(57)【要約】【課題】本発明は、露光の精度を高めることを目的とする。【解決手段】第１露光及び第２露光のそれぞれを、複数の光ビームを照射する露光ヘッド１６の走査露光によって行う。一対の第１膜マーク３２を含むように第１膜パターン３０を形成する。一対の第２膜マーク５０を含むように第２膜パターン４８を形成する。位置ずれを検出する工程は、それぞれの第１膜マーク３２の中心点の位置の測定と、それぞれの第２膜マーク５０の中心点の位置の測定と、一対の第１膜マーク３２の中心間を結ぶ第１直線と副走査方向に沿った基準直線との間の第１角度の算出と、一対の第２膜マーク５０の中心間を結ぶ第２直線と基準直線との間の第２角度の算出と、を含む。調整の工程は、第１角度及び第２角度の差をなくす方向に、第１露光及び第２露光の少なくとも一方で使用される露光ヘッド１６を回転させることを含む。【選択図】図１９
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に第１膜を形成する工程と、
前記第１膜上に第１フォトレジスト層を形成する工程と、
前記第１フォトレジスト層を露光する第１露光によって第１潜像パターンを形成し、前記第１フォトレジスト層から前記第１潜像パターンに対応する第１エッチングマスクを形成する工程と、
前記第１エッチングマスクを介して前記第１膜をエッチングして、第１膜パターンを形成する工程と、
前記第１膜パターンを覆うように前記基板上に第２膜を形成する工程と、
前記第２膜上に第２フォトレジスト層を形成する工程と、
前記第２フォトレジスト層を露光する第２露光によって第２潜像パターンを形成し、前記第２フォトレジスト層から前記第２潜像パターンに対応する第２エッチングマスクを形成する工程と、
前記第２エッチングマスクを介して前記第２膜をエッチングして、第２膜パターンを形成する工程と、
前記第１膜パターンと前記第２膜パターンの位置ずれを検出する工程と、
前記位置ずれの検出結果に基づいて、前記第１膜パターンと前記第２膜パターンの前記位置ずれを小さくするように、前記第１露光及び前記第２露光の少なくとも一方を調整する工程と、
を含み、
前記第１露光及び前記第２露光のそれぞれを、複数の光ビームを照射する露光ヘッドの走査露光によって行い、
前記走査露光での前記露光ヘッドの動作は、主走査方向に沿った往復移動と、前記往復移動の往路及び復路の間での前記走査方向に交差する副走査方向への移動と、を含み、
前記走査露光による露光対象は、複数のストライプ領域の合成領域であり、
それぞれの前記ストライプ領域は、前記往路及び前記復路のそれぞれでの露光対象であり、
前記第１露光では、それぞれの前記ストライプ領域で、前記走査露光によって、前記副走査方向に間隔をあけた一対の第１潜像マークを含むように前記第１潜像パターンを形成し、前記一対の第１潜像マークに対応する一対の第１膜マークを含むように前記第１膜パターンを形成し、
前記第２露光では、それぞれの前記ストライプ領域で、前記走査露光によって、前記副走査方向に間隔をあけた一対の第２潜像マークを含むように前記第２潜像パターンを形成し、前記一対の第２潜像マークに対応する一対の第２膜マークを含むように前記第２膜パターンを形成し、
前記一対の第１膜マークは、前記副走査方向の前方側に位置する第１前方マーク及び前記副走査方向の後方側に位置する第１後方マークからなり、
前記一対の第２膜マークは、前記副走査方向の前方側に位置する第２前方マーク及び前記副走査方向の後方側に位置する第２後方マークからなり、
前記第１前方マークの基準点と前記第２前方マークの基準点が重なるとともに、前記第１後方マークの基準点と前記第２後方マークの基準点が重なるように、前記第１露光及び前記２露光の設定が予めなされ、
前記位置ずれを検出する工程は、それぞれの前記第１膜マークの前記基準点の位置の測定と、それぞれの前記第２膜マークの前記基準点の位置の測定と、を含み、
前記調整の工程で、前記第１前方マーク及び前記第２前方マークの前記基準点のずれ並びに前記第１後方マーク及び前記第２後方マークの前記基準点のずれをなくす方向に、前記第１露光及び前記第２露光の少なくとも一方で使用される前記露光ヘッドを調整することを含むことを特徴とする露光調整方法。
【請求項２】
請求項１に記載された露光調整方法において、
前記位置ずれを検出する工程は、前記一対の第１膜マークの中心間を結ぶ第１直線と前記副走査方向に沿った基準直線との間の第１角度の算出と、前記一対の第２膜マークの中心間を結ぶ第２直線と前記基準直線との間の第２角度の算出と、を含み、
前記調整の工程で、前記第１角度及び前記第２角度の差をなくす方向に、前記第１露光及び前記第２露光の少なくとも一方で使用される前記露光ヘッドを回転させることを特徴とする露光調整方法。
【請求項３】
請求項２に記載された露光調整方法において、
前記露光ヘッドの制御は、前記第１露光及び前記第２露光での前記副走査方向への移動の距離がそれぞれ等しく予め決められた値になるように設定され、
前記位置ずれを検出する工程は、前記第１露光及び前記第２露光のそれぞれでの前記露光ヘッドの前記副走査方向への移動の距離の差を算出することをさらに含み、
前記移動の距離の差を算出する工程は、前記第１角度に従って前記一対の第１膜マークの前記基準点をそれぞれ前記副走査方向に沿って補正した一対の第１補正点を算出し、前記第２角度に従って前記一対の第２膜マークの前記基準点をそれぞれ前記副走査方向に沿って補正した一対の第２補正点を算出し、前記一対の第１補正点及び前記一対の第２補正点の前記副走査方向に沿ったずれ量を算出することをさらに含み、
前記調整の工程は、前記ずれ量をなくすように、前記第１露光及び前記第２露光の少なくとも一方で使用される前記露光ヘッドの前記制御を調整することを含むことを特徴とする露光調整方法。
【請求項４】
請求項３に記載された露光調整方法において、
前記一対の第１補正点は、前記第１前方マークの前記基準点を補正して得られた第１前方補正点と、前記第１後方マークの前記基準点を補正して得られた第１後方補正点と、からなり、
前記一対の第２補正点は、前記第２前方マークの前記基準点を補正して得られた第２前方補正点と、前記第２後方マークの前記基準点を補正して得られた第２後方補正点と、からなり、
前記移動の距離の差を算出する工程では、前記第１前方補正点と前記第２前方補正点の前記副走査方向に沿った第１距離を算出し、前記第１後方補正点と前記第２後方補正点の前記副走査方向に沿った第２距離を算出し、前記第１距離及び前記第２距離の平均値を算出し、
前記調整の工程では、前記第１距離及び前記第２距離の前記平均値を小さくするように、前記第１露光及び前記第２露光の少なくとも一方で使用される前記露光ヘッドの前記制御を調整することを特徴とする露光調整方法。
【請求項５】
請求項１に記載された露光調整方法において、
前記第１露光及び前記第２露光のそれぞれを、複数の前記露光ヘッドの走査露光によって行い、
それぞれの前記露光ヘッドによって、ｊ本の前記ストライプ領域を形成し、
前記位置ずれを検出する工程で、
前記第１露光及び前記第２露光のそれぞれのｎ番目の前記露光ヘッドによって形成した前記ｊ本の前記ストライプ領域のそれぞれに対応する前記位置ずれを求め、
求められたｊ個の前記位置ずれの情報の平均値を求め、
ｎ番目の前記露光ヘッドについての前記平均値と、ｎ＋１番目の前記露光ヘッドについての前記平均値との差を求め、
前記調整の工程で、前記平均値の差に応じて、前記ｎ番目の前記露光ヘッドと前記ｎ＋１番目の前記露光ヘッドの間隔を調整することを特徴とする露光調整方法。
【請求項６】
請求項５に記載された露光調整方法において、
前記位置ずれを検出する工程で、
奇数番目の前記露光ヘッドについての前記平均値と、偶数番目の前記露光ヘッドについての前記平均値との差を求め、
前記調整する工程で、前記平均値の差に応じて、前記奇数番目の前記露光ヘッドと前記偶数番目の前記露光ヘッドの間隔を調整することを特徴とする露光調整方法。
【請求項７】
請求項１から６のいずれか１項に記載された露光調整方法において、
前記第１露光では、それぞれの前記ストライプ領域で、前記走査露光によって、前記主走査方向に離れた複数位置のそれぞれに一対の第１潜像マークを含むように前記第１潜像パターンを形成し、前記複数位置のそれぞれに一対の第１膜マークを含むように前記第１膜パターンを形成し、
前記第２露光では、それぞれの前記ストライプ領域で、前記走査露光によって、前記主走査方向に離れた複数位置のそれぞれに一対の第２潜像マークを含むように前記第２潜像パターンを形成し、複数位置のそれぞれに一対の第２膜マークを含むように前記第２膜パターンを形成することを特徴とする露光調整方法。
【請求項８】
請求項１から７のいずれか１項に記載された露光調整方法において、
隣り合う前記ストライプ領域の端部同士が重なるように、前記走査露光を行うことを特徴とする露光調整方法。
【請求項９】
第１液晶表示装置用の第１基板及び第２液晶表示装置用の第２基板のそれぞれに対して、時間的に前後して、第１露光を経て第１膜パターンを形成する工程と、
前記第１基板及び前記第２基板のそれぞれに対して、時間的に前後して、第２露光を経て第２膜パターンを形成する工程と、
前記第１基板に対する前記第１膜パターン及び前記第２膜パターンの形成後であって、前記第２基板に対する前記第１膜パターン及び前記第２膜パターンのうち少なくとも前記第２膜パターンの形成前に、前記第１基板に形成された前記第１膜パターン及び前記第２膜パターンの位置ずれを検出する工程と、
前記位置ずれの検出結果に基づいて、前記第１膜パターンと前記第２膜パターンの前記位置ずれを小さくするように、前記第１露光及び前記第２露光の少なくとも一方を調整する工程と、
を含み、
前記第１基板及び前記第２基板のそれぞれに対して、前記第１膜パターンを形成した後に、前記第２膜パターンを形成し、
前記調整の工程を行った後に、前記第２基板に対する前記第１膜パターン及び前記第２膜パターンのうち少なくとも前記第２膜パターンの形成を行い、
前記第１膜パターンを形成する工程では、第１膜を形成し、前記第１膜上に第１フォトレジスト層を形成し、前記第１フォトレジスト層を露光するように前記第１露光を行って第１潜像パターンを形成して前記第１フォトレジスト層から前記第１潜像パターンに対応する第１エッチングマスクを形成し、前記第１エッチングマスクを介して前記第１膜をエッチングして、前記第１膜パターンを形成し、
前記第２膜パターンを形成する工程では、前記第１膜パターンを覆うように第２膜を形成し、前記第２膜上に第２フォトレジスト層を形成し、前記第２フォトレジスト層を露光するように前記第２露光を行って第２潜像パターンを形成して前記第２フォトレジスト層から前記第２潜像パターンに対応する第２エッチングマスクを形成し、前記第２エッチングマスクを介して前記第２膜をエッチングして、前記第２膜パターンを形成し、
前記第１露光及び前記第２露光のそれぞれを、複数の光ビームを照射する露光ヘッドの走査露光によって行い、
前記走査露光での前記露光ヘッドの動作は、主走査方向に沿った往復移動と、前記往復移動の往路及び復路の間での前記走査方向に交差する副走査方向への移動と、を含み、
前記走査露光による露光対象は、複数のストライプ領域の合成領域であり、
それぞれの前記ストライプ領域は、前記往路及び前記復路のそれぞれでの露光対象であり、
前記第１露光では、それぞれの前記ストライプ領域で、前記走査露光によって、前記副走査方向に間隔をあけた一対の第１潜像マークを含むように前記第１潜像パターンを形成し、前記一対の第１潜像マークに対応する一対の第１膜マークを含むように前記第１膜パターンを形成し、
前記第２露光では、それぞれの前記ストライプ領域で、前記走査露光によって、前記副走査方向に間隔をあけた一対の第２潜像マークを含むように前記第２潜像パターンを形成し、前記一対の第２潜像マークに対応する一対の第２膜マークを含むように前記第２膜パターンを形成し、
前記一対の第１膜マークは、前記副走査方向の前方側に位置する第１前方マーク及び前記副走査方向の後方側に位置する第１後方マークからなり、
前記一対の第２膜マークは、前記副走査方向の前方側に位置する第２前方マーク及び前記副走査方向の後方側に位置する第２後方マークからなり、
前記第１前方マークの基準点と前記第２前方マークの基準点が重なるとともに、前記第１後方マークの基準点と前記第２後方マークの基準点が重なるように、前記第１露光及び前記２露光の設定が予めなされ、
前記位置ずれを検出する工程は、それぞれの前記第１膜マークの前記基準点の位置の測定と、それぞれの前記第２膜マークの前記基準点の位置の測定と、を含み、
前記調整の工程で、前記第１前方マーク及び前記第２前方マークの前記基準点のずれ並びに前記第１後方マーク及び前記第２後方マークの前記基準点のずれをなくす方向に、前記第１露光及び前記第２露光の少なくとも一方で使用される前記露光ヘッドを調整することを含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項１０】
請求項９に記載された液晶表示装置の製造方法において、
前記位置ずれを検出する工程は、前記一対の第１膜マークの中心間を結ぶ第１直線と前記副走査方向に沿った基準直線との間の第１角度の算出と、前記一対の第２膜マークの中心間を結ぶ第２直線と前記基準直線との間の第２角度の算出と、を含み、
前記調整の工程で、前記第１角度及び前記第２角度の差をなくす方向に、前記第１露光及び前記第２露光の少なくとも一方で使用される前記露光ヘッドを回転させることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項１１】
請求項９に記載された液晶表示装置の製造方法において、
前記第１露光及び前記第２露光のそれぞれを、複数の前記露光ヘッドの走査露光によって行い、
それぞれの前記露光ヘッドによって、ｊ本の前記ストライプ領域を形成し、
前記位置ずれを検出する工程で、
前記第１露光及び前記第２露光のそれぞれのｎ番目の前記露光ヘッドによって形成した前記ｊ本の前記ストライプ領域のそれぞれに対応する前記位置ずれを求め、
求められたｊ個の前記位置ずれの情報の平均値を求め、
ｎ番目の前記露光ヘッドについての前記平均値と、ｎ＋１番目の前記露光ヘッドについての前記平均値との差を求め、
前記調整の工程で、前記平均値の差に応じて、前記ｎ番目の前記露光ヘッドと前記ｎ＋１番目の前記露光ヘッドの間隔を調整することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項１２】
請求項９に記載された液晶表示装置の製造方法において、
前記位置ずれを検出する工程で、
奇数番目の前記露光ヘッドについての前記平均値と、偶数番目の前記露光ヘッドについての前記平均値との差を求め、
前記調整する工程で、前記平均値の差に応じて、前記奇数番目の前記露光ヘッドと前記偶数番目の前記露光ヘッドの間隔を調整することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光調整方法及び液晶表示装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、配線、電極、半導体層又は絶縁膜などのパターンを有している。このようなパターンは、エッチングマスクを介して薄膜をエッチングすることで形成される。エッチングマスクは、フォトリソグラフィを適用してフォトレジスト層をパターニングして形成する。フォトリソグラフィは露光プロセスを含んでおり、パターニング精度は露光プロセスに大きく依存している。
【０００３】
近年、多品種の製品に対応できるように、高価なフォトマスクを使用しないマスクレス露光を行うことが多くなってきている（特許文献１、２）。マスクレス露光では、フォトレジスト層に対して相対的に露光ヘッドが移動して露光が行われる。露光ヘッドは、主走査方向に沿って往復移動し、往路と復路とで露光領域の一部が重なるようになっている。なお、往路の終了位置から復路の開始位置への移動方向を副走査方向という。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００４−５６０８０号公報
【特許文献２】特開２００８−２７６１６８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
マスクレス露光を適用してパターンを積層して形成するときに、各層のパターンを、同じ設計の露光ヘッドを使用して、同じ主走査及び同じ副走査によって露光を行えば、制御が容易になる。
【０００６】
しかし、第１層のパターンを形成するための第１露光プロセスと、第２層のパターンを形成するための第２露光プロセスとで、露光ヘッドの走査に差が生じることがある。例えば、露光ヘッドが、光の照射方向に沿った軸を中心に回転して傾いていることがあり、この傾き角度が第１露光プロセスと第２露光プロセスで異なることがある。また、露光ヘッドの副走査方向への送り量が、第１露光プロセスと第２露光プロセスとで、プログラム上は同一であるはずなのに実際には異なることがある。あるいは、１回の露光プロセスで複数の露光ヘッドを使用する場合、隣同士の露光ヘッドの間隔を均一にした設計値に対して変動し、第１露光プロセスと第２露光プロセスとで、露光ヘッドの間隔が異なることがある。また、プログラム上では露光ヘッドの往路と復路の直進性は同一であって副走査方向に直角になるはずであるが、実際には主走査方向の動作に副走査方向の動作が加わり、蛇行してしまうことがある。この蛇行が主走査方向の往路と復路で異なると往復対称性がなくなる。
【０００７】
このように、第１露光プロセスと第２露光プロセスとで、露光ヘッドの走査に差があると、第１層のパターンと第２層のパターンとで、重なるべき部分が重ならず、重なってはならない部分が重なってしまうことがあり得る。
【０００８】
本発明は、露光の精度を高めることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
（１）本発明に係る露光調整方法は、基板上に第１膜を形成する工程と、前記第１膜上に第１フォトレジスト層を形成する工程と、前記第１フォトレジスト層を露光する第１露光によって第１潜像パターンを形成し、前記第１フォトレジスト層から前記第１潜像パターンに対応する第１エッチングマスクを形成する工程と、前記第１エッチングマスクを介して前記第１膜をエッチングして、第１膜パターンを形成する工程と、前記第１膜パターンを覆うように前記基板上に第２膜を形成する工程と、前記第２膜上に第２フォトレジスト層を形成する工程と、前記第２フォトレジスト層を露光する第２露光によって第２潜像パターンを形成し、前記第２フォトレジスト層から前記第２潜像パターンに対応する第２エッチングマスクを形成する工程と、前記第２エッチングマスクを介して前記第２膜をエッチングして、第２膜パターンを形成する工程と、前記第１膜パターンと前記第２膜パターンの位置ずれを検出する工程と、前記位置ずれの検出結果に基づいて、前記第１膜パターンと前記第２膜パターンの前記位置ずれを小さくするように、前記第１露光及び前記第２露光の少なくとも一方を調整する工程と、を含み、前記第１露光及び前記第２露光のそれぞれを、複数の光ビームを照射する露光ヘッドの走査露光によって行い、前記走査露光での前記露光ヘッドの動作は、主走査方向に沿った往復移動と、前記往復移動の往路及び復路の間での前記走査方向に交差する副走査方向への移動と、を含み、前記走査露光による露光対象は、複数のストライプ領域の合成領域であり、それぞれの前記ストライプ領域は、前記往路及び前記復路のそれぞれでの露光対象であり、前記第１露光では、それぞれの前記ストライプ領域で、前記走査露光によって、前記副走査方向に間隔をあけた一対の第１潜像マークを含むように前記第１潜像パターンを形成し、前記一対の第１潜像マークに対応する一対の第１膜マークを含むように前記第１膜パターンを形成し、前記第２露光では、それぞれの前記ストライプ領域で、前記走査露光によって、前記副走査方向に間隔をあけた一対の第２潜像マークを含むように前記第２潜像パターンを形成し、前記一対の第２潜像マークに対応する一対の第２膜マークを含むように前記第２膜パターンを形成し、前記一対の第１膜マークは、前記副走査方向の前方側に位置する第１前方マーク及び前記副走査方向の後方側に位置する第１後方マークからなり、前記一対の第２膜マークは、前記副走査方向の前方側に位置する第２前方マーク及び前記副走査方向の後方側に位置する第２後方マークからなり、前記第１前方マークの基準点と前記第２前方マークの基準点が重なるとともに、前記第１後方マークの基準点と前記第２後方マークの基準点が重なるように、前記第１露光及び前記２露光の設定が予めなされ、前記位置ずれを検出する工程は、それぞれの前記第１膜マークの前記基準点の位置の測定と、それぞれの前記第２膜マークの前記基準点の位置の測定と、を含み、前記調整の工程で、前記第１前方マーク及び前記第２前方マークの前記基準点のずれ並びに前記第１後方マーク及び前記第２後方マークの前記基準点のずれをなくす方向に、前記第１露光及び前記第２露光の少なくとも一方で使用される前記露光ヘッドを調整することを含むことを特徴とする。本発明によれば、露光ヘッドを調整するので、その後の露光プロセスを精密に行うことができる。
【００１０】
（２）（１）に記載された露光調整方法において、前記位置ずれを検出する工程は、前記一対の第１膜マークの中心間を結ぶ第１直線と前記副走査方向に沿った基準直線との間の第１角度の算出と、前記一対の第２膜マークの中心間を結ぶ第２直線と前記基準直線との間の第２角度の算出と、を含み、前記調整の工程で、前記第１角度及び前記第２角度の差をなくす方向に、前記第１露光及び前記第２露光の少なくとも一方で使用される前記露光ヘッドを回転させることを特徴としてもよい。
【００１１】
（３）（２）に記載された露光調整方法において、前記露光ヘッドの制御は、前記第１露光及び前記第２露光での前記副走査方向への移動の距離がそれぞれ等しく予め決められた値になるように設定され、前記位置ずれを検出する工程は、前記第１露光及び前記第２露光のそれぞれでの前記露光ヘッドの前記副走査方向への移動の距離の差を算出することをさらに含み、前記移動の距離の差を算出する工程は、前記第１角度に従って前記一対の第１膜マークの前記基準点をそれぞれ前記副走査方向に沿って補正した一対の第１補正点を算出し、前記第２角度に従って前記一対の第２膜マークの前記基準点をそれぞれ前記副走査方向に沿って補正した一対の第２補正点を算出し、前記一対の第１補正点及び前記一対の第２補正点の前記副走査方向に沿ったずれ量を算出することをさらに含み、前記調整の工程は、前記ずれ量をなくすように、前記第１露光及び前記第２露光の少なくとも一方で使用される前記露光ヘッドの前記制御を調整することを含むことを特徴としてもよい。
【００１２】
（４）（３）に記載された露光調整方法において、前記一対の第１補正点は、前記第１前方マークの前記基準点を補正して得られた第１前方補正点と、前記第１後方マークの前記基準点を補正して得られた第１後方補正点と、からなり、前記一対の第２補正点は、前記第２前方マークの前記基準点を補正して得られた第２前方補正点と、前記第２後方マークの前記基準点を補正して得られた第２後方補正点と、からなり、前記移動の距離の差を算出する工程では、前記第１前方補正点と前記第２前方補正点の前記副走査方向に沿った第１距離を算出し、前記第１後方補正点と前記第２後方補正点の前記副走査方向に沿った第２距離を算出し、前記第１距離及び前記第２距離の平均値を算出し、前記調整の工程では、前記第１距離及び前記第２距離の前記平均値を小さくするように、前記第１露光及び前記第２露光の少なくとも一方で使用される前記露光ヘッドの前記制御を調整することを特徴としてもよい。
【００１３】
（５）（１）に記載された露光調整方法において、前記第１露光及び前記第２露光のそれぞれを、複数の前記露光ヘッドの走査露光によって行い、それぞれの前記露光ヘッドによって、ｊ本の前記ストライプ領域を形成し、前記位置ずれを検出する工程で、前記第１露光及び前記第２露光のそれぞれのｎ番目の前記露光ヘッドによって形成した前記ｊ本の前記ストライプ領域のそれぞれに対応する前記位置ずれを求め、求められたｊ個の前記位置ずれの情報の平均値を求め、ｎ番目の前記露光ヘッドについての前記平均値と、ｎ＋１番目の前記露光ヘッドについての前記平均値との差を求め、前記調整の工程で、前記平均値の差に応じて、前記ｎ番目の前記露光ヘッドと前記ｎ＋１番目の前記露光ヘッドの間隔を調整することを特徴としてもよい。
【００１４】
（６）（５）に記載された露光調整方法において、前記位置ずれを検出する工程で、奇数番目の前記露光ヘッドについての前記平均値と、偶数番目の前記露光ヘッドについての前記平均値との差を求め、前記調整する工程で、前記平均値の差に応じて、前記奇数番目の前記露光ヘッドと前記偶数番目の前記露光ヘッドの間隔を調整することを特徴としてもよい。
【００１５】
（７）（１）から（６）のいずれか１項に記載された露光調整方法において、前記第１露光では、それぞれの前記ストライプ領域で、前記走査露光によって、前記主走査方向に離れた複数位置のそれぞれに一対の第１潜像マークを含むように前記第１潜像パターンを形成し、前記複数位置のそれぞれに一対の第１膜マークを含むように前記第１膜パターンを形成し、前記第２露光では、それぞれの前記ストライプ領域で、前記走査露光によって、前記主走査方向に離れた複数位置のそれぞれに一対の第２潜像マークを含むように前記第２潜像パターンを形成し、前記複数位置のそれぞれに一対の第２膜マークを含むように前記第２膜パターンを形成することを特徴としてもよい。
【００１６】
（８）（１）から（７）のいずれか１項に記載された露光調整方法において、隣り合う前記ストライプ領域の端部同士が重なるように、前記走査露光を行うことを特徴としてもよい。
【００１７】
（９）本発明に係る液晶表示装置の製造方法は、第１液晶表示装置用の第１基板及び第２液晶表示装置用の第２基板のそれぞれに対して、時間的に前後して、第１露光を経て第１膜パターンを形成する工程と、前記第１基板及び前記第２基板のそれぞれに対して、時間的に前後して、第２露光を経て第２膜パターンを形成する工程と、前記第１基板に対する前記第１膜パターン及び前記第２膜パターンの形成後であって、前記第２基板に対する前記第１膜パターン及び前記第２膜パターンのうち少なくとも前記第２膜パターンの形成前に、前記第１基板に形成された前記第１膜パターン及び前記第２膜パターンの位置ずれを検出する工程と、前記位置ずれの検出結果に基づいて、前記第１膜パターンと前記第２膜パターンの前記位置ずれを小さくするように、前記第１露光及び前記第２露光の少なくとも一方を調整する工程と、を含み、前記第１基板及び前記第２基板のそれぞれに対して、前記第１膜パターンを形成した後に、前記第２膜パターンを形成し、前記調整の工程を行った後に、前記第２基板に対する前記第１膜パターン及び前記第２膜パターンのうち少なくとも前記第２膜パターンの形成を行い、前記第１膜パターンを形成する工程では、第１膜を形成し、前記第１膜上に第１フォトレジスト層を形成し、前記第１フォトレジスト層を露光するように前記第１露光を行って第１潜像パターンを形成して前記第１フォトレジスト層から前記第１潜像パターンに対応する第１エッチングマスクを形成し、前記第１エッチングマスクを介して前記第１膜をエッチングして、前記第１膜パターンを形成し、前記第２膜パターンを形成する工程では、前記第１膜パターンを覆うように第２膜を形成し、前記第２膜上に第２フォトレジスト層を形成し、前記第２フォトレジスト層を露光するように前記第２露光を行って第２潜像パターンを形成して前記第２フォトレジスト層から前記第２潜像パターンに対応する第２エッチングマスクを形成し、前記第２エッチングマスクを介して前記第２膜をエッチングして、前記第２膜パターンを形成し、前記第１露光及び前記第２露光のそれぞれを、複数の光ビームを照射する露光ヘッドの走査露光によって行い、前記走査露光での前記露光ヘッドの動作は、主走査方向に沿った往復移動と、前記往復移動の往路及び復路の間での前記走査方向に交差する副走査方向への移動と、を含み、前記走査露光による露光対象は、複数のストライプ領域の合成領域であり、それぞれの前記ストライプ領域は、前記往路及び前記復路のそれぞれでの露光対象であり、前記第１露光では、それぞれの前記ストライプ領域で、前記走査露光によって、前記副走査方向に間隔をあけた一対の第１潜像マークを含むように前記第１潜像パターンを形成し、前記一対の第１潜像マークに対応する一対の第１膜マークを含むように前記第１膜パターンを形成し、前記第２露光では、それぞれの前記ストライプ領域で、前記走査露光によって、前記副走査方向に間隔をあけた一対の第２潜像マークを含むように前記第２潜像パターンを形成し、前記一対の第２潜像マークに対応する一対の第２膜マークを含むように前記第２膜パターンを形成し、前記一対の第１膜マークは、前記副走査方向の前方側に位置する第１前方マーク及び前記副走査方向の後方側に位置する第１後方マークからなり、前記一対の第２膜マークは、前記副走査方向の前方側に位置する第２前方マーク及び前記副走査方向の後方側に位置する第２後方マークからなり、前記第１前方マークの基準点と前記第２前方マークの基準点が重なるとともに、前記第１後方マークの基準点と前記第２後方マークの基準点が重なるように、前記第１露光及び前記２露光の設定が予めなされ、前記位置ずれを検出する工程は、それぞれの前記第１膜マークの前記基準点の位置の測定と、それぞれの前記第２膜マークの前記基準点の位置の測定と、を含み、前記調整の工程で、前記第１前方マーク及び前記第２前方マークの前記基準点のずれ並びに前記第１後方マーク及び前記第２後方マークの前記基準点のずれをなくす方向に、前記第１露光及び前記第２露光の少なくとも一方で使用される前記露光ヘッドを調整することを含むことを特徴とする。本発明によれば、第１基板に対する露光プロセスの結果に従って露光ヘッドを調整するので、第２基板に対する露光プロセスを精密に行うことができる。
【００１８】
（１０）（９）に記載された液晶表示装置の製造方法において、前記位置ずれを検出する工程は、前記一対の第１膜マークの中心間を結ぶ第１直線と前記副走査方向に沿った基準直線との間の第１角度の算出と、前記一対の第２膜マークの中心間を結ぶ第２直線と前記基準直線との間の第２角度の算出と、を含み、前記調整の工程で、前記第１角度及び前記第２角度の差をなくす方向に、前記第１露光及び前記第２露光の少なくとも一方で使用される前記露光ヘッドを回転させることを特徴としてもよい。
【００１９】
（１１）（９）に記載された液晶表示装置の製造方法において、前記第１露光及び前記第２露光のそれぞれを、複数の前記露光ヘッドの走査露光によって行い、それぞれの前記露光ヘッドによって、ｊ本の前記ストライプ領域を形成し、前記位置ずれを検出する工程で、前記第１露光及び前記第２露光のそれぞれのｎ番目の前記露光ヘッドによって形成した前記ｊ本の前記ストライプ領域のそれぞれに対応する前記位置ずれを求め、求められたｊ個の前記位置ずれの情報の平均値を求め、ｎ番目の前記露光ヘッドについての前記平均値と、ｎ＋１番目の前記露光ヘッドについての前記平均値との差を求め、前記調整の工程で、前記平均値の差に応じて、前記ｎ番目の前記露光ヘッドと前記ｎ＋１番目の前記露光ヘッドの間隔を調整することを特徴としてもよい。
【００２０】
（１２）（９）に記載された液晶表示装置の製造方法において、前記位置ずれを検出する工程で、奇数番目の前記露光ヘッドについての前記平均値と、偶数番目の前記露光ヘッドについての前記平均値との差を求め、前記調整する工程で、前記平均値の差に応じて、前記奇数番目の前記露光ヘッドと前記偶数番目の前記露光ヘッドの間隔を調整することを特徴としてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】本発明の実施の形態に係る露光調整方法で位置ずれを検出する前までのプロセスを説明する図である。
【図２】本発明の実施の形態に係る露光調整方法で位置ずれを検出する前までのプロセスを説明する図である。
【図３】本発明の実施の形態に係る露光調整方法で位置ずれを検出する前までのプロセスを説明する図である。
【図４】本発明の実施の形態に係る露光調整方法で位置ずれを検出する前までのプロセスを説明する図である。
【図５】図４に示す構造のＶ−Ｖ線断面図である。
【図６】本発明の実施の形態に係る露光調整方法で位置ずれを検出する前までのプロセスを説明する図である。
【図７】本発明の実施の形態に係る露光調整方法で位置ずれを検出する前までのプロセスを説明する図である。
【図８】本発明の実施の形態に係る露光調整方法で位置ずれを検出する前までのプロセスを説明する図である。
【図９】本発明の実施の形態に係る露光調整方法で位置ずれを検出する前までのプロセスを説明する図である。
【図１０】本発明の実施の形態に係る露光調整方法で位置ずれを検出する前までのプロセスを説明する図である。
【図１１】本発明の実施の形態に係る露光調整方法で位置ずれを検出する前までのプロセスを説明する図である。
【図１２】図１１に示す構造のXII−XII線断面図である。
【図１３】本発明の実施の形態に係る露光調整方法で位置ずれを検出する前までのプロセスを説明する図である。
【図１４】本発明の実施の形態に係る露光調整方法で位置ずれを検出する前までのプロセスを説明する図である。
【図１５】本発明の実施の形態に係る露光調整方法で位置ずれを検出する前までのプロセスを説明する図である。
【図１６】本発明の実施の形態に係る露光調整方法で位置ずれを検出する前までのプロセスを説明する図である。
【図１７】露光調整の必要性を説明する図である。
【図１８】露光調整の必要性を説明する図である。
【図１９】位置ずれの検出並びに第１露光及び第２露光の少なくとも一方を調整するプロセスを説明する図である。
【図２０】本発明の実施の形態の変形例を説明する図である。
【図２１】本発明の実施の形態の変形例を説明する図である。
【図２２】本発明の実施の形態の変形例を説明する図である。
【図２３】複数の露光ヘッドの間隔がずれている例を説明する図である。
【図２４】複数の露光ヘッドの間隔がずれている例を説明する図である。
【図２５】複数の露光ヘッドの間隔がずれている場合の第１膜マーク及び第２膜マークを示す図である。
【図２６】露光の往復対称性がない例を説明する図である。
【図２７】露光の往復対称性がない例を説明する図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照して説明する。図１〜図１６は、本発明の実施の形態に係る露光調整方法で位置ずれを検出する前までのプロセスを説明する図である。図１７及び図１８は、露光調整の必要性を説明する図である。図１９は、位置ずれの検出並びに第１露光及び第２露光の少なくとも一方を調整するプロセスを説明する図である。
【００２３】
図１に示すように、基板１０上に第１膜１２を形成する。基板１０は、露光調整方法を液晶表示装置の製造に適用するときにはガラスや樹脂などの光透過性を有する材料から構成されている。第１膜１２は、金属などからなる導電膜、シリコンなどからなる半導体膜、シリコン酸化膜あるいはシリコン窒化膜又は樹脂などからなる絶縁膜のいずれであってもよい。第１膜１２は、基板１０上に直接形成してもよいし、両者間に他の層を介在させてもよい。そして、第１膜１２上に第１フォトレジスト層１４を形成する。
【００２４】
図２に示すように、第１フォトレジスト層１４を露光する第１露光を行う。第１露光はフォトリソグラフィで行われる露光である。第１露光は露光ヘッド１６の走査露光によって行う。すなわち、第１露光はマスクレス露光である。露光ヘッド１６自体が移動してもよいが、実際には、基板１０を支持するステージ１８が移動し、露光ヘッド１６は移動しないことが多い。したがって、露光ヘッド１６の動きは、露光対象との相対的な動きを意味しており、露光ヘッド１６自体が動くことには限定されない。
【００２５】
図３に示すように、露光ヘッド１６は、複数の光ビームを照射するようになっている。例えば、露光ヘッド１６が図示しないデジタル・マイクロミラー・デバイスを備えることで、複数の光ビームの照射が可能になる。
【００２６】
図２に示すように、走査露光での露光ヘッド１６の動作は、主走査方向（-Ｙ方向及び+Ｙ方向）に沿った往復移動と、往復移動の往路及び復路の間での走査方向に交差する副走査方向（+Ｘ方向）への移動と、を含む。露光ヘッド１６の制御は、副走査方向への移動の距離が予め決められた値になるように設定されている。走査露光による露光対象は、複数のストライプ領域２０の合成領域である。それぞれのストライプ領域２０は、主走査方向（-Ｙ方向及び+Ｙ方向）に沿った往復移動の往路及び復路のそれぞれでの露光対象である。隣り合うストライプ領域２０の端部同士が重なるように、走査露光を行う。
【００２７】
図４に示すように、第１露光によって第１潜像パターン２２を形成する。図５は、図４に示す構造のＶ−Ｖ線断面図である。本実施の形態は、１枚の基板１０から複数の製品を製造する例であり、第１潜像パターン２２は、複数の製品に応じた複数の第１配線パターン領域２４を含む。それぞれの第１配線パターン領域２４では、１つの製品に対応する配線パターンを形成するための潜像が形成される。
【００２８】
第１露光では、それぞれのストライプ領域２０で、走査露光によって、副走査方向（+Ｘ方向）に間隔をあけた一対の第１潜像マーク２６を含むように第１潜像パターン２２を形成する。なお、第１潜像マーク２６は、第１配線パターン領域２４の外側に形成されている。また、それぞれのストライプ領域２０で、走査露光によって、主走査方向（-Ｙ方向及び+Ｙ方向）に離れた複数位置のそれぞれに一対の第１潜像マーク２６を含むように第１潜像パターン２２を形成する。
【００２９】
図６に示すように、第１フォトレジスト層１４から第１潜像パターン２２に対応する第１エッチングマスク２８を形成する。この工程は、第１フォトレジスト層１４の現像及びポストベークなどを含む。
【００３０】
第１エッチングマスク２８を介して第１膜１２をエッチングして、図７に示すように、第１膜パターン３０を形成する。図８は、第１膜パターン３０の平面図である。第１膜パターン３０は、図４に示す一対の第１潜像マーク２６に対応する一対の第１膜マーク３２を含む。また、第１膜パターン３０は、図４に示す複数の第１配線パターン領域２４に対応する複数の第１配線膜領域３４を含む。それぞれの第１配線膜領域３４では、１つの製品に対応する配線パターンが形成される。
【００３１】
一対の第１膜マーク３２は、それぞれのストライプ領域２０で副走査方向（+Ｘ方向）の前方側に位置する第１前方マーク３２ａ及び副走査方向（+Ｘ方向）の後方側に位置する第１後方マーク３２ｂからなる。また、主走査方向（-Ｙ方向及び+Ｙ方向）に離れた複数位置のそれぞれに一対の第１膜マーク３２を含むように第１膜パターン３０を形成する。
【００３２】
図９に示すように、第１膜パターン３０を覆うように基板１０上に第２膜３６を形成する。第２膜３６の詳細は第１膜１２の内容が該当する。また、第２膜３６上に第２フォトレジスト層３８を形成する。第２フォトレジスト層３８の詳細は第１フォトレジスト層１４の内容が該当する。
【００３３】
図１０に示すように、第２フォトレジスト層３８を露光する第２露光を行う。第２露光はフォトリソグラフィで行われる露光である。第２露光は露光ヘッド１６の走査露光によって行う。すなわち、第２露光はマスクレス露光である。
【００３４】
本実施の形態では、第１露光及び第２露光では異なる露光装置を使用する。ただし、図１０に示す露光ヘッド１６の詳細は、図２に示す露光ヘッド１６の内容が該当する。走査露光での露光ヘッド１６の動作は、主走査方向に沿った往復移動と、往復移動の往路及び復路の間での走査方向に交差する副走査方向への移動と、を含む。露光ヘッド１６の制御は、副走査方向への移動の距離が等しく予め決められた値になるように設定されている。図２及び図１０に示す露光ヘッド１６の制御は、それぞれ、第１露光及び第２露光での副走査方向への移動の距離がそれぞれ等しくなるように設定されている。
【００３５】
走査露光による露光対象は、複数のストライプ領域２０の合成領域である。それぞれのストライプ領域２０は、往路及び復路のそれぞれでの露光対象である。隣り合うストライプ領域２０の端部同士が重なるように、走査露光を行う。
【００３６】
図１１に示すように、第２露光によって第２潜像パターン４０を形成する。図１２は、図１１に示す構造のXII−XII線断面図である。本実施の形態は、１枚の基板１０から複数の製品を製造する例であり、第２潜像パターン４０は、複数の製品に応じた複数の第２配線パターン領域４２を含む。それぞれの第２配線パターン領域４２では、１つの製品に対応する配線パターンを形成するための潜像が形成される。
【００３７】
第２露光では、それぞれのストライプ領域２０で、走査露光によって、副走査方向に間隔をあけた一対の第２潜像マーク４４を含むように第２潜像パターン４０を形成する。なお、第２潜像マーク４４は、第２配線パターン領域４２の外側に形成されている。また、それぞれのストライプ領域２０で、走査露光によって、主走査方向（-Ｙ方向及び+Ｙ方向）に離れた複数位置のそれぞれに一対の第２潜像マーク４４を含むように第２潜像パターン４０を形成する。
【００３８】
図１３に示すように、第２フォトレジスト層３８から第２潜像パターン４０に対応する第２エッチングマスク４６を形成する。この工程は、第２フォトレジスト層３８の現像及びポストベークなどを含む。
【００３９】
第２エッチングマスク４６を介して第２膜３６をエッチングして、図１４に示すように、第２膜パターン４８を形成する。図１５は、第２膜パターン４８の平面図である。第２膜パターン４８は、図１１に示す一対の第２潜像マーク４４に対応する一対の第２膜マーク５０を含む。また、第２膜パターン４８は、図１１に示す複数の第２配線パターン領域４２に対応する複数の第２配線膜領域５２を含む。それぞれの第２配線膜領域５２では、１つの製品に対応する配線パターンが形成される。
【００４０】
一対の第２膜マーク５０は、それぞれのストライプ領域２０で副走査方向（+Ｘ方向）の前方側に位置する第２前方マーク５０ａ及び副走査方向（+Ｘ方向）の後方側に位置する第２後方マーク５０ｂからなる。また、主走査方向（-Ｙ方向及び+Ｙ方向）に離れた複数位置のそれぞれに一対の第２膜マーク５０を含むように第２膜パターン４８を形成する。
【００４１】
本実施の形態では、図１６に示すように、第１前方マーク３２ａの中心点（基準点の一例）と第２前方マーク５０ａの中心点（基準点の一例）が重なるとともに、第１後方マーク３２ｂの中心点と第２後方マーク５０ｂの中心点が重なるように、第１露光及び２露光の設定が予めなされている。
【００４２】
この場合、第１前方マーク３２ａの中心点と第１後方マーク３２ｂの中心点との距離がＸ１であり、第２前方マーク５０ａの中心点と第２後方マーク５０ｂの中心点との距離もＸ１であって両者は等しい。また、１つのストライプ領域２０の第１前方マーク３２ａの中心点とその隣のストライプ領域２０の第１後方マーク３２ｂの中心点との距離がＸ２であり、１つのストライプ領域２０の第２前方マーク５０ａの中心点とその隣のストライプ領域２０の第２後方マーク５０ｂの中心点の距離もＸ２であって両者は等しい。なお、Ｘ１＞Ｘ２であることが好ましい。
【００４３】
しかし、実際には、設定通りの露光が行われないことがある。例えば、図１７（Ａ）に示すように、第２露光において、露光ヘッド１６を、その幅が主走査方向に直角になるように配置すべきところ、図１７（Ｂ）に示すように、露光ヘッド１６が傾くことがある。また、副走査方向の露光ヘッド１６の移動距離が、設置値とは異なることがある。その結果、図１８に示すように、第１膜マーク３２と第２膜マーク５０とがずれることがある。この状態で露光を続行すると、予め設定された潜像パターンを描くことができないため、予め設定された膜パターンを形成することができない。
【００４４】
そこで、本実施の形態では、上記工程まで終えた時点で、第１膜パターン３０と第２膜パターン４８の位置ずれを検出する。例えば、ｉ（１≦ｉ≦ｎ）台の露光装置を使用し、ｉ回の露光プロセスを経てｉ層の膜パターンを形成し、各露光プロセスでｊ（１≦ｊ≦ｍ）本のストライプ領域２０がある場合の例を説明する。
【００４５】
位置ずれを検出する工程では、それぞれの第１膜マーク３２の中心点の位置を測定する。例えば、図１９で、１台目の露光装置による第１露光を経て形成された１本目のストライプ領域２０に形成された一対の第１膜マーク３２の座標は（ＬＸ１１，ＬＹ１１）と（ＲＸ１１，ＲＹ１１）である。また、１台目の露光装置による第１露光を経て形成された２本目のストライプ領域２０に形成された一対の第１膜マーク３２の座標は（ＬＸ１２，ＬＹ１２）と（ＲＸ１２，ＲＹ１２）である。
【００４６】
また、それぞれの第２膜マーク５０の中心点の位置を測定する。例えば、図１９で、２台目の露光装置による第２露光を経て形成された１本目のストライプ領域２０に形成された一対の第２膜マーク５０の座標は（ＬＸ２１，ＬＹ２１）と（ＲＸ２１，ＲＹ２１）である。また、２台目の露光装置による第２露光を経て形成された２本目のストライプ領域２０に形成された一対の第２膜マーク５０の座標は（ＬＸ２２，ＬＹ２２）と（ＲＸ２２，ＲＹ２２）である。
【００４７】
上記座標から、一対の第１膜マーク３２の中心間を結ぶ第１直線と副走査方向に沿った基準直線との間の第１角度を算出する。また、一対の第２膜マーク５０の中心間を結ぶ第２直線と基準直線との間の第２角度を算出する。第１角度は、第１露光での露光ヘッド１６の傾きであり、第２角度は、第２露光での露光ヘッド１６の傾きである。第１角度及び第２角度は、本来０°になるように設定してあるが、工程を繰り返して行うにつれて０°にはならないことがある。
【００４８】
図１９に示す例では、θ１１，θ１２，θ２１，θ２２について、それぞれ次の式が成立する。
【００４９】
【数１】
2010271695.tif 000003
【００５０】
【数２】
2010271695.tif 000004
【００５１】
【数３】
2010271695.tif 000005
【００５２】
【数４】
2010271695.tif 000006
【００５３】
ｊ（１≦ｊ≦ｍ）本のストライプ領域２０があるため、平均を求めることとし、これを一般化すると、ｉ台目の露光装置の露光ヘッド１６の傾きについて次の式が成立する。
【００５４】
【数５】
2010271695.tif 000007
【００５５】
次に、位置ずれを検出する工程では、第１露光及び第２露光のそれぞれでの露光ヘッド１６の副走査方向（+Ｘ方向）への移動の距離の差を算出する。まず、第１角度に従って一対の第１膜マーク３２の中心点をそれぞれ副走査方向に沿って補正した一対の第１補正点を算出する。一対の第１補正点は、第１前方マーク３２ａの中心点を補正して得られた第１前方補正点と、第１後方マーク３２ｂの中心点を補正して得られた第１後方補正点と、からなる。
【００５６】
図１９に示す例では、１本目のストライプ領域２０での第１後方補正点及び第１前方補正点のＸ座標が、それぞれ、Ｌ´Ｘ１１，Ｒ´Ｘ１１である。これらは以下の式で求められる。
【００５７】
【数６】
2010271695.tif 000008
【００５８】
【数７】
2010271695.tif 000009
【００５９】
同様に、２本目のストライプ領域２０での第１後方補正点及び第１前方補正点のＸ座標Ｌ´Ｘ１２，Ｒ´Ｘ１２も、以下の式で求められる。
【００６０】
【数８】
2010271695.tif 000010
【００６１】
【数９】
2010271695.tif 000011
【００６２】
また、第２角度に従って一対の第２膜マーク５０の中心点をそれぞれ副走査方向に沿って補正した一対の第２補正点を算出する。一対の第２補正点は、第２前方マーク５０ａの中心点を補正して得られた第２前方補正点と、第２後方マーク５０ｂの中心点を補正して得られた第２後方補正点と、からなる。
【００６３】
図１９に示す例では、１本目のストライプ領域２０での第２後方補正点及び第２前方補正点のＸ座標が、それぞれ、Ｌ´Ｘ２１，Ｒ´Ｘ２１である。これらは以下の式で求められる。
【００６４】
【数１０】
2010271695.tif 000012
【００６５】
【数１１】
2010271695.tif 000013
【００６６】
同様に、２本目のストライプ領域２０での第２後方補正点及び第２前方補正点のＸ座標Ｌ´Ｘ２２，Ｒ´Ｘ２２も、以下の式で求められる。
【００６７】
【数１２】
2010271695.tif 000014
【００６８】
【数１３】
2010271695.tif 000015
【００６９】
そして、一対の第１補正点及び一対の第２補正点の副走査方向に沿ったずれ量を算出する。まず、第１前方補正点と第２前方補正点の副走査方向に沿った第１距離を算出する。また、第１後方補正点と第２後方補正点の副走査方向に沿った第２距離を算出する。そして、第１距離及び第２距離の平均値を算出する。平均値ΔＳは次の式で求められる。
【００７０】
【数１４】
2010271695.tif 000016
【００７１】
位置ずれの検出結果に基づいて、第１膜パターン３０と第２膜パターン４８の位置ずれを小さくするように、第１露光及び第２露光の少なくとも一方を調整する。具体的には、第１角度及び第２角度の差をなくす方向に、第１露光及び第２露光の少なくとも一方で使用される露光ヘッド１６を回転させる。また、副走査方向に沿ったずれ量をなくすように（第１距離及び第２距離の平均値を小さくするように）、第１露光及び第２露光の少なくとも一方で使用される露光ヘッド１６の制御を調整する。
【００７２】
本実施の形態によれば、露光ヘッド１６の回転傾きを調整するので、その後の露光プロセスを精密に行うことができる。
【００７３】
上述した説明は、露光ヘッド１６が回転していると仮定して行う調整方法であるが、露光の位置ずれが他の原因による場合には、これでは調整することができない。その場合には、露光ヘッド１６を調整前の回転角度に戻して別の調整方法を行う。あるいは、露光の位置ずれが他の原因によると最初から推測される場合には、上記方法を適用せずに別の調整方法を行う。以下、その他の調整方法を説明する。
【００７４】
図２３及び図２４は、複数の露光ヘッドの間隔がずれている例を説明する図である。図２３において、２つの露光ヘッドを本来は１６ａ，１６ｃの位置に配置すべきところ、２番目の露光ヘッドが１６ｂの位置に変動していることがある。すなわち、露光ヘッド間距離が設計値４０６となるべきところが距離４０７の分だけ変動し、実際の露光ヘッド間距離は４０５となる場合がある。図中の領域４０３は１番目の露光ヘッドの露光領域、領域４０４は２番目の露光ヘッドの露光領域を示す。その結果、図２４に示すように、第１膜マーク３２と第２膜マーク５０のずれが、１番目の露光ヘッドの露光領域４０３では小さいが、第２の露光ヘッドの露光領域４０４では大きくなり、予め設定された膜パターンを形成することができない。この場合、次の方法で調整を行う。
【００７５】
この例でも、図２に示すように、第１露光を行うための第１露光装置は、複数の露光ヘッド１６（１番目の露光ヘッド、２番目の露光ヘッド、３番目の露光ヘッド、・・・）を備え、第２露光を行うための第２露光装置も、複数の露光ヘッド１６（１番目の露光ヘッド、２番目の露光ヘッド、３番目の露光ヘッド、・・・）を備えている。
【００７６】
図２５は、複数の露光ヘッドの間隔がずれている場合の第１膜マーク及び第２膜マークを示す図である。
【００７７】
第１露光装置の１番目の露光ヘッド１６で形成した１本目、２本目、３本目、・・・のストライプ領域２０に対応する第１膜マーク３２の座標を、（Ｘ１１，Ｙ１１）、（Ｘ１２，Ｙ１２）、（Ｘ１３，Ｙ１３）、・・・と定義し、図２５には、これらの第１前方マーク３２ａを、（ＲＸ１１，ＲＹ１１）、（ＲＸ１２，ＲＹ１２）、（ＲＸ１３，ＲＹ１３）、・・・と表し、第１後方マーク３２ｂを、（ＬＸ１１，ＬＹ１１）、（ＬＸ１２，ＬＹ１２）、（ＬＸ１３，ＬＹ１３）、・・・と表してある。
【００７８】
同様に、第２露光装置の１番目の露光ヘッド１６で形成した１本目、２本目、３本目、・・・のストライプ領域２０に対応する第２膜マーク５０の座標を、（Ｘ２１，Ｙ２１）、（Ｘ２２，Ｙ２２）、（Ｘ２３，Ｙ２３）、・・・と定義し、図２５には、これらの第２前方マーク５０ａを、（ＲＸ２１，ＲＹ２１）、（ＲＸ２２，ＲＹ２２）、（ＲＸ２３，ＲＹ２３）、・・・と表し、第２後方マーク５０ｂを、（ＬＸ２１，ＬＹ２１）、（ＬＸ２２，ＬＹ２２）、（ＬＸ２３，ＬＹ２３）、・・・と表してある。
【００７９】
ここで、添え字の２桁の数字において、十の位の「１」は第１膜マーク３２を意味し、「２」は第２膜マーク５０を意味し、１の位は、ストライプ領域２０が何本目であるかを意味する。
【００８０】
上記座標を検出する方法は、上述した通りである。座標を検出した後、ｊ本目のストライプ領域２０に対応する第１膜マーク３２と第２膜マーク５０のずれ量は、ＸＹ座標でのＸ成分及びＹ成分によって、（Ｘ２ｊ−Ｘ１ｊ，Ｙ２ｊ−Ｙ１ｊ）と表すことができるので、ｊ本目のストライプ領域２０に対応する第１前方マーク３２ａと第２前方マーク５０ａのずれ量は、（ＲＸ２ｊ−ＲＸ１ｊ，ＲＹ２ｊ−ＲＹ１ｊ）と表すことができる。
【００８１】
同様に、ｊ本目のストライプ領域２０に対応する第１後方マーク３２ｂと第２後方マーク５０ｂのずれ量は、（ＬＸ２ｊ−ＬＸ１ｊ，ＬＹ２ｊ−ＬＹ１ｊ）と表すことができる。
【００８２】
そして、ｊ本目のストライプ領域に対応する、第１前方マーク３２ａと第２前方マーク５０ａのずれ量と、第１後方マーク３２ｂと第２後方マーク５０ｂのずれ量と、の平均を次の式によって算出する。
（{（ＲＸ２ｊ−ＲＸ１ｊ）+（ＬＸ２ｊ−ＬＸ１ｊ）}／２，{（ＲＹ２ｊ−ＲＹ１ｊ）＋（ＬＹ２ｊ−ＬＹ１ｊ）}／２）
【００８３】
これは、第１露光装置及び第２露光装置のそれぞれの１番目の露光ヘッド１６によって形成したｊ本目のストライプ領域２０のずれ量であり、これを、（ＤＸ１ｊ，ＤＹ１ｊ）と表して次の式に求める。
（ＤＸ１ｊ，ＤＹ１ｊ）＝（{（ＲＸ２ｊ−ＲＸ１ｊ）+（ＬＸ２ｊ−ＬＸ１ｊ）}／２，{（ＲＹ２ｊ−ＲＹ１ｊ）＋（ＬＹ２ｊ−ＬＹ１ｊ）}／２）
【００８４】
なお、（ＤＸ１ｊ，ＤＹ１ｊ）の添え字において、「１」は露光ヘッド１６が１番目であることを意味し、「ｊ」はその露光ヘッド１６で形成されたストライプ領域２０のうちｊ本目であることを意味する。
【００８５】
そして、１番目の露光ヘッド１６で形成したｊ本のストライプ領域２０について、ずれ量の平均を求めることで、第１露光装置及び第２露光装置のそれぞれの１番目の露光ヘッド１６の相対的特性（どれだけずれるか）が求められる。
【００８６】
同様に、２番目、３番目、・・・の露光ヘッド１６で形成したｊ本のストライプ領域２０について、ずれ量の平均を求める。こうして、第１露光装置及び第２露光装置のそれぞれのｎ番目の露光ヘッドの相対的特性（どれだけずれるか）がそれぞれ求められる。そして、各露光ヘッド１６のずれ量を小さくする（例えば０にする）ように、露光ヘッド１６間距離を調整する。例えば、第１露光装置の露光ヘッド間隔が正確であると仮定して、第２露光装置の露光ヘッド間隔を調整する。ずれ量がプラスであればマイナスの方向に露光ヘッド１６を移動し、ずれ量がマイナスであればプラスの方向に露光ヘッド１６を移動する。以上の方法によって、露光の調整を行うことができる。
【００８７】
次に、図２６及び図２７は、露光の往復対称性がない例を説明する図である。露光ヘッド１６に対するステージの主走査方向の往復動作では、図２６に示すように、露光ヘッド１６の往路と復路で違った直進性を持つことがある。このように往復対称性が無い状態で露光を行うと、露光ヘッド１６の往路で露光した領域４０１と、複路で露光した領域４０２で結果が異なることとなる。例えば、第２露光の露光ヘッド１６の直進性が図２６に示すように往復対称性が無い場合、露光結果は、図２７に示すように、予め設定された潜像パターンを描くことができず、予め設定された膜パターンを形成することができない。以下、この場合の調整方法を説明する。
【００８８】
上述したように、第１露光装置及び第２露光装置のそれぞれの１番目の露光ヘッドによって形成したｊ本目のストライプのずれ量は次の式で求められる。
（ＤＸ１ｊ，ＤＹ１ｊ）＝（{（ＲＸ２ｊ−ＲＸ１ｊ）+（ＬＸ２ｊ−ＬＸ１ｊ）}／２，{（ＲＹ２ｊ−ＲＹ１ｊ）＋（ＬＹ２ｊ−ＬＹ１ｊ）}／２）
【００８９】
そして、奇数本目のストライプ領域２０に対応したずれ量の平均を求め、偶数本目のストライプ領域２０に対応したずれ量の平均を求める。奇数本目のストライプ領域２０は往路に相当し、偶数本目のストライプ領域２０は復路に相当する。平均が異なれば、往復対称性がないことになる。それに応じて調整を行う。調整の詳細は、上述した例で行う方法を適用することができる。
【００９０】
１本のストライプ領域２０について、図２７に示すように、第１膜マーク３２又は第２膜マーク５０が少なくとも３個所にあれば、露光プロセスの往復対称性の有無を判断することができる。
【００９１】
変形例として、１本のストライプ領域２０について、第１膜マーク３２又は第２膜マーク５０が２個所にあれば、露光プロセスにおける直進性（露光ヘッド１６が斜めに直進しているか斜めに進んでいるか）を判断することができる。
【００９２】
さらに変形例として、１本のストライプ領域２０について、第１膜マーク３２又は第２膜マーク５０が１個所にあれば、副走査方向の移動量のずれを判断することができる。
【００９３】
以上説明した調整方法は、それぞれを単独で行ってもよいし、組み合わせて行ってもよい。例えば、１つの調整方法を行って、他の調整方法も続けて行ってもよい。
【００９４】
上述した露光調整方法は、液晶表示装置の製造方法に適用することができる。
【００９５】
液晶表示装置の製造方法では、第１液晶表示装置用の第１基板及び第２液晶表示装置用の第２基板のそれぞれに対して、時間的に前後して、第１露光を経て第１膜パターン３０を形成する。第１基板及び第２基板のそれぞれに対して、時間的に前後して、第２露光を経て第２膜パターン４８を形成する。なお、第１基板及び第２基板のそれぞれに対して、第１膜パターン３０を形成した後に、第２膜パターン４８を形成する。
【００９６】
第１基板に対する第１膜パターン３０及び第２膜パターン４８の形成後であって、第２基板に対する第１膜パターン３０及び第２膜パターン４８のうち少なくとも第２膜パターン４８の形成前に、第１基板に形成された第１膜パターン３０及び第２膜パターン４８の位置ずれを検出する。その詳細は上述した通りである。
【００９７】
位置ずれの検出結果に基づいて、第１膜パターン３０と第２膜パターン４８の位置ずれを小さくするように、第１露光及び第２露光の少なくとも一方を調整する。その調整は上述した通りである。
【００９８】
調整の工程を行った後に、第２基板に対する第１膜パターン３０及び第２膜パターン４８のうち少なくとも第２膜パターン４８の形成を行う。こうすることで、第１基板に対する第１露光及び第２露光が予定通りに行われていなくても、上述した露光調整方法によって不具合を調整することができるので、第２基板に対しては、予め設定された通りに第１露光及び第２露光を行うことができる。
【００９９】
図２０〜図２２は、本発明の実施の形態の変形例を説明する図である。図１５に示す第１膜マーク３２及び第２膜マーク５０は矩形の平面形状を有しているが、その変形例として、図２０に示すように、＋形状の第１膜マーク１３２及び第２膜マーク１５０を使用してもよいし、図２１に示すように、円形状の第１膜マーク２３２及び第２膜マーク２５０を使用してもよい。
【０１００】
また、図１５に示す第１膜マーク３２及び第２膜マーク５０は、複数の第２配線膜領域５２の外側に形成されているが、図２２に示すように、第１膜マーク３３２及び第２膜マーク３５０を、複数の第２配線膜領域３５２の内側に形成してもよい。
【０１０１】
なお、上述した実施の形態では、２層の第１膜パターン３０及び第２膜パターン４８の位置ずれを検出するために、第１膜マーク３２及び第２膜マーク５０を使用したが、３層以上の膜パターンを、それぞれ、膜マークを有するように形成して、これらの膜マークによって３層以上の膜パターンの位置ずれを検出することも可能である。
【０１０２】
本発明は、上述した実施の形態に限定されるものではなく種々の変形が可能である。例えば、実施の形態で説明した構成は、実質的に同一の構成、同一の作用効果を奏する構成又は同一の目的を達成することができる構成で置き換えることができる。
【符号の説明】
【０１０３】
１０  基板、１２  第１膜、１４  第１フォトレジスト層、１６  露光ヘッド、１８  ステージ、２０  ストライプ領域、２２  第１潜像パターン、２４  第１配線パターン領域、２６  第１潜像マーク、２８  第１エッチングマスク、３０  第１膜パターン、３２  第１膜マーク、３２ａ  第１前方マーク、３２ｂ  第１後方マーク、３４  第１配線膜領域、３６  第２膜、３８  第２フォトレジスト層、４０  第２潜像パターン、４２  第２配線パターン領域、４４  第２潜像マーク、４６  第２エッチングマスク、４８  第２膜パターン、５０  第２膜マーク、５０ａ  第２前方マーク、５０ｂ  第２後方マーク、５２  第２配線膜領域。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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