(57)【要約】【課題】任意な繰り返しパターンを露光することができる露光装置および露光方法を提供する。【解決手段】近接露光装置１では、基板Ｗを移動させて、基板Ｗの被露光部を各マスクのパターン８５の下方位置で停止させるステップ移動と、各ステップ移動において停止した基板Ｗに対して複数のマスクＭを介して露光用光ＥＬを照射し、基板Ｗに各マスクＭのパターン８５を露光する露光動作とを繰り返す。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を保持可能、且つ所定の方向に沿って搬送可能な基板搬送機構と、
複数のマスクをそれぞれ保持する複数のマスク保持部と、
該複数のマスク保持部をそれぞれ駆動する複数のマスク駆動部と、
前記複数のマスク保持部の上方にそれぞれ配置され、露光用光を照射する複数の照射部と、
前記基板を前記所定の方向に移動させて、該基板の被露光部を前記マスクの下部に停止させるステップ移動動作と、前記基板の被露光部と前記マスクのパターンとを位置合わせするアライメント動作と、前記アライメント動作後の基板に対して前記マスクを介して前記露光用光を照射し、前記基板に前記マスクのパターンを露光する露光動作と、を繰り返す制御部と、
を備え、
前記アライメント動作は、少なくとも前記マスク駆動部によって前記マスク保持部を駆動することで行われることを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記複数のマスク保持部は、所定の方向において千鳥状に二列配置された上流側と下流側のマスク保持部を備え、
前記制御部は、前記上流側のマスク保持部に保持された前記マスクのパターンと前記下流側のマスク保持部に保持された前記マスクのパターンを、前記基板の各被露光部に露光することを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記複数のマスク保持部は、所定の方向において千鳥状に二列配置された上流側と下流側のマスク保持部を備え、
前記基板搬送機構は、前記上流側のマスク保持部に保持された前記マスクによって露光される基板を保持する第１の基板搬送機構と、前記下流側のマスク保持部に保持された前記マスクによって露光される基板を保持する第２の基板搬送機構と、を備え、
前記上流側のマスク保持部と前記下流側のマスク保持部との間には、前記基板の保持を前記第１の基板搬送機構から前記第２の基板搬送機構に切り替えるため、前記基板の前記所定の方向の幅以上の幅を持った切り替えステージが形成されていることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項４】
前記基板に予め形成されたパターンと前記マスクのマークを撮像する撮像手段、をさらに備え、
前記制御部は、前記アライメント動作時に、前記撮像手段によって前記パターンとマークを撮像し、前記マスク駆動部によって前記マスクと前記基板とのズレを補正することを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項５】
前記マスクには、複数のパターンが前記所定の方向に沿って形成されていることを特徴とする請求項４に記載の露光装置。
【請求項６】
基板を保持可能、且つ所定の方向に沿って搬送可能な基板搬送機構と、複数のマスクをそれぞれ保持する複数のマスク保持部と、該複数のマスク保持部をそれぞれ駆動する複数のマスク駆動部と、前記複数のマスク保持部の上方にそれぞれ配置され、露光用光を照射する複数の照射部と、を備える露光装置を用いた露光方法であって、
前記基板を前記所定の方向に移動させて、該基板の被露光部を前記マスクの下部に停止させるステップ移動工程と、
前記基板の被露光部と前記マスクのパターンとを位置合わせするアライメント工程と、
前記アライメント後の基板に対して前記マスクを介して前記露光用光を照射し、前記基板に前記マスクのパターンを露光する露光工程と、
を備え、
前記ステップ移動工程、前記アライメント工程、及び前記露光工程は、繰り返し行われ、
前記アライメント工程は、前記マスク駆動部によって前記マスク保持部を駆動することで行われることを特徴とする露光方法。
【請求項７】
基板を保持可能、且つ所定の方向に沿って搬送可能な基板搬送機構と、
複数のマスクをそれぞれ保持する複数のマスク保持部と、
前記複数のマスク保持部の上方にそれぞれ配置され、露光用光を照射する複数の照射部と、
前記基板を移動させて、該基板の被露光部を前記各マスクのパターンの下方位置で停止させるステップ移動動作と、前記各ステップ移動において前記停止した基板に対して前記複数のマスクを介して前記露光用光を照射し、前記基板に前記各マスクのパターンを露光する露光動作を繰り返す制御部と、
を備えることを特徴とする露光装置。
【請求項８】
前記基板に予め形成されたパターンと前記マスクのマークを撮像する撮像手段と、
前記撮像手段によって撮像されたパターンとマークに基づいて、前記マスクと前記基板との相対的なズレを補正する補正手段と、
をさらに備え、
前記制御部は、前記ステップ移動時に、前記撮像手段によって前記パターンとマークを撮像し、前記補正手段によって前記マスクと前記基板とのズレを補正することを特徴とする請求項７に記載の露光装置。
【請求項９】
前記各照射部は、光源と、該光源と前記マスク保持部との間で前記露光用光を遮光可能なシャッターと、を備え、
前記制御部は、点灯した状態の前記光源に対して前記シャッターを開閉制御し、前記露光用光を所定の光量分だけ前記基板に照射することを特徴とする請求項７又は８に記載の露光装置。
【請求項１０】
基板を保持可能、且つ所定の方向に沿って搬送可能な基板搬送機構と、複数のマスクをそれぞれ保持する複数のマスク保持部と、前記複数のマスク保持部の上方にそれぞれ配置され、露光用光を照射する複数の照射部と、を備える露光装置を用いた露光方法であって、
前記基板を移動させて、該基板の被露光部を前記各マスクのパターンの下方位置で停止させるステップ移動工程と、
前記各ステップ移動において前記停止した基板に対して前記複数のマスクを介して前記露光用光を照射し、前記基板に前記各マスクのパターンを露光する露光工程と、
を備えることを特徴とする露光方法。
【請求項１１】
前記露光装置は、前記基板に予め形成されたパターンと前記マスクのマークを撮像する撮像手段と、前記撮像手段によって撮像されたパターンとマークに基づいて、前記マスクと前記基板との相対的なズレを補正する補正手段と、をさらに備え、
前記ステップ移動工程において、前記撮像手段によって前記パターンとマークを撮像し、前記補正手段によって前記マスクと前記基板とのズレを補正することを特徴とする請求項１０に記載の露光方法。
【請求項１２】
前記各照射部は、光源と、該光源と前記マスク保持部との間で前記露光用光を遮光可能なシャッターと、を備え、
前記露光工程は、点灯した状態の前記光源に対して前記シャッターを開閉制御し、前記露光用光を所定の光量分だけ前記基板に照射することを特徴とする請求項１０又は１１に記載の露光方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光装置及び露光方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
大型の薄形テレビ等に用いられる液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等の大型のフラットパネルディスプレイは、基板上にマスクのパターンを分割逐次露光方式で近接露光転写することで製造されている。この種の分割逐次露光方法としては、例えば、パネルと同寸のマスクを用い、該マスクをマスクステージで保持すると共に基板をワークステージで保持して両者を近接して対向配置する。そして、ワークステージをマスクに対してステップ移動させる毎にマスク側から基板にパターン露光用の光を照射して、複数のマスクパターンを基板上に露光転写する。
【０００３】
また、他の露光方法として、マスクを細分化して、これらマスクを保持する複数のマスク保持部を千鳥状に配置し、基板を一方向に移動させながら露光を行うスキャン露光方式が知られている（例えば、特許文献１参照。）。この露光方式では、基板に形成されるパターンに、ある程度繰り返される部位があることを前提として、これをつなぎ合わせることで大きなパターンを形成できることを利用したものである。この場合、マスクは、パネルに合わせて大きくする必要がなく、比較的安価なマスクを用いることができる。
【０００４】
特に、特許文献１に記載のスキャン露光装置では、シャッターを移動させることで、光源からの露光用光を遮って、隣接する露光領域間に遮光領域を形成している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００７−１２１３４４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところで、特許文献１に記載のスキャン露光装置では、基板を静止させずに一方向に移動させながら露光するため、パターンが一直線上に形成されるようなストライプパターンを形成することは可能であるが、各色Ｒ，Ｇ，Ｂのマトリクスが移動方向及び該移動方向と直交する方向に順に配列されるパターン（図６参照）や、Ｖ字形のマトリクスが繰り返し配列されるＶ字パターン（図８参照）に対して適用することができない。
【０００７】
本発明は、前述した課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、任意な繰り返しパターンを露光することができる露光装置および露光方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の上記目的は、下記の構成により達成される。
（１）  基板を保持可能、且つ所定の方向に沿って搬送可能な基板搬送機構と、
複数のマスクをそれぞれ保持する複数のマスク保持部と、
該複数のマスク保持部をそれぞれ駆動する複数のマスク駆動部と、
前記複数のマスク保持部の上方にそれぞれ配置され、露光用光を照射する複数の照射部と、
前記基板を前記所定の方向に移動させて、該基板の被露光部を前記マスクの下部に停止させるステップ移動動作と、前記基板の被露光部と前記マスクのパターンとを位置合わせするアライメント動作と、前記アライメント動作後の基板に対して前記マスクを介して前記露光用光を照射し、前記基板に前記マスクのパターンを露光する露光動作と、を繰り返す制御部と、
を備え、
前記アライメント動作は、少なくとも前記マスク駆動部によって前記マスク保持部を駆動することで行われることを特徴とする露光装置。
（２）  前記複数のマスク保持部は、所定の方向において千鳥状に二列配置された上流側と下流側のマスク保持部を備え、
前記制御部は、前記上流側のマスク保持部に保持された前記マスクのパターンと前記下流側のマスク保持部に保持された前記マスクのパターンを、前記基板の各被露光部に露光することを特徴とする（１）に記載の露光装置。
（３）  前記複数のマスク保持部は、所定の方向において千鳥状に二列配置された上流側と下流側のマスク保持部を備え、
前記基板搬送機構は、前記上流側のマスク保持部に保持された前記マスクによって露光される基板を保持する第１の基板搬送機構と、前記下流側のマスク保持部に保持された前記マスクによって露光される基板を保持する第２の基板搬送機構と、を備え、
前記上流側のマスク保持部と前記下流側のマスク保持部との間には、前記基板の保持を前記第１の基板搬送機構から前記第２の基板搬送機構に切り替えるため、前記基板の前記所定の方向の幅以上の幅を持った切り替えステージが形成されていることを特徴とする（１）に記載の露光装置。
（４）  前記基板に予め形成されたパターンと前記マスクのマークを撮像する撮像手段、をさらに備え、
前記制御部は、前記アライメント動作時に、前記撮像手段によって前記パターンとマークを撮像し、前記マスク駆動部によって前記マスクと前記基板とのズレを補正することを特徴とする（１）に記載の露光装置。
（５）  前記マスクには、複数のパターンが前記所定の方向に沿って形成されていることを特徴とする（４）に記載の露光装置。
（６）  基板を保持可能、且つ所定の方向に沿って搬送可能な基板搬送機構と、複数のマスクをそれぞれ保持する複数のマスク保持部と、該複数のマスク保持部をそれぞれ駆動する複数のマスク駆動部と、前記複数のマスク保持部の上方にそれぞれ配置され、露光用光を照射する複数の照射部と、を備える露光装置を用いた露光方法であって、
前記基板を前記所定の方向に移動させて、該基板の被露光部を前記マスクの下部に停止させるステップ移動工程と、
前記基板の被露光部と前記マスクのパターンとを位置合わせするアライメント工程と、
前記アライメント後の基板に対して前記マスクを介して前記露光用光を照射し、前記基板に前記マスクのパターンを露光する露光工程と、
を備え、
前記ステップ移動工程、前記アライメント工程、及び前記露光工程は、繰り返し行われ、
前記アライメント工程は、前記マスク駆動部によって前記マスク保持部を駆動することで行われることを特徴とする露光方法。
（７）  基板を保持可能、且つ所定の方向に沿って搬送可能な基板搬送機構と、
複数のマスクをそれぞれ保持する複数のマスク保持部と、
前記複数のマスク保持部の上方にそれぞれ配置され、露光用光を照射する複数の照射部と、
前記基板を移動させて、該基板の被露光部を前記各マスクのパターンの下方位置で停止させるステップ移動動作と、前記各ステップ移動において前記停止した基板に対して前記複数のマスクを介して前記露光用光を照射し、前記基板に前記各マスクのパターンを露光する露光動作を繰り返す制御部と、
を備えることを特徴とする露光装置。
（８）  前記基板に予め形成されたパターンと前記マスクのマークを撮像する撮像手段と、
前記撮像手段によって撮像されたパターンとマークに基づいて、前記マスクと前記基板との相対的なズレを補正する補正手段と、
をさらに備え、
前記制御部は、前記ステップ移動時に、前記撮像手段によって前記パターンとマークを撮像し、前記補正手段によって前記マスクと前記基板とのズレを補正することを特徴とする（７）に記載の露光装置。
（９）  前記各照射部は、光源と、該光源と前記マスク保持部との間で前記露光用光を遮光可能なシャッターと、を備え、
前記制御部は、点灯した状態の前記光源に対して前記シャッターを開閉制御し、前記露光用光を所定の光量分だけ前記基板に照射することを特徴とする（７）又は（８）に記載の露光装置。
（１０）  基板を保持可能、且つ所定の方向に沿って搬送可能な基板搬送機構と、複数のマスクをそれぞれ保持する複数のマスク保持部と、前記複数のマスク保持部の上方にそれぞれ配置され、露光用光を照射する複数の照射部と、を備える露光装置を用いた露光方法であって、
前記基板を移動させて、該基板の被露光部を前記各マスクのパターンの下方位置で停止させるステップ移動工程と、
前記各ステップ移動において前記停止した基板に対して前記複数のマスクを介して前記露光用光を照射し、前記基板に前記各マスクのパターンを露光する露光工程と、
を備えることを特徴とする露光方法。
（１１）  前記露光装置は、前記基板に予め形成されたパターンと前記マスクのマークを撮像する撮像手段と、前記撮像手段によって撮像されたパターンとマークに基づいて、前記マスクと前記基板との相対的なズレを補正する補正手段と、をさらに備え、
前記ステップ移動工程において、前記撮像手段によって前記パターンとマークを撮像し、前記補正手段によって前記マスクと前記基板とのズレを補正することを特徴とする（１０）に記載の露光方法。
（１２）  前記各照射部は、光源と、該光源と前記マスク保持部との間で前記露光用光を遮光可能なシャッターと、を備え、
前記露光工程は、点灯した状態の前記光源に対して前記シャッターを開閉制御し、前記露光用光を所定の光量分だけ前記基板に照射することを特徴とする（１０）又は（１１）に記載の露光方法。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の露光装置及び露光方法によれば、基板を所定の方向に移動させて、基板の被露光部をマスクの下部に停止させるステップ移動と、基板の被露光部とマスクのパターンとを位置合わせするアライメント動作と、アライメント動作後の基板に対してマスクを介して露光用光を照射し、基板にマスクのパターンを露光する露光動作と、を繰り返し、また、アライメント動作は、少なくともマスク駆動部によってマスク保持部を駆動することで行われるようにしたので、任意な繰り返しパターンを露光することができる。特に、ステップ移動とアライメント動作とを別々のタイミングで行っているので、アライメントカメラの撮像スピードに依らず、ステップ移動を高速化することができ、タクトタイムの短縮が図られる。
【００１０】
また、千鳥状に二列配置された上流側と下流側のマスク保持部に保持された各マスクによって、基板の各被露光部を同時に露光することができるので、基板の保持を切り替える必要がなく、また、装置を小型化することができる。
【００１１】
また、千鳥状に二列配置された上流側と下流側のマスク保持部との間の切り替えステージで、基板の保持を第１の基板搬送機構から第２の基板搬送機構に切り替えるようにしたので、第１の基板搬送機構で保持された基板と、第２の基板搬送機構で保持された他の基板とを独立して動作させることができる。
【００１２】
さらに、アライメント動作時に、撮像手段によって基板に予め形成されたパターンとマスクのマークを撮像し、マスク駆動部によってマスクと基板とのズレを補正するようにしたので、基板にマスクのマークと同じだけマークを設けることなく、アライメント動作を行うことができる。
【００１３】
加えて、マスクには、複数のパターンが所定の方向に沿って形成されているので、複数のパターンを用いることで、スキャン露光であっても複雑なパターンを露光することができる。
【００１４】
また、本発明の他の露光装置及び露光方法によれば、基板を移動させて、基板の被露光部を各マスクのパターンの下方位置で停止させるステップ移動と、各ステップ移動において停止した基板に対して複数のマスクを介して露光用光を照射し、基板に各マスクのパターンを露光する露光動作とを繰り返すようにしたので、任意な繰り返しパターンを露光することができる。
【００１５】
また、ステップ移動時に、撮像手段によってパターンとマークを撮像し、補正手段によってマスクと基板とのズレを補正するようにすると、位置合わせをステップ移動時に行なうことができ、タクトタイムの増加を防止しながら精度の良い露光を行なうことができる。
【００１６】
さらに、各照射部は、光源と、光源とマスク保持部との間で露光用光を遮光可能なシャッターと、備え、点灯した状態の光源に対してシャッターを開閉制御し、露光用光を所定の光量分だけ基板に照射するようにしてもよい。例えば、水銀ランプを用いると、ＹＡＧフラッシュレーザ光源を使用する場合に比べて比較的安価に構成することができる。加えて、カラーフィルタに使用される感光剤であるフォトレジストも、水銀ランプで露光した場合に最適となる通常のものを適用することができ、ＹＡＧフラッシュレーザ光源を使用する場合に必要なフォトレジストの調整を行なう必要がない。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本発明の第１実施形態である近接露光装置を、照射部を取り外した状態で示す平面図である。
【図２】図１における近接スキャン露光装置の正面図である。
【図３】第１実施形態に使用されるマスクパターンを示すマスクの平面図である。
【図４】第１実施形態の露光方法を示すフローチャートである。
【図５】第１実施形態における露光方法の動作説明図である。
【図６】図３のマスクによって露光転写される基板の平面図である。
【図７】他のマスクパターンを示すマスクの平面図である。
【図８】図７のマスクによって露光転写される基板の平面図である。
【図９】本発明の第２実施形態である近接露光装置を、照射部を取り外した状態で示す平面図である。
【図１０】図９における近接露光装置の正面図である。
【図１１】（ａ）は、基板駆動ユニットのＹ方向搬送機構の上面図であり、（ｂ）は、ボールねじ機構の拡大断面図である。
【図１２】第２実施形態に使用されるマスクの平面図である。
【図１３】第２実施形態における露光方法の動作説明図である。
【図１４】第２実施形態の変形例における露光方法の動作説明図である。
【図１５】本発明の第３実施形態である近接露光装置の正面図である。
【図１６】第３実施形態の近接露光装置を、照射部を取り外した状態で示す平面図である。
【図１７】第２実施形態の近接露光装置における露光動作を説明するための図である。
【図１８】（ａ）は、アライメントカメラの配置例を示す図であり、（ｂ）は、アライメントカメラの他の配置例を示す図である。
【図１９】（ａ）及び（ｂ）は、非繰り返しパターンを有するマスク及び遮蔽部材を示す図である。
【図２０】（ａ）は、非繰り返しパターンを有するマスクの具体例であり、（ｂ）は、（ａ）のマスクを用いて露光された基板を示す図である。
【図２１】第３実施形態の露光動作を示すフローチャートである。
【図２２】本発明の第４実施形態の近接露光装置を、照射部を取り外した状態で示す平面図である。
【図２３】（ａ）は、第４実施形態の第１の変形例に係る基板搬送機構を示す図であり、（ｂ）は、第４実施形態の第２の変形例に係る基板搬送機構を示す図である。
【図２４】複数のパネルパターンを有する基板を、上流側及び下流側のマスク保持部に保持されたマスクによって露光する状態を示す図である。
【図２５】露光が完了した基板を示す図である。
【図２６】複数のパネルパターンを有する基板を、上流側及び下流側のマスク保持部に保持された、図１８と異なるマスクパターンを有するマスクによって露光する状態を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、本発明に係る近接露光装置及び近接露光方法の実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。
【００１９】
先ず、本実施形態の近接露光装置１の構成について概略説明する。図１及び図２に示すように、本実施形態の近接露光装置１は、基板（例えば、液晶ディスプレイ用基板としてのカラーフィルタ基板）Ｗを浮上させて支持すると共に、所定方向（図１のＸ方向）に搬送する基板搬送機構１０と、複数のマスクＭをそれぞれ保持し、所定方向と交差する方向（図１のＹ方向）に沿って千鳥状に二列配置された複数（図１に示す実施形態において、左右それぞれ６個）のマスク保持部１１と、マスク保持部１１を駆動するマスク駆動部１２と、複数のマスク保持部１１の上部にそれぞれ配置されて露光用光を照射する複数の照射部１４（図２参照）と、近接露光装置１の各作動部分の動作を制御する制御部１５と、を主に備える。
【００２０】
基板搬送機構１０は、基板ＷをＸ方向に搬送する領域、即ち、複数のマスク保持部１１の下方領域、及びその下方領域からＸ方向両側に亘る領域に設けられた浮上ユニット１６と、基板ＷのＹ方向一側（図１において上辺）を保持してＸ方向に搬送する基板駆動ユニット１７とを備える。浮上ユニット１６は、複数のフレーム１９上にそれぞれ設けられた排気のみ或いは排気と吸気を同時に行なう複数のエアパッド２０を備え、ポンプ（図示せず）やソレノイドバルブ（図示せず）を介してエアパッド２０からエアを排気或いは、吸排気する。基板駆動ユニット１７は、図１に示すように、浮上ユニット１６によって浮上、支持された基板Ｗの一端を保持する吸着パッド２２を備え、モータ２３、ボールねじ２４、及びナット（図示せず）からなるＸ方向搬送機構であるボールねじ機構２５によって、ガイドレール２６に沿って基板ＷをＸ方向に搬送する。なお、図２に示すように、複数のフレーム１９は、地面にレベルブロック１８を介して設置された装置ベース２７上に他のレベルブロック２８を介して配置されている。また、基板Ｗは、ボールねじ機構２５の代わりに、リニアサーボアクチュエータによって搬送されてもよい。
【００２１】
マスク駆動部１２は、フレーム（図示せず）に取り付けられ、マスク保持部１１をＸ方向に沿って駆動するＸ方向駆動部３１と、Ｘ方向駆動部３１の先端に取り付けられ、マスク保持部１１をＹ方向に沿って駆動するＹ方向駆動部３２と、Ｙ方向駆動部３２の先端に取り付けられ、マスク保持部１１をθ方向（Ｘ，Ｙ方向からなる水平面の法線回り）に回転駆動するθ方向駆動部３３と、θ方向駆動部３３の先端に取り付けられ、マスク保持部１１をＺ方向（Ｘ，Ｙ方向からなる水平面の鉛直方向）に駆動するＺ方向駆動部３４と、を有する。これにより、Ｚ方向駆動部３４の先端に取り付けられたマスク保持部１１は、マスク駆動部１２によってＸ，Ｙ，Ｚ，θ方向に駆動可能である。なお、Ｘ，Ｙ，θ，Ｚ方向駆動部３１，３２，３３，３４の配置の順序は、適宜変更可能である。なお、本実施形態では、マスク駆動部１２は、後述するラインカメラ３５によって撮像された基板ＷのパターンとマスクＭのマークに基づいて、マスクＭと基板Ｗとの相対的なズレを補正する補正手段を構成する。
【００２２】
また、図１に示すように、Ｙ方向に沿ってそれぞれ直線状に配置された上流側及び下流側の各マスク保持部１１ａ，１１ｂ間には、各マスク保持部１１のマスクＭを同時に交換可能なマスクチェンジャ２が配設されている。マスクチェンジャ２により搬送される使用済み或いは未使用のマスクＭは、マスクストッカ３，４との間でマスクローダー５により受け渡しが行なわれる。なお、マスクストッカ３とマスクチェンジャ２とで受け渡しが行なわれる間にマスクプリアライメント機構（図示せず）によってマスクＭのプリアライメントが行なわれる。
【００２３】
図２に示すように、マスク保持部１１の上部に配置される照射部１４は、紫外線を含んだ露光用光ＥＬを放射する、超高圧水銀ランプからなる光源４１と、光源４１から照射された光を集光する凹面鏡４２と、この凹面鏡４２の焦点近傍に光路方向に移動可能な機構を有するオプチカルインテグレータ４３と、光路の向きを変えるための平面ミラー４５及び球面ミラー４６と、この平面ミラー４５とオプチカルインテグレータ４３との間に配置された照射光路を開閉制御するシャッター４４と、を備える。
【００２４】
マスク保持部１１に保持されるマスクＭは、図３に示すように、Ｙ方向における３つのマトリクスがＸ方向における位置を互いに変えて配置される組合せをＹ方向に複数並べたマスクパターン８５と、マスクパターン８５の上流側で、後述するラインカメラ用のマーク８８を持った長尺状の窓部８７が設けられる。
【００２５】
また、マスク保持部１１の下方に配置されたフレーム１９には、基板ＷとマスクＭの相対位置を検知する撮像手段であるラインカメラ３５が、マスクＭの窓部８７を観測可能な位置で、複数のマスク保持部１１ごとに配置されている。ラインカメラ３５としては、公知の構成のものが適用され、搬送される基板Ｗに予め形成されたパターン（本実施形態では、ブラックマトリクスの基準線）と、各窓部８７のマーク８８とを、それぞれ同一視野に捕らえて撮像するものであり、光を受光する多数の受光素子を一直線上に並べて備えた受光面としてのラインＣＣＤと、基板Ｗの基準線やマークをラインＣＣＤ上に結増させる集光レンズ等を備える。
【００２６】
次に、このような近接露光装置１を用いて、ブラックマトリクスが形成された基板Ｗに着色層Ｒ，Ｇ，Ｂのいずれかを露光転写する方法について図４及び図５を参照しながら説明する。なお、図５では、簡略化のため、上流側及び下流側のマスクＭをそれぞれ３つとしている。
まず、照射部１４の光源４１を点灯してシャッター４４を閉じた状態で、浮上ユニット１６のエアパッド２０の空気流によって基板Ｗを浮上させて保持し、基板Ｗの一端を基板駆動ユニット１７で吸着してＸ方向に搬送する（ステップＳ１）。そして、図５（ａ）に示すように、基板Ｗがステップ移動開始位置に到着すると（ステップＳ２）、基板Ｗのステップ移動を開始する（ステップＳ３）。この際、移動する基板Ｗが上流側のマスク保持部１１ａの下方に入り込むと、各ラインカメラ３５は、ブラックマトリクスの基準線と、マスクＭのマーク５２ａとを撮像し（ステップＳ４）、撮像によって得られた画像を処理してＹ方向の位置ズレ量を観測する（ステップＳ５）。そして、この位置ズレ量のデータに基づいてマスク駆動部１２を駆動し、マスク保持部１１を基板Ｗのブラックマトリクスに倣わせ、マスクＭと基板Ｗとのズレを補正してマスクＭと基板Ｗとを位置合わせする（ステップＳ６）。さらに、この位置合わせを行ないながら、図５（ｂ）に示すように、基板Ｗの先頭の被露光部がマスクＭのパターン８５の下方位置まで移動した時に基板Ｗのステップ移動を停止させる（ステップＳ７）。
【００２７】
そして、基板Ｗが位置合わせされて停止した状態で、照射部１４のシャッター４４を開制御し（ステップＳ８）、照射部１４からの露光用光ＥＬがマスクＭを介して基板Ｗに照射され、マスクＭのパターン８５が先頭の被露光部において、基板Ｗに塗布されたカラーレジストに転写される（ステップＳ９）。そして、所定の光量分だけ露光転写が行なわれると、シャッター４４が閉制御される（ステップＳ１０）。
【００２８】
これにより、先頭の被露光部の露光転写が完了すると、上記と同様に、次に露光転写が行なわれる後続の被露光部がマスクＭのパターン８５の下方位置にくるまで基板Ｗをステップ移動させ、この移動の間に位置合わせが行なわれる（図５（ｃ）参照）。そして、シャッター４４を開閉制御することで、後続の被露光部に露光用光ＥＬを所定の光量分だけ基板Ｗに照射し、露光転写が行なわれる。
【００２９】
さらに、上流側のマスクＭによって露光された転写パターン８３間に存在する未露光部は、下流側のマスクＭによって露光転写される被露光部となる。このため、ステップ移動によって、基板Ｗが下流側のマスク保持部１１ｂの下方位置に移動した際に、上流側のマスクＭの露光と同期して下流側のマスクＭによる露光が行なわれるように、マスク保持部１１ｂのＸ方向の位置が設定されている。そして、ステップ移動動作が行われる際には、下流側のマスク駆動部１２もＹ方向へのマスクの位置合わせが行なわれ、ステップ移動が停止した際に、下流側のマスクＭでも露光転写が行なわれる（図５（ｄ）参照）。
【００３０】
このような露光が基板Ｗ全体に対して行なわれたかどうかをステップＳ１１にて判断し、位置合わせを行ないながらのステップ移動動作と、露光動作とが基板Ｗ全体が露光されるまで繰り返し行われる。これにより、基板Ｗの露光領域全体に亘って両方の動作を繰り返すことで、いずれかの着色層が基板全体に露光転写される。
【００３１】
さらに、このような露光動作を各色Ｒ，Ｇ，Ｂに対して行なうことで、図６に示すようなパターンが露光転写される。なお、残りの色の露光転写を行なう際には、基板ＷのＹ方向の位置をずらして搬送すれば、同一のマスクＭを用いることができる。
また、本実施形態は、図６に示すパターンに限らず、図７に示すようなマスクＭを用いることで、図８に示すＶ字パターンを形成することも可能である。
【００３２】
以上説明したように、本実施形態の近接露光装置１及び近接露光方法によれば、制御部１５の制御により、基板Ｗを移動させて、基板Ｗの被露光部を各マスクＭのパターン８５の下方位置で停止させるステップ移動と、各ステップ移動において停止した基板Ｗに対して複数のマスクＭを介して露光用光ＥＬを照射し、基板Ｗに各マスクＭのパターン８５を露光する露光動作とを繰り返すようにしたので、任意な繰り返しパターンを露光することができる。
【００３３】
また、ステップ移動時に、ラインカメラ３５によってパターン（ブラックマトリクスの基準線）とマーク８８を撮像し、マスク駆動部１２によってマスクＭと基板Ｗとのズレを補正するようにすると、位置合わせをステップ移動時に行なうことができ、タクトタイムの増加を防止しながら精度の良い露光を行なうことができる。
【００３４】
さらに、各照射部１４は、水銀ランプからなる光源４１と、光源４１とマスク保持部１１との間で露光用光ＥＬを遮光可能なシャッター４４と、備えることで、ＹＡＧフラッシュレーザ光源を使用する場合に比べて比較的安価に構成することができる。加えて、カラーフィルタに使用される感光剤であるフォトレジストも、水銀ランプを露光した場合に最適となる通常のものを適用することができ、ＹＡＧフラッシュレーザ光源を使用する場合に必要なフォトレジストの調整を行なう必要がない。
【００３５】
（第２実施形態）
次に、本発明の第２実施形態に係る近接露光装置及び近接露光方法について、図９〜図１３を参照して説明する。なお、第１実施形態と同一又は同等部分については、同一符号を付して説明を省略或いは簡略化する。
【００３６】
第２実施形態の近接露光装置１ａでは、図９に示すように、マスク保持部１１は、上流側のマスク保持部１１ａのみから構成される。また、基板駆動ユニット１７は、Ｘ方向搬送機構であるボールねじ機構２５によって、移動基台５２をＸ方向に沿って往復搬送するものとし、移動基台５２上にはＹ方向搬送機構５４と、このＹ方向搬送機構５４によってＹ方向に往復搬送される吸着パッド５６と、が設けられる。
【００３７】
Ｙ方向搬送機構５４は、図１１に示すように、互いに平行に配置され、且つ互いに独立して駆動可能な第１及び第２の駆動部である第１及び第２のボールねじ機構６４，６５をそれぞれ備えている。各ボールねじ機構６４，６５は、ボールねじ６４ａ，６５ａのねじ軸を回転駆動する駆動モータ６４ｂ，６５ｂを備えると共に、ボールねじ６４ａ，６５ａのナット６４ｃ，６５ｃには、ベアリング６６を介して吸着パッド５６の端部を回動自在に支持する支持軸６７が設けられている。これにより、Ｙ方向搬送機構５４は、吸着パッド５６を移動基台５２に対してＹ方向に移動可能、且つ、Ｘ方向及びＹ方向に垂直な法線回りのθ方向に揺動可能とする。
【００３８】
さらに、撮像手段であるラインカメラ３５は、図１０に示すように、Ｘ方向に沿って配置された移動案内軸３６に案内されてＸ方向に移動可能であり、制御部１５からの指令に基づいて作動する駆動装置（図示せず）によって駆動されて、マスクＭのパターン８５に対して基板Ｗの搬送方向上流側と下流側に移動可能である。なお、ラインカメラ３５を移動させる構成の代わりに、各マスク保持部１１に一対のラインカメラが設けられてもよい。
【００３９】
本実施形態のマスクＭは、２種類のパターン８５、８６と、これらパターン８５，８６の上流側及び下流側にマーク８８，９０を持った長尺状の窓部８７，８８と、を備える（図１２参照）。２種類のマスクパターン８５、８６は、互いのマトリクス数が異なる第１実施形態と同形状のパターンであり、マスク駆動部１２によってマスク保持部１１を移動させることにより、いずれか一方のマスクパターン８５、８６が、照射部１４からの露光用光ＥＬの照射領域内に配置されることで切り替えられる。即ち、露光に際しては、２種類のマスクパターン８５、８６が切り替えられて、いずれか一方のマスクパターン８５、８６が有効となって基板Ｗに露光転写される。
【００４０】
このような近接露光装置１ａでは、第１実施形態と同様に、ステップ移動動作と露光動作を繰り返し行いながら、基板Ｗ全体が複数のマスク保持部１１を通過することで、基板Ｗには、図１３（ａ）に示すように、Ｙ方向に所定の間隔ずつ離れた複数の第１の転写パターン８３が形成される。
【００４１】
次に、図１３（ｂ）に示すように、第１の転写パターン形成後、基板駆動ユニット１７のＹ方向搬送機構６２によって、基板Ｗを保持する吸着パッド５６をマスク保持部１１に対して所定の距離だけ移動させる。具体的に、各マスクパターン８５，８６のＹ方向における中心位置が一致している本実施形態においては、所定の距離Ｌは、隣接するマスクＭのマスクパターン８５，８６のＹ方向における中心間距離Ｄの略１／２である。
【００４２】
さらに、マスクパターン８６が照射部１３からの露光用光の照射領域内に位置するように、マスク駆動部１２によってマスク保持部１１を移動させ、有効なマスクパターンをマスクパターン８５からマスクパターン８６に切り替える。
【００４３】
そして、ラインカメラ３５をパターン８５に対して下流側に位置させた状態で、基板駆動ユニット１７のＸ方向搬送機構２５は基板Ｗの搬送方向をＸ方向と逆方向に切り替えて、基板Ｗを、Ｘ方向と逆方向に搬送する。そして、第１実施形態と同様に、ステップ移動動作と露光動作を繰り返し行い、基板Ｗ全体が複数のマスク保持部１１を通過することで、第１の転写パターン８３間の未露光部にマスクパターン８６を露光転写して第２の転写パターン８４を形成する（図１３（ｃ）参照）。このとき、第２の転写パターン８４の幅は、未露光部の幅より僅かに大きいので、第１の転写パターン８３と第２の転写パターン８４には、重ね合わせ部が形成されて、基板Ｗの全面にマスクパターン８５，８６が露光転写される。
【００４４】
従って、マスクＭ、マスク保持部１１、照射部１４の数を削減した第２実施形態においても、基板Ｗ全体を露光することができ、第１実施形態と同様の効果を奏することができる。
【００４５】
なお、第２実施形態の変形例として、近接露光装置１ａは、移動軸や一対のラインカメラを設けずに、単一のラインカメラ３５をパターン８５の上流側に固定するようにしてもよい。
【００４６】
この場合、図１４（ａ）に示すように、第２実施形態と同様、ステップ移動動作と露光動作を繰り返し行いながら、基板Ｗ全体が複数のマスク保持部１１を通過することで、基板Ｗには、Ｙ方向に所定の間隔ずつ離れた複数の第１の転写パターン８３が形成される。
【００４７】
次に、図１４（ｂ）に示すように、第１の転写パターン８３が形成された基板Ｗは、基板駆動ユニット１７のＸ方向搬送機構２５とＹ方向搬送機構５４の両方の駆動により、基板駆動ユニット１７の基板Ｗを保持する吸着パッド５６をマスク保持部１１に対してＹ方向に所定の距離Ｌだけ移動させつつ、Ｘ方向と逆方向に移動させる。また、この間に、有効なマスクパターンがパターン８５からマスクパターン８６に切り替えられる。
【００４８】
その後、図１４（ｃ）に示すように、第１実施形態と同様に、基板ＷをＸ方向に搬送し、ステップ移動動作と露光動作を繰り返し行い、基板Ｗ全体が複数のマスク保持部１１を通過することで、第１の転写パターン８３間の未露光部にマスクパターン８６を露光転写して第２の転写パターン８４を形成され、基板Ｗには、全面にマスクパターン８５，８６が露光転写される。
【００４９】
従って、撮像手段の数を削減したこの変形例においても、基板Ｗ全体を露光することができ、第１実施形態と同様の効果を奏することができる。
【００５０】
（第３実施形態）
次に、本発明の第３実施形態に係る近接露光装置及び近接露光方法について、図１５〜図２１を参照して説明する。なお、第１実施形態と同一又は同等部分については、同一符号を付して説明を省略或いは簡略化する。
【００５１】
第１及び第２実施形態の近接露光装置１，１ａでは、マスクＭと基板Ｗとのアライメントを行いながらステップ移動させ、ステップ移動後の基板Ｗの停止後に露光動作を行うようにしているが、第３実施形態の近接露光装置１ｂでは、アライメントはステップ移動後に行われ、アライメント動作後に照射部１４のシャッター４４を開くことで露光動作が行われる。
【００５２】
このため、近接露光装置１ｂの撮像手段は、ラインカメラ３５の代わりに少なくとも一対のアライメントカメラ３５ａがマスク保持部１１ａ，１１ｂ毎に、マスクＭのパターン９０（図１９（ａ）及び（ｂ）参照。）のＹ方向両側方に設けられている。アライメントカメラ３５ａは、図１８（ａ）に示すように、基板Ｗの下方に配置され、マスクＭの上方に配置されたカメラ用光源３８を用いてマスクのアライメントマーク９３（図１９（ａ）及び（ｂ）参照。）と基板Ｗのアライメントマーク或いは、下地パターンとを撮像しているが、図１８（ｂ）に示すように、マスクＭの上方に配置して、基板Ｗの下方に配置されたカメラ用光源３８を用いてこれらを撮像するようにしてもよい。また、アライメントカメラ３５ａをマスクＭの上方、及び基板Ｗの下方の両側に配置することで、金属基板等のような、光を透過しない基板であっても間接的にマスクＭと基板Ｗとの位置合わせを行うことができる。
【００５３】
また、図１６に示すように、近接露光装置１ｂでは、基板搬送機構１０の上流側に、前工程から搬入された基板Ｗを受け取るための基板入口部ＩＳが設けられ、下流側に、露光済みの基板Ｗを後工程へ搬出するために基板出口部ＯＳが設けられている。なお、本実施形態及び後述の第４実施形態では、マスク保持部１１を千鳥状に二列配置された２つの上流側のマスク保持部１１ａと１つの下流側のマスク保持部１１ｂとしているが、上記実施形態と同様に多数配置してもよい。また、本実施形態の基板駆動ユニット１７ａは、上記実施形態のボールねじ機構の代わりに、リニアサーボアクチュエータ２５ａによって基板Ｗを搬送している。
【００５４】
ここで、図２１に示すフローチャートを参照して、近接露光装置１ｂの露光について説明する。まず、超高圧水銀ランプからなる照射部１４の光源４１を点灯してシャッター４４を閉じた状態で、浮上ユニット１６のエアパッド２０の空気流によって基板入口部ＩＳから受け取った基板Ｗを浮上させて保持し、基板Ｗの一端を基板駆動ユニット１７で吸着してＸ方向に搬送する（ステップＳ２１）。そして、基板Ｗがステップ移動開始位置に到着すると（ステップＳ２２）、基板Ｗのステップ移動を開始する（ステップＳ２３）。ステップ移動は、所定距離（例えば、マスクのパターンの略Ｘ方向幅分）だけ基板Ｗを移動して、基板Ｗの被露光部である下地パターンがマスク保持部１１ａの下部に入り込んで停止する（ステップＳ２４）。その後、アライメントカメラ３５ａにてマスクＭのアライメントマーク９３と、基板Ｗのアライメントマークまたは下地パターンとを撮像する（ステップＳ２５）。そして、撮像によって得られた画像を処理して、これらのズレ量を観測し（ステップＳ２６）、マスク駆動部１２によってマスク保持部１１ａ，１１ｂを駆動し、マスクＭと基板Ｗとのズレを補正してアライメント動作を行う（ステップＳ２７）。なお、観測されたズレ量のうち、各マスク保持部１１ａ，１１ｂにおいて共通であるズレ量に対して、また、大きなズレ量に対しては、基板Ｗを動かしても良い。
【００５５】
そして、アライメント動作完了後、照射部１４のシャッター４４を開制御し（ステップＳ２８）、アライメント動作後の基板Ｗに対してマスクＭを介して露光用光ＥＬを照射し、基板ＷにマスクＭのパターンを露光する（ステップＳ２９）。そして、所定の光量分だけ露光転写が行われたら、シャッター４４を閉制御して、露光動作を完了する（ステップＳ３０）。
【００５６】
これにより、先頭の被露光部の露光転写が完了すると、上記と同様に、次に露光転写が行なわれる後続の被露光部がマスクＭのパターン９０の下方位置にくるまで基板Ｗをステップ移動させ、同様に移動停止後にアライメント動作が行なわれる。そして、アライメント動作後、シャッター４４を開閉制御することで、後続の被露光部に露光用光ＥＬを所定の光量分だけ基板Ｗに照射し、露光転写が行なわれる。
【００５７】
さらに、上流側のマスクＭによって露光された転写パターン間に存在する未露光部は、下流側のマスクＭによって露光転写される被露光部となる。このため、ステップ移動によって、基板Ｗが下流側のマスク保持部１１ｂの下方位置に移動した後に、下流側のマスク駆動部１２もアライメント動作が行なわれ、アライメント動作後に、下流側のマスクＭでも露光転写が行なわれる。
【００５８】
このような露光が基板Ｗ全体に対して行なわれたかどうかをステップＳ３１にて判断し、ステップ移動動作、アライメント動作、露光動作は基板Ｗ全体が露光されるまで繰り返し行われる。基板Ｗを最後まで露光していない場合には、ステップＳ２３に戻り、基板Ｗを最後まで露光した場合には、上記動作を終了する。
【００５９】
また、図１６に示すように、近接露光装置１ｂでは、千鳥状に二列配置された上流側のマスク保持部１１ａと下流側のマスク保持部１１ｂが近接して配置されており、上記露光動作の途中で、上流側のマスクＭのパターンと下流側のマスクＭのパターンが、基板Ｗの各被露光部に同時に露光される。このため、ステップ動作後にアライメント調整した状態では、図１７に示すように、上流側のマスクＭのパターン９０と、下流側のマスクＭのパターン９０の任意の画素間の所定の方向における距離ｎＬは、Ｘ方向で隣接する画素ピッチＬの整数倍である。これにより、ステップ動作してアライメント動作後、上流側のマスクＭのパターン９０が基板Ｗの下地パターンに露光転写されている際に、下流側のマスクＭのパターン９０が基板Ｗの下地パターンと位置合わせされているので、同時に露光転写が可能となる。
【００６０】
なお、上流側のマスクＭのパターン９０と下流側のマスクＭのパターン９０は、同時に露光転写されることがタクトタイム短縮の観点から好ましいが、別々のタイミングで露光が行われても良い。また、マスク駆動部１２によって各マスク保持部１１ａ，１１ｂを動かす量は、基板Ｗの下地パターンのサイズと各照射部１４の位置（マスクＭの位置）から前もって算出しておいてもよく、又は、実際に基板が各照射部１４の下に位置した際に合わせるようにしてもよい。
【００６１】
さらに、図１９（ａ）及び（ｂ）に示すように、各マスク保持部１１ａ，１１ｂに保持されるマスクＭは、複数のパターン９０，９１，９２がＸ方向に沿って形成されており、マスクＭのＸ方向両側に移動可能に設けられた遮蔽部材３７によって所望のパターン以外を遮蔽しながら該所望のパターンを露光することができる。図１９（ａ）は、繰り返しパターン９０と、２つの非繰り返しパターン９１，９２を有する場合を示し、図１９（ｂ）は、繰り返しパターン９０と非繰り返しパターン９１とを有する場合を示している。従って、図２０（ａ）に示す、中央に繰り返しパターン９０、Ｘ方向両側に非繰り返しパターン９１，９２を有するようなマスクＭの場合、図２０（ｂ）に示すように、非繰り返しパターン９１によってパターンＰａを露光し、繰り返しパターン９０によってパターンＰｂを露光し、非繰り返しパターン９２によってパターンＰｃを露光することで、複雑なパターンＰを基板Ｗに露光することができる。
【００６２】
また、この近接露光装置１ｂでは、マスクＭと基板Ｗとの間に所定のギャップを持った状態で露光転写が行われる。マスクＭは高価なものであるため、基板Ｗへの接触やゴミ等の異物の挟み込みなどによりマスクを傷つけることを避ける必要がある。このため、図１５及び図１６に示すように、近接露光装置１ｂでは、上流側のマスク保持部１１ａより上流側に異物検査機３９を配置して、基板Ｗ上の異物を検出可能としている。これにより、異物検査機３９を通過した基板Ｗに対して露光を行うことで、マスクの損傷を防止することができる。そして、異物検査機３９が異物を検出した場合には、すべての露光を停止する。または、異物が発見された場所のマスク保持部１１を上昇させ、残りのマスク保持部１１では露光を続け、異物がマスク下面を通過した後に、該マスク保持部１１を所定のギャップに下降させて、露光を行う。さらに、安全のために、異物がマスク下面を通過してもマスク保持部１１を下降させなくてもよい。
【００６３】
このように構成された近接露光装置１ｂによれば、基板ＷをＸ方向に移動させて、基板Ｗの被露光部の下地パターンをマスクＭの下部に停止させるステップ移動と、基板Ｗの被露光部の下地パターンとマスクＭのパターン９０，９１，９２とを位置合わせするアライメント動作と、アライメント動作後の基板Ｗに対してマスクＭを介して露光用光ＥＬを照射し、基板ＷにマスクＭのパターン９０，９１，９２を露光する露光動作と、を繰り返し、また、アライメント動作は、少なくともマスク駆動部１２によってマスク保持部１１を駆動することで行われるようにしたので、任意な繰り返しパターンを露光することができる。特に、第１及び第２実施形態では、ステップ移動時に、ラインカメラ３５により撮像しながら追従移動をさせてマスクＭと基板Ｗとの位置合わせを行っていたため、ステップ移動の速度がラインカメラ３５の撮像スピードによって制限され、高速化が困難であった。一方、本実施形態では、ステップ移動とアライメント動作とを別々のタイミングで行っているので、アライメントカメラ３５ａの撮像スピードに依らず、ステップ移動を高速化することができ、タクトタイムの短縮が図られる。
【００６４】
また、千鳥状に二列配置された上流側と下流側のマスク保持部１１ａ，１１ｂに保持された各マスクＭによって、基板Ｗの各被露光部の下地パターンを同時に露光することができるので、基板Ｗの保持を切り替える必要がなく、また、装置を小型化することができる。
【００６５】
さらに、アライメント動作時に、アライメントカメラ３５ａによって基板Ｗに予め形成されたパターンとマスクＭのアライメントマーク９３を撮像し、マスク駆動部１２によってマスクＭと基板Ｗとのズレを補正するようにしたので、基板ＷにマスクＭのアライメントマーク９３と同じだけマークを設けることなく、アライメント動作を行うことができる。
【００６６】
加えて、マスクＭには、複数のパターン９０，９１，９２がＸ方向に沿って形成されているので、複数のパターン９０，９１，９２を用いることで、スキャン露光であっても複雑なパターンを露光することができる。
その他の構成及び作用については、第１実施形態のものと同様である。
【００６７】
（第４実施形態）
図２２は、本発明の第４実施形態に係る近接露光装置及び近接露光方法について説明するものである。なお、本実施形態は、２つの基板搬送機構１７ａ１，１７ａ２を有する点において、第３実施形態のものと異なる。
【００６８】
即ち、本実施形態の近接露光装置１ｃでは、千鳥状に二列配置された上流側と下流側のマスク保持部１１ａ，１１ｂとの間に、基板ＷのＸ方向の幅より大きな幅を有する切り替えステージＣＳが設けられている。また、近接露光装置１ｃは、上流側のマスク保持部１１ａに保持されたマスクＭによって露光される基板Ｗ１を保持する第１の基板搬送機構１７ａ１と、下流側のマスク保持部１１ｂに保持されたマスクＭによって露光される基板Ｗ２を保持する第２の基板搬送機構１７ａ２と、を備えており、切り替えステージＣＳにて、基板Ｗ１の保持を第１の基板搬送機構１７ａ１から第２の基板搬送機構１７ａ２に切り替える。
【００６９】
このように構成された近接露光装置１ｃでは、ステップ移動動作、アライメント動作、露光動作等を、第１の基板搬送機構１７ａ１で保持された基板Ｗ１と、第２の基板搬送機構１７ａ２で保持された他の基板Ｗ２とで独立して行うことができる。これにより、第１の基板搬送機構１７ａ１で保持された基板Ｗ１を上流側のマスクＭによって露光しつつ、第２の基板搬送機構１７ａ２で保持された他の基板Ｗ２も下流側のマスクＭによって露光することができ、タクトタイムを短縮することができる。
その他の構成及び作用については、第３実施形態のものと同様である。
【００７０】
なお、上記実施形態では、２つの基板搬送機構１７ａ１，１７ａ２はともに、Ｙ方向一側に配置されているが、図２３（ａ）の近接露光装置１ｃ´のように、基板搬送機構１７ａ１をＹ方向中間部、基板搬送機構１７ａ２をＹ方向一側にそれぞれ配置してもよい。あるいは、図２３（ｂ）の近接露光装置１ｃ´´のように、基板搬送機構１７ａ１をＹ方向一側に、基板搬送機構１７ａ２をＹ方向他側にそれぞれ配置してもよい。
【００７１】
また、上記実施形態では、マスクＭのパターンは、繰り返し露光転写することで、基板Ｗの一枚のパネルを形成するものとして、該パネルよりも小さい繰り返しパターンを用いて説明したが、該マスクＭのパターンは、複数のパネルに対応する複数のパネルパターンＰｐを備えたものであってもよい。即ち、図２４及び図２６に示すように、搬送される基板のパネルの配置に対応して、マスクＭに複数のパネルパターンＰｐを形成しておき、上流側のマスクＭと下流側のマスクＭとで別々のパネルを露光するようにし、同じパネルを協働して露光しないようにする。このようにすることで、パネル内に２つのマスクＭによって露光されることによるズレが生じることがなく、精度のよい露光が可能となる。
【００７２】
また、図２５に示すように、基板Ｗの上流側端部Ｗｕを露光する際には、遮蔽部材３７を用いてマスクＭのパネルパターンＰｐの一部を遮蔽することで、上流側端部Ｗｕに複数のパネルＰｕを露光することができ、基板Ｗの大きさに応じて基板Ｗの全域から無駄なくパネルＰを作成することができる。
【００７３】
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものでなく、適宜、変更、改良等が可能である。
本発明は、本実施形態で説明した、基板を所定の方向にステップ移動させながら露光するステップ露光動作と、従来のような基板を所定の方向に連続搬送しながら露光するスキャン露光動作とを途中で切替えて行なうようにしてもよい。
また、本実施形態では、光源として、超高圧水銀ランプが使用されているが、ＹＡＧフラッシュレーザが使用されてもよい。この場合、制御部は、シャッターを開閉制御する必要がなく、基板が静止したタイミングで光源が発光するようにすればよい。
さらに、第２実施形態の基板駆動ユニットのＹ方向搬送機構は、第１実施形態に適用して基板のθ方向を補正する機構としても適用できる。
加えて、本発明は、上記実施形態の近接露光装置に限定されるものでなく、投影露光装置等の他の任意な露光装置に適用可能である。
【００７４】
また、上記実施形態では、基板搬送機構として、浮上ユニット１６を用いて基板Ｗを浮上保持しながら搬送しているが、基板Ｗは、浮上保持によって搬送されるものに限らず、ローラやベルトコンベア上に保持されて搬送されるものであってもよく、基板Ｗが載置されたステージが移動するようなものであってもよい。  
【符号の説明】
【００７５】
１  近接露光装置
２  マスクチェンジャ
１０  基板搬送機構
１１  マスク保持部
１２  マスク駆動部
１４  照射部
１５  制御部
３５  ラインカメラ
４１  光源
４４  シャッター
ＥＬ  露光用光
Ｍ  マスク
Ｗ  カラーフィルタ基板（基板）
【図１】
2010092021.tif 000003
【図２】
2010092021.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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