(57)【要約】【課題】片面磁気ディスクの製造工程において、基板洗浄の際の洗浄機の汚染や、検査ヘッドの汚染・損傷を低減することができる磁気ディスク用基板を提供することを課題とする。【解決手段】二つの主表面を有する円環状の磁気ディスク用基板であって、前記二つの主表面の一方の主表面が磁気記録面として使用され、５μｍ程度のスポットサイズのレーザ光を前記二つの主表面の他方の主表面に照射した際に０．１μｍ以上１．０μｍ以下のサイズと検出された異物が３０ｃｍ２当たり４００個以下であることを特徴とする。【選択図】図１
2010102819.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
二つの主表面を有する円環状の磁気ディスク用基板であって、
前記二つの主表面間で（１）２μｍ角で２５６×２５６ピクセルの解像度を有する電子顕微鏡で測定した表面粗さ、および／または、（２）レーザパワ２５ｍＷの波長４０５ｎｍのレーザ光を５μｍのスポット径で照射した際の前記磁気ディスク用基板からの散乱光を検出した際に０．１μｍ以上１．０μｍ以下のサイズと検出された異物の個数、が異なっており、
一方の主表面のみが磁気記録面として使用可能な表面品質を有しており、かつ、他方の主表面における上記レーザパワ２５ｍＷの波長４０５ｎｍのレーザ光を５μｍのスポット径で照射した際の前記磁気ディスク用基板からの散乱光を検出した際に０．１μｍ以上１．０μｍ以下のサイズと検出された異物が、３０ｃｍ２当たり４００個以下であることを特徴とする磁気ディスク用基板。
【請求項２】
請求項１記載の磁気ディスク用基板と、前記磁気ディスク用基板の前記一方の主表面上のみに形成された少なくとも磁性層を含む積層膜と、を具備することを特徴とする磁気ディスク。
【請求項３】
前記磁性層が形成された主表面の他方の主表面上には、膜が形成されていないことを特徴とする請求項２記載の磁気ディスク。
【請求項４】
前記磁性層が形成された主表面の他方の主表面上には、前記積層膜を前記磁気ディスク用基板上に成膜する際に生じる膜応力を相殺するための相殺膜が形成されていることを特徴とする請求項２記載の磁気ディスク。
【請求項５】
前記磁気ディスク用基板は、多成分系ガラスで構成されており、
前記磁性層が形成された主表面の他方の主表面上には、前記多成分系ガラスを構成しているイオンの前記磁気ディスク基板表面への溶出を防止する溶出防止膜が形成されていることを特徴とする請求項２記載の磁気ディスク。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気ディスク用基板及び磁気ディスクに関する。
【背景技術】
【０００２】
ハードディスクドライブ装置（ＨＤＤ装置）に搭載される磁気記録媒体として磁気ディスクがある。磁気ディスクは、アルミニウム−マグネシウム合金などで構成された金属板上にＮｉＰ膜を被着した基板、ガラス基板又はセラミックス基板を用い、その上に磁性層や保護層を積層して作製される。近年の市場の要請及び微細加工技術の進歩により、磁気ディスクの小型化及び高密度化が進んでおり、現在では例えば１．８インチの磁気ディスクにおいて両面で４０ＧＢの記憶容量にまで達している。
【０００３】
このようなＨＤＤ装置における記録密度の向上に伴い、記録・書き込み用ヘッド（以下「ヘッド」と呼ぶ）と磁気ディスクとのスペーシング（以下「浮上量」と呼ぶ）は数十ｎｍから数ｎｍと非常に狭くなってきている。そのため、この磁気ディスクに微小な凹凸欠陥が存在すると、磁気ディスクとヘッドが接触し、ＨＤＤ装置が故障する原因となる。この微小な凹凸欠陥は、ディスク基板素材そのものがなんらかの形態で損傷している損傷系欠陥、磁気ディスク用基板の平坦性を向上させるために行う研磨時に発生する砥粒残りや、洗浄時や乾燥時などに付着／残留した異物などの異物系欠陥である。特に後者は基板の端面加工時に付着したパーティクル／汚染物などが後工程の洗浄工程において表面から離脱しガラス基板表面に再付着することが原因となる。
【０００４】
このように端面における汚染物が原因で起こる異物系欠陥を防止する目的で、ガラス基板をカッターやドリルで形状加工した後に端面を研磨することにより、ガラス基板の端面に異物／汚染物が残留し難くすることが提案されている（例えば、特許文献１）。
【０００５】
一方、上記のように記録容量が向上した磁気ディスクは、その用途によっては片面のみの記憶容量（例えば２０ＧＢ）でも十分な場合があり、そのようなニーズがある。片面のみを磁気記録面とする磁気ディスク(以下、「片面磁気ディスク」と呼ぶ）を用いたＨＤＤ装置では、ヘッドが一つのみで済み、両面を磁気記録面とする磁気ディスク（以下、「両面磁気ディスク」と呼ぶ）に比べて薄型化、軽量化、そして低価格化が図れるからである。また、片面磁気ディスクを製造するには、磁気記録面として使用する面（以下、「Ａ面」と呼ぶ）のみに磁性層等を積層すればよいので、製造工程も両面磁気ディスクに比べて簡略化できるという利点もある。
【０００６】
また、片面磁気ディスク用基板は、磁気記録面として使用しない面（以下、「Ｂ面」と呼ぶ）における微小な凹凸欠陥が許容できるため、両面の微小な凹凸欠陥が不良品の原因となる両面磁気ディスクに比べて歩留りを向上できる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開平１１−２２１７４２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
片面磁気ディスク用基板のＢ面における微小な凹凸欠陥は、上記のように、磁気ディスクとヘッドとの接触の原因にはならないので、不良品の原因にはならない。しかし、片面磁気ディスク用基板の両主表面の研磨時に発生する砥粒残りや、洗浄時や乾燥時などに付着する異物（以下、まとめて「異物等」と呼ぶ）がＢ面上にあった場合には、それらの異物等が、Ａ面上に磁性層等の積層をする前の基板洗浄の際に、（１）洗浄中の異物等の再付着によりＡ面を汚染する可能性があること、そして（２）異物等が洗浄機そのものを汚染する可能性がある。また、得られた磁気ディスクについて、Ｂ面上の異物がディスク回転により飛散し、Ａ面でのシークテストでその飛散物が磁気ヘッド上に付着し、Ｒ／Ｗエラーを誘発することがある。また、磁性層等を成膜した磁気ディスクの実際の検査工程では、Ｂ面にも検査ヘッドを設定してある場合があり、Ｂ面上に異物等が多く残存していると、検査ヘッドがＢ面へ近接することにより、検査ヘッドを汚染したり、損傷させる可能性もある。
【０００９】
本発明は上記課題に鑑みてなされたものであり、片面磁気ディスクの製造工程において、基板洗浄の際の（１）磁気記録面として使用する面の汚染防止、（２）洗浄機の汚染防止や、（３）磁気ディスクに対するシークテストでのＲ／Ｗエラーの低減、（４）検査ヘッドの汚染・損傷を低減することができる磁気ディスク用基板を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記目的を達成するために、本発明者らは、磁性層等を成膜しない片面磁気ディスク用基板のＢ面であっても、その面上の異物等の数を予め決められた数に抑えることで、片面磁気ディスクの製造工程における、（１）磁気記録面として使用する面の汚染防止、（２）洗浄機の汚染防止や、（３）磁気ディスクに対するシークテストでのＲ／Ｗエラーの低減、（４）検査ヘッドの汚染・損傷を低減することを考えた。
【００１１】
つまり、本発明に係る磁気ディスク用基板は、二つの主表面を有する円環状の磁気ディスク用基板であって、二つの主表面間で（１）２μｍ角で２５６×２５６ピクセルの解像度を有する電子顕微鏡で測定した表面粗さ、および／または、（２）レーザパワ２５ｍＷの波長４０５ｎｍのレーザ光を５μｍのスポット径で照射した際の前記磁気ディスク用基板からの散乱光を検出した際に０．１μｍ以上１．０μｍ以下のサイズと検出された異物の個数、が異なっており、一方の主表面のみが磁気記録面として使用可能な表面品質を有しており、かつ、他方の主表面における上記レーザパワ２５ｍＷの波長４０５ｎｍのレーザ光を５μｍのスポット径で照射した際の前記磁気ディスク用基板からの散乱光を検出した際に０．１μｍ以上１．０μｍ以下のサイズと検出された異物が、３０ｃｍ２当たり４００個以下である。
【００１２】
また、本発明に係る磁気ディスクは、上記磁気ディスク用基板と、前記磁気ディスク用基板の前記一方の主表面上に形成された少なくとも磁性層を含む積層膜と、を具備する。この場合において、磁性層が形成された主表面の他方の主表面上には、膜が形成されていなくてもよい。また、磁性層が形成された主表面の他方の主表面上には、前記積層膜を磁気ディスク用基板上に成膜する際に生じる膜応力を相殺するための相殺膜が形成されていることが好ましい。また、磁気ディスク用基板は、多成分系ガラスで構成されており、前記磁性層が形成された主表面の他方の主表面上には、多成分系ガラスを構成しているイオンの磁気ディスク用基板表面への溶出を防止する溶出防止膜が形成されていることが好ましい。
【発明の効果】
【００１３】
本発明に係る磁気ディスク用基板は、二つの主表面の一方の主表面が磁気記録面として使用され、一方の主表面のみが磁気記録面として使用可能な表面品質を有しており、かつ、他方の主表面におけるレーザパワ２５ｍＷの波長４０５ｎｍのレーザ光を５μｍのスポット径で照射した際の前記磁気ディスク用基板からの散乱光を検出した際に０．１μｍ以上１．０μｍ以下のサイズと検出された異物が、３０ｃｍ２当たり４００個以下であるので、片面磁気ディスクの製造工程における、（１）磁気記録面として使用する面の汚染防止、（２）洗浄機の汚染防止や、（３）磁気ディスクに対するシークテストでのＲ／Ｗエラーの低減、（４）検査ヘッドの汚染・損傷を低減することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明の実施の形態に係る磁気ディスク用基板の構造を示す図である。
【図２】本発明の実施の形態に係る磁気ディスク用基板のＢ面における異物等の数と、Ａ面のヘッドコンタミネーションレベルとの間の関係を示す図である。
【図３】磁気ディスク用基板上の異物を検出する装置の概略構成を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下に、本発明の実施の形態を図、実施例等を使用して説明する。なお、これらの図、実施例等および説明は本発明を例示するものであり、本発明の範囲を制限するものではない。本発明の趣旨に合致する限り他の実施の形態も本発明の範疇に属し得ることは言うまでもない。
【００１６】
図１は、本発明の実施の形態に係る磁気ディスク用基板の構造を示す斜視図である。本実施の形態に係る磁気ディスク用基板は、円穴１０を有する円環状の片面磁気ディスク用基板であり、実質的に平坦な主表面で磁気記録面として使用するＡ面１１と、実質的に平坦な主表面で磁気記録面として使用しないＢ面１２と、外周の端部である外周端面１３と、内周の端部である内周端面１４を有し、外周端面１３及び内周端面１４それぞれとＡ面１１及びＢ面１２との間には面取面１５が形成されている。
【００１７】
Ａ面１１は、磁気記録面として使用する面であり、磁気ディスクにおいて磁性層等を積層し、ＨＤＤ装置においては記録・書き込み用ヘッドがその上を浮上走行する面である。そのため、Ａ面１１上の凹凸欠陥は、ヘッドの浮上走行に支障がない程度に除去されている。一方Ｂ面１２は、磁気記録面として使用しない面である。よってＢ面１２上の凹凸欠陥は、多少は許容できる。しかし、Ｂ面１２上の異物等は磁気ディスクの製造工程に影響がないように、予め決められた数未満になっている。
【００１８】
磁気ディスク用基板の材料としては、アルミノシリケートガラス、ソーダライムガラス、ボロシリケートガラス、アルミニウム−マグネシウム合金などを用いることができる。特に、化学強化を施すことができ、また主表面の平坦性及び基板強度において優れた磁気ディスク用基板を提供することができるという点で、アルミノシリケートガラスを好ましく用いることができる。本実施の形態においては、磁気ディスク用基板がガラス基板である場合について説明する。
【００１９】
磁気ディスク用基板の製造工程は、素材加工工程及び第１ラッピング工程；端部形状工程（穴部を形成するコアリング工程、端部（外周端部及び／又は内周端部）に面取り面を形成するチャンファリング工程（面取り面形成工程））；端面研磨工程（外周端部及び内周端部）；第２ラッピング工程；主表面研磨工程（第１及び第２研磨工程）；化学強化工程などの工程を含む。
【００２０】
以下に、磁気ディスク用基板の製造工程の各工程について説明する。なお、各工程の順序は適宜入れ替えてもよい。
（１）素材加工工程及び第１ラッピング工程
まず、素材加工工程においては、板状ガラスの表面をラッピング（研削）加工してガラス母材とし、このガラス母材を切断してガラスディスクを切り出す。板状ガラスとしては、様々な板状ガラスを用いることができる。この板状ガラスは、例えば、溶融ガラスを材料として、プレス法やフロート法、ダウンドロー法、リドロー法、フュージョン法など、公知の製造方法を用いて製造することができる。これらの方法うち、プレス法を用いれば、板状ガラスを廉価に製造することができる。
【００２１】
第１ラッピング工程においては、板状ガラスのＡ面及びＢ面の両主表面をラッピング加工し、ディスク状のガラス基材とする。このラッピング加工は、遊星歯車機構を利用した両面ラッピング装置により、アルミナ系遊離砥粒を用いて行うことができる。具体的には、板状ガラスの両面に上下からラップ定盤を押圧させ、遊離砥粒を含む研削液を板状ガラスの主表面上に供給し、これらを相対的に移動させてラッピング加工を行う。このラッピング加工により、平坦な主表面を有するガラス基板を得ることができる。
【００２２】
（２）端部形状工程（穴部を形成するコアリング工程、端部（外周端部及び内周端部）に面取り面を形成するチャンファリング工程（面取り面形成工程））
コアリング工程においては、例えば、円筒状のダイヤモンドドリルを用いて、このガラス基板の中心部に内孔を形成し、円環状のガラス基板とする。チャンファリング工程においては、内周端面及び外周端面をダイヤモンド砥石によって研削し、所定の面取り加工を施す。
【００２３】
（３）第２ラッピング工程
第２ラッピング工程においては、得られたガラス基板の両主表面について、第１ラッピング工程と同様に、第２ラッピング加工を行う。この第２ラッピング工程を行うことにより、前工程である切り出し工程や端面研磨工程において主表面に形成された微細な凹凸形状を予め除去しておくことができ、後続の主表面に対する研磨工程を短時間で完了させることができるようになる。
【００２４】
（４）端面研磨工程
端面研磨工程においては、ガラス基板の外周端面及び内周端面について、ブラシ研磨方法により、鏡面研磨を行う。このとき、研磨砥粒としては、例えば、酸化セリウム砥粒を含むスラリー（遊離砥粒）を用いることができる。この端面研磨工程により、ガラス基板の端面は、ナトリウムやカリウムの析出の発生を防止できる鏡面状態になる。
【００２５】
（５）主表面研磨工程（第１研磨工程）
主表面研磨工程として、まず第１研磨工程を施す。第１研磨工程は、前述のラッピング工程で両主表面に残留したキズや歪みの除去を主たる目的とする工程である。この第１研磨工程においては、遊星歯車機構を有する両面研磨装置により、硬質樹脂ポリッシャを用いて、両主表面の研磨を行う。研磨剤としては、酸化セリウム砥粒を用いることができる。第１研磨工程を終えたガラス基板は、中性洗剤、純水、ＩＰＡ等で洗浄する。
【００２６】
（６）主表面研磨工程（最終研磨工程）
次に、最終研磨工程として、第２研磨工程を施す。第２研磨工程は、両主表面を鏡面状に仕上げることを目的とする工程である。第２研磨工程においては、遊星歯車機構を有する両面研磨装置により、軟質発泡樹脂ポリッシャを用いて、両主表面の鏡面研磨を行う。スラリーとしては、第１研磨工程で用いた酸化セリウム砥粒よりも微細な酸化セリウム砥粒やコロイダルシリカなどを用いることがきる。
【００２７】
この最終研磨工程において、両面研磨装置に設置した状態のガラス基板の下向きとなった面を片面磁気ディスク用基板のＡ面（つまり、磁気記録面として使用する面）とすることが好ましい。両面研磨装置に設置したガラス基板の上面は、研磨環境における浮遊物等の噛み込みによる傷の発生、又はハンドリング等による処理面の損傷等の可能性が下面に比べて高いので、予め上面をＢ面とした方が、片面磁気ディスクを製造する上で不良品を出す確率が少なくなるからである。
【００２８】
ここまでの工程において、（５）主表面研磨工程（第１研磨工程）までは、ガラス基板の両主表面を区別しないで扱ってきたが、（６）主表面研磨工程（最終研磨工程）以降は、上記のように、ガラス基板の両主表面のＡ面とＢ面を区別して扱うこととする。第２研磨工程を終えたガラス基板は、中性洗剤、純水、ＩＰＡ等で洗浄する。
【００２９】
（７）化学強化工程
化学強化工程においては、前述のラッピング工程及び研磨工程を終えたガラス基板に化学強化を施す。化学強化に用いる化学強化液としては、例えば、硝酸カリウム（６０％）と硝酸ナトリウム（４０％）の混合溶液などを用いることができる。化学強化においては、化学強化液を３００℃〜４００℃に加熱し、洗浄済みのガラス基板を２００℃〜３００℃に予熱し、化学強化溶液中に３時間〜４時間浸漬することによって行う。この浸漬の際には、ガラス基板の両表面全体が化学強化されるようにするため、複数のガラス基板が端面で保持されるように、ホルダに収納した状態で行うことが好ましい。
【００３０】
このように、化学強化溶液に浸漬処理することによって、ガラス基板の表層のリチウムイオン及びナトリウムイオンが、化学強化溶液中の相対的にイオン半径の大きなナトリウムイオン及びカリウムイオンにそれぞれ置換され、ガラス基板が強化される。化学強化されたガラス基板は、硫酸で洗浄した後に、純水、ＩＰＡ等で洗浄する。
【００３１】
（８）検査工程
本発明者らは、Ｂ面における異物等の数とＡ面側の検査ヘッドの汚染との間の関係に着目した。図２は、Ｂ面における異物等の数とＡ面側の検査ヘッドの汚染（ヘッドコンタミネーションレベル）との間の関係を示す特性図である。なお、ヘッドコンタミネーションレベルは、グライド試験前の検査ヘッド上の汚れの指標である。
【００３２】
図２から分かるように、Ｂ面上の異物等の個数（カウント数）が４２０でヘッドコンタミネーションレベルが２となり、Ｂ面上の異物等の個数（カウント数）が６５０でヘッドコンタミネーションレベルが３となっている。すなわち、Ａ面に異物が存在しない状態であっても、Ｂ面に一定数の異物が存在すると洗浄工程により異物が再付着し、Ａ面を汚染するということが分かる。
【００３３】
このため、Ｂ面上における異物等を調整するための異物等の個数（カウント数）については、ヘッドコンタミネーションレベルに応じて決定することが好ましい。例えば、ヘッドコンタミネーションレベル１を満足するためには、Ｂ面上の異物等の個数（カウント数）を４００以下にすることが好ましい。このようにＢ面上の異物等の個数（カウント数）を調整するためには、例えば、酸／アルカリ／洗剤洗浄などの薬液洗浄と純水洗浄などの段階的な組み合わせを行うような条件下で洗浄を行う。
【００３４】
なお、Ｂ面上の異物等の個数（カウント数）は、磁気記録面（Ａ面）に少なくとも磁性層を含む積層膜を成膜する前の洗浄前の段階での異物等の個数である。また、この個数は、図３に示すような光学式欠陥検査装置（Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｓｕｒｆａｃｅ  Ａｎａｌｙｚｅｒ：ＯＳＡ）を用いてカウントすることができる。図３に示す装置は、欠陥検出用プローブレーザ２１と、レーザ光を基板に照射した際のほぼ全方向の散乱光を検出する検出器２２とを備えている。図３に示す装置においては、レーザスポットサイズを例えば５μｍとすることにより、レーザ波長が短くパワーが大きいので欠陥検出感度を高くすることができる。
【００３５】
より具体的には、Ａ面、Ｂ面上の異物の個数（カウント数）については、図３に示す装置を用いて、レーザパワ２５ｍＷで波長４０５ｎｍのレーザ光を５μｍのスポットサイズで照射した際の前記基板からの散乱光に基づいて検出される、所定サイズの異物の個数で判断する。具体的には、Ｂ面の判定基準としては、０．１μｍ以上１．０μｍ以下のサイズと検出された異物が１ｃｍ２当たり約１３個以下（２．５インチサイズの磁気ディスク１面あたり４００個以下）であるかどうかを判断する。（この例は、外形：６５ｍｍ、内径：２０ｍｍの磁気ディスクの片側面積（約３０．０４ｃｍ２）あたりに相当する）このような条件にて異物の数をカウントすることにより、本願のようなＢ面の異物の数とＡ面の汚染状態等の相関関係が見られることとなる。
【００３６】
ここで、異物の検出は、上述したように、所定の装置を用いて正確に行うことが重要であり、異物サイズについては、例えば、２．５インチサイズの磁気ディスクで片面１２０ＧＢ以上の高記録密度の磁気ディスクに要求される磁気特性などを考慮すると０．１μｍ以上１．０μｍ以下であることが望ましい。なお、Ａ面の判定基準としては、磁気記録膜（垂直磁気記録層）を形成し、磁気ディスクに求められる品質（異物サイズと個数）を満足している必要があり、Ａ面のほうがＢ面と比べて極めて高い品質（清浄度）が求められる。
【００３７】
（９）磁気ディスク製造工程（記録層等形成工程）
上述した工程を経て得られたガラス基板のＡ面に、例えば、付着層、軟磁性層、非磁性下地層、垂直磁気記録層、保護層、及び潤滑層を順次成膜することにより、垂直磁気記録ディスクを製造する。付着層を構成する材料としては、Ｃｒ合金などを挙げることができる。軟磁性層を構成する材料としては、ＣｏＴａＺｒ基合金などを挙げることができる。非磁性下地層としては、グラニュラー非磁性層などを挙げることができる。垂直磁気記録層としては、グラニュラー非磁性層などを挙げることができる。保護層を構成する材料としては、水素化カーボンなどを挙げることができる。潤滑層を構成する材料としては、フッ素樹脂などを挙げることができる。例えば、これらの記録層等は、より具体的には、インライン型スパッタリング装置を用いて、ガラス基板の上に、ＣｒＴｉの付着層、ＣｏＴａＺｒ／Ｒｕ／ＣｏＴａＺｒの軟磁性層、ＣｏＣｒＳｉＯ２の非磁性グラニュラー下地層、ＣｏＣｒＰｔ−ＳｉＯ２・ＴｉＯ２のグラニュラー磁性層、水素化カーボン保護膜を順次成膜し、さらに、ディップ法によりパーフルオロポリエーテル潤滑層を成膜する。
【００３８】
なお、Ｂ面側には膜が形成されていなくてもよいが、Ａ面に磁性層を含む積層膜を形成し、Ｂ面に膜を形成しないと、Ａ面に形成する積層膜に用いる材料によってはＡ面とＢ面との間での膜応力のバランスが崩れて磁気ディスクが反ってしまう場合がある。このような場合には、Ｂ面に、積層膜を基板上に成膜する際に生じる膜応力を相殺するための相殺膜が形成されていることが好ましい。相殺膜を構成する材料としては、Ａ面に形成する層を構成する材料、例えばＣｒ合金などを挙げることができる。なお、膜厚は、上記機能を発揮できる程度であればよい。
【００３９】
また、特に磁気ディスク用基板が多成分系ガラスで構成されている場合には、磁性層が形成された主表面の他方の主表面（Ｂ面）上には、多成分系ガラスを構成しているイオンの磁気ディスク用基板表面への溶出を防止する溶出防止膜が形成されていることが好ましい。溶出防止膜を構成する材料としては、Ｔｉ、Ｃｒ、カーボンなどを挙げることができる。なお、膜厚は、上記機能を発揮できる程度であればよい。また、上記相殺膜と溶出防止膜とは併用してもよい。
【００４０】
このような工程で製造された磁気ディスク用基板のＢ面に残存する異物等は、成膜前の洗浄において一旦除去された後に再度基板に付着したり、ヘッドバーニッシュで取りきれずに基板上に残存し、グライド試験やサーティファイ試験で検査ヘッドを損傷させる可能性がある。本発明においては、このようなＢ面に残存する異物等の数を予め決められた数以下にしているので、片面磁気ディスクの製造工程における、洗浄機の汚染や検査ヘッドの汚染・損傷を低減することができる。また、磁気ディスクに対するシークテストでのＲ／Ｗエラーを低減することができる。
【００４１】
次に、本発明の効果を明確にするために行った実施例について説明する。なお、ここでは、磁気ディスク用基板としてガラス基板を用いた場合について説明する。
【００４２】
（実施例）
まず、溶融させたアルミノシリケートガラスを上型、下型、胴型を用いたダイレクトプレスによりディスク形状に成型し、アモルファスの板状ガラス素材（ブランクス）を得た。この時点でブランクスの直径は６６ｍｍである。次に、このブランクスの両主表面を第１ラッピング加工した後、円筒状のコアドリルを用いて、このガラス基板の中心部に穴部を形成し円環状のガラス基板に加工（コアリング）を実施、そして端部（外周端部及び内周端部）に面取り面を形成するチャンファリング工程（面取り面形成工程））を施し、その後第２ラッピング加工を行った。
【００４３】
次いで、ガラス基板の外周端部について、ブラシ研磨方法により、鏡面研磨を行った。このとき、研磨砥粒としては、酸化セリウム砥粒を含むスラリー（遊離砥粒）を用いた。
【００４４】
そして、鏡面研磨工程を終えたガラス基板を水洗浄した。これにより、ガラス基板の外形は６５ｍｍ、内径は２０ｍｍとなり、２．５インチ型磁気ディスクに用いる基板とすることができた。
【００４５】
次いで、主表面研磨工程として、ガラス基板の両主表面に対して第１研磨工程を施した。第１研磨工程においては、研磨装置として、両面研磨機を使用した。この研磨装置における研磨パッドとしては、軟質スウェードパッドを用いた。また、研磨剤としては、セリウム研磨剤を用いた。また、研磨条件としては、加工面圧を１３０ｇ／ｃｍ２とし、加工回転数を２２ｒｐｍとした。これにより、ガラス基板の算術平均粗さＲａは約１．５ｎｍとなった。
【００４６】
次いで、ガラス基板の記録面として使用しない主表面（Ｂ面）をマスクした状態で、記録面として使用する主表面（Ａ面）のみに対して第２研磨処理を施した。第２研磨工程においては、研磨装置として、両面研磨機を使用した。この研磨装置における研磨パッドとしては、軟質スウェードパッド（アスカーＣ硬度：５４、圧縮変形量：４７６μｍ以上、密度：０．５３ｇ／ｃｍ３以下）を用いた。また、研磨剤としては、平均粒径１００ｎｍのセリウム研磨剤を用いた。また、研磨条件としては、加工面圧を６０ｇ／ｃｍ２とし、加工回転数を２０ｒｐｍとした。ガラス基板の記録面として使用する主表面（Ａ面）の算術平均粗さ（２μｍ角で２５６×２５６ピクセルの解像度を有する電子顕微鏡で測定した表面粗さ）Ｒａは０．１２ｎｍとなった。
【００４７】
この第２研磨工程を終えたガラス基板を、ＫＯＨ溶液に浸漬して、超音波を印加して１２０秒洗浄し、アルカリ洗浄液を用いてスクラブ洗浄を４秒行い、極微量に希釈した希硫酸及び前記アルカリ洗浄液で洗浄を行った後に、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）の蒸気乾燥を行った。
【００４８】
次いで、上述した第２研磨工程を終えたガラス基板に、化学強化を施した。化学強化は、硝酸カリウム（６０％）と硝酸ナトリウム（４０％）を混合した化学強化溶液を用意し、この化学強化溶液を３８０°Ｃに加熱し、その中に洗浄済みのガラス基板を約４時間浸漬することによって行った。そして、この化学強化を終えたガラス基板に対して、酸洗浄、アルカリ洗浄、及び純水洗浄を順次行った。
【００４９】
特にガラス基板のＢ面に対しては、例えば、酸／アルカリ／洗剤洗浄などの薬液洗浄と純水洗浄などの段階的な組み合わせを行うような条件下で洗浄を行った。このようにして磁気ディスク用ガラス基板を作製した。
【００５０】
得られたガラス基板に対し、図３に示すような装置を用いてＡ面、Ｂ面それぞれの異物（レーザパワ２５ｍＷの波長４０５ｎｍのレーザ光を５μｍのスポット径で照射した際のガラス基板からの散乱光を検出した際に０．１μｍ以上１．０μｍ以下のサイズと検出された異物の個数をカウントしたところ、Ａ面に存在する異物の個数は１面あたり０個、Ｂ面に存在する異物の個数は１面あたり約３００個であった。
【００５１】
磁気ディスク用ガラス基板に対し、成膜前洗浄として再度、酸洗浄、アルカリ洗浄、及び純水洗浄を順次行った。その後、同様に図３に示すような装置を用いてＡ面、Ｂ面それぞれの異物の個数をカウントしたところ、Ａ面に存在する異物の個数は１面あたり２個、Ｂ面に存在する異物の個数は１面あたり約３００個であった。
【００５２】
このガラス基板のＡ面上に、付着層、軟磁性層、非磁性下地層、垂直磁気記録層、保護層及び潤滑層を順次積層し、ガラス基板のＢ面上に、溶出防止膜として厚さ１０ｎｍのチタン層を形成して磁気ディスクを作製した。この磁気ディスクのＡ面についてテープバーニッシュし、そこでヘッドバーニッシュをかけた。このとき、ヘッドバーニッシュは、外周端→内周端→外周端（ｒ＝１２．５ｍｍ〜３２．０ｍｍ、ヘッドセンター位置）で行った。その後、バーニッシュヘッド表面を顕微鏡で観察し、ヘッド上の帯状になっている異物等（スメア：Smear）の数を数えたところ、異物等の数が３個未満であり、ヘッドコンタミネーションレベルは１であった。すなわち、ガラス基板のＢ面に存在する異物の個数を１面あたり約３００個とした場合には、このガラス基板の洗浄を行ってもＡ面を汚染することがほとんどないことが分かった。
【００５３】
（比較例）
洗浄条件を変えることにより、Ａ面に存在する異物の個数が１面あたり０個、Ｂ面に存在する異物の個数が１面あたり約５００個である磁気ディスク用ガラス基板を作製した。
【００５４】
このガラス基板に対し、成膜前洗浄として酸洗浄、アルカリ洗浄、及び純水洗浄を順次行った。その後、同様に図３に示すような装置を用いてＡ面、Ｂ面それぞれの異物の個数をカウントしたところ、Ａ面に存在する異物の個数は１面あたり１０個、Ｂ面に存在する異物の個数は１面あたり約４９０個であった。
【００５５】
次に、このガラス基板のＡ面上に、実施例と同様に、付着層、軟磁性層、非磁性下地層、垂直磁気記録層、保護層及び潤滑層を順次積層し、ガラス基板のＢ面上に、溶出防止膜として厚さ１０ｎｍのチタン層を形成して磁気ディスクを作製した。この磁気ディスクのＡ面についてテープバーニッシュし、そこでヘッドバーニッシュをかけた。このとき、ヘッドバーニッシュは、外周端→内周端→外周端（ｒ＝１２．５ｍｍ〜３２．０ｍｍ、ヘッドセンター位置）で行った。その後、バーニッシュヘッド表面を顕微鏡で観察し、ヘッド上の帯状になっている異物等（スメア：Smear）の数を数えたところ、異物等の数が３個以上６個未満であり、ヘッドコンタミネーションレベルは２であった。なお、ヘッドコンタミネーションレベルについては、バーニッシュヘッド表面を顕微鏡で観察し、ヘッド上の帯状になっている異物等（スメア：Smear）の数が３未満の場合をレベル１、３以上６未満の場合をレベル２、６以上１０未満の場合をレベル３とした。
【００５６】
また、実施例、比較例で得られた磁気ディスクをＨＤＤ装置に組み込み、シークテストを実施した（４０００万回シーク、その間の読み出し／書き込みエラー（Ｒ／Ｗエラー）数をカウント）ところ、実施例の磁気ディスクについてはカウント３、比較例の磁気ディスクについてはカウント２０であった。
【００５７】
本発明は上記実施の形態に限定されず、適宜変更して実施することができる。例えば、上記実施の形態では、磁気ディスク用基板として、ガラス基板を用いる例を示したが、それには限定されず、例えばアルミニウム−マグネシウム合金などで構成された金属板等でも良い。
【００５８】
なお、上記実施の形態における材料、サイズ、処理手順、検査方法などは一例であり、本発明の効果を発揮する範囲内において種々変更して実施することが可能である。その他、本発明の目的の範囲を逸脱しない限りにおいて適宜変更して実施することが可能である。
【符号の説明】
【００５９】
１  磁気ディスク用基板
１０  円穴
１１  Ａ面
１２  Ｂ面
１３  外周端面
１４  内周端面
１５  面取面
２１  レーザ
２２  検出器
【図１】
2010102819.tif 000003
【図２】
2010102819.tif 000004
【図３】
2010102819.tif 000005