【手続補正書】
【提出日】令和3年9月9日(2021.9.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
再帰反射プリズムを基板内に形成するための方法であって、
少なくとも１つの軸に沿って進行方向に、シングルポイントダイヤモンドツール、基板、または前記シングルポイントダイヤモンドツール及び前記基板の両方を移動させながら、前記シングルポイントダイヤモンドツールを前記基板の表面に挿入経路に沿って挿入すること；
前記シングルダイヤモンドポイントツールまたは前記基板の少なくとも１つの進行方向に平行なファセット面を有するファセットを前記基板内に生成するために、前記少なくとも１つの軸に沿って前記進行方向に、前記シングルポイントダイヤモンドツール、前記基板、または前記シングルポイントダイヤモンドツール及び前記基板の両方を移動させながら、前記シングルポイントダイヤモンドツールを前記基板の表面から後退経路に沿って後退させることであって、前記挿入経路及び前記後退経路は異なる軸に沿っており、前記ファセット面は前記シングルポイントダイヤモンドツールのチゼルエッジによって定義される角度を有する、後退させることと、
前記基板上の複数の場所で前記挿入すること及び前記後退させることを繰り返すことによって再帰反射微細構造のアレイを前記基板の表面上に形成することであって、前記再帰反射微細構造のアレイ内の前記再帰反射微細構造の少なくとも１つは、多角形投影開口を有する再帰反射プリズムである、前記形成することと
を含む、前記方法。
【請求項２】
前記再帰反射微細構造のアレイを前記基板の表面上に形成することが、
三角形、菱形、長方形、正方形、五角形、六角形、または八角形の投影開口再帰反射プリズムの少なくとも１つを生成するために、前記挿入すること及び前記後退させることの前記繰り返しのための前記複数の場所を選択すること
をさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記再帰反射微細構造のアレイを前記基板の表面上に形成することが、
複数の種類の再帰反射プリズムを生成するために、前記挿入すること及び前記後退させることの前記繰り返しのための前記複数の場所を選択すること
をさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記再帰反射微細構造のアレイを前記基板の表面上に形成することが、
傾斜、回転、ファセット角、高さ、及びサイズが変動する個々の再帰反射プリズムを生成するために、前記挿入すること及び前記後退させることの前記繰り返しのための前記複数の場所を選択すること
をさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記挿入または後退させることは、
階段機能、放射状構造、自由形状外形、またはそれらの組み合わせを含むファセット面を有する前記ファセットを前記基板内に生成するために、前記シングルポイントダイヤモンドツールまたは前記基板を複数の進行方向に移動させながら、前記シングルポイントダイヤモンドツールを前記基板の表面に挿入及び後退させること
をさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
１つ以上の抜き勾配を前記再帰反射微細構造のアレイ内に生成するために、前記シングルポイントダイヤモンドツールを前記表面に挿入及び後退させること
をさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記生成されたファセットの深度、ピッチ、または表面仕上げを調節するために、前記シングルポイントダイヤモンドツールの前記挿入及び後退を調節すること
をさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記基板は非平面である、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記再帰反射微細構造のアレイを備える再帰反射体ツールを形成するために、前記再帰反射微細構造のアレイを複製すること
をさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
前記再帰反射微細構造のアレイを備える複数の再帰反射体ツールを形成するために前記複製を繰り返すことと、
前記複数の複製再帰反射体ツールをパーケット化することと、
前記パーケット化された複数の複製再帰反射体ツールを円筒状ドラム、円筒状ベルト、またはロールツーロールベルトに適用することと
をさらに含む、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記円筒状ドラム、前記円筒状ベルト、または前記ロールツーロールベルトを使用して、前記再帰反射微細構造のアレイをその表面上に含有する再帰反射シートを形成すること
をさらに含む、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記挿入または後退させることは、
階段機能、放射状構造、自由形状外形、またはそれらの組み合わせを含むファセット面を有する前記ファセットを前記基板内に生成するために、前記シングルポイントダイヤモンドツールまたは前記基板を複数の進行方向に移動させながら、前記シングルポイントダイヤモンドツールを前記基板の表面に挿入及び後退させること
をさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１３】
再帰反射体ツールを形成するための方法であって、
シングルダイヤモンドポイントツールまたは基板の少なくとも１つの進行方向に平行なファセット面を有するファセットを前記基板内に生成するために、少なくとも１つの軸に沿って進行方向に、前記シングルポイントダイヤモンドツール、前記基板、または前記シングルポイントダイヤモンドツール及び前記基板の両方を移動させながら、前記シングルポイントダイヤモンドツールを前記基板の表面に挿入及び後退させることであって、前記ファセット面は前記シングルポイントダイヤモンドツールのチゼルエッジによって定義される角度を有する、前記挿入及び後退させることと、
前記基板上の複数の場所で前記挿入及び後退させることを繰り返すことによって再帰反射微細構造のアレイを前記基板の表面上に形成することであって、前記再帰反射微細構造のアレイ内の前記再帰反射微細構造の少なくとも１つは、多角形投影開口を有する再帰反射プリズムである、前記形成することと、
前記再帰反射微細構造のアレイを備える複数の再帰反射体ツールを形成するために、前記再帰反射微細構造のアレイを複製することと、
前記複数の複製再帰反射体ツールをパーケット化することと、
前記パーケット化された複数の複製再帰反射体ツールを円筒状ドラム、円筒状ベルト、またはロールツーロールベルトに適用することと
を含む、前記方法。
【請求項１４】
前記再帰反射微細構造のアレイを前記基板の表面上に形成することが、
三角形、菱形、長方形、正方形、五角形、六角形、または八角形の投影開口再帰反射プリズムの少なくとも１つを生成するために、前記挿入及び後退させることの前記繰り返しのための前記複数の場所を選択すること
をさらに含む、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
前記再帰反射微細構造のアレイを前記基板の表面上に形成することが、
複数の種類の再帰反射プリズムを生成するために、前記挿入及び後退させることの前記繰り返しのための前記複数の場所を選択すること
をさらに含む、請求項１３に記載の方法。
【請求項１６】
前記再帰反射微細構造のアレイを前記基板の表面上に形成することが、
傾斜、回転、ファセット角、高さ、及びサイズが変動する個々の再帰反射プリズムを生成するために、前記挿入及び後退させることの前記繰り返しのための前記複数の場所を選択すること
をさらに含む、請求項１３に記載の方法。
【請求項１７】
１つ以上の抜き勾配を前記再帰反射微細構造のアレイ内に生成するために、前記シングルポイントダイヤモンドツールを前記表面に挿入及び後退させること
をさらに含む、請求項１３に記載の方法。
【請求項１８】
前記生成されたファセットの深度、ピッチ、または表面仕上げを調節するために、前記シングルポイントダイヤモンドツールの前記挿入及び後退を調節すること
をさらに含む、請求項１３に記載の方法。
【請求項１９】
前記基板は非平面である、請求項１３に記載の方法。
【請求項２０】
前記円筒状ドラム、前記円筒状ベルト、または前記ロールツーロールベルトを使用して、前記再帰反射微細構造のアレイをその表面上に含有する再帰反射シートを形成すること
をさらに含む、請求項１３に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明の技術は、多角形再帰反射プリズムを有する再帰反射シート及びツールを製作する際に利用され得る再帰反射プリズムを形成するための方法の向上をもたらす利点がある。本技術は、アクティブなエリアの増加をもたらす多角形再帰反射体を生成するマイクロチゼル技術を利用する。マイクロチゼルプロセスは、ほんの一例として、三角形、菱形、長方形、正方形、五角形、六角形、または八角形のプリズム等の多角形を含む、異なる種類及びジオメトリの再帰反射微細構造を含む、アレイを生成することを可能にする。
[本発明1001]
再帰反射プリズムを基板内に形成するための方法であって、
シングルダイヤモンドポイントツールまたは基板の少なくとも1つの進行方向に平行なファセット面を有するファセットを前記基板内に生成するために、少なくとも1つの軸に沿って進行方向に、前記シングルポイントダイヤモンドツール、前記基板、または前記シングルポイントダイヤモンドツール及び前記基板の両方を移動させながら、前記シングルポイントダイヤモンドツールを前記基板の表面に挿入及び後退させることであって、前記ファセット面は前記シングルポイントダイヤモンドツールのチゼルエッジによって定義される角度を有する、前記挿入及び後退させることと、
再帰反射微細構造のアレイを前記基板の表面上に形成するために、前記基板上の複数の場所で前記挿入及び後退させることを繰り返すことであって、前記再帰反射微細構造のアレイ内の前記再帰反射微細構造の少なくとも1つは、多角形投影開口を有する再帰反射プリズムである、前記繰り返すことと
を含む、前記方法。
[本発明1002]
前記再帰反射微細構造のアレイを形成するための前記繰り返しのための前記複数の場所は、三角形、菱形、長方形、正方形、五角形、六角形、または八角形の投影開口再帰反射プリズムの少なくとも1つを生成するために選択される、本発明1001の方法。
[本発明1003]
前記再帰反射微細構造のアレイを形成するための前記繰り返しのための前記複数の場所は、複数の種類の再帰反射プリズムを生成するために選択される、本発明1001の方法。
[本発明1004]
前記再帰反射微細構造のアレイを形成するための前記繰り返しのための前記複数の場所は、傾斜、回転、ファセット角、高さ、及びサイズが変動する個々の再帰反射プリズムを生成するために選択される、本発明1001の方法。
[本発明1005]
前記挿入または後退させることは、
階段機能、放射状構造、自由形状外形、またはそれらの組み合わせを含むファセット面を有する前記ファセットを前記基板内に生成するために、前記シングルポイントダイヤモンドツールまたは前記基板を複数の進行方向に移動させながら、前記シングルポイントダイヤモンドツールを前記基板の表面に挿入及び後退させること
をさらに含む、本発明1001の方法。
[本発明1006]
1つ以上の抜き勾配を前記再帰反射微細構造のアレイ内に生成するために、前記シングルポイントダイヤモンドツールを前記表面に挿入及び後退させること
をさらに含む、本発明1001の方法。
[本発明1007]
前記生成されたファセットの深度、ピッチ、または表面仕上げを調節するために、前記シングルポイントダイヤモンドツールの前記挿入及び後退を調節すること
をさらに含む、本発明1001の方法。
[本発明1008]
前記基板は非平面である、本発明1001の方法。
[本発明1009]
前記再帰反射微細構造のアレイを備える再帰反射体ツールを形成するために、前記再帰反射微細構造のアレイを複製すること
をさらに含む、本発明1001の方法。
[本発明1010]
前記再帰反射微細構造のアレイを備える複数の再帰反射体ツールを形成するために前記複製を繰り返すことと、
前記複数の複製再帰反射体ツールをパーケット化することと、
前記パーケット化された複数の複製再帰反射体ツールを円筒状ドラム、円筒状ベルト、またはロールツーロールベルトに適用することと
をさらに含む、本発明1009の方法。
[本発明1011]
前記円筒状ドラム、前記円筒状ベルト、または前記ロールツーロールベルトを使用して、前記再帰反射微細構造のアレイをその表面上に含有する再帰反射シートを形成すること
をさらに含む、本発明1010の方法。
[本発明1012]
再帰反射プリズムを基板内に形成するための方法であって、
表面を有する基板を提供することと、
再帰反射微細構造のアレイを前記基板の表面上に形成するために、前記基板をマイクロチゼルすることであって、前記再帰反射微細構造のアレイ内の前記再帰反射微細構造の少なくとも1つは、多角形投影開口を有する再帰反射プリズムである、前記マイクロチゼルすることと
を含む、前記方法。
[本発明1013]
前記再帰反射微細構造のアレイを前記マイクロチゼルすることは、三角形、菱形、長方形、正方形、五角形、六角形、または八角形の投影開口再帰反射プリズムの少なくとも1つを形成する、本発明1012の方法。
[本発明1014]
前記再帰反射微細構造のアレイを前記マイクロチゼルすることは、複数の種類の再帰反射プリズムを形成する、本発明1012の方法。
[本発明1015]
前記再帰反射微細構造のアレイを前記マイクロチゼルすることは、傾斜、回転、ファセット角、高さ、及びサイズが変動する個々の再帰反射プリズムを生成する、本発明1012の方法。
[本発明1016]
前記マイクロチゼルすることは、階段機能、放射状構造、自由形状外形、またはそれらの組み合わせを有するファセット面を含むファセットを前記基板内に生成することをさらに含む、本発明1012の方法。
[本発明1017]
前記マイクロチゼルすることは、1つ以上の抜き勾配を前記再帰反射微細構造のアレイ内に生成することをさらに含む、本発明1012の方法。
[本発明1018]
前記基板は非平面である、本発明1012の方法。
[本発明1019]
前記再帰反射微細構造のアレイを備える再帰反射体ツールを形成するために、前記再帰反射微細構造のアレイを複製すること
をさらに含む、本発明1012の方法。
[本発明1020]
前記再帰反射微細構造のアレイを備える複数の複製再帰反射体ツールを形成するために前記再帰反射体ツールを複製することと、
前記複数の複製再帰反射体ツールをパーケット化することと、
前記パーケット化された複数の複製再帰反射体ツールを円筒状ドラム、円筒状ベルト、またはロールツーロールベルトに適用することと
をさらに含む、本発明1019の方法。
[本発明1021]
前記円筒状ドラム、前記円筒状ベルト、または前記ロールツーロールベルトを使用して、前記再帰反射微細構造のアレイをその表面上に含有する再帰反射シートを形成すること
をさらに含む、本発明1020の方法。
[本発明1022]
プロセッサによって実行されるとき、前記プロセッサに以下のステップを行わせる実行可能コードを含む、再帰反射プリズムを基板内に形成するための命令を記憶する、非一時的コンピュータ可読媒体であって、
前記ステップは、
シングルダイヤモンドポイントツールまたは基板の少なくとも1つの進行方向に平行なファセット面を有するファセットを前記基板内に生成するために、少なくとも1つの軸に沿って進行方向に、前記シングルポイントダイヤモンドツール、前記基板、または前記シングルポイントダイヤモンドツール及び前記基板の両方を移動させながら、前記シングルポイントダイヤモンドツールを、前記基板の表面に挿入及び後退させることを命令することであって、前記ファセット面は前記シングルポイントダイヤモンドツールのチゼルエッジによって定義される角度を有する、前記命令することと、
再帰反射微細構造のアレイを前記基板の表面上に形成するために、前記シングルポイントダイヤモンドツールを、前記基板上の複数の場所で前記挿入及び後退させることを繰り返すことを命令することであって、前記再帰反射微細構造のアレイ内の前記再帰反射微細構造の少なくとも1つは、多角形投影開口を有する再帰反射プリズムである、前記命令することと
を含む、
前記媒体。
[本発明1023]
前記再帰反射微細構造のアレイを形成するための前記繰り返しのための前記複数の場所を命令することは、三角形、菱形、長方形、正方形、五角形、六角形、または八角形の投影開口再帰反射プリズムの少なくとも1つを生成するために選択される、本発明1022の媒体。
[本発明1024]
前記再帰反射微細構造のアレイを形成するための前記繰り返しのための前記複数の場所は、複数の種類の再帰反射プリズムを生成するために選択される、本発明1022の媒体。
[本発明1025]
前記再帰反射微細構造のアレイを形成するための前記繰り返しのための前記複数の場所は、傾斜、回転、ファセット角、高さ、及びサイズが変動する個々の再帰反射プリズムを生成するために選択される、本発明1022の媒体。
[本発明1026]
前記プロセッサによって実行されるとき、前記プロセッサに、以下を含む少なくとも1つの追加ステップを行わせる少なくとも1つの追加命令をさらに記憶し、
前記追加ステップは、
階段機能、放射状構造、自由形状外形、またはそれらの組み合わせを含むファセット面を有する前記ファセットを前記基板内に生成するために、前記シングルポイントダイヤモンドツールまたは前記基板を複数の進行方向に移動させながら、前記シングルポイントダイヤモンドツールを、前記基板の表面に挿入及び後退させることを命令すること
を含む、
本発明1022の媒体。
[本発明1027]
前記プロセッサによって実行されるとき、前記プロセッサに、以下を含む少なくとも1つの追加ステップを行わせる少なくとも1つの追加命令をさらに記憶し、
前記追加ステップは、
1つ以上の抜き勾配を前記再帰反射微細構造のアレイ内に生成するために、前記シングルポイントダイヤモンドツールを、前記表面に挿入及び後退させることを命令すること
を含む、
本発明1022の媒体。
[本発明1028]
前記プロセッサによって実行されるとき、前記プロセッサに、以下を含む少なくとも1つの追加ステップを行わせる少なくとも1つの追加命令をさらに記憶し、
前記追加ステップは、
前記生成されたファセットの深度、ピッチ、または表面仕上げを調節するために、前記シングルポイントダイヤモンドツールの前記挿入及び後退を調節すること
を含む、
本発明1022の媒体。