(57)【要約】【課題】スカートガードに接触する靴に断続的な衝撃を与える以外の方法で、ステップとスカートガードとの間の隙間に靴が挟み込まれるのを有効に抑制するエスカレータを提供する。【解決手段】無端状に連結されて循環移動する複数のステップ１４と、往路側において移動するステップの両側に対向して配置されるスカートガード２０とを備えるエスカレータであって、スカートガード２０のステップ対向表面２４に、ステップ１４の移動方向に沿って延伸する突条２６を前記移動方向と直交する方向に複数配列して形成してある。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
無端状に連結されて循環移動する複数のステップと、往路側において移動するステップの両側に対向して配置されるスカートガードとを備えるエスカレータであって、
前記スカートガードのステップ対向表面に、ステップの移動方向に沿って延伸する突条を前記移動方向と直交する方向に複数配列して形成したことを特徴とするエスカレータ。
【請求項２】
請求項１に記載のエスカレータにおいて、
前記突条は、ステップ側の側面とこの側面に連続する上面および下面を有し、前記下面はステップの幅方向中央側に向かって上り傾斜面として形成されていることを特徴とするエスカレータ。
【請求項３】
請求項２に記載のエスカレータにおいて、
前記突条における前記側面と前記下面との連続部である縁部が、湾曲面として形成されていることを特徴とするエスカレータ。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項に記載のエスカレータにおいて、
前記スカートガードに形成される突条は、複数のステップの踏板面が面一状態となる乗降口近傍領域では水平方向に延伸形成され、複数のステップが均等な段差がある階段状をなして移動する階段領域ではエスカレータの設置角度に等しい傾斜角に延伸形成され、前記乗降口近傍領域と前記階段領域との間であって隣接するステップ間の段差が拡大または縮小する移行領域では、円弧状をなして延伸形成されることを特徴とするエスカレータ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、エスカレータに係り、特に、ステップとその両側に対向配置されるスカートガードとの間の隙間に靴等が挟み込まれるのを抑制するエスカレータに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、無端状に連結されて循環移動する複数のステップと、往路側において移動するステップの両側にそれぞれ対向して立設されるスカートガードとを備えているエスカレータが知られている。
【０００３】
このようなエスカレータでは、エスカレータの組立誤差等を吸収してステップがスカートガードに擦れるのを避けるため、ステップとスカートガード表面との間には例えば約３ｍｍ程度の隙間が形成されている。
【０００４】
乗降口からエスカレータのステップ上に乗った乗客がステップの幅方向端部近傍に立っているとき、乗客の靴または履物（以下、単に「靴」とだけいう。）がステップの幅方向縁部から外方にはみ出して、靴の側部がスカートガードの表面に擦れながら移動する場合がある。このとき、平面状をなすスカートガードの表面と接触移動することにより発生する摩擦力によって靴の側部が引き込まれて、ステップとスカートガードとの間の隙間に挟まってしまうことがある。このような事態は、比較的軟質なゴム材や合成樹脂材からなる靴の場合に、より顕著に発生する。
【０００５】
例えば、下記特許文献１には、スカートガードの表面に凹凸を設け、走行時、スカートガードの表面に接触した靴に対して、断続的な衝撃を加えるように構成することで、前記断続的な衝撃を靴を介して感じた乗客がその接触に気付いて、靴や立ち位置を速やかに安全な位置へ移動させることにより、ステップとスカートガードとの間に乗客の靴が挟まるのを防止する、エスカレータが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２０００−１１８９３８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
上記のような靴の挟み込みが発生すると、乗客の靴が損傷したり、あるいは、上記挟み込みを検知したエスカレータが運転を非常停止させるとエスカレータの乗客に不便をかけることとなる。
【０００８】
本発明の目的は、スカートガードに接触する靴に断続的な衝撃を与える以外の方法で、ステップとスカートガードとの間の隙間に靴が挟み込まれるのを有効に抑制するエスカレータを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明に係るエスカレータは、無端状に連結されて循環移動する複数のステップと、往路側において移動するステップの両側に対向して配置されるスカートガードとを備えるエスカレータであって、前記スカートガードのステップ対向表面に、ステップの移動方向に沿って延伸する突条を前記移動方向と直交する方向に複数配列して形成したことを特徴とする。
【００１０】
ここで、上記「ステップの移動方向に沿って」とは、前記突条の水平方向に対する傾斜角度がステップの移動方向と完全に一致する場合に加えて、ステップの移動方向の傾斜角度よりも若干大きい場合も含むものとする。
【００１１】
本発明に係るエスカレータにおいて、前記突条は、ステップ側の側面とこの側面に連続する上面および下面を有し、前記下面はステップの幅方向中央側に向かって上り傾斜面として形成されてもよい。
【００１２】
また、本発明に係るエスカレータにおいて、前記突条における前記側面と前記下面との連続部である縁部が、湾曲面として形成されてもよい。
【００１３】
さらに、本発明に係るエスカレータにおいて、前記スカートガードに形成される突条は、複数のステップの踏板面が面一状態となる乗降口近傍領域では水平方向に延伸形成され、複数のステップが均等な段差がある階段状をなして移動する階段領域ではエスカレータの設置角度に等しい傾斜角に延伸形成され、前記乗降口近傍領域と前記階段との間であって隣接するステップ間の段差が拡大または縮小する移行領域では、円弧状をなして延伸形成されてもよい。
【発明の効果】
【００１４】
本発明に係るエスカレータによれば、スカートガードのステップ対向表面に複数の突条をステップの移動方向に沿って延伸形成したことで、ステップに乗った乗客の靴がスカートガードのステップ対向表面に接触しつつ移動しても、ステップ対向表面と靴との接触面積は、スカートガードのステップ対向表面が平面形状をなす場合に比べて小さいことから、靴に作用する摩擦力を低減でき、これにより靴の側部が引き込まれてステップとスカートガードとの間の隙間に挟まるのを有効に抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】乗降口側から見たエスカレータの部分斜視図である。
【図２】ステップとスカートガードを示す部分斜視図である。
【図３】エスカレータ全体についてのスカートガードを概略的に示す図である。
【図４】図２におけるＢ−Ｂ線断面図である。
【図５】スカートガードの突条の拡大断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下に、本発明に係る実施の形態について添付図面を参照しながら詳細に説明する。この説明において、具体的な形状、材料、数値、方向等は、本発明の理解を容易にするための例示であって、用途、目的、仕様等にあわせて適宜変更することができる。
【００１７】
図１は、本発明の一実施の形態であるエスカレータ１０を下層階の乗降口１２側から見た様子を部分的に示す。エスカレータ１０は、上層階と下層階との間で乗客を搬送する又は移動させる周知構成のものであり、乗客移送領域である往路部分が階段状に連なって循環移動する多数のステップ１４と、ステップ１４の両側にステップ移動方向に延伸する側壁として立設される欄干部１６と、欄干部１６上でガイドされながらステップ１４の移動に同期して循環移動する例えばウレタンゴムからなる無端状の移動手摺１８とを備える。ここで、エスカレータ１０は、ステップ１４および移動手摺１８が矢印Ａ方向に移動する上りエスカレータとして運転されている。
【００１８】
ステップ１４の幅方向の両側には、スカートガード２０がそれぞれ配置されている。スカートガード２０は、例えばステンレス等の金属からなる板状部材で構成され、欄干部１６の下方位置においてエスカレータ本体であるトラス２２に対して嵌合やねじ留め等の方法によって固定および立設されている。ステップ１４の幅方向側端面とスカートガード２０のステップ対向表面との間にには、例えば約３ｍｍ程度の隙間Ｇが形成されている（図４参照）。
【００１９】
図２に示すように、ステップ１４の幅方向側端面に対向配置されたスカートガード２０のステップ対向表面２４には、複数本の突条２６が形成されている。各突条２６は、矢印Ｃで示すステップ１４の移動方向に沿って延伸形成されており、かつ、前記移動方向に対して直交する方向に所定間隔で平行に配列されている。なお、本実施形態におけるスカートガードで２０では、ステップ１４に乗った乗客の靴が接触する可能性が低い上縁部近傍には突条２６が形成されていないが、ステップ対向表面２４の全域に突条２６が形成されてもよい。
【００２０】
ここで、後述する階段領域における突条２６の水平方向に対する傾斜角度は、ステップ１４の移動方向、すなわちエスカレータ１０の標準的な傾斜角度である３０度に等しいが、３０度よりも若干大きく傾斜する方向に延伸形成されてもよい。また、突条２６は、突条間の溝を切削加工することによって形成されてもよいし、または、薄い金属板をプレス加工することによって形成されてもよい。
【００２１】
図３に、エスカレータ１０全体についてのスカートガード２０を概略的に示す。なお、図面を見やすくするため、図３においてステップの図示は省略されている。
【００２２】
エスカレータ１０において、スカートガード２０に形成される突条２６は、複数のステップ１４の踏板面１５が面一状態となる下層階側乗降口１２および上層階側乗降口１３の各近傍の領域２８では水平方向に延伸形成され、複数のステップ１４が均等な段差がある階段状をなして移動する階段領域３０では上述したようにエスカレータ１０の設置角度に等しい傾斜角３０度で延伸形成されている。
【００２３】
また、スカートガード２０に形成される突条２６は、上記乗降口近傍領域２８と階段領域３０との間であって隣接するステップ１４間の段差が拡大または縮小する移行領域３２ａ，３２ｂでは、円弧状をなして延伸形成されている。ここで、下層階側乗降口１２の近傍領域２８に隣接する移行領域３２では、各突条２６が下方に凸状の円弧状に形成され、一方、上層階側乗降口１３の近傍領域２８に隣接する移行領域３２ｂでは各突条２６が上方に凸状の円弧状に形成されている。
【００２４】
図４に示すように、各突条２６は、ステップ１４側に突出する略台形状の横断面形状をなし、ステップ１４側に対向する側面２６ａと、この側面２６ａにそれぞれ連続する上面２６ｂおよび下面２６ｃとを有する。本実施形態のエスカレータ１０では、スカートガード２０の突条２６の側面２６ａとステップ１４の側端面１４ａとの間に、例えば約３ｍｍ程度の隙間Ｇが形成されている。
【００２５】
ここで、突条２６の下面２６ｃは、ステップ１４の幅方向中央側（図４中の右側）に向かって上り傾斜面として形成されている。また、突条２６において、上面２６ｂと側面２６ａとの接続部である上縁部２６ｄは比較的角ばった形状に形成されるのが好ましく、下面２６ｃと側面２６ａとの接続部である下縁部２６ｅは比較的滑らかな湾曲面として形成されるのが好ましい。その理由については、後述する。
【００２６】
続いて、図５も参照して、上記構成からなる本実施形態のエスカレータ１０の動作および作用効果について説明する。図５は、ステップ１４の踏板面１５上に乗った乗客の靴Ｓがステップ１４の側端面１４ａからはみ出して、スカートガード２０のステップ対向表面上２４上にある突条２６に接触している状態を示す。
【００２７】
比較的軟質な材料からなる靴Ｓの側部がスカートガード２０のステップ対向表面２４上の突条２６に押圧状態で接触すると、図５に示すように、突条２６が靴Ｓの側部に若干食い込んだ状態になる。この状態で、上りエスカレータ１０では、ステップ１４の移動と共に乗客の靴Ｓが突条２６の主として側面２６ａと摩擦接触しつつ移動することになる。
【００２８】
このように、ステップ１４に乗った乗客の靴Ｓがスカートガード２０のステップ対向表面２４に接触しつつ移動しても、ステップ対向表面２４と靴Ｓとの接触面積は、スカートガードのステップ対向表面が平面形状をなす場合に比べて小さいことから、靴Ｓに作用する摩擦力を低減でき、その結果、靴Ｓの側部が上記摩擦力によって引き込まれてステップ１４の側端面１４ａとスカートガード２０との間の隙間Ｇに挟まるのを有効に抑制することができる。
【００２９】
また、本実施形態のスカートガード２０では、突条２６の下面をステップ１４側に向かって上り傾斜面として形成されているため、乗客の靴Ｓの側部に突条２６が若干食い込んだ状態に一旦はなったとしても、その状態から靴Ｓが脱する又は解放されるのが容易になり、これによって上記のような靴Ｓの挟み込みの抑制の効果を補強することができる。
【００３０】
さらに、本実施形態のスカートガード２０では、突条２６の上縁部２６ｄは比較的角ばった形状に形成されているため、この上縁部２６ｄが引っ掛かりとなって靴Ｓの側部が下方の隙間Ｇへ引き込まれるのを妨げることができ、逆に、突条２６の下縁部２６ｅが比較的滑らかな湾曲面として形成されることで、突条２６に若干食い込んだ状態になった靴Ｓが上方または斜め上方へ持ち上げられてその状態から脱する又は解放されるのがより容易になる。
【００３１】
なお、本発明に係るエスカレータは、上述した構成のものに限定されず、種々の変更や改良が可能である。例えば、上記実施形態においては、スカートガード２０に形成される突条の横断面形状が略台形状をなすものと説明したが、突条は例えば頂部が丸みを帯びた略三角形状の横断面形状に形成されてもよい。
【符号の説明】
【００３２】
１０  エスカレータ、１２  下層階側乗降口、１３  上層階側乗降口、１４  ステップ、１４ａ  ステップ側端面、１５  踏板面、１６  欄干部、１８  移動手摺、２０  スカートガード、２２  トラス、２４  ステップ対向表面、２６  突条、２６ａ  側面、２６ｂ  上面、２６ｃ  下面、２６ｄ  上縁部、２６ｅ  下縁部、２８  乗降口近傍領域、３０  階段領域、３２ａ，３２ｂ  移行領域、Ｇ  隙間、Ｓ  靴。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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