【手続補正書】
【提出日】平成16年12月9日(2004.12.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】基板洗浄装置及び基板洗浄方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
回転する基板を洗浄手段を用いて洗浄する基板洗浄装置において、
前記基板洗浄装置は、洗浄具を基板に当接して洗浄するスクラブ洗浄手段と、ノズルから基板に洗浄液を噴射して洗浄する液噴射洗浄手段と、前記スクラブ洗浄手段と液噴射洗浄手段の両者を同時に基板上で揺動せしめる揺動手段と、前記洗浄具を上下動させることで少なくとも洗浄具を基板表面に当接する位置からノズルから噴射された洗浄液が洗浄具に当接する位置まで移動せしめる洗浄具上下駆動手段とを具備してなることを特徴とする基板洗浄装置。
【請求項２】
回転する基板を洗浄手段を用いて洗浄する基板洗浄装置において、
前記基板洗浄装置は、洗浄具を基板に当接して洗浄するスクラブ洗浄手段と、前記スクラブ洗浄手段を基板上で揺動せしめる揺動手段と、前記洗浄具を上下動させることで少なくとも洗浄具を基板表面に当接する位置から基板の外周側面に当接する位置まで移動せしめる洗浄具上下駆動手段とを具備してなることを特徴とする基板洗浄装置。
【請求項３】
回転する基板を洗浄手段を用いて洗浄する基板洗浄装置において、
前記基板洗浄装置は、洗浄具を基板に当接して洗浄するスクラブ洗浄手段と、ノズルから基板に洗浄液を噴射して洗浄する液噴射洗浄手段と、前記スクラブ洗浄手段と液噴射洗浄手段の両者を同時に基板上で揺動せしめる揺動手段と、前記洗浄具を上下動する洗浄具上下駆動手段と、ノズルを上下動するノズル上下駆動手段とを具備してなることを特徴とする基板洗浄装置。
【請求項４】
回転する基板を洗浄手段を用いて洗浄する基板洗浄装置において、
基板を保持回転する保持回転機構と、
基板表面に当接してこれを洗浄する底面及び基板の外周側面に当接してこれを洗浄する外周側面を設けてなる洗浄具を有するスクラブ洗浄手段と、
前記スクラブ洗浄手段を基板上で揺動させる揺動手段と、
前記洗浄具を上下動させることでこの洗浄具を基板表面に当接する位置から基板の外周側面に当接する位置まで移動させる洗浄具上下駆動手段とを具備してなることを特徴とする基板洗浄装置。
【請求項５】
基板の被加工面を研磨工具の研磨面に当接して研磨する研磨機と、前記研磨機で研磨した基板を洗浄する洗浄機とを具備する研磨装置において、
前記洗浄機として請求項１乃至４の内の何れか１項記載の基板洗浄装置を用いたことを特徴とする研磨装置。
【請求項６】
回転する基板を洗浄手段を用いて洗浄する基板洗浄方法において、
洗浄具を基板に当接して洗浄するスクラブ洗浄手段と、ノズルから基板に洗浄液を噴射して洗浄する液噴射洗浄手段の両者を同時に基板上で揺動してスクラブ洗浄及び／又は液噴射洗浄を行う工程と、
前記洗浄具を基板表面に当接する位置から前記ノズルから噴射された洗浄液がこの洗浄具に当接する位置まで移動することでこの洗浄具を洗浄する工程と、を具備してなることを特徴とする基板洗浄方法。
【請求項７】
回転する基板を洗浄手段を用いて洗浄する基板洗浄方法において、
基板の表面に当接した洗浄具をこの基板上で揺動することで基板表面のスクラブ洗浄を行う工程と、
前記洗浄具を上下動することでこの洗浄具を基板表面に当接する位置から基板の外周側面に当接する位置まで移動して洗浄具の外周側面を基板の外周側面に擦りつけて基板の外周側面を洗浄する工程と、を具備してなることを特徴とする基板洗浄方法。
【請求項８】
回転する基板を洗浄手段を用いて洗浄する基板洗浄方法において、
洗浄具を基板に当接して洗浄するスクラブ洗浄手段と、ノズルから基板に洗浄液を噴射して洗浄する液噴射洗浄手段の両者を同時に基板上で揺動してスクラブ洗浄及び／又は液噴射洗浄を行う工程を具備し、
前記スクラブ洗浄する際は前記洗浄具を上下動してこの洗浄具を基板上に当接し、一方前記液噴射洗浄を行う際はノズルを上下動してこのノズルを基板に対して最適な洗浄位置に設定することを特徴とする基板洗浄方法。
【請求項９】
回転する基板を洗浄手段を用いて洗浄する基板洗浄方法において、
基板を保持回転機構に保持して回転すると共に、この回転する基板の表面に当接した洗浄具の底面をこの基板表面で揺動することで基板表面のスクラブ洗浄を行う工程と、
前記洗浄具を上下動することでこの洗浄具を基板表面に当接する位置から基板の外周側面に当接する位置まで移動して洗浄具の外周側面を基板の外周側面に擦りつけて基板の外周側面を洗浄する工程と、を具備してなることを特徴とする基板洗浄方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は半導体ウエハやＬＣＤなどの被洗浄基板を洗浄するのに用いる基板洗浄装置及び基板洗浄方法に関するものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は上述の点に鑑みてなされたものでありその目的は、スクラブ洗浄手段と液噴射洗浄手段の両者を具備し、洗浄方法においてどちらか一方又は双方同時の何れかを選択可能な洗浄装置であってその洗浄処理時間を短くできて処理効率が良く、また構造、制御を簡素化できる基板洗浄装置及び基板洗浄方法を提供することにある。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
また本発明の目的は、セルフクリーニング用の特別の設備を必要としない基板洗浄装置及び基板洗浄方法を提供することにある。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
また本発明の目的は、基板外周部を洗浄する特別の設備を必要としない基板洗浄装置及び基板洗浄方法を提供することにある。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
【課題を解決するための手段】
上記問題点を解決するため本発明は、回転する基板を洗浄手段を用いて洗浄する基板洗浄装置において、前記基板洗浄装置を、洗浄具を基板に当接して洗浄するスクラブ洗浄手段と、ノズルから基板に洗浄液を噴射して洗浄する液噴射洗浄手段と、前記スクラブ洗浄手段と液噴射洗浄手段の両者を同時に基板上で揺動せしめる揺動手段と、液噴射洗浄手段と独立して前記洗浄具を上下動させることで少なくとも洗浄具を基板表面に当接する位置からノズルから噴射された洗浄液が洗浄具に当接する位置まで移動せしめる洗浄具上下駆動手段とを具備して構成した。
また本発明は、回転する基板を洗浄手段を用いて洗浄する基板洗浄装置において、前記基板洗浄装置を、洗浄具を基板に当接して洗浄するスクラブ洗浄手段と、前記スクラブ洗浄手段を基板上で揺動せしめる揺動手段と、前記洗浄具を上下動させることで少なくとも洗浄具を基板表面に当接する位置から基板の外周側面に当接する位置まで移動せしめる洗浄具上下駆動手段とを具備して構成した。
また本発明は、回転する基板を洗浄手段を用いて洗浄する基板洗浄装置において、前記基板洗浄装置を、洗浄具を基板に当接して洗浄するスクラブ洗浄手段と、ノズルから基板に洗浄液を噴射して洗浄する液噴射洗浄手段と、前記スクラブ洗浄手段と液噴射洗浄手段の両者を同時に基板上で揺動せしめる揺動手段と、前記洗浄具を上下動する洗浄具上下駆動手段と、ノズルを上下動するノズル上下駆動手段とを具備して構成した。
また本発明は、回転する基板を洗浄手段を用いて洗浄する基板洗浄装置において、基板を保持回転する保持回転機構と、基板表面に当接してこれを洗浄する底面及び基板の外周側面に当接してこれを洗浄する外周側面を設けてなる洗浄具を有するスクラブ洗浄手段と、前記スクラブ洗浄手段を基板上で揺動させる揺動手段と、前記洗浄具を上下動させることでこの洗浄具を基板表面に当接する位置から基板の外周側面に当接する位置まで移動させる洗浄具上下駆動手段とを具備して構成した。
また本発明は、基板の被加工面を研磨工具の研磨面に当接して研磨する研磨機と、前記研磨機で研磨した基板を洗浄する洗浄機とを具備する研磨装置において、前記洗浄機として前記基板洗浄装置を用いた。
また本発明は、回転する基板を洗浄手段を用いて洗浄する基板洗浄方法において、洗浄具を基板に当接して洗浄するスクラブ洗浄手段と、ノズルから基板に洗浄液を噴射して洗浄する液噴射洗浄手段の両者を同時に基板上で揺動してスクラブ洗浄及び／又は液噴射洗浄を行う工程と、前記洗浄具を基板表面に当接する位置から前記ノズルから噴射された洗浄液がこの洗浄具に当接する位置まで移動することでこの洗浄具を洗浄する工程と、を具備して構成した。
また本発明は、回転する基板を洗浄手段を用いて洗浄する基板洗浄方法において、基板の表面に当接した洗浄具をこの基板上で揺動することで基板表面のスクラブ洗浄を行う工程と、前記洗浄具を上下動することでこの洗浄具を基板表面に当接する位置から基板の外周側面に当接する位置まで移動して洗浄具の外周側面を基板の外周側面に擦りつけて基板の外周側面を洗浄する工程と、を具備して構成した。
また本発明は、回転する基板を洗浄手段を用いて洗浄する基板洗浄方法において、洗浄具を基板に当接して洗浄するスクラブ洗浄手段と、ノズルから基板に洗浄液を噴射して洗浄する液噴射洗浄手段の両者を同時に基板上で揺動してスクラブ洗浄及び／又は液噴射洗浄を行う工程を具備し、前記スクラブ洗浄する際は前記洗浄具を上下動してこの洗浄具を基板上に当接し、一方前記液噴射洗浄を行う際はノズルを上下動してこのノズルを基板に対して最適な洗浄位置に設定するように構成した。
また本発明は、回転する基板を洗浄手段を用いて洗浄する基板洗浄方法において、基板を保持回転機構に保持して回転すると共に、この回転する基板の表面に当接した洗浄具の底面をこの基板表面で揺動することで基板表面のスクラブ洗浄を行う工程と、前記洗浄具を上下動することでこの洗浄具を基板表面に当接する位置から基板の外周側面に当接する位置まで移動して洗浄具の外周側面を基板の外周側面に擦りつけて基板の外周側面を洗浄する工程と、を具備して構成した。