(57)【要約】【課題】画像表示装置の表示性能の向上及び薄型化に寄与する、光散乱フィルムを簡易にかつ低コストで製造可能な方法を提供すること。【解決手段】少なくとも、熱可塑性樹脂と透光性粒子とを含むドープを支持体に流延し、剥離後乾燥させ、光透過性基材を作製する工程、該光透過性基材上に、少なくとも、硬化性化合物と重合開始剤と溶媒とを含む塗布液を塗布し、該溶剤を乾燥する工程、該硬化性化合物を硬化させて硬化層を形成する工程とを含む光散乱フィルムの製造方法であって、該光透過性基材は表面に凹凸形状を有し、該透光性粒子は平均一次粒径が２．５μｍを超え１２μｍ以下であり、該硬化層の平均厚みが、０．１μｍ以上１０．０μｍ以下であり、かつＪＩＳ  Ｂ  ０６０１に基づく該硬化層の算術平均粗さＲａ、該硬化層の表面の平均山谷間隔Ｓｍ、及び該硬化層の表面の平均傾斜角θa が、下記（式１）〜（式３）を満たすことを特徴とする光散乱フィルムの製造方法。        ０．０５μｍ≦Ｒａ≦０．８μｍ  ・・・（式１）        １０μｍ≦Ｓｍ≦３００μｍ      ・・・（式２）        １．５°≦θa≦４．５°        ・・・（式３）【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも、熱可塑性樹脂と透光性粒子とを含むドープを支持体に流延し、剥離後乾燥させ、光透過性基材を作製する工程、該光透過性基材上に、少なくとも、硬化性化合物と重合開始剤と溶媒とを含む塗布液を塗布し、該溶媒を乾燥する工程、該硬化性化合物を硬化させて硬化層を形成する工程とを含む光散乱フィルムの製造方法であって、該光透過性基材は少なくとも一方の表面に凹凸形状を有し、該透光性粒子は平均一次粒径が２．５μｍを超え１２μｍ以下であり、該硬化層の平均厚みが、０．１μｍ以上１０．０μｍ以下であり、かつＪＩＳ  Ｂ  ０６０１に基づく該硬化層の算術平均粗さＲａ、該硬化層の表面の平均山谷間隔Ｓｍ、及び該硬化層の表面の平均傾斜角θa が、下記（式１）〜（式３）を満たすことを特徴とする光散乱フィルムの製造方法。
０．０５μｍ≦Ｒａ≦０．８μｍ  ・・・（式１）
１０μｍ≦Ｓｍ≦３００μｍ      ・・・（式２）
１．５°≦θa≦４．５°        ・・・（式３）
【請求項２】
少なくとも、熱可塑性樹脂と透光性粒子とを含むドープを支持体に流延し、剥離後乾燥させ、光透過性基材を作製する工程、該光透過性基材上に、少なくとも、硬化性化合物と重合開始剤と溶媒とを含む塗布液を塗布し、溶媒を乾燥する工程、該硬化性化合物を硬化させて硬化層を形成する工程とを含む光散乱フィルムの製造方法であって、該光透過性基材は少なくとも一方の表面に凹凸形状を有し、該透光性粒子は平均一次粒径が２．５μｍを超え１２μｍ以下であり、該硬化層の平均厚みが、０．１μｍ以上１０．０μｍ以下であり、かつ該硬化層の表面傾斜角が以下の分布となることを特徴とする光散乱フィルムの製造方法。
（ａ）０°以上１．０°未満の頻度の積分値が２５％未満
（ｂ）１．０°以上１０°未満の頻度の積分値が６０％以上１００％未満
（ｃ）１０°以上の頻度の積分値が０％以上２５％未満
【請求項３】
前記ドープを流延してから光散乱フィルムを製造するまでの間に巻取り工程を含まないことを特徴とする請求項１又は２に記載の光散乱フィルムの製造方法。
【請求項４】
熱可塑性樹脂を主成分とし、平均一次粒径が２．５μｍを超え１２μｍ以下の透光性粒子を含有する光透過性基材の上に、少なくとも平均厚みが０．１μｍ以上１０．０μｍ以下である硬化層を有する光散乱フィルムであって、該光透過性基材の該硬化層を有する側の表面形状が、成膜面に略平行である平坦部と、該透光性粒子により得られる曲面状の凸部とを有し、かつ該凸部と平坦部との最大高さＲｔが１μｍ以上１５μｍ以下であることを特徴とする光散乱フィルム。
【請求項５】
ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１に基づく前記硬化層の算術平均粗さと前記光透過性基材の該硬化層を有する側の算術平均粗さとの差ΔＲａが、０．０５μｍ以上０．５０μｍ以下であることを特徴とする請求項４に記載の光散乱フィルム。
【請求項６】
前記硬化層の厚みの最小値ｔｍｉｎと最大値ｔｍａｘとの比（ｔｍｉｎ／ｔｍａｘ）が０．２未満であることを特徴とする請求項４又は５に記載の光散乱フィルム。
【請求項７】
前記透光性粒子は略球状の樹脂粒子であることを特徴とする請求項４〜６のいずれかに記載の光散乱フィルム。
【請求項８】
前記光透過性基材の屈折率と前記透光性粒子の屈折率との差の絶対値が０．０9未満であることを特徴とする請求項４〜７のいずれかに記載の光散乱フィルム。
【請求項９】
ＪＩＳ  Ｋ  ７１０５に基づく像鮮明度測定装置を用いて２ｍｍの幅を有する光学櫛を通して測定される像鮮明度の値が５〜６０％である光散乱性を有することを特徴とする、請求項４〜８のいずれかに記載の光散乱フィルム。
【請求項１０】
受光角２°のゴニオフォトメーターで測定される透過散乱光プロファイルが以下の式（ｄ）を満たすことを特徴とする、請求項４〜９のいずれかに記載の光散乱フィルム。
（ｄ）０．０３≦Ｉ（４°）／Ｉ０≦０．０７
ここで、Ｉ（４°）は光散乱フィルムの法線から４°傾いた位置における透過光強度、Ｉ０は光源を正面から測定したときの光強度である。
【請求項１１】
内部に起因するヘイズ値が０．１〜３０％であり、表面に起因するヘイズ値が３〜４０％である請求項４〜１０のいずれかに記載の光散乱フィルム。
【請求項１２】
偏光膜と該偏光膜の少なくとも一方の側に保護フィルムを有する偏光板であって、該保護フィルムが請求項４〜１１のいずれかに記載の光散乱フィルムである偏光板。
【請求項１３】
請求項４〜１１のいずれかに記載の光散乱フィルム、または請求項１２に記載の偏光板のいずれかを有する画像表示装置。
【請求項１４】
請求項１２に記載の偏光板を液晶セルのバックライト側の偏光板として用いることを特徴とする、透過型／半透過型液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光散乱フィルムの製造方法、光散乱フィルム、偏光板、画像表示装置および透過型／半透過型液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶表示装置（ＬＣＤ）は、薄型で、軽量で、且つ消費電力が小さいことから広く使用されてきている。液晶表示装置は、液晶セル及び偏光板を含む。偏光板は、通常、保護膜と偏光膜とからなり、ポリビニルアルコールフィルムからなる偏光膜をヨウ素にて染色し、延伸を行い、その両面を保護膜にて積層して得られる。透過型液晶表示装置では、この偏光板を液晶セルの両側に取り付け、さらには一枚以上の光学補償シートを配置することもある。また、反射型液晶表示装置では、通常、反射板、液晶セル、一枚以上の光学補償シート及び偏光板の順に配置する。
【０００３】
ＬＣＤは自発光型の表示装置ではないため、面光源が必要である。面光源の態様としては、液晶セルと発光光源との間に拡散シートやプリズムシートなどの光拡散能を持つ部材などを介在させて一様な面光源とするバックライト型が広く用いられており、その発光光源として冷陰極管（ＣＣＦＬ）やＬＥＤが使用されている。また一部のＬＣＤでは、導光板のエッジ部分に光源を配置し、拡散シートやプリズムシートなどと組み合わせで、面光源化している形態（エッジライトタイプ）も知られている。これらは上述の様に一般的に線光源あるいは点光源から面光源に変換をするため、拡散シート又は拡散フィルム（光拡散シート又は光拡散フィルム）を用いて均一な面光源化をしている。
【０００４】
面光源を得るためのバックライトの部材のなかで、拡散シートは、一般的に、バックライトとバックライト側偏光板との間に配置される。拡散シートを配置することで、光源による輝度ムラの低減と表示特性の面均一化が達成されるとともに（特許文献１）、入射光が液晶セル中の画素と干渉して、モアレ等の干渉縞を生じるのを抑制することができる。
しかし近年、液晶表示装置の部材数を削減や、低消費電力化のため光源に利用される蛍光灯数を減少することが試みられている。またＬＣＤの薄型化のため、バックライト光源と拡散シートとの距離が近くなり、そのため、従来の拡散フィルムでは、均一な光拡散を達成することが困難になってきている。そこで可能な限り距離を稼ぐため、拡散シート代替として、バックライト側偏光板の表面に拡散性を有するものが使用されてきている。
【０００５】
例えば、特許文献１は、多孔質不定形粒子と球状粒子とを分散含有する、所定の特性の光拡散層を有する光拡散偏光板が提案され、これによって光拡散シートを省略できることが開示されている。また、特許文献２及び３には、微粒子を含有するドープを支持体上に流延することを含む光拡散フィルムの製造方法が提案され、この方法によれば、光学的等方性等に優れる光拡散フィルムが作製できることが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２０００−７５１３４号公報
【特許文献２】特開２００１−１７２４０３号公報
【特許文献３】特開２００３−２５５０４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかし、上記文献に記載の光拡散フィルムは、全光透過率が低いので、画像表示装置に用いると、正面白輝度の低下の一因になる場合がある。一方で、正面輝度を維持するため、ヘイズを下げる、つまり全光透過率を上げると、表示画面の均一性の悪化（バックライトのムラ等）やモアレ等の干渉縞を生じるのを抑制できなくなる場合がある。これらは、光散乱性を制御しにくい不定形粒子や二次粒子を用いたり、表面の形状を例えばＲａ、Ｒｔなど高さに関する項目だけで制御しており、厳密な光散乱のための表面設計にまで及んでいない。
本発明は、液晶表示装置等の画像表示装置の表示性能の向上及び薄型化に寄与する、光散乱フィルム、偏光板、及び前記光散乱フィルムを簡易にかつ低コストで製造可能な方法を提供することを課題とする。
また本発明は、正面白輝度が高く且つ画面内において均一且つモアレなどの干渉縞抑制が可能であり、しかも薄型化に対応可能な、画像表示装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
以下の構成により上記課題は達成された。
（１）  少なくとも、熱可塑性樹脂と透光性粒子とを含むドープを支持体に流延し、剥離後乾燥させ、光透過性基材を作製する工程、該光透過性基材上に、少なくとも、硬化性化合物と重合開始剤と溶媒とを含む塗布液を塗布し、該溶媒を乾燥する工程、該硬化性化合物を硬化させて硬化層を形成する工程とを含む光散乱フィルムの製造方法であって、該光透過性基材は少なくとも一方の表面に凹凸形状を有し、該透光性粒子は平均一次粒径が２．５μｍを超え１２μｍ以下であり、該硬化層の平均厚みが、０．１μｍ以上１０．０μｍ以下であり、かつＪＩＳ  Ｂ  ０６０１に基づく該硬化層の算術平均粗さＲａ、該硬化層の表面の平均山谷間隔Ｓｍ、及び該硬化層の表面の平均傾斜角θa が、下記（式１）〜（式３）を満たすことを特徴とする光散乱フィルムの製造方法。
０．０５μｍ≦Ｒａ≦０．８μｍ  ・・・（式１）
１０μｍ≦Ｓｍ≦３００μｍ      ・・・（式２）
１．５°≦θa≦４．５°        ・・・（式３）
（２）  少なくとも、熱可塑性樹脂と透光性粒子とを含むドープを支持体に流延し、剥離後乾燥させ、光透過性基材を作製する工程、該光透過性基材上に、少なくとも、硬化性化合物と重合開始剤と溶媒とを含む塗布液を塗布し、溶媒を乾燥する工程、該硬化性化合物を硬化させて硬化層を形成する工程とを含む光散乱フィルムの製造方法であって、該光透過性基材は少なくとも一方の表面に凹凸形状を有し、該透光性粒子は平均一次粒径が２．５μｍを超え１２μｍ以下であり、該硬化層の平均厚みが、０．１μｍ以上１０．０μｍ以下であり、かつ該硬化層の表面傾斜角が以下の分布となることを特徴とする光散乱フィルムの製造方法。
（ａ）０°以上１．０°未満の頻度の積分値が２５％未満
（ｂ）１．０°以上１０°未満の頻度の積分値が６０％以上１００％未満
（ｃ）１０°以上の頻度の積分値が０％以上２５％未満
（３）  前記ドープを流延してから光散乱フィルムを製造するまでの間に巻取り工程を含まないことを特徴とする上記（１）又は（２）に記載の光散乱フィルムの製造方法。
（４）  熱可塑性樹脂を主成分とし、平均一次粒径が２．５μｍを超え１２μｍ以下の透光性粒子を含有する光透過性基材の上に、少なくとも平均厚みが０．１μｍ以上１０．０μｍ以下である硬化層を有する光散乱フィルムであって、該光透過性基材の該硬化層を有する側の表面形状が、成膜面に略平行である平坦部と、該透光性粒子により得られる曲面状の凸部とを有し、かつ該凸部と平坦部との最大高さRｔが１μｍ以上１５μｍ以下であることを特徴とする光散乱フィルム。
（５）  ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１に基づく前記硬化層の算術平均粗さと前記光透過性基材の該硬化層を有する側の算術平均粗さとの差ΔＲａが、０．０５μｍ以上０．５０μｍ以下であることを特徴とする上記（４）に記載の光散乱フィルム。
（６）  前記硬化層の厚みの最小値ｔｍｉｎと最大値ｔｍａｘとの比（ｔｍｉｎ／ｔｍａｘ）が０．２未満であることを特徴とする上記（４）又は（５）に記載の光散乱フィルム。
（７）  前記透光性粒子は略球状の樹脂粒子であることを特徴とする上記（４）〜（６）のいずれかに記載の光散乱フィルム。
（８）  前記光透過性基材の屈折率と前記透光性粒子の屈折率との差の絶対値が０．０9未満であることを特徴とする上記（４）〜（７）のいずれかに記載の光散乱フィルム。
（９）  ＪＩＳ  Ｋ  ７１０５に基づく像鮮明度測定装置を用いて２ｍｍの幅を有する光学櫛を通して測定される像鮮明度の値が５〜６０％である光散乱性を有することを特徴とする、上記（４）〜（８）のいずれかに記載の光散乱フィルム。
（１０）  受光角２°のゴニオフォトメーターで測定される透過散乱光プロファイルが以下の式（ｄ）を満たすことを特徴とする、上記（４）〜（９）のいずれかに記載の光散乱フィルム。
（ｄ）０．０３≦Ｉ（４°）／Ｉ０≦０．０７
ここで、Ｉ（４°）は光散乱フィルムの法線から４°傾いた位置における透過光強度、Ｉ０は光源を正面から測定したときの光強度である。
（１１）  内部に起因するヘイズ値が０．１〜３０％であり、表面に起因するヘイズ値が３〜４０％である上記（４）〜（１０）のいずれかに記載の光散乱フィルム。
（１２）  偏光膜と該偏光膜の少なくとも一方の側に保護フィルムを有する偏光板であって、該保護フィルムが上記（４）〜（１１）のいずれかに記載の光散乱フィルムである偏光板。
（１３）  上記（４）〜（１１）のいずれかに記載の光散乱フィルム、または上記（１２）に記載の偏光板のいずれかを有する画像表示装置。
（１４）  上記（１２）に記載の偏光板を液晶セルのバックライト側の偏光板として用いることを特徴とする、透過型／半透過型液晶表示装置。
【発明の効果】
【０００９】
本発明により得られる光散乱フィルムは、特に液晶表示装置のバックライト側偏光板保護フィルムとして使用した場合、正面での白輝度の低下とモアレが生じることがなく、輝度の均一性の高い画像表示を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明の光散乱フィルムの一例を示す断面図である。
【図２】従来の光散乱フィルムの一例を示す断面図である。
【図３】光散乱プロファイル測定装置の模式図である。
【図４】流延ドラムを用いた溶液製膜装置を示す図である。
【図５】流延バンドを用いた溶液製膜装置を示す図である。
【図６】（ａ）はマルチマニホールド型の共流延ダイを示す図であり、（ｂ）はフィードブロック型の共流延ダイを示す図である。
【図７】硬化層の最小、最大膜厚を示す模式図である。
【図８】従来の液晶表示装置の一例を表す模式図（ａ）、本発明の液晶表示装置の一例を表す模式図（ｂ）である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、本発明を実施するための形態について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、本明細書において、数値が物性値、特性値等を表す場合に、「（数値１）〜（数値２）」という記載は「（数値１）以上（数値２）以下」の意味を表す。また、本明細書において、「（メタ）アクリレート」との記載は、「アクリレート及びメタクリレートの少なくともいずれか」の意味を表す。「（メタ）アクリル酸」、「（メタ）アクリロイル」等も同様である。
【００１２】
本発明は、表面に特定の凹凸形状を有する光透過性基材上に硬化層を形成することにより、光散乱性を制御した光散乱フィルムに関する。本発明により得られる光散乱フィルムは、特に、液晶表示装置のバックライト側の偏光板保護フィルムとして用いた際に、正面白輝度が高く且つ画面内において均一でモアレなどの干渉縞ムラの抑制が可能であり、しかも薄型化に対応可能な、画像表示装置を提供できる。
【００１３】
本発明の光散乱フィルムの製造方法の第１の態様は、少なくとも、熱可塑性樹脂と透光性粒子とを含むドープを支持体に流延し、剥離後乾燥させ、光透過性基材を作製する工程、該光透過性基材上に、少なくとも、硬化性化合物と重合開始剤と溶媒とを含む塗布液を塗布し、該溶剤を乾燥する工程、該硬化性化合物を硬化させて硬化層を形成する工程とを含む光散乱フィルムの製造方法であって、該光透過性基材は少なくとも一方の表面に凹凸形状を有し、該透光性粒子は平均一次粒径が２．５μｍを超え１２μｍ以下であり、該硬化層の平均厚みが、０．１μｍ以上１０．０μｍ以下であり、かつＪＩＳ  Ｂ  ０６０１に基づく該硬化層の算術平均粗さＲａ、該硬化層の表面の平均山谷間隔Ｓｍ、及び該硬化層の表面の平均傾斜角θa が、下記（式１）〜（式３）を満たすことを特徴とする光散乱フィルムの製造方法である。
０．０５μｍ≦Ｒａ≦０．８μｍ  ・・・（式１）
１０μｍ≦Ｓｍ≦３００μｍ      ・・・（式２）
１．５°≦θa≦４．５°        ・・・（式３）
また、第２の態様は、少なくとも、熱可塑性樹脂と透光性粒子とを含むドープを支持体に流延し、剥離後乾燥させ、光透過性基材を作製する工程、該光透過性基材上に、少なくとも、硬化性化合物と重合開始剤と溶媒とを含む塗布液を塗布し、溶剤を乾燥する工程、該硬化性化合物を硬化させて硬化層を形成する工程とを含む光散乱フィルムの製造方法であって、該光透過性基材は少なくとも一方の表面に凹凸形状を有し、該透光性粒子は平均一次粒径が２．５μｍを超え１２μｍ以下であり、該硬化層の平均厚みが、０．１μｍ以上１０．０μｍ以下であり、かつ該硬化層の表面傾斜角が以下の分布となることを特徴とする光散乱フィルムの製造方法である。
（ａ）０°以上１．０°未満の頻度の積分値が２５％未満
（ｂ）１．０°以上１０°未満の頻度の積分値が６０％以上１００％未満
（ｃ）１０°以上の頻度の積分値が０％以上２５％未満
【００１４】
また、本発明の光散乱フィルムは、熱可塑性樹脂を主成分とし、平均一次粒径が２．５μｍを超え１２μｍ以下の透光性粒子を含有する光透過性基材の上に、少なくとも平均厚みが０．１μｍ以上１０．０μｍ以下である硬化層を有する光散乱フィルムであって、該光透過性基材の該硬化層を有する側の表面形状が、基材の成膜面に略平行である平坦部と、透光性粒子により得られる曲面状の凸部とを有し、かつ該凸部の平坦部からの高さΔｈが０．５μｍ以上５μｍ以下であることを特徴とする光散乱フィルムである。
【００１５】
従来の液晶表示装置の構成の一例においては、図８（ａ）に示すように、光源側から、〔光源４１／導光板（蛍光管）４２／下拡散シート４３／集光シート４４（プリズムシートなど）／上拡散シート４５／液晶パネル（下偏光板４６／基板４８／液晶セル４７／上偏光板４６）〕となっている。下拡散シートは主にバックライトユニットの面内輝度ムラを低減するための光拡散性の強い光学シートであり、集光シートは拡散光を液晶表示装置の正面方向（表示装置平面の法線方向）に集光させるための光学シートであり、上拡散シートは集光シートであるプリズムシートや液晶セル中の画素など周期的構造により発生するモアレを低減するための、および下拡散シートで除去しきれない面内輝度ムラをさらに低減するために用いられる光学シートである。
本発明の液晶表示装置においては、図８（ｂ）に示すように、上拡散シートの代わりに、下偏光板の保護フィルムに光拡散性を付与し（光散乱フィルム４９）、上拡散シートと同様以上の性能を発揮させるものであり、上記構成とすることで、モアレや面内輝度ムラを軽減するだけでなく、上拡散シートや従来技術では弊害となっていた、正面輝度や正面コントラストの低下を抑える効果をもたらす。さらに上拡散シートを除去することで、液晶表示装置全体の厚みを薄くすることができ、上拡散シートを複数枚使用する場合はより効果的である。原理的には除去した拡散シートの厚み分だけ薄くすることができる。
【００１６】
具体的には、上拡散シートや従来技術では必要以上に広角の範囲まで入射光を拡散させており、これにより相対的に正面方向への出射光量を低下させていた。本発明の構成、即ち下偏光板に付与した光拡散性保護フィルムの光拡散プロファイルを最適化させた液晶表示装置においては、正面方向への出射光量を低下させることなく、モアレや輝度ムラ軽減に必要十分な拡散性を付与しているため、この問題を解決できる。また、バックライト、下拡散シートの特性を変えたり、これら部材を複合化したりすることで、本発明に用いる光拡散性を有する光学フィルムの最適光散乱プロファイルも変化はするが、上述の構成範囲内であれば概ね目的の性能を発揮することが可能である。
【００１７】
さらに、一部の液晶表示装置では、輝度向上フィルム（例えば、ＤＢＥＦ；３Ｍ社製）を下偏光板の直下に使用するものがあり、下偏光板の保護フィルムに光散乱フィルムを配すると偏光解消が起こり輝度向上性能の低下を招くことがあるが、本発明の液晶表示装置では偏光解消の大きい広角散乱成分が少ない光学フィルムを用いているため、輝度向上性能の低下を極めて少なくすることができる。
【００１８】
＜光散乱フィルムの表面形状＞
以下、本発明の光散乱フィルムについて説明する。
本発明の光散乱フィルムは、少なくとも一方の表面に凹凸形状（傾斜面）を有した平均一次粒径が２．５μｍを超え１２μｍ以下である透光性粒子を含有する光透過性基材と、該光透過性基材上に設けられた硬化層を含み、光の散乱性能を有するものである。以下の説明において、光散乱性の制御のために凹凸形状を制御した、硬化層側の表面をＡ面と定義し、別の表面をＢ面と定義する。まず以下Ａ面の形状について説明する。
【００１９】
本発明の光散乱フィルムは、前方散乱性を有するように、その表面の傾斜角を制御する必要がある。このため、硬化層の表面形状はＪＩＳ  Ｂ  ０６０１による粗さのパラメータで表すと、下記（式１）から（式３）を満たすことが必要である。
０．０５μｍ≦Ｒａ≦０．８μｍ  ・・・（式１）
１０μｍ≦Ｓｍ≦３００μｍ      ・・・（式２）
１．５°≦θa≦４．５°        ・・・（式３）
また、好ましい範囲としては、
０．1μｍ≦Ｒａ≦０．６μｍ  ・・・（式１’）
５０μｍ≦Ｓｍ≦２００μｍ      ・・・（式２’）
１．８°≦θa≦４．２°        ・・・（式３’）
であり、さらに好ましい範囲としては、
０．1μｍ≦Ｒａ≦０．５μｍ  ・・・（式１”）
８０μｍ≦Ｓｍ≦１５０μｍ      ・・・（式２”）
２．０°≦θa≦４．０°        ・・・（式３”）
である。
これら粗さのパラメータは、ＪＩＳ−Ｂ０６０１（１９９４、２００１）に準じた測定器、たとえば小坂研究所（株）製、サーフコーダー  ＭＯＤＥＬ  ＳＥ−３５００などを用いて測定することができる。
【００２０】
Ｒａの値が０．０５μｍより小さいと、十分な散乱効果をえることができず、０．８μｍを超えると、不必要に広角まで光が散乱し正面輝度低下を招く。また、Ｓｍの値が３００μｍを超えると凹凸の間隔が広くなりすぎて、バックライトの均一性の向上やモアレの解消が困難になる。また、本発明における一次粒径が２．５μｍを超え１２μｍの透光性粒子を用いて光透過性基材表面に凹凸を付与し、光散乱フィルムを作製する際には、Ｓｍが１０μｍ未満の表面形状が得られ難い。Ｓｍが１０μｍ未満の場合、相対的にθａが４．５°を超えてしまいやすく、目標の表面形状が得られ難くなる。また、Ｓｍが１０μｍ未満の場合、θａが４．５°以下との両立が困難になり、目標の表面形状が得られ難くなる。液晶表示装置のモアレの解消には、Ｓｍとしてはバックライト側のプリズムシートのピッチ以下、又は液晶セルの画素ピッチの２倍以下であることが好ましい。さらに、θａの値が１．５°より小さいと、直進方向への光の成分が多くなりすぎ、散乱効果が得られにくく、４．５°を超えると不必要な広角散乱成分が増え、正面輝度低下を招く。
【００２１】
つぎに、本発明においてＡ面の表面形状を別の表現、すなわち傾斜角およびその割合で表した場合には、以下の方法で決定される。
まず、面積が０．５乃至２平方マイクロメートルである三角形の頂点を透明支持体上に仮定し、その３つの頂点から鉛直上向きに法線を伸ばす（支持体上の３つの法線）。この支持体上の３つの法線がフィルム表面（Ａ面）と交わる３点によって三角形を形成する。このようにして形成された三角形の面の法線が、支持体から鉛直上向きに伸ばした法線となす角を傾斜角と定義する。
【００２２】
次に、傾斜角の割合の求め方を説明する。支持体上で２５００００平方マイクロメートル（０．２５平方ミリメートル）以上の面積を先に述べた三角形に分割し、それぞれの三角形全てについて傾斜角の測定を行う。各測定点での傾斜角度を求め、全測定点の数に対する、各傾斜角度の数（頻度）の割合を求める。この割合を傾斜角の頻度と定義する。本発明においては、０°以上１．０°未満、１．０°以上１０．０°未満、および１０．０°以上の範囲の傾斜角の頻度の積分値を求める。測定方法の詳細は、特開２００７−１０８７２４号公報の６頁第１２段落に記載されている方法を採ることができる。
【００２３】
本発明においては、測定面積は支持体上で２５００００平方マイクロメートル（０．２５平方ミリメートル）以上が好ましく、０．２５平方ミリメートル以上、１．０平方ミリメートル以下が測定精度と測定効率を両立させる上で好ましい。測定単位の三角形の面積は０．５乃至２平方マイクロメートルが測定精度を保証する上で好ましい。
【００２４】
測定する装置はいくつかあるが、本発明においてはマイクロマップ社（米国）製ＳＸＭ５２０−ＡＳ１５０型を用いる。本装置は、光源に中心波長５６０ｎｍの干渉フィルターを挿入したハロゲンランプ、倍率２．５倍〜５０倍の対物レンズを内蔵している。データの取り込みは画素数６４０×４８０の２／３インチの標準装備のＣＣＤによって行う。本発明においては、対物レンズが１０倍傾斜角の測定単位は０．８平方マイクロメートル、測定面積は５０００００平方マイクロメートル（０．５平方ミリメートル）に設定する。所望によっては、対物レンズの倍率を大きくし、それに合わせて測定単位と測定面積は小さくすることもできる。測定データはＭａｔｈ  Ｗｏｒｋｓ，  Ｉｎｃ．（米国）製、ＭＡＴ−ＬＡＢ等のソフトを用いて解析し、傾斜角分布を算出することができる。本発明では、傾斜角の刻みは０．０１°程度に設定する。
【００２５】
本発明においては、光散乱フィルムの硬化層側の表面であるＡ面の傾斜角が以下の分布を有することが必要である。
（ａ）０°以上１．０°未満の頻度の積分値が２５％未満
（ｂ）１．０°以上１０°未満の頻度の積分値が６０％以上１００％未満
（ｃ）１０°以上の頻度の積分値が０％以上２５％未満
また、好ましい傾斜角分布としては、
（ａ）０°以上１．０°未満の頻度の積分値が２％以上２０％以下
（ｂ）１．０°以上１０°未満の頻度の積分値が６０％以上９５％以下
（ｃ）１０°以上の頻度の積分値が１％以上２０％以下
であり、更に好ましい傾斜角分布としては
（ａ）０°以上１．０°未満の頻度の積分値が３％以上１５％以下
（ｂ）１．０°以上１０°未満の頻度の積分値が６５％以上９０％以下
（ｃ）１０°以上の頻度の積分値が１％以上１６％未満
である。
【００２６】
傾斜角が０°以上１．０°未満の頻度の積分値が２５％以上になると、平滑な面の割合が多すぎて十分な散乱性を得ることができない。また、１．０°以上１０°未満の頻度の積分値が６０％未満になると、正面コントラスト低下の影響の少ない適度な散乱角度をもった散乱成分が減少してしまう。また、１０°以上の頻度の積分値が２５％以上になると広角側の散乱成分が増えすぎて正面コントラストの低下を引き起こす。
【００２７】
本発明において、正面コントラストの低下が少なく適度の散乱性を付与するためには、上記に加え更に以下の傾斜角度分布を満たすことが特に好ましい。
（ｄ）０°以上０．５°未満の頻度の積分値が９％未満
（ｅ）３°以上８．０°未満の頻度の積分値が２５％以上６０％以下
また、一層好ましい傾斜角度分布としては、
（ｄ）０°以上０．５°未満の頻度の積分値が１％以上８％以下
（ｅ）３°以上８．０°未満の頻度の積分値が３０％以上５５％以下
である。
【００２８】
＜光透過性基材の表面形状＞
本発明の光散乱フィルムは、表面に凹凸のある光透過性基材の上に硬化性化合物を塗設することにより、表面形状を前記範囲に制御にする。このため、光透過性基材の表面形状も十分な制御が必要であり、具体的には図１に示すような基材の成膜面に略平行である平坦部と、透光性粒子により得られる曲面状の凸部からなる形状を有する。成膜面とは、成膜時の成膜方向を含む面である。該凸部と平坦部とのＪＩＳ  Ｂ  ０６０１による最大高さRｔが１μｍ以上１５μｍ以下であることが必要で、１．５μｍ〜１２μｍであることが好ましく、２μｍ〜１０μｍであることがさらに好ましい。
また、該凸部と平坦部との高低差が０．５μｍ〜８μｍであることが好ましく、より好ましくは１μｍ〜６μｍである。高低差が０．５μｍ以上の場合には、硬化層による十分な形状調整ができ、８μｍ以下の場合には、硬化層の厚みを上げても、本発明で必要な表面形状を得ることができる。
前記高低差は、例えば透光性基材の凸部頂点を通るように切削した断面を走査型電子顕微鏡で観察することで測定することができる。
【００２９】
また、本発明における光透過性基材の前記表面形状は、透光性粒子の形状がほぼそのまま表面に現れるようにすることが望ましく、透光性粒子を含む溶液（ドープ）がレベリングすることなく乾燥されることが望ましい。すなわちドープの粘度は高い方が良く、１０００ｃＰ以上が好ましく、より好ましくは５０００以上である。しかし、塗布など従来の方法では前述のような高粘度溶液を塗設することは困難である。この点について、本発明では、熱可塑性樹脂溶液（ポリマー溶液のドープ、例えば粘度１万ｃＰ）を流延することにより達成できることを見出した。
【００３０】
＜硬化層による低傾斜角分布表面の形成＞
本発明における表面傾斜角分布の制御は、上述のように光透過性基材表面に特定範囲の荒れた表面を形成したのちに、硬化層により表面をなだらかにすることが重要であり、以下の制御が必要である。
【００３１】
硬化層の厚みは、前記高低差Δｈに関連して０．１μｍ〜１０μｍとすることで好ましい表面形態を得ることができる。更に好ましくは０．２μｍ〜５μｍであり、最も好ましくは０．５μｍ以上３μｍ未満である。０．１μｍより薄いと表面形状を程よく調整するに至らず、また硬化層にハードコート性を付与することが出来ない。１０μｍを超えると硬化層表面が平滑になりすぎ、目的の表面形状を得ることが出来ない。
【００３２】
光透過性基材の算術平均粗さＲａ，ｂと、硬化層の算術平均粗さＲａ，ｃとの差ΔＲａ＝Ｒａ，ｂ−Ｒａ，ｃの値が０．０５μｍ〜０．５０μｍとすることが好ましく、０．１０μｍ〜０．４５μｍであることがより好ましい。ΔＲａが０．０５μｍ以上であれば表面調整が十分で、本発明の光散乱フィルムを液晶表示装置等に使用した場合、モアレが十分解消される。ΔＲａが０．５μｍを超えると目的の表面形状を形成することができない。
【００３３】
また、硬化層の厚みの最小値（光透過性基材中の透光性粒子頂点上であることが多い）ｔｍｉｎと最大値（光透過性基材の平坦部上の硬化層の厚みであることが多い）ｔｍａｘとの膜厚比：（ｔｍｉｎ／ｔｍａｘ）は０．２未満であることが、効果的なレベリングができ、目的の表面形状を得ることができるため好ましい。さらには該膜厚比が０．１５未満であることが好ましい。
【００３４】
硬化層を形成するための硬化性化合物と重合開始剤を溶剤に溶解した塗布液は、乾燥・製膜中に適度レベリングすることが望ましい。具体的には塗布液の粘度としては１ｃＰ〜１００ｃＰ程度に調製することが好ましく、塗布液の固形分の粘度としては１０ｃＰ以上が好ましく、したがって塗布液の濃度としては、溶剤にもよるが、０．５質量％〜数十質量％が好ましい。塗布液粘度が１ｃＰ以上あるいは前記固形分粘度が１０ｃＰ以上であると適度にレベリングして、目的の表面形状が得られ、モアレを解消し易なる。塗布液粘度が１００ｃＰ以下であるとレベリングの効率が良く目的の表面形状が得られ易い。
【００３５】
また、目的の表面形状を維持する範囲内で、硬化層を形成するための塗布液中に表面調整用の更なる粒子や、導電性無機微粒子、導電性ポリマー、フッ素系やシリコーン系の防汚素材などを有しても構わない。
さらに、硬化層の上に硬化層形成と同時または逐次で、導電性無機微粒子含有層、導電性ポリマー層、フッ素系やシリコーン系の防汚層、低屈折率層、或いは反射防止層などを積層させても構わない。
【００３６】
本発明の光散乱フィルムの製造方法においては、光透過性基材を作製作製する工程と、硬化層を形成する工程とを連続して行い、流延から光散乱フィルムを作製するまでの間に巻取り工程を含まず、一貫製造することもできる。このような場合には、前記硬化層を形成するための塗布液を塗布する際の光透過性基材用ドープの残留溶剤量は２〜５０質量％が好ましい。２質量％以上であれば、塗布液の溶剤種に関わらず良好な密着性を付与できる。５０質量％以下であれば、塗布液の溶剤が光透過性基材用ドープに染込みすぎず、ローラーでのハンドリングが容易であり、光散乱フィルムの表面形状を目的の範囲に制御し易い。
本発明では、光透過性基材を作製から防眩フィルム作製の間に巻取り工程を含まないことが、生産効率向上やコストの観点から好ましい。
【００３７】
本発明において、光散乱フィルムのＢ面の形態に関しては特に制限はない。しかしながら、偏光板作製時の偏光膜との密着性付与や、上記で述べた本発明の表面凹凸形状に基づく光散乱特性への影響を少なくする点で、Ｂ面は平滑な面であることが好ましい。Ｂ面の算術平均粗さ（Ｒａ）は、０．００１μｍ〜０．１０μｍであるのが好ましく、更に好ましくは０．００１μｍ〜０．０５μｍであり、最も好ましくは０．００１μｍ〜０．０３μｍである。
【００３８】
＜光散乱フィルムの光学特性＞
光散乱フィルムの法線方向から光を入射させた際に該光散乱フィルムを透過してくる出射光強度（入射光の強度に対する出射光の強度）を考えた場合、略平行光源を正面から測定したときの光強度をＩ０としたとき、本発明の光散乱フィルムの法線方向における出射光強度Ｉ（０°）のＩ０に対する比Ｉ（０°）／Ｉ０が０．４０〜０．９８であることが好ましく、０．４５〜０．８０であることが更に好ましく、０．５０〜０．７０であることが最も好ましい。０．４０〜０．９８であれば白発色時の白輝度の低下が小さく、表示画面が暗くならず、好ましい。
【００３９】
正面白輝度および正面コントラストを維持しながら、モアレや面内の輝度ムラ抑制を両立するためには、光散乱フィルムとしては、低角側への光散乱強度比が大きい（前方散乱性の強い）ものが好ましく、フィルム法線から入射する直線光に対し、２°〜６°付近への散乱光強度が他の角度への散乱光と比べ相対的に大きいフィルムが好ましいことを見出した。本発明の光散乱フィルムの場合、具体的には、該光散乱フィルム表面の法線方向から４°傾いた位置における出射光強度Ｉ（４°）のＩ０に対する比Ｉ（４°）／Ｉ０が０．０３〜０．０７であることが好ましく、更に好ましくは０．０３〜０．０６５であり、最も好ましくは０．０３５〜０．０６である。Ｉ（４°）／Ｉ０の値が０．０３〜０．０７であると、コントラスト低下が少なく、モアレの発生が抑制できる。この値が０．０３以上ではモアレ解消能が向上し、０．０７以下では正面コントラストの低下が少なくなる。これらの透過散乱光プロファイルは、受光角２°のゴニオフォトメーターで測定される。
【００４０】
光散乱フィルムの内部に起因する内部ヘイズ値（全ヘイズ値から表面ヘイズ値を引いた値）は０．１％〜３０％であることが好ましく、更に好ましくは０．５％〜２５％であり、最も好ましくは１％〜２０％である。この範囲であれば、表面凹凸による表面散乱に加えて、適度な内部散乱により液晶パネルの模様や色ムラ、輝度ムラなどを見難くすることができる。
【００４１】
また、硬化層を塗設する前の光透過性基材の表面はある程度荒れた面が望ましく、全ヘイズ値が１０％以上であることが好ましく、全ヘイズ値が１５％以上が好ましく、全ヘイズ値が３０％以上がより好ましい。
【００４２】
光散乱フィルムの表面に起因する表面ヘイズ値は３％〜４０％であることが好ましく、更に好ましくは５％〜３５％、最も好ましくは８％〜３０％である。
【００４３】
光散乱フィルムのＪＩＳ  Ｋ  ７１０５に基づく像鮮明度測定装置を用いて２ｍｍの幅を有する光学櫛を通して測定される像鮮明度の値は５〜６０％が好ましく、更に好ましくは１０％〜６０％であり、最も好ましくは１０％〜５５％である。この範囲であれば、正面コントラストの低下が少なく、かつ、液晶パネルの模様や色ムラ、輝度ムラ、モアレなどを見難くできる。
【００４４】
＜透光性粒子＞
本発明における光透過性基材に含まれる透光性微粒子は略球状が好ましい。透光性微粒子は光透過性基材の厚み方向全体に分布していても良いが、光透過性基材表面付近に偏在しているほうが好ましい。透光性粒子の平均一次粒径は２．５μｍを超え１２μｍ以下であり、該範囲内であれば凸部の形成に加え、内部散乱を付与した場合に広角散乱を抑え、前方散乱しやすい。更には３．５μｍを超え１０μｍ以下が好ましく、５μｍを超え９μｍ以下が最も好ましい。２．５μｍ以下だと、凸部が形成し難く、また不必要な広角にまで光が散乱してしまう。１０μｍを超えると、硬化層による表面調整がし難くなる。透光性粒子の屈折率は１．４０〜１．６５が好ましく、更に好ましくは１．４５〜１．６０であり、最も好ましくは１．４５〜１．５５である。
透光性粒子と光透過性基材との屈折率差の絶対値は０．０９未満であることが好ましく、０．０７以下であることがより好ましく、さらには０．０５以下であることが好ましい。０．０９未満であれば透光性粒子界面での散乱角が大きくなりすぎず、広角散乱成分が増えない。また、この範囲内であれば内部散乱と表面散乱を組み合わせて適度な前方散乱性の光学特性とすることができる。
【００４５】
透光性粒子の使用量は、単位面積あたり０．１ｇ／ｍ２〜５.０ｇ／ｍ２が好ましく、更に好ましくは、０．２ｇ／ｍ２〜３.０ｇ／ｍ２、最も好ましくは０．３ｇ／ｍ２〜２．０ｇ／ｍ２である。この範囲の使用量にすることで、所望の表面形状を得ることができる。
【００４６】
透光性粒子は、無機粒子、有機粒子ともに用いることができる。  無機粒子としては、シリカやアルミナなどが挙げられる。例えば（株）マイクロンの球状シリカ、球状アルミナが上げられる。
【００４７】
有機粒子としては、ポリメタアクリル酸メチルアクリレート樹脂、アクリルスチレン系樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂、シリコン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリカーボネート樹脂、ベンゾグアナミン系樹脂、メラミン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、或いはポリ弗化エチレン系樹脂等を挙げることができる。
市販品としては、スチレン、アクリル系樹脂として、綜研化学（株）製のケミスノーＭＸシリーズ、ＳＸシリーズや、積水化成品工業（株）製のテクポリマーなどが挙げられ、ベンゾグアナミン系樹脂としては、日本触媒（株）製のエポスター、メラミン系樹脂としては、日産化学（株）製のオプトビーズなどが挙げられる。
光透過性基材における熱可塑性樹脂との密着性の観点や、湿度や熱による界面剥離、脱落などの観点から、膨張率特性の近い有機粒子を用いるほうが好ましい。本発明では、透光性粒子は略球状の樹脂粒子であることが特に好ましい。
【００４８】
＜光透過性基材の材料＞
次に本発明に係る透光透過性基材の材料について説明する。本発明の光透過性基材を構成する主成分（光透過性基材の固形分の５１質量％以上９９質量％以下の材料）は、熱可塑性樹脂であることが好ましく、具体例には、セルロースアシレート（例えばトリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース、ニトロセルロース）、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル（例えばポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリ−１，４−シクロヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリエチレン−１，２−ジフェノキシエタン−４，４’−ジカルボキシレート、ポリブチレンテレフタレート）、ポリスチレン（例えばシンジオタクチックポリスチレン）、ポリオレフィン（例えばポリプロピレン、ポリエチレン、ポリメチルペンテン、ポリシクロアルカン）、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリメチルメタクリレート、ポリエーテルケトン、ノルボルネン系樹脂（アートン：商品名、ＪＳＲ社製）、非晶質ポリオレフィン（ゼオネックス：商品名、日本ゼオン社製）、（メタ）アクリル系樹脂（アクリペットＶＲＬ２０Ａ：商品名、三菱レイヨン社製、特開２００４−７０２９６号公報や特開２００６−１７１４６４号公報記載の環構造含有アクリル系樹脂）等が含まれる。トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、プロピオニルセルロース、ポリエチレンテレフタレートおよびポリエチレンナフタレートが特に好ましい。
【００４９】
偏光板に用いるのに好ましい透明保護フィルムとしては、フィルムの疎水性／親水性のバランス、偏光膜のビニルアルコール系膜との貼合性やフィルム面内全体の光学特性の均一性が重要であり、特に、セルロースの脂肪酸エステル（セルロースアシレート）が好ましく、さらにはトリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、プロピオニルセルロースであるのが好ましい。
【００５０】
本発明の光透過性基材を製造するには、共流延法（重層同時流延）、逐次流延法等の積層流延する方法を用いることができる。共流延法および逐次流延法により製造する場合には、先ず、複数のドープを調製する。共流延法は、流延用支持体（バンドまたはドラム）の上に、複数のドープ（３層あるいはそれ以上でも良い）を別のスリットなどから同時に押出す流延用ギーサ（流延ダイ）からドープを押出して各層を同時に流延し、適度に乾燥させた後に支持体から剥ぎ取り、乾燥させて光透過性基材を成形する流延法である。流延ダイは、図６（a）に示したマルチマニホールド型、図６（ｂ）に示したフィードブロック型いずれでも使用できる。またドープ突出部には減圧チャンバーを設けた装置が好ましい。
【００５１】
逐次流延法は、流延用支持体の上に先ず第１の流延用ドープを流延用ギーサから押出して流延し、乾燥あるいは乾燥させることなく、その上に第２の流延用ドープを流延用ギーサから押出して流延し、以後、同様に第３以降のドープを逐次流延・積層し、適当な時期に支持体から剥ぎ取り、乾燥させて光透過性基材を成形する流延法である。また、乾燥から塗布までの間に、基材を一定方向に延伸しても構わない、具体的には例えば縦方向および／または横方向に０．９倍〜１．５倍程度延伸することが好ましい。
【００５２】
また、溶融押出し製膜法により光透過性基材を形成することもできる。すなわち、上記の熱可塑性樹脂と透光性粒子を混合溶解し溶融押出し成型し延伸して光透過性基材を作製するものである。本発明においては一定方向の延伸倍率が１．０〜２．０倍、それと直交する方向の延伸倍率が１．５倍〜７．０倍に２軸延伸することが好ましく、更に好ましくは縦方向の延伸倍率が１．１〜１．８倍、横方向の延伸倍率が３．０〜５．０倍である。この範囲の延伸倍率にすることで、透光性粒子が光透過性基材の平面上に飛び出した形状を作りやすくすることができる。
【００５３】
以上のように、光透過性基材を製造するには、共流延法、逐次流延法、及び溶融押出し製膜法のどの方法を用いてもよい。しかし、一般的に、逐次流延法では工程が複雑で大掛かりになり、フィルムの平面性を維持することが困難であるが、共流延法では工程が単純で、生産性が高いため、共流延法で製造することが好ましい。溶融製膜は、原材料を溶剤の使用なく溶解させ製膜するため、基材によっては部分的に溶解不良による異物故障をひきおこすことがある。
【００５４】
さらに、共流延法において、前記透光性粒子を含有するドープが光透過性基材の最表層を形成することが好ましい（図１（ｂ）参照）。具体的には流延の際、該ドープが支持体面若しくは空気界面側に置かれることが好ましく、剥離性の観点では空気界面側に設置されることがより好ましい。また、流延初期にレベリングしないように支持体の温度は２０℃以下にすることが好ましく、さらに流延後に冷却ゲル化するように支持体の温度を０℃以下にすることも好ましい。
【００５５】
光透過性基材中では、光透過性基材の深さ方向で透光性粒子の存在量の異なる領域が形成されていることが好ましい。透光性粒子存在量が多い領域は、光透過性基材のＡ面側に存在することが好ましく、Ａ面側の表面から光透過性基材の厚み方向深さでＡ面側表面から全体の９０％までの深さの領域に存在することが好ましく、更に好ましくはＡ面側表面から７５％までの深さ、最も好ましくはＡ面側表面から５０％までの深さに存在することが好ましい。また、Ａ面側表面から２５％までの深さの領域には、粒子を含有しないこともできる。これら範囲に透光性粒子を存在させることで、本発明の表面形状を与えることができる。透光性粒子を特定の深さ方向に偏析させるには、粒子含率の異なる複数のドープを同時または逐次に流延したり、粒子含率の異なる複数の溶解した樹脂を共押し出しして光透過性基材を形成したりすることができる。さらに、剥離が起こらない限り、各層で熱可塑性樹脂の種類が異なっていても良い。例えばセルロースアシレートの置換基や置換量の異なるドープを積層させるなどが挙げられる。
【００５６】
光透過性基材の膜厚は、２０μｍ〜２００μｍであることが好ましく、より好ましくは、２０μｍ〜８０μｍ、最も好ましくは２５μｍ〜５０μｍである。共流延で複数のドープを用いて光透過性基材を形成する場合には、表層ドープ（両面にある場合は合計厚み）と基層ドープの厚み比｛（表層ドープの厚み／基層ドープの厚み）×１００｝は、０．２５％〜５０％が好ましく、０．６％〜４０％がより好ましい。該厚み比が０．２５％以上であると、均一な層を形成することが容易である。また、該厚み比が５０％以下であれば、ドープの界面が安定し面状が損なわれる場合が少ない。ここで、ドープの厚みとは溶剤が揮発した後の厚みをいう。また、表層ドープ、基層ドープという言葉は、熱可塑性樹脂が溶剤に溶解したドープ状態で、流延ダイを通して相互に隣接して表層と基層を成している状態を表しており、溶剤が蒸発した後に光透過性基材において必ずしも界面が存在することを表すものではない。このため、図１、図２中においては各ドープの境界部として破線で表記した。
【００５７】
本発明において光透過性基材の材料として好ましく用いることのできる材料は、セルロースアシレートであり、特にセルロースアシレートとしてはセルロースの総炭素数２〜２２のカルボン酸エステルが好ましい。例えばセルロースのアルキルカルボニルエステル、アルケニルカルボニルエステル、シクロアルキルカルボニルエステル、あるいは芳香族カルボニルエステル、芳香族アルキルカルボニルエステルなどであり、それぞれさらに置換された基を有していてもよい。
【００５８】
本発明に用いられるセルロースアシレートの炭素数２〜２２のアシル基としては、脂肪族アシル基でも芳香族アシル基でもよく、特に限定されない。これらの好ましいアシル基としては、アセチル、プロピオニル、ブタノイル、ヘプタノイル、ヘキサノイル、オクタノイル、シクロヘキサンカルボニル、アダマンタンカルボニル、フェニルアセチル、ベンゾイル、ナフチルカルボニル、（メタ）アクリロイル、シンナモイル基などを挙げることができる。これらの中でも、より好ましいアシル基は、アセチル、プロピオニル、ブタノイル、ペンタノイル、ヘキサノイル、シクロヘキサンカルボニル、フェニルアセチル、ベンゾイル、ナフチルカルボニルなどである。
【００５９】
本発明に好適に用いられるセルロースアシレートとしては、セルロースの水酸基への置換度が下記数式（７）および（８）を満足するものが好ましい。
数式（７）：２．３≦ＳＡ’＋ＳＢ’≦３．０
数式（８）：０≦ＳＡ’≦３．０
【００６０】
ここで、ＳＡ’はセルロースの水酸基の水素原子を置換しているアセチル基の置換度、またＳＢ’はセルロースの水酸基の水素原子を置換している炭素原子数３〜２２のアシル基の置換度を表す。なお、ＳＡはセルロースの水酸基の水素原子を置換しているアセチル基を表し、ＳＢはセルロースの水酸基の水素原子を置換している炭素原子数３〜２２のアシル基を表す。
【００６１】
セルロースを構成するβ−１，４結合しているグルコース単位は、２位、３位および６位に遊離の水酸基を有している。セルロースアシレートは、これらの水酸基の一部または全部をアシル基によりエステル化したものである。アシル置換度は、２位、３位および６位のそれぞれについて、水酸基がエステル化している割合（各位それぞれ１００％のエステル化は置換度１）を意味する。本発明では、ＳＡとＳＢの置換度の総和（ＳＡ’＋ＳＢ’）は、より好ましくは２．６〜３．０であり、特に好ましくは２．７０〜３．００である。また、ＳＡの置換度（ＳＡ’）はより好ましくは１．４〜３．０であり、特に好ましくは２．３〜２．９である。
【００６２】
また、本発明においては、上記ＳＢであるセルロースの水酸基の水素原子を置換しているアシル基の炭素原子数が３または４であることが好ましい。これら炭素原子数のアシル基により置換された置換度は、上記数式（７）及び（８）に加え、更に、下記数式（９）を同時に満足することが好ましい。
数式（９）：  ０≦ＳＢ”≦１．２
ここで、ＳＢ”はセルロースの水酸基の水素原子を置換している炭素原子数３または４のアシル基を表す。
【００６３】
尚、置換度はセルロース中の水酸基に結合した脂肪酸の結合度を測定し、計算によって得られる。測定方法としては、ＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９１、ＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９６に準拠して測定することができる。また、水酸基へのアシル基の置換の状態は、13Ｃ  ＮＭＲ法によって測定される。
【００６４】
上記セルロースアシレートフィルムは、フィルムを構成するポリマー成分が実質的に前記の数式（７）および（８）を満足するセルロースアシレートからなることが好ましい。「実質的に」とは、全ポリマー成分の５５質量％以上（好ましくは７０質量％以上、さらに好ましくは８０質量％以上）を意味する。セルロースアシレートは単独若しくは２種類以上の併用であってもよい。
【００６５】
本発明で好ましく用いられるセルロースアシレートの重合度は、粘度平均重合度２００〜７００、好ましくは２３０〜５５０、更に好ましくは２３０〜３５０であり、特に好ましくは粘度平均重合度２４０〜３２０である。平均重合度は、宇田らの極限粘度法（宇田和夫、斉藤秀夫、繊維学会誌、第１８巻第１号、１０５〜１２０頁、１９６２年）により測定できる。更に特開平９−９５５３８号公報に詳細に記載されている。
【００６６】
またセルロースアシレートの数平均分子量Ｍｎは、好ましくは７〜２５×１０4の範囲、より好ましくは、８〜１５×１０4の範囲にあることが望ましい。また、該セルロースアシレートの質量平均分子量Ｍｗとの比、Ｍｗ／Ｍｎは、好ましくは１．０〜５．０、より好ましくは１．０〜３．０である。なお、セルロースアシレートの平均分子量および分子量分布は、高速液体クロマトグラフィーを用いて測定でき、これを用いて上記ＭｎおよびＭｗを算出し、Ｍｗ／Ｍｎを計算することができる。
【００６７】
［可塑剤］
本発明においては、光透過性基材に柔軟性を与え、寸法安定性を向上させ、耐湿性を向上させるために可塑剤を用いてもよい。
【００６８】
セルロースアシレートを光透過性基材の材料とする場合には、オクタノール／水分配係数（ｌｏｇＰ値）が０ないし１０である可塑剤が特に好ましく用いられる。化合物のｌｏｇＰ値が１０以下であれば、セルロースアシレートとの相溶性が良好で、フィルムの白濁や粉吹きなどの不具合を生じることがなく、またｌｏｇＰ値が０よりも大きければ、親水性が高くなりすぎることがないのでセルロースアシレートフィルムの耐水性を悪化させるなどの弊害が生じにくいので、上記範囲内のものを用いることが好ましい。ｌｏｇＰ値として、さらに好ましい範囲は１ないし８であり、特に好ましい範囲は２ないし７である。
【００６９】
オクタノール／水分配係数（ｌｏｇＰ値）の測定は、日本工業規格（ＪＩＳ）Ｚ７２６０−１０７（２０００）に記載のフラスコ浸とう法により実施することができる。また、オクタノール／水分配係数（ｌｏｇＰ値）は実測に代わって、計算化学的手法あるいは経験的方法により見積もることも可能である。計算方法としては、Ｃｒｉｐｐｅｎ’ｓ  ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法［Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｆ．Ｃｏｍｐｕｔ．Ｓｃｉ．，２７巻２１頁（１９８７）］、Ｖｉｓｗａｎａｄｈａｎ’ｓ  ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法［Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｆ．Ｃｏｍｐｕｔ．Ｓｃｉ．，２９巻１６３頁（１９８９）］、Ｂｒｏｔｏ’ｓ  ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法［Ｅｕｒ．Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．−Ｃｈｉｍ．Ｔｈｅｏｒ．，１９巻７１頁（１９８４）］などが好ましく用いられるが、中でもＣｒｉｐｐｅｎ’ｓ  ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法がより好ましい。ある化合物のｌｏｇＰの値が、測定方法または計算方法により異なる場合に、該化合物が本発明の範囲内であるかどうかは、Ｃｒｉｐｐｅｎ’ｓ  ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法により判断することが好ましい。
【００７０】
好ましく添加される可塑剤としては、上記の物性の範囲内にある分子量１９０〜５０００程度の低分子〜オリゴマー化合物が挙げられ、例えばリン酸エステル、カルボン酸エステル、ポリオールエステル等が用いられる。
【００７１】
リン酸エステルの例には、トリフェニルフォスフェート（ＴＰＰ）、トリクレジルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェート等が含まれる。
【００７２】
カルボン酸エステルとしては、フタル酸エステルおよびクエン酸エステルが代表的である。フタル酸エステルの例には、ジメチルフタレート、ジエチルフタレート、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジフェニルフタレート、ジエチルヘキシルフタレート等が挙げられる。クエン酸エステルの例には、Ｏ−アセチルクエン酸トリエチル、Ｏ−アセチルクエン酸トリブチル、クエン酸アセチルトリエチル、クエン酸アセチルトリブチル等が挙げられる。
これらの好ましい可塑剤は、２５℃においてＴＰＰ（融点約５０℃）以外は液体であり、沸点も２５０℃以上である。
【００７３】
これらの可塑剤は単独もしくは２種類以上を混合して用いてもよい。可塑剤の添加量はセルロースアシレート１００質量部に対して２〜３０質量部、特に５〜２０質量部が好ましい。また、透光性粒子を含有する層には、セルロースアシレートと透光性粒子の親和性改良、脆性改良のために、可塑剤含率を高めることが好ましい。
【００７４】
［紫外線吸収剤］
上記光透過性基材には、フィルム自身の耐光性向上、或いは偏光板、液晶表示装置の液晶化合物等の画像表示部材の劣化防止のために、更に紫外線吸収剤（紫外線防止剤）を添加することが好ましい。
【００７５】
紫外線吸収剤としては、液晶の劣化防止の点より波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れ、かつ良好な画像表示性の点より波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が可及的に少ないものを用いることが好ましい。特に、波長３７０ｎｍでの透過率が、２０％以下であることが望ましく、好ましくは１０％以下、より好ましくは５％以下である。このような紫外線吸収剤としては、例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物、前記のような紫外線吸収性基を含有する高分子紫外線吸収化合物等があげられるが、これらに限定されない。紫外線吸収剤は２種以上用いてもよい。
【００７６】
本発明において紫外線吸収剤の使用量は、光透過性基材に用いられる熱可塑性樹脂１００質量部に対し０．１〜５．０質量部、好ましくは０．５〜４．０質量部、より好ましくは０．８〜２．５質量部である。
【００７７】
［他の添加剤］
更に、光透過性基材を形成する組成物（ドープ）には、各調製工程において用途に応じた他の種々の添加剤（例えば、劣化防止剤（例えば、酸化防止剤、過酸化物分解剤、ラジカル禁止剤、金属不活性化剤、酸捕獲剤、アミン等）、光学異方性コントロール剤、剥離剤、帯電防止剤、赤外吸収剤等）を加えることができ、それらは固体でもよく油状物でもよい。すなわち、その融点や沸点において特に限定されるものではない。さらにまた、赤外吸収剤としては例えば特開平２００１−１９４５２２号公報に記載のものが使用できる。
【００７８】
これらの添加剤の添加する時期は、ドープ作製工程において何れで添加してもよいが、ドープ調製工程の最後の調製工程に添加剤を添加し調製する工程を加えて行ってもよい。更にまた、各素材の添加量は機能が発現する限りにおいて特に限定されない。また、光透過性基材が多層から形成される場合、各層の熱可塑性樹脂・添加物の種類や添加量が異なってもよい。例えば特開平２００１−１５１９０２号公報などに記載されているが、これらは従来から知られている技術である。上記の紫外線吸収剤を含めてこれらの詳細は、発明協会公開技報公技番号２００１−１７４５号（２００１年３月１５日発行、発明協会）１６〜２２頁に詳細に記載されている素材が好ましく用いられる。
【００７９】
これらの添加剤の使用量は、光透過性基材を構成する全組成物中、０．００１〜２０質量％の範囲で適宜用いられることが好ましい。
【００８０】
［溶媒］
次に、光透過性基材を形成する材料を溶解する有機溶媒について記述する。用いる有機溶媒としては、従来公知の有機溶媒が挙げられ、例えば溶解度パラメーターで１７〜２２の範囲ものが好ましい。溶解度パラメーターは、例えばＪ．Ｂｒａｎｄｒｕｐ、Ｅ．Ｈ等の「ＰｏｌｙｍｅｒＨａｎｄｂｏｏｋ（４ｔｈ．ｅｄｉｔｉｏｎ）」、ＶＩＩ／６７１〜ＶＩＩ／７１４に記載の内容のものを表す。低級脂肪族炭化水素の塩化物、低級脂肪族アルコール、炭素原子数３から１２までのケトン、炭素原子数３〜１２のエステル、炭素原子数３〜１２のエーテル、炭素原子数５〜８の脂肪族炭化水素類、炭素数６〜１２の芳香族炭化水素類、フルオロアルコール類（例えば、特開平８−１４３７０９号公報  段落番号［００２０］、同１１−６０８０７号公報  段落番号［００３７］等に記載の化合物）等が挙げられる。
【００８１】
光透過性基材を形成する材料は、有機溶媒に１０〜３０質量％溶解していることが好ましく、より好ましくは１３〜２７質量％であり、特には１５〜２５質量％である。これらの濃度に調製する方法は、溶解する段階で所定の濃度になるように調製してもよく、また予め低濃度溶液（例えば９〜１４質量％）として作製した後に後述する濃縮工程で所定の高濃度溶液に調整してもよい。さらに、予め高濃度の光透過性基材を形成する材料の溶液として後に、種々の添加物を添加することで所定の低濃度の溶液としてもよい。
溶媒は１種でも２種以上用いてもよい。
【００８２】
＜ドープの調製＞
セルロースアシレート等の光透過性基材を形成する材料の溶液（ドープ）の調製について、その溶解方法は、上記のように特に限定されるものではなく、室温溶解法、冷却溶解法または高温溶解方法により実施され、さらにはこれらの組合せで実施される。これらに関しては、例えば特開平５−１６３３０１号、特開昭６１−１０６６２８号、特開昭５８−１２７７３７号、特開平９−９５５４４号、特開平１０−９５８５４号、特開平１０−４５９５０号、特開２０００−５３７８４号、特開平１１−３２２９４６号、特開平１１−３２２９４７号、特開平２−２７６８３０号、特開２０００−２７３２３９号、特開平１１−７１４６３号、特開平０４−２５９５１１号、特開２０００−２７３１８４号、特開平１１−３２３０１７号、特開平１１−３０２３８８号などの各公報にセルロースアシレート溶液の調製法が記載されている。これらのセルロースアシレートの有機溶媒への溶解方法は、本発明においても、その範囲内であればこれらの技術を適宜適用できるものである。これらの詳細、特に非塩素系溶媒系については、前記の公技番号２００１−１７４５号の２２〜２５頁に詳細に記載されている方法で実施される。さらにセルロースアシレートのドープ溶液は、溶液濃縮，濾過が通常実施され、同様に前記の公技番号２００１−１７４５号の２５頁に詳細に記載されている。なお、高温度で溶解する場合は、使用する有機溶媒の沸点以上の場合がほとんどであり、その場合は加圧状態で用いられる。
【００８３】
＜硬化層＞
［硬化性化合物］
本発明の光散乱フィルムにおける硬化層は、少なくとも、硬化性化合物（バインダー）と重合開始剤とを含有する塗布液を用いて形成される。硬化層は、硬化性化合物である熱および／または電離放射線硬化性化合物の架橋反応、又は、重合反応により形成され得る。バインダーとしては、モノマーバインダーでもポリマーバインダーでもよい。
【００８４】
［モノマーバインダー］
モノマーバインダーとしては、熱および／または電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーが好ましい。中でも、電離放射線硬化性の化合物が、生産性や設備の省スペース化などの点で好ましい。
電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーの官能基としては、光、電子線、又は放射線重合性のものが好ましく、中でも光重合性官能基が好ましい。
光重合性官能基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の不飽和の重合性官能基等が挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基が好ましい。
【００８５】
光重合性官能基を有する光重合性多官能モノマーの具体例としては、例えば、特開２００７-２６８７５３号公報の［００１８］〜［００２０］を参照することができる。
【００８６】
モノマーバインダーとしては、各層の屈折率を制御するために、屈折率の異なるモノマーを用いることが出来る。特に高屈折率モノマーの例としては、ビス（４−メタクリロイルチオフェニル）スルフィド、ビニルナフタレン、ビニルフェニルスルフィド、４−メタクリロキシフェニル−４’−メトキシフェニルチオエーテル、ビスアリールフルオレンアクリレートモノマー等が含まれる。
また、例えば特開２００５−７６００５号、同２００５−３６１０５号に記載されたデンドリマーや、例えば特開２００５−６０４２５号記載のようなノルボルネン環含有モノマーを用いることもできる。
【００８７】
多官能モノマーは、二種類以上を併用してもよい。
これらのエチレン性不飽和基を有するモノマーの重合は、光ラジカル開始剤あるいは熱ラジカル開始剤の存在下、電離放射線の照射または加熱により行うことができる。
光重合性多官能モノマーの重合反応には、光重合開始剤を用いることが好ましい。光重合開始剤としては、光ラジカル重合開始剤と光カチオン重合開始剤が好ましく、特に好ましいのは光ラジカル重合開始剤である。
【００８８】
［架橋性ポリマ−バインダー］
本発明に用いる硬化性化合物としては、反応性基を有するポリマーを用いることができる。
反応性基を有するポリマーとしては、特開２００７-２６８７５３号公報の［００２４］〜［００３０］を参照することができる。
【００８９】
＜重合開始剤＞
各種のエチレン性不飽和基を有するモノマーの重合は、光ラジカル開始剤あるいは熱ラジカル開始剤の存在下、電離放射線の照射または加熱により行うことができる。
本発明の光散乱フィルムを作製するに当り、光重合開始剤あるいは熱重合開始剤を併用することができる。
重合開始剤とその使用法などについては、特開２００７-２６８７５３号公報の［００７３］〜［００８９］を参照することができる。
【００９０】
＜硬化層のその他の添加剤＞
また、上記硬化層中にさらに、粒子を添加し、光散乱フィルムの表面凹凸形状及び光学特性の好ましい範囲に調整することも出来る（図１（ｃ）参照）。添加する粒子としては粒子径が５ｎｍ〜２．５μｍの無機粒子、有機粒子が好ましく、より好ましくは粒子径が５ｎｍ〜１．５μｍの無機粒子が好ましい。不要な広角散乱を発生させない範囲であれば、粒子の形状は不定形（二次凝集を含む）でも、扁平上でも構わない。
また、硬化層を設けた光散乱フィルムの強度は、鉛筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましい。
【００９１】
本発明の光散乱フィルムを、偏光板の保護フィルムとして使用し、偏光膜と接着させる場合には、偏光膜との接着性の観点から、酸処理、アルカリ処理、プラズマ処理、コロナ処理等の表面を親水的にする処理を実施することが特に好ましい。
【００９２】
接着性などの観点から、光透過性基材のＢ面側の表面エネルギーは、５５ｍＮ／ｍ以上であることが好ましく、６０ｍＮ／ｍ以上７５ｍＮ／ｍ以下であることが更に好ましく、上記表面処理により調整することができる。
【００９３】
＜偏光板＞
［偏光板の構成］
本発明の光散乱フィルムは、偏光膜とその少なくとも一方の側に配置された保護フィルムとを有する偏光板において、その保護フィルムとして使用することができる。本発明の光透過性基材を用いて偏光板を作製するときは、Ａ面を偏光板の表面側に使用し、Ｂ面を偏光膜側に使用することで、本願の目的である光学特性を得ることができる。本発明の光透過性基材が保護フィルムを兼ねることで、偏光板の製造コストを低減できる。また、本願の光透過性基材をバックライト側の表面に使用することにより、正面コントラストとモアレや輝度ムラ軽減を両立することができる。
【００９４】
また偏光板の構成として、偏光膜の両面に保護フィルムを配置する形態においては、一方の保護フィルムとして本発明の光散乱フィルムを用い、他方の保護フィルムには、通常のセルロースアセテートフィルムを用いてもよいし、他方の保護フィルムには、位相差フィルムを用いることもできる。
更には、本発明の偏光板において、片面が本発明の光散乱フィルムであるのに対して、他方の保護フィルムが液晶性化合物からなる光学異方性層を有する光学補償フィルムであることも好ましい態様である。
【００９５】
［偏光膜］
偏光膜には、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜がある。ヨウ素系偏光膜及び染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造することができる。
【００９６】
また偏光膜としては、公知の偏光膜や、偏光膜の吸収軸が長手方向に平行でも垂直でもない長尺の偏光膜から切り出された偏光膜を用いてもよい。偏光膜の吸収軸が長手方向に平行でも垂直でもない長尺の偏光膜は以下の方法により作製される。
すなわち、連続的に供給されるポリビニルアルコール系フィルムなどのポリマーフィルムの両端を保持手段により保持しつつ張力を付与して延伸して、少なくともフィルム幅方向に１．１〜２０．０倍に延伸し、フィルム両端の保持装置の長手方向進行速度差が３％以内で、フィルム両端を保持する工程の出口におけるフィルムの進行方向と、フィルムの実質延伸方向のなす角が、２０〜７０゜傾斜するように、フィルム進行方向を、フィルム両端を保持させた状態で屈曲させてなる延伸方法によって製造することができる。特に４５°傾斜させたものが生産性の観点から好ましく用いられる。
【００９７】
［光学補償フィルム］
偏光膜の２枚の保護フィルムのうち、本発明の光散乱フィルム以外のフィルムが、光学異方層を含んでなる光学補償層を有する光学補償フィルムであることも好ましい態様である。光学補償フィルム（位相差フィルム）は、液晶表示画面の視野角特性を改良することができる。
【００９８】
光学補償フィルムとしては、公知のものを用いることができるが、視野角を広げるという点では、特開２００１−１０００４２号公報に記載されている光学補償フィルムが好ましい。
【００９９】
＜本発明の使用形態＞
［画像表示装置］
本発明の、光散乱フィルムは、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）のような画像表示装置に好適に用いられる。
【０１００】
［液晶表示装置］
本発明の光散乱フィルム、及び偏光板は、液晶表示装置等の画像表示装置に有利に用いることができ、透過型／半透過型液晶表示装置において、液晶セルのバックライト側の最表層に用いることが特に好ましい。
【０１０１】
一般的に、液晶表示装置は、液晶セル及びその両側に配置された２枚の偏光板を有し、液晶セルは、２枚の電極基板の間に液晶を担持している。さらに、光学異方性層が、液晶セルと一方の偏光板との間に一枚配置されるか、又は液晶セルと双方の偏光板との間に２枚配置されることもある。
【０１０２】
液晶セルは、ＴＮモード、ＶＡモード、ＯＣＢモード、ＩＰＳモード又はＥＣＢモードであることが好ましい。
【実施例】
【０１０３】
［光透過性基材の作製］
表１に示したドープ処方にて、各ドープを作製し、基層ドープと表層ドープを表２に示した構成になるように同時に流延し、光透過性基材１〜光透過性基材１６を作製した。光光透過性基材１〜１５は、図４に示した流延装置を使い、表層１用のドープが鏡面仕上げし−１０℃に冷却したドラム側になるように流延し、溶剤を揮発させながら冷却でゲル化させ、ウェブを剥ぎ取った。１００℃の熱風にて残留溶剤量が１０質量％になるまで乾燥し、その後１４０℃の熱風にて１０分間乾燥させた。光光透過性基材１６は図５に示した流延装置を使い、鏡面仕上げした１８℃のバンド上に流延し、同様の乾燥を行った。光透過性基材の屈折率はいずれも１．４８だった。
【０１０４】
【表１】
2010237339.tif 000002
【０１０５】
【表２】
2010237339.tif 000003
【０１０６】
使用した材料を以下に示す。
セルローストリアセテート：アセチル置換度２．８６、粘度平均重合度３１０
紫外線吸収剤：ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤（TINUVIN３２６／TINUVIN３２８の２０／８０質量％の混合物、それぞれチバ・ジャパン（株）製）
Ｒ９７２：一次粒径約１６ｎｍ、ＡＥＲＯＳＩＬ  Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製
Ｓ４３１：平均粒径約２．５μｍ、サイリシア４３１、富士シリシア化学（株）製
ＫＥＰ−１５０：シリカ真球状粒子、平均粒径２．５μｍ、シーホスタＫＥＰ−１５０、日本触媒（株）製
２０００Ｍ：メラミン樹脂真球状粒子、平均粒径２．０μｍ、オプトビーズ２０００Ｍ、日産化学（株）製
ＭＸ−３５０：架橋ポリメチルメタクリレート真球状粒子、平均粒径３．５μｍ、綜研化学（株）製
ＭＸ−１５００：架橋ポリメチルメタクリレート真球状粒子、平均粒径２０μｍ、綜研化学（株）製
ＸＸ−７６Ｓ：架橋ポリメチルメタクリレート真球状粒子、平均粒径８μｍ、積水化成品工業（株）製
ＸＸ−８２Ｓ：架橋ポリメチルメタクリレート真球状粒子、平均粒径６μｍ、積水化成品工業（株）製
ＸＸ−１０４Ｓ：架橋ポリメチルメタクリレート−スチレン共重合真球状粒子、平均粒径６μｍ、積水化成品工業（株）製
ＸＸ−１１９Ｓ：架橋ポリメチルメタクリレート真球状粒子、平均粒径１０μｍ、積水化成品工業（株）製
ＸＸ−１４７Ｓ：架橋ポリメチルメタクリレート−スチレン共重合真球状粒子、平均粒径８μｍ、積水化成品工業（株）製
尚、基層ドープの固形分濃度は２３質量％、表層ドープの固形分濃度は１８質量％になるように、メチレンクロライド：メタノールの９０：１０質量比の混合溶剤で調整した。
また、粒子の屈折率は、屈折率の異なる２種類の溶媒の混合比を変化させて屈折率を変化させた溶媒中に粒子を等量分散して濁度を測定し、濁度が極小になった時の溶媒の屈折率をアッベ屈折計で測定することで測定した。
【０１０７】
［硬化層形成用塗布液の作製］
表３に示した塗布液Ａ〜塗布液Ｉ（Ｉは溶剤のみ）を作製した。
使用した材料を以下に示す。
ＰＥＴ−３０：ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物、日本化薬（株）製
ＤＰＨＡ：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートの混合物、日本化薬（株）製
Ｉｒｇ．−１２７：光重合開始剤イルガキュア１２７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製
ＣＡＢ：セルロースアセテートブチレート、ＣＡＢ−３８１−２、イーストマンケミカル社製
エトセル２００：エチルセルロース、エトセル２００Ｉｎｄｕｓｔｒｉａｌ、ダウ・ケミカル社製
ＰＭＭＡ：平均分子量３５万のポリメチルメタクリレート
ＡＣＡ３２０：酸基含有アクリレートポリマー、サイクロマーＰ（ＡＣＡ３２０）、ダイセル化学工業（株）製
サイメル３０３：メチロールメラミン硬化性化合物、日本サイテックインダストリース（株）製
キャタリスト４０５０：熱酸発生剤（５５％）溶液、日本サイテックインダストリース（株）製
コロネートＬ溶液：ポリイソシアネート、コロネートＬ（酢酸エチル溶液）、日本ポリウレタン工業（株）製をＭＥＫにて固形分５０％に希釈した溶液
ＴＥＤＡ：ウレタン硬化触媒、トリエチレンジアミン（１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン）
ＭＥＫ：メチルエチルケトン
ＭＩＢＫ：メチルイソブチルケトン
ＰＧＭ：プロピレングリコールモノメチルエーテル（１−メトキシ−２−プロパノール）
【０１０８】
【表３】
2010237339.tif 000004
【０１０９】
［硬化層の塗設］
特開２００３−２１１０５２号公報の図１に記載されたスロットダイコーターを用いて、表４に示した光透過性基材の上に、硬化層用塗布液をそれぞれの乾燥膜厚となるように塗布し、３０℃で１５秒間、９０℃で２０秒間乾燥の後、さらに窒素パージ下で１６０Ｗ／ｃｍの「空冷メタルハライドランプ」｛アイグラフィックス（株）製｝を用いて、照射量５００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、硬化層を形成し、光散乱フィルム１〜２３および２６〜３８を作製した。硬化層は、光透過性基材の表層２の側の面に塗設した。なお、乾燥膜厚が０．０５μｍとなるフィルム６、１６は塗布液の固形分濃度を１質量％とし、乾燥膜厚が１０μｍ以上となるフィルム３４、３６は塗布液の固形分濃度を５０質量％となるように調製した。塗布液Ｉを使用したフィルム１５は塗布量を５．０ｃｍ3／ｍ2とした。
また、塗布液Ｇ、Ｈを使用したフィルム２５、２６は上記より乾燥および硬化工程を９０℃で２分塗布面が非接触の状態で乾燥と熱硬化を行い、さらに１００℃で５分熱硬化させるよう工程条件を変えて作製した。フィルム２５の塗布液Ｇにおいては、まずＴＥＤＡを除いた状態で調製し、塗布直前に添加する送液系を組み、ＴＥＤＡの２％溶液を添加しスタチックミキサーで混合したのち直ちに塗布を行った。なお、ドープを流延してから光散乱フィルムを製造するまでの間に巻取り工程を行わなかった。
【０１１０】
【表４】
2010237339.tif 000005
【０１１１】
［ノートＰＣの改造］
ＬＧ  Ｄｉｓｐｌａｙ社製ノートＰＣ（Ｒ７００−ＸＰ５０Ｋ）を分解し、バックライトと液晶パネルの間にある上拡散シートを取り外し、更に液晶セルに貼られたバックライト側の偏光板を剥がして、光散乱性のない保護フィルム（ＴＤ８０Ｕ：富士フイルム（株）製）でを偏光子の両面に貼り合せた偏光板と、その外側に光散乱フィルム１〜３８を粘着材で貼り付けた。
【０１１２】
〔光散乱フィルム、及びそれを用いた画像表示装置の評価〕
作製した光散乱フィルム（フィルム１）〜（フィルム３８）に対して、以下の評価を実施した。
【０１１３】
（１）表面形状の測定
ＪＩＳ−Ｂ０６０１（１９９４、２００１）に準じて、小坂研究所（株）製、サーフコーダー  ＭＯＤＥＬ  ＳＥ−３５００を用いて凹凸の算術平均粗さＲａ、平均山谷間隔Ｓｍ、平均傾斜角θａを測定した。また、基材フィルムについては、最大高さＲｔ、およびＲａを測定し、ΔＲａを算出した。
【０１１４】
（２）傾斜角分布プロファイルの測定
マイクロマップ社（米国）製SXM520-AS150型を用い、得られた光散乱フィルムのＡ面表面を測定した。光源には中心波長５６０ｎｍの干渉フィルターを挿入したハロゲンランプを使用した。対物レンズの倍率は１０倍であり、画素数６４０×４８０の２／３インチのＣＣＤによりデータを取り込んだ。これより、縦および横方向の測定ピッチは１．３マイクロメートルであり、傾斜角度の測定単位は０．８平方マイクロメートル、測定範囲は５０００００平方マイクロメートル（０．５平方ミリメートル）となった。
測定単位である３点の高さデータから傾斜角度を算出し、全測定データから、傾斜角の０°以上１．０°未満、１．０°以上１０．０°未満、及び１０°以上の傾斜角成分の頻度の積分値を求めた。
【０１１５】
（３）光透過性基材の表面形状観察
ミクロトームにて光透過性基材の断面を切削し、走査型電子顕微鏡にて基材断面方向および斜め方向から基材表面の形状を観察した。
【０１１６】
（４）硬化層の厚み測定
ミクロトームにて光散乱フィルムの断面を粒子の中心を通るように切削し試料を作製し、オスミウム酸蒸気にて１日染色したのち、走査型電子顕微鏡にて硬化層の膜厚プロファイルを観察した。粒子直上部の最小厚みをｔｍｉｎ、平坦部上など他の部分の最大膜厚をｔｍａｘとしそれぞれ１０点測定し、その平均値の比を膜厚比（ｔｍｉｎ／ｔｍａｘ）として算出した。
【０１１７】
（５）透過画像鮮明度
光散乱フィルムの像線明度（％）測定は、ＪＩＳ  Ｋ７１０５（１９９９）に準拠し、スガ試験機（株）社製ＩＣＭ-１Ｔを使用した。本発明のおける像線明度の光学櫛は２.０ｍｍで測定した値と規定する。
【０１１８】
（６）光散乱プロファイルの測定
フォトゴニオメータ（ＧＰ−５（株）村上色彩技術研究所製）を用い測定した。図３に示したように、光源は角度１．５°の収斂光、検出器の受光角は２°の条件とした。得られた光散乱フィルムの法線方向から光を入射し、フィルム法線を含む平面内で角度を連続的に変えながら透過散乱光量を測定し、光散乱プロファイルを得た。透過散乱光量は、フィルムがない状態での光源の光量を１とした。
【０１１９】
（７）ヘイズの測定
［１］ＪＩＳ−Ｋ７１３６に準じて、得られた光散乱フィルムの全ヘイズ値（Ｈ）を測定する：日本電色工業（株）製ヘーズメーターＮＤＨ２０００を用いた。
［２］光散乱フィルムの表面および裏面に顕微鏡用イマージョンオイル（ニコン（株）製イマージョンオイルＴＹＰＥ  Ａ、屈折率ｎ＝１．５１５）を数滴添加し、厚さ１ｍｍのガラス板（ミクロスライドガラス品番Ｓ９１１１、ＭＡＴＳＵＮＡＭＩ製）を２枚用いて裏表より挟んで、完全に２枚のガラス板と得られた光学フィルムを密着し、表面ヘイズを除去した状態でヘイズを測定し、別途測定したガラス板２枚の間にシリコーンオイルのみを挟みこんで測定したヘイズを引いた値をフィルムの内部ヘイズ（Ｈin）として算出した。
［３］上記［１］で測定した全ヘイズ（Ｈ）から上記［２］で算出した内部ヘイズ（Ｈin）を引いた値をフィルムの表面ヘイズ（Ｈout）として算出した。
【０１２０】
（８）モアレ
作製した液晶表示装置にビデオ信号ジェネレーター（ＶＧ−８４８；アストロデザイン（株）製）より信号を入力し、全面ベタ表示で１２８／２５６階調の灰色表示とし、暗室下で様々な方向から画面を目視観察し、モアレ発生の有無を評価した。
◎：モアレが観察されない。
○：モアレが僅かに観察されるがほとんど気にならない。
△：モアレが観察され、やや気になる。
×：モアレが明瞭に観察される。
【０１２１】
（９）正面白輝度
モアレ評価と同様の方法で液晶表示装置を全面ベタ表示で２５６／２５６階調の白色表示とし、暗室下において液晶表示装置平面の法線（正面）方向から輝度計（ＢＭ５−Ａ；（株）トプコン製）にて輝度を測定した。画面の中央の点から３ｃｍの間隔で上下各１点、左右各１点の合計５点を測定し、平均値を算出した。バックライト側偏光板の表面に光散乱フィルムを使用しない場合を基準として、以下の３段階で評価した。
◎：全く低下していない（基準値の９９％以上）
○：ほとんど低下していない（基準値の９８％以上９９％未満）
×：やや低下している（基準値の９５％以上９８％未満）
××：低下している（基準値の９５％未満）
【０１２２】
各試料の評価結果、および、それを液晶表示装置のバックライト側偏光板保護フィルムとして使用したときの表示性能は表２および表４に示した。
なお、光透過性基材のヘイズについては、基材８は２８％、基材９は４５％、基材１０は３５％、基材１１は２４％、基材１２は４９％であり、その上に厚み０．８μｍ〜１．５μｍの硬化層を設けたフィルムはモアレ解消と、正面輝度を両立できていた。
【０１２３】
［セルロースアセテートブチレートを基材に用いた実施例］
表５に示した組成のドープを作製し、基材１６のドープＡ（表層１）の代わりにドープＰ−１を、ドープＢ（基層）の代わりにドープＰ−２を、ドープＨ（表層２）の代わりにドープＰ−３を使用した以外はフィルム９と同様の方法にて、フィルム３９を作製した。光透過性基材の屈折率は１．４８だった。透光性基材の表面形状は平坦部と球状凸部からなる形状であった。
【０１２４】
［ポリカーボネートを基材に用いた実施例］
表５に示した組成のドープを作製し、基材１６のドープＡの表層１を用いずに、ドープＢ（基層）の代わりにドープＱ−１をバンド面側に置き、ドープＨ（表層２）の代わりにドープＱ−２を使用し２層共流延とした以外はフィルム９と同様の方法にて、フィルム４０を作製した。使用した素材を以下に示す。光透過性基材の屈折率は１．５８だった。透光性基材の表面形状は平坦部と球状凸部からなる形状であった。
ポリカーボネート：重量平均分子量４５，０００のポリカーボネート樹脂
ＳＢＸ−８：架橋ポリスチレン真球状粒子、平均粒径８μｍ、積水化成品工業（株）製
【０１２５】
【表５】
2010237339.tif 000006
【０１２６】
以降、同様の評価をおこなったところ、フィルム３９、フィルム４０ともにフィルム９とほぼ同様の性能を示すことを確認した。
【０１２７】
表４より、本発明の光散乱フィルムを液晶表示装置のバックライト側偏光板保護フィルムとして使用することにより、正面での白輝度の低下とモアレが生じることがない画像表示装置が得られた。
【符号の説明】
【０１２８】
１  光透過性基材
２  基層
３  表層
４  表層（バック層）
５  硬化層
６  透光性粒子
７  第２の硬化層
１１  攪拌機
１２  移送ポンプ
１３  濾過器
１４  ストックタンク
１５ａ  バック層用流延送液ポンプ
１５ｂ  基層用流延送液ポンプ
１５ｃ  表層用流延送液ポンプ
１６ａ  添加剤注入ポンプ（溶剤、マット剤、他）
１６ｃ  添加剤注入ポンプ（溶剤、透光性粒子、他）
１７  流延ダイ
１８  流延バンド
１９  減圧チャンバー
２０  流延ドラム
３０  流延ダイ
３２  マニホールド
３３  フィードブロック
４１  光源
４２  導光板（蛍光管）
４３  下拡散シート
４４  集光シート
４５  上拡散シート
４６  偏光板
４７  液晶セル
４８  基板
４９  光散乱フィルム
【図１】
2010237339.tif 000007
【図２】
2010237339.tif 000008
【図３】
2010237339.tif 000009
【図４】
2010237339.tif 000010
【図５】
2010237339.tif 000011
【図６】
2010237339.tif 000012
【図７】
2010237339.tif 000013
【図８】
2010237339.tif 000014