【手続補正書】
【提出日】平成16年12月3日(2004.12.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マスクに形成されたパターンを感光基板上に投影する投影光学系と、前記感光基板を保持する載物テーブルと、２次元移動座標系に沿って前記載物テーブルを位置決めする位置決め用ステージと、前記２次元移動座標系内での前記載物テーブルの位置を検出するステージ座標計測手段と、前記２次元移動座標系に対して固定された計測点において前記感光基板の表面から所定の基準面までの前記投影光学系の光軸方向の偏差を検出する高さ計測手段と、前記位置決め用ステージに対する前記載物テーブルの傾斜を調整するレベリング手段と、
前記感光基板の表面を前記基準面に一致させるために必要な前記レベリング手段の制御量を算出する演算手段と、前記演算手段の演算結果に基づいて前記レベリング手段を制御する制御手段とを含む露光装置において、
前記位置決め用ステージが前記２次元移動座標系に沿って移動するとき前記計測点で生じる前記載物テーブルの前記光軸方向変位量を前記ステージ座標計測手段によって計測される前記載物テーブルの位置に対応させて記憶する記憶手段を備え、前記演算手段は前記高さ計測手段による計測値から前記記憶手段に記憶されている前記載物テーブルの光軸方向変位量を控除した値に基づいて前記レベリング手段の制御量を算出することを特徴とする露光装置。
【請求項２】
隣接ショットに対する焦点位置と前記記憶手段に記憶されている前記載物テーブルの光軸方向の変位量とに基づいて焦点位置を算出する手段を備えることを特徴とする請求項1記載の露光装置。
【請求項３】
マスクに形成されたパターンを感光基板上に投影する投影光学系と、前記感光基板を保持する載物テーブルと、２次元移動座標系に沿って前記載物テーブルを位置決めする位置決め用ステージと、前記２次元移動座標系内での前記載物テーブルの位置を検出するステージ座標計測手段と、を含む露光装置において、
前記位置決め用ステージが前記２次元移動座標系に沿って移動するとき前記計測点で生じる前記載物テーブルの前記投影光学系の光軸方向における変位量を前記ステージ座標計測手段によって計測される前記載物テーブルの位置に対応させて記憶する記憶手段を備えることを特徴とする露光装置。
【請求項４】
前記感光基板の前記光軸方向における位置情報を検出する焦点位置検出系と、
前記記憶手段に記憶された変位量に基づいて、前記焦点検出系で検出された位置情報を補正する制御手段とをさらに有することを特徴とする請求項３に記載の露光装置。
【請求項５】
前記焦点検出系は、前記感光基板上の複数の計測点に検出光を照射する照射系と、前記各計測点での反射光を検出する検出系とを有することを特徴とする請求項４に記載の露光装置。
【請求項６】
前記感光基板を露光処理する際、前記記憶手段に記憶された変位量に基づいて、前記ステージ座標計測手段によって計測される前記載物テーブルの位置に対応して前記感光基板の前記光軸方向における位置を調整する調整手段をさらに有することを特徴とする請求項３に記載の露光装置。
【請求項７】
マスクに形成されたパターンを感光基板上に投影する投影光学系と、ベースと、前記感光基板を載置して前記ベース上を２次元移動可能な基板ステージとを含む露光装置において、
前記基板ステージの前記ベース上での走りによる前記感光基板の前記投影光学系の光軸方向における変動量分だけ前記基板を前記光軸方向に移動し、前記基板ステージの走りによる影響を補償する補償手段を有することを特徴とする露光装置。
【請求項８】
マスクに形成されたパターンを感光基板上に投影する投影光学系と、ベースと、前記感光基板を２次元座標系内で移動するために前記ベース上で移動する基板ステージとを含む露光装置において、
前記ベース上での前記基板ステージの走りに起因する、前記２次元座標平面に垂直な方向の前記基板ステージの変位を記憶する記憶手段と、
前記感光基板を前記２次元座標系内で移動するときに、前記記憶手段に記憶された変位に基づいて、前記感光基板の表面位置を制御する制御手段と、
を備えたことを特徴とする露光装置。
【請求項９】
前記記憶手段は、前記２次元座標系内の座標と対応させて前記変位を記憶する請求項８記載の露光装置。
【請求項１０】
前記基板ステージの走りに起因する、前記２次元座標平面に垂直な方向の前記基板ステージの変位は、前記ベース上で前記基板ステージを２次元移動しながら計測される請求項８又は９記載の露光装置。
【請求項１１】
前記２次元座標平面に垂直な方向に関する前記感光基板の表面の位置を複数の検出点で検出する焦点位置検出系を備え、
前記制御手段は、前記記憶手段に記憶された変位と、前記焦点位置検出系の検出結果に基づいて、前記感光基板の表面位置を制御する請求項８〜１０のいずれか一項記載の露光装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
このように基板ステージ自体の走りによるＺ方向変化量を予め計測して装置に記憶させておくことで、感光基板の面内複数点でＺ方向高さを測定する際に、基板ステージの走りに起因する高さ変化量を除いた測定値を得ることができる。このため、より高精度な感光基板のレベリング制御を行うことができる。また、隣接ショットに対する焦点位置と記憶手段に記憶されている載物テーブルの光軸方向の変位量とに基づいて焦点位置を算出する手段を備えることにより、焦点検出がされていない感光基板周辺のショット領域においても、より正確な傾斜補正と焦点位置合わせが可能となる。
また、本発明における第２の露光装置は、マスク（７）に形成されたパターンを感光基板（１２）上に投影する投影光学系（１１）と、感光基板を保持する載物テーブル（１４）と、２次元移動座標系に沿って載物テーブルを位置決めする位置決め用ステージ（１５Ｘ、１５Ｙ）と、２次元移動座標系内での載物テーブルの位置を検出するステージ座標計測手段（２３Ｘ、２３Ｙ）と、を含む露光装置において、位置決め用ステージが２次元移動座標系に沿って移動するとき計測点で生じる載物テーブルの投影光学系の光軸方向における変位量をステージ座標計測手段によって計測される載物テーブルの位置に対応させて記憶する記憶手段（５５）を備えることを特徴とするものである。このことにより、感光基板の２次元方向への移動時に光軸方向の変位量を予測できるので、高速高精度の光軸方向の補正が可能となる。
なお、感光基板の前記光軸方向における位置情報を検出する焦点位置検出系（２５）と、記憶手段に記憶された変位量に基づいて、焦点検出系で検出された位置情報を補正する制御手段（２０）とをさらに有することが好ましい。また、焦点検出系は、感光基板上の複数の計測点に検出光を照射する照射系（２６〜２９）と、各計測点での反射光を検出する検出系（３０〜３３）とを有することが好ましい。また、感光基板を露光処理する際、記憶手段に記憶された変位量に基づいて、ステージ座標計測手段によって計測される載物テーブルの位置に対応して感光基板の光軸方向における位置を調整する調整手段（２０、６０、１６Ａ、１６Ｂ、１６Ｃ）をさらに有することが好ましい。
さらに、本発明における第３の露光装置においては、マスク（７）に形成されたパターンを感光基板（１２）上に投影する投影光学系（１１）と、べース（１７）と、感光基板を載置してベース上を２次元移動可能な基板ステージ（１４、１５Ｘ、１５Ｙ）とを含む露光装置であって、基板ステージのベース上での走りによる感光基板の投影光学系の光軸方向における変動量分だけ基板を光軸方向に移動し、基板ステージの走りによる影響を補償する補償手段（２０、６０、１６Ａ、１６Ｂ、１６Ｃ）を有することを特徴とするものである。このことにより、基板ステージの２次元方向への移動時に光軸方向の変位量を予測できるので、高速高精度の光軸方向の補正が可能となる。
さらに、本発明における第４の露光装置においては、マスク（７）に形成されたパターンを感光基板（１２）上に投影する投影光学系（１１）と、べース（１７）と、感光基板（１２）を２次元座標系（ＸＹ座標系）内で移動するためにベース（１７）上で移動する基板ステージ（１５Ｘ、１５Ｙ）とを含む露光装置であって、ベース（１７）上での基板ステージ（１５Ｘ、１５Ｙ）の走りに起因する、２次元座標（ＸＹ座標）平面に垂直な方向（Ｚ方向）の基板ステージ（１５Ｘ、１５Ｙ）の変位を記憶する記憶手段（５５）と、感光基板（１２）を２次元座標系（ＸＹ座標系）内で移動するときに、記憶手段（５５）に記憶された変位に基づいて感光基板（１２）の表面位置を制御する制御手段（２０）を備えたことを特徴とするものである。