Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成17年3月16日(2005.3.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
患者の腹壁と胃壁または腸壁とに跨って造設された瘻孔に挿入される栄養チューブに患者の体外において接続された容器から前記栄養チューブを経て患者の胃または腸の内部に前記容器の加圧によって投与される経腸栄養剤であって、
粉末状の寒天を半固形化剤として液状化栄養剤に、水分２００ｍｌに対して１ｇの割合で添加することにより、形態が自然には変化せずに保持される形態保持性であって外部から当該経腸栄養剤に自然に作用する重力および大気圧に対抗して自身の初期の形態を維持しようとする性質を有する点と液体および流動体より高濃度で栄養成分を含有し得る点とに関しては固形物と共通するが、強制外力による形態の変化が固形物より容易である点に関しては液体および流動体と共通する半固形物として形成され、
前記形態保持性が、患者の体内への当該経腸栄養剤の投与の前後を通じて維持されるとともに、当該経腸栄養剤が患者の胃または腸の内部に貯留する状態においてはその患者の体温によっては当該経腸栄養剤が液状化しないように、前記形態保持性が維持される経腸栄養剤。
【請求項２】
請求項１に記載の経腸栄養剤を製造する方法であって、
前記液状化栄養剤と前記半固形化剤との混合物をそれの液状化状態において前記容器と同じかまたはそれとは別の容器内に充填し、その充填状態で、前記同じ容器または別の容器内の混合物をその容器と一緒に冷却して前記混合物を半固形化することによって前記経腸栄養剤を製造する経腸栄養剤製造方法。
【請求項３】
患者の体内に挿入される栄養チューブに患者の体外において接続された容器から前記栄養チューブを経て患者の胃または腸の内部に前記容器の加圧によって投与される経腸栄養剤であって、
形態が自然には変化せずに保持される形態保持性を有する点と液体および流動体より高濃度で栄養成分を含有し得る点とに関しては固形物と共通するが、強制外力による形態の変化が固形物より容易である点に関しては液体および流動体と共通する半固形物として形成され、
前記形態保持性が、患者の体内への当該経腸栄養剤の投与の前後を通じて維持されるとともに、当該経腸栄養剤が患者の体内に貯留する状態においてはその患者の体温によっては当該経腸栄養剤が液状化しないように、前記形態保持性が維持される経腸栄養剤。
【手続補正書】
【提出日】平成17年6月1日(2005.6.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも顔料と分散剤と水を含有する顔料分散液において、分散剤として下記一般式（１）で表わされる化合物の少なくとも一種を含有することを特徴とする顔料分散液。
【化１】
2004026852.tif 000001
（Ｒ１はＨまたは炭素数１〜２０のアルキル基、フェニル基、置換フェニル基、ナフチル基、ｋは０〜７の整数、Ａ１はオキシエチレン単位、オキシプロピレン単位またはオキシエチレン単位とオキシプロピレン単位との混合基、Ａ２はオキシエチレン単位、オキシプロピレン単位またはオキシエチレン単位とオキシプロピレン単位との混合基、ｉ、ｊはそれぞれ０以上の整数で、ｉ＋ｊは３１以上１００以下の整数を表わす。）
【請求項２】
下記一般式（２）で表わされる化合物の少なくとも一種を含有することを特徴とする請求項１記載の顔料分散液。
【化２】
2004026852.tif 000002
（Ｒ２は炭素数８〜１４のアルキル基、Ａ３はオキシエチレン単位、オキシプロピレン単位またはオキシエチレン単位とオキシプロピレン単位との混合基、ｍは３〜１６の整数を表わす。）
【請求項３】
下記一般式（３）で表わされる化合物の少なくとも一種を含有することを特徴とする請求項１または２記載の顔料分散液。
【化３】
2004026852.tif 000003
〔Ｍ１はＨ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｎ＋Ｒ４Ｒ５Ｒ６Ｒ７（Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７はそれぞれ水素元素、メチル基、エチル基、２−ヒドロキシエチル基および３−ヒドロキシプロピル基よりなる群から選ばれる）を表わし、Ｒ３は炭素数１〜２０のアルキル基を表わす。〕
【請求項４】
下記一般式（４）で表わされる化合物の少なくとも一種を含有することを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の記載の顔料分散液。
【化４】
2004026852.tif 000004
〔Ｒ８は炭素数１〜２０のアルキル基、Ａ４はオキシエチレン単位、オキシプロピレン単位、またはオキシエチレン単位とオキシプロピレン単位との混合基、ｘは１〜１２の整数、Ｍ２はＨ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｎ＋Ｒ９Ｒ１０Ｒ１１Ｒ１２（Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２はそれぞれ水素元素、メチル基、エチル基、２−ヒドロキシエチル基および３−ヒドロキシプロピル基よりなる群から選ばれる）を表わす。〕
【請求項５】
顔料としてピグメントイエロー１３８を用いることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の顔料分散液。
【請求項６】
顔料としてピグメントレッド１２２を用いることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の顔料分散液。
【請求項７】
顔料としてピグメントブルー１５、ピグメントブルー１５：１、ピグメントブルー１５：２、ピグメントブルー１５：３およびピグメントブルー１５：４よりなる群から選ばれた少なくとも一種を用いることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の顔料分散液。
【請求項８】
顔料としてカーボンブラックを用いることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の顔料分散液。
【請求項９】
一般式（１）の化合物と一般式（２）の化合物の含有量比率が重量比で９９．９９／０．０１〜６０／４０であることを特徴とする請求項２〜８のいずれかに記載の顔料分散液。
【請求項１０】
一般式（１）の化合物と一般式（３）の化合物の含有量比率が重量比で９９．９９／０．０１〜６０／４０であることを特徴とする請求項３〜９のいずれかに記載の顔料分散液。
【請求項１１】
一般式（１）の化合物と一般式（４）の化合物の含有量比率が重量比で９９．９９／０．０１〜６０／４０であることを特徴とする請求項４〜１０のいずれかに記載の顔料分散液。
【請求項１２】
顔料に対する分散剤の比率が１／１５〜１／１であることを特徴とする請求項１〜１１のいずれかに記載の顔料分散液。
【請求項１３】
顔料の平均粒径が２０ｎｍ以上２００ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１〜１２のいずれかに記載の顔料分散液。
【請求項１４】
顔料濃度が５ｗｔ％以上３０ｗｔ％以下であることを特徴とする請求項１〜１３のいずれかに記載の顔料分散液。
【請求項１５】
請求項１〜１４のいずれかに記載の顔料分散液に添加剤として水、水溶性有機溶剤、界面活性剤、防腐剤のうち、少なくとも１種を加えて調製したものであることを特徴とするインクジェット用インク。
【請求項１６】
顔料の平均粒径が２０ｎｍ以上２００ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１５記載のインクジェット用インク。
【請求項１７】
顔料濃度が１ｗｔ％以上８ｗｔ％以下であることを特徴とする請求項１５又は１６記載のインクジェット用インク。
【請求項１８】
請求項１５〜１７のいずれかに記載のインクを用いてインクジェット方式のプリンタで印字することを特徴とする画像形成方法。
【請求項１９】
イングジェット方式がピエゾ方式であるインクジェットプリンタで印字することを特徴とする請求項１８記載の画像形成方法。
【請求項２０】
インクジェット方式がサーマル方式であるインクジェットプリンタで印字することを特徴とする請求項１８記載の画像形成方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
即ち、本発明によれば第１に、少なくとも顔料と分散剤と水を含有する顔料分散液において、分散剤として下記一般式（１）で表わされる化合物の少なくとも一種を含有することを特徴とする顔料分散液が提供される。
【化５】
2004026852.tif 000005
（Ｒ１はＨまたは炭素数１〜２０のアルキル基、フェニル基、置換フェニル基、ナフチル基、ｋは０〜７の整数、Ａ１はオキシエチレン単位またはオキシプロピレン単位またはオキシエチレン単位とオキシプロピレン単位との混合基、Ａ２はオキシエチレン単位またはオキシプロピレン単位またはオキシエチレン単位とオキシプロピレン単位との混合基、ｉ、ｊはそれぞれ０以上の整数で、ｉ＋ｊは３１以上１００以下の整数を表わす。）
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
【発明の実施の形態】
以下、本発明をさらに詳しく説明する。
本発明の顔料分散液は、少なくとも顔料と分散剤と水とからなり、分散剤として上記一般式（１）で示される化合物のうち、少なくとも１種を含有することを特徴とする顔料分散液である。
この顔料分散液はインクジェット用インク、塗料、オフセット印刷等の印刷用インク、ボールペン、万年筆等の筆記具用インクなどの用途に利用できるが、特にインクジェット用インクに好適に利用することができる。また本発明のインクジェット用インクは前述の顔料分散液に添加剤を加えて調製することを特徴とするインクジェット用インクである。上記分散剤を用いると、顔料の平均粒径の小さく、かつ平均粒径の安定性の優れた分散液および、平均粒径の安定性、吐出安定性の優れたインクを得ることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成17年6月24日(2005.6.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
物品を通常の立設姿勢に対し、上部を背面側に傾斜させる姿勢で保持する保持部と、設置時の支持面となる底壁とを備えた包装用ケースであって、該包装用ケースは、表側部分と裏側部分とに分割されており、前記表側部分は、平らな表側縁部と、物品の上部を浅く下部を深く受け入れるように凹状をなす表側保持部とを備え、前記裏側部分は、平らな裏側縁部と、物品の上部を深く下部を浅く受け入れるように凹状をなす裏側保持部を備え、前記表側部分及び裏側部分は、前記表側縁部及び裏側縁部を合わせたときに、前記表側保持部及び裏側保持部が、物品の外形に近い凹部として前記保持部を形成することを特徴とする包装用ケース。
【請求項２】
設置時の支持面となる底壁を備え、前記表側部分及び裏側部分は、前記該底壁の両縁部をヒンジ部として表側及び裏側へ開くようになっていることを特徴とする請求項１に記載の包装用ケース。
【請求項３】
物品が需要者の目の高さより下方に置かれる場合に需要者の視線に垂直な面への物品の投影面積が、通常の立設姿勢の場合より広くなるように、物品を傾斜させる姿勢で保持する保持部を設けたことを特徴とする請求項１又は２に記載の包装用ケース。
【請求項４】
前記傾斜した姿勢が、通常の立設姿勢に対し、３〜２５度であることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の包装用ケース。
【請求項５】
前記傾斜した姿勢が、通常の立設姿勢に対し、５度〜２０度であることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の包装用ケース。
【請求項６】
前記傾斜した姿勢が、通常の立設姿勢に対し、８度〜１５度であることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の包装用ケース。
【請求項７】
収納する物品の外形に近い凹部に該物品を保持するブリスタパッケージとして形成されていることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の包装用ケース。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれかに記載の包装用ケースに物品を収容し、支持面上に載置し又は吊り下げることを特徴とする物品の陳列方法。
【請求項９】
前記包装用ケースの傾斜に基づき物品の下部が支持面の前端部を越えて突出するように該包装用ケースを支持面に載置することを特徴とする請求項８に記載の物品の陳列方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明は、前記目的を達成するため、物品を通常の立設姿勢に対し、上部を背面側に傾斜させる姿勢で保持する保持部と、設置時の支持面となる底壁とを備えた包装用ケースであって、該包装用ケースは、表側部分と裏側部分とに分割されており、前記表側部分は、平らな表側縁部と、物品の上部を浅く下部を深く受け入れるように凹状をなす表側保持部とを備え、前記裏側部分は、平らな裏側縁部と、物品の上部を深く下部を浅く受け入れるように凹状をなす裏側保持部を備え、前記表側部分及び裏側部分は、前記表側縁部及び裏側縁部を合わせたときに、前記表側保持部及び裏側保持部が、物品の外形に近い凹部として前記保持部を形成することを特徴とする包装用ケースを提供するものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
前記傾斜した姿勢は、通常の立設姿勢に対し、８度〜１５度であるのが望ましく、５度〜２０度であるのがより望ましく、３〜２５度であるのがさらに望ましい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
前記包装用ケースは、収納する物品の外形に近い凹部に該物品を保持するブリスタパッケージとして形成することができる。また、前記包装用ケースは、物品が需要者の目の高さより下方に置かれる場合に需要者の視線に垂直な面への物品の投影面積が、通常の立設姿勢の場合より広くなるように、物品を傾斜させる姿勢で保持する保持部を設けることができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明はまた、前記目的を達成するため、前記のいずれかの包装用ケースに物品を収容し、支持面上に載置し又は吊り下げることを特徴とする物品の陳列方法を提供するものである。該陳列方法は、前記包装用ケースの傾斜に基づき物品の下部が支持面の前端部を越えて突出するように該包装用ケースを支持面に載置するように行なうことができる。
【手続補正書】
【提出日】平成17年2月25日(2005.2.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
潜水用フードと、この潜水用フード上に頭部を覆うように設けられた潜水用保護帽とで構成された保護機能付き潜水フード。
【請求項２】
潜水用フードと、この潜水用フード上に頭部を覆うように設けられた潜水用保護帽と、前記潜水用フードと前記潜水用保護帽間に設けられた緩衝材とで構成された保護機能付き潜水フード。
【請求項３】
潜水用保護帽に、潜水用フード及び潜水用保護帽に溜まった空気を外部に排出させるための排気機能を設けたことを特徴とする請求項１又は２記載の保護機能付き潜水フード。
【請求項４】
潜水用保護帽は着脱機能により着脱可能となっていることを特徴とする請求項１、２又は３記載の保護機能付き潜水フード。
【手続補正書】
【提出日】平成16年9月8日(2004.9.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シリコン基板上にシリコン酸化膜よりも高い誘電率を有する金属酸化膜を用いて形成した、ＳｉＯ２換算膜厚が２．０ｎｍ以下のゲート絶縁膜を備えた電界効果トランジスタを有する半導体装置において、前記シリコン基板と前記金属酸化膜に挟まれた領域に０．５ｎｍ以上の厚さの第１のシリコン酸化膜あるいはシリコン酸窒化膜を有することを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
請求項１記載の半導体装置において、前記金属酸化膜は、Ａｌ２Ｏ３、ＺｒＯ２、ＨｆＯ２、ＺｒＳｉＯ４、ＨｆＳｉＯ４、Ｙ２Ｏ３、Ｌａ２Ｏ３などの希土類酸化物膜、もしくは、Ａｌ２Ｏ３とＡｌ２Ｏ３上に形成されるＺｒＯ２、ＨｆＯ２、ＺｒＳｉＯ４、ＨｆＳｉＯ４、Ｙ２Ｏ３、Ｌａ２Ｏ３などの希土類酸化物の積層膜であることを特徴とする半導体装置。
【請求項３】
請求項１記載の半導体装置において、前記電界効果トランジスタは、さらに前記金属酸化膜と多結晶シリコンゲートとの間に０．５ｎｍ以上の厚さの第２のシリコン酸化膜を有することを特徴とする半導体装置。
【請求項４】
請求項１記載の半導体装置において、前記電界効果トランジスタは、さらに前記金属酸化膜上に形成された高融点金属材料で形成されたゲートを有することを特徴とする半導体装置。
【請求項５】
請求項４記載の半導体装置において、前記ゲートは、ＴａＮ、ＴｉＮ、ＷＮ、ＭｏＮ、ＺｒＮ、ＨｆＮのいずれかの膜を有することを特徴とする半導体装置。
【請求項６】
半導体装置の製造方法において、
シリコン基板上にシリコン酸化膜よりも高い誘電率を有する金属酸化膜を形成する工程と、
第１の温度での第１の熱処理によって、前記シリコン基板と前記金属酸化膜との間に０．５ｎｍ以上の厚さの第１のシリコン酸化膜あるいはシリコン酸窒化膜を形成する工程と、
前記第１の熱処理後に、前記金属酸化膜上に電界効果トランジスタのゲート電極を形成する工程と、
前記シリコン基板にイオンを注入することによって、ソース・ドレイン領域を形成する工程と、
第２の温度での第２の熱処理によって、前記ソース・ドレイン領域を活性化する工程とを有し、
前記第１の温度は前記第２の温度よりも高い温度であることを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項７】
請求項６記載の半導体装置の製造方法において、さらに前記第１の熱処理前に、前記金属酸化膜上に第２のシリコン酸化膜を形成する工程を有することを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項８】
請求項６記載の半導体装置の製造方法において、さらに前記金属酸化膜を形成する工程の前に、前記シリコン基板を窒化することによってシリコン窒化膜を形成する工程を有することを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項９】
請求項６記載の半導体装置の製造方法において、さらに前記金属酸化膜を形成する工程の前に、前記シリコン基板上にシリサイド膜を形成する工程を有することを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項１０】
請求項６記載の半導体装置の製造方法において、前記第２の温度は８００℃以上であることを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項１１】
請求項６記載の半導体装置の製造方法において、前記第１の熱処理は、減圧酸素雰囲気あるいは希釈酸素雰囲気中で行うことを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項１２】
請求項６記載の半導体装置の製造方法において、前記第１の熱処理は、Ｏ２もしくはＮ２ＯもしくはＮＯを用いて行うことを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項１３】
請求項６記載の半導体装置の製造方法において、さらに前記金属酸化膜と前記ゲートとの反応によって前記金属酸化膜と前記ゲートとの間に０．５ｎｍ以上の厚さの第２の酸化シリコン膜を形成する工程を有することを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項１４】
請求項６記載の半導体装置の製造方法において、前記活性化する工程は、窒素アニールによって行われることを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項１５】
半導体装置の製造方法において、
第１の温度での第１の熱処理によって、シリコン基板上に０．５ｎｍ以上の厚さのシリコン酸化膜またはシリコン酸窒化膜を形成する工程と、
前記第１の熱処理後に、前記シリコン酸化膜または前記シリコン酸窒化膜上にシリコン酸化膜よりも高い誘電率を有する金属酸化膜を形成する工程と、
前記金属酸化膜上に、ゲート電極を形成する工程と、
シリコン基板にイオンを注入することによって、ソース・ドレイン領域を形成する工程と、
第２の温度での第２の熱処理によって、前記ソース・ドレイン領域を活性化する工程とを有し、
前記第１の温度は前記第２の温度よりも高い温度であることを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項１６】
請求項１５記載の半導体装置の製造方法において、さらに前記ゲート電極の形成工程前に、前記金属酸化膜上に第２のシリコン酸化膜を形成する工程を有することを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項１７】
請求項１５記載の半導体装置の製造方法において、前記シリコン酸窒化膜を形成する工程は、前記シリコン基板を窒化する工程と前記シリコン基板を酸化する工程とを含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項１８】
請求項１５記載の半導体装置の製造方法において、前記シリコン酸窒化膜を形成する工程は、シリコン基板をＮＯまたはＮ２Ｏ雰囲気中で熱処理する工程を含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項１９】
請求項１５記載の半導体装置の製造方法において、前記第２の温度は、８００℃以上であることを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項２０】
請求項１５記載の半導体装置の製造方法において、前記活性化する工程は、窒素アニールによって行われることを特徴とする半導体装置の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年6月16日(2004.6.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
上側エッジ、下側エッジ、対向する側部エッジ、および前記下側エッジに取り付けられかつバックプレーン・ボードの電気コネクタに結合可能に受け入れられる少なくとも１つのエッジ・コネクタを有し、前記サーキットカードの前記下側エッジおよび前記エッジ・コネクタの一方が最も下の長手方向の軸を形成している、サーキットカードの排出機構において、
前記サーキットカードの側部エッジに旋回可能に取り付けられ、前記エッジ・コネクタが前記電気コネクタに嵌められた第１の位置と、前記エッジ・コネクタが引き抜かれた第２の位置とに移動することができ、入力を受ける上側操作部、および前記バックプレーン・ボードと接触する下側突合せ部を有する、少なくとも１つの細長いレバーと、
前記細長いレバーを前記サーキットカードに旋回可能に固定する取付け手段であって、前記少なくとも１つのレバーが、前記第１の位置から前記第２の位置に旋回されたときに、前記下側突合せ部が前記サーキットカードの前記最も下の長手方向の軸よりも下に延びるように、前記サーキットカードに取り付けられることにより、前記サーキットカードが前記バックプレーン・ボードに取り付けられている状態で前記レバーが前記第１の位置から前記第２の位置に旋回されたときに、前記下側突合せ部が前記バックプレーン・ボードと係合して前記サーキットカードに上向きの力を及ぼす、取付け手段と、
を備えることを特徴とするサーキットカードの排出機構。
【請求項２】
バックプレーン・ボードからサーキットカードを排出する方法であって、該サーキットカードは、前記バックプレーン・ボードに取り付けられた電気コネクタに結合可能に受け入れられるエッジ・コネクタを有し、該方法は、
前記サーキットカードの側部エッジに旋回可能なレバーを設けるステップであって、該レバーは、前記バックプレーン・ボードと接触する下側突合せ部を有し、該突合せ部を前記バックプレーン・ボードに対して移動させて持ち上げ力を提供する、ステップと、
前記レバーを、前記エッジ・コネクタが前記バックプレーン・ボードの前記電気コネクタに嵌められた第１の位置から、前記エッジ・コネクタが前記電気コネクタから引き抜かれた第２の位置に旋回させるステップと、
を含むことを特徴とするバックプレーン・ボードからサーキットカードを排出する方法。
【請求項３】
サーキットカードを移動させてバックプレーン・ボードとサーキットカードの電気接続を解除する機構であって、
上側操作部および下側突合せ部を有し、該下側突合せ部が前記サーキットカードの下側エッジに隣接することができる距離だけ下方に延びるレバーと、
該レバーの前記上側操作部と下側突合せ部の間に配置されて、前記サーキットカードに前記レバーを取り付けるピボットと、
を備え、該ピボットから前記下側突合せ部までの前記レバーの長さが前記ピボットから前記バックプレーン・ボードまでの長さよりも長く、前記レバーが前記ピボットを中心に回転すると、取り付けられている前記サーキットカードが持ち上げられて、前記サーキットカードと前記バックプレーン・ボードとの電気接続が解除されることを特徴とするバックプレーン・ボードとのサーキットカードの電気接続を解除する機構。
【手続補正書】
【提出日】平成17年5月27日(2005.5.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
情報技術において、ユーザ・インタフェースとは、表示画面と、キーボードと、マウスと、ライトペンと、デスクトップの外観と、照明文字と、ヘルプ・メッセージと、アプリケーション・プログラムまたはウェブ・サイトが対話を促しそれに応えるものなどを含みうる、人間が対話あるいは相互作用をするために情報装置へと組み込まれたあらゆるものを含む。ＰＣまたはノートブックに接続された装置（例えば、プリンタやＣＤライタ）に取付けられる装置は、例えばオンライン／オフライン・ボタンやＬＣＤ上のグラフィカル・メッセージ（例えば、「紙詰まり」や「用紙切れ」のメッセージ）を含むきわめて制限されたユーザ・インタフェースを有する傾向がある。そのような接続された装置は、主に、実行する操作（例えば、画像の印刷や特定画像のＣＤへのコピー）に関してＰＣまたはノートブック型コンピュータのユーザ・インタフェースに依存する。ディジタル・カメラで撮影した画像を印刷したり、ＣＤライタを介してディジタル・カメラからＣＤに画像を転送したりする試みによって、少なくともそのディジタル・カメラで撮影した画像を使用するフォトプリンタ、ＣＤライタ、または類似の装置に接続されたＰＣにディジタル・カメラを接続しなければならない場合には、ケーブルと装置とのもつれが生じる。ディジタル・カメラで撮影した画像をダウンロードまたは使用する簡単な方法が必要である。
【手続補正書】
【提出日】平成17年7月19日(2005.7.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ノード上へ信号を駆動するよう構成された出力ドライバ回路の出力インピーダンスを、出力ドライバ制御回路を用いて可変に調整する方法であって、該出力ドライバ制御回路は、複数の抵抗性デバイスを備えており、該抵抗性デバイスのそれぞれは、第１の電源（ＶＤＤ）および前記ノード（１０４）の間にプログラム可能なように電気的に並列接続可能であり、該方法は、
前記第１の電源と前記ノードとの間の第１の組の抵抗性デバイス（１２１）の電気的接続を、２進増分的な方法でプログラムするステップと、
前記第１の組における前記抵抗性デバイスのすべてがイネーブルされた時だけ、前記第１の電源と前記ノードとの間の第２の組の抵抗性デバイス（１２２）の電気的接続を、２進増分的な方法でプログラムするステップと、
を含む方法。
【請求項２】
先にプログラムされた前記第１および第２の組（１２１，１２２）における抵抗性デバイスのすべてがイネーブルされたときだけ、前記第１の電源と前記ノードとの間に、抵抗性デバイスの１以上の追加の組（１２３）の電気的な接続を、２進増分的な方法でプログラムするステップを含む、
請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記第１の電源と前記ノードとの間に、前記複数の抵抗性デバイスのうちの少なくとも１つ（１２０，２３６，２３８）を、常時電気的に接続するステップをさらに含む、
請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
信号をノード上へ駆動するよう構成された可変インピーダンス出力ドライバ回路のための制御回路であって、
第１の電源（ＶＤＤ）と前記ノードとの間に、プログラム可能なように電気的に接続可能な第１の組の抵抗性デバイスと、
前記第１の電源と前記ノードとの間に、プログラム可能なように電気的に接続可能な第２の組の抵抗性デバイスと、
前記第１の電源と前記ノードとの間の前記第１の組の抵抗性デバイスの電気的接続を、２進増分的な方法でプログラムし、前記第１組の前記抵抗性デバイスのすべてが前記第１の電源と前記ノードとの間に電気的に接続された時だけ、前記第１の電源と前記ノードとの間の前記第２の組の抵抗性デバイスの電気的接続を、２進増分的な方法でプログラムするコントローラと、
を備える、制御回路。
【請求項５】
前記第１の電源と前記ノードとの間に、プログラム可能なように電気的に接続可能な抵抗性デバイスの１以上の追加の組をさらに備え、
先にプログラムされた前記第１および第２の組の前記抵抗性デバイスのすべてが、前記第１の電源と前記ノードとの間に電気的に接続された時だけ、前記コントローラは、前記第１の電源と前記ノードとの間の前記抵抗性デバイスの１以上の追加の組のうちの少なくとも１つの電気的な接続を、２進増分的な方法でプログラムする、
請求項４に記載の制御回路。
【請求項６】
少なくとも１つの抵抗性デバイスは、前記第１の電源と前記ノードとの間に常時電気的に接続される、
請求項４または５に記載の制御回路。
【請求項７】
前記第１の組における抵抗性デバイスは、抵抗のバイナリ加重された符号を実現する、
請求項４から６のいずれかに記載された制御回路。
【請求項８】
前記第２の組における抵抗性デバイスは、抵抗のバイナリ加重された符号を実現する、
請求項４から７のいずれかに記載された制御回路。
【請求項９】
前記１以上の追加の組の少なくとも１つにおける抵抗性デバイスは、抵抗のバイナリ加重された符号を実現する、
請求項５から８のいずれかに記載された制御回路。
【請求項１０】
前記第１の組、前記第２の組、前記１以上の追加の組のそれぞれにおける前記抵抗性デバイスは、電界効果トランジスタを含む、
請求項５から９のいずれかに記載された制御回路。
【手続補正書】
【提出日】平成17年6月27日(2005.6.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
集積回路のノードにおけるディジタル信号の遷移エッジのスルー・レートを制御する方法であって、
第１のプレドライブ・デバイスを流れる第１の電流を調節して、該第１のプレドライブ・デバイスによって生成される第１のプレドライブ信号のエッジの第１の所望のスルー・レートを達成するステップと、
前記第１のプレドライブ信号を用いて第１の出力ドライブ・デバイスを制御して、前記ノード上に前記ディジタル信号を駆動するステップと、
を含む、方法。
【請求項２】
前記調節は、前記第１のプレドライブ・デバイスの第１のソース抵抗を調節して、前記第１の電流を制御することを含む、
請求項１に記載の方法。
【請求項３】
さらに、
第２のプレドライブ・デバイスを流れる第２の電流を調節して、該第２のプレドライブ・デバイスによって生成される第２のプレドライブ信号のエッジの第２の所望のスルー・レートを達成するステップと、
前記第２のプレドライブ信号を用いて第２の出力ドライブ・デバイスを制御して、前記ノード上に前記ディジタル信号を駆動するステップと、
を含む、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
前記調節は、前記第２のプレドライブ・デバイスの第２のソース抵抗を調節して、前記第２の電流を制御することを含む、
請求項２または３に記載の方法。
【請求項５】
集積回路のノードにおけるディジタル信号の遷移エッジのスルー・レートを制御する装置であって、
第１のプレドライブ信号を生成する第１のプレドライブ・デバイスと、
前記第１のプレドライブ・デバイスを流れる第１の電流を制御するプレドライブ・デバイス・コントローラと、
前記第１のプレドライブ信号によって制御可能な第１の出力ドライブ・デバイスであって、前記ノード上に前記ディジタル信号を生成する第１の出力ドライブ・デバイスと、
を備える、装置。
【請求項６】
前記プレドライブ・デバイス・コントローラは、前記第１のプレドライブ・デバイスの第１のソース抵抗を制御するソース抵抗コントローラを含む、
請求項５に記載の装置。
【請求項７】
前記ソース抵抗コントローラは、前記第１のプレドライブ・デバイスの前記第１のソース抵抗を制御するプログラマブル電流源を含む、
請求項６に記載の装置。
【請求項８】
前記プログラマブル電流源は、外部抵抗を介して調節可能である、
請求項７に記載の装置。
【請求項９】
さらに、
１つまたは複数の追加のプレドライブ信号をそれぞれが生成する１つまたは複数の追加のプレドライブ・デバイスであって、前記プレドライブ・デバイス・コントローラが、該１つまたは複数の追加のプレドライブ・デバイスを流れる１つまたは複数の対応する電流を制御する、プレドライブ・デバイスと、
前記１つまたは複数の追加のプレドライブ信号のうちの少なくとも１つによってそれぞれが制御可能な１つまたは複数の追加の出力ドライブ・デバイスであって、前記ノード上に前記ディジタル信号を生成する、出力ドライブ・デバイスと、
を備える、請求項５から８のいずれかに記載の装置。
【請求項１０】
前記１つまたは複数の追加のプレドライブ・デバイスの対応するソース抵抗は、前記第１のプレドライブ・デバイスの前記第１のソース抵抗とは異なる、
請求項９に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成17年3月31日(2005.3.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
水栓本体に管状のスパウトの基部を接続し、このスパウトの他端部に吐水部を固定し、この吐水部はスパウトの軸方向に吐水を行なうと共に散水形態を切り替える切替手段を備えた水栓において、前記吐水部には、前記スパウト内に収納された可撓性のフレキホースが接続されており、前記スパウトから吐水部を脱着可能としたことを特徴とする水栓。
【請求項２】
前記スパウトはグースネック形状であることを特徴とする請求項１に記載の水栓。
【請求項３】
前記吐水部は、泡沫吐水もしくはシャワー吐水のいずれかを選択して吐水する切替手段を備えていることを特徴する請求項１または２に記載の水栓。
【請求項４】
前記切替手段は、前記スパウトの軸方向に吐水部を動かすことで切り替えを行なうことを特徴とする請求項３に記載の水栓。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明の請求項１では、水栓本体に管状のスパウトの基部を接続し、このスパウトの他端部に吐水部を固定し、この吐水部はスパウトの軸方向に吐水を行なうと共に散水形態を切り替える切替手段を備えた水栓において、前記吐水部には、前記スパウト内に収納された可撓性のフレキホースが接続されており、前記スパウトから吐水部を脱着可能としたことを特徴とする水栓とした。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明の請求項２では、前記スパウトはグースネック形状であることを特徴とする請求項１に記載の水栓とした。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明の請求項３では、前記吐水部は、泡沫吐水もしくはシャワー吐水のいずれかを選択して吐水する切替手段を備えていることを特徴する請求項１または２に記載の水栓とした。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
本発明の請求項４では、前記切替手段は、前記スパウトの軸方向に吐水部を動かすことで切り替えを行なうことを特徴とする請求項３に記載の水栓とした。
【手続補正書】
【提出日】平成17年3月3日(2005.3.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
Ｖ：１．０％以下
必要に応じて添加される合金成分であり、Ｚｒと同様に微細なＣｕリッチ相の核サイトとして有効な炭窒化物となって析出する。しかし、Ｖの過剰添加は製造性や加工性に悪影響を及ぼすので、Ｖを添加する場合には含有量の上限を１．０％に規制する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
均熱時間は、０秒以上あれば目的は達成されるが、より長時間均熱保持しても良い。しかし、過度に長時間加熱すると、被削性を発現するＣｕリッチ相の大きさが小さくなり、また量も少なくなって被削性効果は薄れる。さらに、加熱保持中に多量の酸化スケールが生成して肉圧ロスを生じるので、均熱時間の上限は１０分にすることが好ましい。
加熱方法は、加工部位で均一な温度分布が得られる方法であれば十分である。通電加熱や誘導加熱が望ましい。素材が目的の温度に均一に加熱されることが満たされれば、金型全体を加熱炉で加熱する方法でも良い。
なお、上記したように、ＳｎまたはＩｎが濃化したＣｕリッチ相を析出させたステンレス鋼はプレス成形後の形状凍結性に優れている。したがって、必ずしも熱間でプレス成形する必要はなく、冷間でプレス成形した後、通常の切削加工を行えば、被削性にも優れているので寸法精度の良い成形品が得られることは言うまでもない。
【手続補正書】
【提出日】平成16年5月26日(2004.5.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４】
Ｆｅの一部に代えて、Ｔｉ、Ｎｂ、Ｖ及びＺｒのうちの１種以上を合計で０．００５〜１％を含有する請求項１〜３のいずれかに記載の熱延鋼板。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項８】
請求項１〜６のいずれかに記載の化学組成を有する鋼を連続鋳造するに際し、溶鋼の凝固開始から凝固殻表面から１０ｍｍの位置の凝固部が１３００℃になるまでの間を、凝固殻の表面から１０ｍｍ以内の凝固殻を冷却速度が１０℃／秒以上となるように冷却して鋳片とし、次いで鋳片を９５０〜１２８０℃の温度範囲で粗圧延した後、（Ａｅ3点＋１００℃）〜Ａｅ3点の温度範囲で合計圧下率が７０％以上、仕上げ温度Ａｅ3点以上で、かつ下記式（４）及び（５）を満足する条件で熱間仕上げ圧延し、仕上げ圧延終了後２秒以内に平均冷却速度３０℃／秒以上で６００〜８００℃の温度範囲まで水冷し、次いで３〜１５秒の間空冷した後、さらに平均冷却速度３０℃／秒以上で水冷して巻き取ることを特徴とする熱延鋼板の製造方法。
△ＦＴ｛Σ（０．８n-i×εi）｝≦３００  ・・・（４）
△ＦＴ≦１００℃                    ・・・ (５)
ここで、
△ＦＴ：熱間仕上げ圧延終了温度の変動幅
ｎ：整数で、被圧延材の仕上げ圧延スタンドの出側温度がＡｅ3点〜                Ａｅ3点＋１００℃にある仕上げ圧延スタンド数
εi：ｎ台の圧延スタンドのうちの上流からｉ番目のスタンドにおけ                る圧下時の真歪み
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
第１群：Ｂ：０．０００２〜０．０１％、
第２群：Ｔｉ、Ｎｂ、Ｖ及びＺｒ：１種以上を合計で０．００５〜１．０％、
第３群：Ｃｒ、Ｍｏ、Ｃｕ及びＮｉ：１種以上を合計で０．００５〜３．０％、
第４群：Ｃａ：０．０００１〜０．００５％及びＲＥＭ（希土類元素）：０．          ０００１〜０．２０％のうちの１種以上
（３）上記（１）または（２）に記載の化学組成を有する鋼を連続鋳造するに際し、溶鋼の凝固開始から凝固殻表面から１０ｍｍの位置の凝固部が１３００℃になるまでの間を、凝固殻の表面から１０ｍｍ以内の凝固層が冷却速度１０℃／秒以上となるように冷却して鋳片とし、次いで鋳片を９５０〜１２８０℃の温度範囲で粗圧延した後、（Ａｅ3点＋１００℃）〜Ａｅ3点の温度範囲で合計圧下率が７０％以上、仕上げ温度がＡｅ3点以上で、かつ下記式（１）及び（２）を満足する条件、又は下記式（３）を満足する条件で仕上げ圧延し、仕上げ圧延終了後２秒以内に平均冷却速度３０℃／秒以上で６００〜８００℃の温度範囲まで水冷し、次いで３〜１５秒の間空冷した後、さらに平均冷却速度３０℃／秒以上で水冷して巻き取ることを特徴とする熱延鋼板の製造方法。
△ＦＴ≦０．８×△ＲＴ             ・・・ (１)
５０℃＜△ＦＴ≦１００℃           ・・・ (２)
△ＦＴ≦５０℃                     ・・・（３）
ここで、△ＦＴは熱間での仕上げ圧延完了温度の変動幅（℃）であり、△ＲＴは熱間での粗圧延完了温度の変動幅（℃）である。
（４）上記（３）と同様に、粗圧延後に仕上げ圧延して熱延鋼板を製造する方法であって、上記（１）または（２）に記載の化学組成を有する鋼を連続鋳造するに際し、鋳片を粗圧延した後、（Ａｅ3点＋１００℃）〜Ａｅ3点の温度範囲で合計圧下率が７０％以上、仕上げ温度Ａｅ3点以上で、かつ下記式（４）及び（５）を満足する条件で熱間仕上げ圧延し、仕上げ圧延終了後２秒以内に平均冷却速度３０℃／秒以上で６００〜８００℃の温度範囲まで水冷し、次いで３〜１５秒の間空冷した後、さらに平均冷却速度３０℃／秒以上で水冷して巻き取ることを特徴とする熱延鋼板の製造方法。
△ＦＴ｛Σ（０．８n-i×εi）｝≦３００  ・・・（４）
△ＦＴ≦１００℃                    ・・・ (５)
ここで、△ＦＴは熱間仕上げ圧延終了温度の変動幅（℃）であり、ｎは整数で、被圧延材の仕上げ圧延スタンドの出側温度がＡｅ3点〜Ａｅ3点＋１００℃にある仕上げ圧延スタンド数を示し、εiはｎ台の圧延スタンドのうちの上流からｉ番目のスタンドにおける圧下時の真歪みを示している。
（５）上記（３）または（４）に記載の製造方法で巻取った熱延鋼板を圧下率５０％以上で冷間圧延し、次いで６００〜９５０℃の温度範囲内で焼鈍することを特徴とする冷延鋼板の製造方法。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７１】
図７に示す結果から、△ＦＴとεi の関係が下記式（４）及び（５）を満たすようにすることで、熱延鋼板のＴＳ×ＥＬバランスとＴＳ×λバランスを高めることができる。これは、この条件を満たすように熱間圧延することにより、比較的容易にオーステナイト域で歪みを効果的に累積させることができるからである。
△ＦＴ｛Σ（０．８n-i×εi）｝≦３００  ・・・（４）
△ＦＴ≦１００℃                    ・・・ (５)
さらに、この熱延鋼板を適正な条件で酸洗し冷間圧延の後、焼鈍することによって、ＴＳ×ＥＬバランス及びＴＳ×ｒバランスが良好な冷延鋼板が得られることを確認している。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２２】
【実施例】
本発明の鋼板の効果を確認するために、表２、３に示す化学組成の鋼種ＡＡ〜ＣＤを真空溶解炉を用いて鋳造し、熱間鍛造により７０ｍｍ厚の鋳片を作製した。これらの鋳片を用いて熱延鋼板を製造した。なお、表２、３には参考値として液相線温度（ＴＬ）、Ａｅ3点の温度を示している。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２３】
【表２】
2003293083.tif 000001
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２４】
【表３】
2003293083.tif 000002
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２９】
【表４】
2003293083.tif 000003
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１３０】
【表５】
2003293083.tif 000004
【手続補正書】
【提出日】平成17年2月15日(2005.2.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
分割構成とする場合の好ましい態様としては、たとえば図４に示すように、回転刃Ａ（３１）の幅方向に対し斜めに延びる刃先３２が回転刃Ａ（３１）の周方向に多数配列された刃先列が、回転刃Ａ（３１）の幅方向に複数段設けられている構造において、隣接する刃先列の刃先３２の延設方向が同じ方向に設定されており、隣接する刃先列の刃先３２の位置が周方向に約半ピッチずつずらされた構成を採用することができる。あるいは、たとえば図５に示すように、隣接する刃先列の刃先３３ａ、３３ｂの延設方向が互いに異なる方向に設定された回転刃Ａ（３４）とすることもでき、この場合には、図示の如く、隣接刃先３３ａ、３３ｂにより山形が形成されるようにすることが好ましい。一枚刃先の場合にも、複数段の刃先の場合にも、回転刃Ａのトータル幅Ｗ（図３に図示）としては、１０〜１５０ｍｍの範囲、より好ましくは３０〜１００ｍｍの範囲内にあることが望ましい。刃先を斜めにする場合には、回転刃Ａの幅方向（回転軸方向）に対する傾き角θは、１０〜２０度の範囲の角度、とくに１７度近傍の角度とすることが好ましい。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
また、各刃先３２の先端側の側面には、図６に示すように、膨出部３５を形成しておくことも好ましい。このような膨出部３５を設けておけば、とくに、掘削される溝のコーナー部をより円滑に削り取ることが可能になり、断面角形の溝のコーナー部をよりシャープに形成することが可能になる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
上記のような本発明に係るコンクリート用溝掘削装置を用いて、コンクリート面に対して次のように溝が掘削される。
図７は、たとえば、コンクリート層４１の表面にモルタル層４２が設けられている場合を示している。一対の回転刃Ｂにより一対の切り込みが入れられ、それと実質的に同時に、あるいは、切り込み形勢後に、回転刃Ａにより溝４３が掘削される。切り込みが入ると、切り込み間のモルタル層４２は極めて容易にはつり取ることができるので、モルタル層４２をはつり取った後にコンクリート層４１に対して回転刃Ａで溝４３を掘削してもよく、回転刃Ａでモルタル層４２とコンクリート層４１を同時に掘削してもよい。さらに、一対の回転刃Ｂを使用することなく、いきなり回転刃Ａでモルタル層４２とコンクリート層４１を同時に掘削することも可能である。いずれの場合にあっても、コンクリート面に対し回転刃Ａを１回走行させるだけで、目標とする幅、深さの溝４３を掘削することが可能である。溝４３の深さは、回転刃Ａの押し付け力や、回転刃Ａの外径、前述の前輪９の高さの調整等によって、容易に調整できる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
このように形成された溝４３に対し、この部分の補修や補強を行うために、補強材としての補強板（たとえば、ＦＲＰ板）や鉄筋を埋め込むことができ、補修材としてたとえばモルタルを埋め込むことができる。たとえば図８に示すように、断面長方形の帯状に長く延びる補強板５１を埋め込む場合には、補強板５１の背面に多目に接着剤５２を塗布し、接着剤５２が塗布された面を溝４３の底面に向けて押し込めば、たとえば図９に示すように、多目に塗布されていた接着剤５２が溝４３内に充満されるとともに、補強板５１の表面側にも回り込み、目標とする、補強板５１が埋設された補強形態が自然に完成する。図９に示すようにモルタル層４２がある場合には、その後にモルタルで溝４３全体を埋めてもよいし、モルタル化粧の必要がない場合にはそのままでもよい。また、接着剤５２をより多目に塗布しておけば、回り込んだ接着剤５２で溝４３内の全体を埋め尽くすことも可能であり、その場合にはモルタル化粧の必要は無くなる。さらに、モルタル層が元々無い場合には、コンクリート面に対する溝掘削、および、上記のような接着剤塗布補強板５１の押し込みだけで作業を完了させることが可能である。
【手続補正書】
【提出日】平成17年3月22日(2005.3.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
クランク軸を車両幅方向に指向させて、エンジン前側に複数の気筒を備え、その気筒中心軸が前上がり傾斜となるようにシリンダおよびシリンダヘッドを搭載した多気筒エンジンであって、車両側面視で気筒中心軸線より上方側に吸気系を配し、該気筒中心軸線より下方側に排気系を配する車両用エンジンにおいて、
シリンダヘッドおよびヘッドカバーを含むヘッド部の気筒中心軸線より上方の吸気系側に、排気ポートに連通する二次エア供給経路およびブリーザ経路を配設することを特徴とする車両用エンジン。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項６】
前記ヘッドカバー内に二次エア供給経路の一部とブリーザ経路の一部とを形成し、前記二次エア供給経路の一部と前記ブリーザ経路の一部は気筒中心軸方向に並設されることを特徴とする請求項３乃至５のうちの何れか一項に記載の車両用エンジン。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
【課題を解決するための手段】
本発明は、車両用エンジンに係り、クランク軸を車両幅方向に指向させて、エンジン前側に複数の気筒を備え、その気筒中心軸が前上がり傾斜となるようにシリンダおよびシリンダヘッドを搭載した多気筒エンジンであって、車両側面視で気筒中心軸線より上方側に吸気系を配し、該気筒中心軸線より下方側に排気系を配する車両用エンジンにおいて、シリンダヘッドおよびヘッドカバーを含むヘッド部の気筒中心軸線より上方の吸気系側に、排気ポートに連通する二次エア供給経路およびブリーザ経路を配設することを特徴とするものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
また、本発明は、前記ヘッドカバー内に二次エア供給経路の一部とブリーザ経路の一部とを形成し、前記二次エア供給経路の一部と前記ブリーザ経路の一部は気筒中心軸方向に並設することが好ましい。
また、本発明は、前記エンジンの構成を複数の気筒が並設されたものであって、前記二次エア供給経路は平面視でヘッド部側方から各々の点火栓の中心を通る中心線に向かい配設され、シリンダヘッド上部の点火栓の間より排気ポートに向かい該排気ポートと連通するように設けることが好ましい。
また、本発明は、前記ヘッドカバーの上部にブリーザ経路を構成するブリーザ室をカム軸心方向に沿って延設し、前記ブリーザ室のカム軸心方向に沿った両端部にヘッドカバーへの取付け部材を設けることが好ましい。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
車両の中央部には、車体フレーム２の主部を構成するアッパーチューブ２６がヘッドパイプ２１の下側後方より後輪８の上方に亘り延設されている。前記アッパーチューブ２６は、前記ロアダウンチューブ２５の前端部付近に接続され、その接続部から後方に向かいやや下方に傾斜して延設され、後輪８の前側より上方に傾斜して形成されている。前記アッパーチューブ２６の略中央部の下側にエンジンが垂架されている。
【手続補正６】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図５】
2003293761.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成17年1月6日(2005.1.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
受けレールのスライド溝に対し、ドアチェーンを、該ドアチェーン先端のフックボルトを介して掛け止めるドアチェーン装置において、前記スライド溝の係止側端部に、フックボルトを挿脱する第２挿入孔を形成するとともに、前記受けレールに、キーの操作により第２挿入孔を選択的に閉鎖又は開放するロック機構を設けたことを特徴とするドアチェーン装置。
【請求項２】
ロック機構のキー挿入穴を、キー挿入穴に挿入したキーの保持片側がドア表面から離れる方向に傾斜して形成したことを特徴とする請求項１記載のドアチェーン装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、本発明のドアチェーン装置は、受けレールのスライド溝に対し、ドアチェーンを、該ドアチェーン先端のフックボルトを介して掛け止めるドアチェーン装置において、前記スライド溝の係止側端部に、フックボルトを挿脱する第２挿入孔を形成するとともに、前記受けレールに、キーの操作により第２挿入孔を選択的に閉鎖又は開放するロック機構を設けたことを特徴とする。
この場合、ロック機構のキー挿入穴を、キー挿入穴に挿入したキーの保持片側がドア表面から離れる方向に傾斜して形成することができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
一方、ロック機構７はシリンダー錠からなり、受けレール１の端部に内挿されている。
このロック機構７は、第２挿入孔５を閉鎖するカム片７１を備え、キー６の回動操作によって、このカム片７１を閉鎖位置と開放位置と選択的に移動させることができる。
また、このロック機構７は、カム片７１が開放位置にあるときはキー６が抜けずにロック機構７に係着された状態を保持し、カム片７１が閉鎖位置に移動したときにロック機構７から抜ける構造になっている。
この場合、ロック機構７のキー挿入穴を、キー挿入穴に挿入したキー６の保持片６ａ側がドアＤの表面から離れる方向に傾斜して形成している。
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2003293636.tif 000001
【手続補正５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図３】
2003293636.tif 000002