【手続補正書】
【提出日】令和3年7月21日(2021.7.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
多層フィルムスタックからの照射ビームの反射に基づいて検出信号を生成するように構成された検出器に通信的に結合されたコントローラを備えており、前記多層フィルムスタックが、反復パターンに配置された２つ又はそれ以上の材料組成を有する１つ又はそれ以上のゾーンを含み、前記１つ又はそれ以上のゾーン内の各材料組成の層の数が既知であり、前記コントローラがプログラム指令を実行するように構成された１つ又はそれ以上のプロセッサを含み、前記プログラム指令が前記１つ又はそれ以上のプロセッサに、
前記１つ又はそれ以上のゾーンの実効誘電率値を前記２つ又はそれ以上の材料組成の誘電率値及び前記１つ又はそれ以上のゾーン内の前記２つ又はそれ以上の材料組成の体積比と相関させる実効媒体モデルを使用して、前記多層フィルムスタックの反復層の前記１つ又はそれ以上のゾーンをゾーン厚さ及び実効誘電率値を有する厚いフィルムとしてモデル化することによって、前記多層フィルムスタックによる前記照射ビームの反射を、モデル化させ、
前記実効媒体モデルに基づく検出信号の回帰を使用して前記ゾーン厚さ及び前記体積比を決定させ、
前記２つ又はそれ以上の材料組成の各々を有するフィルム数、前記ゾーン厚さ、前記体積比、及び前記実効誘電率値に基づいて、前記１つ又はそれ以上のゾーン内の前記２つ又はそれ以上の材料組成の平均厚さ値を決定させる、計測システム。
【請求項２】
前記多層フィルムスタックがさらに１つ又はそれ以上の非反復層を含み、前記１つ又はそれ以上のプロセッサがさらに、前記１つ又はそれ以上のプロセッサに、前記実効媒体モデルに基づいた前記検出信号の回帰を使用して前記１つ又はそれ以上の非反復層の厚さの値を決定させるプログラム指令を実行するように構成されている、請求項１に記載の計測システム。
【請求項３】
前記１つ又はそれ以上の非反復層が、トップ層、ボトム層、又は反復層の２つのゾーンの間の中間層の少なくとも１つを備える、請求項２に記載の計測システム。
【請求項４】
前記実効媒体近似モデルが一軸性フィルムモデルを備える、請求項１に記載の計測システム。
【請求項５】
前記体積比が、常分散に関連した第１のセットの体積比と異常分散に関連した第２のセットの体積比とを備える、請求項４に記載の計測システム。
【請求項６】
前記検出信号が、リフレクトメトリ、スキャタロメトリ、又はエリプソメトリ検出信号のうちの少なくとも一つである、請求項１に記載の計測システム。
【請求項７】
前記照射ビームの照射源が狭帯域照射源である、請求項１に記載の計測システム。
【請求項８】
前記照射ビームの照射源が広帯域照射源である、請求項１に記載の計測システム。
【請求項９】
前記検出器が分光検出器を備えており、前記検出信号が、分光リフレクトメトリ又は分光エリプソメトリ検出信号のうちの少なくとも１つである、請求項１に記載の計測システム。
【請求項１０】
前記照射ビームの波長が前記２つ又はそれ以上の反復組成の厚さよりも少なくとも１桁高い、請求項１に記載の計測システム。
【請求項１１】
前記照射ビームの波長が、紫外、可視、又は赤外波長のうちの少なくとも１つを含む、請求項１に記載の計測システム。
【請求項１２】
照射ビームを生成するように構成された照射源と、
反復パターンに配置された２つ又はそれ以上の材料組成を有する１つ又はそれ以上のゾーンを含み、前記１つ又はそれ以上のゾーン内の各材料組成の層の数が既知である多層フィルムスタックに、前記照射ビームを向けるように構成された１つ又はそれ以上の照射光学素子と、
前記照射ビームに応答して前記多層フィルムスタックから反射された光を捉えるように構成された１つ又はそれ以上の収集光学素子と、
前記１つ又はそれ以上の収集光学素子によって捉えられた光に基づいて検出信号を生成する検出器と、
前記検出器に通信的に結合されたコントローラと、
を備えており、
前記コントローラがプログラム指令を実行するように構成された１つ又はそれ以上のプロセッサを含み、前記プログラム指令が前記１つ又はそれ以上のプロセッサに、
前記１つ又はそれ以上のゾーンの実効誘電率値を前記２つ又はそれ以上の材料組成の誘電率値及び前記１つ又はそれ以上のゾーン内の前記２つ又はそれ以上の材料組成の体積比と相関させる実効媒体モデルを使用して、前記多層フィルムスタックの反復層の前記１つ又はそれ以上のゾーンをゾーン厚さ及び実効誘電率値を有する厚いフィルムとしてモデル化することによって、前記多層フィルムスタックによる前記照射ビームの反射をモデル化させ、
前記実効媒体モデルに基づく検出信号の回帰を使用して前記ゾーン厚さ及び前記体積比を決定させ、
前記２つ又はそれ以上の材料組成の各々を有するフィルム数、前記ゾーン厚さ、前記体積比、及び前記実効誘電率値に基づいて、前記１つ又はそれ以上のゾーン内の前記２つ又はそれ以上の材料組成の平均厚さ値を決定させる、計測システム。
【請求項１３】
前記多層フィルムスタックがさらに１つ又はそれ以上の非反復層を含み、前記１つ又はそれ以上のプロセッサがさらに、前記１つ又はそれ以上のプロセッサに、前記実効媒体モデルに基づいた前記検出信号の回帰を使用して前記１つ又はそれ以上の非反復層の厚さの値を決定させるプログラム指令を実行するように構成されている、請求項１２に記載の計測システム。
【請求項１４】
前記１つ又はそれ以上の非反復層が、トップ層、ボトム層、又は反復層の２つのゾーンの間の中間層の少なくとも１つを備える、請求項１３に記載の計測システム。
【請求項１５】
前記実効媒体近似モデルが一軸性フィルムモデルを備える、請求項１２に記載の計測システム。
【請求項１６】
前記体積比が、常分散に関連した第１のセットの体積比と異常分散に関連した第２のセットの体積比とを備える、請求項１５に記載の計測システム。
【請求項１７】
前記検出信号が、リフレクトメトリ、スキャタロメトリ、又はエリプソメトリ検出信号のうちの少なくとも一つである、請求項１２に記載の計測システム。
【請求項１８】
前記照射源が狭帯域照射源である、請求項１２に記載の計測システム。
【請求項１９】
前記照射源が広帯域照射源である、請求項１２に記載の計測システム。
【請求項２０】
前記検出器が分光検出器を備えており、前記検出信号が分光リフレクトメトリ又は分光エリプソメトリ検出信号のうちの少なくとも１つである、請求項１２に記載の計測システム。
【請求項２１】
前記照射ビームの波長が前記２つ又はそれ以上の反復組成の厚さよりも少なくとも１桁高い、請求項１２に記載の計測システム。
【請求項２２】
前記照射ビームの波長が、紫外、可視、又は赤外波長のうちの少なくとも１つを含む、請求項１２に記載の計測システム。
【請求項２３】
多層フィルムの層厚さを決定する方法であって、
反復パターンに配置された２つ又はそれ以上の材料組成を有する１つ又はそれ以上のゾーンを含み、前記１つ又はそれ以上のゾーン内の各材料組成の層の数が既知である多層フィルムスタックから反射された光を測定して、検出信号を生成するステップと、
前記１つ又はそれ以上のゾーンの実効誘電率値を前記２つ又はそれ以上の材料組成の誘電率値及び前記１つ又はそれ以上のゾーン内の前記２つ又はそれ以上の材料組成の体積比と相関させる実効媒体モデルを使用して、前記多層フィルムスタックの反復層の前記１つ又はそれ以上のゾーンをゾーン厚さ及び実効誘電率値を有する厚いフィルムとしてモデル化することによって、前記多層フィルムスタックによる照射ビームの反射をモデル化させるステップと、
前記実効媒体モデルに基づく検出信号の回帰を使用して前記ゾーン厚さ及び前記体積比を決定させるステップと、
前記２つ又はそれ以上の材料組成の各々を有するフィルム数、前記ゾーン厚さ、前記体積比、及び前記実効誘電率値に基づいて、前記１つ又はそれ以上のゾーン内の前記２つ又はそれ以上の材料組成の平均厚さ値を決定させるステップと、
を包含する、方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１Ｃ
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１Ｃ】
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