(57)【要約】【課題】レーザ光の波長に対応した透過ガラスを有するＤＭＤユニットを選択可能とする。【解決手段】複数波長のレーザ光を出射可能なレーザ発振器３１と、レーザ光の夫々の波長に対応する光学透過板４０で覆われた複数のＤＭＤユニット３７ａ，３７ｂと、複数のＤＭＤユニット３７ａ，３７ｂを搭載するスライドホルダ３６を有し、このスライドホルダ３６を移動させて所望のＤＭＤユニット３７ａ（又は３７ｂ）がレーザ光路上に配置されるように選択的に切替えるスライダ制御部１６と、を備える。【選択図】  図１
2010115670.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数波長のレーザ光を出射可能なレーザ光源と、
前記レーザ光の夫々の波長に対応する光学透過板で覆われた複数のデジタルミラーデバイスユニットと、
前記複数のデジタルミラーデバイスユニットを搭載するベースホルダを有し、当該ベースホルダを移動させて所望のデジタルミラーデバイスユニットがレーザ光路上に配置されるように選択的に切替える切替え手段と、を備える
ことを特徴とするレーザリペア装置。
【請求項２】
入射する前記レーザ光の波長に応じて、前記各デジタルミラーデバイスユニットを前記ベースホルダへの設置角度を変えて搭載する
ことを特徴とする請求項１に記載のレーザリペア装置。
【請求項３】
前記設置角度を前記ベースホルダの取付基準面に対して任意方向に調整可能とした
ことを特徴とする請求項２に記載のレーザリペア装置。
【請求項４】
前記切替え手段は、前記ベースホルダを直線方向又は回転方向に移動させて切り替える
ことを特徴とする請求項１に記載のレーザリペア装置。
【請求項５】
前記光学透過板は、赤外領域の波長、近紫外領域の波長、又は深紫外領域の波長の少なくともいずれか1つのレーザ光を透過する
ことを特徴とする請求項１に記載のレーザリペア装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば液晶ディスプレイなどのＦＰＤガラス基板、半導体ウエハ、プリント基板などに生じる欠陥部にレーザ光を照射してリペアするレーザリペア装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイ（以下、「ＬＣＤ」という）等のＦＰＤ製造メーカでは、レーザリペア装置を多数導入し、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）工程、ＣＦ（カラーフィルタ）工程で修正を行っている。各メーカは独自に修正工程を改善してきており、修正方法や条件は多種多様になってきている。これに伴い、レーザリペア装置は多機能な構成を要求されるが、その１つはリペアに用いるレーザ光の波長である。
【０００３】
修正に用いるレーザ波長はＬＣＤメーカごとに異なっており、一般的には、ＹＡＧパルスレーザの第１高調波〜第４高調波などが使用されている。
このようなリペア装置として、例えば特許文献１には、ガラス基板の欠陥部を撮像して取得された欠陥画像データから欠陥部の形状データを抽出し、この形状データに従ってデジタルミラーデバイスユニット（以下、「ＤＭＤユニット」という）の各微小ミラーを高速に角度制御し、反射したレーザ光を欠陥部に照射する旨の技術が開示されている。
【特許文献１】特開２００５−１０３５８１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、特許文献１のＤＭＤユニットを搭載したレーザリペア装置では、レーザの多波長搭載には対応することができず、レーザの波長が単一でしか使用することができなかった。ＤＭＤユニットは、微小ミラーの動作性を良くする目的で、ガラスと金属を組み合わせた蓋で封止されている。ＤＭＤを封止する板ガラスは、板ガラスを作成する材料により特定の波長の光しか透過できない。従って、市販されている従来のＤＭＤユニットは、板ガラスの特性により特定のレーザ波長しか対応することができなかった。
【０００５】
一方、ＤＭＤユニットを搭載したレーザリペア装置に多波長レーザ対応が可能になれば、あらゆる材料を任意形状で材料に適したレーザ波長を選択することが可能になる。しかし、市販されているＤＭＤユニットを搭載したレーザリペア装置では、多波長レーザを用いて最適なレーザ加工を実現するには至っていない。
【０００６】
本発明は斯かる課題を解決するためになされたもので、多波長レーザに対応したＤＭＤユニットを用いて最適なレーザ加工を行えるレーザリペア装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
前記目的を達成するため、請求項１に係る発明は、
複数波長のレーザ光を出射可能なレーザ光源と、
前記レーザ光の夫々の波長に対応する光学透過板で覆われた複数のデジタルミラーデバイスユニットと、
前記複数のデジタルミラーデバイスユニットを搭載するベースホルダを有し、当該ベースホルダを移動させて所望のデジタルミラーデバイスユニットがレーザ光路上に配置されるように選択的に切替える切替え手段と、を備えることを特徴とする。
【０００８】
請求項２に係る発明は、請求項１に記載のレーザリペア装置において、
入射する前記レーザ光の波長に応じて、前記各デジタルミラーデバイスユニットを前記ベースホルダへの設置角度を変えて搭載することを特徴とする。
【０００９】
請求項３に係る発明は、請求項２に記載のレーザリペア装置において、
前記設置角度を前記ベースホルダの取付基準面に対して任意方向に調整可能としたことを特徴とする。
【００１０】
請求項４に係る発明は、請求項１に記載のレーザリペア装置において、
前記切替え手段は、前記ベースホルダを直線方向又は回転方向に移動させて切り替えることを特徴とする。
【００１１】
請求項5に係る発明は、請求項１に記載のレーザリペア装置において、
前記光学透過板は、赤外領域の波長、近紫外領域の波長、又は深紫外領域の波長の少なくともいずれか1つのレーザ光を透過することを特徴とする。
【００１２】
すなわち、本発明においては、レーザ光の波長領域に対応したＤＭＤユニットを複数搭載可能であって、レーザ光の波長を切り替えるごとにその波長に適応した光学透過板を有するＤＭＤユニットを選択できるようにした。このために、複数搭載されたＤＭＤユニットの中から所望のＤＭＤユニットを迅速に切り替えることが可能な切替え手段を備えた。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、多波長レーザに対応したＤＭＤユニットを用いることにより、効率良くレーザ光を伝達してリペア対象を効率的に加工することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、図面に基づき本発明の実施の形態を説明する。
［第１の実施の形態］
図１は、第１の実施の形態のレーザリペア装置の全体構成を示す図である。
【００１５】
このレーザリペア装置１は、制御コンピュータ１０と、レーザ光によりワークの欠陥部をリペアする顕微鏡光学系２０と、ＹＡＧレーザの第１〜第４高調波などの複数波長のレーザ光を切り替えて出射可能なレーザ光学系３０と、を備えている。
【００１６】
なお、顕微鏡光学系２０とレーザ光学系３０とを分けたのは、単に説明の便宜上の理由からである。
制御コンピュータ１０は、中央演算処理装置（ＣＰＵ）を備えた主制御部１１、画像信号を入力処理する画像処理部１２、ステージ制御部１３、正常なパターン画像を登録するレシピ格納部１４、対物レンズ切替制御部１５、２次元空間変調器の切り替え手段としてのスライダ制御部１６、単体の２次元空間変調器であるＤＭＤをマトリクス状に複数配置したＤＭＤユニット３７ａ（又はＤＭＤユニット３７ｂ）を制御する２次元空間変調器制御部１７、及びレーザ制御部１８を有している。
【００１７】
顕微鏡光学系２０はリペア対象のワーク２を載置するステージ２１を有している。
本実施の形態では、顕微鏡光学系を固定し、ステージ２１をＸＹ方向に移動可能に設けてリペア対象となるワーク２をＸＹ方向に移動できるようになっている。このワーク２としては、ＴＦＴガラス基板、カラーフィルタ基板、半導体ウエハ、プリント基板などの微細なパターンが形成されたものである。また、ＸＹステージ２１は、他の欠陥検査装置により検出された欠陥座標に基づいて顕微鏡の光軸に欠陥を位置決めするために、ステージ制御部１３によって同一平面内でＸＹ方向に移動制御可能となっている。
【００１８】
照明光源２２は、ワーク２を照明するための照明光を出射する。この照明光の光路上には、レンズ２３ｂを介してビームスプリッタ２４ｂが設けられている。このビームスプリッタ２４ｂの反射光路上に対物レンズ２５が設けられている。この対物レンズ２５は対物レンズ切替ユニット２６に複数個が装着されている。この対物レンズ切替ユニット２６は、対物レンズ切替制御部１５によって制御されて複数の対物レンズ２５の中からいずれか１つが選択的に切り替えられる。
【００１９】
この対物レンズ２５、ビームスプリッタ２４ｂを通る光軸の延長上には、ビームスプリッタ２４ａとレンズ２３ｃを介してＣＣＤ等の撮像部２７が設けられている。この撮像部２７は、レンズ２３ｃ及び対物レンズ２５を通してワーク２のパターンを撮像し、その画像信号を画像処理部１２に出力する。
【００２０】
画像処理部１２は、撮像部２７から出力された画像信号を入力して欠陥画像データを取得し、この欠陥画像データと基準画像データとを比較して、その差画像データからワーク２上の欠陥部を抽出し、２値化処理を行って欠陥形状データを作成する。また、欠陥画像データ又は差画像データから欠陥部の輪郭を求めて欠陥形状データを作成することもできる。この画像処理部１２は、欠陥画像データ、欠陥形状データを主制御部１１に出力する。
【００２１】
次に、レーザ光学系３０は、複数波長のレーザ光を出射可能なレーザ発振器３１、出射されたレーザ光を光ファイバ３３に導入するファイバカップリングユニット３２、光ファイバ３３に導入されたレーザ光を出力する投影ユニット３４、投影ユニット３４から出射されたレーザ光を２次元空間変調器に向けて反射させる第１のレーザ反射ミラー３５ａ、第１の反射ミラー３５ａの反射光路に設けられビームスプリッタ２４ａに向けて反射させる第２のレーザ反射ミラー３５ｂ、２次元空間変調器としての複数のＤＭＤユニット３７ａ、３７ｂ、及び複数のＤＭＤユニット３７ａ、３７ｂを載置するベースホルダとしてのスライドホルダ３６を有している。
【００２２】
レーザ発振器３１は、レーザ制御部１８からの制御に基づき、ワーク２の欠陥部をリペア（修理）する複数波長のレーザ光を出射する。すなわち、レーザ発振器３１としては、例えば第１高調波〜第４高調波のレーザ光を出射するＮｄ：ＹＡＧレーザ光源が使用可能である。このＮｄ：ＹＡＧレーザ光源は、第１高調波（基本波）が１０６４ｎｍ、第２高調波が５３２ｎｍ、第３高調波が３５５ｎｍ、第４高調波が２６６ｎｍである。
【００２３】
レーザ発振器３１から出射されたレーザ光の光路上には、第１のレーザ反射ミラー３５ａが配置され、この第１のレーザ反射ミラー３５ａの反射光路上にＤＭＤユニット３７ａ（及び３７ｂ）が配置されている。
【００２４】
図２は、ＤＭＤユニット３７ａの拡大断面を示す図である。なお、ＤＭＤユニット３７ｂについても同様の構成を有している。
このＤＭＤユニット３７ａは、駆動用メモリーセル３８の上部に配置された多数の微小ミラー３９を有している。そして、この微小ミラー３９の傾斜角度を、例えばねじれ軸の周りに±12°の範囲内で制御可能とされている。このＤＭＤユニット３７ａは、各微小ミラー３９と駆動用メモリーセル３８との間のギャップに働く電圧差によって、各微小ミラー３９の傾斜角度を高速に切り換えることができる。
【００２５】
この微小ミラー３９は、駆動用メモリーセル３８のオン状態で所定角度に回転し、オフ状態で水平位置に復帰する。なお、この微小ミラー３９は、例えば１４μｍほどの矩形状のマイクロミラーであり、この多数の微小ミラー３９を駆動用メモリーセル３８上にマトリクス状に配列することでＤＭＤユニット３７ａが構成されている。
【００２６】
このＤＭＤユニット３７ａの微小ミラー３９が、２次元空間変調器制御部１７から欠陥形状データに基づき駆動用メモリーセル３８によってオン・オフ制御される。こうして、ＤＭＤユニット３７ａの中で欠陥形状と同形にオンにされた各微小ミラーによりレーザ光の投影形状の整形が行われる。このＤＭＤユニット３７ａから出射されたレーザ光は、レーザ反射ミラー３５ｂとレンズ２３ａを介してビームスプリッタ２４ａに入射する。さらに、このレーザ光は対物レンズ２５を通ってワーク２に到達し、リペア対象部分となるワーク２上の欠陥にレーザ光が照射されて加工される。
【００２７】
２次元空間変調器制御部１７は、画像処理部１２により作成されたワーク２の各欠陥部の欠陥形状データを主制御部１１を介して読み取り、この欠陥形状データに対応するＤＭＤユニット３７ａの各微小ミラー３９の駆動用メモリーセル３８をオン状態とし、他の領域に配置されている各微小ミラー３９の駆動用メモリーセル３８をオフ状態とする制御信号を送出する。
【００２８】
こうして、ＤＭＤユニット３７ａの各微小ミラー３９を夫々角度制御して、レーザ光の断面形状をリペア対象の形状に整形し、この整形されたレーザ光をリペア対象に照射してリペア加工するものである。
【００２９】
また、画像処理部１２は、ワーク２の欠陥部にレーザ光を照射してリペア加工した後に、撮像部２７から同一位置の画像データを取得し、この画像データと基準画像データを比較して、その差画像データから欠陥部のリペアが完全であるか否かを判断する。
【００３０】
この判断の結果、リペアが不完全であった場合は、リペア後の差画像データから欠陥部の欠陥形状データを再度作成する。さらに、２次元空間変調器制御部１７は、再度、画像処理部１２により欠陥部の形状データを読み取り、この形状データに対応するＤＭＤユニット３７ａの各微小ミラー３９の駆動用メモリーセル３８をオン状態にする。こうして、欠陥部の形状データに対応した形状となるようにレーザ光の断面形状を整形する。
【００３１】
本実施形態において、ＤＭＤユニット３７ａは、多数の微小ミラー３９の上方を覆う光学透過板としてのカバーガラス４０を有している。レーザ反射ミラー３５ａで反射されたレーザ光は、このカバーガラス４０を透過して微小ミラー３９で反射され、微小ミラー３９で反射されたレーザ光は再びカバーガラス４０を透過して出射される。
【００３２】
図３は、レーザ光の波長とガラスの透過率との関係を示す図である。
図３に示すように、レーザ光によるガラスの透過率は、ガラスの素材により透過する波長が異なる。なお、この図３は、レーザ光の波長とガラスの透過率との関係を概念的に示したもので、必ずしもその数値が学術的に正確なものとは限らない。
【００３３】
この図３によれば、例えばＡガラスは２６６ｎｍ付近のＤＵＶ（Ｄｅｅｐ  Ｕｌｔｒａｖｉｏｌｅｔ  Ｒａｙｓ  深紫外線）領域を良く透過し、また、Ｂガラスは５３２ｎｍ付近のＮＵＶ（Ｎｅａｒ  Ｕｌｔｒａｖｉｏｌｅｔ  Ｒａｙｓ  近紫外線）領域を良く透過する。さらに、Ｃガラスは５３２ｎｍ〜１０６４ｎｍ付近のＩＲ（Ｉｎｆｒａｒｅｄ  Ｒａｙｓ  赤外線）領域を良く透過する。
【００３４】
このように、カバーガラス４０はその材質によって良く透過する波長が異なる。このため、１種類のカバーガラス４０ではレーザ光の各波長の全てを効率良く透過することができない。また、レーザ光は、入射時と出射時の２回カバーガラス４０を通過する。このため、例えば透過率７０％のカバーガラス４０を用いたとしても、全体の透過率は４９％と半減してしまう。このため、夫々の波長のレーザ光に応じて、透過しやすいカバーガラス
４０を用いることが好ましくかつ重要になってくる。
【００３５】
そこで、本実施形態では、ＤＭＤユニット３７ａ（及び３７ｂ）ごとに特定波長のレーザ光を透過しやすいカバーガラス４０を取付けることとした。そして、これら異なる種類のカバーガラス４０を有するＤＭＤユニット３７ａ（及び３７ｂ）をスライドホルダ３６に複数配置することとした。なお、本実施形態ではＤＭＤユニット３７ａ（及び３７ｂ）を２個配置した場合について説明するが、その個数はこれに限定されない。例えば、３個以上のＤＭＤユニットを搭載してもよい。
【００３６】
図４は、直動式のスライドホルダ３６の構成を示す図である。
この図４に示すように、スライドホルダ３６には、２個のＤＭＤユニット３７ａ、３７ｂが取付基準面３６ａに配列されている。このスライドホルダ３６は、切り替え手段としてのスライダ制御部１６からの制御に基づき、不図示のアクチュエータを介してＤＭＤユニット３７ａ、３７ｂのいずれかが選択移動される。これらのアクチュエータを電気信号により制御することで、迅速に選択することができる。なお、アクチュエータとしては、例えば電動モータやエアシリンダ等が考えられる。
【００３７】
２個のＤＭＤユニット３７ａ、３７ｂとしては、例えば、スライドホルダ３６に、波長がＩＲ（Ｉｎｆｒａｒｅｄ  Ｒａｙｓ  赤外線）領域対応のＤＭＤユニット３７ａと、波長がＵＶ（Ｕｌｔｒａｖｉｏｌｅｔ  Ｒａｙｓ  紫外線）領域対応のＤＭＤユニット３７ｂとを搭載する。
【００３８】
このようにして、レーザ発振器３１から出射される多波長のレーザ光を切り替えてワーク２を加工することができる。このとき、レーザ光の波長に応じて、対物レンズ切替ユニット２６によりレーザ光の波長に対応した対物レンズ２５に切り替えることが好ましい。本実施形態では、対物レンズ切替ユニット２６にはＩＲ透過対物レンズとＵＶ透過対物レンズとが装着されている。
【００３９】
更に、前述した図２において、例えばＤＭＤユニット３７ａには多数の微小ミラー３９が配設されている。これら多数の微小ミラー３９にレーザ光が入射すると、微小ミラー３９の配列ピッチ、微小ミラー３９の傾斜角度等によって、これらがいわゆる回折格子と同じ作用を呈する。このため、入射したレーザ光の波長に応じて出射するレーザ光の回折する角度が異なってくる。すなわち、レーザ光の波長に応じて回折効率の高いものとそうでないものとが顕在化するようになる。
【００４０】
このため、本実施形態では、レーザ光の波長に応じて、スライドホルダ３６の取付基準面３６ａに対するＤＭＤユニット３７ａ（又は３７ｂ）の設置角度を変えて搭載するようにした。具体的には、例えば取付基準面３６ａに不図示の傾斜板を取り付け、この傾斜板上にＤＭＤユニット３７ａ（又は３７ｂ）を取付ける。
【００４１】
さらに、本実施形態では、この傾斜板を取付基準面３６ａに対して任意方向に調整できるようにした。こうすることで、図１のレーザ反射ミラー３５ｂには常に同一方向のレーザ光（整形されたレーザ光）が入射されるようになるためである。
【００４２】
次に、本実施形態の作用について説明する。
本実施形態で想定したワーク２はＴＦＴガラス基板であって、金属配線やＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）などの透明電極で構成されている。レーザ光によりリペア加工するには、金属配線をカットしたりＩＴＯ膜をカットしたりするケースがあり、リペア対象の材料は複数存在する。
【００４３】
例えば、金属配線をカットする場合、一般的にはＩＲ波長領域のレーザ光で加工するのがよいとされている。また、ＩＴＯなどの薄膜材料の場合、ＵＶ領域のレーザで加工すると材料への吸収が高く、効率よくカットできるとされている。
【００４４】
本実施形態において、レシピ格納部１４には、正常なＴＦＴパターン画像を登録することができ、金属膜、ＩＴＯ膜などの領域に対してラベル設定（欠陥の領域を指定すること）をすることができる。
【００４５】
こうすることで、修正対象となるＴＦＴガラス基板パネルの欠陥位置およびパターンを画像処理部１２が認識し、修正する材料に対して効率の高いレーザ光の波長を選択する。
例えば、修正対象位置が金属膜をカットする場所であれば、レーザ発振器３１から出射されるレーザ光としてＩＲレーザを選択し、かつ、ＤＭＤユニット３７ａをＩＲ波長領域対応のものに切り替える。さらに、対物レンズ２５をＩＲ透過型対物レンズに切り替えて、所望のレーザ加工形状でレーザ光を照射する。
【００４６】
また、例えば次の修正対象がＩＴＯなどの透明電極のカットであれば、レーザ発振器３１から出射されるレーザ光としてＵＶレーザを選択し、かつ、ＤＭＤユニット３７ａをＵＶ波長領域対応のものに切り替える。さらに、対物レンズ２５をＵＶ透過型対物レンズに切り替えて、所望のレーザ加工形状でレーザ光を照射する。
【００４７】
これらレーザ光による修正方法は、画像処理部１２による自動切り替えによる多波長レーザ加工のほかにも、オペレータはマニュアル操作でレーザ波長を切り替えてレーザ加工を行うこともできる。
【００４８】
以上説明した本実施形態によれば、レーザ光の波長に対応したカバーガラス４０を有するＤＭＤユニット３７ａ（及び３７ｂ）を選択することができる。これにより、単一の装置で多波長レーザ光を切り替えて効率良くレーザ加工を行うことができる。すなわち、リペアすべき材料に対して加工しやすいレーザ波長に切り替え、任意形状のレーザ加工を行うことができる。
【００４９】
また、ＤＭＤユニットの寿命を想定した場合、予備のＤＭＤユニットを配置してこれらを迅速に切り替えることで、１個のＤＭＤユニットが破損したとしても、装置を停止することなく連続的にリペア作業を続行することができる。
［第２の実施の形態］
図５は、第２の実施の形態のスライドホルダ３６の構成を示す図である。なお、第１の実施の形態と同一又は相当する部材には同一の符号を付して説明する。
【００５０】
本実施形態では、スライドホルダ３６の構成が第１の実施の形態と相違している。
すなわち、スライドホルダ３６は円板状をなしていて、回転軸４１を中心として回転可能となっている。このスライドホルダ３６の取付基準面３６ａには、略９０°の等間隔で４個のＤＭＤユニット３７ａ〜３７ｄが配置されている。
【００５１】
この場合、例えば、ＤＭＤユニット３７ａ及びＤＭＤユニット３７ｂとして、レーザ光の波長がＵＶ波長よりも短かいＤＵＶ（Ｄｅｅｐ  Ｕｌｔｒａｖｉｏｌｅｔ  Ｒａｙｓ  深紫外線）領域の波長領域対応のものとし、また、ＤＭＤユニット３７ｃとしてＵＶ波長領域対応のものとし、さらに、ＤＭＤユニット３７ｄとしてＩＲ波長領域対応のものとすることができる。
【００５２】
次に、本実施形態の作用について説明する。
例えば、ＩＴＯ等の透明電極の微細加工が必要とされる場合、ＤＵＶ領域のレーザ光で
レーザ加工を行うことで、より品質のよいレーザ加工が可能となる。しかし、ＤＭＤユニットにＤＵＶ領域のレーザを入射させて使用した場合、エネルギー吸収が高いためＤＭＤユニット自身も破壊される可能性が高い。
【００５３】
こうして、ＤＵＶ領域のレーザ光をＤＭＤユニットに入射すると、ＤＭＤユニットへのダメージは蓄積されていき、やがてＤＭＤユニット自身が破損する。
しかし、ダメージを与えるおそれのあるＤＵＶ領域のレーザ光を用いてレーザ加工をしなければならない場合がある。それは、ＤＵＶ領域のレーザ光は材料への吸収が高いため、微弱エネルギーで連続レーザ照射することで、表面の透明電極のみを綺麗にカットでき、下層のレイヤーにはダメージを与えない加工が可能となるからである。
【００５４】
これに対し、本実施形態では、ＤＭＤユニット３７ａ及びＤＭＤユニット３７ｂをＤＵＶ領域の波長領域対応のものとしたので、若しも一方のＤＭＤユニット３７ａが破損したとしても、速やかに予備のＤＭＤユニット３７ｂに切り替えてＤＵＶ領域のレーザ光によるリペアを続行可能とした。
【００５５】
本実施形態によれば、スライドホルダ３６を回転式にしたことで、多数のＤＭＤユニット３７ａ〜３７ｄを搭載することができ、レーザ光の波長切り替えによるＤＭＤユニットの切り替えを迅速に行うことができる。
【００５６】
また、例えば１個のＤＭＤユニットが故障した場合にも、装置を停止させることなく、予備のＤＭＤユニットに切り替えてリペア作業を続行することができる。これにより、作業性の向上を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００５７】
【図１】第１の実施の形態のレーザリペア装置の全体構成を示す図である。
【図２】ＤＭＤユニットの拡大断面を示す図である。
【図３】レーザ光の波長とガラスの透過率との関係を示す図である。
【図４】直動式のスライドホルダの構成を示す図である。
【図５】第２の実施の形態のスライドホルダの構成を示す図である。
【符号の説明】
【００５８】
１        レーザリペア装置
２        ワーク
１０      制御コンピュータ
１１      主制御部
１２      画像処理部
１３      ステージ制御部
１４      レシピ制御部
１５      対物レンズ切替制御部
１６      スライダ制御部
１７      ２次元空間変調器制御部
１８      レーザ制御部
２０      顕微鏡光学系
２１      XYステージ
２２      照明光源
２３ａ    レンズ
２３ｂ    レンズ
２３ｃ    レンズ
２４ａ    ビームスプリッタ
２４ｂ    ビームスプリッタ
２５      対物レンズ
２６      対物レンズ切替ユニット
２７      撮像部
３０      レーザ光学系
３１      レーザ発振器
３２      ファイバカップリングユニット
３３      光ファイバ
３４      投影ユニット
３５ａ    レーザ反射ミラー
３５ｂ    レーザ反射ミラー
３６      スライドホルダ
３６ａ    取付基準面
３７ａ    DMDユニット
３７ｂ    DMDユニット
３７ｃ    DMDユニット
３７ｄ    DMDユニット
３８      駆動用メモリセル
３９      微小ミラー
４０      カバーガラス
４１      回転軸
【図１】
2010115670.tif 000003
【図２】
2010115670.tif 000004
【図３】
2010115670.tif 000005
【図４】
2010115670.tif 000006
【図５】
2010115670.tif 000007