(57)【要約】【課題】  本発明は、良好な検出性を備えた薄膜積層基板を提供することを目的とするものである。【解決手段】  本発明の薄膜積層基板は、基板の片面に蛍光物質を含有する薄膜層が積層され、４００ｎｍ〜７００ｎｍの波長領域における平均光線透過率が６０％以上であることを特徴とするものである。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の片面に蛍光物質を含有する薄膜層が積層され、４００ｎｍ〜７００ｎｍの波長領域における平均光線透過率が６０％以上である薄膜積層基板。
【請求項２】
前記薄膜層がパターン形成されている請求項１の薄膜積層基板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、可視光透過性を示すうえ、良好な検出性を備えた薄膜積層基板に関する。
【背景技術】
【０００２】
高度な機能性を有する素材が開発されることで、ナノテクノロジーと呼ばれるような極めて微細な領域における素材設計で機能性を発揮することが求められている。一方、工業製品として安価に製造するためには、容易に設計どおりの素材構成で生産されているかどうかを検証する必要がある。
【０００３】
例えば薄膜積層品の確認手段としては、披検査品の表面に対する入射光と反射光の変化を検出することにより光学特性変化を検出する手法（特許文献１参照）が開示されている。  また、塗布された膜の厚みを光干渉方式や透過率測定にて膜厚などの検査する分光検査装置なども知られている。
【特許文献１】特開平０６−０８４７４３号公報（［００１４］段落）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、特許文献１などの光学特性変化を利用した検査を行うには、屈折率などの薄膜構成素材の光学特性が検査精度に大きく影響を与える上、検査対象と検査装置の位置を高精度で制御する必要がある。また透過率測定により検査を行う場合、膜厚が薄くなり薄膜層の光線透過率が高くなるほど検知が困難になる問題があった。他にも、遮蔽性のある塗膜で基板遮蔽の有無を検知する方法も知られているが、同様に膜厚が薄くなり薄膜層の光線透過率が高くなるほど検知が困難になる問題があった。さらに、顔料等をマーカーとして用いて塗膜の有無を検知する方法も知られているが、検知に用いる照射光と測定光が同じ波長となるために、照射光自体が検出ノイズ源となってしまうため透明度の高い薄膜の有無を検知することは困難であった。
【０００５】
本発明は、上記の問題点を解決し、良好な検出性を備えた薄膜積層基板を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、かかる課題を解決するために、次のような手段を採用するものである。すなわち、本発明の薄膜積層基板は、基板の片面に蛍光物質を含有する薄膜層が積層され、４００ｎｍ〜７００ｎｍの波長領域における光線透過率が６０％以上であることを特徴とするものである。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、高い可視光透過率を有しながら、良好な検出性を備えた薄膜積層基板を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
本発明は、前記課題、つまり、高い可視光透過率を有しながら良好な検出性を備えた薄膜積層基板について鋭意検討し、蛍光物質を含有する薄膜層を基板に積層し、可視光透過性を有する薄膜積層基板とすることでかかる課題を一挙に解決したものである。
【０００９】
かかる構成を有することにより、紫外光の吸収強度や励起光の発光強度といった特徴的な波長の解析による膜厚評価が可能となる。そのために照射光に含まれる波長とは異なる波長を測定するなどの方法を用いることによるバックグラウンドのノイズの低減による検出精度向上が可能となる。蛍光物質の吸収波長、励起光の波長は用途に合わせて選ぶものである。例えば薄膜積層基板を光学的な検知を行うセンサー用部材として用いる場合、検知波長Ｓ（ｎｍ）と薄膜層に分散されている蛍光物質の吸収波長Ａ（nm）が離れていると検知感度への影響を小さくできる。検知波長には可視光（４００ｎｍ〜７００ｎｍ）が使用されることが多いため、蛍光物質の吸収波長Ａは４００ｎｍ以下であることが好ましい。また、検知波長Ｓと蛍光物質の吸収光のピーク波長Ａの差Δ１（nm）が５０nm以上であることは好ましく、１００ｎｍ以上であることはより好ましく、２００ｎｍ以上であることはさらに好ましい。検知波長Ｓと蛍光物質の励起光のピーク波長Ｆ（ｎｍ）の差Δ２（nm）が３０nm以上であることは好ましく、５０ｎｍ以上であることはより好ましく、１００ｎｍ以上であることはさらに好ましい。
【００１０】
このような蛍光物質としては、クマリン系、スピロピラン系、ピレンスルホン酸系、フルオレセイン系、アンスラキノン系、オキサゾール系、ピラゾリン系、チアジアゾール系、ベンゾイミダゾール系、ジアミノスチルベン系、ローダミン系、ペリレン系、ピレン系、フィコビリプロテイン系、シアニン系、ベンゾピラン系、チオインジゴ系、メチン系、フタロシアニン系等の蛍光色素や、ポリ塩化ビニル樹脂、アルキッド樹脂、ポリメタクリル酸エステル樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂等の樹脂に蛍光色素を混合して粉砕した有機系蛍光顔料、銅、銀、マンガン等で活性化した硫化亜鉛、マンガン等で活性化したケイ酸亜鉛、銀、銅等で活性化した硫化亜鉛、サマリウム、セリウム等で活性化した硫化ストロンチウム、ユーロピウム等で活性化したＳｒ5 (ＰＯ4 ）3 Ｃｌ、マンガン等で活性化した Ｚｎ2 ＧｅＯ2、ユーロピウム等で活性化したＹ2 Ｏ2 Ｓ、ユーロピウム等で活性化したＹ2 Ｏ3 等の無機系蛍光顔料から用途に合わせて用いる事ができる。
【００１１】
薄膜層中の蛍光物質の濃度は、用途に合わせた薄膜層の膜厚検出精度を満たすように、薄膜層の特性・成分、薄膜層の厚み、蛍光物質特性、検出装置に合わせて含有蛍光物質量を設計するものである。
【００１２】
薄膜層中の蛍光物質は、薄膜中に均一に分散されていることが好ましい。薄膜層に分散された蛍光物質を指標として薄膜の厚みを推定することを可能とするためには、薄膜層内の蛍光物質分布に大きな変動が無いことが好ましいからである。
【００１３】
本発明における薄膜層は可視光透過性を有している。可視光透過性とは可視光領域（４００ｎｍ〜７００ｎｍ）の光の透過性である。薄膜層が可視光透過性を有することで、後述する薄膜積層基板全体としての可視光透過性を満たすことができる。また、一般的な物質では薄膜化すればするほど、可視光透過性も高くなるが、光学的な検知行うセンサー用部材として用いる場合には検知波長には可視光が使用されることが多いため、薄膜層の可視光透過性は高ければ高いほど好ましい。
【００１４】
薄膜層の厚みは用途に合わせて設定するものであり、本発明は膜厚測定の困難な透明薄膜において設定膜厚の測定を可能にするものである。
【００１５】
また、本発明の薄膜積層基板ならブラックライトなどを光源に用いることで容易に薄膜層のパターンを識別することが可能であり薄膜層パターンの検査性が優れるために、薄膜層がパターン形成されていることは好ましい態様である。
【００１６】
本発明の基板に用いる材料としては、ガラス、ポリ乳酸、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリプロピレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリメタクリル酸メチル、ポリアセタールなどから用途に合わせて単独材料や複合材料として使用することが出来る。薄膜層パターンや膜厚を測定する際に、製造工程で光源−検出装置の設置自由度を確保するためには、測定に使用する波長の吸収や反射、散乱が少ない材料であることが好ましい。
【００１７】
本発明の薄膜積層基板は高い可視光透過率を有することが必要である。具体的には、４００ｎｍ〜７００ｎｍの波長領域における平均光線透過率が６０％以上であることが必要である。平均光線透過率は７０％以上であることが好ましく、８０％以上であることがさらに好ましい。このように高い可視光透過率を有することは光学的な検知を必要とするセンサー用の部材や透過視認性を必要とする部材として有用である。４００ｎｍ〜７００ｎｍの全域に渡って光線透過率が６０％以上であることが好ましいが、蛍光物質の励起光波長と異なり、薄膜積層基板の実用上問題とならない波長において部分的に光線透過率が６０％以下の波長があったとしても、平均光線透過率が６０％以上であれば使用することは出来る。
【００１８】
ここで、本発明における薄膜積層基板の「光線透過率」「平均光線透過率」は以下のようにして測定した値である。先ず波長５ｎｍ刻みで波長１９０ｎｍ〜８００ｎｍの範囲における薄膜積層基板の透過率の実測値Ｔｒ（％）を求める。次いで基板のみの波長８００ｎｍにおける透過率Ｔｒ８００[基板]（％）を求める。これらの透過率の値と薄膜積層基板の波長８００ｎｍにおける実測透過率Ｔｒ８００（ｎｍ）を用い、下記式により補正透過率Ｔｃ（％）を求める。
・Ｔｃ＝Ｔｒ／（Ｔｒ８００／Ｔｒ８００[基板]）
本発明における「光線透過率」はこの補正透過率Ｔｃ（％）の値のことである。また、本発明における「平均光線透過率」は、波長４００ｎｍ〜７００ｎｍの範囲における波長５ｎｍ刻みの補正透過率Ｔｃ（％）の値の加算平均値である。
【００１９】
本発明の薄膜積層基板においては、薄膜層あるいは薄膜層パターンの有無を蛍光物質の光学検知により判定することが出来る。工程から抜き出した基板に紫外線や白色光を当てて目視にて薄膜層あるいは薄膜層パターンの有無を確認することが可能になるとともに、検査装置を工程に組み込むことにより生産ラインで検知することも可能となる。また、蛍光物質が顕著に示す吸収光や励起光の強度を観察することによって薄膜層の膜厚を判定することが出来る。
【実施例】
【００２０】
［薄膜積層基板の製造方法］
ポリエチレンテレフタレートを主成分とする１００μｍ厚のポリエステルフィルム  ルミラー（登録商標）Ｓ１０（東レ（株）製）を基板Ｂとして準備した。
【００２１】
薄膜層を形成するためのウエットコーティング用塗液として以下に記載の塗液を準備した。塗液の調整に用いた溶媒は重量比で水対イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）が１対１のものを用いた。
・塗液Ａ５００
バインダー樹脂：ペスレジンＡ−２１５ＧＥ（高松油脂（株）製）の５ｗｔ％溶液
・塗液Ａ０５０
塗液Ａ５００の１０倍希釈液
・塗液Ａ００５
塗液Ａ５００の１００倍希釈液
・塗液Ｙ５００
バインダー樹脂：ペスレジンＡ−２１５ＧＥ（高松油脂（株）製）と蛍光物質：シンロイヒカラーＳＦ−３０１５（シンロイヒ（株）製）が固形分の重量比で９対１である５ｗｔ％溶液
・塗液Ｙ０５０
塗液Ｙ５００の１０倍希釈液
・塗液Ｙ００５
塗液Ｙ５００の１００倍希釈液
・塗液Ｐ５００
バインダー樹脂：ペスレジンＡ−２１５ＧＥ（高松油脂（株）製）と蛍光物質：シンロイヒカラーＳＦ−３０１７（シンロイヒ（株）製）が固形分の重量比で９対１である５ｗｔ％溶液
・塗液Ｐ０５０
塗液Ｐ５００の１０倍希釈液
・塗液Ｐ００５
塗液Ｐ５００の１００倍希釈液。
【００２２】
［実施例１］
基板Ｂにバーコーター（８番手）を用いて塗液Ｙ５００を塗り、セーフティオーブンＳＰＨＨ−２０１（タバイエスペック（株）製）にて１３０℃で１分間乾燥後、室温にて放冷し、実較例１の薄膜積層基板を得た。
【００２３】
［実施例２］
基板Ｂにバーコーター（８番手）を用いて塗液Ｙ０５０を塗り、セーフティオーブンＳＰＨＨ−２０１（タバイエスペック（株）製）にて１３０℃で１分間乾燥後、室温にて放冷し、実較例２の薄膜積層基板を得た。
【００２４】
［実施例３］
基板Ｂにバーコーター（８番手）を用いて塗液Ｙ００５を塗り、セーフティオーブンＳＰＨＨ−２０１（タバイエスペック（株）製）にて１３０℃で１分間乾燥後、室温にて放冷し、実較例３の薄膜積層基板を得た。
【００２５】
［実施例４］
基板Ｂにバーコーター（２２番手）を用いて塗液Ｙ５００を塗り、セーフティオーブンＳＰＨＨ−２０１（タバイエスペック（株）製）にて１３０℃で１分間乾燥後、室温にて放冷し、実較例４の薄膜積層基板を得た。
【００２６】
［実施例５］
基板Ｂにバーコーター（３番手）を用いて塗液Ｙ５００を塗り、セーフティオーブンＳＰＨＨ−２０１（タバイエスペック（株）製）にて１３０℃で１分間乾燥後、室温にて放冷し、実較例５の薄膜積層基板を得た。
【００２７】
［実施例６］
基板Ｂにバーコーター（８番手）を用いて塗液Ｐ５００を塗り、セーフティオーブンＳＰＨＨ−２０１（タバイエスペック（株）製）にて１３０℃で１分間乾燥後、室温にて放冷し、実較例６の薄膜積層基板を得た。
【００２８】
［実施例７］
基板Ｂにバーコーター（８番手）を用いて塗液Ｐ０５０を塗り、セーフティオーブンＳＰＨＨ−２０１（タバイエスペック（株）製）にて１３０℃で１分間乾燥後、室温にて放冷し、実較例７の薄膜積層基板を得た。
【００２９】
［実施例８］
基板Ｂにバーコーター（８番手）を用いて塗液Ｐ００５を塗り、セーフティオーブンＳＰＨＨ−２０１（タバイエスペック（株）製）にて１３０℃で１分間乾燥後、室温にて放冷し、実較例８の薄膜積層基板を得た。
【００３０】
［実施例９］
基板Ｂにバーコーター（２２番手）を用いて塗液Ｐ５００を塗り、セーフティオーブンＳＰＨＨ−２０１（タバイエスペック（株）製）にて１３０℃で１分間乾燥後、室温にて放冷し、実較例９の薄膜積層基板を得た。
【００３１】
［実施例１０］
基板Ｂにバーコーター（３番手）を用いて塗液Ｐ５００を塗り、セーフティオーブンＳＰＨＨ−２０１（タバイエスペック（株）製）にて１３０℃で１分間乾燥後、室温にて放冷し、実較例１０の薄膜積層基板を得た。
【００３２】
［比較例１］
基板Ｂにバーコーター（８番手）を用いて塗液Ａ５００を塗り、セーフティオーブンＳＰＨＨ−２０１（タバイエスペック（株）製）にて１３０℃で１分間乾燥後、室温にて放冷し、比較例１の薄膜積層基板を得た。
【００３３】
［比較例２］
基板Ｂにバーコーター（８番手）を用いて塗液Ａ０５０を塗り、セーフティオーブンＳＰＨＨ−２０１（タバイエスペック（株）製）にて１３０℃で１分間乾燥後、室温にて放冷し、比較例２の薄膜積層基板を得た。
【００３４】
［比較例３］
基板Ｂにバーコーター（８番手）を用いて塗液Ａ００５を塗り、セーフティオーブンＳＰＨＨ−２０１（タバイエスペック（株）製）にて１３０℃で１分間乾燥後、室温にて放冷し、比較例３の薄膜積層基板を得た。
【００３５】
［比較例４］
基板Ｂにバーコーター（２２番手）を用いて塗液Ａ５００を塗り、セーフティオーブンＳＰＨＨ−２０１（タバイエスペック（株）製）にて１３０℃で１分間乾燥後、室温にて放冷し、比較例４の薄膜積層基板を得た。
【００３６】
［比較例５］
基板Ｂにバーコーター（３番手）を用いて塗液Ａ５００を塗り、セーフティオーブンＳＰＨＨ−２０１（タバイエスペック（株）製）にて１３０℃で１分間乾燥後、室温にて放冷し、比較例５の薄膜積層基板を得た。
【００３７】
［特性の測定方法および評価方法］
（１）紫外線照射による薄膜層有無の確認評価
以下記載の照明装置を用いて薄膜層基板を目視確認した。
・日立製作所製  蛍光灯卓上スタンド  ＦＳ５２１４Ｅ
・松下電器製  ブラックライトブルー蛍光灯  ＦＬ１５ＢＬ−Ｂ
基板Ｂと比較して違いが確認出来る場合を○、違いが確認できない場合を×とし      て薄膜層有無確認の評価を行った。実施例１〜２０は違いを確認できたが、比較例１〜５では違いを確認できなかった。
【００３８】
（２）分光分析による薄膜層評価
以下記載の測定装置、測定条件にて透過率Ｔ（％）を測定した。
・島津製作所製  ＵＶ−３１００ＰＣ
・波長範囲（ｎｍ）：１９０．０〜８００．０
・スキャンスピード：高速
・サンプリングピッチ：０．５
・測定モード：シングル
波長５ｎｍ毎に次式により、実測透過率Ｔｒ（％）、波長８００nmの透過率Ｔｒ８００（％）および基板Ｂの波長８００ｎｍの透過率Ｔｒ８００［基板Ｂ］から補正透過率Ｔｃ（％）を求めて評価を行った。
・Ｔｃ＝Ｔｒ／（Ｔｒ８００／Ｔｒ８００［基板Ｂ］）
実施例１〜５で最も差の顕著だった波長１９０ｎｍ、実施例６〜１０で最も差の      顕著だった波長５３０ｎｍ、比較例１〜５で最も差の顕著だった波長４４０ｎｍにおける補正透過率Ｔｃ（％）の比較を行った。実施例１〜５では、波長１９０ｎｍにおいて補正透過率Ｔｃ（％）に最大１７％の差が認められ、塗液濃度やバーコーター番手の差による顕著な傾向が観察された。
実施例６〜１０では、波長５３０ｎｍにおいて補正透過率Ｔｃ（％）に最大６％の差が認められ、塗液濃度やバーコーター番手の差による傾向が観察された。
比較例１〜５では、補正透過率Ｔｃ（％）に最大２％の差しか認められず、塗液濃度やバーコーター番手の差による傾向も観察出来なかった。
また、実施例１〜１０や比較例１〜５の可視光領域（４００ｎｍ〜７００ｎｍ）におけ    る平均補正透過率Ｔｃ（％）は６０％以上の良好な可視光透過性を示した。
【００３９】
【表１】
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【産業上の利用可能性】
【００４０】
本発明の薄膜積層基板は、光学的に良好な検出性を備える薄膜層を有するため、パターン化した薄膜層で機能性を発揮する薄膜積層基板のパターン制御や薄膜層膜厚が機能性に大きく影響を及ぼす薄膜層基板の膜厚制御に好適に用いることが出来るが、その適用範囲がこれらに限定されるものではない。