【手続補正書】
【提出日】平成17年6月8日(2005.6.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板及び該基板に対向配置された対向基板を有する電気光学装置において、
反射領域及び非反射領域を有する複数の画素を備えた画素領域と、
前記画素領域の周辺に設けられた第１領域及び該第１領域の周辺に設けられた第２領域と、
前記反射領域に設けられた反射膜と、
前記画素領域に配置された複数の着色層と、
前記第１領域に配置された、前記複数の着色層のうちの１つの着色層と同一材料からなる着色層とを具備することを特徴とする電気光学装置。
【請求項２】
前記反射領域が、前記画素領域の外周部に位置すること特徴とする請求項１記載の電気光学装置。
【請求項３】
前記第１領域に配置された着色層は、前記複数の着色層のうち前記反射領域に配置された１つの着色層と同一材料からなる着色層であること特徴とする請求項１または請求項２記載の電気光学装置。
【請求項４】
前記第２領域における前記基板に、前記複数の着色層のうち少なくとも２つの着色層と同一材料からなる少なくとも２つの着色層を積層した積層膜を具備することを特徴とする請求項１から請求項３いずれか一項に記載の電気光学装置。
【請求項５】
前記積層膜は、前記複数の着色層のうち前記画素領域の非反射領域に配置された少なくとも２つの着色層と同一材料からなる少なくとも２つの着色層であることを特徴とする請求項４記載の電気光学装置。
【請求項６】
前記第２領域における前記基板の第１面からの前記積層膜の高さは、前記画素領域における該第１面からの前記着色層の高さより低いことを特徴とする請求項４または請求項５記載の電気光学装置。
【請求項７】
前記積層膜は青色の着色層と赤色の着色層を含むことを特徴とする請求項４から請求項６いずれか一項に記載の電気光学装置。
【請求項８】
前記第１領域に配置された着色層は青色であることを特徴とする請求項１から請求項７いずれか1項に記載の電気光学装置。
【請求項９】
前記第１領域に金属膜が配置されていることを特徴とする請求項１から請求項８いずれか1項に記載の電気光学装置。
【請求項１０】
請求項１から請求項９いずれか一項に記載の電気光学装置を具備する電子機器。
【請求項１１】
基板と、
反射領域及び非反射領域を有する複数の画素を備えた画素領域と、
前記画素領域の周辺に設けられた第１領域及び該第１領域の周辺に設けられた第２領域と、
前記反射領域に設けられた反射膜と、
前記画素領域に配置された複数の着色層と、
前記第１領域に配置された、前記複数の着色層のうちの１つの着色層と同一材料からなる着色層とを具備することを特徴とするカラーフィルタ基板。
【請求項１２】
基板及び該基板に対向配置された対向基板と、反射領域及び非反射領域を有する複数の画素を備えた画素領域と、前記画素領域の周辺に設けられた第１領域及び該第１領域の周辺に設けられた第２領域とを有する電気光学装置の製造方法であって、
前記反射領域に反射膜を形成する工程と、
前記画素領域に、第１反射用着色層及び第１非反射用着色層を含む複数の着色層を形成する工程とを有し、
前記複数の着色層を形成する工程では、前記第１反射用着色層を前記反射領域に形成すると同時に、前記第１領域にも前記第１反射用着色層を形成し、前記非反射領域に前記第１非反射用着色層を形成することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１３】
前記反射領域が、前記画素領域の外周部に位置すること特徴とする請求項１２記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項１４】
前記複数の着色層は、第２非反射用着色層を含み、
前記複数の着色層を形成する工程では、前記画素領域の非反射領域に前記第１非反射用着色層及び前記第２非反射用着色層を形成すると同時に、前記第２領域に前記第１非反射用着色層及び前記第２非反射用着色層が互いに重なってなる積層膜を形成することを特徴とする請求項１２または請求項１３記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項１５】
前記複数の着色層は、第３非反射用着色層を含み、
前記複数の着色層を形成する工程では、前記画素領域の非反射領域に前記第１非反射用着色層、前記第２非反射用着色層及び前記第３非反射用着色層を形成すると同時に、前記第２領域に前記第１非反射用着色層、前記第２非反射用着色層及び前記第３非反射用着色層が互いに重なってなる積層膜を形成することを特徴とする請求項１２または請求項１３記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項１６】
前記第２領域における前記基板の第１面からの前記積層膜の高さは、前記画素領域における該第１面からの前記着色層の高さより低いことを特徴とする請求項１４または請求項１５記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項１７】
基板と、前記基板に規定され、反射領域及び非反射領域を有する複数の画素を備えた画素領域と、前記基板に規定され、前記画素領域の周辺に設けられた第１領域及び該第１領域の周辺に設けられた第２領域とを有するカラーフィルタ基板の製造方法であって、
前記反射領域に反射膜を形成する工程と、
前記画素領域に、第１反射用着色層及び第１非反射用着色層を含む複数の着色層を形成する工程とを有し、
前記複数の着色層を形成する工程では、前記第１反射用着色層を前記反射領域に形成すると同時に、前記第１領域にも前記第１反射用着色層を形成し、前記非反射領域に前記第１非反射用着色層を形成することを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項１８】
基板及び該基板に対向配置された対向基板を有する電気光学装置において、
反射領域を有する複数の画素を備えた画素領域と、
前記画素領域の周辺に設けられた第１領域及び該第１領域の周辺に設けられた第２領域と、
前記基板の前記画素領域及び前記第１領域の一部に設けられた散乱用樹脂層と、
前記散乱用樹脂層上において、前記反射領域に設けられた反射膜と、
前記画素領域に配置された複数の着色層と、
前記第１領域に配置された、前記複数の着色層のうちの１つの着色層と同一材料からなる着色層と、
前記第２領域に配置された、前記複数の着色層のうちの少なくとも２つの着色層と同一材料からなる着色層を積層した積層膜とを具備し、
前記第１領域に配置された着色層は、前記散乱用樹脂層と前記散乱用樹脂層が設けられていない領域との段差に跨って配置されていることを特徴とする電気光学装置。
【請求項１９】
基板と、
反射領域を有する複数の画素を備えた画素領域と、
前記画素領域の周辺に設けられた第１領域及び該第１領域の周辺に設けられた第２領域と、
前記基板の前記画素領域及び前記第１領域の一部に設けられた散乱用樹脂層と、
前記散乱用樹脂層上において、前記反射領域に設けられた反射膜と、
前記画素領域に配置された複数の着色層と、
前記第１領域に配置された、前記複数の着色層のうちの１つの着色層と同一材料からなる着色層と、
前記第２領域に配置された、前記複数の着色層のうちの少なくとも２つの着色層と同一材料からなる着色層を積層した積層膜とを具備し、
前記第１領域に配置された着色層は、前記散乱用樹脂層と前記散乱用樹脂層が設けられていない領域との段差に跨って配置されていることを特徴とするカラーフィルタ基板。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７６】
各基板の詳細な構造については後述するが、図１及び図２に示すように、液晶装置１は、表示画面にほぼ相当する画素領域１００と、この画素領域１００を囲むように第１周辺領域１０１と、更にこの第１周辺領域１０１を囲む第２周辺領域１０２を有している。第１周辺領域１０１及び第２周辺領域１０２は、ともに遮光領域として機能する。第２周辺領域１０２は、第２周辺領域１０２の外縁部とシール材３の内縁部が重なりあるように配置されている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８１】
第１ＴＦＤ部３３ａは、ライン配線３２側からの電流が第２金属層３８→絶縁層３７→第１金属層３６の順で流れるような積層構造に構成される。他方、第２ＴＦＤ部３３ｂは、ライン配線３２側からの電流が第１金属層３６→絶縁層３７→第２金属層３８の順で流れるような積層構造に構成される。このように一対のＴＦＤ部３３ａ及び３３ｂを電気的に逆向きに直列接続してバック・ツー・バック構造のＴＦＤ素子を構成することにより、ＴＦＤ素子のスイッチング特性の安定が達成されている。画素電極１４ａは、第２ＴＦＤ部３３ｂの第２金属層３８に導通するように、例えばＩＴＯによって形成される。