(57)【要約】【課題】有機エレクトロルミネッセンス照明や太陽電池等に要求される各種の特性を満足すると共に、可撓性を有し、さらに屈曲および熱に対する耐クラック性を有する透明基板／ガラス板複合フィルムとその製造方法ならびにフレキシブル有機エレクトロルミネッセンス照明、フレキシブル太陽電池を提供する。【解決手段】ガラス繊維よりも屈折率の大きい高屈折率樹脂と、ガラス繊維よりも屈折率の小さい低屈折率樹脂とを混合して屈折率がガラス繊維の屈折率に近似するように調製された樹脂組成物を、ガラス繊維の基材に含浸し硬化して形成される透明基板と、透明基板の少なくとも一方の面に積層された厚み５０μｍ以下のガラス板とを有することを特徴とする。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス繊維よりも屈折率の大きい高屈折率樹脂と、ガラス繊維よりも屈折率の小さい低屈折率樹脂とを混合して屈折率がガラス繊維の屈折率に近似するように調製された樹脂組成物を、ガラス繊維の基材に含浸し硬化して形成される透明基板と、透明基板の少なくとも一方の面に積層された厚み５０μｍ以下のガラス板とを有することを特徴とする透明基板／ガラス板複合フィルム。
【請求項２】
透明基板とガラス板との間に接着層を有することを特徴とする請求項１に記載の透明基板／ガラス板複合フィルム。
【請求項３】
接着層のガラス転移温度が１５０℃以上であることを特徴とする請求項２に記載の透明基板／ガラス板複合フィルム。
【請求項４】
接着層の屈折率が透明基板のガラス繊維の屈折率ｎに対してｎ−０．０２〜ｎ＋０．０２の範囲内であることを特徴とする請求項２または３に記載の透明基板／ガラス板複合フィルム。
【請求項５】
請求項２ないし４いずれか一項に記載の透明基板／ガラス板複合フィルムを製造する方法であって、転写フィルムに塗布して設けた接着層形成用樹脂層を透明基板の少なくとも一方の面またはガラス板の一方の面に転写する工程と、転写された接着層形成用樹脂層を挟んで透明基板とガラス板とを真空ラミネートし一体化する工程とを含むことを特徴とする透明基板／ガラス板複合フィルムの製造方法。
【請求項６】
請求項２ないし４いずれか一項に記載の透明基板／ガラス板複合フィルムを製造する方法であって、接着層形成用樹脂層を透明基板の少なくとも一方の面に塗布して設ける工程と、接着層形成用樹脂層を挟んで透明基板とガラス板とを真空ラミネートし一体化する工程とを含むことを特徴とする透明基板／ガラス板複合フィルムの製造方法。
【請求項７】
接着層形成用樹脂層は、樹脂成分が、エポキシ樹脂を含有する常温で固形の樹脂からなることを特徴とする請求項５または６に記載の透明基板／ガラス板複合フィルムの製造方法。
【請求項８】
透明基板とガラス板とを、接着層形成用樹脂層の溶融温度以上かつ透明基板のガラス転移温度未満の温度で真空ラミネートすることを特徴とする請求項５ないし７いずれか一項に記載の透明基板／ガラス板複合フィルムの製造方法。
【請求項９】
透明基板とガラス板とを接着層形成用樹脂層を挟んで一体化した後、接着層形成用樹脂層を光照射により半硬化させる工程と、半硬化させた接着層形成用樹脂層を熱硬化させて接着層を形成する工程とをさらに含むことを特徴とする請求項５ないし８いずれか一項に記載の透明基板／ガラス板複合フィルムの製造方法。
【請求項１０】
請求項１ないし４いずれか一項に記載の透明基板／ガラス板複合フィルムを基材とする有機エレクトロルミネッセンス発光素子を備えることを特徴とするフレキシブル有機エレクトロルミネッセンス照明。
【請求項１１】
請求項１ないし４いずれか一項に記載の透明基板／ガラス板複合フィルムを基材として有することを特徴とするフレキシブル太陽電池。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、透明基板／ガラス板複合フィルムとその製造方法ならびにフレキシブル有機エレクトロルミネッセンス照明、フレキシブル太陽電池に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
有機エレクトロルミネッセンス発光素子は、例えば、ガラスやプラスチック等の透光性基材、透明導電膜からなる陽極、有機薄膜からなる有機発光層、金属薄膜からなる陰極を積層した構造を有している。そして低電圧で高輝度の面発光を示すこと、発光物質の選択により任意の色調での発光が可能であること等から、近年では、照明、液晶表示装置用バックライト、フラットパネルディスプレイ等の各種の分野において用いられている。
【０００３】
そして近年では、有機エレクトロルミネッセンス発光素子のさらなる軽量薄型化が要望されており、用途によっては可撓性を有するものも要望されている。従来、有機エレクトロルミネッセンス照明には、有機エレクトロルミネッセンス発光素子の基材としてガラス板等が用いられてきたが、可撓性を得るためにフレキシブルな基材が検討されている。
【０００４】
一方、太陽電池は、新たなエネルギー源としての応用が進み、将来の主たるエネルギー源の一つとして注目されている。そして太陽電池の分野においても、さらなる軽量薄型化が要望されており、用途によっては可撓性を有するものも要望されている。
【０００５】
そしてこれらの有機エレクトロルミネッセンス照明や太陽電池においては、可撓性を付与するためのフレキシブルな基材の検討に際し、基材の透明性、耐熱性、機械強度、耐薬品性、熱膨張の抑制、素子製造プロセスにおける高真空中でのガス放出抑制、ガスバリア性、表面平滑性等も考慮する必要がある。
【０００６】
このような各種の特性も考慮した軽量薄型の可撓性を有する基材として、樹脂等の透明基板にガラス板を積層した複合フィルムが検討されている。例えば特許文献１では、液晶表示装置等に用いられる基材として、ポリビニルブチラール系透明接着性樹脂層の両面に、厚み０．２５ｍｍ未満の薄いガラス板を直接に積層した複合フィルムが提案されている。
【０００７】
また、特許文献２には、可撓性を有するものではないが、透明基板にガラス板を積層する技術として、ガラス繊維の基材に樹脂組成物を含浸し、乾燥して半硬化することによりプリプレグを作製し、このプリプレグの両面に厚み１．８〜６ｍｍのガラス板を積層して加熱加圧成形することによりプリプレグを硬化し、自動車のフロントガラス等に用いられる合わせガラスを作製することが提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特許３０５９８６６号明細書
【特許文献２】特開２００４−３３８９６５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、特許文献１に記載の技術では、屈曲や熱により複合フィルムにクラックが発生するという問題点があった。
【００１０】
また、特許文献２に記載の技術のように、プリプレグにガラス板を積層して加熱加圧成形する場合、フレキシブルな基材を得るために薄いガラス板を用いると、加熱加圧成形によりガラス板にクラックが発生するという問題点があった。
【００１１】
本発明は、以上の通りの事情に鑑みてなされたものであり、有機エレクトロルミネッセンス照明や太陽電池等に要求される各種の特性を満足すると共に、可撓性を有し、さらに屈曲および熱に対する耐クラック性を有する透明基板／ガラス板複合フィルムとその製造方法ならびにフレキシブル有機エレクトロルミネッセンス照明、フレキシブル太陽電池を提供することを課題としている。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明は、上記の課題を解決するために、以下のことを特徴としている。
【００１３】
第１に、本発明の透明基板／ガラス板複合フィルムは、ガラス繊維よりも屈折率の大きい高屈折率樹脂と、ガラス繊維よりも屈折率の小さい低屈折率樹脂とを混合して屈折率がガラス繊維の屈折率に近似するように調製された樹脂組成物を、ガラス繊維の基材に含浸し硬化して形成される透明基板と、透明基板の少なくとも一方の面に積層された厚み５０μｍ以下のガラス板とを有することを特徴とする。
【００１４】
第２に、上記第１の透明基板／ガラス板複合フィルムにおいて、透明基板とガラス板との間に接着層を有することを特徴とする。
【００１５】
第３に、上記第２の透明基板／ガラス板複合フィルムにおいて、接着層のガラス転移温度が１５０℃以上であることを特徴とする。
【００１６】
第４に、上記第２または第３の透明基板／ガラス板複合フィルムにおいて、接着層の屈折率が透明基板のガラス繊維の屈折率ｎに対してｎ−０．０２〜ｎ＋０．０２の範囲内であることを特徴とする。
【００１７】
第５に、本発明の透明基板／ガラス板複合フィルムの製造方法は、上記第２ないし第４のいずれかの透明基板／ガラス板複合フィルムを製造する方法であって、転写フィルムに塗布して設けた接着層形成用樹脂層を透明基板の少なくとも一方の面またはガラス板の一方の面に転写する工程と、転写された接着層形成用樹脂層を挟んで透明基板とガラス板とを真空ラミネートし一体化する工程とを含むことを特徴とする。
【００１８】
第６に、本発明の透明基板／ガラス板複合フィルムの製造方法は、上記第２ないし第４のいずれかの透明基板／ガラス板複合フィルムを製造する方法であって、接着層形成用樹脂層を透明基板の少なくとも一方の面に塗布して設ける工程と、接着層形成用樹脂層を挟んで透明基板とガラス板とを真空ラミネートし一体化する工程とを含むことを特徴とする。
【００１９】
第７に、上記第５または第６の透明基板／ガラス板複合フィルムの製造方法において、接着層形成用樹脂層は、樹脂成分が、エポキシ樹脂を含有する常温で固形の樹脂からなることを特徴とする。
【００２０】
第８に、上記第５ないし第７のいずれかの透明基板／ガラス板複合フィルムの製造方法において、透明基板とガラス板とを、接着層形成用樹脂層の溶融温度以上かつ透明基板のガラス転移温度未満の温度で真空ラミネートすることを特徴とする。
【００２１】
第９に、上記第５ないし第８のいずれかの透明基板／ガラス板複合フィルムの製造方法において、透明基板とガラス板とを接着層形成用樹脂層を挟んで一体化した後、接着層形成用樹脂層を光照射により半硬化させる工程と、半硬化させた接着層形成用樹脂層を熱硬化させて接着層を形成する工程とをさらに含むことを特徴とする。
【００２２】
第１０に、本発明のフレキシブル有機エレクトロルミネッセンス照明は、上記第１ないし第４のいずれかの透明基板／ガラス板複合フィルムを基材とする有機エレクトロルミネッセンス発光素子を備えることを特徴とする。
【００２３】
第１１に、本発明のフレキシブル太陽電池は、上記第１ないし第４のいずれかの透明基板／ガラス板複合フィルムを基材として有することを特徴とする。
【発明の効果】
【００２４】
上記第１の発明によれば、透明基板として樹脂組成物をガラス繊維の基材に含浸し硬化したものを用い、この透明基板の少なくとも一方の面に厚み５０μｍ以下のガラス板を積層しているので、有機エレクトロルミネッセンス照明や太陽電池等に要求される各種の特性、例えば、透明性、耐熱性、機械強度、耐薬品性、熱膨張の抑制、素子製造プロセスにおける高真空中でのガス放出抑制、ガスバリア性、表面平滑性等を満足すると共に、可撓性を有しており、さらに屈曲および熱に対する耐クラック性を得ることができる。
【００２５】
上記第２の発明によれば、透明基板とガラス板とを接着層により接着しているので、上記第１の発明の効果に加え、過度な加熱や加圧を要することなく透明基板とガラス板とを積層一体化することができるので、厚み５０μｍ以下のガラス板を用いても、透明基板／ガラス板複合フィルムの製造時にクラックの発生を防止することができる。
【００２６】
上記第３の発明によれば、接着層のガラス転移温度を１５０℃以上とすることで、上記第２の発明の効果に加え、透明基板／ガラス板複合フィルムの耐熱性を高めることができる。
【００２７】
上記第４の発明によれば、接着層の屈折率を透明基板のガラス繊維の屈折率ｎに対してｎ−０．０２〜ｎ＋０．０２の範囲内とすることで、上記第２および第３の発明の効果に加え、透明基板／ガラス板複合フィルムの透明性を高めることができる。
【００２８】
上記第５の発明によれば、過度な加熱や加圧を要することなく透明基板とガラス板とを積層一体化することができるので、厚み５０μｍ以下のガラス板を用いても、透明基板／ガラス板複合フィルムの製造時にクラックの発生を防止することができる。
【００２９】
上記第６の発明によれば、過度な加熱や加圧を要することなく透明基板とガラス板とを積層一体化することができるので、厚み５０μｍ以下のガラス板を用いても、透明基板／ガラス板複合フィルムの製造時にクラックの発生を防止することができる。さらに、接着層形成用樹脂層を透明基板に直接塗布して設けることで、転写フィルムの使用を省略することができ透明基板／ガラス板複合フィルムの製造コストを低減できる。
【００３０】
上記第７の発明によれば、接着層形成用樹脂層の樹脂成分としてエポキシ樹脂を含有する常温で固形の樹脂を用いることで、上記第５および第６の発明の効果に加え、転写フィルムや透明基板に安定な接着層形成用樹脂層を形成することができ、転写フィルムから透明基板への接着層形成用樹脂層の転写や透明基板への接着層形成用樹脂層の形成を確実に行うことができる。
【００３１】
上記第８の発明によれば、透明基板とガラス板とを、接着層形成用樹脂層の溶融温度以上かつ透明基板のガラス転移温度未満の温度で真空ラミネートすることで、上記第５ないし第７の発明の効果に加え、透明基板を熱変形させることなく、透明基板とガラス板とを、溶融した接着層形成用樹脂層により確実に密着させてこれらを接着することができる。
【００３２】
上記第９の発明によれば、接着層形成用樹脂層を光照射により半硬化させ、次いで半硬化させた接着層形成用樹脂層を熱硬化させて接着層を形成することで、上記第５ないし第８の発明の効果に加え、過度な加熱や加圧を要することなく接着層形成用樹脂層を硬化させることができるので、厚み５０μｍ以下のガラス板を用いても、透明基板／ガラス板複合フィルムの製造時にクラックの発生を防止することができる。
【００３３】
上記第１０の発明によれば、上記第１ないし第４の発明の透明基板／ガラス板複合フィルムを有機エレクトロルミネッセンス発光素子の基材として有しているので、有機エレクトロルミネッセンス照明に要求される各種の特性を満足すると共に、可撓性を有しており、さらに屈曲および熱に対する耐クラック性を得ることができる。
【００３４】
上記第１１の発明によれば、上記第１ないし第４の発明の透明基板／ガラス板複合フィルムを基材として有しているので、太陽電池に要求される各種の特性を満足すると共に、可撓性を有しており、さらに屈曲および熱に対する耐クラック性を得ることができる。
【発明を実施するための形態】
【００３５】
以下、本発明を詳細に説明する。
【００３６】
本発明において透明基板の製造に用いられる樹脂組成物は、ガラス繊維よりも屈折率の大きい高屈折率樹脂と、ガラス繊維よりも屈折率の小さい低屈折率樹脂とを混合して屈折率がガラス繊維の屈折率に近似するように調製される。ガラス繊維よりも屈折率の大きい高屈折率樹脂としては、例えば、シアネートエステル樹脂を用いることができる。
【００３７】
シアネートエステル樹脂としては、例えば、２，２−ビス（４−シアネートフェニル）プロパン、ビス（３，５−ジメチル−４−シアネートフェニル）メタン、２，２−ビス（４−シアネートフェニル）エタン、これらの誘導体、芳香族シアネートエステル化合物等が挙げられる。これらは１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００３８】
シアネートエステル樹脂は剛直な分子骨格を有しており、そのため硬化物に高いガラス転移温度を付与することができる。また、シアネートエステル樹脂は常温で固形であるため、後述のように樹脂組成物をガラス繊維の基材に含浸し乾燥することによりプリプレグを調製する際に、指触乾燥することが容易になり、プリプレグの取り扱い性が良好になる。
【００３９】
また、高屈折率樹脂として、多官能エポキシ樹脂等のエポキシ樹脂を単独で、あるいはシアネートエステル樹脂と併用して用いることもできる。
【００４０】
高屈折率樹脂の屈折率は、好ましくは１．５８〜１．６３である。例えば、ガラス繊維の屈折率が１．５６２である場合、高屈折率樹脂は屈折率が１．６前後のものが好ましく、ガラス繊維の屈折率をｎとすると、ｎ＋０．０３〜ｎ＋０．０６の範囲内のものが好ましい。
【００４１】
なお、本発明において、樹脂の屈折率は、いずれも硬化した樹脂の状態（硬化樹脂）での屈折率を意味するものであり、ＡＳＴＭ Ｄ５４２で試験した値である。
【００４２】
一方、ガラス繊維よりも屈折率の小さい低屈折率樹脂としては、例えば、脂環式エポキシ樹脂を用いることができる。中でも、１，２−エポキシ−４−（２−オキシラニル）シクロヘキサン由来の骨格を含むエポキシ樹脂、および水添ビスフェノール型エポキシ樹脂が好ましい。
【００４３】
１，２−エポキシ−４−（２−オキシラニル）シクロヘキサン由来の骨格を含むエポキシ樹脂は、常温で固形であるため透明基板の製造を容易にすることができる。１，２−エポキシ−４−（２−オキシラニル）シクロヘキサン由来の骨格を含むエポキシ樹脂として、例えば、１，２−エポキシ−４−（２−オキシラニル）−シクロヘキサンと２，２−ビス（ヒドロキシメチル）−１−ブタノールとの縮合生成物を用いることができる。
【００４４】
水添ビスフェノール型エポキシ樹脂としては、ビスフェノールＡ型、ビスフェノールＦ型、ビスフェノールＳ型等のものを用いることができる。好ましくは、常温で固形の水添ビスフェノール型エポキシ樹脂が用いられる。常温で液状の水添ビスフェノール型エポキシ樹脂を用いることもできるが、樹脂組成物をガラス繊維の基材に含浸し乾燥することによりプリプレグを調製する際に、指触で粘着性のある状態にまでしか乾燥することができないことが多く、プリプレグの取り扱い性が悪くなる場合がある。
【００４５】
低屈折率樹脂の屈折率は、好ましくは１．４７〜１．５３である。例えば、ガラス繊維の屈折率が１．５６２である場合、この低屈折率樹脂は屈折率が１．５前後のものが好ましく、ガラス繊維の屈折率をｎとすると、ｎ−０．０４〜ｎ−０．０８の範囲内のものが好ましい。
【００４６】
樹脂組成物における高屈折率樹脂と低屈折率樹脂との混合比率は、ガラス繊維の屈折率に近似させるように、任意に調整される。ここで、樹脂組成物の屈折率はガラス繊維の屈折率にできるだけ近いことが望ましいが、ガラス繊維の屈折率をｎとすると、ｎ−０．０２〜ｎ＋０．０２の範囲内で近似するように調整するのが好ましい。
【００４７】
高屈折率樹脂と低屈折率樹脂の比率は、ガラス繊維として安価で供給品質が安定しているＥガラスよりなる繊維を用いる場合には、質量比で好ましくは４０：６０〜５５：４５の範囲内である。この比率の範囲外では、多くの樹脂においてＥガラスの屈折率に樹脂の屈折率を合わせることが難しい。
【００４８】
樹脂組成物は、好ましくは、その硬化樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）が１５０℃以上になるように調製される。ガラス転移温度が１５０℃以上であることにより、透明基板の耐熱性を高めることができる。ガラス転移温度の上限は特に限定されないが、実用的には２８０℃程度がガラス転移温度の上限である。
【００４９】
なお、本発明においてガラス転移温度は、ＪＩＳ Ｃ６４８１ ＴＭＡ法に準拠して測定した値である。
【００５０】
本発明において、樹脂組成物には、硬化開始剤（硬化剤）を配合することができる。この硬化開始剤としては、有機金属塩を用いることができる。その具体例としては、オクタン酸、ステアリン酸、アセチルアセトネート、ナフテン酸、サリチル酸等の有機酸と、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｆｅ等の金属との塩を挙げることができる。これらは１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。中でも、オクタン酸亜鉛が好ましい。硬化開始剤としてオクタン酸亜鉛を用いることにより、硬化樹脂のガラス転移温度を高めることができる。樹脂組成物中のオクタン酸亜鉛等の有機金属塩の含有量は、好ましくは０．０１〜０．１ＰＨＲの範囲内である。
【００５１】
また硬化開始剤として、カチオン系硬化剤を用いることもできる。カチオン系硬化剤を用いることにより、硬化樹脂の透明性を高めることができる。カチオン系硬化剤の具体例としては、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、アンモニウム塩、アルミニウムキレート、三フッ化ホウ素アミン錯体等が挙げられる。樹脂組成物中のカチオン系硬化剤の含有量は、好ましくは０．２〜３．０ＰＨＲの範囲内である。
【００５２】
さらに硬化開始剤として、トリエチルアミン、トリエタノールアミン等の３級アミン、２−エチル−４−イミダゾール、４−メチルイミダゾール、２−エチル−４−メチルイミダゾール等の硬化触媒を用いることもできる。樹脂組成物中の硬化触媒の含有量は、好ましくは０．５〜５．０ＰＨＲの範囲内である。
【００５３】
樹脂組成物は、上記の高屈折率樹脂、低屈折率樹脂、および必要に応じて硬化開始剤等を配合することにより調製することができる。この樹脂組成物は、必要に応じて溶剤で希釈してワニスとして調製することができる。この溶剤としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセトン、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、２−ブタノール、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジアセトンアルコール、Ｎ，Ｎ’−ジメチルアセトアミド等が挙げられる。
【００５４】
ガラス繊維の基材を構成するガラス繊維としては、透明基板の耐衝撃性を高める点からＥガラスやＮＥガラスよりなる繊維が好ましく用いられる。Ｅガラスは無アルカリガラスとも称され、樹脂強化用ガラス繊維として汎用されるガラスであり、ＮＥガラスはＮｅｗＥガラスのことである。
【００５５】
また、ガラス繊維には、耐衝撃性を向上させる目的で、ガラス繊維処理剤として通常用いられているシランカップリング剤により表面処理しておくことが好ましい。ガラス繊維の屈折率は好ましくは１．５５〜１．５７、より好ましくは１．５５５〜１．５６５である。ガラス繊維の屈折率がこの範囲であれば、視認性に優れた透明基板を得ることができる。ガラス繊維の基材としては、ガラス繊維の織布あるいは不織布を用いることができる。
【００５６】
そしてガラス繊維の基材に樹脂組成物のワニスを含浸し、加熱して乾燥することにより、プリプレグを調製することができる。乾燥条件は、特に限定されないが、乾燥温度１００〜１６０℃、乾燥時間１〜１０分間の範囲内が好ましい。
【００５７】
次にこのプリプレグを１枚、あるいは複数枚重ね、加熱加圧成形することにより、樹脂組成物を硬化させて透明基板を得ることができる。加熱加圧成形の条件は、特に限定されないが、温度１５０〜２００℃、圧力１〜４ＭＰａ、時間１０〜１２０分間の範囲内が好ましい。
【００５８】
上記のようにして得られる透明基板において、高屈折率樹脂と低屈折率樹脂とが重合して形成される樹脂マトリクスは、ガラス転移温度が高いものであり、耐熱性に優れた透明基板を得ることができる。
【００５９】
また、上記に例示したような高屈折率樹脂と低屈折率樹脂は、透明性に優れるものであり、高い透明性を確保した透明基板を得ることができる。この透明基板において、ガラス繊維の基材の含有率は好ましくは２５〜６５質量％、より好ましくは３５〜６０質量％である。この範囲内であれば、ガラス繊維による補強効果で高い耐衝撃性を得ることができると共に、十分な透明性を得ることができる。また、ガラス繊維が多過ぎると表面の凹凸が大きくなり、透明性も低下する。一方、ガラス繊維が少な過ぎると線膨張率が大きくなるという問題を生じる。
【００６０】
なお、ガラス繊維の基材は、透明性を高く得るために、厚みの薄いものを複数枚重ねて用いることができる。具体的には、ガラス繊維の基材として厚み５０μｍ以下のものを用い、この５０μｍ以下の厚みのガラス繊維の基材を２枚以上重ねて用いることができる。ガラス繊維の基材の厚みは、特に限定されないが、１０μｍ程度が実用上の下限である。また、ガラス繊維の基材の枚数も特に限定されないが、２０枚程度が実用上の上限である。このように複数枚のガラス繊維の基材を用いて透明積層板を製造する場合、各々のガラス繊維の基材に樹脂組成物を含浸、乾燥してプリプレグを作製し、このプリプレグを複数枚重ねて加熱加圧成形することにより透明基板を得ることができるが、複数枚のガラス繊維の基材を重ねた状態で樹脂組成物を含浸、乾燥してプリプレグを作製し、このプリプレグを加熱加圧成形して透明基板を得るようにしてもよい。
【００６１】
本発明の透明基板／ガラス板複合フィルムは、以上に説明した透明基板と、ガラス板とを用いて、次のようにして製造することができる。
【００６２】
ガラス板としては、厚み５０μｍ以下、好ましくは２０〜４０μｍのものが用いられる。このような厚みのガラス板を用いることで、屈曲に対する耐クラック性を得ることができる。
【００６３】
ガラス板の材質は、特に限定されないが、例えば、ホウケイ酸ガラス、ソーダライムガラス、無アルカリガラス、ゾルゲルガラス等を用いることができる。ガラス板の製法も特に限定されないが、例えば、リドロー法、ダウンドロー法、フュージョン法、マイクロシート法、ゾルゲル法等によるものを用いることができる。
【００６４】
透明基板とガラス板は、接着層により接着される。この接着層を形成するための接着層形成用樹脂組成物としては、エポキシ樹脂を含有する常温（２０℃）で固形の樹脂を樹脂成分とするものを用いることができる。
【００６５】
エポキシ樹脂としては、接着層形成用樹脂組成物の樹脂成分全体として常温で固形であれば、常温で固形のもの以外に、常温で液状のものを組み合わせて用いることができる。エポキシ樹脂としては、特に限定されないが、例えば、３，４−エポキシシクロヘキセニル骨格を含むエポキシ樹脂、１，２―エポキシ−４−（２−オキサニル）シクロヘキサン由来の骨格を含むエポキシ樹脂、固形または液状のビスフェノール型エポキシ樹脂、多官能エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂等が挙げられる。
【００６６】
接着層形成用樹脂組成物の樹脂成分は、複数種の樹脂、特に複数種のエポキシ樹脂を混合することにより、接着層のガラス転移温度および屈折率を調整するのが好ましい。
【００６７】
接着層形成用樹脂組成物は、好ましくは、接着層のガラス転移温度が１５０℃以上になるように調製される。ガラス転移温度が１５０℃以上であることにより、透明基板の耐熱性を高めることができる。
【００６８】
接着層形成用樹脂組成物は、接着層の屈折率がガラス繊維の屈折率にできるだけ近くなるように調整することが望ましく、ガラス繊維の屈折率をｎとすると、ｎ−０．０２〜ｎ＋０．０２の範囲内で近似するように調整するのが好ましい。例えば、ガラス繊維よりも屈折率の大きいエポキシ樹脂と、ガラス繊維よりも屈折率の小さいエポキシ樹脂とを混合して屈折率がガラス繊維の屈折率に近似するように調整することができる。
【００６９】
接着層形成用樹脂組成物には、硬化開始剤（硬化剤）を配合することができる。この硬化開始剤としては、紫外線による硬化が可能な、ホウ素系オニウム塩等の光カチオン硬化開始剤を用いることが好ましい。
【００７０】
接着層形成用樹脂組成物は、上記の樹脂成分、および必要に応じて硬化開始剤等を配合することにより調製することができる。この接着層形成用樹脂組成物は、溶剤で希釈してワニスとして調製することができる。この溶剤としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセトン、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、２−ブタノール、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジアセトンアルコール、Ｎ，Ｎ’−ジメチルアセトアミド等が挙げられる。
【００７１】
本発明における一態様では、接着層形成用樹脂組成物を転写フィルムに塗布し乾燥して接着層形成用樹脂層とする。そして転写フィルムに設けた接着層形成用樹脂層を透明基板の少なくとも一方の面またはガラス板の一方の面に転写し、転写された接着層形成用樹脂層を挟んで透明基板とガラス板とを真空ラミネートし一体化する。透明基板の両面にガラス板を積層する場合には、例えば、両面に接着層形成用樹脂層を転写した透明基板の両面に一対のガラス板を各々設置して真空ラミネートするか、あるいは一方の面に接着層形成用樹脂層を転写した一対のガラス板を透明基板の両面に各々設置して真空ラミネートする。透明基板の片面にガラス板を積層する場合には、例えば、一方の面に接着層形成用樹脂層を転写した透明基板の当該面にガラス板を設置して真空ラミネートするか、あるいは一方の面に接着層形成用樹脂層を転写したガラス板を透明基板の一方の面に設置して真空ラミネートする。
【００７２】
転写フィルムとしては、例えば、ＰＥＴ等の樹脂フィルムを基材とする離型フィルムを用いることができる。
【００７３】
本発明における別の態様では、接着層形成用樹脂組成物を透明基板の少なくとも一方の面に塗布し乾燥して接着層形成用樹脂層を設け、接着層形成用樹脂層を挟んで透明基板とガラス板とを真空ラミネートし一体化する。透明基板の両面にガラス板を積層する場合には、例えば、両面に接着層形成用樹脂層を設けた透明基板の両面に一対のガラス板を各々設置して真空ラミネートする。透明基板の片面にガラス板を積層する場合には、例えば、一方の面に接着層形成用樹脂層を設けた透明基板の当該面にガラス板を設置して真空ラミネートする。
【００７４】
真空ラミネートは、透明基板とガラス板とを、接着層形成用樹脂層の溶融温度以上かつ透明基板のガラス転移温度未満の温度に加熱して行うことが好ましい。このようにすることで、透明基板を熱変形させることなく、透明基板とガラス板とを、溶融した接着層形成用樹脂層により密着させて接着することができる。
【００７５】
真空ラミネートは、市販の加圧式真空ラミネーターを用いて行うことができ、例えば、０．２ＭＰａ程度の条件でラミネートすることができるので、過度の加圧による厚み５０μｍ以下の薄いガラス板へのクラック発生を防止できる。
【００７６】
このようにして透明基板とガラス板とを接着層形成用樹脂層を挟んで一体化した後、前述の光カチオン硬化開始剤を接着層形成用樹脂組成物に配合した場合には、接着層形成用樹脂層を紫外線等の光照射により半硬化させ、次いで、半硬化させた接着層形成用樹脂層を熱硬化させて接着層を形成することができる。熱硬化は、例えば１５０℃で３０分程度行えば接着層を完全に硬化させることができる。
【００７７】
本発明の透明基板／ガラス板複合フィルムは、透明性、耐熱性、機械強度、耐薬品性、熱膨張の抑制、素子製造プロセスにおける高真空中でのガス放出抑制、ガスバリア性、表面平滑性等を満足すると共に、可撓性を有しており、さらに屈曲および熱に対する耐クラック性を有していることから、各種の分野に応用することができ、中でも、フレキシブル有機エレクトロルミネッセンス照明やフレキシブル太陽電池の基材、および液晶ディスプレイ、有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ、プラズマディスプレイ等のフラットパネルディスプレイの基材として好適に用いることができる。
【００７８】
本発明のフレキシブル有機エレクトロルミネッセンス照明は、本発明の透明基板／ガラス板複合フィルムを基材とする有機エレクトロルミネッセンス発光素子を備えている。
【００７９】
有機エレクトロルミネッセンス発光素子は、例えば、透明基板／ガラス板複合フィルムの表面に透明導電膜の陽極が積層され、透明導電膜の上に有機発光層が積層され、有機発光層の上に陰極が積層される。また、必要に応じて、有機発光層と陽極との間にはホール輸送層やホール注入層を、有機発光層と陰極との間には電子輸送層や電子注入層を積層して設けることができる。
【００８０】
これらの陽極、陰極、有機発光層等の各構成要素を形成する材料としては、有機エレクトロルミネッセンス発光素子に従来から用いられているものを適用できる。
【００８１】
陽極は、素子中にホールを注入するための電極であり、仕事関数の大きい金属、合金、電気伝導性化合物、あるいはこれらの混合物からなる電極材料が好ましく用いられ、仕事関数が４ｅＶ以上のものが好ましく用いられる。このような陽極の材料としては、例えば、金等の金属、ＣｕＩ、ＩＴＯ（インジウム−スズ酸化物）、ＳｎＯ2、ＺｎＯ、ＩＺＯ（インジウム−亜鉛酸化物）、あるいはＰＥＤＯＴ、ポリアニリン等の導電性高分子および任意のアクセプタ等でドープした導電性高分子、カーボンナノチューブ等の導電性光透過性材料等が挙げられる。
【００８２】
陽極は、例えば、これらの電極材料を、透明基板／ガラス板複合フィルムの表面に真空蒸着法やスパッタリング法、塗布等の方法により薄膜に形成することによって作製することができる。また、有機発光層における発光を陽極を透過させて外部に照射するためには、陽極の光透過率を７０％以上にすることが好ましい。さらに、陽極のシート抵抗は好ましくは数百Ω／□以下、より好ましくは１００Ω／□以下とされる。陽極の膜厚は、陽極の光透過率、シート抵抗等の特性を上記のように制御するために、材料により異なるが、好ましくは５００ｎｍ以下、より好ましくは１０〜２００ｎｍに設定される。
【００８３】
陰極は、有機発光層に電子を注入するための電極であり、仕事関数の小さい金属、合金、電気伝導性化合物およびこれらの混合物からなる電極材料を用いることが好ましく、仕事関数が５ｅＶ以下の電極材料を用いるのが好ましい。このような電極材料としては、例えば、アルカリ金属、アルカリ金属のハロゲン化物、アルカリ金属の酸化物、アルカリ土類金属等、およびこれらと他の金属との合金等が挙げられる。具体的には、例えば、ナトリウム、ナトリウム−カリウム合金、リチウム、マグネシウム、アルミニウム、マグネシウム−銀混合物、マグネシウム−インジウム混合物、アルミニウム−リチウム合金、Ａｌ／Ａｌ2Ｏ3混合物、Ａｌ／ＬｉＦ混合物等が挙げられる。
【００８４】
陰極は、例えば上記の電極材料を、真空蒸着法やスパッタリング法等の方法により、薄膜に形成することによって作製することができる。陰極の膜厚は、陰極の光透過率等の特性を上記のように制御するために、材料により異なるが、好ましくは５００ｎｍ以下、より好ましくは１００〜２００ｎｍに設定される。
【００８５】
さらに、陰極上にＡｌ等の金属をスパッタで積層し、あるいはフッ素系化合物、フッ素系高分子、その他の有機分子、高分子等を蒸着、スパッタ、ＣＶＤ、プラズマ重合、塗布した後の紫外線硬化、熱硬化等の方法で薄膜として形成し、保護膜としての機能を付与することも可能である。
【００８６】
有機発光層は、例えば、ホスト材料に発光材料を分散してドープした有機材料により構成することができる。このホスト材料はキャリアの注入を持続する材料であり、電子輸送性の材料、ホール輸送性の材料のいずれも用いることができ、例えば後述のホール輸送層を構成するホール輸送性材料や、電子輸送層を構成する電子輸送性材料を用いることができる。
【００８７】
有機発光層に用いられる発光材料としては、アントラセン、ナフタレン、ピレン、テトラセン、コロネン、ペリレン、フタロペリレン、ナフタロペリレン、ジフェニルブタジエン、テトラフェニルブタジエン、クマリン、オキサジアゾール、ビスベンゾキサゾリン、ビススチリル、シクロペンタジエン、キノリン金属錯体、トリス（８−ヒドロキシキノリナート）アルミニウム錯体、トリス（４−メチル−８−キノリナート）アルミニウム錯体、トリス（５−フェニル−８−キノリナート）アルミニウム錯体、アミノキノリン金属錯体、ベンゾキノリン金属錯体、トリ−（ｐ−ターフェニル−４−イル）アミン、１−アリール−２，５−ジ（２−チエニル）ピロール誘導体、ピラン、キナクリドン、ルブレン、ジスチルベンゼン誘導体、ジスチルアリーレン誘導体、各種蛍光色素等が挙げられる。また、これらの化合物のうちから選択される発光材料を９０〜９９．５質量部、ドーピング材料を０．５〜１０質量部含むようにすることが好ましい。有機発光層の厚みは、好ましくは０．５〜５００ｎｍ、より好ましくは０．５〜２００ｎｍである。
【００８８】
ホール輸送層を構成するホール輸送性材料としては、ホールを輸送する能力を有し、陽極からのホール注入効果を有すると共に、有機発光層や発光材料に対して優れたホール注入効果を有し、さらに電子のホール輸送層への移動を防止し、かつ薄膜形成能力の優れた化合物を用いることができる。具体的には、例えば、フタロシアニン誘導体、ナフタロシアニン誘導体、ポルフィリン誘導体、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−（１，１’−ビフェニル）−４，４’−ジアミン（ＴＰＤ）や４，４’−ビス［Ｎ−（ナフチル）−Ｎ−フェニル−アミノ］ビフェニル（α−ＮＰＤ）等の芳香族ジアミン化合物、オキサゾール、オキサジアゾール、トリアゾール、イミダゾール、イミダゾロン、スチルベン誘導体、ピラゾリン誘導体、テトラヒドロイミダゾール、ポリアリールアルカン、ブタジエン、４，４’，４”−トリス（Ｎ−（３−メチルフェニル）Ｎ−フェニルアミノ）トリフェニルアミン（ｍ−ＭＴＤＡＴＡ）、あるいはポリビニルカルバゾール、ポリシラン、ポリエチレンジオキサイドチオフェン（ＰＥＤＯＴ）等の導電性高分子等が挙げられる。
【００８９】
また電子輸送層を構成する電子輸送性材料としては、電子を輸送する能力を有し、陰極からの電子注入効果を有するとともに、有機発光層や発光材料に対して優れた電子注入効果を有し、さらにホールの電子輸送層への移動を防止し、かつ薄膜形成能力の優れた化合物を用いることができる。具体的には、例えば、フルオレン、バソフェナントロリン、バソクプロイン、アントラキノジメタン、ジフェノキノン、オキサゾール、オキサジアゾール誘導体、トリアゾール、イミダゾール、アントラキノジメタン等が挙げられる。
【００９０】
また、ホール輸送層と陽極との間にはホール注入層を、電子輸送層と陰極との間には電子注入層を設けてもよい。これらのホール注入層や電子注入層は、上記のホール輸送層や電子輸送層を構成する物質やその他の材料で電極からのキャリア注入に優れる材料を単独で用いて構成してもよく、あるいは、有機材料と電荷移動錯体を形成する金属、半導体、有機材料、金属酸化物、金属炭化物、金属ホウ化物、金属窒化物、アクセプタガス等、ルイス酸やルイス塩基としてあるいはブレンステッド酸やブレンステッド塩基として機能する材料を混合または積層して構成してもよい。
【００９１】
本発明のフレキシブル有機エレクトロルミネッセンス照明は、上記の有機エレクトロルミネッセンス発光素子の陽極と陰極とが駆動電源に接続され、陽極と陰極との間に電圧を印加して有機発光層を発光させる。有機発光層で発光された光は、透明基板／ガラス板複合フィルムを通して取り出される。
【００９２】
本発明のフレキシブル太陽電池は、本発明の透明基板／ガラス板複合フィルムを基材として備えている。例えば、従来から知られている方法に従って、透明基板／ガラス板複合フィルムの上に透明導電膜、アモルファスシリコン、金属薄膜を順に積層して太陽電池を構成することができる。
【００９３】
本発明の透明基板／ガラス板複合フィルムを基材として、例えば、単結晶シリコン、多結晶シリコン、アモルファスシリコンを用いた無機太陽電池、あるいは有機太陽電池を構成することができる。有機太陽電池としては、ショットキー接合を有するもの、Ｐ型とＮ型とを積層した有機ヘテロ接合を有するもの、Ｐ型とＮ型とをブレンドした有機バルクヘテロ接合を有するもの、電子供与性材料である導電性有機化合物、特に導電性高分子と、電子受容性材料である化合物半導体粒子とを混合した光電変換層を含むもの、光を受けて発電する光電変換層を積層して光の利用効率を高めた積層型の有機太陽電池等が挙げられる。
【実施例】
【００９４】
以下、実施例により本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。
＜実施例１＞
高屈折率樹脂として、固形型のシアネートエステル樹脂（Ｌｏｎｚａ社製、ＢＡＤＣｙ、２，２−ビス（４−シアナートフェニル）プロパン、屈折率１．５９）を５２質量部、低屈折率樹脂として、１，２−エポキシ−４−（２−オキシラニル）シクロヘキサン由来の骨格を含む固形型のエポキシ樹脂（ダイセル化学工業（株）製、ＥＨＰＥ３１５０、屈折率１．５１）を４８質量部配合し、さらに硬化開始剤としてオクタン酸亜鉛を０．０２質量部配合し、これに溶剤のトルエン５０質量部およびメチルエチルケトン５０質量部を添加して、温度７０℃で攪拌溶解することにより、樹脂組成物のワニスを調製した。この樹脂組成物の硬化物の屈折率は１．５６であった。
【００９５】
次に、ガラス繊維の基材として、厚み２５μｍのガラス繊維クロス（旭化成エレクトロニクス（株）製、品番１０３７、Ｅガラス、屈折率１．５６）を用いて、これに上記の樹脂組成物のワニスを含浸し、１５０℃で５分間加熱することにより溶剤を除去すると共に樹脂を半硬化させてプリプレグを調製した。
【００９６】
そして、離型処理をした成形用ガラス板にこのプリプレグを挟んでプレス機にセットし、１７０℃、２ＭＰａ、１５分の条件で加熱加圧成形することにより、樹脂の含有率４８質量％、厚み２６μｍの透明基板を得た。得られた透明基板のガラス転移温度は２３０℃であった。
【００９７】
一方、３，４−エポキシシクロヘキセニル骨格を含むエポキシ樹脂（ダイセル化学工業（株）製、セロキサイド２０８１）１０質量部、液状ビスフェノール型エポキシ樹脂（ＤＩＣ（株）製、エピクロン８３０Ｓ）１５質量部、固形ビスフェノール型エポキシ樹脂（ジャパンエポキシレジン（株）製、ＪＥＲ１００６ＦＳ）４０質量部、固形ビスフェノール型エポキシ樹脂（ジャパンエポキシレジン（株）製、同ＪＥＲ４００７）３５質量部、光カチオン硬化開始剤（（株）ＡＤＥＫＡ製、ＳＬ−１７０）１質量部、表面調整剤（ＤＩＣ（株）製、Ｆ４７０）０．１質量部、溶剤のトルエン２１質量部およびメチルエチルケトン４９質量部をガラス容器に秤取し、還流下６０℃で溶解した後、目開き１μｍのＰＴＦＥ製メンブランフィルターで濾過することにより、接着層形成用樹脂組成物のワニスを調製した。
【００９８】
次に、接着層形成用樹脂組成物のワニスを転写フィルム（帝人デュポン社製、ＯＸ−５０、ＰＥＴ製離型フィルム）の表面に、グラビアヘッドのマルチコーター（（株）ヒラノテクシード製）を用いて塗布し、乾燥することにより、厚み1μｍの接着層形成用樹脂層を有する転写用ラミネートフィルムを得た。
【００９９】
この転写用ラミネートフィルムを上記において得られた透明基板の両面に加圧式真空ラミネーター（ニチゴー・モートン（株）製、Ｖ−１３０）を用いて８０℃、０．２ＭＰａの条件でラミネートし、両面の離型フィルムを除去した後、厚み０．０３ｍｍのガラス板（松浪硝子工業（株）製、Ｄ２６３、極薄ガラス）を両面に設置して、上記と同様の条件で真空ラミネートした。
【０１００】
次に、１８００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線で接着層形成用樹脂組成物を半硬化させた後、１５０℃、３０分での熱処理により完全硬化させ、透明基板／ガラス板複合フィルムを作製した。
＜実施例２＞
透明基板に積層するガラス板として、厚み０．０５ｍｍのガラス板（松浪硝子工業（株）製、Ｄ２６３、極薄ガラス）を用い、それ以外は実施例１と同様にして透明基板／ガラス板複合フィルムを作製した。
＜実施例３＞
実施例１の接着層形成用樹脂組成物のワニスをグラビアヘッドのマルチコーター（（株）ヒラノテクシード製）を用いて実施例１の透明基板の一方の面に塗布して乾燥し、さらに透明基板の他方の面にも接着層形成用樹脂組成物のワニスを塗布して乾燥することにより、透明基板の両面に厚み1μｍの接着層形成用樹脂層を有するラミネートフィルムを得た。
【０１０１】
このラミネートフィルムの両面に厚み０．０３ｍｍのガラス板（松浪硝子工業（株）製、Ｄ２６３、極薄ガラス）を設置し、加圧式真空ラミネーター（ニチゴー・モートン（株）製、Ｖ−１３０）を用いて８０℃、０．２ＭＰａの条件でラミネートした。
【０１０２】
次に、１８００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線で接着層形成用樹脂組成物を半硬化させた後、１５０℃、３０分での熱処理により完全硬化させ、透明基板／ガラス板複合フィルムを作製した。
＜実施例４＞
実施例１の接着層形成用樹脂組成物のワニスに代えて、次の接着層形成用樹脂組成物のワニスを作製した。３，４−エポキシシクロヘキセニル骨格を含むエポキシ樹脂（ダイセル化学工業（株）製、セロキサイド２０２１Ｐ）１２部、１，２−エポキシ−４−（２−オキシラニル）シクロヘキサン由来の骨格を含むエポキシ樹脂（ダイセル化学工業（株）製、ＥＨＰＥ３１５０）１２部、固形ビスフェノール型エポキシ樹脂（ジャパンエポキシレジン（株）製、ＪＥＲ１００６ＦＳ）３７部、液状ビスフェノール型エポキシ樹脂（ＤＩＣ（株）製、エピクロン８５０Ｓ）１０部、固形３官能エポキシ樹脂（（株）プリンテック製、テクモアＶＧ３１０１）１５部、ノボラック型エポキシ樹脂（日本化薬（株）製、ＥＰＰＮ２０１）１８部、光カチオン硬化開始剤（（株）ＡＤＥＫＡ製、ＳＬ−１７０）１部、表面調整剤（ＤＩＣ（株）製、Ｆ４７０）０．１部、溶剤のトルエン１５部およびメチルエチルケトン３５部をガラス容器に秤取し、還流下６０℃で溶解した後、目開き１μｍのＰＴＦＥ製メンブランフィルターで濾過することにより、接着層形成用樹脂組成物のワニスを調製した。
【０１０３】
そして、この接着層形成用樹脂組成物を用いた以外は実施例１と同様にして透明基板／ガラス板複合フィルムを作製した。
＜実施例５＞
次の手順に従ってフレキシブル有機エレクトロルミネッセンス照明を作製した。実施例１で得られた５ｃｍ×５ｃｍの透明基板／ガラス板複合フィルムの中央部に幅３．５ｃｍのＩＴＯ（厚み１１００Å、シート抵抗１２Ω／□）で陽極を形成し、このＩＴＯ付き複合フィルムを溶剤洗浄し、次いで、１０分間のＵＶオゾン洗浄を行った。
【０１０４】
次に、ＩＴＯ付き複合フィルムの上に、４ｃｍ×４ｃｍの開口部を有するマスクを用い、４，４’−ビス［Ｎ−（ナフチル）−Ｎ−フェニル−アミノ］ビフェニル（α−ＮＰＤ）と酸化モリブデンを１：１のモル比で共蒸着した層を２００Å厚、α−ＮＰＤを４００Å厚にそれぞれ蒸着して、ホール注入・輸送層を形成した。
【０１０５】
次に、ホール注入・輸送層の上に、緑色有機発光層としてトリス（８−ヒドロキシリナート）アルミニウム（Ａｌｑ３）にクマリンを１質量％ドープした層を５００Å厚に形成し、そしてＡｌｑ３を１００Å厚、バソクプロインとセシウムを１：１のモル比で２００Å厚にそれぞれ蒸着して、電子注入・輸送層を形成した。
【０１０６】
続いて、３．５ｃｍ×５ｃｍの開口部を有するマスクを用いて、上記ＩＴＯと直交する方向でＡｌを１０００Å厚に蒸着して陰極を形成し、次いで保護膜としてＬｉＦを８００Å厚で蒸着し成膜した。
【０１０７】
このようにして得られた有機エレクトロルミネッセンス素子は、可撓性でクラックの発生もなく、軽量かつ薄型のものであった。また、この有機エレクトロルミネッセンス素子を用いたフレキシブル有機エレクトロルミネッセンス照明について、室温（２０℃）の部屋で、電源（ＫＥＩＴＨＬＥＹ モデル２４００）に接続して２０ｍＡ／ｃｍ2の定電流駆動を行い、発光面からの発光を目視で確認した。
＜実施例６＞
次の手順に従ってフレキシブル太陽電池を作製した。実施例１で得られた透明基板／ガラス板複合フィルム上に、ＩＴＯ層、アモルファスシリコン層、アルミニウム層を順次積層して面積１００ｍｍ2のアモルファスシリコン太陽電池を得た。ＩＴＯ層はスパッタリング法、アモルファスシリコン層はＣＶＤ法、アルミニウム層は蒸着法でそれぞれ作製した。なお、プロセスの最高温度は２００℃であった。
【０１０８】
得られたフレキシブル太陽電池を用いて、次の方法でエネルギー変換効率を算出した。ソーラーシュミレーター（ぺクセルテクノロジーズ（株）製、ＰＥＣ−Ｌ１０）を用いて、入射光強度が１００ｍＷ／ｃｍ2の模擬太陽光を、気温２５℃、湿度５０％の雰囲気で測定した。電流電圧測定装置（ＰＥＣＫ ２４００）を用いて、システムに印加するＤＣ電圧を１０ｍＶ／ｓｅｃの定速でスキャンし、素子の出力する光電流を計測することにより、光電流-電圧特性を測定し、エネルギー変換効率を算出したところ、変換効率は７％であった。
＜比較例１＞
透明基板に積層するガラス板として、厚み０．１２ｍｍのガラス板（松浪硝子工業（株）製、マイクロカバーガラス）を用い、それ以外は実施例１と同様にして透明基板／ガラス板複合フィルムを作製した。
＜比較例２＞
実施例１の透明基板の代わりに、ポリビニルブチラールフィルム（積水化学工業（株）製、エスレックＢ、厚み３８０μｍ）を用い、それ以外は実施例１と同様にして透明基板／ガラス板複合フィルムを作製した。
＜比較例３＞
実施例１のプリプレグの両面に、実施例１で用いたガラス板を設置し、１７０℃、２ＭＰａ、１５分の条件で加熱加圧成形することにより、透明基板／ガラス板複合フィルムを作製した。
【０１０９】
以上において作製した実施例１〜実施例４の透明基板／ガラス板複合フィルム、実施例５の有機ＥＬ照明、実施例６の太陽電池、比較例１〜３の透明基板／ガラス板複合フィルムの各試験品について、ヘイズを測定して透明性を評価した。ヘイズの測定は、ＪＩＳ Ｋ７１３６に準拠して行った。また、各試験品の耐クラック性を次の方法で評価した。
[屈曲性試験]
直径がそれぞれ２０、３０、５０ｃｍの円筒状樹脂の外周面に実施例および比較例の試験品を巻いて設置し、クラックの発生を目視で観察し、次の基準により評価した。
○：クラックの発生は見られなかった。
×：クラックが発生した。
[加熱試験]
実施例および比較例の試験品を１７０℃のオーブンで加熱し、室温に冷却した後のクラックの発生を目視で観察し、次の基準により評価した。
○：クラックの発生は見られなかった。
×：クラックが発生した。
【０１１０】
屈曲性試験および加熱試験の結果を表１に示す。
【０１１１】
【表１】
2010221441.tif 000002
【０１１２】
表１より、透明基板に厚み５０μｍ以下のガラス板を接着層で一体化した実施例１〜４の透明基板／ガラス板複合フィルムは、透明性が高く、そして屈曲や熱によるクラックの発生は見られなかった。実施例１の透明基板／ガラス板複合フィルムを基材として用いた実施例５のフレキシブル有機エレクトロルミネッセンス照明、実施例６のフレキシブル太陽電池も同様であった。
【０１１３】
一方、厚み０．１２ｍｍのガラス板を用いた比較例１の透明基板／ガラス板複合フィルムは、屈曲によるクラックの発生が見られた。
【０１１４】
透明基板としてポリビニルブチラールフィルムを用いた比較例２の透明基板／ガラス板複合フィルムは、屈曲によるクラックの発生が見られ、また加熱による多数のクラックの発生が見られた。
【０１１５】
プリプレグの両面にガラス板を設置して加熱加圧成形により作製した比較例３の透明基板／ガラス板複合フィルムでは、加熱加圧成形後に既に多数のクラックが発生していた。