(57)【要約】【課題】プライミング処理の信頼性を保障しつつ洗浄液の使用量を一層削減すること。【解決手段】スリットノズル７２の吐出口をプライミングローラ１４の頂部に対して平行に対向させ、プライミングローラ１４を静止させたままで、スリットノズル７２に一定量のレジスト液Ｒを吐出させる。次に、プライミングローラ１４の回転を開始して、プライミングローラ１４の外周面上にレジスト液Ｒを巻き取る。次いで、プライミングローラ１４の回転速度を一気に上げて、スリットノズル７２側とプライミングローラ１４側とに分かれるようにレジスト液Ｒの液膜を切り離し、切り離した後もプライミングローラ１４の回転をそのまま継続させて、レジスト液膜ＲＭ１を自然乾燥させる。【選択図】  図２
2010279907.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
スピンレス法の塗布処理に用いるスリットノズルの吐出口付近に塗布処理の
下準備として塗布液の液膜を形成するためのプライミング処理方法であって、
１回分のプライミング処理のために、水平に配置された円筒状または円柱状
のプライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノ
ズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出
させてから前記プライミングローラを回転させて、前記プライミングローラの
外周面の上に前記吐出された塗布液の一部を巻き取る第１の工程と、
前記プライミングローラの外周面上に巻き取られた塗布液の液膜を乾燥させ
て第１乾燥膜とする第２の工程と、
別の１回分のプライミング処理のために、前記第１乾燥膜を外して前記プラ
イミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの
吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させて
から前記プライミングローラを回転させて、前記第１乾燥膜とは異なる領域で
前記プライミングローラの外周面の上に前記吐出された塗布液の一部を巻き取
る第３の工程と、
前記プライミングローラの外周面上に付着している液膜または乾燥膜を洗浄
によって一括除去する第４の工程と
を有するプライミング処理方法。
【請求項２】
前記第２の工程が、前記第１の工程で開始した前記プライミングローラの回
転をそのまま継続させて、前記塗布液の液膜を自然乾燥させる、請求項１に記
載のプライミング処理方法。
【請求項３】
前記第４の工程は、前記プライミングローラを回転させながら、前記プライ
ミングローラの外周面のうち液膜または乾燥膜が付着している領域のみに洗浄
液を噴き付ける、請求項１または請求項２に記載のプライミング処理方法。
【請求項４】
前記第４の工程に先立って、前記プライミングローラの外周面上に付着して
いる液膜または乾燥膜の範囲および膜厚を測定し、その測定結果に基づいて前
記第４の工程における洗浄液の使用量を決定する第５の工程を有する、請求項
１〜３のいずれか一項に記載のプライミング処理方法。
【請求項５】
スピンレス法の塗布処理に用いるスリットノズルの吐出口付近に塗布処理の
下準備として塗布液の液膜を形成するためのプライミング処理方法であって、
水平に配置された円筒状または円柱状のプライミングローラの頂部に対して
所定のギャップを隔てて前記塗布処理用のスリットノズルもしくは非塗布処理
用の別のスリットノズルを平行に対向させ、当該スリットノズルに塗布液を吐
出させるとともに前記プライミングローラを回転させて、前記プライミングロ
ーラの外周面の上に前記吐出された塗布液の一部または全部を巻き取る第１の
工程と、
前記プライミングローラの外周面上に巻き取られた塗布液の液膜を乾燥させ
て第１層の乾燥膜とする第２の工程と、
１回分のプライミング処理のために、前記第１層の乾燥膜を前記プライミン
グローラの頂部に位置させて、前記プライミングローラの頂部に対して所定の
ギャップを隔てて前記塗布処理用のスリットノズルの吐出口を平行に対向させ
、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させてから前記プライミングロ
ーラを回転させて、前記第１層の乾燥膜の上に前記吐出された塗布液の一部を
巻き取る第３の工程と、
前記プライミングローラの外周面上に付着している液膜または乾燥膜を洗浄
によって一括除去する第４の工程と
を有するプライミング処理方法。
【請求項６】
前記第１の工程が、１回分のプライミング処理のために、前記プライミング
ローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記塗布処理用のスリットノズ
ルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出さ
せてから前記プライミングローラを回転させて、前記プライミングローラの外
周面上に前記吐出された塗布液の一部を巻き取る、請求項５に記載のプライミ
ング処理方法。
【請求項７】
前記第２の工程が、前記第１の工程で開始した前記プライミングローラの回
転をそのまま継続させて、前記塗布液の液膜を自然乾燥させる、請求項５また
は請求項６に記載のプライミング処理方法。
【請求項８】
前記第２の工程と前記第３の工程との間で、
前記第１層の乾燥膜の膜厚分布特性を測定する第５の工程と、
前記膜厚分布特性の測定結果に基づき、前記第１層の乾燥膜の膜厚均一性が
一定の基準を超えるときは前記第３の工程の実行を許可する旨の判定結果を出
し、前記第１層の乾燥膜の膜厚均一性が前記基準を超えないときは前記第３の
工程の実行を中止すべき旨の判定結果を出す第６の工程と
を有する、請求項５〜７のいずれか一項に記載のプライミング処理方法。
【請求項９】
前記第３の工程における周回方向の塗布液巻き取りサイズが、前記第１の工
程における周回方向の塗布液巻き取りサイズの１／２未満である、請求項５〜
８のいずれか一項に記載のプライミング処理方法。
【請求項１０】
前記第３の工程と前記第４の工程との間で、
前記第３の工程で前記第１層の乾燥膜の上に巻き取られた塗布液の液膜を乾
燥させて第２層の第１乾燥膜とする第７の工程と、
更に別の１回分のプライミング処理のために、前記第２層の第１乾燥膜を外
して前記第１層の乾燥膜を前記プライミングローラの頂部に位置させて、前記
プライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズ
ルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出さ
せてから前記プライミングローラを回転させて、前記第２層の第１乾燥膜とは
異なる領域で前記第１層の乾燥膜の上に前記吐出された塗布液の一部を巻き取
る第８の工程と
を有する請求項９に記載のプライミング処理方法。
【請求項１１】
前記第３の工程と前記第４の工程との間で、
前記第３の工程で前記第１層の乾燥膜の上に巻き取られた塗布液の液膜を乾
燥させて第２層の乾燥膜とする第７の工程と、
更に別の１回分のプライミング処理のために、前記第２層の乾燥膜を前記プ
ライミングローラの頂部に位置させて、前記プライミングローラの頂部に対し
て所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前
記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させてから前記プライミングローラ
を回転させて、前記第２層の乾燥膜の上に前記吐出された塗布液の一部を巻き
取る第８の工程と
を有する請求項５〜９のいずれか一項に記載のプライミング処理方法。
【請求項１２】
前記第４の工程は、前記プライミングローラを回転させながら、前記プライ
ミングローラの外周面のうち液膜または乾燥膜が付着している領域のみに洗浄
液を噴き付ける、請求項５〜１１のいずれか一項に記載のプライミング処理方
法。
【請求項１３】
前記第４の工程に先立って、前記プライミングローラの外周面上に付着して
いる各液膜または乾燥膜の範囲および膜厚を測定し、その測定結果に基づいて
前記第４の工程における洗浄液の使用量を決定する第９の工程を有する、請求
項１０〜１２のいずれか一項に記載のプライミング処理方法。
【請求項１４】
前記プライミングローラの周囲を強制的に排気するための排気機構が設けら
れ、前記排気機構を前記第１、第２および第３の工程では止めておいて前記第
４の工程で作動させる、請求項５〜１３のいずれか一項に記載のプライミング
処理方法。
【請求項１５】
スピンレス法の塗布処理に用いるスリットノズルの吐出口付近に塗布処理の
下準備として塗布液の液膜を形成するためのプライミング処理方法であって、
１回分のプライミング処理のために、水平に配置された円筒状または円柱状
のプライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノ
ズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出
させてから前記プライミングローラを回転させて、前記プライミングローラの
外周面の上に前記吐出された塗布液の一部を巻き取る第１の工程と、
前記第１の工程で前記プライミングローラの外周面上に巻き取られた塗布液
の液膜を乾燥させて第１層の第１乾燥膜とする第２の工程と、
別の１回分のプライミング処理のために、前記第１層の第１乾燥膜を外して
前記プライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリット
ノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐
出させてから前記プライミングローラを回転させて、前記第１乾燥膜とは異な
る領域で前記プライミングローラの外周面の上に前記吐出された塗布液の一部
を巻き取る第３の工程と、
前記第３の工程で前記プライミングローラの外周面上に巻き取られた塗布液
の液膜を乾燥させて第１層の第２乾燥膜とする第４の工程と、
更に別の１回分のプライミング処理のために、前記第１層の第１または第２
乾燥膜を前記プライミングローラの頂部に位置させて、前記プライミングロー
ラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行
に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させてから前記プラ
イミングローラを回転させて、前記第１層の第１または第２乾燥膜の上に前記
吐出された塗布液の一部を巻き取る第５の工程と、
前記プライミングローラの外周面上に付着している液膜または乾燥膜を洗浄
によって一括除去する第６の工程と
を有するプライミング処理方法。
【請求項１６】
前記第２の工程が、前記第１の工程で開始した前記プライミングローラの回
転をそのまま継続させて、前記塗布液の液膜を自然乾燥させる、請求項１５に
記載のプライミング処理方法。
【請求項１７】
前記第２の工程と前記第３の工程との間で、
前記第１層の乾燥膜の膜厚分布特性を測定する第７の工程と、
前記膜厚分布特性の測定結果に基づき、前記第１層の乾燥膜の膜厚均一性が
一定の基準を超えるときは前記第３の工程の実行を許可する旨の判定結果を出
し、前記第１層の乾燥膜の膜厚均一性が前記基準を超えないときは前記第３の
工程の実行を中止すべき旨の判定結果を出す第８の工程と
を有する、請求項１５または請求項１６に記載のプライミング処理方法。
【請求項１８】
前記第５の工程における周回方向の塗布液巻き取りサイズが前記第１および
第３の工程における周回方向の塗布液巻き取りサイズの１／２未満である、請
求項１５〜１７のいずれか一項に記載のプライミング処理方法。
【請求項１９】
前記第５の工程と前記第６の工程との間で、
前記第５の工程で前記第１層の乾燥膜の上に巻き取られた塗布液の液膜を乾
燥させて第２層の第１乾燥膜とする第９の工程と、
更に別の１回分のプライミング処理のために、前記第２層の第１乾燥膜を外
して前記第１層の第１または第２乾燥膜を前記プライミングローラの頂部に位
置させて、前記プライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前
記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の
塗布液を吐出させてから前記プライミングローラを回転させて、前記第２層の
第１乾燥膜とは異なる領域で前記第１層の第１または第２乾燥膜の上に前記吐
出された塗布液の一部を巻き取る第１０の工程と
を有する請求項１８に記載のプライミング処理方法。
【請求項２０】
前記第５の工程と前記第６の工程との間で、
前記第５の工程で前記第１層の乾燥膜の上に巻き取られた塗布液の液膜を乾
燥させて第２層の乾燥膜とする第９の工程と、
更に別の１回分のプライミング処理のために、前記第２層の乾燥膜を前記プ
ライミングローラの頂部に位置させて、プライミングローラの頂部に対して所
定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記ス
リットノズルに一定量の塗布液を吐出させてから前記プライミングローラを回
転させて、前記第２層の乾燥膜の上に前記吐出された塗布液の一部を巻き取る
第１０の工程と
を有する請求項１５〜１８のいずれか一項に記載のプライミング処理方法。
【請求項２１】
前記第６の工程は、前記プライミングローラを回転させながら、前記プライ
ミングローラの外周面のうち液膜または乾燥膜が付着している領域のみに洗浄
液を噴き付ける、請求項１５〜２０のいずれか一項に記載のプライミング処理
方法。
【請求項２２】
前記第６の工程に先立って、前記プライミングローラの外周面上に付着して
いる各液膜または乾燥膜の面積および膜厚を測定し、その測定結果に基づいて
前記第６の工程における洗浄液の使用量を決定する第１１の工程を有する、請
求項１５〜２１のいずれか一項に記載のプライミング処理方法。
【請求項２３】
前記プライミングローラの周囲を強制的に排気するための排気機構が設けら
れ、前記排気機構を前記第１ないし第５の工程では止めておいて前記第６の工
程で作動させる、請求項１５〜２２のいずれか一項に記載のプライミング処理
方法。
【請求項２４】
スピンレス法の塗布処理に用いるスリットノズルの吐出口付近に塗布処理の
下準備として処理液の液膜を形成するためのプライミング処理装置であって、
所定位置に水平に配置された円筒状または円柱状のプライミングローラと、
前記プライミングローラをその中心軸の回りに回転させる回転機構と、
前記プライミングローラの外周面を洗浄するために洗浄液を噴き付ける洗浄
機構と、
前記プライミングローラの周囲を強制的に排気するための排気機構と、
前記回転機構、前記洗浄部および前記排気部の各動作を制御する制御部と
を有し、
１回分のプライミング処理のために、前記プライミングローラの頂部に対し
て所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前
記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させてから前記回転機構により前記
プライミングローラを回転させて、前記プライミングローラの外周面の上に前
記吐出された塗布液の一部を巻き取り、
前記回転機構により前記塗布液の巻き取り後も前記プライミングローラの回
転を継続させて、前記プライミングローラの外周面上に巻き取られた塗布液の
液膜を乾燥させて第１乾燥膜とし、
別の１回分のプライミング処理のために、前記第１乾燥膜を外して前記プラ
イミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの
吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させて
から前記プライミングローラを回転させて、前記第１乾燥膜とは異なる領域で
前記プライミングローラの外周面の上に前記吐出された塗布液の一部を巻き取
り、
所望回数の前記プライミング処理が終了した後に、前記回転機構によりプラ
イミングローラを回転させながら前記洗浄機構と前記排気機構とを作動させて
、前記プライミングローラの外周面上に付着している液膜または乾燥膜を洗浄
によって一括除去する、
プライミング処理装置。
【請求項２５】
前記排気機構を、前記塗布液の液膜を乾燥させる時は止めておく、請求項２
４に記載のプライミング処理装置。
【請求項２６】
前記プライミングローラの外周面上に付着している液膜または乾燥膜の範囲
および膜厚を測定するための膜測定部と、
前記一括洗浄の前に、前記膜測定部で得られる測定結果に基づいて前記膜の
一括除去で使用する洗浄液の量を決定する洗浄液使用量決定部と
を有する請求項２４または請求項２５に記載のプライミング処理装置。
【請求項２７】
前記洗浄機構は、前記プライミングローラの外周面のうち液膜または乾燥膜
が付着している領域のみに洗浄液を噴き付ける、請求項２４〜２６のいずれか
一項に記載のプライミング処理方法。
【請求項２８】
スピンレス法の塗布処理に用いるスリットノズルの吐出口付近に塗布処理の
下準備として処理液の液膜を形成するためのプライミング処理装置であって、
所定位置に水平に配置された円筒状または円柱状のプライミングローラと、
前記プライミングローラをその中心軸の回りに回転させる回転機構と、
前記プライミングローラの外周面を洗浄するために洗浄液を噴き付ける洗浄
機構と、
前記プライミングローラの周囲を強制的に排気するための排気機構と、
前記回転機構、前記洗浄機構および前記排気機構の各動作を制御する制御部
と
を有し、
前記プライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記塗布処
理用のスリットノズルもしくは非塗布処理用の別のスリットノズルを平行に対
向させ、当該スリットノズルに塗布液を吐出させるとともに前記回転機構によ
り前記プライミングローラを回転させて、前記プライミングローラの外周面の
上に前記吐出された塗布液の一部または全部を巻き取り、
前記排気機構を止めたまま、前記回転機構により前記塗布液の巻き取り後も
前記プライミングローラの回転を継続させて、前記プライミングローラの外周
面上に巻き取られた塗布液の液膜を乾燥させて第１層の乾燥膜とし、
１回分のプライミング処理のために、前記第１層の乾燥膜を前記プライミン
グローラの頂部に位置させて、前記プライミングローラの頂部に対して所定の
ギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリッ
トノズルに一定量の塗布液を吐出させてから前記回転機構により前記プライミ
ングローラを回転させて、前記第１層の乾燥膜の上に前記吐出された塗布液の
一部を巻き取り、
所望回数の前記プライミング処理が終了した後に、前記回転機構によりプラ
イミングローラを回転させながら前記洗浄機構および前記排気機構を作動させ
て、前記プライミングローラの外周面上に付着している液膜または乾燥膜を洗
浄によって一括除去する、
プライミング処理装置。
【請求項２９】
前記プライミングローラ上の乾燥膜の膜厚を測定するための膜厚測定部を有
し、
前記膜厚測定部により前記第１層の乾燥膜の膜厚分布特性を測定し、
前記膜厚分布特性の測定結果に基づき、前記第１層の乾燥膜の膜厚均一性が
一定の基準を超えるときは前記第１層の乾燥膜上でのプライミング処理を実行
し、前記第１層の乾燥膜の膜厚均一性が前記基準を超えないときは前記第１層
の乾燥膜上でのプライミング処理を中止する、
請求項２８に記載のプライミング処理装置。
【請求項３０】
スピンレス法の塗布処理に用いるスリットノズルの吐出口付近に塗布処理の
下準備として処理液の液膜を形成するためのプライミング処理装置であって、
所定位置に水平に配置された円筒状または円柱状のプライミングローラと、
前記プライミングローラをその中心軸の回りに回転させる回転機構と、
前記プライミングローラの外周面を洗浄するために洗浄液を噴き付ける洗浄
機構と、
前記プライミングローラの周囲を強制的に排気するための排気機構と、
前記回転機構、前記洗浄機構および前記排気機構の各動作を制御する制御部
と
を有し、
１回分のプライミング処理のために、前記プライミングローラの頂部に対し
て所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前
記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させてから前記回転機構により前記
プライミングローラを回転させて、前記プライミングローラの外周面の上に前
記吐出された塗布液の一部を巻き取り、
前記排気機構を止めたまま、前記回転機構により前記塗布液の巻き取り後も
前記プライミングローラの回転を継続させて、前記プライミングローラの外周
面上に巻き取られた塗布液の液膜を乾燥させて第１層の第１乾燥膜とし、
別の１回分のプライミング処理のために、前記第１乾燥膜を外して前記プラ
イミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの
吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させて
から前記回転機構により前記プライミングローラを回転させて、前記第１乾燥
膜とは異なる領域で前記プライミングローラの外周面上に前記吐出された塗布
液の一部を巻き取り、
前記排気機構を止めたまま、前記回転機構により前記塗布液の巻き取り後も
前記プライミングローラを回転させて、前記プライミングローラの外周面上に
巻き取られた塗布液の液膜を乾燥させて第１層の第２乾燥膜とし、
更に別の１回分のプライミング処理のために、前記第１層の第１または第２
乾燥膜を前記プライミングローラの頂部に位置させて、前記プライミングロー
ラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行
に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させてから前記回転
機構により前記プライミングローラを回転させて、前記第１層の第１または第
２乾燥膜の上に前記吐出された塗布液の一部を巻き取り、
所望回数の前記プライミング処理が終了した後に、前記回転機構によりプラ
イミングローラを回転させながら前記洗浄機構および前記排気機構を作動させ
て、前記プライミングローラの外周面上に付着している液膜または乾燥膜を洗
浄によって一括除去する、
プライミング処理装置。
【請求項３１】
前記プライミングローラ上の乾燥膜の膜厚を測定するための膜厚測定部を有
し、
前記膜厚測定部により前記第１層の第１または第２乾燥膜の膜厚分布特性を
測定し、
前記膜厚分布特性の測定結果に基づき、前記第１層の第１または第２乾燥膜
の膜厚均一性が一定の基準を超えるときは当該乾燥膜上でのプライミング処理
を実行し、前記第１層の乾燥膜の膜厚均一性が前記基準を超えないときは当該
乾燥膜上でのプライミング処理を中止する、
請求項３０に記載のプライミング処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、スピンレス法の塗布処理に用いるスリットノズルの吐出口付近に
塗布処理の下準備として処理液の液膜を形成するためのプライミング処理方法
およびプライミング処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＬＣＤ等のフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）の製造プロセスにおけ
るフォトリソグラフィー工程には、スリット状の吐出口を有する長尺形のス
リットノズルを走査して被処理基板（たとえばガラス基板）上にレジスト液
を塗布するスピンレス法が多く用いられている。
【０００３】
このようなスピンレス法においては、レジスト乾燥膜の膜厚の不均一性や
塗布ムラを防止するうえで、塗布走査中に基板上に吐出されたレジスト液が
走査方向においてスリットノズルの背面側に回って形成されるメニスカスが
ノズル長手方向で水平一直線に揃うのが望ましく、そのためには塗布走査の
開始直前にスリットノズルの吐出口と基板との間の塗布ギャップが隙間なく
適量のレジスト液で塞がることが必要条件となっている。この要件を満たす
ために、塗布走査の下準備としてスリットノズルの吐出口から背面下端部に
かけてレジスト液の液膜を形成するプライミング処理が行われている。
【０００４】
代表的なプライミング処理法は、スリットノズルと同等またはそれ以上の
長さを有する円筒状のプライミングローラを塗布処理部の近くで水平に設置
し、微小なギャップを介してプライミングローラの頂部と対向する位置まで
スリットノズルを近づけてレジスト液を吐出させ、その直後にプライミング
ローラを所定方向に回転させる。そうすると、プライミングローラの頂部付
近に吐出されたレジスト液がスリットノズルの背面下部に回り込むようにし
てプライミングローラの外周面上に巻き取られ、スリットノズル側とプライ
ミングローラ側とに分かれる形でレジスト液の液膜が切り離される。スリッ
トノズルには、ノズル吐出口から背面下端部にかけてレジスト液の液膜が残
る。
【０００５】
従来一般のプライミング処理装置は、プライミングローラを回転駆動する
回転機構だけでなく、プライミングローラをクリーニングするためのスクレ
ーパや洗浄ノズルおよび乾燥ノズル等を備えており、１回のプライミング処
理が終了すると、その後処理として、回転機構によりプライミングローラを
連続回転させ、スクレーパでプライミングローラの外周面からレジスト液を
こそげ落とし、洗浄ノズルおよび乾燥ノズルより洗浄液および乾燥ガスをそ
れぞれプライミングローラの外周面に噴き付けるようにしている。
【０００６】
しかしながら、１回のプライミング処理でスリットノズルより吐出されるレ
ジスト液を受けて巻き取るために使用されるプライミングローラ上の領域は、
スリットノズルやプライミングローラのサイズによって異なるが、プライミン
グローラの全周（３６０°）を必要とするものではなく、通常は半周（１８０
°）以下であり、１／４周（９０°）以下あるいは１／５周（７２°）以下で
済ますことも可能である。しかるに、従来一般のプライミング処理装置は、プ
ライミング処理を実行する度毎に後処理として上記のようにプライミングロー
ラを連続回転させてプライミングローラの外周面全体（全周）に洗浄液を噴き
付けるため、洗浄液（通常シンナー）を多量に使用するという問題があった。
【０００７】
本出願人は、この問題を解決するために、特許文献１において、１回のプラ
イミング処理のために、スリットノズルの吐出口とプライミングローラの上端
とを所定のギャップを隔てて対向させ、スリットノズルより一定量の処理液ま
たは塗布液（たとえばレジスト液）を吐出させるとともにプライミングローラ
を所定の回転角だけ回転させて、プライミングローラの半周以下の部分的表面
領域を当該プライミング処理に使用し、連続した所定回数のプライミング処理
が終了した後にプライミングローラの外周面を全周に亘ってまとめて洗浄する
プライミング処理法を開示している。
【０００８】
このプライミング処理法は、プライミングローラの外周面をその周回方向に
複数に分割してそれらの分割領域（部分的表面領域）を連続する所定回数のプ
ライミング処理に順次割り当てて使用し、その後にプライミングローラの外周
面を全周に亘って一括洗浄する。この一括洗浄処理は、回転機構によりプライ
ミングローラを連続回転させながら洗浄機構と乾燥部とを作動させてプライミ
ングローラの外周面を全周に亘ってまとめて洗浄するものであり、各プライミ
ング処理の際にプライミングローラの表面に巻き取られた塗布液の液膜をこす
げ落とすためのスクレーパは不要であり、プライミング処理後の洗浄処理で消
費する洗浄液を節減できるとともに、洗浄処理の際にパーティクルの発生を防
止することもできる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開２００７−２３７０４６
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明は、本出願人が上記特許文献１で開示したプライミング処理法の改良
版であるとともに、独自の観点から、プライミング処理の歩留まりないし信頼
性にも配慮しつつプライミング処理で使用する洗浄液の更なる節減を実現する
ものである。
【００１１】
すなわち、本発明は、プライミング処理の信頼性を保障しつつ洗浄液の使用
量を一層削減できるプライミング処理方法およびプライミング処理装置を提供
する。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明の第１の観点におけるプライミング処理方法は、スピンレス法の塗布
処理に用いるスリットノズルの吐出口付近に塗布処理の下準備として塗布液の
液膜を形成するためのプライミング処理方法であって、１回分のプライミング
処理のために、水平に配置された円筒状または円柱状のプライミングローラの
頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対
向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させてから前記プライミ
ングローラを回転させて、前記プライミングローラの外周面の上に前記吐出さ
れた塗布液の一部を巻き取る第１の工程と、前記プライミングローラの外周面
上に巻き取られた塗布液の液膜を乾燥させて第１乾燥膜とする第２の工程と、
別の１回分のプライミング処理のために、前記第１乾燥膜を外して前記プライ
ミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐
出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させてか
ら前記プライミングローラを回転させて、前記第１乾燥膜とは異なる領域で前
記プライミングローラの外周面の上に前記吐出された塗布液の一部を巻き取る
第３の工程と、前記プライミングローラの外周面上に付着している液膜または
乾燥膜を洗浄によって一括除去する第４の工程とを有する。
【００１３】
また、本発明の第１の観点におけるプライミング処理装置は、スピンレス法
の塗布処理に用いるスリットノズルの吐出口付近に塗布処理の下準備として処
理液の液膜を形成するためのプライミング処理装置であって、所定位置に水平
に配置された円筒状または円柱状のプライミングローラと、前記プライミング
ローラをその中心軸の回りに回転させる回転機構と、前記プライミングローラ
の外周面を洗浄するために洗浄液を噴き付ける洗浄機構と、前記プライミング
ローラの周囲を強制的に排気するための排気機構と、前記回転機構、前記洗浄
部および前記排気部の各動作を制御する制御部とを有し、１回分のプライミン
グ処理のために、前記プライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔
てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一
定量の塗布液を吐出させてから前記回転機構により前記プライミングローラを
回転させて、前記プライミングローラの外周面の上に前記吐出された塗布液の
一部を巻き取り、前記回転機構により前記塗布液の巻き取り後も前記プライミ
ングローラの回転を継続させて、前記プライミングローラの外周面上に巻き取
られた塗布液の液膜を乾燥させて第１乾燥膜とし、別の１回分のプライミング
処理のために、前記第１乾燥膜を外して前記プライミングローラの頂部に対し
て所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前
記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させてから前記プライミングローラ
を回転させて、前記第１乾燥膜とは異なる領域で前記プライミングローラの外
周面の上に前記吐出された塗布液の一部を巻き取り、所望回数の前記プライミ
ング処理が終了した後に、前記回転機構によりプライミングローラを回転させ
ながら前記洗浄機構と前記排気機構とを作動させて、前記プライミングローラ
の外周面上に付着している液膜または乾燥膜を洗浄によって一括除去する。
【００１４】
上記第１の観点のプライミング処理方法または処理装置においては、プライ
ミングローラの外周面上の所望の領域を使用して実施された１回分のプライミ
ング処理の結果として該領域内に残存（付着）する塗布液の液膜を乾燥させて
第１乾燥膜とし、さらにプライミングローラの外周面上の第１乾燥膜とは異な
る領域を使用して後続のプライミング処理を実施する。第１乾燥膜は所定の領
域内に固定されてそこに保持されるため、その近くで後続のプライミング処理
を実施しても第１乾燥膜からの影響（干渉）を受けることはない。
【００１５】
好適には、第１乾燥膜は、自然乾燥により半乾きの状態で形成される。この
ために、プライミングローラ上に塗布液の一部を巻き取った後も、プライミン
グローラの回転をそのまま継続させて、塗布液の自然乾燥を行うのが好ましい
。このような自然乾燥法により、各々の乾燥膜を半乾きの状態で一括洗浄に附
することが可能であり、乾燥膜の洗い落としを容易にし、洗浄液の使用量を削
減することができる。
【００１６】
一括洗浄において、好適には、プライミングローラを回転させながら、プラ
イミングローラの外周面のうち液膜または乾燥膜が付着している領域のみに洗
浄液を噴き付けることにより、洗浄液の使用量を一層削減することができる。
【００１７】
また、好適には、一括洗浄に先立って、プライミングローラの外周面上に付
着している液膜または乾燥膜の範囲および膜厚を測定し、その測定結果に基づ
いて一括洗浄における洗浄液の使用量を決定してよい。このことによって、洗
浄液の使用量をさらに削減することができる。
【００１８】
本発明の第２の観点におけるプライミング処理方法は、スピンレス法の塗布
処理に用いるスリットノズルの吐出口付近に塗布処理の下準備として塗布液の
液膜を形成するためのプライミング処理方法であって、水平に配置された円筒
状または円柱状のプライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて
前記塗布処理用のスリットノズルもしくは非塗布処理用の別のスリットノズル
を平行に対向させ、当該スリットノズルに塗布液を吐出させるとともに、前記
プライミングローラを回転させて、前記プライミングローラの外周面の上に前
記吐出された塗布液の一部または全部を巻き取る第１の工程と、前記プライミ
ングローラの外周面上に巻き取られた塗布液の液膜を乾燥させて第１層の乾燥
膜とする第２の工程と、１回分のプライミング処理のために、前記第１層の乾
燥膜を前記プライミングローラの頂部に位置させて、前記プライミングローラ
の頂部に対して所定のギャップを隔てて前記塗布処理用のスリットノズルの吐
出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させてか
ら前記プライミングローラを回転させて、前記第１層の乾燥膜の上に前記吐出
された塗布液の一部を巻き取る第３の工程と、前記プライミングローラの外周
面上に付着している液膜または乾燥膜を洗浄によって一括除去する第４の工程
とを有する。
【００１９】
本発明の第２の観点におけるプライミング処理装置は、スピンレス法の塗布
処理に用いるスリットノズルの吐出口付近に塗布処理の下準備として処理液の
液膜を形成するためのプライミング処理装置であって、所定位置に水平に配置
された円筒状または円柱状のプライミングローラと、前記プライミングローラ
をその中心軸の回りに回転させる回転機構と、前記プライミングローラの外周
面を洗浄するために洗浄液を噴き付ける洗浄機構と、前記プライミングローラ
の周囲を強制的に排気するための排気機構と、前記回転機構、前記洗浄機構お
よび前記排気機構の各動作を制御する制御部とを有し、前記プライミングロー
ラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記塗布処理用のスリットノズルも
しくは非塗布処理用の別のスリットノズルを平行に対向させ、当該スリットノ
ズルに塗布液を吐出させるとともに前記回転機構により前記プライミングロー
ラを回転させて、前記プライミングローラの外周面の上に前記吐出された塗布
液の一部または全部を巻き取り、前記排気機構を止めたまま、前記回転機構に
より前記塗布液の巻き取り後も前記プライミングローラの回転を継続させて、
前記プライミングローラの外周面上に巻き取られた塗布液の液膜を乾燥させて
第１層の乾燥膜とし、１回分のプライミング処理のために、前記第１層の乾燥
膜を前記プライミングローラの頂部に位置させて、前記プライミングローラの
頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対
向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させてから前記回転機構
により前記プライミングローラを回転させて、前記第１層の乾燥膜の上に前記
吐出された塗布液の一部を巻き取り、所望回数の前記プライミング処理が終了
した後に、前記回転機構によりプライミングローラを回転させながら前記洗浄
機構および前記排気機構を作動させて、前記プライミングローラの外周面上に
付着している液膜または乾燥膜を洗浄によって一括除去する。
【００２０】
上記第２の観点のプライミング処理方法または処理装置においては、或る１
回分のプライミング処理の結果としてプライミングローラの外周面上に形成さ
れた第１層の乾燥膜の上で後続の別のプライミング処理が実施され、それによ
って第１層の乾燥膜の上に重ねて第２層の液膜が巻き取られる。ここで、第１
層の乾燥膜の上に巻き取られる第２層の液膜の長さ（周回方向サイズ）は、プ
ライミングローラの外周面上に巻き取られる第１層の液膜の長さ（周回方向サ
イズ）よりも格段に短いものになる。このことにより、プライミングローラの
一周内で第１層の液膜巻き取りの回数（プライミング処理回数）よりも第２層
の液膜巻き取りの回数（プライミング処理回数）を多くすることもできる。そ
して、第１層および第２層の各液膜（または乾燥膜）は一括洗浄によって同時
に除去される。これによって、プライミングローラ上で洗浄処理を挿まずに連
続して実施できるプライミング処理の回数を大幅に増やすことが可能であり、
一括洗浄における洗浄液の使用量の一層大幅な削減を図ることもできる。
【００２１】
好適な一態様として、上記第２の観点におけるプライミング処理方法は、第
１の工程では、１回分のプライミング処理のために、プライミングローラの頂
部に対して所定のギャップを隔てて塗布処理用のスリットノズルの吐出口を平
行に対向させ、スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させてからプライミン
グローラを回転させて、プライミングローラの外周面上に塗布液の一部を巻き
取る。
【００２２】
また、好適には、第１層の乾燥膜は、自然乾燥により半乾きの状態で形成さ
れる。このために、プライミングローラの外周面の上に塗布液の一部を巻き取
った後も、プライミングローラの回転をそのまま継続させて、排気機構を止め
たままで塗布液膜の自然乾燥を行うのが好ましい。このような自然乾燥法によ
り、各々の乾燥膜を半乾きの状態で一括洗浄に附することが可能であり、乾燥
膜の洗い落としを容易にし、洗浄液の使用量を低減することができる。
【００２３】
別の好適な一態様として、上記第２の観点におけるプライミング処理方法は
、第２の工程と第３の工程との間で、第１層の乾燥膜の膜厚分布特性を測定す
る第５の工程と、膜厚分布特性の測定結果に基づき、第１層の乾燥膜の膜厚均
一性が一定の基準を超えるときは第３の工程の実行を許可する旨の判定結果を
出し、第１層の乾燥膜の膜厚均一性が該基準を超えないときは第３の工程の実
行を中止すべき旨の判定結果を出す第６の工程とを有する。また、上記第２の
観点におけるプライミング処理装置は、プライミングローラ上の乾燥膜の膜厚
を測定するための膜厚測定部を有し、この膜厚測定部により第１層の乾燥膜の
膜厚分布特性を測定し、膜厚分布特性の測定結果に基づき、第１層の乾燥膜の
膜厚均一性が一定の基準を超えるときは第１層の乾燥膜上でのプライミング処
理を実行し、第１層の乾燥膜の膜厚均一性が基準を超えないときは第１層の乾
燥膜上でのプライミング処理を中止する。
【００２４】
このように、後続のプライミング処理でスリットノズルより吐出される塗布
液を受ける下地となる予定の第１層の乾燥膜の膜質状態（膜厚均一性）を検査
する機能を備えることにより、プライミング処理の歩留まりないし信頼性を向
上させることができる。
【００２５】
また、別の好適な一態様においては、第３の工程における周回方向の塗布液
巻き取りサイズが、第１の工程における周回方向の塗布液巻き取りサイズの１
／２未満である。上記のように、第１層の乾燥膜の上に巻き取られる第２層の
液膜の長さ（周回方向サイズ）は、プライミングローラの外周面上に巻き取ら
れる第１層の液膜の長さ（周回方向サイズ）よりも格段（通常１／２以下）に
短いものになる。
【００２６】
この場合、好適な一態様においては、第３の工程で第１層の乾燥膜の上に巻
き取られた塗布液の液膜を乾燥させて第２層の第１乾燥膜とする。その後、こ
の第２層の第１乾燥膜とは異なる領域を使用して第１層の乾燥膜上で更に別の
１回分のプライミング処理を行い、その領域内に塗布液（第２層の第２液膜）
を巻き取る。その後に、一括洗浄において、第１層の乾燥膜と第２層の第１乾
燥膜および第２液膜（または第２乾燥膜）とを同時に洗い落とす。
【００２７】
別の好適な一態様においては、第３の工程で第１層の乾燥膜の上に巻き取ら
れた塗布液の液膜を乾燥させて第２層の乾燥膜とする。その後、この第２層の
乾燥膜を使用して更に別の１回分のプライミング処理を行い、その領域内に塗
布液（第３層の液膜）を巻き取る。その後に、一括洗浄において、第１層の乾
燥膜と第２層の乾燥膜と第３層の液膜（乾燥膜）第１乾燥膜とを同時に洗い落
とす。
【００２８】
また、一括洗浄（第４の工程）において、好ましくは、プライミングローラ
を回転させながら、プライミングローラの外周面のうち液膜または乾燥膜が付
着している領域のみに洗浄液を噴き付ける。これによって、一括洗浄における
洗浄液の使用量を一層削減することができる。また、一括洗浄に先立って、プ
ライミングローラの外周面上に付着している各液膜または乾燥膜の範囲および
膜厚を測定し、その測定結果に基づいて一括洗浄における洗浄液の使用量を決
定するのも好ましく、これによって、一括洗浄における洗浄液使用量の削減を
更に促進することができる。
【００２９】
本発明の第３の観点におけるプライミング処理方法は、スピンレス法の塗布
処理に用いるスリットノズルの吐出口付近に塗布処理の下準備として塗布液の
液膜を形成するためのプライミング処理方法であって、１回分のプライミング
処理のために、水平に配置された円筒状または円柱状のプライミングローラの
頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対
向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させてから前記プライミ
ングローラを回転させて、前記プライミングローラの外周面の上に塗布液の一
部を巻き取る第１の工程と、前記第１の工程で前記プライミングローラの外周
面上に巻き取られた塗布液の液膜を乾燥させて第１層の第１乾燥膜とする第２
の工程と、別の１回分のプライミング処理のために、前記第１層の第１乾燥膜
を外して前記プライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記
スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗
布液を吐出させてから前記プライミングローラを回転させて、前記第１乾燥膜
とは異なる領域で前記プライミングローラの外周面の上に塗布液の一部を巻き
取る第３の工程と、前記第３の工程で前記プライミングローラの外周面上に巻
き取られた塗布液の液膜を乾燥させて第１層の第２乾燥膜とする第４の工程と
、更に別の１回分のプライミング処理のために、前記第１層の第１または第２
乾燥膜を前記プライミングローラの頂部に位置させて、前記プライミングロー
ラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行
に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させてから前記プラ
イミングローラを回転させて、前記第１層の第１または第２乾燥膜の上に塗布
液の一部を巻き取る第５の工程と、前記プライミングローラの外周面上に付着
している全ての膜を洗浄によって一括除去する第６の工程とを有する。
【００３０】
また、本発明の第３の観点におけるプライミング処理装置は、ピンレス法の
塗布処理に用いるスリットノズルの吐出口付近に塗布処理の下準備として処理
液の液膜を形成するためのプライミング処理装置であって、所定位置に水平に
配置された円筒状または円柱状のプライミングローラと、前記プライミングロ
ーラをその中心軸の回りに回転させる回転機構と、前記プライミングローラの
外周面を洗浄するために洗浄液を噴き付ける洗浄機構と、前記プライミングロ
ーラの周囲を強制的に排気するための排気機構と、前記回転機構、前記洗浄機
構および前記排気機構の各動作を制御する制御部とを有し、１回分のプライミ
ング処理のために、前記プライミングローラの頂部に対して所定のギャップを
隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに
一定量の塗布液を吐出させてから前記回転機構により前記プライミングローラ
を回転させて、前記プライミングローラの外周面の上に塗布液の一部を巻き取
り、前記排気機構を止めたまま、前記回転機構により前記塗布液の巻き取り後
も前記プライミングローラの回転を継続させて、前記プライミングローラの外
周面上に巻き取られた塗布液の液膜を乾燥させて第１層の第１乾燥膜とし、別
の１回分のプライミング処理のために、前記第１乾燥膜を外して前記プライミ
ングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出
口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させてから
前記回転機構により前記プライミングローラを回転させて、前記第１乾燥膜と
は異なる領域で前記プライミングローラの外周面上に塗布液の一部を巻き取り
、前記排気機構を止めたまま、前記回転機構により前記塗布液の巻き取り後も
前記プライミングローラを回転させて、前記プライミングローラの外周面上に
巻き取られた塗布液の液膜を乾燥させて第１層の第２乾燥膜とし、更に別の１
回分のプライミング処理のために、前記第１層の第１または第２乾燥膜を前記
プライミングローラの頂部に位置させて、前記プライミングローラの頂部に対
して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、
前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させてから前記回転機構により前
記プライミングローラを回転させて、前記第１層の第１または第２乾燥膜の上
に塗布液の一部を巻き取り、所望回数の前記プライミング処理が終了した後に
、前記回転機構によりプライミングローラを回転させながら前記洗浄機構およ
び前記排気機構を作動させて、前記プライミングローラの外周面上に付着して
いる全ての膜を洗浄によって一括除去する。
【００３１】
上記第３の観点のプライミング処理方法または処理装置においては、プライ
ミングローラの外周面上で洗浄を挿まずに複数回のプライミング処理が行われ
、その度毎に後処理として乾燥工程が行われてプライミングローラの外周面上
に第１層の第１および第２乾燥膜が形成される。そして、第１層の第１または
第２乾燥膜の上でも後続の別のプライミング処理が実施され、それによって第
１層の第１または第２乾燥膜の上に重ねて第２層の液膜が巻き取られる。ここ
で、第１層の乾燥膜の上に巻き取られる第２層の液膜の長さ（周回方向サイズ
）は、プライミングローラの外周面上に巻き取られる液膜の長さ（周回方向サ
イズ）よりも格段に短いものになる。このことにより、プライミングローラの
一周内で第１層の液膜巻き取りの回数（プライミング処理回数）よりも第２層
の液膜巻き取りの回数（プライミング処理回数）を多くすることもできる。第
１層および第２層の各液膜（あるいは乾燥膜）は一括洗浄によって同時に除去
される。
【００３２】
上記第３の観点のプライミング処理方法またはプライミング処理装置におい
ても、上記第２の観点のプライミング処理方法またはプライミング処理装置と
同様に、プライミングローラ上で洗浄処理を挿まずに連続して実施できるプラ
イミング処理の回数を大幅に増やすことが可能であり、一括洗浄における洗浄
液の使用量の一層大幅な削減を図ることもできる。
【００３３】
本発明の第４の観点におけるプライミング処理装置は、スピンレス法の塗布
処理に用いるスリットノズルの吐出口付近に塗布処理の下準備として処理液の
液膜を形成するためのプライミング処理装置であって、１回分のプライミング
処理のために、前記プライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔て
て前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定
量の塗布液を吐出させてから前記プライミングローラを回転させて、前記プラ
イミングローラの外周面の上に塗布液の一部を巻き取るプライミング処理部と
、前記プライミングローラの外周面上に巻き取られた塗布液の液膜またはその
乾燥膜の膜厚分布特性を測定するための膜厚測定部と、前記膜厚測定部より得
られる膜厚分布特性の測定結果に基づいて、前記スリットノズルの吐出機能の
良否を判定するノズル吐出機能判定部とを有する。
【００３４】
上記の構成によれば、プライミング処理を実施した後にプライミングローラ
上に巻き取られている塗布液の液膜またはその乾燥膜の膜厚分布特性からスリ
ットノズルの吐出機能の良否を判定できるので、塗布処理の歩留まりないし信
頼性を向上させることができる。
【発明の効果】
【００３５】
本発明のプライミング処理方法またはプライミング処理装置によれば、上記
のような構成および作用により、プライミング処理の信頼性を保障しつつ洗浄
液の使用量を一層削減することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３６】
【図１】本発明の一実施形態におけるプライミング処理装置の構成を示す図である。
【図２】実施例において１回目のプライミング処理が行われるときの各段階を模式的に示す図である。
【図３】図２のプライミング処理動作におけるプライミングローラの回転速度を時間軸上の波形で示す図である。
【図４】２回目のプライミング処理が行われる時の各段階を模式的に示す図である。
【図５】プライミングローラの一周内で最後（４回目）のプライミング処理および直後の一括洗浄処理が行われるときの各段階を模式的に示す図である。
【図６】図２のプライミング処理動作および一括洗浄処理におけるプライミングローラの回転速度を時間軸上の波形で示す図である。
【図７】洗浄工程におけるプライミング処理装置の作用を説明するための図である。
【図８】第１の実施例におけるプライミング処理方法の大まかな手順を示す斜視図である。
【図９】第１層のレジスト乾燥膜の膜厚分布保特性を測定するための要部の構成および作用を示す図である。
【図１０】第１層のレジスト乾燥膜上で１回目のプライミング処理が行われるときの各段階を模式的に示す図である。
【図１１】第１層のレジスト乾燥膜上で最後のプライミング処理および直後の一括洗浄処理が行われるときの各段階を模式的に示す図である。
【図１２】第１の実施例におけるプライミング処理方法の大まかな手順を示す斜視図である。
【図１３】一変形例におけるプライミング処理が行われるときの各段階を模式的に示す図である。
【図１４】別の変形例においてプライミングローラ上に下地膜（第１層レジスト膜）を形成しその上でプライミング処理を実施する手法を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００３７】
以下、添付図を参照して本発明の好適な実施の形態を説明する。
【００３８】
［プライミング処理装置の構成］
図１に、本発明の一実施形態におけるプライミング処理装置の構成を示す。
このプライミング処理装置は、たとえばＬＣＤ製造プロセス用のフォトリソグ
ラフィー工程においてスピンレス法のレジスト塗布処理を行うレジスト塗布装
置（図示せず）に組み込まれ、レジスト塗布処理のために被処理基板を載置あ
るいは浮上搬送する塗布ステージ（図示せず）の近くに配置される。
【００３９】
図示のプライミング処理装置において、ハウジング１０は、上面にスリット
状の開口部１２を有する長尺形の筐体からなり、収容するプライミングローラ
１４をその頂部が開口部１２を介して上方に露出するように軸受（図示せず）
で水平かつ回転可能に支持している。
【００４０】
プライミングローラ１４は、たとえばステンレス鋼からなる円筒状または円
柱状のローラであり、一定の外径（たとえば１００〜１５０ｍｍ）と後述する
スリットノズル７２の全長をカバーする長さを有している。ハウジング１０も
、たとえばステンレス鋼で作られてよい。
【００４１】
ハウジング１０内には、プライミングローラ１４の頂部（最上部）から底部
（最下部）まで正の回転方向（図１では時計回り）に沿って向う途中に、好ま
しくは回転角位置９０°〜１８０°の区間内に、洗浄機構１６の洗浄ノズル１
８が設けられている。この洗浄ノズル１８は、好ましくは長尺形の２流体ジェ
ットノズル１８からなり、プライミングローラ１４の全長をカバーする長さで
それと平行に配置され、配管２０，２２を介して洗浄液供給部２４およびガス
供給部２６に接続されている。配管２４，２６の途中には開閉弁２８，３０が
それぞれ設けられている。
【００４２】
プライミングローラ１４を洗浄する時は、開閉弁２８，３０が開けられ、２
流体ジェットノズル１８は、洗浄液供給部２４およびガス供給部２６よりそれ
ぞれ洗浄液（たとえばシンナー）およびガス（たとえばエアまたは窒素ガス）
を所望の流量で受け取り、ノズル内で洗浄液とガスとを混合してスリットまた
は多孔型の吐出口よりジェット流でプライミングローラ１６の外周面に噴き付
けるように構成されている。洗浄制御部２５は、洗浄液供給部２４、ガス供給
部２６および開閉弁２８，３０を制御し、特に後述する主制御部７０からの指
示の下で洗浄液およびガスの流量を個別的かつ任意に制御できるようになって
いる。
【００４３】
開口部１２と洗浄機構１６との間の区間は、ハウジング１０の内壁がプライ
ミングローラ１４の外周面と接触しない程度の僅かな隙間を残して近接し、ミ
スト遮蔽部３２となっている。プライミングローラ１４を洗浄する時に２流体
ジェットノズル１８の周囲で発生するミストは、ミスト遮蔽部３２の隙間を通
って開口部１２側へ出ることはなく、そこで遮断されるようになっている。
【００４４】
ハウジング１０内には、プライミングローラ１４を中心にしてミスト遮蔽部
３２および洗浄機構１６の反対側に、ミスト引き込み部３４、吸引口３６およ
び強制乾燥部３８が設けられている。
【００４５】
ミスト引き込み部３４は、好ましくは、プライミングローラ１４の頂部から
回転方向に沿って回転角位置１８０°〜２７０°の区間内に設けられる。図示
の構成例のミスト引き込み部３４は、該区間内でハウジング１０の内壁とプラ
イミングローラ１４の外周面との間に形成されたミスト引き込み用の隙間４０
を有している。
【００４６】
強制乾燥部３８は、好ましくは、プライミングローラ１４の頂部から回転方
向に沿って回転角位置２７０°〜３６０°の区間内に設けられる。図示の構成
例の強制乾燥部３８は、該区間内でハウジング１０の内壁とプライミングロー
ラ１４の外周面との間に形成された液切り用の隙間４２を有している。
【００４７】
吸引口３６は、バキューム通路４４およびバキューム管４６を介して、たと
えば真空ポンプまたは吸気ファン（図示せず）およびミストトラップまたはフ
ィルタ等を有するバキューム装置４８に通じている。バキューム通路４４の終
端付近には、排気弁制御部５０によって開閉制御される排気ダンパ５２が設け
られている。バキューム装置４８をオンにして、排気ダンパ５２を開状態にす
ると、ミスト引き込み部３４および強制乾燥部３８が作動し、ミスト引き込み
用の隙間４０および液切り用の隙間４２に外から吸気口３６に向ってミスト引
き込み用の気流および液切り用の気流がそれぞれ流れるようになっている。排
気ダンパ５２を閉じると、バキューム装置４８がオンしていても、吸気口３６
にはバキュームが及ばず、ミスト引き込み部３４および強制乾燥部３８はオフ
状態になる。
【００４８】
このプライミング処理装置において、プライミングローラ１４の周囲を強制
的に排気するための排気機構４５は、上記のようにミスト引き込み部３４、吸
引口３６、強制乾燥部３８、バキューム装置４８、排気弁制御部５０および排
気ダンパ５２を備えている。
【００４９】
ハウジング１０の底には、プライミングローラ１４の真下の位置にドレイン
口５４が形成されている。このドレイン口５４は排液管５６を介してドレイン
タンク５８に通じている。
【００５０】
このプライミング処理装置において、プライミングローラ１４を回転させる
ための回転機構６５は、モータ６０、回転制御部６２およびエンコーダ６４を
備えている。モータ６０は、好ましくはサーボモータからなり、その回転駆動
軸はたとえばプーリや伝動ベルト等の伝動機構（図示せず）を介してプライミ
ングローラ１４の回転軸に接続されている。回転制御部６２は、モータ６０の
基本動作（回転、停止、速度制御等）だけでなく、エンコーダ６４を通じてモ
ータ６０の回転量および回転角度位置を任意に制御できるようになっている。
【００５１】
このプライミング処理装置には、プライミングローラ１４上のレジスト膜の
膜厚を測定するための膜厚測定部６７が設けられている。膜厚測定部６７は、
膜厚センサ６６および膜厚演算部６８を有している。
【００５２】
膜厚センサ６６は、スリットノズル７２と干渉を起こさないように開口部１
２の近傍に設置または配置され、その位置から真向かいのプライミングローラ
１４の外周面上に付着しているレジスト膜またはその液膜の膜厚を非接触式つ
まり光学式で測定する。別の構成例として、膜厚センサ６６をたとえば支持ア
ーム等で可動に支持し、スリットノズル７２がハウジング１０の開口部１２か
ら遠ざかっているときに、膜厚センサ６６を開口部１２の上に位置合わせして
もよい。
【００５３】
膜厚演算部６８は、膜厚センサ６６の出力信号を入力して、プライミングロ
ーラ１４上のレジスト液膜の膜厚測定値を演算する。好ましくは、プライミン
グローラ１４の軸方向に一定間隔で複数個の膜厚センサ６６が一列に配置され
、プライミングローラ１４の周回方向だけでなく軸方向においてもレジスト液
膜の膜厚分布特性を測定できるようになっている。膜厚測定部６７で得られる
膜厚測定値ないし膜厚分布特性測定値は、主制御部７０に送られる。
【００５４】
主制御部７０は、所定のソフトウェアにしたがって動作するマイクロコンピ
ュータを含み、このプライミング処理装置内の洗浄機構１６、排気機構４５、
回転機構６５および膜厚測定部６７の動作を統括して制御する。図示の構成例
では、主制御部７０が、バキューム装置４８、膜厚センサ６６および膜厚演算
部６８の各動作を直接制御するとともに、洗浄制御部２５、排気弁制御部５０
および回転制御部６２を通じて２流体ジェットノズル１８、排気ダンパ５２お
よびモータ６０の各動作を制御する。さらに、主制御部７０は、回転機構６５
の回転制御部６２を通じてプライミングローラ１４の回転量および回転角位置
を把握ないし制御できるようになっている。
【００５５】
また、主制御部７０は、このプライミング処理装置内の全体のシーケンスを
統括して制御するとともに、少なくともプライミング処理に関しては、当該レ
ジスト塗布装置に備わっているレジスト塗布処理用のスリットノズル７２の一
切の動作を制御するようになっている。
【００５６】
すなわち、当該レジスト塗布装置において、スリットノズル７２は、ノズル
移動機構７４によって支持され、かつ予め設定されたスペース内で任意の位置
に搬送され、任意の位置に位置決めされるようになっている。また、スリット
ノズル７２には、レジスト供給部７６よりレジスト供給管７８を介してレジス
ト液が供給される。ここで、レジスト供給管７８には開閉弁８０が設けられて
いる。プライミング処理に関しては、主制御部７０が、ノズル移動機構７４、
レジスト供給部７６、開閉弁８０を通じて、スリットノズル７２の移動や位置
決め、およびレジスト液吐出動作を制御するようになっている。
【００５７】
［プライミング処理方法の第１の実施例］
次に、図２〜図８につき、このプライミング処理装置で実施可能なプライミ
ング処理方法の第１の実施例を説明する。
【００５８】
このプライミング処理装置が組み込まれている当該レジスト塗布装置におい
ては、塗布ステージ上で基板一枚分の塗布処理が終了する度毎に次の塗布処理
の下準備としてこのプライミング処理装置で１回分のプライミング処理が行わ
れる。
【００５９】
図２に、プライミングローラ１４の外周面が全周にわたり清浄な状態にリセ
ットされてから最初（１回目）のプライミング処理が行われるときの各段階を
示す。図３に、図２のプライミング処理動作におけるプライミングローラ１４
の回転速度を時間軸上の波形で示す。
【００６０】
この１回目のプライミング処理では、先ず、図１に示すように、スリットノ
ズル７２の吐出口がプライミングローラ１４の頂部と所定のギャップ（たとえ
ば数十〜数百μｍ）を隔てて平行に対向するように、ノズル移動機構７４を通
じてスリットノズル７２を位置決めする。この場面では、洗浄機構１６はもち
ろん、排気機構４５も止めたままにしておく。
【００６１】
次に、図２のＩ（吐出）に示すように、プライミングローラ１４を静止させ
たままで、レジスト供給部７６を通じてスリットノズル７２に一定量のレジス
ト液Ｒを吐出させる。
【００６２】
このレジスト液吐出の動作は、一定時間（図３のｔ０〜ｔ１）内に行われる。
スリットノズル７２の吐出口より吐出されたレジスト液Ｒは、プライミングロ
ーラ１４の頂部付近に着液してから周回方向で周囲に広がる。
【００６３】
次いで、回転機構６５により所定のタイミング（図３の時点ｔ１）でプライ
ミングローラ１４に回転動作を開始させ、図２のII（巻き取り）に示すように
、レジスト液Ｒをスリットノズル７２の背面下部７２ａに回り込ませるように
して、プライミングローラ１４の外周面上にレジスト液Ｒを巻き取る。ここで
、レジスト液Ｒを巻き取るときの回転速度Ｖａは、レジスト液Ｒの液膜を早急
に断ち切ってしまわないような比較的低い速度が好ましく、たとえば周速度で
数十ｍｍ／秒に選ばれる。
【００６４】
次いで、所定のタイミング（図３の時点ｔ２）でプライミングローラ１４の
回転速度を一気に上げる。これによって、図２のIII（切り離し）に示すよう
に、レジスト液Ｒの液膜が切り離されて、スリットノズル７２側とプライミン
グローラ１４側とに分かれる。この際、スリットノズル７２を上昇させると、
レジスト液膜の分離を所定の部位でより円滑かつ確実に行うことができる。こ
うして、スリットノズル７２には、ノズル吐出口から背面下端部７２ａにかけ
てレジスト液の液膜ＲＦが残る。一方、プライミングローラ１４の外周面上に
は、上記のようにして巻き取られたレジスト液の液膜ＲＭ１が残る。このレジ
スト液膜ＲＭ１の周回方向巻き取りサイズは、回転角度範囲でたとえば７０°
〜７５°のサイズに設定することができる。
【００６５】
この実施例では、レジスト液膜ＲＭ１を切り離した後も、図２のIV（自然乾
燥）に示すようにプライミングローラ１４の回転をそのまま継続させる。この
際、プライミングローラ１４の回転速度は、図３の実線Ｖで示すように、レジ
スト液膜を切り離した直後（図３の時点ｔ３）の速度Ｖｂ（たとえば周速度で数
百ｍｍ／秒）をそのまま維持してもよく、あるいは仮想線（一点鎖線）Ｖ’で
示すように異なる速度（たとえば周速度で数十ｍｍ／秒）に切り換えてもよい
。なお、この自然乾燥（IV）の間も、排気機構４５は止めておく。
【００６６】
この実施例では、このようにプライミングローラ１４上に巻き取られたレジ
スト液膜ＲＭ１を切り取った後もプライミングローラ１４の回転をそのまま継
続させる動作によって、２つの重要な効果が奏される。
【００６７】
第１の効果は、プライミングローラ１４上に巻き取られたレジスト液膜ＲＭ
１の液垂れを防止できることである。すなわち、巻き取り（II）および切り離
し（III）の動作中に、プライミングローラ１４上のレジスト液膜ＲＭ１は、プ
ライミングローラ１４の頂部から底部に向って周回方向に移動する。
【００６８】
仮に、ここでプライミングローラ１４の回転を止めたならば、レジスト液膜
ＲＭ１には重力によって周回方向下向きの力が持続的に働いて、プライミング
ローラ１４の外周面上でレジスト液膜ＲＭ１が下に垂れる（広がる）。スリッ
トノズルを使用するスピンレス塗布法では、通常２０ｃｐ以下の低粘度レジス
ト液が使用されるため、プライミングローラ上で上記のようなレジスト液膜の
液垂れが生じやすい。
【００６９】
しかるに、この実施例では、プライミングローラ１４の回転を止めずにその
まま継続させることによって、レジスト液膜ＲＭ１に働く重力の作用（液垂れ
を誘引する力）を実質的にキャンセルし、プライミングローラ１４上に巻き取
ったレジスト液膜ＲＭ１を液垂れで広げることなく表面張力で所定の領域（分
割領域）内に止めておくことができる。
【００７０】
第２の効果として、排気機構４５を止めたまま、プライミングローラ１４の
回転を継続させることにより、プライミングローラ１４上に巻き取られたレジ
スト液膜ＲＭ１を短時間で効率よく自然乾燥させることができる。
【００７１】
すなわち、排気機構４５をオンにしてプライミングローラ１４を回転させる
と、プライミングローラ１４上のレジスト液膜ＲＭ１が強制乾燥部３８の隙間
４２の中で逆風による大きなストレスを受けて、膜厚均一性を低下させやすい
。特に、強制乾燥部３８の隙間４２内でレジスト液膜ＲＭ１に加わる逆風の圧
力に軸方向でばらつきがあると、レジスト液膜ＲＭ１の表面に周回方向に延び
る筋状の凹凸が付きやすい。排気機構４５を止めておけば、プライミングロー
ラ１４の回転中にその外周面上のレジスト液膜ＲＭ１は隙間４２を通過する時
でも逆風の圧力を受けることはなく、大気中に静止状態で放置されていた場合
と同等の自然乾燥を受ける。
【００７２】
こうして、プライミングローラ１４上のレジスト液膜ＲＭ１は、自然乾燥に
よって、膜の内部は液状のままで膜の表層部が乾燥固化した半乾きまたは生乾
きの状態になる。このような半乾きの状態に至ると、プライミングローラ１４
の回転を止めても、レジスト液膜ＲＭ１の液垂れは生じない。
【００７３】
この実施形態では、自然乾燥工程後の半乾き状態になったレジスト液膜ＲＭ
ｉ（ｉ＝１，２，３・・）を、自然乾燥工程前の完全な液状態の液膜と区別す
るために、レジスト乾燥膜［ＲＭｉ］と称する。
【００７４】
上記のようなプライミングローラ１４の回転によるレジスト液膜ＲＭ１の自
然乾燥（IV）は、一定の時間（図３のｔ３〜ｔ４）をかけて行われる。この間に
、スリットノズル７２は、ノズル移動機構７４によって塗布ステージへ送られ
、そこで基板一枚分のレジスト塗布処理に供される。そして、レジスト塗布処
理を終えると、スリットノズル７２は、再びこのプライミング処理装置へ戻っ
てきて、図１に示すように、その吐出口がプライミングローラ１４の頂部に対
して所定のギャップを隔てて平行に対向するように位置決めされる。
【００７５】
図４に、２回目のプライミング処理が行われるときの各段階を示す。この２
回目のプライミング処理では、図４のＩ（吐出）に示すように、前回（１回目
）のプライミング処理でプライミングローラ１４に巻き取られている第１のレ
ジスト乾燥膜［ＲＭ１］を外してプライミングローラ１４の頂部をスリットノ
ズル７２の吐出口に対向させた状態で、スリットノズル７２に一定量のレジス
ト液Ｒを吐出させる。
【００７６】
次いで、図４に示すように、１回目のプライミング処理のときと同じ動作お
よびタイミングでレジスト液Ｒの巻き取り（II）、切り離し（III）、自然乾
燥（IV）の各工程が順次行われる。
【００７７】
この場合も、１回目のプライミング処理のときと同様に、巻き取り（II）お
よび切り離し（III）の工程により、プライミングローラ１４の外周面上に所
定の周回方向サイズ（回転角度範囲で７０°〜７５°）でレジスト液Ｒが巻き
取られてレジスト液膜ＲＭ２が形成される。そして、プライミングローラ１４
の回転をそのまま継続して切り離し（III）から自然乾燥（IV）の動作に移行
し、液垂れを起こさずに所定の領域内でレジスト液膜ＲＭ２を自然乾燥させる
。こうして、プライミングローラ１４の外周面上には、第１レジスト乾燥膜［
ＲＭ１］とは異なる領域に、通常は回転方向において下流側の隣に設定された
分割領域内に、今回（２回目）のプライミング処理に付随した残存物として第
２レジスト乾燥膜［ＲＭ２］が所定の周回方向サイズ（７０°〜７５°）で形
成される。
【００７８】
３回目のプライミング処理も、図示省略するが、上述した１回目および２回
目のプライミング処理と同じ手順および動作で行われる。結果として、第１お
よび第２のレジスト乾燥膜［ＲＭ１］，［ＲＭ２］とは異なる領域に、通常は回
転方向において第２レジスト乾燥膜［ＲＭ２］の下流側の隣に設定された分割
領域内に、３回目のプライミング処理に付随した残存物として第３レジスト乾
燥膜［ＲＭ３］が所定の周回方向サイズ（７０°〜７５°）で形成される。
【００７９】
なお、３回目のプライミング処理が終了した時点で、第３レジスト乾燥膜［
ＲＭ３］は上述したように自然乾燥により半乾き状態になっているが、第１お
よび第２レジスト乾燥膜［ＲＭ１］，［ＲＭ２］も依然として半乾き状態を保っ
ている。すなわち、第１および第２レジスト乾燥膜［ＲＭ１］，［ＲＭ２］は、
プライミングローラ１４上で強制乾燥処理や加熱処理を一切受けていないので
、自然乾燥の時間が数倍長くてもまだ半乾き状態のままでいる。
【００８０】
この第１の実施例では、プライミングローラ１４の外周面が全周にわたり清
浄な状態にリセットされてから連続して所定回数たとえば４回のプライミング
処理を行った直後に、プライミングローラ１４の一括洗浄（外周面全周の清浄
化）を行うようにしている。
【００８１】
図５に、プライミングローラ１４の一周内で最後（４回目）のプライミング
処理および直後の一括洗浄処理が行われるときの各段階を示す。図６に、図５
のプライミング処理動作および一括洗浄処理動作におけるプライミングローラ
１４の回転速度を時間軸上の波形で示す。
【００８２】
最後（４回目）のプライミング処理でも、図５に示すように、レジスト液Ｒ
の吐出（Ｉ）、巻き取り（II）および切り離し（III）の各工程は１回目〜３
回目の各プライミング処理のときと同じであり、プライミングローラ１４の外
周面上には回転方向において第３レジスト乾燥膜［ＲＭ３］の下流側隣の分割
領域内にレジスト液膜ＲＭ４が巻き取られる。
【００８３】
しかし、切り離し（III）の後は、自然乾燥（IV）の工程をスキップして、
プライミングローラ１４の回転を継続したまま、洗浄(V)の工程に移行する。
この洗浄(V)の工程では、洗浄機構１６および排気機構４５を作動させる。
【００８４】
なお、洗浄(V)の工程を開始する前に、主制御部７０は、回転機構６５およ
び膜厚測定部６７を通じて、プライミングローラ１４上に付着しているレジス
ト乾燥膜［ＲＭ１］，［ＲＭ２］，［ＲＭ３］およびレジスト液膜ＲＭ４の範囲
（面積）および膜厚を測定し、その測定結果に基づいて洗浄(V)の工程におけ
る洗浄液の使用量を演算によって決定する。たとえば、プライミングローラ１
４上に付着している全てのレジスト膜（液膜または乾燥膜）の総レジスト量（
範囲×膜厚）を基準値とし、洗浄液使用量をその基準値（総レジスト量）に等
しい値に決定してよい。
【００８５】
また、レジスト膜測定に関しては、通常はプライミングローラ１４上で同じ
プライミング処理が繰り返されるので、各分割領域に付着しているレジスト膜
［ＲＭ１］，［ＲＭ２］，［ＲＭ３］，ＲＭ４の範囲および膜厚は同じであると
みなし、その中の一つ、たとえば［ＲＭ１］の範囲（面積）および膜厚だけの
測定で済ましてもよい。
【００８６】
洗浄(V)の工程における好適な一態様として、主制御部７０は、２流体ジェ
ットノズル１８がプライミングローラ１４の外周面全周の中でレジスト膜［Ｒ
Ｍ１］，［ＲＭ２］，［ＲＭ３］，ＲＭ４が付着している領域のみに洗浄液およ
びエアの２流体ジェット流を噴き付けるように、回転機構６５と洗浄機構１６
とを連動（連携）させて制御する。ここで、洗浄液の流量ないし使用量は、上
記のようなレジスト膜測定に基づいて決定されたものである。
【００８７】
こうして、２流体ジェットノズル１８より噴射される２流体ジェット流の強
い衝撃力により、プライミングローラ１４の外周面上に付着したばかりのレジ
スト液膜ＲＭ４はもちろん半乾き状態のレジスト乾燥膜［ＲＭ１］，［ＲＭ２］
，［ＲＭ３］も容易に洗い落とされ、その多くは洗浄液に混じって直下のドレ
イン口５４へ落下し、残りはミストｍａに変じて付近に飛散する。こうして一
括洗浄中に２流体ジェットノズル１８の周囲で発生するミストｍａのうち上方
へ舞い上がったものは、ミスト遮蔽部３２に遮られ、ハウジング１０の開口部
１２側に出ることはほとんどない。
【００８８】
一方、排気機構４５では、排気ダンパ５２が開いて、バキューム装置４８か
らのバキュームがバキューム管４６、バキューム通路４４および吸引口３６を
介してミスト引き込み部３４および強制乾燥部３８に供給される。
【００８９】
図７に示すように、ミスト引き込み部３４は、２流体ジェットノズル１８の
周囲で発生するミストｍａを隙間４０の下端から中に吸い込み、隙間４０の中
でミストｍａをプライミングローラ１４の外周面に沿って回転方向に流し、隙
間４０の上端から吸引口３６に出たミストｍａをバキューム装置４８へ送る。
強制乾燥部３８は、開口部１２を介して上方の大気空間よりエアを隙間４２の
中に吸い込んで、隙間４２の中でエアをプライミングローラ１４の外周に沿っ
て回転方向と逆向きに流し、プライミングローラ１４の外周面に残っている液
をエアの圧力で削ぎ落として液滴化し、隙間４２の下端から吸引口３６に出た
ミストｍｂをバキューム装置４８へ送る。このように、バキュームを利用して
プライミングローラ１４の外周面に対して回転方向と逆向きのエア流を当てて
液切りし、その液切りで発生したミストｍｂをそのままバキュームで回収する
ので、乾燥効率が高いうえミストの飛散を防止することができる。
【００９０】
上記のような洗浄（V）の工程を開始してから所定時間が経過した時（図６
の時点ｔ５）に洗浄機構１６をオフして、２流体ジェット洗浄を止める。その
後は、プライミングローラ１４を連続回転させたまま排気機構４５（ミスト引
き込み部３４および強制乾燥部３８）の動作だけを継続させ、プライミングロ
ーラ１４の外周面を全周に亘りバキュームの力で乾かす強制乾燥（VI）の工程
に切り換える。そして、所定時間の経過後に、排気ダンパ５２を閉じて排気機
構４５をオフにして乾燥処理を停止し、これで一括洗浄処理の全工程を終了す
る。
【００９１】
なお、タクトを揃える観点から、一括洗浄処理において洗浄(V)および強制
乾燥（VI）を合わせた全処理時間（図６のｔ３〜ｔ６）が、自然乾燥（IV）の処
理時間（図３のｔ３〜ｔ４）と同じ長さ（たとえば６０秒）に設定されるのが好
ましい。この場合、洗浄(V)の処理時間（図６のｔ３〜ｔ５）がたとえば２０秒
に設定され、強制乾燥（VI）の処理時間（図６のｔ５〜ｔ６）がたとえば４０秒
に設定されてよい。
【００９２】
上述したように、この第１の実施例によれば、プライミングローラ１４の外
周面をその周回方向に複数（たとえば４つ）に分割して各分割領域を連続する
所定回数（４回）のプライミング処理に割り当てて使用し、最後（４回目）の
プライミング処理を除く各プライミング処理においては、レジスト液の液膜Ｒ
Ｍｉを巻き取った後もプライミングローラ１４の回転をそのまま継続させる動
作によって、レジスト液膜ＲＭｉの液垂れを防止してレジスト液膜ＲＭｉを各分
割（割当）領域内に保持できるとともに、レジスト液膜ＲＭｉを短時間で効率
よく自然乾燥させて半乾き状態のレジスト乾燥膜［ＲＭｉ］とすることができ
る。
【００９３】
このように、プライミングローラ１４上で、レジスト液膜ＲＭｉの液垂れを
防止できるので、隣の未使用分割領域を汚すおそれはなく、したがって後続の
プライミング処理が前のプライミング処理によって影響を受けることはなく、
プライミング処理の再現性および信頼性を向上させることができる。
【００９４】
また、プライミングローラ１４上に付着した各レジスト液膜ＲＭｉは自然乾
燥による半乾き状態のレジスト乾燥膜［ＲＭｉ］として、あるいは完全な液状
の状態で洗浄されるので、洗い落としが容易であり、洗浄機構１６の負担を軽
減し、洗浄液の使用量を少なくすることができる。
【００９５】
さらに、一括洗浄では、プライミングローラ１４の外周面のうちレジスト膜
［ＲＭ１］，［ＲＭ２］，［ＲＭ３］，ＲＭ４が付着している領域のみに適量の
洗浄液を噴き付けるので、洗浄液の使用量を一層削減することができる。
【００９６】
なお、図示の例では、プライミングローラ１４の外周面を４分割し、１回の
プライミング処理における周回方向のレジスト液巻き取りサイズを７０°〜７
５°とした。しかし、任意の分割数および巻き取りサイズが可能であり、たと
えば１回当たりの周回方向巻き取りサイズを７０°以下で済まし、プライミン
グローラ１４の外周面を５分割して５回連続使用することも可能である。また
、プライミングローラ１４の外周面上に一周に亘って設定される複数の分割領
域の間でプライミング処理に使用される順序は任意（順不同）であり、配列順
序に一致させなくてもよい。
【００９７】
図８に、上述した第１の実施例によるプライミング処理方法の大まかな手順
を斜視図で示す。
【００９８】
［プライミング処理方法の第２の実施例］
次に、図９〜図１２につき、このプライミング処理装置で実施可能なプライ
ミング処理方法の第２の実施例を説明する。
【００９９】
この第２の実施例は、プライミングローラ１４上で洗浄処理を挿まずに連続
して行えるプライミング処理の回数を飛躍的に増やせる手法である。この実施
例では、プライミングローラ１４の外周面を使用して一周内の最後（４回目）
のプライミング処理においてプライミングローラ１４上に巻き取られたレジス
ト液の液膜ＲＭ４を切り離すステップ（図５のIII（切り離し））までは、第１
の実施例と同じプロセスを経る。
【０１００】
第２の実施例において、この先は、一括洗浄（V）ではなく、１回目〜３回
目のプライミング処理の場合と同様に自然乾燥（IV）の工程に移行する。結果
として、プライミングローラ１４の外周面上には、第３レジスト乾燥膜［ＲＭ
３］と第１レジスト乾燥膜［ＲＭ１］との間に設定された分割領域内に、４回目
のプライミング処理に付随した残存物として第４レジスト乾燥膜［ＲＭ４］が
所定の周回方向サイズ（７０°〜７５°）で形成される。
【０１０１】
次いで、図９に示すように、主制御部７０は、回転機構６５および膜厚測定
部６７を通じて、プライミングローラ１４上に付着している全てのレジスト乾
燥膜［ＲＭ１］，［ＲＭ２］，［ＲＭ３］，［ＲＭ４］の各々の膜厚分布特性を
測定する。上述したような洗浄（V）前の膜厚測定は洗浄液の使用量を決定す
るためのものであるからそれほど高い精度を必要としないが、この場面での膜
厚分布特性はプライミング処理の信頼性（再現性）に直接関係するため出来る
だけ高い精度で測定するのが望ましい。
【０１０２】
すなわち、この第２の実施例では、プライミングローラ１４の外周面上に形
成された第１層のレジスト乾燥膜［ＲＭ１］，［ＲＭ２］，［ＲＭ３］，［ＲＭ
４］は、後続のプライミング処理においてスリットノズル７２から吐出される
レジスト液Ｒを受ける下地に使われる。この下地膜の膜厚均一性（平坦度）は
、その上に巻き取られるレジスト液膜の均一性（平坦度）だけでなく、スリッ
トノズル７２の吐出口側に残るレジスト液膜ＲＦの均一性に影響し、ひいては
レジスト塗布処理で基板上に塗布されるレジスト膜の膜厚均一性に影響する。
【０１０３】
この点に関して、自然乾燥（IV）の工程は、プライミングローラ１４上のレ
ジスト液膜ＲＭiに強制乾燥によるストレスを与えないので、通常は膜厚均一
性（平坦度）の優れたレジスト乾燥膜［ＲＭi］を得ることができる。しかし
、周囲からの不所望な圧力あるいは振動等の外乱があったり、スリットノズル
７２の吐出機能に異常があったりすると、レジスト乾燥膜［ＲＭi］の膜厚均
一性（平坦度）が良くない場合もあり得る。この実施形態では、プライミング
処理の精度および再現性に万全を期すために、上記のように回転機構６５およ
び膜厚測定部６７を作動させて、全てのレジスト乾燥膜［ＲＭ１］，［ＲＭ２］
，［ＲＭ３］，［ＲＭ４］について膜厚均一性を検査する。
【０１０４】
より詳しくは、主制御部７０は、膜厚分布特性の測定結果に基づき、膜厚均
一性が所定の基準を超えるときは、当該レジスト乾燥膜［ＲＭｉ］を後続の別
のプライミング処理に使用可能な良品と判定する。しかし、膜厚均一性が該基
準を超えないときは、当該レジスト乾燥膜［ＲＭｉ］を後続のプライミング処
理には使用不可の不良品と判定する。以下の説明では、第１層のレジスト乾燥
膜［ＲＭ１］，［ＲＭ２］，［ＲＭ３］，［ＲＭ４］が全て使用可（良品）の認
定を受けたものとする。
【０１０５】
図１０に、第２の実施例において、プライミングローラ１４の外周面上に既
に形成されている第１レジスト乾燥膜［ＲＭ１］の上で後続たとえば５回目の
プライミング処理が行われるときの各段階を示す。
【０１０６】
この５回目のプライミング処理では、先ず、第１層の第１レジスト乾燥膜［
ＲＭ１］をプライミングローラ１４の頂部に位置させて、スリットノズル７２
の吐出口がプライミングローラ１４の頂部と所定のギャップ（たとえば数十〜
数百μｍ）を隔てて平行に対向するように、ノズル移動機構７４を通じてスリ
ットノズル７２を位置決めする。
【０１０７】
次に、図１０のＩ（吐出）に示すように、プライミングローラ１４を静止さ
せたままで、レジスト供給部７６を通じてスリットノズル７２に一定量のレジ
スト液Ｒを吐出させる。
【０１０８】
このレジスト液吐出の動作は、一定時間（図３のｔ０〜ｔ１）内に行われる。
スリットノズル７２の吐出口より吐出されたレジスト液Ｒは、プライミングロ
ーラ１４の頂部つまり第１層の第１レジスト乾燥膜［ＲＭ１］上に着液してか
ら周回方向で周囲に広がる。
【０１０９】
次いで、回転機構６５により所定のタイミングでプライミングローラ１４に
回転を開始させ、図１０のII（巻き取り）に示すように、レジスト液Ｒをスリ
ットノズル７２の背面下部７２ａに回り込ませるようにして、第１レジスト乾
燥膜［ＲＭ１］上にレジスト液Ｒを巻き取る。
【０１１０】
ここで、スリットノズル７２より吐出されたレジスト液Ｒは同一材質である
第１レジスト乾燥膜［ＲＭ１］に付着しやすいので、プライミングローラ１４
の外周面上に巻き取るときよりも巻き取り時間（図３のｔ１〜ｔ２）を一段短く
する。これにより、切り離し（III）の工程によって第１レジスト乾燥膜［Ｒ
Ｍ１］側に残るレジスト液膜ｒｍ１はプライミングローラ１４の外周面上で切り
離し（III）を行った場合よりも大きな膜厚と短い長さ（周回方向巻き取りサ
イズ）を有している。なお、スリットノズル７２側に残るレジスト液膜ＲＦは
、プライミングローラ１４の外周面上で切り取り（III）を行った場合と略同
じである。
【０１１１】
一例として、第１層のレジスト乾燥膜［ＲＭ１］の周回方向巻き取りサイズ
が４０ｍｍである場合に、今回（５回目）のプライミング処理で第１層のレジ
スト乾燥膜［ＲＭ１］上に巻き取られる第２層のレジスト液Ｒの液膜ｒｍ１の周
回方向巻き取りサイズを１０ｍｍ以下にすることができる。なお、プライミン
グ処理でプライミングローラ１４側に巻き取られるレジスト液膜の膜厚は通常
数μｍ以下であるから、多層重ねの巻き取りを行っても、スリットノズル７２
とプライミングローラ１４間のギャップ間隔（数十〜数百μｍ）に実質的な影
響を与えることはない。
【０１１２】
切り離し（III）工程の後は、第１層のときのプライミング処理のときと同
様に、プライミングローラ１４の回転をそのまま継続させて自然乾燥（IV）の
工程に移行し、所定時間の経過後にプライミングローラ１４の回転を止める。
その結果、プライミングローラ１４において、第１層の第１レジスト乾燥膜［
ＲＭ１］上に、５回目のプライミング処理に付随した残存物として第２層の第
１レジスト乾燥膜［ｒｍ１］が所定の周回方向サイズ（たとえば約１８°）で
形成される。
【０１１３】
後続の６回目および７回目のプライミング処理も、上述した５回目のプライ
ミング処理と全く同じ手順により、第１層の第２レジスト乾燥膜［ＲＭ２］お
よび第３レジスト乾燥膜［ＲＭ３］上でそれぞれ行われる。
【０１１４】
これにより、プライミングローラ１４において、第１層の第２レジスト乾燥
膜［ＲＭ２］上には、６回目のプライミング処理に付随した残存物として第２
層の第２レジスト乾燥膜［ｒｍ２］が上記と略同じ周回方向サイズ（約１８°
）で形成される。また、第１層の第３レジスト乾燥膜［ＲＭ３］上には、７回
目のプライミング処理に付随した残存物として第２層の第３レジスト乾燥膜［
ｒｍ３］が上記と略同じ周回方向サイズ（約１８°）で形成される。
【０１１５】
この第２の実施例では、図１１に示すように、８回目のプライミング処理に
おいて第１層の第４レジスト乾燥膜［ＲＭ４］上に第２層のレジスト液膜ｒｍ４
を巻き取った直後に、プライミングローラ１４の一括洗浄（外周面全周清浄化
）を行うようにしている。
【０１１６】
すなわち、図１１に示すように、８回目のプライミング処理でも、レジスト
液Ｒの吐出（Ｉ）、巻き取り（II）および切り離し（III）の各工程は５回目
〜７回目のプライミング処理のときと同じであり、第１層の第４レジスト乾燥
膜［ＲＭ４］上にレジスト液膜ｒｍ４が巻き取られる。
【０１１７】
しかし、切り離し（III）の後は、自然乾燥（IV）の工程をスキップして、
プライミングローラ１４の回転を継続したまま、洗浄(V)の工程に移行する。
この洗浄(V)の工程では、洗浄機構１６および排気機構４５を作動させる。
【０１１８】
この場面でも、洗浄(V)の工程を開始する前に、主制御部７０は、回転機構
６５および膜厚測定部６７を通じて、プライミングローラ１４上に付着してい
る第１層のレジスト乾燥膜［ＲＭ１］，［ＲＭ２］，［ＲＭ３］，［ＲＭ４］、
第２層のレジスト乾燥膜［ｒｍ１］，［ｒｍ２］，［ｒｍ３］およびレジスト液
膜ｒｍ４の範囲（面積）および膜厚を測定し、その測定結果に基づいて洗浄(V)
の工程における洗浄液の使用量を演算によって決定する。たとえば、プライミ
ングローラ１４上に付着している全てのレジスト膜（液膜または乾燥膜）の総
レジスト量（範囲×膜厚）を基準値とし、たとえば洗浄液使用量をその基準値
（総レジスト量）に等しい値に決定してよい。
【０１１９】
この第２の実施例の一括洗浄処理における洗浄(V)および強制乾燥（VI）の
工程は、基本的には、上述した第１の実施例の一括洗浄処理における洗浄(V)
および強制乾燥（VI）の工程とそれぞれ同一内容のプロセスであってよい。
【０１２０】
この第２の実施例によれば、上述した第１の実施例における作用効果を全部
含むだけでなく、第１層のレジスト乾燥膜［ＲＭ１］，［ＲＭ２］，［ＲＭ３］
，［ＲＭ４］上でも後続のプライミング処理を重ねて実施してから、まとめて
プライミングローラ１４の一括洗浄処理を行うようにしたので、洗浄液使用量
の削減効果を倍増させることができる。
【０１２１】
図１２に、上述した第２の実施例によるプライミング処理方法の大まかな手
順を斜視図で示す。
【０１２２】
［変形例および他の実施例］
上述した第２の実施例においても、プライミングローラ１４の外周面上に一
周に亘って巻き取られる第１層の複数のレジスト乾燥膜［ＲＭｉ］の個数およ
び巻き取り順序を任意に選択できるだけでなく、たとえば図１３に示すように
、第１層のレジスト乾燥膜［ＲＭｉ］上に巻き取られる第２層のレジスト液膜
ｒｍｉの個数および巻き取り順序も任意に選択できる。
【０１２３】
また、第２の実施例において、第１層のレジスト乾燥膜［ＲＭｉ］上で第２
層分のプライミング処理を行ってから、その第１層のレジスト乾燥膜［ＲＭｉ
］とは異なる領域でプライミングローラ１４の外周面上で別の第１層分のプラ
イミング処理を行うことも可能である。
【０１２４】
また、第２の実施例においては、上述したように１回分のプライミング処理
において、プライミングローラ１４の外周面上に形成される第１層のレジスト
液膜ＲＭの周回方向巻き取りサイズよりも、第１層のレジスト乾燥膜上に形成
される第２層のレジスト液膜ｒｍの周回方向巻き取りサイズが格段（数分の一
以下）に短くなる。したがって、たとえば図１４に示すように、先ずプライミ
ングローラ１４の外周面上に、下地膜の形成のために第１層のレジスト液膜Ｒ
Ｍを好ましくは略全周に亘って形成し、これを上記と同様の自然乾燥によりレ
ジスト乾燥膜［ＲＭ］とする。この第１層のレジスト乾燥膜［ＲＭ］つまり下
地膜の上では、周回方向に分割領域を短く区切って相当多く（たとえば１０回
以上）のプライミング処理を実施することができる。
【０１２５】
なお、プライミングローラ１４の外周面上に下地膜（第１層のレジスト膜）
を形成するための処理では、プライミングローラ１４を通常とは逆方向に回転
させてもよく、また、レジスト塗布用のスリットノズル７２に代えてたとえば
プライミング処理装置に専属の別のスリットノズルを使用してもよい。
【０１２６】
また、プライミングローラ１４において、上記のようにして形成された第２
層のレジスト乾燥膜ｒｍ上で後続のプライミング処理を実施して第３層のレジ
スト液膜を巻き取ることも可能である。更には、４層以上重ねて多数回のプラ
イミング処理を実施することも可能である。
【０１２７】
一括洗浄処理においては、洗浄液の使用量は増えるが、プライミングローラ
１４の外周面全周に洗浄液を噴き付けることも可能である。
【０１２８】
プライミング処理装置内の各部の構成または機能も上述した実施形態のもの
に限定されない。たとえば、洗浄機構１６において２流体ジェットノズル以外
の洗浄ツールたとえばスクレーパも使用または併用可能であり、排気機構４５
の各部、特に強制乾燥部３８の構成を種種変形することができる。
【０１２９】
上述した実施形態のプライミング処理装置においては、プライミング処理の
結果としてプライミングローラ上に残るレジスト液膜（または乾燥膜）の膜厚
分布特性を測定する構成および機能（図９）を利用して、スリットノズル７２
側のレシスト吐出機能（特にスリット長手方向における吐出流の均一性）を検
査し、レジスト塗布処理の歩留まりないし信頼性を向上させることもできる。
【０１３０】
本発明における塗布液としては、レジスト液以外にも、たとえば層間絶縁材
料、誘電体材料、配線材料等の塗布液も可能であり、各種薬液、現像液やリン
ス液等も可能である。本発明における被処理基板はＬＣＤ基板に限らず、他の
フラットパネルディスプレイ用基板、半導体ウエハ、ＣＤ基板、フォトマスク
、プリント基板等も可能である。
【符号の説明】
【０１３１】
１０    プライミング処理装置
１２    開口部
１４    プライミングローラ
１６    洗浄機構
１８    ２流体ジェットノズル
３６    バキューム口
３８    強制乾燥部
４５    排気機構
６０    モータ
６２    回転制御部
６５    回転機構
７０    主制御部
７２    スリットノズル
７４    ノズル移動機構
【図１】
2010279907.tif 000003
【図２】
2010279907.tif 000004
【図３】
2010279907.tif 000005
【図４】
2010279907.tif 000006
【図５】
2010279907.tif 000007
【図６】
2010279907.tif 000008
【図７】
2010279907.tif 000009
【図８】
2010279907.tif 000010
【図９】
2010279907.tif 000011
【図１０】
2010279907.tif 000012
【図１１】
2010279907.tif 000013
【図１２】
2010279907.tif 000014
【図１３】
2010279907.tif 000015
【図１４】
2010279907.tif 000016