(57)【要約】【課題】この発明は数μｍ以下の液膜の厚さを測定することができるようにした液膜厚差の測定装置を提供することにある。【解決手段】基板を回転させながら処理液によって処理した後、その基板上の液膜の厚さを測定する液膜厚の測定装置であって、基板上に残留する処理液によって発生する干渉縞の色階調変化を検出する撮像カメラ７と、撮像カメラによって検出された色階調変化から光回折の式（２ｎｄｃｏｓθ＝ｍλ）を用いて基板上の処理液の厚さを算出する処理装置８を具備する。  （ただし、式中、ｎは処理液の屈折率、ｄは液膜の厚さ、θは処理液への光の入射角、ｍは整数、λは光の波長である。）【選択図】      図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を回転させながら処理液によって処理した後、その基板上の液膜の厚さを測定する液膜厚の測定装置であって、
基板上に残留する処理液によって発生する干渉縞の色階調変化を検出する検出手段と、
この検出手段によって検出された色階調変化から光回折の式（２ｎｄｃｏｓθ＝ｍλ）を用いて上記基板上の処理液の厚さを算出する算出制御手段と
を具備したことを特徴とする液膜厚の測定装置。
（ただし、上記式中、ｎは処理液の屈折率、ｄは液膜の厚さ、θは処理液への光の入射角、ｍは整数、λは光の波長である。）
【請求項２】
複数の光の波長において、上記ｍの値を任意に変化させたときの液膜の厚さを上記光回折の式から算出し、算出された各波長の光強度のピーク位置と上記検出手段によって検出された干渉縞の色階調変化の関係から上記ｍの値を決定することを特徴とする請求項１記載の液膜厚の測定装置。
【請求項３】
上記基板上の液膜の厚さと時間の関係をレーザ変位計によって所定の厚さまで検出し、それ以下の液膜の厚さは、上記ｍの値を任意に設定したときの液膜の厚さと時間との関係を上記検出手段によって検出された干渉縞の色階調変化から求め、色階調変化から求められた液膜の厚さと時間との関係が上記レーザ変位計によって検出された液膜の厚さと時間との関係に適合したときに上記ｍの値を決定して求めることを特徴とする請求項１記載の液膜厚の測定装置。
【請求項４】
上記基板上の液膜の厚さの変化を質量の変化から測定し、その質量の変化と、上記ｍの値を任意に変化させたときに上記光回折の式から算出される液膜の厚さとの関係から上記ｍの値を決定することを特徴とする請求項１記載の液膜厚の測定装置。
【請求項５】
上記検出手段はハーフミラーを介して上記基板の緩衝縞の色階調変化を検出することを特徴とする請求項１記載の液膜厚の測定装置。
【請求項６】
基板を回転させながら処理液によって処理した後、その基板上の液膜の厚さを測定する液膜厚の測定方法であって、
基板上に残留する処理液によって発生する干渉縞の色階調変化を検出する工程と、
検出された色階調変化から光回折の式（２ｎｄｃｏｓθ＝ｍλ）を用いて上記基板上の処理液の厚さを算出する工程と
を具備したことを特徴とする液膜厚の測定方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は基板を回転させながら処理液によって処理した後、その基板上の処理液の液膜の厚さを測定する測定装置及び測定方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体ウエハや液晶表示パネルのガラス基板などの基板に対して洗浄、エッチング、コーティング或いはレジスト剥離などを適宜の処理液を用いて処理する場合、基板を回転テーブルに保持し、この回転テーブルとともに基板を回転させながら処理するということが行なわれている。
【０００３】
基板を回転させながら上述した各種の処理を行う場合、処理液による処理が終了したならば、処理液の供給を停止して基板上から処理液を除去する際、基板上の処理液の厚さ、つまり液膜の厚さを制御することは上述した種々の処理を精密に行なう上で、重要なパラメータとなる。
【０００４】
液膜を測定する従来の方法としては特許文献１に示されたレーザ光を用いた方法が知られている。すなわち、
特許文献１に示された方法は測定対象物に対してレーザ光源から出射されたレーザ光を照射し、その測定対象物上の液膜から反射したレーザ光と、液膜を透過して測定対象物の上面で反射したレーザ光の２つの反射光をリニアイメージセンサで受光し、これらの反射光のリニアイメージセンサ上の位置に基いて測定対象物上の液膜の厚さを測定するようにしている。
【特許文献１】特開２００６−３２９６５１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、レーザ光を測定対象物に照射して液膜の厚さを測定する従来の方法によると、測定可能な液膜の厚さが数μｍ程度までであるため、それ以下の薄い液膜を測定することができないということがあった。そのため、測定対象物が半導体ウエハや液晶表示パネルのガラス基板などの基板の場合、その基板の処理をより一層、精密に行う上で問題が生じることになる。
【０００６】
しかも、レーザ光によって液膜を測定する場合、レーザ光が照射された箇所だけしか液膜の厚さを測定することができない。そのため、基板上の広い範囲において液膜の厚さを同時に測定することができないということもあった。
【０００７】
この発明は、レーザ光による測定範囲よりも薄い液膜を精密に測定することができ、しかも基板上の広い範囲の液膜の厚さを同時に測定することができるようにした液膜厚の測定装置及び測定方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
この発明は、基板を回転させながら処理液によって処理した後、その基板上の液膜の厚さを測定する液膜厚の測定装置であって、
基板上に残留する処理液によって発生する干渉縞の色階調変化を検出する検出手段と、
この検出手段によって検出された色階調変化から光回折の式（２ｎｄｃｏｓθ＝ｍλ）を用いて上記基板上の処理液の厚さを算出する算出制御手段と
を具備したことを特徴とする液膜厚の測定装置にある。
【０００９】
（上記式中、ｎは処理液の屈折率、ｄは液膜の厚さ、θは処理液への光の入射角、ｍは整数、λは光の波長である。）
複数の光の波長において、上記ｍの値を任意に変化させたときの液膜の厚さを上記光回折の式から算出し、算出された各波長の光強度のピーク位置と上記検出手段によって検出された干渉縞の色階調変化の関係から上記ｍの値を決定することが好ましい。
【００１０】
上記基板上の液膜の厚さと時間の関係をレーザ変位計によって所定の厚さまで検出し、それ以下の液膜の厚さは、上記ｍの値を任意に設定したときの液膜の厚さと時間との関係を上記検出手段によって検出された干渉縞の色階調変化から求め、色階調変化から求められた液膜の厚さと時間との関係が上記レーザ変位計によって検出された液膜の厚さと時間との関係に適合したときに上記ｍの値を決定して求めることが好ましい。
【００１１】
上記基板上の液膜の厚さの変化を質量の変化から測定し、その質量の変化と、上記ｍの値を任意に変化させたときに上記光回折の式から算出される液膜の厚さとの関係から上記ｍの値を決定することが好ましい。
【００１２】
上記検出手段はハーフミラーを介して上記基板の緩衝縞の色階調変化を検出することが好ましい。
【００１３】
この発明は、基板を回転させながら処理液によって処理した後、その基板上の液膜の厚さを測定する液膜厚の測定方法であって、
基板上に残留する処理液によって発生する干渉縞の色階調変化を検出する工程と、
検出された色階調変化から光回折の式（２ｎｄｃｏｓθ＝ｍλ）を用いて上記基板上の処理液の厚さを算出する工程と
を具備したことを特徴とする液膜厚の測定方法にある。
【発明の効果】
【００１４】
この発明によれば、基板を処理液によって処理するときに発生する干渉縞の色階調変化を検出し、その色階調変化から光回折の式（２ｎｄｃｏｓθ＝ｍλ）を用いて基板上の処理液の厚さを算出するようにした。
【００１５】
そのため、液膜の厚さが数μｍ以下の非常に薄い厚さであっても、干渉縞の色階調変化と光回折の式によってその液膜の厚さを精密に測定することができる。しかも、基板上における干渉縞の色階調変化の測定箇所は干渉縞の色階調変化を検出することができる範囲であれば制限されることがないから、基板上の広い範囲の液膜の厚さを任意に測定することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、この発明の実施の形態を図面を参照しながら説明する。  
図１乃至図５はこの発明の第１の実施の形態であって、図１は基板Ｗを処理液Ｌによって処理する処理装置としてのスピン処理装置１を示している。このスピン処理装置１はカップ体２を備えている。このカップ体２内には回転テーブル３が設けられている。この回転テーブル３は駆動源４によって回転駆動されるようになっている。
【００１７】
上記回転テーブル３の上面には基板Ｗが供給保持され、この基板Ｗにはノズル体５によって処理液Ｌが噴射供給されるようになっている。
【００１８】
上記基板Ｗの上方には、上記処理液Ｌによって処理された基板Ｗの上面に残留する処理液Ｌによって生じる、基板Ｗの上面の干渉縞の色調変化を検出する検出手段としての固定撮像素子からなるカラー方式の撮像カメラ７が光学軸線Ｏを垂直かつ基板Ｗの回転中心に一致させて配設されている。
【００１９】
上記撮像カメラ７はその視野内に上記基板Ｗの上面全体が入るよう、高さ位置Ｈが設定されている。それによって、撮像カメラ７は基板Ｗ上のどの位置であっても干渉縞の色調変化を検出することができるようになっている。
【００２０】
上記撮像カメラ７の撮像信号は算出制御手段としての処理装置８に出力される。この処理装置８はまず、算出ポイントとして基板Ｗ上の図１にＡで示す任意の測定位置を設定し、その測定位置Ａから撮像カメラ７に入射する光の軸線Ｏ１と、撮像カメラ７の光軸Ｏとがなす角度θを撮像信号から決定する。
【００２１】
すなわち、角度θは、基板Ｗの上面から撮像カメラ７の受光面までの高さＨと、撮像カメラ７の光学軸線Ｏから上記測定位置Ａまでの距離Ｄによって求めることができる。高さＨは既知であり、距離Ｄは撮像カメラ７の撮像信号（画像）によって求めることができる。したがって、処理装置８はこれらのデータから角度θを算出することができる。
【００２２】
処理液Ｌによる基板Ｗの処理が終了して基板Ｗへの処理液Ｌの供給を停止したならば、上記基板Ｗを回転させている状態で、撮像カメラ７からの撮像信号を受けた処理装置８は、図３に示すように基板Ｗの任意の測定位置Ａにおける複数の光の波長、つまり赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の干渉縞の色調の変化を計測し、その結果を記憶する。図３において、グラフＸは赤（Ｒ）、Ｙは緑（Ｇ）、Ｚは青（Ｂ）の色階調変化と時間の関係を示している。なお、同図において、時間０は基板Ｗへの処理液Ｌの供給を停止したときである。
【００２３】
なお、図３では任意の測定位置Ａにおける干渉縞の色調の変化を計測したが、基板Ｗの半径方向に沿う複数箇所の干渉縞の色調の変化を連続して計測することが可能である。たとえば基板Ｗの半径方向の全長にわたる干渉縞の色調の変化を計測できれば、基板Ｗは回転しているため、基板Ｗの全面の干渉縞の色調の変化を計測することができる。
【００２４】
処理装置８は図２に示すフローチャートに基いて、複数の光の波長と干渉縞の色調の変化を計測すると同時に、下記に示す光回折の式を用いて赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の各波長における任意のｍ値に対する液膜厚を算出し、その算出結果を記憶する。
【００２５】
上記光回折の式は、
２ｎｄｃｏｓθ＝ｍλ    …（１）式
で示される。上記（１）式において、ｎは処理液の屈折率、ｄは液膜の厚さ、θは処理液への光の入射角、ｍは整数、λは光の波長である。
【００２６】
下記［表１］は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の波長に対してｍ値を０．５の間隔で０〜１０まで順次変化させたときの各ｍ値における液膜厚の計算結果を示している。すなわち、上記（１）式においては屈折率ｎ、角度θ及び波長λが既知であるから、ｍ値を０〜１０まで０．５の間隔で設定すれば、各ｍ値に対する各光の波長λ毎に測定される処理液Ｌの液膜の厚さを算出することができる。
【数１】
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【００２７】
図４は［表１］の算出結果に基いて作成された赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の各波長の光の液膜厚に対する理論色階調の波形を示す。この理論色階調の波形から、各波長の光のピーク値が一致するｍ値を決定する。図４においては、液膜厚が０の位置で赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の波長の光の下限のピーク値が一致する。したがって、液膜厚が０の位置のｍ値が０となる。言い換えれば、回転する基板Ｗ上の処理液Ｌの厚さが０となるまで基板Ｗ上の処理液Ｌが順次減少することを意味している。
【００２８】
ついで、図４の理論色階調の波形と、図３の時間と各波長の色の実測された階調変化を比較し、図３において、図４の液膜厚が０、つまりｍ値が０の位置におけるＲ、Ｇ、Ｂの各波長の光の下限のピークが一致する状態に最も近い状態となる時間を求める。図３において、５０ｓｅｃのときにＲ、Ｇ、Ｂの各波長の光の波形の状態が図４の液膜厚が０のときの波形と最も近い形状となっていることが判断される。
【００２９】
したがって、図３における実測波形において、時間５０ｓｅｃのときのｍ値が０となる。図３における実測波形の時間５０ｓｅｃのときの最後の下限のピークのｍ値が０であることが判明すれば、たとえば波長赤（Ｒ）の実測波形におけるｍ値は最後の下限のピークの１つ前の下限のピークのｍ値が１、その前が２、…となるから、図４からｍ値が０、１，２，３，…１０となるときの時間を求めることができる。
【００３０】
さらに、［表１］から、波長赤（Ｒ）におけるｍ値と液膜の関係を求めることができるから、図３と［表１］から図５に示すように、処理液Ｌの供給を停止した後の回転する基板Ｗ上における時間と液膜の関係を求めることができる。同様に、緑（Ｇ）及び青（Ｂ）の波長における基板Ｗに処理液Ｌの供給を停止したときからの時間と液膜の関係を求めることができる。なお、緑（Ｇ）及び青（Ｂ）の場合も、波長赤（Ｒ）を用いた場合と同様の結果が得られる。
【００３１】
すなわち、回転駆動される基板Ｗ上への処理液Ｌの供給を停止した後の乾燥処理において、処理装置８によって設定された基板Ｗの任意の測定位置Ａにおける処理時間と液膜厚の関係を上記処理装置８によって図５に示すグラフとして瞬時に算出することができる。
【００３２】
処理装置８によって基板Ｗ上の任意の測定位置Ａにおける処理時間と液膜厚の関係を求めるようにしたが、処理装置８によって設定される位置を基板Ｗの半径全長にわたって設定すれば、基板Ｗは回転しているから、基板Ｗの全面における処理時間と液膜厚の関係を求めることできる。
【００３３】
以上のようにして処理時間と液膜厚の関係を求め、そのデータを予め処理装置８にティーチングしておけば、つぎから基板Ｗを同じ条件、つまり、回転数、処理液の種類、ノズル体５からの処理液の噴射量及び噴射方向などを同じに設定すれば、基板Ｗ上の液膜厚と処理時間との関係が図５に示すグラフになることを事前に知ることができる。
【００３４】
したがって、図５の算出に基いてティーチングされたデータにより、たとえば液膜の厚さがどの程度の薄さになったときに乾燥処理を終了するかなどを設定できるから、処理液Ｌがエッチング液や剥離液などの薬液の場合にはその基板Ｗ上に残留する薬液の量によって乾燥処理後に薬液が基板に及ぼす作用を制御することができ、処理液が洗浄液の場合には基板Ｗの乾燥状態を制御するなどのことが可能となる。
【００３５】
このときの液膜の測定可能な厚さは［表１］からも明らかなように数μｍ以下であるから、従来のレーザ光を用いた測定方法では測定不能であった厚さを測定することができ、しかも干渉縞の色階調変化を利用することで、測定箇所に制限を受けることがない。つまり、撮像カメラ７によって基板Ｗの全面を撮像することができれば、その全面の液膜厚の変化を同時に測定することができる。
【００３６】
図６と図７はこの発明の第２の実施の形態を示す。この実施の形態はレーザ変位計１５と検出手段としての撮像カメラ７を併用して処理液Ｌの供給停止後における時間と液膜の厚さとの関係を求めるようにしている。
【００３７】
つまり、レーザ変位計１５から出射されて基板Ｗの上面で反射する第１のレーザ光Ｂ１と液面で反射する第２のレーザ光Ｂ２を上記レーザ変位計１５が検出することによって数μｍまでの液膜の厚さを測定し、それ以下の厚さは干渉縞による色階調変化によって求めるようにしている。
【００３８】
上記レーザ変位計１５は、図６に示すように回転テーブル３に保持された基板Ｗの上方に上記撮像カメラ７と並んで設置されている。基板Ｗへの処理液Ｌの供給を停止後、レーザ変位計１５が検出する基板Ｗと液面からの反射するレーザ光Ｂ１，Ｂ２に基く信号が処理装置８に出力されて処理される。それによって、処理装置８は、基板Ｗ上の任意の測定位置Ａにおける時間と液膜の厚さの関係を図７にグラフＧ０で示すように数μｍの厚さまで検出する。
【００３９】
そして、それよりも薄い膜厚の測定はレーザ変位計１５では測定が困難となるから、撮像カメラ７を用いて測定する。
【００４０】
すなわち、処理装置８はレーザ変位計１５による測定と並行して、処理液Ｌの供給停止後における基板Ｗ上の測定位置Ａにおける干渉縞の色階調変化を撮像カメラ７からの撮像信号によって検出する。この検出結果は第１の実施の形態と同様、図３に示すようになる。
【００４１】
それと同時に、処理装置８は（１）式として示した光回折の式に基いてｍ値を０〜１０まで０．５の間隔で変化させたときの赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の波長における液膜厚を計算して格納する。このときの計算表は［表１］となる。
【００４２】
ついで、処理装置８は図３の時間が５０ｓｅｃにおける測定波長の下限のピークのｍ値が０，６，１２のいずれかであると仮定し、そのときの時間と液膜厚の関係のグラフを［表１］と図３に基いて第１の実施の形態と同様の手法で作成する。各ｍ値のグラフは図７にＧ１〜Ｇ３で示す。図７において、グラフＧ１はｍ値が０の場合であり、Ｇ２はｍ値が６、Ｇ３はｍ値が１２のときである。
【００４３】
このようにして、時間と液膜厚の関係を示すグラフＧ１〜Ｇ３を求めたならば、グラフＧ１〜Ｇ３のうち、レーザ変位計１５によって求められたグラフＧ０と適合、つまりグラフＧ０とフィッテイングするグラフをＧ１〜Ｇ３のうちから以下の手法によって処理装置８が選択する。
【００４４】
すなわち、ｍ値を１２としたグラフＧ３は、測定開始時の液膜厚がレーザ変位計１５によって求めたグラフＧ０の最終の液膜厚よりも厚くなっている。つまり、測定時間が経過することによって液膜厚が厚くなることはないから、ｍ値を１２としたグラフＧ３はグラフＧ０と適合しないと判定される。
【００４５】
ｍ値を６としたグラフＧ２も、グラフＧ３と同様、測定開始時の液膜厚がレーザ変位計１５によって求めたグラフＧ０の最終の液膜厚よりも厚くなっている。そのため、グラフＧ３はグラフＧ０と適合しないと判定される。
【００４６】
これらのグラフＧ３、Ｇ２に対し、グラフＧ１は測定開始時の液膜厚がレーザ変位計１５によって求めたグラフＧ０の最終の液膜厚よりも薄くなっているから、グラフＧ０と適合していると判定される。
【００４７】
したがって、図３における実測波形の最後の下限のピークにおけるｍ値は０であると判定できるから、その判定に基いて基板Ｗ上の処理時間と液膜厚の関係はグラフＧ０に適合するグラフはＧ１が示していることになる。すなわち、レーザ変位計１５で求めたグラフＧ０の延長先が適合するグラフを選択すればよい。
【００４８】
つまり、レーザ変位計１５によって液膜の厚さを数μｍの厚さまで測定したならば、それ以下の基板Ｗ上の液膜の厚さは撮像カメラ７と処理装置８によって図７に示すグラフＧ１として求めることができる。
【００４９】
したがって、グラフＧ１のデータを処理装置８にティーチングしておけば、それ以後、同じ条件で基板Ｗを処理する場合には図７にグラフＧ１で示す時間と液膜の厚さの関係を適用することで、基板Ｗ上の液膜の厚さを制御することができる。
【００５０】
この第２の実施の形態において、レーザ変位計１５を基板Ｗの上方で、この基板Ｗの径方向に沿って駆動可能に設け、基板Ｗの径方向の任意の位置における液膜の厚さを測定できるようにしてもよい。
【００５１】
図８はこの発明の第３の実施の形態を示す。この実施の形態は基板Ｗへの処理液Ｌの供給を停止した後、その基板Ｗの質量を測定して光回折の式におけるｍ値を決定するようにしている。
【００５２】
すなわち、図８は基板Ｗへの処理液Ｌの供給を停止した後における基板Ｗ上に残留する液量［ｍｇ］を質量として各時間毎に実測したグラフを示す図である。液量を求めることができれば、その液量と基板Ｗの面積との関係から、基板Ｗの上面における処理液Ｌの液膜厚を［表１］から算出することができる。つまり、［表１］と図８によって任意のｍ値と液量との関係を求めることができる。
【００５３】
そこで、時間２０ｓｅｃと３０ｓｅｃのときの、ｍ値が０〜４のときの液量（液膜厚）を［表１］から求める。図８において白丸はｍ値が０、黒菱形はｍ値が１、黒四角はｍ値が２、黒三角はｍ値が３、黒丸はｍ値が４である。
【００５４】
その結果、２０ｓｅｃのときにｍ値が１の黒菱形がグラフ上に位置するから、そのグラフはｍ値が１であると判定することができる。つまり、図３のグラフにおいて、最後の下限のピークのｍ値が１であるということになる。そのことは、［表１］から分かるように、たとえば赤（Ｒ）の波長による測定の場合、基板Ｗ上の最後の液膜厚が０ではなく、２３７．３１７４ｎｍであり、その厚さから液膜が基板上から消失するということになる。
【００５５】
したがって、このようにしてｍ値を求めたならば、［表１］と図３に基いて図５に示すような処理時間と液膜厚との関係を示すグラフを求めることができるから、そのグラフによって基板Ｗの処理時における液膜厚を第１、第２の実施の形態と同様、制御することができる。
【００５６】
図９はこの発明の第１の実施の形態の変形例の第４の実施の形態を示す。この実施の形態においては、撮像カメラ７と回転テーブル３に保持された基板Ｗとの間にハーフミラー２１を配設する。それによって、基板Ｗの板面に残留する処理液Ｌに撮像カメラ７が写るのを防止することができるから、撮像カメラ７による基板Ｗの撮像を高精度に行うことが可能となる。
【００５７】
上記ハーフミラー２１は基板Ｗの全面を覆う大きさとしているが、少なくとも撮像カメラ７の影が基板Ｗに写らない大きさであればよい。  
なお、第４の実施の形態は第２、第３の実施の形態にも適用することができること、勿論である。
【００５８】
また、上記各実施の形態では撮像カメラ７を基板Ｗの上方に光学軸線を垂直にして配置したが、上記撮像カメラ７の光学軸線を角度θ、たとえば４５度の角度で傾斜して配置するようにしてもよい。撮像カメラ７をその光学軸線を傾斜させて配置すれば、この撮像カメラ７による測定レンジを（１／ｃｏｓθ）倍にすることが可能となる。つまり、撮像カメラ７による測定精度を高めることができる。
【００５９】
撮像カメラ７をその光学軸線をたとえば４５度の角度で傾斜させて配置した場合、垂直軸線を中心にして上記撮像カメラ７と対称に基板Ｗの板面を照射する光源を配置するようにしてもよい。
【００６０】
このようにすれば、第４の実施の形態と同様、撮像カメラ７による測定レンジを（１／ｃｏｓθ）倍にすることが可能となるばかりか、撮像カメラ７による撮像部位が照明されることで、測定精度をさらに向上させることもできる。
【００６１】
また、基板を光源によって照明する場合、基板に到達する光を光源からの光だけにすることが好ましい。そのためには、たとえば基板Ｗが載置される回転テーブルが設けられたカップ体内に外部の光が入らないよう、上記カップ体を外部の光を遮断する不透明な材料によって形成したり、カップ体の周囲を、このカップ体内に外部の光が入らないよう遮光部材で覆うようにすればよい。そのようにすれば、基板上の液膜の厚さ測定を高精度に行なうことが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００６２】
【図１】この発明の第１の実施の形態を示すスピン処理装置の概略的構成を示す側断面図。
【図２】処理装置による基板上の液膜厚の算出手順を説明したフローチャート。
【図３】撮像カメラが測定した赤、緑、青の各波長の光の色階調変化と基板の処理時間の関係を示す図。
【図４】液膜厚と赤、緑、青の各波長の光の色階調変化の理論波形の関係を示す図。
【図５】図３、図４及び［表１］から求められた液膜厚と基板の処理時間の関係を示す図。
【図６】この発明の第２の実施の形態を示すレーザ変位計を併用して液膜厚を測定するスピン処理装置の概略的構成を示す側断面図。
【図７】レーザ変位計によって測定された数μｍまでの液膜厚と基板の処理時間の関係のグラフ、及びそれ以下の厚さの液膜厚を求めるために複数のｍ値を仮定して求めた液膜厚と基板の処理時間の関係を示す複数のグラフを示す図。
【図８】この発明の第３の実施の形態を示す基板に残留する液量（質量）と基板の処理時間の関係を示す図。
【図９】この発明の第４の実施の形態を示すスピン処理装置の概略的構成を示す側断面図。
【符号の説明】
【００６３】
２…カップ体、３…回転テーブル、５…ノズル体、７…撮像カメラ（検出手段）、８…処理装置（算出制御手段）、２１…ハーフカメラ。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
2010060385.tif 000008
【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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