(57)【要約】【課題】透明性、耐溶剤性、耐熱性、絶縁性、及びＩＴＯスパッタ適性の全てに優れた硬化膜と、この硬化膜を形成しうる保存安定性の良好なポジ型感光性樹脂組成物と、を提供すること。また、透明性、耐溶剤性、耐熱性、絶縁性、及びＩＴＯスパッタ適性の全てに優れた層間絶縁膜と、この層間絶縁膜を具備する、信頼性の高い有機ＥＬ表示装置、及び液晶表示装置を提供すること。【解決手段】アルカリ可溶性樹脂（Ａ）、該アルカリ可溶性樹脂（Ａ）とは異なる構造を有し、且つ、エポキシ基及びオキセタン基の少なくとも一方を含有する線状共重合体（Ｂ）、及び感光剤（Ｃ）を含有するポジ型感光性樹脂組成物、該組成物から形成された硬化膜、該硬化膜を用いた層間絶縁膜、該層間絶縁膜を具備する有機ＥＬ表示装置並びに液晶表示装置。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
アルカリ可溶性樹脂（Ａ）、該アルカリ可溶性樹脂（Ａ）とは異なる構造を有し、且つ、エポキシ基及びオキセタン基の少なくとも一方を含有する線状共重合体（Ｂ）、及び感光剤（Ｃ）を含有するポジ型感光性樹脂組成物。
【請求項２】
前記アルカリ可溶性樹脂（Ａ）が、脂環構造を有する樹脂である請求項１に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【請求項３】
前記アルカリ可溶性樹脂（Ａ）とは異なる構造を有し、且つ、エポキシ基及びオキセタン基の少なくとも一方を含有する線状共重合体（Ｂ）が、アクリル系共重合体である請求項１又は請求項２に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【請求項４】
前記感光剤（Ｃ）が、１，２−ナフトキノンジアジド基を有する化合物である請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【請求項５】
請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載のポジ型感光性樹脂組成物に対し、光及び熱の少なくとも一方を付与して形成された硬化膜。
【請求項６】
請求項５に記載の硬化膜を用いた層間絶縁膜。
【請求項７】
請求項６に記載の層間絶縁膜を具備する有機ＥＬ表示装置。
【請求項８】
請求項６に記載の層間絶縁膜を具備する液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ポジ型感光性樹脂組成物、該ポジ型感光性樹脂組成物を用いた硬化膜、該硬化膜を用いた層間絶縁膜、それを用いた有機ＥＬ表示装置、及び液晶表示装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬ表示装置や、液晶表示装置などには、パターン形成された層間絶縁膜や平坦化膜が設けられている。この層間絶縁膜や平坦化膜の形成には、必要とするパターン形状を得るための工程数が少なく、しかも十分な平坦性が得られるといったことから、感光性樹脂組成物が、従来より幅広く使用されている。
【０００３】
上記のような感光性樹脂組成物としては、例えば、末端に不飽和結合を有する側鎖を持つアルカリ可溶性アクリル重合体と、１，２−キノンジアジド化合物と、溶剤と、を含有するポジ型感光性樹脂組成物が知られている（例えば、特許文献１参照。）。
また、不飽和カルボン酸又は不飽和カルボン酸無水物、エポキシ基を有するラジカル重合性化合物、及び他のラジカル重合性化合物の共重合体である、アルカリ水溶液に可溶な樹脂と、感放射線性酸生成化合物と、を含有する感放射線性樹脂組成物が知られている（例えば、特許文献２参照。）。
【０００４】
一方、上記のような表示装置における層間絶縁膜や平坦化膜には、透明性に加えて、耐溶剤性、耐熱性、絶縁性、及びＩＴＯスパッタ適性に優れるといった、信頼性の高い硬化膜が望まれているのに加え、このような硬化膜を形成するために用いられる感光性樹脂組成物には、長期保存に耐えうるものとして、保存安定性も求められる。
しかしながら、上記特許文献１及び２に記載の感光性樹脂組成物は、保存安定性が十分でなく、また、かかる感光性樹脂組成物を用いて形成される硬化膜は、透明性、耐溶剤性、耐熱性、絶縁性、及びＩＴＯスパッタ適性を満足させるものではなかった。
【特許文献１】特開２００８−２５６９７４号公報
【特許文献２】特許第２９６１７２２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、透明性、耐溶剤性、耐熱性、絶縁性、及びＩＴＯスパッタ適性の全てに優れた硬化膜と、この硬化膜を形成しうる保存安定性の良好なポジ型感光性樹脂組成物と、を提供することを課題とする。
また、本発明は、透明性、耐溶剤性、耐熱性、絶縁性、及びＩＴＯスパッタ適性の全てに優れた層間絶縁膜と、この層間絶縁膜を具備する、信頼性の高い有機ＥＬ表示装置、及び液晶表示装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者は、上記課題が下記の＜１＞〜＜８＞の構成により解決されることを見出した。
＜１＞  アルカリ可溶性樹脂（Ａ）、該アルカリ可溶性樹脂（Ａ）とは異なる構造を有し、且つ、エポキシ基及びオキセタン基の少なくとも一方を含有する線状共重合体（Ｂ）、及び感光剤（Ｃ）を含有するポジ型感光性樹脂組成物。
【０００７】
＜２＞  前記アルカリ可溶性樹脂（Ａ）が、脂環構造を有する樹脂である＜１＞に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
＜３＞  前記アルカリ可溶性樹脂（Ａ）とは異なる構造を有し、且つ、エポキシ基及びオキセタン基の少なくとも一方を含有する線状共重合体（Ｂ）が、アクリル系共重合体である＜１＞又は＜２＞に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
＜４＞  前記感光剤（Ｃ）が、１，２−ナフトキノンジアジド基を有する化合物である＜１＞〜＜３＞のいずれか１に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【０００８】
＜５＞  ＜１＞〜＜４＞のいずれか１に記載のポジ型感光性樹脂組成物に対し、光及び熱の少なくとも一方を付与して形成された硬化膜。
＜６＞  ＜５＞に記載の硬化膜を用いた層間絶縁膜。
＜７＞  ＜６＞に記載の層間絶縁膜を具備する有機ＥＬ表示装置。
＜８＞  ＜６＞に記載の層間絶縁膜を具備する液晶表示装置。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、透明性、耐溶剤性、耐熱性、絶縁性、及びＩＴＯスパッタ適性の全てに優れた硬化膜と、この硬化膜を形成しうる保存安定性の良好なポジ型感光性樹脂組成物と、を提供することができる。
また、本発明によれば、透明性、耐溶剤性、耐熱性、絶縁性、及びＩＴＯスパッタ適性の全てに優れた層間絶縁膜と、この層間絶縁膜を具備する、信頼性の高い有機ＥＬ表示装置、及び液晶表示装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】ＴＦＴを用いた有機ＥＬ表示装置の要部断面図である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
≪ポジ型感光性樹脂組成物≫
以下、本発明のポジ型感光性樹脂組成物について詳細に説明する。
本発明のポジ型感光性樹脂組成物（以下、単に「感光性樹脂組成物」と称する場合がある。）は、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）、該アルカリ可溶性樹脂（Ａ）とは異なる構造を有し、且つ、エポキシ基及びオキセタン基の少なくとも一方を含有する線状共重合体（Ｂ）、及び感光剤（Ｃ）を含有することを特徴とする。
以下、ポジ型感光性樹脂組成物を構成する（Ａ）〜（Ｃ）成分について説明する。
【００１２】
＜アルカリ可溶性樹脂（Ａ）＞
本発明の感光性樹脂組成物は、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）を含有する。
アルカリ可溶性樹脂（Ａ）は、アルカリ可溶性基を含み、アルカリ水溶液に可溶である樹脂である限り特に限定されるものではないが、カルボキシル基を含有することによってアルカリ可溶性が付与された樹脂が好適に使用される。特に、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）は、カルボキシル基等のアルカリ可溶性基を有する繰り返し単位を含むことが好ましい。
【００１３】
本発明に好適なアルカリ可溶性樹脂（Ａ）は、アルカリ可溶性基を有する繰り返し単位（Ａ１）を含む以外に特に限定はされないが、硬化膜の低誘電率の点から、分子内に脂環構造を含有するものが好ましく、特に、脂環構造を有する繰り返し単位（Ａ２）を含むことが好ましい。ここで、脂環構造としては、脂環５員環、脂環６員環、又はそれらが２つ以上連結した脂環構造等が好ましく、具体的には、シクロヘキシル、ｔ−ブチルシクロヘキシル、ジシクロペンテニル、ジシクロペンテニルオキシエチル、ジシクロペンタニル、イソボニル等が挙げられ、中でも、硬化膜の耐熱性及びＩＴＯスパッタ適性の点から、シクロヘキシル、ジシクロペンテニル、ジシクロペンテニルオキシエチル、ジシクロペンタニルが好ましい。
【００１４】
また、本発明に好適なアルカリ可溶性樹脂（Ａ）は、組成物及び硬化膜の透明性の観点から、繰り返し単位（Ａ１）及び（Ａ２）とは異なる繰り返し単位（Ａ３）を含んでいてもよい。
つまり、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）は、硬化膜の低誘電率の観点からは、脂環構造を有する繰り返し単位（Ａ２）を含むことが好ましく、また、組成物及び硬化膜の透明性の観点からは、繰り返し単位（Ａ３）、特に、脂肪族鎖状（メタ）アクリル酸エステルを由来とする繰り返し単位を含むことが好ましい。
なお、本明細書において「アクリル、メタクリル」のいずれか或いは双方を示す場合「（メタ）アクリル」と記載することがある。
【００１５】
以下、本発明に好適なアルカリ可溶性樹脂（Ａ）を構成する繰り返し単位（Ａ１）〜（Ａ３）について説明する。
【００１６】
〔アルカリ可溶性基を有する繰り返し単位（Ａ１）〕
本発明におけるアルカリ可溶性樹脂（Ａ）は、感光性樹脂組成物の現像液に対する溶解性向上の観点から、カルボキシル基を有する繰り返し単位（Ａ１−１）、及び、炭素間不飽和結合基とカルボキシル基とを共に有する繰り返し単位（Ａ１−２）のいずれか一方を含む。
【００１７】
−カルボキシル基を有する繰り返し単位（Ａ１−１）−
カルボキシル基を有する繰り返し単位（Ａ１−１）としては、例えば、不飽和モノカルボン酸、不飽和ジカルボン酸、不飽和トリカルボン酸などの、分子中に少なくとも１個のカルボキシル基を有する不飽和カルボン酸等に由来する繰り返し単位が挙げられる。
【００１８】
カルボキシル基を有する繰り返し単位（Ａ１−１）を得るために用いられる不飽和カルボン酸としては以下に挙げるようなものが用いられる。
即ち、不飽和モノカルボン酸としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、α−クロルアクリル酸、けい皮酸などが挙げられる。
また、不飽和ジカルボン酸としては、例えば、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸、メサコン酸などが挙げられる。
【００１９】
また、カルボキシル基を有する繰り返し単位（Ａ１−１）を得るために用いられる不飽和多価カルボン酸は、その酸無水物であってもよい。具体的には、無水マレイン酸、無水イタコン酸、無水シトラコン酸などが挙げられる。また、不飽和多価カルボン酸は、多価カルボン酸のモノ（２−メタクリロイロキシアルキル）エステルであってもよく、例えば、コハク酸モノ（２−アクリロイロキシエチル）、コハク酸モノ（２−メタクリロイロキシエチル）、フタル酸モノ（２−アクリロイロキシエチル）、フタル酸モノ（２−メタクリロイロキシエチル）などが挙げられる。
【００２０】
更に、不飽和多価カルボン酸は、その両末端ジカルボキシポリマーのモノ（メタ）アクリレートであってもよく、例えば、ω−カルボキシポリカプロラクトンモノアクリレート、ω−カルボキシポリカプロラクトンモノメタクリレートなどが挙げられる。
【００２１】
また、不飽和カルボン酸としては、アクリル酸−２−カルボキシエチルエステル、メタクリル酸−２−カルボキシエチルエステル、マレイン酸モノアルキルエステル、フマル酸モノアルキルエステル、４−カルボキシスチレン等も用いることができる。
【００２２】
中でも、現像性の観点から、カルボキシル基を有する繰り返し単位（Ａ１−１）を形成するためには、アクリル酸、メタクリル酸、又は不飽和多価カルボン酸の無水物等を用いることが好ましい。
【００２３】
カルボキシル基を有する繰り返し単位（Ａ１−１）は、１種単独で構成されていてもよいし、２種以上で構成されていてもよい。
【００２４】
−炭素間不飽和結合基とカルボキシル基とを共に有する繰り返し単位（Ａ１−２）−
炭素間不飽和結合基とカルボキシル基とを共に有する繰り返し単位（Ａ１−２）とは、後述の炭素間不飽和結合基を有する繰り返し単位（Ａ３−１）中に存在する２級水酸基と、酸無水物とを反応させて得られた繰り返し単位であることが好ましい。
酸無水物としては、公知のものが使用でき、具体的には、無水マレイン酸、無水コハク酸、無水イタコン酸、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、無水クロレンド酸等の二塩基酸無水物；無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物、ビフェニルテトラカルボン酸無水物などの酸無水物が挙げられる。これらの中では、現像性の観点から。無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、又は無水コハク酸、が好ましい。
酸無水物の２級水酸基に対する反応率は、現像性の観点から、好ましくは１０モル％〜１００モル％、更に好ましくは３０モル％〜１００モル％である。
【００２５】
アルカリ可溶性基を有する繰り返し単位（Ａ１）は、カルボキシル基を有する繰り返し単位（Ａ１−１）の１種単独で構成されていてもよいし、炭素間不飽和結合基とカルボキシル基とを共に有する繰り返し単位（Ａ１−２）の１種単独で構成されていてもよく、これらを２種混合したもので構成されていてもよい。
【００２６】
本発明におけるアルカリ可溶性樹脂（Ａ）中のアルカリ可溶性基を有する繰り返し単位（Ａ１）の含有量は、現像性の観点から、１モル％〜５０モル％が好ましく、３モル％〜４５モル％がより好ましく、５モル％〜４０モル％が更に好ましい。
【００２７】
〔脂環構造を有する繰り返し単位（Ａ２）〕
脂環構造を有する繰り返し単位（Ａ２）としては、脂環構造を有するモノマーに由来する繰り返し単位が挙げられ、特に、硬化膜の低誘電率の点から、脂環構造を有する（メタ）アクリル酸エステルに由来する繰り返し単位が好ましい。
脂環構造を有する（メタ）アクリル酸エステルとしては、脂環５員環、脂環６員環、又はそれらが２つ以上連結した脂環構造等を有する（メタ）アクリル酸エステルが好ましい。この脂環構造を有する（メタ）アクリル酸エステルとして具体的には、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチルシクロヘキシル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンテニル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンテニルオキシエチル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンタニル、（メタ）アクリル酸イソボニルなどが挙げられ、中でも、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンテニル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンテニルオキシエチル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンタニルが好ましい。
【００２８】
脂環構造を有する繰り返し単位（Ａ２）は、１種単独で構成されていてもよいし、２種以上で構成されていてもよい。
【００２９】
本発明におけるアルカリ可溶性樹脂（Ａ）中の脂環構造を有する繰り返し単位（Ａ２）の含有量は、各種耐性と現像性の両立の点から、５モル％〜６０モル％が好ましく、８モル％〜５５モル％がより好ましく、１０モル％〜５０モル％が更に好ましい。
【００３０】
〔繰り返し単位（Ａ１）、（Ａ２）以外の繰り返し単位（Ａ３）〕
本発明におけるアルカリ可溶性樹脂（Ａ）には、前述した繰り返し単位（Ａ１）、（Ａ２）以外の繰り返し単位として、炭素間不飽和結合基を有する繰り返し単位（Ａ３−１）や、その他の繰り返し単位（Ａ３−２）を含んでいてもよい。
【００３１】
−炭素間不飽和結合基を有する繰り返し単位（Ａ３−１）−
炭素間不飽和結合基を有する繰り返し単位（Ａ３−１）としては、炭素間不飽和結合基（重合性基）を有するモノマーに由来する繰り返し単位が挙げられる。特に、炭素間不飽和結合基を有する繰り返し単位（Ａ３−１）としては、エポキシ環と炭素間不飽和結合基とを含む化合物中のエポキシ環がカルボキシル基と付加してなる構造を有する繰り返し単位、又は、カルボキシル基と炭素間不飽和結合基とを含む化合物中のカルボキシル基がエポキシ環と付加してなる構造を有する繰り返し単位であることが好ましい。より具体的には、前述のカルボキシル基を有する繰り返し単位（Ａ１−１）のカルボキシル基に、エポキシ環と炭素間不飽和結合基とを含む化合物中のエポキシ環を反応させた繰り返し単位、又は、後述のエポキシ環を有するモノマーに由来する繰り返し単位中のエポキシ環に、（メタ）アクリル酸等のカルボキシル基と炭素間不飽和結合基とを含む化合物のカルボキシル基を反応させた繰り返し単位であることが好ましい。このような反応により、炭素間不飽和結合基を有する繰り返し単位（Ａ３−１）中に２級水酸基が導入される。
【００３２】
エポキシ環と炭素間不飽和結合基とを含む化合物としては、エポキシ環と炭素間不飽和結合基とをそれぞれ１個以上有する化合物であればよく、例えば、グリシジルアクリレート、グリシジルメタアクリレート、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルアクリレート、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルメタクリレート、アリルグリシジルエーテルなどの化合物を挙げることができる。
これらの中でも、グリシジルアクリレート、グリシジルメタアクリレート、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルアクリレート、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルメタクリレートが好ましく、グリシジルメタアクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルアクリレート、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルメタクリレートが、硬化膜の、溶剤耐性、耐熱性、及びＩＴＯスパッタ耐性の観点から、最も好ましい。
【００３３】
炭素間不飽和結合基を有する繰り返し単位（Ａ３−１）は、１種単独で構成されていてもよいし、２種以上で構成されていてもよい。
【００３４】
本発明におけるアルカリ可溶性樹脂（Ａ）中の炭素間不飽和結合基を有する繰り返し単位（Ａ３−１）の含有量は、各種耐性と現像性の両立の点から、０モル％〜６０モル％が好ましく、０モル％〜５５モル％がより好ましく、０モル％〜５０モル％が更に好ましい。
【００３５】
−その他の繰り返し単位（Ａ３−２）−
その他の繰り返し単位（Ａ３−２）としては、繰り返し単位（Ａ１）、（Ａ２）、及び（Ａ３−１）と異なる構造を有するものであれば、特に制限はないが、ビニルモノマーに由来する繰り返し単位であることが好ましい。
【００３６】
その他の繰り返し単位（Ａ３−２）を形成しうるビニルモノマーとしては、例えば、（メタ）アクリル酸エステル類、クロトン酸エステル類、ビニルエステル類、マレイン酸ジエステル類、フマル酸ジエステル類、イタコン酸ジエステル類、（メタ）アクリルアミド類、ビニルエーテル類、ビニルアルコールのエステル類、スチレン類、（メタ）アクリロニトリルなどが好ましい。
このようなビニルモノマーの具体例としては、例えば、以下のような化合物が挙げられる。
【００３７】
（メタ）アクリル酸エステル類の例としては、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ｎ−プロピル、（メタ）アクリル酸イソプロピル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸イソブチル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｎ−ヘキシル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸ｔ−オクチル、（メタ）アクリル酸ドデシル、（メタ）アクリル酸オクタデシル、（メタ）アクリル酸アセトキシエチル、（メタ）アクリル酸フェニル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−メトキシエチル、（メタ）アクリル酸２−エトキシエチル、（メタ）アクリル酸２−（２−メトキシエトキシ）エチル、（メタ）アクリル酸３−フェノキシ−２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸グリシジル、（メタ）アクリル酸（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチル、（メタ）アクリル酸ベンジル、（メタ）アクリル酸ジエチレングリコールモノメチルエーテル、（メタ）アクリル酸ジエチレングリコールモノエチルエーテル、（メタ）アクリル酸トリエチレングリコールモノメチルエーテル、（メタ）アクリル酸トリエチレングリコールモノエチルエーテル、（メタ）アクリル酸ポリエチレングリコールモノメチルエーテル、（メタ）アクリル酸ポリエチレングリコールモノエチルエーテル、（メタ）アクリル酸β−フェノキシエトキシエチル、（メタ）アクリル酸ノニルフェノキシポリエチレングリコール、（メタ）アクリル酸トリフロロエチル、（メタ）アクリル酸オクタフロロペンチル、（メタ）アクリル酸パーフロロオクチルエチル、（メタ）アクリル酸トリブロモフェニル、（メタ）アクリル酸トリブロモフェニルオキシエチルなどが挙げられる。
【００３８】
クロトン酸エステル類の例としては、クロトン酸ブチル、及びクロトン酸ヘキシル等が挙げられる。
ビニルエステル類の例としては、ビニルアセテート、ビニルプロピオネート、ビニルブチレート、ビニルメトキシアセテート、及び安息香酸ビニルなどが挙げられる。
マレイン酸ジエステル類の例としては、マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、及びマレイン酸ジブチルなどが挙げられる。
フマル酸ジエステル類の例としては、フマル酸ジメチル、フマル酸ジエチル、及びフマル酸ジブチルなどが挙げられる。
イタコン酸ジエステル類の例としては、イタコン酸ジメチル、イタコン酸ジエチル、及びイタコン酸ジブチルなどが挙げられる。
【００３９】
（メタ）アクリルアミド類としては、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−エチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−プロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−イソプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ｎ−ブチルアクリル（メタ）アミド、Ｎ−ｔ−ブチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（２−メトキシエチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−フェニル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ベンジル（メタ）アクリルアミド、（メタ）アクリロイルモルホリン、ジアセトンアクリルアミドなどが挙げられる。
【００４０】
ビニルエーテル類の例としては、メチルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、ヘキシルビニルエーテル、及びメトキシエチルビニルエーテルなどが挙げられる。
スチレン類の例としては、スチレン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、イソプロピルスチレン、ブチルスチレン、ヒドロキシスチレン、メトキシスチレン、ブトキシスチレン、アセトキシスチレン、クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブロモスチレン、クロロメチルスチレン、酸性物質により脱保護可能な基（例えば、ｔ−Ｂｏｃなど）で保護されたヒドロキシスチレン、ビニル安息香酸メチル、及びα−メチルスチレンなどが挙げられる。
【００４１】
本発明におけるアルカリ可溶性樹脂（Ａ）は、感光性樹脂組成物の透明性、及び硬化膜の透明性の点から、その他の繰り返し単位（Ａ３−２）として、（メタ）アクリル酸エステル類に由来する繰り返し単位を含有することが好ましい。中でも、硬化膜の高透明性の点から、脂肪族鎖状（メタ）アクリル酸エステルに由来する繰り返し単位が好ましい。この脂肪族鎖状（メタ）アクリル酸エステルとしては、（メタ）アクリル酸の、メチルエステル、エチルエステル、プロピルエステル、ｎ−ブチルエステル、ｔ−ブチルエステル、２−ヒドロキシエチルエステル等が挙げられる。これらの中でも、（メタ）アクリル酸の、メチルエステル、エチルエステル、２−ヒドロキシエチルエステルが好ましい。
より具体的には、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ｎ−プロピル、（メタ）アクリル酸イソプロピル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸イソブチル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｎ−ヘキシル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸ｔ−オクチル、（メタ）アクリル酸ドデシル、（メタ）アクリル酸オクタデシル、（メタ）アクリル酸アセトキシエチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−メトキシエチル、（メタ）アクリル酸２−エトキシエチル、（メタ）アクリル酸２−（２−メトキシエトキシ）エチル、（メタ）アクリル酸グリシジル、（メタ）アクリル酸ジエチレングリコールモノメチルエーテル、（メタ）アクリル酸ジエチレングリコールモノエチルエーテル、（メタ）アクリル酸トリエチレングリコールモノメチルエーテル、（メタ）アクリル酸トリエチレングリコールモノエチルエーテル、（メタ）アクリル酸ポリエチレングリコールモノメチルエーテル、（メタ）アクリル酸ポリエチレングリコールモノエチルエーテル、（メタ）アクリル酸トリフロロエチル、（メタ）アクリル酸オクタフロロペンチル、（メタ）アクリル酸パーフロロオクチルエチルが挙げられる。これらの中でも、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチルが透明性の観点から好ましい。
【００４２】
その他の繰り返し単位（Ａ３−２）は、１種単独で構成されていてもよいし、２種以上で構成されていてもよい。
【００４３】
本発明におけるアルカリ可溶性樹脂（Ａ）中の繰り返し単位（Ａ３−２）の含有量は、各種耐性と現像性の両立の点から、０モル％〜９０モル％が好ましく、１０モル％〜８５モル％がより好ましく、２０モル％〜８０モル％が更に好ましい。
【００４４】
本発明におけるアルカリ可溶性樹脂（Ａ）は、少なくとも、繰り返し単位（Ａ１）を形成しうるモノマーと、必要に応じて、繰り返し単位（Ａ２）や（Ａ３）を形成しうるモノマーと、を（共）重合することによって合成することができる。
また、炭素間不飽和結合基を有するアルカリ可溶性樹脂（Ａ）の場合は、少なくとも、繰り返し単位（Ａ１−１）を形成しうるモノマーと、必要に応じて、繰り返し単位（Ａ２）や（Ａ３）を形成しうるモノマーと、を予め（共）重合しておき、得られた（共）重合体のカルボキシル基に、エポキシ環と不飽和基とを含む化合物中のエポキシ環を適当な割合で付加する方法を用いて合成することもできる。また、少なくとも、繰り返し単位（Ａ３−２）中のエポキシ環を有する繰り返し単位を形成しうるモノマーと、繰り返し単位（Ａ１−１）を形成しうるモノマーと、必要に応じて、繰り返し単位（Ａ２）やエポキシ環を有さない繰り返し単位（Ａ３）を形成しうるモノマーと、予め共重合しておき、得られた共重合体のエポキシ環（例えば、グリシジル基）に（メタ）アクリル酸等のカルボキシル基と炭素間不飽和結合基とを含む化合物のカルボキシル基を付加する方法を用いて、炭素間不飽和結合基を有するアルカリ可溶性樹脂（Ａ）を合成することもできる。更に、上記の付加反応によって生じた２級水酸基に、テトラヒドロ無水フタル酸等の酸無水物を反応させて、炭素間不飽和結合基とカルボキシル基とを共に有する繰り返し単位を有するアルカリ可溶性樹脂（Ａ）を合成してもよい。
【００４５】
上述のようにして、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）を合成する際、また、付加反応を行う際には、溶媒中で行うことが好ましい。
この溶剤としては、共重合に用いる原料モノマーが必要な濃度で溶解可能であり、かつ、得られる共重合体を用いて形成する膜の特性に悪影響を与えないものであれば、どのようなものを使用してもよい。
具体的な溶剤としては、例えば、水や、メタノール、エタノール、プロパノール等のアルコール系溶媒、アセトン、アルコールアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、アセトフェノン等のケトン系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、γ−ブチロラクトン、メチルベンゾエート等のエステル系溶媒、ジブチルエーテル、アニソール、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒、トルエン、キシレン、メシチレン、１，２，４，５−テトラメチルベンゼン、ペンタメチルベンゼン、イソプロピルベンゼン、１，４−ジイソプロピルベンゼン、ｔ−ブチルベンゼン、１，４−ジ−ｔ−ブチルベンゼン、１，３，５−トリエチルベンゼン、１，３，５−トリ−ｔ−ブチルベンゼン、４−ｔ−ブチル−オルトキシレン、１−メチルナフタレン、１，３，５−トリイソプロピルベンゼン等の芳香族炭化水素系溶媒、Ｎ−メチルピロリジノン、ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒、四塩化炭素、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン、クロロベンゼン、１，２−ジクロロベンゼン、１，２，４−トリクロロベンゼン等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素系溶媒などが利用できる。
【００４６】
これらの中でより好ましい溶媒は、テトラヒドロフラン、γ−ブチロラクトン、アニソール、トルエン、キシレン、メシチレン、イソプロピルベンゼン、ｔ−ブチルベンゼン、１，３，５−トリ−ｔ−ブチルベンゼン、１−メチルナフタレン、１，３，５−トリイソプロピルベンゼン、Ｎ−メチルピロリジノン、ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒、１，２−ジクロロエタン、クロロベンゼン、１，２−ジクロロベンゼン、１，２，４−トリクロロベンゼンであり、特に好ましくは、Ｎ−メチルピロリジノン、ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒である。
これらの溶剤は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を混合して用いてもよい。
【００４７】
なお、共重合反応や、付加反応に用いる有機溶媒の沸点は、５０℃以上が好ましく、より好ましくは１００℃以上であり、特に好ましくは１５０℃以上である。
【００４８】
また、共重合反応や、付加反応に用いる反応液中の溶質の濃度は、好ましくは１〜５０質量％であり、より好ましくは５〜３０質量％であり、特に好ましくは１０〜２０質量％である。
【００４９】
本発明における共重合反応の最適な条件は、溶媒の種類、濃度等によって異なるが、反応温度について、好ましくは、内温０℃〜２３０℃であり、より好ましくは１００℃〜２３０℃であり、特に好ましくは１４０℃〜２００℃である。また、反応時間について好ましくは１〜５０時間であり、より好ましくは２〜４０時間であり、特に好ましくは３〜３０時間の範囲である。
また、合成される共重合体の酸化分解を抑制するために、不活性ガス雰囲気下（例えば窒素、アルゴン等）で反応を行うことが好ましい。また、望まない光反応を抑制するために遮光条件下で重合反応を行うことも好ましい。
【００５０】
以下、本発明に好適に使用しうるアルカリ可溶性樹脂（Ａ）の具体例を例示するが、本発明はこれに限定されるものではない。
なお、下記に例示した化合物の重量平均分子量は、５，０００〜８０，０００である。
【００５１】
【化１】
2010262259.tif 000003
【００５２】
【化２】
2010262259.tif 000004
【００５３】
【化３】
2010262259.tif 000005
【００５４】
本発明で用いるアルカリ可溶性樹脂（Ａ）は、分子量に特に制限はないが、アルカリ溶解速度、膜物性等の面で、重量平均分子量で、１，０００〜３００，０００が好ましく、３，０００〜２００，０００がより好ましく、５，０００〜１００，０００が特に好ましい。なお、本発明において分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー法により測定し、標準ポリスチレン検量線を用いて求めることができる。
【００５５】
本発明の感光性樹脂組成物中のアルカリ可溶性樹脂（Ａ）の含有量は、感光性樹脂組成物の全固形分に対して、２０質量％〜９０質量％であることが好ましく、２５質量％〜８０質量％であることがより好ましく、３０質量％〜７０質量％であることが更に好ましい。含有量がこの範囲であると、現像した際のパターン形成性が良好となる。
【００５６】
＜アルカリ可溶性樹脂（Ａ）とは異なる構造を有し、且つ、エポキシ基及びオキセタン基の少なくとも一方を含有する線状共重合体（Ｂ）＞
本発明の感光性樹脂組成物は、前述したアルカリ可溶性樹脂（Ａ）とは異なる構造を有し、且つ、エポキシ基及びオキセタン基の少なくとも一方を含有する線状共重合体（Ｂ）（以下、特定線状共重合体（Ｂ）と称する場合がある。）を含有する。ここで、本発明におけるエポキシ基及びオキセタン基の少なくとも一方を含有する線状共重合体（Ｂ）とは、ポリマー主鎖が枝分かれのない一本鎖状の共重合体であり、かつ、エポキシ基及びオキセタン基の少なくとも一方を有するポリマーを意味する。但し、特定線状共重合体（Ｂ）は、その構造中に、カルボキシル基は含まれない。
本発明における特定線状共重合体（Ｂ）は、硬化膜の透明性及び絶縁性の点から、アクリル系共重合体であることが好ましい。
【００５７】
本発明において、特定線状共重合体（Ｂ）は、エポキシ基を有する繰り返し単位（Ｂ１−１）及び／又はエポキシ基を有する繰り返し単位（Ｂ１−２）を含んでいればそれ以外は限定されないが、脂環構造を有する繰り返し単位（Ｂ２）と、繰り返し単位（Ｂ１）及び（Ｂ２）とは異なるその他の繰り返し単位（Ｂ３）と、を含んでいてもよい。
本発明における特定線状共重合体（Ｂ）は、硬化膜の誘電率の観点から脂環構造を有する繰り返し単位（Ｂ２）を含むことが好ましく、また、組成物及び硬化膜の透明性の観点からその他の繰り返し単位（Ｂ３）、特に、脂肪族鎖状（メタ）アクリル酸エステルに由来する繰り返し単位を含むことが好ましい。
【００５８】
〔エポキシ基を有する繰り返し単位（Ｂ１−１）、及び、エポキシ基を有する繰り返し単位（Ｂ１−２）〕
以下、本発明における特定線状共重合体（Ｂ）を構成しうる、エポキシ基を有する繰り返し単位（Ｂ１−１）、及び、オキセタン基を有する繰り返し単位（Ｂ１−２）について説明する。
【００５９】
−エポキシ基を有する繰り返し単位（Ｂ１−１）−
エポキシ基を有する繰り返し単位（Ｂ１−１）としては、エポキシ基を有するモノマーに由来する繰り返し単位が挙げられる。
エポキシ基を有するモノマーとして、具体的には、例えば、グリシジル（メタ）アクリレート、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチル（メタ）アクリレート、アリルグリシジルエーテルなどの化合物を挙げることができ、中でも、グリシジル（メタ）アクリレート、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチル（メタ）アクリレート、が、耐溶剤性、耐熱性の観点から好ましい。
【００６０】
エポキシ基を有する繰り返し単位（Ｂ１−１）は、１種単独で構成されていてもよいし、２種以上で構成されていてもよい。
【００６１】
本発明における特定線状共重合体（Ｂ）中のエポキシ基を有する繰り返し単位（Ｂ１−１）の含有量は、感光性樹脂組成物を用いて形成される硬化膜の耐溶剤性、耐熱性に優れるといった点から、２０モル％〜９８モル％が好ましく、３０モル％〜９５モル％がより好ましく、４０モル％〜９０モル％が更に好ましい。
【００６２】
−オキセタン基を有する繰り返し単位（Ｂ１−２）−
オキセタン基を有する繰り返し単位（Ｂ１−２）としては、オキセタン基を有するモノマーに由来する繰り返し単位が挙げられる。
オキセタン基を有するモノマーとしては、例えば、オキセタン基を有する（メタ）アクリル酸エステルなどを挙げることができる。
オキセタン基を有する（メタ）アクリル酸エステルとしては具体的には、例えば、特開２００１−３３０９５３公報の段落〔００１１〕〜段落〔００１６〕に記載のオキセタン基を有する（メタ）アクリル酸エステルなどを挙げることができる。このようなモノマーの中では、３−（メタクリロイルオキシメチル）オキセタン、３−（アクリロイルオキシメチル）オキセタン、３−（メタクリロイルオキシメチル）−３−エチル−オキセタン、３−（アクリロイルオキシメチル）−３−エチル−オキセタン、３−（メタクリロイルオキシメチル）−２−トリフロロメチルオキセタン、３−（アクリロイルオキシメチル）−２−トリフロロメチルオキセタン、３−（メタクリロイルオキシメチル）−２−フェニル−オキセタン、３−（アクリロイルオキシメチル）−２−フェニル−オキセタン、２−（メタクリロイルオキシメチル）オキセタン、２−（アクリロイルオキシメチル）オキセタン、２−（メタクリロイルオキシメチル）−４−トリフロロメチルオキセタン、２−（アクリロイルオキシメチル）−４−トリフロロメチルオキセタンが好ましく、３−（メタクリロイルオキシメチル）−３−エチル−オキセタン、３−（アクリロイルオキシメチル）−３−エチル−オキセタンが、得られる感光性樹脂組成物のプロセスマージンが広く、かつ、得られる硬化膜の耐溶剤性を高める点から最も好ましく用いられる。
【００６３】
オキセタン基を有する繰り返し単位（Ｂ１−２）は、１種単独で構成されていてもよいし、２種以上で構成されていてもよい。
【００６４】
本発明における特定線状共重合体（Ｂ）中のオキセタン基を有する繰り返し単位（Ｂ１−２）の含有量は、感光性樹脂組成物を用いて形成される硬化膜の耐溶剤性、耐熱性に優れるといった点から、２０モル％〜９８モル％が好ましく、３０モル％〜９５モル％がより好ましく、４０モル％〜９０モル％が更に好ましい。
【００６５】
なお、本発明における特定線状共重合体（Ｂ）は、エポキシ基を有する繰り返し単位（Ｂ１−１）と、オキセタン基を有する繰り返し単位（Ｂ１−２）と、の双方を有していてもよく、その場合、繰り返し単位（Ｂ１−１）及び（Ｂ１−２）の総量が上記の範囲の含有量になることが好ましい。
【００６６】
〔脂環構造を有する繰り返し単位（Ｂ２）〕
脂環構造を有する繰り返し単位（Ｂ２）としては、脂環構造を有するモノマーに由来する繰り返し単位が挙げられ、特に、硬化膜の低誘電率の点から、脂環構造を有する（メタ）アクリル酸エステルに由来する繰り返し単位が好ましい。
脂環構造を有する（メタ）アクリル酸エステルとしては、脂環５員環、脂環６員環、又はそれらが２つ以上連結した脂環構造等を有する（メタ）アクリル酸エステルが好ましい。この脂環構造を有する（メタ）アクリル酸エステルとして具体的には、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチルシクロヘキシル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンテニル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンテニルオキシエチル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンタニル、（メタ）アクリル酸イソボニルなどが挙げられ、中でも、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンテニル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンテニルオキシエチル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンタニルが好ましい。
【００６７】
脂環構造を有する繰り返し単位（Ｂ２）は、１種単独で構成されていてもよいし、２種以上で構成されていてもよい。
【００６８】
本発明における特定線状共重合体（Ｂ）中の脂環構造を有する繰り返し単位（Ｂ２）の含有量は、感光性樹脂組成物を用いて形成される硬化膜の透明性、絶縁性に優れるといった点から、１モル％〜８０モル％が好ましく、３モル％〜７０モル％がより好ましく、５モル％〜６０モル％が更に好ましい。
【００６９】
〔その他の繰り返し単位（Ｂ３）〕
本発明における特定線状共重合体（Ｂ）は、その他の繰り返し単位（Ｂ３）を含んでいてもよい。このその他の繰り返し単位（Ｂ３）としては、ビニルモノマーに由来する繰り返し単位であることが好ましい。
その他の繰り返し単位（Ｂ３）を形成しうるビニルモノマーとしては、例えば、（メタ）アクリル酸エステル類、クロトン酸エステル類、ビニルエステル類、マレイン酸ジエステル類、フマル酸ジエステル類、イタコン酸ジエステル類、（メタ）アクリルアミド類、ビニルエーテル類、ビニルアルコールのエステル類、スチレン類、（メタ）アクリロニトリルなどが好ましい。
このようなビニルモノマーの具体例としては、例えば、以下のような化合物が挙げられる。
【００７０】
（メタ）アクリル酸エステル類の例としては、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ｎ−プロピル、（メタ）アクリル酸イソプロピル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸イソブチル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｎ−ヘキシル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸ｔ−オクチル、（メタ）アクリル酸ドデシル、（メタ）アクリル酸オクタデシル、（メタ）アクリル酸アセトキシエチル、（メタ）アクリル酸フェニル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−メトキシエチル、（メタ）アクリル酸２−エトキシエチル、（メタ）アクリル酸２−（２−メトキシエトキシ）エチル、（メタ）アクリル酸３−フェノキシ−２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸ベンジル、（メタ）アクリル酸ジエチレングリコールモノメチルエーテル、（メタ）アクリル酸ジエチレングリコールモノエチルエーテル、（メタ）アクリル酸トリエチレングリコールモノメチルエーテル、（メタ）アクリル酸トリエチレングリコールモノエチルエーテル、（メタ）アクリル酸ポリエチレングリコールモノメチルエーテル、（メタ）アクリル酸ポリエチレングリコールモノエチルエーテル、（メタ）アクリル酸β−フェノキシエトキシエチル、（メタ）アクリル酸ノニルフェノキシポリエチレングリコール、（メタ）アクリル酸トリフロロエチル、（メタ）アクリル酸オクタフロロペンチル、（メタ）アクリル酸パーフロロオクチルエチル、（メタ）アクリル酸トリブロモフェニル、（メタ）アクリル酸トリブロモフェニルオキシエチルなどが挙げられる。
【００７１】
クロトン酸エステル類の例としては、クロトン酸ブチル、及びクロトン酸ヘキシル等が挙げられる。
ビニルエステル類の例としては、ビニルアセテート、ビニルプロピオネート、ビニルブチレート、ビニルメトキシアセテート、及び安息香酸ビニルなどが挙げられる。
マレイン酸ジエステル類の例としては、マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、及びマレイン酸ジブチルなどが挙げられる。
フマル酸ジエステル類の例としては、フマル酸ジメチル、フマル酸ジエチル、及びフマル酸ジブチルなどが挙げられる。
イタコン酸ジエステル類の例としては、イタコン酸ジメチル、イタコン酸ジエチル、及びイタコン酸ジブチルなどが挙げられる。
【００７２】
（メタ）アクリルアミド類としては、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−エチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−プロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−イソプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ｎ−ブチルアクリル（メタ）アミド、Ｎ−ｔ−ブチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（２−メトキシエチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−フェニル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ベンジル（メタ）アクリルアミド、（メタ）アクリロイルモルホリン、ジアセトンアクリルアミドなどが挙げられる。
【００７３】
ビニルエーテル類の例としては、メチルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、ヘキシルビニルエーテル、及びメトキシエチルビニルエーテルなどが挙げられる。
スチレン類の例としては、スチレン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、イソプロピルスチレン、ブチルスチレン、ヒドロキシスチレン、α−メチルヒドロキシスチレン、メトキシスチレン、ブトキシスチレン、アセトキシスチレン、クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブロモスチレン、クロロメチルスチレン、酸性物質により脱保護可能な基（例えば、ｔ−Ｂｏｃなど）で保護されたヒドロキシスチレン、ビニル安息香酸、及びα−メチルヒドロキシスチレンなどが挙げられる。
【００７４】
また、その他の繰り返し単位（Ｂ３）としては、カルボンキシル基以外のいわゆる酸基と言われる基を有する繰り返し単位（例えば、リン酸基、スルホン酸基、フェノール性水酸基を有する繰り返し単位）を、現像性の調整のため、含むこともできる。
【００７５】
本発明における特定線状共重合体（Ｂ）は、感光性樹脂組成物の透明性、及び硬化膜の透明性の点から、その他の繰り返し単位（Ｂ３）として、脂肪族鎖状（メタ）アクリル酸エステル類に由来する繰り返し単位を含有することが好ましい。
この脂肪族鎖状（メタ）アクリル酸エステルに由来する繰り返し単位としては、以下に示すモノマーに由来するものを挙げることができる。
即ち、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ｎ−プロピル、（メタ）アクリル酸イソプロピル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸イソブチル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｎ−ヘキシル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸ｔ−オクチル、（メタ）アクリル酸ドデシル、（メタ）アクリル酸オクタデシル、（メタ）アクリル酸アセトキシエチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−メトキシエチル、（メタ）アクリル酸２−エトキシエチル、（メタ）アクリル酸２−（２−メトキシエトキシ）エチル、（メタ）アクリル酸グリシジル、（メタ）アクリル酸ジエチレングリコールモノメチルエーテル、（メタ）アクリル酸ジエチレングリコールモノエチルエーテル、（メタ）アクリル酸トリエチレングリコールモノメチルエーテル、（メタ）アクリル酸トリエチレングリコールモノエチルエーテル、（メタ）アクリル酸ポリエチレングリコールモノメチルエーテル、（メタ）アクリル酸ポリエチレングリコールモノエチルエーテル、（メタ）アクリル酸トリフロロエチル、（メタ）アクリル酸オクタフロロペンチル、（メタ）アクリル酸パーフロロオクチルエチルが挙げられる。これらの中でも、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチルが好ましい。
【００７６】
その他の繰り返し単位（Ｂ３）は、１種単独で構成されていてもよいし、２種以上で構成されていてもよい。
【００７７】
本発明における特定線状共重合体（Ｂ）中のその他の繰り返し単位（Ｂ３）の含有量は、感光性樹脂組成物を用いて形成される硬化膜の透明性、現像性に優れるといった点から、２モル％〜８０モル％が好ましく、５モル％〜７０モル％がより好ましく、１０モル％〜６０モル％が更に好ましい。
【００７８】
上述のような特定線状共重合体（Ｂ）は、重合した際に、少なくとも、繰り返し単位（Ｂ１−１）及び／又は（Ｂ１−２）を形成しうるモノマーと、必要に応じて、繰り返し単位（Ｂ２）や（Ｂ３）を形成しうるモノマーと、を（共）重合によって合成することができる。
【００７９】
以下、本発明に好適に使用しうる特定線状共重合体（Ｂ）の例示を挙げるが、本発明はこれに限定されるものではない。
なお、下記に例示した化合物の重量平均分子量は、３，０００〜４０，０００である。
【００８０】
【化４】
2010262259.tif 000006
【００８１】
【化５】
2010262259.tif 000007
【００８２】
【化６】
2010262259.tif 000008
【００８３】
【化７】
2010262259.tif 000009
【００８４】
本発明で用いる特定線状共重合体（Ｂ）は、分子量に特に制限はないが、アルカリ溶解速度、膜物性等の面で、重量平均分子量で、１，０００〜２００，０００が好ましく、２，０００〜１００，０００がより好ましく、３，０００〜５０，０００が特に好ましい。
【００８５】
本発明における特定線状共重合体（Ｂ）は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用して用いることもできる。
特定線状共重合体（Ｂ）の本発明の感光性樹脂組成物への添加量は、前述したアルカリ可溶性樹脂（Ａ）の総量を１００質量部としたとき、１質量部〜１００質量部が好ましく、３質量部〜８０質量部がより好ましい。添加量がこの範囲にあると、感光性樹脂組成物の現像性が良好となることに加え、これを用いて形成される硬化膜の耐溶剤性、耐熱性、及び絶縁性が優れたものとなる。
【００８６】
＜感光剤（Ｃ）＞
本発明の感光性樹脂組成物に使用する感光剤（Ｃ）は、露光により画像を形成する機能を感光性樹脂組成物に付与する、及び／又は、そのきっかけを与える化合物を指す。
具体的には、露光による酸を発生する化合物（光酸発生剤）（Ｃ１）や、感光性のキノンジアジド化合物（Ｃ２）、ジヒドロピリジン化合物（Ｃ３）を挙げることができる。
これら感光剤は１種を単独で使用してもよいし、２種以上を併用して用いることもできる。
また、感度調整のために、感光剤に、増感剤などを併用して用いることもできる。
以下、感光剤（Ｃ）として好適な光酸発生剤（Ｃ１）、及び感光性のキノンジアジド化合物（Ｃ２）について、詳細に説明する。
【００８７】
光酸発生剤（Ｃ１）
光酸発生剤としては、光カチオン重合の光開始剤、光ラジカル重合の光開始剤、色素類の光消色剤、光変色剤、マイクロレジスト等に使用されている活性光線又は放射線の照射により酸を発生する公知の化合物、或いはそれらの混合物を、適宜選択して使用することができる。
【００８８】
光酸発生剤として、具体的には、例えば、ジアゾニウム塩化合物、ホスホニウム塩化合物、スルホニウム塩化合物、ヨードニウム塩化合物、イミドスルホネート化合物、オキシムスルホネート化合物、ジアゾジスルホン化合物、ジスルホン化合物、ｏ−ニトロベンジルスルホネート化合物を挙げることができる。
光酸発生剤としては、発生酸として、ｐＫａが２以下と強い、スルホン酸や電子吸引基の置換したアルキル乃至はアリールカルボン酸、同じく電子吸引基の置換したジスルホニルイミドなどを発生させる化合物が好ましい。ここで、電子吸引基としては、Ｆ原子などのハロゲン原子、トリフルオロメチル基等のハロアルキル基、ニトロ基、シアノ基を挙げることができる。
【００８９】
また、光酸発生剤として、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する基、或いは化合物を樹脂の主鎖又は側鎖に導入した化合物、例えば、米国特許第３，８４９，１３７号明細書、独国特許第３９１４４０７号明細書、及び特開昭６３−２６６５３号、特開昭５５−１６４８２４号、特開昭６２−６９２６３号、特開昭６３−１４６０３８号、特開昭６３−１６３４５２号、特開昭６２−１５３８５３号、特開昭６３−１４６０２９号の各公報等に記載の化合物を用いることもできる。
【００９０】
更に、光酸発生剤として、米国特許第３，７７９，７７８号、欧州特許第１２６，７１２号等の各明細書に記載の光により酸を発生する化合物も使用することができる。
【００９１】
光酸発生剤の１つである、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物として好ましくは、下記一般式（ＺＩ）、（ＺII）、（ＺIII）で表される化合物を挙げることができる。
【００９２】
【化８】
2010262259.tif 000010
【００９３】
一般式（ＺＩ）〜（ＺIII）において、Ｒ２０１〜Ｒ２０７は、各々独立に有機基を表す。
Ｒ２０１〜Ｒ２０７の有機基の炭素数は、それぞれ１〜３０の範囲が好ましく、１〜２０の範囲がより好ましい。また、Ｒ２０１〜Ｒ２０７のうちの２つが結合して環構造を形成してもよく、その環内には、酸素原子、硫黄原子、エステル結合、アミド結合、カルボニル基を含んでいてもよい。なお、Ｒ２０１〜Ｒ２０３のうちの２つが結合して形成する基としては、アルキレン基（例えば、ブチレン基、ペンチレン基）が挙げられ、この基と硫黄原子とにより環構造が形成される。
【００９４】
Ｘ−は、非求核性アニオンを表し、好ましくは、スルホン酸アニオン、カルボン酸アニオン、ビス（アルキルスルホニル）アミドアニオン、トリス（アルキルスルホニル）メチドアニオン、ＢＦ４−、ＰＦ６−、ＳｂＦ６−などが挙げられ、その中でも、好ましくは炭素原子を有する有機アニオンである。
【００９５】
好ましい有機アニオンとしては、下記一般式に示す有機アニオンが挙げられる。
【００９６】
【化９】
2010262259.tif 000011
【００９７】
上記一般式において、Ｒｃ１は、有機基を表す。
Ｒｃ１における有機基としては、炭素数１〜３０のものが挙げられ、好ましくは、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいシクロアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、又はこれらの複数が、単結合、−Ｏ−、−ＣＯ２−、−Ｓ−、−ＳＯ３−、−ＳＯ２Ｎ（Ｒｄ１）−などの連結基で連結された基を挙げることができる。
Ｒｄ１は、水素原子又はアルキル基を表す。
Ｒｃ３、Ｒｃ４、及びＲｃ５は、各々独立に、有機基を表す。
Ｒｃ３、Ｒｃ４、及びＲｃ５の有機基としては、Ｒｃ１における好ましい有機基と同じものを挙げることができ、好ましくは、炭素数１〜４のパーフルオロアルキル基である。
Ｒｃ３とＲｃ４が結合して環構造を形成していてもよい。
Ｒｃ３とＲｃ４が結合して形成される基としては、アルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基が挙げられ、好ましくは、炭素数２〜４のパーフルオロアルキレン基である。
Ｒｃ１、及びＲｃ３〜Ｒｃ５の有機基として、好ましくは１位がフッ素原子又はフルオロアルキル基で置換されたアルキル基、フッ素原子又はフルオロアルキル基で置換されたフェニル基である。フッ素原子又はフルオロアルキル基を有することにより、光照射によって発生した酸の酸性度が上がり、感度が向上する。また、Ｒｃ３とＲｃ４が結合して環を形成すると、光照射によって発生した酸の酸性度が上がり、感度が向上するため、好ましい。
【００９８】
本発明においては、光酸発生剤としては、一般式（ＺＩ）で表される化合物において、Ｒ２０１〜Ｒ２０３の全てがアリール基である、トリアリールスルホニウム塩化合物が好ましい。
以下、光酸発生剤として好適なトリアリールスルホニウム塩化合物（以下、適宜、「トリアリールスルホニウム塩」と称する。）について説明する。
【００９９】
トリアリールスルホニウム塩の中でも、トリアリールスルホニウム塩のアリール基の少なくとも一つが電子吸引性基を置換基として有するものが好ましい。
ここで、電子吸引性基とは、ハメット値（Ｈａｍｍｅｔ置換基定数σ）が０より大きい置換基を意味する。
より好ましくは、トリアリールスルホニウム塩のアリール基に結合する置換基のハメット値の総和が０．１８より大きいことが好ましく、０．４６より大きいことがより好ましく、０．６０より大きいことが更に好ましい。
このハメット値は、トリアリールスルホニウム塩の構造内のカチオンの電子吸引性の程度を表すものであり、高感度化の観点からは特に上限値はないが、反応性と安定性との観点からは、０．４６を超え４．０未満であることが好ましく、より好ましくは０．５０を超え、３．５未満であり、特に好ましくは０．６０を超え３．０未満の範囲である。
なお、本発明におけるハメット値は、稲本直樹編、化学セミナー１０  ハメット則−構造と反応性−（１９８３年、丸善（株）発行）に記載の数値を用いている。
【０１００】
トリアリールスルホニウム塩中のアリール基に導入する電子吸引性基としては、トリフルオロメチル基、ハロゲン原子、エステル基、スルホキシド基、シアノ基、アミド基、カルボキシル基、カルボニル基等が挙げられる。
これらの置換基のハメット値を以下に示す通りである。
即ち、トリフルオロメチル基（−ＣＦ３、ｍ：０．４３、ｐ：０．５４）、ハロゲン原子〔例えば、−Ｆ（ｍ：０．３４、ｐ：０．０６）、−Ｃｌ（ｍ：０．３７、ｐ：０．２３）、−Ｂｒ（ｍ：０．３９、ｐ：０．２３）、−Ｉ（ｍ：０．３５、ｐ：０．１８）〕、エステル基（例えば、−ＣＯＣＨ３、ｏ：０．３７、ｐ：０．４５）、スルホキシド基（例えば、−ＳＯＣＨ３、ｍ：０．５２、ｐ：０．４５）、シアノ基（−ＣＮ、ｍ：０．５６、ｐ：０．６６）、アミド基（例えば、−ＮＨＣＯＣＨ３、ｍ：０．２１、ｐ：０．００）、カルボキシル基（−ＣＯＯＨ、ｍ：０．３７、ｐ：０．４５）、カルボニル基（−ＣＨＯ、ｍ：０．３６、ｐ：（０４３））である。
なお、括弧内は、その置換基のアリール基に対する導入位置と、そのハメット値を表し、例えば、（ｍ：０．５０）とは、当該置換基がアリール基のメタ位に導入された時のハメット値が０．５０であることを示す。
【０１０１】
これらの置換基の中でも、疎水性の観点から、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基等の非イオン性の置換基が好ましいものとして挙げられ、中でも特に、反応性の観点からは、−Ｃｌが好ましく、疎水性を与えるという観点からは、−Ｆ、−ＣＦ３、−Ｃｌ、−Ｂｒが好ましい。
【０１０２】
前述のように、置換基のハメット値は導入される位置によって異なるため、トリアリールスルホニウム塩におけるハメット値の総和は、置換基の種類、導入位置、導入数により確定されることになる。
なお、ハメット値は、通常、ｍ位、ｐ位で表されるが、本発明においては、電子吸引性の指標として、ｏ位での置換基効果はｐ位と同値として計算する。好ましい置換位置としては、合成上の観点からｍ位、ｐ位が好ましく、ｐ位が最も好ましい。
【０１０３】
上述のように、トリアリールスルホニウム塩中のアリール基への置換基の導入数は、任意である。例えば、上記した置換基は、トリアリールスルホニウム塩の３つのアリール基のいずれか一つに導入されていてもよく、２以上のアリール基に導入されていてもよい。また、３つのアリール基のそれぞれに導入される置換基は、１つでも複数でもよい。
より具体的には、上記した置換基は、前述のハメット値の総和の好ましい値に応じて、任意に導入されればよい。例えば、ハメット値の総和を０．４６より大きい物とするためには、トリアリールスルホニウム塩のアリール基の１つに特にハメット値の大きい（例えば、ハメット値が単独で０．４６を超える）置換基を１つだけ導入していてもよいし、複数の置換基を１つ〜３つのアリール基に導入してハメット値の総和が０．４６を超えるようにしてもよい。
【０１０４】
本発明において好ましいのは、ハロゲン原子により３置換以上されているトリアリールスルホニウム塩であり、より好ましいのは、−Ｃｌにより３置換されているトリアリールスルホニウム塩であり、特に好ましいのは、３つのアリール基のそれぞれにハロゲン原子（好ましくは−Ｃｌ）が導入されたトリアリールスルホニウム塩であり、最も好ましいのは、３つのアリール基のｐ位にそれぞれに−Ｃｌが置換されているトリアリールスルホニウム塩である。
【０１０５】
また、本発明に用いられるトリアリールスルホニウム塩は、スルホン酸アニオンを有することが好ましい。
このスルホン酸アニオンとしては、例えば、アリールスルホン酸アニオン、アルカンスルホン酸アニオンなどが挙げられ、フッ素原子又はフッ素原子を有する有機基で置換されているスルホン酸アニオンが好ましい。
【０１０６】
トリアリールスルホニウム塩は、例えば、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．第１１２巻（１６）、１９９０年；ｐｐ．６００４−６０１５、Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．１９８８年；ｐｐ．５５７１−５５７３、ＷＯ０２／０８１４３９Ａ１パンフレット、或いは欧州特許（ＥＰ）第１１１３００５号明細書等に記載の方法により容易に合成することが可能である。
【０１０７】
以下に、光酸発生剤として好適なトリアリールスルホニウム塩の具体例を挙げるが、これらに限定されるものではない。
【０１０８】
【化１０】
2010262259.tif 000012
【０１０９】
【化１１】
2010262259.tif 000013
【０１１０】
また、本発明における光酸発生剤としては、スルホン酸を発生する化合物である、イミドスルホネート化合物、オキシムスルホネート化合物、ｏ−ニトロベンジルスルホネート化合物を好ましいものとして挙げることができる。
Ｎ−ヒドロキシイミドスルホネート化合物としては、以下の一般式（ＰＡ−５）で表される化合物を挙げることができる。
【０１１１】
【化１２】
2010262259.tif 000014
【０１１２】
式（ＰＡ−５）中、Ｃ１（炭素原子）とＣ２（炭素原子）間は単結合或いは二重結合で結合され、Ｒ５１及びＲ５２は下記（１）〜（３）のいずれかの態様を表し、Ｒ５３は、アルキル基、ハロゲン化アルキル基、環状アルキル基、アルケニル基、置換基を有してよいアリール基、置換基を有してよいアラルキル基、又は樟脳基を表す。
（１）それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基である態様
（２）Ｃ１及びＣ２と共にヘテロ原子を含んでよい環構造（単環、多環を含む）を形成する態様
（３）上記（１）の態様におけるアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、又は、上記（２）の態様で形成される環構造に、Ｎ−スルフォニルオキシイミドを含む残基が結合する態様
【０１１３】
一般式（ＰＡ−５）における、Ｒ５１及びＲ５２が（１）の態様である場合、アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基の様な炭素数１〜４個のアルキル基が挙げられる。
シクロアルキル基としては、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロオクチル基等炭素数３〜８個のものが挙げられる。
アリール基としては、フェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、ナフチル基のような炭素数６〜１４個のものが挙げられる。
【０１１４】
また、Ｒ５１及びＲ５２が（２）の態様である場合、Ｒ５１、Ｒ５２、Ｃ１、及びＣ２で形成される環構造としては、例えば、以下のようなものが挙げられる。
【０１１５】
【化１３】
2010262259.tif 000015
【０１１６】
【化１４】
2010262259.tif 000016
【０１１７】
また、Ｒ５１及びＲ５２が（３）の態様である場合、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、又は環構造には、単結合、若しくは、連結基を介して、Ｎ−スルフォニルオキシイミドを含む残基が結合していることが好ましい。
ここで、連結基としては、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、−ＮＨ−、−ＣＯ−、−ＣＯ２−、−ＮＨＳＯ２−、−ＮＨＣＯ−、−ＮＨＣＯ２−、又はこれらを２つ以上組み合わせてなる２価の基が挙げられる。
【０１１８】
Ｒ５３で表されるアルキル基としては、炭素数１〜２０個の直鎖或いは分岐のアルキル基を挙げることができる。好ましくは、炭素数１〜１６の直鎖或いは分岐のアルキル基であり、更に好ましくは炭素数１〜１２のものである。炭素数が２１個以上のアルキル基の場合、感度、解像力が低下するため好ましくない。
Ｒ５３で表されるハロゲン化アルキル基としては、上記アルキル基の１つ或いは２つ以上の水素原子がハロゲン化されたものを挙げることができる。置換するハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子を挙げることができ、好ましくは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子であり、特に好ましくは、フッ素原子である。但し、置換するハロゲン原子は一分子当たり複数の種類であってもよい。
Ｒ５３で表される環状アルキル基としては、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロオクチル基等の炭素数３〜１２個のシクロアルキル基や、ノルボルニル基、アダマンチル基、トリシクロデカニル基等の多環状アルキル基を挙げることができる。
Ｒ５３で表されるアルケニル基としては、炭素数１〜２０個の直鎖或いは分岐のアルケニル基を挙げることができる。好ましくは、炭素数１〜１６個の直鎖或いは分岐のアルケニル基であり、更に好ましくは、炭素数１〜１２個のものである。炭素数が２１個以上のアルケニル基の場合、感度、解像力が低下するため好ましくない。
【０１１９】
Ｒ５３で表されるアリール基としては、フェニル基、ナフチル基を挙げることができる。
Ｒ５３で表されるアラルキル基としてはベンジル基を挙げることができる。
上記アリール基及びアラルキル基は置換基を有していてもよく、この置換基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等の低級アルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基、フェニル基、トルイル基、キシリル基、メシチル基等のアリール基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基等の低級アルコキシ基、ビニル基、アリル基、プロペニル基、ブテニル基等のアルケニル基、ホルミル基、アセチル基等のアシル基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、シアノ基、ニトロ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子を挙げることができる。好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等の低級アルキル基、シクロヘキシル基、フェニル基、トルイル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基等の低級アルコキシ基、シアノ基、ニトロ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子である。
なお、アリール基、アラルキル基に導入される置換基は、２種類以上であっても構わない。
【０１２０】
以下に、一般式（ＰＡ−５）で表される化合物の具体例を示すが、これらに限定されるものではない。
【０１２１】
【化１５】
2010262259.tif 000017
【０１２２】
【化１６】
2010262259.tif 000018
【０１２３】
【化１７】
2010262259.tif 000019
【０１２４】
【化１８】
2010262259.tif 000020
【０１２５】
【化１９】
2010262259.tif 000021
【０１２６】
【化２０】
2010262259.tif 000022
【０１２７】
光酸発生剤として好ましいオキシムスルホネート化合物としては、以下の一般式（ＰＡ−６）で表される化合物を挙げることができる。
【０１２８】
【化２１】
2010262259.tif 000023
【０１２９】
一般式（ＰＡ−６）中、Ｒ６１及びＲ６２は、それぞれ独立に、炭素数１〜１６のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、アリール基、ヘテロアリール基、又はシアノ基、を表す。また、Ｒ６１及びＲ６２は、炭素数２〜８のアルキレン鎖、アルケニレン鎖、アルキニリン鎖、フェニレン、フリーレン、チエニレン、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｎ−、又は−ＣＯ−を含む連結鎖を介して、別の一般式（ＰＡ−６）で表される化合物のＲ６１又はＲ６２と結合していてもよい。
Ｒ６３は、炭素数１〜１６のアルキル基、シクロアルキル基、又はアリール基を表す。
【０１３０】
Ｒ６１〜Ｒ６３における炭素数１〜１６のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ｉ−プロピル基、ブチル基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｔ−アミル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｉ−オクチル基、ｎ−デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、ヘキサデシル基等のアルキル基、トリフルオロメチル基、ペルフルオロプロピル基、ペルフルオロブチル基、ペルフルオロ−ｔ−ブチル基、ペルフルオロオクチル基、ペルフルオロウンデシル基、１，１−ビストリフルオロメチルエチル基等が挙げられる。
【０１３１】
Ｒ６１及びＲ６２におけるアルケニル基としては、アリル基、メタリル基、ビニル基、メチルアリル基、１−ブテニル基、３−ブテニル基、２−ブテニル基、１，３−ペンタジエニル基、５−ヘキセニル基、２−オキソ−３−ペンテニル基、デカペンタエニル基、７−オクテニル基等が挙げられる。
【０１３２】
Ｒ６１及びＲ６２におけるアルキニル基としては、エチニル基、プロパルギル基、２−ブチニル基、４−ヘキシニル基、２−オクチニル基、フェニルエチニル基、シクロヘキシルエチニル基等が挙げられる。
【０１３３】
Ｒ６１〜Ｒ６３におけるシクロアルキル基としては、置換基を有していてもよい、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基のような炭素数３〜８個のものが挙げられる。
【０１３４】
Ｒ６１及びＲ６２におけるシクロアルケニル基としては、シクロブテニル基、シクロヘキセニル基、シクロペンタジエニル基、ビシクロ〔４．２．４〕ドデカ−３，７−ジエン−５−イル基等が挙げられる。
【０１３５】
Ｒ６１〜Ｒ６３におけるアリール基としては、フェニル基、トリル基、メトキシフェニル基、ナフチル基のような炭素数６〜１４のものが挙げられる。
【０１３６】
上述した各基は、更に置換基を有していてもよい。その置換基としては、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、沃素原子）、シアノ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、ニトロ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アラルキル基、下記式（１Ａ）で示される基等が挙げられる。
ここで、アルキル基、シクロアルキル基は、Ｒ６１及びＲ６２におけるアルキル基、シクロアルキル基として挙げたものと同義である。アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、ヒドロキシエトキシ基、プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基のような炭素数１〜４個のものが挙げられる。また、アラルキル基としては、ベンジル基、ナフチルメチル基、フリル基、チエニル基などが挙げられる。
【０１３７】
【化２２】
2010262259.tif 000024
【０１３８】
上記式（１Ａ）中、Ｒ６１及びＲ６２は、前記一般式（ＰＡ−６）中のＲ６１及びＲ６２と同義である。
【０１３９】
一般式（ＰＡ−６）で表される化合物の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１４０】
【化２３】
2010262259.tif 000025
【０１４１】
【化２４】
2010262259.tif 000026
【０１４２】
より好ましいオキシムスルホネート化合物の具体例としては、下記（ｚ６６）〜（ｚ７０）が挙げられる。
【０１４３】
【化２５】
2010262259.tif 000027
【０１４４】
光酸発生剤として好ましいｏ−ニトロベンジルスルホネート化合物としては、下記一般式（ＴＡ−９）で表される化合物を挙げることができる。
【０１４５】
【化２６】
2010262259.tif 000028
【０１４６】
一般式（ＴＡ−９）中、Ｚは、炭素数１〜３０のアルキル基、アリール基、アルキルアリール基、炭素数１〜３０のハロゲン置換されたアルキル基、ハロゲン置換されたアリール基、ハロゲン置換されたアルキルアリール基、炭素数６〜３０のニトロ置換されたアリール基、ニトロ置換されたアルキルアリール基、炭素数６〜３０のニトロ基とハロゲン基とを有するアリール基、ニトロ基とハロゲン基とを有するアルキルアリール基、及び、式Ｃ６Ｈ４ＳＯ３ＣＨＲ’Ｃ６Ｈ４−ｍＱｍ（ＮＯ）２を有する基（Ｒ’は、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、又は炭素数１〜４のアシル基）から選ばれる。Ｒ９は、水素原子、メチル基、及び炭素数６〜３０のニトロ置換されたアリール基から選ばれ、Ｑは、炭素数１〜３０の炭化水素基、ヒドロカルボノキシ基、−ＮＯ２、ハロゲン原子、及び有機ケイ素基から選択される。但し、Ｑは酸性の基ではない。ｍの値は０、１又は２であり、ｍが２の場合、２つのＱは同じものであってもよいし、異なったものでもよい。
【０１４７】
一般式（ＴＡ−９）で表される化合物の具体例としては、例えば、以下の化合物を挙げることができる。
【０１４８】
【化２７】
2010262259.tif 000029
【０１４９】
〔感光性のキノンジアジド化合物（Ｃ２）〕
感光性のキノンジアジド化合物（Ｃ２）としては、１，２−キノンジアジド化合物が挙げられる。
この１，２−キノンジアジド化合物は、例えば、１，２−キノンジアジドスルホニルクロリド類と、ヒドロキシ化合物、アミノ化合物などと、を脱塩酸剤の存在下で縮合反応させることで得られる。
【０１５０】
前記１，２−キノンジアジドスルホニルクロリド類としては、例えば、ベンゾキノン−１，２−ジアジド−４−スルホニルクロリド、ナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホニルクロリド、ナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホニルクロリド等が使用できるが、感度の点では、ナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホニルクロリドの使用が好ましい。
【０１５１】
前記ヒドロキシ化合物としては、例えば、ヒドロキノン、レゾルシノール、ピロガロール、ビスフェノールＡ、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン、２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４，２’，３’−ペンタヒドロキシベンゾフェノン，２，３，４，３’，４’，５’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノン、ビス（２，３，４−トリヒドロキシフェニル）メタン、ビス（２，３，４−トリヒドロキシフェニル）プロパン、４ｂ，５，９ｂ，１０−テトラヒドロ−１，３，６，８−テトラヒドロキシ−５，１０−ジメチルインデノ［２，１−ａ］インデン、トリス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、トリス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、４，４’−［１−［４−［１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル］フェニル］−エチリデン］ビスフェノールなどが使用できる。
【０１５２】
前記アミノ化合物としては、例えば、ｐ−フェニレンジアミン、ｍ−フェニレンジアミン、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノジフェニルスルホン、４，４’−ジアミノジフェニルスルフィド、ｏ−アミノフェノール、ｍ−アミノフェノール、ｐ−アミノフェノール、３，３’−ジアミノ４，４’−ジヒドロキシビフェニル、４，４’−ジアミノ３，３’−ジヒドロキシビフェニル、ビス（３−アミノ４−ヒドロキシフェニル）プロパン、ビス（４−アミノ３−ヒドロキシフェニル）プロパン、ビス（３−アミノ４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（４−アミノ３−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（３−アミノ４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン、ビス（４−アミノ３−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパンなどが使用できる。
【０１５３】
１，２−キノンジアジド化合物の合成の際には、１，２−キノンジアジドスルホニルクロリドと、ヒドロキシ化合物及び／又はアミノ化合物と、は、１，２−キノンジアジドスルホニルクロリド１モルに対して、ヒドロキシ基とアミノ基の合計が０．５〜１当量になるように配合されることが好ましい。脱塩酸剤とｏ−キノンジアジドスルホニルクロリドの好ましい割合は、１／１〜１／０．９の範囲である。好ましい反応温度は０〜４０℃、好ましい反応時間は１〜２４時間とされる。
【０１５４】
反応溶媒としては、ジオキサン、１，３−ジオキソラン、アセトン、メチルエチルケトン、テトラヒドロフラン、クロロホルム、Ｎ−メチルピロリドン、γ−ブチロラクトン等の溶媒が用いられる。脱塩酸剤としては、炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化カリウム、トリメチルアミン、トリエチルアミン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジンなどが挙げられる。
【０１５５】
１，２−キノンジアジド化合物としては、例えば、以下の構造を有する化合物を挙げることができる。
【０１５６】
【化２８】
2010262259.tif 000030
【０１５７】
【化２９】
2010262259.tif 000031
【０１５８】
【化３０】
2010262259.tif 000032
【０１５９】
【化３１】
2010262259.tif 000033
【０１６０】
【化３２】
2010262259.tif 000034
【０１６１】
上記構造中、Ｄは、Ｈ、又は下記に示す群から選択される１つの基である。
【０１６２】
【化３３】
2010262259.tif 000035
【０１６３】
但し、上記構造中、少なくとも１つのＤが、上記のキノンジアジド基であればよい。
【０１６４】
本発明においては、１，２−キノンジアジド化合物の中でも、１，２−ナフトキノンジアジド基を有する化合物が好ましい。感光剤（Ｃ）として、１，２−ナフトキノンジアジド基を有する化合物を用いると高感度で現像性が良好となる。
【０１６５】
１，２−ナフトキノンジアジド基を有する化合物の中でも、以下の構造を有する化合物が特に高感度であることから好ましく使用することができる。
【０１６６】
【化３４】
2010262259.tif 000036
【０１６７】
本発明の感光性樹脂組成物において、感光剤（Ｃ）の配合量は、露光部と未露光部の溶解速度差と、感度の許容幅の点から、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）の総量を１００質量部としたとき、１質量部〜１００質量部が好ましく、３質量部〜８０質量部がより好ましい。
感光剤（Ｃ）としては、１種単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができ、また、光酸発生剤（Ｃ１）と、感光性のキノンジアジド化合物（Ｃ２）（１，２−キノンジアジド化合物）と、を併用してもよい。
【０１６８】
〔増感剤〕
本発明の感光性樹脂組成物において、感光剤（Ｃ）の１つであるスルホニウム塩化合物との組み合わせにおいて、その分解を促進させるために増感剤を添加することが好ましい。
増感剤は、活性光線又は放射線を吸収して電子励起状態となる。電子励起状態となった増感剤は、スルホニウム塩化合物と接触して、電子移動、エネルギー移動、発熱などの作用が生じる。これにより重合開始剤は化学変化を起こして分解し、ラジカル、酸或いは塩基を生成する。
好ましい増感剤の例としては、以下の化合物類に属しており、かつ、３５０ｎｍから４５０ｎｍ域に吸収波長を有する化合物を挙げることができる。
即ち、多核芳香族類（例えば、ピレン、ペリレン、トリフェニレン、アントラセン）、キサンテン類（例えば、フルオレッセイン、エオシン、エリスロシン、ローダミンＢ、ローズベンガル）、シアニン類（例えば、チアカルボシアニン、オキサカルボシアニン）、メロシアニン類（例えば、メロシアニン、カルボメロシアニン）、チアジン類（例えば、チオニン、メチレンブルー、トルイジンブルー）、アクリジン類（例えば、アクリジンオレンジ、クロロフラビン、アクリフラビン）、アントラキノン類（例えば、アントラキノン）、スクアリウム類（例えば、スクアリウム）、クマリン類（例えば、７−ジエチルアミノ４−メチルクマリン）が挙げられる。
中でも、増感剤として、特にアントラセン誘導体が好ましい。
【０１６９】
増感剤の好ましい具体例としては、以下に示す（Ｃ−１）〜（Ｃ−２６）が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【０１７０】
【化３５】
2010262259.tif 000037
【０１７１】
【化３６】
2010262259.tif 000038
【０１７２】
【化３７】
2010262259.tif 000039
【０１７３】
【化３８】
2010262259.tif 000040
【０１７４】
上述のような増感剤は、市販のものを用いてもよいし、公知の合成方法により合成してもよい。
【０１７５】
増感剤の添加量は、感光剤１００質量部に対して、２０〜２００質量部が好ましく、３０〜１５０質量部がより好ましい。
【０１７６】
本発明の感光性樹脂組成物は、上述の（Ａ）〜（Ｃ）成分の他に、熱ラジカル発生剤、密着促進剤、酸化防止剤、熱酸発生剤、架橋剤、塩基性化合物、界面活性剤、溶剤などの任意成分を更に含んでいてもよい。
以下、任意成分について説明する。
【０１７７】
＜熱ラジカル発生剤＞
本発明の感光性樹脂組成物は、熱ラジカル発生剤を含んでいてもよい。
本発明における熱ラジカル発生剤としては感光剤（Ｃ）とは異なる構造であって、一般にラジカル発生剤として知られているものを用いることができる。熱ラジカル発生剤は、熱のエネルギーによってラジカルを発生し、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）などの重合性化合物と重合反応を開始、促進させる化合物である。熱ラジカル発生剤を添加することによって、得られた硬化膜がより強靭になり、耐熱性、耐溶剤性が向上する。
【０１７８】
以下、熱ラジカル発生剤について詳述するが、本発明はこれらの記述により制限を受けるものではない。
本発明において、好ましい熱ラジカル発生剤としては、芳香族ケトン類、オニウム塩化合物、有機過酸化物、チオ化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、ケトオキシムエステル化合物、ボレート化合物、アジニウム化合物、メタロセン化合物、活性エステル化合物、炭素ハロゲン結合を有する化合物、アゾ系化合物、ビベンジル化合物等が挙げられる。
本発明においては、得られた硬化膜の耐熱性、耐溶剤性の観点から、有機過酸化物、アゾ系化合物、ビベンジル化合物がより好ましく、ビベンジル化合物が特に好ましい。
以下に、上記した熱ラジカル発生剤の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１７９】
これらの有機過酸化物の具体例としては、パーロイルＬ、パーオクタＯ、パーロイルＳＡ、パーヘキサ２５Ｏ、パーヘキシルＯ、ナイパーＢＭＴ、ナイパーＢＷ、パーヘキサＭＣ、パーヘキサＴＭＨ、パーヘキサＨＣ、パーヘキサＣ、パーテトラＡ、パーヘキシルＩ、パーブチルＭＡ、パーブチル３５５、パーブチルＬ、パーブチルＩ、パーブチルＥ、パーヘキシルＺ、パーヘキサ２５Ｚ、パーブチルＡ、パーヘキサ２２、パーブチルＺ、パーヘキサＶ、パーブチルＰ、パークミルＤ、パーヘキシルＤ、パーヘキサ２５Ｂ、パーブチルＣ（以上、日油株式会社製）等が挙げられる。
【０１８０】
また、アゾ系化合物としては、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビスプロピオニトリル、１，１’−アゾビス（シクロヘキサン−１−カルボニトリル）、２，２’−アゾビス（２−メチルブチロニトリル）、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス（４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル）、４，４’−アゾビス（４−シアノ吉草酸）、２，２’−アゾビスイソ酪酸ジメチル、２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオンアミドオキシム）、２，２’−アゾビス［２−（２−イミダゾリン−２−イル）プロパン］、２，２’−アゾビス｛２−メチル−Ｎ−［１，１−ビス（ヒドロキシメチル）−２−ヒドロキシエチル］プロピオンアミド｝、２，２’−アゾビス［２−メチル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）プロピオンアミド］、２，２’−アゾビス（Ｎ−ブチル−２−メチルプロピオンアミド）、２，２’−アゾビス（Ｎ−シクロヘキシル−２−メチルプロピオンアミド）、２，２’−アゾビス［Ｎ−（２−プロペニル）−２−メチルプロピオンアミド］、２，２’−アゾビス（２，４，４−トリメチルペンタン）等が挙げられる。
【０１８１】
また、ビベンジル化合物としては、下記一般式（１）で表される化合物が好ましい。
【０１８２】
【化３９】
2010262259.tif 000041
【０１８３】
上記一般式（１）中、複数存在するＲ３は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数が１〜２０の炭化水素基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜２０のアルコキシル基、又はハロゲン原子を表す。
【０１８４】
一般式（１）で表される化合物として、具体的には、２、３−ジメチル−２、３−ジフェニルブタン、α、α’−ジメトキシ−α、α’−ジフェニルビベンジル、α、α’−ジフェニル−α−メトキシビベンジル、α、α’−ジメトキシ−α、α’ジメチルビベンジル、α、α’−ジメトキシビベンジル、３、４−ジメチル−３、４−ジフェニル−ｎ−ヘキサン、２、２、３、３−テトラフェニルコハク酸ニトリル、ジベンジルなどを挙げることができる。
【０１８５】
本発明に用いる熱ラジカル発生剤として好ましくは、１０時間半減期温度が１００℃以上２３０℃以下の範囲の化合物であり、より好ましくは１２０℃以上２２０℃以下の化合物である。
１０時間半減期温度がこの温度範囲にあることによって、優れた特性の硬化膜を得ることができる。
熱ラジカル発生剤の１０時間半減期温度とは、特定温度下にて１０時間放置した場合において、測定する化合物の半量が分解し、ラジカルを発生する温度のことをいう。
【０１８６】
１０時間半減期温度が１００℃以上２３０℃以下の範囲の化合物としては、上記した化合物のうち、日油株式会社製の、パーブチルＡ、パーヘキサ２２、パーブチルＺ、パーヘキサＶ、パーブチルＰ、パークミルＤ、パーヘキシルＤ、パーヘキサ２５Ｂ、パーブチルＣ、ノフマーＢＣ−９０（２、３−ジメチル−２、３−ジフェニルブタン）などが挙げられ、これらが、本発明に用いる熱ラジカル発生剤として好ましいものである。
理由は明らかではないが、より高温で分解しラジカルを発生する熱ラジカル発生剤が好ましく、得られた硬化膜の耐熱性、耐溶剤性が良好となる。
【０１８７】
本発明における熱ラジカル発生剤は、１種を単独で用いてもよいし、２種以上を併用することも可能である。
熱ラジカル発生剤の本発明の感光性樹脂組成物への添加量は、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）を１００質量部としたとき、０．１質量部〜１００質量部が好ましく、更に好ましくは１質量部〜５０質量部、５質量部〜３０質量部であることが膜物性向上の観点から最も好ましい。
【０１８８】
＜密着促進剤＞
本発明の感光性樹脂組成物は、更に、密着促進剤を含有してもよい。
本発明に用いられる密着促進剤としては、硬化膜を形成する際の基板となる無機物、例えば、シリコン、酸化シリコン、窒化シリコン等のシリコン化合物、金、銅、アルミニウム等の金属と当該硬化膜との密着性を向上させる化合物である。
具体的には、シランカップリング剤、チオール系化合物等が挙げられる。
【０１８９】
本発明で使用される密着促進剤としてのシランカップリング剤は、界面の改質を目的とするものであり、特に限定することなく、公知のものを使用することができる。
好ましいシランカップリング剤としては、例えば、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリアコキシシラン、γ−グリシドキシプロピルアルキルジアルコキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリアルコキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルアルキルジアルコキシシラン、γ−クロロプロピルトリアルコキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリアルコキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリアルコキシシラン、ビニルトリアルコキシシランが挙げられる。
中でも、γ−グリシドキシプロピルトリアルコキシシランやγ−メタクリロキシプロピルトリアルコキシシランがより好ましく、γ−グリシドキシプロピルトリアルコキシシランが更により好ましい。
【０１９０】
密着促進剤は単独或いは２種以上を組合わせて使用することができる。また、密着促進剤は基板との密着性向上に有効であると共に、基板とのテーパー角の調整にも有効である。
密着促進剤は、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）１００質量部に対して、０．１質量部〜２０質量部が好ましく、０．５質量部〜１０質量部がより好ましい。
【０１９１】
＜酸化防止剤＞
本発明の感光性樹脂組成物には、公知の酸化防止剤を含めることができる。
酸化防止剤を添加することにより、硬化膜の着色を防止できる、又は、分解による硬化膜の膜厚減少を低減できるという利点がある。
このような酸化防止剤としては、リン系酸化防止剤、ヒドラジド類、ヒンダードアミン系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤、フェノール系酸化防止剤、アスコルビン酸類、硫酸亜鉛、糖類、亜硝酸塩、亜硫酸塩、チオ硫酸塩、ヒドロキシルアミン誘導体などを挙げることができる。この中では、特にフェノール系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤が硬化膜の着色、膜厚減少の観点で好ましい。これらは単独で用いてもよいし、混合して用いてもよい。
フェノール系酸化防止剤の市販品としては、例えば、アデカスタブＡＯ−６０（ＡＤＥＫＡ製）、アデカスタブＡＯ−８０（ＡＤＥＫＡ製）、商品名イルガノックス１０９８（チバジャパン製）が、挙げられる。
【０１９２】
酸化防止剤の含有量は、感光性樹脂組成物の全固形分に対して、０．１質量％〜６質量％であることが好ましく、０．２質量％〜５質量％であることがより好ましく、０．５質量％〜４質量％が最適である。この範囲にすることで、形成された硬化膜の十分な透明性が得られ、且つ、パターン形成時に十分な感度が発現される。
【０１９３】
また、酸化防止剤以外の添加剤として、“高分子添加剤の新展開（日刊工業新聞社）”に記載の各種紫外線吸収剤や、金属不活性化剤等を本発明の感光性樹脂組成物に添加してもよい。
【０１９４】
＜熱酸発生剤＞
また、低温硬化の際の硬化膜の物性を改良するために、本発明の感光性樹脂組成物に熱酸発生剤を使用してもよい。
ここで、熱酸発生剤とは、熱により酸が発生する化合物であり、通常、熱分解点が１３０℃〜２５０℃、好ましくは１５０℃〜２２０℃の範囲の化合物であり、例えば、加熱により、スルホン酸、カルボン酸、ジスルホニルイミドなどの低求核性の酸を発生する化合物である。
熱酸発生剤から発生する酸としては、ｐＫａが２以下と強い、スルホン酸や電子吸引基の置換したアルキル乃至はアリールカルボン酸、同じく電子吸引基の置換したジスルホニルイミドなどが好ましい。電子吸引基としては、Ｆ原子などのハロゲン原子、トリフルオロメチル基等のハロアルキル基、ニトロ基、シアノ基を挙げることができる。
本発明においては、熱酸発生剤として、前述した、露光により酸を発生する光酸発生剤（Ｃ１）をもちいてもよい。例えば、スルホニウム塩やヨードニウム塩等のオニウム塩、Ｎ−ヒドロキシイミドスルホネート化合物、オキシムスルホネート、ｏ−ニトロベンジルスルホネート等を挙げることができる。中でもＮ−ヒドロキシイミドスルホネート化合物、オキシムスルホネート、ｏ−ニトロベンジルスルホネートが好ましい。
【０１９５】
また、本発明においては、熱酸発生剤として、露光によって実質的に酸を発生せず、熱によって酸を発生するスルホン酸エステルを使用することが好ましい。
露光によって実質的に酸を発生していないことは、化合物の露光前後で、ＩＲスペクトル、ＮＭＲスペクトルを測定した際、測定されたスペクトルに変化がないことで判定することができる。
スルホン酸エステルの重量平均分子量（Ｍｗ）は、一般的には２３０〜１０００、好ましくは２３０〜８００である。
本発明では、例えば、下記一般式（ＴＡ−１０）で表されるスルホン酸エステルを挙げることができる。
【０１９６】
【化４０】
2010262259.tif 000042
【０１９７】
一般式（ＴＡ−１０）において、Ｒ１３及びＲ１４は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素数１〜１０の直鎖、分岐、或いは環状のアルキル基、又は置換を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基を示す。導入される置換基としては、水酸基、ハロゲン原子、シアノ基、ビニル基、アセチレン基炭素数１〜１０の直鎖又は環状のアルキル基が挙げられる。
スルホン酸エステルの好ましい具体例として下記が挙げられる。
【０１９８】
【化４１】
2010262259.tif 000043
【０１９９】
本発明におけるスルホン酸エステルとしては、下記一般式（ＴＡ−２０）で表される化合物が、耐熱性の点でより好ましく使用できる。
【０２００】
【化４２】
2010262259.tif 000044
【０２０１】
一般式（ＴＡ−２０）において、Ａは、ｍ３価の連結基を表し、ｍ３は、２〜８の整数を表す。Ｒ１６は、アルキル基、アリール基、アラルキル基、又は環状アルキル基を表し、Ｒ１５は、水素原子、アルキル基、又はアラルキル基を表す。
【０２０２】
一般式（ＴＡ−２０）において、Ａとしてのｍ３価の連結基は、例えば、アルキレン基（例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基等）、シクロアルキレン基（例えば、シクロへキシレン基、シクロペンチレン基等）、アリーレン基（例えば、１，２−フェニレン基、１，３−フェニレン基、１，４−フェニレン基、ナフチレン基等）、エーテル基、カルボニル基、エステル基、アミド基、及びこれらの基を組み合わせた基などの２価の基の任意の水素原子を（ｍ３−２）個除いたｍ３価の基が挙げられる。Ａとしての連結基の炭素数は一般的に１〜１５であり、１〜１０であることが好ましく、１〜６であることが更に好ましい。
【０２０３】
一般式（ＴＡ−２０）において、Ｒ１５及びＲ１６のアルキル基としては、一般的には、炭素数１〜２０のアルキル基であり、好ましくは炭素数１〜１５のアルキル基、更に好ましくは炭素数１〜８のアルキル基である。具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基等を挙げることができる。
また、Ｒ１５及びＲ１６のアラルキル基としては、一般的には炭素数７〜２５のアラルキル基であり、好ましくは炭素数７〜２０のアラルキル基、更に好ましくは炭素数７〜１５のアラルキル基である。具体的には、ベンジル基、トルイルメチル基、メシチルメチル基、フェネチル基等を挙げることができる。
Ｒ１６の環状アルキル基としては、一般的には炭素数３〜２０の環状アルキル基であり、好ましくは炭素数４〜２０の環状アルキル基、更に好ましくは炭素数５〜１５の環状アルキル基である。具体的には、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、ノルボルニル基、樟脳基等を挙げることができる。
【０２０４】
一般式（ＴＡ−２０）において、Ａとしての連結基は、更に置換基を有していてもよく、置換基としては、アルキル基（炭素数１〜１０のアルキル基であり、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基等）、アラルキル基（炭素数７〜１５のアラルキル基であり、具体的には、ベンジル基、トルイルメチル基、メシチルメチル基、フェネチル基等）、アリール基（炭素数６〜１０のアリール基であり、具体的には、フェニル基、トルイル基、キシリル基、メシチル基、ナフチル基等）、アルコキシ基（アルコキシ基は、直鎖、分岐、及び環状のいずれであってもよい、炭素数１〜１０のアルコキシ基であり、具体的には、メトキシ基、エトキシ基、直鎖又は分岐プロポキシ基、直鎖又は分岐ブトキシ基、直鎖又は分岐ペントキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等）、アリールオキシ基（炭素数６〜１０のアリールオキシ基であり、具体的には、フェノキシ基、トルイルオキシ基、１−ナフトキシ基等）、アルキルチオ基（直鎖、分岐、及び環状のいずれであってもよい、炭素数１〜１０のアルキルチオ基であり、具体的には、メチルチオ基、エチルチオ基、直鎖又は分岐プロピルチオ基、シクロペンチルチオ基、シクロヘキシルチオ基等）、アリールチオ基（炭素数６〜１０のアリールチオ基であり、具体的には、フェニルチオ基、トルイルチオ基、１−ナフチルチオ基等）、アシルオキシ基（炭素数２〜１０のアシルオキシ基で、具体的には、アセトキシ基、プロパノイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基等）、アルコキシカルボニル基（炭素数１〜１０のアルコキシカルボニル基であり、具体的には、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、直鎖又は分岐プロポキシカルボニル基、シクロペンチルオキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基等）を挙げることができる。
【０２０５】
一般式（ＴＡ−２０）において、Ｒ１６はアルキル基又はアリール基であることが好ましい。また、Ｒ１５は、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基であることが好ましく、水素原子、メチル基、又はエチル基であることがより好ましく、水素原子であることが最も好ましい。
【０２０６】
本発明で使用できるスルホン酸エステルの例として以下のものを挙げることができるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０２０７】
【化４３】
2010262259.tif 000045
【０２０８】
本発明で使用可能なスルホン酸エステルは、市販のものを用いてもよいし、公知の方法で合成したものを用いてもよい。スルホン酸エステルは、例えば、塩基性条件下、スルホニルクロリド乃至はスルホン酸無水物を対応する多価アルコールと反応させることにより合成することができる。
【０２０９】
熱酸発生剤（スルホン酸エステル）の感光性樹脂組成物への添加量は、感光性樹脂組成物の全固形分に対して、０．１質量％〜６質量％であることが好ましく、０．２質量％〜５質量％であることがより好ましく、０．５質量％〜４質量％が最適である。この範囲にすることで、感光性樹脂組成物の現像性を阻害することなく、硬化膜の膜物性を向上させることができる。
【０２１０】
＜架橋剤＞
本発明の感光性樹脂組成物は、更に、架橋剤を含有していてもよい。架橋剤を添加することで、より強固な硬化膜を形成することができる。
架橋剤としては、以下のものが用いられる。
【０２１１】
（エポキシ基又はオキセタニル基を含む化合物）
本発明の感光性樹脂組成物は、膜物性を向上させる目的で、エポキシ基又はオキセタニル基を含む化合物を使用してもよい。
エポキシ基又はオキセタニル基を含む化合物は、一般に、エポキシ樹脂、オキセタン樹脂と呼ばれる化合物である。
【０２１２】
エポキシ樹脂としては、ビスフェノールＡ型、クレゾールノボラック型、ビフェニル型、脂環式エポキシ化合物などである。
ビスフェノールＡ型のエポキシ樹脂としては、例えば、エポトートＹＤ−１１５、ＹＤ−１１８Ｔ、ＹＤ−１２７、ＹＤ−１２８、ＹＤ−１３４、ＹＤ−８１２５、ＹＤ−７０１１Ｒ、ＺＸ−１０５９、ＹＤＦ−８１７０、ＹＤＦ−１７０など（以上東都化成社製）、デナコールＥＸ−１１０１、ＥＸ−１１０２、ＥＸ−１１０３など（以上ナガセ化成社製）、プラクセルＧＬ−６１、ＧＬ−６２、Ｇ１０１、Ｇ１０２（以上ダイセル化学製）の他に、これらの類似のビスフェノールＦ型、ビスフェノールＳ型も挙げることができる。また、Ｅｂｅｃｒｙｌ  ３７００、３７０１、６００（以上ダイセルユーシービー製）などのエポキシアクリレートも、エポキシ樹脂として使用可能である。
【０２１３】
クレゾールノボラック型のエポキシ樹脂としては、エポトートＹＤＰＮ−６３８、ＹＤＰＮ−７０１、ＹＤＰＮ−７０２、ＹＤＰＮ−７０３、ＹＤＰＮ−７０４など（以上東都化成社製）、デナコールＥＭ−１２５など（以上ナガセ化成社製）が、また、
ビフェニル型のエポキシ樹脂としては、３，５，３’，５’−テトラメチル−４，４’ジグリシジルビフェニルなどが挙げられる。
【０２１４】
脂環式エポキシ化合物としては、セロキサイド２０２１、２０８１、２０８３、２０８５、エポリードＧＴ−３０１、ＧＴ−３０２、ＧＴ−４０１、ＧＴ−４０３、ＥＨＰＥ−３１５０（以上ダイセル化学製）、サントートＳＴ−３０００、ＳＴ−４０００、ＳＴ−５０８０、ＳＴ−５１００など（以上東都化成社製）などを挙げることができる。他に、アミン型エポキシ樹脂である、エポトートＹＨ−４３４、ＹＨ−４３４Ｌ、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂の骨格中にダイマー酸を変性したグリシジルエステル等もエポキシ樹脂として用いることができる。
【０２１５】
これらのエポキシ樹脂の中で、好ましくは、ノボラック型エポキシ化合物、脂環式エポキシ化合物が好ましく、エポキシ当量が１８０〜２５０のものが特に好ましい。このようなものとしては、エピクロンＮ−６６０、Ｎ−６７０、Ｎ−６８０、Ｎ−６９０、ＹＤＣＮ−７０４Ｌ（以上ＤＩＣ社製）、ＥＨＰＥ３１５０（ダイセル化学製）を挙げることができる。
本発明の感光性樹脂組成物においては、２種以上のエポキシ樹脂を含有してもよい。
【０２１６】
一方、オキセタン樹脂としては、アロンオキセタンＯＸＴ−１０１、ＯＸＴ−１２１、ＯＸＴ−２１１、ＯＸＴ−２２１、ＯＸＴ−２１２、ＯＸＴ−６１０、ＯＸ−ＳＱ、ＰＮＯＸ（以上東亞合成製）を用いることができる。
また、オキセタン樹脂は、単独で又はエポキシ樹脂と混合して使用することができる。特にエポキシ樹脂との併用した場合には、反応性が高く、膜物性を向上させる観点から好ましい。
【０２１７】
エポキシ基又はオキセタニル基を含む化合物の感光性樹脂組成物への添加量は、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）の総量を１００質量部としたとき、１質量部〜５０質量部が好ましく、３質量部〜３０質量部がより好ましい。
【０２１８】
（アルコキシメチル基含有架橋剤）
本発明においては、架橋剤として、アルコキシメチル基含有架橋剤を用いることができる。
アルコキシメチル基含有架橋剤としては、アルコキシメチル化メラミン、アルコキシメチル化ベンゾグアナミン、アルコキシメチル化グリコールウリル及びアルコキシメチル化尿素等が好ましい。これらはそれぞれメチロール化メラミン、メチロール化ベンゾグアナミン、メチロール化グリコールウリル及びメチロール化尿素のメチロール基をアルコキシメチル基に変換することにより得られる。このアルコキシメチル基の種類については特に限定されるものではなく、例えば、メトキシメチル基、エトキシメチル基、プロポキシメチル基、ブトキシメチル基等を挙げることができるが、アウトガスの発生量の観点から、特に、メトキシメチル基が好ましい。
これらの中でも、アルコキシメチル化メラミン、アルコキシメチル化ベンゾグアナミン、アルコキシメチル化グリコールウリルが好ましいものとして挙げられ、硬化膜の透明性の観点から、特に、アルコキシメチル化グリコールウリルが好ましい。
【０２１９】
これらアルコキシメチル基含有架橋剤は、市販品として入手可能であり、例えば、サイメル３００、３０１、３０３、３７０、３２５、３２７、７０１、２６６、２６７、２３８、１１４１、２７２、２０２、１１５６、１１５８、１１２３、１１７０、１１７４、ＵＦＲ６５、３００（以上、三井サイアナミッド（株）製）、ニカラックＭｘ−７５０、−０３２、−７０６、−７０８、−４０、−３１、−２７０、−２８０、−２９０、ニカラックＭｓ−１１、ニカラックＭｗ−３０ＨＭ、−１００ＬＭ、−３９０、（以上、三和ケミカル社製）などを好ましく使用することができる。
【０２２０】
これらアルコキシメチル基含有架橋剤として用いる場合の添加量は、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）１００質量部に対して、好ましくは０．５質量部〜５０質量部、より好ましくは１．０質量部〜３０質量部である。この範囲で添加することにより、感光性樹脂組成物の現像時の好ましいアルカリ溶解性と、硬化後の膜の優れた耐溶剤性が得られる。
【０２２１】
なお、本発明の感光性樹脂組成物に、エポキシ基又はオキセタニル基を含む化合物や、アルコキシメチル基含有架橋剤を使用する場合は、これらを前述の熱酸発生剤と併用することで、より一層、硬化膜の膜物性を向上させることができる。
【０２２２】
（少なくとも一個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物）
本発明においては、架橋剤として、少なくとも一個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物を用いることができる。
この化合物としては、単官能若しくは多官能（メタ）アクリレート化合物を好適に用いることができる。
単官能（メタ）アクリレートとしては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、カルビトール（メタ）アクリレート、イソボロニル（メタ）アクリレート、３−メトキシブチル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−２−ヒドロキシプロピルフタレートなどが挙げられる。
【０２２３】
２官能（メタ）アクリレートとしては、例えば、エチレングリコール（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノキシエタノールフルオレンジアクリレート、ビスフェノキシエタノールフルオレンジアクリレートなどが挙げられる。
【０２２４】
３官能以上の（メタ）アクリレートとしては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリ（（メタ）アクリロイロキシエチル）フォスフェート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートなどが挙げられ、
【０２２５】
これらの少なくとも一個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物は、単独で或いは組み合わせて用いられる。
少なくとも一個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物の使用割合は、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）１００質量部に対して、好ましくは１質量部〜５０質量部、より好ましくは３質量部〜３０質量部である。このような割合で少なくとも一個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物を含有させることにより、本発明の感光性樹脂組成物から得られる硬化膜の耐熱性及び表面硬度等を向上させることができる。
【０２２６】
なお、本発明の感光性樹脂組成物に、少なくとも一個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物を用いる場合には、これと熱ラジカル発生剤を併用することで、より一層、硬化膜の膜物性を向上させることができる。
【０２２７】
＜塩基性化合物＞
本発明の感光性樹脂組成物は、塩基性化合物を含有していてもよい。
塩基性化合物としては、化学増幅レジストで用いられるものの中から任意に選択して使用することができる。例えば、脂肪族アミン、芳香族アミン、複素環式アミン、４級アンモニウムヒドロキシド、カルボン酸４級アンモニウム塩等が挙げられる。
【０２２８】
脂肪族アミンとしては、例えば、トリメチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、ジ−ｎ−プロピルアミン、トリ−ｎ−プロピルアミン、ジ−ｎ−ペンチルアミン、トリ−ｎ−ペンチルアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、ジシクロヘキシルアミン、ジシクロヘキシルメチルアミンなどが挙げられる。
芳香族アミンとしては、例えば、アニリン、ベンジルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、ジフェニルアミンなどが挙げられる。
【０２２９】
複素環式アミンとしては、例えば、ピリジン、２−メチルピリジン、４−メチルピリジン、２−エチルピリジン、４−エチルピリジン、２−フェニルピリジン、４−フェニルピリジン、Ｎ−メチル−４−フェニルピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、イミダゾール、ベンズイミダゾール、４−メチルイミダゾール、２−フェニルベンズイミダゾール、２，４，５−トリフェニルイミダゾール、ニコチン、ニコチン酸、ニコチン酸アミド、キノリン、８−オキシキノリン、ピラジン、ピラゾール、ピリダジン、プリン、ピロリジン、ピペリジン、ピペラジン、モルホリン、４−メチルモルホリン、１，５−ジアザビシクロ［４，３，０］−５−ノネン、１，８−ジアザビシクロ［５，３，０］−７ウンデセン
などが挙げられる。
【０２３０】
４級アンモニウムヒドロキシドとしては、例えば、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムヒドロキシド、テトラ−ｎ−ヘキシルアンモニウムヒドロキシドなどが挙げられる。
カルボン酸４級アンモニウム塩としては、例えば、テトラメチルアンモニウムアセテート、テトラメチルアンモニウムベンゾエート、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムアセテート、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムベンゾエートなどが挙げられる。
【０２３１】
本発明の感光性樹脂組成物中の塩基性化合物の配合率は、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）１００質量部当たり、０．００１質量部〜１質量部とすることが好ましく、０．００５質量部〜０．２質量部とすることがより好ましい。
【０２３２】
＜界面活性剤＞
本発明の感光性樹脂組成物は、界面活性剤を含有していてもよい。
界面活性剤としては、アニオン系、カチオン系、ノニオン系或いは両性の何れでも使用することができるが、好ましい界面活性剤はノニオン系界面活性剤である。
ノニオン系界面活性剤の例としては、ポリオキシエチレン高級アルキルエーテル類、ポリオキシエチレン高級アルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレングリコールの高級脂肪酸ジエステル類、シリコーン系、フッ素系界面活性剤を使用することができる。
また、以下商品名で、ＫＰ（信越化学工業製）、ポリフロー（共栄社化学製）、エフトップ（ＪＥＭＣＯ製）、メガファック（大日本インキ化学工業製）、フロラード（住友スリーエム製）、アサヒガード、サーフロン（旭硝子製）ＰｏｌｙＦｏｘ（ＯＭＮＯＶＡ社製）等の各シリーズを、界面活性剤の好適なものとして挙げることができる。
【０２３３】
界面活性剤は、単独で又は２種以上を混合して使用することができる。
本発明の感光性樹脂組成物中の界面活性剤の配合率は、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）１００質量部当たり、通常１０質量部以下であり、好ましくは、０．０１質量部〜１０質量部、より好ましくは、０．０１質量部〜１質量部である。
【０２３４】
＜溶剤＞
本発明の感光性樹脂組成物は、上記成分を溶剤に溶解して溶液として使用される。使用される溶剤としては、例えば、以下のようなものが挙げられる。
即ち、（ア）エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル等のエチレングリコールモノアルキルエーテル類；
（イ）エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジプロピルエーテル等のエチレングリコールジアルキルエーテル類；
（ウ）エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート等のエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類；
（エ）プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル等のプロピレングリコールモノアルキルエーテル類；
（オ）プロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル等のプロピレングリコールジアルキルエーテル類；
【０２３５】
（カ）プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート等のプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類；
（キ）ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル等のジエチレングリコールジアルキルエーテル類；
（ク）ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート等のジエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類；
（ケ）ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル等のジプロピレングリコールモノアルキルエーテル類；
（コ）ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールエチルメチルエーテル等のジプロピレングリコールジアルキルエーテル類；
【０２３６】
（サ）ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート等のジプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類；
（シ）乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ｎ−プロピル、乳酸イソプロピル、乳酸ｎ−ブチル、乳酸イソブチル、乳酸ｎ−アミル、乳酸イソアミル等の乳酸エステル類；
（ス）酢酸ｎ−ブチル、酢酸イソブチル、酢酸ｎ−アミル、酢酸イソアミル、酢酸ｎ−ヘキシル、酢酸２−エチルヘキシル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸ｎ−プロピル、プロピオン酸イソプロピル、プロピオン酸ｎ−ブチル、プロピオン酸イソブチル、酪酸メチル、酪酸エチル、酪酸エチル、酪酸ｎ−プロピル、酪酸イソプロピル、酪酸ｎ−ブチル、酪酸イソブチル等の脂肪族カルボン酸エステル類；
（セ）ヒドロキシ酢酸エチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、２−ヒドロキシ−３−メチル酪酸エチル、メトキシ酢酸エチル、エトキシ酢酸エチル、３−メトキシプロピオンメチル、３−メトキシプロピオンエチル、３−エトキシプロピオンメチル、３−エトキシプロピオンエチル、３−メトキシブチルアセテート、３−メチル−３−メトキシブチルアセテート、３−メチル−３−メトキシブチルプロピオネート、３−メチル−３−メトキシブチルブチレート、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル等の他のエステル類；
（ソ）メチルエチルケトン、メチルプロピルケトン、メチル−ｎ−ブチルケトン、メチルイソブチルケトン、２−ヘプタノン、３−ヘプタノン、４−ヘプタノン、シクロヘキサノン等のケトン類；
【０２３７】
（タ）Ｎ−メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等のアミド類；
（チ）γ−ブチロラクトン等のラクトン類等を挙げることができる。
【０２３８】
また、上述した溶剤に、更に必要に応じて、ベンジルエチルエーテル、ジヘキシルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、イソホロン、カプロン酸、カプリル酸、１−オクタノール、１−ノナール、ベンジルアルコール、アニソール、酢酸ベンジル、安息香酸エチル、シュウ酸ジエチル、マレイン酸ジエチル、炭酸エチレン、炭酸プロピレン等の溶剤を添加することもできる。
【０２３９】
溶剤は、単独で又は２種以上を混合して使用することができる。  
本発明の感光性樹脂組成物中の溶剤の配合率は、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）１００質量部当たり、通常、５０質量部〜３，０００質量部であり、好ましくは１００質量部〜２，０００質量部、更に好ましくは１００質量部〜５００質量部である。
【０２４０】
≪硬化膜、層間絶縁膜、有機ＥＬ表示装置、及び液晶表示装置≫
本発明の硬化膜は、本発明のポジ型感光性樹脂組成物に対し、光及び熱の少なくとも付与して形成されたものである。
このような硬化膜は、透明性、耐溶剤性、耐熱性、及び絶縁性に優れ、特に、電子デバイス用に有効である。本発明でいう電子デバイスとは、有機ＥＬ表示装置、及び液晶表示装置用の電子デバイスを意味し、本発明の感光性樹脂組成物は、この有機ＥＬ表示装置、及び液晶表示装置用の平坦化膜、層間絶縁膜に特に効果を発揮するのである。また、本発明の感光性樹脂組成物は、上記のような硬化膜が得られることから、マイクロレンズへ適用することもできる。
特に、層間絶縁膜に適用される場合には、本発明の感光性樹脂組成物は以下のようなパターン形成方法に適用され、所望の形状の層間絶縁膜を形成することができる。
【０２４１】
〔パターン形成方法〕
本発明の感光性樹脂組成物を用いて、パターン状の硬化膜を形成する方法としては、（１）本発明の感光性樹脂組成物を適当な基板上に塗布し、（２）塗布されたこの基板をベーキングし（プリベーク）、（３）活性光線又は放射線で露光し、（４）必要に応じ後加熱し、（５）水性現像液で現像し、（６）必要に応じ全面露光し、そして（７）熱硬化（ポストベーク）する、といったパターン形成方法が用いられる。このパターン形成方法を用いることで、基板上に、所望の形状（パターン）の硬化膜を形成することができる。
【０２４２】
また、上記のパターン形成方法において、（４）における後加熱、及び（６）における全面露光は、任意の工程であって、必要に応じて、行えばよい。
【０２４３】
上記のパターン形成方法のように、（１）本発明の感光性樹脂組成物を、硬化後の厚みが所望厚み（例えば、０．１μｍ〜３０μｍ）になるように、半導体素子上又はガラス基板上に塗布した後、少なくとも、（２）プリベーク、（３）露光、（５）現像、及び（７）熱硬化することで、有機ＥＬ表示装置用、又は液晶表示装置用のパターン状の硬化膜を形成することができる。
【０２４４】
以下、パターン形成方法についてより詳細に説明する。
本発明の感光性樹脂組成物は（１）適当な基板上に塗布される。
基板は、形成される硬化膜の用途に応じて選択されればよく、例えば、シリコンウエハのような半導体基板又はセラミック基板や、ガラス、金属、又はプラスチックからなる基板が用いられる。硬化膜が半導体装置用であれば、シリコンウエハを、硬化膜が表示装置用であれば、ガラス基板を用いるのが一般的である。
塗布方法には、スプレーコーティング、スピンコーティング、スリットコーティング、オフセット印刷、ローラーコーティング、スクリーン印刷、押し出しコーティング、メニスカスコーティング、カーテンコーティング、及びディップコーティング等が用いられるが、これらに限られることはない。
この（１）塗布工程により、基板上には感光性樹脂組成物層が形成される。
【０２４５】
上記（１）塗布工程後、感光性樹脂組成物層中に残留する溶媒を蒸発させるために、（２）プリベークが行われる。この（２）プリベークは、７０℃〜１３０℃の温度で、数分から３０分の範囲で行われる。
【０２４６】
次いで、（２）プリベークにより乾燥した感光性樹脂組成物層に対し、（３）所望のパターンを備えたマスクを介して、活性光線又は放射線を用いた露光が施される。露光エネルギーは一般的に１０ｍＪ／ｃｍ２〜１０００ｍＪ／ｃｍ２であり、２０ｍＪ／ｃｍ２〜５００ｍＪ／ｃｍ２エネルギーであることが好ましい。活性光線又は放射線として、Ｘ線、電子ビーム、紫外線、可視光線などを使用することができる。最も好ましい放射線は、波長が４３６ｎｍ（ｇ−ライン）、４０５ｎｍ（ｈ−ライン）、及び３６５ｎｍ（ｉ−ライン）を有するものである。また、紫外光レーザー等、レーザー方式により露光も可能である。
この（３）露光工程により、基板上の感光性樹脂組成物層には、水性現像液により現像される領域と、現像されない領域と、が形成される。本発明の感光性樹脂組成物は、ポジ作用を有しているため、露光部が水性現像液により現像される領域となる。
【０２４７】
（３）活性光線又は放射線によって露光された基板は、（４）７０〜１３０℃の温度に加熱（後加熱）するのが有利である。後加熱は、短時間、一般的には、数秒〜数分で行われる。本工程は、通常、露光後ベーキングと技術上称される。
【０２４８】
次いで、（３）露光（（４）後加熱）後の感光性樹脂組成物層は、（５）水性現像液で現像される。この現像により、感光性樹脂組成物層の露光部が水性現像液により現像され、未露光部が基板上に残ることで、所望な形状（パターン）の感光性樹脂組成物層が形成される。
水性現像液には、無機アルカリ（例えば、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、アンモニア水）、１級アミン（例えば、エチルアミン、ｎ−プロピルアミン）、２級アミン（例えば、ジエチルアミン、ジ−ｎ−プロピルアミン）、３級アミン（例えば、トリエチルアミン）、アルコールアミン（例えば、トリエタノールアミン）、４級アンモニウム塩（例えば、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド、テトラエチルアンモニウムハイドロオキサイド）、及びこれらの混合物を用いたアルカリ溶液がある。最も好ましい現像液は、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイドを含有するものである。加えて、現像液には、適当な量の界面活性剤が添加されてよい。
また、現像は、ディップ、スプレー、パドリング、又は他の同様な現像方法によって実施してもよい。
【０２４９】
（５）現像工程後、基板上に残存する感光性樹脂組成物層は、場合によっては、脱イオン水を使用してすすぎ洗いされてもよい。
【０２５０】
更に、（５）現像工程後には、基板上に残存する感光性樹脂組成物層は、必要に応じて、（６）全面露光が施される。この全面露光の露光エネルギーは１００〜１０００ｍＪ／ｃｍ２のエネルギーであることが好ましい。
この（６）全面露光を行うことで、表示装置用の硬化膜を形成する際には、その透明性が向上するため、好ましい。
【０２５１】
次いで、（５）現像工程後において基板上に残存する感光性樹脂組成物層は、最終的なパターン状の硬化膜を得るため、（７）熱硬化処理が施される。この熱硬化は、耐熱性、耐薬品性、膜強度の大きい硬化膜を形成するために実施される。一般的な感光性ポリイミド前駆体組成物を用いた場合は、約３００〜４００℃の温度で加熱硬化されてきた。一方、本発明の感光性樹脂組成物は、１５０℃〜３００℃、より具体的には１６０℃〜２５０℃の加熱により、従来の感光性ポリイミド前駆体組成物と同等以上の膜物性を有する硬化膜が得られる。
【実施例】
【０２５２】
以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はその主旨を越えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」は質量基準である。
【０２５３】
まず、本実施例で用いる略記号（市販品名を含む）の意味は、次のとおりである。
ＭＭＡ：メタクリル酸メチル
ＭＡＡ：メタクリル酸
ＡＡ：アクリル酸
ＴＨＰＡ：テトラヒドロフタル酸無水物
ＣＨＭＡ：シクロヘキシルメタクリレート
Ｓｔ：スチレン
ＧＭＡ：グリシジルメタクリレート
ＦＡ−５１３Ｍ：ジシクロペンタニルメタクリレート（日立化成製）
ＦＡ−５１１Ａ：ジシクロペンテニルアクリレート（日立化成製）
ＦＡ−５１２Ｍ：ジシクロペンテニルオキシエチルメタクリレート（日立化成製）
Ａ４００：３，４−エポキシシクロヘキシルメチルアクリレート（ダイセル化学（株）製）
ＯＸＥ−３０：３−（メタクリロイルオキシメチル）−３−エチル−オキセタン（大阪有機化学工業（株））
ＨＥＭＡ：２−ヒドロキシエチルメタクリレート
ＢｚＭＡ：ベンジルメタクリレート
ＢＴＥＡＣ：ベンジルトリエチルアンモニウム
ＡＩＢＮ：アゾビスイソブチロニトリル
ＰＧＭＥＡ：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
【０２５４】
（合成例）
＜アルカリ可溶性樹脂（Ａ）：アルカリ可溶性樹脂Ａの合成＞
共重合体を形成するためのモノマー成分として、ＭＡＡ（２５．８３ｇ、０．３モル）、及びＭＭＡ（７０．０８ｇ、０．７モル）を使用し、ラジカル重合開始剤として、ＡＩＢＮ（２．５ｇ）を使用し、これらを溶剤ＰＧＭＥＡ（１１７．２２ｇ）中において５時間重合反応させることにより、アルカリ可溶性樹脂ＡのＰＧＭＥＡ溶液（固形分濃度：４５質量％）を得た。なお、重合温度は、６０℃〜１００℃に調整した。
得られたアルカリ可溶性樹脂ＡのＧＰＣにより測定した重量平均分子量は３０，０００であった。
【０２５５】
＜アルカリ可溶性樹脂（Ａ）：アルカリ可溶性樹脂Ｂ〜Ｄ、及びＧの合成＞
アルカリ可溶性樹脂Ａの合成において用いたモノマー成分を、下記表１に記載のモノマー種及び使用量（添加量）に変えた以外はアルカリ可溶性樹脂Ａの合成と同様にして、アルカリ可溶性樹脂Ｂ〜Ｄ、及びＧの合成を行った。
得られたアルカリ可溶性樹脂Ｂ〜Ｄ、及びＧの合成の質量平均分子量をＧＰＣにより測定し、表１に示した。
【０２５６】
＜アルカリ可溶性樹脂（Ａ）：アルカリ可溶性樹脂Ｅの合成＞
攪拌装置、滴下ロート、コンデンサー、温度計、及びガス導入管を備えたフラスコに、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭ−ＡＣ）１４５ｇを取り、窒素置換しながら攪拌し１２０℃に昇温した。
次に、スチレン０．１モル（１０．４ｇ）、グリシジルメタクリレート０．５モル（７１ｇ）、及びジシクロペンタジエン骨格を有するモノアクリレート（日立化成（株）製ＦＡ−５１１Ａ）０．４モル（８８ｇ）からなるモノマー混合物に、ｔ−ブチルヒドロパーオキサイド（日本油脂（株）製パーブチルＯ）をモノマー混合物１００部に対し４．５部（７．６ｇ）を添加した。この混合物を、滴下ロートから２時間かけてフラスコに滴下し、更に１２０℃で２時間攪拌し続けエージングを行った。
【０２５７】
次に、フラスコ内を空気置換に替え、アクリル酸０．４７５モル（３４．２ｇ、グリシジル基の９５％）にトリスジメチルアミノメチルフェノール（ＤＭＰ−３０）０．９ｇ、及びハイドロキノン０．１４５ｇを、上記エージングした中に投入し、１２０℃で６時間反応を続け固形分酸価＝０．８となったところで反応を終了し、アルカリ可溶性樹脂Ｅ’を得た。
更に引き続き、テトラヒドロ無水フタル酸（ＴＨＰＡ）０．４モル（６０．８ｇ、生成した水酸基の８４．２％）、及びトリエチルアミン０．８ｇを加え、１２０℃で３．５時間反応させ固形分酸価＝８４のアルカリ現像可能なアルカリ可溶性樹脂Ｅを得た。
得られたアルカリ可溶性樹脂ＥのＧＰＣにより測定した重量平均分子量は２５，０００であった。
【０２５８】
＜アルカリ可溶性樹脂（Ａ）：アルカリ可溶性樹脂Ｆの合成＞
共重合体を形成するためのモノマー成分として、ＭＡＡ（５１．６５ｇ、０．６モル）、Ｓｔ（１０．４２ｇ、０．１モル）、及びＦＡ−５１３Ｍ（６６．０９ｇ、０．３モル）を使用し、ラジカル重合開始剤としてＡＩＢＮ（２．５ｇ）を使用し、これらを溶剤ＰＧＭＥＡ（１５６．６４ｇ）中において重合反応させることによりアルカリ可溶性樹脂Ｆの前駆体であるアルカリ可溶性樹脂Ｆ’溶液を得た。なお、重合温度は、６０℃〜１００℃に調整した。
上記アルカリ可溶性樹脂Ｆ’溶液に、ＧＭＡ（４２．６５ｇ、０．３モル）、ＢＴＥＡＣ（２．０ｇ）、及びＰＧＭＥＡ（５２．１３ｇ）を加えて反応させることによりアルカリ可溶性樹脂ＦのＰＧＭＥＡ溶液（固形分濃度：４５質量％）得た。なお、反応温度を９０℃〜１２０℃に調整した。
得られたアルカリ可溶性樹脂ＦのＧＰＣにより測定した重量平均分子量は３０，０００であった。
【０２５９】
下記表１に、前述のようにして合成されたアルカリ可溶性樹脂Ａ〜Ｇの重量平均分子量、及び、アルカリ可溶性樹脂Ａ〜Ｇの合成に用いられたモノマー成分（モノマー種、及びその使用量）について示す。
【０２６０】
【表１】
2010262259.tif 000046
【０２６１】
＜特定線状共重合体（Ｂ）：特定線状共重合体１の合成＞
共重合体を形成するためのモノマー成分として、ＭＭＡ（２０．０２ｇ、０．２モル）、及びＧＭＡ（１１３．７２ｇ、０．８モル）を使用し、ラジカル重合開始剤としてＶ−６０１（和光純薬製、１５．０ｇ）を使用し、これらを溶剤ＰＧＭＥＡ（１１２．０７ｇ）中において４時間重合反応させることにより特定線状共重合体１のＰＧＭＥＡ溶液（固形分濃度：３０質量％）を得た。なお、重合温度は、温度９０℃に調整した。
得られた特定線状共重合体１のＧＰＣにより測定した重量平均分子量は７，８００であった。
【０２６２】
＜特定線状共重合体（Ｂ）：特定線状共重合体２〜１０の合成＞
特定線状共重合体１の合成において用いたモノマー成分を、下記表２に記載のモノマー種及び使用量（添加量）に変えた以外は特定線状共重合体１の合成と同様にして、特定線状共重合体２〜１０の合成を行った。
得られた特定線状共重合体２〜１０の合成の質量平均分子量をＧＰＣにより測定し、表２に示した。
【０２６３】
【表２】
2010262259.tif 000047
【０２６４】
（実施例１）
＜感光性樹脂組成物の作製＞
下記組成を溶解混合し、０．２μｍのポリテトラフルオロエチレン製フィルターで濾過し、実施例１の感光性樹脂組成物を得た。
・前述の合成法で得られたアルカリ可溶性樹脂Ｃ溶液  （固形分で１２．０部相当の量）
・感光剤（東洋合成社製  ＴＡＳ−２００  下記構造）                      ５．０部
・前述の合成法で得られた特定線状共重合体６溶液      （固形分で５．０部相当の量）
・密着促進剤（信越化学製  ＫＢＭ−４０３  下記構造）                    ０．５部
・熱ラジカル発生剤（日油製  ノフマーＢＣ−９０  下記構造）              ０．５部
・溶剤（ＰＧＭＥＡ）                                                  ７７．０部
【０２６５】
（実施例２〜４４、及び比較例１〜４）
実施例１の組成中のアルカリ可溶性樹脂Ｃ、感光剤、及び特定線状共重合体６の種類と量（固形分量）、更には、密着促進剤、熱ラジカル発生剤、及び溶剤の量を下記表３又は表４のように変更し、適宜、下記表３又は表４に記載のように酸化防止剤や架橋剤を更に添加した以外は、実施例１と同様にして、実施例２〜４４、及び比較例１〜４の感光性樹脂組成物をそれぞれ調製した。
【０２６６】
【表３】
2010262259.tif 000048
【０２６７】
【表４】
2010262259.tif 000049
【０２６８】
表３及び表４に記載の感光剤（ＴＡＳ−２００、ＴＡＳ−２５０、ＮＱＤ−１、及びＮＱＤ−２）の構造を以下に示す。
【０２６９】
【化４４】
2010262259.tif 000050
【０２７０】
【化４５】
2010262259.tif 000051
【０２７１】
【化４６】
2010262259.tif 000052
【０２７２】
【化４７】
2010262259.tif 000053
【０２７３】
表３、表４に記載の密着促進剤（ＫＢＭ−４３０）の構造を以下に示す。
【０２７４】
【化４８】
2010262259.tif 000054
【０２７５】
また、表３、表４に記載の熱ラジカル発生剤（ノフマーＢＣ−９０）の構造を以下に示す。
【０２７６】
【化４９】
2010262259.tif 000055
【０２７７】
また、表４に記載の酸化防止剤（ＡＯ−６０）は、ＡＤＥＫＡ製のアデカスタブＡＯ−６０であり、表４に記載の架橋剤（ＭＸ−２７０）は、三和ケミカル社製の市販品である。
更に、表４中の比較例４で使用した「ＥＨＰＥ−３１５０」はダイセル化学社製の市販品である。
【０２７８】
（比較例５）
特開２００８−２５６９７４号公報の実施例２のポジ型感光性樹脂組成物を調製し、これを比較例５の感光性樹脂組成物とした。
【０２７９】
（比較例６）
特許第２９６１７２２号公報の実施例１のポジ型感光性樹脂組成物を調製し、これを比較例６の感光性樹脂組成物とした。
【０２８０】
＜特性評価＞
このようにして得られた各感光性樹脂組成物について、まず、経時安定性（保存安定性）を評価した。
また、各感光性樹脂組成物を用いて硬化膜を形成し、下記のようにして、形成された硬化膜の透明性、耐溶剤性、耐熱性、絶縁性、及びＩＴＯ適性の評価を行った。
これらの評価結果を下記表５に併記した。
【０２８１】
＜経時安定性の評価＞
調製直後の感光性樹脂組成物の粘度（初期粘度）と、３０℃で１週間後及び２週間保管後の感光性樹脂組成物の粘度（経時粘度）をＥ型粘度計（東機産業（株）製）にて測定した。
経時粘度の初期粘度（１００％）に対する変化量が１０％以上であったもの「３」、変化量が１０％未満５％以上であったものを「２」、変化量が５％未満であったものを「１」とした。
【０２８２】
＜透明性の評価＞
ガラス基板（コーニング１７３７、０．７ｍｍ厚（コーニング社製））上に、スピンナーを用いて、各感光性樹脂組成物を塗布した後、１００℃で１分間ホットプレート上でプレベークして溶剤を揮発させ、膜厚３．０μｍの感光性樹脂組成物層を形成した。得られた感光性樹脂組成物層を、キヤノン（株）製ＰＬＡ−５０１Ｆ露光機（超高圧水銀ランプ）で積算照射量が３００ｍＪ／ｃｍ２（照度：２０ｍＷ／ｃｍ２）となるように露光し、その後、この基板をオーブンにて２３０℃で１時間加熱して硬化膜を得た。
この硬化膜を有するガラス基板の光線透過率を分光光度計「１５０−２０型ダブルビーム（（株）日立製作所製）」を用いて４００ｎｍ〜８００ｎｍの範囲の波長で測定した。そのときの最低光線透過率を透明性の評価指標とした。なお、評価基準は下記の通りである。
１：９４％以上
２：９２％以上９４％未満
３：９０％以上９２％未満
４：８８％以上９０％未満
５：８８％未満
【０２８３】
＜耐溶剤性の評価＞
ガラス基板（コーニング１７３７、０．７ｍｍ厚（コーニング社製））上に、スピンナーを用いて、各感光性樹脂組成物を塗布した後、１００℃にて１分間ホットプレート上でプレベークして膜厚３．０μｍの感光性樹脂組成物層を形成した。得られた感光性樹脂組成物層を、キャノン（株）製ＰＬＡ−５０１Ｆ露光機（超高圧水銀ランプ）で積算照射量が３００ｍＪ／ｃｍ２（照度：２０ｍＷ／ｃｍ２）となるように露光し、その後、この基板をオーブンにて２３０℃で１時間加熱して硬化膜を得た。
得られた硬化膜の膜厚（Ｔ１）を測定した。そして、この硬化膜が形成された基板を７０℃に温度制御されたジメチルスルホキシド中に２０分間浸漬させた後、当該硬化膜の膜厚（ｔ１）を測定し、浸漬による膜厚変化率｛｜ｔ１−Ｔ１｜／Ｔ１｝×１００〔％〕を算出した。なお、評価基準は下記の通りである。この値が３％未満のとき、つまり、下記評価基準にて１〜３であれば、硬化膜の耐熱性は十分に良好であるといえる。
１：１％未満
２：１％以上２％未満
３：２％以上３％未満
４：３％以上
【０２８４】
＜耐熱性の評価＞
上記の耐溶剤性の評価と同様にしてガラス基板（コーニング１７３７、０．７ｍｍ厚（コーニング社製））上に硬化膜を形成し、得られた硬化膜の膜厚（Ｔ２）を測定した。次いで、この硬化膜を有する基板をオーブンにて２４０℃で１時間追加ベークした後、当該硬化膜の膜厚（ｔ２）を測定し、追加ベークによる膜厚変化率｛｜ｔ２−Ｔ２｜／Ｔ２｝×１００〔％〕を算出した。なお、評価基準は下記の通りである。この値が３％未満のとき、つまり、下記評価基準にて１〜３であれば、硬化膜の耐熱性は十分に良好であるといえる。
１：１％未満
２：１％以上２％未満
３：２％以上３％未満
４：３％以上
【０２８５】
＜絶縁性の評価＞
ベアウエハ（Ｎ型低抵抗）（ＳＵＭＣＯ社製）上に、感光性樹脂組成物をスピンナーを用いて、塗布した後、１００℃にて１分間ホットプレート上でプリベークして膜厚３．０μｍの感光性樹脂組成物層を形成した。得られた感光性樹脂組成物を、キャノン（株）製ＰＬＡ−５０１Ｆ露光機（超高圧水銀ランプ）で積算照射量が３００ｍＪ／ｃｍ２（照度：２０ｍＷ／ｃｍ２）となるように露光し、この基板をオーブンにて２３０℃で１時間加熱することにより、硬化膜を得た。
この硬化膜について、ＣＶｍａｐ９２Ａ（Ｆｏｕｒ  Ｄｉｍｅｎｓｉｏｎｓ  Ｉｎｃ．社製）を用い、測定周波数１ＭＨｚで比誘電率を測定した。なお、評価基準は下記の通りである。この比誘電率の値が３．４未満のとき、つまり、下記評価基準にて１〜２であれば、硬化膜の絶縁性は良好であるといえる。
１：３．２未満
２：３．２以上３．４未満
３：３．４以上３．６未満
４：３．６以上
【０２８６】
＜ＩＴＯ適正の評価＞
上記の耐溶剤性の評価と同様にしてガラス基板（コーニング１７３７、０．７ｍｍ厚（コーニング社製））上に硬化膜を形成した。この硬化膜上に、ＩＴＯ透明電極をスパッタ（ＵＬＶＡＣ社製、ＳＩＨ−３０３０、スパッタ温度２００℃）により形成した。スパッタ後の硬化膜の表面を光学顕微鏡（５００倍）で観察し、以下の観点で評価した。
１：硬化膜の表面にしわの発生なし
２：硬化膜の表面にしわの発生あり
ＩＴＯ透明電極をスパッタにより形成した後に、硬化膜表面にしわが観測された場合、硬化膜の透過率低下を引き起こすため、好ましくない。
【０２８７】
【表５】
2010262259.tif 000056
【０２８８】
表５から以下のことがわかる。
即ち、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）と、特定線状共重合体（Ｂ）と、感光剤（Ｃ）と、を含有する実施例１〜４４の感光性樹脂組成物は、いずれも、経時による粘度変化が起こり難く、経時安定性（保存安定性）に優れることが分かる。
また、上記の（Ａ）〜（Ｃ）成分を含有する実施例１〜４４の感光性樹脂組成物により形成された硬化膜は、いずれも、透明性が良好で、耐熱性、及び耐溶剤性評価での膜厚変化率が小さいことが分かった。更に、実施例１〜４４の感光性樹脂組成物により形成された硬化膜は、比誘電率が小さく絶縁性が良好であると共に、ＩＴＯ適性にも優れることが分かった。
これに対し、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）を用いているものの、特定線状共重合体（Ｂ）を用いていない比較例１、２、及び３の感光性樹脂組成物は、いずれも組成物自体の経時安定性（保存安定性）に優れ、更に、この組成物より形成された硬化膜は、いずれも透明性が良好であるものの、耐溶剤性及び耐熱性評価では膜厚変化率が大きく、更に、絶縁性やＩＴＯ適性も劣ることが分かる。
また、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）を用いているものの、特定線状共重合体（Ｂ）とは異なる化合物（ＥＨＰＥ−３１５０）を用いている比較例４の感光性樹脂組成物は、組成物自体の経時安定性（保存安定性）は実施例に比べて若干劣ることが分かる。また、比較例４の感光性樹脂組成物により形成された硬化膜は、ＩＴＯ適性には優れるものの、透明性、耐溶剤性、及び耐熱性に劣り、比誘電率の値が大きく絶縁性が低いことが分かった。
更に、特開２００８−２５６９７４号公報の実施例２である、比較例５の感光性樹脂組成物は組成物自体の経時安定性（保存安定性）には優れるものの、この組成物により形成された硬化膜は、透明性が悪く、耐溶剤性及び耐熱性評価での膜厚変化率が大きく、ＩＴＯ適性も劣ることが分かる。
加えて、特許第２９６１７２２号公報の実施例１である、比比較例６の感光性樹脂組成物は組成物自体の経時安定性（保存安定性）が悪く、この組成物により形成された硬化膜は、透明性が悪く、比誘電率の値が大きく絶縁性に劣ることが分かる。
【０２８９】
次に、本発明の表示装置の作製方法を、有機ＥＬ表示装置の作製方法を例に挙げて説明するが、本発明は前記感光性樹脂組成物を用いて形成される平坦化膜や層間絶縁膜を有すること以外は特に制限されず、液晶表示装置への応用においても様々な構造をとることができる。
【０２９０】
（実施例４５）
ＴＦＴを用いた有機ＥＬ表示装置を以下の方法で作製した（図１参照）。
ガラス基板６上にボトムゲート型のＴＦＴ１を形成し、このＴＦＴ１を覆う状態でＳｉ３Ｎ４から成る絶縁膜３を形成した。次に、この絶縁膜３に、ここでは図示を省略したコンタクトホールを形成した後、このコンタクトホールを介してＴＦＴ１に接続される配線２（高さ１．０μｍ）を絶縁膜３上に形成した。この配線２は、ＴＦＴ１間又は、後の工程で形成される有機ＥＬ素子とＴＦＴ１とを接続するためのものである。
【０２９１】
更に、配線２の形成による凹凸を平坦化するために、配線２による凹凸を埋め込む状態で絶縁膜３上へ平坦化層４を形成した。絶縁膜３上への平坦化膜４の形成は、実施例４４の感光性樹脂組成物を基板上にスピン塗布し、ホットプレート上でプリベーク（１２０℃×２分）した後、マスク上から高圧水銀灯を用いてｉ線（３６５ｎｍ）を１００ｍＪ／ｃｍ２（照度２０ｍＷ／ｃｍ２）照射した後、アルカリ水溶液にて現像してパターンを形成し、２２０℃で３０分間の加熱処理を行った。該感光性樹脂組成物を塗布する際の塗布性は良好で、露光、現像、焼成の後に得られた硬化膜には、しわやクラックの発生は認められなかった。更に、配線２の平均段差は５００ｎｍ、作製した平坦化膜の膜厚は２０００ｎｍであった。
【０２９２】
次に、得られた平坦化膜４上に、ボトムエミッション型の有機ＥＬ素子を形成した。まず、平坦化膜４上に、ＩＴＯからなる第一電極５を、コンタクトホール７を介して配線２に接続させて形成した。その後、レジストを塗布、プリベークし、所望のパターンのマスクを介して露光し、現像した。このレジストパターンをマスクとして、ＩＴＯエッチャント用いたウエットエッチングによりパターン加工を行った。その後、レジスト剥離液（モノエタノールアミンとＤＭＳＯの混合液）を用いて該レジストパターンを剥離した。こうして得られた第一電極は、有機ＥＬ素子の陽極に相当する。
【０２９３】
次に、第一電極の周縁を覆う形状の絶縁層８を形成した。絶縁層には、実施例３９の感光性樹脂組成物を用い、前記と同様の方法で絶縁膜８を形成した。この絶縁層を設けることによって、第一電極とこの後の工程で形成する第二電極との間のショートを防止することができる。
【０２９４】
更に、真空蒸着装置内で所望のパターンマスクを介して、正孔輸送層、有機発光層、電子輸送層を順次蒸着して設けた。次いで、基板上方の全面にＡｌから成る第二電極を形成した。得られた上記基板を蒸着機から取り出し、封止用ガラス板と紫外線硬化型エポキシ樹脂を用いて貼り合わせることで封止した。
【０２９５】
以上のようにして、各有機ＥＬ素子にこれを駆動するためのＴＦＴ１が接続してなるアクティブマトリックス型の有機ＥＬ表示装置が得られた。駆動回路を介して電圧を印加したところ、良好な表示特性を示し、信頼性の高い有機ＥＬ表示装置であることが分かった。
【０２９６】
（実施例４６）
特許第３３２１００３号公報の図１及び図２に記載のアクティブマトリクス型液晶表示装置において、層間絶縁膜１７を以下のようにして形成し、液晶表示装置を得た。
即ち、実施例９の感光性樹脂組成物を用い、上記実施例４５における有機ＥＬ表示装置の平坦化膜４の形成方法と同様の方法で、層間絶縁膜１７を形成した。
【０２９７】
得られた液晶表示装置に対して、駆動電圧を印加したところ、良好な表示特性を示し、信頼性の高い液晶表示装置であることが分かった。
【符号の説明】
【０２９８】
１：ＴＦＴ
２：配線
３：絶縁膜
４：平坦化膜
５：第一電極
６：ガラス基板
７：コンタクトホール
８：絶縁膜
【図１】
2010262259.tif 000057