(57)【要約】【課題】大面積極薄ウェハを洗浄するのに適したスクラブ洗浄装置を提供すること。【解決手段】このスクラブ洗浄装置は、極薄ウェハ７の外周縁部が保持されてウェハを水平の状態で回転可能に支持する支持部材８と、支持部材を所定の回転数で回転させる駆動部と、ウェハ表面上に配置されかつウェハ表面に対して平行な回転軸を有するロールブラシ９と、ウェハ表面へ洗浄液10を供給する供給部を備え、ウェハ裏面側へ向け水流等の液体を噴射してウェハ表面の平面状態を維持させるウェハ平面維持手段としてのノズル11が設けられていることを特徴とする。そして、この装置によれば、ウェハ中心部に洗浄液が溜まり易いスクラブ洗浄中においても、ウェハ平面維持手段の作用によりウェハ表面の平面状態が維持されるため良好なスクラブ洗浄を安定して行うことができる。【選択図】図３
2010278103.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ウェハ外周縁部が保持されてウェハを水平の状態で回転可能に支持する支持部材と、上記支持部材を所定の回転数で回転させる駆動部と、上記ウェハ表面上に配置されかつウェハ表面に対して平行または垂直な回転軸を有するロールブラシと、上記ウェハ表面へ洗浄液を供給する供給部を備え、洗浄液とロールブラシによりウェハ表面を摩擦洗浄するスクラブ洗浄装置において、
上記ウェハの裏面側へ向け流体を噴射してウェハ表面の平面状態を維持させるウェハ平面維持手段が設けられていることを特徴とするスクラブ洗浄装置。
【請求項２】
ウェハ裏面側の少なくとも１箇所以上に液体を噴き付ける液体噴射部材により上記ウェハ平面維持手段が構成されていることを特徴とする請求項１に記載のスクラブ洗浄装置。
【請求項３】
ウェハ裏面側の少なくとも１箇所以上に気体を噴き付ける気体噴射部材により上記ウェハ平面維持手段が構成されていることを特徴とする請求項１に記載のスクラブ洗浄装置。
【請求項４】
上記ウェハが、ガラス、石英、セラミックス、結晶材料から選択された直径２００ｍｍ以上で厚さ２００μｍ以下の極薄ウェハであることを特徴とする請求項１に記載のスクラブ洗浄装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ウェハを摩擦洗浄するスクラブ洗浄装置に係り、特に、厚さ２００μｍ以下の極薄ウェハを洗浄するのに適したスクラブ洗浄装置の改良に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
電子機器や光学機器における近年の小型化、薄型化に伴い、これ等機器を構成する各素子の小型化、薄型化も求められており、特に、デジタルカメラやカメラ付携帯電話等の小型化、薄型化は顕著である。例えば、ＣＣＤ（Charge Coupled Device）あるいはＣＭＯＳ（Complementary Metal-Oxide Semiconductor）から成る撮像デバイスと共に用いられる紫外光（ＵＶと記す場合がある）−赤外光（ＩＲと記す場合がある）カットフィルターに着目する。すなわち、ＣＣＤあるいはＣＭＯＳから成る撮像デバイスは可視波長域以外にも感度を有するため、可視画像と無関係な紫外光や近赤外光がＣＣＤあるいはＣＭＯＳから成る撮像デバイスに入射すると画像ノイズとなる。この画像ノイズを防ぐため、可視波長域の光のみを透過し、紫外光と近赤外光を遮断する上記ＵＶ−ＩＲカットフィルターをＣＣＤやＣＭＯＳの直前に配置する必要がある。
【０００３】
また、小型で薄型のデジタルカメラ、カメラ付携帯電話等のカメラモジュールに搭載されるＵＶ−ＩＲカットフィルターは、組込みスペースが狭いため薄くする必要がある。そして、上記ＵＶ−ＩＲカットフィルターは基板と誘電体多層膜とで構成され、この誘電体多層膜自体の総膜厚は数μｍに過ぎないため、組込みスペースに合わせてＵＶ−ＩＲカットフィルターを薄くするには基板を薄くする必要がある。
【０００４】
従来、ダイシング加工して得られた素子サイズのＣＣＤ（ＣＣＤチップ）とＵＶ−ＩＲカットフィルター（素子サイズのフィルター）を貼り合わせてカメラモジュールに搭載させる構造体を個々に製造していたが、大面積極薄基板（ウェハ）を用いて得られたＵＶ−ＩＲカットフィルターのサイズと、ＣＣＤあるいはＣＭＯＳのウェハサイズが同じであれば、上記大面積極薄基板を用いて得られたＵＶ−ＩＲカットフィルター（すなわち、ウェハサイズのフィルター）とＣＣＤあるいはＣＭＯＳのウェハとを貼り合わせた後、素子サイズに切断加工することで、複数の上記構造体が同時に得られ、製造プロセスの簡略化が可能となる。
【０００５】
ところで、上記基板と誘電体多層膜とで構成されるＵＶ−ＩＲカットフィルターを製造する場合、良質な誘電体多層膜を基板上に形成するには基板の洗浄が必ず必要となる。また、光学機器等の小型化、薄型化により、１画素サイズが微細化したＣＣＤあるいはＣＭＯＳから成る撮像デバイスに用いられるＵＶ−ＩＲカットフィルターも上記画素サイズに対応させて微細化する必要がある。そして、この微細化に伴いＵＶ−ＩＲカットフィルターの欠陥レベルも非常に小さくなるため、上記洗浄には物理的に汚染物質を取り除くスクラブ洗浄が有効となる。
【０００６】
このスクラブ洗浄には、基板（ウェハ）表面に対するロールブラシの回転方向により２つの方式がある。その一つは、基板（ウェハ）を水平の状態に維持しながら回転させる機構と、基板（ウェハ）表面上に配置されかつ基板（ウェハ）表面に対して平行な回転軸を有するロールブラシによりスクラブ洗浄する方式（特許文献１参照）であり、もう一つは、基板（ウェハ）を水平の状態に維持しながら回転させる機構と、上記基板（ウェハ）表面上に配置されかつ基板（ウェハ）表面に対して垂直な回転軸を有するロールブラシによりスクラブ洗浄する方式（特許文献２参照）である。そして、いずれの方式のスクラブ洗浄方法でも、多孔質から成るロールブラシを用いてスクラブ洗浄するためには、洗浄水（洗浄液）を上記基板（ウェハ）表面に供給する必要がある。
【０００７】
すなわち、図１（Ａ）に示すように、基板（ウェハ）１を水平の状態に維持しながら回転させる機構と、基板（ウェハ）１表面上に配置されかつ基板（ウェハ）１表面に対して平行な回転軸を有するロールブラシ２によりスクラブ洗浄する方式では、図１（Ｂ）に示すように基板（ウェハ）１表面の上方側から洗浄水（洗浄液）３を供給する必要がある。しかし、スクラブ洗浄中は、基板（ウェハ）１の回転数が低速であるため、供給された洗浄液３が基板（ウェハ）１の中心部へ溜まってしまい、その重みで基板（ウェハ）１の中心部が下方側へ凹んでしまうことがある。そして、基板（ウェハ）１が上述した極薄基板（ウェハ）の場合、下方側への上記変形が顕著となって、ロールブラシ２と基板（ウェハ）１とが接触しない領域が発生し、ロールブラシ２による摩擦洗浄が不十分となる問題が存在した。
【０００８】
また、図２（Ａ）に示すように、基板（ウェハ）４を水平の状態に維持しながら回転させる機構と、基板（ウェハ）４表面上に配置されかつ基板（ウェハ）４表面に対して垂直な回転軸を有するロールブラシ５によりスクラブ洗浄する方式でも、図２（Ｂ）に示すように洗浄液（洗浄水）６を供給すると、スクラブ洗浄中は、基板（ウェハ）４の回転数が低速であるため、供給された洗浄液６が基板（ウェハ）４の中心部へ溜まってしまい、その重みで基板（ウェハ）４の中心部が下方側へ凹んでしまうことがある。そして、基板（ウェハ）４が極薄基板（ウェハ）の場合、下方側への変形が顕著となって、ロールブラシ５と基板（ウェハ）４とが接触しない領域が発生し、このスクラブ洗浄方式においてもロールブラシ５による摩擦洗浄が不十分となる問題が存在した。
【０００９】
そこで、この問題を回避して上述の極薄基板（ウェハ）の良好なスクラブ洗浄を可能にさせるため、特許文献３においては、セラミックチャック（多孔質セラミック板）に基板（ウェハ）を吸引して固定し、スクラブ洗浄を行う方法が提案されている。しかし、光が透過するＵＶ−ＩＲカットフィルター等の光学部品は、基板両面に光学薄膜を成膜する場合が多いことから基板両面の洗浄度を向上させる必要があり、基板（ウェハ）の裏面側をセラミックチャック等の他の部品と接触させることは問題となっていた。
【００１０】
尚、図１中、符号ａは基板（ウェハ）１を回転させる機構の回転方向を示し、符号ｂはロールブラシ２の回転方向を示している。また、図２中、符号ａも基板（ウェハ）４を回転させる機構の回転方向を示し、符号ｃはロールブラシ５の回転方向を示し、および、符号ｄ1、ｄ2はロールブラシ５の揺動方向を示している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１１】
【特許文献１】特開２００４−２９８７６７号公報（段落０００４と図１参照）
【特許文献２】特開平０８−７１５１１号公報（段落００１２参照）
【特許文献３】特開２００３−１００６８４号公報（段落００２２参照）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
本発明はこのような問題点に着目してなされたもので、その課題とするところは、極薄基板（ウェハ）をスクラブ洗浄する場合においても、基板（ウェハ）の裏面側を他の部品と接触させることなく基板（ウェハ）を水平の状態に維持することができるスクラブ洗浄装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
そこで、上記課題を解決するため、スクラブ洗浄中の基板（ウェハ）裏面側へ向け、水等の液体あるいは気体を連続的に噴き付けて基板（ウェハ）を浮上させる実験を試みたところ、基板（ウェハ）の回転数が低速であるにも拘わらず基板（ウェハ）を水平の状態に維持できることを見出すに至った。本発明はこのような技術的発見に基づき完成されたものである。
【００１４】
すなわち、請求項１に係る発明は、
ウェハ外周縁部が保持されてウェハを水平の状態で回転可能に支持する支持部材と、上記支持部材を所定の回転数で回転させる駆動部と、上記ウェハ表面上に配置されかつウェハ表面に対して平行または垂直な回転軸を有するロールブラシと、上記ウェハ表面へ洗浄液を供給する供給部を備え、洗浄液とロールブラシによりウェハ表面を摩擦洗浄するスクラブ洗浄装置において、
上記ウェハの裏面側へ向け流体を噴射してウェハ表面の平面状態を維持させるウェハ平面維持手段が設けられていることを特徴とする。
【００１５】
また、請求項２に係る発明は、
請求項１に記載の発明に係るスクラブ洗浄装置において、
ウェハ裏面側の少なくとも１箇所以上に液体を噴き付ける液体噴射部材により上記ウェハ平面維持手段が構成されていることを特徴とし、
請求項３に係る発明は、
請求項１に記載の発明に係るスクラブ洗浄装置において、
ウェハ裏面側の少なくとも１箇所以上に気体を噴き付ける気体噴射部材により上記ウェハ平面維持手段が構成されていることを特徴とする。
【００１６】
また、請求項４に係る発明は、
請求項１に記載の発明に係るスクラブ洗浄装置において、
上記ウェハが、ガラス、石英、セラミックス、結晶材料から選択された直径２００ｍｍ以上で厚さ２００μｍ以下の極薄ウェハであることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１７】
本発明に係るスクラブ洗浄装置は、ウェハ外周縁部が保持されてウェハを水平の状態で回転可能に支持する支持部材と、上記支持部材を所定の回転数で回転させる駆動部と、上記ウェハ表面上に配置されかつウェハ表面に対して平行または垂直な回転軸を有するロールブラシと、上記ウェハ表面へ洗浄液を供給する供給部を備え、上記ウェハの裏面側へ向け流体を噴射してウェハ表面の平面状態を維持させるウェハ平面維持手段が設けられていることを特徴としている。
【００１８】
そして、本発明に係るスクラブ洗浄装置によれば、ウェハの中心部に洗浄液が溜まり易いスクラブ洗浄中においても、上記ウェハ平面維持手段の作用によりウェハ表面の平面状態が維持されるため、ロールブラシとウェハとの非接触領域の発生が抑制されて良好なスクラブ洗浄を安定して行うことができ、しかも、ウェハの裏面側へ向け流体を噴射させるウェハ平面維持手段が装置本体に付設された構造に過ぎないため、改良されたスクラブ洗浄装置を安価に提供できる効果を有する。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】図１（Ａ）は洗浄するウェハ表面に対して平行な回転軸を有するロールブラシが用いられた従来例に係るスクラブ洗浄装置の概略構成説明図、図１（Ｂ）はこの装置の欠点を示す説明図。
【図２】図２（Ａ）は洗浄するウェハ表面に対して垂直な回転軸を有するロールブラシが用いられた従来例に係るスクラブ洗浄装置の概略構成説明図、図２（Ｂ）はこの装置の欠点を示す説明図。
【図３】図３（Ａ）はウェハ平面維持手段（液体噴射方式）が設けられかつウェハ表面に対して平行な回転軸を有するロールブラシが用いられた本発明に係るスクラブ洗浄装置の概略構成断面図、図３（Ｂ）はこのスクラブ洗浄装置における概略構成平面図。
【図４】図４（Ａ）はウェハ平面維持手段（液体噴射方式）が設けられかつウェハ表面に対して垂直な回転軸を有するロールブラシが用いられた本発明に係るスクラブ洗浄装置の概略構成断面図、図４（Ｂ）はこのスクラブ洗浄装置における概略構成平面図。
【図５】図５（Ａ）はウェハ平面維持手段（気体噴射方式）が設けられかつウェハ表面に対して平行な回転軸を有するロールブラシが用いられた本発明に係るスクラブ洗浄装置の概略構成断面図、図５（Ｂ）はこのスクラブ洗浄装置における概略構成平面図。
【図６】図６（Ａ）はウェハ平面維持手段（気体噴射方式）が設けられかつウェハ表面に対して垂直な回転軸を有するロールブラシが用いられた本発明に係るスクラブ洗浄装置の概略構成断面図、図６（Ｂ）はこのスクラブ洗浄装置における概略構成平面図。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
まず、本発明に係るスクラブ洗浄装置は、ウェハ外周縁部が保持されてウェハを水平の状態で回転可能に支持する支持部材と、上記支持部材を所定の回転数で回転させる駆動部と、上記ウェハ表面上に配置されかつウェハ表面に対して平行または垂直な回転軸を有するロールブラシと、上記ウェハ表面へ洗浄液を供給する供給部を備え、洗浄液とロールブラシによりウェハ表面を摩擦洗浄するスクラブ洗浄装置において、
上記ウェハの裏面側へ向け流体を噴射してウェハ表面の平面状態を維持させるウェハ平面維持手段が設けられていることを特徴とするものである。
【００２１】
尚、上記ウェハの裏面側へ向け流体を噴射してウェハ表面の平面状態を維持させるウェハ平面維持手段の構成としては、ウェハ裏面側の少なくとも１箇所以上に液体を噴き付ける液体噴射部材（液体噴射方式）、あるいは、ウェハ裏面側の少なくとも１箇所以上に気体を噴き付ける気体噴射部材（気体噴射方式）が例示される。
【００２２】
そして、上記ウェハ平面維持手段が設けられた本発明に係るスクラブ洗浄装置によれば、ウェハの中心部に洗浄液が溜まり易いスクラブ洗浄中においても、ウェハ平面維持手段の作用によりウェハ表面の平面状態が維持されるため、ロールブラシとウェハとの非接触領域の発生が抑制されて良好なスクラブ洗浄を安定して行うことができ、特に、両面に光学薄膜が成膜される極薄ウェハのスクラブ洗浄に適している。しかも、このスクラブ洗浄装置は、ウェハの裏面側へ向け流体を噴射させる上記ウェハ平面維持手段が装置本体に付設された構造に過ぎないため、装置の製造コストも安価である利点を有している。
【００２３】
以下、ウェハ平面維持手段（液体噴射方式）が組み込まれた本発明に係るスクラブ洗浄装置の一例を示すと、図３（Ａ）〜（Ｂ）に示すように上述した大面積極薄ウェハのような極薄ウェハ７の外周縁部が保持されてウェハ７を水平の状態で矢印ａ方向へ回転可能に支持する支持部材８と、上記支持部材８を所定の回転数で回転させるモーター等の駆動部（図示せず）と、上記ウェハ７表面上に配置されかつウェハ７表面に対して平行な回転軸を有するロールブラシ９と、上記ウェハ７表面へ洗浄液１０を供給する供給部を備え、かつ、上記ロールブラシ９が接触する部位のウェハ７裏面側へ向け水流等の液体を噴射してウェハ７表面の平面状態を維持させるウェハ平面維持手段（液体噴射方式）としての５個のノズル（液体噴射部材）１１が設けられていることを特徴としている。
【００２４】
尚、極薄ウェハ７の一部分に上記ノズル（液体噴射部材）１１から強い水流を与えてしまうと極薄ウェハ７の被噴射付近のみが盛り上がり、ロールブラシ９の抵抗が極薄ウェハ７の上記被噴射付近に集中して極薄ウェハ７が割れてしまうことがあるため、極薄ウェハ７の平面状態が保たれるように水量等の液体量を調整することが必要である。また、水流等の液体は広範囲に分散されるように、太いノズル１１を用いて複数本の水流等により極薄ウェハ７の平面状態が保たれるようにすることが望ましい。
【００２５】
また、図４（Ａ）〜（Ｂ）は、方式の異なるロールブラシが用いられかつウェハ平面維持手段（液体噴射方式）が組み込まれた本発明に係るスクラブ洗浄装置の変形例を示している。すなわち、この変形例に係るスクラブ洗浄装置は、図４（Ａ）〜（Ｂ）に示すように極薄ウェハ１２の外周縁部が保持されてウェハ１２を水平の状態で矢印ａ方向へ回転可能に支持する支持部材１３と、上記支持部材１３を所定の回転数で回転させる駆動部（図示せず）と、上記ウェハ１２表面上に配置されかつウェハ１２表面に対して垂直な回転軸を有するロールブラシ１４と、上記ウェハ１２表面へ洗浄液１５を供給する供給部を備え、かつ、上記ロールブラシ１４が接触する部位のウェハ１２裏面側へ向け水流等の液体を噴射してウェハ１２表面の平面状態を維持させるウェハ平面維持手段（液体噴射方式）としての３個のノズル（液体噴射部材）１６が設けられていることを特徴としている。
【００２６】
尚、上記ロールブラシ１４は、図４（Ｂ）に示すように回転軸ｅを有するブラシ保持材５０に保持されて矢印ｄ１−ｄ２の方向へ揺動するように構成されている。そして、矢印ｄ１−ｄ２の方向へ揺動するロールブラシ１４の軌跡方向に沿って上記３個のノズル（液体噴射部材）１６が配置されており、ロールブラシ１４が接触する部位のウェハ１２裏面側へ向け適量の水流等を噴射してウェハ１２表面の平面状態が保持されるようになっている。
【００２７】
次に、図５（Ａ）〜（Ｂ）は、ウェハ平面維持手段（気体噴射方式）が組み込まれた本発明に係るスクラブ洗浄装置の変形例を示している。すなわち、このスクラブ洗浄装置は、図５（Ａ）〜（Ｂ）に示すように極薄ウェハ２１の外周縁部が保持されてウェハ２１を水平の状態で矢印ａ方向へ回転可能に支持する支持部材２４と、上記支持部材２４を所定の回転数で回転させる駆動部（図示せず）と、上記ウェハ２１表面上に配置されかつウェハ２１表面に対して平行な回転軸を有するロールブラシ２２と、上記ウェハ２１表面へ洗浄液２３を供給する供給部を備え、かつ、多数の穴の開いた板若しくは多孔質板からウェハ２１の裏側略全面へ向け適量の気体を噴射してウェハ２１表面の平面状態を維持させるウェハ平面維持手段（気体噴射方式）としての気体噴射部材２５が設けられていることを特徴としている。
【００２８】
尚、変形例に係るこのスクラブ洗浄装置によれば、スクラブ洗浄中、上記気体噴射部材２５からウェハ２１裏面側へ向けて気体が常に噴き付けられていることから、スクラブ洗浄中におけるウェハ２１の低回転時に上記洗浄液２３がウェハ２１裏面に伝わり難いため、洗浄液２３の乾燥に起因する乾燥シミの発生を低減できる利点を有している。但し、気体噴射部材２５からの気体流量が多過ぎると、ウェハ２１が上記支持部材２４から外れてしまう可能性があるため注意を要する。
【００２９】
また、図６（Ａ）〜（Ｂ）は、方式の異なるロールブラシが用いられかつウェハ平面維持手段（気体噴射方式）が組み込まれた本発明に係るスクラブ洗浄装置の変形例を示している。すなわち、この変形例に係るスクラブ洗浄装置は、図６（Ａ）〜（Ｂ）に示すように極薄ウェハ２６の外周縁部が保持されてウェハ２６を水平の状態で矢印ａ方向へ回転可能に支持する支持部材２７と、上記支持部材２７を所定の回転数で回転させる駆動部（図示せず）と、上記ウェハ２６表面上に配置されかつウェハ２６表面に対して垂直な回転軸を有するロールブラシ２８と、上記ウェハ２６表面へ洗浄液２９を供給する供給部を備え、かつ、多数の穴の開いた板若しくは多孔質板からウェハ２６の裏側略全面へ向け適量の気体を噴射してウェハ２６表面の平面状態を維持させるウェハ平面維持手段（気体噴射方式）としての気体噴射部材３０が設けられていることを特徴としている。
【００３０】
尚、上記ロールブラシ２８は、図６（Ｂ）に示すように回転軸ｅを有するブラシ保持材５１に保持されて矢印ｄ１−ｄ２の方向へ揺動するように構成されており、気体噴射部材３０からウェハ２６の裏側略全面へ向け適量の気体が噴き付けられてウェハ２６表面の平面状態が保持されるようになっている。
【００３１】
次に、本発明の実施例について具体的に説明する。
【００３２】
実施例における極薄ウェハには、直径２００ｍｍの「ショット社製  Ｄ２６３ガラス」を、厚さ３００μｍ、厚さ２００μｍ、および、厚さ１００μｍにそれぞれ研磨加工して得られた３種類を用い、かつ、３種類の極薄ウェハは両面光学研磨が施されている。
【００３３】
また、極薄ウェハ表面に対し平行な回転軸を有するロールブラシには、直径約５０ｍｍで長さ２５０ｍｍのＰＶＡスポンジ（ベルクリン：登録商標）を用い、また、極薄ウェハ表面に対し垂直な回転軸を有するロールブラシには、直径約５０ｍｍで長さ５０ｍｍのＰＶＡスポンジ（ベルクリン：登録商標）を用いた。
【００３４】
また、スクラブ洗浄中における極薄ウェハの回転数は５０ｒｐｍ、ロールブラシの回転数は２００ｒｐｍとし、かつ、洗浄液として極薄ウェハの上部から毎分１Ｌ（リットル）の超純水を極薄ウェハの中心部付近に注入（供給）した。
【００３５】
更に、極薄ウェハの裏面側へ向けて液体噴射部材若しくは気体液体噴射部材から超純水若しくは窒素ガスを噴射させ、スクラブ洗浄中に極薄ウェハの平面状態が保たれるように噴射量を調節した。
【００３６】
そして、スクラブ洗浄を６０秒間行った後、ロールブラシを極薄ウェハから離し、極薄ウェハの上部から注入（供給）していた洗浄液の注入（供給）を止め、かつ、極薄ウェハの回転数を１５００ｒｐｍにしてスピン乾燥を行った。
【００３７】
ここで、ＵＶ−ＩＲカットフィルター等の光学部品のように光学薄膜を基板両面に成膜する場合、ウェハの表面と裏面（上下）を入れ換えて、表面と同様に、裏面のスクラブ洗浄を行う必要がある。
【００３８】
尚、ロールブラシが極薄ウェハに接触しているか否かの確認は、水平方向から観察することに加えて洗浄効果の有無でも確認している。すなわち、ロールブラシが極薄ウェハに接触してスクラブ洗浄が良好に行なわれていれば、極薄ウェハ表面の汚染層が取り除かれて純水の接触角が極端に小さくなることが分かっており、スクラブ洗浄前における極薄ウェハの接触角はどれも３０度以上であることから、極薄ウェハの洗浄効果の有無については接触角測定装置を用いて行うこととした。
【実施例１】
【００３９】
ウェハ平面維持手段（液体噴射方式）として５個のノズル（液体噴射部材）１１が組み込まれた図３（Ａ）〜（Ｂ）に示す本発明のスクラブ洗浄装置を用いたスクラブ洗浄について説明する。
（スクラブ洗浄対象が厚さ３００μｍウェハの場合）
はじめに、直径２００ｍｍで厚さ３００μｍのガラスウェハ７を支持部材８にセットした。そして、ウェハ７の回転数を５０ｒｐｍ、ロールブラシ９の回転数を２００ｒｐｍにした後、ウェハ７の上部から毎分１Ｌ（リットル）の超純水をウェハ７の中心部付近に注入しながら、ロールブラシ９をウェハ７表面に接触させた。このとき、ウェハ７の状態を水平方向から観察するとウェハ７はほぼ平面状態を保っており、ロールブラシ９全体がウェハ７に接触していることが確認された。
【００４０】
次に、ロールブラシ９をウェハ７表面から離した後、ウェハ７上部から注入していた超純水の注入を止め、ウェハ７の回転数を１５００ｒｐｍに上げて１２０秒間スピン乾燥を行った。
【００４１】
そして、上記支持部材８から取り外したウェハ７の中心から半径方向に約２０ｍｍおきに接触角の測定を行った結果、すべての測定点において接触角は測定限界５度以下であった。
【００４２】
この結果から、スクラブ洗浄対象が厚さ３００μｍのウェハの場合は、ウェハ平面維持手段（液体噴射方式）としてノズル（液体噴射部材）を操作しなくともウェハ７は平面状態を保っており、ウェハ７全面がスクラブ洗浄できたことを示している。
（スクラブ洗浄対象が厚さ２００μｍ極薄ウェハの場合）
次に、直径２００ｍｍで厚さ２００μｍのガラスウェハ７を支持部材８にセットした。そして、極薄ウェハ７の回転数を５０ｒｐｍ、ロールブラシ９の回転数を２００ｒｐｍにした後、極薄ウェハ７の上部から毎分１Ｌ（リットル）の超純水を極薄ウェハ７の中心部付近に注入しながら、ロールブラシ９を極薄ウェハ７表面に接触させた。このとき、極薄ウェハ７の状態を水平方向から観察すると極薄ウェハ７の中心部が約２ｍｍへこんでおり、極薄ウェハ７の中心部にロールブラシ９が接触していないことが確認された。
【００４３】
次に、ロールブラシ９を極薄ウェハ７表面から離した後、極薄ウェハ７上部から注入していた超純水の注入を止め、極薄ウェハ７の回転数を１５００ｒｐｍに上げて１２０秒間スピン乾燥を行った。
【００４４】
そして、上記支持部材８から取り外した極薄ウェハ７の中心から半径方向に約２０ｍｍおきに接触角の測定を行った結果、中心部から６０ｍｍ以内の測定点において接触角が３０度以上であり、これより周辺部の測定点において接触角は測定限界５度以下であった。従って、極薄ウェハ７の中心部付近はスクラブ洗浄がされていないことが確認できた。
【００４５】
そこで、極薄ウェハ７の回転数を５０ｒｐｍ、ロールブラシ９の回転数を２００ｒｐｍにし、極薄ウェハ７の上部から毎分１Ｌ（リットル）の超純水を極薄ウェハ７の中心部付近に注入しながら、ロールブラシ９を極薄ウェハ７表面に接触させた後、水平方向から観察しながら、極薄ウェハ７全体がロールブラシ９に接触するように、ウェハ平面維持手段（液体噴射方式）として５個のノズル（液体噴射部材）から水量を調節して同様にスクラブ洗浄を行った。
【００４６】
そして、上記支持部材８から取り外した極薄ウェハ７の中心から半径方向に約２０ｍｍおきに接触角の測定を行った結果、すべての測定点において接触角は測定限界５度以下であった。
【００４７】
この結果から、スクラブ洗浄対象が厚さ２００μｍの極薄ウェハの場合は、ウェハ平面維持手段（液体噴射方式）としてノズル（液体噴射部材）を操作して極薄ウェハ７の平面状態を保つことで、初めて極薄ウェハ７全面がスクラブ洗浄できたことを示している。
（スクラブ洗浄対象が厚さ１００μｍ極薄ウェハの場合）
次に、直径２００ｍｍで厚さ１００μｍのガラスウェハ７を支持部材８にセットした。そして、極薄ウェハ７の回転数を５０ｒｐｍ、ロールブラシ９の回転数を２００ｒｐｍにした後、極薄ウェハ７の上部から毎分１Ｌ（リットル）の超純水を極薄ウェハ７の中心部付近に注入しながら、ロールブラシ９を極薄ウェハ７表面に接触させた。このとき、極薄ウェハ７の状態を水平方向から観察すると極薄ウェハ７の中心部が約５ｍｍへこんでおり、極薄ウェハ７の中心部にロールブラシ９が接触していないことが確認された。
【００４８】
次に、ロールブラシ９を極薄ウェハ７表面から離した後、極薄ウェハ７上部から注入していた超純水の注入を止め、極薄ウェハ７の回転数を１５００ｒｐｍに上げて１２０秒間スピン乾燥を行った。
【００４９】
そして、上記支持部材８から取り外した極薄ウェハ７の中心から半径方向に約２０ｍｍおきに接触角の測定を行った結果、中心部から８０ｍｍ以内の測定点において接触角が３０度以上であり、これより周辺部の測定点において接触角は測定限界５度以下であった。従って、極薄ウェハ７の中心部付近はスクラブ洗浄がされていないことが確認できた。
【００５０】
そこで、極薄ウェハ７の回転数を５０ｒｐｍ、ロールブラシ９の回転数を２００ｒｐｍにし、極薄ウェハ７の上部から毎分１Ｌ（リットル）の超純水を極薄ウェハ７の中心部付近に注入しながら、ロールブラシ９を極薄ウェハ７表面に接触させた後、水平方向から観察しながら、極薄ウェハ７全体がロールブラシ９に接触するように、ウェハ平面維持手段（液体噴射方式）として５個のノズル（液体噴射部材）から水量を調節して同様にスクラブ洗浄を行った。
【００５１】
そして、上記支持部材８から取り外した極薄ウェハ７の中心から半径方向に約２０ｍｍおきに接触角の測定を行った結果、すべての測定点において接触角は測定限界５度以下であった。
【００５２】
この結果から、スクラブ洗浄対象が厚さ１００μｍの極薄ウェハの場合は、厚さ２００μｍの極薄ウェハの場合と同様、ウェハ平面維持手段（液体噴射方式）としてノズル（液体噴射部材）を操作して極薄ウェハ７の平面状態を保つことで、初めて極薄ウェハ７全面がスクラブ洗浄できたことを示している。
【実施例２】
【００５３】
ウェハ平面維持手段（液体噴射方式）として３個のノズル（液体噴射部材）１６が組み込まれた図４（Ａ）〜（Ｂ）に示す本発明のスクラブ洗浄装置を用いたスクラブ洗浄について説明する。
（スクラブ洗浄対象が厚さ３００μｍウェハの場合）
はじめに、直径２００ｍｍで厚さ３００μｍのガラスウェハ１２を支持部材１３にセットした。そして、ウェハ１２の回転数を５０ｒｐｍ、ロールブラシ１４の回転数を２００ｒｐｍにした後、ウェハ１２上部から毎分１Ｌ（リットル）の超純水をウェハ１２の中心部付近に注入しながらロールブラシ１４をウェハ１２表面に接触させ、かつ、ロールブラシ１４が保持されるブラシ保持材５０を回動してロールブラシ１４を揺動させた。このとき、ウェハ１２の状態を水平方向から観察すると、ウェハ１２はほぼ平面状態を保っており、揺動するロールブラシ１４がどの位置に移動してもウェハ１２に接触していることが確認された。
【００５４】
次に、ロールブラシ１４をウェハ１２表面から離した後、ウェハ１２上部から注入していた超純水の注入を止め、ウェハ１２の回転数を１５００ｒｐｍに上げて１２０秒間スピン乾燥を行った。
【００５５】
そして、上記支持部材１３から取り外したウェハ１２の中心から半径方向に約２０ｍｍおきに接触角の測定を行った結果、すべての測定点において接触角は測定限界５度以下であった。
【００５６】
この結果から、スクラブ洗浄対象が厚さ３００μｍのウェハの場合は、ウェハ平面維持手段（液体噴射方式）としてノズル（液体噴射部材）を操作しなくともウェハ１２は平面状態を保っており、ウェハ１２全面がスクラブ洗浄できたことを示している。
（スクラブ洗浄対象が厚さ２００μｍ極薄ウェハの場合）
次に、直径２００ｍｍで厚さ２００μｍのガラスウェハ１２を支持部材１３にセットした。そして、極薄ウェハ１２の回転数を５０ｒｐｍ、ロールブラシ１４の回転数を２００ｒｐｍにした後、極薄ウェハ１２の上部から毎分１Ｌ（リットル）の超純水を極薄ウェハ１２の中心部付近に注入しながらロールブラシ１４をウェハ１２表面に接触させ、かつ、ロールブラシ１４が保持されるブラシ保持材５０を回動してロールブラシ１４を揺動させた。このとき、極薄ウェハ１２の状態を水平方向から観察すると、極薄ウェハ１２の中心部が約２ｍｍへこんでおり、極薄ウェハ１２の中心部にロールブラシ１４が移動してきたときに接触していないことが確認された。
【００５７】
次に、ロールブラシ１４を極薄ウェハ１２表面から離した後、極薄ウェハ１２上部から注入していた超純水の注入を止め、極薄ウェハ１２の回転数を１５００ｒｐｍに上げて１２０秒間スピン乾燥を行った。
【００５８】
そして、上記支持部材１３から取り外した極薄ウェハ１２の中心から半径方向に約２０ｍｍおきに接触角の測定を行った結果、中心部から６０ｍｍ以内の測定点において接触角が３０度以上であり、これより周辺部の測定点において接触角は測定限界５度以下であった。従って、極薄ウェハ１２の中心部付近はスクラブ洗浄がされていないことが確認できた。
【００５９】
そこで、極薄ウェハ１２の回転数を５０ｒｐｍ、ロールブラシ１４の回転数を２００ｒｐｍにし、極薄ウェハ１２の上部から毎分１Ｌ（リットル）の超純水を極薄ウェハ１２の中心部付近に注入しながらロールブラシ１４を揺動させて極薄ウェハ１２表面に接触させた後、水平方向から観察しながら、揺動するロールブラシ１４がどの位置に移動してもウェハ１２に接触するようにウェハ平面維持手段（液体噴射方式）として３個のノズル（液体噴射部材）から水量を調節して同様にスクラブ洗浄を行った。
【００６０】
そして、上記支持部材１３から取り外した極薄ウェハ１２の中心から半径方向に約２０ｍｍおきに接触角の測定を行った結果、すべての測定点において接触角は測定限界５度以下であった。
【００６１】
この結果から、スクラブ洗浄対象が厚さ２００μｍの極薄ウェハの場合、ウェハ平面維持手段（液体噴射方式）としてノズル（液体噴射部材）を操作して極薄ウェハ１２の平面状態を保つことで、初めて極薄ウェハ１２全面がスクラブ洗浄できたことを示している。
（スクラブ洗浄対象が厚さ１００μｍ極薄ウェハの場合）
最後に、直径２００ｍｍで厚さ１００μｍのガラスウェハ１２を支持部材１３にセットした。そして、極薄ウェハ１２の回転数を５０ｒｐｍ、ロールブラシ１４の回転数を２００ｒｐｍにした後、極薄ウェハ１２の上部から毎分１Ｌ（リットル）の超純水を極薄ウェハ１２の中心部付近に注入しながらロールブラシ１４をウェハ１２表面に接触させ、かつ、ロールブラシ１４が保持されるブラシ保持材５０を回動してロールブラシ１４を揺動させた。このとき、極薄ウェハ１２の状態を水平方向から観察すると、極薄ウェハ１２の中心部が約５ｍｍへこんでおり、極薄ウェハ１２の中心部にロールブラシ１４が移動してきたときに接触していないことが確認された。
【００６２】
次に、ロールブラシ１４を極薄ウェハ１２表面から離した後、極薄ウェハ１２上部から注入していた超純水の注入を止め、極薄ウェハ１２の回転数を１５００ｒｐｍに上げて１２０秒間スピン乾燥を行った。
【００６３】
そして、上記支持部材１３から取り外した極薄ウェハ１２の中心から半径方向に約２０ｍｍおきに接触角の測定を行った結果、中心部から８０ｍｍ以内の測定点において接触角が３０度以上であり、これより周辺部の測定点において接触角は測定限界５度以下であった。従って、極薄ウェハ１２の中心部付近はスクラブ洗浄がされていないことが確認できた。
【００６４】
そこで、極薄ウェハ１２の回転数を５０ｒｐｍ、ロールブラシ１４の回転数を２００ｒｐｍにし、極薄ウェハ１２の上部から毎分１Ｌ（リットル）の超純水を極薄ウェハ１２の中心部付近に注入しながらロールブラシ１４を揺動させて極薄ウェハ１２表面に接触させた後、水平方向から観察しながら、揺動するロールブラシ１４がどの位置に移動してもウェハ１２に接触するように、ウェハ平面維持手段（液体噴射方式）として３個のノズル（液体噴射部材）から水量を調節し、同様にスクラブ洗浄を行った。
【００６５】
そして、上記支持部材１３から取り外した極薄ウェハ１２の中心から半径方向に約２０ｍｍおきに接触角の測定を行った結果、すべての測定点において接触角は測定限界５度以下であった。
【００６６】
この結果から、スクラブ洗浄対象が厚さ１００μｍの極薄ウェハの場合は、厚さ２００μｍの極薄ウェハの場合と同様、ウェハ平面維持手段（液体噴射方式）としてノズル（液体噴射部材）を操作して極薄ウェハ１２の平面状態を保つことで、初めて極薄ウェハ１２全面がスクラブ洗浄できたことを示している。
【実施例３】
【００６７】
ウェハ平面維持手段（気体噴射方式）としての気体噴射部材２５が組み込まれた図５（Ａ）〜（Ｂ）に示す本発明に係るスクラブ洗浄装置を用いたスクラブ洗浄について説明する。
（スクラブ洗浄対象が厚さ３００μｍウェハの場合）
はじめに、直径２００ｍｍで厚さ３００μｍのガラスウェハ２１を支持部材２４にセットした。そして、ウェハ２１の回転数を５０ｒｐｍ、ロールブラシ２２の回転数を２００ｒｐｍにした後、ウェハ２１の上部から毎分１Ｌ（リットル）の超純水をウェハ２１の中心部付近に注入しながら、ロールブラシ２２をウェハ２１表面に接触させた。このとき、ウェハ２１の状態を水平方向から観察するとウェハ２１はほぼ平面状態を保っており、ロールブラシ２２全体がウェハ２１に接触していることが確認された。
【００６８】
次に、ロールブラシ２２をウェハ２１表面から離した後、ウェハ２１上部から注入していた超純水の注入を止め、ウェハ２１の回転数を１５００ｒｐｍに上げて１２０秒間スピン乾燥を行った。
【００６９】
そして、上記支持部材２４から取り外したウェハ２１の中心から半径方向に約２０ｍｍおきに接触角の測定を行った結果、すべての測定点において接触角は測定限界５度以下であった。
【００７０】
この結果から、スクラブ洗浄対象が厚さ３００μｍのウェハの場合は、ウェハ平面維持手段（気体噴射方式）としての気体噴射部材２５を操作しなくともウェハ２１は平面状態を保っており、ウェハ２１全面がスクラブ洗浄できたことを示している。
（スクラブ洗浄対象が厚さ２００μｍ極薄ウェハの場合）
次に、直径２００ｍｍで厚さ２００μｍのガラスウェハ２１を支持部材２４にセットした。そして、極薄ウェハ２１の回転数を５０ｒｐｍ、ロールブラシ２２の回転数を２００ｒｐｍにした後、極薄ウェハ２１の上部から毎分１Ｌ（リットル）の超純水を極薄ウェハ２１の中心部付近に注入しながら、ロールブラシ２２を極薄ウェハ２１表面に接触させた。このとき、極薄ウェハ２１の状態を水平方向から観察すると、極薄ウェハ２１の中心部が約２ｍｍへこんでおり、極薄ウェハ２１の中心部にロールブラシ２２が接触していないことが確認された。
【００７１】
次に、ロールブラシ２２を極薄ウェハ２１表面から離した後、極薄ウェハ２１上部から注入していた超純水の注入を止め、極薄ウェハ２１の回転数を１５００ｒｐｍに上げて１２０秒間スピン乾燥を行った。
【００７２】
そして、上記支持部材２４から取り外した極薄ウェハ２１の中心から半径方向に約２０ｍｍおきに接触角の測定を行った結果、中心部から６０ｍｍ以内の測定点において接触角が３０度以上であり、これより周辺部の測定点において接触角は測定限界５度以下であった。従って、極薄ウェハ２１の中心部付近はスクラブ洗浄がされていないことが確認できた。
【００７３】
そこで、極薄ウェハ２１の回転数を５０ｒｐｍ、ロールブラシ２２の回転数を２００ｒｐｍにし、極薄ウェハ２１の上部から毎分１Ｌ（リットル）の超純水を極薄ウェハ２１の中心部付近に注入しながらロールブラシ２２を極薄ウェハ２１表面に接触させた後、水平方向から観察しながらウェハ平面維持手段（気体噴射方式）としての気体噴射部材２５から窒素ガスを噴出させると共に、極薄ウェハ２１全体がロールブラシ２２に接触するように窒素ガス流量を調節し、同様にスクラブ洗浄を行った。
【００７４】
そして、上記支持部材２４から取り外した極薄ウェハ２１の中心から半径方向に約２０ｍｍおきに接触角の測定を行った結果、すべての測定点において接触角は測定限界５度以下であった。
【００７５】
この結果から、スクラブ洗浄対象が厚さ２００μｍの極薄ウェハの場合は、ウェハ平面維持手段（気体噴射方式）としての気体噴射部材２５を操作して極薄ウェハ２１の平面状態を保つことで、初めて極薄ウェハ２１全面がスクラブ洗浄できたことを示している。
（スクラブ洗浄対象が厚さ１００μｍ極薄ウェハの場合）
最後に、直径２００ｍｍで厚さ１００μｍのガラスウェハ２１を支持部材２４にセットした。そして、極薄ウェハ２１の回転数を５０ｒｐｍ、ロールブラシ２２の回転数を２００ｒｐｍにした後、極薄ウェハ２１の上部から毎分１Ｌ（リットル）の超純水を極薄ウェハ２１の中心部付近に注入しながらロールブラシ２２を極薄ウェハ２１表面に接触させた。このとき、極薄ウェハ２１の状態を水平方向から観察すると、極薄ウェハ２１の中心部が約５ｍｍへこんでおり、極薄ウェハ２１の中心部にロールブラシ２２が接触していないことが確認された。
【００７６】
次に、ロールブラシ２２を極薄ウェハ２１表面から離した後、極薄ウェハ２１上部から注入していた超純水の注入を止め、極薄ウェハ２１の回転数を１５００ｒｐｍに上げて１２０秒間スピン乾燥を行った。
【００７７】
そして、上記支持部材２４から取り外した極薄ウェハ２１の中心から半径方向に約２０ｍｍおきに接触角の測定を行った結果、中心部から８０ｍｍ以内の測定点において接触角が３０度以上であり、これより周辺部の測定点において接触角は測定限界５度以下であった。従って、極薄ウェハ２１の中心部付近はスクラブ洗浄がされていないことが確認できた。
【００７８】
そこで、極薄ウェハ２１の回転数を５０ｒｐｍ、ロールブラシ２２の回転数を２００ｒｐｍにし、極薄ウェハ２１の上部から毎分１Ｌ（リットル）の超純水を極薄ウェハ２１の中心部付近に注入しながらロールブラシ２２を極薄ウェハ２１表面に接触させた後、水平方向から観察しながらウェハ平面維持手段（気体噴射方式）としての気体噴射部材２５から窒素ガスを噴出させると共に、極薄ウェハ２１全体がロールブラシ２２に接触するように窒素ガス流量を調節し、同様にスクラブ洗浄を行った。
【００７９】
そして、上記支持部材２４から取り外した極薄ウェハ２１の中心から半径方向に約２０ｍｍおきに接触角の測定を行った結果、すべての測定点において接触角は測定限界５度以下であった。
【００８０】
この結果から、スクラブ洗浄対象が厚さ１００μｍの極薄ウェハの場合は、厚さ２００μｍの極薄ウェハの場合と同様、ウェハ平面維持手段（気体噴射方式）としての気体噴射部材２５を操作して極薄ウェハ２１の平面状態を保つことで、初めて極薄ウェハ２１全面がスクラブ洗浄できたことを示している。
【実施例４】
【００８１】
ウェハ平面維持手段（気体噴射方式）としての気体噴射部材３０が組み込まれた図６（Ａ）〜（Ｂ）に示す本発明に係るスクラブ洗浄装置を用いたスクラブ洗浄について説明する。
（スクラブ洗浄対象が厚さ３００μｍウェハの場合）
はじめに、直径２００ｍｍで厚さ３００μｍのガラスウェハ２６を支持部材２７にセットした。そして、ウェハ２６の回転数を５０ｒｐｍ、ロールブラシ２８の回転数を２００ｒｐｍにした後、ウェハ２６上部から毎分１Ｌ（リットル）の超純水をウェハ２６の中心部付近に注入しながらロールブラシ２８をウェハ２６表面に接触させ、かつ、ロールブラシ２８が保持されるブラシ保持材５１を回動してロールブラシ２８を揺動させた。このとき、ウェハ２６の状態を水平方向から観察すると、ウェハ２６はほぼ平面状態を保っており、揺動するロールブラシ２８がどの位置に移動してもウェハ２６に接触していることが確認された。
【００８２】
次に、ロールブラシ２８をウェハ２６表面から離した後、ウェハ２６上部から注入していた超純水の注入を止め、ウェハ２６の回転数を１５００ｒｐｍに上げて１２０秒間スピン乾燥を行った。
【００８３】
そして、上記支持部材２７から取り外したウェハ２６の中心から半径方向に約２０ｍｍおきに接触角の測定を行った結果、すべての測定点において接触角は測定限界５度以下であった。
【００８４】
この結果から、スクラブ洗浄対象が厚さ３００μｍのウェハの場合は、ウェハ平面維持手段（気体噴射方式）としての気体噴射部材３０を操作しなくともウェハ２６は平面状態を保っており、ウェハ２６面がスクラブ洗浄できたことを示している。
（スクラブ洗浄対象が厚さ２００μｍ極薄ウェハの場合）
次に、直径２００ｍｍで厚さ２００μｍのガラスウェハ２６を支持部材２７にセットした。そして、極薄ウェハ２６の回転数を５０ｒｐｍ、ロールブラシ２８の回転数を２００ｒｐｍにした後、極薄ウェハ２６の上部から毎分１Ｌ（リットル）の超純水を極薄ウェハ２６の中心部付近に注入しながらロールブラシ２８をウェハ２６表面に接触させ、かつ、ロールブラシ２８が保持されるブラシ保持材５１を回動してロールブラシ２８を揺動させた。このとき、極薄ウェハ２６の状態を水平方向から観察すると、極薄ウェハ２６の中心部が約２ｍｍへこんでおり、極薄ウェハ２６の中心部にロールブラシ２８が移動してきたときに接触していないことが確認された。
【００８５】
次に、ロールブラシ２８を極薄ウェハ２６表面から離した後、極薄ウェハ２６上部から注入していた超純水の注入を止め、極薄ウェハ２６の回転数を１５００ｒｐｍに上げて１２０秒間スピン乾燥を行った。
【００８６】
そして、上記支持部材２７から取り外した極薄ウェハ２６の中心から半径方向に約２０ｍｍおきに接触角の測定を行った結果、中心部から６０ｍｍ以内の測定点において接触角が３０度以上であり、これより周辺部の測定点において接触角は測定限界５度以下であった。従って、極薄ウェハ２６の中心部付近はスクラブ洗浄がされていないことが確認できた。
【００８７】
そこで、極薄ウェハ２６の回転数を５０ｒｐｍ、ロールブラシ２８の回転数を２００ｒｐｍにし、極薄ウェハ２６の上部から毎分１Ｌ（リットル）の超純水を極薄ウェハ２６の中心部付近に注入しながらロールブラシ２８を揺動させて極薄ウェハ２６面に接触させた後、水平方向から観察しながらウェハ平面維持手段（気体噴射方式）としての気体噴射部材３０から窒素ガスを噴出させると共に、揺動するロールブラシ２８がどの位置に移動してもウェハ２６に接触するように窒素ガス流量を調節し同様にスクラブ洗浄を行った。
【００８８】
そして、上記支持部材２７から取り外した極薄ウェハ２６の中心から半径方向に約２０ｍｍおきに接触角の測定を行った結果、すべての測定点において接触角は測定限界５度以下であった。
【００８９】
この結果から、スクラブ洗浄対象が厚さ２００μｍの極薄ウェハの場合、ウェハ平面維持手段（気体噴射方式）としての気体噴射部材３０を操作して極薄ウェハ２６の平面状態を保つことで、初めて極薄ウェハ２６全面がスクラブ洗浄できたことを示している。
（スクラブ洗浄対象が厚さ１００μｍ極薄ウェハの場合）
最後に、直径２００ｍｍで厚さ１００μｍのガラスウェハ２６を支持部材２７にセットした。そして、極薄ウェハ２６の回転数を５０ｒｐｍ、ロールブラシ２８の回転数を２００ｒｐｍにした後、極薄ウェハ２６の上部から毎分１Ｌ（リットル）の超純水を極薄ウェハ２６の中心部付近に注入しながらロールブラシ２８をウェハ２６表面に接触させ、かつ、ロールブラシ２８が保持されるブラシ保持材５１を回動してロールブラシ２８を揺動させた。このとき、極薄ウェハ２６の状態を水平方向から観察すると、極薄ウェハ２６の中心部が約５ｍｍへこんでおり、極薄ウェハ２６の中心部にロールブラシ２８が移動してきたときに接触していないことが確認された。
【００９０】
次に、ロールブラシ２８を極薄ウェハ２６表面から離した後、極薄ウェハ２６上部から注入していた超純水の注入を止め、極薄ウェハ２６の回転数を１５００ｒｐｍに上げて１２０秒間スピン乾燥を行った。
【００９１】
そして、上記支持部材２７から取り外した極薄ウェハ２６の中心から半径方向に約２０ｍｍおきに接触角の測定を行った結果、中心部から８０ｍｍ以内の測定点において接触角が３０度以上であり、これより周辺部の測定点において接触角は測定限界５度以下であった。従って、極薄ウェハ２６の中心部付近はスクラブ洗浄がされていないことが確認できた。
【００９２】
そこで、極薄ウェハ２６の回転数を５０ｒｐｍ、ロールブラシ２８の回転数を２００ｒｐｍにし、極薄ウェハ２６の上部から毎分１Ｌ（リットル）の超純水を極薄ウェハ２６の中心部付近に注入しながらロールブラシ２８を揺動させて極薄ウェハ２６面に接触させた後、水平方向から観察しながらウェハ平面維持手段（気体噴射方式）としての気体噴射部材３０から窒素ガスを噴出させると共に、揺動するロールブラシ２８がどの位置に移動してもウェハ２６に接触するように窒素ガス流量を調節し同様にスクラブ洗浄を行った。
【００９３】
そして、上記支持部材２７から取り外した極薄ウェハ２６の中心から半径方向に約２０ｍｍおきに接触角の測定を行った結果、すべての測定点において接触角は測定限界５度以下であった。
【００９４】
この結果から、スクラブ洗浄対象が厚さ１００μｍの極薄ウェハの場合は、厚さ２００μｍの極薄ウェハの場合と同様、ウェハ平面維持手段（気体噴射方式）としての気体噴射部材３０を操作して極薄ウェハ２６の平面状態を保つことで、初めて極薄ウェハ２６全面がスクラブ洗浄できたことを示している。
【産業上の利用可能性】
【００９５】
本発明に係るスクラブ洗浄装置によれば、ウェハの中心部に洗浄液が溜まり易いスクラブ洗浄中においても、ウェハ平面維持手段の作用によりウェハ表面の平面状態が維持されるため、ロールブラシとウェハとの非接触領域の発生が抑制されて良好なスクラブ洗浄を安定して行うことができる。このため、小型で薄型のデジタルカメラやカメラ付携帯電話等に搭載されるＵＶ−ＩＲカットフィルターの大面積極薄基板（ウェハ）のスクラブ洗浄に用いられる産業上の利用可能性を有している。
【符号の説明】
【００９６】
１  ウェハ
２  ロールブラシ
３  洗浄液
４  ウェハ
５  ロールブラシ
６  洗浄液
７  ウェハ
８  支持部材
９  ロールブラシ
１０  洗浄液
１１  ノズル（液体噴射部材）
１２  ウェハ
１３  支持部材
１４  ロールブラシ
１５  洗浄液
１６  ノズル（液体噴射部材）
２１  ウェハ
２２  ロールブラシ
２３  洗浄液
２４  支持部材
２５  気体噴射部材
２６  ウェハ
２７  支持部材
２８  ロールブラシ
２９  洗浄液
３０  気体噴射部材
５０  ブラシ保持材
５１  ブラシ保持材
【図１】
2010278103.tif 000003
【図２】
2010278103.tif 000004
【図３】
2010278103.tif 000005
【図４】
2010278103.tif 000006
【図５】
2010278103.tif 000007
【図６】
2010278103.tif 000008