(57)【要約】【課題】移載板の撓み量及び厚さを低減でき、狭幅ピッチのボートへの移載が可能で、処理枚数を増大できる縦型熱処理装置を提供する。【解決手段】複数の被処理基板ｗを収納可能な収納容器２１と、複数枚の被処理基板ｗを上下方向に所定の間隔で支持可能な基板支持具９との間で移載板２３を有する移載機構２４により被処理基板ｗの移載を行い、基板支持具９ごと熱処理炉３内に搬入して被処理基板ｗの熱処理を行う縦型熱処理装置１において、上記移載板２３は基端部から先端部に向かって水平に延びた片持ち支持構造であり、移載板２３の上面には被処理基板ｗをその略中央部及び後部側にて水平に支持する支持突起部３４が設けられ、移載板２３の先端部側では被処理基板ｗの荷重を支持していない。【選択図】図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
移載板の上面に被処理基板を載置して該被処理基板を水平に保ったまま移載する移載機構を有する処理装置において、上記移載板は基端部から先端部に向かって水平に延びた片持ち支持構造であり、移載板の上面には被処理基板をその略中央部及び後部側にて水平に支持する支持突起部が設けられ、移載板の先端側では被処理基板の荷重を支持していないことを特徴とする処理装置。
【請求項２】
上記移載板における略中央部の支持突起部より先端側の下面に段差を設けることによりその先端側の厚さが他の部分の厚さよりも薄く形成されていることを特徴とする請求項１記載の処理装置。
【請求項３】
上記支持突起部が耐熱性樹脂により偏平な小円形状に形成されていることを特徴とする請求項１又は２記載の処理装置。
【請求項４】
上記移載板が平面略Ｕ字状であり、その上面の左右の２箇所に上記略中央の支持突起部が設けられ、基端側の中央１箇所に後部側の支持突起部が設けられていることを特徴とする請求項１乃至３の何れかに記載の処理装置。
【請求項５】
上記移載板の先端上面には被処理基板の周縁部を先端方向及び左右方向に移動しないように規制する規制片が設けられ、移載板の基端側には上記規制片との間で被処理基板を把持する進退可能な把持機構が設けられていることを特徴とする請求項１乃至４の何れかに記載の処理装置。
【請求項６】
複数の被処理基板を収納可能な収納容器と、複数枚の被処理基板を上下方向に所定の間隔で支持可能な基板支持具との間で移載板を有する移載機構により被処理基板の移載を行い、基板支持具ごと熱処理炉内に搬入して被処理基板の熱処理を行う縦型熱処理装置において、上記移載板は基端部から先端部に向かって水平に延びた片持ち支持構造であり、移載板の上面には被処理基板をその略中央部及び後部側にて水平に支持する支持突起部が設けられ、移載板の先端側では被処理基板の荷重を支持していないことを特徴とする縦型熱処理装置。
【請求項７】
上記移載板における略中央部の支持突起部より先端側の下面に段差を設けることによりその先端側の厚さが他の部分の厚さよりも薄く形成されていることを特徴とする請求項６記載の縦型熱処理装置。
【請求項８】
上記支持突起部が耐熱性樹脂により偏平な小円形状に形成されていることを特徴とする請求項６又は７記載の縦型熱処理装置。
【請求項９】
上記移載板が平面略Ｕ字状であり、その上面の左右の２箇所に上記略中央の支持突起部が設けられ、基端側の中央１箇所に後部側の支持突起部が設けられていることを特徴とする請求項６乃至８の何れかに記載の縦型熱処理装置。
【請求項１０】
上記移載板の先端上面には被処理基板の周縁部を先端方向及び左右方向に移動しないように規制する規制片が設けられ、移載板の基端側には上記規制片との間で被処理基板を把持する進退可能な把持機構が設けられていることを特徴とする請求項６乃至９の何れかに記載の縦型熱処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、縦型熱処理装置に係り、特に被処理基板の移載作業を行う移載板の撓み量の低減及び薄型化を図る技術に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
半導体装置の製造においては、被処理基板例えば半導体ウエハ（以下、ウエハともいう）に、酸化、拡散、ＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）などの処理を施すために、各種の処理装置（半導体製造装置）が用いられている。そして、その一つとして、一度に多数枚の被処理基板の熱処理が可能なバッチ式の縦型熱処理装置が知られている。
【０００３】
この縦型熱処理装置は、熱処理炉と、複数枚のウエハを上下方向に所定間隔で支持して上記熱処理炉に搬入搬出される基板支持具（ボートともいう）と、昇降可能及び旋回可能な基台上にウエハを支持する複数枚の移載板（フォークともいう）を進退移動可能に有し、複数枚のウエハを所定間隔で収納する収納容器（フープともいう）と上記ボートとの間でウエハの移載を行う移載機構とを備えている（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
上記移載機構によりウエハを移載する方式としては、アライニング（位置決め）機能を有しないソフトランディング（ソフトに移載する）方式や、アライニング機能を有するエッジグリップ（ウエハの縁部を把持して正確で迅速な移載を行う）方式などがある。また、ボートとしては、複数本の支柱に形成した多段の溝又は突起に直接ウエハを支持するのではなく、ウエハよりも大径の環状板（リングプレート）上に複数の基板支持片を介してウエハを支持することにより、薄膜形成時に支柱の影響を受けずに膜厚の面内均一性の向上が図れると共に移載機構による移載作業の容易化・迅速化が図れるようにしたリングボートが知られている（例えば、特許文献２参照）。
【０００５】
図１０（ａ）は従来のフォークの概略的側面図、図１０（ｂ）はフォークの先端部側が撓んだ場合を示す概略的側面図である。このフォーク５０は、上部にウエハｗの周縁部を規制する高さが０．８ｍｍ程度の規制部５１が設けられると共に、ウエハｗが撓んでも接触しないように０．５〜１ｍｍ程度の段差ないし凹部５２を設けているため、フォーク５０の厚みｔが３ｍｍ程度と厚く、しかも、ウエハの荷重がフォーク５０の先端部にかかるため、フォーク５０の撓み量も大きいものとなっていた。
【０００６】
【特許文献１】特開２００１−２２３２５４号公報
【特許文献２】特開平４−１３３４１７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
上述したように、従来の縦型熱処理装置においては、移載機構のフォークの厚さが厚く、撓み量も大きいため、狭幅ピッチのボートへの移載が困難であり、リングボートを使用するプロセスでは、７５枚程度と限られた処理枚数のボートしか移載することができず、処理枚数に限界があった。
【０００８】
本発明は、上述した従来の技術が有する課題を解消し、移載板の撓み量及び厚さを低減でき、狭幅ピッチのボートへの移載が可能で、処理枚数を増大できる縦型熱処理装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記目的を達成するために、本発明のうちの第１の発明は、移載板の上面に被処理基板を載置して該被処理基板を水平に保ったまま移載する移載機構を有する処理装置において、上記移載板は基端部から先端部に向かって水平に延びた片持ち支持構造であり、移載板の上面には被処理基板をその略中央部及び後部側にて水平に支持する支持突起部が設けられ、移載板の先端側では被処理基板の荷重を支持していないことを特徴とする。
【００１０】
第２の発明は、複数の被処理基板を収納可能な収納容器と、複数枚の被処理基板を上下方向に所定の間隔で支持可能な基板支持具との間で移載板を有する移載機構により被処理基板の移載を行い、基板支持具ごと熱処理炉内に搬入して被処理基板の熱処理を行う縦型熱処理装置において、上記移載板は基端部から先端部に向かって水平に延びた片持ち支持構造であり、移載板の上面には被処理基板をその略中央部及び後部側にて水平に支持する支持突起部が設けられ、移載板の先端部側では被処理基板の荷重を支持していないことを特徴とする。
【００１１】
上記移載板における略中央部の支持突起部より先端部側の下面に段差を設けることによりその先端部側の厚さが他の部分の厚さよりも薄く形成されていることが好ましい。
【００１２】
上記支持突起部が耐熱性樹脂により偏平な小円形状に形成されていることが好ましい。
【００１３】
上記移載板が平面略Ｕ字状であり、その上面の左右の２箇所に上記略中央の支持突起部が設けられ、基端部側の中央１箇所に後部側の支持突起部が設けられていることが好ましい。
【００１４】
上記移載板の先端上面には被処理基板の周縁部を先端方向及び左右方向に移動しないように規制する規制片が設けられ、移載板の基端部側には上記規制片との間で被処理基板を把持する進退可能な把持機構が設けられていることが好ましい。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、移載板の撓み量及び厚さを低減でき、狭幅ピッチのボートへの移載が可能で、処理枚数を増大できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下に、本発明を実施するための最良の形態を添付図面に基づいて詳述する。図１は本発明の実施の形態である縦型熱処理装置を概略的に示す縦断面図である。
【００１７】
図１に示すように、この縦型熱処理装置１は外郭を形成する筐体２を有し、この筐体２内の上方に被処理基板例えば薄板円板状の半導体ウエハｗを収容して所定の処理例えばＣＶＤ処理等を施すための縦型の熱処理炉３が設けられている。この熱処理炉３は、下部が炉口４として開口された縦長の処理容器例えば石英製の反応管５と、この反応管５の炉口４を開閉する昇降可能な蓋体６と、上記反応管５の周囲を覆うように設けられ、反応管５内を所定の温度例えば３００〜１２００℃に加熱制御可能なヒータ（加熱装置）７とから主に構成されている。
【００１８】
上記筐体２内には、熱処理炉３を構成する反応管５やヒータ７を設置するための例えばＳＵＳ製のベースプレート８が水平に設けられている。ベースプレート８には反応管５を下方から上方に挿入するための図示しない開口部が形成されている。
【００１９】
反応管５の下端部には外向きのフランジ部が形成され、このフランジ部をフランジ保持部材にてベースプレート８に保持することにより、反応管５がベースプレート８の開口部を下方から上方に挿通された状態に設置されている。反応管５は、洗浄等のためにベースプレート８から下方に取外せるようになっている。反応管５には反応管５内に処理ガスやパージ用の不活性ガスを導入する複数のガス導入管や反応管５内を減圧制御可能な真空ポンプや圧力制御弁等を有する排気管が接続されている（図示省略）。なお、反応管５の下端部には、ガス導入管や排気管を接続するガス導入ポートや排気ポートを有する円筒状のマニホールドが接続されていても良く、この場合、このマニホールドが炉口を形成することになる。
【００２０】
上記筐体２内におけるベースプレート８より下方には、蓋体６上に保温筒を介して載置されたボート（基板支持具）９を熱処理炉３（すなわち反応管５）内に搬入（ロード）したり、熱処理炉３から搬出（アンロード）したり、或いはボート９に対するウエハｗの移載を行うためのローディングエリア（作業領域）１１が設けられている。このローディングエリア１１にはボート９の搬入、搬出を行うべく蓋体６を昇降させるための昇降機構１０が設けられている。
【００２１】
上記蓋体６は炉口４の開口端に当接して炉口４を密閉するように構成されている。蓋体６の上部には炉口４からの放熱を防止する手段である保温筒１２を介してボート９が載置されている。なお、蓋体６の上部には保温筒１２を載置して回転する図示しないターンテーブルが設けられ、蓋体６の下部にはそのターンテーブルを回転するための図示しない回転機構が設けられている。
【００２２】
上記ボート９は、例えば石英製であり、大口径例えば直径３００ｍｍのウエハｗをリング状支持板１３を介して水平状態で上下方向に所定間隔Ｐ例えば９〜１５ｍｍ好ましくは１１．５ｍｍピッチで多段状に支持するようになっている。ボート９は、円板状又は円環状の底板１４と、円板状又は円環状の天板１５と、これら底板１４と天板１５の間に介設された棒状の複数例えば４本の支柱１６とから構成されている。複数本の支柱１６のうち、ウエハの移載方向に位置される左右一対の支柱間の間隔は水平方向からウエハの移載やリング状支持板１３の脱着が可能なように広く設定されている。
【００２３】
図２は移載動作を説明するための概略的斜視図、図３はボートの一例を示す拡大斜視図、図４はリング状支持板の斜視図である。図示するように、リング状支持板１３は、上記ウエハｗよりも大径の環状板（リングプレート）１７と、該環状板１７上に突出する如く設けられた複数例えば４つの基板支持片１８とからなり、これら基板支持片１８によりウエハｗの周縁部を係止し、環状板１７と間隔（所定の隙間Ｓ例えば３〜１０ｍｍ程度好ましくは６ｍｍ程度）を設ける如くウエハｗを支持するように構成されている。リング状支持板１３としては、公知の支持板（例えば、特開平４−１３３４１７号公報参照）を使用することが可能である。リング状支持板１３は、例えば石英製である。なお、ボート９、リング状支持板１３は、炭化珪素製であってもよい。支持板１３は、アルミナ製であってもよい。
【００２４】
上記環状板１７は、厚さ例えば３ｍｍ程度、外径例えば３２０ｍｍ程度、開口１８ｄの内径例えば３００ｍｍ程度とされている。なお、場合により、開口１８ｄの内径は、ウエハｗの直径よりも少し大きくても良く、或いはウエハの直径よりも少し小さくても良い。上記基板支持片１８は、環状板１７上に立設固定された円柱状部材（起立部）１８ａと、この円柱状部材１８ａから環状板１７の内側（中心方向）へ向けて略水平に突出する如く設けられた板状部材（支持部）１８ｂとから構成されており、この板状部材１８ｂによりウエハｗの下面周縁部が支持されるようになっている。このように構成されたリング状支持板１３を上記ボート９に搭載するために、ボート９の支柱１６には上記環状板１７の外側縁部を支持するための溝２０又は突起が上下方向に所定ピッチＰで形成されている。
【００２５】
筐体２の前部には、複数例えば２５枚程度のウエハを所定間隔で収納可能な収納容器２１を載置して筐体２内への搬入搬出を行うための載置台（ロードポート）２６が設置されている。収納容器２１は前面に図示しない蓋を着脱可能に備えた密閉型収納容器（フープともいう）とされている。ローディングエリア１１内の前後には収納容器２１の蓋を取外して収納容器２１内をローディングエリア１１内に連通開放するドア機構２２が設けられ、ローディングエリア１１には収納容器２１とボート９の間でウエハｗの移載を行う複数枚のフォーク（移載板）２３を所定間隔で有する移載機構２４が設けられている。
【００２６】
ローディングエリア１１外の前部上側には、収納容器２１をストックしておくための保管棚部２５と、載置台２６から保管棚部２５へ又はその逆に収納容器２１を搬送するための図示しない搬送機構とが設けられている。なお、ローディングエリア１１の上方には蓋体６を開けた時に炉口４から高温の炉内の熱が下方のローディングエリア１１に放出されるのを抑制ないし防止するために炉口４を覆う（又は塞ぐ）シャッター機構２７が設けられている。また、載置台２６の下方には移載機構２４により移載されたウエハｗの外周に設けられた切欠部（例えばノッチ）を一方向に揃えるための整列装置（アライナ）２８が設けられている。
【００２７】
上記移載機構２４は、複数枚例えば５枚のウエハｗを上下方向に所定間隔で支持する複数枚例えば５枚の移載板（フォークともいう）２３を有している。この場合、中央のフォークは単独で前方に進退移動可能とされ、中央以外のフォーク（一枚目、二枚目、四枚目及び五枚目）は後述のピッチ変換機構により中央のフォークを基準として上下方向に無段階でピッチ変換可能とされている。これは、収納容器２１内のウエハの収納ピッチと、ボート９内のウエハの搭載ピッチとが異なる場合があるので、その場合でも収納容器２１とボート９との間でウエハを複数枚ずつ移載可能とするためである。
【００２８】
移載機構２４は、昇降及び旋回可能な基台３０を有している。具体的には、移載機構２４は、ボールネジ等により上下方向に移動可能（昇降可能）な昇降アーム３１を備え、この昇降アーム３１に箱型の基台３０が水平旋回可能に設けられている。この基台３０上には中央の１枚のフォーク２３を前方へ移動可能とする第１の移動体３２と、中央のフォーク２３を挟んで上下に２枚ずつ配された計４枚のフォーク２３を前方へ移動可能とする第２の移動体３３とが水平方向である基台３０の長手方向に沿って進退移動可能に設けられている。これにより、第１の移動体３２の単独動により１枚のウエハを移載する枚葉移載と、第１及び第２の移動体３２，３３の共動により複数枚例えば５枚のウエハを同時に移載する一括移載とを選択的に行えるようになっている。第１及び第２の移動体３２，３３を移動操作するために、基台３０の内部には図示しない移動機構が設けられている。この移動機構及び上記ピッチ変換機構は、例えば特開２００１−４４２６０号公報に記載のものが用いられる。
【００２９】
移載機構２４は、上下軸（ｚ軸）、旋回軸（θ軸）及び前後軸（ｘ軸）の座標（座標軸）と、基台３０を上下軸方向に移動させたり、旋回軸回りに旋回させたり、フォーク２３を第１・第２の移動体３２，３３を介して前後軸方向に移動させたり、フォーク２３のピッチ変換を行う駆動系を有している。
【００３０】
上記フォーク２３は、図５（ａ），（ｂ）又は図８（ａ）に示すように基端部（図の左側）から先端部（図の右側）に向かって水平に延びた片持ち支持構造であり、フォーク２３の上面にはウエハｗをその略中央部及び後部側にて水平に支持する支持突起部３４が設けられ、フォーク２３の先端部側ではウエハｗの荷重を支持していない。
【００３１】
上記フォーク２３における略中央部の支持突起部３４より先端部側の下面には段差３５が設けられることによりその先端部側の厚さｔｃが他の部分例えば基部側の厚さｔａよりも薄く形成されていることが好ましい。なお、図示例ではフォーク２３は、基端部（基端部側）２３ａの厚さｔａ、中間部（略中央部及び後部側の支持突起部間）２３ｂの厚さｔｂ、先端部（先端部側）２３ｃの厚さｔｃが段階的に薄くなるように形成されている。例えば、ｔａ＝２．３ｍｍ、ｔｂ＝１．２ｍｍ、ｔｃ＝０．８ｍｍとされている。
【００３２】
上記フォーク２３は、例えばアルミナセラミックにより縦長薄板状に形成され中間部から先端部側が二股に分岐された平面略Ｕ字状に形成されており、その中間部上面の左右の２箇所に上記略中央の支持突起部３４が設けられ、基端部側の中央１箇所に後部側の支持突起部３４が設けられている。
【００３３】
上記支持突起部３４は、図６に示すように耐熱性樹脂例えばＰＥＥＫ（Poly Ether Ether Ketone）材により偏平（フォーク上面からの突出高さ０．３ｍｍ程度）な小円形状（直径２ｍｍ程度）に形成されていることが好ましい。支持突起部３４を着脱可能（交換可能）に取付けるために、フォーク２３には取付孔３６が設けられ、支持突起部３４の下面中央部には取付孔３６に嵌合する嵌合部３７が形成されている。取付性を向上させるために、上記嵌合部３７にはこれを２等分する分割溝３８が形成されていると共に、取付孔３６の裏側縁部に係合する鍔部３９が形成されていることが好ましい。また、フォーク２３の下面（裏面）には上記鍔部３９がフォークの下面から突出しないように鍔部３９を収容する凹部４０が形成されていることが好ましい。
【００３４】
上記フォーク２３の先端上面にはウエハの周縁部を先端方向（図５（ａ）の右方向）及び左右方向（図５（ａ）の上下）に移動しないように規制する規制片４１が設けられ、フォーク２３の基端部側には上記規制片４１との間でウエハｗを把持する進退移動可能な把持機構４２が設けられている。上記規制片４１は、図７に示すようにウエハの先端部側（図５の右側）が自重で撓んだときにウエハの下面を支持可能な水平の受面４３と、この受面４３よりも上方に突出しウエハの周縁部を規制する規制面４４を有する突出部４５とを備えている。
【００３５】
フォーク２３の先端上面には、規制片４１を位置決めする位置決め溝が４６形成されていると共に、規制片４１がフォーク２３の下面側から小ネジ４７で着脱可能に取付けられている。この場合、小ネジ４７の頭部４７ａがフォーク２３の下面から突出しないようにするために、フォーク２３の下面には小ネジ４７の頭部４７ａを収容する凹部４８が形成されている。上記規制片４１は、耐熱性樹脂例えばＰＥＥＫ材により形成されていることが好ましい。
【００３６】
上記把持機構４２は、ウエハｗの後縁部に当接される当接部材４２ａと、該当接部材４２ａを進退駆動する駆動手段であるエアシリンダ４２ｂとを備えている。なお、フォーク２３の先端部にはボート内のウエハの位置を検出してマッピングを行うためのマッピングセンサが設けられていてもよい。
【００３７】
次に、以上の構成からなる縦型熱処理装置１の作用を述べる。先ず、収納容器２１からボート９上のリング状支持板１３にウエハｗを移載する場合には、移載機構２４がフォーク２３を前進させて収納容器２１内に挿入し、フォーク２３の上面にウエハｗを載せてこれを把持し、収納容器２１から取出す。次に、フォーク２３の向きを収納容器２１側からボート９側に変え、フォーク２３を前進させて上下のリング状支持板１３，１３間に挿入し、フォーク２３を下降させることによりウエハｗをリング支持板１３上（詳しくは基板支持片１８上）に載置し、フォーク２３を後退させればよい。
【００３８】
特に、上記フォーク２３の上面にはウエハｗをその略中央部及び後部側にて水平に支持する支持突起部３４が設けられ、フォーク２３の先端部側ではウエハｗの荷重を支持していないことから、フォーク２３の先端部側の撓み量を低減でき、撓みを抑制すべくフォーク２３の厚さを厚くする必要がないので、フォークの厚さも低減できる。このようにフォーク２３の撓み量及び厚さを低減できることから、狭幅ピッチのボートへの移載が可能となり、縦型熱処理装置１における１ボート当たりのウエハの処理枚数を従来の７５枚程度から１００枚程度に増大できる。
【００３９】
また、上記フォーク２３における略中央部の支持突起部３４より先端部側の下面に段差を設けることによりその先端部側の厚さｔｃが他の部分の厚さｔａ，ｔｂよりも薄く形成されているため、フォーク２３の厚さを低減できる。この場合、フォーク２３の中間部の下面にも段差４９を設け、フォーク２３の厚さを基端部側から段階的に薄く形成しているため、フォーク２３の厚さを更に低減することができ、更に狭幅ピッチのボートへの移載が可能となる。
【００４０】
上記支持突起部３４がＰＥＥＫ材により偏平な小円形状に形成されているため、フォーク２３の実質的厚さの増大を伴うことなく、ウエハｗを小面積ないし点接触で安定して支持することが可能となる。上記フォーク２３が平面略Ｕ字状であり、その上面の左右の２箇所に上記略中央の支持突起部３４が設けられ、基端部側の中央１箇所に後部側の支持突起部３４が設けられていることから、ウエハｗを３点支持により更に安定して支持することができる。
【００４１】
上記フォーク２３の先端上面にはウエハｗの周縁部を先端方向及び左右方向に移動しないように規制する規制片４１が設けられ、フォーク２３の基端部側には上記規制片４１との間でウエハｗを把持する進退可能な把持機構４２が設けられていることから、厚さの薄いフォークでありながらウエハを確実に把持して高速で搬送することができ、処理能力の向上が図れる。
【００４２】
一方、上記ボート９においては、ウエハｗよりも大径の環状板１７及び該環状板１７上に突出する如く設けられた複数の基板支持片１８を有し、これら基板支持片１８によりウエハｗの周縁部を係止し、環状板１７と間隔を設ける如くウエハｗを支持する複数のリング状支持板１３と、これらリング状支持板１３の周囲を囲む如く複数本配置され、突起又は溝２０により上記支持板１３の周縁部を支持する支柱１６とを備えているため、複雑な機構を要することなくウエハの移載を容易に行うことができ、移載機構２４の構造の簡素化が図れる。
【００４３】
このようにしてボート９へのウエハの移載が終了したなら、蓋体６の上昇によりボート９を熱処理炉３内に搬入し、所定の温度、圧力及びガス雰囲気でウエハに熱処理を施せばよく、熱処理が終了したなら、蓋体６の下降によりボート９を熱処理炉３内からローディングエリア１１内に搬出し、移載機構２４により上記とは逆の手順でボート９から収納容器２１に処理済ウエハを移載すればよい。
【００４４】
以上、本発明の実施の形態を図面により詳述してきたが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲での種々の設計変更等が可能である。例えば、ボートとしては、特許第３２３４６１７号公報に記載されているような狭幅ピッチのリングボートを使用してもよい。支持突起部３４の形状としては、図９の（ａ）に示すように下部が円形で上部が凸面状のもの、（ｂ）に示すように下部が円形で上部が円錐状のもの、（ｃ）に示すように蒲鉾型のもの、或いは（ｄ）に示すように屋根型のものであってもよい。本発明は、処理基板を移載板の上面に載置して水平に保ったまま１枚ずつ移載する移載機構を備えた枚葉式の処理装置にも適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【００４５】
【図１】本発明の実施の形態である縦型熱処理装置を概略的に示す縦断面図である。
【図２】移載動作を説明するための概略的斜視図である。
【図３】ボートの一例を示す拡大斜視図である。
【図４】リング状支持板の斜視図である。
【図５】（ａ）はフォークの平面図、（ｂ）は移載板の側面図である。
【図６】（ａ）は図５（ａ）のＡ−Ａ線拡大断面図、（ｂ）は（ａ）のＢ−Ｂ方向から見たフォークの下面図である。
【図７】（ａ）は図５のＣ部拡大図、（ｂ）は（ａ）のＤ−Ｄ線断面図である。
【図８】（ａ）はフォークの概略的側面図、（ｂ）はフォークの先端部側が撓んだ場合を示す概略的側面図である。
【図９】支持突起部の他の形状を概略的に示す斜視図である。
【図１０】（ａ）は従来のフォークの概略的側面図、（ｂ）はフォークの先端部側が撓んだ場合を示す概略的側面図である。
【符号の説明】
【００４６】
ｗ  ウエハ（被処理基板）
１  縦型熱処理装置
９  ボート（基板支持具）
２１  収納容器
２３  フォーク（移載板）
２４  移載機構
３４  支持突起部
４１  規制片
４２  把持機構
【図１】
2010062445.tif 000003
【図２】
2010062445.tif 000004
【図３】
2010062445.tif 000005
【図４】
2010062445.tif 000006
【図５】
2010062445.tif 000007
【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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