【手続補正書】
【提出日】平成17年8月17日(2005.8.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
荷電粒子ビームを出射する荷電粒子ビーム発生装置と、
複数の治療室内にそれぞれ配置された、前記荷電粒子ビームを照射する照射装置と、
前記荷電粒子ビーム発生装置に連絡され、前記複数の治療室内の前記各照射装置に前記荷電粒子ビーム発生装置から出射された前記荷電粒子ビームを別々に輸送する複数のビーム経路を有する荷電粒子ビーム輸送装置と、
複数のエレメント群とを備え、
前記複数のエレメント群が、前記ビーム経路の前記荷電粒子ビームの進行方向において、前記ビーム経路に順次配置され、かつそれぞれの前記エレメント群は、前記複数のビーム経路にそれぞれ配置されるエレメントを含んでおり、
前記エレメント群内の各エレメントを、それぞれ排他的に選択する排他的選択装置を、前記エレメント群毎に設けていることを特徴とする粒子線治療システム。
【請求項２】
荷電粒子ビームを出射する荷電粒子ビーム発生装置と、
複数の治療室内にそれぞれ配置された、前記荷電粒子ビームを照射する照射装置と、
前記荷電粒子ビーム発生装置に連絡され、前記複数の治療室内の前記各照射装置に前記荷電粒子ビーム発生装置から出射された前記荷電粒子ビームを別々に輸送する複数のビーム経路を有する荷電粒子ビーム輸送装置と、
複数のエレメントをそれぞれ有する複数のエレメント群とを備え、
前記エレメント群が、前記複数のビーム経路に一つずつ配置され、かつ、それぞれの前記エレメント群内の前記複数のエレメントは、前記荷電粒子ビームの進行方向において、前記ビーム経路に順次配置されており、
前記エレメント群それぞれを排他的に選択する排他的選択装置を設けていることを特徴とする粒子線治療システム。
【請求項３】
請求項１記載の粒子線治療システムにおいて、
前記排他的選択装置は、前記エレメント群内の各エレメントを互いに共通の電源に排他的に接続することを特徴とする粒子線治療システム。
【請求項４】
請求項２記載の粒子線治療システムにおいて、
前期排他的選択装置は、それぞれのエレメント群内で電気的に直列に接続された前記複数のエレメントを、共通の電源に排他的に接続することを特徴とする粒子線治療システム。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれかに記載の粒子線治療システムにおいて、
前記排他的選択装置が機械的スイッチであることを特徴とする粒子線治療システム。
【請求項６】
請求項３記載の粒子線治療システムにおいて、
少なくとも１つの前記エレメント群は、前記各ビーム経路に沿って配置され、電気的に直列に接続された複数の前記エレメントを有することを特徴とする粒子線治療システム。
【請求項７】
請求項３記載の粒子線治療システムにおいて、
前記エレメントは電磁石であることを特徴とする粒子線治療システム。
【請求項８】
請求項３記載の粒子線治療システムにおいて、
１つの前記エレメント群の前記各エレメントは、前記各ビーム経路に前記荷電粒子ビームを導く経路切替え電磁石であるであることを特徴とする粒子線治療システム。
【請求項９】
請求項３記載の粒子線治療システムにおいて、
１つの前記エレメント群の前記各エレメントは、前記各ビーム経路に設けられ、前記ビーム経路を遮断するシャッタ、及びそれらのシャッタを個々に駆動するシャッタ駆動装置を含むことを特徴とする粒子線治療システム。
【請求項１０】
荷電粒子ビーム発生装置からの荷電粒子ビームを各治療室に備えた照射装置へ順次選択的に導入する粒子線出射方法において、
前記荷電粒子ビーム発生装置から前記複数の治療室の照射装置までに至る、複数のビーム輸送経路それぞれに１系統ずつの電磁石群を関連づけ、
電源からの電力が複数系統の電磁石群にまたがって供給される場合には、いずれのビーム輸送経路も形成せず、
電源からの電力が１つの系統の電磁石群にのみ供給される場合には、対応する１つのビーム輸送経路を形成させ、この形成したビーム輸送経路より、対応する治療室内の前記照射装置に前記荷電粒子ビームを導くことを特徴とする粒子線出射方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記した目的を達成する本発明の特徴は、複数のエレメント群が、ビーム経路の荷電粒子ビームの進行方向において、ビーム経路に順次配置され、かつそれぞれのエレメント群は、複数のビーム経路にそれぞれ配置されるエレメントを含んでおり、エレメント群内の各エレメントを、それぞれ排他的に選択する排他的選択装置を、エレメント群毎に設けていることにある。これにより、照射を予定していない治療室に誤ってビームが導入されるのは確実に防止できるので、安全性を向上することができる。具体的には、正常時には１つの系統の電磁石群にのみ電力が供給されて１つのビーム経路が完成され、例えば照射しようとする治療室にのみビームが導入される。一方、何らかの異常で電力が複数系統にまたがって供給された場合にはいずれのビーム経路も形成されず、すべての治療室にビームは導入されない。すなわち、いずれにしても、照射を予定していない治療室に誤ってビームが導入されるのは確実に防止できるので、安全性を向上することができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明のさらにもう一つの特徴は、複数の治療室内の前記各照射装置に荷電粒子ビーム発生装置から出射された荷電粒子ビームを別々に輸送する複数のビーム輸送系のうち少なくとも１つに当該ビーム輸送系のビーム経路を遮断する第１シャッタを設置することである。このように、ビーム自体を物理的にブロックしてしまうシャッタをビーム経路に設けることにより、電磁石切り替えを行う制御コントローラのソフトの信頼性のみに依存する従来技術に比べて、安全性を各段に向上できる。好ましくは、上記の全ビーム輸送系のビーム経路を遮断する第１シャッタを設置すると安全性は各段に向上する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
照射制御室３３内に配置されたオペレータコンソール３７には、第１手動入力装置（準備完了情報出力装置）としての患者用の準備完了スイッチ３８、準備完了表示装置としてのディスプレイ３９、第２手動入力装置としての照射指示スイッチ４２、及び第３手動入力装置である照射取消スイッチ６６が設置されている。これらの機能については後述する。照射制御室３３は治療室３に対しても別途設けられている。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
先着優先制御装置１０２は、内部のメモリ内に治療順に記憶されている複数の治療室番号を、その順序で、各治療室２Ａ〜Ｃ、３に対応する各照射制御室３３内のオペレータコンソール３７に設けられた各ディスプレイ３９に出力する。治療順に治療室番号が各ディスプレイ３９に表示されるため、各治療室２Ａ〜Ｃ、３に対応した照射制御室３３内にいる各オペレータは、担当の治療室の現在における治療順を知ることができる。なお、このような表示に限らず、先着優先制御装置１０２は、待ち人数が何人であるか、治療までの待ち時間がおおよそどの程度になるか等を、各ディスプレイ３９に表示しても良い。あるいは、それほど具体的でなく、優先順位が１位でないこと（今すぐ照射可能ではなく少なくとも患者一人分は待たなければならないこと）を表示するのみとしても良い。