(57)【要約】【課題】膜形成区画に配置された液状体が隔壁に乗り上げることを抑制するとともに、液状体を固化させる際は、液状体が膜形成区画の全面に濡れ広がる膜形成方法、電気光学装置の製造方法、電気光学装置、及び電子機器を提供する。【解決手段】膜形成方法は、基材上の隔壁に囲まれて規定される膜形成区画に、膜の材料を含む液状体を配置して膜を形成する膜形成方法であって、液状体に対する濡れ性を変化させることが可能な濡れ性可変材料を少なくとも一部に用いて、隔壁を形成する隔壁形成工程と、膜形成区画に液状体を配置する液状体配置工程と、液状体が配置された状態で、隔壁を構成する濡れ性可変材料の液状体に対する濡れ性を変化させる濡れ性変化工程と、膜の材料を固化させて膜を形成する膜化工程とを有し、濡れ性変化工程では、液状体を配置する前よりも濡れ性可変材料の親液性を高くする。【選択図】図６
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材上の隔壁に囲まれて規定される膜形成区画に、膜の材料を含む液状体を配置して前記膜を形成する膜形成方法であって、
前記液状体に対する濡れ性を変化させることが可能な濡れ性可変材料を少なくとも一部に用いて、前記隔壁を形成する隔壁形成工程と、
前記膜形成区画に前記液状体を配置する液状体配置工程と、
前記液状体が配置された状態で、前記隔壁を構成する前記濡れ性可変材料の前記液状体に対する濡れ性を変化させる濡れ性変化工程と、
前記膜の材料を固化させて前記膜を形成する膜化工程と
を有し、
前記濡れ性変化工程では、前記液状体を配置する前よりも前記濡れ性可変材料の親液性を高くすることを特徴とする膜形成方法。
【請求項２】
前記隔壁形成工程は、前記隔壁の頂面の少なくとも一部を、前記液状体に対して撥液性を有する材料で形成する工程を有することを特徴とする、請求項１に記載の膜形成方法。
【請求項３】
前記隔壁形成工程において、前記濡れ性可変材料から成る隔壁層を含む１以上の隔壁層を積層して前記隔壁を形成することを特徴とする、請求項１又は２に記載の膜形成方法。
【請求項４】
前記隔壁形成工程は、第一の濡れ性可変材料から成る第一の隔壁層を形成する工程と、
前記第一の濡れ性可変材料とは濡れ性を変える方法が異なる第二の濡れ性可変材料から成る第二の隔壁層を形成する工程と、を有することを特徴とする、請求項３に記載の膜形成方法。
【請求項５】
前記隔壁形成工程は、
第一の隔壁膜を形成する工程と、
前記第一の隔壁膜の一部を取り除いて、前記膜形成区画を包含する大きさを有する拡大区画を形成する工程と、
前記拡大区画に、前記濡れ性可変材料からなる第二の隔壁膜を形成する工程と、
前記第二の隔壁膜の一部を取り除いて前記膜形成区画を形成する工程と、を有することを特徴とする、請求項１に記載の膜形成方法。
【請求項６】
前記濡れ性変化工程において、前記濡れ性可変材料に熱を加えることによって、濡れ性を変化させることを特徴とする、請求項１乃至５のいずれか一項に記載の膜形成方法。
【請求項７】
前記濡れ性変化工程において、前記濡れ性可変材料に光を照射することによって、濡れ性を変化させることを特徴とする、請求項１乃至５のいずれか一項に記載の膜形成方法。
【請求項８】
前記膜化工程において、前記液状体に熱を加えることによって、前記膜の材料を固化させることを特徴とする、請求項１乃至７のいずれか一項に記載の膜形成方法。
【請求項９】
前記膜化工程において、前記液状体に光を照射することによって、前記膜の材料を固化させることを特徴とする、請求項１乃至７のいずれか一項に記載の膜形成方法。
【請求項１０】
請求項１乃至９のいずれか一項に記載の膜形成方法を用いて、電気光学装置を構成する機能膜を形成することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１１】
請求項１乃至９のいずれか一項に記載の膜形成方法を用いて形成された機能膜を備えることを特徴とする電気光学装置。
【請求項１２】
請求項１０に記載の電気光学装置の製造方法を用いて製造した電気光学装置、又は請求項１１に記載の電気光学装置を備えることを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、膜形成領域に膜形成素材を配置して当該膜形成領域に膜を形成する膜形成方法、膜形成方法を用いる電気光学装置の製造方法、膜を備える電気光学装置、及び電気光学装置を備える電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、電気光学装置の一例であるカラー液晶装置のカラーフィルタ膜などの機能膜を形成する技術として、液状体を液滴として吐出する液滴吐出ヘッドを有する描画装置を用いて、機能膜の材料を含む液状体の液滴を吐出して基板上の任意の位置に着弾させることで、当該位置に液状体を配置（描画）し、配置した液状体を乾燥させて機能膜を形成する技術が知られている。
機能膜の好適な機能を実現するためには、規定の膜形状及び膜厚を実現することが必要である。基板上に、機能膜を形成する区画を囲む隔壁を形成することによって機能液が広がる領域を規定し、機能膜の形状を規定することで、正確な膜形状を実現することが行われている。
特許文献１には、隔壁として撥液性部を設ける、カラーフィルタ及びその製造方法が開示されている。当該カラーフィルタ及びその製造方法によれば、撥液性部によって区画された画素部に配置された画素部形成用インクは、撥液性部を乗越えて隣の画素部に侵入することがないため、画素部形成用インクが混じりあうことでフィルタ膜の色が損なわれることを抑制することができる。
【０００３】
しかし、隔壁全体が撥液性であるため、隔壁の側面からは画素部形成用インクが撥かれることに起因して、隔壁の際にはインクが充填され難くなるという課題が発生していた。隔壁の際にはインクが充填され難いことによって、形成される膜の平面形状が隔壁によって規定された正確な外形形状にならない可能性が高く、隔壁に近い外周部分の膜厚が薄くなる可能性が高い。これにより、フィルタ膜の平面形状及び断面形状が損なわれ、適切な機能が実現できない可能性が大きかった。
特許文献２には、バンク（隔壁）の頂部の撥液性を維持すると共に、側面を親液性にすることによって、バンク開口部（機能膜を形成する区画）の端にも機能液が均等に充填され、適切な平面形状と均一な膜厚とを有するフィルタ膜を形成することができるカラーフィルタの製造方法、液晶装置、電子機器が開示されている。
【０００４】
【特許文献１】特開２００１−２７２５２７号公報
【特許文献２】特開２００７−４７４４１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献２に開示された方法では、着弾した機能液が側面に充分なじむため、側面に続く頂部に乗り上げて着弾した機能液が、頂部からはじかれて滑り落ちることなく、僅かながら、頂部に付着する可能性があるという課題があった。同様に、バンク開口部（機能膜を形成する区画）の容積を超えて配置された機能液が、頂部の方まではみ出す可能性があるという課題があった。
カラーフィルタ膜などの機能膜を有し、当該膜から光を射出したり、光を透過させたりする電気光学素子においては、発光又は光の透過部の開口率の向上のために膜の間を隔てる隔壁を狭くする傾向がある。幅の狭い頂部に機能液が付着することによって、機能膜を形成する区画の間で膜の一部が結合する可能性があった。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、上記課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態又は適用例として実現することが可能である。
【０００７】
［適用例１］本適用例にかかる膜形成方法は、基材上の隔壁に囲まれて規定される膜形成区画に、膜の材料を含む液状体を配置して前記膜を形成する膜形成方法であって、前記液状体に対する濡れ性を変化させることが可能な濡れ性可変材料を少なくとも一部に用いて、前記隔壁を形成する隔壁形成工程と、前記膜形成区画に前記液状体を配置する液状体配置工程と、前記液状体が配置された状態で、前記隔壁を構成する前記濡れ性可変材料の前記液状体に対する濡れ性を変化させる濡れ性変化工程と、前記膜の材料を固化させて前記膜を形成する膜化工程とを有し、前記濡れ性変化工程では、前記液状体を配置する前よりも前記濡れ性可変材料の親液性を高くすることを特徴とする。
【０００８】
この膜形成方法によれば、膜形成区画を規定する隔壁の少なくとも一部が、濡れ性を変化させることが可能な濡れ性可変材料で形成される。この膜形成区画に液状体が配置される。膜形成区画に液状体を配置した状態で濡れ性可変材料を親液化することによって、隔壁の濡れ性可変材料の部分は液状体に濡れやすくなるため、膜形成区画に配置された液状体は隔壁の側面に濡れ広がり、膜形成区画の全域に濡れ広がり易くなる。これにより、膜形成区画の全面に隙間なく膜を形成することができる。
【０００９】
［適用例２］上記適用例にかかる膜形成方法において、前記隔壁形成工程は、前記隔壁の頂面の少なくとも一部を、前記液状体に対して撥液性を有する材料で形成する工程を有することが好ましい。
【００１０】
この膜形成方法によれば、隔壁の頂面の少なくとも一部が、液状体に対して撥液性を有する。この膜形成区画に液状体が配置されるため、隔壁に乗り上げた液状体は、撥液性の頂面にはじかれて膜形成区画に流れ落ちる可能性が高く、隔壁上に液状体が載ることを抑制することができる。
【００１１】
［適用例３］上記適用例にかかる膜形成方法において、前記隔壁形成工程では、前記濡れ性可変材料から成る隔壁層を含む１以上の隔壁層を積層して前記隔壁を形成することが好ましい。
【００１２】
この膜形成方法によれば、隔壁は濡れ性可変材料から成る隔壁層を含むため、隔壁の側面の少なくとも一部を、液状体に対する濡れ性を変えることができる面にすることができる。
【００１３】
［適用例４］上記適用例にかかる膜形成方法において、前記隔壁形成工程は、第一の濡れ性可変材料から成る第一の隔壁層を形成する工程と、前記第一の濡れ性可変材料とは濡れ性を変える方法が異なる第二の濡れ性可変材料から成る第二の隔壁層を形成する工程と、を有することが好ましい。
【００１４】
この膜形成方法によれば、第一の濡れ性可変材料と第二の濡れ性可変材料とは濡れ性を変える方法が異なるため、第一の隔壁層と第二の隔壁層とのうち、一方を撥液性に維持したまま、他方を親液性にすることができる。これにより、隔壁の側面が撥液性の状態で液状体を配置し、隔壁の側面を親液性にして液状体を隔壁の際まで濡れ広がらせる操作を、複数回数実施することができる。
【００１５】
［適用例５］上記適用例にかかる膜形成方法において、前記隔壁形成工程は、第一の隔壁膜を形成する工程と、前記第一の隔壁膜の一部を取り除いて、前記膜形成区画を包含する大きさを有する拡大区画を形成する工程と、前記拡大区画に、前記濡れ性可変材料からなる第二の隔壁膜を形成する工程と、前記第二の隔壁膜の一部を取り除いて前記膜形成区画を形成する工程と、を有することが好ましい。
【００１６】
この膜形成方法によれば、濡れ性可変材料からなる第二の隔壁膜の一部を取り除いて膜形成区画を形成するため、膜形成区画に臨む隔壁の面を、濡れ性可変材料で形成することができる。また、隔壁の頂部の少なくとも一部は、第一の隔壁膜で構成されているため、第一の隔壁膜を液状体に対して撥液性を有する材料で形成することによって、隔壁の頂部の少なくとも一部を撥液性にすることができる。
【００１７】
［適用例６］上記適用例にかかる膜形成方法において、前記濡れ性変化工程では、前記濡れ性可変材料に熱を加えることによって、濡れ性を変化させることが好ましい。
【００１８】
この膜形成方法によれば、熱を加えることによって濡れ性を変化させるため、処理に際して直接接触することを必要とせずに濡れ性を変化させる処理を実施することができる。また、濡れ性が変化する温度が互いに異なる複数の材料を使用して隔壁を形成することによって、それぞれの材料ごとに、異なる時点で濡れ性を変化させることができる。
【００１９】
［適用例７］上記適用例にかかる膜形成方法において、前記濡れ性変化では、前記濡れ性可変材料に光を照射することによって、濡れ性を変化させることが好ましい。
【００２０】
この膜形成方法によれば、光を照射することによって濡れ性を変化させることから、濡れ性を変化させる処理に際して、濡れ性を変化させる部分にのみ光を照射することが可能であるため、他の部分に影響を与えることを抑制して濡れ性を変化させたい部分のみを選択的に濡れ性を変化させることができる。
【００２１】
［適用例８］上記適用例にかかる膜形成方法において、前記膜化工程では、前記液状体に熱を加えることによって、前記膜の材料を固化させることが好ましい。
【００２２】
この膜形成方法によれば、膜の材料を固化させるために、液状体に熱を加える。濡れ性可変材料が、熱を加えることによって濡れ性が変化する材料の場合には、熱を加える一つの操作によって、濡れ性可変材料の濡れ性を変化させる濡れ性変化工程と、膜の材料を固化させて膜を形成する膜化工程とを実施することができる。
【００２３】
［適用例９］上記適用例にかかる膜形成方法において、前記膜化工程において、前記液状体に光を照射することによって、前記膜の材料を固化させることが好ましい。
【００２４】
この膜形成方法によれば、膜の材料を固化させるために、液状体に光を照射する。濡れ性可変材料が、光を照射することによって親液化する材料の場合には、同様の光照射装置を用い、同様の工程を実施することで、濡れ性可変材料の濡れ性を変化させる濡れ性変化工程と、膜の材料を固化させて膜を形成する膜化工程とを実施することができる。
【００２５】
［適用例１０］本適用例にかかる電気光学装置の製造方法は、上記適用例に記載の膜形成方法を用いて、電気光学装置を構成する機能膜を形成することを特徴とする。
【００２６】
この電気光学装置の製造方法によれば、膜形成区画に配置された膜材料を固化させる前に、膜材料を含む液状体を膜形成区画の全面に濡れ広がり易くすることができる膜形成方法を用いて機能膜を形成する。このため、機能膜の形状を正確に形成して、実現するべき機能を実現させた高性能の機能膜を有する電気光学装置を製造することができる。
【００２７】
［適用例１１］本適用例にかかる電気光学装置は、上記適用例に記載の膜形成方法を用いて形成された機能膜を備えることを特徴とする。
【００２８】
この電気光学装置によれば、膜形成区画に配置された膜材料を固化させる前に、膜材料を含む液状体を膜形成区画の全面に濡れ広がり易くすることができる膜形成方法を用いて、電気光学装置が備える機能膜が形成されている。このため、機能膜の形状が正確に形成されていることで、膜形状によって影響される機能が充分実現され、実現するべき機能を実現した高性能の機能膜を有する電気光学装置を実現することができる。
【００２９】
［適用例１２］本適用例にかかる電子機器は、上記適用例に記載の電気光学装置の製造方法を用いて製造した電気光学装置、又は上記適用例に記載の電気光学装置を備えることを特徴とする。
【００３０】
この電子機器によれば、機能膜の形状が正確に形成されて、実現するべき機能を実現させた高性能の機能膜を有する電気光学装置を備えるため、実現するべき機能を実現させた高性能の電子機器を実現することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３１】
以下、膜形成方法、電気光学装置の製造方法、電気光学装置、及び電子機器の好適な実施の形態について、図面を参照して説明する。実施形態は、電気光学装置の一例である液晶表示装置を構成する液晶表示パネルのカラーフィルタ基板を製造する工程、及び電気光学装置の一例である有機ＥＬ表示装置を製造する工程において、カラーフィルタ膜や発光層などの機能膜を製造する方法を例に説明する。当該機能膜を製造する工程では、吐出ヘッドの一例としてのインクジェット方式の液滴吐出ヘッドを有する液滴吐出装置を用いて機能膜の材料を含む機能液を基板上の所定の区画に配置する方法を例にして説明する。なお、以下の説明において参照する図面では、図示の便宜上、部材又は部分の縦横の縮尺を実際のものとは異なるように表す場合がある。
【００３２】
（第一の実施形態）
最初に、膜形成方法、電気光学装置の製造方法、電気光学装置、及び電子機器の一実施形態である第一の実施形態について、説明する。本実施形態は、電気光学装置の一例である液晶表示装置のカラーフィルタを製造する工程において、機能膜の一例である色要素膜（フィルタ膜）を形成する工程で用いられる膜形成方法を例に説明する。
【００３３】
＜液滴吐出法＞
最初に、フィルタ膜などの機能膜の形成に用いられる液滴吐出法について説明する。液滴吐出法は、材料の使用に無駄が少なく、しかも所望の位置に所望の量の材料を精度よく配置できるという利点を有する。液滴吐出法の吐出技術としては、帯電制御方式、加圧振動方式、電気機械変換方式、電気熱変換方式、静電吸引方式などが挙げられる。
このうち、電気機械変換方式は、ピエゾ素子（圧電素子）がパルス的な電気信号を受けて変形する性質を利用したもので、ピエゾ素子が変形することによって液状の材料を貯留した空間に可撓性を有する材料で形成された部材を介して圧力を与え、この空間から液状材料を押し出して吐出ノズルから吐出させるものである。ピエゾ方式は、液状材料を加熱することがないため、材料の組成などへの影響が少なく、駆動電圧を調整することによって液滴の大きさを容易に調整することができるなどの利点を有する。本実施形態では、材料の組成などに影響を与えないため液状材料選択の自由度が高いこと、及び液滴の大きさを容易に調整することができるため液滴の制御性がよいことから、上記ピエゾ方式を用いる。
【００３４】
＜液滴吐出装置＞
次に、液滴吐出ヘッド１７を備え、機能液を配置する液滴吐出装置１の全体構成について、図１を参照して説明する。図１は液滴吐出装置の概略構成を示す外観斜視図である。
【００３５】
図１に示すように、液滴吐出装置１は、ヘッド機構部２と、ワーク機構部３と、機能液供給部４と、メンテナンス装置部５と、を備えている。ヘッド機構部２は、液状体としての機能液を液滴として吐出する液滴吐出ヘッド１７を有している。ワーク機構部３は、液滴吐出ヘッド１７から吐出された液滴の吐出対象であるワーク２０を載置するワーク載置台２３を有している。機能液供給部４は、中継タンクと、給液チューブとを有し、当該給液チューブが、液滴吐出ヘッド１７に接続されており、給液チューブを介して機能液が液滴吐出ヘッド１７に供給される。メンテナンス装置部５は、液滴吐出ヘッド１７の検査又は保守を実施する各装置を備えている。液滴吐出装置１は、また、これら各機構部などを総括的に制御する吐出装置制御部６を備えている。
【００３６】
さらに、液滴吐出装置１は、床上に設置された複数の支持脚８と、支持脚８の上側に設置された定盤９とを備えている。定盤９の上側には、ワーク機構部３が定盤９の長手方向（Ｘ軸方向）に延在するように配設されている。ワーク機構部３の上方には、定盤９に固定された２本の支持柱で支持されているヘッド機構部２が、ワーク機構部３と直交する方向（Ｙ軸方向）に延在するように配設されている。また、定盤９の傍らには、ヘッド機構部２の液滴吐出ヘッド１７に連通する供給管を有する機能液供給部４の機能液タンクなどが配置されている。ヘッド機構部２の一方の支持柱の近傍には、メンテナンス装置部５がワーク機構部３と並んでＸ軸方向に配設されている。さらに、定盤９の下側に、吐出装置制御部６が収容されている。
【００３７】
ヘッド機構部２は、液滴吐出ヘッド１７を有するヘッドユニット２１と、ヘッドユニット２１を有するヘッドキャリッジ２５と、ヘッドキャリッジ２５が吊設された移動枠２２とを備えている。移動枠２２を、Ｙ軸テーブルによってＹ軸方向に移動させることで、液滴吐出ヘッド１７をＹ軸方向に自在に移動させる。また、移動した位置に保持する。ワーク機構部３は、ワーク載置台２３を、Ｘ軸テーブルによって、Ｘ軸方向に移動させることで、ワーク載置台２３に載置されたワーク２０をＸ軸方向に自在に移動させる。また、移動した位置に保持する。
【００３８】
このように、液滴吐出ヘッド１７は、Ｙ軸方向の吐出位置まで移動して停止し、下方にあるワーク２０のＸ軸方向の移動に同調して、機能液を液滴として吐出する。Ｘ軸方向に移動するワーク２０と、Ｙ軸方向に移動する液滴吐出ヘッド１７とを相対的に制御することにより、ワーク２０上の任意の位置に液滴を着弾させることで、所望する平面形状の描画を実施することが可能である。
【００３９】
＜液滴吐出ヘッド＞
次に、図２を参照して、液滴吐出ヘッド１７について説明する。図２は、液滴吐出ヘッドの構成を示す図である。図２（ａ）は、液滴吐出ヘッドをノズルプレート側から見た外観斜視図であり、図２（ｂ）は、液滴吐出ヘッドの圧力室周りの構造を示す斜視断面図であり、図２（ｃ）は、液滴吐出ヘッドの吐出ノズル部の構造を示す断面図である。液滴吐出ヘッド１７が、吐出手段に相当する。
【００４０】
図２（ａ）に示したように、液滴吐出ヘッド１７は、いわゆる２連のものであり、２連の接続針７２，７２を有する液体導入部７１と、液体導入部７１の側方に連なるヘッド基板７３と、液体導入部７１に連なるポンプ部７５と、ポンプ部７５に連なるノズルプレート７６と、を備えている。液体導入部７１のそれぞれの接続針７２には、それぞれ配管接続部材が接続されて、当該配管接続部材を介して給液チューブが接続され、給液チューブに接続された機能液供給部４から機能液が供給される。ヘッド基板７３には、一対のヘッドコネクタ７７，７７が実装されており、当該ヘッドコネクタ７７を介してフレキシブルフラットケーブル（ＦＦＣケーブル）が接続される。液滴吐出ヘッド１７は、ＦＦＣケーブルを介して吐出装置制御部６と接続されており、ＦＦＣケーブルを介して信号の授受が行われる。ポンプ部７５とノズルプレート７６とにより、方形のヘッド本体７４が構成されている。
【００４１】
ポンプ部７５の基部側、すなわちヘッド本体７４の基部側は、液体導入部７１及びヘッド基板７３を受けるべく方形フランジ状にフランジ部７９が形成されている。このフランジ部７９には、液滴吐出ヘッド１７を固定する小ねじ用のねじ孔（雌ねじ）７９ａが一対形成されている。ヘッド保持用の部材を貫通してねじ孔７９ａに螺合したヘッド止めねじにより、液滴吐出ヘッド１７がヘッド保持用の部材に固定される。
【００４２】
ノズルプレート７６のノズル形成面７６ａには、ノズルプレート７６に形成されており液滴を吐出する吐出ノズル７８から成るノズル列７８Ａが、２本形成されている。２本のノズル列７８Ａは相互に平行に列設されており、各ノズル列７８Ａは、等ピッチで並べた例えば１８０個（図示では模式的に表している）の吐出ノズル７８で構成されている。すなわち、ヘッド本体７４のノズル形成面７６ａには、その中心線を挟んで２本のノズル列７８Ａが配設されている。
【００４３】
液滴吐出ヘッド１７が液滴吐出装置１に取り付けられた状態では、ノズル列７８ＡはＹ軸方向に延在する。２列のノズル列７８Ａをそれぞれ構成する吐出ノズル７８同士は、Ｙ軸方向において、相互に半ノズルピッチずつ位置がずれている。１ノズルピッチは、例えば１４０μｍである。Ｘ軸方向の同じ位置において、それぞれのノズル列７８Ａを構成する吐出ノズル７８から吐出された液滴は、設計上では、Ｙ軸方向に等間隔に並んで一直線上に着弾する。ノズル列７８Ａにおける吐出ノズル７８のノズルピッチが１４０μｍの場合、当該一直線状に連なる着弾位置の中心間距離は、設計上では、７０μｍである。
【００４４】
図２（ｂ）及び（ｃ）に示すように、液滴吐出ヘッド１７は、ノズルプレート７６にポンプ部７５を構成する圧力室プレート５１が積層されており、圧力室プレート５１に振動板５２が積層されている。
圧力室プレート５１には、液体導入部７１から振動板５２の液供給孔５３を経由して供給される機能液が常に充填される液たまり５５が形成されている。液たまり５５は、振動板５２と、ノズルプレート７６と、圧力室プレート５１の壁とに囲まれた空間である。また、圧力室プレート５１には、複数のヘッド隔壁５７によって区切られた圧力室５８が形成されている。振動板５２と、ノズルプレート７６と、２個のヘッド隔壁５７とによって囲まれた空間が圧力室５８である。
【００４５】
圧力室５８は吐出ノズル７８のそれぞれに対応して設けられており、圧力室５８の数と吐出ノズル７８の数とは同じである。圧力室５８には、２個のヘッド隔壁５７の間に位置する供給口５６を介して、液たまり５５から機能液が供給される。ヘッド隔壁５７と圧力室５８と吐出ノズル７８と供給口５６との組は、液たまり５５に沿って１列に並んでおり、１列に並んだ吐出ノズル７８がノズル列７８Ａを形成している。図２（ｂ）では図示省略したが、図示した吐出ノズル７８を含むノズル列７８Ａに対して液たまり５５に関して略対称位置に、１列に並んで配設された吐出ノズル７８がもう一列のノズル列７８Ａを形成しており、対応するヘッド隔壁５７と圧力室５８と供給口５６との組が、１列に並んでいる。
【００４６】
振動板５２の圧力室５８を構成する部分には、それぞれ圧電素子５９の一端が固定されている。圧電素子５９の他端は、固定板（図示省略）を介して液滴吐出ヘッド１７全体を支持する基台（図示省略）に固定されている。
圧電素子５９は電極層と圧電材料とを積層した活性部を有し、電極層に駆動電圧を印加することで、活性部が長手方向（図２（ｂ）又は（ｃ）においては振動板５２の厚さ方向）に縮む。活性部が縮むことで、圧電素子５９の一端が固定された振動板５２が圧力室５８と反対側に引張られる力を受ける。振動板５２が圧力室５８と反対側に引張られることで、振動板５２が圧力室５８の反対側に撓む。これにより、圧力室５８の容積が増加することから、機能液が液たまり５５から供給口５６を経て圧力室５８に供給される。次に、電極層に印加されていた駆動電圧が解除されると、活性部が元の長さに戻ることで、圧電素子５９が振動板５２を押圧する。振動板５２が押圧されることで、圧力室５８側に戻る。これにより、圧力室５８の容積が急激に元に戻る、すなわち増加していた容積が減少することから、圧力室５８内に充填されていた機能液に圧力が加わり、当該圧力室５８に連通して形成された吐出ノズル７８から機能液が液滴となって吐出される。
【００４７】
吐出装置制御部６は、圧電素子５９への印加電圧の制御、すなわち駆動信号を制御することにより、複数の吐出ノズル７８のそれぞれに対して、機能液の吐出制御を行う。より詳細には、吐出ノズル７８から吐出される液滴の体積や、単位時間あたりに吐出する液滴の数などを変化させることができる。これにより、基板上に着弾した液滴同士の距離や、基板上の一定の面積に着弾させる機能液の量などを変化させることができる。例えば、ノズル列７８Ａに並ぶ複数の吐出ノズル７８の中から、液滴を吐出させる吐出ノズル７８を選択的に使用することにより、ノズル列７８Ａの延在方向では、ノズル列７８Ａの長さの範囲であって吐出ノズル７８のピッチ間隔で、複数の液滴を同時に吐出することができる。ノズル列７８Ａの延在方向と略直交する方向では、基板と吐出ノズル７８とを相対移動させて、当該相対移動方向において、当該吐出ノズル７８が対向可能な、基板の任意の位置に吐出ノズル７８から吐出される液滴を配置することができる。なお、吐出ノズル７８のそれぞれから吐出される液滴の体積は、例えば１ｐｌ〜３００ｐｌ（ピコリットル）の間で可変である。
【００４８】
＜液晶表示パネルの構成＞
次に、液滴吐出装置１を用いて機能膜を形成する対象物の一例である液晶表示パネルについて説明する。液晶表示パネル２００（図３参照）は、電気光学装置としての液晶装置の一例であり、機能膜としてのカラーフィルタの一例である液晶表示パネル用のカラーフィルタを備える液晶表示パネルである。
最初に、液晶表示パネル２００の構成について、図３を参照して説明する。図３は、液晶表示パネルの概略構成を示す分解斜視図である。図３に示した液晶表示パネル２００は、駆動素子として薄膜トランジスタ（ＴＦＴ（Thin Film Transistor）素子）を用いるアクティブマトリックス方式の液晶装置であり、図示省略したバックライトを用いる透過型の液晶装置である。
【００４９】
図３に示すように、液晶表示パネル２００は、ＴＦＴ素子２１５を有する素子基板２１０と、対向電極２０７を有する対向基板２２０と、シール材（図示省略）によって接着された素子基板２１０と対向基板２２０との隙間に充填された液晶２３０（図１０（ｈ）参照）と、を備えている。貼り合わされた素子基板２１０と、対向基板２２０とには、互いに貼り合わされた面の反対側の面に、それぞれ偏光板２３１と偏光板２３２とが、配設されている。
【００５０】
素子基板２１０は、ガラス基板２１１の対向基板２２０と対向する面に、ＴＦＴ素子２１５や、導電性を有する画素電極２１７や走査線２１２や信号線２１４が、形成されている。これらの素子や導電性を有する膜の間を埋めるように、絶縁層２１６が形成されており、走査線２１２及び信号線２１４は、絶縁層２１６の部分を挟んで互いに交差する状態で形成されている。走査線２１２と信号線２１４とは、絶縁層２１６の部分を間に挟むことで互いに絶縁されている。これらの走査線２１２と信号線２１４とに囲まれた領域内には画素電極２１７が形成されている。画素電極２１７は方形状の一部の角部分が方形状に欠けた形状をしている。画素電極２１７の切欠部と走査線２１２と信号線２１４とに囲まれた部分には、ソース電極、ドレイン電極、半導体部、及びゲート電極を具備するＴＦＴ素子２１５が組み込まれて構成されている。走査線２１２と信号線２１４に信号を印加することによってＴＦＴ素子２１５をオン・オフして画素電極２１７への通電制御を実施する。
【００５１】
素子基板２１０の液晶２３０と接する面には、上記した走査線２１２や信号線２１４や画素電極２１７が形成された領域全体を覆う配向膜２１８が設けられている。
【００５２】
対向基板２２０は、ガラス基板２０１の素子基板２１０と対向する面に、カラーフィルタ（以降、「ＣＦ」と表記する。）層２０８が形成されている。ＣＦ層２０８は、隔壁２０４と、赤色フィルタ膜２０５Ｒと、緑色フィルタ膜２０５Ｇと、青色フィルタ膜２０５Ｂとを有している。ガラス基板２０１上に、隔壁２０４を構成するブラックマトリックス２０２が格子状に形成され、ブラックマトリックス２０２の上にバンク２０３が形成されている。ブラックマトリックス２０２とバンク２０３とで構成された隔壁２０４によって、方形のフィルタ膜領域２２５が形成されている。フィルタ膜領域２２５には、赤色フィルタ膜２０５Ｒ、緑色フィルタ膜２０５Ｇ、又は青色フィルタ膜２０５Ｂが形成されている。赤色フィルタ膜２０５Ｒ、緑色フィルタ膜２０５Ｇ、及び青色フィルタ膜２０５Ｂは、それぞれ上述した画素電極２１７のそれぞれと対向する位置及び形状に形成されている。
【００５３】
ＣＦ層２０８の上（素子基板２１０側）には、平坦化膜２０６が設けられている。平坦化膜２０６の上には、ＩＴＯなどの透明な導電性材料で形成された対向電極２０７が設けられている。平坦化膜２０６を設けることによって、対向電極２０７を形成する面を略平坦な面にしている。対向電極２０７は、上述した画素電極２１７が形成された領域全体を覆う大きさの連続した膜である。対向電極２０７は、図示省略した導通部を介して、素子基板２１０に形成された配線に接続されている。
【００５４】
対向基板２２０の液晶２３０と接する面には、画素電極２１７の全面を覆う配向膜２２８が設けられている。液晶２３０は、素子基板２１０と対向基板２２０とが貼り合わされた状態において、対向基板２２０の配向膜２２８と、素子基板２１０の配向膜２１８と、対向基板２２０と素子基板２１０とを貼り合わせるシール材とに囲まれた空間に充填されている。
【００５５】
なお、液晶表示パネル２００は、透過型の構成としたが、反射層あるいは半透過反射層を設けて、反射型の液晶装置あるいは半透過反射型の液晶装置とすることもできる。
【００５６】
＜マザー対向基板＞
次に、マザー対向基板２０１Ａについて、図４を参照して説明する。対向基板２２０は、分割されることによってガラス基板２０１となるマザー対向基板２０１Ａの上に上述したＣＦ層２０８などを形成した後、マザー対向基板２０１Ａを個別の対向基板２２０（ガラス基板２０１）に分割して形成される。図４（ａ）は、対向基板の平面構造を模式的に示す平面図であり、図４（ｂ）は、マザー対向基板の平面構造を模式的に示す平面図である。なお、本実施形態においては、マザー対向基板２０１Ａの上にＣＦ層２０８などを形成したものや、ＣＦ層２０８などを形成する途中の状態のものも、マザー対向基板２０１Ａと表記する。
【００５７】
対向基板２２０は、厚みおよそ１．０ｍｍの透明な石英ガラスからなるガラス基板２０１を用いて形成されている。図４（ａ）に示すように、対向基板２２０は、ガラス基板２０１の周囲の僅かな額縁領域を除く部分に、ＣＦ層２０８が形成されている。ＣＦ層２０８は、方形状のガラス基板２０１の表面に複数のフィルタ膜領域２２５をドットパターン状、本実施形態ではドット・マトリクス状に形成し、当該フィルタ膜領域２２５にフィルタ膜２０５を形成することによって形成されている。ガラス基板２０１のＣＦ層２０８が形成される領域にかからない位置には、図示省略したアライメントマークが形成されている。アライメントマークは、ＣＦ層２０８などを形成する諸工程を実行するためにガラス基板２０１を、液滴吐出装置１などの製造装置に取り付ける際などに位置決め用の基準マークとして用いられる。
【００５８】
図４（ｂ）に示すように、マザー対向基板２０１Ａには、対向基板２２０のＣＦ層２０８が、分割されてガラス基板２０１となる部分のそれぞれに形成されている。
【００５９】
＜カラーフィルタ＞
次に、対向基板２２０に形成されているＣＦ層２０８及びＣＦ層２０８におけるフィルタ膜２０５（赤色フィルタ膜２０５Ｒ、緑色フィルタ膜２０５Ｇ、及び青色フィルタ膜２０５Ｂ）の配列について、図５を参照して説明する。図５は、３色カラーフィルタのフィルタ膜の配列例を示す模式平面図である。
【００６０】
図５に示すように、フィルタ膜２０５は、透光性のない樹脂材料によって格子状のパターンに形成された隔壁２０４によって区画されてドット・マトリクス状に並んだ複数の例えば方形状のフィルタ膜領域２２５を色材で埋めることによって形成される。例えば、フィルタ膜２０５を構成する色材を含む機能液をフィルタ膜領域２２５に充填し、当該機能液の溶媒を蒸発させて機能液を乾燥させることで、フィルタ膜領域２２５を埋める膜状のフィルタ膜２０５を形成する。フィルタ膜領域２２５が、膜形成区画に相当し、フィルタ膜２０５が、膜に相当する。フィルタ膜２０５を構成する色材を含む機能液が、膜の材料を含む液状体に相当する。
【００６１】
３色カラーフィルタにおける赤色フィルタ膜２０５Ｒ、緑色フィルタ膜２０５Ｇ、及び青色フィルタ膜２０５Ｂの配列としては、例えば、ストライプ配列、モザイク配列、デルタ配列などが知られている。図５（ａ）は、ストライプ配列を示す模式平面図であり、図５（ｂ）は、モザイク配列を示す模式平面図であり、図５（ｃ）は、デルタ配列を示す模式平面図である。
ストライプ配列は、図５（ａ）に示したように、マトリクスの縦列が全て同色の赤色フィルタ膜２０５Ｒ、緑色フィルタ膜２０５Ｇ、又は青色フィルタ膜２０５Ｂになる配列である。モザイク配列は、図５（ｂ）に示したように、横方向の各行ごとにフィルタ膜２０５一つ分だけ色をずらした配列で、３色フィルタの場合、縦横の直線上に並んだ任意の３つのフィルタ膜２０５が３色となる配列である。デルタ配列は、図５（ｃ）に示したように、フィルタ膜２０５の配置を段違いにし、３色フィルタの場合、任意の隣接する３つのフィルタ膜２０５が異なる色となる配色である。
【００６２】
図５（ａ）、（ｂ）、又は（ｃ）に示した３色フィルタにおいて、フィルタ膜２０５は、それぞれが、Ｒ（赤色）、Ｇ（緑色）、Ｂ（青色）のうちのいずれか１色の色材によって形成されている。隣り合って形成された赤色フィルタ膜２０５Ｒ、緑色フィルタ膜２０５Ｇ、及び青色フィルタ膜２０５Ｂを各１個ずつ含むフィルタ膜２０５の組で、画像を構成する最小単位である絵素のフィルタ（以降、「絵素フィルタ２５４」と表記する。）を形成している。一つの絵素フィルタ２５４内の赤色フィルタ膜２０５Ｒ、緑色フィルタ膜２０５Ｇ、及び青色フィルタ膜２０５Ｂのいずれか一つ又はそれらの組合せに光を選択的に通過させることにより、さらに、通過させる光の光量を調整することによりフルカラー表示を行う。
【００６３】
＜フィルタ層の形成＞
次に、液晶表示パネル２００を形成する工程について、説明する。最初に、ＣＦ層２０８を形成する工程について、図６及び図７を参照して説明する。図６は、フィルタ層を形成する過程を示すフローチャートである。図７は、フィルタ層を形成する過程を示す断面図である。
【００６４】
図６のステップＳ１では、図７（ａ）に示したように、ガラス基板２０１の上に、ブラックマトリックス２０２を格子状に形成する。
次に、図６のステップＳ２では、ブラックマトリックス２０２の格子を覆うように、バンク膜２０３ａを構成する濡れ性可変層膜３１ａを形成する。濡れ性可変層膜３１ａは、フィルタ膜２０５を構成する材料を含む機能液に対する濡れ性を変えることができる材料で構成する。濡れ性を変えることができる材料としては、例えば、パーフルオロアクリレートモノマーの重合体、パーフルオロメタクリレートモノマーの重合体、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミドの感温性ゲル、イソプロピルアクリルアミドの感温性ゲルなどを挙げることができる。パーフルオロアクリレートモノマーの重合体やパーフルオロメタクリレートモノマーの重合体は、常温で撥液性を示し、１５０℃程度に加熱されると撥液性が失われる。Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミドの感温性ゲルやイソプロピルアクリルアミドの感温性ゲルは、常温で撥液性を示し、約３０℃以上に加熱されると親液（油）性が発現する。
濡れ性を変えることができる他の材料としては、例えば、酸化チタンなどを挙げることができる。酸化チタンは、紫外線（波長：約３００ｎｍ）を照射することで親水性が発現する。酸化チタンは無色透明な粉末体であり、例えば結合材料と混合して用いる。
【００６５】
次に、図６のステップＳ３では、濡れ性可変層膜３１ａを覆うように、バンク膜２０３ａを構成する撥液層膜３２ａを形成する。ステップＳ３を実施して、図７（ｂ）に示すように、ガラス基板２０１の上の、ブラックマトリックス２０２、及びフィルタ膜領域２２５となる部分を覆う、バンク膜２０３ａが形成される。
【００６６】
次に、図６のステップＳ４では、フィルタ膜領域２２５を形成する。フィルタ膜領域２２５は、ガラス基板２０１の上に形成されたバンク膜２０３ａにおいて、フィルタ膜領域２２５を形成する位置などの部分を、フォトエッチングなどによって取り除くことで、形成する。ステップＳ４を実施して、図７（ｃ）に示すように、ガラス基板２０１の上に、ブラックマトリックス２０２、及び濡れ性可変層３１と撥液層３２とからなるバンク２０３で構成された隔壁２０４が形成される。すなわち、上述したように格子状に形成された隔壁２０４によって区画されて、方形のフィルタ膜領域２２５が形成されている。
撥液層３２は撥液性であるため、隔壁２０４の上面は撥液性である。濡れ性可変層３１は濡れ性可変材料が撥液性の状態で形成されているため、隔壁２０４の側面は、面の大部分が撥液性である。
赤色フィルタ膜２０５Ｒ、緑色フィルタ膜２０５Ｇ、又は青色フィルタ膜２０５Ｂを形成するフィルタ膜領域２２５を、赤色フィルタ膜領域２２５Ｒ、緑色フィルタ膜領域２２５Ｇ、又は青色フィルタ膜領域２２５Ｂと表記する。
【００６７】
次に、図６のステップＳ５では、フィルタ膜領域２２５にフィルタ膜２０５を構成する材料を含む機能液を配置する。赤色フィルタ膜２０５Ｒ、緑色フィルタ膜２０５Ｇ、又は青色フィルタ膜２０５Ｂを構成する材料を含む機能液２５２を、赤色機能液２５２Ｒ、緑色機能液２５２Ｇ、又は青色機能液２５２Ｂと表記する。赤色機能液２５２Ｒ、緑色機能液２５２Ｇ、又は青色機能液２５２Ｂを吐出する液滴吐出ヘッド１７を、赤色吐出ヘッド１７Ｒ、緑色吐出ヘッド１７Ｇ、青色吐出ヘッド１７Ｂと表記する。
【００６８】
機能液２５２を配置するために、図７（ｄ）に示すように、隔壁２０４によって区画されたフィルタ膜領域２２５が形成されたガラス基板２０１の表面に液滴吐出ヘッド１７を対向させる。赤色吐出ヘッド１７Ｒが有する吐出ノズル７８から、赤色フィルタ膜２０５Ｒを形成するべき赤色フィルタ膜領域２２５Ｒに向けて、赤色機能液２５２Ｒの液滴２５２Ｒａを吐出することによって、赤色フィルタ膜領域２２５Ｒに赤色機能液２５２Ｒを配置する。同時に、ガラス基板２０１に対して赤色吐出ヘッド１７Ｒを相対移動させることによって、ガラス基板２０１に形成された全ての赤色フィルタ膜領域２２５Ｒに赤色機能液２５２Ｒを配置する。同様にして、緑色フィルタ膜２０５Ｇ又は青色フィルタ膜２０５Ｂを形成する領域である緑色フィルタ膜領域２２５Ｇ又は青色フィルタ膜領域２２５Ｂに、緑色機能液２５２Ｇ又は青色機能液２５２Ｂを配置する。緑色機能液２５２Ｇ又は青色機能液２５２Ｂの配置は、緑色吐出ヘッド１７Ｇ又は青色吐出ヘッド１７Ｂを用いて、緑色機能液２５２Ｇの液滴２５２Ｇａ又は青色機能液２５２Ｂの液滴２５２Ｂａを吐出して、実施する。
【００６９】
上述したように、撥液層３２は撥液性であるため、隔壁２０４の上面は撥液性である。このため、液滴吐出ヘッド１７から吐出された機能液２５２の液滴の部分が隔壁２０４に乗り上げて着弾しても、機能液２５２は隔壁２０４の面にはじかれて、フィルタ膜領域２２５に流入する。
隔壁２０４の上面を構成する撥液層３２は撥液性であり、濡れ性可変層３１は濡れ性可変材料が撥液性の状態で形成されているため、隔壁２０４の側面は、面の大部分が撥液性である。赤色フィルタ膜領域２２５Ｒ、緑色フィルタ膜領域２２５Ｇ、又は青色フィルタ膜領域２２５Ｂに配置された赤色機能液２５２Ｒ、緑色機能液２５２Ｇ、又は青色機能液２５２Ｂは、図７（ｄ）に示すように、隔壁２０４の側面からはじかれて、機能液２５２が隔壁２０４に接触し難くなっている。すなわち、機能液２５２は、フィルタ膜領域２２５における隔壁２０４の際には濡れ広がり難くなっている。
したがって、機能液２５２がフィルタ膜領域２２５から溢れるほど過剰に供給されない限り、フィルタ膜領域２２５に配置された機能液２５２が隔壁２０４に乗り上げる可能性は、非常に小さく、異なるフィルタ膜領域２２５に配置された機能液２５２が隔壁２０４を越えて混じりあう可能性は非常に小さい。
【００７０】
次に、図６のステップＳ６では、フィルタ膜領域２２５に機能液２５２が配置された状態で濡れ性可変層３１を親液化する。濡れ性可変層３１が、例えば、温度が一定以上になると親液性を示す材料であれば、濡れ性可変層３１を有する隔壁２０４が形成され、機能液２５２が配置されたガラス基板２０１を、加熱する。濡れ性可変層３１が、例えば、特定の光を照射することによって親液性を示す材料であれば、濡れ性可変層３１を有する隔壁２０４が形成され、機能液２５２が配置されたガラス基板２０１に、濡れ性可変層３１を親液化させる光を照射する。濡れ性可変層３１を親液化する工程が、濡れ性変化工程に相当する。
濡れ性可変層３１が親液性となることによって、隔壁２０４の側面は機能液２５２に濡れやすくなるため、図７（ｅ）に示すように、フィルタ膜領域２２５に配置された機能液２５２は、隔壁２０４の側面に濡れ広がり、フィルタ膜領域２２５の全域に濡れ広がる。
【００７１】
次に、ステップＳ７では、機能液２５２を仮焼成する。仮焼成は、機能液２５２を例えば加熱して、流動しない程度に硬化させる。図７（ｅ）に示したようにフィルタ膜領域２２５の全域に濡れ広がった機能液２５２が硬化することによって、図７（ｆ）に示すように、フィルタ膜領域２２５の全体に詰まったフィルタ膜２０５（赤色フィルタ膜２０５Ｒ、緑色フィルタ膜２０５Ｇ、及び青色フィルタ膜２０５Ｂ）が形成される。
なお、濡れ性可変層３１を親液化する工程と、機能液２５２を仮焼成する工程とがいずれも加熱工程である場合には、一回の加熱工程を実施することで、両方の工程を実施することができる。この場合、濡れ性可変層３１を有する隔壁２０４が形成され、機能液２５２が配置されたガラス基板２０１の環境温度を、濡れ性可変層３１の親液化が充分進行した後に機能液２５２が仮焼成されるように制御する。
【００７２】
次に、ステップＳ８では、フィルタ膜２０５を焼成する。仮焼成したフィルタ膜２０５（赤色フィルタ膜２０５Ｒ、緑色フィルタ膜２０５Ｇ、及び青色フィルタ膜２０５Ｂ）をさらに焼成して、充分硬化させたフィルタ膜２０５（赤色フィルタ膜２０５Ｒ、緑色フィルタ膜２０５Ｇ、及び青色フィルタ膜２０５Ｂ）を形成する。
ステップＳ８を実施して、ＣＦ層２０８を形成する工程を終了する。
【００７３】
＜液晶表示パネルの形成＞
次に、ＣＦ層２０８を形成する工程後の液晶表示パネル２００を形成する工程について、図８、図９、及び図１０を参照して説明する。図８は、液晶表示パネルを形成する過程を示すフローチャートである。図９は、液晶表示パネルを形成する過程における対向基板を形成する工程などを示す断面図であり、図１０は、液晶表示パネルを形成する過程における素子基板を形成する工程などを示す断面図である。液晶表示パネル２００は、それぞれ別々に形成した素子基板２１０と対向基板２２０とを、貼り合わせて形成する。
【００７４】
図８に示したステップＳ２１からステップＳ２４を実行することで、対向基板２２０を形成する。
ステップＳ２１は、上述したステップＳ１からステップＳ８を実施してＣＦ層２０８を形成する工程である。ステップＳ２１のＣＦ層形成工程を実施することによって、図９（ａ）に示したように、素子基板２１０上にＣＦ層２０８が形成される。
【００７５】
次に、図８のステップＳ２２では、平坦化層を形成する。図９（ｂ）に示すように、ＣＦ層２０８を構成する赤色フィルタ膜２０５Ｒ、緑色フィルタ膜２０５Ｇ、青色フィルタ膜２０５Ｂ、及び隔壁２０４の上に、平坦化層としての平坦化膜２０６を形成する。平坦化膜２０６は、少なくともＣＦ層２０８の全面を覆う領域に形成する。平坦化膜２０６を設けることによって、対向電極２０７を形成する面を略平坦な面にしている。
次に、図８のステップＳ２３では、対向電極２０７を形成する。図９（ｃ）に示すように、平坦化膜２０６の上の、少なくともＣＦ層２０８のフィルタ膜２０５が形成された領域の全面を覆う領域に、透明な導電材料を用いて、薄膜を形成する。この薄膜が、上述した対向電極２０７である。
【００７６】
次に、図８のステップＳ２４では、対向電極２０７の上に、対向基板２２０の配向膜２２８を形成する。配向膜２２８は、少なくともＣＦ層２０８の全面を覆う領域に形成する。
図９（ｄ）に示すように、対向電極２０７が形成されたガラス基板２０１の表面に液滴吐出ヘッド１７を対向させて、液滴吐出ヘッド１７からガラス基板２０１の表面に向けて配向膜液２４２を吐出する。同時に、ガラス基板２０１に対して液滴吐出ヘッド１７を矢印ａで示したように相対移動させることによって、ガラス基板２０１の配向膜２２８を形成する領域の全面に配向膜液２４２を配置する。配置された配向膜液２４２を乾燥させることで、図９（ｅ）に示すように、配向膜２２８を形成する。ステップＳ２４を実施して、対向基板２２０が形成される。
【００７７】
図８に示したステップＳ２５からステップＳ２７を実行することで、素子基板２１０を形成する。
ステップＳ２５では、ガラス基板２１１の上に導電層や絶縁層や半導体層を形成することで、ＴＦＴ素子２１５などの素子や、走査線２１２や、信号線２１４や、絶縁層２１６などを形成する。走査線２１２及び信号線２１４は、素子基板２１０と対向基板２２０とが、貼り合わされた状態で、隔壁２０４に対向する位置に、即ち画素の周辺の位置に形成する。ＴＦＴ素子２１５は、画素の端に位置するように形成し、１画素に少なくとも１個のＴＦＴ素子２１５を形成する。
【００７８】
次に、ステップＳ２６では、画素電極２１７を形成する。画素電極２１７は、素子基板２１０と対向基板２２０とが、貼り合わされた状態で、赤色フィルタ膜２０５Ｒ、緑色フィルタ膜２０５Ｇ、又は青色フィルタ膜２０５Ｂに対向する位置に、形成する。画素電極２１７は、ＴＦＴ素子２１５のドレイン電極と電気的に接続させる。
【００７９】
次に、ステップＳ２７では、画素電極２１７などの上に、素子基板２１０の配向膜２１８を形成する。配向膜２１８は、少なくとも全ての画素電極２１７の全面を覆う領域に形成する。
図１０（ｆ）に示すように、画素電極２１７が形成されたガラス基板２１１の表面に液滴吐出ヘッド１７を対向させて、液滴吐出ヘッド１７からガラス基板２１１の表面に向けて配向膜液２４２を吐出する。同時に、ガラス基板２１１に対して液滴吐出ヘッド１７を矢印ａで示したように相対移動させることによって、ガラス基板２１１の配向膜２１８を形成する領域の全面に配向膜液２４２を配置する。配置された配向膜液２４２を乾燥させることで、図１０（ｇ）に示すように、配向膜２１８を形成する。ステップＳ２７を実施して、素子基板２１０が形成される。
【００８０】
次に、図８のステップＳ２８では、形成された対向基板２２０と素子基板２１０とを貼り合わせて、図１０（ｈ）に示すように、間に液晶２３０を充填する。さらに、偏光板２３１と偏光板２３２とを貼りつけるなどして、液晶表示パネル２００を組立てる。複数のガラス基板２０１やガラス基板２１１からなるマザー基板に、複数の対向基板２２０や素子基板２１０を形成する場合には、複数の液晶表示パネル２００が形成されたマザー基板を個別の液晶表示パネル２００に分割する。あるいは、マザー対向基板２０１Ａやマザー素子基板を、対向基板２２０や素子基板２１０に分割する工程を実施した後にステップＳ２８を実施する。ステップＳ２８を実施して、液晶表示パネル２００を形成する工程を終了する。
【００８１】
以下、第一の実施形態の効果を記載する。第一の実施形態によれば、以下の効果が得られる。
（１）フィルタ膜領域２２５を区画形成する隔壁２０４を形成する撥液層３２は撥液性であるため、隔壁２０４の上面は撥液性である。隔壁２０４を形成する濡れ性可変層３１は濡れ性可変材料が撥液性の状態で形成されているため、隔壁２０４の側面は、面の大部分が撥液性である。機能液２５２は、このフィルタ膜領域２２５に配置されるため、隔壁２０４に乗り上げた機能液は、撥液性の撥液層３２にはじかれてフィルタ膜領域２２５に流れ落ちる可能性が高く、隔壁２０４上に機能液が載ることを抑制することができる。
また、フィルタ膜領域２２５内の機能液２５２は、撥液性の濡れ性可変層３１にはじかれて、隔壁２０４の際には濡れ広がり難くなっている。これにより、フィルタ膜領域２２５に配置された機能液２５２が隔壁２０４に乗り上げる可能性は、非常に小さく、異なるフィルタ膜領域２２５に配置された機能液２５２が隔壁２０４を越えて混じりあう可能性を非常に小さくすることができる。
【００８２】
（２）フィルタ膜領域２２５に機能液２５２を配置した後、仮焼成を実施する前に、濡れ性可変層３１を親液化する。濡れ性可変層３１が親液性となることによって、隔壁２０４の側面は機能液２５２に濡れやすくなるため、フィルタ膜領域２２５に配置された機能液２５２は、隔壁２０４の側面に濡れ広がり、フィルタ膜領域２２５の全域に濡れ広がる。これにより、フィルタ膜領域２２５の全面に隙間なくフィルタ膜２０５を形成することができる。
【００８３】
（第二の実施形態）
次に、膜形成方法、電気光学装置の製造方法、電気光学装置、及び電子機器の一実施形態である第二の実施形態について図面を参照して、説明する。本実施形態は、電気光学装置の一例である有機ＥＬ表示装置を製造する工程において、機能膜の一例である発光層及び正孔輸送層を形成する工程で用いられる膜形成方法を例に説明する。本実施形態において用いる液滴吐出装置は、第一の実施形態で説明した液滴吐出装置１と実質的に同一のものである。
【００８４】
＜有機ＥＬ表示装置の構成＞
最初に、有機ＥＬ表示装置の構成について、図１１、図１２及び図１３を参照して説明する。図１１は、有機ＥＬ表示装置の平面構成を示す概略正面図である。図１２は、有機ＥＬ素子の配列例を示す平面図である。
図１１に示すように、有機ＥＬ表示装置３００は、発光素子である複数の有機ＥＬ素子３０７を有する素子基板３０１と、封止基板３０９とを備えている。有機ＥＬ素子３０７はいわゆるカラー素子であり、有機ＥＬ表示装置３００は、図１２に示すように、赤色素子３０７Ｒ（赤色系）、緑色素子３０７Ｇ（緑色系）、青色素子３０７Ｂ（青色系）の３色の有機ＥＬ素子３０７を有している。有機ＥＬ素子３０７は表示領域３０６に配置されており、当該表示領域３０６に画像が表示される。
【００８５】
素子基板３０１上の３色の有機ＥＬ素子３０７は、図１２（ａ），（ｂ）に示すように、例えば、透光性のない樹脂材料によって格子状のパターンに形成された隔壁３１５によって区画されてドット・マトリクス状に並んだ複数の例えば方形状の領域に発光層３１７（図１３参照）などを形成することによって形成される。例えば、有機ＥＬ素子３０７を構成する正孔輸送層３１６（図１３参照）や発光層３１７の材料を含む機能液を隔壁３１５によって区画された領域に充填し、当該機能液の溶媒を蒸発させて機能液を乾燥させることで、正孔輸送層３１６や発光層３１７を形成する。
【００８６】
素子基板３０１は、各有機ＥＬ素子３０７に対応した位置に、駆動素子としての複数のスイッチング素子３１２（図１３参照）を備えている。スイッチング素子３１２は、例えば、ＴＦＴ（Thin Film Transistor）素子である。また、封止基板３０９よりも一回り大きく、額縁状に張り出した部分には、スイッチング素子３１２を駆動する２つの走査線駆動回路部３０３と１つのデータ線駆動回路部３０４が設けられている。素子基板３０１の端子部３０１ａには、これらの走査線駆動回路部３０３、又はデータ線駆動回路部３０４と外部駆動回路とを接続するためのフレキシブルな中継基板３０８が実装されている。これらの走査線駆動回路部３０３、及びデータ線駆動回路部３０４は、例えば、予め素子基板３０１の表面に低温ポリシリコンの半導体層を形成して構成する。
【００８７】
有機ＥＬ素子３０７の配列としては、例えば、ストライプ配列、モザイク配列、デルタ配列等が知られている。ストライプ配列は、図１２（ａ）に示したように、マトリクスの縦列が全て同色の有機ＥＬ素子３０７になる配列である。モザイク配列は、図１２（ｂ）に示したように、横方向の各行ごとに有機ＥＬ素子３０７一つ分だけ色をずらした配列で、３色有機ＥＬ表示装置の場合、縦横の直線上に並んだ任意の３つの有機ＥＬ素子３０７が３色となる配列である。そして、図１２では図示省略したデルタ配列は、有機ＥＬ素子３０７の配置を段違いにし、３色有機ＥＬ表示装置の場合、任意の隣接する３つの有機ＥＬ素子３０７が異なる色となる配列である。
【００８８】
図１３は、有機ＥＬ表示装置の有機ＥＬ素子を含む要部の断面図である。図１３に示すように、素子基板３０１は、ガラス基板３１０と、ガラス基板３１０の一方の表面上に形成された複数のスイッチング素子３１２と、スイッチング素子３１２を覆うように形成された絶縁層３１１と、絶縁層３１１上に形成されており、導通層３１４ａを介してスイッチング素子３１２と導通している複数の画素電極３１４と、複数の画素電極３１４の間に形成された隔壁３１５と、を有する。さらに、隔壁３１５によって区画された領域（以降、「画素領域３２１」と表記する。）の画素電極３１４上に形成された正孔輸送層３１６と、正孔輸送層３１６上に積層して形成された発光層３１７と、発光層３１７および隔壁３１５を覆うように設けられた対向電極３１８と、を有する。隔壁３１５は、遮光層３２３と、第一濡れ性可変層３２４と、第二濡れ性可変層３２５と、撥液層３２６とが、ガラス基板３１０上にこの順番で積層されて形成されている。第一濡れ性可変層３２４が、第一の隔壁層に相当し、第二濡れ性可変層３２５が、第二の隔壁層に相当する。
【００８９】
有機ＥＬ表示装置３００は、素子基板３０１の対向電極３１８に対向して封止基板３０９が配置され、対向電極３１８と封止基板３０９との間に不活性ガス３２０が封入されている。隔壁３１５によって区画された画素領域３２１の画素電極３１４上に形成された正孔輸送層３１６、発光層３１７、対向電極３１８が、有機ＥＬ素子３０７に該当する。
【００９０】
画素領域３２１に、赤色、緑色、又は青色の光をそれぞれ発光する、赤色発光層３１７Ｒ（赤色系）、緑色発光層３１７Ｇ（緑色系）、青色発光層３１７Ｂ（青色系）を形成することで、赤色素子３０７Ｒ、緑色素子３０７Ｇ、青色素子３０７Ｂを形成する。赤色素子３０７Ｒ、緑色素子３０７Ｇ、青色素子３０７Ｂを各１個ずつ含む有機ＥＬ素子３０７の組で、画像を構成する最小単位である絵素を形成している。１絵素内の赤色素子３０７Ｒ、緑色素子３０７Ｇ、青色素子３０７Ｂのいずれか１つ又はそれらの組合せを選択的に発光させることにより、フルカラー表示を行う。
【００９１】
＜有機ＥＬ素子の製造＞
次に、有機ＥＬ表示装置３００の素子基板３０１における、有機ＥＬ素子３０７を構成する正孔輸送層３１６及び発光層３１７を形成する工程について、図１４、図１５、及び図１６を参照して説明する。図１４は素子基板の正孔輸送層及び発光層の形成工程を示すフローチャートであり、図１５及び図１６は、素子基板の正孔輸送層及び発光層の形成工程を示す模式断面図である。
【００９２】
図１４のステップＳ３１では、図１５（ａ）に示すように、スイッチング素子３１２と、絶縁層３１１と、導通層３１４ａと、画素電極３１４とが形成されたガラス基板３１０の表面に、遮光層３２３を格子状に形成する。
【００９３】
次に、図１４のステップＳ３２では、遮光層３２３の格子を覆うように、第一濡れ性可変層膜３２４ａを形成する。第一濡れ性可変層膜３２４ａは、正孔輸送層３１６を構成する材料を含む機能液に対する濡れ性を変えることができる材料で構成する。
次に、図１４のステップＳ３３では、第一濡れ性可変層膜３２４ａを覆うように、第二濡れ性可変層膜３２５ａを形成する。第二濡れ性可変層膜３２５ａは、発光層３１７を構成する材料を含む機能液に対する濡れ性を変えることができる材料で構成する。
【００９４】
次に、図１４のステップＳ３４では、第二濡れ性可変層膜３２５ａを覆うように、撥液層膜３２６ａを形成する。ステップＳ３４を実施して、図１５（ｂ）に示すように、ガラス基板３１０の上の、遮光層３２３、及び画素領域３２１となる部分を覆う、隔壁膜３１５ａが形成される。
【００９５】
次に、図１４のステップＳ３５では、画素領域３２１を形成する。画素領域３２１は、ガラス基板３１０の上に形成された隔壁膜３１５ａにおいて、画素領域３２１を形成する位置などの部分を、フォトエッチングなどによって取り除くことで、形成する。ステップＳ３５を実施して、図１５（ｃ）に示すように、ガラス基板３１０の上に、遮光層３２３と、第一濡れ性可変層３２４と、第二濡れ性可変層３２５と、撥液層３２６とが、ガラス基板３１０側からこの順番で積層されて、隔壁３１５が形成される。すなわち、上述したように格子状に形成された隔壁３１５によって区画されて、平面形状が略方形状の画素領域３２１が形成されている。
撥液層３２６は撥液性であるため、隔壁３１５の上面は撥液性である。第一濡れ性可変層３２４及び第二濡れ性可変層３２５は濡れ性可変材料が撥液性の状態で形成されているため、隔壁３１５の側面は、面の大部分が撥液性である。
【００９６】
次に、図１４のステップＳ３６では、画素領域３２１に正孔輸送層３１６を構成する材料を含む正孔輸送層材料液３６０を配置する。正孔輸送層材料液３６０を配置するために、図１５（ｄ）に示すように、隔壁３１５によって区画された画素領域３２１が形成されたガラス基板３１０の表面に液滴吐出ヘッド１７を対向させる。液滴吐出ヘッド１７が有する吐出ノズル７８から、画素領域３２１に向けて、正孔輸送層材料液３６０の液滴３６０ａを吐出することによって、画素領域３２１に正孔輸送層材料液３６０を配置する。
【００９７】
上述したように、撥液層３２６は撥液性であるため、隔壁３１５の上面は撥液性である。このため、液滴吐出ヘッド１７から吐出された正孔輸送層材料液３６０の液滴３６０ａの部分が隔壁３１５に乗り上げて着弾しても、正孔輸送層材料液３６０は隔壁３１５の面にはじかれて、画素領域３２１に流入する。
隔壁３１５の上面を構成する撥液層３２６は撥液性であり、第一濡れ性可変層３２４及び第二濡れ性可変層３２５は濡れ性可変材料が撥液性の状態で形成されているため、隔壁３１５の側面は、面の大部分が撥液性である。画素領域３２１に配置された正孔輸送層材料液３６０は、図１５（ｄ）に示すように、隔壁３１５の側面からはじかれて、正孔輸送層材料液３６０が隔壁３１５に接触し難くなっている。すなわち、正孔輸送層材料液３６０は、画素領域３２１における隔壁３１５の際には濡れ広がり難くなっている。したがって、正孔輸送層材料液３６０が画素領域３２１から溢れるほど過剰に供給されない限り、画素領域３２１に配置された正孔輸送層材料液３６０が隔壁３１５に乗り上げる可能性は、非常に小さく、正孔輸送層材料液３６０が隔壁３１５の上に存在する可能性は非常に小さい。
【００９８】
次に、図１４のステップＳ３７では、第一濡れ性可変層３２４を親液化する。第一濡れ性可変層３２４が、例えば、温度が一定以上になると親液性を示す材料であれば、第一濡れ性可変層３２４を有する隔壁３１５が形成され、正孔輸送層材料液３６０が配置されたガラス基板３１０を、加熱する。第一濡れ性可変層３２４が、例えば、特定の光を照射することによって親液性を示す材料であれば、第一濡れ性可変層３２４を有する隔壁３１５が形成され、正孔輸送層材料液３６０が配置されたガラス基板３１０に、第一濡れ性可変層３２４を親液化させる光を照射する。このとき、マスクを用いて、隔壁３１５あるいは第一濡れ性可変層３２４に選択的に光を照射することもできる。選択的に光を照射して、正孔輸送層材料液３６０に光が当たることを抑制することで、光によって正孔輸送層材料液３６０が影響を受けることを抑制することができる。第一濡れ性可変層３２４を親液化する工程が、濡れ性変化工程に相当する。
【００９９】
なお、この時点では、第二濡れ性可変層３２５は撥液性を維持させることが必要であるため、第一濡れ性可変層３２４を親液化する処理は、第二濡れ性可変層３２５を親液化させる処理と異なる処理となるようにそれぞれの材料を選択する。例えば、第一濡れ性可変層３２４を、熱を加えることによって親液化する材料で形成する場合には、第二濡れ性可変層３２５は、光を照射することによって親液化する材料で形成する。あるいは、第一濡れ性可変層３２４を構成する材料と第二濡れ性可変層３２５を構成する材料とを、親液化する温度が異なる材料にしたり、親液化させるための光が異なる材料にしたりする。
第一濡れ性可変層３２４が親液性となることによって、隔壁３１５の側面の根元側（ガラス基板３１０側）は正孔輸送層材料液３６０に濡れやすくなるため、図１５（ｅ）に示すように、画素領域３２１に配置された正孔輸送層材料液３６０は、隔壁３１５の側面に濡れ広がり、画素領域３２１の全域に濡れ広がる。
【０１００】
次に、ステップＳ３８では、正孔輸送層材料液３６０を仮焼成する。仮焼成は、正孔輸送層材料液３６０を例えば加熱して、流動しない程度に硬化させる。図１５（ｅ）に示したように画素領域３２１の全域に濡れ広がった正孔輸送層材料液３６０が硬化することによって、図１５（ｆ）に示すように、画素領域３２１の全面に詰まった正孔輸送層３１６が形成される。
【０１０１】
次に、ステップＳ３９では、正孔輸送層３１６を焼成する。仮焼成した正孔輸送層３１６をさらに焼成して、充分硬化させた正孔輸送層３１６を形成する。ステップＳ３９を終了して、図１５（ｆ）に示すように、正孔輸送層３１６が形成される。
なお、この時点では、第二濡れ性可変層３２５は撥液性を維持させることが必要であるため、正孔輸送層３１６を仮焼成したり焼成したりする処理は、第二濡れ性可変層３２５を親液化させる処理と異なる処理となるようにそれぞれの材料を選択する。
【０１０２】
次に、ステップＳ４０では、画素領域３２１の正孔輸送層３１６の上に発光層材料液３７０を配置する。図１６（ｇ）に示したように、正孔輸送層３１６が形成された複数の画素領域３２１のそれぞれに向けて、発光層３１７の材料を含む発光層材料液３７０を液滴吐出ヘッド１７から液滴３７０ａとして吐出し、画素領域３２１の正孔輸送層３１６の上に発光層材料液３７０を配置する。勿論、異なる色の各発光層３１７が形成される各画素領域３２１に対しては、異なる発光層材料を含む発光層材料液３７０を吐出する。例えば、上述した３色の発光層によるカラー表示（図１２参照）であれば、赤色、緑色、青色の光をそれぞれ発光する、赤色発光層３１７Ｒ（赤色系）、緑色発光層３１７Ｇ（緑色系）、青色発光層３１７Ｂ（青色系）をそれぞれ形成するべき画素領域３２１に向けて、それぞれの発光層３１７を形成する発光層形成材料を含む発光層材料液３７０Ｒ、発光層材料液３７０Ｇ、又は発光層材料液３７０Ｂの液滴３７０Ｒａ、液滴３７０Ｇａ、又は液滴３７０Ｂａを、液滴吐出ヘッド１７から吐出する。
【０１０３】
上述したように、撥液層３２６は撥液性であるため、隔壁３１５の上面は撥液性である。このため、液滴吐出ヘッド１７から吐出された発光層材料液３７０の液滴３７０ａの部分が隔壁３１５に乗り上げて着弾しても、発光層材料液３７０は隔壁３１５の面にはじかれて、画素領域３２１に流入する。
隔壁３１５の上面を構成する撥液層３２６は撥液性であり、第二濡れ性可変層３２５は濡れ性可変材料が撥液性の状態で形成されているため、隔壁３１５の側面は、面の大部分が撥液性である。画素領域３２１に配置された発光層材料液３７０Ｒ，３７０Ｇ，３７０Ｂは、図１６（ｇ）に示すように、隔壁３１５の側面からはじかれて、発光層材料液３７０が隔壁３１５に接触し難くなっている。すなわち、発光層材料液３７０は、画素領域３２１における隔壁３１５の際には濡れ広がり難くなっている。
したがって、発光層材料液３７０が画素領域３２１から溢れるほど過剰に供給されない限り、画素領域３２１に配置された発光層材料液３７０が隔壁３１５に乗り上げる可能性は、非常に小さい。乗り上げる可能性が非常に小さいため、異なる画素領域３２１に配置された発光層材料液３７０Ｒ、発光層材料液３７０Ｇ、又は発光層材料液３７０Ｂが、隔壁３１５を越えて混じりあう可能性は非常に小さい。
【０１０４】
次に、図１４のステップＳ４１では、第二濡れ性可変層３２５を親液化する。第二濡れ性可変層３２５が、例えば、温度が一定以上になると親液性を示す材料であれば、第二濡れ性可変層３２５を有する隔壁３１５が形成され、発光層材料液３７０が配置されたガラス基板３１０を、加熱する。第二濡れ性可変層３２５が、例えば、特定の光を照射することによって親液性を示す材料であれば、第二濡れ性可変層３２５を有する隔壁３１５が形成され、発光層材料液３７０が配置されたガラス基板３１０に、第二濡れ性可変層３２５を親液化させる光を照射する。このとき、マスクを用いて、隔壁３１５あるいは第二濡れ性可変層３２５に選択的に光を照射することもできる。選択的に光を照射して、発光層材料液３７０に光が当たることを抑制することで、光によって発光層材料液３７０が影響を受けることを抑制することができる。第二濡れ性可変層３２５を親液化する工程が、濡れ性変化工程に相当する。
第二濡れ性可変層３２５が親液性となることによって、隔壁３１５の側面は発光層材料液３７０に濡れやすくなるため、図１６（ｈ）に示すように、画素領域３２１に配置された発光層材料液３７０は、隔壁３１５の側面に濡れ広がり、画素領域３２１の全域に濡れ広がる。
【０１０５】
次に、ステップＳ４２では、発光層材料液３７０を仮焼成する。仮焼成は、発光層材料液３７０を、例えば発光層材料液３７０に紫外線を照射して、流動しない程度に硬化させる。図１６（ｈ）に示したように画素領域３２１の全域に濡れ広がった発光層材料液３７０が硬化することによって、図１６（ｉ）に示すように、画素領域３２１の全面に詰まった発光層３１７（赤色発光層３１７Ｒ、緑色発光層３１７Ｇ、青色発光層３１７Ｂ）が形成される。
【０１０６】
次に、ステップＳ４３では、発光層３１７（赤色発光層３１７Ｒ、緑色発光層３１７Ｇ、青色発光層３１７Ｂ）を焼成する。仮焼成した発光層３１７をさらに焼成して、充分硬化させた発光層３１７を形成する。ステップＳ４３を終了して、図１６（ｉ）に示すように、発光層３１７（赤色発光層３１７Ｒ、緑色発光層３１７Ｇ、青色発光層３１７Ｂ）が形成される。
ステップＳ４３を実施して、正孔輸送層及び発光層の形成工程を終了する。
【０１０７】
以下、第二の実施形態の効果を記載する。第二の実施形態によれば、第一の実施形態による効果に加えて以下の効果が得られる。
（１）隔壁３１５の上面を形成する撥液層３２６は撥液性であるため、隔壁３１５の上面は撥液性である。このため、液滴吐出ヘッド１７から吐出された正孔輸送層材料液３６０の液滴３６０ａの部分が隔壁３１５に乗り上げて着弾しても、正孔輸送層材料液３６０は隔壁３１５の面にはじかれて、画素領域３２１に流入する可能性が高く、隔壁３１５の上に正孔輸送層材料液３６０が載ることを抑制することができる。
隔壁３１５の側面は、面の大部分が撥液性であるため、画素領域３２１に配置された正孔輸送層材料液３６０は、隔壁３１５の側面からはじかれて、正孔輸送層材料液３６０が隔壁３１５の際には濡れ広がり難くなっている。このため、画素領域３２１に配置された正孔輸送層材料液３６０が隔壁３１５に乗り上げる可能性は、非常に小さく、正孔輸送層材料液３６０が隔壁３１５の上に存在する可能性を非常に小さくすることができる。
【０１０８】
（２）画素領域３２１に正孔輸送層材料液３６０を配置した状態で、第一濡れ性可変層３２４を親液化する。第一濡れ性可変層３２４が親液性となることによって、隔壁３１５の側面の根元側は正孔輸送層材料液３６０に濡れやすくなるため、画素領域３２１に配置された正孔輸送層材料液３６０を、隔壁３１５の側面に濡れ広がらせて、画素領域３２１の全域に濡れ広がらせることができる。
【０１０９】
（３）第一濡れ性可変層３２４を構成する材料と、第二濡れ性可変層３２５を構成する材料とは、親液化させる処理が互いに異なる材料がそれぞれ用いられている。これにより、第一濡れ性可変層３２４を親液化させる処理を実施することによって第二濡れ性可変層３２５が親液化されることを抑制することができる。
【０１１０】
（４）隔壁３１５の上面を形成する撥液層３２６は撥液性であるため、隔壁３１５の上面は撥液性である。このため、液滴吐出ヘッド１７から吐出された発光層材料液３７０の液滴３７０ａの部分が隔壁３１５に乗り上げて着弾しても、発光層材料液３７０は隔壁３１５の面にはじかれて、画素領域３２１に流入する可能性が高く、隔壁３１５の上に発光層材料液３７０が載ることを抑制することができる。
隔壁３１５の上面を構成する撥液層３２６は撥液性であり、第二濡れ性可変層３２５は濡れ性可変材料が撥液性を有する状態で形成されているため、正孔輸送層３１６が形成された状態で、隔壁３１５の側面は、面の大部分が撥液性である。これにより、画素領域３２１に配置された発光層材料液３７０が隔壁３１５に乗り上げる可能性は、非常に小さく、異なる画素領域３２１に配置された発光層材料液３７０が隔壁３１５を越えて混じりあう可能性を非常に小さくすることができる。
【０１１１】
（５）画素領域３２１に発光層材料液３７０を配置した後、仮焼成を実施する前に、第二濡れ性可変層３２５を親液化する。第二濡れ性可変層３２５が親液性となることによって、隔壁３１５の側面は発光層材料液３７０に濡れやすくなるため、画素領域３２１に配置された発光層材料液３７０は、隔壁３１５の側面に濡れ広がり、画素領域３２１の全域に濡れ広がる。これにより、画素領域３２１の全面に隙間なく発光層３１７を形成することができる。
【０１１２】
（第三の実施形態）
次に、膜形成方法、電気光学装置の製造方法、電気光学装置、及び電子機器の一実施形態である第三の実施形態について図面を参照して、説明する。本実施形態は、第一の実施形態で説明した液晶表示装置のカラーフィルタを製造する工程において形成した隔壁の、他の構成例について説明する。
【０１１３】
＜隔壁の構成例１＞
第一の実施形態で説明した隔壁２０４とは異なる構成を有する隔壁４０４の構成及び形成過程について、図１７を参照して説明する。図１７は、隔壁の構成過程を示す断面図である。
【０１１４】
最初に、第一の実施形態で説明したガラス基板２０１の上に、第一の実施形態で図７（ａ）を参照して説明したように、ブラックマトリックス２０２を格子状に形成する。
次に、図１７（ａ）に示すように、ブラックマトリックス２０２の格子を覆うように、撥液層膜４３２ａを形成する。撥液層膜４３２ａは、第一の実施形態で説明した撥液層膜３２ａと同様に、フィルタ膜２０５を構成する材料を含む機能液に対して撥液性を有する材料で構成する。
次に、図１７（ｂ）に示すように、撥液層膜４３２ａの部分を取り除いて、撥液層４３２を形成する。撥液層４３２を形成することで、図１７（ｄ）に示したフィルタ膜領域４２５を包含する大きさの拡大フィルタ膜領域４２５Ａを形成する。拡大フィルタ膜領域４２５Ａは、ガラス基板２０１の上に形成された撥液層膜４３２ａにおいて、フィルタ膜領域４２５を形成する位置及びその周囲の部分を、フォトエッチングなどによって取り除くことで、形成する。
次に、図１７（ｃ）に示すように、拡大フィルタ膜領域４２５Ａを埋める状態に、濡れ性可変層膜４３１ａを形成する。濡れ性可変層膜４３１ａは、第一の実施形態で説明した濡れ性可変層膜３１ａと同様に、フィルタ膜２０５を構成する材料を含む機能液に対する濡れ性を変えることができる材料で構成する。
次に、図１７（ｄ）に示すように、フィルタ膜領域４２５を形成する。フィルタ膜領域４２５は、ガラス基板２０１の上の拡大フィルタ膜領域４２５Ａに形成された濡れ性可変層膜４３１ａにおいて、フィルタ膜領域４２５を形成する位置の部分を、フォトエッチングなどによって取り除くことで、形成する。図１７（ｄ）に示すように、ブラックマトリックス２０２の上に、撥液層４３２及び撥液層４３２を挟んで濡れ性可変層４３１が形成された隔壁４０４が形成される。すなわち、第一の実施形態で説明した上述したフィルタ膜領域２２５と同様に、格子状に形成された隔壁４０４によって区画されて、方形のフィルタ膜領域４２５が形成されている。
【０１１５】
図１７（ｅ）に示した隔壁４０６は、隔壁４０４の濡れ性可変層４３１とは異なる断面形状を有する濡れ性可変層４４１を有する隔壁である。濡れ性可変層４４１は、フィルタ膜領域４２６を形成する際に、深さ方向とともに広がり方向にもエッチングすることで、ブラックマトリックス２０２に接続する面と、撥液層４３２に接続する面と、フィルタ膜領域４２６に臨む面とで構成され、断面が三角形になっている。
【０１１６】
＜隔壁の構成例２＞
次に、第一の実施形態で説明した隔壁２０４とは異なる構成を有する隔壁の構成例について、図１８を参照して説明する。図１８は、隔壁の構成例を示す断面図である。
【０１１７】
図１８（ａ）に示した隔壁４１２は、ブラックマトリックス２０２と、濡れ性可変層４５１と、撥液層４５２とを有している。隔壁４１２によって、フィルタ膜領域４５５が区画形成されている。ブラックマトリックス２０２は、第一の実施形態で説明したガラス基板２０１の上に、第一の実施形態で図７（ａ）を参照して説明したように、格子状に形成されている。濡れ性可変層４５１は、ブラックマトリックス２０２の上に積層されており、幅はブラックマトリックス２０２と略同じになっている。濡れ性可変層４５１は、フィルタ膜を構成する材料を含む機能液に対する濡れ性を変えることができる材料で構成されている。撥液層４５２は、濡れ性可変層４５１の上に積層されており、幅は濡れ性可変層４５１より狭くなっている。撥液層４５２は、第一の実施形態で説明した撥液層３２と同様に、フィルタ膜を構成する材料を含む機能液に対して撥液性を有する材料で構成されている。
【０１１８】
機能液がフィルタ膜領域４５５に配置された状態で濡れ性可変層４５１を親液化すると、フィルタ膜領域４５５に配置された機能液は、濡れ性可変層４５１の上面の撥液層４５２に覆われていない部分にも濡れ広がる。濡れ性可変層４５１の上面に濡れ広がった部分は、平面方向においてフィルタ膜領域４５５の範囲から外れるため、当該部分では、フィルタ膜の端がフィルタ膜領域４５５の範囲から外れる。これにより、フィルタ膜の表面近くの端部の形状がフィルタ膜領域４５５に形成されるフィルタ膜の機能に影響を与えることを抑制することができる。
また、フィルタ膜領域４５５に臨む濡れ性可変層４５１の面に対して、撥液層４５２のフィルタ膜領域４５５側の面が離れているため、臨む濡れ性可変層４５１の面に撥液性を有する撥液層４５２の面が連続している構成に比べて、濡れ性可変層４５１のフィルタ膜領域４５５に臨む面に機能液が密着し易くすることができる。
【０１１９】
図１８（ｂ）に示した隔壁４１４は、ブラックマトリックス２０２と、濡れ性可変層４６１とを有している。隔壁４１４によって、フィルタ膜領域４５６が区画形成されている。ブラックマトリックス２０２は、第一の実施形態で説明したガラス基板２０１の上に、第一の実施形態で図７（ａ）を参照して説明したように、格子状に形成されている。濡れ性可変層４６１は、ブラックマトリックス２０２の上に積層されており、幅はブラックマトリックス２０２と略同じになっている。濡れ性可変層４６１は、フィルタ膜を構成する材料を含む機能液に対する濡れ性を変えることができる材料で構成されている。
【０１２０】
フィルタ膜領域４５６に機能液を配置する際は、濡れ性可変層４６１を撥液性を有する状態にすることで、隔壁４１４上に機能液が載ることを抑制することができる。フィルタ膜領域４５６に配置された機能液を固化する際は、先立って濡れ性可変層４６１を親液性を有する状態にすることで、隔壁４１４に機能液がなじんで、フィルタ膜領域４５６に配置された機能液をフィルタ膜領域４５６の全面に略均一に濡れ広がらせることができる。
濡れ性可変層４６１を親液性を有する状態にした際に機能液が隔壁４１４を乗越えることを抑制するために、隔壁４１４の高さを、フィルタ膜領域４５６に配置する機能液を充分保持することができる高さにすることが好ましい。
隔壁４１４は頂部に撥液性膜を有しないため、撥液性膜を形成するための時間を省略して、カラーフィルタなどを製造するための時間を抑制することができる。また、フィルタ膜領域４５６に機能液を充填した状態であっても、隔壁４１４の少なくとも頂部は機能液に覆われていないため、親液化などの処理を、隔壁４１４に直接作用させる操作を用いて実施することができる。
【０１２１】
図１８（ｃ）に示した隔壁４１６は、ブラックマトリックス２０２と、濡れ性可変層４６３と、撥液層４５２とを有している。ガラス基板２０１の上には、濡れ性可変膜４６５が形成されている。濡れ性可変膜４６５は、フィルタ膜を構成する材料を含む機能液に対する濡れ性を変えることができる材料で構成されている。ブラックマトリックス２０２は、濡れ性可変膜４６５の上に、第一の実施形態で図７（ａ）を参照して説明したように、格子状に形成されている。濡れ性可変層４６３は、ブラックマトリックス２０２の上に積層されており、幅はブラックマトリックス２０２と略同じになっている。撥液層４５２は、濡れ性可変層４６３の上に積層されており、幅は濡れ性可変層４６３より狭くなっている。濡れ性可変層４６３は、フィルタ膜を構成する材料を含む機能液に対する濡れ性を変えることができる材料で構成されている。撥液層４５２は、第一の実施形態で説明した撥液層３２と同様に、フィルタ膜を構成する材料を含む機能液に対して撥液性を有する材料で構成されている。
【０１２２】
フィルタ膜領域４５７に機能液を配置する際は、濡れ性可変膜４６５を撥液性を有する状態にすることで、フィルタ膜領域４５７に配置された機能液がフィルタ膜領域４５７内を流動し易くすることができる。フィルタ膜領域４５７に配置された機能液を固化する際は、機能液を固化する作業に先立って濡れ性可変膜４６５を親液性を有する状態にすることで、フィルタ膜領域４５７の底面を形成する濡れ性可変膜４６５に機能液がなじんで、フィルタ膜領域４５７に配置された機能液をフィルタ膜領域４５７の全面に略均一に濡れ広がらせることができる。
【０１２３】
図１８（ｄ）に示した隔壁４１８は、濡れ性可変層４６７と、撥液層４０２とを有している。隔壁４１８によって、フィルタ膜領域４５８が区画形成されている。隔壁４１８は、第一の実施形態で説明したガラス基板２０１の上に、第一の実施形態で図７（ａ）を参照して説明したブラックマトリックス２０２と同様に、格子状に形成されている。撥液層４０２は、フィルタ膜を構成する材料を含む機能液に対して第一の実施形態で説明した撥液層３２と同様に撥液性を有すると共に、遮光性を有する材料で構成されている。
【０１２４】
フィルタ膜領域４５８に機能液を配置する際は、濡れ性可変層４６７を撥液性を有する状態にすることで、隔壁４１８上に機能液が載ることを抑制することができる。フィルタ膜領域４５８に配置された機能液を固化する際は、先立って濡れ性可変層４６７を親液性を有する状態にすることで、隔壁４１８に機能液がなじんで、フィルタ膜領域４５８に配置された機能液をフィルタ膜領域４５８の全面に略均一に濡れ広がらせることができる。
撥液層４０２は遮光性を有する材料で構成されているため、フィルタ膜領域４５８を光学的に区画可能である。このため、ブラックマトリックス２０２のような遮光層を別途形成することは不要であり、遮光層を形成するために要する時間を抑制することができる。
【０１２５】
（第四の実施形態）
次に、膜形成方法、電気光学装置の製造方法、電気光学装置、及び電子機器の一実施形態である第四の実施形態について図面を参照して、説明する。本実施形態は、電気光学装置の一例である液晶表示装置の素子基板のような半導体アレイ基板を製造する工程において、機能膜の一例である配線膜で形成された配線パターンを形成する工程で用いられる膜形成方法を例に説明する。本実施形態出用いる液滴吐出装置は、第一の実施形態で説明した液滴吐出装置１と実質的に同一のものである。
【０１２６】
最初に、半導体アレイ基板における薄膜トランジスタ（ＴＦＴ（Thin Film Transistor））について、図１９及び図２０を参照して説明する。図１９は、ＴＦＴアレイ基板におけるＴＦＴを１個含む部分の概略構成を示す平面図である。図２０は、ＴＦＴアレイ基板のＴＦＴを１個含む部分の概略構成を示す断面図である。図２０（ａ）は、ＴＦＴを含む部分の断面図であり、図２０（ｂ）は、ゲート配線とソース配線とが平面的に交差する部分の断面図である。
【０１２７】
図１９に示すように、ＴＦＴ５３０を有するＴＦＴアレイ基板５１０は、ゲート配線５１２と、ソース配線５１６と、ドレイン電極５１４と、ドレイン電極５１４に電気的に接続する画素電極５１９とを備えている。ゲート配線５１２はＸ軸方向に延びるように形成され、その一部がＹ軸方向に延びるように形成されている。そして、Ｙ軸方向に伸びるゲート配線５１２の一部がゲート電極５１１として用いられている。なお、ゲート電極５１１の幅はゲート配線５１２の幅よりも狭くなっている。このゲート配線５１２が、本実施形態の膜形成方法を用いて形成される。また、Ｙ軸方向に伸びるように形成されたソース配線５１６の一部は幅広に形成されており、このソース配線５１６の一部がソース電極５１７として用いられている。このソース配線５１６も、本実施形態の膜形成方法を用いて形成される。
【０１２８】
図２０に示すように、ゲート配線５１２及びゲート電極５１１は、基板５０１の上に設けられたバンク５０４の間に形成されている。ゲート配線５１２及びゲート電極５１１並びにバンク５０４は、絶縁膜５２８に覆われており、絶縁膜５２８の上に、半導体層である活性層５６３と、ソース配線５１６と、ソース電極５１７と、ドレイン電極５１４と、バンク５０６とが形成されている。活性層５６３は、概ねゲート電極５１１に対向する位置に設けられており、活性層５６３のゲート電極５１１に対向する部分がチャネル領域とされている。活性層５６３上には、接合層５６４ａ及び５６４ｂが積層されており、ソース電極５１７は接合層５６４ａを介して、ドレイン電極５１４は接合層５６４ｂを介して、活性層５６３と接合されている。ソース電極５１７及び接合層５６４ａと、ドレイン電極５１４及び接合層５６４ｂとは、活性層５６３上に設けられたバンク５６７によって、互いに絶縁されている。ゲート配線５１２は、絶縁膜５２８によって、ソース配線５１６と絶縁されており、ゲート電極５１１は、絶縁膜５２８によって、ソース電極５１７及びドレイン電極５１４と絶縁されている。ソース配線５１６と、ソース電極５１７と、ドレイン電極５１４とは、絶縁膜５２９で覆われている。絶縁膜５２９のドレイン電極５１４を覆う部分には、コンタクトホールが形成されており、コンタクトホールを介してドレイン電極５１４と接続する画素電極５１９が、絶縁膜５２９の上面に形成されている。
【０１２９】
バンク５０４は、濡れ性可変層５３１と撥液層５３２とで構成されている。濡れ性可変層５３１は、配線膜を形成する材料を含む機能液に対する濡れ性を変えることができる材料を用いて形成されている。撥液層５３２は、配線膜を形成する材料を含む機能液に対して撥液性を有する材料を用いて形成されている。濡れ性可変層５３１の厚さは、ゲート配線５１２及びゲート電極５１１より僅かに厚く設定されている。バンク５０６は、濡れ性可変層５３５と撥液層５３４とで構成されている。濡れ性可変層５３５は、配線膜を形成する材料を含む機能液に対する濡れ性を変えることができる材料を用いて形成されている。撥液層５３４は、配線膜を形成する材料を含む機能液に対して撥液性を有する材料を用いて形成されている。濡れ性可変層５３５の厚さは、ソース配線５１６、ソース電極５１７、及びドレイン電極５１４より僅かに厚く設定されている。
【０１３０】
第一の実施形態において説明した素子基板２１０は、ＴＦＴ素子２１５を有するＴＦＴアレイ基板である。ＴＦＴ素子２１５がＴＦＴ５３０に相当し、画素電極２１７が画素電極５１９に相当し、走査線２１２がゲート配線５１２に相当し、信号線２１４がソース配線５１６に相当する。
【０１３１】
次に、ゲート配線５１２及びゲート電極５１１の膜パターンを形成する過程について説明する。
最初に、基板５０１の上に、ゲート配線５１２及びゲート電極５１１を形成する部分が溝として形成されているバンク５０４を形成する。バンク５０４は、基板５０１の上に濡れ性可変層５３１を形成し、濡れ性可変層５３１の上に撥液層５３２を積層して形成する。このとき、ゲート配線５１２及びゲート電極５１１を形成する配線溝に臨む濡れ性可変層５３１は、配線膜を形成する材料を含む配線機能液に対して撥液性を有している。
【０１３２】
次に、バンク５０４の配線溝に、例えば第一の実施形態で説明した液滴吐出装置１を用いて、配線機能液を配置する。このとき、配線溝に向けて吐出された配線機能液の液滴の部分がバンク５０４にかかる可能性があるが、バンク５０４の上面は、配線機能液に対して撥液性を有する撥液層５３２であるため、バンク５０４の上面にかかった配線機能液ははじかれて、配線溝に流れ込む。
【０１３３】
次に、配線溝に臨む濡れ性可変層５３１の面の濡れ性を、配線機能液に対して親液性に変化させる。これにより、配線機能液が配線溝の濡れ性可変層５３１の面になじんで、配線溝の断面全体にゆきわたるように充填される。
次に、配線機能液を固化させて、ゲート配線５１２及びゲート電極５１１の膜を形成する。
【０１３４】
次に、ソース配線５１６、ソース電極５１７、及びドレイン電極５１４の膜パターンを形成する過程について説明する。
最初に、ゲート配線５１２及びゲート電極５１１並びにバンク５０４を覆う絶縁膜５２８の上に、ソース配線５１６、ソース電極５１７、及びドレイン電極５１４を形成する部分が溝として形成されているバンク５０６を形成する。バンク５０６は、絶縁膜５２８の上に濡れ性可変層５３５を形成し、濡れ性可変層５３５の上に撥液層５３４を積層して形成する。このとき、ソース配線５１６、ソース電極５１７、及びドレイン電極５１４を形成する配線溝に臨む濡れ性可変層５３５は、配線膜を形成する材料を含む配線機能液に対して撥液性を有している。
【０１３５】
次に、バンク５０６の配線溝に、例えば第一の実施形態で説明した液滴吐出装置１を用いて、配線機能液を配置する。このとき、配線溝に向けて吐出された配線機能液の液滴の部分がバンク５０６にかかる可能性があるが、バンク５０６の上面は、配線機能液に対して撥液性を有する撥液層５３４であるため、バンク５０６の上面にかかった配線機能液ははじかれて、配線溝に流れ込む。
【０１３６】
次に、配線溝に臨む濡れ性可変層５３５の面の濡れ性を、配線機能液に対して親液性に変化させる。これにより、配線機能液が配線溝の濡れ性可変層５３５の面になじんで、配線溝の断面全体にゆきわたるように充填される。
次に、配線機能液を固化させて、ソース配線５１６、ソース電極５１７、及びドレイン電極５１４の膜を形成する。
【０１３７】
以下、第四の実施形態の効果を記載する。第四の実施形態によれば、第一乃至第三の実施形態による効果に加えて以下の効果が得られる。
（１）ゲート配線５１２及びゲート電極５１１を形成する部分が配線溝として形成されているバンク５０４を形成する撥液層５３２は撥液性であるため、バンク５０４の上面は撥液性である。配線溝に臨む濡れ性可変層５３１は、配線膜を形成する材料を含む配線機能液に対して撥液性を有している。配線機能液は、この配線溝に配置されるため、バンク５０４に乗り上げた配線機能液は、撥液性の撥液層５３２にはじかれて配線溝に流れ落ちる可能性が高く、バンク５０４の上に配線機能液が載ることを抑制することができる。
また、配線溝内の配線機能液は、撥液性の濡れ性可変層５３１にはじかれて、バンク５０４の際には濡れ広がり難くなっている。これにより、配線溝に配置された配線機能液がバンク５０４の上面に乗り上げる可能性は、非常に小さく、隣り合う配線溝に配置された配線機能液がバンク５０４を越えて連通する可能性を非常に小さくすることができる。
【０１３８】
（２）ゲート配線５１２及びゲート電極５１１を形成する配線溝に配線機能液を配置した後、固化させる前に、濡れ性可変層５３１を親液化する。濡れ性可変層５３１が親液性となることによって、配線溝の側面は配線機能液に濡れやすくなるため、配線溝に配置された配線機能液は、配線溝の側面に濡れ広がり、配線溝の断面全体にゆきわたるように充填される。これにより、断面形状が配線溝の断面形状によって規定される形状に略等しいゲート配線５１２又はゲート電極５１１を形成することができる。
【０１３９】
（第五の実施形態）
次に、膜形成方法、電気光学装置の製造方法、電気光学装置、及び電子機器の一実施形態である第五の実施形態について図面を参照して、説明する。本実施形態は、電気光学装置を備える電子機器について説明する。本実施形態の電子機器は、第三の実施形態で説明した液晶表示装置を備えた電子機器である。本実施形態の電子機器の具体例について、図２１を参照して説明する。図２１は、電子機器の外観斜視図である。
【０１４０】
図２１（ａ）は、電子機器の一例としての携帯電話の一例を示した外観斜視図である。図２１（ａ）に示した携帯電話６００は、上記実施形態の液晶表示パネル２００を備えた液晶表示部６０１を備えている。
【０１４１】
図２１（ｂ）は、ノート型のパーソナルコンピュータなどの携帯型情報処理装置の一例を示した外観斜視図である。図２１（ｂ）に示した情報処理装置７００は、キーボードなどの入力部７０１と、情報処理本体７０３と、上記実施形態の液晶表示パネル２００のような液晶表示装置を備えた液晶表示部７０２と、を備えている。
【０１４２】
図２１（ｃ）は、腕時計型電子機器の一例を示した外観斜視図である。図２１（ｃ）に示した腕時計型電子機器８００は、上記実施形態の液晶表示パネル２００のような液晶表示装置を備えた液晶表示部８０１を備えている。
【０１４３】
図２１（ａ），（ｂ），（ｃ）に示す電子機器は、上述した実施形態の液晶表示パネル２００のような液晶表示装置を備えたものである。当該晶表示装置は、膜形成区画（フィルタ膜領域）の全面に機能液を充填することによって、膜（フィルタ膜）の実現すべき機能を実現するのに充分な膜厚及び断面形状を有する膜（フィルタ膜）を形成することができる膜形成方法を用いて形成されたフィルタ膜を有することにより、高性能が得られるカラーフィルタを備えている。
【０１４４】
第五の実施形態によれば、以下の効果が得られる。
（１）携帯電話６００や、情報処理装置７００や、腕時計型電子機器８００は、フィルタ膜領域２２５の全面に隙間なくフィルタ膜２０５を形成できる膜形成方法を用いて、規定された形状のフィルタ膜２０５が形成されることによって好適な表示機能が得られた液晶表示パネル２００又は同様の好適な表示機能が得られた液晶表示パネルを備える。このため、好適な表示機能を有する携帯電話６００や、情報処理装置７００や、腕時計型電子機器８００を実現することができる。
【０１４５】
以上、添付図面を参照しながら好適な実施形態について説明したが、好適な実施形態は前記実施形態に限らない。実施形態は、要旨を逸脱しない範囲内において種々変更を加え得ることは勿論であり、以下のように実施することもできる。
【０１４６】
（変形例１）前記第一の実施形態においては、液晶表示パネル２００が備えるカラーフィルタであるＣＦ層２０８について説明したが、上述した膜形成方法を用いて好適に製造できるカラーフィルタは、液晶表示装置のカラーフィルタに限らない。上述した膜形成方法を用いることで、無色又は有色の光を発光する発光層と組合せてカラー有機ＥＬ装置を形成する有機ＥＬ装置用のカラーフィルタも好適に製造することができる。
【０１４７】
（変形例２）前記第二の実施形態においては、正孔輸送層３１６及び発光層３１７を形成するために、濡れ性可変材料からなる第一濡れ性可変層３２４及び第二濡れ性可変層３２５を設けていたが、複数の機能膜を形成するのに対応して、濡れ性可変材料からなる層を複数設けることは必須ではない。隔壁の頂部に近い方に形成される機能膜の形成に対応するために、隔壁の頂部に近い側面を濡れ性可変材料で形成し、膜形成領域の底に近い方に形成される機能膜の形成に対応するためには、隔壁の膜形成領域の底に近い側面を親液性にする構成であってもよい。隔壁の頂部に近い側面を濡れ性可変材料で形成し、機能液を配置する際は撥液性にすることで、配置された機能液が隔壁に乗り上げることを抑制することができる。
【０１４８】
（変形例３）前記第一乃至第三の実施形態においては、隔壁２０４や隔壁３１５は、濡れ性可変層３１及び撥液層３２や第一濡れ性可変層３２４と第二濡れ性可変層３２５及び撥液層３２６に加えて、ブラックマトリックス２０２や遮光層３２３を備えていた。しかし、機能膜が光を透過させるものであったり、光を発光するものであったりする場合であっても、隔壁が濡れ性可変層や撥液層の他に遮光用の層を備えることは必須ではない。濡れ性可変層や撥液層を遮光性も有する材料で形成したり、濡れ性可変層や撥液層を構成する材料に遮光性材料を混入して遮光性を付与したりしてもよい。
【０１４９】
（変形例４）前記第一乃至第三の実施形態においては、隔壁２０４や隔壁３１５は最もガラス基板２０１やガラス基板３１０に近い最下層の層としてブラックマトリックス２０２や遮光層３２３を備えていた。しかし、遮光用の層を最下層に設けることは必須ではない。遮光用の層を、例えば頂面を形成する層として設けてもよい。この場合、遮光用の層は、撥液性を有する材料で構成することが好ましい。
【０１５０】
（変形例５）前記実施形態においては、液晶表示パネル２００が備えるＣＦ層２０８は、赤色フィルタ膜２０５Ｒ、緑色フィルタ膜２０５Ｇ、及び青色フィルタ膜２０５Ｂの３色のフィルタ膜を有する３色フィルタであったが、カラーフィルタは、さらに多くの種類のフィルタ膜を有する多色のカラーフィルタであってもよい。多色のカラーフィルタとしては、例えば、赤色、緑色、青色に加えて赤色、緑色、青色の補色のシアン（青緑）、マゼンタ（紫赤）、イエロー（黄色）の有機ＥＬ素子を有する６色カラーフィルタや、シアン（青緑）、マゼンタ（紫赤）、イエロー（黄色）の３色に緑色を加えた４色カラーフィルタなどがあげられる。
【０１５１】
（変形例６）前記実施形態においては、電気光学装置として、液晶表示パネル２００や有機ＥＬ表示装置３００において、フィルタ膜２０５や正孔輸送層３１６や発光層３１７を形成する際の描画吐出について説明したが、電気光学装置は、液晶装置や有機ＥＬ装置に限らない。上述したような膜を有する装置、又は形成過程において上記したような膜を形成する必要がある電気光学装置であれば、どのような電気光学装置であってもよい。
【０１５２】
（変形例７）前記実施形態においては、膜形成方法を用いて機能膜を形成する対象物の一例として、電気光学装置の一例である、フィルタ膜２０５を有する液晶表示パネル２００や、発光層３１７を有する有機ＥＬ表示装置３００や、ゲート配線５１２やソース配線５１６を有する液晶表示装置のＴＦＴアレイ基板５１０などについて説明した。しかし、膜形成方法を用いて機能膜を形成する対象物は電気光学装置に限らない。上述した膜形成方法は、製造に際して液状体を配置して膜を形成する様々な加工対象物における膜形成方法として利用できる。例えば、導電性材料からなる配線を有する配線基板を製造するために液状の導電材料を配置する、配線基板における配線導電膜の形成方法、半導体ウェハ又は半導体装置の配線導電膜を形成するために液状の導電材料を配置する半導体ウェハ又は半導体装置における配線導電膜の形成方法、半導体ウェハ又は半導体装置の絶縁層を形成するために液状の絶縁材料を配置する半導体ウェハ又は半導体装置における絶縁膜の形成方法などとして、利用することもできる。
【０１５３】
（変形例８）前記第二の実施形態においては、有機ＥＬ素子３０７は、正孔輸送層３１６と発光層３１７とが、画素電極３１４と対向電極３１８とに挟まれた構成であったが、有機ＥＬ素子は、このような構成に限らない。有機ＥＬ素子は、発光層のみが画素電極と対向電極とに挟まれた構成のものや、正孔輸送層と発光層と電子輸送層とが挟まれた構成のものや、正孔輸送層と発光層と電子輸送層と正孔注入層とが挟まれた構成のものや、正孔輸送層と発光層と電子輸送層と正孔注入層と電子注入層とが挟まれた構成のものなどが知られている。本発明の膜形成方法は、これらの電子輸送層や正孔注入層や電子注入層の形成にも適用することができる。
【０１５４】
（変形例９）前記第二の実施形態においては、第一濡れ性可変層３２４及び第二濡れ性可変層３２５を設け、有機ＥＬ素子３０７における正孔輸送層３１６と発光層３１７との両方とも上記した膜形成方法を適用して形成していた。しかし、機能膜を有する装置を構成する機能膜の全てに、上記した膜形成方法を適用して当該装置を形成することは必須ではない。例えば発光層のように、膜形成区画から機能膜がはみ出すことの影響が特に著しい機能膜の形成のみに、上記した膜形成方法を適用するなど、一部の機能膜の形成にのみ適用してもよい。
【０１５５】
（変形例１０）前記第一乃至第三の実施形態においては、フィルタ膜領域２２５や画素領域３２１などの平面形状は角部を有する方形状であったが、フィルタ膜領域や画素領域などの機能膜を形成するための領域の形状が方形状であることは必須ではない。方形状とは異なる多角形であってもよいし、略円形など曲線で構成された形状であってもよい。近年、表示特性を向上させるために、画素の形状が長方形とは異なる表示装置も考案されている。
【０１５６】
（変形例１１）前記第五の実施形態においては、液晶表示パネル２００のような液晶表示装置を備える表示部を備える電子機器を例に説明したが、電子機器が備える液晶表示装置が、ＣＦ膜を上述した膜形成方法で形成した液晶表示装置であることは必須ではない。電子機器が備える液晶表示装置は、第四の実施形態において説明したＴＦＴアレイ基板５１０のように、配線膜を上述した膜形成方法で形成した液晶表示装置などを備える電子機器であってもよい。
【０１５７】
（変形例１２）前記第五の実施形態においては、液晶表示パネル２００のような液晶表示装置を備える表示部を備える電子機器を例に説明したが、電子機器が備える電気光学装置が液晶表示装置であることは必須ではない。電子機器が備える電気光学装置は、第二の実施形態において説明した有機ＥＬ表示装置３００のような、配線膜を上述した膜形成方法で形成した他の電気光学装置を備える電子機器であってもよい。
【０１５８】
（変形例１３）前記実施形態においては、液滴吐出ヘッド１７は、インクジェット方式の液滴吐出ヘッドであったが、吐出ヘッドがインクジェット方式の液滴吐出ヘッドであることは必須ではない。液状体を配置するために使用する液滴吐出ヘッドは、インクジェット方式とは異なる方式の液滴吐出ヘッドであってもよい。
【０１５９】
（変形例１４）前記実施形態においては、配置装置として、インクジェット法を用いて機能液を液滴として吐出する液滴吐出装置について説明したが、配置装置は、インクジェット法を用いる液滴吐出装置に限らない。例えば、複数のマイクロディスペンサを有する流体処理装置のように、他の方式で液状体を配置する装置であってもよい。
【図面の簡単な説明】
【０１６０】
【図１】液滴吐出装置の概略構成を示す外観斜視図。
【図２】（ａ）は、液滴吐出ヘッドをノズルプレート側から見た外観斜視図。（ｂ）は、液滴吐出ヘッドの圧力室周りの構造を示す斜視断面図。（ｃ）は、液滴吐出ヘッドの吐出ノズル部の構造を示す断面図。
【図３】液晶表示パネルの概略構成を示す分解斜視図。
【図４】（ａ）は、対向基板の平面構造を模式的に示す平面図。（ｂ）は、マザー対向基板の平面構造を模式的に示す平面図。
【図５】３色カラーフィルタのフィルタ膜の配列例を示す模式平面図。
【図６】フィルタ層を形成する過程を示すフローチャート。
【図７】フィルタ層を形成する過程を示す断面図。
【図８】液晶表示パネルを形成する過程を示すフローチャート。
【図９】液晶表示パネルを形成する過程における対向基板を形成する工程などを示す断面図。
【図１０】液晶表示パネルを形成する過程における素子基板を形成する工程などを示す断面図。
【図１１】有機ＥＬ表示装置の平面構成を示す概略正面図。
【図１２】有機ＥＬ素子の配列例を示す平面図。
【図１３】有機ＥＬ表示装置の有機ＥＬ素子を含む要部の断面図。
【図１４】素子基板の正孔輸送層及び発光層の形成工程を示すフローチャート。
【図１５】素子基板の正孔輸送層及び発光層の形成工程を示す模式断面図。
【図１６】素子基板の正孔輸送層及び発光層の形成工程を示す模式断面図。
【図１７】隔壁の構成過程を示す断面図。
【図１８】隔壁の構成過程を示す断面図。
【図１９】ＴＦＴアレイ基板におけるＴＦＴを１個含む部分の概略構成を示す平面図。
【図２０】（ａ）は、ＴＦＴを含む部分の断面図。（ｂ）は、ゲート配線とソース配線とが平面的に交差する部分の断面図。
【図２１】（ａ）は、電子機器の一例としての携帯電話の一例を示した外観斜視図。（ｂ）は、ノート型のパーソナルコンピュータなどの携帯型情報処理装置の一例を示した外観斜視図。（ｃ）は、腕時計型電子機器の一例を示した外観斜視図。
【符号の説明】
【０１６１】
１…液滴吐出装置、１７…液滴吐出ヘッド、３１…濡れ性可変層、３１ａ…濡れ性可変層膜、３２…撥液層、３２ａ…撥液層膜、２００…液晶表示パネル、２０１…ガラス基板、２０２…ブラックマトリックス、２０３…バンク、２０３ａ…バンク膜、２０４…隔壁、２０５…フィルタ膜、２１０…素子基板、２１１…ガラス基板、２２５…フィルタ膜領域、２５２…機能液、３００…有機ＥＬ表示装置、３０１…素子基板、３０７…有機ＥＬ素子、３１０…ガラス基板、３１４…画素電極、３１５…隔壁、３１５ａ…隔壁膜、３１６…正孔輸送層、３１７…発光層、３２１…画素領域、３２３…遮光層、３２４…第一濡れ性可変層、３２４ａ…第一濡れ性可変層膜、３２５…第二濡れ性可変層、３２５ａ…第二濡れ性可変層膜、３２６…撥液層、３２６ａ…撥液層膜、３６０…正孔輸送層材料液、３７０…発光層材料液、５０１…基板、５０４，５０６…バンク、５１０…ＴＦＴアレイ基板、５１１…ゲート電極、５１２…ゲート配線、５１４…ドレイン電極、５１６…ソース配線、５１７…ソース電極、５１９…画素電極、５３０…ＴＦＴ、５３１…濡れ性可変層、５３２…撥液層、５３４…撥液層、５３５…濡れ性可変層、６００…携帯電話、７００…情報処理装置、８００…腕時計型電子機器。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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