(57)【要約】【課題】振動濾過方法において、濾過性能を自動的に回復させ長期間安定した濾過を可能にする。【解決手段】振動させたフィルタに被濾過液３を供給しクロスフローによりフィルタ７上に浮遊粒子層を形成させて濾液１４と粒子が濃縮されたオーバーフロー液１６とに分離する振動濾過方法であって、オーバーフロー液１６の流出を絞ってフィルタ７における圧力差を調節することにより浮遊粒子層を安定形成して濾過を行い、フィルタ７の濾過性能が低下したときは、オーバーフロー液１６の流出を開放して浮遊粒子層を洗い流すようにする。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
振動させたフィルタに被濾過液を供給しクロスフローにより濾液と、粒子が濃縮されたオーバーフロー液とに分離する振動濾過方法であって、前記オーバーフロー液の流出を絞ってフィルタに作用する圧力を調節することにより濾過を行い、振動によりフィルタ上に形成される浮遊粒子層の層厚が増加して濾過性能が低下したときは、前記オーバーフロー液の流出を開放して浮遊粒子層を洗い流すことを特徴とする振動濾過方法。
【請求項２】
オーバーフロー液の流出を開放する際に、濾液の流出を遮断する請求項１に記載の振動濾過方法。
【請求項３】
フィルタの濾過性能が、濾液の流出流量から検出される請求項１又は２に記載の振動濾過方法。
【請求項４】
フィルタの濾過性能が、被濾過液を定量ポンプにより定量供給する際には被濾過液の供給圧力から検出される請求項１又は２に記載の振動濾過方法。
【請求項５】
被濾過液を、該被濾過液の粘度が高粘度から低粘度に変化する変曲点以上の温度に加熱する請求項１〜４のいずれか１つに記載の振動濾過方法。
【請求項６】
被濾過液が、シリコン加工工程で生じるシリコン切削屑と砥粒がクーラントに混入した２点ピーク分布を有する廃スラリーである請求項１〜５のいずれか１つに記載の振動濾過方法。
【請求項７】
振動濾過の停止前に、前記オーバーフロー液の流出を開放して浮遊粒子層を洗い流し、その後振動濾過を停止する請求項１に記載の振動濾過方法。
【請求項８】
被濾過液を供給する供給ポンプと、
供給ポンプからの被濾過液が振動するフィルタに供給されフィルタ上に形成される浮遊粒子層により濾液と、粒子が濃縮されたオーバーフロー液とに分離する振動濾過機と、
前記オーバーフロー液の流出流路に備えた切換弁と、
該切換弁に絞り弁介して接続された調整流路と、
前記切換弁に接続された開放流路と、
フィルタによる濾過性能を検出する濾過性能検出手段と、
該濾過性能検出手段で検出した濾過性能が設定値以下に低下したときに、前記オーバーフロー液を開放流路に開放するよう切換弁を切り換える切換制御器と、
を有することを特徴とする振動濾過装置。
【請求項９】
前記オーバーフロー液を開放流路に開放する時に濾液の流出を遮断する遮断弁を有する請求項８に記載の振動濾過装置。
【請求項１０】
濾過性能検出手段が、濾液の流出流量を検出する流量計である請求項８又は９に記載の振動濾過装置。
【請求項１１】
濾過性能検出手段が、被濾過液を定量ポンプによりフィルタに供給する場合は被濾過液の供給圧力を検出する圧力計である請求項８又は９に記載の振動濾過装置。
【請求項１２】
タンクに、被濾過液を加熱するための加熱器を有する請求項８〜１１のいずれか１つに記載の振動濾過装置。
【請求項１３】
切換制御器は、振動濾過の停止前に、前記オーバーフロー液を開放流路に開放するように切換弁を制御する請求項８に記載の振動濾過装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は濾過性能を自動的に回復させ長期間安定した濾過を可能にする振動濾過方法及び装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、シリコンの半導体ウェーハを製造するには、単結晶インゴットをスライスして薄円板状のウェーハを得るスライス工程、ウェーハの欠けや割れを防ぐための面取り工程、面取り部やウェーハ面を仕上研磨する研磨工程等の多数の加工工程があり、このようなウェーハの加工工程においては廃スラリーが生じる。特に、単結晶インゴットをスライスするスライス工程では、クーラントに砥粒を混合した切削液をワイヤソーのワイヤに掛けながら切削を行っており、従って、廃スラリーは砥粒と、砥粒の破片と、シリコンの切削屑がクーラントに混合したものとなっている。
【０００３】
ここで、前記廃スラリーは、経済的な理由及び廃棄物の減容化の観点から再生して再使用することが行われている。すなわち、廃スラリーを砥粒とクーラントとシリコン切削屑等の不純物とに分離し、砥粒とクーラントはｐＨなどの諸条件を調整した後、必要に応じて新クーラント及び新砥粒と混合して再度切削、研磨等の加工工程に用いられる。
【０００４】
上記ウェーハの加工工程において発生する廃スラリーは微粒子が高い濃度で混合した比較的高い粘度を有しているため、前記砥粒とクーラントを高効率で分離して回収することは困難となっている。
【０００５】
前記廃スラリーの分離回収には、２台の遠心分離器を備えて１段目の遠心分離器では砥粒を回収し、２段目の遠心分離器ではクーラントを回収するようにしたものがある（特許文献１参照）。
【０００６】
しかし、２段目の遠心分離器で回収されるクーラント中には１０重量％前後の不純物（主にシリコン切削屑）が存在しており、従って、前記２段目の遠心分離器からのクーラントを全量回収しようとした場合には再生切削液中の不純物量が過多となって切削性能の悪化などが生じるため、クーラントは３０〜５０％程度しか回収して再利用されておらず、残りのクーラントは廃棄しているのが現状である。
【０００７】
従って、前記クーラントの回収率を高めて廃棄量を減少することが望まれるが、クーラントを確実に分離する方法としては、膜濾過方式がある（特許文献２参照）。膜濾過方式は、濾過膜を選定することによって微細粒子までも確実に分離できる利点がある反面、濾過膜が目詰まりし易く、そのために短時間で濾過性能が低下し、洗浄を行っても性能が回復せず寿命が短いという問題がある。従って、膜濾過方式はｐｐｍオーダーの僅かな不純物を濾過する場合に用いられており、前記２段目の遠心分離器で回収されるクーラントのように１０重量％前後もの不純物が混在するものの処理には適用できない。
【０００８】
また、従来よりケーキ濾過方式がある（特許文献３参照）。ケーキ濾過方式は、被濾過液中の固体粒子がフィルタにトラップされて形成されるケーキがフィルタの役目を果たすようにしたものであり、混在する固体粒子の濃度が比較的高くても分離することができる。しかし、前記２段目の遠心分離器からのクーラントのような場合はケーキが安定して形成され難いために効果的な濾過が難しいという問題を有していた。
【０００９】
前記シリコンの加工工程からの廃スラリーには、図７に固体粒子の粒径分布図を示すように、砥粒（粒径大）とシリコン切削屑（粒径小）は２つのピーク点Ｐ１，Ｐ２を有する２点ピーク分布Ａとなっている。そして、前記１段目の遠心分離器で第１のピーク点Ｐ１を狙って砥粒を除去し、その後、前記２段目の遠心分離器で第２のピーク点Ｐ２を狙ってシリコン切削屑を除去するようにしている。このようにして遠心分離器で処理した後のクーラントは、前記２つのピーク点Ｐ１，Ｐ２とは異なるが、やはり２つのピーク点Ｐ１’，Ｐ２’を有する２点ピーク分布Ｂが残った状態となっている。
【００１０】
前記ケーキ濾過方式では、固体粒子の粒径が比較的揃った１つのピーク点を有するものの場合には、図８に示すように粒子間に適当な流路ができて濾過が行われることによって大きい厚さのケーキが形成されて良好な濾過が行われるが、図７に示すように２つのピーク点Ｐ１’，Ｐ２’を有する２点ピーク分布のクーラントの場合には、微粒子が早い段階でフィルタ上に堆積して流路を覆ぐためにその後の大径の粒子の分離が進行せず、よって大きい厚さのケーキが形成できず、良好な濾過が行われないという問題がある。
【００１１】
一方、前記クーラントに含有する固体粒子を完全に分離する方法としては蒸発と凝縮を行って分離する蒸留方式がある。しかし、この蒸留方式においては、クーラントが低沸点でしかも引火性、毒性が低い例えばプロピレングリコールを主成分としたものに限定される問題がある。蒸留方式では蒸発と凝縮による回収プロセスとなるため、例えば高沸点及び引火性、毒性を有するクーラントを用いた場合には、高温での処理、及び安全対策が必要となり、設備費及び加熱燃料費が増大するという問題がある。尚、近年では、クーラントが油性から水性に移行しつつあり、水性クーラントの中でもプロピレングリコールよりも安価なジエチレングリコールや粘性等が安定しているポリエチレングリコール（ＰＥＧ２００等）等を用いることが検討されているが、これらはいずれも高沸点或いは熱分解性があるため、蒸留方式での適用には限界がある。
【００１２】
又、近年では前記従来の問題点を解決できる分離方式として、振動させたフィルタに被濾過液を供給し、フィルタ上に浮遊粒子層が形成された状態で濾液と、粒子が濃縮されたオーバーフロー液とに分離するクロスフローによる振動分離システムが提案されている（特許文献４参照）。
【００１３】
この振動分離システムでは、フィルタから離れて浮遊する浮遊粒子層が形成され、しかも浮遊粒子層の粒子が振動していることにより、フィルタの目詰まりが起こり難いことによって安定した濾過を行うことができる。
【特許文献１】特開２００１−２７７１１５号公報
【特許文献２】特開２００１−０１５４６５号公報
【特許文献３】特開平０８−２９４６０６号公報
【特許文献４】特表２００２−５０９０１４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
しかしながら、特許文献４に示す振動分離システムにおいても、前記クーラントのように粘性の高い被濾過液の濾過を行う場合、濾過を継続するとフィルタ上に形成される浮遊粒子層の層厚が徐々に厚くなってフィルタに接近し、濾過性能が低下してしまうという問題がある。更に、振動分離システムを停止した際には、前記浮遊粒子層がフィルタに密着して張り付いてしまい、運転を再開した際に、良好な濾過ができないという問題を有していた。
【００１５】
本発明は、上記実情に鑑みてなしたもので、振動濾過方法において、濾過性能を自動的に回復させ長期間安定した濾過を可能にする振動濾過方法及び装置を提供しようとするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
本発明は、振動させたフィルタに被濾過液を供給しクロスフローにより濾液と、粒子が濃縮されたオーバーフロー液とに分離する振動濾過方法であって、前記オーバーフロー液の流出を絞ってフィルタに作用する圧力を調節することにより濾過を行い、振動によりフィルタ上に形成される浮遊粒子層の層厚が増加して濾過性能が低下したときは、前記オーバーフロー液の流出を開放して浮遊粒子層を洗い流すことを特徴とする振動濾過方法、に係るものである。
【００１７】
上記振動濾過方法において、オーバーフロー液の流出を開放する際に、濾液の流出を遮断することは好ましい。
【００１８】
又、上記振動濾過方法において、フィルタの濾過性能は、濾液の流出流量から検出できる。
【００１９】
又、上記振動濾過方法において、フィルタの濾過性能は、被濾過液を定量ポンプにより定量供給する際に被濾過液の供給圧力から検出できる。
【００２０】
又、上記振動濾過方法において、被濾過液を、該被濾過液の粘度が高粘度から低粘度に変化する変曲点以上の温度に加熱することは好ましい。
【００２１】
又、上記振動濾過方法において、被濾過液は、シリコン加工工程で生じるシリコン切削屑と砥粒がクーラントに混入した２点ピーク分布を有する廃スラリーであってもよい。
【００２２】
又、上記振動濾過方法において、振動濾過の停止前に、前記オーバーフロー液の流出を開放して浮遊粒子層を洗い流し、その後振動濾過を停止することは好ましい。
【００２３】
本発明は、被濾過液を供給する供給ポンプと、
供給ポンプからの被濾過液が振動するフィルタに供給されフィルタ上に形成される浮遊粒子層により濾液と、粒子が濃縮されたオーバーフロー液とに分離する振動濾過機と、
前記オーバーフロー液の流出流路に備えた切換弁と、
該切換弁に絞り弁介して接続された調整流路と、
前記切換弁に接続された開放流路と、
フィルタによる濾過性能を検出する濾過性能検出手段と、
該濾過性能検出手段で検出した濾過性能が設定値以下に低下したときに、前記オーバーフロー液を開放流路に開放するよう切換弁を切り換える切換制御器と、
を有することを特徴とする振動濾過装置、に係るものである。
【００２４】
上記振動濾過装置において、前記オーバーフロー液を開放流路に開放する時に濾液の流出を遮断する遮断弁を有することは好ましい。
【００２５】
又、上記振動濾過装置において、濾過性能検出手段は、濾液の流出流量を検出する流量計であってもよい。
【００２６】
又、上記振動濾過装置において、濾過性能検出手段は、被濾過液を定量ポンプによりフィルタに供給する場合に被濾過液の供給圧力を検出する圧力計であってもよい。
【００２７】
又、上記振動濾過装置において、タンクに、被濾過液を加熱するための加熱器を有することは好ましい。
【００２８】
又、上記振動濾過装置において、切換制御器は、振動濾過の停止前に、前記オーバーフロー液を開放流路に開放するように切換弁を制御することは好ましい。
【発明の効果】
【００２９】
本発明の振動濾過方法及び装置によれば、オーバーフロー液の流出を絞ってフィルタに作用する圧力を調節することによりフィルタ上に安定した浮遊粒子層を形成して濾過を濾過を行い、フィルタ上の浮遊粒子層の層厚が大きくなって濾過性能が低下したときには、オーバーフロー液の流出を開放して浮遊粒子層を洗い流すようにしたので、濾過性能の低下時にフィルタの濾過性能を自動的に回復することができ、よって長期間安定した濾過を行えるという優れた効果を奏し得る。
【００３０】
被濾過液を、該被濾過液の粘度が高粘度から低粘度に変化する変曲点以上の温度に加熱すると、被濾過液の粘度を低下させて濾過効率を高められると共に、粘度が安定することにより浮遊粒子層の形成が安定する効果がある。
【００３１】
被濾過液が、シリコン加工工程で生じるシリコン切削屑と砥粒がクーラントに混入した２点ピーク分布を有する廃スラリーであっても、浮遊粒子層を自動的に洗い流す操作により安定した濾過が行える効果がある。
【００３２】
振動濾過の停止前に、前記オーバーフロー液の流出を開放して浮遊粒子層を洗い流し、その後振動濾過を停止すると、停止時に浮遊粒子層がフィルタに密着して張り付く問題を防止して、運転を再開した際に良好な濾過を行える効果がある。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３３】
以下、本発明の実施の形態を添付図面を参照して説明する。
【００３４】
図１は本発明における振動濾過装置の概略の一例を示すフローチャートである。図１中、１は振動濾過機、２は被濾過液３が収容されたタンク、４はタンク２の被濾過液３を供給流路５を介して前記振動濾過機１に供給する供給ポンプである。
【００３５】
前記振動濾過機１は、筒状の容器６内に複数の円板状のフィルタ７が収容されており、前記容器６が駆動モータ８によって往復回転されることにより前記フィルタ７は振動するようになっている。フィルタ７の直径方向中心には、濾液流出流路９が形成してある一方、濾液流出流路９を通る直径方向一側には供給ポンプ４からの被濾過液３が導入される被濾過液導入流路１０が設けられ、又、濾液流出流路９を通る直径方向他側にはオーバーフロー液流路１１が設けられている。
【００３６】
図２は前記振動濾過機１におけるフィルタ７の濾過構造を示すもので、間隔７ａを隔てた２枚のフィルタ７が１つのユニット１２に形成されており、このユニット１２が所要の間隔１３を有して複数積層された構成を有している。そして、前記被濾過液導入流路１０から導入された被濾過液３は、間隔１３を通してユニット１２の上下の外側面に導かれ、クロスフローにより濾液１４は破線で示すように各フィルタ７を通り抜けて濾過され、濾液１４は間隔７ａから濾液流出流路９に流出される。このとき、フィルタ７は振動しているため、フィルタ７の外面には、図３に示すようにフィルタ７外面と間隔を有して浮遊する浮遊粒子層１５が形成される。従って、被濾過液３は浮遊粒子層１５によって濾過されるようになる。濾液１４が分離された被濾過液３は、粒子が濃縮されたオーバーフロー液１６となってオーバーフロー液流路１１から流出される。
【００３７】
前記振動濾過機１において濾過を継続すると、浮遊する浮遊粒子層１５の層厚が徐々に厚くなり、これによって濾過性能が低下する問題がある。更に、振動濾過機１の運転を停止した際には前記浮遊粒子層１５がフィルタ７上に密着して張り付いてしまい、運転を再開した際に良好な濾過ができない問題がある。
【００３８】
このため、図１に示すように、前記オーバーフロー液１６が流出する流出流路１７に切換弁１８（三方切換弁）を設け、更に該切換弁１８に、絞り弁１９を介して前記オーバーフロー液１６をタンク２に戻す調整流路２０と、オーバーフロー液１６をそのまま前記タンク２に開放する開放流路２１とを接続している。
【００３９】
更に、振動濾過機１におけるフィルタ７の濾過性能を検出するために、濾液１４の流出流路２２に流量計２３による濾過性能検出手段２４を設けている。濾過性能検出手段２４としては、前記供給ポンプ４が定量ポンプである場合には、供給流路５に圧力計２５を設けてフィルタ７に供給される被濾過液３の供給圧力を検出するようにしてもよい。
【００４０】
そして、前記濾過性能検出手段２４で検出した濾過性能が設定値以下に低下したときに、前記オーバーフロー液１６を開放流路２１によってタンク２に開放するように切換弁１８の切り換えを制御する切換制御器２６を設けている。
【００４１】
更に、図１では、濾液１４の流出流路２２に、前記したようにオーバーフロー液１６を開放流路２１によりタンク２に開放する際に、濾液１４の流出を遮断するようにした遮断弁２７を設けている。
【００４２】
又、タンク２には被濾過液３を加熱するための加熱器２８を設けている。加熱器２８は、タンク２に設けて被濾過液３の温度を検出する温度計２９の検出温度に基づいて、制御器３０により加熱を制御するようにしている。図４、図５に異なる種類の被濾過液３の温度と粘度の関係を示すように、被濾過液３は種類によって、粘度が高粘度から低粘度に変化する異なった変曲点Ｘを有しているので、被濾過液３の種類に応じて変曲点Ｘ以上の温度が維持されるように、前記加熱器２８により被濾過液３を加熱するようにしている。被濾過液３を加熱する加熱器２８には電気ヒータ、温水等種々の方式を用いることができ、被濾過液３を加熱する位置も任意に選定できる。
【００４３】
又、前記切換制御器２６は、振動濾過機１による濾過の停止前にも前記切換弁１８を切り換えてオーバーフロー液１６を開放流路２１に開放するようになっている。即ち、切換制御器２６に停止指令３１が入力されると、切換制御器２６はオーバーフロー液１６を開放流路２１に開放するよう切換弁１８を切換えた後、振動濾過機１の運転を停止する指令を発するようになっている。
【００４４】
以下に、上記形態の作用を説明する。
【００４５】
駆動モータ８により振動濾過機１を往復回転させてフィルタ７を振動させた状態において、供給ポンプ４を駆動してタンク２の被濾過液３を供給流路５を介して被濾過液導入流路１０に導入すると共に、オーバーフロー液１６の流出流路１７に設けた絞り弁１９を所定の開度に絞ることにより、被濾過液３は所要の圧力でユニット１２における上下のフィルタ７の外面に導かれ、フィルタ７上に浮遊粒子層１５が形成された状態で、被濾過液３の濾液１４は浮遊粒子層１５及びフィルタ７を通り抜けて濾過されることにより濾液流出流路９から流出される。フィルタ７の外面をクロスフローした被濾過液３は、粒子が濃縮されてオーバーフロー液１６となってオーバーフロー液流路１１から流出流路１７に流出される。
【００４６】
この時、不純物の濃度が大きい被濾過液３を濾過するには、フィルタ７は駆動モータ８の駆動によって４０〜７０Ｈｚ前後の振動数で且つ１／２インチ〜１インチ（約１３〜２５ｍｍ）前後の振幅にて振動させると良好な濾過を行えることが判明した。前記振動濾過機１によって１０重量％前後の不純物が混在したクーラントからなる被濾過液３を濾過する際には、５０Ｈｚの振動数で且つ３／４インチ（約１９ｍｍ）の振幅でフィルタ７を振動させた場合に、フィルタ７外面に良好な浮遊粒子層１５が形成されて、良好な濾過を行うことができた。
【００４７】
しかし、上記のような良好な状態での濾過を行っていても、濾過を継続していると、浮遊する浮遊粒子層１５の層厚が徐々に厚くなってフィルタ７に接近し、フィルタ７の濾過性能が低下するようになる。
【００４８】
フィルタ７の濾過性能が低下すると、流出流路２２から流出する濾液１４の流量が徐々に減少することになるが、濾液１４の流出流量が流量計２３からなる濾過性能検出手段２４によって検出され、その検出値が切換制御器２６に入力されているので、濾過性能検出手段２４による性能の検出値が設定値以下に低下すると、切換制御器２６は、前記オーバーフロー液１６を開放流路２１によってタンク２に開放するように切換弁１８を切り換える。
【００４９】
すると、フィルタ７上に厚く成長した浮遊粒子層１５は瞬時に洗い流される。この時、濾液１４の流出流路２２に設けた遮断弁２７を閉じることにより、被濾過液３はすべてオーバーフロー液１６となるので、浮遊粒子層１５を洗い流す作用を高めることができる。
【００５０】
浮遊粒子層１５が洗い流されたフィルタ７の面は綺麗な状態に回復されるので、切換制御器２６は、再び前記オーバーフロー液１６を絞り弁１９を有する調整流路２０に流すように切換弁１８を切り換える。これにより、再びフィルタ７上には良好な状態の浮遊粒子層１５が形成されて良好な濾過が行われるようになる。
【００５１】
上記において、例えばタンク２に設けた加熱器２８により、被濾過液３の粘度が、図４、図５に示す高粘度から低粘度に変化する変曲点Ｘ以上の温度に加熱する。このようにすると、被濾過液３の粘度を低下させて濾過効率を高めることができると共に、粘度が安定することによって浮遊粒子層１５の形成を安定させることができる。
【００５２】
又、切換制御器２６に停止指令３１を入力すると、切換制御器２６はオーバーフロー液１６を開放流路２１に開放するよう切換弁１８を切換えた後、振動濾過機１の運転を停止する指令を発するようになっているので、振動濾過機１の運転停止時にはフィルタ７上の浮遊粒子層１５が洗い流され、よって、停止時に浮遊粒子層１５がフィルタ７に密着して張り付き、運転を再開した際に良好な濾過ができないという問題を解消することができる。
【００５３】
図６は、本発明をシリコン加工工程からの廃スラリーの濾過に適用した場合の一例を示すものであり、図６中、３２はワイヤソー等のシリコン加工装置、３３はシリコン加工装置３２からの廃スラリー３４を導入して砥粒３５を分離する第１段の遠心分離器であり、分離した砥粒３５は調合タンク３６に導かれ、濾液３７は濾液タンク３８に導かれる。３９は濾液タンク３８の濾液３７を導入して濾液４０を分離する第２段の遠心分離器であり、分離した濾液４０は受入れタンク４１に導かれる。第２段の遠心分離器３９で分離された不純物４２は廃棄される。前記受入れタンク４１の濾液４０は図１のタンク２に被濾過液３として供給され、供給ポンプ４により前記振動濾過機１に供給されて、粒子が効果的に除去されたクーラント４３（濾液１４）が得られる。得られたクーラント４３は、前記調合タンク３６に導かれて、前記砥粒３５及び新砥粒、新クーラントの添加が行われて切削液４４の調合が行われ、切削液４４は再びシリコン加工装置３２へ供給される。前記濾過によってタンク２内の濾液４０の不純物は徐々に濃縮されるので、タンク２内の濾液４０の一部は取出し、蒸留分離等により廃棄固形分とクーラントとに分離される。従って、図６の形態においては、廃スラリー３４に含まれるクーラントの略全量を回収して再利用できるようになる。
【００５４】
図６の第２段の遠心分離器３９において分離された濾液４０は、図７に示すように２つのピーク点Ｐ１’，Ｐ２’を有する２点ピーク分布Ｂを有しているが、前記振動濾過機１によって図３に示したようにフィルタ７上に形成される浮遊粒子層１５により濾過され、更に、浮遊粒子層１５の層厚が厚くなって濾過性能が低下すると自動的に浮遊粒子層１５を洗い流すようになっているので、分離し難い２点ピーク分布Ｂを有する濾液４０（廃スラリー）も安定して濾過することができる。
【００５５】
上記したように、本発明では、オーバーフロー液１６の流出を絞ってフィルタ７に作用する圧力を調節することによりフィルタ７上に安定した浮遊粒子層１５を形成して濾過を行い、フィルタ７上の浮遊粒子層１５の層厚が大きくなって濾過性能が低下したときには、オーバーフロー液１６の流出を開放して浮遊粒子層１５を洗い流すようにしたので、濾過性能の低下時にフィルタ７の濾過性能を自動的に回復することができ、よって長期間安定した濾過が可能になる。
【００５６】
尚、本発明は上記形態にのみ限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々変更を加え得ることは勿論である。 
【図面の簡単な説明】
【００５７】
【図１】本発明における振動濾過装置の概略の一例を示すフローチャートである。
【図２】振動濾過機におけるフィルタの濾過構造を示す断面図である。
【図３】フィルタ上に浮遊粒子層が形成されている状態を示す説明図である。
【図４】被濾過液の温度と粘度の関係と変曲点を示す線図である。
【図５】図４とは異なる被濾過液の温度と粘度の関係と変曲点を示す線図である。
【図６】本発明をシリコン加工工程からの廃スラリーの濾過に適用した場合の一例を示すフローチャートである。
【図７】シリコンの加工工程からの廃スラリーにおける固体粒子の粒径分布図である。
【図８】ケーキ濾過において、固体粒子の粒径が比較的揃った１つのピーク点を有する場合のケーキの厚さを示す模式図である。
【図９】ケーキ濾過において、固体粒子の粒径が２つのピーク点を有する２点ピーク分布の場合のケーキの厚さを示す模式図である。
【符号の説明】
【００５８】
１  振動濾過機
３  被濾過液
４  供給ポンプ
７  フィルタ
１４  濾液
１５  浮遊粒子層
１６  オーバーフロー液
１７  流出流路
１８  切換弁
１９  絞り弁
２０  調整流路
２１  開放流路
２３  流量計
２４  濾過性能検出手段
２５  圧力計
２６  切換制御器
２７  遮断弁
２８  加熱器
３２  シリコン加工装置
３４  廃スラリー
３５  砥粒
４３  クーラント
Ｂ      ２点ピーク分布
Ｘ      変曲点
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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