(57)【要約】【課題】被処理基板を確実に支持でき、かつ、被処理基板に対する均一な処理も可能な基板載置機構を提供すること。【解決手段】載置台４の内側に、突没自在に設けられ、被処理基板Ｇの外周縁部を支持する第１リフター８ａと、載置台４の外側に、載置台４の載置面の上方に移動可能に設けられ、第１リフター８ａが被処理基板Ｇを支持する位置よりも被処理基板Ｇの中央部分を支持する第２リフター８ｂ（８ｂ１）と、を具備し、被処理基板Ｇの裏面を載置面上に部分的に当接させた状態において、第１リフター８ａと第２リフター８ｂ（８ｂ１）間にて被処理基板Ｇの受け渡しを行うように構成する。【選択図】図３
2010062461.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被処理基板を載置する載置台と、
前記載置台の内側に、突没自在に設けられ、前記被処理基板の外周縁部を支持する第１リフターと、
前記載置台の外側に、前記載置台の載置面の上方に移動可能に設けられ、前記第１リフターが前記被処理基板を支持する位置よりも前記被処理基板の中央部分を支持する第２リフターと、を具備し、
前記被処理基板の裏面を前記載置面上に部分的に当接させた状態において、前記第１リフターと前記第２リフター間にて前記被処理基板の受け渡しを行うように構成されていることを特徴とする基板載置機構。
【請求項２】
前記第２リフターが、前記被処理基板を搬送してきた搬送機構から前記被処理基板を前記載置面の上方で受け取り、前記受け取った被処理基板の裏面を前記載置面上に部分的に当接させ、
前記被処理基板の裏面が前記載置面上に部分的に当接された状態で、前記第１リフターが前記被処理基板の外周縁部を持ち上げ、前記被処理基板を前記第２リフターから離脱させ、
前記被処理基板が前記第２リフターから離脱した状態で、前記第２リフターを前記載置面の上方から退避させ、
前記第２リフターが前記載置面の上方から退避された状態で、前記第１リフターが前記被処理基板を前記載置面上に載置するように構成されていることを特徴とする請求項１に記載の基板載置機構。
【請求項３】
前記被処理基板の裏面が前記載置面上に部分的に当接された状態で、前記第１リフターが前記被処理基板の外周縁部を持ち上げ、
前記被処理基板の裏面が前記載置面上に部分的に当接され、かつ、前記被処理基板の外周縁部が持ち上げられた状態で、前記第２リフターを前記載置面の上方に移動させ、
前記被処理基板の裏面が前記載置面上に部分的に当接された状態で、前記第１リフターが前記被処理基板を前記第２リフターに載せ替え、
前記第２リフターが、前記被処理基板を持ち上げ、前記被処理基板を前記載置面から離脱させるように構成されていることを特徴とする請求項２に記載の基板載置機構。
【請求項４】
前記第２リフターが、
垂直方向に移動可能、かつ、旋回可能なシャフトと、
前記シャフトの先端部分に取り付けられ、前記載置台の載置面の上方に旋回可能な旋回アームと、
を具備することを特徴とする請求項１乃至請求項３いずれか一項に記載の基板載置機構。
【請求項５】
前記第２リフターが、
垂直方向に移動可能なシャフトと、
前記シャフトの先端部分に取り付けられ、前記載置台の載置面の上方に伸縮可能な伸縮アームと、
を具備することを特徴とする請求項１乃至請求項３いずれか一項に記載の基板載置機構。
【請求項６】
前記第２リフターが、
垂直方向に移動可能、かつ、旋回可能なシャフトと、
前記シャフトの先端部分に取り付けられ、前記載置台の載置面の上方に旋回可能な旋回アームと、
前記旋回アームに取り付けられ、前記載置台の載置面の上方に伸縮可能な伸縮アームと、
を具備することを特徴とする請求項１乃至請求項３いずれか一項に記載の基板載置機構。
【請求項７】
前記第１リフター、及び第２リフターに、重量センサーが、さらに設けられていることを特徴とする請求項１乃至請求項６いずれか一項に記載の基板載置機構。
【請求項８】
前記第２リフターが、前記載置台の載置面の上方に移動可能な部材を、複数有することを特徴とする請求項１乃至請求項７いずれか一項に記載の基板載置機構。
【請求項９】
被処理基板に処理を施すチャンバーと、
前記チャンバーの内部に設けられ、前記被処理基板が載置される基板載置機構と、を備えた基板処理装置であって、
前記基板載置機構に、請求項１乃至請求項８いずれか一項に記載の基板載置機構が用いられていることを特徴とする基板処理装置。
【請求項１０】
被処理基板を載置する載置台と、
前記載置台の内側に、突没自在に設けられ、前記被処理基板の外周縁部を支持する第１リフターと、
前記載置台の外側に、前記載置台の載置面の上方に移動可能に設けられ、前記第１リフターが前記被処理基板を支持する位置よりも前記被処理基板の中央部分を支持する第２リフターと、を備えた基板載置機構の制御方法であって、
前記第２リフターが、前記被処理基板を搬送してきた搬送機構から前記被処理基板を前記載置面の上方で受け取り、前記受け取った被処理基板の裏面を前記載置面上に部分的に当接させる工程と、
前記被処理基板の裏面が前記載置面上に部分的に当接された状態で、前記第１リフターが前記被処理基板の外周縁部を持ち上げ、前記被処理基板を前記第２リフターから離脱させる工程と、
前記被処理基板が前記第２リフターから離脱した状態で、前記第２リフターを前記載置面の上方から退避させる工程と、
前記第２リフターが前記載置面の上方から退避された状態で、前記第１リフターが前記被処理基板を前記載置面上に載置する工程と、
を具備することを特徴とする基板載置機構の制御方法。
【請求項１１】
前記被処理基板の裏面が前記載置面上に部分的に当接された状態で、前記第１リフターが前記被処理基板の外周縁部を持ち上げる工程と、
前記被処理基板の裏面が前記載置面上に部分的に当接され、かつ、前記被処理基板の外周縁部が持ち上げられた状態で、前記第２リフターを前記載置面の上方に移動させる工程と、
前記被処理基板の裏面が前記載置面上に部分的に当接された状態で、前記第１リフターが前記被処理基板を前記第２リフターに載せ替える工程と、
前記第２リフターが、前記被処理基板を持ち上げ、前記被処理基板を前記載置面から離脱させる工程と、
をさらに具備することを特徴とする請求項１０に記載の基板載置機構の制御方法。
【請求項１２】
コンピュータ上で動作し、基板載置機構を制御するプログラムが記憶されたコンピュータ読み取り可能な記憶媒体であって、
前記プログラムは、実行時に、前記請求項１０又は請求項１１いずれか一項に記載の基板載置機構の制御方法が行われるように、コンピュータに前記基板載置機構を制御させることを特徴とするコンピュータ読み取り可能な記憶媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、フラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）用ガラス基板等の可撓性を有する被処理基板が載置される基板載置機構、この基板載置機構を備えた基板処理装置、基板載置機構の制御方法及びこの制御方法をコンピュータに実行させるコンピュータ読み取り可能な記憶媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＦＰＤの製造プロセスにおいては、被処理基板であるＦＰＤ用のガラス基板に対して、ドライエッチングやスパッタリング、化学気相成長（ＣＶＤ）等の各種処理が施される。このような処理は通常、チャンバー内に設けられた載置台にガラス基板を載置した状態で行われ、載置台に対する基板のローディングおよびアンローディングは、一般的に、載置台の載置面に対して突没可能に設けられた複数の昇降ピン（リフター）によって行われる。基板をローディングする際には、昇降ピンを上昇させて載置台の載置面から突出させ、搬送アーム等の搬送機構によって搬送されたガラス基板を昇降ピン上に移し替えた後、昇降ピンを下降させて、ガラス基板を載置台の載置面に載置させる。また、基板をアンローディングする際には、昇降ピンを上昇させて、ガラス基板を載置台の載置面から離間させた後、昇降ピン上のガラス基板を、搬送アーム等の搬送機構に載せ替える。
【０００３】
近時、ＦＰＤは薄型化、あるいは大型化が指向され、厚さが１．１ｍｍ、０．７ｍｍ、０．４ｍｍ以下のような薄いガラス基板や、一辺が２ｍを超えるような巨大なガラス基板も出現するに至っている。
【０００４】
このように薄い、あるいは巨大なガラス基板は撓みやすく、昇降ピンがガラス基板の外周縁部を支持するだけでは、確実な支持が困難になってきている。
【０００５】
そこで、ガラス基板を確実に支持できるように、載置台の中央部にも昇降ピンを設けることが行われている（例えば、特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２００２−２４６４５０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、載置台は、各種処理時に下部電極として機能する。このため、載置台の中央部に昇降ピンを設けると、この昇降ピンを設けた箇所が下部電極上の特異点となって、被処理基板に対する均一な処理が損なわれてしまう、という事情がある。
【０００７】
この発明は、被処理基板を確実に支持でき、かつ、被処理基板に対する均一な処理も可能な基板載置機構、この基板載置機構を備えた基板処理装置、基板載置機構の制御方法及びこの制御方法をコンピュータに実行させるコンピュータ読み取り可能な記憶媒体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的を達成するために、この発明の第１の態様に係る基板載置機構は、被処理基板を載置する載置台と、前記載置台の内側に、突没自在に設けられ、前記被処理基板の外周縁部を支持する第１リフターと、前記載置台の外側に、前記載置台の載置面の上方に移動可能に設けられ、前記第１リフターが前記被処理基板を支持する位置よりも前記被処理基板の中央部分を支持する第２リフターと、を具備し、前記被処理基板の裏面を前記載置面上に部分的に当接させた状態において、前記第１リフターと前記第２リフター間にて前記被処理基板の受け渡しを行うように構成されている。
【０００９】
また、この発明の第２の態様に係る基板処理装置は、被処理基板に処理を施すチャンバーと、前記チャンバーの内部に設けられ、前記被処理基板が載置される基板載置機構と、を備えた基板処理装置であって、前記基板載置機構に、上記第１の態様に係る基板載置機構が用いられている。
【００１０】
また、この発明の第３の態様に係る基板載置機構の制御方法は、被処理基板を載置する載置台と、前記載置台の内側に、突没自在に設けられ、前記被処理基板の外周縁部を支持する第１リフターと、前記載置台の外側に、前記載置台の載置面の上方に移動可能に設けられ、前記第１リフターが前記被処理基板を支持する位置よりも前記被処理基板の中央部分を支持する第２リフターと、を備えた基板載置機構の制御方法であって、前記第２リフターが、前記被処理基板を搬送してきた搬送機構から前記被処理基板を前記載置面の上方で受け取り、前記受け取った被処理基板の裏面を前記載置面上に部分的に当接させる工程と、前記被処理基板の裏面が前記載置面上に部分的に当接された状態で、前記第１リフターが前記被処理基板の外周縁部を持ち上げ、前記被処理基板を前記第２リフターから離脱させる工程と、前記被処理基板が前記第２リフターから離脱した状態で、前記第２リフターを前記載置面の上方から退避させる工程と、前記第２リフターが前記載置面の上方から退避された状態で、前記第１リフターが前記被処理基板を前記載置面上に載置する工程と、を具備する。
【００１１】
また、この発明の第４の態様に係る記憶媒体は、コンピュータ上で動作し、基板載置機構を制御するプログラムが記憶されたコンピュータ読み取り可能な記憶媒体であって、前記プログラムは、実行時に、上記第３の態様に係る基板載置機構の制御方法が行われるように、コンピュータに前記基板載置機構を制御させる。
【発明の効果】
【００１２】
この発明によれば、被処理基板を確実に支持でき、かつ、被処理基板に対する均一な処理も可能な基板載置機構、この基板載置機構を備えた基板処理装置、基板載置機構の制御方法及びこの制御方法をコンピュータに実行させるコンピュータ読み取り可能な記憶媒体を提供できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、この発明の実施形態を、図面を参照して説明する。この説明に際し、全図にわたり、共通の部分には共通の参照符号を付す。
【００１４】
（第１の実施形態）
図１Ａはこの発明の第１の実施形態に係る基板載置機構を備えた基板処理装置を概略的に示す水平断面図、図１Ｂは図１Ａ中の１Ｂ−１Ｂ線に沿う断面図である。本例では、基板処理装置として、被処理基板であるフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）用のガラス基板（以下、単に「基板」と記す）Ｇに対してプラズマエッチングを施すプラズマエッチング装置を例示するが、この発明はプラズマエッチング装置に限って適用されるものではない。
【００１５】
図１Ａ及び図１Ｂに示すように、プラズマエッチング装置１は、基板Ｇに対してエッチングを行う容量結合型平行平板プラズマエッチング装置として構成されている。ＦＰＤとしては、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、エレクトロルミネセンス（Ｅｌｅｃｔｒｏ  Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ；ＥＬ）ディスプレイ、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）等が例示される。
【００１６】
プラズマエッチング装置１は、基板Ｇを収容する処理容器としてのチャンバー２を備えている。チャンバー２は、例えば、表面がアルマイト処理（陽極酸化処理）されたアルミニウムからなり、基板Ｇの形状に対応して四角筒形状に形成されている。
【００１７】
チャンバー２内の底壁には、基板Ｇを載置する載置台としてのサセプタ４が設けられている。サセプタ４は、基板Ｇの形状に対応して四角板状または柱状に形成されており、金属等の導電性材料からなる基材４ａと、基材４ａの底部を覆うように設けられて基材４ａを支持する絶縁部材４ｂとを備えている。基材４ａには、高周波電力を供給するための給電線２３が接続されており、この給電線２３には整合器２４および高周波電源２５が接続されている。高周波電源２５からは例えば１３．５６ＭＨｚの高周波電力がサセプタ４に印加され、これにより、サセプタ４が下部電極として機能するように構成されている。また、サセプタ４には、載置された基板Ｇを吸着するための図示しない静電吸着機構が内蔵されている。
【００１８】
チャンバー２の上部または上壁には、チャンバー２内に処理ガスを供給するとともに上部電極として機能するシャワーヘッド１１が、サセプタ４と対向するように設けられている。シャワーヘッド１１は、内部に処理ガスを拡散させるガス拡散空間１２が形成されているとともに、裏面またはサセプタ４との対向面に処理ガスを吐出する複数の吐出孔１３が形成されている。このシャワーヘッド１１は接地されており、サセプタ４とともに一対の平行平板電極を構成している。
【００１９】
シャワーヘッド１１の上面にはガス導入口１４が設けられ、このガス導入口１４には、処理ガス供給管１５が接続されており、この処理ガス供給管１５には、バルブ１６およびマスフローコントローラ１７を介して、処理ガス供給源１８が接続されている。処理ガス供給源１８からは、エッチングのための処理ガスが供給される。処理ガスとしては、ハロゲン系のガス、Ｏ２ガス、Ａｒガス等、通常この分野で用いられるガスを用いることができる。
【００２０】
チャンバー２の底壁には排気管１９が接続されており、この排気管１９には排気装置２０が接続されている。排気装置２０はターボ分子ポンプなどの真空ポンプを備えており、これによりチャンバー２内を所定の減圧雰囲気まで真空引き可能なように構成されている。
【００２１】
チャンバー２の側壁には、基板Ｇを搬入出するための搬入出口２１が形成されているとともに、この搬入出口２１を開閉する図示せぬゲートバルブが設けられており、搬入出口２１の開放時に、基板Ｇが、搬送機構としての搬送アーム４０により下方から支持された状態で隣接する図示せぬ搬送室、又はロードロック室との間で搬送されるように構成されている。
【００２２】
チャンバー２の底壁及びサセプタ４には、これらを貫通する挿通孔７ａが、サセプタ４の周縁部の位置に形成されている。さらに、サセプタ４の外側におけるチャンバー２の底壁には、挿通孔７ｂが形成されている。
【００２３】
挿通孔７ａには、基板Ｇを下方から支持して昇降させる第１リフター８ａがサセプタ４の載置面に対して突没可能に挿入されている。第１リフター８ａはピンであり、突出時に基板Ｇの外周縁部に当接するように設けられている。
【００２４】
挿通孔７ｂには、基板Ｇを下方から支持して昇降させる第２リフター８ｂが昇降可能、かつ、サセプタ４の載置面の上方に向かって移動可能なように構成されている。第２リフター８ｂがサセプタ４の載置面の上方に向かって移動することで、第２リフター８ｂは、第１リフター８ａが支持する基板Ｇの外周縁部よりも、さらに内側を支持することが可能となっている。
【００２５】
第１リフター８ａは、下部がチャンバー２の外側に突出しており、下端部が駆動部９ａに接続されている。駆動部９ａは、第１リフター８ａを垂直方向に昇降させる。この昇降動作により、第１リフター８ａは、サセプタ４の載置面に対して突出および没入する。
【００２６】
第２リフター８ｂも第１リフター８ａと同様に、下部がチャンバー２の外側に突出し、下端部が駆動部９ｂに接続されている。駆動部９ｂは、第２リフター８ｂを垂直方法に昇降させるとともに、第２リフター８ｂをサセプタ４の載置面の上方に向かって移動させる。
【００２７】
駆動部９ａ、９ｂはそれぞれ、例えば、ステッピングモータやサーボモータを用いて構成される。
【００２８】
駆動部９ａ、９ｂの駆動は、マイクロプロセッサ（コンピュータ）を備えたコントローラ３１によって別個に制御される構成となっており、これにより、第１リフター８ａと第２リフター８ｂとは、互いに独立して動作することが可能に構成されている。
【００２９】
コントローラ３１には、工程管理者が駆動部９ａ、９ｂの駆動を管理するためにコマンドの入力操作等を行うキーボードや、駆動部９ａ、９ｂの駆動状況を可視化して表示するディスプレイ等からなるユーザーインターフェース３２と、駆動部９ａ、９ｂの駆動をコントローラ３１の制御にて実現するための制御プログラムや駆動条件データ等が記録されたレシピが格納された記憶部３３とが接続されている。そして、必要に応じて、ユーザーインターフェース３２からの指示等にて任意のレシピを記憶部３３から呼び出してコントローラ３１に実行させることで、コントローラ３１の制御下で駆動部９ａ、９ｂの駆動および停止が行われる。前記レシピは、例えば、ＣＤ−ＲＯＭ、ハードディスク、フラッシュメモリなどのコンピュータ読み取り可能な記憶媒体に格納された状態のものを利用したり、あるいは、他の装置から、例えば専用回線を介して随時伝送させて利用したりすることも可能である。
【００３０】
コントローラ３１、ユーザーインターフェース３２および記憶部３３は、駆動部９ａ、９ｂによるリフターピン８ａ、８ｂの昇降を制御する制御部を構成し、基板載置機構は、サセプタ４、第１リフター８ａ、第２リフター８ｂ、駆動部９ａ、９ｂおよび制御部により構成される。
【００３１】
図２Ａ乃至図２Ｃは、第２リフター８ｂの例を示す斜視図である。
【００３２】
図２Ａに示す第２リフター８ｂ１は、図１Ａ及び図１Ｂに示した第２リフター８ｂの一つを拡大して示したものである。第２リフター８ｂ１は、垂直方向への昇降動作と、水平方向への旋回動作とが可能なように構成されており、特に、旋回動作により、第２リフター８ｂ１を、サセプタ４の載置面の上方に向かって移動させる。
【００３３】
このような第２リフター８ｂ１は、例えば、垂直方向に昇降可能で、水平方向に回転なシャフト８ｃと、シャフト８ｃの先端部分に取り付けられ、シャフト８ｃの回転により、水平方向に旋回可能な旋回アーム８ｄとを含んで構成することができる。旋回アーム８ｄが旋回されると、旋回アーム８ｄの先端がサセプタ４の載置面の上方に移動する。旋回アーム８ｄの先端には、支持部材８ｅが取り付けられており、支持部材８ｅは、基板Ｇの裏面を、例えば、点で支持する。
【００３４】
図２Ｂに示す第２リフター８ｂ２は、垂直方向への昇降動作と、水平方向への伸縮動作が可能なように構成されており、特に、伸縮動作により、第２リフター８ｂ２を、サセプタ４の載置面の上方に向かって移動させる。
【００３５】
このような第２リフター８ｂ２は、例えば、垂直方向に昇降可能なシャフト８ｆと、シャフト８ｃの先端部分に取り付けられ、水平方向に伸縮可能な伸縮アーム８ｇとを含んで構成することができる。伸縮アーム８ｇが伸びると、伸縮アーム８ｇの先端がサセプタ４の載置面の上方に移動する。伸縮アーム８ｇの先端には、図２Ａに示した第２リフター８ｂ１と同様な支持部材８ｅが取り付けられている。
【００３６】
図２Ｃに示す第２リフター８ｂ３は、旋回動作と、伸縮動作との双方を行うものである。
【００３７】
このような第２リフター８ｂ３は、例えば、垂直方向に昇降可能で、水平方向に旋回可能なシャフト８ｃと、シャフト８ｃの先端部分に取り付けられ、水平方向に旋回可能な旋回アーム８ｄと、この旋回アーム８ｄ内に取り付けられ、水平方向に伸縮可能な伸縮アーム８ｇとを含んで構成することができる。
【００３８】
このような第２リフター８ｂ３の動作としては、まず、旋回アーム８ｄを旋回させ、旋回アーム８ｄの先端を、サセプタ４の載置面の上方に移動させる。この状態で、伸縮アーム８ｇを伸ばし、伸縮アーム８ｇの先端を、サセプタ４の載置面の中央部分に向かって、さらに伸ばす。このようにして、伸縮アーム８ｇの先端を、載置面の中央部分に向かってより深く移動させる。
【００３９】
次に、第１の実施形態に係る基板載置機構の載置動作の一例を説明する。
【００４０】
図３Ａ乃至図３Ｇは、基板Ｇをサセプタ４上に載置する動作例を示す図である。なお、本動作例においては、第２リフターとして、図２Ａに示した第２リフター８ｂ１を用いた場合を示すが、図２Ｂ、図２Ｃに示した第２リフター８ｂ２、８ｂ３を用いた場合にも、同様の動作で良い。
【００４１】
まず、図３Ａに示すように、搬送アームを用いて、基板Ｇの中央部を下方から支持した状態で、基板Ｇをチャンバー２の内部へ搬送する。
【００４２】
次に、図３Ｂに示すように、第２リフター８ｂ１のシャフト８ｃを、サセプタ４の載置面よりも上に上昇させた後、旋回アーム８ｄを載置面側に旋回させ、旋回アーム８ｄ先端の支持部材８ｅを基板Ｇの中央部下方に位置させる。
【００４３】
次に、図３Ｃに示すように、シャフト８ｃを上昇させ、支持部材８ｅを基板Ｇの裏面に接触させる。引き続き、シャフト８ｃを上昇させ、基板Ｇを、搬送アーム４０から第２リフター８ｂ１に載せ替える。
【００４４】
次に、図３Ｄに示すように、搬送アーム４０を、基板Ｇの下方から退避させる。次に。シャフト８ｃを下降させ、撓んでいる基板Ｇの中央部を、サセプタ４の載置面の上に接触させる。
【００４５】
次に、図３Ｅに示すように、基板Ｇの中央部をサセプタ４の載置面の上に接触させた状態で、第１リフター８ａを上昇させ、基板Ｇの裏面の、上記支持部材８ｅで支持された部分よりも外周縁部を第１リフター８ａに接触させる。引き続き、第１リフター８ａを上昇させ、基板Ｇを支持部材８ｅから離脱させ、基板Ｇを第２リフター８ｂ１から第１リフター８ａに載せ替える。
【００４６】
次に、図３Ｆに示すように、基板Ｇが支持部材８ｅから離脱された状態で旋回アーム８ｄをサセプタ４の載置面の外側に旋回させ、旋回アーム８ｄを載置面の上方から退避させ、シャフト８ｃを下降させる。
【００４７】
次に、図３Ｇに示すように、第１リフター８ａを下降させ、基板Ｇをサセプタ４の載置面上に載置する。
【００４８】
このようにして、搬送アーム４０によってチャンバー２に搬入されてきた基板Ｇが、サセプタ４の載置面上に載置される。
【００４９】
図４Ａ乃至図４Ｇは、基板Ｇをサセプタ４上から持ち上げる動作例を示す図である。基板Ｇをサセプタ４上から持ち上げる動作は、基本的にサセプタ４上に載置する動作と逆の手順で良い。
【００５０】
例えば、図４Ａに示すように、基板Ｇがサセプタ４上に載置されている状態から、図４Ｂに示すように、第１リフター８ａを上昇させ、基板Ｇの裏面中央部分がサセプタ４の載置面上に接触した状態のまま、基板Ｇの外周縁部を持ち上げる。
【００５１】
次に、図４Ｃに示すように、基板Ｇの外周縁部が、旋回アーム８ｄが基板Ｇの下方に旋回可能な状態まで持ち上がったら、旋回アーム８ｄをサセプタ４の載置面の上方に向かって旋回させ、支持部材８ｅを基板Ｇの下方に位置させる。
【００５２】
次に、図４Ｄに示すように、第１リフター８ａを下降させ、基板Ｇの裏面を支持部材８ｅに当接させ、さらに第１リフター８ａを下降させて、第１リフター８ａを基板Ｇの裏面から離脱させる。このようにして、基板Ｇを第１リフター８ａから第２リフター８ｂ１に載せ替える。
【００５３】
次に、図４Ｅに示すように、シャフト８ｃを上昇させ、基板Ｇをサセプタ４の載置面上から離脱させる。基板Ｇが、基板Ｇの下方に搬送アーム４０が進入可能な状態まで持ち上がったら、搬送アーム４０を基板Ｇの下方に進入させる。
【００５４】
次に、図４Ｆに示すように、シャフト８ｃを下降させ、基板Ｇを搬送アーム４０に当接させ、さらにシャフト８ｃを下降させて、支持部材８ｅを基板Ｇの裏面から離脱させる。このようにして、基板Ｇを第２リフター８ｂ１から搬送アーム４０に載せ替える。
【００５５】
次に、図４Ｇに示すように、基板Ｇが支持部材８ｅから離脱された状態で旋回アーム８ｄをサセプタ４の載置面の外側に旋回させ、旋回アーム８ｄを載置面の上方から退避させる。次に、シャフト８ｃを下降させる。
【００５６】
このようにして、チャンバー２の内部において処理、例えば、プラズマエッチングされた基板Ｇが、サセプタ４の載置面上から離脱され、搬送アーム４０によって、チャンバー２から搬送室、又はロードロック室に搬出される。
【００５７】
このような第１の実施形態に係る基板載置機構によれば、例えば、図５Ａに示す参考例のように、ピン状のリフター１００を用いて、基板Ｇの外周縁部１０１のみを支持するだけでは、基板Ｇが撓みすぎて確実に支持できないような薄い、又は巨大な基板Ｇであっても、図５Ｂに示すように、外周縁部１０１よりも、さらに基板Ｇの中央部分に近い部分１０２を第２リフター８ｂで支持することで、確実に支持することができる。
【００５８】
しかも、第２リフター８ｂは、上述したようにサセプタ４の外側から、サセプタ４の載置面上に移動、例えば、水平移動してくるので、サセプタ４の中央部にピン状のリフターを設ける必要がなく、サセプタ４に特異点を形成することもない。従って、サセプタ４の中央部にピン状のリフターを設けているサセプタに比較して、基板Ｇに対する均一な処理を行うことができる。
【００５９】
さらに、第２リフター８ｂによれば、図６Ａに示すように、撓んだ基板Ｇの中央部分をサセプタ４の載置面上に当接させる。当接させた後に、図６Ｂに示すように、基板Ｇの外周縁部を、ピン状の第１リフター８ａを用いて持ち上げ、第２リフター８ｂの支持部材８ｅを、基板Ｇの裏面から離脱させる。
【００６０】
このように第２リフター８ｂの支持部材８ｅを、基板Ｇの裏面から離脱させることで、第２リフター８ｂをサセプタ４の載置面の上方から基板Ｇの裏面を傷つけることなく、退避させることができる。
【００６１】
しかも、基板Ｇの中央部分をサセプタ４の載置面上に当接させてあるから、第１リフター８ａが、たとえ、基板Ｇの外周縁部のみを支持していたとしても、基板Ｇが第１リフター８ａから脱落してしまうようなこともない。
【００６２】
このように、第１の実施形態に係る基板載置機構によれば、基板Ｇ、即ち、被処理基板を確実に支持でき、かつ、被処理基板に対する均一な処理も可能な基板載置機構と、この基板載置機構を備えた基板処理装置とを得ることができる。
【００６３】
（第２の実施形態）
図７は、この発明の第２の実施形態に係る基板載置機構の一例を概略的に示す図である。
【００６４】
図７に示すように、第２の実施形態に係る基板載置機構は、第１リフター８ａの基板Ｇを支持する部分、及び第２リフター８ｂの基板Ｇを支持する部分それぞれに、重量センサー８１ａ、８１ｂを設けたものである。第２リフター８ｂの構成としては、例えば、図２Ａ乃至図２Ｃに示した構成を用いることができる。
【００６５】
重量センサー８１ａ、８１ｂはそれぞれ、支持部に係る重量を測定するもので、得られた信号は、例えば、重量検出器８２に送られて、例えば、数値化される。測定された重量は、例えば、第１リフター８ａ、第２リフター８ｂの制御に利用することができる。
【００６６】
以下、測定された重量に基づいた、第１リフター８ａ、第２リフター８ｂの制御例を説明する。
【００６７】
図８は、重量センサー８１ａ、８１ｂにかかる重量の時間ごとの変化を示す図である。図８の縦軸は測定された重量であり、横軸は時間である。また、重量センサー８１ａにかかる重量は一点鎖線で、重量センサー８１ｂにかかる重量は実線で示す。
【００６８】
また、図９Ａ乃至図９Ｅ、及び図１０Ａ乃至図１０Ｅはタイミング毎の基板Ｇの状態を示している。
【００６９】
まず、図９Ａに示す状態は、基板Ｇが第２リフター８ｂで支持されている状態である。この状態においては、重量センサー８１ａには重量がかからないが、重量センサー８１ｂには基板Ｇの重量が全てかかっている。
【００７０】
次に、図９Ｂに示すように、第２リフター８ｂのシャフト８ｃを下降させ、基板Ｇの裏面の中央部分をサセプタ４の載置面上に当接させる。この状態においては、基板Ｇの重量の一部をサセプタ４が負担するようになるため、重量センサー８１ｂにかかる重量は減少しだす（図８中時刻ｔ０）。
【００７１】
基板Ｇとサセプタ４との当接量が、所定の当接量に達したか否かは、重量センサー８１ｂにかかる重量が、所定の値まで減少したか否かで判断することができる。重量センサー８１ｂにかかる重量が、所定の値まで減少したら、基板Ｇの当接量が所定の当接量に達したと判断し、シャフト８ｃの下降を停止する（図８中の時刻ｔ１)。
【００７２】
次に、第１リフター８ａを上昇させる。第１リフター８ａが上昇し、図９Ｃに示すように、第１リフター８ａが基板Ｇの裏面に当接されると、基板Ｇの重量の一部を、さらに第１リフター８ａが負担するようになる。このため、重量センサー８１ａにかかる重量が増加しだし、反対に、重量センサー８１ｂにかかる重量が低下しだす（図８中の時刻ｔ２）。
【００７３】
重量センサー８１ｂにかかる重量がゼロになると、図９Ｄに示すように、基板Ｇの裏面が、第２リフター８ｂから完全に離脱した、と判断できる（図８中の時刻ｔ３）。
第２リフター８ｂが基板Ｇの裏面から完全に離脱した後、第２リフター８ｂを、サセプタ４の載置面の上方から退避させる。次に、第１リフター８ａを下降させる。第１リフター８ａが下降していくにつれて、基板Ｇの、サセプタ４の載置面上への当接量が増える。このため、重量センサー８１ａにかかる重量は減少しだす（図８中の時刻ｔ４）。
【００７４】
重量センサー８１ａにかかる重量がゼロになると、図９Ｅに示すように、基板Ｇが、サセプタ４の載置面上に完全に載置された、と判断できる（図８中の時刻ｔ５）。
【００７５】
このように、重量センサー８１ａ、８１ｂにかかる重量を測定し、把握することで、基板Ｇが、どのような状態にあるかを、例えば、基板Ｇの状態を目測したり、あるいは画像認識したりすることなく、知ることができる。重量センサー８１ａ、８１ｂにかかる重量の測定結果を、第１リフター８ａ、第２リフター８ｂの制御にフィードバックすることで、この発明に係る基板載置機構を、より高精度に制御することが可能となる。
【００７６】
例えば、基板Ｇの状態を目測したり、あるいは画像認識したりする場合には、基板Ｇと、第１リフター８ａ、あるいは第２リフター８ｂとのわずかな離脱量や、基板Ｇとサセプタ４の載置面とのわずかな当接量を精度良く知ることは難しい。
【００７７】
これに対して、重量センサー８１ａ、８１ｂを用いれば、目測、あるいは画像認識に比較して、上記わずかな離脱量、あるいはわずかな当接量を、より精度良く知ることができる。従って、この発明に係る基板載置機構を、より高精度に制御できる。
【００７８】
また、重量センサー８１ａ、８１ｂは、基板Ｇをサセプタ４上に載置するときばかりでなく、サセプタ４上から持ち上げる場合にも利用できる。
【００７９】
まず、図１０Ａに示す状態は、基板Ｇが完全にサセプタ４の載置面上に載置されている状態である。この状態においては、重量センサー８１ａ、８１ｂの双方とも重量がかからない。
【００８０】
次に、図１０Ｂに示すように、第１リフター８ａを上昇させる。第１リフター８ａが上昇し、第１リフター８ａが基板Ｇの裏面に当接しだすと、重量センサー８１ａにかかる重量が増加しだす（図８中の時刻ｔ６）
基板Ｇが持ち上がり、基板Ｇとサセプタ４との当接量が、所定の当接量に達したか否かは、重量センサー８１ａにかかる重量が、所定の値まで増加したが否かで判断することができる。重量センサー８１ａにかかる重量が、所定の値まで増加したら、基板Ｇの当接量が所定の当接量に達したと判断し、第１リフター８ａの上昇を停止する（図８中の時刻ｔ７)。
【００８１】
次に、第２リフター８ｂのシャフト８ｃを上昇させ、図１０Ｂに示すように、第２リフター８ｂを、サセプタ４の載置面の上方に移動させる。
【００８２】
次に、第１リフター８ａを下降させる。第１リフター８ａが下降し、図１０Ｃに示すように、第２リフター８ｂが基板Ｇの裏面に当接されると、基板Ｇの重量の一部を、第２リフター８ｂが負担するようになる。このため、重量センサー８１ａにかかる重量が減少し、反対に、重量センサー８１ｂにかかる重量が増加しだす（図８中の時刻ｔ８）。
【００８３】
重量センサー８１ａにかかる重量がゼロになると、図１０Ｄに示すように、基板Ｇの裏面が、第１リフター８ａから完全に離脱した、と判断できる（図８中の時刻ｔ９）。
【００８４】
次に、第２リフター８ｂのシャフト８ｃを上昇させる。基板Ｇが持ち上がり、基板Ｇとサセプタ４との当接量が減りだすと、重量センサー８１ｂにかかる重量が増加しだす（図８中の時刻ｔ１０）。
【００８５】
重量センサー８１ｂにかかる重量が増加し、やがてかかる重量が安定すると、図１０Ｅに示すように、基板Ｇがサセプタ４の載置面上から完全に離脱した、と判断できる（図８中の時刻ｔ１１）。
【００８６】
この後、基板Ｇの裏面とサセプタ４の載置面との間に、図１０Ｅでは図示を省略している搬送アーム４０を進入させ、基板Ｇを第２リフター８ｂから搬送アーム４０に載せ替えれば良い。
【００８７】
尚、上記実施形態では、第１リフター８ａの基板Ｇを支持する部分、及び第２リフター８ｂの基板Ｇを支持する部分それぞれに、重量センサー８１ａ、８１ｂを設けたが、第１リフター８ａを支持する部分、及び第２リフター８ｂを支持する部分自体に重量センサーを設けても良い。
【００８８】
（第３の実施形態）
図１１は、この発明の第３の実施形態に係る基板載置機構の一例を概略的に示す図である。
【００８９】
図１１に示すように、第３の実施形態に係る基板載置機構は、第２リフター８ｂの旋回アーム８ｄを複数本設けた例である。
【００９０】
このように、第２リフター８ｂの水平方向に移動する部分、例えば、旋回アーム８ｄ、あるいは図２Ｂに示した伸縮アーム８ｇは複数設けることが可能である。
【００９１】
第２リフター８ｂの水平方向に移動する部分を複数設けた場合の動作例を説明する。
【００９２】
図１２Ａ乃至図１２Ｅは、基板Ｇをサセプタ４上から持ち上げる動作例を示す図である。
【００９３】
まず、図１２Ａは、基板Ｇがサセプタ４の載置面上に完全に載置されている状態を示している。
【００９４】
次に、図１２Ｂに示すように、第１リフター８ａを上昇させ、基板Ｇの外周縁部を持ち上げる。次に、第２リフター８ｂのシャフト８ｃを上昇させ、さらに、第２リフター８ｂの第１旋回アーム８ｄ１を旋回させ、第１旋回アーム８ｄ１を基板Ｇの裏面下方に位置させる。
【００９５】
次に、図１２Ｃに示すように、第１リフター８ａを下降させ、基板Ｇを第１リフター８ａから第２リフター８ｂに載せ替える。
【００９６】
次に、図１２Ｄに示すように、第２リフター８ｂの第１旋回アーム８ｄ２を旋回させ、第２旋回アーム８ｄ２を基板Ｇの裏面下方に位置させる。このとき、第２旋回アーム８ｄ２の先端部分に設けられた支持部材８ｅは、第１旋回アーム８ｄ１の先端部分に設けられた支持部材８ｅよりも、さらに基板Ｇの中央部分を支持するようにする。
【００９７】
次に、図１２Ｅに示すように、第２リフター８ｂのシャフト８ｃを上昇させ、基板Ｇをサセプタ４の載置面上から完全に離脱させる。
【００９８】
このような第３の実施形態によれば、複数の旋回アーム、本例では２本の旋回アーム８ｄ１、８ｄ２を用いて、基板Ｇを、基板Ｇの外周縁部から少しずつ中央部分に向かって支持するようにすることができる。このため、基板Ｇが、より薄く、あるいはより巨大になり、より撓みやすくなった場合でも、基板Ｇの撓み量を抑制したまま、基板Ｇをサセプタ４上から持ち上げ、あるいは反対にサセプタ４上に載置することが可能となる。
【００９９】
もちろん、第３の実施形態においても、サセプタ４の中央部にピン状のリフターを設ける必要がないので、サセプタ４に特異点を形成することもない。従って、第１の実施形態と同様に、基板Ｇに対する均一な処理を行うことができる。
【０１００】
以上、この発明をいくつかの実施形態を参照して説明したが、この発明は、上記実施形態に限定されるものではなく、種々の変更が可能である。
【０１０１】
例えば、上記実施形態では、下部電極に高周波電力を印加するＲＩＥタイプの容量結合型平行平板プラズマエッチング装置に適用した例について説明したが、これに限らず、アッシング、ＣＶＤ成膜等の他のプラズマ処理装置に適用可能であり、基板を載置台に載置して処理する、プラズマ処理装置以外の基板処理装置全般にも適用可能である。
【０１０２】
さらに、上記実施形態ではＦＰＤ用のガラス基板に適用した例について説明したが、ＦＰＤ用のガラス基板以外の可撓性を有する基板全般に適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【０１０３】
【図１】図１Ａはこの発明の第１の実施形態に係る基板載置機構を備えた基板処理装置を概略的に示す水平断面図、図１Ｂは図１Ａ中の１Ｂ−１Ｂ線に沿う断面図である。
【図２】図２Ａ乃至図２Ｃは第２リフターの例を示す斜視図
【図３】図３Ａ乃至図３Ｇは基板をサセプタ上に載置する動作例を示す図
【図４】図４Ａ乃至図４Ｇは基板をサセプタ上から持ち上げる動作例を示す図
【図５】図５Ａは参考例を示す図、図５Ｂは実施形態を示す図
【図６】図６Ａ及び図６Ｂは実施形態を示す図
【図７】この発明の第２の実施形態に係る基板載置機構の一例を概略的に示す図
【図８】重量センサーにかかる重量の時間ごとの変化を示す図
【図９】図９Ａ乃至図９Ｅはタイミング毎の基板の状態を示す図
【図１０】図１０Ａ乃至図１０Ｅはタイミング毎の基板の状態を示す図
【図１１】この発明の第３の実施形態に係る基板載置機構の一例を概略的に示す図
【図１２】図１２Ａ乃至図１２Ｅは基板をサセプタ上から持ち上げる動作例を示す図
【符号の説明】
【０１０４】
２…チャンバー、４…サセプタ（載置台）、８ａ…第１リフター、８ｂ…第２リフター、８ｃ、８ｆ…シャフト、８ｄ…旋回アーム、８ｅ…支持部材、８ｇ…伸縮アーム、８１ａ、８１ｂ…重量センサー。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
2010062461.tif 000009
【図８】
2010062461.tif 000010
【図９】
2010062461.tif 000011
【図１０】
2010062461.tif 000012
【図１１】
2010062461.tif 000013
【図１２】
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