(57)【要約】【課題】  薄型化が進んだ液晶表示装置であっても、押圧荷重耐性の良い液晶表示装置を提供する。【解決手段】  第１の基板、液晶層、及び、第２の基板をこの順に備えた液晶表示装置であって、上記第１の基板は、液晶層側の主面上に絶縁膜を有し、上記第２の基板は、液晶層側に突出するとともに高さの等しい第１及び第２の柱状スペーサを有し、上記絶縁膜は、上記第２の柱状スペーサの１つと対向する領域内に複数の突起を有し、上記第１の柱状スペーサは、上記絶縁膜と接触し、上記第１の基板及び／又は上記第２の基板への荷重押圧時において、上記第２の柱状スペーサの１つが上記突起と接触する面積は、上記領域の面積よりも小さい。【選択図】    図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の基板、液晶層、及び、第２の基板をこの順に備えた液晶表示装置であって、
該第１の基板は、液晶層側の主面上に絶縁膜を有し、
該第２の基板は、液晶層側に突出するとともに高さの等しい第１及び第２の柱状スペーサを有し、
該絶縁膜は、該第２の柱状スペーサの１つと対向する領域内に複数の突起を有し、
該第１の柱状スペーサは、該絶縁膜と接触し、
該第１の基板及び／又は該第２の基板への荷重押圧時において、該第２の柱状スペーサの１つが該突起と接触する面積は、該領域の面積よりも小さいことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
複数の前記突起は、
通常時には、前記第２の柱状スペーサと接触せず、
前記荷重押圧時に、前記第２の柱状スペーサと接触することを特徴とする請求項１記載の液晶表示装置。
【請求項３】
複数の前記突起は、通常時に前記第２の柱状スペーサと接触することを特徴とする請求項１記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記荷重押圧時に、前記第１の柱状スペーサの１つが前記絶縁膜と接触する面積は、前記第２の柱状スペーサの１つが前記突起と接触する面積よりも大きいことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の液晶表示装置。
【請求項５】
前記第１の柱状スペーサと前記第２の柱状スペーサとは、同一層上に形成された樹脂構造物であることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の液晶表示装置。
【請求項６】
前記第１の基板は、薄膜トランジスタアレイ基板であって、該基板に形成された絶縁膜は層間絶縁膜であり、
前記第２の基板は、カラーフィルタ基板であることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置に関する。より詳しくは、柱状スペーサを備えた液晶表示装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、薄型で軽量かつ低消費電力といった特長を活かし、モニター、プロジェクタ、携帯電話、携帯情報端末（ＰＤＡ）等の電子機器に幅広く利用されている。中でも、携帯電話、ゲーム機器、車載部品を主体とした中小型の電子機器においては、小型化・薄型化が進んでおり、これに伴って表示装置を構成する表示パネルの厚みは薄くなる傾向にある。
【０００３】
表示パネルは、一対の基板間に液晶層が挟持された構成を有する。表示パネルの厚みを薄くするためには、基板の厚みを薄くすることがまず考えられるが、基板の厚みが薄くなると、表示パネルは、外部からの荷重押圧に対する強度が低くなる。そこで、表示パネルのセル厚を制御するために用いられる柱状スペーサに加えて、荷重押圧に対する強度を付与するための柱状スペーサ（以下、サブ柱状スペーサと称す。）を設けた構成が提案されている（例えば、特許文献１〜３参照。）。
【０００４】
柱状スペーサは、対向基板と接する厚みに形成されるが、サブ柱状スペーサは、対向基板と接触しないように柱状スペーサの厚みよりもやや薄く形成されるのが一般的である。例えば、特許文献１には、外部から荷重押圧が加わると柱状スペーサが収縮して基板間隙が狭くなり、これによりサブ柱状スペーサと対向基板とが接触して荷重を緩和する構成が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００３−８４２８９号公報
【特許文献２】特開２００７−１７１７１５号公報
【特許文献３】特開２００６−２０１３５７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、高さの異なる柱状スペーサとサブ柱状スペーサとを形成するためには、少なくとも２枚の層が必要となり、製造工程が煩雑になるだけでなく、製造コストも高くなる。
【０００７】
そこで、特許文献２、３には、一方の基板に柱状スペーサ及びサブ柱状スペーサを同じ高さで形成し、対向基板に形成された絶縁膜においてサブ柱状スペーサと対向する領域を除去した構成が開示されている。
【０００８】
このような構成によれば製造工程及び製造コストの削減が図れるが、近年、表示パネルの薄型化が更に進んでおり、ますます基板の厚みが薄くなっていることから、上記構成だけでは押圧荷重に対する耐性（以下、押圧荷重耐性と称す。）は充分とはいえず、押圧荷重耐性の更なる向上が望まれている。
【０００９】
本発明は、上記現状に鑑みてなされたものであり、薄型化が進んだ液晶表示装置であっても、押圧荷重耐性の良い液晶表示装置を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者らは、押圧荷重耐性の良い液晶表示装置について種々検討したところ、押圧荷重耐性を付与するための柱状スペーサと対向基板との接触形態に着目した。そして、外部から押圧荷重が加わったときに、柱状スペーサの対向基板との対向面（以下、柱状スペーサの先端面とも称す。）の全面に対向基板が接触していると、押圧荷重時の衝撃が強く、充分な押圧荷重耐性が得られないことを見いだすとともに、柱状スペーサと対向する領域内の絶縁膜に複数の突起を形成して、押圧荷重時には、柱状スペーサの先端面に突起が接触する部分的な接触とすることで、押圧荷重が分散されるとともに押圧荷重時の衝撃が緩和されて、薄型化が進んだ液晶表示装置であっても、押圧荷重耐性の良い液晶表示装置が得られることを見いだし、上記課題をみごとに解決することができることに想到し、本発明に到達したものである。
【００１１】
すなわち、本発明は、第１の基板、液晶層、及び、第２の基板をこの順に備えた液晶表示装置であって、上記第１の基板は、液晶層側の主面上に絶縁膜を有し、上記第２の基板は、液晶層の側に突出するとともに高さの等しい第１及び第２の柱状スペーサを有し、上記絶縁膜は、上記第２の柱状スペーサの１つと対向する領域内に複数の突起を有し、上記第１の柱状スペーサは、上記絶縁膜と接触し、上記第１の基板及び／又は上記第２の基板への荷重押圧時において、上記第２の柱状スペーサの１つが上記突起と接触する面積は、上記領域の面積よりも小さい液晶表示装置である。
【００１２】
本発明の液晶表示装置は、液晶層に印加する電圧を変化させることにより、液晶層のリタデーションを変化させることで表示を行うことができる。
【００１３】
上記第１及び第２の柱状スペーサは、特に限定されるものではないが、セルギャップを維持する効果と荷重押圧の緩衝効果、更に、製造の容易さを考慮すると樹脂構造物であることが好ましい。このような樹脂構造物は、例えば、感光性樹脂を用いてフォトリソグラフィ法等の露光法により形成することができる。
【００１４】
本発明において第１及び第２の柱状スペーサは、同じ高さに形成されるが、厳密に同じ高さである必要はなく、実質的に同じ高さであればよい。また、第１及び第２の柱状スペーサの形状は、柱状であれば良く、柱状とは、円柱、角柱、円錘、角錐等の形状を含むものである。
【００１５】
上記第１の柱状スペーサは、上記第１の基板における液晶層側の主面上に形成された絶縁膜と接触することで、第１の基板と第２の基板との間のセルギャップを維持する。なお、ここでの接触とは、上記第１の柱状スペーサの先端面の全面が絶縁膜と接するものだけでなく、上記先端面と絶縁膜とが部分的に接するものも含む。すなわち、第１の柱状スペーサと対向する領域の絶縁膜は、平坦な表面形状を有するものだけでなく、凹凸が形成された表面形状であってもよく、第１の柱状スペーサと絶縁膜とは、セルギャップを維持できる程度に接触するものであれば、その接触形態は特に限定されるものではない。
【００１６】
上記絶縁膜は、上記第１の柱状スペーサと接触するだけでなく、第２の柱状スペーサとも接触する。ここで、本発明においては、上記絶縁膜の第２の柱状スペーサの１つと対向する領域（以下、対向領域とも称す。）に、外部からの押圧荷重を緩和するための複数の突起が形成されている。なお、本発明において対向領域とは、第２の柱状スペーサの先端面と対向する領域である。
【００１７】
上記突起の形状は特に限定されるものではなく、円柱、角柱、円錘、角錐等、各種の形状が考えられるが、荷重押圧の緩和を考慮すると、第１の基板側にある基端部から先端に向かって先細りの形状となっている円錘又は角錐形状が好ましい。また、複数の突起を同時に形成する観点からは、その高さは全て同じであることが好ましい。
【００１８】
上記各対向領域に形成される突起の数は特に限定されるものではないが、１つの対向領域には２〜７個の突起が形成されることが好ましく、２〜３個の突起が形成されることがより好ましい。
【００１９】
上記第２の柱状スペーサは、上記第１の基板及び／又は上記第２の基板への荷重押圧時に、対向領域に形成された複数の突起と接触する。ここで、本発明において荷重押圧とは、液晶表示装置が破壊されない程度の荷重押圧、特に、第１及び第２の基板に破損が生じない程度の荷重押圧をいう。この荷重押圧は、第１及び第２の基板の厚みや材料等によって適宜設定されるものであるが、例えば、第１及び第２の基板がガラス基板であって、その厚みがいずれも０．２ｍｍである場合には、荷重押圧とは、１０〜５０Ｎ程度の荷重押圧をいう。
【００２０】
本発明においては、荷重押圧時に上記第２の柱状スペーサの１つが複数の突起と接触する面積の合計は、上記対向領域の面積よりも小さくなる。これは、対向領域は、第２の柱状スペーサの先端面と同じ面積であるが、第２の柱状スペーサと複数の突起とは、部分的に接触しているためである。これにより、本発明に係る液晶表示装置は、押圧荷重が分散されるとともに押圧荷重時の衝撃が緩和され、基板の厚みの薄い、薄型化が進んだ液晶表示装置であっても、押圧荷重耐性の向上が図れる。
【００２１】
上記第２の柱状スペーサの１つが複数の突起と接触する面積の合計は、第２の柱状スペーサの先端面の面積の２０〜６０％程度であることが好ましい。上記面積の合計が第２の柱状スペーサの先端面の面積の２０％未満であると、押圧荷重の分散効果が小さくなり、６０％を超えると押圧荷重時の衝撃を緩和する効果が低下する。したがって、押圧荷重の分散効果と衝撃の緩和効果を考慮すると、第２の柱状スペーサの１つが複数の突起と接触する面積の合計は、第２の柱状スペーサの先端面の面積の２０〜３０％程度であることがより好ましい。
【００２２】
また、本発明においては、上記荷重押圧時に、上記第１の柱状スペーサの１つが上記絶縁膜と接触する面積は、上記第２の柱状スペーサの１つが上記突起と接触する面積よりも大きいことが好ましい。このような構成であると、第１の柱状スペーサと絶縁膜とは、セルギャップを維持できるようにしっかりと接触することができる。
【００２３】
複数の上記突起は、通常時に上記第２の柱状スペーサと接触するものであってもよい。通常時とは、上記第１の基板及び／又は上記第２の基板へ荷重押圧が加わっていない状態である。このような構成であると、第１の柱状スペーサに加えて第２の柱状スペーサによってもセルギャップを維持できるとともに、荷重押圧時には、第２の柱状スペーサと複数の突起とがより強く接触するようになる。このような接触であっても、上記と同様に荷重押圧の緩和を図ることができる。
【００２４】
また、複数の上記突起は、通常時には、上記第２の柱状スペーサと接触せず、上記荷重押圧時に、上記第２の柱状スペーサと接触するものであってもよい。このような構成であると、第２の柱状スペーサと複数の突起との間に形成された空間によって、押圧荷重耐性に対するマージンが得られる。また、外部から押圧荷重が加わって基板間隔が狭くなると、第２の柱状スペーサと複数の突起とが接触して、上記と同様に荷重押圧の緩和を図ることができる。
【００２５】
上記第１の柱状スペーサと上記第２の柱状スペーサとは、同一層上に形成された樹脂構造物であることが好ましい。このような形態であると、上述のように第１及び第２の柱状スペーサは、高さが同じであるため、フォトリソグラフィ法等の露光法によって同時に形成することができ、これにより製造工程及び製造コストの削減が図れる。
【００２６】
本発明の液晶表示装置において好ましい形態としては、上記第１の基板は、薄膜トランジスタアレイ基板であって、上記基板に形成された絶縁膜は層間絶縁膜であり、上記第２の基板は、カラーフィルタ基板であるものが挙げられる。このような形態であると、層間絶縁膜を所望の形状に露光処理する際に、同時に複数の突起を形成できる。露光方法は特に限定されるものではないが、フォトマスクに所定のスリットパターンを与えることによりレジストパターン膜の膜厚を局所的に薄くする手法である、ハーフトーン露光法や、グレイトーン露光法や、ＴＷＩＮ露光法（２重露光法）を適用することで容易に形成できる。
【００２７】
なお、本発明に係る液晶表示装置において、上記複数の突起の存在は、例えば、ＳＥＭ（Ｓｃａｎｎｉｎｇ  Ｅｌｅｃｔｒｏｎ  Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ；走査型電子顕微鏡）等を用いて確認できる。
【発明の効果】
【００２８】
本発明の液晶表示装置によれば、薄型化が進んだ液晶表示装置であっても、押圧荷重耐性の良い液晶表示装置が実現できる。
【図面の簡単な説明】
【００２９】
【図１】本発明の実施形態１に係る液晶表示装置の構成を示す断面模式図であり、（ａ）は第１の柱状スペーサが形成された領域を、（ｂ）は第２の柱状スペーサが形成された領域をそれぞれ示す。
【図２】本発明の実施形態２に係る液晶表示装置において、第２の柱状スペーサが形成された領域の構成を示す断面模式図である。
【図３】本発明の比較実施形態１に係る液晶表示装置の構成を示す断面模式図であり、（ａ）は第１の柱状スペーサが形成された領域を、（ｂ）は第２の柱状スペーサが形成された領域をそれぞれ示す。
【発明を実施するための形態】
【００３０】
以下に実施形態を掲げ、本発明を図面を参照して更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施形態のみに限定されるものではない。
【００３１】
実施形態１
以下に、本発明の実施形態１に係る液晶表示装置の構成を図１を用いて説明する。図１は、本実施形態に係る液晶表示装置の構成を示す断面模式図であり、（ａ）は第１の柱状スペーサが形成された領域を、（ｂ）は第２の柱状スペーサが形成された領域をそれぞれ示す。
【００３２】
図１において、液晶表示装置１００は、第１の基板としてのＴＦＴアレイ基板１０、液晶層２０、及び、第２の基板としてのＣＦ基板３０をこの順に備え、反射表示を行う反射表示領域Ｒと透過表示を行う透過表示領域Ｔと有する半透過型の液晶表示装置１００である。
【００３３】
半透過型の液晶表示装置１００において反射表示領域Ｒと透過表示領域Ｔとは、表示特性上、各領域を透過する光の光路長を揃えることが望ましい。そこで、本実施形態に係る液晶表示装置１００は、ＴＦＴアレイ基板１０に形成された絶縁膜に構造物を設けること等によって、反射表示領域Ｒにおける液晶層２０の厚みを透過表示領域Ｔにおける液晶層２０の厚みの略１／２としたＴＦＴマルチギャップ構造としている。
【００３４】
ここで、略１／２とは、厳密に１／２であることが好ましいが、液晶層２０を通過する光の光路長を、反射表示領域Ｒと透過表示領域Ｔとにおいて表示品位に実質的な影響を与えない程度に等しくするものであればよい。具体的には、反射表示領域Ｒの液晶層２０の厚みは、透過表示領域Ｔの液晶層２０の厚みの３０〜７０％であることが好ましい。
【００３５】
透過表示領域ＴにおけるＴＦＴアレイ基板１０は、ガラス基板１１の主面上に、ゲート絶縁膜１４と配向膜５１とをこの順に備える。反射表示領域ＲにおけるＴＦＴアレイ基板１０は、ガラス基板１１の主面上に、ゲート電極１２及びＣｓ配線１３が形成されており、これらを覆うようにゲート絶縁膜１４が形成され、更に、ソース・ドレイン電極１５、第１の層間絶縁膜１６ａ、第２の層間絶縁膜１６ｂ、透明電極（ＩＴＯ）１８、反射電極（反射膜）１９、及び、配向膜５１がこの順に形成されている。
【００３６】
ＣＦ基板３０は、ガラス基板３１の主面上に、ＣＦ層３２、ブラックマトリクス３３、絶縁膜である透明電極３４、及び、配向膜５２をこの順に備える。ＣＦ層３２は、透過表示領域Ｔでは赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の各色からなり、反射表示領域ＲではＲＧＢの各色に加えて白色（Ｗ）からなる。ブラックマトリクス３３は、遮光部材からなり、反射表示領域Ｒと透過表示領域Ｔとを区画する。
【００３７】
透過表示領域Ｔにおける透明電極３４には、液晶の配向状態を規制するリベット５５が形成されている。反射表示領域Ｒにおける透明電極３４には、図１（ａ）に示すように、第１の柱状スペーサとしての柱状スペーサ６０が形成されている領域と、図１（ｂ）に示すように、第２の柱状スペーサとしてのサブ柱状スペーサ７０が形成されている領域とがある。リベット５５、柱状スペーサ６０、及び、サブ柱状スペーサ７０は、いずれも感光性のアクリル樹脂を用いて、フォトリソグラフィ法により形成されたものである。
【００３８】
図１（ａ）において、表示装置１００は、第２の層間絶縁膜１６ｂによってマルチギャップ構造が形成される。第２の層間絶縁膜１６ｂは、配向膜５１等を介して柱状スペーサ６０と接触する。これにより、ＴＦＴアレイ基板１０とＣＦ基板３０との間隔、すなわちセル厚を所望の厚みに維持できる。
【００３９】
図１（ｂ）において、第２の層間絶縁膜１６ｂには、突起部１７の間に深さｄ１が１．０μｍである凹部１５０が形成されている。凹部１５０のサブ柱状スペーサ７０の１つと対向する領域には、高さｈ１が０．５μｍである２個の突起１７０が形成されている。これらの突起１７０とサブ柱状スペーサ７０とは、外部からの押圧荷重がない通常時には接触しない。
【００４０】
そして外部から荷重押圧が加わったときにはセル厚が小さくなり、サブ柱状スペーサ７０と複数の突起１７０とが接触する。このとき、サブ柱状スペーサ７０の全面に突起１７０が接触するのではなく、突起１７０の先端部分が接触する点接触となるため、荷重押圧を緩和しやすくなり、薄型化が進んだ液晶表示装置１００であっても充分な押圧荷重耐性が得られる。
【００４１】
上記のように構成された液晶表示装置１００は、例えば、以下のようにして製造される。まず、ＴＦＴアレイ基板１０について説明する。基材となるガラス基板１１には、最終的に厚み０．２ｍｍとなる基板を用いた。この基板の主面上に、ゲート電極１２、Ｃｓ配線１３等の配線やＴＦＴ（図示せず）を所望の形状に形成した。これらの配線等を覆うようにゲート絶縁膜１４を形成し、ゲート絶縁膜１４上に、所望の形状のソース・ドレイン電極１５を形成した。そして、ソース・ドレイン電極１５を覆うようにゲート絶縁膜１４上に、第１の層間絶縁膜１６ａを形成した。
【００４２】
次いで、第１の層間絶縁膜１６ａ上に、基板の全面を覆うように感光性樹脂を塗布してハーフトーン露光処理を施した。露光処理には、スリットの幅を調整することで突起部１７、凹部１５０、及び、突起１７０が同時に形成されるように構成されたマスクを用いて、１０００ｍｓｅｃの露光条件で処理した。これにより、基板の一部には、第２の層間絶縁膜１６ｂが形成されるとともに、突起部１７、凹部１５０、及び、突起１７０が形成された。得られた凹部１５０の深さｄ１は１．０μｍであり、突起１７０の高さｈ１は０．５μｍであった。また、突起１７０は、１個のサブ柱状スペーサ７０当たりに２個が対応するように形成した。
【００４３】
次いで、突起部１７、凹部１５０、及び、突起１７０が形成された第２の層間絶縁膜１６ｂ上に、透明電極（ＩＴＯ）１８と、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）／アルミニウム／モリブデンの積層体からなる反射電極１９とを形成し、それぞれ所望の形状にパターン形成した。更に、基板の全面を覆うようにポリイミド樹脂を塗布して基板の全面に配向膜５１を形成した。
【００４４】
一方、ＣＦ基板３０は、ガラス基板３１として最終的に厚み０．２ｍｍとなる基板を用いた。このガラス基板３１の主面上に膜厚１．５μｍのＣＦ層３２を形成した。ＣＦ層３２は、透過表示領域ＴにはＲ（赤）Ｇ（緑）Ｂ（青）からなるＣＦ層３２を形成し、反射表示領域ＲにはＷ（白色）からなるＣＦ層３２を形成した。透過表示領域Ｔと反射表示領域Ｒとの間には、ブラックマトリクス３３を形成し、得られたＣＦ層３２を覆うように膜厚１６００Åの透明電極３４を形成した。
【００４５】
そして、透過表示領域Ｔにはリベット５５を、反射表示領域Ｒには柱状スペーサ６０とサブ柱状スペーサ７０とを感光性樹脂である透明樹脂を用いて、フォトリソグラフィ法により同時に形成した。更に、基板全面を覆うようにポリイミド樹脂を塗布して配向膜５２を形成した。
【００４６】
上記のように作製されたＴＦＴアレイ基板１０とＣＦ基板３０とを、配向膜５１、５２が向かい合うようにしてシール剤（図示せず）にて貼り合わせ、両基板間に液晶を注入して液晶層２０を形成した。液晶層２０は、反射表示領域Ｒにおける厚みが２．３μｍであり、透過表示領域Ｔにおける厚みが４．６μｍとなり、反射表示領域Ｒにおける厚みが透過表示領域Ｔにおける厚みの略１／２となっていた。
【００４７】
上記のように作製された液晶表示装置１００に対して、ＣＦ基板３０の側から荷重５０Ｎの押圧荷重を加えたところ、ガラス基板１１、３１の厚みが０．２ｍｍと超薄型の液晶表示装置１００であったが、破損したり、表示不良等劣化を生じることがなく、耐押圧荷重性に優れたものであった。
【００４８】
実施形態２
以下に、本発明の実施形態２に係る液晶表示装置の構成を図２を用いて説明する。図２は、本実施形態に係る液晶表示装置における第２の柱状スペーサが形成された領域の構成を示す断面模式図である。なお、図１に示す液晶表示装置１００と同一の構成を有するものについては同一の符号を付け、説明を省略する。
【００４９】
図２に示す液晶表示装置１１０は、通常時において、サブ柱状スペーサ７０と複数の突起１８０とが接するように形成されている。すなわち、凹部１５０の深さｄ１は図１に示す液晶表示装置１００と同じであるが、突起１８０の高さｈ２は、液晶表示装置１００の突起１７０の高さｈ１よりも高く１．０μｍとなっている。
【００５０】
このような構成によると、荷重押圧時には、サブ柱状スペーサ７０と複数の突起１８０とがより強く接触することになるため、上記実施形態１と同様に荷重押圧を緩衝でき、耐押圧荷重性に優れた液晶表示装置１５０が実現できる。
【００５１】
比較実施形態１
以下に、比較実施形態１に係る液晶表示装置ついて、図３を用いて説明する。なお、図１に示す液晶表示装置１００と同一の構成を有するものについては同一の符号を付け、説明を省略する。
【００５２】
図３は、ＴＦＴマルチギャップ構造を有する液晶表示装置２００の構成を示す断面模式図であり、（ａ）は、柱状スペーサ２６０が形成された領域を、（ｂ）は、サブ柱状スペーサ２７０が形成された領域をそれぞれ示す。
【００５３】
液晶表示装置２００において、図３（ａ）に示す領域では、ＴＦＴアレイ基板２１０及びＣＦ基板２３０の構成は、図１（ａ）に示すＴＦＴアレイ基板１０及びＣＦ基板３０の構成と同じである。しかし、図３（ｂ）に示す領域においては、サブ柱状スペーサ２７０と対向する領域のＴＦＴアレイ基板２１０には、凹部２５０が形成されているのみである。
【００５４】
上記のように構成された液晶表示装置２００は、外部からの押圧荷重が加わって基板間隔が狭くなると、サブ柱状スペーサ２７０の先端面の全面が凹部２５０の底部と接触する。したがって、サブ柱状スペーサ２７０と凹部２５０との接触面積が大きく、上記各実施形態のように薄型化が進んだ液晶表示装置である場合には、上記実施形態よりも荷重押圧耐性に劣るものとなる。
【００５５】
なお、上記実施形態では、半透過型の液晶表示装置を例に挙げて説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、透過型や反射型の液晶表示装置にも同様に適用できる。
【００５６】
また、上記実施形態では、第１、第２の層間絶縁膜からなる層間絶縁膜の第２の層間絶縁膜に凹部と複数の突起とを形成した例を挙げて説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、層間絶縁膜は第１の層間絶縁膜のみ又は３層以上で構成されていてもよく、また、層間絶縁膜には凹部は形成されずに複数の突起のみが形成されていてもよい。
【符号の説明】
【００５７】
１０、２１０  ＴＦＴアレイ基板
１１、３１  ガラス基板
１２  ゲート電極
１３  Ｃｓ配線
１４  ゲート絶縁膜
１５  ソース・ドレイン電極
１６ａ  第１の層間絶縁膜
１６ｂ  第２の層間絶縁膜
１７  突起部
１８、３４  透明電極
１９  反射電極
２０  液晶層
３０、２３０  ＣＦ基板
３２  ＣＦ層
３３  ブラックマトリクス
３４  透明電極
５１、５２  配向膜
５５  リベット
６０、２６０  柱状スペーサ
７０、２７０  サブ柱状スペーサ
１００、１１０、２００  液晶表示装置
１５０、２５０  凹部
１７０、１８０  突起
ｄ１、ｄ２  凹部の深さ
ｈ１、ｈ２  突起の高さ
Ｒ  反射表示領域
Ｔ  透過表示領域
【図１】
2010197488.tif 000003
【図２】
2010197488.tif 000004
【図３】
2010197488.tif 000005