(57)【要約】【課題】基板上にパターンを精度よく描画する。【解決手段】磁気シールド筐体２４の円筒部２５ａの内部に磁気キャンセル機構５０を設ける。この磁気キャンセル機構５０は、環状コイル５１，５２の相互作用により、固定子ユニット３４から発生する磁束密度Ｂｘの第１の磁界を打ち消すための、磁束密度がＢｃの第２の磁界を発生させる。これにより、第１の磁界と第２の磁界とが相殺し結果的に、磁気シールド筐体２４からの漏れ磁束の発生が回避される。【選択図】図８
2010027993.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子線を用いて基板にパターンを描画する電子線描画装置であって、
前記基板を保持するステージと；
前記ステージを所定軸方向へリニアモータにより駆動する駆動機構と；
前記駆動機構を覆う強磁性材料からなる磁気シールド筐体と；
前記磁気シールド筐体に形成された開口部からの漏れ磁束をキャンセルするキャンセル機構と；を備える電子線描画装置。
【請求項２】
前記磁気シールド筐体の内部に配置され、前記リニアモータからの磁束を減じるとともに、前記磁気シールド筐体に設けられた前記開口部に誘導する磁束減衰誘導機構を更に備える請求項１に記載の電子線描画装置。
【請求項３】
前記開口部は、前記磁気シールド筐体の前記所定軸方向に設けられており、前記キャンセル機構は、前記所定軸方向の磁束をキャンセルするための磁束を発生する請求項１又は２に記載の電子線描画装置。
【請求項４】
前記磁束減衰誘導機構は、交流磁気シールドを含む請求項２又は３に記載の電子線描画装置。
【請求項５】
前記キャンセル機構は、前記磁気シールド筐体の前記開口部に設けられた磁気センサと、前記所定軸方向の磁束をキャンセルするための磁束を発生させるためのキャンセルコイルと、前記磁気センサからの検出信号に基づく電流を前記キャンセルコイルに供給する電流供給装置とを有する請求項１〜４のいずれか一項に記載の電子線描画装置。
【請求項６】
前記キャンセル機構は、前記所定軸方向の磁束をキャンセルするための磁束を発生させる永久磁石を更に有する請求項５に記載の電子線描画装置。
【請求項７】
前記キャンセルコイルはヘルムホルツコイルで構成されている請求項５又は６に記載の電子線描画装置。
【請求項８】
前記ステージ装置を収容する真空チャンバと、該真空チャンバの内壁面に設けられた磁気シールドとを更に備える請求項１〜７のいずれか一項に記載の電子線描画装置。
【請求項９】
前記磁気シールド筐体には、前記基板を回転する回転軸が挿入される第２の開口が形成され、
前記第２の開口からの漏れ磁束をシールドするシールド部材を更に備える請求項１〜８のいずれか一項に記載の電子線描画装置。
【請求項１０】
前記磁気シールド筐体は、前記開口部の周囲を囲む円筒部を有し、前記円筒部は、前記磁気シールドに設けられた開口に対して相対移動する請求項８又は９に記載の電子線描画装置。
【請求項１１】
一側に載置された前記基板を回転可能に保持する回転テーブルを更に備え、前記シールド部材は強磁性材料からなり、前記回転テーブルの他側に取り付けられている請求項９又は１０に記載の電子線描画装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子線描画装置に係り、更に詳しくは、電子線を用いて基板にパターンを描画する電子線描画装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、情報のデジタル化に伴い、光ディスクやハードディスクの大容量化に対する要求が高まっており、ＣＤ（Compact Disk）や、ＤＶＤ（Digital Versatile Disk）などの従来型光ディスクに代わり、例えば波長が４００ｎｍ程度の紫外光により情報の記録及び再生が行なわれる次世代型の光ディスクや、高密度記録が可能なパターンドメディアが登場するに至っている。
【０００３】
次世代型光ディスクの原盤（スタンパ）やパターンドメディアの記録媒体等の製造工程では、記録層に形成されるパターンが従来型の光ディスクに比べて微細であることから、例えば、極細線描画が可能な電子線描画装置がよく用いられている（例えば特許文献１参照）。この種の電子線描画装置としては、回転する基板に電子線を照射して基板の表面にスパイラル状又は同心円状の微細パターンを描画するもの、或いは、水平面内を移動する基板に直線状の微細パターンを描画するものなどがある。
【０００４】
上述した電子線描画装置は、基板をＸＹ平面内で駆動するステージ装置、及び基板を所定の回転数で回転するスピンドル機構などを備えている。これらのステージ装置及びスピンドル機構は、例えば回転機や、リニアモータ等からなる駆動系を含んで構成されている。このため、基板上に正確に電子線を入射させるためには、駆動系から生じる磁気を精度よくシールドする必要がある。
【０００５】
上記観点から、駆動系から発生した磁気を効率よくシールドする技術が種々提案されている（例えば特許文献２及び３参照）。
【０００６】
【特許文献１】特開２００６−０５９５１３号公報
【特許文献２】特開２００３−２４４９２７号公報
【特許文献３】特開２００６−２８７０１５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、特許文献２に記載された磁気シールド方法では、コイル走行溝に沿って可動子が移動するため、コイル走行溝を完全にシールドすることができない。また、磁束を積極的にキャンセルする手段を持たないため外部への漏れ磁束が生じる。
【０００８】
この漏れ磁束はステージの移動に伴ってその磁束密度が変化する。そして、Ｚ軸方向に進む電子ビームを収束させるように作用する。このため、このステージ装置を備える電子線描画装置でパターンの描画を行う際には、基板表面でフォーカスするように調整された電子ビームのフォーカス位置が、漏れ磁束の磁束密度の変化にともなって変動してしまい、結果的に電子ビームのデフォーカスが発生してしまうという問題がある。また、漏れ磁束のうち、Ｘ軸方向の磁束は電子ビームの軌道を曲げる作用がある。このため、ウエハ上の電子ビームの入射位置が、漏れ磁束の磁束密度の変化にともなって変動してしまうという問題がある。
【０００９】
また、特許文献３に記載された電子ビーム照射装置では、磁気シールド手段として、例えば、ヘルムホルツ型のコイルが用いられている。しかしながら、ヘルムホルツ型のコイルでは、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向、又はＺ軸方向に一様なキャンセル磁界を発生させることしかできない。このため、例えば、磁界にスピンドルモータの１回転に同期して現れる周波数を持つ交流成分、及びその高調波成分などが含まれる場合には、これらの交流成分をキャンセルすることができない。また、この装置では、ステージの駆動にリニアモータが用いられているが、固定子側のコイルから発生する磁束に対する磁気対策はなされていない。
【００１０】
本発明は、かかる事情の下になされたもので、その目的は駆動系からの磁界を遮蔽及びキャンセルすることにより、基板に対して精度よくパターンを描画することが可能な電子線描画装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明は、第１の観点からすると、電子線を用いて基板にパターンを描画する電子線描画装置であって、前記基板を保持するステージと；前記ステージを所定軸方向へリニアモータにより駆動する駆動機構と；前記駆動機構を覆う強磁性材料からなる磁気シールド筐体と；前記磁気シールド筐体に形成された開口部からの漏れ磁束をキャンセルするキャンセル機構と；を備える電子線描画装置である。
【００１２】
これによれば、駆動機構からの磁界は、磁気シールド筐体によって遮蔽されるとともに、磁気シールド筐体の開口からの漏れ磁束は、キャンセル機構によってキャンセルされる。したがって、電子線に作用する磁界の影響を抑制することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、本発明の一実施形態を図１〜図９に基づいて説明する。図１には本実施形態に係る電子線描画装置１００の概略構成が示されている。この電子線描画装置１００は、例えば真空度が１０−４Ｐａ程度の環境下において、レジスト材がコーティングされた基板Ｗに電子ビームを照射して、基板Ｗの描画面に微細パターンを描画する電子線描画装置である。
【００１４】
図１及び図２は、本実施形態にかかる電子線描画装置１００の概略的な構成を示す図である。図１に示されるように、この電子線描画装置１００は、電子ビームを基板に照射する照射装置２０、基板を駆動する駆動機構３０、該駆動機構３０等を収容する真空チャンバ１０、及び上記各部を統括的に制御する不図示の制御装置などを備えている。
【００１５】
前記真空チャンバ１０は、駆動機構３０が収容される第１真空室１０ｂと、照射装置２０の下半分が収容される第２真空室１０ａとを有し、床面に載置された板状の定盤１２の上面に載置されている。そして、真空チャンバ１０の内部は、不図示の真空ポンプ等によって所定の真空度に維持されている。
【００１６】
前記照射装置２０は、長手方向をＺ軸方向とするケーシングと、該ケーシングの内部上方から下方に向かって順次配置された、電子銃、磁界レンズ、ブランキング装置、走査電極など備えている。そして、駆動機構３０に保持される基板Ｗの表面に電子線を照射する。この照射装置２０は、真空チャンバ１０の上面に設けられた開口部に上方から挿入された状態で支持されている。
【００１７】
前記駆動機構３０は、図１及び図２を総合して見るとわかるように、基板Ｗを回転する回転機構３６と、該回転機構３６を保持してＸ軸方向に移動する移動ステージ３２と、該移動ステージ３２が載置されるベース３１と、移動ステージ３２に取り付けられた交流磁気シールド２８と、強磁性材料からなり上記各部を覆う磁気シールド筐体２４と、駆動機構３０からの磁気をキャンセルする磁気キャンセル機構５０（図８参照）とを有している。
【００１８】
図３は、回転機構３６を示す図であり、図４は、回転機構３６のケーシング３７を断面して示す図である。図３及び図４を総合して見るとわかるように、回転機構３６は、非磁性材料からなり基板Ｗを保持する円形板状の回転テーブル３９、回転テーブル３９の下面に貼り付けられた円形板状の磁気シールド部材４１、回転テーブル３９の下面の中心に磁気シール部材４１を介して固定された、長手方向をＺ軸方向とする回転シャフト３７ｂ、回転シャフト３７ｂを所定の回転数で回転させるスピンドルモータ３７ｃ、回転シャフト３７ｂを回転可能に保持する空気軸受機構３７ｄ、及び外周面に沿ってフランジ３７ａが形成されるとともに内部にスピンドルモータ３７ｃと空気軸受機構３７ｄを収容する円筒状のケーシング３７などを有している。
【００１９】
この回転機構３６では、ケーシング３７の内部に配置された空気軸受機構３７ｄによって回転シャフト３７ｂは、ケーシング３７に対してラジアル方向、及びスラスト方向に静圧浮上（離間）した状態で鉛直軸回りに回転可能に支持されている。そして、回転シャフト３７ｂとケーシング３７との隙間には、磁性流体シール３７ｅが設けられている。これにより、ケーシング３７の内部と真空チャンバ１０の内部とは相互に気密された状態となっている。
【００２０】
上述のように構成された回転機構３６では、不図示の制御装置により、回転シャフト３７ｂがスピンドルモータ３７ｃによって回転されることで、回転テーブル３９が所定の回転数で回転される。これにより、基板Ｗは電子線に対して相対的に回転する。また、回転テーブル３９の回転数や回転角度は、不図示のエンコーダなどによって常時モニタされる。
【００２１】
図３に示されるように、ケーシング３７の周囲には、上下方向に相互に嵌合する磁気シールド部材４２及び磁気シールド部材４３が設けられている。本実施形態では、磁気シールド部材４２及び磁気シールド部材４３が嵌合することで、回転機構３６のケーシング３７を包囲する磁気筐体が形成されている。
【００２２】
図２に戻り、前記ベース３１は、Ｘ軸方向を長手方向とする板状の部材であり、定盤１２の上面に配置されている。また、ベース３１の上面には、ＹＺ断面での形状がＶ字状の２組の溝３１ａが、Ｘ軸に平行となるように形成されている。
【００２３】
前記移動ステージ３２は、その下面にベース３１に形成されたＶ字状の溝３１ａそれぞれに対応した、Ｘ軸方向を長手方向とするガイド部が形成されている。そして、このガイド部がベース３１の溝３１ａの表面に配置されたベアリング３１ｂを介してベース３１に支持されることで、移動ステージ３２は、ベース３１の上面をＸ軸方向へ移動可能となっている。また、移動ステージ３２には、その上面に開口部が形成され、該開口部には上方から回転機構３６のケーシング３７が挿入されている。これにより、回転機構３６は、ケーシング３７のフランジ３７ａを介して、移動ステージ３２の上面に支持される。
【００２４】
本実施形態では、図５を参酌するとわかるように、移動ステージ３２の−Ｙ側及び＋Ｙ側の側面には、Ｘ軸に沿ってＹ軸方向に突出するコアが複数形成され、各コアに電機子コイルがそれぞれ設けられることで、複数のコイルがＸ軸方向に配列された可動子３２ａが形成されている。そして、この可動子３２ａに対向する複数の永久磁石からなる１組の固定子ユニット３４が、定盤１２に設けられた支持部材３３にヨーク３３ａを介して支持されている。
【００２５】
前記固定子ユニット３４は、Ｘ軸方向に配列された複数の永久磁石を含んで構成され、それぞれの永久磁石は、可動子３２ａに対向する面の極性が隣接する永久磁石相互間で異なるように配置されている。これにより、固定子ユニット３４と可動子３２ａとでムービングコイル方式のリニアモータが構成される。そして、可動子３２ａの各コイルに供給される電流が、不図示の制御装置によって制御されることにより、移動ステージ３２は、固定子ユニット３４と可動子３２ａとの間に生じる電磁力により、Ｘ軸方向に駆動される。
【００２６】
図６は、１組の交流磁気シールド２８のうちの１つを示す図である。図６に示されるように、前記交流磁気シールド２８は、非磁性金属、硬質樹脂又はガラスエポキシなどを素材とするＵ字状のコア部材２８ａと、このコア部材２８ａに巻回された巻線２８ｂとを有している。前記コア部材２８ａは、その表面に例えば抵抗率が１３０×１０−８Ω・ｍで、幅が５センチ、厚さ２０μｍ程度の非晶質材からなる磁性薄帯がヘリカル巻きされている。交流磁気シールド２８では、巻線２８ｂに周波数が２００Ｈｚ程度のシェイキング電流が印加されるとで、コア部材２８ａのＸ軸方向の透磁率が実効的に高められるようになっている。
【００２７】
上述した１組の交流磁気シールド２８は、図２を参酌するとわかるように、上面に形成された半円形状の湾曲部が、−Ｙ側及び＋Ｙ側から回転機構３６を包囲した状態で、移動ステージ３２の上面に固定されている。
【００２８】
図７は、磁気シールド筐体２４を示す図である。図７に示されるように、前記磁気シールド筐体２４は、磁気をシールドする例えばパーマロイ等を素材とする一組のケース２５Ａ，２５Ｂとから構成されている。ケース２５Ａ，２５Ｂそれぞれは、Ｘ軸方向の一方と下方が開放されるとともに、Ｘ軸方向の他方の側壁に内部空間と連通する円筒部２５ａが形成された部材である。そして、これらのケース２５Ａ，２５Ｂは、連結部材２７によって連結されることで下方が開放されるとともに、−Ｘ側及び＋Ｘ側の側面に、内部空間と連通する４つの円筒部２５ａが形成された筐体となる。なお、本実施形態では、前記円筒部２５ａは、Ｘ軸方向の磁束が鎖交するため、他の部分よりその厚みが大きくなるように構成するのが望ましい。
【００２９】
この磁気シールド筐体２４は、図１及び図２を参酌するとわかるように、ケース２５Ａ，２５Ｂの上面に形成された半円形状の湾曲部が、−Ｘ側及び＋Ｘ側から回転機構３６を包囲した状態で連結部材２７によって一体化されている。また、この磁気シールド筐体２４は、ケース２５Ａ，２５Ｂが移動ステージ３２に取り付けられることで、交流磁気シールド２８から所定のクリアランスを隔てた位置に配置されている。そして、この状態のときには、移動ステージ３２、ベース３１、及び固定子ユニット３４などが磁気シールド筐体２４の内部に収容され、図１に示されるように、磁気シールド筐体２４の円筒部２５ａは、真空チャンバ１０の−Ｘ側及び＋Ｘ側の側壁に設けられた開口部１０ｃから突出した状態となっている。また、本実施形態では、真空チャンバ１０に形成された開口部１０ｃは、キャップ部材１１によって閉塞されている。
【００３０】
前記磁気キャンセル機構５０は、図８に示されるように、一組の環状コイル５１，５２からなるヘルムホルツコイルであり、磁気シールド筐体２４に形成された円筒部２５ａそれぞれの内部に配置されている。この磁気キャンセル機構５０の環状コイル５１，５２それぞれには、磁気キャンセル機構５０の近傍に配置された磁気センサ５５からの出力信号に基づいて、所定の電流が供給される。
【００３１】
前記制御装置（不図示）は、一例としてＣＰＵ、及び上記各部を制御するプログラムやパラメータが格納されたメモリなどを含んで構成された制御用コンピュータである。この制御装置は、例えばユーザから指令に基づいて、照射装置２０、駆動機構３０、磁気キャンセル機構５０などを統括的に制御する。
【００３２】
また、図１に示されるように、本実施形態では、上述の照射装置２０のケーシングは、真空チャンバ１０の内部に位置する部分が磁気シールド部材５４ｂによって覆われており、真空チャンバ１０の外部に位置する部分が磁気シールド部材５４ａによって覆われている。そして、真空チャンバ１０の第１真空室１０ｂを形成する内壁面には、磁気シールド部材２３が貼り付けられている。
【００３３】
上述した電子線描画装置１００では、描画開始指令が入力または通知されると、制御装置は、駆動機構３０を駆動することにより、基板Ｗを＋Ｘ方向へ微小移動させながら所定の回転数で回転させる。次に、照射装置２０を駆動して、描画パターンに基づいて変調された電子ビームを基板Ｗの表面に照射して、基板Ｗの表面に同心円状又はスパイラル状のパターンを描画する。
【００３４】
以上説明したように、本実施形態の電子線描画装置１００では、磁気シールド筐体２４の円筒部２５ａの内部に磁気キャンセル機構５０が設けられている。図９を参酌するとわかるように、この磁気キャンセル機構５０は、磁気センサ５５からの出力信号に基づいて、制御装置から所定の電流が１組の環状コイル５１，５２に供給されることで、環状コイル５１，５２の相互作用により、固定子ユニット３４から発生する磁束密度Ｂｘの磁界を打ち消すような磁束密度がＢｃの磁界を発生させる。これにより、図８に模式的に示されるように、向きをＸ軸方向とする固定子ユニット３４からの磁束は、磁気キャンセル機構５０からの磁束によって相殺され、磁気シールド筐体２４から外部に漏れることがない。したがって、パターンを基板Ｗに描画する際に、漏れ磁束により電子線が受ける影響を低減することができ、精度よく基板Ｗにパターンを描画することが可能となる。
【００３５】
また、本実施形態においては、磁気キャンセル機構５０の環状コイル５１，５２は、環状コイル５１，５２の半径をａとするものを用い、相互間の距離をａとするのが好ましい。これにより、環状コイル５１，５２の中間位置に、一様な磁束密度の磁界を作り出すことができる。
【００３６】
また、本実施形態では、駆動機構３０の固定子ユニット３４からの磁界は、磁気シールド筐体２４によって、効果的に遮蔽される。したがって、電子線が受ける駆動機構３０からの磁界の影響を効果的に抑制することができ、精度よく基板Ｗにパターンを描画することが可能となる。
【００３７】
また、本実施形態では、固定子ユニット３４からの磁束は、巻線２８ｂにシェイキング電流が印加された交流磁気シールド２８のコア部材２８ａに進入し、コア部材２８ａに渦電流を発生させることで減衰しながらＸ軸方向へ誘導される。したがって、固定子ユニット３４からＸ軸に直交する方向に発生する磁界を、効果的に減衰させるとともに、磁束を磁気キャンセル機構５０へ効果的に導くことができる。なお、シェイキング電流が印加された交流磁気シールド２８からの磁気は、磁気シールド筐体２４によって遮蔽される。
【００３８】
また、本実施形態では、回転テーブル３９は非磁性材料からなり、回転テーブル３９の下面には、磁気シールド部材４１が貼り付けられている。これにより、磁気シールド部材４２と回転シャフト３７ｂとの間から漏れる磁束は、Ｚ軸に直交する方向に向きが変わり、図８中の矢印に示されるように、再び磁気シールド筐体２４の外壁面の内部に戻る。これにより、基板Ｗに入射する電子線に向かう磁束を大幅に低減することができる。
【００３９】
また、本実施形態では、照射装置２０のケーシング表面が、磁気シールド部材５４ａ，５４ｂによって覆われている。これより、照射装置２０から射出された電子線が、照射装置２０の内部の集束レンズ等の素子から発生する磁界の影響を受けることがなく、電子線を精度よく基板Ｗ表面の所望の位置へ入射させることができ、結果的に基板Ｗに精度よくパターンを描画することができる。
【００４０】
また、真空チャンバ１０の第１真空室１０ｂの内壁面には、電子線が装置の外部からの磁界の影響を受けないように、磁気シールド部材２３が貼り付けられている。この磁気シールド部材２３は、特に商用電力である５０Ｈｚの交流磁界が真空チャンバ１０の内部に与える影響を低減する。これにより、電子線を精度よく基板Ｗ表面の所望の位置へ入射させることができ、結果的に基板Ｗに精度よくパターンを描画することができる。
【００４１】
また、本実施形態では、磁気シールド部材２３の開口に磁気シールド筐体２４の円筒部２５ａが挿入された状態となっている。これにより、移動ステージ３２がベース３１の上面を移動しても、基板Ｗは、磁気シールド筐体２４と磁気シールド部材２３とによって囲まれる空間に配置されることとなる。したがって、電子線が受ける磁界の影響が効率よく低減される。
【００４２】
なお、本実施形態では、電子線描画装置１００が、１組の環状コイル５１，５２を有する磁気キャンセル機構５０を備えている場合について説明したが、これに限らず、環状コイルは１つでもよく、３つ以上であってもよい。要するに、磁気キャンセル機構は、Ｘ軸方向の磁界を発生させて、駆動機構３０から発生するＸ軸方向の磁界をキャンセルすることができる構成であればよい。また、磁気センサ５５によって、Ｘ軸方向以外の磁界を検出し、それぞれの方向の磁界をキャンセルするための磁気キャンセル機構をそれぞれ設けてもよい。
【００４３】
また、図１０に示されるように、磁気キャンセル機構５０に加えて、固定子ユニット３４に対向する側が、隣接する固定子ユニット３４の永久磁石の極性と反対となる永久磁石５３を別途設けることとしてもよい。この永久磁石５３は、固定子ユニット３４の永久磁石とともに磁気回路を構成するため、固定子ユニット３４から磁気シールド筐体３４の外部へ向かう磁束を減らすことができる。なお、永久磁石５３の磁力は、固定子ユニット３４を構成する永久磁石の磁力よりも小さくすることが望ましい。その理由は、全体の磁束の流れを大きく乱すことがないようにするためである。
【００４４】
また、本実施形態では、電子線描画装置１００は、磁気シールド筐体２４と交流磁気シールド２８とを有している。このため、磁気シールド筐体２４のみを用いた場合に比べて、磁気飽和密度を高くすることができ、真空チャンバ１０内部への磁束漏れをさらに減らすことができる。また、Ｘ軸方向へ磁束を誘導することが容易となる。これにより、電子線が磁界の影響を受けることがなくなるので、結果的に基板Ｗに精度よくパターンを描画することができる。
【００４５】
また、本実施形態では、磁束の方向をＸ軸方向に変えるために、磁気シールド筐体２４や交流磁気シールド２８が用いられている。磁気シールド筐体２４の内部に残る磁束は、Ｘ軸方向に向かい磁気キャンセル機構によってキャンセルされる。
【００４６】
また、本実施形態では、磁束減衰誘導手段として交流磁気シールド２８が用いられている。このため、Ｘ軸に垂直な方向に対して、磁気シールド効果を高めることができる。また交流磁気シールド２８は、パーマロイに代表される強磁性材を使った場合に比べて、極めて軽く、特定の方向に対しては、強磁性材料と同等以上のシールド効果を発揮する。このため、交流磁気シールド２８が移動ステージ３２に取り付けられることを考慮すると移動ステージ３２の可動重量を小さくすることができ、ステージ駆動用のリニアモータを小さくすることができる。また、これにより、磁気シールド筐体２４の内部で発生する磁界の大きさを小さくすることができる。
【００４７】
また、本実施形態では、磁気キャンセル機構５０によって、磁気シールド筐体２４の内部で発生する磁束を消磁させることで、磁気シールド筐体２４の飽和磁束密度を越えて、真空チャンバ１０の内部に漏れる磁束を小さくすることができる。
【００４８】
また、本実施形態では、磁気シールド筐体２４の円筒部２５ａの内部に永久磁石５３を配置することで、永久磁石５３に対向する固定子ユニット３４の磁石との間に磁気回路が構成される。これにより、駆動機構３０で生じる磁束の方向をＸ軸方向に向けることが容易になる。したがって、Ｘ軸に対して垂直な方向に向かう磁束の大きさを低減することができ、結果的に磁気シールド筐体２４の飽和磁束密度を越えて、真空チャンバ１０の内部に漏れる磁束を少なくすることができる。
【００４９】
また、本実施形態では、磁気キャンセル機構として、ヘルムホルツコイルを用いることで、効率的に磁束をキャンセルすることができる。したがって、磁気キャンセル機構を小型化することができ、結果的に装置を小型化することができる。
【産業上の利用可能性】
【００５０】
以上説明したように、本発明の電子線描画装置は、基板にパターンを描画するのに適している。
【図面の簡単な説明】
【００５１】
【図１】本発明の一実施形態に係る電子線描画装置の概略的な構成を示す図（その１）である。
【図２】本発明の一実施形態に係る電子線描画装置の概略的な構成を示す図（その２）である。
【図３】回転機構を磁気シールド部材とともに示す図である。
【図４】回転機構を一部断面して示す図である。
【図５】移動ステージの可動子及び固定子ユニットの構成を説明するための図である。
【図６】交流磁気シールドを示す図である
【図７】磁気シールド筐体を示す図である。
【図８】磁気キャンセル機構を示す図である。
【図９】磁気キャンセル機構の動作原理を説明するための図である。
【図１０】変形例にかかる磁気キャンセル機構を示す図である。
【符号の説明】
【００５２】
１０…真空チャンバ、１０ａ…第２真空室、１０ｂ…第１真空室、１０ｃ…開口部、１１…キャップ部材、１２…定盤、２０…照射装置、２３…磁気シールド部材、２４…磁気シールド筐体、２５Ａ，２５Ｂ…ケース、２５ａ…円筒部、２７…連結部材、２８…交流磁気シールド、２８ａ…コア部材、２８ｂ…巻線、３０…駆動機構、３１…ベース、３１ａ…溝、３１ｂ…ベアリング、３２…移動ステージ、３２ａ…可動子、３３…支持部材、３３ａ…ヨーク、３４…固定子ユニット、３６…回転機構、３７…ケーシング、３７ａ…フランジ、３７ｂ…回転シャフト、３７ｃ…スピンドルモータ、３７ｄ…空気軸受機構、３７ｅ…磁性流体シール、３９…回転テーブル、４１〜４３…磁気シールド部材、５０…キャンセル機構、５１，５２…環状コイル、５３…永久磁石、５４ａ，５４ｂ…磁気シールド部材、５５…磁気センサ、１００…電子線描画装置、Ｗ…基板。
【図１】
2010027993.tif 000003
【図２】
2010027993.tif 000004
【図３】
2010027993.tif 000005
【図４】
2010027993.tif 000006
【図５】
2010027993.tif 000007
【図６】
2010027993.tif 000008
【図７】
2010027993.tif 000009
【図８】
2010027993.tif 000010
【図９】
2010027993.tif 000011
【図１０】
2010027993.tif 000012