(57)【要約】【課題】チャックが大きくなっても、チャックの高さを容易に調整して、チャックの平坦度を向上させる。【解決手段】モータ３２及びモータ３２により昇降される昇降機構３３を有し、チャック１０の裏面を支持する複数のチャック支持機構３１を、チャック支持台９に設け、チャック１０の裏面を、複数のチャック支持機構３１により、複数箇所で支持する。各チャック支持機構３１のモータ３２を駆動して、各チャック支持機構３１の昇降機構３３を昇降させ、チャック１０の裏面を支持する高さを調整して、チャック１０の高さを調整する。チャック１０が大きくなっても、モータ３２及び昇降機構３３を有するチャック支持機構３１により、チャック１０の高さが容易に調整され、チャック１０の平坦度が向上する。【選択図】図４
2010175661.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を支持するチャックと、マスクを保持するマスクホルダとを備え、マスクと基板との間に微小なギャップを設けて、マスクのパターンを基板へ転写するプロキシミティ露光装置において、
モータ及び該モータにより昇降される昇降機構を有し、前記チャックの裏面を支持する複数のチャック支持機構と、
前記複数のチャック支持機構を有し、前記複数のチャック支持機構により前記チャックの裏面を複数箇所で支持するチャック支持台と、
各チャック支持機構のモータを駆動する駆動回路とを備え、
前記駆動回路により各チャック支持機構のモータを駆動して、各チャック支持機構の昇降機構を昇降させ、前記チャックの裏面を支持する高さを調整して、前記チャックの高さを調整することを特徴とするプロキシミティ露光装置。
【請求項２】
前記チャックは、表面に基板を支持する複数の凸部を有し、
前記チャックに支持された基板へ検査光を照射する検査光照射装置と、
検査光が基板の裏面で反射された反射光と検査光が前記チャックの表面の前記凸部以外の部分で反射された反射光との干渉縞の画像を取得して、画像信号を出力する画像取得装置と、
前記画像取得装置が出力した画像信号を処理して、前記チャックの歪みを検出する画像処理装置と、
前記画像処理装置の検出結果に基づいて、前記駆動回路を制御する制御手段とを備えたことを特徴とする請求項１に記載のプロキシミティ露光装置。
【請求項３】
基板を支持するチャックと、マスクを保持するマスクホルダとを備え、マスクと基板との間に微小なギャップを設けて、マスクのパターンを基板へ転写するプロキシミティ露光装置のチャック高さ調整方法であって、
モータ及びモータにより昇降される昇降機構を有し、チャックの裏面を支持する複数のチャック支持機構をチャック支持台に設け、
チャックの裏面を複数のチャック支持機構により複数箇所で支持し、
各チャック支持機構のモータを駆動して、各チャック支持機構の昇降機構を昇降させ、チャックの裏面を支持する高さを調整して、チャックの高さを調整することを特徴とするプロキシミティ露光装置のチャック高さ調整方法。
【請求項４】
チャックの表面に複数の凸部を設けて、複数の凸部により基板を支持し、
チャックに支持された基板へ検査光を照射し、
検査光が基板の裏面で反射された反射光と検査光がチャックの表面の凸部以外の部分で反射された反射光との干渉縞の画像を取得し、
取得した画像の画像信号を処理して、チャックの歪みを検出し、
検出結果に基づいて、各チャック支持機構のモータの駆動を制御することを特徴とする請求項３に記載のプロキシミティ露光装置のチャック高さ調整方法。
【請求項５】
請求項１又は請求項２に記載のプロキシミティ露光装置を用いて基板の露光を行うことを特徴とする表示用パネル基板の製造方法。
【請求項６】
請求項３又は請求項４に記載のプロキシミティ露光装置のチャック高さ調整方法を用いて高さを調整したチャックにより基板を支持して、基板の露光を行うことを特徴とする表示用パネル基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶ディスプレイ装置等の表示用パネル基板の製造において、プロキシミティ方式を用いて基板の露光を行うプロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置のチャック高さ調整方法、及びそれらを用いた表示用パネル基板の製造方法に係り、特に、大型の基板の露光を行うのに好適なプロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置のチャック高さ調整方法、及びそれらを用いた表示用パネル基板の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
表示用パネルとして用いられる液晶ディスプレイ装置のＴＦＴ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）基板やカラーフィルタ基板、プラズマディスプレイパネル用基板、有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）表示パネル用基板等の製造は、露光装置を用いて、フォトリソグラフィー技術により基板上にパターンを形成して行われる。露光装置としては、レンズ又は鏡を用いてマスクのパターンを基板上に投影するプロジェクション方式と、マスクと基板との間に微小な間隙（プロキシミティギャップ）を設けてマスクのパターンを基板へ転写するプロキシミティ方式とがある。プロキシミティ方式は、プロジェクション方式に比べてパターン解像性能は劣るが、照射光学系の構成が簡単で、かつ処理能力が高く量産用に適している。
【０００３】
プロキシミティ露光装置は、基板を支持するチャックと、マスクを保持するマスクホルダとを備え、マスクホルダに保持されたマスクとチャックに支持された基板とを極めて接近させて露光を行う。チャックへの基板のロード及びチャックからの基板のアンロードは、通常、ロボット等のハンドリングアームにより行われるが、マスクと基板との接触を避けるために、マスクの下の露光位置から離れたロード／アンロード位置で行われる。ロード／アンロード位置で基板をチャックにロードした後、ステージにより、チャックをマスクの下の露光位置へ移動し、露光位置で基板の位置決めを行う。
【０００４】
プロキシミティ露光装置で露光むらを抑制し、また露光精度を向上させるためには、露光時に、基板をより平坦に支持しなければならない。そのため、基板を支持するチャックには高い平坦度が要求され、特に、基板が大型化する程、チャックの平坦度の要求が強くなる。一方、プロキシミティ露光装置でタクトタイムを短縮するために、基板の移動を高速に行いたいという要求がある。基板の移動を高速に行うためには、基板を支持するチャックを軽量化する必要があり、特に、基板が大型化する程、あるいは基板の移動を高速化する程、チャックの軽量化が強く望まれる。特許文献１には、チャックを多数の点で支持することにより、チャックの厚さを薄くして、チャックを軽量化する技術が開示されている。また、特許文献１には、チャックを支持する各点の高さを調整して、チャックのたわみを矯正し、チャックの平坦度を向上させる技術が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００６−２３５０１９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
特許文献１に記載の様なチャック支持台を用いて、チャックを複数箇所で支持する場合、従来は、チャック支持台にチャックを支持する高さを調整する高さ調整機構を設け、チャックをチャック支持台に搭載した後、チャックの外側から高さ調整機構を操作して、チャックの高さを調整していた。しかしながら、基板の大型化に伴ってチャックが大きくなると、チャックの中央部に近い高さ調整機構は、チャックの外側から手が届きにくいので、操作するのが困難になってきた。
【０００７】
本発明の課題は、チャックが大きくなっても、チャックの高さを容易に調整して、チャックの平坦度を向上させることである。また、本発明の課題は、高品質な表示用パネル基板を歩留まり良く製造することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明のプロキシミティ露光装置は、基板を支持するチャックと、マスクを保持するマスクホルダとを備え、マスクと基板との間に微小なギャップを設けて、マスクのパターンを基板へ転写するプロキシミティ露光装置において、モータ及びモータにより昇降される昇降機構を有し、チャックの裏面を支持する複数のチャック支持機構と、複数のチャック支持機構を有し、複数のチャック支持機構によりチャックの裏面を複数箇所で支持するチャック支持台と、各チャック支持機構のモータを駆動する駆動回路とを備え、駆動回路により各チャック支持機構のモータを駆動して、各チャック支持機構の昇降機構を昇降させ、チャックの裏面を支持する高さを調整して、チャックの高さを調整するものである。
【０００９】
また、本発明のプロキシミティ露光装置のチャック高さ調整方法は、基板を支持するチャックと、マスクを保持するマスクホルダとを備え、マスクと基板との間に微小なギャップを設けて、マスクのパターンを基板へ転写するプロキシミティ露光装置のチャック高さ調整方法であって、モータ及びモータにより昇降される昇降機構を有し、チャックの裏面を支持する複数のチャック支持機構をチャック支持台に設け、チャックの裏面を複数のチャック支持機構により複数箇所で支持し、各チャック支持機構のモータを駆動して、各チャック支持機構の昇降機構を昇降させ、チャックの裏面を支持する高さを調整して、チャックの高さを調整するものである。
【００１０】
モータ及びモータにより昇降される昇降機構を有し、チャックの裏面を支持する複数のチャック支持機構をチャック支持台に設け、チャックの裏面を複数のチャック支持機構により複数箇所で支持し、各チャック支持機構のモータを駆動して、各チャック支持機構の昇降機構を昇降させ、チャックの裏面を支持する高さを調整して、チャックの高さを調整するので、チャックが大きくなっても、モータ及び昇降機構を有するチャック支持機構により、チャックの高さが容易に調整され、チャックの平坦度が向上する。
【００１１】
さらに、本発明のプロキシミティ露光装置は、チャックが、表面に基板を支持する複数の凸部を有し、チャックに支持された基板へ検査光を照射する検査光照射装置と、検査光が基板の裏面で反射された反射光と検査光がチャックの表面の凸部以外の部分で反射された反射光との干渉縞の画像を取得して、画像信号を出力する画像取得装置と、画像取得装置が出力した画像信号を処理して、チャックの歪みを検出する画像処理装置と、画像処理装置の検出結果に基づいて、駆動回路を制御する制御手段とを備えたものである。
【００１２】
また、本発明のプロキシミティ露光装置のチャック高さ調整方法は、チャックの表面に複数の凸部を設けて、複数の凸部により基板を支持し、チャックに支持された基板へ検査光を照射し、検査光が基板の裏面で反射された反射光と検査光がチャックの表面の凸部以外の部分で反射された反射光との干渉縞の画像を取得し、取得した画像の画像信号を処理して、チャックの歪みを検出し、検出結果に基づいて、各チャック支持機構のモータの駆動を制御するものである。
【００１３】
チャックの表面に複数の凸部を設けて、複数の凸部により基板を支持し、チャックに支持された基板へ検査光を照射し、検査光が基板の裏面で反射された反射光と検査光がチャックの表面の凸部以外の部分で反射された反射光との干渉縞の画像を取得し、取得した画像の画像信号を処理して、チャックの歪みを検出し、検出結果に基づいて、各チャック支持機構のモータの駆動を制御するので、干渉縞を利用してチャックの歪みが精度良く検出され、チャックの平坦度がさらに向上する。
【００１４】
本発明の表示用パネル基板の製造方法は、上記のいずれかのプロキシミティ露光装置を用いて基板の露光を行い、あるいは、上記のいずれかのプロキシミティ露光装置のチャック高さ調整方法を用いて高さを調整したチャックにより基板を支持して、基板の露光を行うものである。チャックの平坦度が向上して、基板がより平坦に支持されるので、露光精度が向上し、また露光むらが抑制される。
【発明の効果】
【００１５】
本発明のプロキシミティ露光装置及びプロキシミティ露光装置のチャック高さ調整方法によれば、モータ及びモータにより昇降される昇降機構を有し、チャックの裏面を支持する複数のチャック支持機構をチャック支持台に設け、チャックの裏面を複数のチャック支持機構により複数箇所で支持し、各チャック支持機構のモータを駆動して、各チャック支持機構の昇降機構を昇降させ、チャックの裏面を支持する高さを調整して、チャックの高さを調整することにより、チャックが大きくなっても、モータ及び昇降機構を有するチャック支持機構により、チャックの高さを容易に調整して、チャックの平坦度を向上させることができる。
【００１６】
さらに、本発明のプロキシミティ露光装置及びプロキシミティ露光装置のチャック高さ調整方法によれば、チャックの表面に複数の凸部を設けて、複数の凸部により基板を支持し、チャックに支持された基板へ検査光を照射し、検査光が基板の裏面で反射された反射光と検査光がチャックの表面の凸部以外の部分で反射された反射光との干渉縞の画像を取得し、取得した画像の画像信号を処理して、チャックの歪みを検出し、検出結果に基づいて、各チャック支持機構のモータの駆動を制御することにより、干渉縞を利用してチャックの歪みを精度良く検出することができるので、チャックの平坦度をさらに向上させることができる。
【００１７】
本発明の表示用パネル基板の製造方法によれば、チャックの平坦度を向上させて、基板をより平坦に支持することができるので、露光精度を向上させ、また露光むらを抑制することができる。従って、高品質な表示用パネル基板を歩留まり良く製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本発明の一実施の形態によるプロキシミティ露光装置の概略構成を示す図である。
【図２】図２（ａ）はチャックの上面図、図２（ｂ）はチャック及びチャック支持台の側面図である。
【図３】図３（ａ）はチャック支持台の上面図、図３（ｂ）はチャック支持台の側面図である。
【図４】チャック支持機構の側面図である。
【図５】干渉縞の発生を説明する図である。
【図６】チャックに歪みがあるときの干渉縞を示す図である。
【図７】液晶ディスプレイ装置のＴＦＴ基板の製造工程の一例を示すフローチャートである。
【図８】液晶ディスプレイ装置のカラーフィルタ基板の製造工程の一例を示すフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
図１は、本発明の一実施の形態によるプロキシミティ露光装置の概略構成を示す図である。プロキシミティ露光装置は、ベース３、Ｘガイド４、Ｘステージ５、Ｙガイド６、Ｙステージ７、θステージ８、チャック支持台９、チャック１０、マスクホルダ２０、モータ駆動回路３４、光源制御回路４０、検査光照射装置４１、ＣＣＤカメラ４２、画像処理装置４３、及び主制御装置５０を含んで構成されている。プロキシミティ露光装置は、これらの他に、基板１をチャック１０へ搬入し、また基板１をチャック１０から搬出する基板搬送ロボット、露光光を照射する照射光学系、装置内の温度管理を行う温度制御ユニット等を備えている。
【００２０】
なお、以下に説明する実施の形態におけるＸＹ方向は例示であって、Ｘ方向とＹ方向とを入れ替えてもよい。
【００２１】
図１において、チャック１０は、基板１のロード及びアンロードを行うロード／アンロード位置にある。ロード／アンロード位置において、図示しない基板搬送ロボットにより、基板１がチャック１０へ搬入され、また基板１がチャック１０から搬出される。チャック１０への基板１のロード及びチャック１０からの基板１のアンロードは、チャック１０に設けた複数の突き上げピンを用いて行われる。突き上げピンは、チャック１０の内部に収納されており、チャック１０の内部から上昇して、基板１をチャック１０にロードする際、基板搬送ロボットから基板１を受け取り、基板１をチャック１０からアンロードする際、基板搬送ロボットへ基板１を受け渡す。
【００２２】
基板１の露光を行う露光位置の上空には、マスク２を保持するマスクホルダ２０が設置されている。マスクホルダ２０は、マスク２の周辺部を真空吸着して保持する。マスクホルダ２０に保持されたマスク２の上空には、図示しない照射光学系が配置されている。露光時、照射光学系からの露光光がマスク２を透過して基板１へ照射されることにより、マスク２のパターンが基板１の表面に転写され、基板１上にパターンが形成される。
【００２３】
チャック１０は、チャック支持台９を介してθステージ８に搭載されており、θステージ８の下にはＹステージ７及びＸステージ５が設けられている。Ｘステージ５は、ベース３に設けられたＸガイド４に搭載され、Ｘガイド４に沿ってＸ方向（図１の図面横方向）へ移動する。Ｙステージ７は、Ｘステージ５に設けられたＹガイド６に搭載され、Ｙガイド６に沿ってＹ方向（図１の図面奥行き方向）へ移動する。θステージ８は、Ｙステージ７に搭載され、θ方向へ回転する。チャック支持台９は、θステージ８に搭載され、チャック１０を支持する。
【００２４】
Ｘステージ５のＸ方向への移動及びＹステージ７のＹ方向への移動により、チャック１０は、ロード／アンロード位置と露光位置との間を移動される。ロード／アンロード位置において、Ｘステージ５のＸ方向への移動、Ｙステージ７のＹ方向への移動、及びθステージ８のθ方向への回転により、チャック１０に搭載された基板１のプリアライメントが行われる。露光位置において、Ｘステージ５のＸ方向への移動及びＹステージ７のＹ方向への移動により、チャック１０に搭載された基板１のＸＹ方向へのステップ移動が行われる。そして、Ｘステージ５のＸ方向への移動、Ｙステージ７のＹ方向への移動、及びθステージ８のθ方向への回転により、基板１の位置決めが行われる。また、図示しないＺ−チルト機構によりマスクホルダ２０をＺ方向（図１の図面上下方向）へ移動及びチルトすることにより、マスク２と基板１とのギャップ合わせが行われる。
【００２５】
なお、本実施の形態では、マスクホルダ２０をＺ方向へ移動及びチルトすることにより、マスク２と基板１とのギャップ合わせを行っているが、チャック支持台９にＺ−チルト機構を設けて、チャック１０をＺ方向へ移動及びチルトすることにより、マスク２と基板１とのギャップ合わせを行ってもよい。
【００２６】
図２（ａ）はチャックの上面図、図２（ｂ）はチャック及びチャック支持台の側面図である。図２（ａ）において、チャック１０の表面には、図示しない凸部と土手と吸着孔とが設けられている。凸部は、直径数ｍｍのピン形状であり、チャック１０の表面に所定の間隔で複数設けられている。チャック１０に基板１が搭載されたとき、凸部は、基板１を複数の点で支持する。このとき、チャック１０の表面の凸部以外の部分と基板１との間には、空間が形成される。土手は、所定の幅の連続した壁であり、チャック１０の表面の凸部以外の部分と基板１との空間に、真空区画を形成する。土手は、チャック１０の表面形状が基板１の表面に焼き付けられる裏面転写が発生したときに人間の目で認識され難い様に、直線ではなく不規則な線で構成されている。吸着孔は、チャック１０の表面の凸部及び土手以外の部分に所定の間隔で複数設けられ、土手により形成された真空区画の真空引きを行う。
【００２７】
なお、チャック１０の表面には、凸部と土手と吸着孔の他に、突き上げピンが通る貫通孔が設けられているが、図２（ａ）ではそれらも省略されている。
【００２８】
図２（ｂ）において、チャック支持台９には、後述する複数のチャック支持機構が設けられており、チャック支持台９は、複数のチャック支持機構によりチャック１０の裏面を複数箇所で支持する。チャック１０の裏面には、チャック支持機構が支持する複数の支持部１２が設けられている。
【００２９】
図３（ａ）はチャック支持台の上面図、図３（ｂ）はチャック支持台の側面図である。チャック支持台９は、フレーム３０及びチャック支持機構３１を含んで構成されている。フレーム３０は、図１のθステージ８に搭載されている。フレーム３０は、放射状又は縦横に伸びる所定の厚さの複数のスポークを有し、各スポークの中間及び先端には、所定の厚さのリムが取り付けられて、格子状の枠を形成している。フレーム３０の上面には、複数のチャック支持機構３１が取り付けられている。
【００３０】
なお、本実施の形態では、チャック支持機構３１が７２箇所に取り付けられているが、チャック支持機構３１の数及びそれらの配置は、チャックの大きさ及び形状に応じて適宜決定される。
【００３１】
図４は、チャック支持機構の側面図である。チャック支持機構３１は、モータ３２及び電動シリンダ３３を含んで構成されている。電動シリンダ３３は、フレーム３０の上面に取り付けられている。電動シリンダ３３のピストン３３ａの先端は、チャック１０の裏面に設けられた支持部１２に取り付けられて、チャック１０の裏面を支持している。モータ３２は、図１のモータ駆動回路３４により駆動され、電動シリンダ３３は、モータ３２の回転により、ピストン３３ａを矢印で示す上下方向へ昇降する。モータ３２により電動シリンダ３３を昇降させることによって、チャック支持機構３１がチャック１０の裏面を支持する高さが調整される。
【００３２】
図１において、チャック１０に支持された基板１の上方には、検査光照射装置４１とＣＣＤカメラ４２が設置されている。検査光照射装置４１は、白色光源と、レンズ等から成る光学系とを有し、白色光の平行光線束を、検査光として、チャック１０に支持された基板１へ斜めに照射する。光源制御回路４０は、主制御装置５０の指示により、検査光照射装置４１の白色光源の点灯を制御する。
【００３３】
検査光照射装置４１から基板１へ検査光を斜めに照射すると、基板１の表面に干渉縞が発生する。図５は、干渉縞の発生を説明する図である。チャック１０の表面には複数の凸部１１が設けられており、基板１は複数の凸部１１により支持されている。チャック１０の表面の凸部１１以外の部分と基板１との間には、凸部１１の高さの分だけ隙間が空いている。検査光照射装置４１から基板１へ斜めに照射された検査光の一部は、基板１の内部へ透過する。基板１の内部へ透過した検査光の一部は、基板１の裏面で反射され、再び基板１の内部を透過して、基板１の表面へ到達する。また、基板１の内部へ透過した検査光の一部は、基板１の裏面から射出され、チャック１０の表面の凸部１１以外の部分で反射された後、再び基板１の内部を透過して、基板１の表面へ到達する。基板１の表面では、検査光が基板１の裏面で反射された反射光と検査光がチャック１０の表面の凸部１１以外の部分で反射された反射光とが干渉して、干渉縞が発生する。ＣＣＤカメラ４２は、基板１の表面の干渉縞の画像を取得して、画像信号を出力する。
【００３４】
図６は、チャックに歪みがあるときの干渉縞を示す図である。図６（ａ）は、ＣＣＤカメラ４２が取得した、チャック支持機構３１間の干渉縞の画像の一例を示し、図６（ａ）は、ＣＣＤカメラ４２が取得した、チャック支持機構３１の真上の干渉縞の画像の一例を示している。チャック１０に歪みがない場合、基板１が平坦に支持され、基板１の裏面からの反射光及びチャック１０の表面の凸部１１以外の部分からの反射光が均一に発生するので、基板１の表面には、干渉縞が等間隔に発生する。チャック１０に歪みがある場合、基板１が平坦に支持されず、基板１の裏面からの反射光とチャック１０の表面の凸部１１以外の部分からの反射光が均一に発生しないので、基板１の表面には、図６（ａ）に示す様に、干渉縞が不規則な間隔で発生する。また、あるチャック支持機構３１がチャック１０の裏面を支持する高さが高すぎ又は低すぎる場合、そのチャック支持機構３１の真上の基板１の表面では、図６（ｂ）に示す様に、干渉縞が同心円状に発生する。
【００３５】
図１において、画像処理装置４３は、ＣＣＤカメラ４２が出力した画像信号を処理して、チャック１０の歪みを検出する。干渉縞を利用して、チャック１０の歪みが精度良く検出される。主制御装置５０は、画像処理装置４３の検出結果に基づいて、モータ駆動回路３４を制御し、基板１の表面の干渉縞が等間隔になり、また同心円状の干渉縞が無くなる様に、各チャック支持機構３１のモータ３２を駆動して、各チャック支持機構３１の電動シリンダ３３を昇降させ、各チャック支持機構３１がチャック１０の裏面を支持する高さを調整する。チャック１０が大きくなっても、モータ３２及び電動シリンダ３３を有するチャック支持機構３１により、チャック１０の高さが容易に調整され、チャック１０の平坦度が向上する。
【００３６】
以上説明した実施の形態によれば、モータ３２及びモータ３２により昇降される電動シリンダ３３を有し、チャック１０の裏面を支持する複数のチャック支持機構３１をチャック支持台９に設け、チャック１０の裏面を複数のチャック支持機構３１により複数箇所で支持し、各チャック支持機構３１のモータ３２を駆動して、各チャック支持機構３１の電動シリンダ３３を昇降させ、チャック１０の裏面を支持する高さを調整して、チャック１０の高さを調整することにより、チャック１０が大きくなっても、モータ３２及び電動シリンダ３３を有するチャック支持機構３１により、チャック１０の高さを容易に調整して、チャック１０の平坦度を向上させることができる。
【００３７】
さらに、チャック１０の表面に複数の凸部１１を設けて、複数の凸部１１により基板１を支持し、チャック１０に支持された基板１へ検査光を照射し、検査光が基板１の裏面で反射された反射光と検査光がチャック１０の表面の凸部１１以外の部分で反射された反射光との干渉縞の画像を取得し、取得した画像の画像信号を処理して、チャック１０の歪みを検出し、検出結果に基づいて、各チャック支持機構３１のモータ３２の駆動を制御することにより、干渉縞を利用してチャック１０の歪みを精度良く検出することができるので、チャック１０の平坦度をさらに向上させることができる。
【００３８】
本発明のプロキシミティ露光装置を用いて基板の露光を行い、あるいは、本発明のプロキシミティ露光装置のチャック高さ調整方法を用いて高さを調整したチャックにより基板を支持して、基板の露光を行うことにより、チャックの平坦度を向上させて、基板をより平坦に支持することができるので、露光精度を向上させ、また露光むらを抑制することができる。従って、高品質な表示用パネル基板を歩留まり良く製造することができる。
【００３９】
例えば、図７は、液晶ディスプレイ装置のＴＦＴ基板の製造工程の一例を示すフローチャートである。薄膜形成工程（ステップ１０１）では、スパッタ法やプラズマ化学気相成長（ＣＶＤ）法等により、基板上に液晶駆動用の透明電極となる導電体膜や絶縁体膜等の薄膜を形成する。レジスト塗布工程（ステップ１０２）では、ロール塗布法等により感光樹脂材料（フォトレジスト）を塗布して、薄膜形成工程（ステップ１０１）で形成した薄膜上にフォトレジスト膜を形成する。露光工程（ステップ１０３）では、プロキシミティ露光装置や投影露光装置等を用いて、マスクのパターンをフォトレジスト膜に転写する。現像工程（ステップ１０４）では、シャワー現像法等により現像液をフォトレジスト膜上に供給して、フォトレジスト膜の不要部分を除去する。エッチング工程（ステップ１０５）では、ウエットエッチングにより、薄膜形成工程（ステップ１０１）で形成した薄膜の内、フォトレジスト膜でマスクされていない部分を除去する。剥離工程（ステップ１０６）では、エッチング工程（ステップ１０５）でのマスクの役目を終えたフォトレジスト膜を、剥離液によって剥離する。これらの各工程の前又は後には、必要に応じて、基板の洗浄／乾燥工程が実施される。これらの工程を数回繰り返して、基板上にＴＦＴアレイが形成される。
【００４０】
また、図８は、液晶ディスプレイ装置のカラーフィルタ基板の製造工程の一例を示すフローチャートである。ブラックマトリクス形成工程（ステップ２０１）では、レジスト塗布、露光、現像、エッチング、剥離等の処理により、基板上にブラックマトリクスを形成する。着色パターン形成工程（ステップ２０２）では、染色法、顔料分散法、印刷法、電着法等により、基板上に着色パターンを形成する。この工程を、Ｒ、Ｇ、Ｂの着色パターンについて繰り返す。保護膜形成工程（ステップ２０３）では、着色パターンの上に保護膜を形成し、透明電極膜形成工程（ステップ２０４）では、保護膜の上に透明電極膜を形成する。これらの各工程の前、途中又は後には、必要に応じて、基板の洗浄／乾燥工程が実施される。
【００４１】
図７に示したＴＦＴ基板の製造工程では、露光工程（ステップ１０３）において、図８に示したカラーフィルタ基板の製造工程では、ブラックマトリクス形成工程（ステップ２０１）及び着色パターン形成工程（ステップ２０２）の露光処理において、本発明のプロキシミティ露光装置又は本発明のプロキシミティ露光装置のチャック高さ調整方法を適用することができる。
【符号の説明】
【００４２】
１  基板
２  マスク
３  ベース
４  Ｘガイド
５  Ｘステージ
６  Ｙガイド
７  Ｙステージ
８  θステージ
９  チャック支持台
１０  チャック
１１  凸部
１２  支持部
２０  マスクホルダ
３０  フレーム
３１  チャック支持機構
３２  モータ
３３  電動シリンダ
３４  モータ駆動回路
４０  光源制御回路
４１  検査光照射装置
４２  ＣＣＤカメラ
４３  画像処理装置
５０  主制御装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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