(57)【要約】【課題】検査対象の磁界発生面がクラウン加工等が施されて平坦でない場合であっても、磁界発生素子の記録特性を擬似メディアを用いることなくを検査することが可能な、磁界発生素子の特性検査方法及び装置を提供する。【解決手段】センサユニット１７は、微動ユニットによる支持によりＸ，Ｙ，Ｚ方向に微動可能である。この微動ユニットをＸ，Ｙ方向に所定量だけ移動させ、その位置で薄膜磁気ヘッド素子のライト素子３１が発生する磁界をセンサユニット１７の磁気センサ１７５で読み取る。その際、センサユニット１７はローバーへの対向面に凸部１７ａ，１７ｂ，１７ｃを有しているため、ローバー２０にクラウン加工が施されていてもヘッド素子２１と磁気センサ１７５の対向間隔を所定値に維持でき、ばらつきの無い測定値が得られる。【選択図】図１
2010092532.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定の電流が供給されて前記所定の電流に基づく磁界を発生する磁界発生素子を検査対象とし、前記磁界発生素子の発生磁界を読み取る磁気センサを有するともに、前記磁界発生素子に対する前記磁気センサの対向間隔を所定値に維持するための凸部を有するセンサユニットと、
前記センサユニットを保持する、少なくとも一部に可撓性を有するセンサ保持手段とを用い、
前記センサ保持手段により前記磁気センサを前記磁界発生素子に近接する方向に駆動して前記凸部を前記磁界発生素子に接触させる第１工程と、
前記凸部の接触状態を維持して前記磁気センサと前記磁界発生素子との相対位置を所定の範囲内で変化させる第２工程と、
前記第２工程で変化させた前記相対位置において前記磁界発生素子の発生磁界を前記磁気センサで読み取る第３工程と、
前記第２及び第３工程を所定回数繰り返した後で、複数の前記相対位置の各々において前記磁気センサで読み取った前記磁界に基づいて前記磁界発生素子の特性を評価する第４工程とを有する、磁気特性検査方法。
【請求項２】
請求項１に記載の磁気特性検査方法において、前記磁界発生素子の磁界発生面が凸面である、磁気特性検査方法。
【請求項３】
１対のライト素子とリード素子を有する薄膜磁気ヘッド素子が複数個１列に整列して一体とされ、個片に切断することで１つの薄膜磁気ヘッド素子をそれぞれ有する複数のスライダとなるローバーを検査対象とし、前記薄膜磁気ヘッド素子のライト素子の発生磁界を読み取る磁気センサを有するともに、前記ローバーに対する前記磁気センサの対向間隔を所定値に維持するための凸部を有するセンサユニットと、
前記センサユニットを保持する、少なくとも一部に可撓性を有するセンサ保持手段とを用い、
前記センサ保持手段により前記磁気センサを前記ローバーに近接する方向に駆動して前記凸部を前記ローバーに接触させる第１工程と、
前記凸部の接触状態を維持して前記磁気センサと前記ライト素子との相対位置を所定の範囲内で変化させる第２工程と、
前記第２工程で変化させた前記相対位置において前記ライト素子の発生磁界を前記磁気センサで読み取る第３工程と、
前記第２及び第３工程を所定回数繰り返した後で、複数の前記相対位置の各々において前記磁気センサで読み取った前記磁界に基づいて前記ライト素子の特性を評価する第４工程とを有し、
複数のライト素子に関して前記第１ないし第４工程を実行する、磁気特性検査方法。
【請求項４】
請求項３に記載の磁気特性検査方法において、前記センサユニットは磁界発生部をさらに有し、前記第３工程では前記薄膜磁気ヘッド素子の前記リード素子によって前記磁界発生部の発生する磁界を読み取り、当該読み取った磁界に基づいて前記第４工程で前記リード素子の特性も評価する、磁気特性検査方法。
【請求項５】
請求項３又は４に記載の磁気特性検査方法において、前記ローバーの磁界発生面が凸面である、磁気特性検査方法。
【請求項６】
請求項１から５のいずれかに記載の磁気特性検査方法において、前記第４工程では、前記第３工程で前記磁界を読み取った前記磁気センサからの出力値を所定の基準値と比較することにより前記ライト素子の良否を判定する、磁気特性検査方法。
【請求項７】
所定の電流が供給されて前記所定の電流に基づく磁界を発生する磁界発生素子を検査対象として所定位置に保持する素子保持手段と、
前記磁界発生素子の発生磁界を読み取る磁気センサを有するともに、前記磁界発生素子に対する前記磁気センサの対向間隔を所定値に維持するための凸部を有するセンサユニットと、
前記センサユニットを保持する、少なくとも一部に可撓性を有するセンサ保持手段と、
前記センサ保持手段を駆動して、前記磁界発生素子と前記磁気センサとの相対位置を制御する相対位置制御手段と、
前記相対位置制御手段によって前記磁界発生素子に前記磁気センサを接触させた状態としつつ前記相対位置を所定の範囲内で変化させ、複数の前記相対位置の各々において前記磁気センサで読み取った前記磁界に基づいて前記磁界発生素子の特性を評価する検査ユニットとを備える、磁気特性検査装置。
【請求項８】
請求項７に記載の磁気特性検査装置において、前記磁界発生素子の磁界発生面が凸面である、磁気特性検査装置。
【請求項９】
１対のライト素子とリード素子を有する薄膜磁気ヘッド素子が複数個１列に整列して一体とされ、個片に切断することで１つの薄膜磁気ヘッド素子をそれぞれ有する複数のスライダとなるローバーを、所定位置に保持するローバー保持手段と、
前記薄膜磁気ヘッド素子のライト素子の発生磁界を読み取る磁気センサを有するともに、前記ローバーに対する前記磁気センサの対向間隔を所定値に維持するための凸部を有するセンサユニットと、
前記センサユニットを保持する、少なくとも一部に可撓性を有するセンサ保持手段と、
前記センサ保持手段を駆動して、前記ライト素子と前記磁気センサとの相対位置を制御する相対位置制御手段と、
前記相対位置制御手段によって前記ローバーに前記磁気センサを接触させた状態としつつ前記相対位置を所定の範囲内で変化させ、複数の前記相対位置の各々において前記磁気センサで読み取った前記磁界に基づいて前記ライト素子の特性を評価する検査ユニットとを備える、磁気特性検査装置。
【請求項１０】
請求項９に記載の磁気特性検査装置において、前記ローバーの磁界発生面が凸面である、磁気特性検査装置。
【請求項１１】
請求項９又は１０に記載の磁気特性検査装置において、前記相対位置制御手段は、前記ローバーを前記センサユニットに対して相対的に、前記ローバーの長手方向と平行に移動可能な直線移動手段と、
前記センサユニットを、前記ライト素子に対して相対的に、前記ローバーの長手方向に平行な第１の方向に移動可能な第１の移動手段と、前記第１の方向に直交し前記ローバーの磁界発生面に略平行な第２の方向に移動可能な第２の移動手段と、
前記センサユニットを、前記ライト素子に対して相対的に、前記ローバーの磁界発生面に接離自在とする第３の方向に移動可能な第３の移動手段とを有する、磁気特性検査装置。
【請求項１２】
請求項１１に記載の磁気特性検査装置において、前記第１ないし第３の移動手段のうち、少なくともひとつはピエゾ素子を用いたものである、磁気特性検査装置。
【請求項１３】
請求項９から１２のいずれかに記載の磁気特性検査装置において、前記センサユニットと前記ローバーとを撮像可能な撮像装置と、前記撮像装置の撮像信号を画像処理する画像処理装置とを有し、前記センサユニット及び前記ローバーにそれぞれ設けられたマーカーを前記撮像装置で撮像し、各マーカーを基準として、前記センサユニットと前記ライト素子との位置合わせを行う、磁気特性検査装置。
【請求項１４】
請求項１３に記載の磁気特性検査装置において、前記画像処理装置は、各マーカを撮像した撮像信号の画像処理によって、前記撮像装置の光軸と略垂直な第１の軸方向の位置合わせと共に、前記撮像装置の光軸と略平行な第２の軸方向に対しての位置合わせを行なう、磁気特性検査装置。
【請求項１５】
請求項１４に記載の磁気特性検査装置において、前記撮像装置は高倍率狭焦点カメラであり、前記第２の軸方向に対しての位置合わせは、前記高倍率狭焦点カメラにより撮像された各マーカのコントラスト差によって、各マーカの前記第２の軸方向における距離を測定することにより行う、磁気特性検査装置。
【請求項１６】
請求項９から１５のいずれかに記載の磁気特性検査装置において、前記検査ユニットは、前記磁界を読み取った結果としての前記磁気センサからの出力値を所定の基準値と比較することにより前記ライト素子の良否を判定するものである、磁気特性検査装置。
【請求項１７】
請求項９から１６のいずれかに記載の磁気特性検査装置において、前記センサユニットは磁界発生部をさらに有し、前記薄膜磁気ヘッド素子の前記リード素子によって前記磁界発生部の発生する磁界を読み取った結果に基づいて前記検査ユニットが前記リード素子の特性も評価する、磁気特性検査装置。
【請求項１８】
請求項７から１７のいずれかに記載の磁気特性検査装置において、前記センサユニットに前記凸部が少なくとも２カ所設けられている、磁気特性検査装置。
【請求項１９】
請求項７から１８のいずれかに記載の磁気特性検査装置において、前記磁気センサを覆う位置に前記凸部が位置するか、あるいは前記凸部に前記磁気センサが含まれている、磁気特性検査装置。
【請求項２０】
請求項１８に記載の磁気特性検査装置において、対をなした前記凸部の間に前記磁気センサが位置している、磁気特性検査装置。
【請求項２１】
請求項７から２０のいずれかに記載の磁気特性検査装置において、前記凸部の少なくとも表面がＤＬＣ膜である、磁気特性検査装置。
【請求項２２】
請求項２１に記載の磁気特性検査装置において、前記ＤＬＣ膜の膜厚を変化させることによって、前記磁気センサと、前記ローバー側の薄膜磁気ヘッド素子との対向間隔を制御する、磁気特性検査装置。
【請求項２３】
請求項２２に記載の磁気特性検査装置において、前記ＤＬＣ膜の膜厚は最大５０ｎｍである、磁気特性検査装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えばハードディスクドライブに用いられる薄膜磁気ヘッド素子等の磁界発生素子の磁気特性検査方法及び装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
薄膜磁気ヘッド素子は、対を成すライト素子とリード素子で構成される。図１４は、薄膜磁気ヘッド素子の構成を例示する断面図である。薄膜磁気ヘッド素子２１において、ライト素子３１は、コイル３２に流れる電流から電磁誘導により発生する磁界によって信号を磁気ディスク５０に記録する。リード素子４１は、磁気抵抗素子(ＭＲ素子４２)で磁気ディスク５０上の磁界の向きを検出することによって信号を再生する。
【０００３】
図１５は、薄膜磁気ヘッド素子の形成されたスライダの例示的な斜視図である。本図に示されるように、薄膜磁気ヘッド素子２１は電極２２とともにスライダ２の端部に位置する。図１６は、スライダの製造方法の概念的説明図である。スライダを製造する際にはまず、ウェハ上に多数の薄膜磁気ヘッド素子を形成し、それを棒状に切断する（図１６(Ａ)→(Ｂ)）。この棒状のものがローバーである。そしてローバーをさらに個片に切断することでスライダが得られる（図１６(Ｂ)→(Ｃ)）。１本のローバーから一般的に約８０個のスライダが得られる。すなわち、１本のローバーには約８０個の薄膜磁気ヘッド素子が存在する。
【０００４】
スライダは、図１７(Ａ)，(Ｂ)に例示のように、ＨＧＡ(Head Gimbal Assembly)の一部を成す。すなわち、スライダ２は、ロードビーム３及びフレキシャ５を有するサスペンション７（ジンバル）に組み付けられる。ロードビーム３は、金属製の板バネからなり、先端部にはフレキシャ５側に突出したディンプル１１が形成されている。ロードビーム３及びフレキシャ５は、先端部を除いて例えば溶接されて一体化され、サスペンション７を成す。フレキシャ５は、本体部５ａと、長方形状のタング５ｂとを有する。タング５ｂは、本体部５ａ先端側の辺のみが本体部５ａに接続され、その他の辺は切断されている。タング５ｂの背面はディンプル１１によって付勢（押圧）され、タング５ｂはロードビーム３と略平行となる。スライダ２は、タング５ｂ上に固定され、タング５ｂを介してディンプル１１に付勢されて実際の記録・再生において最適な姿勢が保たれる。
【０００５】
ハードディスクドライブ（以下「ＨＤＤ」）では、高速回転する磁気ディスクとＨＧＡのスライダとが非接触の状態で信号が磁気ディスクに記録され、また信号が磁気ディスクから再生される。ＨＧＡの最終検査は、実際のＨＤＤに対する記録・再生と同じような状況を作り出して行う必要がある。これは例えば動特性検査といわれる。ＨＧＡの動特性検査に関しては種々の方法が提案されており、一般的には、ＨＧＡによる擬似メディアへのデータの記録（書込み）及び再生（読出し）の結果をオリジナルデータと比較して、出力レベルやビット欠落などを基にＨＧＡの特性が評価される。
【０００６】
ＨＧＡの特性を検査する装置としては、例えば下記特許文献１に記載されたものが知られている。
【特許文献１】特開２００２−３７３４７６号公報
【０００７】
ＨＧＡが最終検査をパスしないと、サスペンション等の高価なパーツも廃棄しなければならず、結果的にコスト増大につながる。従って、最終検査段階での不良品発生率は可能な限り低いことが望ましい。そこで検討すると、ＨＧＡが最終検査をパスしない原因の１つとして、薄膜磁気ヘッド素子の不良が考えられる。薄膜磁気ヘッド素子の不良はさらに、ライト素子の不良とリード素子の不良に分けられる。
【０００８】
ここで、リード素子については、外部磁界を与えることで特性(静特性)を得ることが可能なため、スライダ以降の工程のみならずローバーやウェハの状態で静特性検査を行うことができる。このため、リード素子が不良の薄膜磁気ヘッド素子を有するスライダは早い段階において比較的高い確率で除外することが可能である。つまり、ＨＧＡの最終検査の際にリード素子が不良である確率は比較的低い。
【０００９】
一方、ライト素子の特性を検査する際にはディスクと薄膜磁気ヘッド素子とのギャップを高精度で管理する必要があるため、ＨＧＡの最終検査よりも前の工程でライト素子の検査をするのは困難といえる。このため、ライト素子についてはＨＧＡの最終検査だけで良否判定をせざるを得ないのが現状である。従って、ＨＧＡの最終検査の際に不良のライト素子が存在する確率はリード素子の場合と比較して高い。
【００１０】
このような問題は、垂直磁気記録方式ではより顕著となる。というのも、垂直磁気記録方式では水平磁気記録方式よりも記録密度が大きい（エネルギー分布が狭い）ため、薄膜磁気ヘッド素子の歩留まりが悪いからである。また、垂直磁気記録方式ではライト素子の特性を検査する際にディスクと薄膜磁気ヘッド素子とのギャップをナノメートル単位で管理する必要があり、ＨＧＡの最終検査よりも前の工程でライト素子の検査をするのは水平磁気記録方式の場合よりもさらに困難である。なお、水平磁気記録方式であっても垂直磁気記録方式であっても再生原理（読込み原理）は同じため、リード素子については上記の理由からＨＧＡの最終検査に不良品が残る確率は比較的低い。
【００１１】
そこで、スライダ一つ一つを測定する方法ではなく、スライダ形状にする前（切断前）の状態であるローバー状態で各薄膜磁気ヘッド素子のライト素子の検査をも含んだ特性検査を行うことが要望されている。
【００１２】
図１８は本出願人提案の特願２００８−１３０２３５号の構成の概要であり、ローバー２０を固定し、ローバー２０の各薄膜磁気ヘッド素子（リード素子及びライト素子）２１に対して、センサユニット１７（リード素子に相当する磁気センサを含む）を近接させ、各薄膜磁気ヘッド素子２１の発生磁界の状態をセンサユニット１７で読み取るようにしている。このために、センサユニット１７はローバー２０の長手方向であるＸ方向に薄膜磁気ヘッド素子２１の配列間隔毎に移動可能であるとともに、センサユニット１７を薄膜磁気ヘッド素子２１に対向させた状態にてＸ方向にΔＸ、これに直交するＹ方向にΔＹ微動可能となっている。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
ところで、図１８のローバー２０において、各薄膜磁気ヘッド素子２１が記録媒体に対面してリード／ライトを行う磁界発生面（図１８の上面）には、クラウンと呼ばれる微小凸面加工がなされている。この理由は、小型磁気ディスク装置では、ディスク起動時の磁気ヘッドと記録媒体間の面接触摩擦によるモータトルク増大を避けるため、記録媒体に対する磁気ヘッドの浮上特性に実質的に影響を与えない程度の、僅かに凸面のクラウン形状となるものが要求されているからである。
【００１４】
このクラウン形状に起因して、図１８のセンサユニット１７とローバー２０の位置関係が不安定となる。例えば、ローバー２０の横断面（長手方向に垂直な断面）を示す図１９（Ａ）ではローバー２０に対してセンサユニット１７が右下がりに傾斜して接触しているため、ローバー２０側の薄膜磁気ヘッド素子のライト素子に対してセンサユニット１７の磁気センサ（リード素子）が極めて近接あるいは接触することになり、リード／ライト素子間の対向間隔（Magnetic Space）Ｇが過小となる。これに反し、図１９（Ｂ）ではローバー２０に対してセンサユニット１７が右上がりに傾斜して接触しているため、ローバー２０側の薄膜磁気ヘッド素子のライト素子に対してセンサユニット１７の磁気センサ（リード素子）が相当離間した状態となり、リード／ライト素子間の対向間隔Ｇが過大となる。
【００１５】
図１９で述べたようにクラウン形状によりローバー２０に対するセンサユニット１７の接触状態が不安定になると、センサユニット１７とローバー２０のリード／ライト素子間の対向間隔が測定毎にばらつくことになり、その結果、測定条件がばらつき、得られる測定値に悪影響を与えるおそれがある。
【００１６】
本発明はこうした状況を認識してなされたものであり、その目的は、検査対象の磁界発生面がクラウン加工等が施されて平坦でない場合であっても、磁界発生素子の記録特性を擬似メディアを用いることなくを検査することが可能な、より詳しくは、ＨＧＡの最終検査よりも前に薄膜磁気ヘッド素子等の磁界発生素子の記録特性を検査することの可能な、磁気特性検査方法及び装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
本発明の第１の態様は、磁気特性検査方法である。この方法は、所定の電流が供給されて前記所定の電流に基づく磁界を発生する磁界発生素子を検査対象とし、前記磁界発生素子の発生磁界を読み取る磁気センサを有するともに、前記磁界発生素子に対する前記磁気センサの対向間隔を所定値に維持するための凸部を有するセンサユニットと、前記センサユニットを保持する、少なくとも一部に可撓性を有するセンサ保持手段とを用い、
前記センサ保持手段により前記磁気センサを前記磁界発生素子に近接する方向に駆動して前記凸部を前記磁界発生素子に接触させる第１工程と、
前記凸部の接触状態を維持して前記磁気センサと前記磁界発生素子との相対位置を所定の範囲内で変化させる第２工程と、
前記第２工程で変化させた前記相対位置において前記磁界発生素子の発生磁界を前記磁気センサで読み取る第３工程と、
前記第２及び第３工程を所定回数繰り返した後で、複数の前記相対位置の各々において前記磁気センサで読み取った前記磁界に基づいて前記磁界発生素子の特性を評価する第４工程とを有するものである。
【００１８】
第１の態様の磁気特性検査方法において、前記磁界発生素子の磁界発生面が凸面であってもよい。
【００１９】
本発明の第２の態様は、磁気特性検査方法である。この方法は、１対のライト素子とリード素子を有する薄膜磁気ヘッド素子が複数個１列に整列して一体とされ、個片に切断することで１つの薄膜磁気ヘッド素子をそれぞれ有する複数のスライダとなるローバーを検査対象とし、前記薄膜磁気ヘッド素子のライト素子の発生磁界を読み取る磁気センサを有するともに、前記ローバーに対する前記磁気センサの対向間隔を所定値に維持するための凸部を有するセンサユニットと、前記センサユニットを保持する、少なくとも一部に可撓性を有するセンサ保持手段とを用い、
前記センサ保持手段により前記磁気センサを前記ローバーに近接する方向に駆動して前記凸部を前記ローバーに接触させる第１工程と、
前記凸部の接触状態を維持して前記磁気センサと前記ライト素子との相対位置を所定の範囲内で変化させる第２工程と、
前記第２工程で変化させた前記相対位置において前記ライト素子の発生磁界を前記磁気センサで読み取る第３工程と、
前記第２及び第３工程を所定回数繰り返した後で、複数の前記相対位置の各々において前記磁気センサで読み取った前記磁界に基づいて前記ライト素子の特性を評価する第４工程とを有し、
複数のライト素子に関して前記第１ないし第４工程を実行するものである。
【００２０】
第２の態様の磁気特性検査方法において、前記センサユニットは磁界発生部をさらに有し、前記第３工程では前記薄膜磁気ヘッド素子の前記リード素子によって前記磁界発生部の発生する磁界を読み取り、当該読み取った磁界に基づいて前記第４工程で前記リード素子の特性も評価してもよい。
【００２１】
第２の態様の磁気特性検査方法において、前記ローバーの磁界発生面が凸面であってもよい。
【００２２】
第１又は第２の態様の磁気特性検査方法において、前記第４工程では、前記第３工程で前記磁界を読み取った前記磁気センサからの出力値を所定の基準値と比較することにより前記ライト素子の良否を判定してもよい。
【００２３】
本発明の第３の態様は、磁気特性検査装置である。この装置は、所定の電流が供給されて前記所定の電流に基づく磁界を発生する磁界発生素子を検査対象として所定位置に保持する素子保持手段と、
前記磁界発生素子の発生磁界を読み取る磁気センサを有するともに、前記磁界発生素子に対する前記磁気センサの対向間隔を所定値に維持するための凸部を有するセンサユニットと、
前記センサユニットを保持する、少なくとも一部に可撓性を有するセンサ保持手段と、
前記センサ保持手段を駆動して、前記磁界発生素子と前記磁気センサとの相対位置を制御する相対位置制御手段と、
前記相対位置制御手段によって前記磁界発生素子に前記磁気センサを接触させた状態としつつ前記相対位置を所定の範囲内で変化させ、複数の前記相対位置の各々において前記磁気センサで読み取った前記磁界に基づいて前記磁界発生素子の特性を評価する検査ユニットとを備える。
【００２４】
第３の態様の磁気特性検査装置において、前記磁界発生素子の磁界発生面が凸面であってもよい。
【００２５】
本発明の第４の態様は、磁気特性検査装置である。この装置は、１対のライト素子とリード素子を有する薄膜磁気ヘッド素子が複数個１列に整列して一体とされ、個片に切断することで１つの薄膜磁気ヘッド素子をそれぞれ有する複数のスライダとなるローバーを、所定位置に保持するローバー保持手段と、
前記薄膜磁気ヘッド素子のライト素子の発生磁界を読み取る磁気センサを有するともに、前記ローバーに対する前記磁気センサの対向間隔を所定値に維持するための凸部を有するセンサユニットと、
前記センサユニットを保持する、少なくとも一部に可撓性を有するセンサ保持手段と、
前記センサ保持手段を駆動して、前記ライト素子と前記磁気センサとの相対位置を制御する相対位置制御手段と、
前記相対位置制御手段によって前記ローバーに前記磁気センサを接触させた状態としつつ前記相対位置を所定の範囲内で変化させ、複数の前記相対位置の各々において前記磁気センサで読み取った前記磁界に基づいて前記ライト素子の特性を評価する検査ユニットとを備える。
【００２６】
第４の態様の磁気特性検査装置において、前記ローバーの磁界発生面が凸面であってもよい。
【００２７】
第４の態様の磁気特性検査装置において、前記相対位置制御手段は、前記ローバーを前記センサユニットに対して相対的に、前記ローバーの長手方向と平行に移動可能な直線移動手段と、
前記センサユニットを、前記ライト素子に対して相対的に、前記ローバーの長手方向に平行な第１の方向に移動可能な第１の移動手段と、前記第１の方向に直交し前記ローバーの磁界発生面に略平行な第２の方向に移動可能な第２の移動手段と、
前記センサユニットを、前記ライト素子に対して相対的に、前記ローバーの磁界発生面に接離自在とする第３の方向に移動可能な第３の移動手段とを有するとよい。
【００２８】
この場合、前記第１ないし第３の移動手段のうち、少なくともひとつはピエゾ素子を用いたものであってもよい。
【００２９】
第４の態様の磁気特性検査装置において、前記センサユニットと前記ローバーとを撮像可能な撮像装置と、前記撮像装置の撮像信号を画像処理する画像処理装置とを有し、前記センサユニット及び前記ローバーにそれぞれ設けられたマーカーを前記撮像装置で撮像し、各マーカーを基準として、前記センサユニットと前記ライト素子との位置合わせを行うとよい。
【００３０】
この場合、前記画像処理装置は、各マーカを撮像した撮像信号の画像処理によって、前記撮像装置の光軸と略垂直な第１の軸方向の位置合わせと共に、前記撮像装置の光軸と略平行な第２の軸方向に対しての位置合わせを行なうとよい。
【００３１】
さらに、前記撮像装置は高倍率狭焦点カメラであり、前記第２の軸方向に対しての位置合わせは、前記高倍率狭焦点カメラにより撮像された各マーカのコントラスト差によって、各マーカの前記第２の軸方向における距離を測定することにより行うとよい。
【００３２】
第４の態様の磁気特性検査装置において、前記検査ユニットは、前記磁界を読み取った結果としての前記磁気センサからの出力値を所定の基準値と比較することにより前記ライト素子の良否を判定するものであってもよい。
【００３３】
第４の態様の磁気特性検査装置において、前記センサユニットは磁界発生部をさらに有し、前記薄膜磁気ヘッド素子の前記リード素子によって前記磁界発生部の発生する磁界を読み取った結果に基づいて前記検査ユニットが前記リード素子の特性も評価してもよい。
【００３４】
第３又は第４の態様の磁気特性検査装置において、前記センサユニットに前記凸部が少なくとも３カ所設けられているとよい。
【００３５】
第３又は第４の態様の磁気特性検査装置において、前記磁気センサを覆う位置に前記凸部が位置するか、あるいは前記凸部に前記磁気センサが含まれているとよい。
【００３６】
あるいは、対をなした前記凸部の間に前記磁気センサが位置していてもよい。
【００３７】
第３又は第４の態様の磁気特性検査装置において、前記凸部の少なくとも表面がＤＬＣ膜であるとよい。この場合、前記ＤＬＣ膜の膜厚を変化させることによって、前記磁気センサと、前記ローバー側の薄膜磁気ヘッド素子との対向間隔を制御してもよい。また、前記ＤＬＣ膜の膜厚は最大５０ｎｍであるとよい（膜厚５０ｎｍ以下にするとよい）。
【００３８】
なお、以上の構成要素の任意の組合せ、本発明の表現をシステムなどの間で変換したものもまた、本発明の態様として有効である。
【発明の効果】
【００３９】
本発明によれば、磁気センサを有するセンサユニットは、ローバー等の磁界発生素子に接触したときに前記磁界発生素子に対する前記磁気センサの対向間隔を所定値に維持するための凸部を有しているため、前記磁界発生素子における検査対象の磁界発生面がクラウン加工等が施されて平坦でない場合であっても前記対向間隔を一定に保持して、前記磁界発生素子の発生する磁界を前記磁気センサで読み取ることができる。この結果、ＨＧＡの最終検査のように擬似メディアを用いることなく、前記磁気センサで読み取った前記磁界発生素子の発生する磁界に基づいて前記磁界発生素子の特性をばらつきなく高精度で評価することができる。
【００４０】
また、図１９（Ｂ）のような場合には、前記磁界発生素子に対する前記磁気センサの対向間隔が過大で前記磁界発生素子の発生する磁界を前記磁気センサで読み取ることが困難で十分な測定ができなくなる可能性があるが、そのような事態の発生を未然に回避して検査効率の向上を図ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４１】
以下、図面を参照しながら本発明の好適な実施の形態を詳述する。なお、各図面に示される同一または同等の構成要素、部材には同一の符号を付し、適宜重複した説明は省略する。また、実施の形態は発明を限定するものではなく例示であり、実施の形態に記述されるすべての特徴やその組み合わせは必ずしも発明の本質的なものであるとは限らない。
【００４２】
図１は、本発明の実施の形態におけるセンサユニットの構造を示し、図２は、本発明の実施の形態に係る磁気特性検査装置１００の構成を例示する概略斜視図を示し、図３は図２の装置の各部の動きを説明する模式図である。ここでは、水平面内で互いに直交する２方向を第１及び第２の方向（Ｘ方向及びＹ方向）、鉛直方向を第３の方向（Ｚ方向）と定義する。
【００４３】
まず、図２及び図３で全体構成から説明すると、磁気特性検査装置１００は、基台１１と、基台１１の水平部に対してＸ方向（ローバー移動軸Ｈｘ方向）に駆動されるローバー保持手段としての保持台１２と、基台１１の垂直部に取り付けられたＹＺ調整部１３と、第１ないし第３の方向の移動（微動）手段としての微動ユニット１５と、少なくとも一部に可撓性を有するセンサ保持手段としてのセンサホルダ１６と、センサホルダ１６の先端側に取り付けられたセンサユニット１７と、撮像装置としての高倍率狭焦点カメラ１８と、検査ユニット１９とを備える。また、狭焦点カメラ１８に付随してその撮像範囲を照らす照明１８１及び狭焦点カメラ１８の撮像信号を画像処理する画像処理装置１８２が設けられる。
【００４４】
基台１１の水平部上に、直線移動手段によりローバー移動軸Ｈｘ方向に移動自在に支持された保持台１２は、例えば真空吸着によりローバー２０を検査対象の磁界発生面が上側になるように保持する。保持台１２に保持された状態で、ローバー２０は長手方向がＸ方向と平行で、ローバー２０の磁界発生面はＸＹ平面と略平行となっている。なお、保持台１２による保持は真空吸着に替えて機械的チャックとしてもよい。ここで、保持台１２の上面（ローバー２０の保持面）は、ローバー２０とセンサユニット１７との距離変動を所定値以内、つまりローバー２０とセンサユニット１７との磁界が測定可能な距離以内に収めるのに必要な平面度（Ｚ方向）が確保されている。ローバー２０は、１対のライト素子３１とリード素子４１を有する薄膜磁気ヘッド素子２１が複数個１列に整列して一体とされ、個片に切断することで１つの薄膜磁気ヘッド素子２１をそれぞれ有する複数のスライダとなるものである。なお、実際には図２のローバー２０の右側面に薄膜技術でライト素子３１及びリード素子４１が形成されており、ローバー２０の磁界発生面（検査対象となる面）に臨むライト素子３１及びリード素子４１の寸法は微小であるが、図２では模式的に大きく書いてある。
【００４５】
保持台１２はローバー２０を各薄膜磁気ヘッド素子２１の配列間隔に相当する距離だけ順次移動させてセンサユニット１７の下方に各薄膜磁気ヘッド素子２１を順次位置させる機能を持つ。
【００４６】
基台１１の垂直部に取り付けられたＹＺ調整部１３は、微動ユニット１５をＹ方向（Ｈｙ方向）及びＺ方向（Ｈｚ方向）に移動調整する機能を持ち、微動ユニット１５によるセンサユニット１７の微動範囲において薄膜磁気ヘッド素子２１の発生磁界を読み取り可能なように初期設定するのに用いられる。
【００４７】
微動ユニット１５は、例えばピエゾ素子（圧電素子）を用いたものであり、センサホルダ１６をＸ，Ｙ，Ｚ方向（ピエゾＰｘ，Ｐｙ，Ｐｚ方向）に高精度（例えばｎｍオーダー）で微動可能に支持する。センサホルダ１６は例えば可撓性アームであり、この先端側にはセンサユニット１７が磁界発生面を下側にして固定支持される。従ってセンサユニット１７は、ＹＺ調整部１３によりＨｙ方向及びＨｚ方向に移動可能であり、かつ、微動ユニット１５による支持によりＰｘ，Ｐｙ，Ｐｚ方向（第１ないし第３の方向）に微動可能である。
【００４８】
センサユニット１７は、磁気ヘッド素子と同等の機能を有するもの、つまりライト素子に相当する磁界発生部（図示省略）と図１に示すようにリード素子に相当する磁気センサ１７５とを有するものであり、センサホルダ１６に支持された状態でローバー２０と磁界発生面同士が略平行に対向して互いの発生磁界を検出できる距離にある必要がある。
【００４９】
前述したように、ローバー２０の検査対象の磁界発生面はクラウン加工により僅かに凸面となっている。このため、センサユニット１７のローバーへの対向面が単なる平坦面であると、図１９（Ａ）や（Ｂ）に述べた問題が発生する。そこで、図１（Ａ）,（Ｂ）のように、センサユニット１７の対向面の３カ所（例えば、二等辺三角形の各頂点）に凸部１７ａ，１７ｂ，１７ｃを形成し、そのうちローバー２０のライト素子３１に対向する凸部１７ａ（二等辺が交わった頂点位置にあるもの）の基部に磁気センサ１７５（具体的にはリード素子相当のＭＲ素子）を配置している。凸部１７ａ，１７ｂ，１７ｃの形成は、例えば対向面（接触面）をドライエッチングして凸部１７ａ，１７ｂ，１７ｃとなる部分のみを残すことにより行うことができる。磁気センサ１７５の表面側には当初からセンサユニット１７の対向面に形成されていた耐摩耗性非磁性膜としてのＤＬＣ（Diamond-Like Carbon）膜１７２が所定厚みで残されている。但し、エッチング後にＤＬＣ膜１７２を所定厚みで形成してもよい。
【００５０】
センサユニット１７は可撓性のセンサホルダ１６に固定されており、センサユニット１７の３カ所の凸部１７ａ，１７ｂ，１７ｃをローバー２０に常時接触させた状態で後述する薄膜磁気ヘッド素子２１の検査を行うようにする（但し、１個の薄膜磁気ヘッド素子２１の検査が終了して次の薄膜磁気ヘッド素子２１をセンサユニット１７の下方に直動移動するときはセンサユニット１７はローバー２０に対し非接触とする。）。センサユニット１７の３カ所の凸部１７ａ，１７ｂ，１７ｃのうち、基部に磁気センサ１７５が含まれている（配置されている）凸部１７ａはローバー２０の幅方向（長手方向に直交する方向）の一方の端部寄り位置（薄膜磁気ヘッド素子２１のライト素子３１の位置）に接触可能な位置であり、残りの２カ所の凸部１７ｂ，１７ｃはローバー２０の幅方向の他方の端部寄り位置に接触可能な配置である。つまり、センサユニット１７の対向面の平坦な中間部がローバー２０のクラウン形状に当接して図１９（Ａ）,（Ｂ）で述べたリード／ライト素子間の対向間隔（Magnetic Space）Ｇのばらつきを発生させることを回避する。
【００５１】
図１（Ａ），（Ｂ）のように、センサユニット１７に３カ所の凸部１７ａ，１７ｂ，１７ｃを形成しておき、薄膜磁気ヘッド素子２１の検査中は、それらをローバー２０に常時接触させた状態に維持すれば、リード／ライト素子間の対向間隔Ｇを安定維持できる。
【００５２】
なお、ローバー２０のクラウン形状はローバーの品種によって異なるが、クラウンの高低差Ｈ：１０〜３０ｎｍ程度であり、このときセンサユニット凸部の高さＴ：約２０００ｎｍ（＝約２μｍ）、凸部のＤＬＣ膜の厚み：１〜３ｎｍ程度に設定することができる。
【００５３】
狭焦点カメラ１８の支持機構は、図２及び図３に示すようにＸ方向及びＺ方向（Ｃｘ方向及びＣｚ方向）に移動自在なＸＺ調整部１８３と、これに搭載されていてＹ方向（焦点調整軸Ｃｙ方向）に移動自在なカメラ保持台１８４とを有しており、狭焦点カメラ１８はカメラ保持台１８４に固定支持されている。
【００５４】
検査ユニット１９は、ローバー２０が有する各薄膜磁気ヘッド素子２１のリード素子及びライト素子の動作指令及び検査データ取得、さらに検査データの解析及び判定を行う機能を有している。この検査ユニット１９は、センサユニット１７の電極及びローバー２０の検査対象となっている薄膜磁気ヘッド素子２１の各電極と電気的に接続される。つまり、図４（センサユニットの凸部は省略して図示）あるいは図２、図３に模式的に示されるように、薄膜磁気ヘッド素子２１の電極２２に検査ユニット１９に接続するプローブ１９１が接している。センサユニット１７の電極と検査ユニット１９間は通常の配線による接続でもよい。各検査ユニット１９の有する電流発生手段から各薄膜磁気ヘッド素子２１のライト入力用電極間に磁界発生電流を流し、各薄膜磁気ヘッド素子２１の発生磁界をセンサユニット１７で検出した結果（つまり磁電変換で得られたリード出力用電極間の電圧値）に基づいて各薄膜磁気ヘッド素子２１の記録特性が検査ユニット１９の有する出力判定手段によって評価される。また、検査ユニット１９の有する電流発生手段からセンサユニット１７のライト入力用電極間に磁界発生電流を流し、センサユニット１７の発生磁界を各薄膜磁気ヘッド素子２１のリード素子で検出した結果（つまり磁電変換で得られたリード出力用電極間の電圧値）に基づいて各薄膜磁気ヘッド素子２１の再生特性が検査ユニット１９の有する出力判定手段によって評価することもできる。測定及び評価手順の詳細は図６で後述する。
【００５５】
ローバー２０が有する薄膜磁気ヘッド素子２１とセンサユニット１７との位置合わせ（アライメント）、つまり両者の相対位置は、ナノメートルオーダー（例えば１ｎｍ程度）で管理する必要がある。センサユニット１７のオープンループによる機械的な位置決めは５μｍ程度の誤差は残る可能性があるため、センサユニット１７の素子（リード用の磁気センサ１７５又はライト用の磁界発生部）とローバー２０の測定対象となる薄膜磁気ヘッド素子２１（ライト素子３１又はリード素子４１）の位置決めは最終的にクローズドループによるアライメントが望ましいと言える。
【００５６】
そこで、ＸＹＺの３方向について、測定前段階でのアライメントを行うことが、効率の良い（無駄な時間を要さない）装置動作や理想位置での測定を行う上で有効である。ＸＹＺの３方向共にアライメントの方法は異なる。
【００５７】
ＸＹアライメント：図５（センサユニットの凸部の図示は省略）に示すように、センサユニット１７、ローバー２０共にウェハ加工工程で用いる加工マーカ１７６，２０６が存在し、この加工マーカ１７６，２０６を基準としてローバー２０とセンサユニット１７の位置決めを行なうことができる。加工マーカ１７６，２０６はウェハプロセスにより形成されるので、パターン電極と同等の精度を有している。図２或いは図３の狭焦点カメラ１８によって、加工マーカ１７６，２０６を撮像する。
【００５８】
Ｘ方向位置決めは各マーカ１７６，２０６を画像処理装置１８２で画像認識し、両マーカ１７６，２０６のＸ方向の幾何学的基準を求めて位置合わせする周知の方法で実行できる。
【００５９】
Ｙ方向位置決めは、狭焦点カメラ１８の被写界深度特性を利用して、ローバー２０の加工マーカ２０６とセンサユニット１７の加工マーカ１７６の画像データにおけるエッジのコントラスト差（ボケ）によってＹ方向位置を判断する。この技術そのものは公知であり、狭焦点カメラ１８は顕微鏡レベルの高倍率とし、照明１８１は短波長の紫外線を用いることが好ましい。
【００６０】
Ｚアライメント：ローバー２０に接するまで、微動ユニット１５でＰｚ方向にセンサユニット１７を下降させる。センサユニット１７がローバー２０に接することで可撓性を有するセンサホルダ１６が撓み、ローバー２０と図１に示したセンサユニット１７の凸部１７ａ，１７ｂ，１７ｃとを接触させる。前述のようにセンサユニット１７の対向面（接触面）をエッチングして接触面積を減らして３点の凸部１７ａ，１７ｂ，１７ｃを形成することでクラウン形状を持つローバー２０への接触を安定させることができる。センサユニット１７はセンサホルダ１６に固定されており、センサホルダ１６は可撓性を有するため、センサユニット１７の接触部分がクラウンに影響されなければ、安定した対向間隔が得られる。可撓性を有するセンサホルダ１６については、種々の構成が考えられ、例えばセンサユニット１７を取り付けているセンサホルダ１６そのものが板バネ状に可撓性を有する材料で作られている場合等が考えられる。センサホルダ１６の変形例については図１２及び図１３を用いて後述する。
【００６１】
図６は、図２に示される磁気特性検査装置１００による薄膜磁気ヘッド素子の磁気特性検査の流れを示す簡易フローチャートであり、この図に従って本実施の形態における磁気特性検査の流れを説明する。ここで、ローバー２０に含まれる個々の薄膜磁気ヘッド素子２１についての磁界測定点の数をＮと定義する。
【００６２】
・ローバー保持工程…ローバー２０を保持台１２上面に例えば手供給もしくは所定の搬送機構を用いて配置し、保持台１２の例えば真空吸着によってローバー２０を保持し、「ローバー固定完了」とする。
【００６３】
・仮位置決め工程…保持台１２をローバー移動軸Ｈｘ方向に直線移動させることによりセンサユニット１７を、ローバー２０に含まれる測定対象の薄膜磁気ヘッド素子２１と対向するように仮位置決めする（「ローバーＸ軸仮位置決め完了」とする）。このとき、保持台１２の移動量は、予め定められた数値（薄膜磁気ヘッド素子２１の配列間隔）に基づいてもよいし、狭焦点カメラ１８による撮像画像を基にした画像処理に基づいてもよい。
【００６４】
・ライト入力工程…ローバー２０のライト素子３１に、検査ユニット１９の電流発生手段から記録用電気信号（磁界発生電流）を入力し、図４に示すライト素子のポール２７から磁界を発生する。このライト素子への記録用電気信号の入力は測定終了まで継続していてもよい。
【００６５】
・ピエゾＰｚ移動（下降）工程…微動ユニット１５でセンサホルダ１６をＺ方向（下降方向）に微動させ、図１（Ａ）のようにセンサユニット１７の凸部１７ａ，１７ｂ，１７ｃをローバー２０の磁界発生面に接触させる。このことは狭焦点カメラ１８による撮像画像で確認することができる。これにより、磁気センサ１７５とローバー２０のライト素子３１間の対向間隔を安定に維持した状態とする。
【００６６】
・ＸＹアライメント工程…センサユニット１７の凸部１７ａ，１７ｂ，１７ｃがローバー２０に接触した状態で、微動ユニット１５によりセンサホルダ１６をＸ方向及びＹ方向に微動させてセンサユニット１７の磁気センサ１７５の読み込み信号が所定値以上となるようにセンサユニット１７の位置を微調整して、測定開始点を定める。例えば、図４のように、薄膜磁気ヘッド素子２１のライト素子のポール２７とセンサユニット１７の磁気センサ１７５（具体的にはＭＲ素子）が正対する位置が測定開始点となる。
【００６７】
・ピエゾＰｘ，Ｐｙ移動工程（測定工程）…微動ユニット１５をＸ，Ｙ方向に所定量だけ移動させ、その位置でのセンサユニット１７のリード出力電圧を記録する。これをＮ回繰り返す。これにより、Ｎカ所でのセンサユニット１７のリード出力電圧が測定データとして記録される。これにより、所定の薄膜磁気ヘッド素子２１について、所定エリアの磁界分布を測定することができる。
【００６８】
・ピエゾＰｚ移動（上昇）工程…微動ユニット１５でセンサホルダ１６をＺ方向（上昇方向）に微動させ、ローバー２０からセンサユニット１７を離間させる［ピエゾＰｚ移動（上昇）］。
【００６９】
・出力工程…測定工程における測定結果を出力する（測定値プロット）。出力結果の一例を図７に示す。本図において、（Ａ）は記録用電流の周波数が１０ＭＨｚの場合の磁界分布を、（Ｂ）は同周波数が５０ＭＨｚの場合の磁界分布を示している。この場合、単なる入／出力データの値で良／不良を判別するだけでなく、異なる周波数による磁束の出力データからオーバーライト特性をみることもできる。これは、既に記録してあるデータを上書き消去することが可能かどうかを判別する測定項目である。なお、記録用電流は直流（周波数＝０Ｈｚ）でも測定可能である。
【００７０】
・リード出力評価工程…測定工程における測定結果に基づいて、測定した薄膜磁気ヘッド素子２１の記録特性を検査ユニット１９の出力判定手段が評価する。具体的には、複数カ所（Ｎカ所）の測定結果（出力値）を基準値（例えば、必要とされる磁界強度及び範囲に相当するもの）と比較する等により測定した薄膜磁気ヘッド素子２１の良否を判定する。なお、前記基準値として測定点であるＮカ所毎に異なるデフォルト値を定めておき、このデフォルト値に対するズレ量が所定範囲内であれば良好（ＯＫ）であると判断するような判定方法を採用することができる。
【００７１】
測定結果が良好（ＯＫ）の場合、次の薄膜磁気ヘッド素子２１に対して仮位置決め工程から同様の流れで測定を行う。
【００７２】
一方、測定結果が不良（ＮＧ）の場合、そのローバー２０の磁気特性検査は終了し、次の新規のローバー２０を保持台１２上に受け入れることになる。
【００７３】
通常はローバー２０に含まれる薄膜磁気ヘッド素子２１全てについて上記各工程（但し、ローバー保持工程はローバー交換時のみ実行するため省略）を実行する。なお、上記一連の工程は薄膜磁気ヘッド素子２１の記録特性（書込み特性）を検査するものであったが、記録特性の検査に併せて再生特性（読出し特性）の検査をすることも可能である。この場合、上記測定工程においてはセンサユニット１７のリード出力電圧を記録した後、検査ユニット１９の電流発生手段から記録用電気信号（磁界発生電流）をセンサユニット１７に入力し、これによりセンサユニット１７が有する磁界発生部（薄膜磁気ヘッド素子２１のライト素子と同様構成）の発生する磁界を薄膜磁気ヘッド素子２１で読み取り、読み取った結果として出力される電圧も併せて記録する。そして検査ユニット１９は薄膜磁気ヘッド素子２１の再生特性（すなわち薄膜磁気ヘッド素子２１のリード素子４１の特性）も併せて評価する。
【００７４】
なお、図１（Ａ）,（Ｂ）において、磁気センサ１７５とローバー２０側の薄膜磁気ヘッド素子２１のライト素子３１間の対向間隔Ｇは、センサユニット１７における凸部１７ａ，１７ｂ，１７ｃの耐摩耗性非磁性膜としてのＤＬＣ膜１７２の膜厚で実質的に定まるが、図８（Ａ），（Ｂ）のように凸部１７ａ，１７ｂ，１７ｃのＤＬＣ膜１７２の膜厚を変化させることで、磁気センサ１７５とローバー２０側の薄膜磁気ヘッド素子のライト素子３１間の対向間隔Ｇを制御可能である。図８（Ａ）の構成でＤＬＣ膜１７２を最大限の厚みに設定した場合、ＤＬＣ膜１７２の厚さは膜の特性を維持可能なレベルとして最大５０ｎｍ程度である。また、図８（Ｂ）のように、ＤＬＣ膜１７２の厚さの範囲内でエッチング処理して各凸部１７ａ，１７ｂ，１７ｃをＤＬＣ膜１７２のみで形成することも可能である。
【００７５】
図８（Ａ）,（Ｂ）のように、ＤＬＣ膜１７２の膜厚によって磁気センサ１７５とライト素子３１間の対向間隔Ｇを意図的に制御可能であり、ライト素子３１から任意の距離の磁界分布を測定でき、測定対象ローバー毎に最適な対向間隔Ｇを得ることが可能である。
【００７６】
本実施の形態によれば、下記の効果を奏することができる。
【００７７】
(1) 多数の薄膜磁気ヘッド素子２１を有するローバー２０にクラウン加工が施されていても、センサユニット１７のローバーへの対向面の３カ所（例えば二等辺三角形の各頂点）に凸部１７ａ，１７ｂ，１７ｃを形成しておき、各凸部１７ａ，１７ｂ，１７ｃをローバー２０の磁界発生面に接触させることでローバー２０に対するセンサユニット１７の姿勢を安定化することができる。従って、ローバー２０に各凸部１７ａ，１７ｂ，１７ｃを接触させた状態で薄膜磁気ヘッド素子２１の磁気特性検査を行う場合、ローバー２０側ライト素子３１と凸部１７ａの基部位置の磁気センサ１７５との対向間隔を所定値に維持して磁気測定が可能となり、ローバー毎に前記対向間隔がばらつくことに起因する測定誤差の発生を防止でき、測定精度の向上が図れる。
【００７８】
(2) 上記のようにローバー２０の段階、つまり個片に切断してスライダとされる前の段階で各薄膜磁気ヘッド素子２１の記録特性を検査することが可能なため、個々のスライダよりも取り扱いがし易く検査効率も良い。
【００７９】
(3) 薄膜磁気ヘッド素子２１に対するセンサユニット１７の位置を微動ユニット１５の高精度な微動により制御するので、検査の信頼性が高い。そして、微動ユニット１５によるセンサユニット１７の高精度な位置制御により、薄膜磁気ヘッド素子２１から発生する磁界を、薄膜磁気ヘッド素子２１の近傍のＮカ所でセンサユニット１７により読み取り、各位置でのリード出力電圧に基づいて検査ユニット１９により薄膜磁気ヘッド素子２１の記録特性（すなわち薄膜磁気ヘッド素子２１のライト素子３１の特性）を評価することができる。
【００８０】
(4) 薄膜磁気ヘッド素子２１の記録特性の検査に併せて再生特性も検査することも可能であり、効率的である。
【００８１】
(5) これらによって、ＨＧＡの最終検査のような擬似メディアを用いることなく、ローバー段階での各薄膜磁気ヘッド素子２１の磁気特性検査を効率的にかつ高精度に実施でき、不良薄膜磁気ヘッド素子２１を含むローバー２０を除外することで、ＨＧＡの最終検査時に記録特性が不良の薄膜磁気ヘッド素子が残っている確率を減らすことができる。すなわち、記録特性が不良の薄膜磁気ヘッド素子のためにサスペンション等の高価なパーツを廃棄する無駄が少なくなるため、コスト低減の点で非常に有利である。
【００８２】
以下、本実施の形態の磁気特性検査装置１００の具体的構成を説明する。
【００８３】
図９は、図２に示される磁気特性検査装置１００の具体的な構成を例示する斜視図である。本図では、ローバー２０の供給から検査、排出までを自動的に行う場合の構成を例示している。
【００８４】
筐体２０１は、上面が磁気特性検査装置１００の作業スペースを成す。制御盤２０５は、筐体２０１に内蔵され、磁気特性検査装置１００全体の動作を統括して制御する。カバー２０６は、図２に示した各部材（検査ユニット１９以外）を囲むものである。供給部２１０は、順次供給される未検査のローバー２０を搬送ホルダ１３０の下方に移送する。搬送ホルダ１３０は搬送軸２１５（Ｘ軸）に沿って横方向に移動可能であり、また、自身の内蔵する移動機構により上下方向（Ｚ軸方向）に移動可能である。排出部２２０は、検査済みのローバー２０を外部に移送する。搬送軸２１５の中間位置下方のカバー２０６内が、図２に示すローバー２０を固定する保持台１２やその他の測定のための機構を含む固定・測定部３００となっている。モニタ２０７は、検査結果や装置全体の状況を使用者に知らせるためのものである。
【００８５】
図９の装置の流れを説明すると、まず、搬送ホルダ１３０は、供給部２１０によって移送されてきた未検査のローバー２０を保持し、搬送軸２１５に沿って固定・測定部３００の上方、つまり図２の保持台１２（カバー２０６内）の上方まで右方向に移動して下降し、カバー２０６の上側開口を経由して保持台１２上にローバー２０を配置する。この状態で図６の手順に従ってローバー２０の検査が実行され、検査が済むと搬送ホルダ１３０はローバー２０を保持して上昇し、搬送軸２１５に沿って排出部２２０の上方まで右方向に移動してローバー２０を排出する。
【００８６】
以上、実施の形態を例に本発明を説明したが、実施の形態の各構成要素や各工程には請求項に記載の範囲で種々の変形が可能であることは当業者に理解されるところである。以下、変形例について触れる。
【００８７】
センサユニット１７に形成する凸部は図１以外の配置も可能であり、図１０（Ａ）は、図１（Ｂ）では凸部１７ｂ，１７ｃとして２点配置としていた形状を、直線状に連続した直線状凸部１７ｄに置き換えた構成である。その他は図１と同様である。通常、ローバー２０のクラウン形状はローバー長手方向の変化が少ないため、図１０（Ａ）の形状でも対応可能である。また更なる変形例として、磁気センサ１７５がセンサユニット１７の中央に配置されない図１０（Ｂ）の構成としてもよい。この場合、三角形の頂点に位置するように凸部１７ｉ，１７ｊ，１７ｋがセンサユニット１７の対向面に形成され、ローバーのライト素子に対向可能な凸部１７ｉ，１７ｊの一方の凸部１７ｉの基部に磁気センサ１７５が配置されている。
【００８８】
図１１は、センサユニット１７の対向面において、ローバー２０の幅方向一端部のライト素子に対向する側に対をなす２カ所の凸部１７ｅ，１７ｆを形成し、幅方向他端部に対向する側に１カ所の凸部１７ｇを形成し、さらに、凸部１７ｅ，１７ｆよりも高さが低い凸部１７ｈを形成するように凸部１７ｅ，１７ｆの中間位置に磁気センサ１７５を配置している。
【００８９】
この場合、ローバー２０のクラウン形状の磁界発生面に接触するのは３カ所の凸部１７ｅ，１７ｆ，１７ｇであり、図１の場合と同様にローバー２０に対するセンサユニット１７の姿勢を安定化できる。また、凸部１７ｅ，１７ｆよりも高さが低い凸部１７ｈに磁気センサ１７５を設けたことで、ローバー２０側ライト素子と磁気センサ１７５間に所要の対向間隔を確保できる。
【００９０】
センサユニット１７を取り付ける可撓性を有するセンサホルダ１６については、種々の構成が考えられる。例えばセンサユニット１７を取り付けているセンサホルダ１６そのものが板バネ状に可撓性を有する材料で作られている場合で、構成は単純であるが、図１２の説明図に示すように、Ｚ方向変化と共に板バネ状のセンサホルダ１６が屈曲して若干のＹ方向変化が発生することは避けられない。このため、センサホルダを、剛性を有するセンサホルダ本体とＺ方向のみに位置変動する可撓性部材とを組み合わせた構造とし、センサホルダ本体とセンサユニットの間に撓性部材を挟み、その可撓性部材によってセンサユニットを保持する構造を採用することがより好ましい。
【００９１】
図１３の例では、微動ユニットで駆動されるセンサホルダ１６は、剛性を有するホルダアーム１６１（センサホルダ本体）と、その先端側に固着された剛性を有するホルダベース１６２と、可撓性ホルダ部材１６３と、フレキシブル基板１６４とを有している（図１３ではローバーに対向する面が上向きとして図示されている）。可撓性ホルダ部材１６３とフレキシブル基板１６４は一方の縁部がホルダベース１６２上に順次重ねられて固定され、フレキシブル基板１６４上にセンサユニット１７が固着されている。
【００９２】
可撓性ホルダ部材１６３は、所要の切欠を形成することで、周縁部に部分的（放射状）に繋がった円形リング部１６３ａ及び円形リング部１６３ａに部分的（放射状）に繋がったその内側の円板部１６３ｂを有している。円板部１６３ｂにはフレキシブル基板１６４側に向いた凸部（ディンプル）１６３ｃが形成されている。凸部１６３ｃは可撓性ホルダ部材１６３の可撓性によってＺ方向にのみ移動自在である。ホルダベース１６２は可撓性ホルダ部材１６３の動きを妨げないように凹部１６２ａを有する。
【００９３】
フレキシブル基板１６４にも同様の切欠が形成されることで、凸部１６３ｃに当接するセンサユニット配置領域１６４ａが区画され、ここにセンサユニット１７が凸部１６３ｃの真上位置となるように固着されている。つまり、センサユニット１７はＺ方向、及びピッチＰｘ、ロールＲｙ方向にフロート自在に支持される。従って、センサユニット１７はローバー２０の表面形状に追従して任意の姿勢を取り得る。
【００９４】
実施の形態では、仮位置決め工程においてローバー２０をＸ方向に直線移動させて、順次測定対象の薄膜磁気ヘッド素子２１がセンサユニット１７の下方に位置するようにしたが、逆にセンサユニット１７をＸ方向に直線移動させる構成でもよい。但し、この場合、狭焦点カメラ１８及びこれに付随する機構もセンサユニット１７と連動してＸ方向に直線移動する必要がある。
【００９５】
実施の形態ではセンサユニット１７はリード素子とライト素子を具備する磁気ヘッド素子と同等の機能を有するものとしたが、変形例ではセンサユニット１７は記録用の磁界を発生する機能を有さずに磁界を読み取るリード素子相当の磁気センサを備えるものとしてもよい。この場合でも薄膜磁気ヘッド素子の記録特性だけは検査可能である。
【００９６】
実施の形態では磁気特性検査の対象をローバーに含まれる薄膜磁気ヘッド素子としたが、変形例では、薄膜磁気ヘッド素子を有するローバーに限らず任意の磁界発生或いは磁界を有する素子や媒体を磁気特性検査の対象としてもよい。また、実施の形態では微動ユニット１５としてピエゾ素子を用いたものを例示したが、変形例ではこれに替えて精密ボールネジをサーボモータで回転駆動する機構やリニアモータを採用してもよい。
【図面の簡単な説明】
【００９７】
【図１】本発明の実施の形態で用いるセンサユニットの構成であって、（Ａ）は正面図、（Ｂ）は底面図。
【図２】本発明の実施の形態に係る磁気特性検査装置の構成を例示する概略斜視図。
【図３】図２の磁気特性検査装置を単純化した模式図。
【図４】図２の磁気特性検査装置におけるローバーとセンサユニットとの位置合わせ状態を例示した模式的拡大図。
【図５】ローバーとセンサユニットとのＸ方向及びＹ方向の位置合わせを説明する模式図。
【図６】図２に示される磁気特性検査装置による薄膜磁気ヘッド素子の磁気特性検査を流れを示す簡易フローチャート。
【図７】実施の形態における測定結果の出力例であって、（Ａ）は記録用電流の周波数が１０ＭＨｚ、（Ｂ）は同周波数が５０ＭＨｚの場合の磁界分布を示す説明図。
【図８】センサユニットにおける凸部のＤＬＣ膜の膜厚を変化させることで、磁気センサと薄膜磁気ヘッド素子のライト素子間の対向間隔（Magnetic Space）を制御可能であることを示し、（Ａ）はＤＬＣ膜を最大限厚くした場合、（Ｂ）はＤＬＣ膜の厚さ内でエッチング処理して凸部を形成した場合を示す説明図。
【図９】図２に示される磁気特性検査装置の具体的な全体構成を例示する斜視図。
【図１０】センサユニットの変形例を示す底面図。
【図１１】センサユニットの他の変形例を示す底面図。
【図１２】ローバーに対するセンサユニットのＺ方向の位置合わせの際にＹ方向の位置変化が生じることを示す説明図。
【図１３】センサユニットが固着されるセンサホルダの変形例を示す分解斜視図。
【図１４】薄膜磁気ヘッド素子の構成を例示する断面図。
【図１５】薄膜磁気ヘッド素子の形成されたスライダの例示的な斜視図。
【図１６】スライダの製造方法の概念的説明図。
【図１７】ＨＧＡの形状説明図であり、(Ａ)は側面図、(Ｂ)は底面図。
【図１８】本出願人が提案している薄膜磁気ヘッド素子の特性検査装置の概略構成図。
【図１９】ローバーにクラウン加工が施されている場合の不都合を示し、（Ａ）はローバー側のライト素子とセンサユニットの磁気センサ間の対向間隔が狭すぎる場合、（Ｂ）は同対向間隔が広すぎる場合の説明図である。
【符号の説明】
【００９８】
１１  基台
１２  保持台
１３  ＸＹ調整部
１５  微動ユニット
１６  センサホルダ
１７  センサユニット
１７ａ〜１７ｈ  凸部
１８  狭焦点カメラ
１９  検査ユニット
２０  ローバー
２１  薄膜磁気ヘッド素子
２２  電極
３１  ライト素子
４１  リード素子
１００  磁気特性検査装置
１３０  搬送ホルダ
１７２  ＤＬＣ膜
１７５  磁気センサ
１７６，２０６  マーカー
２０１  筐体
２０５ 制御盤
２０６  カバー
２０７  モニタ
２１０  供給部
２１５  搬送軸
２２０  排出部
３００  固定・測定部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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