(57)【要約】【課題】簡素な工程により、視野角特性を向上させることができる表示装置の製造方法および表示装置を提供する。【解決手段】第１電極１３に、反射膜１３Ａの上に透明導電膜１３Ｂを積層した第１領域４１と、第１領域４１から連続した反射膜１３Ａのみを有する第２領域４２とを形成する。第１領域４１における光学的距離Ｌ１、第２領域４２における光学的距離Ｌ２、および透明導電膜１３Ｂの光学的厚みＴが、Ｌ１＝Ｌave ＋ΔＬ、Ｌ２＝Ｌave −ΔＬ、（２Ｌave ）／λ＋Φ／（２π）＝ｍ、Ｔ＝２ΔＬを満たすようにする。反射膜１３Ａの上に透明導電膜１３Ｂを形成し、透明導電膜１３Ｂの一部領域の厚み方向の全部を除去することにより、第２領域４２を形成する。一つの素子内で透明導電膜の厚みを変更する必要をなくし、簡単な工程により光学的距離Ｌ１，Ｌ２を異ならせ、視野角特性を向上させる。【選択図】図５
2010062067.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板に複数の有機発光素子を形成する表示装置の製造方法であって、
前記複数の有機発光素子の各々を形成する工程は、
反射膜の上に透明導電膜を積層した第１領域と、前記第１領域から連続した反射膜のみを有する第２領域とを含む第１電極を形成する工程と、
前記第１電極の上に、発光層を含む複数の層よりなる有機層を形成する工程と、
前記有機層の上に第２電極を形成すると共に、前記発光層で発生した光を前記反射膜と前記第２電極との間で共振させる共振器構造を形成する工程と
を含み、
前記第１電極を形成する工程は、
前記反射膜を形成する工程と、
前記反射膜の上に前記透明導電膜を形成する工程と、
前記透明導電膜の一部領域の厚み方向の全部を除去することにより、前記第２領域を形成する工程と
を含み、
前記第１領域における前記反射膜と前記第２電極との間の光学的距離Ｌ１、前記第２領域における前記反射膜と前記第２電極との間の光学的距離Ｌ２、および前記透明導電膜の光学的厚みＴが数１を満たすようにする
表示装置の製造方法。
（数１）
Ｌ１＝Ｌave ＋ΔＬ
Ｌ２＝Ｌave −ΔＬ
（２Ｌave ）／λ＋Φ／（２π）＝ｍ
Ｔ＝２ΔＬ
（式中、Ｌave は第１領域２１における光学的距離Ｌ１と第２領域２２における光学的距離Ｌ２との平均光学的距離、Φは前記反射膜で生じる反射光の位相シフトΦ1 と前記第２電極で生じる反射光の位相シフトΦ2 との和（Φ＝Φ1 ＋Φ2 ）（ｒａｄ）、λは前記第２電極の側から取り出したい光のスペクトルのピーク波長、ｍはＬave が正となる整数をそれぞれ表す。なお、数１においてＬ１，Ｌ２，Ｌave およびλは単位が共通すればよいが、例えば（ｎｍ）を単位とする。）
【請求項２】
前記反射膜を、アルミニウムを主成分とし、少なくとも一種のランタノイド系元素を添加した合金により構成する
請求項１記載の表示装置の製造方法。
【請求項３】
前記透明導電膜をＩＴＯ（インジウム・スズ複合酸化物）により構成し、
前記透明導電膜の一部領域の厚み方向の全部を除去する工程を、シュウ酸を含むエッチング液を用いたウェットエッチングにより行う
請求項２記載の表示装置の製造方法。
【請求項４】
前記有機層のうち前記第１電極に接する層を、化１に示す材料により構成する
請求項１ないし３のいずれか１項に記載の表示装置の製造方法。
【化１】
2010062067.tif 000006
（化１において、Ｒ１〜Ｒ６それぞれ独立に、水素、ハロゲン、ヒドロキシル基、アミノ基、アリールアミノ基、炭素数２０以下の置換あるいは無置換のカルボニル基、炭素数２０以下の置換あるいは無置換のカルボニルエステル基、炭素数２０以下の置換あるいは無置換のアルキル基、炭素数２０以下の置換あるいは無置換のアルケニル基、炭素数２０以下の置換あるいは無置換のアルコキシル基、炭素数３０以下の置換あるいは無置換のアリール基、炭素数３０以下の置換あるいは無置換の複素環基、ニトリル基、シアノ基、ニトロ基、またはシリル基から選ばれる置換基であり、隣接するＲｍ（ｍ＝１〜６）は環状構造を通じて互いに結合してもよい。また、Ｘ１〜Ｘ６はそれぞれ独立に炭素もしくは窒素原子である。）
【請求項５】
前記有機層を形成する工程の直前に、窒素プラズマ処理を行う
請求項１ないし４のいずれか１項に記載の表示装置の製造方法。
【請求項６】
前記第１電極を形成する工程は、前記第２領域を形成する工程ののち、前記第１電極の形成予定領域以外の前記反射膜および前記透明導電膜を、リン酸，硝酸および酢酸を含むエッチング液を用いたウェットエッチングにより一括して除去する工程を含む
請求項３ないし５のいずれか１項に記載の表示装置の製造方法。
【請求項７】
前記第１電極を形成する工程は、前記反射膜を形成する工程ののち、前記透明導電膜を形成する工程の前に、前記第１電極の形成予定領域以外の前記反射膜を、リン酸，硝酸および酢酸を含むエッチング液を用いたウェットエッチングにより除去する工程を含む
請求項３ないし５のいずれか１項に記載の表示装置の製造方法。
【請求項８】
基板に複数の有機発光素子を備えた表示装置であって、
前記複数の有機発光素子の各々は、
反射膜の上に透明導電膜を積層した第１領域と、前記第１領域から連続した反射膜のみを有する第２領域とを含む第１電極と、
前記第１電極の上に形成され、発光層を含む複数の層よりなる有機層と、
前記有機層の上に形成された第２電極と
を備えると共に、前記発光層で発生した光を前記反射膜と前記第２電極との間で共振させる共振器構造を有し、
前記第１領域における前記反射膜と前記第２電極との間の光学的距離Ｌ１、前記第２領域における前記反射膜と前記第２電極との間の光学的距離Ｌ２、および前記透明導電膜の光学的厚みＴが数２を満たす
表示装置。
（数２）
Ｌ１＝Ｌave ＋ΔＬ
Ｌ２＝Ｌave −ΔＬ
（２Ｌave ）／λ＋Φ／（２π）＝ｍ
Ｔ＝２ΔＬ
（式中、Ｌave は第１領域２１における光学的距離Ｌ１と第２領域２２における光学的距離Ｌ２との平均光学的距離、Φは前記反射膜で生じる反射光の位相シフトΦ1 と前記第２電極で生じる反射光の位相シフトΦ2 との和（Φ＝Φ1 ＋Φ2 ）（ｒａｄ）、λは前記第２電極の側から取り出したい光のスペクトルのピーク波長、ｍはＬave が正となる整数をそれぞれ表す。なお、数２においてＬ１，Ｌ２，Ｌave およびλは単位が共通すればよいが、例えば（ｎｍ）を単位とする。）
【請求項９】
前記反射膜は、アルミニウムを主成分とし、少なくとも一種のランタノイド系元素を添加した合金により構成されている
請求項８記載の表示装置。
【請求項１０】
前記透明導電膜はＩＴＯ（インジウム・スズ複合酸化物）により構成されている
請求項９記載の表示装置。
【請求項１１】
前記有機層のうち前記第１電極に接する層は、化２に示す材料により構成されている
請求項８ないし１０のいずれか１項に記載の表示装置。
【化２】
2010062067.tif 000007
（化２において、Ｒ１〜Ｒ６それぞれ独立に、水素、ハロゲン、ヒドロキシル基、アミノ基、アリールアミノ基、炭素数２０以下の置換あるいは無置換のカルボニル基、炭素数２０以下の置換あるいは無置換のカルボニルエステル基、炭素数２０以下の置換あるいは無置換のアルキル基、炭素数２０以下の置換あるいは無置換のアルケニル基、炭素数２０以下の置換あるいは無置換のアルコキシル基、炭素数３０以下の置換あるいは無置換のアリール基、炭素数３０以下の置換あるいは無置換の複素環基、ニトリル基、シアノ基、ニトロ基、またはシリル基から選ばれる置換基であり、隣接するＲｍ（ｍ＝１〜６）は環状構造を通じて互いに結合してもよい。また、Ｘ１〜Ｘ６はそれぞれ独立に炭素もしくは窒素原子である。）
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板に複数の有機発光素子を形成する表示装置の製造方法および表示装置に係り、特に共振器構造を有する表示装置の製造方法および表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶ディスプレイに代わる表示装置として、有機発光素子を用いた有機ＥＬディスプレイが実用化されている。有機ＥＬディスプレイは、自発光型であるので、液晶などに比較して視野角が広く、また、高精細度の高速ビデオ信号に対しても十分な応答性を有するものと考えられている。
【０００３】
これまで、有機発光素子については、共振器構造を導入することによって、発光色の色純度を向上させたり、発光効率を高めるなど、発光層で発生する光を制御する試みが行われてきた（例えば、特許文献１参照）。
【特許文献１】国際公開第０１／３９５５４号パンフレット
【特許文献２】特開２００６−３２３２７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、このように有機発光素子に共振器構造を設けると、共振された光のスペクトルはピークが高く幅が狭いので、表示画面に対して正面方向の光取り出し効率が向上する一方、画面を斜めから見た場合には発光波長が大きくシフトしたり発光強度が低下するという問題があった。すなわち、従来では、画面を視る角度により輝度の差異や色ずれが生じ、視野角特性の悪化や画像品位の低下などを招いてしまうという問題があった。
【０００５】
なお、特許文献２では、金属反射膜と透明導電膜との積層電極を用い、透明導電膜の厚みを変えることにより一つの素子内で光学的距離の異なる複数の共振器構造を設けることが提案されている。しかしながら、特許文献２の構造では、透明導電膜が必須となることに加えて一つの素子内で透明導電膜の厚みを変更する必要があり、そのための成膜およびパターニング工程が増加し、製造コストが上昇してしまうという問題があった。
【０００６】
本発明はかかる問題点に鑑みてなされたもので、その目的は、簡素な工程により、視野角特性を向上させることができる表示装置の製造方法および表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明による表示装置の製造方法は、基板に複数の有機発光素子を形成するものであって、複数の有機発光素子の各々を形成する工程は、反射膜の上に透明導電膜を積層した第１領域と、第１領域から連続した反射膜のみを有する第２領域とを含む第１電極を形成する工程と、第１電極の上に、発光層を含む複数の層よりなる有機層を形成する工程と、有機層の上に第２電極を形成すると共に、発光層で発生した光を反射膜と第２電極との間で共振させる共振器構造を形成する工程とを含み、第１電極を形成する工程は、反射膜を形成する工程と、反射膜の上に透明導電膜を形成する工程と、透明導電膜の一部領域の厚み方向の全部を除去することにより、第２領域を形成する工程とを含み、第１領域における反射膜と第２電極との間の光学的距離Ｌ１、第２領域における反射膜と第２電極との間の光学的距離Ｌ２、および透明導電膜の光学的厚みＴが数１を満たすようにするものである。
（数１）
Ｌ１＝Ｌave ＋ΔＬ
Ｌ２＝Ｌave −ΔＬ
（２Ｌave ）／λ＋Φ／（２π）＝ｍ
Ｔ＝２ΔＬ
（式中、Ｌave は第１領域２１における光学的距離Ｌ１と第２領域２２における光学的距離Ｌ２との平均光学的距離、Φは反射膜で生じる反射光の位相シフトΦ1 と第２電極で生じる反射光の位相シフトΦ2 との和（Φ＝Φ1 ＋Φ2 ）（ｒａｄ）、λは第２電極の側から取り出したい光のスペクトルのピーク波長、ｍはＬave が正となる整数をそれぞれ表す。なお、数１においてＬ１，Ｌ２，Ｌave およびλは単位が共通すればよいが、例えば（ｎｍ）を単位とする。）
【０００８】
本発明による表示装置は、基板に複数の有機発光素子を備えたものであって、複数の有機発光素子の各々は、反射膜の上に透明導電膜を積層した第１領域と、第１領域から連続した反射膜のみを有する第２領域とを含む第１電極と、第１電極の上に形成され、発光層を含む複数の層よりなる有機層と、有機層の上に形成された第２電極とを備えると共に、発光層で発生した光を反射膜と第２電極との間で共振させる共振器構造を有し、第１領域における反射膜と第２電極との間の光学的距離Ｌ１、第２領域における反射膜と第２電極との間の光学的距離Ｌ２、および透明導電膜の光学的厚みＴが数２を満たすものである。
（数２）
Ｌ１＝Ｌave ＋ΔＬ
Ｌ２＝Ｌave −ΔＬ
（２Ｌave ）／λ＋Φ／（２π）＝ｍ
Ｔ＝２ΔＬ
（式中、Ｌave は第１領域２１における光学的距離Ｌ１と第２領域２２における光学的距離Ｌ２との平均光学的距離、Φは前記反射膜で生じる反射光の位相シフトΦ1 と前記第２電極で生じる反射光の位相シフトΦ2 との和（Φ＝Φ1 ＋Φ2 ）（ｒａｄ）、λは前記第２電極の側から取り出したい光のスペクトルのピーク波長、ｍはＬave が正となる整数をそれぞれ表す。なお、数２においてＬ１，Ｌ２，Ｌave およびλは単位が共通すればよいが、例えば（ｎｍ）を単位とする。）
【０００９】
本発明による表示装置では、第１電極が、反射膜の上に透明導電膜を積層した第１領域と、第１領域から連続した反射膜のみを有する第２領域とを含んでおり、第１領域における反射膜と第２電極との間の光学的距離Ｌ１、第２領域における反射膜と第２電極との間の光学的距離Ｌ２、および透明導電膜の光学的厚みＴが数２を満たしているので、取り出される光のスペクトルのピーク波長が光学的距離Ｌ１，Ｌ２に応じて異なっており、それらを合成したスペクトルの半値幅が広くなり、視野角特性が向上する。
【発明の効果】
【００１０】
本発明の表示装置の製造方法によれば、反射膜の上に透明導電膜を積層した第１領域と、この第１領域から連続した反射膜のみを有する第２領域とを含む第１電極を形成する工程において、反射膜の上に透明導電膜を形成し、この透明導電膜の一部領域の厚み方向の全部を除去することにより、第２領域を形成するようにしたので、一つの素子内で透明導電膜の厚みを変更する必要をなくすことができ、そのための成膜およびパターニング工程の増加を抑えることができる。よって、簡単な工程により第１領域および第２領域の光学的距離Ｌ１，Ｌ２を異ならせることができ、視野角特性の向上した表示装置を容易に製造することが可能となる。
【００１１】
本発明の表示装置によれば、第１電極が、反射膜の上に透明導電膜を積層した第１領域と、第１領域から連続した反射膜のみを有する第２領域とを含むようにすると共に、第１領域における反射膜と第２電極との間の光学的距離Ｌ１、第２領域における反射膜と第２電極との間の光学的距離Ｌ２、および透明導電膜の光学的厚みＴが数２を満たすように調整するようにしたので、取り出される光のスペクトルのピーク波長を光学的距離Ｌ１，Ｌ２に応じて異ならせ、それらを合成したスペクトルの半値幅を広くすることができ、視野角特性を向上させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。
【００１３】
図１は、本発明の一実施の形態に係る有機発光素子を用いた表示装置の構成を表すものである。この表示装置は、極薄型の有機発光カラーディスプレイ装置などとして用いられるものであり、例えば、ガラス，シリコン（Ｓｉ）ウェハあるいは樹脂などよりなる基板１１の上に、後述する複数の有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂがマトリクス状に配置されてなる表示領域１１０が形成されると共に、この表示領域１１０の周辺に、映像表示用のドライバである信号線駆動回路１２０および走査線駆動回路１３０が形成されたものである。
【００１４】
表示領域１１０内には画素駆動回路１４０が形成されている。図２は、画素駆動回路１４０の一例を表したものである。この画素駆動回路１４０は、後述する第１電極１５の下層に形成され、駆動トランジスタＴｒ１および書き込みトランジスタＴｒ２と、その間のキャパシタ（保持容量）Ｃｓと、第１の電源ライン（Ｖｃｃ）および第２の電源ライン（ＧＮＤ）の間において駆動トランジスタＴｒ１に直列に接続された有機発光素子１０Ｒ（または１０Ｇ，１０Ｂ）とを有するアクティブ型の駆動回路である。駆動トランジスタＴｒ１および書き込みトランジスタＴｒ２は、一般的な薄膜トランジスタ（ＴＦＴ（Thin Film Transistor））により構成され、その構成は例えば逆スタガー構造（いわゆるボトムゲート型）でもよいしスタガー構造（トップゲート型）でもよく特に限定されない。
【００１５】
画素駆動回路１４０において、列方向には信号線１２０Ａが複数配置され、行方向には走査線１３０Ａが複数配置されている。各信号線１２０Ａと各走査線１３０Ａとの交差点が、有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂのいずれか一つ（サブピクセル）に対応している。各信号線１２０Ａは、信号線駆動回路１２０に接続され、この信号線駆動回路１２０から信号線１２０Ａを介して書き込みトランジスタＴｒ２のソース電極に画像信号が供給されるようになっている。各走査線１３０Ａは走査線駆動回路１３０に接続され、この走査線駆動回路１３０から走査線１３０Ａを介して書き込みトランジスタＴｒ２のゲート電極に走査信号が順次供給されるようになっている。
【００１６】
図３は、表示領域１１０の平面構成の一例を表したものである。表示領域１１０には、赤色の光を発生する有機発光素子１０Ｒと、緑色の光を発生する有機発光素子１０Ｇと、青色の光を発生する有機発光素子１０Ｂとが、順に全体としてマトリクス状に形成されている。なお、隣り合う有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの組み合わせが一つの画素（ピクセル）１０を構成している。
【００１７】
図４は図３に示した有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの平面構成を表し、図５はそれらに共通の断面構成を表すものである。有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂは、それぞれ、基板１１の側から、上述した画素駆動回路１４０の駆動トランジスタＴｒ１および平坦化絶縁膜１２を間にして、陽極としての第１電極１３、絶縁膜１４、発光層１５Ｃを含む有機層１５、および陰極としての第２電極１６がこの順に積層された構成を有している。
【００１８】
駆動トランジスタＴｒ１は、平坦化絶縁膜１２に設けられた接続孔１２Ａを介して第１電極１３に電気的に接続されている。平坦化絶縁膜１２は、画素駆動回路１４０が形成された基板１１の表面を平坦化するためのものであり、微細な接続孔１２Ａが形成されるためパターン精度が良い材料により構成されていることが好ましい。平坦化絶縁膜１２の構成材料としては、例えば、ポリイミド等の有機材料、あるいは酸化シリコン（ＳｉＯ2 ）などの無機材料が挙げられる。
【００１９】
このような有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂは、窒化ケイ素（ＳｉＮx ）などの保護膜１７により被覆され、更にこの保護膜１７上に、熱硬化型樹脂または紫外線硬化型樹脂などよりなる接着層３０を間にして、ガラスなどよりなる封止用基板２０が全面にわたって貼り合わされることにより封止されている。
【００２０】
第１電極１３は、各有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂごとにパターニングされていると共に、平面形状において例えば左部の第１領域４１と右部の第２領域４２とに分けられている。第１電極１３は、第１領域４１では、反射膜１３Ａの上に透明導電膜１３Ｂを積層した構成を有している。一方、第２領域４２では、第１電極１３は、第１領域２１から連続した反射膜１３Ａのみを有している。
【００２１】
反射膜１３Ａは、できるだけ高い反射率を有するようにすることが発光効率を高める上で望ましい。反射膜１３Ａは、例えば積層方向の厚み（以下、単に厚みと言う）が１００ｎｍ以上１０００ｎｍ以下であり、アルミニウム（Ａｌ）あるいはアルミニウム（Ａｌ）を含む合金，銀（Ａｇ）あるいは銀（Ａｇ）を含む合金，またはモリブデン（Ｍｏ）により構成されている。
【００２２】
特に、反射膜１３Ａは、アルミニウム（Ａｌ）を主成分とし、少なくとも一種のランタノイド系元素を添加した合金により構成されていることが好ましい。具体的には、アルミニウム（Ａｌ）を主成分とし、ネオジム（Ｎｄ）またはニッケル（Ｎｉ）を添加した合金が好ましい。反射膜１３Ａを、アルミニウム（Ａｌ）を主成分とした合金により構成した場合に、ヒロックといわれる表面の微小異物等の欠陥を抑制することができるからである。ランタノイド系元素の添加濃度は例えば０．１％〜５％の範囲が好ましい。ただし、ランタノイド系元素の含有量が多くなると高抵抗になるので、２％程度の含有量とすることが好ましい。
【００２３】
透明導電膜１３Ｂは、第１領域４１のみに設けられ、反射膜１３Ａと共に第１電極１３を構成するものである。透明導電膜１３Ｂは、例えば、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）またはインジウムと亜鉛（Ｚｎ）と酸素とを含む化合物により構成されている。
【００２４】
絶縁膜１４は、第１電極１３と第２電極１６との絶縁性を確保するとともに第１領域４１および第２領域４２からなる発光領域を正確に所望の形状にするためのものであり、例えば感光性樹脂により構成されている。絶縁膜１４には、発光領域に対応して開口部が設けられている。なお、有機層１５および第２電極１６は、第１領域４１および第２領域４２だけでなく絶縁膜１４の上にも連続して設けられているが、発光が生じるのは絶縁膜１４の開口部だけである。
【００２５】
有機層１５は、例えば、第１電極１３の側から順に、正孔注入層１５Ａ，正孔輸送層１５Ｂ，発光層１５Ｃおよび電子輸送層１５Ｄを積層した構成を有するが、これらのうち発光層１５Ｃ以外の層は必要に応じて設ければよい。また、有機層１５は、有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの発光色によってそれぞれ構成が異なっていてもよい。正孔注入層１５Ａは、正孔注入効率を高めるためのものであると共に、リークを防止するためのバッファ層である。正孔輸送層１５Ｂは、発光層１５Ｃへの正孔輸送効率を高めるためのものである。発光層１５Ｃは、電界をかけることにより電子と正孔との再結合が起こり、光を発生するものである。電子輸送層１５Ｄは、発光層１５Ｃへの電子輸送効率を高めるためのものである。なお、電子輸送層１５Ｄと第２電極１６との間には、ＬｉＦ，Ｌｉ2 Ｏなどよりなる電子注入層（図示せず）を設けてもよい。
【００２６】
有機発光素子１０Ｒの正孔注入層１５Ａは、第１電極１３に接して設けられており、化１に示した材料により構成されていることが好ましい。第１電極１３は、第１領域４１では反射膜１３Ａ上に透明導電膜１３Ｂを有する一方、第２領域４２では反射膜１３Ａのみを有している。このように電極構造の異なる第１領域４１および第２領域４２から、有機層１５へ効率的に正孔を注入することができるからである。なお、有機発光素子１０Ｒの正孔注入層１５Ａの厚みは、例えば５ｎｍ以上３００ｎｍ以下である。
【００２７】
【化１】
2010062067.tif 000003
（化１において、Ｒ１〜Ｒ６それぞれ独立に、水素、ハロゲン、ヒドロキシル基、アミノ基、アリールアミノ基、炭素数２０以下の置換あるいは無置換のカルボニル基、炭素数２０以下の置換あるいは無置換のカルボニルエステル基、炭素数２０以下の置換あるいは無置換のアルキル基、炭素数２０以下の置換あるいは無置換のアルケニル基、炭素数２０以下の置換あるいは無置換のアルコキシル基、炭素数３０以下の置換あるいは無置換のアリール基、炭素数３０以下の置換あるいは無置換の複素環基、ニトリル基、シアノ基、ニトロ基、またはシリル基から選ばれる置換基であり、隣接するＲｍ（ｍ＝１〜６）は環状構造を通じて互いに結合してもよい。また、Ｘ１〜Ｘ６はそれぞれ独立に炭素もしくは窒素原子である。）
【００２８】
具体的には、有機発光素子１０Ｒの正孔注入層１５Ａは、化２に示した材料により構成されていることが好ましい。反射膜１３Ａを、仕事関数の小さいアルミニウム（Ａｌ）またはアルミニウム（Ａｌ）を含む合金により構成し、透明導電膜１３Ｂを、それとは異なる仕事関数を有するＩＴＯにより構成した場合にも、十分かつ安定に正孔を注入することができるからである。
【００２９】
【化２】
2010062067.tif 000004
【００３０】
有機発光素子１０Ｒの正孔輸送層１５Ｂは、例えば、厚みが５ｎｍ以上３００ｎｍ以下であり、ビス［（Ｎ−ナフチル）−Ｎ−フェニル］ベンジジン（α−ＮＰＤ）により構成されている。有機発光素子１０Ｒの発光層１５Ｃは、例えば、厚みが１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下であり、８−キノリノールアルミニウム錯体（Ａｌｑ3 ）に２，６−ビス［４−［Ｎ−（４−メトキシフェニル）−Ｎ−フェニル］アミノスチリル］ナフタレン−１，５−ジカルボニトリル（ＢＳＮ−ＢＣＮ）を４０体積％混合したものにより構成されている。有機発光素子１０Ｒの電子輸送層１５Ｄは、例えば、厚みが５ｎｍ以上３００ｎｍ以下であり、Ａｌｑ3 により構成されている。
【００３１】
有機発光素子１０Ｇの正孔注入層１５Ａは、第１電極１３に接して設けられており、例えば、厚みが５ｎｍ以上３００ｎｍ以下であり、化１または化２に示した材料により構成されている。有機発光素子１０Ｇの正孔輸送層１５Ｂは、例えば、厚みが５ｎｍ以上３００ｎｍ以下であり、α−ＮＰＤにより構成されている。有機発光素子１０Ｇの発光層１５Ｃは、例えば、厚みが１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下であり、Ａｌｑ3 にクマリン６（Ｃｏｕｍａｒｉｎ６）を３体積％混合したものにより構成されている。有機発光素子１０Ｇの電子輸送層１５Ｄは、例えば、厚みが５ｎｍ以上３００ｎｍ以下であり、Ａｌｑ3 により構成されている。
【００３２】
有機発光素子１０Ｂの正孔注入層１５Ａは、第１電極１３に接して設けられており、例えば、厚みが５ｎｍ以上３００ｎｍ以下であり、化１または化２に示した材料により構成されている。有機発光素子１０Ｂの正孔輸送層１５Ｂは、例えば、厚みが５ｎｍ以上３００ｎｍ以下であり、α−ＮＰＤにより構成されている。有機発光素子１０Ｂの発光層１５Ｃは、例えば、厚みが１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下であり、スピロ６Φ（ｓｐｉｒｏ６Φ）により構成されている。有機発光素子１０Ｂの電子輸送層１５Ｄは、例えば、厚みが５ｎｍ以上３００ｎｍ以下であり、Ａｌｑ3 により構成されている。
【００３３】
第２電極１６は、例えば、厚みが５ｎｍ以上５０ｎｍ以下であり、アルミニウム（Ａｌ），マグネシウム（Ｍｇ），カルシウム（Ｃａ），ナトリウム（Ｎａ）などの金属元素の単体または合金により構成されている。中でも、マグネシウムと銀との合金（ＭｇＡｇ合金）、またはアルミニウム（Ａｌ）とリチウム（Ｌｉ）との合金（ＡｌＬｉ合金）が好ましい。
【００３４】
また、第２電極１６は、半透過性反射層としての機能を有しており、これら第１電極１３の反射膜１３Ａと第２電極１６とにより、発光層１５Ｃにおいて発生した光を共振させる共振器構造が構成されている。すなわち、この有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂは、第１電極１３の発光層１５Ｃ側の端面を第１端部Ｐ１、第２電極１６の発光層１５Ｃ側の端面を第２端部Ｐ２とし、透明導電膜１３Ｂおよび有機層１５を共振部として、発光層１５Ｃで発生した光を共振させて第２端部Ｐ２の側から取り出す共振器構造を有している。このように共振器構造を有するようにすれば、発光層１５Ｃで発生した光が多重干渉を起こし、一種の狭帯域フィルタとして作用することにより、取り出される光のスペクトルの半値幅が減少し、色純度を向上させることができる。また、封止用基板２０側から入射した外光についても多重干渉により減衰させることができ、後述するカラーフィルタ２２、または位相差板および偏光板（図示せず）との組合せにより有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂにおける外光の反射率を極めて小さくすることができる。
【００３５】
第１領域４１における共振器の第１端部Ｐ１と第２端部Ｐ２との間の光学的距離Ｌ１（以下、単に「第１領域４１における光学的距離Ｌ１」という。）と、第２領域４２における共振器の第１端部Ｐ１と第２端部Ｐ２との間の光学的距離Ｌ２（以下、単に「第２領域４２における光学的距離Ｌ２」という。）と、透明導電膜１３Ｂの光学的厚みＴとは数３を満たしている。これにより、この有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂでは、簡素な工程により、視野角特性を向上させることができるようになっている。
【００３６】
（数３）
Ｌ１＝Ｌave ＋ΔＬ
Ｌ２＝Ｌave −ΔＬ
（２Ｌave ）／λ＋Φ／（２π）＝ｍ
Ｔ＝２ΔＬ
（式中、Ｌave は第１領域４１における光学的距離Ｌ１と第２領域４２における光学的距離Ｌ２との平均光学的距離、Φは第１端部Ｐ１で生じる反射光の位相シフトΦ1 と第２端部Ｐ２で生じる反射光の位相シフトΦ2 との和（Φ＝Φ1 ＋Φ2 ）（ｒａｄ）、λは第２端部Ｐ２の側から取り出したい光のスペクトルのピーク波長、ｍはＬave が正となる整数をそれぞれ表す。なお、数１においてＬ１，Ｌ２，Ｌave およびλは単位が共通すればよいが、例えば（ｎｍ）を単位とする。）
【００３７】
数３において、平均光学的距離Ｌave に関する第３式は、共振器の共振波長（取り出される光のスペクトルのピーク波長）と、取り出したい光のスペクトルのピーク波長とを一致させ、光取り出し効率を最大とするためのものである。この平均光学的距離Ｌave は、実際には、数３の第３式のｍが０または１の場合が好ましい。
【００３８】
数３から分かるように、本実施の形態では、次数ｍを同一としても第１領域４１の光学的距離Ｌ１と第２領域４２の光学的距離Ｌ２とを互いに異ならせることができる。よって、例えばｍ＝１とすれば、有機層１５の厚みを厚くして非発光欠陥を低減することができ、生産性の向上と良好な視野角特性とを両立させることができる。これに対して、従来の特許文献２では、光学的距離に差を設けるために次数ｍを例えば０，１と異ならせるようにしていたので、ｍ＝０の領域ではｍ＝１の領域に比べて有機層の厚みが薄くなり、非発光欠陥などが増加しやすくなってしまっていた。また、ｍ＝０とｍ＝１との光学的距離の差（｜Ｌ２−Ｌ１｜）は、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）や有機層の厚みに換算すると青色で１２０ｎｍ程度と大きくなるので、次数ｍを同一にする場合に比べて透明導電膜１３Ｂの厚みが大きくなり、透明電極１３Ｂの表面の平滑性が損なわれ、正孔の注入性悪化による、駆動電圧上昇やＥＬ寿命悪化のおそれがある。更に、次数ｍを例えばｍ＝０，１というように、同一画素内で異なる値にすると、有機層１５はｍ＝０として設計するので、その膜厚は薄くなり、非発光欠陥の抑制能が低くなってしまう可能性がある。
【００３９】
数３の第１式および第２式におけるΔＬは、平均光学的距離Ｌave の５％以内であることが好ましく、２％以上５％以内であればより好ましい。５％より大きいと光取り出し効率が大幅に低減するおそれがあり、２％より小さいと十分な効果が得られないからである。
【００４０】
表１は、数３がｍ＝１のときに成り立つ条件で、ΔＬを変えた場合に、第１領域４１および第２領域４２の各々の共振器フィルタのスペクトルが合成されたときの、スペクトルの強度（ＥＬ強度）、そのスペクトルの半値幅（半値幅）、また、ΔＬを変更させた合成スペクトルにおいて、斜め４５°方向から観察した時に、有機膜の成膜ばらつきが最大４％発生したときの、視野角による色度ばらつき（Δｕ’ｖ’）を調べた結果を表したものである。ＥＬ強度および半値幅は、ΔＬ／Ｌave ＝０（第１領域４１における光学的距離Ｌ１と第２領域４２における光学的距離Ｌ２とを等しくした場合）のスペクトルを基準にした規格値とした。
【００４１】
【表１】
2010062067.tif 000005
【００４２】
表１の試算では、有機発光素子は、第１電極１３上に、厚み９５ｎｍの正孔注入層、厚み９５ｎｍの正孔輸送層、緑色の光を発生する厚み３０ｎｍの発光層、厚み３０ｎｍの電子輸送層、および厚み８ｎｍの第２電極を順に積層した構成をΔＬ／Ｌave ＝０で設計したものとし、第１領域４１と第２領域４２との面積比は１：１、取り出したい光のスペクトルのピーク波長λは５３０ｎｍとした。
【００４３】
表１から分かるように、平均光学的距離Ｌave に対してΔＬが大きくなると異なる発光波長を持つスペクトルが取り出され、合成されたスペクトルを観察することができる。これら合成スペクトルを観察した結果、ΔＬ／Ｌave が±５％以内である場合には、発光強度を落とすことなく半値幅を増大させることができた。ΔＬ／Ｌave が±５％より大きくなるとＥＬ強度が低下し、ＥＬ発光のロスが生じた。よって、光取り出しの観点からΔＬ／Ｌave を±５％以内とすることが好ましいことが分かった。一方、合成スペクトルの半値幅は、ΔＬ／Ｌave が大きくなるに従って増大する。
【００４４】
また、合成されたスペクトルを斜め４５°方向から、有機膜の成膜ばらつきが４％発生した時の色差を観察したところ、ΔＬ／Ｌave ＝±２％〜±５％の範囲で、視野角による色度ばらつきが軽減され、視野角性能の改善が可能であることが確認された。なお、有機膜のばらつきは代表的な有機ＥＬ向けの蒸着装置性能とし、色度ばらつきΔｕ’ｖ’が０．０２０以下であれば、視野角による色度の変化は視認できない領域となる。
【００４５】
なお、表１ではｍ＝１の場合について説明したが、ｍ＝０を含むその他のｍ値の場合についても同様の効果が得られる。
【００４６】
図５に示した封止用基板２０は、有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの第２電極１９の側に位置しており、接着層３０と共に有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂを封止するものであり、有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂで発生した光に対して透明なガラスなどの材料により構成されている。封止用基板２０には、例えば、カラーフィルタ２１が設けられており、有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂで発生した光を取り出すと共に、有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂ並びにその間の配線において反射された外光を吸収し、コントラストを改善するようになっている。
【００４７】
カラーフィルタ２１は、封止用基板２０のどちら側の面に設けられてもよいが、有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの側に設けられることが好ましい。カラーフィルタ２１が表面に露出せず、接着層３０により保護することができるからである。また、発光層１５Ｃとカラーフィルタ２１との間の距離が狭くなることにより、発光層１５Ｃから出射した光が隣接する他の色のカラーフィルタ２１に入射して混色を生じることを避けることができるからである。カラーフィルタ２１は、赤色フィルタ，緑色フィルタおよび青色フィルタ（いずれも図示せず）を有しており、有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂに対応して順に配置されている。
【００４８】
赤色フィルタ，緑色フィルタおよび青色フィルタは、それぞれ例えば矩形形状で隙間なく形成されている。これら赤色フィルタ，緑色フィルタおよび青色フィルタは、顔料を混入した樹脂によりそれぞれ構成されており、顔料を選択することにより、目的とする赤，緑あるいは青の波長域における光透過率が高く、他の波長域における光透過率が低くなるように調整されている。
【００４９】
更に、カラーフィルタ２１における透過率の高い波長範囲と、共振器構造から取り出したい光のスペクトルのピーク波長λとは一致している。これにより、封止用基板２０から入射する外光のうち、取り出したい光のスペクトルのピーク波長λに等しい波長を有するもののみがカラーフィルタ２１を透過し、その他の波長の外光が有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂに侵入することが防止される。
【００５０】
この表示装置は、例えば次のようにして製造することができる。
【００５１】
図６ないし図８は、この表示装置の製造方法を工程順に表すものである。まず、図６（Ａ）に示したように、上述した材料よりなる基板１１の上に駆動トランジスタＴｒ１を含む画素駆動回路１４０を形成したのち、全面に感光性樹脂を塗布し、露光および現像することにより、平坦化絶縁膜１２および接続孔１２Ａを形成し、焼成する。
【００５２】
次いで、図６（Ｂ）に示したように、例えばスパッタ法により、上述したアルミニウム（Ａｌ）またはアルミニウム（Ａｌ）を含む合金よりなる反射膜１３Ａを形成する。
【００５３】
続いて、図７（Ａ）に示したように、例えばスパッタ法により、ＩＴＯよりなる透明導電膜１３Ｂを、数３を満たす光学的厚みＴで形成する。
【００５４】
そののち、図７（Ｂ）に示したように、透明導電膜１３Ｂの上にレジスト膜５１を形成し、このレジスト膜５１をマスクとして、例えばシュウ酸を含むエッチング液を用いたウェットエッチングにより、透明導電膜１３Ｂの一部領域の厚み方向の全部を除去することにより、第２領域４２を形成する。シュウ酸は、ＩＴＯをエッチングし、アルミニウム（Ａｌ）またはアルミニウム（Ａｌ）を含む合金をエッチングしないという選択性を有しているので、反射膜１３Ａに損傷を与えることなく、透明導電膜１３Ｂの一部領域の厚み方向の全部を除去することができる。
【００５５】
第２領域４２を形成したのち、図８（Ａ）に示したように、第１電極１３の形成予定領域以外の反射膜１３Ａおよび透明導電膜１３Ｂを、リン酸，硝酸および酢酸を含むエッチング液を用いたウェットエッチングにより、一括して除去する。これにより、第１領域４１および第２領域４２を有する第１電極１３を形成する。
【００５６】
第１電極１３を形成したのち、図８（Ｂ）に示したように、基板１１の全面にわたり感光性樹脂を塗布し、例えばフォトリソグラフィ法により第１領域４１および第２領域４２からなる発光領域に対応して開口部を設け、焼成することにより、絶縁膜１４を形成する。
【００５７】
第１電極１３および絶縁膜１４を形成したのち、有機層１５を形成する直前に、窒素プラズマ処理を行うことが好ましい。第１電極１３の反射膜１３Ａと透明導電膜１３Ｂという異なる二つの界面からの正孔注入障壁を低減し、第１領域４１の駆動電圧と第２領域４２の駆動電圧を同等レベルにすることができるからである。なお、通常は、有機層１５の成膜直前に真空中で酸素プラズマ処理を行う。正孔の注入障壁を低減、すなわち仕事関数等の調整を行い、駆動電圧を低減することができるからである。しかし、反射膜１３Ａをアルミニウム（Ａｌ）またはアルミニウム（Ａｌ）を含む合金により構成した場合には、大気中に放置されるだけで数ｎｍから数１０ｎｍ弱の自然酸化膜が形成され、従来のように酸素プラズマ処理を実施すると自然酸化膜が除去されることなく、酸素リッチ状態になり、第１領域４１（反射膜１３Ａ）の駆動電圧と第２領域４２（透明導電膜１３Ｂ）の駆動電圧とが乖離する現象が生じるからである。
【００５８】
更に、窒素プラズマ処理を行う前に、酸素プラズマ処理を行うことが好ましい。通常、酸素プラズマは仕事関数調整の目的のほかに、第１電極１３の表面に微量に残存する炭素系の不純物をアッシングする目的でも行われるが、窒素プラズマ処理では、炭素系不純物のアッシングができないからである。
【００５９】
そののち、例えば蒸着法により、上述した厚みおよび材料よりなる正孔注入層１５Ａ，正孔輸送層１５Ｂ，発光層１５Ｃ，電子輸送層１５Ｄおよび第２電極１６を順次成膜し、図５に示したような有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂを形成する。このとき、第１領域４１における光学的距離Ｌ１、および第２領域４２における光学的距離Ｌ２が数３を満たすようにする。続いて、有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの上に上述した材料よりなる保護膜１７を形成する。
【００６０】
また、例えば、上述した材料よりなる封止用基板２０の上に、赤色フィルタの材料をスピンコートなどにより塗布し、フォトリソグラフィ技術によりパターニングして焼成することにより赤色フィルタを形成する。続いて、赤色フィルタと同様にして、青色フィルタおよび緑色フィルタを順次形成する。
【００６１】
そののち、保護膜１７の上に、接着層３０を形成し、この接着層３０を間にして封止用基板２０を貼り合わせる。その際、封止用基板２０のカラーフィルタ２１を形成した面を、有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂ側にして配置することが好ましい。以上により、図３に示した表示装置が完成する。
【００６２】
また、この表示装置は、次のようにして製造することもできる。
【００６３】
まず、図６（Ａ）に示した工程により、上述した製造方法と同様にして、基板１１の上に画素駆動回路１４０，平坦化絶縁膜１２を形成する。
【００６４】
次いで、図６（Ｂ）に示した工程により、上述した製造方法と同様にして、反射膜１３Ａを形成する。
【００６５】
続いて、図９（Ａ）に示したように、第１電極１３の形成予定領域以外の反射膜１３Ａを、リン酸，硝酸および酢酸を含むエッチング液を用いたウェットエッチングにより除去する。
【００６６】
そののち、図９（Ｂ）に示したように、例えばスパッタ法により、ＩＴＯよりなる透明導電膜１３Ｂを形成する。
【００６７】
そののち、図１０に示したように、透明導電膜１３Ｂの上にレジスト膜５１を形成し、このレジスト膜５１をマスクとして、例えばシュウ酸を含むエッチング液を用いたウェットエッチングにより、透明導電膜１３Ｂの一部領域の厚み方向の全部を除去することにより、第２領域４２を形成する。シュウ酸は、上述したように、ＩＴＯをエッチングし、アルミニウム（Ａｌ）またはアルミニウム（Ａｌ）を含む合金をエッチングしないという選択性を有しているので、反射膜１３Ａに損傷を与えることなく、透明導電膜１３Ｂの一部領域の厚み方向の全部を除去することができる。これにより、第１領域４１および第２領域４２を有する第１電極１３を形成する。
【００６８】
第１電極１３を形成したのち、図８（Ｂ）に示した工程により、上述した製造方法と同様にして、絶縁膜１４を形成する。続いて、窒素プラズマ処理と、必要に応じて酸素プラズマ処理とを行ったのち、例えば蒸着法により、上述した厚みおよび材料よりなる正孔注入層１５Ａ，正孔輸送層１５Ｂ，発光層１５Ｃ，電子輸送層１５Ｄおよび第２電極１６を順次成膜し、図５に示したような有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂを形成する。続いて、有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの上に上述した材料よりなる保護膜１７を形成する。
【００６９】
そののち、保護膜１７の上に、接着層３０を形成し、この接着層３０を間にして封止用基板２０を貼り合わせる。その際、封止用基板２０のカラーフィルタ２１を形成した面を、有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂ側にして配置することが好ましい。以上により、図３に示した表示装置が完成する。
【００７０】
このようにして得られた表示装置では、各画素に対して走査線駆動回路１３０から書き込みトランジスタＴｒ２のゲート電極を介して走査信号が供給されると共に、信号線駆動回路１２０から画像信号が書き込みトランジスタＴｒ２を介して保持容量Ｃｓに保持される。すなわち、この保持容量Ｃｓに保持された信号に応じて駆動トランジスタＴｒ１がオンオフ制御され、これにより、各有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂに駆動電流Ｉｄが注入されることにより、正孔と電子とが再結合して発光が起こる。この光は、第１電極１３の反射膜１３Ａと第２電極１６との間で多重反射し、第２電極１６，カラーフィルタ２１および封止用基板２０を透過して取り出される。ここでは、第１電極１３が、反射膜１３Ａの上に透明導電膜１３Ｂを積層した第１領域４１と、第１領域４１から連続した反射膜１３Ａのみを有する第２領域４２とを含んでおり、第１領域における反射膜と第２電極との間の光学的距離Ｌ１、第２領域における反射膜と第２電極との間の光学的距離Ｌ２、および透明導電膜１３Ｂの光学的厚みＴが数３を満たしているので、取り出される光のスペクトルは第１領域４１と第２領域４２とではそのピーク波長が異なる。従って、各素子において取り出される光はそれらを合成したものとなり、そのスペクトルの半値幅が、従来の素子全体で光学的距離を同じとしたものに比べて広くなる、すなわち視野角特性が向上する。
【００７１】
このように本実施の形態の表示装置の製造方法では、反射膜１３Ａの上に透明導電膜１３Ｂを形成し、この透明導電膜１３Ｂの一部領域の厚み方向の全部を除去することにより、第２領域４２を形成するようにしたので、一つの素子内で透明導電膜の厚みを変更する必要をなくすことができ、そのための成膜およびパターニング工程の増加を抑えることができる。よって、簡単な工程により第１領域４１および第２領域４２の光学的距離Ｌ１，Ｌ２を異ならせることができ、視野角特性の向上した表示装置を容易に製造することが可能となる。
【００７２】
本実施の形態の表示装置では、第１電極１３が、反射膜１３Ａの上に透明導電膜１３Ｂを積層した第１領域４１と、第１領域４１から連続した反射膜１３Ａのみを有する第２領域４２とを含むようにすると共に、第１領域４１における光学的距離Ｌ１、第２領域４２における光学的距離Ｌ２、および透明導電膜１３Ｂの光学的厚みＴが数３を満たすようにしたので、第１領域４１および第２領域４２の各々から取り出される光のスペクトルのピーク波長を異ならせ、それらを合成したスペクトルの半値幅を広くすることができ、視野角特性を向上させることができる。また、従来のように透明導電膜の厚みを変えるための複雑なパターニング工程も不要であり、製造コストの点でも有利である。よって、簡素な構成および工程により高品質な有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂを備えた表示装置を実現することができる。
【００７３】
（モジュールおよび適用例）
以下、上述した実施の形態で説明した表示装置の適用例について説明する。上記実施の形態の表示装置は、テレビジョン装置，デジタルカメラ，ノート型パーソナルコンピュータ、携帯電話等の携帯端末装置あるいはビデオカメラなど、外部から入力された映像信号あるいは内部で生成した映像信号を、画像あるいは映像として表示するあらゆる分野の電子機器の表示装置に適用することが可能である。
【００７４】
（モジュール）
上記実施の形態の表示装置は、例えば、図１１に示したようなモジュールとして、後述する適用例１〜５などの種々の電子機器に組み込まれる。このモジュールは、例えば、基板１１の一辺に、封止用基板２０および接着層３０から露出した領域２１０を設け、この露出した領域２１０に、信号線駆動回路１２０および走査線駆動回路１３０の配線を延長して外部接続端子（図示せず）を形成したものである。外部接続端子には、信号の入出力のためのフレキシブルプリント配線基板（ＦＰＣ；Flexible Printed Circuit）２２０が設けられていてもよい。
【００７５】
（適用例１）
図１２は、上記実施の形態の表示装置が適用されるテレビジョン装置の外観を表したものである。このテレビジョン装置は、例えば、フロントパネル３１０およびフィルターガラス３２０を含む映像表示画面部３００を有しており、この映像表示画面部３００は、上記各実施の形態に係る表示装置により構成されている。
【００７６】
（適用例２）
図１３は、上記実施の形態の表示装置が適用されるデジタルカメラの外観を表したものである。このデジタルカメラは、例えば、フラッシュ用の発光部４１０、表示部４２０、メニュースイッチ４３０およびシャッターボタン４４０を有しており、その表示部４２０は、上記各実施の形態に係る表示装置により構成されている。
【００７７】
（適用例３）
図１４は、上記実施の形態の表示装置が適用されるノート型パーソナルコンピュータの外観を表したものである。このノート型パーソナルコンピュータは、例えば、本体５１０，文字等の入力操作のためのキーボード５２０および画像を表示する表示部５３０を有しており、その表示部５３０は、上記各実施の形態に係る表示装置により構成されている。
【００７８】
（適用例４）
図１５は、上記実施の形態の表示装置が適用されるビデオカメラの外観を表したものである。このビデオカメラは、例えば、本体部６１０，この本体部６１０の前方側面に設けられた被写体撮影用のレンズ６２０，撮影時のスタート／ストップスイッチ６３０および表示部６４０を有しており、その表示部６４０は、上記各実施の形態に係る表示装置により構成されている。
【００７９】
（適用例５）
図１６は、上記実施の形態の表示装置が適用される携帯電話機の外観を表したものである。この携帯電話機は、例えば、上側筐体７１０と下側筐体７２０とを連結部（ヒンジ部）７３０で連結したものであり、ディスプレイ７４０，サブディスプレイ７５０，ピクチャーライト７６０およびカメラ７７０を有している。そのディスプレイ７４０またはサブディスプレイ７５０は、上記各実施の形態に係る表示装置により構成されている。
【実施例】
【００８０】
更に、本発明の具体的な実施例について説明する。
【００８１】
（実施例１）
上記実施の形態の図６ないし図８に示した製造方法と同様にして表示装置を作製した。その際、有機層１５を形成する直前に、酸素プラズマ処理を行った。
【００８２】
（実施例２）
有機層１５を形成する直前に、窒素プラズマ処理を行ったことを除いては、実施例１と同様にして表示装置を作製した。
【００８３】
得られた実施例１，２の表示装置について、第１領域４１および第２領域４２のそれぞれの駆動電圧を調べた。その結果を以下に示す。
【００８４】
実施例１の駆動電圧
第２領域４２（ＩＴＯ）；４．１Ｖ（１０ｍＡ／ｃｍ2 ）
第１領域４１（アルミニウム合金）；４．９Ｖ（１０ｍＡ／ｃｍ2 ）
酸素プラズマ条件；Ｏ2 圧力２００Ｐａ、プラズマ処理密度０．１Ｗ／ｃｍ2 、処理時間２４０秒
なお、プラズマ処理密度は（ＲＦパワー／電極面積）により求めた。
【００８５】
実施例２の駆動電圧
第２領域４２（ＩＴＯ）；４．０Ｖ（１０ｍＡ／ｃｍ2 ）
第１領域４１（アルミニウム合金）；４．０Ｖ（１０ｍＡ／ｃｍ2 ）
窒素プラズマ条件；Ｎ2 圧力１６０Ｐａ、プラズマ処理密度０．２Ｗ／ｃｍ2 、処理時間２４０秒
【００８６】
以上の結果から分かるように、窒素プラズマ処理を行った実施例２では、第１領域４１と第２領域４２との駆動電圧の差が小さくなっていた。すなわち、有機層１５を形成する直前に窒素プラズマ処理を行うようにすれば、第１領域４１と第２領域４２とで駆動電圧を同等レベルにすることができることが分かった。
【００８７】
なお、得られた実施例１，２の表示装置について、発光効率および寿命についても調べたところ、実施例１，２間で特性変動は認められなかった。
【００８８】
以上、実施の形態および実施例を挙げて本発明を説明したが、本発明は上記実施の形態および実施例に限定されるものではなく、種々変形が可能である。例えば、上記実施の形態および実施例では、第１電極１３が、平面形状において右側半分の第１領域４１と左側半分の第２領域４２とに分けられている場合について説明したが、第１電極１３は、図１７に示したように、中央部の第１領域４１と左右部の第２領域２２とに分けられていてもよいし、図１８に示したように上側半分と下側半分とに分けられていてもよい。また、図１９に示したように斜めの境界線で分割されていてもよく、視認上問題ない範囲で選択可能である。
【００８９】
また、有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの第１電極１３は、第１領域４１および第２領域４２の二つに限らず、三つ以上の領域に分けられていてもよい。この場合、そのうちの少なくとも二つの領域において光学的距離が異なればよい。
【００９０】
更に、例えば、上記実施の形態および実施例において説明した各層の材料および厚み、または成膜方法および成膜条件などは限定されるものではなく、他の材料および厚みとしてもよく、または他の成膜方法および成膜条件としてもよい。例えば、上記実施の形態および実施例では、透明導電膜１３Ｂを、シュウ酸を含むエッチング液を用いたウェットエッチングによりパターニングして第２領域４２を形成する場合について説明したが、ドライエッチングを用いた場合も、エッチング時間のコントロール等により透明導電膜１３Ｂのみを選択的にエッチングすることも不可能ではない。ただし、ドライエッチングで選択性を出すことは非常に困難であり、実現性および製造プロセスコストを考慮すると、ウェットエッチングによる手法が好ましい。
【００９１】
加えて、例えば、上記実施の形態および実施例においては、基板１１の上に、第１電極１３，有機層１５および第２電極１６を基板１１の側から順で積層し、封止用基板２０の側から光を取り出すようにした場合について説明したが、積層順序を逆にして、基板１１の上に、第２電極１６，有機層１５および第１電極１３を基板１１の側から順に積層し、基板１１の側から光を取り出すようにすることもできる。
【００９２】
更にまた、例えば、上記実施の形態および実施例では、第１電極１３を陽極、第２電極１６を陰極とする場合について説明したが、陽極および陰極を逆にして、第１電極１３を陰極、第２電極１６を陽極としてもよい。さらに、第１電極１３を陰極、第２電極１６を陽極とすると共に、基板１１の上に、第２電極１６，有機層１５および第１電極１３を基板１１の側から順に積層し、基板１１の側から光を取り出すようにすることもできる。
【００９３】
加えてまた、上記実施の形態および実施例では、有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの構成を具体的に挙げて説明したが、全ての層を備える必要はなく、また、他の層を更に備えていてもよい。
【００９４】
更にまた、上記実施の形態および実施例では、第２電極１６が半透過性反射層により構成されている場合について説明したが、第２電極１６は、半透過性反射層と透明電極とが第１電極１３の側から順に積層された構造としてもよい。この透明電極は、半透過性反射層の電気抵抗を下げるためのものであり、発光層で発生した光に対して十分な透光性を有する導電性材料により構成されている。透明電極を構成する材料としては、例えば、ＩＴＯまたはインジウムと亜鉛（Ｚｎ）と酸素とを含む化合物が好ましい。室温で成膜しても良好な導電性を得ることができるからである。透明電極の厚みは、例えば３０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下とすることができる。また、この場合、半透過性反射層を一方の端部とし、透明電極を挟んで半透過性電極に対向する位置に他方の端部を設け、透明電極を共振部とする共振器構造を形成するようにしてもよい。さらに、そのような共振器構造を設けた上で、有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂを保護膜１７で覆うようにし、この保護膜１７を、透明電極を構成する材料と同程度の屈折率を有する材料により構成すれば、保護膜１７を共振部の一部とすることができ、好ましい。
【００９５】
加えてまた、本発明は、第２電極１６を透明電極により構成すると共に、この透明電極の有機層１６と反対側の端面の反射率が大きくなるように構成し、第１電極１３の発光層１５Ｃ側の端面を第１端部、透明電極の有機層と反対側の端面を第２端部とした共振器構造を構成した場合についても適用することができる。例えば、透明電極を大気層に接触させ、透明電極と大気層との境界面の反射率を大きくして、この境界面を第２端部としてもよい。また、接着層との境界面での反射率を大きくして、この境界面を第２端部としてもよい。さらに、有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂを保護膜１７で覆い、この保護膜１７との境界面での反射率を大きくして、この境界面を第２端部としてもよい。
【００９６】
更にまた、上記実施の形態および実施例では、アクティブマトリクス型の表示装置の場合について説明したが、本発明はパッシブマトリクス型の表示装置への適用も可能である。加えてまた、アクティブマトリクス駆動のための画素駆動回路の構成は、上記実施の形態および実施例で説明したものに限られず、必要に応じて容量素子やトランジスタを追加してもよい。その場合、画素駆動回路の変更に応じて、上述した信号線駆動回路１２０や走査線駆動回路１３０のほかに、必要な駆動回路を追加してもよい。
【図面の簡単な説明】
【００９７】
【図１】本発明の一実施の形態に係る表示装置の構成を表す図である。
【図２】図１に示した画素駆動回路の一例を表す図である。
【図３】図１に示した表示領域の構成を表す平面図である。
【図４】図３に示した有機発光素子の構成を表す平面図である。
【図５】図３に示した有機発光素子の構成を表す断面図である。
【図６】図１に示した表示装置の製造方法を工程順に表す断面図である。
【図７】図６に続く工程を表す断面図である。
【図８】図７に続く工程を表す断面図である。
【図９】図１に示した表示装置の他の製造方法を工程順に表す断面図である。
【図１０】図９に続く工程を表す断面図である。
【図１１】上記実施の形態の表示装置を含むモジュールの概略構成を表す平面図である。
【図１２】上記実施の形態の表示装置の適用例１の外観を表す斜視図である。
【図１３】（Ａ）は適用例２の表側から見た外観を表す斜視図であり、（Ｂ）は裏側から見た外観を表す斜視図である。
【図１４】適用例３の外観を表す斜視図である。
【図１５】適用例４の外観を表す斜視図である。
【図１６】（Ａ）は適用例５の開いた状態の正面図、（Ｂ）はその側面図、（Ｃ）は閉じた状態の正面図、（Ｄ）は左側面図、（Ｅ）は右側面図、（Ｆ）は上面図、（Ｇ）は下面図である。
【図１７】図４に示した有機発光素子の第１領域および第２領域の平面形状の他の例を表す平面図である。
【図１８】図４に示した有機発光素子の第１領域および第２領域の平面形状の更に他の例を表す平面図である。
【図１９】図４に示した有機発光素子の第１領域および第２領域の平面形状の更に他の例を表す平面図である。
【符号の説明】
【００９８】
１０…画素、１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂ…有機発光素子、１１…基板、１２…平坦化絶縁膜、１３…第１電極、１３Ａ…反射膜、１３Ｂ…透明導電膜、１４…絶縁膜、１５…有機層、１５Ａ…正孔注入層、１５Ｂ…正孔輸送層、１５Ｃ…発光層、１５Ｄ…電子輸送層、１６…第２電極、１７…保護膜、２０…封止用基板、２１…カラーフィルタ、３０…接着層、４１…第１領域、４２…第２領域、Ｐ１…第１端部、Ｐ２…第２端部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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