(57)【要約】【課題】本発明は、高い光利用効率と、高い工業生産性を有し、光学特性の面内均一性の高い偏光性回折素子を提供することを課題としている。【解決手段】本発明の偏光性回折素子は、透明樹脂からなる基材上に、凹部と凸部とが連続的に形成されたパターン部と、該凹部を充填してなる充填部とを有し、凸部と充填部の一方が光学等方性材料から、他方が光学異方性材料からなり、式（ｉ）および（ii）を満たす。（ｉ）０．００８≦|Ｎｕ（λ1）−Ｎｏ（λ1）|≦０．０１２（ii）０．００４≦|Ｎｕ（λ2）−Ｎｏ（λ2）|≦０．００９（λ1：波長６６０ｎｍの直線偏光性の光、λ2：波長７８５ｎｍの直線偏光性の光、Ｎｕ：光学等方性材料の屈折率、Ｎｏ：光学異方性材料の常光屈折率）【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材の少なくとも片面に、光学等方性材料と光学異方性材料とにより形成されてなる回折格子層を有し、
下記式（ｉ）および（ｉｉ）を満たすことを特徴とする偏光性回折素子。
（ｉ）０．００８≦|Ｎｕ（λ1）−Ｎｏ（λ1）|≦０．０１２
（ii）０．００４≦|Ｎｕ（λ2）−Ｎｏ（λ2）|≦０．００９
[式（ｉ）、（ii）において、
λ1：波長６６０ｎｍの直線偏光性の光、
λ2：波長７８５ｎｍの直線偏光性の光、
Ｎｕ（λ1）：波長λ1における光学等方性材料の屈折率、
Ｎｏ（λ1）：波長λ1における光学異方性材料の常光屈折率、
Ｎｕ（λ2）：波長λ2における光学等方性材料の屈折率、
Ｎｏ（λ2）：波長λ2における光学異方性材料の常光屈折率
を表す。（ただし、屈折率および常光屈折率は２５℃での測定値である）］
【請求項２】
前記回折格子層が、凹部と凸部とが連続的に形成されたパターン部と、該凹部を充填してなる充填部とを有し、前記凹部と凸部とが連続的に形成されたパターン部と前記充填部との何れか一方が光学等方性材料からなり、且つ他方が光学異方性材料からなることを特徴とする請求項１に記載の偏光性回折素子。
【請求項３】
凹部と凸部とが連続的に形成されたパターン部が光学異方性材料からなり、充填部が光学等方性材料からなることを特徴とする請求項２に記載の偏光性回折素子。
【請求項４】
凹部と凸部とが連続的に形成されたパターン部が光学等方性材料からなり、充填部が光学異方性材料からなることを特徴とする請求項２に記載の偏光性回折素子。
【請求項５】
前記凹部と凸部とが連続的に形成されたパターン部が転写により形成されてなることを特徴とする請求項２に記載の偏光性回折素子。
【請求項６】
前記透明基材が樹脂であることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の偏光性回折素子。
【請求項７】
前記透明樹脂が環状オレフィン系樹脂からなることを特徴とする請求項６に記載の偏光性回折素子。
【請求項８】
透明樹脂からなる基材の前記回折格子層を形成する面に、分子配向能を有する層が形成されていることを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の偏光性回折素子。
【請求項９】
光学異方性材料が紫外線硬化型液晶を含むことを特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載の偏光性回折素子。
【請求項１０】
光学等方性材料が紫外線硬化型（メタ）アクリル樹脂を含むことを特徴とする請求項１〜９のいずれかに記載の偏光性回折素子。
【請求項１１】
少なくとも片面に、反射防止層を有することを特徴とする請求項１〜１０のいずれかに記載の偏光性回折素子。
【請求項１２】
下記式（iii）〜（vi）をさらに満たすことを特徴とする請求項１１に記載の偏光性回折素子。
（iii）  Ｔｏ（λ1）≧９５％
（iv）   Ｔｏ（λ2）≧９５％
（ｖ）   Ｔｅ（λ1）≦５％
（vi）   Ｔｅ（λ2）≦１５％
［式（iii）〜（vi）において、
λ1：波長６６０ｎｍの直線偏光性の光、
λ2：波長７８５ｎｍの直線偏光性の光、
Ｔｏ（λ1）：波長λ1における光学異方性材料の常光屈折率方向に対して平行方向に偏波面を持つ垂直入射光の常光透過率、Ｔｏ（λ2）：波長λ2における光学異方性材料の常光屈折率方向に対して平行方向に偏波面を持つ垂直入射光の常光透過率、Ｔｅ（λ1）：波
長λ1における光学異方性材料の異常光屈折率方向に対して平行方向に偏波面を持つ垂直
入射光の異常光透過率、
Ｔｅ（λ2）：波長λ2における光学異方性材料の異常光屈折率方向に対して平行方向に偏波面を持つ垂直入射光の異常光透過率
を表す。］
【請求項１３】
下記式（vii）〜（x）を満たすことを特徴とする請求項１１に記載の偏光性回折素子。（vii）  Ｔｏ（λ1）≧９５％
（viii） Ｔｏ（λ2）≧９５％
（ix）   Ｔｅ（λ1）≦１５％
（x）    Ｔｅ（λ2）≦５％
［式（vii）〜（x）において、
λ1：波長６６０ｎｍの直線偏光性の光、
λ2：波長７８５ｎｍの直線偏光性の光、
Ｔｏ（λ1）：波長λ1における光学異方性材料の常光屈折率方向に対して平行方向に偏波面を持つ垂直入射光の常光透過率、
Ｔｏ（λ2）：波長λ2における光学異方性材料の常光屈折率方向に対して平行方向に偏波面を持つ垂直入射光の常光透過率、
Ｔｅ（λ1）：波長λ1における光学異方性材料の異常光屈折率方向に対して平行方向に偏波面を持つ垂直入射光の異常光透過率、
Ｔｅ（λ2）：波長λ2における光学異方性材料の異常光屈折率方向に対して平行方向に偏波面を持つ垂直入射光の異常光透過率
を表す。］
【請求項１４】
波長板および／または回折格子と積層されたことを特徴とする請求項１〜１３のいずれかに記載の偏光性回折素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光ディスクなどの光記録媒体に対して情報の記録または再生を行うことの可能な光ピックアップ装置等の光学システムに使用できる偏光性回折素子に関する。
【背景技術】
【０００２】
光ディスク装置は、非接触、単位体積あたりの情報量の多さ、高速アクセス性、低コストなどの理由から、近年、大きく伸長している光学情報記録・再生装置であり、これらの特徴を生かし、各種の記録媒体が開発されている。例えば、あらかじめ記録された情報を音や画像あるいはコンピュータ用プログラムなどとして再生するコンパクトディスク（ＣＤ）、レーザーディスク（ＬＤ）、ＣＤ−ＲＯＭ、ＤＶＤ−ＲＯＭなど、レーザーによって情報を１回だけ書き込め、係る情報を再生できるＣＤ−Ｒ、ＤＶＤ−Ｒなど、情報の記録再生が繰り返しできる光磁気ディスク（ＭＯ）、ＤＶＤ−ＲＡＭ、ＤＶＤ−ＲＷなどに対応した光ピックアップ装置が開発されている。
【０００３】
このような光ピックアップ装置の光学系には、装置の小型化や高性能化を図るために様々な光学部品が組み込まれて使用されている。例えば、光源であるレーザー、回折格子、波長板、ハーフミラー、偏光性回折素子、対物レンズなどが代表的な部品の例である。
【０００４】
これら部品の中で、偏光性回折素子とは、直線偏光であるレーザー光を往路では透過し、復路では透過しない、いわゆる戻り光をブロックするための光学部品である。
偏光性回折素子としては、従来からガラス基板やプラスチック基板を用いて作製されるもの（特許文献１、２参照）や、光学等方性基板上に形成された有機複屈折膜上に回折格子が形成されるもの（特許文献３、４参照）が知られている。
【０００５】
これらの偏光性回折素子では、いずれも、回折格子の等方性材料の屈折率と、異方性材料の常光屈折率との差である屈折率差がほぼ０である。偏光性回折素子においては、この屈折率差が０である場合に、透過率を最大にでき、波面収差を最小にできるという利点がある。
【０００６】
一方、偏光性回折素子の製造においては、光学特性の面内バラツキが大きくなる場合がある。一般に、偏光回折素子は数平方センチメートル以上の面積を有する大きさで作製し、それを数平方ミリメートルの大きさに切断（チップカット品）することにより作製される。この数平方センチメートル以上の面積で作製された状態で透過率や波面収差の面内の光学特性にバラツキが大きいと、最終形態であるチップカット品の中に光学特性に劣るものが含まれるという問題が生じ、これを取り除くための全品検査が必要となる。ここで、偏光性回折素子の面内の光学特性のバラツキが小さく全面の光学特性が均質であれば、得られるチップカット品に光学特性に劣るものが混じることがなくなるため、全品検査の必要性がなくなり、生産性を大幅に向上させることが期待される。このため、面内バラツキが小さく全面の光学特性が均質な偏光性回折素子が求められている。
【０００７】
また、上記従来の偏光性回折素子は、すべてフォトリソグラフィー工程やエッチング工程を経て製造されるものである。
しかしながらフォトリソグラフィー工程やエッチング工程を経て製造される場合には、装置の制約上から基板としては枚葉の基板しか用いることができない。そのため、いわゆるバッチ処理でしか製造できないために連続生産性が乏しいのが実情である。また、フォトリソグラフィー工程やエッチング工程はフォトレジストやエッチングによって除去される材料があることを前提とした工程であり、偏光性回折素子の製造工程が煩雑であることも相まって、コストや経済性の観点から問題があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開平１１−６４６１５号公報
【特許文献２】特開平１１−１２５７１０号公報
【特許文献３】特開２００３−４３２５４号公報
【特許文献４】特開２００３−５０３１２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は、高い光利用効率と、高い工業生産性を有し、光学特性の面内均一性の高い偏光性回折素子を提供することを課題としている。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者は、上記従来技術に鑑みて鋭意研究したところ、偏光性回折素子中の、回折格子の等方性材料の屈折率と異方性材料の常光屈折率とがわずかに差を有するような特定範囲にコントロールすることにより、光学特性（透過率や波面収差）の面内バラツキを抑えて面内均一性を高めることができることを見出し、本発明を完成するに至った。
【００１１】
すなわち本発明の偏光性回折素子は、透明基材の少なくとも片面に、光学等方性材料と光学異方性材料とにより形成されてなる回折格子層を有し、
下記式（ｉ）および（ｉｉ）を満たすことを特徴としている。
（ｉ）０．００８≦|Ｎｕ（λ1）−Ｎｏ（λ1）|≦０．０１２
（ii）０．００４≦|Ｎｕ（λ2）−Ｎｏ（λ2）|≦０．００９
[式（ｉ）、（ii）において、
λ1：波長６６０ｎｍの直線偏光性の光、
λ2：波長７８５ｎｍの直線偏光性の光、
Ｎｕ（λ1）：波長λ1における光学等方性材料の屈折率、
Ｎｏ（λ1）：波長λ1における光学異方性材料の常光屈折率、
Ｎｕ（λ2）：波長λ2における光学等方性材料の屈折率、
Ｎｏ（λ2）：波長λ2における光学異方性材料の常光屈折率
を表す。（ただし、屈折率および常光屈折率は２５℃での測定値である）ここで、常光屈折率とは、異方性材料の光軸に垂直な方向に伝播する常光に対応した屈折率を意味する。］
【００１２】
本発明の偏光性回折素子では、前記回折格子層が、凹部と凸部とが連続的に形成されたパターン部と、該凹部を充填してなる充填部とを有し、前記凹部と凸部とが連続的に形成されたパターン部と前記充填部との何れか一方が光学等方性材料からなり、且つ他方が光学異方性材料からなることが好ましい。このような本発明の偏光性回折素子では、凹部と凸部とが連続的に形成されたパターン部が光学異方性材料からなり、充填部が光学等方性材料からなるか、または、凹部と凸部とが連続的に形成されたパターン部が光学等方性材料からなり、充填部が光学異方性材料からなっていてもよく、また、前記凹部と凸部とが連続的に形成されたパターン部が転写により形成されてなることも好ましい。
【００１３】
本発明の偏光性回折素子では、前記透明基材が樹脂からなることが好ましい。
本発明の偏光性回折素子では、前記透明樹脂が環状オレフィン系樹脂からなることが好ましい。
【００１４】
本発明の偏光性回折素子は、透明樹脂からなる基材の前記回折格子層を形成する面に、分子配向能を有する層が形成されていることが好ましい。
本発明の偏光性回折素子は、光学異方性材料が紫外線硬化型液晶を含むことが好ましい。
【００１５】
本発明の偏光性回折素子は、光学等方性材料が紫外線硬化型（メタ）アクリル樹脂を含むことが好ましい。
本発明の偏光性回折素子は、少なくとも片面に、反射防止層を有することが好ましく、下記式（iii）〜（vi）または（vii）〜（x）をさらに満たすことが好ましい。
（iii）  Ｔｏ（λ1）≧９５％
（iv）   Ｔｏ（λ2）≧９５％
（ｖ）   Ｔｅ（λ1）≦５％
（vi）   Ｔｅ（λ2）≦１５％
（vii）  Ｔｏ（λ1）≧９５％
（viii） Ｔｏ（λ2）≧９５％
（ix）   Ｔｅ（λ1）≦１５％
（x）    Ｔｅ（λ2）≦５％
［式（iii）〜（vi）において、
λ1：波長６６０ｎｍの直線偏光性の光、
λ2：波長７８５ｎｍの直線偏光性の光、
Ｔｏ（λ1）：波長λ1における光学異方性材料の常光屈折率方向に対して平行方向に偏波面を持つ垂直入射光の常光透過率、
Ｔｏ（λ2）：波長λ2における光学異方性材料の常光屈折率方向に対して平行方向に偏波面を持つ垂直入射光の常光透過率、
Ｔｅ（λ1）：波長λ1における光学異方性材料の異常光屈折率方向に対して平行方向に偏波面を持つ垂直入射光の異常光透過率、
Ｔｅ（λ2）：波長λ2における光学異方性材料の異常光屈折率方向に対して平行方向に偏波面を持つ垂直入射光の異常光透過率
を表す。］
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、偏光性回折素子が上記式（ｉ）、（ｉｉ）を満たすことにより高い光利用効率と、高い工業生産性を有し、光学特性の面内均一性に優れた偏光性回折素子を提供することができる。本発明の偏光性回折素子は、光学特性（透過率や波面収差）の面内均一性に優れるため、これを用いて製造したチップカット品には光学特性に劣る不良品が混在しないものとなり、チップカット品の全品検査を省略することができ生産効率を大幅に向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】図１は、本発明の実施例３の基材（ａ'−３）を表す。
【図２】図２は、本発明の実施例３の偏光性回折素子を表す。
【図３】図３は、本発明の実施例１の基材（ａ'−１）を表す。
【図４】図４は、本発明の実施例１の偏光性回折素子を表す。
【図５】図５は、本発明の実施例５の偏光性回折素子の製造方法を表す。
【図６】図６は、本発明の実施例５の偏光性回折素子を表す。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、本発明について具体的に説明する。
本発明の偏光性回折素子は、透明基材の少なくとも片面に、光学等方性材料と、光学異方性材料とにより形成されてなる回折格子層を有する。この回折格子層は、光学異方性材料よりなる部位が回折格子として作用する層であればよく、特に限定されるものではないが、好ましくは、凹部と凸部とが連続的に形成されたパターン部と、該凹部を充填してなる充填部とを有し、前記凹部と凸部とが連続的に形成されたパターン部と、前記充填部とのいずれか一方が光学等方性材料から、他方が光学異方性材料からなる。
【００１９】
基材
本発明で用いる基材は、透明であればよく、ガラス、樹脂、ガラスと樹脂の複合材などを用いることができ、板状ないしフィルム状であるのが好ましい。基材は１層のみから形成されていても、多層から形成されていてもよい。また、基材は、分子配向能を有する層を有することも好ましい。
【００２０】
本発明で用いる透明基材は、樹脂製であることが好ましい。
基材を構成する透明樹脂としては、本発明の製造方法により得られる偏光性回折素子を使用する際のレーザー波長において透明であれば特に制限無く用いることができるが、レーザー波長における波長別光線透過率で、８５％以上であることが好ましく、さらに好ましくは８７％以上、最も好ましくは８９％以上である。
【００２１】
このような透明樹脂としては例えば、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ＰＭＭＡ、ＰＳ、ＰＣ、ＰＥＳ、ＰＳＵ、環状オレフィン系樹脂などの熱可塑性樹脂、紫外線硬化型樹脂等を使用できる。
【００２２】
透明樹脂としては、熱可塑性樹脂が通常用いられるが、構造を適宜調製した紫外線硬化樹脂を用いることもできる。紫外線硬化樹脂としては、例えば後述する紫外線硬化型（メタ）アクリル樹脂を用いることができる。
【００２３】
なかでも透明樹脂としては、耐熱性や耐久性および加工性の観点から環状オレフィン系樹脂が好ましい。環状オレフィン系樹脂としては、熱変形温度の指標となるガラス転移温度（Ｔｇ）が、通常９０〜２００℃であり、好ましくは１００〜１９０℃であり、さらに好ましくは１１０〜１８０℃である。Ｔｇが１１０℃以上である場合には、得られた偏光性回折素子が優れた耐熱性を有するため好ましい。Ｔｇが９０℃未満である場合には、熱変形温度が低くなるため、耐熱性に問題が生じるおそれがあり、また、得られるフィルムにおける温度による光学特性の変化が大きくなるという問題が生じることがある。一方、Ｔｇが２００℃を超える場合には、加工温度が高くなりすぎるため、フィルム形状に加工する際に酸化劣化による着色が起こって光学特性が低下するという問題が生じる場合がある。
【００２４】
ここで、ガラス転移温度（Ｔｇ）とは、示差走査熱量計（ＤＳＣ）を用い、昇温速度２０℃／分、窒素雰囲気にて測定した際に得られる微分示差走査熱量曲線の最大ピーク温度（Ａ点）及び最大ピーク温度より−２０℃の温度（Ｂ点）を示差走査熱量曲線上にプロットし、Ｂ点を起点とするベースライン上の接線とＡ点を起点とする接線との交点として求められる。
【００２５】
前記透明樹脂からなる基材は、枚葉の形態でもよく、長手方向に長尺の形態を有してもよい。長手方向に長尺の形態を有する所謂ロール形状とした場合が、連続生産性の観点からより好ましいが、ロール形状とした後に枚葉の形態に裁断を施すことも好ましい。なお、本発明に係る基材は、透明樹脂からなるため、ガラス基板や結晶基板と比べて、柔らかく、容易にロール形状とすることができるため好ましく、また所望の形状に打ち抜く等の加工が容易であるために好ましい。そのようなロール形状に加工する方法としては、透明樹脂を押出し成形、溶液キャスト法などの成形方法を用いることができる。ロール形状とする場合に基材の幅には特に制限は無いが、工業的な取り扱い性を鑑みると、好ましくは１５０〜２２００ｍｍ、さらに好ましくは３００〜１５００ｍｍとするのがよい。１５０ｍｍより幅が狭くなると、経済的な生産性の観点から好ましくなく、２２００ｍｍより幅が広くなると製造に用いる装置が大型化するために実生産としては非効率的となるために好ましくない。また、基材の厚みは光学部品としての形態を保持できれば特に制限はないが、ロール形状とする場合には３０〜５００μｍとすることが好ましく、さらに好ましくは５０〜３００μｍであり、最も好ましくは８０〜２００μｍである。厚みが３０μｍ未満では基材としての剛性が弱いために好ましくなく、厚みが３００μｍを超えるとロール形状とするのが困難なことに加えて、ロール形状としたときの巻き長さが短くなってしまうために、連続生産性が落ちるため好ましくない。また厚みが３００μｍを超えると、打ち抜きなどの加工を行なう際にバリが発生したり、クラックが発生したりし易くなるという観点からも好ましくない。枚葉の形態とする場合には、工業的な取り扱い性を鑑みると、幅および長さが３〜１００ｃｍとすることが好ましく、さらに好ましくは５〜８０ｃｍとするのがよい。なお、幅と長さは一致する必要はなく、適宜加工しやすい大きさに設定すればよい。例えば、Ａ４サイズをもって枚葉の形態とする場合には、２１ｃｍ×３０ｃｍの大きさとなる。枚葉の場合には、幅と長さが３ｃｍ未満とすると工業的に生産性が欠けるために好ましくなく、幅と長さが１００ｃｍを超える場合には、装置が大型化して加工性に欠け、かえって生産性が乏しくなるために好ましくない。
【００２６】
本発明で用いることができる透明樹脂からなる基材は、前記透明樹脂のみから形成されていてもよいが、透明樹脂基材上に、例えば、基材と回折格子層との接着性を向上させるためのプライマー層や分子配向能を有する層（以下、配向層ともいう）が形成されているものであることも好ましい。分子配向能を有する層としては、透明樹脂基材の片面に形成されていてもよく、両面に形成されていてもよいが、後述するパターン部を形成する面に形成されているのが好ましい。
【００２７】
分子配向能を有する層（配向層）
分子配向能を有する層は、通常（メタ）アクリル系化合物、ポリイミド、ポリビニルアルコールおよびポリウレタンより選ばれる少なくとも１種を含む組成物（Ｂ）や、下記式（Ｉ）で表わされる構造を有する重合体を含む組成物（Ｂ'）により形成される。
【００２８】
−Ｒ1−ＣＨ＝ＣＨ−Ｚ1−Ａｒ1    …（Ｉ）
［式（Ｉ）中、Ｒ1は−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−ＣＯＮＨ−、−ＣＯ−Ｅ−、非置換またはハロゲン基、シアノ基およびニトロ基から選ばれる基を有する１,４-フェニレン、あるいはピリジン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、２，５−チオフェンジイル、２，５−フラニレン、１，４−ナフチレン、または２，６−ナフチレンを表し、
Ｅは非置換またはハロゲン基、シアノ基およびニトロ基から選ばれる基を有する１,４-フェニレン、あるいはピリジン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、２，５−チオフェンジイル、２，５−フラニレン、１，４−ナフチレン、または２，６−ナフチレンを表し、
Ｚ1は単結合、非置換またはハロゲン基、シアノ基およびニトロ基から選ばれる基を有する１,４-フェニレン、あるいはピリジン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、２，５−チオフェンジイル、２，５−フラニレン、トランス−１，４−シクロヘキシレン、トランス−１，３−ジオキサン−２，５−ジイルまたは１，４−ピペリジルを表し、
Ａｒ1は芳香族環を有する１価の基を表す。］
【００２９】
前記（メタ）アクリル系化合物を含む組成物（Ｂ）としては、後述する光学等方性材料で用いることができる（メタ）アクリル系化合物と同様の物を用いて得られる（メタ）アクリル樹脂を含むものであっても、また、（メタ）アクリル系化合物と光重合開始剤を含有する組成物であってもよい。尚、光重合開始剤としては、同光学等方性材料の硬化の際に用いることができるものと同様のものが使用できる。（メタ）アクリル系化合物は、後述する光学等方性材料として使用されるが、該化合物を含む組成物により得られる膜はラビング処理や延伸処理等により、分子配向能を有する層としても利用が可能である。分子配向能を有する層としては、透明樹脂からなる基材が環状オレフィン系樹脂である場合、特に基材との密着性の観点から脂環式構造を含む単官能モノマーや多官能モノマーを含むことが好ましい。
【００３０】
前記脂環式構造を含む単官能モノマーとしては、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、４−ブチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタジエニル（メタ）アクリレート、ボルニル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、トリシクロデカニル（メタ）アクリレートなどをあげることができ、脂環式構造を含む多官能モノマーとしては、トリシクロデカンジイルジメチルジ（メタ）アクリレートなどをあげることができる。
【００３１】
前記ポリイミドを含む分子配向能を有する層形成用組成物（Ｂ）としてはテトラカルボン酸二無水物とジアミンを反応させて得られるポリアミック酸を脱水環化させて得られるもの等が挙げられ、ポリビニルアルコールとしては、ポリビニルアルコールの水酸基を有機基で置換した変性ポリビニルアルコール等が挙げられ、ポリウレタンとしてはポリエーテルポリオールとポリイソシアネートを反応させてなる重合体などが挙げられる。
【００３２】
前記ポリビニルアルコールを含む分子配向能を有する層形成用組成物（Ｂ）としては、ポリビニルアルコールの水酸基を置換基−ＯＣＯＰｈＯ（ＣＨ2）4ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ2で０．２ｍｏｌ％、置換基−ＯＣＯＣＨ3で１１．８ｍｏｌ％置換した構造を有する、ケン化度８８ｍｏｌ％、重合度３００の変性ポリビニルアルコールの粉体を、蒸留水１００重量部に対して５重量部混合し、メタノールを３５重量部加えて溶解させたものなどをあげることができる。
【００３３】
前記ポリウレタンを含む分子配向能を有する層形成用組成物（Ｂ）としては、ポリエーテルポリウレタンなどをあげることができる。その様なポリウレタン樹脂の市販品としては、ポリエーテルポリウレタン材料であるハイドランＷＬＳ−２０１（ＤＩＣ（株）製）をあげることができる。
【００３４】
上記分子配向能を有する層としては、基材との密着性の点で（メタ）アクリル系化合物を含む組成物から形成されることが好ましい。
また、（メタ）アクリル系化合物、ポリイミド、ポリビニルアルコールおよびポリウレタンより選ばれる少なくとも１種を含む組成物に含まれる他の成分としては、目的の物性を損なわない範囲内で、基材の表面に対する接着性をさらに向上させる観点から、官能性シラン含有化合物、エポキシ化合物などが含有されていてもよい。
【００３５】
前記式（Ｉ）で表わされる構造を有する重合体としては、特に限定はないが、例えば前記式（Ｉ）を側鎖に有する重合体として、例えば特開２００３−３０７７３６、特開平６−２８７４５３に記載のポリイミド系重合体やアクリル系重合体のもの等が挙げられる。また、式（Ｉ）で表わされる構造を有する重合体を含む組成物に含まれる他の成分として、目的の物性を損なわない範囲内で、前述した基材の表面に対する接着性を向上させる観点から、官能性シラン含有化合物、エポキシ化合物などが含有していてもよい。
【００３６】
基材が分子配向能を有する層を有する場合、分子配向能を有する層の厚みは１〜５０００ｎｍが好ましく、さらに好ましくは５〜５００ｎｍ、最も好ましくは１０〜２００ｎｍである。
【００３７】
＜分子配向能の付与方法＞
前記分子配向能を有する層が、（メタ）アクリル系化合物、ポリイミド、ポリビニルアルコールおよびポリウレタンより選ばれる少なくとも１種を含む組成物（Ｂ）からなる場合には、組成物（Ｂ）により形成された塗布膜（Ｂ）に、ラビング処理、延伸処理の何れかの方法によって分子配向能が付与されることが好ましい。
【００３８】
（１）ラビング処理による方法
ラビング処理は、公知の方法により行うことができるが、例えば、（メタ）アクリル系化合物、ポリイミド、ポリビニルアルコールおよびポリウレタンより選ばれる少なくとも１種を含む組成物（Ｂ）を基材に塗布して、基材上に塗布膜（Ｂ）を形成し、金属製ロールの表面に、コットンやレーヨンなどのラビング布を巻きつけ、当該ロールを回転させながら、前記塗布膜の表面に接触させ、分子配向を付与する処理が挙げられる。ラビング処理の処理条件としては特に限定されるものではないが、ロール回転数は１００〜２０００ｒｐｍが好ましく、さらに好ましくは２００〜１５００ｒｐｍ、最も好ましくは３００〜９００ｒｐｍである。塗布膜を形成した基材の搬送速度は、１〜５０ｍ／分が好ましく、さらに好ましくは３〜３０ｍ／分である。ロール押し込み量は０．１〜０．５ｍｍが好ましく、さらに好ましくは０．２〜０．４ｍｍである。
【００３９】
上記処理条件で行うと、前記塗布膜（Ｂ）の全面にわたって均一なラビング処理ができるため分子配向を有する層を好適に形成することができる。ラビングの方向は、ラビングロールの回転軸方向とフィルム（塗布膜（Ｂ）を形成した基材）長手方向のなす角によって決定されるが、ラビングロールがフィルム幅全体をカバーできる範囲であれば、特に制限はない。ラビング方向は液晶分子の配向方向を決定するため、所望の方向に設定して、ラビング処理を実施すればよい。
【００４０】
なお、前記ラビング処理では、異物発生を伴う場合がある。これは、ラビング布の繊維が脱落したものや、ラビングに供したフィルム表面の材質が削られて脱落するものや、発生する静電気によって周囲の環境異物が付着することに由来する。従って、これら異物を除去することが必要となり、異物を吹き飛ばして吸引したり、洗浄をしたりすることが好ましい。なかでも、水による洗浄が好ましく用いられる。特に、ポリイミドを含む組成物（Ｂ）を塗布することにより形成した塗布膜（Ｂ）は、ポリイミドの構造に由来して水に対する耐性が高く、水洗を行ってもラビング効果を損なうことなく後述する光学異方性材料を配向させることができるために好ましい。また、ポリビニルアルコール、ポリウレタンより選ばれる少なくとも１種を含む組成物（Ｂ）を塗布することにより形成した塗布膜（Ｂ）は、水洗を行うとポリビニルアルコールおよびポリウレタンが水への耐性が低いため、後述する光学異方性材料を配向させることができなくなるため、水洗を行うことは好ましくない。なお、ポリビニルアルコールとして、架橋構造を有する変性ポリビニルアルコールを用いた場合やポリウレタンとして架橋構造を有するポリエーテルポリオールとポリイソシアネートを反応させてなる重合体などの変性ポリウレタンを用いた場合には架橋構造により水への耐性が発現するため、ポリビニルアルコールおよびポリウレタンを含む組成物（Ｂ）を塗布することにより形成した塗布膜（Ｂ）は、水洗が行われても、ラビング効果を損なうことなく、後述する光学異方性材料を配向させることができる。
【００４１】
前記分子配向能を有する層が、上記式（Ｉ）で表わされる構造を有する重合体を含む組成物（Ｂ'）からなる場合には、紫外線や可視光線などの放射線の照射によって分子配向
が付与されることが好ましい。
【００４２】
（２）延伸処理による方法
分子配向能は、前記分子配向能を有する層形成用組成物（Ｂ）により形成された塗布膜（Ｂ）を有する透明樹脂からなる基材を延伸処理することにより付与されてもよい。
【００４３】
分子配向能を有する層形成用組成物（Ｂ）により形成された塗布膜（Ｂ）を有する透明樹脂からなる基材を延伸処理することにより、分子配向能を有する層形成用組成物（Ｂ）により形成された塗布膜（Ｂ）に分子配向能を付与することができ、該層上に形成される光学異方性材料を配向させることができる。
【００４４】
上記延伸処理は、通常は透明樹脂からなる基材および分子配向能を有する層形成用組成物（Ｂ）により形成された塗布膜（Ｂ）を加熱延伸することにより行われる。加熱延伸は、ラビング処理と比較して異物などの発生が少なく、また歩留まり良く生産することができるため好ましい。
【００４５】
前記延伸処理としては、加熱下で、透明樹脂からなる基材および分子配向能を有する層形成用組成物（Ｂ）により形成された塗布膜（Ｂ）を長手方向に一軸延伸する方法（延伸処理方法（１））、ならびに加熱下で、基材および分子配向能を有する層形成用組成物（Ｂ）により形成された塗布膜（Ｂ）を幅方向に一軸延伸する方法（延伸処理方法（２））が好ましい。
【００４６】
透明樹脂からなる基材および分子配向能を有する層形成用組成物（Ｂ）により形成された塗布膜（Ｂ）を延伸する際には、延伸時の加熱温度が、透明樹脂からなる基材および分子配向能を有する層形成用組成物（Ｂ）により形成された塗布膜（Ｂ）の延伸部位全体において精密に制御されていることが好ましい。たとえば、上記延伸処理方法（１）における長手方向の一軸延伸、すなわち縦一軸延伸は、温度分布が設定温度±０．６℃以内、好ましくは設定温度±０．４℃以内、より好ましくは設定温度±０．２℃以内にコントロールされたオーブン中で行うのが望ましい。
【００４７】
ここで、設定温度は、オーブン中の全領域で等しい温度であってもよく、段階的にあるいは勾配的に分布を設けた温度であってもよい。設定温度が分布を設けた温度である場合には、オーブン中の実際の温度分布と、設定された温度分布とが、±０．６℃以内、好ましくは±０．４℃以内、より好ましくは±０．２℃以内であるのが望ましい。
【００４８】
延伸処理方法（１）の設定温度は、透明樹脂からなる基材および分子配向能を有する層形成用組成物（Ｂ）により形成された塗布膜（Ｂ）を原料の種類、延伸倍率および延伸速度、基材および分子配向能を有する層の厚み、延伸後の光学異方性材料の所望位相差などにより設定すればよく、特に限定されるものではないが、たとえば、透明樹脂からなる基材の透明樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）を基準として、（Ｔｇ＋０）℃〜（Ｔｇ＋３０）℃の範囲である。このような温度範囲では、透明樹脂からなる基材および分子配向能を有する層形成用組成物（Ｂ）により形成された塗布膜（Ｂ）の熱劣化が起きることなく、また破断することなく延伸できるため好ましい。
【００４９】
上記延伸処理方法（１）においては、長手方向一軸延伸の延伸倍率は、たとえば１．１〜２．５倍、好ましくは１．１〜２．０倍、特に好ましくは１．２〜１．５倍の範囲である。延伸倍率が１．１倍未満となると前記光学異方性材料の配向が上手く均一に発現しないために好ましくなく、延伸倍率が２．５倍を超えると、加工の際に基材の破断が生じるなどの不具合が生じるために好ましくない。
【００５０】
また、上記延伸処理方法（１）における長手方向一軸延伸の延伸速度は、たとえば２〜１００ｍ／分、好ましくは５〜５０ｍ／分の範囲である。
上記延伸処理方法（２）の幅方向の一軸延伸、すなわち横一軸延伸は、長手方向の一軸延伸よりもさらに精密な温度制御下で行うことにより、全面において均質な偏光性回折素子を好適に得ることができる。たとえば、幅方向の一軸延伸は、温度分布が設定温度±０．５℃以内、好ましくは設定温度±０．３℃以内、より好ましくは設定温度±０．２℃以内にコントロールされたオーブン中で行うのが望ましい。
【００５１】
上記延伸処理方法（２）の設定温度は、長手方向一軸延伸の場合と同様、オーブン中の全領域で等しい温度であってもよく、段階的にあるいは勾配的に分布を設けた温度であってもよい。設定温度が分布を設けた温度である場合には、オーブン中の実際の温度分布と、設定された温度分布とが、±０．５℃以内、好ましくは±０．３℃以内、より好ましくは±０．２℃以内であるのが望ましい。この幅方向一軸延伸の設定温度は、長手方向一軸延伸の工程における設定温度と同様であってもよく、異なっていてもよい。
【００５２】
上記延伸処理方法（２）の設定温度は、上記延伸処理方法（１）と同様である。
上記延伸処理方法（２）においては、幅方向一軸延伸の延伸倍率は、製造する偏光性回折素子の所望特性に応じて決定すればよいが、たとえば１．５〜５倍、好ましくは１．７〜４倍、特に好ましくは２〜３．５倍の範囲である。延伸倍率が１．５倍未満となると光学異方性材料の配向が上手く均一に発現しないために好ましくなく、延伸倍率が５倍を超えると、加工の際に基材の破断が生じるなどの不具合が生じるために好ましくない。
【００５３】
上記幅方向一軸延伸の延伸速度は、たとえば２〜１００ｍ／分、好ましくは５〜５０ｍ／分の範囲である。
【００５４】
回折格子層
本発明の偏光性回折素子は、上述した透明樹脂からなる基材（すなわち、透明樹脂からなる基材、あるいは透明樹脂からなる基材上に分子配向能を有する層が形成された基材）の少なくとも片面に、光学等方性材料と、光学異方性材料とにより形成されてなる回折格子層を有する。
【００５５】
この回折格子層は、パターン部と充填部とからなり、パターン部は光学等方性材料よりなる部位と、光学異方性材料よりなる部位とが、所定のパターンにより交互に存在しているのがよく、好ましくは、基材上に設けられた凹部と凸部とが連続的に形成されたパターン部と、その凹部を充填する充填部とが、一方が光学等方性材料から、他方が光学異方性材料から形成されることにより、互いに異なる光学特性を有する凸部と充填部とが交互に形成され、これが回折格子層となるのが望ましい。
【００５６】
パターン部
凹部と凸部とが連続的に形成されたパターン部は、光学等方性材料から形成されてもよく、光学異方性材料から形成されてもよい。
【００５７】
・光学等方性材料（Ｄ）
光学等方性材料としては、光学的に等方性を有する樹脂であれば特に制限はないが、紫外線硬化型樹脂を含む光学等方性材料形成用組成物により形成されることが、連続的に経済的に偏光性回折素子を生産しやすいため好ましく、透明性や光学的な等方性を得やすい面から紫外線硬化型（メタ）アクリル樹脂を含むことがより好ましい。
【００５８】
前記紫外線硬化型（メタ）アクリル樹脂としては、以下に示す（メタ）アクリレート化合物を重合することにより得られる樹脂を用いることが好ましい。（メタ）アクリレート化合物としては分子内に少なくとも一つの（メタ）アクリロイル基を有しているものであれば特に制限されるものではない。たとえば、（メタ）アクリレート化合物としては単官能（メタ）アクリレート化合物、多官能（メタ）アクリレート化合物が挙げられる。
【００５９】
本発明に用いることが可能な紫外線硬化型（メタ）アクリル樹脂は、紫外線によって硬化するが、紫外線を発生させる光源の例としては、メタルハライドランプや高圧水銀ランプが挙げられる。なお、紫外線照射は、基材のパターンを形成する面側から行ってもよく、基材のパターンを形成しない面側から行ってもよい。また、連続的にパターンを形成する場合には、前記モールドの反対側、すなわち基材のパターンを形成しない面側から紫外線の照射を行うことが好ましく、モールドが紫外線硬化型（メタ）アクリル樹脂を含む組成物に接触した状態で、パターンを有さない面側から照射を行なってもよい。
【００６０】
なお、本発明において（メタ）アクリレート化合物とは、アクリレート化合物およびメタクリレート化合物からなる群から選択される少なくとも１種の化合物を示し、（メタ）アクリロイル基とは、アクリロイル基およびメタクリロイル基からなる群から選択される少なくとも１種の基を示す。
【００６１】
単官能（メタ）アクリレート化合物の具体例としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、２−フェノキシエチルアクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、アミル（メタ）アクリレート、イソアミル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、ヘプチル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ウンデシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート等のアルキル（メタ）アクリレート類；ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート等のヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート類；フェノキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート等のフェノキシアルキル（メタ）アクリレート類；
メトキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシエチル（メタ）アクリレート、プロポキシエチル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシブチル（メタ）アクリレート等のアルコキシアルキル（メタ）アクリレート類；
ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、エトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート等のポリエチレングリコール（メタ）アクリレート類；
ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート等のポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート類；
シクロヘキシル（メタ）アクリレート、４−ブチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタジエニル（メタ）アクリレート、ボルニル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、トリシクロデカニル（メタ）アクリレート等のシクロアルキル（メタ）アクリレート類；
ベンジル（メタ）アクリレート；テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレートなどが挙げられる。これらの単官能（メタ）アクリレート化合物は、１種単独で、または２種以上を混合して用いることができる。
【００６２】
これらの単官能（メタ）アクリレート化合物のうち、ジシクロペンタニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタジエニル（メタ）アクリレートなどは、透明樹脂からなる基材との密着性に優れるため特に好ましい。
【００６３】
また、多官能（メタ）アクリレート化合物の具体例としては、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等のアルキレングリコールジ（メタ）アクリレート類；
トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリヒドロキシエチルトリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等の多価アルコールのポリ（メタ）アクリレート類；
イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートジ（メタ）アクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート等のイソシアヌレートのポリ（メタ）アクリレート類；
トリシクロデカンジイルジメチルジ（メタ）アクリレート等のシクロアルカンのポリ（メタ）アクリレート類；
ビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加体のジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡのプロピレンオキサイド付加体のジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡのアルキレンオキサイド付加体のジ（メタ）アクリレート、水添ビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加体のジ（メタ）アクリレート、水添ビスフェノールＡのプロピレンオキサイド付加体のジ（メタ）アクリレート、水添ビスフェノールＡのアルキレンオキサイド付加体のジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルと（メタ）アクリル酸とから得られる（メタ）アクリレート等のビスフェノールＡの（メタ）アクリレート誘導体類；
３，３，４，４，５，５，６，６−オクタフルオロオクタンジ（メタ）アクリレート、３−（２−パーフルオロヘキシル）エトキシ−１，２−ジ（メタ）アクリロイルプロパン、Ｎ−ｎ−プロピル−Ｎ−２，３−ジ（メタ）アクリロイルプロピルパーフルオロオクチルスルホンアミド等の含フッ素（メタ）アクリレート類；
以下のビスフェノール構造を有するポリオール（ａ）と、有機ポリイソシアネート（ｂ）と、水酸基含有（メタ）アクリレート（ｃ）とを反応させて得られるウレタン（メタ）アクリレート類；を挙げることができる。
【００６４】
なお、（ａ）ビスフェノール構造を有するポリオールとしては、ビスフェノールＡのアルキレンオキサイド付加ジオール、ビスフェノールＦのアルキレンオキサイド付加ジオール、水添ビスフェノールＡのアルキレンオキサイド付加ジオール、水添ビスフェノールＦのアルキレンオキサイド付加ジオール等が挙げられる。これらの中で、ビスフェノールＡのアルキレンオキサイド付加ジオールが好ましい。これらの市販品としては、例えば、日油（株）製  ＤＡ−４００、ＤＢ−４００等が挙げられる。
【００６５】
（ｂ）有機ポリイソシアネートとしては、ジイソシアネートが好ましく、例えば２，４−トリレンジイソシアネート、２，６−トリレンジイソシアネート、１，３−キシリレンジイソシアネート、１，４−キシリレンジイソシアネート、１，５−ナフタレンジイソシアネート、ｍ−フェニレンジイソシアネート、ｐ−フェニレンジイソシアネート、３，３′−ジメチル−４，４′−ジフェニルメタンジイソシアネート、４，４′−ジフェニルメタンジイソシアネート、３，３′−ジメチルフェニレンジイソシアネート、４，４′−ビフェニレンジイソシアネート等が挙げられる。このうち特に、２，４−トリレンジイソシアネート、２，６−トリレンジイソシアネート、１，３−キシリレンジイソシアネート、１，４−キシリレンジイソシアネートが好ましい。
【００６６】
（ｃ）水酸基含有（メタ）アクリレートとしては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェニルオキシプロピル（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールモノ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシアルキル（メタ）アクリロイルフォスフェート、４−ヒドロキシシクロヘキシル（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールモノ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールモノ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタンジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート等を挙げることができる。これらのうち、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート等が好ましい。
【００６７】
これらの多官能（メタ）アクリレート化合物は、１種単独で、または２種以上を混合して用いることができる。
これらの多官能（メタ）アクリレート化合物のうち、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレートなど、１分子内に含まれるアクリロイル基の数が多く、架橋密度の向上が図れ、優れた膜硬度を与える多官能（メタ）アクリレート化合物が特に好ましい。
【００６８】
・光重合開始剤（光ラジカル発生剤）
光学等方性材料として紫外線硬化型（メタ）アクリル樹脂を用いる場合には、前記（メタ）アクリレート化合物を重合（硬化）するが、該重合させる際に光重合開始剤（光ラジカル発生剤）を用いることが好ましい。
【００６９】
光重合開始剤（光ラジカル発生剤）の具体例としては、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、キサントン、フルオレン、フルオレノン、ベンズアルデヒド、アントラキノン、トリフェニルアミン、カルバゾール、３−メチルアセトフェノン、４−クロロベンゾフェノン、４，４'−ジメトキシベンゾフェノン、４，４'−ジアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾイルプロピルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、チオキサントン、ジエチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）ブタン−１−オン、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オンなどが挙げられる。これらの光重合開始剤（光ラジカル発生剤）は、１種単独で、または２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００７０】
これらの光重合開始剤（光ラジカル発生剤）の中でも、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンが好ましい。
【００７１】
また、このような光重合開始剤（光ラジカル発生剤）は、市販品を用いることができる。たとえば、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オンは、イルガキュア９０７（チバスペシャルティケミカルズ（株）製）として、また、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンは、イルガキュア１８４（チバスペシャルティケミカルズ（株）製）として入手することができる。
【００７２】
光重合開始剤（光ラジカル発生剤）の添加量は、十分に硬化反応が進行する量であれば特に制限されないが、前記（メタ）アクリレート化合物１００重量部に対して、通常０．１〜２０重量部、好ましくは０．５〜１０重量部であることが望ましい。光重合開始剤（光ラジカル発生剤）の添加量が上記下限未満になると前記（メタ）アクリレート化合物の硬化反応が充分に進行せず、充分な硬度が得られないことがある。また、光重合開始剤（光ラジカル発生剤）の添加量が上記上限を超えると、紫外線硬化型（メタ）アクリル樹脂の保存安定性が低下することがある。
【００７３】
前述のような光学等方性材料を含む組成物を用いて、透明樹脂からなる基材上に凹部と凸部とが連続的に形成されたパターン部を形成した場合には、偏光性回折素子の凸部に由来する部分が光学等方性を有する。
【００７４】
・光学異方性材料
光学異方性材料としては、光学的に異方性を有する材料であれば特に制限なく用いることができるが、液晶材料が好ましく用いられる。液晶材料の中でも、連続的に経済的に偏光性回折素子を生産するという観点から、紫外線硬化型液晶が好ましく用いられる。
【００７５】
紫外線硬化型液晶としては、特に限定されることが無く、ネマティック型液晶、スメクティック型液晶にアクリレート基および／またはメタクリレート基を１個以上導入したものを用いることができる。
【００７６】
このような紫外線硬化型液晶の例としては、アゾキシ系液晶、シアノビフェニル系液晶、シッフ系液晶、シアノフェニルエステル系液晶、シアノフェニルシクロヘキサン系液晶、安息香酸フェニルエステル系液晶、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル系液晶、フェニルピリミジン系液晶、フェニルジオキサン系液晶などの低分子液晶にアクリレート基および／またはメタクリレート基を１個以上導入した紫外線硬化型液晶が挙げられる。また、これらの紫外線硬化型液晶は単独で使用してもよいし、２種以上を混合して使用してもよい。
【００７７】
光学異方性材料として紫外線硬化型液晶を用いてパターン部を形成する場合、紫外線硬化型液晶自体が流動性を有する場合には、紫外線硬化型液晶のみで用いても、紫外線硬化型液晶を含む混合物で用いてもよく、紫外線硬化型液晶の塗布性を向上させるために、溶剤を添加した溶液を組成物として用いてもよい。この時、使用される溶剤としては、分子配向能を有する層上にパターン部を形成する場合には、その分子配向性を損なわないものを適宜選択する。
【００７８】
具体的には、揮発速度が光学異方性材料の分子配向性に影響を与え、揮発速度が比較的遅い場合、塗布された面内で均一に揮発させることができるため、均一な分子配向となるため好ましい。
【００７９】
すなわち、使用する溶剤の沸点の違いにより、光学異方性材料の分子配向を制御することができる。例えばアセトンなどの沸点が４０℃付近の溶剤では乾燥時の揮発速度が早いため分子配向を比較的低めに制御することができ、またメチルエチルケトンなど沸点が８０℃付近の溶剤では揮発速度が比較的遅いため蒸発潜熱による分子配向の低下を抑制することができ、高い分子配向に制御することができる。なお溶剤の揮発は、該組成物を、基材上に塗布した後に、加熱等により溶剤を揮発させることが好ましく、紫外線硬化を行う前に行うことが好ましい。この時、溶剤の添加量は、紫外線硬化型液晶１００質量部に対して、好ましくは１〜５００質量部、さらに好ましくは１０〜４００質量部、特に好ましくは２０〜３００質量部である。
【００８０】
なお、紫外線硬化型液晶を含む組成物からなる凹部と凸部とが連続的に形成されたパターン部を得るためには、紫外線硬化型液晶を含む組成物により形成された塗膜に、紫外線を照射し、前記紫外線硬化型液晶の紫外線硬化を行い、前記紫外線硬化型液晶の硬化物（重合体）を得ることが好ましい。
【００８１】
加熱は、液晶を配向させるために行なうが、紫外線硬化型液晶を含む組成物として溶剤を添加した場合には、溶剤を揮発させるためにも行なう。加熱の温度としては、使用する液晶の種類にもよるが、通常液晶転移温度よりも高い温度に上げることが好ましく、透明樹脂からなる基材や分子配向能を有する層の耐熱性も鑑みると４０〜１５０℃とすることが好ましく、さらに好ましくは５０〜１４０℃である。分子配向能を有する層上にパターン部を形成する場合、加熱温度が１５０℃を超えると分子配向能を有する層が変形する恐れがあり好ましくなく、逆に加熱温度が４０℃未満では、所望の配向が得られないため好ましくなく、溶剤が添加された場合には溶剤が揮発せずに残留してしまうために好ましくない。また、上記温度範囲であれば、加熱温度は段階的に上げてもよい。
【００８２】
また、紫外線硬化型液晶を含む組成物は光重合開始剤（光ラジカル発生剤）が添加されてなることが好ましい。光重合開始剤は、前述の（メタ）アクリレート化合物などの光学等方性材料を重合（硬化）する際に用いることができる、光重合開始剤（光ラジカル発生剤）と同様のものを使用することができる。
【００８３】
光重合開始剤（光ラジカル発生剤）の添加量としては、紫外線硬化型液晶の質量１００質量部に対して、好ましくは１０質量部以下、さらに好ましくは５質量部以下、最も好ましくは３質量部以下である。添加量が１０質量部を超えると、未反応の光重合開始剤が液晶転移温度など偏光性回折素子の物性に与える影響が無視できなくなるため好ましくない。なお、市販の紫外線硬化型液晶を含む組成物としては、例えばメルク株式会社製のＬｉｃｒｉｖｕｅ(登録商標)  ＲＭＭ７２７等が挙げられる。
【００８４】
紫外線硬化を行う際の光源の例としては、メタルハライドランプや高圧水銀ランプが挙げられる。尚、紫外線照射は、パターンを有する面側から行ってもよく、パターンを有さない面側から行ってもよいが、連続的にパターンを形成する場合には、モールドが紫外線硬化型液晶を含む組成物に接触した状態で、パターンを有さない面側から照射を行なってもよい。
【００８５】
前述のような紫外線硬化型液晶を含む組成物を用いて、透明樹脂からなる基材上に凹部と凸部とが連続的に形成されたパターン部を形成した場合には、得られる偏光性回折素子の凸部に由来する部分が光学異方性を有する。
【００８６】
本発明に係る凹部と凸部とが連続的に形成されたパターン部は、上述した光学等方性材料あるいは光学異方性材料のいずれかから形成される。パターン部の形成方法は、特に限定されるものではなく、フォトレジストを用いたフォトリソグラフィーや、エッチングにより形成されてもよく、また、転写により形成されてもよい。フォトリソグラフィーやエッチングにより凹部と凸部とが連続的に形成されたパターン部を形成する方法としては、従来公知の方法を適宜採用することができる。
【００８７】
本発明では、凹部と凸部とが連続的に形成されたパターン部が、転写により形成されたものであることが好ましい。
転写によるパターン部形成では、上述した光学等方性材料または光学異方性材料を含む組成物を転写により基材上に塗布した後、加熱などの工程により乾燥した塗膜を得る。
【００８８】
具体的な塗工方法としては、たとえば、スピンコート法、リップコート法、コンマコート法、ロールコート法、ダイコート法、ブレードコート法、ディップコート法、バーコート法、流延成膜法、グラビアコート法、プリント法等が挙げられる。中でも、厚み精度と量産性の観点から、コンマコート法やグラビアコート法などが好ましく用いられる。
【００８９】
塗布した光学等方性材料あるいは光学異方性材料を含む塗膜の厚みとしては、所望するパターン部が付与できれば特に制限はないが、厚み精度を確保する目的から、好ましくは１〜３０μｍ、さらに好ましくは１〜２０μｍ、最も好ましくは１〜１５μｍである。パターンの凹部深さとしては、使用するレーザーの波長や使用する材料種によって設計が異なるが、一般には１〜１０μｍの範囲である。従って、前述の範囲で塗布した材料の厚みを制御することで、厚み精度を確保しつつ、不要な材料を使用することも無く経済性に優れた設計とできるために好ましい。また、パターンの凸部と凹部の幅は、凸部の幅をＬで表し、凹部の幅をＳで表したときに、Ｌ／Ｓの値が０．４≦｛Ｌ／（Ｌ＋Ｓ）｝≦０．６であることが好ましく、さらに好ましくは０．４５≦｛Ｌ／（Ｌ＋Ｓ）｝≦０．５５である。なかでもＬ＝Ｓの場合、すなわち凸部の幅と凹部の幅が一致する場合が特に好ましい。
【００９０】
さらに凸部の幅Ｌは、１μｍ≦Ｌ≦１０μｍであることが好ましく、さらに好ましくは１μｍ≦Ｌ≦５μｍ、最も好ましくは１μｍ≦Ｌ≦３μｍである。凹部の幅Ｓについても１μｍ≦Ｓ≦１０μｍであることが好ましく、さらに好ましくは１μｍ≦Ｓ≦５μｍ、最も好ましくは１μｍ≦Ｓ≦３μｍである。このような凸部の幅Ｌと凹部の幅Ｓを選択した場合に、所望の偏光回折能が得られるために好ましい。
【００９１】
前述した光学等方性材料または光学異方性材料を含む組成物により形成された塗膜に、凹部と凸部とが連続的に形成されたパターン部を付与する方法としては、凹部と凸部とが連続的に形成されたモールドが好ましく用いられる。凹部と凸部とが連続的に形成されたモールドの材質としては、所望のパターンが作製できれば特に制限はないが、ニッケルなどの金属製のものやシリコーン製のもの、あるいは合成石英などの透明なものなどが好ましく用いられる。また、形状を付与するために塗膜と密着させた後の型離れを良くするために、凹部と凸部とが連続的に形成されたモールド表面には、フッ素系やシリコーン系の離経済をコーティングするなどして離型処理を行うことも好ましい。凹部と凸部とが連続的に形成されたモールドの形状としては、平板状やロール形状など、所望のパターンが作製できれば特に制限はないが、基材が枚葉の形態の場合には、平板状のモールドを、基材がロールの形態の場合には、ロール形状のモールドを使用すればよい。
【００９２】
光学等方性材料または光学異方性材料からなる凹部と凸部とが連続的に形成されたパターン部を得るためには、上述のようにして光学等方性材料または光学異方性材料と光重合開始剤とを含む組成物によりパターンが形成された塗膜に、紫外線などの放射線を照射して硬化することが好ましい。
【００９３】
充填部
本発明の偏光性回折素子は、好ましくは上記パターン部の凹部が充填された充填部を有する。充填部は、上記パターン部が光学等方性材料からなる場合には光学異方性材料により、パターン部が光学異方性材料からなる場合には光学等方性材料により形成される。充填部を形成し得る光学異方性材料あるいは光学等方性材料としては、パターン部形成に使用し得るものとして上述したものを好適に用いることができる。
【００９４】
本発明に係る充填部は、光学異方性材料あるいは光学等方性材料と、パターン部形成に使用し得るものとして上述した光重合開始剤（光ラジカル発生剤）とを含む充填部形成用組成物を用いて形成するのが好ましい。
【００９５】
充填部は、前記基材のパターンを有する面に、充填部形成用組成物を塗布して前記凹部を充填し、必要に応じて紫外線照射などにより硬化することによって好適に形成できる。なお、本発明の態様の模式図を示す図２においては、前記凹部のみに充填部が形成されているが、実際には、凹部への充填と同時に、凸部の上部にも充填部形成用組成物が塗布され、凸部の上部にも該組成物からなる塗膜が存在する場合があり、本発明の偏光性回折素子はこのような態様であってもよい。
【００９６】
このような本発明の偏光性回折素子としては、特に限定されるものではないが、凸部が光学異方性材料から、充填部が光学等方性材料からなるものが好ましい。
なお、本発明では、基板を構成する透明樹脂、必要に応じて基板上に設けられる分子配向能を有する層、凹部と凸部とが連続的に形成されたパターン部、ならびに充填部を形成する材料となる組成物には、必要に応じて、酸化防止剤、熱安定剤、光安定剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、消泡剤、界面活性剤（離型剤）などの公知の添加剤を発明の効果が損なわれない範囲で添加することができる。
【００９７】
・反射防止層
本発明の偏光性回折素子は、素子を通過する光の利用効率を高めるために通常はさらに反射防止層を有する。
【００９８】
本発明の偏光性回折素子は、反射防止層を有することが好ましい。反射防止層は、熱硬化性樹脂組成物あるいは光硬化性樹脂組成物をグラビアコート、ダイコート、スロットコート等公知の塗工方法で塗工し、必要に応じて乾燥させた後、硬化して形成することができる。また、スパッタリングや蒸着等により形成することもできる。これらの層は、基材の片面に設けてもよいし、両面に設けてもよい。
【００９９】
反射防止層は通常、低屈折率層からなり、さらに反射防止性能を高めるために、低屈折率層と高屈折率層との積層構造を有していてもよく、またさらに耐擦傷性を確保するため、ハードコート層を有していてもよい。積層順は、偏光素子の最外層側から、好ましくは、ハードコート層／高屈折率層／低屈折率層の順に積層される。また必要に応じて、低屈折率層と高屈折率層の間、あるいはハードコート層と高屈折率層の間に中屈折率層を有してもよい。
【０１００】
低屈折率層および高屈折率層を形成するための組成物としては、バインダー樹脂、光重合開始剤および高硬度粒子などからなる公知の硬化性組成物が挙げられる。例えば、バインダー樹脂として、エポキシ系樹脂、フェノール系樹脂、メラミン系樹脂、アルキド系樹脂、シアネート系樹脂、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、シロキサン樹脂等を１種以上含有し、さらに、低屈折率層形成用組成物はフッ素含有化合物を含有し、高屈折率層形成用組成物は高屈折率の無機粒子、例えばシリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、セリア、スカンジア、フッ化マグネシウム等金属酸化物粒子を含有する。
【０１０１】
低屈折率層および高屈折率層の屈折率および厚みは公知の範囲で用いられるが、使用する波長における反射防止効果を高めるため、低屈折率層の屈折率（２５℃、波長５８９ｎｍでの平均屈折率）は、１．４５以下であることが好ましく、低屈折率層の厚みは５０〜３００ｎｍであることが好ましい。また、高屈折率層の屈折率（２５℃、波長５８９ｎｍでの平均屈折率）は、低屈折率層の屈折率より０．０５以上大きい屈折率であることが好ましく、厚みは５０〜１０，０００ｎｍであることが好ましい。
【０１０２】
偏光性回折素子
本発明の偏光性回折素子は、回折格子層、好ましくは凹部と凸部とが連続的に形成されたパターン部と、凹部を充填してなる充填部からなる回折格子層が、透明樹脂からなる基材の片面に形成されてもよく、両面に形成されてもよく、好ましくは片面のみに形成されている。そして本発明の偏光性回折素子は、回折格子層が光学等方性材料と光学異方性材料とから交互に形成された回折格子層を有し、該回折格子層は、凹部と凸部とが連続的に形成されたパターン部と、凹部を充填してなる充填部からなる場合には、凸部を形成するパターン部と充填部のいずれか一方が光学等方性材料から、他方が光学異方性材料からなる。
【０１０３】
本発明の偏光性回折素子は片面に形成された凹凸部が基材で封止されてなることも好ましく、充填部の光学等方性材料または光学異方性材料を塗布し封止基材と共に紫外線硬化させることで密着性が良好となる。
【０１０４】
本発明の偏光性回折素子は、その厚みを特に限定するものではないが、たとえば厚みが６０〜５００μｍ、より好ましくは１００〜３００μｍ程度のフィルム状とすることができる。このように厚みが薄く出来るために光学部品としては小型化や軽量化が達成できる。また、本発明の偏光性回折素子は、このような厚みであることに加えて、さらに樹脂からなるために、所望の形状に打ち抜いてチップカット品を作製する等の加工が容易であるために好ましい。
【０１０５】
本発明の偏光性回折素子は、その波長６６０ｎｍの直線偏光性の光をλ1、波長７８５ｎｍの直線偏光性の光をλ2としたときに、
Ｎｕ（λ1）：波長λ1における光学等方性材料の屈折率、
Ｎｏ（λ1）：波長λ1における光学異方性材料の常光屈折率、
Ｎｕ（λ2）：波長λ2における光学等方性材料の屈折率、および
Ｎｏ（λ2）：波長λ2における光学異方性材料の常光屈折率
が、下記式（ｉ）および（ii）を満たす。
（ｉ）０．００８≦|Ｎｕ（λ1）−Ｎｏ（λ1）|≦０．０１２
（ii）０．００４≦|Ｎｕ（λ2）−Ｎｏ（λ2）|≦０．００９
また、好ましくは下記式（ｉ'）および（ii'）を満たす。
（ｉ'）０．００８≦|Ｎｕ（λ1）−Ｎｏ（λ1）|≦０．０１０
（ii'）０．００４≦|Ｎｕ（λ2）−Ｎｏ（λ2）|≦０．００７
【０１０６】
なお、本発明において、屈折率および常光屈折率は、２５℃での測定値を意味する。ここで、光学等方性材料については、異方性を有しないため、屈折率は一つの値を有するのに対し、光学異方性材料については、材料に対して垂直に入射する光に対する法線面内に屈折率が２つ存在し、光軸に対して垂直な方向に伝播する光を常光、平行な方向に伝播する光を異常光と呼び、それぞれ常光に対応する屈折率を常光屈折率、異常光に対応する屈折率を異常光屈折率と呼ぶ。
【０１０７】
このように、本発明の偏光性回折素子では、波長６６０ｎｍ（λ1）における光学等方
性材料の屈折率Ｎｕ（λ1）と波長６６０ｎｍ（λ1）における光学異方性材料の常光屈折率Ｎｏ（λ1）、および、波長７８５ｎｍ（λ2）における光学等方性材料の屈折率Ｎｕ（λ2）と波長７８５ｎｍ（λ2）における光学異方性材料の常光屈折率Ｎｏ（λ2）が、それぞれ上記特定範囲の有意な差を有している。
【０１０８】
すなわち本発明の偏光性回折素子は、Ｎｕ（λ1）とＮｏ（λ1）、および、Ｎｕ（λ2）とＮｏ（λ2）が、それぞれ上記特定範囲の差を有し、いずれの波長においても、光学等方性材料の屈折率と光学異方性材料の常光屈折率とが同一ではなく、特定範囲にコントロールされた差を有する。これにより、透過率の絶対値はこれらの屈折率の差が０の場合よりも若干低くなるものの、材料に由来する屈折率の振れ幅を設計の屈折率幅に吸収させることができ、結果的に偏光性回折素子の光学特性（透明性）を面内全体においてほぼ均質とすることができる。
【０１０９】
上記Ｎｕ（λ1）としては通常1.600〜1.400、好ましくは1.550〜1.450上記No（λ1）としては通常1.600〜1.400、好ましくは1.550〜1.450、上記Ｎｕ（λ2）としては通常1.600〜1.400、好ましくは1.550〜1.450、上記Ｎｏ（λ2）としては通常1.600〜1.400、好ましくは1.550〜1.450、である。各ＮｕおよびＮｏが上記範囲内であると得られる偏光性回折素子に用いられる光学異方性材料や光学等方性材料が一般的な液晶やアクリル樹脂の範囲内とすることができるため、材料供給安定の点からみても好ましい。
【０１１０】
また本発明では上記屈折率制御を行うことによりλ1およびλ2における常光の透過波面の屈曲率を偏光性回折素子の面全体において低い値にてほぼ均質とすることができる。
なお、透過波面の屈曲率は透過波面収差と呼び、偏光性回折素子においては２５ｍλ以下が好ましく、より好ましくは２０ｍλ以下、さらに好ましくは１５ｍλ以下である。波面収差が２５ｍλより大きくなると、偏光性回折素子を通過するレーザー光がゆがみ、光ピックアップ装置に組み込んだ際に、ディスクの読み取り不良を起こすために好ましくない。
【０１１１】
このような光学等方性材料の屈折率と光学異方性材料の常光屈折率との差は、凸部および充填部を形成する光学等方性材料および光学異方性材料の種類を適宜選択することにより、所望の範囲に制御することができる。
【０１１２】
本発明の偏光性回折素子は、前記反射防止層を有することで、波長６６０ｎｍの直線偏光性の光をλ1、波長７８５ｎｍの直線偏光性の光をλ2としたときに、
Ｔｏ（λ1）：波長λ1における光学異方性材料の常光屈折率方向に対して平行方向に偏波面を持つ垂直入射光の常光透過率、
Ｔｏ（λ2）：波長λ2における光学異方性材料の常光屈折率方向に対して平行方向に偏波面を持つ垂直入射光の常光透過率、
Ｔｅ（λ1）：波長λ1における光学異方性材料の異常光屈折率方向に対して平行方向に偏波面を持つ垂直入射光の異常光透過率、および
Ｔｅ（λ2）：波長λ2における光学異方性材料の異常光屈折率方向に対して平行方向に偏波面を持つ垂直入射光の異常光透過率
を、好ましくは下記式（iii）〜（vi）または（vii）〜（x）を満たす範囲に、最も好ましくは（iii’）〜（vi’）または（vii’）〜（x’）を満たす範囲に制御することができる。
（iii）   Ｔｏ（λ1）≧９５％
（iv）    Ｔｏ（λ2）≧９５％
（ｖ）    Ｔｅ（λ1）≦５％
（vi）    Ｔｅ（λ2）≦１５％
（vii）   Ｔｏ（λ1）≧９５％
（viii）  Ｔｏ（λ2）≧９５％
（ix）    Ｔｅ（λ1）≦１５％
（x）     Ｔｅ（λ2）≦５％
（iii’） Ｔｏ（λ1）≧９８％
（iv’）  Ｔｏ（λ2）≧９８％
（v’）   Ｔｅ（λ1）≦３％
（vi’）  Ｔｅ（λ2）≦１０％
（vii’） Ｔｏ（λ1）≧９８％
（viii’）Ｔｏ（λ2）≧９８％
（ix’）  Ｔｅ（λ1）≦１０％
（x’）   Ｔｅ（λ2）≦３％
【０１１３】
本発明の偏光性回折素子は、Ｎｕ（λ）およびＮｅ（λ）が下記式（xi）を満たすように設定すれば任意のＴｅ（λ）とすることができる。
（xi）Ｔｅ（λ）＝cos2〔[ｄ(Ｎｅ（λ）―Ｎｕ（λ）)／λ]／ｐ〕×１００
上式において、ｄは凹凸部溝深さを示し、ｐは凹凸部の繰り返し長さ（ピッチ）を示している。
【０１１４】
また、Ｎｕ（λ）およびＮｏ（λ）が下記式(xii)を満たすように設定し、前述の反射防止膜を有することでＴｏ（λ）≧９８％とすることができる。
（xii）|Ｎｕ（λ）−Ｎｏ（λ）|≦０．０１２
本発明の偏光性回折素子では、複数の測定点で測定したＴｏ（λ1）、Ｔｏ（λ2）、Ｔｅ（λ1）、Ｔｅ（λ2）の各平均値が、好ましくは上記式（iii）〜（vi）または（vii）〜（x）を満たす範囲に、最も好ましくは（iii’）〜（vi’）または（vii’）〜（x’）を満たす範囲にを満たす範囲にあればよいが、複数の測定点で測定した各測定点のＴｏ（λ1）、Ｔｏ（λ2）、Ｔｅ（λ1）、Ｔｅ（λ2）の値の９５％以上、より好ましくは９７％以上が、それぞれ上記式（iii）〜（vi）または（vii）〜（x）を満たす範囲に、最も好ましくは（iii’）〜（vi’）または（vii’）〜（x’）を満たす範囲にを満たす範囲にあることが望ましい。
【０１１５】
本発明の偏光性回折素子では、複数の測定点で測定した波長λ1における透過波面収差
の平均値が２５ｍλ以下、より好ましくは２０ｍλ以下、さらに好ましくは１５ｍλ以下であることが望ましい。
【０１１６】
本発明の偏光性回折素子は、高い面内均一性を有するものとでき、たとえば後述する実施例に記載の評価法による光学特性の面内均一性を、９５％以上、好ましくは９７％以上、より好ましくは９９％以上とすることができる。
【実施例】
【０１１７】
以下、実施例に基づいて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。なお、各性状は次のようにして測定し、評価した。
【０１１８】
（１）常光透過率、異常光透過率および面内均一性
大塚電子社製ＲＥＴＳ−１２００ＶＡを用い、光径２ｍｍφの条件で、偏光性回折素子の、光学異方性材料の常光屈折率方向に対して平行方向に偏波面を持つ垂直入射光の常光透過率Ｔｏ（λ）と光学異方性材料の異常光屈折率方向に対して平行方向に偏波面を持つ垂直入射光の異常光透過率Ｔｅ（λ）をそれぞれ１０ｃｍ角の正方形面積内にて２ｍｍ間隔で２５００点測定し、平均値ａo（λ）、ａe（λ）を求めた。これら２５００測定点の結果より、常光透過率及び異常光透過率の面内均一性を下記式（vii）により求めた。
【０１１９】
Ｘ／２５００×１００（％）  ・・・  （vii）
［式（vii）中、Ｘは常光透過率Ｔｏ（λ1）≧９５％であり、Ｔｏ（λ2）≧９５％であり、異常光透過率Ｔｅ（λ1）≦５％であり、且つＴｅ（λ2）≦１５％を満たす測定点もしくは、常光透過率Ｔｏ（λ1）≧９５％であり、Ｔｏ（λ2）≧９５％であり、異常光透過率Ｔｅ（λ1）≦１５％であり、且つＴｅ（λ2）≦５％の数］
【０１２０】
（２）波面収差
フジノン社製レーザー干渉計Ｒ−１０を用い、波長６５６ｎｍ、光径２ｍｍφのレーザー光を用いて、偏光性回折素子の波面収差として全面ＲＭＳ（λｒｍｓ）をそれぞれ１０ｃｍ角の正方形面積内にて１０ｍｍ間隔で１００点測定し、平均値λrmsaveを求めた。これら１００測定点の結果より、測定された値が１５ｍλ以下の点をカウントし、その点数を面内均一性（％）とした。
【０１２１】
（３）反射率
反射防止層を設けた面の反対側の表面を黒色スプレーで塗装し、分光反射率測定装置（大型試料室積分球付属装置１５０−０９０９０を組み込んだ分光光度計Ｕ−３４１０、日立製作所（株）製）により、偏光性回折素子の波長６６０ｎｍおよび７８５ｎｍにおける反射率を反射防止層側から測定して評価した。具体的には、アルミの蒸着膜における反射率を基準（１００％）として、反射率を６６０ｎｍおよび７８５ｎｍにて測定した。
【０１２２】
（４）ガラス転移温度（Ｔｇ）
セイコーインスツルメンツ社製ＤＳＣ６２００を用いて、昇温速度を毎分２０℃、窒素気流下で測定を行った。樹脂のＴｇは、微分示差走査熱量の最大ピーク温度（Ａ点）及び最大ピーク温度より−２０℃の温度（Ｂ点）を示差走査熱量曲線上にプロットし、Ｂ点を起点とするベースライン上の接線とＡ点を起点とする接線との交点として求めた。紫外線硬化型アクリル樹脂のＴｇは、強制共振振動型の動的粘弾性測定装置を用いて、硬化フィルムとしてのガラス転移温度を測定した。具体的には、硬化フィルムに周波数１０Ｈｚの振動を与えながら、昇温速度３℃／分で、損失正接を測定した。損失正接が最大値を示した温度をガラス転移温度（Ｔｇ）とした。
【０１２３】
（５）全光線透過率、ヘイズ
スガ試験機社製ヘイズメーター（ＨＧＭ−２ＤＰ型）を使用してフィルムの全光線透過率を測定した。
【０１２４】
（６）屈折率
Ｍｅｔｒｉｃｏｎ社製のプリズムカップラ（ＰＣ２０１０型）を用いて、４０８ｎｍ、６３２．８ｎｍおよび８３０ｎｍでの屈折率を測定し、Ｃａｕｃｈｙの分散式でフィッティングを行い４１０ｎｍから８００ｎｍの波長範囲における２５℃での屈折率を求めた。
【０１２５】
［合成例１］（樹脂（Ａ−１）（環状オレフィン系樹脂）の合成）
８−メチル−８−メトキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン（ＤＮＭ）２２５質量部と、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン（ノルボルネン）２５質量部とを単量体として用い、１−ヘキセン（分子量調節剤）２７質量部と、トルエン（開環重合反応用溶媒）７５０質量部とともに、窒素置換した反応容器に仕込み、この溶液を６０℃に加熱した。次いで、反応容器内の溶液に、重合触媒として、トリエチルアルミニウムのトルエン溶液（１．５ｍｏｌ／リットル）０．６２質量部と、ｔｅｒｔ−ブタノールおよびメタノールで変性した六塩化タングステン（ｔｅｒｔ−ブタノール：メタノール：タングステン＝０．３５ｍｏｌ：０．３ｍｏｌ：１ｍｏｌ）のトルエン溶液（濃度０．０５ｍｏｌ／リットル）３．７質量部とを添加し、この溶液を８０℃で３時間加熱攪拌することにより開環重合反応させて開環重合体溶液を得た。この重合反応における重合転化率は９７％であった。
【０１２６】
このようにして得られた開環重合体を水素添加反応することにより水素添加重合体（以下、「樹脂（Ａ−１）」という。）を得た。
このようにして得られた樹脂（Ａ−１）のＴｇは１３０℃であった。
【０１２７】
［合成例２］（樹脂（Ａ−２）（環状オレフィン系樹脂）の合成）
ＤＮＭ７１質量部、ジシクロペンタジエン（トリシクロ[４．３．０．１2,5]デカ−３
，７−ジエン）（ＤＣＰ）１５質量部、およびノルボルネン（ＮＢ）１質量部を単量体として用い、分子量調節剤の１−へキセン １８質量部、およびトルエン ２００質量部とともに、窒素置換した反応容器に仕込んで１００℃に加熱した。
【０１２８】
これにトリエチルアルミニウム ０．００５質量部、メタノール変性ＷＣｌ6（無水メタノール：ＰｈＰＯＣｌ2：ＷＣｌ6＝１０３：６３０：４２７ 質量比）０．００５質量部を加えて１分反応させ、次いで、ＤＣＰ １０質量部とＮＢ３質量部を５分で追加添加して、さらに４５分反応させることにより、ＤＮＭに由来する構成単位／ＤＣＰに由来する構成単位／ＮＢに由来する構成単位＝６９．７７／２６．０１／４．２３（質量％）の共重合体を得た。
【０１２９】
次いで、得られた共重合体を水素添加反応をすることにより、水素添加共重合体を得た（以下、「樹脂（Ａ−２）」という）。
このようにして得られた樹脂（Ａ−２）のＴｇは１３１℃であった。
【０１３０】
［合成例３］（樹脂（Ａ−３）（環状オレフィン系樹脂）の合成）
テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン５３質量部と、８−エチリデンテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン４６質量部と、トリシクロ［４．３．０．１2,5］−デカ−３，７−ジエン６６質量部とを使用し、１−ヘキセン（分子量調節剤）の添加量を２２質量部とし、開環重合反応用溶媒としてトルエンの代わりにシクロヘキサンを使用したこと以外は、合成例１と同様にして水素添加重合体（以下、「樹脂（Ａ−３）」という）を得た。
得られた樹脂（Ａ−３）のガラス転移温度（Ｔｇ）は１２５℃であった。
【０１３１】
［合成例４］（ポリイミドの合成）
テトラカルボン酸二無水物として、２，３，５−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物２２．４ｇ（０．１モル）、ジアミン化合物として４，４'−ジアミノジフェニルメタン１９．８ｇ（０．１モル）を、Ｎ−メチル−２−ピロリドン８００ｇに溶解させ、６０℃で４時間反応させた。次いで、反応溶液を大過剰のメチルアルコールに注いで反応生成物を沈澱させた。その後、メチルアルコールで洗浄し、減圧下４０℃で１５時間乾燥させることにより、対数粘度０．３２ｄｌ／ｇのポリアミック酸３９０ｇを得た。得られたポリアミック酸２５ｇをＮ−メチル−２−ピロリドン４７５ｇに溶解させ、ピリジン３９．５ｇおよび無水酢酸３０．６ｇを添加し１１０℃で４時間脱水閉環させ、上記と同様にして沈殿、洗浄、減圧を行い、対数粘度０．６４ｄｌ／ｇ、イミド化率９２％のポリイミド１９．５ｇを得た。
【０１３２】
［合成例５］（ポリアミック酸エステルの合成）
２,３,５−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物０.１モル（２２.４ｇ）とｐ−フェニレンジアミン０.１モル（１０.８ｇ）をＮ−メチル−２−ピロリドン３００ｇに溶解させ、６０℃で６時間反応させた。次いで、反応混合物を大過剰のメタノールに注ぎ、反応生成物を沈澱させた。その後、メタノールで洗浄し、減圧下４０℃で１５時間乾燥させて、ポリアミック酸２７.４ｇを得た。得られたポリアミック酸１６．６ｇにＮ−メチル−２−ピロリドン３５０ｇ、１−ブロモ−６−（４−カルコニルオキシ）ヘキサン３８．７ｇおよび炭酸カリウム１３.８ｇを添加し、１２０℃で４時間反応させた。次いで、反応混合液を水に注ぎ、反応生成物を沈澱させた。得られた沈殿物を水で洗浄し減圧下で１５時間乾燥させて、ポリアミック酸エステル３５．４ｇを得た。
【０１３３】
［合成例６］（ウレタンアクリレートの合成）
攪拌機を備えた反応容器に、２−フェノキシエチルアクリレートを４９．９６質量部、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾールを０．０１質量部、ジラウリル酸ジ−ｎ−ブチル錫０．０４質量部、トリレンジイソシアネートを１７．７４質量部加え、５〜１５℃に冷却した。温度が１０℃以下になったところで、２−ヒドロキシエチルアクリレート１１．８４質量部を攪拌しながら滴下し、液温度を２０〜３５℃で制御しながら１時間攪拌した。その後、ビスフェノールＡのアルキレンオキサイド付加ジオール（日油（株）製  ＤＡ−４００）を２０．４０質量部仕込み、５５〜６５℃で３時間反応を続け、残留イソシアネートが０．１質量％以下になった時を反応終了とし、ウレタンアクリレートを得た。
【０１３４】
［調製例１］（紫外線硬化型アクリル樹脂の調製）
攪拌機を備えた反応容器に、次に示す配合比（質量部）で各成分を仕込み、５０℃で１時間攪拌混合して、液状組成物を得た。具体的な配合比は、合成例６で得たウレタンアクリレート９．８質量部、トリメチロールプロパントリアクリレート１３．７質量部、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌル酸アクリル酸エステル２９．４質量部、ポリオキシアルキレンビスフェノールＡジアクリレート３２．３質量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート／ジペンタエリスリトールペンタアクリレートの混合物４．９質量部、Ｎ−ビニル−２−ピロリドン７．８質量部、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン１．５質量部、チオジエチレンビス（３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート）０．３質量部、ジエチルアミン０．１質量部、ポリオキシアルキレンアルキルエーテルリン酸エステル０．３質量部、以上合計で１００．１質量部とした。得られた液状組成物としての紫外線硬化型アクリル材料の粘度は、ＪＩＳ  Ｋ７１１７に従い、回転粘度計を用いて２５℃における値で５４０ｍＰａ・ｓであり、紫外線硬化後の樹脂のＴｇは１２０℃、屈折率（Ｎｕ）は６６０ｎｍにおいて１．５３４、７８５ｎｍにおいて１．５３０であった。
【０１３５】
［調製例１］（配向層形成用組成物（Ｂ−１）の調製）
ポリビニルアルコールの水酸基を置換基−ＯＣＯＰｈＯ（ＣＨ2）4ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ2で０．２ｍｏｌ％、置換基−ＯＣＯＣＨ3で１１．８ｍｏｌ％置換した構造を有する、ケン化度８８ｍｏｌ％、重合度３００の変性ポリビニルアルコールの粉体を、蒸留水１００重量部に対して５重量部混合し、メタノールを３５重量部加えて溶解させた。この溶液を孔径１μｍのフィルターを用いて濾過し、配向層形成用組成物（Ｂ−１）を調製した。
【０１３６】
［調製例２］（配向層形成用組成物（Ｂ−２）の調製）
合成例４で得たポリイミドを、γ−ブチロラクトンに溶解させて、Ｎ−エトキシカルボニル−３−アミノプロピルトリエトキシシランを重合体１００重量部に対して０．７５重量部溶解させ、固形分濃度４重量％の溶液とした。この溶液を孔径１μｍのフィルターを用いて濾過し、配向層形成用組成物（Ｂ−２）を調製した。
【０１３７】
［調製例３］（配向層形成用組成物（Ｂ−３）の調製）
合成例５で得たポリアミック酸エステルを、γ−ブチロラクトンに溶解させて、Ｎ−エトキシカルボニル−３−アミノプロピルトリエトキシシランを重合体１００重量部に対して０．７５重量部溶解させ、固形分濃度４重量％の溶液とした。この溶液を孔径１μｍのフィルターを用いて濾過し、配向層形成用組成物（Ｂ−３）を調製した。
【０１３８】
［調製例４］（配向層形成用組成物（Ｂ−４）の調製）
攪拌機を備えた反応容器に、次に示す配合比（質量部）で各成分を仕込み、室温で１時間攪拌混合して、液状組成物を得た。具体的な配合比は、ジシクロペンタニルオキシエチルアクリレート９０．１質量部、イソシアヌレートトリアクリレート７．２質量部、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン２．７質量部、以上合計で１００．０質量部とした。得られた液状組成物としての紫外線硬化型アクリル材料の粘度は、ＪＩＳ  Ｋ７１１７に従い、回転粘度計を用いて２５℃における値で２４ｍＰａ・ｓであり、紫外線を照射することにより配向層形成用組成物（Ｂ−４）を得た。
【０１３９】
［調製例５］（光学等方性材料形成用組成物（Ｄ−１）の調製）
攪拌機を備えた反応容器に、次に示す配合比（質量部）で各成分を仕込み、５０℃で１時間攪拌混合して、組成物（Ｄ−１）を得た。具体的な配合比は、合成例６で得たウレタンアクリレート７．８質量部、トリメチロールプロパントリアクリレート１１．７質量部、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌル酸アクリル酸エステル３１．４質量部、ポリオキシアルキレンビスフェノールＡジアクリレート３２．３質量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート／ジペンタエリスリトールペンタアクリレートの混合物４．９質量部、Ｎ−ビニル−２−ピロリドン９．８質量部、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン１．５質量部、チオジエチレンビス（３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート）０．３質量部、ジエチルアミン０．１質量部、ポリオキシアルキレンアルキルエーテルリン酸エステル０．３質量部、以上合計で１００．１質量部とした。得られた組成物（Ｄ−１）の粘度は、ＪＩＳ  Ｋ７１１７に従い、回転粘度計を用いて２５℃における値で５４０ｍＰａ・ｓであり、紫外線硬化後の樹脂のＴｇは１２０℃、屈折率（Ｎｕ）は６６０ｎｍにおいて１．５３４、７８５ｎｍにおいて１．５３０であった。
【０１４０】
［調製例６］（光学等方性材料形成用組成物（Ｄ−２）の調製）
攪拌機を備えた反応容器に、次に示す配合比（質量部）で各成分を仕込み、室温で１時間攪拌混合して、組成物（Ｄ−２）を得た。具体的な配合比は、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート１２．１質量部、２−フェノキシエチルアクリレート５．０質量部、ジシクロペンテニルオキシエチルアクリレート７９．９質量部、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン３．０質量部、以上合計で１００．０質量部とした。得られた組成物（Ｄ−２）の粘度は、ＪＩＳ  Ｋ７１１７に従い、回転粘度計を用いて２５℃における値で２１ｍＰａ・ｓであり、紫外線硬化後の樹脂の屈折率（Ｎｕ）は６６０ｎｍにおいて１．５３０、７８５ｎｍにおいて１．５２８であった。
【０１４１】
［調製例７］（光学等方性材料形成用組成物（Ｄ−３）の調製）
攪拌機を備えた反応容器に、次に示す配合比（質量部）で各成分を仕込み、室温で１時間攪拌混合して、組成物（Ｄ−３）を得た。具体的な配合比は、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート５１．２ 質量部、２−フェノキシエチルアクリレート２６．２質量部、イソシアヌレートトリアクリレート１９．７質量部、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン２．９質量部、以上合計で１００．０質量部とした。得られた組成物（Ｄ−３）の粘度は、ＪＩＳ  Ｋ７１１７に従い、回転粘度計を用いて２５℃における値で１７ｍＰａ・ｓであり、紫外線硬化後の樹脂の屈折率（Ｎｕ）は６６０ｎｍにおいて１．５２０、７８５ｎｍにおいて１．５１７であった。
【０１４２】
［製造例１］（基材（ａ−１）の製造）
合成例１で得た樹脂（Ａ−１）と酸化防止剤としてペンタエリスリチルテトラキス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］を、二軸押出機（東芝機械株式会社製；ＴＥＭ−４８）を用いて押出し、ストランドダイより流出させた樹脂ストランドを冷却水槽で冷却の後、ストランドカッターに送り込み、米粒状に裁断し、造粒樹脂（透明樹脂（Ａ−１））を得た。酸化防止剤添加量は、樹脂１００質量部に対して０．１質量部とした。
【０１４３】
この造粒樹脂を単軸押出機（９０ｍｍΦ）を用いて、厚み１３０μｍの樹脂フィルムを得た（以下、「基材（ａ−１）」という）。得られたフィルムの残留溶媒量は０．１％であり、全光線透過率は９３％で、ガラス転移温度（Ｔｇ）は１３０℃であった。
【０１４４】
［製造例２］（基材（ａ−２）の製造）
製造例１において、樹脂（Ａ−１）に代えて、合成例２で得た樹脂（Ａ−２）を用いたこと以外は、製造例１と同様にして、厚み１３０μｍの樹脂フィルムを得た（以下、「基材（ａ−２）」という）。得られたフィルムの残留溶媒量は０．１％であり、全光線透過率は９３％で、ガラス転移温度（Ｔｇ）は１３１℃であった。
【０１４５】
［製造例３］（基材（ａ−５）の製造）
製造例１において、樹脂（Ａ−１）に代えて、合成例３で得た樹脂（Ａ−３）を用いたこと以外は、製造例１と同様にして、厚み１００μｍの樹脂フィルムを得た（以下、「基材（ａ−５）」という）。得られたフィルムの残留溶媒量は０．１％であり、全光線透過率は９３％で、ガラス転移温度（Ｔｇ）は１２４℃であった。
【０１４６】
［実施例１］
製造例１で得た基材（ａ−１）の片面に、株式会社飯沼ゲージ製作所製ラビング機でロール回転数を６００ｒｐｍ、フィルム搬送速度を３ｍ／分、ロール押し込み量を０．３ｍｍとしてラビング処理をラビング方向がフィルム長手方向に平行となるように行い基材（ａ'−１）を得た。次いで、井上金属工業製ＩＮＶＥＸラボコーターにて２００メッシュの小径グラビアロールを用いて、メルク株式会社製の紫外線硬化型液晶材料であるＲＭＭ７２７が１００質量部に対して溶剤であるメチルエチルケトンを３５質量部添加したものを５０℃条件下で基材（ａ'−１）のラビング処理をして分子配向能を付与した面に塗布して乾燥、配向させ厚み４μｍの光学異方性層を形成した。基材（ａ'−１）上の光学異方性層の屈折率を測定したところ直線偏光性の波長６６０ｎｍの光において異常光屈折率Ｎｅ＝１．６７８、常光屈折率Ｎｏ＝１．５４２、７８５ｎｍにおいて異常光屈折率Ｎｅ＝１．６６５、常光屈折率Ｎｏ＝１．５３５であった。
【０１４７】
次いで、凹部と凸部とが連続的に形成されたパターン部が転写されるように調製した転写ロールを用いて、塗布面に凹部と凸部とが連続的に形成されたパターン部を転写させた。なお、転写ロール表面の凹部と凸部は、ロールの円周方向に沿って凹凸の溝が形成されるように調製した。
【０１４８】
転写するのと同時に高圧水銀ランプを用いて紫外線を基材（ａ'−１）のパターンを有さない面側から５００ｍＪ／ｃｍ2のエネルギー量で照射して凹部と凸部とが連続的に形成されたパターン部を形成し、基材（ｂ−１）を得た。凸部の幅は２．５μｍ、凹部の幅は２．５μｍとし、凹部の深さは２．６μｍとした。次に、形成された凹部へ、井上金属工業製ＩＮＶＥＸラボコーターにて３００メッシュの小径グラビアロールを用いて、調製例５で得た光学等方性材料形成用組成物（Ｄ−１）を塗布し、高圧水銀ランプを用いて紫外線を、パターンを有さない側から５００ｍＪ／ｃｍ2のエネルギー量で照射して硬化させることで、光学等方性材料よりなる充填部を形成し、基材（ｃ−１）を得た。光学等方性材料の厚みは、凹部の底部から最表層までが４μｍであった。
【０１４９】
基材（ｃ−１）の両面に反射防止処理を行い、偏光性回折素子（１）を得た。得られた偏光性回折素子（１）の２５００点測定の常光透過率の平均値ａｏ（λ）は、直線偏光性の波長６６０ｎｍの光においてａｏ（λ1）＝９８．８％、波長７８５ｎｍにおいてａｏ（λ2）＝９９．５％であり、異常光透過率の平均値は、波長６６０ｎｍにおいてａｅ（λ1）＝２．５％、波長７８５ｎｍにおいてａｅ（λ2）＝７．７％であった。また、面内均一性は１００％であった。反射率は、パターンおよび充填部を有する側（パターン側）の面で６６０ｎｍにおいて０．１％、波長７８５ｎｍにおいて０．１％であり、基材（ａ'−１）側（基材側）の面で６６０ｎｍにおいて０．２％、波長７８５ｎｍにおいて０．２％であった。また、波面収差を測定した結果、λｒｍｓave＝１０ｍλ、面内均一性は１００％であり、平坦な面ができていることが分かった。
偏光性回折素子の厚みは１３９μｍであった。得られた偏光性回折素子の評価結果を表１に示す。
【０１５０】
［実施例２］
製造例２で得た基材（ａ−２）を、延伸機炉内温度１５５℃の槽内にて、延伸速度５．０ｍ／ｍｉｎ、延伸倍率３．５倍でテンター横延伸を行い、厚さ３７μｍのロール状の延伸フィルム（基材（ａ'−２））を得た。基材（ａ'−２）を用いた以外は実施例１と同様にして光学異方性層を形成した。基材（ａ'−２）上の光学異方性層の屈折率を測定したところ直線偏光性の波長６６０ｎｍの光において異常光屈折率Ｎｅ＝1.678、常光屈折率Ｎｏ＝１．５４２、７８５ｎｍにおいて異常光屈折率Ｎｅ＝１．６６３、常光屈折率Ｎｏ＝１．５３４であった。
【０１５１】
次いで、実施例１と同様にして光学異方性層面に凹部と凸部とが連続的に形成されたパターン部を形成し、基材（ｂ−２）を得た。次に、実施例１と同様にして光学等方性材料形成用組成物（Ｄ−１）を用いて充填部を形成し、基材（ｃ−２）を得た。光学等方性材料の厚みは、凹部の底部から最表層までが４μｍであった。
【０１５２】
基材（ｃ−２）の両面に反射防止処理を行い、偏光性回折素子（２）を得た。得られた偏光性回折素子（２）の２５００点測定の透過率の平均値は、ａｏ（λ1）＝９８．８％、ａｏ（λ2）＝９９．８％であり、ａｅ（λ1）＝２．４％、ａｅ（λ2）＝７．２％であった。また、面内均一性は１００％であった。反射率は、パターンおよび充填部を有する側（パターン側）の面で６６０ｎｍにおいて０．２％、波長７８５ｎｍにおいて０．１％であり、基材（ａ'−２）側（基材側）の面で６６０ｎｍにおいて０．２％、波長７８５ｎｍにおいて０．２％であった。また、波面収差を測定した結果、λｒｍｓave＝９ｍλ、面内均一性は１００％であり、平坦な面ができていることが分かった。得られた偏光性回折素子の評価結果を表１に示す。
【０１５３】
［実施例３］
厚み８０μｍのトリアセチルセルロース製フィルム（基材（ａ−３））上に、井上金属工業製ＩＮＶＥＸラボコーターにて２００メッシュの小径グラビアロールを用いて、調製例１で得た配向層形成用組成物（Ｂ−１）を塗工した。塗工に際しては、０．２μｍのＰＴＦＥ製フィルターでろ過を行い、塗工後にドライヤーを通過させて溶剤を揮発乾燥し、塗工層を形成した。乾燥は、１００℃で３０秒の後、１２０℃で３０秒と段階的な条件下で行った。引き続き、形成した塗工層の表面を株式会社飯沼ゲージ製作所製ラビング機でロール回転数を８００ｒｐｍ、フィルム搬送速度を３ｍ／分、ロール押し込み量を０．３ｍｍとしてラビング処理をラビング方向がフィルム長手方向に平行となるように行い分子配向能が付与された基材（ａ'−３）を得た。次いで、実施例１と同様にして光学異方性層を形成した。基材（ａ'−３）上の光学異方性層の屈折率を測定したところ直線偏光性の波長６６０ｎｍにおいて異常光屈折率Ｎｅ＝１．６７４、常光屈折率Ｎｏ＝１．５４３、７８５ｎｍにおいて異常光屈折率Ｎｅ＝１．６６１、常光屈折率Ｎｏ＝１．５３６であった。
【０１５４】
次いで、実施例１と同様にして光学異方性層面に凹部と凸部とが連続的に形成されたパターン部を形成し、基材（ｂ−３）を得た。凸部の幅は２．５μｍ、凹部の幅は２．５μｍとし、凹部の深さは２．６μｍとした。次に、実施例１と同様にして光学等方性材料形成用組成物（Ｄ−１）を用いて充填部を形成し、基材（ｃ−３）を得た。光学等方性材料の厚みは、凹部の底部から最表層までが４μｍであった。
【０１５５】
基材（ｃ−３）の両面に反射防止処理を行い、偏光性回折素子（３）を得た。得られた偏光性回折素子（３）の２５００点測定の透過率の平均値は、ａｏ（λ1）＝９８．５％、ａｏ（λ2）＝９９．６％であり、ａｅ（λ1）＝２．４％、ａｅ（λ2）＝８．３％であった。また、面内均一性は１００％であった。反射率は、パターンおよび充填部を有する側（パターン側）の面で６６０ｎｍにおいて０．２％、波長７８５ｎｍにおいて０．３％であり、基材（ａ−３）側（基材側）の面で６６０ｎｍにおいて０．３％、波長７８５ｎｍにおいて０．２％であった。また、波面収差を測定した結果、λｒｍｓave＝９ｍλ、面内均一性は１００％であり、平坦な面ができていることが分かった。得られた偏光性回折素子の評価結果を表１に示す。
【０１５６】
［実施例４］
厚み９０μｍのポリカーボネート製フィルム（基材（ａ−４））、調製例２で得た配向層形成用組成物（Ｂ−２）を使用した以外は実施例３と同様にして塗工層を形成し、ラビング処理を行って基材（ａ'−４）を得た。次いで、実施例１と同様にして光学異方性層を形成した。基材（ａ'−４）上の光学異方性層の屈折率を測定したところ直線偏光性の波長６６０ｎｍにおいて異常光透過率←屈折率？Ｎｅ＝１．６７６、常光屈折率Ｎｏ＝１．５４４、７８５ｎｍにおいて異常光透過率←屈折率？Ｎｅ＝１．６６３、常光屈折率Ｎｏ＝１．５３７であった。
【０１５７】
次いで、実施例１と同様にして連続的に形成されたパターン部を形成し、基材（ｂ−４）を得た。凸部の幅は２．５μｍ、凹部の幅は２．５μｍとし、凹部の深さは２．６μｍとした。次に、実施例１と同様にして光学等方性材料形成用組成物（Ｄ−１）を用いて充填部を形成し、基材（ｃ−４）を得た。光学等方性材料の厚みは、凹部の底部から最表層までが４μｍであった。
【０１５８】
基材（ｃ−４）の両面に反射防止処理を行い、偏光性回折素子（４）を得た。得られた偏光性回折素子（４）の２５００点測定の透過率の平均値は、ａｏ（λ1）＝９８．１％、ａｏ（λ2）＝９９．７％であり、ａｅ（λ1）＝２．７％、ａｅ（λ2）＝８．２％であった。また、面内均一性は９９％であった。反射率は、パターンおよび充填部を有する側（パターン側）の面で６６０ｎｍにおいて０．３％、波長７８５ｎｍにおいて０．３％であり、基材（ａ−４）側（基材側）の面で６６０ｎｍにおいて０．４％、波長７８５ｎｍにおいて０．３％であった。また、波面収差を測定した結果、λｒｍｓave＝１０ｍλ、面内均一性は９９％であり、平坦な面ができていることが分かった。偏光性回折素子の厚みは１１０μｍであった。得られた偏光性回折素子の評価結果を表１に示す。
【０１５９】
［実施例５］
製造例３で得た基材（ａ−５）と、調製例３で得た配向層形成用組成物（Ｂ−３）を使用した以外は実施例３と同様にして塗工層を形成した。塗工層の乾燥は、１００℃で３０秒の後、１２０℃で３０秒と段階的な条件下で行った。引き続き、形成した塗工層の表面を、Ｈｇ−Ｘｅランプを用いて、パイレックス（登録商標）ガラス製偏光板ＳＰＦ−５０Ｃ−３２（シグマ光機製）を通して、３６５ｎｍの波長を主とする直線偏光した紫外線０．５Ｊ／ｃｍ2を照射し、基材（ａ'−５）を得た。直線偏光の偏波面方向はフィルム長手方向に平行となるように行った。次に、実施例１と同様にして光学異方性層を形成した。基材（ａ'−５）上の光学異方性層の屈折率を測定したところ直線偏光性の波長６６０ｎｍにおいて異常光屈折率Ｎｅ＝１．６７８、常光屈折率Ｎｏ＝１．５４２、７８５ｎｍにおいて異常光屈折率Ｎｅ＝１．６６５、常光屈折率Ｎｏ＝１．５３５であった。
【０１６０】
次いで、実施例１と同様にして連続的に形成されたパターン部を形成し基材（ｂ−５）を得た。凸部の幅は２．５μｍ、凹部の幅は２．５μｍとし、凹部の深さは２．６μｍとした。
【０１６１】
次に、製造例１で得た基材（ａ−１）上に井上金属工業製ＩＮＶＥＸラボコーターにて３００メッシュの小径グラビアロールを用いて、調製例５で得た光学等方性材料形成用組成物（Ｄ−１）を塗布し、基材（ｂ−５）の凹凸形成側と大成ラミネーター株式会社製ＶＡ−７００を用いて、エアシリンダ圧０．１ＭＰａ、送り速度１／ｍｉｎにて基材（ｂ−５）の凹凸形成側をラミネートし、高圧水銀ランプを用いて紫外線を、基材（ａ−１）側から５００ｍＪ／ｃｍ2のエネルギー量で照射して硬化させることで、基材（ｂ−５）凹部に光学等方性の充填部を形成し、基材（ｃ−５）を得た。紫外線硬化型アクリル材料の厚みは、凹部の底部から基材（ａ−１）までが５μｍであった。
【０１６２】
基材（ｃ−５）の両面に反射防止処理を行い、偏光性回折素子（５）を得た。得られた偏光性回折素子（５）の２５００点測定の透過率の平均値は、ａｏ（λ1）＝９８．６％、ａｏ（λ2）＝９９．４％であり、ａｅ（λ1）＝２．５％、ａｅ（λ2）＝７．９％であった。また、面内均一性は１００％であった。反射率は、基材（ａ−１）側の面で６６０ｎｍにおいて０．２％、波長７８５ｎｍにおいて０．２％であり、基材（ａ−５）側の面で６６０ｎｍにおいて０．３％、波長７８５ｎｍにおいて０．２％であった。また、波面収差を測定した結果、λｒｍｓave＝５ｍλ、面内均一性は１００％であり、平坦な面ができていることが分かった。偏光性回折素子の厚みは２７９μｍであった。得られた偏光性回折素子の評価結果を表１に示す。
【０１６３】
［実施例６］
製造例１で得た基材（ａ−１）と、ポリエーテルポリウレタン材料であるハイドランＷＬＳ−２０１（ＤＩＣ（株）製）をメタノールにて３％になるよう希釈したものを、井上金属工業製ＩＮＶＥＸラボコーターにて２００メッシュの小径グラビアロールを用いて塗布し、８０℃で５分間加熱乾燥させ、ポリウレタン層を有する基材を得た。株式会社飯沼ゲージ製作所製ラビング機でロール回転数を６００ｒｐｍ、フィルム搬送速度を３ｍ／分、ロール押し込み量を０．３ｍｍとしてラビング処理をラビング方向がフィルム長手方向に平行となるように行い分子配向能が付与された基材（ａ'−６）
を得た。次いで、実施例1と同様にして光学異方性層を形成した。基材（ａ'−６）上の光学異方性層の屈折率を測定したところ直線偏光性の波長６６０ｎｍにおいて異常光屈折率Ｎｅ＝１．６７６、常光屈折率Ｎｏ＝１．５４２、７８５ｎｍにおいて異常光屈折率Ｎｅ＝１．６６３、常光屈折率Ｎｏ＝１．５３４であった。
【０１６４】
次いで、実施例1と同様にして光学等方性材料形成用組成物（Ｄ−１）を用いて充填部を形成し、基材（ｃ−６）を得た。光学等方性材料の厚みは、凹部の底部から最表層までが４μｍであった。
【０１６５】
基材（ｃ−６）の両面に反射防止処理を行い、偏光性回折素子（６）を得た。得られた偏光性回折素子（１）の２５００点測定の透過率の平均値は、ａｏ（λ1）＝９８．４％、ａｏ（λ2）＝９９．３％であり、ａｅ（λ1）＝２．５％、ａｅ（λ2）＝７．８％であった。また、面内均一性は１００％であった。反射率は、パターンおよび充填部を有する側（パターン側）の面で６６０ｎｍにおいて０．１％、波長７８５ｎｍにおいて０．１％であり、基材（ａ−１）側（基材側）の面で６６０ｎｍにおいて０．２％、波長７８５ｎｍにおいて０．２％であった。また、波面収差を測定した結果、λｒｍｓave＝１２ｍλ、面内均一性は９８％であり、平坦な面ができていることが分かった。偏光性回折素子の厚みは１４０μｍであった。得られた偏光性回折素子の評価結果を表１に示す。
【０１６６】
［実施例７］
製造例１で得た基材（ａ−１）の片面に、井上金属工業製ＩＮＶＥＸラボコーターにて３００メッシュの小径グラビアロールを用いて調製例５で得た光学等方性材料形成用組成物（Ｄ−１）を塗布し、次いで、凹部と凸部とが連続的に形成されたパターン部が転写されるように調製した転写ロールを用いて、塗布面に凹部と凸部とが連続的に形成されたパターン部を転写させた。なお、転写ロール表面の凹部と凸部は、ロールの円周方向に沿って凹凸の溝が形成されるように調製した。
【０１６７】
転写するのと同時に高圧水銀ランプを用いて紫外線を基材（ａ−１）のパターンを有さない面側から５００ｍＪ／ｃｍ2のエネルギー量で照射して凹部と凸部とが連続的に形成されたパターン部を形成し、基材（ｂ−７）を得た。凸部の幅は２．５μｍ、凹部の幅は２．５μｍとし、凹部の深さは２．６μｍとした。
【０１６８】
次いで、製造例１で得た基材（ａ−１）の片面に、株式会社飯沼ゲージ製作所製ラビング機でロール回転数を６００ｒｐｍ、フィルム搬送速度を３ｍ／分、ロール押し込み量を０．３ｍｍとしてラビング処理をラビング方向がフィルム長手方向に平行となるように行い基材（ａ"−７）を得た。次に、井上金属工業製ＩＮＶＥＸラボコーターにて２００メッシュの小径グラビアロールを用いて、メルク株式会社製の紫外線硬化型液晶材料であるＲＭＭ７２７が１００質量部に対して溶剤であるアセトンを３０質量部添加したものを５０℃条件下で基材（ａ"−７）に塗布して乾燥、配向させ厚み４μｍとした。基材（ａ"−７）上の配向層の屈折率を測定したところ直線偏光性の波長６６０ｎｍにおいて異常光屈折率Ｎｅ＝１．６７８、常光屈折率Ｎｏ＝１．５４２、７８５ｎｍにおいて異常光屈折率Ｎｅ＝１．６６５、常光屈折率Ｎｏ＝１．５３５であった。
【０１６９】
得られた基材（ｂ−７）の凹凸形成側と基材（ａ"−７）のRMM７２７塗布側とを大成ラミネーター株式会社製ＶＡ−７００を用いて、エアシリンダ圧0.1Ｍｐａ、送り速度1/ｍｉｎにてラミネートを行い、高圧水銀ランプを用いて紫外線を、５００ｍＪ／ｃｍ2のエネルギー量で照射して硬化させることで、基材（ｃ−７）を得た。
【０１７０】
基材（ｃ−７）の両面に反射防止処理を行い、偏光性回折素子（７）を得た。得られた偏光性回折素子（７）の２５００点測定の常光透過率の平均値は、直線偏光性の波長６６０ｎｍにおいてａｏ（λ1）＝９８．７％、波長７８５ｎｍにおいてａｏ（λ2）＝９９．４％であり、異常光透過率は、波長６６０ｎｍにおいてａｅ（λ1）＝１．８％、波長７８５ｎｍにおいてａｅ（λ2）＝８．１％であった。また、面内均一性は１００％であった。反射率は、基材（ｂ−７）側の面で６６０ｎｍにおいて０．１％、波長７８５ｎｍにおいて０．１％であり、基材（ａ"−７）側の面で６６０ｎｍにおいて０．２％、波長７８５ｎｍにおいて０．２％であった。また、波面収差を測定した結果、λｒｍｓave＝４ｍλ、面内均一性は１００％であり、平坦な面ができていることが分かった。偏光性回折素子の厚みは２８０μｍであった。得られた偏光性回折素子の評価結果を表１に示す。
【０１７１】
［実施例８］
製造例１で得た基材（ａ−１）の片面に井上金属工業製ＩＮＶＥＸラボコーターにて３００メッシュの小径グラビアロールを用いて調製例４で得た配向層形成用組成物（Ｂ−４）を塗布し、塗布直後に高圧水銀ランプを用いて紫外線を塗布面側から５００ｍＪ／ｃｍ2のエネルギー量で照射して基材（a"−１）を得た。
【０１７２】
ついで、基材（ａ"−１）を、延伸機炉内温度１４５℃の槽内にて、延伸速度５．０ｍ／ｍｉｎ、延伸倍率１．５倍で縦延伸を行い、厚さ１０６μｍのロール状の延伸フィルム（基材（ａ"−２））を得た。次いで、延伸フィルム（基材（ａ"−２））の配向層形成用組成物（Ｂ−４）の塗布面側に、実施例１と同様にして光学異方性層を形成した。基材（ａ"−２）上の光学異方性層の屈折率を測定したところ直線偏光性の波長６６０ｎｍの光において異常光屈折率Ｎｅ＝１．６７０、常光屈折率Ｎｏ＝１．５４０、７８５ｎｍにおいて異常光屈折率Ｎｅ＝１．６６５、常光屈折率Ｎｏ＝１．５３５であった。
【０１７３】
次いで、実施例１と同様にして凹部と凸部とが連続的に形成されたパターン部を形成し、基材（ｂ−８）を得た。凸部の幅は２．５μｍ、凹部の幅は２．５μｍとし、凹部の深さは２．６μｍとした。次に、形成された凹部へ、井上金属工業製ＩＮＶＥＸラボコーターにて３００メッシュの小径グラビアロールを用いて、調製例６で得た光学等方性材料形成用組成物（Ｄ−２）を塗布し、塗布面と基材（a−１）を大成ラミネーター株式会社製ＶＡ−７００を用いて、エアシリンダ圧0.1Ｍｐａ、送り速度1/ｍｉｎにてラミネートを行い、高圧水銀ランプを用いて紫外線を、５００ｍＪ／ｃｍ2のエネルギー量で照射して硬化させることで、基材（ｃ−８）を得た。
【０１７４】
基材（ｃ−８）の両面に反射防止処理を行い、偏光性回折素子（８）を得た。得られた偏光性回折素子（８）の２５００点測定の常光透過率の平均値は、直線偏光性の波長６６０ｎｍにおいてａｏ（λ1）＝９９．１％、波長７８５ｎｍにおいてａｏ（λ2）＝９９．３％であり、異常光透過率は、波長６６０ｎｍにおいてａｅ（λ1）＝２．９％、波長７８５ｎｍにおいてａｅ（λ2）＝２．１％であった。また、面内均一性は１００％であった。反射率は、基材（ｂ−８）側の面で６６０ｎｍにおいて０．１％、波長７８５ｎｍにおいて０．１％であり、基材（ａ−１）側の面で６６０ｎｍにおいて０．２％、波長７８５ｎｍにおいて０．２％であった。また、波面収差を測定した結果、λｒｍｓave＝５ｍλ、面内均一性は１００％であり、平坦な面ができていることが分かった。偏光性回折素子（８）の厚みは２７０μｍであった。得られた偏光性回折素子（８）の評価結果を表１に示す。
【０１７５】
［実施例９］
実施例８において縦延伸倍率を１．２倍、紫外線硬化型アクリル材料（Ｄ−２）を調製例７で得られた光学等方性材料形成用組成物（Ｄ−３）に変えたこと以外は同様にして基材（ａ"−３）ならびに偏光性回折素子（９）を得た。基材（ａ"−３）上のＲＭＭ７２７層の屈折率を測定したところ直線偏光性の波長６６０ｎｍにおいて異常光屈折率Ｎｅ＝１．６７８、常光屈折率Ｎｏ＝１．５３０、７８５ｎｍにおいて異常光屈折率Ｎｅ＝１．６７０、常光屈折率Ｎｏ＝１．５２３であった。偏光性回折素子（９）の２５００点測定の透過率の平均値は、ａｏ（λ1）＝９９．２％、ａｏ（λ2）＝９９．４％であり、ａｅ（λ1）＝２．７％、ａｅ（λ2）＝１１．４％であった。また、面内均一性は１００％であった。反射率は、パターンおよび充填部を有する側（パターン側）の面で６６０ｎｍにおいて０．１％、波長７８５ｎｍにおいて０．１％であり、基材（ａ−１）側（基材側）の面で６６０ｎｍにおいて０．２％、波長７８５ｎｍにおいて０．２％であった。また、波面収差を測定した結果、λｒｍｓave＝５ｍλ、面内均一性は１００％であり、平坦な面ができていることが分かった。偏光性回折素子の厚みは２７０μｍであった。得られた偏光性回折素子の評価結果を表１に示す。
【０１７６】
［比較例１］
実施例１においてラビング機のロール押し込み量を０．４ｍｍとした以外は同様にして基材（ａ'−７）ならびに偏光性回折素子（１０）を得た。基材（ａ'−７）上のＲＭＭ７２７層の屈折率を測定したところ直線偏光性の波長６６０ｎｍにおいて異常光屈折率Ｎｅ＝１．６８１、常光屈折率Ｎｏ＝１．５３８、７８５ｎｍにおいて異常光屈折率Ｎｅ＝１．６６７、常光屈折率Ｎｏ＝１．５３１であった。偏光性回折素子（７）の２５００点測定の透過率の平均値は、ａｏ（λ1）＝９７．４％、ａｏ（λ2）＝９９．１％であり、ａｅ（λ1）＝５．１％、ａｅ（λ2）＝１２．４％であった。また、面内均一性は８０％であった。反射率は、パターンおよび充填部を有する側（パターン側）の面で６６０ｎｍにおいて０．１％、波長７８５ｎｍにおいて０．１％であり、基材（ａ−１）側（基材側）の面で６６０ｎｍにおいて０．２％、波長７８５ｎｍにおいて０．２％であった。また、波面収差を測定した結果、λｒｍｓave＝１４ｍλ、面内均一性は９０％であった。偏光性回折素子（１０）の厚みは１３９μｍであった。得られた偏光性回折素子（１０）の評価結果を表１に示す。
【０１７７】
［比較例２］
実施例３においてラビング機のロール押し込み量を０．２ｍｍとし、紫外線効果型液晶材料のＲＭＭ７２７に対してメチルエチルケトンに変えてアセトンを追添した以外は同様にして基材（ａ'−８）ならびに偏光性回折素子（１１）を得た。基材（ａ'−８）上のＲＭＭ７２７層の屈折率を測定したところ直線偏光性の波長６６０ｎｍにおいて異常光屈折率Ｎｅ＝１．６６９、常光屈折率Ｎｏ＝１．５５１、７８５ｎｍにおいて異常光屈折率Ｎｅ＝１．６５６、常光屈折率Ｎｏ＝１．５４４であった。偏光性回折素子（１１）の２５００点測定の透過率の平均値は、ａｏ（λ1）＝９６．５％、ａｏ（λ2）＝９７．９％であり、ａｅ（λ1）＝６．７％、ａｅ（λ2）＝１５．７％であった。また、面内均一性は４８％であった。反射率は、パターンおよび充填部を有する側（パターン側）の面で６６０ｎｍにおいて０．１％、波長７８５ｎｍにおいて０．１％であり、基材（ａ−１）側（基材側）の面で６６０ｎｍにおいて０．２％、波長７８５ｎｍにおいて０．２％であった。また、波面収差を測定した結果、λｒｍｓave＝１６ｍλ、面内均一性は６１％であった。偏光性回折素子（１１）の厚みは１４１μｍであった。得られた偏光性回折素子（１１）の評価結果を表１に示す。
【０１７８】
【表１】
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【産業上の利用可能性】
【０１７９】
本発明の偏光性回折素子は、たとえば、ＣＤ、ＤＶＤ、ＭＯなどの光記録媒体に対して情報の記録または再生を行うことが可能な光ピックアップ装置などの光学システムに有用に用いることができる。
【符号の説明】
【０１８０】
１  ・・・基材
３  ・・・分子配向能を有する層
５  ・・・光学異方性材料
７  ・・・凸部
９  ・・・凹部
１１・・・光学等方性材料
１３・・・基材
１５・・・光学異方性材料からなる凹部と凸部とが連続的に形成されたパターン部
１７・・・基材
１９・・・光学等方性材料を含む組成物から形成される塗布面
２１・・・光学等方性材料
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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