(57)【要約】【課題】撹拌棒の駆動部を大型化することなく回転数の監視を可能とした撹拌装置、その回転数監視方法及び分析装置を提供すること。【解決手段】撹拌棒を被撹拌液中で回転させて被撹拌液を撹拌する撹拌装置、その回転数監視方法及び分析装置。撹拌装置１２は、撹拌棒１２ｂと一体に回転する反射鏡１２ｅが撹拌棒に設けられ、撹拌棒１２ｂを臨む位置に配置され、反射鏡１２ｅを非接触で検知する光センサ１３ａと、光センサが検知した反射鏡の検知信号をもとに撹拌棒の回転数を演算する演算部とを有する回転数監視装置を備えている。【選択図】        図２
2010060334.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
撹拌棒を被撹拌液中で回転させて前記被撹拌液を撹拌する撹拌装置であって、
前記撹拌棒は、当該撹拌棒と一体に回転する被検知部が設けられ、
前記撹拌棒を臨む位置に配置され、前記被検知部を非接触で検知する検知手段と、前記検知手段が検知した前記被検知部の検知信号をもとに前記撹拌棒の回転数を演算する演算手段とを有する回転数監視手段を備えることを特徴とする撹拌装置。
【請求項２】
前記検知手段は、前記撹拌棒が被撹拌液中に浸漬された際に、前記被検知部と対向する位置に配置されることを特徴とする請求項１に記載の撹拌装置。
【請求項３】
前記回転数監視手段は、前記撹拌棒の回転数が所定数値範囲外の場合に回転異常と判定し、当該撹拌装置の撹拌動作を停止させる異常判定制御手段を備えることを特徴とする請求項２に記載の撹拌装置。
【請求項４】
前記撹拌棒は、支持部材に着脱、かつ、回転自在に支持され、
前記異常判定制御手段は、前記撹拌棒の回転数が所定数値の場合に前記撹拌棒の前記支持部材への実装異常と判定し、当該撹拌装置の撹拌動作を停止させることを特徴とする請求項３に記載の撹拌装置。
【請求項５】
前記異常判定制御手段が前記撹拌棒の回転異常又は実装異常と判定した場合に、回転異常又は実装異常の警報を告知する告知手段或いは警報を表示する表示手段を備えることを特徴とする請求項３又は４に記載の撹拌装置。
【請求項６】
撹拌棒を被撹拌液中で回転させて前記被撹拌液を撹拌する撹拌装置の回転数監視方法であって、
前記撹拌棒と一体に回転する被検知部を非接触で検知する検知工程と、
前記検知工程で検知した前記被検知部の検知信号をもとに前記撹拌棒の回転数を演算する演算工程と、
を含むことを特徴とする撹拌装置の回転数監視方法。
【請求項７】
前記撹拌棒の回転数が所定数値範囲外の場合に回転異常と判定すると共に、所定数値の場合に前記撹拌棒の前記支持部材への実装異常と判定し、当該撹拌装置の撹拌動作を停止させる異常判定制御工程を含むことを特徴とする請求項６に記載の撹拌装置の回転数監視方法。
【請求項８】
検体と試薬とを撹拌して反応させ、反応液の光学的特性を測定して前記反応液を分析する分析装置であって、請求項１〜５のいずれか一つに記載の撹拌装置を用いて前記検体又は前記試薬を撹拌することを特徴とする分析装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、撹拌装置、その回転数監視方法及び分析装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、分析装置は、試薬や検体を撹拌する撹拌装置を備えており、例えば、撹拌棒によって試薬や検体を撹拌する撹拌装置が知られている（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
【特許文献１】特開２００３−５７２４９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、特許文献１の撹拌装置は、回転軸廻りにアーム状の撹拌機構部を回転移動させることにより試薬ボトルと洗浄槽との間で撹拌棒を往復移動させている。このとき、特許文献１に開示された撹拌装置は、撹拌機構部に撹拌棒の回転数を監視する検知板と光センサを用いた検知器とが配置されている。このため、特許文献１の撹拌装置は、撹拌棒を回転させる撹拌機構部が大型となって重量化するという問題があった。
【０００５】
本発明は、上記に鑑みてなされたものであって、撹拌棒の駆動部を大型化することなく回転数の監視を可能とした撹拌装置、その回転数監視方法及び分析装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明の撹拌装置は、撹拌棒を被撹拌液中で回転させて前記被撹拌液を撹拌する撹拌装置であって、前記撹拌棒は、当該撹拌棒と一体に回転する被検知部が設けられ、前記撹拌棒を臨む位置に配置され、前記被検知部を非接触で検知する検知手段と、前記検知部が検知した前記被検知部の検知信号をもとに前記撹拌棒の回転数を演算する演算手段とを有する回転数監視手段を備えることを特徴とする。
【０００７】
また、本発明の撹拌装置は、上記の発明において、前記検知手段は、前記撹拌棒が被撹拌液中に浸漬された際に、前記被検知部と対向する位置に配置されることを特徴とする。
【０００８】
また、本発明の撹拌装置は、上記の発明において、前記回転数監視手段は、前記撹拌棒の回転数が所定数値範囲外の場合に回転異常と判定し、当該撹拌装置の撹拌動作を停止させる異常判定制御手段を備えることを特徴とする。
【０００９】
また、本発明の撹拌装置は、上記の発明において、前記撹拌棒は、支持部材に着脱、かつ、回転自在に支持され、前記異常判定制御手段は、前記撹拌棒の回転数が所定数値の場合に前記撹拌棒の前記支持部材への実装異常と判定し、当該撹拌装置の撹拌動作を停止させることを特徴とする。
【００１０】
また、本発明の撹拌装置は、上記の発明において、前記異常判定制御手段が前記撹拌棒の回転異常又は実装異常と判定した場合に、回転異常又は実装異常の警報を告知する告知手段或いは警報を表示する表示手段を備えることを特徴とする。
【００１１】
また、上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明の撹拌装置の回転数監視方法は、撹拌棒を被撹拌液中で回転させて前記被撹拌液を撹拌する撹拌装置の回転数監視方法であって、前記撹拌棒と一体に回転する被検知部を非接触で検知する検知工程と、前記検知工程で検知した前記被検知部の検知信号をもとに前記撹拌棒の回転数を演算する演算工程と、を含むことを特徴とする。
【００１２】
また、本発明の撹拌装置の回転数監視方法は、上記の発明において、撹拌棒の回転数が所定数値範囲外の場合に回転異常と判定すると共に、所定数値の場合に前記撹拌棒の前記支持部材への実装異常と判定し、当該撹拌装置の撹拌動作を停止させる異常判定制御工程を含むことを特徴とする。
【００１３】
また、上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明の分析装置は、検体と試薬とを撹拌して反応させ、反応液の光学的特性を測定して前記反応液を分析する分析装置であって、前記撹拌装置を用いて前記検体又は前記試薬を撹拌することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１４】
本発明の撹拌装置は、撹拌棒を臨む位置に配置され、被検知部を非接触で検知する検知手段と、検知部が検知した被検知部の検知信号をもとに撹拌棒の回転数を演算する演算手段とを有する回転数監視手段を備え、撹拌装置の回転数監視方法は、撹拌棒と一体に回転する被検知部を非接触で検知する検知工程と、検知工程で検知した被検知部の検知信号をもとに撹拌棒の回転数を演算する演算工程とを含んでいる。また、本発明の分析装置は、前記撹拌装置を用いて検体又は試薬を撹拌するので、撹拌棒の駆動部を大型化することなく回転数を監視することができるという効果を奏する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
（実施の形態１）
以下、本発明の撹拌装置、その回転数監視方法及び分析装置にかかる実施の形態１について、図面を参照して詳細に説明する。図１は、本発明の自動分析装置の概略構成図である。図２は、実施の形態１の自動分析装置における撹拌棒と回転数監視装置の光センサの配置を示す概略側面図である。
【００１６】
自動分析装置１は、図１に示すように、ラック供給装置２、反応部４、第一試薬保冷庫７及び第二試薬保冷庫８、第一撹拌装置１１、第二撹拌装置１２、回転数監視装置１３、光学測定部１４及び制御部１６を備えている。また、自動分析装置１は、ラック供給装置２と反応部４との間に検体分注装置３が設けられ、反応部４と第一試薬保冷庫７との間に第一試薬分注装置５が、反応部４と第二試薬保冷庫８との間に第二試薬分注装置６が、それぞれ設けられている。
【００１７】
ラック供給装置２は、図１に示すように、複数のラック２ａが配列され、各ラック２ａには検体を保持した検体容器２ｂが搭載されている。ラック供給装置２は、矢印で示す経路に沿ってラック２ａを順次搬送し、検体分注装置３のプローブ３ａによって各検体容器２ｂに保持された検体が反応部４の反応容器Ｃに分注される。
【００１８】
反応部４は、図１に示すように、保温部材４ａとキュベットホイール４ｂとを有している。保温部材４ａは、キュベットホイール４ｂの半径方向内側及び外側に配置され、光学測定部１４と対応する位置に測光用の開口４ｃが形成されている。キュベットホイール４ｂは、複数の反応容器Ｃを所定温度（３７℃）に保持して回転し、例えば、一周期で時計方向に（１周−１キュベット）／４分回転し、四周期では反時計方向に１キュベット分回転する。
【００１９】
第一試薬分注装置５及び第二試薬分注装置６は、それぞれ反応部４との間に配置され、第一試薬と第二試薬をプローブ５ａ，６ａによって第一試薬保冷庫７及び第二試薬保冷庫８から反応容器Ｃに分注する。
【００２０】
第一試薬保冷庫７及び第二試薬保冷庫８は、構成が同じなので第一試薬保冷庫７について説明し、第二試薬保冷庫８については対応する構成部分に対応する符号を付して詳細な説明を省略する。
【００２１】
第一試薬保冷庫７は、図１に示すように、第一試薬を保持した複数の試薬ボトル７ａが配置され、第一試薬分注装置５のプローブ５ａによって所定の試薬が反応容器Ｃに分注される。ここで、検体分注装置３及び試薬分注装置５，６の各プローブ３ａ，５ａ，６ａは、分注終了後、洗浄水タンクから供給される洗浄水によって流水洗浄される。複数の試薬ボトル７ａは、それぞれ検査項目に応じた所定の試薬が満たされ、収容した試薬に関する情報を表示するバーコードラベル等の情報記録媒体（図示せず）が外面に貼付されている。第一試薬が分注された反応容器Ｃは、第一撹拌装置１１によって検体と第一試薬とが撹拌される。また、第一試薬保冷庫７の外周には、各試薬ボトル７ａに貼付された前記情報記録媒体から情報を読み取り、制御部１６へ出力する読取装置９が設置されている。なお、読取装置１０は、第二試薬保冷庫８内の各試薬ボトル８ａに貼付された前記情報記録媒体から情報を読み取る。
【００２２】
第一撹拌装置１１及び第二撹拌装置１２は、中央を支柱によって支持され、ステッピングモータによって精密に上下動されると共に前記支柱を中心として回転される平面視略三角形の支持部材１１ａ，１２ａを有している。支持部材１１ａ，１２ａは、内部に収容したギアトレーンによって回転され、図１に示すように、反応容器Ｃに分注された検体や試薬を撹拌する撹拌棒１１ｂ，１１ｃや撹拌棒１２ｂが三角形の頂点側に着脱、かつ、回転自在に支持されている。一方の撹拌棒１１ｃは、ホルダを介して支持部材１１ａに支持されており、ホルダの上部には、鏡等からなる反射板１１ｅが設置されている。撹拌棒１２ｂも同様に構成されており、図２に示すように、ホルダ１２ｄを介して支持部材１２ａに支持されている。ホルダ１２ｄの上部には、被検知部として、鏡等からなる反射板１２ｅが設置されている。撹拌棒１２ｂは、撹拌終了後、図３に示すように、支持部材１２ａの回転に伴う撹拌棒１２ｂの移動軌跡上に設けられた洗浄槽Ｗt1，Ｗt2において洗浄水タンクから供給される洗浄水によって流水洗浄される。撹拌棒１１ｂ，１１ｃも、同様に配置される洗浄槽において洗浄水によって流水洗浄される。ここで、図３において、点線Ｍは、キュベットホイール４ｂによる反応容器Ｃの移動軌跡を示しており、以下の説明で使用する図においても同様である。
【００２３】
回転数監視装置１３は、それぞれ第一撹拌装置１１や第二撹拌装置１２の撹拌棒１１ｂ，１１ｃや撹拌棒１２ｂを臨む位置に配置され、反射板１１ｅや反射板１２ｅを非接触で検知することによって撹拌棒１１ｂ，１１ｃや撹拌棒１２ｂの回転数を監視する回転数監視手段であり、図４に示すように、光センサ１３ａ、受光信号処理部１３ｂ、演算部１３ｃ及び異常判定制御部１３ｄを有している。受光信号処理部１３ｂ、演算部１３ｃ及び異常判定制御部１３ｄは、演算機能とタイマ機能を備えたＥＣＵ等が使用される。以下、撹拌棒１２ｂの回転数を監視する回転数監視装置１３について説明する。
【００２４】
光センサ１３ａは、撹拌棒１２ｂに設けた反射板１２ｅを非接触で検知する発光部と受光部を兼ねた光ファイバセンサやレーザセンサ等の検知手段である。光センサ１３ａは、図５に示すように、支持部材１２ａを下降させて撹拌棒１２ｂを反応容器Ｃの被撹拌液Ｌ中に浸漬した際、反射板１２ｅと対向する位置に配置する。光センサ１３ａは、出射した光が回転する反射板１２ｅで反射してくる光を受光し、受光した光の光信号を受光信号処理部１３ｂへ出力する。このとき、反射板１２ｅが撹拌棒１２ｂと共に回転するので、反射光は、断続的な光となって光センサ１３ａに受光される。
【００２５】
受光信号処理部１３ｂは、光センサ１３ａから入力される断続的な反射光の光信号をＡ／Ｄ変換し、演算部１３ｃへ出力する。演算部１３ｃは、受光信号処理部１３ｂから入力されるデジタル変換された光信号を基に反射板１２ｅ、即ち、撹拌棒１２ｂの回転数を演算する。異常判定制御部１３ｄは、演算部１３ｃが演算した撹拌棒１２ｂの回転数がゼロや予め設定した所定数値範囲外の場合、撹拌棒１２ｂの支持部材１２ａへの実装異常又は撹拌棒１２ｂの回転異常と判定し、制御部１６を介して第二撹拌装置１２の撹拌動作を停止させる。
【００２６】
このとき、例えば、撹拌棒１２ｂを支持部材１２ａに取り付け忘れた場合、光センサ１３ａは、反射板１２ｅを検出できない。このため、光センサ１３ａは、エラー信号を出力するか、演算部１３ｃが演算した撹拌棒１２ｂの回転数がゼロとなる。このため、異常判定制御部１３ｄは、エラー信号が入力された場合や、撹拌棒１２ｂの回転数がゼロの場合に撹拌棒１２ｂの実装異常と判定する。また、例えば、撹拌棒１２ｂの支持部材１２ａに取り付け方が悪い等のため、支持部材１２ａを下降させた際に撹拌棒１２ｂが反応容器Ｃに接触し、図６に示すように、撹拌棒１２ｂが支持部材１２ａから浮き上がった場合にも、反射板１２ｅを検出できず、エラー信号が入力されるか回転数がゼロとなる（以下、この場合を「回転数がゼロの場合」と総称する）。このため、この場合にも、異常判定制御部１３ｄは、撹拌棒１２ｂの実装異常と判定する。一方、異常判定制御部１３ｄは、撹拌棒１２ｂの回転数が予め設定した正常回転の場合の数値範囲外の場合には、回転異常と判定する。
【００２７】
光学測定部１４は、図１に示すように、光源１４ａと測光センサ１４ｂとを有している。光源１４ａは、試薬と検体とが反応した反応容器Ｃ内の反応液を分析する分析光を出射する。測光センサ１４ｂは、光源１４ａが出射し、開口４ｃを通って反応容器Ｃ内の反応液を透過した光束を測光する。
【００２８】
洗浄・乾燥ユニット１５は、反応容器Ｃの内部を洗浄し乾燥する部分であり、反応液が測光された反応容器Ｃから反応液を吸引して廃棄すると共に、洗浄水タンクから供給される洗浄水によって内部を洗浄した後、加圧空気を吹き込んで乾燥する。このようにして内部を洗浄された反応容器Ｃは、再び検体分注装置３のプローブ３ａによって新たな検体が分注され、分析に使用される。
【００２９】
制御部１６は、例えば、分析結果を記憶する記憶機能を備えたマイクロコンピュータ等が使用され、測光センサ１４ｂ、バーコードラベル読取装置９，１０、第一撹拌装置１１、第二撹拌装置１２、回転数監視装置１３、分析部１６ａ、入力部１７及び表示部１８等と接続されている。制御部１６は、自動分析装置１の各部の作動を制御すると共に、前記情報記録媒体から読み取った情報に基づき、試薬のロットや有効期限等が設置範囲外の場合、分析作業を規制するように自動分析装置１を制御し、或いはオペレータに警告を発する。制御部１６は、図１に示すように、分析部１６ａを有している。分析部１６ａは、測光センサ１４ｂが測光した光量の信号に基づいて求められる反応容器Ｃ内の検体と試薬の反応液の吸光度（光学的特性）から検体の成分濃度等を分析し、記憶しておく。
【００３０】
入力部１７は、制御部１６へ検体数や検査項目等を入力する操作を行う部分であり、例えば、キーボードやマウス等が使用される。表示部１８は、分析項目や分析結果を含む分析内容、撹拌棒の回転異常又は実装異常を含む警報等を表示するもので、警報等を告知するスピーカを有するディスプレイパネル等が使用される。
【００３１】
以上のように構成される自動分析装置１は、制御部１６の制御の下に作動し、回転するキュベットホイール４ｂによって周方向に沿って搬送されてくる複数の反応容器Ｃのそれぞれに第一試薬分注装置５によって試薬ボトル７ａから第一試薬が順次分注された後、検体分注装置３によってラック２ａに保持された複数の検体容器２ｂから検体が順次分注される。検体が分注された反応容器Ｃには、第二試薬分注装置６が試薬ボトル８ａから順次第二試薬を分注する。
【００３２】
この間、試薬や検体が分注された反応容器Ｃは、キュベットホイール４ｂが停止する都度、第一撹拌装置１１や第二撹拌装置１２によって試薬や検体が撹拌され、キュベットホイール４ｂが再び回転したときに光学測定部１４を通過する。このとき、反応容器Ｃ内の試薬と検体とが反応した反応液は、光学測定部１４において光学的特性が測定され、光学測定部１４から入力される光信号をもとに分析部１６ａによって成分濃度等が分析される。そして、反応液の測定が終了した反応容器Ｃは、洗浄・乾燥ユニット１５に移送されて洗浄された後、再度検体の分析に使用される。
【００３３】
このとき、自動分析装置１は、反応容器Ｃ内の試薬や検体等の被撹拌液を撹拌する際、回転数監視装置１３によって第一撹拌装置１１や第二撹拌装置１２、例えば、第二撹拌装置１２の撹拌棒１２ｂの回転数を監視する。このとき、回転数監視装置１３による回転数の監視を図７に示すフローチャートを参照しつつ以下に説明する。
【００３４】
先ず、第二撹拌装置１２が反応容器Ｃ内の被撹拌液を撹拌する際、回転数監視装置１３は、撹拌棒１２ｂの反射板１２ｅを非接触で検知する(ステップＳ１００)。次に、回転数監視装置１３は、検知した反射板１２ｅの検知信号から撹拌棒１２ｅの回転数を演算する(ステップＳ１０２)。
【００３５】
次いで、回転数監視装置１３は、演算した撹拌棒１２ｅの回転数がゼロか否かを判定する(ステップＳ１０４)。回転数がゼロの場合（ステップＳ１０４，Ｙｅｓ）、回転数監視装置１３は、撹拌棒１２ｂの実装異常と判定する(ステップＳ１０６)。判定後、回転数監視装置１３は、表示部１８に撹拌棒１２ｂが実装異常である旨の警報を告知させ、又は表示させる(ステップＳ１０８)。これにより、オペレータに第二撹拌装置１２のメンテナンスの必要を喚起する。また、実装異常と判定した場合、回転数監視装置１３は、第二撹拌装置１２の撹拌動作の停止を指示する(ステップＳ１１０)。このとき、回転数監視装置１３は、自動分析装置１の停止も指示し、反射板１２ｅによる撹拌棒１２ｂの回転数の監視を終了する。ここで、第二撹拌装置１２の撹拌動作停止及び自動分析装置１の停止は、制御部１６を介して実行される。このようにして、自動分析装置１を停止することで、第二撹拌装置１２をメンテナンスする。
【００３６】
一方、回転数がゼロでない場合（ステップＳ１０４，Ｎｏ）、回転数監視装置１３は、撹拌棒１２ｂの回転数が所定数値範囲外か否かを判定する(ステップＳ１１２)。回転数が所定数値範囲外の場合（ステップＳ１１２，Ｙｅｓ）、回転数監視装置１３は、撹拌棒１２ｂの回転異常と判定する(ステップＳ１１４)。判定後、回転数監視装置１３は、表示部１８に撹拌棒１２ｂが回転異常である旨の警報を告知させ、又は表示させる(ステップＳ１１６)。これにより、オペレータに第二撹拌装置１２のメンテナンスの必要を喚起する。そして、回転数監視装置１３は、第二撹拌装置１２の撹拌動作の停止を指示する(ステップＳ１１０)。
【００３７】
回転数が所定数値範囲内の場合（ステップＳ１１２，Ｎｏ）、回転数監視装置１３は、総ての反応容器Ｃの撹拌が終了したか否かを判定する(ステップＳ１１８)。この判定に当たっては、回転数監視装置１３は、制御部１６に分析情報を請求し、分析情報をもとに判定する。総ての反応容器Ｃの撹拌が終了していない場合(ステップＳ１１８，Ｎｏ)、回転数監視装置１３は、ステップＳ１００以降の工程を繰り返す。総ての反応容器Ｃの撹拌が終了している場合(ステップＳ１１８，Ｙｅｓ)、回転数監視装置１３は、反射板１２ｅによる撹拌棒１２ｂの回転数の監視を終了する。
【００３８】
以上のように、自動分析装置１、第一撹拌装置１１及び第二撹拌装置１２は、撹拌棒に取り付けた被検知部としての反射板を光センサ１３ａが非接触で検知する回転数監視装置１３を備え、撹拌装置の回転数監視方法は、反射板１１ｅ，１２ｅを光センサ１３ａによって非接触で検知するので、駆動部を大型化することなく撹拌棒の回転数を監視することができる。
【００３９】
（変形例１，２）
ここで、実施の形態１の撹拌装置は、回転数監視装置１３の発光部と受光部を兼ねた光センサ１３ａに代えて、図８に示すように、反射板１２ｅと対向する位置に上下に離隔配置した光源としての発光素子１３ｅと検知手段としての受光素子１３ｆを使用してもよい。また、図９に示すように、反射板１２ｅと対向する位置に水平に離隔配置した光源としての発光素子１３ｅと検知手段としての受光素子１３ｆを使用してもよい。このようにすると、光センサ１３ａに比べて発光素子１３ｅや受光素子１３ｆが小型になるので、光センサ１３ａの実装が難しい場合に好適である。
【００４０】
なお、撹拌棒の被検知部は、鏡等からなる反射板１１ｅ，１２ｅに代えて、一方の面を白色、他方の面を黒色とした一方のみの反射板としてもよい。
（実施の形態２）
次に、本発明の撹拌装置及び分析装置にかかる実施の形態２について、図面を参照して詳細に説明する。実施の形態１の撹拌装置及び分析装置は、光の反射によって撹拌棒の回転数を検知したが、実施の形態２の撹拌装置及び分析装置は、光の透過によって撹拌棒の回転数を検知している。
【００４１】
図１０は、実施の形態２の撹拌装置で使用する撹拌棒の斜視図である。図１１は、撹拌棒と回転数監視装置の検知手段の配置を示す要部側面図である。図１２は、実施の形態２の撹拌装置、撹拌棒の洗浄槽及び検知手段の配置を示す平面図である。ここで、以下に説明する各実施の形態の自動分析装置は、基本構造が実施の形態１の自動分析装置１と同じである。従って、以下に説明する各実施の形態の自動分析装置は、自動分析装置の図を省略すると共に、自動分析装置１と同一の構成要素に同一の符号を使用して説明する。
【００４２】
以下、実施の形態２の撹拌装置を、第二撹拌装置１２を使用して説明する。第二撹拌装置１２は、被検知部として、反射鏡１２ｅに代えて、図１０に示すように、仕切り板１２ｆを有している。仕切り板１２ｆは、水平方向に長い板材の水平方向中央の厚さが薄くなるように湾曲した板材である、中央に光の透過孔１２ｇが形成されている。そして、回転数監視装置１３は、図１１及び図１２に示すように、支持部材１２ａを下降させて撹拌棒１２ｂを反応容器Ｃの被撹拌液Ｌ中に浸漬した際、仕切り板１２ｆの透過孔１２ｇと対向する位置に発光素子１３ｅと受光素子１３ｆを配置する。
【００４３】
従って、撹拌棒１２ｂと共に仕切り板１２ｆが回転すると、発光素子１３ｅから出射された光は仕切り板１２ｆの回転によって断続的に透過孔１２ｇを透過して受光素子１３ｆへ入射する。このため、回転数監視装置１３は、断続的に受光素子１３ｆへ入射した光の信号を基に演算部１３ｃで撹拌棒１２ｂの回転数を演算する。
【００４４】
このように、実施の形態２の撹拌装置及び分析装置は、撹拌棒に取り付けた被検知部としての仕切り板１２ｆを受光素子１３ｆが非接触で検知する回転数監視装置１３を備えているので、駆動部を大型化することなく撹拌棒の回転数を監視することができる。
【００４５】
なお、実施の形態２の撹拌装置及び分析装置は、仕切り板１２ｆに代えて、エンコーダを使用して撹拌棒の回転数を検知するようにしてもよい。また、仕切り板１２ｆは、水平方向中央の厚さが薄くなるように湾曲した板材に代えて、厚さが均一の板材としてもよい。
【００４６】
（実施の形態３）
次に、本発明の撹拌装置及び分析装置にかかる実施の形態３について、図面を参照して詳細に説明する。実施の形態１，２の撹拌装置及び分析装置は、光によって撹拌棒の回転数を検知したが、実施の形態３の撹拌装置及び分析装置は、電波によって撹拌棒の回転数を検知している。図１３は、実施の形態３の撹拌装置で使用する撹拌棒の斜視図である。図１４は、撹拌棒と回転数監視装置の検知手段の配置を示す概略側面図である。
【００４７】
以下、実施の形態３の撹拌装置を、第二撹拌装置１２を使用して説明する。第二撹拌装置１２は、被検知部として、図１３に示すように、電波遮蔽板１２ｈに取り付けたＲＦＩＤ１２ｉを有している。そして、回転数監視装置１３は、ＲＦＩＤ１２ｉを非接触で検知する検知手段として、図１４に示すように、リーダ１３ｇを使用している。このとき、回転数監視装置１３は、支持部材１２ａを下降させて撹拌棒１２ｂを反応容器Ｃの被撹拌液Ｌ中に浸漬した際、ＲＦＩＤ１２ｉと対向する位置にリーダ１３ｇを配置する。
【００４８】
これにより、回転数監視装置１３は、リーダ１３ｇからの電波を受信したＲＦＩＤ１２ｉからの応答電波を受信する。但し、撹拌棒１２ｂが回転していることから、ＲＦＩＤ１２ｉからの応答電波は断続的になる。従って、回転数監視装置１３は、リーダ１３ｇが受信するＲＦＩＤ１２ｉからの断続的な応答電波をもとに撹拌棒１２ｂの回転数を演算部１３ｃにおいて演算することができる。
【００４９】
このように、実施の形態３の撹拌装置及び分析装置も、駆動部を大型化することなく撹拌棒の回転数を監視することができる。このとき、ＲＦＩＤ１２ｉは、予め攪拌棒１２ｂを識別する情報を書き込んでおき、設置場所の良否判定、使用期間の算出に供してもよい。
【００５０】
なお、撹拌棒１２ｂを支持部材１２ａに取り付け忘れた場合や撹拌棒１２ｂが支持部材１２ａから浮き上がった場合、実施の形態２，３においても、撹拌棒１２ｂの回転数はゼロとなり、異常判定制御部１３ｄは、撹拌棒１２ｂの実装異常と判定する。
【００５１】
また、実施の形態１〜３の撹拌装置は、複数の撹拌棒を支持した支持部材の場合について説明したが、１つの撹拌棒を支持した支持部材であってもよい。また、自動分析装置１は、第一試薬保冷庫７と第二試薬保冷庫８を有するものについて説明したが、試薬保冷庫は１つであってもよい。
【図面の簡単な説明】
【００５２】
【図１】本発明の自動分析装置の概略構成図である。
【図２】実施の形態１の自動分析装置における撹拌棒と回転数監視装置の光センサの配置を示す概略側面図である。
【図３】第二撹拌装置、撹拌棒の洗浄槽及び検知手段である光センサの配置を示す平面図である。
【図４】回転数監視装置の構成を示すブロック図である。
【図５】光センサによって反射板を非接触で検知する様子を示す図２に対応した側面図である。
【図６】撹拌棒の実装異常状態を示す図２に対応した側面図である。
【図７】回転数監視装置による撹拌棒の回転数の監視を説明するフローチャートである。
【図８】実施の形態１の撹拌装置における回転数監視装置の第１の変形例を示す図２に対応した側面図である。
【図９】実施の形態１の撹拌装置における回転数監視装置の第２の変形例を示す図３に対応した平面図である。
【図１０】実施の形態２の撹拌装置で使用する撹拌棒の斜視図である。
【図１１】撹拌棒と回転数監視装置の検知手段の配置を示す要部側面図である。
【図１２】実施の形態２の撹拌装置、撹拌棒の洗浄槽及び検知手段の配置を示す平面図である。
【図１３】実施の形態３の撹拌装置で使用する撹拌棒の斜視図である。
【図１４】撹拌棒と回転数監視装置の検知手段の配置を示す概略側面図である。
【符号の説明】
【００５３】
１                自動分析装置
２                ラック供給装置
３                検体分注装置
４                反応部
５                第一試薬分注装置
６                第二試薬分注装置
７                第一試薬保冷庫
８                第二試薬保冷庫
９，１０          読取装置
１１              第一撹拌装置
１１ａ，１２ａ    支持部材
１１ｂ，１１ｃ    撹拌棒
１１ｅ，１２ｅ    反射板
１２              第二撹拌装置
１２ｂ            撹拌棒
１２ｄ            ホルダ
１２ｆ            仕切り板
１２ｇ            透過孔
１２ｈ            電波遮蔽板
１２ｉ            ＲＦＩＤ
１３              回転数監視装置
１３ａ            光センサ
１３ｃ            演算部
１３ｄ            異常判定制御部
１３ｅ            発光素子
１３ｆ            受光素子
１３ｇ            リーダ
１４              光学測定部
１５              洗浄・乾燥ユニット
１６              制御部
１７              入力部
１８              表示部
Ｃ                反応容器
Ｌ                被撹拌液
Ｍ                反応容器の移動軌跡
Ｗt1，Ｗt2        洗浄槽
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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