【手続補正書】
【提出日】令和2年11月20日(2020.11.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
多機能エステティックシステムであって、該多機能エステティックシステムは：
ハウジング；
ハウジングの中に位置し、かつ電磁波（ＥＭＲ）源を有する電磁気アレイであって、ＥＭＲ源はある波長を有するＥＭＲビームを生成するように構成される、電磁気アレイ；
制御装置であって、ＥＭＲ源を操作してＥＭＲビームを処理範囲に放出するために電磁気アレイと電子通信する、制御装置；および
位置センサであって、距離に応じて、ＥＭＲビームが放出される範囲と処理範囲の表面との間の分離距離を制御装置が維持するのを可能にするために、ＥＭＲビームが放出される範囲と処理範囲の表面との間の距離を制御装置に提供するために、制御装置と電子通信する、位置センサ、
を含む多機能エステティックシステム。
【請求項２】
ＥＭＲ源は、赤外線波長、可視光波長、または紫外線の波長のうちの１つを有するＥＭＲビームを生成するように構成される、請求項１に記載の多機能エステティックシステム。
【請求項３】
ＥＭＲ源は、９００〜１１００ｎｍの波長、または１３００〜１５００ｎｍの波長を有するＥＭＲビームを生成するように構成される、請求項２に記載の多機能エステティックシステム。
【請求項４】
制御装置は、治療上許容できる温度で処理範囲を維持するために、少なくとも１つの操作条件を調節するように構成される、請求項１から３のいずれか１つに記載の多機能エステティックシステム。
【請求項５】
制御装置は、処理範囲に当たる冷却気流の流量、処理範囲に当たる冷却気流の温度、処理範囲と冷却気流を処理範囲へ方向づける冷却機器との間の間隔、ＥＭＲビームの出力、処理範囲に対するＥＭＲビームの走査速度、またはその組み合わせの少なくとも１つを調節するように構成される、請求項４に記載の多機能エステティックシステム。
【請求項６】
処理範囲の温度を示す温度データを含む温度フィードバックを提供する温度センサを更に含み、制御装置は、温度データに基づいて、処理範囲に当たる冷却気流の流量、処理範囲に当たる冷却気流の温度、処理範囲と冷却気流を処理範囲へ方向づける冷却機器との間の間隔、ＥＭＲビームの出力、処理範囲に対するＥＭＲビームの走査速度、またはその組み合わせの少なくとも１つを調節するように構成される、請求項１から５のいずれか１つに記載の多機能エステティックシステム。
【請求項７】
位置センサは、処理範囲との接触なしに、距離を提供するように構成される、請求項１から６のいずれか１つに記載の多機能エステティックシステム。
【請求項８】
制御可能な装置を介してＥＭＲを処理範囲に方向づけるＥＭＲ経路を更に含む、請求項１に記載の多機能エステティックシステム。
【請求項９】
制御可能な装置は、ＥＭＲビームを処理範囲に方向づけるために、経路から受け取ったＥＭＲビームを修正するための経路に光学的に係合される、請求項８に記載の多機能エステティックシステム。
【請求項１０】
制御可能な装置は：
ＥＭＲビームを拡大した処理範囲に方向づけるために、ＥＭＲビームを拡大するための光学素子；および
処理範囲より下の処理領域の表面下でＥＭＲビームの拡大を予防するために、拡大されたビームの焦点を合わせるためのレンズを含む、請求項９に記載の多機能エステティックシステム。
【請求項１１】
制御可能な装置は、経路と複数の出力ビームを生成するための装置との間で光学的に係合されたビームスプリッタを更に含み；複数の出力ビームは装置によって放出されて処理範囲に衝突する、請求項９に記載の多機能エステティックシステム。
【請求項１２】
電磁気アレイは、経路の光学的に分離する部分により制御可能な装置に方向づけられる波長を有するＥＭＲビームを生成するように構成された第２のＥＭＲ源を更に含む、請求項１から１１のいずれか１つに記載の多機能エステティックシステム。
【請求項１３】
制御可能な装置は、処理範囲と制御可能な装置との間の距離を提供するために位置センサに係合される、請求項８または９に記載の多機能エステティックシステム。
【請求項１４】
制御可能な装置は、ＥＭＲビームを分割せずに処理範囲に冷却気流を方向づけるように構成される、請求項８から１３のいずれか１つに記載の多機能エステティックシステム。
【請求項１５】
制御可能な装置は、処理範囲にＥＭＲビームを方向づけ、処理範囲に冷却気流を方向づけ、及び処理範囲との接触なしに、処理範囲に関連したセンサフィードバックを提供するように構成される、請求項８から１４のいずれか１つに記載の多機能エステティックシステム。
【請求項１６】
処理範囲にＥＭＲビームを方向づけるように制御可能な装置を配置するために、ハウジングに第１端部で係合され、制御可能な装置に第２端部で係合される機器を更に含む、請求項９から１５のいずれか１つに記載の多機能エステティックシステム。
【請求項１７】
機器は、制御可能な装置を配置するための関節式のアームを含む、請求項１６に記載の多機能エステティックシステム。
【請求項１８】
機器は、処理範囲に対して制御可能な装置を配置するために、機器の動作を命令すべく、制御装置から信号を受け取るように構成される、請求項１６または１７に記載の多機能エステティックシステム。
【請求項１９】
機器は、位置センサからの制御装置で受け取った距離に反応して、制御装置から信号を受け取るように構成される、請求項１６から１８のいずれか１つに記載の多機能エステティックシステム。
【請求項２０】
操作中に、ＥＭＲ源、または冷却気流の少なくとも１つを冷やすためのチラーを更に含む、請求項１から１９のいずれか１つに記載の多機能エステティックシステム。
【請求項２１】
制御可能な装置は、正方形または長方形のＥＭＲビームをもたらすためにビーム形成光学素子を含む、請求項９から２０のいずれか１つに記載の多機能エステティックシステム。
【請求項２２】
正方形または長方形のビームは、集中し、分岐し、または正される場合がある、請求項２１に記載の多機能エステティックシステム。
【請求項２３】
多機能システムを使用するエステティック処理の方法であって、該方法は：
装置を介して電磁放射（ＥＭＲ）源によって生成されたＥＭＲビームを処理範囲に方向づけるために、ハウジングに位置される装置および電磁気アレイと電子通信する制御装置によって、アレイのＥＭＲ源を操作する工程であって、ＥＭＲ源はある波長を有するＥＭＲビームを生成するように構成される、工程；
制御装置と電子通信する位置センサによって、定義されたパラメータに基づいて装置と標的範囲との間の距離を制御装置に提供する工程；および
制御装置によって、距離に応じて装置と処理範囲の表面との間の決められた区切りの高さを調節可能に維持する工程、
を含む方法。
【請求項２４】
ＥＭＲ源は、赤外線波長、可視光波長、または紫外線の波長のうちの１つを有するＥＭＲビームを生成するように構成される、請求項２３に記載の方法。
【請求項２５】
電磁気アレイは２つのＥＭＲ源を含む、請求項２３または２４に記載の方法。
【請求項２６】
処理範囲を治療上許容できる温度で維持するために温度センサにより温度データを提供する工程を更に含む、請求項２３に記載の方法。
【請求項２７】
処理範囲を治療上許容できる温度で維持することは、処理範囲に当たる冷却気流の流量、処理範囲に当たる冷却気流の温度、処理範囲と処理範囲に冷却気流を方向づける冷却機器との間の間隔、ＥＭＲビームの出力、処理範囲に対するＥＭＲビームの走査速度、またはその組み合わせの、少なくとも１つを調節することを含む、請求項２６に記載の方法。
【請求項２８】
ＥＭＲビームをＥＭＲ経路に沿って処理範囲に方向づける工程を更に含む、請求項２３から２７のいずれか１つに記載の方法。
【請求項２９】
処理範囲にＥＭＲビームを方向づけるために、装置を介して経路に光学的に係合された装置のＥＭＲビームを修正する工程を更に含む、請求項２８に記載の方法。
【請求項３０】
修正する工程は：
拡大した処理範囲にＥＭＲビームを方向づけるために、装置の光学素子によってＥＭＲビームを拡大する工程；
処理範囲より下の処理領域の表面下でＥＭＲビームの拡大を予防するために、レンズによる拡大されたビームの焦点を合わせる工程
を更に含む、請求項２９に記載の方法。
【請求項３１】
修正する工程は：
複数の出力ビームを生成するために、経路と装置との間に光学的に係合されたビームスプリッタによりＥＭＲビームを分割する工程；および
処理範囲に衝突させるために装置によって複数の出力ビームを放出する工程
を更に含む、請求項２９に記載の方法。
【請求項３２】
修正する工程は、正方形または長方形のＥＭＲビームをもたらすために、ＥＭＲビームを形成する工程を更に含む、請求項２９に記載の方法。
【請求項３３】
正方形または長方形のビームは、集中し、分岐し、または正される場合がある、請求項３２に記載の方法。
【請求項３４】
装置を介して、ＥＭＲビームを分割せずに、冷却気流を処理範囲に方向づける工程を更に含む、請求項２３から３３のいずれか１つに記載の方法。
【請求項３５】
装置によってＥＭＲビームを処理範囲に方向づける工程、装置を介して冷却気流を処理範囲に方向づける工程、および装置または位置センサが処理範囲と接触することなく位置センサによって制御装置へ距離を提供する工程を更に含む、請求項３４に記載の方法。
【請求項３６】
区切り高さを維持する工程は、制御装置によって、処理範囲に対してＥＭＲビームを位置づけるために、ハウジングに係合された機器の動作を制御する工程を更に含む、請求項２３に記載の方法。
【請求項３７】
区切り高さを維持する工程は、位置フィードバックに応じてＥＭＲビームの位置を変えるために、機器を移動する工程を更に含む、請求項３６に記載の方法。
【請求項３８】
多機能エステティックシステムであって、該多機能エステティックシステムは：
ＥＭＲビームを生成するように構成される電磁波（ＥＭＲ）源；
処理範囲にＥＭＲビームおよび気流を方向づけるための装置；および
位置センサであって、距離に応じて装置と処理範囲の表面との間の決められた区切りの高さを装置が維持するのを可能にするために、規定されたパラメータに基づいて装置と処理範囲との間の距離を提供するための位置センサ、
を含む多機能エステティックシステム。
【請求項３９】
気流は、ＥＭＲビーム内で処理範囲に冷却をもたらす、請求項３８に記載の多機能エステティックシステム。
【請求項４０】
気流は、噴流衝撃冷却をもたらす流速で提供される、請求項３９に記載の多機能エステティックシステム。
【請求項４１】
制御装置は処理範囲を操作するよう装置を制御する、請求項３８に記載の多機能エステティックシステム。
【請求項４２】
処理範囲はパターンを含む、請求項４１に記載の多機能エステティックシステム。
【請求項４３】
パターンは、温度の予想される減衰時間未満の時間で最初の処理位置へ装置が戻る速度で走査される、請求項４２に記載の多機能エステティックシステム。
【請求項４４】
制御装置は、温度センサからの温度フィードバックに応じてＥＭＲ源を止める、請求項４１に記載の多機能エステティックシステム。