(57)【要約】【課題】信頼性に優れたサーボ情報が書き込まれ、高精度のレジストパターンを用いて磁性層からなるパターン形状の全てを高精度で形成することにより歩留まりよく製造できる磁気記録媒体を提供する。【解決手段】非磁性基板上に磁気的に分離された磁性層からなる環状の磁気記録パターン５１ａが備えられ、磁気記録パターン５１ａにサーボ情報が磁気的に書き込まれている磁気記録媒体５０とする。【選択図】図１
2010123158.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
非磁性基板上に磁気的に分離された磁性層からなる環状の磁気記録パターンが備えられ、
前記磁気記録パターンにサーボ情報が磁気的に書き込まれていることを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項２】
前記サーボ情報が、バースト情報、アドレス情報、プリアンブル情報から選ばれる少なくとも１つを含むことを特徴とする請求項１に記載の磁気記録媒体。
【請求項３】
非磁性基板上に設けられた磁性層上にレジストパターンを形成し、前記レジストパターンを用いて、磁気的に分離された前記磁性層からなる環状の磁気記録パターンを形成する工程と、
磁気ヘッドを用いてサーボ情報を前記磁気記録パターンに磁気的に書き込むサーボ情報書込み工程とを含むことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【請求項４】
前記サーボ情報書込み工程の前に、表面にプリサーボ情報パターンを備えた磁気転写用マスター担体を用いて、前記磁気記録パターンにプリサーボ情報を磁気転写する工程を行い、
前記サーボ情報書込み工程において、前記磁気ヘッドに前記磁気記録パターンに磁気転写された前記プリサーボ情報を読み込ませながら、前記磁気ヘッドにより前記磁気記録パターンに前記サーボ情報を書き込ませることを特徴とする請求項３に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項５】
前記プリサーボ情報が、位相差サーボ情報であることを特徴とする請求項３または４に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項６】
磁気記録媒体と、該磁気記録媒体に情報を記録再生する磁気ヘッドとを備えた磁気記録再生装置であって、
前記磁気記録媒体が請求項１または２に記載の磁気記録媒体であることを特徴とする磁気記録再生装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ハードディスク装置等に用いられる磁気記録媒体および磁気記録媒体の製造方法、磁気記録再生装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、ハードディスク装置等の磁気記録装置の適用範囲は著しく増大され、その重要性が増すと共に、これらの装置に用いられる磁気記録媒体について、その記録密度の著しい向上が図られつつある。特に、ＭＲ(magnet resistive)ヘッドおよびＰＲＭＬ技術の導入以来、面記録密度の上昇はさらに激しさを増し、近年ではさらにＧＭＲ（giant magnet resistive）ヘッド、ＴＭＲ(tunneling magnet resistive）ヘッドなども導入され、１年に約５０％ものペースで増加を続けている。これらの磁気記録媒体については、今後更に高記録密度を達成することが要求されており、そのために磁性層の高保磁力化と高信号対雑音比（ＳＮＲ）、高分解能を達成することが要求されている。また、近年では線記録密度の向上と同時にトラック密度の増加によって面記録密度を上昇させようとする努力も続けられている。
【０００３】
最新の磁気記録装置において、トラック密度は１１０ｋＴＰＩにも達している。しかし、トラック密度を上げていくと、隣接するトラック間の磁気記録情報が互いに干渉し合い、その境界領域の磁化遷移領域がノイズ源となりＳＮＲを損なうという問題が生じやすくなる。このことはそのままＢｉｔ  Ｅｒｒｏｒ  ｒａｔｅの低下につながるため記録密度の向上に対して障害となっている。
面記録密度を上昇させるためには、磁気記録媒体上の各記録ビットのサイズをより微細なものとし、各記録ビットに可能な限り大きな飽和磁化と磁性膜厚を確保する必要がある。しかし、記録ビットを微細化していくと、１ビット当たりの磁化最小体積が小さくなり、熱揺らぎによる磁化反転で記録データが消失するという問題が生じる。
【０００４】
また、トラック密度を上げていくと、トラック間距離が近づくため、磁気記録装置には極めて高精度のトラックサーボ技術が要求されている。また、隣接トラックからの影響をできるだけ排除するため、記録を幅広く実行し、再生を記録時よりも狭く実行する方法が一般的に用いられている。この方法では、トラック間の影響を最小限に抑えることができる反面、再生出力を十分得ることが困難である。そのため、十分なＳＮ比（ＳＮＲ）を確保することが難しいという問題がある。
【０００５】
上述した熱揺らぎの問題を解決し、十分なＳＮ比の確保、あるいは十分な出力の確保を達成する方法の一つとして、記録媒体表面にトラックに沿った凹凸を形成し、記録トラック同士を物理的または磁気的に分離することによってトラック密度を上げようとする試みがなされている。このような技術を以下にディスクリートトラック法、それによって製造された磁気記録媒体をディスクリートトラック媒体と呼ぶ。
【０００６】
ディスクリートトラック媒体の一例として、複数の凸部と各凸部を囲む凹部とを有する非磁性基板上に、軟磁性層と強磁性層を積層し、非磁性基板の形状を反映した凹凸が軟磁性層および強磁性層に形成され、磁気的に分断された強磁性層の凸部のみを記録領域とする磁気記録媒体が知られている（例えば、特許文献１参照）。
この磁気記録媒体によれば、軟磁性層での磁壁発生を抑制できるため、熱揺らぎの影響が出にくく、隣接する信号間の干渉もないので、ノイズの少ない高密度磁気記録媒体を形成できるとされている。
【０００７】
ディスクリートトラック媒体は、一般に、非磁性基板上に連続した磁性層を形成し、磁性層の上にパターニングしたレジスト層を形成し、これを用いて磁性層を磁気的に分離する方法を用いて形成されている。また、レジスト層をパターニングする方法としては、フォトリソグラフィー法や、液状のレジストにスタンプを用いてパターン転写するナノインプリント法がなど用いられている。
【０００８】
また、ディスクリートトラック媒体の製造方法としては、何層かの薄膜からなる磁気記録媒体を形成した後にトラックを形成する方法や、あらかじめ基板表面に直接、あるいはトラック形成のための薄膜層に凹凸パターンを形成した後に、磁気記録媒体の薄膜形成を行う方法がある（例えば、特許文献２，特許文献３参照）。
【０００９】
また、ディスクリート方式の磁気記録媒体の製造方法として、外部からのイオン注入あるいはレーザ照射などを行うことにより、非磁性基体上の連続した磁性層の所望の箇所の磁気的特性を局所的に変えて記録トラックを形成する方法もある（例えば、特許文献４参照）。
また、例えば、特許文献５には、磁性層に、ランド間のギャップ代わりに、イオン注入によって磁化されない領域のあるものが開示されている。
また、例えば、特許文献６には、基板上に、磁性層、イオンバッファ層をこの順に形成して、イオンバッファ層を介在させた状態で磁性層に対してイオンを注入し、熱処理することで、イオンの注入領域の磁気特性を改質する磁性パターン形成方法が開示されている。
【００１０】
また、例えば、特許文献７には、セルフサーボ参照信号を用いて磁気ヘッドを位置決め制御しながら、磁気ヘッドによりバースト信号を記録する工程と、磁気ヘッドの位置を前記バースト信号を記録した位置から微小変化させながら、前記磁気ヘッドにより前記バースト信号を再生すると共に、前記セルフサーボ参照信号の再生によって前記磁気ヘッドの前記磁気ディスクにおける半径方向位置を検出し、前記磁気ヘッドの位置と前記バースト信号の再生信号出力との関係を求める工程と、前記関係に基づいてデータトラックピッチを決定する工程とを実行するデータトラックピッチ決定手段が備えられている磁気ディスク装置が記載されている。
【特許文献１】特開２００４−１６４６９２号公報
【特許文献２】特開２００４−１７８７９３号公報
【特許文献３】特開２００４−１７８７９４号公報
【特許文献４】特開平５−２０５２５７号公報
【特許文献５】特開２００６−２０９９５２号公報
【特許文献６】特開２００６−３０９８４１号公報
【特許文献７】特開２００５−１００６１１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
しかしながら、従来のディスクリートトラック媒体の製造方法では、磁気的に分離された磁性層からなるパターン形状の精度が不十分で歩留まりが低いため、磁性層のパターン形状を精度よく形成することにより、歩留まりを向上させることが要求されていた。磁性層のパターン形状の精度を低下させる主な原因としては、磁性層からなるパターン形状を形成する際に用いられるレジストパターンの厚さのバラツキやエッジダレなどレジストパターンの形状不良が挙げられる。
【００１２】
ここで従来の磁気記録媒体の課題について、図４を用いて説明する。図４は、従来のディスクリート型の磁気記録媒体の一例を説明するための平面図であり、図４（ａ）はディスクリート型の磁気記録媒体の全体を示した模式図であり、図４（ｂ）は図４（ａ）において矩形で示したディスクリート型の磁気記録媒体の一部の領域のみを拡大して示した拡大模式図である。
【００１３】
図４に示す磁気記録媒体４０は、図４（ａ）および図４（ｂ）に示すように、円盤状の基板の一方の表面に、データ領域４１とサーボ情報領域４２とが備えられたものである。なお、図４（ａ）においては、中心から放射状に延びる線で示された領域がサーボ情報領域４２に該当し、放射状の線と線との間の領域がデータ領域４１に該当する。
データ領域４１を構成する磁性層からなるデータ記録パターン４１ａは、磁気記録トラックを構成するものであり、図４（ｂ）に示すように、円環状の規則的な形状とされている。
【００１４】
また、図４（ｂ）に示すように、サーボ情報領域４２には、バースト情報領域４３、アドレス情報領域４４、プリアンブル情報領域４５が備えられている。
バースト情報領域４３には、磁気ヘッドを磁気記録トラックの中央に位置付けさせるためのバースト情報として、バーストパターン４３ａが形成されている。バーストパターン４３ａは、バースト情報領域４３を構成する磁性層からなるものであり、隣接する磁気記録トラック間に設けられた細かなドット状の形状とされている。
【００１５】
また、アドレス情報領域４４には、データ領域４１の番地を示すトラック情報及びセクタ情報を含むアドレス情報として、アドレスパターン４４ａが形成されている。アドレスパターン４４ａは、アドレス情報領域４４を構成する磁性層からなるものであり、データ記録パターン４１ａと直交する方向に延在する不規則な線状の形状とされている。
また、プリアンブル情報領域４５には、磁気記録トラック内でデータ領域４１からサーボ情報領域４２に移る箇所の識別に用いられるプリアンブル情報として、プリアンブルパターン４５ａが形成されている。プリアンブルパターン４５ａは、プリアンブル情報領域４５を構成する磁性層からなるものであり、データ記録パターン４１ａと直交する方向に延在する長さの揃った線状の形状とされている。
【００１６】
図４（ａ）に示す磁気記録媒体４０では、表面上を円周方向に移動する磁気ヘッド（不図示）が、プリアンブル情報領域４５のプリアンブル情報を読み込んでアドレス情報を読み込む準備をし、サーボ情報領域４２において、データ領域４１のアドレス情報を読み込み、同一円周上に設けられたバースト情報領域４３のバースト情報を読み込んでトラック位置の微調整を行い、その後、データ領域４１において情報の読み書きを行うことができるようになっている。
【００１７】
図４（ｂ）に示すように、磁性層からなる各パターン４１ａ、４３ａ、４４ａ、４５ａの密度は、データ領域４１、バースト情報領域４３、アドレス情報領域４４、プリアンブル情報領域４５の各領域で異なっている。このように、ディスクリート型磁気記録媒体４０の磁性層は、ピッチやパターン幅等の相違する複数のパターン形状が混在した複雑な形状を有している。
【００１８】
図４に示す磁気記録媒体４０の製造工程において、磁性層からなるパターン形状を形成する際に用いられるレジストパターンの形状不良の原因としては、レジストの粘度、レジストの硬化温度、硬化時間、湿度、露光時間、露光強度等のさまざまなパターニング条件が挙げられる。これらのパターニング条件は、磁性層のパターン形状に応じて適宜決定される。
【００１９】
しかしながら、図４に示す磁気記録媒体４０のように、磁性層が複数のパターン形状が混在している複雑な形状を有するものである場合、レジストパターンを形成するための最適なパターニング条件を、パターン形状が異なることに起因する精度のバラツキが生じないように最適化することは困難であった。
具体的には例えば、レジストパターンを形成するためのパターニング条件を、データ記録パターン４１ａのパターン形状に対応するように決定すると、バーストパターン４３ａやアドレスパターン４４ａ、プリアンブルパターン４５ａのパターン形状が不完全となってしまう。また、レジストパターンを形成するためのパターニング条件を、バーストパターン４３ａやアドレスパターン４４ａ、プリアンブルパターン４５ａのパターン形状に対応するように決定すると、データ記録パターン４１ａのパターン形状が不完全となってしまう。
【００２０】
このように、磁性層が複雑な形状を有している場合には、レジストパターンを形成するためのパターニング条件を十分に最適化することができず、磁気記録媒体上に形成される磁性層からなるパターン形状の全てを十分に高い精度で形成しうる高精度のレジストパターンを形成することは困難である。したがって、図４に示す従来の磁気記録媒体４０においては、磁性層からなるパターン形状の全てを高精度で形成することは困難であった。
【００２１】
また、図４に示す磁気記録媒体４０では、サーボ情報としてサーボ情報領域４２に磁性層からなるバーストパターン４３ａ、アドレスパターン４４ａ、プリアンブルパターン４５ａが形成されている。このため、磁気ヘッドにより磁気記録媒体４０から読み込まれるサーボ情報の品質は、サーボ情報領域４２に形成された磁性層からなるパターン形状の精度によって変化することになる。
上述したように、図４に示す磁気記録媒体４０においては、磁性層からなるパターン形状の全てを高精度で形成することは困難であるため、サーボ情報領域４２に形成されたパターン形状の精度が不十分となり、高品質なサーボ情報が得られない場合があった。このため、図４に示す磁気記録媒体４０では、磁気ヘッドによる磁気記録媒体４０の読み込み不良や書き込み不良が生じる恐れがあり、サーボ情報の信頼性を向上させることが要求されていた。
【００２２】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、信頼性に優れたサーボ情報が書き込まれたものであり、磁性層からなるパターン形状を形成する際に用いられるレジストパターンを高精度で形成することができ、高精度のレジストパターンを用いて磁性層からなるパターン形状の全てが高精度で形成されることにより歩留まりよく製造できる磁気記録媒体を提供することを課題とする。
また、本発明は、信頼性に優れたサーボ情報が書き込まれ、精度よくレジストパターンを形成することができ、高精度で形成されたレジストパターンを用いて、磁性層のパターン形状を精度よく形成できる歩留まりの高い磁気記録媒体の製造方法を提供することを課題とする。
また、本発明は、本発明の磁気記録媒体を備え、信頼性に優れたサーボ情報が得られ、歩留まりよく製造できる磁気記録再生装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００２３】
本発明者は、レジストパターンの形状不良を改善して、磁性層のパターン形状を精度よく形成するために、以下に示すように、鋭意研究した。
すなわち、本発明者は、磁気記録媒体の磁性層が複雑な形状を有していることが、レジストパターンの形状の精度を低下させる主な原因であることを考慮し、磁性層の形状に着目して検討を重ねた。その結果、本発明者は、情報の読み書きされる磁気的に分離された環状の磁気記録パターンに、磁気的にサーボ情報を書き込むことで、従来の磁気記録媒体においてサーボ情報領域に形成されていた複数のパターン形状を形成しなくて済むようにすれば、磁性層の形状を環状のパターン形状のみからなる単純なものとすることが可能になるとともに、信頼性に優れたサーボ情報が書き込まれたものとすることができることを見出し、本発明を想到した。
【００２４】
すなわち本発明は次の構成を採用する。
（１）非磁性基板上に磁気的に分離された磁性層からなる環状の磁気記録パターンが備えられ、前記磁気記録パターンにサーボ情報が磁気的に書き込まれていることを特徴とする磁気記録媒体。
（２）前記サーボ情報が、バースト情報、アドレス情報、プリアンブル情報から選ばれる少なくとも１つを含むことを特徴とする（１）に記載の磁気記録媒体
【００２５】
（３）非磁性基板上に設けられた磁性層上にレジストパターンを形成し、前記レジストパターンを用いて、磁気的に分離された前記磁性層からなる環状の磁気記録パターンを形成する工程と、磁気ヘッドを用いてサーボ情報を前記磁気記録パターンに磁気的に書き込むサーボ情報書込み工程とを含むことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
（４）前記サーボ情報書込み工程の前に、表面にプリサーボ情報パターンを備えた磁気転写用マスター担体を用いて、前記磁気記録パターンにプリサーボ情報を磁気転写する工程を行い、前記サーボ情報書込み工程において、前記磁気ヘッドに前記磁気記録パターンに磁気転写された前記プリサーボ情報を読み込ませながら、前記磁気ヘッドにより前記磁気記録パターンに前記サーボ情報を書き込ませることを特徴とする（３）に記載の磁気記録媒体の製造方法。
（５）前記プリサーボ情報が、位相差サーボ情報であることを特徴とする（３）または（４）に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【００２６】
（６）磁気記録媒体と、該磁気記録媒体に情報を記録再生する磁気ヘッドとを備えた磁気記録再生装置であって、前記磁気記録媒体が（１）または（２）に記載の磁気記録媒体であることを特徴とする磁気記録再生装置。
【発明の効果】
【００２７】
本発明の磁気記録媒体によれば、非磁性基板上に磁気的に分離された磁性層からなる環状の磁気記録パターンが備えられ、磁気記録パターンにサーボ情報が磁気的に書き込まれているので、磁性層の形状を環状のパターン形状のみからなる単純なものとすることが可能となる。したがって、本発明の磁気記録媒体においては、サーボ情報領域にサーボ情報として磁性層からなるパターンを形成する必要がなく、磁性層からなるパターン形状を形成する際に用いられるレジストパターンを形成するためのパターニング条件を最適化して、高精度のレジストパターンを形成することができる。よって、本発明の磁気記録媒体においては、非磁性基板上に形成される磁性層からなるパターン形状の全てを、高精度のレジストパターンを用いて十分に高い精度で形成できる。その結果、本発明の磁気記録媒体は、歩留まりよく形成できるものとなる。
【００２８】
また、本発明の磁気記録媒体では、磁気記録パターンにサーボ情報が磁気的に書き込まれているので、サーボ情報として磁性層からなるパターンが形成されている場合のように、磁性層からなるパターン形状の精度によってサーボ情報の品質が変化することはなく、信頼性に優れた高精度のサーボ情報が書き込まれたものとすることができる。
【００２９】
また、本発明の磁気記録媒体の製造方法は、非磁性基板上に設けられた磁性層上にレジストパターンを形成し、前記レジストパターンを用いて、磁気的に分離された前記磁性層からなる環状の磁気記録パターンを形成する工程と、磁気ヘッドを用いてサーボ情報を前記磁気記録パターンに磁気的に書き込むサーボ情報書込み工程とを含む方法であるので、サーボ情報領域にサーボ情報として磁性層からなるパターンを形成する必要がなく、磁性層の形状を環状のパターン形状のみからなる単純なものとすることが可能となる。したがって、本発明の磁気記録媒体の製造方法によれば、最適なパターニング条件で高精度のレジストパターンを形成することができ、高精度のレジストパターンを用いて、高精度の磁気記録パターンを形成することが可能となる。その結果、歩留まりよく磁気記録媒体を製造できる。
【００３０】
また、本発明の磁気記録媒体の製造方法では、磁気ヘッドを用いてサーボ情報を前記磁気記録パターンに磁気的に書き込むので、サーボ情報として磁性層からなるパターンを形成する場合のように、磁性層からなるパターン形状の精度によってサーボ情報の品質が変化することはなく、信頼性に優れた高精度のサーボ情報が書き込まれた磁気記録媒体が得られる。
【００３１】
また、本発明の磁気記録再生装置は、本発明の磁気記録媒体を備えたものであるので、磁気ヘッドによって信頼性に優れたサーボ情報が得られるものとなるとともに、歩留まりよく製造できるものとなる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３２】
次に、本発明の磁気記録媒体およびその製造方法、磁気記録再生装置について、図面を参照して詳細に説明する。尚、以下の説明において参照する図面において、図示される各部の大きさや厚さや寸法等は、実際の磁気記録媒体および磁気記録再生装置の寸法関係とは異なっている場合がある。
【００３３】
＜磁気記録媒体＞
まず、本発明の磁気記録媒体について例を挙げて説明する。
図１は、本発明の磁気記録媒体の一例を説明するための平面図であり、図１（ａ）は磁気記録媒体の一部の領域のみを拡大して示した拡大模式図である。また、図１（ｂ）は図１（ａ）に示す磁気記録媒体の製造工程の一部を説明するための工程図であり、図１（ａ）に示された領域と同じ領域のみを拡大して示した拡大平面図である。
また、図２（ｉ）は、図１に示す磁気記録媒体の断面構造を説明するための断面図であり、磁気記録媒体の一部を半径方向から見た拡大模式図である。なお、図２（ｉ）においては、説明を容易にするために基板と磁性層と保護膜層のみを示す。また、図２（ａ）〜図２（ｈ）は、図１に示す磁気記録媒体の製造工程の一部を説明するための工程図であり、図２（ｉ）に示された領域と同じ領域のみを拡大して示した拡大断面図である。
【００３４】
図１（ａ）に示す磁気記録媒体５０は、円盤状の非磁性基板１上に、データ領域５１とサーボ情報領域５２とが備えられたものである。データ領域５１は、磁気記録媒体５０の回転中心から一定角度間隔で磁気記録媒体５０の全面に放射状に形成されており、図１（ａ）に示すように、隣接するデータ領域５１間の領域がサーボ情報領域５２とされている。データ領域５１およびサーボ情報領域５２には、図１（ａ）および図２（ｉ）に示すように、磁気的に分離された磁性層２からなる磁気記録パターン５１ａが備えられている。本実施形態の磁気記録パターン５１ａは、凹部５１ｃと凸部５１ｂとを有するものであり、凹部５１ｃを構成する磁性層２の磁気特性が改質されて非磁性化されていることにより、隣接する凸部５１ｂ間が磁気的に分離されている。凹部５１ｃの幅は１０〜１００ｎｍ程度であることが好ましく、凸部５１ｂの幅は１０〜２００ｎｍ程度であることが好ましい。
ここで、磁性層２が「磁気的に分離されている」とは、少なくとも磁性層２の表面において磁気的に分離されていればよく、磁性層２の底部においては分離されていなくてもよい。
【００３５】
磁気記録パターン５１ａは、円盤状の磁気記録媒体５０の回転中心に対して単純な同心円状の形状を有するものであり、５０ｎｍ程度の幅の磁気記録トラックを構成する円環状の規則的な形状のものである。
サーボ情報領域５２に配置された磁気記録パターン５１ａには、サーボ情報が磁気的に書き込まれている。サーボ情報領域５２に書き込まれているサーボ情報は、バースト情報、アドレス情報、プリアンブル情報から選ばれる少なくとも１つを含むものとすることができる。バースト情報とは、磁気ヘッドを磁気記録トラックの中央に位置付けさせるための情報である。また、アドレス情報とは、データ領域５１の番地を示すトラック情報及びセクタ情報を含む情報であり、プリアンブル情報とは、磁気記録トラック内でデータ領域５１からサーボ情報領域５２に移る箇所の識別に用いられる情報である。
【００３６】
本実施形態においては、サーボ情報領域５２の磁気記録パターン５１ａに書き込まれたバースト情報とアドレス情報とプリアンブル情報とを含むサーボ情報によって、非磁性基板１上に設けられた多数のデータ領域５１が位置付けされている。そして、本実施形態においては、磁気記録媒体５０の表面上を円周方向に移動する磁気ヘッド（不図示）が、サーボ情報領域５２において、対応するデータ領域５１のプリアンブル情報、アドレス情報、バースト情報を読み込み、バースト情報を用いて磁気記録パターン５１ａからなる磁気記録トラック位置に対する磁気ヘッドの位置の微調整を行い、その後、データ領域５１において情報の読み書きを行うことができるようになっている。
【００３７】
ここで、例えば、磁気的に分離された磁性層２からなる磁気記録パターン５１ａに何も情報が書き込まれていない場合、磁気ヘッドを用いてサーボ情報を書き込むためには、磁気記録パターン５１ａからなる幅の狭い磁気記録トラックの中央に、何らかの方法で磁気ヘッドを位置決めする必要がある。また、磁気記録トラックを構成する磁気記録パターン５１ａは、ディスクリート型磁気記録媒体５０の回転中心に対して偏心して形成されている場合があるため、磁気記録トラック位置に対する磁気ヘッドの位置を随時微調整しながら磁気ヘッドを磁気記録トラックの中央の位置に位置合わせする必要がある。加えて、磁気ヘッドにより、磁気記録媒体５０の表面での絶対位置（座標）を検知させ、それに基づいてデータ領域５１の番地を定める必要がある。
【００３８】
また、図１に示す磁気記録媒体５０は、図２（ｉ）に示すように、非磁性基板１上に磁性層２が形成され、磁性層２の上に保護膜層９が形成され、保護膜層９上に潤滑層（図２においては図示略）が形成されているものである。なお、本実施形態においては、保護膜層および潤滑層が設けられている磁気記録媒体を例に挙げて説明するが、保護膜層および潤滑層は設けられていなくてもよい。
【００３９】
非磁性基板１としては、Ａｌを主成分とした例えばＡｌ−Ｍｇ合金等のＡｌ合金基板や、通常のソーダガラス、アルミノシリケート系ガラス、結晶化ガラス類、シリコン、チタン、セラミックス、各種樹脂からなる基板など任意のものを用いることができる。これらの中でも、非磁性基板１として、Ａｌ合金基板や結晶化ガラス等のガラス製基板またはシリコン基板を用いることが好ましい。また、非磁性基板１の平均表面粗さ（Ｒａ）は、１ｎｍ以下、さらには０．５ｎｍ以下であることが好ましく、０．１ｎｍ以下であることがより好ましい。
【００４０】
磁性層２は、Ｃｏを主成分とする合金から形成することが好ましい。また、磁性層２は、面内磁性層であっても垂直磁性層であってもかまわないが、より高い記録密度を実現するためには垂直磁性層であることが好ましい。
例えば、面内磁性層用の磁性層２としては、非磁性のＣｒＭｏ下地層と強磁性のＣｏＣｒＰｔＴａ磁性層とからなる積層構造などを用いることができる。
また、例えば、垂直磁性層用の磁性層２としては、軟磁性のＦｅＣｏ合金（ＦｅＣｏＢ、ＦｅＣｏＳｉＢ、ＦｅＣｏＺｒ、ＦｅＣｏＺｒＢ、ＦｅＣｏＺｒＢＣｕなど）、ＦｅＴａ合金（ＦｅＴａＮ、ＦｅＴａＣなど）、Ｃｏ合金（ＣｏＴａＺｒ、ＣｏＺｒＮＢ、ＣｏＢなど）等からなる裏打ち層と、必要に応じて設けられるＰｔ、Ｐｄ、ＮｉＣｒ、ＮｉＦｅＣｒなどの配向制御膜と、必要に応じて設けられるＲｕ等の中間膜と、６０Ｃｏ−１５Ｃｒ−１５Ｐｔ合金や７０Ｃｏ−５Ｃｒ−１５Ｐｔ−１０ＳｉＯ2合金などからなる磁性膜とからなる積層構造の磁性層などを用いることができる。
【００４１】
磁性層２の膜厚は、磁性層２に用いられる磁性材料の種類や積層構造などに応じて、十分なヘッド出入力が得られる厚みとなるように決定される。磁性層２は、磁気記録媒体５０から情報を再生する際に一定以上の出力を得るために、ある程度以上の膜厚が必要である。しかし、磁気記録再生装置の記録再生特性を表す諸パラメーターは、出力の上昇とともに劣化するのが通例であるため、磁性層２の膜厚を最適に設定する必要がある。具体的には、磁性層２の膜厚は、３ｎｍ以上２０ｎｍ以下とされることが好ましく、５ｎｍ以上１５ｎｍ以下とすることがより好ましい。
【００４２】
保護膜層９としては、Ｄｉａｍｏｎｄ  Ｌｉｋｅ  Ｃａｒｂｏｎなどの炭素（Ｃ）、水素化炭素（ＨxＣ）、窒素化炭素（ＣＮ）、アルモファスカーボン、炭化珪素（ＳｉＣ）等の炭素質層やＳｉＯ2、Ｚｒ2Ｏ3、ＴｉＮなど、通常用いられる保護膜層材料を用いることができる。また、保護膜層９は、２層以上の層から構成されていてもよい。
保護膜層９の膜厚は１０ｎｍ以下とすることが好ましい。保護膜層９の膜厚が１０ｎｍを越えると磁気ヘッドと磁性層２との距離が大きくなり、十分な出入力信号の強さが得られなくなる恐れがある。
【００４３】
また、保護膜層９の上には潤滑層（図示略）を形成することが好ましい。潤滑層に用いる潤滑剤としては、フッ素系潤滑剤、炭化水素系潤滑剤及びこれらの混合物等が挙げられる。潤滑層の厚みは、通常１〜４ｎｍとされる。
【００４４】
＜磁気記録媒体の製造方法＞
次に、本発明の磁気記録媒体の製造方法として、図１（ａ）および図２（ｉ）に示す本実施形態の磁気記録媒体の製造方法を例に挙げて詳細に説明する。
まず、図２（ａ）に示すように、円盤状の非磁性基板１上に、スパッタ法などにより磁性層２を形成する。
次いで、図２（ｂ）に示すように、磁性層２上にマスク層３を形成する。マスク層３は、スパッタリング法やＣＶＤ法などにより成膜することができる。
【００４５】
マスク層３は、Ｔａ、Ｗ、Ｔａ窒化物、Ｗ窒化物、Ｓｉ、ＳｉＯ2、Ｔａ2Ｏ5、Ｒｅ、Ｍｏ、Ｔｉ、Ｖ、Ｎｂ、Ｓｎ、Ｇａ、Ｇｅ、Ａｓ、Ｎｉからなる群から選ばれた何れか一種以上を含む材料で形成することが好ましい。マスク層３の材料としては、上記の材料の中でも、Ａｓ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｇａを用いることが好ましく、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｖ、Ｎｂを用いることがより好ましく、Ｍｏ、Ｔａ、Ｗ、Ｃを用いることが最も好ましい。
マスク層３として、上記の材料からなるものを用いることにより、磁性層２の一部をイオンミリングなどによって除去する工程における磁性層２の遮蔽性に優れたものとなるとともに、マスク層３による磁気記録パターン５１ａの形成精度を向上させることができる。さらに、上記の材料は、酸素ガスなどの反応性ガスを用いたドライエッチング（反応性イオンエッチングまたは反応性イオンミリング）を容易に行うことができるものであるため、磁性層２上にマスク層３を設けることにより、後述するレジスト層を除去する工程における磁性層２上の残留物を減らすことができ、磁性層２の表面の汚染を減少させることができる。
【００４６】
次に、図２（ｃ）に示すように、マスク層３の上にレジスト層４を形成する。レジスト層４は、スピンコート法によりマスク層３上にレジストを塗布する方法などにより形成できる。
レジスト層４は、放射線照射により硬化するレジストからなるものであることが好ましい。なお、ここでの放射線とは、熱線、可視光線、紫外線、Ｘ線、ガンマ線等の広い概念の電磁波である。また、放射線照射により硬化するレジストとしては、例えば、熱線により硬化する熱硬化樹脂、紫外線により効果する紫外線硬化樹脂などが挙げられる。紫外線硬化樹脂としては、例えば、ノボラック系樹脂、アクリル酸エステル類、脂環式エポキシ類等が挙げられる。
【００４７】
次に、マスク層３およびレジスト層４のパターニングを行う。マスク層３およびレジスト層４をパターニングするには、まず、図２（ｄ）に示すように、非磁性基板１上に形成される磁性層２からなる磁気記録パターン５１ａのネガパターンを、レジスト層４に形成する。ここで形成するネガパターンとは、磁気記録パターン５１ａを構成する分離領域（凹部５１ｃ）に対応する領域のレジスト層４に凹部を形成したものである。
【００４８】
レジスト層４にネガパターンを形成する方法としては、通常のフォトリソグラフィー技術を用いてもよいが、レジスト層４にスタンプ５を用いて、パターンの形状を転写する方法を用いることが作業効率の点から好ましい。スタンプ５を用いてレジスト層４にパターンの形状を転写する方法としては、例えば、図２（ｄ）における矢印で示すように、レジスト層４にスタンプ５を所定の圧力で押圧することによりパターンを転写した後、レジスト層４からスタンプ５を分離する方法が挙げられる。
【００４９】
スタンプ５としては、中心に対して同心円状（複数の円環状）のパターンであって、磁気記録パターン５１ａに対応する形状を有するパターンの形成されたものが用いられる。スタンプ５の材料としては、パターンの形状を転写するために必要な硬度および耐久性を有するものであればよく、特に限定されないが、例えばガラスやＮｉ、樹脂などを好ましく使用できる。具体的には、例えば、スタンプ５として、金属プレートに電子線描画などの方法を用いてパターンが形成されたものなどを使用できる。
【００５０】
なお、本実施形態においては、レジスト層４に用いる材料を、放射線照射により硬化する材料とし、レジスト層４にスタンプ５を用いてパターンを転写する工程に際して、または、レジスト層４にパターンを転写する工程の後に、レジスト層４に放射線を照射して、レジスト層４を硬化させることが好ましい。
このような製造方法を用いることにより、レジスト層４に、スタンプ５の形状を精度良く転写することができる。また、後述するマスク層３の一部を除去する工程において、マスク層３のエッジの部分にダレが発生することを防止でき、図２（ｆ）に示す磁性層２の一部を除去する工程におけるマスク層３の遮蔽性を向上させるとともに、磁気記録パターン５１ａの形成精度を向上させることができる。
【００５１】
また、本実施形態の製造方法におけるレジスト層４にスタンプ５を用いてパターンを転写する工程においては、レジスト層４の流動性が高い状態で、レジスト層４にスタンプ５を押圧し、レジスト層４にスタンプ５を押圧した状態でレジスト層４に放射線を照射することによりレジスト層４を硬化させ、その後、スタンプ５をレジスト層４から分離する方法を用いてもよい。このような製造方法とした場合、スタンプ５の形状をより一層精度良く、レジスト層４に転写することができ、好ましい。
また、このような製造方法を用いた場合、スタンプ５の形状を精度良くレジスト層４に転写でき、高精度のレジストパターンを形成することができるので、後述する磁性層２の磁気特性を改質する工程において、磁性層２の保磁力、残留磁化を極限まで低減させることが可能となり、磁気記録の際の書きにじみがなく、高い面記録密度を有する磁気記録媒体を提供することが可能となる。
【００５２】
レジスト層４にスタンプ５を押圧した状態で、レジスト層４に放射線を照射する方法としては、例えば、スタンプ５の反対側、すなわち非磁性基板１側から放射線を照射する方法や、スタンプ５の材料として放射線を透過できる物質を選択し、スタンプ５側から放射線を照射する方法、スタンプ５の側面から放射線を照射する方法、熱線のように固体に対して伝導性の高い放射線を用いて、スタンプ材料または非磁性基板１からの熱伝導により放射線を照射する方法などを用いることができる。
中でも特に、レジスト材料として紫外線硬化樹脂を用いるとともに、スタンプ材料として紫外線の透過性に優れたガラスや樹脂を用い、レジスト層４にスタンプ５を押圧した状態で、スタンプ５側から紫外線を照射することにより、レジスト層４を硬化させることが好ましい。
【００５３】
次に、図２（ｄ）に示すネガパターンを形成した後に残ったレジスト層８と、磁気記録パターン５１ａの凹状の分離領域（凹部５１ｃ）に対応する領域のマスク層３とを除去する。このことにより、図２（ｅ）に示すように、磁性層２上の凸部５１ｂとなる領域に残存するマスク層３と、パターニングされたレジスト層４であるレジストパターン４ａとからなるマスクが形成される。
【００５４】
スタンプ５を用いてネガパターンを形成した後に残ったレジスト層８は、反応性イオンエッチング、イオンミリングなどのドライエッチングにより除去できる。
ネガパターンを形成した後に残ったレジスト層８の厚みは０〜１０ｎｍの範囲内であることが好ましい。レジスト層８の厚みを上記範囲とすることで、磁気記録パターン５１ａの凹状の分離領域（凹部５１ｃ）に対応する領域のマスク層３を除去する工程において、マスク層３のエッジの部分にダレが発生することを防止でき、図２（ｆ）に示す磁性層２の一部を除去する工程におけるマスク層３の遮蔽性を向上させるとともに、磁気記録パターン５１ａの形成精度を向上させることができる。
また、磁気記録パターン５１ａの凹状の分離領域（凹部５１ｃ）に対応する領域のマスク層３は、例えば、反応性イオンエッチング、イオンミリングなどのドライエッチングにより除去できる。
【００５５】
次に、図２（ｆ）に示すように、マスク層３が除去されて露出した磁気記録パターン５１ａにおける凹状の分離領域（凹部５１ｃ）となる領域の磁性層２の表層部を０．１ｎｍ〜１５ｎｍの範囲内の深さｄで、例えばイオンミリングのミリングイオン６などによって除去する。ここで、磁性層２の表層の一部を除去する深さｄは、０．１ｎｍ〜１５ｎｍの範囲内とすることが好ましく、１〜１０ｎｍの範囲内とすることがより好ましい。磁性層２の表層を除去する深さｄが０．１ｎｍより小さいと、磁性層２を除去する効果が十分に得られない恐れがある。また、磁性層２の表層を除去する深さｄが１５ｎｍより大きいと、磁気記録媒体５０の表面の平滑性が悪化して、磁気記録媒体５０を用いた磁気記録再生装置における磁気ヘッドの浮上特性を低下させてしまう恐れがある。
【００５６】
本実施形態のように、マスク層３が除去されて露出した磁性層２の磁気特性を改質する工程の前に、磁性層２の表層の一部を除去した場合、磁性層２の表層の一部を除去しないで磁性層２の磁気特性を改質した場合と比較して、磁気記録パターン５１ａのコントラストがより鮮明になるとともに、磁気記録媒体５０のＳ／Ｎを向上させることができる。この理由は、磁性層２の表層の一部を除去することにより、マスク層３が除去されて露出した磁性層２の表面の清浄化・活性化が図られて、磁性層２の磁気特性を改質する際における反応性プラズマや反応性イオンと磁性層２との反応性が高められるとともに、磁性層２の表層に空孔等の欠陥が導入されて、磁性層２の磁気特性を改質する際に表層の欠陥を通じて磁性層２に反応性イオンが侵入しやすくなったためと考えられる。
【００５７】
次に、図２（ｆ）に示すように、表層部の除去された領域７の磁性層２を反応性プラズマや反応性イオンにさらして、磁性層２の磁気特性を改質する。磁性層２の磁気特性の改質された領域は、磁気記録パターン５１ａからなる複数の磁気記録トラックをそれぞれ磁気的に分離する領域となる。
ここで、磁気記録パターン５１ａを形成するための磁性層２の改質とは、磁性層２をパターン化するために、磁性層２の保磁力や残留磁化等の磁気特性を部分的に変化させることを意味する。本実施形態においては、磁性層２を改質することにより、磁性層２の保磁力を低下させるととともに、残留磁化を低下させる。
【００５８】
磁性層２の磁気特性を改質する際に用いられる反応性プラズマとしては、誘導結合プラズマ（ＩＣＰ；Ｉｎｄｕｃｔｉｖｅｌｙ  Ｃｏｕｐｌｅｄ  Ｐｌａｓｍａ）や反応性イオンプラズマ（ＲＩＥ；Ｒｅａｃｔｉｖｅ  Ｉｏｎ  Ｐｌａｓｍａ）などが例示できる。
誘導結合プラズマは、気体に高電圧をかけることによってプラズマ化し、そのプラズマ内部に高周波数の変動磁場によって渦電流によるジュール熱を発生させることによって得られる高温のプラズマである。誘導結合プラズマは電子密度が高く、従来のイオンビームを用いる場合と比較して、広い面積の磁性膜の磁気特性の改質を高い効率で実現できる。
【００５９】
反応性イオンプラズマは、プラズマ中にＯ2、ＳＦ6、ＣＨＦ3、ＣＦ4、ＣＣｌ4等の反応性ガスを加えた反応性の高いプラズマである。反応性イオンプラズマを用いることにより、磁性膜２の磁気特性の改質をより高い効率で実現することができる。
また、磁性層２の磁気特性を改質する反応性イオンとしては、前述の誘導結合プラズマや反応性イオンプラズマ内に存在する反応性のイオンなどが挙げられる。
【００６０】
なお、本発明の磁気記録媒体の製造方法は、上述した実施形態に限定されるものではない。例えば、上述した実施形態においては、磁性層２の表層の一部を改質することにより磁気的に分離された磁性層を形成したが、磁性層を物理的に加工して磁性層に凹部を形成し、凹部内を非磁性材料で埋めた後、磁気記録媒体の表面を平滑化する方法によって磁気的に分離された磁性層を形成してもよい。
【００６１】
このようにして磁性層２の一部の磁気特性を改質した後、図２（ｇ）に示すように、磁性層２の上に設けられているレジストパターン４ａおよびマスク層３を除去する。レジストパターン４ａおよびマスク層３は、ドライエッチング、反応性イオンエッチング、イオンミリング、湿式エッチングなどの手法を用いて除去することが好ましい。
【００６２】
レジストパターン４ａおよびマスク層３を除去した後、図２（ｈ）に示すように、磁性層２にＡｒなどの不活性ガス１１を照射して、磁性層２の表層部を１〜２ｎｍの範囲内でエッチング除去することが好ましい。このことにより、磁性層２の一部の磁気特性を改質することによって磁性層２の表面が粗面化されている場合であっても、粗面化された磁性層２の表面を除去することができる。
【００６３】
次いで、図２（ｉ）に示すように、磁性層２上に保護膜層９を形成することが好ましい。通常、保護膜層９はスパッタ法もしくはＣＶＤ法により形成される。
さらに、保護膜層９の上には潤滑層（図示略）を形成することが好ましい。
【００６４】
続いて、磁気転写用マスター担体を用いて、磁気記録媒体５０の磁気記録パターン５１ａにプリサーボ情報を磁気転写する。プリサーボ情報は、磁気記録媒体５０の磁気記録パターン５１ａからなる磁気記録トラックの中央に、磁気ヘッドが位置決めできるようにする情報であり、磁気ヘッドにより磁気記録媒体５０の表面における磁気ヘッドの絶対位置を検知可能とする情報である。
【００６５】
本実施形態においては、図１（ｂ）に示すように、磁気記録媒体５０のデータ領域５１の磁気記録パターン５１ａに、プリサーボ情報パターンとして位相差サーボ情報パターン５５ａを形成することにより、プリサーボ情報として位相差サーボ情報を磁気転写した。なお、図１（ｂ）においては、図面を見やすくするために、データ領域５１およびサーボ情報領域５２に設けられている磁気記録パターン５１ａの図示を省略して示している。
位相差サーボ情報は、磁気記録媒体５０の半径方向に変化する位相差サーボ情報パターン５５ａの線状パターンの間隔によって定まる断続的な信号の位相によって、磁気記録パターン５１ａの磁気記録トラック内における磁気ヘッドの位置を検知する情報である。
なお、本実施形態においては、プリサーボ情報として位相差サーボパターンを形成したが、プリサーボ情報は位相差サーボパターンに限定されるものではなく、磁気記録媒体に形成されているトラック位置への正確な位置合わせが不要であって容易に位置合わせできるサーボパターンであれば、位相差サーボパターン以外のものであってもプリサーボ情報として使用できる。
【００６６】
図１（ｂ）に示すように、位相差サーボ情報パターン５５ａは、磁気記録媒体５０のプリサーボ情報領域５５の磁気記録パターン５１ａに形成されている。プリサーボ情報領域５５は、データ領域５１の円周方向両側に配置されているサーボ情報領域５２との境界の一方に接する領域である。プリサーボ情報領域５５の数は特に限定されないが、例えば、半径方向に２５５箇所設けることができる。
位相差サーボ情報パターン５５ａは、図１（ｂ）に示すように、円周方向および半径方向に対して交差する方向に傾斜されて形成された複数の線状パターンからなる。位相差サーボ情報パターン５５ａを構成する複数の線状パターンの傾斜方向は、磁気ヘッドのインライン角（磁気ヘッドとピボット（磁気ヘッドの回転中心）を結ぶ線と、ヘッドスライダがなす角）の方向とされており、磁気ヘッドのスキュー角（円周方向に対する磁気ヘッドの傾き角）の方向に対して僅かに傾斜されて形成されている。また、線状パターンの間隔は、磁気記録媒体５０の円周方向では均一であるが、磁気記録媒体５０の半径方向では異なるものとなっており、中心から外側に向かうにつれて徐々に大きくなっている。
【００６７】
本実施形態においては、磁気転写用マスター担体として、磁気記録媒体５０に接する側の表面にプリサーボ情報パターンである位相差サーボ情報パターンを備えたものが用いられる。磁気転写用マスター担体には、位相差サーボ情報パターンとして、磁気記録媒体５０に設けられる図１（ｂ）に示す位相差サーボ情報パターン５５ａに対応するパターン形状が刻印されている。
磁気転写用マスター担体の材料としては、位相差サーボ情報パターンのパターン形状を磁気記録媒体５０に磁気転写するために必要な硬度および耐久性を有するものであればよく、特に限定されないが、例えば、Ｓｉ、ガラス、セラミックス、あるいはＮｉなどを好ましく使用できる。
【００６８】
磁気転写用マスター担体の表面に位相差サーボ情報パターンを刻印する方法としては、特に限定されないが、磁気転写用マスター担体となる材料に、薄膜形成技術により、磁気記録媒体５０の位相差サーボ情報パターン５５ａに対応する形状で、ＦｅＣｏ、ＣｏＮｉといった高透磁率材料からなる軟磁性体やＦｅＰｔなどのからなる強磁性体を埋め込む方法などを用いることができる。
なお、磁気転写用マスター担体の表面に埋め込まれる軟磁性体や強磁性体は、磁気転写用マスター担体の表面と同じ高さとなるように埋め込んでもよいし、磁気転写用マスター担体の表面に軟磁性体や強磁性体を埋め込んだ後、必要に応じて、磁気記録媒体５０に接する側の表面を精密研磨して、磁気転写用マスター担体の表面と、埋め込まれた軟磁性体や強磁性体の高さとが同じ高さとなるようにしてもよい。
【００６９】
また、磁気転写用マスター担体の表面に位相差サーボ情報パターンを刻印する方法は、ニッケルなどからなる金属プレートに電子線描画などの方法を用いて形成する方法であってもよい。
また、磁気転写用マスター担体の磁気記録媒体５０に接する側の表面には、潤滑材を塗布してなる潤滑層が設けられていてもよい。
【００７０】
本実施形態においては、磁気記録媒体５０の磁気記録パターン５１ａに磁気転写されるプリサーボ情報として位相差サーボ情報を用いているため、磁気転写用マスター担体の表面に形成されるプリサーボ情報パターンとして、図１（ｂ）に示す位相差サーボ情報パターン５５ａに対応する位相差サーボ情報パターンが形成されている。
磁気記録パターン５１ａに磁気転写される位相差サーボ情報パターン５５ａは、円周方向および半径方向と交差する方向に傾斜されて形成された複数の線状パターンからなる単純な形状を有するものである。また、磁気記録パターン５１ａは、磁気記録媒体５０の回転中心に対して単純な同心円状である円環状のものである。このため、本実施形態においては、磁気転写用マスター担体の中心と磁気記録媒体５０の中心とを一致させるだけで、磁気転写用マスター担体と磁気記録媒体５０との位置合わせ行うことができ、磁気記録媒体５０の円周方向における位置合わせを行う必要はない。したがって、磁気記録媒体５０の磁気記録パターン５１ａにプリサーボ情報（位相差サーボ情報）を磁気転写する際に、磁気記録パターン５１ａと磁気転写用マスター担体の表面に形成された位相差サーボ情報パターンとの位置合わせを行う必要はない。よって、プリサーボ情報として位相差サーボ情報を用いた場合、磁気転写用マスター担体を用いて磁気記録媒体５０の磁気記録パターン５１ａに、容易にプリサーボ情報を磁気転写することができる。
【００７１】
本実施形態において、磁気転写用マスター担体を用いて、磁気記録媒体５０の磁気記録パターン５１ａに位相差サーボ情報を磁気転写するには、まず、磁気記録媒体５０に対する磁気転写用マスター担体の位置を位置合わせして、磁気記録媒体５０の表面と磁気転写用マスター担体とを接触させる。そして、磁気転写用マスター担体の裏面側から磁気記録媒体５０と磁気転写用マスター担体との当接面に垂直な方向に直流磁界を印加する。このことにより、磁気記録媒体５０のプリサーボ情報領域５５の磁気記録パターン５１ａに位相差サーボ情報パターン５５ａが形成され、磁気転写用マスター担体から磁気記録媒体５０の磁気記録パターン５１ａに位相差サーボ情報が磁気転写される。
なお、本実施形態において用いられる磁気転写用マスター担体は、磁性を有している必要はない。磁気転写用マスター担体が、透磁性を有する材料である場合には、磁気転写用マスター担体を磁気記録媒体５０の表面に接触させた状態で、磁気転写用マスター担体の裏面側から磁界を印加することにより、磁気転写用マスター担体に形成されている位相差サーボ情報パターンを磁気記録媒体５０の磁気記録パターン５１ａに転写できる。
【００７２】
次に、磁気記録媒体５０の磁気記録パターン５１ａに磁気転写されたプリサーボ情報（位相差サーボ情報）を磁気ヘッドに読み込ませながら、同時に、磁気ヘッドにより読み込んだプリサーボ情報と同一の磁気記録トラックのサーボ情報領域５２の磁気記録パターン５１ａに磁気的に、バースト情報、アドレス情報、プリアンブル情報から選ばれる少なくとも１つを含むサーボ情報を書き込ませる。すなわち、磁気ヘッドにプリサーボ情報を読み込ませることで、プリサーボ情報に基づいて磁気ヘッドに磁気記録媒体５０の表面における自らの絶対位置を検知させ、磁気記録パターン５１ａからなる磁気記録トラックの中央に磁気ヘッドを位置決めさせるとともに、磁気記録媒体５０の表面のサーボ情報領域５２にサーボ情報を書き込ませる。
なお、磁気記録パターン５１ａにサーボ情報を書き込む際には、磁気ヘッドを備える周知のサーボライターを用いることができる。
【００７３】
本実施形態においては、磁気記録パターン５１ａにサーボ情報を書き込んだ後、磁気記録媒体５０のプリサーボ情報領域５５に刻印された位相差サーボ情報パターン５５ａを消去して、磁気記録パターン５１ａからプリサーボ情報（位相差サーボ情報）を消去することが好ましい。このことにより、プリサーボ情報領域５５の磁気記録パターン５１ａをデータ領域５１として使用することができるものとなる。
プリサーボ情報は、磁気記録パターン５１ａにサーボ情報を書き込む際に用いられるものであり、磁気記録パターン５１ａにサーボ情報を書き込んだ後は不要である。このため、上述したように、磁気記録パターン５１ａにサーボ情報を書き込んだ後、磁気記録パターンに磁気転写されたプリサーボ情報を消去して、磁気記録媒体５０上のデータ領域５１として使用可能な面積を広くすることが好ましいが、製造工程を簡略化するためにプリサーボ情報を消去しなくてもよい。
このようにして、図１〜図３に示すディスクリート型磁気記録媒体４０が製造される。
【００７４】
なお、上述した実施形態においては、磁気転写用マスター担体として、プリサーボ情報パターンが刻印されたものを用いる場合を例に挙げて説明したが、磁気転写用マスター担体として、プリアンブルパターン、アドレスパターン、バーストパターンが刻印されたものを用いてもよい。この場合、磁気ヘッドによりサーボ情報領域５２の磁気記録パターン５１ａに磁気的にサーボ情報を書き込ませる必要は無く、製造工程を簡略化することができる。
しかしながら、磁気転写用マスター担体として、プリアンブルパターン、アドレスパターン、バーストパターンが刻印されたものを用いた場合、磁気転写するためには、磁気転写用マスター担体に刻印されているパターンと、狭い間隔で同心円状に形成された円環状の磁気記録パターン５１ａとの位置を一致させる位置合わせを行う必要がある。このため、磁気転写用マスター担体として、プリアンブルパターン、アドレスパターン、バーストパターンが刻印されたものを用いた場合、磁気転写用マスター担体として、プリサーボ情報パターンが刻印されたものを用いる場合と比較して、磁気転写するための位置合わせが技術的に難しいものとなり、磁気記録媒体５０に対する磁気転写用マスター担体の位置合わせの精度が不十分となる恐れがある。
【００７５】
本実施形態の磁気記録媒体５０は、非磁性基板１上に磁気的に分離された磁性層２からなる環状の磁気記録パターン５１ａが備えられ、磁気記録パターン５１ａにサーボ情報が磁気的に書き込まれているので、磁性層２の形状を環状のパターン形状のみからなる単純なものとすることが可能となる。
したがって、本実施形態の磁気記録媒体５０においては、サーボ情報領域にサーボ情報として磁性層からなるパターンを形成する必要がない。よって、磁性層２からなるパターン形状を形成する際に用いられるレジストパターン４ａを形成するためのパターニング条件を最適化して、高精度のレジストパターン４ａを形成することができる。その結果、非磁性基板１上に形成される磁性層２からなるパターン形状の全てを、高精度のレジストパターンを用いて十分に高い精度で歩留まりよく形成できる。
【００７６】
また、本実施形態の磁気記録媒体５０では、磁気記録パターン５１ａにサーボ情報が磁気的に書き込まれているので、サーボ情報として磁性層からなるパターンが形成されている場合のように、磁性層からなるパターン形状の精度によってサーボ情報の品質が変化することはなく、高精度で信頼性に優れたサーボ情報が書き込まれたものなる。
【００７７】
また、本実施形態の磁気記録媒体５０の製造方法は、非磁性基板１上に設けられた磁性層２上にレジストパターン４ａを形成し、レジストパターン４ａを用いて、磁気的に分離された磁性層２からなる環状の磁気記録パターン５１ａを形成する工程と、磁気ヘッドを用いてサーボ情報を磁気記録パターン５１ａに磁気的に書き込むサーボ情報書込み工程とを含む方法であるので、サーボ情報領域にサーボ情報として磁性層からなるパターンを形成する必要がなく、最適なパターニング条件でレジストパターン４ａを形成することができ、高精度のレジストパターン４ａを形成することができる。
したがって、本実施形態の磁気記録媒体５０の製造方法によれば、高精度のレジストパターン４ａを用いて、高精度の磁気記録パターン５１ａを形成することができ、歩留まりよく製造できる。
【００７８】
また、本実施形態の磁気記録媒体５０の製造方法では、サーボ情報を磁気記録パターン５１ａに磁気的に書き込む前に、表面にプリサーボ情報パターンを備えた磁気転写用マスター担体を用いて、磁気記録パターン５１ａにプリサーボ情報を磁気転写する工程を行い、サーボ情報を磁気記録パターン５１ａに磁気的に書き込む工程において、磁気ヘッドに磁気記録パターン５１ａに磁気転写されたプリサーボ情報を読み込ませながら、磁気ヘッドにより磁気記録パターン５１ａにサーボ情報を書き込ませるので、磁気記録パターン５１ａにプリサーボ情報が磁気転写されていない場合と比較して、容易に高速で精度よく磁気記録パターン５１ａにサーボ情報の書き込みを行うことができる。
【００７９】
また、本実施形態の磁気記録媒体５０の製造方法では、プリサーボ情報が、位相差サーボ情報であるので、円周方向および半径方向と交差する方向に傾斜されて形成された複数の線状パターンからなる単純な形状を有する位相差サーボ情報パターンを備えた磁気転写用マスター担体を用いて、磁気記録パターン５１ａに位相差サーボ情報を磁気転写することにより、磁気記録パターンにプリサーボ情報を磁気転写することができる。
このため、磁気転写用マスター担体の中心と磁気記録媒体５０の中心とを一致させるだけで、磁気転写用マスター担体と磁気記録媒体５０との位置合わせ行うことができ、磁気転写用マスター担体を用いて磁気記録媒体５０の磁気記録パターン５１ａに、容易にプリサーボ情報を磁気転写することができる。
【００８０】
＜磁気記録再生装置＞
次に、本発明の磁気記録再生装置について例を挙げて説明する。
図３は、本発明の磁気記録再生装置の一例であるハードディスクドライブを示した概略斜視図である。図３に示すハードディスクドライブは、図１に示すディスクリート型の磁気記録媒体５０と、磁気記録媒体５０を記録方向に駆動する媒体駆動部３４と、記録部と再生部とを備える磁気ヘッド２７と、磁気ヘッド２７を磁気記録媒体５０に対して相対運動させるヘッド駆動部２８と、磁気ヘッド２７への信号入力と磁気ヘッド２７からの出力信号再生を行うための記録再生信号系２９（記録再生信号処理手段）とを具備するものである。
【００８１】
本実施形態のハードディスクドライブは、図１に示すディスクリート型の磁気記録媒体５０を備えたものであるので、磁気ヘッド２７によって信頼性に優れたサーボ情報が得られるものとなるとともに、歩留まりよく製造できるものとなる。
【実施例】
【００８２】
以下、実施例を示して本発明を具体的に説明する。
（実施例）
まず、真空チャンバ内に、円盤状のハードディスク（ＨＤ）用のガラス基板を設置して、１．０×１０―５Ｐａ以下に真空排気した。なお、ガラス基板としては、Ｌｉ2Ｓｉ2Ｏ5、Ａｌ2Ｏ3−Ｋ2Ｏ、Ａｌ2Ｏ3−Ｋ2Ｏ、ＭｇＯ−Ｐ2Ｏ5、Ｓｂ2Ｏ3−ＺｎＯを構成成分とする結晶化ガラスからなり、外径６５ｍｍ、内径２０ｍｍ、平均表面粗さ（Ｒａ）２オングストロームのものを用いた。
【００８３】
該ガラス基板にＤＣスパッタリング法を用いて、ＦｅＣｏＢ軟磁性膜からなる裏打ち層と、Ｒｕからなる中間層と、７０Ｃｏ−５Ｃｒ−１５Ｐｔ−１０ＳｉＯ2合金からなる磁性膜とをこの順で積層してなる磁性層を形成した。続いて、スパッタ法を用いて、磁性層上にＴａからなるマスク層を積層し、マスク層の上にスピンコート法によりレジストを塗布し、紫外線硬化樹脂であるノボラック系樹脂からなるレジスト層を形成した。
それぞれの層の膜厚は、裏打ち層６０ｎｍ、中間層１０ｎｍ、磁性膜１５ｎｍ、マスク層６０ｎｍ、レジスト層１００ｎｍとした。
【００８４】
次いで、磁気記録媒体の磁気記録パターンに対応するパターンの形成された紫外線透過率９５％以上のガラスからなるスタンプを、レジスト層に１ＭＰａ（約８．８ｋｇｆ／ｃｍ2）の圧力で押圧することによりパターンを転写した。続いて、波長２５０ｎｍの紫外線をスタンプの上部から１０秒間照射して、レジスト層を硬化させた。その後、レジスト層からスタンプを分離した。
このようにして転写された磁気記録パターンに対応するレジスト層のネガパターンは、凸部の幅が１２０ｎｍ、凹部の幅が６０ｎｍの円環状であった。
【００８５】
次に、ネガパターンを形成した後に凹部に残っていたレジスト層をドライエッチングにより除去した。ドライエッチング条件は、Ｏ2ガスを４０ｓｃｃｍ、圧力０．３Ｐａで高周波プラズマ電力３００Ｗ、ＤＣバイアス３０Ｗ、エッチング時間１０秒とした。
その後、レジスト層を除去して露出した磁気記録パターンの凹状の分離領域に対応する領域のマスク層をドライエッチングにより除去した。ドライエッチング条件は、ＣＦ4ガスを５０ｓｃｃｍ、圧力０．６Ｐａ、高周波プラズマ電力５００Ｗ、ＤＣバイアス６０Ｗ、エッチング時間３０秒とした。このことにより、磁性層上の凸部となる領域に残存するマスク層と、パターニングされたレジスト層であるレジストパターンとからなるマスクを形成した。
【００８６】
その後、マスク層が除去されて露出した磁性層の表層部をイオンミリングにより除去した。イオンミリングにはＡｒイオンを用いた。イオンミリングにおけるイオンの量は５×１０１６原子／ｃｍ2、加速電圧は２０ｋｅＶとした。また、イオンミリングにより除去された磁性層の表層の深さは０．１ｎｍであった。
【００８７】
次に、表層部の除去された領域の磁性層を反応性プラズマにさらして磁性層の磁気特性を改質した。ここでの反応性プラズマ処理には、アルバック社の誘導結合プラズマ装置ＮＥ５５０を用いた。また、プラズマの発生に用いるガスおよび条件としては、Ｏ2を９０ｃｃ／分を用い、プラズマ発生のための投入電力は２００Ｗ、装置内の圧力は０．５Ｐａとし、磁性層を３００秒間処理した。
【００８８】
磁性層の磁気特性を改質した後、磁性層の上に設けられているレジストパターンおよびマスク層をドライエッチングにより除去し、磁気記録パターンを露出させた。
その後、磁気記録パターンの露出された表面上に、ＣＶＤ法によりカーボンからなる厚み５ｎｍの保護膜層を形成した。続いて、保護膜層の上に、潤滑材を塗布して潤滑層を形成した。
【００８９】
続いて、磁気転写用マスター担体を用いて、磁気記録媒体の半径方向に２５５箇所設けられた各プリサーボ情報領域の磁気記録パターンに、位相差サーボ情報パターンを形成することにより、プリサーボ情報である位相差サーボ情報を磁気転写した。位相差サーボ情報パターンは、磁気ヘッドのスキュー角（円周方向に対する磁気ヘッドの傾き角）の方向に対して僅かに傾斜されて形成された線状パターンからなるものであり、線状パターンの幅が約２μｍであるものとした。
【００９０】
磁気転写用マスター担体としては、以下に示す方法により形成されたものを用いた。すなわち、Ｓｉからなる非磁性体基板の一方の主面上に、フォトリソグラフィー技術及びエッチング技術を用いて、深さ０．２μｍの凹部からなる位相差サーボ情報パターンを形成した後、位相差サーボ情報パターンの形成されている表面に、スパッタリング法でＦｅＰｔからなる強磁性層を成膜し、表面をエッチングして平坦化することにより形成した。
【００９１】
そして、磁気転写用マスター担体の中心と磁気記録媒体の中心とを一致させることにより、磁気記録媒体に対する磁気転写用マスター担体の位置を位置合わせし、磁気転写用マスター担体を磁気記録媒体の表面に接触させて磁界印加装置により、磁気転写用マスター担体の裏面側から磁気記録媒体と磁気転写用マスター担体との当接面に垂直な方向に直流磁界を印加した。このことにより、磁気記録媒体のプリサーボ情報領域の磁気記録パターンに位相差サーボ情報パターンが形成され、磁気転写用マスター担体から磁気記録媒体の磁気記録パターンにプリサーボ情報として位相差サーボ情報が磁気転写された。
【００９２】
その後、位相差サーボ情報の磁気転写された磁気記録媒体をサーボライターに設置し、サーボライターの磁気ヘッドに位相差サーボ情報を読み込ませながら、同時に、磁気ヘッドにより読み込んだ位相差サーボ情報と同一の磁気記録トラックのサーボ情報領域の磁気記録パターンに磁気的に、サーボ情報としてプリアンブル情報（幅約０．５μｍ）、アドレス情報（幅約１μｍ）、バースト情報（幅約０．５μｍ）をこの順で書き込んだ。その後、位相差サーボ情報を磁気的に消去し、位相差サーボ情報の書き込まれていた領域であるプリサーボ情報領域を、データ領域とした。
【００９３】
以上の方法で製造した磁気記録媒体について、保磁力量、電磁変換特性（ＳＮＲおよび３Ｔ−ｓｑｕａｓｈ）、ヘッド浮上高さ（グライドアバランチ）を測定した。
電磁変換特性の評価はスピンスタンドを用いて実施した。なお、評価用の磁気ヘッドには、記録用として垂直記録ヘッド、読み込み用としてＴｕＭＲヘッド（Tunneling Magneto Resistive head）を用い、７５０ｋＦＣＩの信号を記録したときのＳＮＲ値および３Ｔ−ｓｑｕａｓｈを測定した。ここで、３Ｔ−ｓｑｕａｓｈ（３トラックスカッシュ）とは、センタートラックに信号を記録した後、センターの両隣に信号を記録し、両隣に信号を記録する前と後とにおけるセンタートラックの信号強度（割合（％））である。
【００９４】
その結果、上記の方法により製造された磁気記録媒体は、ＳＮＲが１３．５ｄＢ、３Ｔ−ｓｑｕａｓｈが８５％であり、電磁変換特性に優れていた。
また、保磁力量は３８００（Ｏｅ）であり、ヘッド浮上高さは６ｎｍであった。
【産業上の利用可能性】
【００９５】
本発明によれば、高い製造歩留まりで磁気記録パターンを有する磁気記録媒体を製造することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００９６】
【図１】図１は、本発明の磁気記録媒体の一例を説明するための平面図であり、図１（ａ）は磁気記録媒体の一部の領域のみを拡大して示した拡大模式図である。また、図１（ｂ）は図１（ａ）に示す磁気記録媒体の製造工程の一部を説明するための工程図であり、図１（ａ）に示された領域と同じ領域のみを拡大して示した拡大平面図である。
【図２】図２（ｉ）は、図１に示す磁気記録媒体の断面構造を説明するための断面図であり、磁気記録媒体の一部を半径方向から見た拡大模式図である。また、図２（ａ）〜図２（ｈ）は、図１に示す磁気記録媒体の製造工程の一部を説明するための工程図であり、図２（ｉ）に示された領域と同じ領域のみを拡大して示した拡大断面図である。
【図３】図３は、本発明の磁気記録再生装置の一例であるハードディスクドライブを示した概略斜視図である。
【図４】図４は、従来のディスクリート型の磁気記録媒体の一例を説明するための平面図であり、図４（ａ）はディスクリート型の磁気記録媒体の全体を示した模式図であり、図４（ｂ）は図４（ａ）において矩形で示したディスクリート型の磁気記録媒体の一部の領域のみを拡大して示した拡大模式図である。
【符号の説明】
【００９７】
１…非磁性基板、２…磁性層、３…マスク層、４…レジスト層、４ａ…レジストパターン、５…スタンプ、６…ミリングイオン、８…レジスト層、９…保護膜層、１１…不活性ガス、２７…磁気ヘッド、２８…ヘッド駆動部、２９…記録再生信号系、３４…媒体駆動部、４０、５０…磁気記録媒体、４１、５１…データ領域、４１ａ…データ記録パターン、４２、５２…サーボ情報領域、４３…バースト情報領域、４３ａ…バーストパターン、４４…アドレス情報領域、４４ａ…アドレスパターン、４５…プリアンブル情報領域、４５ａ…プリアンブルパターン、５１ａ…磁気記録パターン、５１ｂ…凸部、５１ｃ…凹部、５５…プリサーボ情報領域、５５ａ…位相差サーボ情報パターン。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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