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【手続補正書】
【提出日】平成17年1月28日(2005.1.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
回転翼を回転する洗濯行程と、洗濯兼脱水槽を回転する脱水行程と、前記洗濯兼脱水槽内に温風を供給する乾燥行程とを有した洗濯乾燥機において、前記乾燥行程は前記回転翼を正逆方向に回転して洗濯兼脱水槽の内壁面から洗濯物を掻き落とすと共に洗濯物を回転翼上で解して乾燥する解し乾燥手段と、この解し乾燥手段の解し動作を制御する解し動作制御手段と、洗濯兼脱水槽を回転して洗濯物を乾燥する回転乾燥手段とを含むことを特徴とする洗濯乾燥機。
【請求項２】
前記解し乾燥手段は、前記回転翼の正逆回転の回数が増えるに伴い回転翼の回転時間を短くし又は回転角度を小さくしたことを特徴とする請求項１記載の洗濯乾燥機。
【請求項３】
前記解し動作制御手段は、前記回転翼の回転を検出する回転検出手段と、この回転検出手段の出力から回転翼の正逆方向の慣性回転時間を計測する慣性回転時間計測手段と、この慣性回転時間計測手段で計測した正方向の慣性回転時間と逆方向の慣性回転時間との差分を算出する慣性回転時間の差分算出手段と、この差分算出手段で算出した差分から洗濯物の解し具合を判定する第１の解し判定手段と、この第１の解し判定手段で判定した解し具合の結果に基づいて回転翼の回転動作を制御する第１の制御手段とを備えたことを特徴とする請求項１記載の洗濯乾燥機。
【請求項４】
前記解し動作制御手段は、前記回転翼の回転を検出する回転検出手段と、この回転検出手段の出力から回転翼の正逆方向の角速度を算出する角速度算出手段と、この角速度算出手段で算出した角速度よりある時間に対しての角速度の勾配を算出する角速度勾配算出手段と、この角速度勾配算出手段で算出した正方向の角速度勾配と逆方向の角速度勾配との差分を算出する角速度勾配の差分算出手段と、この差分算出手段で算出した差分から洗濯物の解し具合を判定する第２の解し判定手段と、この第２の解し判定手段で判定した解し具合の結果に基づいて回転翼の回転動作を制御する第２の制御手段とを備えたことを特徴とする請求項１記載の洗濯乾燥機。
【請求項５】
回転翼を回転する洗濯行程と、洗濯兼脱水槽を回転する脱水行程と、前記洗濯兼脱水槽内に温風を供給する乾燥行程とを有した洗濯乾燥機において、前記乾燥行程は前記回転翼を正逆方向に回転して洗濯兼脱水槽の内壁面から洗濯物を掻き落とすと共に洗濯物を回転翼上で解して乾燥する解し乾燥手段と、この解し乾燥手段の過程で回転翼の正逆回転の繰り返し回数がある所定値に至った場合に回転翼の回転動作を停止する回転動作停止手段と、洗濯兼脱水槽を回転して洗濯物を乾燥する回転乾燥手段とを含むことを特徴とする洗濯乾燥機。
【手続補正書】
【提出日】平成17年10月17日(2005.10.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ａ）与えられた位置におけるボールの少なくとも１つの衝撃による第１の大きさの内部負荷を持つ少なくとも１つの第１の領域を特定するステップと、
ｂ）前記与えられた位置における少なくとも１つのボールの衝撃による前記第１の大きさより小さい第２の大きさの内部負荷を持つ少なくとも１つの第２の領域を特定するステップと、
ｃ）前記与えられた位置と同じあるいは類似した位置におけるボールの衝撃により割り当てられた厚みを伴って製造されたクラブフェースが、等高線形状を有しないフェースに比較してより均一な応力分布を持つように、第１の領域に第１の厚みを、第２の領域に第１の厚みより小さい厚みを割当てるステップとを有するゴルフクラブフェースの設計方法。
【請求項２】  第１の内部負荷の大きさと第２の内部負荷の大きさは与えられた複数の位置にわたる複数のボールの衝撃によるものであり、割り与えられた厚みを伴って製造されたクラブフェースは、少なくとも１つの前記与えられた位置と同様の位置におけるボールの衝撃においてより均一な応力分布を持つ請求項１の方法。
【請求項３】  力が与えられた位置のフェースの打球表面に対して加えられた時、各区域が受けると予測される内部負荷の大きさに従ってフェースの各区域に厚みを割当てるステップを有し、フェースの打球表面に対して力が加えられるとき、より高い内部負荷を受けることが予測されるフェースの区域により厚い厚みを割当て、打球表面に対して力が加えられるとき、より小さい内部負荷を受けることが予測されるフェースの区域により小さい厚みを割当てるようにした等高線形状のゴルフクラブフェースの設計方法。
【請求項４】  打球表面と、
２又はそれ以上の厚みをフェースに与えた等高線形状とされ、打球表面に置かれた類似の内部負荷を経験する領域は類似の厚みを持ち、異なる厚みを有する領域の間で段状とされている打球表面の反対側の背面と、からなるゴルフクラブフェース。
【請求項５】  与えられた位置に少なくとも１つのボールの衝撃が加えられたとき、内部負荷の大きさが類似しているゴルフクラブフェースの領域を決定し、
相対的に低い内部負荷が現れる領域の厚みを減少させ、
フェースが、前記位置と類似する位置に少なくとも１つのボールの衝撃が加えられたとき、ゴルフクラブフェース内で応力が均一となるように類似の内部負荷を受ける領域は類似の厚みを有し、領域間の厚みは段状となるように、相対的に高い内部負荷を受ける領域の厚みを増加する、
ゴルフクラブフェースを設計する方法。
【請求項６】  前面と、
前面の反対側にあり、第１の厚みを有する少なくとも第１の領域と、第２の厚みを有する第２の領域を与える等高線形状とされた背面と、
同様のサイズと形状を有し、等高線形状とされず、ある位置におけるボールの少なくとも１つ衝撃による第１の範囲の応力レベルを受けるゴルフクラブフェースの第１の区域に実質的に対応する第１の領域と、
同様のサイズと形状を有し、等高線形状とされず、ある位置におけるボールの少なくとも１つ衝撃による第２の範囲の応力レベルを受けるゴルフクラブフェースの第２の区域に実質的に対応する第２の領域と、
第２の厚みより厚い第１の厚みと、
第２の応力レベルの範囲より大きい第１の応力レベルの範囲と、
を有するゴルフクラブフェース。
【請求項７】  打球面と、
段階状に等高線形状とされ、打球面と反対側の背面とを有し、
背面は、打球面の位置に少なくともボールの１つの衝撃による第１の範囲内の内部負荷の大きさを受ける第１の領域と、前記少なくとも一つのボール衝撃による第２の範囲内の内部負荷の大きさを受ける第２の領域とを有し、
第１の範囲は、第２の範囲より大きく、第１の領域は第２の領域より厚くされている、ゴルフクラブフェース。
【手続補正書】
【提出日】平成17年1月17日(2005.1.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下糸のセットされたボビンケースを着脱可能に保持する第１保持部と、
ボビンケースの把持および開放を行う把持手段と、
この把持手段を所定の移動経路に沿って搬送する搬送手段とを備えたボビン交換装置において、
前記第１保持部に保持されたボビンケースに対し、該ボビンケースから延出した下糸を該ボビンケースのレバーを避ける方向に吹き付けるエア出力を行う第１エア出力手段と、
前記搬送手段の搬送により前記把持手段が前記ボビンケースを把持する前に前記第１エア出力手段からエア出力を行わせる制御手段とを備えたことを特徴とするボビン交換装置。
【請求項２】
下糸のセットされたボビンケースを装着するミシン釜と、
ボビンケースの把持および開放を行う把持手段と、
この把持手段を所定の移動経路に沿って搬送する搬送手段とを備えたボビン交換装置において、
前記把持手段に把持されたボビンケースに対し、該ボビンケースから延出した下糸を該ボビンケースの開放側の逆方向に吹き付けるエア出力を行う第２エア出力手段と、
前記搬送手段の搬送により前記把持手段が前記ボビンケースを前記ミシン釜に装着させる前に前記第２エア出力手段からエア出力を行わせる制御手段とを備えたことを特徴とするボビン交換装置。
【請求項３】
下糸のセットされたボビンケースが着脱可能に保持された第１保持部と、
ボビンケースを装着させるミシン釜と、
ボビンケースの把持および開放を行う把持手段と、
この把持手段を所定の移動経路に沿って搬送する搬送手段とを備えたボビン交換装置において、
前記第１保持部に保持されたボビンケースに対し、該ボビンケースから延出した下糸を該ボビンケースのレバーを避ける方向に吹き付けるエア出力を行う第１エア出力手段と、
前記把持手段に把持されたボビンケースに対し、該ボビンケースから延出した下糸を該ボビンケースの開放側の逆方向に吹き付けるエア出力を行う第２エア出力手段と、
前記搬送手段の搬送により前記把持手段が前記ボビンケースを把持しにくる前に前記第１エア出力手段からエア出力を行わせ、前記搬送手段の搬送により前記把持手段が前記ボビンケースを前記ミシン釜に装着させる以前に前記第２エア出力手段からエア出力を行わせる制御手段とを備えたことを特徴とするボビン交換装置。
【請求項４】
前記搬送手段は、前記把持手段をボビンの回転軸との直交平面上に移動可能とし、且つ、前記回転軸の軸線方向に移動可能な構成であり、
前記制御手段が前記第２エア出力手段からエア出力を行わせるタイミングは、前記把持手段がボビンケースを把持してから前記搬送手段が前記直交平面上を移動し始めるまでの間であることを特徴とする請求項２又は３記載のボビン交換装置。
【請求項５】
前記制御手段が、第１エア出力手段からのエア出力を、第２エア出力手段のエア出力開始前に終了することを特徴とした請求項３記載のボビン交換装置。
【請求項６】
前記搬送手段は、前記把持手段をボビンの回転軸との直交平面上に移動可能とし、且つ、前記回転軸の軸線方向に移動可能な構成であり、
前記制御手段が、前記第１エア出力手段からエア出力を、前記把持手段が前記軸線方向に移動してボビンケースを把持してから、前記把持手段が前記軸線方向に後退し始める前までの間に終了することを特徴とする請求項１又は３記載のボビン交換装置。
【請求項７】
下糸のセットされたボビンケースを装着するミシン釜と、
ボビンケースの把持および開放を行う把持手段と、
この把持手段を所定の移動経路に沿って搬送する搬送手段とを備えたボビン交換装置において、
前記把持手段に把持されたボビンケースに対し、該ボビンケースから延出した下糸を該ボビンケースの開放側の逆方向に吹き付けるエア出力を行う第２エア出力手段と、
該第２エア出力手段により吹き付けられた下糸を保持すると共に前記把持手段が搬送手段によりボビンケースから離されると保持した下糸が外される糸端保持手段とを備えたことを特徴とするボビン交換装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
この下糸自動供給装置においては、ミシンの釜内に装着されたボビンケース内のボビンに巻かれた下糸が消費されて所定巻量以下になったとき、ミシンが停止され、上記把持手段により釜内からボビンケースを取り出すとともに既に糸を巻かれているボビンを備えた別のボビンケースを釜内に装着し、ミシンは再び縫製作業を開始する。そしてこの再開された縫製作業中に、先に取り出されたボビンケース内のボビンに残されている糸を前記残糸除去装置により取り除き、その後、前記下糸巻回装置により所定量の糸を該ボビンに巻き付ける。所定量の糸が巻き付けられると、前記糸掛け機構により糸端部がボビンケースの下糸張力調整ばね下に挿通されて所定の導出部に案内され、その後、その導出部から糸供給源に連なる糸を前記糸切り機構により切断する。そして現在釜内のボビンケースのボビンに巻かれた糸が消費されると、前回と同様にボビンケースが交換される。前記糸切り機構による糸切り完了後、ボビンケースを糸巻き位置から離れた別のボビンケース支持軸（ダミー軸）に一旦支持し、そのダミー軸からミシンの釜に搬送装着されるものも知られている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６０】
請求項６の発明によれば、前記第１エア出力手段からエア出力を、前記把持手段が前記軸線方向に移動してボビンケースを把持してから、前記把持手段が前記軸線方向に後退し始める前までの間に終了する構成としたので、把持手段がボビンケースを把持する間中、第１エア出力手段からのエア出力が行われ、ボビンケースの把持中、ボビンケースから延出する下糸がボビンケースのレバーとボビンケース本体部との間に入り込むといった従来の不具合が確実に防止され、さらに第２エア出力手段のエア出力に影響を与えないから、ボビンケースと釜との間に下糸が入り込むことも防止でき、従って、ボビンケースの装着時に下糸がレバーとボビンケース本体との間に挟み込まれるといった従来の不具合を確実に解消することが出来る。
請求項７の発明によれば、糸端保持部材により、把持手段の回動中にボビンケースから延出した下糸の糸暴れが防止されるので、ボビンケースを釜へ装着する前に下糸が釜の開放面側に移動してしまうといった従来の不具合を、より確実に防止することが出来る。
【手続補正書】
【提出日】平成17年4月27日(2005.4.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コア材の両面にＦＲＰ板が配置されたサンドイッチ構造を有し、前記ＦＲＰ板に対し実質的に並行に延びる部分と垂直に延びる部分とを有するＦＲＰ製の補強部材とを備えたＦＲＰ構造体であって、前記コア材の一端部の両面に、前記補強部材のＦＲＰ板に対し実質的に並行に延びる部分が嵌着される凹部が切り欠かれており、かつ、前記ＦＲＰ板と前記ＦＲＰ製の補強部材及び前記コア材が樹脂によって一体化されていることを特徴とするＦＲＰ構造体。
【請求項２】
前記コア材が、前記切り欠き凹部へと連通して成形時の樹脂の流路となる溝を有している、請求項１に記載のＦＲＰ構造体。
【請求項３】
前記溝が、大溝と、該大溝から分岐した小溝とに形成されている、請求項２のＦＲＰ構造体。
【請求項４】
前記切り欠き凹部に連通する溝が、該切り欠き凹部の底面まで延びている、請求項２のＦＲＰ構造体。
【請求項５】
前記切り欠き凹部の底面と、それ以外のコア材の表面とに、それぞれ溝が設けられている、請求項２のＦＲＰ構造体。
【請求項６】
前記溝が複数条並設されている、請求項２のＦＲＰ構造体。
【請求項７】
前記溝の深さをｈ、溝幅をｗ、溝の配設ピッチをｐとするとき、
（ａ）２００≧ｗ×ｈ≧１（ｍｍ2 ），（ｂ）３００≧ｐ≧５（ｍｍ）
の関係が満たされている、請求項２のＦＲＰ構造体。
【請求項８】
型内に、一端部の両面に切り欠き凹部が設けられ、該切り欠き凹部へと連通して樹脂の流路となる溝を有しているコア材と、該コア材の両面においてコア材の面方向に延びる強化繊維基材と、該強化繊維基材に対し実質的に並行に延びる部分と垂直に延びる部分とを有し、該並行に延びる部分が前記切り欠き凹部内に位置された補強部材形成用基材とを配置しておき、全体をバッグフイルムで覆った後バッグフイルムで覆われた内部を真空状態にし、樹脂を前記溝に注入してコア全体に樹脂を流動させながら、該樹脂を強化繊維基材に含浸することにより一発成形することを特徴とするＦＲＰ構造体の製造方法。
【請求項９】
前記補強部材形成用基材も強化繊維基材からなる、請求項８のＦＲＰ構造体の製造方法。
【請求項１０】
前記補強部材形成用基材が、予め成形されたＦＲＰ製の基材からなる、請求項８のＦＲＰ構造体の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、本発明のＦＲＰ構造体は、コア材の両面にＦＲＰ板が配置されたサンドイッチ構造を有し、前記ＦＲＰ板に対し実質的に並行に延びる部分と垂直に延びる部分とを有するＦＲＰ製の補強部材とを備えたＦＲＰ構造体であって、前記コア材の一端部の両面に、前記補強部材のＦＲＰ板に対し実質的に並行に延びる部分が嵌着される凹部が切り欠かれており、かつ、前記ＦＲＰ板と前記ＦＲＰ製の補強部材及び前記コア材が樹脂によって一体化されていることを特徴とするものからなる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
このようなサンドイッチ構造により、軽量のコア材によってＦＲＰ構造体全体の軽量性を確保しつつ、両面に配置されたＦＲＰ板で強度、剛性及び表面の耐久性が確保でき、さらに垂直に延びる補強部材によってＦＲＰ構造体全体の一層高い強度、剛性を確保できる。
また、前記コア材が、前記切り欠き凹部へと連通して成形時の樹脂の流路となる溝を有し、更に該溝が大溝と、該大溝から分岐した小溝とに効果的に形成されており、前記切り欠き凹部に連通する溝が、該切り欠き凹部の底面まで延びていることから、大型の構造体でも効率良く成形出来る構造になっている。
そして、また 前記溝の深さをｈ、溝幅をｗ、溝の配設ピッチをｐとするとき、
（ａ）２００≧ｗ×ｈ≧１（ｍｍ2 ），（ｂ）３００≧ｐ≧５（ｍｍ）
の関係が満たされる構造となっていることを特徴としている。
一端部の両面に切り欠き凹部が設けられ、該切り欠き凹部へと連通して樹脂の流路となる溝を有しているコア材と、該コア材の両面においてコア材の面方向に延びる強化繊維基材と、該強化繊維基材に対し実質的に並行に延びる部分と垂直に延びる部分とを有し、該並行に延びる部分が前記切り欠き凹部内に位置された補強部材形成用基材とを配置しておき、全体をバッグフイルムで覆った後バッグフイルムで覆われた内部を真空状態にし、樹脂を前記溝に注入してコア全体に樹脂を流動させながら、該樹脂を強化繊維基材に含浸することにより一発成形することを特徴とするＦＲＰ構造体の製造方法。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
また、本発明に係るＦＲＰ構造体の製造方法は、型内に、一端部の両面に切り欠き凹部が設けられ、該切り欠き凹部へと連通して樹脂の流路となる溝を有しているコア材と、該コア材の両面においてコア材の面方向に延びる強化繊維基材と、該強化繊維基材に対し実質的に並行に延びる部分と垂直に延びる部分とを有し、該並行に延びる部分が前記切り欠き凹部内に位置された補強部材形成用基材とを配置しておき、全体をバッグフイルムで覆った後バッグフイルムで覆われた内部を真空状態にし、樹脂を前記溝に注入してコア全体に樹脂を流動させながら、該樹脂を強化繊維基材に含浸することにより一発成形することを特徴とする製造方法からなる。この方法においては、注入された樹脂はコアに形成された溝を効果的に流動しながら該樹脂が強化繊維基材の厚み方向に順次含浸する。
【手続補正書】
【提出日】平成17年1月19日(2005.1.19)
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６３】
なお、バグフィルターからの回収粉塵345kg/dを有効利用する場合の費用比B/Aは0.07である。
光ファイバー製造工程から、粉塵の大半を占めるSiO2粉塵およびHCl、Cl2ガスなどが排出されるが、その排ガス処理方法として、炉排出ダクト内のガス速度を16m/s以上、好ましくは17.5m/s以上とし、バグフィルター・スプレー塔・WEP・湿式スクラバーの順に処理することにより、炉排出ダクトの維持管理頻度が大幅な削減が可能となり、また、バグフィルターで粉塵を乾燥状態で回収し、スプレー塔により、冷却効果や高濃度HClの高除去はもとより、優れた増湿作用により、粉塵粒子表面に水膜を形成しやすくするとともに、HCl、Cl2ガスを顕著に粒子化する効果が現れ、WEPの濃度負荷、温度負荷を低減し、放電極の腐食抑制やガス状物質をも捕捉可能にすることができる。更には、湿式スクラバーを弱アルカリ性の還元剤水溶液でHClガスやCl2ガスを除去することで、いずれの物質も高効率で除去し、かつ廃液処理費用の大幅な低減ができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図７】
1999216387.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成17年11月1日(2005.11.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  駆動ブレードを押し出して締結具をワーク内に打ち込むための燃焼を起こす内燃式の動力源を備えた燃焼動力式締結具駆動工具において、
前記動力源を包囲するハウジングと、
前記ハウジング内に形成された燃焼室と、
前記燃焼室と流体連通するように前記ハウジング内に配設されたシリンダと、
前記駆動ブレードを有し、前記シリンダ内において前記シリンダの第１の端部にある初期位置と、前記シリンダの第２の端部にある駆動位置との間で往復移動できるように配設されたピストンと、
当該工具がワーク表面に接触していない時、前記燃焼室を外気に開放するガス制御手段と、
トリガーを有し、前記ハウジング内に配設されたトリガースイッチ組立体と、
前記トリガースイッチ組立体に連結され、前記燃焼室が外気からシールされるまで、前記燃焼室内の燃焼を防止する係止機構と、
前記トリガースイッチ組立体に連結され、締結具を駆動した後に前記ピストンが前記初期位置に復帰するまで、前記トリガー解放後の前記係止機構による前記燃焼室の開放を遅らせる遅延手段と、を具備する燃焼動力式締結具駆動工具。
【請求項２】  前記トリガースイッチ組立体は、オン位置とオフ位置との間で動作するトリガーを有し、
前記遅延手段は、前記ピストンが前記初期位置へ復帰するまで、前記トリガーの前記オン位置からオフ位置への復帰動作を遅らせるように形成されている請求項１に記載の燃焼動力式締結具駆動工具。
【請求項３】  前記トリガースイッチ組立体が、前記トリガーと、トリガースイッチと、戻り付勢部材と、前記戻り付勢部材の作用を遅らせる空気式逆止弁とを具備する請求項２に記載の燃焼動力式締結具駆動工具。
【請求項４】  前記空気式逆止弁が、前記トリガーに形成された空所と、前記ハウジングに固定され前記空所に係合するプランジャとを含み、前記プランジャが前記空所の内壁を拭うように係合するシール部材を含み、前記シール部材と前記空所との係合による摩擦が前記付勢戻り部材の作用に対抗して、前記トリガーのオフ位置への復帰が遅れるようになっている請求項３に記載の燃焼動力式締結具駆動工具。
【請求項５】  前記シール部材が、前記プランジャの長手方向軸線に対して角度を有して突出するリップを有する請求項４に記載の燃焼動力式締結具駆動工具。
【請求項６】  前記ガス制御手段が、ワーク接触部材により前記ハウジング内で往復移動する弁部材であり、前記弁部材が前記燃焼室を解放可能に外気からシールするように配設され、前記トリガースイッチ組立体が、オン位置とオフ位置の間で作動する前記トリガーを有し、前記遅延手段が、前記トリガーのオフ位置への動作を遅らせることにより、前記係止機構による前記弁部材の開放を遅らせるように形成されている請求項１に記載の燃焼動力式締結具駆動工具。
【請求項７】  前記トリガースイッチ組立体が、前記トリガーと、トリガースイッチと、戻り付勢部材と、前記戻り付勢部材の作用を遅らせる空気式逆止弁とを具備する請求項６に記載の燃焼動力式締結具駆動工具。
【請求項８】  前記空気式逆止弁が、前記トリガーに形成された空所と、前記ハウジングに固定され前記空所に係合するプランジャとを含み、前記プランジャが前記空所の内壁を拭うように係合するシール部材を含み、前記シール部材と前記空所との係合による摩擦が前記付勢戻り部材の作用に対抗して、前記トリガーのオフ位置への復帰が遅れるようになっている請求項７に記載の燃焼動力式締結具駆動工具。
【請求項９】  駆動ブレードを押し出して締結具をワーク内に打ち込むための燃焼を起こす内燃式の動力源を備えた燃焼動力式締結具駆動工具において、
前記動力源を包囲するハウジングと、
前記ハウジング内に形成された燃焼室と、
前記燃焼室と流体連通するように前記ハウジング内に配設されたシリンダと、
前記駆動ブレードを有し、前記シリンダ内において前記シリンダの第１の端部にある初期位置と、前記シリンダの第２の端部にある駆動位置との間で往復移動できるように配設されたピストンと、
オン位置とオフ位置との間で動作するトリガーを有し、前記ハウジング内に配設され、前記動力源に連結され前記燃焼室内で点火させるトリガースイッチ組立体と、
前記トリガースイッチ組立体に連結され、前記燃焼室の外気への開放を制御する係止機構と、
前記係止機構に連結され、前記燃焼室を解放可能に外気からシールする弁組立体と、
前記トリガースイッチ組立体に連結され、締結具を駆動した後に前記ピストンが前記初期位置に復帰するまで、前記弁組立体による前記燃焼室の開放を遅らせる遅延手段と、を具備し、
前記遅延手段には空気式逆止弁が組み込まれ、該空気式逆止弁の作用は、前記トリガーのオン位置からオフ位置への復帰動作を前記ピストンが前記初期位置へ復帰するまで遅らせるために、前記トリガーの解放後、真空により補助される摩擦力をもたらす、燃焼動力式締結具駆動工具。
【請求項１０】  駆動ブレードを押し出して締結具をワーク内に打ち込むための燃焼を起こす内燃式の動力源を備えた燃焼動力式締結具駆動工具において、
前記動力源を包囲する主室を有するハウジングと、
前記主室内に形成された燃焼室と、
前記主室内のシリンダおよびピストンであって、当該ピストンが当該シリンダの第２の端部の方へ駆動されるときに前記駆動ブレードを前記締結具の方へ駆動するように当該シリンダは当該ピストンを囲み、また、当該ピストンは、当該シリンダ内において当該シリンダの第１の端部にある初期位置と当該シリンダの第２の端部にある駆動位置との間を往復移動できるように形成される、シリンダおよびピストンと、
オン位置とオフ位置との間で動作するトリガーを有し、前記ハウジング内に配設され、前記動力源に連結され前記燃焼室内で点火させるトリガースイッチ組立体と、
前記燃焼室を解放可能に外気からシールする弁組立体と、
前記トリガースイッチ組立体および前記弁組立体に連結され、前記トリガーが前記オン位置から解放されるまで前記燃焼室を外気に開放することを防止する係止機構と、
前記トリガースイッチ組立体に連結され、前記トリガーの前記オン位置からの解放を遅らせ、前記締結具を駆動した後に前記ピストンが前記初期位置に復帰するまで、前記係止機構を介した前記弁組立体による前記燃焼室の開放を遅らせる遅延手段と、
を具備する燃焼動力式締結具駆動工具。
【請求項１１】  前記遅延手段が、前記トリガーの前記オフ位置への復帰を遅らせるようになっている請求項１０に記載の燃焼動力式締結具駆動工具。
【請求項１２】  前記トリガースイッチ組立体が、前記トリガーと、戻り付勢部材とを有し、
前記遅延手段が空気式逆止弁を含み、前記空気式逆止弁が、前記トリガーに形成された空所と、前記ハウジングに固定され前記空所に係合するプランジャとを含み、前記プランジャが前記空所の内壁を拭うように係合するシール部材を有し、前記シール部材と前記空所との係合による真空により増幅される摩擦が前記付勢戻り部材の作用に対抗して、前記トリガーのオフ位置への復帰が遅れるようになっている請求項１０に記載の燃焼動力式締結具駆動工具。
【手続補正書】
【提出日】平成17年6月24日(2005.6.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ｎビットの波形データを記憶するとともに一のアドレスのデータ幅がｎ×ｍビットである第１のメモリデバイスを用いる波形メモリ型楽音合成装置であって、
ｎビットの波形データを読み出すためのアドレスを発生するアドレス発生部と、
該アドレスを構成するビットの一部である第１群のビットからメモリアドレスを生成するメモリアドレス生成部と、
前記アドレスを構成するビットのうち前記第１群のビットを除くビットから構成される第２群のビットからメモリマスクを生成するメモリマスク生成部と、
前記メモリアドレスを用いて前記第１のメモリデバイスをアクセスするとともに、前記メモリマスクにより第１のメモリデバイスのｎ×ｍビットのデータのうちｎ×（ｍ−1）ビットをマスク状態に設定することにより、前記第１のメモリデバイスからｎビットの波形データを読出す第１の読出し部と
を有することを特徴とする波形メモリ型楽音合成装置。
【請求項２】
前記波形メモリ型楽音合成装置は、ｎビット幅の波形データを記憶するとともに一のアドレスのデータ幅がｎビットである第２のメモリデバイスも用いるものであり、
前記メモリアドレスを用いて前記第２のメモリデバイスをアクセスし、該第２のメモリデバイスからｎビットの波形データを読み出す第２の読出部
をさらに有することを特徴とする請求項１記載の波形メモリ型楽音合成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記課題を解決するため本発明にあっては、下記構成を具備することを特徴とする。なお、括弧内は例示である。
請求項１記載の波形メモリ型楽音合成装置にあっては、ｎ（１６）ビットの波形データを記憶するとともに一のアドレスのデータ幅がｎ×ｍ（１６×４＝６４）ビットである第１のメモリデバイス（ＤＩＭＭ４１４）を用いる波形メモリ型楽音合成装置であって、ｎ（１６）ビットの波形データを読み出すためのアドレスを発生するアドレス発生部（上位・下位アドレス生成回路３１６）と、該アドレスを構成するビットの一部である第１群のビットからメモリアドレスを生成する（段落０１１０：上位アドレス信号ＭＡＨ０〜３０のうち下位「２０ビット」である上位アドレス信号ＭＡＨ０〜１９に基づいて、ＲＯＷ（行）およびＣＯＬ（列）アドレス信号を生成する）メモリアドレス生成部（行・列アドレス発生部３６４）と、前記アドレスを構成するビットのうち前記第１群のビットを除くビットから構成される第２群のビットからメモリマスクを生成する（段落００９４〜００９５）メモリマスク生成部（マスク抽出部３６６）と、前記メモリアドレスを用いて前記第１のメモリデバイス（ＤＩＭＭ４１４）をアクセスするとともに、前記メモリマスクにより第１のメモリデバイスのｎ×ｍ（１６×４＝６４）ビットのデータのうちｎ×（ｍ−1）（１６×３＝４８）ビットをマスク状態に設定する（段落０１２０：上位マスク信号ＤＱＭＨ０〜３が生成されると、全６４ビットのデータバスのうち何れか「１６ビット」のみがアクティブ状態にされ、他の「４８ビット」がマスク状態に設定される）ことにより、前記第１のメモリデバイス（ＤＩＭＭ４１４）からｎ（１６）ビットの波形データを読出す第１の読出し部（ＳＤＲＡＭコントローラ３６０）とを有することを特徴とする。
さらに、請求項２記載の構成にあっては、請求項１記載の波形メモリ型楽音合成装置において、前記波形メモリ型楽音合成装置は、ｎ（１６）ビット幅の波形データを記憶するとともに一のアドレスのデータ幅がｎ（１６）ビットである第２のメモリデバイス（ＲＯＭ４１０）も用いるものであり、前記メモリアドレスを用いて前記第２のメモリデバイス（ＲＯＭ４１０）をアクセスし（段落０１０６：上位アドレス信号ＨＭＡ０〜３０のうち下位２３ビット（ＨＭＡ０〜２２）がアドレス信号Ａ０〜２２としてＲＯＭ４１０に供給される）、該第２のメモリデバイスからｎ（１６）ビットの波形データを読み出す第２の読出部（ＲＯＭコントローラ３４０）をさらに有することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
以上のように、本発明によれば、共通のアドレスを用いてｎ×ｍビット幅の第１のメモリデバイス、またはｎビット幅の第２のメモリデバイスをアクセスするから、ビット幅の異なる複数種類のメモリデバイスに対して同一のアドレスを用いることができるため、回路構成を複雑化することなく、柔軟性の高いメモリシステムを構成できる。
【手続補正書】
【提出日】平成16年9月17日(2004.9.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】  本発明は、１つのユニットで縦方向及び横方向の二方向に自在に移動可能とした装置であり、特に重量物である建築構造物土台支持装置に用いて耐震構造物とする為に有効である。
【手続補正書】
【提出日】平成17年7月6日(2005.7.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリオレフィン系樹脂からなる基材シート表面にプライマー層を塗工した後、絵柄層を設けてなる化粧シートにおいて、上記プライマー層が、オクチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、メチル（メタ）アクリレート、及び分子中に水酸基を有する（メタ）アクリレートを共重合成分として含むアクリルポリオールを主剤とし脂肪族又は脂環式イソシアネートを架橋剤とする２液硬化型アクリルウレタン樹脂の硬化物から形成されたものであることを特徴とする化粧シート。
【請求項２】
絵柄層の表面に保護層が積層されている請求項１記載の化粧シート。
【請求項３】
ポリオレフィン系樹脂からなる基材シートの表面のプライマー層側に活性水素原子含有極性官能基を有してなり、該極性官能基とプライマー層とがウレタン結合してなることを特徴とする請求項１又は２記載の化粧シート。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本発明は、（１）ポリオレフィン系樹脂からなる基材シート表面にプライマー層を塗工した後、絵柄層を設けてなる化粧シートにおいて、上記プライマー層が、オクチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、メチル（メタ）アクリレート、及び分子中に水酸基を有する（メタ）アクリレートを共重合成分として含むアクリルポリオールを主剤とし脂肪族又は脂環式イソシアネートを架橋剤とする２液硬化型アクリルウレタン樹脂の硬化物から形成されたものであることを特徴とする化粧シート、（２）絵柄層の表面に保護層が積層されている上記（１）記載の化粧シート、（３）ポリオレフィン系樹脂からなる基材シートの表面のプライマー層側に活性水素原子含有極性官能基を有してなり、該極性官能基とプライマー層とがウレタン結合してなることを特徴とする上記（１）又は（２）記載の化粧シート、を要旨とする。
【手続補正書】
【提出日】平成17年4月1日(2005.4.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
複数枚の板ガラスを縦置きに並列して載置し、
各板ガラス間に仕切アームを配設し、
該仕切アームは、ガラス面に係合する仕切位置と、ガラス面から外れた退避位置との間を移動可能であり、少なくともいずれか一方の位置に保持可能であることを特徴とする板ガラス搬送用ラック。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
【課題を解決するための手段】
前記目的を達成するため、本発明では、複数枚の板ガラスを縦置きに並列して載置し、各板ガラス間に仕切アームを配設し、該仕切アームは、ガラス面に係合する仕切位置と、ガラス面から外れた退避位置との間を移動可能であり、少なくともいずれか一方の位置に保持可能であることを特徴とする板ガラス搬送用ラックを提供する。
【手続補正書】
【提出日】平成16年2月5日(2004.2.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
２つのｎビットのオリジナル・オペランドの２の補数の２進和の最上位有効ビット位置を予測する方法であって、
（ａ）前記２つのｎビットのオリジナル・オペランドを２つの(ｎ＋１)ビット形式に非正規化するステップと、
（ｂ）２つの(ｎ＋１)ビットで表される値のそれぞれのビット位置に記号を作成するステップであって、前記記号のそれぞれは、第１の記号、第２の記号、または第３の記号のうちの一つであって、前記第１の記号は２つのビットの加算がゼロであることに対応し、前記第２の記号は前記加算が１であることに対応し、前記第３の記号は前記加算が２であることに対応し、このようにして(ｎ＋１)個の記号のシーケンスを生成する、前記作成するステップと、
（ｃ）前記(ｎ＋１)個の記号を（ｎ−１）個の順序づけたトリプルに分類するステップであって、トリプルのそれぞれは隣接するトリプルに共通の２つの隣接する記号を有する、前記分類するステップと、
（ｄ）前記トリプルを検査するステップであって、少なくとも前記トリプルの数に等しい数の暫定ビットから構成される２進暫定ワードにおいて対応する暫定ビットを作成し、前記暫定ビットは前記トリプルの順序で対応し、生成された前記暫定ビットの第１の暫定値は非正規化されたオペランドのビット位置の部分的な和のセグメントを示し、該部分的な和のセグメントは検査されたトリプルに対応し、該トリプルは２つの最上位有効ビットを有し、該最上位有効ビットは繰り入れキャリを伴うと反対のビット値となり、前記暫定ビットの第２の暫定値の生成はそれ以外を示す、前記検査するステップと、
（ｅ）前記２進暫定ワードの検査によって、前記第１の暫定値の最上位有効ビットのビット位置を求めるステップと、
（ｆ）求められた前記ビット位置をビット位置数Ｊで表すステップであって、前記Ｊは前記２進暫定ワードの最左端からのビット位置数である、前記表すステップと、
（ｇ）前記２つの(ｎ＋１)ビットで表される値を加算するステップであって、未調整和を作成する、前記加算するステップと、
（ｈ）前記未調整和を前記Ｊに等しい量だけ正規化するステップと、
を含む最上位有効ビット位置予測方法。
【請求項２】
（ｋ）前記第１の記号がＫを示し、第二の記号がＰを示し、第三の記号がＧを示し、
ＫＰＫ、ＫＰＰ、ＫＰＧ、ＧＰＫ、ＧＰＰ、またはＧＰＧの６つのトリプルのうちの１つがｎビット・オリジナル・オペランドの最上位ビットに関連付けられるとき、トリプルについて関連付けられた暫定ビット値について第１の暫定値を作成し、６つのトリプルのうちの１つが最上位ビットではないｎビット・オリジナル・オペランドのビットに関連付けられるとき、関連付けられた暫定ビットに第２の暫定値を作成するステップ、
をさらに含む請求項１記載の最上位有効ビット位置予測方法。
【請求項３】
（ｉ）Ｊが１ビット位置小さいことを判定するステップと、
（ｊ）Ｊに対応するシフトとは別に、前記未調整和にさらなるシフトを行うステップと、
をさらに含む請求項１記載の最上位有効ビット位置予測方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年4月12日(2004.4.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
この基板上に形成された第１の半導体分布ブラッグ反射型ミラーと、
この第１の半導体分布ブラッグ反射型ミラー上に形成された少なくとも発光層となる活性層を含む第１の半導体層と、
この活性層を含む半導体層上に形成された構成元素にＡｌを含む第２の半導体分布ブラッグ反射型ミラーと、
前記第２の半導体分布ブラッグ反射型ミラー上に設けられたＩｎxＧａ1-xＰ（０≦ｘ≦１）層を含む第２の半導体層と
を具備し、
前記第２の半導体分布ブラッグ反射型ミラーは、前記第１の半導体層と前記第２の半導体層との間に設けられることを特徴とする垂直共振器型半導体発光素子。
【請求項２】
前記第２の半導体分布ブラッグ反射型ミラーにおける前記活性層とは反対側の最終高屈折率層は、Ａｌを含む半導体層であることを特徴とする請求項１に記載の垂直共振器型半導体発光素子。
【請求項３】
前記最終高屈折率層及び前記第２の半導体層を合わせた光学的膜厚が、共振波長の四分の一の奇数倍であることを特徴とする請求項１、２に記載の垂直共振器型半導体発光素子。
【請求項４】
前記第２の半導体層は、電極とのコンタクト層を含み、このコンタクト層がＧａＡｓであることを特徴とする請求項１乃至請求項３に記載の垂直共振器型半導体発光素子。
【請求項５】
前記コンタクト層に選択的に設けられたオーミック電極と、このオーミック電極の設けられた箇所を除く前記コンタクト層表面に設けられた第３の半導体層とを更に具備することを特徴とする請求項４に記載の垂直共振器型半導体発光素子。
【請求項６】
前記基板及び前記第２の半導体層の夫々に設けられたオーミック電極と、これらオーミック電極に接続されたリードと、このリードの少なくとも一部を露出させて、前記垂直共振器型半導体発光素子を封止する樹脂製外囲器とを具備することを特徴とする請求項１乃至請求項４に記載の垂直共振器型半導体発光装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、請求項１に係る発明では、基板と、この基板上に形成された第１の半導体分布ブラッグ反射型ミラーと、この第１の半導体分布ブラッグ反射型ミラー上に形成された少なくとも発光層となる活性層を含む第１の半導体層と、この活性層を含む半導体層上に形成された構成元素にＡｌを含む第２の半導体分布ブラッグ反射型ミラーと、前記第２の半導体分布ブラッグ反射型ミラー上に設けられたＩｎxＧａ1-xＰ（０≦ｘ≦１）層を含む第２の半導体層と
を具備し、前記第２の半導体分布ブラッグ反射型ミラーは、前記第１の半導体層と前記第２の半導体層との間に設けられる垂直共振器型半導体発光素子を提供する。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
この構成の垂直共振器型半導体発光素子では、Ａｌを含む第２の半導体分布ブラッグ反射型ミラーが、ＩｎxＧａ1-xＰ耐湿層である第２の半導体層と発光層となる活性層を含む第１の半導体層との間に設けてあるために、吸湿による素子特性の劣化は非常に少ない。特にＩｎxＧａ1-xＰ層は、構成元素としてＡｌを含まないだけでなく、５族元素がＰのみであることから、耐湿層として効果が非常に高い。また発光波長がＩｎxＧａ1-xＰ層のバンドギャップ波長より長波長の場合には、ＩｎxＧａ1-xＰ層の厚さを十分に厚くすることにより、一層信頼性の高い素子の作成が可能である。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
また、請求項３に係る発明では、前記最終高屈折率層及び前記第２の半導体層を合わせた光学的膜厚が、共振波長の四分の一の奇数倍である垂直共振器型半導体発光素子を提供する。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
この構成の垂直共振器型半導体発光素子では、前記第２の半導体分布ブラッグ反射型ミラーの最終高屈折率層と第２の半導体層の合計の光学膜厚が発光波長の四分の一の奇数倍であることから、共振の最終端である素子表面は定在波の腹となる。従って、ＩｎxＧａ1-xＰ層により高い耐湿性を備えるばかりでなく、光出力も十分に大きな値となる。


【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
また、請求項４に係る発明では、前記ＩｎxＧａ1-xＰ（０≦ｘ≦１）層を含む第２の半導体層は、電極とのコンタクト層を含み、このコンタクト層がＧａＡｓである垂直共振器型半導体発光素子を提供する。


【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
また、請求項５に係る発明では、前記コンタクト層に選択的に設けられたオーミック電極と、このオーミック電極の設けられた箇所を除く前記コンタクト層表面に設けられた第３の半導体層とを更に有する垂直共振器型半導体発光素子を提供する。


【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
この構成の垂直共振器型半導体発光素子では、ＧａＡｓコンタクト層を表面の最終層ではなく内部に設け、オーミック電極形成部のみ選択的に第３の半導体層を除去した構造となっている。このような構成では、光出射部において、ＧａＡｓコンタクト層を共振器により形成される定在波の節の位置に配置することが可能であり、発光波長がＧａＡｓのバンドギャップ波長よりも短波長の場合においても、ＧａＡｓコンタクト層による光吸収の影響を十分小さくすることが可能である。


【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
更に、請求項６に係る発明では、前記基板及び前記第２の半導体層であるＩｎxＧａ1-xＰ（０≦ｘ≦１）層を含む半導体層の夫々に設けられたオーミック電極と、これらオーミック電極に接続されたリードと、このリードの少なくとも一部を露出させて、前記垂直共振器型半導体発光素子を封止する樹脂製外囲器とを有する垂直共振器型半導体発光装置を提供する。この構成によれば、ＩｎxＧａ1-xＰ層により素子の耐湿性が向上できるため、樹脂モールドでも外囲器を作成でき、従来よりも安価で信頼性の高い垂直共振器型半導体発光装置を作ることが可能である。
【手続補正書】
【提出日】平成16年6月15日(2004.6.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基体上に窒化チタニウム層を挟んで形成したスピネル型結晶構造の酸化物磁性層と、前記スピネル型結晶構造の酸化物磁性層に非磁性層を介して接合した他の磁性層とから構成され、両磁性層間を通過する電気抵抗を外部磁界により制御してなる磁気抵抗素子。
【請求項２】
非磁性層が電気絶縁層であることを特徴とする請求項１記載の磁気抵抗素子。
【請求項３】
スピネル型結晶構造の磁性層が、鉄元素を含む酸化物フェリ磁性体であることを特徴とする請求項１記載の磁気抵抗素子。
【請求項４】
鉄元素を含む酸化物フェリ磁性体が、鉄の３価と２価の複合価数の酸化物からなるマグネタイト(Fe3O4)であることを特徴とする請求項３記載の磁気抵抗素子。
【請求項５】
基体が単結晶であることを特徴とする請求項１記載の磁気抵抗素子。
【請求項６】
窒化チタニウムの結晶方位が、基体に対して一方向に揃っていることを特徴とする請求項１記載の磁気抵抗素子。
【請求項７】
基体が酸化マグネシウムの単結晶であることを特徴とする請求項１記載の磁気抵抗素子。
【請求項８】
酸化マグネシウム単結晶からなる基体の表面が、(110)面であることを特徴とする請求項７記載の磁気抵抗素子。
【請求項９】
酸化マグネシウム(110)面上に構成された磁気抵抗素子に於いて、制御する外部磁界の方向を酸化マグネシウムの<110>方位としたことを特徴とする請求項８記載の磁気抵抗素子。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれかに記載の磁気抵抗素子を用いて磁気信号の検知を行うことを特徴とする磁気センサ。
【請求項１１】
請求項１〜９のいずれかに記載の磁気抵抗素子を用いて磁気信号の保存を行うことを特徴とするメモリー装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明の磁気抵抗素子は、基体上に窒化チタニウム（TiN）層を挟んで形成したスピネル型結晶構造の酸化物磁性層と、前記スピネル型結晶構造の酸化物磁性層に非磁性層を介して接合した他の磁性層とから構成され、両磁性層間を通過する電気抵抗を外部磁界により制御するというものである。なお非磁性層は、銅のような良導体層でも、また酸化物・窒化物等の絶縁体層でも効果はあったが、特に非磁性層が電気絶縁層である場合には磁気抵抗効果が顕著となり好ましい結果であった。
【手続補正書】
【提出日】平成17年1月12日(2005.1.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
それぞれ複数の両面発電型太陽電池セルを一方向に接近させて並べた複数のセル列と、隣接するセル列を前記一方向に直交する方向に離隔することにより形成されたセル列の間で前記一方向に延びる透光部と、を備え、この透光部を表側から裏側に透過した光を太陽電池セルの裏面側に入射させることを特徴とする両面発電型太陽電池モジュール。
【手続補正書】
【提出日】平成17年3月17日(2005.3.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
コンフォーマルアレーアンテナが設置される面は３次元曲面で構成される。したがって、このような場所にアレーアンテナが設置される場合、アンテナ面はアンテナが設置される面と同一の３次元曲面である必要がある。従来のコンフォーマルアレーアンテナは、その構成品である素子アンテナ４、アンテナ面５を所望の３次元曲面にて形成していた。