(57)【要約】  【課題】簡単な構成でリテーナリング内周部の損耗進行を鈍化させ、ウェーハエッジに局所的押圧がかかるのを抑えて、リテーナリングが本来持つ寿命に至るまでウェーハに対する研磨加工精度を高く維持するウェーハ研磨装置におけるリテーナリング精度維持機構を提供することを目的とする。  【解決手段】本発明は上記目的を達成するために、リテーナリング９の内周面を、その下面に対し所要角度傾斜させたテーパ面９ａとし、ウェーハＷの周縁がリテーナリング９の内周面に接触することによる該リテーナリング内周面への剪断方向のストレスＳを、一部リテーナリング９の下面側へ分力Ｓ２させるウェーハ研磨装置におけるリテーナリング精度維持機構を提供するものである。【選択図】図３
2010036283.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ウェーハをプラテン上の研磨パッドに押し付けるとともに前記ウェーハの周縁を研磨ヘッド側に取付けられたリテーナリングの内周面で包囲しつつ前記研磨ヘッドを前記プラテンに対し相対回転させて前記ウェーハを研磨するウェーハ研磨装置におけるリテーナリング精度維持機構であって、
前記リテーナリングの内周面を、該リテーナリングの下面に対し所要角度傾斜させたテーパ面とし、前記ウェーハの周縁が前記リテーナリングの内周面に接触することによる該リテーナリングの内周面への剪断方向のストレスを前記リテーナリングの下面側へ分力させたこと、また、テーパ面とすることでウェーハ端面上面にリテーナリング内周部が接触することを回避し、予定される以上の圧力を与えない機構を有することを特徴とするウェーハ研磨装置におけるリテーナリング精度維持機構。
【請求項２】
上記リテーナリングの下面に対する上記リテーナリングの内周面の傾斜角度は、前記リテーナリングの下面からの法線に対し５度以上で１０度未満であることを特徴とする請求項１記載のウェーハ研磨装置におけるリテーナリング精度維持機構。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ウェーハ研磨装置におけるリテーナリング精度維持機構に関するものであり、特に、化学機械研磨加工（ＣＭＰ：Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ  Ｐｏｌｉｓｈｉｎｇ）等においてリテーナリングが本来持つ寿命に至るまでウェーハに対する研磨加工精度を高く維持できるようにしたウェーハ研磨装置におけるリテーナリング精度維持機構に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、例えば、次のようなウェーハ研磨装置が知られている。この従来技術は、ウェーハキャリアで保持したウェーハをスラリーを供給しながら研磨パッドに押圧して研磨するウェーハ研磨装置において、前記ウェーハキャリアは、キャリア本体と、ウェーハに押圧力を伝達するメンブレンと、該メンブレンにエアー圧を供給するバックプレートと、メンブレンを周囲で保持するリテーナリングとを備え、さらにウェーハキャリアには前記リテーナリングとは別に、ウェーハの外周に近接してウェーハの径方向の動きを規制する断面三角形でテーパ形のリング状ガイドが前記メンブレンと一体的に形成されている。そして、研磨中にウェーハをそのリング状ガイドに内嵌させてウェーハがその位置を変えることなくウェーハエッジ部近傍の制御性や安定性を向上させるようにしている（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
また、従来、例えば、次のようなウェーハ研磨装置が知られている。この従来技術は、研磨ヘッドにおけるヘッド本体に取り付けられたリテーナリングでウェーハの周囲を包囲しながら該ウェーハを回転する研磨パッドに押し付けて研磨するウェーハ研磨装置であって、前記リテーナリングは、剛性材によりリング状に形成され、前記ヘッド本体におけるバックプレートの外周に配置されている。該リテーナリングはスナップリングによりリテーナリング取付部に取付固定され、該リテーナリング取付部にはリテーナリング押圧部材が連結されている。リテーナリングは、このリテーナリング押圧部材を介してリテーナリング押圧手段からの押圧力が伝達されて研磨パッドに押し付けられるように構成されている（例えば、特許文献２参照）。
【特許文献１】特開２００３−２５２１８号公報。
【特許文献２】特許第３６２７１４３号公報。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
特許文献１に記載の従来技術におけるウェーハ研磨装置では、リテーナリングとは別に、ウェーハの径方向の動きを規制する断面三角形でテーパ形のリング状ガイドがメンブレンと一体的に形成されている。このため、装置構成の部品点数が増えるとともにウェーハ保持部周辺の構成が複雑化する。
【０００５】
一方、特許文献２に記載の従来技術におけるリテーナリングの内周面は、図４（ａ）に示すように、その下面からの角度θ２が９０度になっている。ところで、該リテーナリングは、その内径がウェーハを安定して内嵌させるために、通例ウェーハの外径よりも１〜２ｍｍ程度大きく、余裕を持たせて作られている。このような寸法関係から、研磨をしてない状況下では、ウェーハはリテーナリングの中央部側に位置しているが、一旦研磨が始まるとウェーハはリテーナリング内を研磨パッドの回転方向に滑り動いて、前記図６（ａ）に示すように、ウェーハＷの外周部がリテーナリング２９の内周面に当接するように接触する。この接触で、図６（ｂ）に示すように、リテーナリング２９の内周部に損耗が発生する。そして、ウェーハ研磨装置の稼働の経過に伴って研磨パッドに接触するリテーナリング２９の下面が摩耗すると、図６（ｃ）に示すように、リテーナリング２９の内周部に発生する損耗Ｄが、該内周部の上側に広がって大きくなる。このため、この損耗Ｄがウェーハエッジに局所的押圧を与えることになって、研磨パッドに対するウェーハの押圧分布が変化し、ウェーハに対する研磨加工精度が劣化するという問題があった。
【０００６】
そこで、簡単な構成でリテーナリング内周部の損耗進行を鈍化させ、ウェーハエッジに局所的押圧がかかるのを抑えて、リテーナリングが本来持つ寿命に至るまでウェーハに対する研磨加工精度を高く維持するために解決すべき技術的課題が生じてくるのであり、本発明はこの課題を解決することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は上記目的を達成するために提案されたものであり、請求項１記載の発明は、ウェーハをプラテン上の研磨パッドに押し付けるとともに前記ウェーハの周縁を研磨ヘッド側に取付けられたリテーナリングの内周面で包囲しつつ前記研磨ヘッドを前記プラテンに対し相対回転させて前記ウェーハを研磨するウェーハ研磨装置におけるリテーナリング精度維持機構であって、前記リテーナリングの内周面を、該リテーナリングの下面に対し所要角度傾斜させたテーパ面とし、前記ウェーハの周縁が前記リテーナリングの内周面に接触することによる該リテーナリングの内周面への剪断方向のストレスを前記リテーナリングの下面側へ分力させる。また、テーパ面とすることでウェーハ端面上面にリテーナリング内周部が接触することを回避し、予定される以上の圧力を与えない機構を有する
ウェーハ研磨装置におけるリテーナリング精度維持機構を提供する。
【０００８】
この構成によれば、リテーナリングの内周面を、その下面に対し所要角度傾斜させたテーパ面としたことで、リテーナリングの内周面にウェーハの周縁が接触することによる剪断方向のストレスが、一部リテーナリングの下面側へ分力される。したがって、その分力された分だけ、剪断方向のストレスによるリテーナリング内周部の損耗進行が鈍化する。これによりリテーナリング内周部に発生する損耗でウェーハエッジ（ウェーハ周縁）に局所的押圧がかかるのが抑えられて研磨パッドに対するウェーハの押圧分布に変化が生じるのが抑えられる。
【０００９】
請求項２記載の発明は、請求項１記載の発明において、上記リテーナリングの下面に対する上記リテーナリングの内周面の傾斜角度は、前記リテーナリングの下面からの法線に対し５度以上で１０度未満であるウェーハ研磨装置におけるリテーナリング精度維持機構を提供する。
【００１０】
この構成によれば、リテーナリングの内周面の傾斜角度を、その下面からの法線に対し５度以上で１０度未満としたことで、研磨ヘッドにおけるウェーハ保持部からのウェーハの飛び出しを規制するというリテーナリング本来の機能が損なわれずに、またウェーハエッジの接触時に研磨パッドに対するウェーハの押し付け力に影響を及ぼすことなく、ウェーハエッジの接触によるリテーナリング内周部の損耗進行を鈍化させることが可能となる。
【発明の効果】
【００１１】
請求項１記載の発明は、簡単な構成でリテーナリング内周部の損耗進行を鈍化させることができて、ウェーハエッジに局所的押圧がかかるのを抑えることができる。したがって、研磨パッドに対するウェーハの押圧分布に変化が生じるのを抑えることができて、リテーナリングが本来持つ寿命に至るまでウェーハに対する研磨加工精度を高く維持することができるという利点がある。
【００１２】
請求項２記載の発明は、ウェーハの飛び出しを規制するというリテーナリング本来の機能が損なわれずに、また研磨パッドに対するウェーハの押し付け力に影響を及ぼすことなく、リテーナリング内周部の損耗進行を鈍化させることができるという利点がある。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
簡単な構成でリテーナリング内周部の損耗進行を鈍化させ、ウェーハエッジに局所的押圧がかかるのを抑えて、リテーナリングが本来持つ寿命に至るまでウェーハに対する研磨加工精度を高く維持するという目的を達成するために、ウェーハをプラテン上の研磨パッドに押し付けるとともに前記ウェーハの周縁を研磨ヘッド側に取付けられたリテーナリングの内周面で包囲しつつ前記研磨ヘッドを前記プラテンに対し相対回転させて前記ウェーハを研磨するウェーハ研磨装置におけるリテーナリング精度維持機構であって、前記リテーナリングの内周面を、該リテーナリングの下面に対し所要角度傾斜させたテーパ面とし、前記ウェーハの周縁が前記リテーナリングの内周面に接触することによる該リテーナリングの内周面への剪断方向のストレスを前記リテーナリングの下面側へ分力させることにより実現した。
【実施例１】
【００１４】
以下、本発明の実施例に係るウェーハ研磨装置におけるリテーナリング精度維持機構を図面に従って詳述する。図１はリテーナリング精度維持機構が内装されたウェーハ研磨装置の斜視図、図２は研磨ヘッドの拡大縦断面図である。
【００１５】
まず、リテーナリング精度維持機構が内装されたウェーハ研磨装置の構成を説明する。図１においてウェーハ研磨装置（化学機械研磨装置）１は、主としてプラテン２と、研磨ヘッド３とから構成されている。前記プラテン２は、円盤状に形成され、その下面中央には回転軸４が連結されており、モータ５の駆動によって矢印Ａ方向へ回転する。プラテン２の上面には研磨パッド６が貼付されており、該研磨パッド６上に図示しないノズルから研磨剤と化学薬品との混合物であるスラリーが供給される。研磨ヘッド３は、図示しない昇降装置によって上下移動自在に設けられており、研磨対象のウェーハを研磨ヘッド３にセットする際に上昇移動される。また、研磨ヘッド３は、ウェーハを研磨する際には下降移動されて研磨パッド６に押圧当接される。
【００１６】
前記研磨ヘッド３は、図２に示すように、主としてヘッド本体７、バックプレート８、リテーナリング９、リテーナリング押圧手段１０、弾性シート１１、バックプレート押圧手段１６及びエアー等の制御手段で構成されている。ヘッド本体７は前記プラテン２よりも小形の円盤状に形成され、その上面中央に回転軸１２（図１参照）が連結されている。該ヘッド本体７は前記回転軸１２に軸着されて図示しないモータで駆動され図１の矢印Ｂ方向に回転する。
【００１７】
前記バックプレート８は円盤状に形成され、ヘッド本体７の中央に配設されている。該バックプレート８の上面中央部とヘッド本体７の中央下部との間にはドライプレート１３が設けられており、ピン１４，１４を介してヘッド本体７から回転が伝達される。前記ドライプレート１３の中央下部と前記バックプレート８の中央上部との間には作動トランス本体１５ａが固定されており、さらに前記バックプレート８の中央上部には作動トランス１５のコア１５ｂが固定され、図示しない制御部に連結されてウェーハＷ上（図２の下方側）に形成されたＣｕ等からなる導電性膜の研磨状態信号を該制御部に出力している。
【００１８】
前記バックプレート８の上面周縁部にはバックプレート押圧部材１６ａが設けられており、バックプレート８は該バックプレート押圧部材１６ａを介してバックプレート押圧手段１６から押圧力が伝達される。また、弾性シート１１が張設されたバックプレート８の下方には、バックプレート８と弾性シート１１との間にエアー室１８が形成されており、バックプレート８の下面には、エアーフロートライン１７から該エアー室１８に圧縮エアーを噴射するためのエアー吹出し口１９が設けられている。
【００１９】
前記エアーフロートライン１７はエアーフィルタ２０及び自動開閉バルブＶ１を介して圧縮エアーの供給源である吸気ポンプ２１に接続されている。前記エアー吹出し口１９からエアー室１８への圧縮エアーの吹出しは前記自動開閉バルブＶ１の切替えによって実行される。これにより、エアー室１８には圧力エア層が形成され、バックプレート８の押圧力がこの圧力エア層からさらに弾性シート１１を介してウェーハＷに伝達される。ウェーハＷは、圧力エア層及び弾性シート１１を介して伝達される前記押圧力によって研磨パッド６に押し付けられる。
【００２０】
前記バックプレート８の下面にはバキューム及び必要によりＤＩＷ（純水）又はエアーを吹き出すための孔１９ａが形成されている。該エアーの吸引は真空ポンプ２３の駆動によって実行され、そして、自動開閉バルブＶ２をバキュームライン２４に設け、該自動開閉バルブＶ２の切替えによって該バキュームライン２４を介し、バキューム及びＤＩＷの送給が実行される。前記エアーフロートライン１７からエアー室１８への圧縮エアーの送給及びバキュームライン２４からのバキューム作用及びＤＩＷの送給等は制御部からの指令信号によって実行される。
【００２１】
なお、前記バックプレート押圧手段１６は、ヘッド本体７下面の中央部周縁に配置され、バックプレート押圧部材１６ａに押圧力を与えることにより、これに結合されたバックプレート８に押圧力を伝達する。このバックプレート押圧手段１６は、好ましくはエアーの吸排気により膨脹収縮するゴムシート製のエアバック２５で構成される。該エアバック２５にはエアーを供給するための図示しない空気供給機構が連結されている。
【００２２】
前記リテーナリング９は、ウェーハＷを内嵌させるため、その内径がウェーハＷの直径よりも適宜量大径のリング状に形成され、バックプレート８の外周に配置されている。該リテーナリング９は、その内周面が下面からの法線Ｎに対し５度以上で１０度未満の所要角度θ１（図３参照）だけ傾斜したテーパ面９ａとなっている。このテーパ面９ａの部分が、ウェーハエッジがリテーナリング９の内周面に接触することによる剪断方向のストレスを下面側へ分力させて、該剪断方向のストレスによるリテーナリング内周部の損耗進行を鈍化させるリテーナリング精度維持機構として機能する。該リテーナリング９は研磨ヘッド３に設けられたリテーナリングホルダ２６に取り付けられ、その内側上部に前記弾性シート１１が張設されている。該弾性シート１１は円形状に形成され、複数の孔２２が開穿されている。
【００２３】
弾性シート１１は、周縁部がリテーナリング９とリテーナリングホルダ２６との間で挟持されることにより、リテーナリング９の内側上部に張設される。前記リテーナリングホルダ２６はリング状に形成された取付部材２７にスナップリング２８を介して取り付けられている。該取付部材２７にはリテーナリング押圧部材１０ａが連結されている。リテーナリング９は、このリテーナリング押圧部材１０ａを介してリテーナリング押圧手段１０からの押圧力が伝達される。
【００２４】
該リテーナリング押圧手段１０はヘッド本体７の下面の外周部に配置され、リテーナリング押圧部材１０ａに押圧力を与えることにより、これに結合しているリテーナリング９を研磨パッド６に押し付ける。このリテーナリング押圧手段１０も好ましくは、バックプレート押圧手段１６と同様に、ゴムシート製のエアバック１６ｂで構成される。該エアバック１６ｂにはエアーを供給するための図示しない空気供給機構が連結されている。
【００２５】
次に、上述のように構成されたウェーハ研磨装置におけるリテーナリング精度維持機構の作用を図３、図４及び図５を用いて説明する。図３はウェーハエッジ（ウェーハ周縁）の接触によるリテーナリング内周面への剪断方向のストレスがリテーナリングの下面側へ分力される様子を説明するための部分拡大縦断面図、図４はウェーハの研磨プロファイル例を比較例とともに示す図、図５は研磨処理時間に対するリテーナリング内周部への損耗進行量の例を比較例とともに示す特性図である。
【００２６】
まず、ウェーハ研磨装置１における研磨ヘッド３を図示しない移動機構により所定箇所に待機中のウェーハＷ上に載置する。そして、研磨ヘッド３のバキュームライン２４側を作動状態とし、バキューム側の孔１９ａを介してエアー室１８を真空にし、孔（バキューム孔）２２を介して弾性シート１１下面にウェーハＷを吸着保持する。そして、前記移動機構により、ウェーハＷを吸着保持した研磨ヘッド３をプラテン２上に運び、該ウェーハＷを、研磨対象である導電性膜が研磨パッド６に対接するようにプラテン２上に載置する。バキュームライン２４はウェーハＷ上部の導電性膜の研磨作業が終了したとき、再び、該バキュームライン２４側を作動状態とし、ウェーハＷを研磨ヘッド３によって吸着保持し、図示しない洗浄装置へ搬送するときにも用いられる。
【００２７】
次いで、バキュームライン２４側の作動を解除し、図示しない空気供給機構から両エアバック１６ｂ，２５にエアーを供給して該両エアバック１６ｂ，２５を膨らませる。これと同時にエアーフロートライン１７側を作動状態とし、バックプレート８に設けたエアー吹出し口１９からエアー室１８に圧縮エアーを供給する。これにより、エアー室１８の内圧が高くなり、該エアー室１８に圧力エア層が形成される。そして、前記両エアバック１６ｂ，２５の膨らみによって、前記ウェーハＷ上部の導電性膜とリテーナリング９が所定の圧力で研磨パッド６に押し付けられる。
【００２８】
この状態でプラテン２を図１の矢印Ａ方向に回転させるとともに研磨ヘッド３を図１の矢印Ｂ方向に回転させ、回転する研磨パッド６上に図示しないノズルからスラリーを供給する。このとき、リテーナリングホルダ２６を介して研磨ヘッド３側に取り付けられているリテーナリング９は、該研磨ヘッド３とともに回転する。一方、エアー室１８内の圧力エア層及び孔２２が開穿された弾性シート１１を介して研磨パッド６に押し付けられているウェーハＷはリテーナリング９内で研磨パッド３上を滑り動くように該研磨パッド６の回転方向に移動し、その周縁がリテーナリング９の内周面に当接するように接触する。そして、この接触した状態でウェーハＷは所定の回転数で回転し、研磨が進行する。
【００２９】
このとき、図３に示すように、リテーナリング９の内周面は、所要角度θ１だけ傾斜したテーパ面９ａとなっていることで、このテーパ面９ａにウェーハＷの周縁が接触することによる剪断方向のストレスＳが、一部リテーナリングの下面側へ分力Ｓ２される。したがって、リテーナリング９の内周面に実質的にかかる剪断方向のストレスは、分力Ｓ２された分だけ少ないストレスＳ１となり、リテーナリング内周部の損耗進行が鈍化する。これによりリテーナリング内周部に発生する損耗でウェーハＷの周縁に局所的押圧がかかるのが抑えられて研磨パッド６に対するウェーハＷの押圧分布に変化が生じるのが抑えられる。この結果、ウェーハＷに対する研磨加工精度が高くなる。
【００３０】
図４は、研磨精度が保証できる期間内における本実施例のウェーハ研磨プロファイル（研磨形状）例を比較例とともに示した図である。図中、ａ；傾斜角度θ１が５度のテーパ面９ａを持つ本実施例のリテーナリング９を適用したとき、ｂ；傾斜角度θ１が１０度のテーパ面を持つ比較例としてのリテーナリングを適用したとき、ｃ；傾斜角度θ１が０度の内周面を持つ従来例（比較例）のリテーナリングを適用したときの各研磨プロファイルを示している。この比較例を含めたウェーハ研磨プロファイル例から、本実施例ａの傾斜角度θ１が５度のテーパ面９ａを持つリテーナリング９は、従来例ｃの傾斜角度θ１が０度の内周面を持つリテーナリングの場合とほぼ同等の研磨加工精度が得られている。これに対し、比較例ｂの傾斜角度θ１が１０度を超えたリテーナリングでは、特にウェーハ周縁部近傍の研磨形状が不安定になっている。
【００３１】
図５は、研磨処理時間に対するリテーナリング内周部への損耗進行量の例を従来例（比較例）とともに示した図である。本実施例；傾斜角度θ１が５度のテーパ面９ａを持つリテーナリング９を適用したとき、従来例；傾斜角度θ１が０度の内周面を持つリテーナリングを適用したときのものである。この損耗進行量の特性例から、研磨加工精度に影響を与える閾値を損耗進行量０．０５としたときの研磨処理時間を本実施例と従来例について比較すると、本実施例の研磨処理時間は従来例のそれの２倍以上になっている。この結果から本実施例のリテーナリング９は、従来例に比べて、リテーナリング内周部の損耗進行を２倍以上の研磨処理時間にわたって鈍化させることができる。
【００３２】
上述したように、本実施例に係るウェーハ研磨装置におけるリテーナリング精度維持機構においては、リテーナリング９の内周面をテーパ面９ａにするという簡単な構成でリテーナリング内周部の損耗進行を鈍化させることができて、ウェーハエッジに局所的押圧がかかるのを抑えることができる。したがって、研磨パッド６に対するウェーハＷの押圧分布に変化が生じるのを抑えることができて、リテーナリング９が本来持つ寿命に至るまでウェーハＷに対する研磨加工精度を高く維持することができる。
【００３３】
上記テーパ面９ａの傾斜角度を、その下面からの法線Ｎに対し５度以上で１０度未満としたことで、研磨ヘッド３におけるウェーハ保持部からのウェーハＷの飛び出しを規制するというリテーナリング９本来の機能が損なわれずに、またウェーハエッジの接触時に研磨パッド６に対するウェーハＷの押し付け力に影響を及ぼすことなく、ウェーハエッジの接触によるリテーナリング内周部の損耗進行を鈍化させることができる。
【００３４】
なお、本発明は、本発明の精神を逸脱しない限り種々の改変をなすことができ、そして、本発明が該改変されたものにも及ぶことは当然である。
【図面の簡単な説明】
【００３５】
【図１】本発明の実施例に係るリテーナリング精度維持機構が内装されたウェーハ研磨装置の斜視図。
【図２】図１のウェーハ研磨装置における研磨ヘッドの拡大縦断面図。
【図３】図１のリテーナリング精度維持機構が内装されたウェーハ研磨装置においてウェーハエッジの接触によるリテーナリング内周面への剪断方向のストレスがリテーナリングの下面側へ分力される様子を説明するための部分拡大縦断面図。
【図４】図１のウェーハ研磨装置によるウェーハの研磨プロファイル例を比較例とともに示す図。
【図５】図１のウェーハ研磨装置における研磨処理時間に対するリテーナリング内周部への損耗進行量の例を比較例とともに示す特性図。
【図６】従来のウェーハ研磨装置においてリテーナリング内周部に発生する損耗によりウェーハエッジに局所的押圧がかかることを説明するための図であり、（ａ）はウェーハエッジがリテーナリングの内周面に当接した状態を示す図、（ｂ）はリテーナリングの内周部に損耗が発生する様子を示す図、（ｃ）はリテーナリングの下面の摩耗により損耗がリテーナリングの内周部上側に広がって大きく様子を示す図。
【符号の説明】
【００３６】
１    ウェーハ研磨装置
２    プラテン
３    研磨ヘッド
４    回転軸
５    モータ
６    研磨パッド
７    ヘッド本体
８    バックプレート
９    リテーナリング
９ａ  テーパ面
１０    リテーナリング押圧手段
１１    弾性シート
１２    回転軸
１３    ドライプレート
１４    ピン
１５    作動トランス
１６    バックプレート押圧手段
１７    エアーフロートライン
１８    エアー室
１９    エアー吹出し口
２０    エアーフィルタ
２１    給気ポンプ
２２    孔
２３    真空ポンプ
２４    バキュームライン
２５    エアバック
２６    リテーナリングホルダ
２７    取付部材
２８    スナップリング
２９    リテーナリング（従来）
Ｗ    ウェーハ
【図１】
2010036283.tif 000003
【図２】
2010036283.tif 000004
【図３】
2010036283.tif 000005
【図４】
2010036283.tif 000006
【図５】
2010036283.tif 000007
【図６】
2010036283.tif 000008