(57)【要約】【課題】試料チップ毎にＲＦコイルを作製する手間を省くことができ、かつ、高周波磁場の均一性を従来よりも向上させることができるＮＭＲ用プローブを提供すること。【解決手段】微細加工技術により第１ＲＦコイル７が形成された第１基板２と、微細加工技術により第２ＲＦコイル８が形成されるとともに第１コイル基板２に対して並行に固定配置された第２基板３と、第１基板２と第２基板３との間に配置され微細加工技術により試料空間４ａが形成された試料基板４とを備えるＮＭＲ用プローブ１である。試料基板４の表面またはコイル基板９の内側面（差し込み用スペース９ａを区画形成する面）に、重水化溶媒液を塗布している。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
微細加工技術により第１ＲＦコイルが形成された第１基板と、
微細加工技術により第２ＲＦコイルが形成されるとともに、前記第１基板に対して並行に固定配置された第２基板と、
前記第１基板と前記第２基板との間に配置され、微細加工技術により試料空間が形成された試料基板と、
前記第１基板と前記試料基板との隙間および前記第２基板と前記試料基板との隙間のうちの少なくともいずれか一方の隙間に配置され、当該第１基板、当該第２基板、および当該試料基板の磁化率と同程度の磁化率を有する隙間埋材と、
を備えるＮＭＲ用プローブ。
【請求項２】
請求項１に記載のＮＭＲ用プローブにおいて、
前記第１ＲＦコイルは、前記第１基板の内側面および外側面に形成され、
前記第２ＲＦコイルは、前記第２基板の内側面および外側面に形成されていることを特徴とする、ＮＭＲ用プローブ。
【請求項３】
請求項２に記載のＮＭＲ用プローブにおいて、
前記第１基板の内側面に形成された前記第１ＲＦコイルのコイル内径は、当該第１基板の外側面に形成された前記第１ＲＦコイルのコイル内径よりも大きく、
前記第２基板の内側面に形成された前記第２ＲＦコイルのコイル内径は、当該第２基板の外側面に形成された前記第２ＲＦコイルのコイル内径よりも大きいことを特徴とする、ＮＭＲ用プローブ。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかに記載のＮＭＲ用プローブにおいて、
前記隙間埋材は、前記試料空間に入れられるサンプル溶媒と同じ溶媒であることを特徴とする、ＮＭＲ用プローブ。
【請求項５】
請求項１〜３のいずれかに記載のＮＭＲ用プローブにおいて、
前記隙間埋材は、重水化溶媒液であることを特徴とする、ＮＭＲ用プローブ。
【請求項６】
請求項４または５に記載のＮＭＲ用プローブにおいて、
前記第１基板と前記第２基板との間に固定配置され、前記試料基板の差し込み用スペースを形成するスペーサ基板を備え、
前記試料基板は、抜き差し方向に連続する角部が滑らかに面取りされ、
前記スペーサ基板の内側面は、前記試料基板の前記角部に合わせた滑らかな曲面に形成されていることを特徴とする、ＮＭＲ用プローブ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＲＦコイルおよび試料空間を有するＮＭＲ用プローブに関し、特に少量の試料測定用として好適なＮＭＲ用プローブに関する。
【背景技術】
【０００２】
図４は、核磁気共鳴法（ＮＭＲ）による少量の試料の分析手法を説明するためのＮＭＲ装置の模式図である。図４に示すように、ＮＭＲ装置１００の超電導電磁石１０１によって作られるｚ軸方向の強い静磁場Ｂ0の中に測定対象の試料１０２が置かれ、この試料１０２に対してＲＦコイル１０３により高周波磁場Ｂ1がｘ軸方向に印加される。この高周波磁場Ｂ1により試料１０２内の核磁化が励起され、励起後緩和する過程で放出される信号を測定する。この測定した信号をハードウェアおよびＰＣで解析して、試料の立体構造や機能などの情報を取得するのである。
本発明は、このＮＭＲによる分析において用いられるプローブ（ＲＦコイルおよび試料空間を有するプローブ）に関するもので、特に試料の空間寸法がｍｍオーダーの少量の生体組織試料などを分析するために使用されるものである。
【０００３】
この種の技術としては、例えば特許文献１に記載された技術がある。特許文献１に記載されたＮＭＲプローブ構成部材は、ＲＦコイルと試料ウェルとが一体となった試料チップと、この試料チップが差し込まれる傾斜磁場チップとを備えている。
【０００４】
【特許文献１】特開２００８−５８３１５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ここで、特許文献１に記載されたＮＭＲプローブ構成部材は、ＲＦコイルと試料ウェルとが一体となっているため、試料毎にＲＦコイルが形成された試料チップを作製せねばならず、非常に手間がかかる。また、このＮＭＲプローブ構成部材のＲＦコイルは、試料に対してｘ軸上の一方向からのみ電磁波を照射する平面型のコイルとなっており、この形態では高周波磁場の均一性を十分に確保できない。高周波磁場の均一性が低いと、試料内の核磁気共鳴現象にバラつきが生じ、ＮＭＲ信号に悪影響を及ぼす。
【０００６】
本発明は、上記実情に鑑みてなされたものであって、その目的は、試料チップ毎にＲＦコイルを作製する手間を省くことができ、かつ、高周波磁場の均一性を従来よりも向上させることができるＮＭＲ用プローブを提供することである。
【課題を解決するための手段及び効果】
【０００７】
上記目的を達成するために本発明は、微細加工技術により第１ＲＦコイルが形成された第１基板と、微細加工技術により第２ＲＦコイルが形成されるとともに、前記第１基板に対して並行に固定配置された第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間に配置され、微細加工技術により試料空間が形成された試料基板と、前記第１基板と前記試料基板との隙間および前記第２基板と前記試料基板との隙間のうちの少なくともいずれか一方の隙間に配置され、当該第１基板、当該第２基板、および当該試料基板の磁化率と同程度の磁化率を有する隙間埋材と、を備えるＮＭＲ用プローブを提供する。
【０００８】
この構成によると、ＲＦコイルと試料空間とが分離される。これにより、試料を取り替える際は、ＲＦコイルが形成されていない試料基板を取り替えればよくなる。すなわち、試料チップ（基板）毎にＲＦコイルを作製する手間を省くことができる。
【０００９】
また、試料空間を挟むようにその両側にＲＦコイルが配置されるので、試料に対してｘ軸上の両方向から電磁波を照射することができ、高周波磁場の均一性を従来よりも向上させることができる。さらに、基板の磁化率と同程度の磁化率を有する隙間埋材を配置することにより、高周波磁場の連続性が高まり、その結果、高周波磁場の均一性をより向上させることができる。
【００１０】
また本発明において、前記第１ＲＦコイルは、前記第１基板の内側面および外側面に形成され、前記第２ＲＦコイルは、前記第２基板の内側面および外側面に形成されていることが好ましい。
【００１１】
この構成によると、第１ＲＦコイルおよび第２ＲＦコイルは、それぞれ、所定の間隔をあけて少なくとも２巻きされたコイルとなり、試料空間の高周波磁場の強度が大きくなるとともに均一性が向上する。
【００１２】
さらに本発明において、前記第１基板の内側面に形成された前記第１ＲＦコイルのコイル内径は、当該第１基板の外側面に形成された前記第１ＲＦコイルのコイル内径よりも大きく、前記第２基板の内側面に形成された前記第２ＲＦコイルのコイル内径は、当該第２基板の外側面に形成された前記第２ＲＦコイルのコイル内径よりも大きいことが好ましい。
【００１３】
この構成によると、ＲＦコイルの配置が、試料空間を中心とする、より立体的な配置となり、試料空間の高周波磁場の均一性をより向上させることができる。
【００１４】
さらに本発明において、前記隙間埋材は、前記試料空間に入れられるサンプル溶媒と同じ溶媒であることが好ましい。
【００１５】
この構成によると、サンプル溶媒の磁化率と隙間埋材の磁化率とが同じとなるので、その結果、高周波磁場の均一性を向上させることができる。
【００１６】
さらに本発明において、前記隙間埋材は、重水化溶媒液であることが好ましい。
【００１７】
この構成によると、隙間埋材の磁化率を基板の磁化率と同程度としやすい。これにより、高周波磁場の均一性を向上させることができる。
【００１８】
さらに本発明において、前記第１基板と前記第２基板との間に固定配置され、前記試料基板の差し込み用スペースを形成するスペーサ基板を備え、前記試料基板は、抜き差し方向に連続する角部が滑らかに面取りされ、前記スペーサ基板の内側面は、前記試料基板の前記角部に合わせた滑らかな曲面に形成されていることが好ましい。この構成によると、試料基板の取り替え（抜き差し）がより容易となる。
【００１９】
さらに本発明において、前記第１ＲＦコイルおよび前記第２ＲＦコイルの磁化率は、前記第１基板、前記第２基板、前記スペーサ基板、および前記試料基板の磁化率と同程度であることが好ましい。この構成によると、高周波磁場の連続性が高まり、高周波磁場の均一性をより向上させることができる。
【００２０】
さらに本発明において、前記第１基板、前記第２基板、前記スペーサ基板、および前記試料基板の磁化率は、当該試料基板の試料空間に入れられる溶媒（サンプル溶媒）の磁化率と同程度であることが好ましい。この構成によると、高周波磁場の連続性が高まり、高周波磁場の均一性をより向上させることができる。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
以下、本発明を実施するための形態について図面を参照しつつ説明する。
【００２２】
（ＮＭＲ用プローブの構成）
図１は、本発明の一実施形態に係るＮＭＲ用プローブ１を示す斜視図である。図１に示すように、ＮＭＲ用プローブ１は、コイル基板９と、このコイル基板９に対して差し込まれて配置された試料基板４とを備えている。また、ＮＭＲ用プローブ１の形状は直方体である。ここで、図４に試料１０２がセットされたＮＭＲ装置１００を示したように、ＮＭＲ用プローブ１は、例えば図４に示したＮＭＲ装置１００のボア部に設置されるものである。ＮＭＲ用プローブ１は、ＮＭＲ装置１００の超電導電磁石１０１によって作られるｚ軸方向の強い静磁場の中に設置され、ＲＦコイルにより高周波磁場がｘ軸方向に印加される。なお、ＲＦコイルには高周波発振器（不図示）が接続される。また、ＮＭＲ用プローブ１の形状は、直方体に限られず、例えば立方体などであってもよい。
【００２３】
（コイル基板）
図２は、図１に示したＮＭＲ用プローブ１を構成するコイル基板９の図である。図２（ａ）、（ｂ）、および（ｃ）は、それぞれ、コイル基板９の上面図、正面図、および側面図である。
【００２４】
図２に示すように、コイル基板９は、第１基板２と、第２基板３と、これら両基板２，３の間に配置され試料基板４の差し込み用スペース９ａを形成するスペーサ基板５，６とを備えている。そして、コイル基板９は、差し込み用スペース９ａを有する直方体の形状に形成されている。差し込み用スペース９ａは、上面視において略楕円形とされている。コイル基板９を構成する第１基板２、第２基板３、およびスペーサ基板５，６の材料は、ガラスである。ガラス以外の材料としては、石英、シリカなどが挙げられる。なお、コイル基板９の形状は、直方体に限られず、例えば立方体などであってもよい。
【００２５】
（第１基板および第２基板）
第１基板２は、第１ＲＦコイル７を具備してなる長方形の板である（幅および長さに比して厚みが大きい場合、長方形の板ではなく、その形状を直方体と呼ぶほうが適切である）。第１ＲＦコイル７は、第１基板２の内側面に形成されたコイル部７ｂと、第１基板２の外側面に形成されたコイル部７ａとを有している。すなわち、第１ＲＦコイル７は２巻きされた形態のコイルとなっている。ここで、コイル部７ｂの内径Ｄ１は、コイル部７ａの内径Ｄ２よりも大きい。また、コイル基板９の中心線ＣＬからコイル部７ａまでの距離Ｈ２は、中心線ＣＬからコイル部７ｂまでの距離Ｈ１よりも長い。また、コイル部７ａとコイル部７ｂとは同心になるように形成されている。なお、第１基板２の形状は、長方形（または直方体）に限られず、例えば正方形（または立方体）などであってもよい（後述する第２基板３においても同様）。
【００２６】
コイル部７ａおよびコイル部７ｂは、第１基板２の表面にエッチングにより溝を形成したのち、スパッタリングまたはメッキによりこの溝の中に形成される。第１ＲＦコイル７の材料としては、銅、金、銀、アルミ、チタン、およびクロムなどが挙げられる。これら材料の種類および厚さを調整することで、基板および溶媒（サンプル溶媒）の磁化率に調整することが可能である。なお、本実施形態では、差し込み用スペース９ａにコイル部７ｂは接していないが、この差し込み用スペース９ａにコイル部７ｂが接する場合がある。この場合、試料基板４をコイル基板９内に差し込む際に、試料基板４やコイル部７ｂの表面を傷つけないために、上記のような微細加工技術（エッチング、スパッタリング、メッキなど）によりコイル部７ｂを形成することが好ましい。
【００２７】
コイル部７ａの内径Ｄ２およびコイル部７ｂの内径Ｄ１は、１０μｍ〜１０ｍｍ程度の大きさであることが好ましい（ただし、Ｄ１＞Ｄ２）。また、距離Ｈ２および距離Ｈ１は、２０μｍ〜５ｍｍ程度であることが好ましい（ただし、Ｈ２＞Ｈ１）。さらに、コイル部７ａおよびコイル部７ｂの線幅Ｗ２は、５０μｍ〜１５０μｍ程度、コイル部７ａおよびコイル部７ｂの厚みＷ１は、５μｍ〜５０μｍ程度であることが好ましい。
【００２８】
なお、コイル部７ａおよびコイル部７ｂの断面形状は、図２（ａ）などに示したように、四角形とされているが、半円状の形状などであってもよい。
【００２９】
そして、コイル部７ａとコイル部７ｂとは、第１基板２の厚み方向に形成したスルーホールに、スパッタリングまたはメッキにより、これらコイル部と同じ種類の金属が埋め込まれることで接続される。
【００３０】
第２基板３は、第２ＲＦコイル８を具備してなる長方形の板であり、第１基板２と同じ構成である。また、同様に、第２ＲＦコイル８は、第１ＲＦコイル７と同じ材料、形状のコイルである。ここで、第２ＲＦコイル８のコイル部８ａおよびコイル部８ｂは、それぞれ、第１ＲＦコイル７のコイル部７ａおよびコイル部７ｂに相当するものであり、コイル部８ａの径とコイル部７ａの径とは等しく、コイル部８ｂの径とコイル部７ｂの径とも等しい。また、第２ＲＦコイル８と第１ＲＦコイル７とは同心になるように形成されている。すなわち、第１ＲＦコイル７と第２ＲＦコイル８とは、コイル基板９の中心に対して対称に配置される。
【００３１】
なお、第１ＲＦコイル７および第２ＲＦコイル８は、２巻きされた形態のコイルとされているが、この形態に限られることはない。例えば、第１基板２および第２基板３のそれぞれの内側面にのみコイル部（コイル部７ｂ、８ｂ）を形成し、１巻きされた形態のコイルとしてもよい。また、第１基板２および第２基板３のそれぞれの内部（コイル部７ａとコイル部７ｂとの間、コイル部８ａとコイル部８ｂとの間）にコイル部を形成して、３巻き以上された形態のコイルとしてもよい。
【００３２】
（スペーサ基板）
スペーサ基板５，６は、試料基板４の差し込み用スペース９ａを形成するための基板である。スペーサ基板５，６のそれぞれの内側面５ａ、６ａは、試料基板４の滑らかに面取りされた（Ｒ形成された）角部４ｂ、４ｃ（図３参照）に面接触するように滑らかな曲面に形成されている（Ｒ形成されている）。なお、スペーサ基板５，６は所定の厚みを有する長尺部材である。
【００３３】
並行配置した第１基板２と第２基板３との間に、所定の間隔をあけてスペーサ基板５およびスペーサ基板６を挟み込み、これら基板を薬液や熱を利用して相互に接合することで、コイル基板９が形成される。
【００３４】
（試料基板）
図３は、図１に示したＮＭＲ用プローブ１を構成する試料基板４の図である。図３（ａ）、（ｂ）、および（ｃ）は、それぞれ、試料基板４の上面図、正面図、および側面図である。
【００３５】
図３に示すように、試料基板４は、分析対象の生体組織試料などが入れられる試料空間４ａが形成された基板であり、全体として直方体状の形状となっている。試料基板４の上面視における形状は、略楕円形である。試料空間４ａは、上面視で円形の穴空間であり、微細加工技術により形成される。この微細加工技術としては、電子線描画・短波長露光による描画・高分子加工などのナノリソグラフィーの技術、ウェットエッチング・ドライエッチング・リフトオフなどのエッチング技術、さらには熱ＮＩＬ・光ＮＩＬ・ソフトＮＩＬ・ダイレクトＮＩＬなどのナノインリソグラフィー（ＮＩＬ）技術などが挙げら、これらの技術によって流路加工が行われる。
【００３６】
また、試料基板４の抜き差し方向に連続する角部４ｂ、４ｃは、滑らかに面取りされている（Ｒ形成されている）。また、試料基板４の厚みとスペーサ基板５，６の厚みとは等しい（ほぼ等しい）。試料基板４は、コイル基板９の中央部分に形成された差し込み用スペース９ａにきっちりと収まるように作製される。また、有底円筒形状の試料空間４ａの直径は１０μｍ〜１ｍｍ程度、その長さは１ｍｍ〜２０ｍｍ程度であることが好ましい。なお、試料基板４の形状は、直方体状に限られず、例えば立方体状などであってもよい。
【００３７】
（隙間埋材）
前記したように、試料基板４の抜き差し方向に連続する角部４ｂ、４ｃおよびスペーサ基板５，６のそれぞれの内側面５ａ、６ａにＲ形成を施すことにより、試料基板４の取り替え（抜き差し）が容易となる。本実施形態では、試料基板４の表面またはコイル基板９の内側面（差し込み用スペース９ａを区画形成する面）に、重水化溶媒液を塗布している。また、この重水化溶媒液は、コイル基板９（第１基板２、第２基板３、およびスペーサ基板５，６）および試料基板４の磁化率と適合する（同程度の磁化率を有する）ものであり、試料基板４とコイル基板９との間のわずかな隙間（空間）に入り込んでその隙間を埋めるものである。したがって、この重水化溶媒液を用いることにより、試料基板の取り替え（抜き差し）が容易となるとともに、コイル基板９と試料基板４との間部分の高周波磁場の連続性が高まって高周波磁場の均一性を向上させることができる。
【００３８】
上記重水化溶媒液は、第１基板２と試料基板４とのわずかな隙間および第２基板３と試料基板４とのわずかな隙間のうちの少なくともいずれか一方の隙間に配置される隙間埋材である。
【００３９】
なお、隙間埋材は、第１基板２および第２基板３のうちの少なくともいずれか一方と、試料基板４とのわずかな隙間に配置される薄いシート材、薄膜などであってもよい。
【００４０】
ここで、コイル基板９（第１基板２、第２基板３、およびスペーサ基板５，６）および試料基板４の磁化率と同程度の磁化率を隙間埋材が有するとは、これらの基板とサンプル溶媒との間の磁化率の範囲、こられの基板とＲＦコイル（７、８）との間の磁化率の範囲に関して、生じる磁場の不均一性がシムコイル（磁場補正コイル）によって補償できるように、平坦境界面における２つの磁化率間の差が、試料の磁化率の３０％未満であること、さらに好ましくは、試料の磁化率の１０％未満であることである。
【００４１】
さらには、隙間埋材は、基板間（コイル基板９と試料基板４との間）の磁化率の飛びを減少させるために用いる。そのため、基板（９、４）、ＲＦコイル（７、８）、サンプル溶媒、および隙間埋材の各磁化率の差が極力小さいこと（換言すれば、前記したように、平坦境界面における２つの磁化率間の差が、試料の磁化率の３０％未満であること、さらに好ましくは、試料の磁化率の１０％未満であること）が望ましい。
【００４２】
重水化溶媒液とは、通常溶液用ＮＭＲなどで使用する溶媒のことで、プロトン（Ｈ１）の部分が重水（Ｄ）に置換された溶媒のことである。重水化溶媒液としては、重クロロホルム（ＣＤＣｌ３）、重ＤＭＳＯ（（Ｄ３Ｃ）２Ｓ＝Ｏ）、重メタノール（ＣＤ３ＯＤ）、重水（Ｄ２Ｏ）、テトラヒドロフラン・アセトニトリル・ジクロロメタン・ベンゼン・トルエン・Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドなどが挙げられる。なお、重水化溶媒液は、コイル基板９（第１基板２、第２基板３、およびスペーサ基板５，６）および試料基板４の磁化率と適合する（同程度の磁化率を有する）ものであって、かつ、試料基板４の試料空間４ａに入れられる溶媒（サンプル溶媒）と同じもの（同じ重水化溶媒）であることが望ましい。高周波磁場の均一性をより向上させることができるためである。
【００４３】
試料空間４ａに入れられるサンプル溶媒には、上記した重水化溶媒液以外に、シクロロヘキサン、ＣＣｌ４、ＣＳ２、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ＨＭＰＡ、1,2,4-トリクロロベンゼン、塩化ビニル、ニトロベンゼン、ＣＦ２ＢｒＣｌ、ＣＦＣｌ３などがある。
【００４４】
また、第１ＲＦコイル７および第２ＲＦコイル８は、コイル基板９（第１基板２、第２基板３、およびスペーサ基板５，６）および試料基板４の磁化率と適合する（同程度の磁化率を有する）ものであることが好ましい。さらに、コイル基板９および試料基板４の磁化率は、当該試料基板４の試料空間４ａに入れられる溶媒の磁化率と適合する（同程度である）ことが好ましい。これら形態によると、高周波磁場の連続性がさらに高まり、高周波磁場の均一性をより向上させることができる。
【００４５】
なお、具体的に、隙間埋材として用いる溶媒、試料空間４ａに入れられるサンプル溶媒、および基板材（コイル基板９および試料基板４の材料）の磁化率は次のものを使用した。
水：磁化率  −９．０５×１０−６（隙間埋材、サンプル溶媒として用いる）
アセトン：磁化率  −５．８×１０−６（隙間埋材、サンプル溶媒として用いる）
ホウケイ酸ガラス：磁化率  −１１．０×１０−６（基板材）
石英ガラス：磁化率  −１５．０×１０−６（基板材）
【００４６】
（ＮＭＲ用プローブの使用）
試料基板４の試料空間４ａに分析対象となる試料を封入し、当該試料基板４をコイル基板９の差し込み用スペース９ａに差し込んで装着することで、試料が封入されたＮＭＲ用プローブ１が完成する。そして、このＮＭＲ用プローブ１を、例えば図４に示したＮＭＲ装置１００のボア部に設置する。ＮＭＲ用プローブ１には、ＮＭＲ装置１００の超電導電磁石１０１によって作られる強い静磁場がｚ軸方向に印加されるとともに、第１ＲＦコイル７および第２ＲＦコイル８により高周波磁場がｘ軸方向に印加される。
【００４７】
ここで、ＮＭＲ用プローブ１においては、ＲＦコイルが試料空間４ａを有する試料基板４とは別のコイル基板９に形成されているので、試料を取り替える際は、ＲＦコイルが形成されていない試料基板４のみを取り替えればよい。すなわち、試料チップ（基板）毎にＲＦコイルを作製する手間を省くことができる。また、試料空間４ａを挟むように第１ＲＦコイル７および第２ＲＦコイル８が配置されているので、試料に対してｘ軸上の両方向から電磁波を照射することができ、その結果、高周波磁場の均一性を従来よりも向上させることができ、ＮＭＲスペクトルの分解能が向上する。
【００４８】
また、第１ＲＦコイル７および第２ＲＦコイル８は、それぞれ、第１基板２および第２基板３の内外側面に形成されたコイル部を有するコイル（２巻きされたコイル）であるので、試料空間４ａの高周波磁場の強度を大きくできるとともに均一性をより向上させることができる。
【００４９】
さらに、第１ＲＦコイル７および第２ＲＦコイル８の形状・配置を、前記したように、Ｄ１＞Ｄ２、Ｈ２＞Ｈ１として最適化することにより、試料空間４ａの高周波磁場の均一性をより向上させることができる。
【００５０】
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は上述の実施の形態に限られるものではなく、特許請求の範囲に記載した限りにおいて様々に変更して実施することが可能なものである。
【図面の簡単な説明】
【００５１】
【図１】本発明の一実施形態に係るＮＭＲ用プローブを示す斜視図である。
【図２】図１に示すコイル基板の図である。
【図３】図１に示す試料基板の図である。
【図４】核磁気共鳴法（ＮＭＲ）による少量の試料の分析手法を説明するためのＮＭＲ装置の模式図である。
【符号の説明】
【００５２】
１：ＮＭＲ用プローブ
２：第１基板
３：第２基板
４：試料基板
４ａ：試料空間
５、６：スペーサ基板
７：第１ＲＦコイル
８：第２ＲＦコイル
【図１】
2010249761.tif 000003
【図２】
2010249761.tif 000004
【図３】
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【図４】
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