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【手続補正書】
【提出日】令和3年4月22日(2021.4.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ａ）５ｗｔ％〜９０ｗｔ％の１つまたは複数のアクリルポリマーもしくはコポリマーエマルジョンと、
ｂ）２ｗｔ％〜２５ｗｔ％の１つまたは複数の溶融ワックスと、
ｃ）５ｗｔ％〜８５ｗｔ％の水と
を含み、堆肥化可能である、ヒートシール性水系コーティング組成物。
【請求項２】
前記溶融ワックスは４０℃〜１００℃の融点を有する、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
前記１つまたは複数の溶融ワックスは、パラフィンワックス、アクリルグラフトパラフィンワックス、結晶性ワックス、ポリエチレンワックス、高密度ポリエチレンワックス、ポリエチレン／ポリテトラフルオロエチレンワックス、カルナバワックス、およびそれらの組み合わせからなる群から選択される、ならびに／または、前記１つまたは複数のアクリルポリマーもしくはコポリマーエマルジョンは、純アクリルポリマー、エチレンアクリル酸コポリマー、ビニルアクリル酸コポリマー、スチレン−アクリルコポリマー、およびそれらの組み合わせからなる群から選択される、請求項１に記載の組成物。
【請求項４】
接着促進剤、光安定剤、脱気添加剤、流動促進剤、消泡剤、酸化防止剤、安定剤、湿潤剤、界面活性剤、クレー、フィラー、分散剤、可塑剤、レオロジー添加剤、他のワックス、シリコーン、着色剤、およびそれらの組み合わせからなる群から選択される１つまたは複数の添加剤をさらに含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項５】
前記コーティング組成物はバリアコーティング組成物であり、液体および蒸気の浸透に耐性がある、請求項１に記載の組成物。
【請求項６】
前記組成物はリサイクル可能であり、生分解性であり、堆肥化可能である、請求項１に記載の組成物。
【請求項７】
請求項１に記載のコーティング組成物を含む基材。
【請求項８】
セルロース系である、請求項７に記載の基材。
【請求項９】
請求項７に記載の基材を含む物品。
【請求項１０】
ａ）第１の表面および第２の表面を有する基材を提供することと、
ｂ）請求項１に記載のヒートシール性コーティング組成物を提供することと、
ｃ）前記ヒートシール性コーティング組成物を、前記基材の前記第１の表面、または前記第２の表面、または前記第１の表面および前記第２の表面の両方に塗布することと、
ｄ）前記コーティングを、前記コーティング中の前記ワックスを溶かすのに十分な温度で加熱することであって、前記溶けたワックスは紙繊維に浸透する、加熱することと、
ｅ）圧力を印加することによって前記基材を封止することと
を含み、前記ヒートシール性バリアコーティングは堆肥化可能である、基材をコーティングする方法。
【請求項１１】
前記基材はセルロース系基材である、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記ヒートシール性水系バリアコーティングの複数の層が前記基材に塗布される、請求項１０に記載の方法。
【請求項１３】
前記コーティングは、グラビア印刷、フレキソコーティング、カーテンコーティング、フラッドコーティング、またはマイヤーバー塗布によって塗布される、請求項１０に記載の方法。
【請求項１４】
前記コーティングは２ｇ／ｍ２〜１５ｇ／ｍ２の乾燥コーティング重量で塗布される、請求項１０に記載の方法。
【請求項１５】
前記コーティング組成物は前記基材の前記第１の表面にフラッドコーティングとして塗布され、その後、前記コーティングは、前記第２の表面の封止端部をコーティングしないでおき、前記封止部中へのワックスの浸透を可能にするように位置合わせした前記第２の表面に塗布される、請求項１０に記載の方法。
【請求項１６】
ワックス非含有の前記基材にコーティングを塗布することをさらに含む、請求項１０に記載の方法。
【請求項１７】
請求項１０に記載の方法によって調製されるヒートシール基材。
【請求項１８】
前記基材は水、脂および油に耐性がある、請求項１７に記載の基材。
【請求項１９】
前記基材は堆肥化可能であり、および／または前記基材は再パルプ化可能である、請求項１７に記載の基材。
【請求項２０】
前記基材は堆肥化可能であり、および／または前記基材は再パルプ化可能である、請求項７に記載の基材。
【手続補正書】
【提出日】令和3年2月19日(2021.2.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
２−ブロモ−テトラフルオロプロパン−３−オールを、アルカリまたはアルカリ土類金属の水酸化物溶液と反応させることを含む、テトラフルオロ−１，２−エポキシプロパンを調製するための方法であって、前記２−ブロモ−１，１，１，２−テトラフルオロプロパン−３−オールまたは２−ブロモ−１，１，１，３−テトラフルオロプロパン−３−オールが、３−アセトキシ−２−ブロモ−１，１，１，２−テトラフルオロプロペンまたは３−アセトキシ−２−ブロモ−１，１，１，２−テトラフルオロプロペンを、水溶液中で硫酸と反応させることを含むプロセスにおいて調製される、方法。
【請求項２】
前記３−アセトキシ−２−ブロモ−１，１，１，２−テトラフルオロプロペンまたは３−アセトキシ−２−ブロモ−１，１，１，３−テトラフルオロプロパンが、１２３４ｙｆまたは１２３４ｚｅを、酢酸および硫酸の溶液中でＮ−ブロモスクシンイミドと反応させることを含むプロセスにおいて調製される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
３−アセトキシ−２−ブロモ−テトラフルオロプロパンを、アルカリまたはアルカリ土類金属の水酸化物溶液、例えば、水酸化ナトリウムまたは水酸化カリウムと反応させることを含む、テトラフルオロ−１，２−エポキシプロパンを調製するための方法。
【請求項４】
３−アセトキシ−２−ブロモ−１，１，１，２−テトラフルオロプロペンまたは３−アセトキシ−２−ブロモ−１，１，１，２−テトラフルオロプロペンが、２，３，３，３−テトラフルオロ−１，２−エポキシプロパンまたは１，３，３，３−テトラフルオロ−１，２−エポキシプロパンを形成するように、水酸化ナトリウムまたは水酸化カリウムと反応される、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
式［ＯＣＲＲ１ＣＲ２Ｒ３］ｎの部分フッ素化ポリエーテルであって、式中、Ｒが、Ｈであり、Ｒ１が、ＣＦ３であり、Ｒ２が、Ｈであり、Ｒ３が、Ｆである、またはＲが、Ｆであり、Ｒ１が、ＣＦ３であり、Ｒ２が、Ｈであり、Ｒ３が、Ｈである、部分フッ素化ポリエーテル。
【請求項６】
２，３，３，３−テトラフルオロ−１，２−エポキシプロパンまたは１，３，３，３−テトラフルオロ−１，２−エポキシプロパンを重合することを含む、請求項５に記載の部分フッ素化ポリエーテルを調製するための方法。
【請求項７】
前記２，３，３，３−テトラフルオロ−１，２−エポキシプロパンまたは１，３，３，３−テトラフルオロ−１，２−エポキシプロパンが、請求項１〜５のいずれか一項に従って調製される、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
２，３，３，３−テトラフルオロ−１，２−エポキシプロパンまたは１，３，３，３−テトラフルオロ−１，２−エポキシプロパンを形成する反応と、前記部分フッ素化ポリエーテルを形成する反応とが、同じ反応容器中で起こる、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記重合反応が、カチオン開始剤、アニオン開始剤、または有機金属ベースの開始剤を使用して開始される、請求項６〜８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
前記開始剤が、
（ｉ）アルカリ金属ｔｅｒｔ−ブトキシド、水酸化ナトリウムもしくは水酸化カリウム、硫酸、金属塩化物、またはフッ化セシウムなどの金属フッ化物、または
（ｉｉ）有機亜鉛化合物または有機アルミニウム化合物
のいずれかである、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記開始剤が、Ｚｎ（Ｃ２Ｈ５）２、（Ｃ２Ｈ５ＺｎＯＣＨ３）４、［Ｚｎ（ＯＣＨ３）２（Ｃ２Ｈ５ＺｎＯＣＨ３）６］、（Ｚｎ（ＯＣＨ３）２）ｎ、［Ｃ２Ｈ５ＺｎＭＰ］２［ＺｎＭＰ２］２（式中、ＭＰはＣＨ３ＯＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）Ｏ−である）、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、およびトリイソブチルアルミニウムからなる群から選択される、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
潤滑剤としての請求項５に記載の部分フッ素化ポリエーテルの使用。
【請求項１３】
請求項５に記載の部分フッ素化ポリエーテルを含む、潤滑剤組成物。
【請求項１４】
前記部分フッ素化ポリエーテルが、請求項６〜１１のいずれか一項に記載の方法によって得られる、請求項１２に記載の使用または請求項１３に記載の潤滑剤組成物。
【請求項１５】
熱伝達組成物における請求項５に記載の部分フッ素化ポリエーテルの使用。
【請求項１６】
請求項５に記載の部分フッ素化ポリエーテルを含む、熱伝達組成物。
【請求項１７】
前記部分フッ素化ポリエーテルが、請求項６〜１１のいずれか一項に記載の方法によって得られる、請求項１５に記載の使用または請求項９に記載の熱伝達組成物。
【手続補正書】
【提出日】令和3年4月23日(2021.4.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ｉ）ノルエピネフリン再取り込み阻害剤（ＮＲＩ）、（ｉｉ）ムスカリン性受容体アンタゴニスト、及び（ｉｉｉ）薬剤として許容される担体を含む、医薬組成物。
【請求項２】
前記ＮＲＩがノルエピネフリン選択的再取り込み阻害剤（ＮＳＲＩ）である、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
前記ＮＳＲＩが、アメダリン、アトモキセチン、ＣＰ−３９，３３２、ダレダリン、エディボキセチン、エスレボキセチン、ロルタラミン、ニソキセチン、レボキセチン、タロプラム、タルスプラム、タンダミン、及びビロキサジンからなる群から選択される、請求項２に記載の組成物。
【請求項４】
前記ＮＲＩが、アミトリプチリン、アモキサピン、ブプロピオン、シクラジンドール、デシプラミン、デスベンラファキシン、デキストロメチルフェニデート、ジエチルプロピオン、ドキセピン、デュロキセチン、イミプラミン、レボミルナシプラン、マニファキシン、マプロチリン、メチルフェニデート、ミルナシプラン、ネファゾドン、ノルトリプチリン、フェンジメトラジン、フェンメトラジン、プロトリプチリン、ラダファキシン、タペンタドール（Ｎｕｃｙｎｔａ）、テニロキサジン（Ｌｕｃｅｌａｎ、Ｍｅｔａｔｏｎｅ）及びベンラファキシンからなる群から選択される、ノルエピネフリン非選択的再取り込み阻害剤（ＮＮＲＩ）である、請求項１に記載の組成物。
【請求項５】
前記ＮＲＩが、アトモキセチン及びレボキセチンからなる群から選択される、請求項１に記載の組成物。
【請求項６】
前記ＮＲＩがアトモキセチンである、請求項５に記載の組成物。
【請求項７】
アトモキセチンの投薬量が２０〜１００ｍｇである、請求項６に記載の組成物。
【請求項８】
アトモキセチンの投薬量が２５〜７５ｍｇである、請求項７に記載の組成物。
【請求項９】
前記ムスカリン性受容体アンタゴニストが、アトロピン、プロパンテリン、ベタネコール、ソリフェナシン、ダリフェナシン、トルテロジン、フェソテロジン、トロスピウム、及びオキシブチニンからなる群から選択される、請求項１に記載の組成物。
【請求項１０】
前記医薬組成物の前記ムスカリン性受容体アンタゴニスト成分が、アニソトロピン、ベンズトロピン、ビペリデン、クリジニウム、シクリミン、ジシクロミン、ジフェマニル、ジフェニドール、エトプロパジン、グリコピロレート、ヘキソサイクリウム、イソプロパミド、メペンゾレート、メチキセン、メトスコポラミン、オキシフェンシクリミン、オキシフェノニウム、プロシクリジン、スコポラミン、トリジヘキセチル及びトリヘキシフェニジルからなる群から選択される、請求項１に記載の組成物。
【請求項１１】
前記ムスカリン性受容体アンタゴニストが、即時放出剤形をとる、請求項１に記載の組成物。
【請求項１２】
前記ムスカリン性受容体アンタゴニストが、徐放性剤形をとる、請求項１に記載の組成物。
【請求項１３】
前記ムスカリン性受容体アンタゴニストがオキシブチニンである、請求項１〜１２のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項１４】
オキシブチニンの投薬量が２〜１５ｍｇである、請求項１３に記載の組成物。
【請求項１５】
前記オキシブチニンが、用量２．５〜１０ｍｇを有する即時放出剤形をとる、請求項１３に記載の組成物。
【請求項１６】
前記オキシブチニンが、用量５〜１５ｍｇを有する徐放性剤形をとる、請求項１３に記載の組成物。
【請求項１７】
前記ＮＲＩ及び前記ムスカリン性受容体アンタゴニストが、単一組成物の形で製剤化される、請求項１に記載の組成物。
【請求項１８】
前記単一組成物が経口投与形態である、請求項１７に記載の組成物。
【請求項１９】
前記経口投与形態が、丸剤、錠剤、トローチ剤、又はカプセル剤である、請求項１８に記載の組成物。
【請求項２０】
不完全な意識状態であると同時に、咽頭気道虚脱を伴う症状を有する対象の治療で使用される、請求項１〜１９のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項２１】
前記疾患又は障害が、睡眠時無呼吸である、請求項２０に記載の使用される組成物。
【請求項２２】
前記疾患又は障害が、閉塞性睡眠時無呼吸である、請求項２１に記載の使用される組成物。
【請求項２３】
前記疾患又は障害が、いびきである、請求項２０に記載の使用される組成物。
【請求項２４】
前記疾患又は障害が、単純性いびきである、請求項２３に記載の使用される組成物。
【請求項２５】
前記不完全な意識状態が睡眠である、請求項２０に記載の使用される組成物。
【請求項２６】
（ｉ）アトモキセチン、（ｉｉ）オキシブチニン、及び（ｉｉｉ）薬剤として許容される担体を含む、睡眠時無呼吸の治療に用いられる医薬組成物。
【請求項２７】
（ｉ）アトモキセチン、（ｉｉ）オキシブチニン、及び（ｉｉｉ）薬剤として許容される担体を含む、いびきを治療に用いられる医薬組成物。
【請求項２８】
不完全な意識状態であると同時に、咽頭気道虚脱を伴う症状を有する対象の治療で使用される、ノルエピネフリン再取り込み阻害剤（ＮＲＩ）及びムスカリン性受容体アンタゴニスト。
【請求項２９】
咽頭気道虚脱を伴う症状が、睡眠時無呼吸である、請求項２８に記載のＮＲＩ及びムスカリン性受容体アンタゴニスト。
【請求項３０】
咽頭気道虚脱を伴う症状が、いびきである、請求項２８に記載のＮＲＩ及びムスカリン性受容体アンタゴニスト。
【請求項３１】
ノルエピネフリン再取り込み阻害剤（ＮＲＩ）及びムスカリン性受容体アンタゴニスを備えるキット。
【請求項３２】
不完全な意識状態であると同時に、咽頭気道虚脱を伴う症状を有する対象の治療で使用される、請求項３１に記載のキット。
【手続補正書】
【提出日】令和2年11月19日(2020.11.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
パイプ漏れを予測するための、コンピュータによって実施される方法であって、
第１のデータ項目および第１の複数のパイプのそれぞれのパイプに関連付けられる既知の漏れを含む訓練用データセットにアクセスすることを備え、前記第１のデータ項目は前記それぞれのパイプの特性を含み、前記方法はさらに、
教師付き機械学習技術を適用して、パイプの漏れ予測を判断するように構成される予測モデルを、前記第１の複数のパイプのそれぞれのパイプに関連付けられる前記第１のデータ項目に基づいて訓練することにより生成し、
第２のデータ項目および第２の複数のパイプのそれぞれのパイプに関連付けられる既知の漏れを含む検証データセットにアクセスすることを備え、前記第２のデータ項目は前記それぞれのパイプの特性を含み、前記方法はさらに、
前記予測モデルを検証することを備え、前記予測モデルを検証することは、少なくとも、
前記予測モデルを前記第２のデータ項目に適用することにより、前記第２の複数のパイプのそれぞれのパイプの漏れ予測のセットを判断することと、
前記第２の複数のパイプのそれぞれのパイプの漏れ予測を前記第２の複数のパイプのそれぞれのパイプの既知の漏れと比較して、前記第２の複数のパイプのそれぞれのパイプの漏れ予測の正答率を判断することと、
前記第２の複数のパイプのそれぞれのパイプの漏れ予測の正答率に基づいて混同行列を生成することと、
前記混同行列に基づいて、前記第２の複数のパイプのそれぞれのパイプの漏れ予測の正答率に関連付けられる真陽性率、偽陽性率、真陰性率、および偽陰性率を判断することと、
前記真陽性率が第１のしきい値を超えていると判断することと、
前記真陰性率が第２のしきい値を超えていると判断することとによって行われ、前記方法はさらに、
第３の複数のパイプに関連付けられる第３のデータ項目を含むパイプラインデータセットにアクセスすることと、
前記予測モデルを前記パイプラインデータセットに適用して、前記第３の複数のパイプのそれぞれのパイプの漏れ予測を判断することとを備える、方法。
【請求項２】
前記予測モデルは、ランダムフォレストモデルを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記予測モデルはロジスティック回帰を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記予測モデルは、単純ベイズモデルを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記第１のしきい値は、前記予測モデルの適用からの前記第２の複数のパイプのそれぞれのパイプの漏れ予測のセットの統計分布に基づいて自動的に判断される、請求項１〜４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
前記第２のしきい値は、前記予測モデルの適用からの前記第２の複数のパイプのそれぞれのパイプの漏れ予測のセットの統計分布に基づいて自動的に判断される、請求項１〜５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
前記第３の複数のパイプのそれぞれのパイプの判断された漏れ予測に基づいて、前記第３の複数のパイプのそれぞれのパイプをオーダーすることをさらに備える、請求項１〜６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
コンピューティングシステムであって、
１つ以上のデータストアを備え、前記１つ以上のデータストアは、
第１のデータ項目および第１の複数のパイプのそれぞれのパイプに関連付けられる既知の漏れを含む訓練用データセットを格納し、前記第１のデータ項目は前記それぞれのパイプの特性を含み、前記１つ以上のデータストアはさらに、
第２のデータ項目および第２の複数のパイプのそれぞれのパイプに関連付けられる既知の漏れを含む検証データセットを格納し、前記第２のデータ項目は前記それぞれのパイプの特性を含み、前記コンピューティングシステムはさらに、
コンピュータプロセッサと、
コンピュータ読取可能記憶媒体とを備え、前記コンピュータ読取可能記憶媒体は命令を格納し、前記命令は、前記コンピュータプロセッサによって実行されると、前記コンピュータプロセッサに、
前記訓練用データセットにアクセスさせ、
教師付き機械学習技術を適用させて、パイプの漏れ予測を判断するように構成される予測モデルを、前記第１の複数のパイプのそれぞれのパイプに関連付けられる前記第１のデータ項目に基づいて訓練することにより生成させ、
前記検証データセットにアクセスさせ、
前記予測モデルを検証させるよう構成され、前記予測モデルを検証することは、少なくとも、
前記予測モデルを前記第２のデータ項目に適用することにより、前記第２の複数のパイプのそれぞれのパイプの漏れ予測のセットを判断することと、
前記第２の複数のパイプのそれぞれのパイプの漏れ予測を前記第２の複数のパイプのそれぞれのパイプの既知の漏れと比較して、前記第２の複数のパイプのそれぞれのパイプの漏れ予測の正答率を判断することと、
前記第２の複数のパイプのそれぞれのパイプの漏れ予測の正答率に基づいて混同行列を生成することと、
前記混同行列に基づいて、前記第２の複数のパイプのそれぞれのパイプの漏れ予測の正答率に関連付けられる真陽性率、偽陽性率、真陰性率、および偽陰性率を判断することと、
前記真陽性率が第１のしきい値を超えていると判断することと、
前記真陰性率が第２のしきい値を超えていると判断することとによって行われ、前記命令は、さらに、前記コンピュータプロセッサによって実行されると、前記コンピュータプロセッサに、
第３の複数のパイプに関連付けられる第３のデータ項目を含むパイプラインデータセットにアクセスさせ、
前記予測モデルを前記パイプラインデータセットに適用させて、前記第３の複数のパイプのそれぞれのパイプの漏れ予測を判断させるよう構成される、コンピューティングシステム。
【請求項９】
コンピュータプロセッサに請求項１〜７のいずれか１項に記載の方法を実行させるためのコンピュータ読取可能プログラム。
【手続補正書】
【提出日】令和3年3月31日(2021.3.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光出力モードを有し、随意に、スタンバイモードを有するＬＥＤ照明ドライバであり、
ＬＥＤ照明負荷に結合するための出力と、
前記ＬＥＤ照明負荷にエネルギを供給するためのエネルギ蓄積インダクタを備えるスイッチモード電源と、
補助電源回路であって、
前記エネルギ蓄積インダクタに磁気的に結合され、第１電源インダクタ及び第２電源インダクタを含む電源インダクタ装置、
整流電圧を補助負荷に供給するための整流ダイオード装置、並びに
前記第２電源インダクタを、前記補助電源回路内又は外へ選択的に切り替え、それによって、前記エネルギ蓄積インダクタに対する変圧比を変えるためのスイッチング回路を含む補助電源回路とを有するＬＥＤ照明ドライバであって、
所望の照明レベルに応じて前記スイッチング回路を制御するためのコントローラと、
前記ドライバの前記出力における切り替え可能な前負荷であって、公称動作中は減らされる切り替え可能な前負荷とを更に有するＬＥＤ照明ドライバ。
【請求項２】
前記コントローラが、前記ＬＥＤ照明ドライバが前記スタンバイモードにあるときは、前記第２電源インダクタを前記補助電源回路内へ接続し、前記ＬＥＤ照明ドライバが前記光出力モードにあるときは、前記第２エネルギ蓄積インダクタを前記補助電源回路から切り離すよう、前記スイッチング回路を制御するよう適合される請求項１に記載のＬＥＤ照明ドライバ。
【請求項３】
前記スイッチング回路が、
基準端子と、前記第２電源インダクタの第１端部であって、前記第２電源インダクタが前記第１電源インダクタに接続する第１端部との間の第１ダイオードと、
前記基準端子と、前記第２電源インダクタの第２端部との間の第２ダイオードと、
前記第２ダイオードに直列のスイッチとを有する請求項１又は２に記載のＬＥＤ照明ドライバ。
【請求項４】
前記前負荷の、前記ドライバの前記出力からの電気的分離及び接続を制御するための更なるスイッチング回路を有する請求項１乃至３のいずれか一項に記載のＬＥＤ照明ドライバ。
【請求項５】
前記コントローラが、更に、前記ＬＥＤ照明ドライバが前記スタンバイモードにあるときは、補助電源出力の定電圧制御を供給するよう、前記スイッチモード電源の制御を供給するよう適合される請求項１乃至４のいずれか一項に記載のＬＥＤ照明ドライバ。
【請求項６】
前記スイッチモード電源が、前記エネルギ蓄積インダクタを通る電流の流れを制御するための主スイッチを更に有する請求項１乃至５のいずれか一項に記載のＬＥＤ照明ドライバ。
【請求項７】
前記スイッチモード電源が、一段バックコンバータ又は一段バックブーストコンバータを含む請求項１乃至６のいずれか一項に記載のＬＥＤ照明ドライバ。
【請求項８】
前記スイッチモード電源が、非絶縁変換器を含む請求項１乃至７のいずれか一項に記載のＬＥＤ照明ドライバ。
【請求項９】
請求項１乃至８のいずれか一項に記載のドライバと、
前記ドライバによって駆動されるＬＥＤ照明負荷と、
前記補助電源回路によって駆動される補助負荷とを有するＬＥＤ照明回路。
【請求項１０】
光出力モードを有し、随意に、スタンバイモードを有するＬＥＤ照明ドライバを駆動する方法であって、
エネルギ蓄積インダクタを備えるスイッチモード電源を使用してＬＥＤ照明負荷にエネルギを供給するステップと、
前記エネルギ蓄積インダクタに磁気的に結合される、第１電源インダクタ、及び前記第１電源インダクタに直列の第２電源インダクタ、並びに整流ダイオード装置を備える補助電源回路を使用して補助電源を生成し、補助電源出力電圧を補助負荷に供給するステップと、
前記第２電源インダクタを、前記補助電源回路内又は外へ選択的に切り替え、それによって、前記エネルギ蓄積インダクタに対する変圧比を変えるステップとを有する方法。
【請求項１１】
前記ＬＥＤ照明ドライバが前記スタンバイモードにあるときは、前記第２電源インダクタを前記補助電源回路内へ接続し、前記ＬＥＤ照明ドライバが前記光出力モードにあるときは、前記第２電源インダクタを前記補助電源回路から切り離すステップを有する請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記ドライバの前記出力における前負荷の電気的接続を制御するステップを更に有する請求項１０又は１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記ＬＥＤ照明ドライバが前記スタンバイモードにあるときは、補助電源出力電圧の定電圧制御を供給するよう、前記スイッチモード電源の制御を供給するステップを有する請求項１０乃至１２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１４】
前記ＬＥＤ照明負荷にエネルギを供給するステップが、一段非絶縁バックコンバータ又は一段非絶縁バックブーストコンバータを使用するステップを含む請求項１０乃至１３のいずれか一項に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】令和3年4月1日(2021.4.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の有害生物監視装置であって、前記有害生物監視装置の各々は、現場に配置され、前記現場における有害生物の検知に反応して信号を生成するよう構成される、複数の有害生物監視装置と、
前記有害生物監視装置から離れて配置され、前記有害生物監視装置から前記生成された信号を受信するために前記有害生物監視装置と通信するよう構成されるコンピュータ装置であって、前記有害生物監視装置からの前記信号は、実際の現場データを含み、前記コンピュータ装置は、プロセッサと、実行可能な命令を記憶するメモリとを含み、前記命令は少なくとも、
前記現場の監視のために提案される前記有害生物監視装置の量と、前記現場周辺における各々の前記有害生物監視装置の設置位置とを決定するために、環境要因データと歴史要因データとを分析することであって、前記環境要因データは、有害生物個体群の増加を助長する前記現場および前記現場周辺の環境要因に関連し、前記歴史要因データは、前記現場における過去の有害生物の個体群を示す要因に関連する、前記分析することと、
前記分析に従って、前記現場周辺への前記有害生物防除監視装置の配備を指示することと、
を前記プロセッサによる実行に応えて前記コンピュータ装置に行わせる、コンピュータ装置と、
を含む有害生物監視防除システム。
【請求項２】
現場における有害生物監視防除方法であって、
前記現場の監視のために提案される有害生物監視装置の量と、前記現場周辺における各々の前記有害生物監視装置の設置位置とを決定するために、環境要因データと歴史要因データとを分析することであって、前記環境要因データは、有害生物個体群の増加を助長する前記現場および前記現場周辺の環境要因に関連し、前記歴史要因データは、前記現場における過去の有害生物の個体群を示す要因に関連する、前記分析することと、
前記分析に従って、前記現場周辺へ前記有害生物防除監視装置を配備することと、
を含む方法。
【請求項３】
現場における有害生物防除監視および防除システムのためのコンピュータ可読記憶媒体であって、前記コンピュータ可読記憶媒体は、非一時的であり、少なくとも、
前記現場の監視のために提案される前記有害生物監視装置の量と、前記現場周辺における各々の前記有害生物監視装置の設置位置とを決定するために、環境要因データと歴史要因データとを分析することであって、前記環境要因データは、有害生物個体群の増加を助長する前記現場および前記現場周辺の環境要因に関連し、前記歴史要因データは、前記現場における過去の有害生物の個体群を示す要因に関連する、前記分析することと、
前記分析に従って、前記現場周辺への前記有害生物防除監視装置を配備することと、
をプロセッサによる実行に応えて前記装置に行わせる、前記コンピュータ可読記憶媒体内に記憶されたコンピュータ可読プログラムコードを有する、コンピュータ可読記憶媒体。
【請求項４】
１以上の駆除剤供給ユニットであって、各駆除剤供給ユニットは、希釈剤を収納するよう構成されるタンクと、駆除剤物質を収納するよう構成される駆除剤モジュールと、データを送信する送信モジュールと、を含む１以上の駆除剤供給ユニットと、
前記駆除剤供給ユニットから離れて配置され、前記駆除剤供給ユニットからそれぞれの送信モジュールを介して駆除剤物質使用データを受信するよう構成されるコンピュータ装置であって、前記駆除剤物質使用データは、前記希釈剤中に一定濃度の前記駆除剤物質を含む有害生物処置剤を調合するために、いずれかの前記駆除剤供給ユニットの前記駆除剤モジュールから供給される前記駆除剤物質の供給量または供給率を含み、前記有害生物処置剤は、前記現場で有害生物に処置を施すために前記駆除剤供給ユニットから供給され、前記コンピュータ装置は、プロセッサと、少なくとも駆除剤物質の使用量を決定し監視することを、前記プロセッサによる実行に応えて前記コンピュータ装置に行わせる、実行可能な命令を記憶するメモリとを含む、コンピュータ装置と、
を含む駆除剤適用システム。
【請求項５】
現場における駆除剤適用方法であって、
プロセッサと、実行可能な命令を記憶する非一時的メモリと、を含むコンピュータ装置において、離れて配置される１以上の駆除剤供給ユニットから、駆除剤物質使用データを受け取ることであって、各駆除剤供給ユニットは、希釈剤を収納するよう構成されるタンクと、駆除剤物質を収納するよう構成される駆除剤モジュールと、前記データを送信する送信モジュールとを含む、前記受け取ることと、
前記コンピュータ装置で前記駆除剤物質使用データを分析することにより前記駆除剤物質の使用量を決定し監視することであって、前記駆除剤物質使用データは、前記希釈剤中に一定濃度の前記駆除剤物質を含む有害生物処置剤を調合するために、いずれかの前記駆除剤供給ユニットの前記駆除剤モジュールから供給される前記駆除剤物質の供給量または供給率を含み、前記有害生物処置剤は、前記現場で有害生物に処置を施すために前記駆除剤供給ユニットから供給される、前記決定し監視することと、
を含む方法。
【請求項６】
現場における駆除剤適用のためのコンピュータ可読記憶媒体であって、前記コンピュータ可読記憶媒体は、非一時的であり、少なくとも、
自らと関連する前記非一時的コンピュータ可読記憶媒体を有するコンピュータ装置において、離れて配置される１以上の駆除剤供給ユニットから、データを受信することであって、各駆除剤供給ユニットは、希釈剤を収納するよう構成されるタンクと、駆除剤物質を収納するよう構成される駆除剤モジュールと、データを送信する送信モジュールとを含む、前記受信することと、
前記コンピュータ装置で前記データを分析することにより前記駆除剤物質の使用量を監視することとであって、前記データは、前記希釈剤中に一定濃度の前記駆除剤物質を含む有害生物処置剤を調合するために、いずれかの前記駆除剤供給ユニットの前記駆除剤モジュールから供給される前記駆除剤物質の供給量または供給率を含み、前記有害生物処置剤は、前記現場で有害生物に処置を施すために前記駆除剤供給ユニットから供給される、前記監視することと、
をプロセッサによる実行に応えて前記装置に行わせる、内部に記憶されたコンピュータ可読プログラムコードを有する、コンピュータ可読記憶媒体。
【手続補正書】
【提出日】令和3年3月31日(2021.3.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電気化学エネルギー貯蔵装置であって、
第１の物質を含む第１の電極であって、前記第１の電極が負電流コレクタと電気的に繋がっている第１の電極と；
第２の物質を含む複数の固体粒子を含む第２の電極であって、前記第２の電極が正電流コレクタと電気的に繋がっており、前記第２の物質が前記第１の物質と反応しやすく、前記複数の固体粒子の前記第２の物質が１×１０４ジーメンス毎メートル以上の電気伝導率を有し、前記電気化学エネルギー貯蔵装置の動作温度において、前記第２の物質が固体である第２の電極と；
前記第１の電極と前記第２の電極との間にある液体電解質であって、前記第２の電極の前記複数の固体粒子は、前記液体電解質中に沈められ、または、前記液体電解質に取り囲まれ、前記液体電解質が前記第１の物質のイオンを伝導することができる液体電解質と
を具備する、電気化学エネルギー貯蔵装置。
【請求項２】
前記第１の物質と前記第２の物質が、１種類以上の金属を含む、請求項１に記載の電気化学エネルギー貯蔵装置。
【請求項３】
前記動作温度が、約３００℃から６５０℃である、請求項１に記載の電気化学エネルギー貯蔵装置。
【請求項４】
前記第１の物質が、カルシウムまたはカルシウム合金を含む、請求項１に記載の電気化学エネルギー貯蔵装置。
【請求項５】
前記第１の物質が、リチウム、ナトリウム、マグネシウム、銅、亜鉛、またはこれらの任意の組み合わせを含む、請求項１または４に記載の電気化学エネルギー貯蔵装置。
【請求項６】
前記第１の電極が、前記動作温度において、半固体または液体を含む、請求項１に記載の電気化学エネルギー貯蔵装置。
【請求項７】
前記第２の物質が、アンチモンを含む、請求項１に記載の電気化学エネルギー貯蔵装置。
【請求項８】
前記複数の固体粒子の個々の粒子が、少なくとも約０．０００１ミリメートルの寸法を有する、請求項１に記載の電気化学エネルギー貯蔵装置。
【請求項９】
前記複数の固体粒子の個々の粒子が、約１０ミリメートル以下の寸法を有する、請求項１に記載の電気化学エネルギー貯蔵装置。
【請求項１０】
前記液体電解質が、カルシウム塩を含む、請求項１に記載の電気化学エネルギー貯蔵装置。
【請求項１１】
前記液体電解質が、塩添加物をさらに含む、請求項１または１０に記載の電気化学エネルギー貯蔵装置。
【請求項１２】
前記カルシウム塩が、塩化カルシウムである、請求項１０または１１に記載の電気化学エネルギー貯蔵装置。
【請求項１３】
前記塩添加物が、塩化リチウム、塩化ナトリウム、塩化カリウム、塩化ストロンチウム、臭化リチウム、臭化ナトリウム、臭化カルシウム、臭化カリウム、臭化ストロンチウム、塩化バリウム、臭化バリウム、またはこれらの任意の組成を含む、請求項１１に記載の電気化学エネルギー貯蔵装置。
【請求項１４】
前記電気化学エネルギー貯蔵装置の放電の際に前記第２の電極の前記複数の固体粒子と前記液体電解質との間の１つ以上の界面に位置する金属間物質をさらに含み、前記金属間物質が前記第１の物質と前記第２の物質とを含む、請求項１に記載の電気化学エネルギー貯蔵装置。
【請求項１５】
前記金属間物質が、前記１つ以上の界面のうちの所与の界面にある金属間層内に含まれる、請求項１４に記載の電気化学エネルギー貯蔵装置。
【請求項１６】
前記金属間物質が、前記複数の固体粒子のうちの所与の固体粒子を少なくとも部分的に取り巻くシェル内に含まれる、請求項１４に記載の電気化学エネルギー貯蔵装置。
【請求項１７】
前記負電流コレクタが、導電性電流リードおよび／または多孔性金属構造を具備する、請求項１に記載の電気化学エネルギー貯蔵装置。
【請求項１８】
前記第１の電極と前記第２の電極との間に配置された隔離板をさらに具備し、前記隔離板は前記第２の物質が前記第１の電極に接触することを防止する、請求項１に記載の電気化学エネルギー貯蔵装置。
【請求項１９】
前記隔離板が、平均直径が約０．８ミリメートル以下の穴を含む、請求項１８に記載の電気化学エネルギー貯蔵装置。
【請求項２０】
電気化学エネルギー貯蔵装置を動作させる方法であって、
（ａ）電気負荷に結合された前記電気化学エネルギー貯蔵装置を作動させる段階であって、前記電気化学エネルギー貯蔵装置が、
ａ．第１の物質を含む第１の電極であって、前記第１の電極が負電流コレクタと電気的に繋がっており、前記電気化学エネルギー貯蔵装置の動作温度において、前記第１の物質が液体である第１の電極と、
ｂ．第２の物質を含む複数の固体粒子を含む第２の電極であって、前記第２の電極が正電流コレクタと電気的に繋がっており、前記第２の物質が前記第１の物質と反応しやすく、前記複数の固体粒子の前記第２の物質が１×１０４ジーメンス毎メートル以上の電気伝導率を有し、前記電気化学エネルギー貯蔵装置の前記動作温度において、前記第２の物質が固体である第２の電極と、
ｃ．前記第１の電極と前記第２の電極との間にある液体電解質であって、前記第２の電極の前記複数の固体粒子は、前記液体電解質中に沈められ、または、前記液体電解質に取り囲まれ、前記液体電解質が前記第１の物質のイオンを伝導することができる液体電解質と
を具備する段階と、
（ｂ）前記電気負荷を介して前記電気化学エネルギー貯蔵装置を充電または放電する段階であって、（ｉ）充電中に、前記液体電解質が前記第１の物質のイオンを前記第１の電極に伝導し、（ｉｉ）放電中に、前記液体電解質が前記第１の物質のイオンを前記第１の電極から伝導する段階と、
を含む方法。
【請求項２１】
前記動作温度が、約３００℃から６５０℃の間である、請求項２０に記載の方法。
【請求項２２】
前記電気化学セルを、約０．６ボルトから１．２ボルトの電圧で動作させる段階をさらに含む、請求項２０に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】令和3年3月22日(2021.3.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
処理チャンバ内で基板上にアモルファスシリコン層を形成する方法であって、
基板の上に、所定の厚さの犠牲誘電体層を堆積させることと、
前記犠牲誘電体層を部分的に除去して前記基板の上側表面を露出させることによって、前記基板上に、パターニングされたフィーチャを形成することと、
前記パターンニングされたフィーチャにプラズマ処理を実施することと、
前記パターンニングされたフィーチャ上及び前記基板の露出した前記上側表面上に、アモルファスシリコン層を堆積させることと、
前記アモルファスシリコン層から形成された側壁スペーサの中が前記パターニングされたフィーチャで満たされているようにするために、異方性エッチングプロセスを使用して、前記パターニングされたフィーチャの上側表面及び前記基板の前記上側表面から前記アモルファスシリコン層を選択的に除去することとを含む、
方法。
【請求項２】
前記プラズマ処理を実施することが、
前記処理チャンバ内へと処理ガスを流すことと、
前記処理チャンバ内でプラズマを生成して、前記基板の前記パターニングされたフィーチャを処理することとを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記処理ガスがアルゴンを含む、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記処理ガスが、アルゴン、水素、窒素、亜酸化窒素、アンモニア、及びこれらの組み合わせ、のうちの１つを含む、請求項２に記載の方法。
【請求項５】
前記パターニングされたフィーチャに前記プラズマ処理を実施することと、前記パターニングされたフィーチャ上及び前記基板の前記露出した上側表面上に前記アモルファスシリコン層を堆積させることが、同じ処理チャンバ内で実施される、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記犠牲誘電体層が酸化ケイ素を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記パターニングされたフィーチャ上及び前記基板の前記露出した上側表面上に前記アモルファスシリコン層を堆積させることが、前記パターニングされたフィーチャをシリコン前駆体に曝露して、水素を含むアウトガス可能な化学種を有するアモルファスシリコン膜を形成することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記アモルファスシリコン膜から前記アウトガス可能な化学種を除去してガス抜き済みのアモルファスシリコン膜を形成するために、前記アモルファスシリコン膜を不活性ガス抜き環境に曝露することを更に含む、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記シリコン前駆体が、ジシラン、トリシラン、テトラシラン、イソテトラシラン、ネオペンタシラン、シクロペンタシラン、ヘキサシラン、シクロヘキサシラン、及びこれらの組み合わせ、のうちの一又は複数を含む、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記シリコン前駆体がジシランである、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記不活性ガス抜き環境が実質的に不活性ガスで構成されている、請求項８に記載の方法。
【請求項１２】
前記不活性ガスが、アルゴン、ヘリウム、及び窒素のうちの一又は複数を含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記シリコン前駆体と前記不活性ガス抜き環境のそれぞれへの曝露が、約５０ｍＴｏｒｒ〜約２００Ｔｏｒｒの範囲内の圧力において行われる、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記シリコン前駆体と前記不活性ガス抜き環境のそれぞれへの曝露が、摂氏約３５０度〜摂氏約７００度の範囲内の温度において行われる、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
前記シリコン前駆体と前記不活性ガス抜き環境へのそれぞれの曝露により、前記ガス抜き済みのアモルファスシリコン膜が、約５Å〜約２０Åの範囲内の厚さを有するように成長する、請求項１４に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】令和3年1月21日(2021.1.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
スパイラル巻き透過膜システムで使用するための膜であって、膜の表面に堆積された離間特徴物を有する前記膜を含み、前記離間特徴物が、渦巻き状に巻き上げられる際のスペーサのネスティングを生じさせないように構成され、前記離間特徴物が、不均一な離間距離で相互に離間する実質的に平行な複数の線分を含む、膜。
【請求項２】
前記複数の線分の第１の部分が、不均一な離間距離で相互に離間されることによってパターンを形成し、前記複数の線分の他の部分が前記パターンの繰り返しを含む、請求項１に記載の膜。
【請求項３】
前記第１の部分が、最初の線分から最後の線分まで計測して少なくとも６インチに及ぶ、請求項２に記載の膜。
【請求項４】
前記第１の部分が、前記最初の線分から前記最後の線分まで計測して少なくとも１２インチに及ぶ、請求項３に記載の膜。
【請求項５】
前記離間の変化量が、隣接する離間特徴物間の平均距離の１５％未満である、請求項２に記載の膜。
【請求項６】
スパイラル巻き透過膜システムで使用するための膜であって、膜の表面に堆積された離間特徴物を有する前記膜を含み、前記離間特徴物が、渦巻き状に巻き上げられる際のスペーサのネスティングを生じさせないように構成され、前記離間特徴物が、相互に離間され、且つ不均一な角度で相互に非平行に方向付けされた複数の線分を含む、膜。
【請求項７】
前記複数の線分の第１の部分が、相互に対して不均一な角度で方向付けされてパターンを形成し、前記複数の線分の他の部分が前記パターンの繰り返しを含む、請求項６に記載の膜。
【請求項８】
前記パターンが、最初の線分から最後の線分まで計測して少なくとも６インチに及ぶ、請求項７に記載の膜。
【請求項９】
前記パターンが、前記最初の線分から前記最後の線分まで計測して少なくとも１２インチに及ぶ、請求項８に記載の膜。
【請求項１０】
前記角度の変化量が、前記パターンに対する前記特徴物の平均角度の１５％未満である、請求項７に記載の膜。
【請求項１１】
スパイラル巻き透過膜システムで使用するための膜であって、膜の表面に堆積された離間特徴物を有する前記膜を含み、前記離間特徴物が、渦巻き状に巻き上げられる際のスペーサのネスティングを生じさせないように構成され、前記離間特徴物が、前記離間特徴物を横断する少なくとも１つの経路に沿って定められて計測された不均一な離間距離で相互に離間する複数の曲線状セグメントを含む、膜。
【請求項１２】
スパイラル巻き透過膜システムで使用するための膜であって、膜の表面に堆積された離間特徴物を有する前記膜を含み、前記離間特徴物が、渦巻き状に巻き上げられる際のスペーサのネスティングを生じさせないように構成され、前記離間特徴物が、前記膜の前記表面全体に配置され、前記離間特徴物が、前記膜の前記縁辺から離れた部分におけるよりも前記膜の前記縁辺の近くにおける方がより近接して離間している、膜。
【請求項１３】
前記膜の前記縁辺が、前記膜の前記縁辺の３インチ以内の領域として範囲を定められている、請求項１２に記載の膜。
【請求項１４】
前記膜の前記縁辺が、前記膜の前記縁辺の１インチ以内の領域として範囲を定められている、請求項１３に記載の膜。
【請求項１５】
前記離間特徴物が、熱可塑性プラスチック、反応性ポリマ、ワックス、又は樹脂のうち１つ以上で作られ、前記膜表面に直接堆積される、請求項１に記載の膜。
【請求項１６】
前記離間特徴物が、高温熱可塑性プラスチック、金属、又はセラミックのうち１つ以上で作られ、前記膜表面から離れて形成され、その後前記膜表面に接着される、請求項１に記載の膜。
【請求項１７】
前記離間特徴物は、熱可塑性プラスチック、反応性ポリマ、ワックス、又は樹脂のうち１つ以上で作られ、前記膜表面に直接堆積される、請求項６に記載の膜。
【請求項１８】
前記離間特徴物が、高温熱可塑性プラスチック、金属、又はセラミックのうち１つ以上で作られ、前記膜表面から離れて形成され、その後前記膜表面に接着される、請求項６に記載の膜。
【請求項１９】
前記離間特徴物は、熱可塑性プラスチック、反応性ポリマ、ワックス、又は樹脂のうち１つ以上で作られ、前記膜表面に直接堆積される、請求項１１に記載の膜。
【請求項２０】
前記離間特徴物が、高温熱可塑性プラスチック、金属、又はセラミックのうち１つ以上で作られ、前記膜表面から離れて形成され、その後前記膜表面に接着される、請求項１１に記載の膜。
【手続補正書】
【提出日】令和3年1月5日(2021.1.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項５】
前記少なくとも１つの噴霧ノズル（１０２ａ〜１０２ｈ）及び前記ハウジング（１０４）または起動手段（１０６）の作動要素（１０７ａ）の導電部分における電流強度及び／または電圧の分析を行い、これらの測定値と基準値との比較を行う、ことを特徴とする、請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項９】
前記噴霧器（１０１）は前記液体タンク（１１０）に加えて別の液体タンクを備え、前記噴霧器（１０１）は前記送出装置（１１１）に加えて別の送出装置を備え、前記送出装置（１１１）及び前記別の送出装置と前記少なくとも１つの噴霧ノズル（１０２ａ〜１０２ｈ）との間には混合装置が配置され、前記混合装置内で所定の組成の混合液が作成されるように、前記送出装置（１１１）の送出体積と前記別の送出装置の送出体積を制御する、ことを特徴とする、請求項１〜８のいずれか一項に記載の方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１３】
前記高電圧発生器（１０９）の起動の前に前記噴霧器（１０１）の起動を行う場合、前記少なくとも１つの噴霧ノズル（１０２ａ〜１０２ｈ）を非作動位置（Ｒ１０２）から作動位置（Ａ１０２）に移動させ、前記少なくとも１つの噴霧ノズル（１０２ａ〜１０２ｈ）及び／または前記ハウジング（１０４）はこのために動かされ、かつ／または、少なくとも１つのハウジング部分、特にスライドは前記噴霧ノズルに対して動かされる、ことを特徴とする、請求項１１または１２に記載の方法。
【手続補正４】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１４】
前記高電圧発生器（１０９）の作動停止の後に前記噴霧器（１０１）の作動を停止する場合、前記少なくとも１つの噴霧ノズル（１０２ａ〜１０２ｈ）を作動位置（Ａ１０２）から非作動位置（Ｒ１０２）に移動させ、前記少なくとも１つの噴霧ノズル（１０２ａ〜１０２ｈ）及び／または前記ハウジング（１０４）、少なくとも１つのハウジング部分はこのために動かされる、ことを特徴とする、請求項１１または１２に記載の方法。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
噴霧器１０１及び高電圧源１０９は起動手段１０６を介して起動可能であり、起動手段１０６は電気式ボタン１０７で構成される。この場合、ボタン１０７の作動要素１０７ａは導電性であり、噴霧ノズル１０２ａ〜１０２ｈに対して反対極として構成される。ボタン１０７は噴射のために継続した時間押す必要があるので、このようにして、使用者を確実に噴霧器１０１の基準電位にしっかりと接続して、使用者の帯電を回避する。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
また、図１及び２から明らかなように、ハウジング１０４は、把持部１２８、ヘッド部１２９、及び把持部１２８とヘッド部１２９の間に配置された中間部１３０を備えており、噴霧ノズル１０２ａ〜１０２ｈはヘッド部１２９に配置され、送出装置１１１は液体タンク１１０と噴霧ノズル１０２ａ〜１０２ｈとの間に配置される。
【手続補正書】
【提出日】令和3年4月12日(2021.4.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の流体に対して相対的に移動する面のキャビテーションを低減させる方法であって、
少なくとも一部が脱気された第２の流体を、前記第２の流体により前記面に境界層が形成されるように前記面に向けて流す段階を含み、
それにより前記境界層は、前記面でのキャビテーションを起こすのに必要な負圧を少なくとも部分的に増加させ、前記相対的移動の間のキャビテーションの発生を低減させる、方法。
【請求項２】
前記第２の流体は、前記第２の流体のガス平衡形態に対して５０％超に脱気される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記第２の流体は、前記第２の流体のガス平衡形態に対して８０％超に脱気される、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記第２の流体は、第１の体積流量で前記面に向けて流される、請求項１から請求項３までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
前記第１の流体は、第２の体積流量で前記面に向けて流され、前記第１の体積流量は、前記第２の体積流量の５０％以下である、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記第２の流体は、前記境界層を形成するために、パルス流を用いて前記面に周期的に流される、請求項１から請求項５までのいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
前記第２の流体は、前記面に関する低圧領域に流される、請求項１から請求項６までのいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
前記第２の流体は、前記第１の流体に開いた出口を有する導管を通して供給される、請求項１から請求項７までのいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
前記面は、プロペラ、水中翼船、羽根車、ピストン、弁本体、制御弁、オリフィスまたは配管のうちの少なくとも１つに配置されるか、またはその一部を形成する、請求項１から請求項８までのいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
前記第２の流体は、前記第１の流体の脱気された形態である、請求項１から請求項９までのいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１】
前記第１の流体および／または前記第２の流体は水溶液である、請求項１から請求項１０までのいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２】
前記水溶液は海水である、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記境界層を形成するために前記面に向けて流される第２の流体の前記流れを制御するために流量制御装置を作動させる段階をさらに含む、請求項１から請求項１２までのいずれか一項に記載の方法。
【請求項１４】
第１の流体に対して相対的に移動する面のキャビテーションを低減させるためのシステムであって、
第２の流体を少なくとも一部を脱気するように構成された脱気装置と、
前記脱気装置と連通し、前記少なくとも一部が脱気された第２の流体を収容するように構成された貯蔵槽であって、前記第２の流体を前記面に向けて流すように配置された出口を有する貯蔵槽と
を備え、
前記システムは、前記少なくともが脱気された第２の流体を前記面に向けて流すことにより前記面に境界層を形成するように構成され、それにより前記境界層は、前記面でのキャビテーションを起こすのに必要な負圧を少なくとも部分的に増加させ、前記相対的移動の間のキャビテーションの発生を低減させるように適合されている、システム。
【請求項１５】
前記脱気装置は、前記第２の流体のガス平衡形態に対して５０％超に前記第２の流体を脱気するように構成されている、請求項１４に記載のシステム。
【請求項１６】
前記脱気装置は、前記第２の流体のガス平衡形態に対して８０％超に前記第２の流体を脱気するように構成されている、請求項１４に記載のシステム。
【請求項１７】
前記システムは、前記第２の流体を第１の体積流量で前記面に向けて流すように構成されている、請求項１４から請求項１６までのいずれか１項に記載のシステム。
【請求項１８】
前記第１の流体は、第２の体積流量で相対的に移動し、前記第１の体積流量は、前記第２の体積流量の５０％以下である、請求項１７に記載のシステム。
【請求項１９】
出口が、使用中前記面に関する低圧側に位置付けられる、請求項１４から請求項１８までのいずれか一項に記載のシステム。
【請求項２０】
前記面に向けて流される第２の流体の流量を制御するために前記貯蔵槽に連通する流れ制御装置をさらに備える、請求項１４から請求項１９までのいずれか一項に記載のシステム。