(57)【要約】【課題】低粘度のフラックスでも漏出を起こすことなく、キャビティ部に確実に供給することができるようにする。【解決手段】フラックス供給装置において、所定幅の傾斜面１２と、傾斜面の下流端部１２Ａを塞ぎ、注入されるフラックスＦを溜める堰部１４と、傾斜面の途中に該傾斜面より低い水平底部が形成されたキャビティ部１６とを有するフラックスプレート１０と、下端に摺動面２０Ａが形成され、前記傾斜面の幅方向に延びるアーム部２０と、該アーム部を前記下流端部と前記キャビティ部より上流側の範囲を往復移動させる移動手段２２と、を備えた。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定幅の傾斜面と、傾斜面の下流端部を塞ぎ、注入されるフラックスを溜める堰部と、傾斜面の途中に該傾斜面より低い水平底部が形成されたキャビティ部とを有するフラックスプレートと、
下端に摺動面が形成され、前記傾斜面の幅方向に延びるアーム部と、
該アーム部を前記下流端部と前記キャビティ部より上流側の範囲を往復移動させる移動手段と、を備えたことを特徴とするフラックス供給装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フラックス供給装置、特に電子部品の実装時にバンプ電極に塗布するフラックスをキャビティ部に供給する際に適用して好適なフラックス供給装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
基板上に電子部品を実装するためにバンプ電極に塗布するフラックスをキャビティ部に供給するフラックス供給装置（フラックス塗布装置）としては、例えば特許文献１には、図５に示すようなベース１上に載置された円筒状のコンテナ（スキージ）４に粘性のあるフラックス５を注入し、ブロック６により押圧した状態で凹部からなるキャビティ部２の上方へ該コンテナ４を往復することにより、該キャビティ部２内にフラックス５を充填させるものが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００２−１７２４６０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、前記特許文献１に開示されている従来のフラックス供給装置では、コンテナ４内に保持するためにはフラックスに粘性が必要であることから、低粘度のフラックスをコンテナ内に注入するとそれが下端から漏出するために使用することが困難であるという問題があった。
【０００５】
本発明は、前記従来の問題点を解決するべくなされたもので、低粘度のフラックスでも漏出を起こすことがなく、しかもキャビティ部に確実に供給することができるフラックス供給装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、所定幅の傾斜面と、傾斜面の下流端部を塞ぎ、注入されるフラックスを溜める堰部と、傾斜面の途中に該傾斜面より低い水平底部が形成されたキャビティ部とを有するフラックスプレートと、下端に摺動面が形成され、前記傾斜面の幅方向に延びるアーム部と、該アーム部を前記下流端部と前記キャビティ部より上流側の範囲を往復移動させる移動手段と、を備えたことにより、前記課題を解決したものである。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、堰で塞がれている傾斜面の下流端部の溜め部とし、該溜め部にフラックスを溜めた状態で、下端に摺動面が形成されているアーム部を、下流端部へ往動させた後、キャビティ部を越えた上流側に復動させることにより、往動時に傾斜面を摺動するアーム部によりフラックスを攪拌すると共に、復動時にキャビティ部に運ぶことができる。
【０００８】
従って、低粘度のフラックスであっても、下流端部から従来のような漏出を起こすことがない上に、確実にキャビティ部に供給することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本発明に係る一実施形態のフラックス供給装置を示す概略平面図
【図２】本実施形態のフラックス供給装置の縦断面図
【図３】本実施形態の作用を示す図２に相当する縦断面図
【図４】本実施形態の作用・効果を説明する他の要部拡大断面図
【図５】従来のフラックス供給装置の概要を示す平面図と断面図
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、図面を参照して、本発明の実施の形態について詳細に説明する。
【００１１】
図１は、本発明に係る一実施形態のフラックス供給装置の平面図であり、図２はその縦断面図である。
【００１２】
本実施形態のフラックス供給装置は、図示しない装置本体の台８上に載置されているフラックスプレート１０を備えている。このフラックスプレート１０は、所定幅の傾斜面１２と、傾斜面１２の下流端部１２Ａを塞ぎ、注入されるフラックスＦを溜める溜め部１２Ｂを形成する堰部１４と、傾斜面の途中に該傾斜面より低い水平底部が形成されたキャビティ部１６とを有している。
【００１３】
又、本実施形態のフラックス供給装置は、下端に摺動面２０Ａが形成された前記傾斜面の幅方向に延びるアーム部２０と、該アーム部２０を前記下流端部１２Ａと前記キャビティ部１６より上流側の範囲を往復移動させる移動部材（移動手段）２２とを備えている。
【００１４】
本実施形態について詳述すると、前記キャビティ部１６は、傾斜面１２の途中に所定幅、所定長さの凹部として形成された形状になっており、その下流側端部もフラックスの膜厚に応じての傾斜面１２より若干低く形成されている。
【００１５】
又、前記アーム部２０は、傾斜面１２の幅方向に沿った長い形状で、その下端には傾斜面１２にほぼ接触する摺動面２０Ａが形成されている。又、このアーム部２０は、図示しない駆動機構により傾斜面１２に沿って移動される前記移動部材２２に連結されており、該移動部材２２の往復移動に伴ってその摺動面２０Ａが傾斜面１２上を、図示されている待機位置から下流端部１２Ａまでの範囲を前後に摺動可能になっている。
【００１６】
以上の構成からなる本実施形態のフラックス供給装置においては、前記移動部材２２はその上部に接続固定される図示しない駆動機構により、図２の右側に示される下流端部１２Ａ近傍の深い側に形成されるフラックス溜め部１２Ｂに往動すると、アーム部２０によりフラックスＦを攪拌することになる。
【００１７】
次いで、図３に示すように前記移動部材２２が左方向に戻る復動を行なうと、攪拌機能を有するアーム部２０よりフラックスＦを前記キャビティ部１６まで運ぶことができる。
【００１８】
この往復動作を繰り返すことにより、キャビティ部１６には常に一定の膜厚のフラックスＦを保持することができることになる。
【００１９】
従って、図４に、アーム部２０を復動により元の待機位置に戻した状態を拡大して示すように、キャビティ部１６に一定の膜厚で保持されているフラックスＦに、吸着ノズル３０により吸着した電子部品Ｐの下端に位置するバンプ電極を浸漬することにより、該バンプ電極に低粘性のフラックスＦを一定量塗布することができる。
【００２０】
以上詳述した本実施形態によれば、以下の効果が得られる。
【００２１】
（１）粘度の低いフラックスＦをも使用することが可能になる。
【００２２】
（２）傾斜面の下流端部を堰部１４で塞いだ溜め部１２ＢにフラックスＦを溜めるようにしたので、粘度の低いフラックスＦでも漏出することを防止でき、従来のようなフラックスの無駄が発生することを防止できる。
【００２３】
なお、前記実施形態では、いわゆるアンダーフィルと呼ばれる粘度の低いフラックスに適用する場合を説明したが、これに限らずいわゆる銀ペーストに適用することもできる。
【符号の説明】
【００２４】
１０…フラックスプレート
１２…傾斜面
１２Ａ…下流端部
１２Ｂ…溜め部
１４…堰部
１６…キャビティ部
２０…アーム部
２０Ａ…摺動面
２２…移動部材（移動手段）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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