【手続補正書】
【提出日】平成17年4月1日(2005.4.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
加工物を処理する、特に、流体の塗布で中空体のプラズマコーティングを行う装置（１）であって、
少なくとも１つの加工物を受け取る少なくとも１つの処理器（１０１）と、
該処理器（１０１）を載置するロータ（３２）と、
少なくとも１つの流体を前記ロータ（３２）に供給し、かつ／または少なくとも１つの流体を前記ロータ（３２）から排出する流体回転リードスルー（８２、１８２）と、
を備えており、
該流体回転リードスルー（８２、１８２）は、少なくとも部分的に互いに封鎖されたジャーナル（２、１０２）及びスリーブ（４、１０４）を有し、前記ジャーナル（２、１０２）は、前記スリーブ（４、１０４）内に回転可能に配置されている装置。
【請求項２】
装置（１）であって、前記ジャーナル（２、１０２）は、流体通路（１２１〜１２６）を有しており、該流体通路を介して流体が前記ロータ（３２）上の前記処理器（１０１）に供給され、かつ／または流体が前記ロータ（３２）上の前記処理器（１０１）から排出される請求項１に記載の装置。
【請求項３】
装置（１）であって、前記ジャーナル（２、１０２）及び前記スリーブ（４、１０４）の各々は、経路接続部（１３４、１３６）を有しており、該経路接続部は、前記流体通路（１２１〜１３６）を介して互いに接続され、それにより、流体が流れることができる先行する請求項のいずれか１項に記載の装置。
【請求項４】
装置（１）であって、前記ジャーナル（２、１０２）は、ほぼ円柱形であり、前記スリーブ（４、１０４）は、ほぼ中空円柱形であり、前記ジャーナルは、前記スリーブ内に同心状に配置され、前記流体回転リードスルー（８２、１８２）は、前記ロータの軸（７）に沿って延在する先行する請求項のいずれか１項に記載の装置。
【請求項５】
装置（１）であって、前記スリーブ（４、１０４）は、前記ロータ（３２）に回り止め状態に固定されて、前記ロータと共に回転する先行する請求項のいずれか１項に記載の装置。
【請求項６】
前記ジャーナル（２、１０２）は、前記ロータ（３２）に回り止め状態に固定されて、前記ロータと共に回転する先行する請求項のいずれか１項に記載の装置。
【請求項７】
前記ジャーナル（２、１０２）は、軸方向及び半径方向部分（２３、２５）を含む少なくとも１つの通路（２１）を有し、前記半径方向通路部分（２５）は、前記ジャーナル（２、１０２）の側面（２８）に開口している先行する請求項のいずれか１項に記載の装置。
【請求項８】
装置（１）であって、前記スリーブ（４、１０４）または前記ジャーナル（２、１０２）は、前記ジャーナルの周りに少なくとも１つの環状通路（４１〜４４）を有しており、前記軸方向通路部分（２３）、前記半径方向通路部分（２５）及び前記環状通路（２１）は、流体通路を形成している先行する請求項のいずれか１項に記載の装置。  
【請求項９】
装置（１）であって、前記環状通路（４１〜４４）の第１／第２側部において軸方向にずらして配置された少なくとも第１及び第２シール（３０）を備えており、該第１及び第２シール（３０）は、リングシールとして構成されている請求項８に記載の装置。  
【請求項１０】
装置（１）であって、前記シール（３０）は、オイルで潤滑される請求項９に記載の装置。
【請求項１１】
装置（１）であって、前記流体回転リードスルー（８２、１８２）内にシーラント経路を備えている先行する請求項のいずれか１項に記載の装置。
【請求項１２】
装置（１）であって、前記環状通路（１４１〜１４６）は、全周にわたって延在するように構成され、前記ロータ（３２）の回転中、前記ジャーナル及び前記スリーブの経路接続部（１２４、１２６、１２８、１３０）は、互いに連続的に接続されている先行する請求項のいずれか１項に記載の装置。
【請求項１３】
装置（１）であって、前記スリーブ（４、１０４）は、星形に分散配置された複数の半径方向経路接続部（５１１、５１２）を有し、各処理器（１０１）に経路接続部が割り当てられている先行する請求項のいずれか１項に記載の装置。
【請求項１４】
装置（１）であって、複数の流体通路（２１〜２４）を備えており、前記ジャーナル（２、１０２）は、それぞれ軸方向及び半径方向通路部分（２３、２４；２５、２６）を含む複数の通路を有し、該半径方向通路部分（２５、２６）は、前記ジャーナル（２、１０２）の前記側面（２８）に開口しており、前記軸方向通路部分（２３、２４）は、リング状にずれている先行する請求項のいずれか１項に記載の装置。
【請求項１５】
装置（１）であって、前記処理器（１０１）は、作動時に、少なくとも１つの排気段階及び少なくとも１つのコーティング段階を進み、前記処理器（１０１）は、前記排気段階中、第１流体通路（１２１）を介して第１真空ポンプ（２０２、２０４）に接続され、前記コーティング段階中、第２流体通路（１２５）を介して第２真空ポンプ（２１２、２１４、２１６、２１８）に接続される先行する請求項のいずれか１項に記載の装置。
【請求項１６】
装置（１）であって、前記スリーブ（４、１０４）または前記ジャーナル（２、１０２）は、複数の環状通路（４１〜４４）を有しており、該環状通路の各々は、前記半径方向通路部分（２５、２６）の１つに接続されており、前記半径方向通路部分（２５、２６）の各々及び対応の環状通路は、同一平面上に位置しており、前記さまざまな環状通路（４１〜４４）は、互いに軸方向にずれている先行する請求項のいずれか１項に記載の装置。
【請求項１７】
装置（１）であって、それぞれ少なくとも１つのリングシール（３０）が、前記環状通路（４１〜４４）間に設けられている先行する請求項のいずれか１項に記載の装置。
【請求項１８】
装置（１）であって、前記流体の供給及び排出は、弁装置（２６０）によって一時的に制御される先行する請求項のいずれか１項に記載の装置。
【請求項１９】
装置（１）であって、前記流体回転リードスルー（８２、１８２）は、少なくとも１つのガス供給通路（１２２）及び少なくとも１つの排気通路（１２１）を有し、流体が前記ガス供給通路（１２２）を介して前記ロータ上の前記処理器（１０１）に供給され、流体の排出は、真空ポンプ（２０６〜２１８）によって前記排気通路（１２１）を介して前記処理器（１０１）を排気することを含む先行する請求項のいずれか１項に記載の装置。
【請求項２０】
装置（１）であって、前記排気通路（１２１）は、内径が２５ｍｍ〜２５０ｍｍであり、前記ガス供給通路（１２２）は、内径が５ｍｍ〜５０ｍｍである請求項１９に記載の装置。
【請求項２１】
装置（１）であって、前記流体回転リードスルー（８２、１８２）は、複数のガス供給通路（１２２、１２４、１２６）及び複数の排気通路（１２１、１２３、１２５）を有する先行する請求項のいずれか１項に記載の装置。
【請求項２２】
装置（１）であって、前記加工物の前記処理中には少なくとも時々、前記処理器（１０１）を真空ポンプ（２０６〜２１８）によって排気し、該排気は、多数の段階で行われ、前記真空ポンプの少なくとも１つ（２０６、２１２）は、前記ロータ上に配置されている先行する請求項のいずれか１項に記載の装置。
【請求項２３】
少なくとも１つの加工物を受け取る少なくとも１つの処理器（１０１）、及び該処理器（１０１）を載置するロータ（３２）を有する加工物処理装置用に構成された流体回転リードスルー（８２、１８２）、特に、先行する請求項のいずれか１項に記載された、流体の塗布によって中空体のプラズマコーティングを行う装置（１）用に構成された流体回転リードスルー（８２、１８２）であって、ジャーナル（２、１０２）及びスリーブ（４、１０４）を有し、これらは少なくとも部分的に互いに対して封鎖され、また、前記ジャーナル及び前記スリーブはそれぞれ、経路接続部（１３４、１３６）を有し、該経路接続部は少なくとも時々、該流体回転リードスルー（８２、１８２）内の流体通路（１２１）を介して互いに接続され、それにより、流体が該流体回転リードスルー（８２、１８２）を通って流れることができ、また、前記ジャーナル（２、１０２）は、前記スリーブ（４、１０４）内に回転可能に配置されている流体回転リードスルー。