(57)【要約】【課題】型の一方の面に形成されている微細パターンが被成型品に転写されない現象が発生することを防止できる微細パターン転写用型を提供する。【解決手段】被成型品１１に転写するための微細パターンＰを一方の面２１ａに形成し、且つ、一方の面２１ａと反対側の他方の面２１ｂを平坦に形成した型２１と、微細パターンＰを被成型品１１に転写するときに被成型品１１から受ける反力によって型２１に生じる第１の反りに対して相殺する方向の第２の反りを型２１に予め付与するために、型２１の他方の面２１ｂ上に加熱した状態で接着した後に冷却して収縮により型２１と共に湾曲させた反り補正板２２と、を一体的に備えたことを特徴とする微細パターン転写用型２０を提供する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
被成型品に転写するための微細パターンを一方の面に形成した型と、
前記微細パターンを前記被成型品に転写するときに前記被成型品から受ける反力によって前記型に生じる第１の反りに対して相殺する方向の第２の反りを前記型に予め付与するために、前記型の他方の面上に加熱した状態で接着した後に冷却して収縮することにより前記型を湾曲させる反り補正板と、
を一体的に備えたことを特徴とする微細パターン転写用型。
【請求項２】
前記微細パターンを転写するときに前記型の他方の面側が凸曲面となるような前記第１の反りが生じるのに伴って、前記型の他方の面及び前記反り補正板の接着面側が凹曲面となるような前記第２の反りを予め付与することを特徴とする請求項１記載の微細パターン転写用型。
【請求項３】
被成型品に転写するための微細パターンを型の一方の面に形成する工程と、
前記微細パターンを前記被成型品に転写するときに前記被成型品から受ける反力によって前記型に生じる第１の反りに対して相殺する方向の第２の反りを前記型に予め付与するために、反り補正板を前記型の他方の面上に加熱した状態で接着した後に冷却して収縮させることにより前記型を湾曲させる工程と、
を含むことを特徴とする微細パターン転写用型の製造方法。
【請求項４】
前記微細パターンを転写するときに前記型の他方の面側が凸曲面となるような前記第１の反りが生じるのに伴って、前記型の他方の面及び前記反り補正板の接着面側が凹曲面となるような前記第２の反りを予め付与することを特徴とする請求項３記載の微細パターン転写用型の製造方法。
【請求項５】
被成型品を保持した被成型品保持体と、
請求項１又は請求項２記載の微細パターン転写用型を保持した型保持体と、を備え、
前記微細パターン転写用型と一体に前記型保持体を前記被成型品保持体に対して相対的に移動して前記微細パターン転写用型で前記被成型品を押圧して前記微細パターンを該被成型品上に転写することを特徴とする転写方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、被成型品に微細パターンを転写する微細パターン転写用型、微細パターン転写用型の製造方法及び転写方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、電子線描画法などで石英基板等に凹凸状の微細パターンを形成して型（モールド）を作製し、被成型品としてこの表面に成膜されたレジスト膜に前記型を所定の圧力で押圧して、当該型に形成された微細パターンを転写するナノインプリント技術が研究開発されている（例えば、非特許文献１参照）。
【０００３】
そして、このようなナノインプリント技術は、光ディスクや、光拡散板や、回折格子などの表面に凹凸状の微細パターンを形成する際に適用されており、ナノインプリント技術を活用する方法への関心が高くなってきている。
【０００４】
この際、ナノオーダーの微細パターンを低コストで成型する方法としてリソグラフィ技術を用いたインプリント法が考案されている。この成型法は大別して熱インプリント法とＵＶインプリント法とに分類される。
【０００５】
上記した熱インプリント法では、型の一方の面に形成した微細パターンと、被成型品となる基板の表面との間に、熱可塑性ポリマからなる樹脂を流動可能となる温度になるまで加熱してこの樹脂を流入させたのち、型を基板側に押圧して、型と樹脂をガラス転移温度以下になるまで冷却し、基板の表面に固着した樹脂の微細パターンを固化した後に型を引き離している。
【０００６】
一方、上記したＵＶインプリント法では、光を透過できる透明な型を使用し、被成型品となる基板の表面に塗布したＵＶ硬化性液に型を押しつけて、ＵＶ放射光をＵＶ硬化性液に照射し、このＵＶ硬化性液を硬化させて微細パターンを転写した後に型を引き離している。
【０００７】
ここで、上記したナノインプリント技術を適用する場合に、型と被加工材（被成型品）との位置ずれを防ぎ、型と被加工材との平行度を維持することができる微小型押成形装置がある（例えば、特許文献１参照）。
【０００８】
上記した特許文献１（特開２００４−３４３００号公報）に開示された微小型押成形装置によれば、ここでの図示を省略するものの、型支持部により支持された型と、被加工材支持部により支持された被加工材とを互いに押し付けて、被加工材に型のパターンを転写する際に、型支持部又は被加工材支持部のいずれか一方に磁石を配置し、他方に磁性体又は磁石を配置し、磁気吸引力により型と被加工材との間の押し付け方向と直交する方向への相対移動を防止する旨が開示されている。
【非特許文献１】Precision Engineering Journal of the International Societies for Precision Engineering and Nanotechnology 25(2001) 192-199
【特許文献１】特開２００４−３４３００号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
ところで、上述した特許文献１に開示された微小型押成形装置では、型と被加工材との相対位置関係を調整することについて何等の記載がなく、精密加工の１種となる微細パターンの転写を行なう場合に、一般的に画像処理により型の基準と被加工材の基準との相対差を測定してアライメント調整を行なっている。
【００１０】
図５はＵＶインプリント法を適用した一般的な転写装置の概略構成を示した縦断面図、図６は図５に示した転写装置において、バックアップガラスを設けないで転写を行うときの型の変形状態を模式的に示した図である。
【００１１】
図５に示した如く、微細パターンの転写を行うための一般的な転写装置１００では、被成型品１０１の一方の面（上面）１０１ａ上に紫外線硬化性樹脂１０２が成膜されおり、この被成型品１０１の他方の面（下面）１０１ｂが被成型品保持体１０３上に保持されている。
【００１２】
一方、型１１１は紫外線を透過する石英基板などを用いて一方の面（下面）１１１ａに凹凸状の微細パターンＰが形成されて、この型１１１が型固定板１１２を介して型保持体１１３の下面１１３ａに保持されており、且つ、この型１１１は転写前に被成型品１０１と間隔を離して対向していると共に、不図示の上下動駆動機構により型１１１及び型固定板１１２と一体に型保持体１１３が上下動自在になっている。
【００１３】
尚、型保持体１１３側を上下動させずに、被成型品保持体１０３側を上下動させる構成でもよい。
【００１４】
また、この転写装置１００では、例えば、ＵＶインプリント法で転写を行うために、型保持体１１３内に貫通孔１１３ｂ，１１３ｃ，１１３ｄが穿設され、且つ、型保持体１１３の上方に不図示の紫外線発生器が設置されており、この紫外線発生器から出射された紫外線が貫通孔１１３ｂ，１１３ｃ，１１３ｄ及び型１１１を通過して、この型１１１で押圧される被成型品１０１の上面１０１ａに成膜した紫外線硬化性樹脂１０２上に照射され、この紫外線により紫外線硬化性樹脂１０２上に転写された微細パターンＰが硬化されるようになっている。
【００１５】
また、この転写装置１００では、型保持体１１３の貫通孔１１３ｄ内に紫外線を透過させるバックアップガラス１１４を配置して、このバックアップガラス１１４を型１１１の他方の面（上面）１１１ｂに当接させて、転写の際に被成型品１０１から受ける力によって型１１１が変形することを防ぎ、均一な転写をするようにしている。
【００１６】
また、この転写装置１００において、被成型品１０１と型１１１とのアライメントを例えば自動的に調整する場合がある。この場合、例えば、被成型品１０１に形成されているアライメントマーク（図示せず）と、型１１１に形成されているアライメントマーク（図示せず）とを、型保持体１１３の貫通孔１１３ｂ内に設けられている２台の撮像手段（以下、カメラと記す）１１５を用いて撮影し、この撮影した映像を画像処理して、型１１１に対する被成型品１０１の相対的な位置を、被成型品保持体１０３に取り付けた不図示のＸ軸・Ｙ軸テーブルを介して図示左右方向や紙面に直角な方向に移動させてアライメント調整可能になっている。
【００１７】
尚、２台のカメラ１１５は、上記した紫外線を照射するときに型保持体１１３の貫通孔１１３ｂ内から外部に退避するようになっている。
【００１８】
そして、型１１１及び型固定板１１２と一体に型保持体１１３を被成型品保持体１０３に対して相対的に移動して型１１１を被成型品１０１に近づけ、型１１１で被成型品１０１を押圧して、型１１１の一方の面１０１ａに形成されている微細パターンＰを被成型品１０１の上面１０１ａに成膜した紫外線硬化性樹脂１０２上に転写している。
【００１９】
ところで、被成型品１０１と型１１１とのアライメントを自動的に調整する場合に、カメラ１１５内の撮影レンズ１１６と型１１１や被成型品１０１との間の焦点距離（被写界深度）等の関係から、型１１１にカメラ１１５をできるだけ近づけることが望ましいのであるが、バックアップガラス１１４が設けられているので、カメラ１１５が型１１１から離れてしまうと言う問題点が生じる。
【００２０】
この問題点を解決するために、型１１１にカメラ１１５を近づけ、また、転写装置１００の構成を簡素化する際に、型反り防止用として型１１１を押さえ付けるためのバックアップガラス１１４を設けることなく、型１１１による被成型品１０１への転写を行うと、本来、平板状であるべき型１１１が、転写によって被成型品１０１から受ける反力等により、図６に二点差線で示すように、微細パターンＰが形成されている一方の面（下面）１１１ａ側が凹曲面となり、この一方の面（下面）１１１ａと反対の他方の面（上面）１１１ｂ側が凸曲面となるような反りが発生してごく僅かに変形してしまう。
【００２１】
そして、型１１１の中央部では転写の押圧力が不十分になり、型１１１の中央部に設けられている微細パターンＰが被成型品１０１に転写されない現象（いわゆる中抜け現象）が発生してしまうという問題がある。
【００２２】
そこで、型の一方の面に形成されている微細パターンを被成型品に転写する際に、型が薄い場合であっても、型反り防止用として型を押さえ付けるためのバックアップガラスを設けることなく、型の一方の面に形成されている微細パターンが被成型品に転写されない現象が発生することを防止できる微細パターン転写用型、微細パターン転写用型の製造方法及び転写装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００２３】
請求項１に記載の発明は、被成型品に転写するための微細パターンを一方の面に形成した型と、前記微細パターンを前記被成型品に転写するときに前記被成型品から受ける反力によって前記型に生じる第１の反りに対して相殺する方向の第２の反りを前記型に予め付与するために、前記型の他方の面上に加熱した状態で接着した後に冷却して収縮することにより前記型を湾曲させる反り補正板と一体的に備えた微細パターン転写用型である。
【００２４】
請求項２に記載の発明は、前記微細パターンを転写するときに前記型の他方の面側が凸曲面となるような前記第１の反りが生じるのに伴って、前記型の他方の面及び前記反り補正板の接着面側が凹曲面となるような前記第２の反りを予め付与する請求項１記載の微細パターン転写用型である。
【００２５】
請求項３に記載の発明は、被成型品に転写するための微細パターンを型の一方の面に形成する工程と、前記微細パターンを前記被成型品に転写するときに前記被成型品から受ける反力によって前記型に生じる第１の反りに対して相殺する方向の第２の反りを前記型に予め付与するために、反り補正板を前記型の他方の面上に加熱した状態で接着した後に冷却して収縮させることにより前記型を湾曲させる工程とを含む微細パターン転写用型の製造方法である。
【００２６】
請求項４に記載の発明は、前記微細パターンを転写するときに前記型の他方の面側が凸曲面となるような前記第１の反りが生じるのに伴って、前記型の他方の面及び前記反り補正板の接着面側が凹曲面となるような前記第２の反りを予め付与する請求項３記載の微細パターン転写用型の製造方法である。
【００２７】
請求項５に記載の発明は、被成型品を保持した被成型品保持体と、請求項１又は請求項２記載の微細パターン転写用型を保持した型保持体と、を備え、前記微細パターン転写用型と一体に前記型保持体を前記被成型品保持体に対して相対的に移動して前記微細パターン転写用型で前記被成型品を押圧して前記微細パターンを該被成型品上に転写する転写方法である。
【発明の効果】
【００２８】
上記した第１，第２の発明（請求項１、２の発明）の微細パターン転写用型によれば、微細パターンを一方の面に形成した型の他方の面に反り補正板を接着して微細パターン転写用型を一体的に構成した際に、微細パターンを被成型品に転写するときに被成型品から受ける反力によって型に生じる第１の反りに対して相殺する方向の第２の反りを型に予め付与するために、反り補正板を型の他方の面上に加熱した状態で接着した後に冷却して収縮により型と共に湾曲させているので、この微細パターン転写用型を用いて微細パターンを被成型品に転写するときに、被成型品から受ける反力によって型に生じる第１の反りと、型及び反り補正板に予め付与された第２の反りとが互いに逆に反ることから相殺されて、微細パターン転写用型に反りがなく平坦になった状態で型に形成した微細パターンを被成型品上に転写すると、型の中央部に設けられている微細パターンが被成型品に転写されない現象（いわゆる中抜け現象）が発生することがなくなるために良好な転写ができると共に、転写後に微細パターン転写用型を被成型品から引き離したときに型及び反り補正板に対して第２の反りが戻るので被成型品を容易に離型することができる。
【００２９】
また、上記した第３，第４の発明（請求項３、４の発明）の微細パターン転写用型の製造方法によれば、とくに、型の一方の面に形成されている微細パターンを被成型品に転写するときに被成型品から受ける反力によって型に生じる第１の反りに対して相殺する方向の第２の反りを型に予め付与するために、反り補正板を型の他方の面上に加熱した状態で接着した後に冷却して収縮により型と共に湾曲させているので、上記した第１，第２の発明と同様の効果を得ることができる。
【００３０】
更に、上記した第５の発明（請求項５の発明）の転写装置によれば、上記した第１又は第２の発明の微細パターン転写用型を用いているので、上記した第１，第２の発明と同様の効果が得られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３１】
以下に本発明に係る微細パターン転写用型、微細パターン転写用型の製造方法及び転写装置について図１〜図４を参照して詳細に説明する。
【００３２】
本発明に係る微細パターン転写用型、微細パターン転写用型の製造方法及び転写装置では、ナノオーダーの微細パターンを転写する際に、先に従来技術で説明したＵＶインプリント法を適用した場合について説明するが、これに限ることなく、熱インプリント法でも適用可能である。
【実施例】
【００３３】
図１は本発明に係る微細パターン転写用型を模式的に示した図、
図２（ａ）〜（ｅ）は本発明に係る微細パターン転写用型の製造方法を説明するために示した工程図、
図３は本発明に係る微細パターン転写用型を取り付けた転写装置の構成を示した縦断面図であり、（ａ）は転写前の状態を示し、（ｂ）は転写するときの状態を示した図、
図４（ａ）〜（ｄ）は本発明に係る微細パターン転写用型を取り付けた転写装置において、微細パターン転写用型で被成型品を転写する工程を示した工程図である。
【００３４】
図１に示した如く、転写対象品となる被成型品１１が被成型品保持体１３上に二点鎖線で示したように搭載されており、この被成型品１１と対向して本発明に係る微細パターン転写用型２０が実線で示したように設けられている。
【００３５】
上記した本発明に係る微細パターン転写用型２０は、被成型品１１に転写するための凹凸状の微細パターンＰを一方の面（下面）２１ａに形成し、且つ、一方の面（下面）２１ａと反対側の他方の面（上面）２１ｂを平坦に形成した型２１と、型２１に形成した微細パターンＰを被成型品１１に転写したときに被成型品１１から受ける反力によって型２１に生じる第１の反りに対して相殺する方向の第２の反りを型２１に予め付与するために、型２１の他方の面２１ｂ上に反り補正板２２と、を一体的に備えたものである。
【００３６】
反り補正板２２は、加熱された状態で紫外線硬化樹脂接着剤２３を用いて、他方の面２１ｂ上に接着されたものであり、この接着後に反り補正板２２が冷却されて収縮し、型２１を湾曲させている。なお、反り補正板２２も型２１と共に湾曲している。
【００３７】
この際、型２１に生じる第１の反りは、先に図６を用いて説明したと同様に、たとえば、型２１に形成した微細パターンＰを被成型品１１に転写したときに発生するものであり、微細パターンＰが形成されている一方の面２１ａ側が凹曲面となり、この一方の面２１ａと反対の他方の面２１ｂ側が凸曲面となるような反りである。
【００３８】
上記に伴って、型２１及び反り補正板２２に予め付与された第２の反りは、型２１の他方の面（上面）２１ｂ及びこの面２１ｂに接着される接着面となる一方の面（下面）２２ａ側が凸曲面となるような反りであり、この際、反り補正板２２は先に図５を用いて説明したバックアップガラス１１４の厚みよりも十分薄い厚みに設定されている。
【００３９】
従って、型２１の他方の面２１ｂ上に反り補正板２２の一方の面２２ａを接着した場合に型２１は反り補正板２２に予め付与された第２の反りに沿って変形してこの型２１に第２の反りが予め付与されるが、転写するときに被成型品１１から受ける反力によって型２１に生じる第１の反りと、型２１及び反り補正板２２に予め付与された第２の反りとが互いに逆に反ることから相殺されて、微細パターン転写用型２０に反りがなく平坦になった状態で型２１に形成した微細パターンＰを被成型品１１上に転写すると、型２１の中央部に設けられている微細パターンＰが被成型品１１に転写されない現象（いわゆる中抜け現象）が発生することがなくなるために良好な転写ができると共に、転写後に微細パターン転写用型２０を被成型品１１から引き離したときに型２１及び反り補正板２２に対して第２の反りが戻るので被成型品１１を容易に離型することができるようなっている。
【００４０】
更に、微細パターン転写用型２０に対してＵＶインプリント法を適用する場合には、型２１及び反り補正板２２が共に紫外線を透過する石英基板などを用いており、一方、熱インプリント法を適用する場合には、型２１及び反り補正板２２に対して紫外線を透過させる必要がないので適宜な材料を用いればよいものである。
【００４１】
尚、型２１の左右は、型押さえの必要があるので一方の面２１ａから他方の面２１ｂに向かって左右間の間隔が徐々に広がるような傾斜面２１ｃ，２１ｄに形成するか、もしくは、一方の面２１よりも一段凹ませて不図示のフランジを形成すればよいものである。
【００４２】
ここで、本発明に係る微細パターン転写用型２０の製造方法について図２（ａ）〜（ｅ）を用いて説明する。
【００４３】
まず、図２（ａ）に示した第１工程では、型２１と反り補正板２２とを用意する。
【００４４】
上記した型２１は、たとえば、紫外線を透過する石英ガラスなどを用いて一方の面（下面）２１ａに凹凸状の微細パターンＰを周知の電子線描画法などにより形成し、且つ、他方の面（上面）２１ｂを平坦に形成していると共に、左右間の長さをＬ１に設定している。
【００４５】
一方、上記した反り補正板２２は、型２１と同一の材料となる石英ガラスなどを用いて一方の面（下面）２２ａ及び他方の面（上面）２２ｂを共に平坦な平板に形成していると共に、左右間の長さは型２１の左右間の長さＬ１と同じに設定している。
【００４６】
次に、図２（ｂ）に示した第２工程では、型２１の他方の面２１ｂ上に紫外線硬化樹脂接着剤２３を均一な膜厚で塗布すると共に、反り補正板２２を加熱して熱膨張させると、反り補正板２２の左右間の長さＬ２が型２１の左右間の長さＬ１より僅かに長くなる。
【００４７】
次に、図２（ｃ）に示した第３工程では、型２１の他方の面２１ｂ上に塗布した紫外線硬化樹脂接着剤２３上に反り補正板２２を搭載し、反り補正板２２の上方から紫外線Ｖを照射する。この際、型２１の左右間の寸法Ｌ１と、反り補正板２２の左右間の寸法Ｌ２とが左右対称となるように型２１上に反り補正板２２を搭載する。
【００４８】
次に、図２（ｄ）に示した第４工程では、紫外線の照射を止めると、紫外線硬化樹脂接着剤２３が硬化して型２１上に紫外線硬化樹脂接着剤２３を介して反り補正板２２が接着される。尚、この段階でも反り補正板２２は熱膨張している。
【００４９】
次に、図２（ｅ）に示した第５工程では、型２１上に紫外線硬化樹脂接着剤２３を介して反り補正板２２が接着された状態で冷却すると、反り補正板２２が収縮し、この収縮に伴って反り補正板２２が型２１と共に湾曲して、型２１の他方の面（上面）２１ｂ及びこの面２１ｂに接着される反り補正板２２の一方の面（下面）２２ａ側が凸曲面となるような反りが付与されて、左右間の長さＬ１’が初期の長さＬ１よりも僅かに短くなる。そして、型２１の一方の面２１ａに凹凸状の微細パターンＰが形成した型２１と反り補正板２２とが一体化されて本発明に係る微細パターン転写用型２０が得られる。
【００５０】
ここで、本発明に係る微細パターン転写用型を適用した転写装置について図３（ａ），（ｂ）を用いて説明する。
【００５１】
図３（ｓ）に示した如く、本発明に係る微細パターン転写用型２０を適用した転写装置１０では、被成型品１１の一方の面（上面）１１ａに紫外線硬化性樹脂１２が成膜されおり、この被成型品１１の他方の面（下面）１１ｂが被成型品保持体１３上に保持されている。
【００５２】
一方、本発明に係る微細パターン転写用型２０は、型固定板２４を介して型保持体２５の下面２５ａに保持されており、且つ、この微細パターン転写用型２０は転写前に被成型品１１と間隔を離して対向していると共に、不図示の上下動駆動機構により微細パターン転写用型２０及び型固定板２４と一体に型保持体２５が上下動自在になっている。
【００５３】
尚、型保持体２５側を上下動させずに、被成型品保持体１３側を上下動させる構成でもよい。
【００５４】
上記した微細パターン転写用型２０は、前述したように、一方の面２１ａに凹凸状の微細パターンＰを形成した型２１の他方の面２１ｂ上に反り補正板２２の一方の面２２ａが接着されて一体化されたものであり、且つ、転写するときに被成型品１１から受ける反力によって型２１に生じる第１の反りを相殺する方向の第２の反りが型２１及び反り補正板２２に予め付与されている。
【００５５】
即ち、微細パターン転写用型２０は、転写するときに型２１の他方の面２１ｂ側が凸曲面になるような第１の反りが発生することを仮定した上で、型２１の他方の面２１ｂ及びこの面２１ｂに接着される反り補正板２２の一方の面２２ａ側が凹曲面になるような第２の反りが予め付与された状態で型固定板２４を介して型保持体２５に取り付けられている。
【００５６】
また、この転写装置１０では、例えば、ＵＶインプリント法で転写を行うために、型保持体２５内に貫通孔２５ｂ，２５ｃが穿設され、且つ、型保持体２５の上方に不図示の紫外線発生器が設置されており、この紫外線発生器から出射された紫外線が貫通孔２５ｂ，２５ｃ及び微細パターン転写用型２０を通過して、この微細パターン転写用型２０で押圧される被成型品１１の一方の面１１ａに成膜した紫外線硬化性樹脂１２に照射され上、この紫外線により紫外線硬化性樹脂１２上に転写される微細パターン（図示せず）が硬化されるようになっている。
【００５７】
また、この転写装置１０において、被成型品１１と微細パターン転写用型２０とのアライメントを例えば自動的に調整する場合がある。この場合、例えば、被成型品１１に形成されているアライメントマーク（図示せず）と、微細パターン転写用型２０に形成されているアライメントマーク（図示せず）とを、型保持体２５の貫通孔２５ｂ内に設けられている２台の撮像手段（以下、カメラと記す）２６を用いて撮影し、この撮影した映像を画像処理して、微細パターン転写用型２０に対する被成型品１１の相対的な位置を、被成型品保持体１３に取り付けた不図示のＸ軸・Ｙ軸テーブルを介して図示左右方向や紙面に直角な方向に移動させてアライメント調整可能になっている。
【００５８】
尚、２台のカメラ２６は、上記した紫外線を照射するときに型保持体２５の貫通孔２５ｂ内から外部に退避するようになっている。
【００５９】
この実施例の場合には、先に図５を用いて説明したバックアップガラス１１４が設けられていないので、カメラ２６内の撮影レンズ２７を微細パターン転写用型２０にできるだけ近づけることができ、アライメント調整を確実に行なうことができる。
【００６０】
そして、２台のカメラ２６でアライメン調整して、２台のカメラ２６を型保持体２５の外部に退避させた後に、図３（ｂ）に示した如く、微細パターン転写用型２０及び型固定板２４と一体に型保持体２５を被成型品保持体１３に対して相対的に移動して微細パターン転写用型２０を被成型品１１に近づけ、微細パターン転写用型２０で被成型品１１を押圧し、微細パターン転写用型２０の型２１の一方の面２１ａに形成されている微細パターンＰを紫外線硬化性樹脂１２上に転写し、更に、微細パターン転写用型２０の上方から紫外線Ｖを紫外線硬化性樹脂１２上に照射して、紫外線硬化性樹脂１２上に転写された微細パターンＰを紫外線Ｖで硬化させている。
【００６１】
ここで、微細パターン転写用型２０の型２１を被成型品１１に押圧すると、前述したように、転写するときに被成型品１１から受ける反力によって型２１の他方の面２１ｂ側が凸曲面となるような第１の反りが生じるが、型２１の他方の面２１ｂ及びこの面２１ｂに接着される反り補正板２２の一方の面２２ａには凸曲面となるような第２の反りが予め付与されているために、第１の反りと第２の反りとが相殺し合うので、微細パターン転写用型２０は反りがなくなって平板状となり、これにより型２１の一方の面２１ａに形成されている微細パターンＰを被成型品１１に成膜した紫外線硬化性樹脂１２上に良好に転写することができる。
【００６２】
ここで、ＵＶインプリント法による転写動作を図４（ａ）〜（ｄ）を用いてより具体的に説明する。
【００６３】
まず、図４（ａ）に示した如く、微細パターンＰを一方の面２１ａに形成した型２１上に反り補正板２２を紫外線硬化樹脂接着剤２３により接着して一体化した微細パターン転写用型２０を、被成型品１１上に成膜した紫外線硬化性樹脂１２に向かって矢印の方向に移動させる。
【００６４】
次に、図４（ｂ）に示した如く、微細パターン転写用型２０で被成型品１１上に成膜した紫外線硬化性樹脂１２を押圧して、型２１の一方の面２１ａに形成した微細パターンＰを紫外線硬化性樹脂１２上に転写し、且つ、微細パターン転写用型２０の上方から紫外線Ｖを照射し、紫外線硬化性樹脂１２を硬化させる。
【００６５】
この後、図４（ｃ）に示した如く、微細パターン転写用型２０を矢印の方向に移動して、微細パターン転写用型２０を被成型品１１側から引き離すと、被成型品１１上に成膜した紫外線硬化性樹脂１２上に微細パターンＰが転写される。
【００６６】
そして、転写後、図４（ｃ）に示す状態において、微細パターンＰが転写されて硬化した紫外線硬化性樹脂１２をマスキング部材にして、エッチングによって被成型品１１上に凹凸状の被微細パターン１１ａＰを形成し、この後、硬化した紫外線硬化性樹脂１２を例えば溶剤で取り除けば、図４（ｄ）に示すように、被成型品１１の一方の面（上面）１１ａ上に凹凸状の被微細パターン１１ａＰが良好に形成される。
【図面の簡単な説明】
【００６７】
【図１】本発明に係る微細パターン転写用型を模式的に示した図である。
【図２】（ａ）〜（ｅ）は本発明に係る微細パターン転写用型の製造方法を説明するために示した工程図である。
【図３】本発明に係る微細パターン転写用型を取り付けた転写装置の構成を示した縦断面図であり、（ａ）は転写前の状態を示し、（ｂ）は転写するときの状態を示した図である。
【図４】（ａ）〜（ｄ）は本発明に係る微細パターン転写用型を取り付けた転写装置において、微細パターン転写用型で被成型品を転写する工程を示した工程図である。
【図５】ＵＶインプリント法を適用した一般的な転写装置の概略構成を示した縦断面図である。
【図６】図５に示した転写装置において、バックアップガラスを設けないで転写を行うときの型の変形状態を模式的に示した図である。
【符号の説明】
【００６８】
１０…転写装置、
１１…被成型品、
１１ａ…一方の面（上面）、１１ａ１…被微細パターン、１１ｂ…他方の面（下面）、
１２…紫外線硬化性樹脂、１３…被成型品保持体、
２０…微細パターン転写用型、
２１…型、２１ａ…一方の面（下面）、２１ｂ…他方の面（上面）、
２１ｃ，２１ｄ…傾斜面、
２２…反り補正板、２２ａ…一方の面（下面）、２２ｂ…他方の面（上面）、
２３…紫外線硬化樹脂接着剤、２４…型固定板、
２５…型保持体、２５ａ…下面、２５ｂ，２５ｃ…貫通孔、
２６…撮像手段（カメラ）、２７…撮影レンズ、Ｐ…微細パターン。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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