Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成16年11月19日(2004.11.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
家系情報と形質情報とを基に遺伝子座における家系構成員の遺伝子型を擬似的に生成する遺伝子型シミュレーション方法において、家系情報と形質情報とを基に家系構成員の遺伝子型を遺伝子座ごとに個別に生成するステップを含むことを特徴とする遺伝子型シミュレーション方法。
【請求項２】
家系情報と形質情報とを基に遺伝子座における家系構成員の遺伝子型を擬似的に生成する遺伝子型シミュレーション方法において，家系内の創始者の遺伝子型と、その家系に対する継承ベクトルとを生成するステップを含むことを特徴とする遺伝子型シミュレーション方法。
【請求項３】
請求項２に記載の遺伝子型シミュレーション方法において，複数の遺伝子座における継承ベクトルを前記遺伝子座間の組み換え割合に応じて擬似的に生成するステップを含むことを特徴とする遺伝子型シミュレーション方法。
【請求項４】
請求項２又は請求項３に記載の遺伝子型シミュレーション方法において，ある遺伝子座における創始者が取り得る遺伝子型の事後確率を形質情報を基に計算し，該事後確率に基づいて前記創始者の遺伝子座の遺伝子型を擬似的に生成することを特徴とする遺伝子型シミュレーション方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
従来の代表的なシミュレーションプログラムとして，たとえば以下の文献１に示されるようなＳＬＩＮＫやＦａｓｔＳＬＩＮＫなどがある（文献１：Computer-Simulation methods in human linkage analysis, Proc Natl Acad Sci USA, Vol.86, pp.4175-4178, 1989)。これらのプログラムでは，両親の遺伝子型を基に子が取り得るすべての遺伝子マーカーの遺伝子型の組み合わせを考え，それぞれの組み合わせの生起確率を計算し，その生起確率に基づいてすべての組み合わせの中から擬似乱数によって確率の高い１つを選択するというのが基本的な考え方である。この方法だと，各遺伝子マーカーが２種類の対立遺伝子をもつとすると，ｍ個の遺伝子マーカーの遺伝子型のシミュレーションを行なうためには２＾２ｍ通りの場合の計算を行なう必要がある。
【手続補正書】
【提出日】平成16年12月1日(2004.12.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｘ線を発生するＸ線源と、検査対象に前記Ｘ線を照射して前記検査対象の透過像を検出する２次元Ｘ線検出器と、前記Ｘ線源と前記検査対象の間に配置されるＸ線グリッドと、前記２次元Ｘ線検出器の出力の演算処理を行なう演算処理手段とを有し、前記演算処理手段は、所定の個数の画素の間隔をおいたサンプリング周波数で、前記Ｘ線グリッドのＸ線吸収体グリッドが配列する方向で前記透過像の画像から画素を抽出し、所定の角度だけ異なる位相をもつ干渉縞がそれぞれ出現する２つの抽出画像を求める演算と、前記２つの抽出画像の間の画素値の差分から干渉縞の振幅の分布を表わす振幅分布画像を求める演算と、前記振幅分布画像を用いて前記透過像の画像に含まれる散乱Ｘ線成分の分布を表わす散乱Ｘ線分布画像を求める演算と、前記透過像の画像の画素値から前記散乱Ｘ線分布画像の画素値を減算して、前記透過像の画像から前記散乱Ｘ線成分を除去する演算とを行なうことを特徴とするＸ線検査装置。
【請求項２】
Ｘ線を発生するＸ線源と、検査対象に前記Ｘ線を照射して前記検査対象の透過像を検出する２次元Ｘ線検出器と、前記Ｘ線源と前記検査対象の間に配置されるＸ線グリッドと、前記２次元Ｘ線検出器の出力の演算処理を行なう演算処理手段とを有し、前記演算処理手段は、前記Ｘ線グリッドのＸ線吸収体グリッドが配列する方向で前記透過像の画像から画素を抽出し、所定の角度だけ異なる位相をもつ干渉縞がそれぞれ出現する２つの抽出画像を求める演算と、前記２つの抽出画像から求めた干渉縞の振幅の分布を表わす振幅分布画像を用いて、前記透過像の画像に含まれる散乱Ｘ線成分の分布を表わす散乱Ｘ線分布画像を求める演算と、前記透過像の画像の画素値から前記散乱Ｘ線分布画像の画素値を減算して、前記透過像の画像から前記散乱Ｘ線成分を除去する演算とを行なうことを特徴とするＸ線検査装置。
【請求項３】
Ｘ線を発生するＸ線源と、検査対象に前記Ｘ線を照射して前記検査対象の透過像を予め設定された空間サンプリング周波数で検出する２次元Ｘ線検出器と、前記Ｘ線源と前記検査対象の間に配置されるＸ線グリッドと、前記２次元Ｘ線検出器の出力の演算処理を行なう演算処理手段とを有し、前記演算処理手段は、ｎを整数として、前記２次元Ｘ線検出器の前記空間サンプリング周波数の（１／ｎ）の空間サンプリング周波数で、前記透過像の画像の画素データをサンプリングして所定の逆転する位相をもつ干渉縞がそれぞれ出現する２つの抽出画像を求める演算と、前記２つの抽出画像の間の画素値の差分により干渉縞の振幅の分布を表わす振幅分布画像を求める演算と、前記振幅分布画像を用いて、前記透過像の画像に含まれる散乱Ｘ線成分の分布を表わす散乱Ｘ線分布画像を求める演算と、前記透過像の画像の画素値から前記散乱Ｘ線分布画像の画素値を減算して、前記透過像の画像から前記散乱Ｘ線成分を除去する演算とを行なうことを特徴とするＸ線検査装置。
【請求項４】
Ｘ線を発生するＸ線源と、検査対象に前記Ｘ線を照射して前記検査対象の透過像を検出する２次元Ｘ線検出器と、前記検査対象を支持する検査対象支持手段と、前記２次元Ｘ線検出器の出力の演算処理を行なう演算処理手段を有し、前記検査対象支持手段の上面に前記検査対象が配置され、前記検査対象支持手段の下面に前記Ｘ線源が配置され、前記Ｘ線源と前記検査対象支持手段の下面の間にＸ線グリッドが配置されることを特徴とするＸ線検査装置。
【請求項５】
Ｘ線を発生するＸ線源と、検査対象に前記Ｘ線を照射して前記検査対象の透過像を検出する２次元Ｘ線検出器と、前記Ｘ線源と前記２次元Ｘ線検出器の対から構成される撮影系を前記検査対象の周囲に回転する撮影系回転手段と、前記２次元検出器の出力の演算処理を行う演算処理手段を有し、前記Ｘ線源と前記検査対象の間にＸ線グリッドが配置され、前記撮影系回転手段は前記撮影系に対する前記Ｘ線グリッドの位置を略一定に保持したまま前記撮影系を回転させて、前記検査対象に対して複数の方向から複数枚のＸ線透過像の撮影を行い前記検査対象のＸ線断層像を生成し表示することを特徴とするＸ線検査装置。
【請求項６】
Ｘ線を発生するＸ線源と、検査対象に前記Ｘ線を照射して前記検査対象の透過像を検出するＸ線検出器と、前記Ｘ線源と前記検査対象との間に配置されたＸ線グリッドとを有し、前記検査対象の透過像中に発生する干渉縞の振幅に基づいて、前記透過像に含まれる散乱Ｘ線成分を抽出し、除去するよう構成したことを特徴とするＸ線検査装置。
【手続補正書】
【提出日】平成17年3月31日(2005.3.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の端末装置からの複数回線のフレームを所定の伝送路に多重化して伝送する回線多重化装置において、
前記端末装置からの所定速度のフレームを受けて、その回線速度を多重化する際の速度にそれぞれ変換する複数の端末側インタフェースと、
該端末側インタフェースからの速度変換されたフレームをそれぞれタイムスロット処理して多重化するタイムスロット処理手段と、
該タイムスロット処理手段によって多重化したフレームを所定のフォーマットに変換して伝送路に伝送する伝送路側インタフェースと、
共通の電源からの電源電圧を少なくとも２系統に分岐して、その一方を前記端末側インタフェースおよびタイムスロット処理手段に供給し、他方をバックアップ用コンデンサを介して前記伝送路側インタフェースに供給する電源供給手段とを含むことを特徴とする回線多重化装置。
【請求項２】
請求項１に記載の回線多重化装置において、
前記伝送路側インタフェースは、伝送路を介して接続された上位装置に自装置の電源断を表わす通知ビットを多重化フレームの所定位置に挿入する通知ビット挿入手段を含み、
前記電源供給手段は、共通の電源が断となったか否かを検出して、その結果を前記伝送路側インタフェースの通知ビット挿入手段に供給する電源断検出手段を含むことを特徴とする回線多重化装置。
【請求項３】
請求項２に記載の回線多重化装置において、
前記電源供給手段のバックアップ用コンデンサは、前記電源断検出手段により電源断を検出してその結果を前記伝送路側インタフェースの通知ビット挿入手段により多重化フレームに挿入して、これを上位装置に所定の回数以上送信可能な時間分、前記伝送路側インタフェースに電力を供給可能な容量を有することを特徴とする回線多重化装置。
【請求項４】
請求項１ないし請求項３のいずれかに記載の回線多重化装置において、
前記伝送路側インタフェースは、共通の電源が電源断となった際に、前記タイムスロット処理手段との間の電圧差を許容するトレラントバッファが配置されていることを特徴とする回線多重化装置。
【請求項５】
請求項１ないし請求項４のいずれかに記載の回線多重化装置において、
前記端末側インタフェースと前記伝送路側インタフェースは、それぞれ端末装置または伝送路の回線速度に応じたユニットに取り替え自在に形成されていることを特徴とする回線多重化装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本発明による回線多重化装置は上記課題を解決するために、複数の端末装置からの複数回線のフレームを所定の伝送路に多重化して伝送する回線多重化装置において、それぞれの端末装置からの所定速度のフレームを受けて、その回線速度を多重化する際の速度にそれぞれ変換する複数の端末側インタフェース１００と、端末側インタフェースからの速度変換されたデータをそれぞれタイムスロット処理して多重化するタイムスロット処理手段２００と、タイムスロット処理手段により多重化したフレームを所定のフォーマットに変換して伝送路に伝送する伝送路側インタフェース３００と、共通の電源からの電源電圧を少なくとも２系統に分岐して、その一方を端末側インタフェース１００およびタイムスロット処理手段２００に供給し、他方をバックアップ用コンデンサ４１４を介して伝送路側インタフェース３００に供給する電源供給手段４００と、を含むことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成17年1月12日(2005.1.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
無線通信アクセスを制御する方法であって、
第１の位置を有する少なくとも１つの第１コンピューティング装置により、アクセスゾーンを定義するステップと、
前記アクセスゾーンに対する第２コンピューティング装置の第２の位置に基づいて、前記第１コンピューティング装置への無線アクセスを第２コンピューティング装置に選択的に許可するステップと、
を含む方法。
【請求項２】
第３のコンピューティング装置を使用して、前記第１および第２コンピューティング装置の第１および第２の位置をそれぞれ決定することを支援し、さらに、該第３のコンピューティング装置の第３の位置の決定を支援するステップを含む、
請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記定義するステップは、さらに、
垂直成分と２つの水平成分とを含む３次元で前記アクセスゾーンを確立し、３次元形状のアクセスゾーンを形成するステップを含む、
請求項１に記載の方法。
【請求項４】
さらに、
無線通信アクセスを許可され、かつ前記第２コンピューティング装置による使用が可能である前記アクセスゾーン内で、複数の前記第１コンピューティング装置を特定するステップと、
前記アクセスゾーン内で、前記第１および第２コンピューティング装置の第１および第２の位置を検出してマッピングするステップと、
を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記許可するステップは、さらに、
前記第２コンピューティング装置が前記アクセスゾーンに入るとき、該第２コンピューティング装置の特定に基づいて、前記第１コンピューティング装置を介してアクセス可能なソフトウェア・アプリケーションを選択的に起動しまたは停止するステップを含む、
請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記定義するステップは、さらに、前記アクセスゾーン内に複数のサブゾーンを定義するステップを含み、
前記許可するステップは、さらに、前記複数のサブゾーンのそれぞれに対する前記第２コンピューティング装置の第２の位置に基づいて、該第２コンピューティング装置にアクセスを許可するステップをさらに含む、
請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記第１コンピューティング装置および前記アクセスゾーンを移動するステップと、
前記アクセスゾーンが移動している間に、該移動しているアクセスゾーンへの選択的無線アクセスを許可するよう前記第２コンピューティング装置を移動するステップと、
前記アクセスゾーンが移動している間に、該移動しているアクセスゾーンの形状およびサイズのうちの少なくとも１つを選択的に変更するステップと、
をさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記許可するステップは、
前記第２コンピューティング装置の位置が前記アクセスゾーン内にあるとき、該第２コンピューティング装置にアクセスを許可するステップと、
前記第２コンピューティング装置の位置が前記アクセスゾーン外にあるとき、該第２コンピューティング装置にアクセスを許可するステップと、
前記第２コンピューティング装置の位置が前記アクセスゾーン内にあるとき、該第２コンピューティング装置に対してアクセスを拒否するステップと、
をさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
請求項１から８のいずれかに記載の方法を実行するための無線アクセス決定システムであって、
ポジションロケータを有する無線通信モジュールをそれぞれが含む第１コンピューティング装置および第２の移動型コンピューティング装置を備え、
前記第１コンピューティング装置は、該第１コンピューティング装置に隣接して前記アクセスゾーンを確立するように構成され、前記アクセスゾーンに対する前記第２の移動型コンピューティング装置の位置に基づいて、該第２の移動型コンピューティング装置に、前記第１コンピューティング装置に対する無線通信アクセスが選択的に許可される、システム。
【請求項１０】
ポジションロケータを有する無線通信モジュールを含む第３のコンピューティング装置をさらに備え、
該第３のコンピューティング装置は、前記第１コンピューティング装置が前記アクセスゾーンを確立して前記第２の移動型コンピューティング装置の位置を決定することを支援するよう構成される、
請求項９に記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成17年5月27日(2005.5.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
また、図１２に示されているインナーロータ型のコア付きモータには、ステータタコア５が装着されている。このステータコア５には、半径方向内側に向かって延設されたコアリブ部５ａが設けられていて、そのコアリブ部５ａに対して巻線５ｂが巻回されているとともに、上記コアリブ部５ａの半径方向の先端部分（内端部分）には、略円弧状に延在するティース部５ｃが設けられている。そして、それらのティース部５ｃの半径方向内側の中心部分には、ロータマグネット６が回転軸７に固定されて配置されている。
【手続補正書】
【提出日】平成17年4月18日(2005.4.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
軸部本体の一端部に環状体を嵌合した軸部を持ち、前記環状体と対向するカウンタプレートの部分には複数条の溝が形成され、スラスト・ラジアル両荷重を支持する流体動圧軸受を介して回転体を固定部に支持するモータであって、前記流体動圧軸受の軸端部で相対向する略平坦状の面部のうち一方の面部に、該一方の面部と別体の１個または複数個の凸部を、かつ、前記回転体の回転静止時に他方の面部に当接可能に設けたことを特徴とするモータ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
請求項１記載のモータにおいて、前記一方の面部は前記回転体に備えられる前記軸部の端面部で、かつ前記他方の面部は前記軸部の端面部に臨む固定部における固定部軸部側対向面部であるか、又は前記一方の面部は前記固定部軸部側対向面部で、かつ前記他方の面部は前記軸部の端面部であることを特徴とするモータ。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
【課題を解決するための手段】
請求項１記載の発明は、軸部本体の一端部に環状体を嵌合した軸部を持ち、前記環状体と対向するカウンタプレートの部分には複数条の溝が形成され、スラスト・ラジアル両荷重を支持する流体動圧軸受を介して回転体を固定部に支持するモータであって、前記流体動圧軸受の軸端部で相対向する略平坦状の面部のうち一方の面部に、該一方の面部と別体の１個または複数個の凸部を、かつ、前記回転体の回転静止時に他方の面部に当接可能に設けたことを特徴とする。
請求項２記載の発明は、請求項１記載のモータにおいて、前記一方の面部は前記回転体に備えられる前記軸部の端面部で、かつ前記他方の面部は前記軸部の端面部に臨む固定部における固定部軸部側対向面部であるか、又は前記一方の面部は前記固定部軸部側対向面部で、かつ前記他方の面部は前記軸部の端面部であることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成16年12月9日(2004.12.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
メディアゲートウェイ制御装置の制御下でメディアゲートウェイを介して確立された遠隔通信呼についての呼詳細記録の生成方法であって、メディアゲートウェイと少なくとも一つのメディアゲートウェイ制御装置との間で交換されたメッセージを検出するステップと、メッセージ中に識別情報を配置するステップと、第１種の識別情報に従って、コマンドメッセージを対応する応答メッセージに関連付けるステップと、第２種の識別情報に従って、特定のゲートウェイに関するコマンドメッセージと応答メッセージを関連付けるステップと、第３種の識別情報に従って、異なるゲートウェイに関するメッセージを関連付けるステップと、互いに関連付けたメッセージを複合し、呼詳細記録を生成するステップとを含む方法。
【請求項２】
前記第１種の識別情報が、ゲートウェイのトランザクション識別情報からなる、請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記第１種の情報が、メッセージアドレス指定情報を含む、請求項２記載の方法。
【請求項４】
前記メッセージアドレス指定情報が、インターネットプロトコルアドレスからなる、請求項３記載の方法。
【請求項５】
前記第２種の識別情報が、前記ゲートウェイ内のメディア端末点の名称からなる、請求項１乃至４のいずれかに記載の方法。
【請求項６】
前記第３種の識別情報が、メディアゲートウェイを介して確立された呼を特定する固有の識別子からなる、請求項１乃至５のいずれかに記載の方法。
【請求項７】
前記第３種の識別情報が、関連するポートアドレスと併せた呼内伝送データ路用のインターネットプロトコルアドレスからなる請求項１乃至６のいずれかに記載の方法。
【請求項８】
メッセージアドレス指定情報が、前記ゲートウェイ内のメッセージ端末点の名称に関連する、請求項１乃至７のいずれかに記載の方法。
【請求項９】
呼とゲートウェイ内のメディア端末点の名称との間の一時的な関連付けが作成され、前記呼用の２つのゲートウェイ間の接続立ち上げの終焉に続く所定時間経過後に前記一時的な関連付けを終結させる、請求項１乃至８のいずれかに記載の方法。
【請求項１０】
前記メディアゲートウェイと前記メディアゲートウェイ制御装置は、メディアゲートウェイ制御プロトコルに従って通信する、請求項１乃至９のいずれかに記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年10月4日(2005.10.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
【発明の実施の形態】
（１）本発明の角化酵素抑制剤
本発明の角化酵素抑制剤は、イネ科タケ亜科の植物のエキスからなる。かかるイネ科タケ亜科の植物としては、例えば、モウソウダケ、マダケ、ネマガリダケ、コクチク又はコササクサ等の植物が好適に例示でき、これらの中ではコササクサが特に好適に例示できる。ここで、エキスとしては、植物体そのもの、植物体の加工物、植物体乃至は植物体の加工物に溶媒を加えて抽出した抽出物、抽出物より溶媒を除去した抽出物の溶媒除去物、抽出物乃至はその溶媒除去物を分画、精製した精製物等の何れもが使用可能である。かかるエキスの内、抽出物乃至はその溶媒除去物が好ましい。抽出物としては、極性の高い溶剤によって抽出された抽出物の溶剤除去物が特に好ましく例示できる。極性の高い溶剤としては、ジエチルエーテル、イソプロピルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル類、塩化メチレン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素類、酢酸エチル、蟻酸メチルなどのエステル類、アセトンやメチルエチルケトン等のケトン類、アセトニトリルなどのニトリル類、１，３−ブタンジオール、エタノール、イソプロピルアルコールなどのアルコール類、水などが好ましく例示できる。これらの内では、アルコール及び／又は水が特に好ましい。抽出は、植物体に対して１〜１０重量倍の溶剤を加え、室温であれば数日間、沸点付近の温度であれば数時間浸漬すればよい。抽出後は、必要に応じて、減圧濃縮などして溶剤を除去することが好ましい。この様なエキスを作成するのに好適な植物体の部位としては、特段の限定はされないが、葉を用いることが特に好ましい。かくして得られた、エキスは、生体触媒として生体内で様々な化学反応に関与する酵素の一つであり、主として毛髪や皮膚の表皮に広く分布し、ケラチン等の合成に関与して毛髪のキューティクルやコルテックスの生合成、あるいは、皮膚の角層の生合成を促進する働きを有する酵素である角化酵素の活性を抑制する作用を有する。前記角化酵素としては、スルフヒドリルオキシダーゼ（ＳＨオキシダーゼ）、トランスグルタミナーゼ（Ｔグルタミナーゼ）等が存在するが、本発明の角化酵素抑制剤はＳＨオキシダーゼの活性を好適に抑制する。本発明の皮膚外用剤に於いては、本発明の角化抑制剤は唯一種を含有させることも出来るし、二種以上を組み合わせて含有させることも出来る。本発明の皮膚外用剤に於ける、本発明の角化酵素抑制剤の好ましい含有量は、総量で、皮膚外用剤全量に対して、０．０１〜１０重量％であり、更に好ましくは０．１〜５重量％である。これは少なすぎると各酵素の活性抑制作用が発現しない場合があり、多すぎると抑制作用が頭打ちになり、処方の安定性を損なう場合があるからである。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成17年10月12日(2005.10.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１２】
比較例１  化合物（５−６）（トリス［２−（２，４−ジフルオロフェニル）ピリジナト−Ｎ，Ｃ６’］イリジウム（ＩＩＩ））のＷＯ  ０２／０２７１４号（特許文献１）に記載の方法による製造
三塩化イリジウム（ＩＩＩ）水和物（５００ｍｇ、１．４２ｍｍｏｌ、１当量）及びトリフルオロメタンスルホン酸銀（Ｉ）（１．０９ｇ、４．２６ｍｍｏｌ、３．０当量）をシュレンクフラスコに仕込み内部を窒素置換した。この中に２−（２，４−ジフルオロフェニル）ピリジン（２ｍＬ、ｓ／ｓ＝４）、及び水（１ｍＬ、ｓ／ｓ＝２）を加え、２００℃の油浴で加熱しながら３時間攪拌した。得られた黒色の反応液を蒸発乾固し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶離液：ジクロロメタン）にて精製した。カラムの分画を濃縮した後、ヘキサン／ジクロロメタンから再結晶することで標題の化合物（５−６）を黄緑色の粉末として５７１ｍｇ得た。収率５２．７％。生成物のＮＭＲデータは実施例１２に記載のものと一致した。
【手続補正書】
【提出日】平成16年8月25日(2004.8.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
特定のエマルジョン粒子として、コア層（1）がシラン化合物、アクリル系化合物、スチレン、アクリルニトリル系化合物、メタクリル系化合物の共重合体、シェル層（2）がシラン化合物、アクリル系化合物、スチレン、アクリルニトリル系化合物、メタクリル系化合物からなる共重合体のコア・シェル重合体の樹脂エマルジョンの固形分が、全塗料組成物の固形分に対して１０〜３０重量部、ウェッティング剤が０．５〜５．０重量部を含むことを特徴とする水性低汚染塗料組成物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
コア層（1）はシラン化合物０．０５〜５．０重量％、アクリル酸又は/及びそのアルキルエステル０〜７０重量％、スチレン０〜５０重量％、アクリロニトリル系化合物０〜５０重量％、メタクリル酸又は/及びそのアルキルエステル０〜５０重量％との共重合体、シェル層（2）にはシラン化合物０．０５〜５．０重量％、アクリル酸又は/及びそのアルキルエステル０〜５０重量％、メタクリル酸又はそのアルキルエステル０〜５０重量％、アクリロニトリル０〜５０重量％、スチレン０〜５０重量％で（1）/（2）＝９０（部）/１０（部）〜６０（部）/４０（部）である、共重合体のコア・シェル重合体からなるエマルジョン粒子の固形分が全塗料組成物の固形分に対して１０〜３０重量％、添加剤０〜２０重量％、充填材１０〜８０重量％、顔料０〜１５重量％、及びウェッティング剤が０．５〜５．０重量％を含むことを特徴とする水性低汚染塗料組成物。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】特定のエマルジョン粒子のうち、コア層（1）がシラン化合物、アクリル系化合物、スチレン、アクリルニトリル系化合物、メタクリル系化合物の共重合体、シェル層（2）がシラン化合物、アクリル系化合物、スチレン、アクリルニトリル系化合物、メタクリル系化合物からなる共重合体のコア・シェル重合体の樹脂エマルジョンの固形分が、全塗料組成物の固形分に対して１０〜３０重量部と、ウェツテイング剤が０．５〜５．０重量部を含む水性塗料組成物から構成される。  更に、エマルジョン粒子のコア層（1）にはシラン化合物０．０５〜５．０重量％、アクリル酸又は/及びそのアルキルエステル０〜７０重量％とスチレン０〜５０重量％、アクリロニトリル系化合物０〜５０重量％、メタクリル酸又は/及びそのアルキルエステル０〜５０重量％との共重合体からなり、シェル層（2）にはシラン化合物０．０５〜５．０重量％、アクリル酸又は/及びそのアルキルエステル０〜５０重量％、メタクリル酸又はそのアルキルエステル０〜５０重量％、アクリルニトリル０〜５０重量％、スチレン０〜５０重量％で（1）/（2）＝９０（部）/１０（部）〜６０（部）/４０（部）となる、共重合体のコア・シェル重合体からなる樹脂エマルジョンで固形分が、全塗料組成物の固形分に対して１０〜３０重量部、添加剤０〜２０重量部、充填材１０〜８０重量部、顔料０〜１５重量部、及びウェツテイング剤が０．５〜５．０重量部を含むことを特徴とする水性低汚染塗料組成物から構成される。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】ウェッティング剤は塗材表面の親水性向上と、塗材表面の静電気を帯電し難くするため添加する。その配合する割合は全塗料組成物の固形分あたり、０．５〜５．０重量％使用することが好ましく、効果と掛かるコストの面から、特に０．5〜２．０重量％が好ましい。０．５重量％よりも少ないと十分な耐汚染性、静電気防止効果が得られない。５．０重量％よりも多くなっても、コスト高になり添加量に比例した効果が得られないだけでなく耐水性を低下させる。ウェッティング剤はアセチレングリコール化合物、アセチレングリコールポリエチレンオキサイド化合物又はそれらと界面活性剤との混合物から構成される。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【0031】【静電気防止効果】 試験体を気温２５℃、湿度６５％で７日間養生した後、塗膜表面の電気抵抗をサンワエレクトロニックインストゥルメント社のＰＤＭ−５０７電気抵抗測定器で測定した。その測定結果は表2に示すとおりであった。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
【表２】
2004161894.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成17年10月18日(2005.10.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
また、本発明において成分（Ａ）のアクリル系共重合体のカルボキシル基と反応して硬化物を与える硬化剤としての、成分（Ｂ）のグリシジル基を有する化合物は、少なくとも分子中に２個以上のグリシジル基を有する化合物であり、該化合物のエポキシ当量（ＷＰＥ）は８０〜４００の範囲にあることが必要である。エポキシ当量が４００以上であると成分（Ａ）と反応させるために、成分（Ｂ）を多く添加する必要があるので、得られた成形体の要求性能が十分果たせないこととなり、またこれとは逆にエポキシ当量が８０以下であると、反応速度が速すぎて成形が困難となるからである。
また、成分（Ｂ）の化合物は１０１３ｈＰａ、２５℃において液状であり、かつ１０１３ｈＰａ下で１５０℃、１０分間加熱後の重量減少値が加熱前の重量に対して３％以下である実質的に溶媒を含まないものが望ましい。
ここで、グリシジル基を含有する化合物（Ｂ）において、１０１３ｈＰａ、１５０℃における１０分間加熱後の重量減少値が加熱前の重量に対して、３％以下であるのが好ましい。その理由としては、重量減少が３％より大きいと、カルボキシル基を有する化合物との反応により鎖延長する際の障害となる上、得られる成形体（シート等）の内部に気泡を発生させる原因となる場合があるからである。また、実質溶剤を含まない方が好ましい理由は、溶剤の存在が重量減少の原因となるからである。
なお、本明細書で使用する加熱重量減少値は、メトラートレド（株）社製ＨＧ５３型ハロゲン水分計を用い、常圧（１０１３ｈＰａ）の下で、試料５ｇを１５０℃、１０分間加熱時の重量変化を測定し、加熱前後の重量比較により減少率を算出したものである。
【手続補正書】
【提出日】平成17年4月21日(2005.4.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】感光性樹脂組成物および含水ゲルの形成方法並びに含水ゲル
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（メタ）アクリル酸系ポリマー中のカルボキシル基の一部に下記一般式（１）に示される化合物を付加させた、固形分酸価が１７０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であるポリ（メタ）アクリル酸系水溶性感光性樹脂（Ａ）と、光重合開始剤（Ｂ）と、水（Ｃ）とを含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。
【化１】
2004161942.tif 000001
【請求項２】
請求項１において、前記（メタ）アクリル酸系ポリマーの前記一般式（１）で示される化合物が付加していないカルボキシル基の一部、または全部がアルカリにより中和されていることを特徴とする感光性樹脂組成物。
【請求項３】
請求項１または２の感光性樹脂組成物を用い、光重合反応させることにより含水ゲルを得ることを特徴とする含水ゲルの形成方法。
【請求項４】
（メタ）アクリル酸系ポリマー中のカルボキシル基の一部に下記一般式（１）に示される化合物を付加させた、固形分酸価が１７０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であるポリ（メタ）アクリル酸系水溶性感光性樹脂（Ａ）と、光重合開始剤（Ｂ）と、水（Ｃ）とを含有する感光性樹脂組成物を用い、光重合反応させることにより得たことを特徴とする含水ゲル。
【化２】
2004161942.tif 000002
【請求項５】
請求項４において、前記（メタ）アクリル酸系ポリマーの前記一般式（１）で示される化合物が付加していないカルボキシル基の一部、または全部がアルカリにより中和されていることを特徴とする含水ゲル。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討を重ねた結果、（メタ）アクリル酸系ポリマー中のカルボキシル基の一部と、下記一般式（１）に示される化合物との付加反応によって得られるポリ（メタ）アクリル酸系水溶性感光性樹脂を用いることにより、保存安定性に優れ、様々な化合物に対しての親和性、混合溶解性を持ち、かつ高感度で含水状態においても光固定化可能な感光性樹脂組成物およびそれを用いた含水ゲル形成方法並びに含水ゲルを完成するに至った。なお、本明細書において、「（メタ）アクリル酸」は、「アクリル酸またはメタクリル酸」を意味する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
かかる本発明の第１の態様は、（メタ）アクリル酸系ポリマー中のカルボキシル基の一部に下記一般式（１）に示される化合物を付加させた、固形分酸価が１７０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であるポリ（メタ）アクリル酸系水溶性感光性樹脂（Ａ）と、光重合開始剤（Ｂ）と、水（Ｃ）とを含有することを特徴とする感光性樹脂組成物にある。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
【化３】
2004161942.tif 000003
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
本発明の第３の態様は、第１または２の態様の感光性樹脂組成物を用い、光重合反応させることにより含水ゲルを得ることを特徴とする含水ゲルの形成方法にある。
本発明の第４の態様は、（メタ）アクリル酸系ポリマー中のカルボキシル基の一部に下記一般式（１）に示される化合物を付加させた、固形分酸価が１７０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であるポリ（メタ）アクリル酸系水溶性感光性樹脂（Ａ）と、光重合開始剤（Ｂ）と、水（Ｃ）とを含有する感光性樹脂組成物を用い、光重合反応させることにより得たことを特徴とする含水ゲルにある。
【化４】
2004161942.tif 000004
本発明の第５の態様は、第４の態様において、前記（メタ）アクリル酸系ポリマーの前記一般式（１）で示される化合物が付加していないカルボキシル基の一部、または全部がアルカリにより中和されていることを特徴とする含水ゲルにある。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
本発明の感光性樹脂組成物は、ポリ（メタ）アクリル酸系水溶性感光性樹脂（Ａ）と、光重合開始剤（Ｂ）と、水（Ｃ）とを含有する。
【手続補正書】
【提出日】平成16年5月17日(2004.5.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
分子中にビニル芳香族化合物からなる重合体ブロックＡを有し、かつ、共役ジエン化合物からなる重合体ブロックＢを有するブロック共重合体を水素添加して得られる水素添加ブロック共重合体（イ）を主体とした熱可塑性エラストマー１００重量部に対し、ポリオレフィンブロックと親水性ポリマーのブロックとが交互に結合した構造を有するブロックポリマー（ハ）を２〜１００重量部含有し、かつＪＩＳ Ｋ６２５３のタイプＡデュロメータ硬さが９０以下である熱可塑性エラストマー組成物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
【課題を解決するための手段】
上記目的は、分子中にビニル芳香族化合物からなる重合体ブロックＡを有し、かつ、共役ジエン化合物からなる重合体ブロックＢを有するブロック共重合体を水素添加して得られる水素添加ブロック共重合体（イ）もしくはオレフィン系エラストマー（ロ）を主体とした熱可塑性エラストマー１００重量部に対し、ポリオレフィンブロックと親水性ポリマーのブロックとが交互に結合した構造を有するブロックポリマー（ハ）を２〜１００重量部含有し、かつＪＩＳ  Ｋ６２５３のタイプＡデュロメータ硬さが９０以下である熱可塑性エラストマー組成物を提供することによって達成される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
本発明においては、上記熱可塑性エラストマーにポリオレフィンブロックと親水性ポリマーのブロックとが交互に結合した構造を有するブロックポリマー（ハ）｛以下、（ハ）をブロックポリマー（ハ）と称する。｝を添加することにより、上記熱可塑性エラストマーの柔軟性を損なうことなく、アルミサッシなどの金属、硬質樹脂、木材等の硬質体に、接着剤や両面テープにより強固に接着できる熱可塑性樹脂組成物が得られる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
また、表１の実施例１〜２および比較例１〜５では、水素添加ブロック共重合体（イ）、オレフィン系エラストマー（ロ）、ブロックポリマー（ハ）、鉱物油系軟化剤、オレフィン系樹脂としてそれぞれ以下のものを使用した。
水素添加ブロック共重合体（イ）
水素添加ブロック共重合体
スチレン含有量３０重量％、数平均分子量２０万、水添率９７％のスチレン−エチレン・プロピレン−スチレントリブロック共重合体
オレフィン系熱可塑性エラストマー（ロ）
「サントプレン１０１−５５」（商品名、ＡＥＳジャパン社製）
鉱物油系軟化剤
「ダイアナプロセスオイルＰＷ−９０」（商品名、出光興産社製）
パラフィン系プロセスオイル
オレフィン系樹脂
「ノバッテック  ポリプロピレン  ＥＡ９」  （商品名、日本ポリケム社製）
ＭＦＲ：０．５ｇ／１０分
ブロックポリマー（ハ）
「ペレスタット３００」  (商品名、三洋化成工業社製) ポリプロピレンを主体としたポリオレフィンと無水マレイン酸とを反応させて得られる変性ポリオレフィンとポリエチレングリコールを主体としたポリアルキレングリコールとを触媒存在下でエステル化することによって得られるブロックポリマー
エチレンー酢酸ビニル共重合体(ＥＶＡ)
「ウルトラセン６３３」  (商品名、東ソー社製)
酢酸ビニル含有率２０ｗｔ％、融点８６℃
ｂ）接着剤による接着性
表１に示す熱可塑性エラストマー組成物を、プレス成形（温度２３０℃）で、縦２５０ｍｍ×横１５０ｍｍ×厚み２ｍｍのシートを作製した。得られたシートを幅２５ｍｍ×１２０ｍｍのテープに切断し、瞬間接着剤（高圧ガス工業社製「シアノンＳＲ」シアノアクリレート系接着剤）でアルミサッシ板、ＡＢＳ板、ラワン材に接着し、乾燥後、引張試験機により、それぞれ１８０度の反対方向に引張り、その剥離強度を測定した。
【手続補正書】
【提出日】平成16年9月17日(2004.9.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
動的粘弾性測定装置（ＡＲＥＳ）による２００℃での貯蔵弾性率（Ｇ′）測定値が２０ＭＰａ以下であり、２５℃での弾性率が２００ＭＰａ以上であることを特徴とするテトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）とパーフルオロアルキルビニルエーテル（ＰＡＶＥ）とから成る２元共重合体。
【請求項２】
ＰＡＶＥの含有量が６乃至２５重量％であることを特徴とする請求項１に記載のテトラフルオロエチレン・パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体（ＴＦＥ・ＰＡＶＥ共重合体）。
【請求項３】
ＰＡＶＥが、パーフルオロエチルビニルエーテル（ＰＥＶＥ）であることを特徴とする請求項１又は２に記載のＴＦＥ・ＰＡＶＥ共重合体。
【請求項４】
ＴＦＥ・ＰＡＶＥ共重合体が、フッ素化処理をされた後に炭素数１０6当り１５個以下の不安定末端基を含有することを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のＴＦＥ・ＰＡＶＥ共重合体。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれかに記載のＴＦＥ・ＰＡＶＥ共重合体で被覆したことを特徴とする物品。
【請求項６】
物品がオフィスオートメーション機器に用いるチューブ、ロール又はベルト材である請求項５に記載の物品。
【手続補正書】
【提出日】平成17年9月21日(2005.9.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ステアリングコラムを車体に取付ける側面視略Ｌ字状であって、車体に取付けられる車体取付部と、この車体取付部から折曲部を介して折曲して前記ステアリングコラムの横断方向に延びる支持壁部と、該支持壁部に立設された一対のコラム締付固定部とを一体に形成した車体取付ブラケットを有する衝撃吸収式ステアリングコラム装置において、
前記支持壁部の車両前方側に、前記一対のコラム締付固定部を配置したことを特徴とする衝撃吸収式ステアリングコラム装置。
【請求項２】
前記車体取付部の車両前方側に、前記折曲部と前記支持壁部とを配置したことを特徴とする請求項１に記載の衝撃吸収式ステアリングコラム装置。
【請求項３】
前記一対のコラム締付固定部にそれぞれ、チルト調整用溝を形成したことを特徴とする、請求項１又は２に記載の衝撃吸収式ステアリングコラム装置。
【請求項４】
請求項３に記載の衝撃吸収式ステアリングコラム装置において、
前記チルト調整用溝に通挿された締付ボルトと、該締付ボルトに基端部が装着され、コラム締付位置とコラム解除位置との間を揺動可能な締付レバーとを更に有し、
前記締付レバーの把持部を該基端部より車両前方側に配置したことを特徴とする衝撃吸収式ステアリングコラム装置。
【請求項５】
請求項１〜４に記載の衝撃吸収式ステアリングコラム装置において、
チルトピボット要素を介して前記ステアリングコラムを揺動自在に支持する側面視略Ｌ字状のロアブラケットを備え、
当該ロアブラケットが、車体に取付けられる車体取付部と、この車体取付部から折曲部を介して折曲して前記ステアリングコラムの横断方向に延びる支持壁部と、該支持壁部に立設された一対のチルトピボット支持部とを一体に形成してなり、
前記支持壁部の車両前方側に、前記一対のチルトピボット支持部を配置したことを特徴とする衝撃吸収式ステアリングコラム装置。
【手続補正書】
【提出日】平成17年11月8日(2005.11.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
また、(Ａ2)成分のシリコーンオイルは、一般式：
【化３】
2004161797.tif 000001
で表される。上式中のＲ2は同種または異種の脂肪族不飽和結合を有さない一価炭化水素基であり、前記と同様の基が例示され、好ましくはアルキル基、アリール基であり、さらに好ましくは炭素原子数１〜４のアルキル基であり、特に好ましくはメチル基、エチル基である。また、上式中のＲ3はアルキル基、アルコキシアルキル基、アルケニル基、またはアシル基であり、前記と同様の基が例示され、好ましくはアルキル基であり、特に好ましくはメチル基、エチル基、プロピル基である。また、上式中のＲ4は酸素原子または二価炭化水素基である。Ｒ4の二価炭化水素基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、イソプロピレン基、ブチレン基等のアルキレン基が挙げられる。特に、Ｒ4は酸素原子であることが好ましい。また、上式中のｐは５〜２００の整数であり、好ましくは１０〜１８０の整数であり、さらに好ましくは１５〜１５０の整数であり、特に好ましくは１５〜１２０の整数である。これは、上式中のｐが前記範囲の下限未満であると、熱伝導性のシリコーン組成物を得るために(Ｂ)成分を多量に含有させることができなくなる傾向があるからであり、一方、前記範囲の上限を超えると、(Ｂ)成分の表面に拘束される分子体積が増えすぎて、(Ｂ)成分を多量に含有させることができなくなる傾向があるからである。特に、本組成物中の(Ｂ)成分の含有量を８０容積％以上のような極めて高い含有量にすると、(Ｂ)成分の粒子間距離が平均的に短くなるために、この傾向は顕著である。また、上式中のｄは１〜３の整数であり、好ましくは３である。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
このようなシリコーンオイルとしては、例えば、分子鎖両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサン、分子鎖両末端メチルフェニルビニルシロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサン、分子鎖両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルフェニルシロキサンコポリマー、分子鎖両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルビニルシロキサンコポリマー、分子鎖両末端トリメチルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルビニルシロキサンコポリマー、分子鎖両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖メチル(３,３,３−トリフルオロプロピル)ポリシロキサン、分子鎖両末端シラノール基封鎖ジメチルシロキサン・メチルビニルシロキサンコポリマー、分子鎖両末端シラノール基封鎖ジメチルシロキサン・メチルビニルシロキサン・メチルフェニルシロキサンコポリマー、式：(ＣＨ3)3ＳiＯ1/2で表されるシロキサン単位と式：(ＣＨ3)2(ＣＨ2＝ＣＨ)ＳiＯ1/2で表されるシロキサン単位と式：ＣＨ3ＳiＯ3/2で表されるシロキサン単位と式：(ＣＨ3)2ＳiＯ2/2で表されるシロキサン単位からなるオルガノシロキサンコポリマー、およびこれらの２種以上の混合物が挙げられる。
【手続補正書】
【提出日】平成17年8月31日(2005.8.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
尚、ｘ１はエア無しで制動実効領域に入る近辺、ｘ２は２回目の最大踏込み量近辺に予め設定されているが、これらのｘ１及びｘ２はマスタシリンダの構造上のストロークにより設定することもできる。また、２回目の戻り量は、エアの圧縮過程をさらに有効に利用し得るように、サンプリングデータの変化を解析して設定することもできる。さらに、判断手段としては、例えばｘ１及びｘ２間の制動実効領域中間の予め設定した所定の踏込み量に対する踏力差ΔＦのみを基に判断することもできる。この場合、近似曲線処理を行うことなく、サンプリングデータ自体を基に判断することもでき、またその際敢えて定速駆動しないで装置構成を簡単にすることも考えられる。
【手続補正書】
【提出日】平成17年7月13日(2005.7.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】薄板の製造方法、太陽電池、薄板製造用基板および薄板製造装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を融液に浸漬させることにより基板面上に薄板を形成する薄板の製造方法であって、基板の融液への浸漬時における薄板を形成する基板面内の温度を均一に制御することを特徴とする薄板の製造方法。
【請求項２】
基板を融液に浸漬させることにより基板面上に薄板を形成する薄板の製造方法であって、基板に板厚差を設けることを特徴とする薄板の製造方法。
【請求項３】
薄板を形成する基板面に対向する面の少なくとも一面が、薄板を形成する基板面に対して傾きを有することを特徴とする請求項２に記載の薄板の製造方法。
【請求項４】
板厚が直線的に増加または減少していることを特徴とする請求項２または３に記載の薄板の製造方法。
【請求項５】
板厚が非直線的に増加または減少していることを特徴とする請求項２または３に記載の薄板の製造方法。
【請求項６】
基板を融液に浸漬させることにより基板面上に薄板を形成する薄板の製造方法であって、基板の少なくとも一部を加熱した後に、融液に浸漬させることを特徴とする薄板の製造方法。
【請求項７】
融液がシリコンを含むことを特徴とする請求項１から６のいずれかに記載の薄板の製造方法。
【請求項８】
請求項１から７のいずれかに記載の薄板の製造方法により得られた薄板を用いて製造した太陽電池。
【請求項９】
融液に浸漬させることにより表面上に薄板を形成するための基板であって、基板の一端における板厚が他端における板厚よりも厚いことを特徴とする薄板製造用基板。
【請求項１０】
薄板が形成される基板面に対向する面上であって、基板の中央部と基板の板厚が厚い方の端部との間に、基板を融液に浸漬させるときに基板を保持するための凸部を有することを特徴とする請求項９に記載の薄板製造用基板。
【請求項１１】
基板を融液に浸漬させることにより基板面上に薄板を形成する薄板製造装置であって、基板の底面の浸漬方向の前方側を後方側よりも高温に加熱するための加熱機構を有することを特徴とする薄板製造装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は薄板の製造方法とこの製造方法により得られた薄板を用いて作製した太陽電池に関する。さらに、本発明は薄板製造用基板および薄板製造装置に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】
上記事情に鑑みて本発明は、板厚にバラツキの少ない高品質の薄板を歩留まり良く作製することができる薄板の製造方法、薄板製造用基板および薄板製造装置とこの製造方法により得られた薄板を用いて作製した太陽電池を提供することを目的とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
また、本発明は、基板を融液に浸漬させることにより基板面上に薄板を形成する薄板の製造方法であって、基板に板厚差を設ける薄板の製造方法である。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
この場合には、薄板を形成する基板面に対向する面の少なくとも一面が、薄板を形成する基板面に対して傾きを有していてもよい。また、この場合には、板厚が直線的に増加または減少していてもよく、板厚が非直線的に増加または減少していてもよい。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
さらに、本発明は、上記薄板の製造方法により得られた薄板を用いて製造した太陽電池に関する。また、本発明は、融液に浸漬させることにより表面上に薄板を形成するための基板であって、基板の一端における板厚が他端における板厚よりも厚い薄板製造用基板である。ここで、本発明の薄板製造用基板は、薄板が形成される基板面に対向する面上であって、基板の中央部と基板の板厚が厚い方の端部との間に、基板を融液に浸漬させるときに基板を保持するための凸部を有することが好ましい。また、本発明は、基板を融液に浸漬させることにより基板面上に薄板を形成する薄板製造装置であって、基板の底面の浸漬方向の前方側を後方側よりも高温に加熱するための加熱機構を有する薄板製造装置である。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８４】
【発明の効果】
上述したように本発明によれば、高品質の薄板を歩留まり良く連続的に安定して作製することができる薄板の製造方法、薄板製造用基板および薄板製造装置とこの製造方法により得られた薄板を用いて作製した太陽電池を提供することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成17年9月22日(2005.9.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
しかし一方、鋳型から取り出されたインゴットに対して、ブロックや所要形状部材への切断や研削といった機械加工を施すが、この工程中に前記残留応力によるヒビや欠けなどの破損、あるいは切断面からインゴット全体に大きな割れが走ったり、切断面より小さなヒビが多発するなどの損傷が発生して、加工歩留まりが大きく低下する問題があった。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
そこで、前記使用時の割れの発生を防止するため、機械加工後の製品に熱処理を施す方法が採られる。しかし、製品への熱処理は、表面の不純物の拡散や酸化膜の生成により品質が劣化するため、この処理環境の清浄度を著しく高くする必要や、酸などによるエッチング等の後処理が必要となる。また、前記熱処理中に残留応力が緩和されることにより、製品が変形する等の問題があった。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
発明者らは、この発明の製造方法の熱処理工程において、
１０００〜１４００℃に昇温して１時間以上保持した後に平均４℃／ｍｉｎ以下の速度で４００℃まで冷却する工程、
１０００〜１４００℃に昇温して３時間以上保持した後に平均４℃／ｍｉｎ以下の速度で２００℃まで冷却する工程、
１２００〜１４００℃に昇温して３時間以上保持した後に平均２℃／ｍｉｎ以下の速度で２００℃まで冷却する工程である、昇温し高温保持し後に微速冷却する工程を含む方法、あるいは昇温速度を１℃／ｍｉｎ〜１０℃／ｍｉｎで１２５０〜１３５０℃の熱処理温度へ昇温する工程を含む方法を併せて提案する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
かかる高温熱処理されたシリコンインゴットは、外観目視でヒビ発生の確認を行い、次にこのインゴットの上面と下面を切り落としする切断工程と、切り落とし後に主要部を厚さ３ｍｍで順次５０枚にスライスするスライス工程を施した。切り落とし時の上下の切断面のヒビなどの有無、スライス毎のヒビや内部クラック、欠けを調査し、切断面欠陥の有無、スライス毎のクラック発生及び欠け発生のいずれかが発生した場合を失格としてその率を表１に示す。なお、調査したインゴットはそれぞれ５０個である。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５０】
【表１】
2004161575.tif 000001