(57)【要約】      （修正有）【課題】液晶表示装置用ガラス基板の薄板化を目的とし、ガラス表面の傷などが小さくなり、ガラス表面の平坦性が向上するガラス基板のエッチング方法及びエッチング装置を提供する。【解決手段】第１のガラス基板上に薄膜トランジスタ素子を形成し、第２のガラス基板上にカラーフィルタ素子を形成し、素子が形成された面を対向させて配置し、シール材を介して前記第１のガラス基板と前記第２のガラス基板とを貼り合わせ複数個の液晶表示パネルを有するガラス基板対１０とする。このガラス基板対１０を第１の液槽２１に入れ、研磨力の小さい化学研磨液Ａで第１研磨を行うことで、ガラス表面を平坦化し、次に、第２の液槽２３内の化学研磨液Ｂで所望の厚さまで薄板化する。【選択図】図３
2010138000.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数個の液晶表示パネルが形成されたの第１のガラス基板と、該第１のガラス基板と同じ大きさの第２のガラス基板とを相互に離間するようにシール材を介して貼り合わせ、前記一対のガラス基板の少なくとも一方のガラス基板の外面を第１研磨工程と第２研磨工程からなるガラス基板用化学研磨液によって薄板化し、前記第１研磨工程が第２研磨工程に比較して研磨力が小さいことを特徴とするガラス基板のエッチング方法。
【請求項２】
前記第１研磨工程に使用する研磨力の小さいガラス基板用化学研磨液が、フッ酸５〜１０重量％とフッ化アンモニウムを５〜１３重量％、残余が水からなる構成であることを特徴とする請求項１記載のガラス基板のエッチング方法。
【請求項３】
前記第１のガラス基板に複数の液晶表示パネルに対応した薄膜トランジスタ素子を形成し、前記第２のガラス基板に複数の液晶表示パネルに対応したカラーフィルタ素子を形成し、一対のガラス基板間の空間が前記シール材によって各液晶表示パネルに対応して分割されており、前記第１と第２のガラス基板の少なくとも一方のガラス基板の外面を薄板化研磨した後、前記第１と第２のガラス基板を、個々の液晶表示パネルに個片化切断することを特徴とする請求項１又は２に記載のガラス基板のエッチング方法。
【請求項４】
前記第１研磨工程で、ガラス基板の厚さを３０μｍ±１０μｍ研磨し、前記第２研磨工程でガラス基板の厚さが所望の厚さになるまで研磨することを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載のガラス基板のエッチング方法。
【請求項５】
複数個の液晶表示パネルの大きさの第１のガラス基板と、該第１のガラス基板と同じ大きさの第２のガラス基板とを相互に離間するようにシール材を介して貼り合わせたガラス基板対を収容する空間と、該空間内に入れられた研磨力の小さいガラス基板用化学研磨液と、を有する第１の液槽と、前記第１と第２のガラス基板を貼り合わせたガラス基板対を収容する空間と、該空間内に入れられた研磨力の大きいガラス基板用化学研磨液とを有する第２の液槽と、を有することを特徴とするガラス基板のエッチング装置。
【請求項６】
前記第１の液槽と第２の液槽により研磨の後に、ガラス基板を洗浄するためのリンス用液槽を設けたことを特徴とする請求項４又は５に記載のエッチング装置。
【請求項７】
前記第１の液槽内の研磨力の小さいガラス基板用化学研磨液が、フッ酸５〜１０重量％とフッ化アンモニウムを５〜１３重量％、残余が水からなる構成であることを特徴とする請求項５又は６記載のガラス基板のエッチング装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶ディスプレイに使用されるガラス基板をエッチングによって薄板化する際に、ガラス表面に傷などの欠陥が発生するのを抑制可能なガラス基板のエッチング方法及びエッチング装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶ディスプレイやプラズマディスプレイをはじめとする様々なフラットパネルデイスプレイが製造されている。この製造工程では、基板寸法が概ね１２００×１０００×０．４ｍｍなる大きさのガラス基板をマザーガラス基板として使用し、この中に複数の液晶表示パネル基板を形成する。しかしながら、モバイルや携帯端末等の用途に使用される液晶ディスプレイでは小形・軽量化のニーズが著しく、製品として要求される液晶表示パネルのガラス基板の厚さが一般に０．２ｍｍ以下と言われている。従って、液晶ディスプレイの生産においては、マザーガラス基板を研磨等の手段を用いて所望の厚さに薄板化することが必要である。
【０００３】
一般にガラスを薄くするには、薄い板ガラスを作ればよいが、薄い板ガラスの製造自体にも限界がある。そこで、機械的な研磨により薄くし、かつ、所望の精度に仕上げることが行われている。
【０００４】
このような目的で行うガラスの研磨は、従来、４００番程度のダイヤモンドの砥粒による粗研磨、８００番程度のアルミナ砥粒やジルコニアによる一次研磨、１２００番程度のアルミナ砥粒やジルコニアによる二次研磨、と経て最後に８０００番のセリウム砥粒により仕上げ研磨をする４工程となっている。
【０００５】
このうち、仕上げ研磨以外の３工程は、研削であり、ガラス表面を削っている。ガラス表面に傷をつけて削るので、砥粒としては、ダイヤモンド、ジルコニア、アルミナ等の固い研磨材を使用する。最後の仕上げ研磨は、別名「傷取り研磨」と呼ばれ、前工程までの研削傷を取り、ガラス表面を鏡面状にする工程である。
【０００６】
上記の機械研磨では、二次研磨までにできた研削傷が仕上げ研磨で除去できずに割れや表面キズとして残るものがあるという研磨能力の限界などの問題がある。また、工数が多く時間が掛かり、非能率的である。
【０００７】
これに対し、特許文献１（特許第２７２２７９８号）では、液晶表示パネル複数個分のガラス基板を、各素子区画の液晶封入領域をシーリング材で封止して、フッ酸を含む薬液内に浸漬してガラス基板の外表面を溶かすことで薄くする化学処理方法を提案している。
【０００８】
また、特許文献２（特開２００３−４０６４９号）では、フッ酸を含む薬液の貯溜槽の底部から気泡を伴なう薬液の上昇水流を発生させ、この加工液中にガラス基板を浸漬して、ガラス基板の外表面を溶かして薄くするものである。この方法によれば、常に新しい薬液がガラス基板表面に供給されるため、エッチングが促進される。
【０００９】
しかし、特許文献１や特許文献２に記載された技術には次のような問題がある。ガラスの表面には、肉眼では見えない小さな傷がある。各傷は溝状や半球形の凹部となっているが、このような凹部ができたガラスを特許文献１や特許文献２に記載された方法でエッチングすると、薬液が凹部を集中的に溶かし、凹部の幅と深さが共に数倍の大きな凹部になってしまう。
【００１０】
この問題に対し、特許文献３（特開２００３−１５１１１号）では、薬液によるエッチングが完了した後、機械研磨により微小欠陥を除去する方法を提案している。
【特許文献１】特許第２７２２７９８号
【特許文献２】特開２００３−４０６４９号
【特許文献３】特開２００３−１５１１１号
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
しかし、この特許文献３の方法は、化学研磨と機械研磨の２つの研磨工程を必要とし、大掛かりな設備上の制約やパネルの生産コストアップにつながるという問題があった。
【００１２】
本発明は、このような問題の解決を図ったもので、化学研磨だけで液晶表示パネル用のガラス基板の傷を縮小することができるガラス基板のエッチング方法と、ガラス基板のエッチング装置とを提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
上記の問題を解決するために、本発明のガラス基板のエッチング方法は、複数個の液晶表示パネルの大きさの第１のガラス基板と、該第１のガラス基板と同じ大きさの第２のガラス基板とを相互に離間するようにシール材を介して貼り合わせ、前記一対のガラス基板の少なくとも一方のガラス基板の外面を研磨力の小さいガラス基板用化学研磨液によって薄板化研磨する第１研磨工程と、前記薄板化研磨したガラス基板を、研磨力の大きいガラス基板用化学研磨液によって薄板化研磨する第２研磨工程と、を有することを特徴としている。
【００１４】
前記第１研磨工程に使用する研磨力の小さいガラス基板用化学研磨液が、フッ酸５〜１０重量％とフッ化アンモニウムを５〜１３重量％、残余が水からなる構成としたり、前記第１のガラス基板に複数の液晶表示パネルに対応した薄膜トランジスタ素子を形成し、前記第２のガラス基板に複数の液晶表示パネルに対応したカラーフィルタ素子を形成し、一対のガラス基板間の空間が前記シール材によって各液晶表示パネルに対応して分割されており、前記第１と第２のガラス基板の少なくとも一方のガラス基板の外面を薄板化研磨した後、前記第１と第２のガラス基板を、個々の液晶表示パネルに個片化切断する構成としたり、前記第１研磨工程で、ガラス基板の厚さを３０μｍ±１０μｍ研磨し、前記第２研磨工程でガラス基板の厚さが所望の厚さになるまで研磨する構成としたりしてもよい。
【００１５】
本発明のガラス基板のエッチング装置は、複数個の液晶表示パネルの大きさの第１のガラス基板と、該第１のガラス基板と同じ大きさの第２のガラス基板とを相互に離間するようにシール材を介して貼り合わせたガラス基板対を収容する空間と、該空間内に入れられた研磨力の小さいガラス基板用化学研磨液と、を有する第１の液槽と、前記第１と第２のガラス基板を貼り合わせたガラス基板対を収容する空間と、該空間内に入れられた研磨力の大きいガラス基板用化学研磨液とを有する第２の液槽と、を有することを特徴としている。
【００１６】
前記第１の液槽と第２の液槽により研磨の後に、ガラス基板を洗浄するためのリンス用液槽を設けた構成としたり、前記第１の液槽内の研磨力の小さいガラス基板用化学研磨液が、フッ酸５〜１０重量％とフッ化アンモニウムを５〜１３重量％、残余が水からなる構成としたりすることができる。
【００１７】
ガラス基板の薄板化のための第１研磨工程では研磨力の小さいガラス基板用化学研磨液を用いて行われる。研磨力の小さい化学研磨液の一例としては、フッ酸５〜１０重量％、フッ化アンモニウム５〜１３重量％、残余は水からなる化学研磨液がある。この研磨力の小さい化学研磨液によると、ガラス表面の傷は、以下のように研磨されることになる。
【００１８】
ガラスの表面は、研磨力の小さい化学研磨液中に浸漬されて研磨が開始されるが、ガラス表面に傷があると、この傷の凹部に化学研磨液が入り、ガラス表面と同時に、凹部の底面も研磨される。化学研磨液がガラスを研磨すると、化学研磨液とガラスとが反応しゲル状のフッ化物ができる。このフッ化物は凹部の底面を膜のように覆い、新しい化学研磨液のガラスの表面への接触が制限される。このとき化学研磨液の研磨力が大きいと、フッ化物の膜を通して化学研磨が行われ、凹部の底面が研磨されて、凹部が深く、幅も大きくなり、結果的にガラスの表面の凹凸が大きくなってしまう。しかし、本発明では、化学研磨液の研磨力が小さいので、傷などの凹部内では、化学研磨が大きく鈍化する。一方、凹部の外側は平面であり、凹部内と同様にガラスと化学研磨液が反応してフッ化物が発生するが、平面なのでフッ化物は移動し易く、ガラス表面から離れ、化学研磨液により引き続いてガラス面の研磨をすることができる。したがって、ガラス板は、平面部分から先に研磨が進むことになり、傷などの凹部は、だんだん浅くなって、ガラス板の平坦度が向上する。
【００１９】
研磨力の小さい化学研磨液での第１研磨が完了した状態では、凹部が浅くなっており、ガラス基板の表面の平坦度は向上している。しかし、このまま化学研磨を続けても、研磨力が小さいので研磨に時間が掛かる。そこで、次に、研磨力の大きい（通常の研磨力を備えた）化学研磨液により第２研磨を行う。第２研磨は通常のスピードで薄板化の研磨をするが、第２研磨の研磨開始時には、ガラス基板の平坦度が上がっているので、この状態を保って薄板化の研磨が進行し、目的の厚さになった時点で第２研磨が完了することになる。第２研磨が完了すると、ガラス基板は目的の厚さになり、平坦度も目標値を確保できている。
【００２０】
研磨力の小さい化学研磨液は、フッ酸の濃度が５〜１０重量％で、フッ化アンモニウムが５〜１３重量％であるが、フッ酸の濃度が１０重量％を越えるか、または、フッ化アンモニウムの濃度が１３重量％を越えると、研磨力が強くなりすぎ、凹部の内面に化合物ができても化学研磨液の研磨力が勝り、凹部の内面が引き続き研磨され、傷が大きくなってしまう。また、化合物が凹部の縁に溜まり、ここの研磨だけを遅らせ、凹部の周縁に突起ができてしまう。
【００２１】
反対に、化学研磨液のフッ酸の濃度が５重量％未満になるか、フッ化アンモニウムの濃度が５重量％未満のいずれかになると、研磨力が弱すぎて、研磨時間が掛かり過ぎることになる。
【００２２】
第１研磨でガラス基板の厚さを３０μｍ±１０μｍ研磨すると、ガラス基板の表面にあった傷は殆どなくなる。そして、その後は研磨力の大きい化学研磨液で第２研磨を行っても、平坦度が悪化することはなく、目的の平坦度を保って研磨がされ薄板化される。
【発明の効果】
【００２３】
複数の液晶パネルの大きさを有する大きなマザーガラス基板、あるいはこのマザーガラス基板を分割した液晶表示用パネルの外面を、本発明の研磨方法で研磨することにより、液晶表示パネルに必要な平坦度と厚さを持った薄板のガラス基板を安価に提供することが可能になった。また、平坦度が上がるので、液晶表示パネルの表示性能が向上することになる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。なお、実施の形態を説明するための全図において同一の機能を有するものは同一の符号を付している。また、ガラス基板用化学研磨液（以下「化学研磨液」と略称する）の組成は、重量％で表記した。
【００２５】
先ず、携帯電話やモバイル機器等の液晶表示パネルの製造方法について説明する。図１はその製造工程を説明するための工程フローチャートである。また、図２は第１と第２のガラス基板を貼り合わせ、複数の液晶表示パネルを形成した状態の断面を模式的に示した図で、図３は第１研磨と第２研磨工程を行う研磨装置の構成を模式的に示す図である。
【００２６】
図１の１０１工程は、図２に示す第１のガラス基板１（マザーガラス）上に良く知られた薄膜プロセスを用いて薄膜トランジスタ素子３（アレイ）を形成する工程である。第１のガラス基板１は、液晶表示パネル７の複数枚分の大きさを有しており、各液晶表示パネル７に対応した薄膜トランジスタ素子３が、露光、現像、エッチングなどから成るフォトリソグラフィプロセスを繰り返して形成される。その後、形成した薄膜トランジスタ素子３の上に配向膜（図示せず）が形成され、この配向膜上に液晶を配向させるためのラビング処理が施される。一方、１０２工程は第２のガラス基板２（マザーガラス）上にＲＧＢからなる複数のカラーフィルタ素子４を形成するカラーフィルタ形成工程である。カラーフィルタ素子４の形成は、よく知られた染料塗布法あるいは印刷法が用いられる。
【００２７】
次に、第１のガラス基板１もしくは第２のガラス基板２の少なくとも一方のガラス基板上に、個々の薄膜トランジスタ素子３またはカラーフィルタ素子４に対応し、液晶表示パネルを形成する領域であって、液晶が封じ込められる空間６を囲むように製品シール５を、また、第１と第２のガラス基板１、２の外周縁には外周シール（図示せず）を、よく知られたディスペンサによる塗布法やスクリーン印刷法を用いて同時に印刷する。ここでは、ディスペンサによる塗布法を用いた。
【００２８】
次に、１０３工程では第１のガラス基板１と第２のガラス基板２とを、図２に示すように、素子形成面同士が対向するように貼り合わせる。この一対のガラス基板で構成されるガラス基板対１０を、携帯電話や携帯端末の表示ディスプレイとして使用するためには、少なくとも一方のガラス基板（１または２）の厚さを０．２ｍｍ程度に薄板化することが必要である。
【００２９】
１０４工程は化学研磨液を用いてガラス基板の厚さを薄くする第１研磨工程で、１０５工程は、第２研磨工程である。
【００３０】
図３は、第１研磨と第２研磨工程を行う研磨装置の構成を模式的に示す図である。研磨装置２０は、第１の液槽２１と、第２の液槽２３とを有し、これらの間に洗浄水Ｗの入ったリンス用の液槽２２と、仕上げ用の液槽２４とを有する。
【００３１】
第１の液槽２１には、研磨力の小さい化学研磨液Ａが投入されており、化学研磨液Ａを加熱する加熱器と、化学研磨液Ａを冷却する冷却器の双方を兼ねた加熱冷却装置２１ａが設けられている。加熱冷却装置２１ａは、コイル状の中空パイプで、加熱する場合は中空パイプに温水を通し、冷却する場合は、中空パイプに冷水を通すことで、必要に応じて加熱と冷却を行う。加熱冷却装置２１ａに代えて加熱装置と冷却装置を別々に設けてもよい。
【００３２】
また、第１の液槽２１の底部には、撹拌装置２１ｂが設けられている。この撹拌装置２１ｂは、多数の孔の開いた中空パイプで、入口から矢印方向に空気を送り込むと、複数の孔から空気の泡が出て、上方に移動し、化学研磨液を撹拌できるようになっている。
【００３３】
第２の液槽２３も第１の液槽２１と同様な構成で、加熱冷却装置２３ａと撹拌装置２３ｂを備えている。リンス用の液槽２２と仕上げ用の液槽２４には、洗浄用の純水を入れている。充分な洗浄が可能ように、純水は常に新しいものを供給できるようにしている。
【００３４】
第１の液槽２１内の研磨力の小さい化学研磨液Ａは、フッ酸５〜１０重量％とフッ化アンモニウムを５〜１３重量％、残余が水からなる構成である。望ましくは、フッ酸８±１重量％、フッ化アンモニウム１０±１重量％である。本発明の実施例では、フッ酸８重量％、フッ化アンモニウム１０重量％で残余は純水とした。温度は２５〜５０℃でよいが、本発明の実施例では、４０℃としている。
【００３５】
第２の液槽２３内の研磨力の大きい化学研磨液Ｂは、通常、ガラス基板の研磨に使用されるもので、一例を挙げれば、フッ酸２０重量％とフッ化アンモニウムを１７重量％、酢酸１０重量％からなる構成である。温度は第１の液槽２１と同じで、２５〜５０℃でよいが、本発明の実施例では、４０℃としている。
【００３６】
本発明のガラス基板の研磨方法では、第１の液槽２１内に複数枚のガラス基板対１０を相互に離間させて化学研磨液Ａに浸漬することで薄板化第１研磨が行われる。この実施例では、第１のガラス基板１と第２のガラス基板２の両外面が研磨されるが、第１のガラス基板１もしくは第２のガラス基板２の何れかの薄板化研磨が不要な場合は、保護用のフイルムなどを貼り付ける方式が一般に行われている。
【００３７】
図４（ａ）〜（ｃ）は第１の液槽２１内で行われる第１研磨について説明する図で、従来の化学研磨液を使用した場合の研磨の進行状態を示した図である。化学研磨液としてフッ酸２０重量％、フッ化アンモニウム１７重量％、酢酸１０重量％の混合溶液を用いて第１のガラス基板１を化学研磨した状態を示す。化学研磨液の温度は４０℃に調節して使用した。
【００３８】
図４（ａ）に示す第１のガラス基板１は、化学研磨液で外側にある表面（外面）１ａが研磨される。第１のガラス基板１には、表面に溝状の凹部１ｃがある。これは、第１のガラス基板１を製造する際にできたものである。
【００３９】
第１のガラス基板１の表面１ａは化学研磨液で研磨され、化学研磨液は凹部１ｃ内にも入り、凹部の表面の化学研磨が開始する。そして、化学研磨液とガラスとが反応してゲル状のフッ化物ｆが発生する。従来の化学研磨液はフッ酸やフッ化アンモニウムの濃度が高く、研磨力が大きいので、フッ化物も多く発生する。発生したフッ化物ｆは、凹部１ｃの内部と凹部１ｃのエッジに集中する。フッ化物ｆがあると、ガラスの研磨は鈍化するが、従来の化学研磨液は研磨力が大きく、凹部１ｃの内面では研磨がやや鈍化するが、進行し、凹部１ｃの深さと幅とが大きくなっていく。一方、凹部１ｃのエッジ部分には厚いフッ化物ｆの層ができ、フッ化物ｆに邪魔され研磨が鈍化し、周囲のガラス表面１ａの研磨の方が進行する。その結果、図４（ｃ）のように、凹部１ｃの周縁に突起１ｄが形成され、凹部１ｃの幅が大きくなり、深さも深くなってしまう。
【００４０】
図５は、本発明の例で、研磨力の小さい化学研磨液Ａとして、フッ酸８重量％、フッ化アンモニウム１０重量％で、塩酸、硫酸、硝酸、酢酸、リン酸等を含まず、残余は純水から構成されたものを使用した。化学研磨液の温度は４０℃とした。
【００４１】
図５（ａ）に示すように、第１のガラス基板１には、従来例と同様に凹部１ｃがある。化学研磨液は表面１ａを研磨し、化学研磨液が凹部１ｃ内に入り、凹部１ｃの表面も研磨するが、このとき生じたフッ化物ｆは、凹部１ｃ内に留まる。
【００４２】
すると、凹部１ｃの底面を研磨するのを、フッ化物ｆが阻害する。本発明の化学研磨液は、フッ酸やフッ化アンモニウムの濃度が従来より低いので、化学研磨液の研磨力よりフッ化物ｆによる研磨抑制力の方が強くなり、凹部１ｃの底面は殆ど研磨されず、深くならない。一方、表面１ａの研磨の方は進行するので、凹部１ｃは、図５（ｃ）に示すように浅くなり、最終的には、図５（ｄ）に示すように、ごく浅い窪み１ｃとなる。すなわち、第１のガラス基板１の表面は、凹凸が小さくなり、平坦に近づくことになる。
【００４３】
なお、図４、図５で第１のガラス基板１を例示したが、第２のガラス基板２でも同じであることは言うまでもない。また、凹部１ｃとして傷に起因するものを例示したが、それ以外の例えば気泡による凹部でも同様である。
【００４４】
図４、５から、フッ酸やフッ化アンモニウムの濃度の濃い化学研磨液では、研磨力が強すぎて、却って平坦にならなくなり、逆に、フッ酸やフッ化アンモニウムの濃度が薄いと、研磨力が低すぎて研磨に時間が掛かることになる、ということが分かった。
【００４５】
本願の発明者は、さらに、鋭意努力した結果、研磨力の小さい化学研磨液Ａとしては、フッ酸の濃度は、５〜１０重量％、フッ化アンモニウムの濃度は、５〜１３重量％の範囲であればよいことが分かった。そして、より望ましい範囲としては、フッ酸が、７〜９重量％、フッ化アンモニウムが、９〜１１重量％の範囲である。いずれの場合も、残余の部分は水で、純水を使用した。
【００４６】
従来の化学研磨液を用いるガラス研磨によれば、ガラス基板表面に微小な傷が存在するとその傷が拡大され、液晶表示パネルとしての機能が損なわれてしまう。従って、使用する化学研磨液には、傷の拡大抑制が可能であるばかりでなく、ガラス基板表面全体の平坦性を維持可能な特性を有することが望まれる。そして、当然のことながら、シール材のシール性能に悪影響を及ぼさないことは言うまでもない。
【００４７】
第１の液槽２１内で第１研磨がされ、ガラス基板１、２の表面が３０μｍ程度研磨されたら、ガラス基板１、２の表面の傷は殆ど平坦化されるので、第１研磨を終了する。ガラス基板対１０は第１の液槽２１から引き上げられてリンス用の液槽２２に入れられ、純粋で洗浄される。この洗浄によって、化学研磨液Ａと、化学研磨により生じたフッ化物ｆが洗い流される。
【００４８】
洗浄が終わると、ガラス基板対１０は第２の液槽２３に入れられ、化学研磨液Ｂに浸漬され、工程１０５の薄板化第２研磨が開始される。化学研磨液Ｂは、前述した組成で、通常の研磨力を備えており、従来と同じ速度でガラス基板１、２の表面を研磨し、薄板化する。化学研磨液Ｂの温度は、加熱冷却装置２３ａにより４０℃に保持され、撹拌装置２３ｂにより化学研磨液Ｂを撹拌しながら研磨が進行する。化学研磨液Ｂは、前述した組成で、研磨力が大きいが、薄板化第１研磨でガラス基板１の凹凸が小さくなっているので、このままの平坦な状態を保持して化学研磨が行われる。
【００４９】
薄板化第２研磨によってガラス基板１の厚さが所望の厚さに達したら、第２研磨を終える。ガラス基板対１０は、引き上げられて仕上げ用の液槽２４内で純水によって洗浄される。
【００５０】
その後の１０６工程は、貼り合わされた一対のマザーガラス基板を、図２の中央に示す製品シール５と５の中間で切断し、所定の表示領域を有する１つずつの液晶表示パネル７にするための個片化切断工程である。ガラス基板の切断には、カッターホイールを用いたスクライブ切断方法とガラス基板を分断するためのブレーク切断方法とを組合せて行った。
【００５１】
１０７工程では上記した製品シール５で囲まれた領域に液晶を封入した後、封入口を封止する。
【００５２】
最後に、１０８工程は上記した液晶表示パネル基板の表面に偏光板を貼る工程であり、これによって液晶表示パネル１０が完成する。
【００５３】
ところで、上記した液晶表示パネルの製造工程ではマザーガラスの状態で貼り合わせた一対のガラス基板（１または２）をマザーガラスの状態で薄板化研磨を行った。しかしながら、予め製品シール５で囲まれた領域に滴下方式で液晶を封入し、１０６工程と１０４工程との順序を入れ替えて、所定の大きさの液晶表示パネルに個片化切断した後、少なくとも一方のガラス基板の表面に対して薄板化研磨を行っても良い。
【００５４】
図６は、従来の化学研磨液Ｂと、第１の化学研磨液Ａ（フッ酸８重量％、フッ化アンモニウム１０重量％）による研磨の比較をした実験例である。テストピースとなるガラス基板に、マイクロビッカース硬度計の四角錐をしたダイヤモンド圧子を、２Ｎ、３Ｎ、５Ｎの３通りの荷重により押しつけて凹部１ｃを人為的に形成した。縦軸は凹部の直径（四角なので、対角線の長さ）、横軸は圧子の加重である。図６において、四角の点は、ダイヤモンド圧子による凹部の径（対角線の長さ）である。三角の点は上記の従来の化学研磨液で、丸は上記の本発明の化学研磨液の場合である。
【００５５】
図６によれば、本発明の化学研磨液は、従来の化学研磨液に比べて凹部の直径が５μｍ小さくなっている。また、従来の化学研磨液では、ダイヤモンド圧子で形成した凹部より直径が大きくなっているのに対し、本発明の化学研磨液では、ダイヤモンド圧子で形成した凹部より研磨後の直径の方が小さくなっていることが分かる。
【図面の簡単な説明】
【００５６】
【図１】本発明の実施の形態を説明する液晶表示パネルの製造工程を示すフローチャートである。
【図２】第１と第２のガラス基板を貼り合わせ、複数の液晶表示パネルを形成した状態の断面を模式的に示した図である。
【図３】第１研磨と第２研磨工程を行う研磨装置の構成を模式的に示す図である。
【図４】従来の化学研磨液によるガラス基板の第１研磨の状態を説明する図である。
【図５】本発明の化学研磨液によるガラス基板の第１研磨の状態を説明する図である。
【図６】従来の化学研磨液と、本発明の化学研磨とによる凹部の研磨状態を示す線図である。
【符号の説明】
【００５７】
１    第１のガラス基板
１ｃ  凹部
１ｄ  突起
２    第２のガラス基板
３    薄膜トランジスタ素子
５    製品シール
６    空間
７    液晶表示パネル
１０  ガラス基板対
２１  第１の液槽
２３  第２の液槽
Ａ    研磨力の小さい化学研磨液
Ｂ    研磨力の大きい化学研磨液
【図１】
2010138000.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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