【手続補正書】
【提出日】令和2年11月16日(2020.11.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
供給原油から石油化学製品及び燃料製品を製造する統合プロセスであって、
常圧蒸留ユニット（ＡＤＵ）において、前記供給原油から、少なくとも
直留ナフサを含む第一ＡＤＵ留分、
前記供給原油から出る中質留分の少なくとも一部を含む第二ＡＤＵ留分、及び
常圧残油を含む第三ＡＤＵ留分
を分離すること、
減圧蒸留ユニット（ＶＤＵ）において、前記第三ＡＤＵ留分から、少なくとも
減圧軽油を含む第一ＶＤＵ留分
を分離すること、
留分水素化処理（ＤＨＰ）域において、前記第二ＡＤＵ留分から出る中質留分を水素化処理すること、ならびに少なくとも、第一ＤＨＰ留分及び第二ＤＨＰ留分を回収することであって、前記第一ＤＨＰ留分は、ナフサを含み、前記第二ＤＨＰ留分は、ディーゼル燃料製造に使用される、前記回収すること、
軽油水素化分解（ＧＯＨＣＫ）域において、前記第一ＶＤＵ留分から出る減圧軽油を水素化分解すること、ならびにＬＰＧ、ナフサ、及び中質留分範囲の成分を含む常圧残油終点以下で沸騰する成分を含有する第一ＧＯＨＣＫ留分、及び未転化軽油を回収すること、
混合原料水蒸気分解（ＭＦＳＣ）域において、前記第一ＡＤＵ留分から出るナフサ及び芳香族化合物抽出域に由来する抽残液を、ならびに軽油水蒸気分解（ＧＯＳＣ）域において、未転化油を、水蒸気分解することであって、水蒸気分解は、少なくとも、混合生成物流Ｈ２、メタン、エタン、エチレン、混合Ｃ３、及び混合Ｃ４、熱分解ガス、及び熱分解油を回収するのに有効な条件下で作動する、前記水蒸気分解すること、
前記混合生成物流から、Ｈ２、メタン、非オレフィンＣ２−Ｃ４、ならびに石油化学製品であるエチレン、プロピレン、及びブチレンを回収すること、
ナフサ水素化処理域において、水蒸気分解から出た熱分解ガスを水素化処理すること、及び水素化精製された熱分解ガスを回収すること、
芳香族化合物抽出域において、石油化学芳香族化合物製品回収のため、水素化精製熱分解ガスから芳香族化合物を、及び芳香族化合物抽出域抽残液を、分離することであって、芳香族化合物抽出に由来する前記抽残液は、前記芳香族化合物抽出域抽残液の全部または一部である、前記分離すること、
を含む、前記統合プロセス。
【請求項２】
前記第二ＡＤＵ留分中の前記中質留分は、灯油燃料製品を回収するために灯油精製プロセスで処理される灯油、及び前記留分水素化処理域で処理される前記第二ＡＤＵ留分の前記一部である直留ディーゼル留分を含む、請求項１に記載のプロセス  。
【請求項３】
さらに、前記第二ＡＤＵ留分中の前記中質留分は、前記ＧＯＨＣＫ域または前記ＧＯＳＣ域で処理される重質常圧軽油を含む、請求項２に記載のプロセス。
【請求項４】
前記混合生成物流から回収される非オレフィンＣ４は、さらなる石油化学製品の製造のため、前記混合原料流分解域に循環使用される；または、さらなる石油化学製品の製造のため、別個の処理域に循環使用され、前記別個の処理域はブテンを非オレフィンＣ４中で混合ブタノールに転化する、または、前記別個の処理域はメタセシス反応域であり、石油化学プロピレン及び前記ＭＦＳＣ域に循環使用されるＣ４／Ｃ５抽残液流を生成する、請求項１から３のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項５】
前記水素化精製熱分解ガスからＣ５を回収すること、
さらなる石油化学製品の製造のため、前記回収されたＣ５を、前記別個の処理域に送ること、
前記回収されたエチレンの一部を、前記別個の処理域に送ること、
をさらに含み、
前記別個の処理域は、メタセシス反応域であり、石油化学プロピレン及びＣ４／Ｃ５抽残液流を生成し、前記Ｃ４／Ｃ５抽残液流は、前記混合原料流分解域に循環使用される、請求項４に記載のプロセス。
【請求項６】
前記水素化精製熱分解ガスからＣ５を回収すること、
前記回収されたＣ５を、前記ＭＦＳＣ域に、さらなる石油化学製品の製造のため前記別個の処理域に、または前記混合原料流分解域及びさらなる石油化学製品の製造のため前記別個の処理域の両方に送ること、
をさらに含む、請求項１から５のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項７】
石油化学製品及び燃料製品を製造する統合システムであって、
原料（１０２）を受け取り、分離し、ナフサを含む第一ＡＤＵ留分（１３６）、前記原料から出る中質留分の少なくとも一部を含む第二ＡＤＵ留分（１２２）、及び常圧残油を含む第三ＡＤＵ留分（１１４）を排出するように作動可能な、常圧蒸留ユニット（ＡＤＵ）（１１０）；
前記第三ＡＤＵ留分（１１４）を受け取り、分離し減圧軽油を含む第一ＶＤＵ留（１６２）を排出するように作動可能な、減圧蒸留ユニット（ＶＤＵ）（１６０）；
前記第二ＡＤＵ留分（１２２）から出る中質留分を受け取り、第一ＤＨＰ留分（１８４）及び第二ＤＨＰ留分（１８２）に転化するように作動可能であり、前記第一ＤＨＰ留分はナフサを含み、前記第二ＤＨＰ留分はディーゼル燃料製造に使用される、留分水素化処理（ＤＨＰ）域（１８０）；  
前記第一ＶＤＵ留分（１６２）から出る減圧軽油を受け取り、処理し、ナフサ範囲の成分を含む第一ＧＯＨＣＫ留分（３２６）、及び未転化留分（３２４）を製造するように作動可能な、軽油水素化分解（ＧＯＨＣＫ）域（３２０）；
（ａ）前記第一ＡＤＵ留分（１３６）から出るナフサ及び芳香族化合物抽出域（６２０）に由来するＣ６−Ｃ９非芳香族抽残液流（６４６）を受け取り、熱分解するように作動可能な混合原料水蒸気分解（ＭＦＳＣ）域（２３０）、及び（ｂ）前記未転化留分（３２４）を受け取り、熱分解するように作動可能な軽油水蒸気分解（ＧＯＳＣ）域（２５０）を含み、混合Ｃ１−Ｃ４パラフィン及びオレフィンを含む混合生成物流（２３２，２５２）、熱分解ガス流（２３４，２５４）、及び熱分解油流（２３６，２５６）を製造するように作動可能な、水蒸気分解域；
前記熱分解ガス流（２３４，２５４）を受け取り、処理して水素化精製熱分解ガス流（６０４）を製造するように作動可能な、ナフサ水素化処理域（６００）；及び、
前記水素化精製熱分解ガス流（６０４）を受け取り、１つ以上の芳香族生成物流（６２４，６２６）及び前記Ｃ６−Ｃ９非芳香族抽残液流（６４６）に分離するように作動可能な、芳香族化合物抽出域（６２０）；
を含む、統合システム。
【請求項８】
前記ＭＦＳＣ域（２３０）は、前記第一ＤＨＰ留分（１８４）から出るナフサ、前記第一ＧＯＨＣＫ留分（３２６）から出るナフサ、または前記第一ＤＨＰ留分（１８４）から出るナフサ及び前記第一ＧＯＨＣＫ留分（３２６）から出るナフサの両方を受け取り、熱分解するように作動可能である、請求項７に記載のシステム。
【請求項９】
前記ナフサ水素化処理域（６００）は、Ｃ５流（６０６）を製造するように作動可能であり、前記ＭＦＳＣ域（２３０）は、前記Ｃ５流（６０６）を受け取り、熱分解するように作動可能である、請求項７または請求項８に記載のシステム。
【請求項１０】
前記ＡＤＵ（１１０）は、前記第一ＤＨＰ留分（１８４）から出るナフサ、前記第一ＧＯＨＣＫ留分（３２６）から出るナフサ、または前記第一ＤＨＰ留分（１８４）から出るナフサ及び前記第一ＧＯＨＣＫ留分（３２６）から出るナフサの両方を受け取り、分離するようにさらに作動可能である、請求項７〜９のいずれか１項に記載のシステム。
【請求項１１】
前記混合生成物流（２３２，２５２）を受け取り、燃料ガス流（２０８）、エチレン流（２０２）、混合Ｃ３流（２８６）及び混合Ｃ４流（２０６）に分離するように作動可能なオレフィン回収トレイン（２７０）、及び前記混合生成物流から回収されるＣ４の一部を受け取り、オレフィン流（５２２）及び非オレフィン流（５２４）に分離するように作動可能なＣ４蒸留ユニット（５２０）をさらに含む、請求項７〜１０のいずれか１項に記載のシステム。
【請求項１２】
前記ＭＦＳＣ域（２３０）は、前記非オレフィン流（５２４）を受け取り、熱分解するように作動可能である；または、前記システムは、
前記Ｃ４蒸留ユニット（５２０）から出るブテン（５２２）の混合物を受け取り、混合ブタノール生成物流（５５４）に転化するように作動可能な混合ブタノール生成物域（５５０）；または、
前記Ｃ５流（６０６）の全てまたは一部を受け取り、プロピレン流（５３４）及びＣ４／Ｃ５抽残液流（５３８）に転化するように作動可能であるメタセシス反応域（５３０）をさらに含み、
前記ＭＦＳＣ域（２３０）は、前記Ｃ４／Ｃ５抽残液流（５３８）を受け取り、熱分解するように作動可能である、請求項１１に記載のシステム。
【請求項１３】
前記ＧＯＨＣＫ域は、水素化分解触媒の存在下で、前記ＧＯＨＣＫ域への供給原料の７８〜９９重量％を前記第一ＧＯＨＣＫ留分に転化する、全転化様式の運転で作動する、循環構成を伴う二段配置であり、
前記循環構成を伴う二段配置は、第一段反応器及び第二段反応器を備え、かつ
前記第一段反応器の作動条件は、
反応器入口温度（℃）が、３４０〜５０２の範囲、
反応器出口温度（℃）が、３５０〜５１６の範囲、
初期（ＳＯＲ）反応温度（℃）が、加重平均床温度（ＷＡＢＴ）として、３１０〜４７５の範囲、
終期（ＥＯＲ）反応温度（℃）が、ＷＡＢＴとして、３３８〜５１６の範囲、
反応入口圧（ｂａｒｇ）が、１００〜１８０の範囲、
反応出口圧（ｂａｒｇ）が、９０〜１７０の範囲、
水素分圧（ｂａｒｇ）（出口）が、９０〜１３７の範囲、
水素精製ガス供給速度（ＳＬｔ／Ｌｔ）が、最高１０５０まで、
水素クエンチガス供給速度（ＳＬｔ／Ｌｔ）が、最高１１００まで、
メイクアップ水素供給速度（ＳＬｔ／Ｌｔ）が、最高５６４まで、及び
液空間速度値（ｈ−１）が、前記水素化精製触媒に対して新たに供給される原料に基づいて、０．１〜１０．０の範囲、
を含み、かつ、
前記第二段反応器の作動条件は、
反応器入口温度（℃）が、３４０〜５０２の範囲、
反応器出口温度（℃）が、３５０〜５１６の範囲、
初期（ＳＯＲ）反応温度（℃）が、加重平均床温度（ＷＡＢＴ）として、３１０〜４７５の範囲、
終期（ＥＯＲ）反応温度（℃）が、ＷＡＢＴとして、３３８〜５１６の範囲、
反応入口圧（ｂａｒｇ）が、８０〜１４５の範囲、
反応出口圧（ｂａｒｇ）が、７５〜１３７の範囲、
水素分圧（ｂａｒｇ）（出口）が、９０〜１４５の範囲、
水素精製ガス供給速度（ＳＬｔ／Ｌｔ）が、最高９１０まで、
水素クエンチガス供給速度（ＳＬｔ／Ｌｔ）が、最高９８０まで、
メイクアップ水素供給速度（ＳＬｔ／Ｌｔ）が、最高４５１まで、及び
液空間速度値（ｈ−１）が、前記水素化精製触媒に対して新たに供給される原料に基づいて、０．１〜１０．０の範囲、
を含む、請求項１〜６のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１４】
前記ＧＯＨＣＫ域は、水素化分解触媒の存在下で、前記ＧＯＨＣＫ域への供給原料の４８〜８２重量％を前記第一ＧＯＨＣＫ留分に転化する、部分転化様式の運転で作動する、貫流直列配置であり、
前記貫流直列配置は、第一反応器及び第二反応器を備え、かつ、循環構成を伴う二段配置は、第一段反応器及び第二段反応器を備え、かつ
前記第一段反応器の作動条件は、
反応器入口温度（℃）が、３４０〜５０２の範囲、
反応器出口温度（℃）が、３５０〜５１６の範囲、
初期（ＳＯＲ）反応温度（℃）が、加重平均床温度（ＷＡＢＴ）として、３１０〜４７５の範囲、
終期（ＥＯＲ）反応温度（℃）が、ＷＡＢＴとして、３３８〜５１６の範囲、
反応入口圧（ｂａｒｇ）が、１００〜１６５の範囲、
反応出口圧（ｂａｒｇ）が、９２〜１５０の範囲、
水素分圧（ｂａｒｇ）（出口）が、８０−１２０の範囲、
水素精製ガス供給速度（ＳＬｔ／Ｌｔ）が、最高６６８まで、
水素クエンチガス供給速度（ＳＬｔ／Ｌｔ）が、最高８１９まで、
メイクアップ水素供給速度（ＳＬｔ／Ｌｔ）が、最高２７１まで、及び
液空間速度値（ｈ−１）が、前記水素化精製触媒に対して新たに供給される原料に基づいて、０．１〜１０．０の範囲、
を含み、かつ、
前記第二反応器の作動条件は、
反応器入口温度（℃）が、３４０〜５０２の範囲、
反応器出口温度（℃）が、３５０〜５１６の範囲、
初期（ＳＯＲ）反応温度（℃）が、加重平均床温度（ＷＡＢＴ）として、３１０〜４７５の範囲、
終期（ＥＯＲ）反応温度（℃）が、ＷＡＢＴとして、３３８〜５１６の範囲、
反応入口圧（ｂａｒｇ）が、９０〜１５０の範囲、
反応出口圧（ｂａｒｇ）が、８５〜１４０の範囲、
水素分圧（ｂａｒｇ）（出口）が、８０〜１３０の範囲、
水素精製ガス供給速度（ＳＬｔ／Ｌｔ）が、最高８９０まで、
水素クエンチガス供給速度（ＳＬｔ／Ｌｔ）が、最高８５０まで、
メイクアップ水素供給速度（ＳＬｔ／Ｌｔ）が、最高３７２まで、及び
液空間速度値（ｈ−１）が、前記水素化精製触媒に対して新たに供給される原料に基づいて、０．１〜１０．０の範囲、
を含む、請求項１〜６のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１５】
前記ＧＯＨＣＫ域は、水素化分解触媒の存在下で、前記ＧＯＨＣＫ域への供給原料の４８〜８２重量％を前記第一ＧＯＨＣＫ留分に転化する、部分転化で作動する、貫流（循環使用を伴わない一段）配置であり、
前記貫流（循環使用を伴わない一段）配置作動条件は、
反応器入口温度（℃）が、３４０〜５０２の範囲、
反応器出口温度（℃）が、３５０〜５１６の範囲、
初期（ＳＯＲ）反応温度（℃）が、加重平均床温度（ＷＡＢＴ）として、３１０〜４７５の範囲、
終期（ＥＯＲ）反応温度（℃）が、ＷＡＢＴとして、３３８〜５１６の範囲、
反応入口圧（ｂａｒｇ）が、１００〜１６５の範囲、
反応出口圧（ｂａｒｇ）が、９２〜１５０の範囲、
水素分圧（ｂａｒｇ）（出口）が、８０〜１２０の範囲、
水素精製ガス供給速度（ＳＬｔ／Ｌｔ）が、最高６７７まで、
水素クエンチガス供給速度（ＳＬｔ／Ｌｔ）が、最高６１４まで、
メイクアップ水素供給速度（ＳＬｔ／Ｌｔ）が、最高３０５まで、及び
液空間速度値（ｈ−１）が、前記水素化精製触媒に対して新たに供給される原料に基づいて、０．１〜１０．０の範囲、
を含む、請求項１〜６のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１６】
前記ＧＯＨＣＫ域は、水素化分解触媒の存在下で、前記ＧＯＨＣＫ域への供給原料の２７〜５２重量％を前記第一ＧＯＨＣＫ留分に転化する、中度水素化分解様式で作動する、貫流（循環使用を伴わない一段）配置であり、
前記貫流（循環使用を伴わない一段）配置作動条件は、
反応器入口温度（℃）が、３２９〜５０２の範囲、
反応器出口温度（℃）が、３３８〜５１６の範囲、
初期（ＳＯＲ）反応温度（℃）が、加重平均床温度（ＷＡＢＴ）として、３１０〜４７５の範囲、
終期（ＥＯＲ）反応温度（℃）が、ＷＡＢＴとして、３３８〜５１６の範囲、
反応入口圧（ｂａｒｇ）が、１０８〜１６１の範囲、
反応出口圧（ｂａｒｇ）が、１００〜１５０の範囲、
水素分圧（ｂａｒｇ）（出口）が、７７〜１１６の範囲、
水素精製ガス供給速度（ＳＬｔ／Ｌｔ）が、最高５３０まで、
水素クエンチガス供給速度（ＳＬｔ／Ｌｔ）が、最高４７０まで、
メイクアップ水素供給速度（ＳＬｔ／Ｌｔ）が、最高２２５まで、及び
液空間速度値（ｈ−１）が、前記水素化精製触媒に対して新たに供給される原料に基づいて、０．１〜１０．０の範囲、
を含む、請求項１〜６のいずれか１項に記載のプロセス。