Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成16年7月12日(2004.7.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
内燃機関の排気側に設けられたケーシングと、前記ケーシング内に収容され、排気ガス中に含まれるパティキュレートを除去するハニカムフィルタとを備え、そのハニカムフィルタは、セル壁により区画される複数の貫通孔を有し、各貫通孔の端部が封止材によって封止されている排気ガス浄化装置において、
前記封止材における前記セル壁に接する周縁部の厚さを１．０〜６．０ｍｍの範囲に設定し、前記封止材の中央部を周縁部よりも薄くし、かつ前記封止材の中央部の厚さと周縁部の厚さとの差を０．３〜１．０ｍｍの範囲に設定したことを特徴とする排気ガス浄化装置。
【請求項２】
前記封止材の外端面は半球凹状に窪んでいることを特徴とする請求項１に記載の排気ガス浄化装置。
【請求項３】
前記封止材は、前記ハニカムフィルタと同じ材料を用いて形成されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の排気ガス浄化装置。
【請求項４】
前記ハニカムフィルタ及び封止材は、多孔質炭化珪素焼結体であることを特徴とする請求項１〜３のうちいずれか一項に記載の排気ガス浄化装置。
【請求項５】
前記貫通孔は、その断面積が１．５〜３．００ｍｍ２に設定されており、前記封止材には、その粘度が１００００〜７００００Ｐａ・Ｓの範囲のものが使用されている請求項１〜４のうちいずれか一項に記載の排気ガス浄化装置。
【請求項６】
複数のセル壁により区画される貫通孔を有し、その貫通孔の端部が封止材によって封止されているハニカムフィルタにおいて、
前記封止材における前記セル壁に接する周縁部の厚さを１．０〜６．０ｍｍの範囲に設定し、前記封止材の中央部を周縁部よりも薄くし、かつ前記封止材の中央部の厚さと周縁部の厚さとの差を０．３〜１．０ｍｍの範囲に設定したことを特徴とするハニカムフィルタ。
【請求項７】
前記貫通孔は、その断面積が１．５〜３．００ｍｍ２に設定されており、前記封止材には、その粘度が１００００〜７００００Ｐａ・Ｓの範囲のものが使用されている請求項６に記載のハニカムフィルタ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
請求項４に記載の発明では、請求項１〜３のうちいずれか一項に記載の排気ガス浄化装置において、前記ハニカムフィルタ及び封止材は、多孔質炭化珪素焼結体であることをその要旨とする。
請求項５に記載の発明では、請求項１〜４のうちいずれか一項に記載の排気ガス浄化装置において、前記貫通孔は、その断面積が１．５〜３．００ｍｍ２に設定されており、前記封止材には、その粘度が１００００〜７００００Ｐａ・Ｓの範囲のものが使用されていることをその要旨とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
請求項６に記載の発明では、複数のセル壁により区画される貫通孔を有し、その貫通孔の端部が封止材によって封止されているハニカムフィルタにおいて、前記封止材における前記セル壁に接する周縁部の厚さを１．０〜６．０ｍｍの範囲に設定し、前記封止材の中央部を周縁部よりも薄くし、かつ前記封止材の中央部の厚さと周縁部の厚さとの差を０．３〜１．０ｍｍの範囲に設定したことをその要旨とする。
請求項７に記載の発明では、請求項６に記載のハニカムフィルタにおいて、前記貫通孔は、その断面積が１．５〜３．００ｍｍ２に設定されており、前記封止材には、その粘度が１００００〜７００００Ｐａ・Ｓの範囲のものが使用されていることをその要旨とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
以下、本発明の「作用」について説明する。
請求項１、６に記載の発明によると、封止材の中央部の厚さとその周縁部の厚さとの差が、０．３〜１．０ｍｍの範囲に設定されている。そのため、封止材による貫通孔の封止状態を良好にできるとともに、封止材にクラックが生じるのを防止できる。つまり、その厚さの差を０．３ｍｍ未満とするには、封止材の成形材料の粘度を極端に小さくしないと、封止材が隣接するセル壁からはみ出すという不良を招くからである。又、厚さの差が１．０ｍｍを超えると、セル壁と封止材の界面や、封止材の中央部に応力が集中する。このため、封止材にクラックが発生する原因となるからである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
請求項４に記載の発明によると、炭化珪素焼結体製のハニカムフィルタ及び封止材は耐熱性に優れているため、温度の高くなりやすい箇所に配設されたとしても、ハニカムフィルタ及び封止材が変質したり焼失したりするようなことはない。従って、長期間にわたって効率のよい排気ガスの浄化を行うことができる。
請求項５，７に記載の発明によると、封止材の中央部の厚さとその周縁部の厚さとの差が、０．３〜１．０ｍｍの範囲内に収められる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
（２）  請求項１〜５，（１）のいずれかにおいて、前記ハニカムフィルタの外周面には、セラミックファイバーを主原料とする断熱材層が設けられている排気ガス浄化装置。この構成にすれば、ハニカムフィルタの外周部からケーシング側へ熱が逃げ出しにくくなり、熱のロスが少なくなる。従って、ハニカムフィルタ内における部分的な燃え残りの発生がより確実に回避することができる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
（４）  請求項１〜５、（１），（２）のいずれかにおいて、前記ハニカムフィルタは、多孔質セラミック焼結体からなる複数のハニカムフィルタ小片の外周面同士をセラミック質接着剤を用いて接着し、前記各ハニカムフィルタ小片を一体化することにより構成されている排気ガス浄化装置。この構成にすれば、加熱による温度勾配に起因する応力によってクラックが発生するのを防止でき、熱衝撃にも強くすることができる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
【発明の効果】
以上詳述したように、請求項１、６に記載の発明によれば、封止材による貫通孔の封止状態を良好にできるとともに、封止材にクラックが生じるのを防止できる。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４５】
請求項４に記載の発明によれば、長期間にわたって効率のよい排気ガスの浄化を行うことができる。
請求項５，７に記載の発明によれば、封止材の中央部の厚さとその周縁部の厚さとの差を、０．３〜１．０ｍｍの範囲内に収めることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成16年4月13日(2004.4.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フレーム（11）と、
前記フレーム(11)に取付けられ、印刷媒体（18）に対して相対移動するキャリッジ(20)と、
前記キャリッジ（20）に取付けられたプリントヘッド（21）であって、該プリントヘッド（21）がインクおよびノズル(24)を有し、前記キャリッジ（20）が前記印刷媒体（18）上で印刷パスを行なう際に、前記ノズルを通して前記インクを複数行の画素グリッドに噴出するように構成された、プリントヘッド(21)と、
前記プリントヘッド（21）に接続され、前記ノズル（24）の駆動を制御して前記印刷媒体（18）上にインクを付着させる、プリントコントローラ（58）と、
前記プリントコントローラ（58）に接続され、前記印刷媒体（18）上での前記プリントヘッド（21）の複数の印刷パスの間に駆動すべき前記ノズル（24）のグループを定義する、プリントマスク（62）と
からなり、低品質ノズルの使用を最小限にするため、前記プリントマスク（62）は個々の印刷パスに関連する第１のマスクパターン(42b')を有し、個々の印刷パスにおいて印刷される行のうちの特定の行に対して１つのノズルグループ(42b)が駆動され得る回数の合計を低減させる、スワス印刷システム。
【請求項２】
前記プリントマスクは異なる印刷パスに関連する第２のマスクパターン(44a')を更に有し、異なる印刷パスにおいて印刷される行のうちの同じ特定の行に対して他のノズルグループ（44a）が駆動され得る回数の合計を増大させる、請求項１のスワス印刷システム。
【請求項３】
前記低減された駆動され得る回数と前記増大された駆動され得る回数の和は、全ノズルグループが駆動され得る回数と実質的に等しい、請求項１のスワス印刷システム。
【請求項４】
前記印刷パスにおいて、前記ノズル（24）のそれぞれがスワス（27）の個々の行を部分的に印刷し、
前記スワス印刷システムは、前記ノズルのうちの所与の１つのノズルが印刷する行を変更するようにして、前記印刷媒体(18)を前記プリントヘッド(21)に対して移動させるための、前記フレーム(11)に取り付けられた媒体送り手段(17)を更に含む、請求項１のスワス印刷システム。
【請求項５】
前記ノズル（24）は、第１の印刷パス中に数行から成る第１のスワスの上を通過し、第２の印刷パス中に少なくともいくつかの異なる行から成る第２のスワスの上を通過し、
前記第２のスワスは前記第１のスワスと部分的にオーバラップしてサブスワス（46）を形成する、請求項１のスワス印刷システム。
【請求項６】
各スワス（27）がＰ個のサブスワス（46）を含み、前記Ｐ個のサブスワス（46）のそれぞれを完全に印刷するためには、正確にＰ個の印刷パスを必要とする、請求項５のスワス印刷システム。
【請求項７】
前記キャリッジ（20）に取付けられた少なくとも２つの追加のプリントヘッド（21）を更に含み、各プリントヘッド（21）が一回のパスでインクを実質的に同じスワス（27a）に付着させるように、全プリントヘッド(21)が互いに位置合せされている、請求項１のスワス印刷システム。
【請求項８】
前記キャリッジ（20）に取付けられた少なくとも２つの追加のプリントヘッド（21）を更に含み、各プリントヘッドが一回のパスでインクを実質的に異なるスワス（27b）に付着させるように、全プリントヘッド(21)が互いにオフセットされている、請求項１のスワス印刷システム。
【請求項９】
前記キャリッジ（20）に取付けられた少なくとも２つの追加のプリントヘッド（21）を更に含み、２つの隣接するプリントヘッド（21）が一回の印刷パスでオーバラップするスワス（27c）にインクを付着させるように、全プリントヘッド(21)が互いに部分的に位置合せされている、請求項１のスワス印刷システム。
【請求項１０】
前記キャリッジ（20）に取付けられた３つの追加のプリントヘッド（21）を含む３色カートリッジ（132）を更に含み、前記追加のプリントヘッドが一回の印刷パスでインクを実質的に同じスワス（27a）に付着させるように、前記３つの追加のプリントヘッド(21)が互いに位置合せされている、請求項１のスワス印刷システム。
【請求項１１】
前記キャリッジ（20）に取付けられた３つの追加のプリントヘッド（21）を含む３色カートリッジ（132）を更に含み、前記追加のプリントヘッドが一回の印刷パスでインクを異なるスワス（27b）に付着させるように、前記３つの追加のプリントヘッド(21)が互いにオフセットされている、請求項１のスワス印刷システム。
【手続補正書】
【提出日】平成17年3月3日(2005.3.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
図２は、サーボトランスファフィーダ装置の各種のモーション例の説明図であり、２次元モーション及び３次元モーションが設定可能となっている。同図には、２次元モーションとして、図２（ａ）に示すようにフィード軸とクランプ軸との組み合わせ例が示されており、アドバンス→アンクランプ→リターン→クランプ→アドバンスの方向及び順序で各フィーダ軸が制御される。また３次元モーションとして、図２（ｂ）に示すようにフィード軸とリフト軸とクランプ軸との組み合わせ例が示されており、アドバンス→リフトダウン→アンクランプ→リターン→クランプ→リフトアップ→アドバンスの方向及び順序で各フィーダ軸が制御される。各モーションデータは、各フィーダ軸のストローク長さと、動作開始角度及び動作終了角度が設定されるようになっている。また、サーボトランスファフィーダ装置の動作に同期する周辺機の作動のタイミングを設定することも可能となっている。
【手続補正書】
【提出日】平成16年12月3日(2004.12.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
移動指令によってガルバノミラーを回転させ、前記ガルバノミラーの回転角度を検出し、前記検出した回転角度と目標回転角度との角度差を検出し、前記検出した角度差が予め設定された値以内であれば位置決め完了とみなし、位置決め完了後に、前記ガルバノミラーに対してレーザー光線を照射し、前記ガルバノミラーで反射されたレーザー光線を集光レンズにより集光して被加工物に照射することでレーザー加工を行うことを特徴とするレーザー加工方法。
【請求項２】
位置決め完了とみなす際に、さらに、移動指令から所定時間後であることを判定することを特徴とする請求項１記載のレーザー加工方法。
【請求項３】
位置決め完了とみなした後、所定時間後にレーザー光線を照射することを特徴とする請求項１記載のレーザー加工方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
【課題を解決するための手段】
本発明は上記目的を達成するために、移動指令によってガルバノミラーを回転させ、前記ガルバノミラーの回転角度を検出し、前記検出した回転角度と目標回転角度との角度差を検出し、前記検出した角度差が予め設定された値以内であれば位置決め完了とみなし、位置決め完了後に、前記ガルバノミラーに対してレーザー光線を照射し、前記ガルバノミラーで反射されたレーザー光線を集光レンズにより集光して被加工物に照射することでレーザー加工を行うことを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
図２は本実施形態のレーザー加工方法におけるガルバノミラー４の制御系を示すブロック図である。このレーザー加工方法において、静電容量センサ（位置検出手段）９がガルバノミラー４の実際の回転角度を検出し、この検出回転角度とガルバノミラー４の目標回転角度との差を、ガルバノドライバ（角度差検出手段）８で比較して検出しながら、この角度差に基づいてフィードバック制御を行ってガルバノミラー４を目標回転角度に近づくように回転移動させる。そしてガルバノドライバ８で検出した角度差を比較器（位置決め判定手段）１１で比較し、その角度差が設定値以内に入っているか否かを判定し、その判定信号を基に上位コントローラ（制御部）１０からの移動指令から予め設定された待ち時間後にガルバノミラー４の位置決め完了とみなす。尚、前記角度差は微少なアナログ信号であるため、比較器１１ではこの信号を増幅し、絶対値を算出して基準値と比較し、上位コントローラ１０に信号を送る。そして位置決め完了の判定は、比較器１１で行ってもよいし、前記のように増幅した角度差を上位コントローラ１０に送信し、上位コントローラ１０で基準値と比較して行ってもよい。この場合は、比較器１１をガルバノドライバ８に内蔵する形態にすると好適である。このように位置決め完了と判定され、位置決め完了後、上位コントローラ１０は照射指令をレーザー発振器２に発信して、レーザー光線１をビームスプリッタ３によって分岐して加工点に照射させる。
【手続補正書】
【提出日】平成16年9月17日(2004.9.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４】
４００ｎｍ以下の特定波長で用いられる紫外用光学素子の製造方法において、
素材から光学素子を切り出す工程と、
前記切り出された光学素子の光が入射する表面及び出射する表面を研磨する工程と、
前記２面を研磨した光学素子を１００℃以上９００℃以下の温度で熱処理する工程と、
前記熱処理した光学素子の前記研磨した２面を酸洗浄する工程と、
を有することを特徴とする紫外用光学素子の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項５】
請求項４に記載の紫外用光学素子の製造方法において、
前記酸洗浄がフッ酸洗浄であることを特徴とする紫外用光学素子の製造方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項７】
請求項４に記載の紫外用光学素子の製造方法において、
前記酸洗浄の後に、光学素子をＵＶ処理する工程をさらに有することを特徴とする紫外用光学素子の製造方法。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項８】
４００ｎｍ以下の特定波長で用いられる紫外用光学素子の製造方法において、
素材から光学素子を切り出す工程と、
前記切り出された光学素子の光が入射する表面及び出射する表面を研磨する工程と、
前記光学素子の研磨した２面を酸洗浄する工程と、
前記酸洗浄した光学素子を１００℃以上９００℃以下の温度で熱処理する工程と、
を有することを特徴とする紫外用光学素子の製造方法。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項９】
請求項８に記載の紫外用光学素子の製造方法において、
前記酸洗浄が、フッ酸洗浄であることを特徴とする紫外用光学素子の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年2月3日(2004.2.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（メタ）アクリル酸をモノマーの主成分とし、且つ架橋反応性有機化合物により架橋してなる（メタ）アクリル酸系架橋重合体（Ａ）と、アルカリ土類金属の塩または水酸化物から選ばれる多価金属化合物（Ｂ）を主成分として含むことを特徴とする粉末状育苗培土用改質剤。
【請求項２】
（メタ）アクリル酸をモノマーの主成分とし、且つ架橋反応性有機化合物により架橋してなり、中和度が２０％以下である（メタ）アクリル酸系架橋重合体を含有することを特徴とする粉末状育苗培土用改質剤。
【請求項３】
前記架橋反応性有機化合物が、分子内に少なくとも２個の２重結合を有する架橋反応性有機化合物である請求項１または２に記載の粉末状育苗培土用改質剤。
【請求項４】
前記（メタ）アクリル酸系架橋重合体の下記式で規定される架橋密度が1/100〜1/10000の範囲である請求項１〜３のいずれかに記載の粉末状育苗培土用改質剤。
架橋密度＝（架橋反応性有機化合物中の架橋反応性官能基の数）／（カルボキシル基を含む重合体中のカルボキシル基の数）
【請求項５】
平均粒子径が１５０〜１０００μｍである請求項１〜４のいずれかに記載の粉末状育苗培土用改質剤。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
また、上記架橋反応性有機化合物により架橋してなるカルボキシル基含有架橋重合体は、上記カルボキシル基含有重合体を得た後、上記架橋反応性有機化合物によって架橋させたものと、上記カルボキシル基含有単量体と分子中に少なくとも２個の二重結合を有する架橋反応性有機化合物を共重合して得たもののどちらでも構わない。また、この様にして得られた架橋重合体を未架橋の重合体と併用することも、培土強度向上効果や流失防止効果に悪影響を及ぼすものではない。
【手続補正書】
【提出日】平成16年10月4日(2004.10.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
試料中の標的核酸の検出または定量を行なう方法であって、二本鎖核酸と相互作用可能な化学発光性物質を該標的核酸を有する二本鎖核酸と相互作用させ、該二本鎖核酸と相互作用した該化学発光性物質の化学発光を検出または定量する工程を有し、
該化学発光性物質が下記式（１）で示されるピリリウム色素である
ことを特徴とする標的核酸の検出方法。
【化１】
1998158258.tif 000001
（上記式中ＸはＯ、Ｓ、Ｓｅ又はＴｅであって、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3から選ばれる２つの置換基は置換もしくは未置換のアリール基で有り、残りの置換基は、水素原子、ハロゲン原子、スルホネート基、アミノ基、スチリル基、ニトロ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、シアノ基、置換もしくは未置換のアルキル基、または置換もしくは未置換のシクロアルキル基、または−Ａもしくは−Ｌ−Ａであり、
Ｌは−Ｌ1−、−Ｌ2−Ｌ3−または−Ｌ4−Ｌ5−Ｌ6−であり、Ｌ1〜Ｌ6はそれぞれ独立して、−（ＣＨ＝ＣＨ）−、置換もしくは未置換のアリール基から誘導される２価の基、置換もしくは未置換の低級アルキレン基、または−ＣＨ＝Ｒ4−（Ｒ4はオキソ基を有する環構造を示す）を表し、
Ａは、置換もしくは未置換のアリール基、−ＣＨ＝Ｒ5（Ｒ5は、置換もしくは未置換の複素環、置換もしくは未置換のシクロアルキル基、又は置換もしくは未置換の芳香環を示す）を表し、
Ｙ-はアニオンを示す。）
【請求項２】
該式（１）で示される化学発光性物質が下記式（７）〜（１５）で示されるピリリウム化合物のうちの少なくともいずれか１つである請求項１に記載の方法。
【化２】
1998158258.tif 000002
【化３】
1998158258.tif 000003
【化４】
1998158258.tif 000004
【化５】
1998158258.tif 000005
【化６】
1998158258.tif 000006
【化７】
1998158258.tif 000007
【化８】
1998158258.tif 000008
【化９】
1998158258.tif 000009
【化１０】
1998158258.tif 000010
（上記式[７]〜［１５］中、ＸはＯ、Ｓ、Ｔｅ、Ｓｅを表し、Ｙ-はアニオンを表す。）
【請求項３】
該標的核酸が該二本鎖核酸である請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
該標的核酸が第１の塩基配列を有する一本鎖核酸であって、該標的核酸を有する二本鎖核酸が該一本鎖核酸と、第１の塩基配列と相補的な第２の塩基配列を有するプローブ核酸とのハイブリッドである請求項１または２に記載の方法。
【請求項５】
試料中の該一本鎖核酸と該プローブ核酸とをハイブリダイズさせ、該化学発光性物質と相互作用する該二本鎖核酸を形成する工程を更に有する、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
該標的核酸がオリゴリボアデニル酸からなる部分を有するｍＲＮＡであり、該プローブ核酸が、該標的核酸とのハイブリダイゼーションに関与する塩基配列としてオリゴデオキシリボチミジル酸またはポリデオキシリボチミジル酸からなる部分を有する請求項４又は５に記載の標的核酸の検出方法。
【請求項７】
該二本鎖核酸が固相に固定されている請求項１〜６の何れかに記載の方法。
【請求項８】
該固相に固定されている該二本鎖核酸が、
固相に固定された該標的核酸と、該プローブ核酸として該標的核酸の３’末端側の塩基配列に相補的な塩基配列を３’末端側に有する一本鎖核酸とを用意する工程；及び
次いで該標的核酸と該プローブ核酸とをハイブリダイズさせて部分的二本鎖核酸を形成し、次いで各々の核酸の３’末端側に伸展反応によってヌクレオチドを重合せしめて二本鎖部分を伸長させる工程、
によって形成されたものである請求項７に記載の方法。
【請求項９】
該固相に固定されている該二本鎖核酸が、
該プローブ核酸として該標的核酸の３’末端側の塩基配列に相補的な塩基配列を３’末端側に有する一本鎖核酸を用意し、該プローブ核酸を固相に固定する工程；及び
次いで該標的核酸と該プローブ核酸とをハイブリダイズさせて部分的二本鎖核酸を形成し、次いで各々の核酸の３’末端側に伸展反応によってヌクレオチドを重合せしめて二本鎖部分を伸長させる工程、
によって形成されたものである請求項７に記載の方法。
【請求項１０】
該化学発光性物質が該二本鎖核酸の二重らせん構造にインターカレーターとして挿入されるものである請求項１〜９の何れかに記載の標的核酸の検出方法。
【請求項１１】
該化学発光を検出する工程を、該二本鎖核酸に挿入された該化学発光性物質のみが化学発光可能な条件下で行なう請求項１〜１０の何れかに記載の方法。
【請求項１２】
該条件が、二本鎖核酸に挿入されていない該化学発光性物質が化学発光を示さない水性媒体中である請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
該水性媒体が水である請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
該化学発光性物質の化学発光を検出する工程において、該化学発光性物質と該二本鎖核酸をシュウ酸エステル及び過酸化水素と共存させる請求項１〜１３の何れかに記載の方法。
【請求項１５】
化学発光分析に用いる為の、下記式（１）で示されることを特徴とするピリリウム化合物。
【化１１】
1998158258.tif 000011
（上記式中ＸはＯ，Ｓ，Ｓｅ又はＴｅであって、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3から選ばれる２つの置換基は置換もしくは未置換のアリール基で有り、残りの置換基は、水素原子、ハロゲン原子、スルホネート基、アミノ基、スチリル基、ニトロ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、シアノ基、置換もしくは未置換のアルキル基、または置換もしくは未置換のシクロアルキル基、または−Ａもしくは−Ｌ−Ａであり、
Ｌは−Ｌ1−、−Ｌ2−Ｌ3−または−Ｌ4−Ｌ5−Ｌ6−であり、Ｌ1〜Ｌ6はそれぞれ独立して、−（ＣＨ＝ＣＨ）−、置換もしくは未置換のアリール基から誘導される２価の基、置換もしくは未置換の低級アルキレン基、または−ＣＨ＝Ｒ4−（Ｒ4はオキソ基を有する環構造を示す）を表し、
Ａは、置換もしくは未置換のアリール基、−ＣＨ＝Ｒ5（Ｒ5は、置換もしくは未置換の複素環、置換もしくは未置換のシクロアルキル基、又は置換もしくは未置換の芳香環を示す）を表し、
Ｙ-はアニオンを示す。）
【請求項１６】
該式（１）で示される化学発光性物質が下記式（７）〜（１５）のうちの少なくともいずれか１つである請求項１５に記載のピリリウム化合物。
【化１２】
1998158258.tif 000012
【化１３】
1998158258.tif 000013
【化１４】
1998158258.tif 000014
【化１５】
1998158258.tif 000015
【化１６】
1998158258.tif 000016
【化１７】
1998158258.tif 000017
【化１８】
1998158258.tif 000018
【化１９】
1998158258.tif 000019
【化２０】
1998158258.tif 000020
（上記式[７]〜［１５］中、ＸはＯ、Ｓ、Ｔｅ、Ｓｅを表し、Ｙ-はアニオンを表す。）
【手続補正書】
【提出日】平成16年7月9日(2004.7.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ｉ）：
【化１】
1998158269.tif 000001
［式中、Ａｃ＋はカチオンであり；ｃは１〜１０の整数であり；ｂは≧０の整数であり；Ｔは担体であり；ｙは≧１の整数であり；ａは０〜１０の整数であり、ａ・ｙ＝ｃ・ｂであり；
Ｎは式（ＩＩ）：
【化２】
1998158269.tif 000002
（式中、Ｒはそれぞれ独立的に、Ｍの同じ又は異なる置換基であり、例えばハロゲン原子又はＣ１−Ｃ４０炭素含有基であり、
Ｘはそれぞれ独立的に同じ又は異なる基であり、Ｃ１−Ｃ４０炭素含有基であり、
Ｍはそれぞれ独立的に同じ又は異なるものであり、元素の周期律表の第ＩＩＩａ族の元素であり、
ｄは０又は１であり、ｅは０又は１であり、ｆは０又は１であり、
ｇは０〜１０の整数であり、ｈは０〜１０の整数であり、ｋは０〜１０の整数であり、
ｉは０〜１０００の整数であり、
ｊは１〜６の整数であり、
Ｓはそれぞれ同じ又は異なるものであり、ＭをＴに共有結合させるスペーサーであり、
ここで、スペーサーＳは式（ＩＩＩ）：
【化３】
1998158269.tif 000003
を有し、式（ＩＩＩ）中、Ｒ’はそれぞれ同じ又は異なるものであり、Ｃ１−Ｃ４０炭素含有基、−ＮＲ”−、−ＰＲ”−、−Ｐ（Ｏ）Ｒ”−、−Ｓｉ（Ｒ”）２−Ｏ−Ｓｉ（Ｒ”）２−、−Ｃ−Ｏ−ＳｉＲ”２−又は−ＣＯＮＲ”−であり、これらの式においてＲ”はＣ１−Ｃ４０炭素含有基、又はＲ’はヘテロ原子含有基、例えば−ＳＯ−、−ＳＯ2−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯ２−、−Ｏ−、−ＮＨ−若しくは−ＰＨ−であり；ｎは≧１の整数であり；ＱはＳｉ、Ｎ、Ｐ、Ｓ又はＯであり；ｑは０又は１であり；ＢはＱの置換基であり、ＮＨ２、ＰＨ２又はＣ１−Ｃ４０炭素含有基、又は−ＮＲ”２、−ＣＯＲ”−、−ＣＯ２Ｒ”−、−ＰＲ”２、−Ｐ（Ｏ）Ｒ”２、−Ｓｉ（Ｒ”）２−Ｏ−Ｓｉ（Ｒ”）３−、−Ｃ−Ｏ−ＳｉＲ”３−、−ＣＯＮＲ”２、−ＳＯＲ”、−ＳＯ２Ｒ”−、−ＳＲ”、−ＯＲ”、−ＮＨＲ”又は−ＰＨＲ”、これらの式においてＲ”はＣ１−Ｃ４０炭素含有基であり；Ｐは≧０の整数であり、Ｂは２つのスペーサーＳを相互に結合させることができ、記号：
【化４】
1998158269.tif 000004
は担体Ｔに対する１つ以上の共有結合を意味し、この場合に、ＢはＲ’に関して定義した通りであり、そして
ｗはそれぞれ同じ又は異なるものであり、０、１又は２であり、ｚは０、１又は２である）で示される単位である］
で示される担持型化学化合物。
【請求項２】
式（Ｉ）：
【化５】
1998158269.tif 000005
［式中、Ａｃ＋はカチオンであり；ｃは１〜１０の整数であり；ｂは≧０の整数であり；Ｔは担体であり；ｙは≧１の整数であり；ａは０であり、ａ・ｙ＝ｃ・ｂであり；
Ｎは式（ＩＩ）’：
【化６】
1998158269.tif 000006
（式中、Ｒはそれぞれ独立的に、Ｍの同じ又は異なる置換基であり、Ｒはハロゲン化されているＣ１−Ｃ４０炭化水素基であり、
Ｘはそれぞれ独立的に同じ又は異なる基であり、Ｃ１−Ｃ４０炭素含有基であり、
Ｍはそれぞれ独立的に同じ又は異なるものであり、元素の周期律表の第ＩＩａ、ＩＩＩａ、ＩＶａ又はＶａ族の元素であり、
ｄは０又は１であり、ｅは０又は１であり、ｆは０又は１であり、
ｇは０〜１０の整数であり、ｈは０〜１０の整数であり、ｋは０〜１０の整数であり、ｒは０〜１０の整数であり、
ｉは０〜１０００の整数であり、
ｊは１〜６の整数であり、
Ｓはそれぞれ同じ又は異なるものであり、ＭをＴに共有結合させるスペーサーであり、
ここで、スペーサーＳは式（ＩＩＩ）：
【化７】
1998158269.tif 000007
を有し、式（ＩＩＩ）中、Ｒ’はそれぞれ同じ又は異なるものであり、Ｃ１−Ｃ４０炭素含有基、−ＮＲ”−、−ＰＲ”−、−Ｐ（Ｏ）Ｒ”−、−Ｓｉ（Ｒ”）２−Ｏ−Ｓｉ（Ｒ”）２−、−Ｃ−Ｏ−ＳｉＲ”２−又は−ＣＯＮＲ”−であり、これらの式においてＲ”はＣ１−Ｃ４０炭素含有基、又はＲ’はヘテロ原子含有基、例えば−ＳＯ−、−ＳＯ2−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯ２−、−Ｏ−、−ＮＨ−若しくは−ＰＨ−であり；ｎは≧１の整数であり；ＱはＳｉ、Ｎ、Ｐ、Ｓ又はＯであり；ｑは０又は１であり；ＢはＱの置換基であり、ＮＨ２、ＰＨ２又はＣ１−Ｃ４０炭素含有基、又は−ＮＲ”２、−ＣＯＲ”−、−ＣＯ２Ｒ”−、−ＰＲ”２、−Ｐ（Ｏ）Ｒ”２、−Ｓｉ（Ｒ”）２−Ｏ−Ｓｉ（Ｒ”）３−、−Ｃ−Ｏ−ＳｉＲ”３−、−ＣＯＮＲ”２、−ＳＯＲ”、−ＳＯ２Ｒ”−、−ＳＲ”、−ＯＲ”、−ＮＨＲ”又は−ＰＨＲ”、これらの式においてＲ”はＣ１−Ｃ４０炭素含有基であり；Ｐは≧０の整数であり、Ｂは２つのスペーサーＳを相互に結合させることができ、記号：
【化８】
1998158269.tif 000008
は担体Ｔに対する１つ以上の共有結合を意味し、この場合に、ＢはＲ’に関して定義した通りであり、そして
式（ＩＩ）’のｗはそれぞれ同じ又は異なるものであり、０、１又は２であり、式（ＩＩ）’のｚは０、１又は２である）で示される単位である］
で示される担持型中性化学化合物。
【請求項３】
（ａ）請求項１又は２のいずれかに記載の少なくとも１種の担持型化学化合物と、（ｂ）少なくとも１種の遷移金属化合物Ｍ１Ｌｘ［式中、Ｍ１は遷移金属であり、Ｌはリガンドであり、ｘは１〜６の整数である］とを含む触媒系。
【請求項４】
（ａ）請求項１又は２のいずれかに記載の少なくとも１種の担持型化学化合物と、（ｂ）少なくとも１種の遷移金属化合物Ｍ１Ｌｘ［式中、Ｍ１は遷移金属であり、Ｌはリガンドであり、ｘは１〜６の整数である］とを結合させることによって得られる触媒系。
【請求項５】
遷移金属化合物Ｍ１Ｌｘがメタロセンである、請求項４又は５に記載の触媒系。
【請求項６】
請求項３〜５のいずれかに記載の触媒系の存在下で１種以上のオレフィンを重合させることによるポリオレフィンの製造方法。
【請求項７】
オレフィン重合のための触媒成分としての請求項１又は２に記載の担持型化学化合物の使用。
【手続補正書】
【提出日】平成16年8月31日(2004.8.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式Ｉ：
【化１】
1998158287.tif 000001
〔式中、
Ｍは、元素の周期表のＩＶｂ、ＶｂまたはＶＩｂ族の金属であり、
Ｘは、同じかまたは異なっており、各々が、水素原子、Ｃ１−Ｃ４０の炭化水素基、ＯＨ基、ハロゲン原子、または、擬ハロゲンであり、
Ｒ1からＲ5は、同じかまたは異なっており、互いに独立しており、各々が、水素原子、Ｃ１−Ｃ３０の炭化水素基、１〜１０個の炭素原子と、Ｏ、Ｎ、Ｓｉ、Ｇｅ及びＰから成るグループから選択された１つもしくはそれ以上のヘテロ原子とを有する炭素含有基であり、各場合に隣合う２つの基Ｒ４は両者を結合させる炭素原子と共に環系を形成することができ、
Ｅ１は、炭素、ケイ素、ゲルマニウムまたはスズ原子であり、そして
ｑは０または１を示す〕のメタロセン。
【請求項２】
Ｍが、ジルコニウムまたはハフニウムであり、
Ｘが、Ｃ１−Ｃ４のアルキル、Ｃ１−Ｃ３のアルコキシ、Ｃ６−Ｃ８のアリール、Ｃ６−Ｃ８のアリールオキシ、Ｃ２−Ｃ４のアルケニル、Ｃ７−Ｃ１２のアリールアルキル、Ｃ７−Ｃ１２のアルキルアリールもしくはＣ８−Ｃ１２のアリールアルケニル基、または、塩素であり、
Ｅ1が炭素原子であり、
Ｒ2及びＲ3が、Ｃ１−Ｃ４のアルキル、または、Ｃ６−Ｃ１４のアリール
であることを特徴とする請求項１に記載の式Ｉのメタロセン。
【請求項３】
イソプロピリデン（シクロペンタジエニル）（４，５，６，７−テトラヒドロインデニル）ジルコニウムジクロリド、
ジフェニルメチレン（シクロペンタジエニル）（４，５，６，７−テトラヒドロインデニル）ジルコニウムジクロリド、
メチルフェニルメチレン（シクロペンタジエニル）（４，５，６，７−テトラヒドロインデニル）ジルコニウムジクロリド、
イソプロピリデン（シクロペンタジエニル）（４，５，６，７−テトラヒドロインデニル）ハフニウムジクロリド、
ジフェニルメチレン（シクロペンタジエニル）（４，５，６，７−テトラヒドロインデニル）ハフニウムジクロリド、
メチルフェニルメチレン（シクロペンタジエニル）（４，５，６，７−テトラヒドロインデニル）ハフニウムジクロリド
のような請求項１または２に記載のメタロセン。
【請求項４】
式Ｉａ：
【化２】
1998158287.tif 000002
〔式中、
Ｍは、元素の周期表のＩＶｂ、ＶｂまたはＶＩｂ族の金属であり、
Ｘは、同じかまたは異なっており、各々が、水素原子、Ｃ１−Ｃ４０の炭化水素基、ＯＨ基、ハロゲン原子、または、ニトリルのような擬ハロゲンであり、
Ｒ１からＲ５は、同じかまたは異なっており、互いに独立しており、各々が、水素原子、Ｃ１−Ｃ３０の炭化水素基、１〜１０個の炭素原子と、Ｏ、Ｎ、Ｓｉ、Ｇｅ及びＰから成るグループから選択された１つもしくはそれ以上のヘテロ原子とを有する炭素含有基であり、各場合に隣合う２つの基Ｒ１は両者を結合させる炭素原子と共に環系を形成することができ、
Ｅ１は、炭素原子であり、そして
ｑは１を示す〕のメタロセン。
【請求項５】
Ｍが、ジルコニウムまたはハフニウムであり、
Ｘが、Ｃ１−Ｃ４のアルキル、Ｃ１−Ｃ３のアルコキシ、Ｃ６−Ｃ８のアリール、Ｃ６−Ｃ８のアリールオキシ、Ｃ２−Ｃ４のアルケニル、Ｃ７−Ｃ１２のアリールアルキル、Ｃ７−Ｃ１２のアルキルアリールもしくはＣ８−Ｃ１２のアリールアルケニル基、または、塩素であり、
Ｒ２及びＲ３が、Ｃ１−Ｃ４のアルキル、または、Ｃ６−Ｃ１４のアリール
であることを特徴とする請求項１に記載の式Ｉのメタロセン。
【請求項６】
イソプロピリデンビス（４，５，６，７−テトラヒドロインデニル）ジルコニウムジクロリド、
ジフェニルメチレンビス（４，５，６，７−テトラヒドロインデニル）ジルコニウムジクロリド、
メチルフェニルメチレンビス（４，５，６，７−テトラヒドロインデニル）ジルコニウムジクロリド、
イソプロピリデンビス（４，５，６，７−テトラヒドロインデニル）ハフニウムジクロリド、
ジフェニルメチレンビス（４，５，６，７−テトラヒドロインデニル）ハフニウムジクロリド、及び、
メチルフェニルメチレンビス（４，５，６，７−テトラヒドロインデニル）ハフニウムジクロリド
のような請求項４または５に記載のメタロセン。
【請求項７】
少なくとも１つの二重結合及び／または少なくとも１つの芳香族置換基を含む少なくとも１種のメタロセンを少なくとも１種の非水素化溶媒中で少なくとも１種の水素化触媒の存在下に水素で処理することによって得ることができる請求項１から６の１項以上に記載の式Ｉ又はＩａのメタロセン。
【請求項８】
（ａ）請求項１から７の１項以上に記載の少なくとも１種のメタロセンと、（ｂ）少なくとも１種の助触媒とを含む触媒。
【請求項９】
担持型及び／または初期重合型の請求項８に記載の触媒。
【請求項１０】
請求項８または９に記載の触媒の存在下で少なくとも１種のオレフィンを重合させることによるオレフィンポリマーの製造方法。
【請求項１１】
ポリオレフィンを製造するための請求項１から７の１項以上に記載の式Ｉ又はＩａのメタロセンの使用。
【手続補正書】
【提出日】平成16年8月31日(2004.8.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式Ｉのメタロセン：
【化１】
1998158288.tif 000001
（式中、
Ｍ１は、周期律表のＩＶｂ、ＶｂまたはＶＩｂ族の金属であり、
Ｒ１およびＲ２は同一または異なり、各々水素原子、Ｃ1−Ｃ10アルキル基、Ｃ1−Ｃ10アルコキシ基、Ｃ6−Ｃ10アリール基、Ｃ6−Ｃ10アリールオキシ基、Ｃ2−Ｃ10アルケニル基、Ｃ7−Ｃ40アリールアルキル基、Ｃ7−Ｃ40アルキルアリール基またはＣ8−Ｃ40アリールアルケニル基などのＣ1−Ｃ40基、ＯＨ基またはハロゲン原子であり、
Ｒ3およびＲ4は同一または異なり、各々水素原子、ハロゲン原子、Ｃ1−Ｃ10アルキル基、Ｃ2−Ｃ10アルケニル基またはＣ6−Ｃ10アリール基などのＣ1−Ｃ20基、ＮＲ162、ＳＲ16、ＯＳｉＲ163、ＳｉＲ163またはＰＲ162基（式中、Ｒ16はハロゲン原子、Ｃ1−Ｃ10アルキル基またはＣ6−Ｃ10アリール基である）であり、
Ｒ13は架橋、例えば、
【化２】
1998158288.tif 000002
【化３】
1998158288.tif 000003
＝ＢＲ14、＝ＡｌＲ14、−Ｇｅ−、−Ｏ−、−Ｓ−、＝ＳＯ、＝ＳＯ2、＝ＮＲ14、＝ＣＯ、＝ＰＲ14または＝Ｐ（Ｏ）Ｒ14（式中、Ｒ14およびＲ15は同一または異なり、各々水素原子、ハロゲン原子あるいはＳｉ（Ｃ1−Ｃ10アルキル）3基、Ｓｉ（Ｃ6−Ｃ20アリール）3基、Ｎ（Ｃ1−Ｃ10アルキル）2基、Ｎ（Ｃ6−Ｃ20アリール）2基、Ｂ（Ｃ1−Ｃ10アルキル）2基、Ｂ（Ｃ6−Ｃ20アリール）2基、Ｃ1−Ｃ10アルキル基、Ｃ1−Ｃ10フルオロアルキル基、Ｃ6−Ｃ20アリール基、Ｃ6−Ｃ20フルオロアリール基、Ｃ1−Ｃ10アルコキシ基、Ｃ2−Ｃ10アルケニル基、Ｃ7−Ｃ40アリールアルキル基、Ｃ8−Ｃ40アリールアルケニル基またはＣ7−Ｃ40アルキルアリール基などのＣ1−Ｃ40基であるか、あるいはＲ14およびＲ15はそれらを結合する原子と一緒に環系を形成し、Ｍ2はケイ素、ゲルマニウムまたは錫である）であり、
ｚは０または１であり、
ＲxおよびＲyは同一または異なり、４員基：
【化４】
1998158288.tif 000004
（式中、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8およびＲ9は同一または異なり、各々水素原子、ハロゲン原子あるいはＳｉ（Ｃ1−Ｃ10アルキル）3基、Ｓｉ（Ｃ6−Ｃ20アリール）3基、Ｎ（Ｃ1−Ｃ10アルキル）2基、Ｎ（Ｃ6−Ｃ20アリール）2基、Ｂ（Ｃ1−Ｃ10アルキル）2基、Ｂ（Ｃ6−Ｃ20アリール）2基、Ｃ1−Ｃ10アルキル基、Ｃ1−Ｃ10フルオロアルキル基、Ｃ6−Ｃ20アリール基、Ｃ6−Ｃ20フルオロアリール基、Ｃ1−Ｃ10アルコキシ基、Ｃ2−Ｃ10アルケニル基、Ｃ7−Ｃ40アリールアルキル基、Ｃ8−Ｃ40アリールアルケニル基またはＣ7−Ｃ40アルキルアリール基などのＣ1−Ｃ40基であるか、あるいは各々の場合で２個の基Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8およびＲ9はそれらを結合する原子と一緒に環系を形成し、そして、ｌ＋ｎ＋ｐ＝２そしてｍ＋ｏ＝１、例えば、
ｌ＝１、ｍ＝１、ｎ＝１、ｏおよびｐ＝０あるいは
ｌ＝２、ｍ＝１、ｎ、ｏおよびｐ＝０あるいは
ｌ＝０、ｍ＝１、ｎ＝２、ｏおよびｐ＝０である）
である。）
【請求項２】
式中、
Ｍ1は、ジルコニウムまたはハフニウムであり、
Ｒ1およびＲ2は同一であり、各々ハロゲン原子またはＣ1−Ｃ4アルキル基であり、
Ｒ3 は同一であり、各々Ｃ1−Ｃ4アルキル基であり、
Ｒ4 は同一であり、各々水素原子であり、
Ｒ13は
【化５】
1998158288.tif 000005
（式中、Ｍ2はケイ素またはゲルマニウムであり、Ｒ14およびＲ15は同一または異なり、各々、Ｃ1−Ｃ10アルキル基またはＣ6−Ｃ10アリール基である）であり、
ｚは１に等しく、そして
ＲxおよびＲyは同一である、
請求項１に記載の式Ｉのメタロセン。
【請求項３】
少なくとも１個の６員環において部分的に水素化されているビスインデニルジルコノセンである、請求項１または２に記載の式Ｉのメタロセン。
【請求項４】
請求項１に記載の式Ｉのメタロセンの製造方法であって、式Ｉのメタロセンを以下の反応経路によって製造する、
【化６】
1998158288.tif 000006
または、不飽和基ＲxおよびＲyを使用して式Ｉのメタロセンを最初に構築して、この中間体を引き続いて触媒の存在下で部分的に水素化し、ここに、メタロセンが上記反応経路で構築され、Ｈ2ＲaおよびＨ2Ｒbが下記のものであり、
【化７】
1998158288.tif 000007
続いてビスインデニル系の触媒水素化を行う、
製造方法。
【請求項５】
ａ）請求項１から３の１項以上に記載の式Ｉの少なくとも１種のメタロセン、およびｂ）少なくとも１種の助触媒、を含む触媒。
【請求項６】
助触媒がアルミノキサンである、請求項５に記載の触媒。
【請求項７】
メタロセンが担持および／または初期重合されている、請求項５または６に記載の触媒。
【請求項８】
請求項５から７の１項以上に記載の触媒の存在下でのポリオレフィンの製造方法。
【請求項９】
ポリオレフィンを製造するための請求項５から７の１項以上に記載の少なくとも１種の触媒の使用。
【手続補正書】
【提出日】平成16年11月5日(2004.11.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ａ）抽出媒体との永続的な接触にあるポリオレフィンと、
ｂ）少なくとも１種のベンゾフラノ−２−オン型化合物
とからなる組成物であって、但し成分（ａ）は回転成形法により製造されるポリオレフィン中空品でない組成物。
【請求項２】
成分（ｂ）は次式Ｖ
【化１】
1998158438.tif 000001
［式中、
Ｒ2は水素原子または炭素原子数１ないし６のアルキル基を表し、
Ｒ3は水素原子を表し、
Ｒ4は水素原子または炭素原子数１ないし６のアルキル基を表し、
Ｒ5は水素原子を表し、
Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10およびＲ11はそれぞれ互いに独立して水素原子、炭素原子数１ないし４のアルキル基または炭素原子数１ないし４のアルコキシ基を表し、但しＲ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10またはＲ11のうち少なくとも二つは水素原子を表す。］で表される化合物である、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
成分（ａ）および（ｂ）に加えてさらなる添加剤を含有する、請求項１に記載の組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成17年11月1日(2005.11.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
２個を１組とする多数組みのクランプを等間隔で円軌道に沿い１ピッチずつ間歇回転させる手段と、前記円軌道の中心軸の周りにロータを回転自在に設置し、該ロータの周囲に、前記中心軸に沿う前記クランプと同数のガイドを設けると共に、これらガイドを前記クランプと同調回転させる手段と、前記各ガイドそれぞれに一端をスライド自在に支持した各アームを、それぞれローラを介して下側から支える前記中心軸周りの環状軌道と、前記環状軌道の配置位置を前記中心軸に沿って上下に切り替え前記各アームを上下させるリフト機構と、前記各放射状アームそれぞれの端に枢支したバランス揺動竿一端の、各パレットを水平位置と傾斜位置とに変位させる、前記バランス揺動竿他端に形成した平行リンク機構と、前記平行リンク機構が備える滑車を前記環状軌道に設置した環状カムに係合して前記パレットを水平に維持し、前記円軌道における前記クリップからの包装体搬出セクションにおける前記環状カムの形状変化でもって、前記パレットを下降傾斜方向に傾動させる機構と、前記円軌道におけるクリップからの包装体搬出セクションに、パレットの傾動と一体に外方向に転倒しようとする包装体に接触する転倒阻止用の障害部材を設置し、当該障害部材を、包装体に接触しない不干渉の範囲にも変位可能にした精米の袋詰め包装装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
図７におけるエンドレスチェン６１で各ねじ棒４８を回転することにより、環状軌道４６はガイド棒６２に沿って上下に変位可能であり、この環状軌道４６の変位により、６本のアーム５１はそれぞれパレット６０をガイド４９に沿って変位させる。かかるパレットの自由な変位は、図６における１０キロ用又は５キロ用の、クランプ１２に支持した２種類の包袋４０の長さに、同パレットの高さを対応させる調整であり、ねじ棒４８により形成したリフトは、前記のごとき極端な長さの異なる２種類の包装体を、同条件でパレット６０により支持するように調整する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
１０…袋詰め包装機
１１…円盤
１２…クランプ
１３…支持アーム
１４…支持嘴
１６…開閉嘴
１８…てこ杆
４２…中心軸
４３…ロータリ
４６…環状軌道
４８…リフト機構
４９…ガイド
５１…アーム
５２…ローラ
５４…バランス揺動竿
５６…平行リンク
５７…傾動機構
５８…環状カム
６０…パレット
６５，６６…歯車
７７…流体シリンダー
７５…障害部材
【手続補正書】
【提出日】平成17年7月11日(2005.7.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
インク液滴を吐出するインクノズルと、当該インクノズルに連通していると共にインクを保持しているインク室と、当該インク室を区画形成している周壁に形成され面外方向に変位可能な振動板と、前記振動板に隙間をおいて対向配置した対向電極とを有しこれらの対向電極の間に駆動電圧パルスを印加して前記振動板を変形させて前記インクノズルからインク液滴を吐出可能となっているインクジェットヘッドの駆動制御方法において、
前記駆動電圧パルスのパルス幅を、前記インクノズルからのインク液滴の吐出量の最大値が得られるパルス幅と略同一の値に設定し、前記インク液滴の吐出量に応じてランク設定し、ランクに応じた前記駆動電圧パルスの電圧値に設定したことを特徴とするインクジェットヘッドの駆動制御方法。
【請求項２】
請求項１において、
前記インクノズルからのインク液滴の吐出量に応じてランク設定されるランク数は３であることを特徴とするインクジェットヘッドの駆動制御方法。
【請求項３】
請求項１および２において、
前記インクジェットヘッドの周囲環境温度を検出する温度検出工程と、当該温度検出工程において検出された温度に基づき、前記インクジェットヘッドの周囲温度環境と駆動電圧値の対応テーブルを記憶した記憶部より、検出された温度に対応する駆動電圧値を前記対応テーブルから検索出力するようになっていることを特徴とするインクジェットヘッドの駆動制御方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、インクノズルに連通したインク室の周壁に形成した振動板を静電気力により振動させることによりインクノズルからインク液滴の吐出を行う形式のインクジェットヘッドに関するものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
上記の課題を解決するために、本発明は、インク液滴を吐出するインクノズルと、当該インクノズルに連通していると共にインクを保持しているインク室と、当該インク室を区画形成している周壁に形成され面外方向に変位可能な振動板と、前記振動板に隙間をおいて対向配置した対向電極とを有しこれらの対向電極の間に駆動電圧パルスを印加して前記振動板を変形させて前記インクノズルからインク液滴を吐出可能となっているインクジェットヘッドの駆動制御方法において、前記駆動電圧パルスのパルス幅を、前記インクノズルからのインク液滴の吐出量の最大値が得られるパルス幅と略同一の値に設定し、前記インク液滴の吐出量に応じてランク設定しランクに応じた前記駆動電圧パルスの電圧値に設定したことを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
図４（Ａ）には、各パルス幅ランクＡ〜Ｈと、それに最適なパルス幅初期値Ｐｗｓの値との対応関係の一例を示す表を掲載してある。また、図４（Ｂ）には各駆動電圧ランクａ〜ｃとそれに最適な駆動電圧初期値Ｖ３ｓの値との対応関係の一例を示す表を掲載してある。この対応テーブルは予めインクジェットヘッド制御部２のＲＯＭ内に格納されている。さらに、図５には、ヘッドランクＡ、Ｂ、Ｈの場合における駆動電圧のパルス幅Ｐｗに対するインク吐出特性（インク吐出量）のグラフを示してある。
【手続補正書】
【提出日】平成17年5月26日(2005.5.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
未成熟な柑橘類果実の抽出エキス又は乾燥粉末を含有することを特徴とする美白剤。
【請求項２】
未成熟な柑橘類果実の抽出エキス又は乾燥粉末を含有することを特徴とする色素沈着症改善剤。
【請求項３】
未成熟な柑橘類果実に含まれるヘスペリジンをアルコールで抽出したそのエキスを含有することを特徴とする美白剤。
【請求項４】
未成熟な柑橘類果実に含まれるヘスペリジンをアルコールで抽出したそのエキスを含有することを特徴とする色素沈着症改善剤。
【請求項５】
前記色素沈着症改善剤がシミ又はソバカスであることを特徴とする請求項２又は４のいずれか１項に記載の色素沈着症改善剤。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は未成熟な柑橘類果実のアルコール抽出エキスあるいは乾燥粉末又はそのフラボノイド成分であるヘスペリジンを有効成分として含有することを特徴とする美白剤または色素沈着症改善剤に関する。
【手続補正書】
【提出日】平成17年5月26日(2005.5.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
未成熟なウンシュウミカン果実の抽出エキス又は乾燥粉末を含有することを特徴とする抗掻痒剤。
【請求項２】
未成熟なウンシュウミカン果実に含まれるヘスペリジンを含有することを特徴とする抗掻痒剤。
【請求項３】
未成熟なウンシュウミカン果実のエキスに含まれるヘスペリジンをアルコールで抽出することを特徴とするヘスペリジンのエキス抽出方法。
【請求項４】
未成熟なウンシュウミカン果実のエキス又は乾燥粉末を含有することを特徴とする抗掻痒作用、抗アレルギー作用、および抗炎症作用を併せ持つ抗掻痒剤。
【請求項５】
未成熟なウンシュウミカン果実に含まれるヘスペリジンを含有することを特徴とする抗掻痒作用、抗アレルギー作用、および抗炎症作用を併せ持つ抗掻痒剤。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は未成熟なウンシュウミカン果実のアルコール抽出エキスあるいは乾燥粉末又はそのフラボノイド成分であるヘスペリジンを有効成分として含有することを特徴とする抗掻痒剤、又は抗掻痒作用、抗アレルギー作用、および抗炎症作用を併せ持つ抗掻痒剤に関する。
【手続補正書】
【提出日】平成16年12月24日(2004.12.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】加熱調理器用無機多孔質シリカの敷材。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】【請求項１】シリカゾルを熟成し、三次元微細孔構造を持つ無機多孔質粒子で、二酸化珪素が９７．５〜９９．９９重量％からなる事を特徴とする加熱調理器用無機多孔質シリカの敷材。【請求項２】「請求項１」に記載する多孔質粒子の窒素吸着法による比表面積が１００〜９００ｍ２／ｇ、見掛け比重０．２〜０．９ｇ／ｃｃ、細孔容積０．２〜２．０ｃｃ／ｇであり、且つ当該無機多孔質粒子の平均径が３〜５，０００μｍである請求項１記載の加熱調理器用無機多孔質シリカの敷材。