(57)【要約】【課題】欠陥修正装置において、均一な強度分布を有するレーザ光を基板に照射する。【解決手段】レーザ光源７と、このレーザ光源７に接続された光ファイバ８と、この光ファイバ８により導光されたレーザ光を基板に照射する加工ヘッドと、を備える欠陥修正装置において、光ファイバ８を互いに異なる方向に蛇行させる複数のモードスクランブラ１１，１２と、レーザ光源７、光ファイバ８、加工ヘッド、及び、複数のモードスクランブラ１１，１２、を一体的に移動させる移動機構と、を備え、光ファイバ８には、加工ヘッド側の端部８ｂに一直線状に延びる直線部８ｃが形成されている構成とする。【選択図】図３Ａ
2010115686.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザ光源と、該レーザ光源に接続された光ファイバと、該光ファイバにより導光されたレーザ光を基板に照射する加工ヘッドと、を備える欠陥修正装置において、
前記光ファイバを互いに異なる方向に蛇行させる複数のモードスクランブラと、
前記レーザ光源、前記光ファイバ、前記加工ヘッド、及び、前記複数のモードスクランブラ、を一体的に移動させる移動機構と、
を備え、
前記光ファイバには、前記加工ヘッド側の端部に一直線状に延びる直線部が形成されている、
ことを特徴とする欠陥修正装置。
【請求項２】
前記レーザ光源は、レーザ光を発振するレーザ発振部と、該レーザ発振部から発振されたレーザ光を前記光ファイバの端部に結合する結合レンズと、を有し、
前記結合レンズは、前記レーザ発振部との相対位置を調整可能に配置される、
ことを特徴とする請求項１記載の欠陥修正装置。
【請求項３】
前記レーザ光源は、前記発振部から発振されるレーザ光を前記結合レンズに反射させる反射部材を更に有し、
前記結合レンズ及び前記反射部材は、前記レーザ発振部との相対位置を調整可能に配置され、
前記結合レンズは、前記反射部材との相対位置を調整可能に配置される、
ことを特徴とする請求項２記載の欠陥修正装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）、半導体ウエハ等の基板の欠陥をレーザ光により修正する欠陥修正装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、レーザ光源から出射されるレーザ光を加工ヘッドにより基板に照射して基板の欠陥を修正する手法がとられている。このように欠陥を修正する装置としては、例えば、レーザ発振器と加工ヘッドとを光ファイバによって接続したレーザ加工装置が知られている（特許文献１参照）。
【０００３】
上記特許文献１記載のレーザ加工装置は、装置端部に固定されたレーザ発振器と、ワーク上を水平２軸方向に移動可能な可動式の加工ヘッドとを備え、レーザ発振器と加工ヘッドとの間を光ファイバで連結している。
【特許文献１】特開平９−２３９５７８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上記特許文献１記載のレーザ加工装置は、光ファイバにより分離されたレーザ発振器及び加工ヘッドのうち加工ヘッドのみを移動させるため、加工ヘッドの移動に伴い光ファイバの変形が繰り返される。
【０００５】
光ファイバの変形が繰り返されると、耐久性が低下し、光ファイバの芯線に亀裂が入って均一な強度分布のレーザ光によるワークの加工を行うことができないという不都合がある。
【０００６】
また、光ファイバの変形が繰り返されると、光ファイバ内の反射条件が変わるため、光ファイバ内を伝送されるレーザ光の品質が変わり、均一な強度分布のレーザ光による基板の加工を行うことができないという不都合がある。
【０００７】
本発明の課題は、均一な強度分布を有するレーザ光を基板に照射することができる欠陥修正装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するために、本発明の欠陥修正装置は、レーザ光源と、このレーザ光源に接続された光ファイバと、この光ファイバにより導光されたレーザ光を基板に照射する加工ヘッドと、を備える欠陥修正装置において、上記光ファイバを互いに異なる方向に蛇行させる複数のモードスクランブラと、上記レーザ光源、上記光ファイバ、上記加工ヘッド、及び、上記複数のモードスクランブラ、を一体的に移動させる移動機構と、を備え、上記光ファイバには、上記加工ヘッド側の端部に一直線状に延びる直線部が形成されている構成とする。
【発明の効果】
【０００９】
本発明では、レーザ光源、光ファイバ、加工ヘッド及び複数のモードスクランブラが一体的に移動するため、レーザ光源と加工ヘッドとの相対距離が一定となり、光ファイバに変形が生じない。
【００１０】
また、本発明では、複数のモードスクランブラが互いに異なる方向に光ファイバを蛇行させると共に、光ファイバには、加工ヘッド側の端部に一直線状に延びる直線部が形成されている。
【００１１】
よって、本発明によれば、均一な強度分布を有するレーザ光を基板に照射することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、本発明の一実施の形態に係る欠陥修正装置について、図面を参照しながら説明する。
図１Ａ及び図１Ｂは、本発明の一実施の形態に係る欠陥修正装置１を示す平面図及び正面図である。
【００１３】
図２は、欠陥修正装置１の加工ヘッド５の内部構造を説明するための概略構成図である。
図３Ａ及び図３Ｂは、欠陥修正装置１の光ファイバ８及びモードスクランブラ１１，１２を説明するための概略側面図及び概略正面図である。
【００１４】
欠陥修正装置１は、例えば、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）等のＦＰＤの製造工程におけるフォトリソグラフィ処理工程で回路パターンが形成されたガラス基板Ａに、配線部分のショート、フォトレジストのはみ出し等の欠陥が検出された場合に、レーザ光により欠陥を除去するといったリペア加工等に用いられる。
【００１５】
欠陥修正装置１は、図１Ａ及び図１Ｂに示されるように、基板Ａを水平な平面状態を保ったまま浮上させる浮上ステージ２と、この浮上ステージ２の側方において基板Ａの一側縁部を吸着保持してＸ方向に搬送する吸着搬送ステージ３と、浮上ステージ２を挟んで基板の搬送方向と直交するＹ方向に掛け渡される門型のガントリ（移動機構）４と、このガントリ４の水平ビーム２０に沿ってＹ方向に一体に移動する加工ヘッド５及びレーザユニット（レーザ電源６、レーザ光源７、光ファイバ８及び２つのモードスクランブラ１１，１２）と、を備えている。
【００１６】
ガントリ４は、加工ヘッド５を取り付けるヘッド取付部１８と、レーザ電源６およびレーザ光源７を取り付けるレーザユニット取付部１９を水平ビーム２０に沿って移動させる移動機構を備えている。ヘッド取付部１８は、ガントリ４を構成する水平ビーム２０の側方に片持ち梁状に、且つ、図示しないリニアガイドレール及びリニアモータによりＹ方向に移動可能に設けられている。また、ヘッド取付部１８には、対物レンズ９を鉛直下方に向けて加工ヘッド５が取り付けられている。
【００１７】
レーザユニット取付部１９は、水平ビーム２０の上面に設けられたレール２１に沿ってＹ方向にスライド可能に支持されたスライダであり、水平ビーム２０の鉛直上方に、比較的重量の大きなレーザ電源６およびレーザ光源７を配置するようになっている。
【００１８】
これらヘッド取付部１８およびレーザユニット取付部１９は、相互に固定されることにより一体的にＹ方向に移動させられるようになっている。
欠陥修正装置１を用いてガラス基板Ａの後述する顕微鏡検査およびレーザ加工を行うには、図示しない搬送ロボット等によって基板Ａを浮上ステージ２上に載置して浮上させた状態で、基板整列機構２３によって位置決めする。位置決め後、吸着搬送ステージ３を上昇させて吸着部３ａによってガラス基板Ａを吸着し、吸着搬送ステージ３のリニアモータを駆動させ、リニアガイドレールに沿ってＸ方向に搬送する。
【００１９】
ＦＰＤ製造ラインに配置されたパターン検査装置等により特定されたガラス基板Ａの欠陥位置情報により、加工ヘッド５をＹ方向に、吸着搬送ステージ３をＸ方向に移動させて、後述する顕微鏡検査やレーザ加工を行うことにより、ガラス基板Ａのほぼ全面にわたって顕微鏡検査およびレーザ加工を施すことができる。
【００２０】
ここで、光ファイバ８は、入射側端面８ａがレーザ光源７に、出射側端面８ｂが加工ヘッド５の投影レンズ（投影光学系）４１が配置された入射ポート側に、それぞれ接続されている。
【００２１】
光ファイバ８には、図３Ａ及び図３Ｂに示すように、２つのモードスクランブラ１１，１２が配置されると共に、出射側端面８ｂに向かって一直線状に延びる直線部８ｃが形成されている。
【００２２】
入射側のモードスクランブラ１１は、Ｙ軸方向に延び先端で光ファイバ８を押圧する３本のネジ１１ａ，１１ｂ，１１ｃを有する。中央のネジ１１ｂはＸ軸の負方向に光ファイバ８を押圧し、両端のネジ１１ａ，１１ｃは、Ｘ軸の正方向に光ファイバ８を押圧する。これにより、入射側端面８ａからＹ軸方向に延びる光ファイバ８は、ＸＹ平面においてＸ軸方向に蛇行する。
【００２３】
また、出射側のモードスクランブラ１２は、Ｚ軸方向に延び先端で光ファイバ８を押圧する３本のネジ１２ａ，１２ｂ，１２ｃを有する。中央のネジ１２ｂはＺ軸の正方向に光ファイバ８を押圧し、両端のネジ１２ａ，１２ｃは、Ｚ軸の負方向に光ファイバ８を押圧する。これにより、Ｙ軸方向に延びる光ファイバ８がＹＺ平面においてＺ軸方向に蛇行する。
【００２４】
なお、モードスクランブラ１１，１２の各ネジは、例えば、モードスクランブラ１１，１２の図示しない筐体等に形成したネジ孔に螺合することで、光ファイバの押圧量を調整可能となっている。
【００２５】
上述のように、本実施の形態では、入射側のモードスクランブラ１１と出射側のモードスクランブラ１２とは、互いに直交する方向（Ｘ軸方向とＺ軸方向）に光ファイバ８を蛇行させている。
【００２６】
ここで、各モードスクランブラ１１，１２により光ファイバ８を蛇行させて光ファイバ８に曲げ応力を付与したことで、マルチモード光ファイバである光ファイバ８に入射したレーザ光の高次モードを除去して安定したモード分布を得ることができ、したがって、均一な強度分布を有するレーザ光を後述する加工ヘッド５により基板Ａに照射することができる。
【００２７】
更には、本実施の形態では、２つのモードスクランブラ１１，１２が互いに直交する方向に光ファイバ８を蛇行させているため、２つのモードスクランブラが同一方向に光ファイバを蛇行させた場合よりも確実に高次モードを除去することができ、したがって、より一層安定したモード分布を得ることができる。
【００２８】
また、本実施の形態では、光ファイバ８を蛇行させるモードスクランブラ１１，１２を用いているため、ファイバを旋回させるモードスクランブラを用いるよりも、特に光ファイバ８を太くした場合に、より安定したモード分布を得ることができる。
【００２９】
なお、本実施の形態では、２つのモードスクランブラ１１，１２が互いに直交する方向に光ファイバ８を蛇行させるため、非常に安定したモード分布を得ることができるが、複
数のモードスクランブラのうちの２つのモードスクランブラが光ファイバ８を蛇行させる方向が互いに異なっていれば、それらのなす角度が垂直に近いことが望ましくはあるが、同一方向に蛇行させるよりも高次モードを有効に除去することは可能である。
【００３０】
また、本実施の形態では、モードスクランブラ１１，１２のネジにより光ファイバ８を蛇行させるが、光ファイバ８を蛇行させることができれば、例えば、ピン、突起、或いは、光ファイバ８が挿入される孔や溝が蛇行して形成された部材、などを用いることができるが、光ファイバ８を損傷させにくいものを用いるのが望ましい。
【００３１】
また、本実施の形態では、各モードスクランブラ１１，１２が３本のネジを用いる例について説明したが、２本或いは、４本以上のネジを用いてもよい。
本実施の形態の直線部８ｃは、光ファイバ８を固定する固定部材により強制的に形成するのではなく、モードスクランブラ１１，１２と加工ヘッド５との位置関係に起因して一直線状に延びるように形成されているが、例えば、光ファイバ８を固定部材によって固定することで直線部８ｃを強制的に形成してもよい。
【００３２】
なお、直線部８ｃの長さＬは、レーザ光の強度分布を均一となるようにするには、好ましくは５０ｍｍ以上、より好ましくは１００ｍｍ以上とするとよい。
また、本実施の形態では、ヘッド取付部１８が駆動されると、ヘッド取付部１８およびレーザユニット取付部１９が一体的にＹ方向に駆動される結果、加工ヘッド５とレーザユニット（レーザ電源６、レーザ光源７、光ファイバ８及びモードスクランブラ１１，１２）が一体的にＹ方向に移動させられる。すなわち、加工ヘッド５が移動させられても、光ファイバ８が変形することがなく、一定の形態を維持したまま移動させられるようになっている。
【００３３】
そのため、加工ヘッド５が移動しても、レーザ光源７、光ファイバ８及びモードスクランブラ１１，１２が一緒に移動するので、光ファイバ８が変形することがなく、光ファイバ８内の反射条件が常に一定に保たれ、基板Ａに照射されるレーザ光の強度分布を安定させることができる。その結果、常に均一な強度分布のレーザ光を照射して、高精度のレーザ加工を継続することができる。
【００３４】
また、光ファイバ８を変形させずに済むので、繰り返し使用により損傷し易い光ファイバ８の劣化を防止することもできる。
また、本実施の形態においては、比較的軽量の加工ヘッド５のみを片持ち梁状のヘッド取付部１８に取り付け、比較的重量の大きなレーザ電源６およびレーザ光源７を門型の水平ビーム２０の鉛直上方に配置することとしたので、加工ヘッド５の移動時に、ヘッド取付部１８に加わる負荷を最小限に抑えることができる。したがって、加工ヘッド５の高精度の移動を可能にして、精度よくレーザ加工を行うことができる。
【００３５】
また、本実施の形態においては、ガラス基板Ａを浮上ステージ２によって浮上させ、吸着搬送ステージ３によってＸ方向に移動させ、加工ヘッド５をガントリ４によってＹ方向に移動させることで基板Ａのほぼ全面にわたる顕微鏡検査とレーザ加工とを行うこととしたが、これに代えて、基板Ａを固定し、ガントリ４をＸ方向に移動に移動させ、加工ヘッド５及びレーザユニットをガントリ４の水平ビーム２０に沿ってＹ方向に移動させることにしてもよい。
【００３６】
以下、特に図２を参照しながら、欠陥修正装置１の加工ヘッド５の内部構成等について説明する。
レーザ光源７は、リペア加工用の光源である。本実施の形態では、図３Ａ及び図３Ｂに示すように、レーザ発振器７ａ、結合レンズ７ｂ、ハーフミラー７ｃ及びＬＥＤ光源７ｅ
有する構成を採用している。
【００３７】
レーザ発振器７ａは、ガラス基板Ａ上の欠陥を除去できるように、波長、出力が設定されたレーザ光を発振するもので、例えば、パルス発振可能なＹＡＧレーザなどを好適に採用することができる。発振波長は、リペア対象に応じて複数の発振波長を切り換えられるようになっている。
【００３８】
レーザ発振器７ａは、制御ユニット２２に電気的に接続され、制御ユニット２２からの制御信号に応じて発振が制御されるようになっている。
ハーフミラー７ｃは、レーザ発振器７ａによりＸ軸負方向に発振されるレーザ光を結合レンズ７ｂに向けてＹ軸負方向に反射する。また、ハーフミラー７ｃは、ＬＥＤ光源７ｅから結合レンズ７ｂに向けてＹ軸負方向に出射される光を透過する。
【００３９】
ハーフミラー７ｃがレーザ発振器７ａにより発振されるレーザ光を結合レンズ７ｂに向けて反射するため、レーザ発振器７ａの発振方向を装置構成に合わせて決定することができるため、設計の自由度が増すと共に省スペース化を図ることができる。
【００４０】
結合レンズ７ｂは、レーザ発振器７ａから出射されるレーザ光をファイバ３に光結合するための光学素子である。
光ファイバ８は、結合レンズ７ｂにより、ファイバ端面８ａに光結合されたレーザ光を内部で伝搬させて加工ヘッド５内に導き、レーザ光６０として、ファイバ端面８ｂから出射するものである。レーザ光６０は、光ファイバ８の内部を伝搬してから出射されるので、レーザ発振器７ａのレーザ光がガウシアン分布であっても、光量分布が均一化された拡散光となっている。
【００４１】
なお、図２は模式図のため、レーザ発振器７ａから出射されるレーザ光の光軸がＺ方向に沿っているかのように図示しているが、本実施の形態においては図３Ｂに示すようにＸ軸方向に沿っている。但し、レーザ発振器７ａの配置位置・姿勢は、これらに限定されるものではない。
【００４２】
また、レーザ光の均一化手段として、上述のモードスクランブラ１１，１２に加えて、他の光学素子、例えば、フライアイレンズ、回折素子、非球面レンズや、カレイド型ロッドを用いたものなどの種々の構成のホモジナイザなどを用いた構成としてもよい。
【００４３】
加工ヘッド５は、その筐体５ａ内に、投影レンズ（投影光学系）４１、空間変調素子４２、照射光学系４３、観察用光源４４、観察用結像レンズ４５、撮像素子４６などの光学素子やデバイスを保持している。
【００４４】
投影レンズ４１は、加工ヘッド５の筐体５ａに固定された光ファイバ８のファイバ端面８ｂと空間変調素子４２の基準面とを共役な関係とする配置とされ、ファイバ端面８ｂの像を空間変調素子４２の変調領域全体を照射できるように投影倍率が設定されたレンズまたはレンズ群である。
【００４５】
図２では、投影レンズ４１の光軸Ｐ１は、ＺＹ平面において、Ｙ軸正方向から負方向に向かうにつれて、Ｚ軸正方向から負方向に向かう斜め方向に設定されている。
空間変調素子４２は、投影レンズ４１から投射されたレーザ光６１を空間変調するもので、微小ミラーアレイであるＤＭＤ（Digital Mirror Device）からなり、揺動制御可能な複数の微小ミラーが矩形状の変調領域内に２次元的に等ピッチで配列されている。
【００４６】
本実施の形態では、レーザ光６１の光路上にミラー４７を配置して、レーザ光６１の光
軸Ｐ１を光軸Ｐ２の方向に反射している。そして、レーザ光６１が、空間変調素子４２の基準面の法線に沿う光軸Ｐ３に沿ってオン光６２として反射されるように、空間変調素子４２の基準面の法線に対して所望の角度で入射する配置としている。なお、光軸Ｐ１、Ｐ２と、オン光６２の光軸Ｐ３とは、同一平面上に位置する。
【００４７】
照射光学系４３は、空間変調素子４２で空間変調され一定方向に向けて反射されたオン光６２による像を、ガラス基板Ａ上に所望の倍率で結像する結像光学系を構成する光学素子群であり、空間変調素子４２側に結像レンズ４８が、ガラス基板Ａ側に対物レンズ９がそれぞれ配置されている。
【００４８】
対物レンズ９は、ガラス基板Ａのレジストパターンを加工するための紫外用対物レンズ等の複数個の対物レンズからなる。これら複数個の対物レンズは、レボルバ機構によって切り替え可能に保持され、互いに倍率が異なる。そのため、レボルバ機構を回転させて対物レンズ９を切り替えることで、照射光学系８の倍率を変更できるようになっている。以下では、特に断らない限り、対物レンズ９は、照射光学系４３を構成するために選択されたレンズを指すものとする。
【００４９】
また本実施の形態では、結像レンズ４８の光軸Ｐ４は、Ｙ軸方向に平行に配置され、対物レンズ９の光軸Ｐ５は、Ｚ軸方向に平行に配置されている。
このため、空間変調素子４２と結像レンズ４８との間には、オン光６２を反射して、光軸Ｐ４に沿って入射させるミラー４９が設けられている。そして、結像レンズ４８と対物レンズ９との間には、結像レンズ４８を透過した光を反射して、光軸Ｐ５に沿って入射させるハーフミラー５１が設けられている。
【００５０】
このようにして、光軸Ｐ４、Ｐ５は、光軸Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３と同一平面上に位置している。すなわち、レーザ光源７ａから空間変調素子４２のオン状態の微小ミラーで反射し照射光学系４３を経て基板Ａに至る第１の光軸を構成する光軸Ｐ１〜Ｐ５は、すべて同一平面上に位置している。
【００５１】
また、ミラー４９及びハーフミラー５１は、いずれもＸ軸回りにのみ傾斜されている。
観察用光源４４は、ガラス基板Ａ上の加工可能領域内を照明するための観察用光７０を発生する光源であり、ハーフミラー５１と対物レンズ９との間の光路の側方に設けられている。
【００５２】
ハーフミラー５１と対物レンズ９との間の光路上において観察用光源４４に対向する位置には、ハーフミラー５１で反射されたオン光６２を透過し、観察用光７０を対物レンズ９に向けて反射するハーフミラー５２が設けられている。そして、観察用光源４４とハーフミラー５２との間には、観察用光７０を適宜径の照明光束に集光する集光レンズ５３が設けられている。なお、集光レンズ５３の光軸Ｐ６は、第１の光軸が位置する平面上にあってもよいし、交差する位置にあってもよい。
【００５３】
観察用光源４４としては、例えば、可視光を発生するキセノンランプやＬＥＤなど適宜の光源を採用することができる。なお、オートフォーカス用光源を有するオートフォーカスユニットを設けて、対物レンズ９の前側焦点位置を制御するようにしてもよい。
【００５４】
観察用結像レンズ（撮像光学系）４５は、ハーフミラー５１の上方側に、対物レンズ９の光軸Ｐ５と同軸に配置され、観察用光７０によって照明されたガラス基板Ａから反射され、対物レンズ９によって集光された光を撮像素子（撮像部）４６の撮像面上に結像するための光学素子である。このため、光軸Ｐ５は、基板Ａから撮像光学系を経て撮像部に至る第２の光軸を兼ねている。なお、撮像素子４６は、撮像面上に結像された画像を光電変
換するもので、例えば、ＣＣＤなどからなる。
【００５５】
制御ユニット２２の装置構成は、本実施の形態では、ＣＰＵ、メモリ、入出力部、外部記憶装置などで構成されたコンピュータと適宜のハードウェアとの組合せからなる。制御ユニット２２は、例えば、操作パネル、キーボード、マウスなどの適宜の操作入力手段を備えるユーザインタフェースからの操作入力に基づいて、欠陥修正装置１の動作を制御するものであり、レーザ光源７、空間変調素子４２、撮像素子４６に電気的に接続され、それぞれの動作や動作タイミングを制御できるようになっている。
【００５６】
制御ユニット２２がレーザ発振器７ａに対して、レーザ光を発振させる制御信号を送出し、基板Ａに応じて予め選択された照射条件に基づいて、レーザ発振器７ａからレーザ光を発振させる。レーザ光の照射条件としては、例えば、波長、光出力、発振パルス幅などが挙げられる。
【００５７】
発振されたレーザ光は、結合レンズ７ｂで光ファイバ８のファイバ端面８ａに光結合され、上述のモードスクランブラ１１，１２及び直線部８ｃによりファイバ端面８ｂから光強度分布が均一化された発散光であるレーザ光６０が出射される。
【００５８】
なお、本実施の形態では、ＦＰＤ製造工程で製造されるガラス基板Ａの欠陥修正を行う欠陥修正装置１について説明したが、欠陥修正装置１は、半導体ウエハ基板の欠陥修正を行うものとしても用いることができる。但し、欠陥修正装置１を半導体ウエハ基板の欠陥修正に用いる場合には、浮上ステージ２及び吸着搬送ステージ３に代えて、半導体ウエハ基板に適合する載置台等を用意する必要がある。
【００５９】
図４Ａ及び図４Ｂは、本発明の一実施の形態の変形例に係る欠陥修正装置のレーザ光源１７を説明するための概略側面図である。
なお、図４Ａ及び図４Ｂにおいては、結合レンズ１７ｂ、ハーフミラー１７ｃ及びミラー１７ｄの可動方向を括弧書きで符号に付している。
【００６０】
本変形例のレーザ光源１７は、レーザ発振器１７ａと、結合レンズ１７ｂと、反射部材としてのハーフミラー１７ｃ及びミラー１７ｄとを有する。上述の実施の形態のレーザ光源７と相違するのは、主に、ミラー１７ｄを配置した点、並びに、結合レンズ１７ｂ、ハーフミラー１７ｃ及びミラー１７ｄを可動式にした点であり、上記一実施の形態と同様に、光ファイバ８にはモードスクランブラ１１，１２が配置され且つ直線部８ｃが形成されている。
【００６１】
図４Ｂに示すようにレーザ発振器１７ａからＸ軸負方向に出射されるレーザ光は、図４Ａに示すようにミラー１７ｄによりＺ軸正方向に反射され、更に、ハーフミラー１７ｃによりＹ軸負方向に反射され、結合レンズ１７ｂに入射する。なお、ハーフミラー１７ｃは、ＬＥＤ光源１７ｅから結合レンズ７ｂに向けてＹ軸負方向に出射される光を透過する。
【００６２】
ところで、図２に示す空間変調素子４２の微小ミラーは、等ピッチに配列されて同一方向に傾斜するとレーザ光Ｐ２に対して回折格子として作用する。ミラー４７により反射するレーザ光６１は、その波長と、空間変調素子４２の微小ミラーの配列ピッチとに応じて回折される。
【００６３】
そのため、投影光学系４１、空間変調素子４２及びミラー４７の傾きを調整して回折光を結像レンズ４８の光軸Ｐ４に導光することで、回折効率の高いレーザ光を得ることができる。
【００６４】
この点、本変形例の図４Ａ及び図４Ｂに示す光ファイバ８は、上記一実施の形態の図３Ａ及び図３Ｂと同様に、レーザ光源７から投影光学系４１にかけて、モードスクランブラ１１，１２によって蛇行させられ且つ直線部８ｃが形成される以外に、余分な弛みを残した引き回しはしていない。また、レーザ光源７ごと光ファイバ８を投影光学系４１の傾きに合わせて移動させるのは困難であり、したがって、光ファイバ８に接続される投影光学系４１を自在に傾けることはできない。
【００６５】
そこで、本変形例の結合レンズ１７ｂは、ハーフミラー１７ｃ、ミラー１７ｄ及びレーザ発振器１７ａと独立してＹ軸方向（光軸方向）に移動可能、言い換えると、ハーフミラー１７ｃ、ミラー１７ｄ及びレーザ発振器１７ａとの相対位置を調整可能としてあり、投影光学系４１の傾き調整に伴い光ファイバ８の入射側端面８ａがＹ軸方向へ移動するのを許容することができる。
【００６６】
また、結合レンズ１７ｂ及びハーフミラー１７ｃは、ミラー１７ｄ及びレーザ発振器１７ａと独立してミラー１７ｄに反射されたレーザ光の光軸方向であるＺ軸方向に一体的に移動可能、言い換えると、ミラー１７ｄ及びレーザ発振器１７ａとの相対位置を調整可能としてあり、投影光学系４１の傾き調整に伴い光ファイバ８の入射側端面８ａがＺ軸方向へ移動するのを許容することができる。
【００６７】
更には、結合レンズ１７ｂ、ハーフミラー１７ｃ及びミラー１７ｄは、レーザ発振器１７ａと独立してＺ軸方向（レーザ発振器７ａにより出射されるレーザ光の光軸方向）に一体的に移動可能、言い換えると、レーザ発振器１７ａとの相対位置を調整可能としてあり、投影光学系４１の傾き調整に伴い光ファイバ８の入射側端面８ａがＸ軸方向へ移動するのを許容することができる。
【００６８】
以上のように、本変形例では、結合レンズ１７ｂは、レーザ発振部１７ａとの相対位置を調整可能に配置されている。また、結合レンズ１７ｂ及び反射部材（ハーフミラー１７ｃ及びミラー１７ｄ）は、レーザ発振部１７ａとの相対位置を調整可能に配置されている。
【００６９】
そのため、結合レンズ１７ｂ、ハーフミラー１７ｃ及びミラー１７ｄをレーザ発振部１７ａと独立して適宜移動させることで、光ファイバ８の入射側端面８ａのＸＹＺ軸の３軸方向への移動が許容される。
【００７０】
よって、本変形例では、光ファイバ８に接続される投影光学系４１を自在に傾けることができ、したがって、回折光を結像レンズ４８の光軸Ｐ４に導光することで、回折効率の高いレーザ光を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００７１】
【図１Ａ】本発明の一実施の形態に係る欠陥修正装置を示す平面図である。
【図１Ｂ】本発明の一実施の形態に係る欠陥修正装置を示す正面図である。
【図２】本発明の一実施の形態に係る欠陥修正装置の加工ヘッドの内部構造を説明するための概略構成図である。
【図３Ａ】本発明の一実施の形態に係る欠陥修正装置の光ファイバ及びモードスクランブラを説明するための概略側面図である。
【図３Ｂ】本発明の一実施の形態に係る欠陥修正装置の光ファイバ及びモードスクランブラを説明するための概略正面図である。
【図４Ａ】本発明の一実施の形態の変形例に係る欠陥修正装置のレーザ光源を説明するための概略側面図である。
【図４Ｂ】本発明の一実施の形態の変形例に係る欠陥修正装置のレーザ光源を説明するための概略正面図である。
【符号の説明】
【００７２】
Ａ      ガラス基板
１      欠陥修正装置
４      ガントリ（移動機構）
５      加工ヘッド
７      レーザ光源
７ａ      レーザ発振器
７ｂ      結合レンズ
７ｃ      ハーフミラー
７ｅ      LED光源
８      光ファイバ
８ａ      入射側端面
８ｂ      出射側端面
８ｃ      直線部
１０      落射照明光源
１１，１２      モードスクランブラ
１１ａ〜１１ｃ，１２ａ〜１２ｃ      ネジ
１７      レーザ光源
１７ａ      レーザ発振器
１７ｂ      結合レンズ
１７ｃ      ハーフミラー
１７ｄ      ミラー
１７ｅ      ＬＥＤ光源
４１      投影光学系
４２      空間変調素子
４７      ミラー
【図１Ａ】
2010115686.tif 000003
【図１Ｂ】
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【図３Ａ】
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【図４Ａ】
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【図４Ｂ】
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【図２】
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【図３Ｂ】
2010115686.tif 000009