(57)【要約】【課題】本発明は、低コストで生産性が高く、インクジェット方式で吐出されたインクの表面上での濡れ広がりが抑制され、高解像度の描画画像の形成が可能であり、レンチキュラーレンズを用いて高品位な立体視画像を得ることができる画像形成基板、および該画像形成基板を備える立体印刷物を提供することを目的とする。【解決手段】レンチキュラーレンズを用いて立体画像を形成するための画像形成基板であって、  支持体と、前記支持体面上に形成される受像層とを備え、  前記受像層表面に所定のインクに対する親和性が異なる２つの領域を有し、少なくとも一方の領域がアスペクト比１．８以上を示し、その長軸方向がレンチキュラーレンズを構成するシリンドリカルレンズの長手方向と略並行になるように配列されることを特徴とする画像形成基板。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
レンチキュラーレンズを用いて立体画像を形成するための画像形成基板であって、
支持体と、前記支持体面上に形成される受像層とを備え、
前記受像層表面に所定のインクに対する親和性が異なる２つの領域を有し、少なくとも一方の領域がアスペクト比１．８以上を示し、その長軸方向がレンチキュラーレンズを構成するシリンドリカルレンズの長手方向と略並行になるように配列されることを特徴とする画像形成基板。
【請求項２】
前記所定のインクに対する親和性が異なる２つの領域が、それぞれ線状であり、ストライプ状に隣接して配置される、請求項１に記載の画像形成基板。
【請求項３】
前記所定のインクに対する親和性が異なる２つの領域が、海島構造を形成し、島状部分の領域が前記アスペクト比１．８以上を示す領域である、請求項１に記載の画像形成基板。
【請求項４】
前記２つの領域のうち一方の領域の所定のインクに対する接触角が５０°以上であり、
他方の領域の所定のインクに対する接触角が３５°以下である、請求項１〜３のいずれかに記載の画像形成基板。
【請求項５】
前記受像層が、外部からの刺激に応じて、極性の変化によりインクに対する接触角が変化する極性変換材料を用いて形成される、請求項１〜４のいずれかに記載の画像形成基板。
【請求項６】
前記外部からの刺激が、光または温度である、請求項５に記載の画像形成基板。
【請求項７】
前記極性変換材料が、酸化チタン、酸化亜鉛、カルボン酸３級エステル系化合物、アルコキシアルキルエステル系化合物、アルキルスルホン酸エステル系化合物、オキシムエステル系化合物、アシルホスフィンオキサイド系化合物、α−ヒドロキシアルキルケトン系化合物、ロフィンダイマー系化合物、およびトリハロメチルトリアジン系化合物からなる群から選択される材料を含有する、請求項５または６に記載の画像形成基板。
【請求項８】
前記受像層が、相分離構造を形成する互いに非相溶な２種の高分子により形成される、請求項１〜４のいずれかに記載の画像形成基板。
【請求項９】
請求項５〜７のいずれかに記載の画像形成基板の製造方法であって、
極性変換材料を含む溶液を支持体に塗布し、乾燥して、膜を作製する工程と、
前記膜表面の所定のパターン領域に、加熱処理または光照射処理を施し、この領域表面の極性を変化させて、未処理領域の所定のインクに対する親和性と異なる親和性を有するパターン領域を形成する工程とを備える画像形成基板の製造方法。
【請求項１０】
請求項１〜８のいずれかに記載の画像形成基板と、
色材を含有するインクより形成される画像層と
シリンドリカルレンズを、その長手方向が前記画像形成基板表面のアスペクト比１．８以上を示す領域の長軸方向に対して略並行になるように多数配置し、並接してシート状に形成したレンチキュラーレンズと、をこの順で備える立体印刷物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、画像形成基板、立体印刷物に関し、詳しくは、レンチキュラーレンズを用いて立体画像を形成するための画像形成基板、およびこの画像形成基板を用いた立体印刷物に関する。
【背景技術】
【０００２】
印刷された画像を立体的に見せたり、これに動きを与えたりするいわゆる３Ｄ印刷の技術の一つに、レンチキュラーレンズを用いた手法がある。レンチキュラーレンズとは、半円筒状または円弧状の細長い凸部を複数配列したレンズの集合体をいい、これを通して画像を見たとき、観察者の左右の目にそれぞれ異なる画像を与えるようにすることで、画像が立体的に見えたり、動いてみえたりする。
【０００３】
通常、レンチキュラーレンズを介して画像を立体的に見るためには、画像とレンチキュラーレンズとの位置関係を正確に制御する必要がある。両者の間で位置ずれがあると画質の劣化が生じる、または立体画像が得られないといった問題が生じる。
また、画像を観察するための立体視領域を広げるためには、視点数を増やす、いわゆる多眼化する必要がある。多眼化を達成するためには、レンチキュラーレンズの各レンズに対応して形成すべき画像の画素数を増やす必要がある。つまり、さらに高い画像解像度が要求される。
さらに、レンチキュラーレンズを用いた立体印刷物は、その表面にレンズ凹凸があるため、通常の印刷物と比較して、質感や風合いに劣るという欠点がある。それらを改善する方法として、各レンズの高さを抑える方法がある。しかしながら、この方法ではそれに伴いレンズ幅も小さくする必要があり、そのためにはレンズの真下に位置する画像の解像度を高める必要が生じる。
【０００４】
このような位置ずれの抑制や画像の解像度向上のための方法として、画像をインクジェット方式で印刷する方法が提案されている。インクジェット方式は、非常に微細なノズルからインク液滴を部材に直接吐出、付着させて、文字や画像を得る方式である。
インクジェット方式を用いることにより、所定の位置にインク液滴を吐出して、画像を形成することは可能と期待される。一方で、この方式では、インク液滴を画像形成基板などの所定の材料上に吐出した際に、着弾後に材料表面上でインクが濡れ広がるため、高解像度で描画するということが困難であった。また、着弾後のインクが、隣接する別視野画像の位置まで濡れ広がり、画質が劣化するという問題も有していた。
これらの課題に対して、例えば、一定の方向に延伸された基材と被覆剤とを用いることにより、着弾したインクの拡散を抑制する方法が提案されている（特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特表１１−５１１７０２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、特許文献１に記載の方法では、樹脂基板などの延伸が可能な基板のみしか適用できず、その汎用性は十分とはいえない。特に、印刷媒体の多様化により様々な基板への印刷が必要とされる昨今においては、使用される基板の種類を問わず、高解像度で画像を形成できる材料または方法の開発が要望されていた。
また、特許文献１に記載の方法では、基板の延伸を行うためには、装置の大型化が必要とされ、コストおよび生産性の点からもさらなる改善が必要とされていた。
【０００７】
そこで、本発明は、上記実情に鑑みて、低コストで生産性が高く、インクジェット方式で吐出されたインクの表面上での濡れ広がりが抑制され、高解像度の描画画像の形成が可能であり、レンチキュラーレンズを用いて高品位な立体視画像を得ることができる画像形成基板、および該画像形成基板を備える立体印刷物を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは、インクが着弾される画像形成基板表面のインクに対する親和性に着目し、表面上にインクに対して異なる親和性を示す２つの領域を設けることにより、着弾されたインクが一方の領域を中心に留まり、濡れ広がりを抑えることができることを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００９】
つまり、上記課題が下記の＜１＞〜＜１０＞の構成により解決されることを見出した。
＜１＞  レンチキュラーレンズを用いて立体画像を形成するための画像形成基板であって、支持体と、前記支持体面上に形成される受像層とを備え、
前記受像層表面に所定のインクに対する親和性が異なる２つの領域を有し、少なくとも一方の領域がアスペクト比１．８以上を示し、その長軸方向がレンチキュラーレンズを構成するシリンドリカルレンズの長手方向と略並行になるように配列されることを特徴とする画像形成基板。
＜２＞  前記所定のインクに対する親和性が異なる２つの領域が、それぞれ線状であり、ストライプ状に隣接して配置される、＜１＞に記載の画像形成基板。
＜３＞  前記所定のインクに対する親和性が異なる２つの領域が、海島構造を形成し、島状部分の領域が前記アスペクト比１．８以上を示す領域である、＜１＞に記載の画像形成基板。
＜４＞  前記２つの領域のうち一方の領域の所定のインクに対する接触角が５０°以上であり、
他方の領域の所定のインクに対する接触角が３５°以下である、＜１＞〜＜３＞のいずれかに記載の画像形成基板。
＜５＞  前記受像層が、外部からの刺激に応じて、極性の変化によりインクに対する接触角が変化する極性変換材料を用いて形成される、＜１＞〜＜４＞のいずれかに記載の画像形成基板。
＜６＞  前記外部からの刺激が、光または温度である、＜５＞に記載の画像形成基板。
＜７＞  前記極性変換材料が、酸化チタン、酸化亜鉛、カルボン酸３級エステル系化合物、アルコキシアルキルエステル系化合物、アルキルスルホン酸エステル系化合物、オキシムエステル系化合物、アシルホスフィンオキサイド系化合物、α−ヒドロキシアルキルケトン系化合物、ロフィンダイマー系化合物、およびトリハロメチルトリアジン系化合物からなる群から選択される材料を含有する、＜５＞または＜６＞に記載の画像形成基板。
＜８＞  前記受像層が、相分離構造を形成する互いに非相溶な２種の高分子により形成される、＜１＞〜＜４＞のいずれかに記載の画像形成基板。
＜９＞  ＜５＞〜＜７＞のいずれかに記載の画像形成基板の製造方法であって、
極性変換材料を含む溶液を支持体に塗布し、乾燥して、膜を作製する工程と、
前記膜表面の所定のパターン領域に、加熱処理または光照射処理を施し、この領域表面の極性を変化させて、未処理領域の所定のインクに対する親和性と異なる親和性を有するパターン領域を形成する工程とを備える画像形成基板の製造方法。
＜１０＞  ＜１＞〜＜８＞のいずれかに記載の画像形成基板と、
色材を含有するインクより形成される画像層と
シリンドリカルレンズを、その長手方向が前記画像形成基板表面のアスペクト比１．８以上を示す領域の長軸方向に対して略並行になるように多数配置し、並接してシート状に形成したレンチキュラーレンズと、をこの順で備える立体印刷物。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、低コストで生産性が高く、インクジェット方式で吐出されたインクの表面上での濡れ広がりが抑制され、高解像度の描画画像の形成が可能であり、レンチキュラーレンズを用いて高品位な立体視画像を得ることができる画像形成基板、および該画像形成基板を備える立体印刷物を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明に係る立体印刷物の一実施形態の模式的断面図である。
【図２】本発明に係る画像形成基板の一実施形態の拡大斜視断面図である。
【図３】本発明に係る画像形成基板の他の実施形態の拡大斜視断面図である。
【図４】本発明に係る画像形成基板の他の実施形態の拡大斜視断面図である。
【図５】本発明に係る立体印刷物の製造方法の一実施形態における製造工程を示すフローチャートである。
【図６】（ａ）〜（ｄ）は、それぞれ本発明の立体印刷物の製造方法における画像形成基板から立体印刷物に至る製造工程を順に示す、画像形成基板および立体印刷物の模式的断面図である。
【図７】実施例４で使用されるフォトマスク形状の模式図である。
【図８】比較例４で使用されるフォトマスク形状の模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下に、本発明に係る画像形成基板、このような画像形成基板を備える立体印刷物について、図面に示す好適実施形態に基づいて詳細に説明する。
【００１３】
図１は、本発明の立体印刷物の一実施形態の模式的断面図である。
同図に示す立体印刷物１０は、本発明に係る画像形成基板を備えるもので、支持体１２、受像層１４、画像層１６、レンチキュラーレンズ１８をこの順で積層した積層構造を有する。
なお、支持体１２および受像層１４は、本発明の画像形成基板２０を構成する。
まず、本発明の立体印刷物１０を構成する各層について説明する。
【００１４】
＜支持体＞
支持体１２は、受像層１４、画像層１６、およびレンチキュラーレンズ１８を支持するためのものであり、受像層１４を積層することができるものであれば、特に制限されない。本発明において、後述する画像層１６を支持する支持体の材料としてはその種類を問わず様々な材料を使用することができ、特に、延伸ができないような硬質の支持体を基板の一部として使用することもできる。
支持体１２としては、例えば、紙、ポリ塩化ビニル、ポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネートなどのプラスチックフィルム、半導体基板（シリコン基板、シリコンカーバイド基板など）、ガラス基板、アルミ、銅、ステンレスなどの金属基板などが挙げられる。また、これらの基板が積層したものを使用してもよい。例えば、上記のプラスチックフィルムにアルミニウムなどの金属からなるフィルムが張り合わされたもの、またはプラスチックフィルムに金属膜などが蒸着されたものなどが挙げられる。
支持体の厚みは特に限定されず、使用目的に応じて適宜最適な厚みが選択される。
【００１５】
＜受像層＞
受像層１４は、その表面に吐出されるインクを受容し、形成された画像を維持する役割を果たす。
受像層１４は、その表面に所定のインクに対して親和性が異なる２つの領域を有する。２つの領域のうち少なくとも一方の領域がアスペクト比１．８以上を示す領域であり、その領域の長軸方向がレンチキュラーレンズ１８を構成するシリンドリカルレンズの長手方向と略並行（「シリンドリカルレンズの配列方向と略直交」と同義である）になるように配列される。
受像層がそのような２つの領域を有することにより、インクジェット方式により吐出されたインクが一方の親和性のより高い領域に留まり、シリンドリカルレンズの短手方向へのインクの拡散が抑制される。そのため、インクにより形成される色画素の大きさを小さくすることができ、高解像度の描画画像を描くことができる。
なお、略並行とは、レンチキュラーレンズ１８を構成するシリンドリカルレンズの長手方向に対して、その領域の長軸方向の傾斜角度が±０．０５度以内、好ましくは±０．００５度以内であることを指す。傾斜角度は、超薄切片のＴＥＭ解析や、小角Ｘ線散乱解析などによって測定することができる。
【００１６】
受像層１４の厚みは、特に制限されないが、インク受像能と支持体表面の元々の質感を残すこととの両立の点で、５〜１００μｍが好ましく、１０〜５０μｍがより好ましい。
【００１７】
所定のインクに対して親和性が異なる２つの領域中の一方の領域のアスペクト比は、１．８以上を示し、好ましくは２以上であり、より好ましくは３以上である。１．８より小さいと、長軸方向と短軸方向とのインクに対する親和性の異方性が不十分となり、解像度向上の効果が低下する点で好ましくない。上限値は特に制限されず、レンチキュラーレンズ１８を構成するシリンドリカルレンズの長手方向に平行な基板（受像層）の長さにより変わり、最大値は基板の長さ／領域の短軸径である。使用される用途を考慮すると、アスペクト比の上限値としては１０００００以下が好ましく、６００００以下がより好ましい。
なお、アスペクト比とは、その領域の長軸径／短軸径の比であり、ここで長軸径とはその領域の絶対最大長（領域の輪郭線上の任意の２点間の距離の最大値）を意味し、短軸径とは絶対最大長に平行な２本の直線で、該領域を挟んだときの２直線間の最短距離を意味する。
上記アスペクト比は、２０個以上の領域について個々のアスペクト比を求めて得られた算術平均の値を意味する。また、長軸径および短軸径は、例えば、電子顕微鏡によって観察した画像データを用いて求めることが出来る。
【００１８】
上記領域の長軸径および短軸径は、上記のアスペクト比を満足すれば特に制限されず、画像形成基板上に形成される画像により適宜最適な値が選択される。なかでも、長軸径は３μｍ以上が好ましく、１０μｍ以上がより好ましい。長軸径の上限値は、該長軸方向と平行な画像形成基板の長さに該当する。
短軸径は１．６μｍ以上が好ましく、５μｍ以上がより好ましい。短軸径の上限値としては、長軸径とのアスペクト比が１．８の関係にある値である。
【００１９】
表面上における所定のインクに対して親和性が異なる２つの領域の面積比は、特に制限されず、形成される画像により適宜最適な大きさが選択される。２つの領域のうちインクに対して親和性の高い領域を領域Ａ（以後、親インク領域とも称する）とし、親和性の低い領域を領域Ｂ（以後、撥インク領域とも称する）とすると、その面積比（領域Ａ／領域Ｂ）は、０．２〜２０が好ましく、０．５〜２０がより好ましく、１〜１０が特に好ましい。上記範囲であれば、より高解像度の画像形成が期待でき、より高品位な画像を形成することができる。
【００２０】
なお、画像形成基板上に着弾されるインクの大きさは、形成される画像により適宜変更され、親インク領域の幅より大きくてもよい。その場合は、撥インク領域を一部またぐ形でインクによる色画素が形成される。
【００２１】
＜受像層の好適態様＞
所定のインクに対して親和性が異なる２つの領域の好ましい一実施態様として、図２に示すように、受像層上に形成される２つ領域がともに基板全体上にわたって延びる線状であることが挙げられる。
図２は、本発明の画像形成基板の一実施形態の拡大斜視断面図である。同図に示す画像形成基板２０は、支持体１２、受像層１４を有する積層構造である。受像層１４は、その表面上に、所定のインクに対して親和性の高い線状領域（親インク領域２２ａ）と親和性の低い線状領域（撥インク領域２４ａ）とを有する。
同図においては、着弾されたインクは親インク領域２２ａと馴染みやすい。そのため、親インク領域２２ａ内にインクが留まりやすく、撥インク領域２４ａへの拡散が抑えられる。結果として、親インク領域２２ａ内を中心に色画素が形成され、画像解像度が向上する。
なお、同図において親インク領域２２ａおよび撥インク領域２４ａは略長方形状であり、その長手方向の長さは基板（受像層）の長さに対応する。また、各領域はストライプ状に配置されており、その長手方向がＹ軸に対して平行に配列している。
【００２２】
親インク領域２２ａおよび撥インク領域２４ａが同図に示す線状領域の場合、その短手方向における長さ（幅）は、特に制限されず、形成される画像により適宜最適な長さが選択される。なかでも、形成される画像をより高解像度で得られる点から、それぞれの領域の幅は、２００ｎｍ〜３０μｍが好ましく、１μｍ〜２０μｍがより好ましい。なお、上記の領域の短手方向とは、レンチキュラーレンズ１８を構成するシリンドリカルレンズの短手方向に対して略並行な方向を指す。
【００２３】
所定のインクに対して親和性が異なる２つの領域の好ましい他の実施形態として、図３に示すように、２つの領域が、連続領域である海状領域と分散領域である島状領域とからなる海島構造を形成し、島状領域がアスペクト比１．８以上を示す領域であることが挙げられる。
図３は、本発明の画像形成基板の他の実施形態の拡大斜視断面図である。同図に示す画像形成基板２０は、支持体１２、受像層１４を有する積層構造である。受像層１４は、その表面上に、海島状の構造を形成する２つの領域を有する。同図においては、所定のアスペクト比を有する島状部分が所定のインクに対して親和性が高い領域（親インク領域２２ｂ）であり、海状部分が所定のインクに対して親和性が低い領域（撥インク領域２４ｂ）である。また、本発明においては、親インク領域が海状部分を形成し、撥インク領域が島状部分を形成してもよい。なかでも、より高品位な画像を得られる点で、島状部分が親インク領域であることが好ましい。
なお、上述のように親インク領域２２ｂの長軸方向は、レンチキュラーレンズ１８を構成するシリンドリカルレンズの長手方向と略並行に配置される。同図においては、その長手方向がＹ軸に対して平行に配列している。
【００２４】
また、複数の親インク領域２２ｂは、隣接して配列していても、また、所定の間隔を有して配列していてもよい。所定の間隔を有する場合は、間隔は着弾されるインク液滴の大きさより小さいほうが好ましく、具体的には、その間隔は２００ｎｍ〜３０μｍが好ましく、１μｍ〜２０μｍがより好ましい。
なお、上記間隔は、２つの領域の重心間の距離を指す。
【００２５】
親インク領域２２ｂのアスペクト比は、１．８以上を示し、好ましくは２〜２０であり、より好ましくは２．５〜１０である。上記範囲内であると、解像度向上の効果と、元画像の再現性の両立の点で好ましい。
【００２６】
親インク領域２２ｂの長軸径および短軸径は、上記のアスペクト比を満足すれば特に制限されず、画像形成基板上に形成される画像により適宜最適な値が選択される。なかでも、長軸径は５０ｎｍ〜２００μｍが好ましく、２００ｎｍ〜１００μｍがより好ましい。短軸径は３０ｎｍ〜１２０μｍが好ましく、１２０ｎｍ〜６０μｍがより好ましい。
【００２７】
上記親インク領域２２ｂの形状は、上記アスペクト比を満足すれば、特に限定されないが、楕円状が好ましい。
【００２８】
所定のインクに対して親和性が異なる２つの領域のうち親和性が高い領域（親インク領域）のインクに対する接触角としては、インクとの馴染みがより優れる点から、好ましくは３５°以下であり、より好ましくは３０°以下であり、特に好ましくは２５°以下である。
一方、他方の領域（撥インク領域）のインクに対する接触角は、インクの拡散がより抑えられる点から、好ましくは５０°以上であり、より好ましくは５５°以上であり、特に好ましくは６０°以上であり、最も好ましくは７０°以上である。
なお、親インク領域と撥インク領域とのインクに対する接触角の差は、２０°以上であることが好ましく、４０°以上であることがより好ましく、５５°以上であることが特に好ましく、６０°以上が最も好ましい。上記範囲であれば、基板上の画像滲みが抑えられ、得られる立体印刷物の画像品質がより優れる点で好ましい。
【００２９】
＜受像層を構成する材料＞
上述した受像層１４を構成する材料は、上述のような所定のインクに対して親和性が異なる２つの領域の形成が可能な材料であれば、特に制限されない。
好ましい態様の一つとして、相分離構造を形成する、互いに非相溶である２種の高分子を使用することが挙げられる。この場合、互いに非相溶である２種の高分子を混合して使用してもよいし、互いに非相溶である２種の高分子が末端で結合したブロック共重合体を使用してもよい。なお、これらの高分子を用いて得られる構造のなかでは、ラメラ相が受像層に対して垂直方向（厚み方向）に配向し、ラメラ界面がレンチキュラーレンズを構成するシリンドリカルレンズの長手方向と略並行に配向したラメラ状の相分離構造が好ましい。このラメラ状の相分離構造であれば、図２に示すように受像層の表面上に所定のインクに対して親和性が異なる２つの領域が、表面全体にわたって伸び、ストライプ状に隣接して配列した構造が得られる。
【００３０】
使用される高分子としては、所定の相分離構造を形成する高分子であれば特に制限されず、例えば、ビニル系高分子として、ポリスチレン類（例えば、ポリスチレン、ポリメチルスチレン、ポリジメチルスチレン、ポリトリメチルスチレン）、ポリ（メタ）アクリレート類（例えば、ポリメタクリル酸メチル、ポリメタクリル酸エチル、ポリメタクリル酸ブチル、ポリメタクリル酸イソブチル、ポリメタクリル酸ヘキシル、ポリメタクリル酸フェニル、ポリメタクリル酸メトキシエチル、ポリメチルアクリレート、ポリエチルアクリレート、ポリブチルアクリレート、ポリヘキシルアクリレート）、ポリビニルエステル類（例えば、ポリビニルアセテート、ポリビニルプロピオネート、ポリビニルブチレート、ポリビニルイソブチレート、ポリビニルカプロエート、ポリビニルクロロアセテート、ポリビニルメトキシアセテート、ポリビニルフェニルアセテート）、ポリアルキレン類（例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリイソブチレン）、ポリビニルハロゲン化物類（例えば、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリテトラフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン）などが挙げられる。また、カルボン酸基、リン酸基、スルホン酸基または水酸基を有するビニル系高分子（ポリアクリル酸、ポリスチレンスルホン酸、ポリビニルベンジルスルホン酸、ポリビニルスルホン酸、ポリビニルアルコール、ポリヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ポリヒドロキシスチレン）なども挙げられる。
ジエン系高分子としては、ポリブタジエン、ポリイソプレンなどが挙げられる。エーテル系高分子としては、ポリメチレンオキシド、ポリエチレンオキシド、ポリチオエーテル、ポリジメチルシロキサン、ポリエーテルスルホンなどが挙げられる。縮合系エステル型高分子としては、ポリエステル類（例えば、ポリ−ε−カプロラクトン、ポリ乳酸）などが挙げられる。縮合系アミド型高分子としては、ナイロン６、ナイロン６６、ポリ−ｍ−フェニレンイソフタラミド、ポリ−ｐ−フェニレンテレフタラミド、ポリピロメリットイミドなどが挙げられる。
【００３１】
上記例示した高分子などの中から非相溶な高分子同士を適宜選択して、混合し、ポリマーアロイを作製することができる。また、ブロック共重合体を構成するポリマー鎖の組み合わせとしては、使用するポリマー鎖同士が非相溶であれば特に限定されない。
上記のポリマーアロイを作製する場合、または、ブロック共重合体を作製する場合における高分子同士の組み合わせとしては、例えば、ビニル系高分子同士、ビニル系高分子とジエン系高分子、ビニル系高分子とエーテル系高分子、ビニル系高分子と縮合系エステル型系高分子、ジエン系高分子同士の組み合わせが好ましく、ビニル系高分子１種以上使用することがより好ましく、ビニル系高分子同士が最も好ましい。
【００３２】
また、使用する高分子としては、上記例示した高分子を複数有する共重合体であってもよい。つまり、上記例示高分子を構成する繰り返し単位の一つを主成分とする共重合体であってもよいし、上記例示高分子を構成する繰り返し単位を複数種類有するランダム共重合体であってもよい。
なお、使用する高分子は、架橋性基を有することが好ましい。高分子が架橋性基を有すると、露光処理を施すことにより高分子間の架橋が進行し、機械的強度の優れた受像層を作製することができる。なお、架橋性基としては、ラジカル重合性基やカチオン重合性基を有するものであればよく、ラジカル重合性基としては、例えば、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、アクリロイルアミノ基、メタクリロイルアミノ基などが好ましい。また、カチオン重合性基としては、例えば、環状エーテル基（エポキシ基、オキセタン基等）、ビニル基、ラクトン基、アジリジン基などが挙げられ、これらの中でも、ビニル基またはエポキシ基が好ましい。
【００３３】
２種の高分子を用いてポリマーアロイを作製する場合、その混合比は適宜選択されるが、使用する２種のポリマーＡとポリマーＢとの質量比（ポリマーＡ／ポリマーＢ）が、０．０５〜２０が好ましく、０．１〜１０がより好ましい。
【００３４】
ブロック共重合体の共重合比率は、適宜選択されるが、ラメラ状ミクロ相分離構造の場合、共重合体を構成するポリマーＡとポリマーＢとの比率（ポリマーＡ／ポリマーＢ）＝０．６５／０．３５〜０．３５／０．６５（体積比）が好ましく、より好ましくは０．６／０．４〜０．４／０．６（体積比）である。上記範囲内であれば、より配列の整ったラメラ状のミクロ相分離構造が得られる。
【００３５】
使用される高分子の重量平均分子量（Ｍｗ）は、使用目的により適宜選択されるが、なかでも５０００〜２０００００が好ましく、６０００〜５００００がより好ましい。なお、上記重量平均分子量（Ｍｗ）は、ＧＰＣ（ゲル浸透クロマトグラフィー）を用いて測定し、標準ポリスチレンに換算したときの重量平均分子量である。
【００３６】
受像層１４を構成する材料の他の好ましい態様の一つとして、外部からの刺激に応じて、極性の変化によりインクに対する接触角が変化する極性変換材料が挙げられる。この極性変換材料は、熱、光、電磁波、圧力などの外部からの刺激に応じて、親水性から疎水性、または、疎水性から親水性へと極性の変化を示す材料、またはそのような性質を示す官能基を有する化合物である。
なかでも、簡便にパターン化が可能であり、且つ装置の汎用性の点で、熱または光により極性が変化する材料（以下、それぞれ熱極性変換材料、光極性変換材料とも称する）が好ましい。なかでも、光照射の方がより微細なパターン化が可能であるため、光極性変換方式の方が好ましい。本発明においては、極性変換材料（例えば、熱極性変換材料または光極性変換材料）を側鎖に有する高分子化合物を使用してもよい。
また、受像層を形成する高分子中に極性変換材料が含まれていてもよい。なお、極性変換材料を含有する高分子（バインダー樹脂）としては、上記で説明した高分子などを使用できる。
【００３７】
熱極性変換材料としては、例えば、Ｎ−ｎ−プロピルアクリルアミド、Ｎ−イソプロピルアクリルアミド、Ｎ−エチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ−アクリロイルピロリジン、Ｎ−アクリロイルピペリジン、Ｎ−アクリロイルモルホリン、Ｎ−ｎ−プロピルメタクリルアミド、Ｎ−イソプロピルメタクリルアミド、Ｎ−エチルメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルメタクリルアミド等のＮ置換（メタ）アクリルアミド誘導体を有するポリマー；ヒドロキシプロピルセルロース、ポリビニルアルコール部分酢化物、ポリビニルメチルエーテル、（ポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレン）ブロックコポリマー、ポリオキシエチレンラウリルアミン等のポリオキシエチレンアルキルアミン誘導体；ポリオキシエチレンソルビタンラウレート等のポリオキシエチレンソルビタンエステル誘導体；（ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル）アクリレート、（ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル）メタクリレート等の（ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル）（メタ）アクリレート類；及び（ポリオキシエチレンラウリルエーテル）アクリレート、（ポリオキシエチレンオレイルエーテル）メタクリレート等の（ポリオキシエチレンアルキルエーテル）（メタ）アクリレート類等のポリオキシエチレン（メタ）アクリル酸エステル誘導体等が利用できる。
【００３８】
光極性変換材料としては、酸化チタン、酸化亜鉛、光可逆異性化物質であるトランス・シス異性化を起こすスチルベン系化合物、アゾベンゼン系化合物、ケト−エノール互変異性を起こすアゾヒドラゾン系化合物、閉開反応を起こすフルキド系化合物、開閉反応を起こすスピロピラン系化合物、イオン解離反応を起こすトリフェニルメタン系化合物、酸化反応を起こすテトラベンゾペンタセン系化合物などが挙げられる。
さらには、露光により開裂、または、光により発生した酸や塩基などの物質による開裂を起こす高級エステル化合物（例えば、カルボン酸３級エステル系化合物（カルボン酸第３級アルキルエステル系化合物）、好ましくは第３級アルキルエステル系化合物、アルコキシアルキルエステル系化合物、アルキルスルホン酸エステル系化合物）、オキシムエステル系化合物、アシルフォスフィンオキサイド系化合物、α−ヒドロキシアルキルケトン系化合物、ロフィンダイマー系化合物、およびトリハロメチルトリアジン系化合物などが挙げられる。
【００３９】
光極性変換材料の好ましい実施態様の一つとしては、より解像度に優れた立体画像が得られる点で、光極性変換基として上記各種化合物を側鎖に有する高分子が挙げられる。なかでも、露光により開裂、または、光により発生した酸や塩基により開裂を起こす第３級アルキルエステル、アルコキシアルキルエステル、またはアルキルスルホン酸エステルを側鎖として有する高分子が好ましい。
【００４０】
第３級アルキルエステルとは、カルボキシル基の水素原子が、アルキル基またはシクロアルキル基で置換されることによりエステルを形成しており、そのカルボニルオキシ基（−Ｃ（Ｏ）−Ｏ−）の末端の酸素原子に、アルキル基またはシクロアルキル基の第３級炭素原子が結合している構造を示す。この第３級アルキルエステルにおいては、酸が作用すると、酸素原子と第３級炭素原子との間で結合が切断され、カルボキシル基が生成する。
なお、第３級炭素を有するアルキル基としては、ｔ−ブチル基、アダマンチル基などが挙げられる。
【００４１】
アルコキシアルキルエステルとは、カルボキシル基の水素原子がアルコキシアルキル基で置換されることによりエステルを形成しており、そのカルボニルオキシ基（−Ｃ（Ｏ）−Ｏ―）の末端の酸素原子にアルコキシアルキル基が結合している構造を示す。このアルコキシアルキルエステルは、酸が作用すると酸素原子とアルコキシアルキル基との間で結合が切断され、カルボキシル基が生成する。
アルキルスルホン酸エステルとは、スルホン酸基の水素原子がアルキル基で置換されることによりエステルを形成しており、そのスルホン酸基（−Ｓ（Ｏ）２−Ｏ−）の末端の酸素原子に、アルキル基が結合している構造を示す。このアルキルスルホン酸エステルにおいては、酸が作用すると、酸素原子とアルキル基との間で結合が切断され、スルホン酸基が生成する。
【００４２】
なお、上記の所定の官能基を有する高分子を使用する場合は、必要に応じて、公知の酸発生剤、塩基発生剤を併用してもよい。
【００４３】
また、光極性変換材料の好ましい他の実施態様としては、支持体表面とカップリング反応しうる官能基（以後、適宜、反応性官能基と称する）を有する光極性変換材料が好ましい。反応性官能基としては、−ＮＣＯ、−Ｓｉ（ＯＡ）３基（Ａは、アルキル基を表す。好ましくは、メチル基、エチル基）、−ＳｉＸ３基（Ｘはハロゲン原子を表す。好ましくは、塩素原子）などが挙げられる。光極性変換材料が反応性官能基を有していると、支持体との密着性が向上し、後述するパターン形成時に受像層の剥がれなどが抑制され、結果として得られる画像の滲みが抑制され、かつ、立体印刷物の画像品質が向上する。
【００４４】
＜画像層＞
画像層１６は、インクジェット方式により受像層１４の所定の位置にインクジェットノズルより吐出されたインクを硬化して得られる画像層であって、所望の画像が形成される。上記のように、吐出されたインクは、好ましくは受像層１４の２つの領域のうちインクに対して親和性の高い領域を中心にして留まり、硬化して画像を形成する。
例えば、図１に示すように、画像１６Ａと画像１６Ｂとがそれぞれ短冊状に分割され、１つのレンチキュラーレンズに分割された画像１６Ａと画像１６Ｂの短冊状の画像がそれぞれ１つずつ、交互に配置される。
【００４５】
画像層の厚みは特に制限されず、形成させる画像により適宜最適な厚みが選択される。通常は、１〜５０μｍ程度の厚みであり、好ましくは１０〜３０μｍである。
【００４６】
使用されるインクの構成成分は、特に限定されず、染料または顔料などの色材および溶媒が含有される。さらに、必要に応じて重合性モノマー、重合開始剤、バインダーが含有される。なお、使用されるインクは特に制限されず、水系インクでも、溶剤系インクでもよい。
以下に使用される材料について詳述する。
【００４７】
色材としては公知の顔料、染料のいずれも使用でき、形成される画像に応じて適宜選択される。例えば、イエロー、マゼンタ、シアン、ブラック、ホワイトなどが挙げられる。更には高色再現を目的に、レッド、グリーン、ブルー、オレンジ、またはこれらの濃度の低いインクであるライトインク用の色材を用いることもある。
色材が顔料である場合は、有機顔料、無機顔料のいずれも使用でき、黒色顔料では、ファーネスブラック、ランプブラック、アセチレンブラック、チャンネルブラック等のカーボンブラック顔料等が挙げられる。
具体的には、シアンとしては、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ−１，−２，−３，−１５，−１５：１，−１５：２，−１５：３，−１５：４，−１６，−２２，−６０等が挙げられる。
マゼンタとしては、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｒｅｄ−５，−７，−１２，−４８，−４８：１，−５７，−１１２，−１２２，−１２３，−１４６，−１６８，−１８４，−２０２等が挙げられる。
イエローとしては、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ−１，−２，−３，−１２，−１３，−１４，−１６，−１７，−７３，−７４，−７５，−８３，−９３，−９５，−９７，−９８，−１１４，−１２８，−１２９，−１３８，−１５１，−１５４等が挙げられる。
【００４８】
色材が染料である場合は、例えば、特開昭６４−９０４０３号公報、特開昭６４−９１１０２号公報、特開平１−９４３０１号公報、特開平６−１１６１４号公報、特登２５９２２０７号、米国特許第４，８０８，５０１号明細書、米国特許第５，６６７，９２０号明細書、米国特許第５，０５９，５００号明細書、特開平５−３３３２０７号公報、特開平６−３５１８３号公報、特開平６−５１１１５号公報、特開平６−１９４８２８号公報等に記載の染料が挙げられる。
【００４９】
化学構造としては、ピラゾールアゾ系、アニリノアゾ系、アリールアゾ系、ピラゾロトリアゾールアゾ系、ピリドンアゾ系等のアゾ系、トリフェニルメタン系、アントラキノン系、アンスラピリドン系、ベンジリデン系、オキソノール系、シアニン系、フェノチアジン系、ピロロピラゾールアゾメチン系、キサンテン系、フタロシアニン系、ベンゾピラン系、インジゴ系、等の染料が使用できる。
【００５０】
溶媒としては、公知の溶媒を使用することができ、例えば、水や、エステル類（例えば、ギ酸アミル、酢酸イソアミル、プロピオン酸ブチル、酪酸イソプロピルなど）、３−オキシプロピオン酸アルキルエステル類（例えば、３−オキシプロピオン酸メチルなど）、２−オキシプロピオン酸アルキルエステル類（例えば、２−オキシプロピオン酸メチル、２−オキシプロピオン酸エチル、２−オキシプロピオン酸プロピルなど）、エーテル類（例えば、ジエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル）、ケトン類（例えば、シクロヘキサノン、２−ヘプタノン、３−ヘプタノン）、芳香族炭化水素類（例えば、キシレンなど）などが好適に挙げられる。これらは１種または２種以上を併用して使用しても構わない。
【００５１】
重合性モノマーとしては、公知の重合性モノマーを使用することができる。重合性モノマーの添加により、画像層と受像層との密着性が向上する。併せて、上述した染料のインク中での分散均一性の向上や、耐候性・耐熱性などの堅牢性の向上が期待できる。この重合性モノマーとしては、特に制限は無いが、各種置換基のバリエーションが多く、入手が容易な点で、（メタ）アクリル系モノマーなどのラジカル重合性モノマー、エポキシ系モノマー、およびオキセタニル系モノマーから選択される１種以上を含有することが好ましい。
【００５２】
重合開始剤としては、公知の光重合開始剤や熱重合開始剤などの重合開始剤を併用してもよい。重合開始剤は、インクに用いる重合性モノマーおよびバインダーの種類、重合経路にあわせて選択することができる。重合開始剤としては、例えば、特許出願２００７−３０３６５６号明細書の段落番号[００８６]〜［０１１７］に記載される重合開始剤を用いてもよい。
【００５３】
インク中における色材、溶媒、必要に応じて添加される重合性モノマー、重合開始剤の各種含有量は、特に制限されず、適宜最適な量が選択される。
インクとしては、上記溶剤に色材を溶解または分散させ、さらにバインダーを含む水性インク、または、溶剤インクを用いることが可能である。その他にも、光や熱にて硬化可能な無溶剤または低溶剤インクも用いることが可能である。
【００５４】
＜レンチキュラーレンズ＞
レンチキュラーレンズ１８は、半円柱状（カマボコ状）に形成されたシリンドリカルレンズを並接してシート状に形成したレンズであって、構成単位レンズであるシリンドリカルレンズの長手方向が上述した受像層の所定のアスペクト比を有する領域の長軸方向と略並行になるように配置される。レンチキュラーレンズ１８をこのように配置することにより、レンチキュラーレンズ１８を介して、画像層で形成された画像が立体的に観察される。
【００５５】
レンズの高さ（画像層からからレンズ頂部までの高さｈ）は用途に応じて適宜選択されるが、２００〜２５００μｍ程度であり、好ましくは２５０〜８００μｍである。
【００５６】
隣接するレンズのピッチ（Ｐ）は用途に応じて適宜選択されるが、１００〜１５００μｍ程度であり、好ましくは２５０〜８００μｍである。
なお、レンズのピッチは、通常、形成される画像のピッチに合わせて適宜変更される。例えば、図１に示すように、画像１６Ａと画像１６Ｂとがそれぞれ右目用画像、左目用画像として形成されている場合、レンズの左部分の真下に短冊状の画像Ａがくるように、レンズの右部分の真下に短冊状の画像Ｂがくるように、レンズが位置決めされる。
【００５７】
レンチキュラーレンズに使用される材料としては、ガラス、プラスチックなどの光学的透光性を有する材料であれば、特に制限はないが、生産効率などを考慮するとプラスチックを用いることが最も好ましい。
プラスチックとしては、ポリメタクリル酸メチルなどのアクリル系樹脂、ポリカーボネート、アクリル−スチレン共重合体、スチレン系樹脂、ポリ塩化ビニルなどを例示することができる。特に、微細な加工が必要なレンズ層の材料としては、紫外線硬化型樹脂や電子線硬化型樹脂などの放射線硬化型樹脂を用いることが好ましい。
放射線硬化型樹脂としては、例えば、ウレタン（メタ）アクリレートおよび／またはエポキシ（メタ）アクリレートオリゴマーに反応希釈剤、光重合開始剤、光増感剤などが添加された組成物などを用いることができる。
ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーとしては特に限定されないが、例えば、エチレングリコール、１，４−ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、ポリカプロラクトンポリオール、ポリエステルポリオール、ポリカーボネートジオール、ポリテトラメチレングリコールなどのポリオール類と、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、キシレンイソシアネートなどのポリイソシアネート類とを反応させて得ることができる。
エポキシ（メタ）アクリレートオリゴマーとしては特に限定されないが、例えば、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡ型プロピレンオキサイド付加物の末端グリシジルエーテル、フルオレンエポキシ樹脂などのエポキシ樹脂類と、（メタ）アクリル酸とを反応させて得ることができる。
【００５８】
レンチキュラーレンズ１８の製造方法としては、特に制限されず、例えば、インジェクション成形、シルク印刷方式、押し出しシート成形、または熱厚プレス成形などにより製造することが望ましい。
【００５９】
＜画像形成基板＞
画像形成基板２０は、図１に示すように、支持体１２および受像層１４から構成される。なお、必要に応じて、支持体１２と受像層１４との間に両者の接着を促進する接着層を有していてもよい。なお、接着層は図１では省略している。接着層としては、特に限定されず、一般的な高分子樹脂、シランカップリング剤、ゲル化材料、市販の接着材料などが使用される。
画像形成基板２０の全体厚みは特に限定されず、用途により適宜最適な値が選択される。なかでも、１μｍ〜１０ｍｍが好ましく、１０μｍ〜５００μｍがより好ましい。
【００６０】
画像形成基板２０の他の実施態様としては、図４に示すように、支持体１２の表面が受像層１４で構成される態様が挙げられる。この場合、受像層１４は実質的には厚みのない層として扱われる。
【００６１】
＜立体印刷物＞
立体印刷物１０は、図１に示すように、支持体１２、受像層１４、画像層１６、およびレンチキュラーレンズ１８を備える構造を有する。
図１においては、画像層において画像１６Ａおよび画像１６Ｂの二種類が記載されているが、特に限定されず、必要に応じて一つのシリンドリカルレンズ内に３種類以上の画像を有していてもよい。
【００６２】
本発明の立体印刷物は、種々の用途に使用することができ、例えば、屋内、屋外広告用ポスター、立体写真プリント、各種素材の表面装飾用フィルムなどが挙げられる。
【００６３】
＜画像形成基板の製造方法（実施態様１）＞
本発明に係る画像形成基板の製造方法は特に限定されないが、好ましい実施態様の一つとして相分離構造を形成する互いに非相溶な２種の高分子を含む溶液を使用する方法が挙げられる。この製造方法は主に、以下の工程を有する。
（塗膜形成工程）相分離構造を形成する互いに非相溶な２種の高分子を含む溶液を、支持体上に塗布して塗膜を形成する工程
（乾燥工程）塗膜形成工程で得られた塗膜を乾燥する工程
以下に各工程について説明する。
【００６４】
（塗膜形成工程）
塗膜形成工程では、互いに非相溶な２種の高分子を含む溶液を支持体上に塗布して、塗膜を形成する工程である。この工程で使用される高分子は、上述した例示高分子から適宜組み合わせて使用される。
溶液を作製する際に使用される溶媒は、２種の高分子が溶解すればよく、両者のポリマーの種類により適宜選択される。例えば、アルコール類、多価アルコール類、多価アルコールエーテル類、アミン類、アミド類、複素環類、スルホキシド類、スルホン類、エステル類、エーテル類、ケトン類、脂肪族炭化水素類、芳香族炭化水素類、ニトリル類、ハロゲン類などが挙げられる。
溶液中の２種の高分子の合計濃度は、溶液全量に対して、１〜５０質量％が好ましく、２〜３０質量％がより好ましい。上記範囲内であれば、後述する塗布の際に取り扱いやすく、均一な膜が得られやすい。
【００６５】
上述の溶液の塗布方法としては、厚みが均一でかつ表面が平滑になるものであれば特に限定されず、例えば、スピンコート法、スプレー法、ロールコート法、スリットコート法、バーコート法、インクジェット法などの方法を採用することができる。中でも、生産性の観点から、スリットコート法、ロールコート法が好ましい。
【００６６】
（乾燥工程）
上記の塗膜形成工程後、得られた塗膜を乾燥する乾燥処理（乾燥工程）が実施される。加熱温度および時間は、使用する高分子や膜厚などにより適宜選択される。例えば、４０〜１８０℃が好ましく、５０〜１３０℃がより好ましい。加熱時間は、３０秒以上が適当であり、１〜３０分が好ましい。
【００６７】
乾燥工程終了後、必要に応じて、乾燥工程で得られた積層体を有機溶剤の蒸気雰囲気中にさらす処理（溶媒処理工程）を行ってもよい。使用する有機溶剤としては、使用される高分子により適宜選択されるが、ベンゼン、トルエン、キシレン、アセトン、メチルエチルケトン、クロロホルム、メチレンクロライド、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ヘキサン、オクタン、メタノール、エタノール、酢酸、酢酸エチル、ジエチルエーテル、二硫化炭素、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなどが挙げられる。
【００６８】
上記の塗膜形成工程および乾燥工程を経て得られる層（受像層１４）は、上述した所定のインクに対して親和性の異なる２つの領域を有する表面を備える。特に、得られる膜が、ラメラ状の相分離構造を有し、ラメラ状相が支持体に対して垂直方向に配向している構造をとることにより、図２に示すような、所定のインクに対して親和性の異なる領域がストライプ状に配置される表面を有する画像形成基板を得ることができる。また、２種の高分子の使用量を調整することにより、図３に示す海島状の構造を形成することもできる。
なお、上記互いに非相溶な２種の高分子の代わりに、相分離構造を形成する互いに非相溶である２種の高分子鎖が結合したブロック共重合体を使用してもよい。
【００６９】
＜画像形成基板の製造方法（実施態様２）＞
本発明に係る画像形成基板の製造方法の好ましい他の実施態様として、極性変換材料を含む溶液を使用する方法が挙げられる。この製造方法は主に、以下の工程を有する。
（膜形成工程）極性変換材料を含む溶液を支持体に塗布し、乾燥して膜を作製する工程
（パターン形成工程）膜形成工程で得られた膜表面の所定のパターン領域に、加熱処理または光照射処理を施し、この領域表面の極性を変化させて、未処理領域の所定のインクに対する親和性と異なる親和性を有するパターン領域を形成する工程
以下に各工程について詳述する。
【００７０】
（膜形成工程）
膜形成工程では、まず、上述した極性変換材料を含む溶液を支持体上に塗布する。
使用される溶媒は、極性変換材料が溶解すれば特に限定されず、上記の２種の高分子を含む溶液を作製する際に使用される溶媒などを使用することができる。溶液中の極性変換材料の濃度は、使用される極性変換材料などにより適宜最適な条件が選択される。
塗布方法は特に限定されず、上記のようにスピンコート法、スプレー法、ロールコート法、インクジェット法などの方法を採用することができる。
【００７１】
塗布後、得られた塗膜を乾燥して含有される溶媒を除去し、膜を形成する。加熱温度および時間は、使用する極性変換材料や膜厚などにより適宜選択される。例えば、４０〜１８０℃が好ましく、５０〜１３０℃がより好ましい。加熱時間は、３０秒以上が好ましく、１〜３０分がより好ましい。
【００７２】
（パターン形成工程）
パターン形成工程においては、膜形成工程で得られた膜表面上の所定のパターン領域に対して加熱処理または光照射処理を施す。処理領域では極性変換材料によって、その表面上の極性が変化する。そのため、膜表面上に、未処理領域と比較して、所定のインクに対する親和性が異なる所定のパターン領域が形成される。
処理を施すパターン形状がストライプの場合は、図２に示すように、所定のインクに対する親和性の異なる線状領域が交互に隣接して配列する表面を形成することができる。
また、処理を施すパターン形状が、アスペクト比１．８以上を示す、その長軸が一定方向に配列した複数の領域が分散相として分布した海島状形状の場合は、図３に示すような、表面を有する画像形成基板を作製できる。
【００７３】
上記の加熱処理または光照射処理を施された領域では、所定のインクに対する親和性が変化する。例えば、親インク性から疎インク性へ、または、疎インク性から親インク性へ変化する。なお、より解像度の高い画像を得やすい点から、処理領域が未処理領域と比較して、所定のインクに対する親和性がより高いことが好ましい。
【００７４】
パターン状に加熱を行う方法は、特に限定はされないが、例えば、放射線走査による方法や感熱ヘッドによる方法などが挙げられる。このような放射線走査に用いられる放射線としては、赤外線レーザーである事が特に好ましい。このような赤外線レーザーとしては、赤外線ＹＡＧレーザー（１０６４ｎｍ）や、半導体レーザー（６７０ｎｍ、７８０ｎｍ、８３０ｎｍ等）、炭酸ガスレーザー（１０６００ｎｍ）等が挙げられる。また、必要に応じて、所定のパターン形状（例えば、ストライプ状、楕円状、海島状など）を有するマスクを使用して、加熱処理を施してもよい。
加熱時間は使用される材料により適宜最適な条件が選択されるが、０．１秒以上が好ましく、生産性などの点から、５分以内が好ましい。
【００７５】
パターン状に光照射を行う方法は、特に限定はされないが、例えば、レーザーの二光束干渉露光技術や、レーザー描画技術などが挙げられる。使用される光源としては、使用される極性変換材料により適宜最適な光源が選択され、例えば、可視光レーザー、ＵＶレーザー、発光ダイオードが使用できる。好ましい波長としては、２５０〜４５０ｎｍの領域のものが好ましく、３００〜４０５ｎｍの領域のものが特に好ましい。また、必要に応じて、所定のパターン形状（例えば、ストライプ状、楕円状、海島状など）を有するマスクやプリズムシートなどを使用して、光照射処理を施してもよい。
光照射時間は使用される材料により適宜最適な条件が選択されるが、０．１秒以上が好ましく、生産性などの点から、５分以内が好ましい。
【００７６】
＜立体印刷物の製造方法＞
次に、図面に示す好適実施形態を参照して、本発明の画像形成基板を用いた立体印刷物の製造方法について詳細に説明する。
本発明に係る立体印刷物１０の製造方法は特に限定されないが、以下の工程を備えることが好ましい。
（画像形成工程）上述した画像形成基板上に、インクジェット方式によりインクを付与して、付与されたインクを硬化させて画像層を形成する工程
（レンチキュラーレンズ形成工程）画像形成工程で得られた画像層上に、レンチキュラーレンズを形成する工程
なお、好ましくは、画像形成工程は、画像形成基板上にインクジェット方式により液滴としてインクを付与する描画工程と、さらに、描画されたインクを活性エネルギー線の照射により硬化して色画素を形成する照射工程や、熱により硬化して色画素を形成する加熱工程を含む硬化工程を有し、必要に応じてベーク処理などの他の工程を設けて構成することができる。
【００７７】
図５は、本発明の立体印刷物の製造方法の一実施形態における製造工程を示すフローチャートであり、図６（ａ）〜（ｄ）は、本発明の立体印刷物の製造方法における画像形成基板から立体印刷物に至る製造工程を順に示す、画像形成基板および立体印刷物の模式的断面図である。なお、図６において使用される画像形成基板は、図２に示した所定のインクに対して親和性の異なる２つの線状領域を有する受像層を備える画像形成基板である。
図５および図６（ａ）〜（ｄ）に示すように、本発明の立体印刷物１０の製造方法は、画像形成基板２０にインクジェット方式によりインクを付与して、付与された未硬化画素インク３０を硬化させて画像層１６を形成する画像形成工程Ｓ１０２（図６（ａ）〜（ｃ）参照）と、形成された画像層１６上にレンチキュラーレンズ１８を形成するレンチキュラーレンズ形成工程Ｓ１０４（図６（ｄ）参照）とを有する。
【００７８】
（画像形成工程）
図６（ａ）〜（ｃ）に示すように、画像形成工程Ｓ１０２では、描画工程Ｓ１１０において、画像形成基板上の所定の位置にインクジェットインクの液滴をインクジェット法で付与して、硬化工程Ｓ１１４で付与された未硬化画素インク３０を硬化して画像１６Ａおよび画像１６Ｂを有する画像層１６を形成する。
【００７９】
本発明においては、描画工程Ｓ１１０において画像形成基板２０上の所定の位置に未硬化画素インク３０の液滴を付与した後、予備処理工程Ｓ１１２で未硬化画素インク３０内に含まれる溶剤を乾燥して除去してインク残部とした後に、このインク残部に活性エネルギー線を照射する照射工程（以下、第１の硬化工程ともいう）および／またはインク残部を加熱する加熱工程（以下、第２の硬化工程ともいう）からなる硬化工程Ｓ１１４によりインク残部を重合して画像層１６を形成してもよい。
【００８０】
描画工程Ｓ１１０において用いられるインクジェット方式としては、特に限定されず、帯電したインクジェットインクを連続的に噴射し電場によって制御する方法、圧電素子を用いて間欠的にインクジェットインクを噴射する方法、インクジェットインクを加熱してその発泡を利用して間欠的に噴射する方法等の、各種の方法を採用できる。
使用されるインクジェットヘッドとしては、コンティニュアス型やオンデマンド型のピエゾ方式、サーマル方式、ソリッド方式、静電吸引方式等の種々の方式のインクジェットヘッド（吐出ヘッド）を用いることができ、オンデマンド型の種々の方式のインクジェットヘッドを用いることが好ましく、特に、オンデマンド型のピエゾ方式のインクジェットヘッドを用いることが好ましい。また、インクジェットヘッドの吐出部（ノズル）は、単列配置に限定されず、複数列としても千鳥格子状に配置としてもよい。
なお、図６に示すように、インクジェット方式により吐出されたインクは、主に親和性の高い領域（親インク領域）に留まり、色画素を形成する。
【００８１】
＜第１の硬化工程＞
本発明の立体印刷物の製造方法においては、描画工程Ｓ１１０で付与されたインクに活性エネルギー線を照射して硬化する工程（第１の硬化工程）を設けることができる。硬化は、１色の未硬化画素インクを形成するごとに行ってもよいし、複数色または全色の未硬化画素インクを形成した後に行うようにしてもよい。
また、Ｙ，Ｍ，Ｃ，Ｋ，Ｒ，Ｇ，Ｂなどのインクの硬化は、インクの持つ感光波長に対応する波長領域の活性エネルギー線を発するエネルギー源を用いて、重合硬化を促進する露光処理を施すことにより行うことができる。
【００８２】
エネルギー源としては、例えば、２００〜４００ｎｍの紫外線、遠紫外線、ｇ線、ｈ線、ｉ線、ＫｒＦエキシマレーザ光、ＡｒＦエキシマレーザ光、電子線、Ｘ線、分子線、またはイオンビームなど、既述の重合開始剤が感応するものを適宜選択して用いることができる。具体的には、２５０〜４５０ｎｍ、好ましくは３６５±２０ｎｍの波長領域に属する活性光線を発する光源、例えば、ＬＤ、ＬＥＤ（発光ダイオード）、蛍光灯、低圧水銀灯、高圧水銀灯、メタルハライドランプ、カーボンアーク灯、キセノンランプ、ケミカルランプなどを用いて好適に行うことができる。好ましい光源には、ＬＥＤ、高圧水銀灯、メタルハライドランプが挙げられる。
【００８３】
活性エネルギー線の照射時間としては、モノマーと重合開始剤との組合せに応じて適宜設定することができるが、例えば、１〜３０秒とすることができる。
【００８４】
＜第２の硬化工程＞
本発明の立体印刷物の製造方法においては、描画工程Ｓ１１０で付与されたインクを熱により硬化する工程（第２の硬化工程）を設けることができる。上記のように、第１の硬化工程を設けると共に第２の硬化工程を設けることによって、立体印刷物１０の製造効率と表示特性とを両立させことができる。また、第２の硬化工程のみで硬化させてもよい。
このときの加熱温度および加熱時間は、インクジェットインクの組成などに依存するが、約１２０℃〜約２５０℃で約１０分〜約１２０分間加熱することが好ましい。
【００８５】
また、本発明のインクジェットインクを用いたカラーフィルタの製造方法では、活性エネルギー線の露光および／または熱処理によるインクの硬化を行う前に、予備処理工程Ｓ１１２として、予備加熱工程を設けてもよい。
予備加熱工程における加熱温度は特に制限は無いが、未硬化インクの熱重合が開始する温度をＴ℃とした場合に、Ｔ℃未満であり、未硬化インクの重合が起きない温度が好ましく、５０〜１００℃がより好ましく、６０〜９０℃がさらに好ましい。本予備加熱工程を入れることで、インクジェット法により付与されたインク中の有機溶剤の蒸発が促進される。
【００８６】
（レンチキュラーレンズ形成工程）
図６（ｃ）に示すように画像形成基板上に画像層１６を形成した後は、図６（ｄ）に示すように、画像層１６の全面を覆うようにレンチキュラーレンズを製造する。
レンチキュラーレンズの製造方法は特に制限されず、インジェクション成形、シルク印刷方式、押し出しシート成形、または熱厚プレス成形などが挙げられる。
【実施例】
【００８７】
以下、本発明の実施例について説明するが、本発明は下記実施例に何ら限定されるものではない。
【００８８】
＜実施例１＞
（ポリマーＰ１の合成）
アクリル酸モノマー１１ｇ（和光純薬製）、及びシアノエチルアクリレート１０ｇ（東京化成製）をＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド５９ｍＬに溶解させた。次に、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル０．５ｇ（和光純薬製)を添加後、反応液を８０℃に昇温し、窒素気流下、７時間反応させた。反応液を室温まで冷却後、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドを２６ｍＬ添加し、ジターシャリーペンチルハイドロキノン５０ｍｇ、トリエチルベンジルアンモニウムクロライド１．０ｇ（和光純薬製）、下記構造のモノマーＡ６．４ｇを添加し、窒素気流下、１００℃にて５時間反応させた。その後、酢酸エチル−ヘキサンの混合溶媒を用いて、反応液を再沈処理し、得られた固体を乾燥し、下記構造のポリマーＰ１を得た。なお、以下の構造式中の各繰り返し単位に記載の数値は、繰り返し単位のモル％を表す。
【００８９】
【化１】
2010249849.tif 000002
【００９０】
【化２】
2010249849.tif 000003
【００９１】
（ポリマーＰ２の合成）
アクリル酸１．３ｇ、アクリル酸メチル７．７ｇ、及びスチレン３．４ｇをＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド５９ｍＬに溶解させた。次に、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル０．５ｇを添加後、反応液を８０℃に昇温し、窒素気流下、７時間反応させた。反応液を室温まで冷却後、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドを２６ｍＬ添加し、ジターシャリーペンチルハイドロキノン５０ｍｇ、トリエチルベンジルアンモニウムクロライド１．０ｇ、上記モノマーＡ６．４ｇを添加し、窒素気流下、１００℃にて５時間反応させた。その後、酢酸エチル−ヘキサンの混合溶媒を用いて、反応液を再沈処理し、得られた固体を乾燥し、下記構造のポリマーＰ２を得た。なお、以下の構造式中の各繰り返し単位に記載の数値は、繰り返し単位のモル％を表す。
【００９２】
【化３】
2010249849.tif 000004
【００９３】
（パターン化された受像層の作製１）
前述の方法で合成したポリマーＰ１：０．３ｇ、ポリマーＰ２：０．３ｇを、蒸留水４．２ｍＬ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド０．０５ｍＬ、アセトニトリル１．５ｍＬ、炭酸水素ナトリウム０．２ｇの混合溶液に溶解させ、塗布液を調製した。得られた塗布液を、ＦＵＪＩＦＩＬＭ  Ｑｕａｌｉｔｙ  Ｄｒｙ  Ｐｈｏｔｏ  Ｐａｐｅｒ（光沢）（富士フイルム社製）（２０ｃｍ×２０ｃｍ）上にバーコートした。その後、この基板を６０℃で５分間乾燥した。
次に、露光機（ＵＶＸ−０２５１６Ｓ１ＬＰ０１、ウシオ電機社製）（光源：高圧水銀灯）を用い、コートされた基板に２０秒間全面露光を行った。露光後、得られた基板を１質量％炭酸ナトリウム水溶液に１分間浸漬し、蒸留水で洗浄後、４０℃で水分が揮発するまで乾燥を行った。
この基板を原子間力顕微鏡（Ｎａｎｏｐｉｘ１０００：セイコーインスルメンツ社製）を使用して観察したところ、表面に平均ピッチ（幅）７μｍのラメラ状の相分離構造が観察された。より詳細には、ポリマーＰ１からなるラメラ相とポリマーＰ２からなるラメラ相とがストライプ状に隣接して配置され、それぞれの相の長手方向が同一方向に配列していた（図２に示す構造）。この得られた基板を、基板Ａとする。この基板Ａの両領域のアスペクト比は、基板の大きさと相の幅より約２８５００であり、ポリマーＰ１からなるラメラ相（親インク領域）とポリマーＰ２からなるラメラ相（撥インク領域）との面積比は１であった。
なお、ポリマーＰ１からなるラメラ相（親インク領域）とポリマーＰ２からなるラメラ相（撥インク領域）のインクに対する接触角は、後述する方法により測定した。その結果を表１に示す。
【００９４】
＜実施例２＞
（ポリマーＰ３の合成）
アクリル酸１．９ｇ、アダマンチルアクリレート１４．２ｇ、および２−ヒドロキシエチルアクリレート５．４ｇをＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド５９ｍＬに溶解させた。次に、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル０．５ｇを添加後、反応液を８０℃に昇温し、窒素気流下、７時間反応させた。反応液を室温まで冷却後、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドを２６ｍＬ添加し、ジターシャリーペンチルハイドロキノン５０ｍｇ、トリエチルベンジルアンモニウムクロライド１．０ｇ、上記モノマーＡ９．３ｇを添加し、窒素気流下、１００℃にて５時間反応させた。その後、酢酸エチル−ヘキサンの混合溶媒を用いて反応液を再沈処理し、得られた固体を乾燥し、下記構造のポリマーＰ３を得た。なお、以下の構造式中の各繰り返し単位に記載の数値は、繰り返し単位のモル％を表す。
【００９５】
【化４】
2010249849.tif 000005
【００９６】
（パターン化された受像層の作製２）
上述の方法で得られたポリマーＰ３：０．５ｇをプロピレングリコールメチルエーテルアセテート１０ｍＬに溶解し、更に光酸発生剤としてＥＳＡＣＵＲＥ１０６４：０．０２ｇを添加した溶液を、ＦＵＪＩＦＩＬＭ  Ｑｕａｌｉｔｙ  Ｄｒｙ  Ｐｈｏｔｏ  Ｐａｐｅｒ上（２０ｃｍ×２０ｃｍ）へスピンコートした。スピンコーターの条件としては、まず３００ｒｐｍで５秒間、次に７５０ｒｐｍで２０秒間回転させた。その後、得られた基板を８０℃で３分間加熱し、溶剤を揮発させた。
次に、コートされた基板を、露光機（ＵＶＸ−０２５１６Ｓ１ＬＰ０１、ウシオ電機社製）（光源：高圧水銀灯）を用い、幅５μｍのストライプパターンのフォトマスクを介し、２０秒間露光を行った。この後、得られた基板を１質量％炭酸ナトリウム水溶液に１分間浸漬し、蒸留水で洗浄後、４０℃で水分が揮発するまで乾燥を行った。この得られた基板を、基板Ｂとする。なお、基板Ｂ上の照射領域と未照射領域の長手方向は同一方向に配列していた（図２に示す構造）。この基板Ｂの両領域のアスペクト比は、基板の大きさとフォトマスクのスリット幅より４００００であり、照射領域（親インク領域）と未照射領域（撥インク領域）との面積比は１であった。
なお、照射領域（親インク領域）と未照射領域（撥インク領域）のインクに対する接触角は、後述する方法により測定し、その結果は表１に示す。
【００９７】
＜実施例３＞
（基材結合性極性変換材料Ｔ１の合成）
４−シアノ−４’−ヒドロキシビフェニル２９．３ｇをＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド７５ｍＬに溶解し、さらに炭酸カリウム２２．８ｇを添加した。反応液を８０℃に加温し、そこに１１−ブロモ−１−ウンデセン３８．８ｇを滴下し、全量を滴下後に１００℃に昇温し、３時間反応させた。その後、反応液に蒸留水２５０ｍＬを加え、析出した固体を濾取して、アセトニトリルで再結晶を行い、白黄色固体を得た。
この白黄色固体２０．０ｇをトリクロロアセトニトリル１５０ｍＬに溶解し、臭化アルミニウム１．５４ｇを添加した。ここへ塩化水素ガスを４時間バブリングし、その後反応液を４時間静置した。溶媒を減圧除去し、酢酸エチルで抽出した後、シリカゲルカラムで精製し、黄色固体を得た。
この黄色固体１０．０ｇをＴＨＦ２０ｍＬに溶解させ、氷浴を用いて０℃に冷却後、ヘキサクロロ白金酸六水和物１．０ｍｇを添加して、さらにトリクロロシラン３０ｍＬを加えた。室温で１２時間撹拌した後、溶媒を減圧除去し、黄色固体（基材結合性極性変換材料Ｔ１）を得た。
【００９８】
【化５】
2010249849.tif 000006
【００９９】
（パターン化された受像層の作製３）
ＵＶオゾンクリーナー（ＮＬ−ＵＶ４２：日本レーザー電子社製）を用いてＦＵＪＩＦＩＬＭ  Ｑｕａｌｉｔｙ  Ｄｒｙ  Ｐｈｏｔｏ  Ｐａｐｅｒ（２０ｃｍ×２０ｃｍ）に１分間ＵＶオゾン処理を施した。次に、前述の方法で得られたＴ１：０．１ｇをメチルエチルケトン５０ｍＬに溶解させ得られた溶液を、上記オゾン処理を施した支持体上にスピンコートした。スピンコーターは、まず３００ｒｐｍで５秒間、次に７５０ｒｐｍで２０秒間回転させた。その後、基板を１００℃にて１０分間加熱し、その後基板表面をメチルエチルケトンで洗浄して、さらにエアーガンで乾燥した。
次に、コートされた基板を、露光機（ＵＶＸ−０２５１６Ｓ１ＬＰ０１、ウシオ電機社製）（光源：高圧水銀灯）を用い、幅５μｍのストライプパターンのフォトマスクを介し、２０秒間露光を行った。この得られた基板を、基板Ｃとする。なお、基板Ｃ上の照射領域と未照射領域の長手方向は同一方向に配列していた（図２に示す構造）。この基板Ｃの両領域のアスペクト比は、基板の大きさとフォトマスクのスリット幅より４００００であり、照射領域（親インク領域）と未照射領域（撥インク領域）との面積比は１であった。
なお、照射領域（親インク領域）と未照射領域（撥インク領域）のインクに対する接触角は、後述する方法により測定し、その結果は表１に示す。
【０１００】
＜実施例４＞
（パターン化された受像層の作製４）
実施例２で得られたポリマーＰ３：０．５ｇをプロピレングリコールメチルエーテルアセテート１０ｍＬに溶解し、更に光酸発生剤としてＥＳＡＣＵＲＥ１０６４：０．０２ｇを添加した溶液を、ＦＵＪＩＦＩＬＭ  Ｑｕａｌｉｔｙ  Ｄｒｙ  Ｐｈｏｔｏ  Ｐａｐｅｒ上（２０ｃｍ×２０ｃｍ）へスピンコートした。スピンコーターの条件としては、まず３００ｒｐｍで５秒間、次に７５０ｒｐｍで２０秒間回転させた。その後、得られた基板を８０℃で３分間加熱し、溶剤を揮発させた。
次に、コートされた基板を、露光機（ＵＶＸ−０２５１６Ｓ１ＬＰ０１、ウシオ電機社製）（光源：高圧水銀灯）を用い、短軸方向５μｍ、長軸方向１２．５μｍの楕円状スリットが、中心間の距離で２０μｍ間隔に並んだ、図７に示す海島状のパターンのマスクを介し、２０秒間露光を行った。この後、得られた基板を１質量％炭酸ナトリウム水溶液に１分間浸漬し、蒸留水で洗浄後、４０℃で水分が揮発するまで乾燥を行った。この得られた基板を、基板Ｄとする。この基板Ｄの島状部である楕円領域のアスペクト比は２．５であり、照射領域（親インク領域）と未照射領域（撥インク領域）との面積比（親インク領域／撥インク領域）は、０．３程度であった。
なお、照射領域（親インク領域）と未照射領域（撥インク領域）のインクに対する接触角は、後述する方法により測定し、その結果は表１に示す。
【０１０１】
＜実施例５＞
（パターン化された受像層の作製５）
実施例２で使用されたフォトマスクの代わりに、幅２０μｍのスリットと幅５μｍの遮光部分とからなるストライプ状のフォトマスクを使用した以外は、実施例２と同様の方法により、基板Ｅを作製した。
基板Ｅ上には、幅２０μｍの照射領域と幅５μｍの未照射領域とがストライプとが隣接して配置されており、両者の長手方向は同一方向に配列していた。この基板Ｅの両領域のアスペクト比は照射領域では１００００で、未照射領域では４００００であり、照射領域（親インク領域）と未照射領域（撥インク領域）との面積比（親インク領域／撥インク領域）は４であった。
なお、照射領域（親インク領域）と未照射領域（撥インク領域）のインクに対する接触角は、後述する方法により測定し、その結果は表１に示す。
【０１０２】
＜比較例１〜４＞
実施例１〜４に対応する比較例として、以下のように基板Ｆ〜Ｉを作製した。
実施例１において、Ｐ１とＰ２の混合物では無く、Ｐ１のみをコートした基板を基板Ｆとした。基板Ｆの表面上には、パターン構造は確認されず、アスペクト比は存在しない。
実施例２と３において、露光時にフォトマスクを介することなく、全面露光を行った基板をそれぞれ基板Ｇ、基板Ｈとした。基板ＧおよびＨの表面上には、パターン構造は確認されず、アスペクト比は存在しない。
実施例２において、露光時に使用するフォトマスクを、短軸方向５μｍ、長軸方向６μｍの楕円状スリットが、中心間の距離で２０μｍ間隔に並んだ、図８に示すパターンのマスクを使用して露光を行い、得られた基板をＩとした。基板Ｉの表面上にはアスペクト比１．２の楕円状のドットパターンが形成された。
【０１０３】
＜画像形成工程＞
フロンティアミニラボＤＬ４１０（富士フイルム社製）を用い、基板Ａ〜Ｅのパターンと画像の角度調整を行った後、レンチキュラーシステム用画像（右目用画像Ａおよび左目用画像Ｂ）を１００ライン／インチの画像を７２０ｄｐｉの解像度で描画し（インクドットの大きさ：２０〜３０μｍ程度）、対応するレンチキュラーレンズを貼り付け、立体画像を形成した。
なお、基板Ａ〜ＣおよびＥの表面上の線状の親インク領域と撥インク領域の長手方向が、レンチキュラーレンズを構成するシリンドリカルレンズの長手方向と並行となるように、レンチキュラーレンズが張り付けられた。また、基板ＤおよびＩでは島状部である楕円領域の長軸方向が、レンチキュラーレンズを構成するシリンドリカルレンズの長手方向と並行となるように、レンチキュラーレンズが張り付けられた。
【０１０４】
＜インク接触角＞
各基板上に形成された領域へのインク接触角は、フロンティアミニラボＤＬ４１０用マゼンタインク（水系）を用い、ＤＲＯＰ  Ｍａｓｔｅｒ  ＤＭ７００（協和界面科学社製）を用いて、打滴後５秒後の接触角を測定した。
なお、各基板の親インク領域と撥インク領域の接触角について、基板ＡおよびＦに関しては、Ｐ１とＰ２のそれぞれ単独でコートした膜を用いて、インクに対する接触角を求めた。
基板Ｂ〜Ｅ、Ｇ〜Ｉに関しては、全面露光を行った被露光部と、未露光部においてインクに対する接触角の測定を行った。
なお、使用した他のフロンティアミニラボＤＬ４１０用インク（イエロー、シアン、およびブラック）についても、マゼンタインクと略同様のインク接触角の結果を得た。
【０１０５】
＜画像評価＞
画像評価は無作為に抽出した２０名に上記方法で作製した立体印刷物の画像を見せ、立体画像が忠実に形成されているかを評価した。具体的には、画像の乱れ、つまり、隣画素へのはみ出しなどを検出し、問題であると判断した人数によって画像品質を評価した。なお、評価基準は以下の通りである。結果を表１に示す。実用上、○以上の評価が好ましい。
◎：２人以下が問題であると判断
○：３人以上５人以下が問題であると判断
△：６人以上９人以下が問題であると判断
×：１０人以上が問題であると判断
【０１０６】
また、上記方法により形成される短冊状の画像の滲みを目視で確認した。評価基準は以下の通りである。
◎：画像の滲みは観測されない
○：多少画像の滲みが観測されるが判読可能
△：明らかな画像の滲みにより判読不可能
×：画像の滲みがひどく判読不可能
【０１０７】
【表１】
2010249849.tif 000007
【０１０８】
上記結果より分かるように、所定のインクに対して接触角が異なる２つの領域を有する画像形成基板を使用した実施例１〜５においては、画像滲みが抑えられ、良好な画像評価結果が得られた。特に、親インク領域と撥インク領域との接触角の差が６０°以上の場合には、画像滲みがなく、優れた画像品質を示す立体画像が得られた。
一方、比較例１〜４においては、画像滲み、および画像品質に問題があった。
【符号の説明】
【０１０９】
１０  立体印刷物
１２  支持体
１４  受像層
１６  画像層
１６Ａ  画像Ａ
１６Ｂ  画像Ｂ
１８  レンチキュラーレンズ
２０  画像形成基板
２２ａ，２２ｂ  親インク領域
２４ａ，２４ｂ  撥インク領域
３０  未硬化画素インク
【図１】
2010249849.tif 000008
【図２】
2010249849.tif 000009
【図３】
2010249849.tif 000010
【図４】
2010249849.tif 000011
【図５】
2010249849.tif 000012
【図６】
2010249849.tif 000013
【図７】
2010249849.tif 000014
【図８】
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