(57)【要約】【課題】計測結果の欠損領域を低減しつつ正確な計測結果を得ることが可能な光学式変位計を提供する。【解決手段】ＦＢ制御部７は、最初の走査の最初の計測点の処理を開始する（ステップＳ１）。次に、ＦＢ制御部７は、現在の計測点の制御モードが計測モードに設定されているか否かを判定する（ステップＳ２）。次の計測点の制御モードが計測モードに設定されている場合、ＦＢ制御部７は、その計測点において検出処理を行う（ステップＳ３）。次の計測点の制御モードが計測モードに設定されていない場合、すなわち探査モードに設定されている場合、ＦＢ制御部７は、その計測点において探査処理を行う（ステップＳ４）。【選択図】図９
2010197114.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光を発生する光発生部と、
前記光発生部により発生された光の投光方向を制御することにより対象物の表面で光を走査させる光走査手段と、
対象物からの反射光を集光する集光光学系と、
前記集光光学系の集光面に配設された複数の画素を有し、対象物までの距離に応じて変化する集光スポットの位置に対応した受光量分布を示す受光信号を出力する受光素子と、
前記受光素子から出力される受光信号を増幅して波形データを生成する波形データ生成部と、
計測点毎に第１のモードおよび第２のモードのいずれかの制御を選択的に行う制御手段とを備え、
前記制御手段は、前記第１のモードにおいて、前記波形データ生成部により生成される波形データにおいて予め設定された一または複数のピーク出現範囲のうち選択されたピーク出現範囲について投光方向毎に予め設定されたフィードバック制御情報に基づいて前記光発生部、前記受光素子および前記波形データ生成部をフィードバック制御するとともに、前記選択されたピーク出現範囲内のピークの位置に基づいて前記計測点までの距離に対応する距離情報を生成し、前記選択されたピーク出現範囲内のピークのレベルが所定値に近づくように前記フィードバック制御情報を更新し、前記第２のモードにおいて、前記波形データ生成部により生成される波形データにおいて前記一または複数のピークがピーク出現範囲内に出現するように投光方向毎に前記一または複数のピークの各々についてのピーク出現範囲を更新するとともに前記一または複数のピークのレベルが所定値に近づくように前記一または複数のピークの各々についてのフィードバック制御情報を更新することを特徴とする光学式変位計。
【請求項２】
前記制御手段は、計測点毎に前記波形データ生成部により生成された波形データが予め定められた条件を満たしていない場合に前記第１のモードの制御を前記第２のモードの制御に切り替え、前記第２のモードの制御により前記波形データ生成部により生成された波形データが予め定められた条件を満たした場合に前記第２のモードの制御を前記第１のモードの制御に切り替えることを特徴とする請求項１記載の光学式変位計。
【請求項３】
前記制御手段は、前記第２のモードの制御が行われる計測点に対応する距離情報を前記第１のモードの制御が行われる他の計測点に対応する距離情報に基づいて生成することを特徴とする請求項１または２記載の光学式変位計。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、対象物の断面形状を計測するための光学式変位計に関する。
【背景技術】
【０００２】
三角測距の原理を利用した光学式変位計では、対象物（以下、ワークと呼ぶ）の表面の計測点に光が照射され、その反射光が１次元または２次元に配列された画素を有する受光素子により受光される。受光素子により得られる受光量分布のピーク位置に基づいて計測点の高さを計測することができる。
【０００３】
ワークの断面形状を計測するために、光走査方式の光学式変位計が用いられる。光走査方式の光学式変位計では、投光部によりワークの一方向（以下、Ｘ方向と呼ぶ）に光が往復走査される。この場合、Ｘ方向に沿った複数の計測点からの反射光による複数の受光量分布がそれぞれ得られる。各受光量分布は、増幅器により増幅された後、デジタルの波形データに変換される。複数の受光量分布に対応する波形データのピーク位置に基づいてＸ方向に沿った複数の計測点の高さが検出される。それにより、ワークのＸ方向に沿った断面形状を計測することができる。
【０００４】
ところで、ワークの表面からの反射光の受光量は、ワークの表面の反射率により変化する。この受光量の変化により、波形データのピークの高さ（以下、ピークレベルと呼ぶ）が変化する。正確な計測のためには、ピークレベルを一定の範囲内に調整する必要がある。
【０００５】
そこで、受光素子の露光時間、投光部への入力電流、または光のパルス点灯のデューティ比をフィードバック制御することによりピークレベルが調整される（特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特許第３６１３７０８号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ワークに透明体が含まれる場合、ワークに照射された光の一部はワークの表面で反射され、他の一部は透明体を透過するとともに透明体の他の面で反射するため、波形データに複数のピークが現れる。この場合、ピーク毎に上記のフィードバック制御を行う必要がある。そのためには、波形データにおいて各ピークを識別するための情報（例えば各ピークの出現位置）、および各ピークに対応したフィードバック制御のパラメータ等の情報を記憶しておく必要がある。
【０００８】
そこで、例えば対象物の表面状態が変化した場合において、適宜これらの情報を取得するための探査処理が行われる。しかしながら、その探査処理を行う期間中には、ワークの表面の各計測点の高さの計測を行うことができない。そのため、探査処理中に複数の計測点における計測結果が欠損する。
【０００９】
特に、光走査方式では、高速で連続的に光を走査させているので、上記の探査処理を行った場合に、計測結果の欠損領域が大きくなる。
【００１０】
本発明の目的は、計測結果の欠損領域を低減しつつ正確な計測結果を得ることが可能な光学式変位計を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
（１）本発明に係る光学式変位計は、光を発生する光発生部と、光発生部により発生された光の投光方向を制御することにより対象物の表面で光を走査させる光走査手段と、対象物からの反射光を集光する集光光学系と、集光光学系の集光面に配設された複数の画素を有し、対象物までの距離に応じて変化する集光スポットの位置に対応した受光量分布を示す受光信号を出力する受光素子と、受光素子から出力される受光信号を増幅して波形データを生成する波形データ生成部と、計測点毎に第１のモードおよび第２のモードのいずれかの制御を選択的に行う制御手段とを備え、制御手段は、第１のモードにおいて、波形データ生成部により生成される波形データにおいて予め設定された一または複数のピーク出現範囲のうち選択されたピーク出現範囲について投光方向毎に予め設定されたフィードバック制御情報に基づいて光発生部、受光素子および波形データ生成部をフィードバック制御するとともに、選択されたピーク出現範囲内のピークの位置に基づいて計測点までの距離に対応する距離情報を生成し、選択されたピーク出現範囲内のピークのレベルが所定値に近づくようにフィードバック制御情報を更新し、第２のモードにおいて、波形データ生成部により生成される波形データにおいて一または複数のピークがピーク出現範囲内に出現するように投光方向毎に一または複数のピークの各々についてのピーク出現範囲を更新するとともに一または複数のピークのレベルが所定値に近づくように一または複数のピークの各々についてのフィードバック制御情報を更新するものである。
【００１２】
その光学式変位計においては、光発生部により発生された光の投光方向が光走査手段によって制御されることにより、対象物の表面で光が走査される。対象物からの反射光は、集光光学系によって集光されて受光素子に入射する。受光素子により、集光スポットの位置に対応する受光量分布を示す受光信号が出力される。出力された受光信号に基づいて波形データ生成部により波形データが生成される。生成された波形データのピークの位置に基づいて、投光方向における対象物の計測点（光の照射位置）の高さを計測することができる。
【００１３】
この場合、制御手段により計測点毎に第１および第２のモードのいずれかの制御が選択的に行われる。
【００１４】
対象物が光を透過する透明体を含む場合、対象物の複数の面で光が反射される。そのため、波形データ生成部により生成される波形データに対象物の複数の面にそれぞれ対応する複数のピークが出現する。ピークが出現すると想定される範囲がピーク出現範囲として予め設定される。一または複数のピーク出現範囲の各々について投光方向毎にフィードバック制御情報が予め設定される。
【００１５】
第１のモードでは、各計測点において、一または複数のピーク出現範囲のうち選択されたピーク出現範囲について予め設定されたフィードバック制御情報に基づいて光発生部、受光素子および波形データ生成部がフィードバック制御される。この場合、得られる波形データにおいて、選択されたピーク出現範囲内に出現するピークのレベルが、フィードバック制御情報に基づいて調整される。
【００１６】
この波形データの選択されたピーク出現範囲内に出現したピークの位置に基づいて計測点までの距離に対応する距離情報が生成される。それにより、選択されたピーク出現範囲に出現したピークに対応する対象物の面の高さを計測することができる。さらに、光の走査方向に沿った複数の計測点に対応する距離情報に基づいて、対象物の断面形状を得ることができる。
【００１７】
また、この波形データの選択されたピーク出現範囲内に出現したピークのレベルが所定値に近づくようにフィードバック制御情報が更新される。それにより、同じ投光方向において、更新されたフィードバック制御情報に基づいて光発生部、受光素子および波形データ生成部がフィードバック制御されることにより、選択されたピーク出現範囲に出現するピークのレベルが適正に調整される。これにより、ピークの位置を正確に認識することが可能になり、正確な距離情報を生成することができる。
【００１８】
第２のモードでは、波形データ生成部により生成される波形データにおいて一または複数のピークがピーク出現範囲内に出現するように投光方向毎に一または複数のピークの各々についてのピーク出現範囲が更新される。また、一または複数のピークのレベルが所定値に近づくように一または複数のピークの各々についてのフィードバック制御情報が更新される。
【００１９】
第１のモードの制御において、ピーク出現範囲が適正でないと、ピーク出現範囲にピークが出現しない。また、フィードバック制御情報が適正でないと、ピークのレベルを適正に調整することができない。これらの場合、計測点の高さの計測を正常に行うことができない。
【００２０】
そこで、第２のモードの制御を行うことにより、ピーク出現範囲およびフィードバック制御情報が適正に更新される。それにより、第１のモードの制御で計測点の高さの計測を正常に行うことが可能になる。
【００２１】
ピーク出現範囲およびフィードバック制御情報は投光方向毎に設定されるので、高さの計測を正常に行うことができない投光方向において選択的に第２のモードの制御を行うことにより、ピーク出現範囲およびフィードバック制御情報を効率的に更新することができる。
【００２２】
また、第２のモードでは、各計測点に対応する距離情報が生成されないが、計測点毎に第１および第２のモードの選択が行われることにより、複数の計測点で連続的に距離情報が欠損することが防止される。したがって、光の走査方向に沿った対象物の断面形状を正確に得ることができる。
【００２３】
（２）制御手段は、計測点毎に波形データ生成部により生成された波形データが予め定められた条件を満たしていない場合に第１のモードの制御を第２のモードの制御に切り替え、第２のモードの制御により波形データ生成部により生成された波形データが予め定められた条件を満たした場合に第２のモードの制御を第１のモードの制御に切り替えてもよい。
【００２４】
この場合、第１のモードの制御で高さの計測を正常に行うことができない場合に第２のモードの制御で迅速にピーク出現範囲およびフィードバック制御情報が更新される。また、複数の計測点で連続的に高さの計測が行われないことが十分に防止される。
【００２５】
（３）制御手段は、第２のモードの制御が行われる計測点に対応する距離情報を第１のモードの制御が行われる他の計測点に対応する距離情報に基づいて生成してもよい。
【００２６】
この場合、第２のモードの制御が行われる計測点に対応する距離情報の欠損分が第１のモードの制御が行われる他の計測点に対応する距離情報によって補間される。複数の計測点で連続的に距離情報が欠損することが防止されるので、効果的に距離情報の補間を行うことができ、より正確な対象物の断面形状を得ることができる。
【発明の効果】
【００２７】
本発明によれば、フィードバック制御によってピークのレベルが適正に調整されることにより、ピークの位置を正確に認識することが可能になり、正確な距離情報を生成することができる。また、複数の計測点で連続的に距離情報が欠損することが防止され、光の走査方向に沿った対象物の断面形状を正確に得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
【図１】本実施の形態に係る光学式変位計の構成を示すブロック図である。
【図２】光学式変位計によるワークの断面形状の計測方法について説明するための模式図である。
【図３】光学式変位計によるワークの断面形状の計測方法について説明するための模式図である。
【図４】波形データの一例を示す模式図である。
【図５】光の走査と計測タイミングとの関係を示す模式図である。
【図６】透明体が存在する場合の受光素子への入射光を示す図である。
【図７】図６に示す状態での波形データを示す図である。
【図８】カウンタ値と検出対象との対応関係の例を示す図である。
【図９】ＦＢ制御部の制御動作を示すフローチャートである。
【図１０】ＦＢ制御部の制御動作を示すフローチャートである。
【図１１】ＦＢ制御部の制御動作を示すフローチャートである。
【図１２】ＦＢ制御部の制御動作を示すフローチャートである。
【図１３】探査処理時における波形データの状態を段階的に示す図である。
【図１４】検出対象の他の例を示す概観斜視図である。
【図１５】検出対象の他の例を示す断面図である。
【図１６】設定画像の一例を示す図である。
【図１７】図１６の設定画像を構成する波形データを示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２９】
以下、本発明の一実施の形態に係る光学式変位計について図面を参照しながら説明する。
【００３０】
（１）光学式変位計の構成
図１は、本実施の形態に係る光学式変位計の構成を示すブロック図である。図１に示すように、光学式変位計１００は、投光部１、受光部２、投光制御部３、受光制御部４、波形生成部６、フィードバック制御部（以下、ＦＢ制御部と略記する）７、波形処理部８、プロファイル生成部９、計測処理部１０およびインターフェース部１１を備える。
【００３１】
投光部１は、投光素子２１、投光レンズ２２および走査部２３を含む。投光素子２１は、例えばレーザダイオードを含み、ビーム状の光を発生する。その光は、投光レンズ２２および走査部２３を介して対象物（以下、ワークと呼ぶ）Ｗに照射される。走査部２３は、例えばガルバノスキャナを含み、後述のように、ワークＷの表面で１次元的に光を走査する。
【００３２】
受光部２は、受光素子３１および受光レンズ３２を含む。ワークＷからの反射光は、受光レンズ３２を介して受光素子３１に入射する。受光素子２は例えばＣＭＯＳ（相補型金属酸化膜半導体）センサを含み、一方向に配列された複数の画素を有する。これにより、複数の画素の配列方向における受光量分布を示すアナログの受光信号が得られる。
【００３３】
投光制御部３は、例えば投光素子２１の駆動電流を調整することにより、投光素子２１が発生する光の強さ（以下、発光レベルと呼ぶ）を制御する。受光制御部４は、受光素子３１の露光時間を制御する。
【００３４】
波形生成部６は、増幅器およびアナログ／デジタル変換器を含む。受光素子３１により得られる受光信号は、増幅器により増幅された後にアナログ／デジタル変換器によりアナログ／デジタル変換される。これにより、デジタルの波形データが得られる。波形生成部６により得られる波形データは、記憶部７０に記憶される。
【００３５】
ＦＢ制御部７は、記憶部７０に記憶される波形データに基づいて、投光制御部３、受光制御部４および波形生成部６をフィードバック制御する。ＦＢ制御部７の制御動作の詳細については後述する。
【００３６】
波形処理部８は、波形生成部６により得られる波形データに基づいて、投光部１からワークＷの表面の各計測点までの距離を示す距離情報を生成する。計測点については後述する。
【００３７】
プロファイル生成部９は、波形処理部７により算出された距離情報に基づいて、ワークＷの断面形状を表すプロファイルデータを生成する。計測処理部１０は、プロファイル生成部９により作成されたプロファイルデータに対する補正処理および算出処理を行う。ここで、算出処理とは、プロファイルデータに基づいてワークＷの表面の任意の部分の寸法を算出する処理である。
【００３８】
インターフェース部１１を通して、波形生成部６により得られる波形データが外部に取り出される。また、インターフェース部１１を通して、ユーザが種々の設定および入力を行う。それにより、ＦＢ制御部７、波形処理部８および計測処理部１０が制御される。
【００３９】
（２）計測方法
図２および図３は、光学式変位計１００によるワークＷの断面形状の計測方法について説明するための模式図である。図４は、波形データの一例を示す模式図である。なお、図２および図３においては、矢印Ｘ，Ｙ，Ｚで示すように、互いに直交する３方向をＸ方向、Ｙ方向およびＺ方向と定義する。また、図４の波形データにおいては、横軸が画素の配列方向における受光素子３１上の位置に相当し、縦軸が受光量に相当する。
【００４０】
本例では、ワークＷ上の各計測点のＺ方向における位置（高さ）が計測される。ここで、計測点とは、受光素子３１の１回の露光期間に、光が照射されるワークＷ上の部分をいう。
【００４１】
計測時には、受光制御部４（図１）により受光素子３１が露光される。このとき、図２に示すように、投光部１からワークＷ上の計測点Ｐ１に照射された光は、受光レンズ３２を通して受光素子３１に入射する。この場合、点線で示すように、計測点Ｐ１の高さが異なると、受光素子３１への反射光の入射位置がＹ１方向において異なる。それにより、受光素子３１の受光量分布が異なる。
【００４２】
受光素子３１の各画素は、受光レンズ３２による集光面上において、Ｙ１方向に沿って配列されている。ここで、集光面とは、複数の集光点により形成される面をいう。
【００４３】
受光素子３１の受光量分布を示す受光信号は、波形生成部６（図１）により波形データに変換される。図４に示すように、波形データは、画素の配列方向における受光素子３１の受光量分布を示す。そのピーク位置は、計測点Ｐ１の高さに対応し、計測点Ｐ１の高さが変化すると、ピーク位置が変化する。すなわち、波形データのピーク位置に基づいて、計測点Ｐ１の高さを検出することができる。
【００４４】
図３に示すように、投光部１からの光は、走査部２３（図１）によりワークＷの表面でＸ方向に沿って走査される。所定のタイミングで、ワークＷからの反射光により受光素子３１が露光される。
【００４５】
この場合、投光部１からの投光方向に基づいてＸ方向における各計測点の位置が認識されるとともに、受光素子３１の受光量分布に基づいてＺ方向における各計測点の位置（各計測点の高さ）が検出される。それにより、Ｘ−Ｚ平面に沿ったワークＷの断面形状を２次元的に検出することができる。
【００４６】
さらに、連続的または断続的にワークＷをＹ方向に移動させる。Ｙ方向におけるワークＷの断続的な移動は、例えばＸ方向における光の往復走査毎に行う。それにより、ワークＷの表面形状を３次元的に検出することが可能になる。
【００４７】
図５は、光の走査と計測タイミングとの関係を示す模式図である。図５において、横軸は時間を示し、縦軸はＸ方向におけるワークＷ上での光の走査位置を示す。なお、図５において、Ｘ方向における光の走査位置は、投光部１からのＸ−Ｚ平面内での投光方向に対応する。
【００４８】
図５に示すように、投光部１からの光は、Ｘ方向に沿って一定の距離を往復走査される。本実施の形態では、計測が行われるときの投光方向が、光の走査の全ての往路および復路において共通である。すなわち、図５の例では、往路Ｆ１〜Ｆ３および復路Ｂ１〜Ｂ３において、Ｘ方向における光の走査位置が位置Ｐ１１〜Ｐ１５に一致するときに計測が行われる。
【００４９】
なお、ワークＷの表面に凹凸があると、投光方向が共通であってもＸ方向における光の走査位置が異なることがある。そのため、実際には、Ｘ方向において、計測時の光の走査位置が走査毎に僅かに異なることがある。
【００５０】
（３）フィードバック制御
図４に示した波形データにおいて、ピーク位置を正確に特定するためには、ピークの高さ（以下、ピークレベルと呼ぶ）が所定の範囲内にあることが望ましい。そこで、ＦＢ制御部７は、波形生成部６により得られる波形データに基づいて、ピークレベルが所定の範囲内になるように、投光制御部３、受光制御部４および波形生成部６をフィードバック制御する。
【００５１】
この場合、投光制御部３を制御することにより、投光素子２１の発光レベルを制御することができ、受光制御部４を制御することにより、受光素子３１の露光時間を制御することができ、波形生成部６を制御することにより、波形生成部６の回路ゲイン（波形生成部６内の増幅器の増幅率）を制御することができる。
【００５２】
ピークレベルは、受光素子３１の受光量と波形生成部６の回路ゲインとの積に比例する。受光素子３１の受光量は、投光素子２１の発光レベルと受光素子３１の露光時間との積に比例する。したがって、投光制御部３、受光制御部４および波形生成部６を制御することにより波形データのピークレベルを調整することができる。
【００５３】
本実施の形態では、共通の投光方向における前回の計測結果に基づいて、投光制御部３、受光制御部４および波形生成部６のフィードバック制御が行われる。すなわち、図５の例では、Ｘ方向における位置Ｐ１１〜Ｐ１５のそれぞれにおいて、前回の計測結果に基づいてフィードバック制御が行われる。
【００５４】
具体的には、往路Ｆ１のＸ方向における位置Ｐ１１での計測結果に基づいて、復路Ｂ１のＸ方向における位置Ｐ１１での計測時のフィードバック制御が行われる。復路Ｂ１のＸ方向における位置Ｐ１１での計測結果に基づいて、往路Ｆ２のＸ方向における位置Ｐ１１での計測時のフィードバック制御が行われる。往路Ｆ２のＸ方向における位置Ｐ１１での計測結果に基づいて、復路Ｂ２のＸ方向における位置Ｐ１１での計測時のフィードバック制御が行われる。Ｘ方向における位置Ｐ１２〜Ｐ１５においても同様に、前回の計測結果に基づいてフィードバック制御が行われる。
【００５５】
（４）透明体
投光部１とワークＷとの間に透明の対象物（以下、透明体と呼ぶ）が存在する場合について説明する。図６は、透明体が存在する場合の受光素子３１への入射光を示す図である。また、図７は、図６に示す状態での波形データを示す図である。図６においては、上記の図２および図３と同様に、互いに直交する３方向をＸ方向、Ｙ方向およびＺ方向と定義し、矢印Ｘ，Ｙ，Ｚで示している。
【００５６】
図６に示すように、投光部１とワークＷとの間に板状の透明体ＴＢが存在する場合、投光部１からの一部の光は透明体ＴＢの上面で反射し、他の一部の光は透明体ＴＢを透過して透明体ＴＢの下面で反射し、さらに残りの光は透明体ＴＢを透過してワークＷの表面で反射する。それにより、受光素子３１には、透明体ＴＢの上面での反射光、透明体ＴＢの下面での反射光、およびワークＷの表面での反射光がそれぞれ入射する。
【００５７】
この場合、図７に示すように、波形データに３つのピークＰＫ１，ＰＫ２，ＰＫ３が現れる。図７の例において、ピークＰＫ１が透明体ＴＢの上面での反射光に対応し、ピークＰＫ２が透明体ＴＢの下面での反射光に対応し、ピークＰＫ３がワークＷの表面での反射光に対応する。
【００５８】
この場合、ピークＰＫ１の位置に基づいて透明体ＴＢの上面の高さを検出することができ、ピークＰＫ２の位置に基づいて透明体ＴＢの下面の高さを検出することができ、ピークＰＫ３の位置に基づいてワークＷの表面の高さを検出することができる。また、ピークＰＫ１，ＰＫ２の位置に基づいて透明体ＴＢの厚みを検出することができる。
【００５９】
ピークＰＫ１，ＰＫ２，ＰＫ３の高さは、各反射面の反射率、および透明体ＴＢ内での光の透過率等に依存する。すなわち、透明体ＴＢの上面および下面の反射率ならびにワークＷの表面の反射率が高いほどピークＰＫ１，ＰＫ２，ＰＫ３がそれぞれ高くなる。また、透明体ＴＢ内での光の透過率が高いほどピークＰＫ２，ＰＫ３がそれぞれ高くなる。
【００６０】
なお、実際には、空気中での光の屈折率と透明体ＴＢ内での光の屈折率とが異なるので、透明体ＴＢの下面での反射光およびワークＷの表面での反射光は、透明体ＴＢの上面および下面で所定の角度屈折する。これにより、これらの反射光の受光素子３１への入射位置が変化し、波形データのピーク位置が変化する。したがって、透明体ＴＢの厚みが大きい場合等においては、透明体ＴＢ内での屈折率を考慮して透明体ＴＢの下面およびワークＷの表面の高さを検出する必要がある。
【００６１】
（５）透明体が存在する場合の制御
以下、上記のような透明体ＴＢが存在する場合のＦＢ制御部７の制御動作について説明する。なお、以下の説明においては、フィードバック制御をＦＢ制御と略記する。
【００６２】
（５−１）波形カウンタ
本実施の形態では、各計測点において、高さの検出が可能な複数の検出対象のうちいずれかの検出対象の高さが選択的に検出される。検出対象の選択は、波形カウンタの値（以下、カウンタ値と呼ぶ）に基づいて行われる。この場合、各カウンタ値は、複数の検出対象の各々に対応する。
【００６３】
なお、波形カウンタは、ＦＢ制御部７のプログラム上に設定され、カウンタ値は記憶部７０に記憶される。後述のＦＢ設定値、制御モード、ピーク出現範囲および探査ステップ値も同様に記憶部７０に記憶される。
【００６４】
図８は、カウンタ値と検出対象との対応関係の例を示す図である。図８においては、図６における透明体ＴＢの上面および下面ならびにワークＷの表面が検出対象として示される。
【００６５】
図８の例では、カウンタ値が「１」である場合、図７の波形データのピークＰＫ１の位置に基づいて透明体ＴＢの上面の高さが検出される。カウンタ値が「２」である場合、波形データのピークＰＫ２の位置に基づいて透明体ＴＢの下面の高さが検出される。カウンタ値が「３」である場合、波形データのピークＰＫ３の位置に基づいてワークＷの表面の高さが検出される。
【００６６】
カウンタ値は、光の走査方向が切り替わる毎に、「１」、「２」および「３」の順で繰り返し更新される。したがって、例えば図５の例において、往路Ｆ１の各計測点で透明体ＴＢの上面の高さが検出され、復路Ｂ１の各計測点で透明体ＴＢの下面の高さが検出され、往路Ｆ２の各計測点でワークＷの表面の高さが検出される。
【００６７】
なお、本実施の形態では、検出対象を特定するためのカウンタ値が走査毎に更新されるので、１回の走査においては共通の検出対象に対する計測が実施される。これに対して、計測点毎にカウンタ値が設定されてもよい。この場合、１回の走査において、計測点毎に異なる検出対象に対する計測を実施することが可能となる。
【００６８】
例えば、透明部分と不透明部分とが混在するワークに対して計測を行う場合、不透明部分に光が走査するときには、常に１つの検出対象（不透明部分の上面）に対する計測を行い、透明部分に光が走査するときには、２つの検出対象（透明部分の上面および下面）に対する計測を交互に行うことができる。そのため、反射面（検出対象）の数がワークの部位によって異なる場合でも、それらの反射面の高さを効率的に計測することができる。
【００６９】
（５−２）ＦＢ設定値
本実施の形態では、計測を行う投光方向毎に、ＦＢ設定値が設定される。すなわち、図５の例においては、Ｘ方向における位置Ｐ１１〜Ｐ１５のそれぞれに対応するようにＦＢ設定値が設定される。ＦＢ設定値は、投光素子２１の発光レベル、受光素子３１の露光時間および波形生成部６の回路ゲインに関する値を含む。ＦＢ設定値に基づいて、投光制御部３、受光制御部４および波形生成部６のＦＢ制御が行われる。
【００７０】
ＦＢ設定値は、複数の検出対象の各々に対応するように設定される。すなわち、図６の例においては、透明体ＴＢの上面および下面ならびにワークＷの表面にそれぞれ対応するＦＢ設定値が、計測を行う投光方向毎に設定される。
【００７１】
（５−３）計測モードおよび探査モード
本実施の形態では、計測点毎に制御モードが計測モードおよび探査モードのいずれかに選択的に切り替えられる。計測モードでは、各計測点で検出対象の高さを検出するための計測処理が行われる。ある計測点で計測処理を正常に行うことができなくなった場合、その計測点と同じ投光方向の制御モードが探査モードに切り替わる。探査モードでは、計測処理を正常に行うための探査処理が行われる。
【００７２】
（５−４）計測処理および探査処理
以下、ＦＢ制御部７の制御動作の詳細について説明する。図９〜図１２は、ＦＢ制御部７の制御動作を示すフローチャートである。
【００７３】
本例では、初期状態で各計測点の制御モードが計測モードに設定されている。
【００７４】
図９に示すように、まず、ＦＢ制御部７は、最初の走査の最初の計測点の処理を開始する（ステップＳ１）。次に、ＦＢ制御部７は、現在の計測点の制御モードが計測モードに設定されているか否かを判定する（ステップＳ２）。その計測点の制御モードが計測モードに設定されている場合、ＦＢ制御部７は、その計測点において計測処理を行う（ステップＳ３）。その計測点の制御モードが計測モードに設定されていない場合、すなわち探査モードに設定されている場合、ＦＢ制御部７は、その計測点において探査処理を行う（ステップＳ４）。計測処理および探査処理の詳細については後述する。
【００７５】
続いて、ＦＢ制御部７は、ステップＳ２またはステップＳ３において計測処理または探査処理を行った計測点が、光の走査の往路または復路における最後の計測点か否かを判定する（ステップＳ５）。例えば図５の往路Ｆ１においては、Ｘ方向における位置Ｐ１５が最後の計測点であり、復路Ｂ１においては、Ｘ方向における位置Ｐ１１が最後の計測点である。
【００７６】
計測処理または探査処理を行った計測点が、光の走査の往路または復路における最後の計測点である場合、ＦＢ制御部７は、カウンタ値を更新するとともに（ステップＳ６）、次の走査の最初の計測点の処理に移行し（ステップＳ７）、ステップＳ２の処理に戻る。計測処理または探査処理を行った計測点が光の走査の往路または復路における最後の計測点でない場合、ＦＢ制御部７は、カウンタ値を更新せずに次の計測点の処理に移行し（ステップＳ８）、ステップＳ２の処理に戻る。このようにして、光の走査の往路および復路毎にカウンタ値が更新される。
【００７７】
ステップＳ３の計測処理について詳細に説明する。使用者は、検出対象の数をインターフェース部１１を通して記憶部７０に予め設定する。また、使用者は、波形データにおいて各検出対象に対応するピークが出現すると想定される範囲をインターフェース部１１を通してピーク出現範囲として記憶部７０に予め設定する。図７の例では、ピークＰＫ１，ＰＫ２，ＰＫ３に対応する３つのピーク出現範囲を設定する。
【００７８】
図１０に示すように、まず、ＦＢ制御部７は、記憶部７０からカウンタ値を取得する（ステップＳ１１）。次に、ＦＢ制御部７は、取得したカウンタ値に対応する検出対象のピーク出現範囲を記憶部７０から取得する（ステップＳ１２）。ピーク出現範囲は、後述の探査処理によって検出対象毎に更新される。
【００７９】
次に、ＦＢ制御部７は、ステップＳ１１で取得したカウンタ値およびその時点での投光方向に対応するＦＢ設定値を取得する（ステップＳ１３）。次に、ＦＢ制御部７は、取得したＦＢ設定値に基づいて、図１の投光制御部３、受光制御部４および波形生成部６を制御する（ステップＳ１４）。それにより、受光素子３１が露光されるとともに、その受光量分布を示す波形データが得られる。
【００８０】
次に、ＦＢ制御部７は、ステップＳ１２，Ｓ１３，Ｓ１４で取得したピーク出現範囲、ＦＢ設定値および波形データに基づいて、制御確認処理を行う（ステップＳ１５）。制御確認処理において、ＦＢ制御部７は計測処理の制御状態の確認を行う。制御確認処理の詳細については後述する。
【００８１】
次に、ＦＢ制御部７は、制御確認処理の結果に基づいて、計測処理が安定に行われているか否かを判定する（ステップＳ１６）。
【００８２】
計測処理が安定に行われている場合、ＦＢ制御部７は、ステップＳ１４で取得した波形データに基づいて、ステップＳ１１で取得したカウンタ値に対応する検出対象の高さを検出する（ステップＳ１７）。具体的には、ＦＢ制御部７は、ステップＳ１２で取得したピーク出現範囲に現れるピークの位置に基づいて距離情報が生成されるように、波形処理部８（図１）を制御する。
【００８３】
次に、ＦＢ制御部７は、ステップＳ１４で取得した波形データに基づいて、ステップＳ１１で取得したカウンタ値およびその時点での投光方向に対応するＦＢ設定値を更新する（ステップＳ１８）。
【００８４】
上記のように、ピーク位置を正確に特定するためには、ピークレベルが所定の範囲内にあることが望ましい。そのため、ステップＳ１８において、ピークレベルが所定の範囲内に維持されるように、ステップＳ１４で取得された波形データに基づいて、ＦＢ設定値が更新される。その後、ＦＢ制御部７は、図９のステップＳ５の処理に進む。
【００８５】
ステップＳ１６において、計測処理が安定に行われていない場合、ＦＢ制御部７は、その投光方向における制御モードを探査モードに切り替える（ステップＳ１９）。その後、ＦＢ制御部７は、図９のステップＳ５の処理に進む。この場合、次回の走査および次々回の走査時のその投光方向における計測点においては、図９のステップＳ４の探査処理が行われる。
【００８６】
ステップＳ１５の制御確認処理について詳細に説明する。図１１に示すように、まず、ＦＢ制御部７は、ステップＳ１４で得られる波形データにピークが存在するか否かを判定する（ステップＳ５１）。波形データにピークが存在しない場合、ＦＢ制御部７は、計測処理が不安定であることを記憶部７０に記憶させ（ステップＳ５７）、図１０のステップＳ１６の処理に進む。
【００８７】
波形データにピークが存在する場合、ＦＢ制御部７は、ピークの数が予め設定された検出対象の数と等しいか否かを判定する（ステップＳ５２）。ピークの数が予め設定された検出対象の数と等しくない場合、ＦＢ制御部７は、計測処理が不安定であることを記憶部７０に記憶させ（ステップＳ５７）、図１０のステップＳ１６の処理に進む。
【００８８】
ピークの数が予め設定された検出対象の数と等しい場合、ＦＢ制御部７は、ステップＳ１２で取得したピーク出現範囲内にピークが存在するか否かを判定する（ステップＳ５３）。ピーク出現範囲内にピークが存在しない場合、ＦＢ制御部７は、計測処理が不安定であることを記憶部７０に記憶させ（ステップＳ５７）、図１０のステップＳ１６の処理に進む。
【００８９】
ピーク出現範囲内にピークが存在する場合、ＦＢ制御部７は、そのピークのピークレベルが規定範囲内であるか否かを判定する（ステップＳ５４）。ピークレベルが規定範囲内でない場合、ＦＢ制御部７は、ＦＢ制御が不安定であることを記憶部７０に記憶させ（ステップＳ５７）、図１０のステップＳ１６の処理に進む。
【００９０】
ピークレベルが規定範囲内である場合、ＦＢ制御部７は、ステップＳ１３で取得したＦＢ設定値が規定範囲内にあるか否かを判定する（ステップＳ５５）。ＦＢ設定値が規定範囲内にない場合、ＦＢ制御部７は、計測処理が不安定であることを記憶部７０に記憶させ（ステップＳ５７）、図１０のステップＳ１６の処理に進む。
【００９１】
ＦＢ設定値が規定範囲内にある場合、ＦＢ制御部７は、計測処理が安定に行われていることを記憶部７０に記憶させ（ステップＳ５６）、図１０のステップＳ１６の処理に進む。
【００９２】
ステップＳ４の探査処理について詳細に説明する。図１２に示すように、まず、ＦＢ制御部７は、探査ステップ値を取得する（ステップＳ３１）。探査ステップ値は、「０」または「１」からなり、探査処理の進行状態を示す。初期状態では、探査ステップ値は「０」である。
【００９３】
次に、ＦＢ制御部７は、ステップＳ３１で取得した探査ステップ値が「０」であるか否かを判定する（ステップＳ３２）。
【００９４】
探査ステップ値が「０」である場合、ＦＢ制御部７は、投光制御部３および受光制御部４を制御することにより、受光素子３１を露光させる。この場合、ＦＢ制御部７は、受光素子３１の受光量が最大となるように投光制御部３および受光制御部４を制御する（ステップＳ３３）。波形生成部６により得られた波形データは記憶部７０に記憶される。
【００９５】
次に、ＦＢ制御部７は、得られた波形データにおいて認識可能なピークの数が、予め設定された検出対象の数と等しいか否かを判定する（ステップＳ３４）。この場合、ＦＢ制御部７は、一定の条件を満たすピークのみを認識することができる。例えば、ＦＢ制御部７は、一定範囲内の高さを有するピークのみを認識することができる。
【００９６】
認識可能なピークの数が、予め設定された検出対象の数と等しい場合、ＦＢ制御部７は、認識した各ピークの出現位置に基づいてそれぞれのピーク出現範囲を更新するとともに（ステップＳ３５）、認識した各ピークの高さに基づいてそれぞれのＦＢ設定値を更新する（ステップＳ３６）。
【００９７】
次に、ＦＢ制御部７は、制御モードを計測モードに切り替える（ステップＳ３７）。その後、ＦＢ制御部７は、図９のステップＳ５の処理に進む。
【００９８】
認識可能なピークの数が、予め設定された検出対象の数と異なる場合、ＦＢ制御部７は、探査ステップ値を「１」に更新し（ステップＳ３８）、図９のステップ５の処理に進む。
【００９９】
ステップＳ３２において、探査ステップ値が「１」である場合、すなわち、その投光方向における前回の計測点において、認識可能なピークの数が予め設定された検出対象の数と異なっていた場合、ＦＢ制御部７は、ステップＳ３９の処理に進む。
【０１００】
この場合、ＦＢ制御部７は、その投光方向における前回の計測点で得られた波形データ（記憶部７０に記憶された波形データ）に基づいて、各ピークの情報をより詳細に取得するための処理を行う。そして、ＦＢ制御部７は、複数の検出対象に対応するピーク出現範囲を更新するとともに（ステップＳ３９）、その投光方向における複数の検出対象のＦＢ設定値を更新する（ステップＳ４０）。ステップＳ３９，Ｓ４０の処理の詳細については後述する。
【０１０１】
次に、ＦＢ制御部７は、探査ステップ値を「０」に更新するとともに（ステップＳ４１）、制御モードを計測モードに切り替える（ステップＳ４２）。その後、ＦＢ制御部７は、図９のステップＳ５の処理に進む。
【０１０２】
ここで、ステップＳ３９，Ｓ４０の処理について、図１３を参照しながら詳細に説明する。図１３は、探査処理時におけるピーク位置およびＦＢ設定値の取得方法を示す図である。図１３においては、図７の例と同様の波形データが示される。
【０１０３】
ＦＢ制御部７は、記憶部７０に記憶された波形データを高さ方向に小さい状態から大きくなるように徐々に拡大する。それにより、図１３（ａ）〜（ｄ）に示すように、ピークＰＫ１，ＰＫ２，ＰＫ３のピークレベルが徐々に大きくなる。波形データ上には、所定の高さのしきい値Ｔｒが設定される。しきい値Ｔｒは、例えば望ましいピークレベルの高さに設定される。なお、上記のように、受光素子３１の受光量は最大に調整されている。
【０１０４】
図１３（ａ）の状態では、ピークＰＫ１のピークレベルがしきい値Ｔｒとほぼ一致している。このときに、ピークＰＫ１の位置が検出される。そして、その検出位置に基づいて、ピークＰＫ１に対応するピーク出現範囲が更新される。また、このときの波形データの拡大率に基づいて、ピークＰＫ１に対応するＦＢ設定値が更新される。
【０１０５】
図１３（ｂ）の状態では、ピークＰＫ２のピークレベルがしきい値Ｔｒとほぼ一致している。このときに、ピークＰＫ２の位置が検出される。そして、その検出位置に基づいて、ピークＰＫ２に対応するピーク出現範囲が更新される。また、このときの波形データの拡大率に基づいて、ピークＰＫ２に対応するＦＢ設定値が更新される。
【０１０６】
図１３（ｃ）の状態では、ピークＰＫ３のピークレベルがしきい値Ｔｒとほぼ一致している。このときに、ピークＰＫ３の位置が検出される。そして、その検出位置に基づいて、ピークＰＫ３に対応するピーク出現範囲が更新される。また、このときの波形データの拡大率に基づいて、ピークＰＫ３に対応するＦＢ設定値が更新される。
【０１０７】
このようにして、探査モードの制御が行われた計測点と同じ投光方向における次回の計測点においては、探査処理によって更新されたピーク出現範囲およびＦＢ設定値を用いて、計測処理が行われる。
【０１０８】
（６）効果
このように、本実施の形態では、ＦＢ制御部７により各計測点において計測モードおよび探査モードのいずれかの制御が選択的に行われる。探査モードでは、高さの検出が行われないので、プロファイルデータに欠損が生じる。
【０１０９】
この場合、計測点単位で計測モードと探査モードとが切り替えられることにより、連続的に複数の計測点でプロファイルデータの欠損が発生することが防止される。それにより、高い精度のプロファイルデータを生成することができ、各検出対象の断面形状を正確に検出することができる。
【０１１０】
また、本実施の形態では、各投光方向において、検出対象毎に投光制御部３、受光制御部４および波形生成部６のフィードバック制御が行われる。それにより、投光方向によって各検出対象の表面状態が異なる場合、および検出対象によって受光素子３１の受光量が異なる場合でも、各検出対象に対応するピークレベルを確実に適正な値に調整することができる。したがって、各計測点の高さを正確に検出することができる。
【０１１１】
（７）他の制御例
（７−１）
探査モードに設定された計測点におけるプロファイルデータの欠損をその前後の計測点における検出結果に基づいて補間してもよい。
【０１１２】
具体的には、例えば図５において、往路Ｆ１のＸ方向における位置Ｐ１３の制御モードが探査モードに設定され、往路Ｆ１のＸ方向における位置Ｐ１２，Ｐ１４の制御モードが計測モードに設定される。その場合、位置Ｐ１２における距離情報と位置Ｐ１４における距離情報との平均値が、位置Ｐ１３における距離情報として設定され、それに基づいてプロファイルデータが作成される。
【０１１３】
これにより、探査モードにおいて一部の計測点で高さの検出が行われなくても、ほぼ完全な状態のプロファイルデータを生成することができる。
【０１１４】
（７−２）
上記の例では、透明体ＴＢの上面、透明体ＴＢの下面およびワークＷの表面が高さの検出対象として設定されるが、計測範囲によって検出対象が変更されてもよい。
【０１１５】
図１４および図１５は、検出対象の他の例を示す概観斜視図および断面図である。図１４および図１５においては、上記の図２および図３と同様に、互いに直交する３方向をＸ方向、Ｙ方向およびＺ方向と定義し、矢印Ｘ，Ｙ，Ｚで示している。
【０１１６】
図１４および図１５の例では、Ｙ方向に延びる透明体ＴＣがワークＷ上に配置されている。透明体ＴＣの下面はワークＷの表面に接触している。透明体ＴＣのＸ方向における幅は、ワークＷのＸ方向における幅よりも小さい。
【０１１７】
図１５において、ワークＷおよび透明体ＴＣのＸＺ平面における断面が示される。Ｘ方向に沿って光を走査させる場合、透明体ＴＣの両側の領域Ｒ１，Ｒ２においては、ワークＷの表面でのみ光が反射する。一方、透明体ＴＣが配置される領域Ｒ３においては、透明体ＴＣの上面および透明体ＴＣの下面（ワークＷの表面）で光が反射する。
【０１１８】
この場合、領域Ｒ１，Ｒ２においては、ワークＷの表面のみが検出対象として設定され、領域Ｒ３においては、ワークＷの表面および透明体ＴＣの上面が検出対象として設定される。なお、ワークＷの外側の領域Ｒ４，Ｒ５においては、高さの検出が行われない。
【０１１９】
なお、領域Ｒ１，Ｒ２と領域Ｒ３との境界付近においては、透明体ＴＣおよびワークＷの高さを正確に検出することが困難な場合がある。これは、例えば透明体ＴＣの側面で光が反射および透過することにより、受光素子３１への反射光の入射位置がずれることによる。したがって、透明体ＴＣの側面近傍の領域Ｒ６，Ｒ７においては、高さの検出が行われなくてもよい。
【０１２０】
（７−３）
ＦＢ制御部７は、探査モードでの探査処理時に適宜検出対象の数を検出してもよい。具体的には、例えば図１３に示した処理において、ＦＢ制御部７は、波形データを高さ方向に小さい状態から大きくなるように徐々に拡大し、その過程で、しきい値Ｔｒよりも大きくなるピークの数をカウントする。これにより、波形データにおけるピークの数を検出することができる。その結果、その時点における検出対象の数を検出することができる。
【０１２１】
（７−４）
検出対象の概要（形状または数等）のが明らかでない場合には、各投光方向において一定周期毎に制御モードを計測モードから探査モードに切り替えてもよい。この場合、ＦＢ制御部７が認識する検出対象の状態と実際の検出対象の状態とが異なったまま計測処理が行われることが防止される。それにより、検出対象の形状または数等が明らかでない場合においても、適正に計測を行うことができる。
【０１２２】
（７−５）
検出対象の概要が明らかでない場合において、ＦＢ制御部７は、一旦検出対象の全体の概要を検出して記憶し、その後、計測モードおよび探査モードの制御を行って各検出対象の高さの検出を行ってもよい。
【０１２３】
また、検出した検出対象の概要を図示しない表示装置により画像として表示し、ユーザがその画像上で計測範囲等の詳細な設定を行ってもよい。
【０１２４】
（７−６）
図示しない表示装置により検出対象の概要を表す画像を表示し、ユーザがその画像上で高さの検出を行わない部分を指定してもよい。
【０１２５】
図１６は、検出対象の概要を表す画像（以下、設定画像と呼ぶ）の一例を示す図である。図１６の例は、図１４および図１５のワークＷおよび透明体ＴＣに対応する設定画像である。図１７は、図１６の設定画像を構成する波形データを示す図である。
【０１２６】
図１６の設定画像は、各投光方向での波形データに基づいて作成される。設定画像の横軸は、投光方向に相当する。設定画像の縦軸は、受光素子３１の画素の配列方向（図２のＹ１方向）における位置に相当し、波形データの横軸に相当する。また、設定画像上におけるコントラストの違いにより、各波形データのピーク位置が表される。すなわち、設定画像上には、各投光方向での波形データのピーク位置が表される。なお、図１６においては、ドット状のハッチングが付された部分がピーク位置に対応する。
【０１２７】
図１７（ａ）の波形データは、図１６の設定画像における投光方向Ｄ１での波形データに相当する。図１７（ｂ）の波形データは、図１６の設定画像における投光方向Ｄ２での波形データに相当する。
【０１２８】
図１７（ａ）の波形データのピークＰＫ１１の位置は、図１５の領域Ｒ１におけるワークＷの表面の高さに対応する。図１７（ｂ）の波形データのピークＰＫ１２、ＰＫ１３の位置は、図１５の領域Ｒ３における透明体ＴＣの上面の高さおよびワークＷの表面の高さにそれぞれ対応する。
【０１２９】
なお、図１５の領域Ｒ３においては、ワークＷの表面で反射した光が、透明体ＴＣ内を通って受光素子３１に入射する。一方、領域Ｒ１，Ｒ２においては、ワークＷの表面で反射した光が、透明体ＴＣ内を通らずに受光素子３１に入射する。そのため、領域Ｒ３においてワークＷの表面で反射した光と、領域Ｒ１，Ｒ２においてワークＷの表面で反射した光とで、受光素子３１への入射位置が僅かに異なる。したがって、投光方向Ｄ１でのワークＷの表面の高さに対応するピーク位置は、投光方向Ｄ１でのワークＷの表面の高さに対応するピーク位置と僅かに異なる。
【０１３０】
この設定画像により、ユーザが検出対象の概要を視覚的に認識することができる。ユーザは、設定画像上において、高さの検出を行わないマスク領域ＰＬを設定する。この場合、マスク領域ＰＬ内に位置するピークに関しては、距離情報が生成されない。したがって、マスク領域ＰＬに対応する検出対象の部分の形状は、プロファイルデータ上に現れない。
【０１３１】
（８）他の実施の形態
投光素子２１としては、レーザダイオードに限らず、ＬＥＤ（発光ダイオード）等の他の素子を用いることもできる。受光素子３１としては、ＣＭＯＳセンサに限らず、ＣＣＤ（電荷結合素子）センサ等の他の素子を用いることもできる。走査部２３としては、ガルバノスキャナに限らず、ＭＥＭＳ（微小電子機械システム）、ポリゴンミラー、音叉または他の光学素子等を用いることもできる。
【０１３２】
（９）請求項の各構成要素と実施の形態の各部との対応関係
以下、請求項の各構成要素と実施の形態の各部との対応の例について説明するが、本発明は下記の例に限定されない。
【０１３３】
上記実施の形態では、投光素子２１が光発生部の例であり、走査部２３が光走査手段の例であり、波形生成部６が波形データ生成部の例であり、ＦＢ制御部７、投光制御部３および受光制御部４が制御手段の例である。また、計測モードが第１のモードの例であり、探査モードが第２のモードの例である。
【０１３４】
請求項の各構成要素として、請求項に記載されている構成または機能を有する他の種々の要素を用いることもできる。
【産業上の利用可能性】
【０１３５】
本発明は、対象物の断面形状の計測に有効に利用することができる。
【符号の説明】
【０１３６】
１  投光部
２  受光部
３  投光制御部
４  受光制御部
６  波形生成部
７  ＦＢ制御部
２１  投光素子
２３  走査部
３１  受光素子
１００  光学式変位計
ＴＢ，ＴＣ  透明体
Ｗ  ワーク
【図１】
2010197114.tif 000003
【図２】
2010197114.tif 000004
【図３】
2010197114.tif 000005
【図４】
2010197114.tif 000006
【図５】
2010197114.tif 000007
【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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