(57)【要約】【課題】異常点灯セルが多数又は密集して発生した場合や領域表示斑が発生した場合にも、画像品質の劣化や画像の一部欠落を招くことなく、これらの欠陥を修復（リペア）することのできるＰＤＰ及びその製造方法を提供すること。【解決手段】透明電極と前記透明電極より幅の狭い金属電極とからなり、一方向に延在する表示電極を備えた前面基板と、前記前面基板に対向し、前記表示電極とは異なる方向に延在し且つ前記表示電極との交差部に複数のセルを形成するアドレス電極を備えた背面基板とを具備するプラズマディスプレイパネルにおいて、前記複数のセルの中に、前記透明電極の抵抗が周りより高い部分を有し且つ他のセルと同じ明るさで発光するセルが含まれていること。【選択図】    図２
2010062084.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明電極と前記透明電極より幅の狭い金属電極とからなり、一方向に延在する表示電極を備えた前面基板と、
前記前面基板に対向し、前記表示電極とは異なる方向に延在し且つ前記表示電極との交差部に複数のセルを形成するアドレス電極を備えた背面基板とを具備するプラズマディスプレイパネルにおいて、
前記複数のセルの中に、前記透明電極の抵抗が周りより高い部分を有し且つ他のセルと同じ明るさで発光するセルが含まれているプラズマディスプレイパネル。
【請求項２】
透明電極と前記透明電極より幅の狭い金属電極とからなり、一方向に延在する表示電極を備えた前面基板と、
前記前面基板に対向し、前記表示電極とは異なる方向に延在し且つ前記表示電極との交差部に複数のセルを形成するアドレス電極を備えた背面基板とを具備するプラズマディスプレイパネルにおいて、
前記透明電極の光透過率が他の前記セルより低い前記セルが密集した領域を有し、
且つ、前記領域内の前記セルが、他の前記セルと同じ明るさで光るプラズマディスプレイパネル。
【請求項３】
透明電極と前記透明電極より幅の狭い金属電極とからなり、一方向に延在する表示電極を備えた前面基板と、前記前面基板に対向し、前記表示電極とは異なる方向に延在し且つ前記表示電極との交差部に複数のセルを形成するアドレス電極を備えた背面基板とを具備するプラズマディスプレイパネルを形成する第１の工程と、
複数の前記セルの中に、他の前記セルより明るく発光する異常点灯セルが発生した場合に、前記異常点灯セルを形成する前記表示電極の前記透明電極を部分的に高抵抗化する第２の工程を具備する、
プラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項４】
請求項３に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法において、
前記第２の工程が、前記異常点灯セルの前記透明電極の一部分又は複数部分にレーザ光を照射して高抵抗化する工程であることを、
特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項５】
透明電極と前記透明電極より幅の狭い金属電極とからなり、一方向に延在する表示電極を備えた前面基板と、前記前面基板に対向し、前記表示電極とは異なる方向に延在し且つ前記表示電極との交差部に複数のセルを形成するアドレス電極を備えた背面基板とを具備するプラズマディスプレイパネルを形成する第１の工程と、
前記プラズマディスプレイパネルに他の前記セルより明るく発光する前記セルが密集した領域が形成されていた場合に、前記領域内に存在する前記セルの前記透明電極の光透過率を低下させる第２の工程を具備する、
プラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項６】
請求項５に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法において、
前記第２の工程が、前記領域内に存在する前記セルの前記透明電極にレーザ光を照射する工程であることを、
特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項７】
透明電極と前記透明電極より幅の狭い金属電極とからなり、一方向に延在する表示電極を備えた前面基板と、前記前面基板に対向し、前記表示電極とは異なる方向に延在し且つ前記表示電極との交差部に複数のセルを形成するアドレス電極を備えた背面基板とを具備するプラズマディスプレイパネルを形成する第１の工程と、
他の前記セルより明るく発光する前記セルを、他の前記セルと同じ明るさで発光するように修復する第２の工程を具備する、
プラズマディスプレイパネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイパネル及びその製造方法に関し、特に、異常点灯セル又は領域表示斑を無くしたプラズマディスプレイパネル及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
プラズマディスプレイパネル(PDP, Plasma Display Panel)は放電による発光を利用した平面型表示装置の一種である。
【０００３】
ＰＤＰは、ガラス製の前面基板と背面基板が僅かな空間を隔てて貼りあわされ、この空間にキセノン等の希ガスを封入した表示装置である。
【０００４】
ＰＤＰの前面基板には、透明電極とこの透明電極より幅の狭い金属電極（バス電極）によって形成され、水平方向に延在する複数の表示電極が設けられている。一方、背面基板には、表示電極に直交する方向に延在する複数のアドレス電極が設けられている。
【０００５】
表示電極とアドレス電極は交差して複数のセルを形成し、表示電極に印加された電圧によって放電が発生し各セルが発光する。このようにして発光したセルが一画素となり、ＰＤＰの表面に画像が表示される。
【０００６】
ところで、パネルとして完成したＰＤＰを観察すると、他のセルより非常に明るく光るセルが発見されることがある。このような異常点灯セルは非常に目立つので、そのままでは、そのＰＤＰを出荷することはできない。そこで、異常点灯セルにレーザ光を照射し、その透明電極を高抵抗化することによって、異常点灯セルを不点灯化する技術が開発された（特許文献１）。
【特許文献１】特開２００４−３１０４２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかし、異常点灯セルの数が多い場合や、異常点灯セルが密集した場合には、上記従来技術のように異常点灯セルを不点灯化してしまうと、反って画像品質が劣化してしまう。
【０００８】
また、一部のセルが他のセルより明るく光ってしまう現象の態様としては、異常点灯セル以外にも、他のセルより明るく発光するセルが密集して発生し、一定の面積を占めるようになった領域表示斑がある。このような領域表示斑に含まれるセルを不点灯化してしまうと、画像の一部に欠落が生じてしまう。従って、領域表示斑に対しては、上記不点灯化技術で対処すること自体が困難である。
【０００９】
そこで、本発明の目的は、異常点灯セルが多数又は密集して発生した場合や領域表示斑が発生した場合にも、画像品質の劣化や画像の一部欠落を招くことなく、これらの欠陥を修復（リペア）することのできるＰＤＰ及びその製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の第１の側面は、透明電極と前記透明電極より幅の狭い金属電極とからなり、一方向に延在する表示電極を備えた前面基板と、前記前面基板に対向し、前記表示電極とは異なる方向に延在し且つ前記表示電極との交差部に複数のセルを形成するアドレス電極を備えた背面基板とを具備するプラズマディスプレイパネルにおいて、前記複数のセルの中に、前記透明電極の抵抗が周りより高い部分を有し且つ他のセルと同じ明るさで発光するセルが含まれているプラズマディスプレイパネルである。
【００１１】
本発明の第２の側面は、透明電極と前記透明電極より幅の狭い金属電極とからなり、一方向に延在する表示電極を備えた前面基板と、前記前面基板に対向し、前記表示電極とは異なる方向に延在し且つ前記表示電極との交差部に複数のセルを形成するアドレス電極を備えた背面基板とを具備するプラズマディスプレイパネルにおいて、前記透明電極の光透過率が他の前記セルより低い前記セルが密集した領域を有し、且つ、前記領域内の前記セルが、他の前記セルと同じ明るさで光るプラズマディスプレイパネルである。
【００１２】
本発明の第３の側面は、透明電極と前記透明電極より幅の狭い金属電極とからなり、一方向に延在する表示電極を備えた前面基板と、前記前面基板に対向し、前記表示電極とは異なる方向に延在し且つ前記表示電極との交差部に複数のセルを形成するアドレス電極を備えた背面基板とを具備するプラズマディスプレイパネルを形成する第１の工程と、複数の前記セルの中に、他の前記セルより明るく発光する異常点灯セルが発生した場合に、前記異常点灯セルを形成する前記表示電極の前記透明電極を部分的に高抵抗化する第２の工程を具備するプラズマディスプレイパネルの製造方法である。
【００１３】
本発明の第４の側面は、透明電極と前記透明電極より幅の狭い金属電極とからなり、一方向に延在する表示電極を備えた前面基板と、前記前面基板に対向し、前記表示電極とは異なる方向に延在し且つ前記表示電極との交差部に複数のセルを形成するアドレス電極を備えた背面基板とを具備するプラズマディスプレイパネルを形成する第１の工程と、前記プラズマディスプレイパネルに他の前記セルより明るく発光する前記セルが密集した領域が形成されていた場合に、前記領域内に存在する前記セルの前記透明電極の光透過率を低下させる第２の工程を具備するプラズマディスプレイパネルの製造方法である。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、異常点灯セルの数が多い場合や異常点灯セルが密集して発生した場合、或いは領域表示斑が発生した場合にも、他のセルより明るく光るセルを他のセルと同じ明るさで発光するように修復（リペア）するので、画像品質の劣化や画像の一部欠落を生じさせることなく、これらのセル欠陥に対処することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、図面にしたがって本発明の実施の形態について説明する。但し、本発明の技術的範囲はこれらの実施の形態に限定されず、特許請求の範囲に記載された事項とその均等物まで及ぶものである。
【００１６】
（実施の形態１）
異常点灯セルが多数又は密集して発生した場合や領域表示斑が発生した場合でも、異常点灯セルや領域表示斑内のセルを他のセルと同じ明るさで発光させることが可能であれば、表示画像の品質を落とすことなく、これらの欠陥を修復することができる。
【００１７】
本実施の形態は、このような考えに基づいて、異常点灯セルを他のセルと同じ明るさで発光するように修復（リペア）して、異常点灯セルが多数発生した場合や密集して発生した場合に対処したＰＤＰ及びその製造方法に関する。
【００１８】
（１）構  成
図１は、本実施の形態に従うＰＤＰの構成を説明する平面図である。
【００１９】
図２は、図１に於いて破線で囲われた領域Ａを拡大した図である。尚、以後、図面が異なっても対応する部分には同一符号を付し、その説明は省略する。
【００２０】
本実施の形態に従うＰＤＰ２は、図１及び図２に示すように、一方向（例えば、水平方向）に延在する透明電極４と、この透明電極４の一方の長辺に沿って延在する幅の狭い金属電極６（バス電極２２）とからなる表示電極１２を備えた前面基板１３を具備している。ここで、表示電極１２は、一対の走査電極８と維持電極１０からなっている。
【００２１】
また、本実施の形態のＰＤＰ２は、前面基板１３に対向し、更に、表示電極１２とは異なる方向（例えば、鉛直方向）に延在し且つ表示電極１２との交差部に複数のセル１４,１６を形成するアドレス電極１８を備えた背面基板１９を具備している。尚、図２では図面が複雑にならないように、セル１４,１６は、一つ置きに破線で囲われ、符号が付されている。ここで、セル１６は、他のセル１４とは異なり、透明電極４の抵抗が周りの透明電極２１より高い部分２０を有している。
【００２２】
このように、本実施の形態のＰＤＰ２は、透明電極４とこの透明電極４より幅の狭い金属電極６（バス電極２２）とからなり、一方向に延在する表示電極１２を備えた前面基板１３を具備している。また、本実施の形態に従うＰＤＰ２は、前面基板１３に対向し、表示電極１２とは異なる方向に延在し且つ表示電極１２との交差部に複数のセル１４,１６を形成するアドレス電極１８を備えた背面基板１９とを具備している。
【００２３】
更に、本実施の形態のＰＤＰ２には、上記複数のセルの中に、透明電極４の抵抗が周りより高い部分２０を有し且つ他のセル１４と同じ明るさで発光するセル１６が含まれている。
【００２４】
図３は、図２に示したセル１６を更に拡大した図である。
【００２５】
図３に示した例では、走査電極８及び維持電極１０を形成する透明電極４が、夫々、周囲の透明電極２１より抵抗が高い部分２０を２箇所ずつ有している。
【００２６】
このセル１６は、元々は異常点灯セルであったセルがリペアされ、他のセル１４と同じ明るさで発光するようになったセルである。
【００２７】
透明電極４に周囲２１より抵抗が高い部分２０が形成されると、セルの放電面積は、その分減少する。その結果、セル１６が発生するプラズマの量も減少する。このため、異常点灯セルであったセル１６は、輝度が低下し、他のセル１４と同じ明るさで発光するようになる。従って、不点灯点が多数又は密集して形成されて、画像品質が劣化することはない。
【００２８】
このように、本実施の形態のＰＤＰ２では、異常点灯セル１６がリペアされて、他のセル１４と同じ明るさで光るようになっている。従って、本実施の形態のＰＤＰ２によれば、異常点灯セルの数が多数発生した場合や密集して発生した場合にも、表示される画像の品質を劣化さることなく、これらの欠陥に対処することができる。
【００２９】
尚、一のセルが他のセルと同じ明るさで発光するとは、両セルを同一条件で発光させた場合にＰＤＰの観察者が感じる明るさに差異のないことである。
【００３０】
（２）製造方法
次に、このようなＰＤＰ２の製造方法を説明する。
【００３１】
図４は、本実施の形態によるＰＤＰの製造方法を説明する斜視図である。
【００３２】
本実施の形態では、まず通常のＰＤＰの製造手順に従い、第１のガラス基板２３上に、透明電極４および金属電極６（バス電極２２）を形成する。次に、この透明電極４およびバス電極２２の上に、ガラスからなる誘電体層２４およびＭｇＯからなる保護層２６を積層する。
【００３３】
バス電極２２は透明電極に電流を流しやすくするためのものであり、Ｃｒ−Ｃｕ−Ｃｒ等の低抵抗の金属膜で形成される。一方、放電面積を確保し且つ放電によって発生した光を効率的に取り出すための透明電極４は、抵抗は比較的高いが透明である酸化錫（ＩＴＯ；Indium Tin Oxide）等の電極材料で形成する。このようにして、前面基板１３を形成する。
【００３４】
この透明電極４とバス電極２２によって、走査電極８と維持電極１０が形成され、表示電極１２となる。この表示電極１２は、水平方向に延在するように複数形成される。
【００３５】
次に、第２のガラス基板２５の上に、金属からなる帯状のアドレス電極１８を形成する。このアドレス電極１８は、図４に示すように、垂直方向に延在するように複数形成される。
【００３６】
次に、アドレス電極１８の上にガラスからなる誘電体層２８を形成する。この誘電体層２８上に於いて、隣接するアドレス電極１８との間に帯状の隔壁３０を形成する。更に、誘電体層２８の上から隔壁３０の側面にかけて、蛍光体３２を塗布する。このようにして、背面基板１９を形成する。
【００３７】
次に、表示電極１２とアドレス電極１８が直交するように、前面基板１３と背面基板１９とを対向配置して周辺部を封着部材により封着し、両基板間に形成された空間にネオンとキセノンを含む希ガスを封入する。この時、表示電極１２とアドレス電極１８の交差部に複数のセルが形成される。
【００３８】
以上の工程により、まず、透明電極４と透明電極４より幅の狭い金属電極６とからなり、一方向に延在する表示電極１２を備えた前面基板１３と、この前面基板１３に対向し、表示電極１２とは異なる方向に延在し且つ表示電極１２との交差部に複数のセルを形成するアドレス電極１８を備えた背面基板１９とを具備するリペア前のプラズマディスプレイパネル３を形成する。
【００３９】
ＰＤＰ３に画像を表示するためには、発光させたいセルで交差する、アドレス電極１８と表示電極１２の間に電圧パルスを印加して放電を起す。この放電によって、上記表示電極１２を覆っている保護膜２６に壁電荷が蓄積する。
【００４０】
この状態で、表示電極１２を形成する全ての走査電極８と維持電極１０の間に交番状の電圧パルスを印加すると、壁電荷が蓄積された上記セルだけで維持放電が起きる。
【００４１】
この放電によりセル内に充填されている希ガスが励起されて、紫外光を放出する。この紫外光により蛍光体３２が励起されて発光し、ＰＤＰ３に画像が表示される。
【００４２】
この時、他のセルより非常に明るく発光する異常点灯セルが発生する場合がある。
【００４３】
図５は、このような異常点灯セル３４の明るさを、他のセルと同じに修復（リペア）する方法を説明する斜視図である。
【００４４】
ここでは、異常点灯セル３４を形成している表示電極１２の透明電極４の一部分又は複数部分に、レーザ光照射ユニット３６で発生したレーザ光３８を照射して高抵抗化する。レーザ光３８が照射されると透明電極は変色し、周囲２１より抵抗が高くなる。図３に示した、抵抗が周囲２１より高い部分２０は、この様にして形成された領域である。尚、レーザ光３８の照射は、前面基板１３を形成する第１のガラス基板２３を通して行われる。
【００４５】
このようなレーザ加工が施されたセルでは、走査電極８と維持電極１０の間に電圧パルスが印加されても、高抵抗化された部分２０からは、放電を起すような強い電界は発生しない。このため、放電に寄与する透明電極の面積（放電面積）が小さくなる。その結果、異常点灯セルの輝度が低下し、異常点灯セルと他のセルが同じ明るさで発光するようになる。
【００４６】
すなわち、本実施の形態では、複数のセルの中に、他のセルより明るく発光する異常点灯セル３４が発生した場合に、異常点灯セル３４を形成する表示電極１２の透明電極４を部分的に高抵抗化して、他のセルと同じ明るさで発光するようにする。
【００４７】
透明電極４を部分的に高抵抗化するための光源（レーザ光照射ユニット３６）としては、Ｑスイッチ動作するネオジーム・ヤグレーザ（Ｎｄ：ＹＡＧ）を使用することができる。使用する波長は３５５ｎｍであり、出力エネルギーは例えば０．６ｍＪである。また、パルス幅は、例えば３〜４ｎｓであり、繰り返し周期は１〜５０Ｈｚである。
【００４８】
上記波長３５５ｎｍは、透明電極４によって吸収される波長である。透明電極４が吸収する波長であれば、他の波長のレーザ光を使用してもよい。但し、第１のガラス基板２３によって吸収されない波長が好ましい。
【００４９】
本実施の形態では、図５のように、このような光源（レーザ光照射ユニット３６）で発生したレーザ光３８を、例えば、幅数十μｍの矩形領域に集光して透明電極４に照射する。図３に示した例では、走査電極８及び維持電極１０の透明電極４が、夫々２箇所で高抵抗化されている。但し、高抵抗化する部分は、２箇所である必要はなく、１箇所でも３箇所以上であってもよい。
【００５０】
以上説明したように、本実施の形態によれば、異常点灯セルが多数発生した場合や密集して発生した場合にも、異常点灯セルを他のセルと同じ明るさで光るようにリペアするので、ＰＤＰに表示される画像の品質が劣化することはない。
【００５１】
（実施の形態２）
本実施の形態は、領域表示斑を正常な明るさに修復（リペア）したＰＤＰ及びその製造方法に関する。
【００５２】
（１）構  成
図６は、本実施の形態に従うＰＤＰ４０の構成を説明する平面図である。尚、図６では、表示電極等は省略されている。
【００５３】
本実施の形態に従うＰＤＰ４０は、実施の形態１のＰＤＰ２と同様に、透明電極４とこの透明電極４より幅の狭い金属電極６（バス電極２２）とからなり、一方向に延在する表示電極１２を備えた前面基板１３を具備している。また、本実施の形態に従うＰＤＰ４０は、前面基板１３に対向し、表示電極１２とは異なる方向に延在し且つ表示電極１２との交差部に複数のセルを形成するアドレス電極１８を備えた背面基板１９を具備している（図１及び図２参照）。ここで、前面基板１３及び背面基板１９の詳細は、図４を参照して説明した実施の形態１の前面基板１３及び背面基板１９と同じである。
【００５４】
本実施の形態に従うＰＤＰ４０では、図６に示すように、透明電極の光透過率が他のセルより低い複数のセルが密集した領域４２を有している。図７は、図６に示した矩形の領域Ａを拡大した図である。上記領域Ａ内に存在するセル４６の透明電極４４の光透過率は、領域４２外の他のセルの透明電極より低くなっている。
【００５５】
領域４２は、元々は周囲より明るく発光する領域表示斑が修復（リペア）されて、周囲と同じ明るさで光るようになった領域である。
【００５６】
透明電極の光透過率（入射光の強度に対する透過光の強度の比）が低くなると、セル内部で発生した光が外部に放出され難くなり、セルの輝度が低下する。従って、本実施の形態では、元々は領域表示斑であった上記領域４２内のセルが、透明電極の光透過率が低下したことによって、他のセルと同じ明るさで発光するようになっている。
【００５７】
故に、本実施の形態のＰＤＰ４０によれば、領域表示斑が発生した場合にも、表示される画像に欠落を生じさせずに、領域表示斑を修復（リペア）することができる。
【００５８】
（２）製造方法
本実施の形態のＰＤＰ４０の製造方法は、前面基板１３と背面基板１９の周辺部を封着し、両基板の間に希ガスを封入する工程までは、実施の形態１のＰＤＰ２の製造方法と同じである。従って、本実施の形態では、上記工程に続く後の工程だけを説明する。
【００５９】
図８は、本実施の形態に従うＰＤＰ４０の製造方法を説明する斜視図である。
【００６０】
本実施の形態では、リペア前のプラズマディスプレイパネル４８に、他のセルより明るく発光するセルが密集した領域（領域表示斑５０）が発生していた場合に、この領域内に存在するセルの透明電極にレーザ光を照射して、この透明電極の光透過率を低下させる。尚、レーザ光３８の照射は、実施の形態１と同様、前面基板１３を形成する第１のガラス基板２３を通して行われる。
【００６１】
本実施の形態で使用するレーザ光照射ユニット３６及びそのレーザ光３８の波長は、実施の形態１で使用するものと同じである。
【００６２】
但し、本実施の形態で使用するレーザ光３８は、透明電極上に於ける照度が実施の形態１で使用するレーザ光より弱い。このため本実施の形態では、レーザ照射を受けたセルが不点灯化することはない。また、当該セルの放電面積が減少することもない。
【００６３】
更に、本実施の形態で使用するレーザ光３８の照射面積は、実施の形態の照射面積より広く、セルと略同じ面積である。
【００６４】
レーザ光３８の照度が高い場合には、透明電極の抵抗は測定が不能なほど高くなる。このようなレーザ光をセル全体に照射すると、セルは不点灯化してしまう。
【００６５】
しかし、レーザ光の照度を弱くして行くと、やがてセルは不点灯化されなくなる。但し、その時のセルの発光強度（輝度）は、レーザ照射前より弱くなっている。このように発光強度の低下は、透明電極の光透過率が低下するためである。
【００６６】
例えば、レーザ光３８の光度を３０カンデラとし、照射領域を一のセルと略同じ４００μｍ×２８０μｍの矩形領域として、透明電極にレーザ光を照射すると、照射されたセルは不点灯化はしないが、その輝度は低下する。尚、光度及び照射領域以外のレーザ光の照射条件（例えば、出力エネルギー）は、実施の形態１のレーザ光の照射条件と同じである。
【００６７】
本実施の形態では、このようなレーザ照射を領域表示斑５０内のセル全体に施して、当該セルの透明電極４４の光透過率を低下させる（図７参照）。従って、他のセルより明るく発光していた領域表示斑５０内のセルは、輝度を低下させ他のセルと同じ明るさで発光するようになる。
【００６８】
故に、本実施の形態によれば、表示される画像に欠落を生じさせずに、領域表示斑をリペアすることができる。
【００６９】
以上の例では、他のセルより明るく光るセルが多数存在する場合について説明したが、このようなセル（例えば、異常点灯セル）が少数存在する場合にも、本発明は適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００７０】
【図１】実施の形態１に従うＰＤＰの構成を説明する平面図である。
【図２】図１に於いて破線で囲われた領域Ａを拡大した図である。
【図３】図２に示したセル１６を更に拡大した図である。
【図４】実施の形態１によるＰＤＰの製造方法を説明する斜視図である。
【図５】異常点灯セルの明るさを、他のセルと同じに修復（リペア）する方法を説明する斜視図である。
【図６】実施の形態２に従うＰＤＰの構成を説明する平面図である。
【図７】図６に示された矩形領域Ａを拡大した図である。
【図８】本実施の形態２に従うＰＤＰの製造方法を説明する斜視図である。
【符号の説明】
【００７１】
２・・・ＰＤＰ（実施の形態１）      ３・・・（リペア前の）ＰＤＰ
４・・・透明電極      ６・・・金属電極
８・・・走査電極      １０・・・維持電極
１２・・・表示電極      １３・・・前面電極
１４,１６・・・セル      １８・・・アドレス電極
１９・・・背面基板      ２０・・・（高抵抗化された）透明電極の一部
２２・・・バス電極      ２３・・・第１のガラス基板
２４・・・（前面基板の）誘電体層      ２５・・・第２のガラス基板
２６・・・保護層    ２８・・・（背面基板の）誘電体
３０・・・隔壁    ３２・・・蛍光体
３４・・・異常点灯セル      ３６・・・レーザ光照射ユニット
３８・・・レーザ光      ４０・・・ＰＤＰ（実施の形態２）
４２・・・領域      ４４・・・（光透過率が低い）透明電極
４６・・・（透明電極の光透過率が低い）セル
４８・・・（リペア前の）ＰＤＰ      ５０・・・領域表示斑
【図１】
2010062084.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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