(57)【要約】【課題】本発明は、感光体１本内のＶＬばらつきにより発生する１頁内の画像濃度ムラを抑制することができ、さらに電子写真感光体の耐摩耗性を向上させ、高耐久化と高画質化を実現可能な電子写真感光体の製造方法及びその方法で製造した電子写真感光体を提供することを目的とする。【解決手段】導電性支持体上に少なくとも電荷発生層、電荷輸送層がこの順に積層された電子写真感光体の製造方法において、該電荷輸送層が浸漬塗工によって、式（１）を満たす条件で塗工することを特徴とする電子写真感光体の製造方法。式（１）        （Ａ−Ｂ）／Ｃ＜１（ここで、Ａは感光体の有効書込み範囲の下端を塗工液に浸漬させている時間、Ｂは感光体の有効書込み範囲の上端を塗工液に浸漬させている時間、Ｃは感光体の有効書込み範囲の中心を塗工液に浸漬させている時間。）  電荷輸送層上に架橋型電荷輸送層が積層されることが好ましい。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
導電性支持体上に少なくとも電荷発生層、電荷輸送層がこの順に積層された電子写真感光体の製造方法において、該電荷輸送層が浸漬塗工によって、式（１）を満たす条件で塗工されることを特徴とする電子写真感光体の製造方法。
式（１）
（Ａ−Ｂ）／Ｃ＜１
（ここで、Ａは感光体の有効書込み範囲の下端を塗工液に浸漬させている時間、Ｂは感光体の有効書込み範囲の上端を塗工液に浸漬させている時間、Ｃは感光体の有効書込み範囲の中心を塗工液に浸漬させている時間。）
【請求項２】
前記電荷輸送層の上に架橋型電荷輸送層を積層し、その膜厚が１μｍ以上、１０μｍ以下であることを特徴とする請求項１に記載の電子写真感光体の製造方法。
【請求項３】
前記電荷輸送層に含有される電荷輸送物質が、下記一般式（４）に示される化合物を含有することを特徴とする請求項１又は２に記載の電子写真感光体の製造方法。
【化１】
2010271434.tif 000045
（式（４）中、ｎは０又は１であり、Ａｒ3及びＡｒ4は、置換もしくは無置換のアリール基、又は置換もしくは無置換の複素環基を表わし、Ｒ6〜Ｒ8は、それぞれ独立して、水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアルコキシ基、置換もしくは無置換のアリール基、置換もしくは無置換のアリールオキシ基、又は置換もしくは無置換の複素環基を表わし、Ｒ7、Ｒ8は、互いに結合して環を形成してもよく、Ａｒ5は、置換もしくは無置換のアリーレン基を表わす。）
【請求項４】
前記電荷輸送層に含有される電荷輸送物質が、下記一般式（５）で示されるジスチリルベンゼン化合物を含有することを特徴とする請求項１又は２に記載の電子写真感光体の製造方法。
【化２】
2010271434.tif 000046
（上記一般式（５）中、Ａｒ7は置換又は無置換の芳香族炭化水素基を表わす。Ａ1、Ａ2は下記一般式（６）で表わされ、同一でも異なっていてもよい。）
【化３】
2010271434.tif 000047
（上記一般式（６）中、Ａｒ8、Ａｒ9、Ａｒ10は置換又は無置換の芳香族炭化水素基を表わす。また、Ａｒ8とＡｒ9、Ａｒ9とＡｒ10、Ａｒ10とＡｒ8は結合して複素環を形成してもよい。）
【請求項５】
前記架橋型電荷輸送層が、少なくとも電荷輸送性構造を有しない３官能以上のラジカル重合性モノマーと１官能の電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物を反応硬化することにより形成されたものであることを特徴とする請求項２乃至４のいずれかに記載の電子写真感光体の製造方法。
【請求項６】
前記ラジカル重合性モノマーの官能基が、アクリロイルオキシ基、及びメタクリロイルオキシ基より選ばれる少なくとも１種の官能基であることを特徴とする請求項５に記載の電子写真感光体の製造方法。
【請求項７】
前記ラジカル重合性化合物の官能基が、アクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基であることを特徴とする請求項５又は６に記載の電子写真感光体の製造方法。
【請求項８】
前記架橋型電荷輸送層の反応硬化は、加熱手段又は光エネルギー照射手段を用いて行われることを特徴とする請求項５乃至７のいずれかに記載の電子写真感光体の製造方法。
【請求項９】
請求項１乃至８のいずれかに記載の電子写真感光体の製造方法により製造されたことを特徴とする電子写真感光体。
【請求項１０】
請求項９に記載の電子写真感光体を備えたことを特徴とする画像形成装置。
【請求項１１】
前記画像形成装置が、少なくとも複数の電子写真感光体、帯電手段、画像露光手段、現像手段およびクリーニング手段からなる複数の画像形成部を有するタンデム方式のフルカラー画像形成装置であることを特徴とする請求項１０に記載の画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子写真感光体の製造方法、その方法を使用して製造した電子写真感光体、その感光体を装着した画像形成装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、電子写真方式によるレーザープリンターやデジタル複写機等の画像形成装置は、画像品質やその安定性が向上し、それらの高速化、小型化、フルカラー化が急速に進行している。さらに最近では、商業印刷用としてこれらの画像形成装置が用いられるようになっており、それらに用いられる電子写真感光体の高耐久化と同時に高画質化の重要性が一段と高まっている。
【０００３】
これら画像形成装置に使用される電子写真感光体としては、有機系の感光材料を用いたものが、コスト、生産性及び環境安定性等の理由から、広く使用されている。これらの電子写真感光体の層構成としては、電荷発生機能と電荷輸送機能を一つの層に備えた単層型、電荷発生機能を有する電荷発生層と電荷輸送機能を有する電荷輸送層とに機能分離した積層型に大別されるが、静電特性の安定性や耐久性の面から後者が広く用いられている。
機能分離した積層型の感光体における静電潜像形成のメカニズムは、一様に帯電された感光体に光照射すると、光は電荷輸送層を通過し、電荷発生層中の電荷発生物質に吸収されて電荷（電荷対）を生成する。それによって発生した電荷が電荷発生層及び電荷輸送層の界面で電荷輸送層に注入され、さらに電界によって電荷輸送層中を移動し、感光体の表面に達し、帯電により与えられた表面電荷を中和して静電潜像が形成される。
【０００４】
しかし、有機系の感光体は、無機系の感光体に比べて、繰り返し使用することにより摩耗しやすいことが課題として認識されている。表面の感光層の摩耗が進むと、感光体の帯電電位の低下、光感度の劣化等を引き起こし、それによって地汚れの増加、画像濃度の低下等の画質劣化が促進されるため、有機系感光体の高耐久化が強く望まれている。さらに、近年の画像形成装置の小型化、感光体の小径化の必要性が高まっている。感光体の小径化に伴って、感光体の高耐久化に対する要求度は一層高くなっており、有機系材料を用いた感光体の高耐久化が、今後より一層重要かつ早期に解決すべき課題として認識されている。
【０００５】
感光体の高耐久化を実現する方法としては、感光体の最表面に保護層を設け、その保護層にフィラーや微粒子を分散させたり、保護層を硬化させたり、表面の潤滑性を高めたりする方法が広く知られている。これらの方法により、感光体表面の耐摩耗性が向上し、繰り返し使用経時における地汚れの発生を抑制することが可能となり、感光体の耐久性は向上することが確認されている。
【０００６】
しかしその一方で、保護層を積層することによって、１頁内での画像濃度ムラが生じてしまうという問題があった。画像濃度ムラは感光体１本内の露光後電位（ＶＬ）のばらつきが大きく関係している。そして、このＶＬのばらつきは膜厚の偏差や膜中の分子の分散均一性、更には各層の界面状態などが影響しており、感光体を構成する層の数が増えるほど、分子分散の均一性や界面状態の影響が大きくなる。保護層を積層することは感光体内の層界面を増やすこととなり、ＶＬばらつきを増大させる要因の一つとなっている。さらに、保護層は耐磨耗性を向上させる一方で、電荷輸送層に比べて電荷移動度が劣るだけでなく、膜中に電子のトラップサイトが形成されやすく、ＶＬのばらつきは必然的に増大してしまう。これによって、１頁内の画像濃度ムラが生じてしまうこととなり、保護層を積層した感光体では感光体１本内のＶＬのばらつきを低減させる必要がある。感光体１本内のＶＬのばらつきは感光体の長手方向のばらつきと、周方向のばらつきの２種類に大別できるが、特に長手方向のＶＬのばらつきは周方向に比べて大きい。そして、画像濃度ムラは感光体の長手方向に顕著に生じる傾向があることから、長手方向のＶＬのばらつきを低減することが必要となる。
【０００７】
ＶＬのばらつきが発生する要因として、特に大きいのは感光体の製造工程で発生する塗布ムラなど塗膜の不均一性である。そこで、塗膜の不均一性を改善する目的で、以下のような方法が提案されている。
（１）特許文献１（特開平１１−２５８８３８号公報）には、電荷発生層を浸漬塗工により積層する際に、塗布液へのドラムの浸漬速度と塗布液内にドラム全体が浸漬された状態での静止時間との関係を制御することでスジ状の塗布ムラを防止する方法を提案している。
この方法は電荷発生層を浸漬塗工する際のスジ状の塗布ムラを防止することはできるが、電荷輸送層の浸漬塗工時の塗膜均一性を向上させることは出来ない。
【０００８】
（２）特許文献２（特開２００８−０６２１３１号公報）には、浸漬塗工方法において、ドラムの上部部分については引上げ速度をドラム引上げ距離の増加とともに指数関数に従って加速度的に低下させ、ドラムの上端部を除く下方部の引上げ工程ではドラムの引上げ速度を一定に維持することによって、ドラム全長にわたって塗膜厚さを均一にする方法が提案されている。
（３）特許文献３（特開２０００−３２１７９６号公報）には、被塗布物を塗工槽中にある塗布液に浸漬する際、該被塗布物の下端が塗布槽中にある塗布液に侵入後、該被塗布物表面と塗布槽中を移動するもしくは塗布槽中に静止している塗布液との間の相対的な速度を変化させながら浸漬させることで、濃淡ムラや縦スジ状の色ムラ、塗布ムラ等の塗膜欠陥が発生しない塗布方法を提案している。
（４）特許文献４（特開平０９−２５８４６１号公報）には、積層型電子写真感光体の製造方法において、感光層塗布後の基体の移動速度を感光層塗布時の基体の移動速度よりも速くして積層型電子写真感光体の製造を行うことで、均一な膜形成を可能にする方法が提案されている。
これらの方法はいずれも塗膜厚さを均一にするために提案されているが、塗膜厚さを均一にするだけではＶＬのばらつきは低減しないため、１頁内での画像濃度ムラの改善方法としては不十分である。
【０００９】
（５）特許文献５（特開２００８−４６１６７号公報）には、導電性支持体上に、電荷発生物質を主成分とする電荷発生層と、電荷輸送物質及びバインダー樹脂を主成分とする電荷輸送層と、電荷輸送性構造を有さないラジカル重合性化合物と電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物を硬化反応させることによって形成された保護層とを少なくとも有し、前記電荷発生層、電荷輸送層および保護層とがこの順に前記導電性支持体上に積層された電子写真感光体の製造方法であって、前記電荷輸送層を形成した後、該電荷輸送層の表面を研磨し、該研磨した電荷輸送層の表面に前記保護層を形成することで、電荷輸送層表面に生じている電荷輸送物質の濃度傾斜をなくすことで残留電位の上昇を抑制し高画質画像を安定して出力する方法を提案している。
この方法は、残留電位の上昇やＶＬのばらつきに対して有効ではあるが、電荷輸送層表面を研磨するという新しい工程を必要とし、電荷輸送層表面全体を均一に研磨するためには高精度の研磨機構を設けなくてはならず、製造コストを増大させてしまう。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明は、従来における前記問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。
すなわち、本発明は感光体１本内のＶＬばらつきにより発生する１頁内の画像濃度ムラを抑制することができ、更に電子写真感光体の耐摩耗性を向上させ、高耐久化と高画質化を実現可能な電子写真感光体の製造方法及びその方法で製造した電子写真感光体を提供することを目的とする。また、本発明は、該感光体を備えた画像形成装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記課題は、以下の本発明によって解決される。
（１）導電性支持体上に少なくとも電荷発生層、電荷輸送層がこの順に積層された電子写真感光体の製造方法において、該電荷輸送層が浸漬塗工によって、式（１）を満たす条件で塗工されることを特徴とする電子写真感光体の製造方法。
式（１）
（Ａ−Ｂ）／Ｃ＜１
（ここで、Ａは感光体の有効書込み範囲の下端を塗工液に浸漬させている時間、Ｂは感光体の有効書込み範囲の上端を塗工液に浸漬させている時間、Ｃは感光体の有効書込み範囲の中心を塗工液に浸漬させている時間。）
（２）前記電荷輸送層の上に架橋型電荷輸送層を積層し、その膜厚が１μｍ以上、１０μｍ以下であることを特徴とする前記（１）に記載の電子写真感光体の製造方法。
（３）前記電荷輸送層に含有される電荷輸送物質が、下記一般式（４）に示される化合物を含有することを特徴とする前記（１）又は（２）に記載の電子写真感光体の製造方法。
【化１】
2010271434.tif 000002
（式（４）中、ｎは０又は１であり、Ａｒ3及びＡｒ4は、置換もしくは無置換のアリール基、又は置換もしくは無置換の複素環基を表わし、Ｒ6〜Ｒ8は、それぞれ独立して、水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアルコキシ基、置換もしくは無置換のアリール基、置換もしくは無置換のアリールオキシ基、又は置換もしくは無置換の複素環基を表わし、Ｒ7、Ｒ8は、互いに結合して環を形成してもよく、Ａｒ5は、置換もしくは無置換のアリーレン基を表わす。）
（４）前記電荷輸送層に含有される電荷輸送物質が、下記一般式（５）で示されるジスチリルベンゼン化合物を含有することを特徴とする前記（１）又は（２）に記載の電子写真感光体の製造方法。
【化２】
2010271434.tif 000003
（上記一般式（５）中、Ａｒ7は置換又は無置換の芳香族炭化水素基を表わす。Ａ1、Ａ2は下記一般式（６）で表わされ、同一でも異なっていてもよい。）
【化３】
2010271434.tif 000004
（上記一般式（６）中、Ａｒ8、Ａｒ9、Ａｒ10は置換又は無置換の芳香族炭化水素基を表わす。また、Ａｒ8とＡｒ9、Ａｒ9とＡｒ10、Ａｒ10とＡｒ8は結合して複素環を形成してもよい。）
（５）前記架橋型電荷輸送層が、少なくとも電荷輸送性構造を有しない３官能以上のラジカル重合性モノマーと１官能の電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物を反応硬化することにより形成されたものであることを特徴とする前記（２）ないし（４）のいずれかに記載の電子写真感光体の製造方法。
（６）前記ラジカル重合性モノマーの官能基が、アクリロイルオキシ基、及びメタクリロイルオキシ基より選ばれる少なくとも１種の官能基であることを特徴とする前記（５）に記載の電子写真感光体。
（７）前記ラジカル重合性化合物の官能基が、アクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基であることを特徴とする前記（５）又は（６）に記載の電子写真感光体の製造方法。
（８）前記架橋型電荷輸送層の反応硬化は、加熱手段又は光エネルギー照射手段を用いて行われることを特徴とする前記（５）乃至（７）のいずれかに記載の電子写真感光体の製造方法。
（９）前記（１）ないし（８）のいずれかに記載の電子写真感光体の製造方法により製造されたことを特徴とする電子写真感光体。
（１０）前記（９）に記載の電子写真感光体を備えたことを特徴とする画像形成装置。
（１１）前記画像形成装置が、少なくとも複数の電子写真感光体、帯電手段、画像露光手段、現像手段およびクリーニング手段からなる複数の画像形成部を有するタンデム方式のフルカラー画像形成装置であることを特徴とする前記（１０）に記載の画像形成装置。
【発明の効果】
【００１２】
本発明の電子写真感光体の製造方法によれば、導電性支持体上に、電荷発生層、電荷輸送層を順次設けた感光体を形成する際、電荷輸送層を上記式（１）に従った塗工条件で塗工することで、電荷発生層と電荷輸送層の界面状態の不均一性によって発生する画像濃度ムラが抑制され、更に電荷輸送層上に架橋型電荷輸送層を設けることにより耐摩耗性が向上され、高耐久性と高画質化が実現できる電子写真感光体が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明の画像形成装置の一例を示す概略図である。
【図２】本発明の電子写真感光体の断面図の一例である。
【図３】式（１）の算出方法の説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、図面を参照にして、本発明の電子写真感光体の製造方法および、該感光体を用いた画像形成装置について詳細に説明する。
本発明者らは、保護層として架橋型電荷輸送層を形成したことによる１頁内画像濃度ムラという副作用が、架橋型電荷輸送層ではなく架橋型電荷輸送層の下に形成される電荷輸送層を改善することによって大幅に改善できることを見出し、本発明を完成するに至った。したがって、本発明によれば、高画質化と高耐久化との両立を可能とし、１頁内における画像濃度ムラがない高画質画像が安定して得られる画像形成装置が提供される。
【００１５】
本発明は、導電性支持体上に少なくとも電荷輸送物質を主成分とする電荷発生層、電荷輸送物質およびバインダー樹脂を主成分とする電荷輸送層、および好ましくは電荷輸送性構造を有さないラジカル重合性化合物と、電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物を硬化反応させることによって形成された架橋型電荷輸送層が順次積層されている感光体の製造方法であって、前記電荷輸送層を塗工する際に、前記式（１）が成り立つような条件で塗工した上に架橋型電荷輸送層を形成することを特徴とする感光体の製造方法を含んでいる。
【００１６】
電荷発生層や電荷輸送層は浸漬塗工法等の一般的な塗工方法によって積層されており、電荷輸送層を浸漬塗工で積層する際には一般的に塗工液の溶媒として有機溶媒が用いられている。そして、下層の電荷発生層に用いられている樹脂はこの有機溶媒に可溶であることは広く知られている。電荷発生層上に電荷輸送層を浸漬塗工によって積層する場合、電荷発生層のごく表面の樹脂は塗工液の有機溶媒によってわずかに溶解されており、この電荷発生層のごく表面のみで起こっている樹脂の溶解が感光体１本内のＶＬのばらつき、更には１頁内画像濃度ムラに影響を与えていると考えられる。
【００１７】
電荷発生層は電荷発生物質が樹脂中に分散された状態で層を形成している。電荷発生物質は樹脂に覆われているため、電荷発生層を浸漬塗工した場合、表面は樹脂で覆われている。そして、電荷発生層の表面近傍の樹脂は電荷輸送層を積層する際に、塗工液の溶媒によってわずかであるが溶解される。樹脂が多く溶解されると、相対的に電荷発生物質の濃度が高くなり、電荷発生物質と電荷輸送層の電荷輸送物質の分子間距離が近づくため、界面での電荷移動がスムーズになると考えられる。
【００１８】
一般的な浸漬塗工法では、導電性支持体は、塗工液に対して垂直に軸方向の下端から挿入され、導電性支持体の塗工領域が全て塗工液に浸漬された状態、つまり、導電性支持体の上端まで塗工液に浸漬された状態で所定時間停止する。その後、引上げ速度を制御しながら導電性支持体を引上げて所定の膜厚の層を積層するため、導電性支持体の塗工領域の下端と上端とでは、塗工液に浸漬されている時間が異なり、下部は浸漬時間が長く、上部は浸漬時間が短くなる。つまり、電荷発生層上に電荷輸送層を浸漬塗工する場合、電荷発生層と電荷輸送層の界面近傍では、下端は浸漬時間が長いために電荷発生層の樹脂が多く溶解し、上端は浸漬時間が短いために溶解する量は少ない。その結果、支持体の下端から上端にかけて界面近傍の電荷発生物質の濃度傾斜が生じる。一般的に、電荷輸送層の電荷発生物質の濃度がＶＬに大きく影響することが知られている。このことから、樹脂の溶解の差によって界面近傍に形成された電荷発生物質の濃度傾斜が感光体の軸方向のＶＬばらつきを生じさせていると考えられる。
【００１９】
これに対し、本発明者らは支持体の有効書き込み範囲において、軸方向の濃度傾斜が低減されればＶＬばらつきがなくなると考えた。浸漬塗工の場合、挿入速度や引上げ速度を変化させる方法や、支持体をある任意の長さだけ引き上げてから再び塗工液へ挿入し、その後、引き上げて塗工する方法など様々な塗工方法があるが、いずれにおいても感光体の有効書き込み範囲の上端と下端の塗工液への浸漬時間差が小さくなれば軸方向の濃度傾斜は低減できる。そのため、鋭意検討を重ねた結果、感光体の有効書き込み範囲の下端を塗工液に浸漬させている時間と、感光体の有効書き込み範囲の上端を塗工液に浸漬させている時間の差が、感光体の有効書込み範囲の中心を塗工液に浸漬させている時間よりも小さくなる条件で塗工することによって、電荷輸送層の塗工によって生じる濃度傾斜をなくすことができることを見出した。感光体の有効書き込み範囲の上端とは、浸漬塗工時の支持体の上側で、通紙可能な最大の印刷物の端の位置であり、感光体の有効書き込み範囲の下端とは浸漬塗工時の支持体の下側で、通紙可能な最大の印刷物の端の位置である。そして、感光体の有効書込み範囲の中央とは通紙可能な最大印刷物の両端から感光体の軸方向に対して等距離となる位置である。
【００２０】
つまり、式（１）を満たす条件で塗工する事で、浸漬時間差によるＶＬのばらつきをなくす事ができる。
式（１）
（Ａ−Ｂ）／Ｃ＜１
（ここで、Ａは感光体の有効書き込み範囲の下端を塗工液に浸漬させている時間、Ｂは感光体の有効書き込み範囲の上端を塗工液に浸漬させている時間、Ｃは感光体の有効書込み範囲の中心を塗工液に浸漬させている時間。）
【００２１】
さらに、式（１）の（Ａ−Ｂ）／Ｃは０．３＜（Ａ−Ｂ）／Ｃ＜０．７の範囲であることが好ましく、Ａ、Ｂ、Ｃに関してはそれぞれ、１４０秒＜Ａ＜２７０秒、７０秒＜Ｂ＜２００秒、１００秒＜Ｃ＜２３０秒の範囲であることが好ましい。
本発明においては上記式（１）を満たせばよいが、製造時のタクト（１本塗工するのに必要な時間）面や、電荷発生層液が溶け出すことによる電荷輸送層塗工液の汚染を考慮すると、０．３＜（Ａ−Ｂ）／Ｃ＜０．７が好ましい。基本的に（Ａ−Ｂ）／Ｃを小さくしようとすると浸漬停止時間を長くする必要があり、そうすると、１本（数本単位で塗工するのであれば1セット）を塗工するのに時間がかかってしまい、生産性が低下する。また、０．３以下だと浸漬停止時間を長くするので、電荷発生層液が電荷輸送層液に溶け出し、電荷輸送層液の汚染による不具合が懸念される。また、０．７未満とすることにより、よりＶＬのばらつきを小さくすることができる。
これにより、支持体の電荷発生層と電荷輸送層界面で、支持体の有効書き込み範囲で生じる電荷発生物質の濃度傾斜を極限まで小さくすることができる。そして、電荷輸送層上に架橋型電荷輸送層を積層したことによるＶＬのばらつきをなくし、１頁内画像濃度ムラをなくすことができる。
【００２２】
本発明によれば、耐摩耗性や耐キズ性などの向上に有効な架橋型電荷輸送層を最外表面に形成し、その下に形成される電荷輸送層の塗工条件を式（１）を満たすように制御することによって、架橋型電荷輸送層を用いる場合の課題であったＶＬばらつきが抑制され、高耐久化と高画質化の両立を実現することが可能となった。
【００２３】
＜画像形成装置＞
まず、本発明を適用できる画像形成装置の一例を示す部分断面概略図を、図１に示す。
本発明の画像形成装置は、耐摩耗性及び耐傷性が非常に高い架橋型電荷輸送層を表面に有する積層型感光体を用いる。さらに本発明の画像形成装置では、電子写真感光体と、少なくとも帯電手段、露光手段、現像手段、感光体上の可視像を直接又は中間転写体を介して記録紙に転写する転写手段、クリーニング手段、潤滑剤塗布手段および除電手段を具備している。このような本発明の画像形成方法としては、少なくとも感光体に負帯電、画像露光、現像の過程を経た後、転写体へのトナー画像の転写、定着、感光体表面のクリーニング、潤滑剤塗布、除電というプロセスを実行可能である。また静電潜像を直接転写体に転写し、現像する画像形成方法では、上記プロセスを必ずしも有していなくてもよい。
【００２４】
帯電手段としては、感光体を均一に帯電させる手段として、帯電チャージャ（３）が好ましく用いられる。この帯電手段としては、コロトロンデバイス、スコロトロンデバイス、固体放電素子、針電極デバイス、ローラー帯電デバイス、導電性ブラシデバイス等が用いられ、公知の方式が使用可能である。
露光手段としては、均一に帯電された感光体（１）上に静電潜像を形成するための画像露光部（５）が用いられる。この光源には、蛍光灯、タングステンランプ、ハロゲンランプ、水銀灯、ナトリウム灯、発光ダイオード（ＬＥＤ）、半導体レーザー（ＬＤ）、エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）などの発光物全般を用いることができる。そして、所望の波長域の光のみを照射するために、シャープカットフィルター、バンドパスフィルター、近赤外カットフィルター、ダイクロイックフィルター、干渉フィルター、色温度変換フィルターなどの各種フィルターを用いることもできる。
【００２５】
現像手段としては、感光体（１）上に形成された静電潜像を可視化するための現像ユニット（６）が用いられる。現像方式としては、乾式トナーを用いた一成分現像法、二成分現像法、湿式トナーを用いた湿式現像法がある。感光体に負帯電を施し、画像露光を行なうと、感光体表面上には負の静電潜像が形成される。これを正極性のトナー（検電微粒子）で現像すれば、ポジ画像が得られるし、また負極性のトナーで現像すれば、ネガ画像が得られる。
転写手段としては、感光体上で可視化されたトナー像を転写体（９）上に転写するための転写チャージャ（１０）が用いられる。また、転写をより良好に行なうために転写前チャージャ（７）を用いてもよい。これらの転写手段としては、転写チャージャ、バイアスローラーを用いる静電転写方式、粘着転写法、圧力転写法等の機械転写方式、磁気転写方式が利用可能である。静電転写方式としては、前記帯電手段が利用可能である。
【００２６】
クリーニング手段としては、転写後感光体上に残されたトナーをクリーニングするためのファーブラシ（１４）、クリーニングブレード（１５）が用いられる。また、クリーニングをより効率的に行なうためにクリーニング前チャージャ（１３）を用いてもよい。その他クリーニング手段としては、ウェブ方式、マグネットブラシ方式等があるが、それぞれ単独又は複数の方式を一緒に用いてもよい。
【００２７】
潤滑剤塗布手段
潤滑剤塗布手段はクリーニングを効率的に行うために、感光体表面の摩擦係数を低減させる方法として知られている。また、潤滑剤は帯電時の放電エネルギーなどによる劣化を低減するという保護膜としての効果も知られている。これらのことから、潤滑剤塗布は感光体の高耐久化に対して非常に有効である。
潤滑剤塗布手段は、潤滑剤（棒状体）（１６）、該潤滑剤１６を掻き取り、感光体に塗布するローラ（１７）および潤滑剤を均一に塗布する塗布ブレード（１８）で構成されている。
【００２８】
感光体に塗布する潤滑剤としては、固体に成型された公知の潤滑剤を用いることが出来る。例えば下記のものあるいは下記の化合物の金属塩が挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらは１種単独で使用可能であり、また、これらを２種以上混合して使用することも出来る。
マイカ、窒化ホウ素、二硫化モリブデン、二硫化タングステン、カオリン、モンモリロナイト、フッ化カルシウム、グラファイト等の無機潤滑剤；流動パラフィン、パラフィンワックス、マイクロワックス、低重合ポリエチレン等の炭化水素系化合物；ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、アラキジン酸、ベヘン酸等の脂肪酸系化合物；ステアリルアミド、パルミチルアミド、オレインアミド、メチレンビスステアロアミド、エチレンビスステアロアミド等の脂肪酸アミド系化合物；脂肪酸の低級アルコールエステル、脂肪酸の多価アルコールエステル、脂肪酸ポリグリコール等のエステル系化合物；セチルアルコール、ステアリルアルコール、エチレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリ繰りセロール等のアルコール系化合物；カルナウバロウ、カルデリラロウ、蜜ロウ、鯨ロウ、イボタロウ、モンタンロウ等の天然ワックス；その他シリコーン化合物、フッ素化合物等が挙げられる。
【００２９】
中でも、金属石鹸を用いることが好ましい。金属石鹸とは、上記した脂肪酸等、有機酸の非アルカリ金属塩のことであり、一般に市販されている、例えば、ステアリン酸アルミニウム、ステアリン酸カルシウム、オレイン酸カルシウム、ステアリン酸亜鉛、ラウリン酸亜鉛、オレイン酸亜鉛、ステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸ニッケル、ステアリン酸コバルト、ステアリン酸バリウム等を使用することが出来る。特に中でも金属として亜鉛を含有する金属石鹸は、繰り返し使用時の電荷の蓄積性が他に比較して特に少なく好ましい。
【００３０】
除電手段
また本発明の画像形成装置では、感光体上の潜像を取り除く目的で除電手段を用いることができる。
除電手段としては、除電ランプ（２）、除電チャージャが用いられ、それぞれ前記露光光源、帯電手段が利用できる。
【００３１】
本発明の画像形成装置では、上記した各手段の他に、転写体（９）を感光体（１）より分離する手段を用いることができる。この転写体（９）を感光体（１）より分離する手段としては、分離チャージャ（１１）、分離爪（１２）が用いられる。その他分離手段として、静電吸着誘導分離、側端ベルト分離、先端グリップ搬送、曲率分離等が用いられる。分離チャージャ（１１）としては、前記帯電手段が利用可能である。
【００３２】
次に、本発明の画像形成装置に使用される感光体について、その層構造に従い説明する。
＜電子写真感光体の層構造＞
本発明に用いられる電子写真感光体を図面に基づいて説明する。
図２は、本発明の電子写真感光体を表わす断面図である。
導電性支持体（３１）上に、電荷発生機能を有する電荷発生層（３５）と、電荷輸送機能を有する電荷輸送層（３７）とさらに架橋型電荷輸送層（３９）が積層された積層構造の感光体である。
【００３３】
＜導電性支持体＞
導電性支持体（３１）としては、体積抵抗１０10Ω・ｃｍ以下の導電性を示すもの、例えば、アルミニウム、ニッケル、クロム、ニクロム、銅、金、銀、白金などの金属、酸化スズ、酸化インジウムなどの金属酸化物を蒸着またはスパッタリングにより、フィルム状もしくは円筒状のプラスチック、紙に被覆したもの、あるいはアルミニウム、アルミニウム合金、ニッケル、ステンレスなどの板およびそれらを押し出し、引き抜きなどの工法で素管化後、切削、超仕上げ、研摩などの表面処理を施した管などを使用することができる。また、特開昭５２−３６０１６号公報に開示されたエンドレスニッケルベルト、エンドレスステンレスベルトも導電性支持体（３１）として用いることができる。
【００３４】
この他、上記支持体上に導電性粉体を適当な結着樹脂に分散して塗工したものについても、本発明の導電性支持体（３１）として用いることができる。
この導電性粉体としては、カーボンブラック、アセチレンブラック、また、アルミニウム、ニッケル、鉄、ニクロム、銅、亜鉛、銀などの金属粉、あるいは導電性酸化スズ、ＩＴＯなどの金属酸化物粉体などが挙げられる。また、同時に用いられる結着樹脂には、ポリスチレン、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエステル、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリアリレート樹脂、フェノキシ樹脂、ポリカーボネート、酢酸セルロース樹脂、エチルセルロース樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリビニルトルエン、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂などの熱可塑性、熱硬化性樹脂または光硬化性樹脂が挙げられる。このような導電性層は、これらの導電性粉体と結着樹脂を適当な溶剤、例えば、テトラヒドロフラン、ジクロロメタン、メチルエチルケトン、トルエンなどに分散して塗布することにより設けることができる。
【００３５】
さらに、適当な円筒基体上にポリ塩化ビニル、ポリプロピレン、ポリエステル、ポリスチレン、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、塩化ゴム、ポリテトラフロロエチレン系フッ素樹脂などの素材に前記導電性粉体を含有させた熱収縮チューブによって導電性層を設けてなるものも、本発明の導電性支持体（３１）として良好に用いることができる。
【００３６】
＜感光層＞
（電荷発生層）
電荷発生層（３５）は、電荷発生機能を有する電荷発生物質を主成分とする層で、電荷発生物質及びバインダー樹脂を溶剤に溶解又は分散した塗工液を塗工し、乾燥することにより形成される。電荷発生物質としては、無機系材料と有機系材料を用いることができる。
無機系材料には、結晶セレン、アモルファス・セレン、セレン−テルル、セレン−テルル−ハロゲン、セレン−ヒ素化合物や、アモルファス・シリコン等が挙げられる。アモルファス・シリコンにおいては、ダングリングボンドを水素原子、ハロゲン原子でターミネートしたものや、ホウ素原子、リン原子等をドープしたものが良好に用いられる。
【００３７】
一方、有機系材料としては、公知の材料を用いることができる。例えば、金属フタロシアニン、無金属フタロシアニン等のフタロシアニン系顔料、アズレニウム塩顔料、スクエアリック酸メチン顔料、カルバゾール骨格を有するアゾ顔料、トリフェニルアミン骨格を有するアゾ顔料、ジフェニルアミン骨格を有するアゾ顔料、ジベンゾチオフェン骨格を有するアゾ顔料、フルオレノン骨格を有するアゾ顔料、オキサジアゾール骨格を有するアゾ顔料、ビススチルベン骨格を有するアゾ顔料、ジスチリルオキサジアゾール骨格を有するアゾ顔料、ジスチリルカルバゾール骨格を有するアゾ顔料、ペリレン系顔料、アントラキノン系または多環キノン系顔料、キノンイミン系顔料、ジフェニルメタン及びトリフェニルメタン系顔料、ベンゾキノン及びナフトキノン系顔料、シアニン及びアゾメチン系顔料、インジゴイド系顔料、ビスベンズイミダゾール系顔料などが挙げられる。これらの電荷発生物質は、単独または２種以上の混合物として用いることができる。
【００３８】
電荷発生層（３５）に必要に応じて用いられるバインダー樹脂としては、ポリアミド、ポリウレタン、エポキシ樹脂、ポリケトン、ポリカーボネート、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリビニルケトン、ポリスチレン、ポリスルホン、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリアクリルアミド、ポリビニルベンザール、ポリエステル、フェノキノン樹脂、塩化ビニルー酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリフェニレンオきシド、ポリアミド、ポリビニルピリジン、セルロース系樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドンなどが挙げられる。これらのバインダー樹脂は、単独または２種以上の混合物として用いることができる。
バインダー樹脂の添加量は、電荷発生物質１００重量部に対して、通常、０〜５００重量部であり、１０〜３００重量部が好ましい。
【００３９】
電荷発生層は、電荷発生物質を必要に応じて、バインダー樹脂と共に、ボールミル、アトライター、サンドミル、超音波等の公知の分散方法を用いて溶剤中に分散した塗工液を、導電性支持体上又は下引き層上に塗布、乾燥することにより形成される。なお、バインダー樹脂の添加は電荷発生物質の分散前及び分散後のどちらでも構わない。
ここで用いられる溶剤としては、イソプロパノール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチルセルソルブ、酢酸エチル、酢酸メチル、ジクロロエタン、モノクロロベンゼン、シクロヘキサン、トルエン、キシレン、リグロイン等の一般的に用いられている有機溶剤が挙げられるが、中でも、ケトン系溶媒、エステル系溶媒、エーテル系溶媒を使用することが好ましい。これらは単独で用いても２種以上混合して用いても良い。
【００４０】
電荷発生層の塗工液は電荷発生物質、溶媒及びバインダー樹脂を主成分とするが、その中には、増感剤、分散剤、界面活性剤、シリコーンオイル等の添加剤が含まれていても良い。
電荷発生層は上記塗工液を用いて塗工し、乾燥することにより得られるが、この塗工方法としては、浸漬塗工、スプレーコート、ビードコート、ノズルコート、スピナーコート、リングコート等の公知の方法を用いることができる。
以上のようにして設けられる電荷発生層の膜厚は、０．０１〜５μｍ程度が適当であり、好ましくは０．０５〜２μｍである。また、塗工後の乾燥はオーブン等を用いて加熱乾燥される。電荷発生層の乾燥温度は、５０〜１６０℃が好ましく、８０〜１４０℃が更に好ましい。
【００４１】
（電荷輸送層）
電荷輸送層（３７）は電荷輸送機能を有する層で、電荷輸送機能を有する電荷輸送物質および結着樹脂を適当な溶剤に溶解ないし分散し、これを電荷発生層（３５）上に塗布、乾燥することにより形成させる。
電荷輸送物質には、正孔輸送物質と電子輸送物質とがある。
電子輸送物質としては、例えば、クロルアニル、ブロムアニル、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、２，４，７‐トリニトロ‐９‐フルオレノン、２，４，５，７‐テトラニトロ‐９‐フルオレノン、２，４，５，７‐テトラニトロキサントン、２，４，８‐トリニトロチオキサントン、２，６，８‐トリニトロ‐４Ｈ‐インデノ〔１，２‐ｂ〕チオフェン‐４‐オン、１，３，７‐トリニトロジベンゾチオフェン‐５，５‐ジオキサイド、ベンゾキノン誘導体等の電子受容性物質が挙げられる。
【００４２】
正孔輸送物質としては、ポリ（Ｎ‐ビニルカルバゾール）及びその誘導体、ポリ（γ‐カルバゾリルエチルグルタメート）及びその誘導体、ピレン‐ホルムアルデヒド縮合物及びその誘導体、ポリビニルピレン、ポリビニルフェナントレン、ポリシラン、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、モノアリールアミン誘導体、ジアリールアミン誘導体、トリアリールアミン誘導体、スチルベン誘導体、α‐フェニルスチルベン誘導体、アミノビフェニル誘導体、ベンジジン誘導体、ジアリールメタン誘導体、トリアリールメタン誘導体、９‐スチリルアントラセン誘導体、ピラゾリン誘導体、ジビニルベンゼン誘導体、ヒドラゾン誘導体、インデン誘導体、ブタジエン誘導体、ピレン誘導体等、ビススチルベン誘導体、エナミン誘導体等の材料が挙げられる。
【００４３】
これらの電荷輸送物質は、単独又は２種以上混合して用いられる。これらの中でも、下記一般式（４）に示す化合物や下記一般式（５）に示す化合物が、残留電位低減や感度劣化を抑制する上で特に有効である。
【化４】
2010271434.tif 000005
式（４）中、ｎは０又は１であり、Ａｒ3及びＡｒ4は、置換もしくは無置換のアリール基、又は置換もしくは無置換の複素環基を表わし、Ｒ6〜Ｒ8は、それぞれ独立して、水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアルコキシ基、置換もしくは無置換のアリール基、置換もしくは無置換のアリールオキシ基、又は置換もしくは無置換の複素環基を表わし、Ｒ7、Ｒ8は、互いに結合して環を形成してもよく、Ａｒ5は、置換もしくは無置換のアリーレン基を表わす。
【００４４】
【化５】
2010271434.tif 000006
（上記一般式（５）中、Ａｒ7は置換又は無置換の芳香族炭化水素基を表わす。Ａ1、Ａ2は下記一般式（６）で表わされ、同一でも異なっていてもよい。）
【化６】
2010271434.tif 000007
（上記一般式（６）中、Ａｒ8、Ａｒ9、Ａｒ10は置換又は無置換の芳香族炭化水素基を表わす。また、Ａｒ8とＡｒ9、Ａｒ9とＡｒ10、Ａｒ10とＡｒ8は結合して複素環を形成してもよい。）
【００４５】
前記一般式（４）で示される化合物の具体例としては、次のようなものが挙げられる。
【化７】
2010271434.tif 000008
【００４６】
【化８】
2010271434.tif 000009
【００４７】
【化９】
2010271434.tif 000010
【００４８】
【化１０】
2010271434.tif 000011
【００４９】
前記一般式（５）で示されるジスチリルベンゼン化合物の具体例としては、次のようなものが挙げられる。
【化１１】
2010271434.tif 000012
【００５０】
【化１２】
2010271434.tif 000013
【００５１】
【化１３】
2010271434.tif 000014
【００５２】
【化１４】
2010271434.tif 000015
【００５３】
バインダー樹脂としては、ポリスチレン、スチレン‐アクリロニトリル共重合体、スチレン‐ブタジエン共重合体、スチレン‐無水マレイン酸共重合体、ポリエステル、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル‐酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリアリレート、フェノキシ樹脂、ポリカーボネート、酢酸セルロース樹脂、エチルセルロース樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリビニルトルエン、ポリ（Ｎ‐ビニルカルバゾール）、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂等の熱可塑性又は熱硬化性樹脂が挙げられるが、中でも、ポリカーボネート及びポリアリレートが好ましい。
【００５４】
用いられる溶剤としては、テトラヒドロフラン、ジオキサン、トルエン、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、キシレン、アセトン、ジエチルエーテル、メチルエチルケトン等が用いられる。これらは、単独で使用してもよく、また２種以上混合して使用してもよい。
【００５５】
電荷輸送層は前記塗工液を用いて塗工した後にオーブン等で加熱乾燥させて得られる。本発明において、電荷輸送層の乾燥温度は、このように電荷輸送層の塗工液に含有される溶剤の種類によって異なるが、８０〜１５０℃であることが好ましく、１００〜１４０℃がさらに好ましい。
電荷輸送物質の量は結着樹脂１００重量部に対し、２０〜３００重量部、好ましくは４０〜１５０重量部が適当である。
【００５６】
また、必要により可塑剤、レベリング剤を添加することもできる。
電荷輸送層に併用できる可塑剤としては、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレート等の一般的に使われている樹脂の可塑剤として使用されているものがそのまま使用でき、その使用量は、結着樹脂１００重量部に対して０〜３０重量部程度が適当である。
電荷輸送層に併用できるレベリング剤としては、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル等のシリコーンオイル類や、側鎖にパーフルオロアルキル基を有するポリマーあるいはオリゴマーが使用され、その使用量は、結着樹脂１００重量部に対して０〜１重量部程度が適当である。
【００５７】
電荷輸送層の膜厚は、５〜４０μｍ程度が適当であり、好ましくは１０〜３０μｍ程度が適当である。
【００５８】
＜架橋型電荷輸送層＞
本発明において使用される架橋型電荷輸送層は、少なくとも電荷輸送性構造を有しない３官能以上のラジカル重合性モノマーと１官能の電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物を反応硬化（以下、「重合」とも称す）することにより形成されたものが好ましい。架橋型電荷輸送層を重合する前の架橋型電荷輸送層塗布液について、その構成材料を、まず説明する。
【００５９】
本発明に用いられる電荷輸送性を有しない３官能以上のラジカル重合性モノマーとは、例えばトリアリールアミン、ヒドラゾン、ピラゾリン、カルバゾールなどの正孔輸送性構造や、縮合多環キノン、ジフェノキノン、シアノ基やニトロ基を有する電子吸引性芳香族環などの電子輸送構造を有しておらず、且つラジカル重合性官能基を３個以上有するモノマーを指す。このラジカル重合性官能基とは、炭素−炭素２重結合を有し、ラジカル重合可能な基であれば何れでもよい。
【００６０】
これらラジカル重合性官能基としては、例えば、下記（１）〜（２）にそれぞれ示す、１−置換エチレン官能基、１，１−置換エチレン官能基等が挙げられる。
（１）１−置換エチレン官能基としては、例えば以下の式で表わされる官能基が挙げられる。
ＣＨ2＝ＣＨ−Ｘ1−  ・・・・式（１０）
ただし、式（１０）中、Ｘ1は、置換基を有していてもよいフェニレン基、ナフチレン基等のアリーレン基、置換基を有していてもよいアルケニレン基、−ＣＯ−基、−ＣＯＯ−基、−ＣＯＮ（Ｒ10）−基（Ｒ10は、水素、メチル基、エチル基等のアルキル基、ベンジル基、ナフチルメチル基、フェネチル基等のアラルキル基、フェニル基、ナフチル基等のアリール基を表わす。）、または−Ｓ−基を表わす。
上記置換基を具体的に例示すると、ビニル基、スチリル基、２−メチル−１，３−ブタジエニル基、ビニルカルボニル基、アクリロイルオキシ基、アクリロイルアミド基、ビニルチオエーテル基等が挙げられる。
【００６１】
（２）１，１−置換エチレン官能基としては、例えば以下の式で表わされる官能基が挙げられる。
ＣＨ2＝Ｃ（Ｙ）−Ｘ2−  ・・・・式（１１）
ただし、式（１１）中、Ｙは、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいフェニル基、ナフチル基等のアリール基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、メトキシ基あるいはエトキシ基等のアルコキシ基、−ＣＯＯＲ11基（Ｒ11は、水素原子、置換基を有していてもよいメチル基、エチル基等のアルキル基、置換基を有していてもよいベンジル、フェネチル基等のアラルキル基、置換基を有していてもよいフェニル基、ナフチル基等のアリール基、または−ＣＯＮＲ12Ｒ13（Ｒ12およびＲ13は、水素原子、置換基を有していてもよいメチル基、エチル基等のアルキル基、置換基を有していてもよいベンジル基、ナフチルメチル基、あるいはフェネチル基等のアラルキル基、または置換基を有していてもよいフェニル基、ナフチル基等のアリール基を表わし、互いに同一または異なっていてもよい。）、また、Ｘ2は上記式（１０）のＸ1と同一の置換基及び単結合、アルキレン基を表わす。ただし、Ｙ、Ｘ2の少なくとも何れか一方がオキシカルボニル基、シアノ基、アルケニレン基、及び芳香族環である。
これらの置換基を具体的に例示すると、α−塩化アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、α−シアノエチレン基、α−シアノアクリロイルオキシ基、α−シアノフェニレン基、メタクリロイルアミノ基等が挙げられる。
【００６２】
なお、これらＸ1、Ｘ2、Ｙについての置換基にさらに置換される置換基としては、例えばハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メチル基、エチル基等のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基等のアリールオキシ基、フェニル基、ナフチル基等のアリール基、ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基等が挙げられる。
【００６３】
これらのラジカル重合性官能基の中では、特にアクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基が有用であり、３個以上のアクリロイルオキシ基を有する化合物は、例えば水酸基がその分子中に３個以上ある化合物とアクリル酸（塩）、アクリル酸ハライド、アクリル酸エステルを用い、エステル反応あるいはエステル交換反応させることにより得ることができる。また、３個以上のメタクリロイルオキシ基を有する化合物も同様にして得ることができる。また、ラジカル重合性官能基を３個以上有する単量体中のラジカル重合性官能基は、同一でも異なっても良い。
【００６４】
電荷輸送性構造を有しない３官能以上の具体的なラジカル重合性モノマーとしては、以下のものが例示されるが、これらの化合物に限定されるものではない。
すなわち、本発明において使用する上記ラジカル重合性モノマーとしては、例えば、トリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ）、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ＨＰＡ変性トリメチロールプロパントリアクリレート、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリアクリレート、ＰＯ変性トリメチロールプロパントリアクリレート、カプロラクトン変性トリメチロールプロパントリアクリレート、ＨＰＡ変性トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（ＰＥＴＴＡ）、グリセロールトリアクリレート、ＥＣＨ変性グリセロールトリアクリレート、ＥＯ変性グリセロールトリアクリレート、ＰＯ変性グリセロールトリアクリレート、トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヒドロキシペンタアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジメチロールプロパンテトラアクリレート（ＤＴＭＰＴＡ）、ペンタエリスリトールエトキシテトラアクリレート、ＥＯ変性リン酸トリアクリレート、２，２，５，５，−テトラヒドロキシメチルシクロペンタノンテトラアクリレートなどが挙げられ、これらは、単独で用いてもよく、又、２種類以上を併用してもよい。
【００６５】
また、本発明に用いられる電荷輸送性構造を有しない３官能以上のラジカル重合性モノマーは、架橋型電荷輸送層中に緻密な架橋結合を形成するために、該モノマー中の官能基数に対する分子量の割合（分子量／官能基数）は２５０以下が望ましい。また、この割合が２５０より大きい場合、架橋型電荷輸送層は柔らかく耐摩耗性が幾分低下するため、上記例示したモノマー等中、ＨＰＡ、ＥＯ、ＰＯ等の変性基を有するモノマーにおいては、極端に長い変性基を有するものを単独で使用することは好ましくはない。また、架橋型電荷輸送層に用いられる電荷輸送性構造を有しない３官能以上のラジカル重合性モノマーの成分割合は、架橋型電荷輸送層全量に対し２０〜８０重量％、好ましくは３０〜７０重量％であり、実質的には、塗工液固形分中の３官能以上のラジカル重合反応性モノマーの割合に依存する。モノマー成分が２０重量％未満では架橋型電荷輸送層の３次元架橋結合密度が少なく、従来の熱可塑性バインダー樹脂を用いた場合に比べ飛躍的な耐摩耗性向上が達成されない。また、８０重量％を超えると電荷輸送性化合物の含有量が低下し、電気的特性の劣化が生じる。使用されるプロセスによって要求される電気特性や耐摩耗性が異なり、それに伴い本感光体の架橋型電荷輸送層の膜厚も異なるため一概には言えないが、両特性のバランスを考慮すると３０〜７０重量％の範囲が最も好ましい。
【００６６】
（１官能の電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物）
本発明の架橋型電荷輸送層に用いられる１官能の電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物とは、例えばトリアリールアミン、ヒドラゾン、ピラゾリン、カルバゾールなどの正孔輸送性構造、例えば縮合多環キノン、ジフェノキノン、シアノ基やニトロ基を有する電子吸引性芳香族環などの電子輸送構造を有しており、且つ１個のラジカル重合性官能基を有する化合物を指す。このラジカル重合性官能基としては、上記式（１０）又は式（１１）で示される官能基が挙げられる。さらに具体的には、先のラジカル重合性モノマーで示したものが挙げられ、特にアクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基が有用である。また、電荷輸送性構造としてはトリアリールアミン構造が効果が高く、中でも下記一般式（１）又は（２）の構造で示される化合物を用いた場合、感度、残留電位等の電気的特性が良好に持続される。
【００６７】
【化１５】
2010271434.tif 000016
【化１６】
2010271434.tif 000017
（式中、Ｒ1は水素原子、ハロゲン原子、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアラルキル基、置換基を有してもよいアリール基、シアノ基、ニトロ基、アルコキシ基、−ＣＯＯＲ7（Ｒ7は水素原子、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアラルキル基又は置換基を有してもよいアリール基）、ハロゲン化カルボニル基若しくはＣＯＮＲ8Ｒ9（Ｒ8及びＲ9は水素原子、ハロゲン原子、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアラルキル基又は置換基を有してもよいアリール基を示し、互いに同一であっても異なっていてもよい）を表わし、Ａｒ1、Ａｒ2は置換もしくは無置換のアリーレン基を表わし、同一であっても異なってもよい。Ａｒ3、Ａｒ4は置換もしくは無置換のアリール基を表わし、同一であっても異なってもよい。Ｘは単結合、置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のシクロアルキレン基、置換もしくは無置換のアルキレンエーテル基、酸素原子、硫黄原子、ビニレン基を表わす。Ｚは置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のアルキレンエーテル基、アルキレンオキシカルボニル基を表わす。ｍ、ｎは０〜３の整数を表わす。）
【００６８】
以下に、一般式（１）、（２）の具体例を示す。
前記一般式（１）、（２）において、Ｒ1の置換基中、アルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等、アリール基としては、フェニル基、ナフチル基等が、アラルキル基としては、ベンジル基、フェネチル基、ナフチルメチル基が、アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等がそれぞれ挙げられ、これらは、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メチル基、エチル基等のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基等のアリールオキシ基、フェニル基、ナフチル基等のアリール基、ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基等により置換されていても良い。
Ｒ1の置換基のうち、特に好ましいものは水素原子またはメチル基である。
【００６９】
Ａｒ3、Ａｒ4は置換もしくは無置換のアリール基を表わし、本発明においては該アリール基としては縮合多環式炭化水素基、非縮合環式炭化水素基及び複素環基が含まれる。
該縮合多環式炭化水素基としては、好ましくは環を形成する炭素数が１８個以下のもの、例えば、ペンタニル基、インデニル基、ナフチル基、アズレニル基、ヘプタレニル基、ビフェニレニル基、ａｓ−インダセニル基、ｓ−インダセニル基、フルオレニル基、アセナフチレニル基、プレイアデニル基、アセナフテニル基、フェナレニル基、フェナントリル基、アントリル基、フルオランテニル基、アセフェナントリレニル基、アセアントリレニル基、トリフェニレル基、ピレニル基、クリセニル基、及びナフタセニル基等が挙げられる。
【００７０】
該非縮合環式炭化水素基としては、ベンゼン、ジフェニルエーテル、ポリエチレンジフェニルエーテル、ジフェニルチオエーテル及びジフェニルスルホン等の単環式炭化水素化合物の１価基、あるいはビフェニル、ポリフェニル、ジフェニルアルカン、ジフェニルアルケン、ジフェニルアルキン、トリフェニルメタン、ジスチリルベンゼン、１，１−ジフェニルシクロアルカン、ポリフェニルアルカン、及びポリフェニルアルケン等の非縮合多環式炭化水素化合物の１価基、あるいは９，９−ジフェニルフルオレン等の環集合炭化水素化合物の１価基が挙げられる。
複素環基としては、カルバゾール、ジベンゾフラン、ジベンゾチオフェン、オキサジアゾール、及びチアジアゾール等の１価基が挙げられる。
【００７１】
また、前記Ａｒ3、Ａｒ4で表わされるアリール基は例えば以下に示すような置換基を有してもよい。
（１）ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基等。
（２）アルキル基、好ましくは、炭素数１〜１２（以下、Ｃ1〜Ｃ12となどと記載する）とりわけＣ1〜Ｃ8、さらに好ましくはＣ1〜Ｃ4の直鎖または分岐鎖のアルキル基であり、これらのアルキル基にはさらにフッ素原子、水酸基、シアノ基、Ｃ1〜Ｃ4のアルコキシ基、フェニル基又はハロゲン原子、Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基もしくはＣ1〜Ｃ4のアルコキシ基で置換されたフェニル基を有していてもよい。具体的にはメチル基、エチル基、ｎ−ブチル基、ｉ−プロピル基、ｔ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｎ−プロピル基、トリフルオロメチル基、２−ヒドロキシエチル基、２−エトキシエチル基、２−シアノエチル基、２−メトキシエチル基、ベンジル基、４−クロロベンジル基、４−メチルベンジル基、４−フェニルベンジル基等が挙げられる。
【００７２】
（３）アルコキシ基（−ＯＲ2）であり、Ｒ2は（２）で定義したアルキル基を表わす。具体的には、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、２−ヒドロキシエトキシ基、ベンジルオキシ基、トリフルオロメトキシ基等が挙げられる。
（４）アリールオキシ基であり、アリール基としてはフェニル基、ナフチル基が挙げられる。これは、Ｃ1〜Ｃ4のアルコキシ基、Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基またはハロゲン原子を置換基として含有してもよい。具体的には、フェノキシ基、１−ナフチルオキシ基、２−ナフチルオキシ基、４−メトキシフェノキシ基、４−メチルフェノキシ基等が挙げられる。
（５）アルキルメルカプト基またはアリールメルカプト基であり、具体的にはメチルチオ基、エチルチオ基、フェニルチオ基、ｐ−メチルフェニルチオ基等が挙げられる。
【００７３】
（６）
【化１７】
2010271434.tif 000018
（式中、Ｒ3及びＲ4は各々独立に水素原子、前記（２）で定義したアルキル基、またはアリール基を表わす。アリール基としては、例えばフェニル基、ビフェニル基又はナフチル基が挙げられ、これらはＣ1〜Ｃ4のアルコキシ基、Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基またはハロゲン原子を置換基として含有してもよい。Ｒ3及びＲ4は共同で環を形成してもよい）
具体的には、アミノ基、ジエチルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ（トリール）アミノ基、ジベンジルアミノ基、ピペリジノ基、モルホリノ基、ピロリジノ基等が挙げられる。
【００７４】
（７）メチレンジオキシ基、又はメチレンジチオ基等のアルキレンジオキシ基又はアルキレンジチオ基等が挙げられる。
（８）置換又は無置換のスチリル基、置換又は無置換のβ−フェニルスチリル基、ジフェニルアミノフェニル基、ジトリルアミノフェニル基等。
【００７５】
前記Ａｒ1、Ａｒ2で表わされるアリーレン基としては、前記Ａｒ3、Ａｒ4で表わされるアリール基から誘導される２価基である。
前記Ｘは単結合、置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のシクロアルキレン基、置換もしくは無置換のアルキレンエーテル基、酸素原子、硫黄原子、ビニレン基を表わす。
置換もしくは無置換のアルキレン基としては、Ｃ1〜Ｃ12、好ましくはＣ1〜Ｃ8、さらに好ましくはＣ1〜Ｃ4の直鎖または分岐鎖のアルキレン基であり、これらのアルキレン基にはさらにフッ素原子、水酸基、シアノ基、Ｃ1〜Ｃ4のアルコキシ基、フェニル基又はハロゲン原子、Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基もしくはＣ１〜Ｃ４のアルコキシ基で置換されたフェニル基を有していてもよい。具体的にはメチレン基、エチレン基、ｎ−ブチレン基、ｉ−プロピレン基、ｔ−ブチレン基、ｓ−ブチレン基、ｎ−プロピレン基、トリフルオロメチレン基、２−ヒドロキシエチレン基、２−エトキシエチレン基、２−シアノエチレン基、２−メトキシエチレン基、ベンジリデン基、フェニルエチレン基、４−クロロフェニルエチレン基、４−メチルフェニルエチレン基、４−ビフェニルエチレン基等が挙げられる。
【００７６】
置換もしくは無置換のシクロアルキレン基としては、Ｃ5〜Ｃ7の環状アルキレン基であり、これらの環状アルキレン基にはフッ素原子、水酸基、Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ4のアルコキシ基を有していても良い。具体的にはシクロヘキシリデン基、シクロへキシレン基、３，３−ジメチルシクロヘキシリデン基等が挙げられる。
置換もしくは無置換のアルキレンエーテル基としては、エチレンオキシ、プロピレンオキシ、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、テトラエチレングリコール、トリプロピレングリコールを表わし、アルキレンエーテル基のアルキレン基はヒドロキシル基、メチル基、エチル基等の置換基を有してもよい。
【００７７】
ビニレン基は、
【化１８】
2010271434.tif 000019
で表わされ、Ｒ5は水素、アルキル基（前記（２）で定義されるアルキル基と同じ）、アリール基（前記Ａｒ3、Ａｒ4で表わされるアリール基と同じ）、ａは１または２、ｂは１〜３の整数を表わす。
【００７８】
前記Ｚは置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のアルキレンエーテル基、アルキレンオキシカルボニル基を表わす。
置換もしくは無置換のアルキレン基としては、前記Ｘのアルキレン基と同様なものが挙げられる。
置換もしくは無置換のアルキレンエーテル基としては、前記Ｘのアルキレンエーテル基が挙げられる。
アルキレンオキシカルボニル基としては、カプロラクトン変性基が挙げられる。
【００７９】
また、本発明の１官能の電荷輸送構造を有するラジカル重合性化合物として更に好ましくは、下記一般式（３）の構造の化合物が挙げられる。
【化１９】
2010271434.tif 000020
（式中、ｏ、ｐ、ｑはそれぞれ０又は１の整数、Ｒａは水素原子、メチル基を表わし、Ｒｂ、Ｒｃは水素原子以外の置換基で炭素数１〜６のアルキル基を表わし、複数の場合は異なっても良い。ｓ、ｔは０〜３の整数を表わす。Ｚａは単結合、メチレン基、エチレン基、
【化２０】
2010271434.tif 000021
を表わす。）
上記一般式で表わされる化合物としては、Ｒｂ、Ｒｃの置換基として、特にメチル基、エチル基である化合物が好ましい。
【００８０】
本発明で用いる上記一般式（１）及び（２）特に（３）の１官能性の電荷輸送構造を有するラジカル重合性化合物は、炭素−炭素間の二重結合が両側に開放されて重合するため、末端構造とはならず、連鎖重合体中に組み込まれる。また３官能以上のラジカル重合性モノマーとの重合で架橋形成された重合体中では、高分子の主鎖中に存在し、かつ主鎖−主鎖間の架橋鎖中に存在（この架橋鎖には１つの高分子と他の高分子間の分子間架橋鎖と、１つの高分子内で折り畳まれた状態の主鎖のある部位と主鎖中でこれから離れた位置に重合したモノマー由来の他の部位とが架橋される分子内架橋鎖とがある）する。また主鎖中に存在する場合であってもまた架橋鎖中に存在する場合であっても、鎖部分から懸下するトリアリールアミン構造は、窒素原子から放射状方向に配置する少なくとも３つのアリール基を有し、バルキーである。これは鎖部分に直接結合しておらず鎖部分からカルボニル基等を介して懸下しているため立体的位置取りに融通性ある状態で固定されているので、これらトリアリールアミン構造は重合体中で相互に程よく隣接する空間配置が可能であるため、分子内の構造的歪みが少ない。また、電子写真感光体の表面層とされた場合に、電荷輸送経路の断絶を比較的免れた分子内構造を採りうるものと推測される。
【００８１】
本発明の１官能の電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物の具体例を以下に示すが、これらの構造の化合物に限定されるものではない。
【化２１】
2010271434.tif 000022
【００８２】
【化２２】
2010271434.tif 000023
【００８３】
【化２３】
2010271434.tif 000024
【００８４】
【化２４】
2010271434.tif 000025
【００８５】
【化２５】
2010271434.tif 000026
【００８６】
【化２６】
2010271434.tif 000027
【００８７】
【化２７】
2010271434.tif 000028
【００８８】
【化２８】
2010271434.tif 000029
【００８９】
【化２９】
2010271434.tif 000030
【００９０】
【化３０】
2010271434.tif 000031
【００９１】
【化３１】
2010271434.tif 000032
【００９２】
【化３２】
2010271434.tif 000033
【００９３】
また、本発明に用いられる１官能の電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物は、架橋型電荷輸送層の電荷輸送性能を付与するために重要で、この成分は架橋型電荷輸送層に対し２０〜８０重量％、好ましくは３０〜７０重量％である。この成分が２０重量％未満では架橋型電荷輸送層の電荷輸送性能が充分に保てず、繰り返しの使用で感度低下、残留電位上昇などの電気特性の劣化が現れる。
また、８０重量％を超えると電荷輸送構造を有しない３官能モノマーの含有量が低下し、架橋結合密度の低下を招き高い耐摩耗性が発揮されない。使用されるプロセスによって要求される電気特性や耐摩耗性が異なり、それに伴い本感光体の架橋型電荷輸送層の膜厚も異なるため一概には言えないが、両特性のバランスを考慮すると３０〜７０重量％の範囲が最も好ましい。
【００９４】
本発明の架橋型電荷輸送層は、少なくとも電荷輸送性構造を有しない３官能以上のラジカル重合性モノマーと１官能の電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物を重合（硬化）したものであるが、これ以外に塗工時の粘度調整、架橋型電荷輸送層の応力緩和、低表面エネルギー化や摩擦係数低減などの機能付与の目的で１官能及び２官能のラジカル重合性モノマー、機能性モノマー、及びラジカル重合性オリゴマーを併用することができる。これらのラジカル重合性モノマー、オリゴマーとしては、公知のものが利用できる。
【００９５】
シロキサン骨格の繰り返し単位（ポリジメチルシロキサン骨格）が２０〜７０のアクリロイルポリジメチルシロキサンエチル、メタクリロイルポリジメチルシロキサンエチル、アクリロイルポリジメチルシロキサンプロピル、アクリロイルポリジメチルシロキサンブチル、ジアクリロイルポリジメチルシロキサンジエチルなどのポリシロキサン基を有するビニルモノマー、アクリレート及びメタクリレートが、前記したラジカル重合性モノマーまたは機能性モノマーとして挙げられる。
【００９６】
前記ラジカル重合性オリゴマーとしては、例えば、エポキシアクリレート系、ウレタンアクリレート系、ポリエステルアクリレート系オリゴマーが挙げられる。
但し、１官能及び２官能のラジカル重合性モノマーやラジカル重合性オリゴマーを多量に含有させると架橋型電荷輸送層の３次元架橋結合密度が実質的に低下し、耐摩耗性の低下を招く。このためこれらのモノマーやオリゴマーの含有量は、３官能以上のラジカル重合性モノマー１００重量部に対し５０重量部以下、好ましくは３０重量部以下に制限される。
【００９７】
また、本発明の架橋型電荷輸送層は少なくとも電荷輸送性構造を有しない３官能以上のラジカル重合性モノマーと１官能の電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物を重合したものであるが、必要に応じてこの重合反応を効率よく進行させるために架橋型電荷輸送層塗布液中に重合開始剤を含有させても良い。このような重合開始剤として、以下の熱重合開始剤、光重合開始剤が挙げられる。
【００９８】
熱重合開始剤としては、２，５−ジメチルヘキサン−２，５−ジヒドロパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、ｔ−ブチルクミルパーオキサイド、２，５−ジメチル−２，５−ジ（パーオキシベンゾイル）ヘキシン−３、ジ−ｔ−ブチルベルオキサイド、ｔ−ブチルヒドロベルオキサイド、クメンヒドロベルオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、２，２−ビス（４，４−ジ−ｔ−ブチルパーオキシシクロヘキシ）プロパンなどの過酸化物系開始剤、アゾビスイソブチルニトリル、アゾビスシクロヘキサンカルボニトリル、アゾビスイソ酪酸メチル、アゾビスイソブチルアミジン塩酸塩、４，４’−アゾビス−４−シアノ吉草酸などのアゾ系開始剤が挙げられる。
【００９９】
光重合開始剤としては、ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル−（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタノン−１、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、２−メチル−２−モルフォリノ（４−メチルチオフェニル）プロパン−１−オン、１−フェニル−１，２−プロパン−ジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、などのアセトフェノン系またはケタール系光重合開始剤、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、などのベンゾインエーテル系光重合開始剤、ベンゾフェノン、４−ヒドロキシベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、２−ベンゾイルナフタレン、４−ベンゾイルビフェニル、４−ベンゾイルフェニールエーテル、アクリル化ベンゾフェノン、１，４−ベンゾイルベンゼン、などのベンゾフェノン系光重合開始剤、２−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジクロロチオキサントン、などのチオキサントン系光重合開始剤、その他の光重合開始剤としては、エチルアントラキノン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイルフェニルエトキシホスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，４−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルホスフィンオキサイド、メチルフェニルグリオキシエステル、９，１０−フェナントレン、アクリジン系化合物、トリアジン系化合物、イミダゾール系化合物、が挙げられる。また、光重合促進効果を有するものを単独または上記光重合開始剤と併用して用いることもできる。例えば、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、安息香酸（２−ジメチルアミノ）エチル、４，４’−ジメチルアミノベンゾフェノン、などが挙げられる。
【０１００】
これらの重合開始剤は１種又は２種以上を混合して用いてもよい。重合開始剤の含有量は、ラジカル重合性を有する総含有物１００重量部に対し、０．５〜４０重量部、好ましくは１〜２０重量部である。
【０１０１】
更に、本発明に使用される架橋型電荷輸送層塗工液は必要に応じて各種可塑剤（応力緩和や接着性向上の目的）、レベリング剤、ラジカル反応性を有しない低分子電荷輸送物質などの添加剤が含有できる。これらの添加剤は公知のものが使用可能であり、可塑剤としてはジブチルフタレート、ジオクチルフタレート等の一般の樹脂に使用されているものが利用可能で、その使用量は塗工液の総固形分に対し２０重量％以下、好ましくは１０重量％以下に抑えられる。また、レベリング剤としては、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル等のシリコーンオイル類や、側鎖にパーフルオロアルキル基を有するポリマーあるいはオリゴマーが利用でき、その使用量は塗工液の総固形分に対し３重量％以下が適当である。
【０１０２】
本発明の架橋型電荷輸送層は、少なくとも上記の電荷輸送構造を有しない３官能以上のラジカル重合性モノマーと１官能の電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物を含有する塗工液を前記電荷輸送層上に塗布、硬化することにより形成される。かかる塗工液はラジカル重合性モノマーが液体である場合、これに他の成分を溶解して塗布することも可能であるが、必要に応じて溶媒により希釈して塗布される。このとき用いられる溶媒としては、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノールなどのアルコール系、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン系、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル系、テトラヒドロフラン、ジオキサン、プロピルエーテルなどのエーテル系、ジクロロメタン、ジクロロエタン、トリクロロエタン、クロロベンゼンなどのハロゲン系、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族系、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、セロソルブアセテートなどのセロソルブ系などが挙げられる。これらの溶媒は単独または２種以上を混合して用いてもよい。溶媒による希釈率は組成物の溶解性、塗工法、目的とする膜厚により変わり、任意である。塗布は、浸漬塗工法やスプレーコート、ビードコート、リングコート法などを用いて行なうことができる。
【０１０３】
本発明においては、係る架橋型電荷輸送層塗工液を塗布後、外部からエネルギーを与え硬化させ、架橋型電荷輸送層を形成するものである。このとき用いられる外部エネルギーとしては熱、光、放射線がある。熱のエネルギーを加える方法としては、空気、窒素などの気体、蒸気、あるいは各種熱媒体、赤外線、電磁波を用い塗工表面側あるいは支持体側から加熱することによって行なわれる。加熱温度は１００℃以上、１７０℃以下が好ましく、１００℃未満では反応速度が遅く、完全に硬化反応が終了しない。１７０℃より高温では硬化反応が不均一に進行し架橋型電荷輸送層中に大きな歪みや多数の未反応残基、反応停止末端が発生する。硬化反応を均一に進めるために、１００℃未満の比較的低温で加熱後、更に１００℃以上に加温し反応を完結させる方法も有効である。光のエネルギーとしては主に紫外光に発光波長をもつ高圧水銀灯やメタルハライドランプなどのＵＶ照射光源が利用できるが、ラジカル重合性含有物や光重合開始剤の吸収波長に合わせ可視光光源の選択も可能である。照射光量は５０ｍＷ／ｃｍ2以上、１０００ｍＷ／ｃｍ2以下が好ましく、５０ｍＷ／ｃｍ2未満では硬化反応に時間を要する。１０００ｍＷ／ｃｍ2より強いと反応の進行が不均一となり、架橋型電荷輸送層表面に局部的な皺が発生したり、多数の未反応残基、反応停止末端が生ずる。また、急激な架橋により内部応力が大きくなり、クラックや膜剥がれの原因となる。放射線のエネルギーとしては電子線を用いるものが挙げられる。
これらのエネルギーの中で、反応速度制御の容易さ、装置の簡便さから熱及び光のエネルギーを用いたものが有用である。
【０１０４】
本発明に使用される架橋型電荷輸送層の膜厚は、１μｍ以上、１０μｍ以下、さらに好ましくは２μｍ以上、８μｍ以下である。１０μｍより厚い場合、前述のようにクラックや膜剥がれが発生しやすくなり、８μｍ以下ではその余裕度がさらに向上するため架橋密度を高くすることが可能で、さらに耐摩耗性を高める材料選択や重合条件の設定が可能となる。一方、ラジカル重合反応は酸素阻害を受けやすく、すなわち大気に接した表面では酸素によるラジカルトラップの影響で架橋が進まない場合や、不均一になる場合がある。この影響が顕著に現れるのは表層１μｍ以下で、この膜厚以下の架橋型電荷輸送層は耐摩耗性の低下や不均一な摩耗が起こりやすい。また、架橋型電荷輸送層塗工時において下層の電荷輸送層成分の混入が生ずる。架橋型電荷輸送層の塗布膜厚が薄いと層全体に混入物が拡がり、重合反応の阻害や架橋密度の低下をもたらす。これらの理由から、本発明の架橋型電荷輸送層は１μｍ以上の膜厚で良好な耐摩耗性、耐傷性を有するが、繰り返しの使用において局部的に下層の電荷輸送層まで削れた部分ができるとその部分の摩耗が増加し、帯電性や感度変動から中間調画像の濃度むらが発生しやすい。従って、より長寿命、高画質化のためには架橋型電荷輸送層の膜厚を２μｍ以上にすることが望ましい。
【０１０５】
本発明は更に電荷発生層、電荷輸送層、架橋型電荷輸送層を順次積層した構成において、最表面の架橋型電荷輸送層が有機溶剤に対し不溶性である場合、飛躍的な耐摩耗性、耐傷性が達成される。この有機溶剤に対する溶解性を試験する方法としては、感光体表面層上に高分子物質に対する溶解性の高い有機溶剤、例えば、テトラヒドロフラン、ジクロロメタン等を１滴滴下し、自然乾燥後に感光体表面形状の変化を実体顕微鏡で観察することで判定できる。溶解性の感光体は液滴の中心部分が凹状になり周囲が逆に盛り上がる現象、電荷輸送物質が析出し結晶化による白濁やくもりが生ずる現象、表面が膨潤しその後収縮することで皺が発生する現象などの変化がみられる。それに対し、不溶性の感光体は上記のような現象がみられず、滴下前と全く変化が現れない。
【０１０６】
本発明の構成において、架橋型電荷輸送層を有機溶剤に対し不溶性にするには、（１）架橋型電荷輸送層塗工液の組成物、それらの含有割合の調整、（２）架橋型電荷輸送層塗工液の希釈溶媒、固形分濃度の調整、（３）架橋型電荷輸送層の塗工方法の選択、（４）架橋型電荷輸送層の硬化条件の制御、（５）下層の電荷輸送層の難溶解性化など、これらをコントロールすることが重要であるが、一つの因子で達成される訳ではない。
【０１０７】
架橋型電荷輸送層塗工液の組成物としては、前述した電荷輸送性構造を有しない３官能以上のラジカル重合性モノマー及び１官能の電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物以外に、ラジカル重合性官能基を有しないバインダー樹脂、酸化防止剤、可塑剤等の添加剤を多量に含有させると、架橋密度の低下、反応により生じた硬化物と上記添加物との相分離が生じ、有機溶剤に対し可溶性となる。具体的には塗工液の総固形分に対し上記総含有量を２０重量％以下に抑えることが重要である。また、架橋密度を希薄にさせないために、１官能または２官能のラジカル重合性モノマー、反応性オリゴマー、反応性ポリマーにおいても、総含有量を３官能ラジカル重合性モノマーに対し２０重量％以下とすることが望ましい。さらに、２官能以上の電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物を多量に含有させると、嵩高い構造体が複数の結合により架橋構造中に固定されるため歪みを生じやすく、微小な硬化物の集合体となりやすい。このことが原因で有機溶剤に対し可溶性となることがある。化合物構造によって異なるが、２官能以上の電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物の含有量は１官能の電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物に対し１０重量％以下にすることが好ましい。
【０１０８】
架橋型電荷輸送層塗工液の希釈溶媒に関しては、蒸発速度の遅い溶剤を用いた場合、残留する溶媒が硬化の妨げとなったり、下層成分の混入量を増加させることがあり、不均一硬化や硬化密度低下をもたらす。このため有機溶剤に対し、可溶性となりやすい。具体的には、テトラヒドロフラン、テトラヒドロフランとメタノール混合溶媒、酢酸エチル、メチルエチルケトン、エチルセロソルブなどが有用であるが、塗工法と合わせて選択される。また、固形分濃度に関しては、同様な理由で低すぎる場合、有機溶剤に対し可溶性となりやすい。逆に膜厚、塗工液粘度の制限から上限濃度の制約をうける。具体的には、１０〜５０重量％の範囲で用いることが望ましい。架橋型電荷輸送層の塗工方法としては、同様な理由で塗工膜形成時の溶媒含有量、溶媒との接触時間を少なくする方法が好ましく、具体的にはスプレーコート法、塗工液量を規制したリングコート法が好ましい。また、下層成分の混入量を抑えるためには、電荷輸送層として高分子電荷輸送物質を用いること、架橋型電荷輸送層の塗工溶媒に対し不溶性の中間層を設けることも有効である。
【０１０９】
架橋型電荷輸送層の硬化条件としては、加熱または光照射のエネルギーが低いと硬化が完全に終了せず、有機溶剤に対し溶解性があがる。逆に非常に高いエネルギーにより硬化させた場合、硬化反応が不均一となり未架橋部やラジカル停止部の増加や微小な硬化物の集合体となりやすい。このため有機溶剤に対し溶解性となることがある。有機溶剤に対し不溶性化するには、熱硬化の条件としては１００〜１７０℃、１０分〜３時間が好ましく、ＵＶ光照射による硬化条件としては５０〜１０００ｍＷ／ｃｍ2、５秒〜５分で且つ温度上昇を５０℃以下に制御し、不均一な硬化反応を抑えることが望ましい。
硬化終了後は、さらに残留溶媒低減のため１００〜１５０℃で１０分〜３０分加熱して、本発明の感光体を得る。
【０１１０】
＜中間層＞
本発明の感光体においては、電荷輸送層と架橋型電荷輸送層の間に、架橋型電荷輸送層への電荷輸送層成分混入を抑える又は両層間の接着性を改善する目的で中間層を設けることが可能である。このため、中間層としては架橋型電荷輸送層塗工液に対し不溶性または難溶性であるものが適しており、一般にバインダー樹脂を主成分として用いる。これら樹脂としては、ポリアミド、アルコール可溶性ナイロン、水溶性ポリビニルブチラール、ポリビニルブチラール、ポリビニルアルコールなどが挙げられる。中間層の形成法としては、前述のごとく一般に用いられる塗工法が採用される。なお、中間層の厚さは０．０５〜２μｍ程度が適当である。
【０１１１】
＜下引き層＞
本発明の感光体においては、導電性支持体（３１）と感光層との間に下引き層を設けることができる。下引き層は一般には樹脂を主成分とするが、これらの樹脂はその上に感光層を溶剤で塗布することを考えると、一般の有機溶剤に対して耐溶剤性の高い樹脂であることが望ましい。このような樹脂としては、ポリビニルアルコール、カゼイン、ポリアクリル酸ナトリウム等の水溶性樹脂、共重合ナイロン、メトキシメチル化ナイロン等のアルコール可溶性樹脂、ポリウレタン、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド−メラミン樹脂、エポキシ樹脂等、三次元網目構造を形成する硬化型樹脂等が挙げられる。また、下引き層にはモアレ防止、残留電位の低減等のために酸化チタン、シリカ、アルミナ、酸化ジルコニウム、酸化スズ、酸化インジウム等で例示できる金属酸化物の微粉末顔料を加えてもよい。
【０１１２】
これらの下引き層は、前述の感光層の如く適当な溶媒及び塗工法を用いて形成することができる。更に本発明の下引き層として、シランカップリング剤、チタンカップリング剤、クロムカップリング剤等を使用することもできる。この他、本発明の下引き層には、Ａｌ2Ｏ3を陽極酸化にて設けたものや、ポリパラキシリレン（パリレン）等の有機物やＳｉＯ2、ＳｎＯ2、ＴｉＯ2、ＩＴＯ、ＣｅＯ2等の無機物を真空薄膜作成法にて設けたものも良好に使用できる。このほかにも公知のものを用いることができる。下引き層の膜厚は０〜５μｍが適当である。
【０１１３】
＜各層への酸化防止剤の添加＞
また、本発明においては、耐環境性の改善のため、とりわけ、感度低下、残留電位の上昇を防止する目的で、架橋型電荷輸送層、電荷輸送層、電荷発生層、下引き層、中間層等の各層に酸化防止剤を添加することができる。
【０１１４】
＜１官能の電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物の合成例＞
本発明における１官能の電荷輸送性構造を有する化合物は、例えば特許第３１６４４２６号公報記載の方法にて合成される。また、下記にこの一例を示す。
（１）ヒドロキシ基置換トリアリールアミン化合物（下記構造式Ｂ）の合成
メトキシ基置換トリアリールアミン化合物（下記構造式Ａ）１１３．８５ｇ（０．３ｍｏｌ）と、ヨウ化ナトリウム１３８ｇ（０．９２ｍｏｌ）にスルホラン２４０ｍｌを加え、窒素気流中で６０℃に加温した。この液中にトリメチルクロロシラン９９ｇ（０．９１ｍｏｌ）を１時間かけて滴下し、約６０℃の温度で４時間半撹拌し反応を終了させた。この反応液にトルエン約１．５Ｌを加え室温まで冷却し、水と炭酸ナトリウム水溶液で繰り返し洗浄した。その後、このトルエン溶液から溶媒を除去し、カラムクロマトグラフィー処理（吸着媒体：シリカゲル、展開溶媒：トルエン：酢酸エチル＝２０：１）にて精製した。得られた淡黄色オイルにシクロヘキサンを加え、結晶を析出させた。この様にして下記構造式Ｂの白色結晶８８．１ｇ（収率＝８０．４％）を得た：（融点：６４．０〜６６．０℃）。
【０１１５】
【表１】
2010271434.tif 000034
【０１１６】
【化３３】
2010271434.tif 000035
【０１１７】
（２）トリアリールアミノ基置換アクリレート化合物（例示化合物Ｎｏ．５４）
上記（１）で得られたヒドロキシ基置換トリアリールアミン化合物（構造式Ｂ）８２．９ｇ（０．２２７ｍｏｌ）をテトラヒドロフラン４００ｍｌに溶解し、窒素気流中で水酸化ナトリウム水溶液（ＮａＯＨ：１２．４ｇ、水：１００ｍｌ）を滴下した。この溶液を５℃に冷却し、アクリル酸クロライド２５．２ｇ（０．２７２ｍｏｌ）を４０分かけて滴下した。その後、５℃で３時間撹拌し、反応を終了させた。この反応液を水に注ぎ、トルエンにて抽出した。この抽出液を炭酸水素ナトリウム水溶液と水で繰り返し洗浄した。その後、このトルエン溶液から溶媒を除去し、カラムクロマトグラフィー処理（吸着媒体：シリカゲル、展開溶媒：トルエン）にて精製した。得られた無色のオイルにｎ−ヘキサンを加え、結晶を析出させた。この様にして例示化合物Ｎｏ．５４の白色結晶８０．７３ｇ（収率＝８４．８％）を得た（融点：１１７．５〜１１９．０℃）。
【０１１８】
【表２】
2010271434.tif 000036
【実施例】
【０１１９】
次に、実施例によって本発明を更に詳細に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されて解釈されるものではない。なお、実施例中において使用する「部」は、すべて重量部を表わす。また比率は重量比率を表す。
【０１２０】
評価装置としてはリコー製デジタル複写機（ＲＩＣＯＨ Ｐｒｏ Ｃ９００）の改造機を用い、帯電部材としてスコロトロン方式の帯電部材（放電ワイヤーは直径５０μｍの金メッキを施したタングステンーモリブデン合金）を用いて下記の帯電条件で帯電し、画像露光光源として７８０ｎｍのＬＤ光（ポリゴンミラーによる画像書き込み、解像度１２００ｄｐｉ）、現像は黒色トナーを用いた２成分現像を行ない、転写部材として転写ベルトを用い、除電は除電ランプを用いて、２３℃−５５％ＲＨの常温常湿環境下で評価を行った。
【０１２１】
（ＶＬばらつき評価）
まず、評価装置の現像ユニットを改造して、感光体の軸方向に沿って平行移動させることのできる可動式の電位センサーを取り付けた。このユニットを評価装置にセットしてＶＬ測定を行った。
下記帯電条件にて、Ａ３の紙を縦方向で全ベタ画像を１０枚印刷した時の１０枚目のＶＬを測定した。測定には市販の表面電位計を用い、表面電位計の数値はオシロスコープで毎秒１００シグナル以上の条件で記録した。
ワイヤーへの印加電圧：−６．０ＫＶ
グリッド電圧：−８６０Ｖ（感光体の帯電電位は−８５０Ｖ）
測定位置は感光体の下端、上端および中心の３箇所である。この場合、感光体の上端とは、支持体の上端から４１．５ｍｍ、下端とは３３８．５ｍｍ、中央とは１９０ｍｍの位置である。
ΔＶＬは上端、中央、下端の３箇所を測定し、オシロスコープで読み取った全測定値（明らかなノイズによる測定誤差とみられる数値は除く）の最大値と最小値の差とした。
【０１２２】
（１頁内画像濃度ムラ評価）
ＶＬばらつき評価時の帯電条件と同様の帯電条件にて、２ｂｙ２のハーフトーン画像を各５枚ずつ印刷した。各画像は１頁内の５箇所（各４頂点付近および中心付近の計５点）以上の画像濃度を市販の分光濃度計（Ｘ−Ｒｉｔｅ）を用いて測定し、その最大値と最小値の差を１頁内画像濃度ムラ（ΔＩＤ）とし、出力した５枚の画像の平均値で評価した。
【０１２３】
（摩耗量評価）
ＶＬばらつき評価時の帯電条件と同様の帯電条件にて、書き込み率６％チャートを用い連続２０万枚印刷を行ない、印刷後の画像評価および渦電流式膜厚測定装置を用いて印刷前後の感光体の膜厚を測定し、その差から摩耗量を算出し、摩耗量評価を行った。
【０１２４】
次に、評価で用いる感光体の製造方法について述べる。
（式（１）の算出例）
仮に、図３に示すような長さ３８０ｍｍの支持体を塗工する際に、塗工液へ挿入する速度を２５ｍｍ／ｓ、支持体が全て塗工液に浸漬された状態での静止時間を１２０ｓ、支持体を塗工液から引き上げる速度を５ｍｍ／ｓという条件で塗工し、Ａ４の紙を横方向で通紙する際の通紙幅は３００ｍｍ、主走査方向に対する紙の中心が感光体の中心を通る場合、感光体の上端（１０１）は支持体の上端から４０ｍｍ、下端（１０３）は支持体の上端から３４０ｍｍ、中央（１０２）は支持体の上端から１９０ｍｍとなる。これらを用いて式（１）を計算すると以下のようになる。
Ａ＝３４０／２５＋１２０＋３４０／５＝２０１．６（ｓ）
Ｂ＝４０／２５＋１２０＋４０／５＝１２９．６（ｓ）
Ｃ＝１９０／２５＋１２０＋１９０／５＝１６５．６（ｓ）
となり、
Ａ−Ｂ／Ｃ＝（２０１．６−１２９．６）／１６５．６≒０．４３
となる。
算出例では挿入速度２５ｍｍ／ｓおよび引き上げ速度５ｍｍ／ｓとしたが、実際の塗工時はこれに限定されるものではなく、挿入速度や引き上げ速度を変化させても、挿入と引き上げを繰り返して塗工を行ってもよい。
【０１２５】
＜実施例１＞
電子写真感光体１の作製
直径３０ｍｍのアルミニウムシリンダー上に下記組成の下引き層用塗工液、電荷発生層用塗工液、および電荷輸送層用塗工液を、浸漬塗工法により順次塗布し、オーブンで乾燥を行い、約３．５μｍの下引き層と、約０．２μｍの電荷発生層と、約２０μｍの電荷輸送層とを形成した。なお、各層の乾燥条件は、下引き層は１３０℃であり、電荷発生層は９０℃であり、電荷輸送層は１３５℃であり、各２０分間乾燥した。
【０１２６】
［下引き層用塗工液］
酸化チタン（ＣＲ−ＥＬ、純度：９９．７％、平均一次粒径：約０．２５μｍ、
比抵抗：３．５×１０9Ω・ｃｍ、石原産業（株）製）               ５０部
アルキッド樹脂（ベッコライトＭ６４０１−５０、固形分：５０％、
水酸基価：１３０、大日本インキ化学工業（株）製）                １４部
メラミン樹脂（Ｌ−１４５−６０、固形分：６０％、大日本インキ化学工業（株）製）
８部
２−ブタノン                                                    １２０部
［電荷発生層用塗工液］
ＣｕＫαのＸ線回折におけるブラッグ角２θ±０．２度の９．０度、１４．２度、
２３．９度、２７．１度に強いピークを有するチタニルフタロシアニン  ８部
ポリビニルブチラール（ＢＸ−１、積水化学工業（株）製）              ５部
２−ブタノン                                                    ４００部
【０１２７】
［電荷輸送層用塗工液］
ポリカーボネート（商品名Ｚポリカ、帝人化成社製）                  １０部
下記構造式の電荷輸送物質Ａ                                          ７部
【化３４】
2010271434.tif 000037
シリコーンオイル（１００ｃＳｔ、信越化学製）                ０．００２部
テトラヒドロフラン                                              １００部
電荷輸送層を塗工する際、膜厚が約２０μｍとなる塗工速度で塗工するが、塗工液に支持体を任意の速度で浸漬させ、上端まで浸漬させた状態で一時停止する時間を任意の時間に設定し、Ａ＝１１５（ｓ）、Ｂ＝４１（ｓ）、Ｃ＝７８（ｓ）、（Ａ−Ｂ）／Ｃ＝０．９５となる塗工条件で塗工した。
【０１２８】
［架橋型電荷輸送層形成］
この電荷輸送層上に下記組成の架橋型電荷輸送層用塗工液をスプレー塗工し、２０分間自然乾燥した後、メタルハライドランプ：１６０Ｗ／ｃｍを用い、照射距離：１２０ｍｍ、照射強度：５００ｍＷ／ｃｍ2、照射時間：６０秒の条件で光照射を行ない、塗布膜を硬化させた。更に１３０℃で２０分間乾燥を加え５μｍの架橋型電荷輸送層を設け、本発明の電子写真感光体を得た。
（架橋型電荷輸送層用塗工液）
電荷輸送性構造を有さない３官能以上のラジカル重合性モノマー：
トリメチロールプロパントリアクリレート（ＫＡＹＡＲＡＤ  ＴＭＰＴＡ、
日本化薬製  分子量：２９６、官能基数：３官能、分子量／官能基数＝９９）
１０部
１官能の電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物（例示化合物Ｎｏ．５４）
１０部
光重合開始剤：１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン
（イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製）        １部
テトラヒドロフラン                                              １００部
【０１２９】
＜実施例２＞
実施例１において、電荷輸送層を塗工する際、塗工液に支持体を任意の速度で浸漬させ、上端まで浸漬させた状態で一時停止する時間を任意の時間に設定し、Ａ＝１３６（ｓ）、Ｂ＝６２（ｓ）、Ｃ＝９９（ｓ）、（Ａ−Ｂ）／Ｃ＝０．７５となる塗工条件で塗工する以外は実施例１と同様に電子写真感光体を作製した。
＜実施例３＞
実施例１において、電荷輸送層を塗工する際、塗工液に支持体を任意の速度で浸漬させ、上端まで浸漬させた状態で一時停止する時間を任意の時間に設定し、Ａ＝１８４（ｓ）、Ｂ＝１１０（ｓ）、Ｃ＝１４７（ｓ）、（Ａ−Ｂ）／Ｃ＝０．５０となる塗工条件で塗工する以外は実施例１と同様に電子写真感光体を作製した。
＜実施例４＞
実施例１において、電荷輸送層を塗工する際、塗工液に支持体を任意の速度で浸漬させ、上端まで浸漬させた状態で一時停止する時間を任意の時間に設定し、Ａ＝２６９（ｓ）、Ｂ＝１９５（ｓ）、Ｃ＝２３２（ｓ）、（Ａ−Ｂ）／Ｃ＝０．３２となる塗工条件で塗工する以外は実施例１と同様に電子写真感光体を作製した。
【０１３０】
＜実施例５＞
実施例１において、電荷輸送層用塗工液に含有される電荷輸送物質Ａを下記構造式の電荷輸送物質Ｂ７部に換えた以外は実施例１４と同様に電子写真感光体を作製した。
電荷輸送物質Ｂ                                                      ７部
【化３５】
2010271434.tif 000038
【０１３１】
＜実施例６＞
実施例５において、電荷輸送層を塗工する際、塗工液に支持体を任意の速度で浸漬させ、上端まで浸漬させた状態で一時停止する時間を任意の時間に設定し、Ａ＝１３６（ｓ）、Ｂ＝６２（ｓ）、Ｃ＝９９（ｓ）、（Ａ−Ｂ）／Ｃ＝０．７５となる塗工条件で塗工する以外は実施例５と同様に電子写真感光体を作製した。
＜実施例７＞
実施例５において、電荷輸送層を塗工する際、塗工液に支持体を任意の速度で浸漬させ、上端まで浸漬させた状態で一時停止する時間を任意の時間に設定し、Ａ＝１８４（ｓ）、Ｂ＝１１０（ｓ）、Ｃ＝１４７（ｓ）、（（Ａ−Ｂ）／Ｃ＝０．５０となる塗工条件で塗工する以外は実施例５と同様に電子写真感光体を作製した。
＜実施例８＞
実施例５において、電荷輸送層を塗工する際、塗工液に支持体を任意の速度で浸漬させ、上端まで浸漬させた状態で一時停止する時間を任意の時間に設定し、Ａ＝２６９（ｓ）、Ｂ＝１９５（ｓ）、Ｃ＝２３２（ｓ）、（Ａ−Ｂ）／Ｃ＝０．３２となる塗工条件で塗工する以外は実施例５と同様に電子写真感光体を作製した。
【０１３２】
＜実施例９＞
実施例１の架橋型電荷輸送層用塗工液に含有される１官能の電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物を例示化合物Ｎｏ．１４４、１０部に換えた以外は実施例１と同様に電子写真感光体を作製した。
＜実施例１０＞
実施例９の架橋型電荷輸送層用塗工液に含有される電荷輸送性構造を有さない３官能以上のラジカル重合性モノマーを下記の電荷輸送性構造を有さない３官能以上のラジカル重合性モノマー１０部に換え、光重合開始剤を下記の化合物１部に換えた以外は実施例９と同様に電子写真感光体を作製した。
電荷輸送性構造を有さない３官能以上のラジカル重合性モノマー：
カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
（ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＣＡ−６０、日本化薬製  分子量：１２６３、官能基数：
６官能、分子量／官能基数＝２１１）                            １０部
光重合開始剤：２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン
（イルガキュア６５１、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製）        １部
【０１３３】
＜実施例１１＞
実施例９の架橋型電荷輸送層用塗工液に含有される電荷輸送性構造を有さない３官能以上のラジカル重合性モノマーを下記の電荷輸送性構造を有さない３官能以上のラジカル重合性モノマー１０部に換えた以外は実施例９と同様に電子写真感光体を作製した。
電荷輸送性構造を有さない３官能以上のラジカル重合性モノマー：
カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
（ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＣＡ−１２０、日本化薬製  分子量：１９４７、官能基数：
６官能、分子量／官能基数＝３２５）                            １０部
【０１３４】
＜実施例１２＞
実施例９の架橋型電荷輸送層用塗工液に含有される電荷輸送性構造を有さない３官能のラジカル重合性モノマーを下記の電荷輸送性構造を有さない２官能のラジカル重合性モノマー１０部に換えた以外は実施例９と同様に電子写真感光体を作製した。
電荷輸送性構造を有さない２官能のラジカル重合性モノマー：
１，６−ヘキサンジオールジアクリレート
（和光純薬製  分子量：２２６、官能基数：２官能、分子量／官能基数＝１１３）
１０部
【０１３５】
＜実施例１３＞
実施例１２の架橋型電荷輸送層の膜厚を１μｍに換えた以外は実施例１２と同様に電子写真感光体を作製した。
＜実施例１４＞
実施例１２の架橋型電荷輸送層の膜厚を３μｍに換えた以外は実施例１２と同様に電子写真感光体を作製した。
＜実施例１５＞
実施例１２の架橋型電荷輸送層の膜厚を８μｍに換えた以外は実施例１２と同様に電子写真感光体を作製した。
【０１３６】
＜実施例１６＞
実施例１２の架橋型電荷輸送層の膜厚を１０μｍに換えた以外は実施例１２と同様に電子写真感光体を作製した。
＜実施例１７＞
実施例１２の架橋型電荷輸送層の膜厚を０．５μｍに換えた以外は実施例１２と同様に電子写真感光体を作製した。
＜実施例１８＞
実施例１２の架橋型電荷輸送層の膜厚を１２μｍに換えた以外は実施例１２と同様に電子写真感光体を作製した。
【０１３７】
＜実施例１９＞
直径３０ｍｍのアルミニウムシリンダー上に下記組成の下引き層用塗工液、電荷発生層用塗工液、および電荷輸送層用塗工液を、浸漬塗工法により順次塗布し、オーブンで乾燥を行い、約３．５μｍの下引き層と、約０．２μｍの電荷発生層と、約２５μｍの電荷輸送層とを形成した。なお、各層の乾燥条件は、下引き層は１３０℃であり、電荷発生層は９０℃であり、電荷輸送層は１３５℃であり、各２０分間乾燥した。
［下引き層用塗工液］
酸化チタン（ＣＲ−ＥＬ、純度：９９．７％、平均一次粒径：約０．２５μｍ、
比抵抗：３．５×１０9Ω・ｃｍ、石原産業（株）製）               ５０部
アルキッド樹脂（ベッコライトＭ６４０１−５０、固形分：５０％、
水酸基価：１３０、大日本インキ化学工業（株）製）                １４部
メラミン樹脂（Ｌ−１４５−６０、固形分：６０％、大日本インキ化学工業（株）製）
８部
２−ブタノン                                                    １２０部
【０１３８】
［電荷発生層用塗工液］
ＣｕＫαのＸ線回折におけるブラッグ角２θ±０．２度の９．０度、１４．２度、
２３．９度、２７．１度に強いピークを有するチタニルフタロシアニン  ８部
ポリビニルブチラール（ＢＸ−１、積水化学工業（株）製）              ５部
２−ブタノン                                                    ４００部
［電荷輸送層用塗工液］
ポリカーボネート（商品名Ｚポリカ、帝人化成社製）                  １０部
下記構造式の電荷輸送物質Ａ                                          ７部
【化３６】
2010271434.tif 000039
シリコーンオイル（１００ｃＳｔ、信越化学製）                ０．００２部
テトラヒドロフラン                                              １００部
電荷輸送層を塗工する際、膜厚が約２０μｍとなる塗工速度で塗工するが、塗工液に支持体を任意の速度で浸漬させ、上端まで浸漬させた状態で一時停止する時間を任意の時間に設定し、Ａ＝１１５（ｓ）、Ｂ＝４１（ｓ）、Ｃ＝７８（ｓ）、（Ａ−Ｂ）／Ｃ＝０．９５となる塗工条件で塗工した。
【０１３９】
＜実施例２０＞
実施例１９の電荷輸送層用塗工液に含有される電荷輸送物質Ａを下記構造式の電荷輸送物質Ｂ７部に換えた以外は比較例７と同様に電子写真感光体を作製した。
電荷輸送物質Ｂ                                                      ７部
【化３７】
2010271434.tif 000040
【０１４０】
＜実施例２１＞
実施例１９の電荷輸送層用塗工液に含有される電荷輸送物質Ａを下記構造式の電荷輸送物質Ｃ７部に換えた以外は比較例７と同様に電子写真感光体を作製した。
電荷輸送物質Ｃ                                                      ７部
【化３８】
2010271434.tif 000041
電荷輸送層を塗工する際の塗工条件はＡ＝１１５（ｓ）、Ｂ＝４１（ｓ）、Ｃ＝７８（ｓ）、（Ａ−Ｂ）／Ｃ＝０．９５となる条件である。
【０１４１】
＜比較例１＞
実施例１の電荷輸送層を塗工する際、塗工液に支持体を任意の速度で浸漬させ、上端まで浸漬させた状態で一時停止する時間を任意の時間に設定し、Ａ＝１００（ｓ）、Ｂ＝２６（ｓ）、Ｃ＝６３（ｓ）、（Ａ−Ｂ）／Ｃ＝１．１８となる塗工条件で塗工する以外は実施例１と同様に電子写真感光体を作製した。
＜比較例２＞
比較例１の架橋型電荷輸送層用塗工液に含有される１官能の電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物を例示化合物Ｎｏ．１４４、１０部に換えた以外は比較例１と同様に電子写真感光体を作製した。
【０１４２】
＜比較例３＞
比較例２の架橋型電荷輸送層用塗工液に含有される電荷輸送性構造を有さない３官能のラジカル重合性モノマーを下記の電荷輸送性構造を有さない２官能のラジカル重合性モノマー１０部に換えた以外は比較例２と同様に電子写真感光体を作製した。
電荷輸送性構造を有さない２官能のラジカル重合性モノマー：
１，６−ヘキサンジオールジアクリレート（和光純薬製  分子量：２２６、
官能基数：２官能、分子量／官能基数＝１１３）                  １０部
【０１４３】
＜比較例４＞
比較例３の架橋型電荷輸送層の膜厚を０．５μｍに換えた以外は比較例３と同様に電子写真感光体を作製した。
＜比較例５＞
比較例３の架橋型電荷輸送層の膜厚を１２μｍに換えた以外は比較例３と同様に電子写真感光体を作製した。
＜比較例６＞
実施例１９の電荷輸送層を塗工する際、塗工液に支持体を任意の速度で浸漬させ、上端まで浸漬させた状態で一時停止する時間を任意の時間に設定し、Ａ＝１００（ｓ）、Ｂ＝２６（ｓ）、Ｃ＝６３（ｓ）、（Ａ−Ｂ）／Ｃ＝１．１８となる塗工条件で塗工する以外は実施例１と同様に電子写真感光体を作製した。
【０１４４】
＜比較例７＞
比較例６の電荷輸送層用塗工液に含有される電荷輸送物質Ａを下記構造式の電荷輸送物質Ｂ７部に換えた以外は比較例６と同様に電子写真感光体を作製した。
電荷輸送物質Ｂ                                                      ７部
【化３９】
2010271434.tif 000042
【０１４５】
＜比較例８＞
比較例６の電荷輸送層用塗工液に含有される電荷輸送物質Ａを下記構造式の電荷輸送物質Ｃ７部に換えた以外は比較例６と同様に電子写真感光体を作製した。
電荷輸送物質Ｃ                                                      ７部
【化４０】
2010271434.tif 000043
【０１４６】
各実施例に示した感光体を用いて上記評価方法によって評価を行った結果を表に示す。
［１本内ＶＬばらつき（ΔＶＬ）評価基準］
◎：ΔＶＬ≦２０Ｖ
○：２０Ｖ＜ΔＶＬ≦４０Ｖ
×：４０Ｖ＜ΔＶＬ
［１頁内画像濃度ムラ評価基準］
◎：良好（ΔＩＤ≦０．１）
○：実用上問題ないレベル（０．１＜ΔＩＤ≦０．１５）
×：実用上問題あり（０．１５＜ΔＩＤ）
【０１４７】
【表３】
2010271434.tif 000044
【０１４８】
以上の結果から明らかなように、式（１）を満たす条件で浸漬塗工した電荷輸送層の上に架橋型電荷輸送層を形成することによって、１本内ＶＬばらつきが低減される傾向が認められ、高画質化に対し非常に有効である。
電荷発生層と電荷輸送層の界面では、塗工時に生じるドラム上部と下部の浸漬時間差によって電荷発生物質の濃度傾斜が形成されているおり、電荷輸送層を塗工する際に式（１）を満たす条件で塗工することで、界面の電荷発生物質の濃度傾斜が低減され、ＶＬばらつきが低減されたことよると考えられる。さらに、架橋型電荷輸送層を積層することで、ＶＬばらつきが低減されただけでなく、耐摩耗性が著しく向上した。
【０１４９】
一方、式（１）を満たさない条件で電荷輸送層を塗工した場合、感光体の上部と下部でＶＬばらつきが大きく、印刷時の１頁内画像濃度ムラが明らかに生じており、画質の低下を引き起こした。
これにより、従来保護層を形成したときの課題とされていた高耐久化と高画質化を両立することが可能となり、感光体、さらにはそれを用いた画像形成装置の長寿命化を実現することが可能となった。
【符号の説明】
【０１５０】
１  感光体
２  除電ランプ
３  帯電チャージャ
５  画像露光部
６  現像ユニット
７  転写前チャージャ
８  レジストローラ
９  転写体（紙など）
１０  転写チャージャ
１１  分離チャージャ
１２  分離爪
１３  クリーニング前チャージャ
１４  ファーブラシ
１５  クリーニングブレード
１６  潤滑剤
１７  ブラシローラ
１８  塗布ブレード
３１  導電性支持体
３３  感光層
３５  電荷発生層
３７  電荷輸送層
３９  架橋型電荷輸送層
【先行技術文献】
【特許文献】
【０１５１】
【特許文献１】特開平１１−２５８８３８号公報
【特許文献２】特開２００８−０６２１３１号公報
【特許文献３】特開２０００−３２１７９６号公報
【特許文献４】特開平０９−２５８４６１号公報
【特許文献５】特開２００８−４６１６７号公報
【図１】
2010271434.tif 000048
【図２】
2010271434.tif 000049
【図３】
2010271434.tif 000050