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【手続補正書】
【提出日】令和3年7月5日(2021.7.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
セレブロリシンを有効成分として含む、ＣＡＤＡＳＩＬ患者の死亡率を低下するための医薬組成物。
【請求項２】
ＣＡＤＡＳＩＬ患者がＮｏｔｃｈ３遺伝子に変異を有する、請求項１に記載の医薬組成物。
【請求項３】
水溶液の形態であり、水溶液１ｍｌ当たりセレブロリシン濃厚物を５０〜１０００ｍｇ、好ましくは１００〜５００ｍｇ、特に１５０〜２５０ｍｇ含む、請求項１または２に記載の医薬組成物。
【請求項４】
ＣＡＤＡＳＩＬ患者に、セレブロリシン濃厚物２１．５〜２１５２０ｍｇに相当する、０．１〜１００ｍｌ、好ましくは１〜５０ｍｌの用量で投与される、請求項１〜３のいずれかに記載の医薬組成物。
【請求項５】
ＣＡＤＡＳＩＬ患者に、セレブロリシン濃厚物２１．５〜２１５２ｍｇに相当する、０．１〜１０ｍｌ、好ましくは０．５〜５ｍｌの用量で筋肉内投与される、請求項１〜４のいずれかに記載の医薬組成物。
【請求項６】
ＣＡＤＡＳＩＬ患者に、セレブロリシン濃厚物２１５．２〜２１５２０ｍｇに相当する、０．１〜１００ｍｌ、好ましくは１〜５０ｍｌの用量で静脈内投与される、請求項１〜４のいずれかに記載の医薬組成物。
【請求項７】
ＣＡＤＡＳＩＬ患者に連続注入によって投与される、請求項１〜６のいずれかに記載の医薬組成物。
【請求項８】
注入が、５分間〜４時間、好ましくは１０分間〜２時間、特に１５〜６０分間の注入時間で行われ；および／または注入が、１〜１００日間、好ましくは５〜５０日間、特に１０〜３０日間にわたって行われる、請求項７に記載の医薬組成物。
【請求項９】
注入が１日１回行われる、請求項８に記載の医薬組成物。
【請求項１０】
セレブロリシンが０．９％塩化ナトリウム溶液、リンガー液、または５％グルコースで希釈されており、ＣＡＤＡＳＩＬ患者に注入によって投与される、請求項１〜９のいずれかに記載の医薬組成物。
【請求項１１】
水酸化ナトリウムを含む、請求項１〜１０のいずれかに記載の医薬組成物。
【請求項１２】
投与を行わない１〜６箇月間、好ましくは１〜３箇月間、特に２〜３箇月間の期間を挟んで繰り返される投与サイクルで投与される、請求項１〜１１のいずれかに記載の医薬組成物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
本発明の実施形態を、以下、さらに記載する：
［項１］
ＣＡＤＡＳＩＬ患者の死亡率を低下するのに使用するためのセレブロリシン。
［項２］
ＣＡＤＡＳＩＬ患者がＮｏｔｃｈ３遺伝子に変異を有する、上記項１に記載の使用のためのセレブロリシン。
［項３］
ＣＡＤＡＳＩＬ患者が、水溶液１ｍｌ当たりセレブロリシン濃厚物を５０〜１０００ｍｇ、好ましくは１００〜５００ｍｇ、特に１５０〜２５０ｍｇ含むセレブロリシン製剤で処置される、上記項１または２に記載の使用のためのセレブロリシン。
［項４］
ＣＡＤＡＳＩＬ患者が、セレブロリシン濃厚物２１．５〜２１５２０ｍｇに相当する、０．１〜１００ｍｌ、好ましくは１〜５０ｍｌのセレブロリシン用量で処置される、上記項１〜３のいずれかに記載の使用のためのセレブロリシン。
［項５］
ＣＡＤＡＳＩＬ患者が、セレブロリシン濃厚物２１．５〜２１５２ｍｇに相当する、０．１〜１０ｍｌ、好ましくは０．５〜５ｍｌの筋肉内投与用量で処置される、上記項１〜４のいずれかに記載の使用のためのセレブロリシン。
［項６］
ＣＡＤＡＳＩＬ患者が、セレブロリシン濃厚物２１５．２〜２１５２０ｍｇに相当する、０．１〜１００ｍｌ、好ましくは１〜５０ｍｌの静脈内投与用量で処置される、上記項１〜４のいずれかに記載の使用のためのセレブロリシン。
［項７］
ＣＡＤＡＳＩＬ患者が、セレブロリシンの連続注入によって処置される、上記項１〜６のいずれかに記載の使用のためのセレブロリシン。
［項８］
注入が、５分間〜４時間、好ましくは１０分間〜２時間、特に１５〜６０分間の注入時間で行われ；および／または注入が、１〜１００日間、好ましくは５〜５０日間、特に１０〜３０日間にわたって行われる、上記項７に記載の使用のためのセレブロリシン。
［項９］
注入が１日１回行われる、上記項８に記載の使用のためのセレブロリシン。
［項１０］
注入が、セレブロリシンを０．９％塩化ナトリウム溶液、リンガー液、または５％グルコースで希釈して行われる、上記項１〜９のいずれかに記載の使用のためのセレブロリシン。
［項１１］
ＣＡＤＡＳＩＬ患者が、水酸化ナトリウムを含むセレブロリシン製剤で処置される、上記項１〜１０のいずれかに記載の使用のためのセレブロリシン。
［項１２］
ＣＡＤＡＳＩＬ患者が、処置を行わない１〜６箇月間、好ましくは１〜３箇月間、特に２〜３箇月間の期間を挟んで繰り返される処置サイクルで処置される、上記項１〜１１のいずれかに記載の使用のためのセレブロリシン。
本発明を以下の実施例および図面によってさらに説明するが、本発明はそれに限定されるものではない。
【手続補正書】
【提出日】令和3年8月25日(2021.8.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
創傷を洗浄する方法であって、
有効な遊離イオンを有するイオンの多い化合物を含む第１流体を、酸化還元電位上昇化合物を含む第２流体から容器の中で分離することと、
前記容器の流体帯電部において前記第１流体を前記第２流体と混合して、イオン帯電流体を形成することと、
前記イオン帯電流体を前記創傷に適用して、前記創傷における抗菌活性を高めることと、
を含み、
前記第１流体は、亜鉛イオン、銀イオン、銅イオン、又はそれらの混合物の発生源を含み、かつ前記第２流体は亜塩素酸イオンの発生源を含み、
前記第１流体と前記第２流体の少なくとも一方は、抗生物質化合物か消毒剤化合物、又はその双方を更に含む、
方法。
【請求項２】
前記消毒剤化合物は、グルコン酸クロルヘキシジン、塩化セチルピリジニウム又はそれらの混合物を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記イオン帯電流体を適用することが、前記創傷を少なくとも部分的に囲むように構成された洗浄スリーブを介して前記創傷へ前記イオン帯電流体を送達することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記第１流体と第２流体を混合することが、放出器を作動させて、前記流体帯電部において前記第１流体と第２流体を化合させることを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記放出器を作動させることが、前記容器内に真空を生成して、前記第１流体と第２流体を前記流体帯電部の中に吸引することを含む、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
感染抑制方法であって、
有効な遊離イオンを有するイオンの多い流体と、酸化還元電位上昇流体とを分離して収容することと、
前記イオンの多い流体と前記酸化還元電位上昇流体を潜在的な感染部位に適用することによって感染活性を抑制し、前記潜在的な感染部位の酸化還元電位を上昇させて細菌の増殖を低減することと、
を含み、
前記イオンの多い流体は、亜鉛イオン、銀イオン、銅イオン、又はそれらの混合物の発生源を含み、
前記混合物は、消毒性流体、抗菌性流体、ビタミンが豊富な流体、タンパク質又はそれらの混合物を任意に含む、
方法。
【請求項７】
前記酸化還元電位上昇流体は、亜塩素酸イオンの発生源を含む、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
混合物を適用することが、前記イオンの多い流体と前記酸化還元電位上昇流体とを前記潜在的な感染部位に別々に送達して、前記潜在的な感染部位において帯電流体を形成することを含む、請求項６に記載の方法。
【請求項９】
混合物を適用することが、前記イオンの多い流体と前記酸化還元電位上昇流体を帯電部に送達して混合物を形成することと、前記潜在的な感染部位に前記混合物を放出することとを含む、請求項６に記載の方法。
【請求項１０】
前記混合物がエアロゾルの形態で供給される、請求項６に記載の方法。
【請求項１１】
創傷の洗浄システムであって、
有効な遊離イオンを有するイオンの多い化合物を含む第１流体と、
前記第１流体とは分離して収容された、酸化還元電位上昇化合物を含む第２流体と、
を備え、
前記第１流体と第２流体を帯電領域において混合することが、創傷部位の酸化電位よりも高い酸化還元電位を有する、イオン帯電流体を形成し、前記イオン帯電流体が、適用により前記創傷部位の酸化電位を上昇させ、
前記第１流体は、亜鉛イオン、銀イオン、銅イオン、又はそれらの混合物の発生源を含み、かつ前記第２流体は亜塩素酸イオンの発生源を含む、
創傷洗浄システム。
【請求項１２】
前記第１流体、前記第２流体、又はその両方が、消毒剤化合物、抗生物質化合物、ビタミンの豊富な化合物、タンパク質又はそれらの混合物を含む、請求項１１に記載の創傷洗浄システム。
【請求項１３】
前記第１流体と第２流体から分離されて収容され、消毒剤化合物、抗生物質化合物、ビタミンの豊富な化合物、タンパク質又はそれらの混合物を含む、第３流体を更に備え、第１流体、第２流体、第３流体を帯電領域において混合することによりイオン帯電流体が形成される、請求項１１に記載の創傷洗浄システム。
【請求項１４】
前記消毒剤化合物は、グルコン酸クロルヘキシジン、塩化セチルピリジニウム又はそれらの混合物を含む、請求項１２又は請求項１３に記載の創傷洗浄システム。
【請求項１５】
前記ビタミンが豊富な化合物は、ビタミンＡ、ビタミンＣ、ビタミンＤ、ビタミンＥ、ビタミンＢ１−６、ビタミンＢ１２、又はそれらの混合物を含む、請求項１２又は請求項１３に記載の創傷洗浄システム。
【手続補正書】
【提出日】令和3年8月6日(2021.8.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一時的な又は再発性のウイルスのアウトブレイクを治療、予防、又は低減するため、慢性ウイルス感染の発症又は増殖を抑制するため、或いはウイルス感染の予防又は治療のための方法であって、
ウイルスの複製又は拡散に必要とされるアミノ酸又は他の生物学的薬剤と拮抗又は競合する、合成リジンアナログ、誘導体又は模倣物を投与することを含む、
方法。
【請求項２】
合成リジンアナログ、誘導体又は模倣物が、トラネキサム酸、イプシロン−アミノカプロン酸（ＥＡＣＡ）、又はＡＺＤ６５６４である、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
一時的な又は再発性のウイルスのアウトブレイクが、単純ヘルペスウイルス１型、単純ヘルペスウイルス２型、又は水痘・帯状疱疹ウイルス（帯状ヘルペス）によって引き起こされる、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
慢性ウイルス感染が、ヒト免疫不全ウイルスによって引き起こされる、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
ウイルス感染が、風邪ウイルス、インフルエンザウイルス、又は他の一過性ウイルスによって引き起こされる、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
合成リジンアナログ、誘導体又は模倣物が溶液中にある、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
溶液が、約０．５から約３０重量％の濃度の合成リジンアナログ、誘導体又は模倣物を有する、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
溶液が、スプレー、ミスト、エアロゾル、又は洗口剤として処方される、請求項６に記載の方法。
【請求項９】
合成リジンアナログ、誘導体又は模倣物が、ヒトの皮膚に溶け込むビヒクルの一部として適用される、請求項６に記載の方法。
【請求項１０】
合成リジンアナログ、誘導体又は模倣物を含む溶液が静脈内投与される、請求項６に記載の方法。
【請求項１１】
溶液が、合成リジンアナログ、誘導体又は模倣物を徐放性の態様で送達可能にするビヒクルを介して適用される、請求項６に記載の方法。
【請求項１２】
合成リジンアナログ、誘導体又は模倣物が経口送達される、請求項１に記載の方法。
【請求項１３】
合成リジンアナログ、誘導体又は模倣物が徐放性の態様で送達される、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
合成リジンアナログ、誘導体又は模倣物の投与が少なくとも１日に１回行われる、請求項１に記載の方法。
【請求項１５】
合成リジンアナログ、誘導体又は模倣物の投与が週１回又は週２回行われる、請求項１に記載の方法。
【請求項１６】
合成リジンアナログ、誘導体又は模倣物の投与が月１回又は月２回行われる、請求項１に記載の方法。
【請求項１７】
合成リジンアナログ、誘導体又は模倣物が、機械的デバイスによって、永久材料又は再吸収性の材料を介して、或いはビヒクルで投与され、それによって合成リジンアナログ、誘導体又は模倣物が徐放性の態様で送達される、請求項１に記載の方法。
【請求項１８】
合成リジンアナログ、誘導体又は模倣物がアルツハイマー病の発症を予防又は抑制する、請求項１に記載の方法。
【請求項１９】
合成リジンアナログ、誘導体又は模倣物が少なくとも１つのアミノ酸をさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項２０】
合成リジンアナログ、誘導体又は模倣物が、少なくとも１つの他の天然又は合成のアミノ酸アナログ又は模倣物をさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項２１】
一時的な又は再発性のウイルスのアウトブレイクを治療、予防、又は低減するため、慢性ウイルス感染の発症又は増殖を抑制するため、或いはウイルス感染を予防又は治療するための組成物であって、
ウイルスの複製又は拡散に必要とされるアミノ酸又は他の生物学的薬剤と拮抗又は競合する、合成リジンアナログ、誘導体又は模倣物を含む、
組成物。
【請求項２２】
一時的な又は再発性のウイルスのアウトブレイクが、単純ヘルペスウイルス１型、単純ヘルペスウイルス２型、又は水痘・帯状疱疹ウイルス（帯状ヘルペス）によって引き起こされる、請求項２１に記載の組成物。
【請求項２３】
慢性ウイルス感染がヒト免疫不全ウイルスによって引き起こされる、請求項２１に記載の組成物。
【請求項２４】
予防されるウイルス感染が、風邪ウイルス、インフルエンザウイルス、又は他の一過性ウイルスによって引き起こされる、請求項２１に記載の組成物。
【請求項２５】
合成リジンアナログ、誘導体又は模倣物が経口送達される、請求項２１に記載の組成物。
【請求項２６】
合成リジンアナログ、誘導体又は模倣物が局所的に適用される、請求項２１に記載の組成物。
【請求項２７】
組成物が、局所投与の改善のため、皮膚浸透の改善のため、又は持続放出のための粘度をもたらす成分を含む、請求項２６に記載の組成物。
【請求項２８】
合成リジンアナログ、誘導体又は模倣物が静脈内投与される、請求項２１に記載の組成物。
【請求項２９】
合成リジンアナログ、誘導体又は模倣物が、スワブ、鼻腔ミスト、吸入、又は洗口剤によって投与される、請求項２１に記載の組成物。
【請求項３０】
合成リジンアナログ、誘導体又は模倣物が、機械的デバイスによって、永久材料又は再吸収性の材料を介して、或いはビヒクルで投与され、それによって合成リジンアナログ、誘導体又は模倣物が徐放性の態様で送達される、請求項２１に記載の組成物。
【請求項３１】
合成リジンアナログ、誘導体又は模倣物が経皮パッチを介して投与される、請求項２１に記載の組成物。
【請求項３２】
合成リジンアナログ、誘導体又は模倣物が、注射又は移植されたリポソーム送達デポを介して投与される、請求項２１に記載の組成物。
【請求項３３】
合成リジンアナログ、誘導体又は模倣物が、トラネキサム酸、イプシロン−アミノカプロン酸（ＥＡＣＡ）、又はＡＺＤ６５６４である、請求項２１に記載の組成物。
【請求項３４】
組成物が、急速な全身浸透又は持続放出をもたらす成分を含む、請求項２１に記載の組成物。
【請求項３５】
合成リジンアナログ、誘導体又は模倣物がアルツハイマー病の発症を予防又は抑制する、請求項２１に記載の組成物。
【請求項３６】
組成物が少なくとも１つのアミノ酸を含む、請求項２１に記載の組成物。
【請求項３７】
組成物が、少なくとも１つの他の天然又は合成のアミノ酸アナログ又は模倣物を含む、請求項２１に記載の組成物。
【手続補正書】
【提出日】令和3年8月18日(2021.8.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材上に超疎水性コーティングを堆積させる方法であって、
フルオロ−アクリレートモノマー、フルオロ−アルキルアクリレートモノマー、フルオロ−メタクリレートモノマー、フルオロ−アルキルメタクリレートモノマー、フルオロ−シランモノマー、またはそれらの組合せもしくは誘導体を含む第１の前駆体を用意する工程と、
シクロシロキサンを含む第２の前駆体を用意する工程と、
前記第１および第２の前駆体を処理領域に同時注入する工程と、
前記処理領域において大気圧または減圧プラズマ放電を作り出して、前記基材上に前記同時注入された第１および第２の前駆体から誘導される超疎水性コーティングを堆積させる工程であり、前記プラズマ放電が、少なくとも０．０５Ｗ．ｃｍ−２および最大で１００Ｗ．ｃｍ−２の電力密度を含む、工程と
を含む、方法。
【請求項２】
前記第２の前駆体が、式［−（Ｒ１Ｒ２）ＳｉＯ−］ｚ（式中、Ｒ１およびＲ２はそれぞれ、互いに独立して、１から３０個の炭素原子のアルキル基、６から６０個の炭素原子のアリール基、または約１から約３０個の炭素原子の置換アルキル基もしくは置換アリール基であり、ｚは３から１０の整数である）で表されるシクロポリ二置換シロキサンを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記基材が、シート、例えば、箔、プレート、フィルム、織布材料または不織布材料である、請求項１または請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記超疎水性コーティングが、少なくとも１５０°の水接触角を備える、請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
前記プラズマ放電が、交流電圧が前記処理領域にわたって印加される誘電体バリア放電であり、好ましくは、前記交流電圧が少なくとも１ｋＶおよび最大で２０ｋＶの振幅ならびに少なくとも５００Ｈｚおよび最大１００でｋＨｚの周波数を含む、請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
前記処理領域における前記第１および第２の前駆体の前記同時注入が、プラズマガスに前記第１の前駆体および前記第２の前駆体を導入する工程と、前記第１および第２の前駆体を含む前記プラズマガスを前記処理領域に導入する工程とを含み、好ましくは、前記プラズマガスが、ヘリウム、アルゴン、窒素ガス、空気、酸素、アンモニア、メタン、アセチレン、二酸化炭素、水素ガス、またはそれらの混合物を含む、請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
前記第１および前記第２の前駆体が、エアロゾルの形態で前記プラズマガスに導入される、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記第１および第２の前駆体がそれぞれ、少なくとも０．１標準リットル毎分および最大で５標準リットル毎分の速度で霧化される、請求項６または７に記載の方法。
【請求項９】
前記プラズマガスが、少なくとも１標準リットル毎分および最大で１００標準リットル毎分のガス流量を含む、請求項６から８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１０】
前記第１の前駆体が、フルオロ−アルキルアクリレートモノマー、好ましくは、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−ペルフルオロデシルアクリレートモノマーを含む、請求項１から請求項９のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１１】
前記第２の前駆体が、２，４，６，８−テトラメチル−２，４，６，８−テトラビニルシクロテトラシロキサンモノマーを含む、請求項２、および任意選択で、請求項３から１０のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１２】
前記第１および第２の前駆体を、前記第１および第２の前駆体それぞれに関して本質的に一定の流量で、前記処理領域に同時注入して、本質的に均一なコーティングを得る工程を含む、請求項１から請求項１１のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１３】
前記第１および第２の前駆体を、前記第２の前駆体の流量を徐々に低下させかつ前記第１の前駆体の流量を徐々に増加させて、前記処理領域に同時注入して、組成勾配を含むコーティングを得る工程を含む、請求項１から請求項１１のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１４】
第１の前駆体と第２の前駆体との共重合により形成される、交互のマルチスタックナノ構造を含む超疎水性基材コーティングであって、前記第１の前駆体が、フルオロ−アクリレートモノマー、フルオロ−アルキルアクリレートモノマー、フルオロ−メタクリレートモノマー、フルオロ−アルキルメタクリレートモノマー、フルオロ−シランモノマー、またはそれらの組合せもしくは誘導体を含み、前記第２の前駆体がシクロシロキサンを含む、超疎水性基材コーティング。
【請求項１５】
前記基材コーティングの前記交互のマルチスタックナノ構造が、本質的にランダムに配向し、本質的に均質に分散している、請求項１４に記載の超疎水性基材コーティング。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４６】
一実施形態では、第２の前駆体は、式Ｒ−Ｓｉ（Ｘ）ｎＹ３〜ｎで表される物質を含むことができる。ＲおよびＸはそれぞれ、互いに独立して、アルキル基、アリール基、置換アルキル基、置換アリール基、炭素−炭素二重結合を含有する有機基、炭素−炭素三重結合を含有する有機基、またはエポキシ基である。Ｙは水素、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、アルコキシ基、またはアリル基である。ｎは０、１、２、または３に等しい整数である。ＲおよびＸの例の非限定的なリストには、約１から約３０個の炭素原子を含有するアルキル基、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ドデシル、シクロヘキシル等；約１から約３０個の炭素原子を含有するハロゲン置換アルキル基、例えば、クロロメチレン、トリフルオロプロピル、トリデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロオクチル等が含まれる。Ｒは、約６から約６０個の炭素原子を含有するアリール基、例えば、フェニル、アルキルフェニル、ビフェニル、ベンジル、フェニルエチル等；約６から約６０個の炭素原子を含有するハロゲン置換アリール基、例えば、クロロフェニル、フルオロフェニル、ペルフルオロフェニル等；約６から約６０個の炭素原子を含有するヒドロキシル置換アリール基、例えば、フェノール、ナフトール、クレゾール、ビナフタール等；約７から約６０個の炭素原子のアルキル置換アリール基、例えばメチル、エチル、またはプロピルの各置換アリール基等；シアナイド（ｃｙａｎｉｄｅ）置換アリール基およびアミノ置換アリール基などの窒素原子を含有するアリール基、ならびに窒素原子を含有する５または６員の芳香族基；約１から約３０個の炭素原子の炭素−炭素二重結合を含有する有機基、例えば、γ−アクリルオキシプロピル基、γ−メタクリルオキシプロピル基、およびビニル基等；約１から約３０個の炭素原子の炭素−炭素三重結合を含有する有機基、例えば、アセチレニル等；エポキシ基を含有する有機基、例えば、γ−グリシドキシプロピル基およびβ−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチル基等、を含み得る。Ｙの例の非限定的なリストには、水素、塩素、臭素、フッ素などのハロゲン原子；ヒドロキシル基；メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ等のアルコキシ基；およびアリル基が含まれる。
【手続補正書】
【提出日】令和3年8月17日(2021.8.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリカーボネートからなる１つ以上のポリマー、または５０モル％超のポリカーボネート単位及びポリカーボネート単位と共重合する５０モル％未満のモノマー単位のコポリマー；１つ以上の鉱物を含有する５〜２０重量％のアスペクト比６以上を有する高アスペクト比のＣａＳｉＯ3；ならびに亜リン系酸の塩；を含む、組成物。
【請求項２】
約０．０５〜約０．５重量％の前記亜リン系酸の塩を含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
前記ポリカーボネート含有組成物に有用な１つ以上の酸化防止剤を含む、請求項１または２に記載の組成物。
【請求項４】
前記ポリカーボネート含有組成物に有用な前記１つ以上の酸化防止剤が、前記組成物の重量に基づき約２００〜２０００百万分率の量で存在する、請求項３に記載の組成物。
【請求項５】
前記１つ以上のポリカーボネートが、分岐状、直鎖、または分岐状及び直鎖ポリカーボネートの混合物である、請求項１〜４のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか一項に記載の組成物の３３重量％以上、及び１つ以上の非充填ポリカーボネートのブレンドを含む、組成物。
【請求項７】
前記非充填ポリカーボネートが、前記組成物の最高約６７重量％の量で存在する、請求項６に記載の組成物。
【請求項８】
前記亜リン系酸の塩がリン酸一ナトリウムである、請求項１〜７のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項９】
１つ以上の色素を含む、請求項１〜８のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項１０】
前記１つ以上の色素が、カーボンブラック及び二酸化チタンを含む、請求項９に記載の組成物。
【請求項１１】
請求項１〜１０のいずれか一項に記載の組成物から調製されるシートを含む、組成物。
【請求項１２】
２つ以上の層を含み、そこで、少なくとも１つの層が、ポリカーボネートからなる１つ以上のポリマー、またはポリカーボネートの重量の５０モル％超のポリカーボネート単位及びポリカーボネート単位と共重合する５０モル％未満のモノマー単位のコポリマー；１つ以上の鉱物を含有する５〜２０重量％のアスペクト比６以上を有する高アスペクト比のＣａＳｉＯ3；ならびに亜リン系酸の塩；を含み、少なくとも１つの層が、１つ以上の非充填ポリカーボネートを含む、請求項１１に記載の組成物。
【請求項１３】
ポリカーボネートからなる１つ以上のポリマー、または５０モル％超のポリカーボネート単位及びポリカーボネート単位と共重合する５０モル％未満のモノマー単位のコポリマー；１つ以上の鉱物を含有する５〜２０重量％のアスペクト比６以上を有する高アスペクト比のＣａＳｉＯ3；ならびに亜リン系酸の塩；を含む前記層が、前記シートの厚みの０．５〜１０％であり、１つ以上の非充填ポリカーボネートを含む前記層が、前記シートの厚みの９９．５〜９０％である、請求項１２に記載の組成物。
【請求項１４】
前記１つ以上の層が、押出し、共押出し、積層または共積層によって形成される、請求項１２〜１３のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項１５】
前記シートの表面のうちの一方または両方が、ポリカーボネートからなる１つ以上のポリマー、またはポリカーボネートの重量の５０モル％超のポリカーボネート単位及びポリカーボネート単位と共重合する５０モル％未満のモノマー単位のコポリマー；１つ以上の鉱物を含有する５〜２０重量％のアスペクト比６以上を有する高アスペクト比のＣａＳｉＯ3；ならびに亜リン系酸の塩；を含む、組成物の層を含む、請求項１２〜１４のいずれか一項に記載の組成物。
【手続補正書】
【提出日】令和3年8月24日(2021.8.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
植物バイオマスから抽出物を得る方法であって、
前記抽出物が、精油であり、
前記方法が、
ａ．前記植物バイオマスを得る工程、
ｂ．前記植物バイオマスを、長さを有するコンベヤベルト上に置き、かつ長さを有する容器内へ前記コンベヤベルトを介して前記植物バイオマスを入れる工程であって、
前記植物バイオマスを前記容器内へ、前記コンベヤベルトを第１の速度で移動させることによって入れ、かつ
前記植物バイオマスを前記容器内へ所定の速度で入れる工程、
ｃ．前記植物バイオマスを第１の強度のマイクロ波エネルギーへ、前記バイオマス内の水を蒸発させる温度まで前記バイオマスを加熱するのに十分な時間にわたって供し、それにより留出分を生じさせる工程、および
ｄ．前記留出分を収集する工程
を含む、方法。
【請求項２】
前記水を蒸発させる温度まで前記バイオマスを加熱するのに十分な時間が、前記コンベヤベルトの前記第１の速度、前記コンベヤベルトの前記長さ、前記マイクロ波エネルギーの前記第１の強度、前記容器の前記長さ、前記容器内の前記温度、またはこれらの何らかの組み合わせによって制御される、請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記植物バイオマスを前記容器内へ、１時間あたり少なくとも４Ｋｇの植物バイオマスの速度で入れる、請求項１記載の方法。
【請求項４】
前記第１の強度のマイクロ波エネルギーが、１００〜３０００ワットである、請求項１記載の方法。
【請求項５】
前記容器の内部の温度が、摂氏４０〜１００度である、請求項１記載の方法。
【請求項６】
前記収集した留出分が、２００〜３０００ｐｐｍの精油を含む、請求項１記載の方法。
【請求項７】
前記収集した留出分が、前記精油を得るためにさらに加工される、請求項１記載の方法。
【請求項８】
Ｊａｓｍｉｎｉｕｍ種の少なくとも１つの植物から抽出される精油であって、少なくとも７％（ｗ／ｗ）の（ｚ）−ジャスモンを含む、精油。
【請求項９】
Ｐｉｐｅｒ  ｎｉｇｒｕｍから抽出される精油であって、少なくとも７％（ｗ／ｗ）のサビネン（sabinene）を含む、精油。
【請求項１０】
ショウガ根から抽出される精油であって、少なくとも１３％（ｗ／ｗ）のオイカリプトールを含む、精油。
【請求項１１】
セイヨウナシ由来の抽出物であって、少なくとも０．１％（ｗ／ｗ）の酢酸ヘキシルを含む、抽出物。
【請求項１２】
焙煎したコーヒー豆由来の抽出物であって、少なくとも２％（ｗ／ｗ）のコーヒーフラノンを含む、抽出物。
【請求項１３】
芳香水剤、香水、コロン、バスジェル、シャワージェル、シャンプー、ヘアケア製品、化粧用調製物、脱臭剤、エアフレッシュナー、洗剤、布柔軟剤、および清掃用洗浄剤からなる群から選択される、請求項８〜１０のいずれか１項記載の精油を含む、または請求項１１もしくは１２のいずれか１項記載の抽出物を含む、着香品。
【請求項１４】
請求項１から７までのいずれか１項記載の方法によって得られる、抽出物。
【手続補正書】
【提出日】令和3年8月23日(2021.8.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
対象物を表面に取り付けるための接着性物品であって、
第１の接着層と、
前記第１の接着層に隣接し周辺部を画定するコアであって、コア材料を含み、第１主面及び第２主面を含む、コアと、
前記コアの少なくとも前記第１主面上の凹部の第１の配列パターンであって、各凹部はコア材料を含む膜で終端する、第１の配列パターンと、
底壁面にある接着性界面であって、前記第１の接着層と前記膜との間の接触を含む、接着性界面と、を含む、接着性物品。
【請求項２】
前記コアが、不織布材料を含む、請求項１に記載の接着性物品。
【請求項３】
前記コア材料が空隙容積を有し、前記膜の前記空隙容積が、隣接する凹部間の隙間空間内の前記コア材料の空隙容積より実質的に小さい、請求項１又は２に記載の接着性物品。
【請求項４】
前記膜が、前記第１主面と一致する平面に実質的に平行なもう１つの平面内に存在する、請求項１又は２に記載の接着性物品。
【請求項５】
第２の接着層と、前記コアの前記第２主面上の凹部の第２の配列パターンと、を更に含み、前記第２の配列パターンの各凹部は、前記第１の配列パターンの凹部と共有される膜で終端し、前記膜は、各凹部の底面を規定するとともに、コア材料と、前記第２の配列パターンの凹部の前記底面又は前記膜内の第２の接着界面と、を含み、前記第２の接着界面は、前記第２の接着層と前記膜との間のコンタクトを含む、請求項１又は２に記載の接着性物品。
【請求項６】
接着性物品の製造方法であって、
互いに反対側にある第１主面及び第２主面を有し、かつ固化可能なコア材料を含むコアを準備することと、
前記主面のうちの少なくとも１つに剥離可能接着剤を積層することと、
前記コア材料の複数の別個の領域を固化させて、凹部の配列パターンを形成することと、
前記剥離可能接着剤と前記コアの固化された各領域との間に複数の接着性界面を作製することと、を含む、製造方法。
【請求項７】
対象物を表面に取り付けるための接着性物品であって、
第１の剥離可能接着性組成物を含む第１の接着層と、
前記第１の接着層に隣接し周辺部を画定するコアであって、多孔質コア材料を含み、第１主面及び第２主面を含む、コアと、
前記コアの少なくとも前記第１主面上の凹部の第１の配列パターンであって、各凹部はコア材料を含む膜で終端する、第１の配列パターンと、を含み、
前記第１の剥離可能接着性組成物が、少なくとも部分的に各膜の孔内にある、接着性物品。
【請求項８】
前記第１の接着性組成物が、前記膜に隣接するコア材料の第１の前記空隙容積を少なくとも部分的に浸潤している、請求項７に記載の接着性物品。
【手続補正書】
【提出日】令和3年1月7日(2021.1.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の反復単位を備え、
前記複数の反復単位のうちの少なくとも一部分は、無機基板の特性に基づいて選択される１つまたは複数のグラフト基を有し、
前記複数の反復単位のうちの少なくとも一部分は、フォトレジストの特性に基づいて選択される１つまたは複数の界面調整基を有する、ポリマ・ブラシ。
【請求項２】
前記１つまたは複数のグラフト基は、アルキン類、一級ヒドロキシル類、二級ヒドロキシル類、アクリル酸類、エポキシ類、アルケン類、ホスホン酸類、プロパルギル類、ホスホン酸エステル類、アミン類、カルボン酸類、およびアルコキシシラン類からなる群から独立に選択される、請求項１に記載のポリマ・ブラシ。
【請求項３】
前記１つまたは複数の界面調整基は、酸性基、フェニル基、メトキシ基、エチレン基、水素原子、メチル基、およびトリフルオロメチル基からなる群から独立に選択される、請求項１に記載のポリマ・ブラシ。
【請求項４】
前記複数の反復単位のうちの少なくとも一部分は、１つまたは複数のへき開可能基をさらに有する、請求項１に記載のポリマ・ブラシ。
【請求項５】
前記１つまたは複数のへき開可能基は、エステル類である、請求項４に記載のポリマ・ブラシ。
【請求項６】
前記１つまたは複数の界面調整基は、前記無機基板と前記フォトレジストとの間の付着を仲介する、請求項１に記載のポリマ・ブラシ。
【請求項７】
前記無機基板は、シリコン、窒化チタン、チタン酸化物類、チタン酸窒化物類、窒化タンタル、ハフニウム酸化物類、窒化ニオブ、酸化ランタン、シリコン酸化物類、シリコン酸窒化物類、ジルコン酸化物類、およびスズ酸化物類からなる群から選択される材料を含む、請求項１に記載のポリマ・ブラシ。
【請求項８】
リソグラフィ・パターニングのプロセスであって、
無機基板を用意することと、
請求項１ないし６のいずれか１項に記載のポリマ・ブラシを前記無機基板の上に堆積することと、
前記フォトレジストを前記ポリマ・ブラシの上に堆積することと、
パターンを有するフォトマスクを用いて前記フォトレジストをマスクすることと、
エネルギー源から前記マスクしたフォトレジストへエネルギーを照射することと、
前記パターンを有するエッチ・マスクを形成するために前記フォトレジストを現像することと、
前記エッチ・マスクによって露出された前記無機基板の部分をエッチングすることと
を含む、プロセス。
【請求項９】
前記エネルギー源は、レーザ駆動型スズ・プラズマである、請求項８に記載のプロセス。
【請求項１０】
前記エネルギーは、極紫外光である、請求項８に記載のプロセス。
【請求項１１】
前記フォトレジストは、アクリル系フォトレジスト、または、フェノール系フォトレジストである、請求項８に記載のプロセス。
【請求項１２】
前記フォトレジストは、ハイブリッド・フォトレジストである、請求項８に記載のプロセス。
【請求項１３】
前記無機基板は、極薄無機ハードマスクである、請求項８に記載のプロセス。
【請求項１４】
前記無機基板は、シリコン、窒化チタン、チタン酸化物類、チタン酸窒化物類、窒化タンタル、ハフニウム酸化物類、窒化ニオブ、酸化ランタン、シリコン酸化物類、シリコン酸窒化物類、ジルコン酸化物類、およびスズ酸化物類からなる群から選択される材料を含む、請求項８に記載のプロセス。
【請求項１５】
電子デバイスの製造方法であって、
無機基板を用意することと、
請求項１ないし６のいずれか１項に記載のポリマ・ブラシを前記無機基板の上に堆積することと、
前記フォトレジストを前記ポリマ・ブラシの上に堆積することと、
パターンを有するフォトマスクを用いて前記フォトレジストをマスクすることと、
前記マスクしたフォトレジストへ極紫外光を照射することと、
前記パターンを有するエッチ・マスクを形成するために前記フォトレジストを現像することと、
前記エッチ・マスクによって露出された前記無機基板の部分をエッチングすることとを含む、電子デバイスの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】令和3年5月27日(2021.5.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
不活性雰囲気下、１５０℃〜３００℃の間の温度で、ポリプロピレンの重量に基づき０．１〜３．０重量％の式
【化１】
2020531652.tif 000001
を有する有機過酸化物（式中、各ＲはＣ１〜５アルキル基から個々に選択される）の存在下で、二軸スクリュー押出し機で前記ポリプロピレンを押し出すことを含む、溶融強度が増強されたポリプロピレンを製造する方法。
【請求項２】
前記ポリプロピレンが０．５〜２．０重量％の前記有機過酸化物の存在下で押し出される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記有機過酸化物がジ（４−メチルベンゾイル）ペルオキシドである、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
前記ポリプロピレンが１５５〜２５０℃の範囲の温度で押し出される、請求項１から３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
前記ポリプロピレンが、１６０〜２４０℃の範囲の温度で押し出される、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記ポリプロピレンが窒素雰囲気下で押し出される、請求項１から５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
前記ポリプロピレンが、０．０１〜０．３ｐｈｒ、好ましくは０．０１〜０．２ｐｈｒの１種または複数種の抗酸化剤の存在下で押し出される、請求項１から６のいずれか一項に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
あるいは、ＨＭＳ−ＰＰは、その加工性および／または適応性を増加させるために分解してもよいし、または、例えば、発泡、発泡成形、射出成形、ブロー成形、押出しコーティング、プロファイル押出し、キャストフィルム押出し、ブローフィルム押出し、および／または熱成形によってさらに加工してもよい。
本願発明は次のような態様にも関する。
（１）不活性雰囲気下、１５０℃〜３００℃の間の温度で、ポリプロピレンの重量に基づき０．１〜３．０重量％の上記式[化１]を有する有機過酸化物（式中、各ＲはＣ１〜５アルキル基から個々に選択される）の存在下で、二軸スクリュー押出し機で前記ポリプロピレンを押し出すことを含む、前記ポリプロピレンの溶融強度を増強するための方法、または溶融強度が増強されたポリプロピレンの製造方法。
（２）前記ポリプロピレンが０．５〜２．０重量％の前記有機過酸化物の存在下で押し出される、上記（１）に記載の方法。
（３）前記有機過酸化物がジ（４−メチルベンゾイル）ペルオキシドである、上記（１）または（２）に記載の方法。
（４）前記ポリプロピレンが１５５〜２５０℃の範囲の温度で押し出される、上記（１）から（３）のいずれか一項に記載の方法。
（５）前記ポリプロピレンが、１６０〜２４０℃の範囲の温度で押し出される、上記（４）に記載の方法。
（６）前記ポリプロピレンが窒素雰囲気下で押し出される、上記（１）から（５）のいずれか一項に記載の方法。（７）前記ポリプロピレンが、０．０１〜０．３ｐｈｒ、好ましくは０．０１〜０．２ｐｈｒの１種または複数種の抗酸化剤の存在下で押し出される、上記（１）から（６）のいずれか一項に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】令和3年6月23日(2021.6.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
音響基板上で使用するための音響透過性コーティング用の配合物であって、水分散性結
合剤および比較的大きい充填剤粒子の顔料を含み、互いに接触するときに液滴形態の独自性を保持する液滴で前記配合物を噴霧することを可能にするように、体積に対する高い顔料濃度、高粘度、高剪断減粘、および速乾性を特徴とし、前記配合物は約５から約６．５ポンド／ガロンの範囲の密度を有し、体積に対する前記顔料濃度が、１８０グリット（ＣＡＭＩ）サンドペーパーを使用する改変ＡＳＴＭ  Ｄ２４８６（方法Ａ）基準試験の約８５サイクルで平らに磨くことができる表面を提供するように選択される、配合物。
【請求項２】
音響基板上に音響透過性コーティングを形成する方法であって、前記基板上に液滴の複数の層を噴霧することを含み、前記層が、後続の層を塗布する前に、少なくとも部分的に乾燥することが可能であり、前記液滴が、前記コーティングの全厚さにわたって延在する相互接続した気孔を提供するように、隣接液滴と接触していない部分を有し、前記コーティングが、完全に乾燥し、その後スプレーして乾燥させた前記コーティングを平らに磨くことを可能にする、方法。
【手続補正書】
【提出日】令和3年3月26日(2021.3.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１００
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１００】
第９の態様では、本開示は、界面活性剤を提供する。式（ＩＶ）による界面活性剤：
【化１９】
2020531609.tif 000001
式（ＩＶ）では、Ｒ３は、（Ｃ２−Ｃ５００）アルキルまたはアリールであり、Ｒ４は、（Ｃ４−Ｃ５００）アルキレンもしくはアリーレン、またはそれらの組み合わせである。
以下、本発明の好ましい実施形態を項分け記載する。
実施形態１
式（Ｉ）の界面活性剤であって、
【化２０】
2020531609.tif 000002
式中、
Ｒ１ａが、−Ｈ、アルキル、またはアリールであり、
ｘが、２１〜４５３の整数であり、
Ｒ２が、アルキルまたはアリールである、界面活性剤。
実施形態２
ｘが、３０〜１００から選択される、実施形態１に記載の界面活性剤。
実施形態３
Ｒ１ａが、ラジカル−ＣＨ２−ＣＯ−ＮＨＲ５であり、前記界面活性剤が、式（ＩＩ）による構造を有し：
【化２１】
2020531609.tif 000003
式中、Ｒ５が、アルキル、アリール、アルキル置換アリール、またはアリール置換アルキルであり、Ｒ２およびｘが、式（Ｉ）で定義される、実施形態１に記載の界面活性剤。
実施形態４
ｘが、３０〜４０であり、Ｒ２およびＲ５が、独立して、メチル、エチル、１−メチルエチル、プロピル、ｎ−ブチル、１，１−ジメチルエチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、デュオデシル基から選択される（Ｃ１−Ｃ１２）ヒドロカルビルである、実施形態３に記載の界面活性剤。
実施形態５
ｘが、３２であり、Ｒ２およびＲ５の両方が、ｎ−オクチルである、実施形態３に記載の界面活性剤。
実施形態６
油系掘削流体であって、
油相と、
水相と、
少なくとも１つの式（ＩＩＩ）の界面活性剤と、を含み、
【化２２】
2020531609.tif 000004
式中、
Ｒ３が、（Ｃ２−Ｃ５００）アルキルまたはアリールであり、
Ｒ４ａが、（Ｃ４−Ｃ５００）アルキルまたは（Ｃ４−Ｃ５００）ヘテロヒドロカルビルである、油系掘削流体。
実施形態７
Ｒ３が、１５個の炭素を有する線状非分岐アルキルであり、Ｒ４ａが、ｎ−ブチルである、実施形態６に記載の油系掘削流体。
実施形態８
Ｒ４ａが、ラジカル−Ｒ４ｂ−ＮＨ２であり、前記界面活性剤が、式（ＩＶ）による構造を有し、
【化２３】
2020531609.tif 000005
式中、
Ｒ３が、（Ｃ２−Ｃ５００）アルキルまたはアリールであり、
Ｒ４ｂが、（Ｃ４−Ｃ５００）アルキレンまたはアリーレンである、実施形態６に記載の油系掘削流体。
実施形態９
式（ＩＶ）による界面活性剤であって、
【化２４】
2020531609.tif 000006
式中、
Ｒ３が、（Ｃ２−Ｃ５００）アルキルまたはアリールであり、
Ｒ４が、（Ｃ４−Ｃ５００）アルキレン、アリーレン、またはそれらの組み合わせである、界面活性剤。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ｉ）の界面活性剤であって、
【化１】
2020531609.tif 000007
式中、
Ｒ１ａが、−Ｈ、アルキル、またはアリールであり、
ｘが、２１〜４５３の整数であり、
Ｒ２が、アルキルまたはアリールである、界面活性剤。
【請求項２】
ｘが、３０〜１００から選択される、請求項１に記載の界面活性剤。
【請求項３】
Ｒ１ａが、ラジカル−ＣＨ２−ＣＯ−ＮＨＲ５であり、前記界面活性剤が、式（ＩＩ）による構造を有し：
【化２】
2020531609.tif 000008
式中、Ｒ５が、アルキル、アリール、アルキル置換アリール、またはアリール置換アルキルであり、Ｒ２およびｘが、式（Ｉ）で定義される、請求項１に記載の界面活性剤。
【請求項４】
ｘが、３０〜４０であり、Ｒ２およびＲ５が、独立して、メチル、エチル、１−メチルエチル、プロピル、ｎ−ブチル、１，１−ジメチルエチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、デュオデシル基から選択される（Ｃ１−Ｃ１２）ヒドロカルビルである、請求項３に記載の界面活性剤。
【請求項５】
ｘが、３２であり、Ｒ２およびＲ５の両方が、ｎ−オクチルである、請求項３に記載の界面活性剤。
【手続補正書】
【提出日】令和3年6月24日(2021.6.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
開示されるシステム及び方法は、患者安定化の分野に関し、特に、頭部固定機器（以下、「ＨＦＤｓ」または単数形で「ＨＦＤ」と称される）とも称される頭部安定化機器として既知の安定化機器を使用した頭部及び首安定化に関する。ＨＦＤは、様々な外科及び他の医療手順の間、例えば、特定の位置にある患者の頭部を安全に支持することが望ましい、頭部もしくは首の外科手術または検査の間に使用されることがある。患者が手順または好みの理由により特定の方式において位置付けられる必要がある場合があることを理由に、全てのＨＦＤが必要な患者安定化をもたらすよう最適に適合されないことがある。様々な安定化機器が作成及び使用されてきたが、発明者（複数可）が本明細書で説明されるような発明を作成及び使用するよりも前には存在しないと信じられている。
この出願の発明に関連する先行技術文献情報としては、以下のものがある（国際出願日以降国際段階で引用された文献及び他国に国内移行した際に引用された文献を含む）。
（先行技術文献）
（特許文献）
（特許文献１）  米国特許第７，７３０，５６３号明細書
（特許文献２）  米国特許第６，５９４，８３９号明細書
（特許文献３）  米国特許出願公開第２０１６／１０６５０８号明細書
（特許文献４）  米国特許第７，１１７，５５１号明細書
（特許文献５）  米国特許出願公開第２００２／０３２９２７号明細書
（特許文献６）  米国特許出願公開第２０１４／１３５７６５号明細書
【手続補正書】
【提出日】令和3年8月12日(2021.8.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
雌型分離機構構成要素を有する送達ワイヤ組立体と、
雄型分離機構構成要素を有するインプラントと、を含み、
前記雌型分離機構構成要素は、前記雄型分離機構構成要素が前記雌型分離機構構成要素に取り付け可能であるように、前記雄型分離機構構成要素を受容するように構成されたコイルを含み、
前記雌型分離機構構成要素は、内部穴を画定するシリンダを更に含み、
前記コイルは、前記シリンダの前記内部穴の中に配設され、
前記コイルの少なくとも一部は、前記内部穴の長さに沿って自由に並進運動する、インプラントシステム。
【請求項２】
前記雄型分離機構構成要素は、前記雄型分離機構構成要素及び前記雌型分離機構構成要素間の相対回転によって、前記雌型分離機構構成要素に取り付け可能であるように構成される、請求項１に記載のインプラントシステム。
【請求項３】
前記雄型分離機構構成要素は、前記雌型分離機構構成要素の前記コイルによって形成された雌ねじ部と対合するように構成された雄ねじ部を含む、請求項１又は２に記載のインプラントシステム。
【請求項４】
前記コイルは、コイルばねである、請求項１から３のいずれか１項に記載のインプラントシステム。
【請求項５】
前記コイルは、前記コイルの長さの少なくとも一部に沿って前記内部穴の表面と当接し、且つ、任意選択で、
前記コイルは、前記コイルの全長に沿って前記内部穴の前記表面と当接する、請求項１から４のいずれか１項に記載のインプラントシステム。
【請求項６】
前記コイルの一端は、前記シリンダに固定され、且つ、任意選択で、
前記コイルの前記一端は、前記内部穴の端部に固定される、請求項１から５のいずれか１項に記載のインプラントシステム。
【請求項７】
前記コイルの一端の少なくとも一部は、マンドレルの上に配設される、請求項１から６のいずれか１項に記載のインプラントシステム。
【請求項８】
前記雄型分離機構構成要素は、撚り合わされた２つのワイヤを含む、請求項１から７のいずれか１項に記載のインプラントシステム。
【請求項９】
前記２つのワイヤの外側表面は、前記雌型分離機構構成要素の前記コイルによって形成された雌ねじ部と対合するように構成された雄ねじ部を画定する、請求項８に記載のインプラントシステム。
【請求項１０】
前記雌型分離機構構成要素の前記コイルのピッチは、前記２つのワイヤのピッチの整数倍である、及び／又は、前記雌型分離機構構成要素の前記コイルのピッチは、前記２つのワイヤのピッチの１、２、３、４又は５倍である、請求項８又は９に記載のインプラントシステム。
【請求項１１】
前記２つのワイヤのピッチは、一定である、及び／又は、前記雌型分離機構構成要素の前記コイルのピッチは、一定である、請求項８から１０のいずれか１項に記載のインプラントシステム。
【請求項１２】
前記２つのワイヤは、前記インプラントのコアの一部を形成し、且つ、任意選択で、前記コアは、前記インプラントの中央コアである、請求項８から１１のいずれか１項に記載のインプラントシステム。
【請求項１３】
前記２つのワイヤの巻き方は、前記雌型分離機構構成要素の前記コイルの巻き方と同じである、請求項８から１２のいずれか１項に記載のインプラントシステム。
【請求項１４】
前記雄型分離機構構成要素は、コイルを含む、請求項１から７のいずれか１項に記載のインプラントシステム。
【請求項１５】
前記雄型分離機構構成要素の前記コイルの外側表面は、前記雌型分離機構構成要素の前記コイルによって形成された雌ねじ部と対合するように構成された雄ねじ部を画定する、請求項１４に記載のインプラントシステム。
【請求項１６】
前記雌型分離機構構成要素の前記コイルの巻き方は、前記雄型分離機構構成要素の前記コイルの巻き方と同じである、請求項１４又は１５に記載のインプラントシステム。
【請求項１７】
前記雌型分離機構構成要素の前記コイルのピッチは、前記雄型分離機構構成要素の前記コイルのピッチの整数倍である、及び／又は、前記雌型分離機構構成要素の前記コイルのピッチは、前記雄型分離機構構成要素の前記コイルのピッチの１、２、３、４又は５倍である、請求項１４、１５又は１６に記載のインプラントシステム。
【請求項１８】
前記雄型分離機構構成要素の前記コイルのピッチは、一定である、及び／又は、前記雌型分離機構構成要素の前記コイルのピッチは、一定である、請求項１４から１７のいずれか１項に記載のインプラントシステム。
【請求項１９】
前記インプラントは、体腔に埋め込まれるように構成される、請求項１から１８のいずれか１項に記載のインプラントシステム。