(57)【要約】      （修正有）【課題】寄生容量が低減された化合物半導体基板及び化合物半導体装置を提供する。【解決手段】Ｓｉから構成される基板１１と、基板１１上に形成され、ＡｌＮから構成される第１の半導体層１２とＧａＮから構成され鉄（Ｆｅ）がドーピングされた第２の半導体層１３とを交互に積層して形成されるバッファ層１４（積層構造体）と、バッファ層１４上に形成され、ＧａＮから構成される第１の成長層としてのチャネル層１５と、チャネル層１５上に形成され、ＡｌＧａＮから構成される第２の成長層としてのバリア層１６と、バリア層１６上に形成され、所定の開口を有する絶縁膜１８と、絶縁膜１８の開口を介してバリア層１６上に形成されるゲート電極Ｇ、ソース電極Ｓ及びドレイン電極Ｄと、を備える。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の化合物半導体材料を含む第１の半導体層と前記第１の化合物半導体材料と組成の異なる第２の化合物半導体材料を含む第２の半導体層とを積層して成る積層構造体を有し、前記積層構造体が、遷移元素及びＣのうち少なくとも一種類の原子を含有することを特徴とする半導体基板。
【請求項２】
前記第１の化合物半導体材料及び前記第２の化合物半導体材料が、窒化物系化合物半導体材料であることを特徴とする請求項１記載の半導体基板。
【請求項３】
前記第１の化合物半導体材料及び前記第２の化合物半導体材料が、Ｇａ、Ｉｎ及びＡｌのうち少なくとも１つを含有することを特徴とする請求項１又は２に記載の半導体基板。
【請求項４】
前記第１の半導体層が、第１のバンドギャップを有し、
前記第２の半導体層が、前記第１のバンドギャップよりも小さい第２のバンドギャップを有すると共に遷移元素及びＣのうち少なくとも一種類の原子を含有することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の半導体基板。
【請求項５】
前記積層構造体が、前記第２の化合物半導体材料を含む第３の半導体層を備え、
前記第３の半導体層が、遷移元素及びＣのうち少なくとも一種類の原子を前記第２の半導体層よりも低濃度で含有することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の半導体基板。
【請求項６】
前記半導体基板が、Ｓｉ或いはＳｉＣから構成される基板上に形成されることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の半導体基板。
【請求項７】
第１の化合物半導体材料を含む第１の半導体層と前記第１の化合物半導体材料と組成の異なる第２の化合物半導体材料を含む第２の半導体層とを積層して成る積層構造体を有し、前記積層構造体が、遷移元素及びＣのうち少なくとも一種類の原子を含有する半導体基板と、
前記半導体基板上に形成される第１の成長層と前記第１の成長層上に形成される第２の成長層とを有する主半導体領域と、
前記主半導体領域上に形成される第１の電極と、
前記主半導体領域上に前記第１の電極と離間して形成される第２の電極と、
を備えることを特徴とする半導体装置。
【請求項８】
前記第１の成長層が、局所的に遷移元素及びＣのうち少なくとも一種類の原子を高濃度に含有することを特徴とする請求項７記載の半導体装置。
【請求項９】
第１の化合物半導体材料を含む第１の半導体層と前記第１の化合物半導体材料と組成の異なる第２の化合物半導体材料を含む第２の半導体層とを積層して成る積層構造体を有し、前記積層構造体が、遷移元素及びＣのうち少なくとも一種類の原子を含有する半導体基板と、
前記半導体基板上に形成される第１の成長層と前記第１の成長層上に形成される第２の成長層とを有する主半導体領域と、
前記主半導体領域上に形成される第１の電極と、
前記主半導体領域上に前記第１の電極と離間して形成される第２の電極と、
を有する半導体装置を備えることを特徴とする電源装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、積層構造を有する化合物半導体基板及び該化合物半導体基板を用いた半導体装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
炭化珪素（ＳｉＣ）、窒化ガリウム（ＧａＮ）等を用いた高電子移動度トランジスタ（ＨＥＭＴ）等の化合物半導体装置は、その特性から、高電圧を高速でスイッチング制御するスイッチング素子として、電源装置への応用が検討されている。化合物半導体装置は、ＧａＮ、サファイア、ＳｉＣ又は珪素（Ｓｉ）等から成る基板とこの上にエピタキシャル成長された複数の化合物半導体層とから構成される。但し、ＧａＮ基板、サファイア基板は、基板自体が高価である。そのため、安価なＳｉ基板或いはＳｉＣ基板上に化合物半導体層及び化合物半導体装置を形成する方法が望まれていた。
【０００３】
特許文献１に示される従来の方法は、Ｓｉ基板と化合物半導体層との間に、組成が異なる第１の半導体層と第２の半導体層とを交互に積層して形成される周期性積層構造のバッファ層を介在させるものである。
【０００４】
図５は、従来の方法により形成されたＨＥＭＴの構造を示す断面図である。
【０００５】
従来のＨＥＭＴ２００は、Ｓｉから構成される基板２１と、基板２１上に形成され、第１の半導体層２２と第２の半導体層２３とを交互に積層して形成されるバッファ層２４と、バッファ層２４上に形成され、ＧａＮから構成されるチャネル層２５と、チャネル層２５上に形成され、ＡｌＧａＮから構成されるバリア層２６と、バリア層２６上に形成され、所定の開口を有する絶縁膜２８と、絶縁膜２８の開口を介してバリア層２６上に形成されるゲート電極Ｇ、ソース電極Ｓ及びドレイン電極Ｄと、を備える。チャネル層２５とバリア層２６とはヘテロ接合され、チャネル層２５は、ヘテロ接合に基づき二次元電子ガス（２ＤＥＧ）を生じている。
【０００６】
従来の方法によれば、Ｓｉ基板２１上に形成されるチャネル層の平坦性即ち品質が改善される。そのため、耐圧や利得といった電気特性に優れたＨＥＭＴを安価に提供することができる。
【特許文献１】特開２００３−５９９４８
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、従来の方法により形成される化合物半導体装置は、耐圧や利得といった電気特性が改善される反面、以下のような問題点があった。
【０００８】
ＨＥＭＴ２００において、例えば、第１の半導体層２２は、窒化アルミニウム（ＡｌＮ）から構成され、第２の半導体層２３は、ＧａＮから構成される。ＡｌＮは、ＧａＮと比して相対的に大きなバンドギャップを有するため、第１の半導体層２２に挟まれた第２の半導体層２３は、ピエゾ電界や結晶内に生じる窒素空孔等によりキャリアを生じやすくなる。そのため、第１の半導体層２２は電気絶縁性が高い一方、キャリアが生じた第２の半導体層２３は電気絶縁性が低くなりやすい。従って、従来のバッファ層２４は、等価的に見て、キャパシタを縦方向に直列接続して成る寄生容量を有していると言える。
【０００９】
また、ＨＥＭＴ２００は、ゲート電極Ｇの電位をソース電極Ｓの電位以下にすることでオフ動作し、ゲート電極Ｇの電位をソース電極Ｓの電位以上にすることで、オン動作させることができ、図６のような電源装置のスイッチング素子として使用される。電源装置は、例えば、交流電源ＡＣと、ダイオードブリッジＤＢと、リアクトルＬとスイッチング素子ＨＥＭＴとダイオードＤｉと出力コンデンサＣｏとが構成する昇圧チョッパ回路と、から構成される。スイッチング素子ＨＥＭＴが制御回路によってオンオフ制御され、交流電源ＡＣから入力する交流電流が整流及び昇圧されて出力される。このとき、高周波領域においてＨＥＭＴ２００の動作が、制御回路からゲート電極Ｇに印加されるゲート駆動信号に対して遅れることがあった。これは、オンオフ動作時において、ゲート駆動信号に基づく電流が、ゲート電極Ｇと寄生容量と基板２１とから成る経路を流れてしまうためである。
【００１０】
このように、従来のバッファ層は、寄生容量を有しているという問題点があった。また、従来のＨＥＭＴは、バッファ層が有する寄生容量のために、スイッチングスピード等のスイッチング特性及び最高発振周波数等の高周波特性が低いという問題点があった。
【００１１】
本発明は、上記課題を解決するためになされたものである。従って、本発明は、寄生容量が低減された化合物半導体基板及び化合物半導体装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記のような課題を解決するために、請求項１記載の発明は、第１の化合物半導体材料を含む第１の半導体層と前記第１の化合物半導体材料と組成の異なる第２の化合物半導体材料を含む第２の半導体層とを積層して成る積層構造体を有し、前記積層構造体が、遷移元素及びＣのうち少なくとも一種類の原子を含有することを特徴とする。
【００１３】
また、上記のような課題を解決するために、請求項７記載の発明は、第１の化合物半導体材料を含む第１の半導体層と前記第１の化合物半導体材料と組成の異なる第２の化合物半導体材料を含む第２の半導体層とを積層して成る積層構造体を有し、前記積層構造体が、遷移元素及びＣのうち少なくとも一種類の原子を含有する半導体基板と、
前記半導体基板上に形成される第１の成長層と前記第１の成長層上に形成される第２の成長層とを有する主半導体領域と、
前記主半導体領域上に形成される第１の電極と、
前記主半導体領域上に前記第１の電極と離間して形成される第２の電極と、
を備えることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１４】
本発明の各請求項に係る発明によれば、寄生容量が低減された化合物半導体基板及び化合物半導体装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
次に、図面を参照して本発明の実施形態に係るＨＥＭＴを説明する。
【００１６】
以下に示す実施の形態はこの発明の技術的思想を具体化するための装置や方法を例示するものであって、この発明の技術的思想は各構成部品の配置等を下記のものに特定するものでない。この発明の技術的思想は、特許請求の範囲において、種々の変更を加えることができる。
【００１７】
（第１の実施例）
図１に示す本発明の実施例１に係るＨＥＭＴ１００は、Ｓｉから構成される基板１１と、基板１１上に形成され、ＡｌＮから構成される第１の半導体層１２とＧａＮから構成され鉄（Ｆｅ）がドーピングされた第２の半導体層１３とを交互に積層して形成されるバッファ層１４（積層構造体）と、バッファ層１４上に形成され、ＧａＮから構成される本発明の第１の成長層としてのチャネル層１５と、チャネル層１５上に形成され、ＡｌＧａＮから構成される本発明の第２の成長層としてのバリア層１６と、バリア層１６上に形成され、所定の開口を有する絶縁膜１８と、絶縁膜１８の開口を介してバリア層１６上に形成されるゲート電極Ｇ、ソース電極Ｓ及びドレイン電極Ｄと、を備える。チャネル層１５とバリア層１６とはヘテロ接合され、チャネル層１５におけるバリア層１６に近い領域は、ヘテロ接合に基づき二次元電子ガス（２ＤＥＧ）を生じている。本実施例において、チャネル層１５とバリア層１６とを併せて、本発明の主半導体領域１７と換言できる。但し、ＡｌＧａＮから構成されるスペーサ層が、チャネル層１５とバリア層１６との間に形成されても良い。その場合はスペーサ層を含めて本発明の主半導体領域１７と換言できる。
【００１８】
即ち、本実施例に係るＨＥＭＴ１００は、バッファ層１４を構成する第２の半導体層１５がＦｅを含有している点で従来のＨＥＭＴ１００と異なり、その他は同一に構成される。
【００１９】
本実施例に係るＨＥＭＴ１００の製造方法を説明する。
【００２０】
図２は、ＨＥＭＴ１００の製造方法を示す工程断面図である。
【００２１】
まず、Ｓｉから構成される基板１１上に、バッファ層１４が、周知の有機金属化学気相成長（ＭＯＣＶＤ）法によって形成される。即ち、ＡｌＮから構成される第１の半導体層１２は、反応炉内に配置した基板１１に対しトリメチルアルミニウム（ＴＭＡ）とアンモニア（ＮＨ３）との気相を供給して１０ｎｍ程度の厚さに形成される。次いで、ＧａＮから構成される第２の半導体層１３は、トリメチルガリウム（ＴＭＧ）とＮＨ３とフェロセン（Ｃｐ２Ｆｅ）との気相を供給して５×１０１７〜１０２０ｃｍ−３の不純物濃度と３０ｎｍ程度の厚さを有するように形成される（図２ａ）。基板１１は、ＳｉＣから構成される基板でも良い。また、エピタキシャル成長は、ＭＯＣＶＤ法に代わり、周知の分子線エピタキシャル成長（ＭＢＥ）法で行うことができる。
【００２２】
次に、バッファ層１４は、第１の半導体層１２と第２の半導体層１３とを形成する工程を繰り返し、２μｍ程度の厚さに形成される（図２ｂ）。
【００２３】
次に、バッファ層１４上に、主半導体領域１７が、ＭＯＣＶＤ法によって形成される。即ち、ＧａＮから構成されるチャネル層１５は、バッファ層１４が形成された基板１１に対しＴＭＧとＮＨ３との気相を供給して、半導体不純物を含まない非ドープＧａＮを成長させることで、０．５〜３μｍ程度の厚さに形成される。次いで、ＡｌＧａＮから構成されるバリア層１６は、ＴＭＡとＴＭＧとＮＨ３とシラン（ＳｉＨ４）との気相を供給して、１０ｎｍ程度の厚さに形成される。そして、ＳｉＯ２から構成される絶縁膜１８は、プラズマＣＶＤ法により、バリア層１６上に１００ｎｍ程度の厚さに形成される（図２ｃ）。
【００２４】
次に、所定の開口部が、反応性イオンエッチング（ＲＩＥ）法等により絶縁膜１８に形成される。そして、ソース電極Ｓとドレイン電極Ｄとは、絶縁膜１８の開口部において、周知の方法によって、バリア層１６上に例えばチタン（Ｔｉ）及びＡｌを蒸着させて形成される。また、ゲート電極Ｇは、絶縁膜１８の開口部において、バリア層１６上にニッケル（Ｎｉ）及び金（Ａｕ）を蒸着させて形成される（図２ｄ）。
【００２５】
本実施例に係るＨＥＭＴ１００によれば、次の効果が得られる。
（１）ＧａＮ層にドーピングされたＦｅイオンは、Ｇａサイトの一部を占有し、深い準位を形成するため、キャリアをトラッピングしやすくなる。本実施例に係る第２の半導体層１５は、１×１０５Ω・ｃｍ程度の抵抗性を示し、電気絶縁性を有する半絶縁層と言える。従って、Ｆｅを含有する第２の半導体層１５を備えるバッファ層１４は、寄生容量が低減されると共に高耐圧化される。
（２）バッファ層１４を形成することにより、Ｓｉから構成される基板１１とＧａＮを含む主半導体領域１７との間に作用する応力が良好に緩和される。即ち、安価なＳｉ基板１１上に化合物半導体材料から構成されるＨＥＭＴ１００が形成される。このため、主半導体領域１７を備えるＨＥＭＴ１００のコストが低減される。
（３）高い電気絶縁性を有するバッファ層１４上に形成される主半導体領域１７を備えるＨＥＭＴ１００は、寄生容量が低減されるため、スイッチングスピードや損失といったスイッチング特性及び高周波特性が改善される。さらに、ＨＥＭＴ１００は、高い電気絶縁性を有するバッファ層１４上に形成されるため、高耐圧化される。
（４）優れたスイッチング特性及び高周波特性を有するＨＥＭＴ１００をスイッチング素子として用いた電源装置は、高周波化が可能となる。そのため、リアクトルＬを小型化することができるため、電源装置が小型化又は薄型化される。
【００２６】
なお、本発明の実施例１に係るＨＥＭＴ１００において、第２の半導体層１３に加え、第１の半導体層１２が、全体的或いは局所的にＦｅを含有するように形成されても良い。実施例１における第１の半導体層１２の製造過程において、ＴＭＡとＮＨ３に加え、Ｃｐ２Ｆｅの気相を供給することで、Ｆｅを含有する第１の半導体層１２が形成される。Ｆｅが第１の半導体層１２の導電性に与える影響は小さいため、第１の半導体層１２は、高い電気絶縁性を維持する。従って、このように形成されたＨＥＭＴは、実施例１と同様の効果を得ることができる。
【００２７】
（第２の実施例）
図３に示す本発明の実施例２に係るＨＥＭＴ１０１について説明する。但し、図３において図１と実質的に同一の部分には同一の参照符号を付してその説明を省略する。
【００２８】
ＨＥＭＴ１０１は、Ｓｉから構成される基板１１と、基板１１上に形成され、ＡｌＮから構成される第１の半導体層１２とＧａＮから構成されＦｅがドーピングされた第２の半導体層１３とを交互に積層して形成されるバッファ層１４と、バッファ層１４上に形成され、ＧａＮから構成されＦｅが高濃度にドーピングされた第１のチャネル層１５ａと、第１のチャネル層１５ａ上に形成され、ＧａＮから構成される第２のチャネル層１５ｂと、第２のチャネル層１５ｂ上に形成され、ＡｌＧａＮから構成されるバリア層１６と、バリア層１６上に形成され、所定の開口を有する絶縁膜１８と、絶縁膜１８の開口を介してバリア層１６上に形成されるゲート電極Ｇ、ソース電極Ｓ及びドレイン電極Ｄと、を備える。本実施例において、第１のチャネル層１５ａと第２のチャネル層１５ｂとを併せてチャネル層或いは本発明の第１の成長層と換言することができ、また、第１のチャネル層１５ａ、第２のチャネル層１５ｂ及びバリア層１６を併せて主半導体領域１７ａと換言できる。
【００２９】
即ち、本実施例に係るＨＥＭＴ１０１は、主半導体領域１７ａが、第１のチャネル層１５ａ及び第２のチャネル層１５ｂを備える点で従来のＨＥＭＴ１００と異なり、その他は同一に構成される。
【００３０】
本実施例に係るＨＥＭＴ１０１の製造方法において、第１のチャネル層１５ａは、バッファ層１４が形成された基板１１に対しＴＭＧとＮＨ３に加え、Ｃｐ２Ｆｅの気相を供給することで形成される。本実施例における第１のチャネル層１５ａは、１×１０１７ｃｍ−３以上の不純物濃度と０．３〜１μｍ程度の厚さを有するように形成される。
【００３１】
次に、第１のチャネル層１５ｂは、本発明の実施例１におけるチャネル層１５と同様の手法によって、第１のチャネル層１５ａ上に１００〜２００ｎｍ程度の厚さに形成される。
【００３２】
本実施例に係るＨＥＭＴ１０１によれば、チャネル層におけるバッファ層１４に近い領域が電気絶縁性を有する一方、バリア層１６に近い領域が導電性を有するため、本発明の実施例１に係るＨＥＭＴ１００と同様の効果に加え、次の効果が得られる。
（１）ＨＥＭＴ１０１のオン動作時は、ソース電極Ｓとドレイン電極Ｄとの間を流れる電流が、チャネル層１５におけるバリア層１６に近い領域に形成される二次元キャリアガス層を流れる。また、ＨＥＭＴ１０１のオフ動作時は、ソース電極Ｓとドレイン電極Ｄとの間を流れる電流が、チャネル層１５におけるバッファ層１４に近い領域を流れにくくなる。従って、第１のチャネル層１５ａ、第２のチャネル層１５ｂ及びバリア層１６とから構成される主半導体領域１７ａが高耐圧化されるため、主半導体領域１７ａに形成されるＨＥＭＴ１０１が高耐圧化されると共にＨＥＭＴ１０１のリーク電流が低減される。
（２）ＨＥＭＴ１０１をスイッチング素子として用いた電源装置は、ＨＥＭＴ１０１のリーク電流が低減されるため、損失が低減され、高効率化される。
【００３３】
（第３の実施例）
図４に示す本発明の実施例３に係るＨＥＭＴ１０２について説明する。但し、図４において図１と実質的に同一の部分には同一の参照符号を付してその説明を省略する。
【００３４】
ＨＥＭＴ１０２は、Ｓｉから構成される基板１１と、基板１１上に形成され、ＡｌＮから構成される第１の半導体層１２とＧａＮから構成されＦｅがドーピングされた第２の半導体層１３とを交互に積層して形成され、且つ、ＧａＮから構成され導電性を有する第３の半導体層１３ａを有するバッファ層１４ａと、バッファ層１４ａ上に形成され、ＧａＮから構成されるチャネル層１５と、チャネル層１５上に形成され、ＡｌＧａＮから構成されるバリア層１６と、バリア層１６上に形成され、所定の開口を有する絶縁膜１８と、絶縁膜１８の開口を介してバリア層１６上に形成されるゲート電極Ｇ、ソース電極Ｓ及びドレイン電極Ｄと、を備える。第３の半導体層は、遷移元素及びＣのうち少なくとも一種類の原子を前記第２の半導体層よりも低濃度で含有する。
【００３５】
即ち、本実施例に係るＨＥＭＴ１０２は、バッファ層１４ａにおいて、複数の第２の半導体層１３の少なくとも１つが、第３の半導体層１３ａに置換される点で従来のＨＥＭＴ１００と異なり、その他は同一に構成される。
【００３６】
本実施例に係るＨＥＭＴ１０２の製造方法において、第３の半導体層１３ａは、ＴＭＧとＮＨ３との気相を供給して３０ｎｍ程度の厚さを有するように形成される。但し、第３の半導体層１３ａを形成する工程において、１×１０１６ｃｍ−３以下の不純物濃度を有するように形成しても良い。また、厚さは第２の半導体層１３と異なっても良く、複数設けられても良く、不規則に設けられても良い。
【００３７】
本実施例に係るＨＥＭＴ１０２によれば、バッファ層１４ａが導電性の層を有するため、バッファ層１４ａは寄生容量を有する反面、次の効果が得られる。
（１）ＨＥＭＴ１０２の動作時、第３の半導体層１３ａは、ゲート電極Ｇと略同電位となるため、ドレイン電極Ｄとゲート電極Ｇとの間に例えば６００Ｖの電位差が生じたとき、ドレイン電極Ｄと第３の半導体層１３ａとの間にも約６００Ｖの電位差が生じる。そのため、第３の半導体層１３ａは、ゲート電極Ｇの端部に集中する電界を緩和する、所謂裏面フィールドプレート効果を有する。従って、第３半導体層１３ａは、電界緩和による高耐圧化を実現すると共に、電流コラプスの発生を抑制することによる低オン抵抗化が達成される。寄生容量と裏面フィールドプレート効果とは、第３の半導体層１３ａの不純物濃度及び形成位置等によって適宜設定することができる。
（２）ＨＥＭＴ１０２スイッチング素子として用れば、ＨＥＭＴ１０２のオン抵抗が低減されるため、低損失で高効率な電源装置が得られる。
【００３８】
以上、本発明の実施形態の一例について説明したが、本発明は係る特定の実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載された本発明の要旨の範囲内において、種々の変形、変更が可能であり、また各実施例或いは各変形例の組合せが可能である。
【００３９】
例えば、深い準位を形成するドーパントは、Ｆｅの他にニッケル（Ｎｉ）等の遷移元素及びＣのうち少なくとも一種類の原子を、単独或いは組合せで用いることができ、半導体層ごとに組成を変えることができる。また、第１の半導体層１２及び第２の半導体層１３は、第２の半導体層１３のバンドギャップが第１の半導体層１２のバンドギャップよりも小さければ、上記組成の材料に限らず、ＡｌｘＩｎｙＧａ１−ｘ−ｙＮ（０≦ｘ≦１、０≦ｙ≦１）で示される組成の材料で構成することができる。また、上記ＨＥＭＴに限らず、化合物半導体材料で構成されるＭＯＳ或いはダイオード等の二端子素子を形成しても良く、チャネル層１５及びバリア層１６がそれぞれ多層構造を有しても良い。即ち、バッファ層１４上に主電極を有する横型半導体装置は、本発明の実施形態に係る効果を享受できる。また、本発明の実施形態に係るＨＥＭＴは、絶縁型の電源装置或いは複数のスイッチング素子を有する電源装置にも用いることができる。
【図面の簡単な説明】
【００４０】
【図１】本発明の実施例１に係るＨＥＭＴ１００の構造断面図である。
【図２】本発明の実施例１に係るＨＥＭＴ１００の製造方法を示す工程断面図である。
【図３】本発明の実施例２に係るＨＥＭＴ１０１の構造断面図である。
【図４】本発明の実施例３に係るＨＥＭＴ１０２の構造断面図である。
【図５】従来のＨＥＭＴ２００の構造断面図である。
【図６】ＨＥＭＴをスイッチング素子として用いる電源装置の回路構成図である。
【符号の説明】
【００４１】
１１、２１  基板
１２、２２  第１の半導体層
１３、２３  第２の半導体層
１４、２４  バッファ層
１５、２５  チャネル層
１６、２６  バリア層
１７  主半導体領域
１８  絶縁膜
【図１】
2010123725.tif 000003
【図２】
2010123725.tif 000004
【図３】
2010123725.tif 000005
【図４】
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【図５】
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【図６】
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