【手続補正書】
【提出日】平成16年9月9日(2004.9.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マスクと感応基板とを投影光学系に対して所定の走査方向に相対移動しつつ、前記マスクに形成されたパターンを投影光学系を介して前記感応基板上に逐次転写する走査型露光装置であって、
前記感応基板上の複数の検出点における前記感応基板表面の前記投影光学系の光軸方向の位置を検出するフォーカス検出系と；
前記感応基板を前記投影光学系の光軸方向及び前記光軸直交面に対して傾斜駆動する基板駆動系と；
前記感応基板上の所定のショット領域の走査露光の際に、そのショット領域と前記感応基板の有効領域外縁との位置関係に基づいて前記感応基板の前記光軸方向位置のみを調整するか、前記感応基板の光軸方向位置及び前記光軸直交面に対する傾斜を調整するかを判定し、この判定結果に応じて前記フォーカス検出系の検出結果に基づいて前記基板駆動系を制御する制御手段とを有する走査型露光装置。
【請求項２】
前記制御手段は、前記感応基板の有効領域外縁と前記所定のショット領域の露光開始位置との距離の大小に基づいて前記感応基板の前記光軸方向位置のみを調整するか、前記感応基板の光軸方向位置及び前記光軸直交面に対する傾斜を調整するかを判定することを特徴とする請求項１に記載の走査型露光装置。
【請求項３】
前記制御手段は、前記感応基板の有効領域外縁と前記所定のショット領域の露光終了位置との距離の大小に基づいて前記感応基板の前記光軸方向位置のみを調整するか、前記感応基板の光軸方向位置及び前記光軸直交面に対する傾斜を調整するかを判定することを特徴とする請求項１に記載の走査型露光装置。
【請求項４】
前記制御手段は、前記所定のショット領域の露光開始位置から前記感応基板の有効領域外縁までの前記走査方向の距離が第１の所定距離以上あり走査開始時点で前記フォーカス検出系の同一直線上にない少なくとも３つの検出点が前記感応基板の有効領域内である第１条件を満たす場合には、前記フォーカス検出系の検出結果に基づいて前記感応基板の前記光軸方向位置及び前記光軸直交面に対する前記走査方向及びこれに直交する方向の傾斜を調整するように前記基板駆動系を制御する第１の機能と、
前記所定のショット領域の露光開始位置から前記感応基板の有効領域外縁までの前記走査方向の距離が第２の所定距離以上で前記第１の所定距離未満であり、かつ走査開始時点で前記感応基板の有効領域内に位置する前記フォーカス検出系の前記走査方向に直交する方向に並んだ両端の検出点間の間隔が所定間隔以上ある第２条件を満たす場合には、前記フォーカス検出系の検出結果に基づいて前記感応基板の前記光軸方向位置及び前記光軸直交面に対する前記走査方向に直交する方向の傾斜を調整するように前記基板駆動系を制御する第２の機能と、
前記第１条件及び第２条件をともに満たさない場合には、前記フォーカス検出系の検出結果に基づいて前記感応基板の前記光軸方向位置のみを調整するように前記基板駆動系を制御する第３の機能とを有することを特徴とする請求項１又は２に記載の走査型露光装置。
【請求項５】
前記制御手段は、前記所定のショット領域の露光終了位置から前記感応基板の有効領域外縁までの前記走査方向の距離が第３の所定距離以上あり走査開始時点で前記フォーカス検出系の同一直線上にない少なくとも３つの検出点が前記感応基板の有効領域内である第３条件を満たす場合には、前記フォーカス検出系の検出結果に基づいて前記感応基板の前記光軸方向位置及び前記光軸直交面に対する前記走査方向及びこれに直交する方向の傾斜を調整するように前記基板駆動系を制御する第４の機能と、
前記所定のショット領域の露光終了位置から前記感応基板の有効領域外縁までの前記走査方向の距離が第４の所定距離以上で前記第３の所定距離未満であり、かつ露光終了時点で前記感応基板の有効領域内に位置する前記フォーカス検出系の前記走査方向に直交する方向に並んだ両端の検出点間の間隔が所定間隔以上ある第４条件を満たす場合には、前記フォーカス検出系の検出結果に基づいて前記感応基板の前記光軸方向位置及び前記光軸直交面に対する前記走査方向に直交する方向の傾斜を調整するように前記基板駆動系を制御する第５の機能と、
前記第３条件及び第４条件をともに満たさない場合には、前記フォーカス検出系の検出結果に基づいて前記感応基板の前記光軸方向位置のみを調整するように前記基板駆動系を制御する第６の機能とを有することを特徴とする請求項１又は３に記載の走査型露光装置。
【請求項６】
前記フォーカス検出系の各検出点に対応するセンサの内、前記制御手段による前記感応基板の面位置調整に用いるセンサを選択するためのセンサ選択手段を更に有し、
前記制御手段が、自動指定の指示に応じて、走査開始時点で前記感応基板の有効領域内に位置する指定されたセンサを前記センサ選択手段を介して追加選択するセンサ追加選択機能を更に有することを特徴とする請求項４に記載の走査型露光装置。
【請求項７】
前記フォーカス検出系の各検出点に対応するセンサの内、前記制御手段による前記感応基板の面位置調整に用いるセンサを選択するためのセンサ選択手段を更に有し、
前記制御手段が、自動指定の指示に応じて、露光終了時点で前記感応基板の有効領域内に位置する指定されたセンサを前記センサ選択手段を介して追加選択するセンサ追加選択機能を更に有することを特徴とする請求項５に記載の走査型露光装置。
【請求項８】
前記制御手段に代えて、前記所定のショット領域の走査露光の際に、前記フォーカス検出系の検出結果のみ、又はこの検出結果と直前のショット領域の露光の際の情報とに基づいて、前記感応基板の前記光軸方向位置及び前記光軸直交面に対する前記走査方向及びこれに直交する方向の傾斜を調整するように前記基板駆動系を制御する第２の制御手段を有することを特徴とする請求項１ないし５のいずれか一項に記載の走査型露光装置。
【請求項９】
マスクと感応基板とを投影光学系に対して所定の走査方向に相対移動しつつ、前記マスクに形成されたパターンを投影光学系を介して前記感応基板上に逐次転写する走査型露光装置であって、
前記感応基板上の複数の検出点における前記感応基板表面のフォーカス情報を検出するフォーカス検出系と；
前記感応基板を前記投影光学系の光軸方向及び前記光軸直交面に対して傾斜駆動する基板駆動系と；
前記感応基板上の所定のショット領域の走査露光の際に、そのショット領域の前記感応基板上での配置情報に基づいて前記感応基板の前記光軸方向位置のみを調整するか、前記感応基板の光軸方向位置及び前記光軸直交面に対する傾斜を調整するかを判定し、この判定結果に応じて前記フォーカス検出系の検出結果に基づいて前記基板駆動系を制御する制御手段とを有する走査型露光装置。
【請求項１０】
前記判定は、前記所定のショット領域の露光前に行われることを特徴とする請求項９に記載の走査型露光装置。
【請求項１１】
前記フォーカス検出系は、前記ショット領域の露光中に、前記感応基板表面のフォーカス情報を検出することを特徴とする請求項９又は１０に記載の走査型露光装置。
【請求項１２】
マスクと感応基板とを同期して移動しつつ、前記マスクに形成されたパターンを前記感応基板上のショット領域に転写する露光方法において、
前記感応基板内での前記ショット領域の配置に応じて、前記感応基板と所定の基準平面との間隔のみを調整するか、前記間隔及び前記基準平面に対する傾斜を調整するかを選択することを特徴とする露光方法。
【請求項１３】
前記感応基板の有効領域外縁と前記ショット領域の露光開始位置との位置関係に応じて前記調整の選択が行われることを特徴とする請求項１２に記載の露光方法。
【請求項１４】
前記感応基板の有効領域外縁と前記ショット領域の露光終了位置との位置関係に応じて前記調整の選択が行われることを特徴とする請求項１２に記載の露光方法。
【請求項１５】
前記選択の結果に基づいて、前記感応基板と前記基準平面との位置関係を調整して、前記ショット領域に前記マスクのパターンを転写することを特徴とする請求項１２〜１４のいずれか一項に記載の露光方法。
【請求項１６】
請求項１２〜１５のいずれか一項に記載の露光方法を用いて、前記マスクに形成されたパターンを前記ショット領域に転写して回路素子を製造する回路製造方法。
【請求項１７】
マスクと感応基板とを同期して移動しつつ、前記マスクに形成されたパターンを前記感応基板上のショット領域に転写して回路素子を形成する回路製造方法において、
前記感応基板内での前記ショット領域の配置に応じて、前記感応基板と所定の基準平面との間隔のみを調整するか、前記間隔及び前記基準平面に対する傾斜を調整するかを選択する工程と；
選択結果に基づいて前記感応基板の前記間隔又は前記間隔及び前記傾斜を調整した後、前記マスクに形成されたパターンを前記感応基板上に転写する工程とを含むことを特徴とする回路製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
これによれば、第２の制御手段では、所定のショット領域の走査露光の際に、フォーカス検出系の検出結果のみで感応基板の光軸方向位置及び光軸直交面に対する走査方向及びこれに直交する方向の傾斜調整が可能であれば、フォーカス検出系の検出結果のみで通常のフォーカス・レベリング制御を行ない、これ以外の場合には、該検出結果と直前のショット領域の露光の際の情報とに基づいて感応基板の光軸方向位置及び光軸直交面に対する走査方向及びこれに直交する方向の傾斜調整を行なう。このため、いかなる場合でも感応基板の走査方向及びこれに直交する方向のある程度の精度の傾斜調整（レベリング制御）を含むフォーカス制御が可能となる。
請求項９に記載の発明は、マスクと感応基板とを投影光学系に対して所定の走査方向に相対移動しつつ、前記マスクに形成されたパターンを投影光学系を介して前記感応基板上に逐次転写する走査型露光装置であって、前記感応基板上の複数の検出点における前記感応基板表面のフォーカス情報を検出するフォーカス検出系と；前記感応基板を前記投影光学系の光軸方向及び前記光軸直交面に対して傾斜駆動する基板駆動系と；前記感応基板上の所定のショット領域の走査露光の際に、そのショット領域の前記感応基板上での配置情報に基づいて前記感応基板の前記光軸方向位置のみを調整するか、前記感応基板の光軸方向位置及び前記光軸直交面に対する傾斜を調整するかを判定し、この判定結果に応じて前記フォーカス検出系の検出結果に基づいて前記基板駆動系を制御する制御手段とを有する走査型露光装置である。
この場合において、請求項１０に記載の走査型露光装置の如く、前記判定は、前記所定のショット領域の露光前に行われることとすることができる。
上記請求項９及び１０に記載の各走査型露光装置において、請求項１１に記載の走査型露光装置の如く、前記フォーカス検出系は、前記ショット領域の露光中に、前記感応基板表面のフォーカス情報を検出することとすることができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
請求項１２に記載の発明は、マスク（Ｒ）と感応基板（Ｗ）とを同期して移動しつつ、前記マスク（Ｒ）に形成されたパターンを前記感応基板（Ｗ）上のショット領域に転写する露光方法において、前記感応基板（Ｗ）内での前記ショット領域の配置に応じて、前記感応基板（Ｗ）と所定の基準平面との間隔のみを調整するか、前記間隔及び前記基準平面に対する傾斜を調整するかを選択することを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
この場合において、請求項１３に記載の発明の如く、前記感応基板の有効領域外縁と前記ショット領域の露光開始位置との位置関係に応じて前記調整の選択を行っても良く、あるいは請求項１４に記載の発明の如く、前記感応基板の有効領域外縁と前記ショット領域の露光終了位置との位置関係に応じて前記調整の選択を行っても良い。
上記請求項１２〜１４に記載の各露光方法において、請求項１５に記載の露光方法の如く、前記選択の結果に基づいて、前記感応基板と前記基準平面との位置関係を調整して、前記ショット領域に前記マスクのパターンを転写することとすることができる。
請求項１６に記載の発明は、請求項１２〜１５のいずれか一項に記載の露光方法を用いて、前記マスクに形成されたパターンを前記ショット領域に転写して回路素子を製造する回路製造方法である。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
また、請求項１７に記載の発明は、マスクと感応基板とを同期して移動しつつ、前記マスクに形成されたパターンを前記感応基板上のショット領域に転写して回路素子を形成する回路製造方法において、前記感応基板内での前記ショット領域の配置に応じて、前記感応基板と所定の基準平面との間隔のみを調整するか、前記間隔及び前記基準平面に対する傾斜を調整するかを選択する工程と；選択結果に基づいて前記感応基板の前記間隔又は前記間隔及び前記傾斜を調整した後、前記マスクに形成されたパターンを前記感応基板上に転写する工程とを含むことを特徴とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
これによれば、前記請求項１２に記載の発明と同様の理由によりデフォーカス状態でマスクのパターンが感応基板上に露光されることがなくなるので、色ムラに起因する回路素子の解像度低下を防止することができ、これにより製品の歩止まりの低下を防止しあるいは歩止まりを向上させることができる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９３】
【発明の効果】
以上説明したように、請求項１ないし１５に記載の各発明によれば、露光時のデフォーカスに起因する色ムラの発生防止とスループットの向上とを両立させることができるという従来にない優れた効果がある。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９４】
また、請求項１６及び１７に記載の各発明によれば、露光時のデフォーカスに起因する色ムラの発生による製品の歩止まりの低下等を防止することができる。