(57)【要約】【課題】表示画面の有効活用を可能とする。【解決手段】基板の複数の露光領域にそれぞれ露光処理を行う。複数の露光領域の位置に関する情報を表示する表示装置ＤＰと、露光処理でエラーが生じない際には、露光領域の位置に関する情報を第１の形態で表示し、露光処理でエラーが生じた際、またはエラーが生じた可能性がある際には、露光領域の位置に関する情報を第１の形態と異なる第２の形態で表示させる制御装置とを備える。【選択図】図６
2010062366.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の複数の露光領域にそれぞれ露光処理を行う露光装置であって、
前記複数の露光領域の位置に関する情報を表示する表示装置と、
前記露光処理でエラーが生じない際には、露光領域の位置に関する情報を第１の形態で表示し、前記露光処理でエラーが生じた際、またはエラーが生じた可能性がある際には、露光領域の位置に関する情報を前記第１の形態と異なる第２の形態で表示させる制御装置と、
を備えることを特徴とする露光装置。
【請求項２】
請求項１記載の露光装置において、
前記第２の形態は、露光領域の位置に関する情報を、前記第１の形態と異なる色で表示することを特徴とする露光装置。
【請求項３】
請求項１または２記載の露光装置において、
前記第２の形態は、露光領域の位置に関する情報を、前記第１の形態と異なる点滅パターンまたは明滅パターンで表示することを特徴とする露光装置。
【請求項４】
請求項１から３のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記制御装置は、前記露光処理でエラーが生じた際と、前記露光処理でエラーが生じた可能性がある際とで前記露光領域の位置に関する情報を異なる形態で表示させることを特徴とする露光装置。
【請求項５】
請求項１から４のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記制御装置は、前記表示装置に第２の形態で表示された露光領域の位置に関する情報を選択した際に、前記エラーに関する第２情報を表示画面に表示させることを特徴とする露光装置。
【請求項６】
請求項５記載の露光装置において、
前記制御装置は、前記エラーに関する第２情報と、当該エラーの対応方法とを表示させることを特徴とする露光装置。
【請求項７】
請求項６記載の露光装置において、
前記表示装置は、前記複数の露光領域の位置に関する情報を表示する第１表示部と、該第１表示部とは区画して形成され、前記エラーに関する第２情報及び当該エラーの対応方法の少なくとも一方を表示する第２表示部とを有することを特徴とする露光装置。
【請求項８】
請求項５から７のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記表示画面は、タッチパネル形式であり、
前記露光領域の位置に関する情報の選択は、前記表示画面をタッチすることにより行うことを特徴とする露光装置。
【請求項９】
基板を用いて露光処理を行う露光装置と、前記基板を用いて前記露光に関する処理を行う処理装置とを備えた露光システムであって、
前記露光装置として、請求項１から８のいずれか一項に記載の露光装置が用いられることを特徴とする露光システム。
【請求項１０】
基板の複数の露光領域にそれぞれ露光処理を行う工程を有する露光方法であって、
前記複数の露光領域の位置に関する情報を、前記露光処理でエラーが生じない際には第１の形態で表示し、前記露光処理でエラーが生じた際、またはエラーが生じた可能性がある際には前記第１の形態と異なる第２の形態で表示する工程を備えることを特徴とする露光方法。
【請求項１１】
請求項１０記載の露光方法において、
前記第２の形態は、露光領域の位置に関する情報を、前記第１の形態と異なる色で表示することを特徴とする露光方法。
【請求項１２】
請求項１０または１１記載の露光方法において、
前記第２の形態は、露光領域の位置に関する情報を、前記第１の形態と異なる点滅パターンまたは明滅パターンで表示することを特徴とする露光方法。
【請求項１３】
請求項１０から１２のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記露光処理でエラーが生じた際と、前記露光処理でエラーが生じた可能性がある際とで前記露光領域の位置に関する情報を異なる形態で表示させることを特徴とする露光方法。
【請求項１４】
請求項１０から１３のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第２の形態で表示された露光領域の位置に関する情報を選択した際に、前記エラーに関する第２情報を表示画面に表示する工程を有することを特徴とする露光方法。
【請求項１５】
請求項１４記載の露光方法において、
前記エラーに関する第２情報と、当該エラーの対応方法とを表示することを特徴とする露光方法。
【請求項１６】
請求項１５記載の露光方法において、
前記複数の露光領域の位置に関する情報を第１表示部に表示し、
前記エラーに関する第２情報及び当該エラーの対応方法の少なくとも一方を、前記第１表示部とは区画して形成された第２表示部に表示することを特徴とする露光方法。
【請求項１７】
請求項１４から１６のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記表示画面は、タッチパネル形式であり、
前記露光領域の位置に関する情報の選択は、前記表示画面をタッチすることにより行うことを特徴とする露光方法。
【請求項１８】
請求項１０から１７のいずれか一項に記載の露光方法を用いることを特徴とするデバイス製造方法。
【請求項１９】
所定の文字群から選択して入力される情報に基づいて露光処理を行う露光装置であって、
前記露光処理に関する情報を表示する表示装置と、
前記表示装置に表示される前記文字群を選択して入力する入力部とを備え、
前記入力部には、前記所定の文字群のうち特定の一部の文字に対応する文字領域が設けられることを特徴とする露光装置。
【請求項２０】
請求項１９記載の露光装置において、
前記表示装置は、タッチパネル形式の前記入力部が設けられた表示画面を有し、
前記文字群の選択は、前記表示画面をタッチすることにより行うことを特徴とする露光装置。
【請求項２１】
請求項１９または２０記載の露光装置において、
前記表示される特定の一部の文字は、前記露光処理に関するパラメータの入力に用いる文字であることを特徴とする露光装置。
【請求項２２】
請求項１９または２０記載の露光装置において、
前記表示される特定の一部の文字は、使用者認識に用いる文字であることを特徴とする露光装置。
【請求項２３】
請求項１９から２２のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記入力部は、前記所定の文字群のうち、前記特定の一部を除く文字に対応する文字領域が非表示であることを特徴とする露光装置。
【請求項２４】
請求項２３記載の露光装置において、
前記入力部は、前記非表示の文字を表示状態とする表示化領域を有することを特徴とする露光装置。
【請求項２５】
請求項１９から２４のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記文字領域は、前記表示装置の表示画面内で任意の位置に移動可能であることを特徴とする露光装置。
【請求項２６】
請求項２５記載の露光装置において、
前記文字領域は、前記表示画面に当接して指示した位置に移動可能であることを特徴とする露光装置。
【請求項２７】
請求項１９から２６のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記文字領域は、前記文字の入力を待機する所定の待機部を選択したときに表示されることを特徴とする露光装置。
【請求項２８】
請求項１９から２７のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記文字領域は、複数升目状に配置されることを特徴とする露光装置。
【請求項２９】
請求項１９から２７のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記文字の入力を待機する待機部が設けられ、
前記文字領域は、前記待機部において前記文字を入力する位置を指定する位置指定領域と、該位置指定領域で指定された位置に入力する文字を指定する文字指定領域とを有することを特徴とする露光装置。
【請求項３０】
所定の文字群から選択して入力される情報に基づいて露光処理と、前記露光に関する処理とを行う露光システムであって、
前記露光処理に関する情報と、前記露光に関する処理に関する情報との少なくとも一方を表示する表示装置と、
前記表示装置に表示される前記文字群を選択して入力する入力部とを備え、
前記入力部には、前記所定の文字群のうち特定の一部の文字に対応する文字領域が設けられることを特徴とする露光システム。
【請求項３１】
請求項３０記載の露光システムにおいて、
前記表示装置は、タッチパネル形式の前記入力部が設けられた表示画面を有し、
前記文字群の選択は、前記表示画面をタッチすることにより行うことを特徴とする露光システム。
【請求項３２】
請求項３０または３１記載の露光システムにおいて、
前記表示される特定の一部の文字は、前記露光処理と前記露光に関する処理との少なくとも一方に関するパラメータの入力に用いる文字であることを特徴とする露光システム。
【請求項３３】
請求項３０または３１記載の露光システムにおいて、
前記表示される特定の一部の文字は、使用者認識に用いる文字であることを特徴とする露光システム。
【請求項３４】
請求項３０から３３のいずれか一項に記載の露光システムにおいて、
前記入力部は、前記所定の文字群のうち、前記特定の一部を除く文字に対応する文字領域が非表示であることを特徴とする露光システム。
【請求項３５】
請求項３４記載の露光システムにおいて、
前記入力部は、前記非表示の文字を表示状態とする表示化領域を有することを特徴とする露光システム。
【請求項３６】
請求項３０から３５のいずれか一項に記載の露光システムにおいて、
前記文字領域は、前記表示装置の表示画面内で任意の位置に移動可能であることを特徴とする露光システム。
【請求項３７】
請求項３６記載の露光システムにおいて、
前記文字領域は、前記表示画面に当接して指示した位置に移動可能であることを特徴とする露光システム。
【請求項３８】
請求項３０から３７のいずれか一項に記載の露光システムにおいて、
前記文字領域は、前記文字の入力を待機する所定の待機部を選択したときに表示されることを特徴とする露光システム。
【請求項３９】
請求項３０から３８のいずれか一項に記載の露光システムにおいて、
前記文字領域は、複数升目状に配置されることを特徴とする露光システム。
【請求項４０】
請求項３０から３８のいずれか一項に記載の露光システムにおいて、
前記文字の入力を待機する待機部が設けられ、
前記文字領域は、前記待機部において前記文字を入力する位置を指定する位置指定領域と、該位置指定領域で指定された位置に入力する文字を指定する文字指定領域とを有することを特徴とする露光システム。
【請求項４１】
所定の文字群から選択して入力される情報に基づいて露光処理を行う露光方法であって、
前記露光処理に関する情報を表示する表示工程と、
前記所定の文字群のうち特定の一部の文字に対応する文字領域が設けられる入力部により、前記文字を選択して入力する入力工程とを有することを特徴とする露光方法。
【請求項４２】
請求項４１記載の露光方法において、
タッチパネル形式の前記入力部が設けられた表示画面が設けられ、
前記文字群の選択は、前記表示画面をタッチすることにより行うことを特徴とする露光方法。
【請求項４３】
請求項４１または４２記載の露光方法において、
前記表示される特定の一部の文字は、前記露光処理に関するパラメータの入力に用いる文字であることを特徴とする露光方法。
【請求項４４】
請求項４１または４２記載の露光方法において、
前記表示される特定の一部の文字は、使用者認識に用いる文字であることを特徴とする露光方法。
【請求項４５】
請求項４１から４４のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記入力部は、前記所定の文字群のうち、前記特定の一部を除く文字に対応する文字領域が非表示であることを特徴とする露光方法。
【請求項４６】
請求項４５記載の露光方法において、
前記入力部は、前記非表示の文字を表示状態とする表示化領域を有することを特徴とする露光方法。
【請求項４７】
請求項４１から４６のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記露光処理に関する情報を表示する表示画面内で前記文字領域を任意の位置に移動させる工程を有することを特徴とする露光方法。
【請求項４８】
請求項４７記載の露光方法において、
前記表示画面に当接して指示した位置に前記文字領域を移動させることを特徴とする露光方法。
【請求項４９】
請求項４１から４８のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記文字の入力を待機する所定の待機部を選択したときに、前記文字領域を表示させることを特徴とする露光方法。
【請求項５０】
請求項４１から４９のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記文字領域を、複数升目状に配置することを特徴とする露光方法。
【請求項５１】
請求項４１から４９のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記文字の入力を待機する待機部を設け、
前記文字領域は、前記待機部において前記文字を入力する位置を指定する位置指定領域と、該位置指定領域で指定された位置に入力する文字を指定する文字指定領域とを有することを特徴とする露光方法。
【請求項５２】
請求項４１から５１のいずれか一項に記載の露光方法を用いることを特徴とするデバイス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光方法、露光システム及び露光方法並びにデバイス製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
マスク上のパターンを露光対象物である感光性基板（例えば、感光性樹脂を塗布したウエハなど）に露光転写して半導体素子などを製造する、リソグラフィ工程（露光処理工程）で使用される露光装置などには、操作・表示装置としての操作パネル（制御卓：コンソール）が配置されていて、この操作パネルを介して露光装置に種々の作業を指示している。露光装置では、操作パネルを介して指示された作業を実施するプログラムを呼び出し、このプログラムに基づいてマスクとしてのレチクルが載置されるレチクルステージや、ウエハが載置されるウエハステージや、レチクル上のパターンをウエハ上に投影露光する投影光学系などを制御して、露光処理を行っている。
【０００３】
従来、この種の操作パネルでは、例えば露光装置に与える種々の命令やパラメータの集まりであるジョブの名称などを複数羅列したジョブ・リストを表示し、この表示されたジョブ・リストから実行したいジョブを選択して露光装置に実行させるように構成したものが提案されている（特許文献１参照）。
【０００４】
また、選択可能な各種ジョブのリストの表示と、このリスト中から実行すべきジョブの選択並びにジョブを実行するのに必要なパラメータに基づいた露光レイアウトの表示を行うコンソール部を備え、該コンソール部の同一画面上にジョブのリストと、選択されたジョブにおける露光レイアウトを表示するように構成したものも提案されている（特許文献２参照）。
【特許文献１】特開平４−６４２１５号公報
【特許文献２】特開平８−１５３６７１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、上述したような従来技術には、以下のような問題が存在する。
露光装置や、さらに露光処理に関連する処理を行う処理装置を備えた露光システムでは、扱うデータの種類が多いため、操作パネルの有効活用が求められている。
ところが、従来では、例えば感光性基板に対する露光処理でエラーが生じた場合、エラーコード等が記載されたポップアップ画面が表示されるものの、複数の露光領域の中、どの露光領域でエラーが生じたかを知るためには、さらに複数の画面を表示させる必要があり、新たに表示された画面で他の情報が隠れてしまい、必要な情報に迅速にアクセスできないという事態が生じる可能性がある。
【０００６】
また、操作パネルに設けられたタッチパネルを介して、例えば露光処理に関するパラメータを入力する技術が知られているが、表示画面にはキーボードと同等のキー配列が設定されるため、表示画面内で大きな領域を占有することになり、やはり他の必要な情報に迅速にアクセスできないという事態が生じる可能性がある。また、この問題を回避するために表示画面内でキーを小さく設定することも可能だが、この場合、キー入力が細かな作業となり、作業性が低下するとともに、誤入力が生じる虞もある。
【０００７】
本発明は、以上のような点を考慮してなされたもので、表示画面の有効活用を可能とする露光装置、露光システム及び露光方法並びにデバイス製造方法を提供することを目的とし、具体的にはエラーが生じた露光領域に関する情報を容易に確認できる露光装置、露光システム及び露光方法並びにデバイス製造方法を提供することを目的とする。
【０００８】
また、本発明の別の目的は、効率的な入力部を設定することにより、表示画面の有効活用を可能とする露光装置、露光システム及び露光方法並びにデバイス製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記の目的を達成するために本発明は、実施の形態を示す図１ないし図１３対応付けした以下の構成を採用している。
本発明の露光装置は、基板（Ｗ）の複数の露光領域にそれぞれ露光処理を行う露光装置（ＥＸ−ＳＹＳ）であって、複数の露光領域の位置に関する情報を表示する表示装置（ＤＰ）と、露光処理でエラーが生じない際には、露光領域の位置に関する情報を第１の形態で表示し、露光処理でエラーが生じた際、またはエラーが生じた可能性がある際には、露光領域の位置に関する情報を第１の形態と異なる第２の形態で表示させる制御装置（ＣＯＮＴ）と、を備えることを特徴とするものである。
また、本発明の露光方法は、基板の複数の露光領域にそれぞれ露光処理を行う工程を有する露光方法であって、複数の露光領域の位置に関する情報を、露光処理でエラーが生じない際には第１の形態で表示し、露光処理でエラーが生じた際、またはエラーが生じた可能性がある際には第１の形態と異なる第２の形態で表示する工程を備えることを特徴とするものである。
従って、本発明の露光装置及び露光方法では、露光処理でエラーが生じない際には、露光領域の位置に関する情報が表示装置に第１の形態で表示され、露光処理でエラーが生じた際、またはエラーが生じた可能性がある際には露光領域の位置に関する情報が第１の形態と異なる第２の形態で表示されるため、形態の違いにより、露光処理でエラーが発生した、またはエラーが発生した可能性がある露光領域を一瞥して認識することが可能となる。
【００１０】
また、本発明の露光装置は、所定の文字群から選択して入力される情報に基づいて露光処理を行う露光装置（ＥＸ−ＳＹＳ）であって、露光処理に関する情報を表示する表示装置（ＤＰ）と、表示装置に表示される前記文字群を選択して入力する入力部（７０）とを備え、入力部には、前記所定の文字群のうち特定の一部の文字に対応する文字領域が設けられることを特徴とするものである。
また、本発明の露光方法は、所定の文字群から選択して入力される情報に基づいて露光処理を行う露光方法であって、露光処理に関する情報を表示する表示工程と、所定の文字群のうち特定の一部の文字に対応する文字領域が設けられる入力部により、前記文字を選択して入力する入力工程とを有することを特徴とするものである。
従って、本発明の露光装置及び露光方法では、表示装置における文字領域は、所定の文字群のうち特定の一部の文字に対応して設けられるため、他の文字に対応する領域は表示されない。そのため、本発明では、所定の文字群に対応する文字領域と比較して、文字領域を小さくすることが可能となり、表示画面の有効活用を図ることができる。
【００１１】
そして、本発明の露光システムは、基板を用いて露光処理を行う露光装置と、前記基板を用いて前記露光に関する処理を行う処理装置とを備えた露光システムであって、露光装置として、先に記載の露光装置が用いられることを特徴とするものである。
従って、本発明の露光システムでは、露光処理と露光に関する処理でエラーが生じない際には、露光領域の位置に関する情報が表示装置に第１の形態で表示され、露光処理と露光に関する処理との少なくとも一方でエラーが生じた際、またはエラーが生じた可能性がある際には露光領域の位置に関する情報が第１の形態と異なる第２の形態で表示されるため、形態の違いにより、露光処理と露光に関する処理でエラーが発生した、またはエラーが発生した可能性がある露光領域を一瞥して認識することが可能となる。
【００１２】
また、本発明の露光システムは、所定の文字群から選択して入力される情報に基づいて露光処理と、前記露光に関する処理とを行う露光システム（ＳＹＳ）であって、露光処理に関する情報と、露光に関する処理に関する情報との少なくとも一方を表示する表示装置（ＤＰ）と、表示装置に表示される前記文字群を選択して入力する入力部（７０）とを備え、入力部には、所定の文字群のうち特定の一部の文字に対応する文字領域が設けられることを特徴とするものである。
従って、本発明の露光システムでは、表示装置における文字領域は、所定の文字群のうち特定の一部の文字に対応して設けられるため、他の文字に対応する領域は表示されない。そのため、本発明では、所定の文字群に対応する文字領域と比較して、文字領域を小さくすることが可能となり、表示画面の有効活用を図ることができる。
【００１３】
また、本発明のデバイス製造方法は、先に記載の露光方法を用いることを特徴とするものである。
従って、本発明のデバイス製造方法では、表示画面を有効に活用しつつ露光処理を実施することができ、効率的なデバイス製造を実現することができる。
なお、本発明をわかりやすく説明するために、一実施例を示す図面の符号に対応付けて説明したが、本発明が実施例に限定されるものではないことは言うまでもない。
【発明の効果】
【００１４】
本発明では、エラーが生じた露光領域に関する情報を容易に確認できる。また、本発明では、表示画面を有効に活用することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、本発明の露光装置、露光システム及び露光方法並びにデバイス製造方法の実施の形態を、図１ないし図１３を参照して説明する。
なお、以下の説明においては、ＸＹＺ直交座標系を設定し、このＸＹＺ直交座標系を参照しつつ各部材の位置関係について説明する。そして、水平面内における所定方向をＸ軸方向、水平面内においてＸ軸方向と直交する方向をＹ軸方向、Ｘ軸方向及びＹ軸方向のそれぞれに直交する方向（すなわち鉛直方向）をＺ軸方向とする。また、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸まわりの回転（傾斜）方向をそれぞれ、θＸ、θＹ、及びθＺ方向とする。
【００１６】
図１は、露光装置ＥＸ−ＳＹＳ及び露光に関連する処理を行う処理装置ＩＦを備える露光システムＳＹＳの概略図であり、図２は露光システムＳＹＳの概略的な断面平面図である。
この露光システムＳＹＳは、ウエハＷの露光処理を行う露光装置本体ＥＸを有する露光装置ＥＸ−ＳＹＳと、コータ・デベロッパ装置等との間でウエハの受け渡しを行うインターフェース部（処理装置）ＩＦとを備える構成となっている。
【００１７】
インターフェース部ＩＦには、図２に示すように、露光システムＳＹＳの外部からウエハＷが供給される供給用テーブル１１と、露光装置本体ＥＸで露光処理されたウエハＷが載置されて回収される回収用テーブル１２とが設けられている。
【００１８】
露光装置ＥＸ−ＳＹＳは、ウエハＷの露光処理を行う露光装置本体ＥＸと、ウエハＷを搬送する搬送系Ｈと、温調／アライメントユニットＰＳＵと、露光装置ＥＸ−ＳＹＳ全体の動作を統括制御する制御装置ＣＯＮＴと、露光システムＳＹＳにおける処理（露光処理及び露光関連処理）に関する情報を表示する表示装置ＤＰとを備えており、露光装置本体ＥＸ及び搬送系Ｈは清浄度が管理されたチャンバ装置ＣＨ１内部に配置されている。また、表示装置ＤＰは、チャンバ装置ＣＨ１の外側に露出して設けられている。
なお、上記搬送系Ｈ、温調／アライメントユニットＰＳＵは、露光装置本体ＥＸに対して露光に関する処理（搬送処理、温調処理、アライメント処理）を行う処理部を構成している。
【００１９】
図３は、露光装置本体ＥＸの概略的な構成図である。
露光装置本体ＥＸは、レチクル（マスク）Ｒとウエハ（感光基板）Ｗとを一次元方向に同期移動しつつ、レチクルＲに形成されたパターンを投影光学系３０を介してウエハＷ上の各ショット領域に転写するステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置、すなわちいわゆるスキャニング・ステッパである。
そして、露光装置本体ＥＸは、露光光ＥＬによりレチクル（マスク）Ｒを照明する照明光学系１０、レチクルＲを保持するレチクルステージＲＳＴ、レチクルＲから射出される露光光ＥＬをウエハＷ上に投射する投影光学系３０、ウエハＷを保持するウエハステージＰＳＴ、露光装置本体ＥＸを統括的に制御する制御装置ＣＯＮＴ等を備える。
【００２０】
照明光学系１０は、レチクルステージＲＳＴに支持されているレチクルＲを露光光ＥＬで照明するものであり、露光用光源５から射出された光束の照度を均一化するオプティカルインテグレータ、オプティカルインテグレータからの露光光ＥＬを集光するコンデンサレンズ、リレーレンズ系、露光光ＥＬによるレチクルＲ上の照明領域をスリット状に設定する可変視野絞り等（いずれ不図示）を有している。
そして、光源５から射出されたレーザビームは、照明光学系１０に入射され、レーザビームの断面形状がスリット状又は矩形状（多角形）に整形されるとともに照度分布がほぼ均一な照明光（露光光）ＥＬとなってレチクルＲ上に照射される。
なお、照明光学系１０から射出される露光光ＥＬとしては、例えば水銀ランプから射出される紫外域の輝線（ｇ線、ｈ線、ｉ線）及びＫｒＦエキシマレーザ光（波長２４８ｎｍ）等の遠紫外光（ＤＵＶ光）や、ＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）及びＦ２レーザ光（波長１５７ｎｍ）等の真空紫外光（ＶＵＶ光）などが用いられる。本実施形態においてはＡｒＦエキシマレーザ光が用いられる。
【００２１】
レチクルステージＲＳＴは、レチクルＲを支持しつつ、投影光学系３０の光軸ＡＸに垂直な平面内、すなわちＸＹ平面内の２次元移動及びθＺ方向の微小回転を行うものであって、レチクルＲを保持するレチクル微動ステージと、レチクル微動ステージと一体に走査方向であるＹ軸方向に所定ストロークで移動可能なレチクル粗動ステージと、これらを移動させるリニアモータ等（いずれも不図示）を備える。そして、レチクル微動ステージには、矩形開口が形成されており、開口周辺部に設けられたレチクル吸着機構によりレチクルが真空吸着等により保持される。
レチクルステージＲＳＴ上には移動鏡２１が設けられる。また、移動鏡２１に対向する位置にはレーザ干渉計２２が設けられる。そして、レチクルステージＲＳＴ上のレチクルＲの２次元方向の位置及び回転角は、レーザ干渉計２２によりリアルタイムで計測され、その計測結果は制御装置ＣＯＮＴに出力される。そして、制御装置ＣＯＮＴがレーザ干渉計２２の計測結果に基づいてリニアモータ等を駆動することで、レチクルステージＲＳＴに支持されているレチクルＲの位置決め等が行われる。
【００２２】
投影光学系３０は、レチクルＲのパターンを所定の投影倍率βでウエハＷに投影露光するものであって、複数の光学素子で構成されており、これら光学素子は鏡筒３１で支持される。本実施形態において、投影光学系３０は、投影倍率βが例えば１／４あるいは１／５の縮小系である。なお、投影光学系３０は等倍系及び拡大系のいずれでもよい。
【００２３】
投影光学系３０及びレチクルステージＲＳＴは、それぞれ第１コラム１及び第２コラム２によって支持される。第１コラム１は定盤３上に設置され投影光学系３０を支持し、第２コラム２はその上面にレチクルステージＲＳＴが移動する案内面を形成され、第１コラム１上に設置される。
【００２４】
定盤３は、ウエハステージＰＳＴが２次元的に移動する案内面が形成されており、防振台４上に設置される。防振台４は、床からの振動が定盤３に伝達することを防ぐため防振パッドを用いている。また、防振台４は床振動の伝達を抑えるとともにレチクルステージＲＳＴ及びウエハステージＰＳＴの走査による振動を制振するために、エアパッドと電磁アクチュエータ及び定盤３の位置や加速度を計測するセンサとを組み合わせて構成し、能動的に除振するシステムとしても構わない。
なお、図３の構成では、定盤３上に第１コラム１を設置するようにしたが、定盤３と第１コラム１とをそれぞれ個別に床に設置するように配置してもよい。例えば、防振台４を介して第１コラム１を床に設置する一方で定盤３を第１コラムおよび防振台４から分離し、その定盤３を防振台４とは別に設けられた防振台を介して床に設置させることもできる。
【００２５】
ウエハステージＰＳＴは投影光学系３０の下方に配置され、ウエハＷを真空吸着により保持して２次元に移動する。ウエハステージＰＳＴの位置は、基板ステージ干渉計６によって計測される。
【００２６】
図４は、ウエハステージＰＳＴの詳細を示す図である。
ウエハステージＰＳＴは、定盤３上に形成された案内面と平行なＹ軸方向に摺動可能なＹテーブル９と、Ｙテーブル９上をＹ軸方向と直交し案内面と平行なＸ軸方向に摺動可能なＸテーブル８とから構成される。Ｘテーブル８、Ｙテーブル９のいずれも摺動装置としてエアベアリング（不図示）が用いられる。また、Ｘテーブル８及びＹテーブル９は駆動装置２１、２５により各軸方向に駆動可能である。駆動装置２１、２５としては、例えばリニアモータを使用することができる。
【００２７】
ウエハステージＰＳＴは、Ｘテーブル８に接続されると共にＹテーブル９とＸテーブル８との間で用力を伝達する用力伝達装置２０Ｘと、Ｙテーブル９に接続されると共に定盤３とＹテーブル９との間で用力を伝達する用力伝達装置２０Ｙを備えている。ここで、用力伝達装置２０Ｘにおいては、その一端がＸテーブル８に付設されていると共に、他端がＹテーブル９に付設されている。また、用力伝達装置２０Ｙにおいては、その一端がＹテーブル９に付設されていると共に、他端が定盤３に付設されている。
【００２８】
温調／アライメントユニットＰＳＵは、ウエハステージＰＳＴに搬送されるウエハＷに対して、予備的に（大まかに）位置決めするとともに、当該ウエハステージＰＳＴの温度（露光装置本体ＥＸの雰囲気温度）に温度調整するものである。
【００２９】
搬送系Ｈは、インターフェース部ＩＦにおける供給用テーブル１１と温調／アライメントユニットＰＳＵとの間でウエハＷを搬送する搬送アームＨ６と、温調／アライメントユニットＰＳＵと露光装置本体ＥＸ（ウエハステージＰＳＴ）との間でウエハＷを搬送するロードアーム（ロードスライダ）Ｈ７と、露光処理が終了したウエハＷを露光装置本体ＥＸ（ウエハステージＰＳＴ）から搬出するアンロードアーム（スライダ）Ｈ４と、アンロードアームＨ４からウエハＷを受け取って回収用テーブル１２に搬送する搬送アームＨ５とを備えている。これら搬送系Ｈの動作は、上述した制御装置ＣＯＮＴにより制御される。
【００３０】
本実施形態の露光装置ＥＸ−ＳＹＳには、図２に示すように、チャンバ装置ＣＨ１の一部に開口部Ｋ及びこの開口部Ｋを開閉するシャッタＳＹが設けられている。また、開口部Ｋを挟んで搬送アームＨ５と対向する位置には、搬送アームＨ５との間でウエハＷを受け渡しするローカルキャリアＬＣが配設されている。
【００３１】
一方、搬送アームＨ５と搬送アームＨ６との間には、中継用テーブル１３が配設されている。そして、搬送アームＨ５は、ローカルキャリアＬＣ、搬送アームＨ４，回収用テーブル１２、及び中継用テーブル１３との間でウエハＷを搬送する。また、搬送アームＨ６は、供給用テーブル１１、中継用テーブル１３、及び温調／アライメントユニットＰＳＵとの間でウエハＷを搬送する。
【００３２】
表示装置ＤＰは、チャンバ装置ＣＨ１の外面所定位置に設置された液晶ディスプレイやＣＲＴなどのディスプレイ（表示部）４１と、ディスプレイ４１の前面に設けられ露光システムＳＹＳに各種の指示を入力するタッチパネル（入力装置）４２とを有している。タッチパネル４２としては、例えば超音波方式、抵抗膜方式、赤外線方式、アナログ容量結合方式などのタッチパネルが採用される。
【００３３】
図５に示すように、ディスプレイ４１には、ウエハＷに設定された複数の露光領域について、その位置情報及び各露光領域に対する露光処理の状態をグラフィック表示する表示部４３、タッチパネル４２を介して表示モードや入力モード等の各種モードを設定するモード設定部４４、タッチパネル４２を介して各種数値を入力するための数値入力部４５等が設けられている。
【００３４】
続いて、上記の露光システムＳＹＳにおける、ウエハＷの搬送手順の概略を説明する。
インターフェース部ＩＦの供給用テーブル１１に搬送されたウエハＷは、搬送アームＨ６によって、温調／アライメントユニットＰＳＵに渡される。ここで、温調／アライメントユニットＰＳＵに渡されたウエハＷは、ウエハステージＰＳＴに対して大まかに位置合わせ（プリアライメント）されるとともに、ウエハステージＰＳＴの温度（露光装置本体ＥＸの雰囲気温度）に温度調整される。
【００３５】
位置合わせ及び温度調整されたウエハＷは、搬送アームＨ７によって露光装置本体ＥＸのウエハステージＰＳＴ上に搬入される。そして、露光処理が施されたウエハＷは、アンロードアームＨ４によりウエハステージＰＳＴから搬出された後に、搬送アームＨ５に受け渡され、この搬送アームＨ５によって回収用テーブル１２に搬送される。
【００３６】
ここで、上記の構成の露光装置ＥＸ−ＳＹＳにおいては、例えば実験時や緊急時等でウエハＷに対して優先的に露光処理を実施する場合には、シャッタＳＹを開けた状態で露光処理前で感光剤が塗布されたウエハＷをローカルキャリアＬＣから搬送アームＨ５に対して搬送する（搬送後にシャッタＳＹは閉じられる）。ウエハＷを受け取った搬送アームＨ５は、中継用テーブル１３にウエハＷを載置する。中継用テーブル１３に載置されたウエハＷは、上述した搬送手順で搬送されて露光処理が施される。
また、露光処理や露光関連処理（プリアライメントや温度調整、搬送等）でエラーが生じたウエハＷは、回収用テーブル１２に搬送されずに搬送アームＨ５によって開口部Ｋを介してローカルキャリアＬＣに受け渡して搬出（回収）される。
【００３７】
続いて、上記の露光システムＳＹＳにおいて、露光処理で何らかのエラーで許容範囲外の状態が生じた場合について説明する。
露光処理が正常に行われている場合には、例えば図５に示すように、表示部４３には、ウエハＷに設定された複数の露光領域の中、露光済みの露光領域ＣＡ（適宜露光済み領域ＣＡと称する）と、未露光の露光領域ＭＡとが異なる色（例えば、未露光領域ＭＡは灰色、露光済み領域ＣＡは青色）で表示される。
【００３８】
そして、上記露光処理で何らかのエラーが生じた場合には、図６に示すように、表示部４３には露光済み領域ＣＡの中、エラーが生じていない露光領域ＣＡ１が表示される色（例えば青色；第１の形態）とは異なる色（例えば赤色；第２の形態）でエラーが生じた露光領域ＣＡ２が表示され、エラーが生じた露光領域ＣＡ２が感覚的に認識可能となっている。また、表示部４３には、上記露光処理で許容範囲内ではあるが、何らかのエラーが生じた可能性がある露光領域ＣＡ３が、露光領域ＣＡ１、ＣＡ２とは異なる形態、ここでは異なる色（例えば黄色）で表示されている。
このように、日本の信号に用いられる青色、赤色、黄色を表示色として用いることで、エラーの有無およびエラーの可能性のある露光領域をより直感的に認識できるようにしている。なお、表示色は上記青色、赤色、黄色に限られないことは言うまでもない。
なお、露光領域ＣＡ１、ＣＡ２（及びＣＡ３）を異なる形態で表示する形式としては、単に色を異ならせるだけに止まらずに、エラー領域ＣＡ２が点滅（明滅）したり、色付けに加えて点滅（明滅）させてもよい。
【００３９】
露光領域ＣＡ２にエラーが発生した場合、オペレータが表示部４３に表示された露光領域ＣＡ２にタッチすると、図７に示すように、当該露光領域ＣＡ２に生じたエラーに関する情報（第２情報）がポップアップ画面（第１表示部）ＰＰで表示される。
なお、露光領域ＣＡ２が選択されたときには、エラーに関する情報の他に当該エラーの対応方法も表示させる構成としてもよい。この場合、エラーの対応方法は、ポップアップ画面Ｐとは区画して形成された別のポップアップ画面（第２表示部）に表示させる構成とすることも好適に採用できる。
【００４０】
ここで、上述したエラーの対応方法に基づいて、例えば露光処理に関するパラメータを修正する場合には、モード設定部４４によりパラメータ入力モードを選択する。
図８は、ディスプレイ４１にパラメータ入力画面が表示された図である。
この図に示すように、パラメータ入力画面には、複数のパラメータＰＭと、各パラメータ毎にタッチパネル４２を介して数値を入力する数値入力領域Ｎとが表示される。
そして、数値入力領域Ｎの中、図８中、最上部の数値入力領域Ｎ１に数値を入力すべく、当該数値入力領域Ｎ１をタッチすることにより、数値入力に用いられる文字として、テンキー（及び小数点）がそれぞれ矩形の文字領域で複数升目状に数値入力可能に設定された入力部７０がポップアップ画面として表示される。
【００４１】
（入力部の第１実施形態）
入力部７０に設定される文字（文字領域）としては、通常用いられるキーボードに割り付けられるアルファベットや数字、記号等の文字群のうち、特定の一部の文字が選択的に表示され、他の文字については非表示となる。より詳細には、選択された入力領域（ここでは、数値入力領域Ｎ１）に入力され得る文字を判断し、必要な文字（ここでは、数字（テンキー）及び小数点）を入力可能に配置した入力部７０が表示される。
そのため、選択された入力領域が、例えば、使用者認識情報（ＩＤ、パスワード等）を入力する領域であった場合には、予め使用者認識情報として使用可能と定められている文字（アルファベットキー及び数値キーなど）がそれぞれ矩形の文字領域で入力可能に設定された入力部７０がポップアップ画面として表示されることになる。
【００４２】
また、入力部７０が数値入力領域と干渉する場合には、例えば入力部７０の中、文字領域に設定されていない領域をタッチした状態で指を表示画面に沿って所望の位置に移動（ドラッグ）させることにより、図９に示すように、入力部７０を容易に移動させることができる。
そして、入力部７０から上述したエラーを解消すべく所定のパラメータを数値入力することにより、数値入力領域Ｎに対応するパラメータを適正値に設定することができる。
【００４３】
以上説明したように、本実施の形態では、表示装置ＤＰにエラーが生じた露光領域ＣＡ２とエラーが生じていない露光領域ＣＡ１とが異なる形態（色）で表示されるため、露光処理でエラーが発生した露光領域を一瞥して認識することが可能となる。
また、本実施形態では、露光処理でエラーが発生した露光領域を確認するために複数の画面を開く必要がなくなることから、表示画面を有効に活用でき、他の情報を容易に確認することができる。また、この場合、露光領域ＣＡ１、ＣＡ２を異なる点滅パターンや明滅パターンで表示することにより、一層明確にエラーが発生した露光領域を認識することが可能となる。
【００４４】
また、本実施形態では、エラーが生じた可能性がある露光領域ＣＡ３を、上記露光領域ＣＡ１、ＣＡ２とは異なる形態（色）で表示しているため、明確にエラーとは断定できないものの、エラーが生じた露光領域をオペレータが容易に認識して、エラーの有無を確認でき、歩留まりを向上させることが可能になる。
【００４５】
さらに、本実施形態では、エラー対応時等の文字入力において、所定の文字群のうち、特定の一部の文字が文字領域に設定された入力部７０が表示されるため、所定の文字群の全てが文字領域として設定される場合と比較して、文字領域を小さくすることが可能となり、表示画面の有効活用を図ることができる。
特に、本実施形態では、選択された入力部に入力され得る文字を判断し、露光処理に関するパラメータの入力に用いる文字や、使用者認識の入力に用いる文字等、必要な文字のみを入力可能に配置した入力部７０が表示されるため、入力に必要な文字が過不足なく配置された最小の入力部７０を設定することが可能である。さらに、入力する必要の無い文字は表示されないことから、誤入力を防止することもできる。しかも、本実施形態では、入力部７０をドラッグして移動させることができるため、表示画面の視認性を容易に向上させることも可能である。
【００４６】
（入力部の第２実施形態）
図１０は、本発明に係る表示装置ＤＰの第２実施形態を示す図である。
この図において、図８及び図９に示す第１実施形態の構成要素と同一の要素については同一符号を付し、その説明を省略する。
【００４７】
本実施形態では、エラー発生時に数値入力領域Ｎ１がタッチされて選択されたときに、数値入力領域（待機部）Ｎ１には、修正前に予め設定されていたパラメータの数値が表示されて、数値入力を待機する構成となっている。また、数値入力領域Ｎ１に表示された数値の中、入力可能な位置（桁）には数値の下にライン状のカーソルＣＲが表示されている。そして、数値入力領域Ｎ１の直下には、カーソルＣＲを移動させて文字を入力する位置を指定する位置指定領域ＣＲ１が設けられている。数値入力領域Ｎ１の右側には、位置指定領域ＣＲ１で指定された位置に入力する文字を指定する文字指定領域ＣＲ２が設けられている。
【００４８】
位置指定領域ＣＲ１には、カーソルＣＲを右側または左側に移動させる矢印が表示されており、いずれかの矢印をタッチすることにより、カーソルＣＲの位置をタッチした矢印の側に移動させることができる。また、文字指定領域ＣＲ２には、上側及び下側に向く矢印が表示されており、いずれかの矢印をタッチすることにより、カーソルＣＲの位置にある数字を増加（上側矢印の場合）、または減少（下側矢印の場合）させることができる。従って、位置指定領域ＣＲ１を介して入力位置を指定するとともに、文字指定領域ＣＲ２を介して文字（数字）を指定することにより、パラメータＰＭの数値を所望の値に設定することができる。
【００４９】
本実施形態では、上記第１実施形態における入力部７０と同様の作用・効果が得られることに加えて、文字入力に必要な領域を一層小さくすることができ、さらなる表示画面の有効活用を図ることができる。
さらに、数字を上昇、下降させて値を入力することにより、微細な位置決めなどを必要とする露光装置の設定値の大幅な入力ミスを防止できる。
【００５０】
なお、位置指定領域ＣＲ１及び文字指定領域ＣＲ２の形態としては、図１０に示した構成の他に、例えば図１１に示すように、文字指定領域ＣＲ２として、指定する数値の一覧が表示されて、上下の矢印をタッチすることにより、一覧から所望の数字を選択する構成であってもよい。
【００５１】
以上、添付図面を参照しながら本発明に係る好適な実施形態について説明したが、本発明は係る例に限定されないことは言うまでもない。上述した例において示した各構成部材の諸形状や組み合わせ等は一例であって、本発明の主旨から逸脱しない範囲において設計要求等に基づき種々変更可能である。
【００５２】
例えば、上記実施形態では、エラーが生じた（またはエラーが生じた可能性がある）露光領域と、エラーが生じていない露光領域とを異なる表示形態として、異なる色及びこれに異なる点滅パターンあるいは異なる明滅パターンを用いる構成を例示したが、異なる点滅パターンあるいは異なる明滅パターンのみで表示する構成としてもよい。
【００５３】
また、上記実施形態では、選択された入力領域に入力され得る文字が入力部７０に表示される構成としたが、例えば不測の事態が生じて他の文字を入力する可能性を考慮して、文字が割り当てられていない文字領域（図８及び図９では、数字９の下側（数字０の右側））の領域を選択してタッチしたときに、非表示の文字を表示状態とする表示化領域とする構成としてもよい。
【００５４】
また、上記実施形態では、入力部７０による文字入力、位置指定領域ＣＲ１及び文字指定領域ＣＲ２による文字入力をエラーが発生した際に用いる構成としたが、これに限定されるものではなく、露光処理を実行する前に各種パラメータを設定する際や、上述したように、パラメータ設定時の使用者認識を実施する際等、エラー発生時以外にも使用してもよいことは言うまでもない。
【００５５】
また、上記実施形態では、入力装置としてタッチパネル４２を用いる構成を例示したが、これに限定されるものではなく、例えばキーボードやマウスなどの入力デバイスを設置し、当該入力デバイスから各種情報を入力する構成としてもよい。
さらに、上記実施形態では、露光システムＳＹＳに対して表示装置ＤＰが設けられる構成としたが、これに限定されるものではなく、例えば露光装置ＥＸ−ＳＹＳ単体に表示装置ＤＰが設けられる構成や、露光装置ＥＸ−ＳＹＳとインターフェイス部ＩＦとにそれぞれ個別に表示装置ＤＰが設けられる構成であってもよい。
【００５６】
なお、上記各実施形態のウエハＷとしては、半導体デバイス製造用の半導体ウエハのみならず、液晶ディスプレイや有機ＥＬディスプレイなどのディスプレイデバイス用のガラス基板や、薄膜磁気ヘッド用のセラミックウエハ、あるいは露光装置で用いられるマスクまたはレチクルの原版（合成石英、シリコンウエハ）等が適用される。
【００５７】
露光装置本体ＥＸとしては、マスクＭとウエハＷとを同期移動してマスクＭのパターンを走査露光するステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置（スキャニングステッパ）の他に、マスクＭとウエハＷとを静止した状態でマスクＭのパターンを一括露光し、ウエハＷを順次ステップ移動させるステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置（ステッパ）にも適用することができる。また、本発明はウエハＷ上で少なくとも２つのパターンを部分的に重ねて転写するステップ・アンド・スキャン方式やステップ・アンド・スティッチ方式の露光装置にも適用できる。
【００５８】
露光装置本体ＥＸの種類としては、ウエハＷに半導体素子パターンを露光する半導体素子製造用の露光装置に限られず、液晶表示素子製造用又はディスプレイ製造用の露光装置や、薄膜磁気ヘッド、撮像素子（ＣＣＤ）あるいはレチクル又はマスクなどを製造するための露光装置などにも広く適用できる。
【００５９】
また、本発明が適用される露光装置の光源には、ＫｒＦエキシマレーザ（２４８ｎｍ）、ＡｒＦエキシマレーザ（１９３ｎｍ）、Ｆ２レーザ（１５７ｎｍ）等のみならず、極端紫外線（Extreme Ultra Violet）(１３．５ｎｍ)、ｇ線（４３６ｎｍ）及びｉ線（３６５ｎｍ）を用いることができる。さらに、投影光学系の倍率は縮小系のみならず等倍および拡大系のいずれでもよい。また、上記実施形態では、反射屈折型の投影光学系を例示したが、これに限定されるものではなく、屈折型の投影光学系、屈折型の投影光学系で光軸（レチクル中心）と投影領域の中心とを異なる位置に設定した投影光学系などにも適用可能である。
【００６０】
また、本発明は、投影光学系と基板との間に局所的に液体を満たし、該液体を介して基板を露光する、所謂液浸露光装置に適用したが、液浸露光装置については、国際公開第９９／４９５０４号パンフレットに開示されている。さらに、本発明は、特開平６−１２４８７３号公報、特開平１０−３０３１１４号公報、米国特許第５，８２５，０４３号などに開示されているような露光対象の基板の表面全体が液体中に浸かっている状態で露光を行う液浸露光装置にも適用可能である。
【００６１】
また、本発明は、基板ステージ（ウエハステージ）が複数設けられる例えばツインステージ型のような露光装置にも適用できる。ツインステージ型の露光装置の構造及び露光動作は、例えば特開平１０−１６３０９９号公報及び特開平１０−２１４７８３号公報（対応米国特許６，３４１，００７号、６，４００，４４１号、６，５４９，２６９号及び６，５９０，６３４号）、特表２０００−５０５９５８号（対応米国特許５，９６９，４４１号）或いは米国特許６，２０８，４０７号に開示されている。更に、本発明を本願出願人が先に出願した特願２００４−１６８４８１号のウエハステージに適用してもよい。
【００６２】
また、本発明が適用される露光装置は、本願特許請求の範囲に挙げられた各構成要素を含む各種サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精度、光学的精度を保つように、組み立てることで製造される。これら各種精度を確保するために、この組み立ての前後には、各種光学系については光学的精度を達成するための調整、各種機械系については機械的精度を達成するための調整、各種電気系については電気的精度を達成するための調整が行われる。各種サブシステムから露光装置への組み立て工程は、各種サブシステム相互の、機械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等が含まれる。この各種サブシステムから露光装置への組み立て工程の前に、各サブシステム個々の組み立て工程があることはいうまでもない。各種サブシステムの露光装置への組み立て工程が終了したら、総合調整が行われ、露光装置全体としての各種精度が確保される。なお、露光装置の製造は温度およびクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。
【００６３】
次に、本発明の実施形態による露光装置及び露光方法をリソグラフィ工程で使用したマイクロデバイスの製造方法の実施形態について説明する。図１２は、マイクロデバイス（ＩＣやＬＳＩ等の半導体チップ、液晶パネル、ＣＣＤ、薄膜磁気ヘッド、マイクロマシン等）の製造例のフローチャートを示す図である。
まず、ステップＳ１０（設計ステップ）において、マイクロデバイスの機能・性能設計（例えば、半導体デバイスの回路設計等）を行い、その機能を実現するためのパターン設計を行う。引き続き、ステップＳ１１（マスク製作ステップ）において、設計した回路パターンを形成したマスク（レチクル）を製作する。一方、ステップＳ１２（ウエハ製造ステップ）において、シリコン等の材料を用いてウエハを製造する。
次に、ステップＳ１３（ウエハ処理ステップ）において、ステップＳ１０〜ステップＳ１２で用意したマスクとウエハを使用して、後述するように、リソグラフィ技術等によってウエハ上に実際の回路等を形成する。次いで、ステップＳ１４（デバイス組立ステップ）において、ステップＳ１３で処理されたウエハを用いてデバイス組立を行う。このステップＳ１４には、ダイシング工程、ボンティング工程、及びパッケージング工程（チップ封入）等の工程が必要に応じて含まれる。最後に、ステップＳ１５（検査ステップ）において、ステップＳ１４で作製されたマイクロデバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行う。こうした工程を経た後にマイクロデバイスが完成し、これが出荷される。
【００６４】
図１３は、半導体デバイスの場合におけるステップＳ１３の詳細工程の一例を示す図である。
ステップＳ２１（酸化ステップ）おいては、ウエハの表面を酸化させる。ステップＳ２２（ＣＶＤステップ）においては、ウエハ表面に絶縁膜を形成する。ステップＳ２３（電極形成ステップ）においては、ウエハ上に電極を蒸着によって形成する。ステップＳ２４（イオン打込みステップ）においては、ウエハにイオンを打ち込む。以上のステップＳ２１〜ステップＳ２４のそれぞれは、ウエハ処理の各段階の前処理工程を構成しており、各段階において必要な処理に応じて選択されて実行される。
ウエハプロセスの各段階において、上述の前処理工程が終了すると、以下のようにして後処理工程が実行される。この後処理工程では、まず、ステップＳ２５（レジスト形成ステップ）において、ウエハに感光剤を塗布する。引き続き、ステップＳ２６（露光ステップ）において、上で説明したリソグラフィシステム（露光装置）及び露光方法によってマスクの回路パターンをウエハに転写する。次に、ステップＳ２７（現像ステップ）においては露光されたウエハを現像し、ステップＳ２８（エッチングステップ）において、レジストが残存している部分以外の部分の露出部材をエッチングにより取り去る。そして、ステップＳ２９（レジスト除去ステップ）において、エッチングが済んで不要となったレジストを取り除く。これらの前処理工程と後処理工程とを繰り返し行うことによって、ウエハ上に多重に回路パターンが形成される。
【００６５】
また、半導体素子等のマイクロデバイスだけではなく、光露光装置、ＥＵＶ露光装置、Ｘ線露光装置、及び電子線露光装置等で使用されるレチクル又はマスクを製造するために、マザーレチクルからガラス基板やシリコンウエハ等ヘ回路パターンを転写する露光装置にも本発明を適用できる。ここで、ＤＵＶ（深紫外）やＶＵＶ（真空紫外）光等を用いる露光装置では、一般的に透過型レチクルが用いられ、レチクル基板としては石英ガラス、フッ素がドープされた石英ガラス、蛍石、フッ化マグネシウム、又は水晶等が用いられる。また、プロキシミティ方式のＸ線露光装置や電子線露光装置等では、透過型マスク（ステンシルマスク、メンブレンマスク）が用いられ、マスク基板としてはシリコンウエハ等が用いられる。なお、このような露光装置は、ＷＯ９９／３４２５５号、ＷＯ９９／５０７１２号、ＷＯ９９／６６３７０号、特開平１１−１９４４７９号、特開２０００−１２４５３号、特開２０００−２９２０２号等に開示されている。
【図面の簡単な説明】
【００６６】
【図１】本発明の実施の形態を示す図であって、露光システムＳＹＳの概略図である。
【図２】露光システムＳＹＳの概略的な断面平面図である。
【図３】露光装置本体ＥＸの概略的な構成図である。
【図４】ウエハステージＰＳＴの詳細を示す図である。
【図５】表示装置の表示例を示す図である。
【図６】表示装置の表示例を示す図である。
【図７】表示装置の表示例を示す図である。
【図８】第１実施形態に係るパラメータ入力画面が表示された図である。
【図９】第１実施形態に係るパラメータ入力画面が表示された図である。
【図１０】第２実施形態に係る表示装置の表示例を示す図である。
【図１１】他の実施形態に係る表示装置の表示例を示す図である。
【図１２】マイクロデバイスの製造工程の一例を示すフローチャート図である。
【図１３】図１２におけるステップＳ１３の詳細工程の一例を示す図である。
【符号の説明】
【００６７】
ＣＯＮＴ…制御装置、  ＣＲ１…位置指定領域、  ＣＲ２…文字指定領域、  ＤＰ…表示装置、  ＥＸ−ＳＹＳ…露光装置、  Ｈ４〜Ｈ７…搬送アーム（処理部）、  ＩＦ…インターフェイス部（処理装置）、  Ｎ、Ｎ１…数値入力領域（待機部）、  Ｗ…ウエハ（基板）、  ４１…ディスプレイ（表示部）、  ４２…タッチパネル（入力装置）、  ７０…文字入力部（入力部）
【図１】
2010062366.tif 000003
【図２】
2010062366.tif 000004
【図３】
2010062366.tif 000005
【図４】
2010062366.tif 000006
【図５】
2010062366.tif 000007
【図６】
2010062366.tif 000008
【図７】
2010062366.tif 000009
【図８】
2010062366.tif 000010
【図９】
2010062366.tif 000011
【図１０】
2010062366.tif 000012
【図１１】
2010062366.tif 000013
【図１２】
2010062366.tif 000014
【図１３】
2010062366.tif 000015