(57)【要約】【課題】バリア層内光伝播を抑制することができ、クロストークを低減させることのできる色変換型有機ＥＬディスプレイを提供すること。【解決手段】支持基板２上に有機ＥＬ素子１列と該有機ＥＬ素子１列を覆うバリア層４を搭載する有機ＥＬ素子基板１２と、透明基板１０上に格子状のブラックマトリックス９と前記格子内区画に色変換フィルタ層５、６、７、８を搭載する色変換フィルタ基板１１と、をそれぞれ搭載側を内側にして貼り合わせてなる色変換型有機ＥＬディスプレイにおいて、前記前記バリア層４の下にあって、前記有機ＥＬ素子１の列間に少なくとも二列のクロストーク低減構造体３ａが線形状に配設され、該二列のクロストーク低減構造体３ａがそれぞれ不連続部を有し、該二列の不連続部が相互に位置がずれて配設されている。【選択図】    図１
2010272214.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持基板上に列状に複数配設される有機ＥＬ素子と該有機ＥＬ素子を含む前記支持基板表面を覆うバリア層を搭載する有機ＥＬ素子基板と、透明基板上に格子状のブラックマトリックスと前記格子内区画に色変換フィルタ層とカラーフィルタとを搭載する色変換フィルタ基板と、をそれぞれ搭載する側を内側にして貼り合わせてなる色変換型有機ＥＬディスプレイにおいて、前記バリア層の下であって、前記有機ＥＬ素子の列間に少なくとも二列のクロストーク低減構造体が線形状に配設され、該二列のクロストーク低減構造体がそれぞれ不連続部を有し、該二列の不連続部が相互に位置がずれて配設されていることを特徴とする色変換型有機ＥＬディスプレイ。
【請求項２】
前記有機ＥＬ素子が、支持基板上に少なくとも反射電極、有機ＥＬ層、透明電極をこの順に備えることを特徴とする請求項１記載の色変換型有機ＥＬディスプレイ。
【請求項３】
前記クロストーク低減構造体の屈折率が、前記バリア層の屈折率より０．１以上低い、好ましくは０．２以上低いことを特徴とする請求項１または２記載の色変換型有機ＥＬディスプレイ。
【請求項４】
前記クロストーク低減構造体上に被覆されるバリア層の凸部の高さが、該バリア層の膜厚以上であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の色変換型有機ＥＬディスプレイ。
【請求項５】
前記クロストーク低減構造体上に被覆されるバリア層の凸部は、該凸部側面と前記基板に平行な面とのなす角度が１５度以上、好ましくは３０度以上の側面傾斜形状を備えていることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の色変換型有機ＥＬディスプレイ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は高精細で高視認性の、耐環境性および生産性に優れた多色表示を可能とするカラ−フィルタおよび該カラーフィルタを具備する色変換型有機ＥＬディスプレイに関する。詳しくは、イメ−ジセンサ、パ−ソナルコンピュ−タ、ワ−ドプロセッサ、テレビ、ファクシミリ、オ−ディオ、ビデオ、カ−ナビゲーション、電気卓上計算機、電話機、携帯端末機並びに産業用の計器類等の表示用のカラ−フィルタおよび該カラーフィルタを具備する有機多色発光表示装置、特に色変換方式を用いた有機ＥＬディスプレイに関する。
【背景技術】
【０００２】
カラーディスプレイは、表示面に赤、青、緑の画素が隣接して設けられており、それぞれの画素の発光強度を変化させることによって、さまざまな色や明るさを表現するものである。色変換型のカラーディスプレイは、バックライトの発光色が同一で、色変換層およびカラーフィルタによって発光スペクトルを赤、青、緑に変化させる。バックライトの発光色が同一であるので、もし隣接する異なる画素に対応する発光層からの発光が同じ色変換層に到達した場合、そのまま色変換されてしまい、異常な発光をする原因となる。いわゆるＮＴＳＣ規定の色度図面積との比であるＮＴＳＣ（Ｎａｔｉｏｎａｌ  Ｔｅｌｅｖｉｓｉｏｎ  Ｓｔｎｄａｒｄｓ  Ｃｏｍｍｉｔｔｅｅ）比をより高くするためにも、画素間の混色、すなわちクロストークは低減する必要がある。
インクジェット法により色変換フィルタ基板上の色変換層のパターニングを行う場合には、インク材料として色変換層材料の希薄溶液を用いるため、その吐出時に、目的の画素領域とは異なる隣接画素領域に吐出溶液が流出しないように、各画素を隔てる隔壁の高さを色変換層の必要膜厚に対して１０倍程度の高さとする必要がある。この結果、色変換フィルタ基板の表面には凹凸が形成されるため、最表面を平坦にする平坦化層を形成した前記色変換フィルタ基板と、バックライトとなる有機発光素子（有機ＥＬ素子）の搭載基板とを貼り合わせる際に、前記隔壁の高さとの間に、場合によっては平坦化層の膜厚との差分だけ、色変換層表面と有機ＥＬ素子表面との間にギャップが生じる恐れがある。その結果、有機ＥＬ素子からの発光が適正に色変換層に入らないことに起因して光学損失が発生する惧れがある。
【０００３】
以上の説明に係わる有機ＥＬ素子基板に関し、有機ＥＬ素子を構成する下部電極を各画素に電気的に分離するための隔壁絶縁膜を有し、かつ有機ＥＬ素子と隔壁絶縁膜上を共通に覆うバリア層としてシリコン窒化膜を備える記載がある（特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００５−３３２５８９号公報（図１、段落０１５０−０１５１）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
一般のカラーフィルタ等では、透過する光線の方向は大幅には変わらないので、隣接画素からの入射光があったとしても、大きい斜角度がついており、観察する視点（正面）方向の発色に影響を与えることは少ない。しかしながら、色変換層では斜めからの入射光も蛍光変換するので、隣接画素から色変換層への入射光も色変換されて正面への発光へと変換される、いわゆるクロストークが発生することがある。このようなクロストークはＲＧＢの色純度を低下させる原因となるので、できる限り低減する必要がある。
本発明は前述の問題点を鑑みてなされたものであり、本発明の目的はクロストークを低減することのできる色変換型有機ＥＬディスプレイを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
前記本発明の目的を達成するために、本発明では、支持基板上に列状に複数配設される有機ＥＬ素子と該有機ＥＬ素子を含む前記支持基板表面を覆うバリア層を搭載する有機ＥＬ素子基板と、透明基板上に格子状のブラックマトリックスと前記格子内区画に色変換フィルタ層とカラーフィルタとを搭載する色変換フィルタ基板と、をそれぞれ搭載する側を内側にして貼り合わせてなる色変換型有機ＥＬディスプレイにおいて、前記バリア層の下であって、前記有機ＥＬ素子の列間に少なくとも二列のクロストーク低減構造体が線形状に配設され、該二列のクロストーク低減構造体がそれぞれ不連続部を有し、該二列の不連続部が相互に位置がずれて配設されている色変換型有機ＥＬディスプレイとする。
本発明は、前記有機ＥＬ素子が、支持基板上に少なくとも反射電極、有機ＥＬ層、透明電極をこの順に備えることが好ましい。
【０００７】
本発明は、前記クロストーク低減構造体の屈折率が、バリア層の屈折率より０．１以上低い、好ましくは０．２以上低い色変換型有機ＥＬディスプレイとすることも好ましい。
本発明は、前記クロストーク低減構造体上に被覆されるバリア層の凸部の高さが、該バリア層の膜厚以上である色変換型有機ＥＬディスプレイとしてもよい。
また、本発明は、前記クロストーク低減構造体上に被覆されるバリア層の凸部は、該凸部側面と基板に平行な面との間のなす角度が１５度以上、好ましくは３０度以上の側面傾斜形状を備えている色変換型有機ＥＬディスプレイとすることが好適である。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、バリア層内光伝播を抑制することができ、クロストークを低減させることのできる色変換型有機ＥＬディスプレイを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本発明にかかるクロストーク低減構造体パターンを有する色変換型有機ＥＬディスプレイの実施例を示す要部断面図である。
【図２】本発明にかかるクロストーク低減構造体パターンを有する色変換型有機ＥＬディスプレイの実施例を示す要部平面図である。
【図３】比較例１にかかる色変換型有機ＥＬディスプレイの要部断面図である。
【図４】本発明にかかる異なるクロストーク低減構造体パターンを有する色変換型有機ＥＬディスプレイの実施例を示す要部平面図（その１）である。
【図５】本発明にかかる異なるクロストーク低減構造体パターンを有する色変換型有機ＥＬディスプレイの実施例を示す要部平面図（その２）である。
【図６】本発明にかかる異なるクロストーク低減構造体パターンを有する色変換型有機ＥＬディスプレイの実施例を示す要部平面図（その３）である。
【図７】比較例２にかかる色変換型有機ＥＬディスプレイの要部断面図である。
【図８】比較例２にかかる色変換型有機ＥＬディスプレイの要部平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、本発明の色変換型有機ＥＬディスプレイにかかる実施例について、図面を参照して詳細に説明する。本発明はその要旨を超えない限り、以下に説明する実施例の記載に限定されるものではない。
画素間のクロストークを低減するために、画素間のどこを主に経由してクロストークが伝播するかを鋭意検討した。その結果、従来の色変換型有機ＥＬディスプレイでは有機ＥＬ素子基板と色変換フィルタ基板とを貼り合わせる際にできるギャップを埋める充填剤等を経由して隣接画素へ直接伝播することが判明した。このことは有機ＥＬ素子からの発光を一画素列分、着色充填剤等の利用によって遮断した後もクロストークが残存していることから明らかになった。さらに光学シミュレーションなどの利用によってクロストークの詳細を調査したところ、有機ＥＬ素子を酸素や水分から守るためのバリア層の中を全反射により導波路のように基板と平行な方向に伝播して行くことによってクロストークが発生することもわかった。そこで、バリア層内での基板と平行な方向への光伝播を遮断すれば、クロストークを低減できると考えた。
【００１１】
バリア層は光屈折率が周囲の樹脂などより高いためにバリア層内で全反射し易くなり、遠距離まで光が伝播する。そこで、バリア層の形成前に、バリア層の膜厚以上の厚さのクロストーク低減構造体を画素列と画素列の間の位置に配設し、その上にバリア層を被覆する。バリア層は前記クロストーク低減構造体の凸部に沿って折れ曲がるので、前記構造体の近傍の折れ曲がり部ではバリア層表面に対する光の角度が全反射角を上回ることができ、その位置では全反射を抑止できる。したがって、全反射によってバリア層を伝播してきた光は、クロストーク低減構造体の近傍でバリア層を脱出するので、その先への光伝播を防ぐことができる。クロストーク低減構造体は、単純にその上を被覆するバリア層の本来の目的である有機ＥＬ層を酸素や水分から遮断して保護するバリア性能を妨げることなく、バリア層中での光の全反射による光学的な伝播を抑止できるようなものであればよい。クロストーク低減構造体の材料物性は、たとえば、その屈折率がバリア層より０．１以上低く、好ましくは０．２以上低いものがよい。また、副次的な効果として、バリア層での前記光学的な伝播を抑止する際に、バリア層より脱出する余剰な光をクロストーク低減構造体で吸収することが好ましいので、ＥＬの発光波長における透過率は１μｍあたり１０％以下であることが望ましい。クロストーク低減構造体は、バリア層の形状および光学的性質を局部的に変えることにより、前記画素列間の間隙位置で光の全反射を防ぐことが目的であるので、クロストーク低減構造体は、光を全反射しないだけの角度をバリア層に付けられることが必要である。具体的にはバリア層側面と基板に平行な面との間のなす角度が１５度以上、好ましくは３０度以上であるが、その外形によってバリア層の前記バリア性能を低下させないことが好ましい。光伝播を十分に抑止し、直接光を伝播しないために、クロストーク低減構造体は充分な高さが必要であり、その結果として前記構造体の膜厚または該構造体上のバリア層の凸部の高さが少なくともバリア層の膜厚を上回ることが必要である。また、クロストーク低減構造体はブラックマトリックスの背後に位置するようにし、クロストーク低減構造体の上部のバリア層から脱出した光が表示に悪影響を与えないように配置することが望ましい。
【００１２】
しかし、前述のように、クロストーク低減構造体の高さが少なくともバリア層の厚さを上回ることを必要とするので、画素間に形成され、有機ＥＬ素子の反射電極と駆動回路とを接続する電極配線をスパッタ形成する場合に、クロストーク低減構造体が信頼性の高い電極配線形成にとって問題となる。なぜならば、スパッタ形成では回り込み性が小さいため、高い構造体の側面の膜厚が平坦部より薄くなり易く、破断切断され易いからである。そこで、本発明では、画素間に形成されるクロストーク低減構造体を少なくとも二列の不連続な線状とすることにより、クロストーク低減構造体の頂部を跨ぐ電極配線に膜厚が薄く低信頼性の部分があっても、画素間の底部に形成され、均一な所要の膜厚を有し高信頼性の電極配線部分により駆動回路へ確実に接続させることができる。
しかも、前記少なくとも二列の不連続な線状のクロストーク低減構造体は不連続部分が少なくとも二列であって相互にずれるような配置とされるので、バリア層内を基板に平行な方向に直線的に伝播するクロストーク光は少なくとも一列のクロストーク低減構造体のところのバリア層の折れ曲がり部で充分に減衰または抑止させることができる。
【００１３】
図２に示すクロストーク低減構造体３ａは、その上部に形成されるバリア層４中を伝播するクロストーク光の低減が目的であるので、少なくとも隣接する異なる色の画素列（１ａ、１ｂ、１ｃ）間に配設されればよい。すなわち、同列内の有機ＥＬ素子１間には必ずしも配設される必要はないので、有機ＥＬ素子の周囲を取り巻く必要はない。平面上における形状および配置の例としては、図２のように直線状の二列のクロストーク低減構造体３ａによって色の異なる画素列の境界に配置することが好ましい。
また、クロストーク低減構造体３ａの設置によって、その上部表面に沿って配設されるＡｇ合金などからなる電極配線が、スパッタ形成に起因して低信頼性になったとしても、本発明にかかる図２に示すように、クロストーク低減構造体は二列の不連続な線状であって、しかも二列の不連続部が相互に位置ずれとなるように配列されているので、電極配線の断線の惧れを緩和させることができる。
【００１４】
クロストーク低減構造体を図４に示すクロストーク低減構造体３ｂのように、半球形の突起を二列状に多数配置とすることによっても、前記図２と同様に、構造体３ｂが電極配線を完全に遮ることなく、かつ光伝播を抑制する機能も充分に果たさせることができる。さらに、同じ画素列内の有機ＥＬ素子間のクロストークも低減させることを目的として、図５、図６のように、同じ画素列内の有機ＥＬ素子間にクロストーク低減構造体３ｃ、３ｄを追加的に設けても良い。
（色変換フィルタ基板の作製に使用される有機材料）
（有機蛍光色素）
本発明の色変換型有機ＥＬディスプレイを構成する色変換フィルタ基板に用いられ、短波長側の光を吸収して長波長側の光に色変換して発光する蛍光色素としては、発光層から発する近紫外領域ないし可視領域の光、特には青色ないし青緑色領域の光を吸収して異なる可視光を発するものであればよい。適用できる材料としては、Ａｌｑ3（トリス８−キノリノラトアルミニウム錯体）などのアルミキレート系色素、３−（２−ベンゾチアゾリル）−７−ジエチルアミノクマリン（クマリン６）、３−（２−ベンゾイミダゾリル）−７−ジエチルアミノクマリン（クマリン７）、クマリン１３５などのクマリン系色素などが好ましい。その他にも、ソルベントイエロー４３、ソルベントイエロー４４のようなナフタルイミド系色素のような低分子系の有機蛍光色素や、ポリフェニレン、ポリアリーレン、ポリフルオレンに代表される高分子蛍光材料が使用できる。
【００１５】
また、必要に応じて、これらの色素を複数混合して使用することもできる。パターニング方法としてインクジェットを用いる際には前記色素を溶媒に溶解して使用する。使用可能な溶媒としては蛍光材料を溶解すればよく、使用蛍光材料によって異なるため一概には記せないが、例えばトルエン等の非極性有機溶媒、クロロホルム、アルコール、ケトン系などの極性有機溶媒等が使用できる。また粘度や蒸気圧、溶解性調整を目的として、複数の溶媒を混合して使用することもできる。
（色変換層用マトリックス樹脂）
また、図１に示す成膜した色変換層５、７のパターンニング方法としてフォトリソグラフィを利用する場合にはマトリックス樹脂中に色素を分散して用いてもよい。マトリックス樹脂は、光硬化性または光熱併用型硬化性樹脂を、光および／または熱処理して、ラジカル種やイオン種を発生させて重合または架橋させ、不溶不融化させたものである。また、該光硬化性または光熱併用型硬化性樹脂は、蛍光色変換層５、７のパターニングを行うために硬化をする前は有機溶媒またはアルカリ溶液に可溶性であることが望ましい。
【００１６】
（ブラックマトリックス）
図１に示すブラックマトリックス９は、可視光を良く吸収し、有機ＥＬ素子１、色変換層５，７、カラーフィルタ６，８へ悪影響を与えない性質を備えることが好ましい。そのためには、黒色の無機膜や黒色顔料または黒色染料を樹脂に分散した遮光層をパターニングして形成することが適当である。例えば、黒色の無機膜としては、例えば、クロム膜（酸化クロム／クロム積層）等が挙げられる。また、黒色顔料または黒色染料を樹脂に分散した遮光層としては、例えば、カーボンブラック、フタロシアニン、キナクリドン等の顔料または染料をポリイミド等の樹脂に分散したものやカラーレジスト等が挙げられる。これらの遮光層の成膜方法は、スパッタ、ＣＶＤ、真空蒸着等のドライプロセス、スピンコート等のウエットプロセスを採用することができる。次いでフォトリソグラフィ等の工程を追加すれば、パターニングすることができる。光反射率は、顔料分散樹脂膜（光反射率１０％以下）がクロム膜（光反射率数十％）よりも低いので好ましい。しかし、クロム膜などの無機膜には、電気伝導性を有しているものがあり、透明電極の補助電極としての機能を併せて持たせることが可能という利点を有しているので、この補助電極機能を利用したいときは好ましい選択となる。
【００１７】
（有機ＥＬ素子基板の作製に使用される有機材料）
有機ＥＬ素子を構成する発光層（有機ＥＬ層）の材料としては、色変換層およびカラーフィルタが吸収可能な波長の発光が可能で、かつ色変換およびフィルタの特性、機能に悪影響を与えることなく形成できる性質を備える材料が好ましい。そのような材料としては、公知の有機発光材料を適用することができる。
（クロストーク低減構造体の形成材料）
本発明にかかるクロストーク低減構造体３ａ、３ｂ、３ｃ、３ｄとして最も必要とされる機能は、所要のパターンに加工することが容易であって、パターン形成されたクロストーク低減構造体が、次工程で成膜するバリア層の形状を適正にコントロールできることである。そのような機能を有する材料として、一般的なフォトレジスト材料を用いることができる。
【実施例１】
【００１８】
以下、本発明の具体的な色変換型有機ＥＬディスプレイの実施形態およびその製造方法について図面を参照して詳細に説明するが、本発明は、以下説明する実施例に記載の色変換型有機ＥＬディスプレイに限定されものではない。
（色変換フィルタ基板の作製）
図１に示すように、ガラス基板１０上に、市販のブラックマトリックス、赤色カラーフィルタ６、緑色カラーフィルタ８、青色カラーフィルタなどの層形成材料を用い、フォトリソグラフィ法にてブラックマトリックス９を格子状に、カラーフィルタ６、８を前記格子内区画を埋めるパターンであって、同色の画素のフィルタは同列のパターンとなるようにそれぞれ形成する。各層の膜厚はそれぞれ１μｍ（緑色フィルタのみ２μｍ）である。作製したカラーフィルタのサブ画素寸法は３００μｍ×１００μｍである。前記ガラス基板の仕様は（５０ｍｍ×５０ｍｍ×厚さ０．７ｍｍ；コーニング社製１７３７ガラス）である。赤色カラーフィルタ６の仕様は（ＣＫ−７００１：富士フィルム製）である。緑色カラーフィルタ８の仕様は（ＣＲ−７００１：富士フィルム製）である。青色カラーフィルタの仕様は（ＣＧ−７００１：富士フィルム製）である。ブラックマトリックスの仕様は（ＣＢ−７００１：富士フィルム製）である。
【００１９】
次に、トルエン１０００重量部と、第１色素：クマリン６＋第２色素：ＤＣＭ（４−ジシアノメチレン−２−メチル−６−（ｐ−ジメチルアミノスチリル）−４Ｈ−ピラン）５０重量部（モル比はクマリン６：ＤＣＭ＝４８：２）とから塗布用インクを調整し、インクジェット装置（ライトレックス製Ｌｉｔｒｅｘ１２０Ｌ）を用い、窒素雰囲気中で膜厚５００ｎｍの赤色変換層５列を作成する。インクの乾燥は、窒素雰囲気を破ることなく、真空乾燥炉を用い、真空度１．０×１０-3Ｐａ、温度１００℃で行った。
引き続き、緑色変換層７の列を形成する。第１色素としてクマリン６および第２色素としてＤＥＱ（キナクリドン）とを合わせて５０重量部（モル比は、クマリン６：ＤＥＱ＝４８：２。）を、トルエン１０００重量部に溶解させて塗布用インクを調製する。この塗布用インクを用い、前述と同様に緑色カラーフィルタ８列上に窒素雰囲気中で塗布して、膜厚５００ｎｍの緑色変換層７の列とする。塗布用インクの乾燥は、前述と同様に窒素雰囲気を破ることなく真空乾燥炉を用いて、真空度１．０×１０-3Ｐａ、温度１００℃で行った。このようにして色変換フィルタ基板１１が作製される。
【００２０】
（有機ＥＬ素子基板の作製）
別のガラス基板２（５０ｍｍ×５０ｍｍ×厚さ０．７ｍｍ；コーニング社製１７３７ガラス）を用い、光硬化型樹脂（フォトレジンＶ−２５９ＰＡ（新日鐵化学））を膜厚４μｍでスピンコートし、フォトリソグラフィ法によってパターン化する。パターンは線幅５μｍで、図２のように有機ＥＬ層の各列の形成予定部を挟む位置に、二列の不連続な線状クロストーク低減構造体３ａが、不連続部の位置を図面上の左右水平方向で重ならないように、相互にずらした配置とする。
続いてＤＣマグネトロンスパッタ法（成膜条件：ターゲット商品名  ＡＰＣ−ＴＲ、フルヤ金属製Ａｇ合金；放電ガスＡｒ；放電圧力０．５Ｐａ；放電電力０．５８Ｗ／ｃｍ2）を用いて、有機ＥＬ素子１を構成する第１電極（図示せず）となる下部電極膜（Ａｇ合金）を１００ｎｍの膜厚で全面に形成する。次いで、形成したＡｇ合金膜上にフォトレジストをスピンコートし、所要の第１電極パターン形状のフォトレジストパターンを形成する。そのサンプルを２２℃に保ったＡｇ合金膜のエッチング液（製品名：ＳＥＡ２、関東化学株式会社製）中で２０秒間揺動し、不要な銀合金膜をエッチングして反射機能を有する第１電極（反射電極）とする。
【００２１】
次にＤＣマグネトロンスパッタ法（成膜条件：ターゲットＩｎ2Ｏ3−１０％ＺｎＯ；放電ガス  Ａｒ；放電圧力  ０．３Ｐａ；放電電力  ０．５Ｗ／ｃｍ2）を用いて膜厚２２０ｎｍのＩＺＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｚｉｎｃ  Ｏｘｉｄｅ）膜を前記第１電極上に成膜する。この際の成膜速度は、０．３３ｎｍ／ｓｅｃ．である。続いて、フォトリソグラフィ法によるパターニングにより第１電極上の透明電極（図示せず）とする。
前記透明電極を形成した基板を抵抗加熱真空蒸着装置内に導入し、それぞれ図示しない電子注入層、電子輸送層層、発光層、正孔輸送層、正孔注入層からなる有機ＥＬ層（有機発光層）を、真空を破らずに順次成膜する。成膜に際して真空槽内圧は１×１０-4Ｐａまで減圧した。なお、有機ＥＬ層の成膜は、メタルシャドウマスクを介して所要のパターンに成膜した。有機材料は金属坩堝中に入れた試料をタングステン線による抵抗加熱することによって蒸発させ成膜する。リチウムはＬｉアルカリディスペンサー（サエスゲッターズ製）によって蒸着する。制御は日本真空製ＣＲＴＭ−８０００によっておこなった。
【００２２】
有機ＥＬ層の形成方法を説明する。電子注入層はアルミニウムキノリノール錯体（Ａｌｑ3）に金属リチウムを２０：１（膜厚比）で共蒸着し１０ｎｍの膜厚で形成する。電子輸送層はアルミニウムキノリノール錯体（Ａｌｑ3）を１０ｎｍの膜厚で形成する。発光層は４，４’−ビス（２，２’−ジフェニルビニル）ビフェニル（ＤＰＶＢｉ）を３０ｎｍの膜厚で形成する。正孔輸送層は４，４’−ビス［Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−フェニルアミノ］ビフェニル（α−ＮＰＤ）を２０ｎｍの膜厚で形成する。正孔注入層は銅フタロシアニン（ＣｕＰｃ）を７０ｎｍの膜厚で形成する。
有機ＥＬ層を成膜した積層体を、真空を破ることなしに対向スパッタ装置へと移動させる。メタルマスクを配置して膜厚１００ｎｍのＩＺＯ膜を堆積させ、図示しない第２電極（上部電極）となる透明電極を形成して有機ＥＬ素子１を形成する。前記対向スパッタ装置によれば、酸素ガスの供給も少なくされているので、通常のスパッタで透明電極を形成する場合に比べて、有機ＥＬ層に対するダメージをほとんど無くすことができる。前述のように、線状の複数のクロストーク低減構造体３ａと、該複数のクロストーク低減構造体３ａの基板面に平行な間に挟まれる位置に成膜される有機ＥＬ素子１とを有する前記有機ＥＬ素子基板上に、さらにＳｉＮ膜をＣＶＤ法によって膜厚３０００ｎｍ成膜してバリア層４とする。膜厚４μｍの前記クロストーク低減構造体３ａ上のバリア層４の形状を計測したところ、凸部の高さは３．７μｍ、側面の基板面となす角度は３５度であった。バリア層４の側面の角度は１５度以上で光の全反射を抑制する効果があるが、好ましくは３０度以上とすることが望ましい。このようにして有機ＥＬ素子基板１２（図１）が作製される。
【００２３】
（貼り合せ）
形成した前記色変換フィルタ基板１１上に熱硬化性エポキシ樹脂を滴下し、さらに厚さ１５μｍのスペーサー入りの紫外線硬化性エポキシ樹脂接着剤をディスペンサーにて基板１１の周囲を囲むように塗布する。続いて前記有機ＥＬ素子基板１２をアライメント機構で、有機ＥＬ素子と色変換層とを正確に位置あわせしつつ降下させて圧着し、２つの基板１１、１２を貼り合せる。このときスペーサーによってギャップは１５μｍになる。このようにして前記色変換フィルタ基板１１と前記有機ＥＬ素子基板１２とを位置合わせの後、貼り合わせることにより本発明の色変換型有機ＥＬディスプレイの一例が作製される。
（比較例１）
（クロストーク低減構造体（隔壁）なしの例）
作製した比較例１の色変換型有機ＥＬディスプレイの概略断面図を図３に示す。比較例１の形成方法は前記実施例１と同様である。有機ＥＬ素子１の作成に関し、クロストーク低減構造体３ａの形成工程がないこと以外は実施例１と同様にして作成した。
【００２４】
（比較例２）
（クロストーク低減構造体（隔壁）を一列有する例）
作製した比較例２の色変換型有機ＥＬディスプレイの概略断面図を図７に、要部平面図を図８に示す。色変換型有機ＥＬディスプレイの形成方法は前記実施例１と同様である。異なる点は実施例１で、有機ＥＬ素子基板１２の作成において、有機ＥＬ素子１の形成予定部を挟む位置に配設される二列状のクロストーク低減構造体３ａを、一列の連続線状クロストーク低減構造体３に変更したことである。クロストーク低減構造体を二列から連続線状の一列に変更したこと以外は実施例１と同様にして作成した。
（評価）
前記比較例１、２と前記実施例１の各色変換型有機ＥＬディスプレイに赤１００％、緑０％、青０％のデータを表示した場合の輝度およびＣＩＥｘｙ色度（ＣＩＥ：Ｃｏｍｍｉｓｓｉｏｎ  Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ  ｄｅ  ｌ'Ｅｃｌａｉｒａｇｅ；国際照明委
員会）を測定した結果を表１に示す。
【００２５】
ＣＩＥ色度図とは、光の色をｘｙの平面座標で表した図です。周囲は、波長（単位は［ｎｍ］）を示しており、単色はこの波長によって表される。周囲以外の色は混色を表しており、中心には、色温度曲線が描かれている。この曲線は黒体の熱放射時の色を記載したものである。
【００２６】
【表１】
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前記比較例１、２の色変換型有機ディスプレイと、実施例１のそれとを比較すると、比較例１、２に比べて、実施例１では色度がよくなってより色純度の高い赤色が発色されており、クロストークが低減されていることがわかる。
以上説明した実施例１によれば、色変換型有機ＥＬディスプレイのバリア層内の光伝播を抑制することができ、その結果、クロストーク低減に効果が得られる。
【符号の説明】
【００２７】
１    有機ＥＬ素子
２    ガラス基板、支持基板
３ａ、３ｂ、３ｃ、３ｄ    クロストーク低減構造体
４    バリア層
５    赤色変換層
６    赤色カラーフィルタ
７    緑色変換層
８    緑色カラーフィルタ
９    ブラックマトリックス
１０  ガラス基板、透明基板
１１  色変換フィルタ基板
１２  有機ＥＬ素子基板。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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