(57)【要約】【課題】ポリエチレンテレフタレートフィルムと無機酸化物層との密着を強化し、高温高湿環境下で試験を行ってもデラミネーションの発生がないガスバリア積層体を提供すること。【解決手段】ポリエチレンテレフタレートフィルム１の少なくとも一方の面に無機酸化物層３を積層するガスバリア積層体であって、該ポリエチレンテレフタレートフィルムの少なくとも該無機酸化物層３を設ける面に、プラズマを利用したリアクティブイオンエッチング（ＲＩＥ）処理２が施されており、該処理表面を剛体振り子型物性試験器により測定（測定条件：パイプエッジ：直径２ｍｍ、フレーム重さ１４ｇ）した場合、測定温度が５０℃における対数減衰率が０．０４以上０．０６以下の範囲内であることを特徴とするガスバリア積層体。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリエチレンテレフタレートフィルムの少なくとも一方の面に無機酸化物層を積層するガスバリア積層体であって、該ポリエチレンテレフタレートフィルムの少なくとも該無機酸化物層を設ける面に、プラズマを利用したリアクティブイオンエッチング（ＲＩＥ）処理が施されており、該処理表面を剛体振り子型物性試験器により測定（測定条件：パイプエッジ：直径２ｍｍ、フレーム重さ１４ｇ）した場合、測定温度が５０℃における対数減衰率が０．０４以上０．０６以下の範囲内であることを特徴とするガスバリア積層体。
【請求項２】
前記処理表面を剛体振り子型物性試験器により測定（測定条件：パイプエッジ：直径２ｍｍ、フレーム重さ１４ｇ）した場合、測定温度が８０℃における対数減衰率が０．０８以上０．１１以下の範囲内であることを特徴とする請求項１に記載のガスバリア積層体。
【請求項３】
前記処理表面を剛体振り子型物性試験器により測定（測定条件：パイプエッジ：直径２ｍｍ、フレーム重さ１４ｇ）した場合、測定温度が１２０℃における対数減衰率が０．０７以上０．１５以下の範囲内であることを特徴とする請求項１または２に記載のガスバリア積層体。
【請求項４】
前記処理表面を剛体振り子型物性試験器により測定（測定条件：パイプエッジ：直径２ｍｍ、フレーム重さ１４ｇ）した場合、測定温度が１５０℃における対数減衰率が０．０９以上０．１２以下の範囲内であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のガスバリア積層体。
【請求項５】
前記ＲＩＥ処理が、直接電圧が印加される陰極側（冷却ドラム側）に基材を設置したプレーナ型のプラズマ処理、または、ホロアノード・プラズマ処理器を用いた特殊プラズマによる処理であることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載のガスバリア積層体。
【請求項６】
前記ＲＩＥ処理が、アルゴン、窒素、酸素、水素のうちの１種類のガス、または、これらの混合ガスを用いて１回以上行われる処理であることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載のガスバリア積層体。
【請求項７】
前記無機酸化物が、酸化アルミニウム、酸化ケイ素、あるいは、それらの混合物であることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載のガスバリア積層体。
【請求項８】
前記ＲＩＥ処理と前記無機酸化物層の積層が、同一製膜機（インライン製膜機）にて行われることを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載のガスバリア積層体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、産業資材用途として用いる耐久性に優れたガスバリア積層体に関するものである。特に太陽電池のモジュールセルや配線を保護する必要があり、耐久性に優れた裏面保護シート用のバリア積層体に関するものである。また用途はこれに限定したものではなく応用展開が可能である。
【背景技術】
【０００２】
ガスバリア積層体は食品や精密電子部品及び医薬品の包材として用いられ、内容物の変質を抑制しそれらの機能や性質を保持するために、包装材料を通過する酸素、水蒸気、その他内容物を変質させる気体や光線による影響を防止する必要があり、これらを遮断するガスバリア性等を備えることが求められてきた。近年、このガスバリア積層体は太陽電池モジュールの部材である裏面保護シートを代表とした産業資材用途として用いられるようになってきた。
【０００３】
従来、上記裏面保護シートには温度・湿度などの影響が少ないアルミニウム等の金属箔がガスバリア層として一般的に用いられてきたが、金属箔は経年劣化により太陽電池のセル及び配線等と絶縁不良を起こすなど欠点を有し問題があった。
【０００４】
そこで、これらの欠点を克服した包装材料として、例えば、フッ素樹脂フィルム上に、真空蒸着法により酸化珪素の蒸着膜を形成したフィルムが開発されている（特許文献１）。この蒸着フィルムは透明性及び酸素、水蒸気等のガス遮断性を有しているため、金属箔等では得ることができない絶縁特性、透明性を有する包装材料として好適とされている。
【０００５】
しかしながら、従来のように前処理を施さない基材に、無機酸化物層を積層したフィルムでは、基材と無機酸化物層の接着性が弱いために、長時間の高温高湿環境下ではデラミネーションを引き起こすという欠点がある。
【０００６】
この問題を解決するために、従来からプラズマを用いることによって、インライン前処理によりプラスチック基材上に積層された無機酸化物層の接着性を改善する試みがなされている。
【０００７】
しかしながら、従来はインラインでプラズマ処理を行おうとすると、プラズマ発生のための電圧を印加する電極が基材のあるドラム側でなく、反対側に設置されている。この装置の場合、基材はアノード側に設置されることになるため、高い自己バイアスは得られず、結果として高い処理効果を発揮できなかった。
【０００８】
高い自己バイアスを得るために、直流放電方式を用いることも出来るが、この方法で高いバイアスの電圧を得ようとすると、プラズマのモードがグローからアークへと変化するため、大面積に均一な処理を行うことは出来ない。
【特許文献１】特開平１０−３０８５２１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は上記課題を解決するためになされたものであり、ポリエチレンテレフタレートフィルムと無機酸化物層との密着を強化し、高温高湿環境下で試験を行ってもデラミネーションの発生がないガスバリア積層体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明は特定の表面特性を有するポリエチレンテレフタレートフィルムを使用することにより上記の目的が達成できることを見出した。
【００１１】
請求項１記載の発明は、ポリエチレンテレフタレートフィルム（以下、ＰＥＴフィルムという）の少なくとも一方の面に無機酸化物層を積層するガスバリア積層体であって、該ポリエチレンテレフタレートフィルムの少なくとも該無機酸化物層を設ける面に、プラズマを利用したリアクティブイオンエッチング（ＲＩＥ）処理が施されており、該処理表面を剛体振り子型物性試験器により測定（測定条件：パイプエッジ：直径２ｍｍ、フレーム重さ１４ｇ）した場合、測定温度が５０℃における対数減衰率が０．０４以上０．０６以下の範囲内であることを特徴とするガスバリア積層体である。
これによると、高温高湿環境下で剥離しない分子構造となる。
【００１２】
請求項２記載の発明は、前記処理表面を剛体振り子型物性試験器により測定（測定条件：パイプエッジ：直径２ｍｍ、フレーム重さ１４ｇ）した場合、測定温度が８０℃における対数減衰率が０．０８以上０．１１以下の範囲内であることを特徴とする請求項１に記載のガスバリア積層体である。
これによると、高温高湿環境下で剥離しない分子構造となる。
【００１３】
請求項３記載の発明は、前記処理表面を剛体振り子型物性試験器により測定（測定条件：パイプエッジ：直径２ｍｍ、フレーム重さ１４ｇ）した場合、測定温度が１２０℃における対数減衰率が０．０７以上０．１５以下の範囲内であることを特徴とする請求項１または２に記載のガスバリア積層体である。
これによると、高温高湿環境下で剥離しない分子構造となる。
【００１４】
請求項４記載の発明は、前記処理表面を剛体振り子型物性試験器により測定（測定条件：パイプエッジ：直径２ｍｍ、フレーム重さ１４ｇ）した場合、測定温度が１５０℃における対数減衰率が０．０９以上０．１２以下の範囲内であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のガスバリア積層体である。
これによると、高温高湿環境下で剥離しない分子構造となる。
【００１５】
請求項５の発明は、前記ＲＩＥ処理が、直接電圧が印加される陰極側（冷却ドラム側）に基材を設置したプレーナ型のプラズマ処理、または、ホロアノード・プラズマ処理器を用いた特殊プラズマによる処理であることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載のガスバリア積層体である。
これによると、ＰＥＴフィルムの表面は、基材がアノード側に設置されたプラズマ処理あるいはコロナ処理等のアーク放電と比べて均一な処理が可能で、接着に寄与する表面から約１０ｎｍの処理深さで処理層を形成することができる。
【００１６】
請求項６記載の発明は、前記ＲＩＥ処理が、アルゴン、窒素、酸素、水素のうちの１種類のガス、または、これらの混合ガスを用いて１回以上行われる処理であることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載のガスバリア積層体である。
これによると、処理液を用いた化学処理に比べて環境を汚染しない処理が可能となる。
【００１７】
請求項７記載の発明は、前記無機酸化物が、酸化アルミニウム、酸化ケイ素、あるいは、それらの混合物であることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載のガスバリア積層体である。
これによると、金属箔または金属薄膜を用いたバリア積層体と比較し該ガスバリア積層体は廃棄、焼却の際に環境に無害な部材になる。
【００１８】
請求項８記載の発明は、前記ＲＩＥ処理と前記無機酸化物層の積層が、同一製膜機（インライン製膜機）にて行われることを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載のガスバリア積層体である。
これによると、ＲＩＥ処理を行った後に大気中に暴露した場合より、生成した官能基、ラジカルと前記無機酸化物との反応がしやすくなり、両者の接着が強固になる。
【発明の効果】
【００１９】
本発明によれば、このようなガスバリア積層体を用いれば、高温高湿環境下においても無機酸化層と良好な接着性を示す。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下に、本発明の実施形態について説明する。
【００２１】
図１は本発明のガスバリア積層体を説明する断面図である。プラズマを利用したリアクティブエッチング（ＲＩＥ）による前処理を施し、処理層３が形成されたＰＥＴフィルム１表面上に、無機酸化物層２が形成されている構造である。
【００２２】
本発明のガスバリア積層体は、ＰＥＴフィルム表面にプラズマを利用したリアクティブイオンエッチング（ＲＩＥ）による前処理を施している。このＲＩＥによる処理を行うことで、発生したラジカルやイオンを利用してＰＥＴフィルム表面の粘弾性を制御することができる。その結果、ＰＥＴフィルムと無機酸化物層との密着性を強化し、ガスバリア性向上やクラック発生防止につながるだけでなく、高温高湿環境においても、デラミネーションが起こることがない。
【００２３】
本発明のガスバリア積層体は、本発明者の次の知見に基づくものである。剛体振り子型物性試験器による測定（以下剛体振り子測定という）は、被測定物質上に振り子を乗せ、その振り子を振動させながら被測定物質に温度を連続的に変化させて測定すると動的粘弾性が測定できる装置である。この装置ではデータの１つとして対数減衰率が測定される。ＰＥＴ分子はＲＩＥ処理をすると還元作用によって炭化し、表面分子は硬化する傾向になる。未処理の状態でのＰＥＴ分子は粘性が大きいため、振り子にブレーキがかかり振動は減衰し、対数減衰率を大きくする。ＲＩＥ処理を施すとＰＥＴ表面は炭化して緻密になり剛直性が出て温度が高くなっても粘性が低くなり、振動にブレーキがかからず対数減衰率が小さくなる。したがって、対数減衰率を評価することによって、表面処理による橋かけの生成による粘性の変化が測定できる。
【００２４】
ＰＥＴフィルムは、プラズマ処理などの表面処理が施されていない未処理状態において、剛体振り子型物性試験器で測定温度５０℃、８０℃、１２０℃、１５０℃の時の対数減衰率はそれぞれ０．０３、０．０５、０．０６、０．０５を示す。これらの値を示す未処理状態のＰＥＴフィルムは、高温高湿環境下に放置すると無機酸化物蒸着膜とデラミネーションを起こしやすく密着性が低い。
【００２５】
これに対して、本発明のガスバリア積層体は、プラズマを利用したリアクティブイオンエッチング（ＲＩＥ）による表面処理を施すことにより、フィルム表面が改質され、剛体振り子型物性試験器で測定温度５０℃、８０℃、１２０℃、１５０℃の時の対数減衰率はそれぞれ０．０４以上０．０６以下、０．０８以上０．１１以下、０．０７以上０．１５以下、０．０９以上０．１２以下を示す。これらは、無機酸化物層と極めて良好な密着性を示し、高温高湿環境下に放置すると無機酸化物蒸着膜とデラミネーションを起こしにくい。
なお、測定温度５０℃の時の対数減衰率が０．０４未満では、表面硬度が高くなり、逆に０．０６を超えると、表面硬度が低くなり、好ましくない。
また、対数減衰率の調整は、プラズマ処理をすることにより行なうことができる。
【００２６】
図２はＰＥＴ表面を剛体振り子型物性試験器により測定した測定温度に対する対数減衰率の関係を示した一例である。被測定物質に熱を加えると４までは物質の構造が運動しないため対数減衰率は変化しない。ところが、５では物質の構造が運動する構造になったため粘性が増加して、対数減衰率が大きくなる。６は物質構造が全て運動状態になり、粘性は温度との関係式にしたがって減少するため、対数減衰率は低下する。７はその変化点としてピークが現れる。さらに、８は測定温度が上昇するとその系での最低粘性まで低下するため対数減衰率は平衡になる。
【００２７】
また、このＰＥＴフィルムには公知の添加剤、例えば帯電防止剤、紫外線吸収剤、可塑剤、滑剤を使用することができる。
【００２８】
ＰＥＴフィルムの厚さは特に制限を受けるものではないが、無機酸化物層を形成するときの加工性を考慮すると、実用的には３〜２００μｍの範囲が好ましく、特に６〜５０μｍとすることが好ましい。３μｍ未満である場合は、巻取り装置で加工する場合、シワの発生やフィルムの破断が生じ、２００μｍを超える場合は、フィルムの柔軟性が低下するため、巻き取り装置では加工が困難になる。また産業資材、包装材料としての適性を考慮して無機酸化物層以外に異なる性質のフィルムを積層することができる。例えば、ポリエチレンテレフタレートなどのポリエステルフィルム、ポリフッ化ビニルフィルムやポリフッ化ジビニルなどのフッ素系樹脂フィルムなどが考えられるが、これら以外の樹脂フィルムを積層することもできる。
【００２９】
本発明におけるＲＩＥによる処理を巻き取り式のインライン装置で行う方法としては、基材の設置されている冷却ドラムに電圧を印加してプレーナ型にする方法（図３）、もしくはホロアノード・プラズマ処理器を用いて処理を行う方法（図４）がある。
【００３０】
プレーナ型で処理を行えば、ＰＥＴフィルム１２からなる基材は、処理ロール１１に設けられた電極９である陰極（カソード）側に設置することができ、高い自己バイアスを得ることによってＲＩＥによる処理が行える（図３）。もし、通常インライン処理で行うように、ドラムもしくはガイドロールの対面側に印加電極を設置した場合には、ＰＥＴフィルム１２からなる基材は陽極（アノード）側に設置されることになる。この時、基材は高い自己バイアスを得られず、ラジカルが基材表面に作用し化学反応するだけの、いわゆるプラズマエッチングしか行われないため、無機酸化物蒸着層と基材との密着性は低いままである。
【００３１】
また、上記ホロアノード・プラズマ処理器とは、電極９は中空状の陽極であり、その陽極の面積（Ｓａ）が、対極となる基板面積（Ｓｃ）に比べ、Ｓａ＞Ｓｃとなるような処理器である（図４）。陽極の面積を大きくすることで、対極となる陰極（基材）上に大きな自己バイアスを発生することが出来る。この大きな自己バイアスにより、安定で強力な表面処理が可能となる。さらに好ましくは、上記ホロアノード電極中に磁石を組み込み、磁気アシスト・ホロアノードとすることで、より強力且つ安定したプラズマ表面処理を高速で行うことである。磁気電極から発生される磁界により、プラズマ閉じ込め効果を更に高め、大きな自己バイアスで高いイオン電流密度を得ることが出来る。なお、図３または４において、１０はプラズマ、１３はガス導入口、１４はマッチングボックス、１５は遮蔽板である。
【００３２】
ＲＩＥによる前処理を行うためのガス種としては、アルゴン、酸素、窒素、水素を使用することが出来る。これらのガスは単独で用いても、２種類以上のガスを混合して用いてもよい。また、２基以上の処理器を用いて、連続して処理を行ってもよい。この時２基以上の処理器は同じものを使用する必要はなく、プレーナ型で処理を行った後に連続してホロアノード・プラズマ処理器を用いて処理を行っても構わない。
【００３３】
次に無機酸化物層２について、詳しく説明する。
本発明における無機酸化物層は、酸化アルミニウム、酸化珪素、酸化錫、酸化マグネシウム、あるいは、それらの混合物などの無機酸化物からなる層であり、透明性を有しかつ酸素、水蒸気等のガスバリア性を有する層であればよい。高温高湿環境での耐性を考慮するとこれらの中では、特に酸化アルミニウム及び酸化珪素またはこれらの混合物を用いることがより好ましい。ただし、本発明の無機酸化物層は、上述した無機酸化物に限定されず、上記条件に適合する材料であれば用いることが可能である。
【００３４】
無機酸化物層の厚さは、用いられる無機化合物の種類・構成により最適条件が異なるが、一般的には５〜３００ｎｍの範囲内が望ましく、その値は適宜選択される。ただし膜厚が５ｎｍ未満であると均一な膜が得られないことや膜厚が十分ではないことがあり、ガスバリア材としての機能を十分に果たすことができない場合がある。また、膜厚が３００ｎｍを越える場合は薄膜の残留応力によりフレキシビリティを保持させることができず、成膜後外的要因により、薄膜に亀裂を生じるおそれがあるので問題がある。より好ましくは、１０〜１５０ｎｍの範囲内にあることが好ましい。
【００３５】
無機酸化物層をＰＥＴフィルムに積層する方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、プラズマ気相成長法（ＣＶＤ）などを用いることができる。ただし、生産性を考慮すれば、現時点では真空蒸着法が最も優れている。真空蒸着法の加熱手段としては電子線加熱方式や抵抗加熱方式、誘導加熱方式のいずれかの方式を用いることが好ましいが、蒸発材料の選択性の幅広さを考慮すると電子線加熱方式または抵抗加熱方式を用いることがより好ましい。また蒸着薄膜層と基材の密着性及び蒸着薄膜層の緻密性を向上させるために、プラズマアシスト法やイオンビームアシスト法を用いて蒸着することも可能である。また、蒸着膜の透明性を上げるために蒸着の際、酸素等の各種ガスなど吹き込む反応蒸着を用いても一向に構わない。なお、前記ＲＩＥ処理と前記無機酸化物層の積層が、同一製膜機（インライン製膜機）にて行うようにすれば、ＲＩＥ処理を行った後に大気中に暴露した場合より、生成した官能基、ラジカルと前記無機酸化物との反応がしやすくなり、両者の接着が強固になり、好ましい。
【実施例】
【００３６】
以下に本発明のガスバリア積層体の実施例を具体的に説明する。なお、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
【００３７】
[剛体振り子型物性試験器によるＰＥＴ表面処理面の対数減衰率の測定]
測定装置は、（株）エー・アンド・デイ製ＲＰＴ−３０００Ｗを用いた。フレーム形状（振り子）はパイプ直径２ｍｍ、フレーム重さ１４ｇのＲＢＰ−０２０を用いた。測定温度範囲は３０℃から２００℃とし、昇温速度は１０℃/min、測定幅は２０ｍｍで専用のアルミニウム板に試料を固定した。これらの条件でＰＥＴ表面処理層に対して3箇所の対数減衰率を測定し、その平均値を各実施例の対数減衰率のデータとした。
【００３８】
＜実施例１＞
厚さ１２μｍのＰＥＴフィルムの片面に、処理方法としてホロアノード・プラズマ処理器を用いてリアクテブイオンエッチング（ＲＩＥ）による前処理を施した。この時、電極には周波数１３．５６ＭＨｚの高周波電源を用い、処理ガスに水素ガスを用いた。剛体振り子物性試験器での測定温度５０℃における対数減衰率は０．０４、測定温度８０℃における対数減衰率は０．０８、測定温度１２０℃における対数減衰率は０．１０、測定温度１５０℃における対数減衰率は０．０９であった。この上に、抵抗加熱方式を用いて、酸化珪素を約４０ｎｍの厚みで成膜して、ガスバリア積層体を作製した。
【００３９】
＜実施例２＞
処理ガスに酸素ガスを用いて処理して得られたＰＥＴフィルムの剛体振り子物性試験器での測定温度５０℃における対数減衰率は０．０６、測定温度８０℃における対数減衰率は０．０８、測定温度１２０℃における対数減衰率は０．０９、測定温度１５０℃における対数減衰率は０．０９であった以外は実施例１と同様の方法でガスバリア積層体を作製した。
【００４０】
＜実施例３＞
処理ガスにアルゴン／酸素混合ガスを用いて処理して得られたＰＥＴフィルムの剛体振り子物性試験器での測定温度５０℃における対数減衰率は０．０６、測定温度８０℃における対数減衰率は０．１1、測定温度１２０℃における対数減衰率は０．１５、測定温度１５０℃における対数減衰率は０．１１であった以外は実施例１と同様の方法でガスバリア積層体を作製した。
【００４１】
＜実施例４＞
処理ガスに窒素ガスを用いて処理して得られたＰＥＴフィルムの剛体振り子物性試験器での測定温度５０℃における対数減衰率は０．０５、測定温度８０℃における対数減衰率は０．１１、測定温度１２０℃における対数減衰率は０．１４、測定温度１５０℃における対数減衰率は０．１２であった以外は実施例１と同様の方法でガスバリア積層体を作製した。
【００４２】
＜実施例５＞
処理方法として冷却ドラム側から電圧を印加する方式のプレーナ型で、プラズマを利用したＲＩＥによる前処理を行い、処理ガスにアルゴンガスを用いて処理して得られたＰＥＴフィルムの剛体振り子物性試験器での測定温度５０℃における対数減衰率は０．０５、測定温度８０℃における対数減衰率は０．１０、測定温度１２０℃における対数減衰率は０．１２、測定温度１５０℃における対数減衰率は０．１０であった以外は実施例１と同様の方法でガスバリア積層体を作製した。
【００４３】
＜比較例１＞
処理ガスに酸素／窒素混合ガスを用いて得られたＰＥＴフィルムの剛体振り子物性試験器での測定温度５０℃における対数減衰率は０．０７、測定温度８０℃における対数減衰率は０．１６、測定温度１２０℃における対数減衰率は０．１７、測定温度１５０℃における対数減衰率は０．１３であった以外は、実施例１と同様の方法でガスバリア積層体を作製した。
【００４４】
＜比較例２＞
ＰＥＴフィルムにコロナ処理装置を用いて、コロナ処理して得られたＰＥＴフィルムの剛体振り子物性試験器での測定温度５０℃における対数減衰率は０．０８、測定温度８０℃における対数減衰率は０．１２、測定温度１２０℃における対数減衰率は０．２０、測定温度１５０℃における対数減衰率は０．１５であった以外は実施例１と同様の方法でガスバリア積層体を作製した。
【００４５】
実施例１〜５、比較例１〜２の無機酸化物層上に、下記に示すＡ液とＢ液を配合比（ｗｔ％）で６／４に混合した溶液を塗布した。
Ａ液：テトラエトキシシラン１０．４ｇに塩酸（０．１Ｎ）８９．６ｇを加え、３０分間撹拌し加水分解させた固形分３ｗｔ％（ＳｉＯ２  換算）の加水分解溶液。
Ｂ液：ポリビニルアルコールの３ｗｔ％水／イソプロピルアルコール溶液（水：イソプロピルアルコール重量比で９０：１０）。
この溶液をグラビアコート法により塗布乾燥し、厚さ０．５μｍの複合被膜層を形成し、ガスバリア積層フィルムとした。
【００４６】
さらにニ液硬化型ポリウレタン系接着剤を用いて、ドライラミネーションにより、ガスバリア積層フィルム／延伸ナイロンフィルム（１５μｍ）／未延伸ポリプロピレンフィルム（７０μｍ）の積層サンプルを作製した。なお、ガスバリア積層フィルム／延伸ナイロンフィルム（１５μｍ）の接着面は、前記複合被膜層の形成した面である。
＜評価＞
上記積層サンプルのバリア積層フィルムと延伸ナイロンフィルムとの間のラミネート強度を、オリエンテック社テンシロン万能試験機ＲＴＣ−１２５０を用いて測定した（ＪＩＳ  Ｚ１７０７準拠）。剥離角度は１８０度とした。ただし、測定前に試料をプレッシャークッカーテスト（１０５℃１００％）の高温高湿環境下に６０時間放置した後に剥離強度を測定した。結果を表１に示す。評価基準として剥離強度が１Ｎ／１５ｍｍ以上を示した場合を適として○とし，１Ｎ／１５ｍｍ未満を示した場合を不適として×とした。
【００４７】
【表１】
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【００４８】
したがって、測定温度５０℃の対数減衰率が０．０４以上０．０６以下、測定温度８０℃の対数減衰率が０．０８以上０．１１以下、測定温度１２０℃の対数減衰率が０．０７以上０．１５以下、測定温度１５０℃の対数減衰率が０．０９以上０．１２以下に調整した以外の比較例１、２の剥離強度が低いことが示された。
【００４９】
以上のように本発明のガスバリア積層体は、ＰＥＴフィルムと無機酸化物層との密着性が高く高温高湿環境下でもＰＥＴフィルムと無機酸化物層との密着性が劣化しないガスバリア積層体を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００５０】
【図１】本発明のガスバリア積層体の断面図である。
【図２】剛体振り子型物性試験器により測定した測定温度に対する対数減衰率の関係を示す図である。
【図３】プレーナ型プラズマ処理を行った場合の概略図である。
【図４】ホロアノード・プラズマ処理器の概略図である。
【符号の説明】
【００５１】
１    ＰＥＴフィルム
２    無機酸化物層
３    ＲＩＥによる前処理層
４    物質の構造が運動しないため対数減衰率が変化しない領域
５    物質の構造が運動する温度になったため対数減衰率が大きくなる領域
６    物質の構造が全て運動状態になり対数減衰率が低下する領域
７    物質の構造の運動状態の変化点
８    物資の構造が最低粘性まで低下し対数減衰率が平衡になる領域
９    電極
１０  プラズマ
１１  処理ロール
１２  ＰＥＴフィルム
１３  ガス導入口
１４  マッチングボックス
１５  遮蔽板
【図１】
2010036350.tif 000004
【図２】
2010036350.tif 000005
【図３】
2010036350.tif 000006
【図４】
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