(57)【要約】【課題】安定してワークを紫外線処理することができる紫外線処理装置を提供すること。【解決手段】ワークＷを収容する処理容器２と、処理容器２内のワークＷに紫外線を照射して紫外線処理する紫外線ランプ３と、処理容器２に接続したエアー供給流路１４および処理容器２に接続したエアー排気流路１５を介して、処理容器２内の雰囲気を常時換気する換気手段４と、エアー供給流路１４に介設され、処理容器２内の雰囲気の露点を調整する加湿装置５と、を備えたものである。【選択図】図１
2010137159.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ワークを収容する処理容器と、
前記処理容器内の前記ワークに紫外線を照射して紫外線処理する紫外線照射手段と、
前記処理容器に接続したエアー供給流路およびエアー排気流路を介して、前記処理容器内の雰囲気を常時換気する換気手段と、
前記エアー供給流路に介設され、前記処理容器内の前記雰囲気の露点を調整する露点調整手段と、を備えたことを特徴とする紫外線処理装置。
【請求項２】
前記露点調整手段は、前記エアー供給流路に並列に介設した第１調整流路および第２調整流路と、
前記第１調整流路および前記第２調整流路にそれぞれ介設され、１次流路から分岐して流入したエアーの流量をそれぞれ調整する２つの流量調整手段と、
前記第２調整流路に介設され、低露点のエアーに対し水分を添加して高露点化する水分添加手段と、を有し、
前記水分添加手段は、前記第２調整流路にタンク内空間を介設することで、前記タンク内空間の流入側および流出側が前記第２調整流路に連通する水タンクで構成されていることを特徴とする請求項１に記載の紫外線処理装置。
【請求項３】
前記露点調整手段は、上流側を水供給源に接続され、下流側を前記水タンクに接続した補給水流路を、更に有していることを特徴とする請求項２に記載の紫外線処理装置。
【請求項４】
前記処理容器の近傍に位置して、前記エアー供給流路を流れるエアーの水分量を検出する供給側水分量検出手段と、
前記供給側水分量検出手段の検出結果に基づいて、前記２つの流量調整手段を個々に制御する制御手段と、を更に備えたことを特徴とする請求項２または３に記載の紫外線処理装置。
【請求項５】
前記エアー排気流路を流れるエアーの水分量を検出する排気側水分量検出手段を更に備え、
前記制御手段は、前記供給側水分量検出手段の検出値と前記排気側水分量検出手段の検出値と、が略一致した状態で前記紫外線照射手段を駆動することを特徴とする請求項４に記載の紫外線処理装置。
【請求項６】
前記エアー排気流路は、バイパス流路と、
前記バイパス流路に介設したバイパス流路開閉手段と、を有し、
前記排気側水分量検出手段は、前記バイパス流路に介設されていることを特徴とする請求項５に記載の紫外線処理装置。
【請求項７】
前記換気手段は、前記エアー供給流路の上流側に接続され、低露点のエアーを供給する圧縮エアー供給手段と、
前記エアー排気流路の下流側に接続され、エアーを吸引するエアー吸引手段と、を有していることを特徴とする請求項１ないし６のいずれかに記載の紫外線処理装置。
【請求項８】
前記紫外線処理は、紫外線硬化性の撥水剤が塗布された穴開きプレートに紫外線を照射し前記撥水剤を硬化させて、前記穴開きプレートに撥水処理を施すことを特徴とする請求項１ないし７のいずれかに記載の紫外線処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ワークに紫外線を照射して紫外線処理する紫外線処理装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、このような活性酸素殺菌装置（紫外線処理装置）として、被処理物を収容するチャンバと、被処理物に紫外線を照射する紫外線発生ランプと、チャンバ内を冷却する冷却装置と、チャンバ内を加湿する加湿装置（露点調整装置）と、チャンバ内雰囲気を攪拌する送風ファンと、を有するものが知られている（特許文献１参照）。
この活性酸素滅菌装置は、チャンバ内に配設され、超音波振動式の加湿装置によりチャンバ内を加湿（露点を調整）し、送風ファンでチャンバ内雰囲気を均一に攪拌した状態で、紫外線を照射して、被処理物を殺菌処理している。
【特許文献１】特開２００６−２０６６９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、このような活性酸素殺菌装置では、超音波の振動により霧状にした水蒸気を噴霧してチャンバ内の水分量を調整（露点を調整）しているため、照射した紫外線が噴霧した水蒸気に吸収されてしまい、被処理物を安定に紫外線処理することができないという問題があった。
【０００４】
本発明は、安定してワークを紫外線処理することができる紫外線処理装置を提供することをその課題としている。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の紫外線処理装置は、ワークを収容する処理容器と、処理容器内のワークに紫外線を照射して紫外線処理する紫外線照射手段と、処理容器に接続したエアー供給流路およびエアー排気流路を介して、処理容器内の雰囲気を常時換気する換気手段と、エアー供給流路に介設され、処理容器内の雰囲気の露点を調整する露点調整手段と、を備えたことを特徴とする。
【０００６】
この構成によれば、ワークを紫外線処理している間、処理容器内の雰囲気を常時換気するため、紫外線処理によって生じた生成物が処理容器内に滞留することがない。また、処理容器内の雰囲気の露点を調整するため、処理容器内の水分量を一定に保つことができる。したがって、処理容器内の雰囲気の条件を一定に保つことができるため、安定してワークを紫外線処理することができる。
【０００７】
この場合、露点調整手段は、エアー供給流路に並列に介設した第１調整流路および第２調整流路と、第１調整流路および第２調整流路にそれぞれ介設され、１次流路から分岐して流入したエアーの流量をそれぞれ調整する２つの流量調整手段と、第２調整流路に介設され、低露点のエアーに対し水分を添加して高露点化する水分添加手段と、を有し、水分添加手段は、第２調整流路にタンク内空間を介設することで、タンク内空間の流入側および流出側が第２調整流路に連通する水タンクで構成されていることが、好ましい。
【０００８】
この構成によれば、水タンクのタンク内空間に低露点のエアー（乾燥エアー）を通気させることで、タンク内空間内の気化した水分を、乾燥エアーに取り込ませることができる。すなわち、乾燥エアーを、水分を含んだ加湿エアーにする（高露点化）ことができる。また、乾燥エアーと加湿エアーとを混合することで、簡単に処理容器内の露点を調整できると共に、露点調整手段を単純な構造で安価に構成することができる。
【０００９】
この場合、露点調整手段は、上流側を水供給源に接続され、下流側を水タンクに接続した補給水流路を、更に有していることが、好ましい。
【００１０】
この構成によれば、タンク内空間の気化した水分が乾燥エアーに取り込まれることで、水タンクの水位が減少しても、簡単に水タンク内に水を補給してその水位を回復することができる。なお、水位を一定に制御すれば水分の気化が一定になり、露点調整手段の運転を安定化させることができる。
【００１１】
この場合、処理容器の近傍に位置して、エアー供給流路を流れるエアーの水分量を検出する供給側水分量検出手段と、供給側水分量検出手段の検出結果に基づいて、２つの流量調整手段を個々に制御する制御手段と、を更に備えたことが、好ましい。
【００１２】
この構成によれば、制御手段により、乾燥エアーと加湿エアーの流量（混合割合）を調整することで、簡単に露点を調整することができる。なお、混合割合は、乾燥エアーおよび加湿エアーの混合割合と、露点と、の関係を示した制御テーブルに基づいて調整（制御）されることが、好ましい。
【００１３】
この場合、エアー排気流路を流れるエアーの水分量を検出する排気側水分量検出手段を更に備え、制御手段は、供給側水分量検出手段の検出値と排気側水分量検出手段の検出値と、が略一致した状態で紫外線照射手段を駆動することが、好ましい。
【００１４】
この構成よれば、処理容器内の水分量が保持された条件下でワークを紫外線処理することができ、紫外線処理を安定化させることができる。
【００１５】
この場合、エアー排気流路は、バイパス流路と、バイパス流路に介設したバイパス流路開閉手段と、を有し、排気側水分量検出手段は、バイパス流路に介設されていることが、好ましい。
【００１６】
この構成よれば、排気側水分量検出手段をエアーに含まれている水分量の測定時のみ駆動させることができるため、排気側水分量検出手段に紫外線処理後の排ガスが触れることがなく、その寿命を延ばすことができる。
【００１７】
この場合、換気手段は、エアー供給流路の上流側に接続され、低露点のエアーを供給する圧縮エアー供給手段と、エアー排気流路の下流側に接続され、エアーを吸引するエアー吸引手段と、を有していることが、好ましい。
【００１８】
この構成よれば、気体源からのエアーを、逆流させることなく、エアー供給流路、処理容器およびエアー排気流路の順で円滑に流すことができる。
【００１９】
この場合、紫外線処理は、紫外線硬化性の撥水剤が塗布された穴開きプレートに紫外線を照射し撥水剤を硬化させて、穴開きプレートに撥水処理を施すことが、好ましい。
【００２０】
この構成よれば、穴開きプレートに高精度の撥水処理を施すことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
以下、添付した図面を参照して、本発明に係る紫外線処理装置について説明する。この紫外線処理装置は、処理容器内の露点（水分量）を調整しながら、表面に紫外線硬化性の撥水剤を塗布した穴開きのワークに対して、紫外線を照射して、ワーク表面に撥水処理（紫外線処理）を施すものである。
【００２２】
図１に示すように、紫外線処理装置１は、ワークＷを収容する処理容器２と、処理容器２内のワークＷに紫外線を照射して紫外線処理する紫外線ランプ（紫外線照射手段）３と、処理容器２に接続したエアー供給流路１４および処理容器２に接続したエアー排気流路１５を介して、処理容器２内の雰囲気を常時換気する換気手段４と、エアー供給流路１４に介設され、処理容器２内の雰囲気の露点を調整する加湿装置（露点調整手段）５と、を備えている。この紫外線処理装置１は、処理容器２内において露点の調整された雰囲気を常時換気しながら、紫外線を照射することでワークＷに紫外線処理する。
【００２３】
処理容器２は、金属製の容器本体１１と、容器本体１１内にワークＷをセットするワークホルダ１２と、から構成されている。容器本体１１の天面には、紫外線ランプ３および処理容器２内の圧力を測定する圧力計１３が配設されている。また、処理容器２の側面には、紫外線処理に使用される処理エアーを供給するエアー供給流路１４と、紫外線処理後の排ガスを排気するエアー排気流路１５と、がそれぞれ接続されている。これにより、処理エアーを処理容器２内に滞留させることなく、排気することができる。すなわち、紫外線処理により発生する生成物を、効率良く排気できるようになっている。ワークホルダ１２は、詳細は図示しないが、処理容器２の底部に配設され、格子枠状に形成されており、各枠内に内向きに突設した支持突起により各ワークＷを支持するようになっている。また、紫外線ランプ３は、紫外線の照射により発生する熱を冷却水により、冷却しながら駆動するようにしている。
【００２４】
換気手段４は、上記のエアー供給流路１４の上流側に接続され、低露点のエアー（乾燥エアー）を供給する圧縮エアー供給手段２１と、上記のエアー排気流路１５の下流側に接続され、排ガスを吸引するエアー吸引手段２２と、を有している。圧縮エアー供給手段２１は、乾燥エアーの供給源となる圧縮エアー設備等の気体源２３と、レギュレータ（図示省略）と、から構成されており、処理エアーとして処理容器２に供給する。一方、エアー吸引手段２２は、真空ポンプ（図示省略）を有するエアー排気設備２４、から構成されており、紫外線処理に使用した排ガスを排気処理する。なお、換気手段４は、連続して駆動され、紫外線処理時（処理直後のクリーニング用排気も含む）は元より紫外線処理前の露点調整においても、処理容器２の連続した給排気を実施する。
【００２５】
エアー供給流路１４は、上流端が気体源２３に接続されており、下流端が処理容器２に接続されている。エアー供給流路１４には、後述する加湿装置５が介設されており、乾燥エアーの一部を加湿して加湿エアーとし（高露点化）、乾燥エアーと混合することで処理エアーとして処理容器２に供給する。
【００２６】
エアー排気流路１５は、上流端が処理容器２に接続され、下流端がエアー排気設備２４に接続された主エアー排気流路３１と、主エアー排気流路３１に設けられたバイパス流路３２と、から構成されている。バイパス流路３２は、上流端が主エアー排気流路３１上流側の排気側分岐部３３に接続されており、下流端が主エアー排気流路３１下流側の排気側合流部３４に接続されている。また、バイパス流路３２には、第１バイパス流路開閉バルブ（バイパス流路開閉手段）３５、排気側露点計（排気側水分量検出手段）３６および第２バイパス流路開閉バルブ（バイパス流路開閉手段）３７が、上流側から順番に並んで配設されている。処理容器２内を換気して雰囲気を所定の加湿エアーに調整する際には、第１バイパス流路開閉バルブ３５および第２バイパス流路開閉バルブ３７を開放して、主エアー排気流路３１およびバイパス流路３２に処理エアーが流れるようにして、処理エアーに含まれている水分量を計測する。一方、紫外線処理を行う場合には、両バルブ３５，３７を閉塞して、主エアー排気流路３１のみに排ガスが行くようにして、排ガスにより腐食され易い排気側露点計３６の寿命を延ばすようにしている。
【００２７】
加湿装置５は、上流側を気体源２３に連通する１次流路４１と、下流側を露点調整した処理エアーが供給される処理容器２に連通する２次流路４２と、１次流路４１下流端の供給側分岐部５１から分岐し２次流路４２上流端の供給側合流部５２で合流する第１調整流路４３および第２調整流路４４と、第１調整流路４３および第２調整流路４４にそれぞれ介設され、１次流路４１から分岐して流入した乾燥エアーの流量をそれぞれ調整する第１電空比例弁（流量調整手段）４５および第２電空比例弁（流量調整手段）４６と、第２調整流路４４に介設され、乾燥エアーに対し水分を添加して高露点化する水タンク（水分添加手段）４７と、を備えている。すなわち、上記したエアー供給流路１４は、１次流路４１および２次流路４２を兼ねている。
【００２８】
１次流路４１は、上流側が気体源２３に連通し、下流端が第１調整流路４３および第２調整流路４４の上流端が接続している供給側分岐部５１に接続されている。１次流路４１には、気体源２３からの乾燥エアーをフィルタリングするフィルタ、気液分離させるミストセパレータおよび乾燥エアーを送るレギュレータ（いずれも図示省略）が、設けられている。気体源２３から供給された乾燥エアーは、異物をフィルタリングされた後、気液分離されて下流側に送られる。この場合、乾燥エアーは、処理容器２に供給される加湿エアー（処理エアー）より十分に低く一定の露点温度で下流側に送られるため、処理エアーの露点調整を簡単且つ精度良く行えるようになっている。
【００２９】
第１調整流路４３は、上流端が供給側分岐部５１に接続されており、下流部が供給側合流部５２に接続されている。第１調整流路４３には、乾燥エアーの流量を調整する第１電空比例弁４５が介設されており、制御装置５３によって制御されている。第１調整流路４３に流入した乾燥エアーは、第１電空比例弁４５により流量が制御され、下流側に送られる。
【００３０】
第２調整流路４４は、第１調整流路４３と同様に、上流端が供給側分岐部５１に接続され、下流端が供給側合流部５２に接続されている。また、第２調整流路４４には、制御装置５３によって制御され、乾燥エアーの流量を調整する第２電空比例弁４６と、乾燥エアーを加湿する水タンク４７と、が上流側から並んで介設されている。詳細は後述するが、第２調整流路４４に流入した乾燥エアーは、第２電空比例弁４６により流量が制御され、水タンク４７で加湿されて加湿エアーとなり、下流側に送られる。
【００３１】
２次流路４２は、上流側が供給側合流部５２に接続されており、下流端が処理容器２に接続されている。２次流路４２には、露点調整した処理エアーの処理容器２への送気を制御する供給側開閉バルブ５４および処理エアーの水分量を検出する供給側露点計（供給側水分量検出手段）５５が設けられている。第１調整流路４３からの乾燥エアーおよび第２調整流路４４からの加湿エアーは、供給側合流部５２で混合されて、露点調整された処理エアーとなり処理容器２に送られる。なお、処理容器２に送られる処理エアーの露点（水分量）は、供給側露点計５５で検出され、処理エアーの露点が設定した露点より低かった場合には、制御装置５３を介して、上記した第１電空比例弁４５の流量を少なくし、第２電空比例弁４６の流量を多くすることで、露点を調整する。一方、処理エアーの露点が設定した露点より高かった場合には、制御装置５３を介して、上記した第１電空比例弁４５の流量を多くし、第２電空比例弁４６の流量を少なくすることで、露点を調整する。なお、露点の調整は、乾燥エアーおよび加湿エアーの流量比（混合割合）と、露点と、の関係を示した図外の制御テーブルに基づいて調整（制御）される。
【００３２】
図２および図３に示すように、水タンク４７は、いわゆる開放タンクであり、タンク内空間の流入側および流出側が第２調整流路４４にそれぞれ連通するように介設されており、タンク本体６１と、乾燥エアーが流入するための流入パイプ６２と、加湿エアーが流出するための流出パイプ６３と、貯留水を補給するための補給水流路６４と、水タンク４７の水位を検出する水位検出手段６５と、を備えており、ドレンパン６６上に載置されている。
【００３３】
タンク本体６１は、ステンレス等の金属材料で、薄型円柱形状に形成されている。また、タンク本体６１は、有底の円筒状に形成された本体容器７１と、円板状に形成され、本体容器７１を開閉する蓋体７２と、から構成されている。本体容器７１と蓋体７２とは、それぞれに突設形成されたフランジ部７３に設けられた固定ネジ７４によって固定されている。本体容器７１の側壁には、水位検出手段６５と、貯留水を排気するドレンバルブ７５と、が設けられている、一方、蓋体７２には、流入パイプ６２と、流出パイプ６３と、補給水流路６４の先端パイプ７６と、がそれぞれ気密に挿通している。流入パイプ６２、流出パイプ６３および先端パイプ７６は、それぞれ蓋体７２の中央部に略垂直になるように設けられており、それぞれタンク本体６１内に挿入するように配設されている。すなわち、蓋体７２により本体容器７１を開閉することで、流入パイプ６２、流出パイプ６３および先端パイプ７６が着脱できるようになっている。
【００３４】
流入パイプ６２は、上流端が第２調整流路４４の流入側に接続されており、下流端がタンク内空間に配管されている。また、流入パイプ６２の下流端に形成された流入口８１は、横向きとなるように「Ｌ」字状に配管されている。すなわち、流入口８１は、後述する上限センサ９２が検出する上限水位より上方に配設され、貯留水が誤って入り込まないようになっている。これらにより、乾燥エアーが、横に向って水タンク４７に流入するため、その風圧により、水面が波立つことがない。よって、水面から気化する水分量を一定に保つことができる。
【００３５】
流出パイプ６３は、上流端がタンク内空間に配管されており、下流端が供給側合流部５２に接続されている。また、流出パイプ６３の上流端に形成された流出口８２は、上向きとなるように「Ｊ」字状に配管されている。すなわち、流出パイプ６３の上流側は、傘の柄状に形成されている。この場合も、流出口８２は、後述する上限センサ９２が検出する上限水位より上方に配設され、貯留水が誤って入り込まないようになっている。これらにより、水面が波立って飛沫（ミスト）が生じても、ミストが流出パイプ６３の曲げ部分にトラップされるため、処理容器２へのミストの流入を効果的に抑制することができる。
【００３６】
補給水流路６４は、上流側が水供給源８３に接続され、その先端パイプ７６の下流側の補給口８４が貯留してある水面下まで延びている。係る場合に補給口８４は、後述する下限センサ９４が検出する下限水位より下方に配設され、常時貯留水の水位より下に位置するようになっている。また、補給水流路６４には、制御装置５３に接続され、補給水を補給する流路開閉バルブ８５が設けられており、水をタンク本体６１に補給する場合に開放する。これにより、タンク内空間の気化した水分が乾燥エアーに取り込まれることで、水位が減少しても、簡単に水タンク４７内に水を補給してその水位を回復することができる。また、下流端が水面下まで延びているため、水を補給する際に、水面が波立つことがない。したがって、水を補給しながら紫外線処理を行うことができるため、水の補給時に装置を止める必要がなく、長時間の紫外線処理にも対応することができる。
【００３７】
水位検出手段６５は、タンク本体６１の外側に沿わせて設けた液柱パイプ９１と、上限水位を検出する上限センサ９２と、下限水位を検出する下限センサ９４と、上限・下限の中間位置に配設され、補給時の水位を検出する水位センサ９３と、を備えている。
【００３８】
各センサ９２，９３，９４は、液柱パイプ９１に外側から臨んでおり、上限センサ９２は、タンク本体６１のタンク内空間の容積が著しく減少（水位が上昇）するのを防止すべく設けられており、上限センサ９２が上限水位を検出した場合には、流路開閉バルブ８５を閉塞して水供給源８３からの送液を停止させ、警報を発する。一方、下限センサ９４は、タンク本体６１のタンク内空間の容積が著しく増加（水位が下降）するのを防止すべく設けられており、下限センサ９４が下限水位を検出した場合には、警報を発すると共に、流路開閉バルブ８５を開放して水を補給する。また、水位センサ９３は、タンク本体６１の基準水位を検出するものであり、水位センサ９３により水位が検出されると、制御装置５３との協働により、満液もしくは減液と判断される。すなわち、水位センサ９３より上に水位がある状態から、加湿動作により、基準水位が検出されると減液と判断される。また、水位センサ９３より下に水位がある状態から、補給動作により、水位センサ９３により基準水位が検出された後、一定時間経過すると満液と判断される。これにより、水タンク４７内の水位がほぼ一定になり、タンク内空間の容積および形状が一定に保たれる。このため、タンク内空間を流れるエアーの流れが一定になり、水分の気化条件を一定にすることができる。なお、下限センサ９４のみ設け、下限水位を検出したときに一定量（一定時間、流路開閉バルブ８５を開）の水を補給するようにしてもよい。
【００３９】
次に、図１を参照して、紫外線処理装置１の運転方法について説明する。この紫外線処理装置１の運転方法では、まず、供給側開閉バルブ５４を閉塞した状態で、表面に紫外線硬化性の撥水剤を塗布したワークＷを、処理容器２のワークホルダ１２にセットする。そして、制御テーブルに基づいて、乾燥エアーと加湿エアーの混合割合を設定したあと、処理容器２内を紫外線処理状態に平衡化する。
【００４０】
平衡化は、圧縮エアー供給手段２１によるエアーの供給量およびエアー吸引手段２２によるエアーの排気量を等しくすることで、処理容器２内の雰囲気を常時換気しながら、供給側露点計５５と排気側露点計３６による露点（水分量）を計測することで行う。まず、供給側開閉バルブ５４、第１バイパス流路開閉バルブ３５および第２バイパス流路開閉バルブ３７を開放した状態で、圧縮エアー供給手段２１およびエアー吸引手段２２を駆動（開弁）させる。これにより、気体源２３から供給された乾燥エアーは、供給側分岐部５１で、上記した制御テーブルによる混合割合に基づいて、第１調整流路４３および第２調整流路４４に分流する。第１調整流路４３に流れる乾燥エアーは、そのまま供給側合流部５２に流れ込み、第２調整流路４４に流れる乾燥エアーは、水タンク４７のタンク内空間を通気することで加湿（高露点化）される。そして、乾燥エアーおよび加湿エアーは、供給側合流部５２で混合されて処理エアーとなり、処理エアーに含まれる水分量が供給側露点計５５により検出された後、処理容器２に送られる。処理容器２に送られた処理エアーは、吸引ポンプにより、エアー排気設備２４に向って吸引される。具体的には、処理容器２からの処理エアーは、エアー排気流路１５の排気側分岐部３３で、その略半分が主エアー排気流路３１を通気し、残りの略半分がバイパス流路３２を通気することで排気側露点計３６により、処理エアーに含まれる水分量が検出される。そして、しばらく換気を行うことで、２次流路４２、処理容器２およびエアー排気流路１５内の気体が、処理エアーに置換された時点で、すなわち、供給側露点計５５と排気側露点計３６による露点（水分量）が略一致した時点で平衡化を終了する。
【００４１】
平衡化が完了したら、第１バイパス流路開閉バルブ３５および第２バイパス流路開閉バルブ３７を閉塞した後に、図外の電源をオンにすることで紫外線ランプ３を駆動させて、ワークＷに対する紫外線処理を開始する。
【００４２】
ワークＷに紫外線を所定時間、照射した後、電源をオフにして、紫外線処理を終了し、第１バイパス流路開閉バルブ３５および第２バイパス流路開閉バルブ３７を開放して、処理容器２およびエアー排気流路１５内の排ガスをエアー排気設備２４に排気させる。なお、排気の完了は、上記した平衡化と同じ時間あるいはそれ以上であることが好ましい。すなわち、圧縮エアー供給手段２１およびエアー吸引手段２２は、紫外線処理前の平衡化から排ガスの排気完了までの間、常時駆動していることになる。
【００４３】
なお、本実施形態における紫外線処理装置１において、圧縮エアー供給手段２１により供給する乾燥エアーの露点は約−７０℃であり、タンク内空間を通過した加湿エアーの露点は約５から１０℃の範囲であった。そして、紫外線処理に用いた処理エアーの露点は−５℃程度で行い、露点の変化温度は±１から２℃に抑えることができた。また、本紫外線処理装置１では、乾燥エアーの供給量（排出量）は、最大２００Ｌ／ｍｉｎまで制御可能であった。
【００４４】
以上の構成によれば、ワークＷを紫外線処理している間、処理容器２内の雰囲気を常時換気すると共に、処理容器２内の雰囲気の露点を調整することで、処理容器２内の雰囲気の条件を一定に保つことができるため、安定してワークＷを紫外線処理することができる。
【図面の簡単な説明】
【００４５】
【図１】紫外線処理装置の模式図である。
【図２】水タンクの（ａ）は斜視図であり、（ｂ）は平面図である。
【図３】水タンクの（ａ）は側面図であり、（ｂ）は背面図である。
【符号の説明】
【００４６】
１…紫外線処理装置  ２…処理容器  ３…紫外線ランプ  ４…換気手段  ５…加湿装置  １４…エアー供給流路  １５…エアー排気流路  ２１…圧縮エアー供給手段  ２２…エアー吸引手段  ３２…バイパス流路  ３５…第１バイパス流路開閉バルブ  ３６…排気側露点計  ３７…第２バイパス流路開閉バルブ  ４３…第１調整流路  ４４…第２調整流路  ４５…第１電空比例弁  ４６…第２電空比例弁  ４７…水タンク  ５３…制御装置  ５５…供給側露点計  ６４…補給水流路  ８３…水供給源  Ｗ…ワーク
【図１】
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【図２】
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【図３】
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