(57)【要約】      （修正有）【課題】２種以上の液晶性色素を数回に分けて多層に塗布して積層体を作製する場合、上層を塗布する際に塗布済みの下層が溶解するのを防ぐため、（１）下層の上に、アクリル樹脂からなる保護層、および、ポリビニルアルコールからなる保護層を形成する、（２）上層として、非水溶性の液晶（サーモトロピック液晶）を用いる。【解決手段】第１液晶配向層１５の形成後、第１液晶配向層に不溶化処理を施す。次に第１液晶配向層の表面にラビング処理を施す。ラビング処理の施された第１液晶配向層の上に、第２リオトロピック液晶性色素１３を含む溶液を塗布し、第２液晶配向層２０を形成する。【選択図】図１
2010102229.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｎを２以上の整数、Ｍを１≦Ｍ≦（Ｎ−１）を満たす整数として、
第１リオトロピック液晶性色素を含む第１液晶配向層、…、第Ｍリオトロピック液晶性色素を含む第Ｍ液晶配向層、…、第Ｎリオトロピック液晶性色素を含む第Ｎ液晶配向層を、この順に基材上に積層してなる光学異方性膜の製造方法であって、
表面に露出した第Ｍ液晶配向層に対して不溶化処理を施す工程Ａと、
不溶化処理の施された前記第Ｍ液晶配向層に対して、第１リオトロピック液晶性色素の配向方向と直交する方向にラビング処理を施す工程Ｂと、
ラビング処理の施された前記第Ｍ液晶配向層の上に、第（Ｍ＋１）リオトロピック液晶性色素を含む溶液を塗布して、第（Ｍ＋１）液晶配向層を形成する工程Ｃとを、
Ｍ＝１、…、（Ｎ−１）に対して、順次実施することを含む光学異方性膜の製造方法。
【請求項２】
前記第１〜第Ｎリオトロピック液晶性色素が、柱状構造の分子集合体を形成する化合物であることを特徴とする請求項１に記載の光学異方性膜の製造方法。
【請求項３】
前記第１〜第Ｎリオトロピック液晶性色素が、アゾ化合物であることを特徴とする請求項１または２に記載の光学異方性膜の製造方法。
【請求項４】
前記不溶化処理が、前記第Ｍリオトロピック液晶性色素同士を多価金属により架橋する処理であることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の光学異方性膜の製造方法。
【請求項５】
前記多価金属が、バリウム、銅、カルシウム、鉄のいずれかであることを特徴とする請求項４に記載の光学異方性膜の製造方法。
【請求項６】
前記基材がオレフィン系樹脂フィルムであることを特徴とする請求項１から５のいずれかに記載の光学異方性膜の製造方法。
【請求項７】
前記第１〜第Ｎリオトロピック液晶性色素が、同一のリオトロピック液晶性色素であることを特徴とする請求項１から６のいずれかに記載の光学異方性膜の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、リオトロピック液晶性色素を用いた光学異方性膜の製造方法、特に偏光膜の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
リオトロピック液晶性色素を含有する水溶液を塗布し、リオトロピック液晶性色素を配向させて、偏光子や位相差膜などの光学部材を作製する方法が、従来から知られている。リオトロピック液晶性色素は、一般的には、液晶相状態において、剪断応力によって配向させることができる。しかし、等方相状態において、ラビング処理によって配向させる例も報告されている。
【０００３】
２種以上の液晶性色素を、数回に分けて多層に塗布して、積層体を作製する方法が開示されている（例えば特許文献１）。このように多層に塗布すれば、各層の膜厚を薄くすることができるので、ラビング処理により付与された配向規制力を用いて、各層の配向度を高くすることができる。また、積層体の膜厚が厚くなるため、高い偏光度を得ることができる。
【０００４】
しかし、このように多層に塗布を行なう場合、上層を塗布する際に、塗布済みの下層が溶解するおそれがある。そこで、特許文献１においては、塗布済みの下層が溶解するのを防ぐため、
（１）下層の上に、アクリル樹脂からなる保護層、および、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）からなる保護層を形成する、または、
（２）上層として、非水溶性の液晶（サーモトロピック液晶）を用いる
という対策を施している。
【０００５】
上記の対策（１）の場合、保護層の形成のために、少なくとも２回の塗布工程を必要とする。そのため製造工程が複雑になる。また、アクリル樹脂からなる保護層と、ポリビニルアルコールからなる保護層との密着性が充分でない場合、剥がれが生じるおそれがある。
【０００６】
上記の対策（２）の場合、可燃性の有機溶剤を使用するため、防爆エリアが必要であり、設備配置が制約される。また、サーモトロピック液晶性色素を配向させる際に加熱する必要があるため、積層体にクラックが生じるおそれがある。
【特許文献１】特開２００７−１５６３２２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
従来の製造方法では、簡易な設備および工程によって、偏光度の高い光学異方性膜を作製することができなかった。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者は、少なくとも第１液晶配向層と第２液晶配向層とを、この順に基材上に積層してなる光学異方性膜の製造方法について、鋭意検討を行なった。第１液晶配向層の形成後、第１液晶配向層に不溶化処理を施すことにより、第１液晶配向層を構成する第１リオトロピック液晶性色素の配向が固定される。この結果、第１リオトロピック液晶性色素の配向を乱すことなく、第１液晶配向層の表面にラビング処理を施すことが可能になる。このラビング処理の方向は、第１リオトロピック液晶性色素の配向方向と直交する方向が好ましい。ラビング処理の施された第１液晶配向層の上に、第２リオトロピック液晶性色素を含む溶液を塗布し、第２液晶配向層を形成する。
【０００９】
図１に、本発明の製造方法を模式的に示す。まず、図１（ａ）に示すように、基材１１の表面をラビング処理する。ラビング処理の方向１２は矢印の方向である。ラビング処理は、ベルベット、ナイロン、レーヨン、ポリエステル、コットンなどのラビング布で、基材１１の表面をラビング処理の方向１２に擦る。ラビング処理により、基材１１の表面に配向規制力が生じる。
【００１０】
次に、図１（ｂ）に示すように、第１リオトロピック液晶性色素１３を含む溶液を、基材１１の表面に塗布し、乾燥させる。第１リオトロピック液晶性色素１３は、柱状構造の分子集合体を形成しており、分子集合体の長軸が基材１１のラビング処理の方向１２に配向する。その結果、第１リオトロピック液晶性色素１３の各分子の長軸は、基材１１のラビング処理の方向１２に直交する方向１４に配向し、方向１４が第１液晶配向層１５の吸収軸方向１６となる。このようにして、第１リオトロピック液晶性色素１３を含む第１液晶配向層１５が形成される。その後、第１液晶配向層１５に不溶化処理を施す。不溶化処理は、例えば、第１リオトロピック液晶性色素１３同士を多価金属（バリウム、銅、カルシウム、鉄など）により架橋する処理である。架橋することにより、第１リオトロピック液晶性色素１３の配向が固定される。
【００１１】
次に、図１（ｃ）に示すように、第１液晶配向層１５の表面をラビング処理する。ラビング処理の方向１７は、基材１１のラビング処理の方向１２と同じであり、第１リオトロピック液晶性色素１３の分子の配向の方向１４と直交する方向である。ラビング処理により、第１液晶配向層１５の表面に配向規制力が生じる。
【００１２】
次に、図１（ｄ）に示すように、第２リオトロピック液晶性色素１８を含む溶液を、第１液晶配向層１５の表面に塗布し、乾燥させる。第２リオトロピック液晶性色素１８は、柱状構造の分子集合体を形成しており、分子集合体の長軸が第１液晶配向層１５のラビング処理方向１７に配向する。その結果、第２リオトロピック液晶性色素１８の各分子の長軸は、第１液晶配向層１５のラビング処理方向１７と直交する方向１９に配向し、この方向１９が第２液晶配向層２０の吸収軸方向１９となる。このようにして、第２リオトロピック液晶性色素１８を含む第２液晶配向層２０が形成される。第２液晶配向層２０の吸収軸方向１９は、第１液晶配向層１５の吸収軸方向１６と同じである。このため、第２液晶配向層２０を積層することにより、第１液晶配向層１５だけの場合よりも、偏光度が高くなる。
【００１３】
図１では、液晶配向層１５、２０は２層であるが、表面に露出した液晶配向層の不溶化処理とラビング処理とを繰り返し行なうことにより、３層以上の液晶配向層の積層品を得ることが可能である。
【００１４】
本発明によれば、複数の液晶配向層を、配向の乱れを生じさせることなく、吸収軸の方向をそろえながら、積層することができる。これにより、偏光度の高い偏光膜を得ることができる。第１液晶配向層と第２液晶配向層との間に、従来のような保護層を設ける必要が無いので、工程が煩雑にならない。また有機溶剤を用いる必要が無いので、防爆エリアが不要で、設備配置が制約されない。
【００１５】
本発明の要旨は以下のとおりである。
（１）本発明の光学異方性膜の製造方法は、Ｎを２以上の整数、Ｍを１≦Ｍ≦（Ｎ−１）を満たす整数として、第１リオトロピック液晶性色素を含む第１液晶配向層、…、第Ｍリオトロピック液晶性色素を含む第Ｍ液晶配向層、…、第Ｎリオトロピック液晶性色素を含む第Ｎ液晶配向層を、この順に基材上に積層してなる光学異方性膜の製造方法であって、表面に露出した第Ｍ液晶配向層に対して不溶化処理を施す工程Ａと、不溶化処理の施された第Ｍ液晶配向層に対して、第１リオトロピック液晶性色素の配向方向と直交する方向にラビング処理を施す工程Ｂと、ラビング処理の施された第Ｍ液晶配向層の上に、第（Ｍ＋１）リオトロピック液晶性色素を含む溶液を塗布して、第（Ｍ＋１）液晶配向層を形成する工程Ｃとを、Ｍ＝１、…、（Ｎ−１）に対して、順次実施することを含むことを特徴とする。
（２）本発明の光学異方性膜の製造方法は、第１〜第Ｎリオトロピック液晶性色素が、柱状構造の分子集合体を形成する化合物であることを特徴とする。
（３）本発明の光学異方性膜の製造方法は、第１〜第Ｎリオトロピック液晶性色素が、アゾ化合物であることを特徴とする。
（４）本発明の光学異方性膜の製造方法は、不溶化処理が、第Ｍリオトロピック液晶性色素同士を多価金属により架橋する処理であることを特徴とする。
（５）本発明の光学異方性膜の製造方法は、多価金属が、バリウム、銅、カルシウム、鉄のいずれかであることを特徴とする。
（６）本発明の光学異方性膜の製造方法は、基材がオレフィン系樹脂フィルムであることを特徴とする。
（７）本発明の光学異方性膜の製造方法は、第１〜第Ｎリオトロピック液晶性色素が、同一のリオトロピック液晶性色素であることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１６】
本発明の製造方法によれば、簡易な設備および工程によって、偏光度の高い光学異方性膜を作製することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
［光学異方性膜の製造方法］
本発明の光学異方性膜の製造方法は、Ｎを２以上の整数、Ｍを１≦Ｍ≦（Ｎ−１）を満たす整数として、第１リオトロピック液晶性色素を含む第１液晶配向層、…、第Ｍリオトロピック液晶性色素を含む第Ｍ液晶配向層、…、第Ｎリオトロピック液晶性色素を含む第Ｎ液晶配向層を、この順に基材上に積層してなる光学異方性膜の製造方法であって、以下の工程Ａ〜Ｃを、Ｍ＝１、…、（Ｎ−１）に対して、順次実施することを含む。
工程Ａ：表面に露出した第Ｍ液晶配向層に対して不溶化処理を施す工程。
工程Ｂ：不溶化処理の施された第Ｍ液晶配向層に対して、第１リオトロピック液晶性色素の配向方向と直交する方向にラビング処理を施す工程。
工程Ｃ：ラビング処理の施された第Ｍ液晶配向層の上に、第（Ｍ＋１）リオトロピック液晶性色素を含む溶液を塗布して、第（Ｍ＋１）液晶配向層を形成する工程Ｃ。
【００１８】
本発明の光学異方性膜の製造方法は、上記の工程Ａ〜Ｃを含むものであれば、その他の工程を含んでいてもよい。
【００１９】
［工程Ａ］
工程Ａは、表面に露出した、リオトロピック液晶性色素を含む液晶配向層に、不溶化処理を施す工程である。
【００２０】
本明細書で「リオトロピック液晶性色素」とは、溶媒との相互作用で液晶になり、かつ各種のミセル構造（球状構造、柱状構造、管状構造）や、ラメラ構造のような分子集合体を形成する性質をもつ色素をいう。
【００２１】
本発明に用いられるリオトロピック液晶性色素は、上記の性質をもつ色素であれば特に制限はないが、円盤（ディスク）状分子であることが好ましく、柱状構造の分子集合体を形成する化合物であることがより好ましく、アゾ化合物であることが更に好ましく、下記一般式（１）で表わされるアゾ化合物であることが特に好ましい。このようなアゾ化合物は、溶媒に溶解した状態で安定な液晶性を示し、配向性に優れる。さらに上記のアゾ化合物は、−ＳＯ３Ｍ基を特定の位置に有することで、−ＳＯ３Ｍ基同士の立体障害が小さくなり、耐水化処理前後で分子の直線性が維持され、結果として、配向度の高い液晶配向層が得られる。
【化１】
2010102229.tif 000003
一般式（１）中、Ｒは水素原子、炭素数１〜３のアルキル基、アセチル基、ベンゾイル基、または置換基を有していてもよいフェニル基を表わす。Ｍは対イオンを表わし、好ましくは、水素原子、アルカリ金属原子、またはアルカリ土類金属原子である。Ｘは水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、または、−ＳＯ３Ｍ基を表わす。
【００２２】
本明細書で「液晶配向層」とは、その層を構成するリオトロピック液晶性色素の配向方向が一定である層をいう。
【００２３】
本明細書で「不溶化処理」とは、リオトロピック液晶性色素の配向を固定することにより、工程Ｃにおいて、第Ｍ液晶配向層が、第（Ｍ＋１）リオトロピック液晶性色素を含む溶液に、溶解しないようにする処理をいう。したがって、この不溶化処理を行なうことにより、工程Ｂにおいて、第Ｍリオトロピック液晶性色素の配向を乱すことなく、第Ｍ液晶配向層に対して、第Ｍリオトロピック液晶性色素の配向方向に直交する方向にラビング処理を施すことが可能となる。その結果、工程Ｃにおいて、第Ｍ液晶配向層上に第（Ｍ＋１）リオトロピック液晶性色素を含む溶液を塗布することにより、第Ｍ液晶配向層を溶解させることなく、第Ｍ液晶配向層の表面に付与された配向規制力を用いて、第Ｍ液晶配向層の吸収軸と同一方向に吸収軸を持つ第（Ｍ＋１）液晶配向層を形成することができる。
【００２４】
不溶化処理は、上記の処理であれば特に制限はなく、第Ｍリオトロピック液晶性色素同士を多価金属により架橋する処理、第Ｍリオトロピック液晶性色素同士を紫外線照射により架橋する処理などが挙げられる。多価金属としては特に制限はなく、例えば、バリウム、銅、カルシウム、鉄などが挙げられる。
【００２５】
液晶配向層の形成方法は特に制限はなく、例えば、以下の方法が挙げられる。
（ａ）ラビング処理の施された基材の上に、リオトロピック液晶性色素を含む溶液を塗布し、乾燥して形成する方法。
（ｂ）リオトロピック液晶を含み、ラビング処理が施された液晶配向層の上に、リオトロピック液晶性色素を含む溶液を塗布し、乾燥して形成する方法。
【００２６】
基材に特に制限はなく、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム、アートン（登録商標、ＪＳＲ社製）、ゼオノア（登録商標、オプテス社製）などのオレフィン系樹脂フィルム、ガラス基板などが挙げられる。第１リオトロピック液晶性色素を良好に配向させるために、基材はオレフィン系樹脂フィルムであることが好ましく、特に、ゼオノア（登録商標、オプテス社製）が好ましい。
【００２７】
リオトロピック液晶性色素を含む溶液は、リオトロピック液晶性色素が、水に溶解されたものを基本とする。リオトロピック液晶性色素を含む溶液は、溶媒として、水のほかに、アルコール類、セロソルブ類などの親水性溶媒を含んでいてもよい。
【００２８】
リオトロピック液晶性色素を含む溶液中の、リオトロピック液晶性色素の濃度は、１重量％〜５０重量％であることが好ましい。濃度が１重量％未満であると、所定の吸光度を得るのに厚く塗布する必要があるため、配向度が低下したり、液流れや塗布むらが生じたりするおそれがある。濃度が５０重量％を超えると、溶液の粘度が高くなりすぎて、均一に塗布することが困難になるおそれがある。
【００２９】
リオトロピック液晶性色素を含む溶液の塗布方法に特に制限はなく、ワイヤーバーを用いる方法、ドクターブレードを用いる方法、アプリケータを用いる方法、ブロックダイを用いる方法などが挙げられる。
【００３０】
リオトロピック液晶性色素を含む溶液の乾燥方法に特に制限はなく、自然乾燥、減圧乾燥、加熱乾燥などが挙げられる。
【００３１】
液晶配向層の膜厚は、１００ｎｍ〜６００ｎｍであることが好ましい。膜厚が１００ｎｍ未満であると、均一な膜を得ることが困難になる場合がある。膜厚が６００ｎｍを超えると、ラビング処理によって基材または下の液晶配向層に付与された配向規制力が、液晶配向層の上部にまで及ばず、液晶配向層の配向性が不十分となるおそれがある。
【００３２】
［工程Ｂ］
工程Ｂは、工程Ａにて不溶化処理の施された液晶配向層に、リオトロピック液晶性色素の配向と直交する方向のラビング処理を施す工程である。
【００３３】
不溶化処理の施された液晶配向層は、リオトロピック液晶性色素の配向が固定されているため、リオトロピック液晶性色素の配向を乱すことなく、ラビング処理を施すことができる。ラビング処理の方向をリオトロピック液晶性色素の配向と直交する方向にすれば、工程Ｃ（後述）において、第Ｍ液晶配向層の上に、第（Ｍ＋１）リオトロピック液晶性色素を含む溶液を塗布することにより、第Ｍ液晶配向層の吸収軸と同一方向に吸収軸を有する第（Ｍ＋１）液晶配向層を形成することができる。
【００３４】
本発明の製造方法によれば、複数の液晶配向層を、配向の乱れを発生させることなく、吸収軸の方向をそろえて積層することができる。その結果、偏光度の高い光学異方性膜を得ることができる。第Ｍ液晶配向層と第（Ｍ＋１）液晶配向層との間に、従来のような保護層を設ける必要が無いので、工程が煩雑にならない。また有機溶剤を用いる必要が無いので、防爆エリアが不要で、設備配置が制約されない。
【００３５】
ラビング処理の方法に特に制限はなく、例えば、ベルベット、ナイロン、レーヨン、ポリエステル、コットンなどのラビング布で、表面を擦る方法が挙げられる。
【００３６】
リオトロピック液晶性色素が柱状構造の分子集合体を形成する色素の場合、柱状構造の長手方向が、リオトロピック液晶性色素の配向方向と直交する方向になる。なお、本明細書において、リオトロピック液晶性色素の配向方向と直交する方向とは、厳密な直交方向だけでなく、本発明の作用効果が得られる範囲で、直交からずれた方向も含まれる。
【００３７】
第１液晶配向層が、例えば、ラビング処理の施された基材上に形成された場合、基材のラビング処理の方向と、第１液晶配向層のラビング処理の方向は一致する。
【００３８】
［工程Ｃ］
工程Ｃは、ラビング処理の施された第Ｍ液晶配向層の上に、第（Ｍ＋１）リオトロピック液晶性色素を含む溶液を塗布して、第（Ｍ＋１）液晶配向層を形成する工程である。
【００３９】
第（Ｍ＋１）リオトロピック液晶性色素を含む溶液は、第（Ｍ＋１）リオトロピック液晶性色素が、水に溶解されたものを基本とする。第（Ｍ＋１）リオトロピック液晶性色素を含む溶液は、溶媒として、水のほかに、アルコール類、セロソルブ類などの親水性溶媒を含んでいてもよい。
【００４０】
第（Ｍ＋１）リオトロピック液晶性色素を含む溶液中の、第（Ｍ＋１）リオトロピック液晶性色素の濃度は、１重量％〜５０重量％であることが好ましい。濃度が１重量％未満であると、所定の吸光度を得るのに厚く塗布する必要があるため、配向度が低下したり、液流れや塗布むらが生じたりするおそれがある。濃度が５０重量％を超えると、溶液の粘度が高くなりすぎて、均一に塗布することが困難になるおそれがある。
【００４１】
第（Ｍ＋１）リオトロピック液晶性色素を含む溶液の塗布方法に特に制限はなく、ワイヤーバーを用いる方法、ドクターブレードを用いる方法、アプリケータを用いる方法、ブロックダイを用いる方法などが挙げられる。
【００４２】
第（Ｍ＋１）リオトロピック液晶性色素を含む溶液の乾燥方法に特に制限はなく、自然乾燥、減圧乾燥、加熱乾燥などが挙げられる。
【００４３】
第（Ｍ＋１）液晶配向層の膜厚は、１００ｎｍ〜６００ｎｍであることが好ましい。膜厚が１００ｎｍ未満であると、均一な膜を得ることが困難になる場合がある。膜厚が６００ｎｍを超えると、ラビング処理によって第Ｍ液晶配向層に付与された配向規制力が、第（Ｍ＋１）液晶配向層の上部にまで及ばず、第（Ｍ＋１）液晶配向層の配向性が不十分となるおそれがある。
【００４４】
製造コストを低減するため、第１〜第Ｎの全リオトロピック液晶性色素が、同一のリオトロピック液晶性色素であることが好ましい。また、第１〜第Ｎの全リオトロピック液晶性色素を含む溶液が同一であることが、より好ましい。
【００４５】
［光学異方性膜］
本発明の製造方法により得られる光学異方性膜は、少なくとも２つの液晶配向層（第１液晶配向層と第２液晶配向層）が積層されたものである。即ち、光学異方性膜の層数は２層以上である。層数の上限は、好ましくは１０層である。１０層を超えると、十分な生産性が得られないおそれがある。本発明の光学異方性膜に基材は含まれない。
【００４６】
光学異方性膜の膜厚は、６００ｎｍ〜２０００ｎｍであることが好ましい。膜厚が６００ｎｍ未満であると、高い偏光度が得られないおそれがある。２０００ｎｍを超えると、単体透過率が低くなりすぎるおそれがある。
【００４７】
光学異方性膜は２つ以上の液晶配向層が積層されたものであるが、各液晶配向層の境界は、明確に判別できなくてもよい。例えば、第１リオトロピック液晶性色素が、第２リオトロピック液晶性色素と同一である場合、第１液晶配向層と第２液晶配向層との境界が明確に判別できなくても差し支えない。第Ｍ液晶配向層の上に第（Ｍ＋１）液晶配向層がある場合も同様である。
【実施例】
【００４８】
［実施例１］
下記構造式（２）のアゾ化合物を、常法にしたがい、ジアゾカップリングにて合成した。即ち、ｐ−メトキシアニリンをジアゾ化し、１−アミノ−７−ナフタレンスルホン酸とカップリング反応させてアゾ化合物を得た。さらにこれをジアゾ化し、３−アミノ−５−ヒドロキシ−２，７−ナフタレンジスルホン酸とカップリング反応させた。反応物をリチウム塩に塩交換して、構造式（２）のアゾ化合物を得た。構造式（２）のアゾ化合物を、第１リオトロピック液晶性色素、および、第２リオトロピック液晶性色素として用いた。
【化２】
2010102229.tif 000004
構造式（２）のアゾ化合物をイオン交換水に溶解させて、アゾ化合物（リオトロピック液晶性色素）を５重量％含む水溶液を調製した。
【００４９】
次に、シクロオレフィン系透明樹脂フィルム（オプテス社製「ゼオノア」（登録商標））の表面を、ベルベット布で５回擦ってラビング処理を施したのち、コロナ放電処理を行なった。
【００５０】
次に、上記のシクロオレフィン系透明樹脂フィルムの上に、構造式（２）のアゾ化合物を５重量％含む水溶液をワイヤーバー（＃４）で塗布し、２５℃で乾燥させて、膜厚３５０ｎｍの第１液晶配向層を得た。
【００５１】
次に、第１液晶配向層を塩化バリウム（東京化成工業社製「塩化バリウム」）の２０重量％水溶液に浸漬し、更にイオン交換水で洗浄し、エアブローで水を除去して、不溶化処理を施した（工程Ａ）。
【００５２】
次に、不溶化処理の施された第１液晶配向層の表面を、基材（シクロオレフィン系透明樹脂フィルム）に行なったラビング処理と同一の方向に、ベルベット布で５回擦って、ラビング処理を施した（工程Ｂ）。このラビング処理の方向は、第１リオトロピック液晶性色素の配向方向と直交する方向である。ラビング処理後、第１液晶配向層の表面にコロナ処理を施した。
【００５３】
次に、上記の第１液晶配向層の上に、構造式（２）のアゾ化合物を５重量％含む水溶液をワイヤーバー（＃４）で塗布し（工程Ｃ）、２５℃で乾燥させて、膜厚４００ｎｍの第２液晶配向層を得た。
【００５４】
このようにして、第１液晶配向層と第２液晶配向層とが積層された、膜厚７５０ｎｍの光学異方性膜を得た。
【００５５】
実施例１の光学異方性膜は、配向性の乱れがなく、９９．４％の高い偏光度を得ることができた。
【００５６】
［実施例２］
実施例１と同様にして、膜厚７６０μｍの、第１液晶配向層と第２液晶配向層との積層品を得た。次に、表面に露出している第２液晶配向層を塩化バリウム（東京化成工業社製「塩化バリウム」）の２０重量％水溶液に浸漬し、更にイオン交換水で洗浄し、エアブローで水を除去して、不溶化処理を施した。続いて、第２液晶配向層の表面をベルベット布で５回擦ってラビング処理を施した。ラビング処理の方向は、基材（シクロオレフィン系樹脂フィルム）のラビング処理と同一方向であった。これは第１リオトロピック液晶性色素の配向方向に対して直交方向である。第２液晶配向層の表面にコロナ放電処理を施した後、構造式（２）のアゾ化合物を５重量％含む水溶液をワイヤーバー（＃４）で塗布し、２５℃で乾燥して、第３液晶配向層を形成し、膜厚１１８０ｎｍの光学異方性膜（３層積層品）を得た。
【００５７】
実施例２の光学異方性膜も配向性の乱れは無く、９９．８％の高い偏光度を得ることができた。実施例１の光学異方性膜より偏光度が高いのは、配向方向が同一の、３層の積層構造であるためと推定される。
【００５８】
［実施例３］
塩化バリウム水溶液の代わりに塩化銅水溶液を用いて不溶化処理をしたこと以外は、実施例１と同様にして、膜厚７２０ｎｍの光学異方性膜（２層積層品）を得た。実施例３の光学異方性膜も配向性の乱れは無く、９９．３％の高い偏光度を得ることができた。
【００５９】
［比較例１］
シクロオレフィン系透明樹脂フィルム（オプテス社製「ゼオノア」（登録商標））の表面をベルベット布で５回擦ってラビング処理を施したのち、コロナ放電処理を行なった。
【００６０】
次に、上記のシクロオレフィン系透明樹脂フィルムに、構造式（２）のアゾ化合物を５重量％含む水溶液をワイヤーバー（＃１４）で塗布し、２５℃で乾燥させて、膜厚１０１０ｎｍの光学異方性膜（１層）を得た。
【００６１】
比較例１の光学異方性膜は、配向性の乱れがあり、偏光度が非常に低かった（７６．２％）。これは膜厚が厚いため、ラビング処理によって基材に付与された配向規制力が、液晶配向層の上部にまで及ばなかったためと推定される。
【００６２】
［比較例２］
シクロオレフィン系透明樹脂フィルム（オプテス社製「ゼオノア」（登録商標））の表面をベルベット布で５回擦ってラビング処理を施したのち、コロナ放電処理を行なった。
【００６３】
次に、上記のシクロオレフィン系透明樹脂フィルムに、構造式（２）のアゾ化合物を５重量％含む水溶液をワイヤーバー（＃４）で塗布し、２５℃で乾燥させて、膜厚３４０ｎｍの光学異方性膜（１層）を得た。
【００６４】
比較例２の光学異方性膜は、配向性の乱れはなかったものの、層数が少なく、膜厚が薄いため、偏光度がやや低かった（９８．１％）。
【００６５】
［比較例３］
シクロオレフィン系透明樹脂フィルム（オプテス社製「ゼオノア」（登録商標））の表面をベルベット布で５回擦ってラビング処理を施したのち、コロナ放電処理を行なった。
【００６６】
次に、上記のシクロオレフィン系透明樹脂フィルムに、構造式（２）のアゾ化合物を５重量％含む水溶液をワイヤーバー（＃４）で塗布し、２５℃で乾燥させて、膜厚３３０ｎｍの第１液晶配向層を得た。
【００６７】
次に、第１液晶配向層の表面をベルベット布で５回擦ってラビング処理を施した。ラビング処理の方向は、基材（シクロオレフィン系樹脂フィルム）のラビング処理と同一方向であった。第１液晶配向層の表面にコロナ放電処理を施した後、構造式（２）のアゾ化合物を５重量％含む水溶液をワイヤーバー（＃４）で塗布し、２５℃で乾燥して、第２液晶配向層を形成し、膜厚７００ｎｍの光学異方性膜（２層積層品）を得た。
【００６８】
比較例３の光学異方性膜は、配向性の乱れがあり、偏光度が非常に低かった（７８．２％）。
【００６９】
［比較例４］
第１液晶配向層の表面にラビング処理を施さなかったこと以外は、実施例１と同様にして、膜厚８９０ｎｍの光学異方性膜（２層積層品）を得た。
【００７０】
比較例４の光学異方性膜は、配向性の乱れがあり、偏光度はかなり低かった（８４．４％）。
【００７１】
実施例１〜３、比較例１〜４の仕様と光学特性を表１に示す。
【表１】
2010102229.tif 000005
【００７２】
［測定方法］
［配向性］
白色光源の上に市販の偏光板を載せ、その上に実施例または比較例の光学異方性膜を載せ、光学異方性膜を左右に回転させて、吸収軸のずれを目視観察した。
【００７３】
［透過率、偏光度］
紫外可視分光光度計（日本分光社製「Ｖ７１００」）を用い、プリズムからの偏光に対し、測定サンプルを直交する方向にセットして、直交透過率Ｋ２を測定した。また、サンプルを９０°回転させて、平行透過率Ｋ１を測定した。下記の式により、単体透過率、偏光度を計算した。
単体透過率（％）＝（Ｋ１＋Ｋ２）／２
偏光度（％）＝（Ｋ１−Ｋ２）／（Ｋ１＋Ｋ２）×１００
【００７４】
［膜厚］
液晶配向層および光学異方性膜の断面を、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）で観察して、膜厚を測定した。
【図面の簡単な説明】
【００７５】
【図１】本発明の製造方法を模式的に示す図
【符号の説明】
【００７６】
１１    基材
１２    ラビング処理の方向
１３    第１リオトロピック液晶性色素
１４    第１リオトロピック液晶性色素の分子の配向方向
１５    第１液晶配向層
１６    第１液晶配向層の吸収軸方向
１７    ラビング処理の方向
１８    第２リオトロピック液晶性色素
１９    第２液晶配向層の吸収軸方向
２０    第２液晶配向層
【図１】
2010102229.tif 000006