【手続補正書】
【提出日】令和3年6月8日(2021.6.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
水素酸化触媒（ＨＯＣ）と、
酸素還元触媒（ＯＲＣ）と、を含む触媒組成物であって、
前記触媒組成物が水素燃焼反応の低温活性化に適しており、
前記ＨＯＣの表面積対前記ＯＲＣの表面積の比が約９：１〜約４：１である、前記触媒組成物。
【請求項２】
前記ＨＯＣの表面積対前記ＯＲＣの表面積の比が約２０：３である、請求項１に記載の触媒組成物。
【請求項３】
前記ＨＯＣ及び前記ＯＲＣが電着によって形成される、請求項１または２に記載の触媒組成物。
【請求項４】
前記触媒組成物が約１４０℃未満の温度で水素燃焼を活性化するように適合される、請求項１〜３のいずれか１項に記載の触媒組成物。
【請求項５】
前記触媒組成物が２０℃未満の温度で水素燃焼を活性化するように適合される、請求項４に記載の触媒組成物。
【請求項６】
前記ＨＯＣが貴金属である、請求項１〜５のいずれか１項に記載の触媒組成物。
【請求項７】
前記ＨＯＣが白金またはパラジウムである、請求項６に記載の触媒組成物。
【請求項８】
前記ＨＯＣがパラジウムである、請求項７に記載の触媒組成物。
【請求項９】
前記ＯＲＣが鉄、亜鉛、銀、銅、スズ、これらの酸化物、またはこれらの組み合わせである、請求項１〜８のいずれか１項に記載の触媒組成物。
【請求項１０】
前記ＯＲＣが酸化第一スズである、請求項９に記載の触媒組成物。
【請求項１１】
基材を準備すること、
前記基材に触媒組成物を付着させて触媒表面を形成すること、
を含む、触媒組成物を付着させる方法であって、
前記触媒組成物が水素酸化触媒（ＨＯＣ）と酸素還元触媒（ＯＲＣ）を含み、
前記触媒表面が水素燃焼反応の低温活性化に適しており、
前記触媒表面が約９：１〜約４：１の比を有するＨＯＣ領域とＯＲＣ領域を含む、前記方法。
【請求項１２】
前記ＨＯＣ領域対前記ＯＲＣ領域の比が約２０：３である、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記触媒組成物を付着させることが前記ＨＯＣを付着させること及び前記ＯＲＣを付着させることを含む、請求項１１または１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記ＨＯＣを付着させた後にＯＲＣを付着させる、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
前記触媒組成物を付着させることが、前記ＨＯＣ、前記ＯＲＣ、またはその両方を前記基材に電気めっきすることを含む、請求項１１〜１４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１６】
前記触媒組成物を付着させることが、前記ＨＯＣを前記基材に電気めっきすることを含む、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
前記触媒組成物を付着させることが、前記ＨＯＣが付着した基材に前記ＯＲＣを電気めっきすることを含む、請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
前記触媒組成物を付着させる前に前駆体を前記基材に付着させることを更に含み、前記前駆体が前記基材への前記触媒組成物の付着性を高める、請求項１１〜１７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１９】
前記前駆体がニッケルまたは銅である、請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
前記前駆体を付着させることが、前記前駆体を前記基材に電気めっきすることを含む、請求項１８または１９に記載の方法。
【請求項２１】
前記触媒組成物が付着した基材を加熱処理することを更に含む、請求項１１〜２０のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２２】
複数のプレートを含む加熱要素であって、燃料を触媒燃焼するための触媒組成物が上に付着した触媒表面を各プレートが含み、前記触媒組成物が水素酸化触媒（ＨＯＣ）と酸素還元触媒（ＯＲＣ）を含む、前記加熱要素と、
前記複数のプレートと接触する導管であって、
熱交換媒体を受け入れるための入口、及び出口とを含む前記導管と、
前記燃料及び酸化剤を受け入れるための１つ以上の入口を有する、前記導管と前記加熱要素とを囲むシェルと、を含む反応器装置であって、
前記燃料の前記触媒燃焼により放出されるエネルギーが前記熱交換媒体に伝達され、
前記燃料の前記触媒燃焼の活性化エネルギーを低下させることで反応が低温で起こるように前記触媒組成物が適合される、
前記反応器装置。
【請求項２３】
前記複数のプレートが積み重ねられる、請求項２２に記載の反応器装置。
【請求項２４】
前記複数のプレートのうちの１枚以上が波形である、請求項２３に記載の反応器装置。
【請求項２５】
前記導管が２枚の隣接するプレートの間に配置される、請求項２２〜２４のいずれか１項に記載の反応器装置。
【請求項２６】
前記導管が２枚の隣接するプレートの間を縫うように通っている、請求項２５に記載の反応器装置。
【請求項２７】
２枚の隣接するプレート間の接触地点に内孔または溝を更に含み、前記内孔または溝が前記導管を受け入れるためのものである、請求項２２〜２６のいずれか１項に記載の反応器装置。
【請求項２８】
隣接するプレートが、ジョイント部材によって間隔を空けられている、請求項２２〜２６のいずれか１項に記載の反応器装置。
【請求項２９】
前記ジョイント部材が前記導管を受け入れるための内孔または溝を有する、請求項２８に記載の反応器装置。
【請求項３０】
２枚の隣接するプレートの間に燃焼キャビティを含む、請求項２２〜２９のいずれか１項に記載の反応器装置。
【請求項３１】
前記燃料及び前記酸化剤を前記複数のプレートに近接している前記燃焼キャビティに分配するための１つ以上の分配器を更に含む、請求項３０に記載の反応器装置。
【請求項３２】
前記１つ以上の分配器が、前記燃料を分配するための第１の分配器と、前記酸化剤を分配するための第２の分配器を含む、請求項３１に記載の反応器装置。
【請求項３３】
前記燃料と前記酸化剤との混合が前記燃焼キャビティ内で生じる、請求項３２に記載の反応器装置。
【請求項３４】
前記触媒表面が、約９：１〜約４：１の比を有するＨＯＣ領域とＯＲＣ領域を含む、請求項２２〜３３のいずれか１項に記載の反応器装置。
【請求項３５】
前記ＨＯＣ領域対前記ＯＲＣ領域の比が約２０：３である、請求項３４に記載の反応器装置。
【請求項３６】
前記熱交換媒体または燃料混合物を予熱するための、前記反応器装置の上流にありこれと熱的に接触する予熱器を更に含む、請求項２２〜３５のいずれか１項に記載の反応器装置。
【請求項３７】
前記熱交換媒体が水を含む、請求項２２〜３６のいずれか１項に記載の反応器装置。
【請求項３８】
前記水への前記エネルギーの伝達が、蒸発を生じさせて蒸気を生成する、請求項３７に記載の反応器装置。
【請求項３９】
前記加熱要素がモジュール式である、請求項２２〜３８のいずれか１項に記載の反応器装置。
【請求項４０】
水素酸化触媒（ＨＯＣ）と酸素還元触媒（ＯＲＣ）とを有する触媒表面を含む触媒加熱要素を有する触媒反応器に燃料と酸化剤を供給することであって、燃料混合物の燃焼の活性化エネルギーを低下させることで、低温で前記燃焼を生じさせるように触媒表面が適合されることである、前記供給することと、
前記触媒表面で前記燃料混合物を触媒燃焼させることと、
前記触媒燃焼により発生した熱を熱交換媒体に伝達することと、
を含む、熱交換媒体の加熱方法。
【請求項４１】
前記ＨＯＣと前記ＯＲＣが、表面積で約９：１〜約４：１の比で前記触媒表面に存在する、請求項４０に記載の方法。
【請求項４２】
前記ＨＯＣと前記ＯＲＣが、表面積で約２０：３の比で前記触媒表面に存在する、請求項４１に記載の方法。
【請求項４３】
前記燃料が水素であり、前記酸化剤が酸素である、請求項４０〜４２のいずれか１項に記載の方法。
【請求項４４】
前記触媒燃焼が大気圧未満の圧力で生じる、請求項４０〜４３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項４５】
請求項１〜１０のいずれか１項に記載の触媒組成物を含む触媒表面または請求項１１〜２１のいずれか１項に記載の方法により調製された触媒表面を含む、触媒燃焼器。
【請求項４６】
請求項４５に記載の触媒燃焼器または請求項２２〜３９のいずれか１項に記載の反応器装置に燃料及び酸化剤を供給することと、
前記触媒表面上で燃料混合物を触媒燃焼させることと、
を含む、燃料混合物を触媒燃焼させる方法。
【請求項４７】
請求項２２〜３９のいずれか１項に記載の１つ以上の反応器装置を含む触媒燃焼システム。