(57)【要約】【課題】塗布手段の上下動作の短縮により描画タクト時間の大幅な短縮を図ることができ生産性の向上が可能となる電気光学装置の製造方法を提供する。【解決手段】電気光学装置の製造方法は、複数の基板領域をそれぞれ有する一対の基板母材から電気光学装置を製造する製造方法であって、一対の基板母材のうち一方の基板母材１２ａの複数の基板領域１２ｂにそれぞれ第１の電極５８を設ける工程と、他方の基板母材の複数の基板領域にそれぞれ第２の電極を設ける工程と、一対の基板母材のうち一方又は他方の基板母材１２ａの複数の基板領域１２ｂに塗布手段８のノズルから導通材料を隣り合う第１の電極５８あるいは第２の電極間を連結するように連続して吐出して上下導通材６２を形成する工程と、複数の基板領域にシール材を描画する工程と、複数の基板領域に電気光学材料を滴下する工程と、対応する基板領域が互いに対向するように貼り合わせる工程と、を備える。【選択図】図４
2010197542.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の基板領域をそれぞれ有する一対の基板母材から電気光学装置を製造する製造方法であって、
前記一対の基板母材のうち一方の基板母材の複数の基板領域にそれぞれ第１の電極を設ける工程と、
他方の基板母材の複数の基板領域にそれぞれ第２の電極を設ける工程と、
前記一対の基板母材のうち一方又は他方の基板母材の複数の基板領域に塗布手段のノズルから導通材料を隣り合う前記第１の電極あるいは前記第２の電極間を連結するように連続して吐出して上下導通材を形成する工程と、
前記一対の基板母材のうち一方又は他方の基板母材の複数の基板領域にシール材を描画する工程と、
前記一対の基板母材のうち一方又は他方の基板母材の複数の基板領域に電気光学材料を滴下する工程と、
前記一対の基板母材を、前記シール材を介して対応する基板領域が互いに対向するように貼り合わせる工程と、
を備えることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項２】
請求項１に記載の電気光学装置の製造方法において、
前記上下導通材が形成される隣り合う前記第１の電極および前記第２の電極間の前記一対の基板母材の表面は、各々前記第１の電極又は前記第２の電極と同一平面になるように形成されていることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項３】
複数の基板領域をそれぞれ有する一対の基板母材から電気光学装置を製造する製造方法であって、
前記一対の基板母材のうち一方の基板母材の複数の、隣接する基板領域に跨る領域にそれぞれ第１の電極を設ける工程と、
他方の基板母材の複数の、隣接する基板領域に跨る領域にそれぞれ第２の電極を設ける工程と、
塗布手段のノズルから導通材料を前記第１の電極あるいは前記第２の電極に吐出して上下導通材を形成する工程と、
前記一対の基板母材のうち一方又は他方の基板母材の複数の基板領域にシール材を描画する工程と、
前記一対の基板母材のうち一方又は他方の基板母材の複数の基板領域に電気光学材料を滴下する工程と、
前記一対の基板母材を、前記シール材を介して対応する基板領域が互いに対向するように貼り合わせる工程と、
を備えることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項に記載の電気光学装置の製造方法において、
前記一対の基板母材のうち少なくとも一方の基板母材に対して個々の基板領域の外周縁に沿って基板母材を切断する工程をさらに備えることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電気光学装置の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
一般に、液晶装置は、対向する一対の基板がそれぞれの基板の周縁部においてシール材を介して貼着され、これら一対の基板とシール材とによって囲まれた空間に液晶が封入された構成を有している。
液晶装置を製造する方法としては、２枚の基板をシール材を介して貼り合わせた後、両基板とシール材との間に形成された空隙に、真空注入法などの手法を用いて液晶を注入する液晶注入方式が知られている。
また、最近では、少なくとも一方の基板上に液晶を滴下した後、その液晶を挟持するように他方の基板をシール材を介して貼り合わせる液晶滴下注入方式（ＯＤＦ）も採用されている。
【０００３】
液晶滴下注入方式では、一対の基板を貼り合わせる前に液晶を滴下するので、シール材に液晶注入口を形成する必要がない。
したがって、大型基板を用いて複数の基板形成領域を一括して製造する前工程においては、大型基板どうしを貼り合わせることができる。
【０００４】
図１０に大型基板に形成される各基板形成領域３００を１行のみ拡大して示す。シール材３０２は基板形成領域３００ごとに、ディスペンサーを用いて枠状に描画され、描画開始点と描画終了点がつなぎ目３０２ａで閉塞される。
【０００５】
このつなぎ目３０２ａは確実に閉塞する必要があり、このつなぎ目３０２ａにシール材の塗布不足が発生すると液晶漏れが発生する。一方、このつなぎ目３０２ａにシール材が過剰に塗布されると、表示領域にシール材が入り込み表示不良を招いてしまう。そのため、シール材を描画する際に、特に描画開始点と描画終了点とのつなぎ目３０２ａにおいては描画速度を調整しながら行う必要があり、煩雑な作業が要求されるばかりでなく、描画タクト時間が増加してしまう問題がある。
【０００６】
また、ディスペンサーに貯留されているシール材は、空気等の加圧によりノズルから定量吐出される。ノズルからシール材が連続吐出されている状態では、加圧空気がシール材とともに吐出されるため、シール材は常にほぼ定量的に吐出される。しかし、シール材の吐出が一端遮断されると、ディスペンサー内に空気の気泡が滞留され、シール材の吐出が再開される際に、この気泡がノズル内を閉塞し、一時的に吐出遅れが生じる。
【０００７】
この対策として、例えば大型基板上に形成されている複数の基板形成領域のうち、行あるいは列方向に配列されている基板形成領域に対し、シール材の一部となる第１パターンと、このシール材の残部となる第２パターンとを連続して一括形成する技術が開示されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００８】
図１１は、従来のアクティブマトリックス方式の液晶装置の要部を示す概略断面図である。図１１の液晶装置は、環状のシール材３０４を介して互いに対向するように配置されたカラーフィルター基板３０６およびアクティブ素子基板３０８と、これらの間に挟持された液晶層３１０と、カラーフィルター基板３０６の上面側（観測者側）に付設された位相差板３１２ａ、偏光板３１４ａとからなる液晶パネル３１６と、を主体として構成されている。カラーフィルター基板（対向基板）３０６は透明なガラス、石英等からなる光透過性基板３１８を具備してなる観測者側に向いて設けられる表側の基板であり、アクティブ素子基板３０８はその反対側、換言すると裏側に設けられる基板である。
【０００９】
このカラーフィルター３２０は、光透過性基板３１８の下面側（液晶層側）にモザイク配列などの配列で並べられたＲ（赤）の色層３２２、Ｇ（緑）の色層３２４、Ｂ（青）の色層３２６と、隣接する色層間に設けられたブラックマトリックス（遮光膜）３２８が設けられ、さらにこれら色層３２２，３２４，３２６とブラックマトリックス３２８を覆うようにオーバーコート層３３０が設けられている。オーバーコート層３３０の下側に透明電極（対向電極）３３２がこのオーバーコート層３３０のほぼ全面にわたって形成され、さらにこれの下側に配向膜３３４ａが形成されている。
【００１０】
アクティブ素子基板３０８は、光透過性基板３３６上に絶縁層（図示略）が形成され、さらにこの絶縁層上にマトリクス状に走査線（図示略）と、信号線３３８とが形成され、これら走査線と信号線３３８とに囲まれた領域ごとに画素電極３４０が設けられ、各画素電極３４０のコーナー部分と走査線と信号線３３８との間の部分に薄膜トランジスター（図示略）が組み込まれており、走査線と信号線３３８に対する信号の印加によって薄膜トランジスターをオン・オフして画素電極３４０への通電制御を行うことができるように構成されている。さらに、これら走査線と信号線３３８と画素電極３４０と薄膜トランジスターの上に配向膜３３４ｂが形成されている。両基板３０６，３０８間には特定ギャップ材３４２を隔てて液晶が封入されている。
【００１１】
アクティブ素子基板３０８では、データー線および画素スイッチング用の薄膜トランジスターを介して画素電極３４０に表示信号を供給するとともに、対向電極３３２にも所定の電位を印加する必要がある。そこで、液晶パネル３１６では、アクティブ素子基板３０８の表面のうち、対向基板３０６の各コーナー部に対向する部分には、データー線などの形成プロセスを援用してアルミニウム膜（遮光性材料）からなる上下導通用の第１の電極３４４が形成されている。一方、カラーフィルター基板３０６の各コーナー部には、対向電極３３２の形成プロセスを援用してＩＴＯ膜（光透過性材料）からなる上下導通用の第２の電極３４６が形成されている。さらに、これらの上下導通用の第１の電極３４４と第２の電極３４６とは、上下導通材３４８によって電気的に導通している。
【００１２】
このような液晶装置を従来の製造法としては、例えば、図１２に示すように、複数の基板領域３０８ａを含む素子基板母材３３６ａの表面の各基板領域３０８ａに上記の画素電極や上記の第１の電極等の電極、配向膜、その他の必要な要素を形成した後、ディスペンサー８を用いて素子基板母材３３６ａの各基板領域３０８ａの周辺部分のシール材形成位置３０４ａの各コーナー部の外側に上下導通材３４８を作成し、ついでシール材形成位置３０４ａに環状のシール材３０４を形成し、ついで、このシール材３０４の内側にスペーサーを散布する。上記ディスペンサー８には、エポキシ樹脂系の接着剤成分に銀粉などの導電粒子が配合された導通材料が充填されており、上下導通材３４８の形成の際には、図１３に示すように、上記導通材料をシール材３０４のコーナー部の外側の導通材形成位置３４８ａにその都度押し出して上下導通材３４８を形成していた。
【００１３】
ついで各液晶パネルのシール材３０４で囲まれた液晶封入領域に液晶を滴下し、ついで、図１４に示すように、基板領域３０６ａに上記の対向電極や上記の第２の電極等の電極、配向膜、その他の必要な要素を形成した対向基板３０６を複数用意し、これら対向基板３０６の基板領域３０６ａを素子基板母材３３６ａの基板領域３０８ａに貼り合わせた後、上記素子基材母材３３６ａの個々の基板領域３０８ａの周囲を切断して個々の液晶パネルを取り出し、この後、液晶パネルを液晶表示装置に実装する方法によって行われている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１４】
【特許文献１】特開２００６−１８１４１８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１５】
しかしながら従来の液晶装置の製造方法においては、各上下導通材はディスペンサーを用いてそれぞれ各基板領域に形成されるため、製造効率が悪いという問題があった。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態又は適用例として実現することが可能である。
【００１７】
［適用例１］複数の基板領域をそれぞれ有する一対の基板母材から電気光学装置を製造する製造方法であって、前記一対の基板母材のうち一方の基板母材の複数の基板領域にそれぞれ第１の電極を設ける工程と、他方の基板母材の複数の基板領域にそれぞれ第２の電極を設ける工程と、前記一対の基板母材のうち一方又は他方の基板母材の複数の基板領域に塗布手段のノズルから導通材料を隣り合う前記第１の電極あるいは前記第２の電極間を連結するように連続して吐出して上下導通材を形成する工程と、前記一対の基板母材のうち一方又は他方の基板母材の複数の基板領域にシール材を描画する工程と、前記一対の基板母材のうち一方又は他方の基板母材の複数の基板領域に電気光学材料を滴下する工程と、前記一対の基板母材を、前記シール材を介して対応する基板領域が互いに対向するように貼り合わせる工程と、を備えることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【００１８】
これによれば、一対の基板母材のうち一方又は他方の基板母材の複数の基板領域に塗布手段のノズルから導通材料を隣り合う第１の電極あるいは第２の電極間を連結するように連続して一括に吐出して上下導通材を形成するようにしたので、塗布手段の上下動作の短縮により描画タクト時間の大幅な短縮を図ることができ生産性の向上が可能となる。かつ打点時の吐出不良による描画不良の発生が低減され銀点検査の廃止が可能となる。
【００１９】
［適用例２］上記電気光学装置の製造方法であって、前記上下導通材が形成される隣り合う前記第１の電極および前記第２の電極間の前記一対の基板母材の表面は、各々前記第１の電極又は前記第２の電極と同一平面になるように形成されていることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【００２０】
これによれば、上下導通材が形成される領域において、基板母材の貼り合せ時のギャップ均一性を維持することが可能となる。
【００２１】
［適用例３］複数の基板領域をそれぞれ有する一対の基板母材から電気光学装置を製造する製造方法であって、前記一対の基板母材のうち一方の基板母材の複数の、隣接する基板領域に跨る領域にそれぞれ第１の電極を設ける工程と、他方の基板母材の複数の、隣接する基板領域に跨る領域にそれぞれ第２の電極を設ける工程と、塗布手段のノズルから導通材料を前記第１の電極あるいは前記第２の電極に吐出して上下導通材を形成する工程と、前記一対の基板母材のうち一方又は他方の基板母材の複数の基板領域にシール材を描画する工程と、前記一対の基板母材のうち一方又は他方の基板母材の複数の基板領域に電気光学材料を滴下する工程と、前記一対の基板母材を、前記シール材を介して対応する基板領域が互いに対向するように貼り合わせる工程と、を備えることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【００２２】
これによれば、塗布手段のノズルから導通材料を第１の電極あるいは第２の電極に吐出して上下導通材を形成するようにしたので、打点時の吐出不良による描画不良の発生が低減され銀点検査の廃止が可能となる。かつ塗布手段の上下動作の短縮により描画タクト時間の大幅な短縮を図ることができ生産性の向上が可能となる。
【００２３】
［適用例４］上記電気光学装置の製造方法であって、前記一対の基板母材のうち少なくとも一方の基板母材に対して個々の基板領域の外周縁に沿って基板母材を切断する工程をさらに備えることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【００２４】
これによれば、両方の基板母材に複数の基板領域を形成し、これら基板母材を対応する基板領域が互いに対応するように貼り合せた後、貼り合せた両基板母材に対して個々の基板領域の周囲を切断するようにすれば、電気光学装置の製造効率を大幅に向上できる。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】第１の実施形態に係る液晶装置を対向基板の側からみた平面図。
【図２】図１のII−II’線で切断したときの液晶装置の断面図。
【図３】第１の実施形態に係る液晶装置に備えられたアクティブ素子基板を示す斜視図。
【図４】第１の実施形態に係る液晶装置の製造方法を説明するための工程図。
【図５】第１の実施形態に係る液晶装置の製造方法を説明するための工程図。
【図６】第１の実施形態に係る液晶装置の製造方法を説明するための工程図。
【図７】第１の実施形態に係る液晶装置の製造方法を説明するための工程図。
【図８】第２の実施形態に係る液晶装置の製造方法を説明するための工程図。
【図９】第２の実施形態に係る液晶装置の製造方法を説明するための工程図。
【図１０】従来の描画パターンの説明図。
【図１１】従来の液晶装置の要部を示す断面図。
【図１２】従来の液晶装置の製造方法の上下導通材の形成工程を示す工程図。
【図１３】従来の液晶装置の製造方法の上下導通材の形成工程を示す斜視図。
【図１４】従来の液晶装置の製造工程を示す斜視図。
【発明を実施するための形態】
【００２６】
以下、実施形態について図面を参照して説明する。なお、以下の説明で参照する図においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材ごとに縮尺を適宜変更している。
【００２７】
（第１の実施形態）
本実施形態に係る液晶装置を図面を参照して説明する。
図１は、本実施形態に係るＴＦＴ（Thin Film Transistor）型の液晶装置を対向基板の側からみた平面図であり、図２は、図１のII−II’線で切断したときの液晶装置の断面図である。図３は、液晶装置に備えられたアクティブ素子基板を示す斜視図である。
【００２８】
本実施形態に係る液晶装置２は、複数の基板領域をそれぞれ有する一対の基板母材からなる。液晶装置２は、互いに対向するように配置された一対の基板のうち他方の基板としてのカラーフィルター基板１０および一対の基板のうち一方の基板としてのアクティブ素子基板１２と、これらの間に挟持された電気光学材料としての液晶層１４と、カラーフィルター基板１０の上面側（観測者側）に付設された位相差板１６ａ、偏光板１８ａと、アクティブ素子基板１２の下面側に付設された位相差板１６ｂ、偏光板１８ｂとが備えられた液晶パネル６を主体として構成されている。この液晶パネル６に、液晶駆動用ドライバーチップと、電気信号を伝達するための配線類、支持体等の付帯要素を装着することによって、最終製品としての液晶装置が構成される。
【００２９】
カラーフィルター基板１０は、光透過性基板（基板）２０を具備してなる観測者側に向いて設けられる表側の基板であり、アクティブ素子基板１２はその反対側、換言すると裏側に設けられる基板である。
カラーフィルター基板１０は、プラスチックフィルム又は厚さ３００μｍ（０.３ｍｍ）程度のガラス基板、石英基板等からなる光透過性基板２０と、この基板２０の下側（換言すると液晶層側の面）に形成されたカラーフィルター２２とを主体として構成されている。
カラーフィルター２２は、この基板２０の下側（換言すると液晶層側の面）に形成された隔壁部２４と、色層２６と、隔壁部２４および色層２６を覆うオーバーコート層２８を具備して構成されている。
【００３０】
隔壁部２４は、各色層２６を形成する各色層形成領域３０をそれぞれ取り囲むように形成された格子状のもので、基板２０の一面２０ａに形成されている。隔壁部２４は、孔２４ｃを複数有している。各孔２４ｃ内には基板２０面が露出している。そして隔壁部２４の内壁（孔２４ｃの壁面）と基板２０面とにより区画されて色層形成領域３０が形成されている。
隔壁部２４は、黒色感光性樹脂膜からなり、この黒色感光性樹脂膜としては例えば、通常のフォトレジストに用いられるようなポジ型もしくはネガ型の感光性樹脂と、カーボンブラック等の黒色の無機顔料あるいは黒色の有機顔料とを少なくとも含むものが好ましい。この隔壁部２４は、黒色の無機顔料又は有機顔料を含むもので、色層２６の形成位置を除く部分に形成されるため、色層２６同士の間の光の透過を遮断でき、したがってこの隔壁部２４は、遮光膜としての機能をも有する。
【００３１】
色層２６は、隔壁部２４の内壁と基板２０に渡って設けられた色層形成領域（画素形成領域）３０に着色インクを吐出させて乾燥させることにより形成したものである。
色層２６は、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３原色にそれぞれ対応する赤色の色層２６Ｒ、緑色の色層２６Ｇ、青色の色層２６Ｂを具備してなるものである。色層２６は、例えば、無機顔料により着色したアクリル樹脂やポリウレタン樹脂等からなる。
【００３２】
さらにオーバーコート層２８の下側（液晶層側）にＩＴＯ（Indium Tin Oxide）等の透明導電材料からなる液晶駆動用電極３２がオーバーコート層２８のほぼ全面にわたって形成されている。さらにこの液晶駆動用電極３２を覆って液晶層側に配向膜３４ａが設けられており、また、反対側のアクティブ素子基板１２側の後述する画素電極３６上にも配向膜３４ｂが設けられている。
【００３３】
アクティブ素子基板１２は、図３に示すように、光透過性基板（基板）３８上に絶縁層４０が形成され、さらにこの絶縁層４０の上に、ＴＦＴ型のスイッチング素子としての薄膜トランジスターＴと画素電極３６が形成されてなるものである。また、基板３８上に形成された絶縁層４０上には、マトリクス状に走査線４２と信号線４４とが形成され、これら走査線４２と信号線４４とに囲まれた領域ごとに画素電極３６が設けられ、各画素電極３６のコーナー部分と走査線４２と信号線４４との間の部分に薄膜トランジスターＴが組み込まれており、走査線４２と信号線４４に対する信号の印加によって薄膜トランジスターＴをオン・オフして画素電極３６への通電制御を行うことができるように構成されている。また、対向側のカラーフィルター基板１０側に形成された液晶駆動用電極３２はこの実施形態では画素領域全体をカバーする全面電極とされている。なお、ＴＦＴの配線回路や画素電極形状には様々なものがあり、本実施形態では図３に示すものを例示したが、他の形状のＴＦＴを備えた液晶装置に適用できるのは勿論である。
【００３４】
アクティブ素子基板１２とカラーフィルター基板（対向基板）１０とは、カラーフィルター基板１０の外周縁に沿って形成されたシール材４６によって所定の間隙を介して貼り合わされている。また、符号４８は両基板間の間隔（セルギャップ）を基板面内で一定に保持するためのスペーサーである。その結果、アクティブ素子基板１２とカラーフィルター基板１０との間には、図１に示すように、シール材４６によって矩形の液晶封入領域が区画形成され、この液晶封入領域内に、液晶が封入されている。
【００３５】
図１および２に示すように、カラーフィルター基板１０はアクティブ素子基板１２よりも小さく、アクティブ素子基板１２の周辺部分は、カラーフィルター基板１０の外周縁よりはみ出た状態に貼り合わされる。したがって、アクティブ素子基板１２では、表示領域５０の外周側領域において、画素スイッチング用の薄膜トランジスターＴと同時形成された駆動回路用のＴＦＴによって形成された走査線駆動回路５２やデーター線駆動回路５４は、カラーフィルター基板１０の外周側で露出した状態にある。
また、アクティブ素子基板１２の端部に形成された入出力端子５６も、カラーフィルター基板１０の外周側で露出した状態にある。なお、本実施形態では、アクティブ素子基板１２の走査線駆動回路５２やデーター線駆動回路５４が形成された領域は、カラーフィルター基板１０に対して露出した構成になっているが、アクティブ素子基板１２の走査線駆動回路５２やデーター線駆動回路５４が形成された領域に対応するカラーフィルター基板１０の外周縁をアクティブ素子基板１２の外周縁とほぼ同じ位置に形成して、走査線駆動回路５２やデーター線駆動回路５４が形成された領域がカラーフィルター基板１０によって覆われた構成であってもよい。
カラーフィルター基板１０には、シール材４６の形成領域の内側において表示領域５０を見切りするための遮光膜２４ｆ、およびアクティブ素子基板１２の各画素電極３６の境界領域に対応する領域に遮光膜（図示略）が形成され、これらの遮光膜の表面側（液晶層１４側）に上記の対向電極３２が形成されている。ここでの遮光膜２４ｆは、隔壁部２４と一体に形成されている。
【００３６】
この液晶パネル６では、アクティブ素子基板１２およびカラーフィルター基板１０の光入射側および光射出側の面には、ノーマリホワイトモード／ノーマリブラックモードの別に応じて、上記の偏光板１８ａ，１８ｂ（偏光シート）が所定の向きに配置されている。
このように構成した液晶パネル６において、アクティブ素子基板１２では、データー線（図示せず）および薄膜トランジスターＴを介して画素電極３６に印加した表示信号によって、画素電極３６と対向電極３２との間において液晶の配向状態を画素ごとに制御し、表示信号に対応した所定の表示を行う。例えば、液晶パネル６をＴＮモードで構成した場合に、一対の基板間（アクティブ素子基板１２とカラーフィルター基板１０）の各々に形成した配向膜３４ａ，３４ｂに対してラビング処理を行う際にラビング方向を互いに直交する方向に設定すると、液晶は、基板間で９０°の角度をもって捩じれ配向する。このような捩じれ配向は、基板間で液晶層１４に電場をかけることによって解放される。したがって、基板間に外部から電場を印加するか否かによって、液晶の配向状態を画素電極３６が形成されている領域ごと（画素ごと）に制御することができる。
【００３７】
それ故、液晶パネル６を透過型の液晶パネルとして用いる場合、アクティブ素子基板１２の下側に配置した照明装置（図示略）からの光は、入射側の偏光板１８ｂによって所定の直線偏光光に揃えられた後、位相差板１６ｂ、アクティブ素子基板１２を通って液晶層１４に入射し、ある領域を透過する直線偏光光は、透過偏光軸が捩じられて射出される一方、他の領域を通過した直線偏光光は、透過偏光軸が捩じられることなく射出する。このため、入射側の偏光板１８ｂと射出側の偏光板１８ａを互いの透過偏光軸が直交するように配置しておけば（ノーマリホワイト）、液晶パネル６の射出側に配置された偏光板１８ａを通過するのは、液晶によって透過偏光軸が捩じられた方の直線偏光光のみである。これに対して、入射側の偏光板１８ｂと透過偏光軸が平行になるように射出側の偏光板１８ａを配置しておけば（ノーマリブラック）、液晶パネル６の射出側に配置された偏光板１８ａを通過するのは、液晶によって透過偏光軸が捩じられることのなかった直線偏光光のみである。よって、液晶１４の配向状態を画素ごとに制御すれば、任意の情報を表示することができる。
【００３８】
したがって、アクティブ素子基板１２では、データー線および画素スイッチング用の薄膜トランジスターＴを介して画素電極３６に表示信号を供給するとともに、対向電極３２にも所定の電位を印加する必要がある。そこで、液晶パネル６では、図１および２に示すように、アクティブ素子基板１２の表面のうち、対向基板１０の各コーナー部に対向する部分には、データー線などの形成プロセスを援用してアルミニウム膜（遮光性材料）からなる上下導通用の第１の電極５８が形成されている。
一方、カラーフィルター基板１０の各コーナー部には、対向電極３２の形成プロセスを援用してＩＴＯ膜（光透過性材料）からなる上下導通用の第２の電極６０が形成されている。さらに、これらの上下導通用の第１の電極５８と第２の電極６０とは、有機溶媒に導電性金属粒子を分散させた導通材料を吐出して形成された上下導通材６２によって電気的に導通している。それ故、液晶パネル６では、アクティブ素子基板１２およびカラーフィルター基板１０のそれぞれにフレキシブル配線基板などを接続しなくても、アクティブ素子基板１２のみにフレキシブル配線基板（図示略）を接続するだけで、アクティブ素子基板１２およびカラーフィルター基板（対向基板）１０の双方に所定の信号を入力することができる。
【００３９】
次に、上記構成を有する第１の実施形態の液晶装置の製造プロセスについて説明する。
図４〜７は、本実施形態に係る液晶装置の製造方法を説明するための工程図である。
図４に示すように、素子基板１２を多数個取りするための基板母材１２ａの素子基板１２となる複数の基板領域１２ｂの液晶層１４に面する側にそれぞれ光透過性絶縁層４０を形成した後、この絶縁層４０上に薄膜トランジスターＴ、画素電極３６、走査線４２、信号線４４、走査線駆動回路５２、データー線駆動回路５４、第１の電極５８等を形成する。この後、各基板領域１２ｂ上（液晶層側となる面上）にそれぞれ配向膜３４ｂを形成する。
一方、図６に示すように、カラーフィルター基板１０を多数個取りするための基板母材１０ａのカラーフィルター基板１０となる複数の基板領域１０ｂの液晶層１４に面する側にそれぞれカラーフィルター２２を作製したのち、このカラーフィルター２２が形成された各基板領域１０ｂのほぼ全面に対向電極３２、第２の電極６０を形成する。さらに、各基板母材１０ａ上（液晶層側となる面上）に配向膜３４ａを形成する。
【００４０】
ついで、ディスペンサー８を用いて図４に示す基板母材１２ａの各基板領域１２ｂの周辺部分のシール材形成位置４６ａの各コーナー部の外側に上下導通材６２を形成する。ついでシール材形成位置４６ａに環状のシール材４６を形成し、ついで、このシール材４６の内側にスペーサーを散布する。上記ディスペンサー８には、エポキシ樹脂系の接着剤成分に銀粉等の導電粒子が配合された導通材料が充填されており、図５に示すように、上下導通材６２の形成の際には、上記導通材料をシール材４６のコーナー部の外側の導通材形成位置６２ａにディスペンサー８のノズルから導通材料を隣り合う第１の電極５８間を連結するように連続して一括に吐出して上下導通材６２を形成する。
なお、上下導通材６２が形成される隣り合う第１の電極５８および第２の電極６０間の一対の基板母材１０ａ，１２ａの表面は、各々第１の電極５８又は第２の電極６０と同一平面になるように形成されている。つまり導通材形成位置６２ａは、一対の基板母材１２ａ，１０ａの貼り合せ時のギャップ均一性を維持するため、段差を考慮した構造となっている。例えば図４（Ｂ）のIV−IV’線で切断したときの断面図である図４（Ｃ）に示すように、上下導通材６２の断面積分の凹形状が基板母材１２ａ，１０ａ側に形成されている。また、導通材形成位置６２ａは、基板母材１２ａ，１０ａのどちら側であってもよい。
【００４１】
この後、基板母材１２ａに形成された各シール材４６の内側にスペーサー４８を散布する。ついで各液晶パネルのシール材４６で囲まれた液晶封入領域に液晶を滴下し、ついで、これら一対の基板母材１２ａ，１０ａを、図６に示すように、対応する基板領域が互いに対向するように配置し、図７に示すように、対応する基板領域が互いに対向するように貼り合わせる。ついで、貼り合わせた一対の基板母材１２ａ，１０ａの個々の基板領域の外周縁に沿って基板母材を切断して、個々のパネルを得る。
【００４２】
ついで、カラーフィルター基板１０上（液晶層側と反対側）に位相差板１６ａ、偏光板１８ａを積層し、素子基板１２の下（液晶層側と反対側）に位相差板１６ｂ、偏光板１８ｂを積層すると、液晶パネル６が得られる。
【００４３】
本実施形態によれば、基板母材１２ａの複数の基板領域１２ｂにディスペンサー８のノズルから導通材料を隣り合う第１の電極５８間を連結するように連続して一括に吐出して上下導通材６２を形成するようにしたので、ディスペンサー８の上下動作の短縮により描画タクト時間の大幅な短縮を図ることができ生産性の向上が可能となる。かつ打点時の吐出不良による描画不良の発生が低減され銀点検査の廃止が可能となる。
【００４４】
（第２の実施形態）
次に、本実施形態に係る液晶装置を図面を参照して説明する。
図８および９は、本実施形態に係る液晶装置の製造方法を説明するための工程図である。この液晶装置４が、第１の実施形態で説明した液晶装置２と異なる点は、図８に示すように、第１の電極５８ａおよび第２の電極６０ａが隣接する基板領域にかかる（隣接する基板領域に跨る領域）点である。つまり、そこに形成される上下導通材は、隣接する基板領域にかかる点である。図９に示すように、上記導通材料をシール材形成位置４６ａのコーナー部の外側の隣接する基板領域にかかる導通材形成位置６２ｂにディスペンサー８のノズルから導通材料を第１の電極５８ａに吐出して上下導通材を形成する。
本実施形態に係る液晶装置４によれば、第１の実施形態の液晶装置２の製造方法と同様な効果が得られる。
【００４５】
（第３の実施形態）
次に、上記の第１、第２の実施形態の液晶装置２，４のいずれかを備えた電子機器を示す。
例えば、携帯電話、腕時計型電子機器、電子ブック、パーソナルコンピューター、ディジタルスチルカメラ、液晶テレビ、ビューファインダ型あるいはモニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサー、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた機器等があり、前記液晶装置はこれらの表示手段として好適に用いることができる。
上記に示すそれぞれの電子機器は、上記の液晶装置２，４のいずれかを用いた液晶表示部を備えたものであり、先の第１〜第２の実施形態の液晶装置２，４の特徴を有するので、いずれの液晶装置を用いても品質を向上させることができる電子機器となる。
【００４６】
（第４の実施形態）
次に、上記の第１、第２の実施形態の液晶装置２，４のいずれかを備えた電子機器のその他の例として、投射型表示装置の構成について説明する。液晶装置４又は液晶装置２が第４の実施形態の電子機器に備えられる場合、ライトバルブには入射側偏光手段と射出側偏光手段が備えられるため、ここで用いる液晶装置４又は２には偏光板１８ａ，１８ｂは設けられていなくてもよい。
投射型表示装置は、上述した実施形態の液晶装置を３個用意し、夫々ＲＧＢ用の液晶装置として用いている。本例の投射型表示装置の光学系には、光源装置と、均一照明光学系が採用されている。そして、投射型表示装置は、この均一照明光学系から射出される光束を赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）に分離する色分離手段としての色分離光学系と、各色光束を変調する変調手段としての３つのライトバルブと、変調された後の色光束を再合成する色合成手段としての色合成プリズムと、合成された光束を投射面の表面に拡大投射する投射手段としての投射レンズユニットを備えている。また、青色光束Ｂを対応するライトバルブに導く導光系をも備えている。
【００４７】
均一照明光学系は、２つのレンズ板と反射ミラーを備えており、反射ミラーを挟んで２つのレンズ板が直交する状態に配置されている。均一照明光学系の２つのレンズ板は、それぞれマトリクス状に配置された複数の矩形レンズを備えている。光源装置から射出された光束は、第１のレンズ板の矩形レンズによって複数の部分光束に分割される。そして、これらの部分光束は、第２のレンズ板の矩形レンズによって３つのライトバルブ付近で重畳される。したがって、均一照明光学系を用いることにより、光源装置が射出光束の断面内で不均一な照度分布を有している場合でも、３つのライトバルブを均一な照明光で照明することが可能となる。
【００４８】
各色分離光学系は、青緑反射ダイクロイックミラーと、緑反射ダイクロイックミラーと、反射ミラーから構成される。まず、青緑反射ダイクロイックミラーにおいて、光束に含まれている青色光束および緑色光束が直角に反射され、緑反射ダイクロイックミラーの側に向かう。赤色光束はこのミラーを通過して、後方の反射ミラーで直角に反射されて、赤色光束の射出部から色合成プリズムの側に射出される。
次に、緑反射ダイクロイックミラーにおいて、青緑反射ダイクロイックミラーにおいて反射された青色、緑色光束のうち、緑色光束のみが直角に反射されて、緑色光束の射出部から色合成光学系の側に射出される。緑反射ダイクロイックミラーを通過した青色光束は、青色光束の射出部から導光系の側に射出される。本例では、均一照明光学素子の光束の射出部から、色分離光学系における各色光束の射出部までの距離がほぼ等しくなるように設定されている。
【００４９】
色分離光学系の赤色、緑色光束の射出部の射出側には、それぞれ集光レンズが配置されている。したがって、各射出部から射出した赤色、緑色光束は、これらの集光レンズに入射して平行化される。
このように平行化された赤色、緑色光束は、ライトバルブに入射して変調され、各色光に対応した画像情報が付加される。すなわち、これらの液晶装置は、駆動手段によって画像情報に応じてスイッチング制御されて、これにより、ここを通過する各色光の変調が行われる。一方、青色光束は、導光系を介して対応するライトバルブに導かれ、ここにおいて、同様に画像情報に応じて変調が施される。なお、本例のライトバルブは、それぞれさらに入射側偏光手段と、射出側偏光手段と、これらの間に配置された液晶装置とからなる液晶ライトバルブである。
【００５０】
導光系は、青色光束の射出部の射出側に配置した集光レンズと、入射側反射ミラーと、射出側反射ミラーと、これらの反射ミラーの間に配置した中間レンズと、ライトバルブの手前側に配置した集光レンズとから構成されている。集光レンズから射出された青色光束は、導光系を介して液晶装置に導かれて変調される。各色光束の光路長、すなわち、光束の射出部から各液晶装置までの距離は青色光束が最も長くなり、したがって、青色光束の光量損失が最も多くなる。しかし、導光系を介在させることにより、光量損失を抑制することができる。
各ライトバルブを通って変調された各色光束は、色合成プリズムに入射され、ここで合成される。そして、この色合成プリズムによって合成された光が投射レンズユニットを介して所定の位置にある投射面の表面に拡大投射されるようになっている。
【００５１】
本実施形態の投射型表示装置は、上記の液晶装置２，４のいずれかを用いた液晶装置を備えたものであり、先の第１〜第２実施形態の液晶装置２，４の特徴を有するので、品質を向上させることができる。
【符号の説明】
【００５２】
２，４…液晶装置  ６…液晶パネル  ８…ディスペンサー（塗布手段）  １０…カラーフィルター基板（対向基板）  １０ａ…基板母材  １０ｂ…基板領域  １２…アクティブ素子基板（素子基板）  １２ａ…基板母材  １２ｂ…基板領域  １４…液晶層（液晶）（電気光学材料）  １６ａ，１６ｂ…位相差板  １８ａ，１８ｂ…偏光板  ２０…光透過性基板（基板）  ２０ａ…一面  ２２…カラーフィルター  ２４…隔壁部  ２４ｃ…孔  ２４ｆ…遮光膜  ２６，２６Ｒ，２６Ｇ，２６Ｂ…色層  ２８…オーバーコート層  ３０…色層形成領域（画素領域）  ３２…液晶駆動用電極（対向電極）  ３４ａ，３４ｂ…配向膜  ３６…画素電極  ３８…光透過性基板（基板）  ４０…絶縁膜（光透過性絶縁膜）  ４２…走査線  ４４…信号線  ４６…シール材  ４６ａ…シール形成位置  ４８…スペーサー  ５０…表示領域  ５２…走査線駆動回路  ５４…データー線駆動回路  ５６…入出力端子  ５８，５８ａ…第１の電極  ６０，６０ａ…第２の電極  ６２…上下導通材  ６２ａ，６２ｂ…導通材形成位置。
【図１】
2010197542.tif 000003
【図２】
2010197542.tif 000004
【図３】
2010197542.tif 000005
【図４】
2010197542.tif 000006
【図５】
2010197542.tif 000007
【図６】
2010197542.tif 000008
【図７】
2010197542.tif 000009
【図８】
2010197542.tif 000010
【図９】
2010197542.tif 000011
【図１０】
2010197542.tif 000012
【図１１】
2010197542.tif 000013
【図１２】
2010197542.tif 000014
【図１３】
2010197542.tif 000015
【図１４】
2010197542.tif 000016