(57)【要約】【課題】可動部材とともにステージ上に保持される物体の変形を防ぐことができるステージ装置、露光装置及びデバイス製造方法を提供すること。【解決手段】物体を保持する第１ベース部と、前記第１ベース部に対して移動可能な可動部を保持する第２ベース部と、前記第１ベース部上に設けられ、前記第２ベース部の荷重方向に対向する対向方向に関して非拘束状態で該第２ベース部を支持するベース支持部と、を備える。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
物体を保持する第１ベース部と、
前記第１ベース部に対して移動可能な可動部を保持する第２ベース部と、
前記第１ベース部上に設けられ、前記第２ベース部の荷重方向に対向する対向方向に関して非拘束状態で該第２ベース部を支持するベース支持部と、
を備えることを特徴とするステージ装置。
【請求項２】
前記非拘束状態は、前記第２ベース部が前記ベース支持部に載置された状態である
ことを特徴とする請求項１に記載のステージ装置。
【請求項３】
前記可動部は、前記荷重方向と直交する所定方向に移動可能である
ことを特徴とする請求項１又は請求項２に記載のステージ装置。
【請求項４】
前記可動部は、前記所定方向に主動的に移動する主動部と、前記主動部の移動に伴って移動する従動部とを有する
ことを特徴とする請求項３に記載のステージ装置。
【請求項５】
前記可動部は、該可動部の重心移動を抑制する重心移動抑制部材を有する
ことを特徴とする請求項１から請求項４のうちいずれか一項に記載のステージ装置。
【請求項６】
前記支持部は、前記所定方向上の２箇所で前記第２ベース部を支持する
ことを特徴とする請求項５に記載のステージ装置。
【請求項７】
前記物体は、複数のパターン領域を有すると共に前記パターン領域が照明光によって照明されるものであり、
前記可動部は、前記照明光を遮光する遮光部材を有する
ことを特徴とする請求項１から請求項６のうちいずれか一項に記載のステージ装置。
【請求項８】
前記荷重方向の直交方向への前記第２ベース部の移動を規制する規制部材を更に備える
ことを特徴とする請求項１から請求項７のうちいずれか一項に記載のステージ装置。
【請求項９】
前記規制部材は、少なくとも前記可動部の移動方向への前記第２ベース部の移動を弾性的に規制する
ことを特徴とする請求項８に記載のステージ装置。
【請求項１０】
パターンが設けられた物体を保持する請求項１から請求項９のうちいずれか一項に記載のステージ装置と、
感光剤が設けられた基板を保持する基板ステージと、
前記パターンを介して前記基板に露光光を照射する照射系と、
を備えることを特徴とする露光装置。
【請求項１１】
請求項１０に記載の露光装置を用いて、前記基板の露光をすることと、
前記基板の露光によって露光された前記感光剤を現像して、前記パターンに対応する露光パターン層を形成することと、
前記露光パターン層を介して前記基板を加工することと、
を含むデバイス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ステージ装置、露光装置及びデバイス製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示デバイスや半導体デバイス等のマイクロデバイスは、成膜処理、露光処理及びエッチング処理等の所定のプロセス処理を複数回繰り返し、基板上に複数のパターンを積層することで製造される。露光処理においては、マスクに形成されているパターンを感光性の基板上に転写する露光装置が用いられる。
【０００３】
露光装置としては、基板上にマスクのパターン全体を同時に転写する一括型露光装置と、マスクステージと基板ステージとを同期走査しつつマスクのパターンを連続的に基板上に転写する走査型露光装置との２種類が主に知られている。このうち、液晶表示デバイスを製造する際には、表示領域の大型化の要求から走査型露光装置が主に用いられている。
【０００４】
走査型露光装置の１つとして、所謂マルチレンズ方式の走査型露光装置（マルチレンズスキャン型露光装置）が知られている。マルチレンズスキャン型露光装置は、複数の投影光学系を有する走査型露光装置である。この複数の投影光学系は、隣り合う投影領域が走査方向で所定量変位するように、かつ、隣り合う投影領域の端部どうしが走査方向と直交する方向に重複するように配置されている。マルチレンズスキャン型露光装置は、良好な結像特性を維持しつつ、露光領域を得ることができる。
【０００５】
このようなマルチレンズスキャン型露光装置を含む露光装置は、マスクを支持するマスクステージと基板を支持する基板ステージとを有し、マスクステージ及び基板ステージを逐次移動しながらマスクのパターンに露光光を照射し、投影光学系を介してパターンの像を基板に転写する構成になっている。マスクステージには、マスクの所望の箇所以外に照射される露光光を遮光する遮光部材が設けられている。遮光部材は、ステージに固定されたガイド部材を介してマスクステージ（マスクホルダ）上に設けられており、遮光する領域に応じてガイド部材上を移動可能になっている。  
【特許文献１】特開２００６−１９５３５３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、遮光部材がガイド部材上を移動すると、これに伴ってガイド部材上に加わる遮光部材の荷重の位置が移動するため、ガイド部材が変形する。ガイド部材はステージに固定されているため、変形のモーメントはマスクステージにも作用する。この結果、マスクステージが変形し、当該マスクステージに保持されている物体（マスク、レーザ干渉計用の移動鏡等）が変形する場合がある。
【０００７】
以上のような事情に鑑み、本発明の目的は、可動部材とともにステージ上に保持される物体の変形を防ぐことができるステージ装置、露光装置及びデバイス製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の第１の態様に係るステージ装置は、物体を保持する第１ベース部と、前記第１ベース部に対して移動可能な可動部を保持する第２ベース部と、前記第１ベース部上に設けられ、前記第２ベース部の荷重方向に対向する対向方向に関して非拘束状態で該第２ベース部を支持するベース支持部と、を備えることを特徴とする。  
この第１の態様によれば、第２ベース部と第１ベース部との間が第２ベース部の荷重方向の対向方向に関して非拘束状態になっているため、両者が拘束状態になっている場合に比べて、第２ベース部の変形によるモーメントが第１ベース部に伝わりにくくなる。このため、可動部の移動によって第２ベース部が変形する場合であっても、当該第２ベース部の変形に伴う第１ベース部の変形が抑えられる。
【０００９】
本発明の第２の態様に係る露光装置は、パターンが設けられた物体を保持する第１の態様に係るステージ装置と、感光剤が設けられた基板を保持する基板ステージと、前記パターンを介して前記基板に露光光を照射する照射系と、を備えることを特徴とする。  
この第２の態様によれば、第１ベース部に保持される物体の変形が抑えられることになるため、露光精度を向上できる。
【００１０】
本発明の第３の態様に係るデバイス製造方法は、第２の態様に係る露光装置を用いて、感光剤が設けられた基板の露光をすることと、前記基板の露光によって露光された前記感光剤を現像して、前記パターンに対応する露光パーン層を形成することと、前記露光パターン層を介して前記基板を加工することと、を含む。  
この第３の態様によれば、基板に設けられた感光剤が高精度に露光されるので、露光パターン層が高精度に形成されることとなる。
【発明の効果】
【００１１】
本発明の態様によれば、可動部材とともにステージ上に保持される物体の変形を防ぐことができるステージ装置、露光装置及びデバイス製造方法が提供される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明する。以下の説明においては、ＸＹＺ直交座標系を設定し、このＸＹＺ直交座標系を参照しつつ各部材の位置関係について説明する。水平面内の所定方向をＸ軸方向、水平面内においてＸ軸方向と直交する方向をＹ軸方向、Ｘ軸方向及びＹ軸方向のそれぞれと直交する方向（すなわち鉛直方向）をＺ軸方向とする。また、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸まわりの回転（傾斜）方向をそれぞれ、θＸ、θＹ、及びθＺ方向とする。
【００１３】
図１は、本発明の実施形態に係る露光装置ＥＸの構成を示す図である。この図に示すように、露光装置ＥＸは、マスクＭを露光光ＥＬで照明する照明システムＩＳと、マスクＭを保持して移動させるマスクステージ装置ＭＳＴと、露光光ＥＬで照明されたマスクＭのマスクパターンＭＰの像を感光剤が表面に設けられた基板Ｐに投影する投影システムＰＳと、基板Ｐを保持して移動させる基板ステージ装置ＰＳＴと、マスクステージ装置ＭＳＴ及び基板ステージ装置ＰＳＴの位置情報を計測するレーザ干渉計１３Ａ、１３Ｂを含む干渉計システム１３と、これら各部を統括的に制御する制御装置ＣＯＮＴとを備えている。
【００１４】
本実施形態において、基板Ｐは、大型のガラスプレートを含み、その基板Ｐの一辺のサイズは、例えば５００ｍｍ以上である。本実施形態においては、基板Ｐの基材として、一辺が約３０００ｍｍの矩形のガラスプレートを用いる。本実施形態においては、基板Ｐに基づいて、フラットパネルディスプレイが製造される。基板Ｐは、露光領域ＰＡを有している。露光領域ＰＡは、例えば第１領域〜第６領域（不図示）の６つの領域を含んでいる。
【００１５】
本実施形態において、投影システムＰＳは、複数の投影光学系ＰＬ１〜ＰＬ７を有する。照明システムＩＳは、複数の投影光学系ＰＬ１〜ＰＬ７に対応する複数の照明モジュールを有する。本実施形態の露光装置ＥＸは、マスクＭと基板Ｐとを所定の走査方向に同期移動しつつ、マスクＭのマスクパターンＭＰの像を基板Ｐに投影する。すなわち、本実施形態の露光装置ＥＸは、所謂、マルチレンズ型スキャン露光装置である。
【００１６】
本実施形態において、投影システムＰＳは、投影光学系ＰＬ１〜ＰＬ７を７つ有し、照明システムＬＳは、照明モジュールを７つ有する。投影システムＰＳが投影光学系を１１個有し、照明システムＩＳが照明モジュールを１１個有していてもよい。基板Ｐの露光時、マスクステージ装置ＭＳＴ及び基板ステージ装置ＰＳＴは、マスクＭ及び基板Ｐを、ＸＹ平面内の所定の走査方向に移動する。本実施形態においては、基板Ｐの走査方向（同期移動方向）をＸ軸方向とし、マスクＭの走査方向（同期移動方向）もＸ軸方向とする。基板Ｐが投影システムＰＳの投影領域ＰＲ１〜ＰＲ７に対してＸ軸方向に移動するとともに、その基板ＰのＸ軸方向への移動と同期して、照明システムＩＳの照明領域ＩＲ１〜ＩＲ７に対してマスクＭがＸ軸方向に移動しつつ、投影システムＰＳを介してマスクＭからの露光光ＥＬが基板Ｐに照射される。これにより、マスクＭのマスクパターンＭＰの像が基板Ｐに投影され、基板Ｐは露光光ＥＬで露光される。
【００１７】
照明システムＩＳは、照明領域ＩＲ１〜ＩＲ７に配置されたマスクＭの少なくとも一部を均一な照度分布の露光光ＥＬで照明する。本実施形態において、照明システムＩＳは、異なる７つの照明領域ＩＲ１〜ＩＲ７のそれぞれを露光光ＥＬで照明する。本実施形態においては、照明システムＩＳから射出される露光光ＥＬとして、水銀ランプから射出される輝線のうち、ｉ線（波長３６５ｎｍ）を用いる。なお、露光光ＥＬとして、水銀ランプから射出される輝線のうち、ｇ線、ｈ線等を用いてもよい。
【００１８】
マスクステージ装置ＭＳＴは、物体としてのマスクＭを保持した状態で、照明領域ＩＲ１〜ＩＲ７に対して移動可能に設けられている。マスクステージ装置ＭＳＴは、マスクＭを保持するマスクホルダ２１を有している。マスクホルダ２１は、平面視中央部にマスク保持部（不図示）を有している。マスク保持部は、マスクＭを真空吸着可能なチャック機構（不図示）を有している。このチャック機構は、マスクＭをリリース可能に保持する。本実施形態において、マスクホルダ２１は、マスクＭの下面（パターン形成面）とＸＹ平面とがほぼ平行となるように、マスクＭを保持する。
【００１９】
マスクステージ装置ＭＳＴは、マスクホルダ２１を移動させる駆動システム（不図示）を有している。駆動システムは、例えばリニアモータを含み、ＸＹ平面に平行にマスクホルダ２１を移動可能になっている。マスクステージ装置ＭＳＴは、駆動システムの作動により、マスクホルダ２１でマスクＭを保持した状態で、Ｘ軸、Ｙ軸、及びθＺ方向の３つの方向に移動可能になっている。マスクホルダ２１上には、移動鏡１４が保持されている。干渉計１３Ａがその移動鏡１４の位置を計測することでマスクステージ（マスクホルダ２１）のＹ方向の位置が検出されるようになっている。なお、マスクホルダ２１のＸ方向の端部には図示しないレトロリフレクタが保持されており、干渉計１３Ａがこのレトロリフレクタの位置を計測することでマスクステージのＸ方向の位置が検出される。
【００２０】
投影システムＰＳは、所定の投影領域ＰＲ１〜ＰＲ７に露光光ＥＬを照射する。投影システムＰＳは、投影領域ＰＲ１〜ＰＲ７に配置された基板Ｐの少なくとも一部に、マスクＭのマスクパターンＭＰの像を所定の投影倍率で投影する。本実施形態において、投影システムＰＳは、異なる７つの投影領域ＰＲ１〜ＰＲ７のそれぞれにパターンの像を投影する。
【００２１】
基板ステージ装置ＰＳＴは、基板Ｐを保持した状態で、投影領域ＰＲ１〜ＰＲ７に対して移動可能に設けられている。本実施形態において、基板ステージ装置ＰＳＴは、基板Ｐを保持した状態で、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺ方向の６つの方向に移動可能になっている。
【００２２】
図２は、マスクステージ装置ＭＳＴの構成を示す平面図である。図３は、マスクステージ装置ＭＳＴの構成を示す側面図である。  
図２及び図３に示すように、マスクステージ装置ＭＳＴは、上記のマスクホルダ２１に加えて、ブラインドベース部材２２と、支持部材２３とを有している。
【００２３】
ブラインドベース部材２２は、平面視矩形に形成された板状部材である。ブラインドベース部材２２は、Ｘ方向に長手となるように形成されている。ブラインドベース部材２２は、Ｙ方向に４つ並ぶように配置されている。４つのブラインドベース部材２２のうち２つは、マスク保持部の−Ｙ側に配置されている（ブラインドベース部材２２Ａ、２２Ｃ）。残りの２つは、マスク保持部の＋Ｙ側に配置されている（ブラインドベース部材２２Ｂ、２２Ｄ）。なお、図３では、４つのブラインドベース部材２２のうちブラインドベース部材２２Ａのみ示している。
【００２４】
支持部材２３は、マスクホルダ２１上のうち平面視で上記ブラインドベース部材２２Ａ〜２２Ｄに含まれる位置に２つずつ、合計８つ設けられている。各支持部材２３は、例えば三角柱状に形成されている。各支持部材２３の３つの側面のうち一面がマスクホルダ２１に当接している。支持部材２３のうち当該一面に対向する辺には、上記４つのブラインドベース部材２２が載置されている。当該辺がＹ方向に平行になるように各支持部材２３が配置されている。
【００２５】
ブラインドベース部材２２が支持部材２３に載置されることにより、当該ブラインドベース部材２２は支持部材２３に対して＋Ｚ方向に拘束されていない状態（非拘束状態）となっている。また、ブラインドベース部材２２が三角柱の側辺によって線で支持されていることで、より確実に非拘束状態を維持することができるようになっている。また、支持部材２３が１つのブラインドベース部材２２について２つずつ設けられているため、各ブラインドベース部材２２は、２つの支持部材２３上によって２箇所で載置された状態で支持されている。
【００２６】
各ブラインドベース部材２２（２２Ａ〜２２Ｄ）上には、それぞれプーリ部２４と、ガイドレール３６とが設けられている。以下の説明において、４つのブラインドベース部材２２Ａ〜２２Ｄに設けられる構成要素をブラインドベース部材２２Ａ〜２２Ｄごとに識別する場合には、各構成要素の符号にブラインドベース部材２２Ａ〜２２Ｄに付されたＡ〜Ｄを付記して対応させるものとする。
【００２７】
プーリ部２４は、各ブラインドベース部材２２のＸ方向上の両端部に一対取り付けられており、θＺ方向に回転するようになっている。一対のプーリ部２４Ａ、２４Ｃのうちそれぞれの一方（例えば図中左側のプーリ部２４Ａ及び２４Ｃ）は不図示の回転駆動源を有しており、この回転駆動源によりプーリ部自身がθＺ方向に回転するようになっている。一対のプーリ部２４Ａ、２４Ｃのうちそれぞれの他方（例えば図中右側のプーリ部２４Ａ及び２４Ｃ）及びプーリ部２４Ｂ、２４Ｄは、このような回転駆動源を有しておらず、外部から回転力が付加されることによってθＺ方向に回転するようになっている。
【００２８】
各ブラインドベース部材２２のプーリ部２４には、ワイヤ機構２５が掛け渡されている。ワイヤ機構２５は、環状に形成されたワイヤ部材２６に第１移動部材２７及び第２移動部材２８が固定された構成になっている。プーリ部２４とワイヤ機構２５との間は、互いの回転力を伝達し合うようになっている。例えばプーリ部２４が回転することでワイヤ機構２５が回転するようになっており、ワイヤ機構２５が回転することでプーリ部２４が回転するようにもなっている。第１移動部材２７及び第２移動部材２８は、ワイヤ機構２５が回転することによって移動するようになっている。
【００２９】
ガイドレール３６は、ワイヤ機構２５の＋Ｙ側及び−Ｙ側にそれぞれ１本ずつ設けられている。各ガイドレール３６は、第１移動部材２７及び第２移動部材２８の移動方向（Ｘ方向）に沿って平行に形成されている。各ガイドレール３６上には、第１移動部材２７又は第２移動部材２８が載置されている。第１移動部材２７及び第２移動部材２８は、ワイヤ機構２５の回転により、ガイドレール３６に沿ってＸ方向に移動するようになっている。
【００３０】
ブラインドベース部材２２Ａに設けられる第１移動部材２７Ａと、ブラインドベース部材２２Ｂに設けられる第１移動部材２７Ｂとの間には、遮光部材２９が架け渡されている。遮光部材２９は、平面視矩形に形成された板状部材であり、Ｙ方向に長手となるように形成されている。遮光部材２９は、一方の端部が第１移動部材２７Ａに固定されており、他方の端部が第１移動部材２７Ｂに固定されている。これら遮光部材２９、第１移動部材２７Ａ及び第１移動部材２７Ｂは一体的に形成されている。
【００３１】
一対のプーリ部２４Ａのうち回転駆動源を有するプーリ部２４Ａが回転すると、ワイヤ機構２５Ａが回転し、第１移動部材２７Ａ、第１移動部材２７Ｂ及び遮光部材２９が一体的に移動するようになっている。この場合、第１移動部材２７Ｂの移動によってワイヤ機構２５Ｂが回転し、この回転によってプーリ部２４Ｂが回転するようになっている。
【００３２】
このように、ブラインドベース部材２２Ａ側では回転駆動源が設けられているため、ブラインドベース部材２２Ａ側の第１移動部材２７Ａの移動は当該回転駆動源によって主動的な移動となる。また、ブラインドベース部材２２Ｂ側では回転駆動源が設けられていないため、ブラインドベース部材２２Ｂ側の第１移動部材２７Ｂの移動は、第１移動部材２７Ａ及び遮光部材２９の移動に伴った従動的な移動となる。
【００３３】
ブラインドベース部材２２Ｃに設けられる第１移動部材２７Ｃと、ブラインドベース部材２２Ｄに設けられる第１移動部材２７Ｄとの間には、遮光部材３０が架け渡されている。遮光部材３０は、遮光部材２９と同様、平面視矩形に形成された板状部材であり、Ｙ方向が長手に形成されている。遮光部材３０は、一方の端部が第１移動部材２７Ｃに固定されており、他方の端部が第１移動部材２７Ｄに固定されている。これら遮光部材３０、第１移動部材２７Ｃ及び第１移動部材２７Ｄは一体的に形成されている。
【００３４】
一対のプーリ部２４Ｃのうち回転駆動源を有するプーリ部２４Ｃが回転すると、ワイヤ機構２５Ｃが回転し、第１移動部材２７Ｃ、第１移動部材２７Ｄ及び遮光部材３０が一体的に移動するようになっている。この場合、第１移動部材２７Ｄの移動によってワイヤ機構２５Ｄが回転し、この回転によってプーリ部２４Ｄが回転するようになっている。
【００３５】
このように、ブラインドベース部材２２Ｃ側では回転駆動源が設けられているため、ブラインドベース部材２２Ｃ側の第１移動部材２７Ｃの移動は当該回転駆動源によって主動的な移動となる。また、ブラインドベース部材２２Ｄ側では回転駆動源が設けられていないため、ブラインドベース部材２２Ｄ側の第１移動部材２７Ｄの移動は、第１移動部材２７Ｃ及び遮光部材３０の移動に伴った従動的な移動となる。
【００３６】
上記の遮光部材２９及び遮光部材３０は、マスクＭに形成されている複数のパターンのうち基板Ｐに転写しないパターンに露光光が照射されないように遮光する。遮光部材２９は、平面視でマスクＭの＋Ｘ側半分の領域上を移動可能になっている。遮光部材３０は、平面視でマスクＭの−Ｘ側半分の領域上を移動可能になっている。これら２つの遮光部材２９及び遮光部材３０によって、マスクＭ上の全領域に亘って遮光部材をアクセスさせることができるようになっている。
【００３７】
第１移動部材２７及び第２移動部材２８は、ワイヤ部材２６を介して一体的に設けられているため、ワイヤ機構２５の回転によりＸ方向に連動して移動するようになっている。具体的には、第１移動部材２７と第２移動部材２８とでは、Ｘ方向上の逆方向に連動して移動するようになっている。例えば、第１移動部材２７が＋Ｘ方向へ移動すると、第２移動部材２８は−Ｘ方向へ移動するようになっている。逆に、第１移動部材２７が−Ｘ方向へ移動すると、第２移動部材２８は＋Ｘ方向へ移動するようになっている。このように、第１移動部材２７に連動して当該第１移動部材２７とは反対の方向へ移動することにより、第２移動部材２８は各ブラインドベース部材２２の重心移動を抑制する重心移動抑制部材として機能する。この場合、重心位置はブラインドベース部材２２の平面視中央部から移動しないように抑制されるようになっている。
【００３８】
次に、本実施形態に係る、基板Ｐの露光時における露光装置ＥＸの動作の一例について説明する。  
本実施形態において、露光装置ＥＸの動作の少なくとも一部は、予め定められている露光に関する制御情報（露光制御情報）に基づいて実行される。露光制御情報は、露光装置ＥＸの動作を規定する制御命令群を含み、露光レシピとも呼ばれる。以下の説明において、露光に関する制御情報を適宜「露光レシピ」と表記する。
【００３９】
露光レシピは、制御装置ＣＯＮＴに予め記憶されている。少なくとも基板Ｐの露光時（マスクＭ及び基板Ｐに対する露光光ＥＬの照射動作時）における露光装置ＥＸの動作条件は、露光レシピによって予め決定されている。制御装置ＣＯＮＴは、露光レシピに基づいて、露光装置ＥＸの動作を制御する。
【００４０】
露光レシピは、基板Ｐの露光時におけるマスクステージ装置ＭＳＴ及び基板ステージ装置ＰＳＴの移動条件を含む。基板Ｐの露光時、制御装置ＣＯＮＴは、露光レシピに基づいて、マスクステージ装置ＭＳＴ及び基板ステージ装置ＰＳＴを移動させる。具体的には、基板Ｐの露光領域ＰＡに含まれる例えば第１領域〜第６領域（不図示）の露光時において、制御装置ＣＯＮＴは、マスクＭ及び基板ＰをＸＹ平面内の所定の走査方向に移動させる。制御装置ＣＯＮＴは、露光レシピに基づいて、マスクＭと基板Ｐとを走査方向に同期移動させながらマスクＭの下面のマスクパターンＭＰに露光光ＥＬを照射させる。露光光ＥＬは、マスクパターンＭＰを介して基板Ｐの表面の第１領域〜第６領域に照射され、当該第１領域〜第６領域が露光される。
【００４１】
これら第１領域〜第６領域に対する露光処理を行う際、制御装置ＣＯＮＴは、第１領域〜第６領域を投影領域ＰＲ１〜ＰＲ７に対して基板Ｐの表面（ＸＹ平面）に沿って走査方向に移動させるとともに、マスクＭのマスクパターンＭＰを照明領域ＩＲ１〜ＩＲ７に対してマスクＭの下面（ＸＹ平面）に沿って走査方向に移動させる。本実施形態では、基板Ｐの走査方向（同期移動方向）を例えばＸ軸方向とし、マスクＭの走査方向（同期移動方向）も例えばＸ軸方向とする。
【００４２】
例えば基板Ｐの第１領域を露光する場合、制御装置ＣＯＮＴは、投影領域ＰＲ１〜ＰＲ７に対して基板Ｐの第１領域をＸ軸方向に移動させると共に、照明領域ＩＲ１〜ＩＲ７に対してマスクＭのマスクパターンＭＰをＸ軸方向に移動させる。このとき制御装置ＣＯＮＴは、第１領域のＸ軸方向への移動とマスクパターンＭＰのＸ方向への移動とを同期させる。これに加えて、制御装置ＣＯＮＴは、第１領域及びマスクパターンＭＰの移動を同期させながら、照明領域ＩＲ１〜ＩＲ７に露光光ＥＬを照射させる。照射された露光光ＥＬは、マスクＭを透過し、投影光学系ＰＬを介して投影領域ＰＲ１〜ＰＲ７に照射される。基板Ｐの第１領域は当該露光光ＥＬによって露光され、当該第１領域にはマスクパターンＭＰのパターンの像が投影される。
【００４３】
制御装置ＣＯＮＴは、第１領域の露光が終了した後、次の露光領域（例えば第２領域）を露光する。このとき制御装置ＣＯＮＴは、投影領域ＰＲ１〜ＰＲ７が第２領域の露光開始位置に配置されるように基板ステージ装置ＰＳＴを移動させる。また、制御装置ＣＯＮＴは、照明領域ＩＲ１〜ＩＲ７がマスクパターンＭＰの露光開始位置に配置されるようにマスクステージ装置ＭＳＴを移動させる。投影領域ＰＲ１〜ＰＲ７が第２領域の露光開始位置に配置され、照明領域ＩＲ１〜ＩＲ７がマスクパターンＭＰの露光開始位置に配置された後、制御装置ＣＯＮＴは、第２領域の露光を開始する。
【００４４】
このように制御装置ＣＯＮＴは、マスクステージ装置ＭＳＴに保持されるマスクＭと基板ステージ装置ＰＳＴに保持される基板ＰとをＸ軸方向に同期移動させながら基板Ｐに露光光ＥＬを照射させる。加えて、制御装置ＣＯＮＴは、複数の露光領域を露光するため、基板ＰをＸＹ平面内の所定方向（例えばＸ軸方向）にステッピング移動させる。制御装置ＣＯＮＴは、これらの露光光照射動作及びステッピング動作を露光領域ごとに繰り返させながら、マスクＭに設けられたマスクパターンＭＰ及び投影光学系ＰＬを介して、基板Ｐ上の第１領域〜第６領域を順次露光させる。
【００４５】
制御装置ＣＯＮＴは、一連の露光動作を行わせる際、マスクＭに設けられたマスクパターンＭＰのうち基板Ｐの所定の露光領域（第１領域〜第６領域）に転写しない部分を適宜遮光させるようにする。制御装置ＣＯＮＴは、遮光部材２９及び遮光部材３０を用いて当該遮光動作を行わせる。
【００４６】
遮光動作を行わせる際、制御装置ＣＯＮＴは、マスクパターンＭＰのうち遮光する部分の＋Ｚ方向上に遮光部材２９又は遮光部材３０を配置させる。制御装置ＣＯＮＴは、例えば当該遮光部分がマスクＭの−Ｘ側半分の領域内に設けられている場合には遮光部材２９を移動させ、遮光部分がマスクＭの＋Ｘ側半分の領域内に設けられている場合には遮光部材３０を移動させる。
【００４７】
遮光部材２９又は遮光部材３０を移動させる際、制御装置ＣＯＮＴは、マスクパターンＭＰのうち遮光する部分のＸ座標を例えば露光レシピに基づいて確認し、当該Ｘ座標に対応する遮光部材２９又は遮光部材３０を選択する。ここでは、例えば遮光部材２９を選択するものとする。
【００４８】
遮光部材２９を選択した後、制御装置ＣＯＮＴは、ブラインドベース部材２２Ａに設けられる回転駆動源を駆動させ、プーリ部２４Ａを回転させる。プーリ部２４Ａの回転により、当該プーリ部２４Ａに掛け回されたワイヤ機構２５Ａが回転する。ワイヤ機構２５Ａの回転によって第１移動部材２７Ａが移動し、第１移動部材２７Ａの移動に伴って第１移動部材２７Ｂ及び遮光部材２９が移動する。
【００４９】
図４及び図５は、第１移動部材２７Ａ、第２移動部材２７Ｂ及び遮光部材２９が移動したときの様子を示す図である。図４は図２に対応する平面図であり、図５は図３に対応する側面図である。例えば遮光部材２９が図４及び図５に示す位置まで移動した場合、遮光部材２９、第１移動部材２７Ａ及び第２移動部材２８Ａがブラインドベース部材２２Ａ上のＸ方向中央部に集まることになる。図５に示す状態においてはブラインドベース部材２２ＡのＸ方向中央部に荷重が集中して作用する。このため、例えば遮光部材２９がブラインドベース部材２２の状態に比べてブラインドベース部材２２ＡはＸ方向中央部が−Ｚ方向に撓むように変形する。
【００５０】
ブラインドベース部材２２Ａがマスクホルダ２１に対して固定されている場合、ブラインドベース部材２２Ａの変形のモーメントは両者の固定位置を介してマスクホルダ２１に伝達され、マスクホルダ２１が変形する。マスクホルダ２１が変形すると、マスクホルダ２１のマスク保持部に保持されるマスクＭ及び移動鏡１４も変形してしまう場合がある。マスクＭが変形すると、当該マスクＭを介して転写されるパターンの像が歪んでしまい、露光精度に悪影響を及ぼすこととなる。また、移動鏡１４が変形すると、パターンの像が基板Ｐ上の所望の位置に転写されず、露光精度が悪化することとなる。
【００５１】
一方、本実施形態では、ブラインドベース部材２２Ａがマスクホルダ２１に対して固定されてはおらず、ブラインドベース部材２２Ａが支持部材２３に載置されているだけの構成となっている。このため、ブラインドベース部材２２Ａの変形のモーメントはマスクホルダ２１にはほとんど伝達されず、ブラインドベース部材２２Ａのみが変形する。マスクホルダ２１の変形が抑制されることになるため、マスクホルダ２１に保持されるマスクＭ及び移動鏡１４の変形も抑制される。
【００５２】
ここで、ブラインドベース部材２２Ａの変形により、例えば遮光部材２９のＸ座標が変化する場合も考えられる。これに対しては、例えばブラインドベース部材２２Ａの変形の前後における遮光部材２９のＸ座標の変化量を求めておき、制御装置ＣＯＮＴが当該変化量を考慮したＸ座標位置に遮光部材２９を移動させるよう制御すれば良い。
【００５３】
なお、露光動作において制御装置ＣＯＮＴが遮光部材３０を選択して移動させる場合であっても、上記のように遮光部材２９を選択して移動させる場合と同様の説明が可能である。
【００５４】
以上のように、本実施形態によれば、ブラインドベース部材２２とマスクホルダ２１との間がブラインドベース部材２２の荷重方向の対向方向に関して非拘束状態になっているため、両者が拘束状態になっている場合に比べて、ブラインドベース部材２２の変形によるモーメントがマスクホルダ２１に伝わりにくくなる。このため、第１移動部材２７、第２移動部材２８、遮光部材２９及び遮光部材３０の移動によってブラインドベース部材２２が変形する場合であっても、当該ブラインドベース部材２２の変形に伴うマスクホルダ２１の変形が抑えられる。これにより、マスクＭ及び移動鏡１４の変形を抑えることができる。
【００５５】
また、本実施形態によれば、第２移動部材２８が、ブラインドベース部材２２上の構成要素（第１移動部材２７、第２移動部材２８、遮光部材２９及び３０）の重心移動を抑制するようになっているため、ブラインドベース部材２２の重心を安定させることができる。本実施形態では、ブラインドベース部材２２のうち上記各構成要素の移動方向であるＸ方向上の２箇所でブラインドベース部材２２を支持する構成となっているため、２箇所の支持部材２３への負荷が変化するのを抑制することができる。
【００５６】
本発明の技術範囲は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更を加えることができる。  
例えば、上記実施形態の構成に加えて、ブラインドベース部材２２のＸ方向及びＹ方向の移動を規制する規制部材を配置した構成であっても構わない。図６（ａ）はブラインドベース部材２２の構成を示す平面図であり、図６（ｂ）はブラインドベース部材２２の構成を示す断面図である。図６（ａ）及び図６（ｂ）に示すように、上記の規制部材としてはＸ方向の移動を弾性的に規制する板バネ部材３１や、Ｙ方向及びθＺ方向の移動を弾性的に規制するピン部材３２などが挙げられる。
【００５７】
板バネ部材３１は、ブラインドベース部材２２の−Ｘ方向の端面及び＋Ｘ方向の端面にそれぞれの一端が取り付けられている。板バネ部材３１の他端はマスクホルダ２１のＸ方向の両端部に支柱部材３３を介してそれぞれ固定されている。支柱部材３３は、例えばビスなどの固定部材によってマスクホルダ２１に固定されている。
【００５８】
ピン部材３２は、例えばブラインドベース部材２２のうちプーリ部２４に対して端部側の位置に１つずつ設けられている。ブラインドベース部材２２のうちピン部材３２の設けられる部分には貫通孔３４が形成されている。２つの貫通孔３４のうち例えば−Ｘ側に設けられる貫通孔３４は、平面視でＸ方向に広がるように形成されている。この構成により、ブラインドベース部材２２が変形したときのマージンを確保することができるようになっている。この貫通孔３４については、例えばブラインドベース部材２２の−Ｚ側から＋Ｚ側にかけて徐々に孔径が大きくなるようにテーパー状に形成しても構わない。
【００５９】
また、上記実施形態においては、ブラインドベース部材２２上の可動部（第１移動部材２７、第２移動部材２８、遮光部材２９及び遮光部材３０）を移動させる構成として、プーリ部２４及びワイヤ機構２５を例に挙げて説明したが、これに限られることは無く、例えばモータ及びボールネジを用いた構成、リニアモータやエアベアリングなど、他のアクチュエータを用いる構成としても構わない。
【００６０】
また、上記実施形態においては、ブラインドベース部材２２の２箇所を支持するように各ブラインドベース部材２２について支持部材２３を２つずつ配置する構成としたが、これに限られることは無く、例えば３つ以上配置する構成とすることもできる。ただし、ブラインドベース部材２２の変形に起因するマスクホルダ２１の変形を抑制する観点では、各ブラインドベース部材２２（２２Ａ〜２２Ｄ）を２箇所で支持することが好ましい。
【００６１】
また、支持部材２３の形状としては、上記実施形態のように三角柱形状には限られず、例えば他の多角柱形状に構成して線若しくは面で支持する構成であっても構わないし、例えば円錐形状又は角錐形状に形成して点で支持する構成としても構わない。
【００６２】
なお、上述の実施形態の基板Ｐとしては、半導体デバイス製造用の半導体ウエハのみならず、ディスプレイデバイス用のガラス基板、薄膜磁気ヘッド用のセラミックウエハ、あるいは露光装置で用いられるマスクまたはレチクルの原版（合成石英、シリコンウエハ）等が適用される。
【００６３】
なお、上述の実施形態においては、露光装置ＥＸが、マスクＭと基板Ｐとを同期移動してマスクＭのマスクパターンＭＰの像を基板Ｐに投影するステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置（スキャニングステッパ）である場合を例にして説明したが、マスクＭと基板Ｐとを静止した状態でマスクＭのマスクパターンＭＰの像を一括投影し、基板Ｐを順次ステップ移動させるステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置（ステッパ）にも適用することができる。
【００６４】
露光装置ＥＸの種類としては、液晶表示素子製造用又はフラットパネルディスプレイ製造用の露光装置に限られず、感光基板に半導体素子パターンを露光する半導体素子製造用の露光装置や、薄膜磁気ヘッド、撮像素子（ＣＣＤ）、マイクロマシン、ＭＥＭＳ、ＤＮＡチップ、あるいはレチクル又はマスクなどを製造するための露光装置などにも広く適用できる。
【００６５】
上述の実施形態の露光装置ＥＸは、本願請求の範囲に挙げられた各構成要素を含む各種サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精度、光学的精度を保つように、組み立てることで製造される。これら各種精度を確保するために、この組み立ての前後には、各種光学系については光学的精度を達成するための調整、各種機械系については機械的精度を達成するための調整、各種電気系については電気的精度を達成するための調整が行われる。
各種サブシステムから露光装置への組み立て工程は、各種サブシステム相互の、機械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等が含まれる。この各種サブシステムから露光装置への組み立て工程の前に、各サブシステム個々の組み立て工程があることはいうまでもない。各種サブシステムの露光装置への組み立て工程が終了したら、総合調整が行われ、露光装置全体としての各種精度が確保される。なお、露光装置の製造は温度およびクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。
【００６６】
半導体デバイス等のマイクロデバイスは、図７に示すように、マイクロデバイスの機能・性能設計を行うステップ２０１、この設計ステップに基づいたマスク（レチクル）を製作するステップ２０２、デバイスの基材である基板を製造するステップ２０３、上述の実施形態に従って、マスクのパターンを用いて露光光で基板を露光すること、及び露光された基板を現像することを含む基板処理（露光処理）を含む基板処理ステップ２０４、デバイス組み立てステップ（ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程などの加工プロセスを含む）２０５、検査ステップ２０６等を経て製造される。
【図面の簡単な説明】
【００６７】
【図１】本発明の実施の形態に係る露光装置の概略的な構成を示す斜視図。
【図２】本実施形態に係るマスクステージの構成を示す平面図。
【図３】本実施形態に係るマスクステージの構成を示す側面図。
【図４】本実施形態に係るマスクステージの構成を示す平面図。
【図５】本実施形態に係るマスクステージの構成を示す側面図。
【図６】本発明に係るマスクステージの他の構成を示す図。
【図７】マイクロデバイスの製造工程の一例を示すフローチャート。
【符号の説明】
【００６８】
ＥＸ…露光装置  Ｍ…マスク  ＭＳＴ…マスクステージ装置  ＰＳＴ…基板ステージ装置  ＣＯＮＴ…制御装置  １４…移動鏡  ２１…マスクホルダ  ２２（２２Ａ〜２２Ｄ）…ブラインドベース部材  ２３…支持部材  ２４…プーリ部  ２５（２５Ａ〜２５Ｄ）…ワイヤ機構  ２７（２７Ａ〜２７Ｄ）…移動部材  ２８（２８Ａ〜２８Ｄ）…移動部材  ２９、３０…遮光部材  ３１…板バネ部材  ３２…ピン部材
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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