(57)【要約】【課題】設備を簡素化して設備コストを抑えるとともに、板状の薄物を基材として互いに接合できるようにする。【解決手段】互いに接合する電解質膜１とガスケット３とを吸着板１１，４１にそれぞれ真空吸引により吸着保持させるとともに、固定基台９と可動基台３９との間のシール部材１３に囲まれた密閉空間１５内を、吸着板１１，４１に対する真空吸引よりも低い真空度となるよう真空吸引して減圧する。このとき電解質膜１とガスケット３とは互いに離間した状態であり、この状態から油圧プレス機械４９により、電解質膜保持具５をガスケット保持具７に向けて加圧して荷重を付与し、シール部材１３を圧縮させて電解質膜１とガスケット３とを互いに加圧接触させて接合する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに接合する一対の基材を、それぞれ対応する基材保持部に背後から真空吸引により吸着保持させた後、前記各基材保持部を、前記一対の基材が互いに離間した状態で対向するよう互いに接近させ、かつ、前記各基材保持部相互間に位置して前記一対の基材の外側に位置するシール部材によってその内側の基材が位置する側に密閉空間を形成し、この密閉空間を、前記一対の基材が互いに離間した状態を維持しつつ真空吸引して減圧させて、前記シール材を圧縮させつつ前記各基材保持部を互いに接近移動させ、前記一対の基材を互い加圧接触させて接合することを特徴とする基材の接合方法。
【請求項２】
前記各基材保持部の前記一対の基材を保持させるための真空度を、前記密閉空間の真空度よりも高く設定することを特徴とする請求項１に記載の基材の接合方法。
【請求項３】
前記各基材保持部の前記一対の基材を保持させるための真空吸引系統と、前記密閉空間を真空吸引するための真空吸引系統とを互いに別系統とし、かつ、前記密閉空間側の真空吸引系統に設けた調整機構によって真空吸引の際の真空度を調整することを特徴とする請求項１または２に記載の基材の接合方法。
【請求項４】
互いに接合する一対の基材を、それぞれ背後から真空吸引により保持する一対の基材保持部と、前記真空吸引を行う基材吸引部と、前記各基材保持部相互間の前記一対の基材の外側に位置し、かつ、前記各基材保持部を、前記一対の基材が互いに離間した状態で対向するよう互いに接近させた状態でその内側の基材が位置する側に密閉空間を形成するシール部材と、前記密閉空間を真空吸引する密閉空間吸引部と、前記シール材を圧縮させつつ前記各基材保持部相互を接近移動させ、前記一対の基材相互を加圧接触させて接合する加圧部、とを有することを特徴とする基材の接合装置。
【請求項５】
前記基材保持部は、前記基材が接触する多孔質体を基台の表面に備え、この多孔質体に、前記基台に設けた排気通路の一端を連通させ、前記排気通路の他端を外部に設けた前記基材吸引部に接続したことを特徴とする請求項４に記載の基材の接合装置。
【請求項６】
前記各基材保持部を互いに接近移動させて前記一対の基材が互いに離間した状態を維持するための、前記接近移動を規制する規制手段を、前記一対の基材保持部相互間に設けたことを特徴とする請求項４または５に記載の基材の接合装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、一対の基材を互いに接合する基材の接合方法及び基材の接合装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、一対の基材相互を接合する際に、基材相互間の接合面における気泡を排除するために、基材を保持する保持部全体を収容部によって基材とともに密閉空間内に収容し、該密閉空間を真空吸引するものが知られている(下記特許文献１参照)。
【０００３】
一方、下記特許文献２には、基材を上下から加圧する一対のプレス加熱板を設け、この一対のプレス加熱板相互間における基材の外周縁の外側位置にシール部材を設けることで、シール部材の内側の基材の設置領域のみ真空吸引するものが開示されている。
【特許文献１】特開２００６−４８８５５号公報
【特許文献２】特開２０００−３２５７７３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、上記した特許文献１に記載のものは、基材を保持する保持部全体を基材とともに密閉空間内に収容しているので、設備全体が大掛かりとなって設備コストが高くなる。
【０００５】
一方、特許文献２に記載のものは、シール部材の内側の基材の設置領域のみ真空吸引するので、特許文献１に記載のものに比較して設備が簡素化でき設備コストを抑えることができる。
【０００６】
ところが、特許文献２に記載のものは、一方のプレス加熱板に設けた金属フランジの内側に、他方のプレス加熱板に設けた金属フランジの貫入部を貫入してその内側に密閉空間を形成する構造であることから、基材として板状の薄物を互いに接合することが困難である。すなわち、一対の薄物基材を、上下の各プレス加熱板を保持部としてそれぞれ保持し接合する際には、各保持部（プレス加熱板）に金属フランジが対向配置されているので、該金属フランジが邪魔となって、一対の薄物基材相互を接触させることが困難である。
【０００７】
そこで、本発明は、設備を簡素化して設備コストを抑えるとともに、板状の薄物を基材として互いに接合できるようにすることを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、一対の基材をそれぞれ対応する基材保持部に背後から真空吸引により吸着保持させた後、これら一対の基材が互いに離間した状態となるよう基材保持部相互を互いに接近させ、かつ、一対の基材の外側に位置するシール部材によってその内側の密閉空間を真空吸引して減圧させ、シール材を圧縮させつつ各基材保持部を互いに接近移動させ、一対の基材を互い加圧接触させて接合することを特徴とする。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、一対の基材の外側に位置するシール部材によってその内側の基材が位置する側に密閉空間を形成しているので、基材を保持する保持部全体を基材とともに密閉空間内に収容する場合に比較して、設備を簡素化して設備コストを抑えることができる。また、一対の基材を、基材保持部により背後から真空吸引により吸着保持し、かつ、一対の基材の外側に位置するシール部材によってその内側の基材が位置する側に密閉空間を形成しているので、一対の基材相互を接合する際には、シール部材を圧縮させるようにして基材保持部相互を接近させればよく、したがって板状の薄物を基材として互いに接合することが容易にできる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下、本発明の実施の形態を図面に基づき説明する。
【００１１】
図１は、本発明の第１の実施形態に係わる基材の接合装置を示す断面図で、ここでの一対の基材は、燃料電池で使用される固体高分子電解質膜（以下、単に電解質膜と呼ぶ）１とガスケット３とで構成している。電解質膜１は、厚さ１２５μｍの例えば矩形状にカットしたもので、ガスケット３は、電解質膜１と外形がほぼ同じ矩形状でかつ電解質膜１の周縁に沿って接合するように中央部分を削除した枠形状とし、厚さ１５０μｍとしている。
【００１２】
このガスケット３の枠形状の内側に対応する電解質膜１の領域が、燃料電池として組み付けたときの電極（発電領域）を構成することになる。
【００１３】
電解質膜１は、図１中で下部に位置する基材保持部としての電解質膜保持具５に保持され、ガスケット３は、図１中で上部に位置する基材保持部としてのガスケット保持具７に保持される。これら電解質膜保持具５及びガスケット保持具７は、回動連結具８によって互いに回動可能に連結され、ここではガスケット保持具７が、図１に示す互いに対向する状態と、後述する図２に示す離反した状態との間を変位可能なように回動可能となっている。
【００１４】
電解質膜保持具５は、固定基台９の表面の中央に凹部９ａを形成し、この凹部９ａに多孔質体としての吸着板１１を収容固定する。このとき、固定基台９の表面と吸着板１１の表面とはほぼ同一面を形成している。吸着板１１としては、金属多孔質体であれば、例えば、金属メッシュ、金属繊維を編み合わせたもの、金属粉末を接着剤によって固形化したものでよく、セラミックス多孔質体であれば、多孔質カーボン，酸化物系（アルミナ）多孔質板でよい。
【００１５】
電解質膜１及びガスケット３の外周縁のさらに外側における固定基台９上には、これら電解質膜１及びガスケット３の周囲を囲むようにシール部材１３を配置して、このシール部材１３の内側の電解質膜１及びガスケット３を設けた領域に密閉空間１５を形成する。
【００１６】
そして、この密閉空間１５内に対し、空気を吸引して圧力を低下させる密閉空間吸引部としての真空吸引ポンプ１７を設けている。すなわち、密閉空間１５に対応する位置の固定基台９には、一端が密閉空間１５に開口する排気通路１９を複数形成し、これら複数の排気通路１９のそれぞれの他端を、固定基台９内に設けてある環状の連通路２１によって互いに連通する。
【００１７】
この環状の連通路２１の一部位に対応する位置の固定基台９には、下部に突出する突出部２３を形成し、この突出部２３に、連通路２１に一端が連通する排気通路２５を形成し、排気通路２５の他端に、前記した真空吸引ポンプ１７を配管２７を介して接続する。また、突出部２３には、排気通路２５を開閉する開閉弁２９を設けている。
【００１８】
さらに、固定基台９内には、吸着板１１の多孔質部に一端が連通する排気通路３１を形成し、排気通路３１の他端は配管３３の一端に接続してその途中部位には、開閉弁３５を取り付けるとともに、配管３３の他端には基材吸引部としての真空吸引ポンプ３７を接続する。
【００１９】
一方、ガスケット保持具７は、可動基台３９の表面に、前記ガスケット３の枠形状に対応する凹部３９ａを形成し、この凹部３９ａに凹部３９ａとほぼ同形状の多孔質体としての吸着板４１を収容固定する。このとき、可動基台３９の表面と吸着板４１の表面とはほぼ同一面を形成している。吸着板４１は、前記した吸着板１１と同様のものを使用する。
【００２０】
また、可動基台３９内には、吸着板４１の多孔質部に一端が連通する排気通路４３を形成し、排気通路４３の他端は配管４５の一端に接続してその他端に開閉弁４７を取り付ける。この配管４５の他端は、図示しない接続用配管を介して前記した真空吸引ポンプ３７に着脱可能に接続する。
【００２１】
次に、上記した接合装置による接合方法を説明する。図２（ａ）に示すように、ガスケット保持具７を電解質膜保持具５に対して離反させてこれら各保持具５，７をその表面が互いにほぼ同一平面上となるようにする。上記図２（ａ）の状態で、図２（ｂ）に示すように、電解質膜保持具５側の吸着板１１上に、電解質膜１を載置してセットする。この際、電解質膜１は、その外周縁全周が吸着板１１の外周縁全周よりも外側に位置し、吸着板１１の全域を覆う状態となる。
【００２２】
一方、ガスケット保持具７の吸着板４１上には、ガスケット３を載置してセットする。この際、枠形状のガスケット３は、その外周縁全周が吸着板４１の外周縁全周よりも外側に位置するとともに、内周縁全周が吸着板４１の内周縁全周よりも内側に位置し、これによりガスケット３は吸着板４１の全域を覆うことになる。
【００２３】
そして、この状態で、開閉弁３５，４７を開放させ、真空吸引ポンプ３７を作動させることで、真空吸引によって電解質膜１を吸着板１１に吸着保持させるとともに、ガスケット３を吸着板４１に吸着保持される。なお、このとき真空吸引ポンプ３７は、図１に示すように配管３３に接続されるとともに、図示しない接続用配管によって配管４５にも接続されている。
【００２４】
また、このときの真空吸引ポンプ３７による真空吸引系統の真空度は５ｈＰａ以下とし、吸着保持後は開閉弁３５，４７を閉じることで、５ｈＰａ以下の真空度を確保しておく。
【００２５】
電解質膜１及びガスケット３を吸着板１１及び４１にそれぞれ吸着保持させたら、図３（ａ）に示すように、ガスケット保持具７を、回動連結具８を支点として回動させて電解質膜保持具５に接近させ、これら各保持具５，７相互を対向させた状態とする。このとき、図１に示してある真空吸引ポンプ３７と配管４５とを接続する図示しない接続用配管は、例えば可撓性を有する部材で構成して上記したガスケット保持具７の回動変位に追従可能とする。
【００２６】
上記図３（ａ）の状態では、シール部材１３は対向する可動基台３９に接触することで前記した密閉空間１５を形成するが、電解質膜１とガスケット３とは互いに離間した状態となっている。
【００２７】
そして、図３（ａ）の状態で開閉弁２９を開放させてから、図３（ｂ）に示すように、真空吸引ポンプ１７を作動させることで、密閉空間１５内を真空吸引して１０ｈＰａ以下まで減圧する。このときの真空吸引動作に伴ってシール材１３は徐々に圧縮され、規定の圧力まで減圧した時点での吸着板１１，４１相互間の距離は、３００μｍ以上とする。したがって、このとき電解質膜１とガスケット３とは、依然として互いに離間状態であり、その後は、開閉弁２９を閉じておく。
【００２８】
上記した密閉空間１５内に対する真空吸引作業においては、図示しない電磁弁などの駆動機構によって、もしくは手動によって、開閉弁２９の開度を制御することで、規定の圧力（１０ｈＰａ以下）まで減圧する。
【００２９】
次に、前記図１に示すように、加圧部としての油圧プレス機械４９により、ガスケット保持具７を電解質膜保持具５に向けて加圧して荷重を付与し、シール部材１３をさらに圧縮させて電解質膜１とガスケット３とを互いに加圧接触させて接合する。
【００３０】
なお、加圧部としては油圧プレス機械４９に限ることはなく、空圧や電動モータを利用するなど他の機構を用いてもよい。
【００３１】
そして、上記した加圧状態を所定時間継続させた後、油圧プレス機械４９による荷重付与を解除し、さらに各真空吸引ポンプ１７，３７の動作を停止させるか、あるいは真空ポンプ１７，３７の接続を解除するなどすることで、これらの真空吸引系統を大気圧に戻し、さらに可動基台３９を前記図２に示す状態となるように、固定基台９に対し回動連結具８を支点として回動させて離間させる。その後、電解質膜１とガスケット３との接合体を固定基台９上から取り出す。
【００３２】
このようにして製造した電解質膜１とガスケット３とからなる接合体においては、真空吸引する際に、前記図３（ｂ）に示すように、電解質膜１とガスケット３とが互いに離間した状態を維持することで、接合面での気泡発生を抑えることができ、これらを燃料電池に組み込んだ際の製品としての信頼性を高めることができる。
【００３３】
そして、このようにして製造した接合体は、一対の基材である電解質膜１及びガスケット３の外側に位置するシール部材１３によってその内側の電解質膜１及びガスケット３が位置する側に密閉空間１５を形成しているので、電解質膜１及びガスケット３を保持する保持部全体を電解質膜１及びガスケット３とともに密閉空間内に収容する場合に比較して、設備を簡素化して設備コストを抑えることができる。
【００３４】
また、本実施形態では、電解質膜１及びガスケット３を、吸着板１１及び４１を介して背後から真空吸引により吸着保持し、かつ、電解質膜１及びガスケット３の外側に位置するシール部材１３によってその内側の電解質膜１及びガスケット３が位置する側に密閉空間１５を形成している。このため、電解質膜１及びガスケット３相互を接合する際には、シール部材１３を圧縮させるように固定基台９と可動基台３９とを互いに接近させればよく、したがって基材として板状の薄物である電解質膜１とガスケット３とを互いに接合することが容易にできる。
【００３５】
また、本実施形態では、電解質膜保持具５及びガスケット保持具７により電解質膜１及びガスケット３をそれぞれ保持させるための真空吸引による真空度を、密閉空間１５の真空度よりも高く設定している。これにより、電解質膜１及びガスケット３を電解質膜保持具５及びガスケット保持具７に、より確実に保持させることができ、もって電解質膜１とガスケット３との互いの離間状態をより確実に維持できて気泡発生をより確実に抑えることが可能となる。
【００３６】
また、本実施形態では、電解質膜保持具５及びガスケット保持具７の電解質膜１及びガスケット３を保持させるための真空吸引系統と、密閉空間１５を真空吸引するための真空吸引系統とを互いに別系統としているが、この際、密閉空間１５側の真空吸引系統に調整機構を設けて真空吸引の際の真空度を調整してもよい。
【００３７】
電解質膜１は、水分を吸湿しているので、この吸湿状態を確保するために、真空中に晒される時間を可能な限り短くかつより低真空の状態で接合することや、品質安定化のために真空度がより安定する状況下で接合することが望まれる。これらの条件を満たすために、以下のような調整機構によって真空度を調整する。
【００３８】
例えば図４（ａ）に示すように、固定基台９に、一端が密閉空間１５に連通するリーク弁通路５１を設け、このリーク弁通路５１の他端を外部に設けたリーク弁５３に接続する。密閉空間１５に対し真空吸引している際に、リーク弁５３を適宜開放することで、規定の真空度までの到達速度を遅らせる。
【００３９】
また、図４（ｂ）に示すように、固定基台９の突出部２３に、一端が排気通路２５に連通するレデューサ通路５５を設け、このレデューサ通路５５の他端を外部に設けたレデューサ５７に接続する。レデューサ５７は、例えば排気通路２５を絞るなどして排気流量を少なくするもので、密閉空間１５に対し真空吸引している際に、レデューサ５７を適宜調整することで、規定の真空度までの到達速度を遅らせる。
【００４０】
図５は、真空吸引する際の真空度と時間との相関図である。例えば曲線ＣやＢの場合は、曲線Ａに比較して真空度が急激に変化しかつ高真空となっているが、このような急激な真空度の変化や高真空状態は、電解質膜１が破損するなどの悪影響を及ぼす。このため、曲線Ａのように規定の真空度までの到達速度を緩やかして遅くしかつ、到達真空度をより低くすることで、電解質膜１を保護することができる。
【００４１】
また、本実施形態では、電解質膜保持具５及びガスケット保持具７は、電解質膜１及びガスケット３が接触する吸着板１１及び４１を固定基台９及び可動基台３９の表面にそれぞれ備え、これら各吸着板１１及び４１に、固定基台９及び可動基台３９に設けた排気通路３１及び４３の一端を連通させ、排気通路３１及び４３の他端を外部に設けた真空吸引ポンプ３７に連通させている。
【００４２】
これにより、真空吸引ポンプ３７を作動させることにより、吸着板１１及び４１を介して電解質膜１及びガスケット３を電解質膜保持具５及びガスケット保持具７に、より確実に保持させることができ、気泡発生を抑制する上で有効である。
【００４３】
図６（ａ）は、本発明の第２の実施形態に係わる基材の接合装置を示す断面図である。この実施形態は、固定基台９を台座５９上に設置し、可動基台３９を固定基台９よりも外形寸法を大きくして固定基台９の周縁に対して外側に突出した突出部３９ａと台座５９との間に、規制ピン６１を介在させている。
【００４４】
規制ピン６１は、上端を可動基台３９の下面に接触させる一方、下端を台座５９の上面に設けたピン挿入穴５９ａ内に移動可能に挿入し、ピン挿入穴５９ａの下部の台座５９内に設けた油圧機構６３によって支持させてある。したがって、可動基台３９は固定基台９に対し規制ピン６１を介して接近離反移動可能である。上記した規制ピン６１と油圧機構６３とにより規制手段を構成している。
【００４５】
なお、図６では前記図１に示してある排気通路３１，４３や真空吸引ポンプ１７，３７などの真空吸引系統は省略してあり、これらの構成については、図１に示した第１の実施形態と同様であり、また図１のものと同一構成要素には同一符号を付してある。
【００４６】
油圧機構６３は、シール部材１３が可動基台３９にほぼ接触し、かつ、電解質膜１とガスケット３とが互いに離間した状態となるように、油圧力を調整しておく。すなわち、油圧機構６３による油圧力が、可動基台３９や規制ピン６１の自重よりも大きくなるよう調整する。
【００４７】
なお、本実施形態での電解質膜１及びガスケット３のセット作業としては、可動基台３９を上記図６（ａ）の位置から上昇させて固定基台９との間隔を広くした状態で行う。この際、ガスケット３については、外周縁を可動基台３９の下面に対し、容易に離脱可能なように例えば接着剤などにより仮止めしておく。
【００４８】
そして、各開閉弁３５，４７を開放させて真空吸引ポンプ３７を作動させることで、前記第１の実施形態と同様に、電解質膜１及びガスケット３を吸着板１１及び４１にそれぞれ吸着保持させる。その後、真空吸引ポンプ１７を作動させることで、可動基台３９が下降してシール材１３は徐々に圧縮されて図６（ａ）の状態となる。この状態では、電解質膜１とガスケット３とは互いに離間した状態を維持している。
【００４９】
その後、図６（ｂ）に示すように、油圧プレス機械４９により、電解質膜保持具５をガスケット保持具７に向けて加圧して荷重を付与し、シール部材１３をさらに圧縮させて電解質膜１とガスケット３とを互いに加圧接触させて接合する。
【００５０】
その後、上記した加圧状態を所定時間継続させた後、荷重付与を解除し、さらに各真空吸引ポンプ１７，３７の動作を停止させるなどすることで、これらの真空吸引系統を大気圧に戻してから、油圧プレス機械４９を上昇させるとともに、可動基台３９を固定基台９から離反する方向に油圧機構６３によって上昇させる。そして、回転電解質膜１とガスケット３との接合体を固定基台９上から取り出す。
【００５１】
なお、油圧プレス機械４９による可動基台３９の移動距離は、最大で１ｍｍ程度とする。
【００５２】
このように、第２の実施形態では、規制手段である規制ピン６１及び油圧機構６３によって、図６（ａ）の状態で固定基台９と可動基台３９との間隔、換言すれば、電解質膜１とガスケット３との間隔をより確実に維持できる。このため、密閉空間１５を真空吸引する際の接合面での気泡発生をより確実に抑えることが可能となる。
【００５３】
なお、上記第２の実施形態において、油圧機構６３に代えてコイルスプリングを用いてもよい。この場合には、コイルスプリングを固定基台９の上面に形成した縦穴内に収容配置し、規制ピン６１をこの縦穴内に上端が位置するコイルスプリングに下端が接触した状態とする。
【００５４】
すなわち、コイルスプリングによって可動基台３９を、規制ピン６１を介して弾性支持することで、電解質膜１とガスケット３とが離間した状態を確保する。その後、密閉空間１５を真空吸引する際にコイルスプリングが撓んで可動基台３９が下降するが、このとき電解質膜１とガスケット３とは離間した状態を維持している。続いて、油圧プレス機械４９により可動基台３９に荷重を付与する際には、コイルスプリングがさらに撓み、電解質膜１とガスケット３とが互いに加圧接触して接合される。
【００５５】
上記したコイルスプリングを使用する場合には、図６に示す油圧機構６５を使用した場合に比較して簡素な構造で設備コストを低く抑えることができる。
【００５６】
上述したように、本発明では、第１，第２の各実施形態のいずれにおいても、密閉空間１５内を真空吸引する際には、図３（ｂ）や図６（ａ）に示すように、電解質膜１とガスケット３とが互いに離間した状態とすることで、接合面相互間の気泡発生を抑えている。
【００５７】
これに対し、比較例として、密閉空間１５内を真空吸引する際に、電解質膜１とガスケット３とが互いに離間せずに接触した状態として接合作業を行った場合には、接合面相互間に気泡が残留した。
【図面の簡単な説明】
【００５８】
【図１】本発明の第１の実施形態に係わる基材の接合装置を示す断面図である。
【図２】（ａ）は図１の接合装置におけるガスケット保持具を電解質膜保持具に対して離反させた状態を示す動作説明図、（ｂ）は（ａ）の状態からガスケット保持具及び電解質膜保持具に電解質膜及びガスケットをそれぞれセットした状態を示す動作説明図である。
【図３】（ａ）はガスケット保持具を電解質膜保持具に接近させ、これら各保持具，相互を対向させた状態を示す動作説明図、（ｂ）は（ａ）の状態から密閉空間に対して真空吸引している状態を示す動作説明図である。
【図４】（ａ）は調整機構としてリーク弁を設けた例を示す、図１に対応する断面図、（ｂ）は調整機構としてレデューサを設けた例を示す、図１に対応する断面図である。
【図５】密閉空間を真空吸引する際の真空度と時間との相関図である。
【図６】（ａ）は、本発明の第２の実施形態に係わる基材の接合装置を示す断面図、（ｂ）は（ａ）の接合装置によって電解質膜とガスケットとを接合している状態を示す動作説明図である。
【符号の説明】
【００５９】
１  電解質膜（基材）
３  ガスケット（基材）
５  電解質膜保持具（基材保持部）
７  ガスケット保持具（基材保持部）
９  固定基台（基台）
１１，４１  吸着板（多孔質体）
１３  シール部材
１５  密閉空間
１７  真空吸引ポンプ（真空吸引系統，密閉空間吸引部）
１９，２５  排気通路（真空吸引系統）
２１  連通路（真空吸引系統）
２７  配管（真空吸引系統）
２９  開閉弁（真空吸引系統）
３１，４３  排気通路（真空吸引系統）
３３，４５  配管（真空吸引系統）
３５，４７  開閉弁（真空吸引系統）
３７  真空吸引ポンプ（真空吸引系統，基材吸引部）
３９  可動基台（基台）
４９  油圧プレス機械（加圧部）
５３  リーク弁（調整機構）
５７  レデューサ（調整機構）
６１  規制ピン（規制手段）
６３  油圧機構（規制手段）
【図１】
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【図２】
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【図３】
2010115663.tif 000005
【図４】
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【図５】
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【図６】
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