Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成16年3月1日(2004.3.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ラムスデライト型構造を有する式Ｌｉ１＋ｘＴｉ２−２ＸＯ４（０≦ｘ≦０．５）で示されることを特徴とするリチウム電池用活物質。
【請求項２】
前記ラムスデライト型構造がＴｉＯ６型八面体構造を含むとともに、該ＴｉＯ６型八面体構造は稜を共有することにより互いに結合して無限二重鎖を形成し、更に該無限二重鎖は隣接する鎖とそれらの頂点で連結して三次元骨格を形成することによって、隣接する該無限二重鎖間にリチウムが入り込める（２×１）トンネルを構築することを特徴とする請求項１に記載のリチウム電池用活物質。
【請求項３】
前記ラムスデライト相は単位胞パラメータがａ＝５．０３±０．２Å、ｂ＝９．６２±０．２Å、およびｃ＝２．９５±０．２Åであることを特徴とする請求項１に記載のリチウム電池用活物質。
【手続補正書】
【提出日】平成16年3月2日(2004.3.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
単電池槽内に正極と負極とセパレータからなる発電要素を収納し、非水電解液を充填して密閉した密閉式非水電解液電池において、単電池槽内と連通し外部からは密閉された、内部容積を外圧に応じて伸縮させることができる均圧装置がこの単電池槽の上端面以外の周面に取り付けられており、単電池槽内と前記均圧装置とはフィルター層を介して連通していることを特徴とする密閉式非水電解液電池。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明はこのような欠点を解決するもので、単電池槽内に正極と負極とセパレータからなる発電要素を収納し非水電解液を充填して密閉した密閉式非水電解液電池において、単電池槽内と連通し外部からは密閉された、内部容積を外圧に応じて伸縮させることができる均圧装置がこの単電池槽の上端面以外の周面に取り付けられており、単電池槽内と前記均圧装置とはフィルター層を介して連通していることを特徴とする密閉式非水電解液電池を提供するものである。
【手続補正書】
【提出日】平成16年3月2日(2004.3.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
非水電解液電池もしくは複数の非水電解液電池からなる電池群と、異常発熱低減手段とを同一の筐体内に備えたことを特徴とする電池装置。
【請求項２】
筐体には異常発熱検知手段を備えたことを特徴とする請求項１記載の電池装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
【課題を解決するための手段】
そこで、非水電解液電池もしくは複数の非水電解液電池からなる電池群と、異常発熱低減手段とを同一の筐体内に備えたことを特徴とする電池装置の発明により、異常発熱を初期の段階で筐体内に留めることにより、上記課題を解決するものである。また、その装置に、異常発熱検知手段を備えることによっても上記課題を解決するものである。なお、異常発熱低減手段が手動もしくは自動で作動するよう構成してもよい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
【発明の効果】
以上、述べたように、本発明に係る電池装置は、非水電解液電池と異常発熱低減手段とを同一筐体に備えたことを特徴とする。さらに異常発熱低減手段を自動もしくは手動で作動可能としてもよい。
【手続補正書】
【提出日】平成16年2月24日(2004.2.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
有孔性高分子電解質を備え、孔体積の３０％以上９５％以下の体積の電解液を保持させた正極、負極あるいは有孔性高分子電解質を備えたことを特徴とする非水電解質電池。
【請求項２】
ポリビニリデンフルオライド、ポリアクリロニトリル、ポリ塩化ビニル、および前記有機高分子を構成する各種モノマーを構造中に有する共重合体のうち少くとも一つを備えたことを特徴とする、請求項１あるいは２記載の非水電解質電池。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本発明非水電解質電池は、有孔性高分子電解質を備え、孔体積の３０％以上９５％以下の体積の電解液を保持させた正極、負極あるいは有孔性高分子電解質を備えたこと、また、ポリビニリデンフルオライド、ポリアクリロニトリル、ポリ塩化ビニル、および前記有機高分子を構成する各種モノマーを構造中に有する共重合体のうち少くとも一つを備えたことを特徴とする。なお、本発明非水電解質電池においては、正極と負極との間に、有孔性高分子電解質を備えることが好ましい。
【手続補正書】
【提出日】平成16年9月29日(2004.9.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
メッセージ・データ・フレームからなる音声メール・メッセージを第１及び第２の音声メール・システム間で交換する方法であって、
ａ）前記第１及び第２のシステム間でメッセージ交換セッションを確立するステップと、
ｂ）前記第１のシステムにおいて利用可能な音声メール・システム機能を表した第１のインジケータを前記第１のシステムから前記第２のシステムに送信するステップと、
ｃ）前記第２のシステムにおいて利用可能な音声メール機能を表した第２のインジケータを前記第２のシステムから前記第１のシステムに送信するステップと、
ｄ）前記第１及び第２のシステムの双方で利用可能な共通の機能の最大限のセットを前記第１及び第２のシステムにおいて判別するステップと、
ｅ）前記共通の機能セットに含まれる機能によって使用されるメッセージ・データ・フレームのみを交換するステップと、
を具備することを特徴とする音声メール・システム間の通信方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１０】
第２の音声メール・システムと相互接続するための音声メール・システムであって、前記第２の音声メール・システムと通信するために前記音声メール・システムを接続させるためのインターフェースと、前記インターフェースに接続されたプロセッサを備え、前記プロセッサは、前記インターフェースを介して前記第２の音声メール・システムと音声メール・メッセージを交換するようになっているとともに、
ａ）前記第２の音声メール・システムとメッセージ交換セッションを確立し、
ｂ）前記音声メール・システムにおいて利用可能な音声メール・システム機能を表した第１のインジケータを前記第２の音声メール・システムに送信し、
ｃ）前記第２の音声メール・システムにおいて利用可能な音声メール機能を表した第２のインジケータを前記第２の音声メール・システムから受信し、
ｄ）前記音声メール・システムおよび前記第２の音声メール・システムの双方で利用可能な共通の機能の最大限のセットを求め、
ｅ）前記共通の機能セットに含まれる機能によってのみ使用されるメッセージ・データ・フレームを前記第２の音声メール・システムと交換するようになっている音声メール・システム。
【手続補正書】
【提出日】平成16年3月2日(2004.3.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４】
前記抑制手段は、
車両内に設けられ、所定の警報情報で警報を行う警報手段と、
前記受信手段により受信された前記風情報に基づいて、前記トンネル出口付近における風向きに対応した前記車両の走行車線上の位置を検出し、該位置に応じた警報情報を前記警報手段へ出力する警報出力手段とを備えたものであることを特徴とする請求項１記載の車両の走行制御装置。
【手続補正書】
【提出日】平成17年1月24日(2005.1.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３５】
前記命令シーケンスの各命令は、レンダリング数を付加している
ことを特徴とする請求項３２に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成16年2月9日(2004.2.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
デバイス構造を有する半導体チップと、
前記半導体チップ上に形成され、同一レベルの上面を有し、空隙によって互いに分離されている複数の第１配線構造体と、
前記第１配線構造体の上面上に貼り付けられ、第１配線構造体の少なくとも一部の上面上に貫通孔を有する絶縁膜と、
前記絶縁膜上に形成され、一部前記貫通孔を介して前記一部の第１配線構造体に電気的に接続された複数の第２配線層と、を有し、
前記複数の第２配線層が同一レベルの上面を有し、空隙によって互いに分離されており、さらに前記複数の第２配線層上に貼り付けられた他の絶縁膜と、
前記半導体チップ周辺部にループ状に形成され、前記多数の第１配線構造体と同一レベルの上面を有するシール部材とを有し、
前記絶縁膜はシール部材の全上面にも貼り付けられている半導体装置。
【請求項２】
デバイス構造を有する半導体チップ上に、同一レベルの上面を有し、空隙によって分離される多数の第１配線構造体を形成する工程と、
前記多数の第１配線構造体の上面上に絶縁膜を貼り付け、隣接する第１配線構造体間に空洞を形成する平坦化工程と、
前記絶縁膜上に第２配線を形成する配線形成工程とを含む半導体装置の製造方法。
【請求項３】
前記平坦化工程が、
支持基板上に絶縁膜を有する補助基盤を準備する工程と、
前記半導体チップ上の第１配線構造体の上面に前記補助基盤の絶縁膜を貼り付ける工程と、
前記補助基盤の支持基板を選択的に除去する工程とを含む請求項２記載の半導体装置の製造方法。
【請求項４】
前記補助基盤が絶縁膜上に接着剤層を有し、前記絶縁膜を貼り付ける工程が該接着剤層を用いるものである請求項３記載の半導体装置の製造方法。
【請求項５】
さらに、前記半導体チップの周辺上に、前記多数の第１配線構造体と同一レベルの上面を有し、ループ状の平面形状を有するシール部材を形成する工程を含み、前記平坦化工程は該シール部材の上面全面上にも絶縁膜を貼り付ける請求項２〜４のいずれか１項に記載の半導体装置の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
【課題を解決するための手段】
本発明の一観点によれば、デバイス構造を有する半導体チップと、前記半導体チップ上に形成され、同一レベルの上面を有し、空隙によって互いに分離されている複数の第１配線構造体と、前記第１配線構造体の上面上に貼り付けられ、第１配線構造体の少なくとも一部の上面上に貫通孔を有する絶縁膜と、前記絶縁膜上に形成され、一部前記貫通孔を介して前記一部の第１配線構造体に電気的に接続された複数の第２配線層と、を有し、前記複数の第２配線層が同一レベルの上面を有し、空隙によって互いに分離されており、さらに前記複数の第２配線層上に貼り付けられた他の絶縁膜と、前記半導体チップ周辺部にループ状に形成され、前記多数の第１配線構造体と同一レベルの上面を有するシール部材とを有し、前記絶縁膜はシール部材の全上面にも貼り付けられている半導体装置が提供される。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
本発明の他の観点によれば、デバイス構造を有する半導体チップ上に、同一レベルの上面を有し、空隙によって分離される多数の第１配線構造体を形成する工程と、 前記多数の第１配線構造体の上面上に絶縁膜を貼り付け、隣接する第１配線構造体間に空洞を形成する平坦化工程と、前記絶縁膜上に第２配線を形成する配線形成工程とを含む半導体装置の製造方法が提供される。
【手続補正書】
【提出日】平成16年2月23日(2004.2.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板に対して所定の処理を施すプロセスモジュールと、複数枚の基板を保持する基板格納手段とを備え、基板格納手段から基板を取り出してプロセスモジュールへ搬送し、同一のプロセスモジュールにより複数枚の基板を同時にプロセス処理可能な基板処理装置において、
前記プロセスモジュールで処理される基板の枚数に応じたプロセス処理の条件を保持した条件記憶手段と、
基板の枚数に応じて条件記憶手段に記憶されているプロセス処理の条件により前記プロセスモジュールにおけるプロセス処理を実行させる制御手段と、
を備えたことを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
更に基板枚数検出手段を有し、前記プロセスモジュールで処理される基板の枚数を検出し、検出した基板の枚数に応じて条件記憶手段に記憶されているプロセス処理の条件により前記プロセスモジュールにおけるプロセス処理を実行させることを特徴とする（１）記載の基板処理装置。
【請求項３】
複数枚の基板を保持する基板格納手段から基板を取り出して所定の処理を施すプロセスモジュールへ搬送し、同一のプロセスモジュールにより複数枚の基板を同時にプロセス処理する基板処理方法において、
前記プロセスモジュールで処理される基板の枚数に応じて条件記憶手段に記憶されているプロセス処理の条件により前記プロセスモジュールにおけるプロセス処理を実行させる基板処理方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年1月27日(2005.1.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コンピュータ・システムにおいて、
物理アドレス空間を有するメイン・メモリと、
前記メイン・メモリにアクセス可能な複数のデバイスと
からなり、
前記複数のデバイスの少なくとも１つのデバイスは、リニア・アドレスの所定の範囲が割り当てられたビデオ・デバイスを含み、
前記ビデオ・デバイスは、オペレーティング・システムの制御下で動作可能なコントローラであって、該ビデオ・デバイスに割り当てられたリニア・アドレスをそれぞれ、前記ビデオ・デバイスによってアクセス可能なビデオ・メモリ空間を規定する、物理アドレス空間の非連続のフレーム・ページへマッピングするコントローラを備え、
前記ビデオ・デバイスはさらに、前記コントローラによりアクセス可能なページ・テーブルを備え、
前記ページ・テーブルは、前記メイン・メモリの物理アドレス空間のフレーム・ページに対応するページ・フレーム番号、及び、該ページ・フレーム番号にマッピングされたリニア・アドレスの前記範囲における該ビデオ・デバイスのリニア・アドレスを含み、
前記非連続のページ・フレームは、オペレーティング・システムの制御下で割り当てが変更されるまで、前記ビデオ・デバイスに割り当てられた状態にあり、
前記少なくとも１つのデバイスは、前記非連続のフレーム・ページの１つがアクセスされている状態で、前記メイン・メモリの非連続のフレーム・ページ中の次のフレーム・ページをオープンすることが可能なリードアヘッド・コントローラである
ことを特徴とするコンピュータ・システム。
【請求項２】
コンピュータ・システムにおいて、
物理アドレス空間を有するメイン・メモリと、
前記メイン・メモリにアクセス可能な複数のデバイスと
からなり、
前記複数のデバイスの少なくとも１つのデバイスは、前記メイン・メモリのフレーム・バッファ領域にアクセス可能なビデオ・デバイスであり、
前記ビデオ・デバイスは、オペレーティング・システムの制御下で複数のリニア・アドレス領域が割り当てられており、
前記リニア・アドレス領域それぞれのリニア・アドレスは、物理アドレス空間の非連続のページ・フレームにマッピングされて、リニア・アドレス範囲にマッピングされた非連続のページ・フレームが、前記メイン・メモリの前記フレーム・バッファ領域のそれぞれを画定するよう構成され、
前記非連続のページ・フレームは、オペレーティング・システムの制御下で割り当てが変更されるまで、前記ビデオ・デバイスに割り当てられた状態にあり、
前記ビデオ・デバイスはさらに、コントローラによりアクセス可能な複数のページ・テーブルを備え、
前記ページ・テーブルはそれぞれ、前記メイン・メモリの前記非連続のページ・フレームを表すページ・フレーム番号、及び、これら非連続のページ・フレームにマッピングされたリニア・アドレスの前記範囲における該当するビデオ・デバイスのリニア・アドレスを含み、
前記コントローラは、前記リニア・アドレスの範囲のいずれかにおける該当するビデオ・デバイスのリニア・アドレスを生成して、対応するページ・テーブルにアクセスし、該ビデオ・デバイスのリニア・アドレスにマッピングされた非連続のページ・フレームをアクセスするように構成されている
ことを特徴とするコンピュータ・システム。
【請求項３】
コンピュータ・システムにおいて、
物理アドレス空間を有する共有のメイン・メモリと、
前記メイン・メモリにアクセス可能な複数のデバイスと
からなり、
前記複数のデバイスの１つのデバイスは、表示を制御するよう動作するビデオ・デバイスであり、
前記ビデオ・デバイスは、オペレーティング・システムのビデオ・デバイス・ドライバの初期化の期間中に、前記ビデオ・デバイスによって記憶された表示解像度パラメータにより規定されるリニア・アドレスの範囲が割り当てられるよう構成され、
前記ビデオ・デバイスは、該ビデオ・デバイスのリニア・アドレスの範囲内のリニア・アドレスを生成する表示コントローラを備えており、
前記ビデオ・デバイスは、前記表示コントローラによってアクセス可能なページ・テーブルを備えており、
前記ページ・テーブルは、当該ビデオ・デバイスの前記リニア・アドレスの範囲内のリニア・アドレスを、前記メイン・メモリ内の個々のページ・フレームに対応するページ・フレーム番号にマッピングする、プログラムされたエントリを含んでおり、
前記個々のページ・フレームは、相互に非連続であり、かつ前記ビデオ・デバイスによってアクセス可能なビデオ・メモリを提供し、
前記表示コントローラは、前記非連続のフレーム・ページの任意のものに、該任意のページ・フレームと関連して生成されたリニア・アドレスを使用することによって、対応するページ・テーブルのエントリを選択することによりアクセス可能であり、
前記ビデオ・デバイスは、前記ビデオ・メモリの前記非連続のページ・フレームの１つのページ・フレームに、他のデバイスが該ページ・フレーム以外のページ・フレームにアクセスしている状態であっても、アクセス可能である
ことを特徴とするコンピュータ・システム。
【請求項４】
コンピュータ・システムにおいて、
物理アドレス空間を有する共有のメイン・メモリであって、個々のメモリ・チャネル・バスを介してアクセス可能な複数のメモリ・チャネルを有するメイン・メモリと
前記メイン・メモリにメモリ・チャネル・バスを介してアクセス可能な複数のデバイスと、
ページ・テーブルと、
表示コントローラと
からなり、
前記複数のデバイスの１つのデバイスは、ビデオ・デバイスであり、
前記ビデオ・デバイスは、ビデオ・ドライバのオペレーティング・システムの初期化の期間中に、リニア・アドレスの範囲が割り当てられ、かつ、該リニア・アドレスの範囲内の各リニア・アドレスに、物理アドレス空間内のページ・フレームをあり当てるよう構成され、
前記割り当てられたページ・フレームは、前記物理アドレス空間に分散された複数の非連続のページ・フレームであり、前記オペレーティング・システムによって前記非連続のページ・フレームの割り当てが変更されるまで、前記ビデオ・デバイスによってアクセス可能なビデオ・フレーム・バッファを、前記メイン・メモリ内に画定し、
前記ページ・テーブルは、前記メイン・メモリ内の前記ビデオ・デバイスに割り当てられた非連続のページ・フレームに対応するページ・フレーム番号に、前記リニア・アドレスの範囲内のアドレスを相関させ、
前記表示コントローラは、前記ビデオ・デバイスの前記リニア・アドレスの範囲内のリニア・アドレスを発生して前記ページ・テーブルにアクセスし、前記ビデオ・デバイスによるアクセスに関して、前記非連続のページ・フレームの対応するページ・フレームを選択するよう構成され、
前記ビデオ・デバイスは、前記ビデオ・メモリの前記非連続のページ・フレームの１つのページ・フレームに、他のデバイスが該ページ・フレーム以外のページ・フレームにアクセスしている状態であっても、アクセス可能である
ことを特徴とするコンピュータ・システム。
【手続補正書】
【提出日】平成16年12月27日(2004.12.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
バス・ブリッジとバス・マスタの間における通信の方法であって、前記バス・ブリッジは少なくとも１つのデータ・バッファを有するものであり、
（ａ）前記バス・マスタから予約コマンドを受け取るステップと、
（ｂ）前記予約コマンドに応答して、前記バス・マスタのためにデータ・バッファを予約するステップと、
を備える方法。
【請求項２】
請求項１記載の方法であって、ステップ（ａ）の後に、バス・コマンドを受け取るステップを更に備える方法。
【請求項３】
請求項２記載の方法であって、前記バス・コマンドは開始アドレスを含み、前記バス・コマンドおよび前記予約コマンドは共になってアドレス範囲を定義する、方法。
【請求項４】
請求項３記載の方法であって、前記予約コマンドはカウントを含む、方法。
【請求項５】
請求項３記載の方法であって、前記バス・コマンドがリード動作である場合に、
前記リード動作に従ってデータを取り込むステップであって、該データは予約された前記バッファを通じて渡される、ステップと、
前記リード動作および前記アドレス範囲に従ってデータを先取りするステップであって、先取りした該データは前記の予約されたデータ・バッファに書き込まれる、ステップと、
前記の取り込んだデータおよび先取りしたデータを前記バス・マスタに供給するステップと、
を更に備える方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年8月30日(2004.8.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】引戸装置及び引戸の制動装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
引戸枠に引戸が開閉動作すべく移動自在に設けられ、しかも、引戸を閉扉方向に移動させるための閉じ力発生手段と、引戸が完全に閉止される前に引戸を制動するための第一制動装置を備えた引戸装置において、全開前の引戸の開扉方向および所定位置まで開放された引戸の閉扉方向の少なくとも一方向の引戸に制動力を付与する第二制動装置を備えたことを特徴とする引戸装置。
【請求項２】
前記第二制動装置は、ピニオンギヤが取り付けられた入力軸に所定の回転抵抗を付与するための制動手段と、前記ピニオンギヤが噛み合うラックとを備え、しかも、ピニオンギヤは、開扉方向の逆回転及び閉扉方向の正回転する際に所定の回転抵抗が付与される構成である請求項１に記載の引戸装置。
【請求項３】
引戸枠に引戸が開閉動作すべく移動自在に設けられ、しかも、引戸を閉扉方向に移動させるための閉じ力発生手段と、引戸が完全に閉止される前に引戸を制動するための制動装置を備えた引戸装置において、前記制動装置は、入力軸に所定の回転抵抗を付与するための制動手段と、入力軸に取り付けられた一対のピニオンギヤと、引戸が完全に閉止される前に一方のピニオンギヤに噛み合う閉止制動用ラックと、引戸の全開前および開放された引戸の閉扉時に、他方のピニオンギヤに噛み合う開放制動用ラックとを備え、他方のピニオンギヤには、全開前の引戸の開扉方向および所定位置まで開放された引戸の閉扉方向の少なくとも一方向の引戸に制動力を付与するように、開扉方向の逆回転及び閉扉方向の正回転の少なくとも一方に所定の回転抵抗が付与されることを特徴とする引戸装置。
【請求項４】
前記一方のピニオンギヤは、開扉方向の正回転時に空転するように構成され、しかも、他方のピニオンギヤは一方のピニオンギヤよりも小径に設定されている請求項３に記載の引戸装置。
【請求項５】
自閉式の引戸を制動するための制動装置であって、引戸が完全に閉止される前に引戸を制動するための第一制動装置と、全開前の引戸の開扉方向および所定位置まで開放された引戸の閉扉方向の少なくとも一方向の引戸に制動力を付与する第二制動装置とを備えたことを特徴とする引戸の制動装置。
【請求項６】
前記第二制動装置は、ピニオンギヤが取り付けられた入力軸に所定の回転抵抗を付与するための制動手段と、前記ピニオンギヤが噛み合うラックとを備え、しかも、ピニオンギヤは、開扉方向の逆回転及び閉扉方向の正回転する際に所定の回転抵抗が付与される構成である請求項５に記載の引戸の制動装置。
【請求項７】
自閉式の引戸を制動するための制動装置であって、入力軸に所定の回転抵抗を付与するための制動手段と、入力軸に取り付けられた一対のピニオンギヤと、引戸が完全に閉止される前に一方のピニオンギヤに噛み合う閉止制動用ラックと、引戸の全開前および開放された引戸の閉扉時に、他方のピニオンギヤに噛み合う開放制動用ラックとを備え、他方のピニオンギヤには、全開前の引戸の開扉方向および所定位置まで開放された引戸の閉扉方向の少なくとも一方向の引戸に制動力を付与するように、開扉方向の逆回転及び閉扉方向の正回転の少なくとも一方に所定の回転抵抗が付与されることを特徴とする引戸の制動装置。
【請求項８】
前記一方のピニオンギヤは、開扉方向の正回転時に空転するように構成され、しかも、他方のピニオンギヤは一方のピニオンギヤよりも小径に設定されている請求項７に記載の引戸の制動装置。
【請求項９】
自閉式の引戸を制動すべく引戸側に取り付けられる制動装置であって、入力軸に所定の回転抵抗を付与するための制動手段と、入力軸に取り付けられた一対のピニオンギヤとを備え、一方のピニオンギヤは、引戸が完全に閉止される前に閉止制動用ラックと噛み合って引戸に制動力を付与し、他方のピニオンギヤは、引戸の全開前に開放制動用ラックと噛み合って引戸に制動力を付与することを特徴とする引戸の制動装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、自閉式などの引戸装置及び引戸の制動装置に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明は、上記の課題を解決するために引戸装置及び引戸の制動装置としてなされたものであり、引戸装置の特徴は、引戸枠に引戸が開閉動作すべく移動自在に設けられ、しかも、引戸を閉扉方向に移動させるための閉じ力発生手段と、引戸が完全に閉止される前に引戸を制動するための第一制動装置を備えた引戸装置において、全開前の引戸の開扉方向および所定位置まで開放された引戸の閉扉方向の少なくとも一方の引戸に制動力を付与する第二制動装置を備えたことにあり、引戸の制動装置の特徴は、自閉式の引戸を制動するための制動装置であって、引戸が完全に閉止される前に引戸を制動するための第一制動装置と、全開前の引戸の開扉方向および所定位置まで開放された引戸の閉扉方向の少なくとも一方向の引戸に制動力を付与する第二制動装置とを備えたことにある。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
また、引戸装置の特徴は、引戸枠に引戸が開閉動作すべく移動自在に設けられ、しかも、引戸を閉扉方向に移動させるための閉じ力発生手段と、引戸が完全に閉止される前に引戸を制動するための制動装置を備えた引戸装置において、前記制動装置は、入力軸に所定の回転抵抗を付与するための制動手段と、入力軸に取り付けられた一対のピニオンギヤと、引戸が完全に閉止される前に一方のピニオンギヤに噛み合う閉止制動用ラックと、引戸の全開前および開放された引戸の閉扉時に、他方のピニオンギヤに噛み合う開放制動用ラックとを備え、他方のピニオンギヤには、全開前の引戸の開扉方向および所定位置まで開放された引戸の閉扉方向の少なくとも一方向の引戸に制動力を付与するように、開扉方向の逆回転及び閉扉方向の正回転の少なくとも一方に所定の回転抵抗が付与されることにあり、引戸の制動装置の特徴は、自閉式の引戸を制動するための制動装置であって、入力軸に所定の回転抵抗を付与するための制動手段と、入力軸に取り付けられた一対のピニオンギヤと、引戸が完全に閉止される前に一方のピニオンギヤに噛み合う閉止制動用ラックと、引戸の全開前および開放された引戸の閉扉時に、他方のピニオンギヤに噛み合う開放制動用ラックとを備え、他方のピニオンギヤには、全開前の引戸の開扉方向および所定位置まで開放された引戸の閉扉方向の少なくとも一方向の引戸に制動力を付与するように、開扉方向の逆回転及び閉扉方向の正回転の少なくとも一方に所定の回転抵抗が付与されることにある。
【手続補正書】
【提出日】平成16年7月21日(2004.7.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
車体フレーム前頭部に設けられたヘッドパイプに前輪を回動自在に支持するフロントフォークを左右に回動自在に枢着した二輪車であって、左右一対のインナーチューブが左右一対のアウターチューブにそれぞれ摺動自在に挿嵌され、内部に減衰力発生装置を備えた二輪車用フロントフォーク装置において、ピストンをフォークシリンダに摺動自在に嵌装して上記減衰力発生装置を構成すると共に、上記フォークシリンダの、上記ピストンとの間の上記フォークシリンダの中心を挟んで対向する位置に溝状のオイル通路を軸方向に沿ってそれぞれ形成したことを特徴とする二輪車用フロントフォーク装置。
【請求項２】
上記減衰力発生装置は上記アウターチューブの底部に植設された平行管状のフォークシリンダと、上記インナーチューブ端部に設けられたピストンとから構成され、上記フォークシリンダにそれぞれ長さの異なる複数本の溝状のオイル通路をグループ化して等間隔に配列し、各グループの同じ長さのオイル通路を上記フォークシリンダの中心を挟んで対向位置に配置した請求項１記載の二輪車用フロントフォーク装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明に係る二輪車用フロントフォーク装置は、上述した課題を解決するために、請求項１に記載したように、車体フレーム前頭部に設けられたヘッドパイプに前輪を回動自在に支持するフロントフォークを左右に回動自在に枢着した二輪車であって、左右一対のインナーチューブが左右一対のアウターチューブにそれぞれ摺動自在に挿嵌され、内部に減衰力発生装置を備えた二輪車用フロントフォーク装置において、ピストンをフォークシリンダに摺動自在に嵌装して上記減衰力発生装置を構成すると共に、上記フォークシリンダの、上記ピストンとの間の上記フォークシリンダの中心を挟んで対向する位置に溝状のオイル通路を軸方向に沿ってそれぞれ形成したものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
また、上述した課題を解決するために、請求項２に記載したように、上記減衰力発生装置は上記アウターチューブの底部に植設された平行管状のフォークシリンダと、上記インナーチューブ端部に設けられたピストンとから構成され、上記フォークシリンダにそれぞれ長さの異なる複数本の溝状のオイル通路をグループ化して等間隔に配列し、各グループの同じ長さのオイル通路を上記フォークシリンダの中心を挟んで対向位置に配置したものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明に係る二輪車用フロントフォーク装置によれば、車体フレーム前頭部に設けられたヘッドパイプに前輪を回動自在に支持するフロントフォークを左右に回動自在に枢着した二輪車であって、左右一対のインナーチューブが左右一対のアウターチューブにそれぞれ摺動自在に挿嵌され、内部に減衰力発生装置を備えた二輪車用フロントフォーク装置において、ピストンをフォークシリンダに摺動自在に嵌装して上記減衰力発生装置を構成すると共に、上記フォークシリンダの、上記ピストンとの間の上記フォークシリンダの中心を挟んで対向する位置に溝状のオイル通路を軸方向に沿ってそれぞれ形成したため、簡単な構造でストローク位置による減衰力の変更が可能になる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
また、上記減衰力発生装置は上記アウターチューブの底部に植設された平行管状のフォークシリンダと、上記インナーチューブ端部に設けられたピストンとから構成され、上記フォークシリンダにそれぞれ長さの異なる複数本の溝状のオイル通路をグループ化して等間隔に配列し、各グループの同じ長さのオイル通路を上記フォークシリンダの中心を挟んで対向位置に配置したため、走行中のフロントフォークに作用する曲げモーメントによって発生する性能の低下を補正可能になる。
【手続補正書】
【提出日】平成17年6月16日(2005.6.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、図６にパワーローラ６をトラニオン４に組み付けたパワーローラアッセンブリの状態においては、パワーローラ６に予圧が与えられていない。従って、長穴のポケット１３を有した保持器１１は、パワーローラ６をトラニオン４に組み付けた後、複数の転動体１０を等配に保持し続けることが困難であるという問題がある。
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２】
2002070974.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成16年2月20日(2004.2.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
リチウムを吸蔵・放出することが可能な負極材として黒鉛を含む負極、正極及び非水溶媒にリチウム塩を溶解してなる電解液から少なくとも構成される非水系電解液二次電池において、非水溶媒がエチレンカーボネート及び非対称鎖状カーボネートを含有する混合非水溶媒であり、且つ非水溶媒が０．０１〜５重量％の環状スルホン酸エステルを含有することを特徴とする非水系電解液二次電池。
【請求項２】
混合非水溶媒の５０容量％以上がエチレンカーボネート及び非対称鎖状カーボネートであることを特徴とする請求項１に記載の非水系電解液二次電池。
【請求項３】
混合非水溶媒が、エチレンカーボネートとアルキル基の炭素数が１〜４である非対称ジアルキルカーボネートからなる群から選ばれる非対称鎖状カーボネートとをそれぞれ２０容量％以上含有し、且つ混合非水溶媒の５０容量％以上がこれらのカーボネートであることを特徴とする請求項１に記載の非水系電解液二次電池。
【請求項４】
非対称鎖状カーボネートが、エチルメチルカーボネートであることを特徴とする請求項１ないし３のいずれかに記載の非水系電解液二次電池。
【請求項５】
負極材が、黒鉛のみからなる負極材、又はリチウムを吸蔵・放出することが可能な非黒鉛系炭素、リチウム、リチウム合金、および金属酸化物からなる群から選ばれる少なくとも一種と黒鉛とを混合した負極材であることを特徴とする請求項１ないし４のいずれかに記載の非水系電解液二次電池。
【請求項６】
負極材が、Ｘ線回折における格子面（００２面）のｄ値が０．３３５〜０．３４ｎｍであり、且つ結晶子サイズ（Ｌｃ）が３０ｎｍ以上の炭素材料を含むことを特徴とする請求項１ないし５のいずれかに記載の非水系電解液二次電池。
【請求項７】
負極材が、Ｘ線回折における格子面（００２面）のｄ値が０．３３５〜０．３３７ｎｍであり、且つ結晶子サイズ（Ｌｃ）が５０ｎｍ以上の炭素材料からなることを特徴とする請求項６に記載の非水系電解液二次電池。
【請求項８】
非水溶媒が、更に対称鎖状カーボネートを含有することを特徴とする請求項１ないし７に記載の非水系電解液二次電池。
【請求項９】
請求項１ないし８のいずれかに記載の非水系電解液二次電池に用いる非水系電解液。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
すなわち本発明は、リチウムを吸蔵・放出することが可能な負極材として黒鉛を含む負極、正極及び非水溶媒にリチウム塩を溶解してなる電解液から少なくとも構成される非水系電解液二次電池において、非水溶媒がエチレンカーボネート及び非対称鎖状カーボネートを含有する混合非水溶媒であり、且つ非水溶媒が０．０１〜５重量％の環状スルホン酸エステルを含有することを特徴とする非水系電解液二次電池、にある。
また、本発明の別の要旨は、上記非水系電解液二次電池に用いる非水系電解液、にある。
【手続補正書】
【提出日】平成16年3月1日(2004.3.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フエライト組成の焼成品を粉砕したあとアニール処理して得たｐＨ９以上のフエライト磁性粉を水中に懸濁させ，この懸濁液に炭酸ガスを吹き込むことを特徴とするフエライト磁性粉の製法。
【請求項２】
フエライト組成の焼成品を粉砕したあとアニール処理して得たｐＨ９以上のフエライト磁性粉を水中に懸濁させ，この懸濁液に炭酸ガスを吹き込んだあと乾燥して炭素含有量が０.０１０〜０.０４０重量％でｐＨが６〜９未満のフエライト磁性粉を得ることを特徴とするフエライト磁性粉の製法。
【請求項３】
フェライト磁性粉のｐＨが６〜７未満である請求項２に記載の製法。 
【請求項４】
炭素含有量が０.０１０〜０.０４０重量％でｐＨが６〜７未満であるフエライト磁性粉。
【手続補正書】
【提出日】平成16年6月21日(2004.6.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体基板内に形成されたトレンチ溝に絶縁材が埋め込まれて形成された複数の素子分離領域と、該複数の素子分離領域によって各々が分離された複数の素子領域と、該素子領域上に第１のゲート絶縁膜を介して形成された電荷蓄積層と、該電荷蓄積層上に第２のゲート絶縁膜を介して形成された制御ゲートを有するメモリセルが複数個アレイ状に配置されてセルアレイを構成している不揮発性半導体記憶装置において、
前記電荷蓄積層のうち、少なくとも前記素子分離領域により挟まれた部分は第１のゲート絶縁膜を介して半導体基板の表面に接する下端を有しかつその上端の幅よりも前記下端の幅が広くなるように形成され、且つ上記素子分離領域の幅が０．２５μm以下である不揮発性半導体記憶装置。
【請求項２】
前記電荷蓄積層のうち、前記素子分離領域に面する側面は傾斜面として形成され、且つ該傾斜面と前記第１のゲート絶縁膜に接する前記電荷蓄積層の底面とが成すテーパー角が８０度以上９０度未満であることを特徴とする請求項１に記載の不揮発性半導体記憶装置。
【請求項３】
上記電荷蓄積層の膜厚は0.1μm以下であることを特徴とする請求項１に記載の不揮発性半導体記憶装置。
【請求項４】
上記電荷蓄積層の前記素子分離領域に面する側の上端の幅が０．２５μm未満であることを特徴とする請求頃１に記載の不揮発性半導体記憶装置。
【請求項５】
前記第１のゲート絶縁膜直下に形成されるチャネル長をＬで表し、チャネル幅をＷで表したとき、W/Lが１以下であることを特徴とする請求項１に記載の不揮発性半導体記憶装置。
【請求項６】
上記トレンチ溝の深さが０．１μm以上０．３μｍ未満であることを特徴とする請求頂１に記載の不揮発性半導体記憶装置。
【請求項７】
前記電荷蓄積層は、前記素子分離領域により挟まれた部分に連続して素子分離領域上に張り出した部分を有することを特徴とする請求項１に記載の不揮発性半導体記憶装置。
【請求項８】
前記電荷蓄積層は、前記素子分離領域により挟まれた部分に連続して素子分離領域よりさらに上方に直線的に延び出した部分を有することを特徴とする請求項１に記載の不揮発性半導体記憶装置。
【請求項９】
半導体基板に形成されたトレンチ溝内に素子分離用絶縁材が埋め込まれて形成された複数の素子分離領域と、該複数の素子分離領域によって各々が素子分離された複数の素子領域と、該素子領域上に第１のゲート絶縁膜を介して形成されかつその側端部が素子領域と揃えられて配置された導電層を含む電荷蓄積層と、該電荷蓄積層上に第２のゲート絶縁膜を介して形成された制御ゲートを有するメモリセルが複数個アレイ上に配置されてセルアレイを構成している不揮発性半導体記憶装置において、
前記導電層は前記側端部相互間の上端の幅よりも下端の幅が広く形成され、且つ上記導電層の側端がテーパー形状であり、さらに前記導電層の側端と底面との間に形成されるテーパー角が８０度以上９０度未満であり、且つ上記制御ゲート幅が０．２μm以下であることを特徴とする不揮発性半導体記憶装置。
【請求項１０】
前記電荷蓄積層は前記導電層を含む複数導電層構成を有することを特徴とする請求項９に記載の不揮発性半導体記憶装置。
【請求項１１】
前記電荷蓄積層は前記導電層で構成されたことを特徴とする請求項９に記載の不揮発性半導体記憶装置。
【請求項１２】
複数のメモリセルがアレイ状に配置されてセルアレイが形成され、このセルアレイは半導体基板に形成されたトレンチ溝内に素子分離用絶縁材が埋め込まれて形成された複数の素子分離領域と、該複数の素子分離領域によって各々が素子分離された複数の素子領域とを有し、各々のメモリセルは、前記素子領域上の第１のゲート絶縁膜上に形成されかつその側端が素子領域と揃えられて配置された導電層を含む電荷蓄積層と、該電荷蓄積層上に第２のゲート絶縁膜を介して形成された制御ゲートと、前記半導体基板上に前記第１のゲート絶縁膜よりも厚い第３のゲート絶縁膜を介して形成されたゲート電極を有する周辺トランジスタとを有する不揮発性半導体記憶装置において、
前記導電層の下端の側端間の幅はその上端の幅よりも広く形成され、前記導電層の側端の少なくとも一方がテーパー形状に形成され、前記導電層の側端と底面との間に形成されるテーパー角が８０度以上９０度未満であり、前記メモリアレイ内の素子分離領域中のトレンチ溝が前記周辺トランジスタ内に形成された素子分離領域のトレンチ溝よりも深いことを特徴とする不揮発性半導体記憶装置。
【請求項１３】
複数のメモリセルがアレイ状に配置されてセルアレイが形成され、このセルアレイは半導体基板に形成されたトレンチ溝内に素子分離用絶縁材が埋め込まれて形成された複数の素子分離領域と、該複数の素子分離領域によって各々が素子分離された複数の素子領域とを有し、各メモリセルは、該素子領域上に第１のゲート絶縁膜を介して形成された電荷蓄積層と、該電荷蓄積層上に第２のゲート絶縁膜を介して形成された制御ゲートとを有し、この電荷蓄積層は前記素子領域と揃えられて配置されてなる不揮発性半導体記憶装置において、
前記素子分離領域によって挟まれた導電層の少なくとも一部は第１のゲート絶縁膜を介して半導体基板の表面に接する下端を有し、その下端の幅は前記素子分離領域によって挟まれた前記導電層の一部の上端の幅よりも広く形成され、かつ前記素子分離領域はそれぞれ０．２５μｍ以下の幅を有することを特徴とする不揮発性半導体記憶装置。
【手続補正書】
【提出日】平成17年7月11日(2005.7.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
試料上でプローブを走査して得られる情報を画像として画面上に表示する走査顕微鏡装置において、
前記画像を表示している画面と同一の画面上にあるステージ操作パネルをスキャンローテーションの回転角度に連動して回転して表示する機能を有することを特徴とする走査顕微鏡装置。
【請求項２】
請求項１において、前記ステージ操作パネルのスキャンローテーションに連動して回転して表示する機能をＯＮ／ＯＦＦ切換できることを特徴とする走査顕微鏡装置
【請求項３】
請求項１または請求項２記載の走査顕微鏡装置において、前記ステージ操作パネル内のＸＹ操作ボタンのマークの向きを同時に反転して表示でき、それに連動してＸＹステージが動く方向をそれぞれ反転することができることを特徴とする走査顕微鏡装置。
【請求項４】
試料上でプローブを走査して得られる情報を画像として画面上に表示する走査顕微鏡装置において、
前記画像を表示している画面と同一の画面上にあるステージ操作パネルのＸＹ移動方向操作ボタンの方向を、スキャンローテーションの回転角度に連動して回転して表示することを特徴とする走査顕微鏡装置。
【手続補正書】
【提出日】平成16年11月5日(2004.11.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】フィルム基板及びこれを備える表示装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第一の金属箔よりなるパターンが絶縁フィルムの表面に、第二の金属箔よりなるパターンが前記絶縁フィルムの裏面に形成されたフィルム基板であって、前記第一の金属箔と前記第二の金属箔はそれぞれ厚みが異なるとともに、前記絶縁フィルムに形成されたスルーホールを用いて導通がとられているフィルム基板。
【請求項２】
前記スルーホールは前記第一の金属箔と前記第二の金属箔のいずれか一方で塞がれており、前記スルーホールに金属ペーストを設けることにより、前記第一の金属箔と前記第二の導通がとられている請求項１に記載のフィルム基板。
【請求項３】
前記スルーホールの穴が円形とは異なる形状である請求項１または２に記載のフィルム基板。
【請求項４】
絶縁フィルムの両面にそれぞれ厚みの異なるパターンが形成されたフィルム基板と、前記フィルム基板の厚みの薄いパターン上に実装されたＩＣと、前記ＩＣが出力する信号により駆動される表示パネルと、を備えることを特徴とする表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成17年5月20日(2005.5.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】装置セキュリティ管理システム及び方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
対象装置の要セキュリティ動作を管理するシステムであって、
前記対象装置の近傍に設けられ、ＲＦＩＤと通信を行ってそのＲＦＩＤが保持しているセキュリティ情報を取得するＲＦＩＤ通信手段と、
前記ＲＦＩＤ通信手段で２以上のＲＦＩＤから実質的同時に取得したセキュリティ情報が、前記対象装置の前記要セキュリティ動作についての予め登録された許可条件を満足するか否かを判定する判定手段と、
前記判定手段で前記許可条件が満足されたと判断した場合にのみ、前記対象装置に対して前記要セキュリティ動作の実行を許可する動作制御手段と、
を備える装置セキュリティ管理システム。
【請求項２】
前記許可条件は、前記要セキュリティ動作の対象物のセキュリティレベルとその動作を指示するユーザのセキュリティレベルとの関係が如何なる場合に前記要セキュリティ動作の実行を許可するかを示す条件であり、
前記判定手段は、前記対象装置にセットされた対象物に付加されたＲＦＩＤから取得したセキュリティ情報と、ユーザが携帯するＲＦＩＤから取得したセキュリティ情報とから、各々のセキュリティレベルを求め、それらセキュリティレベルの関係が前記許可条件を満足するか否かを判定することを特徴とする請求項１記載の装置セキュリティ管理システム。
【請求項３】
前記許可条件は、前記要セキュリティ動作の各対象物ごとに、その対象物の識別情報とその対象物に対する前記動作を許可するユーザの識別情報との対応を示した情報であり、
前記判定手段は、前記対象装置にセットされた対象物に付加されたＲＦＩＤから取得したセキュリティ情報と、ユーザが携帯するＲＦＩＤから取得したセキュリティ情報とからそれぞれ識別情報を求め、それら識別情報が前記許可条件を満足するか否かを判定することを特徴とする請求項１記載の装置セキュリティ管理システム。
【請求項４】
前記対象装置は複写機であり、
前記判定手段は、前記複写機にセットされた原稿に付加されているＲＦＩＤから取得したセキュリティ情報と、ユーザのＲＦＩＤから取得したセキュリティ情報との組合せが、前記許可条件を満足するか否かを判定することを特徴とする請求項１記載の装置セキュリティ管理システム。
【請求項５】
前記ＲＦＩＤ通信手段のアンテナが、前記複写機の原稿フィーダの原稿受け皿に取り付けられるとともに、この受け皿にユーザのＲＦＩＤをセットするためのくぼみを設け、前記アンテナにより前記受け皿上の原稿に付加されたＲＦＩＤと、前記くぼみにセットされたユーザのＲＦＩＤとに通信を行うことを特徴とする請求項４記載の装置セキュリティ管理システム。
【請求項６】
前記ＲＦＩＤ通信手段は、原稿が複写機にセットされた時に、その原稿に付加されたＲＦＩＤとユーザが携帯した当該ユーザのＲＦＩＤとを同時に読み取ることのできるように、前記原稿のＲＦＩＤを含む平面と前記ユーザのＲＦＩＤを含む平面から構成される角度の間になるよう設置された通信用のアンテナを有することを特徴とする請求項４記載の装置セキュリティ管理システム。
【請求項７】
前記ＲＦＩＤ通信手段は、複写機にセットされた原稿に付加されたＲＦＩＤを読み取るための第一のリーダ手段と、
ユーザのＲＦＩＤを読み取ることのできる位置に設置された第二のリーダ手段と、
を有することを特徴とする請求項４記載の装置セキュリティ管理システム。
【請求項８】
前記許可条件は、前記ＲＦＩＤ通信手段で同時に通信したＲＦＩＤの数と、それら各々のＲＦＩＤのセキュリティレベルとの関係から、前記要セキュリティ動作を許可する場合を規定した条件であり、
前記判定手段は、前記ＲＦＩＤ通信手段で同時に取得した１以上のＲＦＩＤの情報が、前記許可条件を満足するか否かを判定することを特徴とする請求項１記載の装置セキュリティ管理システム。
【請求項９】
前記ＲＦＩＤ通信手段は、
セキュリティレベルがコピー可能なことを示すプロパティ情報を含んだ特定ＲＦＩＤを、セキュリティレベルの情報を含んだ所定数の通常のＲＦＩＤと同時に読み取った場合、前記特定ＲＦＩＤに対して前記通常のＲＦＩＤのセキュリティレベルを付与することを特徴とする請求項１記載の装置セキュリティ管理システム。
【請求項１０】
前記判定手段の判定で前記許可条件が満足されなかった場合に、その旨をユーザに通知する通知手段を有することを特徴とする請求項１記載の装置セキュリティ管理システム。
【請求項１１】
対象装置の近傍に設けられ、ＲＦＩＤと通信を行ってそのＲＦＩＤが保持しているセキュリティ情報を取得する装置セキュリティ管理システムの管理方法であって、
前記ＲＦＩＤ通信手段で２以上のＲＦＩＤから実質的同時に取得したセキュリティ情報が、前記対象装置の要セキュリティ動作についての予め登録された許可条件を満足するか否かを判定し、
前記許可条件が満足されたと判断した場合にのみ、前記対象装置に対して前記要セキュリティ動作の実行を許可することを特徴とする管理方法。