(57)【要約】【課題】  本発明は、斜めや細長いパターンを高精度に寸法測定するレシピを、走査型電子顕微鏡を使用しないで作成するレシピ作成装置及び方法を提供することを目的とする。【解決手段】  本発明では、走査型電子顕微鏡以外で、斜めの半導体素子の設計データに対して回転，細長い半導体素子のデザインデータに対して縦横比を変えてレシピを作成することにより、走査型電子顕微鏡を使用しないで、高精度に寸法測定するレシピ作成装置及び方法を提供する。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
測長走査型電子顕微鏡のレシピをオフラインで作成するレシピ作成システムであって、
測長走査型電子顕微鏡のレシピを設計データの回転表示にてオフラインレシピを作成す
ることを特徴とするレシピ作成システム。
【請求項２】
さらに、設計データを縦横の比率を変えて表示してオフラインレシピを作成することを
特徴とするレシピ作成システム。
【請求項３】
また、設計データの回転表示と縦横の比率を変えて表示を組み合わせてオフラインレシ
ピを作成することを特徴とするレシピ作成システム。
【請求項４】
作成したオフラインレシピを測長ＳＥＭに転送することを特徴とするレシピ作成システ
ム。
【請求項５】
オフラインレシピを測長走査型電子顕微鏡に直接作成することを特徴とするレシピ作成
システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、レシピ作成システム、及びレシピ作成方法に関し、例えば、設計データを用いて測長走査型電子顕微鏡のレシピをオフラインで作成するアプリケーションに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
ＣＤ−ＳＥＭ（Critical Dimension Scanning Electron Microscope：測長走査型電子顕微鏡）を用いて測長する場合には、レシピと言われる、アライメント点の情報（アライメントチップ，チップ内座標，アライメント条件，自動検出のための画像等）および、測長点の情報（測長チップ，チップ内座標，測長条件，自動検出・自動測長のための画像等）を記録したファイルが必要となる。そして、このレシピは、測長をするために必要な１撮像画像毎に作成する必要がある。
【０００３】
このようなレシピを、走査型電子顕微鏡装置を用いて実際にＳＥＭ画像を見ながら作成すると装置の稼働率が下がるため、オフラインで作成したいというニーズが非常に高い。
そのニーズに対応し、走査型電子顕微鏡装置のレシピをオフラインで作成するためのオフラインレシピ作成システムが開発されてきている。
【０００４】
また、走査型電子顕微鏡にて、斜めのパターンの測定を高精度に行うために画像を回転させたり、細長いパターンの測定を高精度に行うために画像を垂直方向と水平方向の倍率を変えたりすることが開示されている。
【０００５】
【特許文献１】特開２００７−３２１２号公報
【特許文献２】特開２００１−１４７１１２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかし、レシピ作成システムの従来の方法では、垂直または水平方向のパターンしか、レシピを作成できないため、斜めのパターンでは走査型電子顕微鏡を使用してレシピ作成しており、走査型電子顕微鏡の稼働率が下がるという問題がある。
【０００７】
また、レシピ作成システムの従来の方法では、縦横比が等しい状態でのレシピしか作成できないため、細長いパターンを高精度に測定したい場合は、走査型電子顕微鏡を使用してレシピ作成しており、走査型電子顕微鏡の稼働率が下がるという問題がある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するために、本発明では、走査型電子顕微鏡以外で、半導体素子の設計データに対して、回転や縦横比を変えてレシピを作成することにより、走査型電子顕微鏡を使用しないで、高精度に寸法測定するレシピ作成装置及び方法を提供する。
【発明の効果】
【０００９】
本発明のレシピ作成装置及び方法によれば、斜めのパターンのレシピ作成において、走査型電子顕微鏡を使用する必要がないので、走査型電子顕微鏡の稼働率が向上する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
従来、ユーザは斜めパターンのレシピ作成の作業を、走査型電子顕微鏡にて実際のウェハーの画像を見ながら行っていた。従って、測定点が多い場合、レシピの作成に装置を使用する時間が長くなり、装置の稼動率が下がる問題点があった。この問題点を解決するのが、本発明による設計データ回転によるオフラインレシピ作成システムである。
【００１１】
（１）オフラインレシピ作成システムの構成
図１は、本発明のオフラインレシピ作成システムの概略構成を示すブロック図である。
図１に示されるように、オフラインレシピ作成スシステムは、設計（例えばＣＡＤ）データを格納した設計データ格納部１０１と、レシピ作成装置１０２と、作成したレシピを使用して測定を行う走査型電子顕微鏡１０３と、を備えている。
【００１２】
レシピ作成装置１０２では、設計データ格納部１０１に登録された設計データを利用して、オフラインレシピファイル１０２２を作成し、走査型電子顕微鏡１０３に転送して、レシピファイル１０３１として格納される。
【００１３】
（２）レシピ作成処理
図２は、オフラインレシピ作成する処理を説明するためのシーケンス図である。
【００１４】
ステップＳ００１では、設計データをパターンが真っ直ぐになるように回転させる。そして、必要に応じて、垂直方向と水平方向の倍率を変える（ステップＳ００２）。次に、これらの処理により加工された設計データに合わせて測定情報を設定する（ステップＳ００３）。次に、作成したオフラインレシピを走査型電子顕微鏡に転送する（ステップＳ００４）。
【００１５】
図３は、設計データの回転表示の例について示したしたものである。設計データ表示領域３０１に斜めの設計データ上のパターン３０２を表示し、測定領域３０３を指定したい場合は、パターンが真っ直ぐになるように設計データ表示領域３０４に回転させて表示し、測定領域３０６を指定する。
【００１６】
図４は、設計データの縦横の比率を変えた表示の例について示したしたものである。設計データ表示領域４０１に縦長の設計データのパターン４０２を表示し、測定領域４０３を指定したい場合は、隣のパターンに測定領域がかからないようにしなければならないが、パターンの幅やパターンの間隔が狭いため、測定領域の設定が難しい。そこで、設計データ表示領域４０４に示すように、横の倍率を高くして設計データ上のパターン４０５を表示すると、測定領域４０６の設定が容易になる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本発明によるオフラインレシピ作成システムの概略構成を示すブロック図。
【図２】オフラインレシピ作成処理を説明するためのシーケンス図。
【図３】設計データの回転表示の例を示す図。
【図４】設計データの縦横比を変えた表示の例を示す図。
【符号の説明】
【００１８】
１０１  設計データ格納部
１０２  レシピ作成装置
１０３  走査型電子顕微鏡
３０１，３０４，４０１，４０４  設計データ表示領域
３０２，４０５  設計データ上のパターン
３０３，３０６，４０３，４０６  測定領域
３０５，４０５  設計データ
４０２  設計データのパターン
１０２１  レシピ作成部
１０２２  オフラインレシピファイル
１０３１  レシピファイル
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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