(57)【要約】      （修正有）【課題】スループットの更なる向上。【解決手段】露光ステーション２００において、粗動ステージＷＣＳ１に支持された微動ステージＷＦＳ１に保持されたウエハＷに対する露光処理が行われる間に、計測ステーション３００において、粗動ステージＷＣＳ２に支持された微動ステージＷＦＳ２に保持されたウエハＷに対する計測処理と、センターテーブル１３０上の微動ステージＷＦＳ３に保持されたウエハＷの交換とが少なくとも一部並行して行われる。このため、１つのウエハステージ上のウエハに対する露光処理と、別のウエハステージ上でのウエハ交換、アライメントなどの処理と、を並行して行う従来の露光装置に比べても、より高スループットな露光が可能になる。【選択図】図１
2010272867.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
エネルギビームにより物体を露光する露光装置であって、
物体に前記エネルギビームを照射する露光処理が行われる露光ステーションと；
前記露光ステーションから第１軸に平行な方向の一側に所定距離離れた位置に配置され、物体に対する計測処理が行われる計測ステーションと；
前記第１軸及びこれに直交する第２軸を含む二次元平面内の前記露光ステーションを含む第１の範囲内で移動可能な第１移動体と；
前記二次元平面内の前記計測ステーションを含む第２の範囲内で移動可能な第２移動体と；
前記物体を保持するとともに、前記第１、第２移動体のそれぞれによって少なくとも前記二次元平面に平行な面内で相対移動可能に支持される複数の保持部材と；
前記保持部材を支持可能な支持装置と；を備え、
前記露光ステーションにおける前記第１移動体に支持された前記保持部材に保持された物体に対する露光処理が行われる間に、前記計測ステーションにおける前記第２移動体に支持された前記保持部材に保持された物体に対する計測処理と、前記支持装置上の保持部材に保持された物体の交換とが少なくとも一部並行して行われる露光装置。
【請求項２】
前記支持装置は、前記第１、第２移動体と異なる位置で前記保持部材を支持する請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記支持装置は、前記露光処理、及び前記計測処理における前記第１、第２移動体の移動範囲外で前記保持部材を支持する請求項１又は２に記載の露光装置。
【請求項４】
前記支持装置は、露光及び計測ステーション以外の位置で、前記保持部材を支持する請求項３に記載の露光装置。
【請求項５】
前記保持部材に保持された前記物体を前記保持部材から非接触で離脱させる請求項１〜４のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項６】
前記物体の前記保持部材からの離脱をアシストする請求項５に記載の露光装置。
【請求項７】
前記支持装置は、前記保持部材を支持して前記二次元平面内で移動可能である請求項１〜６のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項８】
前記支持装置は、前記物体の交換のため、前記保持部材を支持して所定の交換位置に移動する請求項７に記載の露光装置。
【請求項９】
前記支持装置は、前記所定高さ位置で、前記第１、第２移動体の少なくとも一方との間で、前記保持部材の受け渡しを行う請求項１〜８のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項１０】
前記支持装置は、前記露光ステーションと前記計測ステーションとの間に配置され、前記二次元平面内の位置が固定であり、
前記物体の交換のため、前記支持装置に支持された保持部材を、前記物体の交換が行われる交換位置へ搬送する搬送部材をさらに備える請求項１〜９のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項１１】
前記第１移動体は、前記第２軸に平行な方向に関して第１部分と第２部分とに分離可能であり、
前記第１移動体が前記第１部分と前記第２部分とに分離したとき、前記支持装置は、前記第１移動体から前記保持部材を受け取り可能である請求項１０に記載の露光装置。
【請求項１２】
前記第１移動体と前記第２移動体との少なくとも一方の底面には、前記支持装置に妨げられることなく、相互の接近を可能にする開口部又は切り欠きが設けられている請求項１０又は１１に記載の露光装置。
【請求項１３】
前記支持装置は、上下動可能の支持部材を含んで構成される請求項１２に記載の露光装置。
【請求項１４】
前記支持部材が所定高さ位置で前記保持部材を支持しているとき、前記第１移動体と前記第２移動体とは、互いに接近して、相互間で前記保持部材を受け渡し可能である請求項１３に記載の露光装置。
【請求項１５】
前記露光ステーションにおける前記第１移動体に支持された前記保持部材に保持された物体に対する露光処理の終了後、
露光済みの物体を保持する前記保持部材は、前記第１移動体から前記支持装置に渡され、
この直後に、前記計測が終了した前記物体を保持した前記保持部材は、前記第２移動体から前記第１移動体上へ移載され、交換後の新たな物体を保持した前記保持部材は、前記交換位置から前記第２移動体上へ移載される請求項１〜１４のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項１６】
前記物体の交換は、前記保持部材と一体で行われる請求項１〜１５のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項１７】
前記保持部材の前記二次元平面に実質的に平行な一面に計測面が設けられ、
前記露光ステーションに、前記保持部材を支持する前記第１移動体があるとき、前記保持部材の前記計測面に少なくとも１つの第１計測ビームを下方から照射し、該第１計測ビームの戻り光を受光して前記保持部材の前記二次元平面内の位置情報を計測する第１計測系をさらに備える請求項１〜１６のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項１８】
前記計測ステーションに、前記保持部材を支持する前記第２移動体があるとき、前記計測面に少なくとも１つの第２計測ビームを下方から照射し、該第２計測ビームの戻り光を受光して前記保持部材の前記二次元平面内の位置情報を計測する第２計測系をさらに備える請求項１７に記載の露光装置。
【請求項１９】
前記第１及び第２移動体は、それぞれの内部に空間部を有し、
前記第１計測系は、前記第１移動体の前記空間部内に少なくとも一側から挿入可能で、前記第１軸方向に伸びる部材から成り、前記第１計測ビームを前記計測面に照射し、該第１計測ビームの戻り光を受光する第１計測部材を有し、
前記第２計測系は、前記移動体の前記空間部内に少なくとも一側から挿入可能で、前記第１軸方向に伸びる部材から成り、前記第２計測ビームを前記計測面に照射し、該第２計測ビームの戻り光を受光する第２計測部材を有する請求項１８に記載の露光装置。
【請求項２０】
前記第１、第２計測部材は、それぞれ、前記第１軸方向の一端が固定端で他端が自由端であるカンチレバー状の部材である請求項１９に記載の露光装置。
【請求項２１】
前記計測面には、前記第１軸及び第２軸の少なくとも一方に平行な方向を周期方向とするグレーティングが配置され、
前記第１、第２計測部材は、前記グレーティングに前記第１、第２計測ビームを照射し、前記グレーティングからの回折光を受光するヘッドをそれぞれ有し、
前記第１、第２計測系は、前記ヘッドからのヘッドの出力に基づいて、前記保持部材の前記グレーティングの周期方向の位置情報を計測する請求項１９又は２０に記載の露光装置。
【請求項２２】
前記グレーティングは、前記第１軸、及び前記二次元平面内で前記第１軸に垂直な第２軸に平行な方向をそれぞれ周期方向とする第１及び第２回折格子を含み、
前記ヘッドは、前記計測ビームとして前記第１及び第２回折格子にそれぞれ対応する第１軸方向計測用ビーム及び第２軸方向計測用ビームを照射し、前記第１軸方向計測用ビーム及び第２軸方向計測用ビームそれぞれの前記グレーティングからの回折光を受光し、前記第１、第２計測系は、前記ヘッドの出力に基づいて、前記保持部材の前記第１軸及び第２軸に平行な方向に関する位置情報を計測する請求項２１に記載の露光装置。
【請求項２３】
前記ヘッドは、前記第１軸方向計測用ビームとして、前記グレーティング上の照射点が前記第２軸方向で互いに異なる少なくとも２本の計測用ビームを、前記第１回折格子に照射する請求項２２に記載の露光装置。
【請求項２４】
前記少なくとも２本の計測用ビームと前記第２軸方向計測用ビームとは、前記グレーティング上の前記第２軸に平行な同一の直線上の照射点にそれぞれ照射される請求項２３に記載の露光装置。
【請求項２５】
前記第１計測部材の前記ヘッドから前記グレーティングに対して照射される前記第１軸方向計測用ビームの照射点の中心である計測中心は、前記物体に照射される前記エネルギビームの照射領域の中心である露光位置に一致する請求項２１〜２４のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項２６】
前記保持部材は、その内部を光が進行可能な中実部を少なくとも一部に有し、
前記計測面は、前記保持部材の前記物体の載置面側に前記中実部に対向して配置されている請求項１７〜２５のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項２７】
前記計測ステーションは、前記物体上のマークを検出する少なくとも１つのマーク検出系を含む請求項１〜２６のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項２８】
前記計測ステーションは、前記第２軸に平行な方向に関して検出領域が離れて配置され、前記物体上の異なるマークをそれぞれ検出する複数のマーク検出系を含む請求項２７に記載の露光装置。
【請求項２９】
前記エネルギビームを射出する射出面を有する光学部材と；
該光学部材と前記第１移動体に保持された前記保持部材との間に液体を供給する液浸部材を有する液浸装置と；をさらに備える請求項１〜２８のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項３０】
前記光学部材との間で前記液体を保持するシャッタをさらに備える請求項２９に記載の露光装置。
【請求項３１】
エネルギビームにより光学系を介して物体を露光する露光装置であって、
前記光学系の直下の第１位置を含む二次元平面内の領域で移動可能な第１移動体と；
前記第１位置から前記二次元平面内の第１軸に平行な方向の一側に離れた第２位置と前記第１位置とを含む前記二次元平面内の領域で前記第１移動体とは独立して移動可能な第２移動体と；
前記物体を保持して前記第１、第２の移動体のいずれにも少なくとも前記第１軸に平行な方向に関して相対移動可能に支持される複数の保持部材と；を備え、
前記複数の保持部材のうち前記第１、第２移動体にそれぞれ支持される第１、第２保持部材が、前記第１軸に平行な方向の他側に移動するとともに、前記第１、第２移動体が、前記第１軸に平行な方向の一側に移動することで、前記第１保持部材上の物体が前記第１位置に位置する第１の状態から、前記第２保持部材上の物体が前記第１位置に位置する第２の状態に遷移する露光装置。
【請求項３２】
前記各保持部材を前記第１軸に平行な方向に関して相対移動可能に支持可能な支持部材をさらに備え、
前記第２の状態では、露光前の物体を保持する前記第２保持部材は、前記第１移動体に支持され、露光済みの物体を保持する前記第１保持部材は、前記支持部材に支持される請求項３１に記載の露光装置。
【請求項３３】
前記支持部材は、前記二次元平面に平行な面内で移動可能であり、
前記遷移後に、前記支持部材は、前記第１保持部材を支持した状態で、物体の交換のため、交換位置に移動する請求項３２に記載の露光装置。
【請求項３４】
前記交換位置で、前記第１保持部材に保持された前記露光済みの物体が新たな物体に交換される請求項３３に記載の露光装置。
【請求項３５】
前記遷移後に、前記第２保持部材に保持された前記物体の露光が行われるのと並行して、前記新たな物体を保持する前記第１保持部材は、前記支持部材により搬送され、前記第２移動体に渡される請求項３４に記載の露光装置。
【請求項３６】
前記保持部材は、３つ以上設けられ、
前記交換位置で、物体の交換のため、前記支持部材に支持された前記第１保持部材が、新たな物体を保持する別の保持部材に交換される請求項３３〜３５のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項３７】
前記保持部材は、３つ以上設けられ、
前記支持部材と同様の構成の別の支持部材が用意され、
前記遷移後に、前記支持部材は、前記第１保持部材を支持した状態で、交換位置まで移動し、
前記別の支持部材は、露光前の物体を保持する、前記第1、第２保持部材とは別の第３保持部材を支持した状態で、前記第２の移動体の近傍に移動する請求項３２〜３６のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項３８】
前記遷移に際して、
前記第３保持部材は、前記第１、第２保持部材が、前記第１軸に平行な方向の他側に移動するのと少なくとも一部並行して、前記第１軸に平行な方向の他側に移動し、前記別の支持部材から前記第２の移動体に渡される請求項３７に記載の露光装置。
【請求項３９】
前記第２位置に配置され、前記第２移動体上でいずれかの保持部材に保持された物体に対する所定の計測を行う計測システムをさらに備え、
前記露光前の物体に対し、前記状態遷移に先立って、前記第１の状態で、前記保持部材上に保持された状態で、前記計測システムによる前記所定の計測が行われる請求項３１〜３８のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項４０】
前記第１移動体に保持された前記保持部材の少なくとも前記二次元平面内の位置情報を計測する位置計測系をさらに備え、
前記第１、第２の移動体は、前記第１軸に平行な方向に貫通した空間部をその内部に有し、
前記保持部材の前記二次元平面に実質的に平行な一面に計測面が設けられ、
前記位置計測系は、前記第１移動体の前記空間部内に前記計測面に対向してその一部が配置され、前記計測面に少なくとも１本の計測ビームを照射し、該計測ビームの前記計測面からの光を受光するヘッドを有し、前記第１軸に平行な方向の他側を固定端として前記第１軸に平行な方向に延びる片持ち支持構造の計測アームを含み、前記ヘッドの出力に基づいて前記第１移動体に保持される前記保持部材の少なくとも前記二次元平面内の位置情報を計測する請求項３１〜３９のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項４１】
前記保持部材は、その内部を光が進行可能な中実部を少なくとも一部に有し、
前記計測面は、前記保持部材の前記物体の載置面側に前記中実部に対向して配置され、
前記ヘッドは、前記物体の載置面とは反対側に前記中実部に対向して配置されている請求項４０に記載の露光装置。
【請求項４２】
前記計測面には、グレーティングが形成され、
前記ヘッドは、前記グレーティングに少なくとも１本の計測ビームを照射し、該計測ビームの前記グレーティングからの回折光を受光する請求項４０又は４１に記載の露光装置。
【請求項４３】
前記グレーティングは、前記第１軸、及び前記二次元平内で前記第１軸に垂直な第２軸に平行な方向をそれぞれ周期方向とする第１及び第２回折格子を含み、
前記ヘッドは、前記計測ビームとして前記第１及び第２回折格子にそれぞれ対応する第１軸方向計測用ビーム及び第２軸方向計測用ビームを照射し、前記第１軸方向計測用ビーム及び第２軸方向計測用ビームそれぞれの前記グレーティングからの回折光を受光し、前記位置計測系は、前記ヘッドの出力に基づいて、前記保持部材の前記第１軸及び第２軸に平行な方向に関する位置情報を計測する請求項４２に記載の露光装置。
【請求項４４】
前記ヘッドは、前記第１軸方向計測用ビームとして、前記グレーティング上の照射点が前記第２軸方向で互いに異なる少なくとも２本の計測用ビームを、前記第１回折格子に照射する請求項４３に記載の露光装置。
【請求項４５】
前記少なくとも２本の計測用ビームと前記第２軸方向計測用ビームとは、前記グレーティング上の前記第２軸に平行な同一の直線上の照射点にそれぞれ照射される請求項４４に記載の露光装置。
【請求項４６】
前記ヘッドから前記グレーティングに対して照射される前記第１軸方向計測用ビームの照射点の中心である計測中心は、前記物体に照射される前記エネルギビームの照射領域の中心である露光位置に一致する請求項４３〜４５のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項４７】
前記状態遷移時に維持される前記第１、第２保持部材の前記第１軸に平行な方向に関する位置関係は、前記第１、第２保持部材が前記第１軸に平行な方向に関して近接又は接触する位置関係である請求項３１〜４６のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項４８】
前記光学部材と前記第１移動体に保持された前記保持部材との間に液体を供給する液浸部材を有する液浸装置をさらに備え、
前記第１の状態では、前記第１保持部材上の物体と前記光学系との間に液体が保持され、
前記第２の状態では、前記第２保持部材上の物体と前記光学系との間に液体が保持される請求項３１〜４７のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項４９】
前記状態遷移時、前記第１、第２保持部材は前記第１軸に平行な方向に関して近接又は接触した状態で共に移動される請求項４８に記載の露光装置。
【請求項５０】
前記状態遷移時、前記第１、第２保持部材は前記第１軸に平行な方向に関する位置関係がほぼ維持されて移動される請求項４９に記載の露光装置。
【請求項５１】
請求項１〜５０のいずれか一項に記載の露光装置を用いて物体を露光することと；
露光された前記物体を現像することと；を含むデバイス製造方法。
【請求項５２】
エネルギビームにより物体を露光する露光方法であって、
物体をそれぞれ保持する保持部材を少なくとも３つ用意することと；
露光ステーションにおいて、前記少なくとも３つの保持部材のうちの第１保持部材に保持された物体に対する露光処理と、前記露光ステーションから第１軸に平行な方向の一側に所定距離離れた位置に配置された計測ステーションにおいて、前記少なくとも３つの保持部材のうちの第２保持部材に保持された物体に対する計測処理と、前記少なくとも３つの保持部材のうちの第３保持部材を用いる物体交換と、を少なくとも一部並行して行うことと；を含む露光方法。
【請求項５３】
前記第１、第２移動体と異なる位置で前記第３保持部材を用いる物体交換が行われる請求項５２に記載の露光方法。
【請求項５４】
前記露光処理、及び前記計測処理における前記第１、第２移動体の移動範囲外で前記第３保持部材を用いる物体交換が行われる請求項５２に記載の露光方法。
【請求項５５】
前記露光及び計測ステーション以外の位置で、前記第３保持部材を用いる物体交換が行われる請求項５４に記載の露光方法。
【請求項５６】
前記物体交換に際しては、前記第３保持部材に保持された前記物体を前記第３保持部材から非接触で離脱させる請求項５２に記載の露光方法。
【請求項５７】
前記物体の前記第３保持部材からの離脱をアシストする請求項５６に記載の露光方法。
【請求項５８】
露光処理が行われる前記物体を保持する前記保持部材は、前記露光ステーションにおいて第１移動体に相対移動可能に支持され、
計測処理が行われる前記物体を保持する前記保持部材は、前記計測ステーションにおいて、第２移動体に相対移動可能に支持される請求項５２に記載の露光方法。
【請求項５９】
前記露光ステーションにおける前記第１移動体に支持された前記第１保持部材上の前記物体に対する露光処理の終了後、
露光済みの前記物体を保持する前記第１保持部材は、前記第１移動体から前記露光ステーションと前記計測ステーションとの間に位置する支持装置に渡され、
この直後に、計測が終了した前記物体を保持した前記第２保持部材は、前記第２移動体から前記第１移動体上へ移載される請求項５８に記載の露光方法。
【請求項６０】
前記第２保持部材の前記第２移動体から前記第１移動体上への移載後、
露光済みの前記物体を保持する前記第１保持部材は、前記支持装置上から物体交換が行われる交換位置へ移動され、交換後の新たな物体を保持した前記第３保持部材は、前記支持装置を経由して前記第２移動体上へ移載される請求項５９に記載の露光方法。
【請求項６１】
前記支持装置は、前記二次元平面内で移動可能であり、
前記物体の交換に際しては、前記保持部材を支持した前記支持装置を所定の交換位置に移動させる請求項５９に記載の露光方法。
【請求項６２】
前記第１移動体に支持された前記少なくとも３つの保持部材のうちの１つの前記保持部材に保持された物体に対する露光処理と、前記第２移動体に支持された前記少なくとも３つの保持部材のうちの別の１つの前記保持部材に保持された物体に対する計測処理と、並行して次の処理対象である新たな物体の温度調整を行うことをさらに含む請求項５８に記載の露光方法。
【請求項６３】
エネルギビームにより光学系を介して物体を露光する露光方法であって、
前記光学系の直下の第１位置を含む二次元平面内の領域で移動可能な第１移動体と、前記第１位置から前記二次元平面内の第１軸に平行な方向の一側に離れた第２位置を含む前記二次元平面内の領域で前記第１移動体とは独立して移動可能な第２移動体と、のいずれにも、少なくとも前記第１軸に平行な方向に関して相対移動可能に支持されるとともに、前記物体をそれぞれ保持する複数の保持部材を用意することと；
前記複数の保持部材のうちの第１保持部材上の物体が前記第１位置に位置する第１の状態から、前記複数の保持部材のうちの第２保持部材上の物体が前記第１位置に位置する第２の状態に遷移させるに際し、前記第１の状態で前記第１、第２の移動体にそれぞれ支持されていた前記第１、第２保持部材を前記第１軸に平行な方向の他側に移動させると共に、前記第１、第２移動体を、前記第１軸に平行な方向の一側に移動させることと；を含む露光方法。
【請求項６４】
前記状態遷移時、前記第１、第２保持部材は前記第１軸に平行な方向に関して近接又は接触した状態で共に移動される請求項６３に記載の露光装置。
【請求項６５】
前記状態遷移時、前記第１、第２保持部材は前記第１軸に平行な方向に関する位置関係がほぼ維持されて移動される請求項６４に記載の露光装置。
【請求項６６】
前記第２の状態では、露光前の物体を保持する前記第２保持部材は、前記第１移動体に支持され、露光済みの前記物体を保持する前記第１保持部材は、支持部材によって支持される請求項６３〜６５のいずれか一項に記載の露光方法。
【請求項６７】
前記状態遷移時に維持される前記第１、第２保持部材の前記第１軸に平行な方向に関する位置関係は、前記第１、第２保持部材が前記第１軸に平行な方向に関して近接又は接触する位置関係である請求項６３〜６６のいずれか一項に記載の露光方法。
【請求項６８】
前記複数の保持部材のうちの前記第１移動体に支持された１つの保持部材に保持された物体と前記光学部材との間に液体が供給された状態で、前記物体の露光が行われ、
前記第１の状態では、前記第１保持部材上の物体と前記光学系との間に液体が保持され、
前記第２の状態では、前記第２保持部材上の物体と前記光学系との間に液体が保持される請求項６７に記載の露光方法。
【請求項６９】
請求項５２〜６８のいずれか一項に記載の露光方法を用いて物体を露光することと；
前記露光された物体を現像することと；を含むデバイス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法に係り、特に、半導体素子等の電子デバイスを製造するリソグラフィ工程で用いられる露光装置及び露光方法、並びに前記露光装置又は前記露光方法を用いるデバイス製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、半導体素子（集積回路等）、液晶表示素子等の電子デバイス（マイクロデバイス）を製造するリソグラフィ工程では、主として、ステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置（いわゆるステッパ）、あるいはステップ・アンド・スキャン方式の投影露光装置（いわゆるスキャニング・ステッパ（スキャナとも呼ばれる））などが用いられている。
【０００３】
この種の露光装置で用いられる露光対象となるウエハ又はガラスプレート等の基板は、次第に（例えばウエハの場合、１０年おきに）大型化している。現在は、直径３００ｍｍの３００ｍｍウエハが主流となっているが、今や直径４５０ｍｍの４５０ｍｍウエハ時代の到来が間近に迫っている。４５０ｍｍウエハに移行すると、１枚のウエハから採れるダイ（チップ）の数が現行の３００ｍｍウエハの２倍以上となり、コスト削減に貢献する。加えて、エネルギ、水、その他のリソースの効率的な利用により、１チップにかかるすべてのリソース使用を減少させられるものと期待されている。
【０００４】
一方、ウエハのサイズが４５０ｍｍにもなると、１枚のウエハから採れるダイ（チップ）の数が多くなる分、１枚のウエハの露光処理に要する時間が増加してスループットが低下する蓋然性が高い。そこで、スループットの低下を極力抑制する方法として、１つのウエハステージ上のウエハに対する露光処理と、別のウエハステージ上でのウエハ交換、アライメントなどの処理とを、並行して行う、ツインステージ方式（例えば特許文献１〜３等参照）の採用が考えられる。しかし、従来のツインステージ方式の露光装置をそのまま用いて、４５０ｍｍウエハを処理対象とする場合には、必ずしも十分にスループットを向上させることができないおそれがあった。
【０００５】
半導体素子は、次第に微細化しており、このため、露光装置には、高解像力も要請されている。解像力向上のための手段として、露光光の波長の短波長化と投影光学系の開口数の増大化（高ＮＡ化）とがある。投影光学系の実質的な開口数を最大限に大きくするため、投影光学系と液体とを介してウエハを露光する液浸露光が有効である。
【０００６】
ツインステージ方式を採用した局所液浸型の露光装置としては、例えば特許文献４に開示される露光装置が知られている。この露光装置によると、解像力の向上とスループットの向上とが期待される。しかるに、特許文献４に開示される局所液浸型の露光装置では、スループットを最大限に高くするため、投影光学系下方に形成される液浸空間領域を常時維持する必要があり、このためには、投影光学系の直下に、常に何らかの部材が交換的に配置される必要がある。そして、この部材の交換的配置が、装置のスループットの向上に寄与することが望ましい。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】米国特許第６，５９０，６３４号明細書
【特許文献２】米国特許第５，９６９，４４１号明細書
【特許文献３】米国特許第６，２０８，４０７号明細書
【特許文献４】米国特許出願公開第２００８／００８８８４３号明細書
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の第１の態様によれば、エネルギビームにより物体を露光する露光装置であって、物体に前記エネルギビームを照射する露光処理が行われる露光ステーションと；前記露光ステーションから第１軸に平行な方向の一側に所定距離離れた位置に配置され、物体に対する計測処理が行われる計測ステーションと；前記第１軸及びこれに直交する第２軸を含む二次元平面内の前記露光ステーションを含む第１の範囲内で移動可能な第１移動体と；前記二次元平面内の前記計測ステーションを含む第２の範囲内で移動可能な第２移動体と；前記物体を保持するとともに、前記第１、第２移動体のそれぞれによって少なくとも前記二次元平面に平行な面内で相対移動可能に支持される複数の保持部材と；前記保持部材を支持可能な支持装置と；を備え、前記露光ステーションにおける前記第１移動体に支持された前記保持部材に保持された物体に対する露光処理が行われる間に、前記計測ステーションにおける前記第２移動体に支持された前記保持部材に保持された物体に対する計測処理と、前記支持装置上の保持部材に保持された物体の交換とが少なくとも一部並行して行われる第１の露光装置が、提供される。
【０００９】
これによれば、露光ステーションにおける第１移動体に支持された保持部材に保持された物体に対する露光処理が行われる間に、計測ステーションにおける第２移動体に支持された保持部材に保持された物体に対する計測処理と、支持装置上の保持部材に保持された物体の交換とが少なくとも一部並行して行われる。このため、１つのウエハステージ上のウエハに対する露光処理と、別のウエハステージ上でのウエハ交換、アライメントなどの処理と、を並行して行う、従来のツインステージ方式の露光装置に比べても、より高スループットな露光が可能になる。
【００１０】
本明細書において、露光ステーションとは、物体（ウエハ）をエネルギビームを照射して露光する際に、物体を保持する保持部材が移動する範囲及びその近傍に対応する露光装置の一部を意味し、計測ステーションとは、アライメント計測、フォーカス計測などの物体に対する所定の計測において、物体を保持する保持部材が移動する範囲及びその近傍に対応する露光装置の一部を意味する。
【００１１】
本発明の第２の態様によれば、エネルギビームにより光学系を介して物体を露光する露光装置であって、前記光学系の直下の第１位置を含む二次元平面内の領域で移動可能な第１移動体と；前記第１位置から前記二次元平面内の第１軸に平行な方向の一側に離れた第２位置を含む前記二次元平面内の領域で前記第１移動体とは独立して移動可能な第２移動体と；前記物体を保持して前記第１、第２移動体のいずれにも少なくとも前記第１軸に平行な方向に関して相対移動可能に支持される複数の保持部材と；を備え、前記複数の保持部材のうち前記第１、第２移動体にそれぞれ支持される第１、第２保持部材が、前記第１軸に平行な方向の他側に移動するとともに、前記第１、第２移動体が、前記第１軸に平行な方向の一側に移動することで、前記第１保持部材上の物体前記第１位置に位置する第１の状態から、前記第２保持部材上の物体が前記第１位置に位置する第２の状態に遷移する第２の露光装置が、提供される。
【００１２】
これによれば、第１保持部材上の物体が光学系の直下の第１位置に位置する第１の状態から、第２保持部材上の物体が光学系の直下の第１位置に位置する第２の状態に遷移する際には、第１、第２保持部材が、第１軸に平行な方向に移動するとともに、第１、第２移動体が、その反対方向へ移動する。このため、上記の第１の状態〜第２の状態への状態遷移の動作と並行して、第２保持部材を第２移動体から第１移動体に載せ換える動作の少なくとも一部を行うことが可能となる。
【００１３】
本発明の第３の態様によれば、本発明の第１、第２の露光装置のいずれかを用いて物体を露光することと；露光された前記物体を現像することと；を含むデバイス製造方法が、提供される。
【００１４】
本発明の第４の態様によれば、エネルギビームにより物体を露光する露光方法であって、物体をそれぞれ保持する保持部材を少なくとも３つ用意することと；露光ステーションにおいて、前記少なくとも３つの保持部材のうちの第１保持部材に保持された物体に対する露光処理と、前記露光ステーションから第１軸に平行な方向の一側に所定距離離れた位置に配置された計測ステーションにおいて、前記少なくとも３つの保持部材のうちの第２保持部材に保持された物体に対する計測処理と、前記少なくとも３つの保持部材のうちの第３保持部材を用いる物体交換と、を少なくとも一部並行して行うことと；を含む第１の露光方法が、提供される。
【００１５】
これによれば、露光ステーションにおける第１保持部材に保持された物体に対する露光処理と、計測ステーションにおける第２保持部材に保持された物体に対する計測処理と、第３保持部材を用いる物体交換と、が少なくとも一部並行して行われる。このため、従来のツインステージ方式の露光装置で行われていた、１つのウエハステージ上のウエハに対する露光処理と、別のウエハステージ上でのウエハ交換、アライメントなどの処理とを、並行して行う露光方法に比べても、より高スループットな露光が可能になる。
【００１６】
本発明の第５の態様によれば、エネルギビームにより光学系を介して物体を露光する露光方法であって、前記光学系の直下の第１位置を含む二次元平面内の領域で移動可能な第１移動体と、前記第１位置から前記二次元平面内の第１軸に平行な方向の一側に離れた第２位置を含む前記二次元平面内の領域で前記第１移動体とは独立して移動可能な第２移動体と、のいずれにも、少なくとも前記第１軸に平行な方向に関して相対移動可能に支持されるとともに、前記物体をそれぞれ保持する複数の保持部材を用意することと；前記複数の保持部材のうちの第１保持部材上の物体が前記第１位置に位置する第１の状態から、前記複数の保持部材のうちの第２保持部材上の物体が前記第１位置に位置する第２の状態に遷移させるに際し、前記第１の状態で前記第１、第２の移動体にそれぞれ支持されていた前記第１、第２保持部材を前記第１軸に平行な方向の他側に移動させると共に、前記第１、第２移動体を、前記第１軸に平行な方向の一側に移動させることと；を含む第２の露光方法が、提供される。
【００１７】
これによれば、上記の第１の状態から第２の状態への状態遷移の動作と並行して、第２保持部材を第２移動体から第１移動体に載せ換える動作の少なくとも一部を行うことが可能となる。
【００１８】
本発明の第６の態様によれば、本発明の第１、第２の露光方法のいずれかを用いて物体を露光することと；露光された前記物体を現像することと；を含むデバイス製造方法が、提供される。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】第１の実施形態の露光装置の概略的な構成を示す平面図である。
【図２】図１の露光ステーション及び計測ステーション等の構成を概略的に示す図である。
【図３】図２のセンターテーブル近傍を拡大して示す図である。
【図４】図２の露光装置が備える可動ブレードについて説明するための図である。
【図５】図５（Ａ）は、図２の露光装置が備えるウエハステージを示す−Ｙ方向から見た側面図、図５（Ｂ）は、ウエハステージを示す平面図である。
【図６】図６（Ａ）は、粗動ステージを取り出して示す平面図、図６（Ｂ）は、粗動ステージが２部分に分離した状態を示す平面図である。
【図７】粗動ステージが分離した状態を示すウエハステージの正面図である。
【図８】微動ステージ駆動系を構成する磁石ユニット及びコイルユニットの配置を示す平面図である。
【図９】図９（Ａ）は、微動ステージを粗動ステージに対してＺ軸回りに回転させる際の動作を説明するための図、図９（Ｂ）は、微動ステージを粗動ステージに対してＹ軸回りに回転させる際の動作を説明するための図、図９（Ｃ）は、微動ステージを粗動ステージに対してＸ軸回りに回転させる際の動作を説明するための図である。
【図１０】微動ステージの中央部を＋Ｚ方向に撓ませる際の動作を説明するための図である。
【図１１】図１１（Ａ）は、Ｘヘッド７７ｘの概略構成を示す図、図１１（Ｂ）は、Ｘヘッド７７ｘ、Ｙヘッド７７ｙａ、７７ｙｂそれぞれの計測アーム内での配置を説明するための図である。
【図１２】図１２（Ａ）は、計測アームの先端部を示す斜視図、図１２（Ｂ）は、計測アームの先端部の上面を＋Ｚ方向から見た平面図である。
【図１３】図１の露光装置の制御系の構成を示すブロック図である。
【図１４】図１４（Ａ）は、スキャン露光時のウエハの駆動方法を説明するための図、図１４（Ｂ）は、ステッピング時のウエハの駆動方法を説明するための図である。
【図１５】第１の実施形態の露光装置において、３つの微動ステージＷＦＳ１、ＷＦＳ２、及びＷＦＳ３を用いて行われる並行処理動作を説明するための図（その１）である。
【図１６】微動ステージと可動ブレードとの間で行われる液浸空間領域（液体Ｌｑ）の受け渡しについて説明するための図（その１）である。
【図１７】微動ステージと可動ブレードとの間で行われる液浸空間領域（液体Ｌｑ）の受け渡しについて説明するための図（その２）である。
【図１８】微動ステージと可動ブレードとの間で行われる液浸空間領域（液体Ｌｑ）の受け渡しについて説明するための図（その３）である。
【図１９】微動ステージと可動ブレードとの間で行われる液浸空間領域（液体Ｌｑ）の受け渡しについて説明するための図（その４）である。
【図２０】図２０（Ａ）〜図２０（Ｄ）は、第１の実施形態の露光装置において、３つの微動ステージＷＦＳ１、ＷＦＳ２、及びＷＦＳ３を用いて行われる並行処理動作を説明するための図（その２）である。
【図２１】第１の実施形態の露光装置において、３つの微動ステージＷＦＳ１、ＷＦＳ２、及びＷＦＳ３を用いて行われる並行処理動作を説明するための図（その３）である。
【図２２】図２２（Ａ）及び図２２（Ｂ）は、第１の実施形態の露光装置において、３つの微動ステージＷＦＳ１、ＷＦＳ２、及びＷＦＳ３を用いて行われる並行処理動作を説明するための図（その４）である。
【図２３】第１の実施形態の露光装置において、３つの微動ステージＷＦＳ１、ＷＦＳ２、及びＷＦＳ３を用いて行われる並行処理動作を説明するための図（その５）である。
【図２４】第１の実施形態の露光装置において、３つの微動ステージＷＦＳ１、ＷＦＳ２、及びＷＦＳ３を用いて行われる並行処理動作を説明するための図（その６）である。
【図２５】第１の実施形態の露光装置において、３つの微動ステージＷＦＳ１、ＷＦＳ２、及びＷＦＳ３を用いて行われる並行処理動作を説明するための図（その７）である。
【図２６】第１の実施形態の露光装置において、３つの微動ステージＷＦＳ１、ＷＦＳ２、及びＷＦＳ３を用いて行われる並行処理動作を説明するための図（その８）である。
【図２７】第１の実施形態の露光装置において、３つの微動ステージＷＦＳ１、ＷＦＳ２、及びＷＦＳ３を用いて行われる並行処理動作を説明するための図（その９）である。
【図２８】第１の実施形態の露光装置において、３つの微動ステージＷＦＳ１、ＷＦＳ２、及びＷＦＳ３を用いて行われる並行処理動作を説明するための図（その１０）である。
【図２９】第２の実施形態の露光装置の概略的な構成を示す平面図である。
【図３０】図２９の露光装置の制御系の構成を示すブロック図である。
【図３１】第２の実施形態の露光装置において、３つの微動ステージＷＦＳ１、ＷＦＳ２、及びＷＦＳ３を用いて行われる並行処理動作を説明するための図（その１）である。
【図３２】第２の実施形態の露光装置において、３つの微動ステージＷＦＳ１、ＷＦＳ２、及びＷＦＳ３を用いて行われる並行処理動作を説明するための図（その２）である。
【図３３】第２の実施形態の露光装置において、３つの微動ステージＷＦＳ１、ＷＦＳ２、及びＷＦＳ３を用いて行われる並行処理動作を説明するための図（その３）である。
【図３４】第２の実施形態の露光装置において、３つの微動ステージＷＦＳ１、ＷＦＳ２、及びＷＦＳ３を用いて行われる並行処理動作を説明するための図（その４）である。
【図３５】第２の実施形態の露光装置において、３つの微動ステージＷＦＳ１、ＷＦＳ２、及びＷＦＳ３を用いて行われる並行処理動作を説明するための図（その５）である。
【図３６】第２の実施形態の露光装置において、３つの微動ステージＷＦＳ１、ＷＦＳ２、及びＷＦＳ３を用いて行われる並行処理動作を説明するための図（その６）である。
【図３７】第２の実施形態の露光装置において、３つの微動ステージＷＦＳ１、ＷＦＳ２、及びＷＦＳ３を用いて行われる並行処理動作を説明するための図（その７）である。
【図３８】第２の実施形態の露光装置において、３つの微動ステージＷＦＳ１、ＷＦＳ２、及びＷＦＳ３を用いて行われる並行処理動作を説明するための図（その８）である。
【図３９】第２の実施形態の露光装置において、３つの微動ステージＷＦＳ１、ＷＦＳ２、及びＷＦＳ３を用いて行われる並行処理動作を説明するための図（その９）である。
【図４０】第２の実施形態の露光装置において、３つの微動ステージＷＦＳ１、ＷＦＳ２、及びＷＦＳ３を用いて行われる並行処理動作を説明するための図（その１０）である。
【図４１】第３の実施形態における露光装置の概略的な構成を示す平面図である。
【図４２】図４１の露光装置内の露光ステーション及び計測ステーション等の構成を概略的に示す図である。
【図４３】図４３（Ａ）は、二点鎖線で表示される微動ステージとともに、搬送ステージを示す平面図、図４３（Ｂ）は、二点鎖線で表示される微動ステージとともに、搬送ステージを示す＋Ｙ方向から見た側面図である。
【図４４】図４１の露光装置の制御系の構成を示すブロック図である。
【図４５】図４５（Ａ）〜図４５（Ｃ）は、第３の実施形態の露光装置において、微動ステージＷＦＳ１及びＷＦＳ２を用いて行われる並行処理について説明するための図（その１）である。
【図４６】図４５（Ａ）の状態に対応する露光装置の平面図である。
【図４７】図４５（Ｂ）の状態に対応する露光装置の平面図である。
【図４８】図４５（Ｃ）の状態に対応する露光装置の平面図である。
【図４９】図４９（Ａ）〜図４９（Ｃ）は、第３の実施形態の露光装置において、微動ステージＷＦＳ１及びＷＦＳ２を用いて行われる並行処理について説明するための図（その２）である。
【図５０】図４９（Ａ）の状態に対応する露光装置の平面図である。
【図５１】図４９（Ｂ）の状態に対応する露光装置の平面図である。
【図５２】図４９（Ｃ）の状態に対応する露光装置の平面図である。
【図５３】第３の実施形態の露光装置において、微動ステージＷＦＳ１及びＷＦＳ２を用いて行われる並行処理について説明するための図（その３）である。
【図５４】第３の実施形態の露光装置において、微動ステージＷＦＳ１及びＷＦＳ２を用いて行われる並行処理について説明するための図（その４）である。
【図５５】第３の実施形態の露光装置において、微動ステージＷＦＳ１及びＷＦＳ２を用いて行われる並行処理について説明するための図（その５）である。
【図５６】第３の実施形態の露光装置において、微動ステージＷＦＳ１及びＷＦＳ２を用いて行われる並行処理について説明するための図（その６）である。
【図５７】第３の実施形態の露光装置において、微動ステージＷＦＳ１及びＷＦＳ２を用いて行われる並行処理について説明するための図（その７）である。
【図５８】第３の実施形態の露光装置において、微動ステージＷＦＳ１及びＷＦＳ２を用いて行われる並行処理について説明するための図（その８）である。
【図５９】第３の実施形態の第１の変形例に係る露光装置の構成を示す平面図、かつ３つの微動ステージを用いて行われる並行処理について説明するための図（その１）である。
【図６０】第１の変形例に係る露光装置で、３つの微動ステージを用いて行われる並行処理について説明するための図（その２）である。
【図６１】第１の変形例に係る露光装置で、３つの微動ステージを用いて行われる並行処理について説明するための図（その３）である。
【図６２】第１の変形例に係る露光装置で、３つの微動ステージを用いて行われる並行処理について説明するための図（その４）である。
【図６３】第３の実施形態の第２の変形例に係る露光装置の構成を示す平面図、かつ３つの微動ステージを用いて行われる並行処理について説明するための図（その１）である。
【図６４】第２の変形例に係る露光装置で、３つの微動ステージを用いて行われる並行処理について説明するための図（その２）である。
【図６５】第２の変形例に係る露光装置で、３つの微動ステージを用いて行われる並行処理について説明するための図（その３）である。
【図６６】第２の変形例に係る露光装置で、３つの微動ステージを用いて行われる並行処理について説明するための図（その４）である。
【図６７】第２の変形例に係る露光装置で、３つの微動ステージを用いて行われる並行処理について説明するための図（その５）である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
《第１の実施形態》
以下、本発明の第１の実施形態を、図１〜図２８に基づいて説明する。
【００２１】
図１には、第１の実施形態の露光装置１００の概略的な構成が平面図にて示されている。露光装置１００は、ステップ・アンド・スキャン方式の投影露光装置、いわゆるスキャナである。後述するように、本実施形態では、投影光学系ＰＬが設けられており、以下においては、この投影光学系ＰＬの光軸ＡＸと平行な方向をＺ軸方向、これに直交する面内でレチクルとウエハとが相対走査される方向をＹ軸方向、Ｚ軸方向及びＹ軸方向に直交する方向をＸ軸方向とし、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸回りの回転（傾斜）方向をそれぞれθｘ、θｙ、及びθｚ方向として説明を行う。
【００２２】
露光装置１００は、図１に示されるように、ウエハＷに対する露光が行われる露光ステーション２００と、露光ステーション２００の＋Ｙ側に所定距離離れて配置された計測ステーション３００と、計測ステーション３００と露光ステーション２００との間に配置されたセンターテーブル１３０と、２つのウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２と、露光ステーション２００の−Ｘ側に所定距離隔てて配置されたアンロードテーブル１５０と、アンロードテーブル１５０の＋Ｙ側かつ計測ステーション３００の−Ｘ側に位置するロードテーブル１５２と、ＸＹ平面に平行な面内で移動可能でかつ上下動（Ｚ軸方向に移動）可能なロボットアーム１４０と、ロードアーム１４２及びアンロードアーム１４４と、を備えている。
【００２３】
露光ステーション２００は、図２に示されるように、ベース盤１２上の−Ｙ側端部近傍に配置され、計測ステーション３００は、ベース盤１２上の＋Ｙ側端部近傍に配置されている。また、センターテーブル１３０は、計測ステーション３００と前記露光ステーション２００との間の位置でベース盤１２の内部領域に配置されている。ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２は、ベース盤１２上に配置されている。
【００２４】
ここで、ベース盤１２は、床面上に防振機構（図示省略）によってほぼ水平に（ＸＹ平面に平行に）支持されている。ベース盤１２は、平板状の部材から成り、その上面は平坦度が非常に高く仕上げられ、ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２の移動の際のガイド面とされている。
【００２５】
露光ステーション２００は、照明系１０、レチクルステージＲＳＴ、投影ユニットＰＵ及び局所液浸装置８等を備えている。
【００２６】
照明系１０は、例えば米国特許出願公開第２００３／００２５８９０号明細書などに開示されるように、光源と、オプティカルインテグレータ等を含む照度均一化光学系、及びレチクルブラインド等（いずれも不図示）を有する照明光学系と、を含む。照明系１０は、レチクルブラインド（マスキングシステムとも呼ばれる）で規定されたレチクルＲ上のスリット状の照明領域ＩＡＲを、照明光（露光光）ＩＬによりほぼ均一な照度で照明する。ここで、照明光ＩＬとして、一例として、ＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）が用いられている。
【００２７】
レチクルステージＲＳＴ上には、そのパターン面（図２における下面）に回路パターンなどが形成されたレチクルＲが、例えば真空吸着により固定されている。レチクルステージＲＳＴは、例えばリニアモータ等を含むレチクルステージ駆動系１１（図２では不図示、図１３参照）によって、ＸＹ平面内で微小駆動可能であるとともに、走査方向（図２における紙面内左右方向であるＹ軸方向）に所定の走査速度で駆動可能となっている。
【００２８】
レチクルステージＲＳＴのＸＹ平面内の位置情報（θｚ方向の回転情報を含む）は、レチクルレーザ干渉計（以下、「レチクル干渉計」という）１３によって、レチクルステージＲＳＴに固定された移動鏡１５（実際には、Ｙ軸方向に直交する反射面を有するＹ移動鏡（あるいは、レトロリフレクタ）とＸ軸方向に直交する反射面を有するＸ移動鏡とが設けられている）を介して、例えば０．２５ｎｍ程度の分解能で常時検出される。レチクル干渉計１３の計測値は、主制御装置２０（図２では不図示、図１３参照）に送られる。なお、例えば米国特許出願公開第２００７／０２８８１２１号明細書などに開示されているように、エンコーダシステムによってレチクルステージＲＳＴの位置情報を計測しても良い。
【００２９】
投影ユニットＰＵは、レチクルステージＲＳＴの図２における下方（−Ｚ側）に配置されている。投影ユニットＰＵは、不図示の支持部材によって水平に支持されたメインフレーム（メロロジーフレームとも呼ばれる）ＢＤによってその外周部に設けられたフランジ部ＦＬＧを介して支持されている。投影ユニットＰＵは、鏡筒４０と、鏡筒４０内に保持された複数の光学素子から成る投影光学系ＰＬと、を含む。投影光学系ＰＬとしては、例えば、両側テレセントリックで、所定の投影倍率（例えば１／４倍、１／５倍又は１／８倍など）を有する屈折光学系が用いられている。このため、照明系１０からの照明光ＩＬによってレチクルＲ上の照明領域ＩＡＲが照明されると、投影光学系ＰＬの第１面（物体面）とパターン面がほぼ一致して配置されるレチクルＲを通過した照明光ＩＬにより、投影光学系ＰＬ（投影ユニットＰＵ）を介してその照明領域ＩＡＲ内のレチクルＲの回路パターンの縮小像（回路パターンの一部の縮小像）が、投影光学系ＰＬの第２面（像面）側に配置される、表面にレジスト（感応剤）が塗布されたウエハＷ上で前記照明領域ＩＡＲに共役な領域（以下、露光領域とも呼ぶ）ＩＡに形成される。そして、レチクルＲを保持するレチクルステージＲＳＴとウエハＷを保持するウエハ微動ステージ（以下、微動ステージと略述する）との同期駆動によって、照明領域ＩＡＲ（照明光ＩＬ）に対してレチクルＲを走査方向（Ｙ軸方向）に相対移動させるとともに、露光領域ＩＡ（照明光ＩＬ）に対してウエハＷを走査方向（Ｙ軸方向）に相対移動させることで、ウエハＷ上の１つのショット領域（区画領域）の走査露光が行われ、そのショット領域にレチクルＲのパターンが転写される。すなわち、本実施形態では照明系１０、及び投影光学系ＰＬによってウエハＷ上にレチクルＲのパターンが生成され、照明光ＩＬによるウエハＷ上の感応層（レジスト層）の露光によってウエハＷ上にそのパターンが形成される。ここで、投影ユニットＰＵはメインフレームＢＤに保持され、本実施形態では、メインフレームＢＤが、それぞれ防振機構を介して設置面（床面など）に配置される複数（例えば３つ又は４つ）の支持部材によってほぼ水平に支持されている。なお、その防振機構は各支持部材とメインフレームＢＤとの間に配置しても良い。また、例えば国際公開第２００６／０３８９５２号に開示されているように、投影ユニットＰＵの上方に配置される不図示のメインフレーム部材、あるいはレチクルベースなどに対してメインフレームＢＤ（投影ユニットＰＵ）を吊り下げ支持しても良い。また、図１からもわかるように、本実施形態では、微動ステージ（テーブルとも呼ぶ）として、全く同一の構成の３つの微動ステージＷＦＳ１、ＷＦＳ２、ＷＦＳ３が用意されている。
【００３０】
局所液浸装置８は、液体供給装置５、液体回収装置６（いずれも図２では不図示、図１３参照）、及びノズルユニット３２等を含む。ノズルユニット３２は、図２に示されるように、投影光学系ＰＬを構成する最も像面側（ウエハＷ側）の光学素子、ここではレンズ（以下、「先端レンズ」ともいう）１９１を保持する鏡筒４０の下端部周囲を取り囲むように不図示の支持部材を介して、投影ユニットＰＵ等を支持するメインフレームＢＤに吊り下げ支持されている。本実施形態では、主制御装置２０が液体供給装置５（図１３参照）を制御して、ノズルユニット３２を介して先端レンズ１９１とウエハＷとの間に液体Ｌｑ（図２参照）を供給するとともに、液体回収装置６（図１３参照）を制御して、ノズルユニット３２を介して先端レンズ１９１とウエハＷとの間から液体Ｌｑを回収する。このとき、主制御装置２０は、供給される液体の量と回収される液体の量とが常に等しくなるように、液体供給装置５と液体回収装置６を制御する。従って、先端レンズ１９１とウエハＷとの間には、一定量の液体Ｌｑ（図２参照）が常に入れ替わって保持される。本実施形態では、上記の液体Ｌｑとして、ＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍの光）が透過する純水を用いるものとする。
【００３１】
この他、露光ステーション２００には、メインフレームＢＤから支持部材７２Ａを介してほぼ片持ち状態で支持された（一端部近傍が支持された）計測アーム７１Ａを含む微動ステージ位置計測系７０Ａが設けられている。ただし、微動ステージ位置計測系７０Ａについては、説明の便宜上、後述する微動ステージについての説明の後に、説明する。
【００３２】
計測ステーション３００は、メインフレームＢＤに吊り下げ状態で固定されたアライメント装置９９と、メインフレームＢＤから支持部材７２Ｂを介して片持ち状態で支持された（一端部近傍が支持された）計測アーム７１Ｂを含む微動ステージ位置計測系７０Ｂと、を備えている。微動ステージ位置計測系７０Ｂは、前述の微動ステージ位置計測系７０Ａとは、向きが反対であるが同様に構成されている。
【００３３】
アライメント装置９９は、例えば米国特許出願公開第２００８／００８８８４３号などに開示されているように、図１に示される５つのアライメント系ＡＬ１、ＡＬ２1〜ＡＬ２4を含む。詳述すると、図１に示されるように、投影ユニットＰＵの中心（投影光学系ＰＬの光軸ＡＸ、本実施形態では前述の露光領域ＩＡの中心とも一致）を通りかつＹ軸と平行な直線（以下、基準軸と呼ぶ）ＬＶ上で、光軸ＡＸから＋Ｙ側に所定距離隔てた位置に、検出中心が位置する状態でプライマリアライメント系ＡＬ１が配置されている。プライマリアライメント系ＡＬ１を挟んで、Ｘ軸方向の一側と他側には、基準軸ＬＶに関してほぼ対称に検出中心が配置されるセカンダリアライメント系ＡＬ２1，ＡＬ２2と、ＡＬ２3，ＡＬ２4とがそれぞれ設けられている。すなわち、５つのアライメント系ＡＬ１，ＡＬ２1〜ＡＬ２4はその検出中心がＸ軸方向に沿って配置されている。セカンダリアライメント系ＡＬ２1，ＡＬ２2，ＡＬ２3，ＡＬ２4は、ＸＹ平面内で移動可能な保持装置（スライダ）に保持されている。アライメント系ＡＬ１、ＡＬ２1〜ＡＬ２4のそれぞれとしては、画像処理方式のＦＩＡ（Field Image Alignment）系が用いられている。アライメント系ＡＬ１、ＡＬ２1〜ＡＬ２4からの撮像信号は、主制御装置２０に供給されるようになっている（図１３参照）。なお、図２では、５つのアライメント系ＡＬ１，ＡＬ２1〜ＡＬ２4及びこれらを保持する保持装置（スライダ）を含んでアライメント装置９９として示されている。なお、アライメント装置９９の詳細構成は、例えば国際公開第２００８／０５６７３５号（及び対応米国特許出願公開第２００９／０２３３２３４号明細書）などに開示されている。
【００３４】
センターテーブル１３０は、図１に示されるように、計測ステーション３００と前記露光ステーション２００との間の位置であって、前述の基準軸ＬＶ上にその中心がほぼ一致して配置されている。センターテーブル１３０は、図３に示されるように、ベース盤１２の内部に配置された駆動装置１３２と、該駆動装置１３２によって上下に駆動される軸１３４と、軸１３４の上端に固定された平面視Ｘ字形のテーブル本体１３６とを備えている。センターテーブル１３０の駆動装置１３２は、主制御装置２０によって制御される（図１３参照）。
【００３５】
ウエハステージＷＳＴ１は、図２及び図５（Ａ）等からわかるように、その底面に設けられた複数の非接触軸受、例えばエアベアリング９４によりベース盤１２の上に浮上支持され、粗動ステージ駆動系５１Ａ（図１３参照）により、ＸＹ二次元方向に駆動されるウエハ粗動ステージ（以下、粗動ステージと略述する）ＷＣＳ１と、粗動ステージＷＣＳ１に非接触状態で支持され、粗動ステージＷＣＳ１に対して相対移動可能な微動ステージＷＦＳ１とを有している。微動ステージＷＦＳ１は、微動ステージ駆動系５２Ａ（図１３参照）によって粗動ステージＷＣＳ１に対してＸ軸方向、Ｙ軸方向、Ｚ軸方向、θｘ方向、θｙ方向及びθｚ方向（以下、６自由度方向、又は６自由度方向（Ｘ、Ｙ、Ｚ、θｘ、θｙ、θｚ）と記述する）に駆動される。
【００３６】
ウエハステージＷＳＴ１（粗動ステージＷＣＳ１）のＸＹ平面内の位置情報（θｚ方向の回転情報も含む）は、ウエハステージ位置計測系１６Ａによって計測される。また、露光ステーション２００にある粗動ステージＷＣＳ１に支持された微動ステージＷＦＳ１（又は微動ステージＷＦＳ２、あるいはＷＦＳ３）の６自由度方向（Ｘ、Ｙ、Ｚ、θｘ、θｙ、θｚ）の位置情報は微動ステージ位置計測系７０Ａによって計測される。ウエハステージ位置計測系１６Ａ及び微動ステージ位置計測系７０Ａの計測結果は、粗動ステージＷＣＳ１、微動ステージＷＦＳ１（又はＷＦＳ２あるいはＷＦＳ３）の位置制御のため、主制御装置２０（図１３参照）に供給される。
【００３７】
ウエハステージＷＳＴ２は、ウエハステージＷＳＴ１と同様、その底面に設けられた複数の非接触軸受（例えばエアベアリング（図示省略））によりベース盤１２の上に浮上支持され、粗動ステージ駆動系５１Ｂ（図１３参照）により、ＸＹ二次元方向に駆動される粗動ステージＷＣＳ２と、粗動ステージＷＣＳ２に非接触状態で支持され、粗動ステージＷＣＳ２に対して相対移動可能な微動ステージＷＦＳ２とを有している。微動ステージＷＦＳ２は、微動ステージ駆動系５２Ｂ（図１３参照）によって粗動ステージＷＣＳ２に対して６自由度方向（Ｘ、Ｙ、Ｚ、θｘ、θｙ、θｚ）に駆動される。
【００３８】
ウエハステージＷＳＴ２（粗動ステージＷＣＳ２）のＸＹ平面内の位置情報（θｚ方向の回転情報も含む）は、ウエハステージ位置計測系１６Ｂによって計測される。また、計測ステーション３００にある粗動ステージＷＣＳ２に支持された微動ステージＷＦＳ２（又はＷＦＳ１あるいはＷＦＳ３）の６自由度方向（Ｘ、Ｙ、Ｚ、θｘ、θｙ、θｚ）の位置情報は微動ステージ位置計測系７０Ｂによって計測される。ウエハステージ位置計測系１６Ｂ及び微動ステージ位置計測系７０Ｂの計測結果は、粗動ステージＷＣＳ２、微動ステージＷＦＳ２（又はＷＦＳ１あるいはＷＦＳ３）の位置制御のため、主制御装置２０（図１３参照）に供給される。
【００３９】
粗動ステージＷＣＳ１に微動ステージＷＦＳ１（又はＷＦＳ２あるいはＷＦＳ３）が支持されたとき、その微動ステージＷＦＳ１（又はＷＦＳ２あるいはＷＦＳ３）と粗動ステージＷＣＳ１とのＸ、Ｙ、θｚの３自由度方向に関する相対位置情報は、粗動ステージＷＣＳ１と微動ステージＷＦＳ１（又はＷＦＳ２あるいはＷＦＳ３）との間に設けられた相対位置計測器２２Ａ（図１３参照）によって計測可能である。
【００４０】
同様に、粗動ステージＷＣＳ２に微動ステージＷＦＳ２（又はＷＦＳ１あるいはＷＦＳ３）が支持されたとき、その微動ステージＷＦＳ２（又はＷＦＳ１）と粗動ステージＷＣＳ２とのＸ、Ｙ、θｚの３自由度方向に関する相対位置情報は、粗動ステージＷＣＳ２と微動ステージＷＦＳ２（又はＷＦＳ１あるいはＷＦＳ３）との間に設けられた相対位置計測器２２Ｂ（図１３参照）によって計測可能である。
【００４１】
相対位置計測器２２Ａ，２２Ｂとしては、例えば微動ステージＷＦＳ１，ＷＦＳ２，ＷＦＳ３に設けられたグレーティングを計測対象とする、粗動ステージＷＣＳ１、ＷＣＳ２に、それぞれ設けられた少なくとも２つのヘッドを含み、該ヘッドの出力に基づいて、微動ステージＷＦＳ１，ＷＦＳ２，ＷＦＳ３のＸ軸方向、Ｙ軸方向及びθｚ方向の位置を計測するエンコーダなどを用いることができる。相対位置計測器２２Ａ，２２Ｂの計測結果は、主制御装置２０（図１３参照）に供給される。
【００４２】
上記各種計測系を含み、ステージ系の構成各部の構成等については、後に詳述する。
【００４３】
さらに、本実施形態の露光装置１００では、図４に示されるように、投影ユニットＰＵの近傍に、可動ブレードＢＬが設けられている。可動ブレードＢＬは、ブレード駆動系５８（図４では不図示、図１３参照）によって、Ｚ軸方向及びＹ軸方向に駆動可能である。可動ブレードＢＬは、液体Ｌｑを保持するための上面として平坦面を有する可動部材であり、本実施形態では＋Ｙ側の上端部に他の部分より突出した突出部が形成された板状の部材から成る。
【００４４】
本実施形態において、可動ブレードＢＬの上面は、液体Ｌｑに対して撥液性である。本実施形態において、可動ブレードＢＬは、例えばステンレス等の金属製の基材と、その基材の表面に形成された撥液性材料の膜とを含む。撥液性材料は、例えばＰＦＡ（Tetra fluoro ethylene-perfluoro alkylvinyl ether copolymer）、ＰＴＦＥ（Poly tetra fluoro ethylene）、テフロン（登録商標）等を含む。なお、膜を形成する材料が、アクリル系樹脂、シリコン系樹脂でも良い。また、可動ブレードＢＬ全体が、ＰＦＡ、ＰＴＦＥ、テフロン（登録商標）、アクリル系樹脂、及びシリコン系樹脂の少なくとも一つで形成されても良い。本実施形態において、液体Ｌｑに対する可動ブレードＢＬの上面の接触角は、例えば９０度以上である。なお、可動ブレードＢＬの上面は撥液性に限らず非撥液性（親液性など）でも良い。
【００４５】
可動ブレードＢＬは、粗動ステージＷＣＳ１に支持されている微動ステージＷＦＳ１（又はＷＦＳ２あるいはＷＦＳ３）に−Ｙ側から係合可能であり、その係合状態で微動ステージＷＦＳ１（又はＷＦＳ２）の上面とともに、見かけ上一体のフルフラットな面を形成する（例えば図１７参照）。可動ブレードＢＬは、主制御装置２０により、ブレード駆動系５８を介して駆動され、微動ステージＷＦＳ１（又はＷＦＳ２あるいはＷＦＳ３）との間で液浸空間領域（液体Ｌｑ）の受け渡しを行う。なお、可動ブレードＢＬと微動ステージＷＦＳ１（又はＷＦＳ２あるいはＷＦＳ３）との間の液浸空間領域（液体Ｌｑ）の受け渡しについてはさらに後述する。
【００４６】
この他、本実施形態における露光装置１００には、投影ユニットＰＵの近傍に、例えば米国特許第５，４４８，３３２号明細書等に開示されるものと同様の構成の斜入射方式の多点焦点位置検出系（以下、多点ＡＦ系と略述する）ＡＦ（図２では不図示、図１３参照）が設けられている。多点ＡＦ系ＡＦの検出信号は、不図示のＡＦ信号処理系を介して主制御装置２０に供給される（図１３参照）。主制御装置２０は、多点ＡＦ系ＡＦの検出信号に基づいて、多点ＡＦ系ＡＦの複数の検出点それぞれにおけるウエハＷ表面のＺ軸方向の位置情報（面位置情報）を検出し、その検出結果に基づいて走査露光中のウエハＷのいわゆるフォーカス・レベリング制御を実行する。なお、ウエハアライメント系ＡＬＧの近傍に多点ＡＦ系を設けて、ウエハアライメント（ＥＧＡ）時にウエハＷ表面の面位置情報（凹凸情報）を事前に取得し、露光時には、その面位置情報と、後述する微動ステージ位置計測系７０Ａの一部を構成するレーザ干渉計システム７５（図１３参照）の計測値とを用いて、ウエハＷのいわゆるフォーカス・レベリング制御を実行することとしても良い。この場合、投影ユニットＰＵの近傍に多点ＡＦ系を設けなくても良い。なお、レーザ干渉計システム７５ではなく、微動ステージ位置計測系７０Ａを構成するエンコーダシステムの計測値を、フォーカス・レベリング制御で用いても良い。
【００４７】
また、レチクルステージＲＳＴの上方には、例えば米国特許第５，６４６，４１３号明細書などに詳細に開示されるように、ＣＣＤ等の撮像素子を有し、露光波長の光（本実施形態では照明光ＩＬ）をアライメント用照明光とする画像処理方式の一対のレチクルアライメント系ＲＡ１，ＲＡ２（図２においてはレチクルアライメント系ＲＡ2は、レチクルアライメント系ＲＡ１の紙面奥側に隠れている。）が配置されている。一対のレチクルアライメント系ＲＡ１，ＲＡ２は、投影光学系ＰＬの直下に微動ステージＷＦＳ１（又はＷＦＳ２あるいはＷＦＳ３）上の後述する計測プレートが位置する状態で、主制御装置２０により、レチクルＲに形成された一対のレチクルアライメントマーク（図示省略）の投影像と対応する計測プレート上の一対の第１基準マークとを投影光学系ＰＬを介して検出することで、投影光学系ＰＬによるレチクルＲのパターンの投影領域の中心と計測プレート上の基準位置、すなわち一対の第１基準マークの中心との位置関係を検出するために用いられる。レチクルアライメント系ＲＡ１，ＲＡ２の検出信号は、不図示の信号処理系を介して主制御装置２０に供給される（図１３参照）。なお、レチクルアライメント系ＲＡ１，ＲＡ２は設けなくても良い。この場合、例えば米国特許出願公開第２００２／００４１３７７号などに開示されるように、微動ステージＷＦＳに光透過部（受光部）が設けられる検出系を搭載して、レチクルアライメントマークの投影像を検出することが好ましい。
【００４８】
図１に戻り、アンロードテーブル１５０及びロードテーブル１５２は、前述のセンターテーブル１３０と同様にして構成されているが、これらアンロードテーブル１５０及びロードテーブル１５２では、テーブル本体は、必ずしも上下動しなくても良い。
【００４９】
本実施形態では、露光済みのウエハＷのアンロードのため、そのウエハを保持する微動ステージがアンロードテーブル１５０上に載置される。すなわちアンロードテーブル１５０上にアンローディングポジションＵＬＰが設定されている。露光前のウエハＷのロードため、微動ステージがロードテーブル１５２上に載置される。すなわちロードテーブル１５２上にローディングポジションＬＰが設定されている。ロードテーブル１５２には、温度調整装置１５３（図１３参照）が設けられている。温度調整装置１５３によって、ロードテーブル１５２に載置された微動ステージ（ＷＦＳ１〜ＷＦＳ３のいずれか）及び該微動ステージに保持されたウエハＷの温調が行われる。
【００５０】
ロボットアーム１４０は、微動ステージを、３つのテーブル１３０，１５０，１５２相互間で搬送する。ロボットアーム１４０は、主制御装置２０によって制御される（図１３参照）。
【００５１】
ロードアーム１４２及びアンロードアーム１４４は、先端部に保持部、例えば円盤状のベルヌーイ・チャック（又はフロートチャックとも呼ばれる）１０８を有する、例えば多関節ロボットのアームから成る。
【００５２】
ベルヌーイ・チャックは、周知の如く、ベルヌーイ効果を利用し、吹き出される流体（例えば空気）の流速を局所的に大きくし、対象物を非接触で固定（吸着）するチャックである。ここで、ベルヌーイ効果とは、流体の圧力は流速が増すにつれ減少するというベルヌーイの定理（原理）が、流体機械などに及ぼす効果を言う。ベルヌーイ・チャックでは、吸着（固定）対象物の重さ、及びチャックから吹き出される流体の流速で保持状態（吸着／浮遊状態）が決まる。すなわち、対象物の大きさが既知の場合、チャックから吹き出される流体の流速に応じて、保持の際のチャックと保持対象物との隙間の寸法が定まる。本実施形態では、ベルヌーイ・チャック１０８は、ウエハＷの吸着（固定／保持）に用いられる。
【００５３】
ロードアーム１４２及びアンロードアーム１４４は、ベルヌーイ・チャック１０８を含み、主制御装置２０によって制御される（図１３参照）。
【００５４】
ここで、ステージ系の各部の構成等について詳述する。まず、ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２について説明する。本実施形態では、ウエハステージＷＳＴ１とウエハステージＷＳＴ２とは、その駆動系、位置計測系などを含み、全く同様に構成されている。従って、以下では、代表的にウエハステージＷＳＴ１を取り上げて説明する。
【００５５】
粗動ステージＷＣＳ１は、図５（Ａ）及び図５（Ｂ）に示されるように、平面視で（＋Ｚ方向から見て）Ｘ軸方向を長手方向とする長方形板状の粗動スライダ部９１と、粗動スライダ部９１の長手方向の一端部と他端部の上面にそれぞれ固定され、かつＹ軸方向を長手方向とする長方形板状の一対の側壁部９２ａ，９２ｂと、側壁部９２ａ,９２ｂそれぞれの上面に固定された一対の固定子部９３ａ、９３ｂと、を備えている。粗動ステージＷＣＳ１は、全体として、上面のＸ軸方向中央部及びＹ軸方向の両側面が開口した高さの低い箱形の形状を有している。すなわち、粗動ステージＷＣＳ１には、その内部にＹ軸方向に貫通した空間部が形成されている。
【００５６】
粗動ステージＷＣＳ１では、図６（Ａ）に示されるように、粗動スライダ部９１の長手方向（Ｘ軸方向）の中央のＹ軸方向の一側（＋Ｙ側）端部に前述の駆動軸１３４の直径より大きな幅のＵ字状の切り欠き９５が形成されている。また、粗動ステージＷＣＳ１は、図６（Ｂ）に示されるように、長手方向の中央の分離線を境として、第１部分ＷＣＳ１ａと第２部分ＷＣＳ１ｂとの２つの部分に分離可能に構成されている（図７参照）。従って、粗動スライダ部９１は、第１部分ＷＣＳ１ａの一部を構成する第１スライダ部９１ａと、第２部分ＷＣＳ１ｂの一部を構成する第２スライダ部９１ｂとから構成されている。
【００５７】
粗動ステージＷＣＳ１の底面、すなわち第１スライダ部９１ａ、第２スライダ部９１ｂの底面には、図５（Ａ）に示されるように、マトリックス状に配置された複数の永久磁石１８から成る磁石ユニットが固定されている。磁石ユニットに対応して、ベース盤１２の内部には、図２に示されるように、ＸＹ二次元方向を行方向、列方向としてマトリックス状に配置された複数のコイル１４を含む、コイルユニットが収容されている。磁石ユニットは、ベース盤１２のコイルユニットと共に、例えば米国特許第５，１９６，７４５号明細書などに開示されるローレンツ電磁力駆動方式の平面モータから成る粗動ステージ駆動系５１Ａａ、５１Ａｂ（図１３参照）を、それぞれ構成している。コイルユニットを構成する各コイル１４に供給される電流の大きさ及び方向は、主制御装置２０によって制御される（図１３参照）。
【００５８】
第１、第２スライダ部９１ａ、９１ｂそれぞれの底面には、上記磁石ユニットの周囲に複数のエアベアリング９４が固定されている。粗動ステージＷＣＳ１の第１部分ＷＣＳ１ａ及び第２部分ＷＣＳ１ｂは、それぞれエアベアリング９４によって、ベース盤１２上に所定のクリアランス、例えば数μｍ程度のクリアランスを介して浮上支持され、粗動ステージ駆動系５１Ａａ、５１Ａｂによって、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向及びθｚ方向に駆動される。
【００５９】
通常は、第１部分ＷＣＳ１ａと第２部分ＷＣＳ１ｂとは、一体化して不図示のロック機構を介してロックされている。すなわち、通常は、第１部分ＷＣＳ１ａと第２部分ＷＣＳ１ｂとは、一体的に動作する。そこで、本明細書では、第１部分ＷＣＳ１ａと第２部分ＷＣＳ１ｂが一体化して成る粗動ステージＷＣＳ１を駆動する平面モータから成る駆動系を、粗動ステージ駆動系５１Ａと呼ぶ（図１３参照）。
【００６０】
なお、粗動ステージ駆動系５１Ａとしては、ローレンツ電磁力駆動方式の平面モータに限らず、例えば可変磁気抵抗駆動方式の平面モータを用いることもできる。なお、電磁力駆動方式における電磁力はローレンツ力に限られない。この他、粗動ステージ駆動系５１Ａを、磁気浮上型の平面モータによって構成しても良い。この場合、粗動スライダ部９１の底面にエアベアリングを設けなくても良くなる。
【００６１】
一対の固定子部９３ａ、９３ｂそれぞれは、図５（Ａ）及び図５（Ｂ）に示されるように、外形が板状の部材から成り、その内部に微動ステージＷＦＳ１（又はＷＦＳ２あるいはＷＦＳ３）を駆動するための複数のコイルから成るコイルユニットＣＵａ、ＣＵｂが収容されている。ここで、微動ステージＷＦＳ１、ＷＦＳ２及びＷＦＳ３は、全く同様に構成され、同様にして、粗動ステージＷＣＳ１に非接触で支持され、駆動されるが、以下では、微動ステージＷＦＳ１を代表的に取り上げて説明する。
【００６２】
固定子部９３ａは、＋Ｘ側の端部が側壁部９２ａ上面に固定され、固定子部９３ｂは、−Ｘ側の端部が側壁部９２ｂ上面に固定されている。
【００６３】
微動ステージＷＦＳ１は、図５（Ａ）及び図５（Ｂ）に示されるように、平面視でＸ軸方向を長手方向とする八角形板状の部材から成る本体部８１と、本体部８１の長手方向の一端部と他端部にそれぞれ固定された一対の可動子部８２ａ、８２ｂと、を備えている。
【００６４】
本体部８１は、その内部を後述するエンコーダシステムの計測ビーム（レーザ光）が進行可能とする必要があることから、光が透過可能な透明な素材で形成されている。また、本体部８１は、その内部におけるレーザ光に対する空気揺らぎの影響を低減するため、中実に形成されている（内部に空間を有しない）。なお、透明な素材は、低熱膨張率であることが好ましく、本実施形態では一例として合成石英（ガラス）などが用いられる。なお、本体部８１は、その全体が透明な素材で構成されていても良いが、エンコーダシステムの計測ビームが透過する部分のみが透明な素材で構成されていても良く、この計測ビームが透過する部分のみが中実に形成されていても良い。
【００６５】
微動ステージＷＦＳ１の本体部８１（より正確には、後述するカバーガラス）の上面中央には、ウエハＷを真空吸着等によって保持するウエハホルダ（不図示）が設けられている。本実施形態では、例えば環状の凸部（リム部）内に、ウエハＷを支持する複数の支持部（ピン部材）が形成される、いわゆるピンチャック方式のウエハホルダが用いられ、一面（表面）がウエハ載置面となるウエハホルダの他面（裏面）側に後述するグレーティングＲＧなどが設けられる。なお、ウエハホルダは、微動ステージＷＦＳ１と一体に形成されていても良いし、本体部８１に対して、例えば静電チャック機構あるいはクランプ機構等を介して、又は接着等により固定されていても良い。前者では、グレーティングＲＧは微動ステージＷＦＳ１の裏面側に設けられることになる。
【００６６】
さらに、本体部８１の上面には、ウエハホルダ（ウエハＷの載置領域）の外側に、図５（Ａ）及び図５（Ｂ）に示されるように、ウエハＷ（ウエハホルダ）よりも一回り大きな円形の開口が中央に形成され、かつ本体部８１に対応する八角形状の外形（輪郭）を有するプレート（撥液板）８３が取り付けられている。プレート８３の表面は、液体Ｌｑに対して撥液化処理されている（撥液面が形成されている）。すなわち、プレート８３の表面には、撥液性材料の膜が形成されている。撥液性材料は、例えばＰＦＡ（Tetra fluoro ethylene-perfluoro alkylvinyl ether copolymer）、ＰＴＦＥ（Poly tetra fluoro ethylene）、テフロン（登録商標）等を含む。なお、膜を形成する材料が、アクリル系樹脂、シリコン系樹脂でも良い。また、プレート８３が、ＰＦＡ、ＰＴＦＥ、テフロン（登録商標）、アクリル系樹脂、及びシリコン系樹脂の少なくとも一つで形成されても良い。液体Ｌｑに対するプレート８３の表面の接触角は、例えば９０度以上である。プレート８３は、その表面の全部（あるいは一部）がウエハＷの表面と同一面となるように本体部８１の上面に固定されている。また、プレート８３の−Ｙ側端部には、図５（Ｂ）に示されるように、その表面がプレート８３の表面と、すなわちウエハＷの表面とほぼ同一面となる状態でＸ軸方向に細長い長方形の計測プレート８６が設置されている。計測プレート８６の表面には、前述した一対の第１基準マークと、プライマリアライメント系ＡＬ１により検出される第２基準マークとが少なくとも形成されている（第１及び第２基準マークはいずれも図示省略）。なお、プレート８３を本体部８１に取り付ける代わりに、例えばウエハホルダを微動ステージＷＦＳと一体に形成し、微動ステージＷＦＳの、ウエハホルダを囲む周囲領域（プレート８３と同一の領域（計測プレート８６の表面を含んでも良い））の上面に撥液化処理を施して、撥液面を形成しても良い。
【００６７】
図５（Ａ）に示されるように、本体部８１の上面には、２次元グレーティング（以下、単にグレーティングと呼ぶ）ＲＧが水平（ウエハＷ表面と平行）に配置されている。グレーティングＲＧは、透明な素材から成る本体部８１の上面に、固定（あるいは形成）されている。グレーティングＲＧは、Ｘ軸方向を周期方向とする反射型回折格子（Ｘ回折格子）と、Ｙ軸方向を周期方向とする反射型回折格子（Ｙ回折格子）と、を含む。本実施形態では、本体部８１上で２次元グレーティングが固定あるいは形成される領域（以下、形成領域）は、一例として、ウエハＷよりも一回り大きな円形となっている。
【００６８】
グレーティングＲＧは、保護部材、例えばカバーガラス８４によって覆われて、保護されている。本実施形態では、カバーガラス８４の上面に、ウエハホルダを吸着保持する前述の保持機構（静電チャック機構など）が設けられている。なお、本実施形態では、カバーガラス８４は、本体部８１の上面のほぼ全面を覆うように設けられているが、グレーティングＲＧを含む本体部８１の上面の一部のみを覆うように設けても良い。また、保護部材（カバーガラス８４）は、本体部８１と同一の素材によって形成しても良いが、これに限らず、保護部材を、例えば金属、セラミックスで形成しても良い。また、グレーティングＲＧを保護するのに十分な厚みを要するため板状の保護部材が望ましいが、素材に応じて薄膜状の保護部材を用いても良い。
【００６９】
なお、グレーティングＲＧの形成領域のうち、ウエハホルダの周囲にはみ出す領域に対応するカバーガラス８４の一面には、グレーティングＲＧに照射されるエンコーダシステムの計測ビームがカバーガラス８４を透過しないように、すなわち、ウエハホルダ裏面の領域の内外で計測ビームの強度が大きく変動しないように、例えばその形成領域を覆う反射部材（例えば薄膜など）を設けることが望ましい。
【００７０】
本体部８１は、図５（Ａ）からもわかるように、長手方向の一端部と他端部との下端部に外側に突出した張り出し部が形成された全体として八角形板状部材から成り、その底面の、グレーティングＲＧに対向する部分に凹部が形成されている。本体部８１は、グレーティングＲＧが配置された中央の領域は、その厚さが実質的に均一な板状に形成されている。
【００７１】
本体部８１の＋Ｘ側、−Ｘ側の張り出し部それぞれの上面には、断面凸形状のスペーサ８５ａ、８５ｂが、それぞれの凸部８９ａ、８９ｂを、外側に向けてＹ軸方向に延設されている。
【００７２】
可動子部８２ａは、図５（Ａ）及び図５（Ｂ）に示されるように、Ｙ軸方向寸法（長さ）及びＸ軸方向寸法（幅）が、共に固定子部９３ａよりも短い（半分程度の）２枚の平面視矩形状の板状部材８２ａ１、８２ａ２を含む。板状部材８２ａ１、８２ａ２は、本体部８１の＋Ｘ側の端部に対し、前述したスペーサ８５ａの凸部８９ａを介して、Ｚ軸方向（上下）に所定の距離だけ離間した状態でともにＸＹ平面に平行に固定されている。この場合、板状部材８２ａ２は、スペーサ８５ａと本体部８１の＋Ｘ側の張り出し部とによって、その−Ｘ側端部が挟持されている。２枚の板状部材８２ａ１、８２ａ２の間には、粗動ステージＷＣＳ１の固定子部９３ａの−Ｘ側の端部が非接触で挿入されている。板状部材８２ａ１、８２ａ２の内部には、後述する磁石ユニットＭＵａ１、ＭＵａ２が、収容されている。
【００７３】
可動子部８２ｂは、スペーサ８５ｂにＺ軸方向（上下）に所定の間隔が維持された２枚の板状部材８２ｂ１、８２ｂ２を含み、可動子部８２ａと左右対称ではあるが同様に構成されている。２枚の板状部材８２ｂ１、８２ｂ２の間には、粗動ステージＷＣＳ１の固定子部９３ｂの＋Ｘ側の端部が非接触で挿入されている。板状部材８２ｂ１、８２ｂ２の内部には、磁石ユニットＭＵａ１、ＭＵａ２と同様に構成された磁石ユニットＭＵｂ１、ＭＵｂ２が、収容されている。
【００７４】
ここで、前述したように、粗動ステージＷＣＳ１は、Ｙ軸方向に両側面が開口しているので、微動ステージＷＦＳ１を粗動ステージＷＣＳ１に装着する際には、板状部材８２ａ１、８２ａ２、及び８２ｂ１、８２ｂ２間に固定子部９３ａ、９３ｂがそれぞれ位置するように、微動ステージＷＦＳ１のＺ軸方向の位置決めを行い、この後に微動ステージＷＦＳ１をＹ軸方向に移動（スライド）させれば良い。
【００７５】
微動ステージ駆動系５２Ａは、前述した可動子部８２ａが有する一対の磁石ユニットＭＵａ１、ＭＵａ２と、固定子部９３ａが有するコイルユニットＣＵａと、可動子部８２ｂが有する一対の磁石ユニットＭＵｂ１、ＭＵｂ２と、固定子部９３ｂが有するコイルユニットＣＵｂと、を含む。
【００７６】
これをさらに詳述する。図８からわかるように、固定子部９３ａの内部における−Ｘ側の端部には、複数（ここでは、１２個）の平面視長方形状のＹＺコイル５５，５７が、Ｙ軸方向に等間隔でそれぞれ配置された２列のコイル列と、Ｙ軸方向を長手方向とする細長い平面視長方形状の一つのＸコイル５６とが、Ｘ軸方向に関して等間隔で配置されている。ＹＺコイル５５、５７は、上下方向（Ｚ軸方向）に重ねて配置された平面視矩形状の上部巻線と下部巻線（不図示）とを有する。２列のコイル列と、Ｘコイル５６とを含んでコイルユニットＣＵａが構成されている。
【００７７】
微動ステージＷＦＳ１の可動子部８２ａの一部を構成する板状部材８２ａ１、８２ａ２の内部には、図８を参照するとわかるように、上記の各コイルの配列に対応する配置で、複数（ここでは１０個）の永久磁石６５ａ、６７ａがＹ軸方向に等間隔で配置された２列の磁石列と、Ｙ軸方向を長手方向とする一対（２つ）の永久磁石６６ａ１、６６ａ２とが、配置されている。
【００７８】
各磁石列を構成する複数の永久磁石６５ａ、６７ａは、交互に極性が逆極性となるような配置で配列されている。また、一対の永久磁石６６ａ１、６６ａ２は、互いに逆極性となるように配置されている。２列の磁石列及び一対の永久磁石によって、磁石ユニットＭＵａ１、ＭＵａ２が構成されている。
【００７９】
なお、他方の固定子部９３ｂ及び可動子部８２ｂの内部には、上述した固定子部９３ａ及び可動子部８２ａ内のコイルユニットＣＵａ及び磁石ユニットＭＵａ１，ＭＵａ２と同様の配置で、コイル、永久磁石が配置され、これらによってコイルユニットＣＵｂ及び磁石ユニットＭＵｂ１，ＭＵｂ２が、それぞれ構成されている。
【００８０】
本実施形態では、上述のような各コイルと永久磁石との配置が採用されているので、主制御装置２０は、Ｙ軸方向に配列された複数のＹＺコイル５５、５７に対して、１つおきに電流を供給することによって、微動ステージＷＦＳ１をＹ軸方向に駆動することができる。また、これと併せて、主制御装置２０は、ＹＺコイル５５，５７のうち、微動ステージＷＦＳ１のＹ軸方向への駆動に使用していないコイルに電流を供給することによって、Ｙ軸方向への駆動力とは別に、Ｚ軸方向への駆動力を発生させ、微動ステージＷＦＳ１を粗動ステージＷＣＳ１から浮上させることができる。そして、主制御装置２０は、微動ステージＷＦＳ１のＹ軸方向の位置に応じて、電流供給対象のコイルを順次切り替えることによって、微動ステージＷＦＳ１の粗動ステージＷＣＳ１に対する浮上状態、すなわち非接触状態を維持しつつ、微動ステージＷＦＳ１をＹ軸方向に駆動する。また、主制御装置２０は、微動ステージＷＦＳ１を粗動ステージＷＣＳ１から浮上させた状態で、Ｙ軸方向に駆動するとともに、これと独立にＸ軸方向にも駆動可能である。
【００８１】
以上の説明からわかるように、本実施形態では、微動ステージ駆動系５２Ａにより、微動ステージＷＦＳ１を、粗動ステージＷＣＳ１に対して非接触状態で浮上支持するとともに、粗動ステージＷＣＳ１に対して、非接触でＸ軸方向、Ｙ軸方向、及びＺ軸方向に駆動することができる。また、主制御装置２０が、可動子部８２ａと可動子部８２ｂとに、互いに異なる大きさのＹ軸方向の駆動力（推力）を作用させることによって（図９（Ａ）の黒塗り矢印参照）、微動ステージＷＦＳ１をＺ軸回りに回転（θｚ回転）させることができる（図９（Ａ）の白抜き矢印参照）。また、主制御装置２０が、可動子部８２ａと可動子部８２ｂとに、互いに異なる浮上力（図９（Ｂ）の黒塗り矢印参照）を作用させることによって、微動ステージＷＦＳ１をＹ軸回りに回転（θｙ駆動）させること（図９（Ｂ）の白抜き矢印参照）ができる。さらに、主制御装置２０が、例えば図９（Ｃ）に示されるように、微動ステージＷＦＳ１の可動子部８２ａ、８２ｂそれぞれにおいて、Ｙ軸方向の＋側と−側とに、互いに異なる浮上力（図９（Ｃ）の黒塗り矢印参照）を作用させることによって、微動ステージＷＦＳ１をＸ軸回りに回転（θｘ駆動）させること（図９（Ｃ）の白抜き矢印参照）ができる。
【００８２】
また、本実施形態では、主制御装置２０は、微動ステージＷＦＳ１に浮上力を作用させる際、固定子部９３ａ内に配置された２列のＹＺコイル５５、５７（図８参照）に互いに反対方向の電流を供給することによって、例えば図１０に示されるように、可動子部８２ａに対して、浮上力（図１０の黒塗り矢印参照）と同時にＹ軸回りの回転力（図１０の白抜き矢印参照）を作用させることができる。同様に、主制御装置２０は、微動ステージＷＦＳ１に浮上力を作用させる際、固定子部９３ｂ内に配置された２列のＹＺコイルに互いに反対方向の電流を供給することによって、可動子部８２ａに対して、浮上力と同時にＹ軸回りの回転力を作用させることができる。
【００８３】
また、主制御装置２０は、一対の可動子部８２ａ、８２ｂそれぞれに、互いに反対の方向のＹ軸回りの回転力（θｙ方向の力）を作用させることによって、微動ステージＷＦＳ１の中央部を＋Ｚ方向又は−Ｚ方向に撓ませることができる（図１０のハッチング付き矢印参照）。従って、図１０に示されるように、微動ステージＷＦＳ１のＸ軸方向に関する中央部を＋Ｚ方向に（凸状に）撓ませることによって、ウエハＷ及び本体部８１の自重に起因する微動ステージＷＦＳ１（本体部８１）のＸ軸方向の中間部分の撓みを打ち消して、ウエハＷ表面のＸＹ平面（水平面）に対する平行度を確保できる。これにより、ウエハＷが大径化して微動ステージＷＦＳ１が大型化した時などに、特に効果を発揮する。
【００８４】
また、ウエハＷが自重等により変形すると、照明光ＩＬの照射領域（露光領域ＩＡ）内において、微動ステージＷＦＳ１上に載置されたウエハＷの表面が、投影光学系ＰＬの焦点深度の範囲内に入らなくなるおそれもある。そこで、主制御装置２０が、上述した微動ステージＷＦＳ１のＸ軸方向に関する中央部を＋Ｚ方向に撓ませる場合と同様に、一対の可動子部８２ａ、８２ｂそれぞれに、互いに反対の方向のＹ軸回りの回転力を作用させることによって、ウエハＷがほぼ平坦になるように変形され、露光領域ＩＡ内でウエハＷの表面が投影光学系ＰＬの焦点深度の範囲内に入るようにすることもできる。なお、図１０には、微動ステージＷＦＳ１を＋Ｚ方向に（凸形状に）撓ませる例が示されているが、コイルに対する電流の向きを制御することによって、これとは反対の方向に（凹形状に）微動ステージＷＦＳ１の撓ませることも可能である。
【００８５】
なお、自重撓み補正及び／又はフォーカス・レベリング制御のためだけでなく、例えば米国再発行特許ＲＥ３７３９１号明細書などに開示されているように、ウエハのショット領域内の所定点が露光領域ＩＡを横切る間に、焦点深度の範囲内でその所定点のＺ軸方向の位置を変化させて実質的に焦点深度を増大させる超解像技術を採用する場合にも、微動ステージＷＦＳ１（及びこれに保持されたウエハＷ）をＹ軸に垂直な面（ＸＺ面）内で凹形状又は凸形状に変形させる手法を適用することができる。
【００８６】
本実施形態の露光装置１００では、ウエハＷに対するステップ・アンド・スキャン方式の露光動作時には、微動ステージＷＦＳ１のＸＹ平面内の位置情報（θｚ方向の位置情報を含む）は、主制御装置２０により、後述する微動ステージ位置計測系７０Ａのエンコーダシステム７３（図１３参照）を用いて計測される。微動ステージＷＦＳ１の位置情報は、主制御装置２０に送られ、主制御装置２０は、この位置情報に基づいて微動ステージＷＦＳ１の位置を制御する。
【００８７】
これに対し、ウエハステージＷＳＴ１（微動ステージＷＦＳ１）が微動ステージ位置計測系７０Ａの計測領域外に位置する際には、ウエハステージＷＳＴ１（及び微動ステージＷＦＳ１）の位置情報は、主制御装置２０により、ウエハステージ位置計測系１６Ａ（図２及び図１３参照）を用いて計測される。ウエハステージ位置計測系１６Ａは、図２に示されるように、粗動ステージＷＣＳ１側面に鏡面加工により形成された反射面に測長ビームを照射してウエハステージＷＳＴ１のＸＹ平面内の位置情報（θｚ方向の回転情報を含む）を計測するレーザ干渉計を含んでいる。なお、ウエハステージＷＳＴ１のＸＹ平面内での位置情報は、上述のウエハステージ位置計測系１６Ａに代えて、その他の計測装置、例えばエンコーダシステムによって計測しても良い。この場合、例えばベース盤１２の上面に二次元スケールを配置し、粗動ステージＷＣＳ１の底面にエンコーダヘッドを取り付けることができる。
【００８８】
前述の如く、微動ステージＷＦＳ２，ＷＦＳ３は、上述した微動ステージＷＦＳ１と全く同様に構成されており、微動ステージＷＦＳ１に代えて、粗動ステージＷＣＳ１に非接触で支持させることができる。この場合、粗動ステージＷＣＳ１と、粗動ステージＷＣＳ１によって支持された微動ステージＷＦＳ２又はＷＦＳ３とによって、ウエハステージＷＳＴ１が構成され、微動ステージＷＦＳ２又はＷＦＳ３が備える一対の可動子部（各一対の磁石ユニットＭＵａ１、ＭＵａ２及びＭＵｂ１、ＭＵｂ２）と粗動ステージＷＣＳ１の一対の固定子部９３ａ、９３ｂ（コイルユニットＣＵａ、ＣＵｂ）とによって、微動ステージ駆動系５２Ａが構成される。そして、この微動ステージ駆動系５２Ａによって、微動ステージＷＦＳ２又はＷＦＳ３が、粗動ステージＷＣＳ１に対して、非接触で６自由度方向に駆動される。
【００８９】
また、微動ステージＷＦＳ２、ＷＦＳ１、又はＷＦＳ３は、それぞれ粗動ステージＷＣＳ２に非接触で支持させることができ、粗動ステージＷＣＳ２と、粗動ステージＷＣＳ２によって支持された微動ステージＷＦＳ２、ＷＦＳ１あるいはＷＦＳ３とによってウエハステージＷＳＴ２が構成される。この場合、微動ステージＷＦＳ２、ＷＦＳ１あるいはＷＦＳ３が備える一対の可動子部（各一対の磁石ユニットＭＵａ１、ＭＵａ２及びＭＵｂ１、ＭＵｂ２）と粗動ステージＷＣＳ２の一対の固定子部９３ａ、９３ｂ（コイルユニットＣＵａ、ＣＵｂ）とによって、微動ステージ駆動系５２Ｂ（図１３参照）が構成される。そして、この微動ステージ駆動系５２Ｂによって、微動ステージＷＦＳ２、ＷＦＳ１あるいはＷＦＳ３が、粗動ステージＷＣＳ２に対して、非接触で６自由度方向に駆動される。
【００９０】
なお、粗動ステージＷＣＳ２は、粗動ステージＷＣＳ１とは反対向き、すなわち粗動スライダ部９１の切り欠き９５がＹ軸方向の他側（−Ｙ側）に向かって開口する向きで、ベース盤１２上に配置されている。
【００９１】
次に、露光ステーション２００にある粗動ステージＷＣＳ１に移動可能に保持される（ウエハステージＷＳＴ１を構成する）微動ステージＷＦＳ１、ＷＦＳ２あるいはＷＦＳ３の位置情報の計測に用いられる微動ステージ位置計測系７０Ａ（図１３参照）の構成について説明する。ここでは、微動ステージ位置計測系７０Ａが微動ステージＷＦＳ１の位置情報を計測する場合について説明する。
【００９２】
微動ステージ位置計測系７０Ａは、図２に示されるように、ウエハステージＷＳＴ１が投影光学系ＰＬの下方に配置された状態で、粗動ステージＷＣＳ１の内部の空間部内に挿入されるアーム部材（計測アーム７１Ａ）を備えている。計測アーム７１Ａは、メインフレームＢＤに支持部材７２Ａを介して片持ち支持（一端部近傍が支持）されている。なお、計測部材は、ウエハステージの移動の妨げにならない構成を採用する場合には、片持ち支持に限らず、その長手方向の両端部で支持されても良い。また、アーム部材は、前述したグレーティングＲＧ（ＸＹ平面と実質的に平行なその配置面）よりも下方（−Ｚ側）に配置されていれば良く、例えばベース盤１２の上面よりも下方に配置しても良い。さらに、アーム部材はメインフレームＢＤに支持されるものとしたが、例えば防振機構を介して設置面（床面など）に設けても良い。この場合、メインフレームＢＤとアーム部材との相対的な位置関係を計測する計測装置を設けることが好ましい。アーム部材は、メトロロジーアームあるいは計測用部材などとも呼ぶことができる。
【００９３】
計測アーム７１Ａは、Ｙ軸方向を長手方向とする、幅方向（Ｘ軸方向）よりも高さ方向（Ｚ軸方向）の寸法が大きい縦長の長方形断面を有する四角柱状（すなわち直方体状）の部材であり、光を透過する同一の素材、例えばガラス部材が複数貼り合わされて形成されている。計測アーム７１Ａは、後述するエンコーダヘッド（光学系）が収容される部分を除き、中実に形成されている。計測アーム７１Ａは、前述したようにウエハステージＷＳＴ１が投影光学系ＰＬの下方に配置された状態では、先端部が粗動ステージＷＣＳ１の空間部内に挿入され、図２に示されるように、その上面が微動ステージＷＦＳ１の下面（より正確には、本体部８１（図２では不図示、図５（Ａ）等参照）の下面）に対向している。計測アーム７１Ａの上面は、微動ステージＷＦＳ１の下面との間に所定のクリアランス、例えば数ｍｍ程度のクリアランスが形成された状態で、微動ステージＷＦＳ１下面とほぼ平行に配置される。なお、計測アーム７１Ａの上面と微動ステージＷＦＳ１の下面との間のクリアランスは、数ｍｍ以上でも以下でも良い。
【００９４】
微動ステージ位置計測系７０Ａは、図１３に示されるように、エンコーダシステム７３と、レーザ干渉計システム７５とを備えている。エンコーダシステム７３は、微動ステージＷＦＳ１のＸ軸方向の位置を計測するＸリニアエンコーダ７３ｘ、及び微動ステージＷＦＳ１のＹ軸方向の位置を計測する一対のＹリニアエンコーダ７３ｙａ、７３ｙｂを含む。エンコーダシステム７３では、例えば米国特許第７，２３８，９３１号明細書、及び米国特許出願公開第２００７／２８８，１２１号明細書などに開示されるエンコーダヘッド（以下、適宜ヘッドと略述する）と同様の構成の回折干渉型のヘッドが用いられている。ただし、本実施形態では、ヘッドは、後述するように光源及び受光系（光検出器を含む）が、計測アーム７１Ａの外部に配置され、光学系のみが計測アーム７１Ａの内部に、すなわちグレーティングＲＧに対向して配置されている。以下、適宜、計測アーム７１Ａの内部に配置された光学系をヘッドと呼ぶ。
【００９５】
エンコーダシステム７３は、微動ステージＷＦＳ１のＸ軸方向の位置を１つのＸヘッド７７ｘ（図１１（Ａ）及び図１１（Ｂ）参照）で計測し、Ｙ軸方向の位置を一対のＹヘッド７７ｙａ、７７ｙｂ（図１１（Ｂ）参照）で計測する。すなわち、グレーティングＲＧのＸ回折格子を用いて微動ステージＷＦＳ１のＸ軸方向の位置を計測するＸヘッド７７ｘによって、前述のＸリニアエンコーダ７３ｘが構成され、グレーティングＲＧのＹ回折格子を用いて微動ステージＷＦＳ１のＹ軸方向の位置を計測する一対のＹヘッド７７ｙａ、７７ｙｂによって、一対のＹリニアエンコーダ７３ｙａ、７３ｙｂが構成されている。
【００９６】
ここで、エンコーダシステム７３を構成する３つのヘッド７７ｘ、７７ｙａ、７７ｙｂの構成について説明する。図１１（Ａ）には、３つのヘッド７７ｘ、７７ｙａ、７７ｙｂを代表して、Ｘヘッド７７ｘの概略構成が示されている。また、図１１（Ｂ）には、Ｘヘッド７７ｘ、Ｙヘッド７７ｙａ、７７ｙｂそれぞれの計測アーム７１Ａ内での配置が示されている。
【００９７】
図１１（Ａ）に示されるように、Ｘヘッド７７ｘは、その分離面がＹＺ平面と平行である偏光ビームスプリッタＰＢＳ、一対の反射ミラーＲ１ａ，Ｒ１ｂ、レンズＬ２ａ，Ｌ２ｂ、四分の一波長板（以下、λ／４板と表記する）ＷＰ１ａ，ＷＰ１ｂ、反射ミラーＲ２ａ，Ｒ２ｂ、及び反射ミラーＲ３ａ，Ｒ３ｂ等を有し、これらの光学素子が所定の位置関係で配置されている。Ｙヘッド７７ｙａ、７７ｙｂも同様の構成の光学系を有している。Ｘヘッド７７ｘ、Ｙヘッド７７ｙａ、７７ｙｂそれぞれは、図１１（Ａ）及び図１１（Ｂ）に示されるように、ユニット化されて計測アーム７１Ａの内部に固定されている。
【００９８】
図１１（Ｂ）に示されるように、Ｘヘッド７７ｘ（Ｘリニアエンコーダ７３ｘ）では、計測アーム７１Ａの−Ｙ側の端部の上面（又はその上方）に設けられた光源ＬＤｘから−Ｚ方向にレーザビームＬＢｘ０が射出され、計測アーム７１Ａの一部にＸＹ平面に対して４５°の角度で斜設された反射面ＲＰを介してＹ軸方向に平行にその光路が折り曲げられる。このレーザビームＬＢｘ０は、計測アーム７１Ａの内部の中実な部分を、計測アーム７１Ａの長手方向（Ｙ軸方向）に平行に進行し、反射ミラーＲ３ａ（図１１（Ａ）参照）に達する。そして、レーザビームＬＢｘ０は、反射ミラーＲ３ａによりその光路が折り曲げられて、偏光ビームスプリッタＰＢＳに入射する。レーザビームＬＢｘ０は、偏光ビームスプリッタＰＢＳで偏光分離されて２つの計測ビームＬＢｘ1，ＬＢｘ2となる。偏光ビームスプリッタＰＢＳを透過した計測ビームＬＢｘ1は反射ミラーＲ１ａを介して微動ステージＷＦＳ１に形成されたグレーティングＲＧに到達し、偏光ビームスプリッタＰＢＳで反射された計測ビームＬＢｘ2は反射ミラーＲ１ｂを介してグレーティングＲＧに到達する。なお、ここで「偏光分離」とは、入射ビームをＰ偏光成分とＳ偏光成分に分離することを意味する。
【００９９】
計測ビームＬＢｘ1，ＬＢｘ2の照射によってグレーティングＲＧから発生する所定次数の回折ビーム、例えば１次回折ビームそれぞれは、レンズＬ２ａ，Ｌ２ｂを介して、λ／４板ＷＰ１ａ，ＷＰ１ｂにより円偏光に変換された後、反射ミラーＲ２ａ，Ｒ２ｂにより反射されて再度λ／４板ＷＰ１ａ，ＷＰ１ｂを通り、往路と同じ光路を逆方向に辿って偏光ビームスプリッタＰＢＳに達する。
【０１００】
偏光ビームスプリッタＰＢＳに達した２つの１次回折ビームは、各々その偏光方向が元の方向に対して９０度回転している。このため、このため、先に偏光ビームスプリッタＰＢＳを透過した計測ビームＬＢｘ1の１次回折ビームは、偏光ビームスプリッタＰＢＳで反射される。先に偏光ビームスプリッタＰＢＳで反射された計測ビームＬＢｘ2の１次回折ビームは、偏光ビームスプリッタＰＢＳを透過する。これにより、計測ビームＬＢｘ1，ＬＢｘ2それぞれの１次回折ビームは同軸上に合成ビームＬＢｘ12として合成される。合成ビームＬＢｘ１２は、反射ミラーＲ３ｂでその光路が、Ｙ軸に平行に折り曲げられて、計測アーム７１Ａの内部をＹ軸に平行に進行し、前述の反射面ＲＰを介して、図１１（Ｂ）に示される、計測アーム７１Ａの−Ｙ側の端部の上面（又はその上方）に設けられたＸ受光系７４ｘに送光される。
【０１０１】
Ｘ受光系７４ｘでは、合成ビームＬＢｘ１２として合成された計測ビームＬＢｘ1，ＬＢｘ2の１次回折ビームが不図示の偏光子（検光子）によって偏光方向が揃えられ、相互に干渉して干渉光となり、この干渉光が不図示の光検出器によって検出され、干渉光の強度に応じた電気信号に変換される。ここで、微動ステージＷＦＳ１が計測方向（この場合、Ｘ軸方向）に移動すると、２つのビーム間の位相差が変化して干渉光の強度が変化する。この干渉光の強度の変化は、微動ステージＷＦＳ１のＸ軸方向に関する位置情報として主制御装置２０（図１３参照）に供給される。
【０１０２】
図１１（Ｂ）に示されるように、Ｙヘッド７７ｙａ、７７ｙｂには、それぞれの光源ＬＤｙａ、ＬＤｙｂから射出され、前述の反射面ＲＰで光路が９０°折り曲げられたＹ軸に平行なレーザビームＬＢｙａ０、ＬＢｙｂ０が入射し、前述と同様にして、Ｙヘッド７７ｙａ、７７ｙｂから、偏向ビームスプリッタで偏光分離された計測ビームそれぞれのグレーティングＲＧ（のＹ回折格子）による１次回折ビームの合成ビームＬＢｙａ１２、ＬＢｙｂ１２が、それぞれ出力され、Ｙ受光系７４ｙａ、７４ｙｂに戻される。ここで、光源ＬＤｙａ、ＬＤｙｂから射出されるレーザビームＬＢｙａ０、ＬＢｙｂ０とＹ受光系７４ｙａ、７４ｙｂに戻される合成ビームＬＢｙａ１２、ＬＢｙｂ１２とは、図１１（Ｂ）における紙面垂直方向に重なる光路をそれぞれ通る。また、上述のように、光源から照射されるレーザビームＬＢｙａ０、ＬＢｙｂ０とＹ受光系７４ｙａ、７４ｙｂに戻される合成ビームＬＢｙａ１２、ＬＢｙｂ１２とが、Ｚ軸方向に離れた平行な光路を通るように、Ｙヘッド７７ｙａ、７７ｙｂでは、それぞれの内部で光路が適宜折り曲げられている（図示省略）。
【０１０３】
図１２（Ａ）には、計測アーム７１Ａの先端部が斜視図にて示されており、図１２（Ｂ）には、計測アーム７１Ａの先端部の上面を＋Ｚ方向から見た平面図が示されている。図１２（Ａ）及び図１２（Ｂ）に示されるように、Ｘヘッド７７ｘは、Ｘ軸に平行な直線ＬＸ上で計測アーム７１ＡのセンターラインＣＬから等距離にある２点（図１２（Ｂ）の白丸参照）から、計測ビームＬＢｘ１、ＬＢｘ２（図１２（Ａ）中に実線で示されている）を、グレーティングＲＧ上の同一の照射点に照射する（図１１（Ａ）参照）。計測ビームＬＢｘ１、ＬＢｘ２の照射点、すなわちＸヘッド７７ｘの検出点（図１２（Ｂ）中の符号ＤＰ参照）は、ウエハＷに照射される照明光ＩＬの照射領域（露光領域）ＩＡの中心である露光位置に一致している（図２参照）。なお、計測ビームＬＢｘ１、ＬＢｘ２は、実際には、本体部８１と空気層との境界面などで屈折するが、図１１（Ａ）等では、簡略化して図示されている。
【０１０４】
図１１（Ｂ）に示されるように、一対のＹヘッド７７ｙａ、７７ｙｂそれぞれは、センターラインＣＬの＋Ｘ側、−Ｘ側に配置されている。Ｙヘッド７７ｙａは、図１２（Ａ）及び図１２（Ｂ）に示されるように、Ｙ軸に平行な直線ＬＹａ上で直線ＬＸからの距離が等しい２点（図１２（Ｂ）の白丸参照）から、グレーティングＲＧ上の共通の照射点に図１２（Ａ）においてそれぞれ破線で示される計測ビームＬＢｙａ１，ＬＢｙａ２を照射する。計測ビームＬＢｙａ１，ＬＢｙａ２の照射点、すなわちＹヘッド７７ｙａの検出点が、図１２（Ｂ）に符号ＤＰｙａで示されている。
【０１０５】
Ｙヘッド７７ｙｂは、センターラインＣＬに関して、Ｙヘッド７７ｙａの計測ビームＬＢｙａ１，ＬＢｙａ２の射出点に対称な２点（図１２（Ｂ）の白丸参照）から、計測ビームＬＢｙｂ１，ＬＢｙｂ２を、グレーティングＲＧ上の共通の照射点ＤＰｙｂに照射する。図１２（Ｂ）に示されるように、Ｙヘッド７７ｙａ、７７ｙｂそれぞれの検出点ＤＰｙａ、ＤＰｙｂは、Ｘ軸に平行な直線ＬＸ上に配置される。
【０１０６】
ここで、主制御装置２０は、微動ステージＷＦＳ１のＹ軸方向の位置を、２つのＹヘッド７７ｙａ、７７ｙｂの計測値の平均に基づいて決定する。従って、本実施形態では、微動ステージＷＦＳ１のＹ軸方向の位置は、検出点ＤＰｙａ、ＤＰｙｂの中点ＤＰを実質的な計測点として計測される。中点ＤＰは、計測ビームＬＢｘ１，ＬＢＸ２のグレーティングＲＧ上の照射点と一致する。
【０１０７】
すなわち、本実施形態では、微動ステージＷＦＳ１のＸ軸方向及びＹ軸方向の位置情報の計測に関して、共通の検出点を有し、この検出点は、ウエハＷに照射される照明光ＩＬの照射領域（露光領域）ＩＡの中心である露光位置に一致する。従って、本実施形態では、主制御装置２０は、エンコーダシステム７３を用いることで、微動ステージＷＦＳ１上に載置されたウエハＷの所定のショット領域にレチクルＲのパターンを転写する際、微動ステージＷＦＳ１のＸＹ平面内の位置情報の計測を、常に露光位置の直下（微動ステージＷＦＳ１の裏面側）で行うことができる。また、主制御装置２０は、一対のＹヘッド７７ｙａ、７７ｙｂの計測値の差に基づいて、微動ステージＷＦＳ１のθｚ方向の回転量を計測する。
【０１０８】
レーザ干渉計システム７５は、図１２（Ａ）に示されるように、３本の測長ビームＬＢｚ１、ＬＢｚ２、ＬＢｚ３を計測アーム７１Ａの先端部から、微動ステージＷＦＳ１の下面に入射させる。レーザ干渉計システム７５は、これら３本の測長ビームＬＢｚ１、ＬＢｚ２、ＬＢｚ３それぞれを照射する３つのレーザ干渉計７５ａ〜７５ｃ（図１３参照）を備えている。
【０１０９】
レーザ干渉計システム７５では、３本の測長ビームＬＢｚ１、ＬＢｚ２、ＬＢｚ３は、図１２（Ａ）及び図１２（Ｂ）に示されるように、計測アーム７１Ａの上面上の同一直線上に無い３点それぞれから、Ｚ軸に平行に射出される。ここで、３本の測長ビームＬＢｚ１、ＬＢｚ２、ＬＢｚ３は、図１２（Ｂ）に示されるように、その重心が、照射領域（露光領域）ＩＡの中心である露光位置に一致する、例えば二等辺三角形（又は正三角形）の各頂点に相当する３点から、それぞれ射出される。この場合、測長ビームＬＢｚ３の射出点（照射点）はセンターラインＣＬ上に位置し、残りの測長ビームＬＢｚ１、ＬＢｚ２の射出点（照射点）は、センターラインＣＬから等距離にある。本実施形態では、主制御装置２０は、レーザ干渉計システム７５を用いて、微動ステージＷＦＳ１のＺ軸方向の位置、θｘ方向及びθｙ方向の回転量の情報を計測する。なお、レーザ干渉計７５ａ〜７５ｃは、計測アーム７１Ａの−Ｙ側の端部の上面（又はその上方）に設けられている。レーザ干渉計７５ａ〜７５ｃから−Ｚ方向に射出された測長ビームＬＢｚ１、ＬＢｚ２、ＬＢｚ３は、前述の反射面ＲＰを介して計測アーム７１Ａ内をＹ軸方向に沿って進行し、その光路がそれぞれ折り曲げられて、上述の３点から射出される。
【０１１０】
本実施形態では、微動ステージＷＦＳ１の下面に、エンコーダシステム７３からの各計測ビームを透過させ、レーザ干渉計システム７５からの各測長ビームの透過を阻止する、波長選択フィルタ（図示省略）が設けられている。この場合、波長選択フィルタは、レーザ干渉計システム７５からの各測長ビームの反射面をも兼ねる。波長選択フィルタとして、波長選択性を有する薄膜などが用いられ、本実施形態では、波長選択フィルタは、例えば透明板（本体部８１）の一面に設けられ、グレーティングＲＧはその一面に対してウエハホルダ側に配置される。
【０１１１】
以上の説明からわかるように、主制御装置２０は、微動ステージ位置計測系７０Ａのエンコーダシステム７３及びレーザ干渉計システム７５を用いることで、微動ステージＷＦＳ１の６自由度方向の位置を計測することができる。この場合、エンコーダシステム７３では、計測ビームの空気中での光路長が極短くかつほぼ等しいため、空気揺らぎの影響が殆ど無視できる。従って、エンコーダシステム７３により、微動ステージＷＦＳ１のＸＹ平面内（θｚ方向も含む）の位置情報を高精度に計測できる。また、エンコーダシステム７３によるＸ軸方向、及びＹ軸方向の実質的なグレーティング上の検出点、及びレーザ干渉計システム７５によるＺ軸方向の微動ステージＷＦＳ１下面上の検出点は、それぞれ露光領域ＩＡの中心（露光位置）にＸＹ平面内で一致するので、検出点と露光位置とのＸＹ平面内のずれに起因するいわゆるアッベ誤差の発生が実質的に無視できる程度に抑制される。従って、主制御装置２０は、微動ステージ位置計測系７０Ａを用いることで、検出点と露光位置とのＸＹ平面内のずれに起因するアッベ誤差なく、微動ステージＷＦＳ１のＸ軸方向、Ｙ軸方向及びＺ軸方向の位置を高精度に計測できる。また、粗動ステージＷＣＳ１が投影ユニットＰＵの下方にあり、粗動ステージＷＣＳ１に微動ステージＷＦＳ２又はＷＦＳ３が移動可能に支持されている場合には、主制御装置２０は、微動ステージ位置計測系７０Ａを用いることで、微動ステージＷＦＳ２又はＷＦＳ３の６自由度方向の位置を計測することができ、特に、微動ステージＷＦＳ２又はＷＦＳ３のＸ軸方向、Ｙ軸方向及びＺ軸方向の位置については、アッベ誤差なく、高精度に計測できる。
【０１１２】
また、計測ステーション３００が備える微動ステージ位置計測系７０Ｂは、図２に示されるように、微動ステージ位置計測系７０Ａと左右対称であるが、同様に構成されている。従って、微動ステージ位置計測系７０Ｂが備える計測アーム７１Ｂは、Ｙ軸方向を長手方向とし、その＋Ｙ側の端部近傍が、支持部材７２Ｂを介してメインフレームＢＤからほぼ片持ち支持されている。
【０１１３】
粗動ステージＷＣＳ２がアライメント装置９９の下方にあり、粗動ステージＷＣＳ２に微動ステージＷＦＳ２、ＷＦＳ１あるいはＷＦＳ３が移動可能に支持されている場合には、主制御装置２０は、微動ステージ位置計測系７０Ｂを用いることで、微動ステージＷＦＳ２、ＷＦＳ１あるいはＷＦＳ３の６自由度方向の位置を計測することができ、特に、微動ステージＷＦＳ２、ＷＦＳ１あるいはＷＦＳ３のＸ軸方向、Ｙ軸方向及びＺ軸方向の位置については、アッベ誤差なく、高精度に計測できる。
【０１１４】
図１３には、露光装置１００の制御系の主要な構成が示されている。制御系は、主制御装置２０を中心として構成されている。主制御装置２０は、ワークステーション（又はマイクロコンピュータ）等を含み、前述の局所液浸装置８、粗動ステージ駆動系５１Ａ，５１Ｂ、及び微動ステージ駆動系５２Ａ，５２Ｂなど、露光装置１００の構成各部を統括制御する。
【０１１５】
本実施形態の露光装置１００では、デバイスの製造に際し、露光ステーション２００にある粗動ステージＷＣＳ１に保持された微動ステージ（ＷＦＳ１〜ＷＦＳ３のいずれか、ここでは、ＷＦＳ１であるものとする）に保持されたウエハＷに対して、ステップ・アンド・スキャン方式の露光が行われ、そのウエハＷ上の複数のショット領域にレチクルＲのパターンがそれぞれ転写される。このステップ・アンド・スキャン方式の露光動作は、主制御装置２０により、事前に行われた、ウエハアライメントの結果（例えばエンハンスト・グローバル・アライメント（ＥＧＡ）により得られるウエハＷ上の各ショット領域の配列座標を第２基準マークを基準とする座標に変換した情報）、及びレチクルアライメントの結果等に基づいて、ウエハＷ上の各ショット領域の露光のための走査開始位置（加速開始位置）へ微動ステージＷＦＳ１が移動されるショット間移動動作と、レチクルＲに形成されたパターンを走査露光方式で各ショット領域に転写する走査露光動作と、を繰り返すことにより、行われる。なお、上記の露光動作は、先端レンズ１９１とウエハＷとの間に液体Ｌｑを保持した状態で、すなわち液浸露光により行われる。また、＋Ｙ側に位置するショット領域から−Ｙ側に位置するショット領域の順で行われる。なお、ＥＧＡについては、例えば米国特許第４，７８０，６１７号明細書などに詳細に開示されている。
【０１１６】
本実施形態の露光装置１００では、上述の一連の露光動作中、主制御装置２０により、微動ステージ位置計測系７０Ａを用いて、微動ステージＷＦＳ１（ウエハＷ）の位置が計測され、この計測結果に基づいてウエハＷの位置が制御される。
【０１１７】
なお、上述の走査露光動作時は、ウエハＷをＹ軸方向に高加速度で駆動する必要があるが、本実施形態の露光装置１００では、主制御装置２０は、走査露光動作時には、図１４（Ａ）に示されように、原則的に粗動ステージＷＣＳ１を駆動せず、微動ステージＷＦＳ１のみをＹ軸方向に（必要に応じて他の５自由度方向にも併せて）駆動する（図１４（Ａ）の黒塗り矢印参照）ことで、ウエハＷをＹ軸方向に走査する。これは、粗動ステージＷＣＳ１を駆動する場合に比べ、微動ステージＷＦＳ１のみを動かす方が駆動対象の重量が軽い分、高加速度でウエハＷを駆動できて有利だからである。また、前述のように、微動ステージ位置計測系７０Ａは、その位置計測精度がウエハステージ位置計測系１６Ａよりも高いので、走査露光時には微動ステージＷＦＳ１を駆動した方が有利である。なお、この走査露光時には、微動ステージＷＦＳ１の駆動による反力（図１４（Ａ）の白抜き矢印参照）の作用により、粗動ステージＷＣＳ１が微動ステージＷＦＳ１と反対側に駆動される。すなわち、粗動ステージＷＣＳ１がカウンタマスとして機能し、ウエハステージＷＳＴ１の全体から成る系の運動量が保存され、重心移動が生じないので、微動ステージＷＦＳ１の走査駆動によってベース盤１２に偏荷重が作用するなどの不都合が生じることがない。
【０１１８】
一方、Ｘ軸方向にショット間移動（ステッピング）動作を行う際には、微動ステージＷＦＳ１のＸ軸方向への移動可能量が少ないことから、主制御装置２０は、図１４（Ｂ）に示されるように、粗動ステージＷＣＳ１をＸ軸方向に駆動することによって、ウエハＷをＸ軸方向に移動させる。
【０１１９】
本実施形態では、いずれかの微動ステージ上で、上述したウエハＷに対する露光が行われるのと並行して、別の微動ステージ上では、ウエハアライメントが行われ、さらにこれらと並行して、別の微動ステージ上では、ウエハ交換が行われる。
【０１２０】
以下、本実施形態の露光装置１００において、３つの微動ステージＷＦＳ１、ＷＦＳ２、及びＷＦＳ３を用いて行われる並行処理動作について、説明する。
【０１２１】
図１５には、微動ステージＷＦＳ１が、露光ステーション２００にあり、その微動ステージＷＦＳ１に保持されたウエハＷに上述した露光が行われ、微動ステージＷＦＳ２が、計測ステーション３００にあり、その微動ステージＷＦＳ２に保持されたウエハＷに対するアライメントが行われている最中の状態が示されている。このとき、微動ステージＷＦＳ３は、ロードテーブル１５２上で新たなウエハＷを保持して待機している。このとき、微動ステージＷＦＳ３及び該微動ステージＷＦＳ３に保持されたウエハＷの温度調整が、前述の温度調整装置１５３によって行われている。
【０１２２】
上記の微動ステージＷＦＳ２に保持されたウエハＷに対するアライメントは、概略次のようにして行われる。すなわち、ウエハアライメントに際し、主制御装置２０は、まず、プライマリアライメント系ＡＬ１の直下に微動ステージＷＦＳ２上の計測プレート８６を位置決めすべく、微動ステージＷＦＳ２を駆動し、プライマリアライメント系ＡＬ１を用いて、第２基準マークを検出する。そして、主制御装置２０は、例えば、米国特許出願公開第２００８／００８８８４３号明細書などに開示されるように、ウエハステージＷＳＴ２（粗動ステージＷＣＳ２及び微動ステージＷＦＳ２）を例えば−Ｙ方向に移動させ、その移動経路上における複数箇所にウエハステージＷＳＴを位置決めし、位置決めの都度、アライメント系ＡＬ１，ＡＬ２1〜ＡＬ２4の少なくとも１つを用いてアライメントショット領域（サンプルショット領域）におけるアライメントマークの位置情報を、検出する。例えば、４回の位置決めを行う場合を考えると、主制御装置２０は、例えば１回目の位置決め時に、プライマリアライメント系ＡＬ１，セカンダリアライメント系ＡＬ２2，ＡＬ２3を用いて、３箇所のサンプルショット領域におけるアライメントマーク（以下、サンプルマークとも呼ぶ）を、２回目の位置決め時にアライメント系ＡＬ１，ＡＬ２1〜ＡＬ２4を用いてウエハＷ上の５つのサンプルマークを、３回目の位置決め時にアライメント系ＡＬ１，ＡＬ２1〜ＡＬ２4を用いて５つのサンプルマークを、４回目の位置決め時に、プライマリアライメント系ＡＬ１，セカンダリアライメント系ＡＬ２2，ＡＬ２3を用いて３つのサンプルマークを、それぞれ検出する。これにより、合計１６箇所のアライメントショット領域におけるアライメントマークの位置情報を、１６箇所のアライメントマークを単一のアライメント系で順次検出する場合などに比べて、格段に短時間で得ることができる。この場合において、上記のウエハステージＷＳＴ２の移動動作と連動して、アライメント系ＡＬ１，ＡＬ２2，ＡＬ２3はそれぞれ、検出領域（例えば、検出光の照射領域に相当）内に順次配置されるＹ軸方向に沿って配列された複数のアライメントマーク（サンプルマーク）を検出する。このため、上記のアライメントマークの計測に際して、ウエハステージＷＳＴ２をＸ軸方向に移動させる必要が無い。
【０１２３】
本実施形態では、主制御装置２０は、第２基準マークの検出を含み、ウエハアライメントの際には、計測アーム７１Ｂを含む微動ステージ位置計測系７０Ｂを用いてウエハアライメント時における粗動ステージＷＣＳ２に支持された微動ステージＷＦＳ２のＸＹ平面内の位置計測を行う。ただし、これに限らず、ウエハアライメント時の微動ステージＷＦＳ２の移動を粗動ステージＷＣＳ２と一体で行う場合には、前述したウエハステージ位置計測系１６Ｂを介してウエハＷの位置を計測しながらウエハアライメントを行っても良い。また、計測ステーション３００と露光ステーション２００とが離間しているので、ウエハアライメント時と露光時とでは、微動ステージＷＦＳ２の位置は、異なる座標系上で管理される。そこで、主制御装置２０は、ウエハアライメントの結果得られたウエハＷ上の各ショット領域の配列座標を、第２基準マークを基準とする配列座標に変換する。
【０１２４】
このようにして微動ステージＷＦＳ２に保持されたウエハＷに対するウエハアライメントが終了する。図１には、このウエハアライメントが終了したときの状態が示されている。図１からわかるように、このとき、露光ステーション２００において微動ステージＷＦＳ１に保持されたウエハＷに対する露光が終了間近の状態にある。
【０１２５】
図２０（Ａ）には、このウエハＷに対するウエハアライメントが終了した段階の、粗動ステージＷＣＳ１、ＷＣＳ２の位置関係が示されている。
【０１２６】
主制御装置２０は、図２０（Ａ）に示される位置にウエハステージＷＳＴ２を待機させた状態で、微動ステージＷＦＳ１上のウエハＷに対する露光が終了するのを待つ。
【０１２７】
図１７には、露光が終了した直後のウエハステージＷＳＴ１の状態が示されている。
【０１２８】
主制御装置２０は、露光終了に先立って、図１６の白抜き矢印で示されるように、ブレード駆動系５８を介して図４に示される状態から可動ブレードＢＬを所定量下方に駆動する。これにより、図１６に示されるように、可動ブレードＢＬ上面と投影光学系ＰＬの下方に位置する微動ステージＷＦＳ１（及びウエハＷ）上面とが同一面上に位置する。そして、主制御装置２０は、この状態で、露光が終了するのを待つ。
【０１２９】
そして、露光が終了すると、主制御装置２０は、ブレード駆動系５８を介して可動ブレードＢＬを＋Ｙ方向に所定量駆動し（図１７中の白抜き矢印参照）、可動ブレードＢＬを、微動ステージＷＦＳ１に接触又は３００μｍ程度のクリアランスを介して近接させる。すなわち、主制御装置２０は、可動ブレードＢＬと微動ステージＷＦＳ１とをスクラム状態に設定する。
【０１３０】
次に、主制御装置２０は、図１８に示されるように、可動ブレードＢＬと微動ステージＷＦＳ１とのスクラム状態を維持しつつ、ウエハステージＷＳＴ１と一体で可動ブレードＢＬを＋Ｙ方向に駆動する（図１８の白抜き矢印参照）。これにより、先端レンズ１９１との間に保持されていた液体Ｌｑで形成される液浸空間領域（液体Ｌｑ）が、微動ステージＷＦＳ１から可動ブレードＢＬに渡される。図１８には、液体Ｌｑで形成される液浸空間領域が微動ステージＷＦＳ１から可動ブレードＢＬに渡される直前の状態が示されている。この図１８の状態では、先端レンズ１９１と、微動ステージＷＦＳ１及び可動ブレードＢＬとの間に、液体Ｌｑが保持されている。なお、可動ブレードＢＬと微動ステージＷＦＳ１とを近接させて駆動する場合、液体Ｌｑの漏出が防止あるいは抑制されるように可動ブレードＢＬと微動ステージＷＦＳ１とのギャップ（クリアランス）を設定することが好ましい。
【０１３１】
そして、図１９に示されるように、微動ステージＷＦＳ１から可動ブレードＢＬへの液浸空間領域の受け渡しが終了すると、主制御装置２０は、微動ステージＷＦＳ１を保持する粗動ステージＷＣＳ１を、さらに＋Ｙ方向に駆動して、前述の待機位置で微動ステージＷＦＳ２を保持して待機している粗動ステージＷＣＳ２の近傍まで移動させる。これにより、図２０（Ｂ）に示されるように、粗動ステージＷＣＳ１が、内部空間にセンターテーブル１３０を収容し、かつセンターテーブル１３０の真上で微動ステージＷＦＳ１を支持する状態となる。すなわち、粗動ステージＷＣＳ１により、微動ステージＷＦＳ１がセンターテーブル１３０の真上に搬送される。図２１には、このときの露光装置１００の状態が平面図にて示されている。
【０１３２】
そして、主制御装置２０は、センターテーブル１３０の駆動装置１３２を介してテーブル本体１３６を上方に駆動して、下方から微動ステージＷＦＳ１を支持させる。
【０１３３】
そして、この状態で、主制御装置２０は、不図示のロック機構を解除し、粗動ステージＷＣＳ１を、第１部分ＷＣＳ１ａと第２部分ＷＣＳ１ｂとに分離する。これにより、微動ステージＷＦＳ１が粗動ステージＷＣＳ１から離脱可能となる。そこで、主制御装置２０は、図２０（Ｃ）の白抜き矢印で示されるように、微動ステージＷＦＳ１を支持しているテーブル本体１３６を下方に駆動する。
【０１３４】
そして、主制御装置２０は、粗動ステージＷＣＳ１の、第１部分ＷＣＳ１ａと第２部分ＷＣＳ１ｂとを合体後、不図示のロック機構をロックする。
【０１３５】
次に、主制御装置２０は、粗動ステージＷＣＳ２を粗動ステージＷＣＳ１にほぼ接触させるとともに、微動ステージ駆動系５２Ａ，５２ＢのＹＺコイルに流れる電流を制御して、電磁力（ローレンツ力）により微動ステージＷＦＳ２を、図２０（Ｄ）白抜き矢印で示されるように、−Ｙ方向に駆動し、微動ステージＷＦＳ２を粗動ステージＷＣＳ２から粗動ステージＷＣＳ１に移載（スライド移動）する。
【０１３６】
次に、主制御装置２０は、微動ステージＷＦＳ２を支持した粗動ステージＷＣＳ１を、図２２（Ａ）中に白抜き矢印で示されるように、−Ｙ方向に移動させて、可動ブレードＢＬから微動ステージＷＦＳ２に、先端レンズ１９１との間で保持されている液浸空間領域を渡す。この液浸空間領域（液体Ｌｑ）の受け渡しは、前述した微動ステージＷＦＳ１から可動ブレードＢＬへの液浸空間領域の受け渡しと逆の手順で行われる。
【０１３７】
そして、主制御装置２０は、露光開始に先立って、前述の一対のレチクルアライメント系ＲＡ１，ＲＡ２、及び微動ステージＷＦＳ２の計測プレート８６上の一対の第１基準マークなどを用いて、通常のスキャニング・ステッパと同様の手順（例えば、米国特許第５，６４６，４１３号明細書などに開示される手順）で、レチクルアライメントを行う。図２２（Ｂ）には、レチクルアライメント中の微動ステージＷＦＳ２が、これを保持する粗動ステージＷＣＳ１とともに示されている。そして、主制御装置２０は、レチクルアライメントの結果と、ウエハアライメントの結果（ウエハＷ上の各ショット領域の第２基準マークを基準とする配列座標）とに基づいて、ステップ・アンド・スキャン方式の露光動作を行い、ウエハＷ上の複数のショット領域にレチクルＲのパターンをそれぞれ転写する。この露光は、レチクルアライメント後、微動ステージＷＦＳ２を一旦−Ｙ側に戻し、ウエハＷ上の＋Ｙ側のショット領域から−Ｙ側のショット領域の順で行われる。
【０１３８】
上記の液浸空間領域の受け渡し、レチクルアライメント及び露光と並行して、以下のａ．〜ｇ．のような動作が行われている。
ａ．  すなわち、主制御装置２０によって、ロボットアーム１４０がＸ軸方向、Ｙ軸方向及びＺ軸方向に所定の手順で駆動され（図２３の白抜き矢印参照）、センターテーブル１３０のテーブル本体１３６上に載置された露光済みのウエハＷを保持する微動ステージＷＦＳ１が、ロボットアーム１４０によってアンロードテーブル１５０上に搬送される。図２４には、微動ステージＷＦＳ１が、アンロードテーブル１５０上に搬送された状態が示されている。このとき、微動ステージＷＦＳ２上のウエハＷは露光中であり、微動ステージＷＦＳ３は、ロードテーブル１５２上で新たなウエハＷを保持して待機中である。
ｂ．  次いで、主制御装置２０の指示に基づき、アンロードアーム１４４により、アンロードテーブル１５０上の微動ステージＷＦＳ１から露光済みのウエハＷがアンロードされる。
【０１３９】
このアンロードは、アンロードアーム１４４が、その先端のベルヌーイ・チャック１０８がウエハＷ（微動ステージＷＦＳ１のプレート８３）に対し数μｍ程度まで接近するまで、下方に駆動される。そして、その数μｍのギャップを維持するようにベルヌーイ・チャック１０８から吹き出される空気の流速が調整される。これにより、数μｍ程度のクリアランスを介して、ウエハＷがベルヌーイ・チャック１０８により上方から非接触で吸着保持される。ここで、アンロードテーブル１５０上に微動ステージＷＦＳ１（又はＷＦＳ２あるいはＷＦＳ３）があるとき、微動ステージＷＦＳ１のウエハホルダ（図示省略）とウエハＷの裏面とにより形成される減圧室（減圧空間）が、不図示の給気管路及び配管を介して、加圧気体の供給源に接続されたポンプに接続されており、このポンプを主制御装置２０が作動させることにより、ウエハホルダによるウエハＷの吸着解除と、下方からの加圧気体の吹き出しによる、ベルヌーイ・チャック１０８によるウエハＷの吸着保持動作に対するアシストが行われる。なお、ウエハが吸着されているときを含み、ポンプの停止状態（非作動状態）では、不図示のチェック弁の作用により、給気管路は閉じられている。
【０１４０】
その後、アンロードアーム１４４が上方に駆動された後、ＸＹ平面内で駆動される。これにより、アンロードアーム１４４により、ウエハＷが、ウエハ搬出位置（例えば、露光装置１００にインライン接続されているコータ・デベロッパとのウエハの受け渡し位置（搬出側））まで搬送され、そのウエハ搬出位置に載置される。図２５には、アンロードアーム１４４がアンロードテーブル１５０から離れていく様子が示されている。
ｃ．  上記の露光済みのウエハＷのアンロードと並行して、主制御装置２０によって、ロボットアーム１４０がＸ軸方向、Ｙ軸方向及びＺ軸方向に所定の手順で駆動され、ロードテーブル１５２上に載置された新たなウエハＷを保持する微動ステージＷＦＳ３が、ロボットアーム１４０によって、センターテーブル１３０のテーブル本体１３６上に搬送される。図２６には、微動ステージＷＦＳ３のセンターテーブル１３０上への搬送が終了した状態が示されている。搬送終了後、センターテーブル１３０のテーブル本体１３６は、主制御装置２０により、駆動装置１３２を介して所定量上方に駆動される。このとき、微動ステージＷＦＳ２上では、ウエハＷの露光が続行されている。
ｄ．  次いで、主制御装置２０により、アライメント終了位置の近傍で待機していた粗動ステージＷＣＳ２が−Ｙ方向に駆動され、これにより、テーブル本体１３６上に支持されている微動ステージＷＦＳ３が、図２７に示されるように、粗動ステージＷＣＳ２に装着される。その後、テーブル本体１３６が所定量下降駆動される。これにより、微動ステージＷＦＳ３が、粗動ステージＷＣＳ２に支持されるようになる。
ｅ．  次いで、主制御装置２０により、粗動ステージＷＣＳ２が＋Ｙ方向に駆動され、計測ステーション３００に移動される。
ｆ．  その後、粗動ステージＷＣＳ２に支持された微動ステージＷＦＳ３上の第２基準マークの検出、微動ステージＷＦＳ３上のウエハＷのアライメント等が、前述と同様の手順で行われる。そして、主制御装置２０により、ウエハアライメントの結果得られたウエハＷ上の各ショット領域の配列座標が、第２基準マークを基準とする配列座標に変換される。この場合も、微動ステージ位置計測系７０Ｂを用いて、アライメントの際の微動ステージＷＦＳ３の位置計測が行われる。
ｇ．  上記の微動ステージＷＦＳ３の粗動ステージＷＣＳ２への装着、計測ステーション３００への移動及び微動ステージＷＦＳ３上のウエハＷのアライメント等の動作と並行して、主制御装置２０により、ロボットアーム１４０がＺ軸方向及びＹ軸方向（並びにＸ軸方向）に所定の手順で駆動され、アンロードテーブル１５０上に載置された微動ステージＷＦＳ１が、ロボットアーム１４０によって、ロードテーブル１５２上に搬送され、これに続いて、微動ステージＷＦＳ１に対する新たな（露光前の）ウエハＷのロードが、大略、前述したアンロードの場合と逆の手順で、主制御装置２０によって行われる。
【０１４１】
すなわち、主制御装置２０は、ロードアーム１４２を制御して、ウエハ搬入位置（例えばコータ・デベロッパとのウエハの受け渡し位置（搬入側））にあるウエハＷを受け取らせ（ベルヌーイ・チャック１０８によって吸着保持させ）、ロードテーブル１５２上に載置されている微動ステージＷＦＳ１の上方まで搬送させる。図２８には、このウエハＷの搬送中の状態が示されている。このとき、微動ステージＷＦＳ２に保持されたウエハＷの露光が続行され、微動ステージＷＦＳ３に保持されたウエハＷのアライメントが続行されている。
【０１４２】
次いで、主制御装置２０は、ウエハＷを保持するロードアーム１４２をウエハＷの裏面が微動ステージＷＦＳ１のウエハホルダに当接する位置まで下降駆動する。次いで、主制御装置２０は、ベルヌーイ・チャック１０８によるウエハＷの吸引を解除して、ロードアーム１４２を所定の待機位置へ退避させる。これにより、新たなウエハＷが、ロードテーブル１５２上に載置されている微動ステージＷＦＳ１上にロードされる。この場合において、微動ステージＷＦＳ１（又はＷＦＳ２あるいはＷＦＳ３）がロードテーブル１５２上にあるとき、微動ステージＷＦＳ１のウエハホルダ（図示省略）とウエハＷの裏面とにより形成される減圧室（減圧空間）が、不図示の排気管路及び配管を介してバキュームポンプに接続されており、このバキュームポンプを主制御装置２０が作動させることにより、減圧室内の気体が排気管路及び配管を介して外部に排気され、減圧室内が負圧となって、ウエハホルダによるウエハＷの吸着が開始される。そして、減圧室内が所定の圧力（負圧）となったとき、主制御装置２０によりバキュームポンプが停止される。バキュームポンプが停止されると、不図示のチェック弁の作用により、排気管路は閉じられる。従って、減圧室の減圧状態が維持され、減圧室の気体を真空吸引するためのチューブなどを微動ステージＷＦＳ１に接続しなくても、ウエハＷがウエハホルダに保持される。このため、微動ステージＷＦＳ１を、粗動ステージから分離して支障なく搬送することができる。
【０１４３】
微動ステージＷＦＳ１上へのウエハＷのロード後、図１５の場合と同様の状態、すなわち露光ステーション２００にある微動ステージＷＦＳ２に保持されたウエハＷに上述した露光が行われ、計測ステーション３００にある微動ステージＷＦＳ３に保持されたウエハＷに対するアライメントが行われている最中で、かつ微動ステージＷＦＳ１が、ロードテーブル１５２上で新たなウエハＷを保持して待機中の状態となる。
【０１４４】
以降、主制御装置２０により、微動ステージＷＦＳ１、ＷＦＳ２、ＷＦ３を順次用いて、前述と同様の並行処理が、繰り返し行われ、複数枚のウエハＷに対する露光処理が連続して行われる。
【０１４５】
以上詳細に説明したように、本実施形態の露光装置１００によると、ウエハＷを保持する微動ステージ（ＷＦＳ１、ＷＦＳ２及びＷＦＳ３のいずれか）が、粗動ステージＷＣＳ１、ＷＣＳ２の上以外の場所にあるとき、具体的には、センターテーブル１３０、アンロードテーブル１５０，ロードテーブル１５２上にあるときに、ロボットアーム１４０、アンロードアーム１４４及びロードアーム１４２、及びセンターテーブル１３０、並びにこれらのアーム１４０、１４４，１４２及びセンターテーブル１３０を制御する主制御装置２０を含む交換システムによりウエハＷの交換が行われる。すなわち、ウエハＷの交換が、粗動ステージＷＣＳ１、ＷＣＳ２の動作とは無関係に行われる。このため、露光ステーション２００における１つの微動ステージ（例えばＷＦＳ１）に保持されたウエハＷの露光が行われる間に、計測ステーション３００における別の微動ステージ（例えばＷＦＳ２）に保持されたウエハＷに対するアライメント（計測）と、別の微動ステージ（例えばＷＦＳ３）に保持されたウエハＷの交換とを少なくとも一部並行して行うことが可能となる。すなわち、露光、アライメント、ウエハ交換の３つの動作を、同時並行的に行うことができるので、スループットの格段の向上が可能である。従って、例えば４５０ｍｍウエハを処理対象とする場合であっても、従来に比べて高スループットなウエハ処理を実現することが可能である。
【０１４６】
また、本実施形態の露光装置１００では、露光、アライメント、ウエハ交換の３つの動作を、同時並行的に行うことができるので、例えば露光時間と同程度の時間をアライメントにかけても、特にスループットが低下するおそれはない。従って、ウエハアライメントの対象となるアライメントショット領域を増やすことができ、例えば全てのショット領域をアライメントショット領域とすることも可能になる。これにより、高精度なウエハアライメント、ひいては重ね合わせ精度の向上が可能になる。
【０１４７】
上述の１つの微動ステージ（例えばＷＦＳ１）に保持されたウエハＷの露光と、別の微動ステージ（例えばＷＦＳ２）に保持されたウエハＷに対するアライメントと並行して、ロードテーブル１５２上では、微動ステージ（例えばＷＦＳ３）及びこれに保持されたウエハＷの温調が行われる。
【０１４８】
また、本実施形態の露光装置１００によると、ウエハＷを保持した微動ステージＷＦＳ１，ＷＦＳ２あるいはＷＦＳ３が、アンローディングポジションＵＬＰでアンロードテーブル１５０に支持されているとき、ウエハＷをアンロードアーム１４４のベルヌーイ・チャック１０８により上方から非接触で保持して、微動ステージＷＦＳ２（又はＷＦＳ１）から搬出することが可能になる。また、ウエハＷをロードアーム１４２のベルヌーイ・チャック１０８により上方から非接触で保持して、ＷＦＳ１，ＷＦＳ２あるいはＷＦＳ３にロードすることが可能になる。このため、微動ステージＷＦＳ１，ＷＦＳ２あるいはＷＦＳ３からのウエハＷのアンロードに用いられるアーム等を収容するための切り欠き、及び微動ステージＷＦＳ１，ＷＦＳ２あるいはＷＦＳ３へのウエハＷのロードに用いられるアーム等を収容するための切り欠きを、微動ステージ（ウエハホルダ）に形成する必要がない。また、本実施形態の露光装置１００によると、ウエハの受け渡しのための上下動部材（センターアップ又はセンターテーブルとも呼ばれる）を微動ステージに設ける必要もない。従って、微動ステージ（ウエハホルダ）によりウエハＷを周辺のショット領域を含み、全面に渡って均一に吸着保持することが可能になり、ウエハＷの平坦度を全面に渡って良好に維持することが可能になる。
【０１４９】
また、本実施形態の露光装置１００によると、微動ステージＷＦＳ１，ＷＦＳ２，及びＷＦＳ３のＸＹ平面に実質的に平行な一面にグレーティングＲＧが形成された計測面がそれぞれ設けられている。微動ステージＷＦＳ１（ＷＦＳ２あるいはＷＦＳ３）が、粗動ステージＷＣＳ１（又はＷＣＳ２）により、ＸＹ平面に沿って相対移動可能に保持される。そして、微動ステージ位置計測系７０Ａ（又は７０Ｂ）が、粗動ステージＷＣＳ１の空間部内にグレーティングＲＧが形成された計測面に対向して配置され、計測面に一対の計測ビームＬＢｘ１，ＬＢｘ２、ＬＢｙａ１，ＬＢｙａ２、ＬＢｙｂ１，ＬＢｙｂ２をそれぞれ照射し、該計測ビームの計測面からの光（例えば各計測ビームのグレーティングＲＧによる一次回折ビームの合成ビームＬＢｘ１２、ＬＢｙａ１２、ＬＢｙｂ１２）を受光するＸヘッド７７ｘ、Ｙヘッド７７ｙａ，７７ｙｂを有している。そして、微動ステージ位置計測系７０Ａ（又は７０Ｂ）により、そのヘッドＸヘッド７７ｘ、Ｙヘッド７７ｙ１，７７ｙ２の出力に基づいて微動ステージＷＦＳ１（ＷＦＳ２あるいはＷＦＳ３）の少なくともＸＹ平面内の位置情報（θｚ方向の回転情報を含む）が計測される。このため、微動ステージＷＦＳ１（ＷＦＳ２あるいはＷＦＳ３）のグレーティングＲＧが形成された計測面にＸヘッド７７ｘ、Ｙヘッド７７ｙ１，７７ｙ２から一対の計測ビームＬＢｘ１，ＬＢｘ２、ＬＢｙａ１，ＬＢｙａ２、ＬＢｙｂ１，ＬＢｙｂ２をそれぞれ照射して、いわゆる裏面計測により微動ステージＷＦＳ１（ＷＦＳ２あるいはＷＦＳ３）のＸＹ平面内の位置情報を精度良く計測することが可能となる。そして、主制御装置２０により、微動ステージ駆動系５２Ａ、あるいは（微動ステージ駆動系５２Ａ及び粗動ステージ駆動系５１Ａ）を介して、（又は微動ステージ駆動系５２Ｂ、あるいは（微動ステージ駆動系５２Ｂ及び粗動ステージ駆動系５１Ｂ）を介して、）微動ステージ位置計測系７０Ａ（又は７０Ｂ）で計測された位置情報に基づいて、微動ステＷＦＳ１（ＷＦＳ２あるいはＷＦＳ３）が、単独で若しくはＷＣＳ１（又はＷＣＳ２）と一体で駆動される。また、上述の如く、微動ステージ上に上下動部材を設ける必要がないので、上記の裏面計測を採用しても特に支障は生じない。
【０１５０】
また、本実施形態の露光装置１００によると、露光ステーション２００において、粗動ステージＷＣＳ１に相対移動可能に保持された微動ステージＷＦＳ１（ＷＦＳ２あるいはＷＦＳ３）上に載置されたウエハＷがレチクルＲ及び投影光学系ＰＬを介して露光光ＩＬで露光される。この際、粗動ステージＷＣＳ１に移動可能に保持されている微動ステージＷＦＳ１（ＷＦＳ２あるいはＷＦＳ３）のＸＹ平面内の位置情報は、主制御装置２０により、微動ステージＷＦＳ１（ＷＦＳ２あるいはＷＦＳ３）に配置されたグレーティングＲＧに対向する計測アーム７１Ａを有する微動ステージ位置計測系７０Ａのエンコーダシステム７３を用いて計測される。この場合、粗動ステージＷＣＳ１には、その内部に空間部が形成され、微動ステージ位置計測系７０Ａの各ヘッドは、この空間部内に配置されているので、微動ステージＷＦＳ１（ＷＦＳ２あるいはＷＦＳ３）と微動ステージ位置計測系７０Ａの各ヘッドとの間には、空間が存在するのみである。従って、各ヘッドを微動ステージＷＦＳ１（ＷＦＳ２あるいはＷＦＳ３）（グレーティングＲＧ）に近接して配置することができ、これにより、微動ステージ位置計測系７０Ａによる微動ステージ（ＷＦＳ２あるいはＷＦＳ３）の位置情報の高精度な計測が可能になる。また、この結果、主制御装置２０による粗動ステージ駆動系５１Ａ及び／又は微動ステージ駆動系５２Ａを介した微動ステージＷＦＳ１（ＷＦＳ２あるいはＷＦＳ３）の高精度な駆動が可能になる。
【０１５１】
また、この場合、計測アーム７１Ａから射出される、微動ステージ位置計測系７０Ａを構成するエンコーダシステム７３、レーザ干渉計システム７５の各ヘッドの計測ビームのグレーティングＲＧ上の照射点は、ウエハＷに照射される露光光ＩＬの照射領域（露光領域）ＩＡの中心（露光位置）に一致している。ここで、全ての計測ビームの照射点が露光中心と一致しているわけではないが、アッベ誤差の影響を抑制、あるいは無視し得る程度である。従って、主制御装置２０は、いわゆるアッベ誤差の影響を受けることなく、微動ステージＷＦＳ１（ＷＦＳ２あるいはＷＦＳ３）の位置情報を高精度に計測することができる。また、計測アーム７１ＡをグレーティングＲＧの直下に配置することによって、エンコーダシステム７３の各ヘッドの計測ビームの大気中の光路長を極短くできるので、空気揺らぎの影響が低減され、この点においても、微動ステージＷＦＳ１（ＷＦＳ２あるいはＷＦＳ３）の位置情報を高精度に計測することができる。
【０１５２】
また、本実施形態では、計測ステーション３００には、微動ステージ位置計測系７０Ａと左右対称に構成された微動ステージ位置計測系７０Ｂが設けられている。そして、計測ステーション３００において、粗動ステージＷＣＳ２に保持された微動ステージＷＦＳ２（ＷＦＳ３あるいはＷＦＳ１）上のウエハＷに対するウエハアライメントがアライメント系ＡＬ１、ＡＬ２1〜ＡＬ２4などによって行われる際、粗動ステージＷＣＳ２に移動可能に保持されている微動ステージＷＦＳ２（ＷＦＳ３あるいはＷＦＳ１）のＸＹ平面内の位置情報が、微動ステージ位置計測系７０Ｂによって高精度に計測される。この結果、主制御装置２０による粗動ステージ駆動系５１Ｂ及び／又は微動ステージ駆動系５２Ｂを介した微動ステージＷＦＳ２（ＷＦＳ３あるいはＷＦＳ１）の高精度な駆動が可能になる。
【０１５３】
従って、例えば、そのウエハＷを照明光ＩＬで露光することで、そのウエハＷの全面に渡ってパターンを精度良く形成することが可能になる。
【０１５４】
また、本実施形態の露光装置１００によると、微動ステージＷＦＳ１（ＷＦＳ２あるいはＷＦＳ３）を精度良く駆動することができるので、この微動ステージＷＦＳ１（ＷＦＳ２あるいはＷＦＳ３）に載置されたウエハＷをレチクルステージＲＳＴ（レチクルＲ）に同期して精度良く駆動し、走査露光により、レチクルＲのパターンをウエハＷ上に精度良く転写することが可能になる。
【０１５５】
なお、上記実施形態では、３つの微動ステージＷＦＳ１，ＷＦＳ２，ＷＦＳ３が用意され、計測ステーション３００と露光ステーション２００との間の微動ステージＷＦＳ１，ＷＦＳ２の移動経路上に配置されているセンターテーブル１３０上に微動ステージが置かれたとき、その微動ステージをセンターテーブル１３０上から別の位置へ移動させて、ウエハ交換を行うものとした。しかし、ウエハ交換の方法が、これに限定されるものではない。
【０１５６】
なお、上記実施形態では、粗動ステージＷＣＳ１、ＷＣＳ２が、第１部分と第２部分とに分離可能でかつ第１部分と第２部分とが係合可能である場合について説明したが、これに限らず、第１部分と第２部分とは、物理的には常時離れていても、相互に接近及び離間可能で、離間した際には、保持部材（上記実施形態の微動ステージ）を離脱可能で、接近した際には、保持部材を支持可能であれば良い。あるいは、反対に、以下の第２、第３の実施形態のように、粗動ステージは、必ずしも２部分に分離できなくても良い。この場合、センターテーブルの軸が侵入可能な、粗動ステージＷＣＳ１，ＷＣＳ２の底面の切欠きは必ずしも設けられていなくても良い。
【０１５７】
なお、上記実施形態におけるセンターテーブル１３０上の微動ステージの搬出入に着目すれば、露光済みのウエハＷを保持する微動ステージがセンターテーブル１３０上から主制御装置２０の制御下にあるロボットアーム１４０によって搬出され、新たなウエハＷを保持する別の微動ステージがロボットアーム１４０によってセンターテーブル１３０上に搬入されている。従って、ロボットアーム１４０によってウエハＷは微動ステージと一体で交換されているとも言える。
【０１５８】
また、上記実施形態では、センターテーブル１３０に保持される微動ステージを、ウエハ交換のため、ロボットアーム１４０によってアンロードテーブル１５０まで搬送するものとしたが、これに限らず、例えば計測ステーション３００内にウエハ交換位置を設定しても良く、この場合には、微動ステージを搬送するためのロボットアーム１４０を設けなくても良い。
【０１５９】
また、センターテーブル１３０は、微動ステージＷＦＳ１，ＷＦＳ２，ＷＦＳ３の裏面にグレーティングＲＧが設けられている場合に、そのグレーティングＲＧと接触しないように微動ステージＷＦＳ１，ＷＦＳ２，ＷＦＳ３の保持を行う必要がある。また、上記実施形態の粗動ステージＷＣＳ１、ＷＣＳ２のように、第１部分と第２部分とに分離可能な粗動ステージでは、両者をロックするロック機構を必ずしも設けなくても良い。
【０１６０】
また、上記実施形態では、微動ステージＷＦＳ１、ＷＦＳ２、ＷＦＳ３を２つの粗動ステージＷＣＳ１，ＷＣＳ２の相互間で受け渡す際に、両者ＷＣＳ１，ＷＣＳ２を極端に近接させなくても良い。粗動ステージＷＣＳ１，ＷＣＳ２の相互間での微動ステージの移動時に微動ステージが大きく傾かない（要はリニアモータの固定子と可動子とが接触しない）範囲で、粗動ステージＷＣＳ１と粗動ステージＷＣＳ２とを離しても良い。
【０１６１】
《第２の実施形態》
次に、本発明の第２の実施形態を、図２９〜図４０に基づいて説明する。ここで、前述した第１の実施形態と同一若しくは同等の構成部分については、同一若しくは類似の符号を用いるとともに、その説明を省略する。
【０１６２】
図２９には、第２の実施形態の露光装置１０００の概略的な構成が平面図にて示されている。また、図３０には、露光装置１０００の制御系の構成がブロック図にて示されている。露光装置１０００は、ステップ・アンド・スキャン方式の投影露光装置、いわゆるスキャナである。ここでは、第１の実施形態と同様に、Ｘ軸、Ｙ軸及びＺ軸方向、並びにθｘ、θｙ、及びθｚ方向を定めて説明を行う。
【０１６３】
本第２の実施形態の露光装置１０００は、図２９と図１とを比較するとわかるように、計測ステーション３００と露光ステーション２００との間に、前述のセンターテーブル１３０の代わりに、リレーステージＤＲＳＴが、配置されている。本第２の実施形態では、センターテーブル１３０が設けられていないことに対応して、粗動ステージＷＣＳ１’，ＷＣＳ２’の粗動スライダ部９１には、前述の切り欠きが形成されていない。また、本第２の実施形態では、粗動ステージＷＣＳ１’，ＷＣＳ２’とセンターテーブル１３０との間での微動ステージの受け渡しはないので、粗動ステージＷＣＳ１’，ＷＣＳ２’は、２部分に分離する必要はない。このため、粗動ステージＷＣＳ１’，ＷＣＳ２’は、分離できない構成が採用されている。すなわち、切り欠きの有無、及び分離の可否を除き、粗動ステージＷＣＳ１’，ＷＣＳ２’は、前述した第１の実施形態の粗動ステージＷＣＳ１，ＷＣＳ２と同様に構成されている。
【０１６４】
本第２の実施形態の露光装置１０００では、アンローディングポジションＵＬＰ、ローディングポジションＬＰに、前述のアンロードテーブル１５０，ロードテーブル１５２の代わりに、ロードステージ１５６、アンロードステージ１５４が設置されている。ロードステージ１５６及びアンロードステージ１５４は、基本的には、粗動ステージＷＣＳ１’，ＷＣＳ２’と同様に構成されているが、前述の粗動スライダ部９１に相当する底板部には、複数の永久磁石１８及びエアベアリング９４は設けられていない。ロードステージ１５６には、温度調整装置１５３（図３０参照）が設けられている。温度調整装置１５３によって、ロードステージ１５６に支持された微動ステージ（ＷＦＳ１〜ＷＦＳ３のいずれか）及び該微動ステージに保持されたウエハＷの温調が行われる。なお、ロードステージ１５６及びアンロードステージ１５４に代えて、一対の固定子部９３ａ、９３ｂが、前述と同様の位置関係で一体化された部材を、用いることも可能である。
【０１６５】
リレーステージＤＲＳＴは、粗動ステージＷＣＳ１’，ＷＣＳ２’と同様に構成されている。また、本第２の実施形態では、不図示ではあるが、ロードステージ１５６とアンロードステージ１５４との間の領域にベース盤１２が延設され、リレーステージＤＲＳＴが、ベース盤１２に沿って、平面モータから成る駆動系によって駆動され、図２９に示される位置と、ロードステージ１５６とアンロードステージ１５４との間の位置との間を移動するようになっている。本第２の実施形態では、ロボットアーム１４０は、設けられていない。
【０１６６】
リレーステージＤＲＳＴは、粗動ステージＷＣＳ１’，ＷＣＳ２’と同様に、微動ステージＷＦＳ１、ＷＦＳ２あるいはＷＦＳ３を非接触で支持（保持）できるようになっており、リレーステージＤＲＳＴに支持された微動ステージは、微動ステージ駆動系５２Ｃ（図３０参照）によってリレーステージＤＲＳＴに対して６自由度方向（Ｘ、Ｙ、Ｚ、θｘ、θｙ、θｚ）に駆動可能である。ただし、微動ステージは、リレーステージＤＲＳＴに対して少なくともＹ軸方向にスライド可能であれば良い。
【０１６７】
同様に、前述したロードステージ１５６、アンロードステージ１５４も、微動ステージＷＦＳ１、ＷＦＳ２あるいはＷＦＳ３を非接触で支持（保持）できるようになっており、ロードステージ１５６、アンロードステージ１５４に支持された微動ステージは、微動ステージ駆動系５２Ｄ，５２Ｅ（図３０参照）によって、少なくともＹ軸方向に駆動可能である。
【０１６８】
リレーステージＤＲＳＴのＸＹ平面内の位置情報（θｚ方向の回転情報も含む）は、例えば干渉計及び／又はエンコーダなどを含む不図示の位置計測系によって計測される。位置計測系の計測結果は、リレーステージＤＲＳＴの位置制御のため、主制御装置２０（図３０参照）に供給される。
【０１６９】
また、露光装置１０００では、上記の相違点に対応して、主制御装置２０の制御内容が、幾分、第１の実施形態と相違する。しかし、これらの相違点を除けば、露光装置１０００は、露光装置１００と同様に構成されている。
【０１７０】
次に、本第２の実施形態の露光装置１０００において、３つの微動ステージＷＦＳ１、ＷＦＳ２、及びＷＦＳ３を用いて行われる並行処理動作について、説明する。
【０１７１】
図３１には、微動ステージＷＦＳ１が、露光ステーション２００にあり、その微動ステージＷＦＳ１に保持されたウエハＷに前述した露光が行われ、微動ステージＷＦＳ２が、計測ステーション３００にあり、その微動ステージＷＦＳ２に保持されたウエハＷに対する前述したアライメントが行われている最中の状態が示されている。このとき、微動ステージＷＦＳ３は、ロードステージ１５６上で新たなウエハＷを保持して待機している。このとき、微動ステージＷＦＳ３及び該微動ステージＷＦＳ３に保持されたウエハＷの温度調整が、前述の温度調整装置１５３によって行われている。
【０１７２】
そして、微動ステージＷＦＳ２に保持されたウエハＷに対するウエハアライメントが終了する。図２９には、このウエハアライメントが終了したときの状態が示されている。図２９からわかるように、このとき、露光ステーション２００において微動ステージＷＦＳ１に保持されたウエハＷに対する露光が終了間近の状態にある。
【０１７３】
主制御装置２０は、図２９に示される位置にウエハステージＷＳＴ２及びリレーステージＤＲＳＴを待機させた状態で、微動ステージＷＦＳ１上のウエハＷに対する露光が終了するのを待つ。
【０１７４】
そして、露光が終了すると、主制御装置２０は、前述と同様の手順で、微動ステージＷＦＳ１から可動ブレードＢＬへの液浸空間領域の受け渡しを行い、微動ステージＷＦＳ１を保持する粗動ステージＷＣＳ１’を、さらに＋Ｙ方向に駆動して、前述の待機位置で待機しているリレーステージＤＲＳＴにほぼ接触させるとともに、微動ステージ駆動系５２Ａ，５２ＣのＹＺコイルに流れる電流を制御して、電磁力（ローレンツ力）により微動ステージＷＦＳ１を、図３２に白抜き矢印で示されるように、＋Ｙ方向に駆動し、微動ステージＷＦＳ１を粗動ステージＷＣＳ１’からリレーステージＤＲＳＴに移載（スライド移動）する。
【０１７５】
次に、主制御装置２０は、微動ステージＷＦＳ１を支持したリレーステージＤＲＳＴを、図３３中に白抜き矢印で示されるように、−Ｘ方向に駆動して、アンロードステージ１５４にほぼ接した状態で対向させる。また、この直後、主制御装置２０は、微動ステージＷＦＳ２を支持した粗動ステージＷＣＳ２’を、図３３中に白抜き矢印で示されるように、−Ｙ方向に駆動して、粗動ステージＷＣＳ１’にほぼ接触させる。
【０１７６】
次に、主制御装置２０は、微動ステージ駆動系５２Ｂ，５２ＡのＹＺコイルに流れる電流を制御して、電磁力（ローレンツ力）により微動ステージＷＦＳ２を、図３４中に白抜き矢印で示されるように、−Ｙ方向に駆動し、粗動ステージＷＣＳ２’から粗動ステージＷＣＳ１’に移載（スライド移動）する。これと並行して、主制御装置２０は、微動ステージ駆動系５２Ｃ，５２ＥのＹＺコイルに流れる電流を制御して、電磁力（ローレンツ力）により露光済みのウエハＷを保持する微動ステージＷＦＳ１を、図３４中に白抜き矢印で示されるように、−Ｙ方向に駆動し、リレーステージＤＲＳＴからアンロードステージ１５４に移載（スライド移動）する。
【０１７７】
粗動ステージＷＣＳ２’から粗動ステージＷＣＳ１’への微動ステージＷＦＳ２の移載に引き続いて、主制御装置２０は、微動ステージＷＦＳ２を支持した粗動ステージＷＣＳ１’を、−Ｙ方向に移動させて、可動ブレードＢＬから微動ステージＷＦＳ２に、先端レンズ１９１との間で保持されている液浸空間領域を渡す。この液浸空間領域（液体Ｌｑ）の受け渡しは、前述した微動ステージＷＦＳ１から可動ブレードＢＬへの液浸領域の受け渡しと逆の手順で行われる。図３５には、この液浸領域の受け渡しが終わった後の状態が示されている。
【０１７８】
次いで、主制御装置２０は、図３５中に白抜き矢印で示されるように、リレーステージＤＲＳＴを、＋Ｙ方向に駆動して、ロードステージ１５６にほぼ接触状態で対向させる。これと並行して、主制御装置２０は、図３５中に白抜き矢印で示されるように、粗動ステージＷＣＳ２’を、＋Ｙ方向に駆動して、計測ステーション３００に移動させる。このとき、微動ステージＷＦＳ３は、引き続き、ロードステージ１５６上で新たなウエハＷを保持して待機している（図３５参照）。
【０１７９】
そして、主制御装置２０は、露光開始に先立って、図３５に示される位置に微動ステージＷＦＳ２を位置決めして、前述の一対のレチクルアライメント系ＲＡ１，ＲＡ２、及び微動ステージＷＦＳ２の計測プレート８６上の一対の第１基準マークなどを用いて、通常のスキャニング・ステッパと同様の手順（例えば、米国特許第５，６４６，４１３号明細書などに開示される手順）で、レチクルアライメントを行う。そして、主制御装置２０は、レチクルアライメントの結果と、ウエハアライメントの結果（ウエハＷ上の各ショット領域の第２基準マークを基準とする配列座標）とに基づいて、ステップ・アンド・スキャン方式の露光動作を行い、ウエハＷ上の複数のショット領域にレチクルＲのパターンをそれぞれ転写する。この露光は、レチクルアライメント後、微動ステージＷＦＳ２を一旦−Ｙ側に戻し、ウエハＷ上の＋Ｙ側のショット領域から−Ｙ側のショット領域の順で行われる。
【０１８０】
上記のレチクルアライメント及び露光と並行して、以下のｈ．〜ｍ．のような動作が行われている。
ｈ．  すなわち、主制御装置２０の指示に基づき、アンロードアーム１４４により、前述した手順で、アンロードステージ１５４上の微動ステージＷＦＳ１から露光済みのウエハＷがアンロードされる。図３６には、アンロードアーム１４４がアンロードステージ１５４から離れていく様子が示されている。
ｉ．  上記の露光済みのウエハＷのアンロードと並行して、主制御装置２０によって、図３６に示されるように、新たなウエハＷを保持する微動ステージＷＦＳ３が、ロードステージ１５６上からリレーステージＤＲＳＴ上に移載される。次いで、主制御装置２０によって、図３７中に白抜き矢印で示されるように、微動ステージＷＦＳ３を支持したリレーステージＤＲＳＴが＋Ｘ方向に駆動される。これにより、リレーステージＤＲＳＴは、図３７に示されるように、粗動ステージＷＣＳ２’にほぼ接した状態で対向する。このとき、微動ステージＷＦＳ２上では、ウエハＷの露光が続行されている。
ｊ．  次いで、主制御装置２０により、新たなウエハＷを保持する微動ステージＷＦＳ３が、図３８中に白抜き矢印で示されるように＋Ｙ方向にスライド駆動され、リレーステージＤＲＳＴから粗動ステージＷＣＳ２’に移載される。次いで、主制御装置２０により、リレーステージＤＲＳＴが、図３８中に白抜き矢印で示されるようにアンロードステージ１５４の方向に駆動される。これにより、図３９に示されるように、リレーステージＤＲＳＴが、アンロードステージ１５４にほぼ接した状態で対向する。
ｋ．  その後、粗動ステージＷＣＳ２’に支持された微動ステージＷＦＳ３上の第２基準マークの検出、微動ステージＷＦＳ３上のウエハＷのアライメント等が、前述と同様の手順で行われる。そして、主制御装置２０により、ウエハアライメントの結果得られたウエハＷ上の各ショット領域の配列座標が、第２基準マークを基準とする配列座標に変換される。この場合も、微動ステージ位置計測系７０Ｂを用いて、アライメントの際の微動ステージＷＦＳ３の位置計測が行われる。
ｌ．  上記の微動ステージＷＦＳ３上の第２基準マークの検出、微動ステージＷＦＳ３上のウエハＷのアライメント等の動作と並行して、主制御装置２０により、微動ステージＷＦＳ１が、図３９に示されるように、アンロードステージ１５４からリレーステージＤＲＳＴに移載され、次いで、図４０に示されるように、リレーステージＤＲＳＴからロードステージ１５６に移載される。
ｍ．  これに続いて、微動ステージＷＦＳ１に対する新たな（露光前の）ウエハＷのロードが、前述した手順で、主制御装置２０によって行われる。このとき、微動ステージＷＦＳ２に保持されたウエハＷの露光が続行され、微動ステージＷＦＳ３に保持されたウエハＷのアライメントが続行されている。
【０１８１】
微動ステージＷＦＳ１上へのウエハＷのロード後、図３１の場合と同様の状態、すなわち露光ステーション２００にある微動ステージＷＦＳ２に保持されたウエハＷに上述した露光が行われ、計測ステーション３００にある微動ステージＷＦＳ３に保持されたウエハＷに対するアライメントが行われている最中で、かつ微動ステージＷＦＳ１が、ロードステージ１５６上で新たなウエハＷを保持して待機中の状態となる。
【０１８２】
以降、主制御装置２０により、微動ステージＷＦＳ１、ＷＦＳ２、ＷＦ３を順次用いて、前述と同様の並行処理が、繰り返し行われ、複数枚のウエハＷに対する露光処理が連続して行われる。
【０１８３】
以上説明したように、本第２の実施形態の露光装置１０００によると、前述した第１の実施形態と同等の効果を得ることができる。この場合、粗動ステージＷＣＳ１’と粗動ステージＷＣＳ２’とリレーステージＤＲＳＴとの間での微動ステージの受け渡し（移載）を、その微動ステージのＹ軸方向への移動のみで実現できる。従って、露光装置１０００によると、上述の３つのステージ間での微動ステージの移載動作を短時間に行って、次の動作をより速やかに開始することができ、結果としてスループットの向上が可能となる。
【０１８４】
なお、上記第２の実施形態では、露光済みのウエハＷを保持する微動ステージが主制御装置２０の制御下にあるリレーステージＤＲＳＴによってアンロードステージ１５４に渡され、新たなウエハＷを保持する別の微動ステージがロードステージ１５６からリレーステージＤＲＳＴによって受け取られる。従って、リレーステージＤＲＳＴに対する微動ステージの出入に着目すれば、ウエハＷは微動ステージと一体で交換されているとも言える。
【０１８５】
なお、上記第２の実施形態では、露光済みのウエハＷを保持する微動ステージ（ＷＦＳ１）を、粗動ステージＷＣＳ１’からリレーステージＤＲＳＴに移載（Ｙ軸に沿ってスライド移動）した後、その微動ステージＷＦＳ１を支持するリレーステージＤＲＳＴを、−Ｘ方向に駆動して（横に引き出して）ウエハ交換位置のためアンロードステージ１５４に搬送し、ウエハ交換を行うものとした。しかし、これに限らず、露光済みのウエハＷを保持する微動ステージを保持したリレーステージＤＲＳＴを、粗動ステージＷＣＳ２’の計測ステーション３００から露光ステーション２００への移動経路を外れた位置で待機させ、アライメント済みのウエハＷを保持する他方の微動ステージを、粗動ステージＷＣＳ２’から粗動ステージＷＣＳ１’に移載（Ｙ軸に沿ってスライド移動）する。しかる後、粗動ステージＷＣＳ１’と粗動ステージＷＣＳ２’とがＹ軸方向に離れたとき、待機中のリレーステージＤＲＳＴを＋Ｘ方向に移動（横スライド）させて粗動ステージＷＣＳ２’と接触又は近接させ、リレーステージＤＲＳＴに保持されている微動ステージを粗動ステージＷＣＳ２’に受け渡すようにしても良い。この場合、ウエハ交換位置は計測ステーション３００内に設定される。
【０１８６】
また、上記第２の実施形態において、リレーステージＤＲＳＴに代えて、後述する搬送ステージを用いることとしても良い。
【０１８７】
また、第２の実施形態においても、第１の実施形態と同様に、微動ステージＷＦＳ１、ＷＦＳ２、ＷＦＳ３を２つの粗動ステージＷＣＳ１’，ＷＣＳ２’の相互間で入れ替えるためにリレーステージＤＲＳＴと粗動ステージＷＣＳ１’（又はＷＣＳ２’）とを近接させる場合に、リレーステージＤＲＳＴと粗動ステージＷＣＳ１’（又はＷＣＳ２’）とを極端に近接させなくても良い。リレーステージＤＲＳＴと粗動ステージＷＣＳ１’（又はＷＣＳ２’）との間での微動ステージの移動時に微動ステージが大きく傾かない（要はリニアモータの固定子と可動子とが接触しない）範囲で、リレーステージＤＲＳＴと粗動ステージＷＣＳ１’（又はＷＣＳ２’）とを離しても良い。
【０１８８】
《第３の実施形態》
以下、本発明の第３の実施形態を、図４１〜図５８に基づいて説明する。ここで、前述した第１及び第２の実施形態と同一若しくは同等の構成部分については、同一若しくは類似の符号を用いるとともに、その説明を省略（若しくは簡略）する。
【０１８９】
図４１には、第３の実施形態の露光装置２０００の概略的な構成が平面図にて示されている。図４２には、露光装置２０００の露光ステーション２００及び計測ステーション３００等の構成が概略的に示されている。露光装置２０００は、ステップ・アンド・スキャン方式の投影露光装置、いわゆるスキャナである。ここでは、第１及び第２の実施形態と同様に、Ｘ軸、Ｙ軸及びＺ軸方向、並びにθｘ、θｙ、及びθｚ方向を定めて説明を行う。
【０１９０】
本第３の実施形態の露光装置２０００は、図４１と図１とを比較するとわかるように、センターテーブル１３０、ロボットアーム１４０等の代わりに、搬送ステージＣＳＴが備えられている。これに対応して、本第３の実施形態における粗動ステージＷＣＳ１’，ＷＣＳ２’は、第２の実施形態における粗動ステージＷＣＳ１’，ＷＣＳ２’と同様に構成されている。また、本第３の実施形態では、２つの微動ステージＷＦＳ１，ＷＦＳ２が用いられる。
【０１９１】
搬送ステージＣＳＴは、図４１及び図４２に示されるように、ロボットアーム１４０’の先端に取り付けられている。ロボットアーム１４０’は、少なくともＸＹ平面内で移動可能である。搬送ステージＣＳＴは、ロボットアーム１４０’の移動により、図４２に示される位置、すなわち露光ステーション２００の−Ｙ側端部近傍の位置と、符号ＬＰ／ＵＬＰで示されるウエハ交換位置と、計測ステーション３００の−Ｙ側の位置との間で往復移動する（図５７の破線の矢印参照）。ロボットアーム１４０’は、前述したロボットアーム１４０と同様に主制御装置２０によって制御される（図４４参照）。
【０１９２】
ここで、搬送ステージＣＳＴの構成について説明する。図４３（Ａ）には、搬送ステージＣＳＴの平面図が示され、図４３（Ｂ）には、搬送ステージＣＳＴの＋Ｙ方向から見た側面図が示されている。ここで、図４３（Ａ）及び図４３（Ｂ）では、微動ステージＷＦＳ１（ＷＦＳ２）が、仮想線（二点鎖線）で、併せて図示されている。
【０１９３】
搬送ステージＣＳＴは、図４３（Ａ）及び図４３（Ｂ）からわかるように、ロボットアーム１４０’の先端部下面に、Ｘ軸方向に前述の一対の側壁部９２ａ，９２ｂと同じ間隔隔てて固定された長方形板状部材から成る一対の支持部材９２ａ’，９２ｂ’と、支持部材９２ａ’，９２ｂ’それぞれの下面に、その＋Ｙ側の端部が固定された一対の固定子部９３ａ’、９３ｂ’と、を備えている。図４３（Ｂ）に示されるように、ロボットアーム１４０’の先端部が、一対の支持部材９２ａ’，９２ｂ’の連結部を兼ねている。そこで、以下では、この連結部９２ａ’，９２ｂ’をも含んで、搬送ステージＣＳＴが構成されているものとして説明を行う。
【０１９４】
一対の固定子部９３ａ’、９３ｂ’のそれぞれは、前述の固定子部９３ａ、９３ｂに比べて長さが幾分短いが、固定子部９３ａ、９３ｂと同様に構成されている。すなわち、固定子部９３ａ’、９３ｂ’それぞれは、外形が板状の部材から成り、その内部にコイルユニットＣＵａ’、ＣＵｂ’が収容されている。
【０１９５】
ここで、搬送ステージＣＳＴは、上述したような構成を有しているので、図４３（Ｂ）からもわかるように、微動ステージＷＦＳ１（又はＷＦＳ２）の板状部材８２ａ１、８２ａ２、及び８２ｂ１、８２ｂ２間に固定子部９３ａ’、９３ｂ’がそれぞれ位置するように、微動ステージＷＦＳ１（又はＷＦＳ２）に対する搬送ステージＣＳＴの位置決めを行い、この後に微動ステージＷＦＳ１（又はＷＦＳ２）をＹ軸方向に移動（スライド）させれば、微動ステージＷＦＳ１（又はＷＦＳ２）を搬送ステージＣＳＴにより支持することができる。本実施形態では、上記の微動ステージＷＦＳ１（又はＷＦＳ２）に対する搬送ステージＣＳＴの位置決めが出来る高さに、搬送ステージＣＳＴは通常は維持されている。
【０１９６】
固定子部９３ａ’が有するコイルユニットＣＵａ’と、可動子部８２ａが有する一対の磁石ユニットＭＵａ１、ＭＵａ２とによって、可動子部８２ａを少なくともＹ軸方向に駆動するリニアモータが構成され、固定子部９３ｂ’が有するコイルユニットＣＵｂ’と、可動子部８２ｂが有する一対の磁石ユニットＭＵｂ１、ＭＵｂ２とによって、可動子部８２ｂを少なくともＹ軸方向に駆動するリニアモータが構成される。そして、その２つ（一対）のリニアモータによって、微動ステージＷＦＳ１（又はＷＦＳ２）を、搬送ステージＣＳＴに対して、少なくともＹ軸方向にスライド駆動する微動ステージ駆動系５２Ｃ’（図４４参照）が構成される。
【０１９７】
ウエハ交換位置ＬＰ／ＵＬＰには、図４１に示されるように、上下動可能なテーブル１５８が設置されている。テーブル１５８は、主制御装置２０によって制御される（図４４参照）。テーブル１５８の役割等については、後述する。
【０１９８】
図４４には、露光装置２０００の制御系の主要な構成が示されている。制御系は、主制御装置２０を中心として構成されている。主制御装置２０は、ワークステーション（又はマイクロコンピュータ）等を含み、局所液浸装置８、粗動ステージ駆動系５１Ａ，５１Ｂ、及び微動ステージ駆動系５２Ａ，５２Ｂ，５２Ｃ’など、露光装置２０００の構成各部を統括制御する。
【０１９９】
以下、本第３の実施形態の露光装置２０００において、２つの微動ステージＷＦＳ１、ＷＦＳ２を用いて行われる並行処理動作について、説明する。
【０２００】
図４１には、微動ステージＷＦＳ１が、露光ステーション２００にあり、その微動ステージＷＦＳ１に保持されたウエハＷに上述した露光が行われ、微動ステージＷＦＳ２が計測ステーション３００にあり、微動ステージＷＦＳ２に保持されたウエハＷに対するアライメントが行われている状態が、示されている。このとき、搬送ステージＣＳＴは、支持部材７２Ａの近傍（計測アーム７１Ａの上方）の待機位置で、待機している。
【０２０１】
微動ステージＷＦＳ２に保持されたウエハＷに対するアライメントは、主制御装置２０により、前述の第１及び第２の実施形態と同様に行われる。
【０２０２】
アライメントが終了すると、主制御装置２０は、ウエハステージＷＳＴ２、すなわち微動ステージＷＦＳ２を支持する粗動ステージＷＣＳ２’を、露光ステーション２００に向けて駆動する。図４５（Ａ）及び図４６には、微動ステージＷＦＳ２を支持する粗動ステージＷＣＳ２’が、計測ステーション３００から露光ステーション２００に向かって移動している最中の状態が示されている。このとき、搬送ステージＣＳＴは、前述の待機位置で待機したままである。
【０２０３】
微動ステージＷＦＳ２を支持する粗動ステージＷＣＳ２’が、図４５（Ａ）に示される位置から所定距離−Ｙ方向に進んだ露光ステーション２００近傍の位置に到達すると、主制御装置２０は、その位置に粗動ステージＷＣＳ２’（ウエハステージＷＳＴ２）を待機させた状態で、微動ステージＷＦＳ１上のウエハＷに対する露光が終了するのを待つ。
【０２０４】
そして、露光が終了すると、主制御装置２０は、図４５（Ｂ）及び図４７に示されるように、粗動ステージＷＣＳ２’と粗動ステージＷＣＳ１’とをほぼ接触状態で対向させるとともに、微動ステージ駆動系５２Ｂを介して微動ステージＷＦＳ２を、図４５（Ｂ）中に黒矢印で示されるように、−Ｙ方向に駆動し、Ｙ軸方向に関して、微動ステージＷＦＳ１に接触又は３００μｍ程度のクリアランスを介して近接させる。すなわち、主制御装置２０は、微動ステージＷＦＳ２と微動ステージＷＦＳ１とをスクラム状態に設定する。なお、この微動ステージＷＦＳ２と微動ステージＷＦＳ１とのスクラム状態の設定のための準備は、露光が終了する直前に行っても良い。
【０２０５】
また、微動ステージＷＦＳ１上のウエハＷに対する露光終了直後（又は直前）に、主制御装置２０は、ロボットアーム１４０’と一体で搬送ステージＣＳＴを＋Ｙ方向に駆動し、図４５（Ｂ）及び図４７に示されるように、搬送ステージＣＳＴと粗動ステージＷＣＳ１’とを近接状態で対向させる。
【０２０６】
次に、主制御装置２０は、微動ステージ駆動系５２Ｂ、５２Ａを介して、図４５（Ｃ）及び図４８中の黒矢印で示されるように、微動ステージＷＦＳ２，ＷＦＳ１を同時に（スクラム状態を保ったまま）−Ｙ方向に駆動する。これにより、先端レンズ１９１との間に保持されていた液体Ｌｑで形成される液浸空間領域が、微動ステージＷＦＳ１から微動ステージＷＦＳ２に渡される。図４５（Ｃ）及び図４８には、液体Ｌｑで形成される液浸空間領域が微動ステージＷＦＳ１から微動ステージＷＦＳ２に渡される直前の状態が示されている。この状態では、先端レンズ１９１と、微動ステージＷＦＳ１及び微動ステージＷＦＳ２との間に、液体Ｌｑが保持されている。
【０２０７】
また、主制御装置２０は、微動ステージＷＦＳ２，ＷＦＳ１を−Ｙ方向に駆動するのと並行して、粗動ステージＷＣＳ１’、ＷＣＳ２’を、図４５（Ｃ）中に白抜き矢印で示されるように、＋Ｙ方向に同時に駆動する。
【０２０８】
また、液浸空間領域の受け渡しが開始され、微動ステージＷＦＳ１の先端が粗動ステージＷＣＳ１’の外部に露出し始める時点では、主制御装置２０は、上記各動作と並行して、微動ステージ駆動系５２Ｃ’をも駆動して、図４５（Ｃ）及び図４８に示されるように、粗動ステージＷＣＳ１’から搬送ステージＣＳＴへの微動ステージＷＦＳ１の受け渡し（スライド移動）を開始する。
【０２０９】
図４９（Ａ）及び図５０には、上記の液浸空間領域の受け渡しが終了し、微動ステージＷＦＳ１の粗動ステージＷＣＳ１’から搬送ステージＣＳＴへの受け渡しが終了間近の状態が示されている。
【０２１０】
図４９（Ｂ）及び図５１には、図４９（Ａ）及び図５０の状態から所定時間が経過し、微動ステージＷＦＳ１の粗動ステージＷＣＳ１’から搬送ステージＣＳＴへの受け渡しが終了した状態が示されている。このとき、微動ステージＷＦＳ２は、粗動ステージＷＣＳ１’によって支持されている。すなわち、本実施形態では、上記の微動ステージＷＦＳ１、ＷＦ２間での液浸空間領域の受け渡し、及び微動ステージＷＦＳ１の粗動ステージＷＣＳ１’から搬送ステージＣＳＴへの受け渡しと並行して、アライメントが終了したウエハＷを保持する微動ステージ（この場合ＷＦＳ２）の粗動ステージＷＣＳ２’から粗動ステージＷＣＳ１’への受け渡しも完了している。
【０２１１】
次いで、図４９（Ｃ）及び図５２に示されるように、微動ステージＷＦＳ２上のウエハＷに対する露光が開始される。主制御装置２０は、露光開始に先立って、前述の一対のレチクルアライメント系ＲＡ１，ＲＡ２、及び微動ステージＷＦＳ２の計測プレート８６上の一対の第１基準マークなどを用いて、通常のスキャニング・ステッパと同様の手順（例えば、米国特許第５，６４６，４１３号明細書などに開示される手順）で、レチクルアライメントを行う。そして、主制御装置２０は、レチクルアライメントの結果と、ウエハアライメントの結果（ウエハＷ上の各ショット領域の第２基準マークを基準とする配列座標）とに基づいて、ステップ・アンド・スキャン方式の露光動作を行い、ウエハＷ上の複数のショット領域にレチクルＲのパターンをそれぞれ転写する。この露光は、ウエハＷ上の−Ｙ側のショット領域から＋Ｙ側のショット領域の順で行われる。
【０２１２】
上記のレチクルアライメント及び露光と並行して、以下のｎ．〜ｒ．のような動作が行われている。
ｎ．  すなわち、前述の図４９（Ｂ）及び図５１の状態から、主制御装置２０により、微動ステージＷＦＳ１を支持した搬送ステージＣＳＴが、図５２に白抜き矢印で示されるように、−Ｘ方向に駆動され、ベース盤１２の外部に移動される。図４９（Ｃ）には、この図５２に対応する状態が示されている。
ｏ．  上記の搬送ステージＣＳＴの移動と並行して、主制御装置２０により、図４９（Ｃ）及び図５２に白抜き矢印で示されるように、粗動ステージＷＣＳ２’が、計測ステーション３００に向かって＋Ｙ方向に駆動される。図５３には、粗動ステージＷＣＳ２’が、計測ステーション３００に移動した状態が示されている。このとき、微動ステージＷＦＳ１を支持した搬送ステージＣＳＴは、主制御装置２０によって、ウエハ交換位置ＬＰ／ＵＬＰに搬送されている。
【０２１３】
そして、図５３及び図５４に示されるように、ウエハ交換位置ＬＰ／ＵＬＰで、不図示のアンロードアーム及びロードアームによって、微動ステージＷＦＳ１上の露光済みのウエハＷが、露光前の（新たな）ウエハＷに交換される。ここで、アンロードアーム及びロードアームとしては、一例としていわゆるベルヌーイ・チャックをそれぞれ有する前述のアンロードアーム１４４、ロードアーム１４２を用いることができる。
【０２１４】
ウエハ交換は、搬送ステージＣＳＴに支持された微動ステージＷＦＳ１が、ウエハ交換位置ＬＰ／ＵＬＰに設置されたテーブル１５８上に載置された状態で行われる。このとき、微動ステージＷＦＳ１とテーブル１５８とが給気用と排気用の２種類の管路を介して接続される。そして、アンロードアームにより露光済みのウエハＷをウエハホルダからアンロードする際には、主制御装置２０により、給気用の管路に接続された加圧気体の供給用のポンプが駆動され、加圧気体が給気用の管路を介して微動ステージＷＦＳ１のウエハホルダ（図示省略）とウエハＷの裏面とにより形成される減圧室（減圧空間）の内部に吹き込まれ、減圧室内部の負圧状態が解除されるとともに、ウエハＷが持ち上げられる。ウエハＷのアンロードが終了すると、主制御装置２０により、加圧気体の供給用のポンプが停止され、微動ステージＷＦＳ１内の給気用の管路が、その内部のチェック弁（不図示）により閉じられる。
【０２１５】
一方、露光前の新たなウエハＷをウエハホルダ上にロードする際には、主制御装置２０により、排気用の管路に接続された真空ポンプが駆動され、微動ステージＷＦＳ１のウエハホルダとウエハＷの裏面とにより形成される減圧室（減圧空間）が負圧状態となってウエハＷがウエハホルダに吸着される。
【０２１６】
ウエハ交換が終了すると、主制御装置２０により、真空ポンプが停止され、微動ステージＷＦＳ１内の排気用の管路が、その内部のチェック弁（不図示）により閉じられる。そして、テーブル１５８が下降すると、微動ステージＷＦＳ１とテーブル１５８との管路を介した接続が解除されるが、チェック弁によって減圧室の負圧状態が維持され、ウエハホルダによるウエハの吸着状態が維持される。
ｐ．  ウエハ交換後、主制御装置２０によって、図５５の白抜き矢印で示されるように、ロボットアーム１４０’が＋Ｘ方向に駆動され、露光前のウエハ（新たなウエハ）Ｗを保持する微動ステージＷＦＳ１が、搬送ステージＣＳＴと一体的に、＋Ｘ方向に駆動される。これにより、搬送ステージＣＳＴが、粗動ステージＷＣＳ２’に対向する（図５５参照）。このとき、微動ステージＷＦＳ２上では、ウエハＷの露光が続行されている。
ｑ．  次いで、主制御装置２０により、ロボットアーム１４０’が＋Ｙ方向に駆動され、露光前のウエハＷを保持する微動ステージＷＦＳ１を支持する搬送ステージＣＳＴが、＋Ｙ方向に移動して、粗動ステージＷＣＳ２’にほぼ接触状態で対向する。そして、主制御装置２０により、微動ステージＷＦＳ１が、図５６中に黒矢印で示されるように、＋Ｙ方向に駆動され、搬送ステージＣＳＴから粗動ステージＷＣＳ２’に移載される。図５６には、微動ステージＷＦＳ１が、粗動ステージＷＣＳ２’に移載される途中の状態が示されている。
ｒ．  その後、粗動ステージＷＣＳ２’に支持された微動ステージＷＦＳ１上の第２基準マークの検出のため、主制御装置２０により、図５７に示されるように、微動ステージＷＦＳ１が、＋Ｙ方向に駆動される。そして、主制御装置２０により、微動ステージＷＦＳ１上の第２基準マークの検出、微動ステージＷＦＳ１上のウエハＷのアライメント等が、前述と同様の手順で行われる。そして、主制御装置２０により、ウエハアライメントの結果得られたウエハＷ上の各ショット領域の配列座標が、第２基準マークを基準とする配列座標に変換される。この場合も、微動ステージ位置計測系７０Ｂを用いて、アライメントの際の微動ステージＷＦＳ１の位置計測が行われる。図５８には、微動ステージＷＦＳ１上のウエハＷのアライメントが行われている状態が示されている。これに先だって、搬送ステージＣＳＴは、図５７に示されるように、支持部材７２Ａの近傍（計測アーム７１Ａの上方）の待機位置の近傍に移動している。
【０２１７】
図５８の状態は、前述の図４２と同様の状態、すなわち露光ステーション２００にある微動ステージＷＦＳ２に保持されたウエハＷに上述した露光が行われ、計測ステーション３００にある微動ステージＷＦＳ１に保持されたウエハＷに対するアライメントが行われている最中の状態である。
【０２１８】
以降、主制御装置２０により、微動ステージＷＦＳ１、ＷＦＳ２を順次用いて、前述と同様の並行処理が、繰り返し行われ、複数枚のウエハＷに対する露光処理が連続して行われる。
【０２１９】
以上詳細に説明したように、本第３の実施形態の露光装置２０００によると、前述した第１及び第２の実施形態と同様の構成の微動ステージ位置計測系７０Ａ，７０Ｂ等を備えているので、第１及び第２の実施形態と同等の効果を得ることができる。さらに本第３の実施形態では、主制御装置２０は、微動ステージＷＦＳ１（又はＷＦＳ２）上のウエハＷと投影光学系ＰＬ（先端レンズ１９１）との間に液体Ｌｑが保持される状態から、微動ステージＷＦＳ２（又はＷＦＳ１）上のウエハＷと投影光学系ＰＬ（先端レンズ１９１）との間に液体Ｌｑが保持される状態に遷移する（（微動ステージＷＦＳ１（又はＷＦＳ２）上のウエハＷが投影光学系ＰＬの直下の位置に位置する第１の状態から微動ステージＷＦＳ２（又はＷＦＳ１）上のウエハＷが投影光学系ＰＬの直下の位置に位置する第２の状態に遷移する）際には、微動ステージＷＦＳ１、ＷＦＳ２を、Ｙ軸方向に関して近接又は接触した状態（スクラム状態）を維持してＹ軸方向に移動させるとともに、粗動ステージＷＣＳ１’、ＷＣＳ２’を、その反対方向へ移動させる。このため、微動ステージＷＦＳ１、ＷＦＳ２の少なくとも一方と投影光学系ＰＬ（先端レンズ１９１）との間で液浸空間領域を常時維持してスループットを最大限に高くすることができる。これに加え、露光装置２０００によると、状態遷移（本実施形態では液浸空間領域の受け渡し動作が同時に行われる）の動作と並行して、アライメントが終了しているウエハＷを保持する微動ステージＷＦＳ２（又はＷＦＳ１）を粗動ステージＷＣＳ２’から粗動ステージＷＣＳ１’へ載せ換える動作を行うことが可能となる。従って、直ちに、露光動作を開始することが可能になる。なお、状態遷移（液浸空間領域の受け渡し）の動作と並行して、アライメントが終了しているウエハＷを保持する微動ステージＷＦＳ２（又はＷＦＳ１）を粗動ステージＷＣＳ２’から粗動ステージＷＣＳ１’へ載せ換える動作を一部のみ行っても良い。
【０２２０】
また、粗動ステージＷＣＳ１’（又はＷＣＳ２’）と搬送ステージＣＳＴとの間の微動ステージの受け渡し（移載）は、粗動ステージの分離動作などを伴うことなく、微動ステージのスライド移動のみで行うことができるので、速やかな受け渡しが可能である。従って、４５０ｍｍウエハなどを処理対象とする場合であっても、スループットを極力高くして、ウエハ処理を実現することが可能である。
【０２２１】
なお、上記実施形態では、露光装置２０００が２つの微動ステージＷＦＳ３，ＷＦＳ２を備えている場合について説明したが、これに限らず、前述した第１、第２の実施形態及び次の第１、第２の変形例のように３つ以上の微動ステージを備えていても良い。
【０２２２】
《第１の変形例》
次に、上記第３の実施形態の第１の変形例に係る露光装置について、図５９から図６２に基づいて、説明する。第１の変形例に係る露光装置は、図５９に示されるように、３つの微動ステージＷＦＳ１、ＷＦＳ２及びＷＦＳ３を備えている。また、第１の変形例に係る露光装置では、ウエハ交換位置ＬＰ／ＵＬＰが、露光ステーション２００の−Ｘ側かつ−Ｙ側のベース盤の外部の位置に、Ｘ軸方向に所定間隔で２箇所配置されている。２箇所のウエハ交換位置ＬＰ／ＵＬＰのそれぞれには、粗動ステージＷＣＳ１’，ＷＣＳ２’と同様に構成された交換ステージ１５４Ａ，１５４Ｂが設置されている。ただし、交換ステージ１５４Ａ，１５４Ｂの底面には、磁石などは配置されていない。また、交換ステージ１５４Ａ，１５４Ｂの底壁を成す板状部材の上部には、それぞれ、前述のテーブル１５８と同様に構成された上下動可能な円形のテーブル１５８Ａ，１５８Ｂが、配置されている。
【０２２３】
このようにして構成された第１の変形例に係る露光装置では、前述の図４９（Ｂ）及び図５１の状態から、主制御装置２０により、微動ステージＷＦＳ１を支持した搬送ステージＣＳＴが、図５９に白抜き矢印で示されるように、−Ｘ方向に駆動され、交換ステージ１５４Ａに対向する位置まで移動される。次いで、主制御装置２０により、前述した粗動ステージＷＣＳ１’から搬送ステージＣＳＴへ微動ステージを受け渡したのと同様の手順で、搬送ステージＣＳＴから交換ステージ１５４Ａに微動ステージＷＦＳ１の受け渡し（スライド移動）が行われる。図６０には、受け渡しが終了した後の状態が示されている。次いで、主制御装置２０により、テーブル１５８Ａが上昇駆動され、微動ステージＷＦＳ１とテーブル１５８Ａとが給気用と排気用の２種類の管路を介して接続される。そして、アンロードアームによる露光済みのウエハＷのウエハホルダからのアンロードが開始される。このとき、主制御装置２０により、加圧気体の供給用のポンプが駆動され、ウエハホルダ内部の負圧状態が解除されるとともに、ウエハＷが持ち上げられる。
【０２２４】
また、このとき、交換ステージ１５４Ｂには、新たなウエハＷを保持した微動ステージＷＦＳ３が、テーブル１５８Ｂ上に載置されており、給気用と排気用の管路を介してテーブル１５８Ｂに接続されている。このとき、微動ステージＷＦＳ３上へのウエハＷのロードは既に終了しており、両方のチェック弁が閉じ、ウエハホルダによりウエハＷの真空吸着が維持されている。
【０２２５】
次に、主制御装置２０により、図６１に白抜き矢印で示されるように、搬送ステージＣＳＴが、交換ステージ１５４Ｂに対向する位置まで移動されるとともに、テーブル１５８Ｂが下降駆動される。これにより、微動ステージＷＦＳ３とテーブル１５８Ｂとの２種類の管路を介した接続が解除される。次いで、主制御装置２０により、前述と同様の手順で、交換ステージ１５４Ｂから搬送ステージＣＳＴに微動ステージＷＦＳ１の受け渡し（スライド移動）が行われる。図６２には、受け渡しが終了した後の状態が示されている。
【０２２６】
その後、主制御装置２０によって、ロボットアーム１４０’が駆動され、露光前のウエハ（新たなウエハ）Ｗを保持する微動ステージＷＦＳ３が、搬送ステージＣＳＴと一体的に、粗動ステージＷＣＳ２’に対向する位置に搬送される（図５５参照）。
【０２２７】
その後、上記実施形態と同様の手順で、微動ステージＷＦＳ３を用いた処理が、微動ステージＷＦＳ２上のウエハＷに対する露光、及び交換ステージ１５４Ａ上の微動ステージＷＦＳ１上におけるウエハ交換と並行して行われる。
【０２２８】
このようにして、第１の変形例に係る露光装置では、主制御装置２０により、３つの微動ステージＷＦＳ１〜ＷＦＳ３を用いた並行処理が繰り返し行われる。
【０２２９】
以上説明した第１の変形例に係る露光装置によると、前述の第３の実施形態と同等の効果を得られる他、１つの微動ステージ上のウエハＷに対する露光と並行して、別の微動ステージ上のウエハＷに対するウエハアライメントを行うことができるとともに、これらの２つの動作と少なくとも一部並行して別の微動ステージ上におけるウエハ交換を行うことができる。また、交換位置で、ウエハ交換のため、搬送ステージＣＳＴに支持された微動ステージＷＦＳ１が、新たなウエハを保持する別の微動ステージＷＦＳ３に交換される。従って、微動ステージが２つの場合に比べて、ウエハ交換を短時間で行うことができる。従って、微動ステージが２つの場合に比べて、スループットの向上が可能である。
【０２３０】
《第２の変形例》
次に、第３の実施形態の第２の変形例に係る露光装置について、図６３〜図６７に基づいて、説明する。第２の変形例に係る露光装置は、図６３に示されるように、３つの微動ステージＷＦＳ１、ＷＦＳ２及びＷＦＳ３を備えている。また、第２の変形例に係る露光装置では、搬送ステージＣＳＴ及びロボットアームが各２つ設けられている。以下では、識別のため、搬送ステージＣＳＴ１，ＣＳＴ２、及びロボットアーム１４０１、１４０２と表記する。
【０２３１】
図６３には、第２の変形例に係る露光装置において、微動ステージＷＦＳ１が、露光ステーション２００にあり、その微動ステージＷＦＳ１に保持されたウエハＷに対して前述した露光が行われ、微動ステージＷＦＳ２を支持する粗動ステージＷＣＳ２’が、計測ステーション３００から露光ステーション２００に向かって移動している最中の状態が示されている。このとき、搬送ステージＣＳＴ１は、待機位置で待機しており、また、新たなウエハＷを保持する微動ステージＷＦＳ３は、搬送ステージＣＳＴ２に支持されて、計測ステーション３００の−Ｘ側でかつ僅かに＋Ｙ側の待機位置に待機している。
【０２３２】
微動ステージＷＦＳ２を支持する粗動ステージＷＣＳ２’は、図６３に示される位置から所定距離−Ｙ方向に進んだ露光ステーション２００近傍の位置に到達すると、主制御装置２０により、露光が終了するまで、その位置に待機させられる。そして、露光が終了すると、主制御装置２０により、粗動ステージＷＣＳ２’と粗動ステージＷＣＳ１’とがほぼ接触状態で対向させられた後、微動ステージＷＦＳ２と微動ステージＷＦＳ１とがスクラム状態に設定され、図６４中の黒矢印で示されるように、スクラム状態を保ったまま−Ｙ方向に駆動される。これにより、先端レンズ１９１との間に保持されていた液体Ｌｑで形成される液浸空間領域の、微動ステージＷＦＳ１から微動ステージＷＦＳ２への受け渡しが開始される。
【０２３３】
また、液浸空間領域の受け渡しが開始され、微動ステージＷＦＳ１の先端が粗動ステージＷＣＳ１’の外部に露出し始める時点では、主制御装置２０により、図６４に示されるように、粗動ステージＷＣＳ１’から搬送ステージＣＳＴ１への微動ステージＷＦＳ１の受け渡し（スライド移動）が開始される。このとき、粗動ステージＷＣＳ１’、ＷＣＳ２’は、前述と同様に、主制御装置２０によって、＋Ｙ方向に同時に駆動される。
【０２３４】
一方、上述した微動ステージＷＦＳ２、ＷＦＳ１のスクラム状態の設定のため、これに先立って、粗動ステージＷＣＳ２’が粗動ステージＷＣＳ１’に対して接近したとき、主制御装置２０により、ロボットアーム１４０２が、図６４中に白抜き矢印で示されるように、＋Ｘ方向に駆動され、搬送ステージＣＳＴ２が粗動ステージＷＣＳ２’の＋Ｙ側の位置に移動される。
【０２３５】
次いで、図６５中に白抜き矢印で示されるように、主制御装置２０により、ロボットアーム１４０２が＋Ｙ方向に駆動され、搬送ステージＣＳＴ２が粗動ステージＷＣＳ２’にほぼ接触状態で対向されるとともに、微動ステージＷＦＳ１との間でスクラム状態にある微動ステージＷＦＳ２に対して微動ステージＷＦＳ３がさらにスクラム状態に設定される。そして、主制御装置２０により、３つの微動ステージＷＦＳ１，ＷＦ２及びＷＦＳ３が、スクラム状態を維持されたまま、、図６５中に黒矢印で示されるように、−Ｙ方向に駆動される。このとき、粗動ステージＷＣＳ１’、ＷＣＳ２’は、主制御装置２０により、微動ステージＷＦＳ１，ＷＦ２及びＷＦＳ３と反対向きに継続して駆動される（白抜き矢印参照）とともに、搬送ステージＣＳＴ２も粗動ステージＷＣＳ１’、ＷＣＳ２’と同一の速度で駆動される。
【０２３６】
そして、図６５の状態から所定時間が経過すると、液浸空間領域の受け渡しの終了に続いて、図６６に示されるように、微動ステージＷＦＳ１の粗動ステージＷＣＳ１’から搬送ステージＣＳＴ１への受け渡し、微動ステージＷＦＳ２の粗動ステージＷＣＳ２’から粗動ステージＷＣＳ１’への受け渡しに加え、新たなウエハＷを保持する微動ステージ（この場合ＷＦＳ３）の搬送ステージＣＳＴ２から粗動ステージＷＣＳ２’への受け渡しも完了する。
【０２３７】
次に、主制御装置２０により、微動ステージＷＦＳ１を支持した搬送ステージＣＳＴ１が、図６７中に白抜き矢印で示されるようにウエハ交換位置へ向かって駆動されるとともに、搬送ステージＣＳＴ２が、−Ｘ方向へ移動される。搬送ステージＣＳＴ２が、粗動ステージＷＣＳ２’に対向しなくなる位置まで−Ｘ方向に移動すると、主制御装置２０により、図６７中に白抜き矢印で示されるように、粗動ステージＷＣＳ２’が、計測ステーション３００に向かって＋Ｙ方向に駆動される。
【０２３８】
以後、主制御装置２０により、前述した第３の実施形態と同様の手順で、微動ステージＷＦＳ２に保持されたウエハＷの露光と、微動ステージＷＦＳ３に保持されたウエハＷのアライメントとの並行処理動作が行われる。また、主制御装置２０により、これらの動作と並行して微動ステージＷＦＳ１の上におけるウエハ交換が、前述した第３の実施形態と同様にして行われる。そして、ウエハ交換後に、新たなウエハを保持した微動ステージＷＦＳ１が、搬送ステージＣＳＴ１から、搬送ステージＣＳＴ２に受け渡される。これにより、搬送ステージＣＳＴ２が、新たなウエハを保持した微動ステージＷＦＳ１を支持した状態で、図６３に示される位置で待機することとなる。
【０２３９】
このようにして、第２の変形例に係る露光装置では、主制御装置２０により、３つの微動ステージＷＦＳ１〜ＷＦＳ３を用いた並行処理が繰り返し行われる。
【０２４０】
以上説明した第２の変形例に係る露光装置によると、前述の第３の実施形態と同等の効果を得られる他、液浸空間領域の受け渡しに際して、微動ステージＷＦＳ１の粗動ステージＷＣＳ１’から搬送ステージＣＳＴ１への受け渡し、微動ステージＷＦＳ２の粗動ステージＷＣＳ２’から粗動ステージＷＣＳ１’への受け渡しが行われるのに加え、新たなウエハＷを保持する微動ステージ（例えばＷＦＳ３）が、搬送ステージＣＳＴ２から粗動ステージＷＣＳ２’に渡される。従って、直ちに、微動ステージＷＦＳ２上のウエハに対する露光動作と、微動ステージＷＦＳ３上のアライメント動作とを開始することができる。また、第２の変形例に係る露光装置によると、微動ステージＷＦＳ１〜ＷＦＳ３が循環されている。
【０２４１】
また、第３の実施形態及びその変形例においても、微動ステージを２つの粗動ステージＷＣＳ１’，ＷＣＳ２’の相互間で受け渡すために搬送ステージと粗動ステージＷＣＳ１’（又はＷＣＳ２’）とを近接させる場合に、搬送ステージと粗動ステージＷＣＳ１’（又はＷＣＳ２’）とを極端に近接させなくても良い。搬送ステージと粗動ステージＷＣＳ１’（又はＷＣＳ２’）との間での微動ステージの移動時に微動ステージが大きく傾かない（要はリニアモータの固定子と可動子とが接触しない）範囲で、搬送ステージと粗動ステージとを離しても良い。
【０２４２】
なお、上記第１ないし第３の実施形態のそれぞれ（以下、各実施形態と略記する）では、微動ステージ位置計測系７０Ａ，７０Ｂが、全体が例えばガラスによって形成され、内部を光が進行可能な計測アーム７１Ａ，７１Ｂを備える場合を説明したが、本発明がこれに限定されるものではない。例えば、計測アームは、少なくとも前述の各レーザビームが進行する部分が、光を透過可能な中実な部材によって形成されていれば良く、その他の部分は、例えば光を透過させない部材であっても良いし、中空構造であっても良い。また、例えば計測アームとしては、グレーティングに対向する部分から計測ビームを照射できれば、例えば計測アームの先端部に光源や光検出器等を内蔵していても良い。この場合、計測アームの内部にエンコーダの計測ビームを進行させる必要は無い。あるいは、エンコーダシステムとして、格子干渉型のエンコーダシステムを採用する場合には、回折格子が形成される光学部材を、セラミックス又はインバーなどの低熱膨張性のアームに設けるだけでも良い。これは、特にエンコーダシステムでは、空気揺らぎの影響を極力受けないように、ビームが分離している空間が極めて狭く（短く）なっているからである。さらに、この場合、温度制御した気体を、微動ステージ（ウエハホルダ）とアームとの間（及びビーム光路）に供給して温度安定化を図っても良い。さらに、計測アームは、その形状は特に問わない。
【０２４３】
なお、上記各実施形態では、計測アーム７１Ａ，７１ＢがメインフレームＢＤに一体的に固定されているので、内部応力（熱応力を含む）によって計測アーム７１Ａ，７１Ｂにねじれ等が発生し、計測アーム７１Ａ，７１ＢとメインフレームＢＤとの相対位置が変化する可能性がある。そこで、かかる場合の対策として、計測アーム７１Ａ，７１Ｂの位置（メインフレームＢＤに対する相対位置、又は基準位置に対する位置の変化）を計測し、アクチュエータ等で計測アーム７１Ａ，７１Ｂの位置を微調整する、あるいは、測定結果を補正するなどしても良い。
【０２４４】
また、上記各実施形態では、計測アーム７１Ａ，７１ＢとメインフレームＢＤとが一体である場合について説明したが、これに限らず、計測アーム７１Ａ，７１ＢとメインフレームＢＤとが、分離されていても良い。この場合、メインフレームＢＤ（あるいは基準位置）に対する計測アーム７１Ａ，７１Ｂの位置（あるいは変位）を計測する計測装置（例えばエンコーダ及び／又は干渉計など）と、計測アーム７１Ａ，７１Ｂの位置を調整するアクチュエータ等とを設け、主制御装置２０その他の制御装置が、計測装置の計測結果に基づいて、メインフレームＢＤ（及び投影光学系ＰＬ）と、計測アーム７１Ａ，７１Ｂとの位置関係を、所定の関係（例えば一定）に維持することとすれば良い。
【０２４５】
また、計測アーム７１Ａ，７１Ｂに、光学的な手法により計測アーム７１Ａ，７１Ｂの変動を計測する計測システム（センサ）、温度センサ、圧力センサ、振動計測用の加速度センサ等を設けても良い。あるいは、計測アーム７１Ａ，７１Ｂの変動を測定する歪みセンサ（歪みゲージ）、又は変位センサ等を設けても良い。そして、これらのセンサで求めた値を使って、微動ステージ位置計測系７０Ａ及び／又はウエハステージ位置計測系６８Ａ、又は微動ステージ位置計測系７０Ｂ及び／又はウエハステージ位置計測系６８Ｂで得られた位置情報を補正するようにしても良い。
【０２４６】
また、上記各実施形態では、計測アーム７１Ａ（又は７１Ｂ）が、メインフレームＢＤから１つの支持部材７２Ａ（又は７２Ｂ）を介して片持ち状態で支持された場合について説明したが、これに限らず、例えば、Ｘ軸方向に離れた２本の吊り下げ部材を含むＵ字状の吊り下げ部を介して計測アーム７１Ａ（又は７１Ｂ）をメインフレームＢＤから吊り下げ支持しても良い。この場合、２本の吊り下げ部材の間を微動ステージが移動できるように、その２本の吊り下げ部材の間隔を設定することが望ましい。
【０２４７】
また、微動ステージ位置計測系７０Ａ，７０Ｂは、必ずしも、計測アームを備えている必要はなく、粗動ステージＷＣＳ１，ＷＣＳ２（ＷＣＳ１’，ＷＣＳ２’）の空間部内にグレーティングＲＧに対向して配置され、該グレーティングＲＧに少なくとも１本の計測ビームを照射し、該計測ビームのグレーティングＲＧからの回折光を受光するヘッドを有し、該ヘッドの出力に基づいて微動ステージ（ＷＦＳ１、ＷＦＳ２及びＷＦＳ３のいずれか）の少なくともＸＹ平面内の位置情報を計測できれば足りる。
【０２４８】
また、上述の各実施形態では、エンコーダシステム７３が、Ｘヘッドと一対のＹヘッドとを備える場合について例示したが、これに限らず、例えばＸ軸方向及びＹ軸方向の２方向を計測方向とする二次元ヘッド（２Ｄヘッド）を、１つ又は２つ設けても良い。２Ｄヘッドを２つ設ける場合には、それらの検出点がグレーティング上で露光位置を中心として、Ｘ軸方向に同一距離離れた２点になるようにしても良い。
【０２４９】
なお、微動ステージ位置計測系７０Ａ，７０Ｂは、レーザ干渉計システム７５を備えることなく、エンコーダシステム７３のみで微動ステージの６自由度方向に関する位置情報を計測できるようにしても良い。この場合、例えばＸ軸方向及びＹ軸方向の少なくとも一方とＺ軸方向に関する位置情報を計測可能なエンコーダを用いることができる。この場合のエンコーダとしては、例えば米国特許第７，５６１，２８０号明細書に開示される変異計測センサヘッドシステムを用いることができる。そして、例えば、２次元のグレーティングＲＧ上の同一直線上に無い３つの計測点に、Ｘ軸方向とＺ軸方向に関する位置情報を計測可能なエンコーダ（上記変異計測センサヘッドシステムなど）と、Ｙ軸方向とＺ軸方向に関する位置情報を計測可能なエンコーダ（上記変異計測センサヘッドシステムなど）とを含む合計３つのエンコーダから計測ビームを照射し、グレーティングＲＧからのそれぞれの戻り光を受光することで、グレーティングＲＧが設けられた移動体の６自由度方向の位置情報を計測することとすることができる。また、エンコーダシステム７３の構成は上記実施形態に限られないで任意で構わない。例えばＸ軸、Ｙ軸及びＺ軸の各方向に関する位置情報を計測可能な３Ｄヘッドを用いても良い。
【０２５０】
なお、上述の各実施形態では、微動ステージの上面、すなわちウエハに対向する面にグレーティングが配置されているものとしたが、これに限らず、グレーティングは、ウエハを保持するウエハホルダに形成されていても良い。この場合、露光中にウエハホルダが膨張したり、微動ステージに対する装着位置がずれたりした場合であっても、これに追従してウエハホルダ（ウエハ）の位置を計測することができる。また、グレーティングは、微動ステージの下面に配置されていても良く、この場合、セラミックスなどの不透明な部材にグレーティングＲＧを固定又は形成しても良い。また、この場合、エンコーダヘッドから照射される計測ビームが微動ステージの内部を進行しないので、微動ステージを光が透過可能な中実部材とする必要がなく、微動ステージを中空構造にして内部に配管、配線等を配置することができ、微動ステージを軽量化できる。この場合、グレーティングＲＧの表面に保護部材（カバーガラス）を設けても良い。あるいは、従来の微動ステージにウエハホルダとグレーティングＲＧを保持するだけでも良い。また、ウエハホルダを、中実のガラス部材によって形成し、該ガラス部材の上面（ウエハ載置面）にグレーティングＲＧを配置しても良い。
【０２５１】
また、微動ステージを粗動ステージに対して駆動する駆動機構は、上記各実施形態で説明したものに限られない。例えば上記各実施形態では、微動ステージをＹ軸方向に駆動するコイルが微動ステージをＺ軸方向に駆動するコイルとしても機能したが、これに限らず微動ステージをＹ軸方向に駆動するアクチュエータ（リニアモータ）と、微動ステージをＺ軸方向に駆動する、すなわち微動ステージを浮上させるアクチュエータとを、それぞれ独立して設けても良い。この場合、微動ステージに常に一定の浮上力を作用させることができるので、微動ステージのＺ軸方向の位置が安定する。
【０２５２】
なお、上述の各実施形態では、微動ステージＷＦＳ１，ＷＦＳ２，ＷＦＳ３は、ローレンツ力（電磁力）の作用により粗動ステージＷＣＳ１、ＷＣＳ２（ＷＣＳ１’，ＷＣＳ２’）等に非接触支持されたが、これに限らず、例えば微動ステージＷＦＳ１，ＷＦＳ２，ＷＦＳ３に真空予圧型の空気静圧軸受等を設けて、粗動ステージＷＣＳ１、ＷＣＳ２（ＷＣＳ１’，ＷＣＳ２’）、あるいはリレーステージＤＲＳＴに対して浮上支持しても良い。また、上記各実施形態では、微動ステージＷＦＳ１，ＷＦＳ２，ＷＦＳ３は、全６自由度方向に駆動可能であったが、これに限らず少なくともＸＹ平面に平行な二次元平面内を移動できれば良い。また、微動ステージ駆動系５２Ａ，５２Ｂ，５２Ｃ（５２Ｃ’）等は、上述したムービングマグネット式のものに限らず、ムービングコイル式のものであっても良い。さらに微動ステージＷＦＳ１，ＷＦＳ２，ＷＦＳ３は、粗動ステージＷＣＳ１，ＷＣＳ２（ＷＣＳ１’，ＷＣＳ２’）、あるいはリレーステージＤＲＳＴに接触支持されていても良い。従って、微動ステージを粗動ステージ又はリレーステージに対して駆動する微動ステージ駆動系は、例えばロータリモータとボールねじ（又は送りねじ）とを組み合わせたものであっても良い。
【０２５３】
なお、上述の各実施形態では、計測ステーション３００において、ウエハＷに対する計測の一例としてアライメントマーク計測（ウエハアライメント）が行われるものとしたが、これに加えて（あるいはこれに代えて）ウエハＷ表面の投影光学系ＰＬの光軸ＡＸ方向の位置を計測する面位置計測が行われても良い。この場合、例えば米国特許出願公開第２００８／００８８８４３号明細書に開示されるように、面位置計測と同時に、ウエハを保持する微動ステージの上面の面位置計測を行い、これらの結果を用いて、露光時のウエハＷのフォーカス・レベリング制御を行っても良い。
【０２５４】
なお、上述の各実施形態の露光装置において、ウエハ交換後に、新たにロードされたウエハＷを保持する微動ステージＷＦＳ１、ＷＦＳ２、あるいはＷＦＳ３が、センターテーブル１３０又はリレーステージＤＲＳＴから粗動ステージＷＣＳ２（ＷＣＳ２’）に渡された際に、そのウエハの位置ずれと回転誤差との調整のため、ウエハＷのノッチ（Ｖ字の切り欠き、不図示）を含む周縁の３箇所を撮像する例えば３つの撮像素子、又はウエハ上のマーク（又はパターン）を検出する検出系、例えばＣＣＤ等を備えた複数の顕微鏡などを設けても良い。
【０２５５】
また、上述の各実施形態等において、ベルヌーイ・チャックを用いてウエハホルダからウエハを離脱させた後、ベルヌーイ・チャックのみでウエハ保持する必要はなく、ベルヌーイ・チャックと併用して、あるいはベルヌーイ・チャックの代わりに、メカ機構などでウエハ保持しても良い。要は、ベルヌーイ・チャックによるウエハ保持はウエハホルダへの受渡直前、及びウエハホルダからの受渡直後だけでも良い。また、ベルヌーイ・チャックを有する搬送装置はロボットアームを有するものとしたが、これに限らずスライダなどでも良い。また、ベルヌーイ・チャックに代えて、例えば真空予圧型の気体静圧軸受と同様に差動排気を利用したチャック部材など、ウエハＷを上方から非接触で保持可能なチャック部材を用いることも可能である。
【０２５６】
また、上記各実施形態では、ベルヌーイ・チャックを用いてウエハをウエハホルダ上からアンロードする際に、下方からの加圧気体の吹き出しによる、ベルヌーイ・チャックによるウエハの吸着保持動作に対するアシストを行うものとしたが、かかるアシストは必須でないことは勿論である。
【０２５７】
また、上記各実施形態の露光装置、特にステージ装置は上記構成に限らず他の構成でも良い。要は、ウエハホルダの位置をいわゆる裏面計測で行うことができれば良い。
【０２５８】
なお、上記各実施形態では、ベルヌーイ・チャックとウエハＷとを接近・離間させる場合、ベルヌーイ・チャックが設けられた部材とウエハＷを保持する微動ステージとの少なくとも一方を鉛直方向に駆動すれば良い。また、ベルヌーイ・チャックと微動ステージとを水平方向に関して接近・離間させる場合も、ベルヌーイ・チャックと微動ステージとの少なくとも一方を駆動すれば良い。
【０２５９】
なお、上述の各実施形態の露光装置で用いられるウエハは、４５０ｍｍウエハに限られものでなく、それよりサイズの小さいウエハ（３００ｍｍウエハなど）でも良い。
【０２６０】
なお、上述の各実施形態では、露光装置が液浸型の露光装置である場合について説明したが、これに限られるものではなく、液体（水）を介さずにウエハＷの露光を行うドライタイプの露光装置にも本発明は好適に適用することができる。
【０２６１】
なお、上述の各実施形態では、スキャニング・ステッパに本発明が適用された場合について説明したが、これに限らず、ステッパなどの静止型露光装置に本発明を適用しても良い。ステッパなどであっても、露光対象の物体が搭載されたステージの位置をエンコーダで計測することにより、干渉計を用いてこのステージの位置を計測する場合と異なり、空気揺らぎに起因する位置計測誤差の発生を殆ど零にすることができ、エンコーダの計測値に基づいて、ステージを高精度に位置決めすることが可能になり、結果的に高精度なレチクルパターンのウエハ上への転写が可能になる。また、ショット領域とショット領域とを合成するステップ・アンド・スティッチ方式の縮小投影露光装置にも本発明は適用することができる。
【０２６２】
また、上述の各実施形態の露光装置における投影光学系は縮小系のみならず等倍及び拡大系のいずれでも良いし、投影光学系ＰＬは屈折系のみならず、反射系及び反射屈折系のいずれでも良いし、この投影像は倒立像及び正立像のいずれでも良い。
【０２６３】
また、照明光ＩＬは、ＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）に限らず、ＫｒＦエキシマレーザ光（波長２４８ｎｍ）などの紫外光や、Ｆ2レーザ光（波長１５７ｎｍ）などの真空紫外光であっても良い。例えば米国特許第７，０２３，６１０号明細書に開示されているように、真空紫外光として、ＤＦＢ半導体レーザ又はファイバーレーザから発振される赤外域、又は可視域の単一波長レーザ光を、例えばエルビウム（又はエルビウムとイッテルビウムの両方）がドープされたファイバーアンプで増幅し、非線形光学結晶を用いて紫外光に波長変換した高調波を用いても良い。
【０２６４】
また、上述の各実施形態の露光装置では、露光装置の照明光ＩＬとしては波長１００ｎｍ以上の光に限らず、波長１００ｎｍ未満の光を用いても良いことはいうまでもない。例えば、軟Ｘ線領域（例えば５〜１５ｎｍの波長域）のＥＵＶ（Extreme Ultraviolet）光を用いるＥＵＶ露光装置に上記各実施形態を適用することができる。その他、電子線又はイオンビームなどの荷電粒子線を用いる露光装置にも、上記各実施形態は適用できる。
【０２６５】
また、上述の各実施形態においては、光透過性の基板上に所定の遮光パターン（又は位相パターン・減光パターン）を形成した光透過型マスク（レチクル）を用いたが、このレチクルに代えて、例えば米国特許第６，７７８，２５７号明細書に開示されているように、露光すべきパターンの電子データに基づいて、透過パターン又は反射パターン、あるいは発光パターンを形成する電子マスク（可変成形マスク、アクティブマスク、あるいはイメージジェネレータとも呼ばれ、例えば非発光型画像表示素子（空間光変調器）の一種であるＤＭＤ（Digital Micro-mirror Device）などを含む）を用いても良い。かかる可変成形マスクを用いる場合には、ウエハ又はガラスプレート等が搭載されるステージが、可変成形マスクに対して走査されるので、このステージの位置をエンコーダシステム及びレーザ干渉計システムを用いて計測することで、上述の各実施形態と同等の効果を得ることができる。
【０２６６】
また、例えば国際公開第２００１／０３５１６８号に開示されているように、干渉縞をウエハＷ上に形成することによって、ウエハＷ上にライン・アンド・スペースパターンを形成する露光装置（リソグラフィシステム）にも上記各実施形態を適用することができる。
【０２６７】
さらに、例えば米国特許第６，６１１，３１６号明細書に開示されているように、２つのレチクルパターンを、投影光学系を介してウエハ上で合成し、１回のスキャン露光によってウエハ上の１つのショット領域をほぼ同時に二重露光する露光装置にも上記各実施形態を適用することができる。
【０２６８】
なお、上述の各実施形態でパターンを形成すべき物体（エネルギビームが照射される露光対象の物体）はウエハに限られるものでなく、ガラスプレート、セラミック基板、フィルム部材、あるいはマスクブランクスなど他の物体でも良い。
【０２６９】
露光装置の用途としては半導体製造用の露光装置に限定されることなく、例えば、角型のガラスプレートに液晶表示素子パターンを転写する液晶用の露光装置や、有機ＥＬ、薄膜磁気ヘッド、撮像素子（ＣＣＤ等）、マイクロマシン及びＤＮＡチップなどを製造するための露光装置にも広く適用できる。また、半導体素子などのマイクロデバイスだけでなく、光露光装置、ＥＵＶ露光装置、Ｘ線露光装置、及び電子線露光装置などで使用されるレチクル又はマスクを製造するために、ガラス基板又はシリコンウエハなどに回路パターンを転写する露光装置にも本発明を適用できる。
【０２７０】
半導体素子などの電子デバイスは、デバイスの機能・性能設計を行うステップ、この設計ステップに基づいたレチクルを製作するステップ、シリコン材料からウエハを製作するステップ、前述した各実施形態の露光装置（パターン形成装置）及びその露光方法によりマスク（レチクル）のパターンをウエハに転写するリソグラフィステップ、露光されたウエハを現像する現像ステップ、レジストが残存している部分以外の部分の露出部材をエッチングにより取り去るエッチングステップ、エッチングが済んで不要となったレジストを取り除くレジスト除去ステップ、デバイス組み立てステップ（ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程を含む）、検査ステップ等を経て製造される。この場合、リソグラフィステップで、上述の各実施形態の露光装置を用いて前述の露光方法が実行され、ウエハ上にデバイスパターンが形成されるので、高集積度のデバイスを生産性良く製造することができる。
【産業上の利用可能性】
【０２７１】
以上説明したように、本発明の露光装置及び露光方法は、エネルギビームを物体上に照射して物体上にパターンを形成するのに適している。また、本発明のデバイス製造方法は、電子デバイスを製造するのに適している。
【符号の説明】
【０２７２】
８…局所液浸装置、２０…主制御装置、３２…ノズルユニット、７０Ａ，７０Ｂ…微動ステージ位置計測系、７１Ａ，７１Ｂ…計測アーム、７７ｘ…Ｘヘッド、７７ｙａ、７７ｙｂ…Ｙヘッド、９５…切り欠き、１００…露光装置、１３０…センターテーブル、１３２…駆動装置、１３４…駆動軸、１３６…テーブル本体、１４０…ロボットアーム、１４２…ロードアーム、１４４…アンロードアーム、２００…露光ステーション、３００…計測ステーション、１０００…露光装置、ＩＬ…照明光、Ｗ…ウエハ、ＷＣＳ１，ＷＣＳ２…粗動ステージ、ＷＦＳ１，ＷＦＳ２，ＷＦＳ３…微動ステージ、１５０…アンロードテーブル、１５２…ロードテーブル、ＤＲＳＴ…リレーステージ、ＲＧ…グレーティング、ＡＬ１，ＡＬ２１〜ＡＬ２４…アライメント系、１９１…先端レンズ、ＰＬ…投影光学系、ＢＬ…可動ブレード、１５４…アンロードステージ、１５６…ロードステージ。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
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【図３１】
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【図３２】
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【図３３】
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【図３４】
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【図３５】
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【図３６】
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【図３７】
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【図３８】
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【図３９】
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【図４０】
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【図４１】
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【図４２】
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【図４３】
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【図４４】
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【図４５】
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【図４６】
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【図４７】
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【図４８】
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【図４９】
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【図５０】
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【図５１】
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【図５２】
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【図５３】
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【図５４】
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【図５５】
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【図５６】
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【図５７】
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【図５８】
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【図５９】
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【図６０】
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【図６１】
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【図６２】
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【図６３】
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【図６４】
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【図６５】
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【図６６】
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【図６７】
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