【誤訳訂正書】
【提出日】令和3年6月17日(2021.6.17)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
標的に荷電粒子ビームを送達するシステムであって、
前記荷電粒子ビームが複数の制御点において出力器から送達され、前記出力器は、連続的な荷電粒子ビームを複数の制御点を中心に送達するようになっており、
前記システムは、データ処理ハードウェアによって、予め選択された制御点サンプリング周波数を特定するように構成され、前記制御点のサンプリング周波数は、隣接する制御点間での角度又は位置の広がり特定しており、
前記システムは、前記データ処理ハードウェアによって、このような制御点のサンプリング周波数を用いて前記制御点を導き出すように構成され、
前記システムは、前記データ処理ハードウェアによって、前記制御点及びそのサンプリング周波数のうちの一方又は両方に基づいてエネルギー層を予め定義するように構成され、各エネルギー層が前記標的内に深さを有する、システム。
【請求項２】
複数の初期制御点が導き出され、前記システムは、前記データ処理ハードウェアによって、（ｉ）前記出力器から、複数の最適化されたビームの第１の群を導き出すように構成され、前記複数の最適化されたビームの第１の群のうちの各最適化されたビームが、第１の制御点で出力されるように構成されていると共に、１つ以上のモニタユニット（ＭＵ）に関連付けられた１つ以上のエネルギー層に向けられるように構成され、
前記システムは、前記データ処理ハードウェアによって、（ｉｉ）閾値ＭＵより低いＭＵに関連した前記最適化されたビームの第１の群の中でエネルギー層を低減させるように構成され、
前記システムは、前記データ処理ハードウェアによって、（ｉｉｉ）前記出力器から、複数の最適化されたビームの第２の群を導き出すように構成され、前記複数の最適化されたビームの第２の群のうちの各最適化されたビームが、前記第１の制御点で出力されるように構成されていると共に、低減したエネルギー層の数を有するように構成されている、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記システムは、前記データ処理ハードウェアによって、前記初期制御点の数を増加させるように構成され、
前記システムは、前記データ処理ハードウェアによって、前記複数の制御点の間で前記ビームが移動する間に前記初期制御点に関連するエネルギー層の総数と同数か、又はそれ未満であるエネルギー層の総数を維持するように構成されている、請求項２に記載のシステム。
【請求項４】
前記システムは、前記データ処理ハードウェアによって、各制御点を少なくとも２つの隣接する制御点に分割することにより前記制御点の数を増加させるように構成され、第１及び第２の隣接する制御点の各々が、前記制御点のエネルギー層と同数であるエネルギー層の総数の合算を有する、請求項３に記載のシステム。
【請求項５】
前記システムは、前記データ処理ハードウェアによって、各制御点を第１の隣接制御点及び第２の隣接制御点、又は３つ以上の隣接制御点に分割することにより前記初期制御点の数を増加させるように構成され、前記第１の隣接制御点及び第２の隣接制御点が、前記制御点のエネルギー層の数より小さいか、又は大きいエネルギー層の総数の合算を有する、請求項３に記載のシステム。
【請求項６】
前記システムは、前記データ処理ハードウェアによって、１つ以上の隣接制御点を各初期制御点に追加することにより前記初期制御点の数を増加させるように構成され、前記隣接制御点が前記エネルギー層の総数、又は前記初期制御点の閾値ＭＵを有する、請求項３に記載のシステム。
【請求項７】
前記システムは、前記データ処理ハードウェアによって、ガントリが前記複数の制御点のうち少なくとも２つを調節しながら、前記最適化されたビームの第１の群の少なくとも１つのエネルギー層を切替えることをさらに含む、請求項２に記載のシステム。
【請求項８】
前記システムは、前記データ処理ハードウェアによって、前記出力器から１つ以上のビームを少なくとも２つの制御点のエネルギー層へ送達するように構成され、
前記システムは、前記データ処理ハードウェアによって、前記最適化されたビームの第１の群の少なくとも１つのエネルギー層を切替えて前記複数の制御点のうちの少なくとも２つを調節するように構成されている、請求項２に記載のシステム。
【請求項９】
前記システムは、前記データ処理ハードウェアによって、前記出力器から１つ以上のビームを少なくとも２つの制御点のエネルギー層へ送達するように構成され、
前記システムは、前記データ処理ハードウェアによって、エネルギー層を切替えて前記エネルギー層の少なくとも１つに関連付けられた１以上のスポットへの送達を調整するように構成されている、請求項２に記載のシステム。
【請求項１０】
前記エネルギー層を分類することをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
前記システムは、前記データ処理ハードウェアによって、エネルギー層の範囲を有する制御点ゾーンを画定するように構成され、
前記システムは、前記データ処理ハードウェアによって、前記制御点ゾーンに制御点を割り当てるように構成され、
前記システムは、前記データ処理ハードウェアによって、前記制御点ゾーン及び前記制御点に基づき計画品質を最適化するように構成されている、請求項１に記載のシステム。
【請求項１２】
前記システムは、前記データ処理ハードウェアによって、複数の前記制御点の間で前記荷電粒子ビームの送達を最適化することをさらに含む、請求項１に記載のシステム。
【請求項１３】
前記システムは、前記データ処理ハードウェアによって、前記ビームを少なくとも２つの互いに隣接する制御点の間の１つ以上のエネルギー層に向けるように構成され、
前記システムは、前記データ処理ハードウェアによって、（ｉ）前記少なくとも２つの互いに隣接する制御点のうち一方のエネルギーレベルと前記少なくとも２つの互いに隣接する制御点のうち他方の前記エネルギーレベルとの間の差が、エネルギーレベルの差の閾値より低いときに、前記少なくとも２つの互いに隣接する制御点を組み合わせることによって、最適化を行うように構成され、かつ、（ｉｉ）前記少なくとも２つの互いに隣接する制御点のうち一方のモニタユニットと前記少なくとも２つの互いに隣接する制御点のうち他方の前記モニタユニットとの間の差が、モニタユニット差の閾値より低いときに、前記少なくとも２つの互いに隣接する制御点を組み合わせることによって、最適化を行うように構成されている、請求項１２に記載のシステム。
【請求項１４】
前記システムは、前記データ処理ハードウェアによって、（ｉ）ＭＵ閾値の、又はＭＵ閾値未満のＭＵを有する標的の周りの１つ以上のスポットを除去するためのスポット低減機構、（ｉｉ）ＭＵ閾値の、又はＭＵ閾値未満のＭＵを有するターゲットの周りの１つ以上のエネルギー層を除去するためのエネルギー層低減、（ｉｉｉ）制御点再サンプリング、（ｉｖ）複数の前記制御点の間でのエネルギー層再分配、（ｖ）スポットを送達するためのスポット送達シーケンスの再分配又は再構成、若しくはそれらの組合せであって、前記（ｉ）〜（ｖ）のうち少なくとも１つを利用することによって最適化を行うように構成されている、請求項１２に記載のシステム。
【請求項１５】
前記システムは、前記データ処理ハードウェアによって、スポット低減機構を利用して、ＭＵ閾値の、又はＭＵ閾値未満のＭＵを有する前記標的の周りの１つ以上のスポットを除去することによって最適化するように構成されている、請求項１２に記載のシステム。
【請求項１６】
前記システムは、前記データ処理ハードウェアによって、エネルギー層低減を利用して、ＭＵ閾値の、又はＭＵ閾値未満のＭＵを有する前記標的の周りの１つ以上のエネルギー層を除去することによって最適化するように構成されている、請求項１２に記載のシステム。
【請求項１７】
前記システムは、前記データ処理ハードウェアによって、制御点再サンプリングを利用することによって最適化するように構成されている、請求項１２に記載のシステム。
【請求項１８】
前記システムは、前記データ処理ハードウェアによって、前記制御点の間でエネルギー層の再分配を利用することにより最適化を行うように構成されている、請求項１２に記載のシステム。
【請求項１９】
前記システムは、前記データ処理ハードウェアによって、スポットを送達するためのスポット送達シーケンスの再分配又は再構成、若しくはそれらの組み合せを利用することにより最適化を行うように構成されている、請求項１２に記載のシステム。
【請求項２０】
前記ＭＵ閾値は、（ｉ）計画内のスポットＭＵ、（ｉｉ）エネルギー層、（ｉｉｉ）衝撃角、及び（ｉｖ）それらの組合せのうち１つ、又はいくつか、又はすべての下限値、すなわち１０％として定義される、請求項１４に記載のシステム。
【請求項２１】
前記システムは、前記データ処理ハードウェアによって、前記スポット低減機構が、低いＭＵスポット又はラインを連続的に、同時的に、又はランダムに除去するように構成されている一方、エネルギー層のフィルタリング後スポットの１０％であるフィルタを定義できるように最適化する、請求項１４に記載のシステム。
【請求項２２】
前記システムは、前記データ処理ハードウェアによって、ユーザによる選択のための１つ又は複数の予め生成された計画を提示するように構成され、さらに、前記システムは、このようなユーザによる選択に基づいて複数の制御点を特定するように構成されている、請求項１に記載のシステム。
【請求項２３】
前記複数の予め生成された計画は、異なる計画パラメータ、計画品質、及び送達効率への変動に少なくとも部分的に基づいて生成されている、請求項２２に記載のシステム。
【請求項２４】
前記複数の予め生成された計画は、各計画の目標値、各個別の目的関数、又は異なる機械（例えば、固定ガントリ、フルガントリ、シンクロトロン又はサイクロトロンマシン）の送達時間、又はパラメータ（例えば、エネルギー層番号、スポット番号又はＭＵ）に少なくとも部分的に基づいて生成されている、請求項２２に記載のシステム。
【請求項２５】
前記システムは、たわみ及びアイソシフトの一方又は双方の補正を容易にする磁石を備え、この磁石により前記ビームの中心位置を調整する、請求項１２に記載のシステム。
【請求項２６】
前記システムは、前記データ処理ハードウェアによって、（ｉ）適切な電磁コイル電流、（ｉｉ）イオン化チャンバの信号位置、（ｉｉｉ）ガントリ角度、及び（ｉｖ）これらの組合せの１つ以上を特定することにより前記補正を容易にするように構成されている、請求項２５に記載のシステム。
【請求項２７】
前記システムは、前記制御点が患者位置の調整を介して調整されるように構成されている、請求項１に記載のシステム。
【請求項２８】
前記患者位置は、（ｉ）ガントリ、（ｉｉ）治療台、又は、（ｉｉｉ）これらの組合せの調整のうちの少なくとも１つを調整することによって調整され、これらの調整により前記制御点の選択的な調整が行われる、請求項２７に記載のシステム。
【請求項２９】
前記システムは、前記データ処理ハードウェアによって、前記連続的な荷電粒子ビームを送達しながら画像を同時に取得するように構成されている、請求項１に記載のシステム。
【請求項３０】
前記荷電粒子ビームは、患者及び送達手段に対するいずれのケースも（ｉ）非共平面の方法、及び（ｉｉ）非アイソセンタの方法のうち１つ以上の方法で送達されるように構成されている、請求項１に記載のシステム。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２４】
連続的アーク送達モードでは、各静止制御点１２４で陽子ビーム１０４を送達する代わりに、システム１００は、衝撃角ＩＡすなわち制御点１２４を変更しながら陽子ビーム１０４を連続的に送達する。したがって、連続的アーク送達モードにおいて、ステップアンドシュートの例として上述した離散制御点１２４すなわち衝撃角ＩＡを利用する代わりに、システム１００は、各制御点１２４すなわち衝撃角ＩＡが、本明細書においては制御点サンプリング周波数（ＣＰＳＦ）と称する角度範囲内（例えば、−０．５度＜α＜０．５度）又は位置範囲内（例えば、−１ｍｍ＜ｘ＜＋１ｍｍの治療台の位置）にあると判断する。したがって、より高い制御点のサンプリング周波数は、より小さな角度、すなわち隣接する制御点間での位置の広がりを示すことが理解されよう。その結果、異なる制御点を介したステップアンドシュートモードによるこのような離散した照射送達は、そのような制御点範囲での（例えば、−１０度から２０度の部分アーク及び／又は１０ｃｍから＋２０ｃｍ治療台移動）連続的照射送達に近いものなることになる。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２５】
実施形態において、また以下の実施例で説明されるように、前述のステップアンドシュート送達と比較した体部１１４上で確認された線量差を効果的に最小化するために、制御点サンプリング周波数（ＣＰＳＦ）が導入され得る。例えば、連続セッションの所望の制御点サンプリング周波数は、各有効な制御点（例えば、０〜４度）の間の４度が実質的に線量測定的に２度で送達されるステップアンドシュートセッションに等しいことを示唆することができる。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２７】
いくつかの実施形態では、システム１００は、最適化された制御点１２４の数を決定し、制御点１２４を再サンプリングして、所望の制御点サンプリング周波数ＣＰＳＦを達成するように構成されてもよい。さらに、システム１００は、エネルギー層が重み付けされ、低モニタユニット（ＭＵ）を有するものが除去されるように、各制御点１２４に関連するエネルギー層をフィルタリングするように構成されてもよい。いくつかの実装形態では、システム１００は、事前に、又は事後にエネルギー層をフィルタリングする代わりに、エネルギー層を近くの制御点１２４に編成及び割り当てするように構成されてもよい。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３１】
ブロック２２０において、システム１００は、図４Ａに示すように粗い制御点サンプリング周波数ＣＰＳＦを決定する。換言すると、システム１００は、ガントリ位置又は制御点１２４の数を特定する。図４Ａに示すように、システム１００は、ガントリの３６０自由度内の８つの制御点１２４を特定する。粗い制御点の他の数もまた使用され得る。
【誤訳訂正６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３３】
ブロック２４０において、システム１００は、初めに、制御点１２４のサンプリング周波数（例えば、ブロック２４０で制御点の数を反復的に増加させて）、各制御点１２４に関連するエネルギー層（複数可）及び陽子線スポットを任意で最適化（Ａ）し、陽子ビーム１０４を送達するための送達効率を向上させ、最適な治療計画をもたらすことになる。換言すると、システム１００は、治療のための最適化されたエネルギー層やスポット位置、及びビーム１０４の重み付けを選択するランダムな反復プロセスを使用する。
【誤訳訂正７】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３４】
任意の制御点に続いて、ブロック２４０にて説明されるエネルギー層の最適化及びスポット送達シーケンスの最適化、又は（Ａ）に関する任意の最適化をスキップする代わりに、システム１００は、
（ｉ）制御点１２４を再サンプリングし、図２Ａに示すように、制御点１２４の間でエネルギー層を再構成し、再分配する。例えば、シーケンスの最適化を利用して、システム１００は、初めに制御点再サンプリング及びエネルギー層再分配機構（上述のような）を介して制御点サンプリング周波数ＣＰＳＦを増加させ、次いで、エネルギー層フィルタリング機構及びスポット数低減機構の一方又は両方を使用して、エネルギー層の数及び計画ごとのスポット数の数を低減するか、又はその逆を行う。
若しくは、（ｉｉ）施術者が予め定義された制御点サンプリング周波数（ＣＰＳＦ）を特定できるようにし、所望のＣＰＳＦに基づいて、図２Ｂに示すように、エネルギー層を予め定義し、分類を行う。例えば、施術者が制御点当たり２度（すなわち、３６０度回転軸上に１８０制御点を有する）の前立腺陽子線アーク計画を定義する場合、妥当な計算時間及びコンピュータリソースでアーク計画を最適化するために、システム１００は、制御点ゾーンを事前に定義する（例えば、前立腺の例では、８つのゾーンを定義し、各ゾーンには２０の制御点が含まれる）。そのような例においては、各ゾーンは、エネルギー層の範囲（例えば、２５０ＭｅＶ〜７０ＭｅＶ）及び各制御点を含み、次いで、例えば、２５０ＭｅＶから２１０ＭｅＶの範囲の制御点＃１、２１０ＭｅＶから１６０ＭｅＶの範囲の制御点＃２のような予め定められたサブ定義範囲に割り当てられる。これは、均等に分散されることも、不均等に分散されることもできる。次に、このような事前定義されたゾーン及び制御点に基づいて最適な計画品質を見つける最適化プロセスが続く。
【誤訳訂正８】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４０】
前述したように、ブロック３４０において、システム１００は、（ｉ）ブロック３４２Ａでのエネルギーフィルタリング方法と、ブロック３４４での制御点再サンプリング、エネルギー層再分配、及びスポット送達シーケンス再構成方法との間で（図３Ａ〜３Ｃにて示すように）ランダムに選択することと、（ｉｉ）施術者が所定の制御点サンプリング周波数（ＣＰＳＦ）を特定することを可能にし、所望のＣＰＳＦに基づいて、（図３Ｄに示されるように）エネルギー層を予め定義し、特定の治療に基づいて分類を実行することがどちらもできる。
【誤訳訂正９】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５６】
代替的なシステムでは、図３Ａのブロック３４０は、ユーザによって特定された予め定義された治療計画によって不要とされ、置き換えられてもよい（図３Ｄを参照）。例えば、施術者は予め定義された制御点サンプリング周波数（ＣＰＳＦ）を特定することができ、システム１００は所望のＣＰＳＦに基づいて、この情報を処理してエネルギー層を予め定義し、制御点の分類を実行して計画を特定する。
【誤訳訂正１０】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００６２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００６２】
ステップアンドシュートモードでは、システム１００は、ガントリ又は治療台の回転又は並進運動の時間、すなわちテーブル１１０に対する出力器１２０の回転がエネルギー層切替え時間よりも大きいかどうかを判断し、システム１００は、制御点１２４ごとに少なくとも１つのエネルギー層、例えば（制御点１２４ごとに１〜６のエネルギー層）を保持する。例えば、ガントリが２つの連続する制御点１２４の間を移動するのに３秒間かかり、エネルギー層切替え時間は３秒未満である場合、システム１００は制御点１２４ごとに少なくとも１つのエネルギー層を保持する。連続送達モードの実施形態では、システム１００は、所望のアークサンプリング周波数又は予め定めた設定のプロセスに到達するまで、制御点再サンプリングを任意で維持してもよい（例えば、図２のブロック２４０を参照）。
【誤訳訂正１１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００６３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００６３】
前述のように、より高い制御点サンプリング周波数は、隣接する制御点間での小さな角度差を示す。この状況では、ガントリ／治療台回転と同時のビーム１０４送達は、静的制御点角度でのビーム１０４送達に非常に近似している。所望のアークサンプリング周波数は、アーク内に十分な制御点があり、静的ステップアンドシュート送達モードと連続送達モードとの間に線量差がほとんどないことを意味する。所望のアークサンプリング周波数に達することは、十分なサンプリング制御点を得るために、静的ステップアンドシュート送達と連続陽子ビームアーク送達との間の線量差が最小であることを意味する。
【誤訳訂正１２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００６５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００６５】
ブロック３７０において、システム１００の一実施態様は、例えば、特定の時間、腫瘍被覆率、又は他の測定可能な変数など、治療計画がユーザの好みに基づいてユーザが定めた品質に達したかどうかを判断することができる。システム１００が、治療計画がユーザの定めた品質に達していないと判断した場合、システム１００は、ブロック３４２Ａでのエネルギー層のフィルタリング又はブロック３４４での制御点の再サンプリングとエネルギー層の再分配との間のランダムな方法を選択することによって、上記のブロック３４０を繰り返す。システム１００は、到達した治療計画がユーザの定めた計画品質にしたがっているとシステム１００が判断するまでこのプロセスを繰り返す。一旦、システム１００が到達した治療計画がユーザの定めた計画品質にしたがっていると判断すると、システム１００は、計画にしたがって腫瘍１１４の治療を開始することができる。システム１００は、治療計画がユーザの定めた品質に達していない限り、ブロック３４２Ａ及び３４４をランダムに繰り返し、許容できない計画及び線量計算時間を生じさせることなく、元の粗いサンプリング制御点（図４Ａに示す）を、限度を有する制御点へと増加、又は分割して、所望の制御点１２４のサンプリング周波数を有するステップアンドシュート又は連続送達アークプランとする。したがって、システム１００は、連続的アーク送達のための十分なサンプリング制御点又はサンプリング速度を形成することを目指す。これにより、計算時間が大幅に短縮されることになる。例えば、システム１００は、各制御点１２４で、少なくとも１つのエネルギー層（例えば、別々のビームとして出力される１〜６のエネルギー層）を有するビーム１０４を送達することができ、システム１００は、ブロック３４２Ａ及び３４４を実行した後、ＳＰＡｒｃが患者を中心に２度ごとの制御点で３６０度全回転することを決定する。換言すると、システム１００は、２度ごとに、又はガントリ／治療台の回転中に連続的にビーム１０４を患者１１２に送達し、最も効率的な治療計画を提供する。