(57)【要約】【課題】互いに方向の異なる２以上の直線の各々を被記録材上に高精細に描画することのできる液滴吐出ヘッドによる直線の描画方法を提供すること。【解決手段】ノズル面に多数のノズルが直線状に配列された液滴吐出ヘッドを用い、ノズル面に対面するステージ上に支持された被記録材Ｗに向けてノズルから液滴を吐出しながら液滴吐出ヘッドとステージとをノズルの配列方向とは異なる方向に相対的に直線移動させて走査することにより、被記録材Ｗ上に描画する２以上の直線Ｌ１、Ｌ２のうち、一方向の直線Ｌ１を被記録材Ｗにおける第１の方向に沿って描画した後、被記録材Ｗに対して第１の方向とは異なる第２の方向に沿って描画することにより、一方向の直線とは被記録材Ｗに対する方向が異なる他の直線を描画する。【選択図】      図６
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ノズル面に多数のノズルが直線状に配列された液滴吐出ヘッドを用い、前記ノズル面に対面するステージ上に支持された被記録材に向けて前記ノズルから液滴を吐出しながら前記液滴吐出ヘッドと前記ステージとを前記ノズルの配列方向とは異なる方向に相対的に直線移動させて走査することにより、前記被記録材上に互いに方向が異なる２以上の直線を描画する方法であって、
前記２以上の直線のうち、一方向の直線を前記被記録材における第１の方向に沿って前記液滴吐出ヘッドと前記ステージとを相対的に直線移動させて走査して描画した後、前記被記録材に対して該被記録材における前記第１の方向とは異なる前記被記録材における第２の方向に沿って前記液滴吐出ヘッドと前記ステージとを相対的に直線移動させて走査して描画することにより、前記一方向の直線とは前記被記録材に対する方向が異なる他の直線を描画することを特徴とする液滴吐出ヘッドによる直線の描画方法。
【請求項２】
前記一方向の直線とは前記被記録材に対する方向が異なる他の直線を描画する際、前記液滴吐出ヘッドと前記ステージとをθ方向に相対的に回転させて、相対的な走査方向を異ならせることを特徴とする請求項１記載の液滴吐出ヘッドによる直線の描画方法。
【請求項３】
前記被記録材上に、前記液滴吐出ヘッドによる所定の描画方向を規定する位置確認用マークを形成しておき、描画に先立って、前記液滴吐出ヘッドと前記ステージとを相対的に直線移動させながら、前記被記録材上の所定位置に描画方向に沿う確認用直線を形成した後、前記位置確認用マークと前記確認用直線とを画像認識手段を用いて画像認識することにより、前記確認用直線の前記位置確認用マークによって規定される描画方向に対する平行度を確認し、平行でない場合に、前記液滴吐出ヘッドと前記ステージとをθ方向に相対的に回転移動させ、前記確認用直線が前記位置確認用マークによって規定される描画方向に対して所定の角度となるように位置調整を行うことを特徴とする請求項２記載の液滴吐出ヘッドによる直線の描画方法。
【請求項４】
前記被記録材に対するノズル列の配列方向が各々異なる第１の液滴吐出ヘッドと第２の液滴吐出ヘッドとを用い、
前記第１の方向に沿って前記液滴吐出ヘッドと前記ステージとを相対的に直線移動させて走査して描画させる際には前記第１の液滴吐出ヘッドを用い、
前記第２の方向に沿って前記液滴吐出ヘッドと前記ステージとを相対的に直線移動させて走査して描画させる際には前記第２の液滴吐出ヘッドを用いることを特徴とする請求項１記載の液滴吐出ヘッドによる直線の描画方法。
【請求項５】
一方向に沿って描画される同一の直線は、前記液滴吐出ヘッドにおける同一ノズルを用いて描画することを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の液滴吐出ヘッドによる直線の描画方法。
【請求項６】
前記液滴吐出ヘッドを不動とし、前記ステージ側を前記液滴吐出ヘッドに対して移動させることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の液滴吐出ヘッドによる直線の描画方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は液滴吐出ヘッドによる直線の描画方法に関し、詳しくは、互いに方向の異なる２以上の直線の各々を被記録材上に高精細に描画することのできる液滴吐出ヘッドによる直線の描画方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液滴吐出ヘッドを用いて被記録材上に液滴を着弾させることにより描画を行う描画装置は、例えば半導体基板の配線パターンや液晶表示装置におけるカラーフィルターの画素パターンの描画等といった産業用途にも広く利用されている。液滴吐出ヘッドには、各々液滴を吐出する多数のノズルが配列されており、そのノズル列方向を副走査方向とし、液滴吐出ヘッドとそのノズル面に対面する被記録材を支持するステージとを、主走査方向及び副走査方向に相対的に移動させながら液滴を吐出することで、所定パターンの描画を行う。
【０００３】
ところで、このような描画装置において、例えば互いに直交する方向の２つの直線を同一の被記録材上に描画する場合、液滴を吐出しながら液滴吐出ヘッドと被記録材とを主走査方向に沿って相対的に直線移動させることで、一方向の直線をノズル列と直交する方向に沿って描画した後、この直線と直交する方向の直線を、液滴吐出ヘッドのノズル列方向に沿う方向に描画している。
【０００４】
しかし、液滴吐出ヘッドのノズル列方向に沿って直線を描画する場合、ノズルの加工精度のばらつきやステージ精度のばらつきによって高精細な直線を描画することが困難であるという問題がある。特に、多数の液滴吐出ヘッドを千鳥状等に配列してノズル列方向に長尺なラインヘッドを構成した場合には、各液滴吐出ヘッド間の取り付け位置のばらつきも大きく影響する。
【０００５】
また、主走査方向に沿う直線は、液滴吐出ヘッドと被記録材とを相対的に直線移動させることで一気に描画することができるが、直線をノズル列方向に沿って描画する場合は、液滴吐出ヘッドのノズルピッチ間を液滴によって埋める必要があるために、液滴を吐出した後、隣の液滴がくるまでタイムラグができる場所が存在することになる。このため、直線の描画面の平面度が悪くなる問題がある。描画面の平面度は、特に液滴に導電性インクを用いて半導体の配線パターンを描画する用途においては電気的適性劣化の問題を引き起こす。
【０００６】
更に、ノズル列方向に沿う直線を液滴吐出ヘッドの全ノズルを使用して描画すると、直線の直進性が悪くなり、直線の縁部分に、隣接する液滴のつなぎ目が凹凸となって現われてしまい、高精細な直線とならない問題もある。
【特許文献１】特開２００３−３０５８３２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
そこで、本発明は、互いに方向の異なる２以上の直線の各々を被記録材上に高精細に描画することのできる液滴吐出ヘッドによる直線の描画方法を提供することを課題とする。
【０００８】
本発明の他の課題は、以下の記載により明らかとなる。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題は、以下の各発明によって解決される。
【００１０】
請求項１記載の発明は、ノズル面に多数のノズルが直線状に配列された液滴吐出ヘッドを用い、前記ノズル面に対面するステージ上に支持された被記録材に向けて前記ノズルから液滴を吐出しながら前記液滴吐出ヘッドと前記ステージとを前記ノズルの配列方向とは異なる方向に相対的に直線移動させて走査することにより、前記被記録材上に互いに方向が異なる２以上の直線を描画する方法であって、
前記２以上の直線のうち、一方向の直線を前記被記録材における第１の方向に沿って前記液滴吐出ヘッドと前記ステージとを相対的に直線移動させて走査して描画した後、前記被記録材に対して該被記録材における前記第１の方向とは異なる前記被記録材における第２の方向に沿って前記液滴吐出ヘッドと前記ステージとを相対的に直線移動させて走査して描画することにより、前記一方向の直線とは前記被記録材に対する方向が異なる他の直線を描画することを特徴とする液滴吐出ヘッドによる直線の描画方法。
【００１１】
請求項２記載の発明は、前記一方向の直線とは前記被記録材に対する方向が異なる他の直線を描画する際、前記液滴吐出ヘッドと前記ステージとをθ方向に相対的に回転させて、相対的な走査方向を異ならせることを特徴とする請求項１記載の液滴吐出ヘッドによる直線の描画方法。
【００１２】
請求項３記載の発明は、前記被記録材上に、前記液滴吐出ヘッドによる所定の描画方向を規定する位置確認用マークを形成しておき、描画に先立って、前記液滴吐出ヘッドと前記ステージとを相対的に直線移動させながら、前記被記録材上の所定位置に描画方向に沿う確認用直線を形成した後、前記位置確認用マークと前記確認用直線とを画像認識手段を用いて画像認識することにより、前記確認用直線の前記位置確認用マークによって規定される描画方向に対する平行度を確認し、平行でない場合に、前記液滴吐出ヘッドと前記ステージとをθ方向に相対的に回転移動させ、前記確認用直線が前記位置確認用マークによって規定される描画方向に対して所定の角度となるように位置調整を行うことを特徴とする請求項２記載の液滴吐出ヘッドによる直線の描画方法。
【００１３】
請求項４記載の発明は、前記被記録材に対するノズル列の配列方向が各々異なる第１の液滴吐出ヘッドと第２の液滴吐出ヘッドとを用い、
前記第１の方向に沿って前記液滴吐出ヘッドと前記ステージとを相対的に直線移動させて走査して描画させる際には前記第１の液滴吐出ヘッドを用い、
前記第２の方向に沿って前記液滴吐出ヘッドと前記ステージとを相対的に直線移動させて走査して描画させる際には前記第２の液滴吐出ヘッドを用いることを特徴とする請求項１記載の液滴吐出ヘッドによる直線の描画方法。
【００１４】
請求項５記載の発明は、一方向に沿って描画される同一の直線は、前記液滴吐出ヘッドにおける同一ノズルを用いて描画することを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の液滴吐出ヘッドによる直線の描画方法。
【００１５】
請求項６記載の発明は、前記液滴吐出ヘッドを不動とし、前記ステージ側を前記液滴吐出ヘッドに対して移動させることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の液滴吐出ヘッドによる直線の描画方法。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、互いに方向の異なる２以上の直線の各々を被記録材上に高精細に描画することのできる液滴吐出ヘッドによる直線の描画方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下、本発明の実施の形態について図面を用いて説明する。
【００１８】
図１は本発明を適用可能な描画装置の一例を示す概略斜視図であり、描画装置１は、装置基台２上に、インクジェット描画を行うためのヘッドモジュール３、上面に被記録材であるワークＷを載置して支持するためのワークステージ４、ワークステージ４をθ方向に回転移動させるためのθ回転機構５、ワークステージ４及びθ回転機構５を共にＹ方向に沿って直線移動させるＹ移動機構６、ワークステージ４及びθ回転機構５を共にＸ方向に沿って直線移動させるＸ移動機構７、ワークステージ４上を視認可能な画像認識手段であるカメラ８をそれぞれ備えている。
【００１９】
なお、Ｘ方向とＹ方向とは水平面上で互いに直交する方向である。
【００２０】
ヘッドモジュール３は、装置基台２上の端部近傍においてＸ方向に沿って平行に架設されたガントリ９に、スライダ１０及びθ回転機構１１を介して取り付けられており、スライダ１０がガントリ９に沿ってスライド移動することによりＸ方向に沿って往復移動し、また、θ回転機構１１によって、Ｘ、Ｙ方向と直交する法線方向であるＺ方向に沿う方向を軸としてθ方向に回転移動し、更に、Ｚ移動機構１２によってθ回転機構１１と共にＺ方向に昇降移動することができるようになっている。
【００２１】
図２はヘッドモジュール３をノズル面側から見た底面図であり、このヘッドモジュール３は、各々がインクジェット方式によるインク滴下処理を行うことができる複数の液滴吐出ヘッド（以下、単にヘッドという。）３１を有して構成されており、そのヘッド３１のノズル面が下向きとなり、その下方に配置されるワークステージ４上のワークＷの表面と対向可能となるように配置されている。
【００２２】
各ヘッド３１は、多数のノズル３２がＸ方向に沿って直線状に配列されたノズル列を有しており、ヘッド固定具３３に開口形成された取付け枠部３４にそれぞれ取り付けられ、隣接するヘッド３１、３１間のノズル３２のピッチが同一ピッチとなるように千鳥状に配列されることで一つの長尺状のラインヘッドからなるヘッドモジュール３を構成している。各取付け枠部３４にはヘッド３１との間にアクチュエータ３５が設けられており、駆動することによってヘッド固定具３３に対する各ヘッド３１のＸ方向に沿った位置を微調整し、各ヘッド３１間の相対的な位置を調整することができるようになっている。アクチュエータ３５は、例えば電圧を印加することによって機械的な伸縮運動を行う圧電素子や、モータ駆動によって回転して伸縮動作するネジ機構等によって構成することができる。
【００２３】
ワークステージ４は、Ｘ方向に沿って延びるＸ移動機構７上に、θ回転機構５を介して設けられた平面視矩形状の定盤であり、その上面はヘッドモジュール３からのインク滴下処理によって描画を行う対象であるワークＷを載置するための水平な載置面とされ、該載置面がヘッドモジュール３のノズル面に対して所定の高さ位置となるように配設されている。このワークステージ４は、θ回転機構５と共にＸ移動機構７に沿ってスライド移動することによってＸ方向に沿って直線移動し、このＸ移動機構７が、それぞれＹ方向に沿って延びるＹ移動機構６、６に沿ってスライド移動することによって、θ回転機構５と共にＹ方向に沿って直線移動し、更に、θ回転機構５によって、Ｚ方向に沿う方向を軸としてθ方向に回転移動することができるようになっている。
【００２４】
なお、ワークステージ４のＸ方向、Ｙ方向及びθ方向の各位置並びにヘッドモジュール３のＸ方向、Ｚ方向及びθ方向の各位置は、Ｘ移動機構７、Ｙ移動機構６、６、θ移動機構５、スライダ１０、θ回転機構１１、Ｚ移動機構１２にそれぞれ設けられた不図示のエンコーダによってｎｍオーダーで高精度に検出可能となるように構成されている。
【００２５】
図３はかかる描画装置１の内部の概略構成を示すブロック図である。
【００２６】
１００は全体を制御する演算部（ＣＰＵ）であり、ステージコントローラ１０１、画像処理部１０２、微調整機構ドライバ１０３、吐出制御部１０４をそれぞれ制御する。
【００２７】
ステージコントローラ１０１は、演算部１００からの制御信号に基づいてステージドライバ１０５〜１０７の駆動を制御し、スライダ１０をＸ方向に移動させるためのＸ軸モータ１０８、ヘッドユニット３をθ方向に回転させるためのθ回転機構１１を駆動させるθ軸モータ１０９、ヘッドユニット３をＺ軸方向に沿って昇降移動させるためのＺ移動機構１２を駆動させるＺ軸モータ１１０をそれぞれ駆動させる。
【００２８】
また、ステージコントローラ１０１は、演算部１００からの制御信号に基づいてステージドライバ１１１〜１１３の駆動を制御し、ワークステージ４をＸ方向に移動させるためのＸ移動機構７を駆動させるＸ軸モータ１１４、Ｙ方向に移動させるためのＹ移動機構６を駆動させるＹ軸モータ１１５、θ方向に回転移動させるためのθ回転機構５を駆動させるθ軸モータ１１６をそれぞれ駆動させる。
【００２９】
画像処理部１０２は、演算部１００からの制御信号に基づいてカメラコントローラ１１７の駆動を制御し、ヘッドユニット３に一体に設けられたカメラ８の撮像動作及び撮像された画像の処理を行う。
【００３０】
微調整機構ドライバ１０３は、演算部１００からの制御信号に基づいてヘッドユニット３の各ヘッド３１に設けられたアクチュエータ３５の駆動を制御し、各ヘッド３１のＸ方向の取り付け位置の微調整を行う。
【００３１】
吐出制御部１０４は、演算部１００からの制御信号に基づいてヘッドユニット３の各ヘッド３１の駆動を制御し、所定の描画データに基づくインク滴下処理を行う。
【００３２】
かかる描画装置１は、ヘッドモジュール３とワークステージ４とを相対的に移動させ、そのときの各位置情報に応じて、所定の吐出パターンデータに基づいてヘッドモジュール３の各ヘッド３１からの液滴の吐出を制御し、ワークステージ４上のワークＷ表面に着弾させることで、所望の描画を行うように構成される。
【００３３】
次に、かかる描画装置１を用いて互いに方向が異なる２以上の直線を描画する方法について説明する。なお、以下に説明する各種動作は、演算部１００内の所定の記録領域又は不図示の記憶装置に予め記憶された所定のプログラムに従って演算部１００の制御によって実行される。
【００３４】
図４は本発明に係る描画方法のフローチャート、図５はワークＷの平面図、図６（ａ）〜（ｄ）は本発明に係る描画方法の各工程におけるワークＷの平面図である。なお、図６において、図示上側が描画装置１における装置基台２上の奥側（ガントリ９側）に相当する。
【００３５】
ここではワークＷ上において互いに直交する２方向の直線を描画する場合について説明する。
【００３６】
まず、ワークステージ４上に被記録材であるワークＷを載置し（Ｓ１）、ワークＷがＸＹ方向に適正位置となるようにワークステージ４のθ方向の位置を微調整して位置合わせを行う（Ｓ２）。
【００３７】
このワークステージ４の微調整方法は、適宜公知の方法を採用することができる。例えば図５に示すように、ワークＷの表面に予め位置確認用マークｍ１、ｍ２を形成しておく。ここでは、位置確認用マークｍ１をワークＷの四隅にそれぞれ形成したＬ字状のマークとし、位置確認用マークｍ２をワークＷの四辺にそれぞれ形成した直線状のマークとした。そして、ワークステージ４がある位置で静止しているときの位置確認用マークｍ１、ｍ２をヘッドモジュール３に一体に設けられたカメラ８によって画像認識することで、例えば３箇所の位置確認用マークｍ１の位置座標をそれぞれ取得し、それら３箇所の位置座標からワークＷのＹ方向及びＸ方向に対する角度ずれを算出し、この角度ずれを解消するようにθ回転機構５の駆動を調整することで、ワークステージ４のθ方向の位置の微調整を行う。
【００３８】
なお、図５において、破線で囲って示す矩形状の領域ｗ１は描画領域であり、ワークＷ上に所定の描画作業を行うための領域である。また、その周囲の端部の領域ｗ２は試験領域であり、ワークＷ上に描画される直線の平行度を確認するための後述する確認用直線を試し描きするための領域である。
【００３９】
次に、ヘッドユニット３のいずれかのヘッド３１を用い、ワークＷ上のＹ方向に沿って延びる試験領域ｗ２に向けて液滴を吐出しながらワークステージ４をＹ方向に直線移動させ、図６（ａ）に示すように、ワークＷ上にＹ方向に沿う確認用直線Ｌｔａを形成する（Ｓ３）。
【００４０】
この確認用直線Ｌｔａは、ワークステージ４をＹ方向へ直線移動することによって描画される直線が、ワークＷ上においてＹ方向に対して平行な角度で適正に描画されているかどうかを確認するための直線であり、１ヘッドの少なくとも１ノズルから吐出される液滴によって少なくとも１本形成されればよい。
【００４１】
確認用直線Ｌｔａを試し描きしたら、カメラ８を用いてワークＷ上の例えば３箇所の位置確認用マークｍ１と確認用直線Ｌｔａとを画像認識する（Ｓ４）。
【００４２】
この時点では、既にワークＷはＹ方向及びＸ方向に対して適正な位置にあり、Ｙ方向及びＸ方向に隣接する２箇所の位置確認用マークｍ１は、それぞれＹ方向及びＸ方向に対して平行な適正位置にあるため、これら３箇所の位置確認用マークｍ１と確認用直線Ｌｔａとを画像認識することで、確認用直線ＬｔａがＹ方向に対して平行な角度で描画されたかどうかを判別することができる。
【００４３】
ここで、平行でない場合は、Ｙ方向に対する確認用直線Ｌｔａの角度差を算出し、その角度差を解消するようにθ回転機構５の駆動を調整することで、ワークステージ４のθ方向の位置の微調整を行う（Ｓ５）。この微調整の後は、試し描きされる確認用直線ＬｔａがＹ方向に対して平行となるまで上記ステップＳ２からの処理を繰り返す。
【００４４】
また、平行であった場合は、ワークステージ４をＹ方向に直線移動させることによってワークＷ上にＹ方向に対して平行な適正な直線を描画可能であると判断され、調整作業を完了し（Ｓ６）、その後、ヘッドユニット３の各ヘッド３１から所定の描画データに基づく液滴の吐出動作とワークステージ４のＹ方向の直線移動動作とを協働させ、図５（ｂ）に示すように、ワークＷ上の描画領域ｗ１に対してＹ方向に沿う一方向の直線（第１の直線）Ｌ１を描画する（Ｓ７）。
【００４５】
この一方向の直線を描画する際、一方向に沿って描画される同一の直線Ｌ１は、ヘッドユニット３のヘッド３１における同一ノズルを用いて描画される。同一ノズルで描画することで、直進性の良好な直線とすることができ、直線の縁部分に凹凸の少ない高精細な直線を描画することができる。
【００４６】
ワークＷ上に一方向の直線Ｌ１を描画し終えたら、この直線Ｌ１に直交する方向の他の直線（第２の直線）Ｌ２を描画するため、θ回転機構５を所定量駆動させ、ヘッドユニット３の各ヘッド３１とワークステージ４上のワークＷとを互いに対面させたままワークステージ４を９０°回転させ（Ｓ８）、上記ステップＳ１と同様にしてワークステージ４のθ方向の位置の微調整を行う（Ｓ９）。これにより、それまでのワークＷ上のＹ方向は角度が９０°変化してＸ査方向となり、それまでのワークＷ上のＸ方向は角度が９０°変化してＹ方向となる。
【００４７】
その後、上記ステップＳ３と同様にして、ヘッドユニット３のいずれかのヘッド３１を用い、ワークＷ上のＹ方向に沿って延びる試験領域ｗ２に向けて液滴を吐出しながらワークステージ４をＹ方向に直線移動させ、図６（ｃ）に示すように、ワークＷ上にＹ方向に沿う確認用直線Ｌｔｂを形成する（Ｓ１０）。
【００４８】
確認用直線Ｌｔｂを試し描きしたら、上記ステップＳ４〜Ｓ６と同様に、ワークＷ上の例えば３箇所の位置確認用マークｍ１と確認用直線Ｌｔｂとの画像認識動作（Ｓ１１）、平行でない場合のワークステージ４のθ方向の位置の微調整動作（Ｓ１２）を行い、ワークステージ４をＹ方向に直線移動させることによってワークＷ上にＹ方向に対して平行な適正な直線を描画可能であると判断されたら調整作業を完了する（Ｓ１３）。
【００４９】
その後、ヘッドユニット３の各ヘッド３１から所定の描画データに基づく液滴の吐出動作とワークステージ４のＹ方向の直線移動動作とを協働させ、図６（ｄ）に示すように、ワークＷ上の描画領域ｗ１に対して直線Ｌ１に直交する方向のＹ方向に沿う他の直線（第２の直線）Ｌ２を描画し（Ｓ１４）、描画を終了する。
【００５０】
かかる方法によれば、同一のワークＷ上に互いに直交する方向の直線Ｌ１、Ｌ２を描画する場合でも、直線Ｌ１、Ｌ２の各々をヘッドユニット３の各ヘッド３１のノズル列方向と直交する方向であるＹ方向に沿って描画することになるので、直線Ｌ１とＬ２との描画条件を同一とすることができ、直線Ｌ１とＬ２とでノズルの加工精度やステージ精度のばらつき、各ヘッド３１の取り付け位置のばらつき等による影響をなくすことができる。また、直線Ｌ１、Ｌ２のいずれもＹ方向に沿って一気に描画することができるため、描画面の平面度が悪くなったり、直進性が悪くなって縁部分に凹凸が現れたりするおそれもない。従って、各直線Ｌ１、Ｌ２をワークＷ上に高精細に描画することができるようになる。
【００５１】
なお、ここでは、一方向の直線Ｌ１を描画した後、他の方向の直線Ｌ２を描画するためにワークステージ４を９０°回転移動させた際、上記ステップＳ１０〜Ｓ１３において再度確認用直線Ｌｔｂを形成して角度の確認を行うようにしたが、ワークステージ４の角度調整動作に十分な信頼が置ける場合には、上記ステップＳ１０〜Ｓ１３の処理を省略してもよい。
【００５２】
以上説明した態様は、ワークＷ上に互いに直交する方向の直線Ｌ１、Ｌ２を描画するようにしたが、本発明において、描画すべき直線の方向は互いに異なる方向であればよく、直交するものに限定されず、互いに斜めとなる方向の直線を描画する場合にも同様に適用可能である。この場合も、一方向の直線Ｌ１を描画した後、他の方向の直線Ｌ２を描画するためにワークステージ４を所定角度回転させた際、上記ステップＳ８において、その回転角度をワークＷ上の位置確認用マークｍ１又はｍ２を用いて画像認識することによって確認すればよい。
【００５３】
また、互いに方向が異なる直線は２以上の直線とすることができ、以上説明した２方向の直線Ｌ１、Ｌ２に限らず、互いに異なる３方向以上の直線を描画する場合にも同様に適用可能である。
【００５４】
ワークＷ上に互いに異なる方向の２以上の直線をＹ方向に沿って描画するために描画方向の角度を変化させる場合、ヘッドユニット３とワークＷ（ワークステージ４）側の回転移動は相対的であればよく、以上説明したように、ヘッドユニット３を不動としてワークＷ（ワークステージ４）側のみをθ回転機構５によって回転移動させる態様の他にも、ワークＷ（ワークステージ４）側を不動にしてヘッドユニット３のみをθ回転機構１１によって回転移動させる態様としたり、両者を共に互いに反対方向に回転移動させる態様とすることもできるが、高い精度が要求されるヘッドユニット３の精度維持を図る観点からは、ヘッドユニット３を不動としてワークＷ（ワークステージ４）側のみを回転移動させる態様とすることが好ましい。
【００５５】
また、同様に、ヘッドユニット３とワークＷ（ワークステージ４）との直線移動も相対的であればよく、以上説明したように、ヘッドユニット３を不動にしてワークＷ（ワークステージ４）側のみをＹ方向に直線移動させる態様の他にも、ワークＷ（ワークステージ４）側を不動にしてヘッドユニット３のみをＹ方向に直線移動させる態様としたり、両者を共にＹ方向に沿って互いに反対方向に直線移動させる態様とすることもできるが、上記同様の観点から、ヘッドユニット３を不動にしてワークＷ（ワークステージ４）側のみを直線移動させる態様とすることが好ましい。
【００５６】
ヘッドユニット３は多数のヘッド３１を配列したＸ方向に長尺なラインヘッドを構成するものに限らず、単一のヘッド３１からなるものであってもよい。この場合、Ｘ方向に沿うノズル列の幅を越える幅に亘って複数本の直線を描画する際には、一旦、Ｙ方向に沿ってヘッド３１のノズル列の幅に亘る直線を描画した後、ワークＷ（ワークステージ４）をＸ方向に沿ってノズル列の幅に相当する所定距離ずつ移動させる動作が行われる。
【００５７】
また、以上説明した態様では、Ｘ方向に沿ってノズルが直線状に配列された複数のヘッド３１を有する１つのヘッドユニット３のみを使用して互いに方向が異なる２以上の直線を描画するようにしたが、互いに方向が異なる２以上の直線は、各々異なるヘッド又はヘッドユニットを使用して描画することもできる。
【００５８】
図７はこのような描画方法の概念図であり、この態様では、ワークステージ４上に載置されたワークＷに対するノズル列の配列方向が各々異なる第１のヘッド３Ａと第２のヘッド３Ｂとを使用する点に特徴がある。ここでは第１のヘッド３Ａのノズル列はＸ方向に沿って配列され、第２のヘッド３Ｂのノズル列はＹ方向に沿って配列されているものとする。これら第１のヘッド３Ａと第２のヘッド３Ｂはそれぞれ単一ヘッド構造のものに限らず、複数ヘッドからなるヘッドユニットであってもよい。
【００５９】
ここで、互いに直交する方向の直線を描画する場合、まず、第１のヘッド３Ａを使用し、Ｙ方向（第１の方向）に沿って第１のヘッド３Ａとワークステージ４とを相対的に直線移動させて走査して直線Ｌ１を描画し（図７（ａ））、次いで、第２のヘッド３Ｂを使用し、Ｘ方向（第２の方向）に沿って第２のヘッド３Ｂとワークステージ４とを相対的に直線移動させて走査して直線Ｌ２を描画する（図７（ｂ））。これにより、ワークＷ上に互いに直交する方向の２つの直線Ｌ１、Ｌ２を描画することができる。いずれの直線Ｌ１、Ｌ２も、各ヘッド３Ａ、３Ｂのノズル列方向と直交する方向に沿って描画することになるので、直線Ｌ１とＬ２との描画条件を同一とすることができ、上記同様に高精細な直線を描画することができる。
【００６０】
なお、２直線Ｌ１、Ｌ２の互いに異なる方向は、第１のヘッド３Ａと第２のヘッド３Ｂとがなす角度及びこれら第１のヘッド３Ａと第２のヘッド３Ｂとワークステージ４との相対的な直線移動方向とを適宜に設定することによって、直交する方向に限らず、様々な方向の直線を描画することができる。
【００６１】
また、互いに異なる３以上の直線を描画する場合には、第１のヘッド３Ａ又は第２のヘッド３Ｂとワークステージ４とを相対的にθ方向に回転移動させた後、上記と同様に相対的に直線移動させることによって描画してもよいし、描画すべき直線の方向の数に応じて更に第３のヘッド、第４のヘッドという具合にヘッド数又はヘッドユニット数を増加させることによって対応してもよい。
【００６２】
第１のヘッド３Ａと第２のヘッド３Ｂは同一装置上に設置することにより、同一装置で描画できるようにすることができる。
【００６３】
例えば、図８は、第１のヘッド３Ａと第２のヘッド３Ｂを同一装置上に設置した態様の描画装置１Ａの平面図であり、図１と同一符号の部位は同一構成の部位を示している。
【００６４】
装置基台２上にはＸ方向に沿うガントリ９１とＹ方向に沿うガントリ９２とが設けられており、ガントリ９１に第１のヘッド３Ａが配置され、ガントリ９２に第２のヘッド３Ｂが配置されている。第１のヘッド３ＡはＸ方向に沿ってノズル列が配列され、第２のヘッド３ＢはＹ方向に沿ってノズル列が配列されている。そして、ワークステージ４上のワークＷに対して互いに直交する２直線Ｌ１、Ｌ２を描画する場合、ワークステージ４をＹ方向に沿って直線移動させて第１のヘッド３Ａによって直線Ｌ１を描画した後、ワークステージ４をＸ方向に沿って直線移動させ、第２のヘッド３Ｂによって直線Ｌ２を描画する。
【００６５】
この態様では、直線Ｌ１の描画の後、ワークＷ（ワークステージ４）をθ方向に回転移動させる必要なく直線Ｌ２を描画することができる。
【００６６】
また、図９は、第１のヘッド３Ａと第２のヘッド３Ｂを同一装置上に設置した別の態様の描画装置１Ｂの平面図であり、図１と同一符号の部位は同一構成の部位を示している。
【００６７】
装置基台２はＹ方向に長尺に形成されており、それぞれＸ方向に沿うガントリ９１、９２が間隔をおいては位置されている。ガントリ９１には第１のヘッド３Ａが配置され、ガントリ９２には第２のヘッド３Ｂが配置されている。第１のヘッド３Ａ及び第２のヘッド３Ｂは共にＸ方向に沿ってノズル列が配列されている。そして、ステージ４上のワークＷに対して互いに直交する２直線Ｌ１、Ｌ２を描画する場合、ステージ４をＹ方向に沿って直線移動させて第１のヘッド３Ａによって直線Ｌ１を描画した後、ステージ４をθ方向に９０°回転移動させ、更にステージ４をＹ方向に沿って直線移動させ、第２のヘッド３Ｂによって直線Ｌ２を描画する。
【００６８】
この態様では、ワークＷ上に方向の異なる２直線を連続的に描画処理することができる。
【００６９】
更に、第１のヘッド３Ａと第２のヘッド３Ｂは、このように同一装置上に設置するものに限らず、描画する直線の方向に対応した異なるステーションに分けて描画するようにしてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００７０】
【図１】本発明を適用可能な描画装置の一例を示す概略斜視図
【図２】ヘッドユニットの底面図
【図３】描画装置の内部の概略構成を示すブロック図
【図４】本発明に係る描画方法のフローチャート
【図５】ワークの平面図
【図６】（ａ）〜（ｄ）は本発明に係る描画方法の各工程におけるワークの平面図
【図７】（ａ）（ｂ）は互いに方向が異なる２以上の直線を各々異なるヘッドを使用して描画する方法の概念図
【図８】第１のヘッドと第２のヘッドを同一装置上に設置した態様の描画装置の平面図
【図９】第１のヘッドと第２のヘッドを同一装置上に設置した別の態様の描画装置の平面図
【符号の説明】
【００７１】
１：描画装置
２：装置基台
３：ヘッドユニット
３１：ヘッド
３２：ノズル
３３：ヘッド固定具
３４：取付け枠部
３５：ヘッド位置微調整機構
４：ワークステージ
５：θ回転機構
６：Ｙ移動機構
７：Ｘ移動機構
８：カメラ
９：ガントリ
１０：スライダ
１１：θ回転機構
１２：Ｚ移動機構
Ｗ：ワーク
Ｌ１、Ｌ２：直線
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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