(57)【要約】【課題】電波透過性および鏡面のような金属調光沢を有し、該金属調光沢が失われにくく、延伸成形性に優れ、かつ低コストである電波透過性加飾フィルムおよびこれを用いた装飾部材を提供する。【解決手段】第１の高分子フィルム１２と、第２の高分子フィルム１６と、これら高分子フィルムの間に存在する、シリコンと金属との合金の物理的蒸着により形成された光反射層１４とを有する加飾フィルム１、および加飾フィルム１が基体の表面に設けられている装飾部材。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の高分子フィルムと、
第２の高分子フィルムと、
前記第１の高分子フィルムと前記第２の高分子フィルムとの間に存在する、シリコンと金属との合金の物理的蒸着により形成された光反射層と
を有する、電波透過性加飾フィルム。
【請求項２】
前記金属が、シリコンの反射率よりも大きい反射率を有する、請求項１に記載の電波透過性加飾フィルム。
【請求項３】
前記金属が、アルミニウムである、請求項１または２に記載の電波透過性加飾フィルム。
【請求項４】
前記第１の高分子フィルムまたは前記第２の高分子フィルムと前記光反射層との間に存在する、接着促進層をさらに有する、請求項１〜３のいずれかに記載の電波透過性加飾フィルム。
【請求項５】
請求項１〜３のいずれかに記載の電波透過性加飾フィルムが基体の表面に設けられている、装飾部材。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、金属調光沢を有する電波透過性加飾フィルムおよびこれを用いた装飾部材に関する。
【背景技術】
【０００２】
携帯電話の筐体、スイッチボタン；時計の筐体；自動車のフロントグリル、バンパ、パネル等には、意匠性の点から、金属調の装飾部材、特に、鏡面のような金属調光沢を有する装飾部材が多用されている。
【０００３】
そして、該装飾部材としては、下記の理由等から、電波（マイクロ波等）を透過し、かつ電波に影響を及ぼさない装飾部材が要求されている。
（ｉ）携帯電話の筐体内部には、電波を送受信するアンテナが配置されている。
（ii）標準電波を受信して誤差を自動修正する機能を持つ電波時計の筐体内部には、電波を受信するアンテナが配置されている。
（iii）障害物の検知、車間距離の測定等を行うレーダ装置を搭載する自動車では、該レーダ装置のアンテナがフロントグリルまたはバンパの近傍に配置されている。
（iv）通信機器（ブルートゥース、ＵＷＢ、ＺｉｇＢｅｅ等の無線ＰＡＮ等）で扱う電波の周波数がミリ波からマイクロ波へと高い周波数帯域にシフトしており、装飾部材によって電波が影響を受けやすく、該機器において機能障害が発生しやすい。
【０００４】
該装飾部材は、例えば、装飾部材の基体の表面に電波透過性を有する加飾フィルムを設けることによって製造できる。該加飾フィルムおよび装飾部材としては、下記のものが提案されている。
（１）透明樹脂フィルムの裏面にインジウムまたはスズの蒸着膜を有する加飾フィルムおよび携帯機（特許文献１）。
（２）２種類以上の樹脂層を交互に３０層以上積層し、１０ｎｍ以上２２０ｎｍ未満の層の数を２２０〜３２０ｎｍの層の数より多くした、可視光反射率が３０％以上の積層フィルムを含む加飾フィルム（特許文献２）。
【０００５】
（１）の加飾フィルムは、下記の理由から電波透過性を有し、かつ金属光沢を有する。
インジウムまたはスズの金属蒸着膜においては、該金属が微細な独立した島として存在しているため、目視では均質な金属層と認識でき、一つの島の大きさが通過させる電波の波長よりも充分小さいことから、電波を通過できることが知られている。
（２）の加飾フィルムは、下記の理由から電波透過性を有し、かつ金属調光沢を有する。
屈折率の異なる薄い樹脂層を多層にしたものは金属調と認識でき、また、金属導体を用いていないため電波を通過できる。
【０００６】
しかし、（１）の加飾フィルムにおいて、充分な金属光沢を得るために金属蒸着膜を厚くしたり、装飾部材を製造する際の二次成形にて該金属蒸着膜に加わる圧力によって島同士が部分的に連結したりすると、良導体となるネットワークが形成されるため、電波の周波数によっては反射または吸収が起こる。そのため、（１）の加飾フィルムを用いた製品は、電波の直進性を阻害していないか、またはその他の障害を起こしていないかについて全数を検品する必要があり、生産性が低い。また、スズは、酸化、塩化等を起こしやすく、経時的に金属光沢が失われる。一方、インジウムは、入手が困難で、たいへん高価なものである。
【０００７】
（２）の加飾フィルムは、積層フィルムの生産性が低く、高コストとなる。また、加熱延伸成形性が劣り、所望の形状に附形できない。さらに、加熱成形により屈折率および各層のバランスが変化するため、金属調光沢が失われる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２００７-２８５０９３号公報
【特許文献２】特開２００８−２００８６１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は、電波透過性および鏡面のような金属調光沢を有し、該金属調光沢が失われにくく、延伸成形性に優れ、かつ低コストである電波透過性加飾フィルムおよびこれを用いた装飾部材を提供する。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の電波透過性加飾フィルムは、第１の高分子フィルムと、第２の高分子フィルムと、前記第１の高分子フィルムと前記第２の高分子フィルムとの間に存在する、シリコンと金属との合金の物理的蒸着により形成された光反射層とを有することを特徴とする。
前記金属は、シリコンの反射率よりも大きい反射率を有することが好ましい。
前記金属は、アルミニウムであることが好ましい。
本発明の電波透過性加飾フィルムは、前記第１の高分子フィルムまたは前記第２の高分子フィルムと前記光反射層との間に存在する、接着促進層をさらに有することが好ましい。
本発明の装飾部材は、本発明の電波透過性加飾フィルムが基体の表面に設けられていることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１１】
本発明の電波透過性加飾フィルムは、電波透過性および鏡面のような金属調光沢を有し、該金属調光沢が失われにくく、延伸成形性に優れ、かつ低コストである。
本発明の装飾部材は、電波透過性および鏡面のような金属調光沢を有し、該金属調光沢が失われにくく、コーナー部分等の加飾フィルムが延伸された部分においても外観特性に優れ、かつ低コストである。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明の電波透過性加飾フィルムの一例を示す断面図である。
【図２】光反射層の断面の高分解能透過型電子顕微鏡像である。
【図３】本発明の電波透過性加飾フィルムの他の例を示す断面図である。
【図４】本発明の電波透過性加飾フィルムの他の例を示す断面図である。
【図５】本発明の電波透過性加飾フィルムの他の例を示す断面図である。
【図６】本発明の電波透過性加飾フィルムの他の例を示す断面図である。
【図７】本発明の電波透過性加飾フィルムの他の例を示す断面図である。
【図８】本発明の装飾部材の一例を示す断面図である。
【図９】本発明の装飾部材の他の例を示す断面図である。
【図１０】実施例１の加飾フィルムの電波の透過減衰量（Ｓ２１）および反射減衰量（Ｓ１１）のグラフである。
【図１１】実施例１の加飾フィルムの可視光における反射率のグラフである。
【図１２】実施例１の加飾フィルムの光反射層の表面のＳＥＭ像である。
【図１３】実施例４の加飾フィルムの光反射層の表面のＳＥＭ像である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
本発明における光とは、可視光を意味する。
本発明における電波とは、周波数が１０ＭＨｚ〜１０００ＧＨｚの電磁波（サブミリ波〜マイクロ波）を意味する。
本発明における透明とは、光透過性を有することを意味する。
【００１４】
〔第１の実施形態〕
図１は、本発明の電波透過性加飾フィルム（以下、単に加飾フィルムと記す。）の一例を示す断面図である。加飾フィルム１は、第１の高分子フィルム１２と、第１の高分子フィルム１２の表面に設けられた光反射層１４と、光反射層１４の表面に設けられた第２の高分子フィルム１６とを有する。
【００１５】
（高分子フィルム）
第１の高分子フィルム１２および第２の高分子フィルム１６（以下、これらをまとめて高分子フィルムとも記す。）は、電波透過性を有するフィルムである。
第１の高分子フィルム１２および第２の高分子フィルム１６は、少なくとも一方が透明であることが必要である。透明な高分子フィルムの可視光線透過率は、８０％以上が好ましい。
高分子フィルムの厚さは、加飾フィルム１の成形性の点から、１０〜１００μｍが好ましい。加飾フィルムの厚さは、２０〜１５０μｍが好ましい。
【００１６】
高分子フィルムの材料としては、ポリオレフィン（ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体等）、環状ポリオレフィン、変性ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリ−（４−メチルペンテン−１）、アイオノマー、アクリル系樹脂（ポリメチルメタクリレート等）、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体（ＡＢＳ樹脂）、アクリロニトリル−スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）、ブタジエン−スチレン共重合体、ポリエステル（ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリシクロヘキサンテレフタレート等）、ポリフェニレンオキシド、変性ポリフェニレンオキシド、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、ポリフッ化ビニリデン、不飽和ポリエステル、シリコーン系樹脂、ウレタン系樹脂等が挙げられる。
高分子フィルムの材料は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて共重合体、ブレンド、ポリマーアロイ等として用いてもよい。
高分子フィルムの材料としては、透明性、強度、湿度透過性の点から、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ＡＳ樹脂、ポリスチレン、環状ポリオレフィン類、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、これらの変性物、共重合物等が好ましい。
【００１７】
高分子フィルムの材料としては、装飾部材の基体と一体にする点から、基体の材料と同種の材料が好ましい。また、高分子フィルムとして、装飾部材の基体に対して接着性を有するフィルムを用いてもよい。
高分子フィルムとしては、複数の高分子フィルムを積層したものであってもよい。積層の際には、熱硬化性接着剤または熱可塑性接着剤を用いてもよい。
高分子フィルムは、必要に応じて添加剤を含んでいてもよい。添加剤としては、補強材、酸化防止剤、紫外線吸収剤、滑剤、防曇剤、防霧剤、可塑剤、顔料、近赤外吸収剤、帯電防止剤、着色剤等が挙げられる。
【００１８】
（光反射層）
光反射層１４は、シリコンと金属との合金の物理的蒸着により形成された層である。
シリコンと金属との合金は、シリコン単独に比べて反射率および明度が高いため、明るい光反射層１４が得られる。また、該合金は、シリコン単独に比べ軟質であるため、光反射層１４の内部応力が低下し、第１の高分子フィルム１２との密着性が向上し、クラックの発生が抑制される。
【００１９】
シリコンは、後述の金属とは異なり、半導体物質である。シリコンは、下記の特徴を有しており、他の半導体物質に比べ好ましい。
（ｉ）反射率が高く明るい。
（ii）導電率が小さいことから、合金中の金属の割合を多くでき、電波透過性を維持したままより明るく、また内部応力を低減できる。
（iii）入手しやすい、等。
【００２０】
シリコンは、光反射層１４の表面抵抗率を高く維持できる限りは、ドーパントとならない不純物を含んでいてもよい。
シリコンは、ドーパント（ボロン、リン、砒素、アンチモン等）をできるだけ含まないことが好ましい。ドーパントの量は１ｐｐｍ以下が好ましく、１０ｐｐｂ以下がより好ましい。
【００２１】
金属としては、反射率が５０％以上の金属が好ましい。該金属としては、金、銀、銅、アルミニウム、白金、鉄、ニッケル、クロム等が挙げられ、反射率およびコストの点から、アルミニウム、銀が好ましく、アルミニウムがより好ましい。
反射率は、ＪＩＳ  Ｚ８７２２の条件ｄ（ｎ−Ｄ）による、正反射率を含めた拡散反射率であり、短波長側が３６０ｎｍ〜４００ｎｍ、長波長側が７６０ｎｍ〜８３０ｎｍである可視光線領域の平均値であって、積分球を用い光沢成分の正反射光を含めて測定する。
【００２２】
金属の割合は、合金（１００体積％）のうち、０．１〜７０体積％が好ましく、４０〜７０体積％がより好ましい。金属の割合が０．１体積％以上であれば、光反射層１４の明度が向上し、また、光反射層１４の内部応力が低下する。金属の割合が７０体積％以下であれば、電波透過性がさらに向上する。
合金は、光反射層１４の表面抵抗率および金属調光沢を高く維持できる限りは、シリコンおよび金属を除く不純物を含んでいてもよい。
【００２３】
光反射層１４の厚さは、１０〜５００ｎｍが好ましく、５０〜２００ｎｍがより好ましい。光反射層１４の厚さが１０ｎｍ以上であれば、光を透過しにくくなり、金属調光沢が充分に得られる。光反射層１４の厚さが５００ｎｍ以下であれば、導電性の上昇が抑えられ、充分な電波透過性を維持できる。また、内部応力の上昇が抑えられ、装飾部材の反り、変形、クラック、剥離等が抑えられる。
光反射層１４が薄い場合は、光が透過してしまい、反射率が低下するため、暗い金属調光沢を得ることができる。よって、金属調光沢の明度調整を、光反射層１４の厚さを変えることにより調整できる。
光反射層１４の厚さは、光反射層１４の断面の高分解能顕微鏡像から測定できる。
【００２４】
光反射層１４の表面抵抗率は、１０３Ω以上が好ましく、１０６Ω以上がより好ましい。光反射層１４の表面抵抗率が１０３Ω以上であれば、充分な電波透過性を維持できる。
光反射層１４の表面抵抗率は、ＪＩＳ  Ｋ７１９４に記載の４探針法により測定する。
【００２５】
光反射層１４の平均表面粗さは、０．０５μｍ以下が好ましい。光反射層１４の平均表面粗さが０．０５μｍ以下であれば、乱反射が抑えられ、充分な金属調光沢が得られる。光反射層１４の平均表面粗さの下限は、研磨加工で実現可能な０．１ｎｍとする。
光反射層１４の平均表面粗さは、ＪＩＳ  Ｂ０６０１−２００１の算術平均粗さＲａである。具体的には、原子間力顕微鏡により表面形状を測定し、平均線の方向に基準長さだけ抜き取り、抜き取り部分の平均線から粗さ曲線までの偏差の絶対値を合計し平均した値（算術平均粗さＲａ）を求める。
【００２６】
光反射層１４の平均表面粗さは、第１の高分子フィルム１２の平均表面粗さに影響される。よって、第１の高分子フィルム１２の平均表面粗さは、０．５μｍ以下が好ましく、０．１μｍ以下がより好ましい。平均表面粗さが０．５μｍ以下であれば、光反射層１４を薄くしても、光反射層が第１の高分子フィルム１２の表面に追従するため、鏡面のような金属調光沢が充分に得られる。
第１の高分子フィルム１２の平均表面粗さは、ＪＩＳ  Ｂ０６０１−２００１に規定される算術平均粗さＲａである。
光反射層は、第１の高分子フィルムの両面に設けられていてもよい。この場合、片側の光反射層を薄くして可とう性を高めることができ、また、金属光沢調を強めることができる。
【００２７】
光反射層１４は、シリコンと金属との合金の物理的蒸着によって形成される。
物理的蒸着法は、真空にした容器の中で蒸発材料（合金）を何らかの方法で気化させ、気化した蒸発材料を近傍に置いた下地上に堆積させて薄膜を形成する方法であり、蒸発材料の気化方法の違いで、蒸発系とスパッタリング系とに分けられる。蒸発系としては、ＥＢ蒸着、イオンプレーティング、パルスレーザー蒸着等が挙げられ、スパッタリング系としては、ＲＦ（高周波）スパッタリング、マグネトロンスパッタリング、対向ターゲット型マグネトロンスパッタリング、ＥＣＲスパッタリング等が挙げられる。
【００２８】
ＥＢ蒸着法は、膜がポーラスになりやすく膜強度が不足する傾向があるが、下地のダメージが少ないという特徴がある。イオンプレーティグによれば、付着力の強い膜を得ることができるので好ましい。マグネトロンスパッタリングは、膜の成長速度が速く、対向ターゲット型マグネトロンスパッタリングは、下地にプラズマダメージを与えることなく薄膜を生成することができ、ＲＦスパッタリングでは抵抗の高いターゲット（蒸発材料）を用いることができるので好ましい。
【００２９】
図２は、シリコン−アルミニウム合金を用いたＤＣマグネトロンスパッタリングによって形成された光反射層の断面の高分解能透過型電子顕微鏡像である。従来のインジウム、スズ等を用いた場合に見られる独立した島（微小クラスタ）の集合体とは異なり、合金が存在しない間隙が形成されておらず、均質な非晶質構造を有した連続した層となっている。
【００３０】
〔第２の実施形態〕
図３は、本発明の電波透過性加飾フィルムの他の例を示す断面図である。加飾フィルム１は、第１の高分子フィルム１２と、第１の高分子フィルム１２の表面に設けられた接着促進層２０と、接着促進層２０の表面に設けられた光反射層１４と、光反射層１４の表面に設けられた第２の高分子フィルム１６とを有する。
第２の実施形態において、第１の実施形態と同じ構成については、同じ符号を付して説明を省略する。
【００３１】
（接着促進層）
接着促進層２０は、光反射層１４と高分子フィルムとの密着性を向上させる層である。接着促進層２０は、光反射層１４を形成する前にあらかじめ高分子フィルムの表面に形成する、または光反射層１４を形成した後に光反射層１４の表面に形成する。
接着促進層２０の材料としては、電波透過性または光透過性を有し、高分子フィルムに対して接着力があり、かつ光反射層と共有結合、配位結合または水素結合できる材料が好ましい。該材料としては、接着促進剤、無機物、接着促進剤と無機物との複合材等が挙げられる。
接着促進層２０としては、（ａ）接着促進剤からなる層、（ｂ）無機物からなる層、（ｃ）接着促進剤と無機物との複合材からなる層、（ｄ）高分子フィルムの表面に物理的または化学的表面処理を施して形成される層等が挙げられる。
【００３２】
（ａ）接着促進剤としては、主鎖または側鎖に、極性を有する結合（エステル結合、ウレタン結合、アロファネート結合、ウレア結合、ビューレット結合、アミド結合等）または極性を有する基（水酸基、カルボキシル基、アミノ基、イソシアネート基、オキサゾリン基、メルカプト基、エポキシ基等）を有する樹脂（以下、極性樹脂と記す。）が挙げられる。
極性樹脂としては、ニトロセルロース、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリホスファゼン、ポリアミド、エポキシ樹脂等が挙げられる。
接着促進剤は、さらに、シランカップリング剤を含んでいてもよい。シランカップリング剤としては、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（２−メトキシエトキシ）シラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、シアノエチルトリメトキシシラン、シアノプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。
接着促進剤に、染料、顔料等の透明着色材を配合し、透明着色層としての機能を併せ持たせてもよい。透明着色層は、金属調光沢の明度、彩度を調整し、所望の意匠性を付与することができる。
【００３３】
（ｂ）無機物としては、金属酸化物が挙げられ、酸化ケイ素または酸化チタンが好ましい。金属酸化物は、粒子であることが好ましい。金属酸化物の平均粒子径は、５〜１０００ｎｍが好ましい。
【００３４】
（ｃ）接着促進剤と無機物との複合材としては、（ｃ１）接着促進剤に金属酸化物を配合したもの、（ｃ２）接着促進剤に金属アルコキシドを配合した後、脱アルコール縮合させて金属酸化物を接着促進剤中に凝集、析出させた有機無機ハイブリッド、（ｃ３）側鎖に金属アルコキシ基を有する極性樹脂（エポキシ樹脂、アクリル系樹脂、ポリアミド等。）を脱アルコール縮合させて金属酸化物を極性樹脂中に凝集、析出させた有機無機ハイブリッド等が挙げられ、金属酸化物と接着促進剤としての極性樹脂とが共有結合している点から、（ｃ３）が好ましい。脱アルコール縮合は、光反射層１４とも共有結合を形成できる点から、光反射層１４を形成した後に行うことが好ましい。また、あらかじめ高分子フィルムの表面を親水化処理（薬品による化成処理、コロナ放電処理、ＵＶ照射、酸素プラズマ処理、イトロ処理等）した後、脱アルコール縮合によって金属酸化物を凝集、析出さると、高分子フィルムの全面にわたって金属酸化物を配置でき、密着力および反射率を向上できる。
複合材中の金属酸化物の割合は、固形分換算で１５〜７０体積％が好ましい。
【００３５】
接着促進層２０が金属酸化物を含む場合、下記の効果がある。
高分子フィルムの表面に物理的蒸着法により光反射層１４を形成した場合、光反射層１４を構成している元素（シリコン、アルミニウム等）のイオンが界面から高分子フィルム中に侵入、埋没するため、高分子フィルムと光反射層１４との界面が不揃いになり、界面の面積が非常に大きくなる。その結果、高分子フィルム側の面から光反射層１４に入射した光の反射率は、高分子フィルムとは反対側の光反射層１４の面に入射した光の反射率よりも低下する。そこで、高分子フィルムと光反射層１４との界面に、透明で硬い金属酸化物を配置することによって、高分子フィルムへのイオンの侵入や埋没を抑制できる。
【００３６】
（ｄ）表面処理は、高分子フィルムの表面の粗面化したり；高分子フィルムの表面を、積極的に酸素等のガスと反応させ、水酸基、ケトン基等の酸素コンプレックス、またはアミン基等の反応性高い極性基を形成する処理である。
表面処理としては、ブラスト処理、化成処理、コロナ放電処理、紫外線処理、電子線処理、プラズマ処理等が挙げられる。
【００３７】
〔第３の実施形態〕
図４は、本発明の電波透過性加飾フィルムの他の例を示す断面図である。加飾フィルム１は、第１の高分子フィルム１２と、第１の高分子フィルム１２の表面に設けられた光反射層１４と、光反射層１４の表面に設けられた接着促進層２０と、接着促進層２０の表面に設けられた第２の高分子フィルム１６とを有する。
第３の実施形態において、第１の実施形態および第２の実施形態と同じ構成については、同じ符号を付して説明を省略する。
【００３８】
〔第４の実施形態〕
図５は、本発明の電波透過性加飾フィルムの他の例を示す断面図である。加飾フィルム１は、第１の高分子フィルム１２と、第１の高分子フィルム１２の表面に設けられた接着促進層２０と、接着促進層２０の表面に設けられた光反射層１４と、光反射層１４の表面に設けられた接着促進層２０と、接着促進層２０の表面に設けられた第２の高分子フィルム１６とを有する。
第４の実施形態において、第１の実施形態および第２の実施形態と同じ構成については、同じ符号を付して説明を省略する。
【００３９】
〔第５の実施形態〕
図６は、本発明の電波透過性加飾フィルムの他の例を示す断面図である。加飾フィルム１は、第１の高分子フィルム１２と、第１の高分子フィルム１２の表面に設けられた接着促進層２０と、接着促進層２０の表面の一部に設けられた意匠部１８と、接着促進層２０および意匠部１８の表面に設けられた光反射層１４と、光反射層１４の表面に設けられた第２の高分子フィルム１６とを有する。
第５の実施形態において、第１の実施形態および第２の実施形態と同じ構成については、同じ符号を付して説明を省略する。
【００４０】
（意匠部）
意匠部１８は、隠蔽性（光非透過性または光低透過性）の材料を所望のパターン状に配置して形成されたもの（文字、記号、図、模様等）である。加飾フィルム１を第１の高分子フィルム１２の側から見ると、金属調光沢を背景として、文字（かな、アルファベット、数字等）、記号等が描かれている。
意匠部１８は、公知の印刷インキ、塗料を用いた印刷等により形成できる。
【００４１】
〔第６の実施形態〕
加飾フィルム１は平面状であるが、これを用いて装飾部材とする場合、三次元形状に附形する必要があり、加飾フィルム１は部分的に延伸される。装飾部材の形状に依存するが、延伸度や延伸方向によっては、光反射層１４に目視確認できるほどの予期せぬクラックが発生し、外観特性が損なわれる。
よって、光反射層１４、接着促進層２０または高分子フィルムに、多数のナノレベルの不整サイトをあらかじめ設け、加飾フィルム１が延伸した際に該不整サイトが設けられた箇所にて光反射層１４を分割、細分化することによって、目視確認できるほどの大きなクラックの発生を抑え、外観特性の劣化を抑えることができる。
光反射層１４の細分化のサイズは、目視にて光沢と認識できるもので、おおよそ５μｍ以下となる。細分化された光反射層１４の間隔は、延伸とともに拡大し、目視では反射率が低下し光反射層が薄くなったように認識される。
【００４２】
不整サイトとしては、例えば、下記のものが挙げられる。
（α）光反射層１４の一部を硬質化して形成された不整サイト。
（β）高分子フィルムまたは接着促進層２０に形成された、周りより接着強度の低い不整サイト。
（γ）接着促進層２０に形成された、周りより弾性率の低い不整サイト。
【００４３】
（α）の不整サイトは、硬質で脆いため、該不整サイトにて光反射層１４が分割、細分化される。
（β）の不整サイトにおいては、高分子フィルムと光反射層１４との接着強度が弱いため、加飾フィルム１が延伸された際に、その延伸に光反射層１４が追随できずに該不整サイトにて光反射層１４が分割、細分化される。
（γ）の不整サイトにおいては、接着促進層２０の弾性率が低いため、加飾フィルム１が延伸された際に、接着促進層２０も同時に延伸され、その延伸に光反射層１４が追随できずに該不整サイトにて光反射層１４が分割、細分化される。一方、（γ）の不整サイトの周りにおいては、接着促進層２０の弾性率が高いため、加飾フィルム１が延伸された際に、接着促進層２０は延伸されず、光反射層１４は分割、細分化されない。
【００４４】
（α）の不整サイトは、光反射層１４のシリコンおよび金属の一部をナノレベルで硬質化することで形成できる。例えば、シリコンと金属との合金を下地に物理的に蒸着する際に、典型非金属元素を含むガスとシリコンおよび金属と反応させることによって、光反射層１４の一部をセラミックス化して不整サイトを形成できる。
典型非金属元素としては、窒素、炭素、酸素、ホウ素、リン、硫黄が挙げられ、ガスの取り扱いやすさ、反応生成物の影響等の点から、窒素、酸素、炭素が好ましい。窒素を含むガスとしては、分子状窒素が挙げられ、酸素を含むガスとしては、分子状酸素が挙げられ、炭素を含むガスとしては、炭化水素が挙げられる。
【００４５】
セラミックス化の度合いは、光反射層１４の０．０１〜１０モル％が好ましい。セラミックス化の度合いが０．０１モル％未満では、不整サイトの箇所が不足し、目視確認できるクラックが発生しやすい。セラミックス化の度合いが１０モル％を超えると、セラミックス化による白色、透明が強まり、金属調光沢が不充分となりやすい。
セラミックス化の度合いは、真空チャンバの大きさ、蒸着レートにより異なるが、典型非金属ガスの流量を０．１〜５０ｓｃｃｍの範囲とすることで調整できる。
物理的蒸着法のうち、プラズマアシストを受ける蒸着法では、酸素または窒素を流すことにより、高分子フィルムの表面に親水化処理を施すことができ、密着性の点からも好ましい。
セラミックス化の分析（不整サイトの確認）は、Ｘ線回折装置によって行うことができる。
【００４６】
（β）および／または（γ）の不整サイトは、例えば、下記の（Ｉ）〜（Ｖ）のようにして形成できる。
【００４７】
（Ｉ）接着促進層２０を、（ａ）接着促進剤を用いて形成する。この場合、ドライ処理を基本とする方法で微小な核を形成できる。
例えば、極性基を有するモノマー、オリゴマーまたはポリマーを加熱蒸着することで、極性基を有する樹脂からなる微小部分が一様に分布し、（β）の不整サイトが形成される。この際、蒸着量等を調整することで分布密度を調整できる。
また、高分子フィルムの表面に大気プラズマ処理、コロナ放電処理等の表面処理を施して極性基を導入した後、極性基を有する樹脂の（水）溶液を薄く塗布することにより、高分子フィルムの表面の極性基と、極性基を有する樹脂とを水素結合等で結合し、極性基を有する樹脂を固定化することによって、極性基を有する樹脂からなる微小部分が一様に分布し、（β）の不整サイトが形成される。
また、高分子フィルムの表面に、極性基のないメタン等の炭化水素をプラズマ重合する等によって一様に分布する架橋オレフィンの微小部分を形成した後、これをマスクとして先の（水）溶液を塗布すること等により、極性基を有する樹脂からなる微小部分が一様に分布し、（β）の不整サイトが形成される。
また、シランカップリングの場合も、部分的にプラズマ処理等により親水化、または架橋オレフィンの化学的蒸着等により親油化した後、シランカップリング水溶液を塗布することにより、部分的に親和性が高まった微小部分が一様に分布し、（β）の不整サイトが形成される。
【００４８】
（II）接着促進層２０を、（ｂ）無機物を用いて形成する。この場合も、ドライ処理を基本とする方法で微小な核を形成できる。
例えば、無機物を物理的蒸着または化学的蒸着する際に、蒸着量の密度をコントロールすることで、無機物からなる微小部分が一様に分布する。そして、無機物の部分（金属酸化物粒子等）とその周り（樹脂等）とで接着強度の違いが生じるため、接着強度の高い微小部分と接着強度の低い微小部分が一様に分布し、（β）の不整サイトが形成される。また、無機物の部分（金属酸化物粒子等）とその周り（樹脂等）とで弾性率の違いが生じるため、弾性率の高い微小部分と弾性率の低い微小部分が一様に分布し、（γ）の不整サイトも同時に形成される。
この際、無機物は高分子フィルムとよく接着していることが好ましい。無機物と高分子フィルムとの接着力を高める方法としては、高分子フィルムの表面に表面処理を施す方法；物理的蒸着あるいは化学的蒸着で微小な無機物を形成する場合は、バイアス電圧を設け、無機物を高いエネルギーで加速させ、高分子フィルムに打ち込む方法；化学的重合法で微小な無機物を形成する場合は、ＰＢＩＩ（プラズマベースドイオンインプランテーション）法等により、ＤＬＣ（ダイアモンドライクカーボン）、またはケイ素等を含むＤＬＣ等を形成する方法等が挙げられる。化学的重合法の場合、重合条件の強弱により、付着密度を変えることができ、一様に分布する微小な無機物を形成できる。
【００４９】
（III）接着促進層２０を、（ｃ）接着促進剤と無機物との複合材を用いて形成する。この場合も、ドライ処理を基本とする方法で微小な核を形成できる。具体的には、（II）または（III）と同様にして形成できる。
【００５０】
（IV）高分子フィルムの表面に弾性率の異なる微小部分を有するものは、（III）により形成された接着促進層２０と同様の効果がある。例えば、ソフトセグメントとハードセグメントを有する共重合体でハードセグメント部分が島状にミクロ相分離した高分子フィルムを用いる。該共重合体としては、ポリエステル系、ポリオレフィン系、ポリアミド系熱可塑性エラストマー；シリコーン−ポリイミド共重合体等が挙げられる。
【００５１】
（Ｖ）高分子フィルムの表面に（ｄ）表面処理を施して接着促進層２０を形成する際に、処理の強度をコントロールすることによって、接着強度の高い微小部分と接着強度の低い微小部分が一様に分布し、（β）の不整サイトが形成される。
【００５２】
図７は、接着促進層２０中に交互に形成された、接着強度または弾性率の高い微小部分２２および接着強度または弾性率の低い微小部分２４（不整サイト）を模式的に示した加飾フィルム１の断面図である。加飾フィルム１の延伸時には、光反射層１４は、接着強度または弾性率の低い微小部分２４にて細分化される。
【００５３】
〔第７の実施形態〕
図８は、本発明の装飾部材の一例を示す断面図である。装飾部材２は、複数の凸部を有する基体３０の表面に、加飾フィルム１を基体３０の形状に沿って一体に組み合わせたものである。
【００５４】
（基体）
基体３０は、電波透過性の材料の成形体である。
電波透過性の材料としては、絶縁性の有機材料が挙げられる。絶縁性とは、表面抵抗率が１０６Ω以上であることを意味し、表面抵抗率は１０８Ω以上が好ましい。表面抵抗率は、ＪＩＳ  Ｋ７１９４に記載の４探針法により測定する。電波透過性の材料としては、成形加工性の点から、絶縁性の有機材料が好ましい。
有機材料としては、ポリオレフィン（ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体等）、環状ポリオレフィン、変性ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポリアミド（ナイロン６、ナイロン４６、ナイロン６６、ナイロン６１０、ナイロン６１２、ナイロン１１、ナイロン１２、ナイロン６−１２、ナイロン６−６６等）、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリ−（４−メチルペンテン−１）、アイオノマー、アクリル系樹脂（ポリメチルメタクリレート等）、ＡＢＳ樹脂、ＡＳ樹脂、ブタジエン−スチレン共重合体、ポリオキシメチレン、ポリビニルアルコール、エチレン−ビニルアルコール共重合体、ポリエステル（ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリシクロヘキサンテレフタレート等）、ポリエーテル、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルイミド、ポリアセタール、ポリフェニレンオキシド、変性ポリフェニレンオキシド、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリアリレート、芳香族ポリエステル（液晶ポリマー）、ポリテトラフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン、その他フッ素系樹脂、熱可塑性エラストマー（スチレン系、ポリオレフィン系、ポリ塩化ビニル系、ポリウレタン系、ポリエステル系、ポリアミド系、ポリブタジエン系、トランスポリイソプレン系、フッ素ゴム系、塩素化ポリエチレン系等）、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル、シリコーン系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリパラキシリレン樹脂、天然ゴム、ポリブタジエンゴム、ポリイソプレンゴム、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体ゴム、スチレン−ブタジエン共重合体ゴム、スチレン−イソプレン共重合体ゴム、スチレン−ブタジエン−イソプレン共重合体ゴム、ジエン系ゴムの水素添加物、飽和ポリオレフィンゴム（エチレン・プロピレン共重合体等のエチレン・α−オレフィン共重合体等）、エチレン−プロピレン−ジエン共重合体、α−オレフィン−ジエン共重合体、ウレタンゴム、シリコーンゴム、ポリエーテル系ゴム、アクリルゴム等が挙げられる。
有機材料は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて共重合体、ブレンド、ポリマーアロイ、積層体等として用いてもよい。
有機材料は、必要に応じて添加剤を含んでいてもよい。添加剤としては、補強材、酸化防止剤、紫外線吸収剤、滑剤、防曇剤、防霧剤、可塑剤、顔料、近赤外吸収剤、帯電防止剤、着色剤等が挙げられる。
【００５５】
装飾部材２は、加飾フィルム１を所望形状に成形した後、同様形状の型にセットし、型の開口部より液状の樹脂を注入して一体化することで製造できる。加飾フィルム１の基体３０側の高分子フィルム（図示せず）は、基体３０と同様の樹脂を用い、良接着を得ている。
基体３０の凸部の各コーナー部分は、特に延伸されており、加飾フィルム１の内部の光反射層は多数の微小部分にて細分化されている（図示略）。
【００５６】
〔第８の実施形態〕
図９は、本発明の装飾部材の他の例を示す断面図である。装飾部材２は、略ドーナツ状の基体３０の表面に、加飾フィルム１を基体３０の形状に沿って一体に組み合わせたものである。
先に賦形された基体３０に、加熱された加飾フィルム１を、接着性フィルム３２を用いて一体化している。
第５の実施形態において、第４の実施形態と同じ構成については、同じ符号を付して説明を省略する。
基体３０の凸部のコーナー部分は、特に延伸されており、加飾フィルム１の内部の光反射層は多数の微小部分にて細分化されている（図示略）。
【００５７】
以上説明した本発明の加飾フィルムおよびこれを用いた装飾部材にあっては、シリコンと金属との合金の物理的蒸着により形成された、高い反射率を有する明るい光反射層を有するため、電波透過性があり、クロムメッキと同様の金属調光沢を有する。
また、インジウム、スズ等と比べて、化学的に安定なシリコンと金属との合金を用いているため、経時的に金属調光沢が失われにくい。また、光反射層が高分子フィルムに保護されているため、金属調光沢が失われにくい。
また、インジウム等のレアメタル単体に比べて安価な、シリコンと金属との合金を用いているため、低コストである。また、加飾フィルムにおける積層数が少ないため、低コストである。
また、光反射層が２枚の高分子フィルムに挟まれているため、加飾フィルムが延伸成形性に優れ、これを用いた装飾部材は、コーナー部分等における外観特性に優れる。
【００５８】
また、光反射層、接着促進層または高分子フィルムが多数の不整サイトを有している場合は、加飾フィルムの延伸成形性がさらに向上し、これを用いた装飾部材のコーナー部分等における外観特性もさらに向上する。
また、光反射層において、導電性の金属元素は半導体シリコンにより固定されているため、従来の加飾フィルムを用いた装飾部材に見られたような、成形時の圧力等により、インジウム等の島同士が部分的に連結してしまうことがなく、電波透過性の性能を検査する必要がなく、生産性が高い。
【００５９】
シリコンのような半導体物質を含む合金が電波を透過させ、金属調光沢を示す理由は、以下のように考えられる。
金属の特徴である自由電子は電気伝導性をもたらす。また、電磁波（光、電波）が金属の中に入ろうとすると、自由電子が動いて強い電子分極が起き、入ってきた電磁波の電界とは逆の電束が誘起されるため、電磁波が金属の中に入りにくく、電磁波は反射し透過できない。また、可視光領域にて高い反射率を有するため、金属光沢と認識される。
一方、半導体物質の場合、わずかな数の自由電子しかなく、金属とは異なり電波は反射されず透過できる。金属調光沢は、自由電子によるものではなく、バンド間の直接遷移による強い吸収が可視光領域に存在することによって、強い電子分極が起き、高い屈折率を持ち、それゆえ高い反射率を持つためと考えられている。
【００６０】
また、本発明において、シリコンと金属との合金を用いる理由は、以下の通りである。
シリコンは、可視光領域に高い反射率をもつといえども、金属の反射率（例えば、銀９８％、アルミニウム９０％、於６２０ｎｍ、文献値、Ｈａｎｄｂｏｏｋ  ｏｆ  Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｃｏｎｓｔａｎｔｓ  ｏｆ  Ｓｏｌｉｄｓ，Ｅ．Ｌ．Ｐａｌｉｋ，Ａｃａｄｅｍｉｃ  Ｐｒｅｓｓ．，（１９８５））よりは低く、３６％（於６２０ｎｍ、文献値）である。そのため、反射率が５０％以上の金属と合金化することにより、反射率を向上させ、明度を上げ、明るいクロムメッキと同等以上の金属調光沢を有する光反射層を得ることができる。また、該金属は、シリコンより軟質であることから、光反射層の内部応力は低下し、密着性が向上し、クラックの発生が抑えられる。
【実施例】
【００６１】
（電波透過性）
同軸管タイプシールド効果測定システム（キーコム社製、Ｓ−３９Ｄ、ＡＳＴＭ  Ｄ４９３５準拠）を用い、外部胴体（内径３９ｍｍ）の同軸管内に円盤上の平坦な試料を置き、同軸管両端に接続されたベクトルネットワークアナライザー（アンリツ社製、３７２４７Ｃ）により透過減衰量（Ｓ２１）および反射減衰量（Ｓ１１）を求めた。透過減衰量が０ｄＢに近いほど、電波透過性が優れている。
【００６２】
（反射率）
反射率は、ＪＩＳ  Ｚ８７２２の条件ｄ（ｎ−Ｄ）による、正反射率を含めた拡散反射率であり、積分球を用い光沢成分の正反射光を含めて測定した。
具体的には、装飾部材の反射率を、紫外可視近赤外分光光度計（日本分光社製、Ｖ−５７０）を用い、積分球を用いて光沢成分の正反射光を含めて測定した。波長３８０ｎｍから７８０ｎｍまでの測定点４０１箇所の平均を求めた。
【００６３】
（透過率）
装飾部材の透過率を、紫外可視近赤外分光光度計（日本分光社製、Ｖ−５７０）を用い、積分球を用いて測定した。
【００６４】
（光反射層の厚さ）
透過型電子顕微鏡（日本電子社製、ＪＥＭ―４０００ＥＸ）を用い、光反射層の断面を観察し、５箇所の光反射層の厚さを測定し、平均した。
【００６５】
（平均表面粗さ）
走査型プローブ顕微鏡（エスアイアイ・ナノテクノロジー社製、ＳＰＡ４００）を用い、原子間力顕微鏡ＤＦＭモードで、試料の表面１μｍ□を走査し、表面形状の像を作成し、平均表面粗さ（算術平均粗さＲａ）を求めた。光反射層を形成直後に測定した。
【００６６】
（表面抵抗率）
試料の表面抵抗率は、抵抗率計（ダイアインスツルメント社製、ロレスタＧＰ  ＭＣＰ−Ｔ６００型、ＪＩＳ  Ｋ７１９４準拠）を用い、直列４探針プローブ（ＡＳＰ）を試料上に置き測定した。測定電圧は１０Ｖとした。光反射層を形成直後に測定した。
【００６７】
（弾性率）
接着促進層または高分子フィルムの表面の微小部分の弾性率の違いを下記のように確認した。
走査型プローブ顕微鏡（エスアイアイ・ナノテクノロジー社製、ＳＰＡ４００）のマイクロ粘弾性測定モードを用い、感知レバーのたわみ振動から接着促進層または高分子フィルムの表面の粘弾性分布を画像化することで、微小部分の弾性率の違いを確認した。
【００６８】
（ＳＥＭ像）
走査電子顕微鏡（日本電子社製、ＪＳＭ６３９０ＬＶ）を用いて、光反射層の表面を観察した。試料表面の導体化およびグランド処理を行わなかったため、加飾フィルムを大きく延伸することによって、光反射層の抵抗が増大した箇所は画像化できない。
【００６９】
〔実施例１〕
第１の高分子フィルム１２である厚さ５０μｍのアクリルフィルムの表面に、ＤＣスパッタ装置にて下記のターゲットを用いて物理的蒸着を行い、光反射層１４を形成した。
ターゲットとして、ボロンドープされたシリコンとアルミニウムとの合金（アルミニウムの割合：６０体積％、ボロンドープ量：約１０−７モル％）を用いた。アルミニウム単体の反射率は８７．６％である。
ついで、第２の高分子フィルム１６である厚さ５０μｍのアクリルフィルムを、光反射層１４の表面に熱ラミネートして、図１に示す加飾フィルム１を得た。
【００７０】
加飾フィルム１について、光反射層１４の厚さ、１ＧＨｚおよび３ＧＨｚにおける電波の透過減衰量（Ｓ２１）、第１の高分子フィルム１２側から入射した可視光における反射率、表面抵抗率、平均表面粗さを測定した。また、加飾フィルム１の外観を観察した。なお、光反射層１４におけるアルミニウムの割合は、ターゲットにおけるアルミニウムの割合と同じであった。結果を表１に示す。また、電波透過性加飾フィルム１の電波の透過減衰量（Ｓ２１）および反射減衰量（Ｓ１１）のグラフを図１０に示す。また、加飾フィルム１の反射率のグラフを図１１に示す。さらに加飾フィルム１を一方向に伸張し、元の長さに戻したときの光反射層１４の表面のＳＥＭ像を観察した（図１２）。これより伸張方向に約１μｍ幅の光反射層に細分化されていた。
【００７１】
〔比較例１〕
ターゲットとして、シリコン単体を用いた以外は、実施例１と同様にして加飾フィルムを得た。
該加飾フィルムについて、光反射層の厚さ、１ＧＨｚおよび３ＧＨｚにおける透過減衰量（Ｓ２１）、反射率、表面抵抗率、平均表面粗さを測定した。また、加飾フィルムの外観を観察した。結果を表１に示す。
【００７２】
〔実施例２〕
第１の高分子フィルム１２である厚さ１００μｍのポリカーボネートフィルムの表面に、ＤＣスパッタ装置にて実施例１と同じターゲットを用い、窒素ガス０．５ｓｃｃｍ流入下で物理的蒸着を行い、一部がセラミックス化された光反射層１４を形成した。
ついで、第２の高分子フィルム１６である厚さ１００μｍの黒色ＡＢＳフィルムの表面に、塩素化ポリオレフィン層を積層したものを、塩素化ポリオレフィン層を接着剤として光反射層１４に貼着させ、加飾フィルム１を得た。
【００７３】
加飾フィルム１について、光反射層１４の厚さ、１ＧＨｚおよび３ＧＨｚにおける透過減衰量（Ｓ２１）、反射率、表面抵抗率、平均表面粗さを測定した。また、加飾フィルム１の外観を観察した。結果を表１に示す。
加飾フィルム１を、金型内でプレフォームした後、金型内にＡＢＳ樹脂を射出し、図８に示すような加飾フィルム１と基体３０とが一体化した装飾部材２を得た。装飾部材２の外観、特に凸部のコーナー部分の金属調光沢を観察した。結果を表１に示す。
【００７４】
〔実施例３〕
第１の高分子フィルム１２として、厚さ２５μｍの共重合ポリエステルフィルム（東洋紡績社製、商品名：ソフトシャイン）と厚さ５０μｍのアクリルフィルムとの積層体を用意した。
共重合ポリエステルフィルム側の表面に、電力：５００Ｗ、時間：２分、到達真空度：６×１０−１Ｐａ、酸素流入量：１５ｓｃｃｍの条件下で、酸素プラズマ処理を施した。
プラズマ処理された表面に、ＤＣスパッタ装置にてシリコンとアルミニウムとの合金（アルミニウムの割合：７０体積％）をターゲットに用いて物理的蒸着を行い、光反射層１４を形成した。
実施例２と同様に黒色ＡＢＳフィルムを貼着し、加飾フィルム１を得た。
【００７５】
加飾フィルム１について、光反射層１４の厚さ、１ＧＨｚおよび３ＧＨｚにおける透過減衰量（Ｓ２１）、反射率、表面抵抗率、平均表面粗さを測定した。また、加飾フィルム１の外観を観察した。結果を表１に示す。
加飾フィルム１を、金型内でプレフォームした後、金型内にＡＢＳ樹脂を射出し、図８に示すような加飾フィルム１と基体３０とが一体化した装飾部材２を得た。装飾部材２の外観、特に凸部のコーナー部分の金属調光沢を観察した。結果を表１に示す。
【００７６】
〔実施例４〕
第１の高分子フィルムとして、厚さ１２５μｍのポリエステル系熱可塑性エラストマーフィルム（東レ社製、商品名：ハイトレル、芳香族ポリエステルをハードセグメントとし、ポリエーテルエステルをソフトセグメントとする。）を用意した。該フィルムの表面の弾性率を測定したところ、弾性率の高い微小部分と弾性率の低い微小部分（不整サイト）が一様に分布していることが確認された。
該フィルムの表面に、酸素プラズマ処理を実施例３と同様に施した。
プラズマ処理された表面に、ＤＣスパッタ装置にてシリコンとアルミニウムとの合金（アルミニウムの割合：６５体積％）をターゲットに用いて物理的蒸着を行い、光反射層１４を形成した。
ついで、第２の高分子フィルムである厚さ５０μｍの透明ポリカーボネートフィルムの表面に透明な塩素化ポリオレフィン層を積層したものを、塩素化ポリオレフィン層を接着剤として光反射層１４に貼着させ、加飾フィルム１を得た。さらに加飾フィルム１を１００％伸張し、元の長さに戻したときの光反射層１４の表面のＳＥＭ像を観察した（図１３）。これより伸張方向に約１μｍ幅の光反射層に細分化されていた。
【００７７】
加飾フィルム１について、光反射層１４の厚さ、１ＧＨｚおよび３ＧＨｚにおける透過減衰量（Ｓ２１）、反射率、表面抵抗率、平均表面粗さを測定した。また、加飾フィルム１の外観を観察した。結果を表２に示す。
図９に示すようなポリブチレンテレフタレートからなる基体３０に加飾フィルム１を、加飾フィルム１の第１の高分子フィルム１２側に設けた塩素化ポリオレフィン層を接着剤として圧空成形により一体化して装飾部材２を得た。装飾部材２の外観、特に凸部のコーナー部分の金属調光沢を観察した。結果を表２に示す。
【００７８】
〔実施例５〕
第１の高分子フィルムとして厚さ２５μｍの共重合ポリエステルフィルム（東洋紡績社製、商品名：ソフトシャイン）と厚さ５０μｍのポリカーボネートフィルムとの積層体を用意した。
共重合ポリエステルフィルム側の表面に、ＰＢＩＩ装置（栗田製作所社製）にてケイ素を含むＤＬＣを用いて化学的蒸着を行い、硬質な微小部分を多数形成し、接着促進層２０とした。さらに、電力：２５０Ｗ、時間：１分、到達真空度：６×１０−１Ｐａ、酸素流入量：１５ｓｃｃｍの条件下で、酸素プラズマ処理を行った。接着促進層２０の表面の弾性率を測定したところ、弾性率の高い微小部分と弾性率の低い微小部分（不整サイト）が一様に分布していることが確認された。
プラズマ処理された表面に、ＤＣスパッタ装置にてシリコンとアルミニウムとの合金（アルミニウムの割合：５５体積％）をターゲットに用いて物理的蒸着を行い、光反射層１４を形成した。
実施例２と同様に、黒色ＡＢＳフィルムを貼着し加飾フィルム１を得た。
【００７９】
加飾フィルム１について、光反射層１４の厚さ、１ＧＨｚおよび３ＧＨｚにおける透過減衰量（Ｓ２１）、反射率、表面抵抗率、平均表面粗さを測定した。また、加飾フィルム１の外観を観察した。結果を表２に示す。
図９に示すようなＡＢＳ樹脂からなる基体３０に加飾フィルム１を、加飾フィルム１の第１の高分子フィルム１２側に設けた塩素化ポリオレフィン層を接着剤として、圧空成形により一体化して装飾部材２を得た。装飾部材２の外観、特に凸部のコーナー部分の金属調光沢を観察した。結果を表２に示す。
【００８０】
【表１】
2010214790.tif 000003
【００８１】
【表２】
2010214790.tif 000004
【産業上の利用可能性】
【００８２】
本発明は、携帯電話の筐体、スイッチボタン；時計の筐体；自動車のフロントグリル、バンパ、パネル等の金属調の装飾部材およびそれに用いられる加飾フィルムとして有用である。
【符号の説明】
【００８３】
１  加飾フィルム
２  装飾部材
１２  第１の高分子フィルム
１４  光反射層
１６  第２の高分子フィルム
１８  意匠部
２０  接着促進層
２２  接着強度または弾性率の高い微小部分
２４  接着強度または弾性率の低い微小部分（不整サイト）
３０  基体
３２  接着性フィルム
【図１】
2010214790.tif 000005
【図３】
2010214790.tif 000006
【図４】
2010214790.tif 000007
【図５】
2010214790.tif 000008
【図６】
2010214790.tif 000009
【図７】
2010214790.tif 000010
【図８】
2010214790.tif 000011
【図９】
2010214790.tif 000012
【図１０】
2010214790.tif 000013
【図１１】
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【図２】
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【図１２】
2010214790.tif 000016
【図１３】
2010214790.tif 000017