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【手続補正書】
【提出日】平成16年9月28日(2004.9.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】空気調和機
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
空気調和機本体とリモートコントローラとを有し、
前記空気調和機本体は、前記リモートコントローラとデータの送信受信を行う送受信部と、圧縮機及び送風機の運転制御部と、圧縮機や送風機が消費した電力を測定する測定手段とを備え、
前記リモートコントローラは、前記空気調和機本体とデータの送信受信を行う送受信部と、単位電力当たりの料金を入力する単位電力料金入力手段と、消費電力の測定を開始させる測定開始ボタンと、電気料金や消費電力の予定値、測定値を表示する表示手段と、電気料金の表示を要求する表示要求ボタンとを備え、
前記空気調和機本体もしくは前記リモートコントローラには、測定された消費電力と前記単位電力料金とを積算して消費した電気料金を求める演算手段を備え、
前記リモートコントローラの表示要求ボタンの操作により、測定開始から表示要求指令が受信された時点までに求めた電気料金のデータを前記表示手段に表示することを特徴とする空気調和機。
【請求項２】
電気料金又は消費電力の予算値を設定する予算値設定手段と、電気料金又は消費電力の測定値が前記予算値を超えたとき、前記空気調和機本体の圧縮機又は送風機の能力を低下させて運転する省電力モードに変更する手段とを備えることを特徴とする請求項１記載の空気調和機。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、電力を消費する空気調和機に係り、特に、消費した電力又は消費した電気料金をユーザに知らせる空気調和機に関するものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
そこで、本発明の目的は、上記課題を解決し、消費した電力又は消費した電気料金をユーザに知らせる空気調和機を提供することにある。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために本発明の空気調和機は、空気調和機本体とリモートコントローラとを有し、
前記空気調和機本体は、前記リモートコントローラとデータの送信受信を行う送受信部と、圧縮機及び送風機の運転制御部と、圧縮機や送風機が消費した電力を測定する測定手段とを備え、
前記リモートコントローラは、前記空気調和機本体とデータの送信受信を行う送受信部と、単位電力当たりの料金を入力する単位電力料金入力手段と、消費電力の測定を開始させる測定開始ボタンと、電気料金や消費電力の予定値、測定値を表示する表示手段と、電気料金の表示を要求する表示要求ボタンとを備え、
前記空気調和機本体もしくは前記リモートコントローラには、測定された消費電力と前記単位電力料金とを積算して消費した電気料金を求める演算手段を備え、
前記リモートコントローラの表示要求ボタンの操作により、測定開始から表示要求指令が受信された時点までに求めた電気料金のデータを前記表示手段に表示するものである。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
電気料金又は消費電力の予算値を設定する予算値設定手段と、電気料金又は消費電力の測定値が前記予算値を超えたとき、前記空気調和機本体の圧縮機又は送風機の能力を低下させて運転する省電力モードに変更する手段とを備えてもよい。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成16年12月27日(2004.12.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本発明における課題を解決するための手段は、ガス管体に一側が取付けられる筒状本体と、この筒状本体に他側から取付けられる押し輪と、この押し輪の内端の位置に設けられ、押し輪内に挿通されたフレキシブルチューブの外周の谷部に係合可能な爪部を有するリテーナとを備え、押し輪は、筒状本体の他側から挿入される小径部とこの小径部に連設された大径部とから構成され、筒状本体と押し輪の大径部の突き合わせ端面間に、外部からの水の浸入を防止するとともに、フレキシブルチューブから漏れ出たガスを前記突き合わせ端面間から外部へ逃がすための環状体が圧着され、押し輪側に設けた第一圧接面と筒状本体側に設けた第二圧接面とを圧接するようにしたもので、前記第一圧接面が押し輪の軸心方向に対する垂直面内に配置され、第二圧接面が筒状本体の軸心方向に対する垂直面内に配置されて、これら第一圧接面と第二圧接面との圧接により前記圧着時の環状体の厚みを設定するように構成されるとともに、第一圧接面と第二圧接面とが圧接した際に、フレキシブルチューブから漏れ出たガスを端面間に逃がすための隙間が設けられている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガス管体に一側が取付けられる筒状本体と、この筒状本体に他側から取付けられる押し輪と、この押し輪の内端の位置に設けられ、押し輪内に挿通されたフレキシブルチューブの外周の谷部に係合可能な爪部を有するリテーナとを備え、押し輪は、筒状本体の他側から挿入される小径部とこの小径部に連設された大径部とから構成され、筒状本体と押し輪の大径部の突き合わせ端面間に、外部からの水の浸入を防止するとともに、フレキシブルチューブから漏れ出たガスを前記突き合わせ端面間から外部へ逃がすための環状体が圧着され、押し輪側に設けた第一圧接面と筒状本体側に設けた第二圧接面とを圧接するようにしたフレキシブルチューブ用継手装置において、前記第一圧接面が押し輪の軸心方向に対する垂直面内に配置され、第二圧接面が筒状本体の軸心方向に対する垂直面内に配置されて、これら第一圧接面と第二圧接面との圧接により前記圧着時の環状体の厚みを設定するように構成されるとともに、第一圧接面と第二圧接面とが圧接した際に、フレキシブルチューブから漏れ出たガスを端面間に逃がすための隙間が設けられたことを特徴とするフレキシブルチューブ用継手装置。
【手続補正書】
【提出日】平成17年9月21日(2005.9.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項５】酸素バリア一層が基本的に、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）からなる、請求項４に記載の反射型偏光板。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項６】酸素バリア一層の厚さが０．５μｍ〜２０μｍ、特に１μｍ〜１０μｍである、請求項４または５に記載の反射型偏光板。
【手続補正書】
【提出日】平成17年2月28日(2005.2.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
本実施の形態では、フォーカスダイアル１１１をモータ１１２により自動調整することにより、手動によるフォーカスダイアル１１１の焦点調節が省けるので、より快適に観察及び撮影が行える。なお、本実施の形態に係る撮影機能付き双眼鏡は、図２に示す例えば操作部３０にフォーカスダイアル１１１による焦点調節を手動と自動に相互に切換え可能な切換えスイッチが設けられ、この切換えスイッチを操作してモータ１１２への駆動信号を遮断したときには、手動による焦点調節が行える、いわゆる自動合焦システムが遠近競合を起こすような被写体にも対処できるように構成されている。
【手続補正書】
【提出日】平成17年3月7日(2005.3.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一枚以上の熱交換プレートを互いに所定の間隔をあけて渦巻き状に巻回して構成したプレート式熱交換器であって、前記プレートの開口端縁を封止する円盤状蓋材に流体の圧力によって拡張し該開口端縁を少なくとも直径方向、即ち側面から挟んでこれを気密に締結する紐状中空ガスケットを配設したことを特徴とするスパイラル型プレート式熱交換器。
【請求項２】
前記紐状中空ガスケットが、流体を密封でき、或いはできない構造のものであって、該ガスケットの中空部に、流体の圧力によって拡張するチューブを収容した請求項１に記載のスパイラル型プレート式熱交換器。
【請求項３】
前記紐状中空ガスケットの中空部に物理的又は化学反応で凝固する流体を圧入してなる請求項１又は２に記載のスパイラル型プレート式熱交換器。
【請求項４】
前記紐状中空ガスケットが、流体を密封でき、或いはできない構造のものであって、該ガスケットの中空部に、形状記憶合金で作成した拡張部材を装着した請求項１又は２に記載のスパイラル型プレート式熱交換器。
【請求項５】
少なくとも１枚の熱交換プレートを互いに所定の間隔をあけて渦巻き状に巻回して構成した熱交換器であって、前記プレートの開口端縁を封止する円盤状蓋材に、ソリッドガスケット又は紐状スペーサーと紐状中空ガスケットとを設けた請求項１〜４のいずれかに記載のスパイラル型プレート式熱交換器。
【請求項６】
前記プレートの少なくとも一面が、樹脂でラミネート或いはライニングされた請求項１〜５のいずれかに記載のスパイラル型プレート式熱交換器。
【請求項７】
少なくとも１枚の熱交換プレートを互いに所定の間隔をあけて渦巻き状に巻回して構成した熱交換器であって、前記プレートの少なくとも一方の開口端縁を袋鍔状に曲げ、或いはガスケットのスペースを空けてプレートの両側に椀状突起と椀状凹陥部を設け、この袋鍔状部分であるガスケット受け部に、或いは上記スペースに、ガスケットを保持するようになした請求項１〜６のいずれかに記載のスパイラル型プレート式熱交換器。
【請求項８】
前記、ガスケットを保持する袋鍔状部分、或いはガスケット保持スペースにガスケットをバックアップする渦巻き状のフラットバー又は切り抜き板を設けた請求項１〜７のいずれかに記載のスパイラル型プレート式熱交換器。
【請求項９】
１枚以上の熱交換プレートを互いに所定の間隔をあけて渦巻き状に巻回して構成した熱交換器であって、前記渦巻き状の所定の間隔部分を凹溝と凸条部となし、凸条部には軸方向に渦巻き状に多数穿孔された円盤状蓋部材を構成し、凹溝の両側面にプレートの開口端縁を挿入、その間に紐状中空ガスケットを設けた請求項１〜８のいずれかに記載のスパイラル型プレート式熱交換器。
【請求項１０】
１枚以上の熱交換プレートを互いに所定の間隔をあけて渦巻き状に巻回して構成した熱交換器であって、プレートの胴部に少なくとも１カ所、軸方向に傾斜した畝状又は波状突起と畝状又は波状凹陥を設け、そして他のプレートには前記プレートと異なった傾斜の畝状又は波状突起と畝状又は波状凹陥とを設けてこれに重ね合わせて巻回し、両プレートの間を一定のスペースを有する渦巻き状に形成した請求項１〜９のいずれかに記載のスパイラル型プレート式熱交換器。
【手続補正書】
【提出日】平成17年2月16日(2005.2.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
自らの位置を検出し、記録媒体に記録された地図情報等を読み出して現在位置を少なくとも表示するナビゲーションシステムにおいて、
現在位置に対応する地域を判定する判定手段と、
上記地域に用意されている広告情報を取得する取得手段と、
上記広告情報を記憶する記憶手段と、
上記広告情報を表示する表示手段と
からなることを特徴とするナビゲーションシステム。
【請求項２】
請求項１において、
上記取得手段は、
広告情報が上記地域に用意されているか否かを判定する第２の判定手段をさらに有し、
上記広告情報が上記地域に用意されていない場合、記録媒体に記録されている広告情報を読み出して上記表示手段に表示するようにしたことを特徴とするナビゲーションシステム。
【請求項３】
請求項２において、
上記取得手段は、
広告情報が上記地域に用意されている場合、取得しようとする広告情報が上記記憶手段に既に記憶されているか否かを判定する第３の判定手段をさらに有し、
上記広告情報が上記記憶手段に記憶されている場合、上記記憶手段から上記広告情報を読み出し、
上記広告情報が上記記憶手段に記憶されていない場合、上記広告情報をダウンロードするようにしたことを特徴とするナビゲーションシステム。
【請求項４】
請求項３において、
上記広告情報のダウンロードがなされている期間では、上記記憶媒体に記録された広告情報を読み出し、上記読み出した広告情報を上記表示手段へ表示するようにしたことを特徴とするナビゲーションシステム。
【請求項５】
請求項１において、
上記表示手段は、
ナビゲーション動作状態を表示する運転席表示部と、
上記広告情報を表示する後部座席表示部と
を備えることを特徴とするナビゲーションシステム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
すなわち、ＦＭ多重信号とビーコン信号とによりＶＩＣＳ（Vehicle Information and Communication System：道路交通情報通信システム) が実現される。なお、ＦＭ多重ユニット６およびビーコンユニット７は、拡張用にナビゲーションユニット１とは別体にユニット化されたもので、ユーザにより適宜設けられる。また、ナビゲーションユニット１と、ＦＭ多重ユニット６およびビーコンユニット７との間における通信手段としては、例えば、ＵＡＲＴ（Universal Asynchronous Receiver-Transmitter)通信（シリアルポート用の双方向非同期通信回路）が用いられる。
【手続補正書】
【提出日】平成17年6月14日(2005.6.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源と、該光源からの光束を参照光と測定光とに分割する光束分割手段と、測定対象に取り付けられて前記測定光を反射する反射鏡と、該反射鏡で反射した測定光と前記参照光との干渉によって生じる干渉光を受光する光電検出器とを有する干渉計において、前記光電検出器に入射する参照光と測定光の波面がそれぞれの光束の光軸に関して軸対称となるように、前記光源と光電検出器との間の光路に収差補正機構を介在させたことを特徴とする干渉計。
【請求項２】
前記光電検出器に入射する参照光と測定光の波面が平面波となるように、前記収差補正機構を形成したことを特徴とする請求項１に記載の干渉計。
【請求項３】
前記収差補正機構は、参照光と測定光とが共に通過する光路に配置されたことを特徴とする請求項１又は２に記載の干渉計。
【請求項４】
前記収差補正機構は、該収差補正機構による波面収差の補正量を変更できるように構成されたことを特徴とする請求項１、２又は３に記載の干渉計。
【請求項５】
前記収差補正機構は、少なくとも１つの光学部材を有し、該光学部材は移動自在に配置されたことを特徴とする請求項４に記載の干渉計。
【請求項６】
光源と、該光源からの光束を参照光と測定光とに分割する光束分割手段と、測定対象に取り付けられて前記測定光を反射する反射鏡と、該反射鏡で反射した測定光と前記参照光との干渉によって生じる干渉光を受光する光電検出器とを有する干渉計において、前記光電検出器に入射する参照光と測定光の波面がそれぞれの光束の光軸に関して軸対称となるように、前記光源と光電検出器との間に配置された少なくとも１つの光学部材の面形状又は屈折率分布を形成したことを特徴とする干渉計。
【請求項７】
前記光電検出器に入射する参照光と測定光の波面が平面波となるように、前記光学部材の面形状又は屈折率分布を形成したことを特徴とする請求項６に記載の干渉計。
【請求項８】
前記光電検出器に入射する参照光又は測定光の波面を測定する波面測定装置を更に有することを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の干渉計。
【請求項９】
マスク上に描かれたパターンを照明する照明光学系と、前記マスクを搭載して移動するマスクステージと、該マスクステージの位置又は姿勢を計測するマスクステージ干渉計と、マスク上の前記パターンの像を感光基板上に投影する投影光学系と、前記感光基板を搭載して移動する基板ステージと、該基板ステージの位置又は姿勢を計測する基板ステージ干渉計と、を有する露光装置において、前記マスクステージ干渉計と基板ステージ干渉計とのうちの少なくとも１つの干渉計として、請求項１〜８のいずれか１項に記載の干渉計を用いたことを特徴とする露光装置。
【請求項１０】
請求項９に記載の露光装置を用いて前記マスク上のパターンを前記感光性基板に露光することを特徴とする露光方法。
【請求項１１】
請求項１〜８のいずれか１項に記載の干渉計を備えたステージ。
【手続補正書】
【提出日】平成16年4月14日(2004.4.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
図１は上面図、図２は側面図を示す。図１、図２において、基盤１０１上の第１のホルダ１０２に、第１の圧電素子１０３の基部が固定される。
固定は、第１の圧電素子１０３の出力軸と基盤１０１が平行になるように、かつ、第１の圧電素子１０３の側面が基盤１０１に非接触である位置関係で行われる。第１の圧電素子１０３の伸縮端には、２股形状をした入力梁１０４が固定される。基盤１０１上には、圧電素子１０３の出力軸を基準として対称的に配置される２組の近似平行運動連鎖と、２組の近似平行運動連鎖の対向する２本の梁を結合する出力梁１１４が配置される。この２組の近似平行運動連鎖と出力梁１１４は、すべて基盤１０１の同一平面上に配置される。


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
これはすなわち、第４の回転対偶１１１を出力点とするワットの近似平行運動連鎖である。したがって、第１の梁１０６の運動に伴い、第２の梁１０９、第３の梁１１２が連鎖運動し、第２の梁１０９上の第４の回転対偶１１１が近似直線運動を行う。このとき、第４の回転対偶１１１は、わずかではあるが角度変位しながら直線変位する。この第４の回転対偶１１１の出力変位をＬ３とすれば、Ｌ３≒Ｌ２である。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
第１の回転対偶１０７には、第２の梁１０９が、第１の梁１０６と任意の角度を持って固定される。図６では、９０ーの角度を有している。第２の梁１０９の任意の位置に、第３の回転対偶１１０と、第４の回転対偶１１１が固定される。
図６では、第４の回転対偶１１１が第２の梁１０９の端に固定され、第３の回転対偶１１０は、第１の回転対偶１０７と第４の回転対偶１１１の間の第２の梁１０９上の任意の位置に固定されている。この第３の回転対偶１１０と、第４の回転対偶１１１の位置が、第１の実施例とは異なる。第３の回転対偶１１０には、第３の梁１１２が、第１の梁１０６と平行に固定され、第３の梁１１２のもう一端は、基盤１０１と垂直を成す回転軸を有する第２の支点１１３に固定される。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
これはすなわち、第４の回転対偶１１１を出力点とするワットの近似平行運動連鎖である。したがって、第１の梁１０６の運動に伴い、第２の梁１０９、第３の梁１１２が連鎖運動し、第２の梁１０９上の第４の回転対偶１１１が近似直線運動を行う。このとき、第４の回転対偶１１１は、わずかではあるが角度変位しながら直線変位する。この第４の回転対偶１１１の出力変位をＬ３とすれば、Ｌ３≒Ｌ２である。


【手続補正５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１３】
1999248719.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成17年10月28日(2005.10.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】 サンプル適用帯域とその下流に位置する検出帯域とを、帯域間の液体輸送を可能にする材料中または該材料上に含有してなる、アナライトの測定のための分析要素であって、
該検出帯域は特異的結合ペア1のパートナー1を含有しており、該特異的結合ペア1のパートナー1は、該アナライトではない特異的結合ペア1のパートナー2と、それらが相互に接触した際に結合可能となるように固定化されており、
特異的結合ペア2の標識化パートナー1は、該検出帯域の上流に存在して材料上に含浸されていて、該標識化パートナー１が液体により脱離することが可能であり、該アナライトではない特異的結合ペア2のパートナー2と、それらが相互に接触した際に結合することが可能であることを特徴とする前記分析要素。
【請求項２】 特異的結合ペアを用いるアナライトの測定方法であって、特異的結合ペア1のパートナー2と特異的結合ペア2のパートナー2とを含む該アナライトに由来するか又は該アナライトを提示する物質を、請求項１に記載のアナライトの測定のための分析要素内で特異的結合ペア2の標識化パートナーと接触させ、サンプル適用帯域の下流に位置する検出帯域に向けて該分析要素内で液体輸送により移動させ、該検出帯域内で特異的結合ペア1のパートナー1に結合させ、特異的結合ペア2のパートナー1の標識に基づいて測定することを特徴とする、前記方法。
【請求項３】 前記アナライトに由来するか又は該アナライトを提示する物質を調製するために、該アナライトに結合する抗体を該アナライトに加え、但し、該抗体の一部は特異的結合ペア1のパートナー2を担持し、該抗体のその他の部分は特異的結合ペア2のパートナー2を担持することを特徴とする、請求項２に記載の方法。
【請求項４】 前記アナライトに由来するか又は該アナライトを提示する物質を調製するために、抗原、ハプテンまたはオリゴペプチドを該アナライトに加え、但し、該抗原、ハプテンまたはオリゴペプチドの一部は特異的結合ペア1のパートナー2を担持し、該抗原、ハプテンまたはオリゴペプチドのその他の部分は特異的結合ペア2のパートナー2を担持することを特徴とする、請求項２に記載の方法。
【請求項５】 前記アナライトが核酸であり、ヌクレオチドまたはオリゴヌクレオチドに結合した特異的結合ペア1のパートナー2または特異的結合ペア2のパートナー2が該核酸のコピー内に取込まれるように該核酸を増幅させ、該増幅産物は、相補的核酸が有していない結合ペアのパートナー2を担持する核酸を有してハイブリダイズされることを特徴とする、請求項２に記載の方法。
【請求項６】 前記アナライトが、2個の核酸プローブとハイブリダイズする核酸であり、該核酸プローブの一方は特異的結合ペア1のパートナー2を含有し、もう一方は特異的結合ペア2のパートナー2を含有することを特徴とする、請求項２に記載の方法。
【請求項７】 請求項１に記載の分析要素と、特異的結合ペア1のパートナー2および特異的結合ペア2のパートナー2からなる群から選ばれる少なくとも1つのパートナーとを含有することを特徴とする、アナライトの測定のためのキット。
【手続補正書】
【提出日】平成17年2月8日(2005.2.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
位相測定装置であって、
イ）位相差を測定すべき第１と第２の入力信号を受けるように接続しており、それら信号の波形を成形した第１と第２の成形信号を発生する波形成形手段と、
ロ）前記第１および第２の成形信号を受けるように接続しており、前記第１および第２の成形信号の間の位相差の絶対値に関係したパルス幅のパルスを含む第１論理信号を発生する位相差絶対値検出手段と、
ハ）前記第１および第２の成形信号を受けるように接続しており、前記第１および第２の成形信号の間の位相差の極性を示す第２論理信号を発生する位相差極性検出手段と、
ニ）前記第１論理信号と前記第２論理信号とを受けるように接続した結合論理手段であって、前記第２論理信号が正と負の内の一方の極性を示す場合にのみ、前記第１論理信号を第１出力論理信号として発生し、前記第２論理信号が正と負の内の他方の極性を示す場合にのみ、前記第１論理信号を第２出力論理信号として発生する、前記の結合論理手段と、
ホ）前記結合論理手段からの前記第１出力論理信号を受けるように接続しており、前記第１出力論理信号を積分してその結果を第１積分信号として発生する第１の積分手段と、
ヘ）前記結合論理手段からの前記第２出力論理信号を受けるように接続しており、前記第２出力論理信号を積分してその結果を第２積分信号として発生する第２の積分手段と、
ト）前記第１積分信号を受けるように接続した第１の入力と、前記第２積分信号を受けるように接続した第２の入力とを有し、前記第１積分信号と前記第２積分信号との差を表す差信号を発生する結合手段と、
チ）前記差信号を受けるように接続しており、前記差信号に応答して前記位相差の指示を発生する表示手段と、
を備えた位相測定装置。
【請求項２】
請求項１記載の回路であって、
前記結合手段は、前記第１の入力に接続した非反転入力と、前記第２の入力に接続した反転入力とを有する差動増幅器手段を備えたこと、
を特徴とする位相測定装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の回路であって、
位相差絶対値検出手段は、前記第１成形信号を受ける第１の入力と、前記第２成形信号を受ける第２の入力と、前記第１と第２の成形信号の排他的論理和を表す排他的論理和信号を前記第１論理信号として発生する出力と、を有する排他的論理和ゲートを備えたこと、
を特徴とする位相測定装置。
【請求項４】
請求項１から３のいずれかに記載の回路であって、
前記位相差極性検出手段は、前記第１成形信号を受けるＤ入力と、前記第２成形信号を受けるＣＬＫ入力と、前記第２論理信号を発生するＱ出力と、を有するＤ型フリップフロップを備えたこと、
を特徴とする位相測定装置。
【請求項５】
請求項１から４のいずれかに記載の回路であって、
前記結合論理手段は、
イ）前記第１論理信号を受けるように接続した第１の入力と、第２の入力と、出力と、を有する第１のＡＮＤゲートと、
ロ）前記第１論理信号を受けるように接続した第１の入力と、前記第２論理信号を受けるように接続した第２の入力と、出力と、を有する第２のＡＮＤゲートと、
ハ）前記第２論理信号を受けるように接続した入力と、前記第１ＡＮＤゲートの前記第２入力に接続した出力と、を有するインバータと、
を備えたこと、を特徴とする位相測定装置。
【手続補正書】
【提出日】平成16年12月17日(2004.12.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
上述の様な請求項１〜２に記載した本発明の回転速度検出装置付転がり軸受ユニットの場合、ハブ本体１の外端部に設けたフランジ６に固定した車輪を、外輪４を支持した懸架装置に対し、回転自在に支持できる。又、車輪の回転に伴って上記ハブ本体１に外嵌固定したエンコーダ１１が回転すると、上記センサ１８の先端面に設けた検出部の近傍を、上記エンコーダ１１の軸方向中間部に設けた透孔１６、１６と円周方向に隣り合う透孔１６、１６同士の間に存在する柱部とが交互に通過する。この結果、上記センサ１８内を流れる磁束の密度が変化し、このセンサ１８の出力が変化する。この様にしてセンサ１８の出力が変化する周波数は、車輪の回転速度に比例する。従って、センサ１８の出力を図示しない制御器に送れば、ＡＢＳやＴＣＳを適切に制御できる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
次に、図４〜６は、請求項３〜４に対応する、本発明の実施の形態の第２例を示している。本例の場合には、外輪４の内周面に形成した複列の外輪軌道１２、１２部分にそれぞれ設けた焼き入れ硬化層２４、２４同士を、取付孔１７から上記外輪４の円周方向に外れた位置に設けた繋ぎ硬化層２５により、互いに連続させている。言い換えれば、上記外輪４の内周面で上記複列の外輪軌道１２、１２及びこれら両外輪軌道１２、１２の間部分を、上記取付孔１７の周囲部分を除き、焼き入れ硬化層２４、２４及び繋ぎ硬化層２５により、Hv５００以上に硬くしている。この様な本例の場合には、上記各焼き入れ硬化層２４、２４と上記取付孔１７との最小距離を０．５mm以上とするだけでなく、上記繋ぎ硬化層２５と上記取付孔１７との最小距離Ｌ´（図６）も０．５mm以上としている。この様にする事により、上記取付孔１７部分を、焼き入れ硬化していない生の鋼材のままとするか、半生程度の軟らかい状態としている。
【手続補正書】
【提出日】平成17年6月2日(2005.6.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
内部空間を有し、該内部空間に電機子コイルを収納する電機子ユニットを備える電磁アクチュエータにおいて、
前記内部空間には、前記電機子コイルを収納し、少なくとも一部が冷却される冷却空間と、前記内部空間を外部空間と断熱する断熱空間とを形成する仕切り部材が配設されていることを特徴とする電磁アクチュエータ。
【請求項２】
前記冷却空間は所定方向に延びた空間であり、少なくとも前記所定方向に直交する任意の断面で見たときに、前記冷却空間は前記断熱空間によって取り囲まれていることを特徴とする請求項１に記載の電磁アクチュエータ。
【請求項３】
前記冷却空間には冷媒が供給され、前記仕切り部材の前記冷却空間側の壁面は、少なくともその壁面に沿った前記冷媒の流れが乱流となる表面粗さとされていることを特徴とする請求項１に記載の電磁アクチュエータ。
【請求項４】
前記仕切り部材の前記断熱空間側の壁面は、鏡面加工されていることを特徴とする請求項１に記載の電磁アクチュエータ。
【請求項５】
ステージを所定の移動面に沿って移動させるステージ装置であって、
請求項１〜４のいずれかに記載の電磁アクチュエータを含み、前記ステージを駆動する駆動装置と；
前記電磁アクチュエータの前記冷却空間及び前記断熱空間に、それぞれ冷媒を供給する冷媒供給装置とを備えるステージ装置。
【請求項６】
前記冷却空間に供給する冷媒と、前記断熱空間に供給する冷媒とは互いに異なる物性を有することを特徴とする請求項５に記載のステージ装置。
【請求項７】
前記冷媒供給装置は、前記冷却空間と前記断熱空間とに、それぞれ異なる流速で冷媒を供給することを特徴とする請求項５又は６に記載のステージ装置。
【請求項８】
電機子コイルと、前記電機子コイルを内部空間に収納する収納部材とを備える電磁アクチュエータにおいて、
前記内部空間の少なくとも一部を、前記電機子コイルが配置される第一空間と、前記第一空間以外の第二空間とに分割する仕切り部材を備える電磁アクチュエータ。
【請求項９】
前記第一空間は前記電機子コイルを包囲するよう形成され、前記第二空間は前記第一空間を包囲するよう形成される請求項８に記載の電磁アクチュエータ。
【請求項１０】
前記第一空間および前記第二空間にそれぞれ液体が導入される請求項８又は９に記載の電磁アクチュエータ。
【請求項１１】
電機子コイルと、前記電機子コイルを内部空間に収納する収納部材とを備える電磁アクチュエータにおいて、
前記電機子コイルと前記収納部材との間に前記内部空間を区画する仕切り部材を備える電磁アクチュエータ。
【請求項１２】
前記仕切り部材は、前記内部空間を、前記電機子コイルに沿って延在する空間と、前記収納部材に沿って延在する空間とに区画する請求項１１に記載の電磁アクチュエータ。
【請求項１３】
ステージを所定の移動面に沿って移動させるステージ装置であって、
請求項８〜１２のいずれかに記載の電磁アクチュエータを含み、前記ステージを駆動する駆動装置と、
前記電磁アクチュエータの前記内部空間に、冷媒を供給する冷媒供給装置とを備えるステージ装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
本発明のステージ装置は、ステージ（３８）を所定の移動面に沿って移動させるステージ装置であって、前記ステージ（３８）を駆動する請求項１〜４のいずれかに記載の電磁アクチュエータ（２４、２６、３２、３４）を含む駆動装置（１０）と；前記電磁アクチュエータ（２４、２６、３２、３４）の前記冷却空間（８３Ａ）及び前記断熱空間（８３Ｂ）に、それぞれ冷媒を供給する冷媒供給装置（７１Ａ、７１Ｂ）とを備える。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
これによれば、冷媒供給装置が、本発明の冷却空間及び断熱空間に、それぞれ冷媒を供給しつつ、駆動装置が本発明の電磁アクチュエータによってステージを移動させる駆動力を発生するので、電磁アクチュエータのコイルの冷却と断熱とが効率良く行われ、ステージの周囲の空気に熱による揺らぎやステージの熱膨張を抑制しつつステージを駆動することができる。したがって、ステージの位置制御を精度良く行うことができる。
この場合において、冷却空間に供給する冷媒と、断熱空間に供給する冷媒とは互いに異なる物性を有するものとすることができる。また、冷媒供給装置は、冷却空間と断熱空間とに、それぞれ異なる流速で冷媒を供給することもできる。また、本発明に係る第二の電磁アクチュエータは、電機子コイル（８４Ａ1、…、８４Ｂ1、…）と、その電機子コイルを内部空間に収納する収納部材（８０）とを備える電磁アクチュエータにおいて、その内部空間の少なくとも一部を、電機子コイルが配置される第一空間（８３Ａ）と、第一空間以外の第二空間（８３Ｂ）とに分割する仕切り部材（８１、８１1、８１2）を備えるものである。これによれば、内部空間が第一空間と第二空間とに分割されるので、電機子コイルの発熱が外部空間に伝達するのを効果的に抑制することができる。この場合において、第一空間は電機子コイルを包囲するよう形成され、第二空間は第一空間を包囲するよう形成されたものとすることができる。また、第一空間および第二空間にそれぞれ液体が導入されてもよい。また、本発明に係る第三の電磁アクチュエータは、電機子コイル（８４Ａ1、…、８４Ｂ1、…）と、その電機子コイルを内部空間に収納する収納部材（８０）とを備える電磁アクチュエータにおいて、その電機子コイルとその収納部材との間に内部空間を区画する仕切り部材（８１、８１1、８１2）を備えるものである。これによれば、内部空間が複数の空間に区画されるので、電機子コイルの発熱が外部空間に伝達するのを効果的に抑制することができる。この場合において、仕切り部材は、内部空間を、電機子コイルに沿って延在する空間（８３Ａ）と、収納部材に沿って延在する空間（８３Ｂ、８３Ｂ1、８３Ｂ2、…）とに区画するものとすることができる。また本発明の他のステージ装置は、ステージ（３８）を所定の移動面に沿って移動させるステージ装置であって、本発明に係る第二または第三の電磁アクチュエータ（２４、２６、３２、３４）を含み、ステージを駆動する駆動装置（１０）と、その電磁アクチュエータの内部空間に、冷媒を供給する冷媒供給装置（７１Ａ、７１Ｂ）とを備えるものである。これによれば、駆動装置から外部への放熱を効果的に抑制することができ、ステージの移動性能を高く維持することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成17年9月1日(2005.9.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
剥離作業に際し、ＡＣサーボモータ２６が停止、あるいは低速回転していれば、コイルばね２５の引っ張り力によりカッター刃２４は閉じている。また、ＡＣサーボモータ２６が高速回転すれば、回転体２２が高速回転することにより、開閉レバー２３に遠心力が加わり、その自由端のカッター刃２４は外側に遠心力を受けるので開かれる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
本実施形態によれば、ＡＣサーボモータ２６の高速回転により開閉レバー２３に係る遠心力と、コイルばね２５による開閉レバー２３への付勢力とのバランスから、カッター刃２４の開閉を行い、線材１２の絶縁皮膜の剥離を行っている。ＡＣサーボモータ２６を利用し、高速、低速回転数制御と、加減速時間制御と、回転数のモニタリングとを行うことで、短時間で精度よく絶縁皮膜の剥離を行うことができる。
さらに本実施形態によれば、カッター刃を駆動するモータとして、ＡＣサーボモータを使用し、また、制御装置から任意に高速、低速回転数制御、及び加減速時間制御、さらには回転数のモニタリングを行うようにしたので、短時間で精度よく絶縁皮膜の剥離を行うことができ、生産性の高いコイル巻線装置を提供することができる。
また、ブラシレスのＡＣサーボモータの採用により、ブラシ交換が不要となり、低コストで耐久性の高いコイル巻線装置を提供することができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
【発明の効果】
以上説明したように本発明によれば、生産性の高いコイル巻線装置を提供することができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成17年9月14日(2005.9.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  プリント基板に電子部品を実装する実装工程において、部品供給部の設置位置情報および稼働情報を保存する第１工程と、前記部品供給部の補修履歴を保存する第２工程と、前記稼働情報と前記補修履歴を表示する第３工程とから成ることを特徴とする部品供給部管理方法。
【請求項２】  実装工程の実装品質情報を収集して当該情報を保存する第４工程を加えたことを特徴とする請求項１に記載の部品供給部管理方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
【発明の実施の形態】
本発明の請求項１に記載の部品供給部管理方法は、プリント基板に電子部品を実装する実装工程において、部品供給部の設置位置情報および稼働情報を保存する第１工程と、前記部品供給部の補修履歴を保存する第２工程と、前記稼働情報と前記補修履歴を表示する第３工程とから成る方法とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
この方法によると、現在設備上で稼働または稼働していた特定部品供給部の稼働情報と部品供給部の補修履歴を表示する。
請求項２に記載の部品供給部管理方法は、請求項１に記載の実装工程の実装品質情報を収集して当該情報を保存する第４工程を加えた方法とする。
【手続補正書】
【提出日】平成17年7月28日(2005.7.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
この電波吸収体組立用部材６１は、上述の電波吸収体組立用部材５１と同様に、不燃性材６３Ａ，６３Ｂを保護する目的で、領域６２ｂ，６２ｃの３方の端部にそれぞれ保護用フランジ６２´ｂ，６２´ｃが折り曲げ可能に設けられているが、この保護用フランジ６２´ｂ，６２´ｃが２段階で折り曲げ可能である点で異なる。この保護用フランジ６２´ｂ，６２´ｃは、図１５（Ｂ）に示されるように折り曲げて不燃性材６３Ａ，６３Ｂの側面および表面の端部近傍に無機接着剤を用いて固着される。図１５（Ｃ）は図１５（Ｂ）に示される電波吸収体組立用部材６１のＣ−Ｃ線矢視の断面図であり、基材６２の領域６２ｂ上に固着されている不燃性材６３Ａの３方の側面および表面の端部近傍は保護用フランジ６２´ｂにより保護された構造となっている。このような構造では、衝撃を保護用フランジ６２´ｂ，６２´ｃが受けることにより、不燃性材６３Ａ，６３Ｂが保護され、特に不燃性材６３Ａ，６３Ｂの側面と表面との角部が確実に保護される。
【手続補正書】
【提出日】平成17年9月16日(2005.9.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  フッ素添加カ−ボン膜よりなる第１の絶縁膜と、
前記第１の絶縁膜の一面側に設けられたケイ素を含む第２の絶縁膜と、
前記第１の絶縁膜と第２の絶縁膜との間の剥離を抑えるために、これらの膜の間に設けられた密着層と、を含むことを特徴とする半導体装置。
【請求項２】  フッ素添加カ−ボン膜よりなる第１の絶縁膜と、
前記第１の絶縁膜の一面側に設けられた金属の配線層と、
前記第１の絶縁膜と配線層との間の剥離を抑えるために、これらの膜の間に設けられた密着層と、を含むことを特徴とする半導体装置。
【請求項３】  前記密着層はケイ素と炭素とを含む膜よりなることを特徴とする請求項１又は２記載の半導体装置。
【請求項４】  前記密着層はケイ素と窒素とを含む膜よりなることを特徴とする請求項１又は２記載の半導体装置。
【請求項５】  前記密着層は、ケイ素と窒素とを含む膜と、ケイ素と炭素とを含む膜とを積層してなり、前記密着層のケイ素と炭素とを含む膜側には前記第１の絶縁膜が設けられ、ケイ素と窒素とを含む膜側には前記第２の絶縁膜が設けられることを特徴とする請求項１又は２記載の半導体装置。
【請求項６】  前記密着層は、ケイ素と窒素とを含む膜と、ケイ素と炭素と窒素とを含む膜と、ケイ素と炭素とを含む膜とをこの順番に積層してなり、前記密着層のケイ素と炭素とを含む膜側には前記第１の絶縁膜が設けられ、ケイ素と窒素とを含む膜側には前記第２の絶縁膜が設けられることを特徴とする請求項１又は２記載の半導体装置。
【請求項７】  前記密着層は、ケイ素と窒素とを含む膜と、ケイ素と炭素と窒素とを含む膜と、ケイ素と炭素とを含む膜と、ケイ素と炭素とフッ素とを含む膜とをこの順番に積層してなり、前記密着層のケイ素と炭素とフッ素とを含む膜側には前記第１の絶縁膜が設けられ、ケイ素と窒素とを含む膜側には前記第２の絶縁膜が設けられることを特徴とする請求項１又は２記載の半導体装置。
【請求項８】  前記密着層は、ケイ素と窒素とを含む膜と、ケイ素と炭素と窒素とを含む膜と、ケイ素と炭素とを含む膜と、ケイ素と炭素とフッ素とを含む膜と、炭素とフッ素とを含む膜とをこの順番に積層してなり、前記密着層の炭素とフッ素とを含む膜側には前記第１の絶縁膜が設けられ、ケイ素と窒素とを含む膜側には前記第２の絶縁膜が設けられることを特徴とする請求項１又は２記載の半導体装置。
【請求項９】  前記ケイ素と窒素とを含む膜は、窒素の原子数に対するケイ素の原子数の比が１．５以上であることを特徴とする請求項４，５，６，７又は８記載の半導体装置。
【請求項１０】  真空容器内において第１の成膜ガスをプラズマ化し、このプラズマによりケイ素を含む絶縁膜の一面に密着層を形成する第１の成膜工程と、  真空容器内において炭素とフッ素とを含む第２の成膜ガスをプラズマ化し、このプラズマにより前記密着層の一面にフッ素添加カ−ボン膜よりなる絶縁膜を形成する第２の成膜工程と、
第１の成膜工程と第２の成膜工程との間に行われ、真空容器内にて第１の成膜ガスの一部のプラズマが発生しているときに、当該真空容器内に第２の成膜ガスを導入する成膜ガスの切換え工程と、を含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項１１】  真空容器内において成膜ガスをプラズマ化し、このプラズマによりケイ素を含む絶縁膜の一面に密着層を形成する工程と、
前記真空容器と同じ真空容器内において炭素とフッ素とを含む成膜ガスをプラズマ化し、このプラズマにより前記密着層の一面にフッ素添加カ−ボン膜よりなる絶縁膜の一部を形成する工程と、
前記真空容器と異なる真空容器内において炭素とフッ素とを含む成膜ガスをプラズマ化し、このプラズマにより前記フッ素添加カ−ボン膜の一面にフッ素添加カ−ボン膜よりなる絶縁膜を形成する工程と、を含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項１２】 真空容器内において第１の成膜ガスをプラズマ化し、このプラズマにより、被処理体上のケイ素を含む絶縁膜の一面に密着層を形成する第１の成膜工程と、
前記真空容器内において炭素とフッ素とを含む第２の成膜ガスをプラズマ化し、このプラズマにより前記密着層の一面にフッ素添加カーボン膜よりなる絶縁膜を形成する第２の成膜工程と、
第１の成膜工程と第２の成膜工程との間において、真空容器内にて第１の成膜ガスの一部のプラズマが発生しているときに、当該真空容器内に第２の成膜ガスを導入する成膜ガスの切換え工程と、を実施することを特徴とする半導体装置の製造装置。
【請求項１３】 真空容器内において成膜ガスをプラズマ化し、このプラズマにより、被処理体上のケイ素を含む絶縁膜の一面に密着層を形成する工程と、
前記真空容器と同じ真空容器内において炭素とフッ素とを含む成膜ガスをプラズマ化し、このプラズマにより前記密着層の一面にフッ素添加カーボン膜よりなる絶縁膜の一部を形成する工程と、
前記真空容器と異なる真空容器内において炭素とフッ素とを含む成膜ガスをプラズマ化し、このプラズマにより前記フッ素添加カーボン膜の一面にフッ素添加カーボン膜よりなる絶縁膜を形成する工程と、を実施することを特徴とする半導体装置の製造装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
また真空容器内において成膜ガスをプラズマ化し、このプラズマによりケイ素を含む絶縁膜の一面に密着層を形成する工程と、前記真空容器と同じ真空容器内において炭素とフッ素とを含む成膜ガスをプラズマ化し、このプラズマにより前記密着層の一面にフッ素添加カ−ボン膜よりなる絶縁膜の一部を形成する工程と、前記真空容器と異なる真空容器内において炭素とフッ素とを含む成膜ガスをプラズマ化し、このプラズマにより前記フッ素添加カ−ボン膜の一面にフッ素添加カ−ボン膜よりなる絶縁膜を形成する工程と、を含むことを特徴とする。
また本発明の半導体装置は、真空容器内において第１の成膜ガスをプラズマ化し、このプラズマにより、被処理体上のケイ素を含む絶縁膜の一面に密着層を形成する第１の成膜工程と、
前記真空容器内において炭素とフッ素とを含む第２の成膜ガスをプラズマ化し、このプラズマにより前記密着層の一面にフッ素添加カーボン膜よりなる絶縁膜を形成する第２の成膜工程と、
第１の成膜工程と第２の成膜工程との間において、真空容器内にて第１の成膜ガスの一部のプラズマが発生しているときに、当該真空容器内に第２の成膜ガスを導入する成膜ガスの切換え工程と、を実施することを特徴とする。
さらに本発明の半導体装置は、真空容器内において成膜ガスをプラズマ化し、このプラズマにより、被処理体上のケイ素を含む絶縁膜の一面に密着層を形成する工程と、
前記真空容器と同じ真空容器内において炭素とフッ素とを含む成膜ガスをプラズマ化し、このプラズマにより前記密着層の一面にフッ素添加カーボン膜よりなる絶縁膜の一部を形成する工程と、
前記真空容器と異なる真空容器内において炭素とフッ素とを含む成膜ガスをプラズマ化し、このプラズマにより前記フッ素添加カーボン膜の一面にフッ素添加カーボン膜よりなる絶縁膜を形成する工程と、を実施することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成17年7月14日(2005.7.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１５】
前記樹脂は、テープ状に加工されて前記パッケージ用基板上に供給される
請求項１２に記載の半導体装置の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
とくにＭＭＩＣ（Monolithic Microwave IC ）や一部の高速ディジタルＩＣなど、配線がマイクロストリップ(Microstrip)線路、コプレーナ(Coplanar)線路等で行われている場合は、このインピーダンス変化がインピーダンスマッチング等の最適設計条件を損ない、各種特性が設計値より低下する。
また、スパイラルインダクタ(Spiral inductor) 等の受動素子(Passive element) の定数変化も起きるほか、誘電ロスによる特性低下も生じる。
さらに、ＦＥＴ上部への有機物の追加は、ゲート容量の増加を招きノイズファクタ(Noise factor)低下の要因となる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
この図示例のＭＭＩＣは、マイクロストリップライン形配線構造を用いたパワーアンプであり、初段のＦＥＴ増幅部１０ａ、後段のＦＥＴ増幅部１０ｂ、段間あるいは信号線と共通電位供給用の電極パッドとの間に設けられた複数のインダクタＬおよびキャパシタＣを有する。ＭＭＩＣの一辺に入力信号用の電極パッド１０ｃが配置され、これと対向する辺に出力信号用の電極パッド１０ｄが配置されている。これら信号用の電極パッド１０ｃ、１０ｄの両側には、共通電位供給用の電極パッド１０ｅが配置されている。また、もう一対の辺に、共通電位供給用の電極パッド１０ｅ、電源電圧供給用または制御信号用の電極パッド１０ｆが配置されている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
図１に示すように、このように構成された半導体チップ１０の裏面メタル層１１ａ上に、Ａｇペースト等の導電性接着層１４を介して、導電板としての金属プレート１６が載置されている。金属プレート１６は、例えばＣｕ、ステンレス、Ａｌなどの金属や当該金属含む合金、或いは表面にパターニングされた金属膜を有するＡｌＮ、アルミナ、ガラスセラミックなどからなり、熱伝導性にすぐれた素材が好ましい。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
金属プレート１６と前記マザー基板２との対向間隔内の半導体チップ１０の周回部分に、樹脂１８が充填されている。樹脂１８は、好適には、エポキシ系，アクリル系，酸無水物系の何れかまたは複数の混合物を主成分とし、硬化剤が添加されてゲル状もしくはペースト状に調合され、加熱反応により収縮する材料からなる。
この樹脂１８内にセラミック粉が分散されている。通常、樹脂のガラス転移点Ｔｇは１００℃〜１４０℃と低く、又、樹脂の熱膨張係数もＳｉの３．５ｐｐｍに比べ７０ｐｐｍ〜１５０ｐｐｍと高い。接合時の高温加湿時の信頼性を確保する為、“フィラー”と称するセラミック粒子を樹脂中に分散させると、樹脂の熱膨張係数を下げ、耐熱性、耐湿性を向上させることができる。
この樹脂１８は、半導体チップ１０の素子形成面に回り込んでいないことから、半導体チップ１０とマザー基板２との間の空隙は維持されたままとなっている。
前記ソルダレジスト１２の開口部箇所で、基準電位供給用の配線層４ｂと金属プレート１６とを電気的に接続する導電性の接続体２０が、樹脂１８内に埋め込まれている。接続体２０は、例えばハンダペーストからなる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
これにより、図７に示すように、半導体チップ１０が、その素子形成面とマザー基板２との間に空隙をおいて固定される。
金属プレート１６を用意し、その片面の所定位置、例えばパターニングが施された部分に、図８に示すように、接続体２０となるハンダペーストを供給する。また、半導体チップ１０の裏面上に導電性接着層１４として例えばＡｇペーストを所定量塗布する。
ハンダペーストが形成された面を下にして金属プレート１６をマウント治具３６により保持して位置合わせを行い、金属プレート１６を例えば１８０℃〜２４０℃程度で加熱しながら半導体チップ１０の裏面に圧接する。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
半導体チップ１０をマザー基板２上に接合するフリップチップの手法として、上記例ではＡｕ−Ｓｎアロイ接合を用いたが、Ｓｎ−Ｐｂハンダを用いたハンダフリップチップ法、Ａｕバンプと導電性ペーストを用いた手法、Ａｕ−Ａｕの超音波加熱接合による方法等の採用も可能である。同様に、金属プレート１６と、半導体チップ１０またはマザー基板２との接合に関しても種々の変形が可能である。
また、バンプ形成法として、電界メッキ法を用いることもできる。