(57)【要約】【課題】外光の映り込みが少なく、反射光の色味の角度依存性の低減と、画像のコントラスト及び解像度の向上とを両立させ、さらに電磁波遮蔽機能をも付与することができる機能性光学フィルムを提供する。【解決手段】本発明の機能性光学フィルムは、基材１１と、基材１１の一方の主面に配置された複数の開口部１２ａを有する導電層１２と、導電層１２を覆って配置されたハードコート層１３と、ハードコート層１３の上に配置された反射防止層１４とを備え、反射防止層１４の平均表面粗さＲａは０．０２μｍ以上０．１０μｍ以下であり、反射防止層１４の十点平均高さＲｚは０．０２μｍ以上０．５０μｍ以下である。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材と、前記基材の一方の主面に配置された複数の開口部を有する導電層と、前記導電層を覆って配置された樹脂層と、前記樹脂層の上に配置された反射防止層とを含む機能性光学フィルムであって、
前記反射防止層の平均表面粗さＲａは、０．０２μｍ以上０．１０μｍ以下であり、
前記反射防止層の十点平均高さＲｚは、０．０２μｍ以上０．５０μｍ以下であることを特徴とする機能性光学フィルム。
【請求項２】
前記導電層は、所定のパターンに形成されている請求項１に記載の機能性光学フィルム。
【請求項３】
前記導電層の厚さが、２μｍ以上７μｍ以下である請求項１又は２に記載の機能性光学フィルム。
【請求項４】
前記樹脂層の前記基材からの厚さが、前記導電層の厚さより厚い請求項１〜３のいずれかに記載の機能性光学フィルム。
【請求項５】
前記樹脂層の前記基材からの厚さが、前記導電層の厚さの１．１倍以上１．３倍以下である請求項１〜４のいずれかに記載の機能性光学フィルム。
【請求項６】
前記反射防止層は、中空状のシリカ粒子を含む請求項１〜５のいずれかに記載の機能性光学フィルム。
【請求項７】
１ＭＨｚ以上１０００ＭＨｚ以下の電界のシールド性が、４０ｄＢ以上である請求項１〜６のいずれかに記載の機能性光学フィルム。
【請求項８】
前記基材の他方の主面に近赤外線吸収層がさらに配置された請求項１〜７のいずれかに記載の機能性光学フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、複数の光学機能を複合化させた機能性光学フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）やプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）等に代表される高精細かつ大画面のディスプレイの開発が急速に進んでいる。これらのディスプレイの表示面の表面には、その視認性を高めるために、画面への蛍光灯等の外光の映り込みを防止するための反射防止機能を有する反射防止層を配置している。その反射防止層としては、光学的干渉を利用して反射光を低減させるクリアタイプの反射防止（ＡＲ）フィルム（例えば、特許文献１参照。）と、透明フィルム上にシリカ等のフィラーを含有する光拡散性層を形成させ、表面に形成された凹凸を利用して反射光の散乱により反射光を低減させる防眩（ＡＧ）フィルムとが提案されている（例えば、特許文献２参照。）。ＡＲフィルムは光学干渉を利用して反射強度を低減させるため、透過率を高くすることができ、その結果、画像のコントラストを上げるとともに画像の解像度を上げることが可能となるが、正反射での光学干渉を利用しているため、反射光の色味の角度依存性が高くなるという欠点がある。一方、ＡＧフィルムでは反射光の散乱を利用するので、反射光の色味の角度依存性は低いものの、透過光の散乱による画像のコントラストの低下と画像の解像度の低下という欠点がある。
【特許文献１】特許第４０５１７４０号公報
【特許文献２】特許第３５１５４２６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
このように従来のＡＲフィルム及びＡＧフィルムでは、反射光の色味の角度依存性の低減と、画像のコントラスト及び解像度の向上とを両立させることができなかった。
【０００４】
本発明は上記問題を解決するもので、外光の映り込みが少なく、反射光の色味の角度依存性の低減と、画像のコントラスト及び解像度の向上とを両立させ、さらに電磁波遮蔽機能をも付与することができる機能性光学フィルムを提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の機能性光学フィルムは、基材と、前記基材の一方の主面に配置された複数の開口部を有する導電層と、前記導電層を覆って配置された樹脂層と、前記樹脂層の上に配置された反射防止層とを含む機能性光学フィルムであって、前記反射防止層の平均表面粗さＲａは、０．０２μｍ以上０．１０μｍ以下であり、前記反射防止層の十点平均高さＲｚは、０．０２μｍ以上０．５０μｍ以下であることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００６】
本発明により、外光の映り込みが少なく、反射光の色味の角度依存性の低減と、画像のコントラスト及び解像度の向上とを両立させ、さらに電磁波遮蔽機能をも付与することができる機能性光学フィルムを提供できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００７】
本発明の機能性光学フィルムは、基材と、上記基材の一方の主面に配置された複数の開口部を有する導電層と、上記導電層を覆って配置された樹脂層と、上記樹脂層の上に配置された反射防止層とを含む。また、上記反射防止層の平均表面粗さＲａは、０．０２μｍ以上０．１０μｍ以下であり、上記反射防止層の十点平均高さＲｚは、０．０２μｍ以上０．５０μｍ以下である。
【０００８】
上記導電層及び上記反射防止層を備えることにより、本発明の機能性光学フィルムに電磁波遮蔽機能と反射防止機能とを付与できる。また、上記樹脂層を備えることにより、本発明の機能性光学フィルムにハードコート機能を付与できる。さらに、上記反射防止層の平均表面粗さＲａと十点平均高さＲｚとを上記範囲内にすることにより、反射光の色味の角度依存性の低減と、画像のコントラスト及び解像度の向上とを両立させることができる。
【０００９】
また、上記導電層は、格子状パターン等の所定のパターンに形成されていることが好ましい。これにより、導電層の形成が容易となり、かつ機能性光学フィルムの透過率を均一にすることができる。
【００１０】
また、上記導電層の厚みは、２μｍ以上７μｍ以下であることが好ましい。２μｍ未満では電磁波遮蔽効果を得ることが困難であり、７μｍを超えると電磁波遮蔽効果が飽和状態となり、上記樹脂層の厚みも厚くなるため、コスト的に不利である。
【００１１】
また、上記樹脂層は、上記導電層を覆っているが、上記樹脂層の上記基材からの厚さを上記導電層の厚さより厚くすることにより、上記反射防止層の表面を平滑にすることができる。
【００１２】
但し、上記樹脂層の厚さが厚くなりすぎると、樹脂層のカール等の問題が生じる場合があるので、上記樹脂層の上記基材からの厚さは、上記導電層の厚さの１．１倍以上１．３倍以下であることが好ましい。
【００１３】
また、上記反射防止層は、中空状のシリカ粒子を含むことが好ましい。これにより、反射防止層の屈折率の調整が容易となり、かつ耐擦傷性が向上する。
【００１４】
また、本発明の機能性光学フィルムは、１ＭＨｚ以上１０００ＭＨｚ以下の電界のシールド性が、４０ｄＢ以上であることが好ましい。これにより、高周波の電磁波に対して電磁波遮蔽機能を十分に発揮できる。
【００１５】
また、上記基材の他方の主面には近赤外線吸収層をさらに配置することができる。これにより、本発明の機能性光学フィルムに近赤外線吸収機能を付与できる。
【００１６】
以下、図面に基づき本発明の実施形態を説明する。
【００１７】
（実施形態１）
図１は、本発明の機能性光学フィルムの一例を示す概略断面図である。図１において、本発明の機能性光学フィルム１０は、透光性の基材１１と、基材１１の一方の主面に配置された複数の開口部１２ａを有する導電層１２と、導電層１２を覆って配置された樹脂層としてのハードコート層１３と、ハードコート層１３の上に配置された反射防止層１４とを備えている。また、反射防止層１４の表面状態は、その平均表面粗さＲａが０．０２μｍ以上０．１０μｍ以下、より好ましくは０．０３μｍ以上０．１０μｍ以下に設定され、その十点平均高さＲｚが０．０２μｍ以上０．５０μｍ以下、より好ましくは０．０３μｍ以上０．５０μｍ以下に設定されている。
【００１８】
本発明において上記平均表面粗さＲａ及び上記十点平均高さＲｚは、ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１−１９９４に基づいて測定するものとする。
【００１９】
基材１１としては、透光性を有する材料で形成されていれば特に限定されない。例えば、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアクリル酸エステル系樹脂、脂環式ポリオレフィン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、トリアセチルセルロース系樹脂等の材料を、フィルム状又はシート状に加工したものを用いることができる。フィルム状又はシート状に加工する方法としては、押し出し成形、カレンダー成形、圧縮成形、射出成形、上記樹脂を溶剤に溶解させてキャスティングする方法等が挙げられる。上記材料には、酸化防止剤、難燃剤、耐熱防止剤、紫外線吸収剤、易滑剤、帯電防止剤等の添加剤が添加されていてもよい。また、基材１１には、その上層に設けられる層との密着性を向上させる目的で、プライマー層を設けてもよい。基材１１の厚さは、通常１０〜５００μｍ程度である。
【００２０】
導電層１２は、所定のパターンに形成されており、その所定のパターンは、同一の形状が連続して配置されたパターンであることが好ましい。そのパターンとしては、例えば、正方形や長方形が複数描かれてなる格子状パターンや、三角形、四角形（平行四辺形、菱形、台形等）、六角形、八角形、十二角形、円、楕円、三つ葉形、花びら形、星形等の形状が複数描かれたパターン等が使用可能である。導電層１２を形成する材料としては、銅、銀、金等の金属粒子、インジウム−錫酸化物（ＩＴＯ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）等の導電性酸化物等を使用することができる。導電層１２の表面電気抵抗としては、電界のシールド性を維持するために１０Ω／スクエア以下が好ましく、より好ましくは１Ω／スクエア以下、最も好ましくは０．５Ω／スクエア以下である。導電層１２を同一の形状が連続して配置された所定パターンに形成する方法としては、エッチング法、印刷メッキ法等の他に、導電性インクを用いて直接所定パターンを形成した後に熱処理を行う方法等が適宜使用できる。所定のパターンに形成した導電層１２の線幅は３μｍ以上１０μｍ以下とすることが好ましく、導電層１２の厚さは２μｍ以上７μｍ以下とすることが好ましい。これらの範囲内では、確実に十分な電磁波遮蔽効果が得られるからである。また、パターンを格子状パターンとする場合は、線間隔（格子間隔）を５０μｍ以上２０００μｍ以下とすることが好ましい。線間隔が２０００μｍを超えると十分な電磁波遮蔽効果が得られず、線間隔が５０μｍ未満だと透光性が低下してしまうからである。
【００２１】
また、高周波の電磁波に対する電磁波遮蔽機能を十分に発揮するため、導電層１２における１ＭＨｚ以上１０００ＭＨｚ以下の電界のシールド性は、４０ｄＢ以上に設定することが好ましい。
【００２２】
ハードコート層１３は、その膜屈折率が１．４９〜１．８５となれば、樹脂材料のみで形成してもよいし、樹脂材料とフィラーとの混合材料で形成してもよい。本発明の機能性光学フィルム１０では、導電層１２を覆うようにハードコート層１３を配置しているので、ハードコート層１３に導電性フィラーを添加しなくても、帯電防止機能を付与することができる。
【００２３】
ハードコート層１３の基材１１からの厚さＴは、導電層１２の厚さより厚く、その平均表面粗さＲａは０．０２μｍ以上０．１０μｍ以下、より好ましくは０．０３μｍ以上０．１０μｍ以下であり、かつその十点平均高さＲｚは０．０２μｍ以上０．５μｍ以下、より好ましくは０．０３μｍ以上０．５μｍ以下に設定されている。後述する反射防止層１４の厚さは非常に薄いので、ハードコート層１３の表面状態を上記のように設定すると、ハードコート層１３の表面状態が反射防止層１４の表面状態に反映し、反射防止層１４の平均表面粗さＲａを０．０２μｍ以上０．１０μｍ以下、より好ましくは０．０３μｍ以上０．１０μｍ以下、かつその十点平均高さＲｚを０．０２μｍ以上０．５０μｍ以下、より好ましくは０．０３μｍ以上０．５０μｍ以下に設定することができる。
【００２４】
また、ハードコート層１３の基材１１からの厚さＴは、導電層１２の厚さより厚ければハードコート機能の発現に関して問題はないが、厚さＴが厚くなりすぎると塗膜のカール等の問題が生じる場合がある。このため、ハードコート層１３の基材１１からの厚さＴは、導電層１２の厚さの１．１倍以上１．３倍以下であることが好ましい。また、厚さＴを上記範囲内にすると、ハードコート層１３の平均表面粗さＲａを０．０３μｍ以上０．１０μｍ以上、かつその十点平均高さＲｚを０．０３μｍ以上０．５μｍ以下に設定するのが容易となる。
【００２５】
上記樹脂材料としては、特に表面硬度が高い電離放射線硬化型樹脂が好ましい。その電離放射線硬化型樹脂としては、ビニル基、（メタ）アクリロイル基、エポキシ基、オキセタニル基、チオール基等を有するモノマー、プレポリマー、オリゴマー、ポリマー等が用いられる。上記樹脂材料は、単独でも２種類以上を組み合わせても用いることができる。また、上記樹脂材料としては、ハードコート層１３の生産性及び硬化後の硬度の向上の観点より、多官能樹脂を用いることが好ましく、さらに、分子中に水素結合を形成するような結合基や官能基を多く有していると、基材１１との密着性が向上するので好ましい。また、ビスフェノールＡ変性（メタ）アクリレート等の高屈折率タイプの樹脂を用いてもよい。
【００２６】
上記多官能樹脂としては、不飽和基を２つ以上有する多官能アクリル系樹脂モノマーとして、例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−シクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−シクロヘキサントリメタクリレート；ペンタエリスリトールトリアクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレポリマー等のポリウレタンポリアクリレート；ポリエステルポリアクリレート等の多価アルコールと（メタ）アクリル酸とから生成されるエステル類；１，４−ジビニルベンゼン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロイルエチルエステル、１，４−ジビニルシクロヘキサノン等のビニルベンゼン及びその誘導体等が挙げられる。これらは、単独で用いてもよいが、２種以上を組み合わせて用いてもよい。これらの中でも、耐擦傷性をより高める観点から、ペンタエリスリトールトリアクリレート及びジペンタエリスリトールヘキサアクリレートから選ばれる少なくとも１種を含有することが好ましい。上記において「（メタ）アクリレート」とは、「アクリレート及び／又はメタクリレート」を意味するものである。
【００２７】
ハードコート層１３に含まれる電離放射線硬化型樹脂を硬化させる際に、紫外線照射を行う場合には、ハードコート層１３の塗布液に光重合開始剤を添加する。光重合開始剤としては、アセトフェノン類、べンゾフェノン類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物、２，３−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、チウラム化合物類、フルオロアミン化合物等が用いられる。これらは単独でも２種以上を組み合わせても使用することは可能である。光重合開始剤の使用量は特に限定されないが、通常、用いる電離放射線硬化型樹脂モノマーの重量に対し１〜１５重量％程度である。
【００２８】
ハードコート層１３を構成するその他の成分として、屈折率を大きく変化させない程度に重合禁止剤、酸化防止剤、分散剤、界面活性剤、光安定剤及びレベリング剤等の添加剤を適宜添加してもよい。また、分散系を壊さず、電離放射線硬化型樹脂を溶解させることが可能であれば、ハードコート層形成用塗布液に溶媒を含有させることも可能である。
【００２９】
基材１１の上にハードコート層１３を形成する方法については特に制限はなく、上記材料を含むハードコート層形成用塗布液を基材１１上に塗布して硬化させることにより形成できる。塗布方法も特に制限されず、例えば、ロールコート、ダイコート、エアナイフコート、ブレードコート、スピンコート、リバースコート、グラビアコート等の塗工法、又はグラビア印刷、スクリーン印刷、オフセット印刷、インクジェット印刷等の印刷法等を用いることができる。
【００３０】
ハードコート層１３上に配置される反射防止機能を有する反射防止層１４の層構成としては、ハードコート層の上層にハードコート層より膜屈折率の低い低屈折率層のみを設ける単層構造や、ハードコート層の上層にハードコート層より膜屈折率の高い中屈折率層と、上記中屈折率層より膜屈折率の高い高屈折率層と、ハードコート層より膜屈折率の低い低屈折率層とをこの順番に設ける三層構造等が、光学設計に応じて適宜使用可能である。
【００３１】
例えば、上記単層構造の反射防止層の場合、低屈折率層の膜屈折率はハードコート層の膜屈折率よりも小さくし、その厚さは８０〜１５０ｎｍとすればよい。低屈折率層の膜屈折率は、１．３０〜１．４５が好ましい。低屈折率層の膜屈折率ｎとその厚さｄとの積である光学厚さｎｄがλ／４となるように設計すると、反射率がより低くなり好ましい。通常、λは可視光の波長のうち特に人間の目の視感度が高い光の波長５５０ｎｍ前後に設定されることが多いので、厚さｄは８０〜１５０ｎｍとすることが好ましい。
【００３２】
また、低屈折率層の膜屈折率を１．３０〜１．４５の好ましい範囲に調整する材料としては、シリカ、フッ素系樹脂、中空状のシリカ粒子等が考えられるが、屈折率と反射防止層の耐擦傷性の観点から少なくとも中空状のシリカ粒子を用いるのが好ましい。また、中空状のシリカ粒子の粒子径は低屈折率層の厚さが８０ｎｍから１５０ｎｍになるように設計されるので、８０ｎｍ以下が好ましく、６０ｎｍ以下がより好ましい。
【００３３】
上記低屈折率層は、その膜屈折率が上記の範囲となれば、ビニル基、（メタ）アクリロイル基、エポキシ基、オキセタニル基、チオール基等を有するモノマー、プレポリマー、オリゴマー、ポリマー等の電離放射線硬化型樹脂を用いて形成することができる。上記樹脂材料は、単独でも２種類以上を組み合わせても用いることができる。また、上記樹脂材料としては、低屈折率層の生産性及び硬化後の硬度の向上の観点より、多官能樹脂を用いることが好ましい。また、ビスフェノールＡ変性（メタ）アクリレート等の高屈折率タイプの樹脂を用いてもよい。上記多官能樹脂としては、前述のハードコート層に用いた不飽和基を２つ以上有する多官能アクリル系樹脂モノマーと同様のものが使用できる。
【００３４】
また、上記低屈折率層を形成する電離放射線硬化型樹脂モノマーの少なくとも一つが、前述のハードコート層を形成する電離放射線硬化型樹脂モノマーと同一であれば、低屈折率層とハードコート層との接着性が向上するため好ましい。
【００３５】
上記低屈折率層に含まれる電離放射線硬化型樹脂を硬化させる際に、紫外線照射を行う場合には、低屈折率層の塗布液に、前述のハードコート層で用いた光重合開始剤を同様にして添加すればよい。
【００３６】
上記低屈折率層には、屈折率を大きく変化させない程度に重合禁止剤、酸化防止剤、分散剤、界面活性剤、光安定剤及びレベリング剤等の添加剤を添加してもよい。本実施形態の機能性光学フィルムは、ディスプレイの最表面に配置されることから、強度と防汚性を向上させるために、シリコーン系、フッ素系の添加剤を屈折率を大きく変化させない程度に添加してもよい。また、分散系を壊さず、電離放射線硬化型樹脂を溶解させることが可能であれば、低屈折率層形成用塗布液に溶媒を含有させることも可能である。
【００３７】
ハードコート層１３の上に低屈折率層を形成する方法については特に制限はなく、上記材料を含む低屈折率層形成用塗布液をハードコート層１３上に塗布して硬化させることにより形成できる。塗布方法も特に制限されず、例えば、ロールコート、ダイコート、エアナイフコート、ブレードコート、スピンコート、リバースコート、グラビアコート等の塗工法、又はグラビア印刷、スクリーン印刷、オフセット印刷、インクジェット印刷等の印刷法等を用いることができる。
【００３８】
（実施形態２）
図２は、本発明の機能性光学フィルムの他の例を示す概略断面図である。図２において、本発明の機能性光学フィルム２０は、基材１１の他方の主面に近赤外線吸収層１５をさらに配置した以外は、図１に示した実施形態１の機能性光学フィルム１０と同様である。図２では、図１と同一の部分には同一の符合を付け、重複する説明は省略する。また、図２と図１において同一の部分は、同様の機能を有する。
【００３９】
近赤外線吸収層１５は、基材１１の他方の主面に直接形成してもよいし、粘着剤を介して配置してもよい。近赤外線吸収機能を有する近赤外線吸収層１５を設けることにより、本実施形態の機能性光学フィルムをＰＤＰの表面に配置すれば、プラズマ放電を起こした際に放出される不要な近赤外線が遮断され、周辺の電子部品を用いる機器に悪影響を与えることがなく、特にテレビやエアコン等のリモコンの誤動作を生じさせるといった問題が解消できる。本実施形態のように一枚の基材に電磁波遮蔽機能と反射防止機能と近赤外線吸収機能とを一体化して複合化することにより、ＰＤＰの前面板に貼り合わせる部材を削減することができる。
【００４０】
近赤外線吸収層１５としては、近赤外線を吸収する透光性を有する材料で形成されていれば特に限定されず、通常は、近赤外線を吸収する化合物を分散させた樹脂で形成される。
【００４１】
上記近赤外線を吸収する化合物は、８５０〜１１００ｎｍの波長領域に最大吸収波長を有する化合物であることが好ましい。近赤外線吸収層１５が上記化合物を含んでいると、波長４００〜８５０ｎｍの可視光の透過率を大きく低減させることなく、波長領域８５０〜１１００ｎｍの近赤外線の透過率を低減させることが可能となる。これにより、本実施形態の機能性光学フィルムをＰＤＰ等の近赤外線吸収フィルターとしても好適に用いることができる。
【００４２】
上記８５０〜１１００ｎｍの波長領域に最大吸収波長を有する化合物としては、例えば、アミニウム系、アゾ系、アジン系、アントラキノン系、インジゴイド系、オキサジン系、キノフタロニン系、スクワリウム系、スチルベン系、トリフェニルメタン系、ナフトキノン系、ジイモニウム系、フタロシアニン系、シアニン系、ポリメチン系等の有機色素を適宜組み合わせて用いることができる。
【００４３】
特に、近赤外線吸収層１５が、上記８５０〜１１００ｎｍの波長領域に最大吸収波長を有する化合物として、スルホン酸イミド誘導体を含み、かつカチオン部位の末端の窒素原子に結合している置換基の少なくとも一つが分岐鎖構造からなるアルキル基であるジイモニウム化合物と、下記式（１）で表される構造を有する置換ベンゼンジチオール金属錯体アニオンと下記式（２）で表される構造を有するカチオンとの対イオン結合体である化合物とを含むと長期保存安定性に優れるので好ましい。
【００４４】
【化１】
2010060995.tif 000003
【００４５】
但し、式（１）の中で、Ｒ1、Ｒ2は、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜８のアルキルアミノ基、置換又は未置換のモルホリノ基、置換又は未置換のチオモルホリノ基、置換又は未置換のピペラジノ基及び置換又は未置換のフェニル基からなる群から選ばれる少なくとも一つの置換基を示し、Ｍは遷移金属を示す。
【００４６】
【化２】
2010060995.tif 000004
【００４７】
但し、式（２）の中で、Ｑ1、Ｑ2は、５員環の含窒素複素環、５員環の含窒素複素環を含む縮合環、６員環の含窒素複素環及び６員環の含窒素複素環を含む縮合環からなる群から選ばれる少なくとも一つの複素環式化合物を示し、Ｒ3、Ｒ4は炭素数１〜８のアルキル基を示し、ｎは２、３又は４の数字を示す。
【００４８】
上記近赤外線を吸収する化合物を分散させる樹脂としては、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、エポキシ樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、ポリスチレン樹脂、セルロース樹脂、ポリブチラール樹脂等を用いることができ、またこれらの樹脂の２種以上を組み合わせてポリマーブレンドとしても用いることができる。
【００４９】
ハードコート層１３と反射防止層１４とを順次積層した基材１１の裏面側に近赤外線吸収層１５を形成する方法については特に制限はなく、前述のハードコート層１３の場合と同様に上記した近赤外線吸収層用の材料を含む塗布液を基材１１に塗布することにより形成できる。近赤外線吸収層１５の厚さは、１〜１０μｍが好ましく、２〜７μｍがより好ましい。厚さが１μｍ未満では、近赤外線の吸収が困難となり、１０μｍを超えるとクラックが生じたり、カール（フィルムの反り）が発生したりする。
【００５０】
近赤外線吸収層１５には、ＰＤＰのネオン輝線スペクトル（オレンジ色）をカットする化合物を適宜添加することも可能である。これにより、ＰＤＰにおいて赤色をより鮮やかに発色させることができる。ネオン輝線スペクトルをカットする化合物としては、５８０〜６２０ｎｍの波長領域に最大吸収波長を有する有機色素が使用でき、例えば、シアニン系、アズレニウム系、スクワリウム系、ジフェニルメタン系、トリフェニルメタン系、オキサジン系、アジン系、チオピリウム系、ビオローゲン系、アゾ系、アゾ金属錯塩系、アザポルフィリン系、ビスアゾ系、アントラキノン系、フタロシアニン系等の有機色素を用いることができる。
【００５１】
近赤外線吸収層１５の厚さ、その材料の種類、含有率等は、波長８５０〜１１００ｎｍの全領域において、機能性光学フィルム２０の分光透過率が２０％以下となるように適宜定めればよい。
【００５２】
本実施形態では、近赤外線吸収層１５のみを配置した例を示したが、近赤外線吸収層１５に加えて又はそれに代えて特定波長の可視光を吸収する層、紫外線カット層等の別の機能性層を１層又は２層以上配置することもできる。
【実施例】
【００５３】
以下、実施例に基づき本発明をより具体的に説明する。但し、本発明は、以下の実施例に限定されるものではない。また、以下において、特に断らない限り「部」は「重量部」を表す。
【００５４】
（実施例１）
以下のようにして機能性光学フィルムを作製した。
【００５５】
＜導電層の形成＞
透明基材として、表裏両面をアクリル樹脂にて易接着処理した厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムを用意した。次に、上記ＰＥＴフィルム上に空隙を有する構造の被覆層を下記のとおり形成した。
【００５６】
先ず、顔料としてアルミナゾル（日産化学工業社製“アルミナゾル５２０”）５００部と、バインダーとしてポリビニルアルコール（クラレ社製“ＰＶＡ２１７”）１５部と、架橋剤としてメラミン系化合物（住友化学工業社製“Ｓｕｍｉｒｅｚ  Ｒｅｓｉｎ  ６１７”）１．２５部と、分散媒として水１３５部とを用意し、これらをボールミルにて混合して塗布液を作製した。この塗布液を厚さが５μｍとなるように上記ＰＥＴフィルム上に塗布し、その後乾燥させて被覆層を形成した。次に、ナノオーダーサイズの酸化銀粒子と有機銀化合物（カルボン酸塩銀：Ｃ8Ｈ15Ｏ2Ａｇ）と溶媒（テルピネオール）とを含むペースト（藤倉化成社製ドータイト“ＸＡ−９０２４”）を用いて、線幅４μｍ、厚さ２．５μｍ、線間隔（格子間隔）１５０μｍの格子状パターンを上記被覆層上にスクリーン印刷した。続いて、８０℃で３０分間加熱して、印刷されたペーストから溶媒を除去した後、大気中にて１５０℃で３０分間加熱して、格子状パターンに形成された導電性粒子からなる導電層を形成した。上記格子状パターンに形成された導電性粒子からなる導電層の表面電気抵抗及び電界シールド性を次のようにして測定した。その結果を表１に示す。
【００５７】
＜導電層の表面電気抵抗＞
導電性表面低抵抗率計“ロレスタ−ＡＰ、ＭＣＰ−Ｔ４００”（三菱油化社製）を用いて測定した。
【００５８】
＜電界シールド性＞
導電層の電界シールド性は、ＫＥＣ法にて測定した。ＫＥＣ法とは、（社）関西電子工業振興センターで開発された電磁波シールド効果の測定方法である。即ち、アンテナを備え、開口部を有する金属ケースを２つ用意し、２つの金属ケースを互いに連通するように対向させ、その間にサンプルを挟み、続いて、一方の金属ケース内に設けられたアンテナから電界（磁界）を発信させ、他方の金属ケース内のアンテナにてサンプルを通過した電界（磁界）を受信し、サンプル通過による電磁波の減衰率を算出する。具体的には、２０ｃｍ×２０ｃｍに切り取ったサンプルを２つの金属ケースの間に挟み込み、一方のアンテナから５００ＭＨｚの電磁波を発信して電磁波の減衰率を算出した。
【００５９】
＜ハードコート層の形成＞
下記材料が分散された屈折率１．５３のハードコート層形成用塗布液を準備した。ここで、屈折率１．５３のハードコート層形成用塗布液とは、硬化後のハードコート層の膜屈折率が１．５３となるようなハードコート層形成用塗布液を意味している。以下の実施例、比較例も同様である。
（１）ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）：１００部
（２）光重合開始剤“ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）９０７”（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）：５．０部
（３）表面調整剤“ＢＹＫ−３０２”（ビックケミー・ジャパン社製）：３．０部
（４）シクロヘキサンノン：４００部
【００６０】
次に、上記導電層の上に、放電量１７１．４Ｗ・ｍｉｎ／ｍ2のコロナ処理をした後、上記ハードコート層形成用塗布液をマイクログラビアコータ（康井精機社製）を用いて塗布し、その後乾燥させた。続いて、塗膜に紫外線を５００ｍＪ／ｃｍ2の線量で照射して塗膜を硬化させ、厚さ３．０μｍのハードコート層を形成した。形成したハードコート層の膜屈折率を、屈折率測定装置“ＦｉｌｍＴｅｋ３０００”（ＳＣＩ社製）により測定した。その結果を表１に示す。
【００６１】
＜反射防止層（低屈折率層）の形成＞
下記材料を混合・攪拌して、屈折率１．３６の低屈折率層形成用塗布液を作製した。
（１）中空シリカ微粒子（触媒化成社製、平均粒子径：６０ｎｍ）：６０部
（２）ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）：１０部
（３）ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）：３０部
（４）光重合開始剤“ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）９０７”（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製）：４部
（５）アクリル変性シリコーン“Ｘ−２２−２４５７”（信越シリコーン社製）：１部
（６）イソプロピルアルコール：２０００部
【００６２】
次に、上記ハードコート層の上に、上記低屈折率層形成用塗布液を上記マイクログラビアコータを用いて塗布して乾燥させた。その後、塗膜に紫外線を５００ｍＪ／ｃｍ2の線量で照射して塗膜を硬化させ、厚さ１０７ｎｍの低屈折率層を形成し、単層構造の反射防止層とした。形成した反射防止層の膜屈折率を、上記ハードコート層と同様にして測定し、その結果を表１に示す。
【００６３】
（実施例２）
以下のようにして近赤外線吸収層を形成した以外は、実施例１と同様にして機能性光学フィルムを作製した。
【００６４】
＜近赤外線吸収層の形成＞
下記材料を混合・攪拌して、近赤外線吸収層形成用塗布液を作製した。
（１）アクリル樹脂“ダイヤナール”（三菱レイヨン社製）：１００部
（２）芳香族ジイモニウム色素“ＣＩＲ−１０８５”（日本カーリット社製）：６部
（３）シアニン部位・ジチオール金属錯体部位含有近赤外線吸収化合物“ＳＤ５０−Ｅ０４Ｎ”（住友精化社製、最大吸収波長：８７７ｎｍ）：１部
（４）シアニン部位・ジチオール金属錯体部位含有近赤外線吸収化合物“ＳＤ５０−Ｅ０５Ｎ”（住友精化社製、最大吸収波長：８３３ｎｍ）：１部
（５）メチルエチルケトン：１２５部
（６）トルエン：４６０部
【００６５】
次に、実施例１で作製した機能性光学フィルムの反射防止層を形成した側とは反対側のＰＥＴフィルム上に、上記近赤外線吸収層形成用塗布液を上記マイクログラビアコータを用いて塗布して乾燥させ、厚さが４μｍになるように近赤外線吸収層を形成した。
【００６６】
（比較例１）
実施例１の機能性光学フィルムのハードコート層の厚さを１．８μｍにした以外は、実施例１と同様にして機能性光学フィルムを作製した。また、ハードコート層及び反射防止層の膜屈折率を実施例１と同様にして測定し、その結果を表１に示す。
【００６７】
（比較例２）
導電層を形成せず、ハードコート層の厚さを２．５μｍとした以外は、実施例１と同様にして光学フィルムを作製した。また、ハードコート層及び反射防止層の膜屈折率を実施例１と同様にして測定し、その結果を表１に示す。比較例２の光学フィルムは、従来のクリアタイプの反射防止フィルムに該当する。
【００６８】
（比較例３）
導電層を形成せず、ハードコート層の材料を下記に変更し、ハードコート層の厚さを２．５μｍとした以外は、実施例１と同様にして光学フィルムを作製した。また、ハードコート層及び反射防止層の膜屈折率を実施例１と同様にして測定し、その結果を表１に示す。比較例３の光学フィルムは、従来の防眩フィルムに該当する。
（１）ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）：１００部
（２）光重合開始剤“ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）１８４”（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製）：５部
（３）透光性ポリスチレン樹脂粒子（粒径：１．３μｍ、屈折率：１．６）：８部
（４）メチルイソブチルケトン：６０部
（５）イソブチルアルコール：１５部
【００６９】
上記実施例１、２及び比較例１〜３の機能性光学フィルムの特性を下記のように測定した。その結果を導電層の厚さ、ハードコート層の厚さとともに表１に示す。
【００７０】
＜平均表面粗さＲａ、十点平均高さＲｚ＞
反射防止層の平均表面粗さＲａ及び十点平均高さＲｚをＪＩＳ  Ｂ  ０６０１−１９９４に基づいて測定した。
【００７１】
＜視感度反射率＞
反射防止層を形成した側とは反対側のＰＥＴフィルムの表面を紙やすりで削り、さらにその表面を黒インクの油性フェルトペンで黒く塗りつぶした後、分光光度計“Ｕｂｅｓｔ  Ｖ−５７０型”（日本分光社製）を用いて、視感度反射率を測定した。但し、実施例２では、近赤外線吸収層を設ける前のフィルム基材について上記測定を行った。
【００７２】
＜反射光の角度依存性＞
分光式変角色差計“ＧＣ５０００”（日本電色工業社製）を用い、反射防止層を形成した側から投光角度０〜７０°の５°間隔で測定したときの反射色度ａ*、ｂ*の変化を測定した。
【００７３】
＜表面電気抵抗＞
反射防止層を形成した側の表面電気抵抗を導電性表面高抵抗率計“ハイレスタＨＴ−２０”（三菱油化社製）を用いて測定した。
【００７４】
＜近赤外線透過率＞
実施例２の機能性光学フィルムを用い、近赤外線吸収層側を入射光側として、８５０ｎｍでの近赤外線波長領域における透過率を測定した。
【００７５】
＜ヘイズ＞
日本工業規格（ＪＩＳ）Ｋ７１０５の規定に準じてヘイズ（曇度）を測定した。ヘイズが高いとぼやけた感じとなり、画像鮮明度が劣ることになる。
【００７６】
【表１】
2010060995.tif 000005
【００７７】
表１から明らかなように、実施例１、２では、反射防止層の平均表面粗さＲａ及び十点平均高さＲｚが本発明の規定範囲に属さない比較例１〜３のフィルムに比較して、一枚のフィルム基材で、電磁波遮蔽機能を有しかつ視感度反射率を低減させながら反射光の角度依存性が小さく、ヘイズが小さく、画像鮮明度が高い複合フィルムが得られることが分かる。
【産業上の利用可能性】
【００７８】
以上のように本発明は、外光の映り込みが少なく、反射光の色味の角度依存性の低減と、画像のコントラスト及び解像度の向上とを両立させ、さらに電磁波遮蔽機能をも付与することができる機能性光学フィルムを提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００７９】
【図１】本発明の機能性光学フィルムの一例を示す概略断面図である。
【図２】本発明の機能性光学フィルムの他の例を示す概略断面図である。
【符号の説明】
【００８０】
１０  、２０  機能性光学フィルム
１１  基材
１２  導電層
１２ａ  開口部
１３  ハードコート層
１４  反射防止層
１５  近赤外線吸収層
【図１】
2010060995.tif 000006
【図２】
2010060995.tif 000007