(57)【要約】【課題】残留電圧がより低い液晶表示素子用の液晶配向剤、それを用いて形成される液晶配向膜、及びそれを具備した液晶表示素子を提供する。【解決手段】テトラカルボン酸二無水物又はその誘導体とジアミン又はその誘導体との反応生成物の構成を有するポリアミック酸又はその誘導体と、２個以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物とを含有する液晶配向剤において、前記テトラカルボン酸二無水物又はその誘導体に、単結合又はシルセスキオキサン構造を有する二価の基によって二つの脂環型カルボン酸無水物が結合された構造を有するテトラカルボン酸二無水物を用いる。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
テトラカルボン酸二無水物又はその誘導体とジアミン又はその誘導体との反応生成物の構成を有するポリアミック酸又はその誘導体と、２個以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物とを含有する液晶配向剤であって、
前記テトラカルボン酸二無水物又はその誘導体は、下記式（Ｉ）で表される化合物を含むことを特徴とする液晶配向剤。
【化１】
2010102159.tif 000057
（式（Ｉ）中、−Ｘ1−は、単結合、又は下記式（ＩＩ）で表される２価の基を表す。式（ＩＩ）中、−Ｐｈはフェニル基を表す。）
【化２】
2010102159.tif 000058
【請求項２】
前記式（Ｉ）中、−Ｘ1−が単結合であることを特徴とする請求項１に記載の液晶配向剤。
【請求項３】
前記テトラカルボン酸二無水物又はその誘導体が下記式（１）及び（１４）の化合物の一方又は両方をさらに含むか、又は、前記ジアミン又はその誘導体が下記式（ＩＩＩ）〜（ＩＸ）からなる群から選ばれる一以上の化合物を含むか、又は、前記テトラカルボン酸二無水物又はその誘導体が下記式（１）及び（１４）の化合物の一方又は両方をさらに含み、かつ前記ジアミン又はその誘導体が下記式（ＩＩＩ）〜（ＩＸ）からなる群から選ばれる一以上の化合物を含むことを特徴とする請求項２に記載の液晶配向剤。
【化３】
2010102159.tif 000059
【化４】
2010102159.tif 000060
（式（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）中、ｍ及びｎはそれぞれ１から１２の整数を表し、
式（ＶＩ）〜（ＶＩＩＩ）中、−Ｙ1、−Ｙ2、及び−Ｙ3はそれぞれ−Ｈ又は炭素数１から３０のアルキルを表し、
式（ＩＸ）中、−Ｘ2−は独立して−ＣＨ2−又は−Ｏ−を表し、−Ｙ4は炭素数１から３０のアルキル、下記式（Ｘ）、又は下記式（ＸＩ）を表す。）
【化５】
2010102159.tif 000061
（式（Ｘ）及び（ＸＩ）中、−Ｙ5及び−Ｙ6はそれぞれ炭素数１から３０のアルキルを表す。）
【請求項４】
前記ジアミン又はその誘導体が、下記式（ＩＩＩ−１）、（ＩＩＩ−２）、（ＩＶ−１）、（Ｖ−１）、（ＶＩ−１）、（ＶＩＩ−１）、（ＶＩＩＩ−１）、（ＩＸ−１）、（Ｘ−１）、及び（ＸＩ−１）からなる群から選ばれる一以上の化合物であることを特徴とする請求項３に記載の液晶配向剤。
【化６】
2010102159.tif 000062
【請求項５】
前記ジアミン又はその誘導体が、前記式（ＩＩＩ−１）、（ＩＩＩ−２）、（ＩＶ−１）、及び（Ｖ−１）からなる群から選ばれる一以上の化合物であることを特徴とする請求項４に記載の液晶配向剤。
【請求項６】
前記テトラカルボン酸二無水物又はその誘導体が、前記式（１）及び（１４）の一方又は両方の化合物を含み、
前記ジアミン又はその誘導体が、前記式（ＩＩＩ−１）、（ＩＩＩ−２）、及び（ＩＶ−１）からなる群から選ばれる一以上の化合物であることを特徴とする請求項５に記載の液晶配向剤。
【請求項７】
前記ジアミン又はその誘導体が、前記式（ＩＸ−１）、（Ｘ−１）、及び（ＸＩ−１）からなる群から選ばれる一以上の化合物であることを特徴とする請求項４に記載の液晶配向剤。
【請求項８】
前記テトラカルボン酸二無水物又はその誘導体が、前記式（１）及び（１４）の一方又は両方の化合物を含み、
前記ジアミン又はその誘導体が、前記式（ＩＸ−１）、（Ｘ−１）、及び（ＸＩ−１）からなる群から選ばれる一以上の化合物であることを特徴とする請求項７に記載の液晶配向剤。
【請求項９】
前記ジアミン又はその誘導体が、前記式（ＩＩＩ−１）、（ＶＩ−１）、（ＶＩＩ−１）、及び（ＶＩＩＩ−１）からなる群から選ばれる一以上の化合物であり、かつ前記式（ＶＩ−１）又は（ＶＩＩ−１）を含むことを特徴とする請求項４に記載の液晶配向剤。
【請求項１０】
前記テトラカルボン酸二無水物又はその誘導体が、前記式（１４）の化合物を含み、
前記ジアミン又はその誘導体が、前記式（ＶＩＩ−１）の化合物であることを特徴とする請求項９に記載の液晶配向剤。
【請求項１１】
前記式（Ｉ）中、−Ｘ1−が前記式（ＩＩ）で表される２価の基であることを特徴とする請求項１に記載の液晶配向剤。
【請求項１２】
前記テトラカルボン酸二無水物又はその誘導体が下記式（１）及び（１４）の化合物の一方又は両方をさらに含むか、又は、前記ジアミン又はその誘導体が下記式（ＩＩＩ）〜（ＶＩＩＩ）からなる群から選ばれる一以上の化合物を含むか、又は、前記テトラカルボン酸二無水物又はその誘導体が下記式（１）及び（１４）の化合物の一方又は両方をさらに含み、かつ前記ジアミン又はその誘導体が下記式（ＩＩＩ）〜（ＶＩＩＩ）からなる群から選ばれる一以上の化合物を含むことを特徴とする請求項１１に記載の液晶配向剤。
【化７】
2010102159.tif 000063
【化８】
2010102159.tif 000064
（式（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）中、ｍ及びｎはそれぞれ１から１２の整数を表し、
式（ＶＩ）〜（ＶＩＩＩ）中、−Ｙ1、−Ｙ2、及び−Ｙ3はそれぞれ−Ｈ又は炭素数１から３０のアルキルを表す。）
【請求項１３】
前記ジアミン又はその誘導体が、下記式（ＩＩＩ−１）、（ＩＩＩ−２）、（ＩＶ−１）、（Ｖ−１）、（ＶＩ−１）、（ＶＩＩ−１）、及び（ＶＩＩＩ−１）からなる群から選ばれる一以上の化合物であることを特徴とする請求項１２に記載の液晶配向剤。
【化９】
2010102159.tif 000065
【請求項１４】
前記ジアミン又はその誘導体が、前記式（ＩＩＩ−１）、（ＩＩＩ−２）、（ＩＶ−１）、及び（Ｖ−１）からなる群から選ばれる一以上の化合物であることを特徴とする請求項１３に記載の液晶配向剤。
【請求項１５】
前記テトラカルボン酸二無水物又はその誘導体が、前記式（１）及び（１４）の一方又は両方の化合物を含み、
前記ジアミン又はその誘導体が、前記式（ＩＩＩ−１）、（ＩＩＩ−２）、（ＩＶ−１）、及び（Ｖ−１）からなる群から選ばれる一以上の化合物であることを特徴とする請求項１４に記載の液晶配向剤。
【請求項１６】
前記ジアミン又はその誘導体が、前記式（ＩＩＩ−１）、（ＶＩ−１）、（ＶＩＩ−１）、及び（ＶＩＩＩ−１）からなる群から選ばれる一以上の化合物であることを特徴とする請求項１３に記載の液晶配向剤。
【請求項１７】
前記テトラカルボン酸二無水物又はその誘導体が前記式（１４）の化合物を含み、
前記ジアミン又はその誘導体が前記式（ＶＩＩ−１）の化合物であることを特徴とする請求項１６に記載の液晶配向剤。
【請求項１８】
前記テトラカルボン酸二無水物に、前記式（Ｉ）中、−Ｘ1−が単結合である化合物と、前記式（Ｉ）中、−Ｘ1−が前記式（ＩＩ）で表される２価の基である化合物とが用いられることを特徴とする請求項１に記載の液晶配向剤。
【請求項１９】
前記テトラカルボン酸二無水物又はその誘導体が下記式（１）及び（１４）の化合物の一方又は両方をさらに含むか、又は、前記ジアミン又はその誘導体が下記式（ＩＩＩ）〜（ＶＩＩＩ）からなる群から選ばれる一以上の化合物を含むか、又は、前記テトラカルボン酸二無水物又はその誘導体が下記式（１）及び（１４）の化合物の一方又は両方をさらに含み、かつ前記ジアミン又はその誘導体が下記式（ＩＩＩ）〜（ＶＩＩＩ）からなる群から選ばれる一以上の化合物を含むことを特徴とする請求項１８に記載の液晶配向剤。
【化１０】
2010102159.tif 000066
【化１１】
2010102159.tif 000067
（式（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）中、ｍ及びｎはそれぞれ１から１２の整数を表し、
式（ＶＩ）〜（ＶＩＩＩ）中、−Ｙ1、−Ｙ2、及び−Ｙ3はそれぞれ−Ｈ又は炭素数１から３０のアルキルを表す。）
【請求項２０】
前記ジアミン又はその誘導体が、下記式（ＩＩＩ−１）、（ＩＩＩ−２）、（ＩＶ−１）、（Ｖ−１）、（ＶＩ−１）、（ＶＩＩ−１）、及び（ＶＩＩＩ−１）からなる群から選ばれる一以上の化合物であることを特徴とする請求項１９に記載の液晶配向剤。
【化１２】
2010102159.tif 000068
【請求項２１】
前記ジアミン又はその誘導体が、前記式（ＩＩＩ−１）、（ＩＩＩ−２）、（ＩＶ−１）、及び（Ｖ−１）からなる群から選ばれる一以上の化合物であることを特徴とする請求項２０に記載の液晶配向剤。
【請求項２２】
前記テトラカルボン酸二無水物又はその誘導体が、前記式（１）及び（１４）の一方又は両方の化合物を含み、
前記ジアミン又はその誘導体が、前記式（ＩＩＩ−１）、（ＩＩＩ−２）、（ＩＶ−１）、及び（Ｖ−１）からなる群から選ばれる一以上の化合物であることを特徴とする請求項２１に記載の液晶配向剤。
【請求項２３】
前記ジアミン又はその誘導体が、前記式（ＩＩＩ−１）、（ＶＩ−１）、（ＶＩＩ−１）、及び（ＶＩＩＩ−１）からなる群から選ばれる一以上の化合物であることを特徴とする請求項２０に記載の液晶配向剤。
【請求項２４】
前記テトラカルボン酸二無水物又はその誘導体が前記式（１４）の化合物を含み、
前記ジアミン又はその誘導体が前記式（ＶＩＩ−１）の化合物であることを特徴とする請求項２３に記載の液晶配向剤。
【請求項２５】
前記エポキシ化合物が、グリシジルエーテル、グリシジルエステル、グリシジルアミン、エポキシ基含有アクリル系樹脂、グリシジルアミド、グリシジルイソシアヌレート、鎖状脂肪族型エポキシ化合物、及び環状脂肪族型エポキシ化合物からなる群から選ばれる一以上であることを特徴とする請求項１〜２４のいずれか一項に記載の液晶配向剤。
【請求項２６】
前記エポキシ化合物が、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラグリシジル−４，４’−ジアミノジフェニルメタン、３，４−エポキシシクロヘキセニルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキセンカルボキシレート、ビスフェノールＡノボラック型エポキシ化合物、クレゾールノボラック型エポキシ化合物、ビスフェノールＡ型エポキシ化合物、及びＮ，Ｎ，Ｏ−トリグリシジル−ｐ−アミノフェノールからなる群から選ばれる一以上であることを特徴とする請求項２５に記載の液晶配向剤。
【請求項２７】
請求項１〜２６のいずれか一項に記載の液晶配向剤の膜を焼成して形成される液晶配向膜。
【請求項２８】
対向配置されている一対の基板と、前記一対の基板それぞれの対向している面の一方又は両方に形成されている電極と、前記一対の基板それぞれの対向している面に形成されている液晶配向膜と、前記一対の基板間に形成されている液晶層とを有する液晶表示素子において、前記液晶配向膜は請求項２７に記載の液晶配向膜であることを特徴とする液晶表示素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、特定のテトラカルボン酸二無水物とジアミンとの反応生成物の構造を有するポリアミック酸又はその誘導体とエポキシ化合物とを含有する液晶配向剤、該液晶配向剤から形成される液晶配向膜、及びそれを具備した液晶表示素子に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示素子は、ノートパソコンやデスクトップパソコンのモニターをはじめ、ビデオカメラのビューファインダー、投写型のディスプレイ等の様々な液晶表示装置に使われており、最近ではテレビとしても用いられるようになってきた。さらに液晶表示素子は、光プリンターヘッド、光フーリエ変換素子、ライトバルブ等のオプトエレクトロニクス関連素子としても利用されている。
【０００３】
液晶表示素子は、通常は、１）対向配置されている一対の基板、２）前記一対の基板それぞれの対向している面の一方又は両方に形成されている電極、３）前記一対の基板それぞれの対向している面に形成された液晶配向膜、及び４）前記一対の基板間に形成された液晶層、を有する。
【０００４】
従来の液晶表示素子としては、ネマチック液晶を用いた表示素子が主流であり、１）９０度ツイストしたＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）型液晶表示素子、２）通常１８０度以上ツイストしたＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ  Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）型液晶表示素子、３）薄膜トランジスタを使用したいわゆるＴＦＴ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）型液晶表示素子が実用化されている。これらの液晶表示素子は、画像が適正に視認できる視野角が狭く、斜め方向から見たときに、輝度やコントラストの低下及び中間調での輝度反転を生じるという欠点を有している。
【０００５】
近年、この視野角の問題については、１）光学補償フィルムを用いたＴＮ−ＴＦＴ型液晶表示素子、２）垂直配向と光学補償フィルムを用いたＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）型液晶表示素子、３）垂直配向と突起構造物の技術を併用したＭＶＡ（Ｍｕｌｔｉ  Ｄｏｍａｉｎ  Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）型液晶表示素子、又は４）横電界方式のＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）型液晶表示素子、５）ＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ  Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）型液晶表示素子、６）光学補償ベンド（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ  Ｂｅｎｄ又はＯｐｔｉｃａｌｌｙ  ｓｅｌｆ−Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ  Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ：ＯＣＢ）型液晶表示素子等の技術により改良されており、改良された技術が実用化、又は検討されている。
【０００６】
液晶表示素子の技術の発展は、単にこれらの駆動方式や素子構造の改良のみならず、液晶表示素子に使用される構成部材の改良によっても達成されている。液晶表示素子に使用される構成部材のなかでも、特に液晶配向膜は、液晶表示素子の表示品位に係わる重要な要素の一つであり、液晶表示素子の高品質化に伴って液晶配向膜の役割が年々重要になってきている。
【０００７】
液晶配向膜は、液晶配向剤より調製される。現在、主として用いられている液晶配向剤とは、ポリアミック酸又は可溶性のポリイミドを有機溶媒に溶解させた溶液である。このような溶液を基板に塗布した後、加熱等の手段により成膜してポリイミド系配向膜を形成する。ポリアミック酸以外の種々の液晶配向剤も検討されているが、耐熱性、耐薬品性（耐液晶性）、塗布性、液晶配向性、電気特性、光学特性、表示特性等の点から、ほとんど
実用化されていない。
【０００８】
液晶表示素子の表示品位を向上させるために液晶配向膜に要求される重要な特性として、残留電圧が挙げられる。残留電圧が高いと残像を生じることがある。
【０００９】
前記した問題を解決する試みとして、例えばテトラカルボン酸二無水物又はその誘導体とジアミン又はその誘導体との反応生成物の構成を有するポリアミック酸又はその誘導体と、2個以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物とを含有する液晶配向剤が知られている（例えば、特許文献1及び２参照。)。
【００１０】
しかしながら、液晶表示素子における表示品位のさらなる向上が求められており、またさらなる高性能の液晶表示素子を提供することができる液晶配向剤の開発が依然として求められている。
【特許文献１】特開平１１−１１９２２６号公報
【特許文献２】特開２００７−２８６５９７号広報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明は、上記の状況に基づき、残留電圧がより低い液晶表示素子用の液晶配向剤、それを用いて形成される液晶配向膜、及びそれを具備した液晶表示素子を提供する。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明者らは、特定の構造を有するテトラカルボン酸二無水物とジアミンとの反応生成物であるポリアミック酸と、エポキシ基を二以上有するエポキシ化合物とを含有する組成物が、残留電圧の低い液晶表示素子の製造に用いられる液晶配向剤として有効であることを見出し、本発明を完成させた。本発明は以下の構成からなる。
【００１３】
［１］  テトラカルボン酸二無水物又はその誘導体とジアミン又はその誘導体との反応生成物の構成を有するポリアミック酸又はその誘導体と、２個以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物とを含有する液晶配向剤であって、
前記テトラカルボン酸二無水物又はその誘導体は、下記式（Ｉ）で表される化合物を含むことを特徴とする液晶配向剤。
【００１４】
【化１】
2010102159.tif 000002
【００１５】
式（Ｉ）中、−Ｘ1−は、単結合、又は下記式（ＩＩ）で表される２価の基を表す。式（ＩＩ）中、−Ｐｈはフェニル基を表す。
【００１６】
【化２】
2010102159.tif 000003
【００１７】
［２］  前記式（Ｉ）中、−Ｘ1−が単結合であることを特徴とする請求項［１］に記載の液晶配向剤。
【００１８】
［３］  前記テトラカルボン酸二無水物又はその誘導体が下記式（１）及び（１４）の化合物の一方又は両方をさらに含むか、又は、前記ジアミン又はその誘導体が下記式（ＩＩＩ）〜（ＩＸ）からなる群から選ばれる一以上の化合物を含むか、又は、前記テトラカルボン酸二無水物又はその誘導体が下記式（１）及び（１４）の化合物の一方又は両方をさらに含み、かつ前記ジアミン又はその誘導体が下記式（ＩＩＩ）〜（ＩＸ）からなる群から選ばれる一以上の化合物を含むことを特徴とする［２］に記載の液晶配向剤。
【００１９】
【化３】
2010102159.tif 000004
【００２０】
【化４】
2010102159.tif 000005
【００２１】
式（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）中、ｍ及びｎはそれぞれ１から１２の整数を表し、
式（ＶＩ）〜（ＶＩＩＩ）中、−Ｙ1、−Ｙ2、及び−Ｙ3はそれぞれ−Ｈ又は炭素数１から３０のアルキルを表し、
式（ＩＸ）中、−Ｘ2−は独立して−ＣＨ2−又は−Ｏ−を表し、−Ｙ4は炭素数１から３０のアルキル、下記式（Ｘ）、又は下記式（ＸＩ）を表す。
【００２２】
【化５】
2010102159.tif 000006
【００２３】
式（Ｘ）及び（ＸＩ）中、−Ｙ5及び−Ｙ6はそれぞれ炭素数１から３０のアルキルを表す。
【００２４】
［４］  前記ジアミン又はその誘導体が、下記式（ＩＩＩ−１）、（ＩＩＩ−２）、（ＩＶ−１）、（Ｖ−１）、（ＶＩ−１）、（ＶＩＩ−１）、（ＶＩＩＩ−１）、（ＩＸ−１）、（Ｘ−１）、及び（ＸＩ−１）からなる群から選ばれる一以上の化合物であることを特徴とする［３］に記載の液晶配向剤。
【００２５】
【化６】
2010102159.tif 000007
【００２６】
［５］  前記ジアミン又はその誘導体が、前記式（ＩＩＩ−１）、（ＩＩＩ−２）、（ＩＶ−１）、及び（Ｖ−１）からなる群から選ばれる一以上の化合物であることを特徴とする［４］に記載の液晶配向剤。
【００２７】
［６］  前記テトラカルボン酸二無水物又はその誘導体が、前記式（１）及び（１４）の一方又は両方の化合物を含み、
前記ジアミン又はその誘導体が、前記式（ＩＩＩ−１）、（ＩＩＩ−２）、及び（ＩＶ−１）からなる群から選ばれる一以上の化合物であることを特徴とする［５］に記載の液晶配向剤。
【００２８】
［７］  前記ジアミン又はその誘導体が、前記式（ＩＸ−１）、（Ｘ−１）、及び（ＸＩ−１）からなる群から選ばれる一以上の化合物であることを特徴とする［４］に記載の液晶配向剤。
【００２９】
［８］  前記テトラカルボン酸二無水物又はその誘導体が、前記式（１）及び（１４）の一方又は両方の化合物を含み、
前記ジアミン又はその誘導体が、前記式（ＩＸ−１）、（Ｘ−１）、及び（ＸＩ−１）からなる群から選ばれる一以上の化合物であることを特徴とする［７］に記載の液晶配向剤。
【００３０】
［９］  前記ジアミン又はその誘導体が、前記式（ＩＩＩ−１）、（ＶＩ−１）、（ＶＩＩ−１）、及び（ＶＩＩＩ−１）からなる群から選ばれる一以上の化合物であり、かつ前記式（ＶＩ−１）又は（ＶＩＩ−１）を含むことを特徴とする［４］に記載の液晶配向剤。
【００３１】
［１０］  前記テトラカルボン酸二無水物又はその誘導体が、前記式（１４）の化合物を含み、
前記ジアミン又はその誘導体が、前記式（ＶＩＩ−１）の化合物であることを特徴とする［９］に記載の液晶配向剤。
【００３２】
［１１］  前記式（Ｉ）中、−Ｘ1−が前記式（ＩＩ）で表される２価の基であることを特徴とする［１］に記載の液晶配向剤。
【００３３】
［１２］  前記テトラカルボン酸二無水物又はその誘導体が前記式（１）及び（１４）の化合物の一方又は両方をさらに含むか、又は、前記ジアミン又はその誘導体が前記式（ＩＩＩ）〜（ＶＩＩＩ）からなる群から選ばれる一以上の化合物を含むか、又は、前記テトラカルボン酸二無水物又はその誘導体が前記式（１）及び（１４）の化合物の一方又は両方をさらに含み、かつ前記ジアミン又はその誘導体が前記式（ＩＩＩ）〜（ＶＩＩＩ）からなる群から選ばれる一以上の化合物を含むことを特徴とする［１１］に記載の液晶配向剤（ただし、前記式（ＶＩ）〜（ＶＩＩＩ）中、−Ｙ1、−Ｙ2、及び−Ｙ3はそれぞれ−Ｈ又は炭素数１から３０のアルキルを表す。）
【００３４】
［１３］  前記ジアミン又はその誘導体が、前記式（ＩＩＩ−１）、（ＩＩＩ−２）、（ＩＶ−１）、（Ｖ−１）、（ＶＩ−１）、（ＶＩＩ−１）、及び（ＶＩＩＩ−１）からなる群から選ばれる一以上の化合物であることを特徴とする［１２］に記載の液晶配向剤。
【００３５】
［１４］  前記ジアミン又はその誘導体が、前記式（ＩＩＩ−１）、（ＩＩＩ−２）、（ＩＶ−１）、及び（Ｖ−１）からなる群から選ばれる一以上の化合物であることを特徴とする［１３］に記載の液晶配向剤。
【００３６】
［１５］  前記テトラカルボン酸二無水物又はその誘導体が、前記式（１）及び（１４）の一方又は両方の化合物を含み、
前記ジアミン又はその誘導体が、前記式（ＩＩＩ−１）、（ＩＩＩ−２）、（ＩＶ−１）、及び（Ｖ−１）からなる群から選ばれる一以上の化合物であることを特徴とする［１４
］に記載の液晶配向剤。
【００３７】
［１６］  前記ジアミン又はその誘導体が、前記式（ＩＩＩ−１）、（ＶＩ−１）、（ＶＩＩ−１）、及び（ＶＩＩＩ−１）からなる群から選ばれる一以上の化合物であることを特徴とする［１３］に記載の液晶配向剤。
【００３８】
［１７］  前記テトラカルボン酸二無水物又はその誘導体が前記式（１４）の化合物を含み、
前記ジアミン又はその誘導体が前記式（ＶＩＩ−１）の化合物であることを特徴とする［１６］に記載の液晶配向剤。
【００３９】
［１８］  前記テトラカルボン酸二無水物に、前記式（Ｉ）中、−Ｘ1−が単結合である化合物と、前記式（Ｉ）中、−Ｘ1−が前記式（ＩＩ）で表される２価の基である化合物とが用いられることを特徴とする［１］に記載の液晶配向剤。
【００４０】
［１９］  前記テトラカルボン酸二無水物又はその誘導体が前記式（１）及び（１４）の化合物の一方又は両方をさらに含むか、又は、前記ジアミン又はその誘導体が前記式（ＩＩＩ）〜（ＶＩＩＩ）からなる群から選ばれる一以上の化合物を含むか、又は、前記テトラカルボン酸二無水物又はその誘導体が前記式（１）及び（１４）の化合物の一方又は両方をさらに含み、かつ前記ジアミン又はその誘導体が前記式（ＩＩＩ）〜（ＶＩＩＩ）からなる群から選ばれる一以上の化合物を含むことを特徴とする［１８］に記載の液晶配向剤（ただし、前記式（ＶＩ）〜（ＶＩＩＩ）中、−Ｙ1、−Ｙ2、及び−Ｙ3はそれぞれ−Ｈ又は炭素数１から３０のアルキルを表す。）
【００４１】
［２０］  前記ジアミン又はその誘導体が、前記式（ＩＩＩ−１）、（ＩＩＩ−２）、（ＩＶ−１）、（Ｖ−１）、（ＶＩ−１）、（ＶＩＩ−１）、及び（ＶＩＩＩ−１）からなる群から選ばれる一以上の化合物であることを特徴とする［１９］に記載の液晶配向剤。
【００４２】
［２１］  前記ジアミン又はその誘導体が、前記式（ＩＩＩ−１）、（ＩＩＩ−２）、（ＩＶ−１）、及び（Ｖ−１）からなる群から選ばれる一以上の化合物であることを特徴とする［２０］に記載の液晶配向剤。
【００４３】
［２２］  前記テトラカルボン酸二無水物又はその誘導体が、前記式（１）及び（１４）の一方又は両方の化合物を含み、
前記ジアミン又はその誘導体が、前記式（ＩＩＩ−１）、（ＩＩＩ−２）、（ＩＶ−１）、及び（Ｖ−１）からなる群から選ばれる一以上の化合物であることを特徴とする［２１］に記載の液晶配向剤。
【００４４】
［２３］  前記ジアミン又はその誘導体が、前記式（ＩＩＩ−１）、（ＶＩ−１）、（ＶＩＩ−１）、及び（ＶＩＩＩ−１）からなる群から選ばれる一以上の化合物であることを特徴とする［２０］に記載の液晶配向剤。
【００４５】
［２４］  前記テトラカルボン酸二無水物又はその誘導体が前記式（１４）の化合物を含み、
前記ジアミン又はその誘導体が前記式（ＶＩＩ−１）の化合物であることを特徴とする［２３］に記載の液晶配向剤。
【００４６】
［２５］  前記エポキシ化合物が、グリシジルエーテル、グリシジルエステル、グリシジルアミン、エポキシ基含有アクリル系樹脂、グリシジルアミド、グリシジルイソシアヌレート、鎖状脂肪族型エポキシ化合物、及び環状脂肪族型エポキシ化合物からなる群から選
ばれる一以上であることを特徴とする［１］〜［２４］のいずれか一項に記載の液晶配向剤。
【００４７】
［２６］  前記エポキシ化合物が、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラグリシジル−４，４’−ジアミノジフェニルメタン、３，４−エポキシシクロヘキセニルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキセンカルボキシレート、ビスフェノールＡノボラック型エポキシ化合物、クレゾールノボラック型エポキシ化合物、ビスフェノールＡ型エポキシ化合物、及びＮ，Ｎ，Ｏ−トリグリシジル−ｐ−アミノフェノールからなる群から選ばれる一以上であることを特徴とする［２５］に記載の液晶配向剤。
【００４８】
［２７］  ［１］〜［２６］のいずれか一項に記載の液晶配向剤の膜を焼成して形成される液晶配向膜。
【００４９】
［２８］  対向配置されている一対の基板と、前記一対の基板それぞれの対向している面の一方又は両方に形成されている電極と、前記一対の基板それぞれの対向している面に形成されている液晶配向膜と、前記一対の基板間に形成されている液晶層とを有する液晶表示素子において、前記液晶配向膜は［２７］に記載の液晶配向膜であることを特徴とする液晶表示素子。
【発明の効果】
【００５０】
本発明は、種々の駆動方式において残留電圧がより低い液晶表示素子を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００５１】
本発明の液晶配向剤は、下記式（Ｉ）で表される化合物を含むテトラカルボン酸二無水物又はその誘導体とジアミン又はその誘導体との反応生成物の構成を有するポリアミック酸又はその誘導体と、２個以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物とを含有する。
【００５２】
【化７】
2010102159.tif 000008
【００５３】
式（Ｉ）中、−Ｘ1−は、単結合、又は下記式（ＩＩ）で表される２価の基を表す。式（ＩＩ）中、−Ｐｈはフェニル基を表す。
【００５４】
【化８】
2010102159.tif 000009
【００５５】
前記ポリアミック酸又はその誘導体は、一種でも二種以上でもよい。本発明の液晶配向剤における前記ポリアミック酸又はその誘導体の含有量は、液晶表示素子における残留電圧を低減させる観点から、０．１〜５０重量％であることが好ましく、１〜３０であることがより好ましい。
【００５６】
前記エポキシ化合物は、一種でも二種以上でもよい。本発明の液晶配向剤における前記エポキシ化合物の含有量は、液晶表示素子における残留電圧を低減させる観点から、ポリアミック酸又はその誘導体１００重量部に対して０．１〜１００重量部であることが好ましく、１〜８０重量部であることがより好ましい。
【００５７】
前記ポリアミック酸又はその誘導体は、液晶配向剤としたときに溶剤に溶解する成分であり、液晶配向膜としたときに、ポリイミドを主成分とする液晶配向膜を形成する成分である。また、前記ポリアミック酸又はその誘導体は、式（Ｉ）で表される化合物を含むテトラカルボン酸二無水物又はその誘導体とジアミン又はその誘導体との反応生成物の構成を有する。
【００５８】
前記ポリアミック酸又はその誘導体を前記テトラカルボン酸二無水物又はその誘導体と前記ジアミン又はその誘導体との反応生成物としたときに、前記ポリアミック酸又はその誘導体の全構成単位における前記テトラカルボン酸二無水物又はその誘導体と前記ジアミン又はその誘導体とは、モル比で０．８：１．２〜１．２：０．８であることが好ましく、０．９：１．１〜１．１：０．９であることがより好ましい。
【００５９】
前記テトラカルボン酸二無水物又はその誘導体の一部は、ジカルボン酸に置き換えられていてもよい。前記テトラカルボン酸二無水物又はその誘導体に対するジカルボン酸の比率は、１０モル％以下であることが好ましい。
【００６０】
また、前記テトラカルボン酸二無水物又はその誘導体の一部は、カルボン酸無水物に置き換えられていてもよい。テトラカルボン酸二無水物又はその誘導体の一部をカルボン酸無水物に置き換えることにより、ポリアミック酸又はその誘導体を生成するための重合反応において、重合反応のターミネーションを起こすことができ、それ以上の反応の進行を抑えることができることから、得られる重合体（ポリアミック酸又はその誘導体）の分子量を容易に制御することができる。テトラカルボン酸二無水物又はその誘導体に対するカルボン酸無水物の比率は、本発明の効果が得られる範囲であればよいが、目安として１０モル％以下であることが好ましい。
【００６１】
また、前記ジアミン又はその誘導体の一部は、モノアミンに置き換えられていてもよい
。ジアミンの一部をモノアミンに置き換えることにより、ポリアミック酸又はその誘導体を生成するための重合反応において、重合反応のターミネーションを起こすことができ、それ以上の反応の進行を抑えることができることから、得られる重合体（ポリアミック酸又はその誘導体）の分子量を容易に制御することができる。ジアミン又はその誘導体に対するモノアミンの比率は、本発明の効果が得られる範囲であればよいが、目安として１０モル％以下にすることが好ましい。
【００６２】
前記ポリアミック酸又はその誘導体は、例えばテトラカルボン酸二無水物とジアミンとを反応させることによって生成することができるが、前記の反応生成物と同じ構造が得られる他の原料、例えばテトラカルボン酸誘導体とジアミン誘導体と、による反応によって生成することもできる。
【００６３】
前記テトラカルボン酸誘導体としては、例えば下記式（１００００）で示される、テトラカルボン酸二無水物をエステル化して得られるジカルボン酸ジエステル化合物が挙げられる。下記式（１００００）中、Ｙ100は炭素数１〜４のアルキルを表す。
【００６４】
【化９】
2010102159.tif 000010
【００６５】
テトラカルボン酸二無水物をエステル化する１価のアルコール及び１価のアルコール誘導体としては、例えばメタノール、エタノール、プロパノール、及びブタノールが挙げられる。テトラカルボン酸二無水物をエステル化してジカルボン酸ジエステル化合物を得る方法としては、例えば特開昭６１−７２０２２号公報に記載された方法及びそれに準ずる方法が挙げられる。
【００６６】
ジカルボン酸ジエステル化合物とジアミンからポリイミド誘導体を得る方法としては、例えば、縮合剤としてカルボジイミドを用いる方法（特開昭６１−７２０２２号公報）、炭酸ジエステルを用いる方法（特開昭６２−７２７２４号公報）、リン系化合物を用いる方法（特開２００２−３５６５５４号公報）、及びフェノール系溶剤中で加熱する方法（特開昭５３−１２４５９６号公報）が挙げられる。
【００６７】
前記ジアミン誘導体としては、ジアミンをシリル化して得られるシリル化ジアミン化合物が挙げられる。
【００６８】
ジアミンのシリル化に用いられるシリル化剤としては、例えば、トリメチルクロロシラン、トリメチルブロモシラン、トリメチルヨードシラン、トリエチルクロロシラン、トリエチルブロモシラン、トリプロピルクロロシラン、トリブチルクロロシラン、トリヘキシルクロロシラン、ジメチルプロピルクロロシラン、ジメチルプロピルクロロシラン、ジメチルオクチルクロロシラン、ジメチルオクタデシルクロロシラン、ｔ−ブチルジメチルクロ
ロシランなどのトリアルキルハロゲン化シラン；ジメチルビニルクロロシランなどのビニル基含有ハロゲン化シラン；ジメチルフェニルクロロシラン、ジフェニルメチルクロロシラン、ジメチルフェニルクロロシラン、ジフェニルメチルクロロシラン、メチルフェニルビニルクロロシランなどのフェニル基含有ハロゲン化シラン；クロロメチルジメチルクロロシラン、３−クロロプロピルジメチルクロロシラン、ジクロロメチルジメチルクロロシランなどのハロゲン化アルキル基含有ハロゲン化シラン；トリメトキシクロロシラン、トリエトキシクロロシラン、ジメトキシメチルクロロシランなどのアルコキシ基含有ハロゲン化シラン；ジメチルジクロロシラン、ジエチルジクロロシラン、ジプロピルジクロロシラン、ジブチルジクロロシラン、ジヘキシルジクロロシランなどのアルキル基含有ジハロゲン化シラン；ヘキサメチルジシラン、ヘキサエチルジシラン、ヘキサフェニルジシランなどのジシラン；ビス（トリメチルシリル）アセトアミド、ビス（トリエチルシリル）アセトアミド、ビス（トリフェニルシリル）アセトアミドなどのシリル化アセトアミド；ヘキサメチルジシラザン等のジシラザン；が挙げられる。
【００６９】
ジアミンをシリル化してシリル化ジアミン化合物を得る方法としては、例えば特開平１−２１７４２０号公報に記載された方法が挙げられる。
【００７０】
このようなポリアミック酸の誘導体としては、例えば可溶性ポリイミド、ポリアミック酸エステル、及びポリアミック酸アミド等が挙げられる。より具体的には、ポリアミック酸の誘導体としては、例えば１）ポリアミック酸の全てのアミノとカルボキシルとが脱水閉環反応したポリイミド、２）部分的に脱水閉環反応した部分ポリイミド、３）ポリアミック酸のカルボキシルがエステルに変換されたポリアミック酸エステル、４）テトラカルボン酸二無水物化合物に含まれる酸二無水物の一部を有機ジカルボン酸に置き換えて反応させて得られたポリアミック酸−ポリアミド共重合体、及び５）該ポリアミック酸−ポリアミド共重合体の一部又は全部を脱水閉環反応させたポリアミドイミドが挙げられる。
【００７１】
前記ポリアミック酸又はその誘導体は、任意の重量平均分子量を有していてよい。前記ポリアミック酸又はその誘導体の重量平均分子量は特に限定されないが、液晶配向剤の成分として用いる観点から５×１０3以上であることが好ましく、１×１０4以上であることがより好ましい。５×１０3以上の重量平均分子量を有するポリアミック酸又はその誘導体は、液晶配向膜を焼成するステップにおいて蒸発することがなく、液晶配向剤の成分として好ましい物性を有する。
【００７２】
前記ポリアミック酸又はその誘導体の重量平均分子量はゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）法により測定される。例えば、得られたポリアミック酸又はその誘導体をジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）でポリアミック酸濃度が約１重量％になるように希釈し、クロマトパックＣ−Ｒ７Ａ（島津製作所製）を用いて、ＤＭＦを展開溶媒としてゲル浸透クロマトグラフ分析（ＧＰＣ）法により測定し、ポリスチレン換算することにより求められる。さらに、ポリアミック酸やポリアクリル酸等のＧＰＣ測定を精度良く行うために、リン酸、塩酸、硝酸、硫酸等の無機酸やリチウムブロミド、リチウムクロリド等の無機塩をＤＭＦ溶媒に溶解させた展開溶媒を調製することがある。
【００７３】
前記ポリアミック酸又はその誘導体は、式（Ｉ）で表される化合物とジアミン又はその誘導体との反応生成物の構成を有する。すなわち前記テトラカルボン酸二無水物又はその誘導体は、式（Ｉ）中の−Ｘ1−が単結合である下記式（Ｉ−１）の化合物、及び式（Ｉ）中の−Ｘ1−が式（ＩＩ）で表される基である下記式（Ｉ−２）の化合物の一方又は両方を含む。本発明の液晶配向剤が二種以上のポリアミック酸又はその誘導体を含有する場合は、式（Ｉ）で表される化合物は、一方のポリアミック酸又はその誘導体のみに用いられていてもよいし、両方のポリアミック酸又はその誘導体に用いられていてもよい。
【００７４】
【化１０】
2010102159.tif 000011
【００７５】
前記テトラカルボン酸二無水物又はその誘導体由来の構造のうち、式（Ｉ）で表される化合物の割合は、０．１〜１００モル％であることが、液晶表示素子における残留電圧を低減させる観点から好ましく、０．５〜１００モル％であることがより好ましく、１〜１００モル％であることがさらに好ましい。
【００７６】
前記テトラカルボン酸二無水物又はその誘導体は、式（Ｉ）で表される化合物以外の化合物を含んでいてもよい。式（Ｉ）で表される化合物と併用されるテトラカルボン酸二無水物又はその誘導体としては、液晶配向剤に用いられる公知のテトラカルボン酸二無水物及びその誘導体が挙げられ、より具体的には、例えば芳香族テトラカルボン酸二無水物、脂肪族テトラカルボン酸二無水物、及び脂環式テトラカルボン酸二無水物が挙げられる。前記テトラカルボン酸二無水物は、例えばポリアミック酸又はその誘導体の溶剤への可溶性の観点から選ぶことができる。
【００７７】
前記芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、例えば下記式（１）〜（１３）で表される酸二無水物が挙げられる。前記芳香族テトラカルボン酸二無水物は、下記式（１）、（２）、（５）、（６）及び（７）で表される酸二無水物であることが好ましく、式（１）で表されるピロメリット酸二無水物であることがより好ましい。
【００７８】
【化１１】
2010102159.tif 000012
【００７９】
前記脂肪族テトラカルボン酸二無水物及び前記脂環式テトラカルボン酸二無水物としては、例えば下記式（１４）〜（５９）、（６１）、及び（６２）で表される酸二無水物が挙げられる。
【００８０】
【化１２】
2010102159.tif 000013
【００８１】
【化１３】
2010102159.tif 000014
【００８２】
【化１４】
2010102159.tif 000015
【００８３】
前記脂肪族テトラカルボン酸二無水物及び前記脂環式テトラカルボン酸二無水物は、式（１４）〜（２９）で表される酸二無水物であることが好ましく、式（１４）で表される１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物がより好ましい。
【００８４】
またポリアミック酸又はその誘導体を、溶媒に可溶性なポリイミドとする観点から、前記脂肪族テトラカルボン酸二無水物及び前記脂環式テトラカルボン酸二無水物は、式（１９）、（２０）、及び（２７）〜（２９）で表される酸二無水物であることが好ましい。
【００８５】
前記テトラカルボン酸二無水物又はその誘導体は、前記芳香族テトラカルボン酸二無水物と、前記脂肪族テトラカルボン酸二無水物及び前記脂環式テトラカルボン酸二無水物と（例えばピロメリット酸二無水物と１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物と）を含むことが、前記ポリアミック酸又はその誘導体を含有する液晶配向剤を用いて形成される液晶配向膜を有する液晶表示素子に良好な電圧保持率を付与する観点から好ましい。
【００８６】
さらに、前記テトラカルボン酸二無水物としては、例えば、側鎖構造を有するテトラカルボン酸二無水物が挙げられる。前記側鎖構造を有するテトラカルボン酸二無水物は、前記ポリアミック酸又はその誘導体を含有する液晶配向剤を用いて形成される液晶配向膜を
有する液晶表示素子におけるプレチルト角を大きくする観点から好ましい。
【００８７】
前記側鎖構造を有するテトラカルボン酸二無水物としては、例えば下記式（６３）及び（６４）で表されるステロイド骨格を有する化合物が挙げられる。
【００８８】
【化１５】
2010102159.tif 000016
【００８９】
前記テトラカルボン酸二無水物は、前述したテトラカルボン酸二無水物に限定されず、本発明の目的が達成される範囲内で、他のテトラカルボン酸二無水物を含み、このような他のテトラカルボン酸二無水物も、前記テトラカルボン酸二無水物として本発明において用いることができる。
【００９０】
前記ジアミンとしては、液晶配向剤に用いられる公知のジアミン及びその誘導体が挙げられ、より具体的には、例えば直鎖構造を有するジアミン、側鎖構造を有するジアミン、シロキサン結合を有するシロキサン系ジアミン、ナフタレン構造を有するナフタレン系ジアミン、フルオレン構造を有するフルオレン系ジアミン等が挙げられる。
【００９１】
前記直鎖構造を有するジアミンの種類及び使用量は、液晶表示素子としたときの電圧保持率を所望の範囲に調整する観点から決めることができる。前記ジアミン又はその誘導体における前記直鎖構造を有するジアミンの割合は、例えば前記の観点から、１〜１００モル％であることが好ましく、５〜８０モル％であることがより好ましい。前記直鎖構造を有するジアミンとしては、例えば下記式（Ｘ）〜（ＸＶＩ）で表されるジアミンが挙げられる。
【００９２】
【化１６】
2010102159.tif 000017
【００９３】
式（Ｘ）中、Ａ1は、−（ＣＨ2）m−を表す。ここでｍは１〜１２の整数を表す。また式（ＸＩＩ）、（ＸＩＶ）、（ＸＶＩ）中、Ａ1は独立して、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｓ−Ｓ−、−ＳＯ2−、−ＣＯ−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−Ｃ（ＣＨ3）2−、−Ｃ（ＣＦ3）2−、−（ＣＨ2）m−、−Ｏ−（ＣＨ2）m−Ｏ−、−Ｓ−（ＣＨ2）m−Ｓ−を表す。ここでｍは１〜１２の整数を表す。
【００９４】
また式（ＸＶ）及び（ＸＶＩ）中、Ａ2は、独立して単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−Ｃ（ＣＨ3）2−、−Ｃ（ＣＦ3）2−又は炭素数１〜３のアルキレンを表す。さらに式（ＸＩ）〜（ＸＶＩ）中のシクロヘキサン環又はベンゼン環に結合している水素は、独立して−Ｆ、−ＣＨ3、−ＯＨ、−ＣＯＯＨ、−ＳＯ3Ｈ、−ＰＯ3Ｈ2、ベンジル又は４−ヒドロキシベンジルと置き換えられていてもよい。
【００９５】
式（Ｘ）で表されるジアミンとしては、例えば式（Ｘ−１）〜（Ｘ−３）のジアミンが挙げられる。
【００９６】
【化１７】
2010102159.tif 000018
【００９７】
式（ＸＩ）で表されるジアミンとしては、例えば式（ＸＩ−１）及び（ＸＩ−２）のジアミンが挙げられる。
【００９８】
【化１８】
2010102159.tif 000019
【００９９】
式（ＸＩＩ）で表されるジアミンとしては、例えば式（ＸＩＩ−１）〜（ＸＩＩ−３）のジアミンが挙げられる。
【０１００】
【化１９】
2010102159.tif 000020
【０１０１】
式（ＸＩＩＩ）で表されるジアミンとしては、例えば式（ＸＩＩＩ−１）〜（ＸＩＩＩ−１６）のジアミンが挙げられる。
【０１０２】
【化２０】
2010102159.tif 000021
【０１０３】
式（ＸＩＶ）で表されるジアミンとしては、例えば式（ＸＩＶ−１）〜（ＸＩＶ−３２）のジアミンが挙げられる。
【０１０４】
【化２１】
2010102159.tif 000022
【０１０５】
【化２２】
2010102159.tif 000023
【０１０６】
式（ＸＶ）で表されるジアミンとしては、例えば式（ＸＶ−１）〜（ＸＶ−６）のジアミンが挙げられる。
【０１０７】
【化２３】
2010102159.tif 000024
【０１０８】
式（ＸＶＩ）で表されるジアミンとしては、例えば式（ＸＶＩ−１）〜（ＸＶＩ−１２）のジアミンが挙げられる。
【０１０９】
【化２４】
2010102159.tif 000025
【０１１０】
前記側鎖構造を有するジアミンは、ＶＡ型液晶表示素子、ＯＣＢ型液晶表示素子、ＳＴＮ型液晶表示素子、ＴＮ型液晶表示素子等の大きなプレチルト角が要求されるような用途
において好適に用いることができる。ここで側鎖構造を有するジアミンとは、二つのアミノ基を結ぶ置換基を主鎖としたときに、主鎖から分岐する、所望のプレチルト角を発現させることができる置換基（側鎖）を有するジアミンを意味する。すなわち、側鎖構造を有するジアミンは、テトラカルボン酸二無水物と反応することで、高分子主鎖に対して側鎖基を有するポリアミック酸又はポリイミド（分岐ポリアミック酸又は分岐ポリイミド）を提供することができる。このような高分子主鎖に対して側鎖基を有するポリアミック酸又はポリイミドを含有する液晶配向剤から形成される液晶配向膜は、液晶表示素子におけるプレチルト角を大きくすることができる。このことは、例えば、特開平１１−１９３３４５号公報に記載されている。
【０１１１】
従って、側鎖構造を有するジアミンにおける側鎖は、要求されるプレチルト角に応じて適宜選択すればよい。例えば、該側鎖は炭素数３以上の基が好ましく挙げられる。具体的には、
１）置換基を有していてもよいフェニル、置換基を有していてもよいシクロヘキシルフェニレン、置換基を有していてもよいビス（シクロヘキシル）フェニレン、又は炭素数３以上のアルキル、アルケニル若しくはアルキニル、
２）置換基を有していてもよいフェニルオキシ、置換基を有していてもよいシクロヘキシルオキシ、置換基を有していてもよいビス（シクロヘキシル）オキシ、置換基を有していてもよいフェニルシクロヘキシルオキシ、置換基を有していてもよいシクロヘキシルフェニルオキシ、又は炭素数３以上のアルキルオキシ、アルケニルオキシ若しくはアルキニルオキシ、
３）フェニルカルボニル、又は炭素数３以上のアルキルカルボニル、アルケニルカルボニル若しくはアルキニルカルボニル、
４）フェニルカルボニルオキシ、又は炭素数３以上のアルキルカルボニルオキシ、アルケニルカルボニルオキシ若しくはアルキニルカルボニルオキシ、
５）置換基を有していてもよいフェニルオキシカルボニル、置換基を有していてもよいシクロヘキシルオキシカルボニル、置換基を有していてもよいビス（シクロヘキシル）オキシカルボニル、置換基を有していてもよいビス（シクロヘキシル）フェニルオキシカルボニル、置換基を有していてもよいシクロヘキシルビス（フェニル）オキシカルボニル、又は炭素数３以上のアルキルオキシカルボニル、アルケニルオキシカルボニル若しくはアルキニルオキシカルボニル、
６）フェニルアミノカルボニル、又は炭素数３以上のアルキルアミノカルボニル、アルケニルアミノカルボニル若しくはアルキニルアミノカルボニル、
７）炭素数３以上の環状アルキレン、
８）置換基を有していてもよいシクロヘキシルアルキレン、置換基を有していてもよいフェニルアルキレン、置換基を有していてもよいビス（シクロヘキシル）アルキレン、置換基を有していてもよいシクロヘキシルフェニルアルキレン、置換基を有していてもよいビス（シクロヘキシル）フェニルアルキレン、置換基を有していてもよいフェニルアルキルオキシ、アルキルフェニルオキシカルボニル、又はアルキルビフェニリルオキシカルボニル、
９）アルキル、フッ素置換アルキル、又はアルコキシによって置換されたフェニル又はシクロヘキシル、及び、
１０）二個以上のベンゼン環又はシクロヘキサン環が単結合し、又は、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＮＨ−若しくは炭素数１〜３のアルキレンを介して結合した、アルキル、フッ素置換アルキル、又はアルコキシによって置換された環集合基、又はステロイド骨格を有する基等が挙げられるが、これに限定されない。
【０１１２】
ここで、「置換基」としては、アルキル、アルコキシ、又はアルコキシアルキル等を挙げることができる。
【０１１３】
また、ビス（シクロヘキシル）、又はビス（フェニル）は、アルキレンによって中断されていてもよい。
【０１１４】
なお、本明細書において、「アルキル」、「アルケニル」、「アルキニル」というときは、線状でもよいし、枝分かれでもよい。
【０１１５】
前記側鎖構造を有するジアミンの種類及び使用量は、液晶表示素子としたときのプレチルト角を所望の範囲に調整する観点から決めることができる。前記ジアミン又はその誘導体における前記側鎖構造を有するジアミンの割合は、例えば前記の観点から、１〜１００モル％であることが好ましく、１０〜１００モル％であることがより好ましい。前記側鎖構造を有するジアミンとしては、例えば下記式（ＸＶＩＩ）、（ＸＩＸ）〜（ＸＸＩＩ）で表されるジアミンが挙げられる。
【０１１６】
【化２５】
2010102159.tif 000026
【０１１７】
式（ＸＶＩＩ）中、Ａ3は、単結合、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−、−ＣＯＮＨ−又は−（ＣＨ2）m−を表す。ここでｍは１〜６の整数を表す。Ｒ7は、ステロイド骨格を有する基、下記一般式（ＸＶＩＩＩ）で表される基、又は炭素数１〜３０のアルキルを表す。該アルキルにおいては、独立して、任意の−ＣＨ2−が−ＣＦ2−、−ＣＨＦ−、−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられていてもよく、−ＣＨ3が−ＣＨ2Ｆ、−ＣＨＦ2又は−ＣＦ3で置き換えられていてもよい。ただし該アルキルにおいて−Ｏ−は隣り合わない。
【０１１８】
【化２６】
2010102159.tif 000027
【０１１９】
式（ＸＶＩＩＩ）において、Ａ4及びＡ5はそれぞれ独立して、単結合、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＮＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−又は炭素数１〜２０のアルキレンを表す。Ｒ8及びＲ9はそれぞれ独立して、−Ｆ又は−ＣＨ3を表す。環Ｓは１，４−フェニレン、１，４−シクロヘキシレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、ピリジン−２，５−ジイル、ナフタレン−１，５−ジイル、ナフタレン−２，７−ジイル又はアントラセン−９，１０−ジイルを表す。Ｒ10は−Ｆ、炭素数１〜３０のアルキル、炭素数１〜３０のフッ素置換アルキル、炭素数１〜３０のアルコキシ、−ＣＮ、−ＯＣＨ2Ｆ、−ＯＣＨＦ2又は−ＯＣＦ3を表す。またａ及びｂはそれぞれ独立して０〜４の整数を表し、ａ又はｂが２〜４であるとき隣り合うＡ4又はＡ5は異なる基であり、ｃ、ｄ及びｅはそれぞれ独立して０〜３の整数を表し、ｅが２又は３であるとき複数の環Ｓは同一の基であっても異なる基であってもよい。ｆ及びｇはそれぞれ独立して０〜
２の整数を表し、かつｃ＋ｄ＋ｅ≧１である。
【０１２０】
【化２７】
2010102159.tif 000028
【０１２１】
式（ＸＩＸ）中、ステロイド骨格を形成する炭素に結合している水素は、独立して−ＣＨ3と置き換えられていてもよい。式（ＸＩＸ）及び（ＸＸ）中、Ｒ11はそれぞれ独立して、−Ｈ又は−ＣＨ3を表し、Ｒ12は、−Ｈ又は炭素数１〜２０のアルキル若しくはアルケニルを表す。Ａ6はそれぞれ独立して、単結合、−Ｃ（＝Ｏ）−又は−ＣＨ2−を表す。式（ＸＩＩ）中、Ｒ13及びＲ14はそれぞれ独立して、−Ｈ、炭素数１〜２０のアルキル又はフェニルを表す。
【０１２２】
【化２８】
2010102159.tif 000029
【０１２３】
式（ＸＸＩ）中、Ｒ15は−Ｈ又は炭素数１〜３０のアルキルを表す。該アルキルのうち炭素数２〜３０のアルキルの任意の−ＣＨ2−は、独立して−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよい。ただし該アルキルにおいて−Ｏ−は隣り合わない。式（ＸＸＩ）及び（ＸＸＩＩ）中、Ａ7は独立して−Ｏ−又は炭素数１〜６のアルキレンを表す。式（ＸＸＩ）中、Ａ8は単結合又は炭素数１〜３のアルキレンを表す。環Ｔは１，４−フェニレン又は１，４−シクロヘキシレンを表す。ｈは０又は１を表す。式（ＸＸＩＩ）中、Ｒ16は炭素数６〜２２のアルキルを表し、Ｒ17は−Ｈ又は炭素数１〜２２のアルキルを表す。
【０１２４】
式（ＸＶＩＩ）で表されるジアミンとしては、例えば下記式（ＸＶＩＩ−１）〜（ＸＶＩＩ−１１）で表されるジアミンが挙げられる。前記式（ＸＶＩＩ）において、二つのアミノ基はフェニル環の炭素に結合しているが、好ましくは、二つのアミノ基の結合位置関係は、メタ又はパラであることが好ましい。さらに二つのアミノ基はそれぞれ、「Ｒ7−Ａ3−」の結合位置を１位としたときに３位と５位、又は２位と５位に結合していることが好ましい。
【０１２５】
【化２９】
2010102159.tif 000030
【０１２６】
式中、Ｒ18は炭素数３〜３０のアルキル又は炭素数３〜３０のアルコキシが好ましく、炭素数５〜２５のアルキル又は炭素数５〜２５のアルコキシがさらに好ましい。また、Ｒ19は炭素数１〜３０のアルキル又は炭素数１〜３０のアルコキシが好ましく、炭素数３〜２５のアルキル又は炭素数３〜２５のアルコキシがさらに好ましい。
【０１２７】
また式（ＸＶＩＩ）で表されるジアミンとしては、例えば下記式（ＸＶＩＩ−１２）〜（ＸＶＩＩ−１７）で表されるジアミンが挙げられる。
【０１２８】
【化３０】
2010102159.tif 000031
【０１２９】
式（ＸＶＩＩ−１２）〜（ＸＶＩＩ−１５）においてＲ20は炭素数４〜３０のアルキルが好ましく、炭素数６〜２５のアルキルがさらに好ましい。式（ＸＶＩＩ−１６）及び（ＸＶＩＩ−１７）においてＲ21は炭素数６〜３０のアルキルが好ましく、炭素数８〜２５のアルキルがさらに好ましい。
【０１３０】
また式（ＸＶＩＩ）で表されるジアミンとしては、例えば下記式（ＸＶＩＩ−１８）〜（ＸＶＩＩ−３８）で表されるジアミンが挙げられる。
【０１３１】
【化３１】
2010102159.tif 000032
【０１３２】
【化３２】
2010102159.tif 000033
【０１３３】
式（ＸＶＩＩ−１８）〜（ＸＶＩＩ−３８）において、Ｒ22は炭素数１〜３０のアルキル、炭素数１〜３０のアルコキシが好ましく、炭素数３〜２５のアルキル又は炭素数３〜２５のアルコキシがさらに好ましい。Ｒ23は−Ｈ、−Ｆ、炭素数１〜３０のアルキル、炭素数１〜３０のアルコキシ、−ＣＮ、−ＯＣＨ2Ｆ、−ＯＣＨＦ2又は−ＯＣＦ3が好ましく、炭素数３〜２５のアルキル又は炭素数３〜２５のアルコキシがさらに好ましい。Ａ9は炭素数１〜２０のアルキレンを表す。
【０１３４】
また式（ＸＶＩＩ）で表されるジアミンとしては、例えば下記式（ＸＶＩＩ−３９）〜（ＸＶＩＩ−４８）のジアミンが挙げられる。
【０１３５】
【化３３】
2010102159.tif 000034
【０１３６】
前記式（ＸＩＸ）で表されるジアミンとしては、例えば式（ＸＩＸ−１）〜（ＸＩＸ−４）のジアミンが挙げられる。式（ＸＩＸ）において、二つの「ＮＨ2−Ｐｈ−Ａ6−Ｏ−」の一方はステロイド核の３位に結合し、もう一方は６位に結合していることが好ましい。また、二つのアミノ基はそれぞれ、フェニル環炭素に結合しており、Ａ6の結合位置に対して、メタ又はパラに結合していることが好ましい。
【０１３７】
【化３４】
2010102159.tif 000035
【０１３８】
前記式（ＸＸ）で表されるジアミンとしては、例えば式（ＸＸ−１）〜（ＸＸ−８）のジアミンが挙げられる。式（ＸＸ）において、二つの「ＮＨ2−（Ｒ14−）Ｐｈ−Ａ6−Ｏ−」は、それぞれフェニル環の炭素に結合しているが、好ましくはステロイド核が結合している炭素に対してメタ又はパラの炭素に結合している。また、二つのアミノ基はそれぞれフェニル環炭素に結合しているが、Ａ6に対してメタ又はパラに結合していることが好ましい。
【０１３９】
【化３５】
2010102159.tif 000036
【０１４０】
前記式（ＸＸＩ）で表されるジアミンとしては、例えば式（ＸＸＩ−１）〜（ＸＸＩ−９）で表されるジアミンが挙げられる。式（ＸＸＩ）において、二つのアミノ基はそれぞれフェニル環の炭素に結合しているが、Ａ7に対してメタ又はパラに結合していることが好ましい。
【０１４１】
【化３６】
2010102159.tif 000037
【０１４２】
式中、Ｒ24は−Ｈ、炭素数１〜３０のアルキル基が好ましく、Ｒ25は−Ｈ、炭素数１〜２０のアルキル基がさらに好ましい。
【０１４３】
前記式（ＸＸＩＩ）で表されるジアミンとしては、例えば式（ＸＸＩＩ−１）〜（ＸＸＩＩ−３）で表されるジアミンが挙げられる。式（ＸＸＩＩ）において、二つのアミノ基はそれぞれフェニル環の炭素に結合しているが、Ａ7に対してメタ又はパラに結合していることが好ましい。
【０１４４】
【化３７】
2010102159.tif 000038
【０１４５】
式中、Ｒ26は炭素数６〜２０のアルキル基が好ましく、Ｒ27は−Ｈ、炭素数１〜１０のアルキル基が好ましい。
【０１４６】
前記シロキサン系ジアミンとしては、例えば下記式（ＸＸＩＩＩ）で表されるジアミンが挙げられる。
【０１４７】
【化３８】
2010102159.tif 000039
【０１４８】
式中、Ｒ28及びＲ29は独立して炭素数１〜３のアルキル又はフェニルを表し、Ａ10は独立してメチレン、フェニレン又はアルキル置換されたフェニレンを表す。ｉは１〜６の整数を表し、ｊは１〜１０の整数を表す。
【０１４９】
式（ＸＸＩＩＩ）で表されるジアミンとしては、例えば下記式（ＸＸＩＩＩ−１）〜（ＸＸＩＩＩ−７）で表されるジアミンが挙げられる。
【０１５０】
【化３９】
2010102159.tif 000040
【０１５１】
さらに、前記ジアミン又はその誘導体には、前述した以外のジアミンを用いることができる。このようなその他のジアミンとしては、例えば下記式（１’）〜（８’）で表されるジアミンが挙げられる。
【０１５２】
【化４０】
2010102159.tif 000041
【０１５３】
式中、Ｒ30及びＲ31は独立して炭素数３〜３０のアルキル基を表す。
【０１５４】
前記ジアミン又はその誘導体としては、前記ジアミンに限定されることなく、他にも種々の形態で存在するジアミンが、本発明の目的が達成される範囲内で用いることができることはいうまでもない。
【０１５５】
前記ジアミンは、ジアミンの種類及びその組み合わせを適宜選択することにより、本発明の液晶配向剤を用いて形成される液晶表示素子に、好適なプレチルト角を付与することができる。
【０１５６】
例えばＶＡ型液晶表示素子の場合には８０〜９０°程度の大きなプレチルト角が、ＯＣＢ型液晶表示素子の場合には７〜２０°程度のプレチルト角が、ＴＮ型液晶表示素子やＳＴＮ型液晶表示素子の場合には３〜１０°程度のプレチルト角が、及びＩＰＳ型液晶表示素子の場合には０〜３°程度の小さなプレチルト角が要求される場合が多い。従って、側鎖構造を有するジアミンを用いてプレチルト角を適宜調整することができる本発明の液晶配向剤は、任意の種類の液晶表示素子に適用することができる。
【０１５７】
前記テトラカルボン酸二無水物又はその誘導体と前記ジアミン又はその誘導体とは、適用する液晶表示素子の形態に応じて適宜選択することができる。このような観点から好ましい前記ジアミン又はその誘導体としては、特に以下に示すジアミンが挙げられる。
【０１５８】
【化４１】
2010102159.tif 000042
【０１５９】
前記式（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）中、ｍ及びｎはそれぞれ１から１２の整数を表し、前記式（ＶＩ）〜（ＶＩＩＩ）中、−Ｙ1、−Ｙ2、及び−Ｙ3はそれぞれ−Ｈ又は炭素数１から３０のアルキルを表し、前記式（ＩＸ）中、−Ｘ2−は独立して−ＣＨ2−又は−Ｏ−を表し、−Ｙ4は炭素数１から３０のアルキル、下記式（Ｘ）、又は下記式（ＸＩ）を表す。
【０１６０】
【化４２】
2010102159.tif 000043
【０１６１】
前記式（Ｘ）及び（ＸＩ）中、−Ｙ5及び−Ｙ6はそれぞれ炭素数１から３０のアルキルを表す。
【０１６２】
前記式（ＩＩＩ）〜（ＩＸ）のジアミンとしては、例えば下記式（ＩＩＩ−１）、（ＩＩＩ−２）、（ＩＶ−１）、（Ｖ−１）、（ＶＩ−１）、（ＶＩＩ−１）、（ＶＩＩＩ−１）、（ＩＸ−１）、（Ｘ−１）、及び（ＸＩ−１）の化合物が挙げられる。
【０１６３】
【化４３】
2010102159.tif 000044
【０１６４】
例えば前記テトラカルボン酸二無水物又はその誘導体に含まれる前記式（Ｉ）のテトラカルボン酸二無水物又はその誘導体が前記式（Ｉ−１）の化合物である場合では、ＩＰＳ型液晶表示素子には、前記テトラカルボン酸二無水物又はその誘導体は、前記式（１）及び
（１４）の化合物の一方又は両方とをさらに含むことが好ましい。また前記ジアミン又はその誘導体は、前記式（ＩＩＩ−１）、（ＩＩＩ−２）、（ＩＶ−１）、及び（Ｖ−１）からなる群から選ばれる一以上の化合物を含むことが好ましく、前記式（ＩＩＩ−１）、（ＩＩＩ−２）、及び（ＩＶ−１）からなる群から選ばれる一以上の化合物であることがより好ましい。
【０１６５】
また前記テトラカルボン酸二無水物又はその誘導体に含まれる前記式（Ｉ）のテトラカルボン酸二無水物又はその誘導体が前記式（Ｉ−１）の化合物である場合では、ＴＮ型液晶表示素子には、前記テトラカルボン酸二無水物又はその誘導体は、前記式（１）及び（１４）の化合物の一方又は両方をさらに含むことが好ましい。また前記ジアミン又はその誘導体は、前記式（ＩＸ−１）、（Ｘ−１）、及び（ＸＩ−１）からなる群から選ばれる一以上の化合物であることが好ましい。
【０１６６】
また前記テトラカルボン酸二無水物又はその誘導体に含まれる前記式（Ｉ）のテトラカルボン酸二無水物又はその誘導体が前記式（Ｉ−１）の化合物である場合では、ＶＡ型液晶表示素子には、前記テトラカルボン酸二無水物又はその誘導体は、前記式（１）及び（１４）の一方または両方の化合物をさらに含むことが好ましく、式（１４）の化合物をさらに含むことがより好ましい。また前記ジアミン又はその誘導体は、前記式（ＩＩＩ−１）、（ＶＩ−１）、（ＶＩＩ−１）、及び（ＶＩＩＩ−１）からなる群から選ばれる一以上の化合物であり、かつ前記式（ＶＩ−１）又は（ＶＩＩ−１）を含むことが好ましく、前記式（ＶＩＩ−１）の化合物であることがより好ましい。
【０１６７】
前記テトラカルボン酸二無水物又はその誘導体に含まれる前記式（Ｉ）のテトラカルボン酸二無水物又はその誘導体が前記式（Ｉ−２）の化合物である場合では、ＩＰＳ型液晶表示素子には、前記テトラカルボン酸二無水物又はその誘導体は、前記式（１）及び（１４）の一方または両方の化合物をさらに含むことが好ましい。また前記ジアミン又はその誘導体は、前記式（ＩＩＩ−１）、（ＩＩＩ−２）、（ＩＶ−１）、及び（Ｖ−１）からなる群から選ばれる一以上の化合物であることが好ましい。
【０１６８】
また前記テトラカルボン酸二無水物又はその誘導体に含まれる前記式（Ｉ）のテトラカルボン酸二無水物又はその誘導体が前記式（Ｉ−２）の化合物である場合では、ＶＡ型液晶表示素子には、前記テトラカルボン酸二無水物又はその誘導体は、前記式（１）及び（１４）の一方または両方の化合物をさらに含むことが好ましく、式（１４）の化合物をさらに含むことがより好ましい。また前記ジアミン又はその誘導体は、前記式（ＩＩＩ−１）、（ＶＩ−１）、（ＶＩＩ−１）、及び（ＶＩＩＩ−１）からなる群から選ばれる一以上の化合物であることが好ましく、前記式（ＶＩＩ−１）の化合物であることがより好ましい。
【０１６９】
前記テトラカルボン酸二無水物又はその誘導体に含まれる前記式（Ｉ）のテトラカルボン酸二無水物又はその誘導体が前記式（Ｉ−１）及び（Ｉ−２）の両方の化合物である場合では、ＩＰＳ型液晶表示素子には、前記テトラカルボン酸二無水物又はその誘導体は、前記式（１）及び（１４）の一方または両方の化合物をさらに含むことが好ましい。また前記ジアミン又はその誘導体は、前記式（ＩＩＩ−１）、（ＩＩＩ−２）、（ＩＶ−１）、及び（Ｖ−１）からなる群から選ばれる一以上の化合物であることが好ましい。
【０１７０】
また前記テトラカルボン酸二無水物又はその誘導体に含まれる前記式（Ｉ）のテトラカルボン酸二無水物又はその誘導体が前記式（Ｉ−１）及び（Ｉ−２）の両方の化合物である場合では、ＶＡ型液晶表示素子には、前記テトラカルボン酸二無水物又はその誘導体は、前記式（１）及び（１４）の一方または両方の化合物をさらに含むことが好ましく、式（１４）の化合物をさらに含むことがより好ましい。また前記ジアミン又はその誘導体は、
前記式（ＩＩＩ−１）、（ＶＩ−１）、（ＶＩＩ−１）、及び（ＶＩＩＩ−１）からなる群から選ばれる一以上の化合物であることが好ましく、前記式（ＶＩＩ−１）の化合物であることがより好ましい。
【０１７１】
前記ポリアミック酸又はその誘導体は、公知の方法を用いて製造することができる。例えば、原料投入口、窒素導入口、温度計、攪拌機及びコンデンサーを備えた反応容器に、前記ジアミン、さらに必要に応じてモノアミンの所望量を仕込む。
【０１７２】
次に、溶媒（例えばアミド系極性溶媒であるＮ−メチル−２−ピロリドンやジメチルホルムアミド等）及び前記テトラカルボン酸二無水物、さらに必要に応じてカルボン酸無水物を反応容器内に投入する。このときテトラカルボン酸二無水物の総仕込み量は、ジアミンの総モル数とほぼ等モル（モル比０．９〜１．１程度）とすることが好ましい。
【０１７３】
攪拌下に温度０〜７０℃で１〜４８時間反応させることによりポリアミック酸の溶液を得ることができる。また、加熱して反応温度を上げる（例えば、５０〜８０℃）ことにより、分子量の小さいポリアミック酸を得ることもできる。
【０１７４】
前記ポリアミック酸又はその誘導体は、多量の貧溶媒で沈殿させ、固形分と溶媒とを濾過等により完全に分離し、ＩＲ、ＮＭＲで分析することにより同定され得る。さらには、ＫＯＨやＮａＯＨ等の強アルカリの水溶液で固形のポリアミック酸又はその誘導体を分解後、有機溶媒で抽出し、ＧＣ、ＨＰＬＣ又はＧＣ−ＭＳで分析することにより、このポリマーの重合に用いられたモノマーを同定することができる。
【０１７５】
得られたポリアミック酸の溶液は、所望の粘度に調整するために、攪拌し、又は溶媒で希釈して使用することができる。
【０１７６】
前記ポリアミック酸又はその誘導体を可溶性ポリイミドとする場合には、例えばポリアミック酸の溶液を、脱水剤である無水酢酸、無水プロピオン酸、無水トリフルオロ酢酸等の酸無水物、及び脱水閉環触媒であるトリエチルアミン、ピリジン、コリジン等の三級アミンと共に、温度２０〜１５０℃でイミド化反応させて得ることができる。
【０１７７】
又は、前記ポリアミック酸又はその誘導体を可溶性ポリイミドとする場合には、例えばポリアミック酸の溶液から多量の貧溶媒（メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール系溶媒やグリコール系溶媒）を用いてポリアミック酸を析出させ、析出させたポリアミック酸を、トルエン、キシレン等の溶媒中で、前記と同様の脱水剤及び脱水閉環触媒と共に、温度２０〜１５０℃でイミド化反応させて得ることもできる。
【０１７８】
前記イミド化反応において、脱水剤と脱水閉環触媒の割合は０．１〜１０（モル比）であることが好ましい。両者の合計使用量は、使用するテトラカルボン酸二無水物に含まれる酸二無水物のトータルのモル量に対して１．５〜１０倍モルであることが好ましい。この化学的イミド化の脱水剤、触媒量、反応温度及び反応時間を調整することによって、イミド化の程度を制御し、部分ポリイミドを得ることができる。
【０１７９】
さらに、該ポリアミック酸−ポリアミド共重合体を化学的にイミド化することによってポリアミドイミドを製造することができる。
【０１８０】
得られたポリイミドは、溶媒と分離して、後述するエポキシ化合物と共に再溶解させて液晶配向剤として使用することもできるし、又は溶媒と分離することなくエポキシ化合物を添加して液晶配向剤として使用することもできる。
【０１８１】
前記エポキシ化合物は、液晶配向剤においてエポキシ化合物と前記ポリアミック酸又はその誘導体との溶液を形成する種類や含有量で用いられる。なお、エポキシ樹脂は、エポキシ基を有する樹脂を意味する。
【０１８２】
前記エポキシ化合物としては、例えばグリシジルエーテル、グリシジルエステル、グリシジルアミン、エポキシ基含有アクリル系樹脂、グリシジルアミド、グリシジルイソシアヌレート、鎖状脂肪族型エポキシ化合物、及び環状脂肪族型エポキシ化合物が挙げられる。
【０１８３】
前記グリシジルエーテルとしては、例えばビスフェノールＡ型エポキシ化合物、ビスフェノールＦ型エポキシ化合物、ビスフェノールＳ型エポキシ化合物、ビスフェノール型エポキシ化合物、水素化ビスフェノール−Ａ型エポキシ化合物、水素化ビスフェノール−Ｆ型エポキシ化合物、水素化ビスフェノール−Ｓ型エポキシ化合物、水素化ビスフェノール型エポキシ化合物、臭素化ビスフェノール−Ａ型エポキシ化合物、臭素化ビスフェノール−Ｆ型エポキシ化合物、フェノールノボラック型エポキシ化合物、クレゾールノボラック型エポキシ化合物、臭素化フェノールノボラック型エポキシ化合物、臭素化クレゾールノボラック型エポキシ化合物、ビスフェノールＡノボラック型エポキシ化合物、ナフタレン骨格含有エポキシ化合物、芳香族ポリグリシジルエーテル化合物、ジシクロペンタジエンフェノール型エポキシ化合物、脂環式ジグリシジルエーテル化合物、脂肪族ポリグリシジルエーテル化合物、ポリサルファイド型ジグリシジルエーテル化合物、及びビフェノール型エポキシ化合物が挙げられる。
【０１８４】
前記グリシジルエステルとしては、例えばジグリシジルエステル化合物及びグリシジルエステルエポキシ化合物が挙げられる。
【０１８５】
前記グリシジルアミンとしては、例えばポリグリシジルアミン化合物及びグリシジルアミン型エポキシ樹脂が挙げられる。
【０１８６】
前記エポキシ基含有アクリル系化合物としては、例えばオキシラニルを有するモノマーの単独重合体及び共重合体が挙げられる。
【０１８７】
前記グリシジルアミドとしては、例えばグリシジルアミド型エポキシ化合物が挙げられる。
【０１８８】
前記鎖状脂肪族型エポキシ化合物としては、例えばアルケン化合物の炭素−炭素二重結合を酸化して得られる、エポキシ基を含有する化合物が挙げられる。
【０１８９】
前記環状脂肪族型エポキシ化合物としては、例えばシクロアルケン化合物の炭素−炭素二重結合を酸化して得られる、エポキシ基を含有する化合物が挙げられる。
【０１９０】
前記ビスフェノールＡ型エポキシ化合物としては、例えば８２８、１００１、１００２、１００３、１００４、１００７、１０１０（いずれもジャパンエポキシレジン製）、エポトートＹＤ−１２８（東都化成社製）、ＤＥＲ−３３１、ＤＥＲ−３３２、ＤＥＲ−３２４（いずれもダウ・ケミカル社製）、エピクロン８４０、エピクロン８５０、エピクロン１０５０（いずれも大日本インキ製）、エポミックＲ−１４０、エポミックＲ−３０１、及びエポミックＲ−３０４（いずれも三井化学製）が挙げられる。
【０１９１】
前記ビスフェノールＦ型エポキシ化合物としては、例えば８０６、８０７、４００４Ｐ（いずれもジャパンエポキシレジン製）、エポトートＹＤＦ−１７０、エポトートＹＤＦ−１７５Ｓ、エポトートＹＤＦ−２００１（いずれも東都化成社製）、ＤＥＲ−３５４（
ダウ・ケミカル社製）、エピクロン８３０、及びエピクロン８３５（いずれも大日本インキ製）が挙げられる。
【０１９２】
前記ビスフェノール型エポキシ化合物としては、例えば２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパンのエポキシ化物が挙げられる。
【０１９３】
前記水素化ビスフェノール−Ａ型エポキシ化合物としては、例えばサントートＳＴ−３０００（東都化成社製）、リカレジンＨＢＥ−１００（新日本理化製）、及びデナコールＥＸ−２５２（ナガセケムテックス社製）が挙げられる。
【０１９４】
前記水素化ビスフェノール型エポキシ化合物としては、例えば水素化２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパンのエポキシ化物が挙げられる。
【０１９５】
前記臭素化ビスフェノール−Ａ型エポキシ化合物としては、例えば５０５０、５０５１（いずれもジャパンエポキシレジン製）、エポトートＹＤＢ−３６０、エポトートＹＤＢ−４００（いずれも東都化成社製）、ＤＥＲ−５３０、ＤＥＲ−５３８（いずれもダウ・ケミカル社製）、エピクロン１５２、及びエピクロン１５３（いずれも大日本インキ製）が挙げられる。
【０１９６】
前記フェノールノボラック型エポキシ化合物としては、例えば１５２、１５４（いずれもジャパンエポキシレジン製）、ＹＤＰＮ−６３８（東都化成社製）、ＤＥＮ４３１、ＤＥＮ４３８（いずれもダウ・ケミカル社製）、エピクロンＮ−７７０（大日本インキ化学工業（株）製）、ＥＰＰＮ−２０１、及びＥＰＰＮ−２０２（いずれも日本化薬（株）製）が挙げられる。
【０１９７】
前記クレゾールノボラック型エポキシ化合物としては、例えば１８０Ｓ７５（ジャパンエポキシレジン製）、ＹＤＣＮ−７０１、ＹＤＣＮ−７０２（いずれも東都化成社製）、エピクロンＮ−６６５、エピクロンＮ−６９５（いずれも大日本インキ化学工業（株）製）、ＥＯＣＮ−１０２Ｓ、ＥＯＣＮ−１０３Ｓ、ＥＯＣＮ−１０４Ｓ、ＥＯＣＮ−１０２０、ＥＯＣＮ−１０２５、及びＥＯＣＮ−１０２７（いずれも日本化薬（株）製）が挙げられる。
【０１９８】
前記ビスフェノールＡノボラック型エポキシ化合物としては、例えば１５７Ｓ７０（ジャパンエポキシレジン（株）製）、及びエピクロンＮ−８８０（大日本インキ化学工業（株）製）が挙げられる。
【０１９９】
前記ナフタレン骨格含有エポキシ化合物としては、例えばエピクロンＨＰ−４０３２、エピクロンＨＰ−４７００、エピクロンＨＰ−４７７０（いずれも大日本インキ化学工業（株）製）、及びＮＣ−７０００（日本化薬社製）が挙げられる。
【０２００】
前記芳香族ポリグリシジルエーテル化合物としては、例えばハイドロキノンジグリシジルエーテル（下記構造式１０１）、カテコールジグリシジルエーテル（下記構造式１０２）レゾルシノールジグリシジルエーテル（下記構造式１０３）、２−［４−（２，３−エポキシプロポキシ）フェニル］−２−［４−［１，１−ビス［４−（［２，３−エポキシプロポキシ］フェニル）］エチル］フェニル］プロパン（下記構造式１０４）、トリス（４−グリシジルオキシフェニル）メタン（下記構造式１０５）、１０３１Ｓ、１０３２Ｈ６０（いずれもジャパンエポキシレジン製）、ＴＡＣＴＩＸ−７４２（ダウ・ケミカル社製）、デナコールＥＸ−２０１（ナガセケムテックス社製）、ＤＰＰＮ−５０３、ＤＰＰ
Ｎ−５０２Ｈ、ＤＰＰＮ−５０１Ｈ、ＮＣ６０００（いずれも日本化薬（株）製）、テクモアＶＧ３１０１Ｌ（三井化学社製）、下記構造式１０６で表される化合物、及び下記構造式１０７で表される化合物が挙げられる。
【０２０１】
【化４４】
2010102159.tif 000045
【０２０２】
前記ジシクロペンタジエンフェノール型エポキシ化合物としては、例えばＴＡＣＴＩＸ
−５５６（ダウ・ケミカル社製）、及びエピクロンＨＰ−７２００（大日本インキ化学工業（株）製）が挙げられる。
【０２０３】
前記脂環式ジグリシジルエーテル化合物としては、例えばシクロヘキサンジメタノールジグリシジルエーテル化合物、及びリカレジンＤＭＥ−１００（新日本理化製）が挙げられる。
【０２０４】
前記脂肪族ポリグリシジルエーテル化合物としては、例えばエチレングリコールジグリシジルエーテル（下記構造式１０８）、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル（下記構造式１０９）、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル（下記構造式１１０）、トリプロピレングリコールジグリシジルエーテル（下記構造式１１１）、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル（下記構造式１１２）、１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテル（下記構造式１１３）、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル（下記構造式１１４）、ジブロモネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル（下記構造式１１５）、デナコールＥＸ−８１０、デナコールＥＸ−８５１、デナコールＥＸ−８３０１、デナコールＥＸ−９１１、デナコールＥＸ−９２０、デナコールＥＸ−９３１、デナコールＥＸ−２１１、デナコールＥＸ−２１２、デナコールＥＸ−３１３（いずれもナガセケムテックス社製）、ＤＤ−５０３（旭電化製）、リカレジンＷ−１００（新日本理化製）、１，３，５，６−テトラグリシジル−２，４−ヘキサンジオール（下記構造式１１６）、グリセリンポリグリシジルエーテル、ソルビトールポリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンポリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールポリグリシジルエーテル、デナコールＥＸ−３１３、デナコールＥＸ−６１１、デナコールＥＸ−３２１、及びデナコールＥＸ−４１１（いずれもナガセケムテックス社製）が挙げられる。
【０２０５】
【化４５】
2010102159.tif 000046
【０２０６】
前記ポリサルファイド型ジグリシジルエーテル化合物としては、例えばＦＬＤＰ−５０、及びＦＬＤＰ−６０（いずれも東レチオコール製）が挙げられる。
【０２０７】
前記ビフェノール型エポキシ化合物としては、例えばＹＸ−４０００、ＹＬ−６１２１Ｈ（いずれもジャパンエポキシレジン製）、ＮＣ−３０００Ｐ、及びＮＣ−３０００Ｓ（いずれも日本化薬（株）製）が挙げられる。
【０２０８】
前記ジグリシジルエステル化合物としては、例えばジグリシジルテレフタレート（下記構造式１１７）、ジグリシジルフタレート（下記構造式１１８）、ビス（２−メチルオキシラニルメチル）フタレート（下記構造式１１９）、ジグリシジルヘキサヒドロフタレート（下記構造式１２０）、下記構造式１２１で表される化合物、下記構造式１２２で表される化合物、及び下記構造式１２３で表される化合物が挙げられる。
【０２０９】
【化４６】
2010102159.tif 000047
【０２１０】
前記グリシジルエステルエポキシ化合物としては、例えば８７１、８７２（いずれもジャパンエポキシレジン製）、エピクロン２００、エピクロン４００（いずれも大日本インキ化学工業（株）製）、デナコールＥＸ−７１１、及びデナコールＥＸ−７２１（いずれもナガセケムテックス社製）が挙げられる。
【０２１１】
前記ポリグリシジルアミン化合物としては、例えばＮ，Ｎ−ジグリシジルアニリン（下記構造式１２４）、Ｎ，Ｎ−ジグリシジル−ｏ−トルイジン（下記構造式１２５）、Ｎ，Ｎ−ジグリシジル−ｍ−トルイジン（下記構造式１２６）、Ｎ，Ｎ−ジグリシジル−２，４，６−トリブロモアニリン（下記構造式１２７）、３−（Ｎ，Ｎ−ジグリシジル）アミノプロピルトリメトキシシラン（下記構造式１２８）、Ｎ，Ｎ，Ｏ−トリグリシジル−ｐ−アミノフェノール（下記構造式１２９）、Ｎ，Ｎ，Ｏ−トリグリシジル−ｍ−アミノフェノール（下記構造式１３０）、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラグリシジル−４，４’−ジアミノジフェニルメタン（下記構造式１３１）、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラグリシジル−ｍ−キシリレンジアミン（ＴＥＴＲＡＤ−Ｘ（三菱ガス化学）、下記構造式１３２）、１，３−ビス（Ｎ，Ｎ−ジグリシジルアミノメチル）シクロヘキサン（ＴＥＴＲＡＤ−Ｃ（三菱ガス化学）、下記構造式１３３）、１，４−ビス（Ｎ，Ｎ−ジグリシジルアミノメ
チル）シクロヘキサン（下記構造式１３４）、１，３−ビス（Ｎ，Ｎ−ジグリシジルアミノ）シクロヘキサン（下記構造式１３５）、１，４−ビス（Ｎ，Ｎ−ジグリシジルアミノ）シクロヘキサン（下記構造式１３６）、１，３−ビス（Ｎ，Ｎ−ジグリシジルアミノ）ベンゼン（下記構造式１３７）、１，４−ビス（Ｎ，Ｎ−ジグリシジルアミノ）ベンゼン（下記構造式１３８）、２，６−ビス（Ｎ，Ｎ−ジグリシジルアミノメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプタン（下記構造式１３９）、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラグリシジル−４，４’−ジアミノジシクロヘキシルメタン（下記構造式１４０）、２，２’−ジメチル−（Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラグリシジル）−４，４’−ジアミノビフェニル（下記構造式１４１）、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラグリシジル−４，４’−ジアミノジフェニルエーテル（下記構造式１４２）、１，３，５−トリス（４−（Ｎ，Ｎ−ジグリシジル）アミノフェノキシ）ベンゼン（下記構造式１４３）、２，４，４’−トリス（Ｎ，Ｎ−ジグリシジルアミノ）ジフェニルエーテル（下記構造式１４４）、トリス（４−（Ｎ，Ｎ−ジグリシジル）アミノフェニル）メタン（下記構造式１４５）、３，４，３’，４’−テトラキス（Ｎ，Ｎ−ジグリシジルアミノ）ビフェニル（下記構造式１４６）、３，４，３’，４’−テトラキス（Ｎ，Ｎ−ジグリシジルアミノ）ジフェニルエーテル（下記構造式１４７）、下記構造式１４８で表される化合物、及び下記構造式１４９で表される化合物が挙げられる。
【０２１２】
【化４７】
2010102159.tif 000048
【０２１３】
【化４８】
2010102159.tif 000049
【０２１４】
【化４９】
2010102159.tif 000050
【０２１５】
前記オキシラニルを有するモノマーの単独重合体としては、例えばポリグリシジルメタクリレートが挙げられる。前記オキシラニルを有するモノマーの共重合体としては、例えばＮ−フェニルマレイミド−グリシジルメタクリレート共重合体、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド−グリシジルメタクリレート共重合体、ベンジルメタクリレート−グリシジルメタクリレート共重合体、ブチルメタクリレート−グリシジルメタクリレート共重合体、２−ヒドロキシエチルメタクリレート−グリシジルメタクリレート共重合体、（３−エチル−３−オキセタニル）メチルメタクリレート−グリシジルメタクリレート共重合体、及びスチレン−グリシジルメタクリレート共重合体が挙げられる。
【０２１６】
前記オキシラニルを有するモノマーとしては、例えばグリシジル（メタ）アクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシル（メタ）アクリレート、及びメチルグリシジル（メタ）アクリレートが挙げられる。
【０２１７】
前記オキシラニルを有するモノマーの共重合体における前記オキシラニルを有するモノマー以外の他のモノマーとしては、例えば（メタ）アクリル酸、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、ｉｓｏ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、クロルメチルスチレン、（３−エチル−３−オキセタニル）メチル（メタ）アクリレート、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、及びＮ−フェニルマレイミドが挙げられる。
【０２１８】
前記グリシジルイソシアヌレートとしては、例えば１，３，５−トリグリシジル−１，３，５−トリアジン−２，４，６−（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオン（下記構造式１５０）、１，３−ジグリシジル−５−アリル−１，３，５−トリアジン−２，４，６−（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオン（下記構造式１５１）、及びグリシジルイソシアヌレート型エポキシ樹脂が挙げられる。
【０２１９】
【化５０】
2010102159.tif 000051
【０２２０】
前記鎖状脂肪族型エポキシ化合物としては、例えばエポキシ化ポリブタジエン、及びエポリードＰＢ３６００（ダイセル化学工業（株）製）が挙げられる。
【０２２１】
前記環状脂肪族型エポキシ化合物としては、例えば３，４−エポキシシクロヘキセニルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキセンカルボキシレート（セロキサイド２０２１（ダイセル化学工業（株）製）、下記構造式１５２）、２−メチル−３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−２’−メチル−３’，４’−エポキシシクロヘキシルカルボキシレート（下記構造式１５３）、２，３−エポキシシクロペンタン−２’，３’−エポキシシクロペンタンエーテル（下記構造式１５４）、ε−カプロラクトン変性３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキレート、１，２：８，９−ジエポキシリモネン（セロキサイド３０００（ダイセル化学工業（株）製）、下記構造式１５５）、下記構造式１５６で表される化合物、ＣＹ−１７５、ＣＹ−１７７、ＣＹ−１７９（いずれもＣＩＢＡ−ＧＥＩＧＹ社製）、ＥＨＰＤ−３１５０（ダイセル化学工業（株）製）、及び環状脂肪族型エポキシ樹脂が挙げられる。
【０２２２】
【化５１】
2010102159.tif 000052
【０２２３】
前記エポキシ化合物は、グリシジルエーテル、グリシジルエステル、グリシジルアミン、エポキシ基含有アクリル系樹脂、グリシジルアミド、グリシジルイソシアヌレート、鎖状脂肪族型エポキシ化合物、及び環状脂肪族型エポキシ化合物からなる群から選ばれる一以上であることが好ましく、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラグリシジル−４，４’−ジアミノジフェニルメタン、３，４−エポキシシクロヘキセニルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキセンカルボキシレート、ビスフェノールＡノボラック型エポキシ化合物、クレゾールノボラック型エポキシ化合物、ビスフェノールＡ型エポキシ化合物、及びＮ，Ｎ，Ｏ−トリグリシジル−ｐ−アミノフェノールからなる群から選ばれる一以上であることが好ましい。
【０２２４】
本発明の液晶配向剤におけるポリアミック酸又はその誘導体の含有率は、液晶配向剤の基板への塗布方法によって適宜選択してもよい。例えば、通常の液晶表示素子の製造工程で用いられる印刷機（オフセット印刷機やインクジェット印刷機を含む。以下、「印刷機」と略すことがある。）で使用される液晶配向剤におけるポリアミック酸又はその誘導体の含有率は、０．５〜３０重量％であることが好ましく、１〜１５重量％であることがより好ましいが、液晶配向剤の粘度との関係で適宜調整される。
【０２２５】
本発明の液晶配向剤は、前記ポリアミック酸又はその誘導体及びエポキシ化合物以外の他の成分をさらに含有していてもよい。このような他の成分としては、例えば前記ポリアミック酸又はその誘導体及びエポキシ化合物を溶解する溶剤が挙げられる。
【０２２６】
前記溶剤は、ポリアミック酸、可溶性ポリイミド、及びポリアミドイミド等の高分子成分の製造工程や用途で通常使用されている溶剤を広く含み、使用目的に応じて適宜選択され得る。好ましい前記溶剤としては、例えば、ポリアミック酸や可溶性ポリイミドに対して易溶性である非プロトン性極性有機溶剤、及び、表面張力を変えて塗布性改善等を目的とするその他の溶剤、及びこれらの混合溶剤が挙げられる。
【０２２７】
前記非プロトン性極性有機溶媒は、一般に、ポリアミック酸や可溶性ポリイミドに対し良溶媒である。このような非プロトン性極性有機溶媒としては、例えば、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ジメチルイミダゾリジノン、Ｎ−メチルカプロラクタム、Ｎ−メチルプロピオンアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルホルムアミド、ジエチルアセトアミド、γ−ブチロラクトン、γ−バレロラクトンが挙げられる。これらのうち、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ジメチルイミダゾリジノン、γ−ブチロラクトン、及びγ−バレロラクトンがさらに好ましく例示される。
【０２２８】
前記表面張力を変えて塗布性改善等を目的とするその他の溶剤としては、例えば、乳酸アルキル、３−メチル−３−メトキシブタノール、テトラリン、イソホロン、エチレングリコールモノブチルエーテル等のエチレングリコールモノアルキルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル等のジエチレングリコールモノアルキルエーテル、エチレングリコールモノアルキル又はフェニルアセテート、トリエチレングリコールモノアルキルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル等のプロピレングリコールモノアルキルエーテル、マロン酸ジエチル等のマロン酸ジアルキル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル等のジプロピレングリコールモノアルキルエーテル、これらアセテート類等のエステル化合物が挙げられる。これらのうち、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、及びジプロピレングリコールモノメチルエーテル等がさらに好ましく例示される。
【０２２９】
非プロトン性極性溶剤とその他の溶剤の種類及び割合は、液晶配向剤の印刷性、塗布性、溶解性及び保存安定性等を考慮して、適宜に設定することができる。非プロトン性極性溶剤は、その他の溶剤よりも相対的に溶解性及び保存安定性に優れ、その他の溶剤は印刷性及び塗布性に優れる傾向がある。
【０２３０】
また本発明の液晶配向剤は各種添加剤をさらに含有していてもよい。各種添加剤としては、ポリアミック酸又はその誘導体以外の高分子化合物、又は低分子化合物が挙げられ、これらはそれぞれの目的に応じて選択して使用することができる。
【０２３１】
例えば、前記添加剤としては、有機溶媒に可溶性の高分子化合物が挙げられる。この高分子化合物は、形成される液晶配向膜の電気特性や配向性を制御する観点から好ましい。このような高分子化合物としては、例えばポリアミド、ポリウレタン、ポリウレア、ポリエステル、ポリエポキサイド、ポリエステルポリオール、シリコーン変性ポリウレタン、及びシリコーン変性ポリエステルが挙げられる。
【０２３２】
また、前記低分子化合物としては、例えば１）塗布性の向上を望むときにはかかる目的に沿った界面活性剤、２）帯電防止の向上を必要とするときは帯電防止剤、３）基板との密着性や耐ラビング性の向上を望むときにはシランカップリング剤やチタン系のカップリング剤、及び４）低温でイミド化を進行させる場合はイミド化触媒、が挙げられる。
【０２３３】
前記シランカップリング剤としては、例えばビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルトリメトキシシラン、パラアミノフェニルトリメトキシシラン、パラアミノフェニルトリエトキシシラン、メタアミノフェニルトリメトキシシラン、メタアミノフェニルトリエトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（１，３−ジメチルブチリデン）−３−（トリエトキシシリル）−１−プロピルアミン、及びＮ，Ｎ’−ビス［３−（トリメトキシシリル）プロピル］エチレンジアミンが挙げられる。
【０２３４】
前記イミド化触媒としては、例えば、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン等の脂肪族アミン類；Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、メチル置換アニリン、ヒドロキシ置換アニリン等の芳香族アミン類；ピリジン、メチル置換ピリジン、ヒドロキシ置換ピリジン、キノリン、メチル置換キノリン、ヒドロキシ置換キノリン、イソキノリン、メチル置換イソキノリン、ヒドロキシ置
換イソキノリン、イミダゾール、メチル置換イミダゾール、ヒドロキシ置換イミダゾール等の環式アミン類；が挙げられる。特に、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、ｏ−，ｍ−，ｐ−ヒドロキシアニリン、ｏ−，ｍ−，ｐ−ヒドロキシピリジン、及びイソキノリンがより好ましく挙げられる。
【０２３５】
シランカップリング剤の添加量は、通常、ポリアミック酸又はその誘導体１００重量部に対して０〜３０重量部であり、０．０５〜２０重量部であることが好ましい。
【０２３６】
イミド化触媒の添加量は、通常、ポリアミック酸又はその誘導体のカルボニル基に対して０〜５等量であり、０．０５〜３等量であることが好ましい。
【０２３７】
その他の添加剤の添加量は、その用途に応じて異なるが、通常、ポリアミック酸又はその誘導体１００重量部に対して０〜３０重量部であり、０．１〜２０重量部であることが好ましい。
【０２３８】
本発明の液晶配向剤の粘度は、塗布する方法、ポリアミック酸又はその誘導体の濃度、使用するポリアミック酸又はその誘導体の種類、溶剤の種類と割合によって多種多様である。例えば、印刷機による塗布の場合は５〜１００ｍＰａ・ｓ（より好ましくは１０〜８０ｍＰａ・ｓ）であることが好ましい。５ｍＰａ・ｓより小さいと十分な膜厚を得ることが難しくなり、１００ｍＰａ・ｓを超えると印刷ムラが大きくなることがある。スピンコートによる塗布の場合は５〜２００ｍＰａ・ｓ（より好ましくは１０〜１００ｍＰａ・ｓ）が適している。
【０２３９】
液晶配向剤の粘度は回転粘度測定法により測定され、例えば回転粘度計（東機産業製ＴＶＥ−２０Ｌ型）を用いて測定（測定温度：２５℃）される。
【０２４０】
本発明の液晶配向剤は、二種以上のポリアミック酸又はその誘導体を含んでいてもよい。例えば本発明の液晶配向剤は、前記式（Ｉ）の化合物を構成単位に含むポリアミック酸とその他のポリアミック酸又はその誘導体を含んでいてもよいし、前記式（Ｉ）の化合物を構成単位に含む二種以上のポリアミック酸を含んでいてもよい。例えば、本発明の液晶配向剤は、前記式（Ｉ−１）の化合物を構成単位に含むポリアミック酸とその他のポリアミック酸又はその誘導体を含んでいてもよいし、前記式（Ｉ−２）の化合物を構成単位に含むポリアミック酸とその他のポリアミック酸又はその誘導体を含んでいてもよいし、前記式（Ｉ−１）の化合物を構成単位に含むポリアミック酸と前記式（Ｉ−２）の化合物を構成単位に含むポリアミック酸とを含んでいてもよい。
【０２４１】
本発明の液晶配向剤が二種以上のポリアミック酸又はその誘導体を含む場合では、これらのポリアミック酸又はその誘導体を、所期の特性に応じて配合することができる。例えば、側鎖構造を有するジアミンを構成単位に含まないポリアミック酸Ｉと、側鎖構造を有するジアミンを構成単位に含むポリアミック酸ＩＩとを用いる場合では、ポリアミック酸Ｉ及びＩＩを、所期のプレチルト角に応じて、例えばＩ／ＩＩ＝９９／１〜５０／５０、より好ましくは９５／５〜８０／２０の重量比で混合する。ポリアミック酸ＩＩの比率を上げることによってプレチルト角を大きくすることができる。
【０２４２】
このように、二種以上のポリアミック酸又はその誘導体を組み合わせる（ブレンドする）ことにより、本発明の液晶配向剤として好ましい特性を付与し、また向上させることができる。このような好ましい特性としては、プレチルト角以外には、例えば電圧保持率が挙げられる。
【０２４３】
本発明の液晶配向膜は、前述した本発明の液晶配向剤の膜を焼成して形成される。
【０２４４】
前記液晶配向膜は、例えば液晶表示素子用の基板、又はフッ化カルシウムやシリコン等の測定用の基板に本発明の液晶配向剤を塗布し、この液晶配向剤の膜を例えば１５０〜４００℃、好ましくは１８０〜２８０℃に加熱することによって形成することができる。ここで液晶配向膜の膜厚は、１０〜３００ｎｍであることが好ましく、３０〜１００ｎｍであることがより好ましい。また、液晶配向膜はラビング処理されていることが好ましい。
【０２４５】
前記液晶配向膜の膜厚は、液晶配向剤の粘度や液晶配向剤の塗布方法によって調整することができる。また液晶配向膜の膜厚は、段差計やエリプソメータ等の公知の膜厚測定装置によって測定することができる。さらに液晶配向膜中の成分は、必要に応じて加水分解等の処理を行い、ＩＲやＭＳ等の通常の分析手段を利用して分析することができる。
【０２４６】
本発明の液晶表示素子は、対向配置されている一対の基板と、前記一対の基板それぞれの対向している面の一方又は両方に形成されている電極と、前記一対の基板それぞれの対向している面に形成されている、前述した本発明の液晶配向膜と、前記一対の基板間に形成されている液晶層とを有する。
【０２４７】
前記基板は、表示素子において通常使用される基板を用いることができる。前記基板は、透明基板（例えばガラス基板）であることが好ましい。
【０２４８】
前記電極は、一対の基板の少なくとも一方又は両方の基板の表面に設けられる。前記電極は、液晶表示素子の形態に応じて設けられることが好ましく、基板の一面に形成される電極であれば特に限定されない。このような電極としては、例えばＩＴＯ及び金属の蒸着膜が挙げられる。電極は、基板の表面の全体に形成されていてもよいし、例えばパターン化されている所定の形状に形成されていてもよい。本発明の液晶表示素子において、一般に、電極が設けられていない基板には基板の表面上に本発明の液晶配向膜が形成され、電極が設けられている基板には電極の上に本発明の液晶配向膜が形成される。本発明の液晶配向膜の形成については前述したとおりである。
【０２４９】
前記液晶層は、一対の基板間に形成される。前記液晶層は、所定の距離だけ離間している一対の基板間に液晶組成物を供給し、保持することによって形成することができる。ここで液晶組成物は特に制限はされず、駆動モードに応じて、誘電率異方性が正の液晶組成物及び誘電率異方性が負の液晶組成物のいずれの組成物も用いることができる。
【０２５０】
誘電率異方性が正である好ましい液晶組成物の例は、特許第３０８６２２８号公報、特許第２６３５４３５号公報、特表平５−５０１７３５号公報、特開平８−１５７８２６号公報、特開平８−２３１９６０号公報、特開平９−２４１６４４号公報（ＥＰ８８５２７２Ａ１）、特開平９−３０２３４６号公報（ＥＰ８０６４６６Ａ１）、特開平８−１９９１６８号公報（ＥＰ７２２９９８Ａ１）、特開平９−２３５５５２号公報、特開平９−２５５９５６号公報、特開平９−２４１６４３号公報（ＥＰ８８５２７１Ａ１）、特開平１０−２０４０１６号公報（ＥＰ８４４２２９Ａ１）、特開平１０−２０４４３６号公報、特開平１０−２３１４８２号公報、特開２０００−０８７０４０公報、特開２００１−４８８２２公報等に開示されている。
【０２５１】
ＶＡ型液晶表示素子において用いられる液晶組成物は、誘電率異方性が負の各種の液晶組成物とすることができる。好ましい液晶組成物の例は、特開昭５７−１１４５３２号公報、特開平２−４７２５号公報、特開平４−２２４８８５号公報、特開平８−４０９５３号公報、特開平８−１０４８６９号公報、特開平１０−１６８０７６号公報、特開平１０−１６８４５３号公報、特開平１０−２３６９８９号公報、特開平１０−２３６９９０号公報、特開平１０−２３６９９２号公報、特開平１０−２３６９９３号公報、特開平１０
−２３６９９４号公報、特開平１０−２３７０００号公報、特開平１０−２３７００４号公報、特開平１０−２３７０２４号公報、特開平１０−２３７０３５号公報、特開平１０−２３７０７５号公報、特開平１０−２３７０７６号公報、特開平１０−２３７４４８号公報（ＥＰ９６７２６１Ａ１）、特開平１０−２８７８７４号公報、特開平１０−２８７８７５号公報、特開平１０−２９１９４５号公報、特開平１１−０２９５８１号公報、特開平１１−０８００４９号公報、特開２０００−２５６３０７公報、特開２００１−０１９９６５公報、特開２００１−０７２６２６公報、特開２００１−１９２６５７公報等に開示されている。
【０２５２】
前記誘電率異方性が正又は負の液晶組成物に、一つ以上の光学活性化合物を添加して使用することも何ら差し支えない。
【０２５３】
本発明の液晶表示素子は、もちろんその他の部材を有していてもよい。例えば、薄膜トランジスタを使用したカラー表示のＴＦＴ型液晶素子においては、第１の透明基板上に薄膜トランジスタ、絶縁膜、保護膜、信号電極及び画素電極等が形成されており、第２の透明基板上に画素領域以外の光を遮断するブラックマトリクス、カラーフィルター、平坦化膜及び画素電極等を有し得る。
【０２５４】
また、ＶＡ型液晶表示素子、特にＭＶＡ型液晶表示素子においては、第１の透明基板上にドメインと称される微小な突起物が形成されている。また、基板間のセルギャップの調整用にスペーサーが形成されていてもよい。
【０２５５】
本発明の液晶表示素子は任意の方法で製作され得るが、例えば、１）前記二枚の透明基板上に液晶配向剤を塗布する工程、２）塗布された液晶配向剤を乾燥する工程、３）乾燥された液晶配向剤を脱水・閉環反応させるために必要な加熱処理をする工程、４）得られた配向膜を配向処理する工程、５）二枚の基板を張り合わせた後に、基板の間に液晶を封入する工程、又は一方の基板に液晶を滴下させた後に、もう一方の基板と張り合わせる工程を含む方法で製作される。
【０２５６】
前記液晶配向剤を塗布する工程における塗布方法としては、スピンナー法、印刷法、ディッピング法、滴下法、インクジェット法等が一般に知られている。これらの方法が本発明においても適用可能である。
【０２５７】
また、前記乾燥工程及び脱水反応に必要な加熱処理を施す工程の方法として、オーブン又は赤外炉の中で加熱処理する方法、ホットプレート上で加熱処理する方法等が一般に知られている。これらの方法が本発明においても適用可能である。乾燥工程は、溶媒の蒸発が可能な範囲内の比較的低温（５０〜１４０℃）で実施することが好ましい。加熱処理の工程は一般に１５０〜３００℃程度の温度で行うことが好ましい。
【０２５８】
液晶配向膜への配向処理は、ＩＰＳ型液晶表示素子、ＯＣＢ型液晶表示素子、ＴＮ型液晶表示素子、ＳＴＮ型液晶表示素子では通常ラビング処理を行う。ＶＡ型液晶表示素子ではラビング処理を行わないことが多いが行ってもよい。
【０２５９】
次いで、一方の基板上に接着剤を塗布し貼りあわせ真空中で液晶を注入する。滴下注入法の場合には、貼りあわせる前に液晶を基板上に滴下し、その後もう一方の基板で貼りあわせる。貼りあわせに使用した接着剤を熱又は紫外線で硬化させて本発明の液晶表示素子が作製される。
【０２６０】
本発明の液晶表示素子には、偏光板（偏光フィルム）、波長板、光散乱フィルム、駆動回路等が実装されてもよい。
【実施例】
【０２６１】
以下、本発明を実施例により説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されない。実施例において用いる化合物は次の通りである。
【０２６２】
＜テトラカルボン酸二無水物＞
化合物：ピロメリット酸二無水物（式（１））：ＰＭＤＡ
化合物：１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物（式（１４））：ＣＢＤＡ
化合物：ブタンテトラカルボン酸二無水物（式（Ｉ−１））：ＢＴ１００
化合物：１８，２１−ビス(３−（２，５−ジオキソテトラヒドロフラン−３−イル）プロピル)−１８，２１−ジメチル−１，３，５，７，９，１１，１３，１５−オクタフェニル−ペンタシクロ[１０．５．１．２５，１３．１７，１１．１９，１５]デカシロキサン（式（Ｉ−２））：ＰＳＱ１
【０２６３】
＜ジアミン＞
化合物：４，４’−ジアミノジフェニルメタン（式（ＩＩＩ−１））：ＤＤＭ
化合物：４，４’−ジアミノジフェニルエタン（式（ＩＩＩ−２））：ＤＤＥＴ
化合物：４，４’−ジアミノジフェニルエーテル（式（Ｖ−１））：ＤＤＥ
化合物：１，３−ビス［４−（４−アミノフェニルメチル）フェニル］プロパン（式（ＩＶ−１））：ＢＡＢＺＰ３
化合物：１，１−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］−４−（トランス−４−ｎ−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキサン（式（Ｘ−１））：５ＨＨＢＡ
化合物：５−［４−（４−ｎ−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキシル］フェニルメチル−１，３−ジアミノベンゼン（式（ＶＩ−１））：５ＨＨＰ１ＰＤＡ
化合物：１−フェニルメチル−２，５−ジアミノベンゼン（式（ＶＩＩＩ−１））：２，５−Ｐ１ＰＤＡ
化合物：５−［４−（ｎ−ヘキサデシル）フェニルメチル］−１，３−ジアミノベンゼン（式（ＶＩＩ−１））：１６Ｐ１ＰＤＡ
【０２６４】
＜エポキシ化合物＞
化合物：Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラグリシジル−４，４’−ジアミノジフェニルメタン：ＴＧＤＤＭ
化合物：３，４−エポキシシクロヘキセニルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキセンカルボキシレート：セロキサイド２０２１Ｐ(商品名、ダイセル化学工業(株)製)
化合物：ビスフェノールＡノボラック型エポキシ化合物：１５７Ｓ７０（商品名、ジャパンエポキシレジン（株）製）
化合物：クレゾールノボラック型エポキシ化合物：ＥＯＣＮ−１０４Ｓ(商品名、日本化薬(株)製)
化合物：ビスフェノールＡ型エポキシ化合物：８２８(商品名、ジャパンエポキシレジン(株)製)
化合物：Ｎ，Ｎ，Ｏ−トリグリシジル−ｐ−アミノフェノール：ＴＧＡＰ
【０２６５】
＜溶剤＞
Ｎ−メチル−２−ピロリドン：ＮＭＰ
γ−ブチロラクトン：ＧＢＬ
ブチルセロソルブ（エチレングリコールモノブチルエーテル）：ＢＣ
【０２６６】
＜１．ポリアミック酸の合成＞
［合成例１］
温度計、攪拌機、原料投入仕込み口及び窒素ガス導入口を備えた１００ｍＬの四つ口フラスコにＤＤＭを２．９２７ｇ、及び脱水ＮＭＰ５４．０ｇを入れ、乾燥窒素気流下攪拌溶解した。次いでＰＭＤＡを１．６１０ｇとＢＴ１００を１．４６３ｇ、及び脱水ＧＢＬ１５．０ｇを入れ、室温環境下で３０時間反応させた。反応中に反応温度が上昇する場合は、反応温度を約７０℃以下に抑えて反応させた。得られた溶液に、ＢＣ２５．０ｇを加えて、濃度が６重量％のポリアミック酸溶液を得た。このポリアミック酸溶液をＰＡ１とする。
【０２６７】
［合成例２〜１１］
表１に示したようにテトラカルボン酸二無水物及びジアミンを変更した以外は、合成例１に準拠してポリアミック酸溶液ＰＡ２〜ＰＡ１１を調製した。合成例１を含めて、結果を表１にまとめた。
【０２６８】
【表１】
2010102159.tif 000053
【０２６９】
＜２．液晶表示素子の作製＞
［実施例１］
ＰＡ１にＮＭＰ／ＢＣ＝１／１（重量比）の混合溶媒を加えて全体をポリアミック酸の濃度が４重量％となるように希釈して得られた溶液に、ＴＧＤＤＭをポリアミック酸１００重量部に対して２０重量部溶解させて液晶配向剤１を得た。得られた液晶配向剤１を用いて、下記の通り液晶表示素子を作製した。
【０２７０】
＜液晶表示素子の作製方法（実施例１〜５、比較例１〜６）＞
液晶配向剤１を、二枚のＩＴＯ電極付きガラス基板にスピンナーにて塗布し、膜厚７０ｎｍの膜を形成した。塗膜後８０℃にて約３分間加熱乾燥した後、２１０℃にて２０分間
加熱処理を行い、液晶配向膜を形成した。次いで、液晶配向膜が形成された基板の表面をラビング装置にてラビング処理して配向処理を行った。その後、液晶配向膜を超純水中で５分間超音波洗浄してからオーブン中１２０℃で３０分間乾燥した。
【０２７１】
一方のガラス基板に７μｍのギャップ材を散布し、液晶配向膜を形成した面を内側にしてラビング方向が逆平行になるように対向配置させた後、エポキシ硬化剤でシールし、ギャップ７μｍのアンチパラレルセルを作製した。該セルに、下記に示す液晶組成物を注入し、注入口を光硬化剤で封止した。次いで、１１０℃で３０分間加熱処理を行い、液晶表示素子を作製した。
【０２７２】
【化５２】
2010102159.tif 000054
【０２７３】
［比較例１］
ＰＡ１にＮＭＰ／ＢＣ＝１／１（重量比）の混合溶媒を加えて全体をポリアミック酸の濃度が４重量％となるように希釈して液晶配向剤２を得た。得られた液晶配向剤２を用いて、実施例１と同様に液晶表示素子を作製した。
【０２７４】
［比較例２］
ＰＡ２にＮＭＰ／ＢＣ＝１／１（重量比）の混合溶媒を加えて全体をポリアミック酸の濃度が４重量％となるように希釈し、ＴＧＤＤＭをポリアミック酸１００重量部に対して２０重量部溶解させて液晶配向剤３を得た。得られた液晶配向剤３を用いて、実施例１と同様に液晶表示素子を作製した。
【０２７５】
［実施例２］
ＰＡ３にＮＭＰ／ＢＣ＝１／１（重量比）の混合溶媒を加えて全体をポリアミック酸の濃度が４重量％となるように希釈して得られた溶液に、２０２１Ｐをポリアミック酸１００重量部に対して２０重量部溶解させて液晶配向剤４を得た。得られた液晶配向剤４を用いて、実施例１と同様に液晶表示素子を作製した。
【０２７６】
［比較例３］
ＰＡ３にＮＭＰ／ＢＣ＝１／１（重量比）の混合溶媒を加えて全体をポリアミック酸の濃度が４重量％となるように希釈して液晶配向剤５を得た。得られた液晶配向剤５を用いて、実施例１と同様に液晶表示素子を作製した。
【０２７７】
［実施例３］
ＰＡ４にＮＭＰ／ＢＣ＝１／１（重量比）の混合溶媒を加えて全体をポリアミック酸の濃度が４重量％となるように希釈して得られた溶液に、１５７Ｓ７０をポリアミック酸１００重量部に対して２０重量部溶解させて液晶配向剤６を得た。得られた液晶配向剤６を用いて、実施例１と同様に液晶表示素子を作製した。
【０２７８】
［比較例４］
ＰＡ４にＮＭＰ／ＢＣ＝１／１（重量比）の混合溶媒を加えて全体をポリアミック酸の濃度が４重量％となるように希釈して液晶配向剤７を得た。得られた液晶配向剤７を用いて、実施例１と同様に液晶表示素子を作製した。
【０２７９】
［実施例４］
ＰＡ５にＮＭＰ／ＢＣ＝１／１（重量比）の混合溶媒を加えて全体をポリアミック酸の濃度が４重量％となるように希釈して得られた溶液に、ＥＯＣＮ１０４Ｓをポリアミック酸１００重量部に対して２０重量部溶解させて液晶配向剤８を得た。得られた液晶配向剤８を用いて、実施例１と同様に液晶表示素子を作製した。
【０２８０】
［比較例５］
ＰＡ５にＮＭＰ／ＢＣ＝１／１（重量比）の混合溶媒を加えて全体をポリアミック酸の濃度が４重量％となるように希釈して液晶配向剤９を得た。得られた液晶配向剤９を用いて、実施例１と同様に液晶表示素子を作製した。
【０２８１】
［実施例５］
ＰＡ６とＰＡ７とを重量比９／１で混合した。得られた混合物にＮＭＰ／ＢＣ＝１／１（重量比）の混合溶媒を加えて全体をポリアミック酸の濃度が４重量％となるように希釈して得られた溶液に、８２８をポリアミック酸１００重量部に対して２０重量部溶解させて液晶配向剤１０を得た。得られた液晶配向剤１０を用いて、実施例１と同様に液晶表示素子を作製した。
【０２８２】
［比較例６］
ＰＡ６とＰＡ７とを重量比９／１で混合した。得られた混合物にＮＭＰ／ＢＣ＝１／１（重量比）の混合溶媒を加えて全体をポリアミック酸の濃度が４重量％となるように希釈
して液晶配向剤１１を得た。得られた液晶配向剤１１を用いて、実施例１と同様に液晶表示素子を作製した。
【０２８３】
［実施例６］
ＰＡ８とＰＡ９とを重量比９／１で混合し、得られた混合物にＮＭＰ／ＢＣ＝１／１（重量比）の混合溶媒を加えて全体をポリアミック酸の濃度が４重量％となるように希釈して得られた溶液に、ＴＧＤＤＭをポリアミック酸１００重量部に対して２０重量部溶解させて液晶配向剤１２を得た。得られた液晶配向剤１２を用いて、下記の通り液晶表示素子を作製した。
【０２８４】
＜液晶表示素子の作製方法（実施例６〜８、比較例７〜１０）＞
液晶配向剤１２を、二枚のＩＴＯ電極付きガラス基板にスピンナーにて塗布し、膜厚７０ｎｍの膜を形成した。塗膜後８０℃にて約３分間加熱乾燥した後、２１０℃にて２０分間加熱処理を行い、液晶配向膜を形成した。その後、液晶配向膜を超純水中で５分間超音波洗浄してからオーブン中１２０℃で３０分間乾燥した。
【０２８５】
一方のガラス基板に７μｍのギャップ材を散布し、液晶配向膜を形成した面を内側にして配置させた後、エポキシ硬化剤でシールし、ギャップ７μｍのセルを作製した。該セルに、下記に示す液晶組成物を注入し、注入口を光硬化剤で封止した。次いで、１１０℃で３０分間加熱処理を行い、液晶表示素子を作製した。
【０２８６】
【化５３】
2010102159.tif 000055
【０２８７】
［実施例７］
ＰＡ８とＰＡ９とを重量比９／１で混合し、得られた混合物にＮＭＰ／ＢＣ＝１／１（重量比）の混合溶媒を加えて全体をポリアミック酸の濃度が４重量％となるように希釈して得られた溶液に、ＴＧＡＰをポリアミック酸１００重量部に対して２０重量部溶解させて液晶配向剤１３を得た。得られた液晶配向剤１３を用いて、実施例６と同様に液晶表示素子を作製した。
【０２８８】
［比較例７］
ＰＡ８とＰＡ９とを重量比９／１で混合し、得られた混合物にＮＭＰ／ＢＣ＝１／１（重量比）の混合溶媒を加えて全体をポリアミック酸の濃度が４重量％となるように希釈して液晶配向剤１４を得た。得られた液晶配向剤１４を用いて、実施例６と同様に液晶表示素子を作製した。
【０２８９】
［比較例８］
ＰＡ１０とＰＡ９とを重量比９／１で混合し、得られた混合物にＮＭＰ／ＢＣ＝１／１（重量比）の混合溶媒を加えて全体をポリアミック酸の濃度が４重量％となるように希釈して得られた溶液に、ＴＧＤＤＭをポリアミック酸１００重量部に対して２０重量部溶解させて液晶配向剤１５を得た。得られた液晶配向剤１５を用いて、実施例６と同様に液晶表示素子を作製した。
【０２９０】
［実施例８］
ＰＡ８とＰＡ１１とを重量比９／１で混合し、得られた混合物にＮＭＰ／ＢＣ＝１／１（重量比）の混合溶媒を加えて全体をポリアミック酸の濃度が４重量％となるように希釈して得られた溶液に、１５７Ｓ７０をポリアミック酸１００重量部に対して２０重量部溶解させて液晶配向剤１６を得た。得られた液晶配向剤１６を用いて、実施例６と同様に液晶表示素子を作製した。
【０２９１】
［比較例９］
ＰＡ８とＰＡ１１とを重量比９／１で混合し、得られた混合物にＮＭＰ／ＢＣ＝１／１（重量比）の混合溶媒を加えて全体をポリアミック酸の濃度が４重量％となるように希釈して液晶配向剤１７を得た。得られた液晶配向剤１７を用いて、実施例６と同様に液晶表示素子を作製した。
【０２９２】
［比較例１０］
ＰＡ２とＰＡ１１とを重量比９／１で混合し、得られた混合物にＮＭＰ／ＢＣ＝１／１（重量比）の混合溶媒を加えて全体をポリアミック酸の濃度が４重量％となるように希釈して得られた溶液に、ＴＧＤＤＭをポリアミック酸１００重量部に対して２０重量部溶解させて液晶配向剤１８を得た。得られた液晶配向剤１８を用いて、実施例６と同様に液晶表示素子を作製した。
【０２９３】
＜３．残留電圧の評価＞
実施例１〜８、比較例１〜１０で作製した液晶表示素子について、残留電圧の測定を行った。測定は、液晶表示素子に、実施例１〜５、比較例１〜６では直流３Ｖをバイアスした３０Ｈｚ、１．６２Ｖの矩形波を、実施例６〜８、比較例７〜１０では直流３Ｖをバイアスした３０Ｈｚ、３．２０Ｖの矩形波を３０分印加し、直流電圧を切った直後の液晶セル内に残留した電圧をフリッカー消去法により求めた。残留電圧の値が小さいほど焼き付き現象が発生しづらいと言える。結果を表２に示す。
【０２９４】
【表２】
2010102159.tif 000056
【０２９５】
表２に示されたように、ＢＴ１００、ＰＳＱ１のいずれか、もしくは両方を使用したポリアミック酸溶液に、エポキシ化合物を添加した実施例１〜８の液晶配向剤を使用した液晶表示素子では、残留電圧を低減することができた。