(57)【要約】      （修正有）【課題】ステージの駆動条件やショット情報などに応じてステージの駆動を制御し、スループットの低下を抑えることができる露光装置を提供する。【解決手段】レチクルと基板とを走査方向に同期移動させ、前記走査方向を折り返しながら転写する走査型の露光装置であって、前記ステージの駆動条件と、前記複数のショット領域の配置に関するショット情報の取得部と、前記情報に基づいて、１つのショット領域から次のショット領域の露光を開始するまでに要する非走査方向への前記ステージの駆動時間からなる第１の時間、及び、前記走査方向への前記ステージの駆動時間とからなる第２の時間の算出部と、前記第１の時間が前記第２の時間よりも長い場合に、前記第２の時間が前記第１の時間よりも長くなるように前記走査方向の折り返し時における前記ステージの加速度が非線形に変化する時間、又は、加速を終えてから露光を開始するまでの整定時間の調整部と、を有する。【選択図】図１
2010087470.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レチクルと基板とを走査方向に同期移動させ、前記走査方向を折り返しながら前記レチクルのパターンを前記基板の上の複数のショット領域のそれぞれに順次転写する走査型の露光装置であって、
前記基板を保持するステージの駆動条件と、前記複数のショット領域の配置に関するショット情報とを取得する取得部と、
前記取得部によって取得された駆動条件及びショット情報に基づいて、前記複数のショット領域のうち１つのショット領域の露光の終了から次のショット領域の露光を開始するまでに要する前記走査方向に直交する非走査方向への前記ステージの駆動時間からなる第１の時間、及び、前記走査方向への前記ステージの駆動時間とからなる第２の時間のそれぞれを算出する算出部と、
前記算出部によって算出された前記第１の時間が前記第２の時間よりも長い場合に、前記走査方向への前記ステージの駆動について、前記第２の時間が前記第１の時間よりも長くなるように前記走査方向の折り返し時における前記ステージの加速度が非線形に変化する時間、又は、前記ステージの加速を終えてから露光を開始するまでの整定時間を調整する調整部と、
を有することを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記駆動条件は、前記ステージの速度、加速度及びジャークの少なくとも１つを含むことを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記ショット情報は、前記複数のショット領域のうち隣接するショット領域間の距離、及び、前記複数のショット領域のそれぞれの長手方向の長さを含むことを特徴とする請求項１又は２に記載の露光装置。
【請求項４】
前記算出部によって算出された前記第１の時間が前記第２の時間よりも短い場合には、前記調整部は、前記走査方向の折り返し時における前記ステージの加速度が非線形に変化する時間、及び、前記ステージの加速を終えてから露光を開始するまでの整定時間を調整しないことを特徴とする請求項１乃至３に記載の露光装置。
【請求項５】
請求項１乃至４のうちいずれか１項に記載の露光装置を用いて基板を露光するステップと、
露光された前記基板を現像するステップと、
を有することを特徴とするデバイスの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光装置及びデバイスの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
フォトリソグラフィー（焼き付け）技術を用いて半導体メモリや論理回路などの微細な半導体デバイスを製造する際に、投影露光装置が従来から使用されている。投影露光装置は、レチクル（マスク）に形成されたパターン（回路パターン）を投影光学系によってレジスト等の感光剤が塗布された基板（ウエハ等）に投影してパターンを転写する。
【０００３】
近年では、ステップ・アンド・リピート方式の露光装置（「ステッパー」と呼ばれる）に代わり、ステップ・アンド・スキャン方式の露光装置（「スキャナー」と呼ばれる）が主流となっている。ステップ・アンド・スキャン方式とは、レチクルとウエハを走査（スキャン）しながらレチクルのパターンをウエハ上の１つのショット領域に転写すると共に、ショット領域の露光終了後にウエハをステップ移動させて次のショット領域に移動する露光方式である。
【０００４】
一般的に、レジストには、レチクルのパターンを高精度に転写（形成）するための露光量（以下、「設定露光量」とする）Ｄ（Ｊ／ｍ２）が定められている。従って、スキャナーにおけるウエハ（を保持するステージ）の走査速度Ｖ（ｍｍ／ｓｅｃ）は、以下に示す式１を満たす必要がある。
【０００５】
Ｖ≦Ｉｍａｘ／Ｄ×Ｗｓ  ・・・（式１）
式１において、Ｉｍａｘ（Ｗ／ｍ２）は、ウエハ上での露光光の最大照度であり、Ｗｓ（ｍｍ）は、ウエハ上での非走査方向の露光スリット幅である。
【０００６】
式１を参照するに、設定露光量Ｄから決定される最大走査速度Ｖｄは、以下の式２で表される。
【０００７】
Ｖｄ＝Ｉｍａｘ／Ｄ×Ｗｓ  ・・・（式２）
更に、スキャナーにおいては、構造的及び機構的な性能を含めたステージ制御系に基づいて最大走査速度Ｖｍａｘが実質的に決定されるため、走査速度Ｖは、以下の式３を満たす必要がある。
【０００８】
Ｖ≦Ｖｍａｘ  ・・・（式３）
スキャナーでは、レチクルとウエハが所定の位置関係を維持するように同期制御すると共に、レチクルとウエハを走査させてレチクルのパターンをウエハに転写（形成）する。但し、レチクルとウエハが所定の位置関係からずれて偏差（以下、「同期誤差」とする）が発生すると、パターンの解像力の低下やパターンの結像位置のずれを招き、半導体デバイスの製造に支障をきたしてしまう。かかる同期誤差は走査速度にほぼ比例し、走査速度が速くなればなるほど同期誤差が大きくなる。従って、同期誤差を許容範囲に収めるために、最大走査速度Ｖｍａｘが決定されている。
【０００９】
また、ＫｒＦエキシマレーザーやＡｒＦエキシマレーザーなどのパルス光を露光光として用いる場合には、一定のパルス数（以下、「最小パルス数」とする）Ｐｍｉｎ以上の複数のパルス光でウエハを露光することが必要となる。これにより、パルス光における１パルスごとのエネルギーばらつきの影響を抑えて、積算露光量を均一化させることができる。従って、最小パルス数Ｐｍｉｎは、以下に示す式４を満たす必要がある。
【００１０】
Ｐｍｉｎ≦Ｗｓ／Ｖ×ｆ  ・・・（式４）
式４において、ｆ（Ｈｚ）は、露光光（パルス光）の発振周波数である。
【００１１】
式４を参照するに、露光光の最大発振周波数をｆｍａｘとすると、最小パルス数Ｐｍｉｎから決定される最大走査速度Ｖｐは、以下の式５で表される。
【００１２】
Ｖｐ＝Ｗｓ／Ｐｍｉｎ×ｆｍａｘ  ・・・（式５）
そこで、式１、３及び４を満たすように、設定露光量Ｄが大きいレジストの場合には露光光の発振周波数が最大発振周波数ｆｍａｘとなるように、設定露光量Ｄが小さいレジストの場合には最大走査速度Ｖｍａｘとなるように、走査速度が決定されている。
【００１３】
例えば、設定露光量Ｄから決定される最大走査速度Ｖｄ（式２）、ステージ制御系から決定される最大走査速度Ｖｍａｘ及び設定露光量Ｄにかかわらず積算露光量をＰｍｉｎとできる場合を考える。この場合、最小パルス数Ｐｍｉｎから決定される最大走査速度Ｖｐ（式５）のうち、最小値を実際の露光時の走査速度として決定している。
【００１４】
一方、スキャナーでは、スループットを向上させるため、通常、レチクルを交互スキャン（往復スキャン）させて、レチクルのパターンをウエハ上の複数のショット領域に順次転写する。従って、１つのショット領域の露光終了後、次のショット領域の露光を開始する前のプリスキャン時の移動距離と同じ距離だけ更にレチクルを移動させて、レチクルを次のショット領域を露光するための走査開始位置まで戻す動作（オーバースキャン）が必要となる。また、ウエハを次のショット領域（１つのショット領域の非走査方向に隣接する別のショット領域）にステップ移動させる動作に加えて、ウエハを走査方向に移動させる動作も必要となる。なお、プリスキャン時の移動距離とは、目標速度（露光時の走査速度）までの加速時間、及び、加速終了後に速度が目標速度になる（許容範囲に収まる）まで（即ち、ステージの振動が収まるまで）の整定時間における移動距離である。
【００１５】
具体的には、ウエハのショット領域間の移動動作は、以下の（１）乃至（３）の手順で行われる。
【００１６】
（１）１つのショット領域の露光終了後に、ウエハ（を保持するステージ）を次のショット領域の走査開始位置と同一の走査方向の座標位置に移動させる。
【００１７】
（２）ウエハ（を保持するステージ）を次のショット領域の走査開始位置まで非走査方向にステップ移動させる。
【００１８】
（３）次のショット領域を露光するために、ウエハ（を保持するステージ）の走査を開始する。
【００１９】
このように、ウエハは、略コの字の経路に沿って移動する。この間、即ち、１つのショット領域の露光終了後から次のショット領域の露光を開始するまで（ステージの走査方向に関する減速が開始されるまで）の間に、次のショット領域を露光するために必要な制御パラメータなどの設定情報がステージ制御系に送信される。これにより、１つのショット領域の露光終了後から次のショット領域を露光するための整定時間までの間に、ステージを停止させないようなステージ制御（ステージ駆動）が可能となり、スループットを向上させることができる。但し、ステージを停止させないようなステージ制御を実現するためには、ウエハ（を保持するステージ）の走査方向の移動が終了するまでにウエハの非走査方向の移動を終了させる必要がある。このような技術に関しては、特許文献１に開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００２０】
【特許文献１】特開２００４−０７２０７６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００２１】
しかしながら、ウエハ（を保持するステージ）の非走査方向の移動距離（ステップ距離）や走査速度の条件などによって、ウエハの走査方向の移動が終了するまでにウエハの非走査方向の移動を終了させることができない場合がある。このような場合、ステージを停止させないようなステージ制御を実現することが不可能となるため、スループットが思うように向上せず、更には、スループットが低下する要因にもなる。
【００２２】
本発明は、このような従来技術の課題に鑑みてなされ、ステージの駆動条件やショット領域の配置に関するショット情報などに応じてステージの駆動を制御し、スループットの低下を抑えることができる露光装置を提供することを例示的目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００２３】
上記目的を達成するために、本発明の一側面としての露光装置は、レチクルと基板とを走査方向に同期移動させ、前記走査方向を折り返しながら前記レチクルのパターンを前記基板の上の複数のショット領域のそれぞれに順次転写する走査型の露光装置であって、前記基板を保持するステージの駆動条件と、前記複数のショット領域の配置に関するショット情報とを取得する取得部と、前記取得部によって取得された駆動条件及びショット情報に基づいて、前記複数のショット領域のうち１つのショット領域の露光の終了から次のショット領域の露光を開始するまでに要する前記走査方向に直交する非走査方向への前記ステージの駆動時間からなる第１の時間、及び、前記走査方向への前記ステージの駆動時間とからなる第２の時間のそれぞれを算出する算出部と、前記算出部によって算出された前記第１の時間が前記第２の時間よりも長い場合に、前記走査方向への前記ステージの駆動について、前記第２の時間が前記第１の時間よりも長くなるように前記走査方向の折り返し時における前記ステージの加速度が非線形に変化する時間、又は、前記ステージの加速を終えてから露光を開始するまでの整定時間を調整する調整部と、を有することを特徴とする。
【００２４】
本発明の更なる目的又はその他の側面は、以下、添付図面を参照して説明される好ましい実施形態によって明らかにされるであろう。
【発明の効果】
【００２５】
本発明によれば、例えば、ステージの駆動条件やショット領域の配置に関するショット情報などに応じてステージの駆動を制御し、スループットの低下を抑えることが可能な露光装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】本発明の一側面としての露光装置の構成を示す概略図である。
【図２】第１の実施形態において、Ｘ方向に隣接する２つのショット領域間をステップ移動する際のウエハステージの速度制御マップの一例を示す図である。
【図３】第１の実施形態において、非走査方向へのウエハステージの移動距離（ショット領域間の距離）を長くした場合におけるウエハステージの速度制御マップの一例を示す図である。
【図４】第１の実施形態において、走査方向の折り返し時におけるウエハステージの加速度が変化する時間を調整した場合におけるウエハステージの速度制御マップの一例を示す図である。
【図５】第１の実施形態において、ウエハステージの駆動後に要する整定時間を調整した場合におけるウエハステージの速度制御マップの一例を示す図である。
【図６】第１の実施形態において、複数のショット領域のうち１つのショット領域から次のショット領域にウエハステージを駆動する際のモード（駆動モード）を決定（選択）する処理を説明するためのフローチャートである。
【図７】第２の実施形態において、Ｘ方向に隣接する２つのショット領域間をステップ移動する際のウエハステージの速度制御マップの一例を示す図である。
【図８】第２の実施形態において、非走査方向へのウエハステージの移動距離（ショット領域間の距離）を長くした場合におけるウエハステージの速度制御マップの一例を示す図である。
【図９】第２の実施形態において、走査方向の折り返し時におけるウエハステージの加速度が非線形に変化する時間を調整した場合におけるウエハステージの速度制御マップの一例を示す図である。
【図１０】第２の実施形態において、ウエハステージの加速を終えてから露光を開始するまでの整定時間を調整した場合におけるウエハステージの速度制御マップの一例を示す図である。
【図１１】第２の実施形態において、複数のショット領域のうち１つのショット領域から次のショット領域にウエハステージを駆動する際のモード（駆動モード）を決定（選択）する処理を説明するためのフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００２７】
以下、添付図面を参照して、本発明の好適な実施の形態について説明する。なお、各図において、同一の部材については同一の参照番号を付し、重複する説明は省略する。
【００２８】
図１は、本発明の一側面としての露光装置１の構成を示す概略図である。露光装置１は、レチクル１１０とウエハ１３０とを走査方向に同期移動させ、かかる走査方向を折り返しながらレチクル１１０のパターンをウエハ上の複数のショットに順次転写する、所謂、ステップ・アンド・スキャン方式（走査型）の投影露光装置である。
【００２９】
露光装置１は、パルス光を射出するエキシマレーザーなどの光源１０１と、ビーム整形光学系１０２と、オプティカルインテグレータ１０３と、コンデンサーレンズ１０４と、ハーフミラー１０５と、可動スリット１０６とを有する。また、露光装置１は、結像レンズ１０７と、ミラー１０８と、レチクル１１０を保持するレチクルステージ１１５と、投影光学系１２０と、ウエハ１３０を保持するウエハステージ１３５とを有する。更に、露光装置１は、第１の検出部１４１と、第２の検出部１４２と、露光量算出部１４３と、レチクルステージ制御部１５１と、ウエハステージ制御部１５２と、光源制御部１５３と、主制御部１５４と、記憶部１５５とを有する。なお、光源１０１からレチクル１１０までの光学系（ビーム整形光学系１０２乃至ミラー１０８）は、一般には、照明光学系と呼ばれ、光源１０１と共に照明装置を構成する。
【００３０】
光源１０１から射出された光束は、ビーム整形光学系１０２によって所定の形状に整形され、オプティカルインテグレータ１０３に入射する。なお、光源１０１は、光源制御部１５３によって制御されている。具体的には、光源制御部１５３は、所望の設定露光量に応じて、トリガ信号や充電電圧信号などを出力して、光源１０１の出力エネルギー及び発振周波数などを制御する。また、光源制御部１５３は、図示しない減光機構を介して、光源１０１からの光束の光量を制御（調整）する。
【００３１】
オプティカルインテグレータ１０３は、例えば、複数の微小なレンズを含むハエの目レンズで構成され、射出面近傍に２次光源を形成する。
【００３２】
オプティカルインテグレータ１０３の射出面近傍に形成された２次光源からの光束は、コンデンサーレンズ１０４を介して、可動スリット１０６を照明する。オプティカルインテグレータ１０３と可動スリット１０６との間には、ハーフミラー１０５が配置されている。
【００３３】
可動スリット１０６を通過した光束は、結像レンズ１０７及びミラー１０８を介して、レチクルステージ１１５に保持されたレチクル１１０（詳細には、レチクル１１０に形成されたパターンの一部）を照明する。
【００３４】
レチクル１１０を通過した光束は、投影光学系１２０を介して、レジスト（感光剤）が塗布されたウエハ１３０に縮小投影される。レチクル１１０のパターンが転写（投影）される基板としてのウエハ１３０は、Ｘ方向、Ｙ方向、Ｚ方向及びチルト方向に駆動可能なウエハステージ１３５に保持されている。
【００３５】
第１の検出部１４１は、ハーフミラー１０５によって分割された光束（照明光束）の一部の光量を検出して、露光量算出部１４３に出力する。また、第２の検出部１４２は、ウエハステージ１３５に配置され、投影光学系１２０を通過した光束の光量を検出して、露光量算出部１４３に出力する。露光量算出部１４３は、第１の検出部１４１及び／又は第２の検出部１４２から出力される光量に基づいて、露光量を算出する。
【００３６】
露光量の制御においては、まず、露光処理の前に、第１の検出部１４１で検出された光量から算出される露光量と第２の検出部１４２で検出された光量から算出される露光量との相関関係を求める。露光処理中には、第２の検出部１４２で光量を検出することができないため、第１の検出部１４１で検出される光量と上述した相関関係とに基づいて、ウエハ１３０における露光量を制御する。
【００３７】
レチクルステージ１１５の位置及びウエハステージ１３５の位置のそれぞれは、干渉計１４５及び１４６によって検出され、レチクルステージ制御部１５１及びウエハステージ制御部１５２に出力される。レチクルステージ制御部１５１及びウエハステージ制御部１５２は、主制御部１５４に制御され、レチクルステージ１１５の位置及びウエハステージ１３５の位置に基づいて、レチクルステージ１１５及びウエハステージ１３５の駆動を制御する。具体的には、レチクルステージ制御部１５１及びウエハステージ制御部１５２は、投影光学系１２０の倍率と同じ比率の一定速度で互いに逆方向に走査されるように、レチクルステージ１１５及びウエハステージ１３５の駆動を制御する。このようにして、レチクル１１０のパターンがウエハ上の１つのショット領域に転写される。なお、ウエハ上の複数のショット領域間の移動（即ち、隣接するショット領域間の移動）は、ウエハステージ１３５の駆動によって行われる。
【００３８】
ウエハ上の複数のショット領域の全てに対する露光処理（即ち、レチクル１１０のパターンの転写）が終了すると、ウエハ１３０は、図示しないウエハ回収搬送系を介して、ウエハステージ１３５から装置外に搬送される。また、図示しないウエハ供給搬送系を介して、新しいウエハ１３０が装置（ウエハステージ１３５）に供給され、かかるウエハ１３０のアライメント（位置合わせ）が図示しないアライメント系によって行われる。
【００３９】
ウエハ１３０のアライメントにおいては、選択された複数のショット領域の周辺に配置されたアライメントマークの位置を検出し、ウエハ１３０の回転、伸縮、及びシフトのオフセットなどを求め、全てのショット領域を位置決めする。また、ウエハ１３０の精密なアライメントを行う前に、アライメントマークの位置を検出するための粗いアライメントを行うこともある。このようにして、各ショット領域の位置決めが行われた後、上述した露光処理が繰り返し行われる。
【００４０】
主制御部１５４は、ＣＰＵやメモリなどを含み、露光装置１の全体（動作）を制御する。主制御部１５４は、本実施形態では、スループットが最適になるように、複数のショット領域のうち１つのショット領域から次のショット領域にステップ移動する際の動作（処理）を制御する。
【００４１】
記憶部１５５には、図示しない入力部を介して、レチクルステージ１１５やウエハステージ１３５の駆動条件や複数のショット領域の配置に関するショット情報が予め格納されている。ここで、駆動条件は、レチクルステージ１１５やウエハステージ１３５の速度、加速度及びジャークの少なくとも１つを含む。なお、ジャークとは、加速度の時間微分である。また、ショット情報は、ウエハ上の複数のショット領域のうち隣接するショット領域間の距離や複数のショット領域のそれぞれの長手方向の長さ（スキャン長）を含む。
【００４２】
以下、第１の実施形態及び第２の実施形態において、複数のショット領域のうち１つのショット領域から次のショット領域にステップ移動する際の動作（処理）を、主制御部１５４の機能と共に説明する。
＜第１の実施形態＞
第１の実施形態では、主制御部１５４は、記憶部１５５からレチクルステージ１１５やウエハステージ１３５の駆動条件や複数のショット領域の配置に関するショット情報とを取得する（取得部として機能する）。
【００４３】
次に、主制御部１５４は、取得した駆動条件及びショット情報に基づいて、１つのショット領域の露光の終了から次のショットの露光を開始するまでに要する走査方向に直交する非走査方向へのウエハステージ１３５の駆動時間からなる第１の時間を算出する。また、主制御部１５４は、１つのショット領域の露光の終了から次のショットの露光を開始するまでに要する走査方向へのウエハステージ１３５の駆動時間からなる第２の時間を算出する（算出部として機能する）。なお、第１の実施形態では、第２の時間は、ウエハステージ１３５の振動が許容範囲に収まるまでに要する整定時間を含む。
【００４４】
次に、主制御部１５４は、算出した第１の時間が第２の時間よりも長い場合に、ウエハステージ１３５を駆動するモードとして、第１のモード、又は、かかる第１のモードとは異なる第２のモードを選択する（選択部として機能する）。第１のモードとは、走査方向へのウエハステージ１３５の駆動について、第２の時間が第１の時間よりも長くなるように走査方向の折り返し時におけるウエハステージ１３５の加速度が変化する時間を調整してウエハステージ１３５を駆動するモードである。一方、第２のモードとは、走査方向へのウエハステージ１３５の駆動について、第２の時間が第１の時間よりも長くなるようにウエハステージ１３５の駆動後に要する整定時間を調整してウエハステージ１３５を駆動するモードである。なお、主制御部１５４は、算出した第１の時間が第２の時間よりも短い場合には、第１のモード及び第２のモードとは異なる第３のモードを選択する。第３のモードとは、走査方向の折り返し時におけるウエハステージ１３５の加速度が変化する時間とウエハステージ１３５の駆動後に要する整定時間とを調整せずにウエハステージ１３５を駆動するモードである。
【００４５】
そして、主制御部１５４は、第１のモードでウエハステージ１３５を駆動したときの所要時間が第２のモードでウエハステージ１３５を駆動したときの所要時間よりも長いかどうかを判定する（判定部として機能する）。第１のモードでウエハステージ１３５を駆動したときの所要時間が第２のモードでウエハステージ１３５を駆動したときの所要時間よりも長いと判定した場合、主制御部１５４は、第２のモードを選択する。一方、第１のモードでウエハステージ１３５を駆動したときの所要時間が第２のモードでウエハステージ１３５を駆動したときの所要時間よりも長くない判定した場合、主制御部１５４は、第１のモードを選択する。
【００４６】
第１の実施形態における主制御部１５４による１つのショット領域から次のショット領域にステップ移動する際の動作（処理）の制御を詳細に説明する。
【００４７】
図２は、Ｘ方向に隣接する２つのショット領域（ショット領域α及びβ）間をステップ移動する際のウエハステージ１３５の速度制御マップの一例を示す図である。なお、図２（ａ）は走査方向（Ｙ方向）へのウエハステージ１３５の速度（走査速度）Ｖｙを示し、図２（ｂ）は非走査方向（Ｘ方向）へのウエハステージ１３５の速度（走査速度）Ｖｘを示している。また、図２（ａ）及び図２（ｂ）において、横軸は時間を示している。
【００４８】
図２（ａ）を参照するに、走査方向へのウエハステージ１３５の駆動は、以下の（ａ）乃至（ｄ）の４つの時間に区分することができる。
（ａ）ショット領域αの露光終了後、ウエハステージ１３５の速度を維持したまま、ショット領域βの露光開始前のウエハステージ１３５の加速終了後の整定時間と等しい後整定時間Ｔ０’
（ｂ）走査方向に対してウエハステージ１３５を減速させる減速時間Ｔ１’
（ｃ）ウエハステージ１３５を停止させないで目標速度（目標走査速度）に達するまでウエハステージ１３５を加速させる加速時間Ｔ１
（ｄ）ウエハステージ１３５の加速終了後の整定時間Ｔ０
また、図２（ｂ）を参照するに、非走査方向へのウエハステージ１３５の駆動は、以下の（ｅ）及び（ｆ）の２つの時間に区分することができる。
（ｅ）ショット領域αの露光終了後、次のショット領域βへ移動するために、非走査方向に対してウエハステージ１３５を加速させる加速時間Ｔ２’
（ｆ）非走査方向に対してウエハステージ１３５を減速させる減速時間Ｔ２
ショット領域αの露光終了後、次のショット領域βへ移動するための走査方向へのウエハステージ１３５の駆動が終了する（整定時間Ｔ０の前）までに、非走査方向へのウエハステージ１３５の駆動が終了していればよい。換言すれば、上述した（ａ）乃至（ｆ）に相当する処理時間が（ａ）＋（ｂ）＋（ｃ）＞（ｅ）＋（ｆ）の関係を満たせばよい。
【００４９】
非走査方向へのウエハステージ１３５の移動距離（即ち、ショット領域間の距離）をＬｘ、非走査方向へのウエハステージ１３５の速度をＶｘ、非走査方向へのウエハステージ１３５の加速／減速時間をＴ２（Ｔ２’）とする。また、走査方向へのウエハステージ１３５の加速度をａ、走査方向へのウエハステージ１３５の移動距離（即ち、スキャン長）をＬｙ、走査方向へのウエハステージ１３５の加速／減速時間をＴ１（Ｔ１’）、走査方向へのウエハステージ１３５の速度をＶｙとする。この場合、以下の式が規定される。
Ｌｘ＝ＶｘＴ２
Ｖｘ＝ａＴ２
Ｌｙ＝ＶｙＴ１
Ｖｙ＝ａＴ１
なお、説明を簡略化するために、ウエハステージ１３５の駆動を制御するためのデータの通信時間や演算時間などは省略し、各速度及び加速度は、ウエハステージ１３５の走査方向、加速時、減速時などを区別することなく表している。また、ウエハステージ１３５の加速時及び減速時には、実際には、加速度が変化する時間（ジャーク時間）が発生するが、ここでは無視している。
【００５０】
ここで、例えば、非走査方向へのウエハステージ１３５の移動距離Ｌｘを２０ｍｍ、ウエハステージ１３５の加速度ａを１Ｇ、整定時間Ｔ０（後整定時間Ｔ０’）を１０ｍｓ、走査方向へのウエハステージ１３５の速度Ｖｙを４５０ｍｍ／ｓとする。
【００５１】
この場合、Ｔ１＝Ｖｙ／ａ＝４５０／（１×９．８）＝４５．９ｍｓ、Ｔ２＝√Ｌｘ／ａ＝√（０．０２／（１×９．８））＝４５．２ｍｓとなる。また、（ａ）＋（ｂ）＋（ｃ）＝１０ｍｓ＋４５．９ｍｓ＋４５．９ｍｓ＝１０１．８ｍｓ、（ｅ）＋（ｆ）＝４５．２ｍｓ＋４５．２ｍｓ＝９０．４ｍｓとなる。従って、（ａ）＋（ｂ）＋（ｃ）＞（ｅ）＋（ｆ）の関係を満たし、次のショット領域へ移動するための走査方向へのウエハステージ１３５の駆動が終了する（整定時間の前）までに、非走査方向へのウエハステージ１３５の駆動を終了することができる。
【００５２】
図３は、非走査方向へのウエハステージ１３５の移動距離（ショット領域間の距離）を長くした場合におけるウエハステージ１３５の速度制御マップの一例を示す図である。なお、図３（ａ）は走査方向（Ｙ方向）へのウエハステージ１３５の速度（走査速度）Ｖｙを示し、図３（ｂ）は非走査方向（Ｘ方向）へのウエハステージ１３５の速度（走査速度）Ｖｘを示している。また、図３（ａ）及び図３（ｂ）において、横軸は時間を示している。
【００５３】
例えば、非走査方向へのウエハステージ１３５の移動距離Ｌｘを２６ｍｍ、ウエハステージ１３５の加速度ａを１Ｇ、整定時間Ｔ０（後整定時間Ｔ０’）を１０ｍｓ、走査方向へのウエハステージ１３５の速度Ｖｙを４５０ｍｍ／ｓとする。
【００５４】
この場合、Ｔ１＝Ｖｙ／ａ＝４５０／（１×９．８）＝４５．９ｍｓ、Ｔ２＝√Ｌｘ／ａ＝√（０．０２６／（１×９．８））＝５１．５ｍｓとなる。また、（ａ）＋（ｂ）＋（ｃ）＝１０ｍｓ＋４５．９ｍｓ＋４５．９ｍｓ＝１０１．８ｍｓ、（ｅ）＋（ｆ）＝５１．３ｍｓ＋５１．３ｍｓ＝１０２．６ｍｓとなる。従って、（ａ）＋（ｂ）＋（ｃ）＞（ｅ）＋（ｆ）の関係を満たしていない。そのため、次のショット領域へ移動するための走査方向へのウエハステージ１３５の駆動が終了する（整定時間の前）までに、非走査方向へのウエハステージ１３５の駆動を終了することができない。
【００５５】
このように、非走査方向へのウエハステージ１３５の移動距離が長くなると（即ち、ウエハステージ１３５の駆動条件やショット情報が変わると）、ウエハステージ１３５の駆動を停止させないような制御ができなくなる。
【００５６】
そこで、第１の本実施形態では、以下の図４及び図５に示すように、走査方向の折り返し時におけるウエハステージ１３５の加速度が変化する時間やウエハステージ１３５の駆動後に要する整定時間を調整する。これにより、次のショット領域へ移動するための走査方向へのウエハステージ１３５の駆動が終了する（整定時間の前）までに、非走査方向へのウエハステージ１３５の駆動を終了することが可能となる。
【００５７】
図４は、走査方向の折り返し時におけるウエハステージ１３５の加速度が変化する時間を調整した場合におけるウエハステージ１３５の速度制御マップの一例を示す図である。なお、図４（ａ）は走査方向（Ｙ方向）へのウエハステージ１３５の速度（走査速度）Ｖｙを示し、図４（ｂ）は非走査方向（Ｘ方向）へのウエハステージ１３５の速度（走査速度）Ｖｘを示している。また、図４（ａ）及び図４（ｂ）において、横軸は時間を示している。
【００５８】
例えば、非走査方向へのウエハステージ１３５の移動距離Ｌｘを２６ｍｍ、ウエハステージ１３５の加速度ａを１Ｇ、整定時間Ｔ０（後整定時間Ｔ０’）を１０ｍｓ、走査方向へのウエハステージ１３５の速度Ｖｙを４５０ｍｍ／ｓとする。また、ウエハステージ１３５の加速度が変化する時間Ｊ１及びＪ１’を１０ｍｓとする。
【００５９】
この場合、Ｔ１＝Ｖｙ／ａ−３／８Ｊ１＝４５０／（１×９．８）−３／８×１０＝４２．２ｍｓ、Ｔ２＝√Ｌｘ／ａ＝√（０．０２６／（１×９．８））＝５１．５ｍｓとなる。また、（ａ）＋（ｂ）＋（ｃ）＝１０ｍｓ＋４２．２ｍｓ＋１０ｍｓ＋１０ｍｓ＋４２．２ｍｓ＝１１４．４ｍｓ、（ｅ）＋（ｆ）＝５１．３ｍｓ＋５１．３ｍｓ＝１０２．６ｍｓとなる。従って、（ａ）＋（ｂ）＋（ｃ）＞（ｅ）＋（ｆ）の関係を満たし、次のショット領域へ移動するための走査方向へのウエハステージ１３５の駆動が終了する（整定時間の前）までに、非走査方向へのウエハステージ１３５の駆動を終了することができる。
【００６０】
図５は、ウエハステージ１３５の駆動後に要する整定時間を調整した場合におけるウエハステージ１３５の速度制御マップの一例を示す図である。なお、図５（ａ）は走査方向（Ｙ方向）へのウエハステージ１３５の速度（走査速度）Ｖｙを示し、図５（ｂ）は非走査方向（Ｘ方向）へのウエハステージ１３５の速度（走査速度）Ｖｘを示している。また、図５（ａ）及び図５（ｂ）において、横軸は時間を示している。
【００６１】
上述したように、非走査方向へのウエハステージ１３５の移動距離Ｌｘを２６ｍｍとし、整定時間Ｔ０（後整定時間Ｔ０’）を１０ｍｓとしたままでは、（ａ）＋（ｂ）＋（ｃ）＞（ｅ）＋（ｆ）の関係を満たさない。但し、（ａ）＋（ｂ）＋（ｃ）＝１０１．８ｍｓを１．３ｍｓ長くして１０３．１ｍｓにすると、（ａ）＋（ｂ）＋（ｃ）＞（ｅ）＋（ｆ）の関係を満たすことになる。
【００６２】
そこで、整定時間Ｔ０（後整定時間Ｔ０’）を１．３ｍｓ長くして１１．３ｍｓに調整する。これにより、図５に示すように、次のショット領域へ移動するための走査方向へのウエハステージ１３５の駆動が終了する（整定時間の前）までに、非走査方向へのウエハステージ１３５の駆動を終了することが可能となる。
【００６３】
図４に示す駆動パターン（第１のモードに相当）でウエハステージ１３５を駆動したときの所要時間（（ａ）＋（ｂ）＋（ｃ）＋（ｄ））と図５に示す駆動パターン（第２のモードに相当）でウエハステージ１３５を駆動したときの所要時間とを比較する。図４に示す駆動パターン（第１のモードに相当）でウエハステージ１３５を駆動したときの所要時間（（ａ）＋（ｂ）＋（ｃ）＋（ｄ））は、１０ｍｓ＋４２．２ｍｓ＋１０ｍｓ＋１０ｍｓ＋４２．２ｍｓ＋１０ｍｓ＝１２４．４ｍｓとなる。一方、図５に示す駆動パターン（第１のモードに相当）でウエハステージ１３５を駆動したときの所要時間（（ａ）＋（ｂ）＋（ｃ）＋（ｄ））は、１１．３ｍｓ＋４５．９ｍｓ＋４５．９ｍｓ＋１１．３ｍｓ＝１１４．４ｍｓとなる。
【００６４】
従って、整定時間Ｔ０（後整定時間Ｔ０’）を調整することで、１つのショット領域あたり１０ｍｓの所要時間を短縮することができ、スループットを向上させることができる。例えば、ウエハ上のショット領域を１１０（改行ショット領域を１０）とし、１時間あたり１００枚（１００ｗｐｈ）のウエハを処理する場合には、１つのウエハあたり１００×１０ｍｓ＝１０００ｍｓの処理時間を短縮することができる。スループットに換算すれば、１００×０．０１×１００／（３６００／１００）＝２．８ｗｐｈとなり、図４に示す駆動パターン（第１のモードに相当）でウエハステージ１３５を駆動したときに比べて、１時間あたり２．８枚も多く処理することができる。
【００６５】
図６を参照して、複数のショット領域のうち１つのショット領域から次のショット領域にウエハステージ１３５を駆動する際のモード（駆動モード）を決定（選択）する処理を説明する。かかる処理は、上述したように、主制御部１５４が露光装置１の各部を統括的に制御することによって実行される。
【００６６】
ステップＳ６０２において、主制御部１５４は、記憶部１５５からウエハステージ１３５の駆動条件及びショット情報とを取得する。
【００６７】
ステップＳ６０４において、主制御部１５４は、ステップＳ６０２で取得した駆動条件及びショット情報に基づいて、上述した第１の時間及び第２の時間を算出する。上述したように、第１の時間とは、１つのショット領域の露光の終了から次のショットの露光を開始するまでに要する走査方向に直交する非走査方向へのウエハステージ１３５の駆動時間からなる時間である。また、第２の時間とは、１つのショット領域の露光の終了から次のショットの露光を開始するまでに要する走査方向へのウエハステージ１３５の駆動時間からなる時間である。
【００６８】
ステップＳ６０６において、主制御部１５４は、ステップＳ６０４で算出した第１の時間が第２の時間よりも長いかどうかを判定する。
【００６９】
第１の時間が第２の時間よりも長くない（即ち、第１の時間が第２の時間よりも短い）と判定された場合には、ステップＳ６０８に進む。ステップＳ６０８おいて、主制御部１５４は、ウエハステージ１３５を駆動するモードとして、第３のモードを選択する。上述したように、第３のモードは、走査方向の折り返し時におけるウエハステージ１３５の加速度が変化する時間とウエハステージ１３５の駆動後に要する整定時間とを調整せずにウエハステージ１３５を駆動するモードである。第３のモードは、図２に示す駆動パターンに相当する。
【００７０】
一方、第１の時間が第２の時間よりも長いと判定された場合には、ステップＳ６１０に進む。ステップＳ６１０において、主制御部１５４は、第１のモードでウエハステージ１３５を駆動したときの所要時間が第２のモードでウエハステージ１３５を駆動したときの所要時間よりも長いかどうかを判定する。
【００７１】
第１のモードでウエハステージ１３５を駆動したときの所要時間が第２のモードでウエハステージ１３５を駆動したときの所要時間よりも長いと判定された場合には、ステップＳ６１２に進む。ステップＳ６１２において、主制御部１５４は、ウエハステージ１３５を駆動するモードとして、第２のモードを選択する。上述したように、第２のモードは、走査方向へのウエハステージ１３５の駆動について、第２の時間が第１の時間よりも長くなるようにウエハステージ１３５の駆動後に要する整定時間を調整してウエハステージ１３５を駆動するモードである。第２のモードは、図５に示す駆動パターンに相当する。
【００７２】
一方、第１のモードでウエハステージ１３５を駆動したときの所要時間が第２のモードでウエハステージ１３５を駆動したときの所要時間よりも長くないと判定された場合には、ステップＳ６１４に進む。ステップＳ６１４において、主制御部１５４は、ウエハステージ１３５を駆動するモードとして、第１のモードを選択する。第１のモードは、走査方向へのウエハステージ１３５の駆動について、第２の時間が第１の時間よりも長くなるように走査方向の折り返し時におけるウエハステージ１３５の加速度が変化する時間を調整してウエハステージ１３５を駆動するモードである。第１のモードは、図４に示す駆動パターンに相当する。
【００７３】
このように、第１の実施形態の露光装置１によれば、ステージの駆動条件やショット領域の配置に関するショット情報などに応じてステージの駆動を制御する（ウエハステージ１３５を駆動するモードを選択する）ことで、スループットの低下を抑えることができる。
＜第２の実施形態＞
第２の実施形態では、主制御部１５４は、第１の実施形態と同様に、記憶部１５５から取得した駆動条件及びショット情報に基づいて、第１の時間及び第２の時間を算出する。上述したように、第１の時間は、１つのショット領域の露光の終了から次のショットの露光を開始するまでに要する走査方向に直交する非走査方向へのウエハステージ１３５の駆動時間からなる時間である。但し、第１の時間は、第２の実施形態では、ウエハステージ１３５の振動が許容範囲に収まるまでに要する整定時間を含む。また、第２の時間は、１つのショット領域の露光の終了から次のショットの露光を開始するまでに要する走査方向へのウエハステージ１３５の駆動時間からなる時間である。但し、第２の時間は、第２の実施形態では、１つのショット領域の露光終了後の整定時間と、次のショット領域の露光開始前の後整定時間とを含む。
【００７４】
次に、主制御部１５４は、算出した第１の時間が第２の時間よりも長い場合に、走査方向へのウエハステージ１３５の駆動を調整する（調整部として機能する）。具体的には、主制御部１５４は、第２の時間が第１の時間よりも長くなるように走査方向の折り返し時におけるウエハステージ１３５の加速度が非線形に変化する時間を調整する。或いは、主制御部１５４は、第２の時間が第１の時間よりも長くなるようにウエハステージ１３５の加速を終えてから露光を開始するまでの整定時間を調整する。なお、走査方向の折り返し時におけるウエハステージ１３５の加速度が非線形に変化する時間を調整してウエハステージ１３５を駆動するモードを第１のモードとする。また、ウエハステージ１３５の加速を終えてから露光を開始するまでの整定時間を調整してウエハステージ１３５を駆動するモードを第２のモードとする。
【００７５】
そして、主制御部１５４は、算出した第１の時間が第２の時間よりも長い場合に、ユーザによって予め設定されたウエハステージ１３５を駆動するモードに従って、第１のモード又は第２のモードを選択する。なお、算出した第１の時間が第２の時間よりも短い場合には、第３のモードを選択する。第３のモードとは、走査方向の折り返し時におけるウエハステージ１３５の加速度が非線形に変化する時間、及び、ウエハステージ１３５の加速を終えてから露光を開始するまでの整定時間を調整せずにウエハステージ１３５を駆動するモードである。
【００７６】
第２の実施形態における主制御部１５４による１つのショット領域から次のショット領域にステップ移動する際の動作（処理）の制御を詳細に説明する。
【００７７】
図７は、Ｘ方向に隣接する２つのショット領域（ショット領域α及びβ）間をステップ移動する際のウエハステージ１３５の速度制御マップの一例を示す図である。なお、図７（ａ）は走査方向（Ｙ方向）へのウエハステージ１３５の速度（走査速度）Ｖｙを示し、図７（ｂ）は非走査方向（Ｘ方向）へのウエハステージ１３５の速度（走査速度）Ｖｘを示している。また、図７（ａ）及び図７（ｂ）において、横軸は時間を示している。
【００７８】
図７（ａ）を参照するに、走査方向へのウエハステージ１３５の駆動は、第１の実施形態と同様に、上述した（ａ）乃至（ｄ）の４つの時間に区分することができる。
【００７９】
また、図７（ｂ）を参照するに、非走査方向へのウエハステージ１３５の駆動は、以下の（ｅ）乃至（ｇ）の３つの時間に区分することができる。
（ｅ）ショット領域αの露光終了後、次のショット領域βへ移動するために、非走査方向に対してウエハステージ１３５を加速させる加速時間Ｔ２’
（ｆ）非走査方向に対してウエハステージ１３５を減速させる加速時間Ｔ２
（ｇ）ウエハステージ１３５の減速終了後の整定時間Ｔ３
ショット領域αの露光終了後、次のショット領域βへ移動するための走査方向へのウエハステージ１３５の駆動が終了する（整定時間Ｔ０の後）までに、非走査方向へのウエハステージ１３５の駆動が終了していればよい。換言すれば、上述した（ａ）乃至（ｇ）に相当する処理時間が（ａ）＋（ｂ）＋（ｃ）＋（ｄ）≧（ｅ）＋（ｆ）＋（ｇ）の関係を満たせばよい。
【００８０】
第１の実施形態と同様に、非走査方向へのウエハステージ１３５の移動距離をＬｘ、非走査方向へのウエハステージ１３５の速度をＶｘ、非走査方向へのウエハステージ１３５の加速／減速時間をＴ２（Ｔ２’）とする。また、走査方向へのウエハステージ１３５の加速度をａ、走査方向へのウエハステージ１３５の移動距離（即ち、スキャン長）をＬｙ、走査方向へのウエハステージ１３５の加速／減速時間をＴ１（Ｔ１’）、走査方向へのウエハステージ１３５の速度をＶｙとする。この場合、上述したように、以下の式が規定される。
Ｌｘ＝ＶｘＴ２
Ｖｘ＝ａＴ２
Ｌｙ＝ＶｙＴ１
Ｖｙ＝ａＴ１
ここで、例えば、非走査方向へのウエハステージ１３５の移動距離Ｌｘを２０ｍｍ、ウエハステージ１３５の加速度ａを１Ｇ、整定時間Ｔ０及び後整定時間Ｔ０’を１０ｍｓとする。また、走査方向へのウエハステージ１３５の速度Ｖｙを４５０ｍｍ／ｓ、整定時間Ｔ３を５ｍｓとする。
【００８１】
この場合、Ｔ１＝Ｖｙ／ａ＝４５０／（１×９．８）＝４５．９ｍｓ、Ｔ２＝√Ｌｘ／ａ＝√（０．０２／（１×９．８））＝４５．２ｍｓとなる。また、（ａ）＋（ｂ）＋（ｃ）＋（ｄ）＝１０ｍｓ＋４５．９ｍｓ＋４５．９ｍｓ＋１０＝１１１．８ｍｓ、（ｅ）＋（ｆ）＋（ｇ）＝４５．２ｍｓ＋４５．２ｍｓ＋５ｍｓ＝９５．４ｍｓとなる。従って、（ａ）＋（ｂ）＋（ｃ）＋（ｄ）≧（ｅ）＋（ｆ）＋（ｇ）の関係を満たし、次のショット領域へ移動するための走査方向へのウエハステージ１３５の駆動が終了するまでに、非走査方向へのウエハステージ１３５の駆動を終了することができる。
【００８２】
図８は、非走査方向へのウエハステージ１３５の移動距離（ショット領域間の距離）を長くした場合におけるウエハステージ１３５の速度制御マップの一例を示す図である。なお、図８（ａ）は走査方向（Ｙ方向）へのウエハステージ１３５の速度（走査速度）Ｖｙを示し、図８（ｂ）は非走査方向（Ｘ方向）へのウエハステージ１３５の速度（走査速度）Ｖｘを示している。また、図８（ａ）及び図８（ｂ）において、横軸は時間を示している。
【００８３】
例えば、非走査方向へのウエハステージ１３５の移動距離Ｌｘを３１ｍｍ、ウエハステージ１３５の加速度ａを１Ｇ、整定時間Ｔ０及び後整定時間Ｔ０’を１０ｍｓとする。また、走査方向へのウエハステージ１３５の速度Ｖｙを４５０ｍｍ／ｓ、非走査方向へのウエハステージ１３５の減速終了後の整定時間Ｔ３を５ｍｓとする。
【００８４】
この場合、Ｔ１＝Ｖｙ／ａ＝４５０／（１×９．８）＝４５．９ｍｓ、Ｔ２＝√Ｌｘ／ａ＝√（０．０３１／（１×９．８））＝５６．２ｍｓとなる。また、（ａ）＋（ｂ）＋（ｃ）＋（ｄ）＝１０ｍｓ＋４５．９ｍｓ＋４５．９ｍｓ＋１０＝１１１．８ｍｓ、（ｅ）＋（ｆ）＋（ｇ）＝５６．２ｍｓ＋５６．２ｍｓ＋５ｍｓ＝１１７．４ｍｓとなる。従って、（ａ）＋（ｂ）＋（ｃ）＋（ｄ）≧（ｅ）＋（ｆ）＋（ｇ）の関係を満たしていない。そのため、次のショット領域へ移動するための走査方向へのウエハステージ１３５の駆動が終了するまでに、非走査方向へのウエハステージ１３５の駆動を終了することができない。
【００８５】
そこで、第２の実施形態では、以下の図９及び図１０に示すように、走査方向の折り返し時におけるウエハステージ１３５の加速度が非線形に変化する時間やウエハステージ１３５の加速を終えてから露光を開始するまでの整定時間を調整する。これにより、次のショット領域へ移動するための走査方向へのウエハステージ１３５の駆動が終了するまでに、非走査方向へのウエハステージ１３５の駆動を終了することが可能となる。
【００８６】
図９は、走査方向の折り返し時におけるウエハステージ１３５の加速度が変化する時間を調整した場合におけるウエハステージ１３５の速度制御マップの一例を示す図である。なお、図９（ａ）は走査方向（Ｙ方向）へのウエハステージ１３５の速度（走査速度）Ｖｙを示し、図９（ｂ）は非走査方向（Ｘ方向）へのウエハステージ１３５の速度（走査速度）Ｖｘを示している。また、図９（ａ）及び図９（ｂ）において、横軸は時間を示している。
【００８７】
例えば、非走査方向へのウエハステージ１３５の移動距離Ｌｘを３１ｍｍ、ウエハステージ１３５の加速度ａを１Ｇ、整定時間Ｔ０及び後整定時間Ｔ０’を１０ｍｓとする。また、走査方向へのウエハステージ１３５の速度Ｖｙを４５０ｍｍ／ｓ、非走査方向へのウエハステージ１３５の減速終了後の整定時間Ｔ３を５ｍｓとする。また、ウエハステージ１３５の加速度が非線形に変化する時間Ｊ１及びＪ１’を１０ｍｓ、ウエハステージ１３５の加速度が非線形に変化する時間の有無で等加速度になるまでの時間差Ｔｄを３．７５ｍｓとする。
【００８８】
この場合、Ｔ１＝Ｖｙ／ａ−Ｔｄ＝４５０／（１×９．８）−３．７５＝４２．２ｍｓ、Ｔ２＝√Ｌｘ／ａ＝√（０．０３１／（１×９．８））＝５６．２ｍｓとなる。また、（ａ）＋（ｂ）＋（ｃ）＋（ｄ）＝１０ｍｓ＋４２．２ｍｓ＋１０ｍｓ＋１０ｍｓ＋４２．２ｍｓ＋１０ｍｓ＝１２４．４ｍｓ、（ｅ）＋（ｆ）＋（ｇ）＝５６．２ｍｓ＋５６．２ｍｓ＋５ｍｓ＝１１７．４ｍｓとなる。従って、（ａ）＋（ｂ）＋（ｃ）＋（ｄ）≧（ｅ）＋（ｆ）＋（ｇ）の関係を満たし、次のショット領域へ移動するための走査方向へのウエハステージ１３５の駆動が終了するまでに、非走査方向へのウエハステージ１３５の駆動を終了することができる。
【００８９】
図１０は、ウエハステージ１３５の加速を終えてから露光を開始するまでの整定時間を調整した場合におけるウエハステージ１３５の速度制御マップの一例を示す図である。なお、図１０（ａ）は走査方向（Ｙ方向）へのウエハステージ１３５の速度（走査速度）Ｖｙを示し、図１０（ｂ）は非走査方向（Ｘ方向）へのウエハステージ１３５の速度（走査速度）Ｖｘを示している。また、図１０（ａ）及び図１０（ｂ）において、横軸は時間を示している。
【００９０】
上述したように、非走査方向へのウエハステージ１３５の移動距離Ｌｘを３１ｍｍとし、整定時間Ｔ０及び後整定時間Ｔ０’を１０ｍｓとしたままでは、（ａ）＋（ｂ）＋（ｃ）＋（ｄ）≧（ｅ）＋（ｆ）＋（ｇ）の関係を満たさない。そこで、整定時間Ｔ０及び後整定時間Ｔ０’を５．６ｍｓ／２＝２．８ｍｓ長くして１２．８ｍｓに調整すると、（ａ）＋（ｂ）＋（ｃ）＋（ｄ）≧（ｅ）＋（ｆ）＋（ｇ）の関係を満たすことになる。これにより、図１０に示すように、次のショット領域へ移動するための走査方向へのウエハステージ１３５の駆動が終了するまでに、非走査方向へのウエハステージ１３５の駆動を終了することが可能となる。
【００９１】
図１１を参照して、複数のショット領域のうち１つのショット領域から次のショット領域にウエハステージ１３５を駆動する際のモード（駆動モード）を決定（選択）する処理を説明する。かかる処理は、上述したように、主制御部１５４が露光装置１の各部を統括的に制御することによって実行される。
【００９２】
ステップＳ１１０２において、主制御部１５４は、記憶部１５５からウエハステージ１３５の駆動条件及びショット情報とを取得する。
【００９３】
ステップＳ１１０４において、主制御部１５４は、ステップＳ６０２で取得した駆動条件及びショット情報に基づいて、第１の時間及び第２の時間を算出する。上述したように、第１の時間とは、１つのショット領域の露光の終了から次のショットの露光を開始するまでに要する走査方向に直交する非走査方向へのウエハステージ１３５の駆動時間からなる時間である。また、第２の時間とは、１つのショット領域の露光の終了から次のショットの露光を開始するまでに要する走査方向へのウエハステージ１３５の駆動時間とからなる時間である。
【００９４】
ステップＳ１１０６において、主制御部１５４は、ステップＳ６０４で算出した第１の時間が第２の時間よりも長いかどうかを判定する。
【００９５】
第１の時間が第２の時間よりも長くない（即ち、第１の時間が第２の時間よりも短い）と判定された場合には、ステップＳ１１０８に進む。ステップＳ１１０８おいて、主制御部１５４は、ウエハステージ１３５を駆動するモードとして、第３のモードを選択する。第３のモードは、走査方向の折り返し時におけるウエハステージ１３５の加速度が非線形に変化する時間とウエハステージ１３５の駆動後に要する整定時間とを調整せずにウエハステージ１３５を駆動するモードである。第３のモードは、図７に示す駆動パターンに相当する。
【００９６】
一方、第１の時間が第２の時間よりも長いと判定された場合には、ステップＳ１１１０に進む。ステップＳ１１１０において、主制御部１５４は、ユーザによって予め設定されたウエハステージ１３５を駆動するモードが第１のモードであるかどうかを判定する。
【００９７】
ウエハステージ１３５を駆動するモードとして第１のモードが設定されていない（即ち、第２のモードが設定されている）場合には、ステップＳ１１１２に進む。ステップＳ１１１２において、主制御部１５４は、ウエハステージ１３５を駆動するモードとして、第２のモードを選択する。第２のモードは、走査方向へのウエハステージ１３５の駆動について、第２の時間が第１の時間よりも長くなるようにウエハステージ１３５の加速を終えてから露光を開始するまでの整定時間を調整してウエハステージ１３５を駆動するモードである。第２のモードは、図１０に示す駆動パターンに相当する。
【００９８】
一方、ウエハステージ１３５を駆動するモードとして第１のモードが設定されている場合には、ステップＳ１１１４に進む。ステップＳ１１１４において、主制御部１５４は、ウエハステージ１３５を駆動するモードとして、第１のモードを選択する。第１のモードは、走査方向へのウエハステージ１３５の駆動について、第２の時間が第１の時間よりも長くなるように走査方向の折り返し時におけるウエハステージ１３５の加速度が非線形に変化する時間を調整してウエハステージ１３５を駆動するモードである。第１のモードは、図９に示す駆動パターンに相当する。
【００９９】
このように、第２の実施形態の露光装置１によれば、ステージの駆動条件やショット領域の配置に関するショット情報などに応じてステージの駆動を制御する（ウエハステージ１３５を駆動するモードを選択する）ことで、スループットの低下を抑えることができる。
【０１００】
第１の実施形態及び第２の実施形態の露光装置１は、高いスループットで経済性よく高品位なデバイス（半導体素子、ＬＣＤ素子、撮像素子（ＣＣＤなど）、薄膜磁気ヘッドなど）を提供することができる。なお、デバイスは、上述の露光装置１を用いてフォトレジスト（感光剤）が塗布された基板（ウエハ、ガラスプレート等）を露光する工程と、露光された基板を現像する工程と、その他の周知の工程と、を経ることにより製造される。
【０１０１】
以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されないことはいうまでもなく、その要旨の範囲内で種々の変形及び変更が可能である。
【図１】
2010087470.tif 000003
【図２】
2010087470.tif 000004
【図３】
2010087470.tif 000005
【図４】
2010087470.tif 000006
【図５】
2010087470.tif 000007
【図６】
2010087470.tif 000008
【図７】
2010087470.tif 000009
【図８】
2010087470.tif 000010
【図９】
2010087470.tif 000011
【図１０】
2010087470.tif 000012
【図１１】
2010087470.tif 000013