(57)【要約】【課題】超音波洗浄装置に用いられかつ精密機器や半導体工業部品、及び医療機器の超音波洗浄装置に使用される耐熱ガラス（ホウケイサンガラス、パイレックス（登録商標））や理化学用ガラス（高ケイ酸塩ガラス、バイコール（登録商標））、更には石英ガラスを用いたガラス洗浄槽において、特に超音波が通過する面の表面状態の改良を行ったガラス洗浄槽及び当該ガラス洗浄槽を具備した超音波洗浄装置を提供する。【解決手段】超音波洗浄装置において用いられかつガラス板によって形成された底壁及び前後及び左右の側壁を有し上部を開口したガラス洗浄槽であって、  前記ガラス洗浄槽の少なくとも一つの壁の内面及び外面を鏡面研磨面とし、  前記鏡面研磨面は、２乗平均粗さＲＭＳが０．０２μｍ以下及び平面度が０．１ｍｍ以下であって、前記超音波洗浄装置の超音波振動子からのエネルギー減衰が５％以下であるようにした。【選択図】図１
2010125372.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
超音波洗浄装置において用いられかつガラス板によって形成された底壁及び前後及び左右の側壁を有し上部を開口したガラス洗浄槽であって、
前記ガラス洗浄槽の少なくとも一つの壁の内面及び外面を鏡面研磨面とし、
前記鏡面研磨面は、２乗平均粗さＲＭＳが０．０２μｍ以下及び平面度が０．１ｍｍ以下であって、前記超音波洗浄装置の超音波振動子からのエネルギー減衰が５％以下であるようにしたことを特徴とするガラス洗浄槽。
【請求項２】
前記一つの壁が底壁であることを特徴とする請求項１記載のガラス洗浄槽。
【請求項３】
前記鏡面研磨面が、荒研削処理を行った後、＃４００〜＃１２００の粒度範囲の１種の遊離砥粒を用いるラップ研磨処理を粒度が順次細かくなるように複数回行い、次いで鏡面研磨処理を行うことによって形成されることを特徴とする請求項１又は２記載のガラス洗浄槽。
【請求項４】
前記ラップ研磨処理後、＃１５００〜＃３０００の粒度範囲の１種の遊離砥粒を用いる追加ラップ研磨処理を１回行うか又は粒度が順次細かくなるように複数回行うことを特徴とする請求項３記載のガラス洗浄槽。
【請求項５】
前記ガラス板が石英ガラス板であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項記載のガラス洗浄槽。
【請求項６】
底板と側板とを備えかつ水を収容する外槽と、該外槽内に設置されかつ洗浄液及び被洗浄物を収容しかつ底壁及び前後及び左右の側壁を有するとともに上部を開口しかつ少なくとも一つの壁の両面を鏡面研磨面としたガラス洗浄槽と、前記鏡面研磨面とした壁に対向するように該外槽の底板又は側板に設けられた超音波振動子とを有する超音波洗浄装置であって、前記ガラス洗浄槽として請求項１〜５のいずれか１項記載のガラス洗浄槽を具備していることを特徴とする超音波洗浄装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、超音波洗浄装置に用いられかつ精密機器や半導体工業部品、及び医療機器の超音波洗浄装置に使用される耐熱ガラス（ホウケイサンガラス、パイレックス（登録商標））や理化学用ガラス（高ケイ酸塩ガラス、バイコール（登録商標））、更には石英ガラスを用いたガラス洗浄槽において、特に超音波が通過する面の表面状態の改良を行ったガラス洗浄槽及び当該ガラス洗浄槽を具備した超音波洗浄装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、半導体製造工程で用いられる石英ガラス治具、半導体ウェーハ、ガラスマスク、液晶ガラス基板、ハードディスク盤等の精密洗浄には超音波洗浄装置が用いられている。この超音波洗浄装置５０は、図７に示すように、底板５１と側板５２とを備えかつ水５４を収容する外槽５６と、該外槽５６内に設置されかつ洗浄液５８及び被洗浄物６０を収容するガラス洗浄槽６２と、該外槽５６の底板５１に設けられた超音波振動子６４とから構成されている（特許文献１）。図７において、６６は高周波電源で、超音波振動子６４を振動させる電源として用いられる。上記構成により、超音波振動子６４を振動させることにより、外槽５６内の水５４が振動するとともに、洗浄液５８が振動して、被洗浄物６０が精密洗浄されるものである。
【０００３】
上記ガラス洗浄槽６２は、底壁６８と側壁７０とを有している。該底壁６８と側壁７０は、耐熱ガラス、理化学用ガラスや石英ガラス等を原料とするガラス板から構成されている。これらのガラス板の一般的な形成方法は概略次の通りである。粗切りしたガラス板をダイヤモンド砥石又は炭化ケイ素砥石（共に固定砥粒及び遊離砥粒の場合あり）で研削し表面の状態を均一に処理した後、例えば水素／酸素ガスを燃焼させるトーチやＬＰＧ／酸素を燃焼させるバーナーを用いて研削面の焼き仕上げを行い、摺り面を透明な溶融面にして洗浄槽の構成部材として使用していた。
【０００４】
さらに具体的にいえば、図８に示すように、粗切りしたガラス板を準備し（図８のステップ２００）、＃１００〜＃４００の粒度範囲の固定砥粒を有する研削砥石を用いる荒研削処理を１回行うか又は粒度が順次細かくなるように複数回行い（図８のステップ２０２）、次いで＃５００〜＃８００の粒度範囲の固定砥粒を用いる仕上げ研削を粒度が順次細かくなるように複数回行う（図８のステップ２０４）。その後、この研削したガラス板を上記した手法により焼き仕上げ（ファイヤーポリシュ）し（図８のステップ２０６）、このファイヤーポリシュしたガラス板を用いてガラス洗浄槽を組立てていた（図８のステップ２０８）。
【特許文献１】特開２００７−２６８４４８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、焼き仕上げによる透明仕上げ面では、前加工のダイヤモンド砥石または炭化ケイ素砥石の研削傷（一般にツールマークと称する）が残留してしまい、肉眼では透明に見えても、微細な凹凸が存在し、ガラス表面にわずかな揺らぎや表面の凹凸を生じてしまっていた。
【０００６】
このガラス表面のわずかな揺らぎや表面の凹凸が存在することで、超音波洗浄に使用した場合に発信される超音波がこのガラス面を通過する際、屈折してお互いに干渉しその結果超音波エネルギーが減衰してしまう。また、均一な超音波エネルギーが透過することが困難であることから、被洗浄物が効率的に処理されないという問題があった。合わせて、より良い洗浄結果を求めるために、超音波発信装置のパワーを大きくしなければならなかった。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記問題点を解消するために、本発明者は、鋭意研究を重ねたところ、ガラス洗浄槽の少なくとも一つの壁の両面を鏡面研磨面とすることによって、超音波エネルギーの減衰がほとんど無く、しかも均一なエネルギー密度が得られることを見出した。つまり、超音波は発信装置から垂直にガラス槽の底面を透過し、屈折してお互いが干渉しあい減衰することもほとんど無く、効率的に被洗浄物に伝わり、短時間でしかも低いパワーで洗浄効果が十分に大きいことが分かった。
【０００８】
本発明のガラス洗浄槽は、超音波洗浄装置において用いられかつガラス板によって形成された底壁及び前後及び左右の側壁を有し上部を開口したガラス洗浄槽であって、前記ガラス洗浄槽の少なくとも一つの壁の内面及び外面を鏡面研磨面とし、前記鏡面研磨面は、２乗平均粗さＲＭＳが０．０２μｍ以下及び平面度が０．１ｍｍ以下であって、前記超音波洗浄装置の超音波振動子からのエネルギー減衰が５％以下であるようにしたことを特徴とする。前記一つの壁としては底壁とするのが好適である。前記鏡面研磨面は、表面粗さＲａが０．１μｍ以下、好ましくは０．０３μｍ以下、最大高さＲｙが０．２μｍ以下であるのがさらに好適である。
【０００９】
前記鏡面研磨面は、荒研削処理を行った後、＃４００〜＃１２００の粒度範囲の１種の遊離砥粒を用いるラップ研磨処理を粒度が順次細かくなるように複数回行い、次いで鏡面研磨処理を行うことによって形成されるのが好ましい。前記ラップ研磨処理後、＃１５００〜＃３０００の粒度範囲の１種の遊離砥粒を用いる追加ラップ研磨処理を１回行うか又は粒度が順次細かくなるように複数回行うのがさらに好ましい。上記荒研削処理は、例えば、＃１００〜＃４００の粒度範囲の１種の砥粒を固定した研削砥石を用いて研削処理を１回行うか又は上記砥粒の粒度が順次細かくなるように複数回の研削処理を行えばよい。また、上記鏡面研磨処理は、例えば、酸化セリウムを用いて行えばよいが、酸化セリウムとしては０．１〜６μｍ程度の範囲の平均粒径の粒子を使用すればよい。
【００１０】
前記ガラス板を構成するガラス材料としては、耐熱ガラス（ホウケイサンガラス、パイレックス（登録商標））や理化学用ガラス（高ケイ酸塩ガラス、バイコール（登録商標））、更には石英ガラスを用いればよいが、石英ガラスを用いるのが好適である。
【００１１】
本発明の超音波洗浄装置は、底板と側板とを備えかつ水を収容する外槽と、該外槽内に設置されかつ洗浄液及び被洗浄物を収容しかつ底壁及び前後及び左右の側壁を有するとともに上部を開口しかつ少なくとも一つの壁の両面を鏡面研磨面としたガラス洗浄槽と、前記鏡面研磨面とした壁に対向するように該外槽の底板又は側板に設けられた超音波振動子とを有する超音波洗浄装置であって、前記ガラス洗浄槽として本発明のガラス洗浄槽を具備していることを特徴とするものである。
【発明の効果】
【００１２】
本発明のガラス洗浄槽によれば、超音波発信装置からの超音波を底壁に対し垂直に透過させることができ、しかも透過面の表面状態が鏡面であることから、超音波エネルギーの減衰もほとんど無く、被洗浄物は短時間で効率的な洗浄が可能となり、更に、超音波発信装置のパワー（電力）も低減でき、省エネルギー化が図れるという効果を達成することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下に本発明の実施の形態を説明するが、これらは例示的に示されるもので、本発明の技術思想から逸脱しない限り種々の変形が可能なことはいうまでもない。
【００１４】
図１は本発明のガラス洗浄槽の１つの実施の形態を示す概略斜視図である。図１において、１０はガラス洗浄槽で、後述する超音波洗浄装置２０（図２）において用いられかつガラス板によって形成された底壁１２及び前後の側壁１４及び左右の側壁１６を有し上部を開口した構造を有している。１８は把手で、左右の側壁１６に設けられている。図２においては後記する超音波発信装置４０が底板２２側に備えられた構成であるので、この場合は、前記底壁１２の表面状態は、後述するように、鏡面研磨加工され、鏡面とされている。また、底壁１２の表面状態が鏡面であることは必須であるが、側壁１４，１６の表面状態は必ずしも鏡面である必要はないが、鏡面とするのが好ましい。なお、後記する超音波発信装置４０が側板２４側に備わる場合、少なくともガラス洗浄槽１０の側壁１４が鏡面研磨加工されていればよい。下記する実施の形態ではいずれも超音波発信装置４０を底板２２側に備えた構成を例として図示し説明する。
【００１５】
図２は本発明の超音波洗浄装置の第１の実施の形態を示す断面説明図である。図２において、２０は本発明の超音波洗浄装置で、底板２２と側板２４とを備えかつ水２６を収容する外槽２８と、上記した本発明のガラス洗浄槽１０と、該外槽２８の底板２２の外面側に設けられた超音波発信装置４０とから構成されている。３２は外槽２８の底板２２の近傍に設置された金網部材で、該金網部材３２上にガラス洗浄槽１０が載置される。該ガラス洗浄槽１０は洗浄液３４及び被洗浄物３６を収容する。超音波発信装置４０は超音波振動子３０と高周波電源３８から構成され、超音波振動子３０が高周波電源３８によって振動せしめられることによって、超音波振動が発生する。
【００１６】
上記構成により、超音波振動子３０を振動させることにより、外槽２８内の水２６が振動するとともに、洗浄液３４が振動して、被洗浄物３６が精密洗浄されるものである。なお、超音波振動子３０からの超音波はガラス洗浄槽１０の底壁１２に対して垂直に透過させることが必要であり、超音波振動子３０はガラス洗浄槽１０の垂直下方に設けることが必要である。しかも、超音波が透過する透過面となる底壁１２の表面状態は、前述したように、鏡面であることから、超音波エネルギーの減衰もほとんど無く、被洗浄物３６に対しては短時間で効率的な洗浄が可能となり、更に、超音波発信装置４０のパワー（電力）も低減でき、省エネルギー化が図れるものである。
【００１７】
本発明の超音波洗浄装置２０の構造は、図２の構造以外にも採用可能であり、図３〜図５に第２〜第４の実施の形態を示す。図３は本発明の超音波洗浄装置の第２の実施の形態を示す断面説明図である。図４は本発明の超音波洗浄装置の第３の実施の形態を示す断面説明図である。図５は本発明の超音波洗浄装置の第４の実施の形態を示す断面説明図である。図３〜図５において、図２と同一乃至類似部材は同一の符号を用いて示されている。
【００１８】
図３に示した第２の実施の形態においては、図２の第１の実施の形態における超音波振動子３０を外槽２８の外部に設置されていた構成を、外槽２８の内部に設置した構成とした点で相違するものである。その他の構成における相違は存在しないので、再度の説明は省略する。
【００１９】
図４に示した第３の実施の形態においては、図２の第１の実施の形態における金網部材３２上にガラス洗浄槽１０が載置される構成を、金網部材３２の設置を省略しガラス洗浄槽１０を底板２２の上面に直接載置する構成とした点で相違するものである。その他の構成における相違は存在しないので、再度の説明は省略する。
【００２０】
図５に示した第３の実施の形態においては、図３の第２の実施の形態における金網部材３２上にガラス洗浄槽１０が載置される構成を、金網部材３２の設置を省略しガラス洗浄槽１０を超音波振動子３０の上面に直接載置する構成とした点で相違するものである。その他の構成における相違は存在しないので、再度の説明は省略する。
【００２１】
図６は本発明のガラス洗浄槽の製造工程の１例を示すフローチャートである。本発明のガラス洗浄槽の製造工程においては、まず粗切りしたガラス板を準備し（図６のステップ１００）、＃１００〜＃４００の粒度範囲の１種の固定砥粒を有する研削砥石を用いて荒研削処理を１回行うか又は粒度が順次細かくなるように複数回行い（図６のステップ１０２）、次いで＃４００〜＃１２００の粒度範囲の１種の遊離砥粒を用いてラップ研磨処理を１回行うか又は粒度が順次細かくなるように複数回行う。具体的に例示すれば、図６に示すように、＃４００の遊離砥粒でラップ研磨処理を行い（図６のステップ１０４）、さらに＃６００の遊離砥粒でラップ研磨処理を行い（図６のステップ１０６）、さらにまた＃８００の遊離砥粒でラップ研磨処理を行い（図６のステップ１０８）、続いて＃１２００の遊離砥粒でラップ研磨処理を行い（図６のステップ１１０）、最後に酸化セリウムを砥粒として鏡面研磨を行う（図６のステップ１１２）。この酸化セリウム砥粒の粒径としては、平均粒径が０．１〜６μｍのものを用いればよい。この鏡面研磨したガラス板を用いてガラス洗浄槽を組立てる（図６のステップ１１４）。なお、前記ラップ研磨処理の後に、必要に応じて♯１５００〜＃３０００の粒度範囲の１種の遊離砥粒を用いる追加ラップ研磨処理を１回行うか又は粒度が順次細かくなるように複数回の研削処理を行うこともある。
【００２２】
上記した鏡面研磨処理によって鏡面研磨されたガラス板の両面は鏡面研磨面とされている。このガラス板の鏡面研磨処理は、処理された鏡面研磨面の表面粗さＲａが０．１μｍ以下、好ましくは０．０３μｍ以下、最大高さＲｙが０．２μｍ以下、２乗平均粗さＲＭＳが０．０２μｍ以下及び平面度が０．１ｍｍ以下であるように設定される。上記したように、鏡面研磨面の表面状態を設定することにより、少なくとも底壁をこの鏡面研磨ガラス板を用いて組み立てられたガラス洗浄槽１０においては、前記超音波発信装置４０の超音波振動子３０からのエネルギー減衰が５％以下に規制されるものである。
【実施例】
【００２３】
以下に実施例をあげて本発明をさらに具体的に説明するが、これらの実施例は例示的に示されるもので限定的に解釈されるべきでないことはいうまでもない。
【００２４】
（測定方法）
ガラス洗浄槽を製造後、底壁にあたるガラス板の評価及びガラス洗浄槽を超音波洗浄機に取り付け、下記の測定方法により評価を行った。
１）平面度：ガラス洗浄槽を製造後、底壁にあたるガラス板を図１７に示すように、ガラス板中心部の縦横２４０ｍｍ四方において、縦横各々前記２４０ｍｍ四方の端から６０ｍｍずつの間隔を置いて９点の平面度を三次元測定器(ミツトヨ製ＢＨ−Ｖ７０７)で測定し、前記９点の測定値の平均値を平面度とした。
２）エネルギーの透過及び減衰状態：ガラス洗浄槽を超音波洗浄装置（振動子３００Ｗ、３５ｋＨｚ、振動部サイズ３００ｍｍｘ３０ｍｍ）に取り付け、ガラス洗浄槽の底壁を透過する前後の超音波エネルギーについて、超音波メーターを用いて透過及び減衰状態を測定した。その際、図１８に示すように、底壁部分を縦横６列×６列に均等に区切った３６ヶ所を測定した。
３）洗浄力テスト：前記超音波洗浄装置に取り付けたガラス洗浄槽に純水を入れて洗浄テストを行った。この洗浄テストは、蛍光塗料を溶解した油脂を塗布した大きさ６０ｍｍｘ１７５ｍｍのガラス板を洗浄し、前記油脂が洗浄によってどの程度除去されたかを、蛍光ランプを照射することによって、残留した蛍光塗料を含む油脂を発光させながら被洗浄物を写真にとって、洗浄前後の画像を解析することにより観察した。
４）アルミ箔による超音波エネルギーの透過観察：市販のアルミフォイル（１２μｍ厚さ）を石英ガラス洗浄槽の略内寸サイズにカットし水中に沈めて１分３０秒超音波発信を行って、アルミフォイルの破壊の程度を観察した。
５）表面粗さ：石英ガラス洗浄槽から底壁を切り離し、任意の位置で縦横５．６２ｍｍ×４．２２ｍｍの範囲における表面粗さを非接触表面形状測定機（Ｚｙｇｏ製Ｎｅｗ  Ｖｉｅｗ６３００）で測定した。なお表面粗さは、表面粗さＲａ及び最大高さＲｙ、２乗平均粗さＲＭＳを測定した。
【００２５】
（実施例１）
石英ガラス板を粒度＃３４０の固定砥粒を有するダイヤモンド砥石で荒研削し、その後＃６００、＃８００、＃１２００の遊離砥粒でラップ研磨を行い、最終的に酸化セリウムを砥粒（平均粒径０．２９μｍ、最小０．１μｍ、最大５μｍ）とした機械研磨による鏡面研磨を施すことによって、厚み３ｍｍ、２５０ｍｍ四方の両面を鏡面研磨した石英ガラス板材を得た。この石英ガラス板材を角槽の底壁に用い、図１のような把手つきで縦×横×高さ各２５０ｍｍの角型洗浄槽（石英ガラス洗浄槽）を製作した。
【００２６】
この石英ガラス洗浄槽の底壁部分にあたる石英ガラス板を、前記測定方法の評価項目について下記の通り確認したところ、実際の底壁部分の鏡面研磨板材の肉厚は２．９５ｍｍ、平面度０．０６ｍｍであった。
【００２７】
この石英ガラス洗浄槽を図２と同様の構成の超音波洗浄装置（振動子３００Ｗ、３５ｋＨｚ、振動部サイズ３００ｍｍｘ３０ｍｍ）に取り付け、超音波洗浄装置及び石英ガラス洗浄槽に純水を入れて超音波の透過エネルギーを測定したところ、Ｍａｘ＝３５ｐｓｉ、Ｍｉｎ＝２３ｐｓｉ、平均＝２７．８ｐｓｉで振動子からの超音波エネルギーを１００とした時の実施例１の石英ガラス洗浄槽内では９６％の超音波エネルギーが透過した。超音波エネルギーの減衰は、図１９に示すように、４％であった。後述する比較例１（従来の石英ガラス洗浄槽）と比較して超音波エネルギーの減衰が極めて小さいことがわかった。
【００２８】
続いて、石英ガラス洗浄槽に純水をいれて被洗浄物に対する洗浄テストを行った。図１１は石英ガラス板からの蛍光塗料を溶解した油脂の洗浄除去状態を示す写真である。その結果、図１１に示すように、この石英ガラス洗浄槽を使用した場合には洗浄時間２４秒で蛍光塗料を溶解した油脂が完全に除去できた。また、超音波洗浄の効果を比較するために市販のアルミフォイルを用いて超音波発信を行って、その結果を写真にとり図１２に示した。後述する比較例１の図１６と比較して、アルミフォイルの破壊の程度が明らかに大であり、洗浄効果の高いことが確認できた。
【００２９】
その後、石英ガラス洗浄槽から底壁を切り離し、表面粗さの測定を行った。表面粗さＲａ＝０．０１８μｍ、最大高さＲｙ＝０．１２３μｍ、２乗平均粗さＲＭＳ＝０．００２μｍであった。上記鏡面研磨板材の表面状態の顕微鏡写真を取り、図９に示した。また、上記鏡面研磨板材の表面状態のプロファイルを測定し、図１０に示した。
合わせて
【００３０】
実施例１の石英ガラス洗浄槽（鏡面研磨底壁）は、後記する比較例１の焼き仕上げ（未研磨）石英ガラス洗浄槽に比べ、１．１６倍のパワーの超音波エネルギーが出、約２倍の洗浄効果が得られることがわかった。
【００３１】
（比較例１）
従来方法で製作した石英ガラス板を角槽の底板として製作した石英ガラス洗浄槽で洗浄効果の比較をした。底壁板材は、粒度＃３４０の固定砥粒を有するダイヤモンド砥石で荒研削した石英ガラス板を粒度＃５００の固定砥粒を有するダイヤモンド砥石で仕上げ研磨を行い、その後酸素／水素ガスによる火炎で焼き仕上げ（ファイヤーポリッシュ）を施した、厚み３ｍｍ、２５０ｍｍ四方の石英ガラス板材とし、実施例１と同様の形状の石英ガラス角槽（石英ガラス洗浄槽）を製作した。
【００３２】
この石英ガラス洗浄槽の底壁部分にあたる石英ガラス板を、前記測定方法の評価項目について下記の通り確認したところ、実際の底壁部分の肉厚は２．９４ｍｍ、平面度０．０８ｍｍであった。
【００３３】
この角槽を実施例１と同様に、実施例１と同様の超音波洗浄装置に取り付け、実施例１と同様に、超音波の透過エネルギーを測定したところ、Ｍａｘ＝３１ｐｓｉ、Ｍｉｎ＝１７ｐｓｉ、平均＝２４．１ｐｓｉで振動子からの超音波エネルギーを１００とした時の比較例１の石英ガラス洗浄槽内では８３％の超音波エネルギーが透過した。超音波エネルギーの減衰は、図２０に示すように、１７％であった。前述した実施例１（本発明の石英ガラス洗浄槽）と比較して超音波エネルギーの減衰が大きいことがわかった。
【００３４】
続いて、実施例１と同様に洗浄テストを行った。図１５は石英ガラス板からの蛍光塗料を溶解した油脂の洗浄除去状態を示す写真である。その結果、図１５に示すように、大きさ６０ｍｍｘ１７５ｍｍのガラス板に塗布した蛍光塗料を溶解した油脂が、２４秒洗浄時間を経過しても除去されず、除去率は５５．６％であった。また、超音波洗浄の効果を比較するために、実施例１と同様に、市販のアルミフォイルを用いて超音波発信を行って、その結果を写真にとり、図１６に示した。前述した実施例１の図１２と比較して、アルミフォイルの破壊の程度が明らかに小であり、実施例１と比較して洗浄効果の低いことが確認できた。
【００３５】
その後、石英ガラス洗浄槽から底壁を切り離し、表面粗さの測定を行った。表面粗さＲａ＝０．０２５μｍ、最大高さＲｙ＝０．１８２μｍ、２乗平均粗さＲＭＳ＝０．０８０μｍであった。上記焼き仕上げ板材の表面状態の顕微鏡写真を取り、図１３に示した。また、上記鏡面研磨板材の表面状態のプロファイルを測定し、図１４に示した。
【図面の簡単な説明】
【００３６】
【図１】本発明のガラス洗浄槽の１つの実施の形態を示す概略斜視図である。
【図２】本発明の超音波洗浄装置の第１の実施の形態を示す断面説明図である。
【図３】本発明の超音波洗浄装置の第２の実施の形態を示す断面説明図である。
【図４】本発明の超音波洗浄装置の第３の実施の形態を示す断面説明図である。
【図５】本発明の超音波洗浄装置の第４の実施の形態を示す断面説明図である。
【図６】本発明のガラス洗浄槽の製造工程の１例を示すフローチャートである。
【図７】従来のガラス洗浄槽の１例を示す概略斜視図である。
【図８】従来のガラス洗浄槽の製造工程の１例を示すフローチャートである。
【図９】実施例１における鏡面研磨した石英ガラス板の表面状態を示す３次元マップである。
【図１０】実施例１における鏡面研磨した石英ガラス板の表面状態のプロファイルを示すグラフである。
【図１１】実施例１における石英ガラス板に塗布した蛍光塗料を溶解した油脂の洗浄除去状態を示す写真である。
【図１２】実施例１におけるアルミフォイルに対する超音波洗浄効果の程度を示す写真である。
【図１３】比較例１における鏡面研磨した石英ガラス板の表面状態を示す３次元マップである。
【図１４】比較例１における鏡面研磨した石英ガラス板の表面状態のプロファイルを示すグラフである。
【図１５】比較例１における石英ガラス板に塗布した蛍光塗料を溶解した油脂の洗浄除去状態を示す写真である。
【図１６】比較例１におけるアルミフォイルに対する超音波洗浄効果の程度を示す写真である。
【図１７】平面度の測定に用いられる測定点を示す説明図である。
【図１８】エネルギーの透過及び減衰状態の測定における底壁部分の区分を示す説明図である。
【図１９】実施例１におけるエネルギー減衰状態を示す表図及びグラフである。
【図２０】比較例１におけるエネルギー減衰状態を示す表図及びグラフである。
【符号の説明】
【００３７】
１０：本発明のガラス洗浄槽、１２：底壁、１４，１６：側壁、１８：把手、２０：本発明の超音波洗浄装置、２２：底板、２４：側板、２６：水、２８：外槽、３０：超音波振動子、３２：金網部材、３４：洗浄液、３６：被洗浄物、３８：高周波電源、４０：超音波発信装置、５０：従来の超音波洗浄装置、５１：底板、５２：側板、５４：水、５６：外槽、５８：洗浄液、６０：被洗浄物、６２：ガラス洗浄槽、６４：超音波振動子、６８：底壁、７０：側壁。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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