(57)【要約】【課題】低電圧で円滑なベンド配向への転移が可能なＯＣＢモードの液晶装置。【解決手段】対向配置された第１の基板２１と第２の基板２２との一対の基板と、一対の基板に挟持されたＯＣＢモードの液晶層と、第１の基板の液晶層３７側に形成された第１の電極４３と、第２の基板の液晶層３７側に形成された第２の電極４２と、第１の電極の液晶層側に形成された第１の配向膜３３と、第２の電極の液晶層側に形成された第２の配向膜３４と、を備える液晶装置であって、第１の配向膜及び第２の配向膜は同一方向に配向しており、かつ、少なくとも一方の液晶層側には、他方の配向膜と対向する表面を有して液晶層側に突出し、光学的異方性を有する高分子１４を含有した凸部領域２０が設けられており、少なくとも凸部領域の他方の配向膜と対向する表面３０は、光学的異方性を有する高分子が配向膜とは異なる方向に配向している液晶装置。【選択図】図７
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに対向して配置された第１の基板と第２の基板とからなる一対の基板と、
前記一対の基板に挟持され、配向状態がスプレイ配向とベンド配向のいずれか一方から他方へと転移する液晶層と、
前記第１の基板の前記液晶層側に形成された第１の電極と、
前記第２の基板の前記液晶層側に形成された第２の電極と、
前記第１の電極の前記液晶層側に形成された第１の配向膜と、
前記第２の電極の前記液晶層側に形成された第２の配向膜と、
を備える液晶装置であって、
前記第１の配向膜及び前記第２の配向膜は、互いに同一方向に配向処理が施されており、前記第１の配向膜及び第２の配向膜のうちの少なくとも一方の前記配向膜の前記液晶層側には、他方の前記配向膜と対向する表面を有して前記液晶層側に突出し、光学的異方性を有する高分子を含有した凸部領域が設けられており、少なくとも前記凸部領域の他方の前記配向膜と対向する表面は、前記光学的異方性を有する高分子が前記配向膜の配向方向とは異なる方向に配向していることを特徴とする液晶装置。
【請求項２】
請求項１に記載の液晶装置であって、
前記光学的異方性を有する高分子は、液晶性モノマーを含有する組成物を重合して得られたものであることを特徴とする液晶装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の液晶装置であって、
前記一対の基板は、該基板の平面内に複数の画素領域と、隣り合う前記画素領域間を区画する非表示領域と、を含み、
前記凸部領域は、前記非表示領域内に形成されていることを特徴とする液晶装置。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項に記載の液晶装置であって、
前記凸部領域は、前記複数の画素領域の各々につき少なくとも１つ形成されていることを特徴とする液晶装置。
【請求項５】
請求項１〜３のいずれか一項に記載の液晶装置であって、
前記凸部領域は前記画素領域の周囲を囲むように形成されていることを特徴とする液晶装置。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか一項に記載の液晶装置であって、
前記光学的異方性を有する高分子は、前記凸部領域と該凸部領域が設けられている配向膜との界面近傍において該配向膜の配向方向と略同一方向に配向しており、かつ、前記界面から前記凸部領域の他方の前記配向膜と対向する表面に向かってツイスト配向していることを特徴とする液晶装置。
【請求項７】
請求項６に記載の液晶装置であって、
前記光学的異方性を有する高分子のツイスト角は略９０度であることを特徴とする液晶装置。
【請求項８】
請求項１〜５のいずれか一項に記載の液晶装置であって、
前記光学的異方性を有する高分子の配向はハイブリッド配向であることを特徴とする液晶装置。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか一項に記載の液晶装置であって、
前記凸部領域の高さは、前記液晶層の層厚の略１／２倍であることを特徴とする液晶装置。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれか一項に記載の液晶装置であって、
前記凸部領域は、前記第１の配向膜の前記液晶層側と前記第２の配向膜の前記液晶層側の双方に、互いに重ならないように形成されていることを特徴とする液晶装置。
【請求項１１】
請求項１〜１０のいずれか一項に記載の液晶装置であって、
前記凸部領域が設けられている前記配向膜の前記液晶層側であって前記凸部領域が設けられていない領域に、第３の配向膜がさらに配置されていることを特徴とする液晶装置。
【請求項１２】
請求項１〜１１のいずれか一項に記載の液晶装置を表示部に備えることを特徴とする電子機器。
【請求項１３】
互いに対向して配置された第１の基板と第２の基板とからなる一対の基板と、
前記一対の基板に挟持され、配向状態がスプレイ配向とベンド配向のいずれか一方から他方へと転移する液晶層と、
前記第１の基板の前記液晶層側に形成された第１の電極と、
前記第２の基板の前記液晶層側に形成された第２の電極と、
前記第１の電極の前記液晶層側に形成された第１の配向膜と、
前記第２の電極の前記液晶層側に形成された第２の配向膜と、
を備える液晶装置の製造方法であって、
前記第１の基板の一方の面に前記第１の配向膜を形成する第１の工程と、
前記第１の配向膜に前記第１の基板に対して水平方向の配向処理を施す第２の工程と、
前記第２の基板の一方の面に前記第２の配向膜を形成する第３の工程と、
前記第２の配向膜に、前記第１の配向膜に付与された配向方向と同一方向の配向処理を施す第４の工程と、
配向処理が施された前記第１の配向膜上に光重合性の官能基を有する液晶性モノマーを含む液状材料を塗布して、表面近傍における該液晶性モノマーが前記第１の配向膜に付与された配向方向と異なる方向に配向された塗布膜を形成する第５の工程と、
前記塗布膜をフォトマスクを介して露光して、所定の領域における前記液晶性モノマーを高分子化する第６の工程と、
前記第６の工程において露光されなかった領域の前記塗布膜を除去して凸部領域を形成する第７の工程と、
前記第１の基板と前記第２の基板とを、前記第１の配向膜と前記第２の配向膜とが所定の間隔を隔てて対向するように配置する第８の工程と、
前記第１の基板と前記第２の基板との間に液晶を充填する第９の工程と、
を含むことを特徴とする液晶装置の製造方法。
【請求項１４】
請求項１３に記載の液晶装置の製造方法であって、
前記第５の工程は、前記光重合性の官能基を持つ液晶性モノマーとカイラル剤とを含む液状材料を塗布する工程であることを特徴とする液晶装置の製造方法。
【請求項１５】
請求項１４に記載の液晶装置の製造方法であって、
前記第５の工程は、形成後の前記塗布膜の表面近傍における前記液晶性モノマーの配列方向が前記第１の配向膜の配向方向に対して前記一対の基板の法線を軸として９０度回転した方向となるように、前記液晶性モノマーと前記カイラル剤との混合比率を調整した液状材料を塗布する工程であることを特徴とする液晶装置の製造方法。
【請求項１６】
請求項１３に記載の液晶装置の製造方法であって、
前記第５の工程は、前記光重合性の官能基を持つ液晶性モノマーと界面活性剤とを含む液状材料を塗布する工程であることを特徴とする液晶装置の製造方法。
【請求項１７】
請求項１６に記載の液晶装置の製造方法であって、
前記第５の工程は、形成後の前記塗布膜の表面近傍における前記液晶性モノマーの配列方向が、前記一対の基板に対して略垂直方向となるように、前記液晶性モノマーと前記界面活性剤との混合比率を調整した液状材料を塗布する工程であることを特徴とする液晶装置の製造方法。
【請求項１８】
請求項１３〜１７のいずれか一項に記載の液晶装置の製造方法であって、
前記液晶装置は、複数の画素領域と隣り合う該画素領域間を区画する非表示領域とを有しており、
前記第６の工程は、前記非表示領域内の一部領域を露光する工程であることを特徴とする液晶装置の製造方法。
【請求項１９】
請求項１８に記載の液晶装置の製造方法であって、
前記第６の工程は、前記凸部領域が、前記複数の画素領域の各々につき少なくとも１つは形成されるように露光する工程であることを特徴とする液晶装置の製造方法。
【請求項２０】
請求項１３〜１９のいずれか一項に記載の液晶装置の製造方法であって、
前記第７の工程と前記第８の工程との間に、
前記第１の配向膜上の、前記第７の工程により前記塗布膜が除去された領域に第３の配向膜を形成する第１０の工程と、
前記第３の配向膜に、前記第２の工程において前記第１の配向膜に施された配向処理と同一方向の配向処理を施す第１１の工程と、
をさらに実施することを特徴とする液晶装置の製造方法。
【請求項２１】
互いに対向して配置された第１の基板と第２の基板とからなる一対の基板と、
前記一対の基板に挟持され、配向状態がスプレイ配向とベンド配向のいずれか一方から他方へと転移する液晶層と、
前記第１の基板の前記液晶層側に形成された第１の電極と、
前記第２の基板の前記液晶層側に形成された第２の電極と、
前記第１の電極の前記液晶層側に形成された第３の配向膜と、
前記第２の電極の前記液晶層側に形成された第２の配向膜と、
を備える液晶装置の製造方法であって、
前記第１の基板の一方の面に第１の配向膜を形成する第１２の工程と、
前記第１の配向膜に第１の方向の配向処理を施す第１３の工程と、
前記第２の基板の一方の面に前記第２の配向膜を形成する第１４の工程と、
前記第２の配向膜に、前記第２の基板に対して水平の方向であり、かつ前記第１の方向と異なる方向である第２の方向の配向処理を施す第１５の工程と、
配向処理が施された前記第１の配向膜上に光重合性の官能基を有する液晶性モノマーを含む液状材料を塗布して、該液晶性モノマーを含む塗布膜を形成する第１６の工程と、
前記塗布膜をフォトマスクを介して露光して、所定の領域における前記液晶性モノマーを高分子化する第１７の工程と、
前記第１７の工程において露光されなかった領域の前記塗布膜を除去して凸部領域を形成する第１８の工程と、
前記凸部領域が形成された前記第１の基板の前記一方の面に前記第３の配向膜を形成する第１９の工程と、
前記第３の配向膜に、前記第２の方向の配向処理を施す第２０の工程と、
前記第１の基板と前記第２の基板とを、前記第３の配向膜と前記第２の配向膜とが所定の間隔を隔てて対向するように配置する第２１の工程と、
前記第１の基板と前記第２の基板との間に液晶を充填する第２２の工程と、
を含むことを特徴とする液晶装置の製造方法。
【請求項２２】
請求項２１に記載の液晶装置の製造方法であって、
前記第１５の工程は、前記第１の方向とは略９０度異なる前記第２の方向の配向処理を施す工程であることを特徴とする液晶装置の製造方法。
【請求項２３】
請求項２２に記載の液晶装置の製造方法であって、
前記第１３の工程は、前記第１の基板に対して略垂直の方向である前記第１の方向の配向処理を施す工程であることを特徴とする液晶装置の製造方法。
【請求項２４】
請求項２２に記載の液晶装置の製造方法であって、
前記第１３の工程は、前記第１の基板に対して略水平の方向である前記第１の方向の配向処理を施す工程であることを特徴とする液晶装置の製造方法。
【請求項２５】
請求項２１〜２４のいずれか一項に記載の液晶装置の製造方法であって、
前記液晶装置は、複数の画素領域と隣り合う該画素領域間を区画する非表示領域とを有しており、
前記第１７の工程は、前記非表示領域内の一部領域を露光する工程であることを特徴とする液晶装置の製造方法。
【請求項２６】
請求項２５に記載の液晶装置の製造方法であって、
前記第１７の工程は、前記凸部領域が、前記複数の画素領域の各々につき少なくとも１つは形成されるように露光する工程であることを特徴とする液晶装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶装置、液晶装置の製造方法、及び電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶装置の一例として、ＯＣＢ（Optically Compensated Birefringence）モードの液晶装置が知られている。ＯＣＢモードの液晶装置は、一対の基板と、この一対の基板の間に封入された液晶層とを有して構成されており、液晶層は、スプレイ配向又はベンド配向のいずれの配向状態をもとり得るように構成される。そして、この液晶層は、初期状態ではスプレイ配向となっており、表示を行う際には、転移電圧を印加することによってベンド配向に転移させて使用する。
【０００３】
ベンド配向への転移を容易に行うための構成として、例えば特許文献１には、基板の略全面に対して均一に、第１の方向に配向処理を行って得られる第１の領域内に、該第１の方向と直交する第２の方向及び該第１の方向とは逆の第３の方向に配向処理された微小な第２の領域を形成する構成が開示されている。このようにすれば、該第２の領域が転移核となって、該転移核を起点としてベンド配向への転移が速やかに進行するというものである。
【０００４】
【特許文献１】特開２００７−１７８８３５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかし、スプレイ配向領域である第１の領域と配向方向の異なる微小領域を形成するためには、ラビングにより配向が発生すると共に、直線偏光紫外線によっても配向性を示す材料を（配向膜に）用いる必要がある。上記の双方の性質を兼ね備える材料は少ないため、円滑なベンド配向への転移を行うためには依然として高電圧が必要になるという課題がある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、上記課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態又は適用例として実現することが可能である。
【０００７】
［適用例１］互いに対向して配置された第１の基板と第２の基板とからなる一対の基板と、上記一対の基板に挟持され、配向状態がスプレイ配向とベンド配向のいずれか一方から他方へと転移する液晶層と、上記第１の基板の上記液晶層側に形成された第１の電極と、上記第２の基板の上記液晶層側に形成された第２の電極と、上記第１の電極の上記液晶層側に形成された第１の配向膜と、上記第２の電極の上記液晶層側に形成された第２の配向膜と、を備える液晶装置であって、上記第１の配向膜及び上記第２の配向膜は、互いに同一方向に配向処理が施されており、上記第１の配向膜及び第２の配向膜のうちの少なくとも一方の上記配向膜の上記液晶層側には、他方の上記配向膜と対向する表面を有して上記液晶層側に突出し、光学的異方性を有する高分子を含有した凸部領域が設けられており、少なくとも上記凸部領域の他方の上記配向膜と対向する表面は、上記光学的異方性を有する高分子が上記配向膜の配向方向とは異なる方向に配向していることを特徴とする液晶装置。
【０００８】
このような構成によれば、上記表面近傍の液晶層は、上記配向膜の配向方向とは異なる方向に配向される。そのため、転移電圧を印加すると、該表面近傍の液晶層は、容易にスプレイ配向からベンド配向へ転移する。すなわち、該表面近傍の液晶層内に容易に転移核を形成できる。そして、かかる転移核により、上記液晶層を容易にベンド配向へ転移させることができる。
【０００９】
［適用例２］上述の液晶装置であって、上記光学的異方性を有する高分子は、液晶性モノマーを含有する組成物を重合して得られたものであることを特徴とする液晶装置。
【００１０】
液晶性モノマーは配向処理が容易であり、また、紫外線照射等により確実に高分子化させることができる。したがって、このような構成であれば液晶装置の信頼性を向上できる。
【００１１】
［適用例３］上述の液晶装置であって、上記一対の基板は、該基板の平面内に複数の画素領域と、隣り合う上記画素領域間を区画する非表示領域と、を含み、上記凸部領域は、上記非表示領域内に形成されていることを特徴とする液晶装置。
【００１２】
このような構成によれば、表示品質を損なうことなく、短時間、かつ低い転移電圧でベンド配向への転移を行うことができる。
【００１３】
［適用例４］上述の液晶装置であって、上記凸部領域は、上記複数の画素領域の各々につき少なくとも１つ形成されていることを特徴とする液晶装置。
【００１４】
このような構成によれば、画素毎に上述の転移核を形成できるので、より一層短時間、かつ低い転移電圧でベンド配向への転移を行うことができる。
【００１５】
［適用例５］上述の液晶装置であって、上記凸部領域は上記画素領域の周囲を囲むように形成されていることを特徴とする液晶装置。
【００１６】
このような構成によれば、各々の画素の周囲に上述の転移核を形成できるので、より一層短時間、かつ低い転移電圧でベンド配向への転移を行うことができる。
【００１７】
［適用例６］上述の液晶装置であって、上記光学的異方性を有する高分子は、上記凸部領域と該凸部領域が設けられている配向膜との界面近傍において該配向膜の配向方向と略同一方向に配向しており、かつ、上記界面から上記凸部領域の他方の上記配向膜と対向する表面に向かってツイスト配向していることを特徴とする液晶装置。
【００１８】
このような構成であれば、上記配向膜の配向方向と上記表面近傍における上記光学的異方性を有する高分子の配向方向を確実に異なる方向にできる。また、上述のスプレイ配向の方向は上記配向膜の配向方向で定められる。したがって、上記転移核を容易に形成できる。なお、上述のツイスト配向とは、一対の基板間に挟持された長軸を有する分子が、長軸方向を、上記一対の基板に平行に保ちつつ、該一対の基板に垂直な線を中心軸として上記凸部領域の上記表面近傍と該凸部領域と配向膜との界面近傍との間で、ねじれる配向状態をいう。
【００１９】
［適用例７］上述の液晶装置であって、上記光学的異方性を有する高分子のツイスト角は略９０度であることを特徴とする液晶装置。
【００２０】
このような構成であれば、上記表面近傍における上記光学的異方性を有する高分子の配向方向と、スプレイ配向の方向との角度差を最大にできる。したがって、上記転移核をより一層容易に形成できる。
【００２１】
［適用例８］上述の液晶装置であって、上記光学的異方性を有する高分子の配向はハイブリッド配向であることを特徴とする液晶装置。
【００２２】
このような構成であれば、上記凸部領域の上記表面近傍における上記光学的異方性を有する高分子の配向方向と、スプレイ配向の方向との角度差を最大にできる。したがって、上記転移核をより一層容易に形成できる。
なお、ハイブリッド配向とは、上記長軸の方向が、該凸部領域と配向膜との界面近傍では該配向膜に対して平行になり、該凸部領域の上記表面近傍では該配向膜に対して垂直になるように配向されている状態をいう。
【００２３】
［適用例９］上述の液晶装置であって、上記凸部領域の高さは、上記液晶層の層厚の略１／２倍であることを特徴とする液晶装置。
【００２４】
このような構成であれば、上述の転移核を上記液晶層の層厚方向の略中間点に位置させることができる。したがって、より一層短時間、かつ低い転移電圧でベンド配向への転移を行うことができる。
【００２５】
［適用例１０］上述の液晶装置であって、上記凸部領域は、上記第１の配向膜の上記液晶層側と上記第２の配向膜の上記液晶層側の双方に、互いに重ならないように形成されていることを特徴とする液晶装置。
【００２６】
このような構成であれば、上述の転移核を形成する位置の自由度を向上させることができる。
【００２７】
［適用例１１］上述の液晶装置であって、上記凸部領域が設けられている上記配向膜の上記液晶層側であって上記凸部領域が設けられていない領域に、第３の配向膜がさらに配置されていることを特徴とする液晶装置。
【００２８】
このような構成であれば、上記一対の配向膜のどちらか一方が、上記凸部領域の形成時において配向機能が低下した場合においても、新たに配置された上記第３の配向膜で上記液晶層を配向できる。したがって、かかる液晶装置であれば、表示品質を損うことなく短時間に、かつ、低い転移電圧でベンド配向への転移を行うことができる。
【００２９】
［適用例１２］上述の液晶装置を表示部に備えることを特徴とする電子機器。
【００３０】
このような構成によれば、液晶装置を短時間、かつ低い転移電圧でベンド配向へ転移させることが可能な電子機器が得られる。
【００３１】
［適用例１３］互いに対向して配置された第１の基板と第２の基板とからなる一対の基板と、上記一対の基板に挟持され、配向状態がスプレイ配向とベンド配向のいずれか一方から他方へと転移する液晶層と、上記第１の基板の上記液晶層側に形成された第１の電極と、上記第２の基板の上記液晶層側に形成された第２の電極と、上記第１の電極の上記液晶層側に形成された第１の配向膜と、上記第２の電極の上記液晶層側に形成された第２の配向膜と、を備える液晶装置の製造方法であって、上記第１の基板の一方の面に上記第１の配向膜を形成する第１の工程と、上記第１の配向膜に上記第１の基板に対して水平方向の配向処理を施す第２の工程と、上記第２の基板の一方の面に上記第２の配向膜を形成する第３の工程と、上記第２の配向膜に、上記第１の配向膜に付与された配向方向と同一方向の配向処理を施す第４の工程と、配向処理が施された上記第１の配向膜上に光重合性の官能基を有する液晶性モノマーを含む液状材料を塗布して、表面近傍における該液晶性モノマーが上記第１の配向膜に付与された配向方向と異なる方向に配向された塗布膜を形成する第５の工程と、上記塗布膜をフォトマスクを介して露光して、所定の領域における上記液晶性モノマーを高分子化する第６の工程と、上記第６の工程において露光されなかった領域の上記塗布膜を除去して凸部領域を形成する第７の工程と、上記第１の基板と上記第２の基板とを、上記第１の配向膜と上記第２の配向膜とが所定の間隔を隔てて対向するように配置する第８の工程と、上記第１の基板と上記第２の基板との間に液晶を充填する第９の工程と、を含むことを特徴とする液晶装置の製造方法。
【００３２】
このような製造方法であれば、上記液晶層内に、上記表面近傍の少なくとも一部に上記配向膜の配向方向とは異なる方向に配向された上記光学的異方性を有する高分子を有する凸部領域を形成できる。そして、上述の配向方向の差異を利用することで、上記表面近傍に、転移核を容易に形成できる。したがって、短時間、かつ低い転移電圧でベンド配向への転移が可能な液晶装置を製造することができる。
【００３３】
［適用例１４］上述の液晶装置の製造方法であって、上記第５の工程は、上記光重合性の官能基を持つ液晶性モノマーとカイラル剤とを含む液状材料を塗布する工程であることを特徴とする液晶装置の製造方法。
【００３４】
カイラル剤を混入することにより、上記塗布膜の配向方向はツイスト配向となる。したがって、このような製造方法によれば、上述の凸部領域を容易に形成できる。
【００３５】
［適用例１５］上述の液晶装置の製造方法であって、上記第５の工程は、形成後の上記塗布膜の表面近傍における上記液晶性モノマーの配列方向が上記第１の配向膜の配向方向に対して上記一対の基板の法線を軸として９０度回転した方向となるように、上記液晶性モノマーと上記カイラル剤との混合比率を調整した液状材料を塗布する工程であることを特徴とする液晶装置の製造方法。
【００３６】
このような製造方法によれば、上記凸部領域の表面における配向方向と、上記一対の配向膜の配向方向で規定されるスプレイ配列の方向とを９０度異ならせることができる。したがって、上記転移核を容易に形成できる。
【００３７】
［適用例１６］上述の液晶装置の製造方法であって、上記第５の工程は、上記光重合性の官能基を持つ液晶性モノマーと界面活性剤とを含む液状材料を塗布する工程であることを特徴とする液晶装置の製造方法。
【００３８】
界面活性剤を混入することにより、上記塗布膜に含有される液晶性モノマーの、該塗布膜の表面における配向方向は、上記一対の基板の表面に対して角度を有するものとなる。一方、上記塗布膜の、上記第１の配向膜との界面近傍における配向方向は、該第１の配向膜の配向方向に規制されるため、上記一対の基板の表面に対して水平方向になる。したがって、このような製造方法であれば、表面近傍における配向方向が上記第１の配向膜の配向方向と異なる塗布膜を容易に形成でき、上記転移核を容易に形成できる。
【００３９】
［適用例１７］上述の液晶装置の製造方法であって、上記第５の工程は、形成後の上記塗布膜の表面近傍における上記液晶性モノマーの配列方向が、上記一対の基板に対して略垂直方向となるように、上記液晶性モノマーと上記界面活性剤との混合比率を調整した液状材料を塗布する工程であることを特徴とする液晶装置の製造方法。
【００４０】
このような構成によれば、上記転移核における配向方向と上記一対の配向膜の配向方向との角度の差を最大にできる。したがって、上記転移核より一層容易に形成できる。
【００４１】
［適用例１８］上述の液晶装置の製造方法であって、上記液晶装置は、複数の画素領域と隣り合う該画素領域間を区画する非表示領域とを有しており、上記第６の工程は、上記非表示領域内の一部領域を露光する工程であることを特徴とする液晶装置の製造方法。
【００４２】
このような製造方法であれば、液晶装置の表示品質に影響を与えることなく上記転移核を形成できる。
【００４３】
［適用例１９］上述の液晶装置の製造方法であって、上記第６の工程は、上記凸部領域が、上記複数の画素領域の各々につき少なくとも１つは形成されるように露光する工程であることを特徴とする液晶装置の製造方法。
【００４４】
このような製造方法であれば、上記複数の画素領域の各々について上記転移核を形成できる。したがって、より一層短時間、かつ、低い転移電圧でベンド配向への転移が可能な液晶装置を得ることができる。
【００４５】
［適用例２０］上述の液晶装置の製造方法であって、上記第７の工程と上記第８の工程との間に、上記第１の配向膜上の、上記第７の工程により上記塗布膜が除去された領域に第３の配向膜を形成する第１０の工程と、上記第３の配向膜に、上記第２の工程において上記第１の配向膜に施された配向処理と同一方向の配向処理を施す第１１の工程と、をさらに実施することを特徴とする液晶装置の製造方法。
【００４６】
このような製造方法であれば、上記第７の工程の後に形成された上記第３の配向膜により、上記液晶層を配向できる。したがって、上記第７の工程により、下地となる上記第１の配向膜の配向機能等が損なわれた場合においても、表示品質の劣化を抑制できる。
【００４７】
［適用例２１］互いに対向して配置された第１の基板と第２の基板とからなる一対の基板と、上記一対の基板に挟持され、配向状態がスプレイ配向とベンド配向のいずれか一方から他方へと転移する液晶層と、上記第１の基板の上記液晶層側に形成された第１の電極と、上記第２の基板の上記液晶層側に形成された第２の電極と、上記第１の電極の上記液晶層側に形成された第３の配向膜と、上記第２の電極の上記液晶層側に形成された第２の配向膜と、を備える液晶装置の製造方法であって、上記第１の基板の一方の面に第１の配向膜を形成する第１２の工程と、上記第１の配向膜に第１の方向の配向処理を施す第１３の工程と、上記第２の基板の一方の面に上記第２の配向膜を形成する第１４の工程と、上記第２の配向膜に、上記第２の基板に対して水平の方向であり、かつ上記第１の方向と異なる方向である第２の方向の配向処理を施す第１５の工程と、配向処理が施された上記第１の配向膜上に光重合性の官能基を有する液晶性モノマーを含む液状材料を塗布して、該液晶性モノマーを含む塗布膜を形成する第１６の工程と、上記塗布膜をフォトマスクを介して露光して、所定の領域における上記液晶性モノマーを高分子化する第１７の工程と、上記第１７の工程において露光されなかった領域の上記塗布膜を除去して凸部領域を形成する第１８の工程と、上記凸部領域が形成された上記第１の基板の上記一方の面に上記第３の配向膜を形成する第１９の工程と、上記第３の配向膜に、上記第２の方向の配向処理を施す第２０の工程と、上記第１の基板と上記第２の基板とを、上記第３の配向膜と上記第２の配向膜とが所定の間隔を隔てて対向するように配置する第２１の工程と、上記第１の基板と上記第２の基板との間に液晶を充填する第２２の工程と、を含むことを特徴とする液晶装置の製造方法。
【００４８】
このような製造方法であれば、上記第１の配向膜と上記第２の配向膜との一対の配向膜の配向方向とは異なる方向に配向された上記高分子を全体に含む凸部領域を形成できる。一方、上記液晶層の配向は、上記一対の配向膜の配向方向によって規定されている。したがって、かかる配向方向の差異により、該凸部領域の表面近傍における上記液晶層内に、該液晶層をスプレイ配向からベンド配向へと転移させる際の転移核を容易に形成できる。したがって、短時間、かつ低い転移電圧でベンド配向への転移が可能な液晶装置を得ることができる。
【００４９】
［適用例２２］上述の液晶装置の製造方法であって、上記第１５の工程は、上記第１の方向とは略９０度異なる上記第２の方向の配向処理を施す工程であることを特徴とする液晶装置の製造方法。
【００５０】
このような製造方法であれば、上記凸部領域に含まれる高分子の配向方向を上記一対の配向膜の配向方向とは略９０度異なる方向にできる。したがって、上記転移核をより一層容易に形成できる。
【００５１】
［適用例２３］上述の液晶装置の製造方法であって、上記第１３の工程は、上記第１の基板に対して略垂直の方向である上記第１の方向の配向処理を施す工程であることを特徴とする液晶装置の製造方法。
【００５２】
上記一対の配向膜は水平方向に配向されている。したがって、このような製造方法であれば、上記凸部領域に含まれる高分子の配向方向を上記一対の配向膜の配向方向とは略９０度異なる方向にできる。したがって、上記転移核をより一層容易に形成できる。
【００５３】
［適用例２４］上述の液晶装置の製造方法であって、上記第１３の工程は、上記第１の基板に対して略水平の方向である上記第１の方向の配向処理を施す工程であることを特徴とする液晶装置の製造方法。
【００５４】
このような製造方法であれば、製造装置の追加、及び、上記配向膜の形成材料の変更等を伴わずにラビング方向を変えるだけで、上記一対の配向膜の配向方向とは略９０度異なる方向に配向された上記凸部領域を形成できる。したがって上記転移核を、製造コストの増加を抑制しつつ形成できる。
【００５５】
［適用例２５］上述の液晶装置の製造方法であって、上記液晶装置は、複数の画素領域と隣り合う該画素領域間を区画する非表示領域とを有しており、上記第１７の工程は、上記非表示領域内の一部領域を露光する工程であることを特徴とする液晶装置の製造方法。
【００５６】
このような製造方法であれば、表示品質に影響を与えることなく、上記転移核を形成できる。
【００５７】
［適用例２６］上述の製造方法であって、上記第１７の工程は、上記凸部領域が、上記複数の画素領域の各々につき少なくとも１つは形成されるように露光する工程であることを特徴とする液晶装置の製造方法。
【００５８】
このような製造方法であれば、上記複数の画素領域の各々について上記転移核を形成できる。したがって、より一層短時間、かつ、低い転移電圧でベンド配向への転移が可能な液晶装置を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００５９】
以下、図面を参照し、本発明を具体化した液晶装置の実施形態について述べる。なお、以下に示す各図においては、各構成要素を図面上で認識され得る程度の大きさとするため、該各構成要素の寸法や比率を実際のものとは適宜に異ならせてある。
【００６０】
（第１の実施形態）
図１は本実施形態にかかる液晶装置１の構成を模式的に示す図である。図１（ａ）は斜視図、図１（ｂ）は図１（ａ）中のＡ−Ａ’線における断面図である。なお、液晶装置１は、スイッチング素子としてＴＦＴ（薄膜トランジスタ）４０（図６参照）を用いた、ＯＣＢモードのアクティブマトリクス型の液晶装置である。
【００６１】
図示する様に、液晶装置１は、枠状のシール材２３を介して互いに対向するように貼り合わされた、第１の基板としての対向基板２１と第２の基板としての素子基板２２とからなる一対の基板を備えている。対向基板２１と素子基板２２とシール材２３とによって形成された空間には、スプレイ配向又はベンド配向のいずれの配向状態をもとり得る液晶が封入され液晶層３７が形成されている。素子基板２２の液晶層３７とは反対側の面には第２の偏光板３２が配置されており、対向基板２１の液晶層３７とは反対側の面には、第１の偏光板３１が配置されている。素子基板２２は対向基板２１より大きく、一部が対向基板２１に対して張り出した状態で貼り合わされている。この張り出した部分には、液晶層３７を駆動するためのドライバーＩＣ２４が実装されている。液晶装置１は、液晶層３７が封入された表示領域１００において、該液晶層の透過率を変調することにより画像を表示する。
【００６２】
図２は、ＯＣＢモードにおける液晶分子の配列を示す図である。図２においては、後述する画素電極等は図示を省略し、液晶層３７と該液晶層を挟持する一対の基板、すなわち対向基板２１と素子基板２２のみを示している。液晶層３７に含まれる液晶分子３８は、初期的には図２（ａ）に示すようなスプレイ配向となっており、表示を行う際には、図２（ｂ）に示すようなベンド配向に転移させて使用する。スプレイ配向からベンド配向への転移は、液晶層３７に転移電圧を印加することによって行う。ベンド配向においては、液晶層３７に含まれる液晶分子３８が弓なりに並んでおり、その弓なり形状の曲がりの度合いを変えることで透過率を変調して表示を行う。
【００６３】
図３は、液晶装置１の表示領域１００における各種素子、配線等の等価回路図である。ここで、表示領域１００とは、画素４１が規則的に配置された領域であり、画像を形成して観察者に表示する領域である。表示領域１００においては、複数の走査線１０２と複数のデータ線１０４とが交差するように形成されている。画素４１は、走査線１０２とデータ線１０４との交差に対応して設けられており、画素４１毎に画素電極４２が形成されている。また、走査線１０２に沿って、容量線１０６が形成されており、画素電極４２と容量線１０６との間に補助容量４４が形成されている。
【００６４】
走査線１０２とデータ線１０４との交差に対応する位置には、画素電極４２への通電を制御するスイッチング素子としてのＴＦＴ４０が画素４１毎に形成されている。ＴＦＴ４０のソース電極５４（図６参照）には、データ線１０４が電気的に接続されている。ＴＦＴ４０のゲート電極（図示せず）には、走査線１０２が電気的に接続されている。ＴＦＴ４０のドレイン電極５２（図６参照）には、画素電極４２が電気的に接続されている。
なお、画素４１とは上述の各構成要素を含む機能的な概念である。一方、後述する画素領域４５（図５参照）は、明度、色度等が一定の光を射出するドットであり、平面的な概念である。以下、図４〜６を用いて、画素４１の構成、及び表示領域１００内における画素領域４５の配置等について述べる。
【００６５】
図４は、画素４１の構成を示す平面図である。ここで平面図とは、基板（素子基板２２等）に対して垂直方向から見た図である。図５は、画素電極４２及び遮光層４９の形状を示す平面図である。なお、図４及び図５は、図３に示す画素４１の配置を９０度回転させて示している。
【００６６】
図４に示すように、液晶装置１の画素４１は、走査線１０２とデータ線１０４と容量線１０６との囲まれる略方形の領域に形成された画素電極４２と、画素４１毎に形成されたＴＦＴ４０等からなる。そして、走査線１０２とデータ線１０４とが平面視（対向基板２１と素子基板２２との一対の基板の法線方向から見ること）で交差する領域の近傍に凸部領域２０が形成されている。なお、補助容量４４（図３参照）は画素電極４２と容量線１０６とが重なる領域に形成されている（図示せず）。三種類の画素４１（Ｒ，Ｇ，Ｂ）は、構成は同一であり、カラーフィルタ５０（図６参照）の色のみが異なっている。
【００６７】
図５に示すように、遮光層４９は、走査線１０２とデータ線１０４と容量線１０６の形成領域、及びＴＦＴ４０の形成領域に重なるように形成されており、平面視で画素電極４２を囲んでいる。表示領域１００（図１参照）は、規則的に形成された画素領域４５と該画素領域を区画する非表示領域としての遮光層４９の形成領域とからなる。すなわち、遮光層４９で囲まれた領域が観察者に向けて光を射出する画素領域４５であり、遮光層４９が形成されている領域が非表示領域である。そして、凸部領域２０は遮光層４９と重なる領域、すなわち非表示領域に形成されている。上記の走査線１０２等は第２の基板としての素子基板２２に形成されており、遮光層４９は第１の基板としての対向基板２１に形成されている。かかる態様、及びＴＦＴ４０の構成等を図６に示す。なお、後述するカラーフィルタ５０（図６参照）は表示領域１００の全域に形成されており、各画素領域４５毎に夫々三原色（赤、緑、青）のいずれかに着色されている。上述の夫々の色の境界線は、平面視で遮光層４９と重なっている。
【００６８】
図６は、図４中のＢ−Ｂ’線における断面図である。図示するように液晶装置１は、ＴＦＴ４０等が形成された素子基板２２と、カラーフィルタ５０等が形成された対向基板２１、及び、上述の一対の基板と図示しないシール材２３（図１参照）とで形成された空間に充填された液晶層３７と、液晶層３７中に突出するように形成された凸部領域２０等を備えている。上記双方の基板は透明性が必要であり、ガラスあるいは石英等で形成されている。液晶層３７は液晶分子３８を含む層である。本図では、該液晶分子がスプレイ配向となっている状態を示している。なお、液晶分子３８は一部のみを図示している。
【００６９】
対向基板２１の液晶層３７側には、カラーフィルタ５０と遮光層４９が形成されている。そして、該双方の要素の液晶層３７側には透明性と導電性とを有するＩＴＯ（酸化インジウム・すず合金）からなる第１の電極としての共通電極４３が形成されている。共通電極４３は、表示領域１００（図１参照）の略全域に形成されており、該表示領域において同電位を維持している。共通電極４３上には、ポリイミドを含有する一方の配向膜としての第１の配向膜３３が形成されている。また、対向基板２１の液晶層３７側の反対側の面には、第１の偏光板３１が貼付されている。第１の配向膜３３と後述する他方の配向膜としての第２の配向膜３４の配向方向は同一であり、Ｙ方向すなわちデータ線１０４の延在方向に配向されている。第１の偏光板３１と第２の偏光板３２の透過軸は互いに略直交し、かつ、上記双方の配向膜の配向方向と略４５度の角度を有している。
【００７０】
凸部領域２０は、第１の配向膜３３の液晶層３７側の面に配置されており、該液晶層側に突出するように、かつ第２の配向膜３４には達しないように形成されている。そして、凸部領域２０は、後述するように膜層をパターニングして形成されているため、第２の配向膜３４と対向する略平坦な表面としての上面３０を有している。凸部領域２０は、各画素４１毎に、第１の配向膜３３の液晶層３７側における遮光層４９と重なる領域の一部に形成されている。そして、後述するように、光学的異方性を有する高分子としての液晶性モノマー１４（図７参照）を重合して形成されている。したがって、凸部領域２０は液晶性モノマー１４を高い比率で含有している。
【００７１】
凸部領域２０の高さ、すなわち第１の配向膜３３との界面から上面３０までの寸法は、液晶層３７の層厚の略１／２倍、若しくは略１／２倍よりも若干小さい値である。すなわち、凸部領域２０の上面３０は、液晶層３７の層厚方向の略中間、若しくは略中間よりも若干対向基板２１寄りに位置している。後述するように、本実施形態にかかる液晶装置１は、該凸部領域により転移核の形成を容易にしている。そして該転移核により、スプレイ配向からベンド配向への転移に要する時間（転移時間）及び電圧（転移電圧）を減少させ、円滑なベンド転移を可能にしている。
【００７２】
素子基板２２の液晶層３７側には、走査線１０２とデータ線１０４と容量線１０６とが形成されている。素子基板２２と、走査線１０２及び容量線１０６との間には、酸化シリコン（ＳｉＯ2）等からなる下地層を形成してもよい。走査線１０２の液晶層３７側には、酸化シリコン等からなるゲート絶縁層５８を挟んで半導体層５６が形成されている。
【００７３】
半導体層５６は、例えばアモルファスシリコンやポリシリコン等から構成することができる。また、半導体層５６に一部が重なる状態でソース電極５４とドレイン電極５２とが形成されている。ソース電極５４は、データ線１０４の一部を突出するようにパターニングして形成されている。ドレイン電極５２は、データ線１０４と同層の材料層を島状にパターニングして形成されている。
【００７４】
半導体層５６、ソース電極５４、ドレイン電極５２、走査線１０２等からＴＦＴ４０が構成される。走査線１０２は、ＴＦＴ４０のゲート電極としても機能している。走査線（ゲート電極）１０２、ソース電極５４、ドレイン電極５２、データ線１０４、容量線１０６は、例えば、チタン（Ｔｉ）、クロム（Ｃｒ）、タングステン（Ｗ）、タンタル（Ｔａ）、モリブデン（Ｍｏ）等の高融点金属、上記金属のうちの少なくとも１つを含む合金、上記金属を含む金属シリサイド、ポリシリサイド、導電性ポリシリコン等で形成することができる。また、上記各層の積層体で形成してもよい。
【００７５】
ＴＦＴ４０の上層（液晶層３７側）には、酸化シリコン等からなる層間絶縁層６０を介して第２の電極としての画素電極４２が形成されている。画素電極４２は、共通電極４３と同様にＩＴＯからなる。画素電極４２は、層間絶縁層６０に設けられたコンタクトホール６２を介してドレイン電極５２に電気的に接続されている。上述したように画素電極４２は、一部が容量線１０６と対向しており、容量線１０６との間で補助容量４４（図３参照）を構成する。画素電極４２上層には、ポリイミドを含有する他方の配向膜としての第２の配向膜３４が形成されている。また、素子基板２２の液晶層３７側の反対側の面には、第２の偏光板３２が貼付されている。
【００７６】
第２の偏光板３２の外側（素子基板２２の側の反対の側）には図示しない白色光源が配置されている。該白色光源から照射された光は、第２の偏光板３２、第２の配向膜３４、液晶層３７、第１の配向膜３３、第１の偏光板３１の順に透過して、画素領域４５（図５参照）から観察者に向けて射出される。以下、凸部領域２０に含まれる液晶性モノマー１４の配列と、該凸部領域による転移核形成の円滑化について述べる。
【００７７】
図７は、第１の実施形態の液晶装置１の凸部領域２０とその周囲の部分を、対向基板２１に垂直な面で切断した断面図である。図７（ａ）は液晶層３７中の液晶分子３８がスプレイ配向状態であるときを示す図であり、図７（ｂ）は液晶分子３８がベンド配向状態に転移した状態を示す図である。本図では、対向基板２１に貼付された第１の偏光板３１と素子基板２２に貼付された第２の偏光板３２は、図示を省略している。また、本図においては、対向基板２１と第１の配向膜３３との間に形成される遮光層４９、カラーフィルタ５０、及び共通電極４３を合わせてカラーフィルタ層１５として図示している。同様に、素子基板２２と第２の配向膜３４との間に形成される、層間絶縁層６０及び画素電極４２、及び上記双方の要素間に形成される図示しないＴＦＴ４０（図６参照）等の各要素を合わせて、素子層１６として図示している。
【００７８】
図７（ａ）に示すように、凸部領域２０内に含有されている液晶性モノマー１４は、該凸部領域と第１の配向膜３３との界面近傍では、該第１の配向膜の配向方向すなわちＹ方向に配向している。すなわち、該液晶性モノマーの長軸は、Ｙ方向を向いている。そして、凸部領域２０内における液晶性モノマー１４は、９０度のツイスト角でツイスト配向している。すなわち、液晶性モノマー１４の長軸は、Ｚ方向を中心軸として９０度ツイスト（回転）している。したがって、凸部領域２０の上面３０では、液晶性モノマー１４の長軸はＸ方向を向いている。なお、ツイスト配向とは一対の基板間に充填されている光学的異方性を有する高分子の長軸方向が基板面に平行であり、かつ、該一対の基板間で、該基板面の法線方向を軸としてねじれている配向状態をいう。
【００７９】
かかる液晶性モノマー１４の配向は、隣接する液晶分子３８に配向規制力を加える。その結果、上述の隣接する液晶分子３８、すなわち凸部領域２０の上面３０近傍における液晶分子３８の配向方向は、第２の配向膜３４の配向方向であるＹ方向と直交するＸ方向となる。ここで、スプレイ配向状態の配向方向は、第１の配向膜３３と第２の配向膜３４の配向方向と同じくＹ方向である。また、上述の配向規制力は、凸部領域２０の上面３０に近いほど大きく働く。したがって、上面３０と第２の配向膜３４との間の液晶分子３８もツイスト配向となる。
【００８０】
上述したように、平面視で凸部領域２０と重ならない領域における液晶分子３８の配向はＹ方向を向くスプレイ配向である。したがって、平面視で凸部領域２０の外周に近接（隣接）する領域は、液晶分子３８の配向が不連続となる領域、すなわちディスクリネーション領域１８となる。上述したようにスプレイ配向は安定した状態であり、スプレイ配向からベンド配向への転移には、通常の表示時に比べて高い電圧である転移電圧が必要である。しかし、かかるディスクリネーション領域１８が生じている場合、該領域が転移核となり、比較的低い転移電圧で上述のスプレイ配向から図７（ｂ）に示すベンド配向へと転移させることができる。
【００８１】
なお、凸部領域２０と平面視で重なる領域の液晶分子３８は、上述の転移後も完全なベンド配向には転移しない。しかし、凸部領域２０は非表示領域である遮光層４９の形成領域に配置されているため、表示品質に影響を及ぼすことは回避される。
【００８２】
また、液晶層３７は表示領域１００内に連続的に形成されているため、ディスクリネーション領域１８は該表示領域内に一箇所に形成されていれば、一応は上述の効果を得ることができる。しかし、大画面すなわち広い表示領域１００を持つ液晶装置の場合、一箇所のディスクリネーション領域１８を転移核とした場合には転移時間の増加等が発生し得る。本実施形態の液晶装置１は画素４１毎に凸部領域２０が形成されているため、表示領域１００の面積の大小にかかわらずに速やかにベンド転移を完了させることができる。また、転移核として機能しない凸部領域２０が生じた場合においても、隣り合う画素４１の凸部領域２０を転移核としてベンド転移を進行させることができる。そのため、本実施形態にかかる液晶装置１は、低い転移電圧で確実にベンド転移を完了できる。したがって、本実施形態にかかる液晶装置１は、応答速度の表示品質が向上し、また、信頼性も向上している。
【００８３】
（第２の実施形態）
続いて、第２の実施形態について、図８を用いて説明する。本実施形態にかかる液晶装置２は、第１の実施形態にかかる液晶装置１と同様に、対向基板２１側の第１の配向膜３３上に液晶性モノマー１４を含有する組成物を重合して形成された凸部領域２０が配置されている。該凸部領域が平面視で非表示領域に形成されている点も、第１の実施形態の液晶装置１と同一である。ただし、凸部領域２０内の液晶性モノマー１４の配向状態が、第１の実施形態にかかる液晶装置１と異なっている。そして、かかる配向状態を除いては、本実施形態にかかる液晶装置２は第１の実施形態にかかる液晶装置１と略同一の構成を有している。そこで、第１の実施形態の液晶装置１の説明における図１〜６に相当する図は記載せず、液晶装置１の説明における図７に相当する図、すなわち凸部領域２０の近傍の断面図のみを示す。なお、図８においては、図７に示す構成要素と共通する構成要素には同一の符号を付与し、説明の記載は一部省略している。
【００８４】
図８は、第２の実施形態にかかる液晶装置２の凸部領域２０を、対向基板２１に垂直な面で切断した断面図である。図８（ａ）は液晶層３７中の液晶分子３８がスプレイ配向状態であるときを示す図であり、図８（ｂ）は液晶分子３８がベンド配向状態に転移した状態を示す図である。
【００８５】
図８（ａ）に示すように、凸部領域２０内の液晶性モノマー１４は、第１の配向膜３３の界面近傍では、該第１の配向膜の配向方向すなわちＹ方向に配向している。すなわち、液晶性モノマー１４の長軸がＹ方向を示している。そして、凸部領域２０内における液晶性モノマー１４の配向はハイブリッド配向である。ハイブリッド配向とは、一対の基板間に充填された光学的異方性を有する高分子の長軸方向が、一方の基板側では該基板の基板面に対し平行であり、他方の基板側では垂直になっている配向状態をいう。すなわち、液晶性モノマー１４の長軸は、凸部領域２０と第１の配向膜３３との界面近傍では対向基板２１と素子基板２２とからなる一対の基板に水平であり、凸部領域２０の上面３０に近づくにつれて徐々に立ち上がり、上面３０の近傍ではＺ方向を示している。
【００８６】
一方、転移電圧が印加されていない状態における液晶分子３８の配向は、上記一対の基板に平行なスプレイ配向である。したがって、平面視で凸部領域２０の外周に近接（隣接）する領域は、液晶分子の配向が不連続となる領域、すなわちディスクリネーション領域１８となる。
【００８７】
上述したように、スプレイ配向は安定した状態であり、スプレイ配向からベンド配向への転移には、通常の表示時に比べて高い電圧である転移電圧が必要である。しかし、かかるディスクリネーション領域１８が形成されている場合、該領域が転移核となり、比較的低い転移電圧で上述のスプレイ配向から図８（ｂ）に示すベンド配向へと転移させることができる。したがって、本実施形態にかかる液晶装置２は、上述の液晶装置１と同様に応答速度の表示品質が向上し、また、信頼性も向上している。
【００８８】
なお、本実施形態にかかる液晶装置２において、凸部領域２０は非表示領域である遮光層４９と平面視で重なるように形成されているため、表示品質に影響を及ぼすことは回避される点は、上述の第１の実施形態の液晶装置１と同様である。また、凸部領域２０は画素４１毎に形成されているため、低い転移電圧で確実にベンド転移を完了できる点も、上述の第１の実施形態の液晶装置１と同様である。
【００８９】
（第３の実施形態）
続いて、第３の実施形態にかかる液晶装置３について、図９を用いて説明する。本実施形態にかかる液晶装置３は、第１の実施形態にかかる液晶装置１及び第２の実施形態にかかる液晶装置２と類似する構成であり、凸部領域２０の平面形状のみが異なっている。そこで、第１の実施形態における図５に相当する、画素電極４２、遮光層４９、及び凸部領域２０等を示す平面図のみを示す。なお、上述の各実施形態の液晶装置の構成要素と共通する構成要素には同一の符号を付与し、説明の記載は一部省略している。
【００９０】
図９に示すように、本実施形態にかかる液晶装置３は、平面視で画素電極４２の周囲を囲む様に形成された凸部領域２０を備えている。液晶装置３においては画素電極４２がマトリクス状に形成されているため、凸部領域２０の平面形状は遮光層４９と同様に格子状となっている。かかる態様により、本実施形態にかかる液晶装置３においては画素電極４２の周囲に転移核が連続して形成されることとなり、立ち上げ時のスプレイ配向からベンド配向への転移が、該画素電極の周縁部から中心部に向けて進行する。したがって、ベンド転移をより一層速く、かつ確実に進行させることができる。なお、本実施形態における凸部領域２０内の液晶性モノマー１４の配向は、第１の実施形態の液晶装置１で用いたツイスト配向と、第２の実施形態の液晶装置２で用いたハイブリッド配向と、のどちらも用いることができる。
【００９１】
（第４の実施形態）
続いて、第４の実施形態にかかる液晶装置４について、図１０を用いて説明する。本実施形態にかかる液晶装置４は、第１〜３の実施形態にかかる液晶装置１〜３と類似する構成であり、凸部領域２０の平面形状のみが異なっている。そこで、上述の図９に相当する、画素電極４２、遮光層４９、及び凸部領域２０等を示す平面図のみを示す。なお、上述の各実施形態の液晶装置の構成要素と共通する構成要素には同一の符号を付与し、説明の記載は一部省略している。
【００９２】
図１０に示すように、本実施形態にかかる液晶装置４は、平面視で略方形の画素電極４２の一組の対辺に隣り合う様に形成された凸部領域２０を備えている。ＯＣＢモードの液晶装置において、立ち上げ時のスプレイ配向からベンド配向への転移は画素電極４２の両側から進行するので、ベンド転移をより一層速く、かつ確実に進行させることができる。なお、本実施形態における凸部領域２０内の液晶性モノマー１４の配向は、上述の液晶装置３と同様にツイスト配向とハイブリッド配向とのどちらも用いることができる。
【００９３】
（第５の実施形態）
続いて、第５の実施形態にかかる液晶装置５について、図１１を用いて説明する。本実施形態にかかる液晶装置５は、液晶装置３及び液晶装置４と同様に、第１の実施形態にかかる液晶装置１及び第２の実施形態にかかる液晶装置２と類似した構成であり、凸部領域２０の形成領域のみが異なっている。そこで、上述の図９に相当する、画素電極４２、遮光層４９、及び凸部領域２０を示す平面図のみを示す。なお、上述の各実施形態の液晶装置の構成要素と共通する構成要素には同一の符号を付与し、説明の記載は一部省略している。
【００９４】
図１１に示すように、本実施形態にかかる液晶装置５では、凸部領域２０は、画素領域内すなわち画素電極４２と平面視で重なる領域に配置されている。立ち上げ時のスプレイ配向からベンド配向への転移を、画素領域の略中心から周囲に向けて広げることができるため、ベンド転移をより一層速く、かつ確実に進行させることができる。なお、本実施形態における凸部領域２０内の液晶性モノマー１４の配向は、上述の液晶装置３及び液晶装置４と同様にツイスト配向とハイブリッド配向とのどちらを用いることもできる。
【００９５】
（第６の実施形態）
続いて、第６の実施形態として、液晶装置の製造方法について図面を用いて説明する。図１２及び図１３は、該凸部領域に含有されている液晶性モノマー１４がツイスト配向している凸部領域２０を備える液晶装置の製造方法を示す工程断面図である。図１２及び図１３においては、ＴＦＴ４０等の形成工程を省略し、凸部領域２０の形成工程と液晶層３７の形成工程（すなわち液晶の充填工程）を示している。また、上述の各実施形態の液晶装置の構成要素と共通する構成要素には同一の符号を付与し、説明の記載は一部省略している。また、図１２（ａ）のみ、Ｚ方向を上向きに図示し、図１２（ｂ）以降はＺ方向を下向きに図示している。さらに、図１２と図１３は連続した工程を説明しているので、図１２で説明した要素については図１３での説明を一部省略している。以下、各工程について順に説明する。
【００９６】
まず、図１２（ａ）に示すように、素子層１６（図７及び段落「００７６」参照）が形成された素子基板２２の、将来的に液晶層３７（図１３（ｃ）参照）側となる面に、第３の工程として第２の配向膜３４を形成する。そして、第４の工程として該第２の配向膜にラビング用ローラ１９を用いてラビング処理を行う。ラビング方向はＹ方向である。
【００９７】
次に、図１２（ｂ）に示すように、カラーフィルタ層１５（図７及び段落「００７６」参照）が形成された対向基板２１の将来的に液晶層３７側となる面に、第１の工程として第１の配向膜３３を形成する。そして、第２の工程として該第１の配向膜にラビング用ローラ１９を用いてラビング処理を行う。ラビング方向はＹ方向である。なお、図１２（ａ）に示す工程と図１２（ｂ）に示す工程とはどちらを先にしてもよく、同時に行うこともできる。
【００９８】
次に、図１２（ｃ）に示すように、第５の工程として第１の配向膜３３を覆うように光重合性の官能基を有する液晶性モノマー１４とカイラル剤とを溶媒に溶解等させてなる液材（液体材料）を塗布して、塗布膜としての液晶性モノマー層１３を形成する。塗布方法はスピンコート法が好ましい。そして、該液晶性モノマー層を含む対向基板２１全体を所定の温度まで加熱して、液晶性モノマー１４に液晶相を発現させる。なお、液晶性モノマー層１３の将来的に液晶層３７側となる面が、凸部領域２０の上面３０となる。
【００９９】
光重合性の官能基を有する液晶性モノマーとは、アクリレートあるいはメタクリレート等の光重合性の官能基が液晶骨格に結合された構造を有し、所定の温度範囲において液晶状態を示す材料である。該液晶性モノマーは数種類の材料の混合物が好ましい。数種類の単品化合物を混合することで、共晶効果により、液晶の温度範囲を広げることができるからである。カイラル剤とは、液晶性モノマー等の光学的異方性を有する分子の配列を、基板面に垂直な方向を中心軸として回転する配向であるツイスト配向とする作用を発現する薬剤である。該カイラル剤も、カイラル構造を有する重合性モノマーであることが好ましい。
【０１００】
上述の加熱により、液晶性モノマー層１３に含まれる液晶性モノマー１４の配向方向は、第１の配向膜３３との界面近傍では該第１の配向膜の配向方向であるＹ方向となる。そして、上述のカイラル剤の作用により対向基板２１に垂直な線を軸としてツイスト配向する。かかるツイスト（回転）の角度は、カイラル剤の含有比率等で調整可能である。本実施形態における含有比率は、上述のツイストが液晶性モノマー層１３の層厚方向内で９０度回転するように調整されている。したがって、液晶性モノマー層１３の表面近傍、すなわち将来的に凸部領域２０の上面３０（図７参照）の近傍となる部分における液晶性モノマー１４の配向方向はＸ方向となる。
【０１０１】
次に、図１２（ｄ）に示すように、上述の加熱を維持しつつ、すなわち９０度のツイストを維持しつつ、第６の工程として透過部１２ａと遮光部１２ｂとを備えるフォトマスク１２を介して液晶性モノマー層１３に紫外線１１を照射する。透過部１２ａと対向する領域が、将来的に凸部領域２０が形成される領域である。紫外線１１は、液晶性モノマー１４を重合させて高分子化する機能を有している。したがって、透過部１２ａと対向する領域の液晶性モノマー１４は重合され高分子となり、遮光部１２ｂと対向する領域の液晶性モノマー１４は重合されずにそのままの状態を保つ。
【０１０２】
次に、図１３（ａ）に示すように、第７の工程として遮光部１２ｂと対向する領域の液晶性モノマー層１３すなわち高分子化されていない液晶性モノマー層１３を剥離液により除去してパターニングする。剥離液は有機系の溶剤、具体的にはＩＰＡ（イソプロピルアルコール）、アセトン、エタノール等を用いることができる。かかる工程により、ツイスト配向された光学的異方性を有する高分子としての液晶性モノマー１４を含有する凸部領域２０が形成される。凸部領域２０は略平坦な膜層である液晶性モノマー層１３をパターニングして形成されているため、将来的に液晶層３７側となる面は略平坦な面となる。かかる面が凸部領域２０の上面３０となる。
【０１０３】
次に、対向基板２１と素子基板２２とのどちらか一方の外縁部に、図示しないシール材２３（図１（ｂ）参照）を形成する。そして図１３（ｂ）に示すように、第８の工程として対向基板２１と素子基板２２とを、配向膜（３３、３４）が形成されている面が対向するように、スペーサ６３を介して貼り合わせる。上述のシール材２３及びスペーサ６３により、対向基板２１と素子基板２２との間隔は略一定に保たれる。
【０１０４】
次に、図１３（ｃ）に示すように、第９の工程として上記一対の基板及びシール材２３で構成される空間内にＯＣＢモードの液晶を注入して、液晶層３７を形成する。以上の工程に、液晶を注入するためにシール材２３に設けられている注入口の封止工程等を実施することで、液晶装置が形成される。
【０１０５】
（本実施形態の効果）
上述したように、上記一対の配向膜（第１の配向膜３３と第２の配向膜３４）の配向方向は、共にＹ方向である。そしてかかる配向は、近傍の液晶分子３８に配向規制力を印加する。したがって、上記一対の配向膜で挟持される領域、すなわち凸部領域２０と平面視で重ならない領域における液晶層３７に含まれる液晶分子３８の配向は、図示するようにＹ方向を向くスプレイ配向となる。
【０１０６】
一方、凸部領域２０と平面視で重なる領域の液晶分子３８は、該凸部領域と第２の配向膜３４との双方から配向規制力を受ける。上述したように、凸部領域２０の上面３０の配向はＸ方向であり、第２の配向膜３４の配向方向はＹ方向である。したがって、凸部領域２０と平面視で重なる領域の液晶分子３８の配向は、図示するように９０度回転するツイスト配向となる。
【０１０７】
液晶層３７の配向は凸部領域２０の形成領域とその他の領域とで明確に異なることとなり、上記双方の領域の境界には液晶分子３８の配向が不連続となる領域であるディスクリネーション領域１８が形成される。上述したようにディスクリネーション領域１８は、液晶層３７の配向をスプレイ配向からベンド配向へと転移させる際の転移核となる。従って、本実施形態にかかる製造方法で得られた液晶装置は、比較的低い転移電圧で円滑にスプレイ配向からベンド配向へと転移させることが可能となる。
【０１０８】
なお、本実施形態において凸部領域２０を素子基板２２の液晶層３７側に形成する態様も実施可能である。しかし、かかる態様では、液晶性モノマー層１３のパターニング時に剥離液によりＴＦＴ４０等が劣化する可能性がある。したがって、凸部領域２０は対向基板２１の液晶層３７側に形成することが好ましい。また、スペーサ６３は、パーソナルコンピュータあるいはテレビ等に用いられる、表示領域１００が大面積の液晶装置においては必要性が高いが、投射型表示装置の構成要素であるライトバルブ等に用いられる小型（小表示領域）の液晶装置においては必須のものではない。
【０１０９】
（第７の実施形態）
続いて、第７の実施形態として、ハイブリッド配向している液晶性モノマー１４を含有する凸部領域２０を備える液晶装置の製造方法について、図面を用いて説明する。図１４及び図１５は、第７の実施形態にかかる液晶装置の製造方法を示す工程断面図であり、上述の第６の実施形態と同様に、凸部領域２０の形成工程と液晶層３７の形成工程を示している。また、上述の各実施形態の液晶装置の構成要素と共通する構成要素には同一の符号を付与し、説明の記載は一部省略している。図１４（ａ）のみ、Ｚ方向を上向きに図示し、図１４（ｂ）以降はＺ方向を下向きに図示している点は、上述の第６の実施形態と同様である。また、図１４と図１５は連続した工程を説明しているので、図１４で説明した要素については図１５での説明を一部省略している点も上述の第６の実施形態と同様である。以下、各工程について順に説明する。
【０１１０】
まず、図１４（ａ）に示すように、素子層１６が形成された素子基板２２の将来的に液晶層３７（図１５（ｃ）参照）側となる面に、第３の工程として第２の配向膜３４を形成する。そして、第４の工程として該第２の配向膜にラビング用ローラ１９を用いてラビング処理を行う。ラビング方向はＹ方向である。
【０１１１】
次に、図１４（ｂ）に示すように、カラーフィルタ層１５が形成された対向基板２１の将来的に液晶層３７側となる面に、第１の工程として第１の配向膜３３を形成する。そして、第２の工程として該第１の配向膜にラビング用ローラ１９を用いてラビング処理を行う。ラビング方向はＹ方向である。上記第６の実施形態と同様に、図１４（ａ）に示す工程と図１４（ｂ）に示す工程とはどちらを先にしてもよく、同時に行うこともできる。
【０１１２】
次に、図１４（ｃ）に示すように、第５の工程として第１の配向膜３３を覆うように光重合性の官能基を有する液晶性モノマー１４と界面活性剤とを溶媒に溶解等させてなる液材を塗布して、塗布膜としての液晶性モノマー層１３を形成する。そして、該第５の工程の後に液晶性モノマー層１３を含む対向基板２１全体を所定の温度まで加熱して、液晶性モノマー１４に液晶相を発現させる。上述の第６の実施形態と同じく、塗布方法はスピンコート法が好ましい。また、液晶性モノマーは数種類の材料の混合物が好ましい点も、上述の第６の実施形態と同様である。
【０１１３】
界面活性剤は、基板面に水平方向の配向規制力を有する基板上に形成された液晶性モノマー等の光学的異方性を有する分子の配列を、該基板面に対して角度を付与する作用を発現する性質を有している。一方で、第１の配向膜３３の配向方向はＹ方向であるため、上述の配向規制力はＹ方向に働く。そして、該配向規制力は第１の配向膜３３に近いほど強く働く。したがって、液晶性モノマー層１３が加熱されて、該液晶性モノマー層に含有される液晶性モノマー１４に液晶相が発現すると、該液晶性モノマーの配向方向は、該対向基板の界面近傍ではＹ方向となり、該界面から遠ざかるにつれて対向基板２１に対して角度を有する方向となる。
【０１１４】
上述の角度は、液晶性モノマー１４と界面活性剤との混合比率によって調整できる。本工程では、かかる混合比率を、上記角度が液晶性モノマー層１３の表面近傍では対向基板２１の表面に対して垂直となる様に調整している。したがって、本工程で形成された液晶性モノマー層１３に含有される液晶性モノマー１４の配向は、液晶性モノマー層１３と対向基板２１との界面近傍では該表面に対して略水平となり、該液晶性モノマー層の表面（将来的に液晶層３７側となる面）近傍では対向基板２１の表面に対して垂直となるハイブリッド配向となる。
【０１１５】
次に、図１４（ｄ）に示すように、上述の加熱を維持しつつ、すなわちハイブリッド配向を維持しつつ、第６の工程として透過部１２ａと遮光部１２ｂとを備えるフォトマスク１２を介して液晶性モノマー層１３に紫外線１１を照射する。透過部１２ａと対向する領域が、将来的に凸部領域２０が形成される領域である。紫外線１１は、液晶性モノマー１４を重合させて高分子化する機能を有している。したがって、透過部１２ａと対向する領域の液晶性モノマー１４は重合され高分子となり、遮光部１２ｂと対向する領域の液晶性モノマー１４は重合されずにそのままの状態を保つ。
【０１１６】
次に、図１５（ａ）に示すように、第７の工程として遮光部１２ｂと対向する領域の液晶性モノマー層１３すなわち高分子化されていない液晶性モノマー層１３を剥離液により除去してパターニングする。剥離液は、上述の第６の実施形態で用いたものと同様の液を用いることができる。かかる工程により、ハイブリッド配向された、光学的異方性を有する高分子としての液晶性モノマー１４を含有する凸部領域２０が形成される。凸部領域２０は略平坦な膜層である液晶性モノマー層１３をパターニングして形成されているため、将来的に液晶層３７側となる面は略平坦な面となる。かかる面が凸部領域２０の上面３０となる。
【０１１７】
次に、対向基板２１と素子基板２２とのどちらか一方の外縁部に、図示しないシール材２３（図１（ｂ）参照）を形成する。そして図１５（ｂ）に示すように、第８の工程として対向基板２１と素子基板２２とを、配向膜（３３，３４）が形成されている面が対向するように、スペーサ６３を介して貼り合わせる。上述のシール材２３及びスペーサ６３により、対向基板２１と素子基板２２との間隔は略一定に保たれる。
【０１１８】
次に、図１５（ｃ）に示すように、第９の工程として上記一対の基板及びシール材２３で構成される空間内にＯＣＢモードの液晶を注入して、液晶層３７を形成する。以上の工程に、液晶を注入するためにシール材２３に設けられている注入口の封止工程等を実施することで、液晶装置が形成される。
【０１１９】
なお、液晶を、対向基板２１と素子基板２２との間に注入する方法としては、該一対の基板のいずれか一方の基板にシール材２３を形成後、該一方の基板と該シール材で形成される凹部内に液晶を滴下し、その後もう一方の基板を貼り合わせる方法を用いることもできる。
【０１２０】
（本実施形態の効果）
上記第６の実施形態で述べたように、凸部領域２０と平面視で重ならない領域における液晶層３７に含まれる液晶分子３８の配向は、図示するようにスプレイ配向となる。一方、凸部領域２０と平面視で重なる領域の液晶分子３８は、該凸部領域と第２の配向膜３４との双方から配向規制力を受ける。上述したように、凸部領域２０の上面３０の配向はＺ方向であり、第２の配向膜３４の配向方向はＹ方向である。したがって、凸部領域２０と平面視で重なる領域の液晶分子３８の配向は、図示するようにハイブリッド配向となる。したがって、上述の第６の実施形態にかかる液晶装置と同様に、本実施形態により得られる液晶装置における凸部領域２０の形成領域とその他の領域との境界には、ディスクリネーション領域１８が形成される。そして、かかるディスクリネーション領域１８を転移核とすることで、比較的低い転移電圧で円滑にスプレイ配向からベンド配向へと転移させることが可能となる。
【０１２１】
なお、凸部領域２０は素子基板２２上にも形成できるが、パターニングによるＴＦＴ４０等の劣化を考慮すると対向基板２１上に形成することが好ましいこと、及び小型の液晶装置の製造においてはスペーサ６３は必須ではないことも、上記第６の実施形態と同様である。
【０１２２】
（第８の実施形態）
続いて、第８の実施形態として、対向基板２１上に２層の配向膜を備える液晶装置の製造方法について説明する。図１６は、第８の実施形態にかかる液晶装置の製造方法を示す工程断面図であり、上述の各実施形態と同様に、凸部領域２０の形成工程と液晶層３７の形成工程を示している。本実施形態の液晶装置の製造方法は、第６の実施形態の液晶装置の製造方法の、図１３（ａ）までの工程と同一である。そこで、図１３（ａ）に示す、剥離液を用いて凸部領域２０を形成した後の工程を説明する。なお、上述の各実施形態の液晶装置の構成要素と共通する構成要素には同一の符号を付与し、説明の記載は一部省略している。
【０１２３】
まず、上述の第１〜７の工程を実施する。図１６（ａ）に示すように、対向基板２１上に第１の配向膜３３と、上面３０を有する凸部領域２０が形成される。凸部領域２０内の液晶性モノマー１４は、９０度のツイスト配向となっている。
【０１２４】
次に、図１６（ｂ）に示すように、第１０の工程として対向基板２１上全面に第３の配向膜３５を形成する。該第３の配向膜の形成材料及び形成方法等は、第１の配向膜３３と同一であることが好ましい。
【０１２５】
次に、図１６（ｃ）に示すように、第１１の工程として、ラビング用ローラ１９を用いて第３の配向膜３５にＹ方向のラビング処理を実施する。かかる処理により、第３の配向膜３５に含有されるポリイミド等の分子が、第１の配向膜３３に含有されるポリイミド等の分子と同様に、Ｙ方向に配向される。また、かかるラビング処理により、凸部領域２０の表面の少なくとも一部では第３の配向膜３５が剥離して、該凸部領域に含有される液晶性モノマー１４が露出する。なお、図１６（ｃ）では該表面の略全面が露出するように図示している。
【０１２６】
次に、図１６（ｄ）に示すように、第８の工程として対向基板２１と図１２（ａ）に示す工程により配向処理が行われている素子基板２２とをスペーサ６３を介して貼り合わせる。そして、図示しないシール材２３（図１参照）と、上述の一対の基板とで形成される空間に液晶層３７を充填する。
【０１２７】
以下、上記第６及び第７の実施形態と同様に、第９の工程として上記一対の基板及びシール材２３で構成される空間内にＯＣＢモードの液晶を注入して液晶層３７を形成した後、該液晶を注入するためにシール材２３に設けられている図示しない注入口の封止工程等を実施することで、液晶装置を形成する。
【０１２８】
（本実施形態の効果）
本実施形態の製造方法で形成された液晶装置は、対向基板２１の液晶層３７側の面に、第１の配向膜３３と第３の配向膜３５とが積層されている。そして、液晶層３７を第２の配向膜３４と第３の配向膜３５とで挟持している。
【０１２９】
上述したように、第７の工程では、第１の配向膜３３を覆うように形成された液晶性モノマー層１３をパターニングする。かかるパターニングの際には、第１の配向膜３３が剥離液により劣化することもあり得る。本実施形態の製造方法で形成された液晶装置は、上述のパターニングの後に再度配向膜（第３の配向膜３５）が形成されているため、第７の工程による劣化の可能性のない配向膜で液晶層３７を挟持できる。したがって、比較的低い転移電圧で円滑にスプレイ配向からベンド配向へと転移させることが可能であると共に、立ち上げ（始動）後においても、品質の劣化が抑制された良好な画像を表示できる。また、上記第７の工程における剥離液の選定の自由度が向上するため、液晶性モノマー層１３のパターニングをより一層容易に実施できる。
【０１３０】
なお、本実施形態では第１の実施形態の製造方法に第３の配向膜３５を形成する工程等を付加する態様を示したが、第２の実施形態の製造方法に第３の配向膜３５を形成する工程等を付加する態様も可能である。
【０１３１】
（第９の実施形態）
続いて第９の実施形態として、対向基板２１の液晶層３７側の面に、互いに異なる方向に配向された２層の配向膜を備える液晶装置の製造方法について、図面を用いて説明する。図１７及び図１８は、第９の実施形態にかかる液晶装置の製造方法を示す工程断面図であり、上述の第６の実施形態と同様に、凸部領域２０の形成工程と液晶層３７の形成工程を示している。図１７（ａ）はＺ方向を上向きかつＹ方向を右向きに図示し、図１７（ｂ）はＺ方向を下向きかつＸ方向を右向きに図示し、図１７（ｃ）以降はＺ方向を下向きかつＹ方向を左向きに図示している。上述の各実施形態の液晶装置の構成要素と共通する構成要素には同一の符号を付与し、説明の記載は一部省略している。また、図１７と図１８は連続した工程を説明しているので、図１７で説明した要素については図１８での説明を一部省略している。以下、各工程を順に説明する。
【０１３２】
まず、図１７（ａ）に示すように、素子層１６が形成された素子基板２２の将来的に液晶層３７（図１８（ｃ）参照）側となる面に、第１４の工程として第２の配向膜３４を形成する。そして、第１５の工程として、ラビング用ローラ１９を用いて、該第２の配向膜に第２の方向としてのＹ方向のラビング処理を行う。
【０１３３】
次に、図１７（ｂ）に示すように、カラーフィルタ層１５が形成された対向基板２１上に、第１２の工程として第１の配向膜３３を形成する。そして、第１３の工程として、ラビング用ローラ１９を用いて、該第１の配向膜に、対向基板２１に水平の方向でありかつＹ方向と９０度異なる第１の方向としてのＸ方向のラビング処理を行う。
【０１３４】
次に、図１７（ｃ）に示すように、第１６の工程として第１の配向膜３３上に光重合性の官能基を有する液晶性モノマー１４を溶媒に溶解等させてなる液材を塗布して、液晶性モノマー１４を含有する塗布膜としての液晶性モノマー層１３を形成する。そして、該液晶性モノマー層を含む対向基板２１全体を所定の温度まで加熱して、液晶性モノマー１４に液晶相を発現させる。上述したように、図１７（ｃ）は、図１７（ｂ）を９０度回転させて図示している。上述の塗布方法はスピンコート法が好ましい。また、第６の実施形態と同様に、該液晶性モノマーは数種類の材料の混合物が好ましい。
【０１３５】
ここで、液晶性モノマー１４に液晶相が発現する際、該液晶層の配列は第１の配向膜３３から配向規制力を受ける。また、本実施形態の液晶性モノマー層１３には、上述の第６〜８の実施形態の該液晶性モノマー層とは異なり、カイラル剤あるいは界面活性剤は含まれていない。したがって、液晶性モノマー層１３に含有されている液晶性モノマー１４の配列方向は、該液晶性モノマー層の露出している表面から第１の配向膜３３との界面近傍まで共通して第１の方向としてのＸ方向となる。
【０１３６】
次に、図１７（ｄ）に示すように、上述の加熱を維持しつつ、第１７の工程として透過部１２ａと遮光部１２ｂとを備えるフォトマスク１２を介して液晶性モノマー層１３に紫外線１１を照射する。かかる工程により、透過部１２ａと対向する領域の液晶性モノマー１４が重合により高分子化される。ここで、遮光部１２ｂと対向する領域の液晶性モノマー１４は、重合されずにそのままの状態を保つ。
【０１３７】
次に、図１７（ｅ）に示すように、第１８の工程として遮光部１２ｂと対向する領域の液晶性モノマー層１３すなわち重合されていない液晶性モノマー層１３を剥離液により除去してパターニングする。剥離液は、上述の第６〜８の実施形態と同様の液を用いることができる。かかる工程により、第１の方向としてのＸ方向に配向された、光学的異方性を有する高分子としての液晶性モノマー１４を含有する凸部領域２０が形成される。凸部領域２０は略平坦な膜層である液晶性モノマー層１３をパターニングして形成されているため、将来的に液晶層３７側となる面は略平坦な面となる。かかる面が凸部領域２０の上面３０となる。
【０１３８】
次に、図１８（ａ）に示すように、第１９の工程として凸部領域２０が形成された対向基板２１の将来的に液晶層３７側となる面に、第１の配向膜３３及び凸部領域２０を覆うように第３の配向膜３５を形成する。該第３の配向膜の材質及び形成方法は、第１の配向膜３３及び第２の配向膜３４の形成方法等と同一でよい。
【０１３９】
次に、図１８（ｂ）に示すように、第２０の工程として第３の配向膜３５に第２の方向としてのＹ方向のラビング処理を行い、第３の配向膜３５に含有されるポリイミド等の分子をＹ方向に配向する。また、かかるラビング処理により、凸部領域２０の表面の少なくとも一部では第３の配向膜３５が剥離して、凸部領域２０に含有される液晶性モノマー１４が露出する。なお、図１８（ｂ）では該表面の略全面が露出するように図示している。
【０１４０】
次に、対向基板２１と素子基板２２とのどちらか一方の外縁部に、図示しないシール材２３（図１（ｂ）参照）を形成する。そして図１８（ｃ）に示すように、第２１の工程として対向基板２１と素子基板２２とを、第３の配向膜３５と第２の配向膜３４とが対向するようにスペーサ６３を介して貼り合わせる。シール材２３及びスペーサ６３により、対向基板２１と素子基板２２との間隔は略一定に保たれる。
【０１４１】
次に、図１８（ｄ）に示すように、第２２の工程として上記一対の基板（対向基板２１及び素子基板２２）及びシール材２３で構成される空間内にＯＣＢモードの液晶を注入して、液晶層３７を形成する。以上の工程に、液晶を注入するためにシール材２３に設けられている注入口の封止工程等をさらに実施することで、液晶装置を形成する。
【０１４２】
（本実施形態の効果）
上述したように、液晶層３７を挟持する第３の配向膜３５と第２の配向膜３４との一対の配向膜の配向方向は、共に第２の方向としてのＹ方向である。そしてかかる配向は、近傍の液晶分子３８に配向規制力を印加する。したがって、上記一対の配向膜で挟持される領域、すなわち凸部領域２０と平面視で重ならない領域における液晶層３７に含まれる液晶分子３８の配向は、図示するようにスプレイ配向となる。
【０１４３】
一方、凸部領域２０と平面視で重なる領域の液晶分子３８は、該凸部領域と第２の配向膜３４との双方から配向規制力を受ける。上述したように、凸部領域２０に含有される液晶性モノマー１４の配向はＸ方向であり、第２の配向膜３４の配向方向はＹ方向である。したがって、凸部領域２０と平面視で重なる領域の液晶分子３８の配向は、図示するようにＸ方向からＹ方向にかけて９０度回転するツイスト配向となる。また、図示は省略しているが、凸部領域２０の上面３０を除く他の部分（他の表面）の近傍の液晶分子３８の配向も、凸部領域２０に含有される液晶性モノマー１４の配向規制力により、Ｘ方向を向くようになる。
【０１４４】
したがって、本実施形態の製造方法により得られる液晶装置は、凸部領域２０と液晶層３７との界面近傍にディスクリネーション領域１８が形成される。そして、該ディスクリネーション領域を転移核とすることにより、比較的低い転移電圧で円滑にスプレイ配向からベンド配向へと転移させることできる。
【０１４５】
また、本実施形態の製造方法は、上述の第６〜８の実施形態の製造方法とは異なり、凸部領域２０の形成にカイラル剤及び界面活性剤等を用いていない。したがって、上述の薬剤を混入する工程を省くことができる。また、該薬剤の添加量の微妙な調整によらず、常に液晶層３７を挟持する一対の配向膜（第３の配向膜３５と第２の配向膜３４）の配向と直交する配向を有する凸部領域２０を形成できる。
【０１４６】
また、本実施形態の製造方法により得られる液晶装置は、凸部領域２０の形成工程（第１８の工程）により表面が劣化した可能性のある第１の配向膜３３に代わり、凸部領域２０の形成後に新たに形成された第３の配向膜３５と、第２の配向膜３４と、で液晶層３７を挟持できる。したがって、上述の表面の劣化が生じている場合においても、良好な画像を表示できる。また、上記第１８の工程における剥離液の選定の自由度が向上するため、液晶性モノマー層１３のパターニングをより一層容易に実施できる。
【０１４７】
なお、上述の第１の方向は、対向基板２１に垂直の方向すなわちＺ方向でもよい。かかる方向の配向は、レーザー光の照射等で形成できる。また、スペーサ６３は、パーソナルコンピュータあるいはテレビ等に用いられる、表示領域１００が大面積の液晶装置においては必要性が高いが、投射型表示装置の構成要素であるライトバルブ等に用いられる小型（小表示領域）の液晶装置においては必須のものではない。
【０１４８】
（電子機器）
次に、上述の第１〜第９の実施形態にかかる液晶装置のいずれかを、電子機器に適用した例について説明する。図１９は、電子機器としての携帯電話機８０の斜視図である。携帯電話機８０は、表示部８１及び操作ボタン８２を有している。表示部８１は、内部に組み込まれた液晶装置１（あるいは液晶装置２〜５）によって、操作ボタン８２で入力した内容や着信情報を始めとする様々な情報について表示を行うことができる。携帯電話機８０は、表示部８１に搭載された液晶装置１を容易に初期配向転移させて表示可能な状態に移行することができる。また、液晶装置１においてスプレイ配向への逆転移が生じにくいことに起因して、高品位な表示を行うことができる。
【０１４９】
図２０は、電子機器としての投射型表示装置（プロジェクター）２００の概略構成を示す図である。投射型表示装置２００は、上述の第１〜第９の実施形態にかかる液晶装置のいずれかを光変調装置として用いている。図２０において、２１０は光源、２１３、２１４はダイクロイックミラー、２１５、２１６、２１７は反射ミラー、２１８は入射レンズ、２１９はリレーレンズ、２２０は出射レンズ、２２５はクロスダイクロイックプリズム、２２６は投写レンズである。そして、２２２、２２３、及び２２４は、上述の第１〜第９の実施形態にかかる液晶装置のいずれかを用いた液晶光変調装置である。具体的には、２２２が赤色光用液晶光変調装置、２２３が緑色光用液晶光変調装置、２２４が青色光用液晶光変調装置、である。
【０１５０】
光源２１０はメタルハライド等のランプ２１１とランプの光を反射するリフレクタ２１２とからなる。青色光、緑色光反射のダイクロイックミラー２１３は、光源２１０からの光束のうちの赤色光を透過させると共に、青色光と緑色光とを反射する。透過した赤色光は反射ミラー２１７で反射されて、赤色光用液晶光変調装置２２２に入射される。
【０１５１】
一方、ダイクロイックミラー２１３で反射された光のうち緑色光は緑色光反射のダイクロイックミラー２１４によって反射され、緑色光用液晶光変調装置２２３に入射される。なお、青色光はダイクロイックミラー２１４も透過する。青色光に対しては、光路長が緑色光、赤色光と異なるのを補償するために、入射レンズ２１８、リレーレンズ２１９、出射レンズ２２０を含むリレーレンズ系からなる導光手段２２１が設けられ、これを介して青色光が青色光用液晶光変調装置２２４に入射される。
【０１５２】
各液晶光変調装置により変調された三原色光の夫々はクロスダイクロイックプリズム２２５に入射する。このプリズムは４つの直角プリズムが貼り合わされ、その内面に赤色光を反射する誘電体多層膜と青色光を反射する誘電体多層膜とが十字状に形成されている。これらの誘電体多層膜によって上述の三原色光が合成されて、カラー画像を表す光が形成される。合成された光は、投写光学系である投写レンズ２２６によってスクリーン２２７上に投写され、画像が拡大されて表示される。
【０１５３】
本実施形態によれば、短時間で液晶層全体を確実にベンド転移させることができる上述の第１〜第９の実施形態にかかる液晶装置のいずれかを搭載したので、表示特性が高く、応答速度の高い表示が可能な投射型表示装置２００を得ることができる。
【０１５４】
（変形例１）
上述の第８の実施形態においては、凸部領域２０を構成する液晶性モノマー１４の配向はツイスト配向であった。しかし、かかる配向はツイスト配向に限定されることはない。凸部領域２０を構成する液晶性モノマー１４の配向をハイブリッド配向としても、凸部領域２０の形成時に劣化した第１の配向膜３３に代わり、新たに形成した第３の配向膜３５により液晶分子を配向できるという効果を、第８の実施形態による液晶装置と同様に得ることができる。
【０１５５】
（変形例２）
上述の各実施形態では、凸部領域２０を対向基板２１側に形成している。しかし、本発明は凸部領域２０を素子基板２２側に形成する態様としても具体化が可能である。また、対向基板２１と素子基板２２の双方に、凸部領域２０を形成する態様も可能である。かかる態様においては、上述の双方の基板における平面視で異なる位置に凸部領域２０を形成することで、凸部領域２０同士が突き合うことを回避でき、該凸部領域の高さを任意に設定できる。
【図面の簡単な説明】
【０１５６】
【図１】第１の実施形態にかかる液晶装置の構成を模式的に示す図。
【図２】ＯＣＢモードにおける液晶分子の配列を示す図。
【図３】液晶装置の表示領域における各種素子、配線等の等価回路図。
【図４】画素の構成を示す平面図。
【図５】画素電極及び遮光層の形状を示す平面図。
【図６】図４中のＢ−Ｂ’線における断面図。
【図７】第１の実施形態の液晶装置の凸部領域を、対向基板に垂直な面で切断した断面図。
【図８】第２の実施形態の液晶装置の凸部領域を、対向基板に垂直な面で切断した断面図。
【図９】第３の実施形態の液晶装置の画素電極、遮光層、及び凸部領域を示す平面図。
【図１０】第４の実施形態の液晶装置の画素電極、遮光層、及び凸部領域を示す平面図。
【図１１】第５の実施形態の液晶装置の画素電極、遮光層、及び凸部領域を示す平面図。
【図１２】第６の実施形態にかかる液晶装置の製造方法を示す工程断面図。
【図１３】第６の実施形態にかかる液晶装置の製造方法を示す工程断面図。
【図１４】第７の実施形態にかかる液晶装置の製造方法を示す工程断面図。
【図１５】第７の実施形態にかかる液晶装置の製造方法を示す工程断面図。
【図１６】第８の実施形態にかかる液晶装置の製造方法を示す工程断面図。
【図１７】第９の実施形態にかかる液晶装置の製造方法を示す工程断面図。
【図１８】第９の実施形態にかかる液晶装置の製造方法を示す工程断面図。
【図１９】電子機器としての携帯電話機の斜視図。
【図２０】電子機器としての投射型表示装置の概略構成図。
【符号の説明】
【０１５７】
１…液晶装置、２…液晶装置、３…液晶装置、４…液晶装置、５…液晶装置、１１…紫外線、１２…フォトマスク、１２ａ…透過部、１２ｂ…遮光部、１３…塗布膜としての液晶性モノマー層、１４…光学的異方性を有する高分子としての液晶性モノマー、１５…カラーフィルタ層、１６…素子層、１８…ディスクリネーション領域、１９…ラビング用ローラ、２０…凸部領域、２１…第１の基板としての対向基板、２２…第２の基板としての素子基板、２３…シール材、２４…ドライバーＩＣ、３０…表面としての上面、３１…第１の偏光板、３２…第２の偏光板、３３…第１の配向膜、３４…第２の配向膜、３５…第３の配向膜、３７…液晶層、３８…液晶分子、４０…ＴＦＴ、４１…画素、４２…第２の電極としての画素電極、４３…第１の電極としての共通電極、４４…補助容量、４５…画素領域、４９…遮光層、５０…カラーフィルタ、５２…ドレイン電極、５４…ソース電極、５６…半導体層、５８…ゲート絶縁層、６０…層間絶縁層、６２…コンタクトホール、６３…スペーサ、８０…携帯電話機、８１…表示部、８２…操作ボタン、１００…表示領域、１０２…走査線、１０４…データ線、１０６…容量線、２００…投射型表示装置、２１０…光源、２１１…ランプ、２１２…リフレクタ、２１３…ダイクロイックミラー、２１４…ダイクロイックミラー、２１５…反射ミラー、２１６…反射ミラー、２１７…反射ミラー、２１８…入射レンズ、２１９…リレーレンズ、２２０…出射レンズ、２２２…赤色光用液晶光変調装置、２２３…緑色光用液晶光変調装置、２２４…青色光用液晶光変調装置、２２５…クロスダイクロイックプリズム、２２６…投写レンズ、２２７…スクリーン。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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