【手続補正書】
【提出日】平成17年6月21日(2005.6.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被処理基板を保持する基板保持手段と、
前記基板保持手段で保持された被処理基板を回転させる基板回転手段と、
前記被処理基板上に処理液を供給する処理液供給手段と、
前記基板保持手段で保持された被処理基板の周囲に配置され、前記被処理基板から飛散した前記処理液を分離回収するように設けられた回収槽を有する処理液回収手段とを備え、
前記処理液回収手段は、前記処理液をある回収槽で回収するときに他の回収槽の入り口を閉じた状態で回収することを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
被処理基板を保持する基板保持手段と、
前記基板保持手段で保持された被処理基板を回転させる基板回転手段と、
前記被処理基板上に処理液を供給する処理液供給手段と、
前記基板保持手段で保持された被処理基板の周囲に配置され、前記被処理基板から飛散した前記処理液を分離回収するように設けられた回収槽を有する処理液回収手段とを備え、
前記処理液回収手段は、フェンスを有しており、所定のフェンスを相対的に上方に位置させることによって当該処理液を回収する前記回収槽の導路を形成することを特徴とする基板処理装置。
【請求項３】
前記基板保持手段で保持される前記被処理基板の位置を、処理液を回収していないときの前記フェンスの位置よりも上に位置させることを特徴とする請求項２に記載の基板処理装置。
【請求項４】
前記フェンスが前記回収槽の入り口を閉じるように前記被処理基板に近いほうから順次重ね合って配設されていることを特徴とする請求項２または３に記載の基板処理装置。
【請求項５】
前記フェンスは、前記被処理基板から飛散した前記処理液を反射して選択された前記回収槽内へ導くように湾曲された反射面とされてなる先端部を有することを特徴とする請求項２〜４のいずれか１項に記載の基板処理装置。
【請求項６】
保持された被処理基板を回転させながら前記被処理基板上に処理液を供給する工程と、
前記被処理基板の周囲に配置され、前記被処理基板から飛散した前記処理液を分離回収するように設けられた回収槽を有する処理液回収手段を用いて、前記処理液をある回収槽で回収するときに他の回収槽の入り口を閉じた状態として、前記ある回収槽のみにより回収する工程と
を有することを特徴とする基板処理方法。
【請求項７】
保持された被処理基板を回転させながら前記被処理基板上に処理液を供給する工程と、
前記被処理基板の周囲に配置され、前記被処理基板から飛散した前記処理液を分離回収するように設けられた回収槽を有する処理液回収手段を用いて、当該処理液を回収する工程とを有し、
前記処理液回収手段は、フェンスを有しており、
前記処理液を回収する工程では、前記処理液回収手段の所定のフェンスを相対的に上方に位置させることによって当該処理液を回収する前記回収槽の導路を形成して当該処理液を回収することを特徴とする基板処理方法。
【請求項８】
保持された前記被処理基板の位置を、前記処理液を回収していないときの前記フェンスの位置よりも上に位置させることを特徴とする請求項７に記載の基板処理方法。
【請求項９】
前記フェンスが前記回収槽の入り口を閉じるように前記被処理基板に近いほうから順次重ね合って配設されていることを特徴とする請求項７または８に記載の基板処理方法。
【請求項１０】
前記フェンスは、前記被処理基板から飛散した前記処理液を反射して選択された前記回収槽内へ導くように湾曲された反射面とされてなる先端部を有することを特徴とする請求項７〜９のいずれか１項に記載の基板処理方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明の基板処理装置は、被処理基板を保持する基板保持手段と、前記基板保持手段で保持された被処理基板を回転させる基板回転手段と、前記被処理基板上に処理液を供給する処理液供給手段と、前記基板保持手段で保持された被処理基板の周囲に配置され、前記被処理基板から飛散した前記処理液を分離回収するように設けられた回収槽を有する処理液回収手段とを備え、前記処理液回収手段は、前記処理液をある回収槽で回収するときに他の回収槽の入り口を閉じた状態で回収することを特徴とするものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明の基板処理装置の他の様態は、被処理基板を保持する基板保持手段と、前記基板保持手段で保持された被処理基板を回転させる基板回転手段と、前記被処理基板上に処理液を供給する処理液供給手段と、前記基板保持手段で保持された被処理基板の周囲に配置され、前記被処理基板から飛散した前記処理液を分離回収するように設けられた回収槽を有する処理液回収手段とを備え、前記処理液回収手段は、フェンスを有しており、所定のフェンスを相対的に上方に位置させることによって当該処理液を回収する前記回収槽の導路を形成することを特徴とするものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
また、本発明の基板処理装置の更に他の様態は、前記フェンスが前記回収槽の入り口を閉じるように前記被処理基板に近いほうから順次重ね合って配設されていることを特徴とするものである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
本発明の基板処理方法は、保持された被処理基板を回転させながら前記被処理基板上に処理液を供給する工程と、前記被処理基板の周囲に配置され、前記被処理基板から飛散した前記処理液を分離回収するように設けられた回収槽を有する処理液回収手段を用いて、前記処理液をある回収槽で回収するときに他の回収槽の入り口を閉じた状態として、前記ある回収槽のみにより回収する工程とを有することを特徴とするものである。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
本発明の基板処理方法の他の様態は、保持された被処理基板を回転させながら前記被処理基板上に処理液を供給する工程と、前記被処理基板の周囲に配置され、前記被処理基板から飛散した前記処理液を分離回収するように設けられた回収槽を有する処理液回収手段を用いて、当該処理液を回収する工程とを有し、前記処理液回収手段は、フェンスを有しており、前記処理液を回収する工程では、前記処理液回収手段の所定のフェンスを相対的に上方に位置させることによって当該処理液を回収する前記回収槽の導路を形成して当該処理液を回収することを特徴とするものである。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
また、本発明の基板処理方法の更に他の様態は、保持された前記被処理基板の位置を、前記処理液を回収していないときの前記フェンスの位置よりも上に位置させることを特徴とするものである。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
また、本発明の基板処理方法の更に他の様態は、前記フェンスが前記回収槽の入り口を閉じるように前記被処理基板に近いほうから順次重ね合って配設されていることを特徴とするものである。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
また、本発明の基板処理方法の更に他の様態は、前記フェンスは、前記被処理基板から飛散した前記処理液を反射して選択された前記回収槽内へ導くように湾曲された反射面とされてなる先端部を有することを特徴とするものである。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】削除
【補正の内容】