(57)【要約】【課題】装置の小型化を実現する。【解決手段】基板Ｋの滴下面Ｋａに対する全滴下位置をＹ軸方向に二分して第１領域Ａ１及び第２領域Ａ２に分割し、第１領域Ａ１に対向する第１位置に滴下ヘッドを移動させ、その滴下ヘッドのＹ軸方向への移動を禁止し、基板ＫのＹ軸方向の移動及び滴下ヘッドのＸ軸方向の移動により滴下ヘッドによる基板Ｋの滴下面Ｋａに対する液状材の滴下を順次行い、その後、滴下ヘッドのＹ軸方向への移動を許可し、その滴下ヘッドのＸ軸方向及びＹ軸方向の移動により第２領域Ａ２に対向する第２位置に滴下ヘッドを移動させ、再度、その滴下ヘッドのＹ軸方向への移動を禁止し、基板ＫのＹ軸方向の移動及び滴下ヘッドのＸ軸方向の移動により滴下ヘッドによる基板Ｋの滴下面Ｋａに対する液状材の滴下を順次行う。【選択図】図３
2010262217.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
滴下面を有する滴下対象物が載置されるステージと、
前記ステージ上の前記滴下対象物の滴下面に向けて液状材を滴下する滴下ヘッドと、
前記滴下面に沿う第１軸方向に前記滴下ヘッドと前記ステージとを相対移動させる第１軸移動機構と、
前記滴下面に沿って前記第１軸方向に交差する第２軸方向に前記滴下ヘッドを移動させるヘッド第２軸移動機構と、
前記ステージを前記第２軸方向に移動させるステージ第２軸移動機構と、
前記ステージ上の前記滴下対象物の滴下面に対する全滴下位置を前記第２軸方向に複数の領域に分割し、分割した前記領域に前記滴下ヘッドによる前記液状材の滴下を行う場合、前記第１軸移動機構による前記滴下ヘッドと前記ステージとの前記第１軸方向の相対移動と前記ステージ第２軸移動機構による前記ステージの前記第２軸方向の移動とを行い、分割した前記領域間で前記滴下ヘッドと前記ステージとを相対移動させる場合、少なくとも前記ヘッド第２軸移動機構による前記滴下ヘッドの前記第２軸方向の移動を行う制御手段と、
を備えることを特徴とする液状材の滴下装置。
【請求項２】
前記ステージ第２軸移動機構は、前記ステージを前記第２軸方向に前記ステージの前記第２軸方向の長さよりも短いストロークで移動させる機構であり、
前記制御手段は、前記ステージ第２軸移動機構の前記ストロークに基づいて、前記ステージ上の前記滴下対象物の滴下面に対する全滴下位置を前記第２軸方向に複数の領域に分割し、分割した前記領域間で前記滴下ヘッドと前記ステージとを相対移動させる場合、前記ヘッド第２軸移動機構による前記滴下ヘッドの前記第２軸方向の移動に加え、前記ステージ第２軸移動機構による前記ステージの前記第２軸方向の移動を行い、前記滴下ヘッドと前記ステージとを前記第２軸方向へ互いに反対方向に移動させることを特徴とする請求項１記載の液状材の滴下装置。
【請求項３】
前記制御手段は、前記ステージ上の前記滴下対象物の滴下面に対する全滴下位置を前記第２軸方向に二分して第１領域及び第２領域に分割し、
前記第１軸移動機構による前記滴下ヘッドと前記ステージとの前記第１軸方向の相対移動と前記ヘッド第２軸移動機構による前記滴下ヘッドの前記第２軸方向の移動により、前記第１領域に対向する第１位置に前記滴下ヘッドを移動させ、
前記第１位置にいる前記滴下ヘッドの前記第２軸方向の移動を禁止し、前記第１軸移動機構による前記滴下ヘッドと前記ステージとの前記第１軸方向の相対移動と前記ステージ第２軸移動機構による前記ステージの前記第２軸方向の移動により、前記滴下ヘッドによる前記第１領域に対する前記液状材の滴下を行い、
前記第１領域に対する前記液状材の滴下の完了に応じて、前記滴下ヘッドの前記第２軸方向の移動を許可し、前記第１軸移動機構による前記滴下ヘッドと前記ステージとの前記第１軸方向の相対移動と前記ヘッド第２軸移動機構による前記滴下ヘッドの前記第２軸方向の移動により、前記第２領域に対向する第２位置に前記滴下ヘッドを移動させ、
前記第２位置にいる前記滴下ヘッドの前記第２軸方向の移動を禁止し、前記第１軸移動機構による前記滴下ヘッドと前記ステージとの前記第１軸方向の相対移動と前記ステージ第２軸移動機構による前記ステージの前記第２軸方向の移動により、前記滴下ヘッドによる前記第２領域に対する前記液状材の滴下を行うことを特徴とする請求項１記載の液状材の滴下装置。
【請求項４】
前記制御手段は、複数の滴下位置の集合を１つのパターンとする滴下パターンであって前記滴下面に形成された奇数個の滴下領域に共通する前記滴下パターンを示す滴下パターン情報と、前記滴下領域毎に前記滴下面に対する前記滴下パターンの配置位置を示す配置位置情報とに基づいて、前記第１領域における複数の滴下位置の集合を第１変換済み滴下パターンとし、前記第２領域における複数の滴下位置の集合を第２変換済み滴下パターンとし、前記滴下面に対する前記第１変換済み滴下パターンの配置位置を決定し、前記滴下面に対する前記第２変換済み滴下パターンの配置位置を決定することを特徴とする請求項３記載の液状材の滴下装置。
【請求項５】
前記制御手段は、前記滴下面に対する全滴下位置を前記第２軸方向に半分にして前記第１領域及び前記第２領域に分割することを特徴とする請求項３又は４記載の液状材の滴下装置。
【請求項６】
滴下面を有する滴下対象物が載置されるステージと、前記ステージ上の前記滴下対象物の滴下面に向けて液状材を滴下する滴下ヘッドと、前記滴下面に沿う第１軸方向に前記滴下ヘッドと前記ステージとを相対移動させる第１軸移動機構と、前記滴下面に沿って前記第１軸方向に交差する第２軸方向に前記滴下ヘッドを移動させるヘッド第２軸移動機構と、前記ステージを前記第２軸方向に移動させるステージ第２軸移動機構とを備える液状材の滴下装置を用いて、前記滴下対象物に前記液状材を滴下する液状材の滴下方法において、
前記ステージ上の前記滴下対象物の滴下面に対する全滴下位置を前記第２軸方向に複数の領域に分割し、分割した前記領域に前記滴下ヘッドによる前記液状材の滴下を行う場合、前記第１軸移動機構による前記滴下ヘッドと前記ステージとの前記第１軸方向の相対移動と前記ステージ第２軸移動機構による前記ステージの前記第２軸方向の移動とを行い、分割した前記領域間で前記滴下ヘッドと前記ステージとを相対移動させる場合、少なくとも前記ヘッド第２軸移動機構による前記滴下ヘッドの前記第２軸方向の移動を行う制御工程を有することを特徴とする液状材の滴下方法。
【請求項７】
前記ステージ第２軸移動機構は、前記ステージを前記第２軸方向に前記ステージの前記第２軸方向の長さよりも短いストロークで移動させる機構であり、
前記制御工程では、前記ステージ第２軸移動機構の前記ストロークに基づいて、前記ステージ上の前記滴下対象物の滴下面に対する全滴下位置を前記第２軸方向に複数の領域に分割し、分割した前記領域間で前記滴下ヘッドと前記ステージとを相対移動させる場合、前記ヘッド第２軸移動機構による前記滴下ヘッドの前記第２軸方向の移動に加え、前記ステージ第２軸移動機構による前記ステージの前記第２軸方向の移動を行い、前記滴下ヘッドと前記ステージとを前記第２軸方向へ互いに反対方向に移動させることを特徴とする請求項６記載の液状材の滴下方法。
【請求項８】
前記制御工程では、前記ステージ上の前記滴下対象物の滴下面に対する全滴下位置を前記第２軸方向に二分して第１領域及び第２領域に分割し、
前記第１軸移動機構による前記滴下ヘッドと前記ステージとの前記第１軸方向の相対移動と前記ヘッド第２軸移動機構による前記滴下ヘッドの前記第２軸方向の移動により、前記第１領域に対向する第１位置に前記滴下ヘッドを移動させ、
前記第１位置にいる前記滴下ヘッドの前記第２軸方向の移動を禁止し、前記第１軸移動機構による前記滴下ヘッドと前記ステージとの前記第１軸方向の相対移動と前記ステージ第２軸移動機構による前記ステージの前記第２軸方向の移動により、前記滴下ヘッドによる前記第１領域に対する前記液状材の滴下を行い、
前記第１領域に対する前記液状材の滴下の完了に応じて、前記滴下ヘッドの前記第２軸方向の移動を許可し、前記第１軸移動機構による前記滴下ヘッドと前記ステージとの前記第１軸方向の相対移動と前記ヘッド第２軸移動機構による前記滴下ヘッドの前記第２軸方向の移動により、前記第２領域に対向する第２位置に前記滴下ヘッドを移動させ、
前記第２位置にいる前記滴下ヘッドの前記第２軸方向の移動を禁止し、前記第１軸移動機構による前記滴下ヘッドと前記ステージとの前記第１軸方向の相対移動と前記ステージ第２軸移動機構による前記ステージの前記第２軸方向の移動により、前記滴下ヘッドによる前記第２領域に対する前記液状材の滴下を行うことを特徴とする請求項６記載の液状材の滴下方法。
【請求項９】
前記制御工程では、複数の滴下位置の集合を１つのパターンとする滴下パターンであって前記滴下面に形成された奇数個の滴下領域に共通する前記滴下パターンを示す滴下パターン情報と、前記滴下領域毎に前記滴下面に対する前記滴下パターンの配置位置を示す配置位置情報とに基づいて、前記第１領域における複数の滴下位置の集合を第１変換済み滴下パターンとし、前記第２領域における複数の滴下位置の集合を第２変換済み滴下パターンとし、前記滴下面に対する前記第１変換済み滴下パターンの配置位置を決定し、前記滴下面に対する前記第２変換済み滴下パターンの配置位置を決定することを特徴とする請求項８記載の液状材の滴下方法。
【請求項１０】
前記制御工程では、前記滴下面に対する全滴下位置を前記第２軸方向に半分にして前記第１領域及び前記第２領域に分割することを特徴とする請求項８又は９記載の液状材の滴下方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、滴下対象物に対して液状材を滴下する液状材の滴下装置及び液状材の滴下方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液状材の滴下装置は、例えば、液晶表示パネルなどの様々な表示装置を製造するために用いられている。滴下装置は、基板などの滴下対象物に対して液晶などの液状材を滴下する滴下ヘッドや、その滴下ヘッドに対して滴下対象物を相対移動させる移動機構を備えている。この滴下装置は、滴下ヘッドを移動させず、その位置固定状態の滴下ヘッドに対して滴下対象物を相対移動させながら、その滴下対象物の表面上に液状材を所定の滴下パターンに滴下する（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００４−８９７８３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、前述のような液状材の滴下装置では、位置固定状態の滴下ヘッドに対して滴下対象物を相対移動させながら、滴下ヘッドから滴下対象物上に液状材を滴下するため、滴下対象物の移動ストローク（往復動の範囲）は滴下対象物の移動方向の長さ程度必要になる。近年、滴下対象物である基板が２〜３ｍと大型化しており、それに応じて滴下対象物の移動ストロークが大きくなるため、装置が大型化してしまう。
【０００５】
本発明は上記に鑑みてなされたものであり、その目的は、装置の小型化を実現することができる液状材の滴下装置及び液状材の滴下方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の実施の形態に係る第１の特徴は、液状材の滴下装置において、滴下面を有する滴下対象物が載置されるステージと、ステージ上の滴下対象物の滴下面に向けて液状材を滴下する滴下ヘッドと、滴下面に沿う第１軸方向に滴下ヘッドとステージとを相対移動させる第１軸移動機構と、滴下面に沿って第１軸方向に交差する第２軸方向に滴下ヘッドを移動させるヘッド第２軸移動機構と、ステージを第２軸方向に移動させるステージ第２軸移動機構と、ステージ上の滴下対象物の滴下面に対する全滴下位置を第２軸方向に複数の領域に分割し、分割した領域に滴下ヘッドによる液状材の滴下を行う場合、第１軸移動機構による滴下ヘッドとステージとの第１軸方向の相対移動とステージ第２軸移動機構によるステージの第２軸方向の移動とを行い、分割した領域間で滴下ヘッドとステージとを相対移動させる場合、少なくともヘッド第２軸移動機構による滴下ヘッドの第２軸方向の移動を行う制御手段とを備えることである。
【０００７】
本発明の実施の形態に係る第２の特徴は、滴下面を有する滴下対象物が載置されるステージと、ステージ上の滴下対象物の滴下面に向けて液状材を滴下する滴下ヘッドと、滴下面に沿う第１軸方向に滴下ヘッドとステージとを相対移動させる第１軸移動機構と、滴下面に沿って第１軸方向に交差する第２軸方向に滴下ヘッドを移動させるヘッド第２軸移動機構と、ステージを第２軸方向に移動させるステージ第２軸移動機構とを備える液状材の滴下装置を用いて、滴下対象物に液状材を滴下する液状材の滴下方法において、ステージ上の滴下対象物の滴下面に対する全滴下位置を第２軸方向に複数の領域に分割し、分割した領域に滴下ヘッドによる液状材の滴下を行う場合、第１軸移動機構による滴下ヘッドとステージとの第１軸方向の相対移動とステージ第２軸移動機構によるステージの第２軸方向の移動とを行い、分割した領域間で滴下ヘッドとステージとを相対移動させる場合、少なくともヘッド第２軸移動機構による滴下ヘッドの第２軸方向の移動を行う制御工程を有することである。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、装置の小型化を実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本発明の実施の一形態に係る液状材の滴下装置の概略構成を示す外観斜視図である。
【図２】図１に示す滴下装置が備える各部の電気的接続を示すブロック図である。
【図３】図１に示す滴下装置が行う第１の滴下動作を説明するための説明図である。
【図４】図３に示す滴下動作の第１の比較例を説明するための説明図である。
【図５】図１に示す滴下装置が行う第２の滴下動作を説明するための説明図である。
【図６】図５に示す滴下動作の第２の比較例を説明するための説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
本発明の実施の一形態について図面を参照して説明する。
【００１１】
図１に示すように、本発明の実施の形態に係る液状材の滴下装置１は、滴下対象物としての基板Ｋが水平状態（図１中、第１軸方向であるＸ軸方向とそれに直交する第２軸方向であるＹ軸方向に沿う状態）で載置されるステージ２と、そのステージ２上の基板Ｋに向けて液晶などの液状材を滴下する滴下ヘッド３と、その滴下ヘッド３をＸ軸方向（第１軸方向）及びＺ軸方向に移動させるヘッドＸＺ軸移動機構４と、そのヘッドＸＺ軸移動機構４をＹ軸方向（第２軸方向）に移動させるヘッドＹ軸移動機構５と、ステージ２をＹ軸方向及びθ方向に移動させるステージ移動機構６と、ヘッドＹ軸移動機構５やステージ移動機構６を支持する架台７と、各部を制御する制御装置８とを備えている。
【００１２】
ステージ２は、ガラス基板などの基板Ｋが載置されるテーブルである。ステージ２はステージ移動機構６を介して架台７の上面に設けられている。このステージ２は、例えば基板Ｋを吸着する吸着機構等を備えており、その吸着機構によりステージ２の載置面に基板Ｋを固定して保持する。なお、吸着機構としては、例えばエアー吸着機構などが用いられる。
【００１３】
滴下ヘッド３は、箱状の筐体３ａや液状材を収容する容器３ｂなどを備えている。筐体３ａ内には、サーボモータなどから構成された吐出用の回転機構が設けられている。この回転機構は、容器３ｂから滴下量に応じた量の液状材を取り出して吐出するための機構である。したがって、滴下ヘッド３は、θ回転機構により容器３ｂ内の液状材を滴下量に応じた量だけ吐出し、ステージ２上の基板Ｋの滴下面Ｋａに滴下する。
【００１４】
ヘッドＸＺ軸移動機構４は、滴下ヘッド３をＺ軸方向に移動させるＺ軸移動機構４ａと、そのＺ軸移動機構４ａを介して滴下ヘッド３をＸ軸方向に移動させるＸ軸移動機構４ｂと、そのＸ軸移動機構４ｂを支持するコラムなどの支持部材４ｃとにより構成されている。このヘッドＸＺ軸移動機構４はヘッド第１軸移動機構（第１軸移動機構）として機能する。
【００１５】
Ｚ軸移動機構４ａは、滴下ヘッド３をＺ軸方向に移動可能に支持し、基板Ｋの滴下面Ｋａに直交するＺ軸方向、すなわちステージ２に対して滴下ヘッド３を接離させる接離方向に移動させる機構である。Ｚ軸移動機構４ａとしては、例えば、サーボモータを駆動源とする送りねじ機構やリニアモータを駆動源とする移動機構などが用いられる。
【００１６】
Ｘ軸移動機構４ｂは、支持部材４ｃの前面（図１中）に設けられており、Ｚ軸移動機構４ａを滴下ヘッド３と共に、基板Ｋの滴下面Ｋａに沿うＸ軸方向に移動させる機構である。Ｘ軸移動機構４ｂとしては、例えば、サーボモータを駆動源とする送りねじ機構やリニアモータを駆動源とする移動機構などが用いられる。
【００１７】
支持部材４ｃは、Ｘ軸方向に長尺な門型の形状に形成されている。この支持部材４ｃはステージ２を跨ぐように設けられている。このとき、支持部材４ｃの梁部はＸ軸方向に平行にステージ２の載置面に対して水平に位置付けられ、支持部材４ｃの脚部はヘッドＹ軸移動機構５に連結されている。
【００１８】
ヘッドＹ軸移動機構５は、一対のＹ軸移動機構５ａ、５ｂにより構成されている。一対のＹ軸移動機構５ａ、５ｂは、ステージ２をＸ軸方向の両側から挟むように架台７の上面に設けられている。これらのＹ軸移動機構５ａ、５ｂは支持部材４ｃをＹ軸方向に移動可能に支持しており、Ｙ軸方向に沿って移動させる機構である。一対のＹ軸移動機構５ａ、５ｂとしては、例えば、サーボモータを駆動源とする送りねじ機構やリニアモータを駆動源とする移動機構などが用いられる。このヘッドＹ軸移動機構５はヘッド第２軸移動機構として機能する。
【００１９】
ステージ移動機構６は、架台７の上面に設けられており、ステージ２を支持してＹ軸方向及びθ方向に移動させる機構である。ステージ移動機構６としては、例えば、サーボモータを駆動源とする送りねじ機構やリニアモータを駆動源とする移動機構などと、モータを駆動源とする回転機構などが用いられる。このステージ移動機構６は、ステージ第１軸移動機構（第１軸移動機構）及びステージ第２軸移動機構として機能する。
【００２０】
架台７は、床面上に設置され、ヘッドＹ軸移動機構５やステージ移動機構６などを床面から所定の高さ位置に支持する台である。架台７の上面は平面に形成されており、この架台７の上面にヘッドＹ軸移動機構５やステージ移動機構６が載置されている。
【００２１】
制御装置８は、図２に示すように、各部を集中的に制御するマイクロコンピュータなどの制御部８ａ、各種プログラムや各種情報などを記憶する記憶部８ｂ、滴下パターンを変換する滴下パターン変換部８ｃ、操作者からの入力操作を受け付ける操作部などを備えている。
【００２２】
記憶部８ｂには、滴下パターンを示す滴下パターン情報Ｊ１と、基板Ｋの滴下面Ｋａに対する滴下パターンの配置位置を示す滴下パターンの配置位置情報Ｊ２とが記憶されている。これらの滴下パターン情報Ｊ１及び滴下パターンの配置位置情報Ｊ２は、操作部に対する入力操作やデータ通信、あるいは携帯可能な記憶装置の媒介により記憶部８ｂに予め記憶されている。記憶部８ｂとしては、メモリやハードディスクドライブ（ＨＤＤ）などが用いられる。
【００２３】
ここで、図３に示すように、基板Ｋの滴下面Ｋａには、滴下領域Ｒが奇数個（例えば３個）設けられている。この滴下領域Ｒは、他の基板との貼り合わせ用のシール剤により囲まれた領域であって表示領域となる領域であり、例えばセルと呼ばれる。シール剤は基板Ｋの滴下面Ｋａ上に例えば矩形枠形状に塗布されているため、滴下領域Ｒは長方形状となる。
【００２４】
滴下パターン情報Ｊ１は、複数の滴下位置（図３中の丸印）の集合を１つのパターンとして示す情報である。この滴下パターン情報Ｊ１は、基板Ｋの滴下面Ｋａ上に滴下領域Ｒが複数存在する場合、それらの滴下領域Ｒに共通する情報である。
【００２５】
ここで、例えば、図３に示すように、滴下パターンは、滴下領域Ｒの長方形の辺に沿って滴下位置が縦横に等間隔に配列されたパターン（格子状に配列されたドットパターン）であって、滴下領域Ｒの四隅にもそれぞれ滴下位置があるパターンである。この滴下パターンは各滴下領域Ｒに共通であり、滴下パターン情報Ｊ１として記憶部８ｂに記憶されている。
【００２６】
滴下パターンの配置位置情報Ｊ２は、滴下パターン情報Ｊ１が示す滴下パターンを基板Ｋの滴下面Ｋａに対してどのように配置するかを示す情報であり、例えば、滴下パターンの二隅や四隅の滴下位置が滴下領域Ｒ毎にどの座標にくるかなどを示す情報である。
【００２７】
滴下パターン変換部８ｃは、滴下パターン情報Ｊ１及び滴下パターンの配置位置情報Ｊ２に基づく基板Ｋの滴下面Ｋａに対する全滴下位置をＹ軸方向に例えば均等に二分する第１領域Ａ１及び第２領域Ａ２を設定し（図３参照）、第１領域Ａ１における複数の滴下位置の集合を第１変換済み滴下パターンとし、第２領域Ａ２における複数の滴下位置の集合を第２変換済み滴下パターンとし、それらの第１変換済み滴下パターン及び第２変換済み滴下パターンを示す変換済み滴下パターン情報Ｊ３を生成する。
【００２８】
さらに、滴下パターン変換部８ｃは、基板Ｋの滴下面Ｋａに対する第１変換済み滴下パターンの配置位置を決定し、基板Ｋの滴下面Ｋａに対する第２変換済み滴下パターンの配置位置を決定し、それらの第１変換済み滴下パターンの配置位置及び第２変換済み滴下パターンの配置位置を示す変換済み滴下パターンの配置位置情報Ｊ４を生成する。その後、滴下パターン変換部８ｃは、生成した変換済み滴下パターンの配置位置情報Ｊ４を前述の変換済み滴下パターン情報Ｊ３と共に記憶部８ｂに格納する。
【００２９】
なお、変換済み滴下パターンの配置位置情報Ｊ４も、変換済み滴下パターン情報Ｊ３が示す滴下パターンを基板Ｋの滴下面Ｋａに対してどのように配置するかを示す情報であり、例えば、変換済み滴下パターンの二隅や四隅の滴下位置が第１領域Ａ１及び第２領域Ａ２毎にどの座標にくるかなどを示す情報である。
【００３０】
制御部８ａは、記憶部８ｂに記憶された変換済み滴下パターン情報Ｊ３及び変換済み滴下パターンの配置位置情報Ｊ４に基づいて、滴下ヘッド３、ヘッドＸＺ軸移動機構４、ヘッドＹ軸移動機構５及びステージ移動機構６を制御し、滴下ヘッド３によりステージ２上の基板Ｋの滴下面Ｋａに対して液状材を滴下する。なお、制御部８ａは、各移動機構の駆動部（例えばサーボモータ）などに設けられたエンコーダからの出力値に基づいて、ステージ２や滴下ヘッド３の位置情報を得ることが可能になっている。
【００３１】
次に、滴下装置１の滴下動作（滴下方法）について説明する。滴下装置１の制御装置８、すなわち制御部８ａが、記憶部８ｂに格納された制御プログラムに基づいて滴下処理を実行する。
【００３２】
まず、３つの滴下領域Ｒを有する基板Ｋの滴下面Ｋａに対する滴下動作について説明する。
【００３３】
図３に示すように、第１領域Ａ１では、第１滴下開始位置がＳ１であり、第１滴下終了位置がＥ１であり、滴下ヘッド３が第１滴下開始位置Ｓ１から第１滴下終了位置Ｅ１まで基板Ｋに対して相対移動する移動経路（滴下経路）は、図３中の矢印のように、第１領域Ａ１の上下の端部で交互に折り返すような経路となる。
【００３４】
また、第２領域Ａ２では、第２滴下開始位置がＳ２であり、第２滴下終了位置がＥ２であり、滴下ヘッド３の移動経路（滴下経路）は、第１領域Ａ１と同様に、図３中の矢印のように、第２領域Ａ２の上下の端部で交互に折り返すような経路となる。
【００３５】
まず、滴下ヘッド３がヘッドＸＺ軸移動機構４及びヘッドＹ軸移動機構５によりステージ２上の基板Ｋの第１滴下開始位置Ｓ１に対向する位置（第１位置）に移動する。このとき、ステージ２は基板Ｋが図３の位置となる基準位置にいる。
【００３６】
次いで、第１位置にいる滴下ヘッド３の移動が禁止され、その位置固定状態の滴下ヘッド３に対してステージ２がステージ移動機構６によりＹ軸方向（図３の下方向）に相対移動し、滴下ヘッド３は第１領域Ａ１内の滴下面Ｋａに液状材を順次滴下する。このとき、滴下ヘッド３は隣接する２つの滴下領域Ｒを跨ぐように相対移動し、それらの滴下領域Ｒに連続して液状材を滴下する。
【００３７】
滴下ヘッド３が第１領域Ａ１の上端部に到達すると、その滴下ヘッド３の移動が許可され、滴下ヘッド３はヘッドＸＺ軸移動機構４によりＸ軸方向に移動し、再び、滴下ヘッド３の移動が禁止され、その位置固定状態の滴下ヘッド３に対してステージ２がステージ移動機構６によりＹ軸方向（図３の上方向）に相対移動し、滴下ヘッド３は第１領域Ａ１内の滴下面Ｋａに液状材を順次滴下する。このときも、滴下ヘッド３は隣接する２つの滴下領域Ｒを跨ぐように相対移動し、それらの滴下領域Ｒに連続して液状材を滴下する。
【００３８】
再度、滴下ヘッド３が第１領域Ａ１の下端部に到達すると、その滴下ヘッド３の移動が許可され、滴下ヘッド３はヘッドＸＺ軸移動機構４によりＸ軸方向に移動し、再び、滴下ヘッド３の移動が禁止され、その位置固定状態の滴下ヘッド３に対してステージ２がステージ移動機構６によりＹ軸方向（図３の下方向）に相対移動し、滴下ヘッド３は第１領域Ａ１内の滴下面Ｋａに液状材を順次滴下する。
【００３９】
このような滴下が繰り返され、滴下ヘッド３は第１滴下開始位置Ｓ１に対向する位置から図３中の矢印の移動経路を通って第１滴下終了位置Ｅ１に対向する位置まで相対移動する。これにより、液状材が第１領域Ａ１内の滴下面Ｋａ上に第１変換済み滴下パターンのように滴下される。なお、第１領域Ａ１の滴下動作において、滴下ヘッド３のＹ軸方向の移動は禁止され、Ｙ軸方向にはステージ２だけが移動する。
【００４０】
次に、滴下ヘッド３が第１滴下終了位置Ｅ１に対向する位置に到達すると、その滴下ヘッド３の移動が許可され、滴下ヘッド３はヘッドＸＺ軸移動機構４及びヘッドＹ軸移動機構５により第２滴下開始位置Ｓ２に対向する位置（第２位置）に移動する。このとき、ステージ２は基板Ｋが図３の位置となる基準位置に復帰する。
【００４１】
次いで、第２位置にいる滴下ヘッド３の移動が禁止され、その位置固定状態の滴下ヘッド３に対してステージ２がステージ移動機構６によりＹ軸方向（図３の下方向）に相対移動し、滴下ヘッド３は第２領域Ａ２内の滴下面Ｋａに液状材を順次滴下する。このとき、滴下ヘッド３は隣接する２つの滴下領域Ｒを跨ぐように相対移動し、それらの滴下領域Ｒに連続して液状材を滴下する。
【００４２】
滴下ヘッド３が第２領域Ａ２の上端部に到達すると、その滴下ヘッド３の移動が許可され、滴下ヘッド３はヘッドＸＺ軸移動機構４によりＸ軸方向に移動し、再び、滴下ヘッド３の移動が禁止され、その位置固定状態の滴下ヘッド３に対してステージ２がステージ移動機構６によりＹ軸方向（図３の上方向）に相対移動し、滴下ヘッド３は第２領域Ａ２内の滴下面Ｋａに液状材を順次滴下する。このときも、滴下ヘッド３は隣接する２つの滴下領域Ｒを跨ぐように相対移動し、それらの滴下領域Ｒに連続して液状材を滴下する。
【００４３】
再度、滴下ヘッド３が第２領域Ａ２の下端部に到達すると、その滴下ヘッド３の移動が許可され、滴下ヘッド３はヘッドＸＺ軸移動機構４によりＸ軸方向に移動し、再び、滴下ヘッド３の移動が禁止され、その位置固定状態の滴下ヘッド３に対してステージ２がステージ移動機構６によりＹ軸方向（図３の下方向）に相対移動し、滴下ヘッド３は第２領域Ａ２内の滴下面Ｋａに液状材を順次滴下する。
【００４４】
このような滴下が繰り返され、滴下ヘッド３は第２滴下開始位置Ｓ２に対向する位置から図３中の矢印の移動経路を通って第２滴下終了位置Ｅ２に対向する位置まで相対移動する。これにより、液状材が第２領域Ａ２内の滴下面Ｋａ上に第２変換済み滴下パターンのように滴下される。なお、第２領域Ａ２の滴下動作においても、滴下ヘッド３のＹ軸方向の移動は禁止され、Ｙ軸方向にはステージ２だけが移動する。
【００４５】
ここで、第１領域Ａ１及び第２領域Ａ２の滴下動作において、滴下ヘッド３はＹ軸方向の移動が禁止されてＸ軸方向だけに移動し、ステージ２上の基板ＫがＹ軸方向に移動する。この滴下動作以外の動作では、滴下ヘッド３のＹ軸方向の移動は許可される。例えば、滴下ヘッド３が第１領域Ａ１の第１滴下終了位置Ｅ１に対向する位置から第２領域Ａ２の第２滴下開始位置Ｓ２に対向する位置まで移動する場合には、ステージ移動機構６によるステージ２の移動を禁止した状態で、ヘッドＸＺ軸移動機構４によりＸ軸方向（図３中の左）に移動し、同時に、ヘッドＹ軸移動機構５によりＹ軸方向（図３の上方向）に移動して、最短距離で斜めに移動する。
【００４６】
このような滴下動作では、図３に示すように、基板Ｋの移動範囲はａ３となる。すなわち、第１領域Ａ１に対する滴下動作中、基板Ｋは図３中の下方向にａ１だけ移動し、さらに、上方向にａ２だけ移動する。また、第２領域Ａ２に対する滴下動作中、基板Ｋは図３中の下方向にａ１だけ移動し、さらに、下方向にａ２だけ移動する。上述したように、第１領域Ａ１の第１滴下終了位置Ｅ１から第２領域Ａ２の第２滴下開始位置Ｓ２までの滴下ヘッド３の移動は、ステージ２の移動を禁止された状態で行われるから、第１領域Ａ１に対する滴下動作中のａ１の移動範囲と第２領域Ａ２に対する滴下動作中のａ１の移動範囲とは重複するものとなる。
【００４７】
したがって、基板Ｋ上の全ての滴下領域（第１領域Ａ１及び第２領域Ａ２）に対する滴下動作中に要するステージ２の移動ストローク（往復動の範囲）は（ａ１＋２×ａ２）となり、基板Ｋの移動範囲はステージ２の移動ストローク（ａ１＋２×ａ２）に基板ＫのＹ軸方向長さＬを加えた寸法であるａ３（＝ａ１＋２×ａ２＋Ｌ）となる。なお、「移動範囲」はあるものを移動させるために必要な範囲（領域）で、「移動ストローク」はあるものが往復移動する寸法である。つまり、移動範囲＝移動ストローク＋あるものの移動方向の寸法となる。
【００４８】
一方、図４に示すように、滴下ヘッド３をＹ軸方向に移動させずにＹ軸方向の移動をステージ２のみで行い、滴下開始位置Ｓ１ａから滴下終了位置Ｅ１ａまで連続して液状材を滴下する場合には、基板Ｋの移動範囲はｂ３となる。すなわち、全ての滴下領域Ｒに対する滴下動作中、基板Ｋは図３中の下方向にｂ１＋ｂ２だけ移動し、上方向にｂ２だけ移動する。したがって、基板Ｋ上の全ての滴下領域Ｒに対する滴下動作に要する基板Ｋの移動範囲は、ステージ２の移動ストローク（ｂ１＋２×ｂ２）に基板ＫのＹ軸方向長さＬを加えた寸法であるｂ３（＝ｂ１＋２×ｂ２＋Ｌ）となる。
【００４９】
ここで、ｂ１＞２×ａ１、ｂ２＝ａ２の関係式が成り立っており、ｂ３＞ａ３という関係式が成立する。したがって、ステージ２を支持して移動させるステージ移動機構６のＹ軸方向の長さを短くすることに加え、そのステージ移動機構６を支持する架台７のＹ軸方向の長さを短くすることが可能となるので、装置を小型化することができる。
【００５０】
なお、図３では、第１領域Ａ１及び第２領域Ａ２の両方ともで、隣接する滴下領域ＲにおいてＹ軸方向の移動経路は連続しており、真ん中（図３中の下から２番目）の滴下領域Ｒの途中で移動経路が折り返している。すなわち、滴下領域Ｒが奇数個ある場合には、第１領域Ａ１及び第２領域Ａ２が滴下パターン変換部８ｃにより設定されるため、Ｙ軸方向の中央に位置する滴下領域Ｒの途中で移動経路が折り返すことになる。一方、図４では、滴下領域Ｒ毎に移動経路が折り返している。
【００５１】
次いで、滴下ヘッド３が基板Ｋに対して相対移動する移動経路の長さについて説明する。
【００５２】
まず、図３において、滴下領域Ｒ内における滴下位置の間隔は等ピッチで１であり、四隅の滴下位置の間隔は最も近い滴下位置から０．５であり、隣接する滴下領域Ｒにおける隣り合う滴下位置の間隔は２であると仮定する。
【００５３】
図３に示すように、第１領域Ａ１の移動経路長さは、４１（＝（１×４＋２）×６＋１×５）＋１６（＝５＋６＋５）＋５．５（≒（５．５２＋０．５２）１／２）≒６２．５となり、第２領域Ａ２の移動経路長さは、４１（＝（１×４＋２）×６＋１×５）＋１６（＝５＋６＋５）＋５．７（≒（５．５２＋１．５２）１／２）≒６２．７となり、第１領域Ａ１と第２領域Ａ２間の移動経路長さは、９．３（≒（５．５２＋７．５２）１／２）となる。したがって、合計の移動経路長さは、６２．５＋６２．７＋９．３＝１３４．５となる。
【００５４】
一方、図４に示すように、１番目（図４中の一番下）の滴下領域Ｒの移動経路長さは、２３（＝３×６＋１×５）＋１４（＝４＋６＋４）＋５．５（≒（５．５２＋０．５２）１／２）≒４２．５となり、同様に、２番目（図４中の真ん中）及び３番目（図４中の一番上）の滴下領域Ｒの移動経路長さも４２．５となり、各滴下領域Ｒ間の移動経路長さは、７．８（≒（５．５２＋５．５２）１／２）となる。したがって、合計の移動経路長さは、４２．５×３＋７．８×２＝１４３．１となる。
【００５５】
よって、図３の移動経路は図４の移動経路に比べ短いので、図３に示すような滴下動作を行うことによって、滴下ヘッド３が基板Ｋに対して相対移動する移動経路を短くすることもできる。
【００５６】
次に、１つの滴下領域Ｒが滴下面Ｋａ上に設けられた基板Ｋに対する滴下動作について説明する。
【００５７】
まず、図５に示す基準位置にいるステージ２上の基板Ｋに対し、前述の実施の形態と同様に、滴下ヘッド３は第１滴下開始位置Ｓ１に対向する位置（第１位置）へ移動する。そこで滴下ヘッド３のＹ軸方向の移動が禁止され、その位置から滴下ヘッド３にＸ軸方向の移動とステージ２のＹ軸方向の移動によって図５中の矢印の移動経路を通って第１滴下終了位置Ｅ１に対向する位置まで滴下ヘッド３が基板Ｋ上で相対移動する。これにより、液状材が第１領域Ａ１内の滴下面Ｋａ上に第１変換済み滴下パターンのように滴下される。
【００５８】
次に、滴下ヘッド３はヘッドＸＺ軸移動機構４及びヘッドＹ軸移動機構５によりステージ２上の基板Ｋの第２滴下開始位置Ｓ２に対向する位置（第２位置）に移動する。このとき、ステージ２は基板Ｋが図５の位置となる基準位置に復帰しており、滴下ヘッド３のＸ軸方向及びＹ軸方向の移動は許可されている。
【００５９】
その後、滴下ヘッド３は第２滴下開始位置Ｓ２に対向する位置から第１領域Ａ１に対すると同じ要領で図５中の矢印の移動経路を通って第２滴下終了位置Ｅ２に対向する位置まで相対移動する。これにより、液状材が第２領域Ａ２内の滴下面Ｋａ上に第２変換済み滴下パターンのように滴下される。このときも、滴下ヘッド３のＹ軸方向の移動は禁止され、Ｙ軸方向にはステージ２だけが移動する。
【００６０】
このような滴下動作では、図５に示すように、ステージ２の移動ストロークは（ａ１＋２×ａ２）となり、基板Ｋの移動範囲はステージ２の移動ストローク（ａ１＋２×ａ２）に基板ＫのＹ軸方向長さＬを加えた寸法であるａ３（＝ａ１＋２×ａ２＋Ｌ）となる。すなわち、第１領域Ａ１に対する滴下動作中、基板Ｋ（ステージ２）は図５中の下方向にａ１だけ移動し、さらに、上方向にａ２だけ移動する。また、第２領域Ａ２に対する滴下動作中、基板Ｋ（ステージ２）は図５中の下方向にａ１だけ移動し、さらに、下方向にａ２だけ移動する。
【００６１】
このとき、第１領域Ａ１に対する滴下動作中のａ１の移動範囲と第２領域Ａ２に対する滴下動作中のａ１の移動範囲とは重複するから、滴下領域Ｒに対する滴下動作中に要するステージ２の移動ストロークは（ａ１＋２×ａ２）となる。したがって、基板Ｋの移動範囲は、ステージ２の移動ストローク（ａ１＋２×ａ２）に基板ＫのＹ軸方向長さＬを加えた寸法であるａ３（＝ａ１＋２×ａ２＋Ｌ）となる。
【００６２】
一方、図６に示すように、滴下ヘッド３をＹ軸方向に移動させずにＹ軸方向の移動をステージ２のみで行い、滴下開始位置Ｓ１ｂから滴下終了位置Ｅ１ｂまで連続して液状材を滴下する場合には、基板Ｋの移動範囲はｂ３となる。すなわち、全ての滴下領域Ｒに対する滴下動作中、基板Ｋは図６中の下方向にｂ１＋ｂ２だけ移動し、上方向にｂ２だけ移動する。したがって、滴下領域Ｒに対する滴下動作中に要する基板Ｋの移動範囲は、ステージ２の移動ストローク（ｂ１＋２×ｂ２）に基板ＫのＹ軸方向長さＬを加えた寸法であるｂ３（＝ｂ１＋２×ｂ２＋Ｌ）となる。
【００６３】
ここでも、ｂ１＞２×ａ１、ｂ２＝ａ２の関係式が成り立っており、ｂ３＞ａ３という関係式が成立する。したがって、ステージ２を支持して移動させるステージ移動機構６のＹ軸方向の長さを短くすることに加え、そのステージ移動機構６を支持する架台７のＹ軸方向の長さを短くすることが可能となるので、装置を小型化することができる。
【００６４】
以上説明したように、本発明の実施の形態によれば、基板Ｋの滴下面Ｋａに対する全滴下位置をＹ軸方向に二分する第１領域Ａ１及び第２領域Ａ２を設定し、第１領域Ａ１に対向する第１位置に滴下ヘッド３を移動させ、その滴下ヘッド３のＹ軸方向への移動を禁止し、基板ＫのＹ軸方向の移動及び滴下ヘッド３のＸ軸方向の移動により滴下ヘッド３による基板Ｋの滴下面Ｋａに対する液状材の滴下を順次行い、その後、滴下ヘッド３のＹ軸方向への移動を許可し、その滴下ヘッド３のＸ軸方向及びＹ軸方向の移動により第２領域Ａ２に対向する第２位置に滴下ヘッド３を移動させ、再度、その滴下ヘッド３のＹ軸方向への移動を禁止し、基板ＫのＹ軸方向の移動及び滴下ヘッド３のＸ軸方向の移動により滴下ヘッド３による基板Ｋの滴下面Ｋａに対する液状材の滴下を順次行う。
【００６５】
これにより、セルなどの表示領域となる複数の滴下領域Ｒに関係なく、第１領域Ａ１及び第２領域Ａ２毎に液状材が基板Ｋの滴下面Ｋａ上に滴下され、このとき、ステージ２はＹ軸方向に第１領域Ａ１及び第２領域Ａ２のＹ軸方向の長さ分だけ移動する。このことから、ステージ２のＹ軸方向の移動ストローク並びに基板Ｋの移動範囲が短くなるので（ａ３＜ｂ３）、ステージ２を支持して移動させるステージ移動機構６のＹ軸方向の長さを短くすることに加え、そのステージ移動機構６を支持する架台７のＹ軸方向の長さを短くすることが可能となり、装置を小型化することができる。ここで、第１領域Ａ１及び第２領域Ａ２は、表示領域のように表示装置の構造により決定された領域ではなく、移動ストロークを短くすることを目的として設定される領域である。
【００６６】
また、滴下動作中に滴下ヘッド３をＸ軸方向に移動させることによって、滴下ヘッド３を固定して基板ＫをＸ軸方向に移動させて滴下を行う場合に比べ、装置のＸ軸方向の長さを短くすることが可能になるので、装置をさらに小型化することができる。
【００６７】
なお、上述の実施の形態においては、基板Ｋの滴下面Ｋａに対する全滴下位置をＹ軸方向に均等に二分したが、この分割を、ステージ移動機構６によるステージ２の移動ストロークを基準に行うようにしても良い。すなわち、上述の実施の形態では、ステージ２の移動ストロークに特に制限は無く、前述のような動かし方を行うと、結果的にステージ２の移動ストロークを短くすることができるといった内容であるが、ステージ２の移動ストロークが予め決まっており（基板ＫのＹ軸方向における長さ分よりも移動ストロークが短い）、この移動ストロークを基準として、基板Ｋ上の全滴下位置を二分するようにしても良い。この場合には、領域を二等分するようにしても、一方の領域をステージ２の移動ストロークでカバーできる分と、他方の領域をカバーできなかった残りの分とするようにしても良い。
【００６８】
例えば、ステージ移動機構６によるステージ２の移動ストロークおよびヘッドＹ軸移動機構５による滴下ヘッド３の移動ストロークを共に、ステージ２のＹ軸方向長さＬの１／２としたとする。ステージ２はステージ２に載置される基板Ｋよりも大きく形成されるので、ステージ移動機構６の移動ストロークＬ／２はステージ２に載置される基板ＫのＹ軸方向長さの１／２以上の移動ストロークを少なくとも有するものとなる。また、ステージ移動機構６とヘッドＹ軸移動機構５とを、その移動ストロークの中央が一致するように架台７上に配置する。
【００６９】
このように構成した場合、ステージ移動機構６によるステージ２の移動ストローク（Ｌ／２）はステージ２のＹ軸方向長さＬの１／２であるから、ステージ２を一度にこの寸法以上移動させることができない。そこで、基板ＫのＹ軸方向の寸法がＬ／２よりも大きい場合、ステージ移動機構６で許容可能な最大移動ストローク（Ｌ／２）を基準に全滴下位置を二分する。このとき、最大移動ストローク（Ｌ／２）を記憶部８ｂに記憶させておき、制御装置８がこの最大移動ストローク（Ｌ／２）を基準に全滴下位置を二分する。全滴下位置を二分したならば、滴下パターン変換部８ｃが、滴下パターン情報Ｊ１、滴下パターンの配置位置情報Ｊ２に基づいて変換済み滴下パターン情報Ｊ３、変換済み滴下パターンの配置位置情報Ｊ４を生成することは上述と同様である。なお、二分とは、必ずしも均等に二分しなければならないものではない。
【００７０】
このような構成のステージ移動機構６およびヘッドＹ軸移動機構５を用いて図３に示す滴下動作を行う場合、以下の如くとなる。
【００７１】
まず、基板Ｋが図３の位置となる基準位置にステージ２を位置付けるためには、ステージ移動機構６の駆動によってステージ２をその移動ストローク（Ｌ／２）の中央位置から上方向へ寸法ａ１の１／２の距離（＝６．５／２）の位置まで移動させる。この状態で、滴下ヘッド３をヘッドＸＺ軸移動機構４及びヘッドＹ軸移動機構５により基板Ｋの第１滴下開始位置Ｓ１に対向する位置（第１位置）に移動させる。
【００７２】
第１領域Ａ１に対する滴下動作が完了し、第１滴下終了位置Ｅ１に対向する位置へ滴下ヘッド３が移動したならば、ステージ移動機構６によってステージ２を下方向へ寸法ａ２の距離（＝０．５）移動させ、ヘッドＸＺ軸移動機構４及びヘッドＹ軸移動機構５によって滴下ヘッド３を左方向へ距離５．５、上方向へ距離７．０移動させ、滴下ヘッド３を第２領域Ａ２の第２滴下開始位置Ｓ２（第２位置）に位置付ける。その後、第２領域Ａ２に対する滴下動作を行う。
【００７３】
このように、ステージ２の最大移動ストロークを基準に移動経路を折り返す領域を決定すると、図４に示すような滴下領域Ｒを基準に折り返す領域を決定する場合に比べて、移動経路の折り返し数を少なくすることができる。そのため、上述したように、合計の移動経路長さを短くすることができるので、その分だけ、基板Ｋ上の全ての滴下領域Ｒに対する滴下動作に要する時間が短縮でき、生産性を向上させることができる。
【００７４】
なお、本発明は、前述の実施の形態に限るものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々変更可能である。例えば、前述の実施の形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。さらに、異なる実施の形態に亘る構成要素を適宜組み合わせてもよい。また、前述の実施の形態においては、各種の数値を挙げているが、それらの数値は例示であり、限定されるものではない。
【符号の説明】
【００７５】
１      液状材の滴下装置
２      ステージ
３      滴下ヘッド
４，６  第１軸移動機構（ヘッドＸＺ軸移動機構、ステージ移動機構）
５      ヘッド第２軸移動機構（ヘッドＹ軸移動機構）
６      ステージ第２軸移動機構（ステージ移動機構）
Ｋ      滴下対象物（基板）
Ｋａ    滴下面
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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