(57)【要約】【課題】保護層表面の清浄化につきパネル間でのばらつきを抑えたＰＤＰ製造法を提供すること。【解決手段】(ｉ）前面板および背面板を準備する工程、 (ｉｉ) 前面板の基板Ａまたは背面板の基板Ｂの周縁領域にガラスフリット材料を供して、環状ガラスフリット封着部を形成する工程、（ｉｉｉ）環状ガラスフリット封着部を挟むように前面板と背面板とを対向配置する工程、（ｉｖ）前面板および背面板を加熱下においた状態で、横方向からガスを吹き込み前面板と背面板との間にガスを流す工程、ならびに、（ｖ）環状ガラスフリット封着部を溶融させて前面板と背面板とを封着させる工程を含んで成り、製造される複数のプラズマディスプレイパネル間にてパネル形状のばらつきが一定の範囲内におさまるように、対向配置された状態の前面板および背面板の形状を測定して吹き込まれるガスの流量を制御することを特徴とするＰＤＰ製造方法。【選択図】図１
2010244964.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラズマディスプレイパネルの製造方法であって、
(ｉ）基板Ａ上に電極Ａと誘電体層Ａと保護層とが形成された前面板、および、基板Ｂ上に電極Ｂと誘電体層Ｂと隔壁と蛍光体層とが形成された背面板を準備する工程、
(ｉｉ)基板Ａまたは基板Ｂの周縁領域にガラスフリット材料を供して、環状ガラスフリット封着部を形成する工程、
（ｉｉｉ）環状ガラスフリット封着部を挟むように前面板と背面板とを対向配置する工程、
（ｉｖ）前面板および背面板を加熱下においた状態で、前面板および背面板の横方向からガスを吹き込み、対向配置された前面板と背面板との間にガスを流す工程、ならびに
（ｖ）環状ガラスフリット封着部を溶融させて前面板と背面板とを封着させる工程
を含んで成り、
製造される複数のプラズマディスプレイパネル間にてパネル形状のばらつきが一定の範囲内におさまるように、対向配置された状態の前面板および背面板の形状を測定して前記工程（ｉｖ）で吹き込まれるガスの流量を制御することを特徴とする、製造方法。
【請求項２】
環状ガラスフリット封着部に設けられた溝部または前面板もしくは背面板のいずれかに設けられた開口部を介してガスを吹き込むことを特徴とする、請求項１に記載の製造方法。
【請求項３】
製造される複数のプラズマディスプレイパネルの各々について、前面板および背面板の少なくとも一方の形状を測定することを特徴とする、請求項１または２に記載の製造方法。
【請求項４】
製造される複数のプラズマディスプレイパネルの各々について、前面板および／または背面板の１点または複数点の変位を測定することを特徴とする、請求項１〜３のいずれかに記載の製造方法。
【請求項５】
製造される複数のプラズマディスプレイパネルの各々について、前面板の保護層に形成され得る変質層が均一性良く除去されるように、前面板と背面板との間に流されるガスを制御することを特徴とする、請求項１〜４のいずれかに記載の製造方法。
【請求項６】
前記工程（ｉｖ）の実施に際して、前記工程（ｖ）を併せて実施することを特徴とする、請求項１〜５のいずれかに記載の製造方法。
【請求項７】
前記工程（ｖ）において、環状ガラスフリット封着部の溶融に起因して前記開口部または前記溝部が塞がれ、それによって、前面板と背面板との間の空間へと供されるガスの吹き込みが停止することを特徴とする、請求項２に従属する請求項６に記載の製造方法。
【請求項８】
電極線の引き出し端子が背面板の側部ａに設けられており、前記工程（ｉｖ）では、側部ａとは異なる側部からガスを吹き込むことを特徴とする、請求項１〜７のいずれかに記載の製造方法。
【請求項９】
前記工程（ｉｖ）において吹き込むガスが、保護層に対して不活性なガスであって、窒素ガス、希ガスおよび乾燥空気から成る群から選択される少なくとも１種以上のガスであることを特徴とする、請求項１〜８のいずれかに記載の製造方法。
【請求項１０】
保護層が、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化ストロンチウムおよび酸化バリウムから成る群から選択される少なくとも１種類以上の酸化金属を含んで成ることを特徴とする、請求項１〜９のいずれかに記載の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイパネルの製造方法に関する。より詳細には、複数のプラズマディスプレイパネルの製造に際して「前面板の保護層表面に形成された変質層」を除去する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
高品位テレビジョン画像を大画面で表示するためのディスプレイ装置として、プラズマディスプレイパネル（以下、“ＰＤＰ”とも称す）を用いたディスプレイ装置への期待は高まっている。
【０００３】
ＰＤＰ（例えば３電極面放電型ＰＤＰ）は、映像を見る人から見て表面側となる前面板とその裏側の背面板とを対向配置して、それらの周辺部を封着材で封着した構造を有している。前面板と背面板との間に形成された放電空間にはネオンおよびキセノンなどの放電ガスが封入されている。前面板は、ガラス基板上に形成された走査電極と維持電極とから成る表示電極と、これらの電極を覆う誘電体層と保護層とを備えている。背面板は、ガラス基板に上記表示電極と直交する方向にストライプ状に形成された複数のアドレス電極と、これらのアドレス電極を覆う下地誘電体層と、放電空間をアドレス電極毎に区画する隔壁（リブ）と、隔壁の側面および下地誘電体層上に形成された赤色（Ｒ）・緑色（Ｇ）・青色（Ｂ）の蛍光体層とを備えている（例えば特許文献１参照）。
【０００４】
表示電極とアドレス電極とは直交していて、その交差部が放電セルを成している。これらの放電セルはマトリクス状に配列されており、赤色・緑色・青色の蛍光体層を有する３個の放電セルがフルカラー表示のための画素となっている。このようなＰＤＰでは、順次、走査電極とアドレス電極間、および走査電極と維持電極間に所定の電圧が印加されてガス放電を発生させている。そして、かかるガス放電で生じる紫外線により蛍光体層を励起させ可視光を発光させることによってカラー画像表示を実現している。
【０００５】
このようなＰＤＰの保護層の成分としては、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）が一般に広く用いられている。ＰＤＰの動作電圧は、この保護層の２次電子放出係数に依存している。従って、動作電圧の低電圧化を図るため、仕事関数がより小さいアルカリ土類金属の酸化物（たとえば、酸化カルシウム、酸化ストロンチウム、酸化バリウムなど）を保護層成分として用いることが提案されている。しかしながら、これらのアルカリ土類金属の酸化物は吸湿性が高く、保護層の形成後に周囲雰囲気中の水分を吸着し得る。これにより、保護層の表面領域が水酸化物に変質することになり、不安定な放電特性が引き起こされるといった問題があった。
【０００６】
上記問題に対処すべく、保護層形成工程後から封着工程までを乾燥雰囲気中で連続して行う方法（例えば、特許文献２参照）や、保護層形成工程後から封着工程までを真空雰囲気中で連続して行う方法（例えば、特許文献３参照）が提案されている。このような方法は、保護層形成後において保護層に水分等の不純物を吸着させないことを意図している。しかしながら、前者の方法（「保護層形成工程後から封着工程までを乾燥雰囲気中で連続して行う方法」）では、乾燥空気中にある量の水分や二酸化炭素が含まれているので、その含有量が十分小さくない限り、数十分〜数時間の曝露によって変質層が形成されてしまう（例えば、露点−２０℃の乾燥空気中には０．１％の水分、露点−４０℃の乾燥空気中には０．０１３％の水分、露点−６０℃の乾燥空気中には０．００１１％[１１ｐｐｍ]の水分が含まれている）。ＰＤＰの製造工程では、一般に、保護層形成工程から封着工程までには数時間分以上の工程在庫があるため、仮に極めて露点の低い乾燥空気（例えば露点−６０℃以下の乾燥空気）を用いたとしても、変質層の形成は避けられないといえる。また、後者の方法（「保護層形成工程後から封着工程までを真空雰囲気中で連続して行う方法」）であっても、搬送系及び封着装置の構成が極めて複雑となり、現実的ではない。また、広大な空間を常時真空に保つ必要があり、多大のコストを要してしまう。
【０００７】
不純物が吸着された保護層を清浄化しながら封着する方法も提案されている。この方法は、不純物をガス状態で保護層から脱離させることで、結果的に不純物を含んだ変質層を除去することを意図している。例えば、前面板または背面板に第１ガラス管及び第２ガラス管を設け、第１ガラス管からパネル内部を排気しながら第２ガラス管から乾燥ガスをパネル内部に供給することによって、パネル内部の残留不純物を低減させる方法が開示されている（特許文献４参照）。しかしながら、かかる方法では、２つのガラス管が必要となるので封着装置の構成が極めて複雑となり、実現は容易ではない。仮にこれを実現したとしても、給気ガラス管に近い位置と遠い位置とでは、乾燥ガスの流速や不純物ガス濃度の点で大きな違いが生じるため、パネルの動作電圧に面内ムラを生じる（即ち、パネルの動作電圧がパネル面において均一とならない）。ガラス管を１つとし、封着前まではこのガラス管から乾燥ガスをパネル内に供給し、封着後に同一のガラス管から排気を行う場合であっても、給気ガラス管に近い位置と遠い位置とでは、乾燥ガスの流速や不純物ガス濃度に大きな違いが生じるため、パネルの動作電圧に面内ムラを生じてしまう。
【０００８】
また、加熱炉内に「対向配置させた前面板および背面板」を仕込んで加熱炉を密閉し、その後、加熱炉内ヘと雰囲気ガスを導入しつつ加熱炉からガスを排出することによって、パネル封着を行う方法も提案されている（例えば、特許文献５参照）。しかしながら、かかる方法では、乾燥ガスの多くがパネルの外部を流れることになり、ガス使用量が多大となる。更に、加熱炉を容器として密閉構造とする必要があるだけでなく、高温で背面板を動かす必要があり、装置としての構成が極めて複雑となってしまう。高温で背面板を動かすことは、“アライメントずれ”の危険性を引き起こし得る。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開２００２−２１６６２０号公報
【特許文献２】特開２００２−２３１１２９号公報
【特許文献３】特開２０００−１５６１６０号公報
【特許文献４】特開２００２−１５０９３８号公報
【特許文献５】特開２００１−３５３７２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
ここで、対向配置させた前面板と背面板との間の内部空間にガスを流して保護層表面の清浄化を図ることを想定すると、ガスが流し込まれるにつれパネル内部空間の圧力は、その密閉性に起因して上昇し得る（尚、本明細書では「対向配置させた前面板および背面板」を「パネル」とも称し、「対向配置させた前面板と背面板との間の空間」を「パネル内部空間」とも称する）。これにより、図１５（ｂ）に示すように前面板および背面板に変形がもたらされ、パネル内部空間内のガス流れに影響が生じ得る。つまり、清浄化に際して導入されるガス流れが“前面板または背面板の変形”によって変動することが考えられる。パネル内部のガス流れの変動は、保護層表面の清浄化に影響を及ぼし、個々のパネルにおいて画像ムラなどの品質悪化やパネル諸特性の不均一化が引き起こされるだけでなく、製造される複数のパネル間において画像品質やパネル諸特性に“ばらつき”が生じることになり得る。
【００１１】
本発明はかかる事情に鑑みて為されたものである。つまり、本発明の課題は、保護層表面の清浄化につきパネル間での“ばらつき”を抑えたＰＤＰ製造法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記課題を解決するため、プラズマディスプレイパネルの製造方法であって、
(ｉ）基板Ａ上に電極Ａと誘電体層Ａと保護層とが形成された前面板、および、基板Ｂ上に電極Ｂと誘電体層Ｂと隔壁と蛍光体層とが形成された背面板を準備する工程、
(ｉｉ) 基板Ａまたは基板Ｂの周縁領域にガラスフリット材料を供して、環状ガラスフリット封着部を形成する工程、
（ｉｉｉ）環状ガラスフリット封着部を挟むように前面板と背面板とを対向配置する工程、
（ｉｖ）前面板および背面板を加熱下においた状態で、前面板および背面板の横方向からガスを吹き込み、対向配置された前面板と背面板との間にガスを流す工程、ならびに
（ｖ）環状ガラスフリット封着部を溶融させて前面板と背面板とを封着させる工程
を含んで成り、
製造される複数のプラズマディスプレイパネル間にてパネル形状のばらつきが一定の範囲内におさまるように、対向配置された状態の前面板および背面板の形状を測定して工程（ｉｖ）で吹き込むガスの流量を制御することを特徴とする製造方法が提供される。かかる本発明の製造方法では、「環状ガラスフリット封着部に設けられた溝部」または「前面板もしくは背面板のいずれかに設けられた開口部」を介してガスを吹き込むことが好ましい（ここでいう「溝部」は以後にて「吹込み溝部」と称すると共に、「開口部」は以後にて「吹込み開口部」とも称す）。
【００１３】
本発明の製造方法は、対向配置された状態の前面板および背面板の形状を測定して工程（ｉｖ）で吹き込まれるガスの流量を制御することを特徴としている。特に、吹込み時における前面板および／または背面板の形状に応じて、吹き込むガスの供給量を制御している（図１参照）。このようなガス流量の制御により、製造される複数のプラズマディスプレイパネル間のパネル形状にばらつきが生じないようにできる。
【００１４】
本明細書において、「パネル形状のばらつきが一定の範囲内」とは、複数のパネル間においてパネル変形量が約０〜０．１ｍｍの範囲内にあることを実質的に意味している。より具体的にいえば、「パネル形状のばらつきが一定の範囲内」とは、ガス吹き込みされる複数のパネル間において各パネルの前面板または背面板の中央部の変位量が０〜０．１ｍｍの範囲内におさまっていること意味している。
【００１５】
本明細書において「前面板および背面板の横方向からガスを吹き込み、対向配置された前面板と背面板との間にガスを流す」とは、前面板と背面板との隙間へとガスを流すことを実質的に意味しており、特に、前面板と背面板とが対向する方向に対して実質的に垂直な方向（例えば“水平方向”）に沿って前面板と背面板との隙間にガスを流すことを意味している（図２参照）。また、本明細書において「基板Ａまたは基板Ｂの周縁領域」とは、基板上に設けられた各種要素の外側に位置する周囲領域であって、一般的なＰＤＰ製造において封着材料が塗布される領域を実質的に意味している。
【００１６】
ある好適な態様において、製造される複数のプラズマディスプレイパネルの各々について、前面板および背面板の少なくとも一方の形状を測定する。また、製造される複数のプラズマディスプレイパネルの各々について、前面板および／または背面板の１点または複数点の変位を測定してよい。尚、ここでいう「変位」とは、前面板または背面板のある箇所が変形前から変形後にどれだけ変化したかの量（例えば「変動距離」または「変動長さ」）を意味している。
【００１７】
ある好適な態様において、前面板および背面板の主面が矩形状を有しており、工程（ｉｉｉ）では矩形状の長辺を成す「前面板および背面板の側部」から横方向にガスを吹き込む。また、電極線の引き出し端子が背面板の一方の側部ａに設けられている場合、工程（ｉｖ）では、側部ａとは異なる側部からガスを吹き込むことが好ましい。
【００１８】
製造される複数のプラズマディスプレイパネルの各々については、前面板の保護層に形成され得る変質層が均一性良く除去されるように、前面板と背面板との間に流されるガスを制御することが好ましい。尚、本明細書にいう「変質層の除去」とは、不純物が吸着された保護層から不純物を取り除くこと、あるいは、保護層が水酸化物になったり炭酸化物になったりした部分を本来の酸化物に回復させることを実質的に意味している。また、本明細書でいう「均一性良く」とは、“製造されるプラズマディスプレイパネルの各々において面内ムラがなく又は面内ムラが抑えられて”といった事項を実質的に意味している。
【００１９】
工程（ｉｖ）の実施に際しては、工程（ｖ）を併せて行うことができる。この場合、ガス吹込み時に環状ガラスフリット封着部が溶融することになる。かかる環状ガラスフリット封着部が溶融すると、基板Ａと基板Ｂとの間が全体的に周辺領域にて次第に塞がれると共に、「環状ガラスフリット封着部に設けられた溝部」または「前面板もしくは背面板のいずれかに設けられた開口部」も次第に塞がれることなるので、“前面板と背面板との間の空間へと供されるガスの吹き込み”が自動的に又は自然に停止することになる。
【００２０】
本発明の製造方法では、工程（ｖ）の後に、前面板と背面板との間の空間のガスを排気し、前面板と背面板との間に放電ガスを封入する工程（ｖｉ）を更に含んで成る。工程（ｖｉ）に際しては、前面板または背面板に設けられた貫通孔を介して排気および封入を行うことができる。尚、本発明において、保護層は、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化ストロンチウムおよび酸化バリウムから成る群から選択される少なくとも１種類以上の酸化金属を含んで成ることが好ましく、複数の吹込み開口部から吹き込むガスは、保護層に対して不活性なガスであって、例えば窒素ガス、希ガスおよび乾燥空気から成る群から選択される少なくとも１種以上のガスであることが好ましい。
【発明の効果】
【００２１】
本発明の製造方法では、保護層の表面近傍にてガス流れ（例えば窒素などの不活性ガス流れ）が存在する状態でパネルが加熱されるため、変質層を成す不純物が脱離してガス流れに同伴される。それゆえ、保護層を清浄化でき、駆動電圧、輝度、色度等のパネル諸特性が向上したＰＤＰを得ることができる。ここで、特許文献４に開示されているような従来技術では、給気ガラス管に近い位置と遠い位置とにおいて、吹き込むガスの流速や不純ガス濃度に大きな違いが生じるため、パネルの駆動電圧、輝度、色度等に面内ムラが生じる。「ガラス管を１つとし、封着前まではこのガラス管から乾燥ガスをパネル内に供給し、封着後にガラス管から排気を行う」といった従来技術であっても同様に、給気ガラス管に近い位置と遠い位置とでは、乾燥ガスの流速や不純ガス濃度に大きな違いが生じるため、パネルの駆動電圧、輝度、色度等に面内ムラを生じることになる。この点、本発明の製造方法では、複数の吹込み部からガスを横方向から流し込むので、概ね面内に均一な“ガス流れ”を形成し易いといえ、保護層の清浄度の面内均一性が良い（即ち、駆動電圧、輝度、色度等のパネル諸特性の均一性を向上させることができる）。
【００２２】
特に、本願発明のＰＤＰ製造法によれば、対向配置された状態の前面板および背面板の形状（即ち、パネル形状）を測定して吹き込まれるガスの流量を制御するので、保護層表面の清浄化につきパネル間でのばらつきを抑えることができる。具体的には、パネル内にガスを吹き込む際に、パネルの変形が生じない状態にできるか、あるいは、パネル変形が生じる場合であってもパネル間でパネル変形量を略一定にすることができる。その結果、画素部に流入するガス流量につきパネル間でばらつきを抑えることができ、最終的に得られるＰＤＰ間での特性（例えば、画像品質、輝度や維持電圧など）のばらつきを低減できる。
【００２３】
また、本発明のＰＤＰ製造法では、前面板および／または背面板の形状に応じて、吹き込みガスの供給量をフィードバック制御することができる。特に、複数の開口部または溝部からガスを吹き込む際、それぞれの開口部または溝部からのガス流量を各々独立にフィードバック制御できるので、保護膜表面の変質層の除去に対するばらつきを効果的に小さくすることができ、パネル面内でのばらつきをより低減することができる。
【００２４】
その他の本発明の有利な効果としては以下の事項を挙げることができる： 
【００２５】
（基板割れの防止）
従来技術のように、チップ管より清浄ガスを背面板と前面板の間の内部空間に吹き込み続けた場合では、封着材層の溶融により、背面板と前面板の間の内部空間の密封性が高まることで圧力が一気に上昇し、最悪の場合、基板割れ等が懸念されるが、本発明ではその心配はない。つまり、本発明では、吹き込み時のパネル形状を把握してガスを流すので、基板に必要以上の応力がかかる前にガス流量を少なくすることができ、基板割れ等を防止できる。
【００２６】
（ガス吹き込みの自動停止）
「ガラス管を１つとし、封着前まではこのガラス管から乾燥ガスをパネル内に供給し、封着後にガラス管から排気を行う」といった従来技術の場合では、乾燥ガスの供給中に２枚の基板間の内圧が上がり過ぎないよう、ガラスフリット材料の軟化点以上の温度においては、窒素ガスの吹き込み量を少なくするか、あるいは、窒素ガスの吹き込み量を実質的にゼロにする必要がある。つまり、かかる従来技術では、ガス流量の変更をタイミング良く行わなければならないといった点で煩雑である。この点、本発明の製造方法では、ガラスフリット封着部がガスの吹き込みを自動的に停止させる機能を有しているので、ガス流量を変更するタイミングは大雑把でよい。つまり、前面板と背面板との封着工程に際して、ガラスフリット封着部は溶融することになるが、その溶融によって、吹込み開口部または封着部の溝部が徐々に塞がれていき、パネル内に吹き込まれるガス流量が次第に低下していく。そして、吹込み開口部または溝部が“溶融したガラスフリット封着部”で完全に塞がれると、パネル内へのガス吹き込みが完全に停止するので、厳密なガス流量の変更を必要としない。
【００２７】
（ＰＤＰ特性向上）
本発明の製造方法では、ガス吹き込みによって変質層が除去された保護層表面を得ることができるが、それのみならず、背面板の隔壁や蛍光体層の表面にも水分や二酸化炭素等がほとんど吸着していない状態にすることができる。つまり、製造されるＰＤＰの内部には、水分、二酸化炭素など保護層表面を変質・劣化させる要因となるガスがほとんど含まれない状態にすることができる。その結果、ＰＤＰを長時間駆動させても、「Ｈ２ＯやＣＯ２などの不純ガスが放電空間に放出されることに起因して保護層や蛍光体層が変質する」といったことが防止され、放電電圧・輝度等の変化が少なく、より優れたパネル寿命を有するＰＤＰを実現できる。また、「保護層表面に変質層がなく、背面板におけるガス吸着がない」ということは、エージングが実質的に不要か、あるいは必要であっても極めて短時間で済むことを意味する。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
【図１】本発明の概念を模式的に示した図
【図２】前面板と背面板との間を流れるガス流れの態様を模式的に示した図
【図３（ａ）】ＰＤＰの概略構成を模式的に示した斜視図
【図３（ｂ）】ＰＤＰ前面板を模式的に示した断面図
【図４】環状ガラスフリット封着部、吹込み部およびガス流れの態様を模式的に示した平面図（特に図４（ａ）では吹込み開口部の態様が示され、図４（ｂ）では吹込み溝部の態様が示される）。
【図５】隔壁の形態を模式的に示した斜視図
【図６】ガラスフリット封着部に形成された吹込み溝部の形態を模式的に示した斜視図
【図７】前面板と背面板との間のガラフフリット封着部および隔壁の態様を模式的に示した断面図
【図８（ａ）】環状ガラスフリット封着部の態様を模式的に示した平面図
【図８（ｂ）】パネル形状測定および吹込みガス流量制御の態様を模式的に示した図
【図８（ｃ）】パネル形状測定および吹込みガス流量制御の態様を模式的に示した図
【図９】封着処理後の態様を模式的に示した断面図
【図１０】基板の変形を模式的に示した図
【図１１】ＰＤＰ清浄化システムの構成を模式的に示した図
【図１２】本発明の製造方法に係るＰＤＰ製造工程の概略を示したフローチャート
【図１３】電極線の引き出し端子の設置個所を避けてガスを吹き込む態様を模式的に示した図
【図１４】実施例の結果を表したグラフ
【図１５】図１５（ａ）：対向配置された前面板および背面板の態様を模式的に示した斜視図、図１５（ｂ）：吹込み時の前面板および背面板の変形状態を模式的に示した斜視図
【発明を実施するための形態】
【００２９】
以下にて、図面を参照して、本発明のプラズマディスプレイパネルの製造方法を詳細に説明する。尚、図面に示す各種の要素は、本発明の理解のために模式的に示したにすぎず、寸法比や外観などは実物と異なり得ることに留意されたい。
【００３０】
［プラズマディスプレイパネルの構成］
まず、本発明の製造方法を経ることによって最終的に得られるプラズマディスプレイパネルを簡単に説明する。図３（ａ）に、ＰＤＰの構成を断面斜視図で模式的に示すと共に、図３（ｂ）にＰＤＰの前面板の断面図を模式的に示す。
【００３１】
本発明のＰＤＰ（１００）の構成は、図３（ａ）に示すように、「基板Ａ（１０）に電極Ａ（１１）と誘電体層Ａ（１５）と保護層（１６）とが設けられた前面板（１）」および「基板Ｂ（２０）上に電極Ｂ（２１）と誘電体層Ｂ（２２）と隔壁（２３）と蛍光体層（２５）とが設けられた背面板（２）」からなる。
【００３２】
図示するように、前面板（１）では基板Ａ（１０）上に電極Ａ（１１）が設けられ、電極Ａ（１１）を覆うように誘電体層Ａ（１５）が基板Ａ（１０）上に設けられ、また、誘電体層Ａ（１５）上に保護層（１６）が設けられている。背面板（２）では基板Ｂ（２０）上に電極Ｂ（２１）が設けられ、電極Ｂ（２１）を覆うように誘電体層Ｂ（２２）が基板Ｂ（２０）上に設けられ、誘電体層Ｂ（２２）上に隔壁（２３）および蛍光体層（２５）が設けられている。前面板（１）と背面板（２）とは、保護層（１６）と蛍光体層（２５）とが互いに向き合うように対向配置されている。前面板（１）および背面板（２）の周縁部は、例えば低融点フリットガラス材料などから成る封着部材によって気密封着されている（図示せず）。前面板（１）と背面板（２）との間に形成された放電空間（３０）には放電ガス（ヘリウム、ネオンまたはキセノンなど）が好ましくは２０ｋＰａ〜８０ｋＰａの圧力で封入されている。
【００３３】
更に具体的に、本発明のＰＤＰ（１００）を説明していく。本発明のＰＤＰ（１００）の前面板（１）は、上述したように、基板Ａ（１０）、電極Ａ（１１）、誘電体層Ａ（１５）および保護層（１６）を有して成る。基板Ａ（１０）は、透明で絶縁性を有する基板（厚さは例えば約１．０ｍｍ以上かつ約３ｍｍ以下）である。基板Ａ（１０）としては、例えば、フロート法などで製造されたフロートガラス基板を挙げることができる他、ソーダライムガラス基板またはホウケイ酸塩ガラス基板などを挙げることができる。電極Ａ（１１）は、基板Ａ（１０）上にストライプ状に平行に複数配置されるものであり、例えば、走査電極（１２）および維持電極（１３）から成る表示電極である。この場合、走査電極（１２）および維持電極（１３）は、それぞれ「酸化インジウム（ＩＴＯ）または酸化スズ（ＳｎＯ２）などから成る透明導電膜である透明電極（１２ａ、１３ａ）」、および、かかる透明電極上に形成された「銀を主成分としたバス電極（１２ｂ、１３ｂ）」から構成される（図３（ｂ）参照）。透明電極（１２ａ、１３ａ）は、蛍光体層で発生した可視光を透過させる電極として主に機能する一方、バス電極（１２ｂ、１３ｂ）は、透明電極の長手方向に導電性を付与するための電極として主に機能する。透明電極（１２ａ、１３ａ）の厚さは、好ましくは約５０ｎｍ〜約５００ｎｍである。また、バス電極（１２ｂ、１３ｂ）の厚さは、好ましくは約１μｍ以上かつ約２０μｍ以下である。尚、図３（ａ）に示すように、基板Ａ（１０）上にはブラックストライプ（１４）（遮光層）もパターン形成され得る。
【００３４】
誘電体層Ａ（１５）は、基板Ａ（１０）の表面に形成された電極Ａ（１１）を覆うように設けられている。かかる誘電体層Ａ（１５）は、主としてガラス成分およびビヒクル成分（＝バインダ樹脂および有機溶剤を含んだ成分）から成る誘電体原料ペーストを塗布および熱処理して得られるガラス組成から成る膜である。誘電体層Ａ（１５）の上には、例えば酸化マグネシウム（ＭｇＯ）から成る保護層（１６）が形成されている（厚さは例えば約０．５μｍ以上かつ約１．５μｍ以下）。保護層（１６）は、放電の衝撃（より具体的には「プラズマによるイオン衝撃」）から誘電体層Ａ（１５）を守る機能を有している。
【００３５】
一方、本発明のＰＤＰの背面板（２）は、上述したように、基板Ｂ（２０）、電極Ｂ（２１）、誘電体層Ｂ（２２）、隔壁（２３）および蛍光体層（２５）を有して成る。基板Ｂ（２０）は、透明で絶縁性を有する基板（厚さは例えば約１．０ｍｍ以上かつ約３ｍｍ以下）であることが好ましく、例えば、フロート法などで製造されたフロートガラス基板を挙げることができる他、ソーダライムガラス基板、ホウケイ酸塩ガラス基板または各種セラミック基板などを挙げることができる。電極Ｂ（２１）は、基板Ｂ（２０）上にストライプ状に複数形成される銀を主成分とした電極（厚さは例えば約１μｍ以上かつ約１０μｍ以下）であり、例えば、アドレス電極（またはデータ電極）である。アドレス電極は、各放電セルを選択的に放電させる機能を主に有している。
【００３６】
誘電体層Ｂ（２２）は、下地誘電体層と一般に呼ばれるものであり、基板Ｂ（２０）の表面に形成された電極Ｂ（２１）を覆うように設けられている。かかる誘電体層Ｂ（２２）は、主としてガラス成分およびビヒクル成分（＝バインダ樹脂および有機溶剤を含んだ成分）から成る誘電体原料ペーストを塗布および熱処理して得られるガラス組成から成る膜である。誘電体層Ｂ（２２）の厚さは、例えば約５μｍ以上かつ約５０μｍ以下である。誘電体層Ｂ（２２）の上には、蛍光体材料を主成分とした蛍光体層（２５）が形成されている（厚さは例えば約５μｍ以上かつ約２０μｍ以下程度）。蛍光体層（２５）は、放電によって放射された紫外線を可視光線に変換する機能を主に有している。かかる蛍光体層（２５）は、赤色、緑色および青色を発する蛍光体層を構成単位としており、それぞれが隔壁（２３）で区切られている。隔壁（２３）は、放電空間をアドレス電極（２１）毎に区画する目的で、ストライプ状または井桁状に誘電体層Ｂ（２２）上に形成されている。かかる隔壁（２３）は、ガラス成分、ビヒクル成分およびフィラー等を含んで成るペースト原料から形成される。
【００３７】
本発明のＰＤＰ（１００）では、前面板（１）の表示電極（１１）と背面板（２）のアドレス電極（２１）とが直交するように、前面板（１）と背面板（２）とが放電空間（３０）を挟んで対向して配置されている。このようなＰＤＰ（１００）では、隔壁（２３）によって仕切られ、アドレス電極（２１）と表示電極（１１）とが交差する放電空間（３０）が放電セル（３２）として機能することになる。換言すれば、マトリクス状に配列されている放電セルが画像表示領域を構成している。従って、外部駆動回路から表示電極（１１）に映像信号電圧を選択的に印加することによって放電ガスを放電させ、かかる放電によって生じる紫外線によって、各色の蛍光体層を励起させて赤色、緑色および青色の可視光を発生させると、カラー画像表示が実現される。
【００３８】
［ＰＤＰの一般的な製造方法］
次に、ＰＤＰの一般的な製造方法について簡潔に説明する。特に言及しない限り、本発明に係るＰＤＰは、原則、一般的なＰＤＰ製造法に基づいて得ることができる。また、特に言及しない限り、各種構成部材の原材料（原料ペースト）／構成材料なども一般的なＰＤＰ製造法で常套的に用いられているものであってよい。
【００３９】
まず、ガラス基板である基板Ａ（１０）上に、走査電極（１２）と維持電極（１３）とから構成される表示電極（１１）を形成すると共に遮光層（１４）も形成する。走査電極（１２）および維持電極（１３）のそれぞれの透明電極（１２ａ、１３ａ）とバス電極（１２ｂ、１３ｂ）とは、露光・現像するフォトリソグラフィ法などを用いてパターニングできる。透明電極（１２ａ、１３ａ）は薄膜プロセスなどを用いて形成でき、バス電極（１２ｂ、１３ｂ）は銀（Ａｇ）材料を含むペーストを乾燥（１００〜２００℃程度）および焼成（４００〜６００℃程度）に付すことによって形成できる。また、遮光層（１４）も同様に、黒色顔料を含んだ原料ペーストをスクリーン印刷する方法や黒色顔料を含んだ原料をガラス基板の全面に設けた後、露光・現像するフォトリソグラフィ法を用いてパターニングし、焼成することによって形成できる。次いで、走査電極（１２）、維持電極（１３）および遮光層（１４）を覆うように基板Ａ（１０）上に、ガラス成分（ＳｉＯ２、Ｂ２Ｏ３などから形成される材料）とビヒクル成分とを主成分とした誘電体原料ペーストをダイコート法または印刷法などにより塗布して誘電体ペースト層を形成する。塗布した後、所定の時間放置すると塗布された誘電体ペーストの表面がレベリングされて平坦な表面になる。その後、誘電体ペースト層を焼成すると誘電体層Ａ（１５）が形成される。誘電体層Ａ（１５）を形成した後、かかる誘電体層Ａ（１５）上に保護膜（１６）を形成する。保護膜（１６）は、真空蒸着法、ＣＶＤ法またはスパッタリング法などを用いて形成できる。
【００４０】
以上の工程により、基板Ａ（１０）上に所定の構成部材である電極Ａ（走査電極（１２）および維持電極（１３））、誘電体層Ａ（１５）および保護層（１６）が形成され、前面板（１）が完成する。
【００４１】
一方、背面板（２）は次のようにして形成する。まず、ガラス基板である基板Ｂ（２０）上に、銀（Ａｇ）材料を含むペーストをスクリーン印刷する方法や、銀を主成分とした金属膜を全面に形成した後、露光・現像するフォトリソグラフィ法を用いてパターニングする方法などによって前駆体層を形成し、それを所望の温度（例えば約４００〜約６００℃）で焼成することによりアドレス電極（２１）を形成する。この「アドレス電極」は、クロム／銅／クロムの３層薄膜上にフォトレジストを塗布したものをフォトリソグラフィ及びウェットエッチングによりパターニングして形成してもよい。次いで、アドレス電極（２１）が形成された基板Ｂ（２０）上に、下地誘電体層となる誘電体層Ｂ（２２）を形成する。まず、「ガラス成分（ＳｉＯ２、Ｂ２Ｏ３などから形成される材料）およびビヒクル成分などを主成分とした誘電体原料ペースト」をダイコート法などにより塗布して誘電体ペースト層を形成する。そして、かかる誘電体ペースト層を焼成することで誘電体層Ｂ（２２）を形成できる。次いで、隔壁（２３）を形成する。具体的には、誘電体層Ｂ（２２）上に隔壁形成用原料ペーストを塗布して所定の形状にパターニングすることにより、隔壁材料層を形成し、その後、それを焼成に付して隔壁（２３）を形成する。例えば、低融点ガラス材料、ビヒクル成分およびフィラー等を主成分とした原料ペーストをダイコート法または印刷法によって塗布して約１００℃〜２００℃の乾燥に付した後、露光・現像するフォトリソグラフィ法でパターニングし、次いで、約４００℃〜約６００℃の焼成に付すことによって隔壁（２３）を形成する。尚、隔壁（２３）は、サンドブラスト法、エッチング法または成型法などを用いることによっても形成できる。次いで、蛍光体層（２５）を形成する。隣接する隔壁（２３）間の誘電体層Ｂ（２２）上および隔壁（２３）の側面に蛍光体材料を含む蛍光体原料ペーストを塗布し、焼成することによって蛍光体層（２５）を形成する。より具体的には、蛍光体粉末およびビヒクル成分等を主成分とした原料ペーストをダイコート法、印刷法、ディスペンス法またはインクジェット法などによって塗布し、次いで、約１００℃の乾燥に付すことによって蛍光体層（２５）を形成する。
【００４２】
以上の工程により、基板Ｂ（２０）上に、所定の構成部材たる電極Ｂ（アドレス電極（２１））、誘電体層Ｂ（２２）、隔壁（２３）および蛍光体層（２５）が形成され、背面板（２）が完成する。
【００４３】
このようにして所定の構成部材を備えた前面板（１）と背面板（２）とは、表示電極（１１）とアドレス電極（２１）とが直交するように対向配置させる。次いで、前面板（１）と背面板（２）の周囲をガラスフリットで封着すると共に、形成される放電空間（３０）に放電ガス（ヘリウム、ネオンまたはキセノンなど）を封入することによってＰＤＰ（１００）が完成する。
【００４４】
［本発明の製造方法］
本発明は、上述のＰＤＰ製造工程の中でも、特に前面板および背面板の形成後からパネル封着までの製造工程に特色を有している。まず、本発明の各工程について説明し、その後、本発明の特徴的部分を説明する。
【００４５】
本発明の製造方法では、まず、工程（ｉ）を実施する。即ち、基板Ａ上に電極Ａと誘電体層Ａと保護層とが形成された前面板を準備すると共に、基板Ｂ上に電極Ｂと誘電体層Ｂと隔壁と蛍光体層とが形成された背面板を準備する。かかる前面板および背面板の準備は、上述の［ＰＤＰの一般的な製造方法］で説明しているので、重複を避けるために説明を省略する。尚、保護層は典型的には酸化マグネシウムであるが、これに微量の元素（シリコン、アルミニウムなど）を添加したものであってもよい。更に言えば、保護層は、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化ストロンチウムおよび酸化バリウムから成る群から選択される少なくとも１種類以上を含むことが望ましい。保護層成分が酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化ストロンチウムおよび酸化バリウムから成る群から選択される金属酸化物を含むことにより、パネルの放電開始電圧を低下させ、放電遅れを小さくして放電を安定させることができるからである。尚、かかる金属酸化物は、水、炭酸ガス等の不純物ガスとの反応性が高いので、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化ストロンチウムおよび酸化バリウムなどの金属酸化物が保護層成分に用いられていることは、一般的には、保護層が水、二酸化炭素と反応して放電特性の劣化を引き起こしかないといえる。この点、本発明においては、後述するように吹込みガスとして乾燥空気を用いて保護層の清浄化を図ることができるので、上述のような不都合な反応は回避されている。
【００４６】
後の工程（ｉｖ）で行う“ガス吹込み”を前面板もしくは背面板のいずれかに設けられた開口部を介して実施する場合では、基板Ａまたは基板Ｂに吹込み開口部を形成しておく。例えば、前面板または背面板を準備した後に、ドリル加工またはレーザー加工などの適当な方法で吹込み開口部を形成することができる。吹込み開口部を背面板に設ける場合では、蛍光体のペースト原料を塗布して乾燥させた後に開口部を設けることが好ましい。かかる吹込み開口部は、ガス吹込みに資するものであれば、どのような形状・形態・サイズであってもかまわない（例えば、円形状の吹込み開口部の場合、直径サイズは１〜５ｍｍ程度であってよい）。図４（ａ）に示すような吹込み開口部（９２ａ）のピッチＬｐは、基板サイズなどによって変わり得るものの、例えば５０〜５００ｍｍ程度である。尚、吹込み開口部（９２ａ）は、前面板（１）または背面板（２）のエッジの長辺に沿って複数個設けることが好ましい（図４（ａ）参照）。これにより、工程（ｉｖ）で吹き込まれたガスが“長辺側”から全体的に流れることになるので、“短辺側”に吹込み開口部を設ける場合と比べて、前面板と背面板との間で形成されるガス流線を短くすることができ、結果的に保護層表面の変質層をより均一性良く除去できる。また、図５に示すように、隔壁は井桁状に形成されており、パネルの長辺方向に沿った隔壁（２３ａ）は短辺方向に沿った隔壁（２３ｂ）よりも低くなっている。従って、“長辺側”からガスを流し込むと、より効果的に前面板と背面板との間にガスを流すことができる。ここで、「複数の吹込み開口部」にいう「複数」とは、２〜１６程度の個数を実質的に意味している。
【００４７】
工程（ｉ）に引き続いて、工程（ｉｉ）を実施する。即ち、基板Ａまたは基板Ｂの周縁領域にガラスフリット材料を塗布して環状ガラスフリット封着部を形成する。より具体的には、前面板と背面板とを対向配置させた際に重なり合う領域の周囲にて一続きの環を成すようにガラスフリット封着部が形成される。このように形成されたガラスフリット封着部は、後に行う封着工程（ｖ）にて前面板と背面板との周縁をシールするために機能する。尚、吹込み開口部が設けられている場合では、環状ガラスフリット封着部が吹込み開口部の外側に位置するようにすると共に、封着時に吹込み開口部を塞ぐように吹込み開口部の近傍にも付加的にガラスフリット封着部（図４（ａ）の参照番号８６’）を設けておくことが好ましい。用いられるガラスフリット材料は、一般的なＰＤＰの製造において同様の目的で用いられるものであれば特に制限はなく、例えば、低融点ガラス材料（例えば酸化鉛−酸化硼素−酸化珪素系、酸化鉛−酸化硼素−酸化珪素−酸化亜鉛系など）から成るガラスフリット材料であってよい。また、塗布し易いようにビヒクル成分などを含んで成るものであってよい。例えば、ＰｂＯ系、Ｐ２Ｏ５―ＳｎＯ系またはＢｉ２Ｏ３系の低融点ガラス粉末とフィラーとを均一に混合した封着材料に対して「メチルセルロース、ニトロセルロース等の樹脂」と「α−ターピネオール、酢酸アミル等の溶媒」とを含有するビヒクルを添加して、混合攪拌によりペースト状にしたものをガラスフリット材料として用いることができる。このようなガラスフリット材料は好ましくはペースト形態（常温２３℃程度における粘度が５０〜２００Ｐａ・ｓ程度）を有しており、塗布により環状ガラスフリット封着部を形成するものの、固形状のガラスフリット材料を配すことによって環状ガラスフリット封着部を設けてもかまわない。基板Ａまたは基板Ｂの周縁領域に形成された環状ガラスフリット封着部の厚さは２００〜６００μｍ程度であり、その幅は３〜１０ｍｍ程度であることが好ましい。
【００４８】
尚、後の工程（ｉｖ）で行うガス吹込みを環状ガラスフリット封着部に設けられた溝部を介して行う場合では、環状ガラスフリット封着部に対して複数の吹込み溝部を形成する。例えば、吹込み溝部（９２ｂ）は、環状ガラスフリット封着部を形成した後に、溝部に相当する部分を切り欠いて形成してよく、あるいは、ガラスフリット材料を断続的に塗布することによって形成してもよい（図６参照）。吹込み溝部（９２ｂ）のサイズＬａ（図４（ｂ）参照）は、例えば０．１〜５ｍｍ程度であり、吹込み溝部のピッチＬｐ（図４（ｂ）参照）は、基板サイズなどによって変わり得るものの、例えば５０〜５００ｍｍ程度である。上述の吹込み開口部と同様、吹込み溝部は、前面板（１）または背面板（２）のエッジの長辺に沿って複数個設けることが好ましい。これにより、工程（ｉｖ）で吹き込まれたガスが“長辺側”から全体的に流れることになるので、“短辺側”に吹込み開口部を設ける場合と比べて、前面板と背面板との間で形成されるガス流線を短くすることができ、結果的に保護層表面の変質層をより均一性良く除去できる。また、上述の吹込み開口部と同様、パネルの長辺方向に沿った隔壁（２３ａ）は短辺方向に沿った隔壁（２３ｂ）よりも低くなっているので（図５参照）、“長辺側”からガスを流し込むと、より効果的に前面板と背面板との間にガスを流すことができる。尚、「複数の吹込み溝部」にいう「複数」とは、２〜１６程度の個数を実質的に意味している。
【００４９】
工程（ｉｉ）に引き続いて、工程（ｉｉｉ）を実施する。つまり、環状ガラスフリット封着部が基板Ａと基板Ｂとの間に位置するように、前面板と背面板とを相互に対向状態で配置する（図１５（ａ）参照）。別の表現を用いれば、前面板と背面板とは、保護層と蛍光体層とが互いに向き合うように対向して配置されると共に、表示電極とアドレス電極とが直交するように、前面板と背面板とが実質的に平行に配置される。前面板と背面板とが対向配置されると、図１５（ａ）および図７に示すように、環状ガラスフリット封着部（８６）は、前面板（１）と背面板（２）との間に挟まれた形態で存在することになる。対向配置された前面板（１）および背面板（２）は、以後に動かないようにクリップ（７０）などによって保持され得る（図１５（ａ）参照）。対向配置された前面板と背面板との間の間隔（即ち、ギャップ幅）は、環状ガラスフリット封着部の厚さなどに依存するが、例えば、好ましくは０．１ｍｍ〜０．６ｍｍであり、より好ましくは０．３〜０．６ｍｍであり、更に好ましくは０．３ｍｍ〜０．５ｍｍである。ちなみに、背面板（２）には隔壁（２３）が設けられているが、図７に示すように、封着処理前の状態では隔壁（２３）の高さよりも環状ガラスフリット封着部（８６）の高さの方が大きいため、隔壁（２３）の頂部は前面板（１）とは接触していない。つまり、パネル内部には隙間があり、その隙間を通るように吹込みガスが流れることができる。
【００５０】
工程（ｉｉｉ）に引き続いて、工程（ｉｖ）を実施する。即ち、前面板および背面板を加熱下においた状態で、前面板および背面板の横方向からガスを吹き込み、対向配置された前面板と背面板との間にガスを流す。尚、上述したように、ガス吹込みは、複数の吹込み開口部または吹込み溝部を介して行われることが好ましい。
【００５１】
対向配置された前面板および背面板を加熱炉または封排炉などのチャンバーに投入することによってそれらを加熱下におくことができる。ガスの吹込みを常温にて開始しつつ、ガスを吹込みながら「対向配置された前面板および背面板」を炉内で加熱することが好ましい。加熱温度は、「保護層表面の変質層を成す不純物（例えば保護層成分に結合しているＣＯ３２−やＯＨ−など）」が脱離することになる限り特に制限はなく、例えば３５０〜４５０℃程度である。
【００５２】
吹き込まれるガスは、保護層に対して不活性なガスであることが好ましい。例えば、窒素ガスを挙げることができる。また、ヘリウム、アルゴン、ネオンまたはキセノン等の希ガスを用いてもよい。ちなみに、吹き込まれるガスは、少なくとも、水蒸気をほとんど含まないガスであることが望まれる。例えば、吹き込まれるガスの水分濃度は１ｐｐｍ以下が好ましい。ここでいう「ガスの水分濃度（ｐｐｍ）」は、ガスの全体積（０℃１気圧の標準状態）に占める水分（水蒸気）の体積割合を百万分率で示したものであり、常套の露点計で測定することによって得られる値を指している。窒素ガスは比較的高価であるので、乾燥空気を用いるとコスト的に効率の良いＰＤＰ製造法が実現できる。吹込まれるガス流量は、パネルの大きさ、吹込み開口部もしくは吹込み溝部の個数やサイズ、ガラスフリット封着部の厚さやその頂部凹凸の大きさ等によって最適値は変わってくるものの、概ね０．１ＳＬＭ〜１０ＳＬＭの範囲である（ＳＬＭ：気体の標準状態において１分間に供給したガスの量をリットルで示す単位）。ガス流量が少なすぎると外部の大気が混入したり、清浄化が不十分になるおそれがある一方、逆にガス流量が多すぎるとコスト的に不利になり得る。尚、後述するように、本発明では、製造される複数のプラズマディスプレイパネル間のパネル形状にばらつきが生じないようにガス流量を制御するので、適量のガスが吹き込まれることになる。
【００５３】
吹込み開口部または吹込み溝部からのガスの吹き込みは、図８（ｂ）および（ｃ）に示すようにガス吹込みノズル（６１）を用いて行うことが好ましい。尚、図８に示される態様では吹込み溝部（９２ｂ）からガスを吹き込んでいる。ガス吹込みノズルから吹き込まれるガスは、並列的に配された複数の吹込み開口部または吹込み溝部を介してパネル内部に供されることになるので、結果的に、ガスを前面板と背面板との間へと全体的に流すことができる（なお、本明細書において「前面板と背面板との間へと全体的に流れる」とは、対向配置された前面板と背面板とが相互に重なり合う領域を通るようにガスが流れることを実質的に意味している）。
【００５４】
ここで、環状ガラスフリット封着部の頂部と基板とは接触しているとはいえ、環状ガラスフリット封着部の頂部は完全な平面ではなく数十〜百μｍ程度の凹凸が存在している。例えば、背面板に形成された環状ガラスフリット封着部の頂部と前面板表面との接触界面には、上記凹凸に起因して僅かな隙間が形成されている。従って、「前面板と背面板との間の空間」へと吹き込まれたガスは、最終的には、環状ガラスフリット封着部と基板との間の隙間領域（例えば、図４でいえば領域Ｍ）から排出され得る（ちなみに、チップ管に繋がっているガス供給装置及び排気装置は作動させず、これらの装置とはバルブによって遮断しておく）。尚、必要に応じて、環状ガラスフリット封着部の一部に排出溝部を設けておき、そこから「前面板と背面板との間の空間」へと流れ込んだガスを積極的に排出するようにしてもよい。
【００５５】
工程（ｉｖ）に引き続いて、工程（ｖ）を実施する。即ち、環状ガラスフリット封着部を溶融させることによって、前面板と背面板とを封着させる。より具体的には、加熱により環状ガラスフリット封着部を溶融させて前面板と背面板とを周辺領域で気密接合させる。工程（ｖ）の加熱温度は、環状ガラスフリット封着部が溶融できる温度であれば特に制限はない（即ち、一般的なＰＤＰ製造に際して用いられる「封着温度」であってよく、例えば４００℃〜５００℃程度である）。工程（ｖ）の封着の実施に際して、工程（ｉｖ）のガスの吹き込みを併せて行ってもよい。これについて詳述する。ガスの吹込みは、常温において開始する。また、ガスを吹込みながら「対向配置された前面板および背面板」を炉内で加熱する。ガラスフリットの軟化点を越えると環状ガラスフリット封着部が軟化・溶融し、徐々に環状ガラスフリット封着部と前面板との間の隙間（即ち、上述のガラスフリット封着部の頂部に存在する凹凸部）が埋まっていく。このようなガラスフリット封着部の軟化・溶融に起因して、吹込み開口部または吹込み溝部は徐々に塞がれることになる。最終的には吹込み開口部または吹込み溝部が完全に塞がれることになるが、それによって、ガス吹込みノズルから吹き込まれるガスが、前面板と背面板との間に流れることができず、パネル内部へのガス供給が自動的に停止することになる。このように封着処理時にガス吹込みが自動的に停止することは、ガスの使用量を最小限に抑制できることを意味している。軟化後では、環状ガラスフリット封着部が完全に溶融する温度域（例えばガラスフリットの溶融温度よりも１０〜７０℃程度高い温度）にて数分〜十数分パネルを保持した後で冷却する。これにより、ガラスフリットが硬化し、前面板と背面板とが確実に封着されることになる。そして、封着後においては、「封着された前面板および背面板」を封着時よりも若干低温（即ち、ガラスフリットの固化状態が維持される温度であって、ガラスフリットの溶融温度よりも１０〜５０℃程度低い温度）に保持しながら、前面板と背面板との間を真空排気する。
【００５６】
ここで付言しておけば、「工程（ｉｉｉ）の対向配置」を実施した後に「工程（ｉｖ）のガス吹き込み」を経てから「工程（ｖ）の封着」を行うということは、アライメント後はガラスフリットの頂部と背面板とが接触した状態で加熱を実施できることを意味している。従って、本発明の製造方法では、“封着時のアライメントずれ”が起きにくく、信頼性の高い製造方法を実現できるといえる。
【００５７】
真空排気操作が完了すると、前面板と背面板との間に放電ガスを封入する。封入すべき放電ガスとしては、ＸｅとＮｅの混合ガスを例示できるものの、Ｘｅのみを封入してもよいし、Ｈｅを混入させたものであってもよい。このような排気および封入は、前面板または背面板に設けられた貫通孔を介して行うことが好ましい。図９には、背面板（２）に設けられた貫通孔（２９）が示されている。かかる「貫通孔」は、対向配置された前面板と背面板との間のガスを排気し、放電ガスを供給することを可能にするものであれば、どのような形状・形態・サイズであってもかまわない（例えば、円形状の貫通孔の場合、直径サイズは１〜５ｍｍ程度である）。また、貫通孔（２９）は、ガラスフリット封着部が供される領域よりも内側に位置することが必要であるものの、完成されたＰＤＰの画像表示を妨げることがないように、ＰＤＰ表示部ではない前面板または背面板の周辺部分に位置することが好ましい。貫通孔の形成は、例えば、前面板または背面板を準備した後に、ドリル加工またはレーザー加工などの適当な方法で形成することができる。貫通孔を背面板側に設ける場合、蛍光体のペースト原料を塗布して乾燥させた後に貫通孔を設けることが好ましい。
【００５８】
「貫通孔（２９）」およびそれに関連するパーツについて詳述しておく。貫通孔（２９）には、図９に示すように、チップ管（５５）がフリットリング（５６）を介して設けられている。チップ管（５５）の端部には、配管（５８）の先端部を構成するチャックヘッド（５７）が接続されている。チャックヘッド（５７）には水冷配管・シール機構（図示せず）が配置されており、チップ管（５５）および配管（５８）が封着温度にまで昇温された場合においても一体的に密閉構造が維持されるように構成されている。配管（５８）にはガス供給装置及び排気装置（図示せず）が接続されているので、貫通孔（２９）を介して、前面板と背面板との間のガスを排気できたり、あるいは、かかる空間へと放電ガスを供給できるようになっている。尚、フリットリング（５６）は、ガラスフリット材料を固形化させた環状の固形物である。従って、炉内を溶融温度まで昇温した後に降温すると、フリットリング（５６）がガラスフリット材料と同様に溶融・固化するので、背面板（２）とチップ管（５５）とが相互に接着される。
【００５９】
ちなみに、ガス吹込み時（即ち、工程（ｉｖ））においては、貫通孔（２９）は実質的に“閉”の状態にされていることに留意されたい。より具体的には、チップ管（５５）は、フリットリング（５６）を介して貫通孔（２９）に合わせて背面板（２）に押し当てられるものであるが、「チップ管（５５）とフリットリング（５６）とが接触する面」および「フリットリング（５６）と背面板（２）とが接触する面」が平滑面なので、これらの面におけるガスの漏洩はほとんど無い。そして、チップ管（５５）と連通した配管（５８）に設けられたバルブのうち、もっともチップ管（５５）に近い側のバルブを閉じた状態でガスを吹込むことになるので、チップ管（５５）を介したガスの漏洩もほとんど無いことになる。
【００６０】
（本発明の特徴的操作）
次に、本発明の特徴的操作について説明する。本発明の製造方法では、対向配置された状態の前面板および背面板の形状を測定して工程（ｉｖ）で吹き込まれるガスの流量を制御することを特徴としている。特に、吹込み時における前面板および／または背面板の形状に応じて、吹き込みガスの供給量を制御している（図１参照）。換言すれば、吹込みガスの供給はフィードバック制御により行っており、吹込み時における前面板および／または背面板の形状を測定し、得られた形状特性に応じてガス供給量を制御している。このようなガス流量の制御を行うことによって、製造される複数のプラズマディスプレイパネル間にてパネル形状のばらつきを一定の範囲内におさめる。つまり、製造される複数のプラズマディスプレイパネル間のパネル形状にばらつきが生じないようにする。
【００６１】
ガス流量制御を行うのは、対向配置された状態の前面板および背面板（即ち、パネル）に一定の密封性があるためガス吹込みに際してパネル内部の圧力が上昇し、その圧力で前面板もしくは背面板に変形が生じ得るからである。特に、かかる変形量は、それぞれのパネルの密封性によって異なり、製造される複数のパネル間でばらつきが生じ得る。パネルの密封性自体は、前面板もしくは背面板のいずれかに形成されたガラスフリット封着部の高さのばらつきや、前面板と背面板を重ね合わせた後に装着するクリップ位置、前面板と背面板のいずれかに設けられた貫通孔に装着するガス導入用のガラス管やフリットリングの装着状態などの種々の要因によって差が生じる（尚、ガラスフリット封着部の高さのばらつきは、塗布したガラスフリット材料の乾燥条件などのプロセス要因に起因し得る）。このような要因によってパネル密封性がパネル間で異なると、保護層の清浄化用のガスを吹き込んだ際、前面板あるいは背面板で生じる変形にもパネル間で差が生じてしまう。前面板あるいは背面板の変形に差が生じることは、前面板と背面板の間の距離（即ち、前面板と背面板の間にできた隙間）に差が生じることを意味している。例えば、対向配置された前面板と背面板との間にできた隙間は、基板の周辺部でおおよそ封着部材の高さと同程度となり、例えば０．４ｍｍ程度である。一方、実際は、上述したように背面板には隔壁が形成されており、隔壁高さが０．１ｍｍ程度となっているので、「背面板に形成された隔壁の頂部」と「前面板に形成された保護層表面」との間の距離が０．３ｍｍ程度となる。つまり、保護層の清浄化ためにガスを吹き込むと、パネル密封性に起因して前面板と背面板の内部空間の圧力が上昇し、前面板および／または背面板が変形し得るので、隔壁の頂部と保護層表面との間の距離が当初の約０．３ｍｍから変化してしまうことになる。隔壁の頂部と保護層表面との間の距離が変化すると、当然、表面板と背面板の間の内部空間を流れるガスの流れ方が変わることになり、保護層表面の清浄化に対して影響する。換言すれば、パネル密封性がパネル間で異なると、清浄ガスの流れがパネル間で異なることになり、結果的に、保護層表面の清浄化もパネル間で異なってしまうことになる。このような事情に鑑みて、本発明では、前面板および／または背面板の形状に応じて、吹き込むガスの供給量・流量を制御している。
【００６２】
前面板および／または背面板の形状測定には、吹き込み時におけるパネル形状を測定できるのであれば特に制限はなく、“接触型”または“非接触型”を含む種々の計測機器（変位センサ・変位計）を用いることができる。例えば、“接触型”の形状測定機器としては、ダイヤルゲージや差動トランスなどを挙げることができる。また、“非接触型”の形状測定機器としては、光学式、超音波式、渦電流式またはレーザフォーカス式などの検出方式を採用した機器を挙げることができ、例えばレーザー変位計または電気マイクロメーター等であってよい。その他にも、前面板および／または背面板の形状の測定には、グラフィックモニターなどの画像処理による形状認識システムを用いることもできる。
【００６３】
前面板および／または背面板の形状測定に際しては、対向配置された前面板および背面板の形状を全体的に測定してもよいものの、場合によっては、前面板または背面板のいずれか一方の形状のみを測定してもよい。例えば、対向配置された前面板および背面板が架台に置かれている場合では、架台と接していない側の基板の方は形状変化し得るものの、架台と接する側の基板はガス吹き込みによって形状変化し得ないので、その場合には、架台と接していない側の基板の形状を測定すればよい。また、各基板の測定については、その各基板の形状を全体的に測定してもよいものの、場合によっては、その各基板の一部分だけ測定してもよい（即ち、或るポイントの変位を測定してもよい）。例えば、ガス吹き込みに際して各基板（１，２）が図１０に示すように変形する場合(つまり、外側面と内側面とが同等に変形する場合)、基板の外側面の形状、即ち、外側面の変位のみを測定すればよい。このような測定であっても、前面板と背面板の間の距離（即ち、前面板と背面板の間にできた隙間）を把握することができ、ガス流量制御に資する。更に言えば、基板の一部分だけ測定する場合、或る箇所の１点だけを測定することに限定されず、必要に応じて各基板につき任意の箇所の変位を複数点測定してもよい。図８（ｂ）は１点測定の態様を模式的に示す一方、図８（ｃ）は複数点測定の態様を模式的に示している。例えば、各吹込み開口部または各吹込み溝部にそれぞれ対応する複数の基板ポイント（即ち、例えば２〜１６個程度のポイント）の変位を測定してもよい。また、大型基板の場合（例えば１５０吋程度の基板の場合）、基板が全体的に波打つように変形することがあるため、そのような“波打ち”を検知すべく基板面変位を複数点で測定してもよい。換言すれば、基板サイズが大きい場合は、清浄ガスを基板内に吹き込んだ際の変形量が基板面内で異なることが多いので、形状測定機器を必要に応じ複数設けることで、より精度の高い計測が可能となる。
【００６４】
複数のプラズマディスプレイパネルを製造する場合、測定された形状、即ち、パネル変形量・変位量はパネル毎に異なり得るので、本発明では、この変形量・変位量が実質的に同等になるようにガス流量の制御を行う。尚、最適な変形量・変位量についていえば、パネル形状がガス吹込み時に変形しないことが必ずしも良いとは限らず、パネルの設計仕様や基板サイズなどによって最適な形状が決定されることに留意されたい。
【００６５】
吹き込まれるガス流量は、パネル形状が所望の形状となるように制御機器を用いて制御される。特にフィードバック制御することが好ましく、パネル形状に応じて吹き込まれるガス流量を多くしたり、少なくしたりすることが好ましい。流量制御機器としては、例えばフローメーターおよびマスフローメーターなどの流量検知機能を兼ね備えたものを用いてよい。このような流量制御機器は、好ましくは、形状測定機器からの信号（測定された形状結果）を受信することによってガス流量制御できるように構成する。尚、工程（ｖ）の封着に際して工程（ｉｖ）のガスの吹き込みを併せて行う場合、環状ガラスフリット封着部の溶融軟化に起因して吹込み開口部または吹込み溝部が塞がれることになるので、その後は、ガスの吹込みを停止するようにガス流量制御してもよい。
【００６６】
基板サイズが大きい場合は、複数の流量制御機器を独立に制御するように構成すれば、吹込みガスの流量制御がより精度の高いものとなる。
【００６７】
「パネル形状の計測」及び「吹込みガスの流量制御」は、前面板と背面板とを対向配置させた後であれば、どの時点で実施しても良い。例えば、前面板と背面板とを対向配置させた直後に１度だけ変形量・変位量を計測し、その計測データに基づいて吹込みガスの流量制御を行ってもよいし、あるいは、封着工程までの間、リアルタイムで継続的にフィードバック制御を実施して吹込みガスの流量制御を行ってもよい。勿論、必要に応じ或る一定の期間のみガス流量制御を行ってもよい。
【００６８】
尚、「パネル形状の計測」と「吹込みガスの流量制御」との具体的な組み合わせについていえば、ＰＤＰ製品に求められる性能や仕様、生産性、コスト、生産設備の仕様等を総合的に勘案して決定することができる。例えば、計測されたパネル形状の変形量・変位量を過去に計測した変形量・変位量と照合し、その製品の目的に合わせ、各パネル間で変形量・変位量が同等になるように吹込みガスの流量をフローメーターで制御するように構成してもよい。
【００６９】
（ＰＤＰ清浄化システム）
次に、本発明の製造方法を実施するために用いられるＰＤＰ清浄化システムについて説明しておく。図１１にＰＤＰ清浄化システム（１５０）の概略構成を示す。かかる清浄化システム（１５０）は「基板を加熱するための加熱装置（１５１）」と「基板を冷却するための冷却装置（１５２）」と「基板内を真空排気するための排気装置（１５３）」と「基板変形・基板変位を計測する形状測定機器（６０）」と「基板内に清浄ガスを導入する流量制御機器（６２）を備えたガス供給装置（６３）」とを有して成る。より具体的にいえば、清浄ガスを基板内に吹き込むためのガス吹込みノズルに接続されるガス配管、放電ガス等を基板内に導入するガス供給装置に通じるガス配管や真空排気配管、基板に組み立てられたチップ管と接続されるシールヘッド等、各配管には多数のバルブ等が備えられているが、それらについては図１１では示していない。
【００７０】
排気装置（１５３）、流量制御機器（６２）を備えたガス供給装置（６３）、形状測定機器（６０）は、必ずしも加熱炉の内部に備える必要はない。特に、排気装置（１５３）や流量制御機器（６２）を有するガス供給装置（６３）は、一般的には加熱炉外に設置されることが多い。形状測定機器（６０）も、加熱処理前（即ち、封着処理前）に基板の変形を計測するのであれば、加熱炉外に設けてもよいし、たとえ加熱中にも基板変形を計測する必要がある場合でも、ビューポート等を設けることで加熱炉外に設置することができる。
【００７１】
基板サイズが大きい場合は、清浄ガスを基板内に吹き込んだ際の変形量が基板面内で異なるため、形状測定機器（６０）を必要に応じ複数設けることで、より精度の高い形状測定が可能となる。同様に、流量制御機器（６２）を備えたガス供給装置（６３）についても、複数の流量制御機器（６２）がそれぞれ独立に制御されることによって、より精度の高い制御が可能となる。尚、流量制御機器（６２）が複数であっても、基本的に吹込みガスにしか用いないため、ガス供給装置（６３）は同種のガスとして１種類に集約できることに留意されたい。
【００７２】
前面板と背面板とを対向配置させクリップ等の必要部品を装着するための設備（アライメント装置等）と連続して、上記の形状測定機器とガス供給装置を加熱炉外に設置し、更にそれらを加熱炉と連続して設置すれば、それで１台の製造装置としてみなすことができるし、むしろその方が効率的であるといえる。
【００７３】
（本発明の製造方法のフロー）
最後に、本発明の製造方法を経時的に説明しておく。図１２は、本発明に係るＰＤＰ製造方法の概略を示すフローチャートである。図示するように、まず、前面板と背面板とを準備する（図１２に示すフローチャートでは、背面板側に対して環状ガラスフリット封着部を形成した後、そこに吹込み溝部を形成している）。次いで、アライメント装置内にて前面板および背面板の位置合わせを行った後、前面板と背面板とを環状ガラスフリット封着部を介して対向させて保持する。次に、吹込み溝部にガス吹込みノズルを取り付ける。また、基板に設けた貫通孔に合わせてチップ管を取り付ける。保護層の形成からこの時点までは、保護層が大気に曝露されるため、保護層表面には変質層が形成され得る。次いで、ガス吹込みノズルおよび吹込み溝部を介して「前面板と背面板との間の空間」へと清浄ガス（例えば窒素ガス）を流し込む。そして、ガスを流し込みながら前面板及び背面板を炉内で加熱し、ガラスフリット封着部を溶融させて前面板と背面板とを封着する。この際、ガス吹き込み時の前面板および／または背面板の形状（即ち、パネル形状）を測定すると共に、その測定された形状に基づいて清浄ガスの流量を制御する。引き続いて、前面板および背面板を封着時よりも若干低温に保持しながら、前面板と背面板との間の空間が真空状態になるまでチップ管を介してガス排気する。この排気処理が完了した後、前面板および背面板をほぼ常温になるまで冷却させる。かかる冷却後、ガス吹込みノズルを取り外す。そして、「表面板と背面板との間の空間」に放電ガスを導入し、所定の圧力に達した時点で放電ガスの導入を停止する（封入完了）。そして、最終的にはチップ管を溶かしてガス封止・切断することよりＰＤＰが完成する。
【００７４】
以上、本発明の実施形態について説明してきたが、あくまでも典型例を例示したに過ぎない。従って、本発明はこれに限定されず、種々の改変がなされ得ることを当業者は容易に理解されよう。例えば以下の変更態様を挙げることができる。
【００７５】
●  吹込み溝部からガスを吹き込む場合、かかる溝部に合わせガス吹込みノズルを装着することになるが、ガス吹込みノズルは背面板や前面板に接触して不具合を引き起こす場合がある。特に、背面板や前面板に形成された機能膜や電極線などのパターンが破壊されることが懸念される。従って、例えば電極線の引き出し端子が背面板の側部ａに設けられている場合では、側部ａとは異なる側部からガスを吹き込むように構成することが好ましい（図１３参照）。このようにすると、電極とガス供給部材との接触が結果的に回避され、電極材が剥がれることによるダストの発生や、これに起因する電極の断線及び隣接電極間の短絡や、パネルの点灯不良等を防止できる。ちなみに、電極の引き出し線が設けられている側部にガス吹込みノズルを装着する場合を考えてみると、ガス吹込みノズルと背面板との間に、電極の厚さ分の隙間が生じてしまうため、吹込むべきガスの流量が増してしまう。この点、電極の引き出し線が延在していない側部にガス吹込みノズルを装着させると、ガス流量を少なくできるので、低コスト化の点でも好ましいといえる。
【００７６】
●  上述した態様では、各基板につき、主にその外側面の形状・変位を測定することによって形状特性を得る態様について例示したものの、必ずしもそれに限定されるわけではない。前面板と背面板の間の距離（より具体的には隔壁の頂部と保護層表面との間の距離）を直接的に測定できるのであれば、その距離を測定してガス供給量を制御してもよい。
【００７７】
●  上述した態様では、吹込み時における前面板および／または背面板の形状に応じて、吹き込むガスの供給量を制御しているが、かかるガス供給量の制御に加えて、ガス温度を制御してもよい。この場合であっても、本発明の効果の点では実質的に変わりはなくパネル間のばらつきを抑えることができる。
【００７８】
●  吹込みガスの流量制御について、その制御機器・制御部の数は、必ずしも吹込み溝部または吹込み開口部の数と同じにする必要はなく、一定のユニットに分割してそのユニット毎に吹込みガスの流量を個別制御してもよい。かかる手法は、基板サイズが大きくなるに従い、有効となり得る。
【００７９】
●  ガスの吹込みは、常温において開始することに必ずしも限定されるわけではなく、使用ガス量を更に減じるべく、変質層除去に有効な温度域のみでガスの吹込みを行ってもよい。
【実施例】
【００８０】
本発明の効果を実証する為に、４２吋パネルを用いて試作確認した。
【００８１】
４２吋パネルの製作に際しては背面板および前面板に板厚１.８ｍｍのガラス基板を用いた。背面板としてはシングルスキャン仕様のものを使用した。背面板には、高さ１００μｍの隔壁を形成した。背面板に形成された環状ガラスフリット封着部の幅（塗布幅）は４ｍｍ、高さは４００μｍであった。そして、環状ガラスフリット封着部には、スリット加工により吹込み溝部を形成した。特に、吹込み溝部は、データ電極の引き出し端子が設けられた長辺とは別の長辺側に対して設けた。また、吹込み溝部は、幅寸法１ｍｍとして１４箇所設けた。ガス吹込みノズルの噴出口の数は、環状ガラスフリット封着部に形成した吹込み溝部の数と同じく１４箇所とし、噴出口７箇所につきガス吹込みノズルのユニットを１つとして、ガス吹込みノズルを２つのユニットから成るように構成した。かかる２つのユニットを配管で結合し１台のフローメーターに接続した。ガス吹込みノズルは、重ね合わせた背面板と前面板に対してクリップにて装着した。背面板と前面板とを重ね合わせると、背面板と前面板の間の距離（隙間）は環状ガラスフリット封着部の高さ４００μｍになった（尚、「背面板に形成された隔壁の頂部」と「前面板に形成された保護層表面」との間の距離（隙間）は３００μｍであった）。
【００８２】
吹込みガス、即ち、清浄ガスとしては、純度９９．９９９％以上の窒素ガスを用いた。
【００８３】
背面板には直径２ｍｍの貫通孔を設け、そこに環状ガラスフリット封着部と同成分のフリットリングとチップ管を取り付けた。
【００８４】
基板変形を計測したタイミングは、封着ステップの加熱処理開始直前に実施した。また、基板変形の計測箇所は、背面板の中央部とした。基板変形を計測する機器としては、レーザー変位計（キーエンス社製、ＬＫ−０１０）を用いた。
【００８５】
計測された変形量を過去に計測した変形量等と照合し、その製品の目的に合わせ、パネル間で変形量が同等になるように窒素ガスの流量をガス流量制御機器であるフローメーターにより個別に制御した。尚、重ね合わせた背面板および前面板を「封着ステップと排気ステップと放電ガスを封入するステップとを連続して処理可能な加熱炉」に仕込んで熱処理に付した。かかる加熱炉は、排気装置、冷却装置およびガス供給装置を備えたものであった。
【００８６】
封着ステップとしての封着温度は、ガラスフリット封着部およびフリットリングの軟化点である４５０℃以上として、２０分間保持した。排気ステップは、ガラスフリット封着部が固化し得る４２０℃まで降温してから、粗引きとしてロータリーポンプでの排気の後、ターボ分子ポンプによる排気を行った。次いで、加熱炉内を常温まで降温し、放電ガスとして混合ガス（ＸｅとＮｅとの混合ガス）を封入し、最後にチップ管をバーナーで加熱溶融させ、切断封止することによって４２吋ＰＤＰを得ることができた。
【００８７】
（結果）
図１４には、窒素ガスの吹き込みに際して背面板の中央部の基板変形量を計測して、フィードバックした後、窒素ガス流量を制御した後のガス流量の結果を示す。より具体的にいえば、図１４のグラフは、背面板と前面板とを重ね合わせた後の「背面板と前面板の間の距離」が４００μｍになることを踏まえ、基板の変形量を１００μｍ以内、すなわち、０．１ｍｍ以内となるように設定し、窒素ガスを吹き込んだ時点の背面基板の変形量をフィードバックして窒素ガス流量を制御した結果を示している。つまり、本実施例では、製造される複数のプラズマディスプレイパネル間にてパネル形状のばらつきが一定の範囲内におさまるように、即ち、パネル変形量が０〜０．１ｍｍの範囲内になるように（より具体的には基板の中央部の変位量が０〜０．１ｍｍの範囲内におさまるように）、窒素ガス吹込みを行ったものであるといえる。
【００８８】
図１４の結果をみると、本発明の製造方法は、複数のパネル間でパネル変形量・変位量を略一定の範囲内に収めることが可能であり、最終的に得られるＰＤＰ間で特性のばらつきを低減できることを理解できるであろう。
【産業上の利用可能性】
【００８９】
本発明の製造方法を通じて最終的に得られるＰＤＰは、パネル寿命に優れているので、一般家庭向けのプラズマテレビおよび商業用プラズマテレビとして好適に用いることができる他、その他の各種表示デバイスとしても好適に用いることができる。
【符号の説明】
【００９０】
１        前面板
２        背面板
１０      前面板側の基板Ａ
１１      前面板側の電極Ａ（表示電極）
１２      走査電極
１２ａ    透明電極
１２ｂ    バス電極
１３      維持電極
１３ａ    透明電極
１３ｂ    バス電極
１４      ブラックストライプ（遮光層）
１５      前面板側の誘電体層Ａ
１６      保護層
２０      背面板側の基板Ｂ
２１      背面板側の電極Ｂ（アドレス電極）
２２      背面板側の誘電体層Ｂ
２３      隔壁
２３ａ    長辺方向に沿って延在する隔壁
２３ｂ    短辺方向に沿って延在する隔壁
２５      蛍光体層
２９      貫通孔（封入処理用）
３０      放電空間
３２      放電セル
５５      チップ管
５６      フリットリング
５７      チャックヘッド
５８      配管
６０      形状測定機器
６１      ガス吹込みノズル
６２      流量制御機器
６３      ガス供給装置
７０      クリップ
７５      引き出し端子
８６      ガラスフリット封着部
８６'     吹込み開口部を塞ぐためのガラスフリット封着部
８６''    封着処理後のガラスフリット封着部
９２ａ    吹込み開口部
９２ｂ    吹込み溝部
１００    ＰＤＰ
１５０    ＰＤＰ清浄化システム（清浄ガス吹込み装置）
１５１    加熱装置
１５２    冷却装置
１５３    排気装置
【図１】
2010244964.tif 000003
【図２】
2010244964.tif 000004
【図３（ａ）】
2010244964.tif 000005
【図３（ｂ）】
2010244964.tif 000006
【図４】
2010244964.tif 000007
【図５】
2010244964.tif 000008
【図６】
2010244964.tif 000009
【図７】
2010244964.tif 000010
【図８（ａ）】
2010244964.tif 000011
【図８（ｂ）】
2010244964.tif 000012
【図８（ｃ）】
2010244964.tif 000013
【図９】
2010244964.tif 000014
【図１０】
2010244964.tif 000015
【図１１】
2010244964.tif 000016
【図１２】
2010244964.tif 000017
【図１３】
2010244964.tif 000018
【図１４】
2010244964.tif 000019
【図１５】
2010244964.tif 000020