(57)【要約】【課題】樹脂材料の収縮の影響により導波路間隔が不定であっても、接続相手との光接続損失を抑制し得る光導波路、およびかかる光導波路を備えた信頼性の高い光配線、光電気混載基板および電子機器を提供すること。【解決手段】光導波路１は、並列するように設けられた複数のコア部１３１ａ〜１３１ｈと、それよりも屈折率の低い側面クラッド部１５０とを有している。そして、各コア部１３１ａ〜１３１ｈのＸ、Ｙ座標は、それぞれ、次の関数で規定される余弦曲線を描くように設計されている。Ｙ＝Ａcos（２πＸ／Ｌ）＋Ｂ。ただし、式中、Ａ、Ｂ、Ｌはそれぞれ任意の実数である。なお、各コア部１３１ａ〜１３１ｈ間でＬが同じであり、かつＡおよびＢが互いに異なっている。これにより、また、各コア部１３１ａ〜１３１ｈの間隔は、Ｘ方向に沿って連続的に変化しており、かつそれぞれのコア部間の間隔は光導波路１全体で一定になっている。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
平面上に並列するように設けられた長尺状の複数のコア部と、
該複数のコア部の側面をそれぞれ覆うように設けられたクラッド部とを有する光導波路であって、
前記複数のコア部が設けられた前記平面上に、互いに直交するＸＹ座標を設定したとき、前記各コア部の少なくとも一部のＸ座標およびＹ座標は、下記式（１）または下記式（２）を満たすことを特徴とする光導波路。
Ｙ＝Ａcos（２πＸ／Ｌ）＋Ｂ      （１）
Ｙ＝Ａsin（２πＸ／Ｌ）＋Ｂ      （２）
［上記式（１）および上記式（２）中、Ａ、Ｂ、Ｌはそれぞれ任意の実数である。］
【請求項２】
前記複数のコア部において、前記式（１）および前記式（２）におけるＬは互いに同じであり、かつＡおよびＢはそれぞれ互いに異なっている請求項１に記載の光導波路。
【請求項３】
当該光導波路は、固化時に収縮する材料を固化させた固化物で構成されており、
前記固化前の光導波路についての前記式（１）および前記式（２）において、Ａは、下記式（３）を満たす請求項１または２に記載の光導波路。
Ａ＝±（Ｒmax−Ｒmin）（Ｎ−１）Ｐ／４      （３）
［上記式（３）中、Ｒmax、Ｒminはそれぞれ１以上の任意の実数であり、かつＲmax＞Ｒminである。また、Ｎは下記式（５）を満たす。また、Ｐは正の実数である。］
Ｎ＝Ｎ０＋２−２ｎ      （５）
［上記式（５）中、Ｎ０は前記コア部の全数であり、ｎは前記並列するように設けられた複数のコア部のうち、外側からの配設順序である。］
【請求項４】
当該光導波路は、固化時に収縮する材料を固化させた固化物で構成されており、
前記固化前の光導波路についての前記式（１）および前記式（２）において、Ｂは、下記式（４）を満たす請求項１ないし３のいずれかに記載の光導波路。
Ｂ＝±（Ｒmax＋Ｒmin）（Ｎ−１）Ｐ／４      （４）
［上記式（４）中、Ｒmax、Ｒminはそれぞれ１以上の任意の実数であり、かつＲmax＞Ｒminである。また、Ｎは下記式（５）を満たす。また、Ｐは正の実数である。］
Ｎ＝Ｎ０＋２−２ｎ      （５）
［上記式（５）中、Ｎ０は前記コア部の全数であり、ｎは前記並列するように設けられた複数のコア部のうち、外側からの配設順序である。］
【請求項５】
前記複数のコア部において、前記式（３）および前記式（４）におけるＲmaxは互いに同じであり、かつ、Ｒminも互いに同じである請求項３または４に記載の光導波路。
【請求項６】
当該光導波路は、前記複数のコア部とそれぞれ光学的に接続される複数の受光部を有する接続相手との接続に供されるものであり、
前記式（３）および前記式（４）において、Ｐは、前記複数の受光部の間隔である請求項３ないし５のいずれかに記載の光導波路。
【請求項７】
前記複数のコア部において、前記式（３）および前記式（４）におけるＰは互いに同じである請求項３ないし６のいずれかに記載の光導波路。
【請求項８】
前記複数のコア部のうち、前記ＸＹ座標におけるＹ方向に隣り合うコア部間の間隔が、当該光導波路全体の中の少なくとも一部において、前記ＸＹ座標におけるＸ方向に沿って変化している請求項１ないし７のいずれかに記載の光導波路。
【請求項９】
前記複数のコア部は、ｍ本（ｍは３以上の整数）のコア部からなり、
前記ｍ本のコア部のうち、前記ＸＹ座標におけるＹ方向に隣り合うコア部間の間隔がｍ−１個存在しており、
前記ｍ−１個の間隔の相互の比率は、当該光導波路全体で一定である請求項１ないし８のいずれかに記載の光導波路。
【請求項１０】
前記複数のコア部の間隔は、前記少なくとも一部において、前記ＸＹ座標におけるＸ方向に沿って連続的に変化している請求項１ないし９のいずれかに記載の光導波路。
【請求項１１】
前記複数のコア部の間隔は、前記少なくとも一部において、前記ＸＹ座標におけるＸ方向に沿って周期的に変化している請求項１ないし１０のいずれかに記載の光導波路。
【請求項１２】
前記複数のコア部は、それぞれの光路の、前記ＸＹ座標におけるＸ軸に対する傾斜角度が１°以下になるよう形成されている請求項１ないし１１のいずれかに記載の光導波路。
【請求項１３】
さらに、前記ＸＹ座標におけるＸ方向に沿って形成されたアライメントマークを含むアライメントパターンを備える請求項１ないし１２のいずれかに記載の光導波路。
【請求項１４】
前記複数のコア部と前記クラッド部とが同一層内に設けられており、
前記アライメントパターンは、前記複数のコア部と同じ層内に形成されている請求項１３に記載の光導波路。
【請求項１５】
前記アライメントパターンは、さらに、前記複数のコア部を含む領域を区画するライン状パターンを含む請求項１３または１４に記載の光導波路。
【請求項１６】
前記コア部は、第１のノルボルネン系材料を主材料として構成されており、前記クラッド部は、前記第１のノルボルネン系材料より低い光屈折率を有する第２のノルボルネン系材料を主材料として構成されている請求項１ないし１５のいずれかに記載の光導波路。
【請求項１７】
請求項１ないし１６のいずれかに記載の光導波路を備えたことを特徴とする光配線。
【請求項１８】
電気配線と、請求項１７に記載の光配線とを、基板上に混載してなることを特徴とする光電気混載基板。
【請求項１９】
請求項１８に記載の光電気混載基板を備えたことを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光導波路、光配線、光電気混載基板および電子機器に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
情報化の波とともに、大容量の情報を高速でやりとりできる広帯域回線（ブロードバンド）の普及が進んでいる。また、これらの広帯域回線に情報を伝送する装置として、ルータ装置、ＷＤＭ（Wavelength Division Multiplexing）装置等の伝送装置が用いられている。これらの伝送装置内では、光搬送波を使用してデータを移送する光通信技術が用いられており、光搬送波を一地点から他地点に導くための手段として、多数の光導波路が使用されている。
【０００３】
光導波路は、線状のコア部と、その周囲を覆うように設けられたクラッド部とを有している。コア部は、光搬送波に対して実質的に透明な材料で構成され、クラッド部は、コア部より屈折率が低い材料で構成されている。
【０００４】
このような光導波路では、コア部の一端から導入された光が、クラッド部との界面で反射しながら他端に搬送される。光導波路の入射側には、半導体レーザ等の発光素子が配置され、出射側には、フォトダイオード等の受光素子が配置される。発光素子から入射された光は光導波路を伝搬し、受光素子により受光され、受光した光の明滅パターンに基づいて通信を行う。
【０００５】
近年、上述した伝送装置が処理する情報量が増大し、これに伴って、光導波路の高密度化が求められている。また、伝送装置の小型化、高密度化の要求も多い。
【０００６】
そこで、特許文献１には、複数の導波路コアが形成されたフレキシブルな積層型の光導波路フィルムが開示されている。このような光導波路フィルムは、マルチチャンネルであるため、伝送可能な情報量が多く、また、屈曲させても光通信が可能でなるため、伝送装置内において実装空間の効率的な利用が可能になる。
【０００７】
図１３は、従来のマルチチャンネル型の光導波路９の複数のコア部９０１と、その接続相手である多心光コネクタ８１、８２の光ファイバコア８１０、８２０との間の位置関係を模式的に示す図である。
【０００８】
図１３に示すように、マルチチャンネル型の光導波路９は、一般に、複数のコア部９０１の配列に対応した複数の光ファイバコア８１０、８２０を備えた多心光コネクタ８１、８２と接続されることにより、光導波路９と多心光コネクタ８１、８２との間で光信号を伝搬することができる。
【０００９】
ところが、製造過程において樹脂材料が収縮すると、図１３に示すように、光導波路９の複数のコア部９０１における光軸と各多心光コネクタ８１、８２の光ファイバコア８１０、８２０における光軸との間に位置ズレが生じる。これにより、各多心光コネクタ８１、８２と光導波路９との間の光接続損失が増大する。
【００１０】
また、複数のコア部９０１の中の１つのコア部（チャンネル）を伝搬する光信号が、例えば多心光コネクタ８２との接続部において、本来伝搬するべき光ファイバコア８２０（チャンネル）に伝搬せず、隣の光ファイバコア８２０に漏れたり、逆に、多心光コネクタ８１との接続部において、複数の光ファイバコア８１０の中の１つの光ファイバコア８１０を伝搬する光信号が、本来伝搬するべきコア部９０１に伝搬せず、隣のコア部９０１に漏れたりするおそれがある（クロストーク）。
このような光の漏出があると、光通信の品質が低下してしまう。
【００１１】
また、樹脂材料の収縮率は正確に制御することは難しく、よって、あらかじめ樹脂材料の収縮を想定して光導波路フィルムを設計したとしても、その寸法精度は不十分である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１２】
【特許文献１】特開２００７−８４７６５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
従来の光導波路フィルムは、一般に樹脂材料で構成されている。このため、光導波路フィルムの製造過程で樹脂材料が固化する際、樹脂材料が収縮し、それに伴って光導波路フィルムが収縮することが避けられない。その結果、光導波路フィルムのチャンネル間の寸法精度が低下し、光導波路フィルムの接続相手先（例えばコネクタ等）との接続性が低下することとなる。すなわち、光導波路フィルムのチャンネルピッチと、コネクタのチャンネルピッチとが一致しないことから、光接続損失が増大し、光通信の品質が低下するおそれがある。
【００１４】
本発明の目的は、樹脂材料の収縮の影響により導波路間隔が不定であっても、接続相手との光接続損失を抑制し得る光導波路、およびかかる光導波路を備えた信頼性の高い光配線、光電気混載基板および電子機器を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
このような目的は、下記（１）〜（１９）の本発明により達成される。
（１）  平面上に並列するように設けられた長尺状の複数のコア部と、
該複数のコア部の側面をそれぞれ覆うように設けられたクラッド部とを有する光導波路であって、
前記複数のコア部が設けられた前記平面上に、互いに直交するＸＹ座標を設定したとき、前記各コア部の少なくとも一部のＸ座標およびＹ座標は、下記式（１）または下記式（２）を満たすことを特徴とする光導波路。
Ｙ＝Ａcos（２πＸ／Ｌ）＋Ｂ      （１）
Ｙ＝Ａsin（２πＸ／Ｌ）＋Ｂ      （２）
［上記式（１）および上記式（２）中、Ａ、Ｂ、Ｌはそれぞれ任意の実数である。］
【００１６】
（２）  前記複数のコア部において、前記式（１）および前記式（２）におけるＬは互いに同じであり、かつＡおよびＢはそれぞれ互いに異なっている上記（１）に記載の光導波路。
【００１７】
（３）  当該光導波路は、固化時に収縮する材料を固化させた固化物で構成されており、
前記固化前の光導波路についての前記式（１）および前記式（２）において、Ａは、下記式（３）を満たす上記（１）または（２）に記載の光導波路。
Ａ＝±（Ｒmax−Ｒmin）（Ｎ−１）Ｐ／４      （３）
［上記式（３）中、Ｒmax、Ｒminはそれぞれ１以上の任意の実数であり、かつＲmax＞Ｒminである。また、Ｎは下記式（５）を満たす。また、Ｐは正の実数である。］
Ｎ＝Ｎ０＋２−２ｎ      （５）
［上記式（５）中、Ｎ０は前記コア部の全数であり、ｎは前記並列するように設けられた複数のコア部のうち、外側からの配設順序である。］
【００１８】
（４）  当該光導波路は、固化時に収縮する材料を固化させた固化物で構成されており、
前記固化前の光導波路についての前記式（１）および前記式（２）において、Ｂは、下記式（４）を満たす上記（１）ないし（３）のいずれかに記載の光導波路。
Ｂ＝±（Ｒmax＋Ｒmin）（Ｎ−１）Ｐ／４      （４）
［上記式（４）中、Ｒmax、Ｒminはそれぞれ１以上の任意の実数であり、かつＲmax＞Ｒminである。また、Ｎは下記式（５）を満たす。また、Ｐは正の実数である。］
Ｎ＝Ｎ０＋２−２ｎ      （５）
［上記式（５）中、Ｎ０は前記コア部の全数であり、ｎは前記並列するように設けられた複数のコア部のうち、外側からの配設順序である。］
【００１９】
（５）  前記複数のコア部において、前記式（３）および前記式（４）におけるＲmaxは互いに同じであり、かつ、Ｒminも互いに同じである上記（３）または（４）に記載の光導波路。
【００２０】
（６）  当該光導波路は、前記複数のコア部とそれぞれ光学的に接続される複数の受光部を有する接続相手との接続に供されるものであり、
前記式（３）および前記式（４）において、Ｐは、前記複数の受光部の間隔である上記（３）ないし（５）のいずれかに記載の光導波路。
【００２１】
（７）  前記複数のコア部において、前記式（３）および前記式（４）におけるＰは互いに同じである上記（３）ないし（６）のいずれかに記載の光導波路。
【００２２】
（８）  前記複数のコア部のうち、前記ＸＹ座標におけるＹ方向に隣り合うコア部間の間隔が、当該光導波路全体の中の少なくとも一部において、前記ＸＹ座標におけるＸ方向に沿って変化している上記（１）ないし（７）のいずれかに記載の光導波路。
【００２３】
（９）  前記複数のコア部は、ｍ本（ｍは３以上の整数）のコア部からなり、
前記ｍ本のコア部のうち、前記ＸＹ座標におけるＹ方向に隣り合うコア部間の間隔がｍ−１個存在しており、
前記ｍ−１個の間隔の相互の比率は、当該光導波路全体で一定である上記（１）ないし（８）のいずれかに記載の光導波路。
【００２４】
（１０）  前記複数のコア部の間隔は、前記少なくとも一部において、前記ＸＹ座標におけるＸ方向に沿って連続的に変化している上記（１）ないし（９）のいずれかに記載の光導波路。
【００２５】
（１１）  前記複数のコア部の間隔は、前記少なくとも一部において、前記ＸＹ座標におけるＸ方向に沿って周期的に変化している上記（１）ないし（１０）のいずれかに記載の光導波路。
【００２６】
（１２）  前記複数のコア部は、それぞれの光路の、前記ＸＹ座標におけるＸ軸に対する傾斜角度が１°以下になるよう形成されている上記（１）ないし（１１）のいずれかに記載の光導波路。
【００２７】
（１３）  さらに、前記ＸＹ座標におけるＸ方向に沿って形成されたアライメントマークを含むアライメントパターンを備える上記（１）ないし（１２）のいずれかに記載の光導波路。
【００２８】
（１４）  前記複数のコア部と前記クラッド部とが同一層内に設けられており、
前記アライメントパターンは、前記複数のコア部と同じ層内に形成されている上記（１３）に記載の光導波路。
【００２９】
（１５）  前記アライメントパターンは、さらに、前記複数のコア部を含む領域を区画するライン状パターンを含む上記（１３）または（１４）に記載の光導波路。
【００３０】
（１６）  前記コア部は、第１のノルボルネン系材料を主材料として構成されており、前記クラッド部は、前記第１のノルボルネン系材料より低い光屈折率を有する第２のノルボルネン系材料を主材料として構成されている上記（１）ないし（１５）のいずれかに記載の光導波路。
【００３１】
（１７）  上記（１）ないし（１６）のいずれかに記載の光導波路を備えたことを特徴とする光配線。
【００３２】
（１８）  電気配線と、上記（１７）に記載の光配線とを、基板上に混載してなることを特徴とする光電気混載基板。
【００３３】
（１９）  上記（１８）に記載の光電気混載基板を備えたことを特徴とする電子機器。
【発明の効果】
【００３４】
本発明によれば、導波路間隔が所定の規則に則って連続的に変化しているため、光導波路の導波路間隔と、接続相手先の導波路間隔とが合致した位置で光導波路を切断することにより、接続相手先との光接続性を高めることができる。これにより、高品質の光通信を行うことができる。
【００３５】
また、本発明によれば、このような光導波路を簡単に設計することができる。
さらに、本発明によれば、高品質な光通信が可能な光導波路を備えることにより、信頼性の高い光配線、光電気混載基板および電子機器を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３６】
【図１】本発明の光導波路を含む光導波路フィルムを示す（一部切り欠いて示す）斜視図である。
【図２】図１に示す光導波路フィルムのコア層を示す概略図である。
【図３】本発明の光導波路の実施形態を示す平面図である。
【図４】光導波路フィルムの光導波路領域に形成され得る各コア部の他の構成例を示す図である。
【図５】光導波路フィルムの光導波路領域に形成され得る各コア部の他の構成例を示す図である。
【図６】光導波路とアライメントパターンとの間の関係を示す図（断面図）である。
【図７】光導波路フィルムの製造工程例を模式的に示す断面図である。
【図８】光導波路フィルムの製造工程例を模式的に示す断面図である。
【図９】光導波路フィルムの製造工程例を模式的に示す断面図である。
【図１０】光導波路フィルムの製造工程例を模式的に示す断面図である。
【図１１】光導波路フィルムの製造工程例を模式的に示す断面図である。
【図１２】積層型光導波路フィルムの概略構造を示す断面図である。
【図１３】従来のマルチチャンネル型の光導波路の複数のコア部と、その接続相手である多心光コネクタの光ファイバコアとの間の位置関係を模式的に示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００３７】
以下、本発明の光導波路、光配線、光電気混載基板および電子機器について添付図面に示す好適実施形態に基づいて詳細に説明する。
【００３８】
（光導波路の構造）
図１は、本発明の光導波路を含む光導波路フィルムを示す（一部切り欠いて示す）斜視図、図２は、図１に示す光導波路フィルムのコア層を示す概略図、図３は、本発明の光導波路の実施形態を示す平面図である。なお、以下の説明では、図１および図２に、それぞれ矢印で示すように、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸を設定した。
【００３９】
図１に示す光導波路フィルム１０は、図１中Ｚ軸の負方向から正方向に向かってクラッド層１１（クラッド部）、コア層１３およびクラッド層１２（クラッド部）をこの順に積層してなる長尺状のものである。
【００４０】
そして、コア層１３は、図２に示すように、複数の光導波路領域１３１、１３２、１３３と、これらの光導波路領域１３１〜１３３に隣接するように形成されたアライメントパターン１７１、１７２、１７３とを有している。これらの光導波路領域１３１〜１３３は、後に詳述するが、それぞれが、同一層内にＸ軸に沿ってほぼ並列に配設された複数のコア部と、これらのコア部のそれぞれの側面を覆い、かつコア部よりも屈折率の低い側面クラッド部とを備えている。そして、最終的には、各光導波路領域１３１、１３２、１３３を分離することにより、それぞれが光導波路１となる。
【００４１】
以下、各光導波路領域１３１〜１３３と、各アライメントパターン１７１〜１７３とについて順次説明する。
【００４２】
まず、各光導波路領域１３１〜１３３について説明するが、ここでは、各光導波路領域１３１〜１３３のうち、光導波路領域１３１について代表に説明する。
【００４３】
図３に示す光導波路領域１３１は、Ｘ軸に沿って並列に配設された複数のコア部１３１ａ、１３１ｂ、１３１ｃ、１３１ｄ、１３１ｅ、１３１ｆ、１３１ｇ、１３１ｈを有している。また、これらのコア部１３１ａ〜１３１ｈのそれぞれの側面は、各コア部１３１ａ〜１３１ｈよりも屈折率の低い側面クラッド部１５０で覆われている。
【００４４】
すなわち、図３に示す各コア部１３１ａ〜１３１ｈは、そのＺ軸の下方に位置するクラッド層１１、Ｚ軸の上方に位置するクラッド層１２、および側方に位置する側面クラッド部１５０からなるクラッド部１６で囲まれている。なお、図１、３、４では、クラッド層１２を透過して示している。
【００４５】
図３に示す光導波路１は、一方の端面の各コア部１３１ａ〜１３１ｈに入射された光を、各コア部１３１ａ〜１３１ｈとクラッド部１６（各クラッド層１１、１２および各側面クラッド部１５０）との界面で全反射させ、出射側に伝搬されることにより、他方の端面の各コア部１３１ａ〜１３１ｈから取り出すことができる。
【００４６】
ここで、各コア部１３１ａ〜１３１ｈは、Ｘ方向に対して垂直なＹ方向に等間隔で配設されている。また、これらのコア部１３１ａ〜１３１ｈのうち、任意の隣り合うコア部間のＹ方向間隔（以下、「導波路間隔」という。）は、Ｘ方向に沿って周期Ｌで周期的に変化するように設計されている。
【００４７】
このような各コア部１３１ａ〜１３１ｈは、それぞれ平面視の形状が、以下の関数で規定される曲線を描くような形状になっている。
【００４８】
具体的には、各コア部１３１ａ〜１３１ｈのＸ方向の位置をＸとしたとき、各コア部１３１ａ〜１３１ｈのＹ方向の位置Ｙは、以下の式（１）で表わされる。なお、位置Ｘおよび位置Ｙの基準となる原点は、図３に原点Ｏとして示されるように、光導波路１の左側端部上にあり、かつ光導波路１の幅（Ｙ方向の長さ）の中点とする。また、図３において、各コア部１３１ａ〜１３１ｈの形状は、Ｙ方向に強調して図示されている。
Ｙ＝Ａcos（２πＸ／Ｌ）＋Ｂ      （１）
［上記式（１）中、Ａ、Ｂ、Ｌはそれぞれ任意の実数であって、Ａは振幅、Ｂはオフセット量、Ｌは周期である。］
【００４９】
このような式（１）で位置Ｘ、位置Ｙが規定されることにより、各コア部１３１ａ〜１３１ｈが通過する座標が決定され、各座標を線で結ぶことにより形状が決定される。そして、上記式で規定される各コア部１３１ａ〜１３１ｈの形状は、いわゆる「余弦曲線」を描いている。また、各コア部１３１ａ〜１３１ｄの形状と各コア部１３１ｅ〜１３１ｈの形状とは、Ｘ軸に対して線対称の関係になっている。各コア部１３１ａ〜１３１ｈがこのようにＸ軸に対して線対称の関係にあれば、たとえ樹脂材料が収縮したとしても、光導波路１の幅方向の中心とコア部の集合体の中心とが一致するため、いわゆる「偏心」を抑制することができ、接続相手先との接続性をより高めることができる。
【００５０】
ここで、周期Ｌは、波型の余弦曲線における「波長」に相当するパラメータである。周期Ｌは、各コア部１３１ａ〜１３１ｈでそれぞれ異なっていてもよいが、好ましくは図３に示すように同じ値に設定される。
【００５１】
また、周期Ｌは、光導波路１の長さに応じて適宜設定されるものの、一例としては、光導波路１の長さが２００ｍｍ程度であれば、５〜１００ｍｍ程度であるのが好ましく、１０〜５０ｍｍ程度であるのがより好ましい。
【００５２】
一方、振幅Ａおよびオフセット量Ｂは、余弦曲線において波形やＸ軸からの距離を規定するパラメータであるが、これらは各コア部１３１ａ〜１３１ｈでそれぞれ異なった値に設定されるのが好ましい。
【００５３】
各パラメータを以上のように設定することにより、各コア部１３１ａ〜１３１ｈは交差することなく、また、導波路間隔がＸ方向に沿って連続的に変化したものにすることができる。これにより、各コア部１３１ａ〜１３１ｈは、それぞれを伝搬する光の独立性が確保され、チャンネル間の混信（クロストーク）等を防止し得るとともに、導波路間隔が連続的に変化することにより、本発明の光導波路は、後述する作用・効果（接続性の向上等）を発揮し得るものとなる。
【００５４】
このようなパラメータのうち、振幅Ａは、余弦曲線における「波の高さ」に相当するパラメータである。振幅Ａは、各コア部１３１ａ〜１３１ｈで互いに異なるように設定されていることが好ましいが、その設定方法は、以下の式（３）で表わされる。
Ａ＝±（Ｒmax−Ｒmin）（Ｎ−１）Ｐ／４      （３）
［上記式（３）中、Ｒmaxは最大倍率、Ｒminは最小倍率、Ｎはチャンネル数、Ｐは導波路間隔である。］
【００５５】
なお、振幅Ａは、各コア部１３１ａ〜１３１ｈのうち、Ｘ軸より上方（Ｙ軸の正側）に位置する各コア部１３１ａ〜１３１ｄについては、その符号が正（＋）とされ、Ｘ軸より下方（Ｙ軸の負側）に位置する各コア部１３１ｅ〜１３１ｈについては、その符号が負（−）とされる。
【００５６】
また、オフセット量Ｂは、余弦曲線のＸ軸からの離間距離に相当するパラメータである。オフセット量Ｂは、各コア部１３１ａ〜１３１ｈで互いに異なるように設定されているが、その設定方法は、以下の式（４）で表わされる。
Ｂ＝±（Ｒmax＋Ｒmin）（Ｎ−１）Ｐ／４      （４）
［上記式（４）中、Ｒmaxは最大倍率、Ｒminは最小倍率、Ｎはチャンネル数、Ｐは導波路間隔である。］
【００５７】
なお、オフセット量Ｂは、各コア部１３１ａ〜１３１ｈのうち、Ｘ軸より上方（Ｙ軸の正側）に位置する各コア部１３１ａ〜１３１ｄについては、その符号が正（＋）とされ、Ｘ軸より下方（Ｙ軸の負側）に位置する各コア部１３１ｅ〜１３１ｈについては、その符号が負（−）とされる。
【００５８】
ここで、上記式（３）および上記式（４）における最大倍率Ｒmaxおよび最小倍率Ｒminは、後に詳述するが、光導波路１を構成する樹脂材料が固化する際の収縮率に応じて、１以上の範囲に設定される。また、好ましくは１〜１．０５の範囲内、より好ましくは１．０１〜１．０３程度の範囲内で適宜設定される。また、最大倍率Ｒmaxは、最小倍率Ｒminより大きな値に設定され、その差は、好ましくは０．０２〜０．０５程度とされる。なお、最大倍率Ｒmaxは、各コア部１３１ａ〜１３１ｈ間で互いに異なっていてもよいが、本実施形態では同じに設定される。一方、最小倍率Ｒminも、各コア部１３１ａ〜１３１ｈ間で互いに異なっていてもよいが、本実施形態では同じに設定される。
なお、最大倍率Ｒmaxおよび最小倍率Ｒminは、樹脂材料の収縮率（収縮に伴う寸法の減少率）から算出することができ、算出方法は特に限定されないが、例えば樹脂材料の収縮率が２％の場合は、この収縮率に１を足した値を基本的な倍率とすることができる。なお、使用する樹脂材料の種類や、製造環境、個体差等により、この倍率が増減するため、その増減率を基本的な倍率に加味した上で最大倍率Ｒmaxおよび最小倍率Ｒminを規定することができる。
【００５９】
また、Ｎはチャンネル数であるが、このパラメータは、各コア部１３１ａ〜１３１ｈの外側からの配設順序に応じて下記式（５）のように表わされる。
Ｎ＝Ｎ０＋２−２ｎ        （５）
［上記式（５）中、Ｎ０は全チャンネル数（各コア部１３１ａ〜１３１ｈの全数）、ｎは各コア部１３１ａ〜１３１ｈの外側からの配設順序である。］
【００６０】
例えば図３の場合、全チャンネル数Ｎ０は８であり、その中のコア部１３１ｂは外側からの配設順序が２番目であるため、コア部１３１ｂのチャンネル数Ｎは、Ｎ＝８＋２−（２×２）＝６となる。
【００６１】
なお、全チャンネル数Ｎ０は、接続相手先の全チャンネル数等に応じて適宜設定すればよい。また、配設順序ｎは、順序を数える方向によって２つの値をとることもあるが、この場合は小さい方の値とする。
【００６２】
また、全チャンネル数Ｎ０が奇数の場合は、並列する各コア部のうちの中心に位置するコア部は、Ｘ軸上にあることが好ましい。すなわち、光導波路１の全チャンネル数Ｎ０が仮に奇数である場合、図３に示すＸ軸上に直線のコア部が設けられるのが好ましい。
【００６３】
さらに、導波路間隔Ｐは、光導波路１を接続する相手先の導波路間隔に相当するものとして規定され、各コア部１３１ａ〜１３１ｈ間で互いに異なっていてもよいが、本実施形態では同じに設定される。導波路間隔Ｐは、一例として、３０μｍ以上であることが好ましく、５０μｍ以上であることがより好ましい。なお、上限値は特に設定されないものの、一例としては５００μｍ程度とされる。
【００６４】
以上のような各式により、各コア部１３１ａ〜１３１ｈの平面視形状を一義的に決めることができる。
なお、前述したように、光導波路１を構成する材料が樹脂材料のように固化時に収縮を伴う材料である場合、この収縮率を反映させたパラメータである最大倍率Ｒmaxおよび最小倍率Ｒminを含む上記式（３）、（４）は、厳密には固化前の各コア部１３１ａ〜１３１ｈの形状を規定する式である。しかしながら、樹脂材料の収縮による光導波路１の形状変化はごくわずかであるため、樹脂材料の固化後の各コア部１３１ａ〜１３１ｈの形状も、固化前とほぼ同じであるとみなすことができる。換言すれば、樹脂材料の固化後の各コア部１３１ａ〜１３１ｈの形状も、上記式（３）、（４）で規定することができる。
【００６５】
このような形状の各コア部１３１ａ〜１３１ｈにおいて、その光路の各点の接線の、Ｘ軸に対する傾斜角度（以下、省略して「傾斜角度」という。）は、Ｘ軸に対して連続的に（滑らかに）変化するように設計されることとなる。これにより、各コア部１３１ａ〜１３１ｈは、小さい曲率の屈曲部位を有しないので、この屈曲部位における光の漏出を抑制することができる。その結果、各コア部１３１ａ〜１３１ｈは、光伝搬特性に優れたものとなる。
【００６６】
具体的には、傾斜角度は、１°以下であるのが好ましく、０．０１°以上０．５°以下であるのがより好ましい。傾斜角度を前記範囲内に設定することにより、光の漏出を最小限に抑えることができる。また、入射側端面における光の入射角度および出射側端面における光の出射角度が、それぞれＸ軸に対して著しく傾くことが防止されるので、光導波路１とこれに接続される相手先との接続性が向上し、光接続損失を確実に抑制することができる。なお、上記傾斜角度は、前述した周期Ｌや振幅Ａ等に依存するため、これらのパラメータは、上記傾斜角度の好ましい範囲に応じて設定されることが好ましい。
【００６７】
ところで、各コア部１３１ａ〜１３１ｈとクラッド部１６との界面で全反射を生じさせるためには、界面に屈折率差が存在する必要がある。各コア部１３１ａ〜１３１ｈの屈折率は、クラッド部１６の屈折率より高く、その差は、特に限定されないものの、０．５％以上であるのが好ましく、０．８％以上であるのがより好ましい。なお、屈折率差の上限値は、特に設定されなくてもよいが、好ましくは５．５％程度とされる。屈折率差が前記下限値未満であると光を伝搬する効果が低下する場合があり、また、前記上限値を超えても、光の伝搬効果のそれ以上の増大は期待できない。
【００６８】
なお、前記屈折率差とは、各コア部１３１ａ〜１３１ｈの屈折率をｎ１、クラッド部１６の屈折率をｎ２としたとき、次式（６）で表わされる。
屈折率差（％）＝｜ｎ１／ｎ２−１｜×１００      （６）
【００６９】
また、各コア部１３１ａ〜１３１ｈの横断面形状は、正方形または矩形（長方形）のような四角形をなしている。
【００７０】
各コア部１３１ａ〜１３１ｈの幅および高さは、特に限定されないが、それぞれ、１〜２００μｍ程度であるのが好ましく、５〜１００μｍ程度であるのがより好ましく、１０〜６０μｍ程度であるのがさらに好ましい。
【００７１】
このような各コア部１３１ａ〜１３１ｈおよびクラッド部１６の各構成材料は、それぞれ上述したような屈折率差が生じる材料であれば特に限定されないが、具体的には、アクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、エポキシ樹脂、ポリアミド、ポリイミド、ポリベンゾオキサゾール、ポリシラン、ポリシラザン、また、ベンゾシクロブテン系樹脂やノルボルネン系樹脂等の環状オレフィン系樹脂のような各種樹脂材料等が挙げられる。
【００７２】
本実施形態では、コア層１３において、各コア部１３１ａ〜１３１ｈおよび側面クラッド部１５０が同一のベース材料（基本成分）で構成されており、各コア部１３１ａ〜１３１ｈと側面クラッド部１５０との屈折率差が、それぞれの構成材料の化学構造の差異により発現している。
【００７３】
化学構造の差異により屈折率差を発現させるためには、各コア部１３１ａ〜１３１ｈおよび側面クラッド部１５０の各構成材料として、紫外線、電子線のような活性エネルギー線の照射により（あるいはさらに加熱することにより）屈折率が変化する材料を用いるのが好ましい。
【００７４】
このように屈折率が変化する材料としては、例えば、活性エネルギー線の照射や加熱により、少なくとも一部の結合が切断したり、少なくとも一部の官能基が脱離する等して、化学構造が変化し得る材料が挙げられる。
【００７５】
具体的には、ポリシラン（例：ポリメチルフェニルシラン）、ポリシラザン（例：ペルヒドロポリシラザン）等のシラン系樹脂や、前述したような構造変化を伴う材料のベースとなる樹脂としては、分子の側鎖または末端に官能基を有する以下の（１）〜（６）のような樹脂が挙げられる。（１）ノルボルネン型モノマーを付加（共）重合して得られるノルボルネン型モノマーの付加（共）重合体、（２）ノルボルネン型モノマーとエチレンやα−オレフィン類との付加共重合体、（３）ノルボルネン型モノマーと非共役ジエン、および必要に応じて他のモノマーとの付加共重合体、（４）ノルボルネン型モノマーの開環（共）重合体、および必要に応じて該（共）重合体を水素添加した樹脂、（５）ノルボルネン型モノマーとエチレンやα−オレフィン類との開環共重合体、および必要に応じて該（共）重合体を水素添加した樹脂、（６）ノルボルネン型モノマーと非共役ジエン、または他のモノマーとの開環共重合体、および必要に応じて該（共）重合体を水素添加した樹脂等のノルボルネン系樹脂、その他、光硬化反応性モノマーを重合することにより得られるアクリル系樹脂、エポキシ樹脂。なお、これらの重合体としては、ランダム共重合体、ブロック共重合体、交互共重合体等が挙げられる。
【００７６】
また、これらの中でも特にノルボルネン系樹脂が好ましい。これらのノルボルネン系ポリマーは、例えば、開環メタセシス重合（ＲＯＭＰ）、ＲＯＭＰと水素化反応との組み合わせ、ラジカルまたはカチオンによる重合、カチオン性パラジウム重合開始剤を用いた重合、これ以外の重合開始剤（例えば、ニッケルや他の遷移金属の重合開始剤）を用いた重合等、公知のすべての重合方法で得ることができる。
【００７７】
一方、クラッド層１１および１２は、それぞれ、各コア部１３１ａ〜１３１ｈの下部および上部に位置するクラッド部を構成するものである。このような構成により、各コア部１３１ａ〜１３１ｈは、その外周をクラッド部１６に囲まれた導光路として機能する。
【００７８】
クラッド層１１、１２の平均厚さは、コア層１３の平均厚さ（各コア部１３１ａ〜１３１ｈの平均高さ）の０．１〜１．５倍程度であるのが好ましく、０．２〜１．２５倍程度であるのがより好ましく、具体的には、クラッド層１１、１２の平均厚さは、特に限定されないが、それぞれ、通常、１〜２００μｍ程度であるのが好ましく、５〜１００μｍ程度であるのがより好ましく、１０〜６０μｍ程度であるのがさらに好ましい。これにより、光導波路１が不要に大型化（厚膜化）するのを防止しつつ、クラッド層としての機能が好適に発揮される。
【００７９】
また、クラッド層１１および１２の構成材料としては、例えば、前述したコア層１３の構成材料と同様の材料を用いることができるが、特にノルボルネン系ポリマーが好ましい。
【００８０】
なお、本実施形態では、コア層１３の構成材料と、クラッド層１１、１２の構成材料との間で、両者の間の屈折率差を考慮して適宜異なる材料を選択して使用することが可能である。したがって、コア層１３とクラッド層１１、１２との境界において光を確実に全反射させるため、十分な屈折率差が生じるように材料を選択すればよい。これにより、光導波路１の厚さ方向において十分な屈折率差が得られ、各コア部１３１ａ〜１３１ｈからクラッド層１１、１２に光が漏れ出るのを抑制することができる。その結果、各コア部１３１ａ〜１３１ｈを伝搬する光の減衰を抑制することができる。
【００８１】
また、光の減衰を抑制する観点からは、コア層１３とクラッド層１１、１２との間の密着性が高いことが好ましい。したがって、クラッド層１１、１２の構成材料は、コア層１３の構成材料よりも屈折率が低く、かつコア層１３の構成材料と密着性が高いという条件を満たすものであれば、いかなる材料であってもよい。
【００８２】
以上、光導波路領域１３１について代表に説明したが、その他の光導波路領域１３２、１３３についても、光導波路領域１３１と同様、複数のコア部と側面クラッド部とを備えている。
【００８３】
また、光導波路フィルム１０には、前述したように、各光導波路領域１３１〜１３３の外縁に隣接してアライメントパターン１７１〜１７３が設けられている。
【００８４】
これらのアライメントパターン１７１〜１７３は、各光導波路領域１３１〜１３３を区画するとともに、切断により各光導波路領域１３１〜１３３を分離する際の基準線として使用される。光導波路フィルム１０の使用者は、光導波路フィルム１０をアライメントパターン１７１〜１７３に沿って切断することにより、各光導波路領域１３１〜１３３が個々に分離され、分離された各光導波路領域１３１〜１３３のそれぞれを、接続相手先に接続する光導波路１として使用することができる。
【００８５】
以上のような光導波路１は、前述したような樹脂材料で構成されるため、製造過程において樹脂材料が固化する際などに、収縮することが避けられない。
【００８６】
従来、光導波路を製造する場合には、あらかじめ光導波路を接続する相手先の導波路間隔に合わせて各コア部を設計していたが、このような設計方法では、樹脂材料の収縮に伴って導波路間隔が変化してしまい、最終的に得られた光導波路の導波路間隔は、接続相手先と一致せず、光接続性が低下することが問題となっていた。
【００８７】
これに対し、本発明に係る光導波路１は、前述したように、それぞれの導波路間隔がＸ方向に沿って周期的に変化するような形状をなしているため、その導波路間隔の変化幅を、樹脂材料の収縮率に基づいて大まかに設定しておくことにより、連続的に変化した導波路間隔の中に、接続相手先の導波路間隔に一致する箇所を見出すことができる。
【００８８】
したがって、目測または計測等により、接続相手先の導波路間隔（例えば図１３の多心光コネクタ８２の光ファイバコア８２０の間隔）に一致する位置で、製造後の光導波路１をＹ方向に切断することにより、その切断面では、光導波路１と接続相手先との間で導波路間隔が一致することとなる。図３に示す線Ｃは、切断面の一例である。
【００８９】
すなわち、光導波路１は、所定の位置でＹ方向に切断されることにより、所望の導波路間隔を有する光入射端面または光出射端面を形成し得るものとなる。したがって、光導波路１は、樹脂材料の収縮率によらず、接続相手先に対して光接続性に優れたものとなる。
【００９０】
ここで、例えばｍ本のコア部がある場合、その導波路間隔の個数はｍ−１個である。したがって、ｍが２以上の整数であれば、導波路間隔が１つ以上存在するため、光導波路１における導波路間隔は、連続的かつ周期的に変化するものとなる。
【００９１】
また、ｍが３以上の整数である場合には、導波路間隔は２つ以上存在することとなるが、これらの導波路間隔同士の比率は、導波路間隔の変化においても一定に維持されること、すなわちＸ軸のどの位置であっても一定になっていることが好ましい。これは、樹脂材料の収縮が、材料全体においてほぼ均一に収縮することが期待されることから必然的に要請されるものであり、導波路間隔同士の比率が一定に維持されていれば、仮に１か所の導波路間隔が接続相手先と一致しさえすれば必然的にその他の導波路間隔も一致することとなる。
【００９２】
そして、各コア部１３１ａ〜１３１ｈの形状を、前述したような余弦曲線とすることにより、どの位置で切断したとしても、それぞれの導波路間隔同士の比率が確実に一定になる。換言すれば、光導波路１をどの位置で切断したとしても、その切断面における各コア部１３１ａ〜１３１ｈの配置は、常に相似形にあると言える。したがって、本発明によれば、少なくとも１か所の導波路間隔が接続相手先と一致するような位置で光導波路１を切断すれば、接続相手先に対して優れた光接続性を有する光導波路１を簡単に製造することができる。すなわち、本発明によれば、このような導波路間隔の汎用性が高い光導波路１を簡単に設計し、簡単に製造することを可能にする。
【００９３】
ところで、光導波路１の切断位置は、前述したように目測または任意の方法による計測等により決定することができるが、光導波路１にあらかじめ設けられた目印を基準にして切断するようにしてもよい。
【００９４】
具体的には、各アライメントパターン１７１、１７２、１７３は、それぞれ、アライメントマーク１８１、１８２、１８３を有している。これらのアライメントマーク１８１〜１８３は、接続相手先の導波路間隔に合わせて光導波路１をＹ方向に切断する際の目印（基準マーク）として使用される。
【００９５】
以下、各アライメントパターン１７１、１７２、１７３のうち、アライメントパターン１７１について代表に説明する。
【００９６】
アライメントパターン１７１は、Ｘ方向に沿って配列する複数のアライメントマーク１８１を有している。また、各アライメントマーク１８１は、当該各アライメントマーク１８１の位置における導波路間隔を把握するためのマークである。すなわち、各アライメントマーク１８１を、各コア部１３１ａ〜１３１ｈと同じ層内に形成し、かつ同じ樹脂材料で構成することにより、各アライメントマーク１８１と導波路間隔との間に一定の関係を持たせることができる。これにより、目測または計測等を行わなくても、樹脂材料の種類を特定するのみで、アライメントマーク１８１に基づいて光導波路１を切断することができ、目的とする導波路間隔の端面を得ることも可能になる。
【００９７】
図６（Ａ）〜（Ｃ）は、光導波路１とアライメントパターン１７１、１７２との間の関係を示す図（断面図）である。図６（Ｃ）は、光導波路フィルム１０のコア層１３の一部上面を示す図であり、図６（Ａ）は、図６（Ｃ）のＳ１−Ｓ１線に沿った光導波路フィルム１０の断面を示す図であり、図６（Ｂ）は、図６（Ｃ）のＳ２−Ｓ２線に沿った光導波路フィルム１０の断面を示している。
【００９８】
ここで、アライメントパターン１７１は、Ｘ方向に伸長する一対の平行なダイシングライン（ライン状パターン）１７１ａ、１７１ｂを有している。
【００９９】
一方、アライメントパターン１７２は、Ｘ方向に伸長する一対の平行なダイシングライン（ライン状パターン）１７２ａ、１７２ｂを有している。
【０１００】
これらのダイシングライン１７１ａ、１７１ｂ、１７２ａ、１７２ｂは、各コア部１３１ａ〜１３１ｈと同様の工程で形成することができる。
【０１０１】
また、一対のダイシングライン１７１ａ、１７１ｂの間には、Ｙ方向に伸長する線状のアライメントマーク１８１が複数形成されている。これらのアライメントマーク１８１は、等間隔または所定の間隔で配列している。
【０１０２】
一方、一対のダイシングライン１７２ａ、１７２ｂの間にも、Ｙ方向に伸長する線状のアライメントマーク１８２が複数形成されている。これらのアライメントマーク１８２も、等間隔または所定の間隔で配列している。
【０１０３】
このような各アライメントマーク１８１、１８２は、各コア部１３１ａ〜１３１ｈと同様の工程で形成することができる。
【０１０４】
なお、各アライメントマーク１８１は、図６に示すように、一対のダイシングライン１７１ａ、１７１ｂと分離し、各アライメントマーク１８２も、図６に示すように、一対のダイシングライン１７２ａ、１７２ｂと分離しているが、これに限定されるものではない。例えば、アライメントマーク１８１は、ダイシングライン１７１ａ、１７１ｂの一方または双方と連続し、アライメントマーク１８２は、ダイシングライン１７２ａ、１７２ｂの一方または双方と連続していてもよい。
【０１０５】
また、各アライメントパターン１７１、１７２間の収縮を測定し、この測定結果に基づいて光導波路１のＹ方向の収縮率を算出することができる。
【０１０６】
一方、光導波路１のＸ方向の収縮率は、算出したＹ方向の収縮率と同等であるとみなすこともできるが、各アライメントマーク１８１間または各アライメントマーク１８２間の収縮を測定し、この測定結果に基づいて算出することもできる。
【０１０７】
光導波路１の使用者は、このようにして樹脂材料ごとに収縮率をあらかじめ算出し、これに基づいて、前述した式（３）および式（４）における最大倍率Ｒmax、最小倍率Ｒminを設定すればよい。また、上記収縮率に基づいて、光導波路１の切断面と接続相手先とで、導波路間隔が一致するように、各アライメントマーク１８１、１８２の位置や間隔等を決定すればよい。このようにすれば、光接続性に優れた光導波路１を容易に形成することができる。
【０１０８】
なお、各アライメントマーク１８１〜１８３は、Ｙ方向に沿って引かれた単なる線であってもよいが、それぞれのアライメントマーク１８１を識別するために、番号や記号が付されていてもよい。
【０１０９】
図４は、光導波路領域１３１に形成され得る各コア部１３１ａ〜１３１ｈの他の構成例を示す図である。図４に示す光導波路１’は、各コア部１３１ａ〜１３１ｈの平面視形状が異なる以外は、図３に示す光導波路１と同様である。
【０１１０】
図４に示す各コア部１３１ａ〜１３１ｈは、その長手方向の一部がそれぞれ直線状になっている。すなわち、図４に示す各コア部１３１ａ〜１３１ｈは、直線状部分１３４１と、前述したような余弦曲線を描いている部分（曲線部分１３４２）とに分かれている。
【０１１１】
このような光導波路１’においても、前述した光導波路１と同様の作用・効果が得られる。
【０１１２】
また、この曲線部分１３４２は、少なくとも光導波路１’の両端部に設けられていればよい。これにより、光導波路１’は、曲線部分１３４２において、接続相手先との接続における光接続損失の抑制を図ることができ、一方、直線状部分１３４１においては、屈曲部分が存在しないので、クラッド部１６への光の漏出を最小限に抑制することができる。その結果、光導波路１’は、光通信の品質をさらに高めることができる。
【０１１３】
また、図５は、光導波路領域１３１に形成され得る各コア部１３１ａ〜１３１ｈの他の構成例を示す図である。図５に示す光導波路１”は、各コア部１３１ａ〜１３１ｈの平面視形状が異なる以外は、図３に示す光導波路１と同様である。
【０１１４】
図５に示す光導波路１”では、各コア部１３１ａ〜１３１ｈのうち、Ｘ軸の起点となる左側端部が、曲線部分の「谷」に相当する部位に一致している。これに対し、前述した図３に示す光導波路１では、各コア部１３１ａ〜１３１ｈのうち、Ｘ軸の起点となる左側端部は、曲線部分の「山」に相当する部位に一致しており、この点が光導波路１”との相違点である。
【０１１５】
このような図５に示す光導波路１”は、その平面視の形状が、以下の関数で規定される曲線を描くような形状になっている。
【０１１６】
具体的には、各コア部１３１ａ〜１３１ｈのＸ方向の位置をＸとしたとき、各コア部１３１ａ〜１３１ｈのＹ方向の位置Ｙは、以下の式（１ａ）で表わされる。なお、位置Ｘおよび位置Ｙの基準となる原点は、図５に原点Ｏとして示されるように、光導波路１”の左側端部上にあり、かつ光導波路１”の幅（Ｙ方向の長さ）の中点とする。
Ｙ＝−Ａcos（２πＸ／Ｌ）＋Ｂ      （１ａ）
［上記式（１ａ）中、Ａ、Ｂ、Ｌはそれぞれ任意の実数であって、Ａは振幅、Ｂはオフセット量、Ｌは周期である。］
【０１１７】
このような式（１ａ）で位置Ｘ、位置Ｙが規定されることにより、各コア部１３１ａ〜１３１ｈが通過する座標が決定され、各座標を線で結ぶことにより形状が決定される。
【０１１８】
以上、光導波路１、光導波路１’および光導波路１”について説明したが、本発明に係る光導波路の形状は、下記の関数で規定される、いわゆる「正弦曲線」であってもよい。
Ｙ＝Ａsin（２πＸ／Ｌ）＋Ｂ      （２）
［上記式（２）中、Ａ、Ｂ、Ｌはそれぞれ任意の実数であって、Ａは振幅、Ｂはオフセット量、Ｌは周期である。］
【０１１９】
なお、この「正弦曲線」で規定される光導波路は、前述した光導波路１、光導波路１’および光導波路１”のような「余弦曲線」で規定される光導波路を平行移動させたものと実質的には同等である。したがって、前記式（２）で規定される光導波路は、前述した光導波路１、光導波路１’および光導波路１”と同様の作用・効果を奏する。
【０１２０】
次に、光導波路フィルム１０の各種製造方法について説明する。以下に説明する製造方法は、特開２００６−３２３３１８号公報に記載されたものと同じである。
【０１２１】
（光導波路フィルムの製造方法）
図７（ａ）〜（ｂ〉、図８、図９、図１０および図１１（ａ）〜（ｂ）を参照しつつ上記光導波路フィルム１０の製造方法を説明する。図７（ａ）〜（ｂ）、図８、図９、図１０および図１１（ａ）〜（ｂ）は、それぞれ、光導波路フィルム１０の製造工程例を模式的に示す断面図である。なお、図９および図１１では、各コア部１３１ａ〜１３１ｈのうち、コア部１３１ａとコア部１３１ｂを代表に図示している。
【０１２２】
図７（ａ）および（ｂ）を参照すると、まず、支持基板１６１上に、層１１０を形成する。層１１０は、コア層形成用材料（ワニス）１００を塗布し硬化（固化）させる方法により形成される。
【０１２３】
具体的には、層１１０は、支持基板１６１上にコア層形成用材料１００を塗布して液状被膜を形成した後、この支持基板１６１を換気されたレベルテーブルに置いて、液状被膜表面の不均一な部分を水平化するとともに、溶媒を蒸発（脱溶媒）することにより形成する。層１１０を塗布法で形成する場合、たとえば、ドクターブレード法、スピンコート法、ディッピング法、テーブルコート法、スプレー法、アプリケーター法、カーテンコート法、ダイコート法の方法が挙げられるが、これらに限定されるわけではない。支持基板１６１には、たとえば、シリコン基板、二酸化ケイ素基板、ガラス基板、石英基板、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムが用いられる。
【０１２４】
コア層形成用材料１００は、ポリマー１１５と、添加剤１２０（本実施形態では、少なくともモノマー、助触媒および触媒前駆体を含む）とで構成される光誘発熱現像性材料（ＰＩＴＤＭ）を含有し、活性放射線の照射および加熱により、ポリマー１１５中において、モノマーの反応が生じる材料である。
【０１２５】
そして、得られた層１１０中では、ポリマー（マトリックス）１１５は、いずれも、実質的に一様かつランダムに分配され、添加剤１２０は、ポリマー１１５内に実質的に一様かつランダムに分散されている。これにより、層１１０中には、添加剤１２０が実質的に一様かつ任意に分散されている。このような層１１０の平均厚さは、形成すべきコア層１３の厚さに応じて適宜設定され、特に限定されないが、５〜２００μｍ程度であるのが好ましく、１０〜１００μｍ程度であるのがより好ましく、１５〜６５μｍ程度であるのがさらに好ましい。
【０１２６】
ポリマー１１５には、透明性が十分に高く（無色透明であり）、かつ、後述するモノマーと相溶性を有するもの、さらに、その中で後述するようにモノマーが反応（重合反応や架橋反応）可能であり、モノマーが重合した後においても、十分な透明性を有するものが好適に用いられる。ここで、「相溶性を有する」とは、モノマーが少なくとも混和して、コア層形成用材料１００中や層１１０中においてポリマー１１５と相分離を起こさないことを言う。
【０１２７】
このようなポリマー１１５としては、たとえば、ノルボルネン系樹脂やベンゾシクロブテン系樹脂の環状オレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、エポキシ樹脂、ポリアミド、ポリイミド、ポリベンゾオキサゾールが挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて（ポリマーアロイ、ポリマーブレンド（混合物）、共重合体など）用いることができる。これらの中でも、特に、ノルボルネン系樹脂（ノルボルネン系ポリマー）を主とするものが好ましい。ポリマー１１５としてノルボルネン系ポリマーを用いることにより、優れた光伝送性能や耐熱性を有するコア層１３を得ることができる。
【０１２８】
また、ノルボルネン系ポリマーは、高い疎水性を有するため、吸水による寸法変化を生じ難いコア層１３を得ることができる。
【０１２９】
ノルボルネン系ポリマーとしては、単独の繰り返し単位を有するもの（ホモポリマー）、２つ以上のノルボルネン系繰り返し単位を有するもの（コポリマー）のいずれであってもよい。
【０１３０】
比較的高い屈折率を有するノルボルネン系ポリマーとしては、アラルキルノルボルネンの繰り返し単位を含むものが好ましい。かかるノルボルネン系ポリマーは、特に高い屈折率を有する。
【０１３１】
アラルキルノルボルネンの繰り返し単位が有するアラルキル基（アリールアルキル基）としては、たとえば、ベンジル基、フェニルエチル基、フェニルプロピル基、フェニルブチル基、ナフチルエチル基、ナフチルプロピル基、フルオレニルエチル基、フルオレニルプロピル基が挙げられるが、ベンジル基やフェニルエチル基が特に好ましい。
【０１３２】
かかる繰り返し単位を有するノルボルネン系ポリマーは、極めて高い屈折率を有するものであることから好ましい。
【０１３３】
また、ノルボルネン系ポリマーは、アルキルノルボルネンの繰り返し単位を含むものが好ましい。アルキルノルボルネンの繰り返し単位を含むノルボルネン系ポリマーは、柔軟性が高いため、かかるノルボルネン系ポリマーを用いることにより、光導波路１に高いフレキシビリティ（可撓性）を付与することができる。
【０１３４】
アルキルノルボルネンの繰り返し単位が有するアルキル基としては、たとえば、プロピル基、ブチル基、ベンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基が挙げられるが、ヘキシル基が特に好ましい。なお、これらのアルキル基は、直鎖状または分岐状のいずれであってもよい。
【０１３５】
ヘキシルノルボルネンの繰り返し単位を含むことにより、ノルボルネン系ポリマー全体の屈折率が低下するのを防止し、かつ、高い柔軟性を保持することができる。
【０１３６】
ここで、光導波路１は、たとえば、６００〜１５５０ｎｍ程度の波長領域の光を使用したデータ通信において好適に使用されるが、ヘキシル（アルキル）ノルボルネンの繰り返し単位を含むノルボルネン系ポリマーは、前述したような波長領域（特に、８５０ｎｍ付近の波長領域）の光に対する透過率が優れることから好ましい。
【０１３７】
このようなノルボルネン系ポリマーの好ましい具体例としては、ヘキシルノルボルネンのホモポリマー、フェニルエチルノルボルネンのホモポリマー、ベンジルノルボルネンのホモポリマー、ヘキシルノルボルネンとフェニルエチルノルボルネンとのコポリマー、ヘキシルノルボルネンとベンジルノルボルネンとのコポリマーが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【０１３８】
本実施形態のコア層形成用材料１００は、添加剤１２０として、モノマー、助触媒（第１の物質）および触媒前駆体（第２の物質）を含んでいる。
【０１３９】
モノマーは、後述する活性放射線に照射により、活性放射線の照射領域において反応して反応物を形成し、この反応物の存在により、層１１０において照射領域と、活性放射線の未照射領域とにおいて、屈折率差を生じさせ得るような化合物である。
【０１４０】
この反応物としては、モノマーがポリマー（マトリックス）１１５中で重合して形成されたポリマー（重合体）、ポリマー１１５同士を架橋する架橋構造、および、ポリマー１１５に重合してポリマー１１５から分岐した分岐構造（ブランチポリマーや側鎖（ペンダントグループ））のうちの少なくとも１つが挙げられる。
【０１４１】
ここで、層１１０において、照射領域の屈折率が高くなることが望まれる場合には、比較的低い屈折率を有するポリマー１１５と、このポリマー１１５に対して高い屈折率を有するモノマーとが組み合わせて使用され、照射領域の屈折率が低くなることが望まれる場合には、比較的高い屈折率を有するポリマー１１５と、このポリマー１１５に対して低い屈折率を有するモノマーとが組み合わせて使用される。なお、屈折率が「高い」または「低い」とは、屈折率の絶対値を意味するものではなく、ある材料同士の相対的な関係を意味する。
【０１４２】
そして、モノマーの反応（反応物の生成）により、層１１０において照射領域の屈折率が低下する場合、当該部分が側面クラッド部１５０となり、照射領域の屈折率が上昇する場合、当該部分が各コア部１３１ａ、１３１ｂとなる。
【０１４３】
このようなモノマーとしては、重合可能な部位を有する化合物であればよく、特に限定されないが、たとえば、ノルボルネン系モノマー、アクリル酸（メタクリル酸）系モノマー、エポキシ系モノマー、スチレン系モノマーが挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。
【０１４４】
これらの中でも、モノマーとしては、ノルボルネン系モノマーを用いるのが好ましい。ノルボルネン系モノマーを用いることにより、光伝送性能に優れ、かつ、耐熱性および柔軟性に優れるコア層１３が得られる。
【０１４５】
また、モノマーには、上記のモノマーに代えて、または、上記のモノマーとともに架橋性モノマー（架橋剤）を用いることもできる。この架橋性モノマーは、後述する触媒前駆体の存在下で、架橋反応を生じ得る化合物である。
【０１４６】
架橋性モノマーを用いることにより、次のような利点がある。すなわち、架橋性モノマーは、より速く重合するので、コア層１３の形成に要する時間を短縮することができる。また、架橋性モノマーは、加熱しても蒸発し難いので、蒸気圧の上昇を抑えることができる。さらに、架橋性モノマーは、耐熱性に優れるため、コア層１３の耐熱性を向上させることができる。
【０１４７】
架橋性ノルボルネン系モノマーとしては、連続多環環系（fused multicyclic ring systems）の化合物と、連結多環環系（linked multicyclic ring systems）の化合物とがある。
【０１４８】
各種の架橋性ノルボルネン系モノマーの中でも、特に、ジメチルビス（ノルボルネンメトキシ）シラン（ＳｉＸ）が好ましい。ＳｉＸは、アルキルノルボルネンの繰り返し単位および／またはアラルキルノルボルネンの繰り返し単位を含むノルボルネン系ポリマーに対して十分に低い屈折率を有する。このため、後述する活性放射線を照射する照射領域の屈折率を確実に低くして、側面クラッド部１５０とすることができる。また、各コア部１３１ａ、１３１ｂと側面クラッド部１５０との間における屈折率差を大きくすることができ、コア層１３の特性（光伝送性能）の向上を図ることができる。
【０１４９】
なお、以上のようなモノマーは、単独または任意に組み合わせて用いるようにしてもよい。
【０１５０】
触媒前駆体（第２の物質）は、前記のモノマーの反応（たとえば、重合反応、架橋反応）を開始させ得る物質であり、後述する活性放射線の照射により活性化した助触媒（第１の物質）の作用により、活性化温度が変化する物質である。
【０１５１】
この触媒前駆体（プロカタリスト：procatalyst）としては、活性放射線の照射に伴って活性化温度が変化（上昇または低下）するものであれば、いかなる化合物を用いてもよいが、特に、活性放射線の照射に伴って活性化温度が低下するものが好ましい。これにより、比較的低温による加熱処理でコア層１３を形成することができ、他の層に不要な熱が加わって、光導波路１の特性（光伝送性能）が低下するのを防止することができる。
【０１５２】
また、活性化温度が低下した状態（活性潜在状態）において、触媒前駆体としては、その活性化温度が本来の活性化温度よりも１０〜８０℃程度（好ましくは、１０〜５０℃程度）低くなるものが好ましい。これにより、各コア部１３１ａ、１３１ｂと側面クラッド部１５０との間の屈折率差を確実に生じさせることができる。
【０１５３】
かかる触媒前駆体としては、Ｐｄ（ＯＡｃ）２（Ｐ（ｉ−Ｐｒ）３）２およびＰｄ（ＯＡｃ）２（Ｐ（Ｃｙ）３）２のうちの少なくとも一方を含む（主とする）ものが好適である。
【０１５４】
なお、以下では、Ｐｄ（ＯＡｃ）２（Ｐ（ｉ−Ｐｒ）３）２を「Ｐｄ５４５」と、また、Ｐｄ（ＯＡｃ）２（Ｐ（Ｃｙ）３）２を「Ｐｄ７８５」と略すことがある。
【０１５５】
助触媒（第１の物質）は、活性放射線の照射によって活性化して、前記の触媒前駆体（プロカタリスト）の活性化温度（モノマーに反応を生じさせる温度）を変化させ得る物質である。
【０１５６】
この助触媒（コカタリスト：cocatalyst）としては、活性放射線の照射により、その分子構造が変化（反応または分解）して活性化する化合物であれば、いかなるものでも用いることができるが、特定波長の活性放射線の照射によって分解し、プロトンや他の陽イオンのカチオンと、触媒前駆体の脱離基に置換し得る弱配位アニオン（ＷＣＡ）とを発生する化合物（光開始剤）を含む（主とする）ものが好適に用いられる。
【０１５７】
弱配位アニオンとしては、たとえば、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ホウ酸イオン（ＦＡＢＡ−）、ヘキサフルオロアンチモン酸イオン（ＳｂＦ６−）が挙げられる。
【０１５８】
この助触媒（光酸発生剤または光塩基発生剤）としては、たとえば、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ホウ酸塩やヘキサフルオロアンチモン酸塩の他、テトラキス（ベンタフルオロフェニル）ガリウム酸塩、アルミン酸塩類、アンチモン酸塩類、他のホウ酸塩類、ガリウム酸塩類、カルボラン類、ハロカルボラン類が挙げられる。
【０１５９】
コア層形成用材料（ワニス）１００中には、必要に応じて、増感剤を添加するようにしてもよい。
【０１６０】
増感剤は、活性放射線に対する助触媒の感度を増大して、助触媒の活性化（反応または分解）に要する時間やエネルギーを減少させる機能や、助触媒の活性化に適する波長に活性放射線の波長を変化させる機能を有するものである。
【０１６１】
このような増感剤としては、助触媒の感度や増感剤の吸収のピーク波長に応じて適宜選択され、特に限定されないが、たとえば、９，１０−ジブトキシアントラセン（ＣＡＳ番号第７６２７５−１４−４番）のようなアントラセン類、キサントン類、アントラキノン類、フェナントレン類、クリセン類、ベンツピレン類、フルオラセン類（fluoranthenes）、ルブレン類、ピレン類、インダンスリーン類、チオキサンテン−９−オン類（thioxanthen‐9‐ones）が挙げられ、これらを単独または混合物として用いられる。
【０１６２】
増感剤の具体例としては、２−イソプロピル−９Ｈ−チオキサンテン−９−オン、４−イソプロピル−９Ｈ−チオキサンテン−９−オン、１−クロロ−４−プロポキシチオキサントン、フェノチアジン（phenothiazine）またはこれらの混合物が挙げられる。
【０１６３】
コア層形成用材料１００中の増感剤の合有量は、特に限定されないが、０．０１重量％以上であるのが好ましく、０．５重量％以上であるのがより好ましく、１重量％以上であるのがさらに好ましい。なお、上限値は、５重量％以下であるのが好ましい。
【０１６４】
さらに、コア層形成用材料１００中には、酸化防止剤を添加することができる。これにより、望ましくないフリーラジカルの発生や、ポリマー１１５の自然酸化を防止することができる。その結果、得られたコア層１３の特性の向上を図ることができる。
【０１６５】
コア層形成用材料（ワニス）１００の調製に用いる溶媒としては、例えば、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、１，２−ジメトキシエタン（ＤＭＥ）、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、テトラヒドロピラン（ＴＨＰ）、アニソール、ジエチレングリコールジメチルエーテル（ジグリム）、ジエチレングリコールエチルエーテル（カルビトール）等のエーテル系溶媒、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、フェニルセロソルブ等のセロソルブ系溶媒、ヘキサン、ペンタン、ヘプタン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素系溶媒、トルエン、キシレン、ベンゼン、メシチレン等の芳香族炭化水素系溶媒、ピリジン、ピラジン、フラン、ピロール、チオフェン、メチルピロリドン等の芳香族複素環化合物系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡ）等のアミド系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン化合物系溶媒、酢酸エチル、酢酸メチル、ギ酸エチル等のエステル系溶媒、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、スルホラン等の硫黄化合物系溶媒等の各種有機溶媒、または、これらを含む混合溶媒等が挙げられる。
【０１６６】
さて、支持基板１６１上に形成された液状被膜中から溶媒を除去（脱溶媒）する方法としては、たとえば、自然乾燥、加熱、減圧下での放置、不活性ガスの吹付け（プロー）などによる強制乾燥の方法が挙げられる。
【０１６７】
以上のようにして、支持基板１６１上には、コア層形成用材料１００のフィルム状の固化物（または硬化物）である層１１０が形成される。このとき、層（ＰＩＴＤＭの乾燥フィルム）１１０は、第１の屈折率（ＲＩ）を有している。この第１の屈折率は、層１１０中に一様に分散（分布）するポリマー１１５およびモノマーの作用による。
【０１６８】
次に、図８に示されるように、開口（窓）１３５１が形成されたマスク（マスキング）１３５を用意し、このマスク１３５を介して、層１１０に対して活性放射線１３０を照射する。
【０１６９】
以下では、モノマーとして、ポリマー１１５より低い屈折率を有するものを用い、また、触媒前駆体として、活性放射線１３０の照射に伴って活性化温度が低下するものを用いる場合を一例に説明する。すなわち、ここで示す例では、活性放射線１３０の照射領域１２５が側面クラッド部１５０となる。したがって、ここで示す例では、マスク１３５には、形成すべき側面クラッド部１５０のパターンと等価な開口（窓）１３５１が形成される。この開口１３５１は、照射する活性放射線１３０が透過する透過部を形成するものである。
【０１７０】
マスク１３５は、予め形成（別途形成）されたもの（例えばプレート状のもの）でも、層１１０上に例えば気相成膜法や塗布法により形成されたものでもよい。
【０１７１】
マスク１３５として好ましいものの例としては、石英ガラスやＰＥＴ基材等で作製されたフォトマスク、ステンシルマスク、気相成膜法（蒸着、スパッタリング等）により形成された金属薄膜等が挙げられるが、これらの中でもフォトマスクやステンシルマスクを用いるのが特に好ましい。微細なパターンを精度良く形成することができるとともに、ハンドリングがし易く、生産性の向上に有利であるからである。
【０１７２】
また、図８においては、形成すべき側面クラッド部１５０のパターンと等価な開口（窓）１３５１は、活性放射線１３０の未照射領域１４０のパターンに沿ってマスクを部分的に除去したものを示したが、前記石英ガラスやＰＥＴ基材等で作製されたフォトマスクを用いる場合、該フォトマスク上に例えばクロム等の金属による遮蔽材で構成された活性放射線１３０の遮蔽部を設けたものを用いることもできる。このマスクでは、遮蔽部以外の部分が前記窓（透過部）となる。
【０１７３】
用いる活性放射線１３０は、助触媒に対して、光化学的な反応（変化）を生じさせ得るものであればよく、たとえば、可視光、紫外光、赤外光、レーザ光の他、電子線やＸ線を用いることもできる。これらの中でも、活性放射線１３０は、助触媒の種類、増感剤を含有する場合には、増感剤の種類等によって適宜選択され、特に限定されないが、波長２００〜４５０ｎｍの範囲にピーク波長を有するものであるのが好ましい。これにより、助触媒を比較的容易に活性化させることができる。
【０１７４】
また、活性放射線１３０の照射量は、０．１〜９Ｊ／ｃｍ２程度であるのが好ましく、０．２〜６Ｊ／ｃｍ２程度であるのがより好ましく、０．２〜３Ｊ／ｃｍ２程度であるのがさらに好ましい。これにより、助触媒を確実に活性化させることができる。
【０１７５】
前記マスク１３５の構成材料としては、照射する活性放射線１３０により適宜選定される。具体的には、マスク１３５の構成材料としては、活性放射線１３０を遮光し得る材料とされる。このような特性を有するものであれば、マスク１３５の材料自体は、公知のいずれのものも使用することができる。
【０１７６】
マスク１３５を介して、活性放射線１３０を層１１０に照射すると、活性放射線１３０が照射された照射領域１２５内に存在する助触媒（第１の物質：コカタリスト）は、活性放射線１３０の作用により反応（結合）または分解して、カチオン（プロトンまたは他の陽イオン）と、弱配位アニオン（ＷＣＡ）とを遊離（発生）する。
【０１７７】
そして、これらのカチオンや弱配位アニオンは、照射領域１２５内に存在する触媒前駆体（第２の物質：プロカタリスト）の分子構造に変化（分解）を生じさせ、これを活性潜在状態（潜在的活性状態）に変化させる。
【０１７８】
ここで、活性潜在状態（または潜在的活性状態）の触媒前駆体とは、本来の活性化温度より活性化温度が低下しているが、温度上昇がないと、すなわち、室温程度では、照射領域１２５内においてモノマーの反応を生じさせることができない状態にある触媒前駆体のことを言う。
【０１７９】
したがって、活性放射線１３０照射後においても、例えば−４０℃程度で、層１１０を保管すれば、モノマーの反応を生じさせることなく、その状態を維持することができる。このため、活性放射線１３０照射後の層１１０を複数用意しておき、これらに一括して加熱処理を施すことにより、コア層１３を得ることができ、利便性が高い。
【０１８０】
なお、活性放射線１３０として、レーザ光のように指向性の高い光を用いる場合には、マスク１３５の使用を省略してもよい。
【０１８１】
次に、層１１０に対して加熱処理（第１の加熱処理）を施す。これにより、照射領域１２５内では、活性潜在状態の触媒前駆体が活性化して（活性状態となって）、モノマーの反応（重合反応や架橋反応）が生じる。
【０１８２】
そして、モノマーの反応が進行すると、照射領域１２５内におけるモノマー濃度が徐々に低下する。これにより、照射領域１２５と未照射領域１４０との間には、モノマー濃度に差が生じ、これを解消すべく、未照射領域１４０からモノマーが拡散（モノマーディフュージョン）して照射領域１２５に集まってくる。
【０１８３】
その結果、照射領域１２５では、モノマーやその反応物（重合体、架橋構造や分岐構造）が増加し、当該領域の屈折率にモノマー由来の構造が大きく影響を及ぼすようになり、第１の屈折率より低い第２の屈折率へと低下する。なお、モノマーの重合体としては、主に付加（共）重合体が生成する。
【０１８４】
一方、未照射領域１４０では、当該領域から照射領域１２５にモノマーが拡散することにより、モノマー量が減少するため、当該領域の屈折率にポリマー１１５の影響が大きく現れるようになり、第１の屈折率より高い第３の屈折率へと上昇する。
【０１８５】
このようにして、照射領域１２５と未照射領域１４０との間に屈折率差（第２の屈折率＜第３の屈折率）が生じて、図９に示すように、各コア部１３１ａ、１３１ｂ（未照射領域１４０）と側面クラッド部１５０（照射領域１２５）とが形成される。
【０１８６】
上記加熱処理における加熱温度は、特に限定されないが、３０〜８０℃程度であるのが好ましく、４０〜６０℃程度であるのがより好ましい。また、加熱時間は、照射領域１２５内におけるモノマーの反応がほぼ完了するように設定するのが好ましく、具体的には、０．１〜２時間程度であるのが好ましく、０．１〜１時間程度であるのがより好ましい。
【０１８７】
ここで、各コア部１３１ａ、１３１ｂは、その横断面形状が、図示のように、正方形または矩形（長方形）のような四角形に形成されるが、その幅および高さは、それぞれ、好ましくは１〜２００μｍ程度、より好ましくは５〜１００μｍ程度、さらに好ましくは１０〜６０μｍ程度とされる。
【０１８８】
次に、層１１０に対して第２の加熱処理を施す。これにより、未照射領域１４０および／または照射領域１２５に残存する触媒前駆体を、直接または助触媒の活性化を伴って、活性化させる（活性状態とする）ことにより、各照射領域１２５、１４０に残存するモノマーを反応させる。
【０１８９】
このように、各照射領域１２５、１４０に残存するモノマーを反応させることにより、得られる各コア部１３１ａ、１３１ｂおよび側面クラッド部１５０の安定化を図ることができる。
【０１９０】
この第２の加熱処理における加熱温度は、触媒前駆体または助触媒を活性化し得る温度であればよく、特に限定されないが、７０〜１００℃程度であるのが好ましく、８０〜９０℃程度であるのがより好ましい。
【０１９１】
また、加熱時間は、０．５〜２時間程度であるのが好ましく、０．５〜１時間程度であるのがより好ましい。
【０１９２】
次に、層１１０に対して第３の加熱処理を施す。これにより、得られるコア層１３に生じる内部応力の低減や、各コア部１３１ａ、１３１ｂおよび側面クラッド部１５０の更なる安定化を図ることができる。
【０１９３】
この第３の加熱処理における加熱温度は、第２の加熱処理における加熱温度より２０℃以上高く設定するのが好ましく、具体的には、９０〜１８０℃程度であるのが好ましく、１２０〜１６０℃程度であるのがより好ましい。また、加熱時間は、０．５〜２時間程度であるのが好ましく、０．５〜１時間程度であるのがより好ましい。
以上の工程を経て、コア層１３が得られる。
【０１９４】
なお、例えば、第２の加熱処理や第３の加熱処理を施す前の状態で、各コア部１３１ａ、１３１ｂと側面クラッド部１５０との間に十分な屈折率差が得られている場合等には、第２の加熱処理や第３の加熱処理を省略してもよい。
【０１９５】
次に、図１０に示すように、支持基板１６２上に、クラッド層１１（１２）を形成する。
【０１９６】
クラッド層１１（１２）の形成方法としては、クラッド材を含むワニス（クラッド層形成用材料）を塗布し硬化（固化）させる方法、硬化性を有するモノマー組成物を塗布し硬化（固化）させる方法等、いかなる方法でもよい。
【０１９７】
クラッド層１１（１２）を塗布法で形成する場合、例えば、スピンコート法、ディッピング法、テーブルコート法、スプレー法、アプリケーター法、カーテンコート法、ダイコート法等の方法が挙げられる。
支持基板１６２には、支持基板１６１と同様のものを用いることができる。
【０１９８】
クラッド層１１（１２）の構成材料としては、例えば、アクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、エポキシ樹脂、ポリアミド、ポリイミド、ポリベンゾオキサゾール、ベンゾシクロブテン系樹脂やノルボルネン系樹脂等の環状オレフィン系樹脂等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて（ポリマーアロイ、ポリマーブレンド（混合物）、共重合体、複合体（積層体）など）用いることができる。
【０１９９】
これらのうち、特に耐熱性に優れるという点で、エポキシ樹脂、ポリイミド、ポリベンゾオキサゾール、ベンゾシクロブテン系樹脂やノルボルネン系樹脂等の環状オレフィン系樹脂、またはそれらを含むもの（主とするもの）を用いるのが好ましく、特に、ノルボルネン系樹脂（ノルボルネン系ポリマー）を主とするものが好ましい。
【０２００】
ノルボルネン系ポリマーは、耐熱性に優れるため、これをクラッド層１１（１２）の構成材料として使用する光導波路１では、光導波路１に導体層を形成する際、導体層を加工して配線を形成する際、光学素子を実装する等に加熱されたとしても、クラッド層１１（１２）が軟化して、変形するのを防止することができる。
【０２０１】
また、高い疎水性を有するため、吸水による寸法変化等を生じ難いクラッド層１１（１２）を得ることができる。
【０２０２】
また、ノルボルネン系ポリマーまたはその原料であるノルボルネン系モノマーは、比較的安価であり、入手が容易であることからも好ましい。
【０２０３】
さらに、クラッド層１１（１２）の材料として、ノルボルネン系ポリマーを主とするものを用いると、曲げ等の変形に対する耐性に優れ、繰り返し湾曲変形した場合でも、クラッド層１１、１２とコア層１３との層間剥離が生じ難く、クラッド層１１、１２の内部にマイクロクラックが発生することも防止される。しかも、コア層１３の構成材料として好適に用いられる材料と同種となるため、コア層１３との密着性がさらに高いものとなり、クラッド層１１（１２）とコア層１３との間での層間剥離を防止することができる。このようなことから、光導波路１の光伝送性能が維持され、耐久性に優れた光導波路１が得られる。
【０２０４】
また、クラッド層１１（１２）の材料としては、ノルボルネン系ポリマーの中でも特に付加（共）重合体が好ましい。このものは、透明性、耐熱性および可撓性に富むことからも好ましい。
【０２０５】
また、特に、ノルボルネン系ポリマーは、重合性基を含む置換基を有するノルボルネンの繰り返し単位や、アリール基を含む置換基を有するノルボルネンの繰り返し単位を含むものが好ましい。
【０２０６】
重合性基を含む置換基を有するノルボルネンの繰り返し単位を含むことにより、クラッド層１１（１２）において、ノルボルネン系ポリマーの少なくとも一部のものの重合性基同士を、直接または架橋剤を介して架橋させることができる。また、重合性基の種類、架橋剤の種類、コア層１３に用いるポリマーの種類等によっては、このノルボルネン系ポリマーとコア層１３に用いるポリマーとを架橋させることもできる。換言すれば、かかるノルボルネン系ポリマーは、その少なくとも一部のものが重合性基において架橋しているのが好ましい。
【０２０７】
その結果、クラッド層１１（１２）自体の強度や、クラッド層１１（１２）とコア層１３との密着性の更なる向上を図ることができる。
【０２０８】
このような重合性基を含むノルボルネンの繰り返し単位としては、エポキシ基を含む置換基を有するノルボルネンの繰り返し単位、（メタ）アクリル基を含む置換基を有するノルボルネンの繰り返し単位、および、アルコキシシリル基を含む置換基を有するノルボルネンの繰り返し単位のうちの少なくとも１種が好適である。これらの重合性基は、各種重合性基の中でも、反応性が高いことから好ましい。
【０２０９】
また、このような重合性基を含むノルボルネンの繰り返し単位を、２種以上含むものを用いれば、架橋密度をさらに向上させることができ、前記効果がより顕著となる。
【０２１０】
一方、アリール基を含む置換基を有するノルボルネンの繰り返し単位を含むことにより、アリール基は、疎水性が極めて高いため、クラッド層１１（１２）の吸水による寸法変化等をより確実に防止することができる。また、アリール基は、脂溶性（親油性）に優れ、前述したようなコア層１３に用いられるポリマーとの親和性が高いため、クラッド層１１（１２）とコア層１３との間での層間剥離をより確実に防止することができ、より耐久性に優れた光導波路１が得られる。
【０２１１】
さらに、ノルボルネン系ポリマーは、アルキルノルボルネンの繰り返し単位を含むものが好ましい。なお、アルキル基は、直鎖状または分岐状のいずれであってもよい。
【０２１２】
アルキルノルボルネンの繰り返し単位を含むことにより、ノルボルネン系ポリマーは、柔軟性が高くなるため、クラッド層１１、１２に高いフレキシビリティ（可撓性）を付与することができる。
【０２１３】
また、アルキルノルボルネンの繰り返し単位を含むノルボルネン系ポリマーは、前述したような波長領域（特に、８５０ｎｍ付近の波長領域）の光に対する透過率が優れることからも好ましい。
【０２１４】
なお、クラッド層１１（１２）に用いるノルボルネン系ポリマーは、比較的屈折率の低いものが好適であるのに対して、アリール基を含む置換基を有するノルボルネンの繰り返し単位を含むと、一般に屈折率が高くなる傾向を示すが、アルキルノルボルネンの繰り返し単位を含むことにより、屈折率の上昇を防止することもできる。
【０２１５】
ノルボルネン系ポリマーは、前述した特性に加えて、比較的低い屈折率のものであり、かかるノルボルネン系ポリマーを主材料としてクラッド層１１（１２）を構成することにより、光導波路１の光伝送性能をより向上させることができる。
【０２１６】
なお、ノルボルネン系ポリマーが、（メタ）アクリル基を含む置換基を有するノルボルネンの繰り返し単位を含む場合、（メタ）アクリル基同士は、加熱により比較的容易に架橋（重合）させることができるが、クラッド層形成用材料中に、ラジカル発生剤を混合することにより、（メタ）アクリル基同士の架橋反応を促進することができる。
【０２１７】
ラジカル発生剤としては、例えば、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、１，１−ビス（ｔ−ブチルペロキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン等が好適に用いられる。
【０２１８】
また、ノルボルネン系ポリマーが、エポキシ基を含む置換基を有するノルボルネンの繰り返し単位や、アルコキシシリル基を含む置換基を有するノルボルネンの繰り返し単位を含む場合、これらの重合性基同士を直接架橋させるためには、クラッド層形成用材料中に、前述した助触媒と同種の物質（光酸発生剤または光塩基発生剤）を混合しておき、この物質の作用により、エポキシ基やアルコキシシリル基を架橋させればよい。
【０２１９】
一方、エポキシ基同士、（メタ）アクリル基同士やアルコキシシリル基同士を架橋剤を介して架橋させるためには、さらに、クラッド層形成用材料中に、架橋剤として、各重合性基に対応する重合性基を少なくとも１つ有する化合物を混合するようにすればよい。
【０２２０】
エポキシ基を有する架橋剤としては、例えば、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン（γ−ＧＰＳ）、シリコーンエポキシ樹脂等が好適に用いられる。
【０２２１】
（メタ）アクリル基を有する架橋剤としては、例えば、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラントリシクロ［５．２．１．０２，６］デカンジメタノールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート等が好適に用いられる。
【０２２２】
アルコキシシリル基を有する架橋剤としては、例えば、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシランのようなシランカップリング剤等が好適に用いられる。
【０２２３】
これらの重合性基同士の架橋反応は、本工程の最終段階で行うようにしてもよいし、光導波路１を得た後に行うようにしてもよい。
【０２２４】
また、クラッド層形成用材料中には、各種の添加剤を添加（混合）するようにしてもよい。
【０２２５】
たとえば、クラッド層形成用材料中には、前記コア層形成用材料で挙げたモノマー、触媒前駆体および助触媒を混合してもよい。これにより、クラッド層１１（１２）中において、前述したのと同様にして、モノマーを反応させて、クラッド層１１（１２）の屈折率を変化させることができる。
【０２２６】
特に、モノマーとしては、架橋性モノマーを含むものを用いると、クラッド層１１（１２）において、ノルボルネン系ポリマーの少なくとも一部のものを、架橋性モノマーを介して架橋させることができる。また、架橋剤の種類、コア層１３に用いるポリマーの種類等によっては、このノルボルネン系ポリマーとコア層１３に用いるポリマーとを架橋させることもできる。
【０２２７】
また、この場合、クラッド層１１（１２）中において、屈折率の差を設けることが要求されないので、助触媒を省略して、加熱により容易に活性化する触媒前駆体を用いることもできる。
【０２２８】
かかる触媒前駆体としては、例えば、［Ｐｄ（ＰＣｙ３）２（Ｏ２ＣＣＨ３）（ＮＣＣＨ３）］テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、［２−ｍｅｔｈａｌｌｙｌＰｄ（ＰＣｙ３）２］テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、［Ｐｄ（ＰＣｙ３）２Ｈ（ＮＣＣＨ３）］テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、［Ｐｄ（Ｐ（ｉＰｒ）３）２（ＯＣＯＣＨ３）（ＮＣＣＨ３）］テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート等が挙げられる。
【０２２９】
その他の添加剤としては、前述したような酸化防止剤が挙げられる。酸化防止剤を混合することにより、クラッド材（ノルボルネン系ポリマー）の酸化による劣化を防止することができる。
以上のようにして、支持基板１６２上に、クラッド層１１（１２）が形成される。
【０２３０】
クラッド層１１、１２の平均厚さは、コア層１３の平均厚さの０．１〜１．５倍程度であるのが好ましく、０．３〜１．２５倍程度であるのがより好ましく、具体的には、クラッド層１１、１２の平均厚さは、特に限定されないが、それぞれ、通常、１〜２００μｍ程度であるのが好ましく、５〜１００μｍ程度であるのがより好ましく、１０〜６０μｍ程度であるのがさらに好ましい。これにより、光導波路１が不要に大型化（圧膜化）するのを防止しつつ、クラッド層としての機能が好適に発揮される。
【０２３１】
次に、支持基板１６１からコア層１３を剥離し、このコア層１３を、図１１（ａ）に示すように、クラッド層１１が形成された支持基板１６２と、クラッド層１２が形成された支持基板１６２とで挟持する。
【０２３２】
そして、図１１（ａ）中の矢印で示すように、クラッド層１２が形成された支持基板１６２の上面側から加圧し、クラッド層１１、１２とコア層１３とを圧着する。これにより、クラッド層１１、１２とコア層１３とが接合、一体化される。
【０２３３】
この圧着作業は、加熱下で行われるのが好ましい。加熱温度は、クラッド層１１、１２やコア層１３の構成材料等により適宜決定されるが、通常は、８０〜２００℃程度が好ましく、１２０〜１８０℃程度がより好ましい。
【０２３４】
次いで、クラッド層１１、１２から、それぞれ、支持基板１６２を剥離、除去する。これにより、図１１（ｂ）に示す光導波路１が得られる。
【０２３５】
このような光導波路１の好ましい例では、コア層１３において、各コア部１３１ａ、１３１ｂが第１のノルボルネン系材料を主材料として構成され、側面クラッド部１５０が第１のノルボルネン系材料より低い屈折率を有する第２のノルボルネン系材料を主材料として構成され、クラッド層１１、１２が、それぞれ、第１のノルボルネン系材料（コア層１３の各コア部１３１ａ、１３１ｂ）より屈折率が低いノルボルネン系ポリマーを主材料として構成される。
【０２３６】
そして、第１のノルボルネン系材料と前記第２のノルボルネン系材料とは、いずれも、同一のノルボルネン系ポリマーを含有するが、このノルボルネン系ポリマーと異なる屈折率を有するノルボルネン系モノマーの反応物の含有量が異なることにより、互いに屈折率が異なっている。
【０２３７】
ノルボルネン系ポリマーは、透明性が高いため、かかる構成の光導波路１では、高い光伝送性能が得られる。
【０２３８】
また、このような構成により、各コア部１３１ａ、１３１ｂと側面クラッド部１５０との間の高い密着性のみならず、コア層１３とクラッド層１１およびクラッド層１２との間の高い密着性が得られ、光導波路１に曲げ等の変形が生じた場合でも、各コア部１３１ａ、１３１ｂと側面クラッド部１５０との剥離や、コア層１３とクラッド層１１、１２との層間剥離が生じ難く、各コア部１３１ａ、１３１ｂ内や側面クラッド部１５０内にマイクロクラックが発生することも防止される。その結果、光導波路１の光伝送性能が維持される。
【０２３９】
さらに、ノルボルネン系ポリマーは、高い耐熱性、高い疎水性を有するため、かかる構成の光導波路１では、耐久性に優れたものとなる。
【０２４０】
また、光導波路１に高い耐熱性や高い疎水性を付与することができるため、その特性の低下（劣化）を防止しつつ、前述したような各種の方法を採用して導体層を確実に形成することができる。特に、光の伝送に重要な各コア部１３１ａ、１３１ｂと重なるように、導体層を形成した場合でも、各コア部１３１ａ、１３１ｂの変質・劣化を防止することができる。
【０２４１】
また、以上のような製造方法によれば、簡単な処理で、しかも短時間に、所望の形状を有し、かつ、寸法精度の高い各コア部１３１ａ〜１３１ｈを有する光導波路１を得ることができる。
【０２４２】
（積層型光導波路フィルムの構造）
図１２（ａ）および図１２（ｂ）は、積層型光導波路フィルムの概略構造を示す断面図である。
【０２４３】
図１２（ａ）に示す積層型光導波路フィルムは、上記光導波路１と同じ構造を有する第１光導波路１Ａおよび第２光導波路１Ｂが接着層８を介して積層された構造を有している。第１光導波路１Ａおよび第２光導波路１Ｂの各々の製造方法は、上記光導波路１の製造方法と同じである。
【０２４４】
また、図１２（ｂ）に示す積層型光導波路フィルムは、クラッド層（下部クラッド層）１１、コア層（下部コア層）１３、クラッド層（中間クラッド層）１２、コア層（上部コア層）１３およびクラッド層（上部クラッド層）１２がこの順に積層された構造を有している。よって、図１２（ｂ）に示す積層型光導波路フィルムは、実質的に２つの光導波路が積層された構造を有する。下部クラッド層１１、下部コア層１３および中間クラッド層１２からなる積層構造は、上記光導波路１の製造方法と同様に形成される。その後、この積層構造上に上部コア層１３および上部クラッド層１２が、上記光導波路１のコア層１３およびクラッド層１２と同じ工程で形成される。
【０２４５】
以上、本発明の光導波路を、図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明はこれらに限定されるものではなく、各部の構成は、同様の機能を発揮し得る任意の構成と置換することができ、また、任意の構成が付加されていてもよい。
【０２４６】
例えば、前記実施形態では、アライメントマーク１８１とダイシングライン１７１ａ、１７１ｂとによりアライメントパターン１７１が構成されるが、これに限定されるものではなく、アライメントマークを表すパターンとダイシングラインを表すパターンとが完全に分離されていてもよい。
【０２４７】
また、各光導波路領域１３１、１３２、１３３には、それぞれ同一の形状の光導波路１が形成されていてもよいが、互いに異なる形状の光導波路１が形成されていてもよい。
【０２４８】
また、光導波路領域の数は３個に限られるものではなく、4個以上の光導波路領域が設けられていてもよい。
【０２４９】
また、図２に示すアライメントパターン１７１、１７２、１７３は同一形状であるが、各光導波路領域１３１、１３２、１３３に形成される光導波路１の形状が互いに異なっている場合には、その形状に対応して互いに異なる形状であってもよい。
【０２５０】
なお、このような本発明の光導波路は、例えば光通信用の光配線に用いることができる。
【０２５１】
また、本発明の光導波路を備えた光配線（本発明の光配線）は、既存の電気配線とともに基板上に混載されることにより、いわゆる「光・電気混載基板」を構成することができる。かかる光・電気混載基板（本発明の光電気混載基板）では、例えば、光配線（光導波路のコア部）で伝送された光信号を、光デバイスにおいて電気信号に変換し、電気配線に伝達する。これにより、光配線の部分で、従来の電気配線よりも高速かつ大容量の情報伝送を可能にする。したがって、例えばＣＰＵやＬＳＩ等の演算装置とＲＡＭ等の記憶装置との間をつなぐバス等に、この光・電気混載基板を適用することにより、システム全体の性能を高めるとともに、電磁ノイズの発生を抑制することができる。
【０２５２】
なお、かかる光・電気混載基板は、例えば、携帯電話、ゲーム機、パソコン、テレビ、ホーム・サーバー等、大容量のデータを高速に伝送する電子機器類に搭載することが考えられる。このように光・電気混載基板を備えた電子機器（本発明の電子機器）は、内部の情報処理速度に優れた高い性能を発揮し得るものとなる。
【符号の説明】
【０２５３】
１、１’、１”              光導波路
１０                        光導波路フィルム
１１、１２                  クラッド層
１３                        コア層
１３１、１３２、１３３      光導波路領域
１３１ａ〜１３１ｈ          コア部
１３４１                    直線状部分
１３４２                    曲線部分
１５０                      側面クラッド部
１６                        クラッド部
１７１、１７２、１７３      アライメントパターン
１７１ａ、１７１ｂ、１７２ａ、１７２ｂ  ダイシングライン
１８１、１８２              アライメントマーク
１００                      コア層形成用材料（ワニス）
１１０                      層
１１５                      ポリマー
１２０                      添加剤
１２５                      照射領域
１３０                      活性放射線（活性エネルギー線）
１３５                      マスク
１３５１                    開口（窓）
１４０                      未照射領域
１６１、１６２              支持基板
１Ａ、１Ｂ                  光導波路
８                          接着層
８１、８２                  多心光コネクタ
８１０、８２０              光ファイバコア
９                          光導波路
９０１                      コア部
【図１】
2010197505.tif 000003
【図２】
2010197505.tif 000004
【図３】
2010197505.tif 000005
【図４】
2010197505.tif 000006
【図５】
2010197505.tif 000007
【図６】
2010197505.tif 000008
【図７】
2010197505.tif 000009
【図８】
2010197505.tif 000010
【図９】
2010197505.tif 000011
【図１０】
2010197505.tif 000012
【図１１】
2010197505.tif 000013
【図１２】
2010197505.tif 000014
【図１３】
2010197505.tif 000015