(57)【要約】【課題】透過率が高く、接着強度が高い、バリアパネルやタッチパネルなどの機能パネルが表示パネルの表面に接着された表示装置及びその製造方法を提供すること。【解決手段】本発明の表示装置１０Ａは、表示パネル（液晶表示パネル）１１と機能パネル（バリアパネル）１２とが積層された構造を有し、表示パネル１１と機能パネル１２は表示領域及び非表示領域の全面が接着剤１３により接着され、表示パネル１１及び機能パネル１２の少なくとも一方の非表示領域のみ、接着面Ｆ１、Ｆ２が粗面化されていることを特徴とする。【選択図】  図５
2010262199.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示パネルと機能パネルとが積層された構造を有する表示装置であって、
前記表示パネルと前記機能パネルは表示領域及び非表示領域の全面が接着剤により接着
され、
前記表示パネル及び前記機能パネルの少なくとも一方の非表示領域のみ、粗面化されて
いることを特徴とする表示装置。
【請求項２】
前記機能パネルは、タッチパネル、複数の画像を異なる視方向に判別可能にするバリア
パネル又は３Ｄ表示用のバリアパネルであることを特徴とする請求項１に記載の表示装置
。
【請求項３】
表示パネルと機能パネルとが積層され、前記表示パネル及び前記機能パネルは表示領域
及び非表示領域の全面が接着剤により接着されている表示装置の製造方法であって、
前記表示パネル及び前記機能パネルの少なくとも一方の前記非表示領域のみを粗面化す
る工程、
前記表示パネル及び前記機能パネルの少なくとも一方の全面に亘って接着剤を貼付する
工程、
前記表示パネル及び前記機能パネルを前記接着剤を介して貼り合わせる工程、
を有することを特徴とする表示装置の製造方法。
【請求項４】
前記表示パネル及び前記機能パネルの少なくとも一方の前記非表示領域のみを粗面化す
る工程は、
前記表示パネル及び前記機能パネルの少なくとも一方の表示領域の全面に保護層を形成
した後、前記非表示領域のみを粗面化し、その後に前記保護層を剥離する工程を備えるこ
とを特徴とする請求項４に記載の表示装置の製造方法。
【請求項５】
前記粗面化工程はフロスト加工工程であることを特徴とする請求項４又は５に記載の表
示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、バリアパネルやタッチパネルなどの機能パネルが表示パネルの表面に接着さ
れた表示装置及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
フラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ：Flat Panel Display）は、ＣＲＴ（陰極線管）
と比較して軽量、薄型、低消費電力という特徴があるため、表示用として携帯電話装置、
パーソナルコンピューター、テレビジョン、ナビゲーション装置など多くの電子機器に使
用されている。これらのＦＰＤとしては、液晶表示パネル、有機ＥＬ（エレクトロルミネ
ッセンス）表示パネル、プラズマ表示パネル、フィールドエミッションディスプレイ等の
表示装置が知られている。
【０００３】
そして、これらの表示装置に機能を付加したり、表示装置の機能を向上させたりするた
めに、表示装置の表示面に機能パネルが積層された表示装置が市販されている。この機能
パネルの例としては、下記特許文献１に開示されているようなバリアパネルや、下記特許
文献２に開示されているようなタッチパネル等が知られている。
【０００４】
このうちバリアパネルは、サブ画素が交互に隣接した第１画像と第２画像をスリットの
遮光により夫々異なる視方向に判別可能に表示する視差バリアを有している。その視差バ
リアの機能により、立体画像の３Ｄ表示や、左視方向と右視方向に別々の画像を表示する
２画面表示を行うことができる。２画面表示の表示装置としては、交通安全上の配慮から
、運転席方向へは例えばナビゲーション画像を表示し、助手席方向へは例えばテレビジョ
ン画像やＤＶＤ画像を表示するナビゲーション装置が知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００８−００９１８９号公報
【特許文献２】特開２００７−１２８１２９号公報
【特許文献３】特開２００５−０３９１０９号公報
【特許文献４】特開２００５−１５９１４３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
これらの機能パネルを表示装置の表示面に保持する方法としては、保持力の維持や使用
時の位置ずれの抑制等の観点から、両面テープのような粘着剤による固定方法ではなく、
接着材による固着方法が多く採用されている。しかしながら、例えばタッチパネルのガラ
ス基板の厚さは、良好な操作性を得るために、０．１ｍｍ〜０．２ｍｍと薄くなっている
。また、バリアパネルのガラス基板の厚さは、良好な視野角を得るために、０．１ｍｍ以
下、例えば０．０５ｍｍ程度と非常に薄くなっている。このために、バリアパネルと表示
装置との間の接着強度を高めるために、接着時にバリアパネルのガラス基板を強く押圧す
ることができない。
【０００７】
そこで、バリアパネルと表示装置との間の接着強度を高めるために、上記特許文献３に
記載されているように、それぞれの接着面を粗面化する方法が考えられる。また、粗面化
の方法としては、上記特許文献４に記載されているように、フロスト加工、サンドブラス
ト法、ドライエッチング法などが知られている。しかしながら、表示装置は、表示面が粗
面化されると、透過率等の表示特性を損なうという問題が生じる。
【０００８】
本発明は、このような従来技術の問題点を解決すべくなされたものであって、表示特性
を損なうことなく表示装置の必要な部分のみを粗面化して、機能パネルの接着力を高める
ことを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記目的を達成するため、本発明の表示装置は、表示パネルと機能パネルとが積層され
た構造を有する表示装置であって、前記表示パネルと前記機能パネルは表示領域及び非表
示領域の全面が接着剤により接着され、前記表示パネル及び前記機能パネルの少なくとも
一方の非表示領域のみ、粗面化されていることを特徴とする。
【００１０】
従来の表示装置では、表示パネル及び機能パネルの少なくとも一方の全面が粗面化され
ているため、表示パネルと機能パネルとの間の接着強度が強いので使用時の位置ずれが生
じ難い。しかしながら、表示領域が粗面化されていると、この粗面部分を接着剤で埋めて
も光散乱によって十分な透過率の確保が困難となる。それに対し、本発明の表示装置によ
れば、表示パネルと機能パネルとは、表示領域及び非表示領域の全面が接着剤により接着
されているが、表示パネル及び機能パネルの少なくとも一方の非表示領域のみ、粗面化さ
れているため、表示パネルと機能パネルとの間の接着強度は非表示領域の粗面化部分で確
保できると共に、表示領域は粗面化されていないために光散乱が生じることが抑制され、
十分な光透過率を有する表示装置となる。
【００１１】
また、本発明の表示装置においては、前記機能パネルは、タッチパネル、複数の画像を
異なる視方向に判別可能にするバリアパネル又は３Ｄ表示用のバリアパネルとすることが
できる。
【００１２】
これらの機能パネルは、タッチパネルのガラス基板であれば厚さが０．１ｍｍ〜０．２
ｍｍ程度、バリアパネルのガラス基板であれば厚さは、０．１ｍｍ以下と非常に薄くなっ
ているが、このように薄い機能パネルであっても表示パネルの表面に高強度に付着させる
ことができる。
【００１３】
更に、上記目的を達成するため、本発明の表示装置の製造方法は、表示パネルと機能パ
ネルとが積層され、前記表示パネル及び前記機能パネルは表示領域及び非表示領域の全面
が接着剤により接着されている表示装置の製造方法であって、
前記表示パネル及び前記機能パネルの少なくとも一方の前記非表示領域のみを粗面化す
る工程、
前記表示パネル及び前記機能パネルの少なくとも一方の全面に亘って接着剤を貼付する
工程、
前記表示パネル及び前記機能パネルを前記接着剤を介して貼り合わせる工程、
を有することを特徴とする。
【００１４】
本発明の表示装置の製造方法によれば、表示パネルと機能パネルとの間の接着強度が強
く、しかも、表示領域の光散乱が抑制された十分な光透過率を有する表示装置を容易に製
造することができるようになる。
【００１５】
また、本発明の表示装置の製造方法においては、前記表示パネル及び前記機能パネルの
少なくとも一方の前記非表示領域のみを粗面化する工程は、前記表示パネル及び前記機能
パネルの少なくとも一方の表示領域の全面に保護層を形成した後、前記非表示領域のみを
粗面化し、その後に前記保護層を剥離する工程を備えることが好ましい。
【００１６】
本発明の表示装置の製造方法では、表示パネル及び機能パネルの少なくとも一方の表示
領域の全面が保護層で被覆されているので、これらのパネルの非表示領域を粗面化する際
に表示領域が傷付くことがない。そのため本発明の表示装置の製造方法によれば、より表
示領域の光散乱が抑制された十分な光透過率を有する表示装置を製造することができるよ
うになる。
【００１７】
なお、保護層としては、粗面化方法に応じて感光性樹脂材料や熱硬化性樹脂材料等を適
宜選択して使用することができる。また、この表示パネル及び機能パネルの少なくとも一
方の非表示領域のみを粗面化する工程においては、フロスト加工法、サンドブラスト法又
はドライエッチング法等を適宜使用して、容易に量産することができる。
【００１８】
また、本発明の表示装置の製造方法おいては、前記粗面化工程はフロスト加工工程であ
ることが好ましい。
【００１９】
フロスト加工法は、ガラス基板の表面をフッ酸処理によってくもりガラス状に粗面化す
る化学的粗面化方法であるので、保護層で被覆されている箇所は粗面化されず、必要な部
分のみ正確に粗面化することができる。そのため、本発明の表示装置の製造方法によれば
、高精度に必要な部分のみ粗面化された上記効果を奏する表示装置を製造することができ
るようになる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】第１実施形態に係る２画面液晶表示装置の画素構成を示す図である。
【図２】液晶パネルに入力される２画面の合成を示す図である。
【図３】視差バリアの開口を示す図である。
【図４】図４Ａは２画面の表示の原理を示す図であり、図４Ｂは２画面の視角に対する輝度特性を示す図である。
【図５】図５Ａは第１実施形態に係る２画面液晶表示装置の粗面化処理の領域を示す平面図であり、図５Ｂは図５ＢのＶＢ−ＶＢ線の断面図である。
【図６】第１実施形態に係る２画面液晶表示装置の１画素を示す平面図である。
【図７】図７Ａは図６のVIIA−VIIA線の断面図であり、図７Ｂは図７のVIIB−VIIB線の断面図である。
【図８】第１実施形態に係る２画面液晶表示装置の製造工程のフローチャートである。
【図９】第１実施形態の変形例を示す図５Ｂに対応した断面図である。
【図１０】図１０Ａは第２実施形態に係る表示装置の粗面化処理の領域を示す平面図であり、図１０Ｂはタッチパネルの電極を示す分解斜視部である。
【図１１】図１１Ａは図１０ＡのXA−XA線の断面図であり、図１１Ｂは図１０ＡのXIB−XIＢ線の断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
以下、本発明の実施形態を複数の画像を異なる視方向に判別可能にするバリアパネルを
備えた２画面液晶表示装置の場合を例にとり図面を参照しながら説明する。しかしながら
、以下に示す実施形態は本発明をここに記載したものに限定することを意図するものでは
なく、本発明は特許請求の範囲に示した技術思想を逸脱することなく種々の変更を行った
ものにも均しく適用し得るものである。なお、この明細書における説明のために用いられ
た各図面においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層
や各部材毎に縮尺を異ならせて表示しており、必ずしも実際の寸法に比例して表示されて
いるものではない。
【００２２】
［第１実施形態］
まず、第１実施形態の２画面液晶表示装置１０Ａにおける２画面表示の原理について図
１〜図７を用いて説明する。なお、図１〜図７に示した２画面液晶表示装置１０Ａはナビ
ゲーション装置の例であり、右方向（運転席方向）から視認した場合には第１画像（ナビ
ゲーション画像）が見えるように画像を表示し、左方向（助手席方向）から視認した場合
には第２画像（テレビジョン画像やＤＶＤ画像）が見えるように画像を表示するものとし
て説明する。
【００２３】
２画面液晶表示装置１０Ａは、横電界方式であるＦＦＳ（Fringe Field Switching）モ
ードの液晶表示パネル１１を有し、図５Ｂに示すように、液晶表示パネル１１の前面にバ
リアパネル１２が紫外線硬化性の接着剤１３によって貼り付けられている。液晶表示パネ
ル１１は、図５Ａに示すように、表示領域と、表示領域の周辺側の非表示領域を有してい
る。非表示領域には、液晶層ＬＣを挟持するアレイ基板ＡＲとカラーフィルター基板ＣＦ
を接続するシール材１４、アレイ基板ＡＲに設けられるドライバー用の端子（図示せず）
、フレキシブルプリント基板用の端子、それぞれの端子までの配線などが設けられている
。
【００２４】
図１に示すように、表示領域は表示用画素がマトリクス状に形成されている。例えば、
カラー表示のＷＶＧＡタイプでは、図１の行方向（後述の走査線２０方向）に８００画素
、列方向（後述の信号線２５方向）に４８０画素形成されている。１画素はＲ（赤）・Ｇ
（緑）・Ｂ（青）の３つのサブ画素からなり、Ｒ・Ｇ・Ｂの光三原色の夫々の輝度制御に
よって１画素の色が所定の色になるように制御される。更に、この２画面液晶表示装置１
０Ａでは、図２に示すように、液晶表示パネル１１には第１画像と第２画像の合成画像が
入力される。その第１画像と第２画像の合成は第１画像と第２画像を市松模様に取捨選択
して行われる。
【００２５】
図３に示すように、バリアパネル１２の遮光膜である視差バリア層１５は矩形の開口１
６を有している。この開口１６は行方向に隣接する一対のサブ画素の間に配設されている
。図４Ａに示すように、視差バリア層１５の開口１６によって、第１画像は運転席方向か
ら見ることができるが助手席方向からは見ることができず、第２画像は助手席方向から見
ることができるが運転席方向からは見ることができないようになされている。
【００２６】
このように、２画面液晶表示装置１０Ａでは、液晶表示パネル１１に表示される第１画
像と第２画像の合成画像がバリアパネル１２によって異なる方向で別々に判別することが
できるようになっている。２画面液晶表示装置１０Ａは運転席と助手席の中間に設置され
るものとして、例えば運転席方向を右３０度、助手席方向を左３０度として設計されてい
る。したがって、この２画面液晶表示装置１０Ａは、図４Ｂに示すように、視角が−３０
度のときと＋３０度のときに輝度が最大になるように設計されている。
【００２７】
次に、２画面液晶表示装置１０Ａの各サブ画素の構成について、図６、図７に基づき説
明する。第１実施形態に係る２画面液晶表示装置１０Ａは、液晶表示パネル１１の前面に
バリアパネル１２が紫外線によって硬化する接着剤１３によって貼り付けられている。液
晶表示パネル１１は、液晶層ＬＣと、これを挟持する背面側のアレイ基板ＡＲと前面側の
カラーフィルター基板ＣＦからなる。液晶層ＬＣの厚みは感光性樹脂材料から形成される
柱状スペーサーな等によって均一に維持されている。アレイ基板ＡＲの背面には第１偏光
板１７が形成され、バリアパネル１２の前面には第２偏光板１８が形成されている。また
、第１偏光板１７の背面側からバックライト（図示せず）により光が照射されている。
【００２８】
図６、図７に示すように、液晶表示パネル１１は液晶層ＬＣがアレイ基板ＡＲとカラー
フィルター基板ＣＦで挟持される構成となっている。アレイ基板ＡＲは薄厚（例えば０．
５ｍｍ）の透明な絶縁性を有するガラスや石英、プラスチック等からなる第１基板本体１
９を基体としている。第１基板本体１９上には、図６に示すように、液晶層ＬＣに面する
側に、不透明なアルミニウムやモリブデン等の金属からなる走査線２０と共通電極配線２
１がＸ軸方向（行方向）に形成されている。走査線２０からはゲート電極Ｇが図６で各サ
ブ画素の左下に延設されており、共通電極配線２１にはＩＴＯ（Indium Thin Oxide）な
いしＩＺＯ（Indium Zinc Oxide）等の透明導電性材料からなる下電極２２が電気的に接
続されている。下電極２２はサブ画素の中央部の広範囲に形成され、共通電極として作動
する。
【００２９】
また、走査線２０とゲート電極Ｇを覆うようにして窒化ケイ素や酸化ケイ素等からなる
透明なゲート絶縁膜２３が積層されている。そして、平面視でゲート電極Ｇと重なるゲー
ト絶縁膜２３上には非晶質シリコンや多結晶シリコンなどからなる半導体層２４が形成さ
れている。ゲート絶縁膜２３上にはアルミニウムやモリブデン等の金属からなる複数の信
号線２５が、各サブ画素の左側に図６のＹ軸方向（列方向）に形成されている。この信号
線２５からはソース電極Ｓが延設され、このソース電極Ｓは半導体層２４の表面と部分的
に接触している。
【００３０】
更に、信号線２５及びソース電極Ｓと同一の材料で同時に形成されたドレイン電極Ｄが
ゲート絶縁膜２３上に設けられており、このドレイン電極Ｄはソース電極Ｓと近接配置さ
れて半導体層２４と部分的に接触している。走査線２０と信号線２５とによって囲まれた
領域が１サブ画素領域に相当する。１画素は略正方形であるので、これを３等分するサブ
画素は走査線２０が短辺で信号線２５が長辺の長方形となる。ゲート電極Ｇ、ゲート絶縁
膜２３、半導体層２４、ソース電極Ｓ、ドレイン電極Ｄによってスイッチング素子となる
薄膜トランジスターＴＦＴが構成され、それぞれのサブ画素にこのＴＦＴが形成されてい
る。
【００３１】
更に、信号線２５、ＴＦＴ及びゲート絶縁膜２３の露出部分を覆うようにして例えば窒
化ケイ素や酸化ケイ素等からなる透明なパッシベーション膜２６が積層されている。そし
て、パッシベーション膜２６を覆うようにして、ＩＴＯ（Indium Thin Oxide）ないしＩ
ＺＯ（Indium Zinc Oxide）等の透明導電性材料からなる上電極２７が形成されている。
図６に示すように、上電極２７には複数のスリット２８が平行に形成されており、上電極
２７は画素電極として作動する。スリット２８は長円形状であり、その長手方向は走査線
２０の延在方向に対して右下がりに例えば５度傾斜している。
【００３２】
パッシベーション膜２６を貫通してドレイン電極Ｄに達するコンタクトホール２９が形
成されており、このコンタクトホール２９を介して上電極２７とドレイン電極Ｄとが電気
的に接続されている。上電極２７を覆うようにして例えばポリイミドからなる第１配向膜
２９が積層されている。第１配向膜３０には走査線２０の延在方向と平行に液晶方向配向
処理（以降、ラビング処理と称す。）が施されている。スリット２８に対応する位置の下
電極２２と上電極２７間の電界によって液晶層ＬＣの液晶分子の配向が変化する。
【００３３】
カラーフィルター基板ＣＦは０．１ｍｍ以下（例えば０．０５ｍｍ）の極薄厚の透明な
絶縁性を有するガラスや石英、プラスチック等からなる第２基板本体３１を基体としてい
る。第２基板本体３１には、遮光層３２と、サブ画素ごとに異なる色光（Ｒ、Ｇ、Ｂ）を
透過するカラーフィルター層３３が形成されている。遮光層３２は不透明な領域であり、
表示領域の走査線２０、信号線２５、ＴＦＴなどの不透明な部分と平面視で重なるように
形成されており、また、遮光層３２はカラーフィルター基板ＣＦの全非表示領域に形成さ
れている。表示領域における遮光層３２は、サブ画素をマトリクス状に区分する走査線２
０と信号線２５に重畳して形成されることからブラックマトリクスとも呼ばれている。
【００３４】
カラーフィルター層３３はサブ画素の遮光層３２が形成されていない領域に形成されて
いる。遮光層３２とカラーフィルター層３３を覆うようにして例えばフォトレジスト等の
透明樹脂材料からなるオーバーコート層３４が積層されている。このオーバーコート層３
４は異なる色のカラーフィルター層３３による段差を平坦にし、また、遮光層３２やカラ
ーフィルター層３３から流出する不純物が液晶層ＬＣに入らないように遮断するために形
成されるものである。オーバーコート層３４を覆うようにして例えばポリイミドからなる
第２配向膜３５が形成されている。第２配向膜３５には第１配向膜３０と逆方向のラビン
グ処理が施されている。
【００３５】
このようにして形成されたアレイ基板ＡＲ及びカラーフィルター基板ＣＦを互いに対向
させ、両基板の周囲にシール材１４を設けることにより両基板を貼り合せ、両基板間に液
晶を充填することにより第１実施形態に係る液晶表示パネル１１が得られる。なお、液晶
層ＬＣを所定の厚みに保持するための柱状スペーサ（図示省略）がカラーフィルター基板
ＣＦに形成されている。
【００３６】
上述の構成により、ＴＦＴがＯＮになって下電極２２と上電極２７間に電圧が印加され
ると両電極２２，２７間に電界が発生して液晶層ＬＣの液晶分子の配向が変化する。これ
により、液晶層ＬＣの光透過率が変化して画像を表示することとなる。下電極２２と上電
極２７とパッシベーション膜２６により補助容量部を形成し、薄膜トランジスターＴＦＴ
がＯＦＦになったときに両電極２２，２７間の電界を所定時間保持する。
【００３７】
バリアパネル１２は透明な絶縁性を有する薄厚（例えば０．５ｍｍ）のガラスや石英、
プラスチック等からなる第３基板本体３６を基体としている。第３基板本体３６には、サ
ブ画素が交互に隣接した第１画像と第２画像を開口１６の遮光により夫々異なる視方向に
判別可能に表示する視差バリア１５が形成されている。
【００３８】
図８はバリアパネル１２と液晶表示パネル１１の接着工程を示すフローチャートである
。液晶表示パネル１１のカラーフィルター基板ＣＦの第２基板本体３１の接着面の表示領
域（図５Ａ参照）が例えばラミネート材料等の保護層でマスキングされる（Ｓ１−A）。
次に、第２基板本体３１の非表示領域の接着面、すなわち、ラミネート材料等の保護層で
マスキングされていない箇所がフッ酸水溶液を用いたフロスト加工法によって粗面化処理
される（Ｓ２−A）。
【００３９】
このフロスト加工法は、ガラス基板の表面をフッ酸処理によって粗面化する化学的粗面
化方法であるので、保護層で被覆されている箇所は粗面化されず、必要な部分のみ正確に
粗面化することができるため、高精度に必要な部分のみ粗面化することができるが、あえ
て高精度に粗面化する必要がなければサンドブラスト法やドライエッチング法など、他の
方法によって行われてもよい。粗面化処理が終わると、第２基板本体３１の接着面の表示
領域のマスキングが除去される（Ｓ３−A）。これにより、第２基板本体３１の表示領域
は粗面化されず、第２基板本体３１の非表示領域の接着面Ｆ１は粗面化されて表面の粗さ
は粗くなる。
【００４０】
液晶表示パネル１１と同様に、バリアパネル１２の第３基板本体３６の接着面の表示領
域が例えばラミネートフィルムでマスキングされる（Ｓ１−Ｂ）。次に、第３基板本体３
６の接着面がフロスト加工法によって粗面化処理される（Ｓ２−Ｂ）。粗面化処理が終わ
ると、第３基板本体３６の接着面の表示領域のマスキングが除去される（Ｓ３−Ｂ）。こ
れにより、第３基板本体３６の表示領域の接着面は粗面化されず、第３基板本体３６の非
表示領域の接着面Ｆ２は粗面化されて表面の粗さは粗くなる。
【００４１】
次いで、カラーフィルター基板ＣＦの第２基板本体３１の全接着面（表示領域と非表示
領域の両方）に例えばＵＶ硬化性のエポキシ系の接着剤１３が描画により塗布される（Ｓ
４−A）。なお、接着剤１３は第３基板本体３６に塗布されてもよい。次に、カラーフィ
ルター基板ＣＦの第２基板本体３１とバリアパネル１２の第３基板本体３６が真空で張り
合わされる（Ｓ５）。次に、紫外線（ＵＶ）が接着剤に照射されて、接着剤１３が硬化さ
れる（Ｓ６）。
【００４２】
このようにして作製された２画面液晶表示装置１０Ａにおいては、表示領域は粗面化処
理されていないので、透過率などの表示特性が損なわれることがなく、しかも、非表示領
域は粗面化処理された接着面Ｆ１、Ｆ２が形成されているので、接着剤との接着面積が増
加することとなり、接着力が高くなる。エポキシ系の接着力は主として水素結合やファン
デルワールスの分子間力と機械的な結合力の二つである。接着面Ｆ１、Ｆ２が粗面になれ
ば、特に分子が接近する面積が増大して分子間力が高くなり、また、アンカー効果が増大
して機械的結合が高くなる。
【００４３】
なお、図９に示すように、バリアパネル１２の視差バリア１５を覆うようにして例えば
フォトレジスト等の透明樹脂材料からなる保護膜３７が形成されることがある。この保護
膜３７は視差バリア１５の損傷を防止し、視差バリア１５による段差を平坦にするために
形成されるものである。このように、保護膜３７が形成されたときは、サンドブラスト加
工などにより、第３基板本体３６と同様に、保護膜３７の非表示領域の接着面Ｆ２が粗面
化されていればよい。
【００４４】
［第２実施形態］
次に、第２実施形態の表示装置１０Ｂを図１０、図１１を用いて説明する。ただし、図
１０、図１１においては、第１実施形態の表示装置１０Ａと同一の構成部分には同一の参
照符号を付与してその詳細な説明は省略する。この第２実施形態の表示装置１０Ｂは、第
１実施形態の表示装置１０Ａのバリアパネル１２をタッチパネル３８に替えたものに相当
する。
【００４５】
タッチパネル３８は、図１１Ａ、図１１Ｂに示すように、対向配置されスペーサー３９
で接着される背面側の第４基板本体４０と前面側の第５基板本体４１を有する。第４基板
本体４０と第５基板本体４１はいずれも透明な絶縁性を有するガラスや石英、プラスチッ
ク等からなり、良好な操作性を得るために厚さは０．１ｍｍ〜０．２ｍｍである。第４基
板本体には、ＩＴＯ（Indium Thin Oxide）ないしＩＺＯ（Indium Zinc Oxide）等の透明
導電性材料からなるＸ軸面電極４２が表示領域全面に形成されている。
【００４６】
図１０Ａに示すように、Ｘ軸面電極４２のＸ軸方向の両端に低抵抗のＸ軸線電極４３、
４３と、マトリクス状に配置され第５基板本体４１方向に延在する複数の端子４４が形成
されている。第５基板本体４１には、ＩＴＯ（Indium Thin Oxide）ないしＩＺＯ（Indiu
m Zinc Oxide）等の透明導電性材料からなるＹ軸面電極４５が表示領域全面に形成されて
いる。また、Ｙ軸面電極４５のＹ軸方向の両端に低抵抗のＹ軸線電極４６、４６が形成さ
れている。タッチパネル３８の第５基板本体４１の前面側に第２偏光板１８が形成され、
第２配向膜３５にハードコートからなる保護膜４７が形成されている。
【００４７】
次に、タッチパネル３８の入力操作について説明する。Ｘ軸方向の両端に位置するＸ軸
線電極４３、４３と、Ｙ軸方向の両端に位置するＹ軸線電極４６、４６に所定の電圧が交
互に繰り返し印加される。タッチペンなどによる押圧で端子４４とＹ軸面電極４５が接触
すると、Ｘ軸線電極４３、４３に電圧が印加されているときはＸ軸方向の均一な電圧降下
により、押圧された部位に対応するＸ軸方向位置が測定され、Ｙ軸線電極４６、４６に電
圧が印加されているときはＹ軸方向の均一な電圧降下により、押圧された部位に対応する
Ｙ軸方向位置が測定される。
【００４８】
図１０、図１１に示すように、第１実施形態のバリアパネル１２の第３基板本体３６と
同様に、背面側である第４基板本体の非表示領域の接着面Ｆ２が粗面化されている。この
ように、張り合わせるガラス基板の厚さが０．１ｍｍ〜０．２ｍｍという弱い接着圧力の
タッチパネルの表示装置に本発明を適用することができる。
【００４９】
なお、上述の実施形態では張り合わせる両方の基板の非表示領域のみが粗面化処理され
ているものの例を示したが、が、いずれか一方のみの基板の非表示領域のみが粗面化処理
されていれば、上述の効果を奏することができる。また、上述の実施形態の表示装置はＦ
ＦＳモードの液晶表示パネルの例であったが、本発明はこれに限らず、ＩＰＳモードや縦
電界方式の液晶表示パネル、有機ＥＬ表示パネル、プラズマ表示パネル、フィールドエミ
ッションディスプレイ等にも適用することができる。
【符号の説明】
【００５０】
１０Ａ、１０Ｂ…表示装置  １１…液晶表示パネル  １２…バリアパネル  １３…接着
剤  １４…シール材  １５…視差バリア層  １６…開口  １７…第１偏光板  １８…第２
偏光板  １９…第１基板本体  ２０…走査線  ２１…共通電極配線  ２２…下電極  ２３
…ゲート絶縁膜  ２４…半導体層  ２５…信号線  ２６…パッシベーション膜  ２７…上
電極  ２８…スリット  ２９…コンタクトホール  ３０…第１配向膜  ３１…第２基板本
体  ３２…遮光層  ３３…カラーフィルター層  ３４…オーバーコート層  ３５…第２配
向膜  ３６…第３基板本体  ３７…保護膜  ３８…タッチパネル  ３９…スペーサー  ４
０…第４基板本体  ４１…第５基板本体  ４２…Ｘ軸面電極  ４３…Ｘ軸線電極  ４４…
端子  ４５…Ｙ軸面電極  ４６…Ｙ軸線電極  ４７…保護膜  ＡＲ…アレイ基板  ＣＦ…
カラーフィルター基板  Ｆ１、Ｆ２…接着面
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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