(57)【要約】      （修正有）【課題】どのような導電層が形成されていても、基材フィルム等の除去すべき領域以外の領域や導電層に軟化・変形等の不良が生じることのない、ディスプレイ用光学フィルタの製造方法及びその製造方法により製造されたディスプレイ用光学フィルタを提供する。【解決手段】基材フィルムの１方の表面上に導電層が形成された積層体を含み、且つ基材フィルムの側端部の一部が除去されて基材フィルム側に導電層の一部が露出していることにより確実に導電層の導通が確保されたディスプレイ用光学フィルタの製造方法であって、基材フィルム１２の１方の表面に導電層１３が形成された積層体２０の側端部の除去すべき領域に、基材フィルム１２の導電層１３が形成された面の反対側の面から、ＵＶレーザビーム３０を照射するとともに前記照射領域に冷却送風４０を行うことにより、側端部の照射領域の前記基材フィルム１２を除去し、導電層１３を基材フィルム側に露出させる。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材フィルムの１方の表面に導電層が形成された積層体を含み、且つ基材フィルムの側端部の一部が除去されて基材フィルム側に導電層の一部が露出しているディスプレイ用光学フィルタの製造方法であって、
基材フィルムの１方の表面に導電層が形成された積層体の側端部の除去すべき領域に、前記基材フィルムの導電層が形成された面の反対側の面から、ＵＶレーザビームを照射するとともに前記照射領域に冷却送風を行うことにより、側端部の照射領域の前記基材フィルムを除去し、前記導電層を基材フィルム側に露出させる工程を含むことを特徴とするディスプレイ用光学フィルタの製造方法。
【請求項２】
前記積層体が、前記導電層上に少なくとも１層の機能層を有することを特徴とする請求項１に記載のディスプレイ用光学フィルタの製造方法。
【請求項３】
前記基材フィルムの導電層が形成された面の他面上に少なくとも１層の機能層を有することを特徴とする請求項１又は２に記載のディスプレイ用光学フィルタの製造方法。
【請求項４】
前記導電層露出工程を行う前に、前記積層体が前記基材フィルムの導電層側が、ディスプレイの画像表示部の表面に貼り付けられていることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタの製造方法。
【請求項５】
前記ＵＶレーザビームのレーザ光源が、エキシマレーザ又はＹＡＧレーザの高調波であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタの製造方法。
【請求項６】
前記冷却送風が−１５０℃〜０℃の気流を用いることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタの製造方法。
【請求項７】
前記冷却送風が液体窒素を吹き付けることで行われることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタの製造方法。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか１項に記載の製造方法により製造されたことを特徴とするディスプレイ用光学フィルタ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、ブラウン管（ＣＲＴ）ディスプレイ、液晶ディスプレイ、有機ＥＬ（電界発光）ディスプレイ等のディスプレイの画像表示部に用いられ、電磁波シールド性を有するディスプレイ用光学フィルタの製造方法、及びその製造方法により製造されたディスプレイ用光学フィルタに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、ＰＤＰ等のディスプレイから発生する不要な電磁波の輻射を遮蔽するディスプレイ用フィルタとして、フィルタ内にメッシュ状の導電層を設けた電磁波シールド性および光透過性を有するディスプレイ用光学フィルタが開発されている。
【０００３】
上記ディスプレイ用光学フィルタにおいては、導電層による電磁波シールド性が良好に発揮することができるように導電層とディスプレイ本体の導電面との間で、均一に導通を図る必要がある。そのため、ディスプレイ用光学フィルタからメッシュ状の導電層を外部にはみ出させ、ディスプレイ用光学フィルタの裏側に折り込ませて導通させるか、導電層に接触するように導電性粘着テープを挟み込み、外部への導通を図る等の手段が用いられている。
【０００４】
また、上記ディスプレイ用光学フィルタには、１枚の基材フィルム上にメッシュ状の導電層を形成し、その上にハードコート層や反射防止層等の機能層を積層させているものも開発されている。この様な光学フィルタにおいては、導電層から外部への導通を図る場合に、例えば、形成した機能層の一部をレーザ照射により除去して導電層を露出させる手段が用いられている（特許文献１）。
【０００５】
しかしながら、ハードコート層や反射防止層は視聴者側の最外面であり、平面性が重視されるため、平面性が低いメッシュ状の導電層上にハードコート層等を塗工する場合、高度な平面性を得るためには十分に圧塗りをする必要がある。そのため、より薄型の光学フィルタの需要に対応するには、平面性との兼ね合いで技術的に困難であった。
【０００６】
一方、基材フィルムの１方の面にメッシュ状の導電層を形成し、他方の面に視聴者側の最外面であるハードコート層等を形成する光学フィルタの場合は、平面性の高い基材フィルム上にハードコート層を塗工するため、極薄塗工でも平面性を確保することができる。従って、より薄型の光学フィルタの製造に有利である。
【０００７】
このような構成の光学フィルタの場合、導電層から外部への導通を図る手段として、接地用電極を光学フィルタとディスプレイの画像表示部とにより挟持して、接地用電極と導電層を電気的に接続する方法（特許文献２）、又は基材フィルムにレーザやカッターで切り込みを入れ、基材フィルムを剥離して導電層を露出させる方法（特許文献３）等が知られている。
【０００８】
【特許文献１】特開２００７−２４３１５８号公報
【特許文献２】特開２００７−１４８２７５号公報
【特許文献３】特開２００４−３２７７２０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、接地用電極を光学フィルタと画像表示部とにより挟持して、導電層と外部との導通を図る方法は、光学フィルタと画層表示部との間に接地用電極を挟持させる工程が煩雑であり、生産効率を向上させることが困難である。
【００１０】
また、基材フィルムにレーザ等で切り込みを入れる場合、ハードコート層等の合成樹脂を塗工した機能層のみを除去するよりも高い出力が必要である。特に赤外波長域のレーザによる熱加工の場合はレーザ光を吸収した部分が発熱し、その部分から熱伝導により、熱伝導現象、溶融現象、蒸発現象がその周囲に段階的に生じる。従って、高出力のレーザを照射した場合、導電層がタングステン線等の融点が高く、硬度の高い材料で形成されていなければ、レーザの熱により導電層が溶融したり、破損するおそれがある。従って、より薄型の光学フィルタの製造にこの方法を利用するのは困難である。
【００１１】
そこで、本発明者らは上記のような基材フィルム等を除去するため、レーザ加工の内、紫外域のレーザ（ＵＶレーザ）を用いた加工を検討した。ＵＶレーザによる加工は光化学反応によるため熱を伴わず非熱加工とも呼ばれる。しかしながら、前記基材フィルムは約１００μｍの厚さがあり、これを除去する場合は発熱を伴うことが分かった。このため、常法では基材フィルム等の領域を除去する際に、基材フィルム等の除去領域以外の領域や導電層に軟化・変形等の不良が生じ、良好な光学フィルタを作製することは困難であった。
【００１２】
従って、本発明の目的は、基材フィルムの１方の表面に導電層が形成された積層体を含み、且つ基材フィルムの側端部の一部が除去されて基材フィルム側に導電層の一部が露出していることにより確実に導電層の導通が確保されたディスプレイ用光学フィルタの製造方法であって、どのような導電層が形成されていても、基材フィルム等の除去すべき領域以外の領域や導電層に軟化・変形等の不良が生じることのない、ディスプレイ用光学フィルタの製造方法及びその製造方法により製造されたディスプレイ用光学フィルタを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
上記目的は基材フィルムの１方の表面に導電層が形成された積層体を含み、且つ基材フィルムの側端部の一部が除去されて基材フィルム側に導電層の一部が露出しているディスプレイ用光学フィルタの製造方法であって、基材フィルムの１方の表面に導電層が形成された積層体の側端部の除去すべき領域に、前記基材フィルムの導電層が形成された面の反対側の面から、ＵＶレーザビームを照射するとともに前記照射領域に冷却送風を行うことにより、側端部の照射領域の前記基材フィルムを除去し、前記導電層を基材フィルム側に露出させる工程を含むことを特徴とするディスプレイ用光学フィルタの製造方法によって達成される。
【００１４】
この方法においては、前記積層体の基材フィルムに、ＵＶレーザビームを除去すべき領域に照射するので、赤外波長域のレーザによる熱加工のように照射領域の周囲に段階的な影響を及ぼさず、基材フィルム等を除去する際の領域及び深さの精度を高めることができる。さらに、前述の基材フィルム等の厚肉層をＵＶレーザビーム照射で除去する際の発熱を照射領域に冷却送風することによって冷却することができるので、発熱による基材フィルムの照射領域以外の領域や導電層の軟化・変形を防止することができる。また、冷却送風によって、ＵＶレーザビーム照射により基材フィルム等から除去された「除去カス」の硬化を早めるとともに、積層体表面から吹き飛ばすことができるので、積層体表面に「除去カス」が再付着することを防止することができる。従って、基材フィルムの１方の表面に導電層が形成された積層体を含み、且つ基材フィルムの側端部の一部が除去されて基材フィルム側に導電層が露出していることによって確実に導電層の導通が確保されたディスプレイ用光学フィルタであって、積層体の軟化・変形や「除去カス」の付着等の不良が無いディスプレイ用光学フィルタを製造することができる。
【００１５】
本発明に係るディスプレイ用光学フィルタの好ましい態様は以下の通りである。
（１）前記積層体が、前記導電層上に少なくとも１層の機能層を有することを特徴とする。
（２）前記基材フィルムの導電層が形成された面の他面上に少なくとも１層の機能層を有することを特徴とする。
これにより、本発明のディスプレイ用光学フィルタの製造方法において、より有効な積層体を構成することができる。
（３）前記導電層露出工程を行う前に、前記積層体が前記基材フィルムの導電層側が、ディスプレイの画像表示部の表面に貼り付けられていることを特徴とする。
これにより、積層体がより安定した状態でＵＶレーザビーム照射による基材フィルム等の除去を行うことができるので、より精度が高い導電層露出工程を行うことができる。
（４）前記ＵＶレーザビームのレーザ光源が、エキシマレーザ又はＹＡＧレーザの高調波であることを特徴とする。これらのレーザ光源は出力制御が容易で、高出力のレーザであるので、より精度が高い導電層露出工程を行うことができる。
（５）前記冷却送風が−１５０℃〜０℃の気流を用いることを特徴とする。これにより、ＵＶレーザビーム照射による発熱をより効率的に冷却することができるので、基材フィルム等の軟化・変形の防止効果や「除去カス」の硬化による再付着防止効果をより高めることができる。
（６）前記冷却送風が液体窒素を吹き付けることで行われることを特徴とする。これにより、極低温で冷却効率の高い冷却送風を行うことができるので、基材フィルム等の軟化・変形の防止効果や「除去カス」の硬化による再付着防止効果をより高めることができる。
【００１６】
また、上記目的は、本発明の製造方法により製造されたことを特徴とするディスプレイ用光学フィルタによって達成することができる。これにより、基材フィルムの１方の表面に導電層が形成された積層体を含み、且つ基材フィルムの側端部の一部が除去されて基材フィルム側に導電層が露出していることによって確実に導電層の導通が確保されたディスプレイ用光学フィルタであって、積層体の軟化・変形や「除去カス」の付着の無いディスプレイ用光学フィルタを提供することができる。
【発明の効果】
【００１７】
本発明の製造方法によれば、基材フィルムの１方の表面に導電層が形成された積層体を含み、且つ基材フィルムの側端部の一部が除去されて基材フィルム側に導電層が露出していることにより確実に導電層の導通が確保されたディスプレイ用光学フィルタを、積層体の軟化・変形や「除去カス」の付着を生じることなく製造することができるので、前記光学フィルタの不良率を低減することが可能となる。従って、視聴者側の最外面であるハードコート層等が極薄塗工であっても高い平面性を確保できる積層体の構成とすることができるので、薄型の光学フィルタの需要に有利に対応することが可能となる。
【００１８】
また、本発明の製造方法により得られるディスプレイ用光学フィルタは、確実に導電層の導通が確保され、積層体の軟化・変形や「除去カス」の付着がなく、薄型の光学フィルタの需要にも対応できるので、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、ブラウン管（ＣＲＴ）ディスプレイ、液晶ディスプレイ、有機ＥＬ（電界発光）ディスプレイ等を含む電界放出型ディスプレイ等の各種ディスプレイに対して、適用し易く、電磁波シールド性の信頼性が高いディスプレイ用光学フィルタであるということができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下に、本発明のディスプレイ用光学フィルタの製造方法及びディスプレイ用光学フィルタについて、図面を参照しながら説明する。図１は、本発明のディスプレイ用光学フィルタの製造方法の代表的な１例を示す概略断面図である。
【００２０】
図示の通り、まず、矩形状の透明な基材フィルム１２の表面全域にメッシュ状の導電層１３を形成する（１）（導電層形成工程）。基材フィルム１２と導電層１３等との接着性を向上させるために、基材フィルム１２と導電層１３との間に中間層を形成しても良い（図示していない）。次いで導電層１３の全域に第１の機能層として近赤外線吸収層１４、及びその上に透明な粘着剤層１５を形成する（２）（第１機能層形成工程）。第１の機能層としては何らかの機能を示す合成樹脂を含む層であればどのようなものでも良い。図１の例においては２層の組合せであるが、粘着剤層１５は設けなくても良く、近赤外線吸収層１４に換えて、又は加えて、ネオンカット層を設けても良い。ディスプレイの画面表示部に貼り付けるためには、粘着剤層１５は設けた方が好ましい。粘着剤層１５の表面には、作業性を向上するため剥離層を設けても良い。
【００２１】
第１機能層形成工程後、基材フィルム１２の導電層１３を形成した面の他面上に合成樹脂からなるハードコート層１６を形成する（３）（第２機能層形成工程）。第２の機能層としても何らかの機能を示す合成樹脂を含む層であればどのようなものでも良い。図１の例においては、ハードコート層１６のみであるが、例えば、ハードコート層１６の上に反射防止性を得るために、ハードコート層より屈折率の低い低屈折率層や屈折率層の高い高屈折率層を形成しても良い（図示していない）。また、第２機能層形成工程を行った後、導電層形成工程、第１機能層形成工程を行っても良い。
【００２２】
基材フィルムの１方の表面に導電層が形成されていれば、機能層は無くても良いが、より有効な光学フィルタとするためには、第１の機能層又は第２の機能層のどちらか一方、さらには両方の機能層を形成する方が好ましい。
【００２３】
また、積層体２０は上記のように枚葉に加工しても良いが、以下のように連続的に形成することも可能である。即ち、長尺状の基材フィルム１２にメッシュ状の導電層１３、その上に近赤外線吸収層１４等の第１の機能層を形成させ、さらにその他面上にハードコート層１６等の第２の機能層を連続的に形成した後、必要な長さで裁断する。
【００２４】
以上の工程により形成された積層体２０を粘着剤層１５でディスプレイの画像表示部であるガラス基板２１に貼り付ける（４）。その後、積層体２０の全周囲の４辺の側端部の除去すべき領域にＵＶレーザビーム３０を照射するとともに、その照射領域に冷却送風として液体窒素ミスト４０を吹き付ける。ＵＶレーザビーム３０の照射は４辺全部にしなくても、少なくとも１辺の側端部に照射すれば良い。導電層１３の導通を確保し、ディスプレイ用光学フィルタの電磁波シールド性を良好にするためには、好ましくは両側端部に、さらに好ましくは４辺の側端部全てに照射する（５）（導電層露出工程）。
【００２５】
図１の例においては、ＵＶレーザビーム３０の照射は最端部には照射しないように行う。ハードコート層１６及び基材フィルム１２のＵＶレーザビームが照射された部分が紫外線を吸収し、光化学反応により分子間化学結合が切断され、瞬間除去（アブレーション）される。液体窒素ミスト４０が吹き付けられているので、照射領域の周辺の領域及び導電層１３が冷却され、ＵＶレーザビーム３０の照射に伴う発熱による積層体２０の軟化・変形が抑えられている。また、液体窒素ミスト４０の吹き付けにより、大気中に飛散した「除去カス」の硬化が早められるとともに、積層体２０の最外面のハードコート層１６の表面から吹き飛ばされる。導電層露出工程についての詳細は後述する。
【００２６】
これにより、４辺側端部近傍の領域のハードコート層１６及び基材フィルム１２が除去され、導電層１３が露出し、導電層露出領域１３'が形成される（６）。この際、積層体２０の表面の側端部にＵＶレーザビーム３０が照射されなかったハードコート層１６が残り、縁部ハードコート層１６'が形成される。この４辺側端部の細い帯状の導電層露出領域１３'の幅（図１（６）のＬ）は、一般に１〜１００ｍｍ、特に２〜５０ｍｍが好ましい。また縁部ハードコート層１６'の細い帯状の領域の幅は、一般に０．１〜２０ｍｍであり、特に０．５〜５ｍｍが好ましい。導電層露出工程において、導電層露出領域１３'の外側に縁部ハードコート層１６'が無く、最端部に導電層露出領域１３'が形成されるようにＵＶレーザビーム３０を照射してハードコート層１６及び基材フィルム１２を除去しても良い。
【００２７】
導電層露出工程はＵＶレーザビーム３０を精度よく照射領域に照射することができれば、積層体２０をガラス基板２１に貼り付けて行わなくても良い。積層体２０が安定した状態に固定され、ＵＶレーザビーム照射領域の位置精度を高くすることができるので、ガラス基板２１に貼り付けた後に、導電層露出工程を行うことが好ましい。
【００２８】
図２は本発明のディスプレイ用光学フィルタの製造方法における導電層露出工程のＵＶレーザビーム照射装置の１例を説明する概略図である。図示のように、ＵＶレーザビーム照射装置４５は主とし、ＵＶレーザビーム３０のレーザ光源であるレーザ発振器３１、ＵＶレーザビーム３０を伝送する反射ミラー３２、適切な照射エリアを形成する加工マスク３３、ＵＶレーザビーム３０を照射領域に集光させる加工レンズ３４、加工品（ワーク）である積層体２０及びガラス基板２１を保持・可動させる加工テーブル３５、基材フィルム等の除去により発生する「除去カス」を集塵する集塵装置３６、冷却送風のための液体窒素容器４１及び液体窒素ミスト４０を照射領域に吹き付けるノズル４２で構成される。
【００２９】
使用するレーザ光源３１は紫外域（波長１０〜４００ｎｍ）のレーザであり、光化学反応によりハードコート層等の合成樹脂からなる機能層及び基材フィルムを除去し、導電層に損傷を与えないもの、あるいはそのように設定できるものであれば良い。特に出力制御が容易で高出力であるため、除去すべき領域や深さ方向の除去範囲の精度をより高めることができる点で、エキシマレーザ又はＹＡＧレーザの高調波が好ましい。エキシマレーザの媒質ガスはＡｒＦ（１９３ｎｍ）、ＫｒＦ（２４８ｎｍ）、ＸｅＣｌ（３０８ｎｍ）、ＸｅＦ（３５１ｎｍ）等が使用でき、ＹＡＧレーザの高調波は第３高調波（３５５ｎｍ）、第４高調波（２６６ｎｍ）、第５高調波（２１２ｎｍ）等の高調波を使用できる。ＹＡＧレーザの励起はランプ励起でも、ＬＤ（ダイオードレーザ）励起でも良い。
【００３０】
エキシマレーザの場合は一般にレーザビームサイズが大きく、例えば２０ｍｍ×１０ｍｍの照射面積が可能である。従って、レーザビームを加工マスク３３により、除去すべき領域の幅を有する四角形の照射エリアを形成し、加工レンズ３４で積層体２０の側端部の照射領域に集光させる。また、光路を最短として垂直に照射領域にレーザビームを照射するため、光路を固定し、加工テーブル３５において、積層体２０及びガラス基板２１を自在に可動とする（図中矢印（Ｘ軸、Ｙ軸）方向））ワーク移動方式の装置が好ましい。通常、出力は２５〜１００Ｗ、好ましくは１５〜９０Ｗ、パルスエネルギー１００〜１１００ｍＪ、周波数１０〜３００Ｈｚ、好ましくは５０〜２００Ｈｚ，パルス幅は１０〜１００ｎｓ、好ましくは１０〜３０ｎｓで照射し、移動速度１〜３０００ｍｍ／秒で行う。
【００３１】
ＹＡＧレーザの高調波の場合は一般にレーザビームサイズがエキシマレーザほど大きくなく、例えば１〜２ｍｍ径のサイズである。従って、集光したレーザビームで照射領域を走査しても良いが、除去の精度向上の点でビームエキスパンダやビームホモジナイザでレーザビームサイズを拡大して使用するのが好ましい。通常、出力は１０〜５０Ｗ、好ましくは１５〜３０Ｗ，パルスエネルギー０．５〜２０ｍＪ、周波数１ｋＨｚ〜３０ｋＨｚ、好ましくは４ｋＨｚ〜１０ｋＨｚ、パルス幅は１０〜５０ｎｓ、好ましくは４〜１０ｎｓで照射し、移動速度は１〜３０００ｍｍ／秒で行う。
【００３２】
図２においては冷却送風装置として液体窒素吹付け装置を設け、液体窒素容器４１からノズル４２を経て液体窒素ミスト４０をレーザビーム照射領域に吹き付けている。この方法で、理論的には最低−１９６℃の冷却送風が可能であるが、実用的には−１５０〜−５０℃の冷却送風を行うことができる。これにより、ＵＶレーザビーム照射による発熱を冷却し、「除去カス」の硬化を早めるとともに、積層体表面から吹き飛ばすことができる。吹き飛ばされた「除去カス」は集塵装置３６によって集塵される。これにより、「除去カス」が積層体に再付着することを防止することができる。
【００３３】
冷却送風は、ＵＶレーザビーム照射による発熱を効率的に冷却することができればどのような方法で行っても良い。例えば、窒素ガスを吹き付ける方法、圧縮空気による低温空気を吹き付ける方法、ハイドロフルオロカーボン等のフロン類を吹き付ける方法、二酸化炭素ガスを吹き付ける方法、蒸気圧縮式（コンプレッサー式）冷却機や電子冷却式（ペルチェ素子式）冷却機で冷却した空気を送風機で吹き付ける方法等が挙げられる。効率的に、発熱による基材フィルム１２等の軟化・変形を防止し、「除去カス」の硬化を促進して積層体２０への再付着を防止するためには、−１５０〜０℃の気流で冷却送風するのが好ましい。特に、冷却効率が良く、不活性で積層体２０への化学的影響が無いこと、環境への影響が無いことから、液体窒素ミストを吹き付ける方法が好ましい。
【００３４】
図３は、本発明のディスプレイ用光学フィルタの代表的な１例を示し、図３（ａ）は概略断面図であり、図３（ｂ）は概略平面図である。図示のように上から（視聴者側から）ハードコート層１６、基材フィルム１２、導電層１３、近赤外線吸収層１４、透明な粘着剤層１５が形成されており、その積層体２０がガラス基板２１に粘着剤層１５で貼り付けられている。従って、視聴者側の最外層であるハードコート層１６は平面性が高い基材フィルム１２の表面に形成されているので、極薄塗工でも高い平面性を確保できる。そして、積層体２０の４辺側端部近傍に細い帯状の導電層露出領域１３'が形成されているので、本発明のディスプレイ用光学フィルタは、導電層露出領域１３'により確実に外部との良好な導通が確保されている。さらに、本発明の製造方法で製造されているので、積層体２０の軟化・変形や「除去カス」の付着等の不良の無い、ディスプレイ用光学フィルタである。
【００３５】
本発明のディスプレイ用光学フィルタの製造方法により製造される本発明のディスプレイ用光学フィルタは、本発明の目的を達成することができれば、どのような材料や工程を用いても良い。以下に好ましい態様を説明する。
【００３６】
基材フィルムは、一般に、透明なプラスチックフィルムである。その材料としては、透明（「可視光に対して透明」を意味する。）であれば特に制限はない。プラスチックフィルムの例としては、ポリエステル｛例、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート｝、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、アクリル樹脂、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリスチレン、トリアセテート樹脂、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール、金属イオン架橋エチレン−メタクリル酸共重合体、ポリウレタン、セロファン等を挙げることができる。これらの中でも、加工時の負荷（熱、溶剤、折り曲げ等）に対する耐性が高く、透明性が特に高い等の点で、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）等が好ましい。特に、ＰＥＴが、加工性に優れているので好ましい。また、第２の機能性層に含まれる有機色素類は紫外線を受けて耐久性が低下しやすいが、ＰＥＴ等のポリエステルはこのような紫外線を吸収する傾向があり好ましい。
【００３７】
基材フィルムの厚さとしては、光学フィルタの用途等によっても異なるが、一般に１μｍ〜１０ｍｍ、１μｍ〜５ｍｍ、特に２５〜２５０μｍが好ましい。
【００３８】
導電層は、一般に１０Ω／□以下、好ましくは０．００１〜５Ω／□の範囲、特に０．００５〜５Ω／□のとなるように設定される。前述の様な、メッシュ状の導電層も好ましい。或いは、導電層は、気相成膜法により得られる層（金属酸化物（ＩＴＯ等）の透明導電薄膜）でも良い。さらに、ＩＴＯ等の金属酸化物の誘電体膜とＡｇ等の金属層との交互積層体（例、ＩＴＯ／銀／ＩＴＯ／銀／ＩＴＯの積層体）であっても良い。
【００３９】
メッシュ状の導電層としては金属繊維及び金属被覆有機繊維の金属を網状にしたもの、透明フィルム上の銅箔等の層を網状にエッチング加工し、開口部を設けたもの、透明フィルム上に導電性インクをメッシュ状に印刷したもの、等を挙げることができる。
【００４０】
メッシュ状の導電層の場合、メッシュとしては、金属繊維及び／又は金属被覆有機繊維よりなる線径１μｍ〜１ｍｍ、開口率４０〜９５％のものが好ましい。より好ましい線径は１０〜５００μｍ、開口率は５０〜９５％である。メッシュ状の導電層において、線径が１ｍｍを超えると電磁波シールド性が向上するが、開口率が低下し両立させることができない。１μｍ未満では、メッシュとしての強度が下がり取扱いが困難となる。また開口率が９５％を超えるとメッシュとしての形状を維持することが困難であり、４０％未満では光透過性が低下し、ディスプレイからの光量も低下する。
【００４１】
なお、メッシュの開口率とは、当該メッシュの投影面積における開口部分が占める面積割合を言う。
【００４２】
メッシュ状の導電層を構成する金属繊維及び金属被覆有機繊維の金属としては、銅、ステンレス、アルミニウム、ニッケル、チタン、タングステン、錫、鉛、鉄、銀、炭素又はこれらの合金、好ましくは銅、ステンレス、ニッケルが用いられる。
【００４３】
金属被覆有機繊維の有機材料としては、ポリエステル、ナイロン、塩化ビニリデン、アラミド、ビニロン、セルロース等が用いられる。
【００４４】
金属箔等の導電性の箔をパターンエッチングしたもの場合、金属箔の金属としては、銅、ステンレス、アルミニウム、ニッケル、鉄、真鍮、或いはこれらの合金、好ましくは銅、ステンレス、アルミニウムが用いられる。
【００４５】
金属箔の厚さは、薄過ぎると取扱い性やパターンエッチングの作業性等の面で好ましくなく、厚過ぎると得られるフィルムの厚さに影響を及ぼし、エッチング工程の所要時間が長くなることから、１〜２００μｍ程度とするのが好ましい。
【００４６】
エッチングパターンの形状には特に制限はなく、例えば四角形の孔が形成された格子状の金属箔や、円形、六角形、三角形又は楕円形の孔が形成されたパンチングメタル状の金属箔等が挙げられる。また、孔は規則的に並んだものに限らず、ランダムパターンとしても良い。この金属箔の投影面における開口部分の面積割合は、２０〜９５％であることが好ましい。
【００４７】
上記の他に、メッシュ状の導電層として、フィルム面に、溶剤に対して可溶な材料によってドットを形成し、フィルム面に溶剤に対して不溶な導電材料からなる導電材料層を形成し、フィルム面を溶剤と接触させてドット及びドット上の導電材料層を除去することによって得られるメッシュ状の導電層を用いても良い。
【００４８】
導電層上に、さらに金属メッキ層を、導電性を向上させるためは設けても良い（特に、上記溶剤に対して可溶な材料によってドットを形成する方法の場合）。金属メッキ層は、公知の電解メッキ法、無電解メッキ法により形成することができる。メッキに使用される金属としては、一般に銅、銅合金、ニッケル、アルミ、銀、金、亜鉛又はスズ等を使用することが可能であり、好ましくは銅、銅合金、銀、又はニッケルであり、特に経済性、導電性の点から、銅又は銅合金を使用することが好ましい。
【００４９】
また、防眩性能を付与させても良い。この防眩化処理を行う場合、（メッシュ）導電層の表面に黒化処理を行っても良い。例えば、金属膜の酸化処理、クロム合金等の黒色メッキ、黒又は暗色系のインクの塗布等を行うことができる。
【００５０】
基材フィルムと導電層との間に中間層を形成する場合は、その材料として、主として、ポリエステル樹脂を用いる。ポリエステル樹脂は、一般にグリコールと多価（一般に二価）のカルボン酸との重縮合により得られる。グリコールの例としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ブタンジオール、ヘキサンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール（ネオペンチルグリコール）、２−メチル−２−エチル−１，３−プロパンジオール、２―メチル−２−ブチル−１，３−プロパンジオール、２−メチル−２−プロピル−１，３−プロパンジオール、２−メチル−２−イソプロピル−１，３−プロパンジオール、２−メチル−２−ｎ−ヘキシル−１，３−プロパンジオール、２，２−ジエチル−１，３−プロパンジオール、２−エチル−２−ｎ−ブチル−１，３−プロパンジオール、２−エチル−２−ｎ−ヘキシル−１，３−プロパンジオール、２，２−ジ−ｎ−ブチル−１，３−プロパンジオール、２−ｎ−ブチル−２−プロピル−１，３−プロパンジオール、２，２−ジ−ｎ−ヘキシル−１，３−プロパンジオールを挙げることができる。エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ブタンジオール、ヘキサンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオールが好ましい。
【００５１】
多価（一般に二価）のカルボン酸の例としては、テレフタル酸、イソフタル酸、ジフェニルカルボン酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸等の芳香族ジカルボン酸；アジピン酸、コハク酸、マロン酸、グルタル酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、フマル酸、マレイン酸を挙げることができる。テレフタル酸、イソフタル酸、アジピン酸、コハク酸、アゼライン酸、セバシン酸が好ましい。
【００５２】
ポリエステル樹脂の重量平均分子量は一般に１０００〜５００００の範囲、特に２０００〜２００００の範囲が好ましい。また、数平均分子量は一般に１０００〜５００００の範囲、特に２０００〜２００００の範囲が好ましい。
【００５３】
ポリエステル樹脂以外の樹脂成分として、アクリル樹脂、スチレン−マレイン酸グラフトポリエステル樹脂、アクリルグラフトポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、シリコーン樹脂等を使用しても良い。
【００５４】
中間層形成用の塗工液は、上記ポリエステル樹脂、各種添加剤を有機溶剤に混合、溶解させることにより得ることができる。そして、得られた塗工液を公知の塗工法により、塗工、乾燥することにより中間層を得ることができる。この塗工液は、通常、硬化剤を含んでいないので、塗工後、溶剤を蒸発させることにより中間層を形成することができる。
【００５５】
基材フィルム上（視聴者側）に形成される機能層は、一般にハードコート層とその上に設けられたハードコート層より屈折率の低い低屈折率層との複合膜であるか、或いはハードコート層と低屈折率層との間にさらに高屈折率層が設けられた複合膜である。反射防止のためには基板フィルムより屈折率の低いハードコート層のみであっても有効である。但し、基材フィルムの屈折率が低い場合、基材フィルムより屈折率の高いハードコート層とその上に設けられた低屈折率層との複合膜、或いは低屈折率層上にさらに高屈折率層が設けられた複合膜としても良い。
【００５６】
ハードコート層は、アクリル樹脂層、エポキシ樹脂層、ウレタン樹脂層、シリコン樹脂層等の合成樹脂を主成分とする層である。なお、本発明において、ハードコート層とは、ＪＩＳ５６００−５−４（１９９９）で規定される鉛筆硬度試験でＨ以上の硬度を有するものをいう。通常、ハードコート層の厚さは１〜５０μｍ、好ましくは１〜２０μｍである。合成樹脂は、一般にフェノール樹脂、レゾルシノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、フラン樹脂、シリコン樹脂などの熱硬化性樹脂、又は紫外線硬化性樹脂であり、紫外線硬化性樹脂が好ましい。紫外線硬化性樹脂は、短時間で硬化させることができ、生産性に優れる点から好ましい。紫外線硬化性樹脂を用いる場合は、紫外線硬化性樹脂組成物（紫外線硬化性樹脂、光重合開始剤等からなる）として使用する。
【００５７】
紫外線硬化性樹脂（モノマー、オリゴマー）としては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシルポリエトキシ（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、フェニルオキシエチル（メタ）アクリレート、トリシクロデカンモノ（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルホリン、Ｎ−ビニルカプロラクタム、２−ヒドロキシ−３−フェニルオキシプロピル（メタ）アクリレート、ｏ−フェニルフェニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジプロポキシジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメチロールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、トリス〔（メタ）アクリロキシエチル〕イソシアヌレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレートモノマー類；ポリオール化合物（例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、１，６−ヘキサンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，９−ノナンジオール、２−エチル−２−ブチル−１，３−プロパンジオール、トリメチロールプロパン、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、１，４−ジメチロールシクロヘキサン、ビスフェノールＡポリエトキシジオール、ポリテトラメチレングリコール等のポリオール類、前記ポリオール類とコハク酸、マレイン酸、イタコン酸、アジピン酸、水添ダイマー酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸等の多塩基酸又はこれらの酸無水物類との反応物であるポリエステルポリオール類、前記ポリオール類とε−カプロラクトンとの反応物であるポリカプロラクトンポリオール類、前記ポリオール類と前記多塩基酸又はこれらの酸無水物類のε−カプロラクトンとの反応物、ポリカーボネートポリオール、ポリマーポリオール等）と有機ポリイソシアネート（例えば、トリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−４，４’−ジイソシアネート、ジシクロペンタニルジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、２，４，４′−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、２，２′−４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等）と水酸基含有（メタ）アクリレート（例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェニルオキシプロピル（メタ）アクリレート、シクロヘキサン−１，４−ジメチロールモノ（メタ）アクリレ��ト、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート等）の反応物であるポリウレタン（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂等のビスフェノール型エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸の反応物であるビスフェノール型エポキシ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレートオリゴマー類等を挙げることができる。これら化合物は１種又は２種以上、混合して使用することができる。これらの紫外線硬化性樹脂を、熱重合開始剤とともに用いて熱硬化性樹脂として使用してもよい。
【００５８】
ハードコート層とするには、上記の紫外線硬化性樹脂（モノマー、オリゴマー）の内、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の硬質の多官能モノマーを主に使用することが好ましい。
【００５９】
紫外線硬化性樹脂の光重合開始剤として、紫外線硬化性樹脂の性質に適した任意の化合物を使用することができる。例えば、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルホリノプロパン−１などのアセトフェノン系、ベンジルジメチルケタールなどのベンゾイン系、ベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノンなどのベンゾフェノン系、イソプロピルチオキサントン、２−４−ジエチルチオキサントンなどのチオキサントン系、その他特殊なものとしては、メチルフェニルグリオキシレートなどが使用できる。特に好ましくは、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルホリノプロパン−１、ベンゾフェノン等が挙げられる。これら光重合開始剤は、必要に応じて、４−ジメチルアミノ安息香酸のごとき安息香酸系叉は、第３級アミン系などの公知慣用の光重合促進剤の１種または２種以上を任意の割合で混合して使用することができる。また、光重合開始剤のみの１種または２種以上の混合で使用することができる。特に１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(チバ・スペシャリティケミカルズ社製、イルガキュア１８４）が好ましい。
【００６０】
光重合開始剤の量は、樹脂組成物に対して一般に０．１〜１０質量％、好ましくは０．１〜５質量％である。
【００６１】
さらに、ハードコート層は、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、老化防止剤、塗料加工助剤、着色剤等を少量含んでいても良い。特に、紫外線吸収剤（例、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤又はベンゾフェノン系紫外線吸収剤）を含むことが好ましく、これによりフィルタの黄変等の防止が効率的に行うことができる。その量は、樹脂組成物に対して一般に０．１〜１０質量％、好ましくは０．１〜５質量％である。
【００６２】
高屈折率層は、ポリマー（好ましくは紫外線硬化性樹脂）中に、ＩＴＯ，ＡＴＯ，Ｓｂ2Ｏ3，ＳｂＯ2，Ｉｎ2Ｏ3，ＳｎＯ2，ＺｎＯ、ＡｌをドープしたＺｎＯ、ＴｉＯ2等の導電性金属酸化物微粒子（無機化合物）が分散した層（硬化層）とすることが好ましい。金属酸化物微粒子としては、平均粒径１０〜１００００ｎｍ、好ましくは１０〜５０ｎｍのものが好ましい。特にＩＴＯ（特に平均粒径１０〜５０ｎｍのもの）が好ましい。膜厚は一般に１０〜５００ｎｍの範囲、好ましくは２０〜２００ｎｍである。
【００６３】
低屈折率層は、シリカ、フッ素樹脂等の微粒子、好ましくは中空シリカを１０〜４０重量％（好ましくは１０〜３０質量％）がポリマー（好ましくは紫外線硬化性樹脂）中に分散した層（硬化層）であることが好ましい。膜厚は一般に１０〜５００ｎｍの範囲、好ましくは２０〜２００ｎｍである。中空シリカとしては、平均粒径１０〜１００ｎｍ、好ましくは１０〜５０ｎｍ、比重０．５〜１．０、好ましくは０．８〜０．９のものが好ましい。
【００６４】
ハードコート層は、可視光線透過率が８５％以上であることが好ましい。高屈折率層及び低屈折率層の可視光線透過率も、いずれも８５％以上であることが好ましい。
【００６５】
視聴者側の機能層がハードコート層と上記２層より構成される場合、例えば、ハードコート層の厚さは２〜２０μｍ、高屈折率層の厚さは５０〜１５０ｎｍ、低屈折率層の厚さは５０〜１５０ｎｍであることが好ましい。
【００６６】
視聴者側の機能層の、各層を形成するには、例えば、前記の通り、ポリマー（好ましくは紫外線硬化性樹脂）に必要に応じ上記の微粒子を配合し、得られた塗工液を、前記の矩形透明基板表面に塗工し、次いで乾燥した後、紫外線照射して硬化すればよい。この場合、各層を１層ずつ塗工し硬化させてもよく、全層を塗工した後、まとめて硬化させてもよい。
【００６７】
塗工の具体的な方法としては、アクリル系モノマー等を含む紫外線硬化性樹脂をトルエン等の溶媒で溶液にした塗工液をグラビアコータ等によりコーティングし、その後乾燥し、次いで紫外線により硬化する方法を挙げることができる。このウェットコーティング法であれば、高速で均一に且つ安価に成膜できるという利点がある。このコーティング後に例えば紫外線を照射して硬化することにより密着性の向上、膜の硬度の上昇という効果が得られる。
【００６８】
紫外線硬化の場合は、光源として紫外〜可視領域に発光する多くのものが採用でき、例えば超高圧、高圧、低圧水銀灯、ケミカルランプ、キセノンランプ、ハロゲンランプ、マーキュリーハロゲンランプ、カーボンアーク灯、白熱灯、レーザー光等を挙げることができる。照射時間は、ランプの種類、光源の強さによって一概には決められないが、数秒〜数分程度である。また、硬化促進のために、予め積層体を４０〜１２０℃に加熱し、これに紫外線を照射してもよい。
【００６９】
導電層上（基材フィルムのディスプレイ用ガラス基板側）に形成される機能層として、近赤外線吸収層は、例えば色素及びバインダ樹脂等を含む紫外線硬化性又は電子線硬化性の樹脂、或いは熱硬化性樹脂を含む塗工液を塗工、必要により乾燥、そして硬化させることにより得られる。或いは上記色素及びバインダ樹脂等を含む塗工液を塗工、そして単に乾燥させることによっても得られる。フィルムとして使用する場合は、一般に近赤外線カットフィルムであり、例えば色素等を含有するフィルムである。色素としては、一般に８００〜１２００ｎｍの波長に吸収極大を有するもので、例としては、フタロシアニン系色素、金属錯体系色素、ニッケルジチオレン錯体系色素、シアニン系色素、スクアリリウム系色素、ポリメチン系色素、アゾメチン系色素、アゾ系色素、ポリアゾ系色素、ジイモニウム系色素、アミニウム系色素、アントラキノン系色素、を挙げることができ、特にシアニン系色素又、フタロシアニン系色素、ジイモニウム系色素が好ましい。これらの色素は、単独又は組み合わせて使用することができる。バインダ樹脂の例としては、アクリル樹脂等の熱可塑性樹脂を挙げることができる。
【００７０】
近赤外線吸収層に、ネオン発光の吸収機能（ネオンカット機能）を付与することにより色調の調節機能を持たせても良い。このために、ネオン発光の吸収層（ネオンカット層）を設けても良いが、近赤外線吸収層にネオン発光の選択吸収色素を含有させても良い。
【００７１】
ネオン発光の選択吸収色素としては、シアニン系色素、スクアリリウム系色素、アントラキノン系色素、フタロシアニン系色素、ポリメチン系色素、ポリアゾ系色素、アズレニウム系色素、ジフェニルメタン系色素、トリフェニルメタン系色素を挙げることができる。このような選択吸収色素は、５８５ｎｍ付近のネオン発光の選択吸収性とそれ以外の可視光波長において吸収が小さいことが必要であるため、吸収極大波長が５７５〜５９５ｎｍであり、吸収スペクトル半値幅が４０ｎｍ以下であるものが好ましい。
【００７２】
また、近赤外線やネオン発光の吸収色素を複数種組み合わせる場合、色素の溶解性に問題がある場合、混合による色素間の反応ある場合、耐熱性、耐湿性等の低下が認められる場合には、すべての近赤外線吸収色素を同一の層に含有させる必要はなく、別の層に含有させても良い。
【００７３】
また、光学特性に大きな影響を与えない限り、さらに着色用の色素、紫外線吸収剤、酸化防止剤等を加えても良い。
【００７４】
近赤外線吸収特性としては、８５０〜１０００ｎｍの透過率を、２０％以下、さらに１５％するのが好ましい。また選択吸収性としては、５８５ｎｍの透過率が５０％以下であることが好ましい。特に前者の場合には、周辺機器のリモコン等の誤作動が指摘されている波長領域の透過度を減少させる効果があり、後者の場合は、５７５〜５９５ｎｍにピークを持つオレンジ色が色再現性を悪化させる原因であることから、このオレンジ色の波長を吸収させる効果があり、これにより真赤性を高めて色の再現性を向上させたものである。近赤外線吸収層の層厚は、０．５〜５０μｍが一般的である。
【００７５】
ガラス基板側の機能層として、透明な粘着剤層は、ガラス基板に接着する接着機能を有するものであればどのような樹脂でも使用することができる。例えば、エチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）、エチレン−アクリル酸メチル共重合体、ブチルアクリレート等から形成されたアクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、ＳＥＢＳ（スチレン／エチレン／ブチレン／スチレン）及びＳＢＳ（スチレン／ブタジエン／スチレン）等の熱可塑性エラストマー（ＴＰＥ）を主成分とするＴＰＥ系粘着剤及び接着剤等も用いることができる。
【００７６】
その層厚は、一般に５〜５００μｍ、特に１０〜１００μｍの範囲が好ましい。光学フィルタは、一般に上記粘着剤層をディスプレイのガラス板に圧着することにより装備することができる。
【００７７】
前記粘着剤層の材料として、ＥＶＡを使用する場合、ＥＶＡとしては酢酸ビニル含有量が５〜５０重量％、好ましくは１５〜４０重量％のものが使用される。酢酸ビニル含有量が５重量％より少ないと透明性に問題があり、また４０重量％を超すと機械的性質が著しく低下する上に、成膜が困難となり、フィルム相互のブロッキングが生じ易い。
【００７８】
架橋剤としては加熱架橋する場合は、有機過酸化物が適当であり、シート加工温度、架橋温度、貯蔵安定性等を考慮して選ばれる。使用可能な過酸化物としては、例えば２，５−ジメチルヘキサン−２，５−ジハイドロパーオキサイド；２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン−３；ジーｔ−ブチルパーオキサイド；ｔ−ブチルクミルパーオキサイド；２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン；ジクミルパーオキサイド；α，α’−ビス（ｔ−ブチルパーオキシイソプロピル）ベンゼン；ｎ−ブチル−４，４−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）バレレート；２，２−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）ブタン；１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）シクロヘキサン；１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン；ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート；ベンゾイルパーオキサイド；第３ブチルパーオキシアセテート；２，５−ジメチル−２，５−ビス（第３ブチルパーオキシ）ヘキシン−３；１，１−ビス（第３ブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン；１，１−ビス（第３ブチルパーオキシ）シクロヘキサン；メチルエチルケトンパーオキサイド；２，５−ジメチルヘキシル−２，５−ビスパーオキシベンゾエート；第３ブチルハイドロパーオキサイド；ｐ−メンタンハイドロパーオキサイド；ｐ−クロルベンゾイルパーオキサイド；第３ブチルパーオキシイソブチレート；ヒドロキシヘプチルパーオキサイド；クロルヘキサノンパーオキサイド等を挙げることができる。これらの過酸化物は１種を単独で又は２種以上を混合して、通常ＥＶＡ１００重量部に対して、５質量部以下、好ましくは０．５〜５．０質量部の割合で使用される。
【００７９】
有機過酸化物は通常ＥＶＡに対し押出機、ロールミル等で混練されるが、有機溶媒、可塑剤、ビニルモノマー等に溶解し、ＥＶＡのフィルムに含浸法により添加しても良い。
【００８０】
なお、ＥＶＡの物性（機械的強度、光学的特性、接着性、耐候性、耐白化性、架橋速度など）改良のために、各種アクリロキシ基又はメタクリロキシ基及びアリル基含有化合物を添加することができる。この目的で用いられる化合物としてはアクリル酸又はメタクリル酸誘導体、例えばそのエステル及びアミドが最も一般的であり、エステル残基としてはメチル、エチル、ドデシル、ステアリル、ラウリル等のアルキル基の他、シクロヘキシル基、テトラヒドロフルフリル基、アミノエチル基、２−ヒドロキシエチル基、３−ヒドロキシプロピル基、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル基などが挙げられる。また、エチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール等の多官能アルコールとのエステルを用いることもできる。アミドとしてはダイアセトンアクリルアミドが代表的である。
【００８１】
その例としては、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、グリセリン等のアクリル又はメタクリル酸エステル等の多官能エステルや、トリアリルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレート、フタル酸ジアリル、イソフタル酸ジアリル、マレイン酸ジアリル等のアリル基含有化合物が挙げられ、これらは１種を単独で或いは２種以上を混合して、通常ＥＶＡ１００質量部に対して０．１〜２質量部、好ましくは０．５〜５質量部用いられる。
【００８２】
ＥＶＡを光により架橋する場合、上記過酸化物の代りに光増感剤が通常ＥＶＡ１００質量部に対して５質量部以下、好ましくは０．１〜３．０質量部使用される。
【００８３】
この場合、使用可能な光増感剤としては、例えばベンゾイン、ベンゾフェノン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ジベンジル、５−ニトロアセナフテン、ヘキサクロロシクロペンタジエン、ｐ−ニトロジフェニル、ｐ−ニトロアニリン、２，４，６−トリニトロアニリン、１，２−ベンズアントラキノン、３−メチル−１，３−ジアザ−１，９−ベンズアンスロンなどが挙げられ、これらは１種を単独で或いは２種以上を混合して用いることができる。
【００８４】
また、接着促進剤としてシランカップリング剤が併用される。このシランカップリング剤としては、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（β−メトキシエトキシ）シラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルメトキシシラン、ビニルトリクロロシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシランなどが挙げられる。
【００８５】
シランカップリング剤は、一般にＥＶＡ１００質量部に対して０．００１〜１０質量部、好ましくは０．００１〜５質量部の割合で１種又は２種以上が混合使用される。
【００８６】
なおＥＶＡの透明接着層には、その他、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、老化防止剤、塗料加工助剤、着色剤等を少量含んでいてもよく、また、場合によってはカーボンブラック、疎水性シリカ、炭酸カルシウム等の充填剤を少量含んでも良い。
【００８７】
上記粘着剤層は、例えばＥＶＡと上述の添加剤とを混合し、押出機、ロール等で混練した後、カレンダー、ロール、Ｔダイ押出、インフレーション等の成膜法により所定の形状にシート成形することにより製造される。
【００８８】
粘着剤層上に設けられる剥離シートの材料としては、ガラス転移温度が５０℃以上の透明のポリマーが好ましく、このような材料としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリシクロヘキシレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、ナイロン４６、変性ナイロン６Ｔ、ナイロンＭＸＤ６、ポリフタルアミド等のポリアミド系樹脂、ポリフェニレンスルフィド、ポリチオエーテルサルフォン等のケトン系樹脂、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン等のサルフォン系樹脂の他に、ポリエーテルニトリル、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、トリアセチルセルロース、ポリスチレン、ポリビニルクロライド等のポリマーを主成分とする樹脂を用いることができる。これら中で、ポリカーボネート、ポリメチルメタアクリレート、ポリビニルクロライド、ポリスチレン、ポリエチレンテレフタレートが好適に用いることができる。厚さは１０〜２００μｍが好ましく、特に３０〜１００μｍが好ましい。
【実施例】
【００８９】
以下、本発明を実施例により説明する。
【００９０】
（１）メッシュ状導電層の形成
表面に易接着層（ポリエステルポリウレタン；厚さ２０ｎｍ）を有する厚さ１００μｍの長尺状ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（幅：６００ｍｍ、長さ１００ｍ）の易接着層上に、ポリビニルアルコールの２０％水溶液をドット状に印刷した。ドット１個の大きさは１辺が２３４μｍの正方形状であり、ドット同士間の間隔は２０μｍであり、ドット配列は正方格子状である。印刷厚さは、乾燥後で約５μｍである。
【００９１】
その上に、銅を平均膜厚４μｍとなるように真空蒸着した。次いで、常温の水に浸漬し、スポンジで擦ることによりドット部分を溶解除去し、次いで水でリンスした後、乾燥してＰＥＴフィルムの全面にメッシュ状導電層を形成した（図１（１）参照）。
【００９２】
このフィルム表面の導電層は、正確にドットのネガパターンに対応した正方格子状のものであり、線幅は２０μｍ、開口率は７７％であった。また、導電層（銅層）の平均厚さは４μｍであった。
【００９３】
（２）近赤外線吸収層の形成
下記の配合：
ポリメチルメタクリレート                                  ３０質量部
ＴＡＰ−２（山田化学工業（株）製）                          ０．４質量部
Ｐｌａｓｔ  Ｒｅｄ  ８３８０（有本化学工業（株）製）        ０．１質量部
ＣＩＲ−１０８５（日本カーリット（株）製）                  １．３質量部
ＩＲ−１０Ａ（（株）日本触媒製）                            ０．６質量部
メチルエチルケトン                                      １５２質量部
メチルイソブチルケトン                                    １８質量部
を混合して得た塗工液を、上記メッシュ状導電層の全面にバーコータを用いて塗布し、８０℃のオーブン中で５分間乾燥させた。これにより、導電層上に厚さ５μｍの近赤外線吸収層を形成した（図１（２）参照）。
（４）粘着剤層の形成
下記の配合：
ＳＫダイン１８１１Ｌ（綜研化学（株）製）                １００質量部
硬化剤Ｌ−４５（綜研化学（株）製）                          ０．４５質量部
トルエン                                                  １５質量部
酢酸エチル                                                  ４質量部
を混合して得た塗工液を、上記近赤外線吸収層上にバーコータを用いて塗布し、８０℃のオーブン中で５分間乾燥させた。これにより、近赤外線吸収層上に厚さ２５μｍの透明粘着剤層を形成した（図１（２）参照）。
（５）ハードコート層の形成
下記の配合：
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）        ８０質量部
ＩＴＯ（平均粒径１５０ｎｍ）                                ２０質量部
メチルエチルケトン                                        １００質量部
トルエン                                                  １００質量部
イルガキュア１８４（チバスペシャリティケミカル社製）          ４質量部
を混合して得た塗工液を、上記ＰＥＴフィルムのメッシュ状導電層を形成した面と反対側の全面に、バーコータにより塗布し、紫外線照射により硬化させた。これにより、メッシュ状導電層上に厚さ５ｍのハードコート層を形成した（図１（３）参照）。
（６）導電層露出工程
粘着剤層を介して、上記により形成した積層体をディスプレイのガラス基板に圧着して貼り付けた（図１（４）参照）。これをエキシマレーザ加工装置の加工テーブルのワークステージに保持し、出力２０Ｗ、パルスエネルギー１００ｍＪ、周波数２００Ｈｚで、加工マスク及び加工レンズにより集光位置で５ｍｍ×５ｍｍの四角形の照射エリアを形成し、移動速度２５０ｍｍ／秒でＵＶレーザを照射した。同時に、ＵＶレーザビーム照射領域に液体窒素ミストを１５Ｌ／分で吹き付けてＵＶレーザビーム照射領域の冷却を行った。
【００９４】
積層体の全周囲（４辺側端部近傍）のハードコート層及びＰＥＴフィルムを除去し、導電層露出領域（幅５ｍｍ）、及びこの領域を介してその外側の縁部ハードコート層（幅０．５ｍｍ）を形成した（図１（５）、（６）参照）。
【００９５】
導電層露出領域の形成状態及びハードコート層表面を目視観察したところ、導電層露出領域はハードコート層及びＰＥＴフィルムの除去端部の盛り上がりや乱れ等が無く、スムーズに除去され、導電層の損傷も認められなかった。ハードコート層表面は平面性が高く、「除去カス」の付着は認められず、良好なディスプレイ用光学フィルタであった。
【００９６】
なお、本発明は上記の実施の形態の構成及び実施例に限定されるものではなく、発明の要旨の範囲内で種々変形が可能である。
【図面の簡単な説明】
【００９７】
【図１】本発明のディスプレイ用光学フィルタの製造方法の代表的な１例を説明するための概略断面図である。
【図２】本発明のディスプレイ用光学フィルタの導電層露出工程のＵＶレーザビーム照射装置の１例を説明するための概略斜視図である。
【図３】本発明のディスプレイ用光学フィルタの代表的な１例を示す図であり、図８（ａ）は概略断面図であり、図８（ｂ）は概略平面図である。
【符号の説明】
【００９８】
１２                  基材フィルム
１３                  導電層
１４                  近赤外線吸収層
１５                  粘着剤層
１６                  ハードコート層
１３'                導電層露出領域
１６'                縁部ハードコート層
２０                  積層体
２１                  ガラス基板
３０                  ＵＶレーザビーム
３１                  レーザ光源
３２                  反射ミラー
３３                  加工マスク
３４                  加工レンズ
３５                  加工テーブル
３６                  集塵装置
４０                          液体窒素ミスト
４１                        液体窒素容器
４２                        ノズル
４５                        ＵＶレーザビーム照射装置
【図１】
2010027892.tif 000003
【図２】
2010027892.tif 000004
【図３】
2010027892.tif 000005