(57)【要約】【課題】凝集が抑制され、高い分散性を有する粒子を高い量産性で容易に製造し得る方法を提供すること。【解決手段】本発明の粒子の製造方法は、第１の原料物質を含む母液を循環させつつ、循環経路の一部に設けられた強分散装置に第２の原料物質を供給し；該強分散装置において該母液を強分散させた状態下に第１の原料物質と第２の原料物質とを反応させて、粒子を生成させることを特徴とする。複数の強分散装置が、循環経路に対して並列に又は直列に設けられていることが好ましい。また時間の経過と共に第２の原料物質の供給量及び／又は濃度を漸減させることも好ましい。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の原料物質を含む母液を循環させつつ、循環経路の一部に設けられた強分散装置に第２の原料物質を供給し、
該強分散装置において該母液を強分散させた状態下に第１の原料物質と第２の原料物質とを反応させて、粒子を生成させることを特徴とする、粒子の製造方法。
【請求項２】
複数の前記強分散装置が、前記循環経路に対して並列に又は直列に設けられている請求項１記載の粒子の製造方法。
【請求項３】
時間の経過と共に第２の原料物質の供給量及び／又は濃度を変化させる請求項１又は２記載の粒子の製造方法。
【請求項４】
前記母液中に第１の原料物質として、１）水溶性錫化合物、２）水溶性亜鉛化合物、又は３）水溶性インジウム化合物及び水溶性錫化合物が含まれており、
第２の原料物質が酸又はアルカリである請求項１ないし３の何れかに記載の粒子の製造方法。
【請求項５】
前記循環経路の一部に設置された母液槽内に超音波反応装置を更に設けて反応を行う請求項１ないし４のいずれかに記載の粒子の製造方法。
【請求項６】
第１の原料物質を含む母液を循環させつつ、循環経路の一部に設けられた超音波反応装置に第２の原料物質を供給し、
該超音波反応装置において該母液を強分散させた状態下に第１の原料物質と第２の原料物質とを反応させて、粒子を生成させることを特徴とする、粒子の製造方法。
【請求項７】
請求項１ないし６のいずれかに記載の製造方法によって得られた粒子を含む反応終了後のスラリーを、洗浄及び乾燥させた後に焼成して得られたことを特徴とする導電性粒子。
【請求項８】
粒度分布Ｄ50／Ｄ90の値が０．５〜１である請求項７記載の導電性粒子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、高い分散性を有する粒子を製造する方法に関する。また本発明は、この方法によって製造された粒子を原料とする導電性粒子に関する。
【背景技術】
【０００２】
本出願人は先に、芯材粒子の表面に酸化錫層が形成された導電性粉末及びその製造方法を提案した（特許文献１参照）。同文献で提案されている製造方法は、以下の工程を含むものである。先ず芯材を水中に分散させたスラリーが仕込まれた反応槽中に水溶性錫化合物を添加後、酸又はアルカリを用いて中和反応を行う。これによって、芯材の表面に酸化錫水和物からなる被覆層が形成された導電性粉末前駆体を、反応槽中に生成させる。この前駆体を含むスラリーの少なくとも一部を、中和の際又は中和の後に、反応槽とは別に設置した強分散装置において強分散処理し、強分散処理した液を反応槽のスラリー中に戻す。その後、スラリー中の前駆体を洗浄・乾燥した後、非酸化性雰囲気中２００〜１２００℃で焼成する。これによって目的とする酸化錫層が形成された導電性粉末が得られる。
【０００３】
上述の方法で製造された導電性粉末は、導電性が高く、また分散性に優れ、良好な白色度を有するものとなる。したがって、この導電性粉末を、例えば紙、プラスチック、ゴム、樹脂、塗料等に配合することで、これらの材料からなる製品に導電性を容易に付与することができる。しかも、これらの材料の色が損なわれることもない。
【０００４】
しかし、上述の方法は、芯材粒子の表面に導電層を設けた粒子からなる導電層被覆粒子粉末が得られるに過ぎない。
【０００５】
【特許文献１】特開２００５−１０８７３４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の目的は、前述した従来技術の粒子よりも凝集が更に抑制され、分散性が更に向上した粒子を製造し得る方法、及び該粒子を原料とする導電性粒子を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、第１の原料物質を含む母液を循環させつつ、循環経路の一部に設けられた強分散装置に第２の原料物質を供給し、
該強分散装置において該母液を強分散させた状態下に第１の原料物質と第２の原料物質とを反応させて、粒子を生成させることを特徴とする、粒子の製造方法を提供するものである。
【０００８】
また本発明は、第１の原料物質を含む母液を循環させつつ、循環経路の一部に設けられた超音波反応装置に第２の原料物質を供給し、
該超音波反応装置において該母液を強分散させた状態下に第１の原料物質と第２の原料物質とを反応させて、粒子を生成させることを特徴とする、粒子の製造方法を提供するものである。
【０００９】
更に本発明は、前記の製造方法によって得られた粒子を含む反応終了後のスラリーを、洗浄及び乾燥させた後に焼成して得られたことを特徴とする導電性粒子を提供するものである。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、凝集が抑制され、高い分散性を有する粒子を高い量産性で容易に製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下本発明を、その好ましい実施形態に基づき図面を参照しながら説明する。本発明の一実施形態として、以下の説明においては、水酸化錫粒子を製造する方法を例に挙げる。この粒子は、その後の工程で焼成されて、最終目的物の導電性粒子として酸化錫粒子となる。図１には、水酸化錫粒子の製造に好適に用いられる製造装置の一例の模式図が示されている。
【００１２】
図１に示す製造装置１０は、母液槽１１、母液槽１１の底部から延びる第１循環配管１２、第１循環配管１２の出口側に接続された強分散装置１３、強分散装置１３の出口側に接続され、且つ母液槽１１へ帰還する第２循環配管１４とを備えている。これらの部材によって、装置１０には循環経路が形成される。第１循環配管１２の途中には第１ポンプ１５が設置されている。また第２循環配管１４の途中には第２ポンプ１６が設置されている。
【００１３】
母液槽１１内には攪拌翼１１ａが設置されている。攪拌翼１１ａはシャフト１１ｂを介して槽外に設置されたモータ１１ｃに接続している。攪拌翼１１ａは、モータ１１ｃを駆動源として一定方向に回転するようになっている。
【００１４】
強分散装置１３内には、攪拌部１３ａが設置されている。攪拌部１３ａはシャフト１３ｂを介してモータ１３ｃに接続している。攪拌部１３ａは、モータ１３ｃを駆動源として一定方向に回転するようになっている。更に強分散装置１３には、被覆層形成用の反応物を供給する供給部１３ｄが設けられている。強分散装置１３としてはその容積が、母液層１１の容積よりも十分に小さいものが用いられる。
【００１５】
以上の装置１０を用いた粒子の製造方法について説明すると、先ず母液槽１１内に母液２０を充填する。母液２０は、第１の原料物質及び媒体を含むものである。媒体としては、第１の原料物質の種類に応じて適切な液体が選択される。一般的には第１の原料物質の溶解が可能なものが用いられる。例えば水酸化錫粒子を製造する場合であれば、第１の原料物質として水溶性の錫化合物を用いることができ、媒体として水を用いればよい。以下の説明においては、水溶性錫化合物を用いた例について述べるが、第１の原料物質としては、単一の原材料を用いてもよく、あるいは最終的に得られる導電性粒子の特性改善等を目的として、複数の原材料を用いてもよい。
【００１６】
母液２０中には水溶性錫化合物が添加されている。水溶性錫化合物は、本実施形態における目的物である水酸化錫の粒子を形成するための反応物の一つである。水溶性錫化合物としては、後述する第２の原料物質と反応して水酸化錫の粒子を形成し得るものが用いられる。そのような水溶性錫化合物としては、錫酸ナトリウム及び四塩化錫等が挙げられる。これらの水溶液錫化合物は水への溶解が容易なので好適に用いられる。
【００１７】
母液２０中における水溶性錫化合物の水溶液濃度は、Ｓｎに換算して１〜２０重量％、特に３〜１０重量％であることが好ましい。水溶液濃度がこの範囲内にあると、水酸化錫の粒子が容易に形成されるからである。
【００１８】
母液槽１１内に所定量の母液２０が充填されたら、母液槽１１の攪拌翼１１ａの回転を開始する。次いで、第１ポンプ１５、強分散装置１３及び第２ポンプ１６を起動して、装置１０に形成された循環経路内に母液２０を通し、これを循環させる。
【００１９】
循環経路内での母液２０の循環が安定したら、強分散装置１３の供給部１３ｄを通じて強分散装置１３内に、第２の原料物質を供給する。強分散装置１３内に供給する第２の原料物質として、本実施形態においては酸又はアルカリを用いる。酸及びアルカリは、母液２０に添加されている水溶性錫化合物を中和させて、水酸化錫の粒子を生成させる。
【００２０】
酸又はアルカリによる水溶性錫化合物の中和反応は、非常に迅速に進行する。したがって、例えば非常に大容量の反応槽を用い、これに水溶性錫化合物の水溶液を充填しておき、その中に酸又はアルカリを添加して中和反応を起こさせようとすると、反応槽内を攪拌したとしても、酸又はアルカリを添加した部分において中和反応が局所的に生じてしまい、均一な粒径の粒子を得ることができない。また、水酸化錫は軟質の物質なので、中和反応の最中に粒子どうしが付着して凝集が起こってしまう。これに対して本実施形態によれば、強分散装置１３は、上述のとおり母液槽１１よりもはるかに小容量のものであり、しかも母液２０を高速攪拌するものであるから、局所的な中和反応が生ずることが防止され、均一な粒径の水酸化錫の粒子を形成することができる。また、粒子が極めて分散した状態になるので、粒子の凝集を効果的に防止することができる。このことは、特に凝集の起こりやすい小粒径の粒子（例えば粒径が０．０１〜１μｍのもの）を生成させる場合に有効である。しかも母液２０は、循環経路内を循環しているので、強分散装置１３に供給する酸又はアルカリの量及び／又は濃度を低くして中和反応を徐々に行うことができる。以上の作用によって、均一な粒径の水酸化錫の粒子を生成させることができるのみならず、粒子の凝集を防止することができる。
【００２１】
背景技術の項で述べた本出願人の先の出願に係る特開２００５−１０８７３４号公報においては、本実施形態と異なり、母液槽に芯材粒子、水溶性錫化合物、及び酸又はアルカリを添加して中和反応を起こさせ、中和後の液を強分散装置で分散させている。この中和反応は、上述のとおり非常に迅速に進行するので、強分散装置を使用する時点で中和反応が既に完結している。したがって、粒子の生成プロセスが相違するのみならず、凝集を確実に防止することは容易でない。また、母液槽中に強分散装置を設置し、該強分散装置によって液を強分散しながら該母液槽中で中和反応を行った場合であっても、一般に強分散装置の容積に比して母液槽の容積の方が非常に大きいので、反応は不均一に進行し、粒子の凝集を確実に防止することはやはり容易でない。要するに、本実施形態においては母液槽とは独立した強分散装置が設置された容器内において中和反応が行われるのに対し、前記の特開２００５−１０８７３４号公報に記載の技術は、母液槽において中和反応を行う点で、本実施形態と全く相違するものである。
【００２２】
水溶性錫化合物と酸又はアルカリとの反応は強分散装置１３において瞬時に完了するので、強分散装置１３に供給された酸又はアルカリが未反応のまま循環経路中に流出することや、循環する母液中に酸又はアルカリが蓄積して、強分散装置１３以外の箇所において中和反応が生ずることはほとんど起こり得ないか、又は起こったとしても、目的物の品質に影響を及ぼさない程度でしかない。つまり、水溶性錫化合物と酸又はアルカリとの反応は、実質的に強分散装置１３のみにおいて生じる。
【００２３】
局所的な中和反応が生じることを効果的に防止する観点から、強分散装置１３の容積はできるだけ小さいことが好ましい。一方、十分な処理量を確保する観点からは、強分散装置１３の容積Ｖ２は大きいことが好ましい。これらのバランスを考慮すると、強分散装置１３の容積Ｖ２は１〜１０００ｃｍ3、特に１０〜５００ｃｍ3であることが好ましい。
【００２４】
同様の観点から、強分散装置１３における攪拌部１３ａによる攪拌速度は５０００ｒｐｍ以上、特に１００００ｒｐｍ以上であることが好ましい。攪拌部１３ａによる攪拌速度の上限値に特に制限はなく高ければ高いほど好ましいが、１６０００ｒｐｍ程度に高速攪拌すれば、局所的な中和反応が生じることを効果的に防止することができる。
【００２５】
上述の容積及び攪拌速度を有する強分散装置１３として好ましいものとしては、ホモジナイザやビーズミル等が挙げられる。これらのうちホモジナイザは、低コストで実設備に組み込み易いので特に好ましい。
【００２６】
強分散装置１３内における母液２０及び酸又はアルカリの滞留時間は、短ければ短いほど、局所的な中和反応の防止の観点から好ましい。具体的には、母液槽１１から流出し強分散装置１３に流入する母液２０の流速をＳ１（ｃｍ3／ｍｉｎ）とし、強分散装置１３に供給される酸又はアルカリの速度をＳ３（ｃｍ3／ｍｉｎ）とした場合、強分散装置１３の容積Ｖ２（ｃｍ3）との関係で、Ｖ２／（Ｓ１＋Ｓ３）の値が１〜６０秒、特に３０〜６０秒であることが好ましい。
【００２７】
強分散装置１３に流入する母液の量と酸又はアルカリの量との割合は、強分散装置１３における局所的な中和反応の防止に関連している。具体的には、強分散装置１３に供給される酸又はアルカリの速度Ｓ３と、母液槽１１から流出し強分散装置１３に流入する母液２０の流速Ｓ１との比であるＳ３／Ｓ１が０．０１〜０．０５、特に０．０３〜０．０５となるように両者の速度を調整することが好ましい。換言すれば、単位時間当たりの母液２０の供給量に対して、酸又はアルカリの供給量を圧倒的に少なくすることが好ましい。酸又はアルカリの供給量を少なくすることは、局所的な中和反応の防止の点からは非常に有効であるが、その反面、水酸化錫の粒子の生成速度の観点からはマイナスに作用する。このマイナスの点を、本実施形態においては、母液２０を循環することで解決している。
【００２８】
処理量にもよるが、母液２０の流速Ｓ１が例えば１０〜１０００ｃｍ3／ｍｉｎである場合には、酸又はアルカリの速度Ｓ３は０．３〜５０ｃｍ3／ｍｉｎであることが好ましい。
【００２９】
強分散装置１３における局所的な中和反応を防止する観点からは、酸又はアルカリの供給量を少なくすることに代えて、又はそれに加えて、供給する酸又はアルカリの濃度を低くすることも有効である。この観点から、酸又はアルカリの濃度は、母液２０に含まれる水溶性錫化合物の濃度が上述の範囲であることを条件として、規定度で表して１〜２５Ｎ、特に５〜２０Ｎであることが好ましい。
【００３０】
強分散装置１３に供給される酸としては、例えば硫酸、硝酸、酢酸などの水溶液が用いられる。アルカリとしては、例えば水酸化ナトリウム水溶液やアンモニア水などが用いられる。
【００３１】
強分散装置１３に供給される酸及びアルカリは連続的でもよく、或いは断続的でもよい。一層均一な粒径の水酸化錫の粒子を形成する観点からは、酸又はアルカリを連続供給することが好ましい。供給には、例えばプランジャーポンプ等を用いることができる。
【００３２】
酸又はアルカリは、循環の時間経過と共にその供給量（供給速度）及び／又は濃度を変化（例えば漸増又は漸減）させてもよい。例えば、供給量を変化させる場合には、容積が数百ｃｍ3〜数ｍ3の母液槽１１を用いたときには該供給量を０．１〜１０Ｌ／ｍｉｎの範囲で漸増又は漸減させることができる。一方、濃度を変化させる場合には、１〜５０重量％の範囲で漸増又は漸減させることができる。この操作によって、反応の終期における局所的な中和反応を効果的に防止することができる。
【００３３】
母液の循環時間に特に制限はなく、所望の粒径の粒子が形成されるまで循環を行えばよい。本発明者らの検討の結果、循環開始から循環終了までの時間をＴ（ｍｉｎ）としたとき、上述のＳ１及びＶ１との関係で、Ｓ１Ｔ／Ｖ１の値が５以上、特に１０以上となるように循環を行うことで、満足すべき粒径の粒子が形成されることが判明した。Ｓ１Ｔ／Ｖ１の上限値は、数百程度であれば満足すべき結果が得られる。
【００３４】
本実施形態の変形例として、図２（ａ）及び（ｂ）に示す実施形態が挙げられる。図２（ａ）に示す実施形態は、図１に示す装置１０において、強分散装置１３を複数個用い、それらを循環流路に対して並列に設けた例である。この実施形態によれば処理量の増大を図れる。したがって、この実施形態は、各強分散装置１３の容積Ｖ２が小さい場合に特に有効である。
【００３５】
図２（ｂ）に示す実施形態は、図１に示す装置１０における、強分散装置１３を複数個用い、それらを循環流路に対して直列に設けた例である。この実施形態によれば、母液の強分散の増強を図ることができるので、母液２０の循環の回数を減らすことが可能になる。
【００３６】
更に本実施形態においては、強分散装置１３に加えて、又は強分散装置１３に代えて、超音波反応装置を用いて母液２０と酸又はアルカリとを強分散させることができる。例えば図３に示すように、強分散装置１３に加えて、母液槽１１内に超音波反応装置１７Ａを設置することができる。この場合、第２の原料物質である酸又はアルカリは、強分散装置１３に供給される。また、図４に示すように、強分散装置１３を用いず、循環経路の一部である循環配管に超音波反応装置１７Ｂを設置し、かつ母液槽１１内に超音波反応装置１７Ａを設置することができる。この場合には、超音波反応装置１７Ｂに酸又はアルカリが供給される。図４に示す実施形態においては、超音波反応装置１７Ｂの体積やそこに供給される酸又はアルカリの量を、上述した強分散装置１３の場合と同様にすることが好ましい。これらの図に示す実施形態を採用することによっても、凝集が抑制され、高い分散性を有する粒子を高い量産性で容易に製造することが可能となる。
【００３７】
超音波反応装置１７Ａ，１７Ｂは、１又は２以上の振動子（超音波ホーン）を備えている。振動子を循環配管１２，１４や母液槽１１内に設置し、これを超音波振動させることで、母液２０と酸又はアルカリとを強分散させる。超音波反応装置１７Ａ，１７Ｂとしては、例えば新科産業有限会社から販売されている超音波反応装置ＳＲ４０Ｌ型等を用いることができる。
【００３８】
超音波反応装置１７Ａ，１７Ｂにおける振動子の運転条件としては、例えば超音波周波数を１０〜４０ｋＨｚとし、超音波出力を３００〜２０００Ｗとすることが好ましい。
【００３９】
以上の方法によって、水酸化錫からなる粒子が得られる。この粒子においては、粒径が均一になっている。また凝集した粒子の数が極めて少なくなっている。その結果、この粒子は、その粒度分布がシャープなものになっている。具体的には、粒度分布の指標であるＤ50／Ｄ90の値が好ましくは０．５〜１、特に０．６〜１となる。なお、本明細書においてＤ50及びＤ90の値は、レーザー回折散乱法で求められる。
【００４０】
このようにして得られた粒子は、反応系から分離され、洗浄及び乾燥工程を経た後に焼成工程に付される。それによって酸化錫からなる導電性粒子が得られる。その後、必要に応じて粉砕工程に付され、所望の粒径に調整される。この酸化錫の粒子においては、焼成前の粒子のシャープな粒度分布が維持されており、凝集が少なくなっている。具体的には、酸化錫の粒子は、粒度分布の指標であるＤ50／Ｄ90の値が、焼成前と同様に、好ましくは０．５〜１、特に０．６〜１となる。
【００４１】
前記の焼成工程は、非酸化性雰囲気中で行うことが好ましい。非酸化性雰囲気としては、例えば窒素雰囲気、水素を含有した窒素雰囲気、アルゴン雰囲気等が挙げられる。これらのうち、水素を含有した窒素雰囲気は安価なので、工業的観点から好ましい。また、水素を含有した窒素雰囲気を用いる場合、水素の含有量は、好ましくは０．１〜１０体積％、更に好ましくは１〜３体積％である。水素の含有量がこの範囲内にあると、錫を金属に還元させることなく、酸素欠損を有する導電性の酸化錫の被覆層を形成しやすいからである。
【００４２】
前記の焼成工程における焼成温度は、好ましくは２００〜１２００℃、更に好ましくは４００〜６００℃である。焼成時間は、好ましくは５〜１８０分、更に好ましくは１０〜１２０分である。焼成温度及び時間がこれらの範囲内にあると、酸素欠損を生じさせるのに十分であり、且つ凝集を起こし難いからである。この焼成工程を行うことにより導電性粒子が得られる。
【００４３】
このようにして得られた導電性粒子は、例えば紙、プラスチック、ゴム、樹脂、塗料等に添加してこれらに導電性を付与する導電性フィラーとして使用される。また、電池等の電極改質剤として使用される。
【００４４】
以上、本発明をその好ましい実施形態に基づき説明したが、本発明は前記実施形態に制限されない。例えば前記の実施形態で用いられた製造装置１０に代えて、図５に示す装置１０’を用いることもできる。図５に示す装置１０’においては、母液槽１１の底部に強分散装置１３が直接取り付けられている。同図に示す装置１０’を用いても、図１に示す装置１０と同様の有利な効果が奏される。
【００４５】
また前記実施形態は、本発明を、水酸化錫からなる粒子を生成させる方法に適用した例であるが、本発明はこれ以外の粒子の製造方法にも同様に適用できる。例えば、水溶性金属塩を酸又はアルカリで中和して得られる金属水酸化物の粒子の製造方法に本発明を適用することができる。具体的には、水酸化亜鉛粒子を生成させる方法に、本発明を適用することもできる。この場合には、母液中に塩化亜鉛等の亜鉛源となる水溶性亜鉛化合物を含有させておき、強分散装置に水酸化ナトリウム等のアルカリを供給すればよい。このようにして得られた粒子を大気中で焼成することによって、酸化亜鉛粒子を得ることができる。更に、インジウム及び錫の水酸化物粒子を生成させる方法に、本発明を適用することもできる。この場合には、母液中に硝酸インジウム等のインジウム源となる水溶性インジウム化合物及び塩化錫等の錫源となる水溶性錫化合物を含有させておき、強分散装置に水酸化ナトリウム等のアルカリを供給すればよい。このようにして得られた粒子を還元雰囲気中で焼成することによって、インジウム及び錫の複合酸化物（ＩＴＯ）粒子を得ることができる。別法として、無電解還元法によって金属粒子を生成させる方法に本発明を適用することができる。この場合には、母液中に無電解還元の金属源となる化合物を含有させておき、強分散装置に還元剤を供給すればよい。
【実施例】
【００４６】
以下、実施例により本発明を更に詳細に説明する。しかしながら本発明の範囲はかかる実施例に制限されない。特に断らない限り、「％」は「重量％」を意味する。
【００４７】
〔実施例１〕
図１に示す装置を用い、水酸化錫粒子を製造した。母液槽中に純水９０００ｃｍ3を投入し、そこに１６００ｇの錫酸ナトリウムを投入して５パス循環させた。このようにして母液を得た。この母液を、母液槽から流出する流速Ｓ１が２００ｃｍ3となるように循環させながら、強分散装置としてのホモジナイザ（ＩＫＡジャパン株式会社製のＴ５０（商品名））に２０％硫酸を供給した。供給速度Ｓ３は９．２ｃｍ3／ｍｉｎであった。ホモジナイザの容積は５００ｃｍ3、攪拌速度は１６０００ｒｐｍであった。循環を１５分間行い、その間硫酸を連続的にホモジナイザに供給した。このようにして、水酸化錫粒子を得た。
【００４８】
得られた粒子を含むスラリーを、その導電率が６００μＳ／ｃｍ以下となるまでリパルプ洗浄した後、ヌッチェ濾過を行い、ケーキを得た。このケーキを大気中、１５０℃で１０時間乾燥させた。次いで乾燥ケーキを粉砕し、その粉砕粉を１体積％Ｈ2／Ｎ2雰囲気下で４５０℃、３０分間還元焼成した。これによって、酸化錫粒子を得た。
【００４９】
〔実施例２〕
図５に示す装置を用い、水酸化錫粒子を製造した。母液槽中に純水９０００を投入し、そこに９００ｇの錫酸ナトリウムを投入して５パス循環させた。このようにして母液を得た。この母液を、母液槽から流出する流速Ｓ１が２００ｃｍ3となるように循環させながら、強分散装置としてのホモジナイザ（ＩＫＡジャパン株式会社製のｍａｇｉｃ  ＬＡＢ（商品名））に２０％硫酸を供給した。供給速度Ｓ３は９．２ｃｍ3／ｍｉｎであった。ホモジナイザの容積は２０ｃｍ3、攪拌速度は１６０００ｒｐｍであった。循環を１５分間行い、その間硫酸を連続的にホモジナイザに供給した。このようにして、水酸化錫粒子を得た。
【００５０】
得られた粒子を含むスラリーを、その導電率が６００μＳ／ｃｍ以下となるまでリパルプ洗浄した後、ヌッチェ濾過を行い、ケーキを得た。このケーキを大気中、１５０℃で１０時間乾燥させた。次いで乾燥ケーキを粉砕し、その粉砕粉を１体積％Ｈ2／Ｎ2雰囲気下で４５０℃、３０分間還元焼成した。これによって、酸化錫粒子を得た。
【００５１】
〔実施例３〕
図１に示す装置を用い、水酸化亜鉛粒子を製造した。母液槽中に純水９０００ｃｍ3を投入し、そこに１０００ｇの無水塩化亜鉛を投入して５パス循環させた。このようにして母液を得た。この母液を、母液槽から流出する流速Ｓ１が１０Ｌ／ｍｉｎとなるように循環させながら、強分散装置としてのホモジナイザ（ＩＫＡジャパン株式会社製のＴ５０（商品名））に２０％水酸化ナトリウム水溶液を供給した。供給速度Ｓ３は９．２ｃｍ3／ｍｉｎであった。ｐＨは５．０とした。ホモジナイザの容積は５００ｃｍ3、攪拌速度は１６０００ｒｐｍであった。循環を１５分間行い、その間硫酸を連続的にホモジナイザに供給した。このようにして、水酸化亜鉛粒子を得た。
【００５２】
得られた粒子を含むスラリーを、その導電率が６００μＳ／ｃｍ以下となるまでリパルプ洗浄した後、ヌッチェ濾過を行い、ケーキを得た。このケーキを大気中、１５０℃で１０時間乾燥させた。次いで乾燥ケーキを粉砕し、その粉砕粉を大気中、４５０℃で、４５分還元焼成した。これによって、酸化亜鉛粒子を得た。
【００５３】
〔実施例４〕
図１に示す装置を用い、インジウム及び錫の水酸化物粒子を製造した。母液槽中に純水９０００ｃｍ3を投入し、そこに５ｇの塩化スズ塩酸溶液（４４％）及び９７６ｇの硝酸インジウム水溶液（１００ｇ／１０００ｃｍ3、比重１．６ｇ／ｃｍ3）の錫酸ナトリウムを投入して５パス循環させた。このようにして母液を得た。この母液を、母液槽から流出する流速Ｓ１が１０Ｌ／ｍｉｎとなるように循環させながら、強分散装置としてのホモジナイザ（ＩＫＡジャパン株式会社製のＴ５０（商品名））に２０％水酸化ナトリウムを供給した。供給速度Ｓ３は９．２ｃｍ3／ｍｉｎであった。ｐＨは３．０とした。ホモジナイザの容積は５００ｃｍ3、攪拌速度は１６０００ｒｐｍであった。循環を１５分間行い、その間硫酸を連続的にホモジナイザに供給した。このようにして、インジウム及び錫の水酸化物粒子を得た。
【００５４】
得られた粒子を含むスラリーを、その導電率が６００μＳ／ｃｍ以下となるまでリパルプ洗浄した後、ヌッチェ濾過を行い、ケーキを得た。このケーキを大気中、１５０℃で１０時間乾燥させた。次いで乾燥ケーキを粉砕し、その粉砕粉を１体積％Ｈ2／Ｎ2雰囲気下で４５０℃、４５分還元焼成した。これによって、インジウム及び錫の複合酸化物（ＩＴＯ）粒子を得た。
【００５５】
〔実施例５〕
図３に示す装置を用い、水酸化錫粒子を製造した。母液槽中に純水９０００ｃｍ3を投入し、そこに１６００ｇの錫酸ナトリウムを投入して５パス循環させた。このようにして母液を得た。この母液を、母液槽から流出する流速Ｓ１が２００ｃｍ3となるように循環させながら、強分散装置としてのホモジナイザ（ＩＫＡジャパン株式会社製のＴ５０（商品名））に２０％硫酸を供給した。供給速度Ｓ３は９．２ｃｍ3／ｍｉｎであった。ホモジナイザの容積は５００ｃｍ3、攪拌速度は１６０００ｒｐｍであった。また、超音波反応装置１７Ａとして新科産業有限会社製のＳＲ４０Ｌ型を用いた。この装置の運転条件は、２０００Ｗ、２５ｋＨｚとした。循環を１５分間行い、その間硫酸を連続的にホモジナイザに供給した。このようにして、水酸化錫粒子を得た。
【００５６】
得られた粒子を含むスラリーを、その導電率が６００μＳ／ｃｍ以下となるまでリパルプ洗浄した後、ヌッチェ濾過を行い、ケーキを得た。このケーキを大気中、１５０℃で１０時間乾燥させた。次いで乾燥ケーキを粉砕し、その粉砕粉を１体積％Ｈ2／Ｎ2雰囲気下で４５０℃、３０分間還元焼成した。これによって、酸化錫粒子を得た。
【００５７】
〔実施例６〕
図４に示す装置を用い、水酸化錫粒子を製造した。母液槽中に純水９０００ｃｍ3を投入し、そこに１６００ｇの錫酸ナトリウムを投入して５パス循環させた。このようにして母液を得た。この母液を、母液槽から流出する流速Ｓ１が２００ｃｍ3となるように循環させながら、強分散装置としての超音波反応装置１７Ｂ（新科産業有限会社製のＳＲＴ４０−０１Ｔｙｐｅ）に２０％硫酸を供給した。供給速度Ｓ３は９．２ｃｍ3／ｍｉｎであった。超音波反応装置１７Ｂの容積は５００ｃｍ3であった。運転条件は、１０００Ｗ、４０ｋＨｚであった。また、超音波反応装置１７Ａとして新科産業有限会社製のＳＲ４０Ｌ型を用いた。この装置の運転条件は、２０００Ｗ、２５ｋＨｚとした。循環を１５分間行い、その間硫酸を連続的に超音波反応装置１７Ｂに供給した。このようにして、水酸化錫粒子を得た。
【００５８】
得られた粒子を含むスラリーを、その導電率が６００μＳ／ｃｍ以下となるまでリパルプ洗浄した後、ヌッチェ濾過を行い、ケーキを得た。このケーキを大気中、１５０℃で１０時間乾燥させた。次いで乾燥ケーキを粉砕し、その粉砕粉を１体積％Ｈ2／Ｎ2雰囲気下で４５０℃、３０分間還元焼成した。これによって、酸化錫粒子を得た。
【００５９】
〔実施例７〕
実施例６において超音波反応装置１７Ａを用いなかった。また超音波反応装置１７Ｂの運転条件として１０００Ｗ、４０ｋＨｚを採用した。これら以外は実施例６と同様にして酸化錫粒子を得た。
【００６０】
〔比較例１〕
攪拌槽中に純水９０００ｃｍ3を投入し、そこに９３０ｇの錫酸ナトリウムを投入して４０℃で１時間攪拌した。このスラリーを７０℃に昇温した後、２０％硫酸を１３００ｃｍ3供給し、スラリーのｐＨを３にした。その後、更に１時間攪拌を行った。このようにして水酸化錫粒子を得た。
【００６１】
得られた粒子を含むスラリーを、その導電率が６００μＳ／ｃｍ以下となるまでリパルプ洗浄した後、ヌッチェ濾過を行い、ケーキを得た。このケーキを大気中、１５０℃で１０時間乾燥させた。次いで乾燥ケーキを粉砕し、その粉砕粉を１体積％Ｈ2／Ｎ2雰囲気下で４５０℃、３０分間還元焼成した。これによって、酸化錫粒子を得た。
【００６２】
〔比較例２〕
母液槽中にホモジナイザ（ＩＫＡジャパン製  Ｔ−５０）を取り付けた装置を用い、水酸化錫粒子を製造した。母液槽中に純水３５１０ｃｍ3を投入し、次にホモジナイザを用いて水を強分散しながら錫酸ナトリウム５７６ｇを投入し、これを溶解させた。Ｓｎの濃度は４１％であった。引き続きホモジナイザにて強分散処理しながら、２０％硫酸を液のｐＨが２．５になるまで添加して中和した。中和を開始してから終了するまで９８分間にわたり強分散処理を行い続けた。この間、ホモジナイザは４５００ｒｐｍで攪拌させた。このようにして水酸化錫粒子を得た。その後は実施例１と同様にして、酸化錫粒子を得た。
【００６３】
〔評価〕
実施例及び比較例について、反応後でかつ洗浄前の粒子について、粒度分布（Ｄ50、Ｄ90）を以下の方法で測定した。また、焼成後の導電性粒子についても、粒度分布（Ｄ50、Ｄ90）を測定した。更に焼成後の導電性粒子について、比表面積及び体積抵抗を以下の方法で測定した。それらの結果を以下の表１に示す。
【００６４】
〔粒度分布の測定〕
２００ｃｍ3のサンプル容器に試料約０．１ｇを採り、これに０．２ｇ／ｌのヘキサメタリン酸ソーダを１０ｃｍ3添加混合し、引き続き純水９０ｃｍ3を添加した。日本精機株式会社製の超音波分散機であるＵＳ−３００Ｔを用いて試料を１０分間分散しサンプル液を調製した。このサンプル液を用い、日機装株式会社製マイクロトラックＨＲＡを用いて分散粒度Ｄ50及びＤ90を測定した。
【００６５】
〔比表面積の測定〕
ユアサアイオニクス株式会社製モノソーブを用い、ＢＥＴ比表面積を測定した。
【００６６】
〔体積抵抗率の測定〕
三菱化学株式会社製ロレスタＰＡＰＤ−４１を用い、試料を５００ｋｇｆ／ｃｍ2に加圧した状態下に、同社製ロレスタＡＰを用い体積抵抗率を測定した。
【００６７】
【表１】
2010137183.tif 000003
【００６８】
表１に示す結果から明らかなように、実施例で得られた粒子は、粒度分布がシャープであり、粒子の凝集の程度が低いことが判る。また、体積抵抗が低く、粒子の分散性が良好であることが判る。特に、ホモジナイザと超音波反応装置とを併用した実施例５においては、焼成前の粒子はそのＤ50／Ｄ90の値が大きくなり、シャープな粒度分布を有していることが判る。
【図面の簡単な説明】
【００６９】
【図１】本発明の製造方法に好適に用いられる装置を示す模式図である。
【図２】図１に示す装置の変形例を示す模式図である。
【図３】本発明の製造方法に好適に用いられる別の装置を示す模式図である。
【図４】本発明の製造方法に好適に用いられる別の装置を示す模式図である。
【図５】本発明の製造方法に好適に用いられる別の装置を示す模式図である。
【符号の説明】
【００７０】
１０  製造装置
１１  母液槽
１２  第１循環配管
１３  強分散装置
１４  第２循環配管
２０  母液
【図１】
2010137183.tif 000004
【図２】
2010137183.tif 000005
【図３】
2010137183.tif 000006
【図４】
2010137183.tif 000007
【図５】
2010137183.tif 000008