(57)【要約】【課題】選択性反射層に用いる誘電体多層膜の熱損傷を軽減することでレーザの高出力化を図る。【解決手段】Ｎｄ：ＹＶＯ4結晶であるレーザ媒質３の励起光入射側端面に選択性反射膜４を形成する。選択性反射層４は、媒質３に密着した第１層が透明導電性酸化物の一種であるＩＴＯの膜層４ｃであり、その上に低屈折膜層４ａと高屈折膜層４ｂとを交互に形成して所望の光学特性を実現する。誘電体多層膜中に集された電界エネルギーやそれにより発生した熱はＩＴＯ膜層４ｃを介して効率よく媒質３に逃げるため、熱が多層膜中に蓄積しにくく熱損傷を抑制することができる。【選択図】図２
2010123819.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
励起光により励起されて基本波光を放出するレーザ媒質と、該レーザ媒質の励起光入射側端面に形成された選択性反射部と、該選択性反射部との間で前記基本波光及びその高調波光を共振させる共振器を形成する出力ミラーと、前記レーザ媒質と前記出力ミラーとの間に挿入された、基本波光から高調波光を生成する非線形光学素子と、を具備する固体レーザ装置において、
前記レーザ媒質はＮｄ：ＹＡＧ結晶、Ｎｄ：ＹＶＯ4結晶、又はそれら結晶に所定の物質がドープされた結晶のいずれかであり、
前記選択性反射部は、少なくとも前記結晶に接触する初期層が透明導電性酸化物からなる膜層で、その初期層に接触する第２層と最も外側に位置する最終層とが共に低屈折率誘電体からなる膜層であり、その第２層と最終層との間が、低屈折率誘電体からなる膜層と高屈折率誘電体からなる膜層とが実質的に交互に配置された誘電体多層膜であることを特徴とする固体レーザ装置。
【請求項２】
請求項１に記載の固体レーザ装置であって、前記選択的反射部の初期層は光学的膜厚が１に設定されていることを特徴とする固体レーザ装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の固体レーザ装置であって、前記低屈折率誘電体は酸化シリコンであり、前記高屈折率誘電体は五酸化タンタルであることを特徴とする固体レーザ装置。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかに記載の固体レーザ装置であって、前記透明導電性酸化物は酸化インジウム、酸化亜鉛、又は酸化スズのうちの少なくとも一種の金属酸化物を主成分として含有するものであることを特徴とする固体レーザ装置。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれかに記載の固体レーザ装置であって、前記選択性反射部は、低屈折率誘電体からなる膜層と高屈折率誘電体からなる膜層との交互の積層体の途中に、光学的膜厚が１である透明導電性酸化物からなる膜層が挿入されてなることを特徴とする固体レーザ装置。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれかに記載の固体レーザ装置であって、前記レーザ媒質は、前記選択性反射部が形成された面と反対側の面に、その結晶材料によるサブ波長の微細構造を利用した反射防止層を有することを特徴とする固体レーザ装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は固体レーザ装置に関し、さらに詳しくは、高出力のレーザ光を出力するために好適な半導体励起固体レーザ装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、緑色、青色等の短波長レーザは、干渉計、光ディスク用ピックアップ、印刷装置など幅広い分野において注目されており、こうしたレーザ光を発生するレーザ装置の研究・開発が各所で積極的に進められている。このような短波長レーザ装置の一つとして、ＳＨＧ（Second Harmonic Generation）レーザ装置が従来より知られている。ＳＨＧレーザ装置は、励起光を放出する半導体レーザ（ＬＤ）と、その励起光で励起されることで基本波光を誘導放出するレーザ媒質と、基本波光から波長が１／２である第２高調波光を生成する波長変換素子と、レーザ媒質の励起光入射面に形成された選択性反射層との間で光を往復反射させつつ一部の光を透過させて出力する出力ミラーと、を基本的な構成要素として含む。
【０００３】
レーザ媒質としては一般的に、青色（４７３[nm]）レーザ用としてはＮｄ：ＹＡＧ結晶が、緑色（５３２[nm]）レーザ用としてはＮｄ：ＹＶＯ4結晶がよく使用される。一方、波長変換素子としては非線形光学結晶であるＫＮ（ＫＮｂＯ3）やＫＴＰ（ＫＴｉＯ4）、或いは擬似位相整合（ＱＰＭ）素子が使用される（例えば特許文献１など参照）。
【０００４】
近年、レーザ装置の利用範囲はますます拡がっており、そうした中でさらなる高出力化が求められている。こうした高出力化を図る際の大きな問題の１つが、レーザ媒質の一面に形成される選択性高効率反射層の熱損傷である。即ち、一般に、この選択性反射層には誘電体多層膜が用いられるが、レーザの出力が大きくなるほど誘電体多層膜中でのエネルギー損失による発熱が無視できなくなり、熱によって誘電体膜が損傷したり溶解したりする現象が起こり易い。これを防止するために、放熱手段としてレーザ媒質にヒートシンクを密着して設ける構成が知られているが（特許文献２など参照）、必ずしも十分な放熱が達成されないという問題がある。特に選択性反射層の反射率や励起光透過率などの光学特性を改善するために多層膜の膜数を増やす場合、多層膜中で発生する熱はますます発散されにくくなり、上記のような問題が顕著になる。
【０００５】
【特許文献１】特開２００６−０５９９６４号公報
【特許文献２】特開２００５−９３６２４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は上記課題に鑑みて成されたものであり、その目的とするところは、高出力化の際に問題となる選択性反射層の発熱による破壊を防止し、高出力で信頼性の高い固体レーザ装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するために成された本発明は、励起光により励起されて基本波光を放出するレーザ媒質と、該レーザ媒質の励起光入射側端面に形成された選択性反射部と、該選択性反射部との間で前記基本波光及びその高調波光を共振させる共振器を形成する出力ミラーと、前記レーザ媒質と前記出力ミラーとの間に挿入された、基本波光から高調波光を生成する非線形光学素子と、を具備する固体レーザ装置において、
前記レーザ媒質はＮｄ：ＹＡＧ結晶、Ｎｄ：ＹＶＯ4結晶、又はそれら結晶に所定の物質がドープされた結晶のいずれかであり、
前記選択性反射部は、少なくとも前記結晶に接触する初期層が透明導電性酸化物からなる膜層で、その初期層に接触する第２層と最も外側に位置する最終層とが共に低屈折率誘電体からなる膜層であり、その第２層と最終層との間が、低屈折率誘電体からなる膜層と高屈折率誘電体からなる膜層とが実質的に交互に配置された誘電体多層膜であることを特徴としている。
【０００８】
なお、ここで、「低屈折率誘電体からなる膜層と高屈折率誘電体からなる膜層とが実質的に交互に配置された」とは、後述するように、光学的膜厚が１である透明導線性酸化物からなる膜層など、低屈折率誘電体からなる膜層と高屈折率誘電体からなる膜層との多層膜により決まる光学特性に影響を及ぼさない他の膜層が間に挿入される状態をも包含することを意味する。
【０００９】
一般的には励起光を発生するためには半導体レーザ（レーザダイオード）が使用される。また、上記非線形光学素子はＫＮやＫＴＰなどの非線形光学結晶又は擬似位相整合素子のいずれでもよい。また、出力ミラーは単独の光学素子でもよいが、非線形光学素子の一方の（レーザ媒質が存在する側とは反対側の）端面に形成された反射層とすることもできる。また、レーザ媒質と非線形光学素子とは所定間隔離れていてもよいが、密着した状態であってもよい。
【００１０】
低屈折率誘電体と高屈折率誘電体とは屈折率の差が大きいことが望ましいが、現実的には、低屈折率誘電体としては屈折率が１．６程度未満、高屈折率誘電体としては屈折率が１．６以上の誘電体を用いるとよい。典型的には、低屈折率誘電体として酸化シリコン（屈折率：１．４６１、但し設計波長７１１[nm]において）、高屈折率誘電体として五酸化タンタル（屈折率：２．１８３２、但し設計波長７１１[nm]において）を用いることができる。また、それ以外の物質としては、低屈折率誘電体としてＭｇＦ2などが、高屈折率誘電体としてＴｉＯ2、ＺｒＯ2、ＨｆＯ2、Ｓｃ2Ｏ3、Ａｌ2Ｏ3、などが考えられる。
【００１１】
一方、少なくとも初期層に用いられる透明導電性酸化物は、酸化インジウム、酸化亜鉛、又は酸化スズのうちの少なくとも一種の金属酸化物を主成分として含有するものとすることができ、典型的には、酸化インジウムに数％程度の酸化スズを添加した化合物であるＩＴＯが考えられる。
【００１２】
通常、透明導線性酸化物からなる初期層は光学的膜厚が１に設定される。この場合、この初期層は、誘電体多層膜の光学特性には影響を与えない。換言すれば、この選択性反射部の光学特性は、低屈折率誘電体からなる膜層と高屈折率誘電体からなる膜層のそれぞれの屈折率、光学的膜厚、膜数などにより決まり、多数積層させる膜層の光学的膜厚を適宜調整することにより、励起光波長を効率良く透過させ、基本光や高調波光の波長を高い反射率で反射させる選択性反射の特性を実現することができる。一方、透明導線性酸化物からなる初期層は前述のように光学特性には関係しないが、熱伝導性が良好であるため、誘電体多層膜においてエネルギー損失により発生する熱は初期層を通して結晶に良好に発散される。これにより、誘電体多層膜中には熱が蓄積されにくく、熱による破壊を抑制することができる。
【００１３】
なお、本発明に係る固体レーザ装置において、前記選択性反射部は、低屈折率誘電体からなる膜層と高屈折率誘電体からなる膜層との交互の積層体の途中に、光学的膜厚が１である透明導電性酸化物からなる膜層が挿入されてなる構成としてもよい。
【００１４】
このように挿入された透明導電性酸化物からなる膜層は基本的には光学特性には影響を及ぼさず、誘電体多層膜中で発生する熱をさらに効率的に発散させるのに有効である。
【００１５】
また、本発明に係る固体レーザ装置において、前記レーザ媒質は、前記選択性反射部が形成された面と反対側の面に、その結晶材料によるサブ波長の微細構造を利用した反射防止層を有する構成とすることが好ましい。
【００１６】
一般に反射防止層として、酸化シリコン等の無機材料とフッ素化炭化水素等の有機材料とを用いた光学複合薄膜が利用されるが、こうした薄膜は熱抵抗が比較的大きく、放熱の妨げとなり易い。また、それ自身も熱による損傷を受け易い。それに対し、結晶材料によるサブ波長の微細構造を利用した反射防止層とすれば、熱抵抗が小さいので放熱を妨げにくく、それ自身の熱損傷も回避できる。
【発明の効果】
【００１７】
本発明に係る固体レーザ装置によれば、レーザ媒質の一端面に形成する誘電体多層膜による選択性反射層において内部のエネルギー損失で発生する熱を効率よく放散することができる。それにより、高出力のレーザ光を発生させる際にも膜層の熱損傷を防止することができるので、レーザの高出力化の実現に有効である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下、本発明に係る固体レーザ装置の一実施例について、図１〜図６を参照して説明する。図１は本実施例のＬＤ励起固体レーザ装置の概略構成図である。また、図２は図１に示したレーザ媒質３の断面構造を示す概略図である。
【００１９】
このＬＤ励起固体レーザ装置は、波長８０９[nm]の励起光を発生する半導体レーザ（ＬＤ）１と、ＬＤ１からの励起光を集光するレンズ２と、励起光で励起されることにより波長が１０６４[nm]である基本波光を誘導放出するＮｄ：ＹＶＯ4結晶であるレーザ媒質３と、誘導放出された基本波光から波長が１／２（波長：５３２[nm]）である第２高調波光を生成するＫＴＰ結晶等の波長変換素子７と、光を反射させつつその一部を透過させる出力ミラー５と、を含む。レーザ媒質３はＮｄ：ＹＶＯ4結晶であり、その結晶の励起光入射側端面に選択性反射層４が形成されており、その反対面にはサブ波長の微細構造体による反射防止層３ａが形成されている。また、レーザ媒質３は放熱用のヒートシンク８に密着して設けられている。
【００２０】
ＬＤ１から出射された励起光はレンズ２により集光されてレーザ媒質３に照射される。選択性反射層４は、励起光波長を効率よく透過させるとともに基本波光及び高調波光を高反射率で以て反射させるものであり、この選択性反射層４と出力ミラー５とで共振器６が構成される。一方、反射防止層３ａは、選択性反射層４で右方側に反射された基本波光や高調波光がレーザ媒質３側に戻るのを防止する。これにより、励起光によりレーザ媒質３から誘導放出された基本波光は、共振器６内で発振して増幅される。基本波光が波長変換素子７を通過する際に第２高調波光が発生するため、共振器６内部では基本波光と高調波光とが混在している。基本波光は出力ミラー５で反射されるが、高調波光は出力ミラー５を透過する。そのため、図中に示すように、出力ミラー５から右方にはレーザ光出力として高調波光のみ、つまり波長が５３２[nm]である緑色のレーザ光が出射される。
【００２１】
なお、必要に応じて、例えば波長変換素子７と出力ミラー５との間に、特定の波長を高い効率で透過させるエタロンを挿入してもよい。
【００２２】
図２に示すように、選択性反射層４は、レーザ媒質３のＮｄ：ＹＶＯ4結晶の上に、これに密着する第１層（初期層）として透明導電性酸化物であるＩＴＯ膜層４ｃが形成され、その上に、低屈折率誘電体であるＳｉＯ2による低屈折膜層４ａと高屈折率誘電体であるＴａ2Ｏ5による高屈折膜層４ｂとが交互に積層されたものであり、全体の膜層数は５０である。この膜層の構成と光学的膜厚及び物理的膜厚（いずれも設計値）は図３に示す通りである。
【００２３】
第２層と最も外側の第５０層は低屈折膜層４ａである。また、全５０層の中で、第２４層〜第４３層の２０層は、物理的膜厚が約１８０[nm]の低屈折膜層と物理的膜厚が約１２２[nm]の高屈折膜層とを１組としてこれを１０組積層したものである。これら膜厚はいずれも光学的膜厚が目的とする波長λに対しλ／２の整数倍に定められている。一方、第２層〜第２３層、及び第４４層〜第５０層は、主として、多層膜の内部に生じる電界強度のピークが高屈折膜層４ｂ中に来るのを避け低屈折膜層４ａ中に来るようにするために、その膜厚が適宜に調整されている。
【００２４】
即ち、この誘電体多層膜の内部では、隣接する膜層の境界面での反射が生じ、その繰り返し反射の過程でＰ偏向成分及びＳ偏向成分について＋側の進行波と−側の反射波とによる４つの電界の重ね合わせにより、厚さ方向に山と谷とが交互に現れるような電界強度分布が形成される。したがって、一部の膜層の光学的膜厚を上記基本となる値からずらすことで、電界の重ね合わせ状態が変化して、ピークの位置が膜厚方向にずれる。図３に示すようにレーザ媒質３に近い側と外側との幾つかの膜層の膜厚を調整することにより、この誘電体多層膜では電界強度のピークが低屈折膜層４ａ中に位置しており、これにより、光エネルギーの吸収が相対的に抑えられる。
【００２５】
一方、第１層のＩＴＯ膜層４ｃの光学的膜厚は１に設定されており、上記のように低屈折膜層４ａと高屈折膜層４ｂとが交互に積層された多層膜により実現される光学特性には影響を与えない。ただし、ＩＴＯ等の透明導電性酸化物は導電性を有し、誘電体に比べて熱伝導率も遙かに高く、ＩＴＯ膜層４ｃはレーザ媒質３に広い面積で接触している。そのため、上述のように集中された電界のエネルギーはＩＴＯ膜層４ｃを介してレーザ媒質３に容易に逃げることができ、誘電体多層膜の内部で電界の集中により発生した熱もＩＴＯ膜層４ｃを介してレーザ媒質３に放散される。それにより、高出力レーザの場合でも誘電体多層膜の内部での熱の蓄積が起こりにくく、膜層の熱損傷を抑制することができる。
【００２６】
図５は、低温成膜が可能な蒸発物薄膜形成装置（イオンプレーティング）により低屈折膜層４ａ、高屈折膜層４ｂ及びＩＴＯ膜層４ｃを形成する際の、成膜条件をまとめた図である。
【００２７】
図６は本実施例における選択的反射層の反射率特性のシミュレーション結果を示す図である。この選択的反射層では、波長５３２[nm]、１０６４[nm]においてほぼ１００％近い、きわめて高い反射率を達成できていることが分かる。また、波長８０９[nm]においては９９．９％以上の透過率を達成することができる。
【００２８】
一方、レーザ媒質３の一面に形成される反射防止層３ａは、図４に示すような微小の孔が多数穿設された微細構造を有する。この微細構造は熱リソグラフィと呼ばれる手法で作製される。即ち、まずＮｄ：ＹＶＯ4結晶上にマスク材として白金（Ｐｔ）等の膜層を形成する。白金は熱により非線形に分解される性質を有するため、形成された白金膜にレーザパルス（３０[MHz]程度のパルス周期）を照射すると、熱によって白金膜上にドットパターン状の開口が形成される。その後、ドライエッチングにより開口に露出している結晶表面を削り、それから白金を除去する。
【００２９】
上記のようにして形成された反射防止層３ａは光学複合膜などによる反射防止層とは異なり、結晶自体が露出しているため熱抵抗が小さい。したがって、選択性反射層４からレーザ媒質３に伝播した熱は反射防止層３ａから容易に放散される。また、光学複合膜などと異なり、それ自体の熱損傷も起こりにくい。
【００３０】
なお、図１に示すように、レーザ媒質３にヒートシンク８を取り付ける場合、その接触面にアルミニウムやインジウムなどの膜を設けるとよい。これにより、放熱が一層良好になる。
【００３１】
なお、上記実施例では、レーザ媒質３と出力ミラー５との間の空間に波長変換素子７を設けたが、レーザ媒質３と波長変換素子７とを接触させ、その波長変換素子７のレーザ媒質３との接触面とは反対側の端面に、上記出力ミラーに相当する反射層を設ける構成としてもよい。このように各光学素子の配置は適宜に変更可能であり、またレーザ媒質３及び選択性反射層４以外の要素の材料も適宜に変更できる。例えば波長変換素子７として非線形光学結晶ではなく擬似位相整合素子を利用することもできる。
【００３２】
また、上記実施例は本発明の一例であり、本発明の趣旨の範囲で適宜に変形や修正、追加などを行っても本願特許請求の範囲に包含されることは明らかである。
【図面の簡単な説明】
【００３３】
【図１】本発明の一実施例であるＬＤ励起固体レーザ装置の概略構成図。
【図２】図１に示したレーザ媒質の断面構造を示す概略図。
【図３】選択性反射層の膜層の構成と光学的膜厚及び物理的膜厚（いずれも設計値）を示す図。
【図４】反射防止層の概略平面図。
【図５】選択性反射層の低屈折膜層、高屈折膜層及びＩＴＯ膜層を形成する際の成膜条件を示す図。
【図６】本実施例における選択的反射層の反射率特性のシミュレーション結果を示す図。
【符号の説明】
【００３４】
１…ＬＤ
２…レンズ
３…レーザ媒質
３ａ…反射防止層
４…選択性反射層
４ａ…低屈折膜層
４ｂ…高屈折膜層
４ｃ…ＩＴＯ膜層
５…出力ミラー
６…共振器
７…波長変換素子
８…ヒートシンク
【図１】
2010123819.tif 000003
【図２】
2010123819.tif 000004
【図３】
2010123819.tif 000005
【図４】
2010123819.tif 000006
【図５】
2010123819.tif 000007
【図６】
2010123819.tif 000008
【手続補正書】
【提出日】平成21年4月20日(2009.4.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
励起光を透過させるとともに基本波光及び高調波光を反射する選択性反射部が前記励起光の入射側端面に形成され、該励起光により励起されて基本波光を放出するレーザ媒質であって、非線形光学素子により当該レーザ媒質から放出される基本波光から高調波光を生成し、その基本波光と高調波光とを前記選択性反射部と出力ミラーとの間で共振させる固体レーザ装置、に用いられるレーザ媒質において、
基体は、Ｎｄ：ＹＡＧ結晶、Ｎｄ：ＹＶＯ4結晶、又はそれら結晶に所定の物質がドープされた結晶のいずれかであり、
前記選択性反射部は、少なくとも前記結晶に接触する初期層が透明導電性酸化物からなる膜層で、その初期層に接触する第２層と最も外側に位置する最終層とが共に低屈折率誘電体からなる膜層であり、その第２層と最終層との間が、低屈折率誘電体からなる膜層と高屈折率誘電体からなる膜層とが実質的に交互に配置された誘電体多層膜であることを特徴とするレーザ媒質。
【請求項２】
請求項１に記載のレーザ媒質であって、前記選択的反射部の初期層は光学的膜厚が１に設定されていることを特徴とするレーザ媒質。
【請求項３】
請求項１又は２に記載のレーザ媒質であって、前記低屈折率誘電体は酸化シリコンであり、前記高屈折率誘電体は五酸化タンタルであることを特徴とするレーザ媒質。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかに記載のレーザ媒質であって、前記透明導電性酸化物は酸化インジウム、酸化亜鉛、又は酸化スズのうちの少なくとも一種の金属酸化物を主成分として含有するものであることを特徴とするレーザ媒質。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれかに記載のレーザ媒質であって、前記選択性反射部は、低屈折率誘電体からなる膜層と高屈折率誘電体からなる膜層との交互の積層体の途中に、光学的膜厚が１である透明導電性酸化物からなる膜層が挿入されてなることを特徴とするレーザ媒質。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれかに記載のレーザ媒質であって、前記選択性反射部が形成された面と反対側の面に、基体の結晶材料によるサブ波長の微細構造を利用した反射防止層を有することを特徴とするレーザ媒質。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明はレーザ媒質に関し、さらに詳しくは、高出力のレーザ光を出力するために好適な半導体励起固体レーザ装置用のレーザ媒質に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明は上記課題に鑑みて成されたものであり、その目的とするところは、高出力化の際に問題となる選択性反射層の発熱による破壊を防止し、高出力で信頼性の高い固体レーザ装置を実現することができるレーザ媒質を提供することにある。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記課題を解決するために成された本発明は、励起光を透過させるとともに基本波光及び高調波光を反射する選択性反射部が前記励起光の入射側端面に形成され、該励起光により励起されて基本波光を放出するレーザ媒質であって、非線形光学素子により当該レーザ媒質から放出される基本波光から高調波光を生成し、その基本波光と高調波光とを前記選択性反射部と出力ミラーとの間で共振させる固体レーザ装置、に用いられるレーザ媒質において、
基体は、Ｎｄ：ＹＡＧ結晶、Ｎｄ：ＹＶＯ4結晶、又はそれら結晶に所定の物質がドープされた結晶のいずれかであり、
前記選択性反射部は、少なくとも前記結晶に接触する初期層が透明導電性酸化物からなる膜層で、その初期層に接触する第２層と最も外側に位置する最終層とが共に低屈折率誘電体からなる膜層であり、その第２層と最終層との間が、低屈折率誘電体からなる膜層と高屈折率誘電体からなる膜層とが実質的に交互に配置された誘電体多層膜であることを特徴としている。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
なお、本発明に係るレーザ媒質において、前記選択性反射部は、低屈折率誘電体からなる膜層と高屈折率誘電体からなる膜層との交互の積層体の途中に、光学的膜厚が１である透明導電性酸化物からなる膜層が挿入されてなる構成としてもよい。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
また、本発明に係るレーザ媒質は、前記選択性反射部が形成された面と反対側の面に、基体の結晶材料によるサブ波長の微細構造を利用した反射防止層を有する構成とすることが好ましい。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
本発明に係るレーザ媒質によれば、レーザ媒質の一端面に形成する誘電体多層膜による選択性反射層において内部のエネルギー損失で発生する熱を効率よく放散することができる。それにより、高出力のレーザ光を発生させる際にも膜層の熱損傷を防止することができるので、レーザの高出力化の実現に有効である。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
以下、本発明に係るレーザ媒質を用いた固体レーザ装置の一実施例について、図１〜図６を参照して説明する。図１は本実施例のＬＤ励起固体レーザ装置の概略構成図である。また、図２は図１に示したレーザ媒質３の断面構造を示す概略図である。