(57)【要約】【課題】画素を高精細化したとしても、有機発光媒体を湿式成膜したとしても、あるいは、室温のみならず、酸化しやすい高温環境下に放置したとしても、長時間にわたって無発光領域または無発光箇所の発生による発光面積の縮小を防止することができる有機ＥＬ表示装置を提供する。【解決手段】支持基板上に、下部電極と、層間絶縁膜と、湿式成膜した有機発光媒体と、対向電極とを含む有機エレクトロルミネッセンス表示装置において、  前記層間絶縁膜および湿式成膜した有機発光媒体の含水率を０．０５重量％以下の値とすることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持基板上に、下部電極と、層間絶縁膜と、湿式成膜した有機発光媒体と、対向電極とを含む有機エレクトロルミネッセンス表示装置において、
前記層間絶縁膜および湿式成膜した有機発光媒体の含水率を０．０５重量％以下の値とすることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
【請求項２】
さらに、支持基板上にカラーフィルタおよび蛍光媒体、あるいはいずれか一方の部材を含み、
前記カラーフィルタおよび蛍光媒体、あるいはいずれか一方の部材、層間絶縁膜および湿式成膜した有機発光媒体の含水率を０．０５重量％以下の値とすることを特徴とする請求項１に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
【請求項３】
さらに、支持基板上に平坦化層を含み、
前記カラーフィルタおよび蛍光媒体、あるいはいずれか一方の部材、平坦化層、層間絶縁膜および湿式成膜した有機発光媒体の含水率を０．０５重量％以下の値とすることを特徴とする請求項１または２に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
【請求項４】
支持基板上に、下部電極と、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）と、層間絶縁膜と、有機発光媒体と、対向電極とを含む有機エレクトロルミネッセンス表示装置において、
前記層間絶縁膜および有機発光媒体の含水率を０．０５重量％以下の値とすることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
【請求項５】
前記層間絶縁膜により前記ＴＦＴが保護または平坦化されていることを特徴とする請求項４に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
【請求項６】
さらに、支持基板上にカラーフィルタおよび蛍光媒体、あるいはいずれか一方の部材を含み、
前記ＴＦＴ、カラーフィルタおよび蛍光媒体、あるいはいずれか一方の部材、層間絶縁膜および有機発光媒体の含水率を０．０５重量％以下の値とすることを特徴とする請求項４または５に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
【請求項７】
さらに、支持基板上に平坦化層を含み、
前記ＴＦＴ、カラーフィルタおよび蛍光媒体、あるいはいずれか一方の部材、平坦化層、層間絶縁膜および有機発光媒体の含水率を０．０５重量％以下の値とすることを特徴とする請求項４〜６のいずれか１項に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機エレクトロルミネッセンス表示装置（以下、単に有機ＥＬ表示装置と称する場合がある。）およびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、有機ＥＬ素子、あるいは当該有機ＥＬ素子と蛍光媒体等とを組み合わせた有機ＥＬ表示装置において、大気中の水分による影響を排除して、発光領域中に存在する無発光領域または無発光箇所（ダークスポットと称する場合がある。）の発生を抑制するために、各種封止手段や防湿手段が検討されている。
【０００３】
例えば、特許文献１には、封止手段を用いて、有機ＥＬ素子および乾燥剤をそれぞれ封入した有機ＥＬ表示装置が開示されており、特許文献２には、防湿のために、上部電極上に、酸化ゲルマニウム（ＧｅＯ）等の無機化合物からなる保護膜を設けた有機ＥＬ素子が開示されている。
【０００４】
しかしながら、これらの有機ＥＬ表示装置や有機ＥＬ素子は、より高精細化されるにつれ、図１５に示すように、画素の周囲に、幅あるいは直径数十μｍ程度の無発光領域または無発光箇所が発生し、そのため発光領域が縮小して、発光輝度が低下するという問題が見られた。
【０００５】
また、特許文献３および特許文献４に開示されたインクジェット法で成膜された有機発光媒体や、特許文献５に開示されたミセル電解方式で成膜された有機発光媒体は、真空蒸着法で成膜された有機発光媒体と比較して、無発光領域または無発光箇所の発生頻度が著しく高く、従来の封止手段や防湿手段を用いても、無発光領域または無発光箇所の発生を効果的に抑制することが困難であるという問題が見られた。
【０００６】
そこで、本発明の発明者らは、従来の問題を検討した結果、外部から侵入してくる水分よりも、図１６および図１７に概念的に示すように、有機ＥＬ表示装置に設けられた平坦化層や層間絶縁膜に含まれた水分が、有機発光媒体あるいは上部電極に移動し、これらの酸化劣化による悪影響を及ぼすことを見出し、それを改良して、耐久性に優れた有機ＥＬ表示装置を提案している。
【０００７】
例えば、特許文献６においては、蛍光媒体と下部電極との間に設けた平坦化層における含水率を１．０重量％以下とした有機ＥＬ表示装置を提案しており、また、特許文献７においては、層間絶縁膜の一部に吸水剤を含有させて、含水率を０．１重量％以下とした有機ＥＬ表示装置を提案している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開平９−１４８０６６号公報
【特許文献２】特開平７−１４６７５号公報
【特許文献３】特開平１１−４０３５８号公報
【特許文献４】特開平１１−５４２７０号公報
【特許文献５】特開平１１−８７０５４号公報
【特許文献６】特開平１１−２６１５６号公報
【特許文献７】特開平１１−５４２８５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、特許文献６や特許文献７に開示された有機ＥＬ表示装置によれば、室温状態で保管した場合においては、無発光領域または無発光箇所の発生をある程度抑制することができても、例えば８０℃の高温環境下で保管した場合においては、無発光領域または無発光箇所の発生や発光面の劣化を十分に抑制して、長期間にわたって高い発光輝度を得ることは困難であった。
【００１０】
そこで、本発明の発明者らは、かかる問題をさらに鋭意検討したところ、有機ＥＬ表示装置を組み立てた後の有機発光媒体等の含水率と、無発光領域または無発光箇所の発生または発光面の劣化との間に一定の臨界的関係があり、当該含水率を一定範囲以下の値とすることにより、画素周囲における無発光領域または無発光箇所の発生を飛躍的に抑制できることを見出した。
【００１１】
すなわち、本発明は、画素をより高精細化しても（例えば、画素サイズ１００μｍ×３００μｍ角以下）、有機発光媒体を湿式成膜したとしても（例えば、塗布方式）、あるいは、高温環境下で長時間保管したとしても（例えば、８０℃、２週間以上）、無発光領域または無発光箇所の発生による発光面積の縮小を防止することができ、結果として、耐熱性に優れ、長期間にわたって高い発光輝度が得られる有機ＥＬ表示装置、およびこのような有機ＥＬ表示装置が効率的に得られる製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
［１］  本発明によれば、支持基板上に、下部電極と、有機発光媒体と、対向電極とを含む有機ＥＬ表示装置であって、有機発光媒体の含水率を０．０５重量％以下の値とした有機ＥＬ表示装置が提供され、上述した問題を解決することができる。
【００１３】
すなわち、このように有機ＥＬ表示装置を構成することにより、有機発光媒体中の水分に起因した、対向電極の酸化劣化を防止することができ、室温はもちろんのこと、高温環境下においても長時間にわたって無発光領域または無発光箇所の発生による発光面積の縮小を抑制することができる。
【００１４】
［２］  また、本発明の別の態様によれば、支持基板上に、下部電極と、層間絶縁膜（電気絶縁層と称する場合がある。）と、有機発光媒体と、対向電極とを含む有機ＥＬ表示装置において、層間絶縁膜および有機発光媒体の含水率を０．０５重量％以下の値とした有機ＥＬ表示装置が提供される。
このように構成することにより、上下電極間ですぐれた電気絶縁性が得られ、高精細なマトリックス表示が可能となるばかりか、８０℃等の高温環境下においても長時間にわたって無発光領域または無発光箇所の発生による発光面積の縮小を抑制することができる。
なお、当該有機ＥＬ表示装置の変形例として、対向電極の有機発光媒体と反対面に、カラーフィルタおよび蛍光媒体、あるいはいずれか一方の部材や、平坦化膜、さらには封止用部材等を設けることも好ましい。
【００１５】
［３］  また、本発明のさらに別の態様によれば、支持基板上に、カラーフィルタおよび蛍光媒体、あるいはいずれか一方の部材と、下部電極と、層間絶縁膜と、有機発光媒体と、対向電極とを含む有機ＥＬ表示装置において、カラーフィルタおよび蛍光媒体、あるいはいずれか一方の部材、さらに、層間絶縁膜および有機発光媒体の含水率を０．０５重量％以下の値とした有機ＥＬ表示装置が提供される。
このように構成することにより、カラー表示が容易となるばかりか、８０℃等の高温環境下においても長時間にわたって無発光領域または無発光箇所の発生による発光面積の縮小を抑制することができる。
【００１６】
［４］  また、本発明のさらに別の態様によれば、支持基板上に、カラーフィルタおよび蛍光媒体、あるいはいずれか一方の部材と、平坦化層と、下部電極と、層間絶縁膜と、有機発光媒体と、対向電極とを含む有機ＥＬ表示装置において、カラーフィルタおよび蛍光媒体、あるいはいずれか一方の部材、平坦化層、層間絶縁膜および有機発光媒体の含水率を０．０５重量％以下の値とした有機ＥＬ表示装置が提供される。
このように構成することにより、カラー表示が容易となるばかりか、蛍光媒体等の表面凹凸に起因したショート発生を有効に防止することができ、さらには８０℃等の高温環境下においても長時間にわたって無発光領域または無発光箇所の発生による発光面積の縮小を抑制することができる。
【００１７】
［５］  また、本発明の別の態様は有機ＥＬ表示装置の製造方法であって、支持基板上に、下部電極と、有機発光媒体と、対向電極とを設けるとともに、有機発光媒体の形成前および形成後、あるいはいずれか一方の時に脱水工程を設けて脱水処理を行うことにより、有機ＥＬ表示装置組み立て後の有機発光媒体の含水率を０．０５重量％以下の値とすることを特徴としている。
このように実施することにより、８０℃等の高温環境下においても長時間にわたって無発光領域または無発光箇所の発生を抑制可能な有機ＥＬ表示装置を効率的に提供することができる。
【００１８】
［６］  また、本発明の有機ＥＬ表示装置の製造方法を実施するにあたり、脱水工程における露点を−１０℃以下の値とすることが好ましい。
このように実施することにより、簡易な設備を用いて、より短時間で脱水処理することが可能となる。
【００１９】
［７］  また、本発明の有機ＥＬ表示装置の製造方法を実施するにあたり、脱水工程における真空度を１３．３Ｐａ（０．１Ｔｏｒｒ）以下の値とすることが好ましい。
このように実施することにより、簡易な設備を用いて、より短時間で脱水処理することが可能となる。
【００２０】
［８］  また、本発明の有機ＥＬ表示装置の製造方法を実施するにあたり、脱水工程における加熱温度を６０〜３００℃の範囲内の値とすることが好ましい。
このように実施することにより、簡易な設備を用いて、より短時間で脱水処理することが可能となる。
【００２１】
［９］  また、本発明の有機ＥＬ表示装置の製造方法を実施するにあたり、脱水工程において、不活性ガスを導入することが好ましい。
このように実施することにより、有機発光媒体または電極を酸化させることなく、より短時間で脱水処理することが可能となる。
【００２２】
［１０］  また、本発明の有機ＥＬ表示装置の製造方法を実施するにあたり、脱水ユニットと、成膜ユニットと、これらのユニットを連結する搬送ユニットとを含む製造装置を用いるとともに、
脱水ユニットを用いて、有機発光媒体形成前および形成後、あるいはいずれか一方の時に支持基板の脱水処理を行う工程と、
搬送ユニットに含まれる搬送装置を用いて当該支持基板を前記成膜ユニットに移送する工程と、
当該成膜ユニットにより有機発光媒体を形成する工程と、
を含むことが好ましい。
このように実施することにより、有機ＥＬ表示装置の組み立て後の、有機発光媒体における含水率を効率的に低下させることができる。
【００２３】
［１１］  また、本発明の別の有機ＥＬ表示装置における製造方法の態様は、支持基板上に、下部電極、有機発光媒体、および対向電極を設けた有機エレクトロルミネッセンス素子層と、封止用基板上に、カラーフィルタおよび蛍光媒体、あるいは一方の部材を設けた封止部材とを積層してなる有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法において、
少なくとも前記有機発光媒体および封止部材に対し、脱水工程を設けて脱水処理することにより、有機ＥＬ表示装置の組み立て後の有機発光媒体の含水率を０．０５重量％以下の値とすることを特徴としている。
このように実施することにより、カラー化が容易であり、しかも封止用基板側に蛍光媒体等を設けた場合であっても、長時間にわたって無発光領域または無発光箇所の発生を抑制可能な有機ＥＬ表示装置を効率的に提供することができる。
【００２４】
［１２］  また、本発明のさらに別の有機ＥＬ表示装置における製造方法の態様は、支持基板上に、下部電極と、有機発光媒体と、対向電極とを設けた有機ＥＬ表示装置の製造方法であり、有機発光媒体を湿式成膜した後に、脱水工程を設けて脱水処理することにより、有機ＥＬ表示装置の組み立て後の有機発光媒体の含水率を０．０５重量％以下の値とすることを特徴としている。
このように実施することにより、有機発光媒体を湿式成膜したとしても、有機発光媒体や対向電極を酸化劣化させることなく、長時間にわたって無発光領域または無発光箇所の発生を抑制可能な有機ＥＬ表示装置を効率的に提供することができる。
【００２５】
［１３］  また、本発明の有機ＥＬ表示装置の製造方法を実施するにあたり、脱水ユニットと、成膜ユニットと、これらのユニットを連結する搬送ユニットとを含む製造装置を用いるとともに、
有機発光媒体を湿式成膜する工程と、
脱水ユニットを用いて、有機発光媒体形成後の支持基板の脱水処理を行う工程と、
搬送ユニットに含まれる搬送装置を用いて当該支持基板を前記成膜ユニットに移送する工程と、
当該成膜ユニットにより対向電極を形成する工程と、
を含むことが好ましい。
このように実施することにより、有機ＥＬ表示装置の組み立て後の、有機発光媒体における含水率を効率的に低下させることができる。
【発明の効果】
【００２６】
本発明によれば、画素を高精細化したとしても、有機発光媒体を湿式成膜したとしても、あるいは、室温のみならず、酸化しやすい高温環境下に放置したとしても、長時間にわたって無発光領域または無発光箇所の発生による発光面積の縮小を防止することができる有機ＥＬ表示装置が提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】は、有機発光媒体の含水率と、発光面積比との関係を示す図である。
【図２】は、有機ＥＬ表示装置の断面図である（その１）。
【図３】は、有機ＥＬ表示装置の断面図である（その２）。
【図４】は、有機ＥＬ表示装置の断面図である（その３）。
【図５】は、有機ＥＬ表示装置における電極のマトリックスを示す平面図である。
【図６】は、図５に示す有機ＥＬ表示装置のＸ−Ｘ’断面図である。
【図７】は、有機ＥＬ表示装置に設けられたＴＦＴ素子の断面図である。
【図８】は、有機ＥＬ表示装置の断面図である（その４）。
【図９】は、有機ＥＬ表示装置の断面図である（その５）。
【図１０】は、有機ＥＬ表示装置の断面図である（その６）。
【図１１】は、有機ＥＬ表示装置の製造装置の概略図である（その１）。
【図１２】は、有機ＥＬ表示装置の製造装置の概略図である（その２）。
【図１３】は、有機ＥＬ表示装置の製造装置における脱水ユニットの概略図である（その１）。
【図１４】は、有機ＥＬ表示装置の製造装置における脱水ユニットの概略図である（その２）。
【図１５】は、従来の有機ＥＬ表示装置における無発光領域または無発光箇所発生の説明に供する図である（その１）。
【図１６】は、従来の有機ＥＬ表示装置における無発光領域または無発光箇所発生の説明に供する図である（その２）。
【図１７】は、従来の有機ＥＬ表示装置における無発光領域または無発光箇所発生の説明に供する図である（その３）。
【図１８】は、全自動水分吸脱着測定装置の説明に供する図である。
【図１９】は、図１８に示す全自動水分吸脱着測定装置により測定した水分測定チャートである。
【発明を実施するための形態】
【００２８】
以下、図面を参照して、本発明の実施の形態について具体的に説明する。なお、参照する図面は、この発明が理解できる程度に各構成成分の大きさ、形状および配置関係を概略的に示してあるに過ぎない。したがって、この発明は図示例にのみ限定されるものではない。また、図面では、断面を表すハッチングを省略する場合がある。
【００２９】
［第１の実施形態］
第１の実施形態の有機ＥＬ表示装置１８は、図３にその断面を示すように、支持基板１と、蛍光媒体９（またはカラーフィルタ１１）と、平坦化層１０と、層間絶縁膜３と、下部電極２と、有機発光媒体４と、対向電極（上部電極）５と、封止用ガラス基板８とから実質的に構成されている。
【００３０】
なお、蛍光媒体９またはカラーフィルタ１１は、それぞれ単独で設けることもできるし、あるいは両方とも設けることも好ましい。
【００３１】
そして、第１の実施形態では、図３に示す有機発光媒体４（あるいは、有機発光媒体４、蛍光媒体９（またはカラーフィルタ１１）、平坦化層１０、および層間絶縁膜３の混合物）の含水率を０．０５重量％以下の値としてあるため、画素を高精細化したとしても、あるいは、高温条件下で駆動させたとしても、無発光領域または無発光箇所の発生を抑制し、発光領域の減少を有効に防止することができる。
【００３２】
以下、第１の実施形態において、図３を適宜参照しながら、有機ＥＬ表示装置の構成要素や、その含水率等について説明する。
【００３３】
（１）有機発光媒体
（１）−１  構成
有機発光媒体は、電子と正孔とが再結合して、ＥＬ発光が可能な有機発光層を含む媒体と定義することができる。かかる有機発光媒体は、例えば、陽極上に、以下の各層を積層して構成することができる。
（ｉ）有機発光層
（ｉｉ）正孔注入層／有機発光層
（ｉｉｉ）有機発光層／電子注入層
（ｉｖ）正孔注入層／有機発光層／電子注入層
（ｖ）有機半導体層／有機発光層
（ｖｉ）有機半導体層／電子障壁層／有機発光層
（ｖｉｉ）正孔注入層／有機発光層／付着改善層
これらの中で、（ｉｖ）の構成が、より高い発光輝度が得られ、耐久性にも優れていることから通常好ましく用いられる。
【００３４】
（１）−２  機能および種類
有機発光媒体に使用される有機発光材料の種類としては、特に制限されるものではないが、より優れた発光特性や耐久性を得ることができることから、以下の３つの機能を併せ持つことが好ましい。
（ａ）電荷の注入機能：電界印加時に陽極あるいは正孔注入層から正孔を注入することができる一方、陰極層あるいは電子注入層から電子を注入することができる機能。
（ｂ）輸送機能：注入された正孔および電子を電界の力で移動させる機能。
（ｃ）発光機能：電子と正孔の再結合の場を提供し、これらを発光につなげる機能。
【００３５】
したがって、このような機能を有する有機発光材料として、例えば、ｐ−クオーターフェニル誘導体、ｐ−クィンクフェニル誘導体、ベンゾチアゾール系化合物、ベンゾイミダゾール系化合物、ベンゾオキサゾール系化合物、金属キレート化オキシノイド化合物、オキサジアゾール系化合物、スチリルベンゼン系化合物、ジスチリルピラジン誘導体、ブタジエン系化合物、ナフタルイミド化合物、ペリレン誘導体、アルダジン誘導体、ピラジリン誘導体、シクロペンタジエン誘導体、ピロロピロール誘導体、スチリルアミン誘導体、クマリン系化合物、芳香族ジメチリディン系化合物、８−キノリノール誘導体を配位子とする金属錯体、ポリフェニル系化合物等の１種単独または２種以上の組み合わせが挙げられる。
【００３６】
また、これらの有機発光材料のうち、芳香族ジメチリディン系化合物としての、４，４’−ビス（２，２−ジ−ｔ−ブチルフェニルビニル）ビフェニル（ＤＴＢＰＢＢｉと略記する。）や、４，４’−ビス（２，２−ジフェニルビニル）ビフェニル（ＤＰＶＢｉと略記する。）およびこれらの誘導体がより好ましい。
【００３７】
また、ジスチリルアリーレン骨格等を有する有機発光材料をホスト材料とし、当該ホスト材料に、ドーパントとしての青色から赤色までの強い蛍光色素、例えばクマリン系材料、あるいはホストと同様の蛍光色素をドープした材料を併用することも好適である。より具体的には、ホスト材料として、上述したＤＰＶＢｉ等を用い、ドーパントとして、Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノベンゼン（ＤＰＡＶＢと略記する。）等を用いることが好ましい。
【００３８】
また、所望のＥＬ発光色に応じて、上述した有機発光材料を選択することも好ましい。例えば、紫外域から紫色のＥＬ発光を得たい場合には、ｐ−クオーターフェニル誘導体等を使用することが好ましく、青色から緑色のＥＬ発光を得たい場合には、スチリルベンゼン系化合物等を使用することが好ましい。また、白色のＥＬ発光を得たい場合には、有機発光材料を選択し、青色発光体と、緑色発光体とを積層しておき、さらに赤色蛍光体を含有した構成することが好ましい。
【００３９】
なお、有機発光媒体には、後述する蛍光媒体における蛍光色素や、その他染料や有機顔料等を含むことも好ましい。
【００４０】
また、上述した有機発光材料としては、真空蒸着やスパッタリング等が可能なように、例えば、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）を用いて測定される数平均分子量が１０，０００未満の低分子材料を使用することが好ましいが、スピンコーターやインクジェット等を用いて均一に湿式成膜することができることから、逆に、数平均分子量が１０，０００以上の高分子材料を使用することも好ましい。
【００４１】
このような高分子材料としては、例えば、ポリアリーレンビニレンおよびその誘導体（例えば、ＰＰＶ）、ポリフルオレンおよびその誘導体、フルオレン含有共重合体およびその誘導体等が挙げられる。
【００４２】
一方、有機発光媒体における正孔注入層には、１×１０４〜１×１０６Ｖ／ｃｍの範囲の電圧を印加した場合に測定される正孔移動度が、１×１０−６ｃｍ２／Ｖ・秒以上であって、イオン化エネルギーが５．５ｅＶ以下である化合物を使用することが好ましい。このような正孔注入層を設けることにより、有機発光層への正孔注入が良好となり、高い発光輝度が得られたり、あるいは、低電圧駆動が可能となる。
【００４３】
このような正孔注入層の構成材料としては、具体的に、ポルフィリン化合物、芳香族第三級アミン化合物、スチリルアミン化合物、芳香族ジメチリディン系化合物、縮合芳香族環化合物、例えば、４，４’−ビス［Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−フェニルアミノ］ビフェニル（ＮＰＤと略記する。）や、４，４’，４”−トリス［Ｎ−（３−メチルフェニル）−Ｎ−フェニルアミノ］トリフェニルアミン（ＭＴＤＡＴＡと略記する。）等の有機化合物が挙げられる。
【００４４】
また、正孔注入層の構成材料として、ｐ型−Ｓｉやｐ型−ＳｉＣ等の無機化合物を使用することも好ましい。
【００４５】
なお、上述した正孔注入層と、陽極層との間、あるいは、上述した正孔注入層と、有機発光層との間に、導電率が１×１０−１０Ｓ／ｃｍ以上の有機半導体層を設けることも好ましい。このような有機半導体層を設けることにより、さらに有機発光層への正孔注入がより良好となる。
【００４６】
また、有機発光媒体における電子注入層には、１×１０４〜１×１０６Ｖ／ｃｍの範囲の電圧を印加した場合に測定される電子移動度が、１×１０−６ｃｍ２／Ｖ・秒以上であって、イオン化エネルギーが５．５ｅＶを超える化合物を使用することが好ましい。このような電子注入層を設けることにより、有機発光層への電子注入が良好となり、高い発光輝度が得られたり、あるいは、低電圧駆動が可能となる。
【００４７】
このような電子注入層の構成材料としては、具体的に、８−ヒドロキシキノリンの金属錯体（Ａｌキレート：Ａｌｑ）、またはその誘導体、あるいは、オキサジアゾール誘導体等が挙げられる。
【００４８】
また、有機発光媒体における付着改善層は、かかる電子注入層の一形態とみなすことができ、すなわち、電子注入層のうち、特に陰極との接着性が良好な材料からなる層であり、８−ヒドロキシキノリンの金属錯体またはその誘導体等から構成することが好ましい。
【００４９】
なお、上述した電子注入層に接して、導電率が１×１０−１０Ｓ／ｃｍ以上の有機半導体層を設けることも好ましい。このような有機半導体層を設けることにより、さらに有機発光層への電子注入性が良好となる。
【００５０】
（１）−３  膜厚
また、有機発光媒体の膜厚については特に制限はなく、状況に応じて適宜選択することができるが、当該膜厚を５ｎｍ〜５μｍの範囲内の値とすることが好ましい。
【００５１】
この理由は、有機発光媒体の膜厚が５ｎｍ未満となると、発光輝度や耐久性が低下する場合があり、一方、有機発光媒体の膜厚が５μｍを超えると、印加電圧の値が高くなる場合があるためである。
【００５２】
したがって、有機発光媒体の膜厚を１０ｎｍ〜３μｍの範囲内の値とすることがより好ましく、２０ｎｍ〜１μｍの範囲内の値とすることがさらに好ましい。
【００５３】
（１）−４  含水率
また、第１の実施形態において、無発光領域または無発光箇所の発生を抑制するためには、下記式（１）で定義される有機発光媒体の含水率（Ｗ）を０．０５重量％以下の値とすることが必要である。
【００５４】
また、さらに高温環境下においても、無発光領域または無発光箇所の発生を抑制するとともに、より高精細な画素においても発光面積の縮小が問題とならないようにするためには、有機発光媒体の含水率を０．０００１〜０．０４重量％の範囲内の値とすることがより好ましく、０．０００１〜０．０３重量％の範囲内の値とすることがさらに好ましく、０．０００１〜０．０１重量％の範囲内の値とすることが最も好ましい。
Ｗ＝｛（重量Ａ−重量Ｂ）／重量Ｂ｝×１００        （１）
重量Ａ：外部から水分が混入しない環境下（例えば、ドライボックス内又はドライガス雰囲気中）で有機ＥＬ表示装置から採取された有機発光媒体について、全自動水分吸脱着測定装置（精密天秤付き）により測定される重量（ｍｇ）である。
重量Ｂ：有機発光媒体を、ドライボックス内又はドライガス雰囲気中で、例えば８０℃、３０分の条件で加熱脱水処理した後の有機発光媒体について、全自動水分吸脱着測定装置により測定される重量（ｍｇ）である。すなわち、水分の脱着により重量減少するが、重量Ｂはその減少して得られた値を意味する。
【００５５】
ここで、全自動水分吸脱着測定装置の概要について、図１８および図１９を参照して説明する。
【００５６】
図１８に示す全自動水分吸脱着測定装置５１は、装置の一例であるが、循環部Ａと、水分測定部Ｂとから構成してあり、図面上点線でそれぞれ区分してある。そして、循環部Ａは、ガス貯蔵部６８と、このガス貯蔵部６８から二股に分かれて設けられたドライガス循環装置６７および湿潤ガス循環装置６６と、これらの循環装置６６、６７と、水分測定部Ｂとを連結する循環路６１とから構成されている。なお、これらの循環装置６６、６７は、水分測定部Ｂに含まれる制御室６５によって、遠隔的に制御してある。
【００５７】
一方、水分測定部Ｂは、制御室６５と、天秤室６２と、比較試料室（比較試料皿含む。）６４と、ドライボックス５６と、オイルバス５２等から構成されている。また、ドライボックス５６の周囲には、加熱装置５７が設けてあり、さらにドライボックス５６内において、測定試料を載置するための天秤５３の近傍に、ドライボックス５６内の温度をモニターするための温度センサー５４と、湿度をモニターするための湿度センサー５５とがそれぞれ設けてある。
【００５８】
このように構成された全自動水分吸脱着測定装置５１によれば、循環部Ａから供給されたドライガスを、オイルバス５２を通過させることにより温度又は湿度を一定にした後、このドライガスを注入口５８を介してドライボックス５６内に導入するとともに、加熱装置５７により、ドライボックス５６内の湿度および温度を一定に保持することができる。そして、このような状態で、精密天秤６３を用いて、比較試料室６４内の比較試料（リファレンス）と対比しながら、天秤５３に載置された測定試料の重量を、制御室６５において測定することが可能である。
【００５９】
また、図１９に重量を測定して得られた測定チャートを示すが、横軸に経過時間（分）を採って示してあり、縦軸に、試料の重量（ｇ）を採って示してある。この試料の測定例では、重量Ａが、５５４．４４０ｍｇであり、重量Ｂが、５５４．３００ｍｇとなる。ただし、この例ではドライボックス５６内の湿度を０％に制御してある。
【００６０】
なお、重量Ａおよび重量Ｂは、このように全自動水分吸脱着測定装置に設けられた精密天秤を用いて測定することが好ましいが、その他に、ＡＳＴＭ  Ｄ５７０−６３による方法や、熱分析（示差熱分析ＤＴＡ，示差走査熱量測定ＤＳＣ）またはカールフィッシャー法によっても含水率を測定することができる。
【００６１】
また、有機発光媒体の周囲に、層間絶縁膜、平坦化層、蛍光媒体、カラーフィルタ等の有機膜が存在し、有機発光媒体とそれ以外の有機膜とを区別するのが困難な場合がある。その場合には、有機発光媒体以外の有機膜を一部含んだ混合物として重量Ａおよび重量Ｂを測定し、それから得られる値を有機発光媒体の含水率としても良い。なんとならば、このような混合物の含水率を０．０５重量％以下の値とすることによっても、発光面積比の低下を効率的に図ることができることが別途判明しているためである。
【００６２】
すなわち、このようにして測定された含水率としての水分は、例えば、層間絶縁膜等の有機発光媒体以外の有機膜に局在することなく拡散し、有機発光媒体に侵入して、平衡状態に達するとともに、有機発光媒体又は対向電極を酸化劣化させると考えられる。
【００６３】
したがって、例えば、有機発光媒体と、層間絶縁膜等の混合物を採取した場合であっても、当該有機発光媒体の含水率が０．０５重量％以下であると考えられる。
【００６４】
よって、有機発光媒体の周囲に、例えば層間絶縁膜が設けてある場合には、有機発光媒体および層間絶縁膜を任意に混合物として採取し、それらについての重量Ａおよび重量Ｂを測定して、それから算出した含水率を０．０５重量％以下の値とすれば良い。
【００６５】
ここで、有機発光媒体の含水率を０．０５重量％以下の値に制限する理由を、図１を参照しながら詳細に説明する。
図１は、有機発光媒体（一部、他の有機膜を含む場合がある。）の含水率と、無発光領域または無発光箇所の発生による発光領域の変化率との関係を示しており、横軸には、有機発光媒体の含水率（重量％）を採って示してあり、縦軸には、発光領域の変化率（無発光領域または無発光箇所発生後の発光領域の面積／無発光領域または無発光箇所発生前の発光領域の面積（有機ＥＬ表示装置作製直後の発光領域の面積））を発光面積比として示してある。
【００６６】
また、図１中、●印は、８０℃の恒温槽内、２週間の条件で有機ＥＬ表示装置を放置した場合の発光面積比、▲印は、大気中、室温（２５℃）、２週間の条件で有機ＥＬ表示装置を放置した場合の発光面積比をそれぞれ表している。
【００６７】
そして、図１から容易に理解されるように、有機発光媒体の含水率が少ないほど、発光面積比の値が大きくなり、逆に有機発光媒体の含水率が多いほど、発光面積比の値が小さくなる傾向が見られた。ただし、発光面積比は、有機発光媒体の含水率に対して直線的に変化するものではなく、含水率が０．０５重量％を超えると、発光面積比が著しく低下する現象が見られた。
【００６８】
したがって、有機発光媒体の含水率を、このような臨界的意義を有する０．０５重量％以下の値に制限することにより、発光面積比の低下防止を効率的に図ることができ、すなわち、無発光領域または無発光箇所の発生を抑制して、長期間にわたって高い発光輝度を得ることができる。
【００６９】
なお、同じ含水率であれば、８０℃の恒温槽、２週間の放置条件のほうが、大気中、室温（２５℃）、２週間の放置条件よりも、発光面積比が小さくなる傾向が見られたが、含水率が０．０５重量％を超えると発光面積比が著しく低下するという現象は、いずれの放置条件においても観察された。
【００７０】
これを換言するならば、有機発光媒体の含水率を０．０５重量％以下に制限することにより、大気中、室温（２５℃）、２週間の放置条件のみならず、８０℃の恒温槽、２週間の放置条件においても無発光領域または無発光箇所の発生を著しく抑制することができることを意味する。したがって、有機ＥＬ表示装置を、高温条件で使用する場合には、含水率を０．０５重量％以下の値とすることは、さらに有用となる。
【００７１】
（１）−５  形成方法
有機発光媒体の形成方法については、特に制限されるものではないが、例えば、真空蒸着法、スピンコート法、ラングミュアーブロジェット法（ＬＢ法：  Ｌａｎｇｕｍｕｉｒ−Ｂｌｏｄｇｅｔｔ法）、インクジェット法、ミセル電解法等の一般的に公知の方法を採ることができる。
【００７２】
（２）電極
（２）−１  陽極層
陽極層は、有機ＥＬ表示装置の構成に応じて下部電極あるいは対向電極に該当するが、当該陽極層は、仕事関数の大きい（例えば、４．０ｅＶ以上）金属、合金、電気電導性化合物またはこれらの混合物を使用することが好ましい。具体的に、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）、ストロンチウム銅酸化物（ＳｒＣｕ２Ｏ２）、酸化スズ（ＳｎＯ２）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、金、白金、パラジウム等の電極材料を単独で使用するか、あるいはこれらの電極材料を２種以上組み合わせて使用することが好ましい。
【００７３】
これらの電極材料を使用することにより、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、電子ビーム蒸着法、化学蒸着法（ＣＶＤ法，Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）、有機金属気相成長法（ＭＯＣＶＤ法，  Ｍｅｔａｌ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ），プラズマＣＶＤ法等の乾燥状態での成膜が可能な方法を用いて、均一な厚さを有する陽極層を形成することができる。
【００７４】
なお、陽極層からＥＬ発光を取り出す場合には、当該陽極層を透明電極とする必要がある。その場合、ＩＴＯ、ＩＺＯ、ＳｒＣｕ２Ｏ２、ＳｎＯ２、ＺｎＯ等の導電性透明材料を使用して、ＥＬ発光の透過率を１０％以上の値とすることが好ましい。
【００７５】
また、陽極層の膜厚も特に制限されるものではないが、１０〜１０００ｎｍの範囲内の値とするのが好ましく、１０〜２００ｎｍの範囲内の値とするのがより好ましい。
【００７６】
この理由は、陽極層の膜厚をこのような範囲内の値とすることにより、均一な膜厚分布や、１０％以上のＥＬ発光の透過率が得られる一方、陽極層のシート抵抗を１０００Ω／□以下の値、より好ましくは、１００Ω／□以下の値とすることができるためである。
【００７７】
なお、図５および図６に示すように、陽極層（下部電極）と、有機発光媒体と、陰極層（対向電極）とを設け、当該下部電極および対向電極をＸＹマトリックス状に構成することにより、発光面における任意の画素を発光させることも好ましい。すなわち、陽極層等をこのように構成することにより、有機ＥＬ表示装置において、種々の情報を容易に表示することができる。
【００７８】
また、陽極層（下部電極）または陰極層（対向電極）をドット状に形成し、図７に示すように、各ドットに対応させてＴＦＴ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）等のスイッチング素子を配置して、各ドットを選択的に発光させることにより、種々の情報を表示することも好ましい。
【００７９】
（２）−２  陰極層
一方、有機ＥＬ表示装置における陰極層についても、有機ＥＬ表示装置の構成に応じて下部電極または対向電極に該当するが、仕事関数の小さい（例えば、４．０ｅＶ未満）金属、合金、電気電導性化合物またはこれらの混合物あるいは含有物を使用することが好ましい。
【００８０】
具体的には、ナトリウム、ナトリウム−カリウム合金、セシウム、マグネシウム、リチウム、マグネシウム−銀合金、アルミニウム、酸化アルミニウム、アルミニウム−リチウム合金、インジウム、希土類金属、これらの金属と有機発光媒体材料との混合物、およびこれらの金属と電子注入層材料との混合物等からなる電極材料を単独で使用するか、あるいはこれらの電極材料を２種以上組み合わせて使用することが好ましい。
【００８１】
また、陰極層の膜厚についても、陽極層と同様に、特に制限されるものではないが、具体的に１０〜１，０００ｎｍの範囲内の値とするのが好ましく、１０〜２００ｎｍの範囲内の値とするのがより好ましい。
【００８２】
さらに、陰極層からＥＬ発光を取り出す場合には、当該陰極層を透明電極とする必要があり、その場合、ＥＬ発光の透過率を１０％以上の値とすることが好ましい。
【００８３】
なお、陰極層についても、陽極層と同様に、真空蒸着法や、スパッタリング法等の乾燥状態での成膜が可能な方法を用いて形成することが好ましい。
【００８４】
（３）支持基板
有機ＥＬ表示装置における支持基板は、機械的強度に優れ、水分や酸素の透過性が少ないものが好ましく、具体的には、ガラス板、金属板、セラミックス板、あるいはプラスチック板（ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、シリコーン樹脂、フッ素樹脂等）等を挙げることができる。
【００８５】
また、これらの材料からなる支持基板は、有機ＥＬ表示装置内への水分の侵入を避けるために、さらに無機膜を形成したり、フッ素樹脂を塗布したりして、防湿処理や疎水性処理を施してあることが好ましい。
【００８６】
また、特に有機発光媒体への水分の侵入を避けるために、支持基板における含水率およびガス透過係数を小さくすることが好ましい。具体的に、支持基板の含水率を０．０００１重量％以下の値およびガス透過係数を１×１０−１３ｃｃ・ｃｍ／ｃｍ２・ｓｅｃ．ｃｍＨｇ以下の値とすることがそれぞれ好ましい。
【００８７】
（４）層間絶縁膜
（４）−１  機能
本発明の有機ＥＬ表示装置における層間絶縁膜（電気絶縁膜）は有機ＥＬ素子の周縁または周辺に存在し、有機ＥＬ表示装置の高精細化、有機ＥＬ素子の下部電極と上部電極との短絡防止、またはＴＦＴ（薄膜トランジスタ）にて有機ＥＬ表示装置を駆動する場合において、ＴＦＴを保護したり、有機ＥＬ素子の下部電極を平坦化するため等に用いられる。
【００８８】
したがって、層間絶縁膜は、必要に応じて、隔壁、スぺーサー、平坦化膜等の名称で呼ぶ場合があり、本発明では、それらを包含するものである。
【００８９】
（４）−２  構成および材料
層間絶縁膜の構成としては、より具体的には、例えば、図５および図６に示すように、第１の層間絶縁膜１５、およびその上に重ねて設けられた第２の層間絶縁膜（隔壁と称する場合がある。）１６から構成してあることが好ましい。
【００９０】
すなわち、第１の層間絶縁膜１５および第２の層間絶縁膜１６から構成し、有機発光媒体４をマトリックス状に配列して、画素１４として構成するために設けられる。また図７に示すように層間絶縁膜３を配置することによりＴＦＴを保護するために設けられる。
【００９１】
また、層間絶縁膜に用いられる材料としては、通常、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリイミド樹脂、フッ素化ポリイミド樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、メラミン樹脂、環状ポリオレフィン、ノボラック樹脂、ポリケイ皮酸ビニル、環化ゴム、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリスチレン、フェノール樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、マレイン酸樹脂、ポリアミド樹脂、等が挙げられる。
【００９２】
特に、耐熱性が要求される場合には、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂、フッ素化ポリイミド、環状ポリオレフィン、エポキシ樹脂が好ましい。
【００９３】
それらの絶縁膜は、感光性基を導入してフォトリソグラフィ法で所望のパターンに加工されるか、印刷手法にて所望のパターンに加工される。
【００９４】
以下、層間絶縁膜を構成する第１の層間絶縁膜および第２の層間絶縁膜に分けて、それぞれの構成について説明する。
【００９５】
（ｉ）第１の層間絶縁膜
第１の層間絶縁膜は、ストライプ状パターンの下部電極上に、例えば、光硬化性樹脂を積層した後、下部電極のパターンに直交するストライプ状パターンとなるように、フォトリソグラフィ法により形成することが好ましい。
【００９６】
ここで、第１の層間絶縁膜のストライプ幅、および隣接するストライプ間のギャップ幅および膜厚は、それぞれ所望の画素（発光領域）の大きさによるが、例えば、ライン幅を５〜２００μｍ，ギャップ幅を５〜３００μｍ、および膜厚を０．０１〜５０μｍの範囲内の値とすることが好ましい。
【００９７】
また、第１の層間絶縁膜の電気絶縁性を、体積抵抗（電圧１ＭΩ、周波数１００Ｈｚ印加測定）として、１×１０６Ω・ｃｍ以上の値とすることが好ましく、１×１０８〜１×１０１２Ω・ｃｍの範囲内の値とすることがより好ましい。なお、この電気絶縁性に関しては、後述する第２の層間絶縁膜についても、同様の値とすることが好ましい。
【００９８】
（ｉｉ）第２の層間絶縁膜
第２の層間絶縁膜についても、上述した第１の層間絶縁膜の上から、例えば、光硬化性樹脂を積層した後、フォトリソグラフィ法を用いて、第１の層間絶縁膜上に、隔壁となるように形成することができる。
【００９９】
また、第２の層間絶縁膜は、隣接する画素間の隔壁となるように、ストライプ幅、および隣接するストライプ間のギャップ幅および膜厚を決定することが好ましいが、例えば、ライン幅を１〜１５０μｍ，ギャップ幅を１０〜５００μｍ、膜厚を０．５〜５０μｍの範囲内の値とすることが好ましい。
【０１００】
なお、第２の層間絶縁膜は、露光条件やエッチング条件を制御して、図６に示すように、その断面形状を逆台形とすることが好ましい。このように構成することにより、発光領域の面積を大きくすることができる一方、隣接する上部電極間の電気絶縁性をより確実に保持することができる。
【０１０１】
（４）−３  含水率
また、層間絶縁膜の含水率を、有機発光媒体と同様に、０．０５重量％以下の値とすることが好ましく、０．０３重量％以下の値とすることがより好ましく、０．０１重量％以下の値とすることがさらに好ましい。
【０１０２】
この理由は、層間絶縁膜の含水率が０．０５重量％を超えると、含まれる水分が上部電極や有機発光媒体の酸化劣化を促進して、無発光領域または無発光箇所が発生しやすくなる場合があるためである。
【０１０３】
なお、層間絶縁膜の含水率は、有機発光媒体の含水率と同様に測定することが可能である。
【０１０４】
（５）蛍光媒体
（５）−１  構成
有機ＥＬ表示装置における蛍光媒体は、有機ＥＬ素子の発光を吸収して、より長波長の蛍光を発光する機能を有しており、平面的に分離配置された層状物として構成されている。各蛍光媒体は、有機ＥＬ素子の発光領域、例えば下部電極と上部電極との交差部分の位置に対応して配置してあることが好ましい。このように構成することにより、下部電極と上部電極との交差部分における有機発光層が発光した場合に、その光を各蛍光媒体が受光して、異なる色（波長）の発光を外部に取り出すことが可能になる。特に、有機ＥＬ素子が青色発光するとともに、蛍光媒体によって、緑色、赤色発光に変換または一部透過可能な構成とすると、一つの有機ＥＬ素子であっても、青色、緑色、赤色の光の三原色が得られ、フルカラー表示が可能であることから好適である。
【０１０５】
また、各蛍光媒体間に、有機ＥＬ素子の発光及び各蛍光媒体からの光を遮断して、コントラストを向上させ、視野角依存性を低減するための遮光層（ブラックマトリックス）を配置することも好ましい。
【０１０６】
なお、蛍光媒体は、外光によるコントラストの低下を防止するため、後述するカラーフィルタとの組み合せまたは混合により構成してもよい。
【０１０７】
（５）−２  蛍光色素
蛍光媒体は、例えば、蛍光色素および樹脂、または蛍光色素のみからなり、蛍光色素および樹脂からなる場合には、蛍光色素を、顔料樹脂および／またはバインダー樹脂中に溶解または分散させることにより得ることができる。
【０１０８】
ここで、具体的な蛍光色素について説明すると、まず、近紫外光から紫色の有機ＥＬ素子の発光から青色発光に変換する蛍光色素としては、１，４−ビス（２−メチルスチリル）ベンゼン、トランス−４，４’−ジフェニルスチルベンの等スチルベン系色素、７−ヒドロキシ−４−メチルクマリン等のクマリン系色素を挙げることができる。
【０１０９】
次に、青色、青緑色または白色発光部材の発光から緑色発光に変換する蛍光色素としては、例えば、２，３，５，６−１Ｈ，４Ｈ−テトラヒドロ−８−トリフロルメチルキノリジノ（９，９ａ，１−ｇｈ）クマリン、３−（２’−ベンゾチアゾリル）−７−ジエチルアミノクマリン（以下、クマリン６）、３−（２’−ベンズイミダゾリル）−７−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノクマリン等のクマリン色素、あるいは、ベーシックイエロー５１、ソルベントイエロー１１、ソルベントイエロー１１６等のナフタルイミド色素等を挙げることができる。
【０１１０】
また、青色から緑色までの、または白色の発光部材の発光から、橙色から赤色までの発光に変換する蛍光色素としては、例えば、４−ジシアノメチレン−２−メチル−６−（ｐ−ジメチルアミノスチルリル）−４Ｈ−ピラン等のシアニン系色素、１−エチル−２−（４−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）−１，３−ブタジエニル）−ピリジニウム−パークロレート等のピリジン系色素、ローダミンＢ、ローダミン６Ｇ等のローダミン系色素、オキサジン系色素等が挙げられる。
【０１１１】
さらに、各種染料（直接染料、酸性染料、塩基性染料、分散染料等）も蛍光性があれば選択することが可能である。
【０１１２】
また、蛍光色素をポリメタクリル酸エステル、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体、アルキッド樹脂、芳香族スルホンアミド樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂等の顔料樹脂中にあらかじめ練りこんで顔料化したものでもよい。
【０１１３】
また、これらの蛍光色素または顔料は、必要に応じて、単独または混合して用いてもよい。なお、適度な混合により、例えば、有機ＥＬ素子における青〜青緑色の発光を、白色の発光に変換することができる。
【０１１４】
また、蛍光色素の顔料樹脂および／またはバインダー樹脂を含めた蛍光媒体中の濃度は、蛍光色素の種類によって異なるが、当該蛍光色素の濃度を例えば、１〜１０−４ｍｏｌ／ｋｇの範囲内の値、好ましくは０．１〜１０−３ｍｏｌ／ｋｇの範囲内の値、より好ましくは、０．０５〜１０−２ｍｏｌ／ｋｇの範囲内の値とすることである。
【０１１５】
（５）−３  バインダー樹脂
一方、バインダー樹脂としては、例えば、可視光の透過率が５０％以上の透明材料が好ましい。このような透明材料としては、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリレート、ポリカーボネート、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース等が挙げられる。
【０１１６】
また、蛍光媒体を平面的に分離配置するために、バインダー樹脂として、フォトリソグラフィ法が適用できる感光性樹脂も好適に選ばれる。例えば、アクリル酸系樹脂、メタクリル酸系樹脂、ポリケイ皮酸ビニル系樹脂、環化ゴム系樹脂等の光硬化型レジスト材料が挙げられる。
【０１１７】
また、印刷法を用いる場合には、透明な樹脂を用いた印刷インキ（メジウム）が選ばれる。このような印刷インキを用いる場合には、バインダー樹脂としては、ポリ塩化ビニル樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、マレイン酸樹脂、ポリアミド樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリアクリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂、ヒドロキシエチルセルロース樹脂、カルボキシメチルセルロース樹脂等が挙げられる。
【０１１８】
（５）−４  含水率
また、蛍光媒体の含水率を、有機発光媒体と同様に、０．０５重量％以下の値とすることが好ましく、０．０３重量％以下の値とすることがより好ましく、０．０１重量％以下の値とすることがさらに好ましい。
【０１１９】
この理由は、蛍光媒体の含水率が０．０５重量％を超えると、含まれる水分が上部電極や有機発光媒体の酸化劣化を促進して、無発光領域または無発光箇所の発生抑制が困難となる場合があるためである。
【０１２０】
なお、蛍光媒体の含水率は、有機発光媒体の含水率と同様に測定することが可能である。
【０１２１】
（５）−５  形成方法
蛍光媒体が、主に蛍光色素からなる場合は、所望の蛍光媒体のパターンが得られるマスクを介して真空蒸着またはスパッタリング法で成膜することが好ましい。
【０１２２】
一方、蛍光媒体が、蛍光色素と樹脂からなる場合は、蛍光色素と樹脂と適当な溶剤とを混合、分散または可溶化させて液状物とし、当該液状物を、スピンコート、ロールコート、キャスト法等の方法で成膜し、その後、フォトリソグラフィ法で所望の蛍光媒体のパターンにパターニングしたり、スクリーン印刷等の方法で所望のパターンにパターニングして、蛍光媒体を形成するのが好ましい。
【０１２３】
（５）−６  膜厚
蛍光媒体の膜厚は、有機ＥＬ素子の発光を十分に受光（吸収）するとともに、蛍光の発生機能を妨げるものでなければ、特に制限されるものではないが、例えば、１０ｎｍ〜１ｍｍの範囲内の値とすることが好ましく、０．５μｍ〜１ｍｍの範囲内の値とすることがより好ましく、１μｍ〜１００μｍの範囲内の値とすることがさらに好ましい。
【０１２４】
（６）カラーフィルタ
（６）−１  構成
カラーフィルタは、光を分解またはカットして色調整またはコントラストを向上するために設けられ、色素のみからなる色素層、または色素をバインダー樹脂中に溶解または分散させて構成した層状物として構成される。
【０１２５】
また、カラーフィルタは、蛍光媒体と同様に、印刷法や、フォトリソグラフィ法を用いてパターニングすることが好ましい。
【０１２６】
さらに、カラーフィルタの構成として、青色、緑色、赤色の色素を含むことが好適である。このようなカラーフィルタと、白色発光の有機ＥＬ素子とを組み合わせることにより、青色、緑色、赤色の光の三原色が得られ、フルカラー表示が可能であるためである。
【０１２７】
（６）−２  色素
赤色（Ｒ）色素として、ペリレン系顔料、レーキ顔料、アゾ系顔料、キナクリドン系顔料、アントラキノン系顔料、アントラセン系顔料、イソインドリン系顔料、イソインドリノン系顔料、ジケトピロロピロール系顔料等の一種単独または二種類以上の組み合わせが挙げられる。
【０１２８】
また、緑色（Ｇ）色素として、ハロゲン多置換フタロシアニン系顔料、ハロゲン多置換銅フタロシアニン系顔料、トリフェニルメタン系塩基性染料、イソインドリン系顔料、イソインドリノン系顔料等の一種単独または二種類以上の組み合わせが挙げられる。
【０１２９】
また、青色（Ｂ）色素として、銅フタロシアニン系顔料、インダンスロン系顔料、インドフェノール系顔料、シアニン系顔料、ジオキサジン系顔料等の一種単独または二種類以上の組み合わせが挙げられる。
【０１３０】
なお、カラーフィルタにおける色素の濃度は、精度良くパターニングできるとともに、有機発光層の発光を十分透過できるような範囲であれば好ましい。したがって、色素の種類にもよるが、使用するバインダー樹脂を含めたカラーフィルタ中の色素濃度を０．５〜５０重量％の範囲内の値とすることが好ましい。
【０１３１】
（６）−３  バインダー樹脂
カラーフィルタのバインダー樹脂としては、蛍光体層のバインダー樹脂と同様の材料を選ぶことができるため、ここでの詳細な説明は省略する。
【０１３２】
（６）−４  含水率
また、カラーフィルタの含水率を、有機発光媒体と同様に、０．０５重量％以下の値とすることが好ましく、０．０３重量％以下の値とすることがより好ましく、０．０１重量％以下の値とすることがさらに好ましい。
この理由は、カラーフィルタの含水率が０．０５重量％を超えると、含まれる水分が上部電極や有機発光媒体の酸化劣化を促進するため、無発光領域または無発光箇所の発生抑制が困難となる場合があるためである。
【０１３３】
（７）平坦化層
（７）−１  種類
平坦化層をポリマーから構成する場合、好ましいポリマーとして、光硬化型樹脂または熱硬化型樹脂が好ましい。具体的に、アクリレート系樹脂、メタクリレート系樹脂、環状オレフィン系樹脂、アクリロニトリル樹脂、塩化ビニリデン樹脂、塩化ビニル樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、マレイン酸樹脂、ポリアミド樹脂、シリコーン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエチレン樹脂，ポリスチレン樹脂，ポリプロピレン樹脂，アニリンホルムアルデヒト樹脂、フッ素系樹脂等を挙げることができる。
【０１３４】
また、平坦化層を無機酸化物から構成する場合、好ましい無機酸化物として、酸化ケイ素（ＳｉＯ２）、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）酸化チタン（ＴｉＯ２）、酸化イットリウム（Ｙ２Ｏ３）、酸化ゲルマニウム（ＧｅＯ２）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）、酸化カルシウム（ＣａＯ）、ほう酸（Ｂ２Ｏ３）、酸化ストロンチウム（ＳｒＯ）、酸化バリウム（ＢａＯ）、酸化鉛（ＰｂＯ）、ジルコニア（ＺｒＯ２）、酸化ナトリウム（Ｎａ２Ｏ）、酸化リチウム（Ｌｉ２Ｏ）、酸化カリウム（Ｋ２Ｏ）等を挙げることができる。
【０１３５】
また、後述する水蒸気または酸素のガス透過係数が小さいことから、酸化ケイ素，酸化アルミニウム，および酸化チタンからなる群から選ばれる一種以上の無機酸化物を使用することがより好ましく、さらには、ガス透過性がより小さいことから、無機酸化物の膜性を非結晶性（アモルファス）とすることが好ましい。
【０１３６】
また、平坦化層を無機酸化物から構成する場合、その組成として、無機酸化物を主に含むものであればよく、窒化物（例えばＳｉ３Ｎ４）等の無機物が含まれていてもよい。
【０１３７】
さらに、無機酸化物からなる平坦化層として、ガラス板を挙げることができる。このようなガラス板としては、ソーダ−石灰ガラス、バリウム・ストロンチウム含有ガラス、鉛ガラス、アルミノケイ酸塩ガラス、ホウケイ酸ガラス、バリウムホウケイ酸ガラス等がより好ましい。
【０１３８】
（７）−２  平坦化層の膜厚等
平坦化層の膜厚は、表示の精細度，蛍光媒体またはカラーフィルタの凹凸にもよるが、好ましくは１０ｎｍ〜１ｍｍの範囲内の値とすることが好ましい。この理由は、このように構成することにより、蛍光媒体またはカラーフィルタの凹凸を十分に平坦化できるとともに、高精細表示の視野角依存性を低減することができるためである。
【０１３９】
したがって、平坦化層の膜厚を１００ｎｍ〜１００μｍの範囲内の値とすることがより好ましく、１００ｎｍ〜１０μｍの範囲内の値とすることがさらに好ましい。
【０１４０】
なお、平坦化層は、蛍光媒体またはカラーフィルタを被覆するように設けられているとともに、４００ｎｍ〜７００ｎｍの光の透過率が５０％以上で、かつ、電気絶縁層性のものであることが好ましい。
【０１４１】
（７）−３  含水率等
また、平坦化層の含水率を０．０５重量％以下の値とすることが好ましく、０．０３重量％以下の値とすることが好ましく、０．０１重量％以下の値とすることが特に好ましい。
【０１４２】
この理由は、平坦化層の含水率が０．０５重量％を超えると、含まれる水分が上部電極や有機発光媒体の酸化劣化を促進するため、無発光領域または無発光箇所の発生抑制が困難となる場合があるためである。
【０１４３】
また、同様に、無発光領域または無発光箇所の発生抑制を図るために、平坦化層の水蒸気または酸素のガス透過係数を、それぞれ１×１０−１２ｃｃ・ｃｍ／ｃｍ２・ｓ・ｃｍＨｇ以下の値とすることが好ましく、１×１０−１３ｃｃ・ｃｍ／ｃｍ２・ｓ・ｃｍＨｇ以下の値とすることがさらに好ましい。
【０１４４】
（７）−４  形成方法
平坦化層は、スピンコート法、キャスト法、スクリーン印刷法等の方法を用いて成膜するか、あるいは、スパッタリング法、蒸着法、化学蒸着法（ＣＶＤ法）、イオンプレーティング法等の方法で成膜することが好ましい。
【０１４５】
また、適当な金属を成膜後、陽極酸化して無機酸化物層とすることも好ましいし、さらには、平坦化層として、ガラス板を用いる場合には、接着剤を用いて貼り合わせことによって、容易に形成することができる。
【０１４６】
（８）封止用部材
有機ＥＬ表示装置における封止用部材は、内部への水分侵入を防止するために当該有機ＥＬ表示装置の周囲に設けるか、さらには、このように設けた封止用部材と、有機ＥＬ表示装置との間に、公知の封止媒体、例えば、乾燥剤、ドライガス、フッ化炭化水素等の不活性液体を封入することが好ましい。また、かかる封止用部材は、蛍光媒体や、カラーフィルタを上部電極の外部に設ける場合の、支持基板としても使用することができる。
【０１４７】
このような封止用部材としては、支持基板と同種の材料、例えば、ガラス板または金属板を用いることができる。また、封止用部材の形態についても、特に制限されるものでなく、例えば、板状やキャップ状とすることが好ましい。そして、例えば、板状とした場合、その厚さを、０．０１〜５ｍｍの範囲内の値とすることが好ましい。
【０１４８】
さらに、封止用部材は、有機ＥＬ表示装置の一部に溝等設けておき、それに圧入して固定することも好ましいし、あるいは、光硬化型の接着剤等を用いて、有機ＥＬ表示装置の一部に固定することも好ましい。
【０１４９】
（９）有機ＥＬ表示装置の構成例
本発明の有機ＥＬ表示装置は、上述した構成要素を基本的に組み合わせて構成することができるが、それ以外の他の構成要素、例えば正孔注入層や電子注入層とを組み合わせることも好ましい。
【０１５０】
以下に典型的な有機ＥＬ表示装置についての構成例を示すが、これに限定されるものでない。
（ｉ）支持基板／陽極層／有機発光層／陰極層／封止用部材
（ｉｉ）支持基板／陽極層／層間絶縁膜／有機発光層／陰極層／封止用部材
（ｉｉｉ）支持基板／蛍光媒体／陽極層／層間絶縁膜／有機発光層／陰極層／封止用部材
（ｉｖ）支持基板／蛍光媒体／平坦化層／陽極層／層間絶縁膜／有機発光層／陰極層／封止用部材
（ｖ）支持基板／カラーフィルタ／陽極層／層間絶縁膜／有機発光層／陰極層／封止用部材
（ｖｉ）支持基板／カラーフィルタ／平坦化層／陽極層／層間絶縁膜／有機発光層／陰極層／封止用部材
（ｖｉｉ）支持基板／カラーフィルタ／蛍光媒体／平坦化層／陽極層／層間絶縁膜／有機発光層／陰極層／封止用部材
（ｖｉｉｉ）支持基板／陽極層／有機発光層／陰極層／蛍光媒体／封止用部材
（ｉｘ）支持基板／陽極層／有機発光層／陰極層／カラーフィルタ／封止用部材
【０１５１】
なお、図２に、（ｉｉ）の構造の有機ＥＬ表示装置を、図３および図９に、（ｉｖ）または（ｖｉ）の構造の有機ＥＬ表示装置を、図４および図１０に、（ｖｉｉｉ）または（ｉｘ）の構造の有機ＥＬ表示装置を、図８に、（ｉｉｉ）または（ｖ）の構造の有機ＥＬ表示装置を、それぞれ示す。
【０１５２】
［第２の実施形態］
第２の実施形態は、図３（または図９）等に示す構成の有機ＥＬ表示装置の製造方法に関し、以下に示す第１〜第３の工程を含んでいる。
【０１５３】
そして、第３の工程において有機発光媒体を形成する前に、第２の工程として、脱水工程を設けて支持基板等を脱水し、最終的に、第３の工程を経て有機ＥＬ表示装置を組み立て後に、有機発光媒体（あるいは、有機発光媒体、カラーフィルタ、蛍光媒体、平坦化層、層間絶縁膜の混合物）の含水率を０．０５重量％以下の値とすることを特徴としている。
【０１５４】
このように実施することにより、有機発光媒体に悪影響を与えることなく、当該有機発光媒体中の含水率を０．０５重量％以下の値とした、無発光領域または無発光箇所の発生が抑制可能な有機ＥＬ表示装置を効率的に製造することができる。
【０１５５】
また、第２の実施形態において、図１１に示す製造装置２０を用いて、有機ＥＬ表示装置を製造することを特徴としており、具体的に、成膜ユニット（真空蒸着装置）２２に連結された脱水ユニット２１を用いて、支持基板の脱水処理を行った後、搬送ユニット２４における搬送装置２５により当該支持基板を成膜ユニット２２に移送し、有機発光媒体を形成することを特徴としている。
【０１５６】
このように実施することにより、大気に露出することがないため、外部の湿度等の影響を排除して低い含水率を保持し、有機ＥＬ表示装置の生産効率をさらに向上させることができる。
【０１５７】
（１）第１の工程
第１の工程は、有機発光媒体の形成前の工程であり、有機ＥＬ表示装置の構成にもよるが、少なくとも下部電極の形成工程を含んだ工程である。その他、第１および第２の層間絶縁膜またはＴＦＴ基板の形成工程、蛍光媒体およびカラーフィルタあるいはいずれか一方の形成工程、さらには平坦化膜の形成工程等を含むことも好ましい。
なお、支持基板への下部電極の形成工程、第１および第２の層間絶縁膜またはＴＦＴ基板の形成工程、あるいは蛍光媒体、カラーフィルタおよび平坦化膜の形成工程は、それぞれ蒸着法やフォトリソグラフィ法等を組合わせて実施することが好ましい。
【０１５８】
（２）第２の工程
第２の工程は、支持基板上のカラーフィルタ、蛍光媒体、第１および第２の層間絶縁膜またはＴＦＴ基板上の層間絶縁膜等の有機膜からの水分の脱水工程であり、具体的に以下の脱水処理条件で、単独処理あるいは二つ以上の脱水処理条件を組み合わせて処理することが好ましい。
【０１５９】
なお、かかる第２の工程は、後述する製造装置の脱水ユニットにおいて行うことが好ましい。
【０１６０】
（２）−１  露点調整
脱水工程において処理する支持基板等の周囲の露点を−１０℃以下の値として、支持基板等を脱水処理するものである。この理由は、かかる露点が−１０℃を超えると、脱水効率が著しく低下する場合があるためである。
【０１６１】
したがって、脱水工程の露点を−５０℃以下の値とすることがより好ましく、露点を−５０℃〜−１５０℃の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
【０１６２】
なお、脱水工程の露点は、不活性ガスの導入、脱水ユニット内の温度の調節により、露点計をモニターしながら、脱水ユニット内の水分量を調節して容易に行うことができる。
【０１６３】
また、露点を−１０℃以下の値とした場合の脱水時間は、カラーフィルタ、蛍光媒体、第１および第２の層間絶縁膜等の面積や膜厚または脱水ユニットの容積等に影響されるが、当該脱水時間を例えば、１０分〜４０時間の範囲内の値とすることが好ましい。
【０１６４】
この理由は、脱水時間が１０分未満となると、脱水処理が不十分となって、組み立て後の有機発光媒体の含水率を０．０５重量％以下にするのが困難となる場合があるためである。一方、脱水時間が４０時間を超えても、処理時間が長くなるだけで、得られる効果は変わらない場合があるためである。
【０１６５】
したがって、脱水時間を、３０分〜２４時間の範囲内の値とすることがより好ましく、１〜１２時間の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
なお、露点を調整する脱水方法は、第３の実施形態で説明するように、有機発光媒体を湿式成膜した場合に特に有効な方法であるが、第２の実施形態において、真空蒸着等の乾式（ドライ）状態で成膜した場合であっても有効な方法である。
【０１６６】
すなわち、乾式状態で成膜した場合には、有機発光媒体の水分量は微量であるので、支持基板あるいはその上の層間絶縁膜中の水分を除去すれば、酸化劣化を抑制することができるものの、露点を調節する脱水処理方法によれば、脱水工程での有機発光媒体の劣化が生じるおそれが少ないことから、湿式成膜しない場合であっても有効な方法であると言える。
【０１６７】
（２）−２  真空度調整
脱水工程の真空度を１３．３Ｐａ（０．１Ｔｏｒｒ）以下の値とすることが好ましい。この理由は、かかる真空度が１３．３Ｐａ（０．１Ｔｏｒｒ）を超えると、脱水効率が著しく低下する場合があるためである。
したがって、脱水工程の真空度を１３．３×１０−４Ｐａ（１×１０−５Ｔｏｒｒ）以下の値とすることがより好ましく、１３．３×１０−４Ｐａ〜１３．３×１０−８Ｐａ（１×１０−５Ｔｏｒｒ〜１×１０−９Ｔｏｒｒ）の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
【０１６８】
また、この脱水方法によれば、支持基板等の加熱を低くすることができ、有機発光媒体および蛍光媒体の劣化が少なくなるとともに、短時間で脱水することができる。
【０１６９】
なお、脱水工程の真空度を１３．３×１０−４Ｐａ（１×１０−５Ｔｏｒｒ）以下の値とした場合の脱水時間は、カラーフィルタ、蛍光媒体、第１および第２の層間絶縁膜等の面積や膜厚または脱水ユニットの容積等に影響されるが、当該脱水時間を例えば、１０分〜３０時間の範囲内の値とすることが好ましい。
【０１７０】
この理由は、脱水時間が１０分未満となると、脱水処理が不十分となって、組み立て後の有機発光媒体の含水率を０．０５重量％以下にするのが困難となる場合があるためである。一方、脱水時間が３０時間を超えても、処理時間が長くなるだけで、得られる効果は変わらない場合があるためである。
【０１７１】
したがって、脱水時間を、３０分〜２０時間の範囲内の値とすることがより好ましく、１〜１０時間の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
【０１７２】
ここで、脱水行程が終了したかどうかは、四重極質量分析計（Ｑ−Ｍａｓｓ）を配置した真空脱水槽において、水の分子量（Ｍｗ＝１８）のピーク値が低下して、安定状態になったことを目安することもできる。
【０１７３】
（２）−３  不活性ガス導入
脱水工程に、ヘリウム、アルゴン、窒素等の不活性ガスを、脱水ユニットに導入し、これらの不活性ガス中で脱水することが好ましく、製造コストが安価となることから、窒素を用いることがより好ましい。
このような不活性ガスを使用することによって、有機発光媒体を含む有機層や、陰極等が反応して酸化するのを抑制しながら、脱水処理を施すことができることから好ましい。
【０１７４】
また、より優れた脱水効果を得るために、不活性ガスに対しても、あらかじめ脱水処理を施しておくことが好ましい。
【０１７５】
なお、不活性ガスによる脱水処理した場合の脱水時間は、不活性ガスの流入速度、あるいは、カラーフィルタ、蛍光媒体、第１および第２の層間絶縁膜等の面積や膜厚または脱水ユニットの容積等にそれぞれ影響されるが、当該脱水時間を例えば、１０分〜４０時間の範囲内の値とすることが好ましい。
【０１７６】
この理由は、脱水時間が１０分未満となると、脱水処理が不十分となって、組み立て後の有機発光媒体の含水率を０．０５重量％以下にするのが困難となる場合があるためである。一方、脱水時間が４０時間を超えても、処理時間が長くなるだけで、得られる効果は変わらない場合があるためである。
【０１７７】
したがって、脱水時間を、３０分〜２４時間の範囲内の値とすることがより好ましく、１〜１２時間の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
【０１７８】
（２）−４  加熱処理
脱水工程の加熱温度を６０〜３００℃の範囲内の値とすることが好ましい。この理由は、加熱温度が６０℃未満となると、脱水効率が著しく低下する場合があるためであり、一方、加熱温度が３００℃を超えると、有機発光媒体または蛍光媒体等の有機膜に対して熱損傷を与える場合があるためである。
したがって、脱水工程の加熱温度を１００〜２５０℃の範囲内の値とすることがより好ましい。
【０１７９】
また、有機ＥＬ表示装置の保管環境または駆動環境を考慮して、脱水工程の加熱温度を決定することも好ましい。すなわち、これらの保管環境または駆動環境における温度よりも高い温度、より好ましくは当該温度よりも少なくとも１０℃高い温度で予め処理することにより、保管環境または駆動環境における無発光領域または無発光箇所の発生を抑制することができる。
【０１８０】
なお、加熱による脱水処理した場合の脱水時間は、カラーフィルタ、蛍光媒体、第１および第２の層間絶縁膜等の面積や膜厚に影響されるが、当該脱水時間を例えば、１０分〜１２時間の範囲内の値とすることが好ましい。
【０１８１】
この理由は、脱水時間が１０分時間未満となると、脱水処理が不十分となって、組み立て後の有機発光媒体の含水率を０．０５重量％以下にするのが困難となる場合があるためである。一方、脱水時間が１２時間を超えても、処理時間が長くなるだけで、得られる効果は変わらない場合があるためである。
【０１８２】
したがって、脱水時間を、３０分〜１０時間の範囲内の値とすることがより好ましく、１〜６時間の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
【０１８３】
（２）−５  脱水処理方法の組み合わせ
上記二つ以上の脱水処理条件を組み合わせて処理することも、脱水時間をさらに短縮できることからより好ましい。
例えば、有機発光媒体を乾燥状態で成膜する場合、有機発光媒体の形成前に、露点−５０℃、乾燥窒素使用、および支持基板等の加熱温度６０℃の条件で、３０分〜３時間の脱水処理により、支持基板等の水分を十分除去することができ、組み立て後の有機発光媒体の含水率を０．０５重量％以下の値に容易に調整することができる。
【０１８４】
また、脱水処理方法の直接的な組み合わせではないが、支持基板上に、下部電極、有機発光媒体、および対向電極等を設けた有機ＥＬ素子層と、封止用基板上に、カラーフィルタおよび蛍光媒体等を設けた封止部材とを積層して有機ＥＬ表示装置を製造するに際し、第２の工程において、有機ＥＬ素子層と、封止部材とをそれぞれ脱水処理することも好ましい。
【０１８５】
このように脱水処理を施すことにより、封止用基板上に、カラーフィルタおよ等を設けた場合であっても、組み立て後の有機発光媒体の含水率を０．０５重量％以下の値とすることがより容易となり、無発光領域または無発光箇所の発生をさらに抑制することが可能となる。
【０１８６】
なお、このように脱水処理を行った後、支持基板等を第３の工程に移動するまでに、大気に触れない状態に保持するのが好ましい。また、仮に支持基板等の脱水処理後、大気に触れる状態を経過する場合であっても、その時間を１０分未満の値とすることが好ましく、より好ましくは、５分未満の値とすることである。なぜならば、脱水処理後、支持基板等が１０分を超える時間大気に触れると、大気中の水分を、再び支持基板等が吸着または吸水するおそれがあるためである。
【０１８７】
（３）第３の工程
第３の工程は、有機発光媒体の形成工程や上部電極の形成工程、あるいは封止工程等である。
【０１８８】
有機発光媒体の形成工程や上部電極の形成工程については、後述する成膜ユニットにおいて行うことが好ましく、具体的に、真空蒸着法やスパッタリング法等の乾燥状態での成膜が可能な方法を用いて形成することが好ましい。
【０１８９】
また、封止工程については、後述する封止ユニットにおいて、乾燥剤やドライガス等の封入や、封止部材を積層することにより実施するのが好ましい。
【０１９０】
（４）製造装置
有機ＥＬ表示装置の製造装置は、信頼性に優れた有機ＥＬ表示装置を簡易かつ効率的に製造するために、有機発光媒体の含水率を所定以下の値にする脱水設備（脱水ユニット）を有することが好ましい。
【０１９１】
具体的に、図１１に示すように、製造装置は、成膜ユニット２２と、脱水ユニット２１、封止ユニット２３と、搬送ユニット２４と、を備えてなり、脱水ユニット２１が、仕切り弁２６および搬送装置２５を内部に含む搬送ユニット２４を介して、成膜ユニット２２および封止ユニット２３にそれぞれ接続していることが好ましい。
【０１９２】
ここで、脱水ユニットについてより詳細に説明すると、図１３に示すように、脱水ユニット２１は、例えば、ハウジング３２と、支持基板１等を載置するための基板ステージ３３と、ホットプレート３４（冷却装置を含む。）と、ドライガス循環装置３５、３６と、露点計３０と、必要に応じて図１８に示す全自動水分吸脱着測定装置と、を具備したドライボックスの構成である。そして、脱水ユニット２１の側方には、仕切り弁および搬送装置を含む搬送ユニット２４が設けてあり、当該搬送ユニット２４を介して成膜ユニット（図示せず。）および封止ユニット（図示せず。）にそれぞれ接続してあることが好ましい。
【０１９３】
また、脱水ユニット２１の別の態様を図１４に示すが、例えば、ハウジング３２と、基板ステージ３３と、ホットプレート３４（冷却装置を含む。）と、真空装置３８と、真空度計３９と、必要に応じて図１８に示す全自動水分吸脱着測定装置と、を具備したドライボックスであり、さらに、図１３に示す脱水ユニット２１と同様に、側方に仕切り弁および搬送装置を含む搬送ユニット２４が設けてあり、当該搬送ユニット２４を介して成膜ユニット（図示せず。）および封止ユニット（図示せず。）にそれぞれ接続してあることが好ましい。
【０１９４】
なお、図１３と、図１４にそれぞれ示す脱水ユニットを組み合わせて、真空処理およびドライガスの導入が可能である脱水ユニットとするのが、より機能的であるので好ましい。
【０１９５】
これらの構成部材のうち、ハウジング３２は、脱水する支持基板１等と基板ステージ３３とを収容するための部材であり、このうち基板ステージ３３は、脱水する支持基板１等を固定するための部材である。
【０１９６】
また、ホットプレート３４および冷却装置は、基板ステージ３３の下部に設けるか、基板ステージそのものをホットプレートにしてあり、支持基板１等の温度を調節（加熱または冷却）して、脱水するための部材である。なお、さらに短時間で加熱することができることから、ホットプレートの代りに、あるいは、ホットプレートとともに、赤外線ランプ等の別の加熱治具を設けることも好ましい。
【０１９７】
また、ドライガス循環装置３５、３６は、露点計３０により露点を調節しながら、不活性ガスを導入して脱水するために設けられており、図１３に示す例では、側面下方に、不活性ガス導入口３５が設けてあり、側面上方に、不活性ガス排出口３６が設けてある。
【０１９８】
したがって、図１３に示す脱水ユニット２１を用いた場合、ハウジング内の基板ステージに固定された支持基板等に対して、ドライガス循環装置を用いて、不活性ガスを、例えば、流量１０リットル／分の条件で吹き付け、露点計により露点が−１０℃以下の値となるのを確認しながら、所定時間脱水処理を行うことが好ましい。
【０１９９】
また、不活性ガスの導入と同時あるいは別時に、基板ステージの下部に設けてあるホットプレートあるいは冷却装置を用いて、支持基板等を所定温度、例えば６０℃〜３００℃の範囲内の値に制御して、脱水処理を行うことも好ましい。
【０２００】
一方、図１４に示す脱水ユニット２１を用いた場合、真空ポンプ３８を用いて、ハウジング内の真空度を、例えば、１３．３Ｐａ（０．１Ｔｏｒｒ）以下の値、より好ましくは、０．００１３３Ｐａ（１×１０−５Ｔｏｒｒ）以下の値に調節し、所定時間脱水処理を行うことが好ましい。ここで真空の場合には、四重極質量分析計（Ｑ−Ｍａｓｓ）を配置して、脱水のレベルを把握することが好ましい。
【０２０１】
また、図１３および図１４に示す脱水ユニット２１を用いて有機発光媒体中の含水率を測定するには、内部に設けられた全自動水分吸脱着測定装置（図示せず。）を用いることになる。すなわち、支持基板等から有機発光媒体の一部を採取し、上述した重量Ａおよび重量Ｂを測定することにより、有機発光媒体中の含水率を算出することができる。なお、有機発光媒体の採取は、手動または、搬送装置を用いて自動に行うことができる。
【０２０２】
ただし、有機ＥＬ表示装置の構成にもよるが、有機発光媒体を採取することなく有機発光媒体の含水率、あるいは有機発光媒体を含む有機膜の含水率をおおまかに把握することもできる。
【０２０３】
すなわち、支持基板等を含めた状態で有機発光媒体あるいは有機発光媒体を含む有機膜の乾燥前の重量Ｃ、および乾燥後の重量Ｄを、全自動水分吸脱着測定装置の精密天秤を用いて測定するとともに、予め精密天秤を用いて測定しておいた有機発光媒体以外の支持基板等の重量Ｅ、あるいは有機発光媒体を含む有機膜以外の支持基板等の重量Ｅを加味して、下記式（２）から、有機発光媒体、あるいは有機発光媒体を含む有機膜の含水率（Ｗ）を推定することができる。
Ｗ＝｛（重量Ｃ−重量Ｄ）／（重量Ｄ−重量Ｅ）｝×１００      （２）
【０２０４】
一方、脱水ユニットに連結された搬送ユニットには、成膜ユニットおよび封止ユニットが連結してあり、その間に設けてある搬送機構、例えば、回転支持され、先端に把持部を有し、さらに伸縮自在なロボットアームにより、大気にふれることなく、支持基板等を脱水ユニットから成膜ユニットや封止ユニットにそれぞれ移送したり、あるいは成膜ユニットから脱水ユニットや封止ユニットに、それぞれ移送できるように構成してある。
【０２０５】
したがって、このような有機ＥＬ表示装置の製造装置を用いることにより、脱水ユニットにおいて有機発光媒体を形成前に、支持基板等の脱水処理を十分に行い、次いで、成膜ユニットにおいて含水率の低い有機発光媒体を形成することができる。
【０２０６】
そして、有機発光媒体形成後、成膜ユニットから、封止ユニットに移送して、封止部材を用いて周囲を封止し、有機ＥＬ表示装置を組み立てることができ、有機発光媒体の含水率を所定範囲の値に容易に制御することができる。
【０２０７】
よって、無発光領域または無発光箇所の発生による発光面積比の低下を防止することができる有機ＥＬ表示装置であって、長期間にわたって高い発光輝度が得られる有機ＥＬ表示装置を効率的に製造することができる。
【０２０８】
なお、図１１に示す製造装置ばかりでなく、同様に、図１２に示す製造装置を用いても、第１〜第３の工程を実施して、本発明の有機ＥＬ表示装置を製造することが可能である。
【０２０９】
すなわち、図１２に示す製造装置においては、例えば、脱水ユニット２１と、成膜ユニット２２と、封止ユニット２３とが横方向に、それぞれ仕切り弁２６を介して直列に配列されており、さらに配列の両外に、合計二つの搬送ユニット２４が設けてある。
【０２１０】
したがって、図１２に示す製造装置によれば、図１１に示す製造装置と同様に、支持基板等を、脱水ユニット２１と、成膜ユニット２２と、封止ユニット２３との間で、大気にさらすことなくそれぞれ移動することができ、含水率が所定値以下の有機発光媒体を含む有機ＥＬ表示装置を効率的に製造することが可能である。
【０２１１】
［第３の実施形態］
第３の実施形態は、有機ＥＬ表示装置の製造方法に関する別の実施形態であり、以下に示す第１’〜第３’の工程を含んでいる。
【０２１２】
そして、第１’の工程で有機発光媒体を湿式成膜するとともに、第２’の工程で、有機発光媒体形成後に脱水工程を設けて有機発光媒体を脱水し、最終的に、第３’の工程を経て得られた有機ＥＬ表示装置における有機発光媒体（あるいは、有機発光媒体、カラーフィルタ、蛍光媒体、平坦化層、層間絶縁膜の混合物）の含水率を０．０５重量％以下の値とすることを特徴としている。
【０２１３】
このように実施することにより、含水率が多くなりやすい湿式成膜により有機発光媒体を形成した場合であっても、最終的に組み立てた有機ＥＬ表示装置において、有機発光媒体の含水率を容易に０．０５重量％以下の値とすることができる。
【０２１４】
（１）第１’の工程
第１’の工程は、有機発光媒体を形成するまでの工程であり、蛍光媒体、カラーフィルタ、平坦化膜、下部電極、第１および第２の層間絶縁膜またはＴＦＴ基板（層間絶縁膜を含む）の形成工程、並びに有機発光媒体の形成工程等が含まれる。
【０２１５】
ここで、第２の実施形態と同様に、下部電極の形成工程、第１および第２の層間絶縁膜またはＴＦＴ基板（層間絶縁膜を含む）の形成工程、あるいは蛍光媒体、カラーフィルタおよび平坦化膜の形成工程は、それぞれフォトリソグラフィ法を用いて行うことが好ましい。
【０２１６】
また、有機発光媒体の形成工程は、第３の実施形態では、湿式成膜することを特徴としており、具体的に、スピンコート法、ラングミュアーブロジェット法（ＬＢ法）、インクジェット法、ミセル電解法等を採ることが好ましい。
【０２１７】
（２）第２’の工程
第２’の工程は、湿式成膜した有機発光媒体の脱水工程であり、当該脱水工程の処理条件については、第２の実施形態と実質的に同様の内容とすることができる。
【０２１８】
したがって、（ｉ）露点調整、（ｉｉ）真空度調整、（ｉｉｉ）不活性ガス導入、（ｉｖ）加熱処理の単独処理、またはこれらの脱水処理を２以上組み合わせることにより、有機発光媒体から効率的に脱水することができる。
【０２１９】
ただし、（ｉ）露点調整する脱水処理方法は、湿式成膜した有機発光媒体に対して特に有効な方法である。
【０２２０】
すなわち、有機発光媒体を湿式成膜した場合には、有機発光媒体中に多量の水を含んでおり、他の脱水処理方法、例えば、加熱処理方法では、有機発光媒体を劣化させずに、含水率を所定範囲内の値に制御することが困難な場合があるためである。
【０２２１】
なお、有機発光媒体を湿式成膜せず、真空蒸着等の乾式（ドライ）状態で成膜した場合には、有機発光媒体の水分量は微量であるので、支持基板あるいはその上の層間絶縁膜中の水分を除去すれば、酸化劣化を抑制することができる。すなわち、有機発光媒体の成膜前に、露点を−１０℃以下の値に制御して、支持基板等を脱水処理するだけで、組み立て後の有機発光媒体の含水率を所定範囲内の値に制御することができる。
【０２２２】
したがって、露点を調節する脱水処理方法は、脱水工程での有機発光媒体の劣化が生じるおそれがないことから、湿式成膜しない場合であっても有効な方法であることは言うまでもない。
【０２２３】
さらに、有機発光媒体等の水分調整が容易となることから、形成した有機発光媒体等を大気に触れない状態で第２’の工程から第３’の工程に移送するのが好ましいことは言うまでもない。
【０２２４】
（３）第３’の工程
第３’の工程は、有機発光媒体の形成以降の工程である。第２の実施形態と同様に、上部電極の形成工程、あるいは封止工程等を設けることが好ましい。
【０２２５】
具体的に、上部電極の形成工程については、成膜ユニットにおいて、真空蒸着により形成することが好ましく、封止工程については、封止ユニットにおいて、封止用部材を用いて、有機発光媒体等の周囲を覆うことが好ましい。
【実施例】
【０２２６】
［実施例１］
（１）有機ＥＬ素子の作製
（ｉ）陽極（下部電極）の形成
縦１１２ｍｍ、横１４３ｍｍ、厚さ１．１ｍｍのガラス基板（ＯＡ２ガラス、日本電気硝子（株）製）上に、膜厚１３０ｎｍのＩＴＯ膜をスパッタリング法により全面的に成膜した。このＩＴＯ膜上に、ポジ型レジストＨＰＲ２０４（富士ハントエレクトロニクステクノロジー（株）製）をスピンコートし、温度８０℃、時間１５分の条件で乾燥した。
【０２２７】
次いで、ストライプ状パターン（ライン幅９０μｍ，ギャップ幅２０μｍ）を有するフォトマスクを介して、露光量が１００ｍＪ／ｃｍ２となるように、高圧水銀灯を光源としたコンタクト露光を行った。現像液としてＴＭＡＨ（テトラメチルアンモニウムヒドロキシド）を用いて現像した。
【０２２８】
次いで、オーブンを用いて、温度１３０℃の条件でポストベーク処理した後、臭化水素酸水溶液（濃度４７重量％）をエッチャントとして用いて、ＩＴＯ膜をエッチングした。その後、剥離液Ｎ３０３（長瀬産業（株）製）を用いてポジ型レジストを除去し、陽極（下部電極）としてのストライプ状のＩＴＯパターン（ライン数９６０本）を形成した。
【０２２９】
（ｉｉ）第１の層間絶縁膜の形成
次いで、ＩＴＯパターン上に、アクリル酸系のネガ型レジストＶ２５９ＰＡ（新日鉄化学（株）製）をスピンコートし、温度８０℃、時間１５分の条件で乾燥した後、ＩＴＯが７０μｍ×２９０μｍの長方形状に露出するようなフォトマスクを介して、高圧水銀灯を光源としたコンタクト露光を行った（露光量：３００ｍＪ／ｃｍ２）。
【０２３０】
次いで、現像液としてＴＭＡＨを用いて現像し、さらに、オーブンを用いて、温度１６０℃の条件でポストベーク処理して、第１の層間絶縁膜とした。
【０２３１】
（ｉｉｉ）第２の層間絶縁膜の形成
次いで、第１の層間絶縁膜の上から、ノボラック樹脂系のネガ型レジストＺＰＮ１１００（日本ゼオン（株）製）をスピンコートした。温度８０℃、時間１５分の条件で乾燥した後、下部電極であるＩＴＯパターンに対して直交するストライプ状パターン（ライン幅２０μｍ，ギャップ幅３１０μｍ）が得られるフォトマスクを介して、高圧水銀灯を光源としたコンタクト露光を行い（露光量：７０ｍＪ／ｃｍ２）、次に温度９０℃、時間１５分でベークした。
【０２３２】
次いで、現像液としてＴＭＡＨを用いて現像し、隔壁としての第２の層間絶縁膜（ライン幅２０μｍ，ギャップ幅３１０μｍ、膜厚５μｍ）とした。
【０２３３】
（ｉｖ）脱水工程
次いで、ＩＴＯパターン等が形成されたガラス基板（以下、単にガラス基板と称する場合がある。）に対して、イソプロピルアルコール洗浄および紫外線洗浄を施した後、このガラス基板を、脱水工程を実施するための脱水ユニットに移動した。すなわち、ガラス基板を、不活性ガス（ヘリウム、アルゴン、窒素等）循環部と、露点制御部と、加熱装置部（ホットプレート）とを具備したドライボックス内に収容した。
【０２３４】
そして、ドライボックス内のガラス基板を、ホットプレートを用いて６０℃に加熱し、その状態で乾燥窒素を導入しながら、露点を−５０℃まで低下させて、約２時間放置し、第１および第２の層間絶縁膜中の水分並びにガラス基板表面等に付着している水分を除去した。
【０２３５】
（ｖ）有機発光媒体の形成
ホットプレートの加熱を停止し、ガラス基板の温度が室温まで低下した後、大気にさらすことなく露点を維持して真空蒸着装置（日本真空技術（株）製）内の基板ホルダーに固定した。
【０２３６】
そして、真空蒸着装置内のモリブテン製の加熱ボードに、以下の材料をそれぞれ充填した。
【０２３７】
正孔注入材料：４，４’，４”−トリス［Ｎ−（３−メチルフェニル）−Ｎ−フェニルアミノ］トリフェニルアミン（ＭＴＤＡＴＡ）、および４，４’−ビス［Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−フェニルアミノ］−ビフェニル（ＮＰＤ）、
有機発光材料：４，４’−ビス（２，２−ジフェニルビニル）ビフェニル（ＤＰＶＢｉ）
電子注入材料：トリス（８−キノリノール）アルミニウム（Ａｌｑ）
【０２３８】
また、対向電極（陰極）材料として、Ａｌ−Ｌｉ合金（Ｌｉ濃度１０ａｔｍ％）をタングステン製フィラメントに装着した。
【０２３９】
次いで、真空蒸着装置の真空度を６６５×１０−７Ｐａ（５×１０−７Ｔｏｒｒ）まで減圧し、以下の蒸着速度および膜厚となるように、正孔注入層から陰極の形成まで、途中で真空状態を破らず、一回の真空引きで積層して、有機発光媒体等を形成した。
ＭＴＤＡＴＡ：蒸着速度０．１〜０．３ｎｍ／ｓｅｃ．，膜厚６０ｎｍ
ＮＰＤ      ：蒸着速度０．１〜０．３ｎｍ／ｓｅｃ．，膜厚２０ｎｍ
ＤＰＶＢｉ  ：蒸着速度０．１〜０．３ｎｍ／ｓｅｃ．，膜厚５０ｎｍ
Ａｌｑ      ：蒸着速度０．１〜０．３ｎｍ／ｓｅｃ．，膜厚２０ｎｍ
Ａｌ−Ｌｉ  ：蒸着速度０．５〜１．０ｎｍ／ｓｅｃ．，膜厚１５０ｎｍ
【０２４０】
（ｖｉ）封止工程
次いで、乾燥窒素を導入した封止ユニット内で、封止用ガラス基板（青板ガラス、ジオマテック（株）製）を陰極側に積層して、その周囲を光硬化型接着剤ＴＢ３１０２（スリーボンド（株）製）により封止して、図２に示す発光性能測定用の有機ＥＬ表示装置とした。
【０２４１】
なお、同様の製造条件で、含水率測定用の有機ＥＬ表示装置および耐久性試験用の有機ＥＬ表示装置をそれぞれ作製した。
【０２４２】
（２）有機ＥＬ素子の評価
（ｉ）含水率の測定
得られた有機ＥＬ表示装置を、乾燥窒素を連続的に導入した状態のドライボックス内で分解し、スパチュラを用いて有機発光媒体（一部、層間絶縁膜を含む。以下、同様である。）を採取するとともに、当該ドライボックス内に設けた全自動水分吸脱着測定装置ＩＧＡ  ＳＯＲＰ（英国Ｈｉｄｅｎ社製）を用いて重量を測定した。その結果、採取した有機発光媒体の重量Ａは、４３．９１９４ｍｇであった。
【０２４３】
次いで、採取した有機発光媒体を、ドライボックス内で、８０℃、３０分の条件で加熱処理し、その処理後の重量を上述した全自動水分吸脱着測定装置を用いて測定した。その結果、加熱処理後の有機発光媒体の重量Ｂは、４３．９１９０ｍｇであった。
【０２４４】
よって、得られた重量Ａおよび重量Ｂを上述した式（１）に導入して、有機発光媒体の含水率（Ｗ（％））を算出した。その結果、有機発光媒体の含水率（Ｗ）は０．０００９重量％であった。
【０２４５】
すなわち、有機発光媒体を形成する前に脱水工程を設けて、支持基板表面および、第１および第２の層間絶縁膜から水分を除去することは、有機発光媒体の含水率を低下させるのに有効な手段であることが判明した。
【０２４６】
（ｉｉ）発光性能の測定
得られた有機ＥＬ表示装置の下部電極（ＩＴＯパターン，陽極）と、対向電極である上部電極（陰極）との間に、ＤＣ１０Ｖの電圧を印加して、各電極の交差部分である各画素（約２３万画素）を発光させた。そして、色彩色差計ＣＳ１００（ミノルタ（株）製）を用いて発光輝度を測定したところ、３００ｃｄ／ｍ２という値が得られた。なお、発光面の全面積を１００％としたときの、画素面積の割合である開口率は５６％であった。
また、同様条件で有機ＥＬ装置の各画素を発光させてＣＩＥ色度を測定したところ、ＣＩＥ色度座標において、ＣＩＥｘ＝０．１５，ＣＩＥｙ＝０．１８である青色発光が得られることを確認した。
【０２４７】
（ｉｉｉ）耐久性試験
得られた２組の有機ＥＬ表示装置を、大気中、室温（２５℃）の条件と、恒温槽中、８０℃条件とに、それぞれ２週間放置した。その後、上述した電圧条件で有機ＥＬ表示装置の各画素を発光させて、無発光領域または無発光箇所の発生が生じておらず、適切に発光している領域（以下、発光領域）の面積を測定し、放置前の発光領域の面積との比較から耐久性を評価した。また、２週間放置後の２組の有機ＥＬ表示装置の発光輝度についても同様に評価した。
【０２４８】
その結果、放置前の発光領域の面積を１としたときに、大気中、室温（２５℃）の条件で、２週間放置した場合には、放置後の発光領域の面積は、０．９８であり、恒温槽中、８０℃条件で、２週間放置した場合には、放置後の発光領域の面積は、０．９７であった。また、このときの発光輝度は、室温条件下では２９４ｃｄ／ｍ２、８０℃条件下では２９１ｃｄ／ｍ２であった。
【０２４９】
すなわち、有機発光媒体中の含水率を所定値（０．０５重量％）以下の値とすることにより、大気中、室温（２５℃）の条件はもとより、８０℃の高温環境下においても長時間にわたって無発光領域または無発光箇所の発生による発光面積の縮小を抑制できるとともに、発光輝度の低下を防止できることが判明した。
【０２５０】
［実施例２］
（１）有機ＥＬ素子の作製
（ｉ）蛍光媒体の作製
光硬化性樹脂として、アクリル系光硬化型レジスト  Ｖ２５９ＰＡ（新日鉄化学社製、固形分：５０重量％、溶媒：プロピレングリコールメチルエーテルアセテート）１００ｇと、有機蛍光体として、クマリン６  ０．５３ｇ、ベーシックバイオレット１１  １．５ｇ、およびローダミン６Ｇ  １．５ｇと、顔料樹脂として、ベンゾグアナミン樹脂２５ｇとを、ボールミルを用いて均一に混合し、蛍光媒体用組成物（蛍光媒体用インキ）とした。
【０２５１】
得られた蛍光媒体用組成物を、縦１１２ｍｍ、横１４３ｍｍ、厚さ１．１ｍｍのガラス基板ＯＡ２（日本電気硝子（株）製）上に、スピンコートし、温度８０℃、時間１０分の条件で乾燥した。次いで、表示領域のパターンが得られるフォトマスクを介して、露光量が１５００ｍＪ／ｃｍ２となるように紫外線（波長３６５ｎｍ）を照射し、光硬化させて蛍光部（色変換部）とする一方、現像液（２重量％ＫＯＨ水溶液）を用いて未露光部を除去した。次いで、１６０℃、３０分の条件で、ポストベーク処理し、膜厚２０μｍの蛍光媒体とした。
【０２５２】
（ｉｉ）有機ＥＬ表示装置の作製
（ｉ）で得られた蛍光媒体が形成されたガラス基板上に、膜厚２００ｎｍのＩＺＯ（インジウム亜鉛酸化物）膜をスパッタリング法により全面的に成膜した。このＩＺＯ膜を実施例１と同様の条件でパターン化して、陽極（下部電極）とするとともに、次いで、第１および第２の層間絶縁膜を形成後、実施例１と同一の条件で脱水を行うことにより正孔注入層と、発光層と、電子注入層と、陰極とからなる有機ＥＬ素子を形成し、さらに封止用ガラス基板（青板ガラス、ジオマテック（株）製）を陰極側に積層して、その周囲を光硬化型接着剤ＴＢ３１０２により封止して、図８に示す構成の有機ＥＬ表示装置を作製した。
【０２５３】
（２）有機ＥＬ表示装置の評価
（ｉ）含水率の測定
実施例１と同様に、得られた有機ＥＬ表示装置における有機発光媒体（一部、層間絶縁膜および蛍光媒体を含む。以下、同様である。）を採取して、全自動水分吸脱着測定装置ＩＧＡ  ＳＯＲＰを用いて重量を測定した。その結果、採取した有機発光媒体の重量Ａは、２０１．３９７７ｍｇであり、重量Ｂは、２０１．３３６０ｍｇであった。
【０２５４】
したがって、有機発光媒体の含水率は０．０３０６重量％であった。よって、有機発光媒体を形成する前に脱水工程において、蛍光媒体、第１および第２の層間絶縁膜等から水分除去することは、有機発光媒体の含水率を低下させるのに有効な手段であることが判明した。
【０２５５】
なお、同様に、蛍光媒体、第１および第２の層間絶縁膜中の含水率を測定したが、それぞれ０．０５重量％未満の値であり、さらにＩＺＯパターン中の含水率を測定したが、０．００１重量％未満の値であった。
【０２５６】
（ｉｉ）発光性能の測定
実施例１と同様に、得られた有機ＥＬ表示装置の下部電極（ＩＺＯパターン，陽極）と、対向電極である上部電極（陰極）との間に、ＤＣ１０Ｖの電圧を印加して発光させ、色彩色差計ＣＳ１００を用いて発光輝度を測定したところ、９０ｃｄ／ｍ２という値が得られ、ＣＩＥ色度座標は、Ｘ＝０．６１，Ｙ＝０．３４である赤色発光が得られることを確認した。
【０２５７】
なお、発光面の全面積を１００％としたときの、画素面積の割合である開口率は５６％であった。
【０２５８】
（ｉｉｉ）耐久性試験
実施例１と同様に、得られた２組の有機ＥＬ表示装置を、大気中、室温（２５℃）の条件と、恒温槽中、８０℃条件とに、それぞれ２週間放置し、発光領
【０２５９】
域の面積変化から耐久性を評価した。
その結果、大気中、室温（２５℃）の条件で、２週間放置した場合には、放置後の発光領域の面積は、０．９３であり、恒温槽中、８０℃条件で、２週間放置した場合には、放置後の発光領域の面積は、０．９０であった。
【０２６０】
すなわち、有機発光媒体中の含水率を所定値（０．０５重量％）以下の値とすることにより、大気中、室温（２５℃）の条件はもとより、８０℃の高温環境下においても長時間にわたって無発光領域または無発光箇所の発生による発光面積の縮小を抑制できることが判明した。
【０２６１】
［実施例３］
（１）有機ＥＬ表示装置の作製
実施例２において蛍光媒体と、陽極（下部電極）との間に、平坦化層を形成したほかは、実施例２と同様にして、図９に示す構成の有機ＥＬ表示装置を作製した。
【０２６２】
すなわち、蛍光媒体を形成後、アクリル系の平坦化材料Ｖ２５９ＰＡ（新日鉄化学（株）製）をスピンコートし、温度８０℃、時間１５分の条件で乾燥した後、蛍光媒体を被覆可能なパターンを有するフォトマスクを介して、露光量が３００ｍＪ／ｃｍ２となるように、高圧水銀灯を光源としたコンタクト露光を行った。次いで、現像液としてＴＭＡＨを用いて、未露光部を現像し、さらに、オーブンを用いて、温度１６０℃の条件でポストベーク処理して、膜厚約５μｍの平坦化層とした。
【０２６３】
（２）有機ＥＬ表示装置の評価
（ｉ）含水率の測定
実施例１と同様に、得られた有機ＥＬ表示装置における有機発光媒体（一部、蛍光媒体、平坦化層、および層間絶縁膜を含む。以下、同様である。）を採取して、全自動水分吸脱着測定装置ＩＧＡ  ＳＯＲＰを用いて重量Ａおよび重量Ｂを測定した。
【０２６４】
その結果、有機発光媒体の含水率は０．０４５１重量％であった。よって、有機発光媒体を形成する前に脱水工程において、蛍光媒体、平坦化層、第１および第２の層間絶縁膜等から水分除去することは、有機発光媒体の含水率を低下させるのに有効な手段であることが判明した。
【０２６５】
なお、同様に、ＩＺＯパターン中の含水率を測定したが、０．００１重量％未満の値であった。
【０２６６】
（ｉｉ）発光性能の測定
実施例１と同様に、得られた有機ＥＬ表示装置の下部電極（ＩＺＯパターン，陽極）と、対向電極である上部電極（陰極）との間に、ＤＣ１０Ｖの電圧を印加して発光させ、色彩色差計ＣＳ１００を用いて発光輝度を測定したところ、９０ｃｄ／ｍ２という値が得られ、ＣＩＥ色度座標は、Ｘ＝０．６１，Ｙ＝０．３４である赤色発光が得られることを確認した。
【０２６７】
なお、発光面の全面積を１００％としたときの、画素面積の割合である開口率は５６％であった。
【０２６８】
（ｉｉｉ）耐久性試験
実施例１と同様に、得られた２組の有機ＥＬ表示装置を、大気中、室温（２５℃）の条件と、恒温槽中、８０℃条件とに、それぞれ２週間放置し、発光領域の面積変化から耐久性を評価した。
【０２６９】
その結果、大気中、室温（２５℃）の条件で、２週間放置した場合には、放置後の発光領域の面積は、０．９２であり、恒温槽中、８０℃条件で、２週間放置した場合には、放置後の発光領域の面積は、０．９０であった。
【０２７０】
すなわち、有機発光媒体中の含水率を所定値（０．０５重量％）以下の値とすることにより、大気中、室温（２５℃）の条件はもとより、８０℃の高温環境下においても長時間にわたって無発光領域または無発光箇所の発生による発光面積の縮小を抑制できることが判明した。
【０２７１】
［実施例４］
（１）有機ＥＬ表示装置の作製
実施例１においてガラス基板と、陽極（下部電極）との間に、赤色カラーフィルタを形成し、有機発光媒体材料として、ＤＰＶＢｉとルブレンとを組み合わせて使用し、有機発光媒体の成膜前の脱水工程において、乾燥ヘリウムを用いたこと以外は、実施例１と同様にして、図８に示す構成の有機ＥＬ表示装置を作製した。
【０２７２】
すなわち、ガラス基板上に、アクリル系樹脂からなるネガ型光硬化性材料Ｖ２５９Ｒ（新日鉄化学（株）製）をスピンコートし、温度８０℃、時間１５分の条件で乾燥した後、発光領域に対応したパターンを有するフォトマスクを介して、露光量が６００ｍＪ／ｃｍ２となるように、高圧水銀灯を光源としたコンタクト露光を行った。
【０２７３】
次いで、現像液としてＮａ２ＣＯ３水溶液（濃度２重量％）を用いて、未露光部を現像し、さらに、オーブンを用いて、温度２００℃の条件でポストベーク処理して、赤色カラーフィルタとした。
また、実施例１の真空蒸着装置において、有機発光層を形成する際に、下記蒸着速度で、それぞれＤＰＶＢｉと、ルブレンとを同時蒸着した。
ＤＰＶＢｉ  ：蒸着速度０．１〜０．３ｎｍ／ｓｅｃ．
ルブレン    ：蒸着速度０．０００５〜０．００１５ｎｍ／ｓｅｃ．
【０２７４】
（２）有機ＥＬ表示装置の評価
（ｉ）含水率の測定
実施例１と同様に、得られた有機ＥＬ表示装置における有機発光媒体（一部、カラーフィルタ、および層間絶縁膜を含む。以下、同様である。）を採取して、全自動水分吸脱着測定装置ＩＧＡ  ＳＯＲＰを用いて重量Ａおよび重量Ｂを測定した。その結果、有機発光媒体の含水率は０．０３１２重量％であった。よって、有機発光媒体を形成する前に脱水工程において、カラーフィルタ、第１および第２の層間絶縁膜等から水分除去することは、有機発光媒体の含水率を低下させるのに有効な手段であることが判明した。
【０２７５】
（ｉｉ）発光性能の測定
実施例１と同様に、得られた有機ＥＬ表示装置の下部電極（ＩＴＯパターン，陽極）と、対向電極である上部電極（陰極）との間に、ＤＣ１０Ｖの電圧を印加して発光させ、色彩色差計ＣＳ１００を用いて発光輝度を測定したところ、５０ｃｄ／ｍ２という値が得られ、ＣＩＥ色度座標は、Ｘ＝０．６５，Ｙ＝０．３２である赤色発光が得られることを確認した。
【０２７６】
なお、発光面の全面積を１００％としたときの、画素面積の割合である開口率は５６％であった。
【０２７７】
（ｉｉｉ）耐久性試験
実施例１と同様に、得られた２組の有機ＥＬ表示装置を、大気中、室温（２５℃）の条件と、恒温槽中、８０℃条件とに、それぞれ２週間放置し、発光領域の面積変化から耐久性を評価した。
【０２７８】
その結果、大気中、室温（２５℃）の条件で、２週間放置した場合には、放置後の発光領域の面積は、０．９３であり、恒温槽中、８０℃条件で、２週間放置した場合には、放置後の発光領域の面積は、０．９２であった。
【０２７９】
すなわち、有機発光媒体中の含水率を所定値（０．０５重量％）以下の値とすることにより、大気中、室温（２５℃）の条件はもとより、８０℃の高温環境下においても長時間にわたって無発光領域または無発光箇所の発生による発光面積の縮小を抑制できることが判明した。
【０２８０】
［実施例５］
（１）有機ＥＬ表示装置の作製
実施例３において、ガラス基板と、蛍光媒体との間に、赤色カラーフィルタをさらに形成したほかは、実施例３と同様にして、図８に示す構成の有機ＥＬ表示装置を作製した。
【０２８１】
（２）有機ＥＬ表示装置の評価
（ｉ）含水率の測定
実施例１と同様に、得られた有機ＥＬ表示装置における有機発光媒体（一部、カラーフィルタ、蛍光媒体、平坦化層、ＩＺＯおよび層間絶縁膜を含む。以下、同様である。）を採取して、全自動水分吸脱着測定装置ＩＧＡ  ＳＯＲＰを用いて重量Ａおよび重量Ｂを測定した。その結果、有機発光媒体の含水率は０．０３８５重量％であった。よって、有機発光媒体を形成する前に脱水工程において、カラーフィルタ、蛍光媒体、第１および第２の層間絶縁膜等から水分除去することは、有機発光媒体の含水率を低下させるのに有効な手段であることが判明した。
【０２８２】
なお、ＩＺＯパターン中の含水率を測定したが、０．０００１重量％未満の値であった。
【０２８３】
（ｉｉ）発光性能の測定
実施例１と同様に、得られた有機ＥＬ表示装置の下部電極（ＩＺＯパターン，陽極）と、対向電極である上部電極（陰極）との間に、ＤＣ１０Ｖの電圧を印加して発光させ、色彩色差計ＣＳ１００を用いて発光輝度を測定したところ、７０ｃｄ／ｍ２という値が得られ、ＣＩＥ色度座標は、Ｘ＝０．６５，Ｙ＝０．３２である赤色発光が得られることを確認した。
【０２８４】
なお、発光面の全面積を１００％としたときの、画素面積の割合である開口率は５６％であった。
【０２８５】
（ｉｉｉ）耐久性試験
実施例１と同様に、得られた２組の有機ＥＬ表示装置を、大気中、室温（２５℃）の条件と、恒温槽中、８０℃条件とに、それぞれ２週間放置し、発光領域の面積変化から耐久性を評価した。
【０２８６】
その結果、大気中、室温（２５℃）の条件で、２週間放置した場合には、放置後の発光領域の面積は、０．９４であり、恒温槽中、８０℃条件で、２週間放置した場合には、放置後の発光領域の面積は、０．９１であった。
【０２８７】
すなわち、有機発光媒体中の含水率を所定値（０．０５重量％）以下の値とすることにより、大気中、室温（２５℃）の条件はもとより、８０℃の高温環境下においても長時間にわたって無発光領域または無発光箇所の発生による発光面積の縮小を抑制できることが判明した。
【０２８８】
［実施例６］
（１）有機ＥＬ表示装置の作製
実施例２において、陽極（下部電極）をＩＺＯから、ＣｒとＩＴＯとの積層膜とするとともに、ガラス基板と陰極との間に形成した蛍光媒体を、封止用ガラス基板と陰極との間に形成したほかは、実施例２と同様にして、図１０に示す有機ＥＬ表示装置を作製した。
【０２８９】
すなわち、ガラス基板ＯＡ２ガラス（日本電気硝子（株）製）上に、膜厚２００ｎｍのＣｒ膜をスパッタリング法により全面的に成膜し、さらにその上に、膜厚１３０ｎｍのＩＴＯ膜をスパッタリング法により成膜した。このＩＴＯ膜上に、ポジ型レジストＨＰＲ２０４をスピンコートし、温度８０℃、時間１５分の条件で乾燥した。
【０２９０】
次いで、ストライプ状パターン（ライン幅９０μｍ，ギャップ幅２０μｍ）を有するフォトマスクを介して、露光量が１００ｍＪ／ｃｍ２となるように、高圧水銀灯を光源としたコンタクト露光を行った。現像液としてＴＭＡＨを用いて、露光部を現像した。
【０２９１】
次いで、オーブンを用いて、温度１３０℃の条件でポストベーク処理した後、臭化水素酸水溶液（濃度４７重量％）をエッチャントとして用いて、ＩＴＯ膜をエッチングし、さらに硝酸セリウムアンモニウム／過塩素酸水溶液ＨＣＥ（長瀬産業（株）製）にて、Ｃｒ膜をエッチングした。
【０２９２】
その後、剥離液Ｎ３０３を用いてポジ型レジストを除去し、陽極（下部電極）としてのストライプ状のＣｒ／ＩＴＯパターン（ライン数９６０本）を形成するとともに、第１および第２の層間絶縁膜を形成した。
【０２９３】
なお、この段階で、脱水工程を設けて、実施例２で乾燥アルゴンを用いたこと以外は同一の条件で脱水処理した。そして、さらに実施例２と同様に、第１および第２の層間絶縁膜上に、正孔注入層、有機発光媒体、電子注入層、および陰極（上部電極）を形成して、有機ＥＬ素子を形成した。
【０２９４】
なお、ここで陰極として、ＡｌｑとＬｉとをそれぞれ蒸着速度０．１〜０．３ｎｍ／秒、０．００５ｎｍ／秒で共蒸着し、さらにＩＺＯを２００ｎｍ成膜した。
【０２９５】
一方、実施例２で使用した蛍光媒体用組成物（蛍光媒体用インキ）を、縦９５ｍｍ、横１２８ｍｍ、厚さ１．１ｍｍの封止用ガラス基板（青板ガラス、ジオマテック（株）製）上に、スピンコートし、温度８０℃、時間１５分の条件で乾燥した。そして、表示領域のパターンが得られるフォトマスクを介して、露光量が１５００ｍＪ／ｃｍ２となるように紫外線（波長３６５ｎｍ）を照射し、光硬化させて蛍光部とする一方、現像液（２重量％ＫＯＨ水溶液）を用いて未露光部を除去した。
【０２９６】
次いで、１６０℃、３０分の条件で、ポストベーク処理し、膜厚２０μｍの蛍光媒体を具えた封止用ガラス基板とした。なお、この段階で、得られた蛍光媒体を具えた封止用ガラス基板を、ドライボックス内に収容し、実施例２で乾燥アルゴンを用いたこと以外は同一の条件で脱水処理した。
【０２９７】
次いで、ドライボックス内において、有機ＥＬ素子の陰極（上部電極）上に、蛍光媒体を具えた封止用ガラス基板をさらに積層するとともに、周囲を、光硬化型接着剤を用いて封止し、図１０に示す構成の有機ＥＬ表示装置を得た。
【０２９８】
（２）有機ＥＬ表示装置の評価
（ｉ）含水率の測定
実施例１と同様に、得られた有機ＥＬ表示装置における有機発光媒体（一部、層間絶縁膜を含む。以下、同様である。）を採取して、全自動水分吸脱着測定装置ＩＧＡ  ＳＯＲＰを用いて重量Ａおよび重量Ｂを測定した。その結果、有機発光媒体の含水率は０．０２１０重量％であった。
【０２９９】
よって、有機発光媒体を形成する前に脱水工程において、蛍光媒体、第１および第２の層間絶縁膜等から水分除去することは、有機発光媒体の含水率を低下させるのに有効な手段であることが判明した。
【０３００】
（ｉｉ）発光性能の測定
実施例１と同様に、得られた有機ＥＬ表示装置の下部電極（Ｃｒ／ＩＴＯパターン，陽極）と、対向電極である上部電極（陰極）との間に、ＤＣ１０Ｖの電圧を印加して発光させ、色彩色差計ＣＳ１００を用いて発光輝度を測定したところ、８０ｃｄ／ｍ２という値が得られ、ＣＩＥ色度座標は、Ｘ＝０．６０，Ｙ＝０．３４である赤色発光が得られることを確認した。
【０３０１】
なお、発光面の全面積を１００％としたときの、画素面積の割合である開口率は５６％であった。
【０３０２】
（ｉｉｉ）耐久性試験
実施例１と同様に、得られた２組の有機ＥＬ表示装置を、大気中、室温（２５℃）の条件と、恒温槽中、８０℃条件とに、それぞれ２週間放置し、発光領域の面積変化から耐久性を評価した。
【０３０３】
その結果、大気中、室温（２５℃）の条件で、２週間放置した場合には、放置後の発光領域の面積は、０．９３であり、恒温槽中、８０℃条件で、２週間放置した場合には、放置後の発光領域の面積は、０．９１であった。
【０３０４】
すなわち、有機発光媒体中の含水率を所定値（０．０５重量％）以下の値とすることにより、大気中、室温（２５℃）の条件はもとより、８０℃の高温環境下においても長時間にわたって無発光領域または無発光箇所の発生による発光面積の縮小を抑制できることが判明した。
【０３０５】
［実施例７］
（１）有機ＥＬ表示装置の作製
実施例６において、封止用ガラス基板上の蛍光媒体の代りに、実施例４と同様の赤色カラーフィルタを封止用ガラス基板上に設けたこと、および有機ＥＬ素子の作製を実施例４と同一にしたこと以外は、実施例６と同様にして、図１０に示す構成の有機ＥＬ表示装置を作製した。
【０３０６】
（２）有機ＥＬ表示装置の評価
（ｉ）含水率の測定
実施例１と同様に、得られた有機ＥＬ表示装置における有機発光媒体（一部、層間絶縁膜を含む。以下、同様である。）を採取して、全自動水分吸脱着測定装置ＩＧＡ  ＳＯＲＰを用いて重量Ａおよび重量Ｂを測定した。その結果、有機発光媒体の含水率は０．０１５３重量％であった。よって、有機発光媒体を形成する前に脱水工程において、カラーフィルタ、第１および第２の層間絶縁膜等から水分除去することは、有機発光媒体の含水率を低下させるのに有効な手段であることが判明した。
【０３０７】
（ｉｉ）発光性能の測定
実施例１と同様に、得られた有機ＥＬ表示装置の下部電極（Ｃｒ／ＩＴＯパターン，陽極）と、対向電極である上部電極（陰極）との間に、ＤＣ１０Ｖの電圧を印加して発光させ、色彩色差計ＣＳ１００を用いて発光輝度を測定したところ、４０ｃｄ／ｍ２という値が得られ、ＣＩＥ色度座標は、Ｘ＝０．６５，Ｙ＝０．３４である赤色発光が得られることを確認した。
【０３０８】
なお、発光面の全面積を１００％としたときの、画素面積の割合である開口率は５６％であった。
【０３０９】
（ｉｉｉ）耐久性試験
実施例１と同様に、得られた２組の有機ＥＬ表示装置を、大気中、室温（２５℃）の条件と、恒温槽中、８０℃条件とに、それぞれ２週間放置し、発光領域の面積変化から耐久性を評価した。
【０３１０】
その結果、大気中、室温（２５℃）の条件で、２週間放置した場合には、放置後の発光領域の面積は、０．９３であり、恒温槽中、８０℃条件で、２週間放置した場合には、放置後の発光領域の面積は、０．９１であった。
【０３１１】
すなわち、有機発光媒体中の含水率を所定値（０．０５重量％）以下の値とすることにより、大気中、室温（２５℃）の条件はもとより、８０℃の高温環境下においても長時間にわたって無発光領域または無発光箇所の発生による発光面積の縮小を抑制できることが判明した。
【０３１２】
［実施例８］
（１）有機ＥＬ表示装置の作製
（ｉ）陽極および層間絶縁膜の形成
実施例１と同様に、ガラス基板ＯＡ２ガラス上に、陽極（下部電極）、第１の層間絶縁膜および第２の層間絶縁膜（隔壁）を形成した。
【０３１３】
（ｉｉ）有機発光媒体の湿式成膜
次いで、湿式成膜として、インクジェット法にて、以下のインキから有機ＥＬ素子の有機発光媒体を形成した。すなわち、以下のインキをインクジェットプリント用装置のヘッドから、第１の層間絶縁膜の開口部に向けて噴出させて塗布した後、窒素中、１５０℃、４時間の条件で加熱処理し、水や溶剤を飛散させるとともに、ＰＰＶ前駆体を高分子量化させて、赤色の有機発光媒体とした。
ポリｐ−フェニレンビニレン（ＰＰＶ）前駆体：  ０．３７５０重量％
グリセリン                                ：  ５．００００重量％
ジエチレングリコール                      ：１０．００００重量％
水                                        ：  １．２２３５重量％
メタノール                                ：２３．３９４０重量％
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド              ：６０．００００重量％
ローダミンＢ                              ：  ０．００７５重量％
【０３１４】
（ｉｉｉ）電子注入層の形成
次いで、有機発光媒体が形成されたガラス基板を、真空蒸着装置（日本真空技術（株）製）内の基板ホルダーに固定した。そして、真空蒸着装置内のモリブテン製の加熱ボードに、トリス（８−キノリノール）アルミニウム（Ａｌｑ）を収容し、真空度６６５×１０−７Ｐａ（５×１０−７Ｔｏｒｒ）、蒸着速度０．１〜０．３ｎｍ／ｓｅｃ．の条件で膜厚２０ｎｍの電子注入層を形成した。
【０３１５】
（ｉｖ）脱水工程
次いで、（ｉｉｉ）で得られたガラス基板を、脱水工程を実施するための脱水ユニットに移動した。すなわち、このガラス基板をドライボックス内に収容し、ホットプレートを用いて６０℃に加熱し、その状態で乾燥窒素を導入しながら、露点を−５０℃まで低下させて、約２時間放置し、有機発光媒体、第１および第２の層間絶縁膜中の水分並びにガラス基板表面等に付着している水分を除去した。
【０３１６】
（ｖ）陰極の形成
（ｉｖ）で得られたガラス基板を、上記蒸着装置内の基板ホルダーに固定した。そして、対向電極（陰極）材料としてのＡｌ−Ｌｉ合金（Ｌｉ濃度１０ａｔｍ％）をタングステン製フィラメントに装着した。この状態で、真空度６６５×１０−７Ｐａ（５×１０−７Ｔｏｒｒ）、蒸着速度０．５〜１．０ｎｍ／ｓｅｃ．の条件で、ストライプ状の膜厚１５０ｎｍの陰極（ライン数２４０本）を形成して、有機ＥＬ素子とした。
【０３１７】
（ｖｉ）封止
得られた有機ＥＬ素子を、乾燥窒素を導入したドライボックス内に収容し、さらに青板ガラス（ジオマテック（株）製）で発光面を被覆するとともに、周辺部に対して光硬化型接着剤ＴＢ３１０２（スリ−ボンド（株）製）を処理して封止した。
【０３１８】
このようにして、下部電極と、上部電極とがＸＹマトリックスを形成してなる図２に示す構成の有機ＥＬ表示装置とした。
【０３１９】
（２）有機ＥＬ表示装置の評価
（ｉ）含水率の測定
実施例１と同様に、得られた有機ＥＬ表示装置における有機発光媒体を採取して、全自動水分吸脱着測定装置ＩＧＡ  ＳＯＲＰを用いて重量Ａおよび重量Ｂを測定した。その結果、有機発光媒体の含水率は０．０３０１重量％であった。よって、有機発光媒体を湿式成膜したとしても、第１および第２の層間絶縁膜等とともに、脱水工程により、十分水分除去可能であることが判明した。
【０３２０】
（ｉｉ）発光性能の測定
実施例１と同様に、得られた有機ＥＬ表示装置の下部電極（ＩＴＯパターン，陽極）と、対向電極である上部電極（陰極）との間に、ＤＣ１０Ｖの電圧を印加して発光させ、色彩色差計ＣＳ１００を用いて発光輝度を測定したところ、５０ｃｄ／ｍ２という値が得られ、ＣＩＥ色度座標は、Ｘ＝０．５８，Ｙ＝０．３４である赤色発光が得られることを確認した。
【０３２１】
なお、発光面の全面積を１００％としたときの、画素面積の割合である開口率は５６％であった。
【０３２２】
（ｉｉｉ）耐久性試験
実施例１と同様に、得られた２組の有機ＥＬ表示装置を、大気中、室温（２５℃）の条件と、恒温槽中、８０℃条件とに、それぞれ２週間放置し、発光領域の面積変化から耐久性を評価した。
【０３２３】
その結果、大気中、室温（２５℃）の条件で、２週間放置した場合には、放置後の発光領域の面積は、０．９２であり、恒温槽中、８０℃条件で、２週間放置した場合には、放置後の発光領域の面積は、０．９０であった。
【０３２４】
すなわち、有機発光媒体を湿式成膜したとしても、含水率を所定値（０．０５重量％）以下の値とすることにより、大気中、室温（２５℃）の条件はもとより、８０℃の高温環境下においても長時間にわたって無発光領域または無発光箇所の発生による発光面積の縮小を抑制できることが判明した。
【０３２５】
［実施例９］
カラーフィルタ、蛍光媒体および平坦化層を設けた実施例５において、脱水工程におけるガラス基板の加熱温度を、６０℃から１２０℃とした以外は、同一の条件で、有機ＥＬ表示装置を作製して、評価した。得られた結果を表２に示す。
【０３２６】
結果から理解されるように、脱水工程におけるガラス基板の加熱温度を１００℃以上とすることにより、有機発光媒体の含水率を０．００９８重量％と、０．０１重量％以下に低下させられることが判明した。
【０３２７】
また、得られた有機ＥＬ表示装置を大気中、室温（２５℃）の条件で、２週間放置した場合には、放置前と比較して、放置後の発光領域の面積は、０．９５となり、恒温槽中、８０℃条件で、２週間放置した場合には、０．９５となった。すなわち、カラーフィルタ、蛍光媒体および平坦化層を設けたとしても、脱水工程におけるガラス基板の加熱温度を１００℃以上にすることにより、有機発光媒体の含水率を０．０１重量％以下の値とすることができ、結果として、大気中、室温（２５℃）の条件はもとより、８０℃の高温環境下においても長時間にわたって無発光領域または無発光箇所の発生による発光面積の縮小を抑制できることが判明した。
【０３２８】
［実施例１０］
カラーフィルタ、蛍光媒体および平坦化層を設けた実施例５において、脱水工程におけるガラス基板の加熱温度を、６０℃から１６０℃とした以外は、同一の条件で、有機ＥＬ表示装置を作製して、評価した。得られた結果を表２に示す。
【０３２９】
結果から理解されるように、脱水工程におけるガラス基板の加熱温度を１５０℃以上とすることにより、有機発光媒体の含水率を０．０００６重量％と、０．００１重量％以下に著しく低下させられることが判明した。
【０３３０】
また、得られた有機ＥＬ表示装置を大気中、室温（２５℃）の条件で、２週間放置した場合には、放置前と比較して、放置後の発光領域の面積は、０．９８となり、恒温槽中、８０℃条件で、２週間放置した場合には、０．９７となった。
【０３３１】
すなわち、カラーフィルタ、蛍光媒体および平坦化層を設けたとしても、脱水工程におけるガラス基板の加熱温度を１５０℃以上にすることにより、有機発光媒体の含水率を０．００１重量％以下の値とすることができ、大気中、室温（２５℃）の条件はもとより、８０℃の高温環境下においても長時間にわたって無発光領域または無発光箇所の発生による発光面積の縮小を著しく抑制できることが判明した。
【０３３２】
［実施例１１］
カラーフィルタ、蛍光媒体および平坦化層を設けた実施例５において、脱水工程（ドライボックス）において、露点を−５０℃から−１０℃とした以外は、同一の条件で有機ＥＬ表示装置を作製して、評価した。得られた結果を表３に示す。
【０３３３】
結果から理解されるように、脱水工程における露点を−１０℃以下とすることにより、有機発光媒体の含水率を０．０４９５重量％と、０．０５重量％以下に低下させられることが判明した。
【０３３４】
また、得られた有機ＥＬ表示装置を大気中、室温（２５℃）の条件で放置した場合には、放置前と比較して、放置後の発光領域の面積は、０．９０となり、恒温槽中、８０℃条件で、２週間放置した場合には、０．８７となった。
【０３３５】
すなわち、カラーフィルタ、蛍光媒体および平坦化層を設けたとしても、脱水工程における露点を−１０℃以下にすることにより、有機発光媒体の含水率を０．０５重量％以下の値とすることができ、大気中、室温（２５℃）の条件はもとより、８０℃の高温環境下においても長時間にわたって無発光領域または無発光箇所の発生による発光面積の縮小を抑制できることが判明した。
【０３３６】
［実施例１２］
カラーフィルタ、蛍光媒体および平坦化層を設けた実施例５において、脱水工程（ドライボックス）において、露点を−５０℃にしたまま、ホットプレートで加熱しなかった以外は、同一の条件で有機ＥＬ表示装置を作製して、評価した。得られた結果を表３に示す。
【０３３７】
結果から理解されるように、脱水工程において、ガラス基板を加熱しなくとも、露点を−５０℃以下とすることにより、有機発光媒体の含水率を０．０４５０重量％と、０．０５重量％以下に低下させられることが判明した。
【０３３８】
また、得られた有機ＥＬ表示装置を大気中、室温（２５℃）の条件で、２週間放置した場合には、放置前と比較して、放置後の発光領域の面積は、０．９１となり、恒温槽中、８０℃条件で、２週間放置した場合には、０．８７となった。
【０３３９】
すなわち、カラーフィルタ、蛍光媒体および平坦化層を設けたとしても、脱水工程において、ガラス基板を加熱しなくとも、露点を−５０℃以下とすることにより、有機発光媒体の含水率を０．０５重量％以下の値とすることができ、大気中、室温（２５℃）の条件はもとより、８０℃の高温環境下においても長時間にわたって無発光領域または無発光箇所の発生による発光面積の縮小を抑制できることが判明した。
【０３４０】
［実施例１３］
カラーフィルタを設けた実施例４において、脱水工程（ドライボックス）において、露点を−５０℃にしたまま、乾燥窒素を導入しながら、ホットプレートでガラス基板を２５０℃に加熱した以外は、同一の条件で有機ＥＬ表示装置を作製して、評価した。得られた結果を表３に示す。
【０３４１】
結果から理解されるように、脱水工程において、乾燥窒素を導入しながら、ホットプレートでガラス基板を１００℃以上で加熱することにより、有機発光媒体の含水率を０．０００６重量％と、０．００１重量％以下に低下させられることが判明した。
【０３４２】
また、得られた有機ＥＬ表示装置を大気中、室温（２５℃）の条件で、２週間放置した場合には、放置前と比較して、放置後の発光領域の面積は、０．９９となり、恒温槽中、８０℃条件で、２週間放置した場合には、０．９８となった。
【０３４３】
すなわち、カラーフィルタを設けたとしても、脱水工程において、乾燥窒素を導入しながら、ホットプレートでガラス基板を１００℃以上で加熱することにより、有機発光媒体の含水率を０．００１重量％以下の値とすることができ、大気中、室温（２５℃）の条件はもとより、８０℃の高温環境下においても長時間にわたって無発光領域または無発光箇所の発生による発光面積の縮小を著しく抑制できることが判明した。
【０３４４】
［実施例１４］
カラーフィルタ、蛍光媒体および平坦化層を設けた実施例５において、脱水工程（ドライボックス）において、乾燥窒素の導入、露点の調整およびホットプレートによる加熱をせずに、真空度を１３３×１０−５Ｐａ（１×１０−５Ｔｏｒｒ）とした以外は、同一の条件で有機ＥＬ表示装置を作製して、評価した。得られた結果を表３に示す。
【０３４５】
結果から理解されるように、脱水工程において、真空度を調節することにより、有機発光媒体の含水率を０．０２３８重量％と、０．０５重量％以下の低い値に低下させられることが判明した。
【０３４６】
また、得られた有機ＥＬ表示装置を大気中、室温（２５℃）の条件で、２週間放置した場合には、放置前と比較して、放置後の発光領域の面積は、０．９１となり、恒温槽中、８０℃条件で、２週間放置した場合には、０．８８となった。
【０３４７】
すなわち、カラーフィルタ、蛍光媒体および平坦化層を設けたとしても、脱水工程において、真空度を調節することにより、有機発光媒体の含水率を０．０５重量％以下の値とすることができ、大気中、室温（２５℃）の条件はもとより、８０℃の高温環境下においても長時間にわたって無発光領域または無発光箇所の発生による発光面積の縮小を抑制できることが判明した。
【０３４８】
［実施例１５］
カラーフィルタ、蛍光媒体および平坦化層を設けた実施例５において、脱水工程（ドライボックス）において、乾燥窒素の導入および露点の調整をせずに、真空度を１３３×１０−５Ｐａ（１×１０−５Ｔｏｒｒ）とするとともに、ホットプレートによりガラス基板を１６０℃に加熱した以外は、同一の条件で有機ＥＬ表示装置を作製して、評価した。得られた結果を表３に示す。
【０３４９】
結果から理解されるように、脱水工程において、真空度および加熱温度を調節することにより、有機発光媒体の含水率を０．０００６重量％と、０．００１重量％以下に低下させられることが判明した。
【０３５０】
また、得られた有機ＥＬ表示装置を大気中、室温（２５℃）の条件で、２週間放置した場合には、放置前と比較して、放置後の発光領域の面積は、０．９９となり、恒温槽中、８０℃条件で、２週間放置した場合には、０．９８となった。
【０３５１】
すなわち、カラーフィルタ、蛍光媒体および平坦化層を設けたとしても、脱水工程において、真空度および加熱温度を調節することにより、有機発光媒体の含水率を０．００１重量％以下の値とすることができ、大気中、室温（２５℃）の条件はもとより、８０℃の高温環境下においても長時間にわたって無発光領域または無発光箇所の発生による発光面積の縮小を著しく抑制できることが判明した。
【０３５２】
［実施例１６］
カラーフィルタ、蛍光媒体および平坦化層を設けた実施例５において、脱水工程（ドライボックス）において、乾燥窒素の導入、露点の調整およびホットプレートによる加熱をせずに、真空度を１３３×１０−１Ｐａ（１×１０−１Ｔｏｒｒ）とした以外は、同一の条件で有機ＥＬ表示装置を作製して、評価した。得られた結果を表３に示す。
【０３５３】
結果から理解されるように、脱水工程において、真空度を調節することにより、有機発光媒体の含水率を０．０４８８重量％と、０．０５重量％以下の低い値に低下させられることが判明した。
【０３５４】
また、得られた有機ＥＬ表示装置を大気中、気温（２５℃）の条件で、２週間放置した場合には、放置前と比較して、放置後の発光領域の面積は、０．９１となり、恒温層中、８０℃条件で、２週間放置した場合には、０．８５となった。
【０３５５】
すなわち、カラーフィルタ、蛍光媒体および平坦化層を設けたとしても、脱水工程において、真空度を調節することにより、有機発光媒体の含水率を０．０５重量％以下の値とすることができ、大気中、気温（２５℃）の条件はもとより、８０℃の高温環境下においても長時間にわたって無発光領域または無発光箇所の発生による発光面積の縮小を抑制できることが判明した。
【０３５６】
［比較例１］
実施例１において、有機ＥＬ素子の形成前に脱水工程を設けて脱水処理をしなかった以外は、同一の条件で有機ＥＬ表示装置を作製して、評価した。得られた結果を表４に示す。
【０３５７】
結果から理解されるように、脱水工程を設けなかったために、有機発光媒体の含水率は０．０７１３重量％であり、０．０５重量％以下の値に低下させることができなかった。
【０３５８】
また、得られた有機ＥＬ表示装置を大気中、室温（２５℃）の条件で、２週間放置した場合には、放置前と比較して、放置後の発光領域の面積は、０．８０となり、恒温槽中、８０℃条件で、２週間放置した場合には、０．５５となった。
【０３５９】
すなわち、有機ＥＬ素子の形成前に脱水工程を設けて脱水処理をしなかったため、有機発光媒体の含水率を０．０５重量％以下の値とすることができず、大気中、室温（２５℃）条件および、８０℃の高温環境下の２週間放置において、無発光領域または無発光箇所の発生による発光面積の縮小を抑制することは困難であることが判明した。
【０３６０】
［比較例２］
カラーフィルタ、蛍光媒体および平坦化層を設けた実施例５において、有機ＥＬ素子の形成前に脱水処理を実施しなかった以外は、同一の条件で有機ＥＬ表示装置を作製して、評価した。得られた結果を表４に示す。
【０３６１】
結果から理解されるように、脱水工程を設けなかったために、有機発光媒体の含水率は０．３２１５重量％であり、０．０５重量％以下の値に低下させることができなかった。
【０３６２】
また、得られた有機ＥＬ表示装置を大気中、室温（２５℃）の条件で、２週間放置した場合には、放置前と比較して、放置後の発光領域の面積は、０．３３となり、恒温槽中、８０℃条件で、２週間放置した場合には、０．１５となった。
【０３６３】
すなわち、有機ＥＬ素子の形成前に脱水工程を設けて脱水処理をしなかったため、有機発光媒体の含水率を０．０５重量％以下の値とすることができず、大気中、室温（２５℃）条件および、８０℃の高温環境下の２週間放置において、無発光領域または無発光箇所の発生による発光面積の縮小を抑制することは困難であることが判明した。
【０３６４】
［比較例３］
カラーフィルタ、蛍光媒体および平坦化層を設けた実施例５において、有機ＥＬ素子の形成前に、乾燥窒素を導入し、露点０℃、室温、２時間の条件で、わずかに脱水処理を実施した以外は、同一の条件で有機ＥＬ表示装置を作製して、評価した。得られた結果を表４に示す。
【０３６５】
結果から理解されるように、わずかに脱水処理を実施したばかりであるため、有機発光媒体の含水率は０．１００１重量％であり、０．０５重量％以下の値に低下することができなかった。
【０３６６】
また、得られた有機ＥＬ表示装置を大気中、室温（２５℃）の条件で、２週間放置した場合には、放置前と比較して、放置後の発光領域の面積は、０．６０となり、恒温槽中、８０℃条件で、２週間放置した場合には、０．３０となった。
【０３６７】
すなわち、有機ＥＬ素子の形成前に十分に脱水処理をしなかったため、有機発光媒体の含水率を０．０５重量％以下の値とすることができず、大気中、室温（２５℃）条件および、８０℃の高温環境下の２週間放置において、無発光領域または無発光箇所の発生による発光面積の縮小を抑制することは困難であることが判明した。
【０３６８】
［比較例４］
カラーフィルタを設けた実施例４において、有機ＥＬ素子の形成前に脱水工程を設けて脱水処理をしなかった以外は、同一の条件で有機ＥＬ表示装置を作製して、評価した。得られた結果を表４に示す。
【０３６９】
結果から理解されるように、脱水工程を設けなかったために、有機発光媒体の含水率は０．０８２１重量％であり、０．０５重量％以下の値に低下することができなかった。
【０３７０】
また、得られた有機ＥＬ表示装置を大気中、室温（２５℃）の条件で、２週間放置した場合には、放置前と比較して、放置後の発光領域の面積は、０．７５となり、恒温槽中、８０℃条件で、２週間放置した場合には、０．４５となった。
【０３７１】
すなわち、有機ＥＬ素子の形成前に脱水工程を設けて脱水処理をしなかったため、有機発光媒体の含水率を０．０５重量％以下の値とすることができず、大気中、室温（２５℃）条件および、８０℃の高温環境下の２週間放置において、無発光領域または無発光箇所の発生による発光面積の縮小を抑制することは困難であることが判明した。
【０３７２】
［比較例５］
湿式成膜した実施例８において、有機ＥＬ素子の陰極形成前に脱水工程を設けて脱水処理をしなかった以外は、同一の条件で有機ＥＬ表示装置を作製して、評価した。得られた結果を表４に示す。
【０３７３】
結果から理解されるように、有機ＥＬ素子の陰極形成前に脱水工程を設けなかったために、有機発光媒体の含水率は０．１２３４重量％であり、０．０５重量％以下の値に低下することができなかった。
【０３７４】
また、得られた有機ＥＬ表示装置を大気中、室温（２５℃）の条件で、２週間放置した場合には、放置前と比較して、放置後の発光領域の面積は、０．５５となり、恒温槽中、８０℃条件で、２週間放置した場合には、０．４２となった。
【０３７５】
すなわち、有機ＥＬ素子の陰極形成前に脱水工程を設けて脱水処理をしなかったため、有機発光媒体の含水率を０．０５重量％以下の値とすることができず、大気中、室温（２５℃）条件および、８０℃の高温環境下の２週間放置において、無発光領域または無発光箇所の発生による発光面積の縮小を抑制することは困難であることが判明した。
【０３７６】
［比較例６］
実施例６において、有機ＥＬ素子の陰極形成前に脱水工程を設けて脱水処理をしなかった以外は、同一の条件で有機ＥＬ表示装置を作製して、評価した。得られた結果を表５に示す。
【０３７７】
結果から理解されるように、有機ＥＬ素子の陰極形成前に脱水工程を設けなかったために、有機発光媒体の含水率は０．１２３０重量％であり、０．０５重量％以下の値に低下することができなかった。
【０３７８】
また、得られた有機ＥＬ表示装置を大気中、室温（２５℃）の条件で、２週間放置した場合には、放置前と比較して、放置後の発光領域の面積は、０．４０となり、恒温槽中、８０℃条件で、２週間放置した場合には、０．２５となった。
【０３７９】
すなわち、有機ＥＬ素子の陰極形成前に脱水工程を設けて脱水処理をしなかったため、有機発光媒体の含水率を０．０５重量％以下の値とすることができず、大気中、室温（２５℃）条件および、８０℃の高温環境下の２週間放置において、無発光領域または無発光箇所の発生による発光面積の縮小を抑制することは困難であることが判明した。
【０３８０】
［比較例７］
実施例１において、有機ＥＬ素子の陰極形成後に、６０℃、３０分の条件でわずかに脱水処理をした以外は、同一の条件で有機ＥＬ表示装置を作製して、評価した。得られた結果を表５に示す。
【０３８１】
結果から理解されるように、有機ＥＬ素子の陰極形成前に十分に脱水処理を行わなかったために、有機発光媒体の含水率は０．１重量％を超えており、得られた有機ＥＬ表示装置を大気中、室温（２５℃）の条件で、２週間放置した場合には、放置前と比較して、放置後の発光領域の面積は、０．５３となり、恒温槽中、８０℃条件で、２週間放置した場合には、０．４０となった。
【０３８２】
すなわち、有機ＥＬ素子の陰極形成前に脱水工程を設けて十分に脱水処理をしなかったため、有機発光媒体の含水率を０．０５重量％以下の値とすることができず、大気中、室温（２５℃）条件および、８０℃の高温環境下の２週間放置において、無発光領域または無発光箇所の発生による発光面積の縮小を抑制することは困難であることが判明した。
【０３８３】
［比較例８］
実施例３において、平坦化層と下部電極との間に、水分バリア層としてのＳｉＯ２層（膜厚２００μｍ）をスパッタリングにより設けたものの、有機ＥＬ素子形成前に脱水工程を設けて脱水処理をしなかった以外は、同一の条件で有機ＥＬ表示装置を作製して、評価した。得られた結果を表５に示す。
【０３８４】
結果から理解されるように、脱水工程を設けなかったために、有機発光媒体の含水率は０．１重量％を超えており、得られた有機ＥＬ表示装置を大気中、室温（２５℃）の条件で、２週間放置した場合には、放置前と比較して、放置後の発光領域の面積は、０．４０となり、恒温槽中、８０℃条件で、２週間放置した場合には、０．２０となった。
【０３８５】
すなわち、有機ＥＬ素子の形成前に脱水処理を行わなかったため、有機発光媒体の含水率を０．０５重量％以下の値とすることができず、大気中、室温（２５℃）条件および、８０℃の高温環境下の２週間放置において、無発光領域または無発光箇所の発生による発光面積の縮小を抑制することは困難であることが判明した。
【０３８６】
【表１】
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【０３８７】
【表２】
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【０３８８】
【表３】
2010278028.tif 000005
【０３８９】
【表４】
2010278028.tif 000006
【０３９０】
【表５】
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【産業上の利用可能性】
【０３９１】
以上、本発明の有機ＥＬ表示装置によれば、画素を高精細化したとしても、有機発光媒体を湿式成膜したとしても、あるいは、室温のみならず、酸化しやすい高温環境下に放置したとしても、長時間にわたって無発光領域または無発光箇所の発生による発光面積の縮小を防止することができる有機ＥＬ表示装置を提供することができるようになった。
【０３９２】
したがって、本発明の有機ＥＬ表示装置は、小型表示携帯端末装置（携帯電話）、車載用表示装置、インストルメントパネル装置、カーナビゲーター装置、ノート型パーソナルコンピューター、壁掛テレビ等の民生用表示機器や、オフィスオートメーション表示装置、ファクトリーオートメーション表示装置、計装装置用モニター等の産業用表示機器に広く使用することができる。
【０３９３】
また、本発明の有機ＥＬ表示装置の製造方法によれば、このような有機ＥＬ表示装置を、簡易な装置を用いて、効率的に得ることができるようになった。
【符号の説明】
【０３９４】
１  支持基板
２  下部電極
３  層間絶縁膜
４  発光媒体
５  対向電極（上部電極）
８  封止用ガラス基板
９  蛍光媒体
１０  平坦化層
１１  カラーフィルタ
１２  無発光領域
１３  発光領域
１４  画素
１５  第１の層間絶縁膜
１６  第２の層間絶縁膜（隔壁）
１７  水分
１８  有機ＥＬ表示装置
２０  製造装置
２１  脱水ユニット
２２  成膜ユニット（真空蒸着装置）
２３  封止ユニット
２４  搬送ユニット
２５  搬送装置
２６  仕切り弁
３０  露点計
３２  ハウジング
３３  基板ステージ
３４  ホットプレートあるいは冷却装置
３５  ドライガス循環装置、不活性ガス導入口
３６  ドライガス循環装置、不活性ガス排出口
３８  真空装置、真空ポンプ
３９  真空度計
５１  全自動水分吸脱着測定装置
５２  オイルバス
５３  天秤
５４  温度センサー
５５  湿度センサー
５６  ドライボックス
５７  加熱装置
５８  注入口
６１  循環路
６２  天秤室
６３  精密天秤
６４  比較試料室
６５  制御室
６６  湿潤ガス循環装置
６７  ドライガス循環装置
６８  ガス貯蔵部
Ａ  循環部
Ｂ  水分測定部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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