(57)【要約】【課題】複数のエラーが生じた場合でも、容易にエラー内容の全体を把握する。【解決手段】基板を用いて露光に関する処理を行う。露光に関する処理で生じたエラーに関する情報を一覧表示する表示装置ＤＰを有する。【選択図】図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を用いて露光に関する処理を行う露光装置であって、
前記露光に関する処理で生じたエラーに関する情報を一覧表示する表示装置を有することを特徴とする露光装置。
【請求項２】
請求項１記載の露光装置において、
前記表示装置は、前記エラーに対する処理の優先度に応じた表示で当該エラーに関する情報を一覧表示することを特徴とする露光装置。
【請求項３】
請求項２記載の露光装置において、
前記優先度に応じた順序で前記エラーに関する情報が一覧表示されることを特徴とする露光装置。
【請求項４】
請求項２または３記載の露光装置において、
前記優先度に応じた大きさで前記エラーに関する情報が一覧表示されることを特徴とする露光装置。
【請求項５】
請求項１から４のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記エラーが解消されたときに、解消されたエラーに関する情報の表示が消去されることを特徴とする露光装置。
【請求項６】
請求項１から５のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記表示装置は、前記エラーに関する対応方法を表示することを特徴とする露光装置。
【請求項７】
請求項６記載の露光装置において、
前記エラーが過去に発生したときに採られた前記対応方法とその頻度とが表示されることを特徴とする露光装置。
【請求項８】
請求項６記載の露光装置において、
前記エラーが過去に発生したときに採られた前記対応方法のうち、少なくとも最も高い頻度の対応方法が表示されることを特徴とする露光装置。
【請求項９】
請求項６から８のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記エラーに関する対応方法を音声で知らせる音声通知装置を有することを特徴とする露光装置。
【請求項１０】
請求項６から８のいずれか一項に記載の露光装置において、
携帯情報端末に設けられ前記エラーに関する対応方法を表示する第２表示装置を有することを特徴とする露光装置。
【請求項１１】
請求項１０記載の露光装置において、
前記携帯情報端末は、情報記録媒体を介して前記エラーに関する対応方法を取得することを特徴とする露光装置。
【請求項１２】
請求項１から１１のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記露光に関する処理について、前記表示装置に表示される警告表示を選択的に停止させる入力装置を有することを特徴とする露光装置。
【請求項１３】
請求項１２記載の露光装置において、
前記入力装置は、前記表示装置の表示面にタッチして所定の情報を入力させるタッチパネル形式であることを特徴とする露光装置。
【請求項１４】
請求項１から１３のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記エラーが生じたときにエラー音を発生する発音機と、
前記発音機に複数の露光装置間で互いに異なるエラー音が生じるように、前記エラー音を設定する設定部とを有することを特徴とする露光装置。
【請求項１５】
基板を用いて露光に関する処理を行う露光装置であって、
携帯情報端末に設けられ、前記露光に関する処理で生じたエラーに関する対応方法を表示する第３表示装置を有することを特徴とする露光装置。
【請求項１６】
請求項１５記載の露光装置において、
前記携帯情報端末は、情報記録媒体を介して前記エラーに関する対応方法を取得することを特徴とする露光装置。
【請求項１７】
請求項１５または１６記載の露光装置において、
前記露光に関する処理について、前記第３表示装置に表示される警告表示を選択的に停止させる第２入力装置を有することを特徴とする露光装置。
【請求項１８】
請求項１７記載の露光装置において、
前記第２入力装置は、前記第３表示装置の表示面にタッチして所定の情報を入力させるタッチパネル形式であることを特徴とする露光装置。
【請求項１９】
基板を用いて露光処理を行う露光装置と、前記基板を用いて前記露光に関する処理を行う処理装置とを備えた露光システムであって、
前記露光処理と前記露光に関する処理との少なくとも一方で生じたエラーに関する情報を一覧表示する表示装置を有することを特徴とする露光システム。
【請求項２０】
請求項１９記載の露光システムにおいて、
前記表示装置は、前記エラーに対する処理の優先度に応じた表示で当該エラーに関する情報を一覧表示することを特徴とする露光システム。
【請求項２１】
請求項２０記載の露光システムにおいて、
前記優先度に応じた順序で前記エラーに関する情報が一覧表示されることを特徴とする露光システム。
【請求項２２】
請求項２０または２１記載の露光システムにおいて、
前記優先度に応じた大きさで前記エラーに関する情報が一覧表示されることを特徴とする露光システム。
【請求項２３】
請求項１９から２２のいずれか一項に記載の露光システムにおいて、
前記エラーが解消されたときに、解消されたエラーに関する情報の表示が消去されることを特徴とする露光システム。
【請求項２４】
請求項１９から２３のいずれか一項に記載の露光システムにおいて、
前記表示装置は、前記エラーに関する対応方法を表示することを特徴とする露光システム。
【請求項２５】
請求項２４記載の露光システムにおいて、
前記エラーが過去に発生したときに採られた前記対応方法とその頻度とが表示されることを特徴とする露光システム。
【請求項２６】
請求項２４記載の露光システムにおいて、
前記エラーが過去に発生したときに採られた前記対応方法のうち、少なくとも最も高い頻度の対応方法が表示されることを特徴とする露光システム。
【請求項２７】
請求項２４から２６のいずれか一項に記載の露光システムにおいて、
前記エラーに関する対応方法を音声で知らせる音声通知装置を有することを特徴とする露光システム。
【請求項２８】
請求項２４から２６のいずれか一項に記載の露光システムにおいて、
携帯情報端末に設けられ前記エラーに関する対応方法を表示する第２表示装置を有することを特徴とする露光システム。
【請求項２９】
請求項２８記載の露光システムにおいて、
前記携帯情報端末は、情報記録媒体を介して前記エラーに関する対応方法を取得することを特徴とする露光システム。
【請求項３０】
請求項１９から２９のいずれか一項に記載の露光システムにおいて、
前記露光処理と前記露光に関する処理との少なくとも一方について、前記表示装置に表示される警告表示を選択的に停止させる入力装置を有することを特徴とする露光システム。
【請求項３１】
請求項３０記載の露光システムにおいて、
前記入力装置は、前記表示装置の表示面にタッチして所定の情報を入力させるタッチパネル形式であることを特徴とする露光システム。
【請求項３２】
請求項１９から３１のいずれか一項に記載の露光システムにおいて、
前記エラーが生じたときにエラー音を発生する発音機と、
前記発音機に複数の露光装置間で互いに異なるエラー音が生じるように、前記エラー音を設定する設定部とを有することを特徴とする露光システム。
【請求項３３】
基板を用いて露光処理を行う露光装置と、前記基板を用いて前記露光に関する処理を行う処理装置とを備えた露光システムであって、
携帯情報端末に設けられ、前記露光処理と前記露光に関する処理との少なくとも一方で生じたエラーに関する対応方法を表示する第３表示装置を有することを特徴とする露光システム。
【請求項３４】
請求項３３記載の露光システムにおいて、
前記携帯情報端末は、情報記録媒体を介して前記エラーに関する対応方法を取得することを特徴とする露光システム。
【請求項３５】
請求項３３または３４記載の露光システムにおいて、
前記露光処理と前記露光に関する処理との少なくとも一方について、前記第３表示装置に表示される警告表示を選択的に停止させる第２入力装置を有することを特徴とする露光システム。
【請求項３６】
請求項３５記載の露光システムにおいて、
前記第２入力装置は、前記第３表示装置の表示面にタッチして所定の情報を入力させるタッチパネル形式であることを特徴とする露光システム。
【請求項３７】
基板を用いて露光に関する処理を行う工程を有する露光方法であって、
前記露光に関する処理で生じたエラーに関する情報を一覧表示する工程を有することを特徴とする露光方法。
【請求項３８】
請求項３７記載の露光方法において、
前記エラーに対する処理の優先度に応じた表示で当該エラーに関する情報を一覧表示することを特徴とする露光方法。
【請求項３９】
請求項３８記載の露光方法において、
前記優先度に応じた順序で前記エラーに関する情報が一覧表示されることを特徴とする露光方法。
【請求項４０】
請求項３８または３９記載の露光方法において、
前記優先度に応じた大きさで前記エラーに関する情報が一覧表示されることを特徴とする露光方法。
【請求項４１】
請求項３７から４０のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記エラーが解消されたときに、解消されたエラーに関する情報の表示が消去されることを特徴とする露光方法。
【請求項４２】
請求項３７から４１のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記エラーに関する対応方法を表示することを特徴とする露光方法。
【請求項４３】
請求項４２記載の露光方法において、
前記エラーが過去に発生したときに採られた前記対応方法とその頻度とが表示されることを特徴とする露光方法。
【請求項４４】
請求項４２記載の露光方法において、
前記エラーが過去に発生したときに採られた前記対応方法のうち、少なくとも最も高い頻度の対応方法が表示されることを特徴とする露光方法。
【請求項４５】
請求項４２から４４のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記エラーに関する対応方法を音声で知らせる音声通知工程を有することを特徴とする露光方法。
【請求項４６】
請求項４２から４４のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記エラーに関する対応方法を携帯情報端末に表示する工程を有することを特徴とする露光方法。
【請求項４７】
請求項４６記載の露光方法において、
前記携帯情報端末は、情報記録媒体を介して前記エラーに関する対応方法を取得することを特徴とする露光方法。
【請求項４８】
請求項３７から４７のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記露光に関する処理について、警告表示を選択的に停止させる指示を入力可能とする工程を有することを特徴とする露光方法。
【請求項４９】
請求項４８記載の露光方法において、
前記エラーに関する情報が一覧表示された表示面にタッチするタッチパネル形式で、所定の情報を入力させることを特徴とする露光方法。
【請求項５０】
基板を用いて露光に関する処理を行う工程を有する露光方法であって、
前記露光に関する処理で生じたエラーに関する対応方法を携帯情報端末に表示する工程を有することを特徴とする露光方法。
【請求項５１】
請求項５０記載の露光方法において、
前記携帯情報端末は、情報記録媒体を介して前記エラーに関する対応方法を取得することを特徴とする露光方法。
【請求項５２】
請求項５０または５１記載の露光方法において、
前記露光に関する処理について、警告表示を選択的に停止させる指示を入力可能とする工程を有することを特徴とする露光方法。
【請求項５３】
請求項５２記載の露光方法において、
前記エラーに関する対応方法が表示された表示面にタッチするタッチパネル形式で、所定の情報を入力させることを特徴とする露光方法。
【請求項５４】
請求項３７から５３のいずれか一項に記載の露光方法を用いることを特徴とするデバイス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光装置、露光システム及び露光方法並びにデバイス製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
マスク上のパターンを露光対象物である感光性基板（例えば、感光性樹脂を塗布したウエハなど）に露光転写して半導体素子などを製造する、リソグラフィ工程（露光処理工程）で使用される露光装置などには、操作・表示装置としての操作パネル（制御卓：コンソール）が配置されていて、この操作パネルを介して露光装置に種々の作業を指示している。露光装置では、操作パネルを介して指示された作業を実施するプログラムを呼び出し、このプログラムに基づいてマスクとしてのレチクルが載置されるレチクルステージや、ウエハが載置されるウエハステージや、レチクル上のパターンをウエハ上に投影露光する投影光学系などを制御して、露光処理を行っている。
【０００３】
従来、この種の操作パネルでは、例えば露光装置に与える種々の命令やパラメータの集まりであるジョブの名称などを表示装置に表示したものが提案されている（特許文献１参照）。
【０００４】
また、ジョブを実行するのに必要なパラメータに基づいた露光レイアウトの表示を行うコンソール部を備え、該コンソール部の同一画面上にジョブにおける露光レイアウトを表示するように構成したものも提案されている（特許文献２参照）。
【特許文献１】特開平４−６４２１５号公報
【特許文献２】特開平８−１５３６７１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、上述したような従来技術には、以下のような問題が存在する。
上述した露光処理工程や、露光処理に関する前工程、後工程で何らかのエラーが生じた場合には、当該エラーに対応するエラーコードやエラーが発生した処理位置等の情報が表示装置に表示される。
ところが、従来では、表示装置における一つの画面に一つのエラーのみが表示されるため、複数のエラーが生じた場合には、画面表示を切り換えながらエラー内容を順次確認する必要があり、エラー内容の全体を把握するのに多大な手間がかかるという問題があった。
【０００６】
また、複数のエラー対応に係る作業を実施する場合や、一つのエラー対応で複数の作業が必要な場合には、表示装置の表示を順次確認しながらエラー対応作業を行うが、エラー発生箇所と表示装置とが離れている場合には、これらの間を往復移動しなければならず、作業効率が低下してしまう。特に液晶表示ディスプレイ製造に用いられる露光装置は大型化しているため、移動距離も大きくなり、作業効率の低下に拍車を掛けてしまう。
【０００７】
本発明は、以上のような点を考慮してなされたもので、複数のエラーが生じた場合でも、容易にエラー内容の全体を把握できる露光装置、露光システム及び露光方法並びにデバイス製造方法を提供することを目的とする。
【０００８】
また、本発明の別の目的は、作業効率の低下を招くことなくエラー対応作業を実施できる露光装置、露光システム及び露光方法並びにデバイス製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記の目的を達成するために本発明は、実施の形態を示す図１ないし図９に対応付けした以下の構成を採用している。
本発明の露光装置は、基板（Ｗ）を用いて露光に関する処理を行う露光装置（ＥＸ−ＳＹＳ）であって、露光に関する処理で生じたエラーに関する情報を一覧表示する表示装置（ＤＰ）を有することを特徴とするものである。
また、本発明の露光方法は、基板を用いて露光に関する処理を行う工程を有する露光方法であって、前記露光に関する処理で生じたエラーに関する情報を一覧表示する工程を有することを特徴とするものである。
従って、本発明の露光装置及び露光方法では、複数のエラーが生じた場合、当該エラーに関する情報が一覧表示されるため、エラー内容の全体を容易、且つ迅速に把握することが可能になる。
【００１０】
また、本発明の露光装置は、基板（Ｗ）を用いて露光に関する処理を行う露光装置（ＥＸ−ＳＹＳ）であって、携帯情報端末（ＰＣ）に設けられ、前記露光に関する処理で生じたエラーに関する対応方法を表示する第３表示装置（５１）を有することを特徴とするものである。
そして、本発明の露光方法は、基板を用いて露光に関する処理を行う工程を有する露光方法であって、前記露光に関する処理で生じたエラーに関する対応方法を携帯情報端末に表示する工程を有することを特徴とするものである。
従って、本発明の露光装置及び露光方法では、露光に関する処理で生じたエラーに関する対応方法が携帯情報端末に表示されるため、当該携帯情報端末を携帯した状態でエラー対応作業を実施することにより、表示装置等とエラー発生箇所との間を往復移動する必要がなくなり、作業効率の低下を回避することができる。
【００１１】
また、本発明の露光システムは、基板（Ｗ）を用いて露光処理を行う露光装置（ＥＸ−ＳＹＳ）と、基板を用いて前記露光に関する処理を行う処理装置（ＩＦ）とを備えた露光システム（ＳＹＳ）であって、前記露光処理と前記露光に関する処理との少なくとも一方で生じたエラーに関する情報を一覧表示する表示装置（ＤＰ）を有することを特徴とするものである。
従って、本発明の露光システムでは、前記露光処理と前記露光に関する処理との少なくとも一方で複数のエラーが生じた場合、当該エラーに関する情報が一覧表示されるため、エラー内容の全体を容易、且つ迅速に把握することが可能になる。
【００１２】
また、本発明の露光システムは、基板（Ｗ）を用いて露光処理を行う露光装置（ＥＸ−ＳＹＳ）と、前記基板を用いて前記露光に関する処理を行う処理装置（ＩＦ）とを備えた露光システム（ＳＹＳ）であって、携帯情報端末（ＰＣ）に設けられ、前記露光処理と前記露光に関する処理との少なくとも一方で生じたエラーに関する対応方法を表示する第３表示装置（５１）を有することを特徴とするものである。
従って、本発明の露光システムでは、前記露光処理と前記露光に関する処理との少なくとも一方で生じたエラーに関する対応方法が携帯情報端末に表示されるため、当該携帯情報端末を携帯した状態でエラー対応作業を実施することにより、表示装置等とエラー発生箇所との間を往復移動する必要がなくなり、作業効率の低下を回避することができる。
【００１３】
そして、本発明のデバイス製造方法は、先に記載の露光方法を用いることを特徴とするものである。
従って、本発明のデバイス製造方法では、エラー内容の全体を容易、且つ迅速に把握でき、また作業効率の低下を回避しつつデバイスを製造することが可能になり、効率的なデバイス製造を実現できる。
なお、本発明をわかりやすく説明するために、一実施例を示す図面の符号に対応付けて説明したが、本発明が実施例に限定されるものではないことは言うまでもない。
【発明の効果】
【００１４】
本発明では、複数のエラーが生じた場合でも、容易にエラー内容の全体を把握することができる。
また、本発明では、作業効率の低下を招くことなくエラー対応作業を実施することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、本発明の露光装置、露光システム及び露光方法並びにデバイス製造方法の実施の形態を、図１ないし図９を参照して説明する。
なお、以下の説明においては、ＸＹＺ直交座標系を設定し、このＸＹＺ直交座標系を参照しつつ各部材の位置関係について説明する。そして、水平面内における所定方向をＸ軸方向、水平面内においてＸ軸方向と直交する方向をＹ軸方向、Ｘ軸方向及びＹ軸方向のそれぞれに直交する方向（すなわち鉛直方向）をＺ軸方向とする。また、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸まわりの回転（傾斜）方向をそれぞれ、θＸ、θＹ、及びθＺ方向とする。
【００１６】
図１は、露光装置ＥＸ−ＳＹＳ及び露光に関連する処理を行う処理装置ＩＦを備える露光システムＳＹＳの概略図であり、図２は露光システムＳＹＳの概略的な断面平面図である。
この露光システムＳＹＳは、ウエハＷの露光処理を行う露光装置本体ＥＸを有する露光装置ＥＸ−ＳＹＳと、コータ・デベロッパ装置等との間でウエハの受け渡しを行うインターフェース部（処理装置）ＩＦとを備える構成となっている。
【００１７】
インターフェース部ＩＦには、図２に示すように、露光システムＳＹＳの外部からウエハＷが供給される供給用テーブル１１と、露光装置本体ＥＸで露光処理されたウエハＷが載置されて回収される回収用テーブル１２とが設けられている。
【００１８】
露光装置ＥＸ−ＳＹＳは、基板Ｐの露光処理を行う露光装置本体ＥＸと、基板Ｐを搬送する搬送系Ｈと、温調／アライメントユニットＰＳＵと、露光装置ＥＸ−ＳＹＳ全体の動作を統括制御する制御装置ＣＯＮＴと、露光システムＳＹＳにおける処理（露光処理及び露光関連処理）に関する情報を表示する表示装置ＤＰと、露光処理及び露光関連処理に関する情報を携帯するための携帯情報端末ＰＣとを備えており、露光装置本体ＥＸ及び搬送系Ｈは清浄度が管理されたチャンバ装置ＣＨ１内部に配置されている。また、表示装置ＤＰは、チャンバ装置ＣＨ１の外側に露出して設けられている。
なお、上記搬送系Ｈ、温調／アライメントユニットＰＳＵは、露光装置本体ＥＸに対して露光に関する処理（搬送処理、温調処理、アライメント処理）を行う処理部を構成している。
【００１９】
図３は、露光装置本体ＥＸの概略的な構成図である。
露光装置本体ＥＸは、レチクル（マスク）Ｒとウエハ（感光基板）Ｗとを一次元方向に同期移動しつつ、レチクルＲに形成されたパターンを投影光学系３０を介してウエハＷ上の各ショット領域に転写するステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置、すなわちいわゆるスキャニング・ステッパである。
そして、露光装置本体ＥＸは、露光光ＥＬによりレチクル（マスク）Ｒを照明する照明光学系１０、レチクルＲを保持するレチクルステージＲＳＴ、レチクルＲから射出される露光光ＥＬをウエハＷ上に投射する投影光学系３０、ウエハＷを保持するウエハステージＰＳＴ、露光装置本体ＥＸを統括的に制御する制御装置ＣＯＮＴ等を備える。
【００２０】
照明光学系１０は、レチクルステージＲＳＴに支持されているレチクルＲを露光光ＥＬで照明するものであり、露光用光源５、露光用光源５から射出された光束の照度を均一化するオプティカルインテグレータ、オプティカルインテグレータからの露光光ＥＬを集光するコンデンサレンズ、リレーレンズ系、露光光ＥＬによるレチクルＲ上の照明領域をスリット状に設定する可変視野絞り等（いずれ不図示）を有している。
そして、光源５から射出されたレーザビームは、照明光学系１０に入射され、レーザビームの断面形状がスリット状又は矩形状（多角形）に整形されるとともに照度分布がほぼ均一な照明光（露光光）ＥＬとなってレチクルＲ上に照射される。
なお、照明光学系１０から射出される露光光ＥＬとしては、例えば水銀ランプから射出される紫外域の輝線（ｇ線、ｈ線、ｉ線）及びＫｒＦエキシマレーザ光（波長２４８ｎｍ）等の遠紫外光（ＤＵＶ光）や、ＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）及びＦ２レーザ光（波長１５７ｎｍ）等の真空紫外光（ＶＵＶ光）などが用いられる。本実施形態においてはＡｒＦエキシマレーザ光が用いられる。
【００２１】
レチクルステージＲＳＴは、レチクルＲを支持しつつ、投影光学系３０の光軸ＡＸに垂直な平面内、すなわちＸＹ平面内の２次元移動及びθＺ方向の微小回転を行うものであって、レチクルＲを保持するレチクル微動ステージと、レチクル微動ステージと一体に走査方向であるＹ軸方向に所定ストロークで移動可能なレチクル粗動ステージと、これらを移動させるリニアモータ等（いずれも不図示）を備える。そして、レチクル微動ステージには、矩形開口が形成されており、開口周辺部に設けられたレチクル吸着機構によりレチクルが真空吸着等により保持される。
【００２２】
レチクルステージＲＳＴ上には移動鏡２１が設けられる。また、移動鏡２１に対向する位置にはレーザ干渉計２２が設けられる。そして、レチクルステージＲＳＴ上のレチクルＲの２次元方向の位置及び回転角は、レーザ干渉計２２によりリアルタイムで計測され、その計測結果は制御装置ＣＯＮＴに出力される。そして、制御装置ＣＯＮＴがレーザ干渉計２２の計測結果に基づいてリニアモータ等を駆動することで、レチクルステージＲＳＴに支持されているレチクルＲの位置決め等が行われる。
【００２３】
投影光学系３０は、レチクルＲのパターンを所定の投影倍率βでウエハＷに投影露光するものであって、複数の光学素子で構成されており、これら光学素子は鏡筒３１で支持される。本実施形態において、投影光学系３０は、投影倍率βが例えば１／４あるいは１／５の縮小系である。なお、投影光学系３０は等倍系及び拡大系のいずれでもよい。
【００２４】
投影光学系３０及びレチクルステージＲＳＴは、それぞれ第１コラム１及び第２コラム２によって支持される。第１コラム１は定盤３上に設置され投影光学系３０を支持し、第２コラム２はその上面にレチクルステージＲＳＴが移動する案内面を形成され、第１コラム１上に設置される。
【００２５】
定盤３は、ウエハステージＰＳＴが２次元的に移動する案内面が形成されており、防振台４上に設置される。防振台４は、床からの振動が定盤３に伝達することを防ぐため防振パッドを用いている。また、防振台４は床振動の伝達を抑えるとともにレチクルステージＲＳＴ及びウエハステージＰＳＴの走査による振動を制振するために、エアパッドと電磁アクチュエータ及び定盤３の位置や加速度を計測するセンサとを組み合わせて構成し、能動的に除振するシステムとしても構わない。
なお、図１の構成では、定盤３上に第１コラム１を設置するようにしたが、定盤３と第１コラム１とをそれぞれ個別に床に設置するように配置してもよい。例えば、防振台４を介して第１コラム１を床に設置する一方で定盤３を第１コラムおよび防振台４から分離し、その定盤３を防振台４とは別に設けられた防振台を介して床に設置させることもできる。
【００２６】
ウエハステージＰＳＴは投影光学系３０の下方に配置され、ウエハＷを真空吸着により保持して２次元に移動する。ウエハステージＰＳＴの位置は、基板ステージ干渉計６によって計測される。
【００２７】
図４は、ウエハステージＰＳＴの詳細を示す図である。
ウエハステージＰＳＴは、定盤３上に形成された案内面と平行なＹ軸方向に摺動可能なＹテーブル９と、Ｙテーブル９上をＹ軸方向と直交し案内面と平行なＸ軸方向に摺動可能なＸテーブル８とから構成される。Ｘテーブル８、Ｙテーブル９のいずれも摺動装置としてエアベアリング（不図示）が用いられる。また、Ｘテーブル８及びＹテーブル９は駆動装置２１、２５により各軸方向に駆動可能である。駆動装置２１、２５としては、例えばリニアモータを使用することができる。
【００２８】
ウエハステージＰＳＴは、Ｘテーブル８に接続されると共にＹテーブル９とＸテーブル８との間で用力を伝達する用力伝達装置２０Ｘと、Ｙテーブル９に接続されると共に定盤３とＹテーブル９との間で用力を伝達する用力伝達装置２０Ｙを備えている。ここで、用力伝達装置２０Ｘにおいては、その一端がＸテーブル８に付設されていると共に、他端がＹテーブル９に付設されている。また、用力伝達装置２０Ｙにおいては、その一端がＹテーブル９に付設されていると共に、他端が定盤３に付設されている。
【００２９】
温調／アライメントユニットＰＳＵは、ウエハステージＰＳＴに搬送されるウエハＷに対して、予備的に（大まかに）位置決めするとともに、当該ウエハステージＰＳＴの温度（露光装置本体ＥＸの雰囲気温度）に温度調整するものである。
【００３０】
搬送系Ｈは、インターフェース部ＩＦにおける供給用テーブル１１と温調／アライメントユニットＰＳＵとの間でウエハＷを搬送する搬送アームＨ６と、温調／アライメントユニットＰＳＵと露光装置本体ＥＸ（ウエハステージＰＳＴ）との間でウエハＷを搬送するロードアーム（ロードスライダ）Ｈ７と、露光処理が終了したウエハＷを露光装置本体ＥＸ（ウエハステージＰＳＴ）から搬出するアンロードアーム（スライダ）Ｈ４と、アンロードアームＨ４から基板Ｐを受け取って回収用テーブル１２に搬送する搬送アームＨ５とを備えている。これら搬送系Ｈの動作は、上述した制御装置ＣＯＮＴにより制御される。
【００３１】
本実施形態の露光装置ＥＸ−ＳＹＳには、図２に示すように、チャンバ装置ＣＨ１の一部に開口部Ｋ及びこの開口部Ｋを開閉するシャッタＳＹが設けられている。また、開口部Ｋを挟んで搬送アームＨ５と対向する位置には、搬送アームＨ５との間でウエハＷを受け渡しするローカルキャリアＬＣが配設されている。
【００３２】
一方、搬送アームＨ５と搬送アームＨ６との間には、中継用テーブル１３が配設されている。そして、搬送アームＨ５は、ローカルキャリアＬＣ、搬送アームＨ４，回収用テーブル１２、及び中継用テーブル１３との間でウエハＷを搬送する。また、搬送アームＨ６は、供給用テーブル１１、中継用テーブル１３、及び温調／アライメントユニットＰＳＵとの間でウエハＷを搬送する。
【００３３】
表示装置ＤＰは、チャンバ装置ＣＨ１の外面所定位置に設置された液晶ディスプレイやＣＲＴなどのディスプレイ（表示部）４１と、ディスプレイ４１の前面に設けられ露光システムＳＹＳに各種の指示を入力するタッチパネル（入力装置）４２とを有している。タッチパネル４２としては、例えば超音波方式、抵抗膜方式、赤外線方式、アナログ容量結合方式などのタッチパネルが採用される。
【００３４】
図５に示すように、ディスプレイ４１には、露光処理及び露光関連処理に関する各種情報（図５では、エラーに関する情報）を表示する情報表示部４３、タッチパネル４２を介して表示モードや入力モード等の各種モードを設定するモード設定部４４、タッチパネル４２を介して各種数値を入力するための数値入力部４５等が設けられている。これら情報表示部４３における情報表示、モード設定部４４で設定されたモードへの移行、数値入力部４５で入力された数値情報の記憶・管理は、制御装置ＣＯＮＴによって統括的に行われる。
【００３５】
携帯情報端末ＰＣは、露光処理及び露光関連処理に関する各種情報を表示するディスプレイ（第２表示装置、第３表示装置）５１と、ディスプレイ５１の前面に設けられ携帯情報端末ＰＣに各種の指示を入力するタッチパネル（第２入力装置）５２とを有している。携帯情報端末ＰＣは、ＳＤメモリーカード等のメモリーカード（情報記録媒体；不図示）を介して上記露光処理及び露光関連処理に関する各種情報を取得する。メモリーカードへの情報の書き込みは、図５に示すように、表示装置ＤＰに設けられたカード挿入口４６にメモリーカードを挿入することにより行われる。
なお、携帯情報端末ＰＣへの、上記露光処理及び露光関連処理に関する各種情報の伝送は、ＳＤメモリーカード等のメモリーカードを介して行うことに限られず、携帯情報端末ＰＣにハードディスクドライブなどの記憶装置を備え、ケーブルなどを介して各種情報を取得することもできる。
【００３６】
また、チャンバ装置ＣＨ１には、図１に示すように、エラーが発生したときにエラー音を発する発音機４０が設けられている。発音機４０から発せられるエラー音は、制御装置ＣＯＮＴにより、複数の露光システムＳＹＳ間で互いに異なるように設定される。
【００３７】
続いて、上記の露光システムＳＹＳにおける、ウエハＷの搬送手順の概略を説明する。
インターフェース部ＩＦの供給用テーブル１１に搬送されたウエハＷは、搬送アームＨ６によって、温調／アライメントユニットＰＳＵに渡される。ここで、温調／アライメントユニットＰＳＵに渡されたウエハＷは、ウエハステージＰＳＴに対して大まかに位置合わせ（プリアライメント）されるとともに、ウエハステージＰＳＴの温度（露光装置本体ＥＸの雰囲気温度）に温度調整される。
【００３８】
位置合わせ及び温度調整されたウエハＷは、搬送アームＨ７によって露光装置本体ＥＸのウエハステージＰＳＴ上に搬入される。そして、露光処理が施されたウエハＷは、アンロードアームＨ４によりウエハステージＰＳＴから搬出された後に、搬送アームＨ５に受け渡され、この搬送アームＨ５によって回収用テーブル１２に搬送される。
【００３９】
ここで、上記の構成の露光装置ＥＸ−ＳＹＳにおいては、例えば実験時や緊急時等でウエハＷに対して優先的に露光処理を実施する場合には、シャッタＳＹを開けた状態で露光処理前で感光剤が塗布されたウエハＷをローカルキャリアＬＣから搬送アームＨ５に対して搬送する（搬送後にシャッタＳＹは閉じられる）。ウエハＷを受け取った搬送アームＨ５は、中継用テーブル１３にウエハＷを載置する。中継用テーブル１３に載置されたウエハＷは、上述した搬送手順で搬送されて露光処理が施される。
また、露光処理や露光関連処理（プリアライメントや温度調整、搬送等）でエラーが生じたウエハＷは、回収用テーブル１２に搬送されずに搬送アームＨ５によって開口部Ｋを介してローカルキャリアＬＣに受け渡して搬出（回収）される。
【００４０】
続いて、上記の露光システムＳＹＳにおいて、露光処理や露光関連処理で何らかのエラーが生じた場合について説明する。
上記の処理で、エラーが生じた場合には、発音機４０からのエラー音が発せられるとともに、表示装置ＤＰにおける情報表示部４３にエラー情報が表示される。
このとき、発音機４０から生じるエラー音は、当該露光システムＳＹＳ独自の音であるため、露光システムＳＹＳが複数設置されている工場等においても、エラーが発生した露光システムＳＹＳを容易、且つ速やかに認識することができる。
【００４１】
一方、情報表示部４３においては、発生したエラー情報が表示されるが、複数のエラーが発生した場合には、図５に示すように、全てのエラー情報が一覧表示される。このとき、エラー情報としては、ここでは例えば、エラーが生じた順番、エラーコード、発生日時、優先度が表示される。ここで、一覧表示される順序としては、エラーに対する回復処理の優先度で表示される。つまり、情報表示部４３にエラーの回復処理に対する緊急性が高い順番でエラー情報が表示される。
【００４２】
なお、優先度表示として、タッチパネル４２におけるモード設定部４４の所定領域をタッチして表示モードの変更を入力指示することにより、例えば図６に示すように、発生日時が早い順序での表示や、エラーコードの順序での表示を優先度表示とすることも可能である。すなわち、表示モードの設定により、緊急性が高いものを優先度が高いものとするほか、発生日時が早い順序、エラーコードの順序などを優先度が高いものとして自由に設定することが可能である。
【００４３】
続いて、エラーの回復処理を行うために、タッチパネル４２におけるモード設定部４４の所定領域をタッチして、エラーの対応方法を表示させる。
エラー対応方法の表示としては、過去に同じエラーが生じたときに採られた対応方法とその頻度（割合）を表示するモード、過去に同じエラーが生じたときに採られた対応方法のうち、頻度の高い数種類の対応方法を表示するモード等をタッチパネル４２を介して選択・設定することができる。これにより、対応方法として、種々の方法を検索して時間を浪費することなく適切な対応方法を得ることができる。
【００４４】
そして、上記の表示で得られた対応方法が、タッチパネル４２を介した入力作業で完了する場合には、上記対応方法の表示に沿って、数値や所定の指示等の情報を複数のエラー毎に入力して、当該エラーを順次解消する。制御装置ＣＯＮＴは、エラーが解消されたと判断したときには、エラー情報の一覧表示から解消されたエラー情報の表示を消去させる。これにより、オペレータは、残存しているエラー情報の一覧表示を、情報表示部４３を確認することにより、解消していないエラーを容易に把握することができる。
【００４５】
一方、上記の表示で得られた対応方法が、タッチパネル４２を介した入力作業で完了せず、エラー発生箇所等、表示装置ＤＰとは離れた位置での作業が必要になる場合には、携帯情報端末ＰＣを用いて回復処理を実施する。
具体的には、まずメモリーカードを表示装置ＤＰのカード挿入口４６に挿入して、上述したエラー対応方法をメモリーカードに記憶させる。そして、このメモリーカードを携帯情報端末ＰＣに挿入して、メモリーカードに記憶されたエラー対応方法を取得させる。
【００４６】
この後、エラー回復処理が必要な箇所に移動し、携帯情報端末ＰＣのディスプレイ５１にエラー対応方法を表示させつつ、当該エラー対応方法に沿ったエラー回復作業を実施する。この場合も、携帯情報端末ＰＣにおけるタッチパネル５２を介して指示を入力することにより、エラー対応方法の表示として、過去に同じエラーが生じたときに採られた対応方法とその頻度（割合）を表示するモード、過去に同じエラーが生じたときに採られた対応方法のうち、頻度の高い数種類の対応方法を表示するモード等を選択・設定することができる。
そして、このエラー回復作業により、エラーが解消された場合には、上記と同様に、表示装置ＤＰに表示されたエラー情報の一覧表示から、解消されたエラー情報の表示が消去される。
【００４７】
上述した一連のエラー回復処理中（またはエラー対応以外の処理中）には、光源交換が必要になった等、所定の時間をおいて確認メッセージ等の警告表示がなされることがある。警告表示の中には、エラー回復処理とは直接関係せず、また緊急性を要しない事象に関するものも含まれるため、エラー回復処理の妨げになる可能性がある場合には、一時的に当該警告表示を停止させてもよい。警告表示の停止は、表示装置ＤＰを操作している場合には、タッチパネル４２を介して指示を選択的に入力し、携帯情報端末ＰＣを操作している場合には、タッチパネル５２を介して指示を選択的に入力すればよい。
【００４８】
以上、説明したように、本実施形態では、エラーが複数発生した場合でも、表示装置ＤＰに当該エラー情報が一覧表示されるため、エラーの全体像を容易、且つ迅速に把握して、迅速な対応を採ることが可能になる。また、本実施形態では、一覧表示されたエラー情報が優先度に応じた順序で表示されるため、優先度の高いエラーの回復処理が後回しになってダメージが大きくなることを防止できる。加えて、本実施形態では、エラーが解消されたエラー情報が一覧から消えるため、解消されていないエラーを容易に認識することができる。
【００４９】
さらに、本実施形態では、表示装置ＤＰにエラーの対応方法が表示されるため、エラーからの回復処理を迅速に行うことができる。加えて、本実施形態では、過去に同じエラーが生じたときに高い頻度で採られた対応方法が表示されるため、最適な対応方法を模索して時間がかかることなく、速やかに最適、もしくは最適に近い方法を採ることが可能になる。
【００５０】
また、本実施形態では、携帯情報端末ＰＣの情報表示部５２にエラーの対応方法を表示するため、表示装置ＤＰと離れた箇所でエラー回復処理を実施する場合でも、当該回復処理箇所と表示装置ＤＰとの間を頻繁に往復移動する必要がなくなり、作業効率が低下することなく、円滑にエラー回復作業を実施することができる。しかも、本実施形態では、携帯情報端末ＰＣへのエラー対応方法の取得がメモリーカードを介して行われるため、容易、且つ迅速な作業を可能とすることに加えて、複数の携帯情報端末ＰＣを用いて複数のオペレータがエラー回復作業を実施する場合でも、複数の携帯情報端末ＰＣに対して同一のデータを取得させることも可能となり、さらなる作業性の向上を図ることができる。
【００５１】
また、本実施形態では、複数の露光システムＳＹＳに対して、エラー音を異ならせているため、露光システムＳＹＳが複数設置されている工場等においても、エラーが発生した露光システムＳＹＳを容易に認識することができ、エラー対応処理を迅速に開始することが可能になる。
さらに、本実施形態では、緊急性の低い警告表示をタッチパネル４２、５２で選択的に停止することができるため、エラー回復処理の妨げになることを防止して、円滑に回復作業を実施することが可能になる。
【００５２】
以上、添付図面を参照しながら本発明に係る好適な実施形態について説明したが、本発明は係る例に限定されないことは言うまでもない。上述した例において示した各構成部材の諸形状や組み合わせ等は一例であって、本発明の主旨から逸脱しない範囲において設計要求等に基づき種々変更可能である。
【００５３】
例えば、上記実施形態では、携帯情報端末ＰＣにエラーの対応方法を取得させる情報記録媒体としてメモリーカードを例示したが、これに限定されることなく、ＦＤやＣＤ、ＤＶＤ等のメディアを用いてもよい。
また、情報記録媒体を用いるのではなく、露光システムＳＹＳに悪影響を与えない周波数帯域の電波を使用可能であれば、携帯情報端末ＰＣと制御装置ＣＯＮＴとが無線により情報を交換する構成としてもよい。
【００５４】
また、上記実施形態では、表示装置ＤＰと離間した位置でのエラー回復処理を実施する際に携帯情報端末ＰＣを用いる構成としたが、これに限定されるものではなく、例えば音声通知装置を設け、当該音声通知装置からエラーに関する対応方法を音声で通知する構成としてもよい。これにより、携帯情報端末ＰＣを用いた場合と同様の作用・効果が得られることに加えて、視線をエラー発生箇所に留めておくことが可能になり、より効果的、且つ安全にエラー回復処理を実施することができる。
【００５５】
また、上記実施形態では、エラー情報を優先度に応じた順序で一覧表示することにより、緊急性の高いエラー情報を確認しやすくする構成としたが、これに加えて、図７に示すように、優先度が高いエラー情報をより大きく表示する構成としてもよい。これにより、緊急性の高いエラー情報をさらに把握しやすくなり、より迅速なエラー対応処理が可能になる。
【００５６】
なお、上記各実施形態のウエハＷとしては、半導体デバイス製造用の半導体ウエハのみならず、液晶ディスプレイや有機ＥＬディスプレイなどのディスプレイデバイス用のガラス基板や、薄膜磁気ヘッド用のセラミックウエハ、あるいは露光装置で用いられるマスクまたはレチクルの原版（合成石英、シリコンウエハ）等が適用される。
【００５７】
露光装置本体ＥＸとしては、マスクＭとウエハＷとを同期移動してマスクＭのパターンを走査露光するステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置（スキャニングステッパ）の他に、マスクＭとウエハＷとを静止した状態でマスクＭのパターンを一括露光し、ウエハＷを順次ステップ移動させるステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置（ステッパ）にも適用することができる。また、本発明はウエハＷ上で少なくとも２つのパターンを部分的に重ねて転写するステップ・アンド・スキャン方式やステップ・アンド・スティッチ方式の露光装置にも適用できる。
【００５８】
露光装置本体ＥＸの種類としては、ウエハＷに半導体素子パターンを露光する半導体素子製造用の露光装置に限られず、液晶表示素子製造用又はディスプレイ製造用の露光装置や、薄膜磁気ヘッド、撮像素子（ＣＣＤ）あるいはレチクル又はマスクなどを製造するための露光装置などにも広く適用できる。
【００５９】
また、本発明が適用される露光装置の光源には、ＫｒＦエキシマレーザ（２４８ｎｍ）、ＡｒＦエキシマレーザ（１９３ｎｍ）、Ｆ２レーザ（１５７ｎｍ）等のみならず、極端紫外線（Extreme Ultra Violet）(１３．５ｎｍ)、ｇ線（４３６ｎｍ）及びｉ線（３６５ｎｍ）を用いることができる。さらに、投影光学系の倍率は縮小系のみならず等倍および拡大系のいずれでもよい。また、上記実施形態では、反射屈折型の投影光学系を例示したが、これに限定されるものではなく、投影光学系の光軸（レチクル中心）と投影領域の中心とが異なる位置に設定される屈折型の投影光学系にも適用可能である。
【００６０】
また、本発明は、投影光学系と基板との間に局所的に液体を満たし、該液体を介して基板を露光する、所謂液浸露光装置に適用したが、液浸露光装置については、国際公開第９９／４９５０４号パンフレットに開示されている。さらに、本発明は、特開平６−１２４８７３号公報、特開平１０−３０３１１４号公報、米国特許第５，８２５，０４３号などに開示されているような露光対象の基板の表面全体が液体中に浸かっている状態で露光を行う液浸露光装置にも適用可能である。
【００６１】
また、本発明は、基板ステージ（ウエハステージ）が複数設けられるツインステージ型の露光装置にも適用できる。ツインステージ型の露光装置の構造及び露光動作は、例えば特開平１０−１６３０９９号公報及び特開平１０−２１４７８３号公報（対応米国特許６，３４１，００７号、６，４００，４４１号、６，５４９，２６９号及び６，５９０，６３４号）、特表２０００−５０５９５８号（対応米国特許５，９６９，４４１号）或いは米国特許６，２０８，４０７号に開示されている。更に、本発明を本願出願人が先に出願した特願２００４−１６８４８１号のウエハステージに適用してもよい。
【００６２】
また、本発明が適用される露光装置は、本願特許請求の範囲に挙げられた各構成要素を含む各種サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精度、光学的精度を保つように、組み立てることで製造される。これら各種精度を確保するために、この組み立ての前後には、各種光学系については光学的精度を達成するための調整、各種機械系については機械的精度を達成するための調整、各種電気系については電気的精度を達成するための調整が行われる。各種サブシステムから露光装置への組み立て工程は、各種サブシステム相互の、機械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等が含まれる。この各種サブシステムから露光装置への組み立て工程の前に、各サブシステム個々の組み立て工程があることはいうまでもない。各種サブシステムの露光装置への組み立て工程が終了したら、総合調整が行われ、露光装置全体としての各種精度が確保される。なお、露光装置の製造は温度およびクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。
【００６３】
次に、本発明の実施形態による露光装置及び露光方法をリソグラフィ工程で使用したマイクロデバイスの製造方法の実施形態について説明する。図８は、マイクロデバイス（ＩＣやＬＳＩ等の半導体チップ、液晶パネル、ＣＣＤ、薄膜磁気ヘッド、マイクロマシン等）の製造例のフローチャートを示す図である。
まず、ステップＳ１０（設計ステップ）において、マイクロデバイスの機能・性能設計（例えば、半導体デバイスの回路設計等）を行い、その機能を実現するためのパターン設計を行う。引き続き、ステップＳ１１（マスク製作ステップ）において、設計した回路パターンを形成したマスク（レチクル）を製作する。一方、ステップＳ１２（ウエハ製造ステップ）において、シリコン等の材料を用いてウエハを製造する。
次に、ステップＳ１３（ウエハ処理ステップ）において、ステップＳ１０〜ステップＳ１２で用意したマスクとウエハを使用して、後述するように、リソグラフィ技術等によってウエハ上に実際の回路等を形成する。次いで、ステップＳ１４（デバイス組立ステップ）において、ステップＳ１３で処理されたウエハを用いてデバイス組立を行う。このステップＳ１４には、ダイシング工程、ボンティング工程、及びパッケージング工程（チップ封入）等の工程が必要に応じて含まれる。最後に、ステップＳ１５（検査ステップ）において、ステップＳ１４で作製されたマイクロデバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行う。こうした工程を経た後にマイクロデバイスが完成し、これが出荷される。
【００６４】
図９は、半導体デバイスの場合におけるステップＳ１３の詳細工程の一例を示す図である。
ステップＳ２１（酸化ステップ）おいては、ウエハの表面を酸化させる。ステップＳ２２（ＣＶＤステップ）においては、ウエハ表面に絶縁膜を形成する。ステップＳ２３（電極形成ステップ）においては、ウエハ上に電極を蒸着によって形成する。ステップＳ２４（イオン打込みステップ）においては、ウエハにイオンを打ち込む。以上のステップＳ２１〜ステップＳ２４のそれぞれは、ウエハ処理の各段階の前処理工程を構成しており、各段階において必要な処理に応じて選択されて実行される。
ウエハプロセスの各段階において、上述の前処理工程が終了すると、以下のようにして後処理工程が実行される。この後処理工程では、まず、ステップＳ２５（レジスト形成ステップ）において、ウエハに感光剤を塗布する。引き続き、ステップＳ２６（露光ステップ）において、上で説明したリソグラフィシステム（露光装置）及び露光方法によってマスクの回路パターンをウエハに転写する。次に、ステップＳ２７（現像ステップ）においては露光されたウエハを現像し、ステップＳ２８（エッチングステップ）において、レジストが残存している部分以外の部分の露出部材をエッチングにより取り去る。そして、ステップＳ２９（レジスト除去ステップ）において、エッチングが済んで不要となったレジストを取り除く。これらの前処理工程と後処理工程とを繰り返し行うことによって、ウエハ上に多重に回路パターンが形成される。
【００６５】
また、半導体素子等のマイクロデバイスだけではなく、光露光装置、ＥＵＶ露光装置、Ｘ線露光装置、及び電子線露光装置等で使用されるレチクル又はマスクを製造するために、マザーレチクルからガラス基板やシリコンウエハ等ヘ回路パターンを転写する露光装置にも本発明を適用できる。ここで、ＤＵＶ（深紫外）やＶＵＶ（真空紫外）光等を用いる露光装置では、一般的に透過型レチクルが用いられ、レチクル基板としては石英ガラス、フッ素がドープされた石英ガラス、蛍石、フッ化マグネシウム、又は水晶等が用いられる。また、プロキシミティ方式のＸ線露光装置や電子線露光装置等では、透過型マスク（ステンシルマスク、メンブレンマスク）が用いられ、マスク基板としてはシリコンウエハ等が用いられる。なお、このような露光装置は、ＷＯ９９／３４２５５号、ＷＯ９９／５０７１２号、ＷＯ９９／６６３７０号、特開平１１−１９４４７９号、特開２０００−１２４５３号、特開２０００−２９２０２号等に開示されている。
【図面の簡単な説明】
【００６６】
【図１】本発明の実施の形態を示す図であって、露光システムＳＹＳの概略図である。
【図２】露光システムＳＹＳの概略的な断面平面図である。
【図３】露光装置本体ＥＸの概略的な構成図である。
【図４】ウエハステージＰＳＴの詳細を示す図である。
【図５】表示装置の表示例を示す図である。
【図６】表示装置の表示例を示す図である。
【図７】表示装置の表示例を示す図である。
【図８】マイクロデバイスの製造工程の一例を示すフローチャート図である。
【図９】図８におけるステップＳ１３の詳細工程の一例を示す図である。
【符号の説明】
【００６７】
ＣＯＮＴ…制御装置、  ＤＰ…表示装置、  ＥＸ−ＳＹＳ…露光装置、  Ｈ４〜Ｈ７…搬送アーム（処理部）、  ＩＦ…インターフェイス部（処理装置）、  ＳＹＳ…露光システム、  Ｗ…ウエハ（基板）、  ４１…ディスプレイ（表示部）、  ４２…タッチパネル（入力装置）、  ５１…ディスプレイ（第２表示装置、第３表示装置）、  ５２…タッチパネル（第２入力装置）
【図１】
2010062367.tif 000003
【図２】
2010062367.tif 000004
【図３】
2010062367.tif 000005
【図４】
2010062367.tif 000006
【図５】
2010062367.tif 000007
【図６】
2010062367.tif 000008
【図７】
2010062367.tif 000009
【図８】
2010062367.tif 000010
【図９】
2010062367.tif 000011