(57)【要約】【課題】低電圧で安定的に駆動する画像表示装置を低コストで提供する。【解決手段】基板上に複数のトランジスタ素子が形成されているアクティブマトリックス基板を製造する工程と、アクティブマトリックス基板に形成されているトランジスタ素子と各々接続されている上部電極の電極間領域に少なくとも一層の中間層を構成する材料を供給する工程と、アクティブマトリックス基板に中間層を介し画像表示素子を接合する工程を有し、中間層を構成する材料を供給する工程において、中間層を構成する材料は、各々の上部電極の表面の少なくとも一部領域が露出するように供給されるものであることを特徴とする画像表示装置の製造方法を提供することにより上記課題を解決する。【選択図】  図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に複数のトランジスタ素子が形成されているアクティブマトリックス基板を製造する工程と、
前記アクティブマトリックス基板に形成されている前記トランジスタ素子と各々接続されている上部電極の電極間領域に少なくとも一層の中間層を構成する材料を供給する工程と、
前記アクティブマトリックス基板に前記中間層を介し画像表示素子を接合する工程と、を有し、
前記中間層を構成する材料を供給する工程において、前記中間層を構成する材料は、各々の前記上部電極の表面の少なくとも一部領域が露出するように供給されるものであることを特徴とする画像表示装置の製造方法。
【請求項２】
前記上部電極は二次元的に等間隔に形成されており、前記中間層を構成する材料を供給する工程において、前記中間層を構成する材料は前記上部電極の電極間領域に格子状に供給されることを特徴とする請求項１に記載の画像表示装置の製造方法。
【請求項３】
前記中間層を構成する材料を供給する工程において、前記上部電極の厚さよりも、前記上部電極間の電極間領域において供給される前記中間層を構成する材料の厚さが厚くなるように供給されることを特徴とする請求項１または２に記載の画像表示装置の製造方法。
【請求項４】
前記中間層は、接着材料を含んでいることを特徴とする請求項１から３のいずれか一項に記載の画像表示装置の製造方法。
【請求項５】
前記中間層は、パッシベーション層としての機能を有するものであることを特徴とする請求項１から４のいずれか一項に記載の画像表示装置の製造方法。
【請求項６】
前記中間層を構成する材料を供給する工程において、前記中間層を構成する材料は、印刷法により供給されることを特徴とする請求項１から５のいずれか一項に記載の画像表示装置の製造方法。
【請求項７】
前記中間層を構成する材料を供給する工程において、前記中間層を構成する材料は印刷法により前記上部電極間の電極間領域に供給されるものであって、供給された前記中間層を構成する材料が広がることにより、前記上部電極の一部領域が露出した状態で、前記一部領域の周囲が前記中間層を構成する材料により覆われるものであることを特徴とする請求項６に記載の画像表示装置の製造方法。
【請求項８】
前記アクティブマトリックス基板は、印刷法により形成されたものであることを特徴とする請求項１から７のいずれか一項に記載の画像表示装置の製造方法。
【請求項９】
前記画像表示素子は、真空成膜により形成されたものであることを特徴とする請求項１から８のいずれか一項に記載の画像表示装置の製造方法。
【請求項１０】
基板上に複数のトランジスタ素子が形成されているアクティブマトリックス基板と、
画像を表示するための画像表示素子と、を有し、
前記アクティブマトリックス基板における前記トランジスタ素子と接続されている各々の上部電極の表面の少なくとも一部が露出するように中間層を構成する材料が供給された状態で、
前記アクティブマトリックス基板と前記画像表示素子とを前記中間層を構成する材料を介して接合したものであることを特徴とする画像表示装置。
【請求項１１】
前記上部電極は二次元的に等間隔に形成されており、前記中間層を構成する材料は前記上部電極の電極間領域に格子状に供給されていることを特徴とする請求項１０に記載の画像表示装置。
【請求項１２】
前記上部電極の厚さよりも、前記上部電極間の電極間領域において供給される前記中間層を構成する材料の厚さが厚くなるよう供給されていることを特徴とする請求項１０または１１に記載の画像表示装置。
【請求項１３】
前記中間層を構成する材料は、印刷法により供給されるものであることを特徴とする請求項１０から１２のいずれか一項に記載の画像表示装置。
【請求項１４】
前記中間層を構成する材料は前記上部電極の電極間領域に供給されるものであって、供給された前記中間層を構成する材料が広がることにより、前記上部電極の一部領域が露出した状態で、前記一部領域の周囲が前記中間層を構成する材料により覆われるものであることを特徴とする請求項１３に記載の画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、画像表示装置の製造方法及び画像表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、可搬性を有する電子デバイスの需要が高く、特に、高性能と軽量・低価格を併せ持つフレキシブルディスプレイに代表されるような画像表示装置が注目されている。このような画像表示装置は、時間や場所の制限を受けることなく情報の受送信や表示を可能とし、社会的にも重要性が高いものとされている。
【０００３】
このような画像表示装置を製造する際の製造プロセスにおいては、基板上にトランジスタ素子がアレイ状に形成されているアクティブマトリックス基板に画像表示素子を接合させる必要がある。アクティブマトリックス基板と画像表示素子との接合方法としては、通常、アクティブマトリックス基板上に接着剤となる中間層を設け、画像表示素子を貼り合わせる方法が一般的である。
【０００４】
しかしながら、この貼り合わせのプロセスにおいては、接合面がμｍレベルの凹凸を有する面同士を接合することから、通常、中間層が必要以上に厚くなってしまう。このように中間層が厚く形成されてしまうと、画像表示素子と上部電極との距離が長くなり、画像表示素子に十分に電界が印加されず、駆動電圧の上昇を招き、また、隣接する電極間においてリークが発生し、動作不良が生じやすくなってしまう。
【０００５】
このような問題点を解決する方法として、特許文献１には、アクティブマトリックス基板と画像表示素子とを貼り合わせる前、または、後に、画像表示素子に対して機械的な圧力を加えて平坦化する方法が記載されている。
【０００６】
また、特許文献２には、電界リークを防止する方法として、電極間の領域において、低誘電率・高抵抗率のリブを形成する方法が記載されている。
【特許文献１】特表２００７−５３１０１６号公報
【特許文献２】特表２００７−５２５７１２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、特許文献１に開示されている方法では、面積の広い画像表示素子を製造する場合において、機械的な圧力を均一に加えることは極めて困難であり、この方法では、製造される画像表示装置の表示は不均一なものとなってしまう。また、画像表示素子やアクティブマトリックス基板の凹凸の程度によっては、一部の領域に加えられた圧力が集中し、画素欠陥等の原因となるおそれがある。
【０００８】
また、特許文献２に記載された方法では、電界リークを防止することは可能となるが、製造工程が複雑、かつ、煩雑なものとなり、製造される画像表示装置の歩留まりを低下さ、また、コストアップの原因となる。
【０００９】
本発明は、この点に鑑みてなされたものであり、低電圧で安定的に駆動することが可能な画像表示装置を高い歩留まりで低コストに製造することが可能な画像表示装置の製造方法及び画像表示装置を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明は、基板上に複数のトランジスタ素子が形成されているアクティブマトリックス基板を製造する工程と、前記アクティブマトリックス基板に形成されている前記トランジスタ素子と各々接続されている上部電極の電極間領域に少なくとも一層の中間層を構成する材料を供給する工程と、前記アクティブマトリックス基板に前記中間層を介し画像表示素子を接合する工程と、を有し、前記中間層を構成する材料を供給する工程において、前記中間層を構成する材料は、各々の前記上部電極の表面の少なくとも一部領域が露出するように供給されるものであることを特徴とする画像表示装置の製造方法。
【００１１】
また、本発明は、前記上部電極は二次元的に等間隔に形成されており、前記中間層を構成する材料を供給する工程において、前記中間層を構成する材料は前記上部電極の電極間領域に格子状に供給されることを特徴とする。
【００１２】
また、本発明は、前記中間層を構成する材料を供給する工程において、前記上部電極の厚さよりも、前記上部電極間の電極間領域において供給される前記中間層を構成する材料の厚さが厚くなるように供給されることを特徴とする。
【００１３】
また、本発明は、前記中間層は、接着材料を含んでいることを特徴とする。
【００１４】
また、本発明は、前記中間層は、パッシベーション層としての機能を有するものであることを特徴とする。
【００１５】
また、本発明は、前記中間層を構成する材料を供給する工程において、前記中間層を構成する材料は、印刷法により供給されることを特徴とする。
【００１６】
また、本発明は、前記中間層を構成する材料を供給する工程において、前記中間層を構成する材料は印刷法により前記上部電極間の電極間領域に供給されるものであって、供給された前記中間層を構成する材料が広がることにより、前記上部電極の一部領域が露出した状態で、前記一部領域の周囲が前記中間層を構成する材料により覆われるものであることを特徴とする。
【００１７】
また、本発明は、前記アクティブマトリックス基板は、印刷法により形成されたものであることを特徴とする。
【００１８】
また、本発明は、前記画像表示素子は、真空成膜により形成されたものであることを特徴とする。
【００１９】
また、本発明は、基板上に複数のトランジスタ素子が形成されているアクティブマトリックス基板と、画像を表示するための画像表示素子と、を有し、前記アクティブマトリックス基板における前記トランジスタ素子と接続されている各々の上部電極の表面の少なくとも一部が露出するように中間層を構成する材料が供給された状態で、前記アクティブマトリックス基板と前記画像表示素子とを前記中間層を構成する材料を介して接合したものであることを特徴とする。
【００２０】
また、本発明は、前記上部電極は二次元的に等間隔に形成されており、前記中間層を構成する材料は前記上部電極の電極間領域に格子状に供給されていることを特徴とする。
【００２１】
また、本発明は、前記上部電極の厚さよりも、前記上部電極間の電極間領域において供給される前記中間層を構成する材料の厚さが厚くなるよう供給されていることを特徴とする。
【００２２】
また、本発明は、前記中間層を構成する材料は、印刷法により供給されるものであることを特徴とする。
【００２３】
また、本発明は、前記中間層を構成する材料は前記上部電極の電極間領域に供給されるものであって、供給された前記中間層を構成する材料が広がることにより、前記上部電極の一部領域が露出した状態で、前記一部領域の周囲が前記中間層を構成する材料により覆われるものであることを特徴とする。
【発明の効果】
【００２４】
本発明によれば、低電圧で安定的に駆動することが可能な画像表示装置を高い歩留まりで低コストに製造することが可能な製造方法及び画像表示装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
本発明を実施するための最良の形態について、以下に説明する。
【００２６】
最初に、図１に基づき本発明に至った経緯について説明する。アクティブマトリックス基板１１０と、画像表示素子１２０とを接合することにより画像表示素子を作製する場合、アクティブマトリックス基板１１０上に中間層を構成する材料１３０を供給し、この中間層を構成する材料１３０を介し、アクティブマトリックス基板１１０と画像表示素子１２０とを接合することにより作製する。中間層を構成する材料１３０は、接着剤としての機能を有し、加熱等により固体化する材料であり、固体化することにより中間層１３０ａが形成され、アクティブマトリックス基板１１０と画像表示素子１２０とが接合される。この際、図１（ａ）に示すように、上部電極１１２を含めたアクティブマトリックス基板１１０の表面全体を覆うように、中間層を構成する材料１３０を供給した場合、図１（ｂ）に示すように、接合することにより作製された画像表示装置は、中間層１３０ａが厚く形成されてしまい、上部電極１１２と画像表示素子１２０との間隔が長くなり、印加電圧が高くなってしまうのである。本発明は、このような点に鑑み、発明者が鋭意検討を行なった結果、見出したものである。
【００２７】
図２に基づき本発明の実施の形態に係る画像表示装置の製造方法について説明する。
【００２８】
最初に、ステップ１０２（Ｓ１０２）において、アクティブマトリックス基板を作製する。具体的には、図３（ａ）及び図４に示すように、基板上に二次元的に不図示のトランジスタ素子を形成し、層間絶縁膜を形成した後スルーホールを形成し、形成されたトランジスタ素子に接続された上部電極１２を形成する。このアクティブマトリックス基板１０は、印刷法により作製される。即ち、印刷法により、不図示のトランジスタ素子及び上部電極１２が作製される。尚、上部電極１２が形成されることにより、上部電極１２間に電極間領域１３が形成される。この電極間領域１３では、アクティブマトリックス基板１０において層間絶縁膜が表面に露出している領域である。
【００２９】
次に、ステップ１０４（Ｓ１０４）において、アクティブマトリックス基板１０上に、中間層となる材料１４を供給する。具体的には、図３（ｂ）及び図５に示すように、アクティブマトリックス基板１０の上部電極１２の形成される面において、電極間領域１３の全部又は一部及び上部電極１２の表面の一部が覆われるように、中間層を構成する材料１４を供給する。尚、中間層を構成する材料１４は、流動体またはペースト状のものであり、熱や光或いは乾燥等により硬化することにより、後述する中間層１４ａを形成するものである。このため、各々の上部電極１２の表面においては、中間層を構成する材料１４により覆われていない領域１２ａが存在するように供給する。よって、上部電極１２の表面は中間層を構成する材料１４により完全には覆われていない。また、中間層を構成する材料１４は、電極間領域１３において上部電極１２の厚さよりも厚くなるように供給されていることが好ましい。即ち、層間絶縁膜からの上部電極１２の高さをｔｄとし、電極間領域１３に供給された中間層を構成する材料の厚さをｔｃとした場合、ｔｃ＞ｔｄであることが好ましい。これにより、中間層を構成する材料１４が、後述する接合の際に、適度に回り込み、印加電圧を上昇させることなく接着性を高めることができるからである。
【００３０】
尚、図６に示すように、中間層を構成する材料１４は、後述のアクティブマトリックス基板１０と画像表示素子２０とが接合することができれば、電極間領域１３のすべてに供給されている必要はない。中間層を構成する材料１４は、電極間領域１３の一部に供給され、電極間領域１３に中間層を構成する材料１４が供給されていない領域１３ａが存在している状態であってもよい。この際、上部電極１２上は中間層を構成する材料１４により覆われることはない。
【００３１】
次に、ステップ１０６（Ｓ１０６）において、アクティブマトリックス基板１０と、画像表示素子２０とを中間層１４を介し接合する。具体的には、図３（ｃ）に示すように、アクティブマトリックス基板１０に供給されている中間層を構成する材料１４を介し、アクティブマトリックス基板１０と画像表示素子２０とを接合する。接合に際し、中間層を構成する材料１４は熱等により固体化することにより中間層１４ａが形成され、この中間層１４ａによりアクティブマトリックス基板１０と画像表示素子２０とが接合される。
【００３２】
尚、中間層を構成する材料１４は接合の際に、上部電極１２の表面の全面を覆い、中間層１４ａが上部電極１２の表面全体に形成される場合があるが、この部分の中間層１４ａの膜厚は極めて薄いため、駆動電圧が高電圧化されることはない。
【００３３】
（画像表示素子２０）
本実施の形態では、ステップ１０６を行なう前に、事前に画像表示素子２０を形成する。画像表示素子２０としては、光学的特性の異なる複数の状態により表示を行なうことが可能な素子であり、電界を印加することにより第１の状態から第２の状態に可逆的に変化する素子である。具体的には、電気泳動素子、ツイストボール型光学素子、エレクトロウェッティング光学素子、高分子分散型液晶素子、エレクトロルミネッセンス素子等が挙げられる。
【００３４】
電気泳動素子は、複数種の荷電粒子が懸濁液体とともに一対の電極間に封入されており、電界の印加によりこれら粒子が液体内を移動し、表示を行なう素子である。電気泳動素子には、懸濁液体と荷電粒子とを封入した小型カプセルを多数含有するカプセル型の電気泳動素子、及び、ポリマー薄膜のキャリア媒体に形成される複数の空洞に懸濁液体と荷電粒子とを保持したマイクロセル型電気泳動素子が含まれる。
【００３５】
ツイストボール型光学素子とは、光散乱性の小球の半球表面を絶縁性の黒色被膜で覆ったものを未硬化エラストマー中に分散し、シート化・熱硬化させたものである。このような構成により、クーロン力による両半球の表面電荷密度に比例して発生する回転モーメントにより電界に応答し表示を行なうものである。
【００３６】
エレクトロウェッティング光学素子とは、電界印加により薄膜表面の界面エネルギーを変化させ、着色液体を移動させることにより表示を行なうものである。
【００３７】
高分子分散型液晶とは、液晶小滴をポリマー中に分散させたものであり、電界の印加により液晶を駆動させることにより、液晶とポリマー界面の屈折率差による光の散乱及び透過を変化させることにより表示を行なうものである。
【００３８】
本実施の形態においては、上述した画像表示素子全般に対し効果を得ることができるものであり、低電圧で安定的に、高コントラストで表示品質に優れた画像表示装置を得ることができるものである。
【００３９】
（中間層１４ａ）
また、本実施の形態における中間層１４ａには接着材料が含まれている。アクティブマトリックス基板１０と画像表示素子２０とは、接着材料により接合されるが、本実施の形態においては、アクティブマトリックス基板１０に供給される中間層を構成する材料１４の量が調整されているため、接着材料の含まれる中間層１４ａの厚さを薄くすることが可能である。
【００４０】
中間層１４ａは、抵抗率が高すぎると駆動電圧が上昇し、消費電力を増加させてしまう。一方、抵抗率が低すぎると隣接する上部電極１２間においてリーク電流が発生し、駆動時に信号ノイズが発生したり、コントラストを低下させたり等の問題点を生じる。よって、これらの点に鑑み中間層１４ａの体積抵抗率は、１０９〜１０１０Ω・ｃｍであることが好ましい。
【００４１】
中間層１４ａにおける接着材料としては、導電性を有することなく、アクティブマトリックス基板１０と画像表示素子２０とを接合することができるものであれば、特に限定されるものではない。具体的には、二剤硬化型、熱硬化型、紫外線硬化型等の各種接着剤を用いることができ、必要に応じて複数の接着剤により中間層１４ａを構成することも可能である。
【００４２】
比較的抵抗率の高い接着剤を薄く形成し、その上に、比較的抵抗率の低い接着剤を形成し積層することにより、駆動電圧をあまり上昇させることなく、上部電極１２間のリーク電流の発生を防止することが可能となる。また、比較的抵抗率の高い接着剤を薄く形成し、その上に、硬化させた後の状態で可塑性に優れる接着剤を形成し積層することにより、上部電極１２間のリーク電流の発生を防止しつつ、フレキシブル性に富んだ画像表示装置を得ることが可能となる。
【００４３】
一方、中間層１４ａは、パッシベーション層としての機能を有するものであることが好ましい。本実施の形態では、画像表示素子２０との接合の際に、アクティブマトリックス基板１０の表面における上部電極１２及びその周辺は、中間層１４ａにより覆われるため、中間層１４ａがパッシベーション層としての機能を有するものであれば、アクティブマトリックス基板１０において、酸素や水等の侵入を防ぐことができ、これらによる悪影響を防止することが可能となる。具体的には、ポリビニルアルコール等の有機材料を含む中間層を形成する方法や、パッシベーション層としての機能を有する膜と接着性の高い膜との積層膜により中間層を形成する方法により、このような効果を得ることができる。
【００４４】
また、中間層１４ａの形成、即ち、中間層を構成する材料１４を供給する方法としては、印刷法により供給することが好ましい。本実施の形態における印刷法とは、事前従量制のコーティング方法全般を意味するものであり、ディスペンサーコーティング法、ダイコーティング法、スクリーン印刷法、グラビア印刷法、インクジェット法、スプレーコーティング法、ディップコーティング法等が挙げられる。特に、本実施の形態における中間層を構成する材料を供給する方法としては、広い粘度範囲でも使用可能であり、コーティング量とパターンの制御が容易なディスペンサー法や、スクリーン印刷法が好ましい。中間層１４ａを印刷法により形成することにより、材料の廃棄を減少させることができ、簡単な設備で画像表示装置を製造することができるため、製造するためコストの低減を図ることができる。
【００４５】
（アクティブマトリックス基板１０）
更に、中間層１４ａ以外のアクティブマトリックス基板を製造する際にも印刷法を適用することが可能である。具体的には、基板上に所定のパターンのゲート電極、ゲート絶縁膜、ソース及びドレイン電極、有機半導体層、層間絶縁膜及び上部電極を印刷法により形成することにより、簡単な設備により低コストで高い製造効率で画像表示装置を製造することができる。
【００４６】
また、電極間領域１３に中間層を構成する材料１４を供給する工程、アクティブマトリックス基板１０と画像表示素子２０とを接合する工程は、真空中において行なわれることが好ましい。これにより、不要な気泡の混入を防ぐことができ、作製される画像表示装置の歩留まりを高めることができるからである。
【実施例】
【００４７】
（実施例１）
ガラス基板上にトランジスタ素子が２次元的に形成されているアクティブマトリックス基板１０を作製した。図７に示すように、アクティブマトリックス基板１０の表面には、１８０μｍ×１８０μｍの正方形の上部電極１２が形成されており、上部電極１２間、即ち、電極間領域１３の幅は縦横ともに７４μｍであり、上部電極１２の最も厚い部分の厚さ（層間絶縁膜からの高さ）は、５±２μｍである。
【００４８】
一方、画像表示素子２０として、白黒の荷電粒子を含有するマイクロカプセルをシート状に形成した電気泳動素子を作製した。
【００４９】
アクティブマトリックス基板１０上において電極間領域１３の一部を覆うように、中間層を構成する材料１４としてエポキシ系接着剤をディスペンサー法により塗布した。塗布した後の中間層を構成する材料１４ａの層間絶縁膜からの高さは、７μｍとなるように吐出量が調整されている。尚、この状態においては、各々の上部電極１２の表面は、エポキシ系接着剤により一部覆われているが、上部電極１２の表面のすべては覆われていない状態である。中間層を構成する材料１４であるエポキシ系接着剤を塗布した後は、適度にレベリングするまで静置した後、画像表示素子２０である電気泳動素子を気泡が取り込まれないように接合させ、１５０℃で加熱することにより、中間層を構成する材料１４であるエポキシ系接着剤を硬化させ、中間層１４ａを形成し画像表示装置を作製した。
【００５０】
このように作製された画像表示装置では、各々のトランジスタ素子の走査線及び信号線に電圧を印加して駆動したところ、印加電圧に応じて正常に動作することを確認した。また、走査線及び信号線に印加する電圧を０〜±２０Ｖの範囲で連続的に変化させ可視光反射率の測定を行なったところ、飽和反射率に対して９０％の反射率となる電圧は、１５Ｖであった。
【００５１】
（比較例１）
実施例１と同じアクティブマトリックス基板と、画像表示素子である電気泳動素子を用いて、画像表示装置を作製した。アクティブマトリックス基板には、中間層を構成する材料であるエポキシ系接着剤をディスペンサー法により塗布した。塗布した後の中間層を構成する材料であるエポキシ系接着剤の厚さ（層間絶縁膜からの高さ）は、８μｍ以上有り、上部電極の表面は全て覆われた状態となっている。
【００５２】
この後、実施例１と同様の方法により作製された画像表示素子を評価したところ、飽和反射率に対して９０％となる電圧は、１８Ｖであった。
【００５３】
以上より、実施例１における画像表示装置は、比較例１における画像表示装置よりも低電圧駆動をすることができる画像表示装置であった。
【００５４】
（実施例２）
ガラス基板上にトランジスタ素子が２次元的に形成されているアクティブマトリックス基板１０を作製した。図７に示すように、アクティブマトリックス基板１０の表面には、１８０μｍ×１８０μｍの正方形の上部電極１２が形成されており、上部電極１２間、即ち、電極間領域１３の幅は縦横ともに７４μｍであり、上部電極１２の最も厚い部分の厚さ（層間絶縁膜からの高さ）は、５±２μｍである。尚、この上部電極１２は、カーボンを含むカーボンペーストにより形成されたものである。
【００５５】
一方、画像表示素子２０として、高分子のマトリクス構造の中に液晶分子を分散させた高分子分散型液晶を用いた。この高分子分散型液晶は、透明電極が形成された基板と剥離基板から構成される空セルに、液晶組成物、モノマー組成物及び重合開始剤の混合物からなる調光層前駆体を封入した。封入されたセル全体に、高圧水銀ランプにより紫外線を照射することによりモノマーを重合させることにより得られたノーマリーホワイトの高分子分散型液晶セルである。
【００５６】
アクティブマトリックス基板１０上において電極間領域１３の一部を覆うように、中間層を構成する材料の１つとしてポリフッ化ビニリデン樹脂をバインダー樹脂中の主成分として含有する印刷用フッ素樹脂を印刷法により印刷した。この後、１８０℃で乾燥させることにより、電極間領域１３の一部を覆う高抵抗層を形成した。この上に、中間層を構成する材料の他の１つとしてエポキシ系接着剤をディスペンサー法により塗布した。尚、この状態においては、各々の上部電極１２の表面の一部は、エポキシ系接着剤により覆われているが、上部電極１２の表面のすべては覆われていない。エポキシ系接着剤を塗布した後は、適度にレベリングするまで静置した後、画像表示素子２０である電気泳動素子を気泡が取り込まれないように接合させ、１５０℃で加熱することにより、エポキシ系接着剤を硬化させた。これにより、印刷用フッ素樹脂の層とエポキシ系接着剤の層の２層からなる中間層１４ａが形成された画像表示装置を作製した。
【００５７】
このように作製された画像表示装置では、各々のトランジスタ素子の走査線及び信号線に電圧を印加して駆動したところ、印加電圧に応じて正常に動作することを確認した。また、走査線及び信号線に印加する電圧を０〜±３０Ｖの範囲で連続的に変化させ可視光反射率の測定を行なったところ、電界を印加しない状態での反射率が２５％であるのに対し、上部電極１２のカーボンの黒色が見えて反射率が５％になる電圧は２４Ｖであった。
【００５８】
（比較例２）
実施例２と同じアクティブマトリックス基板と、画像表示素子である電気泳動素子を用いて、画像表示装置を作製した。アクティブマトリックス基板には、中間層を構成する材料である印刷用フッ素樹脂を印刷し乾燥させた後、エポキシ系接着剤をディスペンサー法により塗布した。塗布した後においては、上部電極の表面はすべてエポキシ系接着剤により覆われた状態となっている。
【００５９】
この後、実施例２と同様の方法により作製された画像表示素子を評価したところ、反射率が５％となるのに必要な電圧は２９Ｖであった。また、隣接する電極間にクロストークが発生しコントラストの低下も確認された。
【００６０】
以上より、実施例２における画像表示装置は、比較例２における画像表示装置よりも低電圧駆動をすることができるものであり、また、実施例２における画像表示装置は、比較例２における画像表示装置におけるクロストークの発生も確認されず、高い表示品位を有するものであった。
【００６１】
（実施例３）
ポリカーボネート基板上に、ナノ銀インクをインクジェット法により印刷し、乾燥させてゲート電極を形成した。次に、スピンコート法により、熱重合型ポリイミドを塗布し、１９０℃で熱処理することにより、ゲート絶縁膜を形成した。形成されたゲート絶縁膜は、比誘電率が３．６、膜厚が０．４μｍであった。この後、ソース電極及びドレイン電極が形成される領域にフォトマスクを介して、紫外線照射を行なうことにより、表面改善を実施し、ナノ銀インクをインクジェット法により印刷し、乾燥させてソース電極及びドレイン電極を形成した。
【００６２】
次に、インクジェット法により、化１の構造式で表される有機半導体材料をキシレンに溶解させることによりインク化したものを膜形成することによって、有機半導体を形成し、これにより有機トランジスタを形成した。
【００６３】
【化１】
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次に、樹脂を溶媒に溶かした無機フィラーを分散させた絶縁ペースト材料を有機トランジスタの形成されている面に、スクリーン印刷法により層間絶縁膜を形成した。尚、スクリーン印刷を行なう際には、各々のソース電極が上部電極と接続されるようなスルーホールが形成されるように、層間絶縁膜の印刷が行なわれる。
【００６４】
この後、スクリーン印刷法により、銀微粒子、アクリル樹脂及び溶媒からなる銀ペーストをスルーホールを介し、ソース電極と接続されるように位置合せをして、層間絶縁膜上に印刷し、乾燥させることにより、ソース電極と接続される上部電極を形成した。
【００６５】
これにより、トランジスタ素子が２次元状に配列されたアクティブマトリックス基板を作製した。尚、このアクティブマトリックス基板に形成された上部電極の厚み（層間絶縁膜からの高さ）は、最も厚い部分で６μｍであった。
【００６６】
一方、画像表示素子として電気泳動素子を作製した。具体的には、酸化チタン２０重量部、酸ポリマー１重量部、シリコーンポリマーグラフトカーボンブラックＭＸ３−ＧＲＸ−００１（日本触媒社製）２重量部及びシリコーンオイルＫＦ９６Ｌ−１ｃｓ（信越化学工業社製）７７重量部を混合した後、超音波により１時間分散させることにより白黒粒子分散液を調整した。
【００６７】
この後、ゼラチン−アラビアゴム  コンプレックスコアセルベーション法を用いて、白黒粒子分散液をマイクロカプセル化した。これにより作製されたマイクロカプセルの平均粒径は、約６０μｍであった。得られたマイクロカプセルをウレタン樹脂溶液に分散させた分散液をワイヤーブレード法により、透明電極の形成されたフィルム基板上に展開し、均一なマイクロカプセルシートを作製した。これにより得られたマイクロカプセルシートのＲｍａｘは約１５μｍであった。
【００６８】
次に、作製されたアクティブマトリックス基板上に、電極間領域の一部を覆うようにディスペンサー法により中間層を構成する材料となる接着剤の塗布を行なった。塗布された後の接着剤の厚さ、即ち、層間絶縁膜からの高さは、１０μｍとなるように吐出量を調整して塗布を行なった。接着剤が適度にレベリングするまで静置した後、画像表示素子である電気泳動素子を接合させ、接着剤を硬化させ中間層を形成することにより画像表示装置を得た。このようにして得られた画像表示装置のトランジスタを駆動させて画像パターンを表示させたところ、良好な表示特性が得られることを確認した。
【００６９】
（実施例４）
実施例３と同様の材料及び手順により、有機トランジスタが２次元的に形成されているアクティブマトリックス基板及び画像表示素子として電気泳動素子を用いた。
【００７０】
アクティブマトリックス基板上に、上部電極の電極間領域を覆うとともに上部電極の一部を覆うようにポリビニルアルコール樹脂を印刷により形成し、厚さ約３μｍのパッシベーション層を形成した。
【００７１】
次に、このパッシベーション層上に、上部電極の電極間領域に接着剤をディスペンサー法により塗布した。塗布された後の接着剤の厚みは、８μｍとなるように吐出量を調整した。接着剤が適度にレベリングするまで静置した後に電気泳動素子を接合することにより、画像表示装置を作製した。
【００７２】
このようにして得られた画像表示装置のトランジスタを駆動させて画像パターンを表示させたところ、良好な表示特性が得られることを確認した。
【００７３】
実施例３の画像表示装置と実施例４の画像表示装置について、同一条件下において連続駆動試験を行なったところ、２０００時間を経過したところで、実施例３の画像表示装置には、白表示時における反射率の低下が確認されたが、実施例４の画像表示装置については、このような反射率の低下は確認されず、安定的に動作が行なわれていた。
【００７４】
以上、本発明の実施に係る形態について説明したが、上記内容は、発明の内容を限定するものではない。
【図面の簡単な説明】
【００７５】
【図１】一般的な画像表示装置の製造方法の説明図
【図２】本実施の形態における画像表示装置の製造方法のフローチャート
【図３】本実施の形態における画像表示装置の製造方法の断面工程図
【図４】本実施の形態における画像表示装置のアクティブマトリックス基板の上面図
【図５】本実施の形態における画像表示装置の製造方法の上面説明図（１）
【図６】本実施の形態における画像表示装置の製造方法の上面説明図（２）
【図７】実施例における画像表示装置のアクティブマトリックス基板の上面図
【符号の説明】
【００７６】
１０    アクティブマトリックス基板
１２    上部電極
１２ａ  中間層を構成する材料１４により覆われていない領域
１３    電極間領域
１４    中間層を構成する材料
１４ａ  中間層
ｔｃ    中間層を構成する材料１４の高さ
ｔｄ    中間層１４ａの高さ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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