(57)【要約】【課題】シャドーマスクとガラス基板を重ね合わせて位置合わせを行ったのち、搬送機構による搬送中の衝撃等により発生する位置ズレを防止することのできる真空蒸着装置の重石板および真空蒸着装置を提供する。【解決手段】マスク保持部材１０１に固定されたシャドーマスクとしてのテンションマスク５２０の上面にガラス基板１０４を重ね合わせて位置合わせする。そして、ガラス基板１０４に重石板１０９を載荷し、その重力により、押圧して一体化した合体搬送体５００を形成する。重石板１０９の中空部には、合体搬送体５００にかかる衝撃を緩衝するための液体金属が充填率２５％以上８５％未満で充填されるか、その他の緩衝機構が配置されている。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
蒸発源と、保持部材に固定されたシャドーマスクに重ね合わせて位置合わせしたガラス基板に載荷した重石板の重力により前記ガラス基板をシャドーマスクに押圧して保持した合体搬送体と、前記合体搬送体を搬送する搬送機構と、を有する真空蒸着装置において、
前記重石板には、前記合体搬送体にかかる衝撃を緩衝する緩衝手段を配備したことを特徴とする真空蒸着装置の重石板。
【請求項２】
前記緩衝手段は、前記重石板に設けられた中空部に配備された、充填率２５％以上８５％未満の液体金属であることを特徴とする請求項１に記載の真空蒸着装置の重石板。
【請求項３】
前記緩衝手段は、前記重石板に設けられた中空部に配備された、中空部内壁面にバネを介して係止された摺動体および前記摺動体と前記中空部内壁面の間に介在された転がり運動する摺動ボールであることを特徴とする請求項１に記載の真空蒸着装置の重石板。
【請求項４】
前記緩衝手段は、前記重石板の周辺部にバネを介して係止された摺動体および前記摺動体と前記ガラス基板との間に介在された転がり運動する摺動ボールであることを特徴とする請求項１に記載の真空蒸着装置の重石板。
【請求項５】
前記緩衝手段は、前記重石板の周辺部にバネを介して係止された摺動体であって、前記摺動体の前記ガラス基板に相対する面に設けられた複数の凹所と、前記凹所に配備された前記面から一部が張り出すようにバネによって付勢された摺動ボールもしくは重力により付勢される摺動ボールを有することを特徴とする請求項１に記載の真空蒸着装置の重石板。
【請求項６】
上記請求項１乃至５のいずれか１項に記載の重石板を使用する真空蒸着装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、真空蒸着装置において、シャドーマスクと重ね合わせて位置合わせしたガラス基板が、位置ズレしないようにその重力で押圧するための真空蒸着装置の重石板およびそれを用いた真空蒸着に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
フルカラーで発光可能な有機ＥＬパネルの製作においては、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の各色を、シャドーマスクを用いた真空蒸着によって、ガラス基板上に各色の色別素子を形成している。
【０００３】
各色の色別素子を形成するためには、ＲＧＢの各色用にシャドーマスクを製作し、そのシャドーマスクを各色毎にアライメントして、ガラス基板に真空蒸着を行う方法が広く採用されている。
【０００４】
シャドーマスクとガラス基板は、保持部材により固定されて、複数の成膜装置の中を搬送される。その搬送工程において、昇降装置受け渡しやローラー加速・減速、ベルト搬送、ロボット搬送などの種々の物理的な外部応力を受ける。このときの、衝撃力により、シャドーマスクとガラス基板との間に位置ズレが発生して、両者の位置精度が目標値を逸脱し、色ズレや色ムラや非発光などの種々の問題が発生する。
【０００５】
ところで、インライン生産方式などの有機ＥＬパネルの製造装置の特徴は、連続量産生産形態における生産力の向上、生産コストの低減であり、如何にガラス基板の搬送速度を上げて生産力・稼働率を上げるかが重要なポイントである。
【０００６】
インライン生産方式の有機ＥＬパネルの製造装置においては、ロボット搬送、ローラー搬送、ベルト搬送などの種々の最も経済的な搬送機構や手段が用いられる。これらの搬送機構を用いて基板の搬送速度を上げようとすると、加速・減速による衝撃、振動等が発生する。
【０００７】
また、基板ホルダーは金属製の剛体であり、基板に比べて質量が大きい。例えば、移動している基板ホルダーを含むシャドーマスクとガラス基板の一体構造体が、ローラーや搬送止め部に当接することによって停止する瞬間に１〜１０ｍ／Sec２程度の減加速度が発生することが確認されている。質量の大きい物質にこの程度の減加速度がかかると、質量と減加速度とを乗じた値程度の衝撃力がかかり、前記位置ズレが３〜８μｍのレベルで発生してしまう。一方、基板は１ｍｍ以下の薄いガラスが一般的で質量が小さいため、同じ減加速度がかかっても衝撃力は小さい。このような基板ホルダーと基板のそれぞれにかかる衝撃力の差が、位置ズレが引き起こしてしまう。
【０００８】
このような問題を解決するための基板ホルダが特許文献１に開示されている。この基板ホルダーは、図１５に示すように、シャドーマスク６を保持するためのマスクホルダー５に摩擦パッド２が設けられているとともに、基板４を保持するための基板ホルダー３に摩擦パッド１７が設けられている。一方の摩擦パッド２と、他方の摩擦パッド１７とは互いに当接する位置に設けられており、その材質はゴムあるいはエラストマーである。
【０００９】
そして、マスクホルダー５と基板ホルダー３とをクランパー７によってクランプして
シャドーマスク６を保持している周辺部分と基板４を保持している周辺部分の摩擦力を増大させることで、シャドーマスクとガラス基板の相対的な位置ズレを防止している。
【００１０】
さらに、シャドーマスクをマグネットなどで磁気吸引力によってマスクホルダー５に固定している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１１】
【特許文献１】特開２００７−０４６０９９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
ところが、磁気力は、有機ＥＬパネルの製造において、画像乱れを発生する原因となる。特に、ストライプマスクを使用する場合は、磁力線の発生により、ストライプマスク間の距離が変動し、有機発光膜の着膜位置のズレにより画像乱れが発生すると言われている。
【００１３】
本発明は、シャドーマスクとガラス基板とを位置合わせして重ね合わせたのち、両者の位置関係を保持し、搬送機構による搬送中の振動・衝撃等により両者間で位置ズレが発生するのを防止することのできる真空蒸着装置の重石板を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
上記目的を達成するため、本発明の真空蒸着装置の重石板は、蒸発源と、保持部材に固定されたシャドーマスクに重ね合わせて位置合わせしたガラス基板に載荷した重石板の重力により前記ガラス基板をシャドーマスクに押圧して保持した合体搬送体と、前記合体搬送体を搬送する搬送機構と、を有する真空蒸着装置において、
前記重石板には、前記合体搬送体にかかる衝撃を緩衝する緩衝手段を配備したことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１５】
本発明は上述のとおり構成されているので、次に記載する効果を奏する。
【００１６】
マスク保持部材に固定されたシャドーマスクに位置合わせして重ね合わせたガラス基板に重石板を載置する。この重石板は、搬送による衝撃を低減する緩衝手段を有し、かつその重力によりガラス基板をシャドーマスクに向かって押圧して保持した合体搬送体を形成する。その結果、振動や衝突等がによる衝撃の低減が可能になり、シャドーマスクとガラス基板との位置ズレの発生を防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】第１の実施形態による重石板を示す斜視図である。
【図２】図１のＡ−Ａ線に沿って破断した一部断面斜視図である。
【図３】第２の実施形態による重石板を示す一部断面斜視図である。
【図４】第２の実施形態による重石板および回転クラッチを示す断面図である。
【図５】合体搬送体のアライメントの工程を示す説明図である。
【図６】図５の工程の後における、シャドーマスクとガラス基板が接触した状態を説明する図である。
【図７】マスク保持部材およびシャドーマスクの一例を示す模式断面図である。
【図８】マスク保持部材およびテンションマスクの一例を示す模式平面図である。
【図９】マスク保持部材およびテンションマスクの一部分を示す模式拡大断面図である。
【図１０】合体搬送体が搬送ローラーに載置された場合の概略説明図である。
【図１１】合体搬送体の搬送受け渡し室および有機蒸着室を示す概略説明図である。
【図１２】第３の実施形態による重石板および回転クラッチを示す断面図である。
【図１３】第４の実施形態による重石板を示す模式拡大断面図である。
【図１４】第５の実施形態による重石板を示す模式拡大断面図である。
【図１５】従来の基板ホルダーを示す説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
本発明を実施するための最良の形態を図面に基づいて説明する。
【００１９】
図１および図２は、第１の実施形態による重石板を示す。真空蒸着を行う真空蒸着装置において搬送機構としての搬送ローラー５２３の上に合体搬送体５００が配置されている。重石板１０９の下には、ＴＦＴが形成されたガラス基板１０４がテンションマスク５２０と挟まれた状態で配置されている。テンションマスク５２０には、有機ＥＬ蒸着粒子５５５（図１１参照）が通過するための微細孔５２０ａがＴＦＴの画素と±２μｍ以内の精度でアライメントされて配置されている。
【００２０】
アライメント終了後、合体搬送体５００は、搬送室へ搬送されるに際に、ローラー５２３の回転により合体搬送体５００に加速度が加わる。このときに、重石板１０９が緩衝手段を有さない単なる剛体金属であれば、重石板に加わる加速による衝撃力がガラス基板１０４に伝わり、テンションマスク５２０との間に位置ズレを発生させる。
【００２１】
しかし、本発明にかかる重石板には、図１、図２に示す第１の実施形態のように、緩衝手段が配備されている。重石板１０９は中空部３００を有し、中空部３００の内部に充填率２５％以上８５％未満のガリウムや水銀などの液体金属５７０が充填されている。つまり、液体金属５７０の流動により衝撃が軽減される仕組みである。
【００２２】
前述の充填率は、下記の実験から最適な値を見い出だしたものである。
【００２３】
アルミニウム製の重石板の内部に空間を設け、この内部空間の液体金属ガリウムの充填率を変えて０．１ｍ／Ｓｅｃの速度にて装置内を等速度搬送し、ガラス基板のアライメントマークとマスクのアライメントマークとのズレを計測する実験を行った。その結果、充填率が３０、４５、６５、８０％の場合、ズレは搬送前後で±０．２μｍ以内であった。一方、液体金属の充填率が０％、１０％、２５％の場合、アライメントマークのズレは±０．２μｍより大きかった。また、液体金属の空間内部充填率が８５％、９０％、１００％の場合も、ズレは±０．２μｍより大きかった。
【００２４】
本来、等速度で一定方向に移動させれば、振動や衝撃は発生しないはずであるが、搬送ローラの位置ズレや外部からの装置振動などにより搬送中に種々の振動や衝撃が発生して、これらの位置ズレを発生させていると考えられる。
【００２５】
アライメント位置の光学的計測に用いられる可視光の計測限界は、±０．２μｍである。つまり、ズレの値が±０．２μｍの範囲であれば、ズレは計測誤差であり、実際にはズレは発生していないと考えられる。また±０．２μｍより大きい場合は、明らかにズレが発生していることを示している。
【００２６】
以上のことから、合体構造体には搬送時にズレの原因となる種々の振動、衝撃が発生しているが、内部に空間を設け、その内部に搬送時の振動や衝撃に追随しにくい機構を設けることで、ズレが低減されることがわかった。
【００２７】
図３は、第２の実施形態による重石板を示す。重石板１０９は中空部３００を有し、この中空部３００に、中空部内壁面との間に衝撃緩和用のバネ５６１を介して係止された摺動体５６０が配備されている。バネ５６１は図中では、左右しか配置されていないが、前後の方向（書面中においては、奥行きおよび手前向きの配置方向）に配置されていてもよい。あるいは、上下の搬送・衝突などが発生する場合は、上下方向にも配置してもよい。
【００２８】
また、摺動体５６０が重石板１０９で完全に密閉されている場合は、内部に使用するバネ部材５６１は、ガスを発生しやすい有機材料（例えば、ポリウレタン樹脂、ポリエチレンなど）やゴム材料のような柔軟部材であってもよい。また形状はバネ形状でなくてもバネの機能を補完できる形状でも良い。
【００２９】
摺動体５６０と重石板１０９の中空部内壁面との間には、円滑摺動用の摺動ボール（ボールベアリング用金属ボール）５６２が介在されている。摺動ボールは、摺動体５６０と重石板の中空部底面との間の摩擦を低減するものである。従って、摺動ボールに限らず、互いに接する面をポリテトラフルオロエチレン粒子を懸濁メッキしたメッキ表面、あるいは、フッ素樹脂コーティング面などの摩擦係数が低い表面形態とするなどの別の手段をとることもできる。このようにすることで、たとえローラー５２３の回転による加速・減速やその他別工程における軽微な突き当て位置決め時の衝撃が発生しても、その衝撃は軽減される。つまり、摺動ボール５６２やバネ定数を適正に設定することで、テンションマスク５２０とガラス基板１０４とのズレは±０．２μｍ以内に治めることが可能となる。
【００３０】
図４は回転クラッチによる位置決め機構を示す説明図である。これは、前後から回転クラッチ５８０で瞬間的に合体搬送体５００を挟み込み位置決めする。この位置決めした状態で、ロボットなどにより搬送移動、もしくは、別方向への移動などが行われる。
【００３１】
図５は、ガラス基板とシャドーマスクとの位置合わせを行うアライメント機構の概略説明図である。
【００３２】
重石板１０９は、ロッド１１１の図示上端の小径部１１１ａを位置決め穴１０９ａに嵌挿した状態でガラス基板１０４の上に配置されている。この動作を詳細に説明すると以下のようになる。ガラス基板１０４は、ロッド１１１の段差部１１１ｂにてロッド１１１に保持され、且つ、アライメント移動支柱１１２の移動と共に機械的に連動してアライメント移動が可能となっている。
【００３３】
重石板１０９を、ロボットアーム（不図示）により、重石板１０９の仮位置決め穴１０９ａにロッド１１１の小径部１１１ａが挿入されるように、ガラス基板１０４の上に配置する。なお、本実施形態では重石板１０９の仮位置決め穴１０９ａを用いたが、仮位置決め穴１０９ａを使用しなくても、ロボットにより、ある程度の精度での位置決めは可能である。
【００３４】
この状態において、アライメント移動支柱１１２をシャドーマスク１０２中に配置されたアライメントマーク（不図示）とガラス基板１０４に配置されたアライメントマーク（不図示）とが所定の位置関係で相対するように移動させてアライメントする。
【００３５】
その後、アライメント移動支柱１１２を下降させることで、図６に示すような状態の配置となる。つまり、シャドーマスク１０２およびマスク保持部材１０１の上に、ガラス基板１０４と重石板１０９が配置された合体搬送体５００となる。
【００３６】
なお、別なアライメントの配置方法として、ガラス基板１０４とシャドーマスク１０２とをアライメントし、シャドーマスク１０２の上にガラス基板１０４を配置した一体構造体を構成する。その後、不図示のロボットアームにより、重石板１０９をガラス基板１０４上に配置して合体搬送体５００を構成させてもよい。
【００３７】
次に、シャドーマスクとマスク保持部材の関係の詳細を説明する。図８、図９に示すように、パターンを微細に加工されたテンションマスク５２０は、マスク保持部材１０１にスポット溶接、もしくは、レーザー溶接で固定されている。
【００３８】
テンションマスクは、厚さ２５〜８０μｍ程度のニッケルやステンレスの薄板に、エッチングやレーザー加工などで、有機蒸気の通過する四角の微細な孔やスリットを多数形成する。そして、これをマスク保持部材１０１に張力を用いて引っ張ることにより平面状にした状態で、スポット溶接、もしくは、レーザー溶接で固定して形成させたものである。
【００３９】
図９は、テンションマスク５２０とマスク保持部材１０１をスポット溶接部５２１で接合した状態の断面を示している。また、マスク保持部材１０１の周辺には、略Ｕ字状に切り込まれた穴１０１ａがあり、本体に設けられているロッド１１１の上端の段差部１１１ｂにアライメントのときのみ係合される。
【００４０】
アライメントが終了して、合体搬送体５００となった後は、ロッド１１１の下降により、搬送移動可能となる図１０に示す状態となる。図５を再度詳しく説明すると、重石板１０９とガラス基板１０４は、穴１０９ａに嵌挿されるロッド１１１の先端の小径部１１１ａと段差部１１１ｂとによって支持されている。図から理解されるように、ガラス基板１０４と重石板１０９は、アライメント移動支柱１１２のアクチュエータ機能によって、任意の位置に昇降移動可能になっている。つまり、ガラス基板１０４はロッド１１１の段差部１１１ｂの上に載荷され、その上に重石板１０９が載荷された状態で、シャドーマスク１０２（テンションマスク５２０）とアライメントされる。
【００４１】
シャドーマスク１０２とガラス基板１０４は分離された状態において、アライメント支柱１１２を図中ＸＹ平面で任意位置にアライメント駆動し、シャドーマスク１０２とガラス基板１０４を所定の場所への位置合わせするようになっている。ガラス基板１０４と重石板１０９は同時に任意のＸＹ平面においてシャドーマスク１０２と同時にアライメントされるものである。装置構造を変えれば、ガラス基板１０４と重石板１０９を静止して、シャドウ−マスク１０２を微動位置制御してアライメントする手段を用いても良い。
【００４２】
シャドーマスク１０２とガラス基板１０４（重石板１０９も含めて）とが所定の位置に所定の位置精度でアライメントされた後、アライメント支柱１１２が下降する。
【００４３】
それに伴いロッド１１１も下降し、重石板１０９とガラス基板１０４も下降し、シャドーマスク１０２と接触する（図６はこの状態を示す）。そして、アクチュエーター１０８とアライメント移動支柱１１２のアクチュエータ機能によって、前記のマスク保持部材１０１（シャドーマスク１０２も含む）とガラス基板１０４、重石板１０９からなる合体搬送体５００が、搬送ローラー５０１上に載置される。
【００４４】
図８は、マスク保持部材を示す平面図である。マスク保持部材１０１の外形は、略正方形であり、微小な角孔５２０ａの開いた薄いテンションマスク５２０がスポット溶接５２１で溶着されている。この角孔５２０ａは、蒸発源からの蒸着物質をガラス基板１０４へ通過させるための孔であり、ガラス基板１０４上に形成されたＴＦＴ素子により駆動される有機ＥＬ素子の発光単位画素となるように、正確にアライメントされなくてはならない。高精細な小型の有機ＥＬパネル、例えば３インチＶＧＡのパネルを画素開口率５０％で実現しようとすると、±２μｍ程度の位置合わせ精度を実現できなければ、収率の良い量産は困難と考えられる。
【００４５】
図９および図１１において、テンションマスク５２０は２５〜８０μｍと薄いので説明用に故意に厚く表現している。
【００４６】
図１１は、位置合わせの後の合体搬送体５００を次の蒸着室１２０へ搬送する搬送室１１０と、有機ＥＬ膜の蒸着室１２０の概略説明図である。搬送ローラー５０１が回転することで、合体搬送体５００が開閉シャッター５２２ｂを経由して蒸着室１２０へと搬出され、蒸発源６０６が配備された蒸着室内でガラス基板１０４に有機ＥＬ膜が成膜されることとなる。
【００４７】
蒸着室１２０には、上方に配備された搬送機構によって搬送される合体搬送体５００に対して下方側から有機ＥＬ材料６０１の蒸気５５５を供給する蒸発源６０６が配備されている。蒸発源６０６は、るつぼ６０２を覆う発熱体６０５によりるつぼ６０２内に供給された有機ＥＬ材料の蒸気５５５を発生させる。
【００４８】
テンションマスク５２０とガラス基板１０４との位置合わせが終了した合体搬送体５００は、開閉シャッター５２２ｃが開くと、搬送室１１０へ搬出される。そして、蒸着室１２０で先の合体搬送体５００が所定の有機ＥＬ膜の蒸着工程が終了するのを待つ状態となる。先の合体搬送体５００の真空蒸着処理が終了すると、シャッター５２２ａが開いて先の合体搬送体５００は蒸発室１２０外へと搬出される。また、シャッター５２２ｂが開いて前述の合体搬送体５００は回転ローラー５０１の回転により加速され、一定の速度で蒸着室１２０へ搬入される。そして、所定の位置近くになるとローラー５０１の回転が減速し、最終的には０．１〜０．２ｍ／秒の速度で位置決めピン１２７に突き当てられ、停止する。そして、後方の位置決めピン１２８が下降してきて、後方の位置決めも行われる。所定の位置にピン１２７，１２８が下降完了したら、起動スイッチにより蒸着が開始される仕組みとなっている。
【００４９】
技術文献１によれば、クラッチローラー挟み込みでは０．１〜０．２ｍ／秒の速度で衝突する。本発明の重石板１０９を用いない場合は、位置決めピン１２７に突き当てられると金属同士の接触であるので、１〜１０ｍ／Ｓｅｃ２程度の減速度による衝撃が発生する。つまり、技術文献１に記載の技術では、シャドーマスクのマークとガラス基板のマークは±２μｍ以上の位置ズレを生じるという状況である。しかし、本発明の重石板１０９を用いた場合、位置ズレは±２μｍ以下となった。
【００５０】
そして、真空蒸着処理が終了したら、ピン１２７、１２８は上昇し、且つ、シャッター５２２が開き、回転ローラー５０１の回転と同時に、次の有機ＥＬ膜の真空蒸着を行われるべく次の搬送室へと搬出される。本実施形態では、各蒸着室で停止する方式を説明したが、すべての工程を連続的に一定の当速度で搬送する方式を取ってもよい。しかしながら有機ＥＬ膜の色別や機能別の混入やアライメント室の有機EL蒸気粒子による汚染を避けるためには、開閉シャッターでの停止や搬送室での待機などを行う方式の方が好ましい。
【００５１】
装置での移動のときに、生産タクトを上げるべく、実測した結果、移動時の減速や加速の衝撃加速度は１〜３ｍ／Ｓｅｃ２程度の衝撃が発生していることが判明した。
【００５２】
本発明の重石板を用いた合体搬送体の場合、生産タクトを落とすことなく、０．５ｍ／Ｓｅｃ２以下の衝撃に低減することが可能となった。このことにより、搬送工程による位置ズレ量は、±２．０μｍを実現することが可能となった。
【００５３】
図１２は、第３の実施形態による重石板を示す。本実施形態は、図３に示した第２の実施形態による重石板における摺動体５６０のガラス基板に相対する面が露出したものに相当する。つまり、重石板１０９の周辺部のみがガラス基板１０４に当接しており、それ以外の部分は転がり運動する摺動ボール５６２が直接当接し、ガラス基板１０４の当接面を重力によりテンションマスク５２０に押さえつけながら、摺動・移動する。
【００５４】
本実施形態による重石板は、摺動ボール５６２がガラス基板１０４を直接押すことで、ガラス基板１０４とテンションマスク５２０との当接が完全に行われ、隙間を無くしながら衝撃を緩衝させることが可能である。
【００５５】
図１３に示すように、ガラス基板１０４が厚さが薄い場合や、ガラス基板１０４の大きさが大面積の場合、ガラス基板１０４が撓む。特に、マスク保持部材１０１に支持されていない中央部分は明らかに撓む。テンションマスク５２０もマスク保持部材１０１にスポット溶接されているので、強くテンションを掛けられず、一般的に中央付近で０．１〜０．２ｍｍ程度撓んでいる。
【００５６】
図１３は、第４の実施形態による重石板を示す模式拡大断面図である。摺動体５６０に、バネ５６３と摺動ボール５６２が装着される複数の凹所５６４を配備した。摺動ボール５６２が撓んだガラス基板１０４を確実に、テンションマスク５２０のみ配備されているマスク部分（いわゆるマスクフレーム以外の領域のテンションマスク域）とガラス基板１０４との当接を維持する。
【００５７】
図１３では、凹所５６４は円筒状であるが、実際は、摺動ボール５６２の直径より小さな穴を開けて内部に摺動ボール５６２を閉じ込める構成となっている。そして、摺動ボール５６２と凹所５６４の底面の間にバネ５６３を配置して、摺動ボール５６２が摺動体５６０の基板に相対する面より僅かに一部が張り出す構成とする。このように構成することで、摺動ボール５６２はガラス基板１０４が僅かに撓んで、凹状になって反りを発生した場合でも、確実にガラス基板１０４の一部を押すことが可能となる。
【００５８】
また、テンションマスク５２０とガラス基板１０４のＴＦＴ側面が固有振動数の違いでうなり振動する場合がある。しかし、ガラス基板１０４のＴＦＴ配置面とテンションマスク５２０は、確実に、テンションマスク５２０の中央付近で押し付けられることで、当接することとなる。
【００５９】
ちなみに、摺動ボール５６２は直径８ｍｍのステンレスボールで、摺動体５６０の開口の大きさはそれよりも小さく構成し、最大張り出しが０．８ｍｍとなるように調整した。また、バネ５６４の押圧力は、０．８ｍｍの張り出しで、８〜１０ｇｆとなるようにした。この数値は、ボール個数により任意に変更可能である。
【００６０】
摺動ボール５６２の個数は２６０個を配置し、テンションマスク５２０を押す押圧力はボールの重量も含め約２．３ｋｇｆ程度とした。マスク保持部材１０１の周囲（マスクフレーム）部分に掛かる押圧力は図１３の摺動ボール５６２（マスクフレーム部分を押す摺動ボール）とガラス基板１０４を押す重石板１０９の合わせた重量で約４ｋｇｆとした。
【００６１】
図１４（ａ）、（ｂ）は、第５の実施形態による重石板を示す拡大断面図である。この実施形態では、ガラス基板１０４の周囲を重石板１０９で直接押えることはせずに、重石板１０９の周辺にマスク保持部材１０１に当接する当接足部５６６を設けて、重石板１０９の重量がマスク保持部材１０１に直接かかるように構成される。
【００６２】
図１４（ａ）では、ガラス基板１０４はテンションマスク５２０に相対する部分に摺動ボール５６２がバネ５６３による所定のバネ付勢力で押し付けられる。
【００６３】
また、摺動ボール５６２の押し付け力は、本実施形態では、摺動ボール５６２の平面からの出っ張りが０．８ｍｍで、４８〜５１ｇＦ程度とした。
【００６４】
摺動ボール５６２の数は、ガラス基板１０４の中央付近部分のみに５０ｍｍ縦横等間隔で２５個配置し、１２５０ｇＦでガラス基板１０４を押し圧する構成とした。
【００６５】
この摺動ボール５６２の配置や押えバネ５６３の押え付勢力の値の設定は、ガラス基板１０４の厚さや大きさ、剛性値、マスク保持部材１０１の大きさやテンションマスク５２０の張力などの関係により任意に設定できるものである。
【００６６】
このようにすることで、マスクフレーム１０１の搬送中の振動や衝撃の影響が直接ガラス基板１０４には伝わり難くなる。
【００６７】
特に、突き当て衝突時の重石板１０９の横方向の運動量がバネ５６３を経由し、摺動ボール５６３を介してガラス基板１０４に伝えられるので、ガラス基板１０４の横方向への位置ズレは低減される。また、バネ５６３でガラス基板１０４はテンションマスク５２０へ所定の付勢力で押し付けられるので、摩擦力が大きくなることで突き当て衝突によるズレ抵抗が上昇して位置ズレがほとんど無くなる。
【００６８】
実験では、搬送速度５０ｍｍ／Ｓｅｃで金属ローラー上を等速度で搬送したときの振動衝撃は最大で±０．５ｍ／Ｓｅｃ２であったが、位置ズレは搬送前後の光学マーク計測で±０．２μｍ以下であった。これは、可視光線の波長による光学計測の誤差が±０．２μｍの範囲であることから、実質的なズレはほぼ「０」であると考えられる。また、１０〜２０ｍｍ／Ｓｅｃの搬送速度で金属ポールに衝突させた。その時の最大衝撃加速度はマスク保持部材１０１で±８．３ｍ／Ｓｅｃ２であったが、その時の位置ズレは±０．２μｍ以下であった。つまり、実質の衝突による問題となる位置ズレは発生していないことが判った。
【００６９】
摺動移動体が配備された重石板１０９は、衝撃を受けても、摺動ボール５６２が転がること、およびバネ５６３の衝撃緩衝効果、さらにはバネ５６３の押え付勢力による摩擦力が増大する。その結果、テンションマスク５２０とガラス基板１０４は相対的に移動しないので、位置ズレが発生しない。もしくは著しく低減することが可能となる。
【００７０】
また、搬送ボール５６２を直径１５〜３０ｍｍφの大きさの程度のボールのみにするか、直系５〜８ｍｍφのボール数を増やす場合にはバネを廃止して、ボールのみでガラス基板１０４を押す構造としても良い。例えば、直径１８ｍｍφ程度の搬送ボールを用いる図１４（ｂ）の形状でも良い。搬送ボール５６２は重石板１０９の上面、下面の外形が搬送ボール直径より小さいので、内部で上下に摺動・回転はするが外れない構成となっていることを示している。
【符号の説明】
【００７１】
１０１    マスク保持部材
１０２    シャドーマスク
１０４    ガラス基板
１０９    重石板
１１０    搬送室
１１１    ロッド
１２０    蒸着室
３００    中空部
５００    合体搬送体
５２０    テンションマスク
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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