(57)【要約】【課題】長期使用において表示面にムラが生じない液晶表示素子の提供を目的とする。【解決手段】本発明の液晶表示素子は、第１の基板１と、第１の基板１と対向配置された第２の基板２と、第１、第２の基板間に設けられ、当該基板間に所定の間隙を形成するスペーサ４と、所定の間隙に注入される液晶層３と、所定の間隙に液晶層３を封止するべく第１、第２の基板間に形成されるシール材５と、を備え、スペーサ４とシール材５の材質は、共通の分子構造を有する有機材料であることを特徴とする。【選択図】図１
2010262087.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の基板と、
前記第１の基板と対向配置された第２の基板と、
前記第１、第２の基板間に設けられ、当該基板間に所定の間隙を形成するスペーサと、
前記所定の間隙に注入される液晶層と、
前記所定の間隙に前記液晶層を封止するべく前記第１、第２の基板間に形成されるシール材と、を備え、
前記スペーサと前記シール材の材質は、共通の分子構造を有する有機材料であることを特徴とする液晶表示素子。
【請求項２】
前記共通の分子構造は、アクリル基であることを特徴とする、請求項１に記載の液晶表示素子。
【請求項３】
前記共通の分子構造は、メタクリル基であることを特徴とする、請求項１に記載の液晶表示素子。
【請求項４】
前記共通の分子構造は、エポキシ基であることを特徴とする、請求項１に記載の液晶表示素子。
【請求項５】
前記共通の分子構造を有する有機材料は、光重合性を有することを特徴とする、請求項１〜４のいずれかに記載の液晶表示素子。
【請求項６】
前記液晶表示素子の表示モードは、ＴＮモードであることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の液晶表示素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、信頼性の高い液晶表示素子に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示素子は、表面に液晶配向処理を施した２枚の電極基板を一定の間隙を維持して貼り合せ、その間隙に液晶材料を保持した構造となっている。一般的にはその両面に偏光板等の光学フィルムを貼付し、背面にバックライトと呼ばれる面状光源を配置して液晶表示装置が構成される。
【０００３】
２枚の電極基板間に電圧を印加すると、液晶分子の配向状態が変化し、液晶層の複屈折性及び旋光性も変化する。これに伴い、バックライトから液晶表示素子に入射する光の透過状態が変化して表示を行なうことができる。
【０００４】
表示面内全面の液晶層の状態が均一であれば、液晶表示素子はムラ等の不均一性を生じることなく良好な表示を得ることができる。しかし、液晶層が表示面内で不均一である場合、その表示も不均一となり表示品位は著しく低下する。
【０００５】
一方、前述の通り液晶表示素子は２枚の透明電極基板を所定の間隙を有して貼り合わせ、当該間隙に液晶材料を狭持した構造をしている。この構造において、所定の間隙を維持するためのスペーサ材料、基板を貼り合わせるためのシール材、液晶配向処理に用いる配向膜は、全て有機材料から構成されるため、製造過程および使用過程で液晶材料中に有機物からなる不純物を混入させやすい。
【０００６】
この不純物が液晶材料中に混入した場合の影響は、混入した不純物の種類、混入量、不純物が混入した位置等によって異なる。例えばイオン性不純物が混入した場合、液晶表示素子に印加される交流電圧に含まれるわずかなＤＣバイアス成分によりイオン性不純物が一方の基板上に局在化し、その結果内部電界を生じる。この内部電界が駆動波形に影響し、イオン性不純物が局在化した部分では本来の階調表示からずれ、表示面内で輝度分布を持つようになる。
【０００７】
また、現在までの検討において具体的に不純物の同定は出来ていないが、シール材から液晶材料中に溶出する不純物の中には、配向膜の液晶分子に対する配向規制力を変化させる効果を有するものもある。この場合、不純物が多く存在する部分では液晶分子の配向状態が低下し、良好な表示を得ることができない。さらに、このような液晶分子の配向規制力に影響を与える不純物には複数の種類が存在し、液晶分子の表示面内方向の配向状態に影響し表示の乱れを誘起する不純物や、液晶分子の立ち上がり方向の配向状態に影響し液晶分子の基板表面からの立ち上がり角（プレチルト角）を変化させ、液晶層の電圧印加時の応答状態を変化させるもの等が存在する。
【０００８】
このような液晶材料中への不純物の混入がシール材から生じている場合、シール材は液晶表示素子の周辺部分に位置するため、表示面内の周辺部分から上述した配向変化やイオン性不純物による階調ズレが生じることになる。
【０００９】
以上の問題を解決するために、液晶材料中に不純物を拡散させないための種々の技術が提案されている。例えば、特許文献１には、液晶注入段階において液晶材料に注入口付近から交流電圧を印加し、液晶表示素子内に液晶が入る前にイオン性不純物を吸着除去する技術が記載されている。又、特許文献２には、シール材と表示面内の間に表面エネルギーの高い領域を設け、シール材から発生した不純物を吸着し拡散を防止する技術が記載されている。さらに、特許文献３にはシール材と表示面内の間に突起部分を設け、シール材からの不純物拡散を物理的に防止する技術が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特開平６−３３１９９５号公報
【特許文献２】特開平１０−２６０４０６号公報
【特許文献３】特開平１１−３８４２４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
液晶に不純物が混入することによる不具合を避けるために、上述の特許文献に示された技術が既に開示されている。
【００１２】
しかし、特許文献１に記載の技術では、液晶注入段階に液晶材料中のイオン性不純物を除去しているため、使用段階で構成部材から生じる不純物には対応することができない。
【００１３】
又、特許文献２に記載の技術では、一定期間不純物が拡散しないよう防止することは可能であるが、その効果は時間とともに減衰するため長期間の使用では不純物が液晶層に拡散してしまうという問題点がある。
【００１４】
又、特許文献３に記載の技術によれば、一定期間不純物が拡散しないよう防止することは可能であるが、その効果は時間とともに減衰するため長期間の使用では不純物が液晶層に拡散してしまうという問題点がある。さらに、突起部分を設けるべく製造工程が複雑化するため、コスト高や歩留り低下を招く。
【００１５】
本発明は以上の問題点に鑑み、長期使用において表示面にムラが生じない液晶表示素子の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
本発明の液晶表示素子は、第１の基板と、第１の基板と対向配置された第２の基板と、第１、第２の基板間に設けられ、当該基板間に所定の間隙を形成するスペーサと、当該所定の間隙に注入される液晶層と、所定の間隙に液晶層を封止するべく第１、第２の基板間に形成されるシール材と、を備え、スペーサとシール材の材質は、共通の分子構造を有する有機材料であることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１７】
本発明の液晶表示素子において、スペーサとシール材の材質は、共通の分子構造を有する有機材料であることを特徴とする。これにより、スペーサやシール材から生じる不純物の影響による液晶表示素子の素子不良が低減し、長期使用において表示面にムラが生じない液晶表示素子の提供が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】実施の形態１に係る液晶表示素子の要部断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
（実施の形態１）
＜構成＞
図１に、実施の形態１に係る液晶表示素子の構成を示す。液晶表示素子は、ＴＦＴ基板１と、ＴＦＴ基板１と所定の間隙を有して平行に配置されるカラーフィルタ基板２と、当該間隙に注入される液晶層３と、当該間隙を維持するためＴＦＴ基板１とカラーフィルタ基板２との間に形成されるスペーサ４と、液晶層３を両基板１，２内に封止するため両基板１，２内に設けられるシール材５と、を備える。
【００２０】
本実施の形態において、スペーサ４とシール材５は、ともにアクリル系の化合物から構成され、光重合性を有する。スペーサ４とシール材５の材料は、共通の分子構造としてアクリル基を有していればよく、全く同一の分子構造を有している必要はない。スペーサ４は柱状である。スペーサ４の作製密度や形態等は特に限定するものではないが、好ましいものを以下に述べる。柱状スペーサ４の形状は、特に限定するものではないが、ラビング工程を考慮すると円柱型が最も適している。又、ラビング方向に長軸を有する断面が楕円形の円筒型でも良い。
【００２１】
画素間にスペーサ４が入り表示に影響しないように、スペーサ４の直径はカラーフィルタ基板２上に作製されるブラックマトリクスの幅よりも小さいことが求められる。具体的には、画素密度にも影響するが５〜３０μｍ程度の直径で、断面積が約２０〜７００平方μｍの場合が最も良好な特性を示す。本実施の形態では、スペーサ４は直径２０μｍの円柱形で、高さは４．５μｍとする。
【００２２】
スペーサ４の作製密度は画素密度やパネル作製条件によって異なるが、５〜１００本／ｍｍ2とすることが適当である。本実施の形態では、画素ピッチ３００μｍの１５型ＸＧＡパネルを用いるため、スペーサ４は２画素に１本の密度で設ける。
【００２３】
＜表示ムラ＞
液晶表示素子に生じる表示ムラについて考察する。シール材５などが放出する不純物（イオン）によって液晶層３に変化が生じたとしても、当該部分のみについて言えば、階調がずれることにより表示全体の輝度がわずかに変化し、あるいは液晶層３の配向状態の均一性が低下することでわずかにコントラスト比に変化が生じるだけであり、表示品位が大きく低下し表示不良となっているわけではない。
【００２４】
つまり、シール材５から液晶層３に不純物が拡散したとしても、表示面内のシール材５近傍部分のみを観察すると、その表示は基本的に正常な状態である。しかし、表示面内全体を一度に観察すると、表示面内の中央付近と周辺部分に差が生じているため、その差が表示不良と視認されるのである。
【００２５】
上記を考慮すると、不純物の拡散により表示面内で不純物濃度の分布が存在することが問題なのであり、表示面内の全体に渡って均一に不純物が存在するようにすれば、表示品位の劣化を防ぎ、高信頼性の液晶表示素子を得ることができる。
【００２６】
液晶層３と接するスペーサ４やシール材５の高分子材料は、何らかの不純物を液晶層３に放出する。具体的な不純物分子の特定は出来ていないが、高分子材料の種類によって表示面に発生する表示不良モードには違いがあり、同じ表示不良モードであっても発生状況や程度は大きく異なる。
【００２７】
一方、２枚の透明電極基板（ＴＦＴ基板１、カラーフィルタ基板２）を一定間隙に保持するために表示面の周辺部にシール材５が不可欠であり、表示面の内部には間隙を一定に保つためにスペーサ４を一定密度で設ける必要がある。
【００２８】
シール材５、スペーサ４はいずれも有機物から構成される。従来の液晶表示素子では、スペーサ４はジビニルベンゼンを主成分とし、シール材５にはエポキシ系の高分子材料を用いていた。エポキシ系材料は多くの液晶材料の応答性に影響を与える不純物を溶出し、ジビニルベンゼンはわずかしか溶出しないため、この組み合わせでは表示面の周辺部分から中央部分にかけて応答特性の差が生じ、表示不良が視認されていた。球状のスペーサは、その形状や粒径制御の観点から材料がスチレンやジビニルベンゼン等に限定されており、シール材５とスペーサ４について自由に材料系選択をすることができなかった。
【００２９】
ところが、近年柱状のスペーサが広く用いられるようになり、形状の自由度が増したため、スペーサ４の材料はジビニルベンゼンに限定されることなく、自由に選択することが可能となっている。
【００３０】
そこで、基板周辺部分のシール材５と表示面内に広く分布するスペーサ４の材料を、共通の分子構造を有する有機材料とする。本実施の形態では、スペーサ４とシール材５は共にアクリル系化合物から構成される。これにより、液晶表示素子の長期の使用においてごくわずかに全面均一に表示品位の劣化が生じる可能性はあるものの、面内の不均一性等の大きな表示品位劣化が生じない高い信頼性を有する液晶表示素子を得ることができる。
【００３１】
なお、シール材５とスペーサ４の材料は共通の分子構造としてアクリル基を有するアクリル樹脂であれば良く、分子構造が全て同一である必要はない。
【００３２】
すなわち、実施の形態１に係る液晶表示素子は、ＴＦＴ基板１（第１の基板）と、ＴＦＴ基板１と対向配置されたカラーフィルタ基板２（第２の基板）と、ＴＦＴ基板１とカラーフィルタ基板２の間に設けられ、当該基板間に所定の間隙を形成するスペーサ４と、所定の間隙に注入される液晶層３と、所定の間隙に液晶層３を封止するべく当該基板間に形成されるシール材５と、を備え、スペーサ４とシール材５の材質は、共通の分子構造を有する有機材料であることを特徴とする。スペーサ４とシール材５から生じる不純物は液晶層３内に均一に拡散するため、長期使用に際しても表示面にムラが生じない、高信頼性の液晶表示素子が可能となる。
【００３３】
又、スペーサ４とシール材５の材質に共通する分子構造は、アクリル基であることを特徴とする。これにより、スペーサ４とシール材５から生じる不純物は液晶層３内に均一に拡散するため、長期使用に際しても表示面にムラが生じない、高信頼性の液晶表示素子が可能となる。
【００３４】
さらに、共通の分子構造を有するスペーサ４及びシール材５の有機材料は、光重合性を有することを特徴とする。これにより、紫外線を照射させてスペーサ４及びシール材５を硬化させることが出来る。
【００３５】
＜製造工程＞
次に、実施の形態１の液晶表示素子の製造工程を説明する。まず、カラーフィルタ基板２上に、アクリル化合物からなる有機膜を作製する。この有機膜にフォトマスクを介して紫外線を照射し、特定部分のみ硬化させる。そして、未照射部分を洗浄して除去し、柱状のスペーサ４を形成する。スペーサ４は直径２０μｍの円柱形で、高さは４．５μｍとなるよう有機膜作製時に調整する。
【００３６】
本実施の形態では、画素ピッチ３００μｍの１５型ＸＧＡパネルを用いるため、スペーサ４は２画素に１本の密度で形成する。
【００３７】
次に、カラーフィルタ基板２とこれに対向するＴＦＴ基板１の双方に配向膜を塗布・焼成し、ラビング処理を行う。
【００３８】
そして、ＴＦＴ基板１の周辺部分にディスペンサを用いてアクリル系化合物からなるシール材５のシールパターンを描き、カラーフィルタ基板２と重ねあわせて圧着し、紫外線を全面に照射してシール材５を硬化させる。このように、本実施例では、シールパターンに注入口を有する、真空注入用シールパターンを用いて液晶表示素子を作製する。
【００３９】
次に、１５型ＸＧＡパネルを積層したガラス基板から切り出し、液晶を注入口から注入した後、全面を一定圧で加圧しながら封止して液晶表示素子が完成する。さらに常法により実装、モジュール組み立て等を行えば、液晶表示装置が形成される。液晶注入後一定圧を印加することで柱状スペーサはやや圧縮され、液晶表示素子完成時のパネルギャップは４．２μｍであった。
【００４０】
本実施例では、ＴＦＴ基板１とカラーフィルタ基板２のそれぞれの配向処理方向は、これら２枚の基板を重ね合わせた時に直交するようにした。つまり、液晶表示モードがねじれネマティック（ＴＮ）モードとなるようにした。
【００４１】
すなわち、実施の形態１の液晶表示素子の表示モードは、ＴＮモードであることを特徴とする。これにより、ＴＮモードの液晶表示素子において、長期使用に際しても表示面にムラが生じない、高信頼性の液晶表示素子が可能となる。
【００４２】
こうして形成した液晶表示素子を、６ヶ月室温において非駆動状態で保管し、その後２４時間連続動作したが表示ムラは観察されず、高い信頼性を有することが確認できた。また、１０００時間の連続動作試験においても表示ムラの発生は視認されず、この点でも高い信頼性を有することが確認できた。
【００４３】
＜比較例１＞
実施の形態１の液晶表示素子と比較するために、スペーサ４とシール材５に共通の分子構造を有さない材料を用いた液晶表示素子を形成する。
【００４４】
実施の形態１と同様のＴＦＴ基板１とカラーフィルタ基板２を用い、配向膜を塗布・焼成後ラビング処理を行なった。本比較例ではカラーフィルタ基板２上に柱状のスペーサは作製せず、カラーフィルタ基板２上に４．５μｍのジビニルベンゼンからなる球状のスペーサをおよそ１５０個／ｍｍ2となるように散布した。
【００４５】
その後の工程は実施の形態１と同様である。アクリル樹脂のシール材５をＴＦＴ基板１に塗布した後、カラーフィルタ２と重ね合わせ圧着し、紫外線照射によりシール材５を硬化させる。次に、１５型ＸＧＡパネルを積層したガラス基板から切り出し、液晶を注入した後、全面を一定圧で加圧しながら封止して液晶表示素子が完成する。さらに常法により実装、モジュール組み立て等を行えば、液晶表示装置が形成される。
【００４６】
液晶注入の後に一定圧を印加することでスペーサ４はやや圧縮され、液晶表示素子完成時のパネルギャップは４．３μｍであった。
【００４７】
こうして作製した液晶表示素子を、６ヶ月室温において非駆動状態で保管し、その後に２４時間連続動作した場合に、表示面の周辺部から数ｍｍの領域で輝度低下が視認され、表示品位が著しく低下した。又、１０００時間の連続動作試験においては、周辺部から約２０ｍｍの範囲で細かい濃淡の分布が視認され、この点でも高い信頼性を得ることはできなかった。
【００４８】
＜効果＞
実施の形態１の液晶表示素子によれば、既に述べたように以下の効果を奏する。すなわち、すなわち、実施の形態１に係る液晶表示素子は、ＴＦＴ基板１（第１の基板）と、ＴＦＴ基板１と対向配置されたカラーフィルタ基板２（第２の基板）と、ＴＦＴ基板１とカラーフィルタ基板２の間に設けられ、当該基板間に所定の間隙を形成するスペーサ４と、所定の間隙に注入される液晶層３と、所定の間隙に液晶層３を封止するべく当該基板間に形成されるシール材５と、を備え、スペーサ４とシール材５の材質は、共通の分子構造を有する有機材料であることを特徴とする。スペーサ４とシール材５から生じる不純物は液晶層３内に均一に拡散するため、不純物に起因する表示不良が局在化しない。よって、長期使用に際しても表示面にムラが生じない、高信頼性の液晶表示素子が可能となる。
【００４９】
又、スペーサ４とシール材５の材質に共通する分子構造は、アクリル基であることを特徴とする。これにより、スペーサ４とシール材５から生じる不純物は液晶層３内に均一に拡散するため、長期使用に際しても表示面にムラが生じない、高信頼性の液晶表示素子が可能となる。
【００５０】
さらに、共通の分子構造を有するスペーサ４及びシール材５の有機材料は、光重合性を有することを特徴とする。これにより、紫外線を照射させてスペーサ４及びシール材５を硬化させることが出来る。
【００５１】
又、実施の形態１の液晶表示素子の表示モードは、ＴＮモードであることを特徴とする。これにより、ＴＮモードの液晶表示素子において、長期使用に際しても表示面にムラが生じない、高信頼性の液晶表示素子が可能となる。
【００５２】
（実施の形態２）
実施の形態１において、スペーサ４とシール材５は、ともにアクリル系の化合物から構成されたが、実施の形態２ではともにメタクリル系の化合物で構成する。
【００５３】
＜構成＞
実施の形態２の液晶表示素子において、スペーサ４とシール材５は、ともにメタクリル系の化合物で構成され、光重合性を有する。スペーサ４とシール材５の材料は、共通の分子構造としてメタクリル基を有していればよく、全く同一の分子構造を有している必要はない。スペーサ４のサイズは直径２５μｍの円柱形で、高さは４．６μｍとする。これ以外の構成は実施の形態１と同様であるため、説明を省略する。
【００５４】
すなわち、実施の形態２の液晶表示素子において、スペーサ４とシール材５の材質に共通する分子構造は、メタクリル基であることを特徴とする。これにより、スペーサ４とシール材５から生じる不純物は液晶層３内に均一に拡散するため、長期使用に際しても表示面にムラが生じない、高信頼性の液晶表示素子が可能となる。
【００５５】
＜製造工程＞
実施の形態２の液晶表示素子の製造工程について説明する。まず、カラーフィルタ基板２上に、メタクリル化合物からなる有機膜を作製する。この有機膜にフォトマスクを介して紫外線を照射し、特定部分のみ硬化させる。そして、未照射部分を洗浄して除去し、柱状のスペーサ４を形成する。スペーサ４は直径２５μｍの円柱形で、高さは４．６μｍとなるよう有機膜作製時に調整する。
【００５６】
本実施の形態では、画素ピッチ３００μｍの１５型ＸＧＡパネルを用いるため、スペーサ４は２画素に１本の密度で形成する。
【００５７】
次に、カラーフィルタ基板２とこれに対向するＴＦＴ基板１の双方に配向膜を塗布・焼成し、ラビング処理を行う。
【００５８】
そして、ＴＦＴ基板１の周辺部分にディスペンサを用いてメタクリル系化合物からなるシール材５のシールパターンを描き、適量の液晶材料をカラーフィルタ２基板上に滴下し、カラーフィルタ基板２とＴＦＴ基板１を重ねあわせて圧着し、紫外線を全面に照射してシール材５を硬化させる。このように、本実施の形態では液晶層３の注入口を有しない、いわゆる滴下注入用シールパターンを用いて液晶表示素子を作製する。
【００５９】
次に、１５型ＸＧＡパネルを積層したガラス基板から切り出し、液晶を注入した後、全面を一定圧で加圧しながら封止して液晶表示素子が完成する。さらに常法により実装、モジュール組み立て等を行えば、液晶表示装置が形成される。
【００６０】
本実施例では、ＴＦＴ基板１とカラーフィルタ基板２のそれぞれの配向処理方向は、これら２枚の基板を重ね合わせた時に直交するようにした。つまり、液晶表示モードがＴＮモードとなるようにした。
【００６１】
液晶注入の後に一定圧を印加することでスペーサ４はやや圧縮され、液晶表示素子完成時のパネルギャップは４．２μｍであった。
【００６２】
こうして形成した液晶表示素子を、６ヶ月室温において非駆動状態で保管し、その後２４時間連続動作したが表示ムラは観察されず、高い信頼性を有することが確認できた。また、１０００時間の連続動作試験においても表示ムラの発生は視認されず、この点でも高い信頼性を有することが確認できた。
【００６３】
＜効果＞
実施の形態２に係る液晶表示素子は、既に述べたように以下の効果を奏する。すなわち、実施の形態２の液晶表示素子において、スペーサ４とシール材５の材質に共通する分子構造は、メタクリル基であることを特徴とする。これにより、スペーサ４とシール材５から生じる不純物は液晶層３内に均一に拡散するため、長期使用に際しても表示面にムラが生じない、高信頼性の液晶表示素子が可能となる。
【００６４】
（実施の形態３）
実施の形態１において、スペーサ４とシール材５はともにアクリル系の化合物から構成されたが、実施の形態３ではともにエポキシ系の化合物で構成する。
【００６５】
＜構成＞
実施の形態３の液晶表示素子において、スペーサ４とシール材５は、ともにエポキシ系の化合物で構成され、光重合性を有する。スペーサ４とシール材５の材料は、共通の分子構造としてエポキシ基を有していればよく、全く同一の分子構造を有している必要はない。スペーサ４のサイズは直径１５μｍの円柱形で、高さは４．６μｍとする。本実施の形態では、画素ピッチ３００μｍ、１５型ＸＧＡパネルを用い、スペーサ４は６画素に１本の密度で設ける。これ以外の構成は実施の形態１と同様であるため、説明を省略する。
【００６６】
すなわち、実施の形態３の液晶表示素子において、スペーサ４とシール材５の材質に共通する分子構造は、エポキシ基であることを特徴とする。これにより、スペーサ４とシール材５から生じる不純物は液晶層３内に均一に拡散するため、長期使用に際しても表示面にムラが生じない、高信頼性の液晶表示素子が可能となる。
【００６７】
＜製造工程＞
実施の形態３の液晶表示素子の製造工程について説明する。まず、カラーフィルタ基板２上に、エポキシ化合物からなる有機膜を作製する。この有機膜にフォトマスクを介して紫外線を照射し、特定部分のみ硬化させる。そして、未照射部分を洗浄して除去し、柱状のスペーサ４を形成する。スペーサ４は直径１５μｍの円柱形で、高さは４．６μｍとなるよう有機膜作製時に調整する。
【００６８】
本実施の形態では、画素ピッチ３００μｍの１５型ＸＧＡパネルを用いるため、スペーサ４は６画素に１本の密度で形成する。
【００６９】
次に、カラーフィルタ基板２とこれに対向するＴＦＴ基板１の双方に配向膜を塗布・焼成し、ラビング処理を行う。
【００７０】
そして、ＴＦＴ基板１の周辺部分にディスペンサを用いてエポキシ系化合物からなるシール材５のシールパターンを描き、カラーフィルタ基板２と重ねあわせて圧着し、紫外線を全面に照射してシール材５を硬化させる。このように、本実施の形態では、シールパターンに注入口を有する、いわゆる真空注入用シールパターンを用いて液晶表示素子を作製する。
【００７１】
次に、１５型ＸＧＡパネルを積層したガラス基板から切り出し、液晶を注入口から注入した後、全面を一定圧で加圧しながら封止して液晶表示素子が完成する。さらに常法により実装、モジュール組み立て等を行えば、液晶表示装置が作製される。
【００７２】
本実施例では、ＴＦＴ基板１とカラーフィルタ基板２のそれぞれの配向処理方向は、これら２枚の基板を重ね合わせた時に直交するようにした。つまり、液晶表示モードがＴＮモードとなるようにした。
【００７３】
液晶注入の後に一定圧を印加することでスペーサ４はやや圧縮され、液晶表示素子完成時のパネルギャップは４．２μｍであった。
【００７４】
こうして形成した液晶表示素子を、６ヶ月室温において非駆動状態で保管し、その後２４時間連続動作したが表示ムラは観察されず、高い信頼性を有することが確認できた。また、１０００時間の連続動作試験においても表示ムラの発生は視認されず、この点でも高い信頼性を有することが確認できた。
【００７５】
＜効果＞
実施の形態３に係る液晶表示素子によれば、既に述べたように以下の効果を奏する。すなわち、実施の形態３の液晶表示素子において、スペーサ４とシール材５の材質に共通する分子構造は、エポキシ基であることを特徴とする。これにより、スペーサ４とシール材５から生じる不純物は液晶層３内に均一に拡散するため、長期使用に際しても表示面にムラが生じない、高信頼性の液晶表示素子が可能となる。
【符号の説明】
【００７６】
１  ＴＦＴ基板、２  カラーフィルタ基板、３  液晶層、４  柱状スペーサ、５  シール材。
【図１】
2010262087.tif 000003