Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】令和2年5月1日(2020.5.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
付加製造によって物体を作製する方法であって、
表面(620)のトポグラフィを判定するステップと、
前記判定されたトポグラフィに基づいて付加製造プロセスを修正するステップと、
を含み、
前記表面のトポグラフィを判定するステップは、
収束エネルギー源(603)を用いて前記表面(620)に第1のマークを付けるステップと、
カメラ(606)を用いて前記第1のマークの第1の寸法を判定するステップと、
前記第1のマークの前記第1の寸法に基づいて前記第1のマークの高さを判定するステップと、
を含む、
物体を作製する方法。
【請求項２】
前記付加製造プロセスは、
前記判定されたトポグラフィに基づいて前記表面(620)の窪み領域(610)の場所を判定するステップと、
前記構築表面の前記トポグラフィの変動を低減するために前記窪み領域を充填するステップと、
をさらに含み、
前記窪み領域を充填するステップは、
(a)前記構築表面の窪み領域(610)上に構築材料の層を堆積させるステップと、
(b)前記表面の前記窪み領域で構築材料の前記層の少なくとも一部を溶融させるステップと、
(c)前記構築表面の前記窪み領域上に粉末の後続の層を堆積させるステップと、
(d)前記窪み領域の充填が完了するまでステップ(a)〜ステップ(c)を繰り返すステップと、
を含む、請求項1に記載の物体を作製する方法。
【請求項３】
ステップ(c)およびステップ(d)の少なくとも1つの前に、前記表面のトポロジーが判定され、前記表面のトポロジーを判定するステップは、
前記収束エネルギー源を用いて前記表面に第2のマークを付けるステップと、
前記カメラを用いて前記第2のマークの第2の寸法を判定するステップと、
前記第1の寸法を前記第2の寸法と比較するステップと、
をさらに含む、請求項1または2に記載の物体を作製する方法。
【請求項４】
前記付加製造プロセスは、
前記判定されたトポグラフィに基づいて前記表面の突出領域(622)の場所を判定するステップと、
前記表面に対してレベリング動作を実行して前記構築表面の前記トポグラフィの変動を低減するステップと、
をさらに含む、請求項1から3のいずれか一項に記載の物体を作製する方法。
【請求項５】
前記レベリング動作は、
測定された前記トポグラフィの逆の3D表現を前記物体のCADファイルに追加してカスタムCADファイルを作成し、前記カスタムCADファイルを用いて、前記物体を構築するときに前記突出領域および前記突出領域を囲む領域の充填を指示するステップ、
を含む、請求項4に記載の物体を作製する方法。
【請求項６】
前記レベリング動作は、前記突出領域に対してアブレーションプロセスおよびショットピーニングプロセスの少なくとも1つを実行するステップを含む、請求項4に記載の物体を作製する方法。
【請求項７】
前記表面(620)は、粉末および箔の少なくとも1つである、請求項1に記載の物体を作製する方法。
【請求項８】
前記構築材料は、粉末および箔の少なくとも1つである、請求項2に記載の物体を作製する方法。
【請求項９】
付加製造プロセス中に表面のトポグラフィを測定する方法であって、
(a)収束エネルギー源(603)を用いて表面(620)に第1のマークを付けるステップと、
(b)カメラ(606)を用いて前記第1のマークの寸法を判定するステップと、
(c)前記第1のマークの前記寸法に基づいて前記第1のマークの高さを判定するステップと、
を含む、表面のトポグラフィを測定する方法。
【請求項１０】
(d)前記表面(620)上の複数の場所でステップ(a)〜ステップ(c)を繰り返すステップと、
(e)前記表面上の前記複数の場所でのマークの判定された高さを比較するステップと、
をさらに含む、請求項9に記載の表面のトポグラフィを測定する方法。
【請求項１１】
(d)複数の表面上でステップ(a)〜ステップ(c)を繰り返すステップと、
(e)前記複数の表面でのマークの判定された高さを比較するステップと、
をさらに含む、請求項9に記載の表面のトポグラフィを測定する方法。
【請求項１２】
前記表面は、粉末および箔の少なくとも1つである、請求項9から11のいずれか一項に記載の表面のトポグラフィを測定する方法。
【請求項１３】
前記複数の表面は、第1の粉末層と、前記第1の粉末層上の第2の粉末層と、を含む、請求項11に記載の表面のトポグラフィを測定する方法。
【請求項１４】
前記複数の表面は、第1の箔層と、前記第1の箔層上の第2の箔層と、を含む、請求項11に記載の表面のトポグラフィを測定する方法。
【請求項１５】
請求項1から14のいずれか一項に記載の付加製造プロセス中に表面のトポグラフィを判定するための方法をコンピュータに実行させるように構成されたプログラムを格納する非一時的コンピュータ可読媒体。
【手続補正書】
【提出日】令和3年10月26日(2021.10.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
分配システムであって、
液体材料通路及びプロセス空気通路を備えるマニホールド本体と、
前記マニホールド本体内に受容された加熱部材であって、前記加熱部材が、上部、下部、外面、及び前記外面内の溝を有し、前記溝が、前記上部と前記下部との間に延在し、かつ前記プロセス空気通路の少なくとも一部分を形成する、加熱部材と、
液体材料を分配するように構成されたノズルと、
を備え、
前記加熱部材は、プロセス空気が前記溝を通過する際に前記プロセス空気を加熱するように構成され、前記加熱部材は、前記加熱部材の前記外面と前記マニホールド本体との接触を通じて前記液体材料を加熱するように構成される、分配システム。
【請求項２】
前記加熱部材が、加熱カートリッジと、前記加熱カートリッジの周囲に配置された加熱スリーブと、を備える、請求項１に記載の分配システム。
【請求項３】
前記溝が非直線である、請求項１に記載の分配システム。
【請求項４】
前記溝が、少なくとも１つの環状セグメント及び少なくとも１つの長手方向セグメントを備える、請求項１に記載の分配システム。
【請求項５】
前記溝が、複数の環状セグメント及び複数の長手方向セグメントを備え、前記環状セグメントと前記長手方向セグメントとが、前記加熱部材の長手方向長さに沿って交互になる、請求項４に記載の分配システム。
【請求項６】
前記溝が螺旋状セグメントを備える、請求項１に記載の分配システム。
【請求項７】
前記加熱部材の前記外面が、前記溝の周方向内面よりも大きい表面領域を有する、請求項１に記載の分配システム。
【請求項８】
前記溝は、第１の流路及び第２の流路を画定し、前記加熱部材は、前記プロセス空気を前記第１の流路と第２の流路に分割するように構成されている、請求項１に記載の分配システム。
【請求項９】
前記加熱部材が、前記上部及び前記下部において前記マニホールド本体と接触する、請求項１に記載の分配システム。
【請求項１０】
前記加熱部材が、前記マニホールド本体内に受容された唯一の加熱部材である、請求項１に記載の分配システム。
【請求項１１】
前記マニホールド本体内に受容された第２の加熱部材であって、前記第２の加熱部材が、前記マニホールド本体と接触する第２の外面と、前記プロセス空気通路の少なくとも第２の部分を形成する前記第２の外面内の第２の溝とを備え、前記第２の加熱部材は、前記加熱部材に実質的に平行に位置付けられる、第２の加熱部材を更に備え、
前記マニホールド本体が、前記プロセス空気を受容し、前記プロセス空気を前記溝及び前記第２の溝に分配するように構成された上部ギャラリーを備える、請求項１に記載の分配システム。
【請求項１２】
前記溝及び前記第２の溝が、前記上部ギャラリーと連通し、かつ前記上部ギャラリーから前記プロセス空気を受容するように構成された上部環状セグメントを備える、請求項１１に記載の分配システム。
【請求項１３】
前記液体材料を分配するように構成された第２のノズルを更に備え、
前記マニホールド本体は、前記溝及び前記第２の溝から前記プロセス空気を受容し、前記プロセス空気を前記ノズル及び前記第２のノズルに分配するように構成された、下部ギャラリーを備える、請求項１１に記載の分配システム。
【請求項１４】
前記液体材料通路内に配置され、前記液体材料から汚染物質を除去するように構成されたフィルタと、
前記マニホールド本体内に配置され、前記加熱部材によって生成された熱を検出するように構成された温度センサと、を更に備える、請求項１に記載の分配システム。
【請求項１５】
液体材料を分配する方法であって、
前記液体材料をマニホールド本体の液体材料通路内に受容することと、
プロセス空気を前記マニホールド本体のプロセス空気通路内に受容することと、
前記液体材料を、加熱部材の外面と前記マニホールド本体との接触を通じて加熱することと、
前記プロセス空気を前記加熱部材の溝内に受容することによって、前記プロセス空気を加熱することであって、前記溝が、前記加熱部材の上部から前記加熱部材の下部まで延在し、かつ前記プロセス空気通路の少なくとも一部分を形成する、ことと、
前記液体材料をノズルで分配することと、
を含む、方法。
【請求項１６】
前記プロセス空気を前記溝の少なくとも１つの環状セグメントに通過させることと、
前記プロセス空気を前記溝の少なくとも１つの長手方向セグメントに通過させることと、
を更に含む、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
前記プロセス空気を前記溝の螺旋状セグメントに通過させることを更に備える、請求項１５に記載の方法。
【請求項１８】
前記液体材料を加熱することが、加熱部材の前記上部及び下部と前記マニホールド本体との間の接触による、請求項１５に記載の方法。
【請求項１９】
分配システムであって、
液体材料通路及びプロセス空気通路を備えるマニホールド本体と、
前記液体材料通路内に配置され、液体材料から汚染物質を除去するように構成されたフィルタと、
前記マニホールド本体内に受容された加熱部材であって、前記加熱部材が、加熱カートリッジと、前記加熱カートリッジの周囲に配置された加熱スリーブとを有し、前記加熱部材が、上部、下部、前記加熱スリーブによって形成された外面、及び前記外面内の溝を有し、前記溝が、前記上部と前記下部との間に延在し、かつ前記プロセス空気通路の少なくとも一部分を形成し、前記溝が、前記加熱部材の長手方向長さに沿って交互になる複数の環状セグメントと複数の長手方向セグメントとを備える、加熱部材と、
前記マニホールド本体内に配置され、前記加熱部材によって生成された熱を検出するように構成された温度センサと、
液体材料を分配するように構成されたノズルと、
を備え、
前記加熱部材は、プロセス空気が前記溝を通過する際に前記プロセス空気を加熱するように構成され、前記加熱部材は、前記加熱部材の前記外面と前記マニホールド本体との接触を通じて前記液体材料を加熱するように構成されている、分配システム。
【請求項２０】
前記加熱部材が、前記上部及び前記下部において前記マニホールド本体と接触する、請求項１９に記載の分配システム。
【手続補正書】
【提出日】令和3年10月22日(2021.10.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の複数の分配開口部、及び、第２の複数の分配開口部、を備えたダイであって、当該ダイは、
上方内面、上方外面、及び、前記上方内面から前記上方外面まで延びる少なくとも１つの上方チャネル、を有する上方本体部材と、
前記上方内面に隣接して位置決めされた上方シムであって、当該上方シムは、前記第１の複数の開口部を規定する第１の複数の内縁を有し、当該上方シムの前記第１の複数の開口部は、前記少なくとも１つの上方チャネルに隣接して位置決めされている、という上方シムと、
前記上方シムに隣接して位置決めされたセパレータシムであって、当該セパレータシムは、上面及び下面を有し、当該セパレータシムの前記上面、前記上方シムの前記第１の複数の内縁及び前記上方本体部材の前記上方内面は、第１の複数の分配チャネルを規定しており、当該第１の複数の分配チャネルは、前記少なくとも１つの上方チャネルから前記第１の複数の分配開口部まで延びている、というセパレータシムと、
前記セパレータシムの前記下面に隣接して位置決めされた下方シムであって、当該下方シムは、前記第２の複数の開口部を規定する第２の複数の内縁を有している、という下方シムと、
下方内面、下方後面、及び、前記下方内面から前記下方後面まで延びる少なくとも１つの下方チャネル、を有する下方本体部材と、
を備え、
前記下方シムの前記少なくとも１つの開口部は、前記少なくとも１つの下方チャネルに隣接して位置決めされており、
前記セパレータシムの前記下面、前記下方シムの前記第２の複数の内縁及び前記下方本体部材の前記下方内面は、第２の複数の分配チャネルを規定しており、当該第２の複数の分配チャネルは、前記少なくとも１つの下方チャネルから前記第２の複数の分配開口部まで延びており、
前記上方シムの前記第１の複数の開口部の各々は、横断方向において前記下方シムの前記第２の複数の開口部の１つに隣接して配置されており、
前記横断方向は、当該ダイの右端から当該ダイの左端にまで延びており、
前記下方シムの前記第２の複数の開口部の各々が、前記下方シムの各隣接する第２の開口部から実質的に同一の距離だけ離間して配置されている
ことを特徴とするダイ。
【請求項２】
前記上方シムは、８つの第１の開口部を含む
ことを特徴とする請求項１に記載のダイ。
【請求項３】
前記下方シムは、４つの第２の開口部を含む
ことを特徴とする請求項２に記載のダイ。
【請求項４】
前記ダイは、単一のマニホールドダイである
ことを特徴とする請求項１に記載のダイ。
【請求項５】
前記上方シムの厚さと前記下方シムの厚さとが、実質的に同一である
ことを特徴とする請求項１に記載のダイ。
【請求項６】
前記下方本体部材は、キャビティを含んでおり、
前記キャビティは、前記第２の複数の分配チャネル及び前記少なくとも１つの下方チャネルと流体連通している
ことを特徴とする請求項１に記載のダイ。
【請求項７】
上方本体部材及び下方本体部材を有するマルチレーンスロットダイ用のシムアセンブリであって、
前記上方本体部材に隣接して位置決めされる上方シムであって、当該上方シムは、第１の複数の開口部を規定する第１の複数の内縁を有する、という上方シムと、
前記上方シムに隣接して位置決めされるセパレータシムであって、当該セパレータシムは、上面及び下面を有し、当該セパレータシムの前記上面、前記上方シムの前記第１の複数の内縁及び前記上方本体部材は、第１の複数の分配チャネルを規定する、というセパレータシムと、
前記セパレータシムの前記下面に隣接して位置決めされる下方シムであって、当該下方シムは、第２の複数の開口部を規定する第２の複数の内縁を有している、という下方シムと、
を備え、
前記セパレータシムの前記下面、前記下方シムの前記第２の複数の内縁及び前記下方本体部材は、第２の複数の分配チャネルを規定し、
前記上方シムの前記第１の複数の開口部の各々は、横断方向において前記下方シムの前記第２の複数の開口部の１つに隣接して配置されており、
前記横断方向は、当該シムアセンブリの右端から当該シムアセンブリの左端にまで延びており、
前記下方シムの前記第２の複数の開口部の各々が、前記下方シムの各隣接する第２の開口部から実質的に同一の距離だけ離間して配置されており、各レーンが前記距離だけ離間して配置される
ことを特徴とするシムアセンブリ。
【請求項８】
前記上方シムは、８つの第１の開口部を含む
ことを特徴とする請求項７に記載のシムアセンブリ。
【請求項９】
前記下方シムは、４つの第２の開口部を含む
ことを特徴とする請求項８に記載のシムアセンブリ。
【請求項１０】
前記上方シムの前記第１の複数の開口部のうちの１つは、非直線配向を含む
ことを特徴とする請求項７に記載のシムアセンブリ。
【請求項１１】
前記第１の複数の開口部の各々の右側及び左側の一方は、前記第２の複数の開口部の前記１つの右側及び左側の他方と整列されている
ことを特徴とする請求項１に記載のダイ。
【請求項１２】
前記第１の複数の開口部の各々の右側及び左側の一方は、前記第２の複数の開口部の前記１つの右側及び左側の他方と整列されている
ことを特徴とする請求項７に記載のシムアセンブリ。
【手続補正書】
【提出日】令和3年7月5日(2021.7.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ダイカストマシンの射出アセンブリ（１）であって、
金属射出ステップの間、所望の速度（Ｖｓｅｔ）が定義されるマシンのダイで溶融鋳造金属を操作するために並進制御可能な射出ピストン（２０）と、
前記射出ピストン（２０）の外側への並進を目的とした流体を収容及び加圧をするための、前記射出ピストン（２０）の上流の、主圧力室（２６）であって、前記主圧力室（２６）は、さらに、排出口に接続された射出排出口（２９）に接続され、射出戻り排出バルブ（１０５）がそれに沿って作動する、主圧力室（２６）と、
液体を主注入口（２８）に供給し、主遮断バルブ（１０２）を開放する結果として前記主注入口（２８）から前記主圧力室（２６）へ供給する、比例射出供給バルブ（１０４）と、
前記射出ピストン（２０）の戻り並進のための圧力液体を供給するための戻り注入口（３４）に接続された前記射出ピストン（２０）の後端端部（２４）の下流の主背圧室（３２）であって、前記戻り注入口（３４）は、上流にポンプ（３８）が配置された、供給ポンプ（３６）と上流で接続される、主背圧室（３２）と、
前記供給ポンプ（３６）と前記戻り注入口（３４）の間に配置された射出戻りバルブ（１０６）と、
前記主背圧室（３２）から液体を排出するための比例射出排出バルブ（１１２）であって、そのため前記主圧力室（２６）の流体の動作と前記主背圧室（３２）の液体の反対の動作は、チューニング速度（Ｖｒｅｇ）に従って開放が制御された前記射出ピストン（２０）の並進の動作の外向推力を生成する、比例射出排出バルブ（１１２）と、
自動チューニング射出バルブ（１０４）開放システムであって、所定のダイカストサイクル中の前記射出バルブ（１０４）の開放は、前記チューニング速度（Ｖｒｅｇ）に従って、調整され、前記射出ピストンの前記所定の所望の速度（Ｖｓｅｔ）と前のダイカストサイクルで検知された前記射出ピストンの実効速度（Ｖｅｆｆ）の差の関数として決定される、射出アセンブリ（１）。
【請求項２】
決定されたサイクルにおける前記チューニング速度は、前記所定の所望の速度と前のダイカストサイクルにおいて測定された実効速度の差に等しい、すなわち、Ｖｒｅｇ＝Ｖｓｅｔ−Ｖｅｆｆである、請求項１に記載の射出アセンブリ（１）。
【請求項３】
前記自動チューニングシステムは、高速射出ステップの間のみ作動する、請求項１または２に記載の射出アセンブリ（１）。
【請求項４】
前記自動チューニングシステムは、所定の数のダイカストサイクルにおいてのみ動作し、その後、チューニング速度（Ｖｒｅｇ）を得るための所望の速度（Ｖｓｅｔ）の平均修正（ＤＥＬＴＡｄｅｆ）が定義され、
前記平均修正は、前記ダイと関連する、請求項１乃至３のいずれか１項に記載の射出アセンブリ（１）。
【手続補正書】
【提出日】令和3年8月2日(2021.8.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
受信信号を受信し、前記受信信号のタイミングに基づいてサンプリング信号を出力するように構成された位相ロックループ回路と、
前記受信信号とサンプリング信号との間の位相差を決定し、その位相差に基づいて制御信号を決定し、その制御信号を利用して前記位相ロックループ回路のクロック回復帯域幅を設定するように構成されたクロック回復回路とを有し、
前記クロック回復帯域幅は、隣接するチャネル干渉をフィルタリングにより除去するように設定されている、
フレキシブルグリッド光受信回路。
【請求項２】
前記クロック回復帯域幅は、所定の光信号対ノイズ比に対して受信チャネルのチャネル間隔を最適化するように設定されている、フレキシブルグリッド光受信回路。
【請求項３】
前記クロック回復回路は、隣接するチャネルからのジッタマージンを推定し、その推定されたジッタマージンを利用して、最適化されたチャネル間隔を設定するように構成されている、請求項２に記載のフレキシブルグリッド光受信回路。
【請求項４】
前記受信信号が超ナイキスト動作モードである、請求項１から３までのいずれか一項に記載のフレキシブルグリッド光受信回路。
【請求項５】
前記クロック回復回路は、前記サンプリング信号のフィードバック信号のコピーが制御信号に基づいて遅延され、または進められて隣接チャネル干渉をフィルタリングするように、前記位相ロックループ回路とクロック回復回路とを結合するように構成された位相回転子を含む、請求項１から４までのいずれか一項に記載のフレキシブルグリッド光受信回路。
【請求項６】
前記クロック回復回路は、前記受信信号に関連する基準クロックを調整するように構成されている、請求項１から４までのいずれか一項に記載のフレキシブルグリッド光受信回路。
【請求項７】
前記基準クロックは調整可能な周波数を有し、前記制御信号は、隣接チャネル干渉をフィルタリングすべく前記基準クロックの周波数を制御するために採用され、調整された前記基準信号は、前記サンプリング信号のフィードバック信号のコピーと組み合わされる、請求項６に記載のフレキシブルグリッド光受信回路。
【請求項８】
請求項１から７までのいずれか一項に記載のフレキシブルグリッド光受信回路を含む１つまたは複数のフレキシブルグリッドモデムと、
前記１つまたは複数のフレキシブルグリッドモデムに通信可能に結合され、以下のように構成された帯域幅使用コントローラとを有し、
前記帯域幅使用コントローラは、
前記１つまたは複数のフレキシブルグリッドモデム上の新規チャネルに対する所定の光信号対ノイズ比目標に対して、前記新規チャネルに必要な光信号対ノイズ比を決定し、
前記１つまたは複数のフレキシブルグリッドモデムに関連する隣接チャネルから推定されたジッタマージンを取得し、
前記推定されたジッタマージンを、前記所定の光信号対ノイズ比目標に基づいて、新規チャネルのチャネル間隔に変換するように構成されている、
フレキシブルグリッド光学システム。
【請求項９】
前記推定されたジッタマージンと、前記所定の光信号対ノイズ比目標に基づく前記新規チャネルのチャネル間隔との関係が予め定められている、請求項８に記載のフレキシブルグリッド光学システム。
【請求項１０】
前記推定されたジッタマージンは、既存のチャネル情報と前記所定の光信号対ノイズ比目標に関して、最適なクロック回復パラメータを提供するように変換される、請求項８に記載のフレキシブルグリッド光学システム。
【請求項１１】
請求項１から７までのいずれか一項に記載のフレキシブルグリッド光受信回路を含む１つまたは複数のフレキシブルグリッドモデムを用いて、
前記１つまたは複数のフレキシブルグリッドモデム上の新規チャネルに対する所定の光信号対ノイズ比目標に対して、前記新規チャネルに必要な光信号対ノイズ比を決定し、
前記１つまたは複数のフレキシブルグリッドモデムに関連する隣接チャネルから推定されたジッタマージンを取得し、
前記推定されたジッタマージンを、前記所定の光信号対ノイズ比目標に基づいて、新規チャネルのチャネル間隔に変換する、
方法。
【請求項１２】
前記推定されたジッタマージンと、前記所定の光信号対ノイズ比目標に基づく前記新規チャネルのチャネル間隔との関係が予め定められている、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記推定されたジッタマージンは、既存のチャネル情報と前記所定の光信号対ノイズ比目標に関して、最適なクロック回復パラメータを提供するように変換される、請求項１１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】令和3年10月4日(2021.10.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ユーザ機器(UE)におけるワイヤレス通信のための方法であって、
前記UEが構成される帯域幅部分に依存する半永続スケジューリング(SPS)構成をアクティブ化するために基地局からシグナリングを受信するステップであって、前記SPS構成が前記帯域幅部分に関連付けられるリソースを前記基地局と前記UEとの間の送信のために前記UEに割り当てるステップと、
アクティブ化されている前記SPS構成および無線リソース制御(RRC)シグナリングによって示されるHARQタイミング値に少なくとも一部基づいて、ダウンリンク送信のためのハイブリッド自動再送要求(HARQ)タイミングを決定するステップとを備え、前記HARQタイミング値が前記帯域幅部分の(再)構成に依存する方法。
【請求項２】
スケジューリングダウンリンク制御情報(DCI)を伴わないダウンリンク送信を受信するステップと、
前記受信されたHARQタイミングによって示されるタイミングレイテンシに従って、前記ダウンリンク送信に応答して肯定応答(ACK)/否定応答(NACK)を送信するステップとをさらに備える、請求項1に記載の方法。
【請求項３】
前記基地局から前記RRCシグナリングを介して前記HARQタイミング値の指示を受信するステップをさらに備え、
前記基地局と前記UEとの間の送信の第2のセットのための第2のSPS構成をアクティブ化するために前記基地局からシグナリングを受信するステップと、
RRCシグナリングを介して第2のHARQタイミング値の指示を受信するステップであって、前記第2のHARQタイミング値が前記第2のSPS構成と関連付けられる、ステップとを任意にさらに備える、請求項1に記載の方法。
【請求項４】
前記HARQタイミングが、前記UEの能力に少なくとも一部基づく、請求項1に記載の方法。
【請求項５】
前記UEと関連付けられる前記能力が前記UEについての能力プロファイルに少なくとも一部基づき、前記能力プロファイルが前記UEによってサポートされる前記HARQタイミングの最小値を示す、請求項4に記載の方法。
【請求項６】
前記SPS構成をアクティブ化するための前記シグナリングが、アクティブ化ダウンリンク制御情報(DCI)を備える、請求項1に記載の方法。
【請求項７】
前記アクティブ化DCIを介して前記HARQタイミングの指示を受信するステップであって、前記アクティブ化DCIが物理ダウンリンク共有チャネル(PDSCH)を含む、ステップであって、前記受信されたHARQタイミングが、前記アクティブ化DCIを伴う前記PDSCHおよびDCIを伴わないPDSCHの後続の送信に適用される、ステップをさらに備え、
第2のHARQタイミングを示す第2のアクティブ化DCIを受信するステップであって、前記第2のHARQタイミングが以前に受信された前記HARQタイミングを置き換える、ステップを任意にさらに備える、請求項6に記載の方法。
【請求項８】
前記HARQタイミングが、スロット構造に応じたものであって、
前記スロット構造が、ダウンリンク送信に応答して肯定応答(ACK)/否定応答(NACK)を送信するためのアップリンク送信機会を備え、および/または
前記スロット構造が少なくとも1つのスロットフォーマットインジケータ(SFI)によって動的に示される、
請求項1に記載の方法。
【請求項９】
ユーザ機器(UE)におけるワイヤレス通信のための装置であって、
前記UEが構成される帯域幅部分に固有の半永続スケジューリング(SPS)構成をアクティブ化するために基地局からシグナリングを受信するための手段であって、前記SPS構成がリソースを前記帯域幅部分における前記基地局と前記UEとの間の送信のために前記UEに割り当てる手段と、
アクティブ化されている前記SPS構成および無線リソース制御(RRC)シグナリングによって示されるHARQタイミング値に少なくとも一部基づいて、ダウンリンク送信のためのハイブリッド自動再送要求(HARQ)タイミングを決定するための手段とを備え、前記HARQタイミング値が前記帯域幅部分の(再)構成に依存する装置。
【請求項１０】
スケジューリングダウンリンク制御情報(DCI)を伴わないダウンリンク送信を受信するための手段と、
前記受信されたHARQタイミングによって示されるタイミングレイテンシに従って、前記ダウンリンク送信に応答して肯定応答(ACK)/否定応答(NACK)を送信するための手段とをさらに備える、請求項9に記載の装置。
【請求項１１】
前記基地局から前記無線リソース制御(RRC)シグナリングを介して前記HARQタイミング値の指示を受信するための手段をさらに備え、
前記基地局と前記UEとの間の送信の第2のセットのための第2のSPS構成をアクティブ化するために前記基地局からシグナリングを受信するための手段と、
前記RRCシグナリングを介して第2のHARQタイミング値の指示を受信するための手段であって、前記第2のHARQタイミング値が前記第2のSPS構成と関連付けられる手段と
を任意にさらに備える、請求項9に記載の装置。
【請求項１２】
前記HARQタイミングが、前記UEの能力に少なくとも一部基づく、請求項9に記載の装置。
【請求項１３】
前記UEと関連付けられる前記能力が前記UEについての能力プロファイルに少なくとも一部基づき、前記能力プロファイルが前記UEによってサポートされる前記HARQタイミングの最小値を示す、請求項12に記載の装置。
【請求項１４】
前記SPS構成をアクティブ化するための前記シグナリングが、アクティブ化ダウンリンク制御情報(DCI)を備える、請求項9に記載の装置。
【請求項１５】
前記アクティブ化DCIを介して前記HARQタイミングの指示を受信するための手段であって、前記アクティブ化DCIが物理ダウンリンク共有チャネル(PDSCH)を含む、手段をさらに備え、
前記受信されたHARQタイミングが、前記アクティブ化DCIを伴う前記PDSCHおよびDCIを伴わないPDSCHの後続の送信に適用される、
第2のHARQタイミングを含む第2のアクティブ化DCIを受信するための手段であって、前記第2のHARQタイミングが以前に受信された前記HARQタイミングを置き換える、手段を任意にさらに備える、請求項14に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】令和3年10月25日(2021.10.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ハウジングと、
前記ハウジングに回転様式で結合された軸と、
前記ハウジング内に一般的に配置されて、ステータプレートと前記ステータプレートに形成された開口内に位置されたステータベアリングとを含むステータアセンブリであって、前記ステータベアリングが、前記ステータアセンブリが前記軸の周囲で回転可能であるように前記軸に結合されている、ステータアセンブリと、
前記軸に固定されて且つ前記ハウジング内に一般的に配置されて、前記ステータアセンブリの一部をそこに受容するサイズを有する周方向に延在しているチャンネルを規定するロータハウジングを含んでいる、ロータアセンブリと、
前記ステータベアリングを介した前記軸の周囲での前記ステータアセンブリの回転を選択的に阻止及び許容するように構成されたロッキング機構と、
を備える、電磁機械。
【手続補正書】
【提出日】令和3年5月6日(2021.5.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）少なくとも１つの栄養剤を含む固体コアと、
（ｂ）架橋された少なくとも１つの発酵性バイオポリマーを含む内側コーティングと、
（ｃ）胃条件に対して耐性があり、且つ小腸において放出性である外側コーティングとからなる送達系。
【請求項２】
前記少なくとも１つの栄養剤が、有機酸、オメガ３脂肪酸、オメガ６脂肪酸、オメガ８脂肪酸、長鎖脂肪酸、ポリフェノール、プレバイオティクス、プロバイオティクス、精油、又は抗菌ペプチドからなる群から選択される、請求項１に記載の送達系。
【請求項３】
前記栄養剤がプロピオン酸（及び／又はその塩）又は酪酸（及び／又はその塩）である、請求項１又は２に記載の送達系。
【請求項４】
前記内側コーティングの材料が、アルギネート、キトサン、ペクチン、シクロデキストリン及び他のガムからなる群から選択される、請求項１〜３のいずれか一項に記載の送達系。
【請求項５】
前記内側コーティング層がＭｇ及び／又はＣａイオンで架橋されている、請求項１〜４のいずれか一項に記載の送達系。
【請求項６】
前記外側コーティングが、シェラック、メタクリレートコポリマー及び脂肪からなる群から選択される、請求項１〜５のいずれか一項に記載の送達系。
【請求項７】
バッチ式で実行される、請求項１〜６のいずれか一項に記載の送達系の製造方法。
【請求項８】
連続的に実行される、請求項１〜６のいずれか一項に記載の送達系の製造方法。
【請求項９】
請求項１〜６のいずれか一項に記載の少なくとも１つの送達系を用いた、プレミックス、栄養補助食品、食品、飼料製品、パーソナルケア製品又は医薬品の製造方法。
【請求項１０】
請求項１〜６のいずれか一項に記載の少なくとも１つの送達系を含むプレミックス、栄養補助食品、食品、飼料製品、パーソナルケア製品又は医薬品。
【手続補正書】
【提出日】令和3年10月27日(2021.10.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レディ・トゥ・ドリンク（ＲＴＤ）飲料製品であって、
乳、脱脂粉乳、クリーム、脱脂乳、若しくは半脱脂乳、又はこれらの組み合わせと、
１〜５重量／重量％の範囲の添加糖と、
１種のみの天然親水コロイドである０．０１〜０．０３重量／重量％の範囲の高アシルジェランガムと、
酸味料と、
を含み、
前記飲料が、レーザ回折で測定した５〜１０μｍの範囲の体積基準平均径Ｄ［４，３］及び剪断速度７５秒−１で４℃にて測定した３〜３０ｃＰの範囲の粘度を有するカゼインホエイタンパク質凝集体を含み、
前記ＲＴＤ飲料がコーヒー系飲料であり、前記酸味料がコーヒーである、レディ・トゥ・ドリンク（ＲＴＤ）飲料製品。
【請求項２】
前記コーヒーが、可溶性コーヒー、微紛化コーヒー粒子、コーヒー抽出物、コーヒー濃縮物、及びこれらの組み合わせである、請求項１に記載のＲＴＤ飲料製品。
【請求項３】
前記コーヒーが、０．５〜１．５重量／重量％の範囲の濃度でアラビカコーヒー若しくはロブスタコーヒー又はこれらの組み合わせを含む、請求項１又は２に記載のＲＴＤ飲料製品。
【請求項４】
重炭酸ナトリウム、重炭酸カリウム、又はこれらの組み合わせを更に含む、請求項１〜３のいずれか一項に記載のＲＴＤ飲料製品。
【請求項５】
粘度が３〜１５ｃＰの範囲である、請求項１〜４のいずれか一項に記載のＲＴＤ飲料製品。
【請求項６】
糖が最大５重量／重量％のスクロースである、請求項１〜５のいずれか一項に記載のＲＴＤ飲料製品。
【請求項７】
請求項１に記載のＲＴＤ飲料製品の製造方法であって、
請求項１に定義される成分を混合する工程と、
前記酸味料を添加する工程と、
１３５〜３００バールの範囲の全圧及び６５〜８０℃の範囲の温度で、得られた混合物を均質化する工程と、
前記均質化する工程の後に１３６〜１５０℃で３〜３０秒間ＵＨＴ条件にて滅菌する工程と、
得られた飲料ベース製品を２５℃以下まで冷却する工程と、
無菌容器内にＵＨＴ飲料を無菌で充填する工程と、
を含む、方法。
【請求項８】
前記均質化が、液体混合物が１００〜２５０バールの範囲の圧力に曝露される第１の工程、続いて３５〜５０バールの範囲の圧力に曝露される第２の工程を含む、２つの工程中のものである、請求項７に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】令和3年6月30日(2021.6.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｔ細胞−抗原カプラ（ＴＡＣ）をコードする核酸配列であって、前記核酸配列は、
（ａ）標的抗原に選択的に結合するリガンドをコードする第１のポリヌクレオチド配列と、
（ｂ）ＳＥＱ  ＩＤ  ＮＯ：２８のアミノ酸配列およびＳＥＱ  ＩＤ  ＮＯ：２８の１７７位におけるＹからＴへの置換（Ｙ１７７Ｔ）を含むＵＣＨＴ１のヒト化変異体（ｈｕＵＣＨＴ１）をコードする第２のポリヌクレオチド配列と、
（ｃ）ＣＤ４サイトゾルドメインおよびＣＤ４膜貫通ドメインを含むＴ細胞共受容体ドメインポリペプチドをコードする第３のポリヌクレオチド配列と、を含む、
核酸配列。
【請求項２】
前記リガンドはアンキリンリピート（ＤＡＲＰｉｎ）ポリペプチドまたは単鎖可変フラグメント（ｓｃＦｖ）である、請求項１に記載の核酸配列。
【請求項３】
前記標的抗原はヒト上皮成長因子受容体２（ＨＥＲ２）である、請求項１に記載の核酸配列。
【請求項４】
前記標的抗原はＢ細胞成熟抗原（ＢＣＭＡ）である、請求項１に記載の核酸配列。
【請求項５】
請求項１の核酸配列によってコードされるＴ細胞−抗原カプラ（ＴＡＣ）ポリペプチド。
【請求項６】
（ａ）請求項１の核酸配列と、（ｂ）哺乳動物細胞において機能的なプロモーターとを含む、ベクター。
【請求項７】
請求項１の核酸配列を含む操作されたＴ細胞。
【請求項８】
（ａ）請求項７の操作されたＴ細胞と、（ｂ）薬学的に許容可能な担体とを含む、医薬組成物。
【請求項９】
癌を処置するための、請求項７の操作されたＴ細胞を含む医薬組成物であって、ここで、リガンドは癌によって発現される標的抗原に結合し、それにより、癌を処置する、医薬組成物。
【請求項１０】
ＨＥＲ２陽性癌を処置するための、請求項７の操作されたＴ細胞を含む医薬組成物であって、ここで、リガンドはＨＥＲ２に結合する、医薬組成物。
【請求項１１】
ＢＣＭＡ陽性癌を処置するための、請求項７の操作されたＴ細胞を含む医薬組成物であって、ここで、リガンドはＢＣＭＡに結合する、医薬組成物。
【手続補正書】
【提出日】令和3年10月4日(2021.10.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ヒトＰＤＬ１との結合特異性を有する単離された抗体であって、
それぞれ、配列番号１、２及び３のＨＣＤＲ１、ＨＣＤＲ２及びＨＣＤＲ３配列と、
それぞれ、配列番号１７、１８及び１９のＬＣＤＲ１、ＬＣＤＲ２及びＬＣＤＲ３配列とを含む抗体であって、
前記抗体が、
配列番号１４、１５及び１６からなる群から選択されるアミノ酸配列と、９５％以上同一であるアミノ酸配列を含む重鎖可変領域と、
配列番号２６及び２７からなる群から選択されるアミノ酸配列と、９５％以上同一であるアミノ酸配列を含む軽鎖可変領域とを含み、
前記抗体が、
（ｉ）表面プラズモン共鳴（ＳＰＲ）により測定したとき、ヒトＰＤＬ１に対して、１０ｐＭ未満の解離定数（ＫＤ）で結合する、
（ｉｉ）カニクイザル（Ｃｙｎｏｍｏｌｇｕｓ）ＰＤＬ１との交差反応性を有し、ＳＰＲにより測定したとき、カニクイザルＰＤＬ１に対して、５０ｐＭ未満のＫＤで結合する、
（ｉｉｉ）ＳＰＲにより測定したとき、ヒトＰＤＬ２と結合しない、
（ｉｖ）ＥＬＩＳＡ法で測定したとき、アベルマブ（ａｖｅｌｕｍａｂ）と比較し、３超の力価（相対的な力価）で、ＰＤＬ１／ＰＤ−１相互作用を中和する能力を有し、
前記相対的な力価が、ＥＬＩＳＡ法で測定されるアベルマブのｎｇ／ｍＬのＩＣ５０値と、ＥＬＩＳＡ法で測定される前記抗体のｎｇ／ｍＬのＩＣ５０値との比であり、前記抗体がｓｃＦｖである、
（ｖ）ＮＦＡＴレポーター遺伝子アッセイで測定したとき、アベルマブと比較し、４超の力価（相対的な力価）で、ＰＤＬ１／ＰＤ−１相互作用を中和する能力を有し、
前記相対的な力価が、ＮＦＡＴレポーター遺伝子アッセイにおいて測定されるアベルマブのｎｇ／ｍＬのＩＣ５０値と、ＮＦＡＴレポーター遺伝子アッセイにおいて測定される前記抗体のｎｇ／ｍＬのＩＣ５０値との比であり、前記抗体がｓｃＦｖである、及び／又は
（ｖｉ）ＥＬＩＳＡ法で測定したとき、アベルマブと比較し、４超の力価（相対的な力価）で、ＰＤＬ１／Ｂ７−１相互作用を中和する能力を有し、
前記相対的な力価が、ＥＬＩＳＡ法で測定されるアベルマブのｎｇ／ｍＬのＩＣ５０値と、ＥＬＩＳＡ法で測定される前記抗体のｎｇ／ｍＬのＩＣ５０値との比であり、
前記抗体がｓｃＦｖである、抗体。
【請求項２】
前記抗体が、
配列番号１４、及び１６からなる群から選択されるアミノ酸配列と、９５％以上同一であるアミノ酸配列を含む重鎖可変領域、及び／又は
配列番号２７のアミノ酸配列と、９５％以上同一であるアミノ酸配列を含む軽鎖可変領域とを含む、請求項１に記載の抗体
【請求項３】
（ａ）配列番号１４のＶＨ配列及び配列番号２６のＶＬ配列、又は、
（ｂ）配列番号１５のＶＨ配列及び配列番号２６のＶＬ配列、又は、
（ｃ）配列番号１６のＶＨ配列及び配列番号２７のＶＬ配列、
を含む、請求項１に記載の抗体。
【請求項４】
前記抗体が、
（ｉ）ｓｃＦｖフォーマットであるとき、前記抗体がｐＨ６．４、１５０ｍＭのＮａＣｌの５０ｍＭのリン酸−クエン酸バッファにおいて調製されるとき、示差走査蛍光測定により測定したとき、６０℃以上の融解温度（Ｔｍ）を有する、
（ｉｉ）ｓｃＦｖフォーマットであるとき、本発明の抗体を１０ｍｇ／ｍｌの開始濃度で、５回の連続する凍結融解サイクルに供した後、本発明の抗体がｐＨ６．４、１５０ｍＭのＮａＣｌの５０ｍＭのリン酸クエン酸バッファにおいて調製されるとき、３％未満のモノマー含量の損失を示す、及び／又は、
（ｉｉｉ）ｓｃＦｖフォーマットであるとき、本発明の抗体を１０ｍｇ／ｍｌの開始濃度で、４℃で２週間以上の貯蔵後、前記抗体がｐＨ６．４、１５０ｍＭのＮａＣｌの５０ｍＭのリン酸クエン酸バッファにおいて調製されるとき、５％未満のモノマー含量の損失を示す、請求項１〜３のいずれか一項に記載の抗体。
【請求項５】
ｓｃＦｖであり、前記ｓｃＦｖが、配列番号２９、配列番号３０、配列番号３１からなる群から選択されるアミノ酸配列を有する、請求項１〜４のいずれか一項に記載の抗体。
【請求項６】
前記ｓｃＦＶが、配列番号３１のアミノ酸配列を有する、請求項５に記載の抗体。
【請求項７】
前記抗体が、多重特異性分子であり、該多重特異性分子が１つ以上の第２機能性分子を有する、請求項１から４のいずれか一項に記載の抗体。
【請求項８】
請求項１から７のいずれか一項に記載の単離された抗体と、薬学的に許容される担体と、を含む医薬組成物。
【請求項９】
薬剤として使用するための、請求項１から７のいずれか一項に記載の抗体、又は請求項８に記載の組成物。
【請求項１０】
癌の治療に使用するための、請求項１から７のいずれか一項に記載の抗体、又は請求項８に記載の医薬組成物。
【請求項１１】
請求項１から７のいずれか一項に記載の抗体をコードする核酸。
【請求項１２】
請求項１から７のいずれか一項に記載の抗体の産生方法であって、請求項１１の核酸を含む宿主細胞を培養する工程を含む、前記方法。
【手続補正書】
【提出日】令和3年8月26日(2021.8.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ヒトＡｐｏＣ３に特異的に結合する単離された抗体であって、前記抗体が、相補性決定領域ＣＤＲＨ１、ＣＤＲＨ２、およびＣＤＲＨ３を含む重鎖可変領域と、相補性決定領域ＣＤＲＬ１、ＣＤＲＬ２、およびＣＤＲＬ３を含む軽鎖可変領域と、を含み、
（ａ）ＣＤＲＨ１が、配列番号３のアミノ酸配列を含み、
（ｂ）ＣＤＲＨ２が、配列番号３６のアミノ酸配列を含み、
（ｃ）ＣＤＲＨ３が、配列番号１０のアミノ酸配列を含み、
（ｄ）ＣＤＲＬ１が、配列番号６のアミノ酸配列を含み、
（ｅ）ＣＤＲＬ２が、配列番号７のアミノ酸配列を含み、かつ
（ｆ）ＣＤＲＬ３が、配列番号１４のアミノ酸配列を含む、
単離された抗体。
【請求項２】
前記重鎖可変領域が、配列番号４２のアミノ酸配列を含む、請求項１に記載の単離された抗体。
【請求項３】
前記軽鎖可変領域が、配列番号５４のアミノ酸配列を含む、請求項１に記載の単離された抗体。
【請求項４】
前記重鎖可変領域が、配列番号４２のアミノ酸配列を含み、前記軽鎖可変領域が、配列番号５４のアミノ酸配列を含む、請求項１に記載の単離された抗体。
【請求項５】
配列番号６８のアミノ酸配列を含む重鎖を含む、請求項１に記載の単離された抗体。
【請求項６】
配列番号６８のアミノ酸配列を含む重鎖を含む、請求項３に記載の単離された抗体。
【請求項７】
配列番号７４のアミノ酸配列を含む軽鎖を含む、請求項１に記載の単離された抗体。
【請求項８】
配列番号７４のアミノ酸配列を含む軽鎖を含む、請求項２に記載の単離された抗体。
【請求項９】
配列番号４２のアミノ酸配列を含む重鎖可変領域。
【請求項１０】
配列番号６８のアミノ酸配列を含む重鎖。
【請求項１１】
配列番号５４のアミノ酸配列を含む軽鎖可変領域。
【請求項１２】
配列番号７４のアミノ酸配列を含む軽鎖。
【請求項１３】
ヒトＡｐｏＣ３に特異的に結合する単離された抗体であって、配列番号６８のアミノ酸配列を含む重鎖と、配列番号７４のアミノ酸配列を含む軽鎖とを含む、単離された抗体。
【請求項１４】
重鎖のアミノ酸配列が、配列番号６８のアミノ酸配列からなり、軽鎖のアミノ酸配列が、配列番号７４のアミノ酸配列からなる、請求項１３に記載の単離された抗体。
【請求項１５】
重鎖定常領域を含む、請求項１に記載の単離された抗体。
【請求項１６】
前記重鎖定常領域が、ヒトＩｇＧ１、ＩｇＧ２、またはＩｇＧ４の重鎖定常領域である、請求項１５に記載の単離された抗体。
【請求項１７】
前記重鎖定常領域が、それぞれ、ＥＵ位置４３３、４３４、および４３６でアミノ酸Ｋ、Ｆ、およびＹを含む、請求項１５に記載の単離された抗体。
【請求項１８】
前記重鎖定常領域が、それぞれ、ＥＵ位置２５２、２５４、および２５６でアミノ酸Ｙ、Ｔ、およびＥを含む、請求項１５に記載の単離された抗体。
【請求項１９】
前記重鎖定常領域が、それぞれ、ＥＵ位置４２８および４３４でアミノ酸ＬおよびＳを含む、請求項１５に記載の単離された抗体。
【請求項２０】
前記重鎖定常領域が、配列番号２１、２２、２３、２４、７５、７６、７７、７８、７９、８０、８１、８２、８３、８４、８５及び８６からなる群から選択されるアミノ酸配列を含む、請求項１５に記載の単離された抗体。
【請求項２１】
軽鎖定常領域を含む、請求項１に記載の単離された抗体。
【請求項２２】
前記軽鎖定常領域が、配列番号２５または２６のアミノ酸配列を含む、請求項２１に記載の単離された抗体。
【請求項２３】
請求項１に記載の抗体と、薬学的に許容される担体と、を含む、医薬組成物。
【請求項２４】
請求項４に記載の抗体と、薬学的に許容される担体と、を含む、医薬組成物。
【請求項２５】
請求項９に記載の重鎖可変領域と、薬学的に許容される担体と、を含む、医薬組成物。
【請求項２６】
請求項１０に記載の重鎖と、薬学的に許容される担体と、を含む、医薬組成物。
【請求項２７】
請求項１１に記載の軽鎖可変領域と、薬学的に許容される担体と、を含む、医薬組成物。
【請求項２８】
請求項１２に記載の軽鎖と、薬学的に許容される担体と、を含む、医薬組成物。
【請求項２９】
請求項１３に記載の抗体と、薬学的に許容される担体と、を含む、医薬組成物。
【請求項３０】
請求項１４に記載の抗体と、薬学的に許容される担体と、を含む、医薬組成物。
【手続補正書】
【提出日】令和3年10月28日(2021.10.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＲＦコネクタと
可変誘電率（ＶＤＣ）層と、
前記ＶＤＣ層上に設けられた複数の放射パッチと、
前記複数の放射パッチの対応する１つにそれぞれが接続された複数の遅延線と、
前記遅延線の１つの下にそれぞれが位置合わせされて終端し、それぞれが前記ＲＦコネクタに結合された複数の信号線と、
それぞれが前記信号線の１つと対応する複数の制御線と、
接地面と、
を備えるアンテナであって、
前記接地面が、複数の窓を備え、当該それぞれの窓は、前記遅延線の１つと、前記信号線の対応する１つとの間において見通せる直線上に位置合わせされ、
前記ＶＤＣ層が、相互の上部に積み重ねられた複数のＶＤＣサブ層を備え、
それぞれの信号線が、ＲＦエネルギーを、前記接地面の窓を介して前記遅延線の１つに結合するアンテナ。
【請求項２】
前記複数のＶＤＣサブ層のそれぞれが、底部膜と、上部膜と、前記底部膜と前記上部膜との間に分散された液晶（ＬＣ）とを含む請求項１に記載のアンテナ。
【請求項３】
前記底部膜に設けられた底部ＬＣ配向層と、前記上部膜に設けられた上部ＬＣ配向層とをさらに含む請求項２に記載のアンテナ。
【請求項４】
前記底部膜と前記上部膜との間に設けられた複数のスペーサをさらに含む請求項３に記載のアンテナ。
【請求項５】
前記信号線が、前記ＶＤＣ層の上方に設けられ、前記接地面が、前記ＶＤＣ層の下に設けられた請求項１に記載のアンテナ。
【請求項６】
前記遅延線のそれぞれが、前記複数の制御線の対応する１つに接続された請求項１に記載のアンテナ。
【請求項７】
前記複数のＶＤＣサブ層は、
底部膜と、
上部膜と、
前記底部膜と前記上部膜との間に設けられた少なくとも１つの区分膜と、
前記底部膜と、前記上部膜と、少なくとも１つの区分膜との間に分散された液晶と、
を含む請求項１に記載のアンテナ。
【請求項８】
前記底部膜に設けられた底部配向層と、
前記上部膜に設けられた上部配向層と、
前記少なくとも１つの区分膜のそれぞれの両面に設けられた中間配向層と、
をさらに含む請求項７に記載のアンテナ。
【請求項９】
さらに、複数の直交する信号線であって、それぞれが前記遅延線の１つの下に前記複数の信号線の１つと直交方向に位置合わせされて終端する、複数の直交する信号線を備える請求項１に記載のアンテナ。
【請求項１０】
第２の接地面をさらに備える請求項９に記載のアンテナ。
【請求項１１】
前記第２の接地面は、複数の窓であって、それぞれが前記遅延線の１つと、前記直交する信号線の対応する１つとの間において見通せる直線上に位置合わせされた複数の窓を備える請求項１０に記載のアンテナ。
【請求項１２】
前記直交する信号線の１つとそれぞれが対応する複数の第２の制御線をさらに備える請求項９に記載のアンテナ。
【請求項１３】
前記複数の信号線と前記複数の直交する信号線との間に配置された第２のＶＤＣ層をさらに備える請求項９に記載のアンテナ。
【請求項１４】
前記複数の制御線が、前記複数の液晶サブ層の間に分布され、制御信号を前記液晶サブ層のそれぞれに印加するように構成された請求項１に記載のアンテナ。
【請求項１５】
誘電体プレートと、
前記誘電体プレートに設けられた複数の放射パッチと、
前記複数の放射パッチの対応する１つにそれぞれが接続され、前記複数の放射パッチの１つにＲＦエネルギーを結合する複数の遅延線と、
複数の窓を有する接地面であって、前記遅延線のそれぞれが前記複数の窓の１つと位置合わせされた接地面と、
少なくとも１つの信号線であって、それぞれの信号線が、ＲＦ信号を１つの遅延線に前記窓の１つを通じて容量結合させるように構成された少なくとも１つの信号線と、
前記複数の遅延線と前記接地面との間に設けられた可変誘電率（ＶＤＣ）層であって、上部誘電体膜と、底部誘電体膜と、前記上部誘電体膜と前記底部誘電体膜との間に設けられた少なくとも１つの中間誘電体膜と、前記上部誘電体膜と前記底部誘電体膜と少なくとも１つの中間誘電体膜との間に設けられたＶＤＣ材料と、を含む可変誘電率（ＶＤＣ）層と、
を備えるアンテナ。
【請求項１６】
前記底部誘電体膜に設けられた底部配向層と、
前記上部誘電体膜に設けられた上部配向層と、
前記少なくとも１つの中間誘電体膜のそれぞれの両面に設けられた中間配向層と、
をさらに含む請求項１５に記載のアンテナ。
【請求項１７】
前記信号線の１つにそれぞれが対応する複数の制御線をさらに含む請求項１６に記載のアンテナ。
【請求項１８】
前記少なくとも１つの信号線の下に配置された複数の第２の信号線と、第２の接地面と、をさらに含む請求項１６に記載のアンテナ。
【請求項１９】
前記底部誘電体膜に設けられた底部ＶＤＣ電極と、
前記上部誘電体膜に設けられた上部ＶＤＣ電極と、
複数の制御線であって、少なくとも１つの制御線が前記上部ＶＤＣ電極に電位を印加し、少なくとも１つの制御線が前記底部ＶＤＣ電極に電位を印加し、少なくとも１つの制御線が前記中間誘電体膜に電位を印加しする複数の制御線と、
をさらに含む請求項１５に記載のアンテナ。