Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】令和2年12月14日(2020.12.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＨＰＶ１６陽性癌の処置後の治療コントロールのためのインビトロ方法であって、
（ａ）抗がん治療を受けていたＨＰＶ１６陽性癌患者由来のサンプルを、サンプル中に存在する抗体が抗原と結合できる条件下で、ＨＰＶ１６  Ｌ１カプシドまたはカプソマーの立体構造エピトープを含む複数の抗原に接触させるステップであって、前記エピトープが、単量体のおよび／または変性したＨＰＶ１６  Ｌ１に存在しない、ステップ、ならびに
（ｂ）抗原に結合したサンプル中の抗体の結合を検出するステップであって、前記抗体の結合が、患者の抗がん治療の成功と負の相関を有する、ステップ
を含む方法。
【請求項２】
抗原に結合したサンプル中の抗体の結合が、サンプルを、ＨＰＶ１６  Ｌ１カプシドまたはカプソマーの立体構造エピトープと特異的に結合する標識抗体、好ましくは寄託番号ＤＳＭ  ＡＣＣ３３０６のハイブリドーマ細胞株から得られた標識抗体と接触させることにより検出される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記抗体の結合が、結合の基準レベルと比較され、好ましくは、前記抗体の結合が、所定の時間間隔で前記患者から採取した１つまたは複数のサンプルにおける前記抗体の結合と比較され、所定の時間にわたる前記結合の減少が、抗がん治療の成功を示し、経時的な前記結合の増加が、前記患者におけるＨＰＶ１６陽性癌の再発を示す、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
前記標識抗体が試験ストリップ上で移動する形態で存在し、抗原と標識抗体との複合体が別の抗体との結合により検出され、好ましくは、他の抗体が、寄託番号ＤＳＭ  ＡＣＣ３３０６のハイブリドーマ細胞株から得られたものでもある、請求項１から３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
ＨＰＶ１６陽性癌の再発を有すると同定された患者に、抗がん治療を施す、請求項３または４に記載の方法。
【請求項６】
ＨＰＶ１６陽性癌の処置後の治療コントロールのためのインビトロ方法であって、
ｉ）患者のサンプルを、サンプル中に存在する抗体がＨＰＶ１６  Ｌ１抗原と結合できる条件下で、単量体のおよび／もしくは変性したＨＰＶ１６  Ｌ１に存在しない立体構造エピトープを有する、ＨＰＶ１６  Ｌ１カプシドもしくはカプソマー構造を提示する複数の抗原と混合するステップ、
ｉｉ）ステップｉ）の混合物を、ＨＰＶ１６  Ｌ１カプシドもしくはカプソマー構造を提示する抗原の立体構造エピトープと特異的に結合する標識抗体、特に寄託番号ＤＳＭ  ＡＣＣ３３０６のハイブリドーマ細胞株から得られた標識抗体と接触させるステップ、
ｉｉｉ）ＨＰＶ１６−Ｌ１カプシドもしくはカプソマー構造を提示する抗原と結合した標識抗体および／もしくはサンプル中の抗体を各々定量するステップ、
ｉｖ）所定の時間間隔で同じ患者から採取したサンプルを用いて、ステップｉ）〜ｉｉｉ）を１回もしくは複数回繰り返して、患者における、ＨＰＶ１６  Ｌ１カプシドもしくはカプソマー構造を提示する抗原と結合する抗体量の傾向を、所定の期間にわたりサンプルに基づいて追跡するステップ、ならびに
ｖ）サンプル中の、ＨＰＶ１６  Ｌ１カプシドもしくはカプソマー構造を提示する抗原と結合する抗体量を決定して、治療の成功後の量の減少を観察するステップ、および／または
ｖｉ）ＨＰＶ１６  Ｌ１カプシドもしくはカプソマー構造を提示する抗原と結合する抗体量が、サンプル中で所定の期間内に再び増加する場合、サンプル中の、ＨＰＶ１６  Ｌ１カプシドもしくはカプソマー構造を提示する抗原と結合する抗体量を決定して、ＨＰＶ１６陽性癌の再発を観察するステップ
を含むか、またはそれらからなる方法。
【請求項７】
抗原は固定化されておらず、液相で提供され、患者サンプルが前記液相に添加される、請求項１から６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
患者サンプルを、同時に、抗原と接触させまたは混合しかつ標識抗体と接触させる、請求項１から７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
ステップｉｉ）において、混合物が、標識抗体が移動する形態で存在する試験ストリップを流れ、ステップｉｉｉ）において、抗原と標識抗体との複合体が、別の抗体との結合により検出され、好ましくは、他の抗体が、寄託番号ＤＳＭ  ＡＣＣ３３０６のハイブリドーマ細胞株から得られたものでもある、請求項６から８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１０】
ＨＰＶ１６陽性癌を標的とする少なくとも１回の抗がん治療を既に施された患者を処置する方法であって、（Ａ）所定の期間にわたり、ＨＰＶ１６  Ｌ１カプシドまたはカプソマーの立体構造エピトープと結合する抗体が、患者において増加するか否かを決定するための分析結果を提供する試験を要求すること、および（Ｂ）抗体の増加が患者で検出された場合に、ＨＰＶ１６陽性癌を標的とする追加的な抗がん治療を施すことを含む方法。
【請求項１１】
ＨＰＶ１６−Ｌ１カプシドまたはカプソマー構造を提示する抗原の立体構造エピトープと特異的に結合する抗体であって、好ましくは、寄託番号ＤＳＭ  ＡＣＣ３３０６のハイブリドーマ細胞株から得られる抗体。
【請求項１２】
請求項１１に記載の抗体を含む、診断方法、特に処置後のＨＰＶ１６陽性癌の再発を決定する方法における使用のための組成物。
【請求項１３】
ＨＰＶ１６  Ｌ１カプシドもしくはカプソマー構造を提示する抗原、またはＨＰＶ１６  Ｌ１カプシドもしくはカプソマー構造を提示するウイルス様粒子であって、好ましくは、ＨＰＶ１６  Ｌ１カプシドまたはカプソマー構造が立体構造エピトープを有し、寄託番号ＤＳＭ  ＡＣＣ３３０６のハイブリドーマ細胞株から得られた抗体と特異的に結合する、抗原またはウイルス様粒子。
【請求項１４】
請求項１３に記載の抗原またはウイルス様粒子を含む、診断方法、特に処置後のＨＰＶ１６陽性癌の再発を決定する方法における使用のための組成物。
【請求項１５】
患者のサンプル中の抗体量を決定するためのキットであって、
Ｉ）ＨＰＶ１６  Ｌ１カプシドまたはカプソマー構造の立体構造エピトープを提示する抗原を含む組成物、および
ＩＩ）ＨＰＶ１６  Ｌ１カプシドまたはカプソマー構造の立体構造エピトープを提示する抗原と特異的に結合する標識抗体を含む組成物であって、好ましくは、標識抗体が寄託番号ＤＳＭ  ＡＣＣ３３０６のハイブリドーマ細胞株から得られる、組成物
を含むか、またはそれらからなるキット。
【手続補正書】
【提出日】令和2年12月11日(2020.12.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のマイクロレンズ群を備えた光照射野ディスプレイであって、
各マイクロレンズ群は複数のマイクロレンズを含み、
各マイクロレンズは、その下方に位置づけられた対応するマイクロＬＥＤデバイスアレイを有し、当該マイクロＬＥＤデバイスアレイは複数のマイクロＬＥＤデバイスを備え、
前記マイクロＬＥＤデバイスアレイの各マイクロＬＥＤデバイスは、前記マイクロＬＥＤデバイスのアクティブ層積層体によって発せられる光をコリメートし且つ当該コリメートされた光を、前記マイクロＬＥＤデバイスの上方に位置づけられたマイクロレンズに方向付けるように形成された反射面を備える、光照射野ディスプレイ。
【請求項２】
マイクロレンズ群の１つ又は複数のマイクロレンズが、マイクロＬＥＤデバイスのそれぞれからの前記コリメートされた光を、対応する複数の方向に方向付ける凹形状を有し、前記方向のそれぞれは角度分解能のピクセルに対応する、請求項１に記載の光照射野ディスプレイ。
【請求項３】
マイクロレンズ群のマイクロレンズが三角構成に配置されている、請求項２に記載の光照射野ディスプレイ。
【請求項４】
前記マイクロレンズが少なくとも３つのマイクロレンズを含み、マイクロＬＥＤデバイスアレイのマイクロＬＥＤデバイスは互いに同じ色の光を発し、前記３つのマイクロレンズのそれぞれの下方にそれぞれ位置付けられたマイクロＬＥＤデバイスアレイは互いに異なる色の光をそれぞれ集合的に発する、請求項１に記載の光照射野ディスプレイ。
【請求項５】
前記マイクロＬＥＤデバイスの１つ又は複数は、
アクティブ層積層体と、
前記アクティブ層積層体上に配置された透明導電性酸化物（ＴＣＯ）層であって、当該透明導電性酸化物（ＴＣＯ）層と前記アクティブ層積層体の少なくとも一部分は実質的に円形放物形状を成す、透明導電性酸化物（ＴＣＯ）層と、
前記透明導電性酸化物（ＴＣＯ）層上に配置された電気絶縁層であって、内部に開口が形成されている電気絶縁層と、
前記電気絶縁層上に配置された反射層であって、前記反射層は前記反射面を備え、前記反射面の対称軸は前記アクティブ層積層体の平行面に直行する、反射層と
を備える、請求項４に記載の光照射野ディスプレイ。
【請求項６】
少なくとも３つのマイクロレンズのそれぞれの下方にそれぞれ位置付けられた前記マイクロＬＥＤデバイスアレイのそれぞれから集合的に発せられる光の色が、赤、緑、及び青を含む、請求項５に記載の光照射野ディスプレイ。
【請求項７】
前記マイクロＬＥＤデバイスアレイの前記マイクロＬＥＤデバイスが、六角形パターンに配置される、請求項１に記載の光照射野ディスプレイ。
【請求項８】
空間解像度の複数のピクセルを備えた光照射野ディスプレイであって、空間解像度の各ピクセルは、
複数のマイクロＬＥＤアレイであって、各マイクロＬＥＤアレイは単色の複数のマイクロＬＥＤデバイスを備える、マイクロＬＥＤアレイと、
各マイクロＬＥＤアレイの上方にそれぞれ位置付けられた複数のマイクロレンズと
を備え、マイクロＬＥＤアレイの各マイクロＬＥＤアレイは、コリメートされた光を対応するマイクロレンズに方向付けるように構成され、前記対応するマイクロレンズは、前記複数のマイクロＬＥＤデバイスからの前記コリメートされた光の方向を変更し、角度解像度の対応する複数のピクセルを提供する、光照射野ディスプレイ。
【請求項９】
空間解像度のピクセルが複数のマイクロＬＥＤアレイを含み、各マイクロＬＥＤアレイの上には複数のマイクロレンズの対応するマイクロレンズが重なるように位置付けられており、前記マイクロＬＥＤアレイの少なくとも２つによって供給される光の色が互いに異なる、請求項８に記載の光照射野ディスプレイ。
【請求項１０】
前記マイクロレンズのそれぞれが凹形状を有する、請求項８に記載の光照射野ディスプレイ。
【請求項１１】
空間解像度の各ピクセルが、三角構成に配置された少なくとも３つの凹レンズを備える、請求項１０に記載の光照射野ディスプレイ。
【請求項１２】
各マイクロＬＥＤアレイが、少なくとも３つのマイクロＬＥＤデバイスを備える、請求項８に記載の光照射野ディスプレイ。
【請求項１３】
各マイクロＬＥＤアレイの前記複数のマイクロＬＥＤデバイスが、六角形パターンに配置される、請求項８に記載の光照射野ディスプレイ。
【請求項１４】
空間解像度の複数のピクセルを備えた光照射野ディスプレイであって、空間解像度の各ピクセルは、
基板パネル上に形成された１つ又は複数の光方向付け特徴と、
前記１つ又は複数の光方向付け特徴のそれぞれの下方に位置付けられた対応するマイクロＬＥＤデバイスと
を備え、前記対応するマイクロＬＥＤデバイスは、アクティブ層積層体と、当該アクティブ層積層体によって発せられた光をコリメートし且つ当該コリメートされた光を対応する前記光方向付け特徴に方向付けるために使用される反射層とを備える、光照射野ディスプレイ。
【請求項１５】
前記基板パネルが空間解像度の前記複数のピクセルに広がる、請求項１４に記載の光照射野ディスプレイ。
【請求項１６】
同じ色の光を発するマイクロＬＥＤデバイスが、直線状ストリップ又はクラスタとして配置される、請求項１４に記載の光照射野ディスプレイ。
【請求項１７】
前記直線状ストリップ又はクラスタが、密に充填されたアレイに位置付けられる、請求項１６に記載の光照射野ディスプレイ。
【請求項１８】
前記反射層が、実質的に円形放物面鏡を形成する、請求項１４に記載の光照射野ディスプレイ。
【請求項１９】
前記マイクロＬＥＤデバイスの１つ又は複数が、
前記アクティブ層積層体と、
前記アクティブ層積層体上に配置された透明導電性酸化物（ＴＣＯ）層であって、当該透明導電性酸化物（ＴＣＯ）層と前記アクティブ層積層体の少なくとも一部分は実質的に円形放物形状を成す、透明導電性酸化物（ＴＣＯ）層と、
前記透明導電性酸化物（ＴＣＯ）層上に配置された電気絶縁層であって、内部に開口が形成されている電気絶縁層と、
前記電気絶縁層上に配置された前記反射層であって、前記反射層は反射面を備え、前記反射面の対称軸は前記アクティブ層積層体の平行面に直行する、反射層と
を備える、請求項１８に記載の光照射野ディスプレイ。
【手続補正書】
【提出日】令和2年11月19日(2020.11.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１表面を備えるルミネッセント要素と、
前記ルミネッセント要素の前記第１表面に構成された少なくとも１つの冷却要素と、
前記冷却要素が前記ルミネッセント要素の前記第１表面から距離ｄの間隔を置いて構成されるように前記冷却要素と前記ルミネッセント要素の前記第１表面との間に構成された複数のスペーサ要素と、を備える発光デバイスであって、
前記少なくとも１つの冷却要素は、前記ルミネッセント要素の反りに追従するように適合されたコンプライアンスを有し、
前記少なくとも１つの冷却要素と前記ルミネッセント要素のいずれの部分も直接相互接触しないように、前記少なくとも１つの冷却要素と前記ルミネッセント要素とを共に押し付ける力が加えられており、
前記少なくとも１つの冷却要素と前記ルミネッセント要素とを一緒に押し付けるために印加される前記力を印加するように適合された力印加デバイスを更に備える、
発光デバイス。
【請求項２】
前記少なくとも１つの冷却要素のうちの前記ルミネッセント要素に面した部分のみが前記コンプライアンスを有し、それにより、前記冷却要素は、前記少なくとも１つの冷却要素と前記ルミネッセント要素のいずれの部分も相互接触しないように、前記ルミネッセント要素の内部を伝搬する光及び／又は熱によって前記ルミネッセント要素内で誘起された前記ルミネッセント要素の反りに追従するように適合されている、請求項１に記載の発光デバイス。
【請求項３】
前記複数のスペーサ要素は、前記少なくとも１つの冷却要素上に設けられた表面構造、及び別個のスペーサ要素のうちの１つである、請求項１又は２に記載の発光デバイス。
【請求項４】
前記複数のスペーサ要素は、ナノスフェアの形態のビーズである、請求項１乃至３のいずれか一項に記載の発光デバイス。
【請求項５】
前記ナノスフェアは、ＴｉＯ２ナノスフェア、Ａｌ２Ｏ３ナノスフェア、シリカナノスフェア、単分散シリカナノスフェア又は銀被覆ナノスフェアである、請求項４に記載の発光デバイス。
【請求項６】
前記冷却要素は、前記冷却要素上に前記複数のスペーサ要素を形成する、突出部の形態の表面構造を提供するように適合された複数の凹みを備えた、請求項１乃至５のいずれか一項に記載の発光デバイス。
【請求項７】
前記複数のスペーサ要素の最小密度は、前記少なくとも１つの冷却要素と前記ルミネッセント要素のいずれの部分も相互接触しないような、前記少なくとも１つの冷却要素の前記コンプライアンスに応じて選択される、請求項１乃至６のいずれか一項に記載の発光デバイス。
【請求項８】
前記複数のスペーサ要素の最大密度は、前記スペーサ要素によって引き起こされる光損失の量に応じて選択される、請求項１乃至７のいずれか一項に記載の発光デバイス。
【請求項９】
前記スペーサ要素は、前記ルミネッセント要素の前記第１表面上に規則的に分布している、請求項１乃至８のいずれか一項に記載の発光デバイス。
【請求項１０】
前記スペーサ要素は、湿式スプレー法、半湿式スプレー法、乾式スプレー法、ウェットエッチング、ドライエッチング、又は陽極処理とそれに続くレーザアブレーション若しくはエングレービングによって前記冷却要素上に設けられる、請求項１乃至９のいずれか一項に記載の発光デバイス。
【請求項１１】
前記冷却要素が前記ルミネッセント要素の前記第１表面から間隔を置いて構成された前記距離ｄは、前記ルミネッセント要素の前記第１表面の延長部にわたって均一であり、及び／又は、前記冷却要素が前記ルミネッセント要素の前記第１表面から間隔を置いて構成された前記距離ｄは、１μｍ超かつ１０μｍ未満、及び１μｍ超かつ５μｍ未満のいずれか１つである、請求項１乃至１０のいずれか一項に記載の発光デバイス。
【請求項１２】
前記少なくとも１つの冷却要素は、
前記冷却要素の前記コンプライアンスを提供するように適合された壁を備える中空冷却要素であって、前記中空冷却要素は流体で充填され、前記流体は、前記少なくとも１つの冷却要素と前記ルミネッセント要素とを一緒に押し付けるために加える前記力を提供するような圧力下にある、中空冷却要素、及び、
スリット又はフィンを備える冷却要素であって、前記スリット又は前記フィンの数及び密度は、前記冷却要素の前記コンプライアンスを提供するように選択された、冷却要素、
のうちのいずれか１つである、
請求項１乃至１１のいずれか一項に記載の発光デバイス。
【請求項１３】
前記発光デバイスは、前記ルミネッセント要素の前記第１表面とは反対側の、前記ルミネッセント要素の第２表面に構成された更なる冷却要素と、
前記更なる冷却要素が前記ルミネッセント要素の前記第２表面から距離ｄ'の間隔を置いて構成されるように前記更なる冷却要素と前記ルミネッセント要素の前記第２表面との間に構成された更なる複数のスペーサ要素とを備え、
前記更なる冷却要素は前記ルミネッセント要素の反りに追従するように適合されたコンプライアンスを有し、
前記少なくとも１つの冷却要素と前記ルミネッセント要素のいずれの部分も直接相互接触しないように、前記更なる冷却要素と前記ルミネッセント要素とを共に押し付けるために力が加えられている、請求項１乃至１２のいずれか一項に記載の発光デバイス。
【請求項１４】
動作中に第１のスペクトル分布を有する第１の光を放出し、前記ルミネッセント要素の光入射面に又は前記光入射面の上に構成されるように適合された複数のＬＥＤを更に備え、
前記ルミネッセント要素は、前記光入射面において前記第１のスペクトル分布を有する前記第１の光を受光し、前記第１のスペクトル分布を有する前記第１の光の少なくとも一部を第２のスペクトル分布を有する第２の光に変換し、前記第２の光を光出射面に導き、前記第２のスペクトル分布を有する前記第２の光を前記光出射面からアウトカップルするように適合されている、請求項１乃至１３のいずれか一項に記載の発光デバイス。
【請求項１５】
請求項１乃至１４の何れか一項に記載の発光デバイスを有する照明装置又は照明器具。
【手続補正書】
【提出日】令和2年12月3日(2020.12.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
スペクトル制御干渉測定のための干渉システムであって、
基準アーム、オブジェクトアーム、および、基準光線とオブジェクト光線とを組み合わせて複合干渉光線を作り出す手段とを有する干渉計と、
前記複合干渉光線の光路上の選択された位置に変調ピークを有する局在化した干渉縞を生成するため光線のスペクトル変調を作り出すように構成されたスペクトル制御可能な光源と、
前記選択された位置の範囲を拡張するため、前記スペクトル制御可能な光源によって作り出された前記スペクトル変調に重ね合せる更なるスペクトル変調を、前記干渉計への入射前に、作り出すように構成されたスペクトル変調器と、
前記スペクトル変調および前記更なるスペクトル変調を作り出し、また前記局在化した干渉縞の解析を実行するようにプログラムされたコンピュータと、を含み、
前記選択された位置は前記スペクトル変調器に適用される変調周期の関数として制御可能である、干渉システム。
【請求項２】
前記干渉計がコモンパス干渉計である、請求項１に記載の干渉システム。
【請求項３】
前記コモンパス干渉計がフィゾー干渉計である、請求項２に記載の干渉システム。
【請求項４】
前記スペクトル制御可能な光源は正弦波状のスペクトル変調を作り出すように構成されている、請求項１に記載の干渉システム。
【請求項５】
前記スペクトル変調器は正弦波状の更なるスペクトル変調を作り出すように構成されている、請求項１に記載の干渉システム。
【請求項６】
前記スペクトル変調器は干渉遅延線を含んでいる、請求項５に記載の干渉システム。
【請求項７】
前記干渉遅延線がマイケルソン構成である、請求項６に記載の干渉システム。
【請求項８】
スペクトル制御干渉測定のための干渉システムであって、
フィゾー干渉計と、
前記フィゾー干渉計によって作り出された干渉光線の光路上の選択された位置に変調ピークを有する局在化した干渉縞を生成するため、正弦波状のスペクトル変調を作り出すように構成されたスペクトル制御可能な光源と、
マイケルソン構成の干渉遅延線であって、前記スペクトル制御可能な光源から発せられた光を前記フィゾー干渉計に入射する前に更に変調するように構成され、前記スペクトル制御可能な光源によって作り出された前記正弦波状のスペクトル変調に更なるスペクトル変調を重ね合わせ、前記選択された位置の範囲を拡張させるとともに前記干渉遅延線に適用される正弦波状の変調周期の関数として制御可能とする前記干渉遅延線と、
前記スペクトル制御可能な光源および前記干渉遅延線を操作し、また前記局在化した干渉縞の解析を実行するようにプログラムされたコンピュータと、
を含む、干渉システム。
【請求項９】
スペクトル制御干渉システムの測定範囲を拡大するための方法であって、
基準アーム、オブジェクトアーム、および、基準光線とオブジェクト光線とを組み合わせて複合干渉光線を作り出す手段を有する干渉計を提供するステップと、
スペクトル制御可能な光源を提供するステップと、
前記干渉計と光学的に連結されたスペクトル変調器を提供するステップと、
前記複合干渉光線の光路上の選択された位置に変調ピークを有する局在化した干渉縞を作り出すスペクトル変調された光線を生成するため前記スペクトル制御可能な光源を操作するステップと、
前記干渉計への入射前に前記スペクトル変調された光線を更に変調するため前記スペクトル変調器を操作するステップと、
を含み、
前記スペクトル制御可能な光源によって作り出されたスペクトル変調された光線に更なるスペクトル変調を重ね合わせ、これにより前記複合干渉光線の光路上の選択された位置の範囲を拡張する、方法。
【請求項１０】
前記スペクトル制御可能な光源を操作するステップ、および、前記スペクトル変調器を操作するステップが、互いに対してそれぞれ長周期および短周期のスペクトル変調を適用することによって実行される、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記干渉計がコモンパス干渉計である、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記コモンパス干渉計がフィゾー干渉計である、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記スペクトル変調された光線を生成するため前記スペクトル制御可能な光源を操作するステップは正弦波状の変調を用いて実行される、請求項９に記載の方法。
【請求項１４】
前記スペクトル変調された光線を更にスペクトル変調するため前記スペクトル変調器を操作するステップは正弦波状の変調を用いて実行される、請求項９に記載の方法。
【請求項１５】
前記正弦波状の変調が、干渉遅延線を用いて作り出される、請求項９に記載の方法。
【請求項１６】
前記干渉遅延線がマイケルソン構成である、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
前記干渉計がフィゾー干渉計であり、
スペクトル変調された光線を生成するため前記スペクトル制御可能な光源を操作するステップは正弦波状の変調を用いて実行され、
前記スペクトル変調された光線を更にスペクトル変調するため前記スペクトル変調器を操作するステップは、マイケルソン構成の干渉遅延線による正弦波状の変調を用いて実行され、
前記スペクトル制御可能な光源を操作するステップ、および、前記スペクトル変調器を操作するステップは、互いに対してそれぞれ長周期および短周期のスペクトル変調を適用することによって実行される、請求項９に記載の方法。
【請求項１８】
スペクトル制御干渉測定のための干渉システムであって、
基準光線とオブジェクト光線とを組み合わせて干渉光線を作り出すように構成された干渉計と、
同時に複数のスペクトル変調が可能であり、光線の第１のスペクトル変調を作り出して、前記干渉光線の光路上の選択された位置に変調ピークを有する局在化した干渉縞を生成するように構成されたスペクトル制御可能な光源であって、前記干渉計への入射前に前記光線の第２のスペクトル変調を作り出すように更に構成され、前記選択された位置の範囲を拡張するため前記第２のスペクトル変調を第１のスペクトル変調源に重ね合わせる前記スペクトル制御可能な光源と、
前記光線の前記第１のスペクトル変調および前記第２のスペクトル変調を作り出し、また前記局在化した干渉縞の解析を実行するようにプログラムされたコンピュータと、を含み、
前記選択された位置は前記スペクトル制御可能な光源に適用される変調周期の関数として制御可能である、干渉システム。
【請求項１９】
スペクトル制御干渉システムの測定範囲を拡大するための方法であって、
基準アーム、オブジェクトアーム、および、基準光線とオブジェクト光線とを組み合わせて複合干渉光線を作り出す手段を有する干渉計を提供するステップと、
同時に複数のスペクトル変調を作り出すように構成されたスペクトル制御可能な光源を提供するステップと、
前記複合干渉光線の光路上の選択された位置に変調ピークを有する局在化した干渉縞を生成するための第１のスペクトル変調を作り出すとともに、前記干渉計への入射前に第２のスペクトル変調を更に作り出し、第１のスペクトル変調源に前記第２のスペクトル変調を重ね合わせ、前記選択された位置の範囲を拡張するように前記スペクトル制御可能な光源を操作するステップと、
を含む、方法。
【手続補正書】
【提出日】令和2年12月1日(2020.12.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
しゃがみ込みトイレ用の便器であって、
床と接触するための平らな基部を備え、前記基部は排水口を含み、前記平らな基部は前方向と前記前方向に対して垂直な横方向とを含む平面を規定し、
前記便器は前記基部を含む後方部分とユーザがまたがるための伸張した前面延在部分とを規定するように形成され、前記前面延在部分は前記後方部分からほぼ前記前方向に延在し、
前記前面延在部分のうちの少なくとも幾分かは前記便器と前記床との間に隙間を提供するために前記基部に対して高くされまたは傾斜され、
前記便器の開口部を規定するリムを備え、前記リムは、前記前面延在部分および前記後方部分の両方の周囲を延在し、
前記前面延在部分は前記基部から少なくとも２９０ｍｍ前記前方向に延在し、
前記リムは前記前面延在部分全体にわたって前記基部に対して前記前方向に傾斜される、便器。
【請求項２】
前記リムは、平面視において輪郭を有し、２つの凹状の側部を介して凸状の伸張した前面部に接続された凸状の後方部より形成されている、請求項１に記載の便器。
【請求項３】
前記リムは、前記基部に対して垂直であり前記前方向に延在する側輪郭平面において、前記基部に対して前記前面延在部分において傾斜され、好ましくは前記リムは前記側輪郭平面において凹状であり、さらに好ましくは前記リムは前記側輪郭平面において斜行したＵ字型輪郭を有し、前記リムの最前方の範囲は最後方の範囲よりも前記基部に対して浅い傾斜を有する、請求項１または請求項２に記載の便器。
【請求項４】
前記後方部分の最小高さは前記前方向において前記排水口と一致する、請求項１〜３のいずれか１項に記載の便器。
【請求項５】
壁は前記基部から前記リムへと延在し、前記基部に対して垂直な方向の前記壁の高さは前記後方部分において最も低い、請求項１〜４のいずれか１項に記載の便器。
【請求項６】
前記前面延在部分はその最前方の範囲においてハンドルを提供するように形成される、請求項１〜５のいずれか１項に記載の便器。
【請求項７】
トイレであって、
請求項１〜６のいずれか１項に記載の便器と、
ユーザを前記便器の前記開口部の上方に支持するための支持部とを備え、
前記支持部は前記便器の前記リムとほぼ対応するように形作られた最外縁を有し、
前記支持部は実質的に平らな座部を有し、前記座部は開口部を前記支持部において取り囲む、トイレ。
【請求項８】
前記支持部において前記開口部を閉じるための蓋をさらに備え、これにより前記蓋および支持部は共同で前記便器の前記開口部を閉じる、請求項７に記載のトイレ。
【請求項９】
前記支持部は前記便器に枢動可能に取り付けられ、
前記支持部は開位置と閉位置との間を枢動するように配置され、
前記開位置において前記支持部は前記便器から離れて回転され、
前記閉位置において前記最外縁は前記リムに当接する、請求項７または請求項８に記載のトイレ。
【請求項１０】
前記蓋は前記便器に枢動可能に取り付けられ、
前記蓋は開位置と閉位置との間を枢動するように配置され、
前記開位置において前記蓋は前記支持部から離れて回転され、
前記閉位置において前記蓋は前記支持部に当接し、前記支持部において前記開口部を閉じ、
前記蓋および前記支持部の両方がそれぞれのそれらの閉位置に存在するときに、それらは共同で前記便器の前記開口部を閉じる、請求項８に従属する、請求項９に記載のトイレ。
【請求項１１】
前記最外縁が前記便器の前記リムに当接するときに、前記支持部は前記支持部の外面および前記便器の外面が当接部をわたって延在する連続面を形成するように配置される、請求項７〜請求項１０のいずれか１項に記載のトイレ。
【請求項１２】
前記支持部は疎水性のまたは超疎水性の材料を備える、請求項７〜請求項１１のいずれか１項に記載のトイレ。
【請求項１３】
前記支持部を前記便器に枢動可能に接続するヒンジアセンブリをさらに備え、前記ヒンジアセンブリは水のジェットを前記便器へと導くためのノズルを含む、請求項７〜請求項１２のいずれか１項に記載のトイレ。
【請求項１４】
水のジェットを前記便器へと導くために前記前面延在部分上に取り付けられたノズルをさらに備える、請求項７〜請求項１３のいずれか１項に記載のトイレ。
【請求項１５】
給水用の給水口と、
前記リムの少なくとも一部に対してほぼ平行な前記便器内の隆起部とをさらに備え、
前記隆起部は前記便器の周囲に水を運ぶために前記給水口と連通するチャネルを規定し、
前記チャネルの大部分は水が前記便器へと溢れ出ることを可能にするために開かれ、
前記チャネルのうちの２つの長さ部分は水が前記便器へと溢れ出ることを阻止するために閉じられ、
前記閉じられた長さ部分は前記前面延在部分のそれぞれの側に沿って延在し、
前記チャネルは前記前面延在部分の最前方の範囲において開かれる、請求項７〜請求項１４のいずれか１項に記載のトイレ。
【手続補正書】
【提出日】令和3年2月9日(2021.2.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
３次元構造を付加的に製造する方法であって、
パーツ及び収縮プラットフォームを形成し、前記パーツ及び前記収縮プラットフォームの各々が、金属粒子及び１以上のバインダ成分を含んでいるステップと、
前記パーツと前記収縮プラットフォームとの間に剥離層を形成し、前記剥離層が、前記パーツ及び前記収縮プラットフォームが焼結されると粉末化する材料を含んでいるステップと、を含み、
焼結中に、前記パーツ及び前記収縮プラットフォームは、均一に焼結するように構成されている方法。
【請求項２】
請求項１に記載の方法であって、
前記パーツ及び前記収縮プラットフォームを形成するステップは、前記パーツと前記収縮プラットフォームとの間で前記剥離層を浸透させるタックを形成することを含んでいる方法。
【請求項３】
請求項１に記載の方法であって、
前記パーツ及び前記収縮プラットフォームの各々は、焼結されると同一の速度で収縮するように構成されている方法。
【請求項４】
請求項１に記載の方法であって、さらに、
焼結されると粉末化する材料を含んでいるスライド剥離層を、前記収縮プラットフォームの表面と前記表面に対向するビルドプレートとの間に形成するステップを含む方法。
【請求項５】
請求項４に記載の方法であって、
前記スライド剥離層を形成するステップは、前記収縮プラットフォームと前記ビルドプレートとの間で前記スライド剥離層を浸透させるタックを形成することを含んでいる方法。
【請求項６】
３次元構造を付加的に製造する方法であって、
パーツ及び収縮プラットフォームを焼結し、前記パーツ及び前記収縮プラットフォームの各々が、金属粒子及び１以上のバインダ成分を含んでおり、前記パーツと前記収縮プラットフォームとの間で少なくとも一部が剥離層を有し、前記剥離層が、前記パーツ及び前記収縮プラットフォームが焼結されると粉末化する材料を含んでいるステップを含み、
前記焼結中に、前記パーツ及び前記収縮プラットフォームは、互いに相対的な位置に保持されている方法。
【請求項７】
請求項６に記載の方法であって、
前記パーツ及び前記収縮プラットフォームの各々は、前記焼結中に同一の速度で収縮するように構成されている方法。
【請求項８】
３次元構造を付加的に製造する方法であって、
パーツ、サポート構造及び収縮プラットフォームを形成し、前記パーツ、前記サポート構造及び前記収縮プラットフォームの各々が、金属粒子及び１以上のバインダ成分を含んでいるステップと、
前記サポート構造と前記収縮プラットフォームとの間に剥離層を形成し、前記剥離層が、前記パーツ、前記サポート構造及び前記収縮プラットフォームが焼結されると粉末化する材料を含んでいるステップと、を含み、
焼結中に、前記パーツ及び前記サポート構造は、互いに相対的な位置に、かつ合わせて前記収縮プラットフォームに対して相対的な位置に保持されている方法。
【請求項９】
請求項８に記載の方法であって、
前記パーツ、前記サポート構造及び前記収縮プラットフォームを形成するステップは、前記サポート構造と前記収縮プラットフォームとの間で前記剥離層を浸透させるタックを形成することを含んでいる方法。
【請求項１０】
請求項８に記載の方法であって、
前記パーツ、前記サポート構造及び前記収縮プラットフォームの各々は、焼結されると同一の速度で収縮するように構成されている方法。
【請求項１１】
請求項８に記載の方法であって、さらに、
焼結されると粉末化する材料を含んでいるスライド剥離層を、前記収縮プラットフォームの表面と前記表面に対向するビルドプレートとの間に形成するステップを含む方法。
【請求項１２】
請求項１１に記載の方法であって、
前記スライド剥離層を形成するステップは、前記収縮プラットフォームと前記ビルドプレートとの間で前記スライド剥離層を浸透させるタックを形成することを含んでいる方法。
【請求項１３】
３次元構造を付加的に製造する方法であって、
パーツ、サポート構造及び収縮プラットフォームを焼結し、前記パーツ、前記サポート構造及び前記収縮プラットフォームの各々が、金属粒子及び１以上のバインダ成分を含んでおり、前記サポート構造と前記収縮プラットフォームとの間で少なくとも一部が、前記パーツ、前記サポート構造及び前記収縮プラットフォームが焼結されると粉末化する材料を含んでいる剥離層を有しているステップを含み、
前記焼結中に、前記パーツ、前記サポート構造及び前記収縮プラットフォームは、互いに相対的な位置に保持されている方法。
【請求項１４】
請求項１３に記載の方法であって、
前記パーツ、前記サポート構造及び前記収縮プラットフォームの各々は、前記焼結中に同一の速度で収縮するように構成されている方法。
【請求項１５】
３次元構造を付加的に製造する方法であって、
モデル材の第１ボディ及び収縮プラットフォームとして構成されているモデル材の第２ボディを焼結し、前記モデル材の第１ボディ及び前記モデル材の第２ボディの各々が、金属粒子及び１以上のバインダ成分を含んでおり、前記モデル材の第１ボディと前記モデル材の第２ボディとの間で少なくとも一部が剥離層であり、前記剥離層が、前記モデル材の第１ボディ及び前記モデル材の第２ボディが焼結されると粉末化する材料を含んでいるステップを含み、
前記モデル材の第１ボディ及び前記モデル材の第２ボディの焼結中に、前記モデル材の第１ボディ及び前記モデル材の第２ボディは、互いに相対的な位置に保持されるように構成されている方法。
【請求項１６】
請求項１５に記載の方法であって、
前記第１ボディ材料は１以上のパーツを含んでいる方法。
【請求項１７】
請求項１６に記載の方法であって、さらに、
前記モデル材の第１ボディの層間に剥離層を形成するステップを含む方法。
【請求項１８】
請求項１７に記載の方法であって、
前記モデル材の第１ボディの層間に前記剥離層を形成するステップは、前記モデル材の第１ボディの前記層間で前記剥離層を浸透させるタックを形成することを含んでいる方法。
【請求項１９】
請求項１５に記載の方法であって、
前記相対的な位置は共通質量中心である方法。
【請求項２０】
請求項１５に記載の方法であって、
前記剥離層はセラミックを含んでいる方法。
【請求項２１】
請求項１５に記載の方法であって、
前記第１ボディ材料は１以上のサポート構造を含んでいる方法。
【請求項２２】
請求項２１に記載の方法であって、さらに、
前記モデル材の第１ボディの層間に剥離層を形成するステップを含む方法。
【請求項２３】
請求項２２に記載の方法であって、
前記モデル材の第１ボディの層間に前記剥離層を形成するステップは、前記モデル材の第１ボディの前記層間で前記剥離層を浸透させるタックを形成することを含んでいる方法。
【手続補正書】
【提出日】令和3年2月19日(2021.2.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
付加製造の方法であって、
チャンバにおいて、ビルド材フィラメントの第１スプールを維持し、前記ビルド材フィラメントは、１以上のバインダ成分を含んでいる母材及び容量で５０％を超える焼結性粉末金属を含んでおり、
前記チャンバにおいて、剥離材フィラメントの第２スプールを維持し、前記剥離材フィラメントは、第２バインダ及び粉末セラミックを含んでおり、
前記チャンバにおける前記第１スプールから印刷ヘッドアセンブリへの落高を越えて、前記ビルド材フィラメントを滴下し、
前記第２スプールから前記印刷ヘッドアセンブリへの前記落高を越えて、前記剥離材フィラメントを滴下し、
前記チャンバにおけるヒータからの加熱空気で、前記第１スプール上で前記落高に沿って、前記１以上のバインダ成分の軟化成分のガラス転移温度より低い温度まで前記ビルド材フィラメントを直接加熱し、前記ビルド材フィラメントを屈曲させ、
ビルドプレート上に前記ビルド材フィラメント及び前記剥離材フィラメントの層を堆積させ、前記落高が前記ビルドプレートの対角線と実質的に等しい又は前記ビルドプレートの対角線より長く、
前記母材の前記１以上のバインダ成分の少なくとも１つ及び前記第２バインダを溶媒でデバインドし、前記ビルド材フィラメント及び前記剥離材フィラメントの各々を含んでいるブラウンパーツアセンブリを形成し、
前記剥離材フィラメントを剥離粉末に分解させつつ、前記ブラウンパーツアセンブリを焼結する方法。
【請求項２】
請求項１に記載の方法であって、
前記落高に沿って滴下された前記ビルド材フィラメントは、１０ｃｍを超える曲げ半径を有している方法。
【請求項３】
請求項２に記載の方法であって、さらに、
ビルドプレートヒータにより５０℃乃至１２０℃まで前記ビルドプレートを加熱する方法。
【請求項４】
請求項２に記載の方法であって、さらに、
前記ビルドプレートを前記落高より下に位置決めし、
前記ビルドプレートを加熱し、
前記ビルドプレートから前記チャンバへ加熱空気を提供する方法。
【請求項５】
請求項４に記載の方法であって、
前記第１スプール上で前記落高に沿って、前記ビルド材フィラメントを直接加熱することは、前記ヒータで、前記ビルドプレートから前記チャンバに前記加熱空気を引き込むことを含む方法。
【請求項６】
請求項１に記載の方法であって、
前記１以上のバインダ成分は、前記軟化成分に加えてポリマーを含んでおり、前記軟化成分は、ワックス、脂肪酸、脂肪酸エステル、脂肪アルコール、アルカン、ワセリン、ナフタリン、グリコール及びグリセロールから選択される溶媒抽出可能な非ポリマー成分を含んでいる方法。
【請求項７】
請求項１に記載の方法であって、さらに、
前記印刷ヘッドアセンブリを横方向に運び、前記ビルドプレートの表面積の５０％を超える印刷領域を横断させることで、前記ビルド材フィラメントが前記印刷ヘッドアセンブリの前記横方向の運搬により前記第１スプールから解かれるようにする方法。
【請求項８】
請求項７に記載の方法であって、さらに、
前記印刷ヘッドアセンブリに繋がる可撓性ボーデンチューブで前記ビルド材フィラメントを誘導し、前記可撓性ボーデンチューブが前記落高の１／３未満である方法。
【請求項９】
請求項１に記載の方法であって、
前記ビルド材フィラメントの断面直径は、０．５ｍｍを超えるが、２ｍｍ未満である方法。
【請求項１０】
請求項９に記載の方法であって、
前記ビルド材フィラメントの断面直径は、実質的に１ｍｍ以下であり、前記温度は、４０℃より高い方法。
【請求項１１】
請求項９に記載の方法であって、
前記温度は、５０℃より高く、実質的に５５℃未満である方法。
【手続補正書】
【提出日】令和2年11月24日(2020.11.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
鋼ブランクを物品に熱間成形する方法であって、以下の工程：
（ａ）鋼ブランクを温度Ｔ１に加熱し、時間ｔ１の間、加熱された前記鋼ブランクを温度Ｔ１に保持する工程であって、温度Ｔ１がＡｃ１〜Ａｃ３＋２００℃の範囲内にあり、時間ｔ１が１２分以下である工程、
（ｂ）加熱された前記鋼ブランクを搬送時間ｔ２で熱間成形ツールに搬送する工程であって、搬送時間ｔ２の間に、加熱された前記鋼ブランクの温度が温度Ｔ１から温度Ｔ２に低下し、温度Ｔ２がＡｒ１より高く、搬送時間ｔ２が１２秒以下である工程、
（ｃ）前記熱間成形ツール内において前記鋼ブランクを物品に成形し、前記熱間成形ツール内において２５℃／秒以上の冷却速度Ｖ２で温度Ｔ２から温度Ｔ３まで急冷する工程、
（ｄ）時間ｔ４の間、温度Ｔ４で前記物品を等温に保持する工程、
（ｅ）温度Ｔ３及び／又は温度Ｔ４がＭｓ〜Ｍｆであり、時間ｔ４が１０秒を超え、かつ、１０分未満であり、
（ｆ）冷却速度Ｖ４で温度Ｔ４から室温まで前記物品を冷却する工程
を含み、
１．温度Ｔ３がＭｓ〜Ｍｆ、温度Ｔ４がＢｓ〜Ｍｓであるか、あるいは、
２．温度Ｔ３がＢｓ〜Ｍｓ、温度Ｔ４がＭｓ〜Ｍｆであるか、あるいは、
３．温度Ｔ３及び温度Ｔ４の両方がＭｓ〜Ｍｆ、好ましくは温度Ｔ３及び温度Ｔ４が同一であり、
前記熱間成形された物品のミクロ組織が、体積分率（体積％）で（合計１００）、
・８０体積％以上のベイナイト及び焼戻しマルテンサイト、ここで、前記焼戻しマルテンサイトは５０体積％未満、好ましくは４０体積％以下、さらに好ましくは３０体積％以下である、
・２０体積％以下のフェライト及び／又はマルテンサイト、及び／又は残留オーステナイト
からなる複合相ミクロ組織である、方法。
【請求項２】
前記物品が、１〜１８０秒の保持時間ｔ３の間、温度Ｔ３に保持される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
１．の場合、前記物品が、１５℃／秒以上、好ましくは２０℃／秒以上、さらに好ましくは３０℃／秒以上の速度Ｖ３で温度Ｔ３から温度Ｔ４まで加熱される、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
２．の場合、前記物品が、１５℃／秒以下、好ましくは１０℃／秒以下、さらに好ましくは８℃／秒以下の速度ｔ３で温度Ｔ３から温度Ｔ４まで冷却される、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記物品が、０．１〜２０℃／秒の範囲内、好ましくは１〜１５℃／秒の範囲内、さらに好ましくは２〜１０℃／秒の範囲内の冷却速度Ｖ４で温度Ｔ４から室温まで冷却される、請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
温度Ｔ１が、Ａｃ１〜Ａｃ３＋１５０の範囲内、好ましくはＡｃ１〜Ａｃ３＋１００の範囲内、さらに好ましくはＡｃ３−５０〜Ａｃ３＋５０の範囲内であり、時間ｔ１が、好ましくは１０分以下、さらに好ましくは２〜８分の範囲内であり、前記鋼ブランクが、１０〜２５℃／秒の範囲内の加熱速度Ｖ１で加熱される、請求項１〜５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
前記鋼ブランクが、重量％で、
Ｃ：０．１０〜０．５０、好ましくは０．１５〜０．４０、さらに好ましくは０．１５〜０．３５、
Ｍｎ：０．５０〜４．００、好ましくは１．００〜３．００、さらに好ましくは１．００〜２．５０、
Ｓｉ：２．０以下、好ましくは０．１〜２．０、さらに好ましくは０．１〜１，６、
Ａｌ：２．０以下、好ましくは１．０以下、さらに好ましくは０．５以下、
Ｃｒ：１．５以下、好ましくは１．２以下、さらに好ましくは０．００１〜１．１、
Ｔｉ：０．１０以下、好ましくは０．０５以下、さらに好ましくは０．０４以下、
Ｂ：０．００８以下、好ましくは０．００５以下、
Ｎｂ：０．１０以下、好ましくは０．０５以下、さらに好ましくは０．００１〜０．０５
を含み、
場合により、
Ｖ：０．２以下、好ましくは０．１以下、
Ｃａ：０．００３以下、好ましくは０．０００３〜０．００３、
Ｎ：０．００５以下、好ましくは０．００３以下、
Ｐ：０．０１５以下、
Ｓ：０．０３以下、好ましくは０．０１以下、
Ｍｏ：０．５以下、好ましくは０．０５以下、
Ｃｕ：１．０以下、
Ｎｉ：１．０以下
から選択される１種又は２種以上の元素を含み、
残部がＦｅ及び不可避的不純物である、請求項１〜６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
前記鋼ブランクが、熱間成形プロセスにおける酸化及び／又は脱炭を低減するように設計された亜鉛系コーティング又はアルミニウム系コーティング又は有機系コーティング又は他の任意のコーティングを備える、請求項１〜７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
前記亜鉛系コーティングが、０．５〜３．８重量％のＡｌと、０．５〜３．０重量％のＭｇと、場合により０．２重量％以下の１種又は２種以上の追加の元素と、不可避的不純物とを含み、残部が亜鉛であるコーティングである、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
請求項１〜６、８または９のいずれか一項に記載の方法によって得られる熱間成形された物品であって、
前記鋼が、重量％で、
Ｃ：０．１０〜０．５０、
Ｍｎ：１．００〜３．００、
Ｓｉ：２．０以下、
Ａｌ：２．０以下、
Ｃｒ：１．５以下、
Ｔｉ：０．１０以下、
Ｂ：０．００８以下、
Ｎｂ：０．１０以下、
を含み、
場合により、
Ｖ：０．２以下、
Ｃａ：０．００３以下、
Ｎ：０．００５以下、
Ｐ：０．０１５以下、
Ｓ：０．０３以下、
Ｍｏ：０．５以下、
Ｃｕ：１．０以下、
Ｎｉ：１．０以下
から選択される１種又は２種以上の元素を含み、
残部がＦｅ及び不可避的不純物であり、
前記物品が、６００ＭＰａ以上のＹＳ及び１０００ＭＰａ以上のＵＴＳを有するとともに、６％以上の総伸び（ＴＥ）及び４５°以上の曲げ角度（ＢＡ）を有する、物品。
【手続補正書】
【提出日】令和2年11月30日(2020.11.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
歯列矯正ブラケットであって、
外側本体と、
前記外側本体に結合された内側本体であって、エラストマーである内側本体と、
歯に結合するように構成されたブラケットベースと、
を備え、
前記内側本体が、前記外側本体と前記ブラケットベースとの間に配置され、
前記内側本体が、少なくとも０．１ｍｍの厚さを有する、歯列矯正ブラケット。
【請求項２】
前記外側本体が、前記外側本体の一部から形成されたスロットを含む、請求項１に記載の歯列矯正ブラケット。
【請求項３】
前記内側本体が、前記外側本体の少なくとも１つの主表面に少なくとも部分的に接触する、請求項１に記載の歯列矯正ブラケット。
【請求項４】
前記内側本体が、少なくとも１つの突出部を備える、請求項１に記載の歯列矯正ブラケット。
【請求項５】
前記外側本体が、前記内側本体の前記突出部のうちの少なくとも１つと連結するための少なくとも１つの凹状領域を備える、請求項４に記載の歯列矯正ブラケット。
【請求項６】
前記内側本体が、前記外側本体を前記ブラケットベースに対して少なくとも２０％屈曲させるのに十分なポリマー材料を含む、請求項１に記載の歯列矯正ブラケット。
【請求項７】
前記内側本体が、２５００メガパスカル以下の弾性率を有する、請求項１に記載の歯列矯正ブラケット。
【請求項８】
前記ブラケットベースが第１の厚さを有し、前記内側本体が第２の厚さを有し、前記第２の厚さが少なくとも前記第１の厚さである、請求項１に記載の歯列矯正ブラケット。
【請求項９】
１つ以上の歯を受け入れるように成形された１つ以上のキャビティをそれぞれ有する複数のポリマーシェル部であって、前記複数のシェル部のそれぞれが、他の前記複数のシェル部から分離されるように形成されている、複数のポリマーシェル部と、
請求項１に記載の歯列矯正ブラケットと、
を備え、
前記ブラケットベースが、ポリマーシェル部である、取り外し可能な歯科装具。
【請求項１０】
前記歯列矯正ブラケットに結合されたアーチ部材を更に備え、前記アーチ部材が、１つ以上の歯を第１の向きから連続的な向きに再配置するための１以上の力を付与する、
請求項９に記載の取り外し可能な歯科装具。
【手続補正書】
【提出日】令和2年12月11日(2020.12.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
データ通信インタフェースと、処理ユニットと、投影ユニットを含む表示出力ユニットとを備えるＸ線システムのためのディスプレイユニットであって、
前記データ通信インタフェースは、Ｘ線撮像装置を使用して、対象者の関心領域の第１の部分の第１のＸ線画像データを得ることであって、前記第１のＸ線画像データは、初期視野状態に設定された調節可能な視野を有するＸ線撮像装置を使用して得られ、
前記処理ユニットは、前記第１のＸ線画像データにおける境界誤りを識別するために前記第１のＸ線画像データを分析し、前記第１のＸ線画像データの前記分析に基づいて、前記第１のＸ線画像データに隣接する境界誤り領域を規定し、規定された前記境界誤り領域に基づいて、境界誤り指示を生成し、
前記表示出力ユニットは、前記投影ユニットを使用して、前記境界誤り指示を前記対象者の前記関心領域の第２の部分に投影することによって、前記境界誤り指示をユーザに表示する、
ディスプレイユニット。
【請求項２】
前記表示出力ユニットは、ユーザインタフェースディスプレイユニットをさらに備え、
前記ユーザインタフェースディスプレイユニットは、前記ユーザインタフェースディスプレイユニットに前記境界誤り指示を表示する、
請求項１に記載のディスプレイユニット。
【請求項３】
前記処理ユニットは、さらに、前記境界誤り指示を前記第１のＸ線画像データと組み合わせて、注釈付きの第１のＸ線画像データを形成し、
前記表示出力ユニットは、さらに、前記注釈付きの第１のＸ線画像データを前記ユーザインタフェースディスプレイユニットに表示することによって、ユーザに前記境界誤り指示を表示する、
請求項２に記載のディスプレイユニット。
【請求項４】
前記処理ユニットは、さらに、更新視野状態を計算し、（ｉ）更新された視野指示を前記対象者の前記関心領域の第３の部分に投影すること、及び／又は（ｉｉ）前記更新された視野指示をユーザインタフェースディスプレイユニットに表示することによって、前記更新された視野指示を表示する、
請求項１から３のいずれか一項に記載のディスプレイユニット。
【請求項５】
前記投影ユニットは、デジタル投影ユニットを備え、前記境界誤り指示は、前記デジタル投影ユニットを使用して、前記対象者の前記関心領域の前記第２の部分に投影される、
請求項１から４のいずれか一項に記載のディスプレイユニット。
【請求項６】
前記投影ユニットは、前記処理ユニットに動作可能に結合され、前記関心領域に向けられた光源の光路の周辺の上に少なくとも部分的に延びるように設定可能な光フィルタ要素を備え、
前記処理ユニットは、さらに、前記境界誤り指示に基づいて、Ｘ線源の内部に配置された前記光源の前記光路の前記周辺の上に少なくとも部分的に延びるように前記光フィルタ要素を設定し、照明信号を送って前記Ｘ線源の内部の前記光源を明るくする、
請求項１から５のいずれか一項に記載のディスプレイユニット。
【請求項７】
前記境界誤り指示及び／又は前記更新された視野指示は、（ｉ）色付き矩形指示、（ｉｉ）前記第１及び／又は第２のＸ線画像データと比較してより低い又はより高い輝度を有する領域、（ｉｉｉ）フラッシング指示、（ｉｖ）カットオフ領域の指示をオプションとして含む解剖学的特徴の輪郭のうちの１つ又は複数を使用して、ユーザインタフェースに、及び／又は前記対象者の前記関心領域の一部分に表示される、
請求項１から６のいずれか一項に記載のディスプレイユニット。
【請求項８】
前記処理ユニットは、前記第１のＸ線画像データの一部分を解剖学的モデル及び／又は確率解剖学的アトラスと比較することによって前記第１のＸ線画像データを分析する、
請求項１から７のいずれか一項に記載のディスプレイユニット。
【請求項９】
Ｘ線源と、Ｘ線検出器と、請求項１から８のいずれか一項に記載のディスプレイユニットとを備えるＸ線撮像システムであって、
前記Ｘ線源は、初期視野状態で、対象者の関心領域をＸ線放射線で照明し、
前記Ｘ線検出器は、前記対象者の前記関心領域の第１の部分の第１のＸ線画像データを受け取り、
前記ディスプレイユニットは、前記投影ユニットを使用して前記対象者の前記関心領域の第２の部分に境界誤り指示を投影することによって、前記第１のＸ線画像データの境界誤り指示をユーザに表示する、
Ｘ線撮像システム。
【請求項１０】
Ｘ線画像データにおける境界誤りを識別するための方法であって、前記方法は、
ａ）Ｘ線撮像装置を使用して、対象者の関心領域の第１の部分の第１のＸ線画像データを得るステップであって、前記第１のＸ線画像データが、初期視野状態に設定された調節可能視野を有するＸ線撮像装置を使用して得られる、ステップと、
ｂ）前記第１のＸ線画像データにおける境界誤りを識別するために前記第１のＸ線画像データを分析するステップと、
ｃ）前記第１のＸ線画像データの前記分析に基づいて、前記第１のＸ線画像データに隣接する境界誤り領域を規定するステップと、
ｄ）前記境界誤り領域に基づいて、境界誤り指示を生成するステップと、
ｅ）ユーザに前記境界誤り指示を表示するステップと
を有し、
前記境界誤り指示をユーザに表示するステップは、
ｅ４）前記境界誤り指示を前記対象者の前記関心領域の第２の部分に投影するステップを有する、
方法。
【請求項１１】
前記境界誤り指示をユーザに表示するステップは、
ｅ１）前記境界誤り指示をＸ線撮像システムのユーザインタフェースディスプレイに表示するステップをさらに有する、
請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
プロセッサ及び／又はシステムによって実行されると、請求項１０又は１１に記載の方法を実行する、請求項１から８のいずれか一項に記載の処理ユニット及び／又はシステムを制御するための、コンピュータプログラム。
【請求項１３】
請求項１２に記載のコンピュータプログラムを格納した、コンピュータ可読媒体。