(57)【要約】【課題】製造的に簡易で且つ高精度に製造することができ、高性能な偏光分離特性が得られる偏光光学素子の製造方法を得ること。【解決手段】透明基板上に形成された微細凹凸格子部を、第１の光学素子の被密着面に密着させて偏光光学素子を製造する偏光光学素子の製造方法において、  該微細凹凸格子部の頂点部包絡面と、該微細凹凸格子部と密着される第１の光学素子の被密着面の曲率は、密着前、互いに異なっており、該微細凹凸格子の頂点部包絡面が、該第１の光学素子の被密着面に倣うようにして、双方を密着すること。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板上に形成された凹凸格子部を、第１の光学素子の被密着面に密着させて偏光光学素子を製造する偏光光学素子の製造方法において、該凹凸格子部が持つ各凸部の頂点を通る包絡面と、前記包絡面とは曲率が異なる前記被密着面を、前記凹凸格子部の包絡面を前記被密着面に倣わせるように、双方を密着させる工程を有することを特徴とする偏光光学素子の製造方法。
【請求項２】
前記包絡面と、前記第１の光学素子の被密着面のいずれかの一方は、密着前の状態で、密着される相手の面の少なくとも一方向の曲率に対し、相対的に曲率が強い凸形状よりなることを特徴とする請求項１に記載の偏光光学素子の製造方法。
【請求項３】
前記透明基板上に形成された凹凸格子部は、前記第１の光学素子の被密着面に対し、該第１の光学素子の中央部を押し付けるように張力を保持して密着されることを特徴とする請求項１又は２に記載の偏光光学素子の製造方法。
【請求項４】
前記凹凸格子部は、前記第１の光学素子と密着する被密着面側の格子部の頂点部に平面部を有することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の偏光光学素子の製造方法。
【請求項５】
前記凹凸格子部は、前記第１の光学素子と密着する被密着面の側の格子部が、矩形格子、１次元台形柱、台形錐のいずれかの構造であることを特徴とする請求項４に記載の偏光光学素子の製造方法。
【請求項６】
前記凹凸格子部の頂点部包絡面と、第１の光学素子の被密着面は、直接又は接着層を介して接着されていることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の偏光光学素子の製造方法。
【請求項７】
前記凹凸格子部が形成される透明基板は、厚みが０．２ｍｍ以上で１ｍｍ以下の平板であることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の偏光光学素子の製造方法。
【請求項８】
前記凹凸格子部の頂点部包絡面、或いは、第１の光学素子の被密着面のいずれか一方は、偏光光学素子の外周部から中心部に向かって単調に面の高さが増加する凸面形状であることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の偏光光学素子の製造方法。
【請求項９】
前記透明基板は平板形状より成り、該透明基板の前記凹凸格子部が形成された面と反対側の面に第２の光学素子が接着されていることを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載の偏光光学素子の製造方法。
【請求項１０】
前記第２の光学素子はプリズム体より成ることを特徴とする請求項９項記載の偏光光学素子の製造方法。
【請求項１１】
前記偏光光学素子は、６面体のプリズム形状よりなり、該６面体のうち、特定の入射面から入射した光束を、偏光方向に応じてそれぞれ異なる面から分離射出する構成より形成されることを特徴とする請求項１０に記載の偏光光学素子の製造方法。
【請求項１２】
請求項１乃至１１項のいずれか１つに記載の偏光光学素子の製造方法により製造されたことを特徴とする偏光光学素子。
【請求項１３】
請求項１２に記載の偏光光学素子を有していることを特徴とする画像投射装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、複数の波長、あるいは帯域光で使用する微細凹凸格子部より成り、偏光分離特性を有する偏光分離素子の製造方法に関する。特に画像投射装置（プロジェクタ）の色分解合成光学部材として用いられる偏光光学素子を製造する際に好適なものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、画像投射装置（プロジェクタ）には、偏光ビームスプリッタを用いて光の分解、合成を行う色分解合成光学系を用いられるようになって来ている。このような画像投射装置に用いられる偏光ビームスプリッタの入射角特性が悪いと、投射画像のコントラストが低下してしまう。そこで、この問題を解決するために、波長以下の微細凹凸格子構造を利用した、入射角特性の良い偏光ビームスプリッタが提案されている（特許文献１、２）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００５−３２１５６２号公報
【特許文献２】特開２００６−１３３４０３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
このような微細凹凸格子構造をもつ偏光ビームスプリッタを製作するには、微細凹凸格子構造を他の光学素子と接着する工程が必要になる。この接着工程を行う際、接着剤が凹凸格子のエアスペース部に入ってしまうと、必要な構造性複屈折が得られなくなる。特に、第３の格子部７のエアスペース部に接着材料が充填されると、反射特性（偏光分離特性）が悪化してしまう。また、凹凸格子と光学素子の被密着面とが綺麗に密着（接着）されないと、両者の間に付近位置な空気間隔が発生してしまい、偏光分離特性が低下してしまう。
【０００５】
そこで、本発明は、高性能な偏光分離特性が得られる偏光光学素子を簡易に製造することが可能な製造方法の提供を目的とする。そして、その製法方法によって作成された高性能な偏光光学素子を提供することを目的とする。さらに、本発明に係る偏光光学素子を画像投射装置に用いることで、コントラストの高い良好な光学性能を有する投射画像が得られる画像投射装置の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の偏光光学素子の製造方法は、透明基板上に形成された微細凹凸格子部を、第１の光学素子の被密着面に密着させて偏光光学素子を製造する偏光光学素子の製造方法において、該微細凹凸格子部の頂点部包絡面と、該微細凹凸格子部と密着される第１の光学素子の被密着面の曲率は、密着前、互いに異なっており、該微細凹凸格子の頂点部包絡面が、該第１の光学素子の被密着面に倣うようにして、双方を密着することを特徴としている。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、製造的に簡易で且つ高精度に製造することができ、高性能な偏光分離特性が得られる偏光光学素子の製造方法を達成することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】本発明の実施例１に係る偏光光学素子の要部斜視図
【図２】本発明の実施例１に係る偏光光学素子の特徴を説明する構成図
【図３】本発明の偏光光学素子の製造方法の実施例１の製造フローの説明図
【図４】本発明の偏光光学素子の製造方法の実施例１の他の製造方法の説明図
【図５】本発明の実施例２に係る偏光光学素子の要部構成図
【図６】本発明の実施例１と実施例２の製造方法における密着工程の違いを説明する概念図
【図７】本発明の実施例３に係る偏光光学素子の要部構成図
【図８】本発明の実施例３に係る偏光光学素子の他の要部構成図
【図９】本発明に係る偏光光学素子を用いた画像投射装置の要部概略図
【発明を実施するための形態】
【０００９】
本発明の偏光光学素子（偏光分離素子、偏光ビームスプリッタ、波長選択性偏光分離素子）の製造方法および偏光光学素子の形態について説明する。本発明の偏光光学素子の製造方法は、平板形状の透明基板上に形成された凹凸格子部（微細凹凸格子部）を、プリズム体より成る第１の光学素子の被密着面に密着させて偏光光学素子を製造する。尚、ここで凹凸格子部は、使用波長（ここでは可視領域の波長）よりも短い周期（400nmより短い周期）で凹部と凸部とが配列された微細な格子構造を有している。このとき凹凸格子部が有する凸部の頂点部を通る包絡面と、凹凸格子部と密着される第１の光学素子の被密着面の曲率は、密着前、互いに異なっている。ここで言う包絡面は、前述したように、凹凸格子部の凸部の頂点を通る面（平面でも曲面でも構わない）である。つまり、包絡面は前述の凸部の頂点において凹凸格子部と接していなくても構わないし、また、この包絡面は必ずしも全ての凸部の頂点を通っていなくても構わない。
【００１０】
例えば２つの面は凸面（包絡面）と平面（第1の光学素子の被密着面）より成っている。そして凹凸格子の頂点部包絡面（凸部の頂点の包絡面）が、第１の光学素子の被密着面に倣う（沿う）ようにして、双方を密着している。このとき、凹凸格子部の頂点部包絡面と、第１の光学素子の被密着面のいずれかの一方は、密着前の状態で、密着される相手の面の少なくとも一方向の曲率に対し、相対的に曲率が強い凸形状よりなっている。そして凹凸格子部は、第１の光学素子の被密着面に対し、第１の光学素子の中央部を押し付けるように張力を保持して密着されている。
【００１１】
［実施例１］
図１は、本発明の偏光光学素子の製造方法の実施例１によって作成された偏光光学素子の要部斜視図である。偏光光学素子（偏光ビームスプリッタ）１は、第１の光学素子（第１のプリズムともいう）２と第２の光学素子（第２のプリズムともいう）１０を接合した６面体のプリズム形状より成っている。そして、第１、第２のプリズム２、１０の２つのプリズムの接合面に凹凸格子部４を有した形状より構成されている。図２（ａ）、（ｂ）は図１の偏光ビームスプリッタ１を図中Ａ方向から視た形状の説明図と、Ｂ方向から視た形状の説明図である。図１では、凹凸格子部４は、複数の凹凸格子を１次元方向に等ピッチで配列した１次元の凹凸格子構造の格子部の長手方向（短手方向）が直交するように積層された３層の井桁構造となっている。１次元の凹凸格子構造は、透明基板３側から順に、第１の格子部５、第２の格子部６、第３の格子部７から構成されている。そして、第３の格子部７の凹凸格子の格子頂点部７ａが、接着層８を介して第１のプリズム２と接着されている。尚、接着層８を介さず格子部包絡面７ａが直接に第１のプリズム２と接着されていても良い。また、透明基板３の凹凸格子部４が作成されている面と反対側の面は第２のプリズム１０と接着層９により接着されている。
【００１２】
以上の各部材より６面体構造の偏光ビームスプリッタ１を構成している。ここで、１次元の凹凸格子構造は３層に限定されるものではなく、１層、２層、４層、或いは５層など任意の層数であっても良い。但し、画像投射装置の色光分解合成系に使用される偏光ビームスプリッタでは複数の入射面や複数の射出面がある。このような偏光ビームスプリッタでは、奇数層であるのが好ましい。また、第１のプリズム２と密着される第３の格子部７は、１次元周期の凹凸格子の材料の体積に比べ、エアスペースの体積が大きい形状ほど、製造方法が容易となる。また、図２（ａ）、（ｂ）の凹凸格子部４の形状は、１次元の矩形格子（凹凸格子）が直交に配列された井桁構造となっているが、これに限定されるものではない。第３の格子部７の凹凸格子の頂点形状が三角錐や、四角錐のように尖ってなくても良い。例えば第１の光学素子と密着する被密着面側の格子部の頂点部に平面部を有する格子であれば、１次元台形柱、２次元矩形格子、台形錐、台形柱、矩形格子など様々な格子形状に、本実施例の製造方法は適用することができる。
【００１３】
本発明の偏光光学素子の製造方法では、エアスペースを有する凹凸格子部４と特定の面（図２では第１のプリズム２のプリズム面）を精度良く密着させることを特徴としている。また、凹凸格子部４のエアスペース部に接着剤などが充填されずに密着でき、且つ凹凸格子部４と特定の面が全面で良好に密着され、空気層（気泡）などの密着されない箇所が存在しない密着することができる。さらには、特定の面が、凹凸格子部４の凹凸格子の格子高さと同じオーダーの表面凹凸形状を有する場合にも簡易に凹凸格子部４と特定の面を精度良く密着させることができる。
【００１４】
次に、図３の製造フローチャート図を用いて偏光ビームスプリッタの製造方法を説明する。図３（ａ）に、密着される第１の光学素子としての第１のプリズム２と接着層８を示す。図３（ｂ）に透明基板３上に形成された凹凸格子部４を示す。ここで、第１の光学素子２の被密着面２ｃに接着層８が塗布されている。そして、この被密着面２ｃが凸面となっている。一方、透明基板３上に作成された凹凸格子部４の凹凸格子の格子頂点部を連ねた面（頂点部包絡面）は平面である。
【００１５】
前述したように、第１のプリズム２の接着層８との被密着面が凸面となっているが、形状はこれに限定されるものではない。密着される２つの面の密着前における少なくとも一方向の曲率（シリンドリカル面のときは一方向の曲率）が異なっていることが、本実施例の製造方法の特徴である。
【００１６】
本実施例の製造方法では、２つの密着面２ａ、４ａの曲率が異なるため、凹凸格子部４の頂点部包絡面の素子中心が最初に第１の光学素子２（接着層８）に接し、徐々に外周部に向かって密着面が広がるように密着されることになる。ここで、凹凸格子部４と透明基板３には、平面に戻ろうとする張力が発生する。そのため、凹凸格子部４は、図中細線の矢印で示すように接着層８に対して押し付ける力が発生することとなる。このような、押し付ける力を発生させることが、本発明の製造方法の特徴となっている。この作用により、凹凸格子部４は、接着層８に全面で良好に密着され、密着されない箇所が存在しない良好な密着が行える。また、凹凸格子部４が全面で常に接着層８に対し押し付けられるため、第１の光学素子２の被密着面２ｃが使用波長（４００ｎｍ〜７００ｎｍ）程度の凹凸形状を有していても、密着されない箇所が発生しない密着が可能となる。従って、接着層８を薄くすることができ、エアスペースに接着剤が充填してもエアスペースの一部だけが充填するのに留めることができる。
【００１７】
或いは、接着層８自体に密着力の強い接着剤を用いる必要がなくなったり、第１の光学素子２の被密着面２ｃの凹凸を十分に緩和する必要がなくなったりするため、接着剤の制約が大幅に緩和される。そのため、凹凸格子のエアスペース部に充填されないような粘性の低い接着剤も選択することが可能となり、一般的な接着剤や接着技術で良好に密着することができる。凹凸格子部４の各格子部５〜７の凹凸格子の格子頂点部を連ねた面が凸面であっても、本発明の製造方法の効果は得られる。凹凸格子部４をリソグラフィなどの半導体プロセスで作成する場合、透明基板３には、６インチや８インチのウェハが用いられ、ウェハ上に凹凸格子部４を作成した後に、所望の偏光光学素子の大きさに切断される。そのため、透明基板３を含む凹凸格子部４側の面が平面であるほうが製造上好ましい。
【００１８】
図３（ｃ）は、第１のプリズム２と凹凸格子部４を密着する工程の説明図である。図３（ｃ）では、透明基板３の凹凸格子部４の形成面と反対側の外周部を保持し、図中の太線の矢印部を加圧するようにして、密着させている。加圧の方法は、これに限定するものではない。図４に示すように、凹凸格子部４の外周の一部を密着させた後、反対側の外周部を図中矢印の方向から加圧するようにしても良い。ここで、凹凸格子部４の透明基板３側の凹凸格子の格子頂点を連ねた面は平坦な面である。一方、第１のプリズム２の被密着面は凸面ではあるが、平滑面である。このような２つの面を密着させる際には、部分的に気泡が入らないように密着させることが重要である。そのため、密着面全面が一度に密着されるのではなく、前述したように徐々に密着領域が広がっていくような密着の方式が望ましい。また、図３（ａ）では、接着層８を第１のプリズム２の被密着面全面に塗布しているが、これに限定されない。最初に密着される箇所に接着剤を滴下しておき、加圧により密着領域を広げる際に、接着剤が広がるような製造方法を用いても良い。
【００１９】
次に、本実施例の製造方法では、基板の張力を利用している。そのため、張力が強すぎると、格子部５〜７を接着層８に押し付ける力が強くなりすぎ、格子形状が変形してしまう。また、張力が弱すぎると、第１のプリズム２に凹凸格子部４を全面で押し付けることが困難となる。そのため、透明基板３は、適度な張力を得るため、基板の厚みとして１ｍｍ以下であることが好ましい。また、あまり薄すぎると、基板の面精度のほうが、第１のプリズム２の面精度より悪化してしまうことと、張力が弱くなってしまうことから０．２ｍｍ以上であるのが好ましい。さらに、全面に良好に押し付ける力を発生させるために、第１のプリズム２の被密着面あるいは、凹凸格子部４の凹凸格子の頂点部包絡面のいずれかの面は、格子部外周部から中心部に向かって単調に面の高さが増加する凸面形状であることが望ましい。ここで、面の高さは、各々の面において中心部で接する接平面を設定し、接平面の面法線で、且つ対向する方向に対して、接平面と実際の面形状の差として定義する。
【００２０】
図３（ａ）を例にとると、凹凸格子の中心部での接平面は、図３（ａ）の点線で設定した面２ａと平行な面２ｂで規定される。また、面法線で、且つ対向する方向は、図中の太矢印である。この方向で、凹凸格子の面の高さを見たときに、面の高さの符号が常に正となるように、接平面の基準点を法線方向にずらす（図中点線の位置）。このようにして、凹凸格子の面の高さを調べたときに、中心部が一番高く、また高さが単調に増加していることになる。付与させる凸面の量が小さいと、面精度によっては、部分的に凹となる箇所が発生してしまう。本実施例の張力を利用した方法では、凹部に対して十分な押し付ける力が得られないため望ましくない。そこで、付与する凸面は、加工の面精度を考慮し、平面に対し最凸部（図３（ａ）におけるΔ）が使用波長の２倍以上であることが望ましい。
【００２１】
次に、接着層８について説明する。接着層８は上述したように薄くすることが可能である。従来のように３０μｍもの厚い接着層を設ける必要はなく、１μｍ以下の使用波長オーダーの薄い接着層で十分である。本実施例の偏光光学素子１を用いる画像表示装置は、高輝度な光（光源）を利用する。接着剤などの有機材料は、耐光性、耐熱性がないため、接着層を薄くできるのは好ましい。
【００２２】
次に、図３（ｄ）は、第２の光学素子としての第２のプリズム１０の表面に接着層９が塗布されている説明図である。そして、図３（ｅ）に示すように、第２のプリズム１０を透明基板３の凹凸格子部４が形成されている面と反対側の面に接着することによって偏光ビームスプリッタ１は完成する。図３（ｄ）、（ｅ）の工程では、平面の接着であるので通常の接着技術を利用できる。
【００２３】
以上の説明においては、６面体の偏光ビームスプリッタ１を例にとり、その製造方法を説明したが、偏光ビームスプリッターの形態はこれに限定されるものではない。第１の光学素子として平板を用い、平板に一旦密着させた後、プリズムに接着するようにしても良い。また、本実施例の製造方法は、偏光ビームスプリッタに限定するものではなく、位相板、偏光板など様々な光学素子の製造方法にも適用できる。以上説明したように、本実施例の偏光光学素子の製造方法では、凹凸格子部４と特定の面を密着させる際の前述した課題に対し、接着剤以外の密着させる力として、前述の張力による押し付ける力を利用している。これにより前述の課題を解決している。
【００２４】
次に偏光ビームスプリッタ１の光学作用を図１を用いて説明する。偏光ビームスプリッタ１の特定の光学面１ａから入射した光束（入射光）１１は、凹凸格子部４に概略４５°で入射する。入射光のＰ偏光成分は凹凸格子部４を透過し、偏光ビームスプリッタ１の別の光学面１ｂから光束１２として射出する。一方、入射光１１のＳ偏光成分は、凹凸格子部４で反射し、偏光ビームスプリッタ１の別の光学面１ｃから光束１３として分離射出する。ここで、各偏光に対し、凹凸格子部４は、以下のように作用する。まず、Ｐ偏光の光束に対して、凹凸格子部４は、各層５、６、７がほぼ等しい屈折率を有する層として機能する。さらに、その見かけの屈折率を第１、第２のプリズム２、１０の材料の屈折率とほぼ等しくなるようにも設定している。そのため、Ｐ偏光の光束に対して各格子部５、６、７の境界面、第１のプリズム２と第３の格子部７の境界面、透明基板３と第１の格子部５の境界面での反射は殆ど発生せず、入射角特性にも優れた高い透過特性が得られる。一方、Ｓ偏光の光束に対して、凹凸格子部４は屈折率の低い層と高い層が積層された、屈折率差の大きな多層膜として機能する。屈折率差を大きくすることで、界面の反射特性を高め、高い反射特性を得ている。図の例では、第１の格子部５と第３の格子部７が低屈折率の層として、第２の格子部６が高屈折率の層として作用している。さらに、第１のプリズム２および第２のプリズム１０の屈折率を高くしている。これにより、見かけの屈折率が低くなる層（第１の格子部５と第３の格子部７）の界面で全反射に近い反射となり、少ない層数の凹凸格子構造で、入射角特性にも優れた高い反射を得ている。
【００２５】
［実施例２］
次に本発明の実施例２における偏光光学素子の製造方法と、その製造方法によって得られた偏光光学素子について説明する。図５は、実施例２の製造方法で得られる偏光ビームスプリッタの要部構成図である。実施例２は実施例１に比べ、第１のプリズム２の接着層８側の凸面２ｃが、シリンドリカル面となっている。このような構成にすると、図３（ｃ）で説明した密着の際の加圧を行いやすくなる。図６（ａ）、（ｂ）は、第１のプリズム２の被密着面の応力を、第１のプリズム２を通して見た模式図である。図６（ａ）は、実施例１において密着面の応力が広がる状態を示す概念図となっている。一方、図６（ｂ）は、実施例２における密着面の応力が広がる状態を示す概念図である。実施例１では、まず１点Ｐ１が密着してから、全体に密着領域が広がるような加圧となっていた。それに対し、実施例２の構成では、まず中央の１ラインＬ１が密着してから、両側に密着領域が広がるような加圧となる。これにより、気泡の発生などが生じ難い良好な加圧が行うことができ、良好な偏光光学素子を実現することができる。
【００２６】
［実施例３］
次に本発明の実施例３における偏光光学素子の製造方法と、その製造方法によって得られた偏光光学素子について説明する。図７は、実施例３の製造方法で得られる偏光ビームスプリッタの要部構成図である。実施例１に比べ、第１のプリズム２側の接着層８がなくなっている。本発明の各実施例の製造方法では、凹凸格子部４と、第１のプリズム２の密着に、接着剤以外の力を用いている。そのため、接着層８を第１のプリズム２の面精度によっては使用しなくても十分な密着は行える。この構成では、密着面２ｄはオプティカルコンタクトによって直接密着されているだけである。このままでは、透明基板３の張力が密着させる方向ではなく密着を剥がす方向に作用するため好ましくない。
【００２７】
そこで、図８に示すように偏光ビームスプリッタ１の外周部を別の接着剤１４で接着する。これにより、前述の実施例１と同様に、透明基板３の張力が、凹凸格子部４を第１のプリズム２に押し付ける力として作用するようにでき、本発明の製造方法の特徴が効果的に得られる。この場合、凹凸格子部４との界面が有機材料でなくなるため、熱変形による性能変動が抑制できる。従って、耐熱性が向上した偏光光学素子を実現することができる。
【００２８】
図９は本発明の偏光光学素子を公知の画像投射装置に用いたときの要部概略図である。図９において、２０は光源手段である。２１は光源手段２０から発せられた光束のうち緑色光の波長領域光を透過するダイクロイックミラーである。２２ａ、２２ｂ、２２ｃはＳ偏光を反射し、P偏光を透過させる本発明に係る偏光ビームスプリッタである。２３ａ、２３ｂは、それぞれ所定波長領域の光の偏光方向を９０°変換（回転）させる色選択性波長板である。２４ｒ、２４ｇ、２４ｂはそれぞれ入射した光を反射するとともに画像信号に応じて変調し画像光を形成する反射型液晶表示素子（液晶パネル）である。２５ｒ、２５ｇ、２５ｂは、位相差板であるところの１／４波長板である。２６は投射レンズ（投射光学系）である。
【００２９】
次に、ダイクロイックミラー２１を透過した緑色光の波長領域光を例に、各光学素子の作用を説明する。ダイクロイックミラー２１を透過した緑色光の内、S偏光の光は、偏光ビームスプリッタ２２ａの偏光分離面で反射される。そして、１／４波長板２５ｇを透過し、円偏光となり、反射型液晶表示素子２４ｇに入射する。反射型液晶表示素子２４ｇで偏光方向が変調されずに反射された光は、再度１／４波長板２５ｇを透過することでＰ偏光に変換される。その後、偏光ビームスプリッタ２２ａ、２２ｃを透過し、投射レンズ２６により、不図示のスクリーン等に投射される。以上のように各実施例の製造方法によれば、製造的に簡易で且つ簡易な構成により、高性能な偏光分離特性を有した偏光光学素子が得られる。そして、その製法方法によって作成された高性能な偏光光学素子を画像投射装置に用いることで、コントラストの高い良好な光学性能を有する投射画像が得られる。
【符号の説明】
【００３０】
１は偏光光学素子（偏光ビームスプリッタ）、２は第１の光学素子（第１のプリズム）、３は透明基板、４は凹凸格子部、５は第１の格子部、６は第２の格子部、７は第３の格子部、８，９は接着層、１０は第２の光学素子（第２のプリズム）、１１は入射光束、１２はP偏光の射出光束、１３はS偏光の射出光束、１４は接着剤、２１は緑の波長領域光を透過するダイクロイックミラー、２２ａ，２２ｂ，２２ｃは偏光ビームスプリッタ、２３ａ，２３ｂは色選択性波長板、２４ｒ，２４ｇ，２４ｂは反射型液晶表示素子、２５ｒ，２５ｇ，２５ｂは１／４波長板、２６は投射レンズ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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