Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成16年12月3日(2004.12.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
媒体が下記式Ｉで表わされる化合物の少なくとも１種を含有することを特徴とする、請求項１に記載の電気光学液晶ディスプレイ：
【化２】
1998168454.tif 000001
式中、
Ｒ2はＨであるか、または炭素原子１〜１５を有するアルキル基またはアルケニル基であり、この基は未置換であるか、またはＣＮまたはＣＦ3により単置換されているか、または少なくとも１個のハロゲンにより置換されており、これらの基中に存在する１個または２個以上のＣＨ2基はまたそれぞれ相互に独立して、Ｏ原子が相互に直接に結合しないものとして、
【化３】
1998168454.tif 000002
または−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−により置き換えられていてもよく、
Ｑは、式−（Ｏ）q−（ＣＨ2）r−（ＣＦ2）s−で表わされる基であり、
ここでｑは０または１であり、
ｒは０または１〜６の整数であり、
ｓは０〜６の整数であり、
Ｘは、ＦまたはＣｌであり、Ｓ＝１〜６の場合には、ＸはまたＨであることができ、
Ａ1およびＡ2はそれぞれ、相互に独立して、
（ａ）トランス−１，４−シクロヘキシレン基または１，４−シクロヘキセニレン基であり、この基中で存在する１個のＣＨ2基または隣接していない２個以上のＣＨ2基は−Ｏ−および／または−Ｓ−により置き換えられていてもよく、
（ｂ）１，４−フェニレン基であり、この基中に存在する１個または２個のＣＨ基はＮにより置き換えられていてもよく、
（ｃ）１，４−ジシクロ［２．２．２］オクチレン、ピペリジン−１，４−ジイル、ナフタレン−２，６−ジイル、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイルおよび１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイルからなる群からの基であり、
ここで基（ａ）および（ｂ）は１個または２個のフッ素原子で置換されていてもよく、
Ｌ3およびＬ4はＨまたはＦであり、
Ｚ1およびＺ2はそれぞれ相互に独立して、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＨ2Ｏ−、−ＯＣＨ2−、−ＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−または単結合であり、または基Ｚ1およびＺ2の一方は−（ＣＨ2）4−または−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ2ＣＨ2−であり、
ｍは、０、１または２である。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４】
媒体が下記式ＩＩＩで表わされる化合物の少なくとも１種を含有することを特徴とする、請求項１〜３のいずれか１項に記載の液晶ディスプレイ：
Ｒ3−（Ａ5−Ｚ5）0−Ａ6−Ｒ4         ＩＩＩ
式中、
Ｒ3およびＲ4はそれぞれ、相互に独立して、式ＩのＲ2について定義されているとおりであり、
Ａ5およびＡ6はそれぞれ、相互に独立して、式ＩのＡ1およびＡ2について定義されているとおりであり、
Ｚ5は、それぞれ相互に独立して、式ＩでＺ1およびＺ2について定義されているとおりであり、
ｏは１、２または３である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
Ｘは、ＦまたはＣｌであり、Ｓ＝１〜６の場合にはまた、ＸはＨであることができ、
Ａ1およびＡ2はそれぞれ相互に独立して、
（ａ）トランス−１，４−シクロヘキシレン基または１，４−シクロヘキセニレン基であり、この基中に存在する１個のＣＨ2基または隣接していない２個のＣＨ2基は−Ｏ−および／または−Ｓ−で置き換えられていてもよく、
（ｂ）１，４−フェニレン基であり、基中に存在する１個または２個のＣＨ基はＮで置き換えられていてもよく、
（ｃ）１，４−ジシクロ［２．２．２］オクチレン、ピペリジン−１，４−ジイル、ナフタレン−２，６−ジイル、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイルおよび１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイルからなる群からの基、
であり、
ここで基（ａ）および（ｂ）は１個または２個のフッ素原子で置換されていてもよく、
Ｌ3およびＬ4はＨまたはＦであり、
Ｚ1およびＺ2はそれぞれ相互に独立して、
−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＨ2Ｏ−、−ＯＣＨ2−、−ＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−、Ｃ≡Ｃ−または単結合であり、または基Ｚ1とＺ2との一方は−（ＣＨ2）4−または−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ2ＣＨ2−であり、
ｍは、０、１または２である：
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
ｂ）媒体が少なくとも一種の下記式ＩＩａで表わされる化合物を含有する。
【化１４】
1998168454.tif 000003
式中、
ａｌｋｙｌは、炭素原子１〜８個を有するアルキル基である；
ｃ）媒体が少なくとも一種の下記式ＩＩＩで表わされるの化合物を含有する：
Ｒ3−（Ａ5−Ｚ5）o−Ａ6−Ｒ4         ＩＩＩ
式中、
Ｒ3およびＲ4はそれぞれ相互に独立して、式ＩでＲ2について定義されている通りであり、
Ａ5およびＡ6はそれぞれ相互に独立して、式ＩでＡ1およびＡ2について定義されている通りであり、
Ｚ5は、それぞれ相互に独立して、式ＩでＺ1およびＺ2に定義されている通りであり、そして、
ｏは１、２または３、である；
【手続補正書】
【提出日】平成16年7月13日(2004.7.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
データの種別を区別し、種別の異なる複数のデータにアクセスすることが可能なデータ処理方法において、
データ処理を行うデータ処理過程を、データの種別をもとに選択する第１の過程と、
第１の過程で選択した前記データ処理でデータ処理を実行する第２の過程とを含むことを特徴とするデータ処理方法。
【請求項２】
請求項１に記載のデータ処理方法において、前記第２の過程でのデータ処理において、前記データ処理手段が、前記データの種別に適切なデータ処理を行う第３の過程とを含むことを特徴とするデータ処理方法。
【請求項３】
英語や日本語といった自然言語の分類などによってデータの種別を区別し、種別の異なる複数のデータにアクセスすることが可能なデータ処理システムにおいて、
登録や検索などのデータ処理を行うデータ処理手段をデータの種別をもとに選択する第１の手段と、
第１の手段で選択した前記データ処理手段にデータ処理を要求する第２の手段とを備えることを特徴とするデータ処理システム。
【請求項４】
英語や日本語といった自然言語の分類などによってデータの種別を区別し、種別の異なる複数のデータにアクセスすることが可能なデータ処理システムにおけるプログラムおよびデータを格納する記憶媒体であって、
登録や検索などのデータ処理を行うデータ処理手段をデータの種別をもとに選択する第１の手段と、
第１の手段で選択した前記データ処理手段にデータ処理を要求する第２の手段を備えるデータ処理システムのプログラムおよびデータを含むことを特徴とする記憶媒体。
【請求項５】
列値に対応する照合キーの照合を行ってレコードをソートする照合処理方法において、  ソート要求で指定された照合方法で評価対象となる列値に対応する照合キーの識別子を取得し、その照合キーを用いたソート処理を要求するステップと、
前記識別子で示される照合キーを参照し、前記列値が格納されたレコードを識別する為のレコード識別子を前記照合キーでソートし、前記列値に対応するレコード識別子を前記照合方法に応じて順序付けるステップとを有することを特徴とする照合処理方法。
【請求項６】
指定された照合方法で列値の照合を行ってレコードをソートする照合処理装置において、
ソート要求で指定された照合方法で評価対象となる列値に対応する照合キーの識別子を取得し、その照合キーを用いたソート処理を要求する照合処理部と、
前記識別子で示される照合キーを参照し、前記列値が格納されたレコードを識別する為のレコード識別子を前記照合キーでソートし、前記列値に対応するレコード識別子を前記照合方法に応じて順序付けるソート処理部とを備えることを特徴とする照合処理装置。
【請求項７】
指定された照合方法で列値の照合を行ってレコードをソートする照合処理装置としてコンピュータを機能させる為のプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体において、
ソート要求で指定された照合方法で評価対象となる列値に対応する照合キーの識別子を取得し、その照合キーを用いたソート処理を要求する照合処理部と、
前記識別子で示される照合キーを参照し、前記列値が格納されたレコードを識別する為のレコード識別子を前記照合キーでソートし、前記列値に対応するレコード識別子を前記照合方法に応じて順序付けるソート処理部としてコンピュータを機能させる為のプログラムを記録したことを特徴とする記録媒体。
【請求項８】
文字列を含む任意の要素より構成されるデータの蓄積及び取り出しを行うデータ処理方法において、
並び替えで参照される列中の並び替えの対象と並び替えの順番とを示す並び替えのルールを定義するステップと、並び替えで参照される列と当該参照列の並び替えで使用するルールとを示す並び替え処理を指定するステップと、前記指定された並び替え処理の内容に従って並び替えを実行するステップとを有することを特徴とするデータ処理方法。
【請求項９】
文字列を含む任意の要素より構成されるデータの蓄積及び取り出しを行うデータ処理装置において、
並び替えで参照される列中の並び替えの対象と並び替えの順番とを示す並び替えのルールを定義するルール定義部と、並び替えで参照される列と当該参照列の並び替えで使用するルールとを示す並び替え処理を指定する並び替え処理登録部と、前記指定された並び替え処理の内容に従って並び替えを実行する並び替え実行部とを備えることを特徴とするデータ処理装置。
【請求項１０】
文字列を含む任意の要素より構成されるデータの蓄積及び取り出しを行うデータ処理装置としてコンピュータを機能させる為のプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体において、
並び替えで参照される列中の並び替えの対象と並び替えの順番とを示す並び替えのルールを定義するルール定義部と、並び替えで参照される列と当該参照列の並び替えで使用するルールとを示す並び替え処理を指定する並び替え処理登録部と、前記指定された並び替え処理の内容に従って並び替えを実行する並び替え実行部としてコンピュータを機能させる為のプログラムを記録したことを特徴とする記録媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成16年3月30日(2004.3.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
また、図１（ｂ）に示す記録カード１１には、前記プリペイド情報記録領域１２とコンテンツ情報記録領域１３以外に配信センターを特定したり、配信されるソフトウェアの内容を特定するための付加情報記録領域１４が配置されている。この付加情報記録領域１４には、記録カード１１を購入時に前記プリペイド情報記録領域１２に書込記録した前払い金額データと共に、配信センターの名称、ソフトウェアのタイトル名称、書込記録するコンテンツのデータ容量、あるいは演奏者、または配信センターから伝送されるソフトウェアが暗号化されている際の暗号解読キー等の情報が記録されるようになっている。


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
前記課金データと付加情報が書込記録された前記記録カード１１が挿着された前記受信器１７をユーザが指定する配信センター１６の伝送路２２に接続し、指定するソフトウェアのダウンロード指示を行うと、受信器１７のプリペイド／付加情報読み取り回路２６は、記録カード１１のプリペイド情報記録領域１２と付加情報記録領域１４からデータの読み取りを行い、ステップＳ１１で前記プリペイド情報記録領域１２に書き込まれている課金データを読み取り残金を検出する。 次に、ステップＳ１２で前記付加情報記録領域１４に書き込まれている付加情報を読み取る。次にステップＳ１３で前記受信回路２３で受信し、前記分離回路２４で配信センター１６から伝送されたソフトウェアの課金データと付加情報を分離読み取り、ステップＳ１４で前記ステップＳ１１とＳ１２で記録カード１１から読み取った課金データと付加情報と照合し、前記記録カード１１の残金が配信センター１６から伝送された所望のソフトウェアの課金データ以内か判定すると共に、付加情報が一致するか判定する。記録カード１１の残金が配信センター１６から伝送された課金データ以内で、かつ、付加情報が一致すると、ステップＳ１５で前記料金減額／ダウンロード指示回路２７から記録カード１１のプリペイド情報記録領域１２にダウンロード料金データを書込、かつ、課金データから減算して新たな残金データを算出して書き換える。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
次に、ステップＳ１６で前記ステップＳ１５でのプリペイド情報記録領域１２の料金データの減額と書換が終了したことを確認後、ステップＳ１７で前記料金減額／ダウンロード指示回路２７から前記コンテンツデータダウンロード回路２８に対して前記分離回路２４で分離したソフトウェアのコンテンツデータのダウンロードの開始指示を与えて、前記記録カード１１のコンテンツ情報記録領域１３に所望のソフトウェアのコンテンツデータを書込記録させる。
【手続補正書】
【提出日】平成17年7月11日(2005.7.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】スペーサ付基板およびそれを用いた平面型ディスプレイならびにスペーサ付基板の製造方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
絶縁基板表面にスペーサを一体に形成してなるスペーサ付基板であって、前記スペーサが、ガラスを主成分とし、Ｓｉ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｓｎ、Ｃｕ、Ｍｇのうち少なくとも一種の金属を分散した焼結体からなることを特徴とするスペーサ付基板。
【請求項２】
前記ガラスが少なくともＰｂＯ、ＳｉＯ2 およびＢ2 Ｏ3 を含有することを特徴とする請求項１記載のスペーサ付基板。
【請求項３】
前記ガラスが少なくともＢｉ2 Ｏ3 、およびＢ2 Ｏ3 を含有することを特徴とする請求項１記載のスペーサ付基板。
【請求項４】
前記焼結体中にさらにセラミックフィラーを含有することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか記載のスペーサ付基板。
【請求項５】
前記スペーサの１５〜４５０℃における平均線膨張係数が７〜９（ｐｐｍ／℃）である請求項１乃至４のいずれか記載のスペーサ付基板。
【請求項６】
前記スペーサの厚みが２００μｍ以下で、かつ高さが５００μｍ以上であることを特徴とする請求項１記載のスペーサ付基板。
【請求項７】
前記スペーサが、その厚み方向に所定間隔を置いて略平行に複数形成されていることを特徴とする請求項１記載のスペーサ付基板。
【請求項８】
前記スペーサの頂部に前面板を接着、または接合したことを特徴とする請求項１乃至７のいずれかに記載のスペーサ付基板を用いてなる平面型ディスプレイ。
【請求項９】
（ａ）ガラス粉末と、Ｓｉ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｓｎ、Ｃｕ、Ｍｇのうち少なくとも一種の金属粉末とを含有するペーストを作製する工程と、（ｂ）絶縁基板表面に、前記ペーストによってスペーサ形状の成形体を形成する工程と、（ｃ）前記（ｂ）工程によって得られた絶縁基板を酸素含有雰囲気中にて焼成して、前記金属の少なくとも一部を酸化させる工程とを具備することを特徴とするスペーサ付基板の製造方法。
【請求項１０】
前記金属粉末を、ガラス粉末１００重量部に対して、５〜５０重量部添加することを特徴とする請求項９記載のスペーサ付基板の製造方法。
【請求項１１】
前記金属粉末の粒径が０．５〜６μｍであることを特徴とする請求項９または１０記載のスペーサ付基板の製造方法。
【請求項１２】
前記ガラスが少なくともＰｂＯ、ＳｉＯ2 およびＢ2 Ｏ3 を含有することを特徴とする請求項９乃至１１のいずれか記載のスペーサ付基板の製造方法。
【請求項１３】
前記ガラスが少なくともＢｉ2 Ｏ3 、およびＢ2 Ｏ3 を含有することを特徴とする請求項９乃至１１のいずれか記載のスペーサ付基板の製造方法。
【請求項１４】
前記スペーサの厚みが２００μｍ以下、かつ高さが５００μｍ以上であることを特徴とする請求項９乃至１３のいずれか記載のスペーサ付基板の製造方法。
【請求項１５】
前記スペーサが、その厚み方向に所定間隔を置いて略平行に複数形成されていることを特徴とする請求項９乃至１４のいずれか記載のスペーサ付基板の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年6月11日(2004.6.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の基板の上方に、絶縁膜を介して、薄膜トランジスタを用いた集積回路を形成し、
前記集積回路の上方に接着層を形成して、当該表面に第２の基板を固定し、
フッ酸を含むエッチャントを用いたエッチングにより、前記集積回路が固定された前記第２の基板から前記第1の基板を除去し、
前記第１の基板を除去する際に前記第１の基板をエッチングすることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項２】
第１の基板の上方に第１の絶縁膜を形成し、
前記第１の絶縁膜上に第２の絶縁膜を形成し、
前記第２の絶縁膜の上に薄膜トランジスタを用いた集積回路を形成し、
前記集積回路の上方に接着層を形成して、当該表面に第２の基板を固定し、
フッ酸を含むエッチャントを用いたエッチング処理をして、前記集積回路が固定された前記第２の基板から前記第1の基板を除去し、
前記第１の基板を除去する際に前記第１の基板をエッチングすることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項３】
請求項１において、前記絶縁膜は酸化珪素膜であることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項４】
請求項２において、前記第２の絶縁膜は酸化珪素膜であることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれか一項において、前記第１の基板は石英基板またはガラス基板であることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５のいずれか一項において、前記第２の基板は樹脂基板であることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項７】
請求項１乃至請求項６のいずれか一項において、前記第２の基板は可撓性を有することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項８】
請求項１乃至請求項７のいずれか一項において、前記接着層は樹脂材料からなることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項９】
請求項１乃至請求項８のいずれか一項において、前記半導体装置の作製方法は、液晶表示装置の作製方法であることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１０】
請求項１乃至請求項８のいずれか一項において、前記半導体装置の作製方法は、ＥＬ表示装置の作製方法であることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年8月24日(2005.8.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
圧粉成形体の作製に用いられる軟磁性材料であって、
ビッカース硬さＨＶが８００未満である複数の鉄粒子を備え、
ガス吸着法（ＢＥＴ法）によって測定された前記鉄粒子の比表面積をαとし、レーザー散乱回折法によって測定された平均粒径から算出した前記鉄粒子の見かけの比表面積をβとする場合、前記鉄粒子は、α／β≧２．５の関係を満たす、軟磁性材料。
【請求項２】
前記鉄粒子のビッカース硬さＨＶが７００以下である、請求項１に記載の軟磁性材料。
【請求項３】
前記鉄粒子は、α／β≧３．０の関係をさらに満たす、請求項１または２に記載の軟磁性材料。
【請求項４】
前記鉄粒子の表面を取り囲む絶縁被膜をさらに備える、請求項１から３のいずれか１項に記載の軟磁性材料。
【請求項５】
前記絶縁被膜の平均厚みは、５ｎｍ以上１００ｎｍ以下である、請求項４に記載の軟磁性材料。
【請求項６】
請求項１から５のいずれか１項に記載の軟磁性材料を用いた圧粉成形体の製造方法であって、
前記複数の鉄粒子を金型に投入する工程と、
前記複数の鉄粒子を加圧成形して成形体を形成する工程とを備える、圧粉成形体の製造方法。
【請求項７】
前記複数の鉄粒子を金型に投入する工程は、熱可塑性樹脂および非熱可塑性樹脂の少なくともいずれか一方を含む第１の有機物を、前記成形体に対する前記第１の有機物の割合が０．００１質量％以上０．２質量％以下となるように前記複数の鉄粒子に添加する工程を含む、請求項６に記載の圧粉成形体の製造方法。
【請求項８】
前記複数の鉄粒子を金型に投入する工程は、高級脂肪酸系潤滑剤を含む第２の有機物を、前記成形体に対する前記第２の有機物の割合が０．００１質量％以上０．２質量％以下となるように前記複数の鉄粒子に添加する工程を含む、請求項６または７に記載の圧粉成形体の製造方法。
【請求項９】
前記複数の鉄粒子を金型に投入する工程は、前記金型の内壁に潤滑剤を塗布する工程を含む、請求項６から８のいずれか１項に記載の圧粉成形体の製造方法。
【請求項１０】
前記複数の鉄粒子を金型に投入する工程は、前記金型の内壁および前記複数の鉄粒子の少なくともいずれか一方を４０℃以上の温度に加熱する工程を含む、請求項６から９のいずれか１項に記載の圧粉成形体の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
この発明に従った軟磁性材料は、圧粉成形体の作製に用いられる軟磁性材料である。軟磁性材料は、ビッカース硬さＨＶが８００未満である複数の鉄粒子を備える。ガス吸着法（ＢＥＴ法）によって測定された鉄粒子の比表面積をαとし、レーザー散乱回折法によって測定された平均粒径から算出した鉄粒子の見かけの比表面積をβとする場合、鉄粒子は、α／β≧２．５の関係を満たす。なお、ここで言う鉄粒子とは、９５％から１００％の純度で鉄を含む粒子をいう。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
また、鉄粒子の見かけの比表面積βに対する実際の比表面積αの割合が２．５以上に規定されているため、鉄粒子の表面は大きい凹凸形状に形成されている。これにより、圧粉成形体を作製する際の加圧成形時に、複数の鉄粒子同士をより複雑に絡み合わせることができるため、圧粉成形体の強度をさらに向上させることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成16年5月27日(2004.5.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像形成に用いられる色材の記録媒体への定着状態を判断するためのテストパターンを発生するステップと、
前記テストパターンの複数を、それぞれ異なる量の色材を用いて前記記録媒体上に形成させるステップと、
を含むことを特徴とする画像形成方法。
【請求項２】
前記色材は、インクであることを特徴とする請求項１に記載の画像形成方法。
【請求項３】
前記テストパターンは、インクの「にじみ」状態及び「むら」状態のうち少なくとも一方を目視できるように設定されたテストパターンであることを特徴とする請求項２に記載の画像形成方法。
【請求項４】
前記テストパターンにおいて、前記インクの「にじみ」状態を目視するためのパターンは、相互に隣接した色相が異なる複数の領域を含むことを特徴とする請求項３に記載の画像形成方法。
【請求項５】
前記テストパターンにおいて、前記インクの「むら」状態を目視するためのパターンは、実質的に一様な単色面を含むことを特徴とする請求項３に記載の画像形成方法。
【請求項６】
前記テストパターンとともに、インクの打ち込み量に関する情報も前記記録媒体上に形成することを特徴とする請求項１乃至請求項５の何れか１項に記載された画像形成方法。
【請求項７】
請求項１乃至請求項６の何れか１項に記載された画像形成方法によりテストパターンが形成された記録媒体。
【請求項８】
インクを用いて画像が形成される記録媒体上において、色相の異なる複数の隣接領域でのインクの「にじみ」状態又は一様な単色面でのインクの「むら」状態の少なくとも一方を目視できるよう設定されたテストパターンを、それぞれ異なる量の複数のインク量でもって、同一記録媒体上に配置されることを特徴とするインク打込み量の判定媒体。
【請求項９】
画像形成に用いられる色材の記録媒体への定着状態を判断するためのテストパターンを記憶装置から読み出すステップと、
それぞれ異なる量の色材でもって、前記読み出されたテストパターンの複数を前記記録媒体上に形成させるよう画像形成装置を制御するステップと、
をコンピュータに実行させるための画像形成プログラム。
【請求項１０】
前記色材は、インクであることを特徴とする請求項９に記載の画像形成プログラム。
【請求項１１】
前記テストパターンは、インクの「にじみ」状態及び「むら」状態のうち少なくとも一方を目視できるように設定されたテストパターンであることを特徴とする請求項１０に記載の画像形成プログラム。
【請求項１２】
前記テストパターンにおいて、前記インクの「にじみ」状態を目視するためのパターンは、相互に隣接した色相が異なる複数の領域を含むことを特徴とする請求項１１に記載の画像形成プログラム。
【請求項１３】
前記テストパターンにおいて、前記インクの「むら」状態を目視するためのパターンは、実質的に一様な単色面を含むことを特徴とする請求項１１に記載の画像形成プログラム。
【請求項１４】
前記テストパターンとともに、インクの打ち込み量に関する情報も前記記録媒体上に形成するステップをさらに含むことを特徴とする請求項９乃至請求項１３の何れか１項に記載された画像形成プログラム。
【請求項１５】
請求項９乃至請求項１４の何れか１項に記載された画像形成プログラムを記録したコンピュータ可読媒体。
【請求項１６】
画像形成に用いられる色材の記録媒体への定着状態を判断するためのテストパターンを発生する発生手段と、
前記テストパターンの複数を、それぞれ異なる量の色材を用いて前記記録媒体上に形成させるよう制御する制御手段と、
を含むことを特徴とする画像形成制御装置。
【請求項１７】
前記複数のテストパターンが形成された記憶媒体から、制御部またはユーザが前記適性なインク打ち込み量を判定することを特徴とする請求項２に記載の画像形成方法。
【請求項１８】
前記複数のテストパターンが形成された記憶媒体から、前記コンピュータまたはユーザが前記適性なインク打ち込み量を判定できるようにするために、前記複数のテストパターンを前記記憶媒体に形成することを特徴とする請求項１０に記載の画像形成プログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
ここで、
前記色材は、例えば、染料インクや顔料インクなどのインクである。
前記複数のテストパターンが形成された記憶媒体から、制御部またはユーザが前記適性なインク打ち込み量を判定するようにしてもよい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
さらに、本願発明によれば、
画像形成に用いられる色材の記録媒体への定着状態を判断するためのテストパターンを記憶装置から読み出すステップと、
それぞれ異なる量の色材でもって、前記読み出されたテストパターンの複数を前記記録媒体上に形成させるよう画像形成装置を制御するステップと、
をコンピュータに実行させるための画像形成プログラムが提供される。
なお、前記複数のテストパターンが形成された前記記憶媒体から、前記コンピュータまたはユーザが前記適性なインク打ち込み量を判定できるようにするために、前記画像形成プログラムは、前記複数のテストパターンを前記記憶媒体に形成するようにしてもよい。
【手続補正書】
【提出日】平成16年7月26日(2004.7.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（１）又は（２）の塩基配列及び（３）又は（４）の塩基配列を有するポリヌクレオチド。
（１）配列番号１の塩基配列
（２）下記いずれかのタンパク質をコードする塩基配列
（ａ）配列番号２のアミノ酸配列から成るタンパク質
（ｂ）配列番号２のアミノ酸配列において１若しくは数個のアミノ酸が欠失、置換若しくは付加されたアミノ酸配列から成り、かつその発現によりブラシノステロイドの合成を促すタンパク質
（３）配列番号３の５１〜１６２５位の塩基配列
（４）下記いずれかのタンパク質をコードする塩基配列
（ｃ）配列番号４のアミノ酸配列から成るタンパク質
（ｄ）配列番号４のアミノ酸配列において１若しくは数個のアミノ酸が欠失、置換若しくは付加されたアミノ酸配列から成り、かつその発現によりブラシノステロイドの合成を促すタンパク質
【請求項２】
プロモーター及び請求項１に記載のポリヌクレオチドを有し、該塩基配列のいずれもが該プロモーターに対して順方向に連結されているポリヌクレオチド。
【請求項３】
プロモーター及び請求項１に記載のポリヌクレオチド又はそれらの部分配列を有し、該塩基配列の少なくとも一方又はそれらの部分配列の少なくとも一方が該プロモーターに対して逆方向に連結されているポリヌクレオチド。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項に記載の遺伝子又はポリヌクレオチドを含有するプラスミド。
【請求項５】
請求項１〜３のいずれか一項に記載の遺伝子又はポリヌクレオチドにより形質転換された植物。
【請求項６】
請求項１に記載のポリヌクレオチドにより植物を形質転換し、該遺伝子又は該ポリヌクレオチドを発現させるか又はその発現を抑制することにより、該植物の形態を変化させる方法。
【請求項７】
請求項２又は３に記載の遺伝子又はポリヌクレオチドにより形質転換された植物に前記プロモーターに応じた刺激を与えることにより、該植物の形態を変化させる方法。
【請求項８】
請求項６又は７に記載の方法で形態が変化した植物。
【請求項９】
（ａ）又は（ｂ）のタンパク質及び（ｃ）又は（ｄ）のタンパク質から成るタンパク質の混合物又は複合物。
（ａ）配列番号２のアミノ酸配列から成るタンパク質
（ｂ）配列番号２のアミノ酸配列において１若しくは数個のアミノ酸が欠失、置換若しくは付加されたアミノ酸配列から成り、かつその発現によりブラシノステロイドの合成を促すタンパク質
（ｃ）配列番号４のアミノ酸配列から成るタンパク質
（ｄ）配列番号４のアミノ酸配列において１若しくは数個のアミノ酸が欠失、置換若しくは付加されたアミノ酸配列から成り、かつその発現によりブラシノステロイドの合成を促すタンパク質
【手続補正書】
【提出日】平成16年10月18日(2004.10.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【書類名】      明細書
【発明の名称】  納豆用タレ
【特許請求の範囲】
【請求項１】
納豆に添加される納豆用タレであって、該納豆用タレは、小麦、大豆、茄子、水飴、食塩、酒精、調味料、アミノ酸などを原材料とする発酵食品であることを特徴とする納豆用タレ。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、新規な納豆用タレに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、納豆用タレとして、醤油が使用されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
上記のような醤油タレは、食物の減塩指向が望まれる昨今にあっては不向きであり、塩分が少なく、新たな風味を醸し出すような納豆用タレの開発が要求される。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
本発明は、このような問題点を解決するためになされたもので、詳しくは、本発明は、納豆に添加される納豆用タレであって、該納豆用タレは、小麦、大豆、茄子、水飴、食塩、清酒、調味料、アミノ酸などを原材料とする発酵食品であることを特徴とする。
【０００５】
【発明の実施の形態】
図１に基づき、本発明の実施形態を説明する。
【０００６】
【実施例】
本発明に係る納豆用タレ１は、小麦、大豆、茄子、水飴、食塩、清酒、調味料、アミノ酸などを原材料とする発酵食品である。なお、この発酵食品は、金山寺味噌を指す。
【０００７】
そしてこの納豆用タレ１は、ポリエチレン製小袋などに充填し、密封包装された製品形態を保持して、例えば、容器入り納豆２のタレとして使用され、使用時には当然のこと乍ら、前記ポリエチレン製小袋を開封し、中身の納豆用タレ１を納豆２に掻きまぜて食するものである。
【０００８】
すなわち、本発明に係る納豆用タレ１は、既存の納豆用タレ（例えば、醤油タレ、辛子など）に代わる納豆への味付け添加物として活用できるもので、この納豆用タレ１は、金山寺味噌の食感、風味等を醸出する。
【０００９】
従って、本発明による納豆用タレ１を納豆２に掻きまぜて食した場合は、納豆本来の栄養成分と、風味に金山寺味噌特有の栄養成分と風味が加味するため、従来の醤油タレで味付けされた納豆に比し、納豆の風味、旨味が一段と向上し、納豆嫌いの人でも抵抗なく食することができると共に、食欲を増進させることにつながる。
【００１０】
【発明の効果】
然して、本発明によれば、納豆の風味、旨味の向上化に役立つという著効と相俟って、納豆の栄養成分と金山寺味噌の栄養成分を摂取することができるという利点がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】
図１は、本発明の実施形態を示す説明図である。
【符号の説明】
１  納豆用タレ
２  納豆
【手続補正書】
【提出日】平成16年10月18日(2004.10.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【書類名】      明細書
【発明の名称】  納豆用添加物
【特許請求の範囲】
【請求項１】
納豆に掻きまぜて使用される納豆用添加物であって、該納豆用添加物は、抹茶を原材料とすることを特徴とする納豆用添加物。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、新規な納豆用添加物に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、納豆を食する場合は、醤油タレが使用される。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、上述のような醤油タレ一辺倒によって味付けされる納豆は食べ飽きた感があり、食生活へのニーズが多様化した昨今にあっては、納豆に新たな風味、旨味を醸し出すような工夫が要求される。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
本発明は、このような要請に着目して開発されたもので、詳しくは、本発明は、納豆に掻きまぜて使用される納豆用添加物であって、該納豆用添加物は、抹茶を原材料とすることを特徴とする。
【０００５】
【発明の実施の形態】
本発明の実施形態を図１に基づき説明する。
【０００６】
【実施例】
本発明に係る納豆用添加物は、抹茶を原材料とする。
【０００７】
そしてこの納豆用添加物１は、ポリエチレン製小袋などに充填し、密封包装された製品形態を保持して容器入り納豆２に添付され、納豆用添加物として使用する場合は前記小袋などを開封し、中身の抹茶と醤油タレを納豆２に掻き混ぜて食するものである。
【０００８】
すなわち、本発明は、従来の醤油一辺倒により味付けされていた納豆の風味に抹茶の風味が加味するため、納豆の風味、旨味が一段と向上し、納豆嫌いの人でも抵抗なく食することができる。
【０００９】
なお、本発明に係る納豆用添加物の抹茶には、カテキン類、ビタミンＣ、ビタミンＥ、カロチン、多糖類、フラボノイド、食物繊維などの栄養素が含有されているため、納豆の栄養価を高めることができる。
【００１０】
【発明の効果】
従って、本発明にあっては、納豆に醤油タレと本発明に係る納豆用添加物としての抹茶を掻きまぜて使用ることにより、納豆の風味、旨味が増し、健康食品としての納豆評価が高揚するという効果を発揮すると共に、従来の醤油タレのみによって味付けされる納豆よりも美味に食することができる利点がある。
【図面の簡単な説明】
図１は、本発明の実施形態を示す説明図である。
【符号の説明】
１  納豆用添加物
２  納豆
【手続補正書】
【提出日】平成17年5月6日(2005.5.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
ところで本発明に用いる金属管１は、溶接管、あるいはシームレス管のどちらでも使用できる。金属管１の材料は金属であればよく、特に限定されないが金属管１の材料がフェライト系ステンレスの場合、特に効果がある。
フェライト系ステンレス（SUH 409L、SUS 429 ）の金属管をスピンニング加工する場合、後述する実施例に示すように金属管の温度（管の表面で測定）が250 ℃を超えた場合、図５もしくは図６のような割れが多発することが判明した。この原因はフェライト系ステンレスは温度が高温になると材料強度が低下する一方、伸びが逆に低下する特性による。さらに材料が加工歪みで硬化するとさらに加工脆性が顕著になり、加工時に加わる力により容易に破断しやすくなる。もちろんある程度の温度上昇は材料の靭性を向上させ、特に溶接部の脆性破壊を防止するのに役立つが、そのための温度上昇はせいぜい数10℃で十分である。スピニング加工における加工ひずみは、板をプレス成形した場合の加工ひずみよりも数倍大きくなるのが普通であり、しかも数秒から数十秒間加工時間が継続するため、加工発熱によって数百℃といった著しい温度上昇が生じる。このような高すぎる温度域ではむしろ加工限界の低下の影響が顕著に出て割れの発生確率が高くなる。加工ひずみ量は部品形状によって決まる性質のものであるので制御することは困難である。上述したように本発明では、加工時、金属管に冷媒を吹きつけ、冷却しながらスピンニング加工を行うようにしたので、このような金属管の加工脆化による割れを抑制できる。上記温度を達成するには、一つには前述の冷却手段による冷却ガス流量を調節するのが有効であり、またさらに加工速度（金属管と工具間の相対回転速度）、成形ロールの移動速度を調節することもできる。フェライト系ステンレス金属管のスピニング加工では、金属管の温度を250 ℃以下とすることが効率のよい生産を行うため、重要である。
【手続補正書】
【提出日】平成17年3月2日(2005.3.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
磁性体微粒子を含む凝集剤で、被処理水中の汚濁物を、磁性を持った浮遊固形物とし、被処理水の流れの中で、磁力により、前記浮遊固形物を被処理水から分離する浄化装置において、
非磁性材料からなる導管内の被処理水の流れを挟んで同極を対向させた状態で前記流れに沿った磁場を形成するように、前記導管に対してバルク磁石を接近させた状態で配置し、前記流路内を流れる前記浮遊固形物を、前記磁場を横切って前記流路の途中に設けられた浮遊固形物回収領域で捕捉するように、前記浮遊固形物回収領域に挿入されるフィルターを備えており、該フィルターは、複数組が交換用支持体に着脱可能にセットされ、前記交換用支持体の操作で、その１組が選択的に前記浮遊固形物回収領域に挿入され、前記バルク磁石の対は複数対あり、隣接する対とは、それぞれに対向する同磁極の向きが反対となるように、配置されていることを特徴とする、磁性体を用いた浄化装置。
【請求項２】
前記フィルターの材料には、感磁性体が用いられ、それが所要のメッシュで編組された構成になっていることを特徴とする、請求項１に記載の磁性体を用いた浄化装置。
【請求項３】
前記交換用支持体は、前記導管外に支軸を備えた円盤状回転部材であり、その一部が前記浮遊固形物回収領域に液密に挿入される構造になっていることを特徴とする、請求項１または２に記載の磁性体を用いた浄化装置。
【手続補正書】
【提出日】平成16年9月3日(2004.9.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
ここで必要とされるアルカリ剤の量は、汚泥の種類、濃度、および状態等に応じて適宜決定することができる。本発明の方法においては、アルカリ処理後の汚泥は後段で生物学的に低分子化および／または無機化されるので、アルカリ処理のみにより汚泥を低分子化および／または無機化する場合と比較して、アルカリ剤を少量に抑えることが可能となる。
【手続補正書】
【提出日】平成17年11月7日(2005.11.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
表１に示されるように、実施例１〜４の本発明の透析器における透析液の圧力損失は、比較例１の従来の透析器における透析液の圧力損失に比べて、はるかに増大していることがわかる。また、実施例１〜４の本発明の透析器におけるミオグロビンのクリアランスは、比較例１の従来の透析器におけるクリアランスに比べて増大していることがわかる。
この結果より、本発明の透析器は熱収縮性チューブを設けたことにより、従来の熱収縮性チューブを設けていない透析器に比べて、透析液流路の断面積が減少したことによって、内部濾過量および内部逆濾過量が明らかに増加したことがわかる。
【手続補正書】
【提出日】平成16年10月21日(2004.10.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
底板と、底板を左右から挟んで相対向する二枚の側板と、側板を挟んで底板と相対向する天板と、底板、側板、天板により形成された方形を背面側から塞ぐ裏板とを有する筺形の本体キャビネットと、
この本体キャビネットの開口部を開閉自在に塞ぐ前扉と、
複数の図柄が表示された回転リール及びこの回転リールを回転させるための駆動モータを有するリールユニットと、
前記回転リールの作動を制御するための主基板とを少なくとも有し、
支持体に少なくとも前記リールユニット及び主基板を設置した交換ユニットを、前記本体キャビネット内部に着脱自在に形成した分離型スロットマシンであって、
前記交換ユニットは、前記天板に取り付けられた支持部材により、本体キャビネットの開口部内に吊り下げ支持されていることを特徴とする分離型スロットマシン。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
（特徴点）
（請求項１）
請求項１記載の発明は、次の点を特徴とする。
すなわち、請求項１記載の発明は、底板(15)と、底板(15)を左右から挟んで相対向する二枚の側板(16)と、側板(16)を挟んで底板(15)と相対向する天板(17)と、底板(15)、側板(16)、天板(17)により形成された方形を背面側から塞ぐ裏板(18)とを有する筺形の本体キャビネット(1)と、この本体キャビネット(1)の開口部(11)を開閉自在に塞ぐ前扉(3)と、複数の図柄が表示された回転リール(23)及びこの回転リール(23)を回転させるための駆動モータを有するリールユニット(22)と、前記回転リール(23)の作動を制御するための主基板とを少なくとも有し、支持体に少なくとも前記リールユニット(22)及び主基板(25)を設置した交換ユニット(2)を、前記本体キャビネット(1)内部に着脱自在に形成した分離型スロットマシンであって、前記交換ユニット(2)は、前記本体キャビネット(1)の天板(17)に設けられた支持部材(12)により、本体キャビネット(1)の開口部(11)内に吊り下げ支持されていることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
前記交換ユニット(2)は、前記本体キャビネット(1)の天板(17)に取り付けられた支持部材(12)により、本体キャビネット(1)の開口部(11)内に吊り下げ支持される。
ここで、「交換ユニット(2)は・・・支持部材(12)により、本体キャビネット(1)の開口部(11)内に吊り下げ支持」とは、交換ユニット(2)の重量を支持部材(12)により支持し、交換ユニット(2)が開口部(11)内に配置されていることであって、交換ユニット(2)の上下方向の位置決めは、天板(17)に取り付けられた支持部材(12)により決定されていることを意味するものである。
【手続補正書】
【提出日】平成17年4月12日(2005.4.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
成形機における一対の金型間と金型から離間した解放位置との間で独立して往復移動する第１及び第２可動体と、第１可動体に設けられて金型内の成型品を保持して解放位置に解放して取出すチャックと、第２可動体に設けられて成型品が取出された金型を成形可能な状態に処理する金型処理手段と、チャックを金型間に移動して成型品を保持させる際に金型処理手段を金型から離間した位置に待機させると共に成型品を保持したチャックを解放位置へ移動して成型品の保持を解除する際には金型処理手段を金型間へ移動して金型面を成形可能処理するように第１及び第２可動体を移動制御する制御手段とからなる成型品取出機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本発明は、一対の金型間に溶融した材料を圧入して成型品を成形する成形機に設けられ、金型間と金型から離間した解放位置との間で独立して往復移動する第１及び第２可動体と、第１可動体に設けられて金型内に保持された成型品を保持して解放位置にて解放して取出すチャックと、第２可動体に設けられて成型品が取出された金型を成形可能な状態に処理する金型処理手段と、第１可動体を金型間に移動してチャックにより金型内から成型品の取出す際には第２可動体を金型から離間した位置に待機させると共に第１可動体を解放位置へ移動してチャックによる成型品の保持を解除する際には第２可動体を金型間へ移動して金型処理手段により金型面を成形可能処理するように制御する制御手段とからなることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
成型品取出機５の本体フレーム１７は樹脂成形機１の軸線方向（前後方向）へ延出し、樹脂成形機１の射出装置１８及び射出装置１８と反対側の樹脂成形機１外へ至る長さからなる。そして本体フレーム１７には第１及び第２前後走行体１９・２１が前後方向へ独立して走行可能に支持される。各第１及び第２前後走行体１９・２１には第１及び第２前後駆動機構の一部を構成する第１及び第２前後サーボモータ２３・２５が連結され、これら第１及び第２前後サーボモータ２３・２５を独立して駆動制御することにより第１及び第２前後走行体１９・２１を夫々個別に移動させる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
尚、ＣＰＵ５７はインターフェース８３を介して樹脂成形機１の制御手段８５に接続され、樹脂成形機１の制御手段８５から取出し動作を開始させるための型開完了信号をＣＰＵ５７に出力させると共にＣＰＵ５７から突き出し動作を実行させるための突出し指示信号や次の成形動作を実行させるための取出し完了信号等を樹脂成形機１の制御手段８５に出力させる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】符号の説明
【補正方法】変更
【補正の内容】
【符号の説明】
１−成形機としての樹脂成形機、５−成型品取出機、１３−固定金型、１５−可動金型、４７−チャック、４９−金型処理部材としての空気噴射部材、５１−金型処理部材としての離型剤噴射部材、５５−制御手段、Ｗ−成型品
【手続補正６】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図３】
2003334821.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成16年5月24日(2004.5.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を含む平板状の加工対象物の一方の面に伸張性のフィルムを装着し、前記加工対象物の他方の面をレーザ光入射面として前記基板の内部に集光点を合わせてレーザ光を照射することにより多光子吸収による改質領域を形成し、この改質領域によって、前記加工対象物の切断予定ラインに沿って前記レーザ光入射面から所定距離内側に切断起点領域を形成し、前記フィルムを伸張させることにより、前記切断起点領域を起点として前記加工対象物を複数の部分に、互いに間隔があくように切断する工程を備える、レーザ加工方法。
【請求項２】
半導体基板を含む平板状の加工対象物の一方の面に伸張性のフィルムを装着し、前記加工対象物の他方の面をレーザ光入射面として前記基板の内部に集光点を合わせてレーザ光を照射することにより溶融処理領域を形成し、この溶融処理領域によって、前記加工対象物の切断予定ラインに沿って前記レーザ光入射面から所定距離内側に切断起点領域を形成し、前記フィルムを伸張させることにより、前記切断起点領域を起点として前記加工対象物を複数の部分に、互いに間隔があくように切断する工程を備える、レーザ加工方法。
【請求項３】
前記基板の厚さ方向において、少なくとも１つの前記切断起点領域の中心が前記基板の中心よりも前記一方の面側に位置するように前記切断起点領域を形成する、請求項１または２に記載のレーザ加工方法。
【請求項４】
１つの前記切断起点領域が前記基板の中心を含むように前記切断起点領域を形成する、請求項３に記載のレーザ加工方法。
【請求項５】
前記切断起点領域を形成する際に、前記切断起点領域から前記一方の面に達する亀裂を発生させる、請求項１〜４のいずれか一項に記載のレーザ加工方法。
【請求項６】
前記加工対象物が、前記他方の面側からみて前記切断予定ラインと重なる積層部を前記他方の面側の前記基板上に有する、請求項１〜５のいずれか一項に記載のレーザ加工方法。
【請求項７】
前記積層部の前記切断予定ラインと重なる部分が絶縁性材料からなる、請求項５に記載のレーザ加工方法。
【請求項８】
基板を含む平板状の加工対象物の前記基板の内部に集光点を合わせてレーザ光を照射することにより多光子吸収による改質領域を形成し、この改質領域によって、前記加工対象物の切断予定ラインに沿って前記レーザ光入射面から所定距離内側に切断起点領域を形成する工程と、
内部に前記改質領域を形成した前記加工対象物に伸張性のフィルムを装着する工程と、
前記フィルムを伸張させることにより、前記切断起点領域を起点として前記加工対象物を複数の部分に、互いに間隔があくように切断する工程と
を備える、レーザ加工方法。
【請求項９】
半導体基板を含む平板状の加工対象物の前記基板の内部に集光点を合わせてレーザ光を照射することにより溶融処理領域を形成し、この溶融処理領域によって、前記加工対象物の切断予定ラインに沿って前記レーザ光入射面から所定距離内側に切断起点領域を形成する工程と、
内部に前記溶融処理領域を形成した前記加工対象物に伸張性のフィルムを装着する工程と、
前記フィルムを伸張させることにより、前記切断起点領域を起点として前記加工対象物を複数の部分に、互いに間隔があくように切断する工程と
を備える、レーザ加工方法。
【請求項１０】
前記基板の厚さ方向において、少なくとも１つの前記切断起点領域の中心が前記基板の中心よりも一方の面側に位置するように前記切断起点領域を形成し、前記伸張性のフィルムを前記一方の面側に装着する、請求項８または９に記載のレーザ加工方法。
【請求項１１】
１つの前記切断起点領域が前記基板の中心を含むように前記切断起点領域を形成する、請求項１０に記載のレーザ加工方法。
【請求項１２】
前記加工対象物が、前記切断予定ラインと重なる積層部を他方の面側の前記基板上に有する、請求項８〜１１のいずれか一項に記載のレーザ加工方法。
【請求項１３】
前記積層部の前記切断予定ラインと重なる部分が絶縁性材料からなる、請求項１２に記載のレーザ加工方法。
【請求項１４】
前記切断起点領域を形成する際に前記切断起点領域から前記基板の一方の面に達する亀裂を発生させ、前記フィルムを前記一方の面側に装着する、請求項８〜１３のいずれか一項に記載のレーザ加工方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年10月24日(2005.10.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
上記構成において、揮発成分を実質的に含まないとは、液状熱硬化型組成物中に揮発成分が含まれていても、加飾被膜の成形工程において揮発成分による問題が生じない範囲での含有量を許容し、その含有量が５重量％以下、好ましくは３重量％以下であれば、この発明の趣旨が損なわれないので、揮発成分を含んでもよいことを意味する。
【手続補正書】
【提出日】平成17年4月11日(2005.4.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
【発明の実施の形態】
以下本発明の実施の形態を図１により説明すると、コーティングロール装置２０はロール単体で振れ１μｍ以下にしたロール２１の幅方向の両端部にある軸２２および２３を有し、夫々軸受部２４および２５により回転自在に支承されている。ここで軸受部２４および２５は勝手違いで、同一構成、作用となっているため、一側の軸受２４についてのみ説明する。
軸受部２４には軸２２の軸方向の２点に夫々一対で２個からなるベアリング２６およびベアリング２７が取付けてあり、各ベアリング内輪のラジアル方向の振れは１μｍ程度のものを使用している。この軸受部２４は図２に示すように幅方向の両端部の一点で夫々支持されていた従来のロールと比較し、近似的に両端固定と考えられ、等分布荷重Ｐを受けるため、最大撓みは夫々V１＝５ＰＬ４／３８４ＥＩ、V２＝ＰＬ４／３８４ＥＩとなり、撓みV２は従来のロールの撓みに比べ１／５となる。
（ただしＰ；等分布荷重、Ｌ； ロール長さ、Ｅ；ヤング率、Ｉ；断面二次モーメント）
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図面の簡単な説明
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図面の簡単な説明】
【図１】
本発明の１実施形態例を示すコーティングロール装置を示す説明図である。
【図２】
本発明のコーティングロール装置と従来のロール装置の撓みを比較した説明図で、（イ）は従来のコーティングロール装置の撓み、（ロ）はこの実施形態のコーティングロール装置の撓みを示す図である。
【図３】
従来のコーティングロール装置の支持方法を示す図で、油圧による軸受で両端部を夫々支持した場合の説明図である。
【図４】
従来のコーティングロール装置の駆動方法の説明図である。
【符号の説明】
２０  コーティングロール装置
２１  ロール
２２、２３  軸
２４、２５  軸受部
２６、２７  ベアリング
２８  ロータ
２９  ステータ
３０  ハウジング
３１  ビルトインモータ
３２  エンコーダ