Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成16年12月20日(2004.12.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
転写用のパターンの形成されたフォトマスクの製造方法において、
前記転写用のパターンを拡大したパターンを複数枚の親マスクのパターンに分割し、
前記フォトマスク用の基板の表面に複数枚の前記親マスクのパターンの縮小像を画面継ぎを行いながら順次転写することを特徴とするフォトマスクの製造方法。
【請求項２】
前記基板の表面に複数枚の前記親マスクのパターンの縮小像を順次転写する際に、前記フォトマスクの用途に応じて一括露光型の縮小投影型露光装置、又は走査露光型の縮小投影型露光装置を使い分けることを特徴とする請求項１に記載のフォトマスクの製造方法。
【請求項３】
前記基板の表面に複数枚の前記親マスクのパターンの縮小像を順次転写する際に、前記フォトマスクを使用する投影露光装置の投影光学系の非回転対称収差とディストーション特性との少なくとも一方に応じて前記親マスクのパターンの縮小像の結像特性をそれぞれ補正することを特徴とする請求項１又は２に記載のフォトマスクの製造方法。
【請求項４】
前記フォトマスクは更に縮小投影で使用されることを特徴とする請求項１、２、又は３に記載のフォトマスクの製造方法。
【請求項５】
複数枚のマスクを収納するマスク収納装置と、
該マスク収納装置から選択された１枚のマスクが載置されるマスクステージと、
該マスクステージ上のマスクのパターンの縮小像をフォトマスク用の基板上に投影する投影光学系と、
前記基板を前記投影光学系の光軸に垂直な平面上で位置決めする基板ステージと、
前記複数枚のマスクのパターンの縮小像の画面継ぎを前記基板上で行うために前記マスクステージ上のマスクと前記基板ステージ上の前記基板との位置合わせを行うアライメント系と、
を有することを特徴とするフォトマスクの製造装置。
【請求項６】
前記マスク収納装置には、製造対象とするフォトマスクのパターンを拡大したパターンを分割したパターンがそれぞれ形成されている複数枚の親マスクが収納されることを特徴とする請求項５に記載のフォトマスクの製造装置。
【請求項７】
所定のパターンを基板上に形成するためのデバイスの製造方法において、
前記所定のパターンを拡大した第１のパターンを更に拡大した第２のパターンを複数枚の親マスクのパターンに分割し、
複数枚の前記親マスクのパターンを順次画面継ぎを行いながら所定の基板上に縮小投影することによって前記第１のパターンが形成された実露光用のフォトマスクを製造し、
該実露光用のフォトマスクのパターンの縮小像を前記基板上に転写することを特徴とするデバイスの製造方法。
【請求項８】
デバイス製造用の露光装置で用いられるフォトマスクの製造方法において、
前記フォトマスクに形成すべきパターンを拡大したパターンが分割されて形成される複数枚の親マスクをそれぞれ前記デバイス製造用の露光装置と異なるフォトマスク製造用の露光装置に設定し、
前記親マスク毎にそのパターンの縮小像をフォトマスク用の基板上で異なる位置に転写することを特徴とするフォトマスクの製造方法。
【請求項９】
前記デバイス製造用の露光装置による前記フォトマスクのパターンの結像状態に基づき、前記フォトマスク用の基板上での前記親マスクのパターンの転写位置と像特性との少なくとも一方を調整することを特徴とする請求項８に記載のフォトマスクの製造方法。
【請求項１０】
前記複数枚の親マスクを用いて前記フォトマスク製造用の露光装置で前記親マスクのパターンの縮小像を前記フォトマスク用の基板上に転写するとき、前記複数枚の親マスクの少なくとも一部で前記フォトマスク用の基板の露光条件を異ならせることを特徴とする請求項８又は９に記載のフォトマスクの製造方法。
【請求項１１】
基板上に回路パターンを形成するデバイスの製造方法において、
前記回路パターンを倍率β（β＞１）で拡大した第１のパターンを更に倍率α（α＞１）で拡大した第２のパターンが分割されて形成される複数枚の親マスクをそれぞれ倍率が１／αの投影系を有するフォトマスク製造用の露光装置に設定し、前記親マスク毎にそのパターンの縮小像をフォトマスク用の基板上で異なる位置に転写することにより、前記第１のパターンが形成されたフォトマスクを製造し、
前記フォトマスク製造用の露光装置と異なる、倍率が１／βの投影系を有するデバイス製造用の露光装置に前記フォトマスクを設定して前記第１のパターンの縮小像を前記基板上に転写することにより、前記基板上に前記回路パターンを形成することを特徴とするデバイスの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
【課題を解決するための手段】
本発明による第１のフォトマスクの製造方法は、転写用のパターン（２７）の形成されたフォトマスク（３４）の製造方法において、その転写用のパターン（２７）を拡大したパターンを複数枚の親マスク（Ｒ１〜ＲＮ）のパターンに分割し、そのフォトマスク用の基板（４）の表面に複数枚のその親マスク（Ｒ１〜ＲＮ）のパターンの縮小像を画面継ぎを行いながら順次転写するものである。
また、本発明による第２のフォトマスクの製造方法は、デバイス製造用の露光装置で用いられるフォトマスク（３４）の製造方法において、そのフォトマスクに形成すべきパターンを拡大したパターンが分割されて形成される複数枚の親マスク（Ｒ１〜ＲＮ）をそれぞれそのデバイス製造用の露光装置と異なるフォトマスク製造用の露光装置に設定し、その親マスク毎にそのパターンの縮小像をフォトマスク用の基板上で異なる位置に転写するものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
また、本発明による第１のデバイスの製造方法は、所定のパターンを基板（Ｗ）上に形成するためのデバイスの製造方法において、その所定のパターンを拡大した第１のパターン（２７）を更に拡大した第２のパターン（３６）を複数枚の親マスクのパターン（Ｐ１〜ＰＮ）に分割し、複数枚のその親マスクのパターンを順次画面継ぎを行いながら所定の基板（４）上に縮小投影することによってその第１のパターン（２７）が形成された実露光用のフォトマスク（３４）を製造し、この実露光用のフォトマスクのパターンの縮小像をその基板（Ｗ）上に転写するものである。
また、本発明による第２のデバイスの製造方法は、基板（Ｗ）上に回路パターンを形成するデバイスの製造方法において、その回路パターンを倍率β（β＞１）で拡大した第１のパターン（２７）を更に倍率α（α＞１）で拡大した第２のパターン（３６）が分割されて形成される複数枚の親マスク（Ｒ１〜ＲＮ）をそれぞれ倍率が１／αの投影系を有するフォトマスク製造用の露光装置に設定し、その親マスク毎にそのパターンの縮小像をフォトマスク用の基板上で異なる位置に転写することにより、その第１のパターンが形成されたフォトマスク（３４）を製造し、そのフォトマスク製造用の露光装置と異なる、倍率が１／βの投影系を有するデバイス製造用の露光装置にそのフォトマスクを設定してその第１のパターンの縮小像をその基板上に転写することにより、その基板上にその回路パターンを形成するものである。
【手続補正書】
【提出日】平成16年10月14日(2004.10.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ウェハ上のレジストに所望のパターンを転写するための露光用マスクであって、
露光光を透過する光透過基板と、この基板上に設けられ、所望のパターンが形成された被転写パターン部と、前記基板上に前記被転写パターン部とは所定の距離を離して設けられ、前記所望パターンを前記レジストに所望寸法で転写するために必要な露光条件では前記レジスト上に転写されないダミーパターンが形成されたダミーパターン部とを具備してなり、
前記ダミーパターン部は、前記露光光の波長をλ、投影光学系の開口数をＮＡとしたときに、前記被転写パターン部から２．３λ／ＮＡ以上の距離を隔てて、前記マスクの不透明な部分に配置されていることを特徴とする露光用マスク。
【請求項２】
ウェハ上のレジストに所望のパターンを転写するための露光用マスクであって、
露光光を透過する光透過基板と、この基板上に設けられ、所望のパターンが形成された被転写パターン部と、前記基板上に前記被転写パターン部とは所定の距離を離して設けられ、前記所望パターンを前記レジストに所望寸法で転写するために必要な露光条件では前記レジスト上に転写されないダミーパターンが形成されたダミーパターン部とを具備してなり、
前記ダミーパターン部は、前記露光光の波長をλ、投影光学系の開口数をＮＡとしたときに、前記被転写パターン部から２．３λ／ＮＡ以上の距離を隔てて、前記マスクの透明な部分及び不透明な部分に配置されていることを特徴とする露光用マスク。
【請求項３】
前記ダミーパターンは、複数のラインとスペースからなり、これらのライン幅及びスペース幅は、前記露光用マスクを通して得られるダミーパターン部の光強度の最大値Ｉmax が、前記被転写パターンを所望寸法で形成するのに必要な前記露光用マスクを通して得られる光強度Ｉtargetに対して、要求される露光マージン全域においてＩmax ＜Ｉtargetを満足するように形成されていることを特徴とする請求項１又は２記載の露光用マスク。
【請求項４】
前記ダミーパターンのピッチＰdummy は、露光波長をλ、レンズ開口率をＮＡ、照明コヒーレンスファクタをσとしたとき、ダミーパターンを解像しない条件である
Ｐdummy ≦λ／ＮＡ（１＋σ）
を満足するように設定されていることを特徴とする請求項１〜３の何れかに記載の露光用マスク。
【請求項５】
請求項１〜４の何れかの露光用マスクを用いて、レジストが塗布されたウェハ上に被転写パターンを転写したのち、レジストを現像処理することにより所望のレジストパターンを形成することを特徴とする半導体装置の製造方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体装置を製造するための光リソグラフィー技術に係わり、特にマスク上のパターン配置を工夫した露光用マスク、及び半導体装置の製造方法に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
また、本発明の他の目的は、上記露光用マスクを用いて精度良いパターン露光を行うことのできる半導体装置の製造方法を提供することにある。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成17年8月23日(2005.8.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
（実施例４）（飼料添加剤への配合例）
（試験例１：試験方法）
生後２７日令の離乳子豚３頭を収容した幼豚用飼養ケージに、小型給餌器（３頭口）を２個設置し、一方の給餌器には対照として下記に示す餌付用飼料を、他方の給餌器には実施例１のオキアミエキスを０．４重量％添加した同一餌付用飼料を入れ、飼料給与を同時に開始し、両飼料を自由に摂取させた。そして、試験開始から４日後までの飼料摂取量を経時的に測定し、１日１頭当たりの飼料摂取量（ｇ／日）および選択率（％）を求めた。試験例１の結果を表２に示した。なお、試験結果は３回反復して得られた値の平均値を示す。
【手続補正書】
【提出日】平成17年2月10日(2005.2.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、流体の流路となる複数のセルを形成する隔壁を有するハニカム構造部と、そのハニカム構造部の外周部を被覆するように配設された外壁部とを備えるハニカム構造体及びその製造方法に関する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
この機械的強度低下を防止するために、ハニカム構造体を成形して焼成した後に、その外周部の隔壁変形領域を加工除去し、その外周面をセラミックセメントコートにより外周部の凹溝を充填して外表面を構成する外殻層を形成する方法及びその外殻層を備えるハニカム構造体が提案されている（特許文献２参照）。しかし、この方法では、ハニカム構造体の機械的強度を向上させることはできるが、ハニカム構造体の熱容量が大きくなるために、運転開始時のハニカム構造体の昇温速度が低下し、担持した触媒の触媒活性が短時間では高くなり難いという問題があった。更には、ハニカム構造体の中心部と外周部に温度差が生じるという問題があった。このような温度差が生じると、ハニカム構造体を触媒担体やフィルターとして用いる場合に、触媒活性やフィルターの再生が不均一となり好ましくない。また、ハニカム構造体にクラックが発生する要因ともなり好ましくない。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
また、ハニカム構造体をフィルター、特に、ＤＰＦ等に用いる場合には、一部のセルの開口部の端面を目封じ材により目封じすることが、フィルターとして使用する場合には好ましい形態である。更に、図５に示すように、両端部が市松模様を呈するように両端部４２、４４においてセルを交互に目封じすることが好ましい。目封じは、目封じをしないセルをマスキングし、目封じ材をスラリー状として、ハニカム構造体の開口端面に配設し、乾燥後焼成することにより行うことができる。目封じは、成形工程の後、焼成工程前に行うと、焼成工程が一回で済むため好ましいが、焼成後に目封止してもよく、成形後であればどの時点で行ってもよい。目封じ材に特に制限は無いが、成形原料と同様のものを用いることができる。また、ハニカム構造体に触媒を担持させる場合には、上述の好ましい触媒を含有する溶液又はスラリーをウォッシュコートして、加熱することにより、セル内及び／又は前記隔壁内部に触媒を担持させることができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５１】
【図１（ａ）】本発明のハニカム構造体の一実施形態を示す模式的な斜視図である。
【図１（ｂ）】図１（ａ）のＩｂ部分の一部拡大図である。
【図２（ａ）】本発明に係るハニカム構造部の一形態を示す模式的な平面図である。
【図２（ｂ）】図２（ａ）のＩＩｂ部分の一部拡大図である。
【図３（ａ）】本発明のハニカム構造体の一実施形態において、クラックが発生した場合の状態を模式的に示す、断面一部拡大図である。
【図３（ｂ）】本発明のハニカム構造体の一実施形態において、クラックが発生した場合を模式的に示す、断面一部拡大図である。
【図４（ａ）】本発明のハニカム構造体の他の一実施形態を示す模式的な断面一部拡大図である。
【図４（ｂ）】本発明のハニカム構造体の他の一実施形態を示す模式的な断面一部拡大図である。
【図５】本発明のハニカム構造体の他の一実施形態を示す模式的な斜視図である。
【図６（ａ）】本発明のハニカム構造体の製造方法の一例を模式的に示す断面一部拡大図である。
【図６（ｂ）】本発明のハニカム構造体の製造方法の一例を模式的に示す断面一部拡大図である。
【図７（ａ）】従来のハニカム構造体の一例を示す模式的な斜視図である。
【図７（ｂ）】図７（ａ）のＶＩＩｂ部分の一部拡大図である。
【図８（ａ）】従来のハニカム構造体において、クラックが発生した場合の状態を模式的に示す断面一部拡大図である。
【図８（ｂ）】従来のハニカム構造体において、クラックが発生した場合の状態を模式的に示す断面一部拡大図である。
【手続補正書】
【提出日】平成17年2月2日(2005.2.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
突出ピン３８は、固定ロッド９Ａに向かって弾性的に突出するように、弾性部材４１を介して伸縮ロッド９Ｂの下端部に装着されている。この突出ピン３８は、弾性部材４１に押圧されて伸縮ロッド９Ｂから弾性的に突出している。係止部３９は、突出ピン３８が挿入される貫通孔または凹部である。図に示す固定ロッド９Ａは、突出ピン３８を挿入させる貫通孔を開口して係止部３９としている。係止部３９を貫通孔とする構造は、ここから突出ピン３８を固定ロッド９Ａの外側に突出させて、伸縮ロッド９Ｂを確実に停止できる特長がある。このことは、とくに、伸縮ロッド９Ｂを杖代わりに使用して、いいかえるとグリップ５に体重をかける姿勢として体を支えるときに極めて安全に使用できる。それは、突出ピン３８が不意に係止部３９から外れて、伸縮ロッド９Ｂが押し込まれるのを有効に防止できるからである。また、グリップ５を持って車椅子全体を持ち上げるときにも、伸縮ロッド９Ｂが不意に引き出されるのを防止できる特長もある。このように、伸縮ロッド９Ｂの位置を確実に固定できるストッパ３６は、グリップ５を上昇位置とする場合においても、また降下位置とする場合においても、極めて安全に使用できる特長がある。ただ、係止部は、突出ピンの先端部を挿入させる凹部とすることもできる。
【手続補正書】
【提出日】平成17年6月15日(2005.6.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
請求項１，１０，１１の発明によれば、予め定められた発動条件の成否を判定し、操作順報知遊技中に発動条件の成立と判定したときに、報知手段を制御して、遊技者が有利となる各ストップスイッチの操作順である有利操作順と異なる操作順を遊技者に報知させるようにしているので、遊技者の興趣を高めることができる。すなわち、たとえば有利操作順と異なる操作順が報知されたときは、その報知された操作順のとおりに操作すると遊技者は入賞を得られないこととなるため、報知された操作順に従うか否かの判断が必要となる。したがって、操作順報知遊技においてストップスイッチに対する操作が単調作業という感覚を遊技者に与えることがなく、遊技者の興趣を高めることができる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５７】
例えば図５に示す停止テーブル１３０では、左回転リール１２ａの滑りコマ数を、以下に示すように定めている。すなわち００番の図柄が図柄表示窓１１の中段に位置したときに左ストップスイッチ１９ａが操作されれば、滑りコマ数は２とする。また、０１番の図柄が図柄表示窓１１の中段に位置したときに左ストップスイッチ１９ａが操作されれば、滑りコマ数は３とする。このため、図５に示す全リール用停止テーブル１３０が用いられている場合には、左回転リール１２ａは、００番の図柄が図柄表示窓１１の中段に位置したときに左ストップスイッチ１９ａが操作されると、１９番の図柄を図柄表示窓１１の中段に位置させて停止し、また、０１番の図柄が図柄表示窓１１の中段に位置したときに左ストップスイッチ１９ａが操作されても、１９番の図柄を図柄表示窓１１の中段に位置させて停止する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７７】
また、この実施形態によれば、次のような作用効果を発揮することができる。すなわち、押し順ナビ遊技において最適ナビにより「順押し」が報知された場合、図６から明らかなように、これに従うことで遊技者はスイカ入賞またはシフト入賞を期待できる。ところが、遊技者、特に熟練者がシフト入賞を避けたいと考える場合がある。たとえば「ＢＢ一般遊技」の残りゲーム数が多いのにシフト入賞が３回目となってしまう場合には、そのシフト入賞による「ＢＢ特定遊技」で「ＢＢ遊技」が終了してしまうため、シフト入賞を避けたいと考える。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７８】
ここで、最適ナビによって「順押し」が報知され、遊技者がシフト入賞を避けようと「逆押し」をしたときに、実際には「ベルスイカ」の当選であった場合には、ベル入賞となってしまい、スイカ入賞で得られるはずの１５枚が６枚に減ってしまうこととなる。一方、偽ナビによって「逆押し」が報知され、遊技者がスイカ入賞を狙って「順押し」をしたときに、実際には「シフト」の当選であった場合には、シフト入賞となって「ＢＢ特定遊技」に移行してしまう。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８３】
また、上記実施形態では、押し順ナビ遊技中に遊技者の獲得したメダルの純増枚数が所定値を超えると、発動条件の成立と定められているが、これに限られない。例えば、押し順ナビ遊技がＮ（上記実施形態では例えばＮ＝１０）ゲームに亘って行われる場合に、予め定めたＭ（Ｍ≦Ｎで、例えばＭ＝３）ゲーム数だけ連続して偽ナビを行うようにしてもよい。例えば、最初の３ゲーム、あるいは最後の３ゲームは連続して偽ナビを行うと定めておけばよい。この場合には、上記図４において、枚数カウント手段２０１および発動条件判定手段２０２は不要になり、発動条件送信手段（図示省略）が、偽ナビを行う旨の制御信号を定められたゲーム数だけ演出制御手段２００に送信するようにすればよい。また、遊技者の獲得したメダルの純増枚数に代えて、単なるメダルの獲得枚数が所定値を超えると発動条件の成立と定めるようにしてもよい。
【手続補正書】
【提出日】平成16年6月8日(2004.6.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電気光学結晶の対向する第１面及び第２面にそれぞれ第１電極及び第２電極が形成され、該第２電極に探針が導通され、該第１電極と該第２電極との間の電圧に応じて該電気光学結晶を通った入射光の偏光状態を変化させる電圧／偏光状態変換器において、
該電気光学結晶として、該第１電極と該第２電極との間に電圧を印加したときに歪みが主に光軸に垂直な面内で生ずるものを用い、
該電気光学結晶に接触して、該電気光学結晶を該光軸の回りについて包囲する包囲体を有し、該包囲体は、その弾性係数が該電気光学結晶のそれより大きい固体である
ことを特徴とする電圧／偏光状態変換器。
【請求項２】
上記包囲体は、穴が形成されたガラスのブロックであり、該穴に上記電気光学結晶が嵌合されていることを特徴とする請求項１記載の電圧／偏光状態変換器。
【請求項３】
電気光学結晶の対向する第１面及び第２面にそれぞれ第１電極及び第２電極が形成され、該第２電極に探針が導通され、該第１電極と該第２電極との間の電圧に応じて該電気光学結晶を通った入射光の偏光状態を変化させる電圧／偏光状態変換器において、
該電気光学結晶として、該第１電極と該第２電極との間に電圧を印加したときに歪みが主に光軸に垂直な面内で生ずるものを用い、
該電気光学結晶に接触して、該電気光学結晶を該光軸の回りについて包囲する包囲体を有し、
該電気光学結晶は、その一部が、該第１電極の外周部と該第２電極の外周部とを最短距離で結ぶ面の外側にも存在し、該一部が実質的に該包囲体を形成している
ことを特徴とする電圧／偏光状態変換器。
【請求項５】
電気光学結晶の対向する第１面及び第２面にそれぞれ第１電極及び第２電極が形成され、該第２電極に探針が導通され、該第１電極と該第２電極との間の電圧に応じて該電気光学結晶を通った入射光の偏光状態を変化させる電圧／偏光状態変換器において、
該電気光学結晶として、該第１電極と該第２電極との間に電圧を印加したときに歪みが主に光軸に垂直な面内で生ずるものを用い、
該電気光学結晶に接触して、該電気光学結晶を該光軸の回りについて包囲する包囲体を有し、
該包囲体は、該電気光学結晶を包囲して閉じた空間を形成するケースと、該ケース内に充填された粘性物体とを有する
ことを特徴とする電圧／偏光状態変換器。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか１つに記載の電圧／偏光状態変換器と、
光源と、
光検出器と、
該光源から放射された光束を所定の偏光状態にして該電圧／偏光状態変換器の電気光学結晶に入射させ、該電気光学結晶から出射した光束をその偏光状態検出のために該光検出器へ入射させる光学系と、
を有することを特徴とする光ビームテスタ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
【課題を解決するための手段及びその作用効果】
本発明の第１態様では、電気光学結晶の対向する第１面及び第２面にそれぞれ第１電極及び第２電極が形成され、該第２電極に探針が導通され、該第１電極と該第２電極との間の電圧に応じて該電気光学結晶を通った入射光の偏光状態を変化させる電圧／偏光状態変換器において、
該電気光学結晶として、該第１電極と該第２電極との間に電圧を印加したときに歪みが主に光軸に垂直な面内で生ずるものを用い、
該電気光学結晶に接触して、該電気光学結晶を該光軸の回りについて包囲する包囲体を有し、該包囲体は、その弾性係数が該電気光学結晶のそれより大きい固体である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
また、上記周波数依存性減少効果が高められる。
本発明の第２態様の電圧／偏光状態変換器では、上記第１態様において、上記包囲体は、穴が形成されたガラスのブロックであり、該穴に上記電気光学結晶が嵌合されている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
この電圧／偏光状態変換器によれば、その構成が簡単になる。
本発明の第３態様の電圧／偏光状態変換器では、上記第１態様において、上記電気光学結晶は、その一部が、上記第１電極の外周部と上記第２電極の外周部とを最短距離で結ぶ面の外側にも存在し、該一部が実質的に上記包囲体を形成している。
この電圧／偏光状態変換器では、電極間に電圧を印加すると、主に電気光学結晶の電極間部分のみに電界が生じて歪み生じようとするが、その周囲部によりこの歪みが抑制されるので、上記効果が得られる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明の第４態様の電圧／偏光状態変換器では、上記第１態様において、上記包囲体は、上記電気光学結晶を包囲して閉じた空間を形成するケースと、該ケース内に充填された粘性物体とを有する。
この電圧／偏光状態変換器によれば、電極間に電圧を印加したときに生ずる電気光学結晶の振動が、ケースを通って粘性物体に伝達するのを防止することができ、電気光学結晶の振動が粘性物体に直接伝達されて減衰され、上記効果が得られる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明の第５態様の光ビームテスタでは、上記いずれかの態様の電圧／偏光状態変換器と、
光源と、
光検出器と、
該光源から放射された光束を所定の偏光状態にして該電圧／偏光状態変換器の電気光学結晶に入射させ、該電気光学結晶から出射した光束をその偏光状態検出のために該光検出器へ入射させる光学系とを有する。
【手続補正書】
【提出日】平成17年1月25日(2005.1.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】投影光学系、露光装置及び方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１面上のパターンの等倍像を第２面上に形成する投影光学系において、
前記第１面から離間して配置された正レンズ群と；
反射面に回転対称形状の位相分布が設けられ、前記正レンズ群と共通の光軸を有する反射型回折光学素子と；
を備え、
前記第１面からの光が前記正レンズ群を経た後、前記反射型回折光学素子で回折されて再び前記正レンズ群を経て前記第２面に達するように、前記正レンズ群および前記反射型回折光学素子が配置されていることを特徴とする投影光学系。
【請求項２】
前記反射型回折光学素子は、近軸領域で正屈折力を有することを特徴とする請求項１に記載の投影光学系。
【請求項３】
前記正レンズ群は１枚の平凸レンズ素子で構成されることを特徴とする請求項１または２に記載の投影光学系。
【請求項４】
前記反射型回折光学素子上の位相分布は、前記光軸から周辺へ向かうにつれて漸次位相の変化を与えるように定められていることを特徴とする請求項３に記載の投影光学系。
【請求項５】
前記反射型回折光学素子上の位相分布は、
ｆＤ＝−（ｈＤ2 ／２ｈＬ2 ）・（νＬ／νＤ）・ｆＬ
を満足することを特徴とする請求項３または４に記載の投影光学系。
但し、
ｆＤは前記位相分布自体の焦点距離、ｆＬは前記平凸レンズ素子の焦点距離、ｈＤは前記位相分布が設けられた前記反射型回折光学素子上でのマージナル光線の入射高、ｈＬは前記平凸レンズ素子でのマージナル光線の入射高、νＤは前記位相分布が持つアッベ数、νＬは前記平凸レンズ素子のアッベ数である。
【請求項６】
前記正レンズ群は、正レンズ素子と負レンズ素子とを備えることを特徴とする請求項１または２に記載の投影光学系。
【請求項７】
前記正レンズ群は、前記回折光学素子側に凸面を向けた非球面を有することを特徴とする請求項１乃至６の何れか一項に記載の投影光学系。
【請求項８】
前記正レンズ群中の前記非球面は、前記光軸から周辺へ向かうにつれて正の屈折力が増加するような形状または前記光軸から周辺へ向かうにつれて負の屈折力が減少するような形状であることを特徴とする請求項７に記載の投影光学系。
【請求項９】
前記反射型回折光学素子の位置には開口絞りが設けられることを特徴とする請求項１乃至８の何れか一項に記載の投影光学系。
【請求項１０】
前記投影光学系は、
前記第１面と前記正レンズ群との間の光路中に配置された第１の光路折曲げプリズムと、
前記正レンズ群と前記第２との間に配置された第２の光路折曲げプリズムとを備えることを特徴とする請求項１乃至９の何れか一項に記載の投影光学系。
【請求項１１】
所定のパターンを感光性基板上に投影露光する露光装置において、
前記所定のパターンと前記感光性基板との間に配置された請求項１乃至１０の何れか一項に記載の投影光学系を備え、
前記投影光学系は、前記所定のパターンの等倍像を前記感光性基板上にに投影することを特徴とする露光装置。
【請求項１２】
前記投影光学系は、前記パターンと前記正レンズ群との間の光路中に配置された第１の光路折曲げプリズムと、前記正レンズ群と前記感光性基板との間に配置された第２の光路折曲げプリズムとを備えることを特徴とする請求項１１に記載の露光装置。
【請求項１３】
前記所定のパターンが形成されたマスク上の所定の照明領域を露光光で照明する照明光学系をさらに備え、
前記照明光学系は、アーク光源を備えることを特徴とする請求項１１または１２に記載の露光装置。
【請求項１４】
所定のパターンが形成されたマスク上の所定の照明領域を露光光で照明する照明工程と；
請求項１乃至１０の何れか一項に記載の投影光学系を用い、前記照明領域からの光に基づいて前記マスクの前記パターンの等倍像を感光性基板上に投影する投影工程と；
を含むことを特徴とする露光方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、第１面の等倍像を第２面上に投影する投影光学系、その投影光学系を備えた露光装置、及びその投影光学系を用いた露光方法に関するものである。
【手続補正書】
【提出日】平成16年6月3日(2004.6.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
具体的に、測定検査部７では、反応テーブル１が回転し、位置検出器７ｇが溝１ａに開けられた丸穴１ｂを通して尿試験紙１４が測定位置まで回転して搬送させられてきたことを検出すると、この位置検出器７ｇから制御部１３に位置検出信号が出力され反射光の測定が開始される。反射光測定が開始されると、光源ランプ７ａからレンズ７ｂおよびフィルタ７ｃを介して反応テーブル１上の所定の照射位置に光が照射され、この照射光が所定の照射位置にて上記尿試験紙１４で反射するとともに、その反射光が積分球７ｄに集束されて測定検出器７ｅに導かれることとなる。この測定検出器７ｅは、反射光量に応じた測定信号を制御部１３に出力する。尿試験紙１４上の一箇所の測定が終わると、スライド機構７ｆが尿試験紙１４を溝１ａの縦方向に沿って反応テーブル１外周方向に一箇所分スライド移動させ、尿試験紙１４の次の測定箇所を上記所定の照射位置へと移動させる。最終的に尿試験紙１４の全箇所の測定が終わると、スライド機構７ｆがこの測定を終えた尿試験紙１４を溝１ａ外に排除することとなる。溝１ａ外に排除された尿試験紙１４は、図示しない収容体に収容されることとなる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６１】
一方、尿試験紙１４の測定検査使用前後、台座面１５を装置本体手前側に引き出し、反応テーブル１の中心穴１ｃに固定された固定ねじ１ｄをゆるめることにより、駆動軸１６から反応テーブル１が取り外される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２】
1999002631.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成16年4月22日(2004.4.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
一方、上記１対の内輪２、２のうち、内側の内輪２の内端部には、ステンレス鋼板等の金属板を絞り成形して成るキャリア２０を、外嵌固定している。上記シール環１２を構成するシール材１６の先端縁は、このキャリア２０の外周面及び外側面に摺接させて、上記玉９、９を設置した部分に、塵芥や雨水が進入するのを防止している。又、上記キャリア２０の一部には保持部２１を、上記金属板に深絞り加工を施す事により形成している。この保持部２１には、センサ１７ａを支持固定し、このセンサ１７ａの検出部を、上記エンコーダ１４ａの内側面に対向させている。本例の場合に上記センサ１７ａは、ホール素子又は磁気抵抗素子等の磁気検出素子及びこの磁気検出素子の出力波形を整える波形整形回路を備えたＩＣと、このＩＣに関して上記エンコーダ１４ａと反対側に配置した永久磁石とより成る。尚、この永久磁石は、上記エンコーダ１４ａの軸方向（図１の左右方向）に着磁している。又、上記センサ１７ａから検出信号を取り出す為のハーネス１８ａは、図２に示す様に、上記保持部２１の円周方向一端面から、上記キャリア２０の外部（上記玉９、９及びエンコーダ１４ａを設置した部分と反対側部分）に取り出している。そして、上記ハーネス１８ａの先端部に、このハーネス１８ａと制御器側の別のハーネスとを接続する為のコネクタ２２を接続している。
【手続補正書】
【提出日】平成16年4月8日(2004.4.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
すると、バランスリンク２０はコントロールレバー１５により押動されて支軸１９の回りに図示時計方向に揺動し、コントロールレバー１５の他方端部１８が第１リンク８の突出部８ｂと係合するので、コントロールレバー１５は第１リンク８に制御力Ｃを作用させる。
【手続補正書】
【提出日】平成16年5月19日(2004.5.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
アクティブマトリクス基板と対向基板との間に誘電率異方性が負の液晶を挟持し、電圧非印加状態で液晶分子がほぼ垂直に配向する液晶表示装置において、電圧非印加時の前記液晶分子のプレチルト角θを８９°≦θ≦９１°としたことを特徴とする液晶表示装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
再び、図５（ａ）参照
一方、右側の図に示すように、誘電率異方性が負の液晶を用いたＶＡ型液晶表示パネルの場合には、電圧オフ時に液晶分子６０は略垂直、例えば、プレチルト角が約８７°で立った状態となり、この状態で偏光板６１を介して光が入射した場合、入射光は液晶分子６０による偏光作用を受けないので、偏光板６１の偏光軸Ｐと９０°ずれた偏光軸Ａを有する偏光板６２に遮られて黒表示となる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
図１（ａ）及び（ｂ）参照
（１）本発明は、アクティブマトリクス基板１と対向基板２との間に誘電率異方性が負の液晶３を挟持し、電圧非印加状態で液晶分子４がほぼ垂直に配向する液晶表示装置において、電圧非印加時の液晶分子４のプレチルト角θを８９°≦θ≦９１°としたことを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５７】
次いで、対向基板２６をスペーサ（図示せず）を介してＴＦＴ基板となる透明ガラス基板１１と対向させ、その間の空間に、電圧オフ時に液晶分子３０の光学軸が垂直になる誘電率異方性が負の液晶２９、例えば、ＭＪ−９５７８５（メルク社製商品名）を注入することによって液晶パネルを完成させる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７１】
【発明の効果】
本発明によれば、誘電率異方性が負の液晶のプレチルト角を略９０°に設定しているので、横方向電界に起因するディスクリネーションラインの発生を防止することができ、それによって、広開口型のアクティブマトリクス基板を用いてＶＡ型液晶表示パネルを構成することができるので、完全な黒表示による高いコントラストと高い白輝度を得ることができ、ひいては液晶表示装置の高画質化及び高輝度化に寄与するところが大きい。
【手続補正書】
【提出日】平成16年10月5日(2004.10.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
位置測定系で位置に依存する少なくとも一つの周期信号（ＳＩＮ，ＣＯＳ）の内挿係数（Ｉ）を可変する方法において、
特定の数の異なった内挿係数（Ｉ）を用意し、
各内挿係数に対して内挿される測定信号（Ａ，Ｂ）が同じ信号波形を持つ切換時点（ｔu ）で異なった内挿係数（Ｉ）の間の切換を行う、
過程から成ることを特徴とする方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】
内挿係数（Ｉ）は位置測定系の測定操作の間に可変されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４】
更に、内挿係数（Ｉ）が変化しない各信号周期の切換時点（ｔU ）の前と後で一定の期間（ｔH ）の安定化時間間隔を定める過程があることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項５】
安定化時間間隔の期間（ｔH ）は周期信号（ＳＩＮ，ＣＯＳ）の 90 °の位相角に等しく、切換時点（ｔu ）の周りに中心合わせされることを特徴とする請求項４に記載の方法。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項６】
安定化時間間隔信号（Ｈ）は安定化時間間隔（ｔH ）の間に評価ユニット（２４）に伝送されることを特徴とする請求項４に記載の方法。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項７】
更に、内挿係数（Ｉ）が変化しない各信号周期（ＳＩＮ，ＣＯＳ）の切換時点（ｔu ）の前と後に特定の期間の安定化時間間隔を定め、この安定化時間間隔が周期信号の 90 °の位相角に等しく、内挿される信号（Ａ，Ｂ）の立ち上がりエッジで選択される切換時点（ｔu ）の周りに中心合わせされ、特定の数の内挿係数（Ｉ）の間を切換できる過程を含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年12月16日(2004.12.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
信号周期可変ユニット（６）が、少なくとも一つの第一内挿ユニット（９）と、出力側に配置された少なくとも一つのデジタル・アナログ変換器（１２A,１２B ）を制御する少なくとも一つの換算表を持つ記憶回路（１１）を有することを特徴とする位置測定装置。
【請求項２】
信号周期可変ユニット（２６）は少なくとも一つの換算表（２１A,２１B ）を持つ少なくとも一つの記憶回路（４１）を有し、この記憶回路はアドレス指定され制御可能な表領域（２１A 1 −２１A k,２１B 1 −２１B k ）を
有し、これ等の表領域にはそれぞれ評価ユニットに伝送すべき増分信号ＳＩＮ′，ＣＯＳ′の特定な信号振幅値が付属していることを特徴とする請求項１に記載の位置測定装置。
【請求項３】
信号周期可変ユニット（２６）は、入力側に内挿されたデジタル信号を発生する内挿ユニット（２９）と方向識別ユニット（２３）を有し、これ等のユニットには位置測定装置から供給された増分信号ＳＩＮ，ＣＯＳを導入でき、更に、内挿ユニット（２９）と方向識別ユニット（２３）の出力端にはアドレス計数ユニット（２４）が後置されていて、このアドレス計数ユニット（２４）により、出力側で記憶回路（４１）の少なくとも一つの換算表（２１A,２１B ）のアドレス指定された表領域（２１A 1 −２１A k,２１B 1 −２１B k ）が制御できることを特徴とする請求項２に記載の位置測定装置。
【請求項４】
相対運動する二つの物体の相対位置を測定する位置測定装置を操作する方法において、相対運動する場合に、前記位置測定装置が少なくとも一対の位相のずれたアナログ信号ＳＩＮ，ＣＯＳを出力し、信号周期可変ユニット（６）により後置されている評価ユニット（４）に伝送するアナログ増分信号ＳＩＮ′，ＣＯＳ′の信号周期ＳＰ′を少なくとも一つの信号周期の可変係数ｎほど規定通りに可変できることを特徴とする方法。
【請求項５】
アナログ増分信号ＳＩＮ，ＣＯＳの信号周期ＳＰの可変は、一定の切換時点ｔu で行われ、そこでは増分信号ＳＩＮ，ＣＯＳの一方の零点が生じることを特徴とする請求項４に記載の方法。
【請求項６】
位置測定で測定時に生じる誤差を修正するため、
入力計数ユニット（２５）に内挿ユニット（２９）の出力信号を導入し、これ等の出力信号が実際の目標位置の測定値ＳＰＭを求めるために使用され、
少なくとも一つの換算表（２１A,２１B ）により実行された施行数が通過計数ユニット（３８）により決定され、
プロセッサユニット（２７）により入力計数ユニット（２５）の出力信号から連続的に実際の目標位置の測定値ＳＰＭを求めて実際の実測位置の測定値ＩＰＭと比較し、前記測定値ＩＰＭはアドレス計数ユニット（２４）の実際の状態と通過計数ユニット（３８）の実際の状態とから与えられ、目標位置の測定値ＳＰＭと実測位置の測定値ＩＰＭにずれが確認された場合、アドレス計数ユニット（２４）のアドレス計数値ＡＺＷがプロセッサユニット（２７）により一定に可変される、
ことを特徴とする請求項４に記載の方法。
【請求項７】
位置測定で測定時に生じる誤差を修正するため、更に連続的に測定環境に関するパラメータｐ，Ｔ，ｆを検出し、これ等のパラメータをプロセッサユニット（２７）に導入し、このプロセッサユニット（２７）により更に実際の実測位置の測定値ＩＰＭを決定するために使用されることを特徴とする請求項４に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記の課題は、この発明により、信号周期可変ユニットが、少なくとも一つの第一内挿ユニットと、出力側に配置された少なくとも一つのデジタル・アナログ変換器を制御する少なくとも一つの換算表を持つ記憶回路を有することによって解決されている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
更に、上記の課題は、この発明により、相対運動する二つの物体の相対位置を測定する位置測定装置を操作する方法にあって、相対運動する場合に、前記位置測定装置が少なくとも一対の位相のずれたアナログ信号ＳＩＮ，ＣＯＳを出力し、信号周期可変ユニット６により後置されている評価ユニット４に伝送するアナログ増分信号ＳＩＮ′，ＣＯＳ′の信号周期ＳＰ′を少なくとも一つの信号周期の可変係数ｎほど規定通りに可変できることによって解決されている。
【手続補正書】
【提出日】平成16年6月3日(2004.6.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
点滅光を被検体に投光して、同被検体から反射された反射光を受光し、受光した同反射光を電気信号に変換した後、増幅処理を行い、前記電気信号を解析して前記被検体の品質評価を行う品質評価方法において、
被検体からの前記反射光を電気信号に変換する前に、分光手段により光を波長帯の異なる所定数の光に分光することを特徴とする品質評価方法。
【請求項２】
点滅光を発光する光源部と、
同光源部からの点滅光を被検体に投光すると共に同被検体からの反射光を受光する投受光部と、
前記反射光を電気信号に変換した後、増幅処理を行う光処理部と、
前記電気信号を解析して前記被検体の品質評価を行う解析部と
を備えてなる品質評価装置において、
前記光処理部は前記反射光を波長帯の異なる所定数の光に分光するための前記所定数の帯域フィルタを備えてなることを特徴とする品質評価装置。
【手続補正書】
【提出日】平成17年6月23日(2005.6.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シューズの爪先領域を通気する構造であって、
ａ）爪先ゾーン、ヒールゾーン、および前記爪先およびヒールゾーン間のアーチゾーン、および横ゾーンを有するボディを備え、前記ボディのヒールゾーンは互いに対面するよう配置された２つの主要壁、および前記主要壁を連結し、包囲されたポンプチャンバを形成する周方向壁を有し、少なくとも１つの前記主要壁はそれに作用する外力の大きさの上昇および下降に応答し、前記ポンプチャンバ内に、およびポンプチャンバ内から曲がることができるフレキシブル性をもち、それに伴い前記ポンプチャンバに含まれる空気の圧力が増加および減少し、前記ボディは実質上前記シューズの底の内向き面と同一の空間を占め、
ｂ）前記ボディの爪先領域と前記横ゾーンの１つ間の空気流路を確立し、少なくとも前記１つの横ゾーンの側面に開口する細長い江湾部を含む前記ボディのみぞ手段と、
ｃ）前記ポンプチャンバの圧力が周囲圧力を越えたとき、空気を前記ポンプチャンバから実質上軸方向に前記側面に向かう方向に前記江湾部内に注入し、前記江湾部内にある静止した空気を合流として送り、補充空気を前記みぞ手段に通し、前記シューズの爪先領域内に、または爪先領域から導く手段とを備えたことを特徴とする通気構造。
【請求項２】
さらに、実質状前記ポンプチャンバに同一の空間を占めるよう配置され、多数の空隙を有する弾性エレメントを備え、前記弾性エレメントは前記２つの壁をその外力の作用に抗して互いに離れる方向に付勢することを特徴とする請求項１に記載の通気構造。
【請求項３】
前記弾性エレメントは内部および外部の第１および第２空隙を形成する複数の実質状ドーム状の中空の隆起、および前記隆起を連結する連結部を有することを特徴とする請求項２に記載の通気構造。
【請求項４】
前記連結部および前記隆起の隣接領域の連結チャネルを形成する手段を備え、前記連結チャンネルは前記第１空隙間を連通し、第１空隙の圧力を実質上同期させて上昇および下降させることを特徴とする請求項３に記載の通気構造。
【請求項５】
前記注入手段は前記ボディ内に埋め込まれ、一端が前記ポンプチャンバに開口し、他端が前記江湾部に開口する内部流路を形成するチューブを含むことを特徴とする請求項１に記載の通気構造。
【請求項６】
さらに、前記シューズの爪先領域を前記ポンプチャンバに接続する付加的みぞ手段を備えたことを特徴とする請求項１に記載の通気構造。
【請求項７】
前記付加的みぞ手段と関係し、空気を前記付加的みぞ手段に通し、前記シューズの爪先領域からポンプチャンバに流すことができるが、逆方向には流さない１方向流れ制御手段を備えたことを特徴とする請求項６に記載の通気構造。
【請求項８】
前記付加的みぞ手段は前記ポンプチャンバ内に配置されたシート面に開口する一端部を有し、前記流れ制御手段は前記付加的みぞ手段の前記端部に配置され、前記シート面と協同し、前記ポンプチャンバと前記第２みぞ手段間の空気圧力差によって前記付加的みぞ手段の流れを制御するフレキシブルフラップバルブを有することを特徴とする請求項７に記載の通気構造。
【請求項９】
前記ボディは前記シューズから分離されているが、使用前および使用のとき、前記シューズの内部空間内の適所に配置される別個のインサートとして構成されていることを特徴とする請求項１に記載の通気構造。
【請求項１０】
前記隆起は互いに間隔を置いて配置され、多数の互い違いの横列をなすよう配列されていることを特徴とする請求項３に記載の通気構造。
【請求項１１】
さらに、前記江湾部と連通するチャンネルを形成するための前記爪先およびアーチゾーン間の前記ボディ内の波形状エレメントを備えたことを特徴とする請求項１に記載の通気構造。
【請求項１２】
前記波形状エレメントのチャンネルは直線状であり、互いに平行に配置されていることを特徴とする請求項１１に記載の通気構造。
【請求項１３】
前記江湾部から離れる方向に形成され、持ち上げることができる空気を通すポートを有する細長いフレキシブル延長部を備えたことを特徴とする請求項１に記載の通気構造。
【手続補正書】
【提出日】平成16年7月15日(2004.7.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
また、ガラス繊維強化6,6-ポリアミド、ガラス繊維強化ＰＥＴ及びエンジニアリングプラスチック等は耐破壊性に優れ、軽量であり、更に或る程度の可撓性を有する寄与で耐分解性にも優れているが、一般に多く用いられているポリエチレン、ポリプロピレン等に比べると高価であることに妨げられて、事務用椅子等の安価な椅子の椅子脚としては汎用性に欠ける。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
次いで、成形後の金型を冷却固化した後に開き、図２に示された様な左右方向張出し型のガラス長繊維強化ポリプロピレン製試験用椅子脚１４を取出した。
図２は試験用椅子脚１４の模式的縦断面図を示す。図２において、試験用椅子脚１４には、凹形状の雌テーパー付き嵌合部１４cが椅子脚１４の略中心を上下に貫通する様に形
成されている。この試験用椅子脚１４の構造は図４の下面図にも示されているが、凹形状の雌テーパー付き嵌合部１４cの外側で稍隔たった位置にそれを取り囲んだ支持壁が設け
られ、その外壁面から外方へ４本の側方張出し１４bが伸び、その末端付近の下方からキ
ャスター車輪を装着する為の車輪取付け用孔１４wが形成されている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６４】
（１）耐破壊性の評価(静荷重破壊試験)
図５に示された様に、試験用椅子脚の試験装置［商品名:オートグラフＡＧ１０ＴＣ型
万能試験機(島津製作所製)］のベッド２上に、２個の金属ブロック(高さ１００mmの直方
体)３を載置した。その載置方式はこの両端の直方体３の間隔が２５０mmの一定間隔に保
たれる様な平行配置とした。次いで、相互に平行に設置された２個の金属ブロック３の上
端面の４辺の中で、他方に対向して２５０mmの一定間隔に位置した１辺の上に、車輪取付け用孔１４wの中心が位置する様に試験用椅子脚１４を設置した。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６５】
この設置によって、試験用椅子脚１の下部は金属ブロック３を介してベッド２から１００mm高い位置に設置されている。
次いで、２個の金属ブロック３上にその両端が載置された試験用椅子脚１４の雌テーパー付き嵌合部１４cに、この雌テーパー角度αと同じテーパー角度β(β＝αに設定)を有
する測定用棒状体４を無負荷で挿入した。
【手続補正５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
1999164753.tif 000001