Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成16年6月30日(2004.6.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光ファイバに一次被覆および二次被覆を施すための被覆装置であって、
少なくとも１つの加圧された一次被覆材供給源と、
前記光ファイバに前記一次被覆の第一の層を施すための第一の一次液溜まりと、
前記一次被覆の第一の層の寸法を決めるために構成された第一の一次ランド部を含む第一の一次金型と、
前記光ファイバに一次被覆の第二の層を施すための第二の一次液溜まりと、
第二の一次ランド部を含んだ第二の一次金型と、
加圧された二次被覆材供給源と、
前記光ファイバに前記二次被覆の層を施すための二次液溜まりと、
前記二次被覆の層の寸法を決めるために構成された二次ランド部を含む二次金型
とを含むことを特徴とする被覆装置。
【請求項２】
入口ランド部を含んだ入口金型をさらに含み、前記入口ランド部、前記第一の一次ランド部、前記第二の一次ランド部、および前記二次ランド部は、実質的に軸方向に整列され、かつ、前記第一の一次液溜まりは、前記入口ランド部と前記第一の一次ランド部との間に配置され、前記第二の一次液溜まりは前記第一の一次ランド部と前記第二の一次ランド部との間に配置され、かつ、前記二次液溜まりは前記第二の一次ランド部と前記二次ランド部との間に配置されていることを特徴とする請求項１に記載の被覆装置。
【請求項３】
前記第一の一次液溜まりと前記第二の一次液溜まりとは、単一の加圧された一次被覆材供給源によって供給されることを特徴とする請求項２に記載の被覆装置。
【請求項４】
前記少なくとも１つの加圧された一次被覆材供給源は、第一および第二の加圧された一次被覆材供給源よりなり、前記第一の加圧された一次被覆材供給源は前記第一の一次液溜まりに材料を供給し、前記第二の加圧された一次被覆材供給源は前記第二の一次液溜まりに材料を供給することを特徴とする請求項２に記載の被覆装置。
【請求項５】
前記第一の一次ランド部は、約２５から３５ミルの長さを有し、かつ、約１３ミルより小さい直径を有し、前記第二の一次ランド部は、約１０から２０ミルの長さを有し、かつ、約１１から１７ミルの直径を有し、前記二次ランド部は、約１０から２０ミルの長さを有し、かつ、約１５から２２ミルの直径を有することを特徴とする請求項２に記載の被覆装置。
【請求項６】
前記第一の一次ランド部は、望ましい中心力を生じさせるような寸法及び形状を有していることを特徴とする請求項１に記載の被覆装置。
【請求項７】
前記第二の一次ランド部は、前記一次被覆の第二の層が、前記第二の一次液溜まりに材料を供給する前記加圧された一次被覆材供給源の圧力によって決められるように、寸法と形が作られていることを特徴とする請求項１に記載の被覆装置。
【請求項８】
被覆装置を用いて光ファイバに一次被覆および二次被覆を施す方法であって、
光ファイバに一次被覆の第一の層を施すステップ、
前記一次被覆の第一の層の周囲に一次被覆の第二の層を施すステップ、及び、
前記一次被覆の第二の層の周囲に二次被覆の層を施すステップ
からなることを特徴とする方法。
【請求項９】
前記一次被覆の第一の層の寸法を第一の一次ランド部により決定するステップ、及び、
前記一次被覆の第二の層の寸法を、前記一次被覆の第二の層が施されるときの圧力を調節することによって決定するステップ
をさらに含むことを特徴とする請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記二次被覆の層の寸法を、前記二次被覆が施されるときの圧力を調節することによって決定するステップをさらに含むことを特徴とする請求項９に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
ボディ部分（１０２）には、一次被覆材供給源（１０４）、第一の一次被覆孔（１０８）（図７）、第二の一次被覆孔（１１０）、および、二次被覆孔（１１２）（図７）が含まれている。図２および図７に示されているように、ボディ部分（１０２）の第一の一次被覆孔（１０８）は、ボディ部分（１０２）に隣接して、第一の一次被覆金型（１４０）に設けられた環状の溝（１４６）に通じている。環状の溝（１４６）は、第一の一次被覆金型（１４０）に設けられた第一の一次被覆孔（１０８）と液体的に（液体を受渡し可能に）つながっている。ボディ部分（１０２）に形成された第二の一次被覆孔（１１０）は、一次被覆材供給源（１０４）および第一の一次被覆金型（１４０）に設けられた対応する第二の一次被覆孔（１１０）と液体的につながっている。図７をみれば分かるが、ボディ部分（１０２）に形成された二次被覆孔（１１２）は、二次被覆材供給源（１０６）および第一の一次被覆金型（１４０）と第二の一次被覆金型（１６０）に設けられた対応する二次被覆孔（１１２）と液体的につながっている。多くの一次被覆材供給源（１０４）および二次被覆材供給源（１０６）が示されているが、被覆装置（１００）の実現においては、１個の一次被覆材供給源（１０４）が、第一の一次被覆孔（１０８）および第二の一次被覆孔（１１０）の両方と液体的につなげられることも考えられる。同様に、１個の二次被覆材供給源（１０６）で本発明を実現することも考えられる。
【手続補正書】
【提出日】平成16年9月13日(2004.9.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
撮影レンズからの光束を複数の光束に分割する光分割手段と、
前記撮影レンズからの光束によって形成される物体像を観察するためのファインダ光学系と、
前記物体像を光電変換する撮像素子と、
位相差検出方式により前記撮影レンズの焦点調節状態を検出するための焦点検出ユニットとを有し、
前記光分割手段が、前記撮影レンズからの光束を前記ファインダ光学系および前記焦点検出ユニットに導く第１の状態と、前記撮影レンズからの光束を前記撮像素子および前記焦点検出ユニットに導く第２の状態との間で切り換わることを特徴とする撮像装置。
【請求項２】
前記撮像素子を用いて取得した画像データを表示する画像表示手段と、
この画像表示手段の駆動を制御する制御手段とを有し、
前記制御手段は、前記光分割手段が前記第２の状態にあるとき、前記画像表示手段に前記画像データを表示させることを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
【請求項３】
前記制御手段は、前記光分割手段が前記第２の状態にあるとき、前記画像データのうち一部の領域を非表示状態として他の領域を前記画像表示手段に表示させることを特徴とする請求項２に記載の撮像装置。
【請求項４】
ファインダ視野内に撮影情報を表示する情報表示手段と、
この情報表示手段の駆動を制御する制御手段とを有し、
前記制御手段は、前記光分割手段が前記第２の状態にあるとき、前記情報表示手段の駆動を禁止することを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
【請求項５】
前記ファインダ光学系の光路内に進退可能な遮光部材と、
この遮光部材の駆動を制御する制御手段とを有し、
前記制御手段は、前記光分割手段が第２の状態にあるとき、前記遮光部材を前記光路内に進入させることを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
【請求項６】
前記焦点検出ユニットの出力によって前記撮影レンズの焦点調節状態を判別する制御手段を有し、
前記制御手段は、前記第１の状態および前記第２の状態に応じて焦点調節状態の判別を変更することを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
【請求項７】
前記制御手段は、前記焦点検出ユニットの出力に対して初期位相差分の補正を行うことによって前記撮影レンズの焦点調節状態を判別し、前記第１の状態および前記第２の状態に応じて前記初期位相差の値を変更することを特徴とする請求項６に記載の撮像装置。
【請求項８】
前記光分割手段が、互いに独立して移動可能な第１のミラーおよび第２のミラーを有しており、
前記光分割手段が前記第１の状態にあるとき、前記第１のミラーが前記撮影レンズからの光束のうち一部の光束を前記ファインダ光学系に反射させて、他の光束を透過させるとともに、前記第２のミラーが前記第１のミラーを透過した光束を前記焦点検出ユニットに反射させ、
前記光分割手段が前記第２の状態にあるとき、前記第１のミラーが前記一部の光束を前記焦点検出ユニットに反射させて、他の光束を透過させるとともに、前記第２のミラーが撮影光路から退避することを特徴とする請求項１から７のいずれか１つに記載の撮像装置。
【請求項９】
前記第１の状態における前記第２のミラーの反射面の位置と、前記第２の状態における前記第１のミラーの反射面の位置とが略等しいことを特徴とする請求項８に記載の撮像装置。
【請求項１０】
前記光分割手段は、前記第１の状態および前記第２の状態のうち一方の状態から他方の状態に切り換わる際に、前記第１のミラーおよび前記第２のミラーが撮影光路から退避した第３の状態を経ることを特徴とする請求項８に記載の撮像装置。
【請求項１１】
前記第１のミラーに当接し、前記第１のミラーを前記第１の状態に位置決めするためのストッパ部材を有しており、
前記ストッパ部材が、前記第１のミラーの移動軌跡内に進退可能であることを特徴とする請求項８から１０のいずれか１つに記載の撮像装置。
【請求項１２】
前記撮影レンズを備えたレンズ装置が着脱可能であり、装着時に前記レンズ装置との通信が可能であることを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
【手続補正書】
【提出日】平成17年4月20日(2005.4.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】情報処理方法及び装置、並びに、コンピュータプログラム及びコンピュータ可読記憶媒体
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
符号化画像データを暗号化する情報処理方法であって、
符号化画像データを入力する工程と、
入力した符号化画像データを暗号化する工程と、
符号化データのヘッダ部中の誤り検出符号有無を示す有無情報を、誤り検出符号無しに変更し、暗号化した符号化画像データを出力する工程と
を備えることを特徴とする情報処理方法。
【請求項２】
更に、暗号化を解除する暗号化解除鍵情報を出力する工程を備えることを特徴とする請求項１に記載の情報処理方法。
【請求項３】
更に、入力した符号化画像データ中の前記有無情報を、前記ヘッダ部内の他の位置に待避する工程を備えることを特徴とする請求項１又は２に記載の情報処理方法。
【請求項４】
前記待避する工程では、前記ヘッダ部にコメントとして待避することを特徴とする請求項３に記載の情報処理方法。
【請求項５】
暗号化された符号化画像データの暗号化を解除する情報処理方法であって、
暗号化された符号化画像データを入力する工程と、
符号化データのヘッダ部内の第１の位置にある誤り検出符号有無を示す有無情報を前記ヘッダ部内の第２の位置に待避されている有無情報が、誤り検出符号有りを示すか否かを判定する第１の判定工程と、
暗号化を解除する鍵情報があるか否かを判定する第２の判定工程と、
前記第１、第２の判定工程によって、誤り検出符号有り、及び、暗号化解除鍵情報有りと判定した場合、前記第１の位置にある有無情報を誤り検出符号有りに変更すると共に、前記符号化画像データの暗号化を解除する工程と
を備えることを特徴とする情報処理方法。
【請求項６】
前記解除する工程は、前記第１、第２の判定工程によって、誤り検出符号無し、及び、暗号化解除鍵情報有りと判定した場合には、前記第１の位置にある有無情報を変更せず、前記符号化画像データの暗号化を解除することを特徴とする請求項５に記載の情報処理方法。
【請求項７】
符号化画像データを暗号化する情報処理方法であって、
符号化画像データを暗号化する工程と、
前記符号化画像データのヘッダ部中の誤り検出符号の有無を示す有無情報を判定する工程と、
前記判定工程で誤り検出符号有りと判定した場合、前記暗号化された符号化画像データに誤り検出を行うためのセグメンテーションシンボルを付加する工程と
を備えることを特徴とする情報処理方法。
【請求項８】
符号化画像データを暗号化する情報処理装置であって、
符号化画像データを入力する手段と、
入力した符号化画像データを暗号化する手段と、
符号化データのヘッダ部中の誤り検出符号有無を示す有無情報を、誤り検出符号無しに変更し、暗号化した符号化画像データを出力する手段と
を備えることを特徴とする情報処理装置。
【請求項９】
更に、入力した符号化画像データ中の前記有無情報を、前記ヘッダ部内の他の位置に待避する手段を備えることを特徴とする請求項８に記載の情報処理装置。
【請求項１０】
暗号化された符号化画像データの暗号化を解除する情報処理装置であって、
暗号化された符号化画像データを入力する手段と、
符号化データのヘッダ部内の第１の位置にある誤り検出符号有無を示す有無情報を前記ヘッダ部内の第２の位置に待避されている有無情報が、誤り検出符号有りを示すか否かを判定する第１の判定手段と、
暗号化を解除する鍵情報があるか否かを判定する第２の判定手段と、
前記第１、第２の判定手段によって、誤り検出符号有り、及び、暗号化解除鍵情報有りと判定した場合、前記第１の位置にある有無情報を誤り検出符号有りに変更すると共に、前記符号化画像データの暗号化を解除する手段と
を備えることを特徴とする情報処理装置。
【請求項１１】
符号化画像データを暗号化する情報処理装置であって、
符号化画像データを暗号化する手段と、
前記符号化画像データのヘッダ部中の誤り検出符号の有無を示す有無情報を判定する手段と、
前記判定手段で誤り検出符号有りと判定した場合、前記暗号化された符号化画像データに誤り検出を行うためのセグメンテーションシンボルを付加する手段と
を備えることを特徴とする情報処理装置。
【請求項１２】
請求項１〜７の何れか１項に記載の情報処理方法を実行するコンピュータプログラム。
【請求項１３】
請求項１２に記載のプログラムを格納し、コンピュータが読み取り可能なコンピュータ可読記憶媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成17年6月22日(2005.6.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像形成に使用される消耗品としてトナーを収納する消耗品収納室，静電潜像を形成するための感光ドラム，この感光ドラムを帯電させる帯電ローラ，前記感光ドラムにトナーを付着させて前記静電潜像を現像する現像ローラを有し、画像形成装置に装填されるカートリッジにおいて、
前記消耗品の残量を格納するメモリを、カートリッジ本体に分離可能に設けたことを特徴とするカートリッジ。
【請求項２】
画像形成に使用される消耗品としてトナーを収納する消耗品収納室，静電潜像を形成するための感光ドラム，この感光ドラムを帯電させる帯電ローラ，前記感光ドラムにトナーを付着させて前記静電潜像を現像する現像ローラを有し、画像形成装置に装填されるカートリッジにおいて、
前記消耗品の推定使用量を格納するメモリを、カートリッジ本体に分離可能に設けたことを特徴とするカートリッジ。
【請求項３】
画像形成に使用される消耗品としてトナーを収納する消耗品収納室，静電潜像を形成するための感光ドラム，この感光ドラムを帯電させる帯電ローラ，前記感光ドラムにトナーを付着させて前記静電潜像を現像する現像ローラを有し、画像形成装置に装填されるカートリッジにおいて、
前記消耗品の推定使用量を格納するメモリを設けたことを特徴とするカートリッジ。
【請求項４】
前記メモリに格納される残量又は推定使用量は、更新されることを特徴とする請求項１〜３いずれか記載のカートリッジ。
【手続補正書】
【提出日】平成17年3月17日(2005.3.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
周波数変調された送信波とその反射波のビート信号のフーリエ変換結果に現われるピークを解析することによって物標との距離および相対速度を計測する計測手段と、
電気的もしくは機械的にビーム方向を走査する手段と、
ビーム方向が走査される間のフーリエ変換結果の変化に基づき、雑音ピークを識別する手段とを具備する、異常検出機能を備えたレーダ装置。
【請求項２】
前記雑音ピーク識別手段は、フーリエ変換結果における強度がビーム方向の走査の間に実質的に変化しないピークを雑音ピークと識別する請求項１記載のレーダ装置。
【請求項３】
前記雑音ピーク識別手段は、フーリエ変換結果における位相がビーム方向の走査の間に実質的に変化しないピークを雑音ピークと識別する請求項１記載のレーダ装置。
【請求項４】
前記雑音ピーク識別手段は、所定の周波数領域を雑音ピーク判定の対象とする請求項１〜３のいずれか１項記載のレーダ装置。
【請求項５】
前記雑音ピーク識別手段は、所定の条件を満たす目標物を検出した場合に異常検出を行う請求項１〜４のいずれか１項記載のレーダ装置。
【請求項６】
前記雑音ピーク識別手段は、所定の周波数領域のアンプ特性を変更して雑音ピークの判定を行なう請求項１〜５のいずれか１項記載のレーダ装置。
【請求項７】
前記雑音ピーク識別手段は、アンプ利得が異なるようにアンプ特性を変更して雑音ピークの判定を行う請求項６記載のレーダ装置。
【請求項８】
前記雑音ピーク識別手段は、ピーク検出の閾値を変更して雑音ピークの判定を行なう請求項１〜７のいずれか１項記載のレーダ装置。
【請求項９】
前記雑音ピーク識別手段は、使用するアンプを切り換えることにより、アンプ特性を変更する請求項６または７記載のレーダ装置。
【請求項１０】
前記複雑ピーク識別手段は、ＡＧＣアンプの設定を変更することにより、アンプ特性を変更する請求項６または７記載のレーダ装置。
【請求項１１】
前記雑音ピーク識別手段は、検出されたピークのレベルが所定値よりも高いとき、アンプの利得を下げて雑音ピークの判定を行なう請求項１〜１０のいずれか１項記載のレーダ装置。
【請求項１２】
前記雑音ピーク識別手段は、複数回連続して雑音ピークと判定されるピークを最終的に雑音ピークと判定する請求項１〜１１のいずれか１項記載のレーダ装置。
【請求項１３】
前記雑音ピーク識別手段は、所定の頻度以上で雑音ピークと判定されるピークを最終的に雑音ピークと判定する請求項１〜１１のいずれか１項記載のレーダ装置。
【請求項１４】
前記雑音ピーク識別手段は、雑音ピークと判定されたピークと同等の周波数帯に存在するピークを雑音ピークと判定する請求項１〜１３のいずれか１項記載のレーダ装置。
【請求項１５】
周波数変調された送信波とその反射波のビート信号のフーリエ変換結果に現われるピークを解析することによって物標との距離および相対速度を計測する計測手段と、
送信波の周波数変調を実質的に停止する手段と、
周波数変調が実質的に停止されている間に所定の閾値よりも高い周波数の位置に出現するピークを雑音ピークと識別する手段とを具備する、異常検出機能を備えたレーダ装置。
【手続補正書】
【提出日】平成17年3月29日(2005.3.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
また、圧電振動片２０を接合する平板部材１１を形成する。平板部材１１は、圧電材料と同等の熱膨張係数を有するガラス材料やセラミック材料等で構成するのが好ましい。これにより、平板部材１１および圧電振動片２０の熱膨張率および熱収縮率が同等となるので、両者の接合部における破壊を防止することができる。また、振動片への応力の影響も最小限に押さえることができる。一方、平板部材１１の中央部には貫通孔１２を形成する。貫通孔１２は、図２に示す矩形や円形など任意の形状に形成すればよいが、少なくとも圧電振動片２０の上面側における励振電極２２ａの全体が貫通孔１２を通して平板部材１１の上面側に露出する大きさに形成する。そして、平板部材１１の下面側に圧電振動片２０を配置し、圧電振動片２０の周縁厚肉部を平板部材１１の貫通孔１２の周辺部に対して接着剤１８等により接合する。接着剤１８として、電気絶縁性を有するシリコーン系の接着剤等を使用する。なお、貫通孔１２を密閉封止すべく、貫通孔１２の周辺部の全周を接着剤１８等により接合する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
図４に、センサ部の変形例の説明図を示す。図３に示すセンサ部１０に代えて、図４に示すセンサ部１１０を使用することも可能である。この変形例に係るセンサ部１１０の圧電振動片１２０は、図３のセンサ部１０の圧電振動片２０と同様に形成する。一方、平板部材１１１の下面には、センサ側接続電極１１４ａ，１１４ｂを形成する。なお、平板部材１１１の上面には圧電振動片の接続電極１２４ａ，１２４ｂに対応する電極パッドを形成し、スルーホールを通じてセンサ側接続電極１１４ａ，１１４ｂとの導通を確保する。ここで、変形例に係るセンサ部１１０では、平板部材１１１の上面側に圧電振動片１２０を配置する。そして、圧電振動片の接続電極１２４ａ，１２４ｂと、平板部材１１１の電極パッドとを、Ａｇペースト等の導電性接着剤１１８を介して接合する。さらに、圧電振動片１２０の全周にわたって、圧電振動片１２０の側面と平板部材の上面との角部に、電気絶縁性を有するシリコーン系の封止剤１１９等を塗布する。これにより、圧電振動片１２０における下面側の各電極が密閉封止され、上面側の各電極との短絡が防止される。なお、平板部材１１１の代わりに、リードフレームを樹脂モールドしたものを使用してもよい。
【手続補正書】
【提出日】平成17年9月21日(2005.9.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】歩数計システム
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  歩数を測定する歩数測定手段と、前記測定した歩数に基づいてポイントに変換する手段と、前記変換されたポイントを購入支払いに用いる支払手段とを備えたことを特徴とする歩数計システム。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、歩数計システムに関し、特に、ポイントを歩数計で測定した歩数に基づいて獲得し、そのポイントを購入支払に用いる歩数計システムに関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明の目的は、上述したような従来技術の問題点を解消し、大人に対しても歩くことへの強い動機付けを与える歩数計システムを提供することである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明の一つの観点によれば、歩数を測定する歩数測定手段と、前記測定した歩数に基づいてポイントに変換する手段と、前記変換されたポイントを購入支払いに用いる支払手段とを備えたことを特徴とする歩数計システムが提供される。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について図面を用いて説明する。図１は、本発明の歩数計システムの構成を示す図である。このシステムは、歩数計１と、USB接続等で歩数計１と接続され、さらにインターネット３と接続された情報端末２と、Webサーバー４から構成される。
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の歩数計システムは、歩数を測定する歩数測定手段と、前記測定した歩数に基づいてポイントに変換する手段と、前記変換されたポイントを購入支払いに用いる支払手段とを備えるので、ポイントを獲得するために自然と歩く生活を送ることが可能となる。
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図面の簡単な説明
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図面の簡単な説明】
【図１】
本発明に係る歩数計システムの構成図である。
【図２】
ホストゲームのメインプログラムの動作を示すフローチャートである。
【図３】
ホストゲームの初期画面である。
【図４】
登録ルーチンの動作を示すフローチャートである。
【図５】
入店ルーチンの動作を示すフローチャートである。
【図６】
入店初期化ルーチンの動作を示すフローチャートである。
【図７】
クイズ会話ルーチンの動作を示すフローチャートである。
【図８】
クイズの一例である。
【図９】
プレゼントルーチンの動作を示すフローチャートである。
【図１０】
精算ルーチンの動作を示すフローチャートである。
【図１１】
配列Ｔａｂｌｅの内容の一例である。
【図１２】
ホスト番付発表ルーチンの動作を示すフローチャートである。
【符号の説明】
１  歩数計
２  情報端末
３  インターネット
４  Ｗｅｂサーバー
【手続補正書】
【提出日】平成16年6月10日(2004.6.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
【非特許文献１】
鶴見  他、「単語Ｎ−ｇｒａｍとネットワーク文法を併用した音声認識アルゴリズムの検討」、日本音響学会講演論文集３−９−８、ｐｐ．１４５−１４６、日本音響学会２００２年秋季発表会
【発明が解決しようとする課題】
文認識率を向上させるために、大量（たとえば１６万文規模）の文を含むコーパスとＮ−グラムとを併用する場合、その様な大量の文を単純にＦＳＡでモデル化すると、モデルサイズと探索空間の巨大化を招く事は明らかである。従って、大規模コーパスとＮ−グラムの様な制約の緩いモデルとを併用しながら、モデルサイズと探索空間の巨大化を抑える様な手法が求められている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５５】
また、上に述べた実施の形態では、音声認識部４４による認識結果に含まれるシラブル数によってＦＳＡを選択している。しかし本発明はＦＳＡの選択にシラブル数を用いるものには限定されない。使用できる要素の大きさは、Ｎ−グラムによる認識結果から元の要素数を比較的正確に推定できるものであればどの様なものでもよい。たとえば、シラブルに代えて認識結果に含まれる音素数を用いても良いし、日本語の場合におけるモーラの数の様に、シラブル数に類似した概念の要素を用いても良い。認識システムの性能によりたとえば単語単位で数えたときに正解に近くなる様なものがあれば、それを用いても良い。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】符号の説明
【補正方法】変更
【補正の内容】
【符号の説明】
３０  音声認識装置、４０  音声入力部、４２  マルチクラス複合２−グラムによる言語モデル、４４  音声認識部、４６  シラブル数算出部、４８  ＦＳＡ記憶部、５０  選択部、５２，６０  ＦＳＡ、５４  音声認識部、５６  選択部、７０  ＤＰ距離算出部、７２  ＤＰ距離比較・選択部、７４  調整部、７６  スコア比較・選択部
【手続補正書】
【提出日】平成17年4月15日(2005.4.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び
（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物に於いて、
（Ａ）成分の樹脂が、下記一般式（Ａ）で表される基を有するビニルエーテル系繰り返し単位、下記一般式（Ａ）で表される基を有するビニルエステル系繰り返し単位及び下記一般式（Ａ）で表される基を有するβ−アルキルアクリル酸系繰り返し単位から選ばれる少なくとも１種類の繰り返し単位を有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
【化１】
2004264767.tif 000001
一般式（Ａ）中、
Ｒ1は、置換基を有していてもよい、直鎖状、分岐状若しくは環状アルキル基を表す。複数のＲ1は、同一であっても異なっていてもよい。
【請求項２】
一般式（Ａ）で表される基を有するビニルエーテル系繰り返し単位が、下記一般式（ＶＡ−１）、（ＶＡ−２）又は（ＶＡ−３）で表されることを特徴とする請求項１に記載のポジ型レジスト組成物。
【化２】
2004264767.tif 000002
一般式（ＶＡ−１）〜（ＶＡ−３）中、  Ｒ2e、Ｒ3e、Ｒ2e'、Ｒ3e'及びＲ3e''は、各々独立に、水素原子、アルキル基又はアルコキシ基を表わす。
Ｒ4e'及びＲ2e'' は、アルキル基を表わす。
Ｒ4e及びＲ4e''は、水素原子又はアルキル基を表わす。
Ｍは、２価の連結基を表わす。
Ａは、一般式（Ａ）で表わされる基を表わす。
Ｒ2eとＲ3e、Ｒ2e'とＲ3e'は、同時にアルコキシ基とはならない。
Ｍの一部とＲ3e、Ｒ2eとＲ4e、Ｍの一部とＲ2e'、Ｒ3e'とＲ4e'、Ｍの一部とＲ4e''、Ｒ3e''とＲ2e''が互いに結合して環を形成してもよい。
【請求項３】
一般式（Ａ）で表される基を有するビニルエステル系繰り返し単位が、下記一般式（ＶＢ−１）、（ＶＢ−２）又は（ＶＢ−３）で表わされることを特徴とする請求項１に記載のポジ型レジスト組成物。
【化３】
2004264767.tif 000003
一般式（ＶＢ−１）〜（ＶＢ−３）中、
Ｒ2s、Ｒ3s、Ｒ4s、Ｒ2s'、Ｒ3s'、Ｒ3s''及びＲ4s''は、各々独立に、水素原子又はアルキル基を表わす。
Ｒ4s'及びＲ2s''は、アルキル基を表わす。
Ｍは、２価の連結基を表わす。
Ａは、一般式（Ａ）で表わされる基を表わす。
Ｍの一部とＲ3s、Ｒ2sとＲ4s、Ｍの一部とＲ2s'、Ｒ3s'とＲ4s'、Ｍの一部とＲ4s''、Ｒ3s''とＲ2s''とが互いに結合して環を形成してもよい。
【請求項４】
一般式（Ａ）で表される基を有するβ−アルキルアクリル酸系繰り返し単位が、下記一般式（ＡＡ−１）、（ＡＡ−２）又は（ＡＡ−３）で表わされることを特徴とする請求項１に記載のポジ型レジスト組成物。
【化４】
2004264767.tif 000004
一般式（ＡＡ−１）〜（ＡＡ−３）中、
Ｒ2a、Ｒ2a'、Ｒ4a'及びＲ2a''は、各々独立に、アルキル基を表わす。
Ｒ3a、Ｒ4a、Ｒ3a'、Ｒ3a''及びＲ4a''は、各々独立に、水素原子又はアルキル基を表わす。
Ｍは、２価の連結基を表わす。
Ｍ’は、２価の連結基であり、主鎖に結合する原子は炭素原子又は珪素原子である。
Ａは、一般式（Ａ）で表わされる基を表わす。
Ｍの一部とＲ3a、Ｒ2aとＲ4a、Ｍの一部とＲ2a'、Ｒ3a'とＲ4a'、Ｍ’の一部とＲ4a''、Ｒ3a''とＲ2a''が互いに結合して環を形成してもよい。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれかに記載のポジ型レジスト組成物によりレジスト膜を形成し、当該レジスト膜を露光、現像することを特徴とするパターン形成方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年8月30日(2004.8.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
セラミックスからなる均熱板の一方の主面をウエハの載置面とし、他方の主面もしくは内部に発熱抵抗体を有するとともに、該発熱抵抗体と電気的に接続される給電部を前記他方の主面に具備し、上記均熱板の外周を支持体に保持してなるウエハ加熱装置において、前記支持体に均熱板を冷却するためのガス噴射口が設置され、前記支持体にその面積の５〜７０％の開口部を形成したことを特徴とするウエハ加熱装置。
【請求項２】
前記均熱板の厚みが２〜７ｍｍであることを特徴とする請求項１に記載のウエハ加熱装置。
【請求項３】
前記ガス噴射口が４〜１５個であることを特徴とする請求項１に記載のウエハ加熱装置。
【請求項４】
前記セラミックスが、炭化珪素または窒化アルミニウムを主成分とすることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のウエハ加熱装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
【課題を解決するための手段】
本発明者等は、上記の課題について鋭意検討した結果、セラミックスからなる一方の主面をウエハの載置面とし、他方の主面もしくは内部に発熱抵抗体を有するとともに、該発熱抵抗体と電気的に接続される給電部を前記他方の主面に具備した均熱板と、該均熱板の外周を支持体に保持してなるウエハ加熱装置において、前記支持体に均熱板を冷却するためのガス噴射口が設置され、前記支持体がその面積の５〜７０％の開口部を有するウエハ加熱装置とすることにより、上記課題を解決した。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
また、前記支持体にガス噴射口を設置することにより、例えばウエハ加熱装置の温度変更時の温度が安定するまでの時間を短縮することが可能となる。
【手続補正書】
【提出日】平成16年12月9日(2004.12.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を所定温度に加熱処理する加熱処理装置であって、
その表面に基板を近接または載置させて加熱処理する加熱プレートと、
前記加熱プレートの裏面に冷却ガスを供給して、前記加熱プレートを降温する冷却ガス供給手段と
を具備し、
前記冷却ガス供給手段は、前記加熱プレートの冷却速度の遅い部位から冷却速度の速い部位に向けて冷却ガスが流れるように冷却ガスを供給することを特徴とする加熱処理装置。
【請求項２】
基板を所定温度に加熱処理するとともに基板を冷却可能な加熱処理装置であって、
その表面に基板を近接または載置させて加熱処理する加熱プレートと、
この加熱プレートとは別個に設けられ、その表面に基板を近接または載置させて冷却処理する冷却プレートと、
前記加熱プレートと前記冷却プレートとの間で基板を搬送する搬送手段と、
前記加熱プレートの裏面に冷却ガスを供給して、前記加熱プレートを降温する冷却ガス供給手段と
を具備し、
前記冷却ガス供給手段は、前記加熱プレートの冷却速度の遅い部位から冷却速度の速い部位に向けて冷却ガスが流れるように冷却ガスを供給することを特徴とする加熱処理装置。
【請求項３】
前記冷却ガス供給手段は、前記加熱プレートの裏面側で、放冷速度の遅い部位に向けて、冷却ガスを吐出する冷却ガス吐出ノズルと、放冷速度の遅い部位に供給された冷却ガスを放冷速度の速い部位に導く冷却ガス案内手段とを有することを特徴とする請求項１または請求項２に記載の加熱処理装置。
【請求項４】
前記加熱プレートの裏面には、前記冷却ガスの流路を規定する冷却ガス流路規定部材が設けられていることを特徴とする請求項３に記載の加熱処理装置。
【請求項５】
前記冷却ガス流路規定部材は、前記加熱プレートのヒーターの配置パターンに略対応するように設けられていることを特徴とする請求項４に記載の加熱処理装置。
【請求項６】
前記加熱プレートの降温時は、前記加熱プレートの温度を検出する複数の温度センサの温度情報に基づいて前記冷却ガスの流量を制御することを特徴とする請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の加熱処理装置。
【請求項７】
基板を所定温度に加熱処理する加熱処理方法であって、表面に基板を近接または載置させて加熱処理する加熱プレートの裏面に冷却ガスを供給して降温する際に、前記加熱プレートの冷却速度の遅い部位から冷却速度の速い部位に向けて冷却ガスが流れるように冷却ガスを供給することを特徴とする加熱処理方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
これら加熱処理装置において、前記冷却ガス供給手段は、前記加熱プレートの裏面側で、放冷速度の遅い部位に向けて、冷却ガスを吐出する冷却ガス吐出ノズルと、放冷速度の遅い部位に供給された冷却ガスを放冷速度の速い部位に導く冷却ガス案内手段とを有する構成とすることができる。また、前記加熱プレートの裏面に冷却ガスの流路を規定する冷却ガス流路規定部材が設けられている構成とすることができる。前記冷却ガス流路規定部材は、前記加熱プレートのヒーターの配置パターンに略対応するように設けられていることが好ましい。さらに、前記加熱プレートの降温時は、前記加熱プレートの温度を検出する複数の温度センサの温度情報に基づいて前記冷却ガスの流量を制御することができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５８】
なお、本発明は上記実施の形態に限定されず、種々の変形が可能である。上記実施の形態では、冷却プレートを有するホットプレートユニット（ＣＨＰ）に本発明を適用した場合について説明したが、本発明は、加熱プレートのみを備えたホットプレートユニットにも適用することができる。また、加熱プレートの冷却速度の遅い部位および冷却速度の速い部位は、加熱プレートの配置状態等によってその位置が変化するから、その位置に応じて冷却速度の遅い部位から冷却速度の速い部位に向けて冷却ガスが流れるように冷却ガスを供給するノズルの位置や形状を適宜調整すればよい。例えば図９の（ａ）に示すように、ノズル本体の軸に沿って形成された孔９６ａと、そこから分岐して斜めに形成された孔９６ｂとを有するノズル７４’を用いることができるし、（ｂ）に示すように、ノズル本体の先端に二股状に形成された孔９７ａ，９７ｂを有するノズル７４''を用いることもできる。さらに、上記実施形態では、案内部材７８を設けて冷却ガスを冷却速度の遅い部位から冷却速度の速い部位へ冷却ガスを流すようにしたが、案内部材としてはこのような流れを形成することができればどのようなものであってもよく、また、このような流れを形成することができる限り必ずしも案内部材を設けなくてもよい。さらにまた、上記実施形態では、本発明をレジスト塗布現像処理システムにおけるポストエクスポージャーベーク用のホットプレートユニットに適用した場合について示したが、これに限らず、プリベークやポストベーク等の他の加熱処理にも適用することが可能であるし、レジスト塗布現像処理システム以外に用いられる加熱処理に適用することも可能である。さらにまた、上記実施形態ではウエハをプロキシミティピン上に載置して間接的に加熱を行った場合について示したが、ウエハを加熱プレート上に直接密着するように載置して加熱してもよい。さらにまた、上記実施形態では基板として半導体ウエハを用いた場合について説明したが、半導体ウエハ以外の他の被処理基板、例えばＬＣＤ基板の加熱処理を行う場合についても適用可能である。
【手続補正書】
【提出日】平成17年9月30日(2005.9.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】加熱手段と、基板を支持する基板支持手段とを備える基板処理装置であって、
前記基板支持手段は、前記基板支持手段に対して前記加熱手段と反対側で前記基板を支持し、
前記基板支持手段は石英材を備え、前記石英材の少なくとも一部に前記加熱手段からの光子エネルギーが伝達されるのを阻止する阻止部を設けたことを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】前記基板支持手段は、第１および第２の部材を備え、
前記第１の部材は、前記基板を支持する第１の支持面を有し、
前記第２の部材は、前記第１の部材を支持する第２の支持面を有し、
前記第２の部材は、中央部に開口を有し、
前記第２の支持面は、前記開口の周りに設けられ、
前記第１の部材は、前記開口を覆って前記第２の部材の前記第２の支持面で支持されることを特徴とする請求項１記載の基板処理装置。
【請求項３】加熱手段と、基板を支持する基板支持手段と、前記基板支持手段を前記加熱手段上で支持する前記基板支持手段の支持手段とを備える基板処理装置であって、
前記基板支持手段が、前記基板を支持する第１の支持面を備える第１の部材と
、前記第１の部材を支持する第２の支持面を備える第２の部材とを備え、
前記第１および第２の部材の少なくとも一つが石英材を備え、前記石英材の少なくとも一部に前記加熱手段からの光子エネルギーが伝達されるのを阻止する阻止部を設けたことを特徴とする基板処理装置。
【請求項４】前記第２の部材は石英材を備え、
前記第２の部材は、前記第２の支持面の周りに設けられた周辺部を備え、前記第２の部材の前記石英材の少なくとも前記周辺部に前記阻止部が設けられていることを特徴とする請求項３記載の基板処理装置。
【請求項５】加熱手段と、基板を支持する基板支持手段とを備える基板処理装置であって、
前記基板支持手段は、前記基板支持手段に対して前記加熱手段と反対側で前記基板を支持し、
前記基板支持手段は、中央の開口と、前記中央の開口の周りに設けられた前記基板を支持する支持面とを有する支持部材を備え、
前記支持部材は、石英材を備え、前記石英材のすくなくとも一部は不透明となっており、
前記支持面は窪んで設けられ、前記窪んだ支持面は、その上に前記基板を支持し、前記基板の熱膨張を制限しないような大きさに構成されていることを特徴とする基板処理装置。
【手続補正書】
【提出日】平成17年9月14日(2005.9.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項９】  前記網パターン記憶部が、前記網パターンを１つの網点に対応するドットセルを単位として見たときに、該ドットセル上に配列された閾値のうちの少なくとも一部がドットセル相互間で異なる複数種類のドットセルが配列された網パターンであって、前記データ変換部において、この網パターンを用いて、一様画像上の各ピクセルのピクセル値を、一様に、低濃度側から高濃度側に向かって順次変化させながら前記データ変換処理を繰り返した場合に、画像上の同一方向に関し、相互に接するドットパターンが最初に表われるときの網％である第１の網％と、該同一方向に隣接するドットパターンどうしが全て接するときの網％である網％とが異なるとともに、さらに、相互に異なる方向に関する前記第１の網％どうし、および相互に異なる方向に関する前記第２の網％どうしが相互に異なるドットパターンが得られるように閾値が調整された網パターンを記憶するものであることを特徴とする請求項８記載の画像処理装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０２】
この図２２に示す画像処理装置を採用した場合も、トーンジャンプのない、あるいはトーンジャンプの目立たない、高画質の網点画像を得ることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成17年9月6日(2005.9.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
信号処理部114 には、ディジタル信号10e に施す白バランス調整等のように各信号処理を行う構成を含むとともに、リニアマトリクス（Linear-MaTriX: L-MTX）回路114aおよび色差マトリクス（Color difference-MaTriX: C-MTX）回路114bが備えられている。L-MTX 回路114aは、供給されるディジタル信号10e の色再現が等色関数に近づくようにディジタル信号10e ( またはデータ)に演算処理を施す回路である。この処理において設定する係数の大きさが自由に設定できるほど、忠実な色相再現がし易くなる。たとえば、ITU-R709で規定されている標準CRT の原色に対応させた等色関数は、図２に示す分光感度（色B の曲線20: 色G の曲線22: 色R の曲線24）となる。実際には色フィルタ部104aを透過させ、得られる各透過光からの信号にL-MTX 処理を施すことにより、原色R, G, B の分光感度の形状が等色関数に近いほど、忠実な色相再現が行われる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
この演算処理によって等色関数の負の分光感度を生成するには、L-MTX 処理を行う前に、この生成する波長域での分光感度をゼロにしておくとよい。特に、色G の分光感度を、図２の場合、波長470nm 以下と波長610nm 以上でゼロにすることが重要である。なぜなら偽色防止の観点から（G-R）と（G-B）は禁止されているからである。この波長域での分光感度の関係は図３の相対感度で表される。色R と色B の相対感度は、それぞれ破線で示す（曲線24a, 20a）。また、色G における解としては２つの相対感度曲線を示す。すなわち、相対感度の実線で示す曲線22a,太い破線で示す曲線22b である。また、図１に示すようにL-MTX 回路114aは偽色の発生が気になる場合、選択的に演算を行わないように動作を停止させ、C-MTX 回路114bに信号を供給して演算処理するようにしてもよい。
【手続補正書】
【提出日】平成16年2月16日(2004.2.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】録画装置及び情報再生方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくともサムネイルデータを含むサムネイルファイルを記録媒体から読み取り、
前記読み取ったサムネイルファイルをメモリに保持し、
前記保持したサムネイルファイルに基づいてサムネイル画像を出力することを特徴とする情報再生方法。
【請求項２】
前記サムネイルファイルにはサムネイルデータの属性を示す属性データが含まれることを特徴とする請求項1記載の情報再生方法。
【請求項３】
前記サムネイルファイルとしてサムネイルデータが連続的に記憶され、前記属性データが連続的に記憶されていることを特徴とする請求項２記載の情報再生方法。
【請求項４】
前記属性データの記憶領域は属性データの量に関わらず一定であることを特徴とする請求項３記載の情報再生方法。
【請求項５】
サムネイル画を出画している状態からデータの録画・再生状態に変化する際には、ディスプレイに出画しているサムネイルデータを前記メモリ内の第１の領域から第２の領域に移し、
前記メモリ内の第1の領域を用いてデータの録画・再生を実行し、
前記録画・再生状態から前記サムネイル画を出画する状態に変化する際には、前記メモリの第２の領域に移されたサムネイルデータに基づいてサムネイル画を出力することを特徴とする情報再生方法。
【請求項６】
前記記録媒体に、予めサムネイルファイルの領域を確保することを特徴とする請求項１乃至３記載の情報再生方法。
【請求項７】
少なくともサムネイルデータを含むサムネイルファイルが記録されている記録媒体から前記サムネイルファイルを読み取る手段と、
前記読み取ったサムネイルファイルを保持するメモリと、
前記保持したサムネイルファイルに基づいてサムネイル画像を出力する手段とを有することを特徴とする録画装置。
【請求項８】
前記サムネイルファイルにはサムネイルデータの属性を示す属性データが含まれることを特徴とする請求項７記載の録画装置。
【請求項９】
前記サムネイルファイルとしてサムネイルデータが連続的に記憶され、前記属性データが連続的に記憶されていることを特徴とする請求項８記載の録画装置。
【請求項１０】
前記属性データの記憶領域は属性データの量に関わらず一定であることを特徴とする請求項３記載の録画装置。
【請求項１１】
記録媒体に対してデータの記録・再生を行う記録・再生手段と、
前記データを保持するメモリと、
前記記録・再生手段と前記メモリを制御する制御手段と、を有し、
前記制御手段は、サムネイル画を出画している状態からデータの録画・再生状態に変化する際には、ディスプレイに出画しているサムネイルデータを前記メモリ内の第１の領域から第２の領域に移し、前記メモリ内の第1の領域を用いてデータの録画・再生を実行し、前記録画・再生状態から前記サムネイル画を出画する状態に変化する際には、前記メモリの第２の領域に移されたサムネイルデータに基づいてサムネイル画を出力する制御を行うことを特徴とする録画装置。
【請求項１２】
前記記録媒体に、予めサムネイルファイルの領域を確保することを特徴とする請求項１乃至３記載の録画装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ランダムアクセス可能な記録媒体に録画を行う録画技術に関する。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
【課題を解決するための手段】
そこで本発明では、少なくともサムネイルデータを含むサムネイルファイルを記録媒体から読み取り、前記読み取ったサムネイルファイルをメモリに保持し、前記保持したサムネイルファイルに基づいてサムネイル画像を出力することとする。また、サムネイル画を出画している状態からデータの録画・再生状態に変化する際には、ディスプレイに出画しているサムネイルデータを前記メモリ内の第１の領域から第２の領域に移し、前記メモリ内の第1の領域を用いてデータの録画・再生を実行し、前記録画・再生状態から前記サムネイル画を出画する状態に変化する際には、前記メモリの第２の領域に移されたサムネイルデータに基づいてサムネイル画を出力することとする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成16年9月27日(2004.9.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
排水供給手段は、排水を晶析反応槽１に供給できるものであれば任意の態様が可能である。図１の態様においては、晶析反応槽１に連結された排水供給ライン３から、排水が晶析反応槽１に供給される。排水中のフッ素濃度を一定にするために、排水供給ライン３には、排水を一旦貯留することができる排水タンクが連結されていても良い。
晶析用薬液供給手段は、カルシウム含有液を晶析反応槽１に供給できるものであれば任意の態様が可能である。図１の態様においては、晶析反応槽１に連結されたカルシウム含有液供給ライン４から、カルシウム含有液が晶析反応槽１に供給される。