(57)【要約】【課題】  例えば走査型の露光装置に適用したときに走査露光にかかるスループットを向上させることのできる投影光学系。【解決手段】  第１面（Ｍａ）の像および第２面（Ｍｂ）の像を第３面（Ｗ）に形成する投影光学系（ＰＬ）は、第１結像光学系（Ｇ１）と、第２結像光学系（Ｇ２）と、第３結像光学系（Ｇ３）と、第４結像光学系（Ｇ４）と、第５結像光学系（Ｇ５）と、第６結像光学系（Ｇ６）と、第７結像光学系（Ｇ７）と、第３結像光学系と第７結像光学系との間に配置された第１偏向部材（ＦＭ：Ｒ３７）と、第６結像光学系と第７結像光学系との間に配置された第２偏向部材（ＦＭ：Ｒ６７）とを備えている。【選択図】  図６
2010123941.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１面の像および第２面の像を第３面に形成する投影光学系において、
光軸との交点である前記第１面上の点と光学的に共役な第１共役点と前記第１面との間の光路中に配置された第１結像光学系と、
光軸との交点である前記第１面上の前記点と光学的に共役な第２共役点と前記第１共役点との間の光路中に配置された第２結像光学系と、
光軸との交点である前記第１面上の前記点と光学的に共役な第３共役点と前記第２共役点との間の光路中に配置された第３結像光学系と、
光軸との交点である前記第２面上の点と光学的に共役な第４共役点と前記第２面との間の光路中に配置された第４結像光学系と、
光軸との交点である前記第２面上の前記点と光学的に共役な第５共役点と前記第４共役点との間の光路中に配置された第５結像光学系と、
光軸との交点である前記第２面上の前記点と光学的に共役な第６共役点と前記第５共役点との間の光路中に配置された第６結像光学系と、
前記第３共役点および前記第６共役点と前記第３面との間の光路中に配置された第７結像光学系と、
前記第３結像光学系の最も前記第３面側の面と前記第７結像光学系の最も前記第１面側の面との間の光路中に配置されて、前記第３結像光学系からの光を前記第７結像光学系へ導く第１偏向部材と、
前記第６結像光学系の最も前記第３面側の面と前記第７結像光学系の最も前記第２面側の面との間の光路中に配置されて、前記第６結像光学系からの光を前記第７結像光学系へ導く第２偏向部材とを備え、
前記第７結像光学系においてパワーを有するすべての光学素子は屈折光学素子であることを特徴とする投影光学系。
【請求項２】
前記第２結像光学系および前記第５結像光学系は、凹面反射鏡を有することを特徴とする請求項１に記載の投影光学系。
【請求項３】
前記第２結像光学系および前記第５結像光学系は、負レンズを有することを特徴とする請求項１または２に記載の投影光学系。
【請求項４】
前記第１偏向部材は前記第３共役点の近傍に配置され、前記第２偏向部材は前記第６共役点の近傍に配置されていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の投影光学系。
【請求項５】
縮小倍率を有することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の投影光学系。
【請求項６】
前記第１結像光学系、前記第３結像光学系、前記第４結像光学系および前記第６結像光学系においてパワーを有するすべての光学素子は屈折光学素子であることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の投影光学系。
【請求項７】
前記第１面と前記第１偏向部材との間の光路中に配置された第３偏向部材と、前記第２面と前記第２偏向部材との間の光路中に配置された第４偏向部材とをさらに備え、
前記第１偏向部材の反射面と前記第３偏向部材の反射面とは互いに平行に配置され、前記第２偏向部材の反射面と前記第４偏向部材の反射面とは互いに平行に配置されていることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の投影光学系。
【請求項８】
前記第３偏向部材は、前記第２結像光学系の最も前記第３面側の面と前記第３結像光学系の最も前記第１面側の面との間の光路中に配置され、
前記第４偏向部材は、前記第５結像光学系の最も前記第３面側の面と前記第６結像光学系の最も前記第２面側の面との間の光路中に配置されていることを特徴とする請求項７に記載の投影光学系。
【請求項９】
前記第３偏向部材は前記第２共役点の近傍に配置され、前記第４偏向部材は前記第５共役点の近傍に配置されていることを特徴とする請求項８に記載の投影光学系。
【請求項１０】
前記第２共役点と前記第３共役点との間の光路中には前記第１面の光軸上の前記点と光学的に共役な点はなく、前記第５共役点と前記第６共役点との間の光路中には前記第２面の光軸上の前記点と光学的に共役な点はなく、
前記第３結像光学系の結像倍率β３および前記第６結像光学系の結像倍率β６は、
０．５＜｜β３｜＜２．０
０．５＜｜β６｜＜２．０
の条件を満足することを特徴とする請求項８または９に記載の投影光学系。
【請求項１１】
前記第３結像光学系および前記第６結像光学系は入射側および射出側にテレセントリックな光学系であり、
前記第１面上の第１有効視野領域の各点からの主光線が前記第３結像光学系に入射するときの主光線と光軸とのなす角度および前記第１有効視野領域の各点からの主光線が前記第３結像光学系から射出されるときの主光線と光軸とのなす角度はともに５度以下であり、
前記第２面上の第２有効視野領域の各点からの主光線が前記第６結像光学系に入射するときの主光線と光軸とのなす角度および前記第２有効視野領域の各点からの主光線が前記第６結像光学系から射出されるときの主光線と光軸とのなす角度はともに５度以下であり、
前記第２結像光学系および前記第５結像光学系は、正レンズを有することを特徴とする請求項８乃至１０のいずれか１項に記載の投影光学系。
【請求項１２】
前記第３偏向部材は、前記第１結像光学系の最も前記第３面側の面と前記第２結像光学系の最も前記第１面側の面との間の光路中に配置され、
前記第４偏向部材は、前記第４結像光学系の最も前記第３面側の面と前記第５結像光学系の最も前記第２面側の面との間に配置されていることを特徴とする請求項７に記載の投影光学系。
【請求項１３】
前記第３偏向部材は前記第１共役点の近傍に配置され、前記第４偏向部材は前記第４共役点の近傍に配置されていることを特徴とする請求項１２に記載の投影光学系。
【請求項１４】
前記第３共役点と前記第１共役点との間の光路中には前記第２共役点以外に前記第１面の光軸上の前記点と光学的に共役な点はなく、前記第６共役点と前記第４共役点との間の光路中には前記第５共役点以外に前記第２面の光軸上の前記点と光学的に共役な点はなく、
前記第２結像光学系と前記第３結像光学系とからなる合成光学系の結像倍率β２３および前記第５結像光学系と前記第６結像光学系とからなる合成光学系の結像倍率β５６は、０．５＜｜β２３｜＜２．０
０．５＜｜β５６｜＜２．０
の条件を満足することを特徴とする請求項１２または１３に記載の投影光学系。
【請求項１５】
前記第２結像光学系および前記第５結像光学系は入射側にテレセントリックな光学系であり、前記第３結像光学系および前記第６結像光学系は射出側にテレセントリックな光学系であり、
前記第１面上の第１有効視野領域の各点からの主光線が前記第２結像光学系に入射するときの主光線と光軸とのなす角度および前記第１有効視野領域の各点からの主光線が前記第３結像光学系から射出されるときの主光線と光軸とのなす角度はともに５度以下であり、
前記第２面上の第２有効視野領域の各点からの主光線が前記第５結像光学系に入射するときの主光線と光軸とのなす角度および前記第２有効視野領域の各点からの主光線が前記第６結像光学系から射出されるときの主光線と光軸とのなす角度はともに５度以下であり、
前記第２結像光学系および前記第５結像光学系は、正レンズを有することを特徴とする請求項１２乃至１４のいずれか１項に記載の投影光学系。
【請求項１６】
前記第１偏向部材の反射面と前記第７結像光学系の光軸との交点と前記第３面との間の軸上間隔をＤ１とし、
前記第２偏向部材の反射面と前記第７結像光学系の光軸との交点と前記第３面との間の軸上間隔をＤ２とし、
前記第３偏向部材の反射面と前記第１結像光学系の光軸との交点と前記第１面との間の軸上間隔をＤ３とし、
前記第４偏向部材の反射面と前記第４結像光学系の光軸との交点と前記第２面との間の軸上間隔をＤ４とするとき、
Ｄ３≦Ｄ１
Ｄ４≦Ｄ２
Ｄ１＝Ｄ２
の条件を満足することを特徴とする請求項７乃至１５のいずれか１項に記載の投影光学系。
【請求項１７】
前記第１面および前記第２面から射出される主光線の向きと、前記第３面に入射する主光線の向きとは互いに逆であることを特徴とする請求項１乃至１６のいずれか１項に記載の投影光学系。
【請求項１８】
前記第１面から前記第１偏向部材に至る光学系と、前記第２面から前記第２偏向部材に至る光学系とは互いに同じ構成を有することを特徴とする請求項１乃至１７のいずれか１項に記載の投影光学系。
【請求項１９】
前記第１面および前記第２面のうちの少なくとも一方に設定された所定のパターンを前記第３面に設定された感光性基板に転写する露光装置に用いられる投影光学系であって、
前記第１偏向部材の反射面と前記第７結像光学系の光軸との交点と前記第３偏向部材の反射面と前記第１結像光学系の光軸との交点との間の前記第３結像光学系の光軸に沿った間隔をＤ１３とし、前記第２偏向部材の反射面と前記第７結像光学系の光軸との交点と前記第４偏向部材の反射面と前記第４結像光学系の光軸との交点との間の前記第６結像光学系の光軸に沿った間隔をＤ２４とし、前記感光性基板に外接する円の直径の最大値をＳとするとき、
２．２＜Ｄ１３／Ｓ＜５．０
２．２＜Ｄ２４／Ｓ＜５．０
の条件を満足することを特徴とする請求項７乃至１８のいずれか１項に記載の投影光学系。
【請求項２０】
前記第１面上において前記第１結像光学系の光軸を含まない第１有効視野領域と、前記第２面上において前記第４結像光学系の光軸を含まない第２有効視野領域とを有し、
前記第１有効視野領域に対応して前記第３面に形成される第１有効結像領域と前記第７結像光学系の光軸との間隔をＬＯ１とし、前記第２有効視野領域に対応して前記第３面に形成される第２有効結像領域と前記第７結像光学系の光軸との間隔をＬＯ２とし、前記第３面での最大像高をＢとするとき、
０．０５＜ＬＯ１／Ｂ＜０．４
０．０５＜ＬＯ２／Ｂ＜０．４
の条件を満足することを特徴とする請求項１乃至１９のいずれか１項に記載の投影光学系。
【請求項２１】
前記第１偏向部材と前記第２偏向部材とは一体に構成され、前記第１偏向部材の反射面と前記第２偏向部材の反射面とが形成する稜線は、前記第３結像光学系の光軸と前記第６結像光学系の光軸と前記第７結像光学系の光軸とが交差する点上に位置することを特徴とする請求項１乃至２０のいずれか１項に記載の投影光学系。
【請求項２２】
前記第１偏向部材の反射面および前記第２偏向部材の反射面は前記第７結像光学系の光軸に対して４５度をなすように配置され、前記第３偏向部材の反射面は前記第１結像光学系の光軸に対して４５度をなすように配置され、前記第４偏向部材の反射面は前記第４結像光学系の光軸に対して４５度をなすように配置され、
前記第１面上の第１有効視野領域から射出された光線の前記第３偏向部材の反射面への入射角をＡ３とし、当該光線の前記第１偏向部材の反射面への入射角をＡ１とし、前記第２面上の第２有効視野領域から射出された光線の前記第４偏向部材の反射面への入射角をＡ４とし、当該光線の前記第２偏向部材の反射面への入射角をＡ２とするとき、
７０°＜（Ａ１＋Ａ３）＜１１０°
７０°＜（Ａ２＋Ａ４）＜１１０°
の条件を満足することを特徴とする請求項７乃至２１のいずれか１項に記載の投影光学系。
【請求項２３】
前記投影光学系と前記第３面との間の光路を液体で満たした状態で使用されることを特徴とする請求項１乃至２２のいずれか１項に記載の投影光学系。
【請求項２４】
前記第１面と前記第２面とは同一平面に位置することを特徴とする請求項１乃至２３のいずれか１項に記載の投影光学系。
【請求項２５】
前記第１面、前記第２面および前記第３面は水平に延びており、
前記第３面は、前記第１面および前記第２面よりも下方に位置することを特徴とする請求項１乃至２４のいずれか１項に記載の投影光学系。
【請求項２６】
第１面の像および第２面の像を第３面に形成する投影光学系であって、前記第１面および前記第２面のうちの少なくとも一方に設定された所定のパターンを前記第３面に設定された感光性基板に転写する露光装置に用いられる投影光学系において、
前記第１面からの光を光路合成器へ導く第１光学ユニットと、
前記第２面からの光を前記光路合成器へ導く第２光学ユニットと、
前記光路合成器を介した前記第１光学ユニットからの光に基づいて前記第１面の像を前記第３面に形成すると共に、前記光路合成器を介した前記第２光学ユニットからの光に基づいて前記第２面の像を前記第３面に形成する第３光学ユニットとを備え、
前記第１面、前記第２面および前記第３面は前記投影光学系の下方の空間で水平に延びており、
前記第３面は、前記第１面および前記第２面よりも下方に位置することを特徴とする投影光学系。
【請求項２７】
前記第１光学ユニットは、光軸との交点である前記第１面上の点と光学的に共役な第１共役点と前記第１面との間の光路中に配置された第１結像光学系と、光軸との交点である前記第１面上の前記点と光学的に共役な第２共役点と前記第１共役点との間の光路中に配置された第２結像光学系と、光軸との交点である前記第１面上の前記点と光学的に共役な第３共役点と前記第２共役点との間の光路中に配置された第３結像光学系とを備え、
前記第２光学ユニットは、光軸との交点である前記第２面上の点と光学的に共役な第４共役点と前記第２面との間の光路中に配置された第４結像光学系と、光軸との交点である前記第２面上の前記点と光学的に共役な第５共役点と前記第４共役点との間の光路中に配置された第５結像光学系と、光軸との交点である前記第２面上の前記点と光学的に共役な第６共役点と前記第５共役点との間の光路中に配置された第６結像光学系とを備え、
前記第３光学ユニットは、前記第３共役点および前記第６共役点と前記第３面との間の光路中に配置された第７結像光学系を備え、
前記光路合成器は、前記第３結像光学系の最も前記第３面側の面と前記第７結像光学系の最も前記第１面側の面との間の光路中に配置されて、前記第３結像光学系からの光を前記第７結像光学系へ導く第１偏向部材と、前記第６結像光学系の最も前記第３面側の面と前記第７結像光学系の最も前記第２面側の面との間の光路中に配置されて、前記第６結像光学系からの光を前記第７結像光学系へ導く第２偏向部材とを備えることを特徴とする請求項２６に記載の投影光学系。
【請求項２８】
前記第１面および前記第２面のうちの少なくとも一方に設定された所定のパターンからの光に基づいて、前記所定のパターンを前記第３面に設定された感光性基板上に投影するための請求項１乃至２７のいずれか１項に記載の投影光学系を備えていることを特徴とする露光装置。
【請求項２９】
第１面の像および第２面の像を第３面に形成する投影光学系を備え、前記第１面および前記第２面のうちの少なくとも一方に設定された所定のパターンを前記第３面に設定された感光性基板に転写する露光装置において、
前記第１面よりも下方に配置されて、前記第１面に第１の照明光を供給する第１照明ユニットと、
前記第２面よりも下方に配置されて、前記第２面に第２の照明光を供給する第２照明ユニットとを備え、
前記第１面、前記第２面および前記第３面は前記投影光学系の下方の空間で水平に延びていることを特徴とする露光装置。
【請求項３０】
前記第３面は、前記第１面および前記第２面よりも下方に位置することを特徴とする請求項２９に記載の露光装置。
【請求項３１】
前記投影光学系に対して前記所定のパターンおよび前記感光性基板を相対移動させて、前記所定のパターンを前記感光性基板に投影露光することを特徴とする請求項２８乃至３０のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項３２】
請求項２８乃至３１のいずれか１項に記載の露光装置を用いて前記所定のパターンを前記感光性基板に露光し、
前記所定のパターンが転写された前記感光性基板を現像し、前記所定のパターンに対応する形状のマスク層を前記感光性基板の表面に形成し、
前記マスク層を介して前記感光性基板の表面を加工することを含むことを特徴とするデバイス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明の実施形態は、投影光学系、露光装置、およびデバイス製造方法に関し、特に半導体素子や液晶表示素子などのデバイスをフォトリソグラフィ工程で製造する際に使用される露光装置に好適な投影光学系に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
半導体素子等を製造するためのフォトリソグラフィ工程において、マスク（またはレチクル）のパターンを、投影光学系を介して、感光性基板（フォトレジストが塗布されたウェハ等）上に走査露光する走査型の露光装置が使用されている。通常の走査型の露光装置では、１つのショット領域への走査露光の動作と次のショット領域への感光性基板のステップ移動の動作とを交互に繰り返している（例えば、特許文献１を参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】米国再発行特許発明第３７，３９１号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
近年、フォトリソグラフィ工程に用いる感光性基板の大型化が検討されている。しかしながら、上述の従来技術では、感光性基板の大型化に伴って感光性基板上に設けられるショット領域の数が増えると、その数の増大に応じてフォトリソグラフィ工程のスループットが低下する。
【０００５】
本発明の実施形態は、例えば走査型の露光装置に適用したときに走査露光にかかるスループットを向上させることのできる投影光学系を提供する。また、本発明の実施形態に係る投影光学系を用いて、走査露光にかかるスループットを向上させることのできる露光装置を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の第１形態では、第１面の像および第２面の像を第３面に形成する投影光学系において、
光軸との交点である前記第１面上の点と光学的に共役な第１共役点と前記第１面との間の光路中に配置された第１結像光学系と、
光軸との交点である前記第１面上の前記点と光学的に共役な第２共役点と前記第１共役点との間の光路中に配置された第２結像光学系と、
光軸との交点である前記第１面上の前記点と光学的に共役な第３共役点と前記第２共役点との間の光路中に配置された第３結像光学系と、
光軸との交点である前記第２面上の点と光学的に共役な第４共役点と前記第２面との間の光路中に配置された第４結像光学系と、
光軸との交点である前記第２面上の前記点と光学的に共役な第５共役点と前記第４共役点との間の光路中に配置された第５結像光学系と、
光軸との交点である前記第２面上の前記点と光学的に共役な第６共役点と前記第５共役点との間の光路中に配置された第６結像光学系と、
前記第３共役点および前記第６共役点と前記第３面との間の光路中に配置された第７結像光学系と、
前記第３結像光学系の最も前記第３面側の面と前記第７結像光学系の最も前記第１面側の面との間の光路中に配置されて、前記第３結像光学系からの光を前記第７結像光学系へ導く第１偏向部材と、
前記第６結像光学系の最も前記第３面側の面と前記第７結像光学系の最も前記第２面側の面との間の光路中に配置されて、前記第６結像光学系からの光を前記第７結像光学系へ導く第２偏向部材とを備え、
前記第７結像光学系においてパワーを有するすべての光学素子は屈折光学素子であることを特徴とする投影光学系を提供する。
【０００７】
本発明の第２形態では、第１面の像および第２面の像を第３面に形成する投影光学系であって、前記第１面および前記第２面のうちの少なくとも一方に設定された所定のパターンを前記第３面に設定された感光性基板に転写する露光装置に用いられる投影光学系において、
前記第１面からの光を光路合成器へ導く第１光学ユニットと、
前記第２面からの光を前記光路合成器へ導く第２光学ユニットと、
前記光路合成器を介した前記第１光学ユニットからの光に基づいて前記第１面の像を前記第３面に形成すると共に、前記光路合成器を介した前記第２光学ユニットからの光に基づいて前記第２面の像を前記第３面に形成する第３光学ユニットとを備え、
前記第１面、前記第２面および前記第３面は前記投影光学系の下方の空間で水平に延びており、
前記第３面は、前記第１面および前記第２面よりも下方に位置することを特徴とする投影光学系を提供する。
【０００８】
本発明の第３形態では、前記第１面および前記第２面のうちの少なくとも一方に設定された所定のパターンからの光に基づいて、前記所定のパターンを前記第３面に設定された感光性基板上に投影するための第１形態または第２形態の投影光学系を備えていることを特徴とする露光装置を提供する。
【０００９】
本発明の第４形態では、第１面の像および第２面の像を第３面に形成する投影光学系を備え、前記第１面および前記第２面のうちの少なくとも一方に設定された所定のパターンを前記第３面に設定された感光性基板に転写する露光装置において、
前記第１面よりも下方に配置されて、前記第１面に第１の照明光を供給する第１照明ユニットと、
前記第２面よりも下方に配置されて、前記第２面に第２の照明光を供給する第２照明ユニットとを備え、
前記第１面、前記第２面および前記第３面は前記投影光学系の下方の空間で水平に延びていることを特徴とする露光装置を提供する。
【００１０】
本発明の第５形態では、第３形態または第４形態の露光装置を用いて前記所定のパターンを前記感光性基板に露光し、
前記所定のパターンが転写された前記感光性基板を現像し、前記所定のパターンに対応する形状のマスク層を前記感光性基板の表面に形成し、
前記マスク層を介して前記感光性基板の表面を加工することを含むことを特徴とするデバイス製造方法を提供する。
【発明の効果】
【００１１】
本発明の第１形態にかかる投影光学系では、上述のような４回結像型で双頭型の基本構成を採用しているので、所要の大きさの像側開口数および有効結像領域を確保することができ、例えば間隔を隔てた２つ物体面上のパターンの像を像面上の所定領域内に並列的に形成することができる。
【００１２】
また、本発明の第２形態に係る投影光学系では、マスクが配置される第１面および第２面よりもウェハが配置される第３面が投影光学系から離れる構成を採用しているので、マスクを保持するマスクステージの移動空間とウェハを保持するウェハステージの移動空間とを分離することができる。
【００１３】
その結果、例えば走査型の露光装置に本発明の第１または第２形態にかかる投影光学系を適用することにより、１回のスキャン動作により２つの異なるパターンを感光性基板上の同一ショット領域に重ね焼きすることができる。
【００１４】
また、感光性基板の二次元的なステップ移動を行うことなく、感光性基板を走査方向に沿って移動させるだけで、走査方向に並んだ複数のショット領域への走査露光を連続的に行うことができる。すなわち、本発明の第１または第２形態にかかる投影光学系を走査型の露光装置に適用することにより、走査露光にかかるスループットを飛躍的に向上させることができ、ひいてはデバイスを高スループットで製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明の実施形態にかかる露光装置の構成を概略的に示す図である。
【図２】第１マスクおよび第２マスクにそれぞれ形成される矩形状の照明領域を示す図である。
【図３】投影光学系を介して形成される第１マスクのパターン像および第２マスクのパターン像を示す図である。
【図４】本実施形態においてウェハ上に形成される矩形状の静止露光領域と基準光軸との位置関係を示す図である。
【図５】本実施形態における境界レンズとウェハとの間の構成を模式的に示す図である。
【図６】本実施形態の第１実施例にかかる投影光学系のレンズ構成を示す図である。
【図７】第１実施例の投影光学系における横収差を示す図である。
【図８】本実施形態の第２実施例にかかる投影光学系のレンズ構成を示す図である。
【図９】第２実施例の投影光学系における横収差を示す図である。
【図１０】本実施形態の第３実施例にかかる投影光学系のレンズ構成を示す図である。
【図１１】第３実施例の投影光学系における横収差を示す図である。
【図１２】第３実施例の変形例にかかる投影光学系のレンズ構成を示す図である。
【図１３】走査方向に並んだ複数のショット領域への走査露光を連続的に行う露光シーケンスを説明する図である。
【図１４】半導体デバイスを得る手法のフローチャートである。
【図１５】液晶表示素子を得る手法のフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
本発明の実施形態に係る投影光学系は、第１結像光学系、第２結像光学系および第３結像光学系を有する第１光学ユニットと、第４結像光学系、第５結像光学系および第６結像光学系を有する第２光学ユニットと、第７結像光学系を有する第３光学ユニットとを備え、第１面（第１物体面）の像および第２面（第２物体面）の像を第３面（像面）に形成する。第１結像光学系は第１面の光軸上の点と光学的に共役な第１共役点と第１面との間の光路中に配置され、第２結像光学系は第１面の光軸上の点と光学的に共役な第２共役点と第１共役点との間の光路中に配置され、第３結像光学系は第１面の光軸上の点と光学的に共役な第３共役点と第２共役点との間の光路中に配置されている。
【００１７】
第４結像光学系は第２面の光軸上の点と光学的に共役な第４共役点と第２面との間の光路中に配置され、第５結像光学系は第２面の光軸上の点と光学的に共役な第５共役点と第４共役点との間の光路中に配置され、第６結像光学系は第２面の光軸上の点と光学的に共役な第６共役点と第５共役点との間の光路中に配置されている。第７結像光学系は、第３共役点および第６共役点と第３面との間の光路中に配置されている。
【００１８】
また、本発明の実施形態に係る投影光学系は、第３結像光学系からの光を第７結像光学系へ導く第１偏向部材と、第６結像光学系からの光を第７結像光学系へ導く第２偏向部材とを備え、第７結像光学系においてパワーを有するすべての光学素子は屈折光学素子である。すなわち、第７結像光学系は屈折光学系である。また、第１偏向部材は第３結像光学系と第７結像光学系との間の光路中に配置され、第２偏向部材は第６結像光学系と第７結像光学系との間の光路中に配置されている。
【００１９】
こうして、本発明の実施形態に係る投影光学系では、第１結像光学系は第１面からの光に基づいて第１共役点の位置またはその近傍に第１中間像を形成し、第２結像光学系は第１中間像からの光に基づいて第２共役点の位置またはその近傍に第２中間像を形成し、第３結像光学系は第２中間像からの光に基づいて第３共役点の位置またはその近傍に第３中間像を形成し、第７結像光学系は第３中間像からの光に基づいて、第３面上に第１最終像を形成する。
【００２０】
一方、第４結像光学系は第２面からの光に基づいて第４共役点の位置またはその近傍に第４中間像を形成し、第５結像光学系は第４中間像からの光に基づいて第５共役点の位置またはその近傍に第５中間像を形成し、第６結像光学系は第５中間像からの光に基づいて第６共役点の位置またはその近傍に第６中間像を形成し、第７結像光学系は第６中間像からの光に基づいて、第３面上において第１最終像と並列する位置に第２最終像を形成する。
【００２１】
本発明の実施形態に係る投影光学系では、上述のような４回結像型で双頭型の基本構成を採用しているので、所要の大きさの像側開口数および有効結像領域を確保することができ、例えば間隔を隔てた２つ物体面上のパターンの像を像面上の所定領域内に並列的に形成することができる。その結果、例えば走査型の露光装置に本発明の実施形態に係る投影光学系を適用することにより、間隔を隔てた２つのマスク上のパターンの像を投影光学系の有効結像領域内に並列的に形成し、１回のスキャン動作により２つの異なるパターンを感光性基板上の同一ショット領域に重ね焼きすることができる。
【００２２】
また、第１のマスクのパターンを第１ショット領域に走査露光する動作と、第２のマスクのパターンを第１ショット領域と走査進行方向に隣接する第２ショット領域に走査露光する動作と、第１のマスクのパターンを第２ショット領域と走査進行方向に隣接する第３ショット領域に走査露光する動作とを所要回数だけ繰り返すことにより、感光性基板の二次元的なステップ移動を行うことなく、感光性基板を走査方向に沿って移動させるだけで、走査方向に並んだ複数のショット領域への走査露光を連続的に行うことができる。すなわち、本発明の実施形態に係る投影光学系を走査型の露光装置に適用することにより、走査露光にかかるスループットを飛躍的に向上させることができる。
【００２３】
本発明の実施形態に係る投影光学系を、例えば半導体露光装置に適用する場合、縮小倍率を有する光学系として構成することができる。また、本発明の実施形態に係る投影光学系では、第１結像光学系および第３結像光学系、並びに第４結像光学系および第６結像光学系も、第７結像光学系と同様に、屈折光学系として構成することができる。この場合、屈折光学素子は安定した面精度で製造することが可能であるため、光学系の安定性の向上、光学系の製造コストの低下などを図ることができる。
【００２４】
また、本発明の実施形態に係る投影光学系では、第１面から第１偏向部材に至る光学系である第１光学ユニットと、第２面から第２偏向部材に至る光学系である第２光学ユニットとが互いに同じ構成を有していても良い。これにより、第７結像光学系の光軸に関して対称的な構成を有する投影光学系を得ることができ、光学系の安定性の向上、光学系の構成の簡素化、光学系の製造コストの低下などを図ることができる。
【００２５】
また、本発明の実施形態に係る投影光学系では、第２結像光学系および第５結像光学系がそれぞれ凹面反射鏡を有する構成を採用することにより、大きな像側開口数を確保しつつ色収差を良好に補正することができる。また、第２結像光学系および第５結像光学系が負レンズを有する構成を採用することにより、さらに具体的には凹面反射鏡の近傍に負レンズを配置することにより、ペッツバール和の補償を良好に行うことができる。
【００２６】
また、本発明の実施形態に係る投影光学系では、第１面と第１偏向部材との間の光路中に第３偏向部材を配置し、第２面と第２偏向部材との間の光路中に第４偏向部材を配置することができる。具体的には、第２結像光学系と第３結像光学系との間の光路中に第３偏向部材を配置し、第５結像光学系と第６結像光学系との間の光路中に第４偏向部材を配置することができる。この場合、第２共役点の近傍に第３偏向部材を配置し且つ第５共役点の近傍に第４偏向部材を配置することにより、第２結像光学系および第５結像光学系の凹面反射鏡に対する往路の光束と復路の光束との分離が容易になる。
【００２７】
あるいは、第１結像光学系と第２結像光学系との間の光路中に第３偏向部材を配置し、第４結像光学系と第５結像光学系との間の光路中に第４偏向部材を配置することができる。この場合も、第１共役点の近傍に第３偏向部材を配置し且つ第４共役点の近傍に第４偏向部材を配置することにより、第２結像光学系および第５結像光学系の凹面反射鏡に対する往路の光束と復路の光束との分離が容易になる。その結果、第１面での第１有効視野領域と光軸との間隔および第２面での第２有効視野領域と光軸との間隔を大きく設定する必要がなくなり、第３面での最大像高の縮小化を図ることができ、ひいては光学系の小型化を実現することが容易になる。
【００２８】
また、本発明の実施形態に係る投影光学系では、第３共役点の近傍に第１偏向部材を配置し、第６共役点の近傍に第２偏向部材を配置することができる。この場合、第１面での第１有効視野領域に対応して第３面に形成される第１有効結像領域と光軸との間隔、および第２面での第２有効視野領域に対応して第３面に形成される第２有効結像領域と光軸との間隔を小さく抑えることができる。その結果、第３面での最大像高の縮小化を図ることができ、ひいては光学系の小型化を実現することが容易になる。
【００２９】
本発明の実施形態に係る投影光学系は、第１面上において第１結像光学系の光軸を含まない第１有効視野領域と、第２面上において第４結像光学系の光軸を含まない第２有効視野領域とを有し、次の条件式（１）および（２）を満足しても良い。条件式（１）および（２）において、ＬＯ１は第１有効視野領域に対応して第３面に形成される第１有効結像領域と第７結像光学系の光軸との間隔であり、ＬＯ２は第２有効視野領域に対応して第３面に形成される第２有効結像領域と第７結像光学系の光軸との間隔である。また、Ｂは、第３面での最大像高である。
０．０５＜ＬＯ１／Ｂ＜０．４      （１）
０．０５＜ＬＯ２／Ｂ＜０．４      （２）
【００３０】
条件式（１）および（２）の下限値を下回ると、凹面反射鏡に対する往路と復路との光路分離のために各共役点における収差発生量を過度に制限することになる。条件式（１）および（２）の上限値を上回ると、投影光学系の大型化を招くとともに、１回のスキャン動作で２つのマスクパターンを１つのショット領域に走査露光するのに必要なスキャン距離が長くなり、スループットの低下を招く。なお、本発明の実施形態の効果をさらに良好に発揮するために、条件式（１）および（２）の下限値を０．１０に設定することができる。また、本発明の実施形態の効果をさらに良好に発揮するために、条件式（１）および（２）の上限値を０．３２に設定することができる。
【００３１】
本発明の実施形態に係る投影光学系では、各偏向部材の反射面の法線が光軸に対して４５度をなすように配置することにより、各結像光学系の光軸を互いに平行または互いに直交させることができ、ひいては光学系の配置を容易にすることができる。換言すれば、第１偏向部材の反射面および第２偏向部材の反射面を第７結像光学系の光軸に対して４５度をなすように配置し、第３偏向部材の反射面を第１結像光学系の光軸に対して４５度をなすように配置し、第４偏向部材の反射面を第４結像光学系の光軸に対して４５度をなすように配置しても良い。
【００３２】
また、本発明の実施形態に係る投影光学系では、第１偏向部材の反射面と第３偏向部材の反射面とを互いに平行に配置し、第２偏向部材の反射面と第４偏向部材の反射面とを互いに平行に配置しても良い。この構成では、共役点の近傍に配置された各偏向部材の反射面に入射する光線の入射角にばらつきがあるが、１本の光線に着目すると、第３偏向部材または第４偏向部材の反射面に４５度＋αの入射角で入射した光線が、第１偏向部材または第２偏向部材の反射面に４５−α’の入射角で入射するため、２回の反射における入射角の平均は４５度に近づくことになる。
【００３３】
例えば、露光光として用いられるＡｒＦエキシマレーザ光の反射に際して光の吸収損失が小さい膜材料は限られており、膜層も多くすることは困難である。このため、反射面の反射率及び位相変調には、光の入射角による差（入射角度特性）が生じ易い。しかしながら、上述のように一対の反射面が互いに平行な配置を採用することにより、２回の反射における入射角の平均化を図り、反射面の入射角度特性の影響を抑えて良好な結像性能を保つことができる。また、第３偏向部材と第１偏向部材との間の光学系の結像倍率および第４偏向部材と第２偏向部材との間の光学系の結像倍率を１倍（等倍）に近づけることにより、角度αとα’とをほぼ等しくして、２回の反射における入射角の平均化をさらに良好に図ることができる。
【００３４】
すなわち、第２結像光学系と第３結像光学系との間に第３偏向部材が配置され且つ第５結像光学系と第６結像光学系との間に第４偏向部材が配置される構成の場合、第３結像光学系の結像倍率β３および第６結像光学系の結像倍率β６は、次の条件式（３）および（４）を満足しても良い。ただし、第２共役点と第３共役点との間の光路中には光軸との交点である第１面上の点と光学的に共役な点はなく、第５共役点と第６共役点との間の光路中には光軸との交点である第２面上の点と光学的に共役な点はないものとする。
０．５＜｜β３｜＜２．０      （３）
０．５＜｜β６｜＜２．０      （４）
【００３５】
あるいは、第１結像光学系と第２結像光学系との間に第３偏向部材が配置され且つ第４結像光学系と第５結像光学系との間に第４偏向部材が配置される構成の場合、第２結像光学系と第３結像光学系とからなる合成光学系の結像倍率β２３および第５結像光学系と第６結像光学系とからなる合成光学系の結像倍率β５６は、次の条件式（５）および（６）を満足しても良い。ただし、第３共役点と第１共役点との間の光路中には第２共役点以外に光軸との交点である第１面上の点と光学的に共役な点はなく、第６共役点と第４共役点との間の光路中には第５共役点以外に光軸との交点である第２面上の点と光学的に共役な点はないものとする。
０．５＜｜β２３｜＜２．０      （５）
０．５＜｜β５６｜＜２．０      （６）
【００３６】
条件式（３）〜（６）が満たされない場合、各偏向部材の反射面の入射角度特性の影響を抑えることが困難になり、結像性能の低下により、同じ線幅に形成されるべき縦パターンと横パターンとの間に線幅差が発生したり、孤立した２本の等幅線において線幅差が発生したりする。なお、本発明の実施形態の効果をさらに良好に発揮するために、条件式（３）〜（６）の下限値を０．８に設定することができる。また、本発明の実施形態の効果をさらに良好に発揮するために、条件式（３）〜（６）の上限値を１．６に設定することができる。
【００３７】
また、本発明の実施形態に係る投影光学系では、各偏向部材の反射面の法線が光軸に対して４５度をなすように配置する場合、第１面上の第１有効視野領域から射出された光線の第３偏向部材の反射面への入射角をＡ３とし、当該光線の第１偏向部材の反射面への入射角をＡ１とするとき、次の条件式（７）を満足しても良い。また、第２面上の第２有効視野領域から射出された光線の第４偏向部材の反射面への入射角をＡ４とし、当該光線の第２偏向部材の反射面への入射角をＡ２とするとき、次の条件式（８）を満足しても良い。
７０°＜（Ａ１＋Ａ３）＜１１０°      （７）
７０°＜（Ａ２＋Ａ４）＜１１０°      （８）
【００３８】
条件式（７）および（８）は、各偏向部材の反射面の入射角度特性の影響を抑えて良好な結像性能を保つために必要なαとα’との差の所要範囲を直接規定する条件式である。なお、本発明の実施形態の効果をさらに良好に発揮するために、条件式（７）および（８）の下限値を８０°に設定することができる。また、本発明の実施形態の効果をさらに良好に発揮するために、条件式（７）および（８）の上限値を１０５°に設定することができる。
【００３９】
また、本発明の実施形態に係る投影光学系では、各偏向部材の反射面へ入射する光束をテレセントリックにすることにより、像面上の有効結像領域内での結像性能のばらつきを抑えることができる。各偏向部材の反射面へ入射する主光線と光軸とのなす角度が５度よりも大きくなると、有効結像領域内での結像性能に比較的大きな差異が生じる。このとき、凹面反射鏡は第２結像光学系および第５結像光学系の瞳位置の近傍に配置され、第２結像光学系および第５結像光学系はテレセントリックな主光線を集光するためのフィールドレンズとしての正レンズを有していても良い。
【００４０】
具体的には、第２結像光学系と第３結像光学系との間に第３偏向部材が配置され且つ第５結像光学系と第６結像光学系との間に第４偏向部材が配置される構成の場合、第３結像光学系および第６結像光学系は入射側および射出側にテレセントリックな光学系であり、第１面上の第１有効視野領域の各点からの主光線が第３結像光学系に入射するときの主光線と光軸とのなす角度および第１有効視野領域の各点からの主光線が第３結像光学系から射出されるときの主光線と光軸とのなす角度はともに５度以下であっても良い。同様に、第２面上の第２有効視野領域の各点からの主光線が第６結像光学系に入射するときの主光線と光軸とのなす角度、および第２有効視野領域の各点からの主光線が第６結像光学系から射出されるときの主光線と光軸とのなす角度は、ともに５度以下であっても良い。
【００４１】
あるいは、第１結像光学系と第２結像光学系との間に第３偏向部材が配置され且つ第４結像光学系と第５結像光学系との間に第４偏向部材が配置される構成の場合、第２結像光学系および第５結像光学系は入射側にテレセントリックな光学系であり、第３結像光学系および第６結像光学系は射出側にテレセントリックな光学系であっても良い。また、第１面上の第１有効視野領域の各点からの主光線が第２結像光学系に入射するときの主光線と光軸とのなす角度、および第１有効視野領域の各点からの主光線が第３結像光学系から射出されるときの主光線と光軸とのなす角度は、ともに５度以下であっても良い。同様に、第２面上の第２有効視野領域の各点からの主光線が第５結像光学系に入射するときの主光線と光軸とのなす角度および第２有効視野領域の各点からの主光線が第６結像光学系から射出されるときの主光線と光軸とのなす角度はともに５度以下であっても良い。
【００４２】
上述のような構成を有する本発明の実施形態に係る投影光学系を露光装置に適用すると、第１面に設定される第１マスク、第２面に設定される第２マスク、および第３面に設定されるウェハが、投影光学系に対して同じ側に配置されることになる。すなわち、本発明の実施形態に係る投影光学系において、第１面および第２面から射出される主光線の向きと、第３面に入射する主光線の向きとは互いに逆になる。
【００４３】
マスクを保持して移動するマスクステージおよびウェハを保持して移動するウェハステージの構成を考えると、本発明の実施形態において、第１面、第２面および第３面が投影光学系の下方の空間で水平に延びており、第３面は第１面および第２面よりも下方に位置することが重要である。この構成により、例えば重力に抗してマスクを上側から吸引して保持するマスクステージと、ウェハが載置されるウェハステージとの干渉を回避することが可能になる。すなわち、マスクステージが移動するのに要する空間である移動空間と、ウェハステージが移動するのに要する空間である移動空間とを分離することができる。特に、第１面と第２面とが同一平面に位置する構成、および第１面、第２面および第３面が水平に延びている構成を採用することにより、光学系の構成をさらに簡略化することができる。
【００４４】
具体的に、本発明の実施形態に係る投影光学系では、次の条件式（９）、（１０）および（１１）を満足しても良い。条件式（９）〜（１１）において、Ｄ１は第１偏向部材の反射面と第７結像光学系の光軸との交点と第３面との間の軸上間隔であり、Ｄ２は第２偏向部材の反射面と第７結像光学系の光軸との交点と第３面との間の軸上間隔である。また、Ｄ３は第３偏向部材の反射面と第１結像光学系の光軸との交点と第１面との間の軸上間隔であり、Ｄ４は第４偏向部材の反射面と第４結像光学系の光軸との交点と第２面との間の軸上間隔である。ただし、本明細書において、偏向部材の反射面と対応する結像光学系の光軸との交点とは、反射面の仮想的な延長面と光軸との交点を意味している。
Ｄ３≦Ｄ１      （９）
Ｄ４≦Ｄ２      （１０）
Ｄ１＝Ｄ２      （１１）
【００４５】
また、ウェハの大型化、すなわち４５０ｍｍウェハへの対応を考えると、今後の露光装置においてウェハステージの大型化を避けることはできない。したがって、本発明の実施形態に係る投影光学系では、以下の条件式（１２）および（１３）を満足しても良い。条件式（１２）および（１３）において、Ｄ１３は、第１偏向部材の反射面と第７結像光学系の光軸との交点と第３偏向部材の反射面と第１結像光学系の光軸との交点との間の第３結像光学系の光軸に沿った間隔である。また、Ｄ２４は、第２偏向部材の反射面と第７結像光学系の光軸との交点と第４偏向部材の反射面と第４結像光学系の光軸との交点との間の第６結像光学系の光軸に沿った間隔である。また、Ｓは、ウェハ（感光性基板）に外接する円の直径の最大値である。
２．２＜Ｄ１３／Ｓ＜５．０      （１２）
２．２＜Ｄ２４／Ｓ＜５．０      （１３）
【００４６】
条件式（１２）および（１３）の下限値を下回ると、マスクステージとウェハステージとの間隔が小さくなり過ぎて、ステージ同士の干渉を回避することが困難になる。条件式（１２）および（１３）の上限値を上回ると、マスクステージとウェハステージとの間隔が大きくなり過ぎて、装置の大型化を招いてしまう。なお、本発明の実施形態の効果をさらに良好に発揮するために、条件式（１２）および（１３）の下限値を２．４に設定することができる。また、本発明の実施形態の効果をさらに良好に発揮するために、条件式（１２）および（１３）の上限値を４．２に設定することができる。
【００４７】
また、本発明の実施形態に係る投影光学系では、投影光学系と像面との間の光路を液体で満たすことができる。像側に液浸領域が形成された液浸型の構成を採用することにより、大きな実効的な像側開口数を確保しつつ、比較的大きな有効結像領域を確保することができる。
【００４８】
また、本発明の実施形態に係る投影光学系において、光路合成器としての第１偏向部材と第２偏向部材とを一体に構成することにより、光学系の簡略化および安定化を図ることができる。また、本発明の実施形態に係る投影光学系では、第１偏向部材の反射面と第２偏向部材の反射面とが形成する稜線を、第３結像光学系の光軸と第６結像光学系の光軸と第７結像光学系の光軸とが交差する点上に位置させることができる。より正確には、第１偏向部材が有する平面状の反射面の仮想的な延長面と第２偏向部材が有する平面状の反射面の仮想的な延長面とが形成する稜線を、第３結像光学系の射出側の光軸と第６結像光学系の射出側の光軸と第７結像光学系の入射側の光軸とが交差する点上に位置させることができる。この場合、第１偏向部材および第２偏向部材により、第３結像光学系から第７結像光学系への光線と第６結像光学系から第７結像光学系への光線とを良好に分離することが可能になる。なお、上述の説明は、第１形態の投影光学系だけではなく、第２形態の投影光学系にも適用可能である。
【００４９】
本発明の実施形態を、添付図面に基づいて説明する。図１は、本発明の実施形態にかかる露光装置の構成を概略的に示す図である。図１において、感光性基板であるウェハＷの露光面（転写面）の法線方向に沿ってＺ軸を、ウェハＷの露光面内において図１の紙面に平行な方向にＸ軸を、ウェハＷの露光面内において図１の紙面に垂直な方向にＹ軸をそれぞれ設定している。図１を参照すると、本実施形態の露光装置は、Ｘ方向に間隔を隔てて配置された２つの照明系ＩＬａおよびＩＬｂを備えている。
【００５０】
以下、並列配置された第１照明系ＩＬａと第２照明系ＩＬｂとは互いに同じ構成を有するため、第１照明系ＩＬａに着目して各照明系の構成および作用を説明し、対応する第２照明系の参照符号およびその構成要素の参照符号を括弧内に示す。第１照明系ＩＬａ（第２照明系ＩＬｂ）は、第１光学系２ａ（２ｂ）と、フライアイレンズ（またはマイクロフライアイレンズ）３ａ（３ｂ）と、第２光学系４ａ（４ｂ）とを備えている。露光光（照明光）を第１照明系ＩＬａ（第２照明系ＩＬｂ）へ供給するための光源１ａ（１ｂ）として、約１９３ｎｍの波長を有する光を供給するＡｒＦエキシマレーザ光源が用いられている。なお、第１照明系ＩＬａと第２照明系ＩＬｂとで、共通の光源を用いることもできる。
【００５１】
光源１ａ（１ｂ）から射出されたほぼ平行光束は、第１光学系２ａ（２ｂ）を介して、フライアイレンズ３ａ（３ｂ）に入射する。第１光学系２ａ（２ｂ）は、例えば周知の構成を有するビーム送光系（不図示）、偏光状態可変部（不図示）などを有する。ビーム送光系は、入射光束を適切な大きさおよび形状の断面を有する光束に変換しつつ偏光状態可変部へ導くとともに、偏光状態可変部へ入射する光束の位置変動および角度変動をアクティブに補正する機能を有する。
【００５２】
偏光状態可変部は、フライアイレンズ３ａ（３ｂ）に入射する照明光の偏光状態を変化させる機能を有する。具体的に、偏光状態可変部は、ビーム送光系から入射した直線偏光の光を振動方向の異なる直線偏光に変換したり、入射した直線偏光の光を非偏光の光に変換したり、入射した直線偏光の光を変換することなくそのまま射出したりする。偏光状態可変部により必要に応じて偏光状態が変換された光束は、フライアイレンズ３ａ（３ｂ）に入射する。
【００５３】
フライアイレンズ３ａ（３ｂ）に入射した光束は多数の微小レンズ要素により二次元的に分割され、光束が入射した各微小レンズ要素の後側焦点面には小光源がそれぞれ形成される。こうして、フライアイレンズ３ａ（３ｂ）の後側焦点面には、多数の小光源からなる実質的な面光源が形成される。フライアイレンズ３ａ（３ｂ）からの光束は、第２光学系４ａ（４ｂ）を介して、第１マスクＭａ（第２マスクＭｂ）へ導かれる。
【００５４】
第２光学系４ａ（４ｂ）は、例えば周知の構成を有するコンデンサー光学系（不図示）、マスクブラインドＭＢａ（ＭＢｂ）、結像光学系（不図示）などを有する。この場合、フライアイレンズ３ａ（３ｂ）からの光束は、コンデンサー光学系を介した後、マスクブラインドＭＢａ（ＭＢｂ）を重畳的に照明する。照明視野絞りとしてのマスクブラインドには、フライアイレンズ３ａ（３ｂ）を構成する各微小レンズ要素の形状に応じた矩形状の照野が形成される。マスクブラインドＭＢａ（ＭＢｂ）の矩形状の開口部（光透過部）を通過した光束は、結像光学系を介して、第１マスクＭａ（第２マスクＭｂ）を重畳的に照明する。
【００５５】
第１マスクＭａを透過した光束および第２マスクＭｂを透過した光束は、双頭型の投影光学系ＰＬを介して、ウェハ（感光性基板）Ｗ上に第１マスクＭａのパターン像および第２マスクＭｂのパターン像をそれぞれ形成する。第１マスクＭａおよび第２マスクＭｂは、そのパターン面がＸＹ平面（水平面）に沿って延びるように、第１マスクステージＭＳａおよび第２マスクステージＭＳｂによって保持されている。具体的には、マスクＭａおよびＭｂは、マスクステージＭＳａおよびＭＳｂにより、重力に抗して上側から吸引保持されている。マスクステージＭＳａおよびＭＳｂは、マスクステージ駆動系ＭＳＤに接続されている。マスクステージ駆動系ＭＳＤは、マスクステージＭＳａおよびＭＳｂをＸ方向、Ｙ方向、Ｚ方向を軸とした回転方向に駆動する。なお、マスクステージＭＳａおよびＭＳｂとしては、マスクＭａおよびＭｂを上側から吸引保持するものには限定されず、マスクＭａおよびＭｂを下側から保持するものであっても良い。
【００５６】
ウェハＷは、その露光面がＸＹ平面に沿って延びるように、ウェハステージＷＳ上に保持されている。ウェハステージＷＳは、ウェハステージ駆動系ＷＳＤに接続されている。ウェハステージ駆動系ＷＳＤは、ウェハステージＷＳをＸ方向、Ｙ方向、Ｚ方向、Ｚ方向を軸とした回転方向に駆動する。投影光学系ＰＬは、Ｘ方向沿って互いに離間した２つの有効視野と、１つの有効結像領域とを有する光学系である。投影光学系ＰＬの内部構成については後述する。
【００５７】
本実施形態では、第１照明系ＩＬａが、図２の左側に示すように、第１マスクＭａ上においてＹ方向に細長く延びる矩形状の照明領域ＩＲａを形成する。また、第２照明系ＩＬｂは、図２の右側に示すように、第２マスクＭｂ上においてＹ方向に細長く延びる矩形状の照明領域ＩＲｂを形成する。第１照明領域ＩＲａおよび第２照明領域ＩＲｂは、たとえば第１照明系ＩＬａの光軸ＡＸａおよび第２照明系ＩＬｂの光軸ＡＸｂを中心としてそれぞれ形成される。
【００５８】
すなわち、第１マスクＭａのパターン領域ＰＡａのうち、第１照明領域ＩＲａに対応するパターンが、第１照明系ＩＬａにより所定の照明条件で照明される。また、Ｘ方向に沿って第１マスクＭａから間隔を隔てた第２マスクＭｂのパターン領域ＰＡｂのうち、第２照明領域ＩＲ２に対応するパターンが、第２照明系ＩＬｂにより所定の照明条件で照明される。こうして、図３に示すように、投影光学系ＰＬの有効結像領域ＥＲ内においてＹ方向に細長く延びる矩形状の第１領域（第１有効結像領域）ＥＲａには第１照明領域ＩＲａにより照明された第１マスクＭａのパターン像が形成され、有効結像領域ＥＲ内において同じくＹ方向に細長く延びる矩形状の外形形状を有し且つＸ方向に沿って第１領域ＥＲａと並列的に位置する第２領域（第２有効結像領域）ＥＲｂには第２照明領域ＩＲｂにより照明された第２マスクＭｂのパターン像が形成される。
【００５９】
本実施形態では、投影光学系ＰＬに対して第１マスクＭａ、第２マスクＭｂおよびウェハＷをＸ方向に沿って同期的に移動させつつ、ウェハＷ上の１つのショット領域に、第１マスクＭａのパターンと第２マスクＭｂのパターンとを重ねて走査露光して１つの合成パターンを形成する。そして、投影光学系ＰＬに対してウェハＷをＸＹ平面に沿って二次元的にステップ移動させつつ、上述の重ね走査露光を繰り返すことにより、ウェハＷ上の各ショット領域に、第１マスクＭａのパターンと第２マスクＭｂのパターンとの合成パターンが逐次形成される。
【００６０】
図４は、本実施形態においてウェハ上に形成される矩形状の静止露光領域と基準光軸との位置関係を示す図である。本実施形態では、図４に示すように、基準光軸ＡＸ（ウェハＷ上において光軸ＡＸ７と一致）を中心とした半径Ｂを有する円形状の領域（イメージサークル）ＩＦ内において、基準光軸ＡＸから＋Ｘ方向に軸外し量ＬＯ１だけ離れた位置に所定の大きさを有する矩形状の第１静止露光領域（第１有効結像領域に対応）ＥＲａが設定され、基準光軸ＡＸから−Ｘ方向に軸外し量ＬＯ２だけ離れた位置に所定の大きさを有する矩形状の第２静止露光領域（第２有効結像領域に対応）ＥＲｂが設定される。第１静止露光領域ＥＲａと第２静止露光領域ＥＲｂとは、基準光軸ＡＸを通り且つＹ軸に平行な軸線に関して対称である。
【００６１】
静止露光領域ＥＲａ，ＥＲｂのＸ方向の長さはＬＸａ，ＬＸｂ（＝ＬＸａ）であり、そのＹ方向の長さはＬＹａ，ＬＹｂ（＝ＬＹａ）である。したがって、図２に示すように、第１マスクＭａ上では、矩形状の第１静止露光領域ＥＲａに対応して、第１結像光学系の光軸ＡＸ１から＋Ｘ方向に軸外し量ＬＯ１に対応する距離だけ離れた位置に第１静止露光領域ＥＲａに対応した大きさおよび形状を有する矩形状の第１照明領域（第１有効視野領域に対応）ＩＲａが形成される。同様に、第２マスクＭｂ上では、矩形状の第２静止露光領域ＥＲｂに対応して、第４結像光学系の光軸ＡＸ４から−Ｘ方向に軸外し量ＬＯ２（＝ＬＯ１）に対応する距離だけ離れた位置に第２静止露光領域ＥＲｂに対応した大きさおよび形状を有する矩形状の第２照明領域（第２有効視野領域に対応）ＩＲｂが形成される。
【００６２】
図５は、本実施形態における境界レンズとウェハとの間の構成を模式的に示す図である。図５を参照すると、本実施形態にかかる投影光学系ＰＬでは、境界レンズＬｂとウェハＷとの間の光路が液体Ｌｍで満たされている。本実施形態では、液体Ｌｍとして、半導体製造工場等で容易に大量に入手できる純水（脱イオン水）を用いている。ただし、液体Ｌｍとして、Ｈ+，Ｃｓ+，Ｋ+、Ｃｌ-，ＳＯ42-，ＰＯ42-を入れた水、イソプロパノール，グリセロール、ヘキサン、ヘプタン、デカンなどを用いることもできる。
【００６３】
投影光学系ＰＬに対してウェハＷを相対移動させつつ走査露光を行うステップ・アンド・スキャン方式の露光装置において、走査露光の開始から終了まで投影光学系ＰＬの境界レンズＬｂとウェハＷとの間の光路中に液体Ｌｍを満たし続けるには、たとえば国際公開番号ＷＯ９９／４９５０４号公報に開示された技術や、特開平１０−３０３１１４号公報に開示された技術などを用いることができる。国際公開番号ＷＯ９９／４９５０４号公報に開示された技術では、液体供給装置から供給管および排出ノズルを介して所定の温度に調整された液体を境界レンズＬｂとウェハＷとの間の光路を満たすように供給し、液体回収装置により回収管および流入ノズルを介してウェハＷ上から液体を回収する。
【００６４】
本実施形態では、給排水機構を用いて、境界レンズＬｂとウェハＷとの間の光路中において液体Ｌｍを循環させている。このように、浸液としての液体Ｌｍを微小流量で循環させることにより、防腐、防カビ等の効果により液体の変質を防ぐことができる。また、露光光の熱吸収による収差変動を防ぐことができる。
【００６５】
また、上述のように投影光学系と感光性基板との間の光路中に液体を満たす手法として、局所的に液体を満たす手法だけではなく、特開平６−１２４８７３号公報に開示されているような露光対象の基板を保持したステージを液槽の中で移動させる手法や、特開平１０−３０３１１４号公報に開示されているようなステージ上に所定深さの液体槽を形成し、その中に基板を保持する手法などを採用することができる。
【００６６】
本実施形態の各実施例において、投影光学系ＰＬは、後述の図６、図８および図１０に示すように、第１結像光学系Ｇ１と、第２結像光学系Ｇ２と、第３結像光学系Ｇ３と、第４結像光学系Ｇ４と、第５結像光学系Ｇ５と、第６結像光学系Ｇ６と、第７結像光学系Ｇ７と、反射面Ｒ３７および反射面Ｒ６７を有する反射鏡ＦＭと、反射面Ｒ２３を有する平面反射鏡Ｍ２３（第３偏向部材）と、反射面Ｒ５６を有する平面反射鏡Ｍ５６（第４偏向部材）とを備えている。
【００６７】
第１結像光学系Ｇ１は、光軸（第１結像光学系Ｇ１の入射側の光軸ＡＸ１）との交点である第１マスクＭａ上の点と光学的に共役な第１共役点ＣＰ１と第１マスクＭａとの間の光路中に配置されている。第２結像光学系Ｇ２は、光軸ＡＸ１との交点である第１マスクＭａ上の点と光学的に共役な第２共役点ＣＰ２と第１共役点ＣＰ１との間の光路中に配置されている。第３結像光学系Ｇ３は、光軸ＡＸ１との交点である第１マスクＭａ上の点と光学的に共役な第３共役点ＣＰ３と第２共役点ＣＰ２との間の光路中に配置されている。
【００６８】
第４結像光学系Ｇ４は、光軸（第４結像光学系Ｇ４の入射側の光軸ＡＸ４）との交点である第２マスクＭｂ上の点と光学的に共役な第４共役点ＣＰ４と第２マスクＭｂとの間の光路中に配置されている。第５結像光学系Ｇ５は、光軸ＡＸ４との交点である第２マスクＭｂ上の点と光学的に共役な第５共役点ＣＰ５と第４共役点ＣＰ４との間の光路中に配置されている。第６結像光学系Ｇ６は、光軸ＡＸ４との交点である第２マスクＭｂ上の点と光学的に共役な第６共役点ＣＰ６と第５共役点ＣＰ５との間の光路中に配置されている。
【００６９】
第７結像光学系Ｇ７は、第３共役点ＣＰ３および第６共役点ＣＰ６とウェハＷとの間の光路中に配置されている。反射鏡ＦＭは、第３共役点ＣＰ３の近傍に配置された平面状の反射面Ｒ３７を有する第１偏向部材と第６共役点ＣＰ６の近傍に配置された平面状の反射面Ｒ６７を有する第２偏向部材とからなる光路合成器である。平面反射鏡Ｍ２３は第２共役点ＣＰ２の近傍に配置され、平面反射鏡Ｍ５６は第５共役点ＣＰ５の近傍に配置されている。
【００７０】
第１結像光学系Ｇ１、第３結像光学系Ｇ３、第４結像光学系Ｇ４、第６結像光学系Ｇ６、および第７結像光学系Ｇ７は、屈折光学系である。第２結像光学系Ｇ２および第５結像光学系Ｇ５は、凹面反射鏡を含む反射屈折光学系である。また、第１結像光学系Ｇ１から第３結像光学系Ｇ３までの第１光学ユニットと、第４結像光学系Ｇ４から第６結像光学系Ｇ６までの第２光学ユニットとは、互いに同じ構成を有し、第７結像光学系Ｇ７の光軸ＡＸ７に関して対称に構成されている。
【００７１】
光路合成器としての反射鏡ＦＭにおいて、反射面Ｒ３７と反射面６７とが形成する稜線（厳密には反射面Ｒ３７の仮想的な延長面と反射面Ｒ６７の仮想的な延長面とが形成する稜線）は、第３結像光学系Ｇ３の射出側の光軸ＡＸ３と第６結像光学系Ｇ６の射出側の光軸ＡＸ６と第７結像光学系Ｇ７の入射側の光軸ＡＸ７とが交差する点上に位置している。また、投影光学系ＰＬは、物体側および像側の双方にテレセントリックに構成されている。
【００７２】
各実施例にかかる投影光学系ＰＬでは、第１マスクＭａから＋Ｚ方向に沿って進む光が、第１結像光学系Ｇ１を介して第１中間像を形成する。第１中間像からの光は、第２結像光学系Ｇ２を介して、平面反射鏡Ｍ２３の反射面Ｒ２３の近傍に第２中間像を形成する。第２中間像からの光または第２中間像を形成する光は、反射面Ｒ２３により＋Ｘ方向へ偏向された後、第３結像光学系Ｇ３を介して、反射鏡ＦＭの反射面Ｒ３７の近傍に第３中間像を形成する。
【００７３】
同様に、第２マスクＭｂから−Ｚ方向に沿って進む光は、第４結像光学系Ｇ４を介して第４中間像を形成する。第４中間像からの光は、第５結像光学系Ｇ５を介して、平面反射鏡Ｍ５６の反射面Ｒ５６の近傍に第５中間像を形成する。第５中間像からの光または第５中間像を形成する光は、反射面Ｒ５６により−Ｘ方向へ偏向された後、反射鏡ＦＭの反射面Ｒ６７の近傍に第６中間像を形成する。
【００７４】
第３中間像からの光または第３中間像を形成する光は、反射鏡ＦＭの反射面Ｒ３７により−Ｚ方向へ偏向された後、第７結像光学系Ｇ７を介して、ウェハＷ上に最終的な第１縮小像を形成する。第６中間像からの光または第６中間像を形成する光は、反射鏡ＦＭの反射面Ｒ６７により−Ｚ方向へ偏向された後、第７結像光学系Ｇ７を介して、ウェハＷ上において第１縮小像と並列する位置に最終的な第２縮小像を形成する。
【００７５】
本実施形態の各実施例において、非球面は、光軸に垂直な方向の高さをｙとし、非球面の頂点における接平面から高さｙにおける非球面上の位置までの光軸に沿った距離（サグ量）をｚとし、頂点曲率半径をｒとし、円錐係数をκとし、ｎ次の非球面係数をＣnとしたとき、以下の数式（ａ）で表される。後述の表（１）、（２）および（３）において、非球面形状に形成されたレンズ面には面番号の右側に＊印を付している。
【００７６】
ｚ＝（ｙ2／ｒ）／［１＋｛１−（１＋κ）・ｙ2／ｒ2｝1/2］＋Ｃ4・ｙ4
＋Ｃ6・ｙ6＋Ｃ8・ｙ8＋Ｃ10・ｙ10＋Ｃ12・ｙ12＋Ｃ14・ｙ14
＋Ｃ16・ｙ16＋Ｃ18・ｙ18＋Ｃ20・ｙ20      （ａ）
【００７７】
［第１実施例］
図６は、本実施形態の第１実施例にかかる投影光学系のレンズ構成を示す図である。図６を参照すると、第１実施例の投影光学系ＰＬにおいて、第１結像光学系Ｇ１は、Ｚ方向に延びる光軸ＡＸ１に沿って光の入射側から順に配置された１２個のレンズＬ１１〜Ｌ１１２により構成されている。第２結像光学系Ｇ２は、光軸ＡＸ１と同じ直線上にある光軸ＡＸ２に沿って光の入射側から順に配置された１つの正レンズＬ２１と、２つの負レンズＬ２２およびＬ２３と、凹面反射鏡ＣＭ２とにより構成されている。第３結像光学系Ｇ３は、Ｘ方向に延びる光軸ＡＸ３に沿って光の入射側から順に配置された１０個のレンズＬ３１〜Ｌ３１０により構成されている。
【００７８】
第４結像光学系Ｇ４、第５結像光学系Ｇ５、および第６結像光学系Ｇ６は、第１結像光学系Ｇ１、第２結像光学系Ｇ２、および第３結像光学系Ｇ３とそれぞれ同じ構成を有するため、その構成の説明を省略する。第７結像光学系Ｇ７は、Ｚ方向に延びる光軸ＡＸ７に沿って光の入射側から順に配置された１５個のレンズＬ７１〜Ｌ７１５により構成されている。第７結像光学系Ｇ７において最もウェハ側に配置された平凸状のレンズＬ７１５は、境界レンズＬｂを構成している。第１実施例では、レンズＬ７１２の内部に近軸の瞳位置があり、この近軸の瞳位置に開口絞りＡＳが配置されている。
【００７９】
第１実施例では、境界レンズＬｂとウェハＷとの間の光路に、使用光（露光光）であるＡｒＦエキシマレーザ光（波長λ＝１９３．３０６ｎｍ）に対して１．４３５８７６の屈折率を有する純水（Ｌｍ）が満たされている。また、すべての光透過部材（レンズ）が、使用光に対して１．５６０３２６１の屈折率を有する石英ガラス（ＳｉＯ2）により形成されている。
【００８０】
次の表（１）に、第１実施例にかかる投影光学系ＰＬの諸元の値を掲げる。表（１）の主要諸元において、λは露光光の中心波長を、βは投影倍率の大きさを、ＮＡは像側（ウェハ側）開口数を、ＢはウェハＷ上でのイメージサークルＩＦの半径（最大像高）を、ＬＸａ，ＬＸｂは静止露光領域ＥＲａ，ＥＲｂのＸ方向に沿った寸法（長辺の寸法）を、ＬＹａ，ＬＹｂは静止露光領域ＥＲａ，ＥＲｂのＹ方向に沿った寸法（短辺の寸法）をそれぞれ表している。
【００８１】
また、表（１）の光学部材諸元において、面番号は光の入射側からの面の順序を、ｒは各面の曲率半径（非球面の場合には頂点曲率半径：ｍｍ）を、ｄは各面の軸上間隔すなわち面間隔（ｍｍ）を、ｎは中心波長に対する屈折率をそれぞれ示している。なお、結像光学系Ｇ１〜Ｇ３と結像光学系Ｇ４〜Ｇ６とは互いに同じ構成を有するため、表（１）では結像光学系Ｇ４〜Ｇ６に関する光学部材の諸元の記載を省略し、結像光学系Ｇ４〜Ｇ６を構成する光学部材の参照符号だけを括弧内に示している。なお、表（１）における表記は、以降の表（２）および（３）においても同様である。
【００８２】
表（１）
（主要諸元）
λ＝１９３．３０６ｎｍ
β＝１／４
ＮＡ＝１．４０
Ｂ＝１５．３ｍｍ
ＬＯ１＝ＬＯ２＝３．８ｍｍ
ＬＸａ＝ＬＸｂ＝２６ｍｍ
ＬＹａ＝ＬＹｂ＝４ｍｍ
（光学部材諸元）
面番号      ｒ            ｄ            ｎ          光学部材
（マスク面）    143.0457
1*    -2149.56686      37.1696      1.5603261      Ｌ１１（Ｌ４１）
2      -353.06239      90.4783
3      -242.13440      31.5726      1.5603261      Ｌ１２（Ｌ４２）
4      -189.60199      38.7034
5       349.23635      70.5353      1.5603261      Ｌ１３（Ｌ４３）
6      -625.88405      13.8602
7       186.71555      30.8278      1.5603261      Ｌ１４（Ｌ４４）
8       263.87455      53.2551
9        87.62478      28.7960      1.5603261      Ｌ１５（Ｌ４５）
10       88.73819      56.9253
11     -243.47842       9.0000      1.5603261      Ｌ１６（Ｌ４６）
12      233.40002      18.0896
13      257.66874      42.3077      1.5603261      Ｌ１７（Ｌ４７）
14     -110.87886       4.7153
15     -103.85652      10.5712      1.5603261      Ｌ１８（Ｌ４８）
16      446.35518      32.5621
17*    -291.92989      67.8050      1.5603261      Ｌ１９（Ｌ４９）
18      908.08203       1.0000
19     1185.15814      58.2193      1.5603261      Ｌ１１０（Ｌ４１０）
20     -166.95773       1.0000
21      726.06659      41.7689      1.5603261      Ｌ１１１（Ｌ４１１）
22     -267.26042       1.0000
23      125.76600      25.0172      1.5603261      Ｌ１１２（Ｌ４１２）
24*     125.78727     100.0000
25         ∞          25.0000                     仮想面
26         ∞          44.5922                     仮想面
27      143.24159      69.9979      1.5603261      Ｌ２１（Ｌ５１）
28      439.36418     124.4664
29     -118.61450      45.1287      1.5603261      Ｌ２２（Ｌ５２）
30     2386.01920      90.2866
31      -97.15320      18.0000      1.5603261      Ｌ２３（Ｌ５３）
32     -221.08990      30.5668
33     -177.50172     -30.5668                     ＣＭ２（ＣＭ５）
34     -221.08990     -18.0000      1.5603261      Ｌ２３（Ｌ５３）
35      -97.15320     -90.2866
36     2386.01920     -45.1287      1.5603261      Ｌ２２（Ｌ５２）
37     -118.61450    -124.4664
38      439.36418     -69.9979      1.5603261      Ｌ２１（Ｌ５１）
39      143.24159     -44.5922
40         ∞         -25.0000                     仮想面
41         ∞        -206.7836                     Ｒ２３（Ｒ５６）
42     -507.99489     -37.3768      1.5603261      Ｌ３１（Ｌ６１）
43     5329.19532      -1.0000
44     -597.00952     -32.1771      1.5603261      Ｌ３２（Ｌ６２）
45     1912.09613      -1.0000
46     -547.26791     -46.0467      1.5603261      Ｌ３３（Ｌ６３）
47    -1355.78569    -216.9752
48      204.62751      -9.0389      1.5603261      Ｌ３４（Ｌ６４）
49      347.59776     -11.6879
50     -176.51690     -76.0000      1.5603261      Ｌ３５（Ｌ６５）
51*     910.10858     -74.9718
52      204.45425     -70.4619      1.5603261      Ｌ３６（Ｌ６６）
53     -226.72267      -4.9657
54     -258.53441     -69.1045      1.5603261      Ｌ３７（Ｌ６７）
55      206.04691     -11.3231
56*     266.69085     -11.0620      1.5603261      Ｌ３８（Ｌ６８）
57      221.04482     -69.0824
58      187.97072     -75.9659      1.5603261      Ｌ３９（Ｌ６９）
59      177.05435    -165.2252
60    -1672.11676     -26.8619      1.5603261      Ｌ３１０（Ｌ６１０）
61      389.25812    -141.4648
62         ∞        -133.5452                     Ｒ３７（Ｒ６７）
63      164.04263     -76.0000      1.5603261      Ｌ７１
64      202.32468      -1.0000
65     -288.24709     -71.1250      1.5603261      Ｌ７２
66      866.33777      -1.0000
67     -212.16962     -76.0000      1.5603261      Ｌ７３
68     -441.31305     -27.7610
69      377.72976     -14.4786      1.5603261      Ｌ７４
70     -153.07755     -48.4848
71      388.10415      -9.0000      1.5603261      Ｌ７５
72*    -328.65439     -16.4728
73*   -3157.16360     -31.4791      1.5603261      Ｌ７６
74     1168.79047      -1.0028
75     -307.09987     -34.3832      1.5603261      Ｌ７７
76*   -3039.32892     -22.0967
77*    2000.00000     -34.9706      1.5603261      Ｌ７８
78      719.88566      -1.0000
79    -1975.23270     -20.0000      1.5603261      Ｌ７９
80*   -2627.98276     -34.1067
81*   -1484.97943     -44.1409      1.5603261      Ｌ７１０
82      437.80132      -1.0000
83      720.35508     -70.1444      1.5603261      Ｌ７１１
84      262.83672      -1.0000
85     -378.44582     -66.0777      1.5603261      Ｌ７１２
86     7570.00418      18.0000
87         ∞         -19.0000                     ＡＳ
88     -195.50431     -85.8176      1.5603261      Ｌ７１３
89*    -438.12570      -1.0000
90     -141.38428     -50.2383      1.5603261      Ｌ７１４
91*    -513.84557      -1.0000
92      -65.65717     -49.9000      1.5603261      Ｌ７１５：Ｌｂ
93         ∞          -3.0000      1.435876       Ｌｍ
（ウェハ面）
（非球面データ）
１面：  κ＝０
Ｃ4＝−２．５６２３１×１０-8   Ｃ6＝−３．２６６５６×１０-13
Ｃ8＝−４．４６０４４×１０-18    Ｃ10＝−４．４０５７０×１０-22
Ｃ12＝−１．９９２１９×１０-27   Ｃ14＝３．０７１８６×１０-31
Ｃ16＝−２．１０１７６×１０-35      Ｃ18＝０      Ｃ20＝０
１７面：  κ＝０
Ｃ4＝−１．３４７４６×１０-8   Ｃ6＝−３．２７６６３×１０-12
Ｃ8＝２．７２８８５×１０-16    Ｃ10＝−１．３８８９８×１０-19
Ｃ12＝６．７４３９３×１０-23    Ｃ14＝−１．９４２８５×１０-26
Ｃ16＝３．３５５５３×１０-30    Ｃ18＝−３．１７７６８×１０-34
Ｃ20＝１．２７３９２×１０-38
２４面：  κ＝０
Ｃ4＝２．１５６３１×１０-8   Ｃ6＝１．０３０８２×１０-12
Ｃ8＝４．５２４０７×１０-17    Ｃ10＝１．２９７９７×１０-20
Ｃ12＝−２．３０７０４×１０-24    Ｃ14＝４．５０３５０×１０-28
Ｃ16＝−３．９５７０２×１０-32    Ｃ18＝１．７８０１８×１０-36
Ｃ20＝４．９１６３５×１０-43
５１面：  κ＝０
Ｃ4＝−４．０２６４９×１０-8   Ｃ6＝６．７１５６３×１０-13
Ｃ8＝７．６３７４４×１０-18    Ｃ10＝−１．２１８５２×１０-21
Ｃ12＝５．２２２９１×１０-25    Ｃ14＝−５．６６４１９×１０-29
Ｃ16＝１．４８８８７×１０-33      Ｃ18＝０      Ｃ20＝０
５６面：  κ＝０
Ｃ4＝３．０５３５２×１０-8   Ｃ6＝１．１２４７１×１０-12
Ｃ8＝３．９８５１３×１０-17    Ｃ10＝１．５５８３９×１０-21
Ｃ12＝１．３０９４６×１０-25    Ｃ14＝−１．２３５７６×１０-29
Ｃ16＝２．３７２８０×１０-33    Ｃ18＝−１．５６１９８×１０-37
Ｃ20＝５．７５８７０×１０-42
７２面：  κ＝０
Ｃ4＝−４．０２９４６×１０-8   Ｃ6＝３．０２８１９×１０-12
Ｃ8＝２．２６０８１×１０-17    Ｃ10＝−４．６３６２０×１０-21
Ｃ12＝−４．３２２６９×１０-25    Ｃ14＝９．４２４９８×１０-29
Ｃ16＝−７．１２８７３×１０-33    Ｃ18＝１．９３９８８×１０-37
Ｃ20＝０
７３面：  κ＝０
Ｃ4＝−２．３５６６５×１０-8   Ｃ6＝５．８４０７６×１０-13
Ｃ8＝−４．５９２５８×１０-18    Ｃ10＝−７．００５４１×１０-21
Ｃ12＝１．５８４５４×１０-24    Ｃ14＝−２．５７００８×１０-28
Ｃ16＝２．６１９４３×１０-32    Ｃ18＝−１．５８２５５×１０-36
Ｃ20＝３．９１３９８×１０-41
７６面：  κ＝０
Ｃ4＝−４．５７２１９×１０-10   Ｃ6＝−４．３７３７９×１０-13
Ｃ8＝−５．２２３２０×１０-17    Ｃ10＝４．４２６３７×１０-22
Ｃ12＝１．３２８１４×１０-25    Ｃ14＝−４．３７６３２×１０-30
Ｃ16＝−１．６７４８９×１０-35    Ｃ18＝１．４９１３５×１０-39
Ｃ20＝０
７７面：  κ＝０
Ｃ4＝３．８９３５４×１０-9   Ｃ6＝１．７５６３７×１０-13
Ｃ8＝−６．６０２０８×１０-17    Ｃ10＝−１．６４５７６×１０-22
Ｃ12＝１．３８５６０×１０-25    Ｃ14＝−２．２５４７６×１０-30
Ｃ16＝−７．９３４５５×１０-35    Ｃ18＝１．８３５６４×１０-39
Ｃ20＝０
８０面：  κ＝０
Ｃ4＝−１．１０２５７×１０-8   Ｃ6＝−２．４９７０８×１０-14
Ｃ8＝−２．１８１１４×１０-17    Ｃ10＝−９．６３２１７×１０-23
Ｃ12＝６．０３３６３×１０-26    Ｃ14＝−２．２７６８８×１０-30
Ｃ16＝３．６４１１７×１０-35      Ｃ18＝−２．１５４４４×１０-40
Ｃ20＝０
８１面：  κ＝０
Ｃ4＝２．４３３４３×１０-8   Ｃ6＝−１．７４４１４×１０-13
Ｃ8＝−２．３０４１１×１０-19    Ｃ10＝−１．１４２４５×１０-22
Ｃ12＝１．０７５８４×１０-26    Ｃ14＝−４．５７７３７×１０-31
Ｃ16＝９．７１８７６×１０-36    Ｃ18＝−１．２６３７７×１０-40
Ｃ20＝０
８９面：  κ＝０
Ｃ4＝３．７６２８１×１０-8   Ｃ6＝−２．２８１５６×１０-12
Ｃ8＝１．９２０８４×１０-16    Ｃ10＝−９．８９９０８×１０-21
Ｃ12＝２．８１９８１×１０-25    Ｃ14＝−４．２５２３８×１０-30
Ｃ16＝２．６６７４０×１０-35      Ｃ18＝０        Ｃ20＝０
９１面：  κ＝０
Ｃ4＝−８．６５５１３×１０-9   Ｃ6＝−４．３１３５７×１０-12
Ｃ8＝−１．７２０６６×１０-16    Ｃ10＝７．１２０８３×１０-20
Ｃ12＝−９．７２３０８×１０-24    Ｃ14＝６．２７３７１×１０-28
Ｃ16＝−１．８８７８３×１０-32      Ｃ18＝０        Ｃ20＝０
（条件式対応値）
Ｄ１＝Ｄ２＝１０２８．２ｍｍ
Ｄ３＝Ｄ４＝１００８．２ｍｍ
β３＝β６＝１．１９
β２３＝β５６＝１．１６
Ｄ１３＝Ｄ２４＝１３５８．６ｍｍ
Ｓ＝４５０ｍｍ
ＬＯ１＝ＬＯ２＝３．８ｍｍ
Ｂ＝１５．３ｍｍ
Ａ１＝Ａ２＝６３．５５度（最小値をとる光線）
Ａ３＝Ａ４＝２６．３５度（最小値をとる光線）
Ａ１＝Ａ２＝４６．４４度（最大値をとる光線）
Ａ３＝Ａ４＝４６．００度（最大値をとる光線）
（１）ＬＯ１／Ｂ＝０．２４８
（２）ＬＯ２／Ｂ＝０．２４８
（７）（Ａ１＋Ａ３）＝８９．９１（最小値をとる光線）
（８）（Ａ２＋Ａ４）＝８９．９１（最小値をとる光線）
（７）（Ａ１＋Ａ３）＝９２．４４（最大値をとる光線）
（８）（Ａ２＋Ａ４）＝９２．４４（最大値をとる光線）
（１２）Ｄ１３／Ｓ＝３．０１９
（１３）Ｄ２４／Ｓ＝３．０１９
【００８３】
図７は、第１実施例における横収差を示す図である。収差図において、Ｙは像高を示している。図７における表記は、以降の図９および図１１においても同様である。図７の収差図から明らかなように、第１実施例では、非常に大きな像側開口数（ＮＡ＝１．４０）、および一対の静止露光領域ＥＲａ，ＥＲｂ（２６ｍｍ×４ｍｍ）を含む比較的大きな静止露光領域ＥＲ（２６ｍｍ×１５．６ｍｍ）を確保しているにもかかわらず、波長が１９３．３０６ｎｍのエキシマレーザ光に対して収差が良好に補正されていることがわかる。
【００８４】
［第２実施例］
図８は、本実施形態の第２実施例にかかる投影光学系のレンズ構成を示す図である。図８を参照すると、第２実施例の投影光学系ＰＬにおいて、第１結像光学系Ｇ１は、Ｚ方向に延びる光軸ＡＸ１に沿って光の入射側から順に配置された１２個のレンズＬ１１〜Ｌ１１２により構成されている。第２結像光学系Ｇ２は、光軸ＡＸ１と同じ直線上にある光軸ＡＸ２に沿って光の入射側から順に配置された１つの正レンズＬ２１と、２つの負レンズＬ２２およびＬ２３と、凹面反射鏡ＣＭ２とにより構成されている。第３結像光学系Ｇ３は、Ｘ方向に延びる光軸ＡＸ３に沿って光の入射側から順に配置された１０個のレンズＬ３１〜Ｌ３１０により構成されている。
【００８５】
第４結像光学系Ｇ４、第５結像光学系Ｇ５、および第６結像光学系Ｇ６は、第１結像光学系Ｇ１、第２結像光学系Ｇ２、および第３結像光学系Ｇ３とそれぞれ同じ構成を有するため、その構成の説明を省略する。第７結像光学系Ｇ７は、Ｚ方向に延びる光軸ＡＸ７に沿って光の入射側から順に配置された１５個のレンズＬ７１〜Ｌ７１５により構成されている。第７結像光学系Ｇ７において最もウェハ側に配置された平凸状のレンズＬ７１５は、境界レンズＬｂを構成している。第２実施例では、第１実施例と同様に、レンズＬ７１２の内部に近軸の瞳位置があり、この近軸の瞳位置に開口絞りＡＳが配置されている。
【００８６】
また、第２実施例では、第１実施例と同様に、境界レンズＬｂとウェハＷとの間の光路に、使用光であるＡｒＦエキシマレーザ光（波長λ＝１９３．３０６ｎｍ）に対して１．４３５８７６の屈折率を有する純水（Ｌｍ）が満たされている。また、すべての光透過部材が、使用光に対して１．５６０３２６１の屈折率を有する石英ガラスにより形成されている。次の表（２）に、第２実施例にかかる投影光学系ＰＬの諸元の値を掲げる。
【００８７】
表（２）
（主要諸元）
λ＝１９３．３０６ｎｍ
β＝１／４
ＮＡ＝１．３５
Ｂ＝１５．３ｍｍ
ＬＯ１＝ＬＯ２＝２．８ｍｍ
ＬＸａ＝ＬＸｂ＝２６ｍｍ
ＬＹａ＝ＬＹｂ＝５ｍｍ
（光学部材諸元）
面番号      ｒ            ｄ            ｎ          光学部材
（マスク面）     68.06061
1      -586.07580      20.20434      1.5603261      Ｌ１１（Ｌ４１）
2      -230.61494     107.59457
3      -242.18447      74.47034      1.5603261      Ｌ１２（Ｌ４２）
4      -211.26515      23.77336
5       207.49610      61.57929      1.5603261      Ｌ１３（Ｌ４３）
6     -8412.54586       2.54546
7       299.13005      17.89026      1.5603261      Ｌ１４（Ｌ４４）
8       397.83466       2.90753
9       131.08330      36.41651      1.5603261      Ｌ１５（Ｌ４５）
10      203.23998      78.67572
11     -233.01106       9.16442      1.5603261      Ｌ１６（Ｌ４６）
12      173.12941      21.66873
13     -217.24440      25.03962      1.5603261      Ｌ１７（Ｌ４７）
14     -103.58397      10.27527
15     -156.73082      12.19868      1.5603261      Ｌ１８（Ｌ４８）
16     -451.14666      29.47704
17*    -209.61197      58.53488      1.5603261      Ｌ１９（Ｌ４９）
18     -657.02163       1.00000
19    -1084.50282      76.00000      1.5603261      Ｌ１１０（Ｌ４１０）
20     -151.07953       1.00000
21      414.09389      60.69805      1.5603261      Ｌ１１１（Ｌ４１１）
22     -549.86813       1.00000
23      487.71156      25.00000      1.5603261      Ｌ１１２（Ｌ４１２）
24*     947.46317     100.00000
25         ∞          25.00000                     仮想面
26         ∞           1.00000                     仮想面
27      160.46928      69.97494      1.5603261      Ｌ２１（Ｌ５１）
28      843.99607     137.58178
29     -111.60543       9.00000      1.5603261      Ｌ２２（Ｌ５２）
30    19124.96743      73.67050
31      -98.17593      18.00000      1.5603261      Ｌ２３（Ｌ５３）
32     -209.71239      26.10584
33     -154.71296     -26.10584                     ＣＭ２（ＣＭ５）
34     -209.71239     -18.00000      1.5603261      Ｌ２３（Ｌ５３）
35      -98.17593     -73.67050
36    19124.96743      -9.00000      1.5603261      Ｌ２２（Ｌ５２）
37     -111.60543    -137.58178
38      843.99607     -69.97494      1.5603261      Ｌ２１（Ｌ５１）
39      160.46928      -1.00000
40         ∞         -25.00000                     仮想面
41         ∞        -189.39944                     Ｒ２３（Ｒ５６）
42     -532.97111     -40.22107      1.5603261      Ｌ３１（Ｌ６１）
43      622.49059      -1.00000
44     -421.23764     -24.40755      1.5603261      Ｌ３２（Ｌ６２）
45    -1272.87198      -1.00000
46     -229.48600     -19.17842      1.5603261      Ｌ３３（Ｌ６３）
47     -269.28627    -122.85175
48     -645.80191     -74.21251      1.5603261      Ｌ３４（Ｌ６４）
49      635.78890     -37.24572
50     -150.61476     -25.64829      1.5603261      Ｌ３５（Ｌ６５）
51     -443.47226     -24.30180
52      195.09674     -46.88195      1.5603261      Ｌ３６（Ｌ６６）
53     -162.86268     -13.63274
54     -370.50911     -32.47484      1.5603261      Ｌ３７（Ｌ６７）
55      251.33855    -103.13304
56*     575.89090     -54.22594      1.5603261      Ｌ３８（Ｌ６８）
57      193.02587     -89.82690
58      362.81083     -47.94952      1.5603261      Ｌ３９（Ｌ６９）
59      209.74590     -18.32614
60     1220.18658     -76.00000      1.5603261      Ｌ３１０（Ｌ６１０）
61      323.72836    -128.59060
62         ∞         -66.50000                     Ｒ３７（Ｒ６７）
63      144.32133     -52.63909      1.5603261      Ｌ７１
64      171.85869      -1.00000
65     -284.71313     -41.71221      1.5603261      Ｌ７２
66      624.37054      -1.00000
67     -165.85811     -56.22944      1.5603261      Ｌ７３
68     -317.65007     -14.10507
69   -43303.28155      -9.00000      1.5603261      Ｌ７４
70     -120.72404     -58.60639
71      126.46159      -9.00000      1.5603261      Ｌ７５
72*    -546.08105     -26.35345
73*     351.10634     -39.68597      1.5603261      Ｌ７６
74      147.99829      -1.00000
75     -222.56532     -63.69401      1.5603261      Ｌ７７
76*   -3333.33333     -26.19524
77*    1483.54746     -64.78136      1.5603261      Ｌ７８
78      204.53525      -1.00000
79      264.62152     -20.00000      1.5603261      Ｌ７９
80*   -3333.33333     -41.27541
81*     434.62199     -46.00882      1.5603261      Ｌ７１０
82      368.94779      -1.00000
83    -2097.98781     -70.30535      1.5603261      Ｌ７１１
84      514.62050     -14.00000 
85         ∞          13.00000                     ＡＳ
86     -304.02823     -57.71913      1.5603261      Ｌ７１２
87  -103596.14860      -1.00000
88     -190.85747     -69.41405      1.5603261      Ｌ７１３
89*    -984.28103      -1.00000
90     -108.98885     -50.25913      1.5603261      Ｌ７１４
91*    -306.74470      -1.00000
92      -67.43913     -49.90000      1.5603261      Ｌ７１５：Ｌｂ
93         ∞          -3.00000      1.435876       Ｌｍ
（ウェハ面）
（非球面データ）
１７面：  κ＝０
Ｃ4＝−９．５６１４５×１０-9   Ｃ6＝−１．５７１８５×１０-12
Ｃ8＝−９．９９８７０×１０-17    Ｃ10＝２．３４２５９×１０-21
Ｃ12＝−３．６６５０２×１０-24   Ｃ14＝９．０３２７９×１０-28
Ｃ16＝−１．５３７７２×１０-31      Ｃ18＝１．３９０４５×１０-35
Ｃ20＝−５．８２６７５×１０-40
２４面：  κ＝０
Ｃ4＝１．４１７６６×１０-8   Ｃ6＝４．９２５５１×１０-14
Ｃ8＝２．５２７６４×１０-18    Ｃ10＝−１．８３２１４×１０-22
Ｃ12＝４．７８６００×１０-26    Ｃ14＝−６．４５０５５×１０-30
Ｃ16＝５．３３３８８×１０-34    Ｃ18＝−２．４６００４×１０-38
Ｃ20＝４．９１６３５×１０-43
５６面：  κ＝０
Ｃ4＝２．９１４６０×１０-8   Ｃ6＝２．９６４８５×１０-14
Ｃ8＝７．８０８８４×１０-18    Ｃ10＝−１．８２０１８×１０-21
Ｃ12＝３．９７０４８×１０-25    Ｃ14＝−４．３９７７８×１０-29
Ｃ16＝３．１５６２７×１０-33    Ｃ18＝−１．２６２５６×１０-37
Ｃ20＝２．３０５２１×１０-42
７２面：  κ＝０
Ｃ4＝−４．４４２３３×１０-8   Ｃ6＝１．３２４２７×１０-12
Ｃ8＝−７．３６８９６×１０-17    Ｃ10＝−１．１３５０７×１０-20
Ｃ12＝６．６１５９０×１０-25    Ｃ14＝１．１２８６６×１０-29
Ｃ16＝１．９２６２７×１０-33      Ｃ18＝−１．３５２３１×１０-37
Ｃ20＝０
７３面：  κ＝０
Ｃ4＝２．９８７９２×１０-9   Ｃ6＝−１．２２６８７×１０-12
Ｃ8＝−１．１０９６３×１０-16    Ｃ10＝−２．７４０１８×１０-21
Ｃ12＝−９．０２３６２×１０-25    Ｃ14＝１．７２９８９×１０-28
Ｃ16＝−２．０８９３５×１０-32    Ｃ18＝１．４３６４９×１０-36
Ｃ20＝−３．５６１６５×１０-41
７６面：  κ＝０
Ｃ4＝４．３５４９１×１０-9   Ｃ6＝−６．２５１８８×１０-13
Ｃ8＝−５．７３９４６×１０-17    Ｃ10＝１．０１１３０×１０-21
Ｃ12＝１．３２８５３×１０-25    Ｃ14＝−５．５１９０９×１０-30
Ｃ16＝−１．２５３４２×１０-35    Ｃ18＝２．６６３８８×１０-39
Ｃ20＝０
７７面：  κ＝０
Ｃ4＝１．２４０７６×１０-8   Ｃ6＝４．２７６７２×１０-13
Ｃ8＝−４．３６７２５×１０-17    Ｃ10＝７．４６５１４×１０-22
Ｃ12＝１．６２４２２×１０-25    Ｃ14＝−３．４６９１５×１０-30
Ｃ16＝−２．１８４６４×１０-34    Ｃ18＝６．５８３６１×１０-39
Ｃ20＝０
８０面：  κ＝０
Ｃ4＝−２．１０６１２×１０-8   Ｃ6＝−３．２９０４４×１０-13
Ｃ8＝−３．２２８０７×１０-17    Ｃ10＝−１．１９０７５×１０-22
Ｃ12＝６．２７２２５×１０-26    Ｃ14＝−１．９４７２５×１０-30
Ｃ16＝１．０１７３７×１０-34    Ｃ18＝−２．４０６７７×１０-39
Ｃ20＝０
８１面：  κ＝０
Ｃ4＝１．３４８９２×１０-8   Ｃ6＝−４．４５３１８×１０-13
Ｃ8＝−３．８６２３０×１０-18    Ｃ10＝−１．３７９７２×１０-22
Ｃ12＝２．５１８１９×１０-27    Ｃ14＝−３．４１９４０×１０-31
Ｃ16＝５．０７３１８×１０-36    Ｃ18＝−３．１０８４４×１０-40
Ｃ20＝０
８９面：  κ＝０
Ｃ4＝２．５５３８７×１０-8   Ｃ6＝−２．５７９３０×１０-12
Ｃ8＝１．８８４０５×１０-16    Ｃ10＝−９．４６６６９×１０-21
Ｃ12＝２．９８９７３×１０-25    Ｃ14＝−５．３９７９４×１０-30
Ｃ16＝４．２４３６０×１０-35        Ｃ18＝０        Ｃ20＝０
９１面：  κ＝０
Ｃ4＝−６．１１１８１×１０-8   Ｃ6＝−１．７２９２２×１０-12
Ｃ8＝−３．４３７９５×１０-16    Ｃ10＝６．７６０８３×１０-20
Ｃ12＝−９．５６０７４×１０-24    Ｃ14＝６．８０９８６×１０-28
Ｃ16＝−２．９０８５６×１０-32      Ｃ18＝０        Ｃ20＝０
（条件式対応値）
Ｄ１＝Ｄ２＝９４５．４ｍｍ
Ｄ３＝Ｄ４＝９２５．２ｍｍ
β３＝β６＝１．２１
β２３＝β５６＝１．２９
Ｄ１３＝Ｄ２４＝１１７０．５ｍｍ
Ｓ＝４５０ｍｍ
ＬＯ１＝ＬＯ２＝２．８ｍｍ
Ｂ＝１５．３ｍｍ
Ａ１＝Ａ２＝６２．９２度（最小値をとる光線）
Ａ３＝Ａ４＝２６．９５度（最小値をとる光線）
Ａ１＝Ａ２＝３０．２１度（最大値をとる光線）
Ａ３＝Ａ４＝６３．７９度（最大値をとる光線）
（１）ＬＯ１／Ｂ＝０．１８３
（２）ＬＯ２／Ｂ＝０．１８３
（７）（Ａ１＋Ａ３）＝８９．８７（最小値をとる光線）
（８）（Ａ２＋Ａ４）＝８９．８７（最小値をとる光線）
（７）（Ａ１＋Ａ３）＝９４．００（最大値をとる光線）
（８）（Ａ２＋Ａ４）＝９４．００（最大値をとる光線）
（１２）Ｄ１３／Ｓ＝２．６０１
（１３）Ｄ２４／Ｓ＝２．６０１
【００８８】
図９は、第２実施例における横収差を示す図である。図９の収差図から明らかなように、第２実施例では、非常に大きな像側開口数（ＮＡ＝１．３５）、および一対の静止露光領域ＥＲａ，ＥＲｂ（２６ｍｍ×５ｍｍ）を含む比較的大きな静止露光領域ＥＲ（２６ｍｍ×１５．６ｍｍ）を確保しているにもかかわらず、波長が１９３．３０６ｎｍのエキシマレーザ光に対して収差が良好に補正されていることがわかる。
【００８９】
［第３実施例］
図１０は、本実施形態の第３実施例にかかる投影光学系のレンズ構成を示す図である。図１０を参照すると、第３実施例の投影光学系ＰＬにおいて、第１結像光学系Ｇ１は、Ｚ方向に延びる光軸ＡＸ１に沿って光の入射側から順に配置された１２個のレンズＬ１１〜Ｌ１１２により構成されている。第２結像光学系Ｇ２は、光軸ＡＸ１と同じ直線上にある光軸ＡＸ２に沿って光の入射側から順に配置された２つの負レンズＬ２１およびＬ２２と、凹面反射鏡ＣＭ２とにより構成されている。第３結像光学系Ｇ３は、Ｘ方向に延びる光軸ＡＸ３に沿って光の入射側から順に配置された１０個のレンズＬ３１〜Ｌ３１０により構成されている。
【００９０】
第４結像光学系Ｇ４、第５結像光学系Ｇ５、および第６結像光学系Ｇ６は、第１結像光学系Ｇ１、第２結像光学系Ｇ２、および第３結像光学系Ｇ３とそれぞれ同じ構成を有するため、その構成の説明を省略する。第７結像光学系Ｇ７は、Ｚ方向に延びる光軸ＡＸ７に沿って光の入射側から順に配置された１５個のレンズＬ７１〜Ｌ７１５により構成されている。第７結像光学系Ｇ７において最もウェハ側に配置された平凸状のレンズＬ７１５は、境界レンズＬｂを構成している。第３実施例では、第１実施例および第２実施例と同様に、レンズＬ７１２の内部に近軸の瞳位置があり、この近軸の瞳位置に開口絞りＡＳが配置されている。
【００９１】
また、第３実施例では、第１実施例および第２実施例と同様に、境界レンズＬｂとウェハＷとの間の光路に、使用光であるＡｒＦエキシマレーザ光（波長λ＝１９３．３０６ｎｍ）に対して１．４３５８７６の屈折率を有する純水（Ｌｍ）が満たされている。また、すべての光透過部材が、使用光に対して１．５６０３２６１の屈折率を有する石英ガラスにより形成されている。次の表（３）に、第３実施例にかかる投影光学系ＰＬの諸元の値を掲げる。
【００９２】
表（３）
（主要諸元）
λ＝１９３．３０６ｎｍ
β＝１／４
ＮＡ＝１．３５
Ｂ＝１５．３ｍｍ
ＬＯ１＝ＬＯ２＝２．８ｍｍ
ＬＸａ＝ＬＸｂ＝２６ｍｍ
ＬＹａ＝ＬＹｂ＝５ｍｍ
（光学部材諸元）
面番号      ｒ            ｄ             ｎ          光学部材
（マスク面）     68.305417
1      -418.69974      20.258719      1.5603261      Ｌ１１（Ｌ４１）
2      -202.12761     109.082946
3       468.86576      43.995889      1.5603261      Ｌ１２（Ｌ４２）
4      -348.58396       1.000000
5       209.82001      35.388927      1.5603261      Ｌ１３（Ｌ４３）
6      1232.64488       1.000000
7       162.91710      10.738403      1.5603261      Ｌ１４（Ｌ４４）
8       150.00000      62.420165
9        93.89563      32.197906      1.5603261      Ｌ１５（Ｌ４５）
10      117.46797      22.824902
11     -228.68609      17.713937      1.5603261      Ｌ１６（Ｌ４６）
12    -3841.07700      17.473213
13     -114.86308      22.598485      1.5603261      Ｌ１７（Ｌ４７）
14      -90.85055      16.126395
15     -125.56482       9.540206      1.5603261      Ｌ１８（Ｌ４８）
16    -1287.20683      87.952880
17*    -238.52458      60.748800      1.5603261      Ｌ１９（Ｌ４９）
18     -167.54100       1.000000
19     -726.14197      52.845620      1.5603261      Ｌ１１０（Ｌ４１０）
20     -202.08828       1.000000
21      263.85496      44.829956      1.5603261      Ｌ１１１（Ｌ４１１）
22    -9136.04306       1.000000
23      234.92083      29.180498      1.5603261      Ｌ１１２（Ｌ４１２）
24*     614.69993     100.005766
25         ∞         182.541720                     仮想面
26     -107.69408       9.018062      1.5603261      Ｌ２１（Ｌ５１）
27     -634.77519      56.779561
28     -113.16823      18.000000      1.5603261      Ｌ２２（Ｌ５２）
29     -227.30779      33.135378
30     -163.37480     -33.135378                     ＣＭ２（ＣＭ５）
31     -227.30779     -18.000000      1.5603261      Ｌ２２（Ｌ５２）
32     -113.16823     -56.779561
33     -634.77519      -9.018062      1.5603261      Ｌ２１（Ｌ５１）
34     -107.69408    -182.541720
35         ∞        -189.399444                     Ｒ２３（Ｒ５６）
36     1564.92668     -50.368928      1.5603261      Ｌ３１（Ｌ６１）
37      268.34811      -1.000000
38     7918.52031     -28.473308      1.5603261      Ｌ３２（Ｌ６２）
39      654.73510      -1.000000
40    -1839.56946     -75.716228      1.5603261      Ｌ３３（Ｌ６３）
41     5979.23492     -99.700277
42     -258.08494     -64.572369      1.5603261      Ｌ３４（Ｌ６４）
43    -3134.42911    -140.416272
44     -152.03879     -28.036965      1.5603261      Ｌ３５（Ｌ６５）
45     -352.24679     -17.463095
46      631.39933     -48.280275      1.5603261      Ｌ３６（Ｌ６６）
47     -141.34789     -76.056277
48     -336.86614     -75.966104      1.5603261      Ｌ３７（Ｌ６７）
49    -3105.40731     -64.957316
50*     708.21028     -69.672733      1.5603261      Ｌ３８（Ｌ６８）
51      186.79128     -14.290084
52      233.61816     -75.970951      1.5603261      Ｌ３９（Ｌ６９）
53      190.41690      -5.441923
54    -8387.96593     -42.116370      1.5603261      Ｌ３１０（Ｌ６１０）
55      347.61300    -133.910143
56         ∞         -66.500000                     Ｒ３７（Ｒ６７）
57      148.38791     -75.986723      1.5603261      Ｌ７１
58      183.99840      -1.000000
59     -266.62689     -36.724312      1.5603261      Ｌ７２
60      554.52607      -1.000000
61     -151.23538     -33.481157      1.5603261      Ｌ７３
62     -451.26020     -12.591952
63     1318.56526      -9.000000      1.5603261      Ｌ７４
64     -112.50842     -55.191096
65      127.08160      -9.110781      1.5603261      Ｌ７５
66*    -434.93767     -26.663812
67*     280.93202     -32.403526      1.5603261      Ｌ７６
68      166.63855      -1.000000
69     -262.40251     -60.427027      1.5603261      Ｌ７７
70*    1626.04270     -14.269217
71*    1261.43173     -65.194630      1.5603261      Ｌ７８
72      195.66529      -1.000000
73      225.84163     -20.000000      1.5603261      Ｌ７９
74*    1501.95254     -25.281741
75*     824.45668     -46.653403      1.5603261      Ｌ７１０
76      297.96105      -1.000000
77      634.46297     -58.228920      1.5603261      Ｌ７１１
78      325.07548     -15.000000
79         ∞          14.000000                     ＡＳ
80     -290.52967     -59.050911      1.5603261      Ｌ７１２
81    -8775.90458      -1.000000
82     -175.41392     -72.464453      1.5603261      Ｌ７１３
83*    -688.48238      -1.000000
84     -113.94730     -48.105370      1.5603261      Ｌ７１４
85*    -339.77086      -1.000000
86      -68.10513     -49.900000      1.5603261      Ｌ７１５：Ｌｂ
87         ∞          -3.000000      1.435876       Ｌｍ
（ウェハ面）
（非球面データ）
１７面：  κ＝０
Ｃ4＝−３．２７１１８×１０-9   Ｃ6＝−１．４８６６６×１０-13
Ｃ8＝−６．９６４６８×１０-18    Ｃ10＝−６．０９２４５×１０-22
Ｃ12＝１．２１５０６×１０-25   Ｃ14＝−１．３２９８７×１０-29
Ｃ16＝７．１８３２１×１０-34      Ｃ18＝−１．７６０２６×１０-38
Ｃ20＝５．１０２３０×１０-44
２４面：  κ＝０
Ｃ4＝１．２９７２４×１０-8   Ｃ6＝−３．０３５５７×１０-14
Ｃ8＝４．７６６４５×１０-18    Ｃ10＝−７．９２３６０×１０-22
Ｃ12＝１．３５２６５×１０-25    Ｃ14＝−１．４１６３７×１０-29
Ｃ16＝９．０７５５０×１０-34    Ｃ18＝−３．２３５５６×１０-38
Ｃ20＝４．９１６３５×１０-43
５０面：  κ＝０
Ｃ4＝４．９２３１８×１０-8   Ｃ6＝８．０９０７６×１０-13
Ｃ8＝２．０８８４２×１０-17    Ｃ10＝−６．０６３２０×１０-22
Ｃ12＝３．７３３０３×１０-25    Ｃ14＝−４．５４９７０×１０-29
Ｃ16＝４．１３５９２×１０-33    Ｃ18＝−２．０００４７×１０-37
Ｃ20＝４．５９７８７×１０-42
６６面：  κ＝０
Ｃ4＝−２．７７７７５×１０-9   Ｃ6＝３．２０３０１×１０-12
Ｃ8＝−３．７６５０９×１０-17    Ｃ10＝−８．３７０３２×１０-23
Ｃ12＝−３．５９１０２×１０-24    Ｃ14＝５．４００５８×１０-28
Ｃ16＝−４．３１６０８×１０-32      Ｃ18＝１．０５７２１×１０-36
Ｃ20＝０
６７面：  κ＝０
Ｃ4＝３．１４４８２×１０-8   Ｃ6＝７．７１８６７×１０-13
Ｃ8＝６．４０８８８×１０-17    Ｃ10＝１．３２０７０×１０-20
Ｃ12＝−４．３６６０１×１０-24    Ｃ14＝１．０２２８５×１０-27
Ｃ16＝−１．６４９９３×１０-31    Ｃ18＝１．４７４０４×１０-35
Ｃ20＝−６．１６７６０×１０-40
７０面：  κ＝０
Ｃ4＝１．７９６５４×１０-8   Ｃ6＝−２．３６２５６×１０-13
Ｃ8＝−６．３１７３６×１０-17    Ｃ10＝２．８３３８１×１０-22
Ｃ12＝１．３７１０９×１０-25    Ｃ14＝−１．９５９５９×１０-30
Ｃ16＝−２．３０２１３×１０-34    Ｃ18＝７．４９６１１×１０-39
Ｃ20＝０
７１面：  κ＝０
Ｃ4＝２．０６００６×１０-8   Ｃ6＝１．０５３２０×１０-12
Ｃ8＝−５．８７２３７×１０-17    Ｃ10＝７．５２８８５×１０-22
Ｃ12＝２．１７２０２×１０-25    Ｃ14＝−７．３１２６７×１０-30
Ｃ16＝−１．６２５０７×１０-34    Ｃ18＝８．０９９８５×１０-39
Ｃ20＝０
７４面：  κ＝０
Ｃ4＝−２．５０９４９×１０-8   Ｃ6＝−１．８７３６６×１０-13
Ｃ8＝−２．３７０４５×１０-17    Ｃ10＝１．３６４２５×１０-22
Ｃ12＝６．０９０１８×１０-26    Ｃ14＝−６．８４０００×１０-31
Ｃ16＝−４．４５６６３×１０-35    Ｃ18＝８．０１９１７×１０-40
Ｃ20＝０
７５面：  κ＝０
Ｃ4＝２．００９８８×１０-8   Ｃ6＝−５．００３５７×１０-13
Ｃ8＝−６．６９６６１×１０-18    Ｃ10＝−９．５８８６８×１０-24
Ｃ12＝８．５５１５５×１０-27    Ｃ14＝−４．２９５０４×１０-31
Ｃ16＝４．７４５６６×１０-36    Ｃ18＝５．０１７１７×１０-41
Ｃ20＝０
８３面：  κ＝０
Ｃ4＝２．５３９４０×１０-8   Ｃ6＝−２．５１８８０×１０-12
Ｃ8＝１．８１２４４×１０-16    Ｃ10＝−９．２４１６２×１０-21
Ｃ12＝２．９７８６０×１０-25    Ｃ14＝−５．４７９３０×１０-30
Ｃ16＝４．３５５９８×１０-35        Ｃ18＝０        Ｃ20＝０
８５面：  κ＝０
Ｃ4＝−６．７０６５２×１０-8   Ｃ6＝−５．１５６１１×１０-13
Ｃ8＝−４．３６８３３×１０-16    Ｃ10＝６．７３８８４×１０-20
Ｃ12＝−８．１１３５８×１０-24    Ｃ14＝５．１６５３７×１０-28
Ｃ16＝−１．９３５６７×１０-32      Ｃ18＝０        Ｃ20＝０
（条件式対応値）
Ｄ１＝Ｄ２＝８８９．２ｍｍ
Ｄ３＝Ｄ４＝８６９．２ｍｍ
β３＝β６＝１．３８
β２３＝β５６＝１．４４
Ｄ１３＝Ｄ２４＝１３０２．８ｍｍ
Ｓ＝４５０ｍｍ
ＬＯ１＝ＬＯ２＝２．８ｍｍ
Ｂ＝１５．３ｍｍ
Ａ１＝Ａ２＝６４．３１度（最小値をとる光線）
Ａ３＝Ａ４＝２５．８９度（最小値をとる光線）
Ａ１＝Ａ２＝３０．４１度（最大値をとる光線）
Ａ３＝Ａ４＝６９．５０度（最大値をとる光線）
（１）ＬＯ１／Ｂ＝０．１８３
（２）ＬＯ２／Ｂ＝０．１８３
（７）（Ａ１＋Ａ３）＝９０．２１（最小値をとる光線）
（８）（Ａ２＋Ａ４）＝９０．２１（最小値をとる光線）
（７）（Ａ１＋Ａ３）＝９９．９１（最大値をとる光線）
（８）（Ａ２＋Ａ４）＝９９．９１（最大値をとる光線）
（１２）Ｄ１３／Ｓ＝２．８９５
（１３）Ｄ２４／Ｓ＝２．８９５
【００９３】
図１１は、第３実施例における横収差を示す図である。図１１の収差図から明らかなように、第３実施例では、第２実施例と同様に、非常に大きな像側開口数（ＮＡ＝１．３５）、および一対の静止露光領域ＥＲａ，ＥＲｂ（２６ｍｍ×５ｍｍ）を含む比較的大きな静止露光領域ＥＲ（２６ｍｍ×１５．６ｍｍ）を確保しているにもかかわらず、波長が１９３．３０６ｎｍのエキシマレーザ光に対して収差が良好に補正されていることがわかる。
【００９４】
このように、本実施形態の投影光学系ＰＬでは、境界レンズＬｂとウェハＷとの間の光路中に大きな屈折率を有する純水Ｌｍを介在させることにより、大きな実効的な像側開口数を確保しつつ、比較的大きな有効結像領域を確保することができる。すなわち、各実施例では、中心波長が１９３．３０６ｎｍのＡｒＦエキシマレーザ光に対して、１．３５または１．４０の高い像側開口数を確保するとともに、一対の矩形状の静止露光領域ＥＲａ，ＥＲｂを確保することができ、たとえば２６ｍｍ×３３ｍｍの矩形状の露光領域内に回路パターンを高解像度で二重露光することができる。
【００９５】
なお、上述の各実施例では、第２結像光学系Ｇ２と第３結像光学系Ｇ３との間に第３偏向部材としての平面反射鏡Ｍ２３を配置し、第５結像光学系Ｇ５と第６結像光学系Ｇ６との間に第４偏向部材としての平面反射鏡Ｍ５６を配置している。しかしながら、これに限定されることなく、各実施例に対応して、第１結像光学系Ｇ１と第２結像光学系Ｇ２との間に第３偏向部材としての平面反射鏡Ｍ１２を配置し、第４結像光学系Ｇ４と第５結像光学系Ｇ５との間に第４偏向部材としての平面反射鏡Ｍ４５を配置する変形例も可能である。
【００９６】
この場合、各実施例において、第２５面の仮想面の位置に平面反射鏡Ｍ１２（Ｍ４５）の反射面Ｒ１２（Ｒ４５）を配置することができる。第３実施例に対応して、第１結像光学系Ｇ１と第２結像光学系Ｇ２との間に平面反射鏡Ｍ１２を配置し、第４結像光学系Ｇ４と第５結像光学系Ｇ５との間に平面反射鏡Ｍ４５を配置した変形例を、図１２に示す。
【００９７】
また、上述の各実施例では、単体の光学部材である反射鏡ＦＭに反射面Ｒ３７および反射面Ｒ６７を形成しているが、これに限定されることなく、反射面Ｒ３７を有する第１偏向部材と反射面Ｒ６７を有する第２偏向部材とを個別に設けることもできる。
【００９８】
また、上述の各実施例では、反射鏡ＦＭの反射面Ｒ３７と反射面Ｒ６７とが形成する稜線が、第３結像光学系Ｇ３の射出側の光軸ＡＸ３と第６結像光学系Ｇ６の射出側の光軸ＡＸ６と第７結像光学系Ｇ７の入射側の光軸ＡＸ７とが交差する点上に位置している。しかしながら、これに限定されることなく、反射面Ｒ３７と反射面Ｒ６７とが形成する稜線と、結像光学系Ｇ３，Ｇ６，Ｇ７の光軸ＡＸ３，ＡＸ６，ＡＸ７との位置関係について様々な形態が可能である。
【００９９】
なお、上述の実施形態では、投影光学系ＰＬに対して第１マスクＭａ、第２マスクＭｂおよびウェハＷをＸ方向に沿って同期的に移動させつつ、ウェハＷ上の１つのショット領域に、第１マスクＭａのパターンと第２マスクＭｂのパターンとを重ねて走査露光して１つの合成パターンを形成している。しかしながら、これに限定されることなく、図１３に示すように、マスクＭａのパターンをウェハＷ上の第１ショット領域Ｓｈ１に走査露光する動作と、マスクＭｂのパターンを第１ショット領域Ｓｈ１と走査進行方向（例えば＋Ｘ方向）に隣接する第２ショット領域Ｓｈ２に走査露光する動作と、マスクＭａのパターンを第２ショット領域Ｓｈ２と走査進行方向に隣接する第３ショット領域Ｓｈ３に走査露光する動作とを所要回数（ｎ回）だけ繰り返すことにより、ウェハＷの二次元的なステップ移動を行うことなく、ウェハＷを走査方向（Ｘ方向）に沿って移動させるだけで、走査方向に並んだｎ個のショット領域Ｓｈ１〜ＳＨｎへの走査露光を連続的に行うことができる。
【０１００】
この露光シーケンスでは、マスクＭａのパターンの第１ショット領域Ｓｈ１への走査露光に際して、照明系ＩＬｂのマスクブラインドＭＢｂの開口部は閉じられ、マスクステージＭＳｂは次の第２ショット領域Ｓｈ２への走査露光の開始位置で待機している。次いで、マスクＭｂのパターンの第２ショット領域Ｓｈ２への走査露光に際して、照明系ＩＬａのマスクブラインドＭＢａの開口部は閉じられ、マスクステージＭＳａは第１ショット領域Ｓｈ１への走査露光の終了位置から次の第３ショット領域Ｓｈ３への走査露光の開始位置まで戻る。次いで、マスクＭａのパターンの第３ショット領域Ｓｈ３への走査露光に際して、照明系ＩＬｂのマスクブラインドＭＢｂの開口部は閉じられ、マスクステージＭＳｂは第２ショット領域Ｓｈ２への走査露光の終了位置から次の第４ショット領域Ｓｈ４への走査露光の開始位置まで戻る。
【０１０１】
また、上述の実施形態では、感光性基板上の１つのショット領域に、第１パターンと第２パターンとを重ねて走査露光することにより１つの合成パターンを形成している。しかしながら、これに限定されることなく、第１パターンを感光性基板上の第１ショット領域に走査露光または一括露光し、第２パターンを感光性基板上の第２ショット領域に走査露光または一括露光することもできる。
【０１０２】
また、上述の実施形態では、矩形状の第１照明領域ＩＲａおよび第２照明領域ＩＲｂが、第１照明系ＩＬａの光軸ＡＸａおよび第２照明系ＩＬｂの光軸ＡＸｂを中心としてそれぞれ形成されている。しかしながら、これに限定されることなく、照明領域ＩＲａ，ＩＲｂの外形形状、光軸ＡＸａ，光軸ＡＸｂに対する照明領域ＩＲａ，ＩＲｂの位置関係などについては様々な形態が可能である。
【０１０３】
たとえば、照明光学系としては、米国特許公開第２００７／０２５８０７７号公報、米国特許公開第２００８／０２４６９３２号公報、米国特許公開第２００９／００８６１８６号公報、米国特許公開第２００９／００４０４９０号公報、および米国特許公開第２００９／０１３５３９６号公報に開示された技術を用いることもできる。また、米国特許公開第２００６／０１７０９０１号公報、および米国特許公開第２００７／０１４６６７６号公報に開示されるいわゆる偏光照明方法を適用することも可能である。
【０１０４】
また、上述の実施形態では、ＡｒＦエキシマレーザ光源を用いているが、これに限定されることなく、たとえばＫｒＦエキシマレーザ光源、Ｆ2 レーザ光源のような他の適当な光源を用いることもできる。また、上述の実施形態では、露光装置に搭載される液浸型の投影光学系に対して本発明の実施形態を適用しているが、これに限定されることなく、他の一般的な液浸型の投影光学系に対して本発明の実施形態を適用することもできる。また、上述の実施形態では、液浸型の投影光学系に対して本発明の実施形態を適用しているが、これに限定されることなく、像側に液浸領域が形成されない乾燥型の投影光学系に対しても同様に本発明の実施形態を適用することができる。
【０１０５】
上述の実施形態では、マスクの代わりに、所定の電子データに基づいて所定パターンを形成する可変パターン形成装置を用いることができる。このような可変パターン形成装置を用いれば、パターン面が縦置きでも同期精度に及ぼす影響を最低限にできる。なお、可変パターン形成装置としては、たとえば所定の電子データに基づいて駆動される複数の反射素子を含む空間光変調素子を用いることができる。空間光変調素子を用いた露光装置は、例えば特開２００４−３０４１３５号公報、国際特許公開第２００６／０８０２８５号パンフレットおよびこれに対応する米国特許公開第２００７／０２９６９３６号公報に開示されている。また、上述のような非発光型の反射型空間光変調器以外に、透過型空間光変調器を用いても良く、自発光型の画像表示素子を用いても良い。なお、パターン面が横置きの場合であっても可変パターン形成装置を用いても良い。
【０１０６】
上述の実施形態の露光装置は、本願特許請求の範囲に挙げられた各構成要素を含む各種サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精度、光学的精度を保つように、組み立てることで製造される。これら各種精度を確保するために、この組み立ての前後には、各種光学系については光学的精度を達成するための調整、各種機械系については機械的精度を達成するための調整、各種電気系については電気的精度を達成するための調整が行われる。各種サブシステムから露光装置への組み立て工程は、各種サブシステム相互の、機械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等が含まれる。この各種サブシステムから露光装置への組み立て工程の前に、各サブシステム個々の組み立て工程があることはいうまでもない。各種サブシステムの露光装置への組み立て工程が終了したら、総合調整が行われ、露光装置全体としての各種精度が確保される。なお、露光装置の製造は温度およびクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。
【０１０７】
上述の実施形態の露光装置では、照明装置によってマスク（レチクル）を照明し（照明工程）、投影光学系を用いてマスクに形成された転写用のパターンを感光性基板に露光する（露光工程）ことにより、マイクロデバイス（半導体素子、撮像素子、液晶表示素子、薄膜磁気ヘッド等）を製造することができる。以下、本実施形態の露光装置を用いて感光性基板としてのウェハ等に所定の回路パターンを形成することによって、マイクロデバイスとしての半導体デバイスを得る際の手法の一例につき図１４のフローチャートを参照して説明する。
【０１０８】
先ず、図１４のステップ３０１において、１ロットのウェハ上に金属膜が蒸着される。次のステップ３０２において、その１ロットのウェハ上の金属膜上にフォトレジストが塗布される。その後、ステップ３０３において、本実施形態の露光装置を用いて、マスク上のパターンの像がその投影光学系を介して、その１ロットのウェハ上の各ショット領域に順次露光転写される。その後、ステップ３０４において、その１ロットのウェハ上のフォトレジストの現像が行われた後、ステップ３０５において、その１ロットのウェハ上でレジストパターンをマスクとしてエッチングを行うことによって、マスク上のパターンに対応する回路パターンが、各ウェハ上の各ショット領域に形成される。
【０１０９】
その後、更に上のレイヤの回路パターンの形成等を行うことによって、半導体素子等のデバイスが製造される。上述の半導体デバイス製造方法によれば、極めて微細な回路パターンを有する半導体デバイスをスループット良く得ることができる。なお、ステップ３０１〜ステップ３０５では、ウェハ上に金属を蒸着し、その金属膜上にレジストを塗布、そして露光、現像、エッチングの各工程を行っているが、これらの工程に先立って、ウェハ上にシリコンの酸化膜を形成後、そのシリコンの酸化膜上にレジストを塗布、そして露光、現像、エッチング等の各工程を行っても良いことはいうまでもない。
【０１１０】
また、本実施形態の露光装置では、プレート（ガラス基板）上に所定のパターン（回路パターン、電極パターン等）を形成することによって、マイクロデバイスとしての液晶表示素子を得ることもできる。以下、図１５のフローチャートを参照して、このときの手法の一例につき説明する。図１５において、パターン形成工程４０１では、本実施形態の露光装置を用いてマスクのパターンを感光性基板（レジストが塗布されたガラス基板等）に転写露光する、所謂光リソグラフィ工程が実行される。この光リソグラフィ工程によって、感光性基板上には多数の電極等を含む所定パターンが形成される。その後、露光された基板は、現像工程、エッチング工程、レジスト剥離工程等の各工程を経ることによって、基板上に所定のパターンが形成され、次のカラーフィルター形成工程４０２へ移行する。
【０１１１】
次に、カラーフィルター形成工程４０２では、Ｒ（Red）、Ｇ（Green）、Ｂ（Blue）に対応した３つのドットの組がマトリックス状に多数配列されたり、またはＲ、Ｇ、Ｂの３本のストライプのフィルターの組を複数水平走査線方向に配列されたりしたカラーフィルターを形成する。そして、カラーフィルター形成工程４０２の後に、セル組み立て工程４０３が実行される。セル組み立て工程４０３では、パターン形成工程４０１にて得られた所定パターンを有する基板、およびカラーフィルター形成工程４０２にて得られたカラーフィルター等を用いて液晶パネル（液晶セル）を組み立てる。
【０１１２】
セル組み立て工程４０３では、例えば、パターン形成工程４０１にて得られた所定パターンを有する基板とカラーフィルター形成工程４０２にて得られたカラーフィルターとの間に液晶を注入して、液晶パネル（液晶セル）を製造する。その後、モジュール組み立て工程４０４にて、組み立てられた液晶パネル（液晶セル）の表示動作を行わせる電気回路、バックライト等の各部品を取り付けて液晶表示素子として完成させる。上述の液晶表示素子の製造方法によれば、極めて微細な回路パターンを有する液晶表示素子をスループット良く得ることができる。
【０１１３】
以上説明した実施形態は、本発明の理解を容易にするために記載されたものであって、本発明を限定するために記載されたものではない。したがって、上記の実施形態に開示された各要素は、本発明の技術的範囲に属する全ての設計変更や均等物をも含む趣旨である。また、上記実施形態の各構成要素等は、いずれの組み合わせ等も可能とすることができる。
【符号の説明】
【０１１４】
１ａ，１ｂ  光源
２ａ，２ｂ  第１光学系
３ａ，３ｂ  フライアイレンズ
４ａ，４ｂ  第２光学系
ＩＬａ，ＩＬｂ  照明系
Ｍａ，Ｍｂ  マスク
ＭＳａ，ＭＳｂ  マスクステージ
ＭＳＤ  マスクステージ駆動系
ＰＬ  投影光学系
Ｇ１〜Ｇ７  結像光学系
Ｗ  ウェハ
ＷＳ  ウェハステージ
ＷＳＤ  ウェハステージ駆動系
【図１】
2010123941.tif 000003
【図２】
2010123941.tif 000004
【図３】
2010123941.tif 000005
【図４】
2010123941.tif 000006
【図５】
2010123941.tif 000007
【図６】
2010123941.tif 000008
【図７】
2010123941.tif 000009
【図８】
2010123941.tif 000010
【図９】
2010123941.tif 000011
【図１０】
2010123941.tif 000012
【図１１】
2010123941.tif 000013
【図１２】
2010123941.tif 000014
【図１３】
2010123941.tif 000015
【図１４】
2010123941.tif 000016
【図１５】
2010123941.tif 000017