(57)【要約】【課題】基板を搭載したチャックをステージにより移動して、光ビームによる基板の走査を行う際に、ステージの走行誤差による描画品質の低下を防止する。【解決手段】フォトレジストが塗布された基板１をチャック１０に搭載し、Ｘステージ５によりチャック１０を移動しながら、光ビーム照射装置２０からの光ビームにより基板１を走査して、基板１にパターンを描画する。光ビーム照射装置２０を走査方向と直交する方向へ移動するＹステージ７を設け、Ｘステージ５により、チャック１０を走査方向へ移動しながら、チャック１０に搭載された基板１の走査方向と直交する方向の変位を検出し、検出結果に基づき、Ｙステージ７により、光ビーム照射装置１０を基板１の変位に合わせて走査方向と直交する方向へ移動する。Ｘステージ５に横揺れやヨーイング等の走行誤差が発生しても、パターンの描画が精度良く行われる。【選択図】図１
2010197750.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フォトレジストが塗布された基板を搭載するチャックと、
前記チャックを移動する第１のステージと、
前記チャックに搭載された基板へ光ビームを照射する光ビーム照射装置とを備え、
前記第１のステージにより前記チャックを移動しながら、前記光ビーム照射装置からの光ビームにより基板を走査して、基板にパターンを描画する露光装置であって、
前記光ビーム照射装置を走査方向と直交する方向へ移動する第２のステージと、
前記チャックに搭載された基板の走査方向と直交する方向の変位を検出する検出手段と、
前記第１のステージにより、前記チャックを走査方向へ移動させながら、前記検出手段の検出結果に基づき、前記第２のステージにより、前記光ビーム照射装置を基板の変位に合わせて走査方向と直交する方向へ移動させる制御手段とを備えたことを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記検出手段は、
前記第１のステージにより走査方向へ移動される前記チャックの上方に設けられ、基板の走査方向に設けた検出用マークの画像を取得して、画像信号を出力する画像取得装置と、
前記画像取得装置が出力した画像信号を処理して、基板の走査方向と直交する方向の変位を検出する検出回路とを有することを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記制御手段は、前記第２のステージにより、前記光ビーム照射装置を走査方向と直交する方向へ移動させて、前記光ビーム照射装置からの光ビームによる走査領域を変更することを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の露光装置。
【請求項４】
フォトレジストが塗布された基板をチャックに搭載し、第１のステージによりチャックを移動しながら、光ビーム照射装置からの光ビームにより基板を走査して、基板にパターンを描画する露光方法であって、
光ビーム照射装置を走査方向と直交する方向へ移動する第２のステージを設け、
第１のステージにより、チャックを走査方向へ移動しながら、チャックに搭載された基板の走査方向と直交する方向の変位を検出し、検出結果に基づき、第２のステージにより、光ビーム照射装置を基板の変位に合わせて走査方向と直交する方向へ移動することを特徴とする露光方法。
【請求項５】
第１のステージにより走査方向へ移動されるチャックの上方に設けた画像取得装置により、基板の走査方向に設けた検出用マークの画像を取得し、
画像取得装置が出力した画像信号を処理して、基板の走査方向と直交する方向の変位を検出することを特徴とする請求項４に記載の露光方法。
【請求項６】
第２のステージにより、光ビーム照射装置を走査方向と直交する方向へ移動して、光ビーム照射装置からの光ビームによる走査領域を変更することを特徴とする請求項４又は請求項５に記載の露光方法。
【請求項７】
請求項１乃至請求項３のいずれか一項に記載の露光装置を用いて基板の露光を行うことを特徴とする表示用パネル基板の製造方法。
【請求項８】
請求項４乃至請求項６のいずれか一項に記載の露光方法を用いて基板の露光を行うことを特徴とする表示用パネル基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶ディスプレイ装置等の表示用パネル基板の製造において、フォトレジストが塗布された基板へ光ビームを照射し、光ビームにより基板を走査して、基板にパターンを描画する露光装置、露光方法、及びそれらを用いた表示用パネル基板の製造方法に係り、特に基板を搭載したチャックをステージにより移動して、光ビームによる基板の走査を行う露光装置、露光方法、及びそれらを用いた表示用パネル基板の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
表示用パネルとして用いられる液晶ディスプレイ装置のＴＦＴ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）基板やカラーフィルタ基板、プラズマディスプレイパネル用基板、有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）表示パネル用基板等の製造は、露光装置を用いて、フォトリソグラフィー技術により基板上にパターンを形成して行われる。露光装置としては、従来、レンズ又は鏡を用いてマスクのパターンを基板上に投影するプロジェクション方式と、マスクと基板との間に微小な間隙（プロキシミティギャップ）を設けてマスクのパターンを基板へ転写するプロキシミティ方式とがあった。
【０００３】
近年、フォトレジストが塗布された基板へ光ビームを照射し、光ビームにより基板を走査して、基板にパターンを描画する露光装置が開発されている。光ビームにより基板を走査して、基板にパターンを直接描画するため、高価なマスクが不要となる。また、描画データ及び走査のプログラムを変更することにより、様々な種類の表示用パネル基板に対応することができる。この様な露光装置として、例えば、特許文献１、特許文献２、及び特許文献３に記載のものがある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００３−３３２２２１号公報
【特許文献２】特開２００５−３５３９２７号公報
【特許文献３】特開２００７−２１９０１１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
光ビームによる基板の走査は、基板と光ビームとを相対的に移動して行われるが、精密な光学系を含む光ビーム照射装置を固定し、基板を搭載したチャックをステージにより移動して行うのが一般的である。その際、ステージに横揺れやヨーイング等の走行誤差が発生して、チャックに搭載された基板の移動経路がずれると、光ビーム照射装置からの光ビームにより描画されるパターンがずれるので、パターンの描画が精度良く行われず、描画品質が低下するという問題があった。
【０００６】
本発明の課題は、基板を搭載したチャックをステージにより移動して、光ビームによる基板の走査を行う際に、ステージの走行誤差による描画品質の低下を防止することである。また、本発明の課題は、高品質な表示用パネル基板を製造することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の露光装置は、フォトレジストが塗布された基板を搭載するチャックと、チャックを移動する第１のステージと、チャックに搭載された基板へ光ビームを照射する光ビーム照射装置とを備え、第１のステージによりチャックを移動しながら、光ビーム照射装置からの光ビームにより基板を走査して、基板にパターンを描画する露光装置であって、光ビーム照射装置を走査方向と直交する方向へ移動する第２のステージと、チャックに搭載された基板の走査方向と直交する方向の変位を検出する検出手段と、第１のステージにより、チャックを走査方向へ移動させながら、検出手段の検出結果に基づき、第２のステージにより、光ビーム照射装置を基板の変位に合わせて走査方向と直交する方向へ移動させる制御手段とを備えたものである。
【０００８】
また、本発明の露光方法は、フォトレジストが塗布された基板をチャックに搭載し、第１のステージによりチャックを移動しながら、光ビーム照射装置からの光ビームにより基板を走査して、基板にパターンを描画する露光方法であって、光ビーム照射装置を走査方向と直交する方向へ移動する第２のステージを設け、第１のステージにより、チャックを走査方向へ移動しながら、チャックに搭載された基板の走査方向と直交する方向の変位を検出し、検出結果に基づき、第２のステージにより、光ビーム照射装置を基板の変位に合わせて走査方向と直交する方向へ移動するものである。
【０００９】
光ビーム照射装置を走査方向と直交する方向へ移動する第２のステージを設け、第１のステージにより、チャックを走査方向へ移動しながら、チャックに搭載された基板の走査方向と直交する方向の変位を検出し、検出結果に基づき、第２のステージにより、光ビーム照射装置を基板の変位に合わせて走査方向と直交する方向へ移動するので、基板を搭載したチャックを移動する第１のステージに横揺れやヨーイング等の走行誤差が発生しても、パターンの描画が精度良く行われる。
【００１０】
さらに、本発明の露光装置は、検出手段が、第１のステージにより走査方向へ移動されるチャックの上方に設けられ、基板の走査方向に設けた検出用マークの画像を取得して、画像信号を出力する画像取得装置と、画像取得装置が出力した画像信号を処理して、基板の走査方向と直交する方向の変位を検出する検出回路とを有するものである。また、本発明の露光方法は、第１のステージにより走査方向へ移動されるチャックの上方に設けた画像取得装置により、基板の走査方向に設けた検出用マークの画像を取得し、画像取得装置が出力した画像信号を処理して、基板の走査方向と直交する方向の変位を検出するものである。基板の走査方向に設けた検出用マークを用いて、画像処理により、基板の走査方向と直交する方向の変位が精度良く検出される。
【００１１】
さらに、本発明の露光装置は、制御手段が、第２のステージにより、光ビーム照射装置を走査方向と直交する方向へ移動させて、光ビーム照射装置からの光ビームによる走査領域を変更するものである。また、本発明の露光方法は、第２のステージにより、光ビーム照射装置を走査方向と直交する方向へ移動して、光ビーム照射装置からの光ビームによる走査領域を変更するものである。基板全体の走査を行うために、第１のステージが基板を搭載したチャックを走査方向と直交する方向へ移動する必要がなく、露光装置の走査方向と直交する方向の寸法が小さくなる。
【００１２】
本発明の表示用パネル基板の製造方法は、上記のいずれかの露光装置又は露光方法を用いて基板の露光を行うものである。上記の露光装置又は露光方法を用いることにより、パターンの描画が精度良く行われるので、高品質な表示用パネル基板が製造される。
【発明の効果】
【００１３】
本発明の露光装置及び露光方法によれば、光ビーム照射装置を走査方向と直交する方向へ移動する第２のステージを設け、第１のステージにより、チャックを走査方向へ移動しながら、チャックに搭載された基板の走査方向と直交する方向の変位を検出し、検出結果に基づき、第２のステージにより、光ビーム照射装置を基板の変位に合わせて走査方向と直交する方向へ移動することにより、基板を搭載したチャックを移動する第１のステージに横揺れやヨーイング等の走行誤差が発生しても、パターンの描画を精度良く行うことができる。従って、基板を搭載したチャックをステージにより移動して、光ビームによる基板の走査を行う際に、ステージの走行誤差による描画品質の低下を防止することができる。
【００１４】
さらに、本発明の露光装置及び露光方法によれば、第１のステージにより走査方向へ移動されるチャックの上方に設けた画像取得装置により、基板の走査方向に設けた検出用マークの画像を取得し、画像取得装置が出力した画像信号を処理して、基板の走査方向と直交する方向の変位を検出することにより、基板の走査方向に設けた検出用マークを用いて、画像処理により、基板の走査方向と直交する方向の変位を精度良く検出することができる。
【００１５】
さらに、本発明の露光装置及び露光方法によれば、第２のステージにより、光ビーム照射装置を走査方向と直交する方向へ移動して、光ビーム照射装置からの光ビームによる走査領域を変更することにより、基板全体の走査を行うために、第１のステージが基板を搭載したチャックを走査方向と直交する方向へ移動する必要がなく、露光装置の走査方向と直交する方向の寸法を小さくすることができる。
【００１６】
本発明の表示用パネル基板の製造方法によれば、パターンの描画を精度良く行うことができるので、高品質な表示用パネル基板を製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本発明の一実施の形態による露光装置の概略構成を示す図である。
【図２】本発明の一実施の形態による露光装置の側面図である。
【図３】本発明の一実施の形態による露光装置の正面図である。
【図４】光ビーム照射装置の概略構成を示す図である。
【図５】レーザー測長系の動作を説明する図である。
【図６】基板を搭載したチャックの上面図である。
【図７】チャック及び光ビーム照射装置の側面図である。
【図８】チャック及び光ビーム照射装置の正面図である。
【図９】描画制御部の概略構成を示す図である。
【図１０】光ビームによる基板の走査を説明する図である。
【図１１】光ビームによる基板の走査を説明する図である。
【図１２】光ビームによる基板の走査を説明する図である。
【図１３】光ビームによる基板の走査を説明する図である。
【図１４】液晶ディスプレイ装置のＴＦＴ基板の製造工程の一例を示すフローチャートである。
【図１５】液晶ディスプレイ装置のカラーフィルタ基板の製造工程の一例を示すフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
図１は、本発明の一実施の形態による露光装置の概略構成を示す図である。また、図２は本発明の一実施の形態による露光装置の側面図、図３は本発明の一実施の形態による露光装置の正面図である。露光装置は、ベース３、Ｘガイド４、Ｘステージ５、Ｙガイド６、Ｙステージ７、θステージ８、チャック１０、ゲート１１、光ビーム照射装置２０、リニアスケール３１、エンコーダ３２、レーザー測長系、レーザー測長系制御装置４０、ＣＣＤカメラ５０、基板変位検出回路５１、ステージ駆動回路６０，６１、及び主制御装置７０を含んで構成されている。なお、図２及び図３では、レーザー測長系のレーザー光源４１、レーザー測長系制御装置４０、基板変位検出回路５１、ステージ駆動回路６０，６１、及び主制御装置７０が省略されている。露光装置は、これらの他に、基板搬送ロボット、装置内の温度管理を行う温度制御ユニット等を備えている。
【００１９】
なお、以下に説明する実施の形態におけるＸＹ方向は例示であって、Ｘ方向とＹ方向とを入れ替えてもよい。
【００２０】
図１及び図２において、チャック１０は、基板１の受け渡しを行う受け渡し位置にある。受け渡し位置において、図示しない基板搬送ロボットにより基板１がチャック１０へ搬入され、また図示しない基板搬送ロボットにより基板１がチャック１０から搬出される。チャック１０は、基板１の裏面を真空吸着して支持する。基板１の表面には、フォトレジストが塗布されている。
【００２１】
基板１の露光を行う露光位置の上空に、ベース３をまたいでゲート１１が設けられている。ゲート１１には、複数の光ビーム照射装置２０が搭載されている。なお、本実施の形態は、８つの光ビーム照射装置２０を用いた露光装置の例を示しているが、光ビーム照射装置の数はこれに限らず、７つ以下又は９つ以上の光ビーム照射装置を用いてもよい。
【００２２】
図４は、光ビーム照射装置の概略構成を示す図である。光ビーム照射装置２０は、光ファイバー２２、レンズ２３、ミラー２４、ＤＭＤ（Ｄｉｇｉｔａｌ  Ｍｉｃｒｏｍｉｒｒｏｒ  Ｄｅｖｉｃｅ）２５、投影レンズ２６、及びＤＭＤ駆動回路２７を含んで構成されている。光ファイバー２２は、レーザー光源ユニット２１から発生された紫外光の光ビームを、光ビーム照射装置２０内へ導入する。光ファイバー２２から射出された光ビームは、レンズ２３及びミラー２４を介して、ＤＭＤ２５へ照射される。ＤＭＤ２５は、光ビームを反射する複数の微小なミラーを二方向に配列して構成された空間的光変調器であり、各ミラーの角度を変更して光ビームを変調する。ＤＭＤ２５により変調された光ビームは、投影レンズ２６を含むヘッド部２０ａから照射される。ＤＭＤ駆動回路２７は、主制御装置７０から供給された描画データに基づいて、ＤＭＤ２５の各ミラーの角度を変更する。
【００２３】
図２及び図３において、チャック１０は、θステージ８に搭載されており、θステージ８の下にはＸステージ５が設けられている。Ｘステージ５は、ベース３に設けられたＸガイド４に搭載され、Ｘガイド４に沿ってＸ方向へ移動する。θステージ８は、Ｘステージ５に搭載され、θ方向へ回転する。Ｘステージ５及びθステージ８には、図示しないボールねじ等の駆動機構が設けられており、各駆動機構は、図１のステージ駆動回路６０により駆動される。一方、各光ビーム照射装置２０は、Ｙステージ７に搭載されている。Ｙステージ７は、ゲート１１に設けられたＹガイド６に搭載され、Ｙガイド６に沿ってＹ方向へ移動する。Ｙステージ７には、図示しないボールねじ等の駆動機構が設けられており、駆動機構は、図１のステージ駆動回路６１により駆動される。
【００２４】
θステージ８のθ方向への回転により、チャック１０に搭載された基板１は、直交する二辺がＸ方向及びＹ方向へ向く様に回転される。Ｘステージ５のＸ方向への移動により、チャック１０は、受け渡し位置と露光位置との間を移動される。露光位置において、Ｘステージ５のＸ方向への移動により、各光ビーム照射装置２０のヘッド部２０ａから照射された光ビームが、基板１をＸ方向へ走査する。また、Ｙステージ７のＹ方向への移動により、各光ビーム照射装置２０のヘッド部２０ａから照射された光ビームによる基板１の走査領域が、Ｙ方向へ移動される。図１において、主制御装置７０は、ステージ駆動回路６０を制御して、θステージ８のθ方向へ回転、及びＸステージ５のＸ方向への移動を行う。また、主制御装置７０は、ステージ駆動回路６１を制御して、Ｙステージ７のＹ方向への移動を行う。
【００２５】
図１及び図２において、ベース３には、Ｘ方向へ伸びるリニアスケール３１が設置されている。リニアスケール３１には、Ｘステージ５のＸ方向への移動量を検出するための目盛が付けられている。図１及び図３において、Ｘステージ５の一側面には、リニアスケール３１に対向して、エンコーダ３２が取り付けられている。エンコーダ３２は、リニアスケール３１の目盛を検出して、パルス信号を主制御装置７０へ出力する。主制御装置７０は、エンコーダ３２のパルス信号をカウントして、Ｘステージ５のＸ方向への移動量を検出する。
【００２６】
図５は、レーザー測長系の動作を説明する図である。なお、図５においては、図１に示した基板変位検出回路５１が省略されている。レーザー測長系は、公知のレーザー干渉式の測長系であって、レーザー光源４１、レーザー干渉計４２，４４、及びバーミラー４３，４５を含んで構成されている。バーミラー４３は、チャック１０のＹ方向の一側面に取り付けられている。また、バーミラー４５は、Ｙステージ７のＸ方向の一側面に取り付けられている。
【００２７】
レーザー干渉計４２は、レーザー光源４１からのレーザー光をバーミラー４３へ照射し、バーミラー４３により反射されたレーザー光を受光して、レーザー光源４１からのレーザー光とバーミラー４３により反射されたレーザー光との干渉を測定する。この測定は、Ｙ方向の２箇所で行う。レーザー測長系制御装置４０は、主制御装置７０の制御により、レーザー干渉計４２の測定結果から、Ｘステージ５により移動されるチャック１０のＸ方向の位置及び回転を検出する。
【００２８】
一方、レーザー干渉計４４は、レーザー光源４１からのレーザー光をバーミラー４５へ照射し、バーミラー４５により反射されたレーザー光を受光して、レーザー光源４１からのレーザー光とバーミラー４５により反射されたレーザー光との干渉を測定する。レーザー測長系制御装置４０は、主制御装置７０の制御により、レーザー干渉計４４の測定結果から、Ｙステージ７のＹ方向の位置を検出する。
【００２９】
図６は、基板を搭載したチャックの上面図である。また、図７はチャック及び光ビーム照射装置の側面図、図８はチャック及び光ビーム照射装置の正面図である。図６に示す様に、チャック１０に搭載された基板１の表面の隅には、光ビーム照射装置２０からの光ビームによる基板１の走査方向（Ｘ方向）に伸びる基板変位検出用マーク１２が形成されている。図７及び図８に示す様に、ゲート１１には、基板１の基板変位検出用マーク１２の画像を取得するＣＣＤカメラ５０が取り付けられている。
【００３０】
以下、本実施の形態による露光装置の動作を説明する。図１において、主制御装置７０は、ステージ駆動回路６０を制御して、Ｘステージ５により、チャック１０を露光位置へ移動させる。露光位置において、光ビーム照射装置２０からの光ビームにより基板１の走査を行う際、主制御装置７０は、ステージ駆動回路６０を制御して、Ｘステージ５により、チャック１０をＸ方向へ移動させる。その際、Ｘステージ５に横揺れやヨーイング等の走行誤差が発生すると、チャック１０に搭載された基板１が、Ｘ方向へ移動しながらＹ方向へ変位する。
【００３１】
図７及び図８において、ゲート１１に設けられたＣＣＤカメラ５０は、基板１に設けられた基板変位検出用マーク１２の画像を取得し、画像信号を図１の基板変位検出回路５１へ出力する。図１において、基板変位検出回路５１は、ＣＣＤカメラ５０の画像信号を処理し、検出した基板変位検出用マーク１２の画像を予め用意した正しい位置にある基板変位検出用マークの画像と比較して、基板１のＹ方向の変位を検出する。主制御装置７０は、基板変位検出回路５１が検出した基板１のＹ方向の変位に基づき、ステージ駆動回路６１を制御して、Ｙステージ７により、光ビーム照射装置２０を基板１の変位に合わせてＹ方向へ移動させる。
【００３２】
光ビーム照射装置２０を走査方向と直交する方向へ移動するＹステージ７を設け、Ｘステージ５により、チャック１０を走査方向へ移動しながら、チャック１０に搭載された基板１の走査方向と直交する方向の変位を検出し、検出結果に基づき、Ｙステージ７により、光ビーム照射装置２０を基板１の変位に合わせて走査方向と直交する方向へ移動するので、基板１を搭載したチャック１０を移動するＸステージ５に横揺れやヨーイング等の走行誤差が発生しても、パターンの描画が精度良く行われる。
【００３３】
さらに、Ｘステージ５により走査方向へ移動されるチャック１０の上方に設けたＣＣＤカメラ５０により、基板１の走査方向に設けた基板変位検出用マーク１２の画像を取得し、ＣＣＤカメラ５０が出力した画像信号を処理して、基板１の走査方向と直交する方向の変位を検出するので、基板１の走査方向に設けた基板変位検出用マーク１２を用いて、画像処理により、基板１の走査方向と直交する方向の変位が精度良く検出される。
【００３４】
基板１の走査領域を移動する際、主制御装置７０は、ステージ駆動回路６１を制御して、Ｙステージ７により各光ビーム照射装置２０をＹ方向へ移動させる。Ｙステージ７により、光ビーム照射装置２０を走査方向と直交する方向へ移動して、光ビーム照射装置２０からの光ビームによる走査領域を変更するので、基板１全体の走査を行うために、Ｘステージ５が基板１を搭載したチャック１０を走査方向と直交する方向へ移動する必要がなく、露光装置の走査方向と直交する方向の寸法が小さくなる。
【００３５】
図１において、主制御装置７０は、光ビーム照射装置２０のＤＭＤ駆動回路２７へ描画データを供給する描画制御部を有する。図９は、描画制御部の概略構成を示す図である。描画制御部７１は、メモリ７２、バンド幅設定部７３、中心点座標決定部７４、及び座標決定部７５を含んで構成されている。メモリ７２は、各光ビーム照射装置２０のＤＭＤ駆動回路２７へ供給する描画データを、そのＸＹ座標をアドレスとして記憶している。
【００３６】
バンド幅設定部７３は、メモリ７２から読み出す描画データのＹ座標の範囲を決定することにより、光ビーム照射装置２０のヘッド部２０ａから照射される光ビームのＹ方向のバンド幅を設定する。
【００３７】
レーザー測長系制御装置４０は、露光位置における基板１の露光を開始する前のチャック１０のＸ方向の位置、及び光ビーム照射装置２０を搭載したＹステージ７のＹ方向の位置を検出する。中心点座標決定部７４は、レーザー測長系制御装置４０が検出したチャック１０のＸ方向の位置から、基板１の露光を開始する前のチャック１０の中心点のＸ座標を決定する。そして、中心点座標決定部７４は、エンコーダ３２からのパルス信号をカウントして、Ｘステージ５のＸ方向への移動量を検出し、チャック１０の中心点のＸ座標を決定する。また、中心点座標決定部７４は、レーザー測長系制御装置４０が検出したＹステージ７のＹ方向の位置から、Ｙステージ７の中心点のＹ座標を決定する。
【００３８】
座標決定部７５は、中心点座標決定部７４が決定したチャック１０の中心点のＸ座標とＹステージ７の中心点のＹ座標とに基づき、各光ビーム照射装置２０のＤＭＤ駆動回路２７へ供給する描画データのＸＹ座標を決定する。メモリ７２は、座標決定部７５が決定したＸＹ座標をアドレスとして入力し、入力したＸＹ座標のアドレスに記憶された描画データを、各光ビーム照射装置２０のＤＭＤ駆動回路２７へ出力する。
【００３９】
図１０〜図１３は、光ビームによる基板の走査を説明する図である。図１０〜図１３は、８つの光ビーム照射装置２０からの８本の光ビームにより、基板１のＸ方向の走査を４回行って、基板１全体を走査する例を示している。図１０〜図１３においては、各光ビーム照射装置２０のヘッド部２０ａが破線で示されている。各光ビーム照射装置２０のヘッド部２０ａから照射された光ビームは、Ｙ方向にバンド幅Ｗを有し、Ｘステージ５のＸ方向への移動によって、基板１を矢印で示す方向へ走査する。
【００４０】
図１０は、１回目の走査を示し、Ｘ方向への１回目の走査により、図１０に灰色で示す走査領域でパターンの描画が行われる。１回目の走査が終了すると、Ｙステージ７のＹ方向への移動により、光ビーム照射装置２０のヘッド部２０ａがＹ方向へバンド幅Ｗと同じ距離だけ移動される。図１１は、２回目の走査を示し、Ｘ方向への２回目の走査により、図１１に灰色で示す走査領域でパターンの描画が行われる。２回目の走査が終了すると、Ｙステージ７のＹ方向への移動により、光ビーム照射装置２０のヘッド部２０ａがＹ方向へバンド幅Ｗと同じ距離だけ移動される。図１２は、３回目の走査を示し、Ｘ方向への３回目の走査により、図１２に灰色で示す走査領域でパターンの描画が行われる。３回目の走査が終了すると、Ｙステージ７のＹ方向への移動により、光ビーム照射装置２０のヘッド部２０ａがＹ方向へバンド幅Ｗと同じ距離だけ移動される。図１３は、４回目の走査を示し、Ｘ方向への４回目の走査により、図１３に灰色で示す走査領域でパターンの描画が行われ、基板１全体の走査が終了する。
【００４１】
複数の光ビーム照射装置２０からの複数の光ビームにより基板１を走査する際も、各光ビーム照射装置２０からの光ビームにより描画されるパターンがＸステージ５の走行誤差により互いにずれるのを防止することができるので、パターンの描画を精度良く行うことができる。そして、複数の光ビーム照射装置２０からの複数の光ビームにより基板１の走査を並行して行うことにより、基板１全体の走査に掛かる時間を短くすることができ、タクトタイムを短縮することができる。
【００４２】
なお、図１０〜図１３では、基板１のＸ方向の走査を４回行って、基板１全体を走査する例を示したが、走査の回数はこれに限らず、基板１のＸ方向の走査を３回以下又は５回以上行って、基板１全体を走査してもよい。
【００４３】
以上説明した実施の形態によれば、光ビーム照射装置２０を走査方向と直交する方向へ移動するＹステージ７を設け、Ｘステージ５により、チャック１０を走査方向へ移動しながら、チャック１０に搭載された基板１の走査方向と直交する方向の変位を検出し、検出結果に基づき、Ｙステージ７により、光ビーム照射装置２０を基板１の変位に合わせて走査方向と直交する方向へ移動することにより、基板１を搭載したチャック１０を移動するＸステージ５に横揺れやヨーイング等の走行誤差が発生しても、パターンの描画を精度良く行うことができる。従って、基板を搭載したチャックをステージにより移動して、光ビームによる基板の走査を行う際に、ステージの走行誤差による描画品質の低下を防止することができる。
【００４４】
さらに、以上説明した実施の形態によれば、Ｘステージ５により走査方向へ移動されるチャック１０の上方に設けたＣＣＤカメラ５０により、基板１の走査方向に設けた基板変位検出用マーク１２の画像を取得し、ＣＣＤカメラ５０が出力した画像信号を処理して、基板１の走査方向と直交する方向の変位を検出することにより、基板１の走査方向に設けた基板変位検出用マーク１２を用いて、画像処理により、基板１の走査方向と直交する方向の変位を精度良く検出することができる。
【００４５】
さらに、以上説明した実施の形態によれば、Ｙステージ７により、光ビーム照射装置２０を走査方向と直交する方向へ移動して、光ビーム照射装置２０からの光ビームによる走査領域を変更することにより、基板１全体の走査を行うために、Ｘステージ５が基板１を搭載したチャック１０を走査方向と直交する方向へ移動する必要がなく、露光装置の走査方向と直交する方向の寸法を小さくすることができる。
【００４６】
本発明の露光装置又は露光方法を用いて基板の露光を行うことにより、パターンの描画を精度良く行うことができるので、高品質な表示用パネル基板を製造することができる。
【００４７】
例えば、図１４は、液晶ディスプレイ装置のＴＦＴ基板の製造工程の一例を示すフローチャートである。薄膜形成工程（ステップ１０１）では、スパッタ法やプラズマ化学気相成長（ＣＶＤ）法等により、基板上に液晶駆動用の透明電極となる導電体膜や絶縁体膜等の薄膜を形成する。レジスト塗布工程（ステップ１０２）では、ロール塗布法等によりフォトレジストを塗布して、薄膜形成工程（ステップ１０１）で形成した薄膜上にフォトレジスト膜を形成する。露光工程（ステップ１０３）では、露光装置を用いて、フォトレジスト膜にパターンを形成する。現像工程（ステップ１０４）では、シャワー現像法等により現像液をフォトレジスト膜上に供給して、フォトレジスト膜の不要部分を除去する。エッチング工程（ステップ１０５）では、ウエットエッチングにより、薄膜形成工程（ステップ１０１）で形成した薄膜の内、フォトレジスト膜でマスクされていない部分を除去する。剥離工程（ステップ１０６）では、エッチング工程（ステップ１０５）でのマスクの役目を終えたフォトレジスト膜を、剥離液によって剥離する。これらの各工程の前又は後には、必要に応じて、基板の洗浄／乾燥工程が実施される。これらの工程を数回繰り返して、基板上にＴＦＴアレイが形成される。
【００４８】
また、図１５は、液晶ディスプレイ装置のカラーフィルタ基板の製造工程の一例を示すフローチャートである。ブラックマトリクス形成工程（ステップ２０１）では、レジスト塗布、露光、現像、エッチング、剥離等の処理により、基板上にブラックマトリクスを形成する。着色パターン形成工程（ステップ２０２）では、印刷法等により、基板上に着色パターンを形成する。この工程を、Ｒ、Ｇ、Ｂの着色パターンについて繰り返す。保護膜形成工程（ステップ２０３）では、着色パターンの上に保護膜を形成し、透明電極膜形成工程（ステップ２０４）では、保護膜の上に透明電極膜を形成する。これらの各工程の前、途中又は後には、必要に応じて、基板の洗浄／乾燥工程が実施される。
【００４９】
図１４に示したＴＦＴ基板の製造工程では、露光工程（ステップ１０３）において、図１５に示したカラーフィルタ基板の製造工程では、着色パターン形成工程（ステップ２０２）の露光処理において、本発明の露光装置又は露光方法を適用することができる。
【符号の説明】
【００５０】
１  基板
３  ベース
４  Ｘガイド
５  Ｘステージ
６  Ｙガイド
７  Ｙステージ
８  θステージ
１０  チャック
１１  ゲート
１２  基板変位検出用マーク
２０  光ビーム照射装置
２０ａ  ヘッド部
２１  レーザー光源ユニット
２２  光ファイバー
２３  レンズ
２４  ミラー
２５  ＤＭＤ（Ｄｉｇｉｔａｌ  Ｍｉｃｒｏｍｉｒｒｏｒ  Ｄｅｖｉｃｅ）
２６  投影レンズ
２７  ＤＭＤ駆動回路
３１  リニアスケール
３２  エンコーダ
４０  レーザー測長系制御装置
４１  レーザー光源
４２，４４  レーザー干渉計
４３，４５  バーミラー
５０  ＣＣＤカメラ
５１  基板変位検出回路
６０，６１  ステージ駆動回路
７０  主制御装置
７１  描画制御部
７２  メモリ
７３  バンド幅設定部
７４  中心点座標決定部
７５  座標決定部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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