(57)【要約】【課題】  基板の周辺領域の金属配線の上に配向膜を有する液晶表示パネルにおいて配向膜のラビング処理時の配向膜の剥離を防止する。【解決手段】  本発明の液晶表示パネルは液晶層と液晶層を外部から入力される電気信号によって駆動する基板とを有し、基板には液晶層が駆動される画素領域と、画素領域の外側であって外部からの電気信号を伝達する金属配線を備えた周辺領域とを有し、基板の画素領域および周辺領域に配向膜が形成され、周辺領域の金属配線と配向膜との間に金属配線の側部を覆う透明電極層を有する。【選択図】  図２
2010072413.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶層と該液晶層を外部から入力される電気信号によって駆動する基板とを有し、該基板は前記液晶層が駆動される画素領域と、前記画素領域の外側であって外部からの電気信号を伝達する金属配線を備えた周辺領域とを有する液晶表示パネルであって、前記基板の前記画素領域および前記周辺領域に配向膜が形成され、前記周辺領域の前記金属配線と前記配向膜との間に前記金属配線の側部を覆う透明電極層を有する液晶表示パネル。
【請求項２】
金属配線の側部を覆う透明電極層は前記金属配線の一方の側面のみを覆うパターンからなる請求項１に記載の液晶表示パネル。
【請求項３】
液晶層と該液晶層を外部から入力される電気信号によって駆動する基板とを有し、該基板は前記液晶層が駆動される画素領域と、前記画素領域の外側であって外部からの電気信号を伝達する金属配線を備えた周辺領域とを有する液晶表示パネルの製造方法であって、
前記基板上の前記画素領域に信号線を形成する工程と、前記基板上の前記画素領域の外側の周辺領域に前記金属配線を形成する工程と、前記画素領域に前記信号線に接続される透明導電材料からなる画素電極と前記周辺領域に前記金属配線の側部を覆う前記透明導電層とを同時に形成する工程と、前記画素電極と前記透明導電層とを同時に形成する工程の後に前記画素領域および前記周辺領域に配向膜を形成する工程と、前記配向膜をラビング処理する工程と、を有する液晶表示パネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、液晶表示装置に用いられる液晶表示パネルおよび液晶表示パネルの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置に備えられる液晶表示パネルは、配線や画素を構成する電極がマトリクス状に形成されたアレイ基板と、カラーフィルタが形成されたカラーフィルタ基板とで、液晶層を挟み込むことで製造される。アレイ基板やカラーフィルタ基板にはポリイミド等の有機高分子材料からなる膜が塗布され、加熱処理して配向膜が形成される。配向膜は液晶層中の液晶分子を優先的に特定の方向に配向させる作用を有する。配向膜は、単に塗布されただけでは、液晶分子が基板の表面に対して単に平行に配列されるだけであり、液晶分子を一定方向に配列（配向）させることはできない。そこで配向膜に対して、その表面をレーヨン等のラビング布で一定方向に機械的にラビングする（擦る）ラビング処理を施し、これによって液晶分子を、ラビングした方向と一定の関係を有する方向に配向させることが行われている。
【０００３】
このようにしてラビング処理が施された後に、アレイ基板とカラーフィルタ基板とからなる一対の基板はスペーサを介して対向配置され、その間の周辺部分にシール剤が配設して貼り合わせられ、ガラス基板間に液晶が充填されることにより、液晶表示パネルが作製される。このようにして作製された液晶表示パネルを使用して、液晶表示装置が製造される。この液晶表示装置の製造工程で作製される液晶表示パネルにおいては、湿度に対する信頼性やシール剤の接着強度の維持をはかるために、配向膜はシール領域の内側領域に形成される。ここでシール領域の内側領域とは、液晶パネルの表示を行う画素領域、ならびに画素領域とシール領域の間の画素周辺領域に相当する。そのため従来では、配向膜の形成方法として、ポリイミド等の溶液或いはその前駆体を印刷法によりシール領域の内側領域にのみ塗布し、加熱処理した後ラビング布で配向処理する方法がとられている。
【０００４】
ところで、ラビング処理は基板全体に行うが、ラビング処理の際に配向膜の密着性が弱い部分は剥離して、画素領域内に再付着する場合がある。画素領域内で再付着すると、配向膜の付着した部分では表面特性が他の部分と異なり、液晶を接触させた場合に液晶分子の配列構成が乱されて輝点が生じ、製品不良となる。
【０００５】
これに対処するため、特許文献１において、ＴＦＴ基板上の比較的平坦な画素周辺領域に、配向膜に対して親和性を有する凸部を複数形成し、配向膜を強固に密着させる方法が示されている。
【０００６】
【特許文献１】２００４−３４１３３４号広報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、われわれの検討の結果、ラビングにより配向膜の剥離が開始するのは、基板表面の画素周辺領域に形成された金属配線や絶縁膜で被覆された構造物などの段差部分、とりわけラビングローラーが乗り上げる側の段差部分であり、これを起点として平坦領域にまで配向膜の剥離が進行しやすいことを見出した。
【０００８】
特許文献１の方法では比較的平坦な領域の配向膜の密着性を改善するのみであり、段差部分での配向膜剥離が依然として発生し、配向膜の剥離を部分的に減少させるにとどまっていた。さらに、特許文献１で配向膜の材料であるポリイミドに対して親和性を有するとされたＡｌなどの金属からなる配線部に関しても段差部分で剥離が生じやすいことがわかった。
【０００９】
そこで、本発明はかかる問題点に鑑みてなされたものであって、金属配線を有する周辺領域において配向膜の剥離を防止し、製品不良率の低減を実現することのできる液晶表示パネルおよびその製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の液晶表示パネルは液晶層と液晶層を外部から入力される電気信号によって駆動する基板とを有し、基板には液晶層が駆動される画素領域と、画素領域の外側であって外部からの電気信号を伝達する金属配線を備えた周辺領域とを有する液晶表示パネルであって、基板の画素領域および周辺領域に配向膜が形成され、周辺領域の金属配線と配向膜との間に金属配線の側部を覆う透明電極層を有する。
【発明の効果】
【００１１】
基板上の周辺領域にある金属配線層の側部を覆う透明電極層を設けたので、配向膜の密着性が良好となり、配向膜の剥離を防止することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、本発明の実施の形態を示す液晶表示パネルの製造方法について、図面を参照しながら具体的に説明する。
【００１３】
＜実施の形態１＞
図１は本実施の形態１の液晶表示パネルを用いた液晶表示装置の構成の説明図である。本実施の形態１の液晶表示パネル５０はアレイ基板２およびカラーフィルタが形成されたカラーフィルタ基板３との間に液晶層１が挟まれている。アレイ基板２と対向するカラーフィルタ基板３とは、それぞれの周辺でシール材によりシールされ、液晶層１はシールされた空間に保持される。なお、本実施の形態１の液晶表示パネル５０はカラー表示とするため、アレイ基板２に対向する基板をカラーフィルタ基板３としたが、液晶層１を挟み込む基板があれば必ずしもカラーフィルタは必須ではない。また、カラーフィルタをアレイ基板２側に形成してもよい。
【００１４】
アレイ基板２および対向するカラーフィルタ基板３には画素領域１５がマトリクス状に配列される。液晶表示パネル５０には画像信号入力部５２に入力された信号をもとに液晶表示パネル５０を駆動する駆動回路５１が接続される。画素領域１５では駆動回路５１によって画像信号に応じて画素ごとに液晶層１に所定の電圧が印加され、液晶層１の光学特性が制御される。透過型の液晶表示パネル５０の場合、アレイ基板２、カラーフィルタ基板３は、例えば、石英基板、ガラス基板などの透明な絶縁基板とする。液晶表示パネル５０の背面側には光源５３が設置され、その光源５３の光の透過率が画素ごとに液晶層１の光学特性の変化で制御されて画素領域１５の正面側に画像が表示される。光源５３には光源制御回路５４が接続される。たとえば光源制御回路５４によって画素領域１５に画像が表示されるフレーム周期にあわせて光源５３が点灯と消光と繰り返すように制御される。
【００１５】
図２は本実施の形態１の液晶表示パネルのアレイ基板２構成を示す平面図である。アレイ基板２の周辺部に形成された端子部２１は駆動回路５１とフレキシブルケーブルなどの配線が接続されて駆動信号が入力される。アレイ基板２の周辺部であって端子部２１の内側にはシール材が形成されるシール領域１６を有する。さらにそのシール領域１６の内側には画像表示を行う画素領域１５を有し、また、シール領域１６と画素領域１５との間に周辺領域１７を有する。周辺領域１７には走査回路５７や信号回路５８が形成され、それぞれの回路は端子部２１と金属配線５によって接続される。金属配線５はシール領域１６の外側と内側とを横断する。また、走査回路５７や信号回路５８から画素内に信号線が接続される。図は走査回路５７からコモン線Ｃおよびゲート線Ｇ、信号回路５８からソース線Ｓが画素内に伸びるように配置された構造の例を示している。図では、コモン線Ｃおよびゲート線Ｇとソース線Ｓとが交差した位置ごとに画素が配置される。また、ゲート線Ｇとソース線Ｓとが交差した位置近傍にトランジスタ１０が形成され、画素内の一方の画素電極８はこのトランジスタ１０を介してソース線Ｓに接続される。トランジスタ１０のゲート電極はゲート線Ｇに接続され、走査回路５７から所定の周期でゲート線Ｇに駆動信号が入力されて導通し、信号回路５８からソース線Ｓの電圧が一方の画素電極８に与えられる。画素内の他方の画素電極９にはコモン線Ｃからコモン電位が与えられて、一方の画素電極８と他方の画素電極９との電圧によって電極間に挟まれる液晶層１に電界が与えられて画素が駆動される。なお、図では画素内に２つの画素電極を有する場合を示したが、画素内にはソース線Ｓから電位が与えられる画素電極８のみを有して、対向する基板側にコモン電位が与えられる画素電極９を形成する構成としてもよい。透過型の液晶表示パネルの場合、これらの画素電極８、９にはＩＴＯ（酸化インジウムスズ）などの透明導電膜が用いられる。ゲート線Ｇ、ソース線Ｓはたとえばアルミニウムやその合金などの金属線、トランジスタ１０は薄膜シリコン用いたＴＦＴが用いられる。
【００１６】
配向膜１８は画素領域１５全体を覆ってさらにその外側の周辺領域１７にも形成される。配向膜１８はその一部がシール領域１６に形成されていてもよい。配向膜１８は液晶層１に電界を印加されない状態で、液晶層１の液晶分子を特定の方向に配向させるためのものである。従って、画素電極８、９やトランジスタ１０、ゲート線Ｇ、ソース線Ｓなどの要素が形成された上に形成される。また、周辺領域１７においては、金属配線５、走査回路５７や信号回路５８の上にも配向膜１８が形成される。配向膜１８はポリイミド等の有機樹脂層であり、一般に塗布によって形成される。
【００１７】
また、配向膜１８の液晶分子の配向作用は上述のように、ラビング処理によって与えられる。本来、配向膜１８は画素領域１５のみとしてもよいが、ラビング処理によって配向処理する場合はラビング開始付近となる配向膜の周辺部で配向状態が安定しにくいので、画素領域１５よりも少し外側の周辺領域１７まで配向膜１８を延在させる。この周辺領域１７には周辺回路や、画素領域１５と基板２の周辺回路や外部回路と電気信号を伝達するための金属配線５などが形成されており、配向膜１８はこれらの上に形成されることになる。
【００１８】
しかしながら、これらの周辺領域１７の金属配線５の上、特にその段差部付近で配向膜１８が剥離しやすいことを見出した。一方、金属配線５の上であっても画素領域内では配向膜１８の剥離はほとんど生じない。画素周辺領域１７では金属配線５のパターン幅が画素領域１５内よりも比較的大きいことや、ラビング開始付近となる配向膜１８の周辺部で配向状態が安定しにくいこととも関係していると思われる。
【００１９】
そこで、以下のように配向膜１８が形成される下地材質と配向膜１８の剥離との関係を確認する実験を行った。実験では、ガラス基板上に、Ｃｒ金属配線層、Ａｌ合金配線層、ＳｉＮ絶縁層、ＩＴＯ透明導電膜層のパターンを形成して、その上に配向膜１８を塗布して、その後にラビング処理を行い、光学顕微鏡にて配向膜１８の剥離の有無を検査した。各層の厚みはおおよそ１５０ｎｍ厚としてＣｒ金属配線層、Ａｌ合金配線層、ＩＴＯ透明導電膜層はスパッタ法で形成し、ＳｉＮ絶縁層はプラズマＣＶＤ法により形成した。それらの膜をパターニング加工によってそれぞれの層に段差部を形成した。また、それらの上に形成した配向膜１８の厚みは７０ｎｍ厚とした。配向膜１８は、ＪＳＲ株式会社製低温処理型配向膜オプトマーＡＬシリーズなどのポリイミド樹脂材料を塗布して形成した。また、配向膜で覆われた段差を横切る方向にラビングを実施した。ラビングは長さ２〜３ｍｍのレーヨン製のパイルを有するラビング布をラビングローラーに巻き付けたものを使用した。そのラビングローラーを回転しながら配向膜１８表面にパイルを押し付けることでラビングを行った。このときパイルが押し込まれる量であるラビングローラーの押込み量は０．３ｍｍ、０．５ｍｍ、０．７ｍｍとした。押込み量が大きくなるほど配向膜１８を強い力でこすることになる。各々の条件で１０枚の基板をラビングし、顕微鏡観察により段差部分での配向膜剥離の有無を確認した。
【００２０】
図３は上記のように本実施の形態１の液晶表示パネルについて行った実験結果を示す表である。図３では各下地の基板に各ラビング押し込み量でラビング処理した際に、配向膜の剥離が発生した基板の割合が１０基板あたり何枚となるかを分数で表示している。下地がＣｒ金属配線層、Ａｌ合金配線層からなる段差では、押込み量が０．３ｍｍの段階で既に剥離が発生しており、ＳｉＮ絶縁層からなる段差も押込み量が０．５ｍｍで剥離が発生した。これに対し、ＩＴＯ透明導電膜層からなる段差では、押込み量が０．７ｍｍでも剥離がまったく発生せず、配向膜１８との密着性に優れることが示された。また、段差以外の平坦領域においては、いずれの条件でも配向膜の剥離は見られなかった。
【００２１】
以上のように、ラビングに対する配向膜１８との密着性はＣｒやＡｌなどの金属配線層よりＳｉＮ絶縁層が良好で、さらにＩＴＯ透明導電膜層で最も良好であった。ＩＴＯ透明導電膜層では表面に微細な凹凸ができやすいため、配向膜１８との密着性が良好であると推定できる。
【００２２】
そこで、本実施の形態１の液晶表示パネルでは図２に示したように周辺領域１７の金属配線５の上を金属配線５に沿ったパターンのＩＴＯ透明導電膜層６で覆う構成とした。複数の金属配線５間を短絡しないように隣り合う金属配線５を覆うＩＴＯ透明導電膜層６どうしは分離されたパターンに加工される。また、特に金属配線５の側面部の段差部分で剥離が発生しやすいことから、この段差部を覆うようにＩＴＯ透明導電膜層６のパターンはＩ金属配線５のパターンよりも少し広い幅とすることにより、金属配線５の側面部から外側にはみ出すように形成した。このように画素周辺領域１７の金属配線５の上をＩＴＯ透明導電膜層６で覆った部分の上では配向膜１８の剥離を大幅に減少することができる。
【００２３】
図４は本実施の形態１の液晶表示パネルの部分断面図である。カラーフィルタ基板３には画素領域１５にカラーフィルタ３１と遮光層３２とが形成されている。遮光層３２はアレイ基板１側のトランジスタ１０や各配線に対向する部分に設けられる。遮光層３２はトランジスタ１０や各配線で反射した光がカラーフィルタ３１を透過する表示光に混入することを防止する。配向膜１９がカラーフィルタ基板３のカラーフィルタ３１と遮光層３２の上に形成される。アレイ基板２上には画素領域１５に画素電極８とトランジスタ１０が配列され、その周辺領域１７には金属配線５、および金属配線５の側面を覆う透明電極層６を有する。周辺領域１７において金属配線５上を透明電極層６で覆ったことにより、直接に金属配線５の上に配向膜１８を形成した場合に比べて配向膜１８の剥離を大幅に減少する。上記のようなアレイ基板２とカラーフィルタ基板３とで液晶層１を挟み込み、シール領域１６でシール材２０により基板どうしを貼り合わすとともに液晶層１を封止する。
【００２４】
また、図５は本実施の形態１の液晶表示パネルを構成するアレイ基板の部分構造図であり、図４と異なり基板の辺に対して斜めとなる金属配線５部分を示している。図５（ａ）は上面図、図５（ｂ）は図５（ａ）の点線ＡＢ部分の断面図である。この図においても上記と同様に基板の辺に対して斜めとなる金属配線５も透明導電層６によって覆われる。また、金属配線５は基板の辺に対して平行な配線も同様に透明導電層６によって覆われるようにしてもよい。特にラビング処理時に繊維が乗り上げる金属配線５の側面部および繊維がラビングする方向と平行な金属配線５の側面部は、剥離が生じやすい部分であるので透明導電層６が覆うとよい。
【００２５】
以上のように本実施の形態１の液晶表示パネルは、液晶層１と液晶層１を外部から入力される電気信号によって駆動するアレイ基板２とを有し、そのアレイ基板２は液晶層１が駆動される画素領域１５と、画素領域１５の外側であって外部からの電気信号を伝達する金属配線５を備えた周辺領域１７とを有する液晶表示パネルであって、基板の画素領域１５および周辺領域１７に配向膜１８が形成され、周辺領域１７の金属配線５と配向膜１８との間に金属配線５の側部を覆う透明電極層６を有するので配向膜１８の剥離が生じにくい。これにより剥離した配向膜１８が画素領域１５に付着して表示品質を低下させることが防止できるので、良好な液晶表示が可能となる。
【００２６】
以下では本実施の形態１の液晶表示パネルの製造方法について述べる。透過型の液晶表示パネルでは、一般にアレイ基板２を形成する工程中に画素内にＩＴＯ透明導電膜層からなる画素電極８が形成される。そこで、ＩＴＯ透明導電膜層からなる画素電極８と金属配線５の端部を覆うＩＴＯ透明導電膜層６とを同時に形成すると工程が簡単となる。
【００２７】
図６は本実施の形態１の液晶表示パネルを構成するアレイ基板の製造工程を説明する断面図である。まず図６（ａ）のようにアレイ基板２の画素領域１５にトランジスタ１０やソース線などの各配線、周辺領域１７の金属配線５や回路５８を形成する。次いで、図６（ｂ）のようにＩＴＯ透明電極膜を形成し、その膜をパターン加工することにより画素電極８と、金属配線５の端部を覆うＩＴＯ透明導電膜層６と、を同時に形成する。画素電極８はトランジスタ１０を介してソース線に接続される。ＩＴＯ透明電極膜の厚みはたとえば約８０ｎｍとする。その後、図６（ｃ）のように画素領域１５と周辺領域１７とに配向膜１８を塗布形成する。たとえば、ポリイミド系溶液を印刷法により、シール領域１６より内側となる領域に塗布し、約２００℃で１時間の加熱処理をして膜厚７０ｎｍの有機高分子の配向膜を形成することができる。画素領域１５の全面は配向膜１８で覆われるが、周辺領域１７の全面は配向膜１８で覆わなくてもよい。次いで図６（ｄ）のように配向膜１８を繊維７５でこするラビング処理を行う。繊維７５はたとえばレーヨン繊維を用いることができる。図には示さないが、さらにその後に配向膜１８、１９を形成したアレイ基板とカラーフィルタ基板とをシール材２０でシールして、その間に液晶層１を挟み込む工程を経て液晶表示パネルが製造される。液晶層１の間隔を一定にするため、柱スペーサを介し両基板を対向させてシール剤で貼り合わせるとよい。また、液晶層１はシール後に基板間に設けた注入口から注入してもよい。
【００２８】
図７は本実施の形態１の液晶表示パネルを構成するアレイ基板の製造工程を説明する説明図であり、図６（ｄ）のラビング工程を説明する図である。ラビングローラー７３にラビング布７４が巻かれ、ラビング布７４には配向膜１８をこする繊維７５が植え付けられている。ラビングローラー７３は回転された状態で配向膜１８、１９が形成された基板がラビングローラー７３に向かって送られる。図はラビングローラー７３が高さ位置を固定して回転しており、その下を被ラビング基板が、矢印方向に一定速度で移動し、ラビングローラー７３部を通過することを示している。このときラビングローラーに形成された繊維７５が基板上の配向膜を擦る。また、ラビングローラーの押込み量が適当な量となるように、それぞれの高さ位置関係が調整される。
【００２９】
また、図では複数のアレイ基板２が１枚のマザー基板７１に形成され、マザー基板７１のままラビング処理される場合を示している。ラビング処理後にマザー基板７１を切断して複数のアレイ基板２を切り出す。複数のアレイ基板２のラビング処理が同時にできるので処理が簡単である。カラーフィルタ基板３の配向膜１９のラビング処理も同様にマザー基板を用いて処理できる。マザー基板７１にはアレイ基板２領域ごとに、画素領域１５が形成され、画素領域１５とその周辺領域に配向膜１８が塗布形成される。画素領域１５には配線や画素電極が形成され、その上に配向膜がパネル形状に合わせてパターン転写される。マザー基板７１の隣り合う配向膜１８の間には基板ごとに切り離す切断領域、および液晶表示パネルを構成する対向基板と貼り合わせる際のシール領域がある。
【００３０】
以上のように、本実施の形態１の液晶表示パネルの製造方法では、アレイ基板２上の画素領域１５にソース線Sなどの信号線を形成する工程と、アレイ基板２上の画素領域１５の外側の周辺領域１７に金属配線５を形成する工程と、画素領域１５に信号線に接続されるＩＴＯ透明導電材料からなる画素電極８と周辺領域１７に金属配線５の側部を覆うＩＴＯ透明導電層６とを同時に形成する工程と、画素電極８とＩＴＯ透明導電層６とを同時に形成する工程の後に画素領域１５および周辺領域１７に配向膜１８を形成する工程と、配向膜１８をラビング処理する工程とを有している。ラビング処理の前に金属配線５の側部をＩＴＯ透明導電層６で覆ったことにより、その上に形成された配向膜１８がラビング処理する工程で剥離することを防止できる。また、ＩＴＯ透明導電層６は画素電極８に同時に形成されるので、製造が容易となる。
【００３１】
＜実施の形態２＞
図８は本実施の形態２の液晶表示パネルを構成するアレイ基板の部分構造図である。実施の形態１の図５と同様の部分を示している。図８（ａ）は上面図であり、図８（ｂ）は図８（ａ）の点線ＣＤ部の断面図である。実施の形態１ではＩＴＯ透明導電層６は金属配線５の幅全体を覆い、従って金属配線５の両側面を連続するＩＴＯ透明導電層６のパターンで覆う構造としたが、本実施の形態２のアレイ基板のＩＴＯ透明導電層６は金属配線５の側面近傍のみがＩＴＯ透明導電層６で覆われ、金属配線５の上面の大部分がＩＴＯ透明導電層６で覆われない構造とした。また、ＩＴＯ透明導電層６が金属配線５の一方の側面のみを覆い他方の側面は覆わない構造とした。
【００３２】
ラビング処理は、通常、一定の方向に処理される。そこで本実施の形態２の液晶表示パネルではラビング処理の際にラビング繊維が金属配線５の側面の段差部を下から上に乗り上げる側面側をＩＴＯ透明導電層６で覆う構成とした。また、図には示さないが、ラビング処理方向と平行に伸びる金属配線５はその両側面部をＩＴＯ透明導電層６で覆うようにするが、金属配線５の上面の大部分にはＩＴＯ透明導電層６で覆われないようにした。これらのラビング繊維が下から上に乗り上げる段差部分、およびラビング処理と平行な側面は配向膜の剥離の起点となりやすい部分であり、この部分をＩＴＯ透明導電層６で覆うことにより配向膜１８の剥離を防ぐことができる。周辺領域１７の金属配線５は比較的幅が広い場合が多いが、このような金属配線５の上面全面をＩＴＯ透明導電層６で覆うと、金属配線５の材料によっては金属配線５とＩＴＯ透明導電層６との膜中残存応力の違いなどによりＩＴＯ透明導電層６自体に剥離が生じるやすくなる場合がある。周辺領域１７でＩＴＯ透明導電層６の剥離が生じると、それが画素領域１５内に拡散して表示品質を劣化させる。本実施の形態２では、金属配線５の側面を覆うＩＴＯ透明導電層６は、一方の側面のみを覆うパターンからなり、金属配線５の上面の大部分を覆わない。このためＩＴＯ透明導電層６自体の剥離が防止できる。
【００３３】
また、ＩＴＯ透明導電層６のパターンを金属配線５の外側に形成して、透明導電層の側面と金属配線の側面に接するようにして、透明導電層が金属配線の上に乗り上げない構造としてもよい。この場合でも、金属配線の側面が透明導電層におおわれるので配向膜の剥離を防止する効果がある。また、透明導電層が金属配線に乗り上げる場合に比べて金属配線の側面にできる段差が小さくなるので、段差による剥離を防止する効果が大きい。
【００３４】
なお、ＩＴＯ透明導電層６が金属配線５の側部の外側にはみ出す幅は、金属配線５の幅に比べて小さいことが望ましい。はみ出す部分を小さくすると、配線全体の幅の増加が制限され、寄生容量の増加が抑えられるので、特に高速の信号を伝達する場合に信号の伝搬特性の低下を防止できる。
【００３５】
以上でのべた実施の形態ではＩＴＯ透明導電層６で側面を覆う部分を金属配線５としたが、配線に限らず金属のパターンを有する部分は同様に透明導電層で覆うようにすると同様の効果が得られる。周辺回路の金属露出部分の段差部にＩＴＯ透明導電層６を形成してもよい。また、金属配線５のすべての側面部を覆われることが望ましいが、主要な部分が覆われていれば、すべての側面部を覆うことは必須ではない。たとえば金属配線５の全長の５０％のみで側面が覆われ、他の配線部分では覆われなくてもよい。また、透明導電層の材料はＩＴＯに限らずＡＺＯ（アルミニウムを添加した酸化亜鉛）などの導電性材料であってもよい。電気導電性酸化物の材料であれば同様の効果がある。
【００３６】
また、以上では画素周辺領域の金属配線層の上を直接、ＩＴＯ透明導電膜層で覆ったが、金属配線層がＳｉＮなどの絶縁層で覆われていた場合や、画素周辺領域に絶縁層の段差部が形成されている場合に、その絶縁層の上をＩＴＯ透明導電膜層で覆うことでその上に形成する配向膜の剥離をさらに減少させることができる。
【産業上の利用可能性】
【００３７】
本発明の液晶表示パネルおよび液晶表示パネルの製造方法は、液晶表示パネル内の配向層の剥離を防止できるので、歩留まりが向上し、表示品質が良好である液晶表示装置を実現できる。
【図面の簡単な説明】
【００３８】
【図１】本実施の形態１の液晶表示パネルを用いた液晶表示装置の構成の説明図である。
【図２】本実施の形態１の液晶表示パネルのアレイ基板２構成を示す平面図である。
【図３】本実施の形態１の液晶表示パネルについて行った実験結果を示す表である。
【図４】本実施の形態１の液晶表示パネルの部分断面図である。
【図５】本実施の形態１の液晶表示パネルを構成するアレイ基板の部分構造図である。
【図６】本実施の形態１の液晶表示パネルを構成するアレイ基板の製造工程を説明する断面図である。
【図７】本実施の形態１の液晶表示パネルを構成するアレイ基板の製造工を説明する説明図である。
【図８】本実施の形態２の液晶表示パネルを構成するアレイ基板の部分構造図である。
【符号の説明】
【００３９】
１  液晶層、２  アレイ基板、３  カラーフィルタ基板、５  金属配線、６  ＩＴＯ透明電極層、８、９  画素電極、１０  トランジスタ、１５  画素領域、１６  シール領域、１７  周辺領域、１８、１９  配向膜、２０  シール材、２１  端子部、３１  カラーフィルタ、３２  遮光層、５０  液晶表示パネル、５１  駆動回路、５２  画像信号入力部、５３  光源、５４  光源制御回路、５７  走査回路、５８  信号回路、７１  マザー基板、７３  ラビングローラー、７４  ラビング布、７５  繊維、  Ｓ  ソース線、Ｃ  コモン線、Ｇ  ゲート線。
【図１】
2010072413.tif 000003
【図２】
2010072413.tif 000004
【図３】
2010072413.tif 000005
【図４】
2010072413.tif 000006
【図５】
2010072413.tif 000007
【図６】
2010072413.tif 000008
【図７】
2010072413.tif 000009
【図８】
2010072413.tif 000010