(57)【要約】【課題】  温度調整部と脱気処理部の両方の性能を容易に確保できる液体供給ユニットを備える液浸露光装置を提供すること。【解決手段】  液体Ｌを介して基板１３０を露光する露光装置は、投影光学系１１０と、供給ユニット１６０を備える。供給ユニット１６０は、液体Ｌを蓄えるタンク１８０と、タンク１８０に蓄えられた液体Ｌが循環する循環流路２２０と、循環流路２２０の分岐部２１０から供給ノズル１４０へ液体Ｌが流れる供給流路２３０と、循環流路２２０に設けられ循環流路２２０を流れる液体Ｌの温度を調整する温度調整部１９０と、供給流路２３０に設けられ供給流路２３０を流れる液体Ｌを脱気する脱気処理部２００を有する。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
液体を介して基板を露光する露光装置において、
原版のパターンの像を基板に投影する投影光学系と、
前記投影光学系と前記基板との間に供給ノズルを介して前記液体を供給する供給ユニットと、を備え、
前記供給ユニットは、
前記液体を蓄えるタンクと、
前記タンクに蓄えられた前記液体が循環する循環流路と、
前記循環流路の分岐部（第１の分岐部）から前記供給ノズルへ前記液体が流れる供給流路と、
前記循環流路に設けられ、前記循環流路を流れる前記液体の温度を調整する温度調整部（第１の温度調整部）と、
前記供給流路に設けられ、前記供給流路を流れる前記液体を脱気する脱気処理部と、
を有することを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記供給ユニットは、前記供給流路に設けられ、前記脱気処理部で脱気された前記供給流路を流れる前記液体の温度を調整する第２の温度調整部を有することを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記供給ユニットは、前記供給流路の前記脱気処理部よりも下流に設けられた第２の分岐部から前記循環流路へ前記液体が流れる流路を有することを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項４】
前記第１の温度調整部は、前記液体を加熱する加熱器を含み、
前記第２の温度調整部は、前記液体と媒体との熱交換を行う熱交換器を含むことを特徴とする請求項２または３に記載の露光装置。
【請求項５】
前記供給流路は、前記投影光学系の鏡筒に設けられていることを特徴とする請求項１または２に記載の露光装置。
【請求項６】
前記液体は、１．５よりも大きい屈折率を持つ液体であることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項７】
前記投影光学系と前記基板との間から回収ノズルを介して前記液体を回収する回収ユニットを更に備え、
前記回収ユニットは、前記回収ノズルから前記タンクへ前記液体が流れる回収流路を有することを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項８】
請求項１乃至７のいずれか１項に記載の露光装置で基板を露光し、その露光された基板を現像することを特徴とするデバイスの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液体を介して基板を露光する露光装置、およびそれを使用したデバイス製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
レチクル（マスク）のパターンをウエハに露光するために露光装置が使用されている。そして、近年、高解像度な露光装置が要求されている。
【０００３】
高解像度の要求に応えるための一手段として液浸露光が注目されている。液浸露光とは、露光装置の投影光学系のウエハ側の媒質を液体にすることで、投影光学系の開口数を増加させ、投影光学系の解像度を高くする技術のことである。液浸露光を実行する露光装置は、液浸露光装置と呼ばれる。
【０００４】
液体の屈折率が大きいほど投影光学系の解像度が高くなることから、純水を用いた液浸露光装置の後継として、１．５よりも屈折率が大きい液体（高屈折率液体）を用いた液浸露光装置が提案されている（特許文献１参照）。
【０００５】
ところで、図９で示すように、温度調整部６および脱気処理部４２を有する液体供給ユニット９０を備えた液浸露光装置１０００が提案されている（特許文献２参照）。温度調整部６は、液浸露光装置１０００の性能を維持するために、投影光学系３６の最終レンズとウエハ３７との間に供給される液体の温度を調整する。脱気処理部４２は、液浸露光装置１０００の性能を維持するために、最終レンズとウエハ３７との間に供給される液体中の気泡を取り除く。
【特許文献１】特開２００６−４９６４号公報
【特許文献２】特開２００６−２２２１６５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
温度調整部に関して、例えば、１Ｌ／ｍｉｎ以上の大流量の液体の温度を高精度に調整することは容易である。しかし、１Ｌ／ｍｉｎ未満の小流量の液体の温度を高精度に調整することは難しい。
【０００７】
一方、脱気処理部に関しては、処理対象の液体の流量が小さいほど、脱気しやすく、脱気処理部（脱気装置）を小さくできる。
【０００８】
つまり、温度調整部はできるだけ大流量の液体を対象に処理したいのに対し、脱気処理部はできるだけ小流量の液体を対象に処理したいという相反する関係がある。
【０００９】
図９の従来の液体供給ユニット９０では、温度調整部６と脱気処理部４２が同一流路に設けられているため、温度調整部６の性能にあわせて脱気処理部４２を大きくしていた。
【００１０】
本発明は、温度調整部と脱気処理部の両方の性能を容易に確保できる液体供給ユニットを備える液浸露光装置を提供することを例示的な目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明の一側面としての露光装置は、液体を介して基板を露光する露光装置において、原版のパターンの像を基板に投影する投影光学系と、前記投影光学系と前記基板との間に供給ノズルを介して前記液体を供給する供給ユニットとを備え、前記供給ユニットは、前記液体を蓄えるタンクと、前記タンクに蓄えられた前記液体が循環する循環流路と、前記循環流路の分岐部から前記供給ノズルへ前記液体が流れる供給流路と、前記循環流路に設けられ前記循環流路を流れる前記液体の温度を調整する温度調整部と、前記供給流路に設けられ前記供給流路を流れる前記液体を脱気する脱気処理部と、を有することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、温度調整部と脱気処理部の両方の性能を容易に確保できる液体供給ユニットを備える液浸露光装置を提供することができる。
【００１３】
なお、本発明の更なる側面については、以下で説明される実施の形態によって明らかにする。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
（実施形態１）
以下に、本発明の好ましい実施の形態を添付の図面に基づいて詳細に説明する。ここで、図１は、本実施形態の液浸露光装置１００の図である。
【００１５】
液浸露光装置１００は、図１に示すように、照明装置３００と、レチクルステージ３２０と、投影光学系１１０と、ウエハステージ３１０と、供給ユニット１６０を備える。レチクルステージ３２０は、原版としてのレチクル１２０を保持し、移動する。ウエハステージ３１０は、ウエハ１３０を保持し、移動する。
【００１６】
露光装置１００は、投影光学系１１０の光学素子のうち最もウエハ１３０に近い光学素子（最終レンズ）とウエハ１３０との間の液体Ｌを介して、ウエハ１３０を露光する液浸露光装置である。なお、本実施形態の液浸露光装置１００は、ステップ・アンド・スキャン方式であるが、本発明をステップ・アンド・リピート方式の露光装置に適用することもできる。
【００１７】
照明装置３００は、光源部と照明光学系を有する。照明光学系は、光源部からの光（露光光）でレチクル１２０を照明する。光源部は、光源としてのレーザーを含む。レーザーとしては、波長約１９３ｎｍのＡｒＦエキシマレーザー、波長約２４８ｎｍのＫｒＦエキシマレーザー、または波長約１５７ｎｍのＦ２レーザーを使用できる。
【００１８】
投影光学系１１０は、レチクル１２０のパターンの像をウエハ１３０上に投影する。投影光学系１１０としては、屈折系または反射屈折系を使用できる。投影光学系１１０の最終レンズとしては、平凸レンズまたはメニスカスレンズを使用できる。
【００１９】
ウエハ１３０の表面にはフォトレジストが塗布されている。本実施形態では、基板としてウエハ１３０を用いているが、ウエハ１３０の代わりに、ガラスプレート、その他の基板を使用することもできる。
【００２０】
ウエハステージ３１０は、ウエハチャックを介してウエハ１３０を保持する。
【００２１】
液体Ｌとしては、露光光の波長に対する透過率がよく、最終レンズに汚れをなるべく付着させず、レジストとの相性がよい液体を使用する。液体Ｌは、例えば、純水または屈折率が１．５より大きい有機液体である。最終レンズには、液体Ｌからの影響を低減するためにコーティングをしてもよい。
【００２２】
供給ユニット１６０は、供給ノズル１４０を介して、投影光学系１１０の最終レンズとウエハ１３０との間に液体Ｌを供給する。回収ユニット１７０は、回収ノズル１５０および回収流路２４０を介して、最終レンズとウエハ１３０との間の液体Ｌを回収する。回収ユニット１７０は、負圧を発生する機能を有しており、液体Ｌを吸引回収している。
【００２３】
以下に、本実施形態の液浸露光装置１００の特徴である供給ユニット１６０について具体的に説明する。
【００２４】
供給ユニット１６０は、タンク１８０と、ポンプ２５０と、温度調整部１９０（第１の温度調整部）と、脱気処理部２００と、フィルタ２６０を有する。
【００２５】
また、供給ユニット１６０は、循環流路２２０と供給流路２３０を有する。循環流路２２０には、タンク１８０とポンプ２５０と温度調整部１９０が設けられ、供給流路２３０には脱気処理部２００とフィルタ２６０が設けられている。循環流路２２０は、分岐部２１０によって供給流路２３０へ分岐されている。
【００２６】
タンク１８０に蓄えられた液体Ｌは、循環流路２２０を循環しており、ポンプ２５０、温度調整部１９０、および分岐部２１０を経由して、タンク１８０へ戻る。循環流路２２０を流れる液体Ｌの流量は、温度調整部１９０が高精度に液体Ｌの温度を調整できるように設定されており、例えば５．０Ｌ／ｍｉｎ以上１０Ｌ／ｍｉｎ以下に設定されている。これにより、温度調整部１９０は、液体Ｌの温度を０．００１Ｋ以上０．０１Ｋ以下の精度で調整できる。
【００２７】
循環流路２２０を流れる液体Ｌの一部は、分岐部２１０で分岐され、供給流路２３０に流れ込む。供給流路２３０に流れ込んだ液体Ｌは、脱気処理部２００およびフィルタ２６０を経由して、供給ノズル１４０へ流れる。供給流路２３０を流れる液体Ｌの流量は、最終レンズの下に液体Ｌを安定して保持できるように、供給ノズル１４０および回収ノズル１５０の構造および最終レンズとウエハとの間隔等に基づいて決定される。一般的には、供給ノズル１４０への液体Ｌの供給量は０．１Ｌ／ｍｉｎ以上０．５Ｌ／ｍｉｎ以下であり、多くても１Ｌ／ｍｉｎ未満である。なお、フィルタ２６０は、露光不良を引き起こす液体Ｌ中のパーティクルを除去する。分岐部２１０は、所定の流量の液体Ｌが供給流路２３０に流れるように、流量を調整する。
【００２８】
本実施形態では、温度調整部１９０が設けられた循環流路２２０に流れる液体Ｌを大流量に維持し、脱気処理部２００が設けられた供給流路２３０に流れる液体Ｌを小流量に維持している。そのため、温度調整部１９０および脱気処理部２００のそれぞれが適切な流量の液体を処理することができ、性能を十分に発揮できる。
【００２９】
一般に、液体Ｌの温度を高精度に調整する場合、ヒータ（加熱器）を使用する。しかし、液体Ｌの流量が例えば１Ｌ／ｍｉｎ未満になると、ヒータの出力変化に対する液体Ｌの温度変化が敏感になり過ぎる。同時に、温度調整部１９０のヒータ以外の部品から液体Ｌへの熱の出入りも無視できなくなってくる。そのため、１Ｌ／ｍｉｎ以上の流量の液体の温度を調整する場合よりも、１Ｌ／ｍｉｎ未満の流量の液体の温度を調整する場合のほうが、液体Ｌの温度を高精度に調整できない。このような課題が生じるのは、温度調整部１９０に含まれるヒータを小さくすることが困難で、所定流量以下の液体の温度を高精度に調整する温度調整部１９０を作成し難いということも一つの要因である。また、１．５よりも大きい屈折率を持つ高屈折液体は、熱伝導率や熱伝達率等の熱交換に関する物性値が水に比べて良くないので、温度を効率的に調整できない。そのため、高屈折率液体の温度を調整するときは、水の温度を調整するときに比べ、より大きな流量の液体を調整対象とすることが好ましい。
【００３０】
本実施形態では、ポンプ２５０および分岐部２１０で循環流路２２０に流れる液体Ｌの流量を温度調整部１９０に最適となるように調整している。そのため、液体Ｌの温度を高精度に制御できている。また、循環流路２２０に流れる液体Ｌの流量を供給流路２３０に流れる液体Ｌの流量よりも十分大きくしている。そのため、液浸露光装置の動作に変化が生じても、温度調整部１９０で処理される液体Ｌの流量があまり変化しないため、液体Ｌの温度を高精度に制御しやすい。例えば、液浸露光装置の稼動状況によっては、供給ノズル１４０からの液体Ｌの供給を緊急停止することが生じる。その際にも、温度調整部１９０で処理する液体Ｌの流量があまり変化しないため、安定して液体Ｌの温度調整を行うことができ、液体Ｌの温度をほぼ一定に維持できる。そのため、供給ノズル１４０からの液体Ｌの供給が再開した時に、速やかに高精度に温度調整された液体Ｌを供給することが可能となる。
【００３１】
本実施形態の液浸露光装置１００では、脱気処理部２００を供給流路２３０上に配置することで、脱気処理部２００で脱気処理すべき流量を小さくしている。具体的には、脱気処理部２００で処理すべき液体Ｌ流量を、温度調整部１９０で処理すべき液体Ｌ流量の１／５０以上１／１０以下にしている。したがって、脱気処理部２００を小さくすることが可能であり、液浸露光装置１００を小さくすることが可能である。
【００３２】
また、本発明者らの検討の結果、分子量が水に比べて非常に大きい高屈折液体（有機液体）は脱気処理の効率が良くないことが判明した。つまり、脱気処理部２００で高屈折液体を脱気する場合、脱気処理部２００の処理能力が水を脱気する場合と比較して非常に低くなってしまう。そのため、液体Ｌが高屈折液体の場合、脱気処理部２００での処理流量をできるだけ小さくしたい。したがって、本実施形態の液浸露光装置１００の構成は、高屈折液を用いた液浸露光装置に特に有効である。
【００３３】
（実施形態２）
本実施形態の液浸露光装置１００ａを図２に示す。本実施形態の液浸露光装置１００ａは、実施形態１の液浸露光装置１００と以下の２つの点で構成が異なる。第１に、脱気処理部２００の下流に分岐部（第２の分岐部）２１５を設けた点である。第２に、回収ユニット１７０によって回収された液体Ｌを再生するための再生装置２７０を設け、再生された液体Ｌをタンク１８０に戻す構成にした点である。
【００３４】
本実施形態では、ポンプ２５０または分岐部２１０（第１の分岐部）で温度調整部１９０に流れる液体Ｌの流量を調整している。また、分岐部２１０は、脱気処理部２００で処理する液体Ｌの流量を調整しており、分岐部２１５は、供給ノズルから供給されるの液体Ｌの流量を調整している。これにより、温度調整部１９０および脱気処理部２００の処理流量を一定化させ、温度調整部１９０および脱気処理部２００の処理精度を安定化できる。
【００３５】
本実施形態の液浸露光装置１００ａの構成は、各部の液体Ｌの流量が以下の関係にあるとき特に有効である。つまり、供給ノズル１４０の必要供給量よりも脱気処理部２００での最適な処理流量が大きく、さらに脱気処理部２００での最適な処理流量よりも温度調整部１９０での最適な処理流量が大きい場合において有効である。また、本実施形態の液浸露光装置１００ａの構成は、供給ノズル１４０からの液体Ｌの供給流量を大きく変化させた場合にも、脱気処理部２００を流れる液体Ｌの流量を安定化させることができる点で有効である。
【００３６】
本実施形態では、液体Ｌを、実施形態１のように回収ユニット１７０で回収した後に排棄するのではなく、再生装置２７０を用いて再度供給ノズル１４０に供給できるように精製してタンク１８０に戻している。精製で十分再生できない液体Ｌは再生装置２７０から露光装置外へ排出され、代わりに露光装置外から露光装置内へ新しい液体Ｌが供給される。この構成は、液体Ｌが高価な高屈折率液体である場合に有効である。
【００３７】
（実施形態３）
本実施形態の液浸露光装置１００ｂを図３に示す。本実施形態の液浸露光装置１００ｂは、実施形態１の液浸露光装置１００と以下の２つの点で異なる。第１に、脱気処理部２００の下流に温度調整部１９５（第２の温度調整部）を設けた点である。第２に、実施形態２の液浸露光装置１００ａと同様に、回収ユニット１７０によって回収された液体Ｌを再生するための再生装置２７０を設け、液体Ｌを再生装置２７０で再生した後にタンク１８０に戻す構成にした点である。後者については実施形態２で説明済みなので説明を省略し、ここでは前者の温度調整部１９５について説明する。
【００３８】
温度調整部１９５の効果についての理解を促すために、脱気処理部２００について詳細に説明する。脱気処理部２００としては、気体透過膜の一方に液体を流し他方を減圧することによって溶存気体を除去する脱気フィルタを用いている。気体透過膜としては、４フッ化エチレン樹脂（ＰＴＦＥ）等のフッ素樹脂が例えば用いられる。気体透過膜と液体の接触面積を大きくするために、気体透過膜を径１００μｍ程度の中空糸状に加工するのが望ましい。フッ素樹脂の中空糸を数十から数百本束にして内部に液体を流し、中空糸の外側を減圧することで、液体中の溶存気体を効率良く除去することが可能である。逆に、中空糸内を減圧し、中空糸外に液を流しても同様の効果を得ることができる。
【００３９】
つまり、脱気処理部２００は、処理能力を向上させるために、液体Ｌと気体透過膜との接触面積ができるだけ大きくなるように構成されている。したがって、液体Ｌは気体透過膜を介して熱交換が生じやすく、例えば雰囲気温度の変化などによって気体透過膜の温度変動が生じると、結果的に液体Ｌの温度変動が生じやすい。そのため、実施形態１の液浸露光装置１００のように脱気処理部２００の上流で液体Ｌの温度を高精度に調整しても、供給ノズル１４０で液体Ｌの温度が変わってしまっている可能性がある。そのため、本実施形態の液浸露光装置１００ｂには、脱気処理部２００で変動した温度を補償する目的で、温度調整部１９５を脱気処理部２００の下流に設けている。
【００４０】
しかし、温度調整部１９５として加熱器を使用したのでは、脱気処理部２００を通過した後の液体Ｌの流量が小さい（１Ｌ／ｍｉｎ未満）ため、前述の通り液体Ｌの温度を高精度に調整し難い。そのため、本実施形態の液浸露光装置１００ｂでは、温度調整部１９５として後述の熱交換器１９５ａ、１９５ｂまたは１９５ｃを使用し、脱気処理部２００による液体Ｌの温度の変動を低減させている。
【００４１】
次に、熱交換器の具体的な構成について説明する。図４は、熱交換媒体Ｅとして液体を利用した温度調整部１９５ａの図である。温度調整部１９５ａは、供給ノズル１４０から供給される液体Ｌが設定温度になるように、高精度に温度調整された熱交換媒体Ｅと液体Ｌとで供給流路２３０を介して熱交換させる。液体Ｌと供給流路２３０、および熱交換媒体Ｅと供給流路２３０の接触面積を増やした構成が望ましい。例えば、液体Ｌが通過する供給流路２３０を多数の細い配管に分岐させて、液体Ｌおよび熱交換媒体Ｅに対する供給流路２３０の接触面積がなるべく大きくなるように設定すると良い。
【００４２】
また、熱交換媒体Ｅの温度を、供給ノズル１４０での液体Ｌの設定温度に調整するのではなく、その設定温度より高い温度に調整したり、低い温度に調整したりすることで、液体Ｌが供給ノズルでその設定温度になるようにしても良い。その際、供給ノズルから供給される液体Ｌの温度をモニタするために温度センサを設け、その温度センサの出力に基づいて熱交換媒体Ｅの温度を調整してもよい。
【００４３】
図５は、熱交換媒体として固体を利用した温度調整部１９５ｂの図である。液体Ｌを熱容量の大きな金属などの熱容量部材２８０になるべく大きな面積で接触させることで、温度調整部１９５ｂの出口における温度変動分を入口における温度変動分よりも小さくしている。熱容量部材２８０は、液体Ｌへの溶け出しや化学変化が少なく、かつ熱容量が大きな材料で構成されることが好ましい。例えば、チタン、金、ステンレス、またはガラスを熱容量部材２８０の材料として使用することができる。また、液体Ｌとの接触面積を大きくするために、図５のように熱容量部材２８０を球状等にして供給流路２３０内に多数配置させ、液体Ｌが熱容量部材２８０の隙間を通るようにすると良い。
【００４４】
図６は、熱交換媒体として液体Ｌ自体を利用した温度調整部１９５ｃの図である。温度調整部１９５ｃは加圧タンク１８５を有する。供給流路２３０を通ってきた液体Ｌは、加圧タンク１８５に流れ込む。加圧タンク１８５は、雰囲気の温度変動の影響を受けないように、その表面が断熱材１８７でおおわれている。加圧タンク１８５内は液体Ｌで満たされており、加圧タンク１８５内で液体Ｌ同士の熱交換が行われる。このように構成することにより、加圧タンク１８５に流入する液体Ｌの高周波な温度変動が平均化され、温度変動が相対的に低くなった液体Ｌが加圧タンク１８５から流出する。また、加圧タンク１８５を設けずに、供給流路２３０の一部に配管断面積が相対的に大きな部分を設けることでも同様の効果が得られる。
【００４５】
温度調整部１９５は、脱気処理部２００で生じた液体Ｌの温度変動分をできるだけ低減するために設けたものであり、熱交換原理を用いて０．１Ｈｚ以上の高周波な温度変動を小さくするものである。温度調整部１９５では、温度ドリフトのような低周波な温度変動は低減しずらい。
【００４６】
そのため、本実施形態の液浸露光装置１００ｂでは、温度調整部１９５の下流に温度センサ２９０を設けて液体Ｌの温度を検知している。そして、液浸露光装置１００ｂでは、温度センサ２９０の出力に基づいて温度調整部１９０（第１の温度調整部）の目標値を変更して、低周波な温度変動を低減している。ここで、温度センサ２９０の出力を温度制御点としてフィードバックするのではなく、温度制御の目標値（設定値）の変更にフィードバックすることに注意する。なお、出力を温度制御点としてフィードバックするための温度センサ（不図示）は、温度調整部１９０内に含まれている。
【００４７】
（実施形態４）
実施形態４の液浸露光装置１００ｃを図７に示す。本実施形態の液浸露光装置１００ｃは、実施形態３の液浸露光装置１００ｂと基本的な構成は同じであるが、以下の１点が異なる。つまり、供給流路２３０の配管の一部を、熱容量が液体Ｌより大きい液浸露光装置１００ｃの部品（定盤、フレーム、または鏡筒など）と、接触面積が大きくなるように接触部（熱交換部）において接触させている点が異なる。したがって、本実施形態では、この熱交換部が温度調整部１９５に相当する。
【００４８】
本実施形態の液浸露光装置１００ｃでは、具体的には、配管を介して液体Ｌと投影光学系１１０の鏡筒との熱交換がなされるように、配管を鏡筒に巻きつけている。これにより、脱気処理部２００で温度変動が生じた液体Ｌが流れてきても、液体Ｌと鏡筒とで熱交換が行われ、液体Ｌの温度変動は低減される。なお、鏡筒の温度は、熱容量が液体Ｌより大きいためほとんど変化しない。
【００４９】
本実施形態では、実施形態３と同様に、温度センサ２９０の出力に基づいて温度調整部１９０への設定値（目標値）を変更する制御を行うことで、温度ドリフトのような低周波な温度変動に対処している。この制御のことを目標値フィードバックと呼ぶ。本実施形態の液浸露光装置１００ｃでは、液体Ｌの温度のＡＣ成分の低減を温度調整部１９５が主に受け持ち、液体Ｌの温度のＤＣ成分の低減を温度調整部１９０が受け持っている。
【００５０】
液浸露光装置１００ｃでは、供給流路２３０の配管の一部を投影光学系１１０の鏡筒に巻きつけることで、液浸露光装置の部品と配管とを接触させている。しかし、配管と接触させる液浸露光装置の部品は、液体Ｌよりも熱容量が大きな部材であれば何でも良い。例えば、定盤や露光装置本体のフレームでも良い。
【００５１】
（実施形態５）
実施形態５の液浸露光装置１００ｄを図８に示す。実施形態５の液浸露光装置１００ｄは、実施形態１の液浸露光装置１００と基本的な構成は同じであるが、循環流路２２０の構成が異なる点と、タンク１８０に分岐部２１０の機能を持たせている点が異なる。
【００５２】
循環流路２２０は、タンク１８０、ポンプ２５０、温度調整部１９０、およびそれらを接続する配管を含む。このような構成にすることで、タンク１８０内の液体Ｌの温度を調整することができる。
【００５３】
タンク１８０には供給流路２３０も接続されており、タンク１８０は分岐部２１０の役割も果たしている。なお、液体Ｌを流すための専用ポンプを供給流路２３０に設けている。
【００５４】
（実施形態６）
デバイス（半導体デバイス、液晶表示デバイス等）は、前述のいずれかの実施形態の露光装置を使用して感光剤を塗布した基板を露光する工程と、その基板を現像する工程と、他の周知の工程と、を経ることにより製造される。
【００５５】
以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されず、その要旨の範囲内で種々の変形及び変更が可能である。
【図面の簡単な説明】
【００５６】
【図１】本発明の実施形態１の液浸露光装置の図である。
【図２】本発明の実施形態２の液浸露光装置の図である。
【図３】本発明の実施形態３の液浸露光装置の図である。
【図４】第２の温度調整部の一例を示す図である。
【図５】第２の温度調整部の一例を示す図である。
【図６】第２の温度調整部の一例を示す図である。
【図７】本発明の実施形態４の液浸露光装置の図である。
【図８】本発明の実施形態５の液浸露光装置の図である。
【図９】従来の液浸露光装置の図である。
【符号の説明】
【００５７】
１００  液浸露光装置
１１０  投影光学系
１２０  原版
１３０  基板
１４０  供給ノズル
１６０  供給ユニット
１８０  タンク
１９０  温度調整部（第１の温度調整部）
１９５  温度調整部（第２の温度調整部）
２００  脱気処理部
２１０  分岐部
２２０  循環流路
２３０  供給流路
Ｌ  液体
【図１】
2010087191.tif 000003
【図２】
2010087191.tif 000004
【図３】
2010087191.tif 000005
【図４】
2010087191.tif 000006
【図５】
2010087191.tif 000007
【図６】
2010087191.tif 000008
【図７】
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【図８】
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【図９】
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