(57)【要約】【課題】反射率が低く、かつ製造が容易で製造コストが低廉である反射防止フィルムを提供する。【解決手段】第１面及び前記第１面とは反対側の第２面を有する基材フィルムと、前記基材フィルムの前記第１面上に設けられた低屈折率層とを含む反射防止フィルムであって、前記基材フィルムは、前記基材フィルムの前記第１面側の最外層に位置する第１層と、前記第１層より前記第２面側に位置する第２層と、前記第２層より前記第２面側に位置する第３層とを含み、前記低屈折率層の屈折率より、前記第１層の屈折率が高く、前記第１層の屈折率より、前記第２層の屈折率が低いことを特徴とする、反射防止フィルム。【選択図】        図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１面及び前記第１面とは反対側の第２面を有する基材フィルムと、前記基材フィルムの前記第１面上に設けられた低屈折率層とを含む反射防止フィルムであって、
前記基材フィルムは、前記基材フィルムの前記第１面側の最外層に位置する第１層と、前記第１層より前記第２面側に位置する第２層と、前記第２層より前記第２面側に位置する第３層とを含み、
前記低屈折率層の屈折率より、前記第１層の屈折率が高く、
前記第１層の屈折率より、前記第２層の屈折率が低い
ことを特徴とする、反射防止フィルム。
【請求項２】
前記第２層の屈折率より、前記第３層の屈折率が高い、請求項１に記載の反射防止フィルム。
【請求項３】
前記第１層及び前記第２層が樹脂を含み、且つ前記第１層を構成する前記樹脂と前記第２層を構成する前記樹脂とが、同一の重合単位を含み、
前記第１層が、前記樹脂中に分散した微粒子をさらに含み、
前記微粒子が、前記第１層の前記樹脂より０．０５以上高い屈折率を有する、請求項１又は２に記載の反射防止フィルム。
【請求項４】
前記第３層が樹脂を含み、且つ前記第３層を構成する前記樹脂が、前記第１層及び前記第２層を構成する前記樹脂と同一の重合単位を含み、
前記第２層の屈折率が１．５９以下である、請求項３に記載の反射防止フィルム。
【請求項５】
前記第２面の最外層に位置する層として、親水性基を有する材料からなる層を有する、請求項１〜４のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
【請求項６】
前記第１層及び前記第３層の屈折率が、いずれも１．５０以上である、請求項１〜５のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
【請求項７】
前記低屈折率層に入射する光の反射率が１．５％以下である、請求項１〜６のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、反射防止フィルムに関し、特に、液晶表示装置等の表示装置の表示面の光の反射を防止するために表示面上に設けられる反射防止フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置等の表示装置の表示面においては、室内の蛍光管などの外部光源から照射された光の反射が大きいと、表示装置の視認性及び美観が損なわれることがある。例えば、表示面の表面で反射した光と、表示装置内の複数の層中の界面で反射した光とが干渉することにより、干渉縞によるムラが発生し視認性及び美観を損ねることがある。従って、表示装置の視認性及び美観の向上のため、表示装置の最外層の表示面に、そのような反射や干渉を低減する層を有する反射防止フィルムを設けることが、従来より行なわれている。
【０００３】
反射防止フィルムにおける、かかる反射や干渉を低減する層としては、基材フィルム上に、低屈折率層と高屈折率層とを交互に複数積層したものが知られている。例えば特許文献１には、無機化合物からなる薄膜の低屈折率層と無機化合物からなる薄膜の高屈折率層とを交互に複数積層した反射防止層が記載されている。このように低屈折率層と高屈折率層とを交互に複数積層した反射防止層は、低屈折率層一層のみからなる反射防止層よりも、効果的に反射率の低減を達成しうる。
【０００４】
しかしながら、このような低屈折率層と高屈折率層とを交互に複数積層した反射防止層は、複数層の積層のための製造手順が複雑であるため、製造工程が複雑であり、製造コストが高価であるという問題点がある。
【０００５】
一方、反射防止フィルムの表面硬度を高いものとし且つロールとして巻き取ることができるよう、反射防止フィルムの基材フィルムとして、柔軟な層−硬質な層−柔軟な層の３層からなる多層フィルムを用いることが知られている。このような多層フィルムは、共押出成形などにより、効率的に製造することが可能である。しかしながら、このような多層構造を、光学的に反射防止の機能を発現させるのに用いることについては、従来なんら試みられていなかった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００７−２５６４７５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明の目的は、反射率が同等でありながら、硬度と密着性を向上し、かつ製造が容易で製造コストが低廉である反射防止フィルムを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者は上記課題を解決するため検討した結果、反射防止フィルムを構成する基材フィルムとして特定の多層のものを採用し、１層の低屈折率層と基材フィルムの複数の層とが光学的に協働するよう構成することにより、低屈折率層と高屈折率層とを交互に複数積層した反射防止層と同等の反射防止効果が得られることを見出し、本発明を完成した。
即ち、本発明によれば、下記〔１〕〜〔７〕が提供される。
【０００９】
〔１〕  第１面及び前記第１面とは反対側の第２面を有する基材フィルムと、前記基材フィルムの前記第１面上に設けられた低屈折率層とを含む反射防止フィルムであって、
前記基材フィルムは、前記基材フィルムの前記第１面側の最外層に位置する第１層と、前記第１層より前記第２面側に位置する第２層と、前記第２層より前記第２面側に位置する第３層とを含み、
前記低屈折率層の屈折率より、前記第１層の屈折率が高く、
前記第１層の屈折率より、前記第２層の屈折率が低い
ことを特徴とする、反射防止フィルム。
〔２〕  前記第２層の屈折率より、前記第３層の屈折率が高い、〔１〕に記載の反射防止フィルム。
〔３〕  前記第１層及び前記第２層が樹脂を含み、且つ前記第１層を構成する前記樹脂と前記第２層を構成する前記樹脂とが、同一の重合単位を含み、
前記第１層が、前記樹脂中に分散した微粒子をさらに含み、
前記微粒子が、前記第１層の前記樹脂より０．０５以上高い屈折率を有する、〔１〕又は〔２〕に記載の反射防止フィルム。
〔４〕  前記第３層が樹脂を含み、且つ前記第３層を構成する前記樹脂が、前記第１層及び前記第２層を構成する前記樹脂と同一の重合単位を含み、
前記第２層の屈折率が１．５９以下である、〔３〕に記載の反射防止フィルム。
〔５〕  前記第２面の最外層に位置する層として、親水性基を有する材料からなる層を有する、〔１〕〜〔４〕のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
〔６〕  前記第１層及び前記第３層の屈折率が、いずれも１．５０以上である、〔１〕〜〔５〕のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
〔７〕  前記低屈折率層に入射する光の反射率が１．５％以下である、〔１〕〜〔６〕のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
【発明の効果】
【００１０】
本発明の反射防止フィルムは、反射率が低く、かつ容易に製造することが可能であるため、液晶表示装置等の各種の表示装置の表示面等における反射防止フィルムとして有用である。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の反射防止フィルムの一例を概略的に示す縦断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
本発明の反射防止フィルムは、第１面及び前記第１面とは反対側の第２面を有する基材フィルムと、前記基材フィルムの前記第１面上に設けられた低屈折率層とを含む。前記基材フィルムは、前記基材フィルムの前記第１面側の最外層に位置する第１層と、前記第１層の第２面側に位置する第２層と、前記第２層の第２面側に位置する第３層とを含む。したがって、基材フィルムは、第１層、第２層及び第３層を第１面側からこの順に含む。
【００１３】
図１は、本発明の反射防止フィルムの一例を概略的に示す縦断面図である。図１において、反射防止フィルム１は、第１面１０Ａ及び第２面１０Ｂを有する基材フィルム１０と、基材フィルム第１面１０Ａ上に設けられた低屈折率層２１とを含む。この例において基材フィルム１０は第１層１１、第２層１２及び第３層１３からなり、第３層１３は第２面の最外層に位置している。低屈折率層２１が設けられている側の表面１Ａにおいて、反射防止フィルム１は、反射防止効果を有する。即ち、当該表面１Ａに入射する光の反射率を低いものとすることができる。
【００１４】
（基材フィルム）
基材フィルムを構成する第１層〜第３層の各々は、樹脂を含む層とすることができる。また、樹脂に加えて、さらに任意の物質を含むことができる。かかる任意の物質としては、屈折率を調整するための微粒子を好ましく挙げることができる。
【００１５】
第１層〜第３層を構成する樹脂としては、各種の透明樹脂を用いることができる。かかる透明樹脂とは、１ｍｍ厚で全光線透過率が８０%以上の樹脂である。例えば、脂環式構造を有する樹脂、ポリエステル樹脂、セルロース樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂等が挙げられる。
【００１６】
好ましくは、第１層を構成する樹脂と、第２層を構成する樹脂とは、同一の重合単位を含む重合体である樹脂とすることができる。さらに好ましくは、第１層を構成する樹脂及び第２層を構成する樹脂に加え、さらに第３層を構成する樹脂も、同一の重合単位を含む重合体である樹脂とすることができる。同一の重合単位を含む重合体である樹脂で各層を構成することにより、これらの界面の付着を良好なものとすることができ、且つ、機械的性質及び光学的性質を均一なものとすることができ、その結果、光学的性質が良好で且つ耐久性等の機械的性質も良好な反射防止フィルムとすることができる。
【００１７】
第１層〜第３層の屈折率を調整するために第１層〜第３層が含みうる微粒子としては、有機物、無機物又はこれらの混合物からなる粒子とすることができる。有機物からなる微粒子としては、例えばスチレンビーズを挙げることができる。また無機物からなる微粒子としては、例えばＡｌ２Ｏ３、Ｓｂ２Ｏ５、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２、又はこれらの混合物からなる微粒子を挙げることができる。微粒子の数平均粒径は５〜３００ｎｍとすることができる。これらの微粒子の多くは、層における微粒子の含有割合が高いほど、層の屈折率が高くなるものであるので、各層中の微粒子の含有割合は、好ましいそれぞれの層の屈折率を得ることができるよう適宜調整することができる。
【００１８】
第１層〜第３層は、透明樹脂及び前記微粒子の他に、任意の配合剤を含んでいてもよい。配合剤としては、格別限定は無いが、酸化防止剤、熱安定剤、光安定剤、耐候安定剤、紫外線吸収剤、近赤外線吸収剤等の安定剤；滑剤、可塑剤などの樹脂改質剤；染料や顔料などの着色剤；帯電防止剤等が挙げられる。これらの配合剤は、単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができ、その配合量は本発明の目的を損なわない範囲で適宜選択され、透明樹脂１００重量部に対して、通常０〜５重量部、好ましくは０〜３重量部である。
【００１９】
基材フィルムは、後述する通り、第１層及び任意に第３層を、好ましくは１．５０以上、より好ましくは１．５５以上といった高屈折率層とすることが好ましい。このような高い屈折率を有する層とするために、これらの層は、屈折率の高い微粒子を含有することが好ましい。具体的には、前記樹脂より、０．０５以上高い屈折率を有する微粒子を含有することが好ましい。
【００２０】
第１層、第２層及び第３層の硬度は、それぞれ任意の硬度とすることができるが、反射防止フィルムの表面硬度を高いものとし且つロールとして巻き取ることができるよう、第２層が比較的硬質であり、第１層及び第３層が第２層より軟質であることが好ましい。具体的には、第２層の硬度はマルテンス硬さ１８０Ｎ／ｍｍ２以上であり、第１層及び第３層の硬度はマルテンス硬さ１８０Ｎ／ｍｍ２未満であることが好ましい。
【００２１】
基材フィルムは、第１層〜第３層に加えて、任意に、第３層より第２面側に、任意の層を有することができる。即ち、第３層が基材フィルム第２面側の最外層であってもよく、第３層以外の層が基材フィルム第２面側の最外層であってもよい。
第３層より第２面側に設けうる任意の層としては、例えば、親水性基を有する材料からなる層を挙げることができる。
【００２２】
基材フィルムは、その第１面側に、凹凸構造を有していてもよい。かかる凹凸構造は、基材フィルムの製造工程において、第１層の位置する第１面に、エンボスロールを押し当てる等の既知の任意の工程により設けることができる。基材フィルムは、その第１面側に、低屈折層と同じ成分を有していてもよい。
【００２３】
基材フィルムの製造方法は、特に限定されないが、第１層〜第３層を構成する材料を共押出成形し、多層フィルムを成形する工程を含む方法が好ましい。かかる多層フィルムはそのまま本発明において基材フィルムとして用いることもできるが、必要に応じて、多層フィルムを成形した後、その第２面側に、第２面側の最外層としてさらに任意の層を設けて、第１層〜第３層に加えてかかる任意の層を有する基材フィルムを得て、これを本発明に用いることもできる。
【００２４】
より具体的には、共押出成形により得られた多層フィルムの第２面側に、親水性基を有する材料を塗布して塗膜を得て、かかる塗膜を硬化させることにより、第２面側の最外層に親水性基を有する材料からなる層（以下、「親水性層」という場合がある。）を有する基材フィルムとすることができる。かかる親水性層を構成する、親水性基を有する材料としては、例えば、アクリル樹脂、シリカ、変性シリカカップリング剤等を含有し、反射防止フィルムを表示装置に設ける際に反射防止フィルムと接する層（例えば、偏光子のポリビニルアルコール）との接着性が良好である材料とすることができる。
【００２５】
（低屈折率層）
本発明の反射防止フィルムを構成する低屈折率層は、前記基材フィルムに、低屈折率層を形成する材料（低屈折率形成用材料）を塗布して塗膜を得て、かかる塗膜を硬化させることにより得ることができる。
低屈折率形成用材料としては、屈折率の低い任意の材料を適宜選択することができる。例えば、紫外線硬化型アクリル樹脂等の樹脂材料、樹脂中にコロイダルシリカ等の無機微粒子を分散させたハイブリッド材料、テトラエトキシシラン等の金属アルコキシドを用いたゾル−ゲル材料等を挙げることができる。これらの低屈折率層を形成する材料は、重合済みのポリマーであってもよいし、あるポリマーの前駆体であるモノマーやオリゴマー（即ち、塗膜の硬化の段階で、重合することにより硬化するもの）であってもよい。また、それぞれの材料は、防汚染性を付与するために、フッ素基を含有する化合物を含むことが好ましい。
【００２６】
前記のゾル−ゲル材料としては、フッ素基を含有するゾル−ゲル材料が好適に用いられる。フッ素基を含有するゾル−ゲル材料としては、含フッ素アルキルアルコキシシランを例示できる。含フッ素アルキルアルコキシシランは、たとえば、一般式（１）：ＣＦ３（ＣＦ２）ｎＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＲ）３（式中、Ｒは、炭素数１〜５個のアルキル基を示し、ｎは０〜１２の整数を示す）で表される化合物である。具体的には、含フッ素アルキルアルコキシシランとしては、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリエトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリエトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン、およびヘプタデカフルオロデシルトリエトキシシラン等を挙げることができる。この中でも、前記ｎが２〜６の化合物が好ましい。
【００２７】
また、低屈折率層は、熱硬化性含フッ素化合物または電離放射線硬化型含フッ素化合物の硬化物からなるものとすることができる。前記硬化物は、その動摩擦係数が０．０３〜０．１５であることが好ましく、水に対する接触角が９０〜１２０度であることが好ましい。硬化性含フッ素化合物としては、パーフルオロアルキル基含有シラン化合物等の他、架橋性官能基を有する含フッ素重合体を挙げることができる。
【００２８】
この架橋性官能基を有する含フッ素重合体は、フッ素含有モノマーと架橋性官能基を有するモノマーとを共重合することによって、又はフッ素含有モノマーと官能基を有するモノマーとを共重合し次いで重合体中の官能基に架橋性官能基を有する化合物を付加させることによって得ることができる。
含フッ素モノマーとしては、フルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール等のフルオロオレフィン類；ビスコート６ＦＭ（大阪有機化学製）、Ｍ−２０２０（ダイキン製）等の（メタ）アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等が挙げられる。
【００２９】
架橋性官能基を有するモノマー又は架橋性官能基を有する化合物としては、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレートなどのグリシジル基を有するモノマー；アクリル酸、メタクリル酸などのカルボキシル基を有するモノマー；ヒドロキシアルキルアクリレート、ヒドロキシアルキルメタクリレート、メチロールアクリレート、メチロールメタクリレートなどのヒドロキシル基を有するモノマー；アリルアクリレート、アリルメタクリレートなどのビニル基を有するモノマー；アミノ基を有するモノマー；スルホン酸基を有するモノマー；などの；、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、アリルアクリレート等を挙げることができる。
【００３０】
低屈折率層を形成するための材料としては、耐傷性を向上できる点で、シリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、フッ化マグネシウム等の微粒子をアルコール溶媒に分散したゾルが含まれたものを用いることができる。前記微粒子は、反射防止性の観点から、屈折率が低いものほど好ましい。このような微粒子は、空隙を有するものであってもよく、特にシリカ中空微粒子が好ましい。中空微粒子の数平均粒径は、５ｎｍ〜２，０００ｎｍが好ましく、２０ｎｍ〜１００ｎｍがより好ましい。ここで、数平均粒径は、透過型電子顕微鏡観察によって求められる数平均粒径である。
【００３１】
なお、含フッ素化合物の硬化物からなる低屈折率層では、その硬化物の屈折率を下げていくと低屈折率層の耐傷性が低下する傾向にあるため、硬化物のみの屈折率と微粒子の添加量とを最適化することにより、耐傷性と低屈折率を両立できる。
【００３２】
低屈折率層材料の塗膜を形成する方法は、特に制限されないが、湿式塗工法が、真空蒸着法等に比べて簡易な方法であるため好ましい。湿式塗工法としては、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、およびグラビアコート法等を挙げることができる。低屈折率層の厚さは、０．０５μｍ〜０．３μｍ程度、特に０．０６５μｍ〜０．２０μｍが好ましい。
【００３３】
低屈折率層を形成する他の方法として、蒸着による方法を採用することもできる。この場合、低屈折率層を構成する材料としては、フッ化マグネシウム、シリカ等を挙げることができる。
【００３４】
（各層の屈折率）
本発明の反射防止フィルムにおいては、低屈折率層の屈折率より、基材フィルムの第１層の屈折率が高く、基材フィルムの第１層の屈折率より、基材フィルムの第２層の屈折率が低い。かかる屈折率差を有することにより、低屈折率層に加えて基材フィルムが光学的に相互作用し、その結果、形成する低屈折率層が１層のみであっても、高い反射防止効果を奏することが可能となる。
【００３５】
さらに、第２層の屈折率より、第３層の屈折率が高いことが好ましい。かかる屈折率差を有することにより、より高い反射防止効果を得ることができる。
【００３６】
低屈折率層の屈折率は、１．４６以下であることが好ましい。低屈折率層の屈折率の下限は、特に限定されないが、１．２とすることができる。第２層の屈折率は１．５９以下であることが好ましい。第２層の屈折率の下限は、特に限定されないが、１．４７とすることができる。
一方、第１層の屈折率は１．５０以上であることが好ましい。第３層の屈折率は、１．５０以上であることが好ましい。第１層及び第３層の屈折率の上限は、特に限定されないが、１．７０とすることができる。
【００３７】
低屈折率層と第１層との屈折率差は、０．０４〜０．５とすることが好ましい。第１層と第２層の屈折率差は、０．０１〜０．２１とすることが好ましい。第２層と第３層との屈折率差は、０．０１〜０．２１とすることが好ましい。
【００３８】
（各層の厚さ）
本発明において、低屈折率層の好ましい厚さは、低屈折率層に入射する光のうち、反射を抑制することが求められる波長帯域の中心波長に応じて決定することができる。具体的には、反射を抑制することが求められる波長帯域の中心波長の１／（４×低屈折層の屈折率）の厚さとすることが好ましい。例えば、可視域における反射を抑制する場合、低屈折層の屈折率が１．３７の場合、可視域の中心波長である５５０ｎｍの１／（４×１.３７）である約１００ｎｍの厚さであることが好ましい。
【００３９】
一方、第１層〜第３層の各層の厚さは、各界面における反射光が干渉に寄与しうる範囲において、任意に定めることができる。また、基材フィルムとしての機械的強度、柔軟性等の所望の要件に応じて、適宜調節することができる。具体的には、第１層〜第３層のそれぞれが、５〜６０μｍの範囲内とすることができる。
【００４０】
（用途）
本発明の反射防止フィルムは、低屈折率層に入射する光の反射率を低いものとしうる。具体的には、低屈折率層に入射する光（図１の例では、表面１Ａに入射する光）の反射率を１．５％以下といった低い値とすることができる。ここで、反射率は、分光光度計（紫外可視近赤外光光度計Ｖ−５５０、日本分光社製）を用いて、波長４３０〜７００ｎｍにおける入射角５°での反射率を測定し（測定波長間隔は１ｎｍ）、前記波長領域における反射率を測定した際の最小値とすることができる。
【００４１】
本発明の反射防止フィルムの用途は、特に限定されないが、液晶表示装置、プラズマ表示装置、エレクトロルミネッセンス表示装置、陰極管表示装置、フィールドエミッション表示装置、電子ペーパー、タッチパネル等の表示装置の表示面の部材として好ましく用いることができる。
【００４２】
本発明の反射防止フィルムは、これらの表示装置に貼付して用いることもでき、また、従来の表示装置の最外層に位置する偏光板保護フィルム、前面板などの部材を置換するものとしてこれらの表示装置に組み込み用いることもできる。いずれの場合も、低屈折率層側が視認側となるよう、本発明の反射防止フィルムを設けることにより、表示面における反射を低減し、表示面における反射や干渉を防止し、表示装置の視認性及び美観を向上させることができる。
【実施例】
【００４３】
以下、実施例に基づき、本発明についてさらに詳細に説明する。なお、本発明は下記実施例に限定されるものではない。以下において、成分の量比に関する「部」及び「％」は、別に断らない限り重量部を表す。
【００４４】
＜実施例１＞
（１−１：第１層形成用材料）
アクリル樹脂（住友化学工業製  スミペックス  ＨＴ５５Ｘ、屈折率１．４９）１００部、並びに微粒子としてシリカ（エボニックデグザジャパン製  ＡＥＲＯＳＩＬ１３０、数平均粒子径１６ｎｍ、屈折率１．４６）１０部及びジルコニア（シーアイ化成製、数平均粒子径３０ｎｍ、屈折率１．７０）２０部を１時間ドライブレンドし、第１層形成用材料を調製した。
【００４５】
（１−２：第２層形成用材料）
アクリル樹脂（旭化成ケミカル製  デルペットＴＭ、屈折率１．４９）を用いた。
【００４６】
（１−３：第３層形成用材料）
アクリル樹脂（住友化学工業製  スミペックス  ＨＴ５５Ｘ、屈折率１．４９）１００部、並びに微粒子としてシリカ（エボニックデグザジャパン製  ＡＥＲＯＳＩＬ１３０、数平均粒子径１６ｎｍ、屈折率１．４６）１０部及びジルコニア（シーアイ化成製、数平均粒子径３０ｎｍ、屈折率１．７０）２０部を１時間ドライブレンドし、第３層形成用材料を調製した。
【００４７】
（１−４：多層フィルム成形）
３種３層の多層共押出装置を使用して、上記（１−１）で得た第１層形成用材料、上記（１−２）で得た第２層形成用材料、及び上記（１−３）で得た第３層形成用材料をそれぞれ、１０ｋｇ／ｈｒ、２０ｋｇ／ｈｒ、及び１０ｋｇ／ｈｒの押出量でＴ型ダイスより吐出させた。その後、積層体を冷却し、多層フィルムを得た。
得られた多層フィルムの各層の厚さは、第１層２０μｍ、第２層４０μｍ、及び第３層２０μｍであり、総厚は８０μｍであった。第１層〜第３層の屈折率は表１に示す。
【００４８】
（１−５．低屈折率層形成用組成物１の調製）
還流管を備えつけた４つ口反応フラスコにエタノール２００部を投入し、撹拌下にこのエタノールに蓚酸１２０部を少量づつ添加することにより、蓚酸のエタノール溶液を調製した。次いでこの溶液をその還流温度まで加熱し、還流下のこの溶液中にテトラエトキシシラン２０部とトリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン（ＧＥ東芝シリコーン社製、商品名「ＴＳＬ８２５７」）４部の混合物を滴下した。滴下終了後も、還流下に加熱を５時間続けた後冷却し、メタノールにて固形分が１重量％になるように希釈することにより液１を調製した。
次に、中空シリカ微粒子（数平均粒子径３０ｎｍ、屈折率１．２９）を前記液１の固形分に対し３０重量部になるように添加し、低屈折率層形成用組成物１を調製した。低屈折率層は、乾燥し成膜した際の酸化ケイ素成分は９０％であった。低屈折率層の屈折率は１．３７であった。
【００４９】
（１−６：低屈折率層の形成、反射防止フィルムの調製）
上記（１−４）で得た多層フィルムの第１面（第１層側の表面）に、上記（１−５）で得た低屈折率層用組成物を、バーコータにて塗布し、オーブンにて７０℃、１分間の条件で塗膜を硬化させ、厚さ１００ｎｍの低屈折率層を形成し、低屈折率層−第１層−第２層−第３層の４層からなる、本発明の反射防止フィルムを得た。
【００５０】
（１−７：評価  反射率）
上記（１−６）で得られた反射防止フィルムの、低屈折率層側の表面の反射率を測定した。分光光度計（紫外可視近赤外光光度計Ｖ−５５０、日本分光社製）を用いて、波長４３０〜７００ｎｍにおける入射角５°での反射率を測定し（測定波長間隔は１ｎｍ）、前記波長領域における最小反射率を測定した。結果を表１に示す。
【００５１】
（１−８：評価  鉛筆硬度）
荷重を５００ｇにした以外はＪＩＳ  Ｋ  ５６００−５−４に従って、鉛筆で、反射防止フィルムの低屈折層側の表面の５箇所について、５ｍｍ程度引っかき、傷の付き具合を確認した。結果を表１に示す。
【００５２】
（１−９：評価  密着性）
（１−６）で得られた反射防止フィルムを長さ方向３００ｍｍにカットし、空気中にて、表面に放電量１００Ｗ／ｍ２・分のコロナ放電処理を行った（このフィルムを、以下「フィルム（Ａ）」という）。コロナ放電処理を施したフィルム（Ａ）表面の濡れ張力は７０ｍＮ／ｍ以上であった。上記フィルム（Ａ）のコロナ処理を施した表面に、ポリビニルアルコール重合体（クラレ社製：ＰＶＡ２０３、けん化度８６．５〜８９．５％、平均重合度３００）の１０％水溶液を滴下し、次いでその上に、同サイズの未染色ポリビニルアルコール２軸延伸フィルム（Ｃ）（日本合成化学工業（株）製偏光膜：ボブロン＃１４０（膜厚：１４μｍ））を貼り合わせた。次いで、フィルム（Ａ）と同サイズで、厚みが８０μｍのトリアセチルセルロースからなるフィルム（Ｂ）（透湿度２７０ｇ／ｃｍ２・２４ｈ）の一面を１０％苛性ソーダ水溶液でケン化処理し、その表面に、上記同様のポリビニルアルコール重合体の１０％水溶液を滴下した。次いで、上記偏光膜（Ｃ）とフィルム（Ａ）とを貼りあわせた積層フィルムと、フィルム（Ｂ）とを、前記の水溶液塗布面と偏光膜側の面とが向かい合うように貼りあわせた。上記３層の積層フィルムを、ロールラミネータに設置し、ポリビニルアルコール水溶液が乾燥しないうちに圧着した。次いで、積層フィルムを４０℃で７２時間放置して各層を接着させた。接着層の厚さは１μｍであった。得られた積層フィルムについて、ＪＩＳ  Ｋ  ５６００クロスカット試験を行い、密着性を確認した。結果を表１に示す。
【００５３】
＜実施例２＞
（１−１）、（１−２）及び（１−３）で用いたアクリル樹脂を、脂環式構造を有する樹脂ＺＥＯＮＯＲ１４２０（日本ゼオン社製    屈折率１．５３）に変更した以外は実施例１と同じ手順で、反射防止フィルムを作製して評価した。結果を表１に示す。
【００５４】
＜実施例３＞
（１−４）で、共押出の条件を変更し、各層の厚みが、第１層１０μｍ、第２層４０μｍ、及び第３層１０μｍになるようにした以外は実施例１と同じ手順で、反射防止フィルムを作製して評価した。結果を表１に示す。
【００５５】
＜実施例４＞
ポリエステル樹脂（三井化学製  Ｊ１２５Ｓ  屈折率１．６５）８０部、アクリル樹脂（住友化学工業製  スミペックス  ＨＴ５５Ｘ、屈折率１．４９）２０部、シリカ微粒子１０部及びジルコニア微粒子２０部を１時間ドライブレンドし、混合物を調製した。シリカ微粒子及びジルコニア微粒子としては、実施例１で用いたものと同じものを用いた。
この混合物を（１−１）及び（１−３）における第１層及び第３層形成用材料の代わりに用いた他は実施例１と同じ手順で、反射防止フィルムを作製して評価した。結果を表１に示す。
【００５６】
＜比較例１＞
アクリル樹脂（旭化成ケミカル製  デルペットＴＭ、屈折率１．４９）を単独で用い、単層押出装置を使用して、２０ｋｇ／ｈｒの押出量でＴ型ダイスより吐出させた。その後、冷却し、単層フィルムを得た。
得られた単層フィルムの厚さは、８０μｍであった。このフィルムを、（１−４）で得た多層フィルムの代わりに用いた他は、実施例１の（１−５）以降と同じ手順で、反射防止フィルムを作製して評価した。結果を表１に示す。
【００５７】
＜比較例２＞
脂環式構造を有する樹脂（日本ゼオン社製  ＺＥＯＮＯＲ１４２０  屈折率１．５３）を単独で用い、単層押出装置を使用して、２０ｋｇ／ｈｒの押出量でＴ型ダイスより吐出させた。その後、冷却し、単層フィルムを得た。
得られた単層フィルムの厚さは、８０μｍであった。このフィルムを、（１−４）で得た多層フィルムの代わりに用いた他は、実施例１の（１−５）以降と同じ手順で、反射防止フィルムを作製して評価した。結果を表１に示す。
【００５８】
＜比較例３＞
第１層形成用材料として、アクリル樹脂（住友化学工業製  スミペックス  ＨＴ５５Ｘ、屈折率１．４９）を単独で用いた。第２層形成用材料として、アクリル樹脂（住友化学工業製  スミペックス  ＨＴ５５Ｘ、屈折率１．４９）１００部及びジルコニア微粒子１２部を１時間ドライブレンドした混合物を調製した。第３層形成用材料として、アクリル樹脂（住友化学工業製  スミペックス  ＨＴ５５Ｘ、屈折率１．４９）１００部及びジルコニア微粒子３０部を１時間ドライブレンドした混合物を調製した。ジルコニア微粒子としては、実施例１で用いたものと同じものを用いた。
これらの第１層形成用材料〜第３層形成用材料を、（１−１）〜（１−３）で得た材料の代わりに用いた他は、実施例１と同じ手順で、反射防止フィルムを作製して評価した。結果を表１に示す。
【００５９】
【表１】
2010237365.tif 000003
【符号の説明】
【００６０】
１：反射防止フィルム
１Ａ：表面
１０：基材フィルム
１０Ａ：第１面
１０Ｂ：第２面
１１：第１層
１２：第２層
１３：第３層
【図１】
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