(57)【要約】【課題】光照射なしでも抗菌活性を有し、光・放射線・塩素等の薬剤に対して安定で、抗菌効果が低下しないミスト発生装置およびこれを備えた浴室乾燥機を提供することを目的としている。【解決手段】少なくとも暗所で抗菌活性を備えている、ハロゲンを含有する酸化チタン（ＩＶ）を備えたミスト発生装置１とする。ハロゲンを含有する酸化チタン（ＩＶ）を基材に担持した抗菌手段３を水と接触させ、処理液を噴霧手段から浴室内に噴霧することで、浴室内に抗菌作用を発揮させ、清潔な浴室を提供することができる。【選択図】図１
2010214039.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
装置内に水を供給するための給水手段と、供給された水を噴霧する噴霧手段を備えたミスト発生装置であって、前記ミスト発生装置の水と接触する部分にハロゲンを含有する酸化チタン（ＩＶ）からなる抗菌手段を備え、前記抗菌手段は、前記ハロゲンの少なくとも一部が前記酸化チタン（ＩＶ）と化学結合し、かつ、前記抗菌手段と水とが接触して生じた処理液が少なくとも暗所で抗菌作用を発現させるものであり、前記噴霧手段によって前記処理液を噴霧して対象物の表面を抗菌処理することを特徴とするミスト発生装置。
【請求項２】
ハロゲンが、フッ素、塩素、臭素及びヨウ素からなる群から選択される少なくとも一つであることを特徴とする請求項１記載のミスト発生装置。
【請求項３】
ハロゲンがフッ素であり、前記ハロゲン含有酸化チタン（ＩＶ）におけるフッ素の含有量が１．２５重量％以上４．０重量未満％であることを特徴とする請求項１または２に記載のミスト発生装置。
【請求項４】
ハロゲンを含有する酸化チタン（ＩＶ）がアナターゼ型酸化チタンであることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載のミスト発生装置。
【請求項５】
空気を送風する送風手段を備え、前記送風手段により送風した空気中に噴霧手段によって処理液を噴霧することを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載のミスト発生装置。
【請求項６】
空気を加熱する空気加熱手段を備えたことを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載のミスト発生装置。
【請求項７】
給水された水を加熱する熱交換器を備えたことを特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載のミスト発生装置。
【請求項８】
処理液の噴霧温度が３０℃以上６０℃以下であることを特徴とする請求項１乃至７のいずれかに記載のミスト発生装置。
【請求項９】
噴霧された処理液が０．１μｍ以上１００μｍ以下のミストを含むことを特徴とする請求項１乃至８のいずれかに記載のミスト発生装置。
【請求項１０】
抗菌手段は、水と接触する部分にハロゲンを含有する酸化チタン（ＩＶ）を塗布したものであることを特徴とする請求項１乃至９のいずれかに記載のミスト発生装置。
【請求項１１】
抗菌手段は、給水手段と噴霧手段を連通する経路を複数に分岐し、分岐した経路の少なくとも一つに設けられ、処理液の噴霧と処理をしていない水または温水の噴霧をそれぞれ単独で行なえることを特徴とする請求項１乃至１０のいずれかに記載のミスト発生装置。
【請求項１２】
処理液を噴霧したのち、一定時間後に水または温水を噴霧して対象物の表面を洗浄することを特徴とする請求項１１に記載のミスト発生装置。
【請求項１３】
請求項５から１２のミスト発生装置を備えた浴室乾燥機。
【請求項１４】
浴室内の人の存在を検知する人検知手段を備え、前記人検知手段により人を検知したときに噴霧を停止させることを特徴とする請求項１３に記載の浴室乾燥機。
【請求項１５】
温度を検知するための温度センサおよび／または湿度を検知するための湿度センサを備え、カビが繁殖する温度および／または湿度を検知した場合に浴室に処理液を噴霧して浴室内の抗菌防カビ処理を行なうことを特徴とする請求項１３または１４に記載の浴室乾燥機。
【請求項１６】
紫外線を照射する光照射手段を備え、処理液を噴霧したのち、前記光照射手段より紫外線を照射して浴室内を抗菌処理することを特徴とする請求項１３乃至１５のいずれかに記載の浴室乾燥機。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、浴室内に微細水滴を噴霧するミスト発生装置であって、浴室内を抗菌処理するミスト発生装置およびこれを備えた浴室乾燥機に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、この種の噴霧装置として、抗菌作用がある銀イオンを溶出して噴霧する浴室自動洗浄装置が知られている（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
以下、その浴室自動洗浄装置について図８を参照しながら説明する。
【０００４】
図８は、浴室自動洗浄装置１０１の構成であるが、熱交換器１０２に接続された銀イオンを供給する銀イオン供給手段１０３と浴室内に銀イオンを含む湯水を噴射する噴射手段１０４を備えている。銀イオンは電気分解によって固体の銀から溶出させ、電圧を制御することで濃度の調整を行なっている。銀イオン濃度は、浴室内に発生するぬめりを抑制するために必要な濃度として、１ミリリットルあたり２ミリグラムになるように調整されている。この銀イオンを含む湯水を噴射手段１０４であるノズルから浴室内に噴射し、浴室内の壁面などの抗菌を行なうというものである。
【特許文献１】特開２００７−２７１１２７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献１に記載の従来のミスト発生装置は、銀等の殺菌効果のある材料を水中に溶解して浴室内に噴霧することによって、浴室内に発生するカビや雑菌が繁殖の繁殖を防いでいるものの、光または放射線の存在下で銀等の金属が還元され、金属銀として黒色に変色し、抗菌作用も低下するという課題があった。また、水道水に含まれる塩素等の成分と反応して塩化銀などの化合物を形成し、抗菌作用が低下するという課題があった。
【０００６】
本発明は、このような従来の課題を解決するものであり、光・放射線・塩素等の薬剤に対して安定で、抗菌効果が低下しないミスト発生装置およびこれを備えた浴室乾燥機を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明のミスト発生装置は、上記目的を達成するために、装置内に水を供給するための給水手段と、供給された水を噴霧する噴霧手段を備えたミスト発生装置であって、前記ミスト発生装置の水と接触する部分にハロゲンを含有する酸化チタン（ＩＶ）からなる抗菌手段を備え、前記抗菌手段は、前記ハロゲンの少なくとも一部が前記酸化チタン（ＩＶ）と化学結合し、かつ、前記抗菌手段と水とが接触して生じた処理液が少なくとも暗所で抗菌作用を発現させるものであり、前記噴霧手段によって前記処理液を噴霧して対象物の表面を抗菌処理することを特徴としたものである。
【０００８】
これにより、ハロゲンと化学結合した酸化チタン（ＩＶ）を含むため、例えば、従来、暗所でも抗菌活性を示すとされている銀、銅、亜鉛等の金属等を含まなくても、暗所において抗菌活性を発現することができる。また、金属メッキや、金属等を含む抗菌剤のように使用環境における塩素や紫外線の影響で金属が析出して抗菌作用が低下する恐れがないという効果を得ることができる。化学結合がイオン結合である場合は、ハロゲンと酸化チタン（ＩＶ）とが強固に結合し、酸化チタン（ＩＶ）が暗所で抗菌性を発揮し、抗菌性を持続させることができるため、例えば、抗菌活性を向上させたミスト発生装置を提供することができる。
【０００９】
また、他の手段は、ハロゲンが、フッ素、塩素、臭素及びヨウ素からなる群から選択される少なくとも一つであることを特徴としたものである。
【００１０】
これにより、安定的に抗菌活性を発現することができるミスト発生装置を提供することができる。
【００１１】
また、他の手段は、ハロゲンがフッ素であり、前記ハロゲン含有酸化チタン（ＩＶ）におけるフッ素の含有量が１．２５重量％以上４．０重量未満％であることを特徴としたものである。
【００１２】
これにより、酸化チタン（ＩＶ）が暗所で抗菌性をもつために十分な濃度とすることができ、高い抗菌活性を得ることができるミスト発生装置を提供することができる。
【００１３】
また、他の手段は、ハロゲンを含有する酸化チタン（ＩＶ）がアナターゼ型酸化チタンであることを特徴としたものである。
【００１４】
これにより、外光や照明などに含まれる紫外線によって光触媒活性が得られるため、菌やカビを殺菌するのみならず、菌体や毒素まで分解して清潔性がさらに高い空間を作るミスト発生装置を提供することができる。
【００１５】
また、他の手段は、空気を送風する送風手段を備え、前記送風手段により送風した空気中に噴霧手段によって処理液を噴霧することを特徴としたものである。
【００１６】
これにより、ミストを広く拡散させ、広い範囲に抗菌処理を行えるができるミスト発生装置を提供することができる。
【００１７】
また、他の手段は、空気を加熱する空気加熱手段を備えたことを特徴としたものである。
【００１８】
これにより、噴霧して対象物の表面に付着させた抗菌性のミストに対し、加熱空気を与えることで水分を乾燥させ、対象物の表面で抗菌成分を濃縮させることができる。そのため、抗菌性を高めることができるミスト発生装置を提供することができる。また、水分を除去することで湿度を低下させ、カビや雑菌の繁殖を防止し、清潔性を高めたミスト発生装置を提供することができる。
【００１９】
また、他の手段は、給水された水を加熱する熱交換器を備えたことを特徴としたものである。
【００２０】
これにより、熱交換器で加熱することによって、水蒸気も含め噴霧できる水量を増加させることができるため、抗菌性のミストを大量に噴霧することができるようになり、対象物を抗菌する能力を高めることができるミスト発生装置を提供することができる。また、温水を噴霧すると、対象物の表面温度は室温と同等か低いため、対象物の表面にミストを結露させることができるため、対象物をより確実に抗菌処理することができるミスト発生装置を提供することができる。
【００２１】
また、他の手段は、処理液の噴霧温度が３０℃以上６０℃以下であることを特徴としたものである。
【００２２】
これにより、空間に温水によるミストを噴霧するために十分な温度とすることができ、熱による樹脂などの表面の変質を防止できるミスト発生装置を提供することができる。
【００２３】
また、他の手段は、噴霧された処理液が０．１μｍ以上１００μｍ以下のミストを含むことを特徴としたものである。
【００２４】
これにより、空気中に浮遊する時間が長くなり、飛散する範囲が広がるため、噴霧手段から距離が比較的遠い部位にも抗菌作用を十分に与えることができるミスト発生装置を提供することができる。
【００２５】
また、他の手段は、抗菌手段は、水と接触する部分にハロゲンを含有する酸化チタン（ＩＶ）を塗布したものであることを特徴としたものである。
【００２６】
これにより、配管内の抗菌処理や、配管内の水への抗菌成分の溶出を効率的に行なえるため、清潔性が高く、また接触反応槽を別に設ける必要がないため、小型化されたミスト発生装置を提供することができる。
【００２７】
また、他の手段は、抗菌手段は、給水手段と噴霧手段を連通する経路を複数に分岐し、分岐した経路の少なくとも一つに設けられ、処理液の噴霧と処理をしていない水または温水の噴霧をそれぞれ単独で行なえることを特徴としたものである。
【００２８】
これにより、処理液の噴霧と、水または温水の噴霧をそれぞれ単独で行なうことができ、必要な時のみ処理液の噴霧を行なうことで、長期間にわたって使用することができるミスト発生装置を提供することができる。
【００２９】
また、他の手段は、処理液を噴霧したのち、一定時間後に水または温水を噴霧して対象物の表面を洗浄することを特徴としたものである。
【００３０】
これにより、対象物が、処理液と長時間接触しつづけると反応してしまうような材料であったとしても、水または温水を単独で噴霧して洗い流すことで、材料の変質を防止することができ、処理液を噴霧する対象物の適用範囲が広く、利便性の高いミスト発生装置を提供することができる。また、処理液で抗菌処理した対象物の表面に残存する菌の死骸やよごれなどを水または温水で洗い流すことができる。
【００３１】
また、他の手段は、請求項５から１２のミスト発生装置を備えた浴室乾燥機としたものである。
【００３２】
これにより、微生物汚染されやすい浴室空間に取り付けて、簡単な操作で浴室の抗菌処理を行なうことができ、利便性が高く、清潔性の高い浴室空間を作るミスト発生装置を備えた浴室乾燥機を提供することができる。
【００３３】
また、他の手段は、浴室内の人の存在を検知する人検知手段を備え、前記人検知手段により人を検知したときに噴霧を停止させることを特徴としたものである。
【００３４】
これにより、人が浴室内にいるときに噴霧を停止させることができ、処理液に含まれる抗菌成分を人体に曝露する量を低減させることができるミスト発生装置を備えた浴室乾燥機を提供することができる。
【００３５】
また、他の手段は、温度を検知するための温度センサおよび／または湿度を検知するための湿度センサを備え、カビが繁殖する温度および／または湿度を検知した場合に浴室に処理液を噴霧して浴室内の抗菌処理を行なことを特徴としたものである。
【００３６】
これにより、カビが繁殖しやすい時期に抗菌処理を行なうことができ、効率的に微生物の発生を抑制できるため、清潔性の高いミスト発生装置を備えた浴室乾燥機を提供することができる。
【００３７】
また、他の手段は、紫外線を照射する光照射手段を備え、処理液を噴霧したのち、前記光照射手段より紫外線を照射して浴室内を抗菌処理することを特徴としたものである。
【００３８】
これにより、浴室内を殺菌する作用を高めることができるばかりでなく、カビなどによる着色を光触媒作用によって分解し、清潔性を高めたミスト発生装置を備えた浴室乾燥機を提供することができる。
【発明の効果】
【００３９】
本発明によれば、光、放射線、塩素などによって抗菌効果が低下し難く、安定して持続的にカビや細菌を抑制できるため、カビやぬめりの発生リスクを軽減して浴室を清潔な状態で維持することができるという効果が得られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４０】
本発明の請求項１記載の発明は、装置内に水を供給するための給水手段と、供給された水を噴霧する噴霧手段を備えたミスト発生装置であって、前記ミスト発生装置の水と接触する部分にハロゲンを含有する酸化チタン（ＩＶ）からなる抗菌手段を備え、前記抗菌手段は、前記ハロゲンの少なくとも一部が前記酸化チタン（ＩＶ）と化学結合し、かつ、前記抗菌手段と水とが接触して生じた処理液が少なくとも暗所で抗菌作用を発現させるものであり、前記噴霧手段によって前記処理液を噴霧して対象物の表面を抗菌処理することを特徴とするミスト発生装置としたものであり、ハロゲンを含有して化学結合した酸化チタン（ＩＶ）によって、暗所でも抗菌作用を与えることができるという作用を有し、紫外線や塩素などの外的要因があっても抗菌するという作用を有する。
【００４１】
また、請求項２記載の発明は、ハロゲンが、フッ素、塩素、臭素及びヨウ素からなる群から選択される少なくとも一つであることを特徴とする請求項１記載のミスト発生装置としたものであり、安定して抗菌するという作用を有する。
【００４２】
また、請求項３記載の発明は、ハロゲンがフッ素であり、前記ハロゲン含有酸化チタン（ＩＶ）におけるフッ素の含有量が１．２５重量％以上４．０重量未満％であることを特徴とする請求項１または２に記載のミスト発生装置としたものであり、酸化チタン（ＩＶ）に暗所でも高い抗菌性を与えるという作用を有する。
【００４３】
また、請求項４記載の発明は、ハロゲンを含有する酸化チタン（ＩＶ）がアナターゼ型酸化チタンであることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載のミスト発生装置としたものであり、光が照射される空間において、光触媒作用によって抗菌性を高めるという作用を有する。
【００４４】
また、請求項５記載の発明は、空気を送風する送風手段を備え、前記送風手段により送風した空気中に噴霧手段によって処理液を噴霧することを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載のミスト発生装置としたものであり、噴霧手段から離れた場所まで抗菌性のミストを飛散させるという作用を有し、広い範囲を抗菌するという作用を有する。
【００４５】
また、請求項６記載の発明は、空気を加熱する空気加熱手段を備えたことを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載のミスト発生装置としたものであり、ミストによって湿度が増加した空間を乾燥させるという作用を有し、抗菌性のミストを濃縮して抗菌性を高めるという作用を有する。
【００４６】
また、請求項７記載の発明は、給水された水を加熱する熱交換器を備えたことを特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載のミスト発生装置としたものであり、噴霧する処理液の温度が高くなり、対象物の表面との温度差によって対象物の表面に結露によってミストを付着させやすくするという作用を有し、気流が当たりにくい隅角部であっても、ミストの付着によって抗菌するという作用を有する。
【００４７】
また、請求項８記載の発明は、処理液の噴霧温度が３０℃以上６０℃以下であることを特徴とする請求項１乃至７のいずれかに記載のミスト発生装置としたものであり、温水のミストを噴霧するのに十分な温度であって、対象物の表面が熱により変質することなく、安定して抗菌することができるという作用を有する。
【００４８】
また、請求項９記載の発明は、噴霧された処理液が０．１μｍ以上１００μｍ以下のミストを含むことを特徴とする請求項１乃至８のいずれかに記載のミスト発生装置としたものであり、噴霧後に空中に浮遊する時間を長くすることができるという作用を有し、気流によって広い範囲にミストを搬送することができるという作用を有し、広い範囲を抗菌するという作用を有する。
【００４９】
また、請求項１０記載の発明は、抗菌手段は、水と接触する部分にハロゲンを含有する酸化チタン（ＩＶ）を塗布したものであることを特徴とする請求項１乃至９のいずれかに記載のミスト発生装置としたものであり、部品点数を削減することができるという作用を有し、構造的な制約を減少させて小型化できるという作用を有し、水が付着しやすくバイオフィルムなどの微生物による汚染が発生しやすい部分に抗菌性を与えるという作用を有し、装置内で微生物の発生を防止するという作用を有する。
【００５０】
また、請求項１１記載の発明は、抗菌手段は、給水手段と噴霧手段を連通する経路を複数に分岐し、分岐した経路の少なくとも一つに設けられ、処理液の噴霧と処理をしていない水または温水の噴霧をそれぞれ単独で行なえることを特徴とする請求項１乃至１０のいずれかに記載のミスト発生装置としたものであり、抗菌性のミストを必要なときだけ噴霧させることで、ハロゲン含有酸化チタン（ＩＶ）と水が接触したことで水に与えられる抗菌成分の使用が少量で済むため、抗菌作用を長期間与えることができるという作用を有する。
【００５１】
また、請求項１２記載の発明は、処理液を噴霧したのち、一定時間後に水または温水を噴霧して対象物の表面を洗浄することを特徴とする請求項１１に記載のミスト発生装置としたものであり、抗菌性のミストに含まれる抗菌成分と反応してしまうものであっても、処理液を洗い流すことで、対象物の変質を防止するという作用を有する。
【００５２】
また、請求項１３記載の発明は、請求項５から１２のミスト発生装置を備えた浴室乾燥機としたものであり、カビや細菌による汚染が発生しやすい浴室内に抗菌性を与えて、微生物の繁殖を防止するという作用を有する。
【００５３】
また、請求項１４記載の発明は、浴室内の人の存在を検知する人検知手段を備え、前記人検知手段により人を検知したときに噴霧を停止させることを特徴とする請求項１３に記載の浴室乾燥機としたものであり、抗菌成分を人に曝露することを防止するという作用を有する。
【００５４】
また、請求項１５記載の発明は、温度を検知するための温度センサおよび／または湿度を検知するための湿度センサを備え、カビが繁殖する温度および／または湿度を検知した場合に浴室に処理液を噴霧して浴室内の抗菌防カビ処理を行なうことを特徴とする請求項１３または１４に記載の浴室乾燥機としたものであり、カビが発生しやすい時期にのみ抗菌性のミストを噴霧することができ、抗菌成分の使用量を削減して、長期間抗菌性を与えることができるという作用を有する。
【００５５】
また、請求項１６記載の発明は、紫外線を照射する光照射手段を備え、処理液を噴霧したのち、前記光照射手段より紫外線を照射して浴室内を抗菌処理することを特徴とする請求項１３乃至１５のいずれかに記載の浴室乾燥機としたものであり、光触媒作用によって殺菌のみならず、菌体成分や毒素、カビによる着色を分解するという作用を有する。
【００５６】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照しながら説明する。
【００５７】
（実施の形態）
本発明のミスト発生装置は、ハロゲンを含有する酸化チタン（ＩＶ）と、前記酸化チタン（ＩＶ）と水とを接触させて得られた酸化チタン（ＩＶ）処理液を噴霧する噴霧手段を備え、前記ハロゲンの少なくとも一部が前記酸化チタン（ＩＶ）と化学結合し、前記酸化チタン（ＩＶ）処理液が少なくとも暗所で抗菌作用を発現させるものであり、前記噴霧手段によって前記酸化チタン（ＩＶ）処理液を対象物の表面に噴霧して対象物の表面を抗菌処理することを特徴とする。本発明のミスト発生装置では、ハロゲン含有酸化チタン（ＩＶ）を備えているため、例えば、従来、暗所でも抗菌活性を示すとされている銀、銅、亜鉛等の金属等を含まなくても、暗所において抗菌活性を発現することができる。
【００５８】
本発明において「抗菌」とは、気相および水相の菌を増殖抑制すること、殺菌すること及び／又は分解することを含み、好適には気相および水相の菌濃度の低減及び／又は菌の増殖を抑制することを含む。
【００５９】
本発明において、「暗所で抗菌活性を発現する」とは、例えば、少なくとも紫外光（４００ｎｍ以下の波長の光）を含む光が照射されない条件下で、抗菌処理液を菌に２４時間以上接触させた場合に、抗菌処理液と接触した菌濃度を接触前の濃度よりも２桁以上減少できることをいう。なお、菌濃度の測定方法は、後述する実施例に示す方法で行なうことができる。本発明において、抗菌活性の対象は特に制限されず、例えば、細菌（例えば、大腸菌、黄色ぶどう球菌、緑膿菌、ＭＲＳＡ、セレウス菌、肺炎桿菌等）、酵母、カビ、ウイルス等が挙げられる。
【００６０】
本発明において「ハロゲンの少なくとも一部が酸化チタン（ＩＶ）と化学結合している」とは、酸化チタン（ＩＶ）とハロゲンの少なくとも一部とが化学的に結合していることをいう。好適には担持や混合ではなく酸化チタンとハロゲンとが原子レベルで結びついている状態のことをいい、より好適には酸化チタンとハロゲンとがイオン結合していることをいう。ハロゲン含有酸化チタン（ＩＶ）において、抗菌活性及び光触媒活性の向上の点から、酸化チタン（ＩＶ）と化学結合しているハロゲンは、ハロゲン含有酸化チタン（ＩＶ）における全てのハロゲンのうち９０重量％以上であり、９５重量％以上であることが好ましく、より好ましくは１００重量％すなわちハロゲン含有酸化チタン（ＩＶ）に含まれるハロゲンの全量が化学結合していることである。本発明において「化学結合しているハロゲン」とは、ハロゲン含有酸化チタンに含まれるハロゲンのうち、水に溶出しにくいハロゲンのことをいう。
【００６１】
酸化チタン（ＩＶ）と化学結合しているハロゲンの量は、ハロゲン含有酸化チタン（ＩＶ）を水中に分散させ、ｐＨ調整剤（例えば、塩酸、アンモニア水）でｐＨ＝３以下又はｐＨ＝１０以上に保持し、水中へのハロゲンの溶出量を比色滴定等により測定し、ハロゲン含有酸化チタンに含まれるハロゲンの総量から上記溶出量を差し引くことにより算出できる。ハロゲン含有酸化チタン（ＩＶ）の総量は、吸光光度分析法（ＪＩＳ  Ｋ  ０１０２）により求めることができる。
【００６２】
化学結合は、ハロゲンと酸化チタンとが強固に結合し、抗菌活性や光触媒反応の促進作用を向上できる観点から、イオン結合であることが好ましい。化学結合がイオン結合である場合は、ハロゲンと酸化チタンとが強固に結合し、抗菌活性や光触媒反応の促進作用を向上できる、酸化チタンとハロゲンとのイオン結合は、光電子分光装置により分析できる。例えば、ハロゲンがフッ素である場合、ハロゲン含有酸化チタンを光電子分光分析装置で分析した際に、フッ素の１ｓ軌道（Ｆ１ｓ）のピークトップが６８３ｅＶ〜６８６ｅＶの範囲となるスペクトルを示す場合をいう。これは、フッ素とチタンとがイオン結合したフッ化チタンのピークトップの値が上記範囲内であることに由来する。
【００６３】
ハロゲン含有酸化チタン（ＩＶ）におけるチタン、酸素及びハロゲンの合計の含有量（モル％）は、抗菌活性の点から、９６モル％以上であることが好ましく、より好ましくは９７モル％以上、さらに好ましくは９８モル％以上、さらにより好ましくは９９モル％以上、特に好ましくは実質的に１００モル％又は１００モル％である。ハロゲン含有酸化チタン（ＩＶ）におけるチタン、酸素及びハロゲンの合計の含有量（モル％）は、ハロゲン含有酸化チタン（ＩＶ）に含まれる元素の含有量（重量％）を各元素の原子量により除することによって各原子のモル含有量を算出し、得られたモル含有量を用いて下記式より算出できる。なお、ハロゲン含有酸化チタン（ＩＶ）におけるハロゲン（フッ素、臭素、ヨウ素、塩素）の含有量は吸光光度分析法（ＪＩＳ  Ｋ  ０１０２）により求めることができ、チタン及び酸素の含有量は、蛍光Ｘ線分析により求めることができる。
【００６４】
合計の含有量＝｛（チタン（ｍｏｌ）＋酸素（ｍｏｌ）＋ハロゲン（ｍｏｌ）｝／｛チタン（ｍｏｌ）＋酸素（ｍｏｌ）＋ハロゲン（ｍｏｌ）＋その他原子（ｍｏｌ）｝×１００
【００６５】
ハロゲン含有酸化チタン（ＩＶ）において、暗所での抗菌活性向上の点から、ハロゲン、特に、フッ素は、酸化チタン（ＩＶ）１モルに対して０．０００７〜０．１７モルであることが好ましく、より好ましくは０．０５３〜０．１１モルである。また、暗所における抗菌活性のさらなる向上の点からは、０．１１〜０．１７モルであることが好ましい。ハロゲンの含有量は、ハロゲン又は酸化チタンの含有量（重量％）を後述する各ハロゲンの原子量又は酸化チタンの式量で除することにより得られたハロゲンのモル含有量を用いて下記式より算出できる。
【００６６】
ハロゲンの含有量＝（ハロゲン（ｍｏｌ））／（酸化チタン（ｍｏｌ））
【００６７】
酸化チタン（ＩＶ）としては、例えば、アナタース型酸化チタン、ルチル型酸化チタン、ブルッカイト型酸化チタンが挙げられ、暗所における抗菌効果が得られることに加えて、高い光触媒活性が得られることから、アナタース型酸化チタンが好ましい。本発明において「アナタース型酸化チタン」とは、粉末Ｘ線回折スペクトル測定において（使用電極：銅電極）、回折角度２θ＝２５．５度付近に回折ピークが現れる酸化チタンのことをいう。
【００６８】
ハロゲン含有酸化チタンは、比表面積が２００〜３５０ｍ2／ｇの範囲が好ましく、より好ましくは２５０〜３５０ｍ2／ｇの範囲である。ここで、本発明において比表面積とは、ＢＥＴ法（窒素の吸着・脱離方式）により測定した、ハロゲン含有酸化チタンの粉末１ｇ当たりの表面積値である。比表面積が２００ｍ2／ｇ以上の場合、分解する対象物との接触面積を大きくすることができる。また、アナタース型酸化チタンを用いる場合は、比表面積が３５０ｍ2／ｇ以下であると、アモルファス状の酸化チタンを用いた場合よりも高効率な光触媒反応を行なうことができる。
【００６９】
本発明において、ハロゲンとしては、フッ素、ヨウ素、臭素及び塩素が挙げられる。ハロゲンがフッ素である場合、フッ素含有酸化チタンは、組成式Ｔｉ（ＩＶ）ＯａＦｂ（但し、０．０５３≦ｂ≦０．１７であり、２．０２６≦（ａ＋ｂ）≦２．０８６）で表されることが好ましい。より少量のフッ素で十分な抗菌活性が得られる点からは、ｂは、０．０５３〜０．１１がより好ましく、さらに好ましくは０．０８〜０．１１である。ａ＋ｂは、２．０２６〜２．０５３がより好ましい。また、暗所におけるさらなる向上及び光触媒活性の点からは、ｂは０．１１〜０．１７がより好ましく、さらに好ましくは０．１１〜０．１５であり、ａ＋ｂは２．０５３〜２．０８６がより好ましく、さらに好ましくは２．０５３〜２．０７５である。また、ａは、例えば、Ｔｉ（ＩＶ）を維持する値であって、ｂとの関係で決定されても良い。上記組成式におけるａ及びｂは、フッ素の含有量（Ｘ）（重量％）を用いて下記式より算出できる。なお、下記式におけるＹはフッ素原子量（１９）であり、Ｚは酸化チタン式量（７９．９）のことをいう。
【００７０】
ｂ（フッ素のモル含有量）＝｛Ｚ＊（Ｘ／１００）｝／｛Ｙ−（Ｙ−８）＊（Ｘ／１００）｝
ａ（酸素のモル含有量）＝２−（ｂ／２）
【００７１】
フッ素含有酸化チタンにおけるフッ素の含有量は、暗所における抗菌活性の点から、１．２５重量％〜４．０重量％であることが好ましく、より好ましくは１．２５重量％以上２．５重量％未満である。暗所における抗菌活性のさらなる向上及び光触媒活性の点からは、２．５重量％〜４．０重量％が好ましく、より好ましくは２．５重量％〜３．５重量％である。
【００７２】
ヨウ素含有酸化チタンにおけるヨウ素の含有量は、抗菌活性向上の点からは、０．２重量％〜２．５重量％であることが好ましい。暗所における抗菌活性向上の点からは、０．３重量％〜２．０重量％が好ましく、０．３５重量％〜１．０重量％が好ましい。
【００７３】
ヨウ素含有酸化チタンは、組成式Ｔｉ（ＩＶ）ＯaＩb（但し、０．００１３≦ｂ≦０．０１６であり、２．０００６≦（ａ＋ｂ）≦２．００８）で表されることが好ましい。また、ｂは、０．００１９〜０．０１２８がより好ましく、さらに好ましくは０．００２２〜０．００７９である。ａ＋ｂは、２．０００９〜２．００６４がより好ましく、さらに好ましくは２．００１１〜２．００３２である。また、ａは、Ｔｉ（ＩＶ）を維持する値であって、ｂとの関係で決定されても良い。上記組成式におけるａ及びｂは、Ｘをヨウ素の含有量（重量％）、Ｙをヨウ素原子量（１２６．９）として上述したフッ素の換算式を用いて算出できる。
【００７４】
本発明は、ハロゲンの少なくとも一部が酸化チタン（ＩＶ）と化学結合したハロゲン含有酸化チタン（ＩＶ）であれば、暗所において抗菌活性を発現できるという知見に基づく。暗所において抗菌活性が発現するメカニズムは明らかではないが、ハロゲン含有酸化チタン（ＩＶ）におけるチタン−ハロゲン構造と、タンパク質、特に、タンパク質のアミノ基とが結合することや、ハロゲン含有酸化チタン（ＩＶ）の一部が疎水化し、ハロゲン含有酸化チタン（ＩＶ）と菌を構成するタンパク質及び／または脂質との間に疎水結合力が働くことにより、ハロゲン含有酸化チタン（ＩＶ）に菌が吸着し、これにより、暗所において抗菌活性が発現されるものと推定される。また、ハロゲン含有酸化チタン（ＩＶ）表面に結合したハロゲンがハロゲンイオン化し、このハロゲン含有酸化チタン（ＩＶ）表面のハロゲンイオンが菌を酸化するため、暗所において抗菌活性が発現されるものと推定される。光照射時に抗菌作用が増強される点については、菌がハロゲン化酸化チタン（ＩＶ）表面に濃縮され、さらに光が照射されると、光触媒作用により発生したＯＨラジカルが菌に作用する確率が高くなり、殺菌作用が増強されるものと推定される。ただし、これらのメカニズムの推定は、本発明を限定するものではない。
【００７５】
［ハロゲン含有酸化チタンの製造方法］
本発明のハロゲン含有酸化チタンは、例えば、ｎ−ブチルアミンの吸着量が８μｍｏｌ／ｇ以下である酸化チタンの水分散液とハロゲン化合物とを混合し、前記混合液中で前記酸化チタンと前記ハロゲン化合物とを反応させて得られるハロゲン含有酸化チタン（ＩＶ）であってもよい。得られるハロゲン含有酸化チタン（ＩＶ）におけるハロゲンと酸化チタンの結合性及びハロゲンの水への溶出量の点から、前記酸化チタン（ＩＶ）とハロゲン化合物との混合液のｐＨが３を超えた場合は酸を用いてｐＨを３以下に調整して反応させることを含むことが好ましく、より好ましくは前記反応させて得られた反応物を洗浄することを含むことが好ましい。
【００７６】
このようにして得られるハロゲン含有酸化チタンは、前述のように、例えば、水への溶出量が極めて少なく、強制的に酸化チタン表面に位置させる、その他のあらゆる手法と比べて、ハロゲンの酸化チタンへの結合性という意味で異なるものである。ｎ−ブチルアミンの吸着量が８μｍｏｌ／ｇ以下であるアナタース型酸化チタンとしては、例えば、堺化学工業株式会社製ＳＳＰ−２５等が使用でき、その水分散液としては、例えば、堺化学工業株式会社製ＣＳＢ−Ｍ等が使用できる。
【００７７】
ハロゲン化合物としては、特に限定されないが、一般的なハロゲン化合物を使用できる。ハロゲン化合物が、フッ素化合物である場合、例えば、フッ化アンモニウム、フッ化カリウム、フッ化ナトリウム、フッ化水素酸が挙げられ、これらの中でも、フッ化アンモニウム、フッ化カリウム及びフッ化水素酸が好ましい。ハロゲン化合物がヨウ素化合物である場合、ヨウ化水素、過ヨウ素酸、ヨウ化アンモニウム等が挙げられる。ハロゲン化合物が臭素化合物である場合、臭化水素酸、臭化アンモニウム等が挙げられる。ハロゲン化合物が塩素化合物である場合、塩酸、塩化ナトリウム、次亜塩素酸が挙げられる。
【００７８】
酸化チタン１ｇ当たりのｎ−ブチルアミンの吸着量の測定方法は以下の通りである。つまり、１３０℃で２時間乾燥した酸化チタンのサンプル１ｇを、５０ｍＬの共栓付き三角フラスコにて精秤し、これにメタノールで希釈した０．００３Ｍのｎ−ブチルアミン溶液を３０ｍＬ加える。次いで、これを１時間超音波分散させた後、１０時間静置し、その上澄み液を１０ｍＬ採取する。そして、採取した上澄み液を、メタノールで希釈した０．００３Ｍの過塩素酸溶液を用いて電位差滴定し、そのときの中和点における滴定量からｎ−ブチルアミンの吸着量を求めることができる。
【００７９】
酸化チタン（ＩＶ）１ｇ当たりのｎ−ブチルアミンの吸着量が８μモル以下となる表面酸性度を有するアナタース型酸化チタンは、不純物としてのナトリウムの含有量が、１０００重量ｐｐｍ以下が好ましい。不純物としてのナトリウムの含有量が１０００重量ｐｐｍ以下であると、抗菌活性及び／又は光触媒活性の低下を抑制できる。その理由は明確ではないが、例えば、ナトリウムがハロゲンと反応することにより、ハロゲンと酸化チタン（ＩＶ）との反応が阻害されることを抑制できるためと考えられる。
【００８０】
［ミスト発生装置の内部にハロゲンを含有する酸化チタンを備える方法］
ミスト発生装置の内部にハロゲンを含有する酸化チタン（ＩＶ）を備える方法として、基材に担持する方法が挙げられる。基材としては、特に限定されないが、一般的なフィルタ基材、フィルム、多孔質スポンジ、ガラス、セラミックフォームなどを使用できる。基材の材質としては、金属、プラスチック、合成樹脂繊維、天然繊維、木材、紙、ガラス、セラミックなどが挙げられる。プラスチックや紙を基材として用いる場合は、基材表面にシリコーンやフッ素樹脂、シリカなどを被覆して酸化チタンを担持してもよい。
【００８１】
基材の形状は特に限定されないが、板状、網状、ハニカム状、繊維状、ビーズ状、スリット状、発泡体形状など、あらゆる形状を利用することができる。
【００８２】
ミスト発生装置の内部にハロゲンを含有する酸化チタン（ＩＶ）を備える方法として、ハロゲンを含有する酸化チタン（ＩＶ）をバインダーを用いて、ミスト発生装置の内部に固定化してもよい。バインダーを用いる場合には、ハロゲンを含有する酸化チタン（ＩＶ）とバインダーを混合して塗料状にし、基材に担持せず、ミスト発生装置の内部に直接コーティングしてもよい。
【００８３】
Ｎａ、Ｋ、ＮＨ4などの陽イオン成分がバインダーに含まれていると、ハロゲンとの反応の進行および酸化チタン（ＩＶ）表面への吸着により、抗菌性能の低下が発生することがあり、上記陽イオン成分は極力少ないほうがよい。例えば、バインダー溶液にＮａが含まれている場合には、Ｎａ濃度がＮａ2Ｏとして０ｗｔ％より大きく０．０５ｗｔ％以下であることが好ましい。
【００８４】
基材にハロゲン含有酸化チタンを担持する方法としては、ディップコート、スプレーなどが挙げられるが、ハロゲン含有酸化チタンが固定化できればいかなる手段でもよい。１回の処理で担持量が十分でなければ、複数回の処理工程を繰り返してもよい。また、担持後に、乾燥機で５０〜７００℃程度の温度で０．０１〜５時間程度加熱することによりバインダーを収縮させて基材に強固に固定化してもよく、９０〜１５０℃で０．１時間の加熱がさらに好適である。このような加熱乾燥処理を行なう場合には、基材の主成分をガラス、セラミックスで構成することが望ましい。
【００８５】
［ミスト発生装置］
図１は、本発明のミスト発生装置を備えた浴室乾燥機１を示す図である。
【００８６】
浴室乾燥機１は、給水手段である給水口２と、連通する配管内にハロゲン含有酸化チタン（ＩＶ）からなる抗菌手段３と、開閉を制御する電磁弁４、噴霧する噴霧ノズル５を持つ。さらに、空気を吹き出す吹き出し口６、送風手段であるファン７、気流制御手段であるルーバー８、吹き出す空気を加熱するための空気加熱手段である空気加熱用熱交換器９、水を加熱するための水加熱用熱交換器１０があり、加熱された空気、ミストを浴室内に供給できる。また、センサにおいては、浴室内に人がいることを検知する人検知手段である人感センサ１１を、浴室側の表面を覆うフロントパネル１２に設ける。フロントパネル１２には、噴霧ノズル５、吹き出し口６、ルーバー８と、吸い込み口１３を設ける。
【００８７】
吸い込み口１３から吹き出し口６までの連通する風路内に、温度センサ１４と、湿度センサ１５を設け、浴室内の温度および湿度を検知する。また、フロントパネル１２には、浴室内に光を照射するための光源１６を設ける。
【００８８】
給湯器からの温水の流量を制御して噴霧温度を調整するための流量制御弁１７を設けてあり、電気的に制御される。
【００８９】
浴室乾燥機１はこれらの構成よりなるが、以下その作用について説明する。
【００９０】
噴霧するための水は、装置外部の上水配管や、給湯器などから配管され、給水手段である給水口２から装置内部へ給水される。このため、配管は、例えば、腐食や給水圧に耐える銅管を用いるのが好ましく、継ぎ目部分は溶接するか、または上水の給水圧に十分に耐えうる程度の接合方法を用い、隙間がないようにＯリング型のゴムなどの部材をあてて密閉する。
【００９１】
配管は、給水口２以降に、ハロゲン含有酸化チタン（ＩＶ）を固定化した抗菌手段３を設ける。抗菌手段３は、基材にハロゲン含有酸化チタン（ＩＶ）を担持したものであり、例えばシート、フィルタ、ネット状に加工したものであり、通水路内に設置する。また、バインダーを用いて直接塗布する方法があり、例えば配管内壁や、配管に連通する空間、プレート、フィンなどに塗布する。いずれの場合にも、水と抗菌手段３の一部もしくは全部が接触するように配置する。この配管は、処理液を供給するための経路と、抗菌手段を備えず、水または温水を単独で供給する経路に分ける。これらの経路の入り口には、経路を閉止するための電磁弁４を備え、電磁弁４への電圧の印加によって処理液の噴霧か、水または温水の噴霧かの制御を行なう。
【００９２】
例えば、処理液を噴霧する場合には、抗菌手段を備えた配管側のみ電磁弁を開放し、給水が抗菌手段３を通過してから噴霧されるようにする。また、処理液を噴霧して、対象物の表面にミストを付着させたのち、一定時間おいて抗菌作用を十分に発現させた後、水または温水を噴霧して処理液を洗い流すようにしてもよい。この場合、抗菌作用を発現させる時間として、細菌を対象とした場合には０．５時間から３時間、好ましくは１時間から３時間おくことで、十分な抗菌作用を得ることができる。尚、対象物とは、浴室の壁面、床面、天井面などの浴室表面や、洗面器、椅子、幼児用の玩具、または浴槽などを指すが、浴室内にあって少なくとも一時的に水と接触するものであればこれに限定されない。
【００９３】
ハロゲン含有酸化チタン（ＩＶ）を塗布する場合、配管内に行なうとよいが、塗布することで配管が閉塞して内圧が上昇しないように、必要な内径を十分に確保する。抗菌手段３のハロゲン含有酸化チタン（ＩＶ）の量は、通水路内に設置する場合も、塗布する場合も、流量と溶出速度、必要な濃度から設定する。担持方法によっては、溶出速度が十分に得られない場合があるため、そのときは、ハロゲン含有酸化チタン（ＩＶ）を備えた配管内に噴霧する必要容積を持たせ、運転停止期間中に溶出させることで、処理液を作製することもできる。
【００９４】
ミスト発生装置の表面には、噴霧手段である噴霧ノズル５を設ける。噴霧ノズル５は、配管に対して開口径を小さく取り、噴霧圧力を得ている。噴霧直前に旋回流を発生させ、ノズル先端において円形に広がることで広範囲に噴霧できるものが好ましい。開口径を小さくすると、噴霧するミストの粒径を小さくすることができる。開口径は、例えば、０．５ｍｍから１ｍｍとすることで、０．１μｍから１００μｍの大きさのミストを作製し、噴霧することができる。噴霧ノズル５は、噴霧角度が広く取れるものを使用するとよく、噴霧角度は、例えば、５０度から１２０度で、好ましくは６０度から１０５度のものとする。
【００９５】
噴霧ノズル５は、装置の表面に設けるが、隣接して吹き出し口６を設け、ミストの噴霧と同時に、内部に備えた送風手段であるファン７から一定の風量で送風運転を行なう。また、吹き出し口６には、風向を制御するためのルーバー８を備えることで、目的の方向へミストを搬送させやすくなる。また、装置内部には、加熱された空気を作り出すための空気加熱手段である空気加熱用熱交換器９を設ける。空気加熱用熱交換器９は、熱源と、アルミなどの伝熱性の高い材料からなり空気を通過させて加熱するためのフィンを設けている。熱源としては、例えば、給湯器と接続された温水配管や、通電して加熱させるヒーターを用いる。空気加熱用熱交換器９は、効率的に加熱空気を吹き出すために、ファン７と吹き出し口６の間に設けることが好ましい。
【００９６】
給水口２から給水された水は、水加熱用熱交換器１０を通過させて温水にする。水加熱用熱交換器１０は、給湯器と接続し、６０℃から８０℃の給湯水を通水させ、水加熱用熱交換器１０の内部に備えられて給湯水と上水とを隔離する金属板を介して、上水を約６０℃に加熱する。また、給湯配管には、温度が上がりすぎた場合に給湯水の供給を調整するための流量制御弁を設け、水加熱用熱交換器１０内部の温度を監視しながら給湯水量を調整する制御を行なうことが好ましい。これによって、噴霧温度を３０℃から６０℃の範囲にすることができ、浴室内へ効率的にミストを噴霧、拡散させることができる。
【００９７】
浴室乾燥機１には、浴室内の人を検知するための人検知手段である人感センサ１１を設ける。人感センサ１１は、浴室乾燥機１のフロントパネル１２に設け、浴室内の人の存在を検知するようにする。人感センサ１１として、赤外線センサなどが使用できるが、結露の影響による誤検知を防止するためポリエチレンやシリコーン樹脂など赤外線を透過する材料で保護カバーを設けることが好ましい。
【００９８】
浴室乾燥機１は、送風手段であるファン７によって、浴室内の空気を吸い込むが、循環風路の浴室側に設けた吸い込み口１３の付近に、温度センサ１４と、湿度センサ１５を設ける。
【００９９】
温度センサ１４として、例えば、水滴が付着しにくく、耐水性を施したサーミスタや熱電対センサが好ましい。また、表面に撥水または疎水処理を施すのも有効である。実際に浴室で起こりうる温度範囲である５℃以上６０℃以下の範囲で検出できるものであるのが好ましい。浴室乾燥機１の内部に設けるのが好ましいが、浴室内や浴室から連通する風路内であればこれに限定されない。しかし、浴室内の水滴が付着する部位に設置する場合は、水滴の付着による検出阻害が起こらない手段を用いる。
【０１００】
また、湿度センサ１５として、塩化リチウムやセラミックなどを素材とするセンサが挙げられるが、表面に付着した水滴と結合し、湿度の計測ができないことがある。素材表面に高分子膜を配した湿度センサを利用すると水滴の付着による湿度計測阻害を最小限にすることが可能である。また、浴室内の湿度を検出するため、例えば湿度検知範囲は２０％から１００％の範囲で計測できるものを使用することが好ましい。循環風路上など浴室乾燥機１の内部に設けるのが好ましいが、浴室内、浴室から連通する風路内であればこれに限定されない。
【０１０１】
温度センサ１４および湿度センサ１５によって、カビが繁殖しやすい温度および湿度であることを検知した場合、処理液を噴霧するように制御すると、必要時のみ処理液を使用できるため、長期にわたって抗菌性を得ることができるため好ましい。カビが繁殖しやすい温湿度として、浴室内に発生しやすいクラドスポリウムやオーレオバシジウムなどのカビに好適な範囲を対象とすることがよく、例えば、温度２０℃から３０℃でかつ相対湿度８０％以上である場合に噴霧する。また、これは温度および湿度の両方の値を用いた場合であるが、浴室は入浴によって大量の水蒸気が発生する場所であるため、単に温度のみ検知して定期的に噴霧してもよく、例えば、２０℃〜３０℃の場合に１週間ごとに噴霧してもよい。一方、相対湿度から判断することもできる。浴室内のカビの繁殖は、入浴などの浴室使用後に十分に浴室を乾燥させることで抑制することができるが、換気を行っていなかった場合や、乾燥を途中で停止させた場合には、浴室内に水滴が残存し、相対湿度が上昇してカビが繁殖しやすくなるため、例えば、乾燥後の相対湿度が、入浴前の状態よりも大きい場合や、もしくは相対湿度が８０％以下まで低下しなかった場合に、処理液を噴霧してカビの繁殖を抑制するように運転制御を行なうことで、浴室内のカビの繁殖を抑制することができる。
【０１０２】
浴室乾燥機１の表面に紫外線を照射するための光照射手段である光源１６を設ける。ハロゲン含有酸化チタン（ＩＶ）は、暗所における抗菌作用に加え、高い光触媒活性を備えているため、４００ｎｍ以下の紫外光を照射することでより短時間で抗菌効果を得ることができるため、短時間で処理できて利便性の高い浴室乾燥機とすることができる。光源としては、紫外線を発生するあらゆるものが利用でき、ブラックライト、冷陰極管、殺菌灯、蛍光灯、ＬＥＤなどのランプや、高電圧を利用したプラズマ放電光などを利用できる。光の中心波長は、２５４ｎｍより大きく４００ｎｍ以下である紫外線を照射できることが好ましい。
【実施例】
【０１０３】
以下、本発明を実施例にて詳細に説明するが、本発明は、以下の記載に何ら限定して解釈されるものではない。
【０１０４】
（実施例１）
＜１＞．ハロゲン含有酸化チタンの調製
酸化チタン（商品名：ＳＳＰ−２５、堺化学工業株式会社製、アナタース型、粒径：５〜１０ｎｍ、比表面積：２７０ｍ2／ｇ以上）の濃度が１５０ｇ／Ｌとなるように酸化チタンに純水を加え、これを撹拌して、酸化チタン分散液を調製した。この酸化チタン分散液に、酸化チタンに対してフッ素（元素）に換算して３重量％に相当するフッ化水素酸（和光純薬社製、特級）を添加し、ｐＨ３に保持しながら２５℃で６０分間反応させたのち、水洗した。水洗は、反応物を濾過して回収される濾液の電気伝導度が１ｍＳ／ｃｍ以下となるまで行った。そして、これを空気中において１３０℃で５時間乾燥させてフッ素含有酸化チタンを調製した。なお、濾液（２５℃）の電気伝導度は、堀場製作所製ｐＨ／ｃｏｎｄ  ｍｅｔｅｒ，Ｄ−５４型（商品名）を用いて測定した。
【０１０５】
＜２＞．フッ素含有酸化チタンの物性分析
［フッ素含有量］
吸光光度分析法（ＪＩＳ  Ｋ  ０１０２）により、フッ素含有酸化チタン中のフッ素含有量を求めたところ、２．３重量％であった。また、酸化チタン（ＩＶ）１モルに対してフッ素は０．０９８モルであり、フッ素含有酸化チタンにおけるチタン、酸素及びフッ素の含有量の合計は、３．０４９モル％であり、その組成比は、Ｔｉ：Ｏ：Ｆ＝１：１．９５１：０．０９８であった。
【０１０６】
［フッ素と酸化チタンとの結合の確認］
フッ素含有酸化チタンを光電子分光分析装置で分析したところ、Ｆ１ｓのピークトップが６８３ｅＶ〜６８６ｅＶの範囲となるスペクトルを示した。つまり、得られたフッ素含有酸化チタンにおいて、酸化チタンとフッ素とがイオン結合していることが確認できた。
【０１０７】
［アナタース型の確認］
酸化チタンを粉末Ｘ線回折装置（使用電極：銅電極）で分析したところ、回折角度２θ＝２５．５度において回折ピークが現れた。つまり、得られたフッ素含有酸化チタンはアナタース型酸化チタンであった。
【０１０８】
［フッ素溶出量の測定］
得られたフッ素含有酸化チタン０．１ｇを純水１００ｍｌに懸濁させ、超音波を１５分間照射後、遠心分離を行った。その上澄み液を、共立理化学研究所製のパックテスト（登録商標）を用いて比色分析を行い、溶出したフッ素イオンの量を測定した。この溶出量から酸化チタンと化学結合したフッ素の割合を求めたところ、９５重量％であった。
【０１０９】
［表面Ｆ比率の測定方法］
１０ｍｍ径の成型用金型を用い、ハロゲン含有酸化チタンの粉末１ｇに１ｔ／ｃｍ２の荷重がかかるようにプレスにて圧力を加えて、１０ｍｍ径のペレットに成型した。この成型ペレットを破断して平らな面を持つ破断小片を作製し、この小片を測定試料台の上に両面テープで固定した。これを、真空中で１日放置した後、光電子分光分析装置（島津製作所製ＥＳＣＡ−８５０型、Ｘ線源：ＭｇＫα）を用い、８ｋＶ、３０ｍＡの条件にて、チタン（Ｔｉ）の２ｐ軌道、フッ素（Ｆ）の１ｓ軌道及び炭素（Ｃ）の１ｓ軌道から放出される光電子スペクトルを測定した。そして、Ｃの１ｓ軌道の測定値を２８４．８ｅＶとして、Ｔｉの２ｐ軌道及びＦの１ｓ軌道の測定から得られたスペクトルのエネルギー補正を行った。その補正後の値をそのスペクトルの結合エネルギーとし、Ｆの１ｓ軌道のスペクトル面積より求められるＦの原子数をＮＦ、Ｔｉの２ｐ軌道のスペクトル面積より求められるＴｉの原子数をＮＴｉとした。以下の計算式を用いて表面Ｆ比率を算出したところ、０．０７であった。
【０１１０】
表面Ｆ比率＝ＮＦ×１９．０／（ＮＴｉ×４７．９）
＜３＞．ハロゲン含有酸化チタンを担持した抗菌シートの作成
得られたハロゲン含有酸化チタンとシリカ系のバインダー（Ｎａ成分がＮａ2Ｏ濃度として０．０５ｗｔ％以下、ｐＨ＝３、ＳｉＯ2濃度２０ｗｔ％のシリカゾル）と精製水を混合し、ボールミルで２４時間分散混合してスラリーを作成した。出来上がったスラリーに、基材として開口率１５％のガラス繊維織物をディップしてハロゲン含有酸化チタンを含浸させ、エアブローして余剰液を排除した後、１２０℃の乾燥機で３０分乾燥させ、ハロゲン含有酸化チタンを含む抗菌シートを作成した。同様のディップ作業を繰り返し、ハロゲン含有酸化チタンとバインダーを合わせた担持量を５００ｇ／ｍ2にした。抗菌シートの基材となるガラス繊維織物は、目付け量３５４ｇ／ｍ2、糸の密度１１×３本／２５ｍｍ（タテ・ヨコ同じ）の模紗織、厚さは０．４２ｍｍのものを用いた。作成した抗菌シートの開口率は約１５％であった。
【０１１１】
以下に示す条件以外はＪＩＳ  Ｒ１７０２に規定されている試験方法に従い、光照射フィルム密着法によりハロゲン含有酸化チタン（ＩＶ）シートの抗菌効果試験を行った。ハロゲン含有酸化チタン（ＩＶ）シート（５ｃｍ×５ｃｍ）をシャーレ内に配置し、シートの表面に大腸菌液（初期菌数：１×１０5ｃｆｕ／ｍｌ、ＮＢＲＣ３９７２）を塗布した。ついで、暗所で、光（紫外光）を照射することなく室温（２４〜２７℃）で静置した。静置開始から、１０、２０、１８０、３６０分経過後、回収液で回収し、寒天培養プレートにてコロニーを形成させて生存する菌数を求めた。その結果を図２に示す。また、参考例１として、１５Ｗブラックライト（１ｍＷ／ｃｍ２、３６５ｎｍ）で紫外線光照射を行った以外は、同様にして抗菌効果試験を行った。これらの結果を図２に示す。
【０１１２】
（比較例１）
比較例１として、ハロゲン含有酸化チタンに替えて、ハロゲンを含まず光触媒活性を有するアナタース型酸化チタン（商品名：ＳＳＰ−２５、堺化学工業株式会社製）を使用して抗菌シートを作成した以外は、実施例１と同様にして抗菌効果試験を行った。その結果を図２に示す。
【０１１３】
（比較例２）
比較例２として、ハロゲン含有酸化チタンに替えて、ハロゲンを含まず光触媒活性を有するアナタース型酸化チタン（商品名：ＳＳＰ−２５）を使用して抗菌シートを作成した以外は、参考例１と同様にして抗菌効果試験を行った。その結果を図２に示す。
【０１１４】
（比較例３）
比較例３として、ハロゲン含有酸化チタンに替えて、ハロゲンを含まず弱い光触媒活性を有するルチル型酸化チタン（商品名：ＳＴＲ−１００Ｎ、堺化学工業株式会社製）を使用して抗菌シートを作成した以外は、実施例１と同様にして抗菌効果試験を行った。その結果を図２に示す。
【０１１５】
（比較例４）
比較例４として、ハロゲン含有酸化チタンに替えて、ハロゲンを含まず弱い光触媒活性を有するルチル型酸化チタン（商品名：ＳＴＲ−１００Ｎ）を使用して抗菌シートを作成した以外は、参考例１と同様にして抗菌効果試験を行った。その結果を図２に示す。
【０１１６】
図２に示すように、実施例１の抗菌シートは、光照射なしの条件で、処理開始後２０分で初期菌数の７分の１以下にまで大腸菌の数を減少できた（１×１０4.2ｃｆｕ／ｍｌ程度）。光非照射時の実施例１の抗菌シートによるＤ値（菌数が９０％減少するのに要する時間）は２２分であった。これに対し、光を照射しなかった、比較例１及び３の抗菌シートでは、処理開始から４８時間経過しても大腸菌数に変化は見られなかった。光照射を行った比較例２のＤ値は４７７分であった。実施例１の抗菌シートの抗菌効果は、光照射を行った、比較例２及び４の抗菌シートよりも高かった。光非照射時の実施例１の抗菌組成物による抗菌性（菌数が接触前の濃度より９９％減少するのに要する時間）は４４分であった。この結果から、ハロゲン含有酸化チタンを含む実施例１の抗菌シートによれば、光を照射しない場合であっても抗菌活性を有することを確認できた。
【０１１７】
（実施例２）
大腸菌に替えて黄色ブドウ球菌（ＮＢＲＣ１２７３２）を使用し、その初期菌数を１×１０6.8ｃｆｕ／ｍｌとした以外は実施例１と同様の評価を行った。また、参考例２として、大腸菌に替えて黄色ブドウ球菌（ＮＢＲＣ１２７３２）を使用し、その初期菌数を１×１０6.8ｃｆｕ／ｍｌとした以外は参考例１と同様の評価を行った。これらの結果を図３に示す。
【０１１８】
（比較例５）
比較例５として、ハロゲン含有酸化チタンに替えて、ハロゲンを含まず光触媒活性を有するアナタース型酸化チタン（商品名：ＳＳＰ−２５）を使用した以外は、実施例２と同様にして抗菌効果試験を行った。その結果を図３に示す。
【０１１９】
（比較例６）
比較例６として、ハロゲン含有酸化チタンに替えて、ハロゲンを含まず光触媒活性を有するアナタース型酸化チタン（商品名：ＳＳＰ−２５）を使用した以外は、参考例２と同様にして抗菌効果試験を行った。その結果を図３に示す。
【０１２０】
（比較例７）
比較例７として、ハロゲン含有酸化チタンに替えて、弱い光触媒活性を有するルチル型酸化チタン（商品名：ＳＴＲ−１００Ｎ）を使用した以外は、実施例２と同様にして抗菌効果試験を行った。その結果を図３に示す。
【０１２１】
（比較例８）
比較例８として、ハロゲン含有酸化チタンに替えて、ハロゲンを含まず弱い光触媒活性を有するルチル型酸化チタン（商品名：ＳＴＲ−１００Ｎ）を使用した以外は、参考例２と同様にして抗菌効果試験を行った。その結果を図３に示す。
【０１２２】
図３に示すように、実施例２の抗菌シートは、光照射なしの条件で、処理開始後２０分で初期菌数の１０分の１以下にまで黄色ブドウ球菌の数を減少でき（１×１０2.8ｃｆｕ／ｍｌ程度）、Ｄ値は６．４分であった。これに対し、光を照射しなかった、比較例５及び７の抗菌シートでは、処理開始から４８時間経過しても黄色ブドウ球菌数はほとんど変化しなかった。光照射を行った比較例６及び８でも、実施例２に比べて抗菌効果は低かった。この結果より、ハロゲン含有酸化チタンを含む実施例２の抗菌シートによれば、光を照射しない場合であっても抗菌活性を有することを確認できた。また、黄色ブドウ球菌に対する抗菌活性は、参考例２に示す光照射時と同レベルであった。光非照射時の実施例２の抗菌シートによる抗菌性（菌数が接触前の濃度より９９％減少するのに要する時間）は１３分であった。
【０１２３】
（実施例３）
以下に示す条件以外はＪＩＳ  Ｒ１７０５に規定されている試験方法に従い、光照射フィルム密着法により抗菌組成物の抗菌効果試験を行った。抗菌組成物（５ｃｍ×５ｃｍ）をシャーレ内に配置し、抗菌組成物の表面にクロコウジカビ（Ａｓｐｅｒｇｉｌｌｕｓ  ｎｉｇｅｒ，ＮＢＲＣ４４０７）を塗布した。ついで、暗所で、光（紫外光）を照射することなく室温（２４〜２７℃）で静置した。所定時間経過後に、回収液で回収し、ＰＤＡ寒天培養プレートにて培養して生残胞子数数を求めた。その結果を図４に示す。また、参考例３として、１５Ｗブラックライト（１ｍＷ／ｃｍ2、３６５ｎｍ）で紫外線光照射を行った以外は、同様にして抗菌効果試験を行った。これらの結果を図４に示す。
【０１２４】
（比較例９）
比較例９として、ハロゲン含有酸化チタンに替えて、ハロゲンを含まず光触媒活性を有するアナタース型酸化チタン（商品名：ＳＳＰ−２５）を使用した以外は、実施例３と同様にして抗菌効果試験を行った。その結果を図４に示す。
【０１２５】
（比較例１０）
比較例１０として、ハロゲン含有酸化チタンに替えて酸化チタン（商品名：ＳＳＰ−２５）を使用した以外は、参考例３と同様にして抗菌効果試験を行った。その結果を図４に示す。
【０１２６】
（比較例１１）
比較例１１として、ハロゲン含有酸化チタンに替えて、弱い光触媒活性を有するルチル型酸化チタン（商品名：ＳＴＲ−１００Ｎ）を使用した以外は、実施例３と同様にして抗菌効果試験を行った。その結果を図４に示す。
【０１２７】
（比較例１２）
比較例１２として、ハロゲン含有酸化チタンに替えて酸化チタン（商品名：ＳＴＲ−１００Ｎ）を使用した以外は、参考例３と同様にして抗菌効果試験を行った。その結果を図４に示す。
【０１２８】
図４に示すように、実施例３の抗菌組成物は、光照射なしの条件で、処理開始後６０分で初期菌数（４．５３×１０5ｃｆｕ／ｍｌ程度）の２２分の１以下にまでクロコウジカビの数を減少でき（１．２３×１０4ｃｆｕ／ｍｌ程度）、Ｄ値は３８分であった。これに対し、光を照射しなかった、比較例９及び１１の抗菌組成物では、処理開始から４時間後でもほとんど変化しなかった。光照射を行った比較例１０及び１２でも、実施例３に比べて抗菌効果は低かった。この結果より、ハロゲン含有酸化チタンを含む実施例３の抗菌組成物によれば、光を照射しない場合であっても抗菌活性を有することを確認できた。光非照射時の実施例３の抗菌組成物による抗菌性（クロコウジカビ数が接触前の濃度より９９％減少するのに要する時間）は７６分であった。
【０１２９】
（実施例４）
実施例１のハロゲン含有酸化チタン（フッ素含有量：２．３重量％）をＰＢＳ（りん酸緩衝生理食塩水）に分散させて、フッ素含有酸化チタン濃度（１０、１００、１０００及び１００００ｍｇ／ｌ）の抗菌剤組成物（ｐＨ７〜８（ＰＢＳの緩衝作用のため））を調製した。大腸菌（Ｅ．ｃｏｌｉ  ＮＢＲＣ３９７２）を抗菌剤組成物に添加し、初期菌数を１×１０5ｃｆｕ／ｍｌに調製した。ついで、光を照射させることなく、３７℃で２４時間振とう培養し、その抗菌性を評価した。抗菌性は、濃度が異なる抗菌剤組成物とブランクとの２４時間後の菌数を比較し、ブランクに対して２ＬＯＧ低くなる抗菌剤濃度（１００分の１になる濃度）を計算で求めて評価した。その結果、ハロゲン含有酸化チタンの抗菌性は、５７７６ｍｇ／ｌであった。なお、抗菌剤組成物を添加しない以外は、同様に、光を照射させることなく、３７℃で２４時間振とう培養したものをブランクとした。
【０１３０】
（比較例１３）
比較例１３として、ハロゲン含有酸化チタンに替えて、ハロゲンを含まず光触媒活性を有するアナタース型酸化チタン（商品名：ＳＳＰ−２５）を使用した以外は、それぞれ、実施例４と同様に行った。その結果、ハロゲンを含まず光触媒活性を有するアナタース型酸化チタンを含む抗菌剤組成物を使用した比較例１３では、抗菌剤濃度を１００００ｍｇ／ｌまで高くしても、ブランクに対して２ＬＯＧ低い値をとることができず、暗所での抗菌性を示さないことがわかった。
【０１３１】
（実施例５、実施例６）
実施例１の「１．ハロゲン含有酸化チタンの調製」における「３重量％に相当するフッ化水素酸」に替えて「５重量％に相当するフッ化水素酸」又は「３２重量％に相当するヨウ化水素酸」を使用した以外は、同様の手順でフッ素含有酸化チタン（ＩＶ）又はヨウ素含有酸化チタン（ＩＶ）を調製した。得られたフッ素含有酸化チタン（ＩＶ）におけるフッ素含有量、及び、ヨウ素含有酸化チタン（ＩＶ）におけるヨウ素含有量は下記表１に示す通りであった。
【０１３２】
得られたフッ素含有酸化チタン（ＩＶ）又はヨウ素含有酸化チタン（ＩＶ）を、ＪＩＳＲ１７０２法に用いられている１／５００ＮＢ液（普通ブイヨン培地を精製水で５００倍に希釈し、高圧蒸気殺菌したもの）に分散させて、フッ素含有酸化チタン濃度（６２．５、１２５、２５０、５００及び１０００ｍｇ／ｌ）の抗菌剤組成物をそれぞれ調製した。大腸菌（Ｅ．ｃｏｌｉ  ＮＢＲＣ３９７２）を抗菌剤組成物に添加し、初期菌数を１×１０5ｃｆｕ／ｍｌに調製した。ついで、光を照射させることなく、３７℃で２４時間振とう培養し、実施例４と同様に抗菌性を求めた。その結果を、下記表１に示す。
【０１３３】
比較例１４として、フッ素含有酸化チタンに替えてハロゲンを含まず光触媒活性を有するアナタース型酸化チタン（商品名：ＳＳＰ−２５）を使用した以外は、それぞれ、実施例５と同様にして行った。その結果、下記表１に示すように暗所における抗菌性は得られなかった。
【０１３４】
【表１】
2010214039.tif 000003
【０１３５】
上記表１に示すように、フッ素含有酸化チタンを含む実施例５の抗菌剤組成物及びヨウ素含有酸化チタンを含む実施例６の抗菌剤組成物は、優れた抗菌性を示す。特に、フッ素含有酸化チタンを含む実施例５の抗菌剤組成物は、実施例６の抗菌剤組成物に比べて約２０倍の抗菌性を示した。
【０１３６】
（実施例７）
実施例１の「１．ハロゲン含有酸化チタンの調製」におけるフッ化水素酸の濃度を変化させた以外は同様の手順で、フッ素含有量の異なる５種類のフッ素含有酸化チタン（フッ素含有量：１．２５、１．５、２、２．５、３重量％）を調製した。得られたそれぞれのフッ素含有酸化チタンを、１／５００ＮＢ液に分散させて、フッ素含有酸化チタン濃度（６２．５、１２５、２５０、５００及び１０００ｍｇ／ｌ）の抗菌剤組成物を調製した。大腸菌（Ｅ．ｃｏｌｉ  ＮＢＲＣ３９７２）を抗菌剤組成物に添加し、初期菌数を２．９×１０4ｃｆｕ／ｍｌに調製した。ついで、光を照射させることなく、３７℃で２４時間振とう培養し、実施例３と同様に抗菌性を求めた。その結果を、図５に示す。抗菌剤を含まないブランクの２４時間後の菌数は４．５×１０6ｃｆｕ／ｍｌ（Ｌｏｇ菌数が６．６５）であった。
【０１３７】
（比較例１５）
比較例１５として、フッ素含有酸化チタンに替えて、ハロゲンを含まず光触媒活性を有するアナタース型酸化チタン（商品名：ＳＳＰ−２５）を使用した以外は、それぞれ、実施例７と同様に行った。その結果を図５に示す。
【０１３８】
フッ素を含まない比較例１５（商品名：ＳＳＰ２５、フッ素含有量：０重量％）では、抗菌剤濃度を増加させると菌数が減少する傾向が見られるものの、抗菌性（菌数がブランクの１００分の１になる濃度）は１０００ｍｇ／ｌ以上であった。一方、フッ素を１．２５重量％含む場合、抗菌剤濃度の増加にともなって菌数が減少し、２９６ｍｇ／ｌで抗菌性が認められた。また、ハロゲン含有酸化チタンにおけるフッ素濃度を１．２５〜２．５重量％まで変化させていくと、フッ素含有酸化チタンにおけるフッ素含有量が増えるとともに抗菌性能は向上した。
【０１３９】
フッ素含有酸化チタンにおけるフッ素含有量と抗菌性能の関係を図６に示す。また、図６で、抗菌剤濃度とは、抗菌性能（菌数がブランクの１００分の１になる条件）が得られるために必要な抗菌剤の濃度を示し、濃度が低いほど抗菌性能が高いことを示すものである。図６に示すように、フッ素含有酸化チタンにおけるフッ素含有量が低い範囲（例えば、フッ素濃度が１．２５重量％以上２．５重量％未満）でも、十分な抗菌性能を示している。また、抗菌性（菌数がブランクの１００分の１になる濃度）はフッ素含有量１．２５重量％以上の範囲で、フッ素含有量の増加とともに向上し、フッ素含有量２〜４重量％程度の範囲で極大値をとるものと思われる。
【０１４０】
（実施例８）
実施例１の「１．フッ素含有酸化チタンの調製」におけるフッ化水素酸をフッ化アンモニウムに変え、ｐＨ条件を０〜３の範囲で反応させた以外は同様の手順で３種類のフッ素含有酸化チタンを調製した。また、実施例１の「１．フッ素含有酸化チタンの調製」におけるフッ化水素酸の濃度を変化させた以外は同様の手順でフッ素含有酸化チタンを調製した（フッ素含有量：３重量％）。得られたフッ素含有酸化チタンを、それぞれ、１／５００ＮＢ液に分散させて、それぞれフッ素含有酸化チタンの濃度が異なる６２．５〜１０００ｍｇ／ｌの濃度の抗菌剤組成物を調製した。大腸菌（Ｅ．ｃｏｌｉ  ＮＢＲＣ３９７２）を抗菌剤組成物に添加し、初期菌数を２．９×１０4ｃｆｕ／ｍｌに調製した。ついで、光を照射させることなく、３７℃で２４時間振とう培養し、実施例４と同様に抗菌性を求めた。その結果を、図７に示す。抗菌剤を含まないブランクの２４時間後の菌数は４．５×１０6ｃｆｕ／ｍｌ（Ｌｏｇ菌数が６．６５）であった。
【０１４１】
図７に示すように、ハロゲンの原料としてフッ化アンモニウムを用いたものは、前記のサンプルよりも高い抗菌性を示し、反応時のｐＨ条件が３未満のものではさらに高い抗菌性を示した。ハロゲンの原料としてフッ化水素を用いたものは、最も高い抗菌性を示した。
【０１４２】
（実施例９）
実施例５〜８で作成したフッ素含有酸化チタンを１／５００ＮＢ液と混合し、得られた抗菌剤組成物のｐＨを測定した。実施例５〜８の結果から、以下の式を用いて抗菌活性値を求めた。
【０１４３】
抗菌活性値  ＝  ｌｏｇ（ブランクの菌数（２４時間後）／フッ素含有酸化チタンの菌数（２４時間後））。
【０１４４】
また、比較例として、比較例１のハロゲンを含まない酸化チタンを含む抗菌剤組成物及びその抗菌剤組成物に塩酸を添加してｐＨを変化させた抗菌剤組成物を準備し、実施例６と同様に抗菌性を求めた。参考例として、ハロゲン含有酸化チタン及びハロゲンを含まない酸化チタンの何れも添加せず、塩酸のみでｐＨを変化させたサンプルを準備し、そのサンプルを用いて同様に抗菌性を求めた。
【０１４５】
得られた抗菌剤組成物のｐＨと抗菌活性値の関係を図８に示す。実施例７及び実施例８のフッ素含有酸化チタンを含む抗菌剤組成物の抗菌活性値は、ｐＨに対して負の相関を示し、酸性になるほど抗菌活性値が高くなった。このとき、実施例７のフッ化水素酸を用いて調製したフッ素含有酸化チタンを含む抗菌剤組成物は、フッ素含有量が多いほど低いｐＨとなった。例えば、フッ素含有量が３．０重量％の時のｐＨは４．５であり、フッ素含有量２．０重量％の時のｐＨは５．１であり、フッ素含有量１．２５重量％の時のｐＨは６．５であった。
【０１４６】
比較例１のハロゲンを含まない酸化チタンを含む抗菌剤組成物のｐＨは７．４であり、その時の抗菌活性値は２以下となり抗菌性を示さなかった。塩酸を添加してｐＨを１．６まで低下させたところ、ｐＨが４以下の範囲で抗菌性を示した。これはハロゲン含有酸化チタンおよびハロゲンを含まない酸化チタンの何れもを添加せず、塩酸のみでｐＨを調整したときにみられる抗菌性の変化とほぼ同じであった。多くの微生物はｐＨ６〜７付近で最適な増殖環境となる。大腸菌の場合、ｐＨ４．４〜９．０の範囲で増殖可能であり、黄色ブドウ球菌では、ｐＨ４．０〜９．８の範囲で増殖可能であることが知られている（防菌防黴ハンドブック第１版、日本防菌防黴学会編、技報堂出版、ｐ１７９）。本発明のハロゲン含有酸化チタンを含む抗菌剤組成物の場合、ｐＨ４．０〜６．５の範囲でも抗菌活性値２以上となっており、単なるｐＨ変動とは異なるメカニズムで抗菌作用が発現していることがわかる。
【産業上の利用可能性】
【０１４７】
光照射なしでも抗菌活性を有し、光・放射線・塩素等の薬剤に対して安定で、抗菌効果が低下しないミスト発生装置を提供することができ、ミストサウナ装置、浴室乾燥機、浴室暖房乾燥機、加湿装置、加湿空気清浄機、エアコン、水処理装置などの用途に適用できる。
【図面の簡単な説明】
【０１４８】
【図１】本発明の実施の形態のミスト発生装置を備えた浴室乾燥機を示す概略断面図
【図２】本発明の実施例１の抗菌効果の一例を示すグラフ
【図３】本発明の実施例２の抗菌効果のその他の例を示すグラフ
【図４】本発明の実施例３の抗菌効果のその他の例を示すグラフ
【図５】本発明の実施例７の抗菌効果のその他の例を示すグラフ
【図６】本発明の実施例７のハロゲン含有酸化チタンにおけるフッ素含有量と抗菌効果の関係を示すグラフ
【図７】本発明の実施例８の抗菌効果のその他の例を示すグラフ
【図８】本発明の実施例９の抗菌効果のその他の例を示すグラフ
【図９】従来の浴室自動洗浄装置を示す概略断面図
【符号の説明】
【０１４９】
１      浴室乾燥機
２      給水口
３      抗菌手段
４      電磁弁
５      噴霧ノズル
６      吹き出し口
７      ファン
８      ルーバー
９      空気加熱用熱交換器
１０    水加熱用熱交換器
１１    人感センサ
１２    フロントパネル
１３    吸い込み口
１４    温度センサ
１５    湿度センサ
１６    光源
１７    流量制御弁
１０１  浴室自動洗浄装置
１０２  熱交換器
１０３  銀イオン供給手段
１０４  噴射手段
【図１】
2010214039.tif 000004
【図２】
2010214039.tif 000005
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
2010214039.tif 000009
【図７】
2010214039.tif 000010
【図８】
2010214039.tif 000011
【図９】
2010214039.tif 000012