(57)【要約】【課題】タッチパネルの操作面に凸凹の領域を形成し、ミスタッチを防ぐことができる静電容量検出型タッチパネルを提供する。【解決手段】静電容量検出型タッチパネルは、凹状の曲面からなる複数のタッチ凹部１ａが形成された操作面１と、この操作面１とは反対側の、複数のタッチ凹部１ａに対応させて設けられた凹部１ｂが形成された対向面とを有する透明な保護基板２と、この保護基板２に対向配置され、透明導電膜で形成されたタッチ検出電極３を設けた透明なタッチパネル基板４と、前記保護基板２と前記タッチパネル基板４との間に、前記操作面１の複数のタッチ凹部１ａに対応させて配置され、前記保護基板２とは異なる比誘電率を持った誘電体層１５とを備える。【選択図】      図２
2010086236.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つの第１の曲面が形成された操作面と、前記第１の曲面に対応させて前記操作面とは反対側の、前記第１の曲面が形成された部分の厚さを規定する第２の曲面が設けられた対向面とを有する透明な保護基板と、
前記保護基板に対向配置され、透明導電膜からなる電極が設けられた透明な基板と、
前記保護基板の第２の曲面と前記基板との間に、前記操作面の第１の曲面に対応させて配置され、前記保護基板とは異なる比誘電率を持った誘電体層と、
を備えたことを特徴とする静電容量検出型タッチパネル。
【請求項２】
保護基板の対向面に形成された第２の曲面と誘電体層とは、基板上の電極に対して誘電体層と保護基板とを介して位置する前記第１の曲面の各部の表面上における静電容量が実質的に等しくなるように、前記第１の曲面の形状に応じて、前記第２の曲面の形状と、誘電体層及び前記保護板の比誘電率が設定されていることを特徴とする請求項１に記載の静電容量検出型タッチパネル。
【請求項３】
保護基板の対向面に形成された第２の曲面は、操作面の第１の曲面の各部において、第１の比誘電率を持った保護基板と第２の比誘電率を持った誘電体層とによりそれぞれ生じる静電容量の合成した値が実質的に等しくなるように、前記保護基板と前記誘電体層の厚さを前記操作面の第１の曲面に応じて変化させる形状の凹曲面に形成されていることを特徴とする請求項１に記載の静電容量検出型タッチパネル。
【請求項４】
保護基板の操作面に形成された第１の曲面は、前記操作面から突出する凸部からなり、
保護基板の第２の曲面と前記基板との間に配置される誘電体層は、前記保護基板の比誘電率よりも大きい比誘電率を持つ誘電物質からなることを特徴とする請求項１に記載の静電容量検出型タッチパネル。
【請求項５】
保護基板の操作面に形成された第２の曲面は、前記操作面から凹んだ形状に形成された凹曲面からなり、
保護基板の第２の曲面と前記基板との間に配置される誘電体層は、前記保護基板の比誘電率よりも小さい比誘電率を持つ誘電物質からなることを特徴とする請求項１に記載の静電容量検出型タッチパネル。
【請求項６】
保護基板の第２の曲面と前記基板との間に配置される誘電体層は、比誘電率が１の空気であることを特徴とする請求項５に記載の静電容量検出型タッチパネル。
【請求項７】
保護基板の第２の曲面と前記基板との間に配置される誘電体層は、樹脂または粘着材であることを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の静電容量検出型タッチパネル。
【請求項８】
保護基板の比比誘電率をε１、保護基板の第２の曲面と電極が形成された基板との間に配置される誘電体層の比誘電率をε２とし、前記基板の法線に沿った方向の前記保護基板の厚さをＤ１、前記基板の法線に沿った方向の前記誘電体層の厚さをＤ２とし、保護基板の操作面に形成された第１の曲面が前記基板と接する一方端の前記保護基板の厚さをＤ３とし、第１の曲面の一方端からの距離をＸとし、第１の曲面の一方端から他方の端までの距離をＬとし、前記第１の曲面がＸの関数
Ｄ（Ｘ）＝ａ・Ｘ（Ｘ−Ｌ）＋Ｄ３（ただし、ａは正の定数）
で表わされる形状のとき、
第１の曲面の一方端から距離Ｘの点における誘電体層の厚さＤ２（Ｘ）と、保護基板の厚さＤ１（Ｘ）とが、それぞれ
Ｄ２（Ｘ）＝−ａ・ε２・Ｘ（Ｘ−Ｌ）/（ε１−ε２）
Ｄ１（Ｘ）＝Ｄ３＋ａ・ε１・Ｘ（Ｘ−Ｌ）/（ε１−ε２）
を満たす曲面形状に、前記保護基板の第２の曲面が形成されていることを特徴とする請求項１に記載の静電容量検出型タッチパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、タッチパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
ＣＲＴや液晶ディスプレイの表面に入力手段としてタッチパネルを実装した表示装置がＰＤＡ、ポータブルゲーム機、券売機、ＡＴＭ等で広く利用されている。タッチパネルは、その平坦な操作面に指や入力ペンが触れることにより、前記操作面の裏側に配置した電極に生じる静電容量あるいは抵抗の変化を検出し、タッチの位置を決定している。
【０００３】
【特許文献１】特開２００７−１７２１４２
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上述したタッチパネルの操作面が平坦なため、斜め方向より見ながら指等で入力を行うとタッチパネルと表示部との間に視差が生じミスタッチが発生する。そしてミスタッチを防ぐため操作面に凹部や凸部を設けると静電容量検出型のタッチパネルではタッチパネル電極と操作面上の指や入力ペン等との距離が変化するためタッチパネルの電極と操作面上の指等との間の静電容量が前記凹部や凸部で変化するためタッチ有無の判定が困難となるという問題があった。
【０００５】
本発明は、操作面に凹凸な形状を形成したタッチパネルの提供を課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の請求項１に記載の静電容量検出型タッチパネルは、
少なくとも１つの第１の曲面が形成された操作面と、前記第１の曲面に対応させて前記操作面とは反対側の、前記第１の曲面が形成された部分の厚さを規定する第２の曲面が設けられた対向面とを有する透明な保護基板と、
前記保護基板に対向配置され、透明導電膜からなる電極が設けられた透明な基板と、
前記保護基板の第２の曲面と前記基板との間に、前記操作面の第１の曲面に対応させて配置され、前記保護基板とは異なる比誘電率を持った誘電体層と、
を備えたことを特徴とする。
【０００７】
請求項２の発明は、請求項１に記載の静電容量検出型タッチパネルにおいて、保護基板の対向面に形成された第２の曲面と誘電体層とは、基板上の電極に対して誘電体層と保護基板とを介して位置する前記第１の曲面の各部の表面上における静電容量が実質的に等しくなるように、前記第１の曲面の形状に応じて、前記第２の曲面の形状と、誘電体層及び前記保護板の比誘電率が設定されていることを特徴とする。
【０００８】
請求項３の発明は、請求項１に記載の静電容量検出型タッチパネルにおいて、保護基板の対向面に形成された第２の曲面は、操作面の第１の曲面の各部において、第１の比誘電率を持った保護基板と第２の比誘電率を持った誘電体層とによりそれぞれ生じる静電容量の合成した値が実質的に等しくなるように、前記保護基板と前記誘電体層の厚さを前記操作面の第１の曲面に応じて変化させる形状の凹曲面に形成されていることを特徴とする比誘電率比誘電率請求項４の発明は、請求項１に記載の静電容量検出型タッチパネルにおいて保護板の操作面に形成された第１の曲面は、前記操作面から突出する凸部からなり、保護基板の第２の曲面と前記基板との間に配置される誘電体層は、前記保護基板の比誘電率よりも大きい比誘電率を持つ誘電物質からなることを特徴とする。
【０００９】
請求項５の発明は、請求項１に記載の静電容量検出型タッチパネルにおいて、保護基板の操作面に形成された第２の曲面は、前記操作面から凹んだ形状に形成された凹曲面からなり、保護基板の第２の曲面と前記基板との間に配置される誘電体層は、前記保護基板の比誘電率よりも小さい比誘電率を持つ誘電物質からなることを特徴とする。
【００１０】
請求項６の発明は、請求項１に記載の静電容量検出型タッチパネルにおいて、保護基板の第２の曲面と前記基板との間に配置される誘電体層は、比誘電率が１の空気であることを特徴とする。
【００１１】
請求項７の発明は、請求項１乃至請求項５のいずれかに記載の静電容量検出型タッチパネルにおいて、保護基板の第２の曲面と前記基板との間に配置される誘電体層は、樹脂または粘着材であることを特徴とする。
【００１２】
請求項８の発明は、請求項１に記載の静電容量検出型タッチパネルにおいて、保護基板の比誘電率をε１、保護基板の第２の曲面と電極が形成された基板との間に配置される誘電体層比誘電率をε２とし、前記基板の法線に沿った方向の前記保護基板の厚さをＤ１、前記基板の法線に沿った方向の前記誘電体層の厚さをＤ２とし、保護基板の操作面に形成された第１の曲面が前記基板と接する一方端の前記保護基板の厚さをＤ３とし、第１の曲面の一方端からの距離をＸとし、第１の曲面の一方端から他方の端までの距離をＬとし、前記第１の曲面がＸの関数
Ｄ（Ｘ）＝ａ・Ｘ（Ｘ−Ｌ）＋Ｄ３（ただし、ａは正の定数）
で表わされる形状とき、
第１の曲面の一方端から距離Ｘの点における誘電体層の厚さＤ２（Ｘ）と、保護基板の厚さＤ１（Ｘ）とが、それぞれ
Ｄ２（Ｘ）＝−ａ・ε２・Ｘ（Ｘ−Ｌ）/（ε１−ε２）
Ｄ１（Ｘ）＝Ｄ３＋ａ・ε１・Ｘ（Ｘ−Ｌ）/（ε１−ε２）
を満たす曲面形状に、前記保護基板の第２の曲面が形成されていることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、走査面に凸凹形状を設けた静電容量検出型タッチパネルを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
（第１の実施形態）
図１は、本発明の第１の実施形態に係わるタッチパネル付き表示装置の構成を示す概略図、図２はタッチパネルの一部の断面を示す部分断面図である。
【００１５】
第１の実施形態のタッチパネル付き表示装置は、図１に示すように、画像、文字、数字等を表示するディスプレイ８と、このディスプレイ８の表示面側に配置されたタッチパネル７と、前記ディスプレイ８を駆動するディスプレイ回路９と、タッチパネル７を駆動するタッチパネル回路１０と、前記ディスプレイ回路９とタッチパネル７の動作を制御する制御回路１０とからなっている。
【００１６】
ディスプレイ８は、画像を表示すると共に、タッチパネルを操作する時には、入力操作するための位置と機能を表示する。この実施形態では、タッチパネの入力操作により数字を入力する例を示している。
【００１７】
図２で示すように、タッチパネル７は、指等の導電体がタッチされ、前記ディスプレイ８に表示されるタッチ位置に対応して、タッチ位置を触感で確認するための凹状の曲面からなる複数のタッチ凹部１ａが形成された操作面１と、この操作面１とは反対側の、複数のタッチ凹部１ａに対応させて設けられ、厚さを調整するための曲面を持った凹部１ｂが形成された対向面とを有する透明な保護基板２と、この保護基板２に対向配置され、透明導電膜で形成されたタッチ検出電極３を設けた透明なタッチパネル基板４と、前記保護基板２と前記タッチパネル基板４との間に、前記操作面１の複数のタッチ凹部１ａに対応させて配置され、前記保護基板２とは異なる比誘電率を持った誘電体層１５とからなっている。
【００１８】
前記タッチパネル基板４のタッチ検出電極３は、図３に示すように、前記タッチパネル基板４の一辺と平行な一方の方向（以下、Ｘ軸方向という）に延びた複数のＸ軸タッチ検出電極３ａと、前記一方の方向と直交する他の方向（以下、Ｙ軸方向という）に延びた複数のＹ軸タッチ検出電極３ｂがタッチパネル７の操作面１側とその反対側の面にそれぞれ配列されている
【００１９】
尚、タッチ検出電極のパターンは四角形のくり返しであるがひし形、円形などいずれかの形状に形成されている。
【００２０】
この実施形態のタッチパネル付き表示装置は、前記表示ディスプレイに入力する数値と、そのタッチ凹部１ａに対応させてタッチ位置を表示し、操作者は、表示されたタッチ位置に指等の触覚で確認しながらタッチすることにより、タッチ位置の情報を入力する。保護基板上の操作面１に指等が接触したタッチパネルは、タッチ検出電極自体が接地間に持つ静電容量に加えて、タッチ検出電極３に接近させた指と、前記タッチ検出電極３との間に前記保護基板２と誘電体層１５を介した新たな静電容量が付加され、前記操作面１の指等が接触された位置に最も近いタッチ検出電極３の接地との間の静電容量が変化する。この容量変化を各Ｘ軸タッチ検出電極３ａと、各Ｙ軸タッチ検出電極３ｂごとにそれぞれ独立に線順次走査して検出することによりタッチパネル平面上の指の触れた位置を特定し、そのタッチ位置に表示された数値等の情報が入力されたことを認識する。
【００２１】
図３は、タッチ検出電極の間に設ける誘電体層１５として、比誘電率が保護基板より小さい物質を用いた場合の、保護基板２のタッチ凹部１ａに対応する部分の断面を拡大して示している。
【００２２】
保護基板２の操作面１とは反対の面に形成された凹部１ｂと、誘電体層１５とは、操作面１のタッチ凹部１ａの形状に応じて、タッチ検出電極３のＸ軸タッチ検出電極３ａに対して誘電体層１５と保護基板２とを介して位置するタッチ凹部１ａの曲面各部の表面上における静電容量が実質的に等しくなるように、前記凹部１ｂの形状と、誘電体層１５及び前記保護基板２の比誘電率の値が設定されている。
【００２３】
すなわち、前記凹部１ｂは、第１の比誘電率を持った保護基板２と第２の比誘電率を持った誘電体層１５の厚さを前記タッチ凹部１ａの曲面に応じて調整し、前記タッチ凹部１ａの中の各部で、前記第１の比誘電率を持った保護基板２と第２の比誘電率を持った誘電体層１５によりそれぞれ生じる静電容量を合成した値が、実質的に等しくなるような曲面を持っている。
【００２４】
尚、前記タッチパネル基板４に形成された複数のＹ軸タッチ検出電極３ｂと、保護基板２の操作面１の表面との間の静電容量は、Ｘ軸タッチ検出電極３ａと前記操作面１の表面との間に介在する保護基板２と誘電体層１５に加え、さらに均一な厚さのタッチパネル基板４が介在するだけであるから、前記凹部１ｂの曲面形状に影響することは無い。したがって、前記凹部１ｂの曲面形状は、Ｘ軸タッチ検出電極３ａと保護基板２の操作面１の表面との間の静電容量に着目して決定することができる。
【００２５】
すなわち、保護基板２の容量をＣ１、誘電体層の容量Ｃ２とすると、その保護基板２の容量をＣ１と誘電体層の容量Ｃ２の２つの誘電体を電極間に介在させた静電容量Ｃは、Ｃ１とＣ２を直列接続させたときの合成となり
（数１）
１/Ｃ１＋１/Ｃ２＝１/Ｃ
で表される。
次に、保護基板２の比誘電率をε１、その前記タッチパネル基板の法線に沿った方向の厚さをＤ１、誘電体層１５の法線に沿った方向の厚さをＤ２、比誘電率をε２、前記タッチ凹部１ａの両端に位置しも保護基板２とタッチパネル基板４とが誘電体層１５を介在することなく直接接する点、すなわち、タッチ凹部１ａの曲面の一方の端に対応する点をＰ0とし、その部分の保護基板２の厚さ、すなわち保護基板２の厚さをＤ３とすると、
【００２６】
コンデンサーの一般式
（数２）
Ｃ＝εxＡ/ｄ
（ここでＣは静電容量、εは比比誘電率、Ａは電極面積、ｄは電極間距離）
であるから（数１）は
（数３）
Ｄ１/ε１+Ｄ２/ε２＝Ｄ３/ε１
となる。
【００２７】
タッチ凹部１ａの曲面の一方の端に対応する点Ｐ0と、タッチ凹部１ａの曲面の他方の端に対応する点ＰLの間の任意の点Ｐの前記点Ｐ0からの距離をＸとし、その点での保護基板２の厚さをＤ１（Ｘ）、誘電体層１５の厚さをＤ２（Ｘ）、とすると、タッチ凹部１ａの曲面の両端に対応する点Ｐ0、点ＰLでは、Ｄ２（０）＝Ｄ２（Ｌ）＝０、Ｄ１（０）＝Ｄ１（Ｌ）＝Ｄ３であり
（数３）は
（数４）
Ｄ１（Ｘ）/ε１＋Ｄ２（Ｘ）/ε２＝Ｄ３/ε１
となる。
【００２８】
任意の点Ｐにおけるタッチ検出電極３の表面と保護基板２の操作面１に形成されたタッチ凹部１ａの表面までの距離をＤ（Ｘ）とすると
（数５）
Ｄ（Ｘ）＝Ｄ１（Ｘ）＋Ｄ２（Ｘ）
となる。
【００２９】
ここで、保護基板２の表面の操作面１に形成されたタッチ凹部１ａの凹形状を、Ｘの関数
（数６）
Ｄ（Ｘ）＝ａ・Ｘ（Ｘ−Ｌ）＋Ｄ３
（ただし、ａは正の定数）
で表される曲線とすると、前記任意の点Ｐにおける誘電体層１５の厚さＤ２（Ｘ）と保護基板２の厚さＤ１（Ｘ）とは、それぞれ
（数４）と（数６）から
（数７）
Ｄ２（Ｘ）＝−ａ・ε２・Ｘ（Ｘ−Ｌ）/（ε１−ε２）
（数８）
Ｄ１（Ｘ）＝Ｄ３＋ａ・ε１・Ｘ（Ｘ−Ｌ）/（ε１−ε２）
で表される。
【００３０】
このようにして、保護基板２の操作面１に形成されたタッチ凹部１ａの凹形状を（数６）で示した曲線にしたとき、保護基板２の比誘電率ε１と、誘電体層１５の比誘電率ε２とに応じて、（数７）又は（数８）を満足するように、保護基板２の凹部の形状を曲線的に形成することによって、任意の点Ｐのタッチ検出電極３と操作面１との間の静電容量を実質的に一定な値にすることができる。従ってこの実施形態によれば、タッチパネルの凹形状のタッチ凹部１ａが形成された操作面１上での静電容量を均一にすることができる。
【００３１】
図８は、タッチ凹部１ａの凹形状を、前記点Ｐ0から点ＰLまでの距離を５００ｍｍ、保護基板２の厚さＤ３を２ｍｍに拡大して示しており、保護基板として比誘電率ε１＝２の樹脂基板を用い、誘電体層１５を比誘電率εが１の空気を充満させた空間とし、操作面１に形成されたタッチ凹部１ａの凹形状を表す（数６）の定数ａを０．０００１とし、横軸に前記点Ｐ0から点ＰLまでの距離を、縦軸に前記Ｘ軸タッチ検出電極３ａからの高さをとって、その形状を表している。図８において、保護基板２の操作面１に形成されたタッチ凹部１ａの断面形状は、曲線１６で表され、誘電体層１５の断面形状は曲線１７で表される。
【００３２】
すなわち、保護基板２は、操作面１を曲線１６で示す形状のタッチ凹部１ａとし、これに対応させて、保護基板２の操作面１とは反対側の面に、曲線１７で表わされる形状の凹部１ｂを形成し、この凹部１ｂとＸ軸タッチ検出電極３ａとの間に空気を満たすことによって、タッチパネルの凹形状のタッチ凹部１ａが形成された操作面１上での静電容量を均一にすることができる。
【００３３】
（第２の実施形態）
この発明の第２の実施形態では、図５に示すように、タッチパネルの操作面１に触感により位置を確認するための凸状の曲面からなるタッチ凸部１ｃを形成し、タッチ検出電極の３Ｘ軸タッチ検出電極３ａとの間に設ける誘電体層として、比誘電率が保護基板より大きい物質を用いたタッチパネル付き表示装置を示している。
【００３４】
図６はタッチパネル電極の間に設ける誘電体層として、比誘電率が保護基板より大きい物質を用いた場合の、保護基板２のタッチ凸部１ｃに対応する部分の断面を拡大して示している。保護基板２の操作面１とは反対の面に形成された凹部１ｄと、誘電体層１５ａとは、操作面１のタッチ凸部１ｃの形状に応じて、タッチ検出電極３のＸ軸タッチ検出電極３ａに対して誘電体層１５と保護基板２とを介して位置するタッチ凸部１ｃの曲面各部の表面上における静電容量が実質的に等しくなるように、前記凹部１ｄの形状と、誘電体層１５ａ及び前記保護基板２の比誘電率の値が設定されている。
【００３５】
すなわち、前記凹部１ｄは、第１の比誘電率を持った保護基板２と、この第１の比誘電率よりも大きい第２の比誘電率を持った誘電体層１５ａの厚さを前記タッチ凸部１ｃの曲面に応じて調整し、前記タッチ凸部１ｃの各部で、前記第１の比誘電率を持った保護基板２と第２の比誘電率を持った誘電体層１５ａとを合算した比誘電率が、実質的に等しくなるような曲面を持っている。
【００３６】
この実施形態においても、上述した第１の実施形態と同様に、保護基板２の操作面１に形成されたタッチ凸部１ｃの凸形状を（数６）で示した曲線にしたとき、保護基板２の比誘電率ε１と、誘電体層１５ａの比誘電率ε２とに応じて、（数７）又は（数８）を満足するように、保護基板２の凹部の形状を曲線的に形成することによって、任意の点Ｐのタッチ検出電極３と操作面１との間の静電容量を実質的に一定な値にすることができる。従ってこの実施形態によれば、タッチパネルに凸形状のタッチ凸部１ｃが形成された操作面１上での静電容量を均一にすることができる。
【００３７】
図９は、タッチ凸部１ｃの凸形状を、前記点Ｐ0から点ＰLまでの距離を５００ｍｍ、保護基板２の厚さＤ３を２ｍｍに拡大して示しており、保護基板として比誘電率ε１＝２の樹脂基板を用い、誘電体層１５ａを比誘電率εが２．６の物質を充満させ、操作面１に形成されたタッチ凸部１ｃの凸形状を表す（数６）の定数ａを０．０００３とし、横軸に前記点Ｐ0から点ＰLまでの距離を、縦軸に前記Ｘ軸タッチ検出電極３ａからの高さをとって、その形状を表している。図９において、保護基板２の操作面１に形成されたタッチ凸部１ｃの断面形状は、曲線１８で表され、誘電体層１５の断面形状は曲線１９で表される。
【００３８】
すなわち、保護基板２は、操作面１を曲線１８で表わされる曲面のタッチ凸部１ｃと、これに対応させて、保護基板２の操作面１とは反対側の面に、曲線１９で表わされる曲面の凹部１ｄとを形成し、この凹部１ｄとＸ軸タッチ検出電極３ａとの間に誘電体層１５ａを満たすことによって、タッチパネルの凸形状のタッチ凸部１ｃが形成された操作面１上での静電容量を均一にすることができる。
【００３９】
前記比誘電率が保護基板より大きい誘電体層としては、比誘電率が２．７〜４．５のアクリル樹脂、比誘電率が２．９〜３．０のポリカーポネート樹脂、あるいは、メタクリル樹脂、スチレン樹脂などを用いることができる。
【００４０】
（第３の実施形態）
第３の実施形態は、タッチパネルの操作面１に、触感により位置を確認するための凸形状の複数のタッチ凸部１ｃと凹形状の複数のタッチ凹部１ａとを形成したタッチパネル付き表示装置である。
【００４１】
図７に示すように、この実施形態のタッチパネル付き表示装置は、操作面１にタッチ凸部１ｃと、タッチ凹部１ａとが形成され、操作面１とは反対の面に凹部１ｄ、１ｂが形成された保護基板２と、誘電体層１５ａ、１５とから構成されている。これらの保護基板２と誘電体層１５ａ、１５は、それぞれ、操作面１のタッチ凸部１ｃ、タッチ凹部１ａの形状に応じて、タッチ検出電極３のＸ軸タッチ検出電極３ａに対して誘電体層１５、１５ａと保護基板２とを介して位置するタッチ凸部１ｃ、タッチ凹部１ａの曲面各部の表面上における静電容量が実質的に等しくなるように、前記凹部１ｄ、１ｂの形状と、誘電体層１５ａ、１５、及び保護基板２の比誘電率の値が設定されている。
【００４２】
すなわち、前記凹部１ｂ、１ｄは、第１の比誘電率を持った保護基板２と、この第１の比誘電率よりも小さい比誘電率を持った第２の誘電体層１５と、第１の比誘電率よりも大きい第３の比誘電率を持った誘電体層１５ａの厚さを前記タッチ凹部１ａ、タッチ凸部１ｃの曲面に応じて調整し、前記タッチ凹部１ａ、タッチ凸部１ｃの各部で、前記第１の比誘電率を持った保護基板２と第２の比誘電率を持った誘電体層１５と、前記第１の比誘電率を持った保護基板２と第３の比誘電率を持った誘電体層１５ａとによりそれぞれ生じる静電容量を合成した値がが、それぞれ実質的に等しくなるような曲面を持っている。前記凹部１ｂ、１ｄの曲面は、前記タッチ凹部１ａ、タッチ凸部１ｃに応じて、それぞれ前記第１の実施形態と、第２１の実施形態と同様にして定めることができる。
【００４３】
第３の実施形態によれば、タッチパネルに凹形状のタッチ凹部１ａと、凸形状のタッチ凸部１ｃとが形成された操作面１上での静電容量を均一にすることができる。
【００４４】
尚、上述した第１乃至第３の実施形態では、一つのタッチパネルに複数のタッチ位置を設け、それらの複数の操作位置を触感で確認するためのタッチ凹部１ａ、タッチ凸部１ｃを設ける例を示したたが、本発明はこれに限らず、たとえは、一つのタッチパネルの操作面１の全体を一つの凸形状、又は凹形状に形成し、この一つの凸形状、又は凹形状に対応させて、１つの凹部１ｂ、又は１ｄを形成するようにしたても良い。この場合、操作面１が全体に曲面形状のタッチパネルが得られる。
【００４５】
また、タッチパネルの操作面１に形成される凸形状、又は凹形状は、前記操作面１上で任意の形状に、たとえば図形を表わす形状にしても良い。
さらに、いずれの実施形態において表示パネル７は特に限定することなくＣＲＴ、液晶表示ディスプレイ、有機ＥＬ、ＰＤＰ、電子ペーパーディスプレイなどいずれも使用が可能である。
【図面の簡単な説明】
【００４６】
【図１】本発明の表示装置の構成図。
【図２】本発明の第１の実施形態のタッチパネル付き表示装置の断面図。
【図３】本発明の実施形態に使用可能なタッチパネル電極の詳細図。
【図４】本発明の第１の実施形態のタッチパネルの断面図。
【図５】本発明の第２の実施形態のタッチパネル付き表示装置の断面図。
【図６】本発明の第２の実施形態のタッチパネルの断面図。
【図７】本発明の第３の実施形態のタッチパネル付き表示装置の断面図。
【図８】本発明の第１の実施形態のタッチパネルの縦方向の厚さの関係を示すグラフ。
【図９】本発明の第２の実施形態のタッチパネルの縦方向の厚さの関係を示すグラフ。
【符号の説明】
【００４７】
１・・・操作面
２・・・保護基板
３・・・タッチ検出電極
４・・・タッチパネル基板
７・・・タッチパネル
８・・・表示ディスプレイ
９・・・ディスプレイ回路
１０・・・タッチパネル回路
１１・・・制御回路
１４・・・タッチパネル電極基板
１５・・・誘電体層
１６、１８・・・タッチパネル電極からと操作面のまでの縦方向厚さ
１７・・・誘電体層（空気層）厚さ
１９・・・誘電体層厚さ
【図１】
2010086236.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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