(57)【要約】【課題】テーブル等を可動させる際の位置決め精度の低下を防止する。【解決手段】リソグラフィ装置は、基板を保持するようにそれぞれ構成された２つの台を含み、各台は、基板と共にテーブルを移動させるための短ストロークモジュールと、その台の短ストロークモジュールを移動させるための長ストロークモジュールとを備える。このリソグラフィ装置は、各台を結合するための交換ブリッジを含み、使用の際、第１の構成では、各台が互いに移動可能であり、また、使用の際、第２の構成では、連結移動を行うために各台が交換ブリッジを介して結合される。【選択図】図７
2010123960.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を保持するようにそれぞれ構成された第１および第２の台であって、前記第１および前記第２の台のそれぞれが短ストロークモジュールを備え、ならびに、前記台の前記短ストロークモジュールを移動させるように構成された長ストロークモジュールを備える前記第１および前記第２の台と、
前記第１および前記第２の台を結合するように構成され、使用の際、第１の構成では、前記第１および前記第２の台が互いに移動可能であり、第２の構成では、前記第１および第２の台が、連結移動のために前記交換ブリッジを介して結合される交換ブリッジと、
前記第１の構成で前記交換ブリッジを保持するように構成され、前記第１および前記第２の台の短ストロークモジュールの可動部から力学的に分離されるブリッジホルダと、
使用の際、前記第２の構成で、前記交換ブリッジが前記第１および前記第２の台の前記短ストロークモジュールの前記可動部とだけ結合されるように、前記第１および前記第２の台の前記短ストロークモジュールの前記可動部を前記交換ブリッジと結合するように構成されたカプラとを含む、
リソグラフィ装置。
【請求項２】
前記ブリッジホルダが前記第１または前記第２の台の前記長ストロークモジュールの可動部に直接結合される、
請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項３】
前記ブリッジホルダが、前記交換ブリッジが当該リソグラフィ装置の別の部分と衝突することがないように、前記交換ブリッジを第１の位置で保持するように構成される、
請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項４】
前記第１の台の前記長ストロークモジュールの前記可動部と前記ブリッジホルダとの間に配置されたヒンジをさらに含んでおり、
前記交換ブリッジを前記第１の位置から第２の位置まで前記ヒンジによって回転させることができる、
請求項３に記載のリソグラフィ装置。
【請求項５】
前記短ストロークモジュールおよび／または前記交換ブリッジの変形が少なくとも部分的に互いに分離されるように、前記交換ブリッジを前記第１または前記第２の台の前記短ストロークモジュールの前記可動部に結合するように構成されたブリッジヘッドをさらに含む、
請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項６】
前記第１および前記第２の台の前記短ストロークモジュールの可動部を互いの方に移動させることによって、前記交換ブリッジを前記第１および前記第２の台の短ストロークモジュールの前記可動部から分離するように構成された分離器を含み、
前記ブリッジホルダが、前記交換ブリッジが分離された後に前記交換ブリッジを捕捉するように構築される、
請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項７】
第１および第２の台を交換ブリッジと結合する工程であって、前記第１および前記第２の台がそれぞれ基板を保持するように構成され、前記第１および前記第２の台のそれぞれが、短ストロークモジュールと、前記台の前記短ストロークモジュールを移動させるように構成された長ストロークモジュールとを備え、使用の際、第１の構成では、前記第１および前記第２の台が互いに移動可能であり、第２の構成では、前記第１および前記第２の台が、連結移動のために前記交換ブリッジを介して結合される工程と、
前記第１の構成で前記交換ブリッジをブリッジホルダで保持する工程であって、前記ブリッジホルダが前記第１および前記第２の台の前記短ストロークモジュールの可動部から力学的に分離される工程と、
使用の際、前記第２の構成で、前記交換ブリッジが前記第１および前記第２の台の前記短ストロークモジュールの前記可動部とだけ結合するように、前記第１および前記第２の台の前記短ストロークモジュールの前記可動部を前記交換ブリッジと結合する工程と、
を含むデバイス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
[0001]  本発明は、基板保持用の２つの台を含むリソグラフィ装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
[0002]  リソグラフィ装置は、所望のパターンを基板の上に、通常は基板のターゲット部分の上に付ける機械である。リソグラフィ装置は、例えば、集積回路（IC）の製造の際に使用することができる。このような場合、マスクまたはレチクルとも呼ばれるパターニングデバイスを使用して、ＩＣの個々の層の上に形成されるべき回路パターンを生成することができる。このパターンは、基板（例えばシリコンウェーハ）上のターゲット部分（例えば、１つまたは複数のダイの部分を含む）の上に転写することができる。パターンの転写は通常、基板上に設けられた放射感応性材料（レジスト）の層の上への結像による。一般に、単一の基板が、連続的にパターニングされる隣り合うターゲット部分からなるネットワークを含む。従来のリソグラフィ装置は、全パターンをターゲット部分の上に一度に露光することによって各ターゲット部分が照射される、いわゆるステッパと、パターンを所与の方向（「スキャン」方向）に放射ビームによってスキャンすると同時に、この方向に対し平行または逆平行に基板をスキャンすることによって各ターゲット部分が照射される、いわゆるスキャナとを含む。パターンを基板上にインプリントすることによって、パターンをパターニングデバイスから基板に転写することもまた可能である。
【０００３】
[0003]  １つのリソグラフィ装置が、米国特許第７，３１０，１３２Ｂ１号により知られている。米国特許第７，３１０，１３２Ｂ１号には、２つの基板台を含むリソグラフィ装置が記載されている。各基板台は、長ストロークモジュールと、基板を移動させるための第２ポジショナの一部を形成する短ストロークモジュールとを備える。さらに、この既知のリソグラフィ装置は、可動部材の形で交換ブリッジを備える。米国特許第７，３１０，１３２Ｂ１号には、この既知のリソグラフィ装置の２つの主要な実施形態が記載されている。第１の構成では、各基板台が互いに移動することができ、第２の構成では、各基板台が交換ブリッジを介して結合され、この交換ブリッジは、連結移動のための可動部材を使用して各基板台の上面を合わせることによって実現される。
【０００４】
[0004]  既知のリソグラフィ装置の第１の実施形態では、各基板テーブルが並行して使用され、あるいは、テーブルのうちの１つに対して準備ステップが実施される一方で他のテーブルが露光のために使用される第１の構成において、短ストロークモジュールのうちの１つの可動部分が交換ブリッジを搬送する。交換ブリッジを搬送することは、交換ブリッジの質量が短ストロークモジュールの可動部に加わってその動力性能を損なうために、動的攪乱を引き起こし、したがって、位置決め精度の低下を引き起こすおそれがあるので望ましくない。
【０００５】
[0005]  既知のリソグラフィ装置の第２の実施形態では、各台が拡張されて同時移動を行う第２の構成において、交換ブリッジは、各短ストロークモジュールの可動部と、各台のうちの１つの長ストロークモジュールの可動部とに結合される。こうすることは、短ストロークモジュールの可動部と長ストロークモジュールの可動部との間に動的な結合があるので望ましくない。その結果、長ストロークモジュールからの動的攪乱（外乱）が短ストロークモジュールまで伝達される可能性がある。
【発明の概要】
【０００６】
[0006]  本発明の一態様では、基板を保持するようにそれぞれ構成された第１および第２の台であって、第１および第２の台のそれぞれが基板と共にテーブルを移動させるように構成された短ストロークモジュールを備え、ならびに、台の短ストロークモジュールを移動させるように構成された長ストロークモジュールを備える第１および第２の台と、第１と第２の台を結合するように構成され、使用の際、第１の構成では、第１および第２の台が互いに移動可能であり、第２の構成では、第１および第２の台が、連結移動を行うために交換ブリッジを介して結合される交換ブリッジと、第１の構成で交換ブリッジを保持するように構成され、第１および第２の台の短ストロークモジュールの可動部から力学的に分離されるブリッジホルダと、使用の際、第２の構成で、交換ブリッジが第１および第２の台の短ストロークモジュールの可動部とだけ結合されるように、第１および第２の台の短ストロークモジュールの可動部を交換ブリッジと結合するように構成されたカプラとを含むリソグラフィ装置が提供される。
【０００７】
[0007]  このようにして、動的攪乱が第１の構成でも第２の構成でも効果的に低減される。第１の構成では、この低減は、短ストロークモジュールの可動部から力学的に分離されたブリッジホルダが、短ストロークモジュールの可動部から力学的に分離された交換ブリッジを、交換ブリッジの質量が短ストロークモジュールの各可動部に加えられないように、また、それらの動的性能を損なわないように保持することにより得られる。第２の構成では、この低減は、長ストロークモジュールから短ストロークモジュールまで攪乱が実質的に伝達することがないように、交換ブリッジが長ストロークモジュールから力学的に分離されることにより得ることができる。
【０００８】
[0008]  本発明の一実施形態では、ブリッジホルダは、リソグラフィ装置の固定部、例えば投影システムまたは固定フレームに接続される。１つの利点は、第１の構成で、両方の台が、ブリッジホルダおよび交換ブリッジと結合せずに移動できることである。このことがよりよい動的挙動をもたらす。
【０００９】
[0009]  本発明の一実施形態では、ブリッジホルダは、各長ストロークモジュールの１つの可動部に直接または間接的に結合される。この実施形態の利点は、第１の構成で、交換ブリッジが短ストロークモジュールの可動部から力学的に分離された状態で保持され、かつ、短ストロークモジュールの近くに収容されることである。第２の構成に変更した場合、交換ブリッジは、短ストロークモジュールの各可動部の間に迅速に配置されることができ、これによりリソグラフィ装置のスループットが改善される。
【００１０】
[0010]  本発明の一実施形態では、ブリッジホルダは、交換ブリッジがリソグラフィ装置の別の部分と衝突することがないように、その交換ブリッジを第１の構成で保持するように構成される。１つの利点は、第１の構成では、交換ブリッジがリソグラフィ装置の別の部分と衝突することに起因する損傷の可能性がないことである。
【００１１】
[0011]  本発明の一実施形態では、リソグラフィ装置は、長ストロークモジュールの可動部とブリッジホルダの間にヒンジを備えており、交換ブリッジを第１の位置から第２の位置までヒンジによって回転させてもよい。
【００１２】
[0012]  本発明の一実施形態では、リソグラフィ装置は、短ストロークモジュールおよび／または交換ブリッジの変形が少なくとも部分的に互いに分離されるように、交換ブリッジを各短ストロークモジュールの１つの可動部に結合するように構成されたブリッジヘッドを備える。１つの利点は、交換ブリッジの変形による短ストロークモジュールの変形が最小になり、逆もまた同様になることである。
【００１３】
[0013]  本発明の一実施形態では、リソグラフィ装置は、短ストロークモジュールの各可動部を互いの方に移動させることによって短ストロークモジュールの可動部から交換ブリッジを分離するように構成された分離器を備え、ブリッジホルダは、交換ブリッジが分離された後にその交換ブリッジを捕捉するように構築される。通常の状態では、交換ブリッジを分離するには、まず短ストロークモジュールの各可動部を下げて交換ブリッジをブリッジホルダの上に置き、次に互いに遠ざけて交換ブリッジを分離する。この実施形態の利点は、短ストロークモジュールの各可動部が移動して互いに接近しすぎた特別な状態において、交換ブリッジを分離することによって損傷を防止できることにある。
【００１４】
[0014]  本発明の一実施形態では、第１および第２の台を交換ブリッジと結合する工程であって、第１および第２の台がそれぞれ基板を保持するように構成され、第１および第２の台のそれぞれが、短ストロークモジュールと、台の短ストロークモジュールを移動させるように構成された長ストロークモジュールとを備え、使用の際、第１の構成では、第１および第２の台が互いに移動可能であり、第２の構成では、第１および第２の台が、連結移動のために交換ブリッジを介して結合される工程と、第１の構成で交換ブリッジをブリッジホルダで保持する工程であって、ブリッジホルダが第１および第２の台の短ストロークモジュールの可動部から力学的に分離される工程と、使用の際、第２の構成で、交換ブリッジが第１および第２の台の短ストロークモジュールの可動部とだけ結合するように、第１および第２の台の短ストロークモジュールの可動部を交換ブリッジと結合する工程とを含むデバイス製造方法が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
[0015]  次に、本発明の諸実施形態を添付の図面を参照して説明する。
【図１】[0016]本発明の一実施形態によるリソグラフィ装置を概略的に示す図である。
【図２】[0017]図１のリソグラフィ装置の台の概略側面図である。
【図３】[0018]図１のリソグラフィ装置の一部を、第１の構成において線ＬＬ’で示す平面に向けられた矢印ＭＭ’に従って示す上面図である。
【図４】[0019]第２の構成での図１のリソグラフィ装置の一部を示す図である。
【図５】[0020]台が互いに移動できる第１の構成でのリソグラフィ装置を、図３の矢印ＯＯ’に従って線ＮＮ’に対する側面で示す図である。
【図６】[0021]交換ブリッジを、台にそれを結合できる位置で示す図である。
【図７】[0022]交換ブリッジによって台が互いに結合される第２の構成でのリソグラフィ装置を、図４の矢印ＱＱ’に従って線ＰＰ’に対する側面で示す図である。
【図８】[0023]基板交換時の、液浸液を備えたリソグラフィ装置の一実施形態の一部を示す図である。
【図９】[0024]交換ブリッジが、リソグラフィ装置の別の部分と衝突することがないように交換ブリッジがバンパによって保護される第１の位置にある一実施形態を示す図である。
【図１０】[0025]交換ブリッジが、ブリッジホルダから交換ブリッジを取り外し短ストロークモジュールの可動部に結合できる第２の位置にある、図９の実施形態を示す図である。
【図１１】[0026]交換ブリッジを結合するように構成された２つのブリッジヘッドを備えるリソグラフィ装置を、図７の線ＲＲ’に従って矢印ＳＳ’の方向で示す図である。
【図１２】[0027]交換ブリッジを分離しブリッジホルダを移動させるように構成されたシステムを備えるリソグラフィ装置を、図４に示した矢印ＱＱ’の方向で線ＰＰ’に従って示す図である。
【図１３】[0028]短ストロークモジュールの可動部が互いに接近しすぎた位置にあって交換ブリッジ６が結合されたままにならない、図１２の実施形態を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
[0029]  図１は、本発明の一実施形態によるリソグラフィ装置を概略的に示す。この装置は、放射ビームＢ（例えば紫外線放射または遠紫外線放射）を調整するように構成された照明システム（イルミネータ）ＩＬと、パターニングデバイス（例えばマスク）ＭＡを支持するように構築され、かつ特定のパラメータに応じてパターニングデバイスを正確に位置決めするように構成された第１ポジショナＰＭに接続されるパターニングデバイスサポートまたはサポート構造（例えばマスクテーブル）ＭＴと、基板（例えばレジスト被覆ウェーハ）Ｗを保持するように構築され、かつ特定のパラメータに応じて基板を正確に位置決めするように構成された第２ポジショナＰＷに接続される基板テーブル（例えばウェーハテーブル）ＷＴと、パターニングデバイスＭＡによって放射ビームＢに付与されたパターンを基板Ｗのターゲット部分Ｃ（例えば１つまたは複数のダイを含む）の上に投影するように構成された投影システム（例えば屈折投影レンズシステム）ＰＳとを含む。
【００１７】
[0030]  照明システムは、放射を誘導し、成形し、または制御するために、屈折式、反射式、磁気式、電磁気式、静電気式、または他のタイプの光学コンポーネント、あるいはこれらの組合せなど、様々なタイプの光学コンポーネントを含むことができる。
【００１８】
[0031]  パターニングデバイスサポートは、パターニングデバイスの向き、リソグラフィ装置の設計、および他の条件、例えばパターニングデバイスが真空環境内で保持されるかどうかなどによって決まる方法で、パターニングデバイスを保持する。パターニングデバイスサポートは、機械式、真空式、静電気式、または他のクランプ技法を使用して、パターニングデバイスを保持することができる。パターニングデバイスサポートは、例えばフレームまたはテーブルとすることができ、必要に応じて固定にも可動にもすることができる。パターニングデバイスサポートは、パターニングデバイスが、例えば投影システムに対して所望の位置に確実にあるようにすることができる。本明細書で「レチクル」または「マスク」という用語が使われても、より概括的な「パターニングデバイス」という用語と同義とみなされてよい。
【００１９】
[0032]  本明細書で使用される「パターニングデバイス」という用語は、基板のターゲット部分内にパターンを生成するように放射ビームの断面にパターンを付与するのに使用できる任意のデバイスを指すものとして広く解釈されるべきである。放射ビームに付与されるパターンは、例えばパターンが位相シフトフィーチャ、またはいわゆるアシストフィーチャを含む場合、基板のターゲット部分内の所望のパターンと正確に一致しないことがあることに注意されたい。一般に、放射ビームに付与されるパターンは、ターゲット部分内につくり出される集積回路などのデバイス内の、ある特定の機能層に対応する。
【００２０】
[0033]  パターニングデバイスは、透過型でも反射型でもよい。パターニングデバイスの例には、マスク、プログラマブルミラーアレイ、およびプログラマブルＬＣＤパネルを含む。マスクはリソグラフィでよく知られており、バイナリ、レベンソン型（alternating）位相シフト、およびハーフトーン型（attenuated）位相シフトなどのマスクタイプ、ならびに様々なハイブリッドマスクタイプが含まれる。プログラマブルミラーアレイは、複数の小さな鏡のマトリクス配置を使用し、それぞれの鏡は、入ってくる放射ビームを別々の方向に反射するように個々に傾けることができる。傾けられた鏡は、ミラーマトリクスで反射される放射ビーム内にパターンを付与する。
【００２１】
[0034]  本明細書で使用される「投影システム」という用語は、使用される露光放射に対して、あるいは液浸液の使用または真空の使用など他の要因に対して適切な屈折式、反射式、反射屈折式、磁気式、電磁気式および静電気式の光学システム、あるいはこれらの任意の組合せを含むどんなタイプの投影システムも包含するものとして広く解釈されるべきである。本明細書において「投影レンズ」という用語が使われても、より概括的な「投影システム」という用語と同義とみなされてよい。
【００２２】
[0035]  ここで図示されているように、この装置は透過型である（例えば、透過型マスクを使用する）。別法として、装置を反射型にすることもできる（例えば、上述したタイプのプログラマブルミラーアレイを使用する、あるいは反射型マスクを使用する）。
【００２３】
[0036]  リソグラフィ装置は、２つ（デュアルステージ）以上の基板テーブル（および／または２つ以上のマスクテーブル）を有するタイプとすることができる。このような「マルチステージ」機では、追加のテーブルが並行して使用されることがあり、あるいは、１つまたは複数のテーブルの上で準備段階を実施する一方で、他の１つまたは複数のテーブルが露光のために使用されることもある。
【００２４】
[0037]  リソグラフィ装置はまた、基板の少なくとも一部分を屈折率が相対的に高い液体、例えば水で覆って、投影システムと基板の間の空間を充填することができるタイプとすることもできる。液浸液はまた、リソグラフィ装置内の他の空間、例えばパターニングデバイス（例えばマスク）と投影システムの間に加えることもできる。液浸技法は、投影システムの開口数を増大させることであり、当技術分野ではよく知られている。本明細書で使用される「液浸」という用語は、基板などの構造体が液体中に浸漬されなければならないことを意味するのではなく、ただ液体が露光中に投影システムと基板の間に置かれることを意味するだけである。
【００２５】
[0038]  図１を参照すると、イルミネータＩＬは、放射源ＳＯから放射ビームを受け入れる。放射源およびリソグラフィ装置は、例えば放射源がエキシマレーザである場合には、別個の構成要素とすることができる。このような場合には、放射源はリソグラフィ装置の一部を形成するとみなされず、その放射ビームは放射源ＳＯからイルミネータＩＬまで、例えば適切な誘導ミラーおよび／またはビームエキスパンダを含むビームデリバリシステムＢＤの補助により通される。他の場合、例えば放射源が水銀ランプのときは、放射源をリソグラフィ装置と一体化した部分とすることができる。放射源ＳＯとイルミネータＩＬは、必要に応じてビームデリバリシステムＢＤと共に、放射システムと呼ばれることがある。
【００２６】
[0039]  イルミネータＩＬは、放射ビームの角度強度分布を調整するためのアジャスタＡＤを含むことができる。一般に、少なくともイルミネータの瞳面における強度分布の外側および／または内側半径範囲（通常それぞれσ-outerおよびσ-innerと呼ばれる）を調整することができる。さらに、イルミネータＩＬは、インテグレータＩＮおよびコンデンサＣＯなど他の様々な構成要素を含むことができる。イルミネータを使用して放射ビームを調整し、その断面内に所望の均一性および強度分布を得ることができる。
【００２７】
[0040]  放射ビームＢは、パターニングデバイスサポート（例えばマスクテーブル）ＭＴ上に保持されているパターニングデバイス（例えばマスク）ＭＡに入射し、パターニングデバイスによってパターニングされる。パターニングデバイス（例えばマスク）ＭＡを横切ると、放射ビームＢは投影システムＰＳを通過する。この投影システムは、ビームを基板Ｗのターゲット部分Ｃの上に集束する。第２ポジショナＰＷおよび位置センサＩＦ（例えば干渉計デバイス、リニアエンコーダ、または容量センサ）の補助により、基板テーブルＷＴを正確に動かして、例えば放射ビームＢの経路内の別々のターゲット部分Ｃを位置決めすることができる。同様に、第１ポジショナＰＭおよび別の位置センサ（図１に明示せず）を使用して、例えばマスクライブラリからの機械的検索の後、またはスキャン中に、パターニングデバイス（例えばマスク）ＭＡを放射ビームＢの経路に対して正確に位置決めすることができる。一般に、パターニングデバイスサポート（例えばマスクテーブル）ＭＴを動かすことは、第１ポジショナＰＭの一部を形成するロングストロークモジュール（粗動位置決め）およびショートストロークモジュール（微動位置決め）の補助により実現することができる。同様に、基板テーブルＷＴを動かすことは、第２ポジショナＰＷの一部を形成するロングストロークモジュールおよびショートストロークモジュールを使用して実現することができる。ステッパの場合には（スキャナとは対照的に）、パターニングデバイスサポート（例えばマスクテーブル）ＭＴをショートストロークアクチュエータだけに接続することができ、あるいは固定することができる。パターニングデバイス（例えばマスク）ＭＡと基板Ｗは、パターニングデバイスアライメントマークＭ１、Ｍ２、および基板アライメントマークＰ１、Ｐ２を使用して整合させることができる。基板アライメントマークは、図示のように専用のターゲット部分を占有するが、ターゲット部分間の空間に配置することもできる（これらは、スクライブラインアライメントマークとして知られる）。同様に、パターニングデバイス（例えばマスク）ＭＡ上に２つ以上のダイが用意される場合では、パターニングデバイスアライメントマークはダイ間に配置することができる。
【００２８】
[0041]  図示の装置は、以下のモードのうちの少なくとも１つで使用することができる。
【００２９】
[0042]  １．ステップモードでは、パターニングデバイスサポート（例えばマスクテーブル）ＭＴ、および基板テーブルＷＴが実質的に静止状態に維持され、放射ビームに付与された全パターンが一度にターゲット部分Ｃの上に投影される（すなわち単一静止露光）。次に、基板テーブルＷＴは、別のターゲット部分Ｃを露光できるようにＸおよび／またはＹの方向に移動される。ステップモードでは、露光フィールドの最大寸法により、単一静止露光で像が形成されるターゲット部分Ｃの寸法が制限される。
【００３０】
[0043]  ２．スキャンモードでは、パターニングデバイスサポート（例えばマスクテーブル）ＭＴと基板テーブルＷＴが同期してスキャンされ、放射ビームに付与された全パターンがターゲット部分Ｃの上に投影される（すなわち単一動的露光）。基板テーブルＷＴの、パターニングデバイスサポート（例えばマスクテーブル）ＭＴに対する速度および方向は、投影システムＰＳの拡大（縮小）および像反転の諸特性によって決定することができる。スキャンモードでは、露光フィールドの最大寸法により単一動的露光におけるターゲット部分の幅（非スキャン方向）が制限されるのに対し、スキャン動作の長さによりターゲット部分の高さ（スキャン方向）が決まる。
【００３１】
[0044]  ３．もう１つのモードでは、パターニングデバイスサポート（例えばマスクテーブル）ＭＴは、プログラマブルパターニングデバイスを保持しながら実質的に静止状態に維持され、放射ビームに付与されたパターンがターゲット部分Ｃに投影されると同時に、基板テーブルＷＴが移動またはスキャンされる。このモードでは、一般にパルス放射源が使用され、プログラマブルパターニングデバイスが、基板テーブルＷＴが動いた後ごとに、または一回のスキャン中の連続する放射パルスの間に、必要に応じて更新される。この動作モードは、上述したタイプのプログラマブルミラーアレイなど、プログラマブルパターニングデバイスを利用するマスクレスリソグラフィに容易に適用することができる。
【００３２】
[0045]  リソグラフィ装置はまた、相対的に高い屈折率を有する液体、例えば水に基板を浸して、投影システムの最終素子と基板の間の空間を満たすタイプとすることができる。液浸液はまた、リソグラフィ装置内の他の空間、例えばパターニングデバイス（例えばマスク）と投影システムの第１の素子の間に加えることもできる。液浸技法は、投影システムの開口数を増大させることで当技術分野においてよく知られている。
【００３３】
[0046]  上述の各使用モードの組合せおよび／または変種、あるいは全く異なる使用モードもまた使用することができる。
【００３４】
[0047]  図２は、図１のリソグラフィ装置の台を概略的に示す。長ストロークモジュール１８および短ストロークモジュール２０のそれぞれは、固定部と可動部に分割することができる。各モジュールは、モジュールの可動部を固定部に対して移動させるためのモータを含む。図２に、台を支持するために使用される、石のテーブルでよい台サポート３０が示されている。台サポート３０には、長ストロークモジュール１８の固定部８が取り付けられる。長ストロークモジュール１８の可動部１０は、固定部８に対して移動させられる。長ストロークモジュール１８の可動部１０には、短ストロークモジュール２０の固定部１２が取り付けられる。短ストロークモジュール２０の可動部１４は、固定部１２に対して移動させられる。基板テーブルＷＴは、短ストロークモジュール２０の可動部１４に取り付けられる。基板テーブルＷＴは、台の一部ではない基板Ｗを支持するように構成される。
【００３５】
[0048]  長ストロークモジュール１８の可動部１０および短ストロークモジュール２０の固定部１２を、以下において、中間部２２と称する。
【００３６】
[0049]  図３は、図１のリソグラフィ装置の一部を、線ＬＬ’で示された平面に向く矢印ＭＭ’に従って（矢視した）上面図であり、基板Ｗ１およびＷ２を保持するように構成された２つの台２および４を含めて示すものである。図５は、基板Ｗ１およびＷ２を保持するテーブルＷＴ１およびＷＴ２を動かすように構成された短ストロークモジュール２０．１および２０．２を備える各ステージを、図３の矢印ＯＯ’に従って（矢視した）線ＮＮ’に対する側面図を示す。図５はさらに、短ストロークモジュール２０．１および２０．２を動かすための長ストロークモジュール１８．１および１８．２を示す。このリソグラフィ装置は、ステージ２および４を結合するための交換ブリッジ６を備え、ステージ２および４は、図３に示された第１の状態または構成において、互いに移動可能である。図４に示された第２の状態または構成においては、台２と４は交換ブリッジ６を介して結合されており、例えば矢印ＪＭの方向の連結移動を行う。図５のリソグラフィ装置の図示部分は、ブリッジホルダ１６が短ストロークモジュール２０．１および２０．２の可動部１４から力学的に分離される第１の状態において、交換ブリッジ６を保持するように構成されたブリッジホルダ１６を示す。このリソグラフィ装置は、さらに、使用の際に、第２の状態において、交換ブリッジ６が短ストロークモジュール２０．１および２０．２の可動部１４だけに結合するように、ブリッジホルダ１６から交換ブリッジ６を取り外し、その交換ブリッジ６を用いて短ストロークモジュール２０．１および２０．２の可動部１４間の結合を行うように構成されたシステムを備える。このシステムは、以下でカプラと呼ばれることがある。
【００３７】
[0050]  当技術分野では、短ストロークモジュール２０の固定部１２を可動部１４から力学的に分離できることが知られている。これは、例えばローレンツモータを使用することによって行うことができる。この種のモータでは、電磁気接点があり、モータの固定部と可動部の間に機械的接点がない。したがって、固定部からの力学的振動が可動部まで大きく伝わることがなく、逆もまた同様である。
【００３８】
[0051]  図５においては、ブリッジホルダ１６は、長ストロークモジュール１８．１の可動部１０に直接または間接的に結合される。ブリッジホルダ１６は、短ストロークモジュール２０の固定部１２を介して、および／または、可動部１０もしくは固定部１２に接続された１つまたは複数の追加構成要素を介して、可動部１０に間接的に結合することができる。あるいは、ブリッジホルダ１６をリソグラフィ装置の固定部、例えば投影レンズＰＳ、または長ストロークモジュール１８．１および１８．２を支持するサポートフレーム３０に接続することもまた可能である。
【００３９】
[0052]  リソグラフィ装置には液浸システムを備えることができる。図８に概略的に示された一実施形態では、液浸システム２３が液体２４を基板Ｗ２と投影レンズＰＳの間に、基板Ｗ２上の局部的な領域に達する入口２３．１を介して加える。その局部的な領域から流れる液体は、出口２３．２を通して排除される。図８は、台２および４が交換ブリッジ６によって結合される第２の状態を示す。台２および４は、矢印ＪＭの方向の連結移動で共に移動することができる。方向ＪＭに移動すると、基板Ｗ２が投影システムＰＳの下から遠ざけられ、基板Ｗ１が投影システムＰＳの下に移動される。投影システムＰＳの下の１つの基板を別のものと取り替えること（exchanging）を交換（swapping）と呼ぶ。基板の交換中に、液体２４を流し続けることが好ましい。こうすることは、投影システムＰＳ上で汚れが乾かないようにするのに役立つ。また、損傷および汚染を招くおそれがあるリソグラフィ装置内への漏洩を防止することが望ましい。交換ブリッジ６は、液体２４に対する境界を設けることによって、交換中に台２および４の間で液体２４が漏洩することを防止するのに寄与することができる。
【００４０】
[0053]  図９は、ブリッジホルダ１６が、交換ブリッジ６を第１の位置に保持するように構成され、その結果、交換ブリッジ６がリソグラフィ装置の別の部分と衝突することがないように構成されている一実施形態を示す。第１の位置では、交換ブリッジ６が、リソグラフィ装置の別の部分と交換ブリッジが衝突することがないように、バンパ２６によって保護される。この実施形態は、ブリッジホルダ１６から交換ブリッジ６を取り外し、交換ブリッジ６を用いて短ストロークモジュール２０．１および２０．２の可動部１４間の結合を行うように構成されたシステムまたはカプラを備える。また、この実施形態では、システムまたはカプラは、コントローラ、モータおよびヒンジ２８を含む。このコントローラは、中間部２２とブリッジホルダ１６の間のヒンジ２８を使用して交換ブリッジ６を回転させることができるモータを制御するように構成される。交換ブリッジ６は、ブリッジホルダ１６によって保持され、したがって、ブリッジホルダ１６を回転させることによって、交換ブリッジ６を図１０に示された第２の位置に回転させることができる。この第２の位置では、短ストロークモジュール２０．１および２０．２が交換ブリッジ６と結合し、それをブリッジホルダ１６から外すことが可能である。別の実施形態では、カプラは１つのヒンジを含む。
【００４１】
[0054]  別の実施形態では、短ストロークモジュール２０．１および２０．２の可動部１４に結合するように構成されたカプラは、交換ブリッジ６をブリッジホルダ１６から取り外し、次に、交換ブリッジ６が台２および４の短ストロークモジュール２０．１および２０．２の可動部１４に結合できる位置まで交換ブリッジ６を移動させるように構成されたロボットアームを含む。
【００４２】
[0055]  図１１は、図７の線ＲＲ’に従って矢印ＳＳ’の方向から視認した図であり、短ストロークモジュール２０．１および２０．２、および／または、交換ブリッジ６の変形が少なくとも部分的に互いに分離されるように、交換ブリッジ６を短ストロークモジュール２０．１および２０．２の可動部１４に結合するように構成された２つのブリッジヘッド３２を備えたリソグラフィ装置を示す。このことは、例えば、短ストロークモジュール２０．１および２０．２、および／または、ブリッジヘッド３２の熱膨張の影響が、例えばブリッジヘッド３２が短ストロークモジュール２０．１および２０．２に結合されるようにした、ブリッジヘッド３２の動的特性と、可能であればブリッジヘッド３２の融通の利く特性とによって、最小化されることを意味する。
【００４３】
[0056]  図１１の実施形態では、各ブリッジヘッド３２は、ｙ方向に柔軟な板ばね３６と、ブリッジヘッド３２をｙ方向に抑止する中央サポート３４とを介して、短ストロークモジュール２０．１または２０．２の可動部１４に接続される。各ブリッジヘッド３２が１つの位置のみでｙ方向に抑止されているので、ブリッジヘッド３２と、短ストロークモジュール２０．１および２０．２の可動部１４とは、互いにｙ方向に自由に膨張および収縮することができる。これは、短ストロークモジュール２０．１および２０．２の可動部１４がｙ方向に変形した場合に、ブリッジヘッド３２に結合された交換ブリッジ６は変形されず、逆もまた同様であることを意味する。その結果、短ストロークモジュール２０．１および２０．２、および／または、交換ブリッジ６の変形は、少なくとも部分的に互いに分離される。これらの変形は、熱膨張、加速力、または液体２４により生じる圧力によって生じ得ることがある。ブリッジヘッド３２を短ストロークモジュール２０．１および２０．２の可動部１４に接続するための他の構成も可能である。例えば、ブリッジヘッド３２は、２つの板ばね３６だけで抑止することができ、そのうちの１つは、ブリッジヘッド３２をｙ方向に抑止するためにｙ方向に剛直にされている。ブリッジヘッド３２を交換ブリッジ６に取り付けることもまた可能である。さらに、リソグラフィ装置は、ブリッジヘッド３２を１つだけ備えることもできる。
【００４４】
[0057]  熱膨張によって生じる変形を最小にするために、互いに接続される構成要素では同じ熱膨張係数を有する材料を使用することが当技術分野で知られている。しかし、図１１の実施形態に示されるように、短ストロークモジュール２０．１および２０．２の可動部１４とブリッジヘッド３２は、互いにｙ方向に自由に膨張および収縮できるので、異なる熱膨張係数を有する材料を、熱膨張によって生じる変形を増大させずに使用することが可能となる。ブリッジヘッド３２には、超硬合金など高い耐摩耗性を有する第１の材料を使用することができ、したがって、交換ブリッジ６は、ブリッジヘッド３２を摩耗させることなく繰り返し結合および分離することができる。短ストロークモジュール２０．１および２０．２の可動部１４は、熱的に安定した形状を実現するために、第１の材料よりも低い熱膨張係数を有するｚｅｒｏｄｕｒなどの第２の材料を含むことができる。
【００４５】
[0058]  図１２および図１３は、図４に示した矢印ＱＱ’の方向で線ＰＰ’に従って矢視した状態のリソグラフィ装置を示す。短ストロークモジュール２０．１の可動部１４．１は、交換ブリッジ６に接続された継ぎ手４８と結合するためのＶ溝があるブリッジヘッド３２を備えている。短ストロークモジュール２０．２の可動部１４．２は、傾斜面３８と、可撓継ぎ手４６に結合するためのＶ溝とを含むブリッジヘッド４４を備え、可撓継ぎ手４６は、ｘ方向に柔軟であり、交換ブリッジ６に接続されている。ブリッジホルダ１６は、交換ブリッジ６を保持するためのＶ溝４２を備え、ブリッジホルダ１６を中間部２２．１に対してｙ軸に沿って回転させることができるヒンジ２８を介して、中間部２２．１に接続される。交換ブリッジ６は、可動部１４．１および１４．２によってｘ方向に押さえ付けられ、それによって、継ぎ手４８がブリッジヘッド３２のＶ溝に固定され、可撓継ぎ手４６がブリッジヘッド４４のＶ溝に固定される。このようにして、交換ブリッジ６は、可動部１４．１および１４．２に結合される。可撓継ぎ手４６は、可動部１４．１および１４．２の間の距離の変動によって生じる押圧の変動を最小にするのに役立つ。これらの距離の変動は、可動部１４．１および１４．２の位置決め誤差によって生じうる。こうして、交換ブリッジ６は、ほぼ一定の既定の押圧を用いて結合することができる。
【００４６】
[0059]  交換ブリッジ６を分離するには、まず短ストロークモジュール２０．１および２０．２の可動部１４を下げて交換ブリッジ６をブリッジホルダ１６の上に置き、次に各可動部１４を互いに遠ざけて交換ブリッジ６に対する押圧を低減させ、最後に交換ブリッジ６を分離する。
【００４７】
[0060]  図１２および図１３による実施形態の利点は、短ストロークモジュール２２．１および２２．２の可動部を互いの方に移動させることによって、短ストロークモジュール２２．１および２２．２の可動部１４から交換ブリッジ６を分離する安全な方策が得られることにあり、ブリッジホルダ１６は、交換ブリッジが分離された後に、交換ブリッジ６を捕捉するように構築されている。図１３においては、交換ブリッジ６が短ストロークモジュール２０．１および２０．２の可動部１４．１および１４．２に結合されているが、可動部１４．１および１４．２が互いに接近しすぎた位置にあって交換ブリッジ６が結合されたままにならない特別な状態を示している。交換ブリッジ６を分離するために、リソグラフィ装置は、短ストロークモジュール２０．１および２０．２の可動部１４．１および１４．２を互いの方に移動させることによって交換ブリッジ６を分離するように構成されたシステムまたは分離器を備える。この実施形態では、そのシステムまたは分離器は、傾斜面３８および可撓継ぎ手４６を含む。交換ブリッジ６を分離するように、ブリッジヘッド４４の傾斜面３８は、交換ブリッジ６を下向きに押す。そうして交換ブリッジ６が下向きに押されるので、可撓継ぎ手４６は、圧縮されてブリッジヘッド４４内のＶ溝から分離され得る。その結果、交換ブリッジ６は、交換ブリッジが分離された後に引力により落下し、ブリッジホルダ１６によってＶ溝４２を用いて捕捉される。可動部１４．１および１４．２間の距離がさらに小さくなる場合には、傾斜面３８は、交換ブリッジ６を介してブリッジホルダ１６を押さえ付けることによって、ブリッジホルダ１６をヒンジ２８のまわりに回転させる。図１３に示された特別な状態において、ブリッジホルダ１６を用いまたは用いずに交換ブリッジ６を分離し押し隔てることにより、リソグラフィ装置の損傷を防止することができる。可動部１４．１および１４．２が互いに接近しすぎる原因としては、可動部１４．１および１４．２の一方の位置決めコントローラの誤動作、あるいは、台２および４の一方への電力の損失があり得る。図１３に示された実施形態の代替（形態）では、傾斜面３８は、短ストロークモジュール２０．１および２０．２の一方、または、基板テーブルＷＴ１およびＷＴ２の一方の可動部１４と一体化された部分となる構成が挙げられる。ブリッジヘッド３２および４４は、図１１に示された実施形態で説明したように、短ストロークモジュール２０．１および２０．２、および／または、交換ブリッジ６の変形を少なくとも部分的に互いに分離するためのシステムを備えることができる。交換ブリッジ６に傾斜面を設けることが可能である。別の実施形態では、傾斜面３８は、交換ブリッジ６を下向きとは別の、例えば横向きの方向に押す。ブリッジホルダ１６が平行移動できることもあり得る。可撓継ぎ手４６は、ｘ方向とは別の、例えばｚ方向に剛直にすることができ、これにより、それを使用して液体２４により交換ブリッジ６に与えられる圧力に対抗することができる。こうすると、液体２４が交換ブリッジ６を通過するときの交換ブリッジ６の変形を低減することが可能となる。また、傾斜面３８および可撓継ぎ手４６に代え���、交換ブリッジ６とブリッジヘッド３２および４４との間の、破断して交換ブリッジ６を分離できる弱い継ぎ手など、短ストロークモジュール２０．１および２０．２の各可動部１４を互いの方に移動させることによって交換ブリッジを分離しブリッジホルダを移動させる他の手段をリソグラフィ装置に備えることもまた可能である。別の実施形態では、継ぎ手４８がブリッジヘッド３２に接続され、および／または、可撓継ぎ手４６がブリッジヘッド４４に接続され、交換ブリッジ６はＶ溝を備える。交換ブリッジ６が、ブリッジホルダ１６によって保持されるようにＶ溝を備えることもまた可能である。なお、他の種類の溝も使用できることも当業者には理解されよう。
【００４８】
[0061]  一実施形態では、ブリッジホルダ１６は、交換ブリッジ６を保持するための磁石を備える。交換ブリッジ６は、磁石によって与えられる磁気保持力を超える力を交換ブリッジ６に与えることによって、ブリッジホルダ１６から取り外すことができる。別の実施形態では、交換ブリッジ６が磁石を備えてもよい。
【００４９】
[0062]  一実施形態では、リソグラフィ装置は、液体２４の一部を抜き取るための抜取り孔を備える。この抜取り孔は、交換ブリッジ６、および／または、ブリッジヘッド３２および４４の一方に設けることができ、および／または、短ストロークモジュール２０．１および２０．２の一方の可動部１４に設けることもできる。
【００５０】
[0063]  本発明の一実施形態では、台２および４のそれぞれが、交換ブリッジ６をブリッジホルダごとに１つ保持するブリッジホルダ１６を備える。
【００５１】
[0064]  本発明の一実施形態では、短ストロークモジュール２０．１および２０．２の一方が、基板テーブルＷＴ１またはＷＴ２に代えて、センサテーブルを備える。このセンサテーブルは、センサを備えることができ、基板を支持することはできないことがある。このセンサを使用して、例えば、センサテーブルを投影システムＰＳに対して位置合わせし、あるいは、投影システムＰＳを通る放射ビームの拡大率または強度などの特性を測定することができる。図８に示す構成では、センサテーブルは、例えば図８の基板Ｗ２と同様に液体２４に対する境界として機能させることによって、液体２４の望ましくない漏洩を防止することに役立つように使用することができる。
【００５２】
[0065]  本明細書では、ＩＣの製造におけるリソグラフィ装置の使用に特に言及することがあるが、本明細書に記載のリソグラフィ装置には、集積光学システム、磁気ドメインメモリ用のガイダンスパターンおよび検出パターン、フラットパネルディスプレイ、液晶ディスプレイ（LCD）、薄膜磁気ヘッドなどの製造のような、他の応用例もありうることを理解されたい。このような代替応用例についての文脈で、本明細書の「ウェーハ」または「ダイ」という用語が使用されれば、それぞれより一般的な「基板」または「ターゲット部分」という用語と同義とみなしてよいことを当業者なら理解されよう。本明細書で参照した基板は、露光の前または後に、例えばトラック（一般に、レジスト層を基板に付けるとともに露光したレジストを現像するツール）、メトロロジーツールおよび／またはインスペクションツールで処理することができる。適用できる場合には、本明細書の開示をこのような基板処理ツール、または他の基板処理ツールに適用することができる。さらに、例えば複数層のＩＣを作製するために基板を２回以上処理することもあり、そのため、本明細書で用いた基板という用語がまた、複数の処理層をすでに含む基板を指すこともある。
【００５３】
[0066]  上記では特に、本発明の実施形態の使用状態について光学リソグラフィとの関連で言及したが、本発明は他の応用分野、例えばインプリントリソグラフィで使用することもでき、状況が許せば光学リソグラフィに限定されないことも理解されたい。インプリントリソグラフィでは、パターニングデバイスのトポグラフィが、基板上に作成されるパターンを画定する。パターニングデバイスのトポグラフィは、基板に与えられたレジスト層に押し込むことができ、このレジストは基板上で、電磁放射、熱、圧力、またはこれらの組合せを与えることによって硬化させる。レジストが硬化した後、パターニングデバイスをレジストの外へ移してレジスト内にパターンを残す。
【００５４】
[0067]  本明細書で使用する「放射」および「ビーム」という用語は、紫外線（UV）放射（例えば３６５ｎｍ、２４８ｎｍ、１９３ｎｍ、１５７ｎｍまたは１２６ｎｍの波長、あるいはそれに近い波長を有する）、および超紫外線（EUV）放射（例えば５〜２０ｎｍの範囲の波長を有する）を含むすべての種類の電磁放射、ならびにイオンビームまたは電子ビームなどの粒子ビームを包含する。
【００５５】
[0068]  「レンズ」という用語は、状況が許せば、屈折式、反射式、磁気式、電磁気式、および静電気式の光学コンポーネントを含む様々な種類の光学コンポーネントのいずれか１つ、またはいずれかの組合せを指すことができる。
【００５６】
[0069]  一実施形態では、基板を保持するようにそれぞれ構成された第１および第２の台を含むリソグラフィ装置が提供される。第１および第２の台それぞれは、短ストロークモジュールと、台の短ストロークモジュールを移動させるように構成された長ストロークモジュールとを備える。このリソグラフィ装置はさらに、第１と第２の台を結合するように構成された交換ブリッジを備え、使用の際、第１の構成では、第１および第２の台が互いに移動可能である。第２の構成では、第１と第２の台が、連結移動のために交換ブリッジを介して結合される。リソグラフィ装置はさらに、交換ブリッジを保持するように構成されたブリッジホルダを第１の構成で備え、ブリッジホルダは、第１および第２の台の短ストロークモジュールの可動部から力学的に分離される。リソグラフィ装置はさらに、使用の際、第２の構成では、交換ブリッジが第１および第２の台の短ストロークモジュールの可動部とだけ結合するように、第１および第２の短ストロークモジュールの可動部を交換ブリッジと結合するように構成されたカプラを備える。
【００５７】
[0070]  ブリッジホルダは、第１および第２の台の長ストロークモジュールの可動部に直接結合することができる。このブリッジホルダは、交換ブリッジがリソグラフィ装置の別の部分と衝突することがないように、交換ブリッジを第１の位置に保持するように構成することができる。
【００５８】
[0071]  リソグラフィ装置はさらに、第１の台の長ストロークモジュールの可動部とブリッジホルダの間に配置されたヒンジを含んで、交換ブリッジを第１の位置から第２の位置までヒンジによって回転させることができる。
【００５９】
[0072]  リソグラフィ装置はさらに、短ストロークモジュールおよび／または交換ブリッジの変形が少なくとも部分的に互いに分離されるように、交換ブリッジを第１または第２の台の短ストロークモジュールの可動部に結合するように構成されたブリッジヘッドを含むことができる。
【００６０】
[0073]  リソグラフィ装置はさらに、第１および第２の台の短ストロークモジュールの可動部を互いの方に移動させることによって、交換ブリッジを第１および第２の台の短ストロークモジュールの可動部から分離するように構成された分離器を含むことができる。ブリッジホルダは、交換ブリッジが分離された後にその交換ブリッジを捕捉するように構築することができる。
【００６１】
[0074]  一実施形態では、第１および第２の台を交換ブリッジと結合することを含むデバイス製造方法が提供される。第１および第２の台はそれぞれ、基板を保持するように構成される。第１および第２の台のそれぞれは、短ストロークモジュールと、台の短ストロークモジュールを移動させるように構成された長ストロークモジュールとを備える。使用の際、第１の構成では、第１および第２の台は互いに移動可能である。第２の構成では、第１と第２の台が、連結移動のために交換ブリッジを介して結合される。この方法はさらに、第１の構成で交換ブリッジをブリッジホルダで保持することを含み、ブリッジホルダは、第１および第２の台の短ストロークモジュールの可動部から力学的に分離される。この方法はさらに、使用の際に、第２の構成では、交換ブリッジが第１および第２の台の短ストロークモジュールの可動部とだけ結合するように、第１および第２の台の短ストロークモジュールの可動部を交換ブリッジと結合することを含む。
【００６２】
[0075]  上記で本発明の特定の実施形態について説明したが、本発明は、説明したものと別の方法でも実施できることを理解されたい。例えば、本発明は、上記で開示したような方法を記述する１つまたは複数の連続する機械可読命令を含むコンピュータプログラムの形、あるいはそのようなコンピュータプログラムが中に格納されたデータ記憶媒体（例えば半導体メモリ、磁気ディスクまたは光ディスク）の形を取ることができる。
【００６３】
[0076]  上記の説明は例示的なものであり、限定的なものではない。したがって、添付の特許請求の範囲から逸脱することなく、説明した本発明に改変を加えることができることは、当業者には明らかであろう。
【図１】
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【図９】
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【図１０】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【外国語明細書】
2010123960000001.pdf