【手続補正書】
【提出日】平成16年9月24日(2004.9.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
石英ガラス基板上に所望のパタンが形成された感光性樹脂塗膜からなる遮光体を有し、当該遮光体部のＫｒＦエキシマレーザ光に対する透過率が１％以下であるＫｒＦエキシマレーザリソグラフィ用フォトマスクを作製するための当該感光性樹脂組成物であって、下記一般式（化１）〜（化８）で表される光吸収化合物のうち少なくとも１種類を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。
【化１】
2002196483.tif 000001
【化２】
2002196483.tif 000002
【化３】
2002196483.tif 000003
2002196483.tif 000004
2002196483.tif 000005
【化６】
2002196483.tif 000006
2002196483.tif 000007
2002196483.tif 000008
（ここでR1〜R10は水素，炭素数1〜4の置換または無置換アルキル基、ハロゲン，水酸基、メチロール基、炭素数1〜4の置換または無置換アルコキシ基，ヒドロキシル基，フェニル基，メトキシ基，エトキシエチル基、シクロプロピル基、アセタール基、アセチル基の中から選ばれる原子または原子団を表わす。R1〜R10は同一であってもよく，異なっていてもよい。また、Xはハロゲン化アセチル基,Yはカンファースルホネート、トリフルオロスルホネート、メタンスルホネート等の中から選ばれる原子または原子団を表す。）
【請求項２】
請求項１記載の感光性樹脂組成物であって、上記遮光体部のＫｒＦエキシマレーザ光に対する透過率が０．５％以下であることを特徴とする感光性樹脂組成物。
【請求項３】
石英ガラス基板上に所望のパタンが形成された感光性樹脂塗膜からなる減光体を有し、当該減光体部のＫｒＦエキシマレーザ光に対する透過率が２％から１６％の範囲で、ＫｒＦエキシマレーザリソグラフィ用ハーフトーンフォトマスクを作製するための当該感光性樹脂組成物であって、下記一般式（化１）〜（化８）で表される光吸収化合物のうち少なくとも１種類を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。
【化１】
2002196483.tif 000009
2002196483.tif 000010
【化３】
2002196483.tif 000011
2002196483.tif 000012
2002196483.tif 000013
2002196483.tif 000014
2002196483.tif 000015
2002196483.tif 000016
（ここでR1〜R10は水素，炭素数1〜4の置換または無置換アルキル基、ハロゲン，水酸基、メチロール基、炭素数1〜4の置換または無置換アルコキシ基，ヒドロキシル基，フェニル基，メトキシ基，エトキシエチル基、シクロプロピル基、アセタール基、アセチル基の中から選ばれる原子または原子団を表わす。R1〜R10は同一であってもよく，異なっていてもよい。また、Xはハロゲン化アセチル基,Yはカンファースルホネート、トリフルオロスルホネート、メタンスルホネート等の中から選ばれる原子または原子団を表す。）
【請求項４】
請求項３記載の感光性樹脂組成物であって、上記減光体部のＫｒＦエキシマレーザ光に対する透過率が４％以上９％以下であることを特徴とする感光性樹脂組成物。
【請求項５】
請求項１乃至４いずれか_に記載の感光性樹脂組成物であって、石英ガラス基板上に当該感光性樹脂塗膜を形成する工程、電子線あるいは該塗膜に対する透過率が４０％以上となる波長の活性化学線により所望パタンを露光する工程、および現像工程によって、ネガ型のパタンを形成することを特徴とする感光性樹脂組成物。
【請求項６】
請求項１乃至５いずれか_に記載の感光性樹脂組成物であって、当該光吸収化合物が、アントラセン誘導体またはフェナンスレン誘導体から成ることを特徴とする感光性樹脂組成物。
【請求項７】
請求項６記載の感光性樹脂組成物であって、当該光吸収化合物が、その分子構造中に少なくともひとつのカルビノール基を有するアントラセン誘導体またはフェナンスレン誘導体から成ることを特徴とする感光性樹脂組成物。
【請求項８】
石英ガラス基板上に所望のパタンが形成された感光性樹脂塗膜からなる遮光体を有するフォトマスクであって、当該遮光体部のＫｒＦエキシマレーザ光に対する透過率が１％以下であることを特徴とするフォトマスク。
【請求項９】
請求項８記載のフォトマスクであって、前記遮光体部のＫｒＦエキシマレーザ光に対する透過率が０．５％以下であることを特徴とするフォトマスク。
【請求項１０】
石英ガラス基板上に所望のパタンが形成された感光性樹脂塗膜からなる減光体を有するフォトマスクであって、当該減光体部のＫｒＦエキシマレーザ光に対する透過率が２％から１６％の範囲であることを特徴とするフォトマスク。
【請求項１１】
請求項１０記載のフォトマスクであって、前記減光体部のＫｒＦエキシマレーザ光に対する透過率が４％から９％の範囲であることを特徴とするフォトマスク。
【請求項１２】
請求項８記載のフォトマスクであって、かつ当該石英ガラス基板上に所定パタン状のＫｒＦエキシマレーザ光の位相をほぼ180度変える構造を持った位相シフタと呼ばれる構造を有することを特徴とするフォトマスク。
【請求項１３】
フォトマスクの製造方法であって、少なくとも、石英ガラス基板上に感光性樹脂塗膜を形成する工程、該塗膜に対する透過率が４０％以上となる波長の活性化学線あるいは電子線により所望パタンを露光する工程、および現像工程によって、該石英ガラス基板上にＫｒＦエキシマレーザ光に対する透過率が１％以下である遮光体を形成することを特徴とするフォトマスクの製造方法。
【請求項１４】
請求項１３記載のフォトマスクの製造方法であって、前記遮光体部のＫｒＦエキシマレーザ光に対する透過率が０．５％以下であることを特徴とするフォトマスクの製造方法。
【請求項１５】
フォトマスクの製造方法であって、少なくとも、石英ガラス基板上に感光性樹脂塗膜を形成する工程、該塗膜に対する透過率が４０％以上となる波長の活性化学線あるいは電子線により所望パタンを露光する工程、および現像工程によって、該石英ガラス基板上にＫｒＦエキシマレーザ光に対する透過率が２％から１６％の範囲である減光体を形成することを特徴とするフォトマスクの製造方法。
【請求項１６】
請求項１５記載のフォトマスクの製造方法であって、前記減光体部のＫｒＦエキシマレーザ光に対する透過率が４％から９％の範囲であるであることを特徴とするフォトマスクの製造方法。
【請求項１７】
請求項１３あるいは１４記載のフォトマスクの製造方法であって、かつ当該石英ガラス基板上に所定パタン状のＫｒＦエキシマレーザ光の位相をほぼ180度変える構造を持った位相シフタと呼ばれる構造をあらかじめ形成することを特徴とするフォトマスクの製造方法。
【請求項１８】
所定の遮光体パタンが描かれたフォトマスクを照明し、当該パタンを投影光学系を介してウエハ基板上に転写する投影露光を繰り返し実施して所定のパタンを順次形成していく工程を含む電子デバイスの製造方法であって、少なくともひとつのＫｒＦエキシマレーザ光を用いる投影露光工程を含み、該ＫｒＦエキシマレーザ光を用いる投影露光工程に使用するフォトマスクが、石英ガラス基板上に感光性樹脂塗膜から形成された所定の遮光体パタンを有し、当該遮光体パタン部のＫｒＦエキシマレーザ光に対する透過率が１％以下であることを特徴とする電子デバイスの製造方法。
【請求項１９】
請求項１８記載の電子デバイスの製造方法であって、前記遮光体部のＫｒＦエキシマレーザ光に対する透過率が０．５％以下であることを特徴とする電子デバイスの製造方法。
【請求項２０】
所定の遮光体パタンが描かれたフォトマスクを照明し、当該パタンを投影光学系を介してウエハ基板上に転写する投影露光を繰り返し実施して所定のパタンを順次形成していく工程を含む電子デバイスの製造方法であって、少なくともひとつのＫｒＦエキシマレーザ光を用いる投影露光工程を含み、該ＫｒＦエキシマレーザ光を用いる投影露光工程に使用するフォトマスクが、石英ガラス基板上に感光性樹脂塗膜から形成された所定の減光体パタンを有し、当該減光体パタン部のＫｒＦエキシマレーザ光に対する透過率が２％から１６％の範囲であることを特徴とする電子デバイスの製造方法。
【請求項２１】
請求項２０記載の電子デバイスの製造方法であって、前記減光体部のＫｒＦエキシマレーザ光に対する透過率が４％から９％の範囲であることを特徴とする電子デバイスの製造方法。
【請求項２２】
所定の遮光体パタンが描かれたフォトマスクを照明し、当該パタンを投影光学系を介してウエハ基板上に転写する投影露光を繰り返し実施して所定のパタンを順次形成していく工程を含む電子デバイスの製造方法であって、少なくともひとつのＫｒＦエキシマレーザ光を用いる投影露光工程を含み、該ＫｒＦエキシマレーザ光を用いる投影露光工程に使用するフォトマスクが、石英ガラス基板上に感光性樹脂塗膜から形成された所定の遮光体パタンを有し、当該遮光体パタン部のＫｒＦエキシマレーザ光に対する透過率が１％以下であり、かつ、当該フォトマスクの石英ガラス基板上に所定パタン状のＫｒＦエキシマレーザ光の位相をほぼ180度変える構造を持った位相シフタと呼ばれる構造を有することを特徴とする電子デバイスの製造方法。
【請求項２３】
請求項２２記載の電子デバイスの製造方法であって、前記遮光体部のＫｒＦエキシマレーザ光に対する透過率が０．５％以下であることを特徴とする電子デバイスの製造方法。
【請求項２４】
請求項１８乃至２３いずれかに記載の電子デバイスの製造方法であって、ゲート電極形成工程までの露光には当該遮光体パターンが金属膜からなるフォトマスクを用いることを特徴とする電子デバイスの製造方法。
【請求項２５】
請求項１８乃至２３いずれかに記載の電子デバイスの製造方法であって、トランジスタのゲート電極を作る工程が、ＫｒＦエキシマレーザ光を用いる投影露光工程で、該ＫｒＦエキシマレーザ光を用いる投影露光工程に使用するフォトマスクが、石英ガラス基板上に感光性樹脂塗膜から形成された所定の遮光体パタンを有し、当該フォトマスクの遮光体パタン部のＫｒＦエキシマレーザ光に対する透過率が１％以下であり、かつ、当該フォトマスクの石英ガラス基板上に所定パタン状のＫｒＦエキシマレーザ光の位相をほぼ180度変える構造を持った位相シフタと呼ばれる構造を有することを特徴とする電子デバイスの製造方法。
【請求項２６】
請求項２５記載の電子デバイスの製造方法であって、前記遮光体部のＫｒＦエキシマレーザ光に対する透過率が０．５％以下であることを特徴とする電子デバイスの製造方法。
【請求項２７】
フォトマスク上に形成された所望の遮光体あるいは減光体パタンを投影レンズを介して被加工膜上に形成されたレジストに露光を行い、その後現像を行ってレジストパタンを形成するレジストパタン形成方法において、前記露光光がＫｒＦエキシマレーザ光であり、前記遮光体あるいは減光体パタンがベンゼン環を含む感光性組成物であり、かつ前記被加工膜上に形成されたレジストがベンゼン環を含むレジストであることを特徴としたレジストパタン形成方法。
【請求項２８】
フォトマスク上に形成された遮光体あるいは減光体からなる所望の回路パタンを投影レンズを介して被加工膜上に形成されたレジストに露光を行う工程と、現像を行う工程と、該レジストをマスクに該被加工膜のエッチングを行う工程とを有する電子デバイスを製造する電子デバイスの製造方法において、前記露光光がＫｒＦエキシマレーザ光であり、前記遮光体あるいは減光体パタンがベンゼン環を含む感光性組成物であり、かつ前記被加工膜上に形成されたレジストがベンゼン環を含むレジストであることを特徴とした電子デバイスの製造方法。
【請求項２９】
請求項２８記載の電子デバイスの製造方法において、前記被加工膜が酸化膜であることを特徴とした電子デバイスの製造方法。
【請求項３０】
請求項２８あるいは２９記載の電子デバイスの製造方法において、ＫｒＦエキシマレーザ光に対するフォトマスク上のレジストの消衰係数が被加工膜上のレジストの消衰係数より大きいことを特徴とした電子デバイスの製造方法。
【請求項３１】
請求項８あるいは９記載のフォトマスクを用い、ＫｒＦエキシマレーザ露光を行ってインプラマスク用のレジストパターンを形成することを特徴とした電子デバイスの製造方法。
【請求項３２】
請求項８記載のフォトマスクにおいて、前記感光性樹脂塗膜は、光吸収化合物が化学的に結合された感光性樹脂組成物を有することを特徴とするフォトマスク。
【請求項３３】
請求項１０記載のフォトマスクにおいて、前記感光性樹脂塗膜は、光吸収化合物が化学的に結合された感光性樹脂組成物を有することを特徴とするフォトマスク。
【請求項３４】
請求項１３記載のフォトマスクの製造方法において、前記感光性樹脂塗膜は、光吸収化合物が化学的に結合された感光性樹脂組成物を有することを特徴とするフォトマスクの製造方法。
【請求項３５】
請求項１５記載のフォトマスクの製造方法において、前記感光性樹脂塗膜は、光吸収化合物が化学的に結合された感光性樹脂組成物を有することを特徴とするフォトマスクの製造方法。
【請求項３６】
請求項１８記載の電子デバイスの製造方法において、前記感光性樹脂塗膜は、光吸収化合物が化学的に結合された感光性樹脂組成物を有することを特徴とする電子デバイスの製造方法。
【請求項３７】
請求項２０記載の電子デバイスの製造方法において、前記感光性樹脂塗膜は、光吸収化合物が化学的に結合された感光性樹脂組成物を有することを特徴とする電子デバイスの製造方法。
【請求項３８】
請求項２２記載の電子デバイスの製造方法において、前記感光性樹脂塗膜は、光吸収化合物が化学的に結合された感光性樹脂組成物を有することを特徴とする電子デバイスの製造方法。
【請求項３９】
請求項２７記載のレジストパタン形成方法において、前記感光性組成物は、化学的に結合された光吸収化合物を有することを特徴とするレジストパタン形成方法。
【請求項４０】
請求項２８記載の電子デバイスの製造方法において、前記感光性組成物は、化学的に結合された光吸収化合物を有することを特徴とする電子デバイスの製造方法。