(57)【要約】【課題】透明フィルム基材の一方の面に、この透明フィルム基材の側から第１透明誘電体層、第２透明誘電体層及び透明導電層がこの順に形成されている透明導電性フィルムであって、全光線透過率の高い透明導電性フィルムを提供する。【解決手段】第１透明誘電体層(1)が、酸化インジウムと、前記酸化インジウム１００重量部に対して０〜２０重量部の酸化錫と、前記酸化インジウム１００重量部に対して４０重量部を超えて８０重量部以下の酸化セリウムとを含む複合酸化物からなり、第１透明誘電体層(1)の屈折率をｎ１、第２透明誘電体層(2)の屈折率をｎ２、透明導電層(3)の屈折率をｎ３としたとき、ｎ２＜ｎ３≦ｎ１の関係を満たす透明導電性フィルムとする。【選択図】図１
2010027293.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明フィルム基材の一方の面に、前記透明フィルム基材の側から第１透明誘電体層、第２透明誘電体層及び透明導電層がこの順に形成されている透明導電性フィルムであって、
前記第１透明誘電体層は、酸化インジウムと、前記酸化インジウム１００重量部に対して０〜２０重量部の酸化錫と、前記酸化インジウム１００重量部に対して４０重量部を超えて８０重量部以下の酸化セリウムとを含む複合酸化物からなり、
前記第１透明誘電体層の屈折率をｎ１、前記第２透明誘電体層の屈折率をｎ２、前記透明導電層の屈折率をｎ３としたとき、ｎ２＜ｎ３≦ｎ１の関係を満たす透明導電性フィルム。
【請求項２】
前記第１透明誘電体層は、厚みが２〜２００ｎｍである請求項１に記載の透明導電性フィルム。
【請求項３】
前記第１透明誘電体層は、厚みが２ｎｍ以上１０ｎｍ未満である請求項２に記載の透明導電性フィルム。
【請求項４】
前記第１透明誘電体層は、表面抵抗値が１．０×１０１０Ω／□以上である請求項１〜３のいずれか１項に記載の透明導電性フィルム。
【請求項５】
前記第１透明誘電体層は、真空蒸着法、スパッタリング法又はイオンプレーティング法により形成されている請求項１〜４のいずれか１項に記載の透明導電性フィルム。
【請求項６】
前記透明フィルム基材は、厚みが２〜２００μｍである請求項１〜５のいずれか１項に記載の透明導電性フィルム。
【請求項７】
全光線透過率が９１．０％以上である請求項１〜６のいずれか１項に記載の透明導電性フィルム。
【請求項８】
前記透明フィルム基材の他方の面に透明粘着剤層を介して貼り合わされた透明基体を更に含む請求項１〜７のいずれか１項に記載の透明導電性フィルム。
【請求項９】
透明導電層を有する一対のパネル板を、前記透明導電層同士が対向するようにスペーサを介して配置してなるタッチパネルであって、
少なくとも一方の前記パネル板が、請求項１〜８のいずれか１項に記載の透明導電性フィルムを含むタッチパネル。
【請求項１０】
請求項１〜８のいずれか１項に記載の透明導電性フィルムの製造方法であって、
透明フィルム基材の一方の面に、前記透明フィルム基材の側から第１透明誘電体層、第２透明誘電体層及び透明導電層をこの順に形成する工程を有する透明導電性フィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、透明導電性フィルム及びこれを用いたタッチパネル、並びに透明導電性フィルムの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、透明導電性部材としては、ガラス上に酸化インジウム薄膜を形成した、いわゆる導電性ガラスがよく知られているが、導電性ガラスは基材がガラスであるために可撓性、加工性に劣り、用途によっては好ましくない場合がある。そのため、近年では可撓性、加工性に加えて、耐衝撃性に優れ、軽量であるなどの利点から、ポリエチレンテレフタレートフィルムをはじめとする各種のプラスチックフィルムを基材とした透明導電性フィルムが使用されている。  
【０００３】
従来の透明導電性フィルムでは、透明フィルム基材と透明導電層との間、及び透明導電層と空気との間の界面における反射光の光干渉や、透明導電層自体の光吸収等に起因して、透明フィルム基材を透過する光に着色が観られる場合が多い。こうした着色の程度が著しい場合には、ディスプレイ画面の色相の変化をもたらすため好ましくない。
【０００４】
透過光の着色を抑制するために、例えば、下記特許文献１には、透明フィルム基材の一方の面に、この透明フィルム基材の側から第１透明誘電体薄膜、第２透明誘電体薄膜及び透明導電性薄膜がこの順に形成され、第１透明誘電体薄膜の屈折率をｎ１、第２透明誘電体薄膜の屈折率をｎ２、透明導電性薄膜の屈折率をｎ３としたとき、ｎ２＜ｎ３≦ｎ１の関係を満たす透明導電性積層体が記載されている。また、特許文献１では、生産性を向上させることなどを目的として、酸化インジウム１００重量部に対して、酸化錫を０〜２０重量部、酸化セリウムを１０〜４０重量部含む複合酸化物からなる第１透明誘電体薄膜を使用している。
【特許文献１】特開２００６−３４６８７８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
透明導電性フィルムをタッチパネルに適用する際は、液晶ディスプレイなどのディスプレイと組み合わせて使用する場合が多く、低コスト化や環境負荷の低減の観点から、ディスプレイの光源の消費電力を低減するために、全光線透過率の高い透明導電性フィルムが求められている。上記特許文献１に記載の透明導電性フィルムによっても透明性の向上は可能であるが、ディスプレイの光源の消費電力を低減するには未だ不充分であった。
【０００６】
上記課題を解決するため、本発明は、透明フィルム基材の一方の面に、この透明フィルム基材の側から第１透明誘電体層、第２透明誘電体層及び透明導電層がこの順に形成されている透明導電性フィルムであって、透過光の着色を抑えることができる上、全光線透過率の高い透明導電性フィルム及びその製造方法を提供することを目的とする。また本発明は、当該透明導電性フィルムを用いたタッチパネルを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
前記目的を達成するため、本発明の透明導電性フィルムは、透明フィルム基材の一方の面に、前記透明フィルム基材の側から第１透明誘電体層、第２透明誘電体層及び透明導電層がこの順に形成されている透明導電性フィルムであって、前記第１透明誘電体層は、酸化インジウムと、前記酸化インジウム１００重量部に対して０〜２０重量部の酸化錫と、前記酸化インジウム１００重量部に対して４０重量部を超えて８０重量部以下の酸化セリウムとを含む複合酸化物からなり、前記第１透明誘電体層の屈折率をｎ１、前記第２透明誘電体層の屈折率をｎ２、前記透明導電層の屈折率をｎ３としたとき、ｎ２＜ｎ３≦ｎ１の関係を満たすことを特徴とする。
【０００８】
本発明では、各層の屈折率が上記関係を有するため、透過光の着色を抑えることができる。また、本発明では、第１透明誘電体層を、酸化インジウムに対して特定量の酸化錫及び酸化セリウムを含む複合酸化物により形成している。当該複合酸化物によれば、透明導電層の屈折率以上の高屈折率を実現できる。その結果、第１透明誘電体層と第２透明誘電体層との屈折率の差が大きくなり、光学的な調整を容易に行うことができ、全光線透過率が高い透明導電性フィルムを提供できる。よって、本発明の透明導電性フィルムをタッチパネルに適用した場合、ディスプレイの光源の消費電力を低減することができる。また、本発明の透明導電性フィルムは、透明導電層と透明フィルム基材との間に、第１透明誘電体層及び第２透明誘電体層の二層の透明誘電体層を有することから、屈曲性、及び透明導電層の耐擦傷性が良好となる。なお、本発明における屈折率は、波長589.3nmの光に対する屈折率である。
【０００９】
前記第１透明誘電体層は、厚みが２〜２００ｎｍであることが好ましい。連続被膜の形成が容易となる上、光学的な調整も容易となるからである。特に、透明導電性フィルムの光学視認性の向上を図るには、前記第１透明誘電体層の厚みが２ｎｍ以上１０ｎｍ未満であることが好ましい。なお、第１透明誘電体層の厚みが２ｎｍ以上であれば、厚みの均一性を確保できる。また、第１透明誘電体層の厚みが１０ｎｍ未満であれば、表面抵抗値の低下を防止できる。
【００１０】
前記第１透明誘電体層は、表面抵抗値が１．０×１０１０Ω／□以上であることが好ましく、１．０×１０１１Ω／□以上であることがより好ましい。表面抵抗値が１．０×１０１０Ω／□以上であれば、第１透明誘電体層を介して透明導電層が導通することを防止できるため、入力精度の向上が可能となる。
【００１１】
前記第１透明誘電体層は、真空蒸着法、スパッタリング法又はイオンプレーティング法により形成されていることが好ましい。上記列挙した製法は、いずれも厚み制御が容易な製法であるため、均一な厚みの第１透明誘電体層が得られるからである。特に、第１透明誘電体層の厚みを２ｎｍ以上１０ｎｍ未満の厚みに容易に制御するには、成膜雰囲気内の不純物ガスを可能な限り排除した状態で成膜することが好ましい。
【００１２】
前記透明フィルム基材は、厚みが２〜２００μｍであることが好ましい。機械的強度を確保した上で、フィルムの薄膜化が容易となるからである。
【００１３】
本発明の透明導電性フィルムは、全光線透過率が９１．０％以上であることが好ましい。全光線透過率が９１．０％以上であれば、ディスプレイの光源の消費電力を容易に低減できる。
【００１４】
本発明の透明導電性フィルムは、前記透明フィルム基材の他方の面に透明粘着剤層を介して貼り合わされた透明基体を更に含んでいてもよい。フィルムの機械的強度が向上し、特にカールなどの発生を防止できるからである。
【００１５】
本発明のタッチパネルは、透明導電層を有する一対のパネル板を、前記透明導電層同士が対向するようにスペーサを介して配置してなるタッチパネルであって、少なくとも一方の前記パネル板が、上述した本発明の透明導電性フィルムを含むタッチパネルである。本発明のタッチパネルによれば、上述した本発明の透明導電性フィルムと同様の効果が得られる。
【００１６】
本発明の透明導電性フィルムの製造方法は、上述した本発明の透明導電性フィルムを製造するための製造方法であって、透明フィルム基材の一方の面に、前記透明フィルム基材の側から第１透明誘電体層、第２透明誘電体層及び透明導電層をこの順に形成する工程を有する。本方法によれば、上述した本発明の透明導電性フィルムを容易に製造できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下、本発明の好適な実施形態について、図面を参照しながら説明する。なお、同一の構成要素には同一の符号を付し、重複する説明は省略する。
【００１８】
図１は、本発明の透明導電性フィルムの一例を示したものであり、透明フィルム基材Ｆの一方の面に、第１透明誘電体層１、第２透明誘電体層２、及び透明導電層３がこの順に形成されている。
【００１９】
図２は、図１に示す透明導電性フィルムの透明フィルム基材Ｆの他方の面に、透明粘着剤層Ａを介して透明基体Ｔが貼り合わされている場合の例である。また、図示はしていないが、図２の透明基体Ｔの外表面には、ハードコート層等を設けることができる。
【００２０】
本発明において使用する透明フィルム基材Ｆとしては、特に制限されないが、透明性を有する各種のプラスチックフィルムが用いられる。たとえば、その材料として、ポリエステル系樹脂、アセテート系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリフェニレンサルファイド系樹脂等があげられる。これらのなかでも、コストの点からポリエステル系樹脂が好ましい。透明フィルム基材Ｆの屈折率は、通常１．４〜１．７程度である。
【００２１】
透明フィルム基材Ｆの厚みは、２〜２００μｍの範囲が好ましく、２０〜１５０μｍの範囲がより好ましい。機械的強度を確保した上で、フィルムの薄膜化が容易となるからである。
【００２２】
透明フィルム基材Ｆは、表面に予めスパッタリング、コロナ放電、火炎、紫外線照射、電子線照射、化成、酸化などのエッチング処理や、ハードコート層の形成、あるいは下塗り処理などを施して、この上に設けられる第１透明誘電体層１の透明フィルム基材Ｆに対する密着性を向上させることができる。また、第１透明誘電体層１を設ける前に、透明フィルム基材Ｆの表面を必要に応じて溶剤洗浄や超音波洗浄などにより除塵、清浄化してもよい。
【００２３】
透明フィルム基材Ｆには、第１透明誘電体層１、第２透明誘電体層２、透明導電層３がこの順で設けられている。第１透明誘電体層１の屈折率ｎ１、第２透明誘電体層２の屈折率ｎ２、透明導電層３の屈折率ｎ３は、ｎ２＜ｎ３≦ｎ１の関係を満足する。通常、透明導電層３の屈折率ｎ３は約２程度（通常１．９〜２．１）であるため、その場合には第１透明誘電体層１の屈折率ｎ１は、通常、２．１５〜２．３０程度、さらには２．２０〜２．３０であるのが好ましく、第２透明誘電体層２の屈折率ｎ２は、通常、１．３〜１．７程度、さらには１．４〜１．６であるのが好ましい。
【００２４】
第１透明誘電体層１は、酸化インジウム１００重量部に対して、特定量の酸化錫及び酸化セリウムを含む複合酸化物により形成されている。形成材料としては、各酸化物成分の混合物の焼結体を使用することが好ましい。前記複合酸化物において、酸化錫の割合は、光学特性の点から、酸化インジウム１００重量部に対して、０〜２０重量部である。さらには、３〜１５重量部であるのが好ましい。また酸化セリウムの割合は、光学特性の点から、酸化インジウム１００重量部に対して、４０重量部を超えて８０重量部以下である。さらには、４０重量部を超えて７０重量部以下が好ましく、４０重量部を超えて６５重量部以下がより好ましい。酸化セリウムの割合が４０重量部を超える場合、透明導電層の屈折率以上の高屈折率を容易に実現できる上、表面抵抗値を高くすることができる。また、８０重量部以下の範囲であれば、スパッタレートを低下させずに第１透明誘電体層を形成できる。なお、前記複合酸化物には、酸化インジウム、酸化錫及び酸化セリウム以外の成分として、例えばＡｌ、Ｓｂ、Ｇａ、Ｇｅ、Ｚｎ等の他の成分が添加されていてもよい。
【００２５】
第２透明誘電体層２の材料としては、たとえば、ＮａＦ（１．３）、Ｎａ3ＡｌＦ6（１．３５）、ＬｉＦ（１．３６）、ＭｇＦ2（１．３８）、ＣａＦ2（１．４）、ＢａＦ2（１．３）、ＳｉＯ2（１．４６）、ＬａＦ3（１．５５）、ＣｅＦ3（１．６３）、Ａｌ2Ｏ3（１．６３）などの無機物〔上記各材料の括弧内の数値は屈折率である〕や、屈折率が１．４〜１．６程度のアクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、シロキサン系ポリマー、アルキド樹脂、メラミン樹脂などの有機物があげられる。これらの中から材料を適宜に選択し、または組み合わせて、前記屈折率ｎ２を満足する第２透明誘電体層２を形成する。
【００２６】
第２透明誘電体層２の厚みは、特に制限されるものではないが、連続被膜とし、透明性や耐擦傷性を向上させるためには１０ｎｍ以上であることが好ましく、より好ましくは１０〜３００ｎｍ、特に好ましくは２０〜１２０ｎｍである。なお、クラック発生防止及び透明性向上の観点から、第１及び第２透明誘電体層１，２の厚みの合計は、１５０ｎｍ以下が好ましく、１００ｎｍ以下がより好ましい。
【００２７】
第２透明誘電体層２の表面抵抗値は、１．０×１０６Ω／□以上であることが好ましく、１．０×１０８Ω／□以上であることがより好ましい。表面抵抗値が１．０×１０６Ω／□以上であれば、第２透明誘電体層２を介して透明導電層が導通することを防止できるため、入力精度の向上が可能となる。なお、第１及び第２透明誘電体層１，２の表面抵抗の上限は特にない。一般的には、第１及び第２透明誘電体層１，２の表面抵抗の上限は測定限界である１．０×１０１３Ω／□程度であるが、１．０×１０１３Ω／□を超えるものであってもよい。
【００２８】
透明導電層３の材料としては、特に制限されるものではなく、例えば、インジウム、錫、亜鉛、ガリウム、アンチモン、チタン、珪素、ジルコニウム、マグネシウム、アルミニウム、金、銀、銅、パラジウム及びタングステンからなる群より選択される少なくとも１種の金属（又は半金属）の酸化物が用いられる。当該酸化物には、必要に応じて、さらに上記群に示された金属元素や、その酸化物が添加されていてもよい。例えば酸化錫を含有する酸化インジウムや、アンチモンを含有する酸化錫などが好ましく用いられる。
【００２９】
透明導電層３の厚みは特に制限されないが、その表面抵抗を１．０×１０３Ω／□以下の良好な導電性を有する連続被膜とするには、厚みを１０ｎｍ以上とするのが好ましい。また、透明性向上の観点から、厚みは３００ｎｍ以下とするのが好ましい。
【００３０】
第１透明誘電体層１、第２透明誘電体層２及び透明導電層３は、透明フィルム基材Ｆ上に、通常、この順で順次に形成される。第１透明誘電体層１及び透明導電層３の形成方法としては、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等があげられ、材料の種類及び必要とする膜厚に応じて適宜の方法を採用することができるが、これらのなかでもスパッタリング法が一般的である。また、第２透明誘電体層２の形成方法としては、上記の方法の他に、塗工法などを採用することができる。
【００３１】
上記のように第１透明誘電体層１、第２透明誘電体層２及び透明導電層３が順次に形成された透明フィルム基材Ｆの他方の面には、透明粘着剤層Ａを介して透明基体Ｔを貼り合わすことができる。透明基体Ｔの貼り合わせは、透明基体Ｔの方に透明粘着剤層Ａを設けておき、これに透明フィルム基材Ｆを貼り合わせてもよいし、逆に透明フィルム基材Ｆの方に透明粘着剤層Ａを設けておき、これに透明基体Ｔを貼り合わせてもよい。後者の方法では、ロール状の透明フィルム基材Ｆに対して、透明粘着剤層Ａを連続的に形成できるため、生産性の面で一層有利である。
【００３２】
透明粘着剤層Ａとしては、透明性を有するものであればとくに制限なく使用でき、たとえば、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ゴム系粘着剤などが用いられる。この透明粘着剤層Ａは、透明基体Ｔの接着後に、そのクッション効果により、透明フィルム基材Ｆの一方の面に設けられた透明導電層３の耐擦傷性やタッチパネル用としての打点特性を向上させる機能を有する。この機能をより良く発揮させる観点から、その弾性係数を１〜１００Ｎ／ｃｍ2の範囲、厚みを１μｍ以上、通常５〜１００μｍの範囲に設定するのが望ましい。
【００３３】
透明粘着剤層Ａを介して貼り合わされる透明基体Ｔは、透明フィルム基材Ｆに対して良好な機械的強度を付与し、特にカールなどの発生防止に寄与するものであり、通常６〜３００μｍ程度のプラスチックフィルムが用いられる。なお、可撓性が特に要求されない場合は、０．０５〜１０ｍｍ程度のプラスチック板などを用いてもよい。プラスチックの材質としては、前記した透明フィルム基材Ｆと同様のものが挙げられる。
【００３４】
また、必要に応じて、上記透明基体Ｔの外表面（透明粘着剤層Ａとは反対側の面）に、視認性の向上を目的とした防眩処理層や反射防止処理層を設けたり、外表面の保護を目的としたハードコート層を設けるようにしてもよい。ハードコート層としては、たとえば、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、アルキド系樹脂、アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、エポキシ系樹脂などの硬化型樹脂からなる硬化被膜が好ましく用いられる。
【００３５】
図３は、図２に示す透明導電性フィルムを用いたタッチパネルの例を示したものである。すなわち、縞状に形成された透明導電層Ｐ１ｄ，Ｐ２ｄをそれぞれ有する一対のパネル板Ｐ１，Ｐ２を、透明導電層Ｐ１ｄ，Ｐ２ｄ同士が対向するように、スペーサＳを介して配置してなるタッチパネルにおいて、一方のパネル板Ｐ１として、上記図２に示す透明導電性フィルムを用いたものである。スペーサＳとしては、例えば、アクリルやウレタンなどの絶縁性材料から構成されたドットスペーサが使用できる。なお、図３の透明導電層Ｐ１ｄ，Ｐ２ｄでは、縞状パターンが互いに直交するように対向配置されている。
【００３６】
このタッチパネルは、パネル板Ｐ１側より、入力ペンＭにてスペーサＳの弾性力に抗して押圧打点したとき、透明導電層Ｐ１ｄ，Ｐ２ｄ同士が接触して、電気回路のＯＮ状態となり、上記押圧を解除すると、元のＯＦＦ状態に戻る、透明スイッチ構体として機能する。その際、パネル板Ｐ１が上記の透明導電性フィルムからなるために、透明導電層Ｐ１ｄの耐擦傷性や打点特性などに優れ、長期にわたって上記機能を安定に維持できる。
【００３７】
なお、図３において、パネル板Ｐ１は、図１に示す透明導電性フィルムであってもよい。また、パネル板Ｐ２は、プラスチックフィルムやガラス板などからなる透明基体Ｔ´に透明導電層Ｐ２ｄを設けたものであるが、本発明の透明導電性フィルムであってもよい。
【実施例】
【００３８】
以下、本発明の実施例について比較例と併せて説明する。なお、本発明は下記の実施例に限定して解釈されるものではない。
【００３９】
＜各層の屈折率＞
各層の屈折率は、アタゴ社製のアッベ屈折率計を用い、各測定面に対して測定光を入射させるようにして、該屈折計に示される規定の測定方法により測定を行った。
【００４０】
＜各層の厚み＞
透明フィルム基材の厚みは、ミツトヨ製マイクロゲージ式厚み計にて測定を行った。その他の層の厚みについては、日立製作所製の透過型電子顕微鏡Ｈ−７６５０により断面観察して測定した。
【００４１】
＜第１層の表面抵抗値＞
三菱化学社製のローレスター抵抗測定器を用いて、第１層の表面抵抗値（Ω／□）を測定した。
【００４２】
＜実施例１＞
（第１透明誘電体層（第１層）の形成）
厚み１２５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムからなる透明フィルム基材（屈折率ｎｆ＝１．６６）の一方の面に、アルゴンガス９５％と酸素ガス５％の混合ガスの雰囲気下、酸化インジウム１００重量部、酸化錫３重量部及び酸化セリウム４５重量部の混合物の焼結体から、下記条件の反応スパッタリング法により、酸化インジウム１００重量部に対して、酸化錫３重量部及び酸化セリウム４５重量部を有する複合酸化物（屈折率ｎ１＝２．２０）からなる第１透明誘電体層（表面抵抗値：２．０×１０１２Ω／□、厚み：２５ｎｍ）を形成した。なお、成膜雰囲気内に上記混合ガスを導入する前に、成膜雰囲気を到達真空度５．０×１０−４Ｐａ以下の状態にして不純物ガスを除去した。  
【００４３】
（スパッタリング条件）
ターゲットサイズ：２００ｍｍ×５００ｍｍ
出力：３．０ｋＷ
電圧値：４５０Ｖ
放電時間：１分
真空度：０．５Ｐａ
【００４４】
（第２透明誘電体層（第２層）の形成）
次いで、第１透明誘電体層上に、ＳｉＯ2（屈折率ｎ２＝１．４６）を電子ビーム加熱法により、１×１０-2〜３×１０-2Ｐａの真空度で真空蒸着して、厚み５０ｎｍの第２透明誘電体層を形成した。
【００４５】
（透明導電層（第３層）の形成）
次いで、第２透明誘電体層上に、アルゴンガス９５％と酸素ガス５％の混合ガスを用いて、０．５Ｐａの雰囲気中で、酸化インジウム１００重量部及び酸化錫１０重量部の混合物の焼結体から、反応スパッタリング法により、酸化インジウム１００重量部に対して酸化錫１０重量部を有する複合酸化物（屈折率ｎ３＝２．０）からなる透明導電層（厚み２０ｎｍ）を形成し、実施例１の透明導電性フィルムを得た。
【００４６】
＜実施例２＞
第１層として、酸化インジウム１００重量部に対して、酸化錫３重量部及び酸化セリウム５５重量部を有する複合酸化物（屈折率ｎ１＝２．２５）からなる第１透明誘電体層（表面抵抗値：＞１．０×１０１３Ω／□、厚み：２５ｎｍ）を形成したこと以外は、実施例１と同様の方法で、実施例２の透明導電性フィルムを得た。
【００４７】
＜実施例３＞
第１層として、実施例１と同じ構成材料を用いて、厚み６ｎｍの第１透明誘電体層（表面抵抗値：＞１．０×１０１３Ω／□）を形成したこと以外は、実施例１と同様の方法で、実施例３の透明導電性フィルムを得た。
【００４８】
＜比較例１＞
第１層として、酸化インジウム１００重量部に対して、酸化錫１０重量部及び酸化セリウム２５重量部を有する複合酸化物（屈折率ｎ１＝２．１０）からなる層（表面抵抗値：８．５×１０９Ω／□、厚み：２５ｎｍ）を形成したこと以外は、実施例１と同様の方法で、比較例１の透明導電性フィルムを得た。
【００４９】
＜比較例２＞
第１層として、酸化インジウム１００重量部に対して、酸化錫５重量部及び酸化セリウム１０重量部を有する複合酸化物（屈折率ｎ１＝２．０５）からなる層（表面抵抗値：５．７×１０７Ω／□、厚み：２５ｎｍ）を形成したこと以外は、実施例１と同様の方法で、比較例２の透明導電性フィルムを得た。
【００５０】
＜比較例３＞
第１層として、酸化インジウム１００重量部及び酸化錫１０重量部を有する複合酸化物（屈折率ｎ１＝２．００）からなる層（表面抵抗値：１．１×１０３Ω／□、厚み：２５ｎｍ）を形成したこと以外は、実施例１と同様の方法で、比較例３の透明導電性フィルムを得た。
【００５１】
上記実施例及び比較例で得られた透明導電性フィルムについて、下記評価を行った。結果を表１に示す。なお、第２層及び第３層については、いずれも同じ条件なので、各層の物性に関しては第１層のみを表１に示した。
【００５２】
＜全光線透過率＞
ＪＩＳ Ｋ-７１０５（測定法Ｂ）に基づいて全光線透過率を測定した。なお、測定の際は、透明導電層が光源側に向くように試料を配置した。
【００５３】
＜色相ｂ＊＞
島津製作所製の分光光度計ＵＶ３１５０を用いて、色相ｂ＊を測定した。色相ｂ＊は、透過光の着色の程度を表し、色相ｂ＊の値がマイナス側に大きくなると透過光は青味が増し、プラス側に大きくなると黄色味が増す。色相ｂ＊の値は、−２〜２の範囲にあることが、着色が抑制されており好ましい。
【００５４】
【表１】
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【００５５】
表１に示すように、実施例１〜３の透明導電性フィルムは、いずれも第１層が高い屈折率を有しているため、全光線透過率が良好な値を示した。また、実施例３では、厚み６ｎｍの薄い第１層を設けたが、表面抵抗値は＞１．０×１０１３Ω／□となり、厚みが薄くても高い表面抵抗値を示した。一方、比較例１〜３の透明導電性フィルムは、いずれも色相ｂ＊については実施例１〜３と同程度の良好な値を示したが、第１層の屈折率が実施例よりも低いため、全光線透過率が低下した。また、第１層の表面抵抗値についても実施例に比べて低下した。
【図面の簡単な説明】
【００５６】
【図１】本発明の透明導電性フィルムの一例を示す断面図である。
【図２】本発明の透明導電性フィルムの他の例を示す断面図である。
【図３】本発明のタッチパネルの一例を示す断面図である。
【符号の説明】
【００５７】
１  第１透明誘電体層
２  第２透明誘電体層
３  透明導電層
Ａ  透明粘着剤層
Ｆ  透明フィルム基材
Ｐ１，Ｐ２  パネル板
Ｐ１ｄ，Ｐ２ｄ  透明導電層
Ｓ  スペーサ
Ｔ，Ｔ´  透明基体
【図１】
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【図２】
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【図３】
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