(57)【要約】【課題】スリットを有する電極及びスペーサを備えつつも、表示品位の低下を抑制する。【解決手段】液晶装置（１００）は、第１基板（１０）と、第２基板（２０）と、第１基板に形成される第１電極（９ａ）と、第１基板に形成され且つ第１電極との間に絶縁層（１２）を挟持する第２電極（１１）と、第１基板及び第２基板との間に挟持される液晶層（５０）と、第１基板と第２基板との間の距離を一定に保つスペーサ（４０）とを備え、第１電極及び第２電極のうち液晶層側の電極は、スリット（９ｂ）を有しており、スペーサは、スリットが形成される領域以外の領域上に配置される。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１基板と、
前記第１基板に対向するように配置される第２基板と、
前記第１基板の前記第２基板側に形成される第１電極と、
前記第１基板の前記第２基板側に形成され且つ前記第１電極との間に絶縁層を挟持する第２電極と、
前記第１基板及び前記第２基板との間に挟持されると共に、前記第１電極及び前記第２電極間に生ずる電界によって駆動される液晶分子を含む液晶層と、
前記第１基板と前記第２基板との間に配置され且つ前記第１基板と前記第２基板との間の距離を一定に保つスペーサと
を備え、
前記第１電極及び前記第２電極のうち前記液晶層側に配置される電極は、スリットを有しており、
前記スペーサは、前記スリットが形成される領域以外の領域に配置されることを特徴とする液晶装置。
【請求項２】
前記スペーサは、前記スリットが形成される領域から所定距離以上離れた領域に配置されることを特徴とする請求項１に記載の液晶装置。
【請求項３】
前記スリットは、一の方向に沿って伸張しており、
前記スペーサは、前記スリットが形成される領域から前記一の方向に沿って所定距離以上離れた領域に配置されることを特徴とする請求項１に記載の液晶装置。
【請求項４】
前記所定の距離は、前記第１基板と前記第２基板との間の距離であることを特徴とする請求項２又は３に記載の液晶装置。
【請求項５】
前記所定の距離は、前記液晶層の厚さであることを特徴とする請求項２又は３に記載の液晶装置。
【請求項６】
前記所定の距離は、３μｍであることを特徴とする請求項２又は３に記載の液晶装置。
【請求項７】
請求項１から６のいずれか一項に記載の液晶装置を備えることを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば液晶装置及びこのような液晶装置を備える電子機器の技術分野に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶装置として、スペーサによって間隔が略一定に保たれている一対の基板（例えば、ＴＦＴアレイ基板及び対向基板）間に液晶を挟持してなる液晶装置がある。液晶装置では、例えば一対の基板間において液晶分子を所定の配向状態としておき、例えば画像表示領域に形成された画素部毎に、液晶分子に所定の電圧を印加することにより、液晶分子の配向や秩序を変化させて、光を変調することにより階調表示を行う。液晶装置として、ＴＦＴアレイ基板側に画素電極及び共通電極の夫々を設け且つ液晶に印加する電界の方向を基板にほぼ平行な方向とする、ＩＰＳ（In Plane Switching）方式或いはＦＦＳ（Fringe Field Switching）方式等の横電界駆動方式を採用した液晶装置が知られている（例えば、特許文献１及び２等参照）。横電界駆動方式は、相対向する一対の基板の夫々に形成された画素電極及び対向電極間に介在する液晶に縦電界を印加する、ＴＮ（Twisted Nematic）駆動方式等の縦電界駆動方式に比べて視角特性に優れていることから注目されている。このような横電界駆動方式を採用する液晶装置では、画素電極及び共通電極の少なくとも一方は、略矩形の形状を有するスリット（例えば、開口）を有していることが多い。
【０００３】
ここで、スリットは、ベタ状に形成された電極をエッチングすることで形成されるのが一般的であるが、例えば細長い矩形状（つまり、溝形状）のスリットを形成する場合には、スリットの長辺の端部は、形成工程（つまり、フォトリソグラフィーやエッチング）の限界により、丸みを帯びてラウンド形状あるいは円弧状の形状となることが多い。この場合、スリットを通って画素電極及び共通電極間に発生する電界は、スリットの外周部の接線に対して垂直な方向に発生するため、スリットの端部では円弧状のパターンに沿って電界が発生することになる。従って、例えば、ラビング処理等によって液晶分子の初期配向をスリットの長辺にほぼ平行とした状態で電界を印加して液晶分子を駆動すると、スリットの長辺の直線部分では、初期配向の状態から長辺に垂直な方向に回転するが、スリットの端部では、初期配向の状態から円弧状形状に垂直な方向に回転することになる。
【０００４】
この場合、スリットの端部の円弧状形状に沿って液晶分子が初期配向の状態から回転するとき、液晶分子の回転方向が逆転することが生じる。例えば、スリットの端部の円弧状形状を円形の一部と考え、ラビング処理方向をスリットの長辺にほぼ平行とし、スリットの長辺方向をＸ軸とし、長辺に垂直な方向をＹ軸とした場合について検討する。この場合、スリットの端部の円弧状形状が円形の第１象限に相当する形状のときは、液晶分子は、Ｘ軸方向から反時計周りに回転して円弧状形状に垂直となる。これに対し、スリットの端部の円弧状形状が円形の第４象限に相当する形状のときは、液晶分子は、Ｘ軸方向から時計周りに回転して円弧状形状に垂直となる。同様に、スリットの端部の円弧状形状が円形の第２象限に相当する形状のときは、液晶分子は、Ｘ軸方向から時計周りに回転して円弧状形状に垂直となり、スリットの端部の円弧状形状が円形の第３象限に相当する形状のときは、液晶分子は、Ｘ軸方向から反時計周りに回転して円弧状形状に垂直となる。
【０００５】
このように、電界を印加したときに、スリットの端部では、場所によって液晶分子の回転方向が異なることが生じる。この回転方向が場所によって異なる現象はディスクリネーションと呼ばれる。
【０００６】
【特許文献１】特開２０００−２７５６６４号公報
【特許文献２】特開２００１−２４９３４２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ここで、このようなディスクリネーションが生じている際に液晶装置に対して例えば外乱等が加えられた場合（例えば、液晶装置のパネルが押下された場合等）には、回転方向が異なる液晶分子が存在する領域が拡がってしまいかねない。具体的には、例えば、回転方向が異なる液晶分子が存在する領域が、スリットの長辺方向に沿って拡がってしまいかねない。その結果、ある画素の局所的な領域にのみ回転方向が異なる液晶分子が存在する場合であっても、外乱等が加えられることで、ある画素の中央付近（更には、隣接する他の画素）にまで回転方向が異なる液晶分子が存在する領域が拡がってしまいかねない。このような回転方向が異なる液晶分子の存在は、透過率の変化につながるため、表示ムラ等としてユーザに視認されてしまう。つまり、液晶装置の表示品位の悪化を発生させてしまうため好ましくない。
【０００８】
特に、スペーサが配置される領域では、スペーサの影響を受けることで液晶分子の配向状態が乱れ易い。このため、スリット上にスペーサが配置される場合には、スペーサが配置される領域における液晶分子の回転方向が異なる状態が発生してしまいかねない。つまり、スペーサが配置される領域にディスクリネーションが発生してしまいかねない。更には、液晶装置に対して加えられる外乱がスペーサを介してＴＦＴアレイ基板側に伝えられることを考慮すれば、スペーサを起点として回転方向が異なる液晶分子が存在する領域が拡がってしまいかねない。このため、スペーサが形成されている領域では、ディスクリネーションによる表示品位の悪化が顕著になってしまいかねない。
【０００９】
本発明は、例えば上述した従来の問題点に鑑みなされたものであり、例えばスリットを有する電極及びスペーサを備えつつも、表示品位の低下を抑制することができる液晶装置及びこのような液晶装置を備える電子機器を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
（液晶装置）
上記課題を解決するために、本発明の液晶装置は、第１基板（例えば、後述のＴＦＴアレイ基板）と、前記第１基板に対向するように配置される第２基板（例えば、後述の対向基板）と、前記第１基板の前記第２基板側に形成される第１電極（例えば、後述の画素電極）と、前記第１基板の前記第２基板側に形成され且つ前記第１電極との間に絶縁層を挟持する第２電極（例えば、後述の共通電極）と、前記第１基板及び前記第２基板との間に挟持されると共に、前記第１電極及び前記第２電極間に生ずる電界によって駆動される液晶分子を含む液晶層と、前記第１基板と前記第２基板との間に配置され且つ前記第１基板と前記第２基板との間の距離を一定に保つスペーサとを備え、前記第１電極及び前記第２電極のうち前記液晶層側に配置される電極は、スリットを有しており、前記スペーサは、前記スリットが形成される領域以外の領域上に配置される。
【００１１】
本発明の液晶装置によれば、スペーサによって間隔が概ね一定に保たれる一対の基板（つまり、第１基板及び第２基板）間に挟持されている液晶分子の配向状態を、第１電極及び第２電極の夫々の電位差によって生ずる電界によって変化させることができる。ここで、第１電極及び第２電極のうち液晶層側に配置される電極は、スリットを有している。従って、第１電極及び第２電極の夫々に印加される電圧に応じて、第１電極と第２電極との間には、スリットを介して電界が発生する。尚、スリットの形状は任意であるが、典型的には細長い矩形の形状（言い換えれば、溝形状）を有している。これにより、液晶装置を、例えば透過型表示、反射型表示又は半透過反射型表示を行う、典型的には直視型の或いは投射型の各種表示装置等として利用することができる。
【００１２】
尚、本発明においては、電界は、例えば横電界が一例としてあげられる。尚、「横電界」とは、第１基板又は第２基板の表面に沿った方向の電界（典型的には、第１基板又は第２基板の表面に対して平行な或いは概ね平行と同視し得る電界）を示す趣旨である。加えて、本発明では、第１電極と第２電極との間に絶縁層が積層されている。つまり、本発明では、第１電極と絶縁層と第２電極とが、第１基板又は第２基板の法線方向に沿って積層構造を形成するように第１基板上に形成されている。つまり、本発明に係る液晶装置は、例えばＦＦＳ（Fringe Field Switching）方式等の横電界駆動方式を採用している。
【００１３】
本発明では特に、第１基板と第２基板との間の距離を一定に保つためのスペーサは、第１電極及び第２電極のうち液晶層側に配置される電極が有するスリットが形成される領域以外の領域に配置されている。言い換えれば、スペーサは、第１基板又は第２基板の法線方向において、スリットと重ならない位置に配置されている。この場合、典型的には、スペーサは、第１基板又は第２基板の面内において、スリットと所定距離だけ離れた位置に配置されていることが好ましいが、スリットと重ならない限りはスリットと隣接する位置に配置されていてもよいことは言うまでもない。
【００１４】
このため、仮に本発明の液晶装置に対して外乱が加えられた場合（例えば、ユーザによって第２基板又は第２基板に積層されるパネル等が押下される場合等）であっても、スリットに対してスペーサから力が加わることは殆ど又は全くなくなる。このため、スリットの外周部に沿って配列する液晶分子の配向状態（つまり、スリットを介して印加される電界によって配列する液晶分子の配向状態）が、スペーサの存在によって乱れることは殆ど又は全くなくなる。従って、スペーサに加えられる又はスペーサから加えられる力によって、スリットの特に端部に発生しやすいディスクリネーションがスペーサを起点として拡がってしまうことは殆ど或いは全くなくなる。言い換えれば、スペーサに加えられる又はスペーサから加えられる力によって、スリットの特に端部に発生しやすい回転方向が異なる液晶分子の存在する領域が、スペーサを起点として拡がってしまうことは殆ど或いは全くなくなる。このため、液晶装置全体としての表示品位の低下を抑制することができる。
【００１５】
尚、第１電極及び第２電極のうち液晶層側に配置される電極は、一つのスリットを有していてもよいし、複数のスリットを有していてもよい。第１電極及び第２電極のうち液晶層側に配置される電極が複数のスリットを有している場合には、スペーサは、複数のスリットの夫々が形成される領域以外の領域に配置されることが好ましい。つまり、第１電極及び第２電極のうち液晶層側に配置される電極が複数のスリットを有している場合には、スペーサは、第１基板又は第２基板の法線方向において、複数のスリットのいずれとも重ならない位置に配置されていることが好ましい。
【００１６】
本発明の液晶装置の一の態様では、前記スペーサは、前記スリットが形成される領域から所定距離以上離れた領域に配置される。
【００１７】
この態様によれば、スリットが形成される領域とスペーサとの間の距離（より好ましくは、最短距離）が所定距離以上確保されるように、スペーサが配置される。つまり、第１基板又は第２基板の面内において、スペーサとスリットとが確実に離間するように、スペーサが配置される。このため、スペーサは、スリットが形成される領域以外の領域に確実に配置される。言い換えれば、スペーサは、第１基板又は第２基板の法線方向において、スリットと重ならない位置に確実に配置される。従って、スペーサに加えられる又はスペーサから加えられる力によって、スリットの特に端部に発生しやすいディスクリネーションがスペーサを起点として拡がってしまうことは殆ど或いは全くなくなるため、液晶装置全体としての表示品位の低下を抑制することができる。
【００１８】
尚、第１電極及び第２電極のうち液晶層側の電極が複数のスリットを有している場合には、スペーサは、複数のスリットの夫々が形成される領域から所定距離離れた領域に配置されることが好ましい。
【００１９】
また、スリットの端部分においてディスクリネーションが発生しやすいことを考慮すれば、スリットの端部分が形成される領域から所定距離以上離れた領域にスペーサが配置されるように構成してもよい。このように構成しても、スペーサに加えられる又はスペーサから加えられる力によって、スリットの特に端部に発生しやすいディスクリネーションがスペーサを起点として拡がってしまうことは殆ど或いは全くなくなるため、液晶装置全体としての表示品位の低下を抑制することができる。
【００２０】
本発明の液晶装置の他の態様では、前記スリットは、一の方向に沿って伸張しており、前記スペーサは、前記スリットが形成される領域から前記一の方向に沿って所定距離以上離れた領域に配置される。
【００２１】
この態様によれば、一の方向に沿って伸張する（つまり、一の方向に沿って長手を有する）スリットが形成される領域とスペーサとの間の距離（具体的には、一の方向に沿った距離であり、より好ましくは、一の方向に沿った最短距離）が、所定距離以上確保されるように、スペーサが配置される。このため、スペーサは、スリットが形成される領域以外の領域に確実に配置される。言い換えれば、スペーサは、第１基板又は第２基板の法線方向において、スリットと重ならない位置に確実に配置される。従って、スペーサに加えられる又はスペーサから加えられる力によって、スリットの特に端部に発生しやすいディスクリネーションがスペーサを起点として拡がってしまうことは殆ど或いは全くなくなるため、液晶装置全体としての表示品位の低下を抑制することができる。
【００２２】
尚、スリットの端部分においてディスクリネーションが発生することを考慮すれば、スリットの端部分が形成される領域から一の方向に沿って所定距離以上離れた領域にスペーサが配置されるように構成してもよい。このように構成しても、スペーサに加えられる又はスペーサから加えられる力によって、スリットの特に端部に発生しやすいディスクリネーションがスペーサを起点として拡がってしまうことは殆ど或いは全くなくなるため、液晶装置全体としての表示品位の低下を抑制することができる。
【００２３】
上述の如くスリットが形成される領域から所定距離以上離れた領域にスペーサが配置される液晶装置の態様では、前記所定の距離は、前記第１基板と前記第２基板との間の距離（つまり、セルギャップ）に応じて設定されるように構成してもよい。より好ましくは、前記所定の距離は、前記第１基板と前記第２基板との間の距離（つまり、セルギャップ）であるように構成してもよい。
【００２４】
このように構成すれば、スリットに対してスペーサから力が加わることが殆ど又は全くなくなる状態を実現しつつも、液晶層に対して確実に電界を印加することができる。このため、スペーサの存在によってスリットの外周部に沿って配列する液晶分子の配向状態が乱れてしまうことが殆ど又は全くなくなる状態を実現しつつも、液晶層に対して確実に電界を印加することができる。従って、スペーサに加えられる又はスペーサから加えられる力によって、スリットの特に端部に発生しやすいディスクリネーションがスペーサを起点として拡がってしまうことは殆ど或いは全くなくなる。このため、液晶装置全体としての表示品位の低下を抑制することができる。
【００２５】
上述の如くスリットが形成される領域から所定距離以上離れた領域にスペーサが配置される液晶装置の態様では、前記所定の距離は、前記液晶層の厚さであるように構成してもよい。
【００２６】
このように構成すれば、スリットに対してスペーサから力が加わることが殆ど又は全くなくなる状態を実現しつつも、液晶層に対して確実に電界を印加することができる。このため、スペーサの存在によってスリットの外周部に沿って配列する液晶分子の配向状態が乱れてしまうことが殆ど又は全くなくなる状態を実現しつつも、液晶層に対して確実に電界を印加することができる。従って、スペーサに加えられる又はスペーサから加えられる力によって、スリットの特に端部に発生しやすいディスクリネーションがスペーサを起点として拡がってしまうことは殆ど或いは全くなくなる。このため、液晶装置全体としての表示品位の低下を抑制することができる。
【００２７】
上述の如くスリットが形成される領域から所定距離以上離れた領域にスペーサが配置される液晶装置の態様では、前記所定の距離は、３μｍであるように構成してもよい。
【００２８】
このように構成すれば、スリットに対してスペーサから力が加わることが殆ど又は全くなくなる状態を実現しつつも、液晶層（例えば、セルギャップが３μｍとなる液晶層）に対して確実に電界を印加することができる。このため、スペーサの存在によってスリットの外周部に沿って配列する液晶分子の配向状態が乱れてしまうことが殆ど又は全くなくなる状態を実現しつつも、液晶層に対して確実に電界を印加することができる。従って、スペーサに加えられる又はスペーサから加えられる力によって、スリットの特に端部に発生しやすいディスクリネーションがスペーサを起点として拡がってしまうことは殆ど或いは全くなくなる。このため、液晶装置全体としての表示品位の低下を抑制することができる。
【００２９】
（電子機器）
上記課題を解決するために、本発明の電子機器は、上述した本発明の液晶装置（但し、その各種態様を含む）を備える。
【００３０】
本発明の電子機器によれば、上述した本発明の液晶装置（或いは、その各種態様）備えているため、スリットを有する電極及びスペーサを備えつつも、表示品位の低下を抑制することができる。このため、焼き付きの発生が抑制された投射型表示装置、テレビ、携帯電話、電子手帳、携帯オーディオプレーヤ、ワードプロセッサ、デジタルカメラ、ビューファインダ型又はモニタ直視型のビデオレコーダ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルなどの各種電子機器を実現することができる。
【００３１】
本発明の作用及び他の利得は次に説明する実施の形態から更に明らかにされよう。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３２】
以下、本発明を実施するための最良の形態を、図面に基づいて説明する。
【００３３】
（１）液晶装置の基本構成
先ず、本実施形態に係る液晶装置の構成について、図１及び図２を参照して説明する。図１は、本実施形態に係る液晶装置の構成を示す平面図であり、図２は、図１のＨ−Ｈ’断面図である。
【００３４】
図１及び図２において、本実施形態に係る液晶装置では、本発明に係る「第１基板」の一例としてのＴＦＴアレイ基板１０と本発明における「第２基板」の一例としての対向基板２０とが対向配置されている。ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間に液晶層５０が封入されており、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０とは、画像表示領域１０ａの周囲に位置する枠状或いは額縁状のシール領域に設けられたシール材５２により互いに貼り合わされている。
【００３５】
シール材５２は、両基板を貼り合わせるための、例えば紫外線硬化樹脂、熱硬化樹脂等からなり、製造プロセスにおいてＴＦＴアレイ基板１０上に塗布された後、紫外線照射、加熱等により硬化させられたものである。
【００３６】
シール材５２に囲まれた領域には、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間隔（基板間ギャップ）を所定値とするためのスペーサ４０が形成されている。スペーサ４０は、ガラスビーズ等の又はその他の樹脂製材料を散布してもよいが、感光性樹脂材料を塗布、感光、現像するフォトスペーサーを用いることにより容易に所定の位置に形成できる。また、シール材中５２中にもグラスファイバ若しくはガラスビーズ等の又はその他の樹脂製材料を含むスペーサとして散布されている。
【００３７】
シール材５２が配置されたシール領域の内側に並行して、画像表示領域１０ａの額縁領域を規定する遮光性の額縁遮光膜５３が、対向基板２０側に設けられている。周辺領域のうち、シール材５２が配置されたシール領域の外側に位置する領域には、データ線駆動回路１０１及び外部回路接続端子１０２がＴＦＴアレイ基板１０の一辺に沿って設けられている。但し、データ線駆動回路１０１は、シール領域よりも内側に、データ線駆動回路１０１が額縁遮光膜５３に覆われるようにして設けられていてもよい。また、走査線駆動回路１０４は、この一辺に隣接する２辺に沿ったシール領域の内側に、額縁遮光膜５３に覆われるようにして設けられている。
【００３８】
図２において、ＴＦＴアレイ基板１０上には、駆動素子である画素スイッチング用のＴＦＴ（Thin Film Transistor）１１６や、走査線Ｙ１からＹｎ（但し、ｎは１以上の整数）や、データ線Ｘ１からＸｍ（但し、ｍは１以上の整数）等の配線が作り込まれた積層構造が形成されている（図３参照）。具体的には、画像表示領域１０ａには、画素スイッチング用のＴＦＴ１１６や、走査線Ｙ１からＹｎや、データ線Ｘ１からＸｍ等の配線の上層に共通電極１１、絶縁層１２及び画素電極９ａがこの順に形成されている。つまり、本実施形態に係る液晶装置１００は、画素電極９ａと共通電極１１との間に生ずる電界によって液晶層５０の配向状態を制御する横電界駆動方式（特に、ＦＦＳ方式）を採用している。
【００３９】
ここで、本発明の「第１電極」及び「第２電極」のうちの一方の一具体例を構成する画素電極９ａは、画像表示領域１０ａを構成する各画素を形成するように平面視マトリクス状に設けられている。また、画素電極９ａは、後に詳述するように、長手方向に伸張する矩形状に開口したスリット９ｂを有している（図４参照）。尚、スリット９ｂはその長手方向に伸張した片方端が開放された形状でもよい。一方で、本発明の「第１電極」及び「第２電極」のうちの他方の一具体例を構成する共通電極１１は、画素電極９ａと同じように平面視マトリクス状に設けられてもよいし、複数の画素電極９ａ毎に共通するように平面視ベタ状または帯状に設けられてもよい。尚、画素スイッチング用のＴＦＴ１１６や、走査線Ｙ１からＹｎや、データ線Ｘ１からＸｍ等の配線の上層に、画素電極９ａ、絶縁層１２及び共通電極１１をこの順に形成し、スリット９ｂを共通電極１１に形成してもよい。
【００４０】
画素電極９ａ上（言い換えれば、画素電極９ａ等の構成要素が形成されたＴＦＴアレイ基板１０上）には、配向膜８が積層されている。他方、対向基板２０におけるＴＦＴアレイ基板１０との対向面上には、不図示のカラーフィルタと、ブラックマトリクス２３とが形成されている。ブラックマトリクス２３は、例えばクロムや酸化クロム等の遮光性金属膜や各種樹脂製材料等から形成されており、対向基板２０上の画像表示領域１０ａ内で、例えば格子状等にパターニングされている。そして、ブラックマトリクス２３上に配向膜８が形成されている。このとき、ＴＦＴアレイ基板１０上及び対向基板２０の夫々に形成される配向膜８に対してラビング処理が施されている。
【００４１】
液晶層５０は、例えば一種又は数種類のネマティック液晶を混合した液晶分子５０ａを含んでおり、これら一対の配向膜８間で、所定の配向状態をとる。
【００４２】
尚、ここでは図示しないが、ＴＦＴアレイ基板１０上には、データ線駆動回路１０１、走査線駆動回路１０４の他に、製造途中や出荷時の当該液晶装置の品質、欠陥等を検査するための検査回路、検査用パターン等が形成されていてもよい。
【００４３】
（２）液晶装置の詳細な構成
続いて、図３及び図４を参照して、本実施形態に係る液晶装置１００の要部の電気的な構成について説明する。ここに、図３は、本実施形態に係る液晶装置１００の要部の電気的な構成を概念的に示すブロック図であり、図４は、画素部７０のより詳細な構成を概念的に示す平面図である。
【００４４】
図３において、本実施形態に係る液晶装置１００は、そのＴＦＴアレイ基板１０上の画像表示領域１０ａの周辺に位置する周辺領域に、走査線駆動回路１０４及びデータ線駆動回路１０１や、不図示のドライバＩＣ回路等の駆動回路が形成されている。
【００４５】
走査線駆動回路１０４は、走査信号を、走査線Ｙ１からＹｎに順次供給する。例えば、ある走査線Ｙｊ（但し、ｊは、１≦ｊ≦ｎを満たす整数）にハイレベルの走査信号が供給されると、この走査線Ｙｊに接続されたＴＦＴ１１６が全てオン状態となり、この走査線Ｙｊに対応する画素部７０が全て選択される。
【００４６】
データ線駆動回路１０１は、画像信号を、データ線Ｘ１からＸｍに順次供給し、オン状態のＴＦＴ１１６を介してこの画像信号に基づく書込電圧を画素電極９ａに書き込む。
【００４７】
本実施形態に係る液晶装置１００には、更に、そのＴＦＴアレイ基板１０の中央を占める画像表示領域１０ａに、マトリクス状に配列された複数の画素部７０が設けられている。
【００４８】
図３及び図４（ａ）に示すように、画素部７０は、平面視略矩形状の外形を有すると共にその内側に形成された複数の細長い矩形の形状を有するスリット９ｂを備える画素電極９ａと、画素電極９ａを包含する平面視ベタ状の形状を有する共通電極１１と、画素電極９ａの長辺端に沿って延在するデータ線Ｘｋ（但し、ｋは１≦ｋ≦ｍを満たす整数）と、画素電極９ａの短辺端に沿って延在する走査線Ｙｊ（但し、ｊは１≦ｊ≦ｎを満たす整数）と、データ線Ｘｋ及び走査線Ｙｊの交点付近に形成される画素スイッチング用のＴＦＴ１１６と、蓄積容量１１９（但し、図４では不図示）を備えている。
【００４９】
ＴＦＴ１１６は、ソース端子がデータ線Ｘ１〜Ｘｍのいずれかに電気的に接続され、ゲート端子が走査線Ｙ１からＹｎのいずれかに電気的に接続され、ドレイン端子が画素電極９ａに電気的に接続されている。画素スイッチング用のＴＦＴ１１６は、走査線駆動回路１０４から供給される走査信号によってオン状態及びオフ状態が切り換えられる。
【００５０】
液晶素子１１８は、画素電極９ａ、共通電極１１並びに画素電極９ａ及び共通電極１１間に位置する液晶分子５０ａから構成されている。画素電極９ａは、ＴＦＴ１１６を介してデータ線Ｘ１からＸｍのいずれかと電気的に接続されている。共通電極１１は、共通配線ＣＯＭと電気的に接続されている。尚、画素電極９ａ及び共通電極１１は、上述したように、いずれもＴＦＴアレイ基板１０上に設けられている。液晶装置１００の動作時には、データ線Ｘ１からＸｍ及びＴＦＴ１１６を介して供給された画像信号の電位（書込電位）を有する画素電極９ａと、共通配線ＣＯＭを介して供給された共通電位を有する共通電極１１との間に電界が生じる。液晶は、当該電界に応じて駆動されることによって、即ち、当該電界に応じて分子集合の配向や秩序が変化することによって、光を変調し、階調表示を可能とする。
【００５１】
蓄積容量１１９は、保持された画像信号がリークするのを防ぐために、液晶素子１１８と並列に付加されている。蓄積容量１１９を構成する一方の電極は、画素電極９ａに電気的に接続され、他方の電極は、共通電極１１に電気的に接続されている。
【００５２】
また、各画素部７０の境界は、ブラックマトリクス２３により覆われている。他方で、各画素部７０のうち画素電極９ａが形成される領域（つまり、各画素部７０のうち画像の表示に寄与する領域）は、ブラックマトリクス２３により覆われていない。
【００５３】
本実施形態の液晶装置１００は、以下のように動作する。まず、走査線駆動回路１０４から走査線Ｙｊにハイレベルの走査信号を供給することで、走査線Ｙｊに接続された全てのＴＦＴ１１６をオン状態にして、走査線Ｙｊに係る全ての画素部７０を選択する。また、走査線Ｙｊに係る画素部７０の選択に同期して、データ線駆動回路１０１からデータ線Ｘ１からＸｍに、画像信号が供給される。これにより、走査線駆動回路１０４で選択した全ての画素部７０に、データ線駆動回路１０１からデータ線Ｘ１からＸｍ及びＴＦＴ１１６を介して画像信号が供給され、この画像信号に基づく書込電圧が画素電極９ａに書き込まれる。これにより、画素電極９ａと共通電極１１との間に電位差が生じて、駆動電圧が液晶に印加される。
【００５４】
ここで、本実施形態に係る液晶装置１００では特に、図４（ａ）に示すように、スペーサ４０は、スリット９ｂが形成される領域以外の領域に配置されるように、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間に形成される。言い換えれば、スペーサ４０は、ＴＦＴアレイ基板１０又は対向基板２０の表面の法線方向において、スリット９ｂとは重ならない位置に配置されるように、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間に形成される。尚、画素電極９ａが複数のスリット９ｂを有している場合には、複数のスリット９ｂの夫々が形成される領域以外の領域にスペーサ４０が配置されることが好ましい。つまり、画素電極９ａが複数のスリット９ｂを有している場合には、スペーサ４０は、ＴＦＴアレイ基板１０又は対向基板２０の法線方向において、複数のスリット９ｂのいずれとも重ならない位置に配置されていることが好ましい。
【００５５】
このとき、好ましくは、スペーサ４０は、スリット９ｂが形成される領域（或いは、スリット９ｂそのもの）との間の距離（好ましくは、最短距離）が、液晶層５０の厚み（つまり、セルギャップ）以上となるように、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間に形成されることが好ましい。つまり、スリット９ｂが形成される領域（或いは、スリット９ｂそのもの）とスペーサ４０とが、液晶層５０の厚み（つまり、セルギャップ）以上離れるように、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間にスペーサ４０が形成されることが好ましく、画素電極９ａと共通電極１１と間の漏れ電界の影響が及ばなくなる。具体的には、例えば液晶層５０の厚みが３μｍである場合には、図４（ｂ）に示すように、スペーサ４０は、スリット９ｂが形成される領域（或いは、スリット９ｂそのもの）との間の距離が３μｍ以上となるように、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間に形成されることが好ましい。
【００５６】
尚、液晶装置１００上に形成されるスペーサ４０の個数は任意である。具体的には、例えば、水平方向（つまり、走査線Ｙ１からＹｎに沿った方向）に着目すれば、１つの水平ライン毎に（つまり、１行毎に）１つのスペーサ４０を配置するように構成してもよいし、図４（ａ）に示すように、複数の水平ライン毎に（つまり、複数行毎に）１つのスペーサ４０を配置するように構成してもよい。また、１つの水平ラインに着目すれば、１つの水平ラインに複数のスペーサ４０を配置するように構成してもよいし、１つの水平ラインに１つのスペーサ４０を配置するように構成してもよい。同様に、例えば、垂直方向（つまり、データ線Ｘ１からＸｍに沿った方向）に着目すれば、１つの垂直ライン毎に（つまり、１列毎に）１つのスペーサ４０を配置するように構成してもよいし、図４（ａ）に示すように、複数の垂直ライン毎に（つまり、複数列毎に）１つのスペーサ４０を配置するように構成してもよい。また、１つの垂直ラインに着目すれば、１つの垂直ラインに複数のスペーサ４０を配置するように構成してもよいし、１つの垂直ラインに１つのスペーサ４０を配置するように構成してもよい。また、図４（ａ）では、スリット９ｂの伸張方向は、垂直方向としたが、水平方向であってもよい。
【００５７】
ここで、本実施形態に係る液晶装置１００の比較例として、ＴＦＴアレイ基板１０又は対向基板２０の法線方向においてスペーサ４０とスリット９ｂとが重なっている液晶装置１０１について、図５を参照しながら説明する。ここに、図５は、比較例に係る液晶装置１０１の画素部７０のより詳細な構成を概念的に示す平面図である。
【００５８】
図５に示すように、比較例に係る液晶装置１０１では、ＴＦＴアレイ基板１０又は対向基板２０の法線方向において、スペーサ４０（又は、スペーサ４０の少なくとも一部）とスリット９ｂとが重なっている。つまり、スペーサ４０は、その少なくとも一部が、スリット９ｂが形成される領域に配置されるように、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間に形成されている。このような比較例に係る液晶装置１０１では、液晶装置１０１に対して外乱等が加えられた場合（例えば、対向基板２０又は対向基板２０上に設けられる保護パネルやタッチパネル等が押下された場合等）には、当該外乱に起因した力が、スペーサ４０を介してスリット９ｂ周辺に加えられてしまう。ここで、スリット９ｂの特に端部付近ではディスクリネーションが発生しやすいことが知られている。このため、液晶装置１０１に対して外乱等が加えられた場合には、スペーサ４０を起点として、ディスクリネーション（つまり、回転方向が異なる液晶分子が存在する領域）が拡がってしまいかねない。例えば、本来であればスリット９ｂの端部（つまり、画素部７０の端部）のみに存在しているディスクリネーションが、スリット９ｂの中央部付近（つまり、画素部７０の中央部付近）にまで拡がってしまいかねない。このため、ディスクリネーションによる透過率の変動によって表示ムラが発生してしまうため、液晶装置１０１の表示品位の悪化が顕著になってしまいかねない。
【００５９】
しかるに、本実施形態に係る液晶装置１００によれば、外乱等が加えられた場合であっても、スリット９ｂ（特に、スリット９ｂの端部）に対してスペーサ４０を介して力が加わることは殆ど又は全くなくなる。このため、スリット９ｂの端部に発生しやすいディスクリネーション（つまり、回転方向が異なる液晶分子が存在する領域）が、スペーサ４０を起点として拡がってしまうことは殆ど或いは全くなくなる。例えば、スリット９ｂの端部（つまり、画素部７０の端部）のみに存在しているディスクリネーションが、スリット９ｂの中央部付近（つまり、画素部７０の中央部付近）にまで拡がってしまうことは殆ど或いは全くなくなる。このため、ディスクリネーションによる透過率の変動（特に、スペーサ４０から加えられる力に起因したディスクリネーションによる透過率の変動）を好適に抑制することができる。このため、表示ムラの発生を好適に抑制することができるため、液晶装置１００の表示品位の悪化を好適に抑制することができる。
【００６０】
尚、スリット９ｂの端部においてディスクリネーションが発生しやすいことを考慮すれば、少なくともスリット９ｂの端部が形成される領域（或いは、スリット９ｂの端部そのもの）とスペーサ４０との間の距離が、セルギャップ以上となるようにスペーサ４０が形成されていれば、上述した効果を相応に享受することができる。この場合、スリット９ｂの端部以外の部分が形成される領域（或いは、スリット９ｂの端部以外の部分そのもの）とスペーサ４０との間の距離は、セルギャップ以上となるように構成されてもよいし、セルギャップ未満の所定距離となるように構成されていてもよい。
【００６１】
また、上述の説明では、スリット９ｂが形成される領域（或いは、スリット９ｂの端部そのもの）とスペーサ４０との間の距離がセルギャップ以上となるようにスペーサ４０が形成される例について説明している。しかしながら、スリット９ｂが形成される領域（或いは、スリット９ｂそのもの）とスペーサ４０とが、ＴＦＴアレイ基板１０又は対向基板２０の法線方向において重ならない限りは、スリット９ｂが形成される領域（或いは、スリット９ｂそのもの）とスペーサ４０とが相互に隣接する又は接する若しくは接する状態と同視し得る状態となるように構成してもよい。この場合であっても、図５に示す比較例に係る液晶装置１０１（つまり、スリット９ｂが形成される領域（或いは、スリット９ｂそのもの）とスペーサ４０とが、ＴＦＴアレイ基板１０又は対向基板２０の法線方向において重なっている液晶装置）と比較すれば、少なくとも上述した効果を相応に享受することができる。
【００６２】
また、上述の説明では、スリット９ｂが形成される領域（或いは、スリット９ｂそのもの）とスペーサ４０との間の距離を、セルギャップに応じて設定する例について説明している。しかしながら、セルギャップに加えて又は代えて、ＴＦＴアレイ基板１０又は対向基板２０のたわみ量（特に、外乱に起因したたわみ量）に応じて、スリット９ｂの端部が形成される領域（或いは、スリット９ｂの端部そのもの）とスペーサ４０との間の距離を設定するように構成してもよい。具体的には、例えば、外乱に起因した力がＴＦＴアレイ基板１０又は対向基板２０に加わると、ＴＦＴアレイ基板１０又は対向基板２０の厚みによっては、ＴＦＴアレイ基板１０又は対向基板２０はたわみかねない。この場合、ＴＦＴアレイ基板１０又は対向基板２０のたわみに応じて、スペーサ４０の配置位置（或いは、スペーサ４０がＴＦＴアレイ基板１０と接する位置）が変化することがある。このため、スリット９ｂが形成される領域（或いは、スリット９ｂそのもの）とスペーサ４０との間の距離が、ＴＦＴアレイ基板１０又は対向基板２０のたわみに応じた変化量（具体的には、スペーサ４０の配置位置の変化量）以上となるようにスペーサ４０を形成するように構成してもよい。このように構成しても、上述した各種効果を好適に享受することができる。
【００６３】
特に、近年液晶装置１００の小型化や薄型化の要請が強いため、ＴＦＴアレイ基板１０又は対向基板２０の厚みがより一層薄くなる傾向が強い。ＴＦＴアレイ基板１０又は対向基板２０の厚みが相対的に薄くなるとＴＦＴアレイ基板１０又は対向基板２０のたわみ量が大きくなるため、ＴＦＴアレイ基板１０又は対向基板２０のたわみに応じたスペーサ４０の配置位置の変化量も大きくなる。このような場合であっても、ＴＦＴアレイ基板１０又は対向基板２０のたわみ量（特に、外乱に起因したたわみ量）に応じて、スリット９ｂの端部が形成される領域（或いは、スリット９ｂの端部そのもの）とスペーサ４０との間の距離を設定することで、外乱等によってＴＦＴアレイ基板１０又は対向基板２０がたわんでしまう場合であっても、スリット９ｂ（特に、スリット９ｂの端部）に対してスペーサ４０を介して力が加わることは殆ど又は全くなくなる。このため、ディスクリネーションによる透過率の変動（特に、スペーサ４０の配置位置が変動することによって加えられる力に起因したディスクリネーションによる透過率の変動）を好適に抑制することができる。このため、上述した各種効果を相応に享受することができる。
【００６４】
また、セルギャップやＴＦＴアレイ基板１０又は対向基板２０のたわみ量（特に、外乱に起因したたわみ量）に応じて、スリット９ｂが形成される領域（或いは、スリット９ｂそのもの）とスペーサ４０との間の距離を設定することに限らず、スリット９ｂが形成される領域（或いは、スリット９ｂそのもの）とスペーサ４０との間の距離を一定量確保するように構成してもよい。このように構成しても、上述した各種効果を相応に享受することができる。
【００６５】
（３）電子機器
続いて、図６及び図７を参照しながら、上述の液晶装置１００を具備してなる電子機器の例を説明する。
【００６６】
図６は、上述した液晶装置が適用されたモバイル型のパーソナルコンピュータの斜視図である。図６において、コンピュータ１２００は、キーボード１２０２を備えた本体部１２０４と、上述した液晶装置１００を含んでなる液晶表示ユニット１２０６とから構成されている。液晶表示ユニット１２０６は、液晶装置１００の背面にバックライトを付加することにより構成されている。
【００６７】
次に、上述した液晶装置１００を携帯電話に適用した例について説明する。図７は、電子機器の一例である携帯電話の斜視図である。図７において、携帯電話１３００は、複数の操作ボタン１３０２とともに、反射型の表示形式を採用し、且つ上述した液晶装置１００と同様の構成を有する液晶装置１００５を備えている。
【００６８】
これらの電子機器においても、上述した液晶装置１００を含んでいるため、上述した各種効果を好適に享受することができる。
【００６９】
尚、図６及び図７を参照して説明した電子機器の他にも、液晶テレビ、ビューファインダ型又はモニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた装置や、液晶プロジェクタ等の投射型の表示装置等が挙げられる。そして、これらの各種電子機器に適用可能なのは言うまでもない。
【００７０】
本発明は、上述した実施例に限られるものではなく、請求の範囲及び明細書全体から読み取れる発明の要旨或いは思想に反しない範囲で適宜変更可能であり、そのような変更を伴なう液晶装置及び電子機器もまた本発明の技術的範囲に含まれるものである。
【図面の簡単な説明】
【００７１】
【図１】本実施形態に係る液晶装置の構成を示す平面図である。
【図２】図１のＨ−Ｈ’断面図である。
【図３】本実施形態に係る液晶装置の要部の電気的な構成を概念的に示すブロック図である。
【図４】画素部のより詳細な構成を概念的に示す平面図である。
【図５】比較例に係る液晶装置の画素部のより詳細な構成を概念的に示す平面図である。
【図６】液晶装置が適用されたモバイル型のパーソナルコンピュータの斜視図である。
【図７】液晶装置が適用された携帯電話の斜視図である。
【符号の説明】
【００７２】
９ａ…画素電極、９ｂ…スリット、１０…ＴＦＴアレイ基板、１１…共通電極、１２…絶縁膜、２０…対向基板、２３…ブラックマトリクス、４０…スペーサ、５０…液晶層、５０ａ…液晶分子、７０…画素部、１００…液晶装置、１１６…ＴＦＴ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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