(57)【要約】【課題】抜き取り検査間の間に、カラーフィルタ基板全数の再検査を必要とするような大きなトラブル発生を未然に防止できて、且つカラーフィルタ基板の全数を検査しても生産性を低下させることのない透明電極の検査方法を提供することを目的とした。【解決手段】透明基板上にカラーフィルタと透明導電膜を形成した後に、前記基板を搬送ライン上に設置された紫外光源と紫外線センサーの間を通過させ、前記透明基板と透明導電膜の積層部分の透過率を測定することで、前記カラーフィルタ上の透明導電膜の有無を判断することを特徴とするインライン透明導電膜検査方法。【選択図】図1
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板上にカラーフィルタと透明導電膜を形成した後に、前記基板を搬送ライン上に設置された紫外光源と紫外線センサーの間を通過させ、前記透明基板と透明導電膜の積層部分の透過率を測定することで、前記カラーフィルタ上の透明導電膜の有無を判断することを特徴とするインライン透明導電膜検査方法。
【請求項２】
４５０ｎｍ近傍及び６００ｎｍ近傍の輝度が高い光源を使用して、前記波長の透過率を測定することを特徴とする請求項１記載のインライン透明導電膜検査方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置用のカラーフィルタ基板に係わり、特には、カラーフィルタ上に形成した透明導電膜の有無をインラインで検査する検査方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
カラー液晶表示装置に使用するカラーフィルタ基板においては、通常カラーフィルタを形成した後、液晶駆動用の電圧を印加するための透明導電膜（以下、ＩＴＯ膜と記す）をスパッタリング法によりカラーフィルタ上にを形成する。
【０００３】
カラーフィルタ製造工程で、ＩＴＯ膜が適正に成膜されているかどうかは確実に管理する必要がある。しかし、ＩＴＯ膜がカラーフィルタ上の所望の部位に膜付けされ、その膜厚が、カラーフィルタ上で所望の範囲に収まっているか否かを、製造した全てのカラーフィルタ基板について、特に大面積のカラーフィルタ基板について検査して確認することは、生産性の著しい低下を伴い、実際問題としてもＩＴＯ膜製造工程の安定性から必要がないと考えられる。
【０００４】
そこで、一般にはカラーフィルタ基板を適切なタイミングで抜き取り検査を実施して、異常が見出されれば、詳しい検査を実施することで、異常発生の原因を特定して原状回復することが行われる（特許文献1参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００３−２６２５６６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、ＩＴＯ成膜を成膜した後の抜き取り検査だけでは、仮に抜き取り検査で異常が検出されると、当該抜き取り検査前後に製造された相当数のカラーフィルタ基板について精密な再検査を実施する必要が出てくる。こうなると、生産性を維持するために、一般に単位時間当たりの処理枚数が低く非常に高額なＩＴＯ検査装置を、予め相当数常備しておく必要性がある。あるいは生産性を維持するために、ＩＴＯ膜の被検査ポイントを絞るようなことが生じ得る。
そこで本発明は、抜き取り検査時点を含む一定の時間幅に製造されたカラーフィルタ基板の全数検査を必要とするような大きなトラブル発生を未然に防止できて、且つカラーフィルタ基板の全数を検査しても生産性を低下させることのないＩＴＯ膜検査方法を提供することを目的とした。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を達成するための請求項１に記載の発明は、透明基板上にカラーフィルタと透明導電膜を形成した後に、前記基板を搬送ライン上に設置された紫外光源と紫外線センサーの間を通過させ、前記透明基板と透明導電膜の積層部分の透過率を測定することで、前記カラーフィルタ上の透明導電膜の有無を判断することを特徴とするインライン透明導電膜検査方法としたものである。
【０００８】
また、請求項２に記載の発明は、４５０ｎｍ近傍と６００ｎｍ近傍の輝度が高い光源を使用して、前記波長の透過率を測定することを特徴とする請求項１記載のインライン透明導電膜検査方法としたものである。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、透過率測定という簡便な手法により、カラーフィルタ基板周辺部と多面付けされたカラーフィルタとして有効な部分以外の内側のつなぎ部分の透明基板と透明電極の積層部分の透過率を多数ポイント測定することができる。
したがって、透明電極がカラーフィルタ上にも同じように形成されたか否かについての確かな情報を得ることができる。
また、透過率測定は測定信頼性が高く短時間で測定でき装置構成も簡単であるため、検査に多大のコストを費やすことがなく、カラーフィルタ製造工程にインライン方式で導入してもカラーフィルタ基板の生産性を下げることがない。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】カラーフィルタ基板と発光光源と紫外線センサー配置の一例を説明する上面視図。
【図２】透明電極の膜厚と透過率の波長依存性の一例を説明する図。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
図１に示すように、透過率を測定するための紫外〜可視領域の発光光源２１，２２，２３と光センサー３は、透明電極の膜付けが終わったカラーフィルタ基板４を次工程に搬送する基板搬送部１の適切な位置、特にカラーフィルタ基板４が一旦停止する箇所に設置するのが望ましい。
発光光源２１，２２，２３と光センサー３はカラーフィルタ基板４を挟んで、搬送方向と垂直方向にライン上に複数設置して、面付け位置、監視必要箇所の数等に応じて選択して使用するのが望ましい。発光光源は幅広く紫外領域をカバーする光源２１、４５０ｎｍの可視光源２２、６００ｎｍの可視光源２３と複数設置するのが好ましい。単一の波長だけでは膜厚測定の信頼性に欠ける場合があるので、少なくとも２つ以上の波長を併用して膜厚計算をするのが好ましい。測定する位置は、カラーフィルタが形成された部分以外であることが望ましい。
尚、図１では、光センサーはカラーフィルタ基板の裏面側に光源と対応して設置してあり、分かりやすくするためにずれた破線で示してある。
【００１２】
図２は、透明電極の膜厚と透過率の波長依存性の一例を説明する図である。
例えば、透明電極の所望の膜厚が１３００Å近辺かどうかを監視する場合は、４５０ｎｍの波長では透過率が９５％〜９７％の範囲、６００ｎｍでは透過率が９１％〜９３％の範囲にあるか否かで判断できる。所望の膜厚が１７００Å近辺かどうかを監視する場合は、４５０ｎｍの波長では透過率が８４％〜８６％の範囲、６００ｎｍでは透過率が９６％〜９８％の範囲にあるか否か等で判断する。求める透過率の範囲は、透明電極の膜質あるいは膜厚の許容公差に依存するから、スパッタリング装置のターゲット交換ごとに、図２で示す透明電極の膜厚と透過率の波長依存性を測定し、予め算出しておくのが望ましい。
【００１３】
３００ｎｍ以下の紫外線透過率は、透明電極はガラスなどの透明基板に比較して十分低くなるので、リファレンスとして、透明基板を使用すれば透明電極の有無については信頼性の高い情報を得ることができる。したがって、透明電極の有無だけであれば紫外線の透過率だけで迅速に調べることが可能である。
【符号の説明】
【００１４】
１、基板搬送部
２、発光光源
２１、紫外線
２２、４５０ｎｍ
２３、６００ｎｍ
３、光センサー
４、カラーフィルタ基板
【図１】
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【図２】
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