(57)【要約】【課題】磁気ヘッドスライダと磁気ディスクとの間に塵埃が挟み込まれることを抑制すると共に、磁気ヘッドスライダの損傷を抑制することを可能とする。【解決手段】本発明の磁気ヘッドスライダ１０は、磁気ディスク２に対向するディスク対向面１０ａに、気体流の流入側の端に沿って延びるステップ軸受面１１ａと、ステップ軸受面１１ａより気体流の流出側で、ステップ軸受面１１ａより磁気ディスク２側に突出する浮上パッド１２ｂと、ステップ軸受面１１ａより気体流の流入側で、気体流の流入側の端を含んで、ステップ軸受面１１ａより磁気ディスク２側に突出する流入端バー１２ａと、が形成されると共に、気体流の流入側の端面のうち、少なくとも流入端バー１２ａを含む部分に保護膜１５が形成される、ことを特徴とする。【選択図】図２Ｂ
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
磁気ディスクの回転により生じる気体流を受けて、前記磁気ディスク上に浮上する磁気ヘッドスライダであって、
前記磁気ディスクに対向するディスク対向面には、
前記気体の流入側に設けたステップ軸受面と、
前記ステップ軸受面より前記気体流の流出側に設けた前記ステップ軸受面より前記磁気ディスク側に突出する浮上パッドと、
前記ステップ軸受面より前記気体流の流入側に設けた前記気体流の流入側の端を含んで、前記ステップ軸受面より前記磁気ディスク側に突出する流入端バーと、
が形成されると共に、
少なくとも前記流入端バーを含む前記気体流の流入側の端面部分には保護膜が形成される、
ことを特徴とする磁気ヘッドスライダ。
【請求項２】
磁気ディスクの回転により生じる気体流を受けて、前記磁気ディスク上に浮上する磁気ヘッドスライダであって、
前記気体流の流入端に設けた前記磁気ディスク側に突出する流入端バーと、
前記流入端バーより前記気体流の流出側に設けたステップ軸受面と、
前記ステップ軸受面より前記気体流の流出側に設けた前記ステップ軸受面より前記磁気ディスク側に突出する浮上パッドと、
が形成される前記磁気ディスクに対向するディスク対向面と、
少なくとも前記流入端バーを含む部分に保護膜が形成された前記気体流の流入側の端面と、
を備えたことを特徴とする磁気ヘッドスライダ。
【請求項３】
前記流入端バーは、前記浮上パッド以上に前記磁気ディスク側に突出する、
請求項１または２に記載の磁気ヘッドスライダ。
【請求項４】
前記保護膜は、前記流入端バーより軟らかい、
請求項１または２に記載の磁気ヘッドスライダ。
【請求項５】
前記保護膜は、前記気体流の流出側に形成された、記録再生素子を含む素子膜と同じ材料からなる、
請求項１または２に記載の磁気ヘッドスライダ。
【請求項６】
前記流入端バーは、前記浮上パッドと同じ高さに形成される、
請求項１または２に記載の磁気ヘッドスライダ。
【請求項７】
前記ステップ軸受面と前記流入端バーの間に、前記ステップ軸受面より深い深溝が形成される、
請求項１または２に記載の磁気ヘッドスライダ。
【請求項８】
前記流入端バー及び前記保護膜の少なくとも一方の先端に、前記気体流の流入側の端に沿って延びる溝が形成される、
請求項１または２に記載の磁気ヘッドスライダ。
【請求項９】
前記保護膜上に、それよりも硬い第２の保護膜が形成される、
請求項１または２に記載の磁気ヘッドスライダ。
【請求項１０】
請求項１または２に記載の磁気ヘッドスライダを備えることを特徴とする磁気ディスク装置。
【請求項１１】
磁気ディスク上から退避した前記磁気ヘッドスライダを支持するランプ部を備える、
請求項１０に記載の磁気ディスク装置。
【請求項１２】
スライダ基板の一方の面に記録再生素子を含む素子膜を形成し、他方の面に保護膜を形成した後、前記スライダ基板を切断する、
ことを特徴とする磁気ヘッドスライダの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気ヘッドスライダ、磁気ディスク装置、および磁気ヘッドスライダの製造方法に関し、特には、磁気ヘッドスライダと磁気ディスクとの間に塵埃が挟み込まれることを抑制する技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
磁気ディスク装置では、磁気ディスクの回転により生じる気体流を受けて浮上する磁気ヘッドスライダによって、データの読み書きが行われる。近年、磁気ヘッドスライダの浮上量は、益々狭小化の傾向にある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開平９−３２６１０９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、磁気ディスク装置の筐体内には、各部材から発生する塵埃が少なからず浮遊しており、磁気ヘッドスライダと磁気ディスクとの間に塵埃が挟み込まれるおそれがある。
【０００５】
具体的に、従来の磁気ヘッドスライダでは、図５に示されるように、磁気ディスク９９に対向するディスク対向面９０ａの気体流入側の端部に、ステップ軸受面９１と浮上パッド９２とで段差が形成される。このため、ステップ軸受面９１と磁気ディスク９９の間隔ｈ１よりも小さく、浮上パッド９２と磁気ディスク９９の間隔ｈ２よりも大きい塵埃Ｐが、この段差に捕捉されて、磁気ディスク９９を引掻くおそれがある。
【０００６】
なお、特許文献１には、磁気ヘッドスライダの前端にランド部を形成し、塵埃の侵入を抑制する技術が開示されている。しかしながら、磁気ヘッドスライダの小型化および精密化が進んだ現在に、そうしたランド部を設けようとすると、加工時にランド部が機械的応力を受けて損傷したり、使用時にランド部が磁気ディスクに衝突して損傷するおそれがある。
【０００７】
本発明は、上記実情に鑑みて為されたものであり、磁気ヘッドスライダと磁気ディスクとの間に塵埃が挟み込まれることを抑制すると共に、磁気ヘッドスライダの損傷を抑制することが可能な、磁気ヘッドスライダ、磁気ディスク装置、および磁気ヘッドスライダの製造方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するため、本発明の磁気ヘッドスライダは、磁気ディスクの回転により生じる気体流を受けて、前記磁気ディスク上に浮上する磁気ヘッドスライダであって、前記磁気ディスクに対向するディスク対向面には、前記気体の流入側に設けたステップ軸受面と、前記ステップ軸受面より前記気体流の流出側に設けた前記ステップ軸受面より前記磁気ディスク側に突出する浮上パッドと、前記ステップ軸受面より前記気体流の流入側に設けた前記気体流の流入側の端を含んで、前記ステップ軸受面より前記磁気ディスク側に突出する流入端バーと、が形成されると共に、少なくとも前記流入端バーを含む前記気体流の流入側の端面部分には保護膜が形成される、ことを特徴とする。
【０００９】
また、本発明の磁気ヘッドスライダは、磁気ディスクの回転により生じる気体流を受けて、前記磁気ディスク上に浮上する磁気ヘッドスライダであって、前記気体流の流入端に設けた前記磁気ディスク側に突出する流入端バーと、前記流入端バーより前記気体流の流出側に設けたステップ軸受面と、前記ステップ軸受面より前記気体流の流出側に設けた前記ステップ軸受面より前記磁気ディスク側に突出する浮上パッドと、が形成される前記磁気ディスクに対向するディスク対向面と、少なくとも前記流入端バーを含む部分に保護膜が形成された前記気体流の流入側の端面と、を備えたことを特徴とする。
【００１０】
また、本発明の一態様では、前記流入端バーは、前記浮上パッド以上に前記磁気ディスク側に突出する。
【００１１】
また、本発明の一態様では、前記保護膜は、前記流入端バーより軟らかい。
【００１２】
また、本発明の一態様では、前記保護膜は、前記気体流の流出側に形成された、記録再生素子を含む素子膜と同じ材料からなる。
【００１３】
また、本発明の一態様では、前記流入端バーは、前記浮上パッドと同じ高さに形成される。
【００１４】
また、本発明の一態様では、前記ステップ軸受面と前記流入端バーの間に、前記ステップ軸受面より深い深溝が形成される。
【００１５】
また、本発明の一態様では、前記流入端バー及び前記保護膜の少なくとも一方の先端に、前記気体流の流入側の端に沿って延びる溝が形成される。
【００１６】
また、本発明の一態様では、前記保護膜上に、それよりも硬い第２の保護膜が形成される。
【００１７】
また、本発明の磁気ディスク装置は、上記本発明の磁気ヘッドスライダを備えることを特徴とする。
【００１８】
また、本発明の一態様では、磁気ディスク上から退避した前記磁気ヘッドスライダを支持するランプ部を備える。
【００１９】
また、本発明の磁気ヘッドスライダの製造方法は、スライダ基板の一方の面に記録再生素子を含む素子膜を形成し、他方の面に保護膜を形成した後、前記スライダ基板を切断する、ことを特徴とする。
【発明の効果】
【００２０】
上記本発明によると、ディスク対向面に流入端バーが設けられると共に、流入端バーを保護する保護膜が設けられていることから、磁気ヘッドスライダと磁気ディスクとの間に塵埃が挟み込まれることを抑制すると共に、磁気ヘッドスライダの損傷を抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】本発明の一実施形態に係る磁気ディスク装置の平面図である。
【図２Ａ】本発明の一実施形態に係る磁気ヘッドスライダの下面図である。
【図２Ｂ】本発明の一実施形態に係る磁気ヘッドスライダの断面図である。
【図３】本発明の変形例に係る磁気ヘッドスライダの下面図である。
【図４】本発明の一実施形態に係る磁気ヘッドスライダの製造方法の説明図である。
【図５】従来の磁気ヘッドスライダの説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
本発明の磁気ヘッドスライダ、磁気ディスク装置、および磁気ヘッドスライダの製造方法の実施形態を、図面を参照しながら説明する。
【００２３】
図１は、磁気ディスク装置１の平面図である。同図では、トップカバーの図示が省略されている。磁気ディスク装置１の筐体には、磁気ディスク２及びヘッドアッセンブリ４が収納されている。磁気ディスク２は、筐体の底部に設けられたスピンドルモータ３に取り付けられている。ヘッドアッセンブリ４は、磁気ディスク２の隣で旋回可能に支承されている。このヘッドアッセンブリ４の先端側には、サスペンションアーム５が設けられ、その先端部に磁気ヘッドスライダ１０が支持されている。磁気ヘッドスライダ１０は、記録・再生を行う磁気ヘッドを有しており、回転する磁気ディスク２上に空気膜潤滑軸受の原理によって浮上する。他方、ヘッドアッセンブリ４の後端部には、ボイスコイルモータ７が設けられている。
【００２４】
磁気ディスク２の外周付近には、ロード・アンロード方式を実現するランプ部９が設けられている。具体的に、磁気ヘッドスライダ１０が磁気ディスク２上から退避する際には、サスペンションアーム５の先端がランプ部９に乗り上がる。他方、磁気ヘッドスライダ１０が磁気ディスク２上に進行する際には、サスペンションアーム５の先端がランプ部９から滑り落ちる。なお、これに限られず、ＣＳＳ（Contact Start Stop）方式が採用されてもよい。
【００２５】
図２Ａ及び図２Ｂは、磁気ヘッドスライダ１０の下面図および断面図である。磁気ヘッドスライダ１０は、磁気ディスク２と対向するディスク対向面１０ａにＡＢＳ（Air Bearing Surface）が形成され、磁気ディスク２の回転により生じる気体流を受けて、磁気ディスク２上に浮上する。図中の矢印ｆｉは気体流入側を表し、矢印ｆｏは気体流出側を表す。また。矢印ＤＲは磁気ディスク２の回転方向を表す。磁気ヘッドスライダ１０は、気体流入側ｆｉより気体流出側ｆｏが磁気ディスク２に近づくように傾いた姿勢で、磁気ディスク２上に浮上する。
【００２６】
磁気ヘッドスライダ１０は、アルミナとチタンカーバイトの焼結体（いわゆるアルチック）からなるスライダ基板１９を有しており、このスライダ基板１９の気体流出側ｆｏの端面には、アルミナからなる素子膜１７が形成されている。この素子膜１７内には、データの記録・再生を行う記録再生素子１７ａが含まれている。この素子膜１７は、アルミナからなり、アルチックからなるスライダ基板１９よりも軟らかい。
【００２７】
磁気ヘッドスライダ１０は、例えば、長さ１．２５ｍｍ、幅１．０ｍｍ、厚さ０．３ｍｍ程度の略直方体状（ピコスライダと呼ばれる大きさ）に形成される。また、磁気ヘッドスライダ１０は、例えば、長さ０．８５ｍｍ、幅０．７ｍｍ、厚さ０．２３ｍｍ程度の略直方体状（フェムトスライダと呼ばれる大きさ）であってもよいし、他の大きさであってもよい。
【００２８】
磁気ヘッドスライダ１０のディスク対向面１０ａは、実質的に平行で深さの異なる複数種類の面で構成される。こうしたディスク対向面１０ａの形状は、例えばイオンミリング又はエッチング等により形成される。具体的には、ディスク対向面１０ａには、磁気ディスク２に最も近い面を有する流入端バー１２ａ、浮上パッド１２ｂ，１２ｃと、約１００ｎｍ以上３００ｎｍ以下程度の深さのステップ軸受面１１ａ，１１ｂ，１１ｃと、約１μｍ以上程度の深さの面を有する深溝１３ａ，１３ｂ，１３ｃと、が形成されている。なお、図２Ｂでは各面の深さが強調されている。
【００２９】
このうち、気体流入側ｆｉの端部に形成されたステップ軸受面１１ａは、気体流入側ｆｉの端に沿って幅方向に延びている。このステップ軸受面１１ａより気体流出側ｆｏには、幅方向に延びるＣ字状の浮上パッド１２ｂが形成されている。また、ステップ軸受面１１ａより気体流入側ｆｉには、気体流入側ｆｉの端に沿って幅方向に延びた深溝１３ａが形成されている。磁気ディスク２の回転によって生じる気体流は、ステップ軸受面１１ａから浮上パッド１２ｂに進入する際に、先窄まりの流路により圧縮されて、正圧（磁気ディスク２から離れる方向の気体圧力）を発生させる。
【００３０】
気体流出側ｆｏの浮上パッド１２ｃは、気体流出側ｆｏの端部の幅方向の中央部に形成されている。この浮上パッド１２ｃ内には、記録再生素子１７ａの端面が現れている。上述のように、磁気ヘッドスライダ１０は、気体流入側ｆｉより気体流出側ｆｏが磁気ディスク２に近づくように傾いた姿勢で浮上することから、記録再生素子１７ａの端面を有する浮上パッド１２ｃが最も磁気ディスク２に近づく。
【００３１】
この浮上パッド１２ｃの気体流入側ｆｉには、幅方向の中央部が気体流入側ｆｉに向けて延びたステップ軸受面１１ｃが形成されている。磁気ディスク２の回転によって生じる気体流は、ステップ軸受面１１ｃから浮上パッド１２ｃに侵入する際に、先窄まりの流路により圧縮されて、正圧を発生させる。
【００３２】
深溝１３ｃは、主に、気体流入側ｆｉの浮上パッド１２ｂよりも気体流出側ｆｏに形成されている。磁気ディスク２の回転によって生じる気体流が、浮上パッド１２ｂやステップ軸受面１１ｂから深溝１３ｃに侵入する際に、流路の拡大によって、負圧（磁気ディスク２に近づく方向の空気圧力）を発生させる。
【００３３】
浮上パッド１２ｂより気体流出側ｆｏの、深溝１３ｃを挟んだ幅方向の両端部には、気体流出側ｆｏに向けて延びるステップ軸受面１１ｂが形成されている。これらステップ軸受面１１ｃは、幅方向の端を含んで形成された深溝１３ｂよりもやや内側に形成されている。
【００３４】
気体流入側ｆｉの端部に形成されたステップ軸受面１１ａ及び深溝１３ａよりもさらに気体流入側ｆｉには、気体流入側ｆｉの端を含み、これに沿って幅方向に延びた流入端バー１２ａが形成されている。この流入端バー１２ａは、スライダ基板１９の気体流入側ｆｉの端面の一部を為しており、他部と連続的に形成されている。この流入端バー１２ａは、浮上パッド１２ｂ，１２ｃ以上に磁気ディスク２側に突出していることが好ましい。
【００３５】
スライダ基板１９の気体流入側ｆｉの端面上には、アルミナからなる保護膜１５が形成されている。この保護膜１５は、スライダ基板１９の気体流入側ｆｉの端面の全部を覆っている。この保護膜１５は、素子膜１７と同様にアルミナからなり、アルチックからなるスライダ基板１９よりも軟らかい。
【００３６】
なお、ディスク対向面１０ａのうち、少なくとも気体流出側ｆｏの浮上パッド１２ｃには、記録再生素子１７ａの腐食を防止するためのＤＬＣ（ダイヤモンドライクカーボン）膜が形成される。このＤＬＣ膜は、アルチックからなるスライダ基板１９よりも硬い。このＤＬＣ膜は、保護膜１５上に第２の保護膜として形成されてもよい。
【００３７】
ディスク対向面１０ａの形状は、以上に説明した態様に限定されず、流入端バー１２ａ及び保護膜１５が形成される限り、他の部分には任意の形状を採用できる。また、実際には、磁気ヘッドスライダ１０の気体流出側ｆｏの端部には、スライダ基板１９と素子膜１７とのエッチングレートの差に起因する僅かな段差が生じるが、ここでは考慮しない。
【００３８】
以上に説明した本実施形態では、ディスク対向面１０ａの気体流入側ｆｉの端部に、ステップ軸受面１１ａ及び深溝１３ａよりも磁気ディスク２側に突出した流入端バー１２ａが設けられているため、流入端バー１２ａと磁気ディスク２の間隔よりも大きい塵埃Ｐが、ディスク対向面１０ａ下に潜り込むことを抑制できる。さらに、流入端バー１２ａを保護する保護膜１５が設けられているため、加工時や使用時に流入端バー１２ａが損傷することを抑制できる。
【００３９】
また、保護膜１５がスライダ基板１９よりも軟らかいため、流入端バー１２ａの損傷を効果的に抑制できる。
【００４０】
また、流入端バー１２ａとステップ軸受面１１ａの間に深溝１３ａが形成されるため、深溝１３ａからステップ軸受面１１ａへの気体流が確保されやすい。
【００４１】
また、保護膜１５上にそれよりも硬いＤＬＣ膜が形成される場合、塵埃Ｐの侵入を防ぐ効果を高めることができる上、塵埃Ｐが保護膜１５に刺さることを抑制できる。
【００４２】
また、磁気ディスク装置１はランプ部９を備える（図１を参照）。ロード・アンロード方式では、磁気ヘッドスライダ１０が磁気ディスク２上にロードされる際に、磁気ヘッドスライダ１０が磁気ディスク２に衝突するおそれがあるが、流入端バー１２ａを保護する保護膜１５を備えることで、流入端バー１２ａの損傷を抑制できる。このため、本実施形態の磁気ヘッドスライダ１０は、ランプ部９を備える磁気ディスク装置１に好適である。
【００４３】
次に、上記磁気ヘッドスライダ１０の変形例について説明する。図３は、変形例に係る磁気ヘッドスライダ２０の下面図である。上記実施形態と重複する構成については、同番号を付すことで詳細な説明を省略する。本変形例では、流入端バー１２ａの、磁気ディスク２に対向する面に、気体流入側ｆｉの端に沿って幅方向に延びた溝１５ａが形成されている。この溝１５ａは、深溝１３ａ，１３ｂ，１３ｃと同じ深さで形成されることが望ましい。このような溝１５ａが形成されることで、塵埃は、保護膜１５の下方を通過する際に、負圧により溝１５ａ内に捕捉される。
【００４４】
なお、溝１５ａはアルミナからなる保護膜１５に形成される方が加工性の面から好ましいが、これに限られず、流入端バー１２ａに形成されてもよいし、保護膜１５及び流入端バー１２ａに跨って形成されてもよい。また、溝１５ａは、幅方向の外側に向かうに従って気体流出側ｆｏに向かうように形成されてもよい。この場合、捕捉された塵埃は幅方向の外側に寄せられる。また、溝１５ａの幅方向の端は、強度の観点から閉塞されていることが好ましい。
【００４５】
次に、上記磁気ヘッドスライダ１０の製造方法について説明する。図４は、磁気ヘッドスライダ１０の製造方法の説明図である。磁気ヘッドスライダ１０は、主に（１）ウエハー工程、（２）ロウバー工程、（３）スライダ工程によって製造される。
【００４６】
具体的には、（１）ウエハー工程では、切断前のスライダ基板１９の一方の面に記録再生素子１７ａを含む素子膜１７が形成され、他方の面に保護膜１５が形成される。（２）ロウバー工程では、スライダ基板１９が切断されて、ロウバーが得られる。このとき、ディスク対向面１０ａが現れる。ディスク対向面１０ａには、研磨後に、イオンミリング又はエッチング等によりＡＢＳが形成される。このときに、上記流入端バー１２ａも形成される。その後、（３）スライダ工程では、ロウバーが切断され、磁気ヘッドスライダ１０が得られる。
【００４７】
このように、スライダ基板１９に保護膜１５が形成された後に、スライダ基板１９が切断されるので、上記流入端バー１２ａを設けても、切断の機械的応力に起因する損傷が抑制される。
【００４８】
また、上述したように保護膜１５は素子膜１７と同じアルミナからなることから、素子膜１７を形成する技術を流用して保護膜１５を形成することができる。
【００４９】
また、上述したように流入端バー１２ａは浮上パッド１２ｂ，１２ｃと同じ高さであるので（図２Ｂを参照）、ＡＢＳ形成時のエッチングの回数を増やすことなく流入端バー１２ａを形成できる。
【００５０】
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、種々の変形実施が当業者にとって可能であるのはもちろんである。
【符号の説明】
【００５１】
１  磁気ディスク装置、２  磁気ディスク、３  スピンドルモータ、４  ヘッドアッセンブリ、５  サスペンションアーム、７  ボイスコイルモータ、９  ランプ部、１０  磁気ヘッドスライダ、１０ａ  ディスク対向面、１１ａ  ステップ軸受面、１１ｂ  ステップ軸受面、１１ｃ  ステップ軸受面、１２ａ  流入端バー、１２ｂ  浮上パッド、１２ｃ  浮上パッド、１３ａ  深溝、１３ｂ  深溝、１３ｃ  深溝、１５  保護膜、１５ａ  溝、１７  素子膜、１７ａ  記録再生素子、１９  スライダ基板、２０  磁気ヘッドスライダ。
【図１】
2010272169.tif 000003
【図２Ａ】
2010272169.tif 000004
【図２Ｂ】
2010272169.tif 000005
【図３】
2010272169.tif 000006
【図４】
2010272169.tif 000007
【図５】
2010272169.tif 000008