６のラビング方向との間のズレに応じてツイストする。このような場合、基準偏光子４６の透過軸と配向膜２８のラビング方向との位置関係、および偏光板４５の透過軸と配向膜３６のラビング方向との位置関係は、図４（ｂ）に示す所定の位置からずれることとなる。
【００６７】
そのため、上記工程Ｐ３３の偏光板４５貼付工程では、基準偏光子４６の透過軸と配向膜２８のラビング方向とは平行からずれ、偏光板４５の透過軸と配向膜３６のラビング方向とは直交からずれるが、それぞれのズレが配向膜２８のラビング方向と配向膜３６のラビング方向とのズレに対応した位置関係に配置されたときに、光５７の強度が最小となる。偏光板４４貼付工程についても同様である。したがって、本実施形態に係る液晶装置の製造方法によれば、配向膜２８のラビング方向と配向膜３６のラビング方向とが平行からずれている場合でも、液晶セル５０と偏光板４４，４５との相対的な位置関係を調整することができる。
【００６８】
上記第１の実施形態によれば、以下の効果が得られる。
【００６９】
（１）基準偏光子４６と液晶セル５０と偏光板４５とを透過した光の強度が最小または最大となるように、基準偏光子４６と液晶セル５０と偏光板４５との相対的な位置関係を決定する。このため、基準偏光子４６の光学軸（透過軸）を基準にして液晶セル５０の配向方向、すなわち配向膜２８，３６のラビング方向と偏光板４５の光学軸（透過軸）とを、光の強度の測定結果に基づいて所定の位置に合わせることができる。これにより、液晶セル５０と偏光板４５との位置ズレを低減できる。また、偏光板４５が光学軸（透過軸）を所定の位置に合わせて貼り付けられた液晶セル５０と偏光板４４とを、光の強度の測定結果に基づいて所定の位置に合わせるので、液晶セル５０と偏光板４４との位置ズレを低減できる。この結果、液晶装置１００のコントラスト低下が抑えられるので、液晶装置１００の表示品質を向上できる。
【００７０】
（２）偏光板４５貼付工程において、液晶セル５０と偏光板４５との位置関係を決定して偏光板４５を液晶セル５０に貼り付け、偏光板４４貼付工程において、液晶セル５０と偏光板４４との位置関係を決定して偏光板４４を液晶セル５０に貼り付けるので、位置合わせおよび貼り付けによる工数増加を抑えることができる。
【００７１】
（第２の実施形態）
次に、第２の実施形態に係る液晶装置の製造方法について図を参照して説明する。図９は、第２の実施形態に係る液晶装置の製造方法を説明する図である。
【００７２】
第２の実施形態に係る液晶装置の製造方法は、第１の実施形態に係る液晶装置の製造方法に対して、工程Ｐ３３において基準偏光子４６を用いないで偏光板４４，４５の位置合わせおよび貼り付けを行う点が異なっているが、その他の工程は同じである。第１の実施形態と共通する構成要素については、同一の符号を付しその説明を省略する。
【００７３】
本実施形態の工程Ｐ３３では、図９に示すように、液晶セル５０の両外側に、第１の偏光体としての偏光板４４と、第２の偏光体としての偏光板４５とを互いに対向するように配置する。液晶セル５０と偏光板４４と偏光板４５とは、互いに平行に保持される。偏光板４４の液晶セル５０とは反対側に光源５６を配置し、偏光板４５の液晶セル５０とは反対側に受光部５８を配置する。
【００７４】
続いて、偏光板４４と液晶セル５０と偏光板４５とのうちの少なくとも２つを対向させた状態を維持しながら対向する面内で回転させて、受光部５８で受光する光５７の強度が最小となるように、偏光板４４と液晶セル５０と偏光板４５との相対的な面内での位置関係を調整する。このとき、偏光板４４の透過軸が素子基板１０の配向膜２８のラビング方向に平行になり、偏光板４５の透過軸が対向基板３０の配向膜３６のラビング方向に直交する所定の位置において、光５７の強度が最小となる。
【００７５】
ここでは、例えば、液晶セル５０の位置を固定し、偏光板４４と偏光板４５とを回転させる。偏光板４４と偏光板４５とのうちの一方の位置を固定し、他方の偏光板と液晶セル５０とを回転させてもよい。また、液晶セル５０と偏光板４４と偏光板４５とをともに回転させてもよい。
【００７６】
光５７の強度が最小となったところで、偏光板４４と液晶セル５０と偏光板４５との相対的な面内での位置関係を決定し、偏光板４４と偏光板４５とを液晶セル５０に貼り付ける。このとき、例えば、偏光板４５を先に液晶セル５０に貼り付けた後、偏光板４５が貼り付けられた液晶セル５０を、偏光板４５を保持していた保持部５４（図示しない）で保持した状態で、偏光板４４を液晶セル５０に貼り付けてもよい。偏光板４４を先に液晶セル５０に貼り付けて、その後で偏光板４５を液晶セル５０に貼り付けてもよい。また、偏光板４４と偏光板４５とで液晶セル５０を挟むようにして、偏光板４４と偏光板４５とを一緒に液晶セル５０に貼り付けてもよい。
【００７７】
上記第２の実施形態によれば、以下の効果が得られる。
【００７８】
（１）一つの工程において、偏光板４４，４５と液晶セル５０との位置関係を決定するとともに、偏光板４４，４５の一方を液晶セルに貼り付け、続いて他方の偏光体を液晶セルに貼り付けるので、液晶セル５０と偏光板４４，４５との位置ズレを低減しながら、位置合わせおよび貼り付けによる工数増加をより抑えることができる。
【００７９】
（２）一つの工程において、偏光板４４，４５と液晶セル５０との位置関係を決定するとともに、偏光板４４，４５の双方を液晶セルに貼り付けるようにすれば、位置合わせおよび貼り付けによる工数増加をさらに抑えることができる。
【００８０】
以上、本発明の実施形態について説明したが、上記実施形態に対しては、本発明の趣旨から逸脱しない範囲で様々な変形を加えることができる。変形例としては、例えば以下のようなものが考えられる。
【００８１】
（変形例１）
上記の実施形態では、偏光板からなる偏光体を液晶セルに貼り付ける構成であったが、この形態に限定されない。偏光体が偏光板の他に光学補償板を備えた構成であっても、上記実施形態の液晶装置の製造方法を適用することができる。図１０は、変形例１に係る液晶装置の製造方法を説明する図である。
【００８２】
図１０に示すように、変形例１に係る液晶装置は、液晶セル５０と、液晶セル５０の両外側に配置される偏光体６２と偏光体６４とを備えている。偏光体６２は、偏光板４４と、偏光板４４に積層された光学補償板６１とを備えている。偏光体６４は、偏光板４５と、偏光板４５に積層された光学補償板６３とを備えている。光学補償板６１，６３は、例えば、液晶セル５０や偏光板４４，４５の光学補償を行うことにより、液晶装置の表示における視野角の拡大、背景色の着色の補償等を図るためのものである。
【００８３】
図１０では、第２の実施形態に係る液晶装置の製造方法を適用した例を示す。偏光体６２を、光学補償板６１が素子基板１０側に対向するように配置し、偏光体６４を、光学補償板６３が対向基板３０側に対向するように配置する。偏光体６２の液晶セル５０とは反対側に光源５６を配置し、偏光体６４の液晶セル５０とは反対側に受光部５８を配置する。そして、偏光体６２と液晶セル５０と偏光体６４とのうちの少なくとも２つを対向させた状態を維持しながら対向する面内で回転させて、光５７の強度が最小となるように、偏光体６２と液晶セル５０と偏光体６４との相対的な面内での位置関係を決定し、偏光体６２と偏光体６４とを液晶セル５０に貼り付ける。
【００８４】
第１の実施形態に係る液晶装置の製造方法を適用する場合は、基準偏光子４６に光学補償板が積層された基準偏光体を用いて偏光体６４の貼り付けを先に行い、その後に偏光体６２の貼り付けを行えばよい。なお、偏光体６２，６４は、偏光板４４，４５に２層以上の光学補償板が積層された構成であってもよい。また、偏光体６２，６４のいずれか一方が光学補償板を備えていない構成であってもよい。
【００８５】
（変形例２）
上記の実施形態では、液晶装置がＦＦＳ方式の透過型の液晶装置であったが、この形態に限定されない。液晶装置は、ＦＦＳ方式と同様に素子基板に平行な方向の横電界により液晶分子の配向制御を行うＩＰＳ（In-Plane Switching）方式の液晶装置であってもよい。また、液晶装置は、素子基板と対向基板との間に生じる縦電界により液晶分子の配向制御を行う、ＴＮ（Twisted Nematic）方式、ＶＡ（Vertical Alignment）方式やＥＣＢ（Electrically Controlled Birefringence）方式等の液晶装置であってもよい。さらに、液晶装置は、透過表示領域と反射表示領域とを有する半透過反射型の液晶装置であってもよい。これらの液晶装置であっても、上記実施形態の液晶装置の製造方法を適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００８６】
【図１】液晶装置の一例の概略構成を示す図。
【図２】液晶装置の一例の画素の構成を示す平面図。
【図３】図２中のＢ−Ｂ’線に沿った断面図。
【図４】液晶装置の一例の光学設計条件を示す図。
【図５】第１の実施形態に係る液晶装置の製造方法を説明するフローチャート。
【図６】第１の実施形態に係る偏光板の貼り付け方法を説明する図。
【図７】第１の実施形態に係る偏光板の貼り付け方法を説明する図。
【図８】第１の実施形態に係る偏光板の貼り付け方法を説明する図。
【図９】第２の実施形態に係る液晶装置の製造方法を説明する図。
【図１０】変形例１に係る液晶装置の製造方法を説明する図。
【符号の説明】
【００８７】
２…表示領域、４…画素、１０…素子基板、１１…基板、１２…走査線、１４…信号線、１６…画素電極、１６ａ…開口部、１７…共通配線、１８…共通電極、２０…ＴＦＴ素子、２０ａ…半導体層、２０ｄ…ドレイン電極、２０ｇ…ゲート電極、２０ｓ…ソース電極、２２…ゲート絶縁層、２４…絶縁層、２４ａ…コンタクトホール、２８，３６…配向膜、３０…対向基板、３１…基板、３２…遮光層、３４…カラーフィルタ層、３５…オーバーコート層、４０…液晶層、４１…シール剤、４２…ドライバＩＣ、４４，４５…偏光板、４６…基準偏光子、５０…液晶セル、５２，５４…保持部、５６…光源、５７…光、５８…受光部、６１，６３…光学補償板、６２，６４…偏光体、１００…液晶装置。
【図１】
2010072394.tif 000003
【図２】
2010072394.tif 000004
【図３】
2010072394.tif 000005
【図４】
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【図５】
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【図６】
2010072394.tif 000008
【図７】
2010072394.tif 000009
【図８】
2010072394.tif 000010
【図９】
2010072394.tif 000011
【図１０】
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