(57)【要約】【課題】  二軸性フィルム用の材料として供される重合性液晶組成物において、紫外線照射時に不活性ガスで雰囲気を置換することなく、空気中で硬化が可能であり、かつ正面位相差が十分大きい等の二軸性フィルムとして求められる性能を実現できる材料を提供する。【解決手段】  重合性液晶化合物、及び光重合開始剤を含有し、該光重合開始剤の光吸収帯が波長280〜400nmであり、該重合性液晶化合物のうち少なくとも一つの光吸収帯が波長320〜400nmであることを特徴とする重合性液晶組成物を提供する。本願発明の重合性液晶組成物は、紫外線照射時に不活性ガスで雰囲気を置換することなく、空気中で硬化が可能であり、かつ正面位相差が十分大きい等の二軸性フィルムとして求められる性能を実現できる材料を提供するものである。【選択図】        図２
2010237699.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
重合性液晶化合物及び光重合開始剤を含有し、該光重合開始剤の光吸収帯が波長280〜400nmであり、該重合性液晶化合物のうち少なくとも一つの光吸収帯が波長320〜400nmであることを特徴とする重合性液晶組成物。
【請求項２】
光吸収帯が波長320〜400nmである該重合性液晶化合物のうち少なくとも一つと光重合開始剤の光吸収帯のピーク波長の差が30nm以内である請求項１記載の重合性液晶組成物。
【請求項３】
光吸収帯が波長320〜400nmである該重合性液晶化合物のうち少なくとも一つの骨格中に二重結合を有する請求項１又は２記載の重合性液晶組成物。
【請求項４】
キラルな化合物を含有しキラルネマチック相を呈する請求項１から３のいずれかに記載の重合性液晶組成物。
【請求項５】
空気中において波長280〜400nmの紫外線により硬化する請求項１から３のいずれかに記載の重合性液晶組成物。
【請求項６】
4000mJ/cm2以下の紫外線照射量で硬化する請求項５記載の重合性液晶組成物。
【請求項７】
光重合開始剤がオキシム系化合物である請求項１から６のいずれかに記載の重合性液晶組成物。
【請求項８】
光重合開始剤がアシルフォスフィンオキシド系化合物である請求項１から６のいずれかに記載の重合性液晶組成物
【請求項９】
光吸収帯が波長320〜360nmの光重合開始剤、及び光吸収帯が波長280〜320nmの光重合開始剤を含有する請求項1から６のいずれかに記載の重合性液晶組成物。
【請求項１０】
光吸収帯が波長320〜400nmである該重合性液晶化合物のうち少なくともひとつが一般式（I）
【化１】
2010237699.tif 000078
（式中、Spは炭素原子数１〜２０のアルキレン基を表し（該アルキレン基は１つ以上のハロゲン原子又はCNにより置換されていても良く、この基中に存在する１つのCH2基又は隣接していない２つ以上のCH2基はそれぞれ相互に独立して、酸素原子が相互に直接結合しない形で、-O-、-S-、-NH-、-N(CH3)-、-CO-、-COO-、-OCO-、-OCOO-、-SCO-、-COS-又は-C≡C-により置き換えられていても良い。）、
A1、A2及びA3はそれぞれ独立的に、1,4-フェニレン基、1,4-シクロヘキシレン基、1,4-シクロヘキセニル基、テトラヒドロピラン-2,5-ジイル基、1,3-ジオキサン-2,5-ジイル基、テトラヒドロチオピラン-2,5-ジイル基、1,4-ビシクロ(2,2,2)オクチレン基、デカヒドロナフタレン-2,6-ジイル基、ピリジン-2,5-ジイル基、ピリミジン-2,5-ジイル基、ピラジン-2,5-ジイル基、1,2,3,4-テトラヒドロナフタレン-2,6-ジイル基、2,6-ナフチレン基、フェナントレン-2,7-ジイル基、9,10-ジヒドロフェナントレン-2,7-ジイル基、1,2,3,4,4a,9,10a-オクタヒドロフェナントレン2,7-ジイル基又はフルオレン2,7-ジイル基、あるいは式（I-b-1）、式（I-b-2）又は式（I-b-3）
【化２】
2010237699.tif 000079
を表し、該1,4-フェニレン基、1,2,3,4-テトラヒドロナフタレン-2,6-ジイル基、2,6-ナフチレン基、フェナントレン-2,7-ジイル基、9,10-ジヒドロフェナントレン-2,7-ジイル基、1,2,3,4,4a,9,10a-オクタヒドロフェナントレン2,7-ジイル基及びフルオレン2,7-ジイル基は置換基として１個以上のF、Cl、CF3、OCF3、シアノ基、炭素原子数１〜８のアルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基、アルカノイルオキシ基、炭素原子数２〜８のアルケニル基、アルケニルオキシ基、アルケノイル基又はアルケノイルオキシ基を有していても良く、
Z0、Z1、Z2及びZ3はそれぞれ独立的に、-COO-、-OCO-、-CH2 CH2-、-OCH2-、-CH2O-、-CH=CH-、-C≡C-、-CH=CHCOO-、-OCOCH=CH-、-CH2CH2COO-、-CH2CH2OCO-、-COO CH2CH2-、-OCOCH2CH2-、-CONH-、-NHCO-、-CH=N-、-N=CH-、-N=N-、-CH=N-N=CH-又は単結合を表すが、Z0、Z1及びZ2のうち少なくとも一つは-CH=CH-、-CH=CHCOO-、-OCOCH=CH-、-CH=N-、-N=CH-、-N=N-、-CH=N-N=CH-を表し、
mは０又は１を表し、nは０、１、２又は３を表し、
Pは一般式（I-c）又は、一般式（I-d）
【化３】
2010237699.tif 000080
（式中、R21、R22、R23、R31、R32、R33はそれぞれ独立的に水素原子、ハロゲン原子又は炭素原子数１〜５のアルキル基を表し、ｌは０又は１を表す。）で表される置換基からなる群より選ばれる置換基を表し、
R1は、ハロゲン原子、シアノ基又は炭素原子数１〜２５のアルキル基を表すが、該アルキル基は１つ以上のハロゲン原子又はCNにより置換されていても良く、この基中に存在する１つのCH2基又は隣接していない２つ以上のCH2基はそれぞれ相互に独立して、酸素原子が相互に直接結合しない形で、-O-、-S-、-NH-、-N(CH3)-、-CO-、-COO-、-OCO-、-OCOO-、-SCO-、-COS-又は-C≡C-により置き換えられていても良く、あるいはR1は一般式（I-a）
【化４】
2010237699.tif 000081
（式中、P、Sp及びmは一般式（I）と同じ意味を表すが、二つのP、Sp及びmは同じであっても異なっていても良い。）で表される構造を表す。）
で表される化合物である請求項１から３のいずれかに記載の重合性液晶組成物。
【請求項１１】
一般式（I）で表される化合物が一般式（II）
【化５】
2010237699.tif 000082
（式中、Z3は水素原子、ハロゲン原子、シアノ基又は炭素原子数１〜２０の炭化水素基を表し、Z4は水素原子又はメチル基を表し、W3は単結合、-O-、-COO-又は-OCO-を表し、vは０〜１８の整数を表し、uは０又は１を表し、D、E及びFはそれぞれ独立的に、1,4−フェニレン基、隣接しないCH基が窒素で置換された1,4−フェニレン基、1,4−シクロヘキシレン基、１つ又は隣接しない２つのCH2基が酸素又は硫黄原子で置換された1,4−シクロヘキシレン基、1,4−シクロヘキセニレン基を表すが、式中に存在する1,4−フェニレン基は炭素原子数１〜７のアルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基、シアノ基又はハロゲン原子で一つ以上置換されていても良く、Y6及びY7はそれぞれ独立的に単結合、-CH2CH2-、-CH2O-、-OCH2-、-COO-、-OCO-、-C≡C-、-CH=CH-、-CF=CF-、-（CH2）4-、-CH2CH2CH2O-、-OCH2CH2CH2-、-CH=CHCH2CH2-、-CH2CH2CH=CH-、-CH=CHCOO-、-OCOCH=CH-、-CH2CH2COO-、-CH2CH2OCO-、-COO CH2CH2-、-OCOCH2CH2-、-CH=N-、-N=CH-、-N=N-又は-CH=N-N=CH-を表し、Y6及びY7の少なくとも一つは-CH=CH-、-CH=CHCOO-、-OCOCH=CH-、-CH=N-、-N=CH-、-N=N-、-CH=N-N=CH-を表し、
Y8は単結合、-O-、-COO-、-OCO-又は-CH=CHCOO-を表すが、W3が単結合を表す場合ｖは２〜１８の整数を表す。）で表される化合物である請求項１０記載の重合性液晶組成物。
【請求項１２】
一般式（I）で表される化合物が一般式（III）
【化６】
2010237699.tif 000083
（式中、Z5、Z6はそれぞれ独立的に水素原子、又はメチル基を表し、G、H及びIはそれぞれ独立的に、1,4−フェニレン基、隣接しないCH基が窒素で置換された1,4−フェニレン基、1,4−シクロヘキシレン基、１つ又は隣接しない２つのCH2基が酸素又は硫黄原子で置換された1,4−シクロヘキシレン基、1,4−シクロヘキセニレン基を表すが、式中に存在する1,4−フェニレン基は炭素原子数１〜７のアルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基、シアノ基又はハロゲン原子で一つ以上置換されていても良く、mは０から３の整数を表し、W1及びW2はそれぞれ独立的に単結合、-O-、-COO-又は-OCO-を表し、Y1及びY2はそれぞれ独立的に単結合、-COO-、-OCO-、-CH2CH2COO-、-CH2CH2OCO-、-COO CH2CH2-、-OCOCH2CH2-、-CH=N-、-N=CH-、-N=N-、-CH=N-N=CH-又は単結合を表し、Y1及びY2のうち少なくとも一つは-CH=CH-、-CH=CHCOO-、-OCOCH=CH-、-CH=N-、-N=CH-、-N=N-、-CH=N-N=CH-を表し、r及びsはそれぞれ独立的に２〜１８の整数を表すが、式中に存在する1,4−フェニレン基は炭素原子数１〜７のアルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基、シアノ基、又はハロゲン原子で一つ以上置換されていても良い。）で表される請求項１７記載の重合性液晶組成物。
【請求項１３】
一般式（I）で表される化合物の濃度が0.1〜4%である請求項１０記載の重合性液晶組成物。
【請求項１４】
該重合性液晶化合物が一般式（IV）
【化７】
2010237699.tif 000084
（式中、Sp1は炭素原子数１〜２０のアルキレン基を表し（該アルキレン基は１つ以上のハロゲン原子又はCNにより置換されていても良く、この基中に存在する１つのCH2基又は隣接していない２つ以上のCH2基はそれぞれ相互に独立して、酸素原子が相互に直接結合しない形で、-O-、-S-、-NH-、-N(CH3)-、-CO-、-COO-、-OCO-、-OCOO-、-SCO-、-COS-又は-C≡C-により置き換えられていても良い。）、
A4、A5及びA6はそれぞれ独立的に、1,4-フェニレン基、1,4-シクロヘキシレン基、1,4-シクロヘキセニル基、テトラヒドロピラン-2,5-ジイル基、1,3-ジオキサン-2,5-ジイル基、テトラヒドロチオピラン-2,5-ジイル基、1,4-ビシクロ(2,2,2)オクチレン基、デカヒドロナフタレン-2,6-ジイル基、ピリジン-2,5-ジイル基、ピリミジン-2,5-ジイル基、ピラジン-2,5-ジイル基、1,2,3,4-テトラヒドロナフタレン-2,6-ジイル基、2,6-ナフチレン基、フェナントレン-2,7-ジイル基、9,10-ジヒドロフェナントレン-2,7-ジイル基、1,2,3,4,4a,9,10a-オクタヒドロフェナントレン2,7-ジイル基又はフルオレン2,7-ジイル基を表し、該1,4-フェニレン基、1,2,3,4-テトラヒドロナフタレン-2,6-ジイル基、2,6-ナフチレン基、フェナントレン-2,7-ジイル基、9,10-ジヒドロフェナントレン-2,7-ジイル基、1,2,3,4,4a,9,10a-オクタヒドロフェナントレン2,7-ジイル基及びフルオレン2,7-ジイル基は置換基として１個以上のF、Cl、CF3、OCF3、シアノ基、炭素原子数１〜８のアルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基、アルカノイルオキシ基、炭素原子数２〜８のアルケニル基、アルケニルオキシ基、アルケノイル基又はアルケノイルオキシ基を有していても良く、
Z4、Z5、Z6及びZ7はそれぞれ独立して、-COO-、-OCO-、-CH2 CH2-、-OCH2-、-CH2O-、-C≡C-、-CH2CH2COO-、-CH2CH2OCO-、-COO CH2CH2-、-OCOCH2CH2-、-CONH-、-NHCO-又は単結合を表し、
oは０又は１を表し、
qは０、１、２又は３を表し、
P1は一般式（IV-c）又は、一般式（IV-d）
【化８】
2010237699.tif 000085
（式中、R21、R22、R23、R31、R32、R33はそれぞれ独立的に水素原子、ハロゲン原子又は炭素原子数１〜５のアルキル基を表し、ｌは０又は１を表す。）で表される置換基からなる群より選ばれる置換基を表し、
R2は、ハロゲン原子、シアノ基又は炭素原子数１〜２５のアルキル基を表すが、該アルキル基は１つ以上のハロゲン原子又はCNにより置換されていても良く、この基中に存在する１つのCH2基又は隣接していない２つ以上のCH2基はそれぞれ相互に独立して、酸素原子が相互に直接結合しない形で、-O-、-S-、-NH-、-N(CH3)-、-CO-、-COO-、-OCO-、-OCOO-、-SCO-、-COS-又は-C≡C-により置き換えられていても良く、あるいはR2は一般式（IV-a）
【化９】
2010237699.tif 000086
（式中、P1、Sp1及びoは一般式（IV）と同じ意味を表すが、二つのP1、Sp1及びoは同じであっても異なっていても良い。）で表される構造を表す。）で表される化合物である請求項１から１３の何れかに記載の重合性液晶組成物。
【請求項１５】
一般式（IV）で表される化合物が、一般式（V）
【化１０】
2010237699.tif 000087
（式中、Z3は水素原子、ハロゲン原子、シアノ基又は炭素原子数１〜２０の炭化水素基を表し、Z4は水素原子又はメチル基を表し、W3は単結合、-O-、-COO-又は-OCO-を表し、vは０〜１８の整数を表し、uは０又は１を表し、D、E及びFはそれぞれ独立的に、1,4−フェニレン基、隣接しないCH基が窒素で置換された1,4−フェニレン基、1,4−シクロヘキシレン基、１つ又は隣接しない２つのCH2基が酸素又は硫黄原子で置換された1,4−シクロヘキシレン基、1,4−シクロヘキセニレン基を表すが、式中に存在する1,4−フェニレン基は炭素原子数１〜７のアルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基、シアノ基又はハロゲン原子で一つ以上置換されていても良く、Y6及びY7はそれぞれ独立的に単結合、-CH2CH2-、-CH2O-、-OCH2-、-COO-、-OCO-、-C≡C-、-（CH2）4-、-CH2CH2CH2O-、-OCH2CH2CH2-、-CH2CH2COO-、-CH2CH2OCO-、-COO CH2CH2-又は-OCOCH2CH2-を表し、Y8は単結合、-O-、-COO-、又は-OCO- を表すが、W3が単結合を表す場合ｖは２〜１８の整数を表す。）で表される化合物である請求項１４記載の重合性液晶組成物。
【請求項１６】
一般式（IV）で表される化合物が一般式（VI）
【化１１】
2010237699.tif 000088
（式中、Z5、及びZ6はそれぞれ独立的に水素原子、又はメチル基を表し、G、H及びIはそれぞれ独立的に、1,4−フェニレン基、隣接しないCH基が窒素で置換された1,4−フェニレン基、1,4−シクロヘキシレン基、１つ又は隣接しない２つのCH2基が酸素又は硫黄原子で置換された1,4−シクロヘキシレン基、1,4−シクロヘキセニレン基を表すが、式中に存在する1,4−フェニレン基は炭素原子数１〜７のアルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基、シアノ基又はハロゲン原子で一つ以上置換されていても良く、mは０から３の整数を表し、W1及びW2はそれぞれ独立的に単結合、-O-、-COO-又は-OCO-を表し、Y1及びY2はそれぞれ独立的に単結合、-COO-、-OCO-、-CH2CH2COO-、-CH2CH2OCO-、-COO CH2CH2-、-OCOCH2CH2-を表し、r及びsはそれぞれ独立的に２〜１８の整数を表すが、式中に存在する1,4−フェニレン基は炭素原子数１〜７のアルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基、シアノ基、又はハロゲン原子で一つ以上置換されていても良い。）で表される化合物である請求項１４記載の重合性液晶組成物。
【請求項１７】
重合性液晶組成物がベンゼン誘導体、トリフェニレン誘導体、トルキセン誘導体、フタロシアニン誘導体又はシクロヘキサン誘導体を分子の中心の母核とし、直鎖のアルキル基、直鎖のアルコキシ基又は置換ベンゾイルオキシ基がその側鎖として放射状に置換した構造である円盤状液晶化合物を含有することを特徴とする請求項１から１３のいずれかに記載の重合性液晶組成物。
【請求項１８】
円盤状化合物が一般式（VII）で表される化合物である請求項１７記載の重合性液晶組成物。
【化１２】
2010237699.tif 000089
（式中、R5はそれぞれ独立して一般式（VII-a）で表される置換基を表す。）
【化１３】
2010237699.tif 000090
（式中、R6及びR7はそれぞれ独立的に水素原子、ハロゲン原子又はメチル基を表し、R8は炭素原子数１〜２０アルコキシ基を表すが、該アルコキシ基中の水素原子は一般式（VII-b）、一般式（V-c）で表される置換基によって置換されていても良い。）
【化１４】
2010237699.tif 000091
（式中、R81、R82、R83、R84、R85、R86はそれぞれ独立的に水素原子、ハロゲン原子又は炭素原子数１〜５のアルキル基を表し、nは０又は１を表す。）
【請求項１９】
重合性液晶組成物が、0.5〜5％の非液晶性重合性化合物を含有する請求項１〜１８記載の重合性液晶組成物。
【請求項２０】
非液晶性重合性化合物が、ベンゼン環を有する請求項１９記載の重合性液晶組成物。
【請求項２１】
請求項１から２０記載のいずれかの重合性液晶組成物を硬化させた光学異方体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本願発明は、液晶ディスプレイ等の光学補償フィルム製造に使用される重合性液晶組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイの性能向上に有用な技術として、重合性コレステリック材料を用いた二軸性フィルムの利用が提案されている（特許文献１及び２参照）。この二軸性フィルムは、二色性開始剤を添加した重合性コレステリック液晶を基板に塗布した後、偏光UVにより重合することによって製造することができる。しかし、二色性開始剤は二色性と重合開始剤の性能を合わせもたせるために設計が難しく、材料が限られてしまうという問題があった。また、二色性開始剤に空気中（酸素存在下）での硬化を可能にするような光重合開始の性能を付与するのは極めて難しく、偏光UVの照射時に窒素などの不活性ガスで雰囲気を置換する必要があるため、製造コスト上昇、タクトタイムの増加、またプロセスマージンが狭くなるという問題を引き起こしていた。
【０００３】
一方、二色性開始剤に代えて光ラジカル重合の技術分野で使用されている一般の重合開始剤を使用して二軸性フィルムを作製することは可能である。空気中での硬化を可能にするような光重合開始剤を選択すれば、不活性ガスでの置換をせずに偏光UVでの硬化ができるが、二軸性フィルムとしての性能が十分でないという問題があった。たとえば、液晶ディスプレイ用、特にVA液晶ディスプレイとして求められる二軸フィルムの正面位相差Re（フィルム平面方向の屈折率をｎｘ、ｎｙ、厚み方向の屈折率をnｚ、厚みをｄとすると、Re＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄで定義される）が40ｎｍ以上、厚み方向位相差Ｒｔｈ（フィルム平面方向の屈折率をｎｘ、ｎｙ、厚み方向の屈折率をnｚ、厚みをｄとすると、Ｒｔｈ＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ）×ｄ）で定義される）が180nm以上を確保するのが困難であった。
【０００４】
また、二軸性フィルムの正面位相差を改善するために、炭素−炭素三重結合を有する重合性液晶化合物を５〜６０％添加する技術が開示されている（特許文献３参照）。この技術を用いると、炭素−炭素三重結合を有する化合物を含まない場合には正面位相差Reが8.5nmしか得られていないのに対し、正面位相差Reとして30nm以上の値を得ることができる。しかしながら、炭素−炭素三重結合を有する化合物は耐光性が悪く、当該化合物を5%以上添加して作製されたフィルムは、光への暴露によって極めて黄変しやすいという問題があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特表２００５−５１３２４１号公報
【特許文献２】特表２００８−５０５３６９号公報
【特許文献３】特表２００８−５１２５０４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本願発明の目的は、二軸性フィルム用の材料として供される重合性液晶組成物において、紫外線照射時に不活性ガスで雰囲気を置換することなく、空気中で硬化が可能であり、かつ正面位相差が十分大きい等の二軸性フィルムとして求められる性能を実現できる材料を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成するために鋭意検討した結果、特定の条件を満たすように開始剤と液晶材料を選択すればよいことを見出し、本願発明の完成に至った。
【０００８】
本願発明は、重合性液晶化合物、及び光重合開始剤を含有し、該光重合開始剤の光吸収帯が波長280〜400nmであり、該重合性液晶化合物のうち少なくとも一つの光吸収帯が波長320〜400nmであることを特徴とする重合性液晶組成物及び当該重合性液晶組成物を硬化させた光学異方体を提供する。
【発明の効果】
【０００９】
本願発明の重合性液晶組成物は、光重合開始剤と少なくとも一つの重合性液晶化合物の光吸収帯を揃えることで、二色性開始剤を用いることなく空気中において重合が可能で、作製された二軸性フィルムの正面位相差Reを増大させることができる。又、二色性開始剤を用いる必要がないため、入手容易な空気中硬化が可能な重合開始剤の使用が可能である。本願発明の重合性液晶組成物はUV硬化時の雰囲気を不活性ガスで置換しなくても良いので作製工程が煩雑でなく、残存酸素の影響によって硬化度が左右されにくく、二軸性フィルム作製時のプロセスマージンが広くすることが可能である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
本発明の重合性液晶組成物に用いられる光重合開始剤としては、光ラジカル重合開始剤が好ましい。光重合開始剤としては、光の振動面によって光吸収に差がない、光学的に等方性の開始剤を用いても、光の振動面によって光吸収に差がある多色性の開始剤を用いても良く、多色性の開始剤として一般的な二色性の開始剤を使用しても良いが、入手の容易性、開始剤選択肢の数の観点から、多色性の開始剤以外の、光学的に等方性の開始剤を用いることが好ましい。
光重合開始剤は波長280〜400nmにおいて吸収帯を有するが、波長300〜390nmにおいて吸収帯をもつことが更に好ましく、320〜380nmにおいて吸収帯を持つことが特に好ましい。
【００１１】
光重合開始剤の具体的な化学構造としては、ベンゾインエーテル類、ベンゾフェノン類、アセトフェノン類、ベンジルケタール類、アシルフォスフィンオキサイド類、オキシムエステル類等が挙げられる。
これらの中でもオキシムエステル類を使用することは好ましい。オキシムエステル類の化合物としては具体的には次の一般式（RI-1）又は一般式（RI-2）で表される構造を表す化合物が好ましい。
【００１２】
【化１】
2010237699.tif 000003
【００１３】
（式中、Ra、Rb、Rc及びRdは、それぞれ独立してR、RO、RCO、RS、RR’NCO、又はCNを表し、R及びR’はそれぞれ独立して炭素原子数２０以下のアルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル芳香環又は複素環基を表し、これらの置換基はさらにハロゲン原子、同様な置換基で置換されていても良く、基中の炭素原子は酸素原子又は硫黄原子で置換されていても良い。）
更に具体的には、一般式（RI-1）又は一般式（RI-2）は一般式（RI-1a）又は一般式（RI-2a）が好ましい。
【００１４】
【化２】
2010237699.tif 000004
（式中、Raは炭素原子数２０以下のアルキル基、アリール基、アラルキル基、芳香環を表し、Re及びRfはそれぞれ独立してR、RO、RCO、RS、RR’NCO、又はCNを表し、R及びR’はそれぞれ独立して炭素原子数２０以下のアルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル芳香環又は複素環基を表す。）
【００１５】
【化３】
2010237699.tif 000005
（式中、Ra、Rb、Rd及びRgはそれぞれ独立して、炭素原子数２０以下のアルキル基、アリール基、アラルキル基、芳香環を表す。）
このようなオキシムエステル類の化合物の更なる具体例として、Irgacure OXE 01」、「Irgacure  OXE  02」（以上、チバスペシャリティケミカルズ社製）を挙げることがで  
【００１６】
また、光重合開始剤としてアシルフォスフィンオキシド類を使用することも好ましい。このような化合物として具体的には、一般式（RI-3）で表されるものが好ましい。
【００１７】
【化４】
2010237699.tif 000006
（式中、X５からX７はそれぞれ独立して炭素原子数２０以下のアルキル基、アリール基、アラルキル基、芳香環を表し、ｐ、ｑ、及びｒはそれぞれ独立して1〜4の整数を表し、X8は単結合、又は−CO−を表す。）
更に具体的には、式（RI-3a）及び式（RI-3b）を挙げることができる。
【００１８】
【化５】
2010237699.tif 000007
【００１９】
【化６】
2010237699.tif 000008
このようなアシルフォスフィンオキシド類の化合物の製品名として、「Irgacure-819」（以上、チバスペシャリティケミカルズ社製）、「ルシリンTPO」（BASF社製）を挙げることができる。
【００２０】
以上のオキシムエステル類もしくアシルフォスフィンオキシド類の少なくともどちらか一方は含有していることが好ましい。これらの化合物は、320〜380nmの領域において、吸収帯を有するものが多く有用である。  紫外線硬化特性の調整・改善の観点から、上記のように320〜380nmの吸収を有する光重合開始剤に加えて、280〜320nmにおいて主な吸収帯を有する光重合開始剤を併用することは極めて有効である。このような用途には、「Irgacure-907」、「Irgacure-2959」（以上、チバスペシャリティケミカルズ社製）を使用することができる。このような場合の好ましい組み合わせとしては、オキシムエステル類と「Irgacure-907」、アシルフォスオキシド類と「Irgacure-907」を例示することができる。
波長280〜400nmに吸収帯を有する光重合開始剤としては、上記の他に、「Irgacure-651」、「Irgacure-184」、「Darocur-1173」、「Irgacure-127」、「Darocur MBF」、「Irgacure-369」、「Irgacure-379」を挙げることができる。
【００２１】
重合性液晶組成物として空気中において紫外線照射量が4000mJ/cm2以下で硬化するように設計するのが好ましく、2000mJ/cm2以下で硬化するのが更に好ましく、1000mJ/cm2以下で硬化するのが特に好ましい。
重合開始剤の重合性液晶組成物中の添加量は1〜6%が好ましく、1〜5%が更に好ましく、3〜5%が特に好ましい。添加量が少ないと硬化性が悪くなり、添加量が多いと重合性液晶組成物の液晶としての性質が損なわれやすくなる。
【００２２】
本発明においては、光吸収帯が波長320〜400nmである重合性液晶化合物に加えて、光吸収帯が波長280〜400nmである光吸収剤を含有していても良い。
光吸収剤としては、波長280〜400nmにおいて吸収帯を有するが、波長300〜390nmにおいて吸収帯をもつことが更に好ましく、320〜380nmにおいて吸収帯を持つことが特に好ましい。具体的な構造としては二重結合を分子内に有することが好ましい。二重結合としては、炭素-炭素二重結合、炭素-窒素二重結合が好ましい。また、分子として直線性が良いものが好ましい。この光吸収剤は、液晶性を示しても、また示さなくてもよい。
具体的には、一般式（X）
【００２３】
【化７】
2010237699.tif 000009
【００２４】
（式中、Ｘ1からＸ4はそれぞれ独立してフッ素原子、炭素原子数1〜18のアルキル基、アルコキシ基、アシル基、アルコキシカルボキシ基、炭素原子数2〜18のアルケニル基、又はアルケニルオキシ基を表し、ｌ及びｏはそれぞれ独立して１から５の整数を表し、ｍ及びｎはそれぞれ独立して１から４の整数を表し、Ｌ1からＬ3はそれぞれ独立して単結合又は−CH＝CH−を表すが、Ｌ1からＬ3の少なくとも二つは−CH＝CH−を表す。）で表される化合物が好ましく、一般式（Xa）
【００２５】
【化８】
2010237699.tif 000010
【００２６】
（式中、Ｘ1からＸ4はそれぞれ独立してフッ素原子、炭素原子数1〜18のアルキル基、アルコキシ基、アシル基、アルコキシカルボキシ基、炭素原子数2〜18のアルケニル基、又はアルケニルオキシ基を表し、ｌ及びｏはそれぞれ独立して１から５の整数を表し、ｍ及びｎはそれぞれ独立して１から４の整数を表す。）で表される化合物がより好ましく、
式（X-１）
【００２７】
【化９】
2010237699.tif 000011
【００２８】
で表される化合物が特に好ましい。図１に本化合物をアセトニトリル中に10ppmで溶解させ、光路1cmで測定したときの分光スペクトルを示す。本化合物は約360nmに吸収帯（吸収ピーク）を持つことがわかる。
光吸収剤の添加量は0.1~4%以下が好ましく、0.2~3%が更に好ましく、0.3~2%が特に好ましい。
【００２９】
光重合開始剤と光吸収剤の吸収帯は、波長280〜400nmの中で一致していることが好ましく、ピーク波長の差が30nm以内であることが好ましく、20nm以内であることが更に好ましく、10nm以内が特に好ましい。  本発明において光吸収帯が波長320〜400nmである重合性液晶化合物を含有する態様において、重合性液晶化合物のうち少なくとも一つは波長320〜390nmにおいて吸収帯をもつことが更に好ましく、320〜380nmにおいて吸収帯を持つことが特に好ましい。具体的な構造としては二重結合を分子内に有することが好ましい。二重結合としては、炭素-炭素二重結合、炭素-窒素二重結合、窒素窒素二重結合が好ましい。このような重合性液晶化合物としては一般式（I）で表される化合物が好ましい。
【００３０】
【化１０】
2010237699.tif 000012
【００３１】
（式中、Spは炭素原子数１〜２０のアルキレン基を表し（該アルキレン基は１つ以上のハロゲン原子又はCNにより置換されていても良く、この基中に存在する１つのCH2基又は隣接していない２つ以上のCH2基はそれぞれ相互に独立して、酸素原子が相互に直接結合しない形で、-O-、-S-、-NH-、-N(CH3)-、-CO-、-COO-、-OCO-、-OCOO-、-SCO-、-COS-又は-C≡C-により置き換えられていても良い。）、
A1、A2及びA3はそれぞれ独立的に、1,4-フェニレン基、1,4-シクロヘキシレン基、1,4-シクロヘキセニル基、テトラヒドロピラン-2,5-ジイル基、1,3-ジオキサン-2,5-ジイル基、テトラヒドロチオピラン-2,5-ジイル基、1,4-ビシクロ(2,2,2)オクチレン基、デカヒドロナフタレン-2,6-ジイル基、ピリジン-2,5-ジイル基、ピリミジン-2,5-ジイル基、ピラジン-2,5-ジイル基、1,2,3,4-テトラヒドロナフタレン-2,6-ジイル基、2,6-ナフチレン基、フェナントレン-2,7-ジイル基、9,10-ジヒドロフェナントレン-2,7-ジイル基、1,2,3,4,4a,9,10a-オクタヒドロフェナントレン2,7-ジイル基又はフルオレン2,7-ジイル基、あるいは式（I-b-1）、式（I-b-2）又は式（I-b-3）
【００３２】
【化１１】
2010237699.tif 000013
【００３３】
を表し、該1,4-フェニレン基、1,2,3,4-テトラヒドロナフタレン-2,6-ジイル基、2,6-ナフチレン基、フェナントレン-2,7-ジイル基、9,10-ジヒドロフェナントレン-2,7-ジイル基、1,2,3,4,4a,9,10a-オクタヒドロフェナントレン2,7-ジイル基及びフルオレン2,7-ジイル基は置換基として１個以上のF、Cl、CF3、OCF3、シアノ基、炭素原子数１〜８のアルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基、アルカノイルオキシ基、炭素原子数２〜８のアルケニル基、アルケニルオキシ基、アルケノイル基又はアルケノイルオキシ基を有していても良く、
Z0、Z1、Z2及びZ3はそれぞれ独立的に、-COO-、-OCO-、-CH2 CH2-、-OCH2-、-CH2O-、-CH=CH-、-C≡C-、-CH=CHCOO-、-OCOCH=CH-、-CH2CH2COO-、-CH2CH2OCO-、-COO CH2CH2-、-OCOCH2CH2-、-CONH-、-NHCO-、-CH=N-、-N=CH-、-N=N-、-CH=N-N=CH-又は単結合を表すが、Z0、Z1及びZ2のうち少なくとも一つは-CH=CH-、-CH=CHCOO-、-OCOCH=CH-、-CH=N-、-N=CH-、-N=N-、-CH=N-N=CH-を表し、
mは０又は１を表し、nは０、１、２又は３を表し、
Pは一般式（I-c）又は、一般式（I-d）
【００３４】
【化１２】
2010237699.tif 000014
【００３５】
（式中、R21、R22、R23、R31、R32、R33はそれぞれ独立的に水素原子、ハロゲン原子又は炭素原子数１〜５のアルキル基を表し、ｌは０又は１を表す。）で表される置換基からなる群より選ばれる置換基を表し、
R1は、ハロゲン原子、シアノ基又は炭素原子数１〜２５のアルキル基を表すが、該アルキル基は１つ以上のハロゲン原子又はCNにより置換されていても良く、この基中に存在する１つのCH2基又は隣接していない２つ以上のCH2基はそれぞれ相互に独立して、酸素原子が相互に直接結合しない形で、-O-、-S-、-NH-、-N(CH3)-、-CO-、-COO-、-OCO-、-OCOO-、-SCO-、-COS-又は-C≡C-により置き換えられていても良く、あるいはR1は一般式（I-a）
【００３６】
【化１３】
2010237699.tif 000015
（式中、P、Sp及びmは一般式（I）と同じ意味を表すが、二つのP、Sp及びmは同じであっても異なっていても良い。）で表される構造を表す。）
一般式（I）で表される化合物のうち、重合性官能基を一つ有する化合物として具体的には一般式（II）
【００３７】
【化１４】
2010237699.tif 000016
（式中、Z3は水素原子、ハロゲン原子、シアノ基又は炭素原子数１〜２０の炭化水素基を表し、Z4は水素原子又はメチル基を表し、W3は単結合、-O-、-COO-又は-OCO-を表し、vは０〜１８の整数を表し、uは０又は１を表し、D、E及びFはそれぞれ独立的に、1,4−フェニレン基、隣接しないCH基が窒素で置換された1,4−フェニレン基、1,4−シクロヘキシレン基、１つ又は隣接しない２つのCH2基が酸素又は硫黄原子で置換された1,4−シクロヘキシレン基、1,4−シクロヘキセニレン基を表すが、式中に存在する1,4−フェニレン基は炭素原子数１〜７のアルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基、シアノ基又はハロゲン原子で一つ以上置換されていても良く、Y6及びY7はそれぞれ独立的に単結合、-CH2CH2-、-CH2O-、-OCH2-、-COO-、-OCO-、-C≡C-、-CH=CH-、-CF=CF-、-（CH2）4-、-CH2CH2CH2O-、-OCH2CH2CH2-、-CH=CHCH2CH2-、-CH2CH2CH=CH-、-CH=CHCOO-、-OCOCH=CH-、-CH2CH2COO-、-CH2CH2OCO-、-COO CH2CH2-、-OCOCH2CH2-、-CH=N-、-N=CH-、-N=N-又は-CH=N-N=CH-を表し、Y6及びY7の少なくとも一つは-CH=CH-、-CH=CHCOO-、-OCOCH=CH-、-CH=N-、-N=CH-、-N=N-、-CH=N-N=CH-を表し、
Y8は単結合、-O-、-COO-、-OCO-又は-CH=CHCOO-を表すが、W3が単結合を表す場合ｖは２〜１８の整数を表す。）で表される化合物を含有させることが好ましい。
【００３８】
一般式（II）で表される化合物には、液晶性骨格を重合性官能基の間にスペーサーを有する化合物と有さない化合物を含む。一般式（II）において、W3が単結合以外の置換基を表し、ｖが２〜１８の整数を表す場合がスペーサーを有する化合物に相当し、具体的には以下の一般式（II-1）から一般式（II-6）で表される化合物が好ましい。
【００３９】
【化１５】
2010237699.tif 000017
【００４０】
（式中、X1は水素原子又はメチル基を表し、Rは炭素原子数１から２０のアルキル基、アルコキシ基、シアノ基、フッ素原子を表し、Sは２〜８の整数を表し、Qは酸素原子又は単結合を表す）。X１としては水素原子が好ましく、Sとしては2、3、4、6が好ましい。
一般式（I）で表される化合物のうち、重合性官能基を二つ有する化合物としては一般式（III）で表される化合物が好ましい。
【００４１】
【化１６】
2010237699.tif 000018
【００４２】
（式中、Z5、Z6はそれぞれ独立的に水素原子、又はメチル基を表し、G、H及びIはそれぞれ独立的に、1,4−フェニレン基、隣接しないCH基が窒素で置換された1,4−フェニレン基、1,4−シクロヘキシレン基、１つ又は隣接しない２つのCH2基が酸素又は硫黄原子で置換された1,4−シクロヘキシレン基、1,4−シクロヘキセニレン基を表すが、式中に存在する1,4−フェニレン基は炭素原子数１〜７のアルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基、シアノ基又はハロゲン原子で一つ以上置換されていても良く、mは０から３の整数を表し、W1及びW2はそれぞれ独立的に単結合、-O-、-COO-又は-OCO-を表し、Y1及びY2はそれぞれ独立的に単結合、-COO-、-OCO-、-CH2CH2COO-、-CH2CH2OCO-、-COO CH2CH2-、-OCOCH2CH2-、-CH=N-、-N=CH-、-N=N-、-CH=N-N=CH-又は単結合を表し、Y1及びY2のうち少なくとも一つは-CH=CH-、-CH=CHCOO-、-OCOCH=CH-、-CH=N-、-N=CH-、-N=N-、-CH=N-N=CH-を表しr及びsはそれぞれ独立的に２〜１８の整数を表すが、式中に存在する1,4−フェニレン基は炭素原子数１〜７のアルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基、シアノ基、又はハロゲン原子で一つ以上置換されていても良い。）
更に具体的には以下に挙げることができる。
【００４３】
【化１７】
2010237699.tif 000019
【００４４】
（式中、X1及び、X2はそれぞれ独立的に水素原子又はメチル基を表し、Q1、及びQ2はそれぞれ独立的に酸素原子または単結合を表し、s、及びtはそれぞれ独立的に2〜18の整数を表す。）X１、及びX2としては水素原子が好ましく、ｓ、及びtとしてはそれぞれ独立的に2、3、4、又は6が好ましい。
一般式（I）で表される化合物の内、イソソルビド骨格を有する化合物としては次に記載する式（a）〜（b）の化合物が好ましい。
【００４５】
【化１８】
2010237699.tif 000020
【００４６】
これらの化合物の添加により、キラル化合物を添加することによる効果も同時に得ることとができる。  一般式（I）で表されるキラル化合物は単独で用いても、組み合わせて用いても良いが、合計の濃度：Ｃ（質量%）は、0.1〜4%が好ましく、0.2〜3%が更に好ましく、0.3〜2%が特に好ましい。濃度を決めるにあたって重要なのは、320〜400nmの吸収帯、好ましくは320〜390nmの吸収帯、特に好ましくは320〜380nmの吸収帯において、一定の吸光度を示すようにすることである。
【００４７】
ここで吸光度：Ａ100は以下の計算式１の通り次のように定義される。重合性液晶化合物をアセトニトリル溶媒中で、光路長1cmのセル測定したときの吸光度をＡcと定義し、測定時の濃度：Ｃ1（質量%）で除して100を乗じた値、つまり100質量%あたりの吸光度をＡ100と定義する。
【００４８】
【数１】
2010237699.tif 000021
重合性液晶材料として前記吸収帯における吸光度：Ａを100~4000にすることが好ましく、200〜3000にすることが更に好ましく、300〜2500にすることが特に好ましい。
実際に添加することが好ましい一般式（I）の量は以下の計算式２に従って算出される。
【００４９】
【数２】
2010237699.tif 000022
たとえば、式（III-2a）の化合物は、図２の分光スペクトル（アセトニトリル中、20ppm、光路長1cm）を示す。
【００５０】
【化１９】
2010237699.tif 000023
当該化合物の吸光度：Ａcの測定はアセトニトリル溶媒中に20ppm溶解させて光路長1cmで行ったものである。図２より吸収ピークは327nmにあり、当該波長における吸光度は1.47であることがわかる。したがって、式（III-2a）の化合物の100質量%あたりの吸光度：Ａ100は計算式１から73500と計算される。この結果から、例えば本発明の重合性液晶組成物に含まれる式（I）で表される化合物が式（III-2a）のみである場合、重合性液晶材料としての吸光度：Ａを2000に設定するには計算式２より、2.72%添加すればよいことがわかる。
【００５１】
一般式（I）で表される重合性液晶化合物単体の吸光度：Ａ100（アセトニトリル中に溶解させて光路長1cmで吸光度を測定し、測定時の濃度から計算して求める）は、30000以上が好ましく、45000以上が更に好ましく、60000以上が特に好ましい。
【００５２】
光重合開始剤と光吸収剤の吸収帯は、波長320〜400nmの中で一致していることが好ましく、ピーク波長の差が30nm以内であることが好ましく、20nm以内であることが更に好ましく、10nm以内が特に好ましい。
一般式（I）以外の重合性液晶化合物としては、一般式（IV）で表される化合物が好ましい。
【００５３】
【化２０】
2010237699.tif 000024
【００５４】
（式中、Sp1は炭素原子数１〜２０のアルキレン基を表し（該アルキレン基は１つ以上のハロゲン原子又はCNにより置換されていても良く、この基中に存在する１つのCH2基又は隣接していない２つ以上のCH2基はそれぞれ相互に独立して、酸素原子が相互に直接結合しない形で、-O-、-S-、-NH-、-N(CH3)-、-CO-、-COO-、-OCO-、-OCOO-、-SCO-、-COS-又は-C≡C-により置き換えられていても良い。）、
A4、A5及びA6はそれぞれ独立的に、1,4-フェニレン基、1,4-シクロヘキシレン基、1,4-シクロヘキセニル基、テトラヒドロピラン-2,5-ジイル基、1,3-ジオキサン-2,5-ジイル基、テトラヒドロチオピラン-2,5-ジイル基、1,4-ビシクロ(2,2,2)オクチレン基、デカヒドロナフタレン-2,6-ジイル基、ピリジン-2,5-ジイル基、ピリミジン-2,5-ジイル基、ピラジン-2,5-ジイル基、1,2,3,4-テトラヒドロナフタレン-2,6-ジイル基、2,6-ナフチレン基、フェナントレン-2,7-ジイル基、9,10-ジヒドロフェナントレン-2,7-ジイル基、1,2,3,4,4a,9,10a-オクタヒドロフェナントレン2,7-ジイル基又はフルオレン2,7-ジイル基を表し、該1,4-フェニレン基、1,2,3,4-テトラヒドロナフタレン-2,6-ジイル基、2,6-ナフチレン基、フェナントレン-2,7-ジイル基、9,10-ジヒドロフェナントレン-2,7-ジイル基、1,2,3,4,4a,9,10a-オクタヒドロフェナントレン2,7-ジイル基及びフルオレン2,7-ジイル基は置換基として１個以上のF、Cl、CF3、OCF3、シアノ基、炭素原子数１〜８のアルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基、アルカノイルオキシ基、炭素原子数２〜８のアルケニル基、アルケニルオキシ基、アルケノイル基又はアルケノイルオキシ基を有していても良く、
Z4、Z5、Z6及びZ7はそれぞれ独立して、-COO-、-OCO-、-CH2 CH2-、-OCH2-、-CH2O-、-C≡C-、-CH2CH2COO-、-CH2CH2OCO-、-COO CH2CH2-、-OCOCH2CH2-、-CONH-、-NHCO-又は単結合を表し、
oは０又は１を表し、
qは０、１、２又は３を表し、
P1は一般式（IV-c）又は、一般式（IV-d）
【００５５】
【化２１】
2010237699.tif 000025
【００５６】
（式中、R21、R22、R23、R31、R32、R33はそれぞれ独立的に水素原子、ハロゲン原子又は炭素原子数１〜５のアルキル基を表し、ｌは０又は１を表す。）で表される置換基からなる群より選ばれる置換基を表し、
R2は、ハロゲン原子、シアノ基又は炭素原子数１〜２５のアルキル基を表すが、該アルキル基は１つ以上のハロゲン原子又はCNにより置換されていても良く、この基中に存在する１つのCH2基又は隣接していない２つ以上のCH2基はそれぞれ相互に独立して、酸素原子が相互に直接結合しない形で、-O-、-S-、-NH-、-N(CH3)-、-CO-、-COO-、-OCO-、-OCOO-、-SCO-、-COS-又は-C≡C-により置き換えられていても良く、あるいはR2は一般式（IV-a）
【００５７】
【化２２】
2010237699.tif 000026
（式中、P1、Sp1及びoは一般式（IV）と同じ意味を表すが、二つのP1、Sp1及びoは同じであっても異なっていても良い。）で表される構造を表す。）
一般式（IV）で表される化合物のうち、重合性官能基を一つ有する化合物として具体的には一般式（V）
【００５８】
【化２３】
2010237699.tif 000027
（式中、Z3は水素原子、ハロゲン原子、シアノ基又は炭素原子数１〜２０の炭化水素基を表し、Z4は水素原子又はメチル基を表し、W3は単結合、-O-、-COO-又は-OCO-を表し、vは０〜１８の整数を表し、uは０又は１を表し、D、E及びFはそれぞれ独立的に、1,4−フェニレン基、隣接しないCH基が窒素で置換された1,4−フェニレン基、1,4−シクロヘキシレン基、１つ又は隣接しない２つのCH2基が酸素又は硫黄原子で置換された1,4−シクロヘキシレン基、1,4−シクロヘキセニレン基を表すが、式中に存在する1,4−フェニレン基は炭素原子数１〜７のアルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基、シアノ基又はハロゲン原子で一つ以上置換されていても良く、Y6及びY7はそれぞれ独立的に単結合、-CH2CH2-、-CH2O-、-OCH2-、-COO-、-OCO-、-C≡C-、-（CH2）4-、-CH2CH2CH2O-、-OCH2CH2CH2-、-CH2CH2COO-、-CH2CH2OCO-、-COO CH2CH2-又は-OCOCH2CH2-を表し、Y8は単結合、-O-、-COO-、又は-OCO- を表すが、W3が単結合を表す場合ｖは２〜１８の整数を表す。）で表される化合物を含有させることが好ましい。
【００５９】
一般式（V）で表される化合物は、液晶下限温度を下げる効果を有するために有用であるが、その添加量は5〜60％が好ましく、10〜50%が更に好ましく、15〜40%が特に好ましい。添加量が多いと得られる二軸性フィルムの耐熱性を損なう傾向がある。
一般式（V）で表される化合物には、液晶性骨格を重合性官能基の間にスペーサーを有する化合物と有さない化合物を含む。一般式（V）において、W3が単結合以外の置換基を表し、ｖが２〜１８の整数を表す場合がスペーサーを有する化合物に相当し、具体的には以下の一般式（V-1）から一般式（V-9）で表される化合物が好ましい。
【００６０】
【化２４】
2010237699.tif 000028
【００６１】
（式中、X1は水素原子又はメチル基を表し、Rは炭素原子数１から２０のアルキル基を表す。）。X１としては水素原子が好ましく、Sとしては2、3、4、6が好ましい。そのような化合物の中でも、式（V-5）、式（V-1）、式（V-6）の化合物が好ましい。式（V-1）の化合物の場合、Rとしてはメチル基が特に好ましい。正面位相差を大きくするためには、（V-5）の化合物が特に好ましく、この場合、X1はH、Qは酸素原子、ｓは3、4、6が好ましく、sは6が最も好ましい。これらのような化合物、特に式（V-5）は、10％以上含有させることが好ましく、15％以上含有させることが更に好ましく、20％以上含有させることが特に好ましい。しかし、30％以上含有させると得られる光学異方体の耐熱性・信頼性が悪化する傾向があるので、最大で30％とすることが好ましい。
【００６２】
一方、一般式（V）において、W3が単結合を表し、ｖが０を表す場合がスペーサーを有さない化合物に相当し、具体的に以下の構造が好ましい。
【００６３】
【化２５】
2010237699.tif 000029
【００６４】
【化２６】
2010237699.tif 000030
【００６５】
【化２７】
2010237699.tif 000031
【００６６】
（式中、シクロヘキサン環はトランスシクロヘキサン環を表し、数字は相転移温度を表し、Cは結晶相、Nはネマチック相、Sはスメクチック相、Iは等方性液体相をそれぞれ表す。）
一般式（IV）で表される化合物のうち、重合性官能基を二つ有する化合物としては一般式（VI）
【００６７】
【化２８】
2010237699.tif 000032
【００６８】
（式中、Z5、及びZ6はそれぞれ独立的に水素原子、又はメチル基を表し、G、H及びIはそれぞれ独立的に、1,4−フェニレン基、隣接しないCH基が窒素で置換された1,4−フェニレン基、1,4−シクロヘキシレン基、１つ又は隣接しない２つのCH2基が酸素又は硫黄原子で置換された1,4−シクロヘキシレン基、1,4−シクロヘキセニレン基を表すが、式中に存在する1,4−フェニレン基は炭素原子数１〜７のアルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基、シアノ基又はハロゲン原子で一つ以上置換されていても良く、mは０から３の整数を表し、W1及びW2はそれぞれ独立的に単結合、-O-、-COO-又は-OCO-を表し、Y1及びY2はそれぞれ独立的に単結合、-COO-、-OCO-、-CH2CH2COO-、-CH2CH2OCO-、-COO CH2CH2-、-OCOCH2CH2-を表し、r及びsはそれぞれ独立的に２〜１８の整数を表すが、式中に存在する1,4−フェニレン基は炭素原子数１〜７のアルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基、シアノ基、又はハロゲン原子で一つ以上置換されていても良い。）で表される化合物が好ましい。
【００６９】
一般式（VI）で表される化合物は、フィルム化した際に高い耐熱性を得るのに効果的であるが、その添加量は30〜85%が好ましく、40〜80%が更に好ましく、50〜75%以下が特に好ましい。
更に具体的には以下に挙げることができる。
【００７０】
【化２９】
2010237699.tif 000033
【００７１】
【化３０】
2010237699.tif 000034
【００７２】
【化３１】
2010237699.tif 000035
【００７３】
（式中、j、k、l及びmはそれぞれ独立的に２〜１８の整数を表す。）
以上のような化合物の中でも、（VI-8）、（VI-9）であらわされる化合物が好ましい。このような化合物は、50％以上含有させることが好ましく、55％以上含有させることが更に好ましく、60％以上含有させることが特に好ましい。ｊ、ｋは3、4、6である化合物を用いることが化合物製造コスト及び液晶温度範囲を適切に設定できる点から好ましい。重合性液晶組成物としてキラルネマチック相を呈することが好ましい。キラルネマチック相の下限温度は４０℃より低いことが好ましく、３０℃より低いことが更にこのましく、２０℃より低いことが特に好ましい。キラルネマチック相の上限温度は、６０℃より高いことが好ましく、８０℃より高いことが好ましく、１００℃より高いことが特に好ましい。
【００７４】
キラルネマチック相の螺旋ピッチは、キラルネマチック相の選択反射が可視光域にでないように設計することが好ましい。つまり、赤外領域、もしくは紫外領域に設計するのが好ましく、紫外領域に設計するのが特に好ましい。
【００７５】
本発明の重合性液晶組成物には1000〜15000ppmの重合禁止剤を含有させることが好ましい。重合禁止剤としては、例えば、ヒドロキノン、ヒドロキノンモノアルキルエーテル類、第三ブチルカテコール類、ピロガロール類、チオフェノール類、ニトロ化合物類、β−ナフチルアミン類、β−ナフトール類、ニトロソ化合物等が挙げられる。より具体的にはメトキシフェノール、2,6-ジ-tert-ブチルフェノールを挙げることができる。
【００７６】
また、本発明の重合性液晶組成物に円盤状化合物を添加しても良い。このような円盤状化合物としては、ベンゼン誘導体、トリフェニレン誘導体、トルキセン誘導体、フタロシアニン誘導体又はシクロヘキサン誘導体を分子の中心の母核とし、直鎖のアルキル基、直鎖のアルコキシ基又は置換ベンゾイルオキシ基がその側鎖として放射状に置換した構造であることが好ましく、一般式（VII）
【００７７】
【化３２】
2010237699.tif 000036
【００７８】
（式中、R5はそれぞれ独立して一般式（VII-a）で表される置換基を表す。）
【００７９】
【化３３】
2010237699.tif 000037
【００８０】
（式中、R6及びR7はそれぞれ独立的に水素原子、ハロゲン原子又はメチル基を表し、R8は炭素原子数１〜２０アルコキシ基を表すが、該アルコキシ基中の水素原子は一般式（VII-b）、一般式（V-c）で表される置換基によって置換されていても良い。）
【００８１】
【化３４】
2010237699.tif 000038
【００８２】
（式中、R81、R82、R83、R84、R85、R86はそれぞれ独立的に水素原子、ハロゲン原子又は炭素原子数１〜５のアルキル基を表し、nは０又は１を表す。）で表される構造を有することがさらに好ましく、一般式（VII）においてR8の内少なくとも一つは一般式（VII-b）、一般式（VII-c）で表される置換基によって置換されたアルコキシ基を表すことが好ましく、R8の全てが一般式（VII-b）、一般式（VII-c）で表される置換基によって置換されたアルコキシ基を表すことが特に好ましい。
さらに、一般式(VII-a)は具体的には一般式(VII-e)
【００８３】
【化３５】
2010237699.tif 000039
（式中ｎは２〜９の整数を表す）で表される構造を有することが特に好ましい。
本発明の重合性液晶組成物には、塗布したときに良好なプラナー配向を迅速に得ることを目的として、一般式（VIII）
【００８４】
【化３６】
2010237699.tif 000040
（式中、R1、R2、R3及びR4はそれぞれ独立的に水素原子、ハロゲン原子又は炭素原子数1〜２０の炭化水素基を表し、該炭化水素基中の水素原子は１つ以上のハロゲン原子で置換されていても良い。）で表される繰り返し単位を有する重量平均分子量が１００以上である化合物を含有させることが好ましい。
【００８５】
一般式（VIII）で表される化合物は、例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリイソブチレン、パラフィン、流動パラフィン、塩素化ポリプロピレン、塩素化パラフィン、又は塩素化流動パラフィンが挙げられる。これ以外にも、フッ素原子が導入された化合物はムラ抑制の観点からも有効である。  一般式（VIII）で表される繰り返し単位を有する化合物のうち、好適な構造として、式（VIII-a）〜式（VIII-f）
【００８６】
【化３７】
2010237699.tif 000041
【００８７】
で表される繰り返し単位を有する化合物が挙げられる。中でも、式（VIII-a）〜式（VIII-e）で表される構造がより好ましく、式（VIII-a）及び式（VIII-c）で表される構造が特に好ましい。又、式（VIII-a）〜式（VIII-f）で表される繰り返し単位を有する化合物を２種以上共重合させた共重合体も好ましい。この場合、式（VIII-a）及び式（VIII-b）を有する共重合体、式（VIII-a）及び式（VIII-c）を有する共重合体、式（VIII-a）及び式（VIII-f）を有する共重合体、及び、式（VIII-a）、（VIII-b）及び式（VIII-f）を有する共重合体がより好ましく、式（VIII-a）及び式（VIII-b）を有する共重合体、及び、式（VIII-a）、（VIII-b）及び式（VIII-f）を有する共重合体が特に好ましい。
【００８８】
該化合物の重量平均分子量は、小さすぎるとチルト角を減じる効果が乏しくなり、大きすぎると配向が長時間安定しないため最適な範囲が存在する。具体的には、２００〜１００００００であることが好ましく、３００〜１０００００であることがさらに好ましく、４００〜８００００であることが特に好ましい。特にポリエチレン、ポリプロピレンの場合には、重量平均分子量が500〜3000が好ましく、1000〜2500が更に好ましく、1800〜2300が特に好ましい。
【００８９】
又、該化合物を、重合性液晶組成物中に０．０１〜５質量％含有することが好ましく、０．０５〜２質量％含有することがより好ましく、０．１〜1質量％含有することが特に好ましい。
本発明の重合性液晶組成物にはキラルネマチック相を得ることを目的としてキラル化合物を含有させることが好ましい。キラル化合物のなかでも、分子中に重合性官能基を有する化合物が特に好ましい。重合性官能基としては、アクリロイルオキシ基が特に好ましい。キラル化合物の添加量は、化合物の螺旋誘起力によって適宜調整することが必要であるが、12%以下が好ましい。
【００９０】
キラル化合物の具体的例としては、一般式（IV）において、A4、A5又はA6の何れか一つが、式（I-b-1）、式（I-b-2）又は式（I-b-3）
【００９１】
【化３８】
2010237699.tif 000042
を表す化合物が好ましい。キラル化合物の具体例としては式（c）〜（g）の化合物を挙げることができる。
【００９２】
【化３９】
2010237699.tif 000043
（式中、ｎは2〜12の整数を表す）この場合、ｎは2もしくは4が合成コストの観点からもっとも好ましい。
【００９３】
本発明の重合性液晶組成物には、塗布した際に表面の平滑性を確保することを目的として、界面活性剤を添加することが好ましい。界面活性剤は、イオン性界面活性剤、非イオン性界面活性剤の区別はない。含有することができる界面活性剤としては、アルキルカルボン酸塩、アルキルリン酸塩、アルキルスルホン酸塩、フルオロアルキルカルボン酸塩、フルオロアルキルリン酸塩、フルオロアルキルスルホン酸塩、ポリオキシエチレン誘導体、フルオロアルキルエチレンオキシド誘導体、ポリエチレングリコール誘導体、アルキルアンモニウム塩、フルオロアルキルアンモニウム塩類、シリコーン誘導体等をあげることができ、特に含フッ素界面活性剤、シリコーン誘導体が好ましい。
【００９４】
更に具体的には「ＭＥＧＡＦＡＣ Ｆ−１１０」、「ＭＥＧＡＦＡＣＦ−１１３」、「ＭＥＧＡＦＡＣ Ｆ−１２０」、「ＭＥＧＡＦＡＣ Ｆ−８１２」、「ＭＥＧＡＦＡＣ Ｆ−１４２Ｄ」、「ＭＥＧＡＦＡＣ Ｆ−１４４Ｄ」、「ＭＥＧＡＦＡＣ Ｆ−１５０」、「ＭＥＧＡＦＡＣ Ｆ−１７１」、「ＭＥＧＡＦＡＣＦ−１７３」、「ＭＥＧＡＦＡＣ Ｆ−１７７」、「ＭＥＧＡＦＡＣ Ｆ−１８３」、「ＭＥＧＡＦＡＣ Ｆ−１９５」、「ＭＥＧＡＦＡＣ Ｆ−８２４」、「ＭＥＧＡＦＡＣ Ｆ−８３３」、「ＭＥＧＡＦＡＣ Ｆ−１１４」、「ＭＥＧＡＦＡＣ Ｆ−４１０」、「ＭＥＧＡＦＡＣ Ｆ−４９３」、「ＭＥＧＡＦＡＣ Ｆ−４９４」、「ＭＥＧＡＦＡＣ Ｆ−４４３」、「ＭＥＧＡＦＡＣ Ｆ−４４４」、「ＭＥＧＡＦＡＣ Ｆ−４４５」、「ＭＥＧＡＦＡＣ Ｆ−４４６」、「ＭＥＧＡＦＡＣ Ｆ−４７０」、「ＭＥＧＡＦＡＣ Ｆ−４７１」、「ＭＥＧＡＦＡＣ Ｆ−４７４」、「ＭＥＧＡＦＡＣ Ｆ−４７５」、「ＭＥＧＡＦＡＣ Ｆ−４７７」、「ＭＥＧＡＦＡＣ Ｆ−４７８」、「ＭＥＧＡＦＡＣ Ｆ−４７９」、「ＭＥＧＡＦＡＣ Ｆ−４８０ＳＦ」、「ＭＥＧＡＦＡＣ Ｆ−４８２」、「ＭＥＧＡＦＡＣ Ｆ−４８３」、「ＭＥＧＡＦＡＣ Ｆ−４８４」、「ＭＥＧＡＦＡＣ Ｆ−４８６」、「ＭＥＧＡＦＡＣ Ｆ−４８７」、「ＭＥＧＡＦＡＣ Ｆ−４８９」、「ＭＥＧＡＦＡＣ Ｆ−１７２Ｄ」、「ＭＥＧＡＦＡＣ Ｆ−１７８Ｋ」、「ＭＥＧＡＦＡＣ Ｆ−１７８ＲＭ」、「ＭＥＧＡＦＡＣ Ｒ−０８」、「ＭＥＧＡＦＡＣ Ｒ−３０」、「ＭＥＧＡＦＡＣ Ｆ−４７２ＳＦ」、「ＭＥＧＡＦＡＣ ＢＬ−２０」、「ＭＥＧＡＦＡＣ Ｒ−６１」、「ＭＥＧＡＦＡＣ Ｒ−９０」、「ＭＥＧＡＦＡＣ ＥＳＭ−１」、「ＭＥＧＡＦＡＣ ＭＣＦ−３５０ＳＦ」（以上、ＤＩＣ株式会社製）、
【００９５】
「フタージェント１００」、「フタージェント１００Ｃ」、「フタージェント１１０」、「フタージェント１５０」、「フタージェント１５０ＣＨ」、「フタージェントＡ」、「フタージェント１００Ａ-Ｋ」、「フタージェント５０１」、「フタージェント３００」、「フタージェント３１０」、「フタージェント３２０」、「フタージェント４００ＳＷ」、「ＦＴＸ-４００Ｐ」、「フタージェント２５１」、「フタージェント２１５Ｍ」、「フタージェント２１２ＭＨ」、「フタージェント２５０」、「フタージェント２２２Ｆ」、「フタージェント２１２Ｄ」、「ＦＴＸ-２１８」、「ＦＴＸ-２０９Ｆ」、「ＦＴＸ-２１３Ｆ」、「ＦＴＸ-２３３Ｆ」、「フタージェント２４５Ｆ」、「ＦＴＸ-２０８Ｇ」、「ＦＴＸ-２４０Ｇ」、「ＦＴＸ-２０６Ｄ」、「ＦＴＸ-２２０Ｄ」、「ＦＴＸ-２３０Ｄ」、「ＦＴＸ-２４０Ｄ」、「ＦＴＸ-２０７Ｓ」、「ＦＴＸ-２１１Ｓ」、「ＦＴＸ-２２０Ｓ」、「ＦＴＸ-２３０Ｓ」、「ＦＴＸ-７５０ＦＭ」、「ＦＴＸ-７３０ＦＭ」、「ＦＴＸ-７３０ＦＬ」、「ＦＴＸ-７１０ＦＳ」、「ＦＴＸ-７１０ＦＭ」、「ＦＴＸ-７１０ＦＬ」、「ＦＴＸ-７５０ＬＬ」、「ＦＴＸ-７３０ＬＳ」、「ＦＴＸ-７３０ＬＭ」、「ＦＴＸ-７３０ＬＬ」、「ＦＴＸ-７１０ＬＬ」（以上、ネオス社製）、
【００９６】
「ＢＹＫ−３００」、「ＢＹＫ−３０２」、「ＢＹＫ−３０６」、「ＢＹＫ−３０７」、「ＢＹＫ−３１０」、「ＢＹＫ−３１５」、「ＢＹＫ−３２０」、「ＢＹＫ−３２２」、「ＢＹＫ−３２３」、「ＢＹＫ−３２５」、「ＢＹＫ−３３０」、「ＢＹＫ−３３１」、「ＢＹＫ−３３３」、「ＢＹＫ−３３７」、「ＢＹＫ−３４０」、「ＢＹＫ−３４４」、「ＢＹＫ−３７０」、「ＢＹＫ−３７５」、「ＢＹＫ−３７７」、「ＢＹＫ−３５０」、「ＢＹＫ−３５２」、「ＢＹＫ−３５４」、「ＢＹＫ−３５５」、「ＢＹＫ−３５６」、「ＢＹＫ−３５８Ｎ」、「ＢＹＫ−３６１Ｎ」、「ＢＹＫ−３５７」、「ＢＹＫ−３９０」、「ＢＹＫ−３９２」、「ＢＹＫ−ＵＶ３５００」、「ＢＹＫ−ＵＶ３５１０」、「ＢＹＫ−ＵＶ３５７０」、「ＢＹＫ−Ｓｉｌｃｌｅａｎ３７００」（以上、ビックケミー・ジャパン社製）、
【００９７】
「ＴＥＧＯ Ｒａｄ２１００」、「ＴＥＧＯ Ｒａｄ２２００Ｎ」、「ＴＥＧＯ Ｒａｄ２２５０」、「ＴＥＧＯ Ｒａｄ２３００」、「ＴＥＧＯ Ｒａｄ２５００」、「ＴＥＧＯ Ｒａｄ２６００」、「ＴＥＧＯ Ｒａｄ２７００」（以上、テゴ社製）等の例をあげることができる。界面活性剤の好ましい添加量は、重合性液晶組成物中に含有される界面活性剤以外の成分や、使用温度等によって異なるが、重合性液晶組成物中に０．０１〜１質量％含有することが好ましく、０．０２〜０．５質量％含有することがさらに好ましく、０．０３〜０．１質量％含有することが特に好ましい。含有量が０．０１質量％より低いときは膜厚ムラ低減効果が得にくい。一般式（VIII）で表される繰り返し単位を有する重量平均分子量が１００以上である化合物の含有量と界面活性剤の含有量の合計が０．０２〜０．５質量％であることが好ましく、０．０５〜０．４質量％含有することがさらに好ましく、０．１〜０．２質量％含有することが特に好ましい。
【００９８】
本発明の重合性液晶組成物には、非液晶性重合性化合物を添加しても良い。非液晶性重合性化合物としては、モノマーの技術分野で、一般的に液晶性は持たず、かつ光重合性モノマーとして認識されるものであれば特に制限無く使用することができる。この中でも、光ラジカル重合性モノマーが好ましい。具体的には、アクリレート化合物、又はメタアクリレート化合物が好ましい。25℃において結晶ではなく溶液であることが好ましく、その粘度は100ｍPa・ｓ以下が好ましく、50ｍPa・ｓ以下がより好ましく、20ｍPa・ｓ以下が特に好ましく、15ｍPa・s以下が最も好ましい。粘度が低いほうが、塗布後に配向が安定化するまでの時間を短縮できる傾向がある。骨格としてはベンゼン環を一つだけ有している単官能アクリレート化合物を用いるのが好ましい。このような化合物として具体的には、一般式（AA）
【００９９】
【化４０】
2010237699.tif 000044
（式中、aは0から4の整数を表す）
で表される化合物が好ましい。一般式（AA）において、aが1又は2が好ましい。
【０１００】
非液晶性重合性化合物を特定の濃度で含有することで、基板に塗布した際に、その螺旋軸が垂直になるよう均一に配向し、ヘイズ低減できる。
重合性液晶組成物中における非液晶性重合性化合物の濃度は0.5〜4％が好ましく、1〜3％がより好ましく、1.5〜2％が特に好ましい。濃度が0.5％以下にすると、基板に塗布した際にコレステリック液晶の螺旋軸が垂直になるように均一に配向させる効果が小さくなる。濃度を4％以上にすると、コレステリック液晶性が損なわれることによってヘイズが大きくなる傾向がある。
【０１０１】
本発明の光学異方体は、例えば、本発明の重合性液晶組成物を基板上に坦持させて、材料が配向した後、紫外線もしくは電子線を照射により硬化させることによって得ることができる。二軸性光学異方体（フィルム）を作製する場合には、偏光した紫外線を照射することが好ましい。偏光紫外線の強度は、20mW/cm2以下の強度が好ましく、15mW/cm2以下がより好ましく、10mW/cm2以下が特に好ましいが、5mW/cm2を下回らないことが好ましい。偏光紫外線の波長成分は、280〜400nmの波長を含んでいることが好ましく、280〜380nmの波長を含んでいることが更に好ましい。また、波長280〜320nm、又は波長320〜380nmのどちらかの波長の偏光を主成分とするものでも良い。。いずれにしても、十分な正面位相差と高い耐熱性・信頼性を両立した光学異方体が得られるような条件に設定する必要がある。紫外線照射時の温度は、重合性液晶組成物が液晶相、キラルネマチック相を呈する温度に保つ必要がある。露光時の雰囲気は、窒素やアルゴンなどの不活性ガスによる置換をせずに、空気中で行うことが好ましい。不活性ガスによる置換は、タクトタイムを長くし、製造コスト上不利となる。
【０１０２】
また、偏光紫外線を照射（第一露光工程）した後に、更に非偏光の紫外線を照射（第二露光肯定）を行っても良い。このようにすると、高価な偏光紫外線照射装置のタクトタイムを長くすることなく、十分に大きな正面位相差と高い硬化度、すなわち、高い耐熱性・信頼性を両立できる。
【０１０３】
第一露光工程においては、光重合開始剤の光吸収波長の偏光紫外線を照射する工程を含む。光重合開始剤には種々の光吸収波長を有する化合物が知られているが、具体的には、波長280〜320nm、又は波長320〜380nmのどちらかの波長の偏光を主成分として照射することが好ましく、波長320~380nmの偏光紫外線を使用することがより好ましい。
この場合において、光重合開始剤を複数含有する場合、偏光紫外線を照射する光吸収波長は、含有する一の光重合開始剤の光吸収波長である。
【０１０４】
主成分とは少なくとも選択した波長領域において、少なくとも80%以上の積算強度、さらに好ましくは90%以上の積算強度を持つことが好ましい。
第一露光工程における露光強度は、偏光紫外線の強度があまり強いと正面位相差が小さくなってしまうので、20mW/cm2以下の強度が好ましく、15mW/cm2以下がより好ましく、10mW/cm2以下が特に好ましいが、5mW/cm2を下回らないことが好ましい。
【０１０５】
第一露光工程における偏光紫外線の照射時間は、タクトタイムを短縮し、生産性を向上させる観点から、60秒以下であることが好ましく、30秒以下がより好ましく、15秒以下が特に好ましいが、1秒を下回らないことが好ましい。
照射時の温度については特に制限が無いが、重合性液晶組成物が液晶相、キラルネマチック相を呈する温度に保つ必要がある。
【０１０６】
第二露光工程は、波長200〜400nmの非偏光紫外線を照射するが、第一露光工程で選択した波長以外の波長を含有する非偏光紫外線を照射することが好ましい。このとき、第一露光工程で選択した波長以外の波長は、少なくとも20%以上、さらに好ましくは40%以上、特に好ましくは60%以上の強度を持つことが好ましい。
第二露光工程における露光量は50mW/cm2以上が好ましく、100mW/cm2以上がより好ましく、400mW/cm2以上が特に好ましいが、2000ｍJ/cm2を超えないことが好ましい。2000mJ/cm2を超えると得られるフィルムの黄変傾向が強くなる。
【０１０７】
第二露光工程における露光量は200mJ/cm2以上が好ましく、400mJ/cm2以上がより好ましく、600mJ/cm2以上が特に好ましいが、2000ｍJ/cm2を超えないことが好ましい。2000mJ/cm2を超えると得られるフィルムの黄変傾向が強くなる。重合性液晶組成物を坦持させる場合には、重合性液晶組成物を溶媒に溶解させ、これを基板上に塗布し、さらに溶媒を揮発させる方法を挙げることができる。重合性液晶を溶剤に溶解させないで、そのまま、基板上に塗布することも可能である。好適な有機溶媒として例えばトルエン、キシレン、クメンなどのアルキル置換ベンゼンやプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、酢酸ブチル、シクロヘキサノン、シクロペンンタノン等を挙げることができる。さらにこれらの溶媒にジメチルホルムアミド、γ−ブチロラクトン、N-メチルピロリジノン、メチルエチルケトン、酢酸エチル等を添加しても良い。溶媒を揮発させる方法としては60〜150℃、さらに好ましくは80℃〜120℃での加熱を、15〜120秒、さらに好ましくは30〜90秒の間行う方法を例示することができる。この加熱の他に、減圧乾燥を組み合わせることもできる。塗布の方法としては、スピンコーティング、ダイコーティング、エクストルージョンコーティング、ロールコーティング、ワイヤーバーコーティング、グラビアコーティング、スプレーコーティング、ディッピング、プリント法等を挙げることができる。基板としてはガラスなどの無機材料、プラスチックフィルムなどの有機材料のどちらを使用しても良い。これらの基板に配向処理を施しても良いし、そのまま使用しても良い。配向処理としては、基板を布などで擦るラビング処理やポリイミドなどの有機薄膜を基板上に形成してからのラビング処理、もしくは光配向膜を基板上に形成してから更に偏光紫外線を照射する光配向処理などを挙げることができる。
【実施例】
【０１０８】
以下、実施例を挙げて本願発明を更に詳述するが、本願発明はこれらの実施例に限定されるものではない。なお、％は質量%を表す。正面位相差Reは大塚電子製のRETS-100にて測定した（波長は589nm）。厚み方向の位相差は、位相差の角度依存性を大塚電子製のRETS-100にて測定し、コンピュータシミュレーションソフトLCD-Master（株式会社シンテック社製）によるフィッティングにより求めた。
（参考例１）  重合性液晶組成物の調製
式（VI-9-a）の液晶性アクリレート化合物35.18%
【０１０９】
【化４１】
2010237699.tif 000045
式（VI-9-b）の液晶性アクリレート化合物15.08%
【０１１０】
【化４２】
2010237699.tif 000046
式（VI-8-a）の液晶性アクリレート化合物12.56%
【０１１１】
【化４３】
2010237699.tif 000047
式（V-5-a）の液晶性アクリレート化合物20.94%
【０１１２】
【化４４】
2010237699.tif 000048
式（a-1）のキラルアクリレート化合物8.79%（本化合物をアセトニトリル中に20ppm溶解させ、光路1cmで測定したときの分光スペクトルを図３に示す。化合物（a-1）はピーク波長285nmで、吸光度が1.77であることがわかる）
【０１１３】
【化４５】
2010237699.tif 000049
式（e-1）のキラルアクリレート化合物2.93%
【０１１４】
【化４６】
2010237699.tif 000050
流動パラフィン0.25%、p-メトキシフェノール0.08%、光重合開始剤Irgacure OXE-01（チバスペシャリティケミカルズ社製）4.19%からなる重合性液晶組成物（A）を調整した。光重合開始剤Irgacure OXE-01は次の構造を有する。
【０１１５】
【化４７】
2010237699.tif 000051
Irgacure OXE-01をアセトニトリル中に20ppm溶解させ、光路1cmで測定したときの分光スペクトルを図４に示す。図４よりIrgacure OXE-01はピーク波長327nmで、吸光度が0.53であることがわかる。
（参考例２）
参考例１で調製した重合性液晶組成物（A）99.26%及び、光吸収剤（X-1）0.74%
【０１１６】
【化４８】
2010237699.tif 000052
からなる本発明の重合性液晶組成物（B）を調製した。式（X-1）の光吸収剤は360nm付近に吸収帯を有する。
【０１１７】
更に重合性液晶組成物（B）40%、シクロヘキサノン60%から重合性液晶溶液（B）を調製した。これをラビング処理を施したポリイミド配向膜付きのガラス基板にスピンコート（1000回転/分、30秒）した。スピンコートした基板を60℃で2分間乾燥した後、3分間室温で放置し、重合性液晶をプラナー配向させた。このようにして得られた重合性液晶組成物層に、空気中で波長360nmの偏光UV（強度10mW/cm2）を300秒照射して重合性液晶組成物を硬化させた。得られた膜の厚みは3μｍであった。得られた膜は光学的に二軸性であった。正面位相差Reは46nm、厚み方向の位相差Rthは206nmであった。図５に得られた二軸フィルムの位相差の入射角依存性の測定グラフを示す。
【０１１８】
（参考例３）
重合性液晶組成物（A）の濃度を99.26%、光吸収剤（X-1）の濃度を0.74%にした以外は実施例１と同様にして二軸性フィルムを作製した。正面位相差Reは45nm、厚み方向の位相差Rthは207nmであった。
（参考例４）
重合性液晶組成物（A）の濃度を99.01%、光吸収剤（X-1）の濃度を0.99%にした以外は実施例１と同様にして二軸性フィルムを作製した。正面位相差Reは45nm、厚み方向の位相差Rthは201nmであった。
（参考例５）
重合性液晶組成物（A）の濃度を98.52%、光吸収剤（X-1）の濃度を1.48%にした以外は実施例１と同様にして二軸性フィルムを作製した。正面位相差Reは42nm、厚み方向の位相差Rthは188nmであった。
【０１１９】
（比較例１）
重合性液晶組成物（A）に光吸収剤を添加しなかった以外は実施例１と同様にして二軸性フィルムを作製した。正面位相差Reは35nm、厚み方向の位相差Rthは181nmであった。図６に得られた二軸フィルムの位相差の入射角依存性の測定グラフを示す。この図から明らかなように、公知のオキシムエステル系光重合開始剤Irgacure OXE-01を単独で用いた場合には、空気中で重合性液晶組成物を硬化させることは可能であるが、正面位相差が小さい問題がある。
（比較例２）
参考例１において、光重合開始剤Irgacure OXE-01に代えて、式（PI-1）
【０１２０】
【化４９】
2010237699.tif 000053
であらわされる二色性開始剤を用いた以外は同様にして重合性液晶組成物（C）を調製した。更に、この重合性液晶組成物（C）が60%、シクロヘキサノンが40%からなる重合性液晶溶液（C）を調製した。これをラビング処理を施したポリイミド配向膜付きのガラス基板にスピンコート（1000回転/分、30秒）した。スピンコートした基板を60℃で2分間乾燥した後、3分間室温で放置し、重合性液晶をプラナー配向させた。このようにして得られた重合性液晶組成物層に、空気中で波長360nmの偏光UV（強度10mW/cm2）を300秒照射したが、硬化しなかった。このように、二色性開始剤を用いた場合には空気中で重合性液晶組成物を硬化させることができないことが明らかである。
（実施例１）
参考例１で調製した重合性液晶組成物（A）99.50%及び、式（III-2a）
【０１２１】
【化５０】
2010237699.tif 000054
【０１２２】
の化合物0.50%からなる本発明の重合性液晶組成物（D）を調製した。式（III-2a）の化合物をアセトニトリル中に20ppm溶解させ、光路1cmで測定したときの分光スペクトルを図２に示す。図２よりこの化合物の吸収ピークは327nmにあり、吸光度Ａcは1.47であることがわかる）。したがって、計算式１及び計算式２から本組成物の吸光度：Ａは、368と計算される。
【０１２３】
更に重合性液晶組成物（D）40%、シクロヘキサノン60%からなる重合性液晶溶液（D）を調製した。これをラビング処理を施したポリイミド配向膜付きのガラス基板にスピンコート（1000回転/分、30秒）した。スピンコートした基板を60℃で2分間乾燥した後、3分間室温で放置し、重合性液晶をプラナー配向させた。このようにして得られた重合性液晶組成物層に、空気中で波長360nmの偏光UV（強度10mW/cm2）を300秒照射して重合性液晶組成物を硬化させた。得られた膜の厚みは3μｍであった。得られた膜は光学的に二軸性であった。正面位相差Reは38nm、厚み方向の位相差Rthは185nmであった。
【０１２４】
（実施例２）
重合性液晶組成物（A）の濃度を99.26%、式（III-2a）の化合物の濃度を0.74%からなる本発明の重合性液晶組成物（E）を調製した。本組成物の吸光度は、544と計算される。更に重合性液晶組成物（E）40%、シクロヘキサノン60%からなる重合性液晶溶液（C）を調製した。本溶液（E）を用いて、実施例５と同様にして二軸性フィルムを作製した。得られたフィルムの正面位相差Reは39nm、厚み方向の位相差Rthは186nmであった。
【０１２５】
（実施例３）
重合性液晶組成物（A）の濃度を99.01%、式（III-2a）の化合物の濃度を0.99%からなる本発明の重合性液晶組成物（F）を調製した。本組成物の吸光度は、735と計算される。更に重合性液晶組成物（F）40%、シクロヘキサノン60%からなる重合性液晶溶液（F）を調製した。本溶液（F）を用いて、実施例５と同様にして二軸性フィルムを作製した。得られたフィルムの正面位相差Reは42nm、厚み方向の位相差Rthは187nmであった。
【０１２６】
（実施例４）
重合性液晶組成物（A）の濃度を98.52%、式（III-2a）の化合物の濃度を1.48%からなる本発明の重合性液晶組成物（G）を調製した。本組成物の吸光度は、1088と計算される。更に重合性液晶組成物（G）40%、シクロヘキサノン60%からなる重合性液晶溶液（G）を調製した。本溶液（G）を用いて、実施例５と同様にして二軸性フィルムを作製した。得られたフィルムの正面位相差Reは43nm、厚み方向の位相差Rthは183nmであった。図７に位相差の入射角依存性測定結果を示す。
【０１２７】
（比較例３）
重合性液晶組成物（A）に式（III-2a）の化合物を添加しなかった以外は実施例５と同様にして二軸性フィルムを作製した。正面位相差Reは35nm、厚み方向の位相差Rthは181nmであった。図８に得られた二軸フィルムの位相差の入射角依存性の測定グラフを示す。この図から明らかなように、本願所定の光吸収帯を持つ重合性液晶化合物を含有せず、公知のオキシムエステル系光重合開始剤Irgacure OXE-01を単独で用いた場合には、空気中で重合性液晶組成物を硬化させることは可能であるが、正面位相差が小さい問題がある。
（参考例６）  重合性液晶組成物の調製
式（IV-9-a）の液晶性アクリレート化合物36.47%
【０１２８】
【化５１】
2010237699.tif 000055
式（IV-9-b）の液晶性アクリレート化合物15.63%
【０１２９】
【化５２】
2010237699.tif 000056
式（IV-8-a）の液晶性アクリレート化合物13.03%
【０１３０】
【化５３】
2010237699.tif 000057
式（I-5-a）の液晶性アクリレート化合物21.71%
【０１３１】
【化５４】
2010237699.tif 000058
式（a-1）のキラルアクリレート化合物9.12%
【０１３２】
【化５５】
2010237699.tif 000059
式（e-1）のキラルアクリレート化合物3.04%
【０１３３】
【化５６】
2010237699.tif 000060
光吸収剤（X-1）0.65%
【０１３４】
【化５７】
2010237699.tif 000061
流動パラフィン0.26%、p-メトキシフェノール0.09%からなる重合性液晶組成物（1A）を調整した。光吸収剤（PA−１）は360nm付近に吸収帯を有する。
（参考例７）
参考例６で調製した重合性液晶組成物（1A）が95.84%、360nm付近に吸収帯を持つ光重合開始剤2,4,6-トリメチルベンゾイル-ジフェニル-フォスフィンオキシド（Darocur  TPO  チバスペシャリティケミカルズ社製）
【０１３５】
【化５８】
2010237699.tif 000062
4.16%からなる重合性液晶組成物（1B）を調整した。図９にDarocur  TPOの吸収スペクトルを示す。
【０１３６】
更に重合性液晶組成物（1B）40%、シクロヘキサノン60%からなる重合性液晶溶液（1B）を調製した。これをラビング処理を施したポリイミド配向膜付きのガラス基板にスピンコート（1000回転/分、30秒）した。スピンコートした基板を60℃で2分間乾燥した後、3分間室温で放置し、重合性液晶をプラナー配向させた。このようにして得られた重合性液晶組成物層に、高圧水銀ランプから発生する紫外線を偏光フィルター、バンドパスフィルターを通して波長360nmの偏光UV（強度10mW/cm2）を空気中で30秒照射して重合性液晶組成物を硬化させた。図１０に高圧水銀ランプ光源（偏光フィルター、バンドパスフィルターを通す前）の発光スペクトルを示す。得られた膜の厚みは3μｍであった。得られた膜は光学的に二軸性であった。正面位相差Reは62.7nmであった。これを230℃で1時間加熱したところ、正面位相差Reは40.6nmになった。加熱前の位相差を100%とすると、正面位相差Reは64.8%になった。またフィルムのヘイズは2.26％であった。
【０１３７】
（参考例８）
重合性液晶溶液（1B）をラビング処理を施したポリイミド配向膜付きのガラス基板にスピンコート（1000回転/分、30秒）した。スピンコートした基板を60℃で2分間乾燥した後、3分間室温で放置し、重合性液晶をプラナー配向させた。このようにして得られた重合性液晶組成物層に、高圧水銀ランプから発生する紫外線を偏光フィルター、バンドパスフィルターを通して波長360nmの偏光UV（強度10mW/cm2）を空気中で30秒照射して重合性液晶組成物を硬化させた。さらに同じ高圧水銀ランプから発生する紫外線をバンドパスフィルター、偏光フィルターを通すことなく、非偏光UV（強度30mW/cm2）を空気中で27秒照射して、追加硬化を行った。得られた膜の厚みは3μｍであった。得られた膜は光学的に二軸性であった。正面位相差Reは57.5nmであった。これを230℃で1時間加熱したところ、正面位相差Reは38.5nmになった。加熱前の位相差を100%とすると、正面位相差Reは67%になった。また、ヘイズは1.54％であった。
【０１３８】
（参考例９）
参考例６で調製した重合性液晶組成物（1A）が95.84%、360nm付近に吸収帯を持つ光重合開始剤Darocur  TPO（チバスペシャリティケミカルズ社製）3.33%、Irgacure907（チバスペシャリティケミカルズ社製）
【０１３９】
【化５９】
2010237699.tif 000063
0.83％からなる重合性液晶組成物（1C）を調整した。図１１にIrgacure 907の吸収スペクトルを示す。
更に重合性液晶組成物（1C）40%、シクロヘキサノン60%からなる重合性液晶溶液（1C）を調製した。これをラビング処理を施したポリイミド配向膜付きのガラス基板にスピンコート（1000回転/分、30秒）した。スピンコートした基板を60℃で2分間乾燥した後、3分間室温で放置し、重合性液晶をプラナー配向させた。このようにして得られた重合性液晶組成物層に、高圧水銀ランプから発生する紫外線を偏光フィルター、バンドパスフィルターを通して波長360nmの偏光UV（強度10mW/cm2）を空気中で30秒照射して重合性液晶組成物を硬化させた。得られた膜の厚みは3μｍであった。得られた膜は光学的に二軸性であった。正面位相差Reは56.7nmであった。これを230℃で1時間加熱したところ、正面位相差Reは39.3nmになった。加熱前の位相差を100%とすると、正面位相差Reは69.3%になった。またフィルムのヘイズは1.07％であった。
【０１４０】
（参考例１０）
重合性液晶溶液（1C）をラビング処理を施したポリイミド配向膜付きのガラス基板にスピンコート（1000回転/分、30秒）した。スピンコートした基板を60℃で2分間乾燥した後、3分間室温で放置し、重合性液晶をプラナー配向させた。このようにして得られた重合性液晶組成物層に、高圧水銀ランプから発生する紫外線を偏光フィルター、バンドパスフィルターを通して波長360nmの偏光UV（強度10mW/cm2）を空気中で30秒照射して重合性液晶組成物を硬化させた。さらに同じ高圧水銀ランプから発生する紫外線をバンドパスフィルター、偏光フィルターを通すことなく、非偏光UV（強度30mW/cm2）を空気中で27秒照射して、追加硬化を行った。得られた膜の厚みは3μｍであった。得られた膜は光学的に二軸性であった。正面位相差Reは54.7nmであった。これを230℃で1時間加熱したところ、正面位相差Reは39.6nmになった。加熱前の位相差を100%とすると、正面位相差Reは72.4%になった。また、ヘイズは0.67％であった。
【０１４１】
（参考例１１）
参考例６で調製した重合性液晶組成物（1A）が95.84%、360nm付近に吸収帯を持つ光重合開始剤Darocur  TPO（チバスペシャリティケミカルズ社製）2.91%、Irgacure907（チバスペシャリティケミカルズ社製）1.25％からなる重合性液晶組成物（1D）を調整した。
更に重合性液晶組成物（1D）40%、シクロヘキサノン60%からなる重合性液晶溶液（1D）を調製した。これをラビング処理を施したポリイミド配向膜付きのガラス基板にスピンコート（1000回転/分、30秒）した。スピンコートした基板を60℃で2分間乾燥した後、3分間室温で放置し、重合性液晶をプラナー配向させた。このようにして得られた重合性液晶組成物層に、高圧水銀ランプから発生する紫外線を偏光フィルター、バンドパスフィルターを通して波長360nmの偏光UV（強度10mW/cm2）を空気中で30秒照射して重合性液晶組成物を硬化させた。得られた膜の厚みは3μｍであった。得られた膜は光学的に二軸性であった。正面位相差Reは52.2nmであった。これを230℃で1時間加熱したところ、正面位相差Reは38.3nmになった。加熱前の位相差を100%とすると、正面位相差Reは73.4%になった。
【０１４２】
（参考例１２）
重合性液晶溶液（1D）をラビング処理を施したポリイミド配向膜付きのガラス基板にスピンコート（1000回転/分、30秒）した。スピンコートした基板を60℃で2分間乾燥した後、3分間室温で放置し、重合性液晶をプラナー配向させた。このようにして得られた重合性液晶組成物層に、高圧水銀ランプから発生する紫外線を偏光フィルター、バンドパスフィルターを通して波長360nmの偏光UV（強度10mW/cm2）を空気中で30秒照射して重合性液晶組成物を硬化させた。さらに同じ高圧水銀ランプから発生する紫外線をバンドパスフィルター、偏光フィルターを通すことなく、非偏光UV（強度30mW/cm2）を空気中で27秒照射して、追加硬化を行った。得られた膜の厚みは3μｍであった。得られた膜は光学的に二軸性であった。正面位相差Reは49.8nmであった。これを230℃で1時間加熱したところ、正面位相差Reは38.8nmになった。加熱前の位相差を100%とすると、正面位相差Reは77.9%になった。
（参考例１３）
参考例2で調製した重合性液晶組成物（1A）が95.84%、360nm付近に吸収帯を持つ光重合開始剤ビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)-フェニルフォスフィンオキシド（Irgacure 819  チバスペシャリティケミカルズ社製）
【０１４３】
【化６０】
2010237699.tif 000064
4.16%からなる重合性液晶組成物（1E）を調整した。図１２にIrgacure 819の吸収スペクトルを示す。
【０１４４】
更に重合性液晶組成物（1E）40%、シクロヘキサノン60%からなる重合性液晶溶液（1E）を調製した。これをラビング処理を施したポリイミド配向膜付きのガラス基板にスピンコート（1000回転/分、30秒）した。スピンコートした基板を60℃で2分間乾燥した後、3分間室温で放置し、重合性液晶をプラナー配向させた。このようにして得られた重合性液晶組成物層に、高圧水銀ランプから発生する紫外線を偏光フィルター、バンドパスフィルターを通して波長360nmの偏光UV（強度10mW/cm2）を空気中で30秒照射して重合性液晶組成物を硬化させた。得られた膜の厚みは3μｍであった。得られた膜は光学的に二軸性であった。正面位相差Reは59.7nmであった。これを230℃で1時間加熱したところ、正面位相差Reは39.0nmになった。加熱前の位相差を100%とすると、正面位相差Reは65.3%になった。またフィルムのヘイズは0.38％であった。
【０１４５】
（参考例１４）
重合性液晶溶液（1E）をラビング処理を施したポリイミド配向膜付きのガラス基板にスピンコート（1000回転/分、30秒）した。スピンコートした基板を60℃で2分間乾燥した後、3分間室温で放置し、重合性液晶をプラナー配向させた。このようにして得られた重合性液晶組成物層に、高圧水銀ランプから発生する紫外線を偏光フィルター、バンドパスフィルターを通して波長360nmの偏光UV（強度10mW/cm2）を空気中で30秒照射して重合性液晶組成物を硬化させた。さらに同じ高圧水銀ランプから発生する紫外線をバンドパスフィルター、偏光フィルターを通すことなく、非偏光UV（強度30mW/cm2）を空気中で27秒照射して、追加硬化を行った。得られた膜の厚みは3μｍであった。得られた膜は光学的に二軸性であった。正面位相差Reは54.5nmであった。これを230℃で1時間加熱したところ、正面位相差Reは36.9nmになった。加熱前の位相差を100%とすると、正面位相差Reは67.7%になった。また、ヘイズは0.12％であった。
【０１４６】
（参考例１５）
参考例６で調製した重合性液晶組成物（1A）が95.84%、360nm付近に吸収帯を持つ光重合開始剤Irgacure 819（チバスペシャリティケミカルズ社製）3.33%、Irgacure907（チバスペシャリティケミカルズ社製）0.83％からなる重合性液晶組成物（1F）を調整した。
更に重合性液晶組成物（1F）40%、シクロヘキサノン60%からなる重合性液晶溶液（1F）を調製した。これをラビング処理を施したポリイミド配向膜付きのガラス基板にスピンコート（1000回転/分、30秒）した。スピンコートした基板を60℃で2分間乾燥した後、3分間室温で放置し、重合性液晶をプラナー配向させた。このようにして得られた重合性液晶組成物層に、高圧水銀ランプから発生する紫外線を偏光フィルター、バンドパスフィルターを通して波長360nmの偏光UV（強度10mW/cm2）を空気中で30秒照射して重合性液晶組成物を硬化させた。得られた膜の厚みは3μｍであった。得られた膜は光学的に二軸性であった。正面位相差Reは60.2nmであった。これを230℃で1時間加熱したところ、正面位相差Reは40.2nmになった。加熱前の位相差を100%とすると、正面位相差Reは66.8%になった。またフィルムのヘイズは0.57％であった。
【０１４７】
（参考例１６）
重合性液晶溶液（1F）をラビング処理を施したポリイミド配向膜付きのガラス基板にスピンコート（1000回転/分、30秒）した。スピンコートした基板を60℃で2分間乾燥した後、3分間室温で放置し、重合性液晶をプラナー配向させた。このようにして得られた重合性液晶組成物層に、高圧水銀ランプから発生する紫外線を偏光フィルター、バンドパスフィルターを通して波長360nmの偏光UV（強度10mW/cm2）を空気中で30秒照射して重合性液晶組成物を硬化させた。さらに同じ高圧水銀ランプから発生する紫外線をバンドパスフィルター、偏光フィルターを通すことなく、非偏光UV（強度30mW/cm2）を空気中で27秒照射して、追加硬化を行った。得られた膜の厚みは3μｍであった。得られた膜は光学的に二軸性であった。正面位相差Reは57.0nmであった。これを230℃で1時間加熱したところ、正面位相差Reは43.0nmになった。加熱前の位相差を100%とすると、正面位相差Reは75.4%になった。また、ヘイズは1.64％であった。
【０１４８】
（参考例１７）
参考例６で調製した重合性液晶組成物（1A）が95.84%、360nm付近に吸収帯を持つ光重合開始剤Irgacure 819（チバスペシャリティケミカルズ社製）2.91%、Irgacure907（チバスペシャリティケミカルズ社製）1.25％からなる重合性液晶組成物（1G）を調整した。
更に重合性液晶組成物（1G）40%、シクロヘキサノン60%からなる重合性液晶溶液（1G）を調製した。これをラビング処理を施したポリイミド配向膜付きのガラス基板にスピンコート（1000回転/分、30秒）した。スピンコートした基板を60℃で2分間乾燥した後、3分間室温で放置し、重合性液晶をプラナー配向させた。このようにして得られた重合性液晶組成物層に、高圧水銀ランプから発生する紫外線を偏光フィルター、バンドパスフィルターを通して波長360nmの偏光UV（強度10mW/cm2）を空気中で30秒照射して重合性液晶組成物を硬化させた。得られた膜の厚みは3μｍであった。得られた膜は光学的に二軸性であった。正面位相差Reは52.4nmであった。これを230℃で1時間加熱したところ、正面位相差Reは36.9nmになった。加熱前の位相差を100%とすると、正面位相差Reは70.4%になった。
【０１４９】
（参考例１８）
重合性液晶溶液（1G）をラビング処理を施したポリイミド配向膜付きのガラス基板にスピンコート（1000回転/分、30秒）した。スピンコートした基板を60℃で2分間乾燥した後、3分間室温で放置し、重合性液晶をプラナー配向させた。このようにして得られた重合性液晶組成物層に、高圧水銀ランプから発生する紫外線を偏光フィルター、バンドパスフィルターを通して波長360nmの偏光UV（強度10mW/cm2）を空気中で30秒照射して重合性液晶組成物を硬化させた。さらに同じ高圧水銀ランプから発生する紫外線をバンドパスフィルター、偏光フィルターを通すことなく、非偏光UV（強度30mW/cm2）を空気中で27秒照射して、追加硬化を行った。得られた膜の厚みは3μｍであった。得られた膜は光学的に二軸性であった。正面位相差Reは57.0nmであった。これを230℃で1時間加熱したところ、正面位相差Reは38.5nmになった。加熱前の位相差を100%とすると、正面位相差Reは70.4%になった。
（参考例１９）
参考例６で調製した重合性液晶組成物（1A）が95.84%、360nm付近に吸収帯を持つ光重合開始剤Irgacure 819（チバスペシャリティケミカルズ社製）3.33％、Irgacure-369（チバスペシャリティケミカルズ社製)
【０１５０】
【化６１】
2010237699.tif 000065
0.83％からなる重合性液晶組成物（1H）を調整した。
更に重合性液晶組成物（1H）40%、シクロヘキサノン60%からなる重合性液晶溶液（1H）を調製した。これをラビング処理を施したポリイミド配向膜付きのガラス基板にスピンコート（1000回転/分、30秒）した。スピンコートした基板を60℃で2分間乾燥した後、3分間室温で放置し、重合性液晶をプラナー配向させた。このようにして得られた重合性液晶組成物層に、高圧水銀ランプから発生する紫外線を偏光フィルター、バンドパスフィルターを通して波長360nmの偏光UV（強度10mW/cm2）を空気中で30秒照射して重合性液晶組成物を硬化させた。得られた膜の厚みは3μｍであった。得られた膜は光学的に二軸性であった。正面位相差Reは56.3nmであった。これを230℃で1時間加熱したところ、正面位相差Reは37.1nmになった。加熱前の位相差を100%とすると、正面位相差Reは65.9%になった。
【０１５１】
（参考例２０）
重合性液晶溶液（1H）をラビング処理を施したポリイミド配向膜付きのガラス基板にスピンコート（1000回転/分、30秒）した。スピンコートした基板を60℃で2分間乾燥した後、3分間室温で放置し、重合性液晶をプラナー配向させた。このようにして得られた重合性液晶組成物層に、高圧水銀ランプから発生する紫外線を偏光フィルター、バンドパスフィルターを通して波長360nmの偏光UV（強度10mW/cm2）を空気中で30秒照射して重合性液晶組成物を硬化させた。さらに同じ高圧水銀ランプから発生する紫外線をバンドパスフィルター、偏光フィルターを通すことなく、非偏光UV（強度30mW/cm2）を空気中で27秒照射して、追加硬化を行った。得られた膜の厚みは3μｍであった。得られた膜は光学的に二軸性であった。正面位相差Reは49.5nmであった。これを230℃で1時間加熱したところ、正面位相差Reは35.5nmになった。加熱前の位相差を100%とすると、正面位相差Reは71.7%になった。
（参考例２１）
参考例６で調製した重合性液晶組成物（1A）が95.84%、360nm付近に吸収帯を持つ光重合開始剤Darocur TPO（チバスペシャリティケミカルズ社製）3.33％、Irgacure  OXE01（チバスペシャリティケミカルズ社製）
【０１５２】
【化６２】
2010237699.tif 000066
0.83%からなる重合性液晶組成物（1I）を調整した。  更に重合性液晶組成物（1I）40%、シクロヘキサノン60%からなる重合性液晶溶液（1I）を調製した。これをラビング処理を施したポリイミド配向膜付きのガラス基板にスピンコート（1000回転/分、30秒）した。スピンコートした基板を60℃で2分間乾燥した後、3分間室温で放置し、重合性液晶をプラナー配向させた。このようにして得られた重合性液晶組成物層に、高圧水銀ランプから発生する紫外線を偏光フィルター、バンドパスフィルターを通して波長360nmの偏光UV（強度10mW/cm2）を空気中で30秒照射して重合性液晶組成物を硬化させた。得られた膜の厚みは3μｍであった。得られた膜は光学的に二軸性であった。正面位相差Reは52.9nmであった。
（参考例２２）
参考例６で調製した重合性液晶組成物（1A）が95.84%、360nm付近に吸収帯を持つ光重合開始剤Darocur TPO（チバスペシャリティケミカルズ社製）3.33％、Irgacure  OXE02（チバスペシャリティケミカルズ社製）
【０１５３】
【化６３】
2010237699.tif 000067
4.16%からなる重合性液晶組成物（1J）を調整した。図14にIrgacure OXE02の吸収スペクトルを示す。
【０１５４】
更に重合性液晶組成物（1J）40%、シクロヘキサノン60%からなる重合性液晶溶液（1J）を調製した。これをラビング処理を施したポリイミド配向膜付きのガラス基板にスピンコート（1000回転/分、30秒）した。スピンコートした基板を60℃で2分間乾燥した後、3分間室温で放置し、重合性液晶をプラナー配向させた。このようにして得られた重合性液晶組成物層に、高圧水銀ランプから発生する紫外線を偏光フィルター、バンドパスフィルターを通して波長360nmの偏光UV（強度10mW/cm2）を空気中で30秒照射して重合性液晶組成物を硬化させた。得られた膜の厚みは3μｍであった。得られた膜は光学的に二軸性であった。正面位相差Reは47.0nmであった。
【０１５５】
（参考例２３）
参考例６で調製した重合性液晶組成物（1A）が95.84%、360nm付近に吸収帯を持つ光重合開始剤Irgacure OXE01（チバスペシャリティケミカルズ社製）4.16％からなる重合性液晶組成物（1K）を調整した。
更に重合性液晶組成物（1K）40%、シクロヘキサノン60%からなる重合性液晶溶液（1K）を調製した。これをラビング処理を施したポリイミド配向膜付きのガラス基板にスピンコート（1000回転/分、30秒）した。スピンコートした基板を60℃で2分間乾燥した後、3分間室温で放置し、重合性液晶をプラナー配向させた。このようにして得られた重合性液晶組成物層に、高圧水銀ランプから発生する紫外線を偏光フィルター、バンドパスフィルターを通して波長360nmの偏光UV（強度10mW/cm2）を空気中で30秒照射して重合性液晶組成物を硬化させた。得られた膜の厚みは3μｍであった。得られた膜は光学的に二軸性であった。正面位相差Reは40.6nmであった。これを230℃で1時間加熱したところ、正面位相差Reは30.5nmになった。加熱前の位相差を100%とすると、正面位相差Reは75.1%になった。また、ヘイズは0.28％であった。
（比較例４）
式（IV-9-a）の液晶性アクリレート化合物36.71%
【０１５６】
【化６４】
2010237699.tif 000068
式（IV-9-b）の液晶性アクリレート化合物15.74%
【０１５７】
【化６５】
2010237699.tif 000069
式（IV-8-a）の液晶性アクリレート化合物13.11%
【０１５８】
【化６６】
2010237699.tif 000070
式（I-5-a）の液晶性アクリレート化合物21.85%
【０１５９】
【化６７】
2010237699.tif 000071
式（a-1）のキラルアクリレート化合物9.18%
【０１６０】
【化６８】
2010237699.tif 000072
式（e-1）のキラルアクリレート化合物3.06%
【０１６１】
【化６９】
2010237699.tif 000073
流動パラフィン0.26%、p-メトキシフェノール0.09%からなる重合性液晶組成物（1L）を調整した。重合性液晶組成物（1L）が95.84%、360nm付近に吸収帯を持つ光重合開始剤Irgacure 819（チバスペシャリティケミカルズ社製）3.33%、Irgacure907（チバスペシャリティケミカルズ社製）0.83％からなる重合性液晶組成物（1M）を調整した。
【０１６２】
更に重合性液晶組成物（1M）40%、シクロヘキサノン60%からなる重合性液晶溶液（1M）を調製した。これをラビング処理を施したポリイミド配向膜付きのガラス基板にスピンコート（1000回転/分、30秒）した。スピンコートした基板を60℃で2分間乾燥した後、3分間室温で放置し、重合性液晶をプラナー配向させた。このようにして得られた重合性液晶組成物層に、高圧水銀ランプから発生する紫外線を偏光フィルター、バンドパスフィルターを通して波長360nmの偏光UV（強度10mW/cm2）を空気中で30秒照射して重合性液晶組成物を硬化させた。得られた膜の厚みは3μｍであった。得られた膜は光学的に二軸性であった。正面位相差Reは18.0nmであった。
（比較例５）
参考例６で調製した重合性液晶組成物（A）が95.84%、式（PI-1）で表される二色性開始剤
【０１６３】
【化７０】
2010237699.tif 000074
4.16%からなる重合性液晶組成物（1N）を調整した。
更に重合性液晶組成物（1N）40%、シクロヘキサノン60%からなる重合性液晶溶液（1N）を調製した。これをラビング処理を施したポリイミド配向膜付きのガラス基板にスピンコート（1000回転/分、30秒）した。スピンコートした基板を60℃で2分間乾燥した後、3分間室温で放置し、重合性液晶をプラナー配向させた。このようにして得られた重合性液晶組成物層に、高圧水銀ランプから発生する紫外線を偏光フィルター、バンドパスフィルターを通して波長360nmの偏光UV（強度10mW/cm2）を空気中で30秒照射したが、硬化しなかった。このように二色性開始剤を用いた場合には空気中で硬化できないことが明らかである。
以上の結果を表１にまとめた。これらの結果から、本発明の重合性液晶組成物を用いると、同じ厚みでも正面位相差を大きくできることがわかる。
【０１６４】
【表１】
2010237699.tif 000075
【０１６５】
（参考例２４）
参考例１５で調製した重合性液晶組成物（1F）が99.0%、非液晶性重合性化合物PHE（第一工業製薬株式会社製）1.0%
【０１６６】
【化７１】
2010237699.tif 000076
からなる本発明の重合性液晶組成物（2E）を調製した。
更に重合性液晶組成物（2E）40%、シクロヘキサノン60%からなる重合性液晶溶液（2E）を調製した。これをラビング処理を施したポリイミド配向膜付きのガラス基板にスピンコート（1000回転/分、30秒）した。スピンコートした基板を60℃で2分間乾燥した後、8分間室温で放置し、重合性液晶をプラナー配向させた。このようにして得られた重合性液晶組成物層に、高圧水銀ランプから発生する紫外線を偏光フィルター、バンドパスフィルターを通して波長360nmの偏光UV（強度10mW/cm2）を空気中にて30秒照射して重合性液晶組成物を硬化させた。得られた膜の厚みは3μｍであった。得られた膜は光学的に二軸性であった。正面位相差Reは63.0nmであった。フィルムのヘイズは0.53%であった。また、偏光顕微鏡を用いてフィルムを観察したところ、配向欠陥は無かった。
【０１６７】
（参考例２５）
参考例１５で調製した重合性液晶組成物（1F）が98.5%、非液晶性重合性化合物PHE（第一工業製薬株式会社製）1.5%からなる本発明の重合性液晶組成物（2F）を調製した。更に重合性液晶組成物（2F）40%、シクロヘキサノン60%からなる重合性液晶溶液（2F）を調製した。これをラビング処理を施したポリイミド配向膜付きのガラス基板にスピンコート（1000回転/分、30秒）した。スピンコートした基板を60℃で2分間乾燥した後、8分間室温で放置し、重合性液晶をプラナー配向させた。このようにして得られた重合性液晶組成物層に、高圧水銀ランプから発生する紫外線を偏光フィルター、バンドパスフィルターを通して波長360nmの偏光UV（強度10mW/cm2）を空気中にて30秒照射して重合性液晶組成物を硬化させた。得られた膜の厚みは3μｍであった。得られた膜は光学的に二軸性であった。正面位相差Reは65.5nmであった。フィルムのヘイズは0.28%であった。また、偏光顕微鏡を用いてフィルムを観察したところ、配向欠陥は無かった。
（参考例２６）
参考例１５で調製した重合性液晶組成物（1F）が98.0%、非液晶性重合性化合物PHE（第一工業製薬株式会社製）2.0%からなる本発明の重合性液晶組成物（2G）を調製した。更に重合性液晶組成物（2G）40%、シクロヘキサノン60%からなる重合性液晶溶液（2G）を調製した。これをラビング処理を施したポリイミド配向膜付きのガラス基板にスピンコート（1000回転/分、30秒）した。スピンコートした基板を60℃で2分間乾燥した後、8分間室温で放置し、重合性液晶をプラナー配向させた。このようにして得られた重合性液晶組成物層に、高圧水銀ランプから発生する紫外線を偏光フィルター、バンドパスフィルターを通して波長360nmの偏光UV（強度10mW/cm2）を空気中にて30秒照射して重合性液晶組成物を硬化させた。得られた膜の厚みは3μｍであった。得られた膜は光学的に二軸性であった。正面位相差Reは63.4nmであった。フィルムのヘイズは0.26%であった。また、偏光顕微鏡を用いてフィルムを観察したところ、配向欠陥は無かった。  以上の結果を表２にまとめた。実施例１７との比較から、非液晶性重合性液晶を特定量添加するとヘイズを低減が可能であることがわかる。
【０１６８】
【表２】
2010237699.tif 000077
【図面の簡単な説明】
【０１６９】
【図１】式（X-1）で表される光吸収剤の分光スペクトル（アセトニトリル溶液、10ppm、光路長1cm）
【図２】特定波長に光吸収帯を有する重合性液晶化合物である式（III-2a）の化合物の分光スペクトル（アセトニトリル溶液、20ppm）
【図３】式（a-1）の化合物の分光スペクトル（アセトニトリル溶液、20ppm）
【図４】Irgacure OXE-01の分光スペクトル（アセトニトリル溶液、20ppm）
【図５】参考例２における二軸フィルムの位相差の入射角依存性の測定結果をグラフ化したものである。
【図６】比較例１における二軸フィルムの位相差の入射角依存性の測定結果をグラフ化したものである。
【図７】実施例４における二軸フィルムの位相差の入射角依存性の測定結果をグラフ化したものである。
【図８】比較例３における二軸フィルムの位相差の入射角依存性の測定結果をグラフ化したものである。
【図９】光重合開始剤Darocur TPOの分光スペクトル（アセトニトリル溶液、20ppm、光路長１ｃｍ）
【図１０】高圧水銀ランプ（偏光フィルター、バンドパスフィルターを通す前）の発光スペクトル
【図１１】光重合開始剤Irgacure 907の分光スペクトル（アセトニトリル溶液、20ppm、光路長１ｃｍ）
【図１２】光重合開始剤Irgacure 819の分光スペクトル（アセトニトリル溶液、20ppm、光路長１ｃｍ）
【図１３】光重合開始剤Irgacure OXE02 の分光スペクトル（アセトニトリル溶液、20ppm、光路長１ｃｍ）
【図１】
2010237699.tif 000092
【図２】
2010237699.tif 000093
【図３】
2010237699.tif 000094
【図４】
2010237699.tif 000095
【図５】
2010237699.tif 000096
【図６】
2010237699.tif 000097
【図７】
2010237699.tif 000098
【図８】
2010237699.tif 000099
【図９】
2010237699.tif 000100
【図１０】
2010237699.tif 000101
【図１１】
2010237699.tif 000102
【図１２】
2010237699.tif 000103
【図１３】
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