【手続補正書】
【提出日】平成17年2月3日(2005.2.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面に第１の凹部、前記第１の凹部に隣接した第２の凹部及び前記第１の凹部に隣接した第３の凹部が形成された基板と、
前記第１の凹部、前記第２の凹部、及び前記第３の凹部に沿ってそれぞれ形成された第１の金属膜、第２の金属膜、及び第３の金属膜と、
前記第１の金属膜、前記第２の金属膜、前記第３の金属膜上に形成された第１の絶縁膜と、
前記第１の金属膜と前記第３の金属膜との間の上方において、前記第１の絶縁膜上に形成されたＴＦＴと、
前記ＴＦＴのゲート電極及びゲート絶縁膜上に形成された第２の絶縁膜と、
前記第１の金属膜と前記第２の金属膜との間の上方において、前記第２の絶縁膜上に形成された発光素子とを有し、
前記発光素子は陽極と、陰極と、前記陽極及び前記陰極に挟まれた有機層とを有することを特徴とする発光装置。
【請求項２】
表面に第１の凹部、前記第１の凹部に隣接した第２の凹部及び前記第１の凹部に隣接した第３の凹部が形成された基板と、
前記第１の凹部、前記第２の凹部、及び前記第３の凹部に沿ってそれぞれ形成された第１の金属膜、第２の金属膜、及び第３の金属膜と、
前記第１の金属膜、前記第２の金属膜、前記第３の金属膜上に形成された第１の絶縁膜と、
前記第１の金属膜と前記第３の金属膜との間の上方において、前記第１の絶縁膜上に形成されたＴＦＴと、
前記ＴＦＴのゲート電極及びゲート絶縁膜上に形成された第２の絶縁膜と、
前記第１の金属膜と前記第２の金属膜との間の上方において、前記第２の絶縁膜上に接して形成された画素電極と、
前記第２の絶縁膜上に形成された第３の絶縁膜と、
前記第３の絶縁膜上に形成された上面と斜面とを有する第４の絶縁膜とを有し、
前記画素電極の端と前記第３の絶縁膜が重なり、
前記画素電極上に有機層が形成され、前記第３の絶縁膜上に前記有機層の端部が形成され、
前記第４の絶縁膜の上面と斜面と、前記第３の絶縁膜の一部の上と、前記有機層上に陰極が形成され、
前記陰極は、前記第４の絶縁膜の斜面と、前記第３の絶縁膜上の一部と、前記有機層の端部に囲まれた凸部の形状を有することを特徴とする発光装置。
【請求項３】
表面に第１の凹部、前記第１の凹部に隣接した第２の凹部及び前記第１の凹部に隣接した第３の凹部が形成された基板と、
前記第１の凹部、前記第２の凹部、及び前記第３の凹部に沿ってそれぞれ形成された第１の金属膜、第２の金属膜、及び第３の金属膜と、
前記第１の金属膜、前記第２の金属膜、前記第３の金属膜上に形成された第１の絶縁膜と、
前記第１の金属膜と前記第３の金属膜との間の上方において、前記第１の絶縁膜上に形成されたＴＦＴと、
前記ＴＦＴのゲート電極及びゲート絶縁膜上に形成された第２の絶縁膜と、
前記第１の金属膜と前記第２の金属膜との間の上方において、前記第２の絶縁膜上に接して形成された陽極と、
前記第２の絶縁膜上に形成された第３の絶縁膜と、
前記第３の絶縁膜上に形成された上面と斜面とを有する第４の絶縁膜とを有し、
前記陽極の端と前記第３の絶縁膜が重なり、
前記陽極上に有機層が形成され、前記第３の絶縁膜上に前記有機層の端部が形成され、
前記有機層の上に陰極が形成され、
前記陰極の端部と、前記第４の絶縁膜の上面と斜面と、第３の絶縁膜上の一部と、前記有機層の端部に接するように、凹部を有する第５の絶縁膜が形成され、
前記第５の絶縁膜上に金属膜が形成され、
前記第５の絶縁膜が前記凹部を有することにより、前記金属膜は凸部の形状を有することを特徴とする発光装置。
【請求項４】
請求項３において、
前記第５の絶縁膜は、ＳｉＮＯ、ＤＬＣの単層または積層からなることを特徴とする発光装置。
【請求項５】
請求項３において、
前記金属膜は、Ａｌを主成分とすることを特徴とする発光装置。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５のいずれか一項において、
前記第１の凹部、前記第２の凹部、前記第３の凹部の深さは２５〜２００μｍであることを特徴とする発光装置。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれか一項において、
前記第１の金属膜、前記第２の金属膜、及び第３の金属膜は、Ｗ、Ｔａ、Ａｇ、Ｔｉ、Ａｌ、Ｃu、Ｐｄの単体または合金からなることを特徴とする発光装置。
【請求項８】
請求項１乃至請求項７のいずれか一項において、
前記第１の絶縁膜は、二酸化珪素を主成分とすることを特徴とする発光装置。
【請求項９】
請求項１乃至請求項８のいずれか一項において、
前記第２の絶縁膜は、有機絶縁物材料からなることを特徴とする発光装置。
【請求項１０】
請求項１乃至９のいずれか一項において、
前記発光装置は、パーソナルコンピュータ、ビデオカメラ、携帯型情報端末、デジタルカメラ、デジタルビデオディスクプレーヤー、車載用後方確認モニター、テレビ電話、カーナビゲーションまたは電子遊技機器の表示部に用いられることを特徴とする発光装置。
【請求項１１】
基板上に第１の凹部、第２の凹部及び第３の凹部を形成し、
前記基板上に金属膜を形成し、
前記基板の表面と前記金属膜の一部を研磨し前記凹部に沿って第１の金属膜、第２の金属膜及び第３の金属膜を形成し、
前記第１の金属膜、前記第２の金属膜及び前記第３の金属膜上に第１の絶縁膜を形成し、
前記第１の金属膜と前記第３の金属膜との間の上方において、前記第１の絶縁膜上にＴＦＴを形成し、
前記ＴＦＴのゲート電極及びゲート絶縁膜上に第２の絶縁膜を形成し、
前記第１の金属膜と前記第２の金属膜との間の上方において、前記第２の絶縁膜上に陽極を形成し、
前記陽極上に有機層を形成し、
前記有機層上に陰極を形成することを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項１２】
基板上に第１の凹部、第２の凹部及び第３の凹部を形成し、
前記基板上に金属膜を形成し、
前記基板の表面と前記金属膜の一部を研磨し前記凹部に沿って第１の金属膜、第２の金属膜及び第３の金属膜を形成し、
前記第１の金属膜、前記第２の金属膜及び前記第３の金属膜上に第１の絶縁膜を形成し、
前記第１の金属膜と前記第３の金属膜との間の上方において、前記第１の絶縁膜上にＴＦＴを形成し、
前記ＴＦＴのゲート電極及びゲート絶縁膜上に第２の絶縁膜を形成し、
前記第１の金属膜と前記第２の金属膜との間の上方において、前記第２の絶縁膜上に接して画素電極を形成し、
前記第２の絶縁膜上に、端が前記画素電極の端と重なる第３の絶縁膜を形成し、
前記第３の絶縁膜上に上面と斜面とを有する第４の絶縁膜を形成し、
前記画素電極上及び前記第３の絶縁膜の端部上に有機層を形成し、
前記第４の絶縁膜の上面及び斜面と、前記第３の絶縁膜上の一部と、前記有機層に接するように凸部を有する陰極を形成することを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項１３】
基板上に第１の凹部、第２及の凹部び第３の凹部を形成し、
前記基板上に金属膜を形成し、
前記基板の表面と前記金属膜の一部を研磨し前記凹部に沿って第１の金属膜、第２の金属膜及び第３の金属膜を形成し、
前記第１の金属膜、前記第２の金属膜及び前記第３の金属膜上に第１の絶縁膜を形成し、
前記第１の金属膜と前記第３の金属膜との間の上方において、前記第１の絶縁膜上にＴＦＴを形成し、
前記ＴＦＴのゲート電極及びゲート絶縁膜上に第２の絶縁膜を形成し、
前記第１の金属膜と前記第２の金属膜との間の上方において、前記第２の絶縁膜上に接して陽極を形成し、
前記第２の絶縁膜上に、端が前記陽極の端と重なる第３の絶縁膜を形成し、
前記第３の絶縁膜上に上面と斜面とを有する第４の絶縁膜を形成し、
前記陽極及び前記第３の絶縁膜の端部上に有機層を形成し、
前記有機層上に接するように前記陰極を形成し、
前記第４の絶縁膜の上面及び斜面と、前記第３の絶縁膜上の一部と、前記有機層の一部と、前記陰極上に凹部を有する第５の絶縁膜を形成し、
前記第５の絶縁膜上に凸部を有する金属膜を形成することを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項１４】
請求項１１乃至請求項１３のいずれか一項において、
前記第１の絶縁膜の表面をＣＭＰによって平坦化することを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項１５】
請求項１１乃至請求項１４のいずれか一項において、
サンドブラスト法によって、前記凹部を形成することを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項１６】
請求項１１乃至請求項１５のいずれか一項において、
エッチング法によって、前記第１、第２及び第３の凹部を形成することを特徴とする発光装置の作製方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
また、他の発明の構成は、表面に第１の凹部及び、前記第１の凹部に隣接した第２の凹部及び前記第１の凹部に隣接した第３の凹部が形成された第１の基板と、前記第１の凹部、前記第２の凹部及び前記第３の凹部に沿ってそれぞれ形成された第１の金属膜、第２の金属膜及び第３の金属膜と、前記第１の金属膜、前記第２の金属膜及び前記第３の金属膜上に第１の絶縁膜と、前記第１の金属膜と前記第３の金属膜との間の上方において、前記第１の絶縁膜上に形成されたＴＦＴと、前記ＴＦＴのゲート電極及びゲート絶縁膜上に形成された第２の絶縁膜と、前記第１の金属膜と前記第２の金属膜との間の上方において、前記第２の絶縁膜上に形成された発光素子とを有し、前記発光素子は陽極と、陰極と、前記陽極及び前記陰極に挟まれた有機層とを有することを特徴とする発光装置である。発光素子と金属膜とが重ならないため、開口率の低下が起こらない。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
また、他の発明の構成は、前記第１の凹部、前記第２の凹部及び前記第３の凹部の深さは２５〜２００μｍであることを特徴とする発光装置である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
また、他の発明の構成は、前記第１の金属膜及び前記第２の金属膜及び第３の金属膜は、Ｗ、Ｔａ、Ａｇ、Ｔｉ、Ａｌ、Ｃu、Ｐｄの単体またはそれらから選ばれた積層またはそれらから選ばれた合金からなることを特徴とする発光装置である。ここで採用する金属は、可視光領域における光の反射率が基板の材質よりも高いことが好ましく、好ましくは６０％以上あることが好ましい。また、ここで採用する金属は、ＴＦＴの作製工程に対し、十分な耐熱特性を有することが望ましい。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
また、他の発明の構成は、前記第２の絶縁膜は、有機樹脂材料からなることを特徴とする発光装置である。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
また、他の発明の構成は、表面に第１の凹部、前記第１の凹部に隣接した第２の凹部及び前記第１の凹部に隣接した第３の凹部が形成された基板と、前記第１の凹部、前記第２の凹部、及び前記第３の凹部に沿ってそれぞれ形成された第１の金属膜、第２の金属膜、及び第３の金属膜と、前記第１の金属膜、前記第２の金属膜、前記第３の金属膜上に形成された第１の絶縁膜と、前記第１の金属膜と前記第３の金属膜との間の上方において、前記第１の絶縁膜上に形成されたＴＦＴと、前記ＴＦＴのゲート電極及びゲート絶縁膜上に形成された第２の絶縁膜と、前記第１の金属膜と前記第２の金属膜との間の上方において、前記第２の絶縁膜上に接して形成された画素電極と、前記第２の絶縁膜上に形成された第３の絶縁膜とを有し、前記画素電極の端と前記第３の絶縁膜が重なり、前記画素電極上に有機層が形成され、前記第３の絶縁膜上に前記有機層の端部が形成され、前記第３の絶縁膜上に、かつ、前記有機層及び前記画素電極の横方向には、上面と斜面を有する第４の絶縁膜が形成され、前記第４の絶縁膜の上面と斜面と、前記第３の絶縁膜の一部の上と、前記有機層上に陰極が形成され、前記陰極は、前記第４の絶縁膜の斜面と、前記第３の絶縁膜上の一部と、前記有機層の端部に囲まれた凸部の形状を有することを特徴とする発光装置である。陰極に形成された凸部が近接した画素への光漏れを防いでいる。該第３の絶縁膜及び該第４の絶縁膜をそれぞれ第３の層間絶縁膜、第４の層間絶縁膜と記す。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
また、他の発明の構成は、表面に第１の凹部、前記第１の凹部に隣接した第２の凹部及び前記第１の凹部に隣接した第３の凹部が形成された基板と、前記第１の凹部、前記第２の凹部、及び前記第３の凹部に沿ってそれぞれ形成された第１の金属膜、第２の金属膜、及び第３の金属膜と、前記第１の金属膜、前記第２の金属膜、前記第３の金属膜上に形成された第１の絶縁膜と、前記第１の金属膜と前記第３の金属膜との間の上方において、前記第１の絶縁膜上に形成されたＴＦＴと、前記ＴＦＴのゲート電極及びゲート絶縁膜上に形成された第２の絶縁膜と、前記第１の金属膜と前記第２の金属膜との間の上方において、前記第２の絶縁膜上に接して形成された陽極と、前記第２の絶縁膜上に形成された第３の絶縁膜とを有し、前記陽極の端と前記第３の絶縁膜が重なり、前記陽極上に有機層が形成され、前記第３の絶縁膜上に前記有機層の端部が形成され、前記有機層の上に陰極が形成され、前記第３の絶縁膜上に、かつ、前記有機層及び前記陰極の横方向には、上面と斜面を有する第４の絶縁膜が形成され、前記陰極の端部と、前記第４の絶縁膜の上面と斜面と、第３の絶縁膜上の一部と、前記有機層の端部に接するように凹部を有する第５の絶縁膜が形成され、前記第５の絶縁膜上に金属膜が形成され、前記第５の絶縁膜が凹部を有することにより、前記第５の絶縁膜に接する前記金属膜は凸部の形状を有することを特徴とする発光装置である。該第３の絶縁膜、該第４の絶縁膜及び該第５の絶縁膜をそれぞれ第３の層間絶縁膜、第４の層間絶縁膜及び第５の層間絶縁膜と記す。この金属膜に形成された凸部が近接した画素への光漏れを防いでいる。さらに、第５の層間絶縁膜を介して陰極の上方に金属膜２５１を形成することにより、上方に出射した光を反射させ、下方に光の取り出すことができる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
また、他の発明の構成は、第５の絶縁膜はＳｉＮＯ、ＤＬＣの単層またはそれらから選ばれた積層からなることを特徴とする発光装置である。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
本発明の発光装置はパーソナルコンピュータ、ビデオカメラ、携帯型情報端末、デジタルカメラ、デジタルビデオディスクプレーヤー、車載用後方確認モニター、テレビ電話、カーナビゲーションまたは電子遊技機器の表示部に用いられる。