【手続補正書】
【提出日】令和3年7月30日(2021.7.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０５】
本発明の様々な実施形態を説明した。これらの実施形態及び他の実施形態は、以下の特許請求の範囲に含まれる。
なお、以上の各実施形態に加えて以下の態様について付記する。
（付記１）
複数のチャネルによって分離された複数の隆起したセルを含む研磨層を備え、
前記複数の隆起したセルのそれぞれは、
複数の微細構造を含む微細構造化作業表面であって、前記複数の微細構造の頂部が上面を画定し、前記複数の微細構造の基部がベース面を画定する、微細構造化作業表面と、
前記複数のチャネルの壁を画定する実質的に垂直なチャネル表面であって、チャネル面を画定するチャネル表面と、
前記作業表面の縁部と前記チャネル表面の上縁部との間のオフセット表面と、
を含む、物品。
（付記２）
前記オフセット表面は、変位した材料の非平面部分を含み、前記変位した材料の山部が、前記作業表面に平行な変位面を画定する、付記１に記載の物品。
（付記３）
前記変位面は、前記ベース面の下方にある、付記２に記載の物品。
（付記４）
前記上面からの前記変位面の深さが、前記複数の微細構造の平均高さよりも大きい、付記２に記載の物品。
（付記５）
前記上面からの前記変位面の深さは、少なくとも１０μｍである、付記２に記載の物品。
（付記６）
前記上面からの前記変位面の深さは、５μｍ未満である、付記２に記載の物品。
（付記７）
前記上面、前記チャネル面、及び前記オフセット表面は、オフセット体積を画定する、付記６に記載の物品。
（付記８）
前記作業表面の前記縁部は、隣接するチャネル面からオフセット幅又はオフセット長さだけオフセットされている、付記７に記載の物品。
（付記９）
前記オフセット幅又はオフセット長さは、約１０μｍ〜１ｍｍである、付記８に記載の物品。
（付記１０）
前記オフセット幅又はオフセット長さは、前記作業表面の幅又は長さの約１％〜約５０％である、付記８に記載の物品。
（付記１１）
前記隆起したセルは、多角形である、付記１に記載の物品。
（付記１２）
前記隆起したセルは、矩形、三角形、円形、又は楕円形である、付記１に記載の物品。
（付記１３）
前記複数のチャネルの少なくとも一部は、前記物品の長さにわたって連続的である、付記１に記載の物品。
（付記１４）
前記複数のチャネルの少なくとも一部は、前記物品の長さにわたって不連続である、付記１に記載の物品。
（付記１５）
前記複数のセルは、ヘリンボーン、クロスハッチ、又は湾曲パターンである、付記１４に記載の物品。
（付記１６）
前記微細構造化作業表面は、複数の細孔及び複数の凹凸を含む、付記１５に記載の物品。
（付記１７）
前記オフセット表面の少なくとも一部は、実質的に垂直な段付き表面を有する、付記１６に記載の物品。
（付記１８）
前記オフセット表面は、階段状表面、角度付き表面、及び湾曲表面のうちの少なくとも１つである、付記１７に記載の物品。
（付記１９）
前記オフセット表面は、実質的に垂直な上部と傾斜した下部とを含む、付記１８に記載の物品。
（付記２０）
前記研磨層とは異なる熱膨張係数を有する第２の層を前記研磨層の下方に更に備える、付記１に記載の物品。
（付記２１）
基材を保持するように構成されたキャリヤアセンブリと、
付記１に記載の物品を備える研磨パッドと、
前記研磨パッドに連結されたプラテンと、
流体成分と研磨成分とを含む研磨溶液と、
を備え、
前記研磨パッドを前記基材に対して移動させるように構成されているシステム。
（付記２２）
主表面を有する基材を準備することと、
付記１に記載の前記物品を備える研磨パッドを準備することと、
流体成分及び研磨成分を含む研磨溶液を含むことと、
前記研磨パッドと前記基材の前記主表面とを相対運動させながら、前記基材の前記主表面を前記研磨パッド及び前記研磨溶液と接触させることと、
を含む、方法。
（付記２３）
付記１に記載の前記物品の作業表面と、前記チャネル表面と、前記オフセット表面と、に対応する構造化表面を有する高精細ツール。
（付記２４）
前記構造化表面は、高精細中の材料の変位に適応するオフセット表面を形成するように構成されている、付記２３に記載の高精細ツール。
（付記２５）
前記変位した材料が前記ベース面の下方にくるように、前記構造化表面は、前記オフセット表面に対応する部分を有して構成されている、付記２３に記載の高精細ツール。
（付記２６）
前記変位した材料が前記上面の公差内に収まるように、前記構造化表面は、前記オフセット表面に対応する部分を有して構成されている、付記２３に記載の高精細ツール。
（付記２７）
前記公差は、５μｍ未満である、付記２６に記載の高精細ツール。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のチャネルによって分離された複数の隆起したセルを含む研磨層を備え、
前記複数の隆起したセルのそれぞれは、
複数の微細構造を含む微細構造化作業表面であって、前記複数の微細構造の頂部が上面を画定し、前記複数の微細構造の基部がベース面を画定する、微細構造化作業表面と、
前記複数のチャネルの壁を画定する実質的に垂直なチャネル表面であって、チャネル面を画定するチャネル表面と、
前記作業表面の縁部と前記チャネル表面の上縁部との間のオフセット表面と、
を含む、物品。
【請求項２】
前記オフセット表面は、変位した材料の非平面部分を含み、前記変位した材料の山部が、前記作業表面に平行な変位面を画定する、請求項１に記載の物品。
【請求項３】
前記上面からの前記変位面の深さは、少なくとも１０μｍである、請求項２に記載の物品。
【請求項４】
前記上面、前記チャネル面、及び前記オフセット表面は、オフセット体積を画定する、請求項１に記載の物品。
【請求項５】
前記作業表面の前記縁部は、隣接するチャネル面からオフセット幅又はオフセット長さだけオフセットされている、請求項４に記載の物品。
【請求項６】
前記オフセット幅又はオフセット長さは、前記作業表面の幅又は長さの約１％〜約５０％である、請求項５に記載の物品。
【請求項７】
前記隆起したセルは、多角形である、請求項１に記載の物品。
【請求項８】
前記複数のセルは、ヘリンボーン、クロスハッチ、又は湾曲パターンである、請求項１に記載の物品。
【請求項９】
前記オフセット表面は、階段状表面、角度付き表面、及び湾曲表面のうちの少なくとも１つである、請求項１に記載の物品。
【請求項１０】
前記オフセット表面は、実質的に垂直な上部と傾斜した下部とを含む、請求項１に記載の物品。
【請求項１１】
前記研磨層とは異なる熱膨張係数を有する第２の層を前記研磨層の下方に更に備える、請求項１に記載の物品。
【請求項１２】
基材を保持するように構成されたキャリヤアセンブリと、
請求項１に記載の物品を備える研磨パッドと、
前記研磨パッドに連結されたプラテンと、
流体成分と研磨成分とを含む研磨溶液と、
を備え、
前記研磨パッドを前記基材に対して移動させるように構成されているシステム。
【請求項１３】
主表面を有する基材を準備することと、
請求項１に記載の前記物品を備える研磨パッドを準備することと、
流体成分及び研磨成分を含む研磨溶液を含むことと、
前記研磨パッドと前記基材の前記主表面とを相対運動させながら、前記基材の前記主表面を前記研磨パッド及び前記研磨溶液と接触させることと、
を含む、方法。
【請求項１４】
請求項１に記載の前記物品の作業表面と、前記チャネル表面と、前記オフセット表面と、に対応する構造化表面を有する高精細ツール。
【請求項１５】
前記構造化表面は、高精細中の材料の変位に適応するオフセット表面を形成するように構成されている、請求項１４に記載の高精細ツール。