【手続補正書】
【提出日】令和2年12月4日(2020.12.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一次電子ビームを生成するよう構成された電子ビーム源と、
標本を保持するよう構成された標本ステージと、
前記一次電子ビームの少なくとも一部分を前記標本の一部分上へと差し向けるよう構成された一組の電子光学素子であり、
光軸沿いに配置された電子源レンズと、
前記光軸沿いに配置された集束レンズと、
前記光軸沿いに配置された対物レンズと、
前記光軸沿いに配置された第１偏向器アセンブリと、
前記光軸沿いに配置された第２偏向器アセンブリと、を含み、前記第１偏向器アセンブリ及び前記第２偏向器アセンブリが前記電子源レンズと前記対物レンズとの間に配置され、前記一次電子ビームにおける色収差を補正するよう前記第１偏向器アセンブリが構成され、前記第１偏向器アセンブリ及び前記第２偏向器アセンブリのうち少なくとも一方がウィーンフィルタを備える、一組の電子光学素子と、
前記標本の表面から発する電子を検出するよう構成された検出器アセンブリと、
を備える電子光学システム。
【請求項２】
請求項１に記載の電子光学システムであって、
前記第１偏向器アセンブリ及び前記第２偏向器アセンブリが前記集束レンズと前記対物レンズとの間に配置された電子光学システム。
【請求項３】
請求項１に記載の電子光学システムであって、
前記第１偏向器アセンブリが前記電子源レンズと前記集束レンズとの間に配置され、前記第２偏向器アセンブリが前記集束レンズと前記対物レンズとの間に配置された電子光学システム。
【請求項４】
請求項１に記載の電子光学システムであって、
前記第１偏向器アセンブリが、前記一組の電子光学素子の１つまたは複数の部分に起因する、前記一次ビームにおける色収差を補正するよう構成された電子光学システム。
【請求項５】
請求項１に記載の電子光学システムであって、
前記第２偏向器アセンブリが、前記標本から発する電子を前記検出器アセンブリに差し向けるよう構成された電子光学システム。
【請求項６】
請求項５に記載の電子光学システムであって、
前記第２偏向器アセンブリが、前記標本から発する二次電子を前記検出器アセンブリに差し向けるよう構成された電子光学システム。
【請求項７】
請求項１に記載の電子光学システムであって、
前記一次電子ビームが、テレセントリック電子ビームを構成する電子光学システム。
【請求項８】
請求項７に記載の電子光学システムであって、
前記第１偏向器アセンブリの強度が前記第２偏向器アセンブリの強度と等しい電子光学システム。
【請求項９】
請求項８に記載の電子光学システムであって、
前記第１偏向器アセンブリの極性が前記第２偏向器アセンブリの極性に対し反転している電子光学システム。
【請求項１０】
請求項１に記載の電子光学システムであって、
前記一次電子ビームが、発散電子ビームを構成する電子光学システム。
【請求項１１】
請求項１０に記載の電子光学システムであって、
前記第１偏向器アセンブリの強度が前記第２偏向器アセンブリの強度より高い電子光学システム。
【請求項１２】
請求項１１に記載の電子光学システムであって、
前記第１偏向器アセンブリの極性が前記第２偏向器アセンブリの極性に対し反転している電子光学システム。
【請求項１３】
請求項１に記載の電子光学システムであって、
前記一次電子ビームが、収束電子ビームを構成する電子光学システム。
【請求項１４】
請求項１３に記載の電子光学システムであって、
前記第１偏向器アセンブリの強度が前記第２偏向器アセンブリの強度より低い電子光学システム。
【請求項１５】
請求項１４に記載の電子光学システムであって、
前記第１偏向器アセンブリの極性が前記第２偏向器アセンブリの極性に対し反転している電子光学システム。
【請求項１６】
請求項１に記載の電子光学システムであって、
前記一次電子ビームが、クロスオーバ電子ビームを構成する電子光学システム。
【請求項１７】
請求項１６に記載の電子光学システムであって、
前記第１偏向器アセンブリの極性が前記第２偏向器アセンブリの極性と同じである電子光学システム。
【請求項１８】
請求項１７に記載の電子光学システムであって、
前記第１偏向器アセンブリの強度が前記第２偏向器アセンブリの強度と等しい電子光学システム。
【請求項１９】
請求項１７に記載の電子光学システムであって、
前記第１偏向器アセンブリの強度が前記第２偏向器アセンブリの強度より高い電子光学システム。
【請求項２０】
請求項１７に記載の電子光学システムであって、
前記第１偏向器アセンブリの強度が前記第２偏向器アセンブリの強度より低い電子光学システム。
【請求項２１】
請求項１に記載の電子光学システムであって、
前記電子ビーム源が、１個又は複数個の電子銃を備える電子光学システム。
【請求項２２】
請求項１に記載の電子光学システムであって、
前記検出器アセンブリが、１個又は複数個の二次電子検出器を備える電子光学システム。
【請求項２３】
一次電子ビームを生成するよう構成された電子ビーム源と、
光軸沿いに配置された電子源レンズと、
前記光軸沿いに配置された集束レンズと、
前記光軸沿いに配置された対物レンズと、
前記光軸沿いに配置された第１ウィーンフィルタと、
前記光軸沿いに配置された第２ウィーンフィルタとを備え、前記第１ウィーンフィルタ及び前記第２ウィーンフィルタが前記電子源レンズと前記対物レンズとの間に配置され、前記一次電子ビームにおける色収差を補正するよう前記第１ウィーンフィルタが構成されており、且つ、
標本の表面から発する電子を検出するよう構成された検出器アセンブリを備える電子光学システム。
【請求項２４】
請求項２３に記載の電子光学システムであって、
前記第１ウィーンフィルタ及び前記第２ウィーンフィルタが前記集束レンズと前記対物レンズとの間に配置された電子光学システム。
【請求項２５】
請求項２４に記載の電子光学システムであって、
前記第１ウィーンフィルタが前記電子源レンズと前記集束レンズとの間に配置され、前記第２ウィーンフィルタが前記集束レンズと前記対物レンズとの間に配置された電子光学システム。
【請求項２６】
請求項２３に記載の電子光学システムであって、
前記第１ウィーンフィルタが、一組の電子光学素子の１つまたは複数の部分に起因する、前記一次ビームにおける色収差を補正するよう構成された電子光学システム。
【請求項２７】
請求項２３に記載の電子光学システムであって、
前記第２ウィーンフィルタが、前記標本から発する二次電子を前記検出器アセンブリに差し向けるよう構成された電子光学システム。
【請求項２８】
請求項２３に記載の電子光学システムであって、
前記一次電子ビームが、テレセントリック電子ビームを構成する電子光学システム。
【請求項２９】
請求項２８に記載の電子光学システムであって、
前記第１ウィーンフィルタの強度が前記第２ウィーンフィルタの強度と等しい電子光学システム。
【請求項３０】
請求項２９に記載の電子光学システムであって、
前記第１ウィーンフィルタの極性が前記第２ウィーンフィルタの極性に対し反転している電子光学システム。
【請求項３１】
請求項２３に記載の電子光学システムであって、
前記一次電子ビームが、発散電子ビームを構成する電子光学システム。
【請求項３２】
請求項３１に記載の電子光学システムであって、
前記第１ウィーンフィルタの強度が前記第２ウィーンフィルタの強度より高い電子光学システム。
【請求項３３】
請求項３２に記載の電子光学システムであって、
前記第１ウィーンフィルタの極性が前記第２ウィーンフィルタの極性に対し反転している電子光学システム。
【請求項３４】
請求項２３に記載の電子光学システムであって、
前記一次電子ビームが、収束電子ビームを構成する電子光学システム。
【請求項３５】
請求項３４に記載の電子光学システムであって、
前記第１ウィーンフィルタの強度が前記第２ウィーンフィルタの強度より低い電子光学システム。
【請求項３６】
請求項３５に記載の電子光学システムであって、
前記第１ウィーンフィルタの極性が前記第２ウィーンフィルタの極性に対し反転している電子光学システム。
【請求項３７】
請求項２３に記載の電子光学システムであって、
前記一次電子ビームが、クロスオーバ電子ビームを構成する電子光学システム。
【請求項３８】
請求項３７に記載の電子光学システムであって、
前記第１ウイーンフィルタの極性が前記第２ウィーンフィルタの極性と同じである電子光学システム。
【請求項３９】
請求項３８に記載の電子光学システムであって、
前記第１ウィーンフィルタの強度が前記第２ウィーンフィルタの強度と等しい電子光学システム。
【請求項４０】
請求項３８に記載の電子光学システムであって、
前記第１ウィーンフィルタの強度が前記第２ウィーンフィルタの強度より高い電子光学システム。
【請求項４１】
請求項３８に記載の電子光学システムであって、
前記第１ウィーンフィルタの強度が前記第２ウィーンフィルタの強度より低い電子光学システム。
【請求項４２】
請求項２３に記載の電子光学システムであって、
前記電子ビーム源が、１個又は複数個の電子銃を備える電子光学システム。
【請求項４３】
請求項２３に記載の電子光学システムであって、
前記検出器アセンブリが、１個又は複数個の二次電子検出器を備える電子光学システム。
【請求項４４】
請求項２３に記載の電子光学システムであって、
前記電子光学システムが走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）システムである電子光学システム。