(57)【要約】【課題】本発明の構成を有さない場合に比べ、耐光性に優れた表示媒体、書込装置、及び表示装置を提供する。【解決手段】表示媒体１２においては、第２の光吸収層３４が、第２の電極２２の光導電層２０とは反対側に設けられている。すなわち、第２の光吸収層３４は、表示媒体１２の光導電層２０より書込光の照射方向上流側に設けられている。この第２の光吸収層３４は、書込光を透過し、且つ３００ｎｍ以上５５０ｎｍ以下の全波長領域について吸光度１以上の遮光性能を示す。このため、蛍光灯の光のように、書込に利用されない波長の光が非表示面側から光導電層２０へ到ることが抑制され、光導電層２０の外光による光劣化が抑制される。従って、耐光性に優れた表示媒体１２が提供される。【選択図】図１
2010237643.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の電極と、
第２の電極と、
前記第１の電極と前記第２の電極との電極間に設けられた液晶層と、
前記第２の電極と前記液晶層との間に設けられ、予め定められた波長の書込光を吸収することにより、該書込光の強度分布に応じた電気的特性を示す光導電層と、
前記液晶層と前記光導電層との間に設けられ、前記液晶層を透過した光を吸収する第１の光吸収層と、
前記第２の電極の前記光導電層とは反対側に設けられ、前記書込光を透過し、３００ｎｍ以上５５０ｎｍ以下の全波長領域における吸光度が１以上の第２の光吸収層と、
を備えた表示媒体。
【請求項２】
前記光導電層は、電荷発生材料を含む電荷発生層と、電荷輸送材料を含む電荷輸送層と、を有し、該電荷発生材料がフタロシアニンであり、該電荷輸送材料がスチルベン化合物である請求項１に記載の表示媒体。
【請求項３】
前記電荷発生材料が、
（１）Ｘ線回折スペクトルにおけるブラッグ角（２θ±０．２°）が少なくとも７．４°、１６．６°、２５．５°、及び２８．３°に回折ピークを有するクロロガリウムフタロシアニン、
（２）Ｘ線回折スペクトルにおけるブラッグ角（２θ±０．２°）が少なくとも６．８°、１７．３°、２３．６°、及び２６．９°に回折ピークを有するクロロガリウムフタロシアニン、
（３）Ｘ線回折スペクトルにおけるブラッグ角（２θ±０．２°）が少なくとも８．７°以上９．２°以下、１７．６°、２４．０°、２７．４°、及び２８．８°に回折ピークを有するクロロガリウムフタロシアニン、
（４）Ｘ線回折スペクトルにおけるブラッグ角（２θ±０．２°）が少なくとも７．５°、９．９°１２．５°１６．３°、１８．６°、２５．１°、及び２８．３°に回折ピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン、
（５）Ｘ線回折スペクトルにおけるブラッグ角（２θ±０．２°）が少なくとも７．７°、１６．５°、２５．１°及び２６．６°に回折ピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン、
（６）Ｘ線回折スペクトルにおけるブラッグ角（２θ±０．２°）が少なくとも７．９°、１６．５°、２４．４°及び２７．６°に回折ピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン、
（７）Ｘ線回折スペクトルにおけるブラッグ角（２θ±０．２°）が少なくとも７．０°、７．５°、１０．５°、１１．７°、１２．７°、１７．３°、１８．１°、２４．５°、２６．２°及び２７．１°に回折ピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン、
（８）Ｘ線回折スペクトルにおけるブラッグ角（２θ±０．２°）が少なくとも６．８°、１２．８°、１５．８°及び２６．０°に回折ピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン、
（９）Ｘ線回折スペクトルにおけるブラッグ角（２θ±０．２°）が少なくとも７．４°、９．９°、２５．０°、２６．２°及び２８．２°に回折ピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン、
（１０）Ｘ線回折スペクトルにおけるブラッグ角（２θ±０．２°）が少なくとも９．３°、及び２６．３°に回折ピークを有するチタニルフタロシアニン、
（１１）Ｘ線回折スペクトルにおけるブラッグ角（２θ±０．２°）が少なくとも９．５°、９．７°、１１．７°、１５．０°、２３．５°、２４．１°、及び２７．３°に回折ピークを有するチタニルフタロシアニン、
の群より選ばれる少なくとも一種類以上の電荷発生材料である請求項２に記載の表示媒体。
【請求項４】
前記スチルベン化合物が下記一般式（Ｉ）で表される請求項２または請求項３に記載の表示媒体。
【化１】
2010237643.tif 000010
（一般式（Ｉ）中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4はそれぞれ独立に水素原子、メチル基、またはエチル基を表す。）
【請求項５】
前記スチルベン化合物が、下記構造式（Ｉ−１）、下記構造式（Ｉ−２）、及び下記構造式（Ｉ―３）で表される化合物から選ばれる少なくとも１種である請求項２〜請求項４の何れか１項に記載の表示媒体。
【化２】
2010237643.tif 000011
【請求項６】
前記第２の光吸収層は、３００ｎｍ以上６００ｎｍ未満の全波長領域における吸光度が１以上である請求項１〜請求項５の何れか１項に記載の表示媒体。
【請求項７】
前記書込光は、６００ｎｍ以上８００ｎｍ以下の波長の光である請求項１〜請求項６の何れか１項に記載の表示媒体。
【請求項８】
前記第２の光吸収層が、非水溶性樹脂層から構成されたことを特徴とする請求項１〜請求項７の何れか１項に記載の表示媒体。
【請求項９】
第１の電極と、第２の電極と、前記第１の電極と前記第２の電極との電極間に設けられた液晶層と、前記第２の電極と前記液晶層との間に設けられ予め定められた波長の書込光を吸収することにより該書込光の強度分布に応じた電気的特性を示す光導電層と、前記液晶層と前記光導電層との間に設けられ前記液晶層を透過した光を吸収する第１の光吸収層と、前記第２の電極の前記光導電層とは反対側に設けられ前記書込光を透過し３００ｎｍ以上５５０ｎｍ以下の全波長領域における吸光度が１以上の第２の光吸収層と、を備えた表示媒体について、
前記第１の電極及び前記第２の電極に電圧を印加する電圧印加装置と、
前記表示媒体の前記第２の光吸収層側から前記書込光を照射する照射装置と、
を備えた書込装置。
【請求項１０】
第１の電極と、
第２の電極と、
前記第１の電極と前記第２の電極との電極間に設けられた液晶層と、
前記第２の電極と前記液晶層との間に設けられ、予め定められた波長の書込光を吸収することにより、該書込光の強度分布に応じた電気的特性を示す光導電層と、
前記液晶層と前記光導電層との間に設けられ、前記液晶層を透過した光を吸収する第１の光吸収層と、
前記第２の電極の前記光導電層とは反対側に設けられ、前記書込光を透過し、３００ｎｍ以上５５０ｎｍ以下の全波長領域における吸光度が１以上の第２の光吸収層と、
を備えた表示媒体と、
前記第１の電極及び前記第２の電極に電圧を印加する電圧印加装置と、
前記光吸収層側から前記書込光を照射する照射装置と、
を備えた表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示媒体、書込装置、及び表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
表示媒体について、森林資源保護などの地球環境保全やスペースセーブといった事務環境改善などの理由から、紙に代わるハードコピー技術として、書き換え可能なリライタブルマーキング技術への期待が大きくなってきている。
紙のハードコピーは１）明るく、コントラストが高い、反射型フルカラー表示が可能であり、読みやすく情報表示密度が高い、２）軽薄で可とう性を有する構造であり楽な姿勢での使用、照明条件の選択の幅が広い、３）表示メモリ性を有し、無電源での情報表示、保存が可能であるとともに、目の疲労が少ない、４）低コストで生産性も高いため、複数枚の同時表示による一覧性が得やすく、情報の比較やブラウジングなどが容易である、という従来の電子ディスプレイには無い優れた操作上の利便性を持っている。このため、オフィスのペーパーレス化は期待されるほどには促進されず、電子ディスプレイに表示されている情報を、改めて紙にハードコピーとして印字してから閲覧するという行為を引き起こしている。従って、紙に代わる表示媒体には、省資源、少廃棄物を実現するための書き換え可能性に加えて、上記のような、紙文書固有の多様な利便性の再現が望まれている。
【０００３】
近年では、特に加熱による化学変化を利用したリライタブルマーキング技術の研究が盛んであり、ロイコ染料／両性顕減色剤系、ロイコ染料／顕色剤／有極性有機化合物系、ロイコ染料／長鎖アルキル顕減色剤系などの方式が提案されている。これらロイコ染料を用いる方式は、そのラクトン環の開閉に伴う、発消色変化を利用する化学変化型である。
【０００４】
また、加熱による物理変化を利用した方式が、画像の維持性を得やすい方式として提案されており、高分子／長鎖アルキル低分子系、ポリマーブレンド系、高分子液晶系などが提案されている。高分子／長鎖アルキル低分子系は内部の空隙を加熱温度によって変化させ光散乱性を制御する方式であり、ポリマーブレンド系は冷却速度によってミクロ相分離状態を変化させ、光散乱性を制御する方式である。また高分子液晶系は主に冷却速度によって結晶性を変化させて、光散乱性を制御する方式である。
【０００５】
さらに、紙に変わる表示媒体として、液晶層と、電場下で光照射されることで内部光電効果による自由電子の移動の発生する光導電層と、を用いた表示媒体が提案されている（例えば、特許文献１参照）。現在、主として開発が進められている表示媒体では、一対の電極間に液晶層と光導電層とを積層した表示媒体について、一対の電極に電圧を印加すると、表示媒体を構成する各層に、それぞれの分圧が印加される。その状態で、光導電層へ、光導電層の吸収波長領域の書込光を照射すると、その照射された書込光に応じて光導電層の分圧が変化するため、液晶層に印加される分圧が変化し、この分圧の変化によって液晶の配向分布（すなわち光学的特性分布）が変化することから、書込光に応じた情報が液晶層に記録される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開平９−１２００４５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明の課題は、本発明における第１の光吸収層と第２の光吸収層の構成を有さない場合に比べ、耐光性に優れた表示媒体、書込装置、及び表示装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題は、以下の手段により解決される。即ち、
請求項１に係る発明は、第１の電極と、第２の電極と、前記第１の電極と前記第２の電極との電極間に設けられた液晶層と、前記第２の電極と前記液晶層との間に設けられ、予め定められた波長の書込光を吸収することにより、該書込光の強度分布に応じた電気的特性を示す光導電層と、前記液晶層と前記光導電層との間に設けられ、前記液晶層を透過した光を吸収する第１の光吸収層と、前記第２の電極の前記光導電層とは反対側に設けられ、前記書込光を透過し、３００ｎｍ以上５５０ｎｍ以下の全波長領域における吸光度が１以上の第２の光吸収層と、を備えた表示媒体である。
【０００９】
請求項２に係る発明は、前記光導電層は、電荷発生材料を含む電荷発生層と、電荷輸送材料を含む電荷輸送層と、を有し、該電荷発生材料がフタロシアニン顔料であり、該電荷輸送材料がスチルベン化合物である請求項１に記載の表示媒体である。
【００１０】
請求項３に係る発明は、前記電荷発生材料が、
（１）Ｘ線回折スペクトルにおけるブラッグ角（２θ±０．２°）が少なくとも７．４°、１６．６°、２５．５°、及び２８．３°に回折ピークを有するクロロガリウムフタロシアニン、
（２）Ｘ線回折スペクトルにおけるブラッグ角（２θ±０．２°）が少なくとも６．８°、１７．３°、２３．６°、及び２６．９°に回折ピークを有するクロロガリウムフタロシアニン、
（３）Ｘ線回折スペクトルにおけるブラッグ角（２θ±０．２°）が少なくとも８．７°以上９．２°以下、１７．６°、２４．０°、２７．４°、及び２８．８°に回折ピークを有するクロロガリウムフタロシアニン、
（４）Ｘ線回折スペクトルにおけるブラッグ角（２θ±０．２°）が少なくとも７．５°、９．９°１２．５°１６．３°、１８．６°、２５．１°、及び２８．３°に回折ピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン、
（５）Ｘ線回折スペクトルにおけるブラッグ角（２θ±０．２°）が少なくとも７．７°、１６．５°、２５．１°及び２６．６°に回折ピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン、
（６）Ｘ線回折スペクトルにおけるブラッグ角（２θ±０．２°）が少なくとも７．９°、１６．５°、２４．４°及び２７．６°に回折ピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン、
（７）Ｘ線回折スペクトルにおけるブラッグ角（２θ±０．２°）が少なくとも７．０°、７．５°、１０．５°、１１．７°、１２．７°、１７．３°、１８．１°、２４．５°、２６．２°及び２７．１°に回折ピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン、
（８）Ｘ線回折スペクトルにおけるブラッグ角（２θ±０．２°）が少なくとも６．８°、１２．８°、１５．８°及び２６．０°に回折ピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン、
（９）Ｘ線回折スペクトルにおけるブラッグ角（２θ±０．２°）が少なくとも７．４°、９．９°、２５．０°、２６．２°及び２８．２°に回折ピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン、
（１０）Ｘ線回折スペクトルにおけるブラッグ角（２θ±０．２°）が少なくとも９．３°、及び２６．３°に回折ピークを有するチタニルフタロシアニン、
（１１）Ｘ線回折スペクトルにおけるブラッグ角（２θ±０．２°）が少なくとも９．５°、９．７°、１１．７°、１５．０°、２３．５°、２４．１°、及び２７．３°に回折ピークを有するチタニルフタロシアニン、
の群より選ばれる少なくとも一種類の電荷発生材料である請求項２に記載の表示媒体である。
【００１１】
請求項４に係る発明は、前記スチルベン化合物が下記一般式（Ｉ）で表される請求項２または請求項３に記載の表示媒体である。
【００１２】
【化１】
2010237643.tif 000003
【００１３】
一般式（Ｉ）中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4はそれぞれ独立に水素原子、メチル基、またはエチル基を表す。
【００１４】
請求項５に係る発明は、前記スチルベン化合物が、下記構造式（Ｉ−１）、下記構造式（Ｉ−２）、及び下記構造式（Ｉ―３）で表される化合物から選ばれる少なくとも１種である請求項２〜請求項４の何れか１項に記載の表示媒体である。
【００１５】
【化２】
2010237643.tif 000004
【００１６】
請求項６に係る発明は、前記第２の光吸収層は、３００ｎｍ以上６００未満の全波長領域における吸光度が１以上である請求項１〜請求項５の何れか１項に記載の表示媒体である。
【００１７】
請求項７に係る発明は、前記書込光は、６００ｎｍ以上８００ｎｍ以下の波長の光である請求項１〜請求項６の何れか１項に記載の表示媒体である。
【００１８】
請求項８に係る発明は、前記第２の光吸収層が、非水溶性樹脂層から構成されたことを特徴とする請求項１〜請求項７の何れか１項に記載の表示媒体である。
【００１９】
請求項９に係る発明は、第１の電極と、第２の電極と、前記第１の電極と前記第２の電極との電極間に設けられた液晶層と、前記第２の電極と前記液晶層との間に設けられ予め定められた波長の書込光を吸収することにより該書込光の強度分布に応じた電気的特性を示す光導電層と、前記液晶層と前記光導電層との間に設けられ前記液晶層を透過した光を吸収する第１の光吸収層と、前記第２の電極の前記光導電層とは反対側に設けられ前記書込光を透過し３００ｎｍ以上５５０ｎｍ以下の全波長領域における吸光度が１以上の第２の光吸収層と、を備えた表示媒体について、前記第１の電極及び前記第２の電極に電圧を印加する電圧印加装置と、前記表示媒体の前記第２の光吸収層側から前記書込光を照射する照射装置と、を備えた書込装置である。
【００２０】
請求項１０に係る発明は、第１の電極と、第２の電極と、前記第１の電極と前記第２の電極との電極間に設けられた液晶層と、前記第２の電極と前記液晶層との間に設けられ、予め定められた波長の書込光を吸収することにより、該書込光の強度分布に応じた電気的特性を示す光導電層と、前記液晶層と前記光導電層との間に設けられ、前記液晶層を透過した光を吸収する第１の光吸収層と、前記第２の電極の前記光導電層とは反対側に設けられ、前記書込光を透過し、３００ｎｍ以上５５０ｎｍ以下の全波長領域における吸光度が１以上の第２の光吸収層と、を備えた表示媒体と、前記第１の電極及び前記第２の電極に電圧を印加する電圧印加装置と、前記光吸収層側から前記書込光を照射する照射装置と、を備えた表示装置である。
【発明の効果】
【００２１】
請求項１に係る発明によれば、本発明における第２の光吸収層を有さない場合に比べ、耐光性に優れた表示媒体が提供される、という効果を奏する。
【００２２】
請求項２に係る発明によれば、電荷発生材料にフタロシアニンを用い、電荷輸送材料にスチルベン化合物を用いない場合に比べて、更に耐光性に優れた表示媒体が提供される、という効果を奏する。
【００２３】
請求項３に係る発明によれば、電荷発生材料が請求項３に係る電荷発生材料ではない場合に比べて、更に耐光性に優れた表示媒体が提供される、という効果を奏する。
【００２４】
請求項４に係る発明によれば、スチルベン化合物が本発明に係るスチルベン化合物ではない場合に比べて、更に耐光性に優れた表示媒体が提供される、という効果を奏する。
【００２５】
請求項５に係る発明によれば、スチルベン化合物が本発明に係るスチルベン化合物ではない場合に比べて、更に耐光性に優れた表示媒体が提供される、という効果を奏する。
【００２６】
請求項６に係る発明によれば、本発明における第２の光吸収層を有さない場合に比べ、更に耐光性に優れた表示媒体が提供される、という効果を奏する。
【００２７】
請求項７に係る発明によれば、本発明における書込光を用いない場合に比べて、耐光性に優れ、且つ良好な光書込の行なわれる表示媒体が提供される、という効果を奏する。
【００２８】
請求項８に係る発明によれば、本発明における第２の光吸収層が非水溶性樹脂層から構成されていない場合に比べて、容易に製造される、という効果を奏する。
【００２９】
請求項９に係る発明によれば、本発明における第２の光吸収層を有さない場合に比べて、優れた耐光性が実現される、という効果を奏する。
【００３０】
請求項１０に係る発明によれば、本発明における第２の光吸収層を有さない場合に比べて、優れた耐光性が実現される、という効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【００３１】
【図１】本実施の形態の表示装置の一の形態を示す概略構成図である。
【図２】コレステリック液晶の分子配向と光学特性の関係を示す模式説明図であり、（Ａ）はプレーナー状態、（Ｂ）はフォーカルコニック状態、（Ｃ）ホメオトロピック状態の各状態におけるものである。
【図３】コレステリック液晶層の電気光学応答特性を示す線図である。
【図４】実施例及び比較例における、耐光性評価結果を示す線図である。
【図５】実施例及び比較例における、耐光性評価結果を示す線図である。
【発明を実施するための形態】
【００３２】
本発明の表示装置及び光書き込み方法の一の実施の形態を図面に基づき説明する。
【００３３】
図１に示すように、本実施の形態の表示装置１０は、表示媒体１２と、書込装置１４と、を備えている。
【００３４】
表示媒体１２は、非表示面側（図１中、矢印Ｂ方向）から表示面側（図１中、矢印Ａ方向側）に向かって順に、基板３６、第２の光吸収層３４、接着層３２、基板２４、第２の電極２２、光導電層２０、隔離層２１、接着層１８、第１の光吸収層１９、液晶層１７、第１の電極１５、及び基板１３を積層した構成とされている。
【００３５】
表示媒体１２では、詳細は後述するが、電極１５及び電極２２間に電圧を印加し、非表示面側から光導電層２０へ向かって書込光の照射を行うことで光導電層２０の電気特性分布を変化させる。このため、液晶層１７には、この電気的特性分布の変化に応じて分布した分圧が印加される。これによって該分圧に応じて液晶層１７のコレステリック液晶の配向が変化して、液晶層１７に画像が形成される。この書込光は、光導電層２０が感度を有する波長領域の光であって、表示媒体１２における光書込時に、表示媒体１２の非表示面側（図１中、矢印Ｂ方向）から光導電層２０へ照射する特定の波長の光である。この書込光は、光導電層２０が感度を有する波長領域の光であればよいが、光導電層２０にとって、より感度の高い波長であることから、６００ｎｍ以上８００ｎｍ以下の波長領域の光であることが望ましく、６４０ｎｍ以上６８０ｎｍ以下の波長領域の光が、さらに望ましい。
【００３６】
なお、表示装置１０が本発明の表示装置に相当し、書込装置１４が本発明の書込装置に相当し、表示媒体１２が本発明の表示媒体に相当する。また、第１の電極１５が本発明の表示媒体の第１の電極に相当し、第２の電極２２が第２の電極に相当し、液晶層１７が液晶層に相当し、光導電層２０が光導電層に相当する。また、第１の光吸収層１９が第１の光吸収層に相当し、第２の光吸収層３４が第２の光吸収層に相当する。
【００３７】
基板３６、基板２４、及び基板１３は、各層を基板間に保持し、表示媒体１２の構造を維持する。基板３６、基板２４、及び基板１３は、外力に耐える強度を有するシート形状の物体であり、表示面側に設けられた基板１３は少なくとも入射光を、表示面と反対側に設けられた基板２４及び基板３６は、書込光を少なくとも透過する。
これらの基板３６、基板２４、及び基板１３は、必ずしも設ける必要はないが、表示媒体１２の形状保持や表面保護のため設けることが良い。
【００３８】
これらの基板３６、基板２４、及び基板１３としては、透明な絶縁体シートもしくはフィルムが好適に用いられる。例えば、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタラート）、ＰＣ（ポリカーボネート）、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリイミド、ＰＥＳ（ポリエーテルスルホン）、トリアセチルセルロース等の透明性樹脂やガラス、セラミック等が用いられる。これらの基板として、透明性樹脂を使用する場合には、必要に応じて水蒸気バリア層を付加形成することが望ましい。フレキシブル基板が得られること、成形が容易なこと、コストの点などから光透過性のプラスチック基板を用いることがより有利である。
これらの基板３６、基板１３、及び基板２４の厚みとしては、５０μｍ以上５００μｍ以下の範囲程度が良い。
【００３９】
なお、本実施の形態において、「絶縁」及び「絶縁性」とは、体積抵抗率で１０１２Ωｃｍ以上の範囲を意味する。一方、導電性とは、体積抵抗率で１０１０Ωｃｍ以下の範囲を意味する。
また、本実施の形態において、「透明」とは、書込光及び可視領域の光を実質的に透過（透過率８０％以上）することをいう。
【００４０】
第１の電極１５は、表示面側に設けられた基板１３に積層されており、第２の電極２２は、非表示面側に設けられた基板２４に積層されている。
これらの第１の電極１５及び第２の電極２２は、詳細を後述する書込装置１４から印加された電圧を、これらの第１の電極１５及び第２の電極２２の電極間に配置された各層へ印加するための部材である。このため、第１の電極１５及び第２の電極２２は、導電性を有し、表示面側に設けられた第１の電極１５は少なくとも入射光を、非表示面側に設けられた第２の電極２２は、書込光を少なくとも透過する。これらの第１の電極１５及び第２の電極２２は、透明であることが良い。
【００４１】
第１の電極１５及び第２の電極２２としては、例えば、酸化インジウム錫（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ：ＩＴＯ）、金（Ａｕ）、アルミニウム（Ａｌ）、銅（Ｃｕ）などの金属薄膜、酸化錫（ＳｎＯ２）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）などの導電性金属酸化物、ポリピロールなど導電性高分子の薄膜など透光性の電気伝導体が用いられる。また、ＩＴＯや各種金属板のように基板と電極を兼ねた構成であっても構わない。これらの第１の電極１５及び第２の電極２２の厚みは特に限定されないが、１０ｎｍ以上１０μｍ以下の範囲から選択される。第１の電極１５及び第２の電極２２は、蒸着、スパッタリングなどにより形成すればよい。
【００４２】
光導電層２０は、上記第１の電極１５と第２の電極２２との電極間に設けられ、内部光電効果をもち、書込光の照射強度に応じてインピーダンス特性が変化することにより、該書込光の強度分布に応じた電気的特性分布を示す。すなわち、本実施の形態の表示媒体１２の光導電層２０は、書込光の波長領域の光に対して感度を有し、該波長領域の光を吸収することによって、該光の強度分布に応じた電気的特性分布を示す。
【００４３】
本実施の形態では、光導電層２０は、表示面側から順に、第１の電荷発生層（ＣＧＬ）２０Ａ、電荷輸送層（ＣＴＬ）２０Ｂ、第２の電荷発生層（ＣＧＬ）２０Ｃが順に積層されたデュアルＣＧＬ構造とされている。
【００４４】
第１の電荷発生層２０Ａ、及び第２の電荷発生層２０Ｃは、書込光を吸収して電荷を発生させる機能を有する。すなわち、これらの第１の電荷発生層２０Ａ及び第２の電荷発生層２０Ｃは、照射された書込光の強度に応じた電気抵抗値の変化が良好に生じる構成であればよい。この電気抵抗値の変化が良好に生じる、とは、表示媒体１２として構成したときに書込光の光強度の変化に応じた電気抵抗値の変化が、液晶層１７の相変化（プレーナーとフォーカルコニックとの間の状態変化）が生じることを示している。
この第１の電荷発生層２０Ａ及び第２の電荷発生層２０Ｃとしては、具体的には、６００ｎｍ以上８００ｎｍ以下の波長領域に吸収を有し、中でも６４０ｎｍ以上６８０ｎｍ以下の波長領域の光に対する吸収度が高く、６６０ｎｍの波長の光に対する吸光度が最も高い（最大吸収）、電荷発生層が用いられる。この場合には、書込光として、６６０ｎｍの波長の光が用いられる。
【００４５】
この第１の電荷発生層２０Ａ及び第２の電荷発生層２０Ｃに用いられる電荷発生材料としては、具体的には、金属または無金属フタロシアニン化合物、ビスおよびトリスなどアゾ化合物、ペリレン化合物、スクアリリウム化合物、アズレニウム化合物、アントロン化合物、ピリリウム化合物、多環キノン化合物、インジゴ顔料、縮合芳香族系顔料、キサンテン顔料、キナクリドン顔料、シアニン色素、ピロピロール色素などの有機材料が挙げられるが、クロロガリウムフタロシアニン、ヒドロキシガリウムフタロシアニン、オキシチタニルフタロシアニン、ジクロロスズフタロシアニン等の各種フタロシアニン結晶が用いられる。
【００４６】
第１の電荷発生層２０Ａ及び第２の電荷発生層２０Ｃの形成方法としては、真空蒸着法、スパッタ法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法などドライな膜形成方法のほか、上記電荷発生材料をバインダー樹脂に分散した塗布液をバーコート法、スピンコート法、ロールコート法、ディップ法、キャスティング法、ブレードコーティング法、スプレーコーティング法などのウエットな膜形成方法が挙げられる。上記塗布液を用いる場合、該塗布液中の電荷発生材料の濃度としては、１質量％以上２０質量％以下、または１．５質量％以上５質量％以下が挙げられる。
【００４７】
上記塗布液に含まれるバインダー樹脂としては、ポリカーボネート樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、フェノキシ樹脂、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、塩化ビニル、酢酸ビニルなどの重合体、及びこれらの共重合体などの絶縁性樹脂が挙げられる。これらバインダー樹脂は単独で用いても２種以上を併用してもよい。前記塗布液を調整するための溶媒としては、バインダー樹脂を溶解する溶媒が用いられ、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエーテル、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等の環状または鎖状のエーテル類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル等のエステル類、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、クロロエチレン、トリクロロエチレン等の脂肪族ハロゲン化炭化水素類、リグロイン等の鉱油、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等の芳香族ハロゲン化炭化水素類等が挙げられる。
【００４８】
この第１の電荷発生層２０Ａ及び第２の電荷発生層２０Ｃの層厚としては、１０ｎｍ以上１μｍ以下、または２０ｎｍ以上５００ｎｍ以下が挙げられる。
【００４９】
電荷輸送層２０Ｂは、第１の電荷発生層２０Ａまたは第２の電荷発生層２０Ｃで発生した電荷が注入されて、印加された電場方向にドリフトする機能を有する層である。一般に電荷輸送層２０Ｂは、第１の電荷発生層２０Ａ及び第２の電荷発生層２０Ｃの数１０倍の厚みを有する。このため、電荷輸送層２０Ｂの容量、電荷輸送層２０Ｂの暗電流、および電荷輸送層２０Ｂ内部に流れる電流が、光導電層２０全体の明暗インピーダンスを決定付けている。
【００５０】
電荷輸送層２０Ｂは、電荷輸送材料を含んで構成され、第１の電荷発生層２０Ａまたは第２の電荷発生層２０Ｃからの正孔（ホール）の注入が効率良く発生し（第１の電荷発生層２０Ａ及び第２の電荷発生層２０Ｃとイオン化ポテンシャルが近いことが良い）、注入された正孔が高速にホッピング移動するものが良い。なお、書込光の非露光時のインピーダンスを高くするためには、熱キャリアによる暗電流は低い方が良い。
【００５１】
電荷輸送層２０Ｂに含まれる電荷輸送材料は、正孔輸送材料としては、カルバゾール系、トリアゾール系、オキサジアゾール系、イミダゾール系、ピラゾリン系、ベンジルアミノ系ヒドラゾン、キノリン系ヒドラゾン、スチルベン系、トリフェニルアミン系、トリフェニルメタン系、ニトロフルオレノン系、トリニトロフルオレン系、ベンジジン系の化合物が挙げられ、電子輸送材料としては、キノン系、テトラシアノキノジメタン系、フルオレン系、キサントン系、ベンゾフェノン系、及びスチルベン系の化合物が挙げられる。中でも、ジアミン系化合物が感度、正孔輸送能力が高いことから良い。なお、上記電荷輸送性材料は、正孔輸送性であり、本実施の形態では電荷輸送層２０Ｂは正孔輸送層であるとして説明するが、この形態に限られず、電子輸送層として機能する層を用いても良い。
【００５２】
ここで、電荷輸送層２０Ｂに含まれる電荷輸送材料と、上記第１の電荷発生層２０Ａ及び第２の電荷発生層２０Ｃに含まれる電荷発生材料と、の組合せによって、光導電層２０の耐光性が向上すると考えられる。
具体的には、第１の電荷発生層２０Ａ及び第２の電荷発生層２０Ｂに含まれる電荷発生材料がフタロシアニンであり、電荷輸送層２０Ｂに含まれる電荷輸送材料がスチルベン化合物であることが、耐光性向上の観点から良い。
【００５３】
耐光性向上の観点から、上記電荷輸送材料として用いられるスチルベン化合物との組合せとして望ましい電荷発生材料であるフタロシアニンとしては、
（１）Ｘ線回折スペクトルにおけるブラッグ角（２θ±０．２°）が少なくとも７．４°、１６．６°、２５．５°、及び２８．３°に回折ピークを有するクロロガリウムフタロシアニン、
（２）Ｘ線回折スペクトルにおけるブラッグ角（２θ±０．２°）が少なくとも６．８°、１７．３°、２３．６°、及び２６．９°に回折ピークを有するクロロガリウムフタロシアニン、
（３）Ｘ線回折スペクトルにおけるブラッグ角（２θ±０．２°）が少なくとも８．７°以上９．２°以下、１７．６°、２４．０°、２７．４°、及び２８．８°に回折ピークを有するクロロガリウムフタロシアニン、
（４）Ｘ線回折スペクトルにおけるブラッグ角（２θ±０．２°）が少なくとも７．５°、９．９°１２．５°１６．３°、１８．６°、２５．１°、及び２８．３°に回折ピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン、
（５）Ｘ線回折スペクトルにおけるブラッグ角（２θ±０．２°）が少なくとも７．７°、１６．５°、２５．１°及び２６．６°に回折ピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン、
（６）Ｘ線回折スペクトルにおけるブラッグ角（２θ±０．２°）が少なくとも７．９°、１６．５°、２４．４°及び２７．６°に回折ピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン、
（７）Ｘ線回折スペクトルにおけるブラッグ角（２θ±０．２°）が少なくとも７．０°、７．５°、１０．５°、１１．７°、１２．７°、１７．３°、１８．１°、２４．５°、２６．２°及び２７．１°に回折ピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン、
（８）Ｘ線回折スペクトルにおけるブラッグ角（２θ±０．２°）が少なくとも６．８°、１２．８°、１５．８°及び２６．０°に回折ピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン、
（９）Ｘ線回折スペクトルにおけるブラッグ角（２θ±０．２°）が少なくとも７．４°、９．９°、２５．０°、２６．２°及び２８．２°に回折ピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン、
（１０）Ｘ線回折スペクトルにおけるブラッグ角（２θ±０．２°）が少なくとも９．３°、及び２６．３°に回折ピークを有するチタニルフタロシアニン、
（１１）Ｘ線回折スペクトルにおけるブラッグ角（２θ±０．２°）が少なくとも９．５°、９．７°、１１．７°、１５．０°、２３．５°、２４．１°、及び２７．３°に回折ピークを有するチタニルフタロシアニン、
の群より選ばれる少なくとも一種類以上であることが良い。
【００５４】
上記電荷輸送材料として用いられるスチルベン化合物としては、下記一般式（ＩＩ）で表されるスチルベン化合物が挙げられる。
【００５５】
【化３】
2010237643.tif 000005
【００５６】
この一般式（ＩＩ）で表されるスチルベン化合物としては、下記一般式（Ｉ）で表されるスチルベン化合物が、上記フタロシアニンとの組み合わせによる耐光性向上の観点から良い。
【００５７】
【化４】
2010237643.tif 000006
【００５８】
上記一般式（ＩＩ）及び上記一般式（Ｉ）中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4はそれぞれ独立に水素原子、メチル基、またはエチル基を表す。
【００５９】
上記一般式（Ｉ）で表されるスチルベン化合物の中で、耐光性向上の観点から上記フタロシアニンとの組み合わせとして良い化合物としては、下記構造式（Ｉ―１）、構造式（Ｉ−２）、及び構造式（Ｉ−３）で表される化合物から選ばれる少なくとも１種が挙げられる。
【００６０】
【化５】
2010237643.tif 000007
【００６１】
電荷輸送層２０Ｂに含まれるバインダー樹脂としては、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、スチレン−アルキッド樹脂等が適用される。特に、ポリカーボネート樹脂は、電荷輸送層のバインダーとした場合、電荷輸送特性が良好である上に、強度や柔軟性、透明性のバランスに優れているため、望ましい。
【００６２】
電荷輸送層２０Ｂにおける電荷輸送材料とバインダー樹脂との混合比（電荷輸送材料／バインダー樹脂）としては、１／１０以上１０／１以下の範囲、３／７以上７／３以下の範囲が挙げられる。
【００６３】
電荷輸送層２０Ｂの作製方法としては、真空蒸着法やスパッタ法などドライな膜形成法のほか、溶剤を用いるスピンコート法、ディップ法、ブレードコート法、ロールコート法などが適用される。溶剤塗布法の場合には、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロルベンゼン等の芳香族炭化水素類、アセトン、２−ブタノン等のケトン類、塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン等のハロンゲン化脂肪族炭化水素類、テトラヒドロフラン、エチルエーテル等の環状もしくは直鎖状のエーテル類等の通常の有機溶剤を単独あるいは２種以上混合して用いられる。また、この電荷輸送層２０Ｂ形成時に用いる塗布液中の電荷輸送材料の濃度としては、５質量％以上５０質量％以下の範囲や、１０質量％以上２０質量％以下の範囲が挙げられる。
【００６４】
この電荷輸送層２０Ｂの層厚としては、１μｍ以上１００μｍ以下の範囲や、３μｍ以上２０μｍ以下の範囲が挙げられる。
【００６５】
なお、本実施の形態では、光導電層２０は、第１の電荷発生層２０Ａ、電荷輸送層２０Ｂ、及び第２の電荷発生層２０Ｃが順に積層された構成である場合を説明するが、書込光の照射によって電気的特性が変化する層であればよく、この構成に限られない。
【００６６】
液晶層１７としては、コレステリック（カイラルネマチック）液晶の光干渉状態の変化を利用して、電場によって入射光の反射・透過状態を変調する機能を有し、選択した状態が無電場で保持される性質のものが用いられる。この液晶層１７としては、さらに、曲げや圧力などの外力に対して変形しない構造であることが良い。
【００６７】
本実施の形態の液晶層１７としては、コレステリック液晶および透明樹脂から構成される自己保持型液晶複合体の液晶層が形成されてなるものが用いられる。すなわち、本実施の形態の液晶層１７は、複合体として自己保持性を有するためスペーサ等を必要としない液晶層である。本実施形態では、液晶層１７は、高分子マトリックス（透明樹脂）１１中にコレステリック液晶１７Ｂが分散されて構成されている。なお、本実施の形態においては、液晶層１７が自己保持型液晶複合体の液晶層であるとして説明するが、自己保持型液晶複合体であることは必須ではなく、単に液晶のみで液晶層を構成することとしても勿論構わない。
【００６８】
コレステリック液晶１７Ｂは、入射光のうち特定の色光の反射・透過状態を変調する機能を有し、液晶分子がらせん状に捩れて配向しており、らせん軸方向から入射した光のうち、らせんピッチに依存した特定の光を干渉反射する。この液晶分子は、電場によって配向が変化し、反射状態が変化される。このコレステリック液晶１７Ｂは印加電圧に対して反射率が高く表示性能が優れており、またメモリ性を有することから、本実施形態の表示媒体１２に特に有効に用いられる。なお、液晶層１７を、自己保持型液晶複合体とする場合には、ドロップサイズが均一で、単層稠密に配置されていることが望ましい。
【００６９】
コレステリック液晶１７Ｂとして使用可能な具体的な液晶としては、シアノビフェニル系、フェニルシクロヘキシル系、フェニルベンゾエート系、シクロヘキシルベンゾエート系、アゾメチン系、アゾベンゼン系、ピリミジン系、ジオキサン系、シクロヘキシルシクロヘキサン系、スチルベン系、トラン系など公知のネマチック液晶に、コレステロール誘導体や2−メチルブチル基などの光学活性化合物等から成るカイラル剤を添加したもの、もしくは単独で不斉炭素をもち液晶組成物自身が光学活性を示すコレステリック液晶が挙げられる。コレステリック液晶は単独化合物でもよく、複数の単独では液晶性を示さない化合物を含む混合物であってもよい。
【００７０】
液晶層１７がコレステリック液晶１７Ｂと高分子マトリックス１７Ａからなる自己保持型液晶複合体を形成する形態としては、コレステリック液晶の連続相中に網目状の樹脂を含むＰＮＬＣ（Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｎｅｔｗｏｒｋ  Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ）構造や、高分子の骨格中にコレステリック液晶がドロップレット状に分散されたＰＤＬＣ（Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｄｉｓｐｅｒｓｅｄ  Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ）構造（マイクロカプセル化されたものを含む）が用いられ、ＰＮＬＣ構造やＰＤＬＣ構造とすることによって、コレステリック液晶と高分子の界面にアンカリング効果を生じ、無電界でのプレーナーまたはフォーカルコニックの保持状態が、より安定となる。
【００７１】
上記ＰＮＬＣ構造やＰＤＬＣ構造は、高分子と液晶とを相分離させる公知の方法、例えば、相分離法、液中乾燥法、誘拐分散冷却法、スプレードライング法、パンコーティング法、気中懸濁被覆法、粉床法などの各種界面沈積法、界面重合法、in situ重合法、液中硬化被覆法などの界面反応法が挙げられる。コレステリック液晶１７Ｂを内部に含むマイクロカプセルの壁材料としてはゼラチン、ゼラチン−アラビアゴム、ポリビニルアルコール、ポリアミド、ポリウレタン／ポリウレア、尿素ホルムアルデヒドなどの材料系が挙げられる。
【００７２】
高分子マトリックス１７Ａは、コレステリック液晶１７Ｂを保持し、表示媒体１２の変形による液晶の流動（画像の変化）を抑制する機能を有するものであり、液晶材料に溶解せず、また液晶と相溶しない液体を溶剤とする高分子材料が好適に用いられる。また、高分子マトリックス１７Ａとしては、外力に耐える強度をもち、少なくとも入射光および書込光に対して高い透過性を示す材料であることが望まれる。
【００７３】
高分子マトリックス１７Ａとして採用可能な材料としては、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、オレフィン樹脂、ビニル樹脂、フェノール樹脂、尿素樹脂などの樹脂や、ガラス、セラミックなどが利用される。
【００７４】
このコレステリック液晶１７Ｂは、図２（Ａ）に示すように、螺旋軸がセル表面に垂直になり、入射光に対して上記の選択反射現象を起こすプレーナー、同図（Ｂ）に示すように、螺旋軸がほぼセル表面に平行になり、入射光を少し前方散乱させながら透過させるフォーカルコニック、及び同図（Ｃ）に示すように、螺旋構造がほどけて液晶ダイレクタが電界方向を向き、入射光をほぼ完全に透過させるホメオトロピック、の３つの状態を示す。
【００７５】
上記の３つの状態のうち、プレーナー及びフォーカルコニックは、無電圧で双安定に存在する。したがって、コレステリック液晶の配向状態は、液晶層に印加される電圧に対して一義的に決まらず、プレーナーが初期状態の場合には、印加電圧の増加に伴って、プレーナー、フォーカルコニック、ホメオトロピックの順に変化し、フォーカルコニックが初期状態の場合には、印加電圧の増加に伴って、フォーカルコニック、ホメオトロピックの順に変化する電気光学応答特性を有している（図３参照）。
【００７６】
一方、液晶層１７に印加した電圧を急激にゼロにした場合には、プレーナーとフォーカルコニックはそのままの状態を維持し、ホメオトロピックはプレーナーに変化する電気光学応答特性を有している（図３参照）。
【００７７】
したがって、液晶層１７に電圧を印加した後に電圧印加を解除することで、液晶層１７にかかっていた電圧が急激にゼロとされたときの液晶層１７は、図３に示すようなバスタブ型のスイッチング挙動を示し、電圧印加解除前に液晶層１７にかかっていた電圧がＶｆｈ（上側閾値電圧）以上のときには、電圧印加解除後にはコレステリック液晶はホメオトロピックからプレーナーに変化した選択反射状態となり、Ｖｐｆ（下閾値電圧）とＶｆｈとの間のときには、フォーカルコニックによる透過状態となり、Ｖｐｆ以下のときには、電圧印加前の状態を継続した状態、すなわちプレーナーによる選択反射状態又はフォーカルコニックによる透過状態となる。表示媒体１２では、この状態変化を利用することによって液晶層１７に画像を表示する。
【００７８】
なお、図３中、縦軸は正規化光反射率であり、最大光反射率を１００、最小光反射率を０として、光反射率を正規化している。また、プレーナー、フォーカルコニックおよびホメオトロピックの各状態間には、遷移領域が存在するため、正規化光反射率が５０以上の場合を選択反射状態、正規化光反射率が５０未満の場合を透過状態と定義し、プレーナーとフォーカルコニックの状態変化のしきい値電圧を下側閾値電圧（Ｖｐｆ）とし、フォーカルコニックとホメオトロピックの状態変化のしきい値電圧を上側閾値電圧（Ｖｆｈ）としている。
【００７９】
この液晶層１７の形成方法としては、スクリーン印刷、凸版印刷、凹版印刷、平板印刷、フレクソ印刷などの印刷法や、スピンコート法、バーコート法、ディップコート法、ロールコート法、ナイフコート法、ダイコート法などの塗布法が挙げられる。なお、この液晶層１７は、第１の電極１５と、光導電層２０及び第１の光吸収層１９との間に設けられていれば良く、第１の電極１５に直接接してもうけられていなくてもよい。また、第１の電極１５と液晶層１７との間には、密着力向上の観点から、アンカーコート層や短絡を防止するための絶縁層を設けるなど、駆動電圧に対する影響が無視できる範囲で機能層を設けてもよい。
【００８０】
この液晶層１７と光導電層２０と層間には、光導電層２０側から液晶層１７側に向かって順に、隔離層２１、接着層１８、及び第１の光吸収層１９が設けられている。
【００８１】
接着層１８は、それぞれ上下基板内面に形成した各樹脂層を貼り合わせる際に、凹凸吸収および接着の役割を果たす目的で設けられている。接着層１８は、ガラス転移点の低い高分子材料からなり、熱や圧力によって貼り合わせる対象となる層（本実施の形態では隔離層２３と液晶層１７）を密着・接着させる材料が選択される。また、本実施の形態では、この接着層１８は、絶縁性の層として構成されることが良い。
【００８２】
この接着層１８に好適な材料としては、アクリレート系、ウレタン系、シアノアクリレート系、シリコーン系、イソプレンなどのゴム系、エチレン−酢酸ビニル共重合体など、公知の接着剤が利用される。接着剤のタイプは、２液硬化型、熱硬化型、湿気硬化型、紫外線硬化型、ホットメルト型、感圧型（粘着剤）など特に限定しない。
【００８３】
なお、接着層１８の材質や形成法によっては光導電層２０にダメージを与えるものがあることから、接着層１８と光導電層２０との間には、隔離層２１を設けてもよい。
【００８４】
この隔離層２１としては、水溶性樹脂、水／有機溶剤可溶樹脂、水系のエマルジョン・ディスパージョン・ラテックスなどが利用される。水溶性樹脂としてはポリビニルアルコール、メチルセルロース、エチルセルロースなどのアルキルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシメチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、ポリエチレンイミン、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸塩、ポリアクリルアミドなどのポリアクリル酸エステル、ポリエチレンオキシド、ポリビニルピロリドン、澱粉、カゼイン、にかわ、ゼラチン、アラビアゴム、グアーガム、アルギン酸塩、ローカストビーンガム、カラギーナン、タマリンド、ペクチンの他、水酸基、カルボキシル基、スルホン酸基、アミノ基などの親水性基を有するウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂などが利用できる。水／有機溶剤可溶樹脂としてはエチレン−ビニルアルコール共重合体、ポリアクリルアミド、ポリエチレンイミン、ポリビニルピロリドン、ポリグリセリンや、水／有機溶剤に可溶な各種樹脂が利用できる。水系のエマルジョン・ディスパージョン・ラテックスとしては、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−塩化ビニル共重合体、ポリウレタン、ポリアクリレート、スチレン−ブタジエンゴム、ニトリル−ブタジエンゴムなどが挙げられる。隔離層２１には、接着剤に含まれる低分子非水成分、有機溶媒などの拡散を防ぐ目的があるため、有機溶媒に膨潤しにくい水溶性樹脂が良い。
【００８５】
第１の光吸収層１９は、液晶層１７と光導電層２０との層間（詳細には、液晶層１７と接着層１８との層間）に設けられている。
【００８６】
第１の光吸収層１９は、上記書込光と読取光とを光学分離し、相互干渉による誤動作を防ぐと共に、表示時に表示媒体１２の非表示面側（基板３６側）から入射する光と液晶層１７に表示された表示画像を光学分離し、画質の劣化を防ぐ目的で設けられる層である。読取光とは、表示媒体１２の表示面側（基板１３側）から液晶層１７を透過して第１の光吸収層１９に入射する光であり、太陽光や室内光等が挙げられる。このため、第１の光吸収層１９には、少なくとも液晶層１７を透過した光を吸収する遮光性能が要求される。
【００８７】
この第１の光吸収層１９としては、具体的には、４００ｎｍ以上７００ｎｍ以下の全波長領域の光について、吸光度１以上の遮光性能が良く、吸光度２以上の遮光性能を示すことがさらに良い。
そして、さらには、可視波長領域の全域にわたる光について、吸光度１以上の遮光性能を示すことが望ましく、吸光度２以上の遮光性能を示すことが良い。
【００８８】
第１の光吸収層１９が、少なくとも４００ｎｍ以上７００ｎｍ以下の全波長領域の光について、吸光度１以上の遮光性能を示すことによって、液晶層１７を透過した光によって光導電層２０が誤動作を起こすことが防止される、と考えられる。
【００８９】
第１の光吸収層１９に用いられる材料としては、黒色の素材であれば特に限定されるものではなく、顔料を分散した樹脂、染料を溶解した樹脂、染料で染色した樹脂などの樹脂色素が利用される。該顔料としてはカーボンブラック、アニリンブラック、及び酸化クロムなどの無機顔料、アゾ顔料やフタロシアニン顔料などの有機顔料が利用される。染料としてはニトロソ染料、ニトロ染料、スチルベンアゾ染料、ジフェニルメタン染料、トリフェニルメタン染料、キサンテン染料、キノリン染料、ポリメチン染料、チアゾール染料、インドフェノール染料、アジン染料、オキサジン染料、チアジン染料、硫化染料、アミノケトン染料、アントラキノン染料、及びインジゴイド染料などが利用される。
【００９０】
これらの顔料を分散する樹脂、または染料を溶解する樹脂としては、塗布した際の塗膜に皮膜形成能を持たせるために、重合度が１０００以上３０００以下の水溶性樹脂が利用される。この水溶性樹脂としては、例えば、完全けん化または部分けん化ポリビニルアルコール、水溶性ポリビニルアセタール、水溶性ポリビニルホルマール、ポリアクリルアミド、ポリビニルピロリドン、ポリ（メタ）アクリル酸、水溶性ポリ（メタ）アクリル酸共重合体、ポリアルキレンオキサイド、水溶性ポリエステル、ポリエチレングリコール、及び水溶性マレイン酸樹脂等が挙げられるが、この中でもポリビニルアルコールや、水溶性ポリビニルアセタール、水溶性ポリビニルホルマール等のポリビニルアルコール誘導体が特に良い。
【００９１】
この第１の光吸収層１９の形成方法としては、スクリーン印刷、凸版印刷、凹版印刷、平板印刷、フレクソ印刷などの印刷法や、スピンコート法、バーコート法、ディップコート法、ロールコート法、ナイフコート法、ダイコート法などの塗布法が挙げられる。
【００９２】
第１の光吸収層１９の膜厚としては、１μｍ以上１０μｍ以下が挙げられる。また、この第１の光吸収層１９は、絶縁性の層として構成されることが良い。
【００９３】
上記第１の電極１５及び第２の電極２２の電極間の外側の非表示面側には、基板２４から非表示面側へ向かって順に、接着層３２、第２の光吸収層３４及び基板３６が積層されている。
接着層３２は、基板２４と第２の光吸収層３４とを貼り合わせる機能を有する層である。この接着層３２の材料構成及び特性は、上記接着層１８と同じであるため説明を省略する。
【００９４】
第２の光吸収層３４は、第２の電極２２の、光導電層２０とは反対側に設けられている。すなわち、第２の光吸収層３４は、第１の電極１５及び第２の電極２２の電極間の外側に設けられており、且つ第２の光吸収層３４より書込光の照射方向（図１中、矢印Ｃ方向（矢印Ｂ方向と同一））上流側に設けられている。
【００９５】
この第２の光吸収層３４は、表示媒体１２の非表示面側（図１中、矢印Ｂ方向側）から表示媒体１２内へ入射した、書込に用いられる波長以外の波長の光を吸収する目的で設けられている。
このため、第２の光吸収層３４には、少なくとも書込光を透過（透過率８０％以上）し、書込に利用されない光については遮光する。本実施の形態においては、第２の光吸収層３４は、書込光より短波長の光である３００ｎｍ以上５５０ｎｍ以下の全波長領域について、吸光度１以上の遮光性能が要求される。
【００９６】
この第２の光吸収層３４としては、上述のように、書込光を透過し、且つ３００ｎｍ以上５５０ｎｍ以下の全波長領域について、吸光度１以上の遮光性能を示す事が必須であるが、この３００ｎｍ以上５５０ｎｍ以下の全波長領域について吸光度２以上の遮光性能を示すことが良く、該全波長領域について吸光度３以上の遮光性能を示すことがさらによい。
【００９７】
また、更に望ましくは、３００ｎｍ以上６００ｎｍ未満の全波長領域の光について、吸光度１以上の遮光性能をし、吸光度２以上の遮光性能を示すことが良く、吸光度３以上の遮光性能を示すことがさらに良い。
【００９８】
第２の光吸収層３４が、書込光を透過し、且つ３００ｎｍ以上５５０ｎｍ以下の全波長領域について吸光度１以上の遮光性能を示すことから、書込に用いられる波長以外の波長の光が光導電層２０に照射されることが抑制されると考えられる。
【００９９】
第２の光吸収層３４には、顔料を分散した樹脂が利用され、たとえば非水溶性の樹脂液に顔料を分散した塗液を塗布乾燥して形成される。
この第２の光吸収層３４に用いられる顔料としては、上記第２の光吸収層３４として要求される遮光性能を満たすように、上記３００ｎｍ以上５５０ｎｍ以下の波長、望ましくは３００以上６００ｎｍ未満の波長の光について上記遮光性能を示すものであればよく、一般的に用いられる赤色顔料（Ｐ．Ｒ．２５４など）や黄色顔料（Ｐ．Ｙ．４２、Ｐ．Ｙ．１３９など）等が挙げられる。この第２の光吸収層３４に用いる顔料としては、単一の顔料であっても２種以上の顔料を混合して用いても構わない。
【０１００】
この第２の光吸収層３４に用いられる樹脂としては、製造性や基板３６との密着性が良好なことからから、非水溶性樹脂が好ましく、アルキド（フタル酸）樹脂、塩化ビニル樹脂、塩化ビニリデン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、フェノール樹脂、アクリル樹脂、ポリウレタン樹脂、酢酸ビニル樹脂、エポキシ樹脂、セルロース、シリコーン樹脂、ブチラール樹脂などの樹脂が利用できる。ポリイソシアネートなどの硬化剤や増粘剤など添加物を含んでいてもよい。
【０１０１】
この第２の光吸収層３４の形成方法としてはスクリーン印刷、凸版印刷、凹版印刷、平板印刷、フレクソ印刷などの印刷法や、スピンコート法、バーコート法、ディップコート法、ロールコート法、ナイフコート法、ダイコート法などの塗布法が用いられる。塗布法においては、上記顔料を上記樹脂とともに適当な溶剤に分散ないし溶解させて調整した塗布液を用いればよい。
【０１０２】
この第２の光吸収層３４の層厚は、特に限定されないが、表示媒体１２の携帯性や可撓性を損なわない範囲であればよく、例えば、１μｍ以上１０μｍ以下が挙げられる。
【０１０３】
本実施の形態の表示媒体１２は、下記手順で製造される。
基板１３上に形成された第１の電極１５上に、液晶層１７、及び第１の光吸収層１９を順に形成した積層体Ａを形成する。
一方、第２の電極２２の形成された基板２４上に、第２の電荷発生層２０Ｃ、電荷輸送層２０Ｂ、第１の電荷発生層２０Ａを順次積層することにより光導電層２０を形成する。そして、この光導電層２０上に、隔離層２１及び接着層１８を順次形成した積層体Ｂを形成する。そして、積層体Ａの第１の光吸収層１９と、積層体Ｂの接着層１８と、が接触するように、積層体Ａと積層体Ｂとを重ね合わせて積層体Ｃを形成する。
さらに、別途、基板３６上に第２の光吸収層３４及び接着層３２を積層した積層体Ｄを形成し、この積層体Ｄの接着層３２を、上記積層体Ｃの基板２４に貼り合わせることによって、表示媒体１２が作製される。
なお、各層の成膜または形成方法詳細については、上記各層の説明箇所において記載したため省略する。
【０１０４】
上述のように構成された表示媒体１２では、次のようにして液晶層１７に画像が書き込まれる。
具体的には、第１の電極１５及び第２の電極２２の電極間に駆動電圧を印加し、非表示面側から光導電層２０へ向かって書込光の照射を行う。このとき、液晶層１７には、該電極間に設けられている、液晶層１７、第１の光吸収層１９、接着層１８、隔離層２１、及び光導電層２０による分圧が印加される、また、光導電層２０の電気抵抗は、照射された書込光の強度に応じて変化し、該書込光の強度分布に応じた電気的特性を示した状態となる。このため、書込光の強度が大きいほど光導電層２０の該書込光の照射領域の電気抵抗は低くなり、液晶層１７にかかる分圧は小さくなる。一方、書込光の強度が小さいほど、光導電層２０の電気抵抗は低くなり、液晶層１７にかかる分圧は大きくなる。この分圧の変化により液晶層１７における液晶の配向が変化し、反射率が変化する。ここで、液晶層１７で用いられているコレステリック液晶は、上述のようにメモリ性を示すため、書込光の照射を解除すると共に、駆動電圧印加を解除した後であっても、液晶層１７の反射率の大小は露光像の形に残ることとなる。このような原理により、表示媒体１２の液晶層１７に画像が書き込まれる。
【０１０５】
本実施の形態の表示媒体１２においては、第２の光吸収層３４が、表示媒体１２の光導電層２０より書込光の照射方向上流側に設けられている。この第２の光吸収層３４は、書込光を透過し、且つ３００ｎｍ以上５５０ｎｍ以下の全波長領域について吸光度１以上の遮光性能を示す。このため、蛍光灯の光のように、書込に利用されない波長の光が非表示面側から光導電層２０へ到ることが抑制され、光導電層２０の外光による光劣化が抑制されると考えられる。従って、耐光性に優れた表示媒体１２が提供されると考えられる。
【０１０６】
また更に、上述のように、第１の電荷発生層２０Ａ及び第２の電荷発生層２０Ｂに含まれる電荷発生材料がフタロシアニンであり、電荷輸送層２０Ｂに含まれる電荷輸送材料がスチルベン化合物であれば、該組合せによって、光導電層２０の耐光性が向上し、更に耐光性に優れた表示媒体１２が提供されると考えられる。
【０１０７】
ここで、光導電層２０が外光によって光劣化した状態にあると、書込光が光導電層２０へ照射されたときに、光劣化していない状態の光導電層２０に比べて同じ強度の書込光を照射しても、電気的特性分布の変化が小さくなり、結果的に、液晶層１７の表示特性の劣化が生じることとなる。
一方、本実施の形態の表示媒体１２は、耐光性に優れ、光導電層２０の外光による光劣化が抑制されることから、液晶層１７の表示特性の劣化が抑制されると考えられる。
【０１０８】
なお、この液晶層１７の「表示特性」とは、この液晶層１７の電圧印加による反射率変化の応答性を示している。すなわち、「液晶層１７の表示特性の劣化が抑制」された状態」とは、表示媒体１２の電極間に特定の電圧値の電圧を印加すると共に所定強度の書込光の照射を行なうことで、色合いの違いとして視認される程度に液晶層１７の反射率に変化が生じる状態を示し、「液晶層１７の表示特性が劣化した状態」とは、同じ電圧値の電圧を印加すると共に同じ強度の書込光を照射しても、色合いの変化として認識される程度の液晶層１７の反射率の変化が生じない状態を示している。
この印加する電圧値は、書込光の非照射時にはコレステリック液晶１７Ｂがフォーカルコニックとプレーナー（またはホメオトロピック）の状態変化が生じず、書込光の照射時には該状態変化が生じる電圧値とすればよい。
【０１０９】
以下、本実施の形態の表示媒体１２を備えた表示装置１０について、詳細に説明する。
【０１１０】
書込装置１４は、表示媒体１２に画像を書き込む装置であり、表示媒体１２に対して書込光を走査露光する露光装置３０、表示媒体１２の第１の電極１５と第２の電極２２との電極間に電圧を印加する電圧印加部２６、及び露光装置３０と電圧印加部２６とに電気的に接続され、これらを制御する制御部２８を含んで構成されている。
【０１１１】
露光装置３０は、表示媒体１２の非表示面側から第２の光吸収層３４を介して光導電層２０へ向かって上記書込光を照射する光源３０Ａと、光源３０Ａを表示媒体１２の全領域に対して走査駆動する駆動部３０Ｂと、を含んで構成されている。
光源３０Ａから照射された近赤外領域の書込光の光導電層２０への照射領域は、光源３０Ａが走査駆動されない状態においては、液晶層１７に表示される画像の各画素に対応する領域以下の大きさであることが好ましく、この光源３０Ａの露光及び非露光が調整され且つ、光源３０Ａが駆動部３０Ｂによって走査駆動されることで、液晶層１７に表示する画像の各画素に応じて書込光の露光及び非露光が調整される。
【０１１２】
光源３０Ａとしては、制御部２８からの入力信号に基づいて、表示媒体１２の光導電層２０へ所望の書込光（スペクトル・強度・空間周波数）を照射するものであれば、特に制限されるものではない。なお、光源３０Ａにより照射される書込光としては、光導電層２０の吸収波長域のエネルギーが多い光であることが良い。
【０１１３】
電圧印加部２６は、制御部２８からの入力信号に基づいて、表示媒体１２の第１の電極１５と第２の電極２２との電極間に、該入力信号に応じた極性及び電圧値の電圧を、該入力信号に応じた時間印加するものであればよい。この電圧印加部２６としては、例えばバイポーラ高電圧アンプ等が用いられる。
【０１１４】
この電圧印加部２６による表示媒体１２への電圧印加は、詳細には、接触端子２５を介して、第１の電極１５及び第２の電極２２間になされる。ここで、接触端子２５とは、電圧印加部２６および表示媒体１２の第１の電極１５及び第２の電極２２に接触して、両者の導通を行う部材であり、高い導電性を有し、第１の電極１５、第２の電極２２、および電圧印加部２６との接触抵抗が小さいものが選択される。なお、接触端子２５は、表示媒体１２と書込装置１４とを切りはなせるように、第１の電極１５及び第２の電極２２と、電圧印加部２６と、のどちらか、あるいは両者から分離できる構造であることが良い。
【０１１５】
制御部２８は、図示を省略するＣＰＵ（Ｃｅｎｔｒａｌ  Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ  Ｕｎｉｔ）、ＲＯＭ（Ｒｅａｄ  Ｏｎｌｙ  Ｍｅｍｏｒｙ）およびＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ  Ａｃｃｅｓｓ  Ｍｅｍｏｒｙ）等から構成されており、ＲＯＭに格納されたプログラムにしたがって書込装置１４の装置各部を制御し、無線回線または有線回線を介して外部装置等から取得した画像データに応じた画像を表示媒体１２に表示するように、電圧印加部２６、及び露光装置３０を制御する。
【０１１６】
表示媒体１２は、書込装置１４と一体化された構成であってもよいし、書込装置１４と分離可能に構成されていてもよい。表示媒体１２を書込装置１４に対して分離可能に構成する場合には、例えば、表示媒体１２を、図示を省略するスロット等に装着することで、表示媒体１２の第１の電極１５及び第２の電極２２が電圧印加部２６から電圧印加可能に接続されると共に、表示媒体１２が、表示媒体１２の非表示面側（光吸収層１９側）から光導電層２０の第２の電荷発生層２０Ｃへ向かって露光装置３０から書込光の照射可能な状態とされるように構成すればよい。
【０１１７】
このように、表示媒体１２を書込装置１４に対して分離可能に構成した場合には、表示媒体１２のみを単体で配布することが容易とされると共に、閲覧、回覧、配布等に容易に供される。また、表示媒体１２を再度書込装置１４のスロットに装着することで、新たな画像の書き込みや書き込んだ画像の消去も可能とされる。
【０１１８】
上記のように構成された表示装置１０においては、制御部２８の制御によって、書込対象の画像の画像データに応じて電圧印加部２６及び露光装置３０が制御されることによって表示媒体１２に画像が書き込まれる。具体的には、制御部２８の制御によって、電圧印加部２６から第１の電極１５及び第２の電極２２間に電圧が印加されると共に、露光装置３０の駆動部３０Ｂにおいて光源３０Ａを表示媒体１２に表示される画像の各画素に対応する位置へ移動させると共に、移動先において、画像に応じて光源３０Ａから書込光を、表示媒体１２の非表示面側から照射する。これによって、表示媒体１２に画像が書き込まれる。
【０１１９】
ここで、表示媒体１２の光導電層２０より書込光の照射方向上流側には、第２の光吸収層３４が設けられている。このたため、露光装置３０から照射された書込光は、この第２の光吸収層３４を介して光導電層２０へ向かって照射される。また、表示媒体１２に入射する蛍光灯等の光は、第２の光吸収層３４によって遮光されて光導電層２０へ到達することが抑制される。このため、耐光性に優れた表示媒体１２が提供され、光導電層２０の外光による光劣化が抑制されると考えられる。
また更に、上述のように、第１の電荷発生層２０Ａ及び第２の電荷発生層２０Ｂに含まれる電荷発生材料がフタロシアニンであり、電荷輸送層２０Ｂに含まれる電荷輸送材料がスチルベン化合物であれば、該組合せによって、光導電層２０の耐光性が向上し、更に耐光性に優れた表示媒体１２が提供され、光導電層２０の外光による光劣化が抑制されると考えられる。
【実施例】
【０１２０】
以下、本発明を、実施例を挙げてさらに具体的に説明する。ただし、これら各実施例は、本発明を制限するものではない。なお、実施例中「部」および「％」は、特に断らない限りそれぞれ「質量部」および「質量％」を表す。
【０１２１】
（第２の光吸収層の作製）      
−第２の光吸収層１−
顔料Ｐ．Ｒ．２５４とＰ．Ｙ．１３９とＰ．Ｙ．４２を、３６：１０：５４の質量比率で混合した混合顔料とバインダー樹脂として、アクリル樹脂を２：３の質量比率で酢酸プロピルに分散し、２０質量％の酢酸プロピル塗布液（塗布液Ｆ−１）を調整した。そして、基板３６としてのＰＥＴ基板（東レハイーム、厚さ１２５μｍ）上に、上記塗布液Ｆ−１をギャップ５０μｍのアプリケーターを用いて塗布後、乾燥し、膜厚６．５μｍの第２の光吸収層１を作製した。
【０１２２】
―第２の光吸収層２―
上記第２の光吸収層１の形成において、ギャップ５０μｍのアプリケーターの代わりにギャップ７５μｍのアプリケーターを用いた以外は、上記第２の光吸収層１と同じ方法及び同じ条件で第２の光吸収層２を作製した。
【０１２３】
―第２の光吸収層３―
微粒子酸化亜鉛と顔料Ｐ．Ｙ．８３を３：２の質量比率で混合した混合顔料とバインダー樹脂としてアクリルル樹脂を２：３の質量比率でメチルエチルケトン（ＭＥＫ）に分散し、２０質量％のＭＥＫ塗布液（Ｆ−２）を調整した。そして、基板３６としてのＰＥＴ基板（東レハイーム、厚さ１２５μｍ）上に塗布液Ｆ−２をギャップ５０μｍのアプリケーターを用いて塗布後、乾燥し、膜厚５．５μｍの第２の光吸収層３を作製した。
【０１２４】
―第２の光吸収層４―
上記第２の光吸収層３の形成において、ギャップ５０μｍのアプリケーターの代わりにギャップ７５μｍのアプリケーターを用いた以外は、上記第２の光吸収層３と同じ方法及び同じ条件で第２の光吸収層３を作製した。
【０１２５】
―比較光吸収層１―
顔料Ｐ．Ｒ．２５４とＰ．Ｙ．１３９とＰ．Ｙ．４２を３６：１０：５４の質量比率で混合した混合顔料とバインダー樹脂として、アクリル樹脂を２：３の質量比率で酢酸プロピルに分散し、７質量％の酢酸プロピル塗布液（塗布液Ｆ−１）を調整した。そして、基板３６としてのＰＥＴ基板（東レハイーム、厚さ１２５μｍ）上に塗布液Ｆ−１を、スピンコーターを用いて塗布後、乾燥し、膜厚１．２μｍの比較吸収層１を形成した。
【０１２６】
―比較光吸収層２―
顔料Ｐ．Ｒ．２５４とバインダー樹脂としてアクリル樹脂を２：３の質量比率で酢酸プロピルに分散し、２０質量％の酢酸プロピル塗布液（Ｆ−３）を調整した。そして、ＰＥＴ基板（東レハイーム、厚さ１２５μｍ）上に塗布液Ｆ−３をギャップ５０μｍのアプリケーターを用いて塗布後、乾燥し、膜厚６．４μｍの比較吸収層２を形成した。
【０１２７】
−遮光特性測定−
上記形成した第２の光吸収層１〜第２の光吸収層４、及び比較光吸収層１〜比較光吸収層２の各々について、３００ｎｍ〜８００ｎｍの波長の光に対する吸収スペクトルを、（株）島津製作所製の分光器ＳＰＧ−１００ＳＴを使用して測定し、３００ｎｍ以上５５０ｎｍ未満の波長領域における最小吸光度を求め、表１に示した。
【０１２８】
また、上記形成した第２の光吸収層１〜第２の光吸収層４、及び比較光吸収層１〜比較光吸収層２の各々について、表示媒体として形成したときに書込光として用いる光を６６０ｎｍとし、この６６０ｎｍの光の透過率を測定した。測定結果を表１に示した。
【０１２９】
【表１】
2010237643.tif 000008
【０１３０】
（実施例１）
−表示媒体の作製−
図１に示す表示媒体１２を作製した。まず、電極としてＩＴＯ膜（厚さ８００Å）（第２の電極２２に相当）を形成したポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）（厚さ：１２５μｍ）（基板２４に相当）の該ＩＴＯ膜上に、電荷発生層を形成した。
具体的には、電荷発生材料として、クロロフタロシアニン（Ｘ線回折スペクトルのブラック角（２θ±０．２°）が、７．４°、１６．６°、２５．５°、及び２８．３°に回折ピークを有するもの）と、バインダー樹脂としてポリビニルブチラール（積水化学社製、エスレックＢＸ）と、を用い、その質量比率を１：１として、ブタノールを用いてダイノーミルで分散させ、４質量％のブタノール分散液（塗布液Ａ）を調製した。
【０１３１】
上記ＩＴＯ膜上に、塗布液Ａをスピンコート法により塗布後、乾燥させ、膜厚０．２μｍの電荷発生層（第２の電荷発生層２０Ｃに相当）を形成した。次に、この第２の電荷発生層２０Ｃの上に電荷輸送層２０Ｂを形成した。具体的には、まず、下記構造式（ＶＩ）で示されるベンジジン化合物である電荷輸送材料と、バインダー樹脂としてポリカーボネート｛ビスフェノール−Ｚ、（ポリ（４，４’−シクロヘキシリデンジフェニレンカーボネート））｝とを、質量比率を２：３として混合した後、これをモノクロロベンゼンに溶解させ１０質量％の溶液（塗布液Ｂ）を調製した。
【０１３２】
【化６】
2010237643.tif 000009
（ＶＩ）
【０１３３】
この塗布液Ｂを、上記調整した第２の電荷発生層２０Ｃとしての電荷発生層上にスピンコート法を用いて塗布乾燥し、膜厚６．５μｍの電荷輸送層（電荷輸送層２０Ｂに相当）を形成した。さらにこの電荷輸送層の上に、第１の電荷発生層２０Ａとしての電荷発生層を形成した。具体的には、前記塗布液Ａを、スピンコート法を用いて塗布乾燥し、膜厚０．２μｍの電荷発生層を形成した。以上のようにして光導電層２０を形成した。
【０１３４】
さらに、形成した光導電層２０の上に、隔離層２１として、ポリビニルアルコール３質量％の水溶液を、スピンコート法を用いて塗布乾燥し、膜厚０．２μｍのポリビニルアルコール膜を形成した。さらに、この隔離層２１上に、２液型ポリウレタン系接着剤であるタケネート／タケラック（武田薬品工業社製、Ａ３１５／Ａ５０）の酢酸ブチル溶液を塗布乾燥し、膜厚１．２μｍの接着層１８を形成した。これによって積層体Ｂ（図１参照）を形成した。
【０１３５】
一方、第１の電極１５としてＩＴＯ膜（透明電極、厚さ８００Å）を形成したポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）基板１３（厚さ：１２５μｍ）の該ＩＴＯ膜（第１の電極１５に相当）上に、液晶層１７（厚さ：５０μｍ）を形成した。
【０１３６】
詳細には、正の誘電率異方性を有するネマチック液晶Ｅ８（メルク社製）７４．８質量部に、カイラル剤ＣＢ１５（ＢＤＨ社製）２１質量部とカイラル剤Ｒ１０１１（メルク社製）４．２質量部とを加熱溶解し、その後室温に戻して、ブルーグリーンの色光を選択反射するカイラルネマチック液晶を得た。
【０１３７】
このブルーグリーンカイラルネマチック液晶１０質量部に、キシレンジイソシアネート３モルとトリメチロールプロパン１モルとの付加物（武田薬品工業製Ｄ−１１０Ｎ）３質量部と酢酸エチル１００質量部とを加えて均一溶液とし，油相となる液を調製した。
一方、ポリビニルアルコール（クラレ社製ポバール２１７ＥＥ）１０質量部を、熱したイオン交換水１０００質量部に加えて攪拌後、放置冷却することによって，水相となる液を調製した。
【０１３８】
次に、スライダックで３０Ｖ交流を与えた家庭用ミキサーによって、前記油相１０質量部を前記水相１００質量部中に１分間乳化分散して、水相中に油相液滴が分散した水中油エマルジョンを調製した。この水中油エマルジョンを６０℃のウォーターバスで加熱しながら２時間攪拌し、界面重合を完了させて、液晶マイクロカプセルを形成した。得られた液晶マイクロカプセルの平均粒径をレーザー粒度分布計によって測定したところ、約１２μｍと見積もられた。
【０１３９】
得られた液晶マイクロカプセル分散液を、網目３８μｍのステンレスメッシュを通して濾過後一昼夜放置し，乳白色の上澄みを取り除くことにより、液晶マイクロカプセルからなる固形成分約４０質量％のスラリーを得た。この得られたスラリーに、その固形成分の重量に対して２／３となる量のポリビニルアルコールを含むポリビニルアルコール１０質量％の溶液を加えることにより塗布液Ｃを調製した。
【０１４０】
電極としてＩＴＯ膜（透明電極、厚さ８００Å）を形成したポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）基板１３（厚さ：１２５μｍ）の前記ＩＴＯ膜（第１の電極１５に相当）上に、上記塗布液Ｃを♯４４のワイヤーバーで塗布することにより液晶層１７（厚さ：５０μｍ）を形成した。さらに、この液晶層１７上に、第１の光吸収層１９を形成した。
【０１４１】
詳細には、黒色顔料としてカーボンブラックとバインダー樹脂としてポリビニルアルコール（クラレ社製、ポバール２１７ＥＥ）を１：５の質量比率で水に分散し１０質量％の水分散液（塗布液Ｄ）を調整した。そして、上記形成した液晶層１７上に、この塗布液Ｄを、アプリケーターを用いて塗布乾燥を行い、膜厚３μｍの第１の光吸収層１９を形成した。これによって積層体Ａを調整した。
【０１４２】
上記積層体Ａと上記積層体Ｂとを、第１の光吸収層１９と接着層１８とが接するように密着させて、７０℃でラミネートを行い、積層体Ｃとした。
【０１４３】
この積層体Ｃの、光導電層２０側のＰＥＴ（基板２４に相当）の外面の４辺に、接着層３２として、２液型ポリウレタン系接着剤であるタケネート／タケラック（武田薬品工業社製、Ａ３１５／Ａ５０）の酢酸ブチル溶液を塗布乾燥して膜厚１．２μｍの接着層３２を形成した。そして、この形成した接着層３２と、上記調整した第２の光吸収層１と、が接するように重ね合わせて密着させて、７０℃でラミネートを行なうことによって、表示媒体１を作製した。
【０１４４】
（実施例２）
実施例１で作製した表示媒体１において、第２の光吸収層１に変えて、上記調整した第２の光吸収層２を用いた以外は、実施例１と同じ方法、材料、及び条件で表示媒体２を作製した。
【０１４５】
（実施例３）
実施例１で作製した表示媒体１において、第２の光吸収層１に変えて、上記調整した第２の光吸収層３を用いた以外は、実施例１と同じ方法、材料、及び条件で表示媒体３を作製した。
【０１４６】
（実施例４）
実施例１で作成した表示媒体において、第２の光吸収層１に変えて、上記調整した第２の光吸収層４を用いた以外は、実施例１と同じ方法、材料、及び条件で表示媒体４を作製した。
【０１４７】
（実施例５）
本実施例５では、実施例１で電荷輸送材料として用いた上記構造式（ＶＩ）で示されるベンジジン化合物に代えて、上記構造式（Ｉ−１）で表されるスチルベン化合物を電荷輸送材料として用いた以外は、実施例１と同じ方法、材料、及び条件で表示媒体５を作製した。
【０１４８】
（実施例６）
実施例１で電荷輸送材料として用いた上記構造式（ＶＩ）で示されるベンジジン化合物に代えて、上記構造式（Ｉ−２）で表されるスチルベン化合物を電荷輸送材料として用いた以外は、実施例１と同じ方法、材料、及び条件で表示媒体６を作製した。
【０１４９】
（比較例１）
実施例１で作製した表示媒体１において、第２の光吸収層１を設けない構成とした以外は、実施例１と同じ方法、材料、及び条件で比較表示媒体１を作製した。
【０１５０】
（比較例２）
実施例１で作製した表示媒体１において、第２の光吸収層１に変えて、上記調整した比較光吸収層１を用いた以外は、実施例１と同じ方法、材料、及び条件で比較表示媒体２を作製した。
【０１５１】
（比較例３）
実施例１で作製した表示媒体１において、第２の光吸収層１に変えて、上記調整した比較光吸収層２を用いた以外は、実施例１と同じ方法、材料、及び条件で比較表示媒体３を作製した。
【０１５２】
―耐光性評価―
上記実施例１〜実施例６及び比較例１〜比較例３で作製した、表示媒体１〜表示媒体６及び比較表示媒体１〜比較表示媒体３の各々について、２５℃５０％ＲＨの環境下で、電極間（第１の電極１５及び第２の電極２２に相当するＩＴＯ間）に駆動電圧を印加するとともに１５０μＪの露光量の光（波長６６０ｎｍ）を０．２秒間照射した後に、該電圧印加を解除することによって、書き込みを行ない、白表示したときの反射率をミノルタ製ＣＭ−３６００ｄを用いて測定した。
その結果、実施例１〜実施例６では、電圧値６００Ｖ以上の電圧印加を行なうことで、４０％以上の反射率の変化が見られ、比較例１〜比較例３では、電圧値６００Ｖ以上の電圧印加を行なうことで、４０％以上の反射率の変化が見られた。このため、実施例と比較例では、初期状態（下記の光暴露させる前の状態）では違いは確認されなかった。
【０１５３】
次に、上記実施例１〜実施例６及び比較例１〜比較例３で作製した、表示媒体１〜表示媒体６及び比較表示媒体１〜比較表示媒体３の各々について、２５℃５０％ＲＨの環境下において、実施例１〜４及び比較例１〜３は蛍光灯直下の光暴露（蛍光灯中心部、光源から約５ｍｍの位置、光量約２５００ルクス）によって光導電層２０を光暴露させ、実施例１、実施例５〜６、比較例１は擬似太陽光（装置：サンテストＣＰＳ＋（東洋精機）照射光：キセノンランプ／約１０万ルクス、照射温度：２５℃）によって光導電層２０を光暴露させて耐光性を評価した。
露光時間と相対反射率との関係を調べたところ、図４及び図５に示す結果が得られた。
【０１５４】
なお、相対反射率とは、各表示媒体１〜表示媒体６及び比較表示媒体１〜比較表示媒体３の各々について、上記蛍光灯もしくは擬似太陽光による光照射を行なわない状態（光暴露されていない状態）において、上記４０％以上の反射率の変化に対応する電圧値の電圧を印加すると共に１５０μＪの露光量の光（波長６６０ｎｍ）を０．２秒間照射した後に該電圧印加を解除することによって書込みを行ない、白表示したときの反射率を基準反射率「１」とした。そして、光暴露させた後の各表示媒体１〜表示媒体６及び比較表示媒体１〜比較表示媒体３の各々について、光暴露前と同じ電圧値の電圧を印加すると共に同じ露光量の光を同じ時間照射した後に電圧印加を解除することによって白表示したときの反射率を光暴露後の反射率として測定し、各媒体の基準反射率に対する光暴露後の反射率の割合を、相対反射率として求めた。
【０１５５】
図４中、線図５０Ａは表示媒体１の評価結果を示し、線図５０Ｂは表示媒体２の評価結果を示し、線図５０Ｃは表示媒体３の評価結果を示し、線図５０Ｄは表示媒体４の評価結果を示している。また、図４中、線図６０Ａは比較表示媒体１の評価結果を示し、線図６０Ｂは比較表示媒体２の評価結果を示し、線図６０Ｃは比較表示媒体３の評価結果を示している。
【０１５６】
図４に示されるように、実施例１〜実施例４で作製した表示媒体１〜表示媒体４は、比較例１〜比較例３で作製した比較表示媒体１〜比較表示媒体３に比べて、長期間にわたって相対反射率の低下はみられず、良好な耐光性を示した。
詳細には、比較例１〜比較例３で作製した比較表示媒体１〜比較表示媒体３は、暴露時間０．２時間〜６時間以内に相対反射率が０．２以下まで低下した。一方実施例１〜４で作製した表示媒体１〜表示媒体４は、室内に半年放置した環境に相当する暴露時間１５時間（図４中、線図Ｄ）、さらに室内に１年間放置した環境に相当する暴露時間３０時間（図４中、線図Ｅ）を経過しても、相対反射率の低下はみられず、比較例に比べて良好な耐光性を示した。
【０１５７】
また、図５に示されるように、電荷発生材料としてフタロシアニンを用い、電荷輸送材料としてスチルベン化合物を用いた実施例５〜実施例６では、該組合せを用いなかった実施例１に比べて、更なる耐光性の向上が見られた。
【符号の説明】
【０１５８】
１０  表示装置
１２  表示媒体
１５  第１の電極
１７  液晶層
１９  第１の光吸収層
３４  第２の光吸収層
２０  光導電層
２２  第２の電極
２６  電圧印加部
２８  制御部
３０  露光装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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