(57)【要約】【課題】高温耐久試験後の浄化性能の低下を抑制する。【解決手段】下触媒層及び上触媒層はセリアとジルコニアとを共に含んでモル比（CeO2／ZrO2）がそれぞれ20／80〜40／60の範囲にあり、かつ下触媒層と上触媒層のモル比（CeO2／ZrO2）を同一とした。  理由は不明であるが、上触媒層に存在するRhが高温酸化雰囲気において下触媒層へ移行するのが大きく抑制される。【選択図】  図１
2010115591.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
担体基材と、該担体基材の表面に形成された下触媒層と、該下触媒層の表面に形成された上触媒層と、よりなり、該下触媒層にPt及びPdの少なくとも一方を担持し、該上触媒層に少なくともRhを担持してなる排ガス浄化用触媒であって、
該下触媒層及び該上触媒層はセリアとジルコニアとを共に含んでモル比（CeO2／ZrO2）がそれぞれ20／80〜40／60の範囲にあり、かつ該下触媒層のモル比（CeO2／ZrO2）が該上触媒層のモル比（CeO2／ZrO2）以上であることを特徴とする排ガス浄化用触媒。
【請求項２】
前記下触媒層のモル比（CeO2／ZrO2）が前記上触媒層のモル比（CeO2／ZrO2）と同一である請求項１に記載の排ガス浄化用触媒。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、三元触媒として有用な排ガス浄化用触媒に関し、詳しくは耐久後の浄化性能の低下を抑制できる排ガス浄化用触媒に関する。
【背景技術】
【０００２】
自動車の排ガス中のHC、CO及びNOxを浄化する触媒として、三元触媒が広く用いられている。この三元触媒は、アルミナ、セリア、ジルコニア、セリア−ジルコニアなどの多孔質酸化物担体にPt、Rhなどの白金族貴金属を担持してなるものであり、HC及びCOを酸化して浄化するとともに、NOxを還元して浄化する。これらの反応は、酸化成分と還元成分がほぼ当量で存在する雰囲気下で最も効率よく進行するので、三元触媒を搭載した自動車においては、理論空燃比（ストイキ）近傍（空燃比＝14.6±0.2程度）で燃焼されるように空燃比の制御が行われている。
【０００３】
また近年では、触媒コート層を二層構造とし、Pt又はPdとRhとを分離担持することでRhの合金化による活性低下を抑制するなどして、浄化性能を向上させた触媒が提案されている。例えば特開平10−296085号公報には、上層をCe、Zr及びその化合物から選ばれる少なくとも１種以上とRhから構成し、下層をアルミナとCe、Zr、Pd及びBaとから構成した排ガス浄化用触媒が提案されている。同公報には、この排ガス浄化用触媒によれば低温域における活性が向上し、耐熱性も向上すると記載されている。
【０００４】
また特開2006−035043号公報には、アルミナにPtを担持した下触媒層と、ジルコニアリッチのセリア−ジルコニア複合酸化物にRhを担持した上触媒層とからなる排ガス浄化用触媒が提案され、特開2006−205050号公報にはセリアリッチのセリア−ジルコニア複合酸化物にPtを担持した下触媒層と、ジルコニアにRhを担持した上触媒層とからなる排ガス浄化用触媒が提案されている。
【０００５】
ところが下触媒層にPt及びPdの少なくとも一方を担持し、上触媒層にRhを担持した排ガス浄化用触媒においては、950℃以上の高温酸化雰囲気に曝されると、浄化性能が著しく悪化することが明らかとなった。
【特許文献１】特開平10−296085号公報
【特許文献２】特開2006−035043号公報
【特許文献３】特開2006−205050号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本願発明はこのような事情に鑑みてなされたものであり、下触媒層にPt及びPdから選ばれる少なくとも一方を担持し、上触媒層にRhを担持した二層構造の排ガス浄化用触媒において、高温耐久後における浄化性能の低下を抑制することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決する本発明の排ガス浄化用触媒の特徴は、担体基材と、担体基材の表面に形成された下触媒層と、下触媒層の表面に形成された上触媒層と、よりなり、下触媒層にPt及びPdの少なくとも一方を担持し、上触媒層に少なくともRhを担持してなる排ガス浄化用触媒であって、下触媒層及び上触媒層はセリアとジルコニアとを共に含んでモル比（CeO2／ZrO2）がそれぞれ20／80〜40／60の範囲にあり、かつ下触媒層のモル比（CeO2／ZrO2）が上触媒層のモル比（CeO2／ZrO2）以上であることにある。
【０００８】
下触媒層のモル比（CeO2／ZrO2）は、上触媒層のモル比（CeO2／ZrO2）と同一であることが特に望ましい。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の排ガス浄化用触媒は、下触媒層と上触媒層とでモル比（CeO2／ZrO2）の差が小さいために、理由は不明であるが、上触媒層に存在するRhが高温酸化雰囲気において下触媒層へ移行するのが大きく抑制される。したがってRhとPt又はPdとの合金化が防止されるため、Pt又はPdの酸化活性の低下が抑制されるとともにRhの還元活性の低下が抑制され、高温耐久後も高い浄化性能が発現される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
本発明の排ガス浄化用触媒は、担体基材と、下触媒層と、上触媒層とから構成されている。担体基材としては、ハニカム形状、フォーム形状、あるいはペレット形状のものを用いることができる。その材質は特に制限されず、コージェライト、SiCなどのセラミックス製のもの、あるいは金属製のものなど公知のものを用いることができる。
【００１１】
担体基材の表面には、下触媒層が形成されている。この下触媒層は、下層担体と、下層担体に担持されたPt及びPdの少なくとも一方とからなる。下層担体は、セリアとジルコニアとを共に含んでモル比（CeO2／ZrO2）が20／80〜40／60の範囲にある。セリア粉末とジルコニア粉末とをこの組成範囲で混合してもよいが、セリア−ジルコニア複合酸化物から構成することが望ましい。セリアとジルコニア以外に、アルミナ、チタニアなど他の多孔質酸化物を混合してもよい。またセリア−ジルコニア−アルミナ複合酸化物などを用いることもできる。
【００１２】
なおセリア−ジルコニア複合酸化物のみから下層担体を構成すると、担体基材への付着強度が低く使用時に剥離する場合がある。この不具合を防止するには、下層担体中にアルミナを混合することが望ましい。しかし下層担体におけるアルミナの混合量は、担体基材１リットルあたり30〜70ｇの範囲に抑制すべきである。
【００１３】
下層担体のセリア−ジルコニア複合酸化物には、５質量％以上のPr2O3が含まれていることが望ましい。Pr2O3が５質量％未満では酸素吸放出能が低下する。しかし10質量％を超えてPr2O3を含有しても効果が飽和し、CeO2の量が相対的に不足して酸素吸放出能が低下する場合がある。
【００１４】
また下層担体のセリア−ジルコニア複合酸化物には、La酸化物がさらに含まれていることが望ましい。La酸化物を含むことで比表面積が増大し浄化活性が向上する。La2O3はセリア−ジルコニア複合酸化物中に１〜５質量％の範囲で含まれることが望ましい。La2O3量が１質量％未満では下層担体の耐熱性が十分ではなく、５質量％を超えると効果が飽和しCeO2量が相対的に不足して酸素吸放出能が低下する場合がある。
【００１５】
下層担体には、Pt及びPdの少なくとも一方が担持されている。触媒中の全Pt及び全Pd量の80％以上が下層担体に担持されていることが望ましい。またPtは、セリア又はセリア−ジルコニア複合酸化物にのみ担持されていることが望ましい。セリア又はセリア−ジルコニア複合酸化物は、Ptの担持量が多くなるほど塩基点の量が少なくなる、という特性をもつことが明らかとなっている。したがってセリア又はセリア−ジルコニア複合酸化物にのみPtを担持すれば、セリアの酸素吸放出能が向上する。また硫黄成分が吸着しにくくなるため、H2Sの排出を抑制することもできる。
【００１６】
Pt及びPdの少なくとも一方の担持量は、下触媒層と上触媒層とに含まれる合計量として、担体基材の１リットルあたり0.05〜３ｇの範囲が望ましい。Pt及びPdの少なくとも一方の担持量がこの範囲より少ないと三元触媒としての浄化活性が低下し、この範囲より多く担持しても効果が飽和する。なおPt及びPdの少なくとも一方の活性を低下させない範囲であれば、下層担体にRhなど他の触媒金属を担持してもよい。
【００１７】
下触媒層を形成するには、下層担体粉末を含むスラリーを担体基材にウォッシュコートし、それにPt及びPdの少なくとも一方を担持してもよいし、セリア−ジルコニア複合酸化物粉末に予めPt及びPdの少なくとも一方を担持した触媒粉末を含むスラリーを担体基材にウォッシュコートしてもよい。なお下触媒層のコート量は、担体基材の１リットルあたり50〜150ｇとすることができる。コート量がこの範囲より少ないと、使用中にPtなどに粒成長が生じて劣化する場合がある。またコート量がこの範囲より多くなると、排気圧損が増大する。
【００１８】
下触媒層の表面には、上触媒層が形成されている。この上触媒層は、上層担体と、上層担体に担持された少なくともRhとからなる。上層担体はセリアとジルコニアとを共に含んでモル比（CeO2／ZrO2）が20／80〜40／60の範囲にある。セリア粉末とジルコニア粉末とをこの組成範囲で混合してもよいが、セリア−ジルコニア複合酸化物から構成することが望ましい。セリアとジルコニア以外に、アルミナ、チタニアなど他の多孔質酸化物を混合してもよい。またセリア−ジルコニア−アルミナ複合酸化物などを用いることもできる。
【００１９】
なおセリア−ジルコニア複合酸化物のみから上層担体を構成すると、下触媒層への付着強度が低く使用時に剥離する場合がある。この不具合を防止するには、上層担体中にアルミナを混合することが望ましい。しかし上層担体におけるアルミナの混合量は、担体基材１リットルあたり10〜40ｇの範囲に抑制すべきである。
【００２０】
上層担体には、Nd酸化物及びＹ酸化物の少なくとも一種がさらに含まれていることが望ましい。これらを含むことでRhの粒成長がさらに抑制されるとともに、酸素吸放出能が向上する。Nd酸化物及びＹ酸化物の少なくとも一種は、ジルコニア又はセリア−ジルコニア複合酸化物中に７〜30質量％の範囲で含有されていることが望ましい。セリア−ジルコニア複合酸化物を用いる場合には、Nd2O3はセリア−ジルコニア複合酸化物中に10〜15質量％の範囲で含まれることが望ましい。Nd2O3量が10質量％未満ではRhの粒成長が生じやすく浄化活性の耐久性が低下し、15質量％を超えるとCeO2量が相対的に不足して酸素吸放出能が低下する。
【００２１】
またY2O3は、ジルコニア又はセリア−ジルコニア複合酸化物中に７〜15質量％の範囲で含まれることが望ましい。Y2O3が７質量％未満ではRhの粒成長が生じ易くなり、15質量％を超えて含有すると上層担体の比表面積が低下するようになる。
【００２２】
上層担体には、少なくともRhが担持されている。触媒中の全Rh量の80％以上のRhが上層担体に担持されていることが望ましい。またRhは、ジルコニア又はセリア−ジルコニア複合酸化物にのみ担持されていることが望ましい。このようにすることで、Rhの担体中への固溶が防止され、Rhの劣化を抑制することができる。またRhの還元活性が最大に発現され、NOxの浄化性能が向上する。
【００２３】
Rhの担持量は、下触媒層と上触媒層とに含まれるRhの合計量として、担体基材の１リットルあたり0.02〜0.5ｇの範囲が望ましい。Rhの担持量がこの範囲より少ないと三元触媒としての浄化活性が低下し、この範囲より多く担持しても効果が飽和する。なおRhの活性を低下させない範囲であれば、上層担体にPt、Pdなど他の触媒金属を担持してもよい。
【００２４】
上触媒層を形成するには、上層担体粉末を含むスラリーを下触媒層をもつ担体基材にウォッシュコートし、それに少なくともRhを担持してもよいし、ジルコニアあるいはセリア−ジルコニア複合酸化物の粉末に予めRhを担持した触媒粉末を含むスラリーを下触媒層をもつ担体基材にウォッシュコートしてもよい。なお上触媒層のコート量は、担体基材の１リットルあたり30〜50ｇとすることができる。コート量がこの範囲より少ないと、使用中にRhに粒成長が生じて劣化する場合がある。またコート量がこの範囲より多くなると、排気圧損が増大する。
【００２５】
本願発明の最大の特徴は、下触媒層及び上触媒層はモル比（CeO2／ZrO2）が共に20／80〜40／60の範囲にあり、かつ下触媒層のモル比（CeO2／ZrO2）が上触媒層のモル比（CeO2／ZrO2）以上であることにある。下触媒層のモル比（CeO2／ZrO2）が上触媒層のモル比（CeO2／ZrO2）未満では、酸素吸放出能が不足して浄化性能が低下する。そして下触媒層のモル比（CeO2／ZrO2）と上触媒層のモル比（CeO2／ZrO2）との差が大きいほど、高温酸化雰囲気に曝された場合にRhが下触媒層へ移行し易くなる。したがって下触媒層のモル比（CeO2／ZrO2）と上触媒層のモル比（CeO2／ZrO2）との差が小さいほど望ましく、下触媒層のモル比（CeO2／ZrO2）が上触媒層のモル比（CeO2／ZrO2）と同一であることが最も望ましい。
【実施例】
【００２６】
以下、実施例及び比較例により本発明を具体的に説明する。
【００２７】
（実施例１）
図１に本実施例に用いた排ガス浄化用触媒を模式的に示す。この排ガス浄化用触媒は、ハニカム基材１と、ハニカム基材１のセル隔壁10の表面にコートされた下触媒層２と、下触媒層２の表面にコートされた上触媒層３と、から構成されている。
【００２８】
以下、この排ガス浄化用触媒の製造方法を説明し、構成の詳細な説明に代える。
【００２９】
先ず、10質量％のCeO2、31質量％のZrO2、55質量％のAl2O3、２質量％のLa2O3、２質量％のNd2O3からなるCeO2−ZrO2−Al2O3複合酸化物粉末を用意し、ジニトロジアンミン白金溶液の所定量を含浸した後、蒸発乾固してPtを3.3質量％担持したPt／CeO2−ZrO2−Al2O3粉末を調製した。
【００３０】
このPt／CeO2−ZrO2−Al2O3粉末120質量部と、γ−アルミナ粉末40質量部と、バインダとしてのアルミナゾル（Al2O3：10質量％）３質量部と、蒸留水とを混合して下層用スラリーを調製した。これにコージェライト製ハニカム基材１（875cc）を浸漬し、引き上げて余分なスラリーを吹き払った後、乾燥、焼成して下触媒層２を形成した。下触媒層２は、ハニカム基材１の１Ｌ当たり160ｇ形成され、Ptはハニカム基材１の１Ｌ当たり0.75ｇ担持されている。
【００３１】
次に、上記CeO2−ZrO2−Al2O3複合酸化物粉末に硝酸ロジウム水溶液の所定量を含浸した後、蒸発乾固してRhを３質量％担持したRh／CeO2−ZrO2−Al2O3粉末を調製した。
【００３２】
このRh／CeO2−ZrO2−Al2O3粉末60質量部と、γ−アルミナ粉末25質量部と、バインダとしてのアルミナゾル（ Al2O3：10質量％）５質量部と、蒸留水とを混合して上層用スラリーを調製した。これに上記した下触媒層２が形成されたハニカム基材１を浸漬し、引き上げて余分なスラリーを吹き払った後、乾燥、焼成して上触媒層３を形成した。上触媒層３は、ハニカム基材１の１Ｌ当たり85ｇ形成され、Rhはハニカム基材１の１Ｌ当たり0.15ｇ担持されている。
【００３３】
（実施例２）
30質量％のCeO2、60質量％のZrO2、５質量％のLa2O3、５質量％のY2O3からなるCeO2−ZrO2複合酸化物粉末を用意し、ジニトロジアンミン白金溶液の所定量を含浸した後、蒸発乾固してPtを3.3質量％担持したPt／CeO2−ZrO2粉末を調製した。
【００３４】
このPt／CeO2−ZrO2粉末120質量部と、γ−アルミナ粉末40質量部と、バインダとしてのアルミナゾル（Al2O3：10質量％）３質量部と、蒸留水とを混合して下層用スラリーを調製した。これにコージェライト製ハニカム基材１（875cc）を浸漬し、引き上げて余分なスラリーを吹き払った後、乾燥、焼成して下触媒層２を形成した。下触媒層２は、ハニカム基材１の１Ｌ当たり160ｇ形成され、Ptはハニカム基材１の１Ｌ当たり0.75ｇ担持されている。
【００３５】
次に、上記CeO2−ZrO2複合酸化物粉末に硝酸ロジウム水溶液の所定量を含浸した後、蒸発乾固してRhを３質量％担持したRh／CeO2−ZrO2粉末を調製した。
【００３６】
このRh／CeO2−ZrO2粉末60質量部と、γ−アルミナ粉末25質量部と、バインダとしてのアルミナゾル（ Al2O3：10質量％）５質量部と、蒸留水とを混合して上層用スラリーを調製した。これに上記した下触媒層２が形成されたハニカム基材１を浸漬し、引き上げて余分なスラリーを吹き払った後、乾燥、焼成して上触媒層３を形成した。上触媒層３は、ハニカム基材１の１Ｌ当たり85ｇ形成され、Rhはハニカム基材１の１Ｌ当たり0.15ｇ担持されている。
【００３７】
（実施例３）
25質量％のCeO2、27質量％のZrO2、45質量％のAl2O3、７質量％のPr6O11からなるCeO2−ZrO2−Al2O3複合酸化物粉末を用意し、ジニトロジアンミン白金溶液の所定量を含浸した後、蒸発乾固してPtを3.3質量％担持したPt／CeO2−ZrO2−Al2O3粉末を調製した。
【００３８】
このPt／CeO2−ZrO2−Al2O3粉末120質量部と、γ−アルミナ粉末40質量部と、バインダとしてのアルミナゾル（Al2O3：10質量％）３質量部と、蒸留水とを混合して下層用スラリーを調製した。これにコージェライト製ハニカム基材１（875cc）を浸漬し、引き上げて余分なスラリーを吹き払った後、乾燥、焼成して下触媒層２を形成した。下触媒層２は、ハニカム基材１の１Ｌ当たり160ｇ形成され、Ptはハニカム基材１の１Ｌ当たり0.75ｇ担持されている。
【００３９】
次に、上記CeO2−ZrO2−Al2O3複合酸化物粉末に硝酸ロジウム水溶液の所定量を含浸した後、蒸発乾固してRhを３質量％担持したRh／CeO2−ZrO2−Al2O3粉末を調製した。
【００４０】
このRh／CeO2−ZrO2−Al2O3粉末60質量部と、γ−アルミナ粉末25質量部と、バインダとしてのアルミナゾル（ Al2O3：10質量％）５質量部と、蒸留水とを混合して上層用スラリーを調製した。これに上記した下触媒層２が形成されたハニカム基材１を浸漬し、引き上げて余分なスラリーを吹き払った後、乾燥、焼成して上触媒層３を形成した。上触媒層３は、ハニカム基材１の１Ｌ当たり85ｇ形成され、Rhはハニカム基材１の１Ｌ当たり0.15ｇ担持されている。
【００４１】
（比較例１）
60質量％のCeO2、30質量％のZrO2、３質量％のLa2O3、７質量％のPr6O11からなるCeO2−ZrO2複合酸化物粉末を用意し、ジニトロジアンミン白金溶液の所定量を含浸した後、蒸発乾固してPtを3.3質量％担持したPt／CeO2−ZrO2粉末を調製した。
【００４２】
このPt／CeO2−ZrO2粉末120質量部と、γ−アルミナ粉末40質量部と、バインダとしてのアルミナゾル（Al2O3：10質量％）３質量部と、蒸留水とを混合して下層用スラリーを調製した。これにコージェライト製ハニカム基材１（875cc）を浸漬し、引き上げて余分なスラリーを吹き払った後、乾燥、焼成して下触媒層２を形成した。下触媒層２は、ハニカム基材１の１Ｌ当たり160ｇ形成され、Ptはハニカム基材１の１Ｌ当たり0.75ｇ担持されている。
【００４３】
次に、上記CeO2−ZrO2複合酸化物粉末に硝酸ロジウム水溶液の所定量を含浸した後、蒸発乾固してRhを３質量％担持したRh／CeO2−ZrO2粉末を調製した。
【００４４】
このRh／CeO2−ZrO2粉末60質量部と、γ−アルミナ粉末25質量部と、バインダとしてのアルミナゾル（ Al2O3：10質量％）５質量部と、蒸留水とを混合して上層用スラリーを調製した。これに上記した下触媒層２が形成されたハニカム基材１を浸漬し、引き上げて余分なスラリーを吹き払った後、乾燥、焼成して上触媒層３を形成した。上触媒層３は、ハニカム基材１の１Ｌ当たり85ｇ形成され、Rhはハニカム基材１の１Ｌ当たり0.15ｇ担持されている。
【００４５】
（比較例２）
60質量％のCeO2、30質量％のZrO2、３質量％のLa2O3、７質量％のPr6O11からなるCeO2−ZrO2複合酸化物粉末を用意し、ジニトロジアンミン白金溶液の所定量を含浸した後、蒸発乾固してPtを3.3質量％担持したPt／CeO2−ZrO2粉末を調製した。
【００４６】
このPt／CeO2−ZrO2粉末120質量部と、γ−アルミナ粉末40質量部と、バインダとしてのアルミナゾル（Al2O3：10質量％）３質量部と、蒸留水とを混合して下層用スラリーを調製した。これにコージェライト製ハニカム基材１（875cc）を浸漬し、引き上げて余分なスラリーを吹き払った後、乾燥、焼成して下触媒層２を形成した。下触媒層２は、ハニカム基材１の１Ｌ当たり160ｇ形成され、Ptはハニカム基材１の１Ｌ当たり0.75ｇ担持されている。
【００４７】
次に、20質量％のCeO2、59質量％のZrO2、12質量％のNd2O3、９質量％のY2O3からなるCeO2−ZrO2複合酸化物粉末を用意し、硝酸ロジウム水溶液の所定量を含浸した後、蒸発乾固してRhを３質量％担持したRh／CeO2−ZrO2粉末を調製した。
【００４８】
このRh／CeO2−ZrO2粉末60質量部と、γ−アルミナ粉末25質量部と、バインダとしてのアルミナゾル（ Al2O3：10質量％）５質量部と、蒸留水とを混合して上層用スラリーを調製した。これに上記した下触媒層２が形成されたハニカム基材１を浸漬し、引き上げて余分なスラリーを吹き払った後、乾燥、焼成して上触媒層３を形成した。上触媒層３は、ハニカム基材１の１Ｌ当たり85ｇ形成され、Rhはハニカム基材１の１Ｌ当たり0.15ｇ担持されている。
【００４９】
＜試験・評価＞
表１に、上記した各触媒の構成をまとめて示す。
【００５０】
【表１】
2010115591.tif 000003
【００５１】
排ガス浄化用触媒を直列４気筒2.4Ｌエンジンの排気系にそれぞれ装着し、触媒床温1000℃にて50時間保持する耐久試験を行った。そして耐久試験後の各触媒を直列４気筒2.4Ｌエンジンの排気系に装着し、定常状態の排ガス中にて室温から420℃まで15分間かけて昇温させたときのHC、CO及びNOxの浄化率を測定し、各々の50％浄化温度を算出した。結果を図２に示す。
【００５２】
また耐久試験後の各触媒について、導入する排ガスを 500℃、 600℃、 700℃の各温度でリッチ、リーン雰囲気に切り換えた際の、触媒下流側に配置されたO2センサ反転時間を測定することによって酸素吸放出量を測定した。結果を図３に示す。
【００５３】
さらに、耐久試験後の各触媒の断面をEPMAにて解析し、上触媒層と下触媒層におけるRh強度をそれぞれ積算して、各層におけるRhの存在割合を算出した。結果を図４に示す。
【００５４】
図２から、各実施例の触媒は比較例１、２の触媒に比べて耐久試験後の浄化性能が高いことがわかり、これは下触媒層及び上触媒層のモル比（CeO2／ZrO2）をそれぞれ20／80〜40／60の範囲とし、かつ下触媒層のモル比（CeO2／ZrO2）と上触媒層のモル比（CeO2／ZrO2）とを同一とした効果である。また図３から、実施例２、３の触媒は比較例２の触媒以上の酸素吸放出能を発現していることもわかる。
【００５５】
そして図４から各実施例の触媒は、上触媒層から下触媒層へのRhの移動が比較例２に比べて大きく抑制されている。そして、各実施例におけるRhの移動量の差が図２の各実施例の結果と一致していることから、各実施例の触媒ではRhの移動が抑制され合金化が抑制された結果、耐久試験後にも高い浄化性能を発揮したと考えられる。
【図面の簡単な説明】
【００５６】
【図１】本発明の一実施例で用いた排ガス浄化用触媒を要部拡大断面図と共に示す説明図である。
【図２】50％浄化温度を示すグラフである。
【図３】酸素吸放出量を示すグラフである。
【図４】上触媒層と下触媒層に含まれるRhの割合を示すグラフである。
【符号の説明】
【００５７】
１：ハニカム基材    ２：下触媒層    ３：上触媒層
【図１】
2010115591.tif 000004
【図２】
2010115591.tif 000005
【図３】
2010115591.tif 000006
【図４】
2010115591.tif 000007