(57)【要約】      （修正有）【課題】インクジェット記録用として、多様なインクに対応可能で安価なインク吐出ヘッドの製造方法を提供する。【解決手段】吐出口部材を形成するための基材の表面に、該表面に撥水性を付与するための第１の組成物と、光を受けることにより親水性を発現することが可能な第２の組成物と、の混合物を提供する工程と、前記表面の全体または一部に、前記第１の組成物を利用して撥水性を付与する工程と、前記撥水性を付与することを行った後に、前記表面の一部の第２の組成物に光を照射して、光が照射された部分を親水性とする工程とにより液体吐出ヘッドを製造する。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
液体を吐出する吐出口が設けられた吐出口部材を有する液体吐出ヘッドの製造方法であって、
前記吐出口部材を形成するための基材の表面に、該表面に撥水性を付与するための第１の組成物と、光を受けることにより親水性を発現することが可能な第２の組成物と、の混合物を提供する工程と、
前記第１の組成物を利用して前記表面に撥水性を付与する工程と、
前記撥水性が付与された部分の前記第２の組成物に光を照射して、光が照射された部分を親水性とする工程と、
を有する液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項２】
前記第１の組成物は、フッ素含有基と重合性基とを有するシロキサン化合物と、重合開始剤と、を含む請求項１に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項３】
前記第２の組成物は、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化タングステン、酸化鉄およびチタン酸ストロンチウムのいずれから選ばれる化合物を含み、前記光を照射することにより、前記化合物を励起する請求項１又は２に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項４】
前記１の組成物に対して露光を行った後、前記重合性基を利用した前記シロキサン化合物の重合反応を行う請求項２に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項５】
前記撥水性が付与された表面は水の接触角が９０°以上であり、
前記親水性が付与された表面は水の接触角が２０°以下である請求項１乃至４のいずれかに記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項６】
液体を吐出する吐出口が設けられた吐出口部材を有する液体吐出ヘッドであって、
前記吐出口部材の前記吐出口が開口している面は、フッ素含有基と結合したＳｉ原子が酸素原子を介してシロキサン結合を行っている部分と、水酸基と結合したＴｉ原子同士が酸素原子を介して結合を行っている部分と、を有する液体吐出ヘッド。
【請求項７】
前記水酸基と結合したＴｉ原子同士が酸素原子を介して結合を行っている部分は、前記、フッ素含有基と結合したＳｉ原子同士が酸素原子を介してシロキサン結合を行っている部分、に含まれる請求項６に記載の液体吐出ヘッド。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液体を吐出する液体吐出ヘッドおよびその製造方法に関し、具体的にはインクを被記録媒体に吐出することにより記録を行うインクジェット記録ヘッドおよびその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
インクジェットヘッドのフェイス面の表面処理の従来例として、特許文献１には、インクジェットヘッド（以降ＩＪヘッド）のフェイス面に光触媒活性をもつ酸化チタンを配置する技術が記載されている。
【０００３】
特許文献１は、２枚のＳｉ基板を積層して流路を構成したＩＪヘッドに関するものである。このＩＪヘッドは、Ｓｉ基板で作製されたオリフィスプレート上に、Ｔｉ化合物（無定形チタニア）を形成した後、４００〜５００℃で焼成することにより製造される。高温で焼成することにより、Ｔｉ化合物がアナターゼ型の酸化チタンとなる。したがって、フェイス面にＵＶ光を照射すると、フェイス面に形成された酸化チタンが超親水性になるため、インク付着物が付着しずらくなる。また、他の効果として、インク付着物をＵＶ光で分解することも記載されている。しかしながら、特許文献１に記載のＩＪヘッドでは、セルフクリーニング機能は有するが、高温で焼成するために無機物でＩＪヘッドを作製しなければならず、製造方法や材料が限定されるため、高解像なＩＪヘッドを安価に生産することは困難であることが懸念される。
【０００４】
一方、特許文献２には、フッ素及びカチオン重合可能な官能基を有する加水分解性のシラン縮合物よりなる撥水層を有するＩＪヘッドが開示されている。このＩＪヘッドは、フォトリソ製法により製造され、また、シラン化合物の縮合体より構成される撥水面は硬く、ブレード耐久性にも優れていると思われる。また同公報には、撥水を付与しない部分を設けることで部分撥水も行われている。近年では、吐出用のインクが多様化し、吐出口フェイス面にもさらなる多様化が求められている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】米国特許第６５４０３３０号明細書
【特許文献２】米国特許出願公開第２００７／００８５８７７号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は前述した従来技術における課題を解決し、多様化した吐出口フェイス面を有する液体吐出ヘッドを提供することを一つの目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の一例は、液体を吐出する吐出口が設けられた吐出口部材を有する液体吐出ヘッドの製造方法であって、前記吐出口部材を形成するための基材の表面に、該表面に撥水性を付与するための第１の組成物と、光を受けることにより親水性を発現することが可能な第２の組成物と、の混合物を提供する工程と、前記表面の全体または一部に、前記第１の組成物を利用して撥水性を付与する工程と、前記撥水性を付与することを行った後に、前記表面の一部の第２の組成物に光を照射して、光が照射された部分を親水性とする工程と、を有する液体吐出ヘッドの製造方法である。
【発明の効果】
【０００８】
本発明により、多様化した吐出口フェイス面を有する液体吐出ヘッドを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】接触角の概念を示す図である。
【図２】本発明によるインクジェット記録ヘッドの製造方法の一例における各工程を示す図である。
【図３】本発明に関するパターンの作成方法を説明する図である。
【図４】インクジェットプリンタの構成例を示す外観斜視図である。
【図５】実施例９における作製方法を示す。
【図６】評価パターンの作製方法を示す図である。
【図７】吐出口のフェイス面を説明する概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
本発明の一例では、光触媒粒子を含むフェイス面処理組成物を吐出口フェイス面に塗布した後、フォトリソ製法を利用してパターニングし、フェイス面処理層を形成することができる。光パターニングを利用したフォトリソ製法は、精密な微細加工が可能でかつ生産性もよい製造方法として、レーザー等を駆使した製法に比べ優れている。なお、光パターニングとは、塗布した材料にマスクを施して光を照射し、該照射部分を硬化させ、未硬化部を現像により除去してパターンを作製する（ネガ型）、あるいはマスクを施して光を照射し、該照射部分の結合を切断し、現像除去してパターンを作製する（ポジ型）ことをいう。
【００１１】
本発明に係る液体吐出ヘッドは、フォトリソ製法により容易に製造することができる。また、その表面には、光触媒機能を有するフェイス面処理層が形成されているため、プリンタ内に配置したランプから特定波長の光を照射することで、フェイス面処理層に付着した印字汚れの原因となる異物を分解することができる。フェイス面処理層に光触媒機能を付与する光触媒粒子としては、例えば酸化チタンが用いられるが、酸化チタンは、光照射により活性化して異物の分解を行うため、長期にわたりフェイス面の超親水性を保つことができる。
【００１２】
以下に本発明を更に詳細に説明する。
【００１３】
（光触媒粒子）
前記光触媒粒子とは、そのバンドギャップ以上のエネルギーを持つ波長の光を照射すると光触媒機能を発現する粒子のことである。光触媒機能とは、光の照射を受けて励起状態になった粒子が大気中の水分よりＯＨラジカルを発生させて接触している有機物を酸化分解させる機能のことをいう。したがって、光触媒粒子は光触媒活性により表面に付着した有機物を酸化分解することができる。また、光触媒粒子にＵＶ光を露光すると、光触媒その表面に水酸基が生じ吸着水を保持して超親水性となるため、フェイス面に付着物が付着しづらくなる。これは励起により表面に水酸基が固定されるためであると考えられる。たとえ付着しても、超親水化したフェイス面はワイピング性に優れるため、容易にブレードで付着物をワイピングすることができる。したがって、本発明のＩＪヘッドによれば、長期保存や使用によりＩＪヘッドのフェイス面に汚れが付着しても、光触媒粒子を含有しているため、ＵＶ照射によりフェイス面をクリーニングすることができる。
【００１４】
光触媒粒子としては、例えば、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化タングステン、酸化鉄若しくはチタン酸ストロンチウム又はこれらのうち２種以上を組み合わせて構成される混合物等を挙げることができる。なお、本明細書において「酸化チタン」とは、二酸化チタン（ＴｉＯ2）のほか、含水酸化チタン、水和酸化チタン、メタチタン酸、オルトチタン酸又は水酸化チタンなどと一般に呼ばれているものを含み、その結晶型は問わない。前記光触媒粒子としては、高い光触媒機能を有し、化学的に安定であり、かつ、無害である酸化チタンが好ましく、酸化チタンの中でも特に二酸化チタンが好ましい。二酸化チタンの場合は、Ｔｉ原子同士が酸素原子を介して結合され、光触媒作用が生じると、各Ｔｉ原子に水酸基が結合していると考えられる。
【００１５】
また、前記光触媒粒子の内部又はその表面に、第二の成分として、Ｖ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、ＰｔおよびＡｕからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属または金属化合物を含有させることができる。こうすることで、一層高い光触媒機能を発揮することができるため好ましい。前記金属化合物としては、例えば、金属の酸化物、水酸化物、オキシ水酸化物、硫酸塩、ハロゲン化物、硝酸塩、さらには金属イオンなどを挙げることができる。第二の成分の含有量はその物質により適宜設定できる。光触媒粒子の含有量は、光触媒粒子を分散させる分散材と合算して５〜９８％が好ましい。光触媒粒子の量がこの範囲より小さいと、光触媒体としたときの光触媒機能が低下する場合がある。
【００１６】
光触媒粒子は、以下の方法で得られる。例えば、酸化チタンを得る方法としては、（ｉ）硫酸チタニル、塩化チタン又はチタンアルコキシドなどのチタン化合物を必要に応じて核形成用種子の存在下で加熱加水分解する方法、（ｉｉ）必要に応じて核形成用種子の存在下で硫酸チタニル、塩化チタン又はチタンアルコキシドなどのチタン化合物にアルカリを添加し、中和する方法、（ｉｉｉ）塩化チタンやチタンアルコキシドなどを気相酸化する方法、（ｉｖ）前記（ｉ）又は（ｉｉ）の方法で得られた酸化チタンを焼成あるいは水熱処理する方法、などがある。特に、前記（ｉ）又は（ｉｖ）の方法で得られた酸化チタンが光触媒機能が高いため好ましい。
【００１７】
光触媒粒子の内部又はその表面に、前記第二の成分を含有させる方法としては、例えば、光触媒粒子を製造する際に前記第二の成分を添加し、吸着させる方法を挙げることができる。また、光触媒粒子を製造した後に、前記第二の成分を添加し、吸着させ、必要に応じて加熱したり、あるいは必要に応じて還元したりする方法を用いることができる。
【００１８】
（重合基を有する加水分解性シラン化合物）
本発明に用いられる重合基を有する加水分解性シラン化合物の一例としてはカチオン重合基を有する加水分解性シラン化合物が挙げられる。その他にラジカル重合、アニオン重合も例示される。
【００１９】
本発明に用いられるカチオン重合基（カチオン重合能を有する官能基）を有する加水分解性シラン化合物は、加水分解による無機の結合と、カチオン重合基による有機の結合により、高い耐久性を有する縮合架橋膜を形成することができる。また、化合物内部にカチオン重合基を有するため、パターン露光により光パターニングが可能な感光性材料である。パターンは、前記カチオン重合基を有する加水分解性シラン化合物の縮合膜に所定のマスクをして光照射を行い、この光照射により光カチオン重合開始剤を活性化させて重合反応を起こし照射部を硬化させ、未硬化部分を現像除去することにより形成できる。
【００２０】
前記カチオン重合基を有する加水分解性シラン化合物とは、少なくとも一つのカチオン重合基と、少なくとも一つの加水分解性基とを有するシラン化合物である。前記カチオン重合基を有する加水分解性シラン化合物として、例えば、下記一般式（１）で表される化合物が挙げられる。
【００２１】
（Ｒ１）pＳｉ（Ｘ）4-p          （１）
一般式（１）において、Ｒ１は各々独立のカチオン重合基である。Ｘは各々独立の加水分解性基である。ｐは１〜３の整数である。
【００２２】
カチオン重合基Ｒ１は、カチオン重合能を有する官能基である。このような官能基を有する加水分解性シラン化合物を用いることにより、フォトリソ製法を用いてフェイス面処理層を形成することができる。さらに、縮合によるシロキサン結合に加えてカチオン重合による結合が合わさることで、より耐久性のある強固なフェイス面処理膜とすることができる。つまり、シラノール基による硬化反応（縮合反応）のみならず、カチオン重合基による硬化反応（重合反応）を同時に生じさせることができる。
【００２３】
カチオン重合基Ｒ１としては、例えば、環状エーテル構造を有する有機基、ビニルエーテルを有する有機基等が挙げられる。そして、より好ましくは、環状エーテル構造を有する有機基である。かかる環状エーテル基としては、直鎖や環状構造を有する３〜６員環の環状エーテル構造を挙げることができ、より具体的にはエポキシ基、オキセタン基、テトラヒドロフラン又はピラン単位を含む構造を有する基を挙げることができる。また、これらの環状エーテル基のうち、より好ましいものはエポキシ基又はオキセタン基である。また、特に、流路形成層（ノズルプレート又は吐出口部材とも称す）がエポキシ樹脂で構成される場合、前記カチオン重合基としては、流路形成層との密着性の観点から、エポキシ基であることが好ましい。
【００２４】
加水分解性基Ｘは、加水分解してシラノール基を生成し、ついで縮合してシロキサン結合を形成することができる基を指す。通常、無触媒、過剰の水の共存下、室温（２５℃）〜１００℃の温度範囲内で加熱することにより、加水分解される。加水分解性基Ｘとしては、例えば、水素原子、アルコキシ基、ハロゲン原子、アミノ基又はアシルオキシ基等が挙げられ、アルコキシ基がより好ましく、炭素数が１〜３のアルコキシ基が特に好ましい。ここで、炭素数１〜３のアルコキシ基の具体例を挙げると、メトキシ基、エトキシ基又はプロポキシ基等を挙げることができる。また、上述した炭素数１〜３のアルコキシ基のうち、エトキシ基又はプロポキシ基が保存安定性の観点より特に好ましい。これらのアルコキシ基は、容易に加水分解されてシラノール基を生成するため、光硬化反応を安定して生じさせることができる。
【００２５】
本発明に用いるカチオン重合基を有する加水分解性シラン化合物として、より具体的には、例えば、グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン、グリシジルオキシプロピルトリエトキシシラン、エポキシシクロヘキシルエチルトリメトキシシラン又はエポキシシクロヘキシルエチルトリエトキシシラン等を挙げることができる。
【００２６】
また、縮合反応において高分子化を行なうためには、一般式（１）中のｐが１であること、つまり、３つの加水分解性基を有することが好ましい。
【００２７】
なお、前記カチオン重合基を有する加水分解性シラン化合物の加水分解物において、一部未加水分解の加水分解性基が残っていても構わない。その場合は、カチオン重合基を有する加水分解性シラン化合物とその加水分解物との混合物となる。また、カチオン重合基を有する加水分解性シラン化合物の加水分解物というときは、加水分解性基（例えばアルコキシ基）が加水分解してシラノール基に変わった化合物ばかりでなく、一部のシラノール基同士が縮合した部分縮合物をも意味している。さらに、カチオン重合基を有する加水分解性シラン化合物は、光カチオン重合開始剤を配合する時点で加水分解されている必要は必ずしもなく、光（ＵＶ光）を照射する段階で、少なくとも一部の加水分解性基が加水分解されていればよい。縮合後は、カチオン重合基を有するシロキサン化合物が得られる。
【００２８】
（重合開始剤）
次に、本発明で使用する重合開始剤は、重合基を有する化合物にカチオン、ラジカル、アニオン等の重合活性種を提供することが可能な化合物である。
【００２９】
前記光カチオン重合開始剤としては、特に限定されるものではないが、例えばオニウム塩、スルホン塩、ハロゲン含有化合物、キノンジアジド化合物、スルホン化合物、スルホン酸化合物又はニトロベンジル化合物等を挙げることができる。
【００３０】
また、上述した化合物のうち、より有効なオニウム塩は芳香族オニウム塩であり、特に好ましくはジアリールヨードニウム塩である。
【００３１】
光カチオン重合開始剤の含有割合は、特に制限されるものではないが、前記カチオン重合基を有する加水分解性シラン化合物１００質量部に対して、通常０．１質量部以上１５質量部以下の範囲内とするのが好ましい。光カチオン重合剤の添加量が０．１質量部未満となると、硬化性が低下し、十分な硬化速度が得られない場合がある。一方、光カチオン重合開始剤の添加量が１５質量部を超えると、得られる硬化物の耐候性や耐熱性が低下する場合がある。したがって、硬化性と得られる硬化物の耐候性等とのバランスがより良好な観点から、光カチオン重合開始剤の添加量を、前記カチオン重合基を有する加水分解性シラン化合物１００質量部に対して１〜１０質量部の範囲内の値とすることがより好ましい。
【００３２】
光カチオン重合開始剤を分解させてカチオンを発生させるための放射線としては、例えば、可視光、紫外線、赤外線、Ｘ線、α線、β線、γ線等を挙げることができる。一定のエネルギーレベルを有し、大きな硬化速度が得られ、しかも照射装置は比較的安価で小型のものでよい利点があることから、紫外線が好ましい。
【００３３】
（フェイス面処理組成物）
本明細書におけるフェイス面処理組成物の一例は、少なくとも、前記光触媒粒子と、前記重合基を有する加水分解性シラン化合物と、前記重合開始剤とを含む。該フェイス面処理組成物を流路形成層（ノズルプレート）等の基材に塗布・硬化し、フェイス面処理層が形成される。
【００３４】
より具体的には、例えば、フェイス面処理組成物をＩＪヘッドのフェイス面に塗布した後、紫外線を照射してカチオンを発生させ、カチオン重合基を有する加水分解性シラン化合物に重合反応を起こさせることにより、フェイス面処理層を形成することができる。このフェイス面処理層は、光触媒粒子を含むため、ＵＶ光を露光することでセルフクリーニング機能を発揮する。また、光照射をする際に、所定のマスクを用いることにより、光照射部を硬化させ、未露光部分を現像除去することにより、フェイス面処理層に所定のパターン形状を形成することができる。なお、本発明に係るフェイス面処理組成物はネガ型の感光性を有する。
【００３５】
さらに、本発明に係るフェイス面処理層は、シラン化合物の性質からくる撥水性を有する。そして、その内部に光触媒粒子（例えば酸化チタン）を具備しているため、ＵＶ照射により照射部を親水性とすることができる。光を照射していない場合は、特に限定されるものではないが、接触角９０°程度の撥水性とすることができる。そして、ＵＶ照射により、照射部を接触角２０°未満の親水性とすることができる。したがって、ＵＶ照射時にマスクを用いることで、フェイス面の任意の領域を容易に親水性とすることが可能である。保存時間の経過により親水性が低下した場合は、再度光を照射することにより親水性を回復することができる。なお、撥水性については、フェイス面処理組成物の組成を変えることにより、適宜調整することができる。
【００３６】
本発明のフェイス面処理層は、カチオン重合反応を生じさせる際の紫外線照射により、光触媒粒子が活性化し、フェイス面が親水化することがある。しかしながら、ＩＪヘッドを作成するための実装等種々の工程を通りかつ物流期間を経過するころにはフェイス面の親水性は失われ、フェイス面はシラン化合物の性質（撥水性）を呈している。このため、プリンター内部に装着したＵＶランプ等でＵＶ照射を行い、所望の部分に親水性を付与する必要がある。
【００３７】
なお、前記カチオン重合基を有する加水分解性シラン化合物は、予め加水分解、脱水縮合が行われ、その一部がオリゴマー若しくはポリマー化されていてもよい。
【００３８】
＜他の添加物質＞
また、このフェイス面処理組成物には、前記光触媒粒子、前記カチオン重合基を有する加水分解性シラン化合物及び前記光カチオン重合開始剤以外にも、前記光カチオン重合開始剤と重合反応する樹脂やモノマー（例えばエポキシ樹脂、エポキシモノマー、エポキシオリゴマー）や溶剤、界面活性剤、消泡剤、光増感剤又は反応希釈剤等を必要に応じて添加することができる。
【００３９】
さらに、このフェイス面処理組成物の造膜性を高めたい場合は、下記一般式（２）で表される第２の加水分解性シラン化合物を含有させることができる。
【００４０】
（Ｒ２）p2Ｓｉ（Ｘ'）4-p2          （２）
一般式（２）において、Ｒ２としては、アルキル基又はアリール基が挙げられる。これらの基は、直鎖状、分岐状、環状あるいはこれらの組み合わせであってもよい。また、より具体的なアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、オクチル基又は重水素化アルキル基もしくはハロゲン化アルキル基等が挙げられる。造膜性能より好ましくはヘキシル基である。また、より具体的なアリール基としては、フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基、ビフェニル基又は重水素化アリール基もしくはハロゲン化アリール基が挙げられる。造膜性能より、好ましくはフェニル基である。Ｘ'は前記一般式(１)で挙げたＸと同様の加水分解性基を表す。また、ｐ２は０〜３の整数を表すが、１であることが好ましい。
【００４１】
第２の加水分解性シラン化合物の具体例としては、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリプロポキシシラン、プロピルトリメトキシシラン、プロピルトリエトキシシラン、プロピルトリプロポキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリプロポキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン又はジメチルジエトキシシランなどを挙げることができる。
【００４２】
また、より高い撥水性を得たい場合は、下記一般式（３）で表される第３の加水分解性シラン化合物を含有させることができる。
【００４３】
（Ｒ３）p3Ｓｉ（Ｘ"）4-p3          （３）
一般式（３）において、Ｒ３は、フッ化アルキル基である。Ｘ"は前記一般式(１)で挙げたＸと同様の加水分解性基を表す。また、ｐ３は１〜３の整数を表すが、１であることが好ましい。
【００４４】
第３の加水分解性シラン化合物の具体例としては、例えば、ペンタフルオロエチルトリエトキシシラン、ヘキサフルオロプロピルトリエトキシシラン、ペンタフルオロエチルトリメトキシシランなどを挙げることができる。上記化合物は撥水性を発現させる上で重要である。上記を用いた場合、撥水性領域は、Ｓｉ原子同士が酸素原子を介してシロキサン結合し、シロキサン結合を行っているＳｉ原子のいくつかがフッ素含有基と結合を行っている状態となる。
【００４５】
なお、前記一般式（２）及び（３）に表される加水分解性シラン化合物を添加する場合には、前記一般式(１)で表されるカチオン重合基を有する加水分解性シラン化合物と混合して加水分解性シラン化合物溶液を調製し、この加水分解性シラン化合物溶液と他の材料とを混合するとよい。下記の実施例ではこのように加水分解性シラン化合物溶液を調製してから、他の材料と混合し、フェイス面処理組成物を調製している。
【００４６】
＜光触媒粒子分散液の調製＞
また、前記光触媒粒子を添加混合する際には、微量の樹脂や加水分解性を有するシラン化合物等を用いて、あらかじめ光触媒粒子分散液として調製しておくことが好ましい。例えば、光触媒粒子として酸化チタン粒子を選択した場合、酸化チタン粒子と適当な溶剤とを混合して酸化チタン分散液を調製することが好ましい。
【００４７】
また、前記酸化チタン分散液は市販されているものを用いることができる。市販の酸化チタン分散液としては、塩酸解膠型のアナターゼ型チタニアゾル（石原産業（株）製、商品名「ＳＴＳ−０２」（平均粒径７ｎｍ）、商品名「ＳＴ−Ｋ０１」）を挙げることができる。また、他にも、硝酸解膠型のアナターゼ型チタニアゾル（日産化学（株）製、商品名「ＴＡ−１５」（平均粒径１２ｎｍ））を挙げることができる。その他、商品名「ビストレイター」（日本曹達製）、商品名「ＵＣ−１００」（ナノチタニアコーティング剤、昭和電工製）、商品名「ＴＫＳ−２０１」、「ＴＫＳ−２０２」，「ＴＫＳ−２０３」、「ＴＫＤ−７０１」又は「ＴＫＤ−７０２」（テイカ株式会社）等を挙げることができる。
【００４８】
酸化チタンの粒径は、小さいほど光触媒反応が効果的に起こるので好ましく、その平均粒径は光散乱型粒径測定において５０ｎｍ以下が好ましく、２０ｎｍ以下が特に好ましい。また、光触媒粒子の粒径が小さいほど、光パターニング性が良くなるので好ましい。一方、光触媒粒子の粒径が２００ｎｍを越えると光散乱が生じ、光パターニング性が悪化するため好ましくない。
【００４９】
＜カチオン重合性基を有する加水分解性シラン化合物の加水分解条件＞
前記カチオン重合基を有する加水分解性シラン化合物を加水分解または縮合させるための条件は、特に制限されるものではないが、一例として、以下に示す（１）〜（３）の工程によって実施することが好ましい。
【００５０】
（１）カチオン重合基を有する加水分解性シラン化合物（例えば一般式（１）に示される化合物）と、所定量の水とを、撹拌機付の容器内に収容する。
【００５１】
（２）次いで、溶液の粘度を調節しながら、有機溶媒を容器内にさらに収容し、混合溶液とする。
【００５２】
（３）得られた混合溶液を、空気雰囲気中、0℃から有機溶媒及びカチオン重合基を有する加水分解性シラン化合物の沸点以下の温度で、１〜２４時間の間加熱撹拌する。なお、加熱撹拌中、必要に応じて蒸留によって混合溶液を濃縮したり、あるいは溶剤を置換することも好ましい。
【００５３】
また、これらのカチオン重合基を有する加水分解性シラン化合物の一部は、商品として市販されており、入手することができる。例えば、信越化学社製の，「、「ＫＢＭ−３０３」，「ＫＢＭ−４０３」，「ＫＢＥ−４０２」及び「ＫＢＥ−４０３」（以上、商品名）等を挙げることができる。
【００５４】
本発明において、カチオン重合基を有する加水分解性シラン化合物の縮合反応は、水の存在下で加熱することにより、加水分解と縮合反応を進行させることによって行うことが好ましい。加水分解／縮合反応を温度、時間、ｐＨなどで適宜制御することで、所望の縮合度を得ることが可能である。
【００５５】
また、加水分解反応に際して、金属アルコキシドを加水分解の触媒として利用し縮合度を制御することも可能である。金属アルコキシドとしては、アルミニウムアルコキシド、チタニウムアルコキシド若しくはジルコニウムアルコキシド又はこれらの錯体（アセチルアセトン錯体など）等が挙げられる。
【００５６】
＜光増感剤＞
前記フェイス面処理組成物には、光カチオン重合開始剤と併用して光増感剤を配合してもよい。光増感剤は、光等のエネルギー線を吸収し、光カチオン重合開始剤の感度を向上させる化合物である。このような光増感剤としては、例えば、チオキサントン、ジエチルチオキサントン等のチオキサントン誘導体；アントラキノン、ブロムアントラキノン等のアントラキノン誘導体；アントラセン若しくはブロムアントラセン等のアントラセン誘導体；ペリレン若しくはペリレンの誘導体；キサンテン、チオキサンテン若しくはそれらの誘導体；クマリン若しくはケトクマリン等を挙げることができる。また、これらの光増感剤の中で、より好ましい化合物はジエチルチオキサントン又はブロムアントラセンである。
【００５７】
＜反応性希釈剤＞
前記フェイス面処理組成物に、反応性希釈剤を添加（配合）することにより、得られるフェイス面処理層の硬化収縮を低減したり、その機械的強度を制御することができる。特に、カチオン重合性の反応性希釈剤を用いた場合には、光反応性や機械的特性を調節することができる。
【００５８】
反応性希釈剤としては、カチオン重合性モノマーを配合することが好ましい。ここで、反応性希釈剤であるカチオン重合性モノマーとは、光カチオン重合開始剤の存在下で光照射することにより重合反応や架橋反応を起こす有機化合物である。したがって、反応性希釈剤としては、例えば、エポキシ化合物、オキセタン化合物、オキソラン化合物、環状アセタール化合物、環状ラクトン化合物、チイラン化合物、チエタン化合物、エポキシ化合物とラクトンとの反応生成物であるスピロオルソエステル化合物等の環状エーテル化合物、環状チオエーテル化合物又はビニル化合物、ビニルエーテル化合物等のエチレン性不飽和化合物などを挙げることができる。これらのカチオン重合性モノマーは、１種を単独で使用することもできるし、あるいは２種以上を組み合わせて使用することもできる。
【００５９】
また、上述したカチオン重合性モノマーとしてのエポキシ化合物は、例えばビスフェノールＡジグリシジルエーテル、ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、等が挙げられる。
【００６０】
また、特に好ましいカチオン重合性モノマーは、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３'，４'−エポキシシクロヘキサンカルボキシルレート、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート等、１分子中に２個以上の脂環式エポキシ基を有するエポキシ化合物である。
【００６１】
＜塗布方法＞
前記フェイス面処理組成物を塗布する手段としては、スピンコート法、ディッピング法、スプレー法、バーコート法、ロールコート法、カーテンコート法、グラビア印刷法、シルクスクリーン法、またはインクジェット法等を用いることができる。これらのうち、特にスピンコート法が好ましい。また、フェイス面処理組成物のレオロジー特性を、実際の塗布手段に適したものとするために、各種レベリング剤、チクソ付与剤、フィラー、有機溶媒、界面活性剤等を、必要に応じて配合することができる。
【００６２】
フェイス面処理組成物の塗布により形成された塗布膜は、５０〜９０℃の温度で乾燥させ、あるいは必要に応じてさらに６０〜１２０℃に加熱してプリベークすることにより、薄膜が形成される（以下、この薄膜をフェイス面処理縮合膜とする）。プリベークのための加熱の条件は、用いるフェイス面処理組成物の各成分の種類、配合割合などによっても異なるが、通常６０〜１２０℃で１０〜６００秒間程度である。
【００６３】
形成されたフェイス面処理縮合膜は、放射線等の光を照射することにより、カチオン重合反応を起こし硬化する。ここで、光線としては、可視光、紫外線、赤外線、Ｘ線、α線、β線、γ線等を用いることができるが、既述のように、特に紫外線が好ましい。そして、紫外線を照射する手段としては、特に制限されるものではなく、種々の手段を利用することができる。例えば、光源としては、高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、エキシマランプ等の紫外線光源ランプを用いることができる。薄膜に照射される放射線は、波長２００〜３９０ｎｍ、照度が１〜５００ｍＷ／ｃｍ2のものを所定時間照射することにより照射量が１０〜５０００Ｊ／ｃｍ2となるようにすることが好ましい。
【００６４】
放射線等の光照射は、所定のパターンに従って行われ、その後、現像液により現像することにより、未硬化の不要な部分が除去され、これによってフェイス面処理膜が形成される。所定のパターンに従って光照射を行う方法としては、所定のパターンのマスク孔を有するフォトマスクを用いる方法に限られず、例えば液晶表示装置と同様の原理を利用した、所定のパターンに従って放射線透過領域と放射線不透過領域とよりなるマスク像を電気光学的に形成する手段を利用する方法、多数の光ファイバーを束ねてなる導光部材を用い、この導光部材における所定のパターンに対応する光ファイバーを介して放射線を照射する方法、レーザ光、あるいはレンズ、ミラー等の集光性光学系により得られる収束性放射線を走査させながらフェイス面処理縮合膜に照射する方法を用いることもできる。
【００６５】
このようにして所定のパターンに従って選択的に硬化させた薄膜に対しては、硬化部分と未硬化部分との溶解性の差異を利用して、適宜の有機溶媒あるいはアルカリ現像液によって現像処理することにより、未硬化部分を除去し硬化部分を残存させることができ、所定のパターン部分が形成される。
【００６６】
また、放射線の照射によって得られる硬化膜は、必要に応じて、さらに加熱することができる。この場合の加熱は、通常、室温から基板や薄膜の分解開始温度以下の温度で、例えば５分間〜７２時間、行えばよい。このように、放射線硬化後にさらに加熱することにより、硬度および耐熱性に優れたパターン部分を得ることができる。
【００６７】
（装置本体の概略説明）
図４は、本発明に係るＩＪヘッドを適用可能なインクジェットプリンタの一例の概要を示す外観斜視図である。図４において、キャリッジ（ＨＣ）はガイドレール４０５に支持されて矢印方向を往復移動する。キャリッジＨＣには、ＩＪヘッド４０１が搭載されており、インクタンク４０４からインクがチューブ供給されている。また、該装置はクリーニングユニット、記録ヘッドの吸引回復ユニットなどの回復系４０３のほか、ＵＶ照射装置４０２等を搭載し構成される。
【００６８】
前記ＵＶ照射装置は、ＵＶ照射によりフェイス面処理層に含まれる光触媒粒子（例えば酸化チタン）を活性化し、フェイス表面の付着物を分解させる。また、前記吸引回復ユニットは、吸引回復操作によりフェイス面を初期状態にもどす。次にＩＪプリンタ本体に内蔵するＵＶランプについて説明する。
【００６９】
ＵＶランプはメタルハライド、高圧、低圧水銀、ＬＥＤ等、酸化チタンを活性状態にするものであればどのようなランプでも良いが、小型のＬＥＤが好ましい。ランプのほかに光を集光するためのレンズや導光するためのプリズム、反射鏡を内蔵していてもよい。
【００７０】
フェイス面へのＵＶ光の照射は、プリンタのユーザーが適宜実施してもよいし、深夜等のプリンタの使用頻度が少ない時間帯に、定期的に実施しても良い。
【００７１】
長期間の使用、フェイス面にインク成分が付着し、フェイス面の親水性部の接触角変動が生じた場合においても、プリンターに内蔵されたＵＶランプからＵＶ光を照射することで、フェイス面の触媒粒子が活性状態となり、初期状態にもどすことができる。
【００７２】
以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
【００７３】
（実施例１）
本実施例では、光触媒粒子として酸化チタン、カチオン重合性基を有する加水分解性シラン化合物としてグリシドキシプロピルトリエトキシシラン、光カチオン重合開始剤としてスルホニウム塩を用いてフェイス面処理組成物を調製し、そのフェイス面処理組成物をフェイス面に塗布し硬化させ、ＩＪヘッドを作製した。また、流路形成組成物としては、感光性樹脂材料を使用し、フェイス面組成物と同様に光パターニング性を有するものを用いた。
【００７４】
＜加水分解性シラン化合物溶液Ａ＞
カチオン重合性基を有する加水分解性シラン化合物としては、グリシドオキシプロピルトリエトキシシランを用いた。また、造膜性及び撥水性を向上するために、該加水分解性シラン化合物溶液にメチルトリエトキシシラン及びフッ素基を有するペンタフルオロエチルトリエトキシシランを添加した。下記材料を室温で攪拌した後、２４時間加熱還流を行い、加水分解性シラン化合物溶液Ａを得た。29Ｓｉ−ＮＭＲにより、該加水分解性シラン化合物溶液Ａについてシランの縮合度を測定したところ、約６５％であった。
【００７５】
グリシドキシプロピルトリエトキシシラン      ２８ｇ（０．１ｍｏｌ）
メチルトリエトキシシラン                    １８ｇ（０．１ｍｏｌ）
ペンタフルオロエチルトリエトキシシラン      ５．６ｇ（０．０１３ｍｏｌ）
水                                            ２１．６ｇ
エタノール                                        ２７ｇ
＜酸化チタン分散液Ａ＞
光触媒粒子としては酸化チタンを用いた。酸化チタン分散体（商品名：ＴＫＤ−７０１、テイカ株式会社製）をメチルイソブチルケトン（以下、ＭＩＢＫと略す）で５０質量％に希釈し、酸化チタン分散液Ａを調製した。
【００７６】
＜光カチオン重合開始剤分散液Ａ＞
光カチオン重合開始剤としては、スルホニウム塩（商品名：アデカオプトマーＳＰ１７２、ＡＤＥＫＡ製）を用いた。該スルホニウム塩をＭＩＢＫで５０質量％に希釈し、光カチオン重合開始剤分散液Ａを調製した。
【００７７】
＜フェイス面処理組成物Ａ＞
上記調製した加水分解性シラン化合物溶液Ａ、酸化チタン分散液Ａ及び光カチオン重合開始剤分散液Ａを下記の組成に従って混合及び攪拌を行い、フェイス面処理組成物Ａを得た。
【００７８】
酸化チタン分散液Ａ                          ５０ｇ
加水分解性シラン化合物物溶液Ａ              ５０ｇ
光カチオン重合開始剤分散液Ａ                  ６ｇ
＜流路形成組成物Ａ＞
下記材料を混合し、攪拌（常温、１〜３時間）し、流路形成組成物Ａを調製した。なお、流路形成組成物Ａに用いた光重合性触媒とは、上記光カチオン重合開始剤と同様の働きをする材料である。
【００７９】
エポキシ樹脂（商品名：ＥＨＰＥ３１５０、ダイセル化学社製）  １００ｇ
１，４ＨＦＡＢ（商品名、セントラル硝子社製）                  ２０ｇ
スルホニウム塩（光重合性触媒）（商品名：アデカオプトマーＳＰ１７２、ＡＤＥＫＡ製）  １ｇ
ＭＩＢＫ  ７８ｇ
＜評価パターンの作製＞
評価パターンの作製については、図６に示した製造方法に従った。
【００８０】
まず、所定の位置にエネルギー発生素子６０２が配置された基板６０１上（図６（ａ））に、溶解可能な樹脂で所定のインク流路パターン６０３を形成した（図６（ｂ））。溶解可能な樹脂としては、例えば、イソプロペニルケトン等のポジ型レジストを用いることができる。
【００８１】
次に、調製した感光性を有する流路形成組成物Ａをスピンコート法にて前記インク流路パターン６０３上に塗布し、９０℃にて４分プリベークを行い、流路形成塗布膜６０４を形成した（図６（ｃ））。なお、塗布およびプリベークは２回行った。
【００８２】
次に、前記流路形成塗布膜６０４の上に、フェイス面処理組成物Ａをスピンコートにて塗布し、９０℃で１分プリベークを行ない、フェイス面処理縮合膜６０５を形成した（図６（ｄ））。前記流路形成塗布膜６０４とフェイス面処理層６０５とを合わせたインク流路パターン６０３上の膜厚は４５μｍであった。
【００８３】
次に、フォトマスク６０６及びマスクアライナー「ＭＰＡ６００  ｓｕｐｅｒ」（商品名、キヤノン製）を用いて、インク吐出口のパターン露光を行った。露光量は150ｍＪ/ｃｍ2であった。
【００８４】
次に、９０℃で４分間加熱してポストベークした後、ＭＩＢＫで現像、イソプロピルアルコールでリンスを行い、吐出口６０７、流路形成層６０４'及びフェイス面処理層６０５'を形成した。作製したＩＪヘッドをしばらく放置した。なお、この工程により形成されたフェイス面処理層６０５'は撥水性を有する。
【００８５】
また、最終工程として、図６には示していないが、フェイス面に親水性の領域（親液部７０２）を形成するため、フォトマスクＡ（不図示）を用いてＵＶ光（浜松フォトニクスＬＣ５、波長３６５ｎｍ、１００ｍＷ）を２０分照射し、図７（ａ）に示すように、吐出口７１の周辺領域が親液性である親液部７０２と撥水性である撥液部７０３を有するフェイス面処理層とした。なお、上記の説明の通り、ＵＶ光の照射により、光触媒粒子である酸化チタンが活性化し、その照射部分が親水性となる。
【００８６】
（実施例２）
フォトマスクＢ（不図示）を用いた以外は、実施例１と同様に評価パターンを作製した。フォトマスクＢを用いてフェイス面処理層６０５'を処理することにより、図７（ｂ）に示すように、吐出口８０１の周辺領域が撥水性である撥液部８０３と撥液部８０３以外の領域が親液性である親液部８０２を有するフェイス面処理層とした。
【００８７】
（実施例３）
最終工程のＵＶ照射を行わなかった以外は、実施例１と同様に評価パターンを作製した。つまり、フェイス面処理層の全面が撥水性領域となっている。
【００８８】
（実施例４）
本実施例では、下記のフェイス面処理組成物Ｂを用いた以外は、実施例１と同様にして評価パターンを得た。
【００８９】
＜加水分解性シラン化合物溶液Ｂ＞
下記材料を室温で攪拌した後、２４時間加熱還流を行い、加水分解性シラン化合物溶液Ｂを得た。29Ｓｉ−ＮＭＲにより、シランの縮合度を測定したところ、約６９％であった。
【００９０】
メチルトリエトキシシラン                      ３６ｇ（０．２ｍｏｌ）
ペンタフルオロエチルトリエトキシシラン      ５．６ｇ（０．０１３ｍｏｌ）
水                                        ２１．６ｇ
エタノール                                    ３７ｇ
＜フェイス面処理組成物Ｂの調製＞
下記の組成に従い調製後、攪拌を行い、フェイス面処理組成物Ｂを調製した。
【００９１】
酸化チタン分散液Ａ                    ５０ｇ
加水分解性シラン化合物溶液Ｂ          ５０ｇ
光カチオン重合開始剤分散液Ａ            ６ｇ
実施例１と同様にフォトマスクＡを用いて評価パターンにＵＶ光を２０分間照射した。
【００９２】
（実施例５）
酸化チタン分散液Ａのかわりに下記酸化チタン分散液Ｂを用いてフェイス面処理組成物Ｃを調製し、フェイス面処理組成物Ａの代わりに下記フェイス面処理組成物Ｃを用いた以外は、実施例１と同様に評価パターンを作製した。膜厚は４０μｍであった。
【００９３】
＜酸化チタン分散液Ｂ＞
下記材料を計量し、ホモジナイザーにおいて１００Ｈｚ、２時間攪拌し、酸化チタン分散液Ｂを得た。
【００９４】
酸化チタン（商品名：Ｐ２５、日本アエロジル社）１０ｇ
チタンカップリング剤（商品名：３３８Ｘ  味の素ファインテクノ社製）２．３ｇ
グリシジルプロピルトリエトキシシラン  ２ｇ
ＭＩＢＫ  ７０ｇ
＜フェイス面処理組成物Ｃ＞
下記の組成に従い調製後、攪拌を行い、フェイス面処理組成物Ｃを得た。
【００９５】
流路形成組成物Ａ              １００ｇ
酸化チタン分散液Ｂ            １００ｇ
得られた評価パターンの表面に酸素プラズマ処理を行い、酸化チタン表面を被覆しているエポキシ樹脂をエッチングし、酸化チタンが露出する状態とした。
【００９６】
（実施例６）
流路形成組成物Ａの代わりに下記流路形成組成物Ｂを用い、また、最終工程のＵＶ照射をフォトマスクなしで実施した以外は、実施例１と同様に評価パターンを作製した。また、フォトマスクは使用せずにＵＶ光照射を行うことで、フェイス面処理層の全面を親水性とした。膜厚は３５μｍであった。
【００９７】
＜流路形成組成物Ｂ＞
エポキシ樹脂（商品名：ＥＨＰＥ３１５０、ダイセル化学社製）    １００ｇ
１，４ＨＦＡＢ（セントラル硝子社）                              ２０ｇ
光重合性触媒（商品名「ＳＰ１７２」  ＡＤＥＫＡ（株）製）          １ｇ
ＭＩＢＫ                                                        ７８ｇ
（実施例７）
＜酸化チタン分散液Ｃ＞
下記材料を計量し、ホモジナイザーにおいて１００Ｈｚ、２時間攪拌し、酸化チタン分散液Ｃを得た。
【００９８】
酸化チタン（商品名：Ｐ２５、日本アエロジル社）    １０ｇ
ヘキシルトリエトキシシラン                        ２．３ｇ
グリシジルプロピルトリエトキシシラン                  ２ｇ
ＥｔＯＨ                                            ７０ｇ
水                                                １５．７ｇ
＜フェイス面処理組成物Ｄ＞
流路形成組成物Ａ              １００ｇ
酸化チタン分散液Ｃ            １００ｇ
（評価パターンの作製）
評価パターンの作製は、図３に示す製造工程により行った。まず、帝人アドバンストフィルム株式会社が製造する２５ミクロン厚のアラミカ（登録商標）フイルム（パラ型アラミドを原料とした極薄・高耐熱・低熱膨張フイルム）（図３（ａ））を基材９０１として用いた。その基材９０１の底面に、後工程で使用する接着剤層９０２、及び穴開け加工の際の分解物付着防止よけの犠牲層９０３（ポリビニルアルコール）をそれぞれ形成した（図３（ｂ））。
【００９９】
次に、基材９０１の上面に、フェイス面処理組成物Ｄをロールコーターにて塗布し、乾燥させ、フェイス面処理縮合膜９０４を形成した。その膜厚は約１ミクロンであった（図３（ｃ））。
【０１００】
次に、フェイス面処理縮合膜９０４に、インクジェットオリフィスプレートの為の吐出口９０７を開け、さらに、底面にある犠牲層９０３を溶解除去した（図３（ｄ））。なお、吐出口開けには、２５４ｎｍのエキシマーレーザーを用い、開口径２０μφのノズルを１８０個／インチのピッチで１インチ（約２．５ｃｍ）分作製した。
【０１０１】
次に、フェイス面処理縮合膜９０４に所望のマスキングをし、マスク部分以外をキヤノン製マスクアライナー「ＭＰＡ６００  ｓｕｐｅｒ」を用い、パターン露光を行った（図３（ｅ））。図３（ｅ）において、露光した部分はフェイス面処理縮合膜９０４の内部に含まれるカチオン重合基により重合反応が起こって硬化し、フェイス面処理層９０５となる。
【０１０２】
その後、フェイス面処理縮合膜９０４をＭＩＢＫにて現像除去した（図３（ｆ））。さらに、130℃で１時間処理、硬化させた。
【０１０３】
その後、フェイス面処理層９０５をＵＶ光にて２０分間露光した。この処理により、撥水性を有するフェイス面処理層９０５中に含まれる酸化チタン光触媒が活性化された状態となり、親水性のフェイス面処理層９０５'となった（図３（ｇ））。
【０１０４】
（評価パターンの評価）
実施例１乃至７において作製した評価パターンについて、その接触角、光パターニング性、ブレード耐久性について評価した。
【０１０５】
＜接触角の測定＞
材料の表面状態を評価する尺度としては、接触角を用いるのが一般的である。図１は、Ｙｏｕｎｇの接触角θの概念を示した図であり、γS＝γSL＋γLｃｏｓθの関係が成立する。なお、γSは固体の表面張力、γSLは固液界面張力、γLは液体の表面張力を表す。
【０１０６】
したがって、接触角θは、液体の表面張力γLに依存し、液体として水を用いた場合その表面張力から想定される接触角θの限界は、１１０°となる。
【０１０７】
ＩＪヘッドのフェイス面としては、メニスカスを安定的に維持するために、親水性または撥水性が求められる。しかしながら、フェイス面が長時間インクに接する状態にあると、微細な付着物が表面に付着し、その撥水性又は親水性が変化し、接触角に変動が生じる。接触角の変動はメニスカスの状態と密接な関係を示すため、フェイス面処理層の耐久性を評価する手法として接触角の測定は特に有効となる。なお、酸化チタンは、ＵＶ光照射部は接触角２０°以下の親水性を示すが、ＵＶ未照射部は９０°以上の撥水性を示す。
【０１０８】
実施例において作製した評価パターンに、前記条件にてＵＶを照射した。その後、ＵＶを照射した部分の水に対する接触角を測定した。具体的には、ＢＣＩ７Ｃｙａｎインク（商品名、キヤノン製）に６０℃で４週間浸漬させた後、純水で洗淨する。そして、ＵＶ光（浜松フォトニクスＬＣ５、波長３６５ｎｍ、１００ｍＷ）を１０分間照射し、再び接触角を測定した。測定には協和界面科学（株）社製の接触角計ＣＡ−Ｘ１５０を用い、水を滴下した場合の接触角を測定した。
【０１０９】
接触角の評価基準は以下のように設定した。
【０１１０】
◎：インク浸漬後の接触角が１５°以下、かつ接触角変動（60℃保存前後）が５°以下
○：インク浸漬後の接触角が２０°以下、かつ接触角変動が１０°以下
△：インク浸漬後の接触角が２０°より大きく、接触角変動が１０°より大きい。
【０１１１】
＜光パターニング性＞
露光、現像後の評価パターンを金属顕微鏡で観察し、パターン精度を確認した。
【０１１２】
光パターニング性の評価基準は以下のように設定した。
【０１１３】
○：吐出口部周囲に欠けが全くない。
×：吐出口部のパターニングがされていない。
【０１１４】
表１に、各実施例における評価パターンの作製に用いたフェイス面組成物の種類と使用したフォトマスク、及び評価結果を示した。
【０１１５】
【表１】
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【０１１６】
（実施例８）
本実施例では、実施例１に記載の流路形成組成物Ａ及びフェイス面処理組成物Ａを用いて、図２に示した手順にしたがって、インクジェット記録ヘッドを作製した。
【０１１７】
まず、インク吐出圧力発生素子１００２としての電気熱変換素子を形成したシリコン基板１００１を用意した（図２（ａ）及び（ｂ））。
【０１１８】
次に、溶解可能な樹脂材料としてポリメチルイソプロペニルケトン（東京応化工業（株）社製ＯＤＵＲ−１０１０）を選択し、これをスピンコートで塗布した。次いで、120℃にて６分間プリベークした後、ウシオ電機製マスクアライナーＵＸ３０００にてインク流路のパターン露光を行った。露光は３分間行った。その後、メチルイソブチルケトン／キシレン＝２／１で現像処理し、キシレンでリンスし、インク流路パターン１００３を形成した（図２（ｃ））。なお、前記ポリメチルイソプロペニルケトンは、ＵＶ照射により、分解し有機溶剤に対して可溶となる、所謂ポジ型レジストである。インク流路パターン１００３は、パターン露光の際に露光されていない部分に形成され、インクを供給するインク流路を確保するためのものである。なお、現像後のインク流路パターンの膜厚は２０μｍであった。
【０１１９】
次いで、流路形成組成物Ａ（光硬化性）を、スピンコートにて、前記溶解可能な樹脂層で形成されたインク流路パターン１００３上に塗布し、90℃にて４分プリベークを行い、流路形成塗布膜１００４を形成した（図２（ｅ））。なお、塗布及びプリベークは２回行った。
【０１２０】
次に、流路形成縮合膜１００４上に、フェイス面処理組成物Ａをスピンコートにて同様に塗布し、90℃で１分間プリベークを行ない、フェイス面処理縮合膜１００５を形成した（１０（ｇ））。なお、フェイス面処理縮合膜１００５と流路形成塗布膜１００４とのインク流路パターン１００３上での合計膜厚は４５μｍであった。
【０１２１】
次いで、フォトマスク１００６とキヤノン製マスクアライナー「ＭＰＡ６００  ｓｕｐｅｒ」を用いて、インク吐出口のパターン露光を行った。
【０１２２】
次に、90℃で４分間加熱し、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）で現像、イソプロピルアルコールでリンスを行い、吐出口１００７、フェイス面処理層１００５'、及び流路形成層１００４'を形成した。このようにして、シャープなパターンエッジ形状を持つ吐出口１００７が得られた。
【０１２３】
次いで、基板１００１の裏面にインク供給口を形成するためのマスクを適宜配置し、シリコン基板の異方性エッチングにてインク供給口１００８を形成した。なお、シリコンの異方性エッチング中は、流路を形成した基板の表面は、ゴム系の保護膜で保護した。
【０１２４】
次に、異方性エッチングが終了後、ゴム系保護膜を除去し、更に、前記ＵＸ３０００にて再び全面にＵＶ照射を行い、インク流路パターン１００３を形成している溶解可能な樹脂層を分解させた。次いで、前記基板に超音波を付与しつつ、乳酸メチル中に１時間浸漬し、インク流路パターン１００３を溶出させ、流路を形成した（図２（ｋ））。
【０１２５】
その後、樹脂を完全に硬化させるため、２００℃にて１時間過熱処理を施した。最後に、インク供給口にインク供給部材（不図示）を接合してＩＪヘッドを作製した。
【０１２６】
なお、作製したＩＪヘッドは、そのフェイス面処理層にＵＶ光を照射することにより、親水性を付与することができる（図２（ｌ））。
【０１２７】
＜ブレード耐久性＞
本実施例で作製したＩＪヘッドをプリンタに装着し、吸引回復によるブレードこすり評価を繰り返し行った後、ＳＥＭにおいてフェイス面観察を行ったところ、初期と比べ特に大きな差は見られなかった。
【０１２８】
（実施例９）
本実施例は、吐出口の周辺部に光触媒層を有する評価パターンの製造例であり、その製造方法を説明する工程図を図５に示す。
【０１２９】
まず、シリコンウエハーからなる基板１１０１の上に、感光性樹脂組成物を塗布し、95℃でプリベークし、感光性樹脂層１１０２を形成した（図５（ａ））。感光性樹脂組成物としては、光酸発生剤を含有しカチオン重合性を有するエポキシ系厚膜フォトポリマーである「ＳＵ−８  ４０２５」（商品名、Ｍｉｃｒｏ−Ｃｈｅｍ社）を用いた。感光性樹脂層１１０２の膜厚は２５ミクロンであった。また、塗布には精密スプレーを使用した。
【０１３０】
次いで、ピッチ４２．３ミクロン（６００ｄｐｉ）で、直径２０ミクロンの円形のノズル孔を持つマスクを装着し、キヤノン製マスクアライナー「ＭＰＡ６００  ｓｕｐｅｒ」を用いてパターン露光を行った（図５（ｂ））。露光された感光性樹脂層を１１０２'とする。
【０１３１】
露光後、現像することなく、感光性樹脂層１１０２及び１１０２'の上に、本発明に係るフェイス面処理組成物をスピンナーにて塗布し、乾燥させた（図５（ｃ））。この層の乾燥後膜厚は約２ミクロンであった。
【０１３２】
次に、こうして準備したウエハー上に形成した層の上部から、直径２０ミクロンの円形のノズル孔を持つマスクを装着し、キヤノン製マスクアライナー「ＭＰＡ６００  ｓｕｐｅｒ」を用いてパターン露光した（図５（ｄ））。
【０１３３】
次に、キシレンとＩＰＡの混合溶媒にて現像処理を行い、120℃、３０分のポストベークを順次行い、図５（ｅ）に示す断面形状のノズル口を形成した。
【０１３４】
次に、ノズル外口を親水性に賦活化させるために、図５（ｆ）に示すφ３１μの口径のノズルマスクを用いて、ノズル口を囲む円周部をＵＶ光にて、２０分間露光した。
【０１３５】
このようにすることで、フォトリソグラフィーにて形成したインクジェットノズル口の外表面に、ノズルを囲む親水性領域１１０３"、その外延部が撥水性領域１１０３'となるように表面処理を施すことが出来る（図５（ｇ））。
【０１３６】
上述した説明においては、撥水部を作成してから、親水部を作成したが、親水部を部分的に発現させてから、撥水部を作成することも可能である。
【０１３７】
また上述した本発明の撥水化、親水化方法は電子実装用の皮膜や、構造物、鏡、事務用品、自動車部品、建造物等への応用も可能である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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