(57)【要約】【課題】高周波誘導加熱装置を用いた電子写真感光体製造方法において、加熱温度ムラによる電子写真特性ムラを抑制しつつ、長さの異なる感光体を連続的に製造する際の装置の段取り作業負荷を軽減可能な製造方法を提供する。【解決手段】長さの異なる円筒状導電性支持体のうち任意の一つを含む被塗布体の表面に塗布液を塗布して塗膜を形成する工程と、該塗膜の表面側に非接触で配置される励磁コイルを備えた高周波電磁誘導加熱手段により該円筒状導電性支持体を誘導加熱して該塗膜を乾燥及びまたは硬化させる工程とを有する電子写真感光体製造方法において、該励磁コイルが該円筒状導電性支持体の軸方向に複数個並んで配列された励磁コイル群からなる励磁コイルであり、誘導加熱の対象となる被塗布体の軸方向両端部に挟まれた領域に存在する該励磁コイル群だけに高周波電流を供給することによって該被塗布体の表面の塗膜を乾燥及びまたは硬化させる工程を有する。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
長さの異なる円筒状導電性支持体のうち任意の一つを含む被塗布体の表面に塗布液を塗布して塗膜を形成する工程と、該塗膜の表面側に非接触で配置される励磁コイルを備えた高周波電磁誘導加熱手段により該円筒状導電性支持体を誘導加熱して該塗膜を乾燥及びまたは硬化させる工程とを有する電子写真感光体製造方法において、該励磁コイルが該円筒状導電性支持体の軸方向に複数個並んで配列された励磁コイル群からなる励磁コイルであり、誘導加熱の対象となる被塗布体の軸方向両端部に挟まれた領域に存在する該励磁コイル群だけに高周波電流を供給することによって該被塗布体の表面の塗膜を乾燥及びまたは硬化させる工程を有することを特徴とする電子写真感光体製造方法。
【請求項２】
前記誘導加熱の対象となる被塗布体をＷとし、Ｗを誘導加熱するために高周波電流が供給される励磁コイル群の成す列をＣとすると、Ｗの軸方向に対してＷの端部がＣの端部より外側に突き出す長さは±５ｍｍ以内であり、これがＷの両方の端部で成り立っていることを特徴とする請求項１に記載の電子写真感光体製造方法。
【請求項３】
前記励磁コイル群を成す個々の励磁コイルには個別に高周波電流を供給可能であり、該高周波電流は個々の励磁コイルごとに独立して制御可能であり、該制御は被塗布体の誘導加熱に使用される全ての励磁コイルに供給される高周波電流の周波数と位相が互いに一致するようにする制御であることを特徴とする請求項１または２に記載の電子写真感光体製造方法。
【請求項４】
前記励磁コイル群を成す個々の励磁コイルが、該円筒状導電性支持体をその周方向に１８０度以内で囲む単線のコイル１対を該支持体の軸方向に並行に対向するよう繋いだ形状の高周波電磁誘導加熱用コイルであることを特徴とする請求項１乃至３に記載の電子写真感光体製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子写真感光体の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、複写機やプリンターなどの電子写真装置には、導電性支持体（以下、単に「支持体」ともいう）上に有機光導電性物質を含有する感光層を設けてなる有機電子写真感光体（以下、「電子写真感光体」あるいは単に「感光体」ともいう）が広く用いられている。
有機電子写真感光体においては、感光体の耐久性向上、および出力画像の高画質化の双方を満足させるため、感光層を電荷発生層と電荷輸送層とに機能分離した積層型感光層が採用されることが多い。
また、繰り返し使用による感光体表面の摩耗や傷発生を抑制し、更なる耐久性の向上を図るため、従来の感光層上に保護層を設け、この保護層を電子写真感光体の表面層とする場合がある。
【０００３】
保護層には、耐久性向上のため機械的強度に優れる結着樹脂を含有させるのが一般的である。特に、重合性官能基を有するモノマーやオリゴマーを重合および／または架橋により硬化させてなる樹脂は、熱可塑性樹脂を使用した場合よりも高い機械的強度が得られることから、より好適に用いることができる。
重合性官能基を有するモノマーやオリゴマーを重合および／または架橋させる方法としては、熱、光や放射線により前記モノマーやオリゴマーにエネルギーを与え、反応させる方法を挙げることができる。これらのうち放射線、中でも電子線を照射する方法は、特に好ましく用いられる（特許文献１）。
【０００４】
電子線の照射による硬化（以下「電子線硬化」ともいう）には、感光体の感度や残留電位などの電気的特性に対して悪影響を及ぼす可能性のある重合開始剤を使用しなくてもよいという利点がある。他にも、電子線硬化は短時間で効率的な重合反応を起こすことができるため生産性が高く、透過性が良いため微粒子や添加剤などの遮蔽物質が存在していてもこれらの遮蔽物質が重合反応および／または架橋反応を阻害しにくい、などの利点がある。
さらに、電子線硬化によって感光体の表面層を形成した後、該表面層を加熱することによって表面層の機械的強度をより向上させ、もって感光体の耐久性をより向上させる技術が開示されている（特許文献２、特許文献３）。
【０００５】
また、表面層を加熱する方法に関しては、ループ状の電磁誘導コイルによって感光体を加熱する技術（特許文献４）も開示されている。更に、ループ状の電磁誘導コイルを用いて長さの異なる感光体を製造する際に、長さ変更に対する製造装置の対応作業を簡便にしつつ、電子写真感光体表面層を均一に加熱する技術（特許文献５）も開示されている。
前記の技術を用いて表面層全体を均一に加熱することにより、表面層全体が均一に高強度化された電子写真感光体を製造することが可能となる。
しかしながら、更なる製造効率の向上を目指した時、感光体の長さ変更時における製造装置の対応作業はより一層簡略化されることが望ましい。特許文献５の技術の場合、感光体の長さに対応した長さ調整部材を用いる必要があるため、感光体の長さが変わるたびに長さ調整部材を交換する作業が必然的に発生する。一方、長さ調整部材を用いなければ、コイルの長さと感光体の長さの差が大きくなった時、感光体端部に加熱温度ムラが発生してしまう。特に、加熱温度ムラの影響が広範囲に及び、画像領域の感光体特性に著しく影響を与えてしまうほどの状況になると、画像品質の劣化を引き起こすので好ましくない。
【０００６】
よって、長さの異なる電子写真感光体を単一の装置で製造する際に、長さ変更への対応作業をより一層簡略化しつつ、画像領域全域での特性が均一に保たれた電子写真感光体製造手段の開発が強く望まれていた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２０００−０６６４２５号公報
【特許文献２】特開２００４−０１２９８６号公報
【特許文献３】特開２００６−１９５４９７号公報
【特許文献４】特開２００５−０４３８０７号公報
【特許文献５】特開２００５−２１６５７４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明の目的は、被塗布体の表面に塗布された塗膜を高周波電磁誘導加熱によって乾燥及びまたは硬化させる工程を有する電子写真感光体製造方法において、被塗布体の長さ変更を行なう時の製造装置の段取り作業を軽減しつつ、感光層全域にわたって諸特性が均一に保たれた電子写真感光体の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、長さの異なる円筒状導電性支持体のうち任意の一つを含む被塗布体の表面に塗布液を塗布して塗膜を形成する工程と、該塗膜の表面側に非接触で配置される励磁コイルを備えた高周波電磁誘導加熱手段により該円筒状導電性支持体を誘導加熱して該塗膜を乾燥及びまたは硬化させる工程とを有する電子写真感光体製造方法において、該励磁コイルが該円筒状導電性支持体の軸方向に複数個並んで配列された励磁コイル群からなる励磁コイルであり、誘導加熱の対象となる被塗布体の軸方向両端部に挟まれた領域に存在する該励磁コイル群だけに高周波電流を供給することによって該被塗布体の表面の塗膜を乾燥及びまたは硬化させる工程を有する電子写真感光体製造方法である。
【００１０】
また、本発明は、誘導加熱の対象となる被塗布体をＷとし、Ｗを誘導加熱するために高周波電流が供給される励磁コイル群の成す列をＣとすると、Ｗの軸方向に対してＷの端部がＣの端部より外側に突き出す長さは±５ｍｍ以内であり、これがＷの両方の端部で成り立っている電子写真感光体製造方法である。
【００１１】
また、本発明は、該励磁コイル群を成す個々の励磁コイルには個別に高周波電流を供給可能であり、該高周波電流は個々の励磁コイルごとに独立して制御可能であり、該制御は被塗布体の誘導加熱に使用される全ての励磁コイルに供給される高周波電流の周波数と位相が互いに一致するようにする制御である電子写真感光体製造方法である。
【００１２】
また、本発明は、該励磁コイル群を成す個々の励磁コイルが、該円筒状導電性支持体をその周方向に１８０度以内で囲む単線のコイル１対を該支持体の軸方向に並行に対向するよう繋いだ形状の高周波電磁誘導加熱用コイルである電子写真感光体製造方法である。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、長さの異なる電子写真感光体を一つの装置で製造する際、被塗布体の長さ変更への対応作業を簡略化しつつ、感光層全域での特性が均一に保たれた電子写真感光体の製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明で用いる高周波電磁誘導加熱手段と被塗布体を示す模式図である。
【図２】誘導加熱の際の被塗布体３と励磁コイルの位置関係を示す模式図である。
【図３】本発明で用いる励磁コイルの一例を示す模式図である。
【図４】本発明で用いる励磁コイルの一例を示す模式図である。
【図５】２つの励磁コイルで被塗布体を誘導加熱する場合を示す模式図である。
【図６】２つの励磁コイルに流れる高周波電流の周波数と位相が揃っていない状態のある瞬間を示す模式図である。
【図７】実施例の高周波電磁誘導手段を示す模式図である。
【図８】誘導加熱を行なう時の、実施例の高周波電磁誘導手段と被塗布体の位置関係を示す模式図である。
【図９】誘導加熱を行なう時の、実施例の高周波電磁誘導手段と３種類の被塗布体の位置関係を示す模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
本発明の電子写真感光体製造方法は、円筒状導電性支持体を含む被塗布体上に塗布された塗膜を高周波電磁誘導加熱手段で該円筒状導電性支持体を加熱することにより、該塗膜を乾燥及びまたは硬化させる工程を含む。
また、本発明による電子写真感光体製造装置は長さの異なる電子写真感光体の製造が可能である。ここで、有機電子写真感光体は円筒状導電性支持体上に塗布液を塗布し、これを乾燥及びまたは硬化させて得られるものであるため、電子写真感光体の長さは円筒状導電性支持体の長さに等しいと考えることができる。
【００１６】
本発明の一実施態様は、長さの異なる円筒状導電性支持体のうち任意の一つを含む被塗布体の表面に塗布液を塗布して塗膜を形成する工程と、該塗膜の表面側に非接触で配置される励磁コイルを備えた高周波電磁誘導加熱手段により該円筒状導電性支持体を誘導加熱して該塗膜を乾燥及びまたは硬化させる工程とを有する電子写真感光体製造方法において、該励磁コイルが該円筒状導電性支持体の軸方向に複数個並んで配列された励磁コイル群からなる励磁コイルであり、誘導加熱の対象となる被塗布体の軸方向両端部に挟まれた領域に存在する該励磁コイル群だけに高周波電流を供給することによって該被塗布体の表面の塗膜を乾燥及びまたは硬化させる工程を有する電子写真感光体製造方法である。
【００１７】
本発明による電子写真感光体製造装置の高周波電磁誘導加熱手段の一例を図１に示す。図１は、３種類の長さの被塗布体Ｗ（１）、Ｗ（２）、Ｗ（３）（各々図１中の１、２、３に対応）に対し、各被塗布体の長さの違いに対応した位置で高周波電磁誘導加熱手段が３つ（図１中の４、５、６）に分割されている様子を示す模式図である。分割された高周波電磁誘導加熱手段は、それぞれが励磁コイルＣ（１）、Ｃ（２）、Ｃ（３）（各々図１中の７、８、９に対応）を備えている。被塗布体は短い方からＷ（１）、Ｗ（２）、Ｗ（３）とする。また、最も短い被塗布体Ｗ（１）に対応する励磁コイルがＣ（１）であり、それに隣接してＣ（１）側からＣ（２）、Ｃ（３）の順に並んでいる。隣接する励磁コイルの間は、適度な間隔を設けるか、絶縁体を介在させて励磁コイル間でショートしないようにする必要がある。ただし、被塗布体が励磁コイルで覆われていない領域が大きいと、その部分の被塗布体の加熱温度ムラが悪化し、画像領域での特性ムラを引き起こすため、励磁コイル同士の間隔は１０ｍｍ以下にしておくことが好ましい。
【００１８】
励磁コイルにはそれぞれ高周波電源装置（図１中の１０、１１、１２）が接続されており、各励磁コイルに供給する高周波電流を独立して制御することができる。なお、高周波電源装置は、励磁コイル一つに対して一台が接続されていてもよいし、高周波電流制御手段を介することにより、一台の高周波電源装置で複数の励磁コイルに高周波電流を供給する形態をとってもよい。
【００１９】
図２は、図１における被塗布体３を誘導加熱する際の被塗布体３と分割された励磁コイルＣ（１）、Ｃ（２）、Ｃ（３）の位置関係を示す模式図である。図２のように、分割された励磁コイルは被塗布体の表面側に、被塗布体の軸方向に並んで配列されている。また、各励磁コイルは被塗布体表面の塗膜と接触しないように配置される。
【００２０】
次に、被塗布体の長さと分割された励磁コイルの位置関係について説明する。
図１において、被塗布体Ｗ（１）の長さＬｗ（１）（図１中の１４）と励磁コイルＣ（１）の長さＬｃ（１）（図１中の１７）の関係は、２ｍｍ≦（Ｌｃ（１）−Ｌｗ（１））≦１０ｍｍとなっている。
また、Ｗ（１）の下端部はＣ（１）の下端部よりΔｂ（１）（図１中の１３）だけ上方に位置し、Δｂ（１）は１ｍｍ以上である。一方、Ｗ（１）の上端部はＣ（１）の上端部よりΔｔ（１）（図１中の２０）だけ下方に位置し、Δｔ（１）は１ｍｍ以上である。
被塗布体Ｗ（２）の場合は、その長さＬｗ（２）（図１中の１５）と励磁コイルＣ（１）下端からＣ（２）上端までの長さＬｃ（２）（図１中の１８）の関係は、２ｍｍ≦（Ｌｃ（２）−Ｌｗ（２））≦１０ｍｍとなっている。
また、Ｗ（２）の下端部はＣ（１）の下端部よりΔｂ（２）だけ上方に位置し、Δｂ（２）は１ｍｍ以上である。なお、図１ではΔｂ（２）＝Δｂ（１）の場合が示してある。一方、Ｗ（２）の上端部はＣ（２）の上端部よりΔｔ（２）（図１中の２１）だけ下方に位置し、Δｔ（２）は１ｍｍ以上である。
被塗布体Ｗ（３）についても被塗布体Ｗ（２）の場合と同様に考えることができ、更にこの関係を一般化し、ｎ種類（ただしｎは２以上の任意の自然数）の長さの異なる被塗布体がある場合についても同様に考えることができる。
すなわち、被塗布体を短い方からＷ（１）、Ｗ（２）、…、Ｗ（ｎ−１）、Ｗ（ｎ）とし、上記同様の関係を満たすようにしてｎ個の励磁コイルＣ（１）、Ｃ（２）、…、Ｃ（ｎ−１）、Ｃ（ｎ）をこの順に配列する。１≦ｉ≦ｎの任意の自然数ｉに対し、Ｗ（ｉ）の長さをＬｗ（ｉ）とし、Ｃ（１）下端からＣ（ｉ）上端までの長さをＬｃ（ｉ）とする時、２ｍｍ≦（Ｌｃ（ｉ）−Ｌｗ（ｉ））≦１０ｍｍを満足する。また、Ｗ（ｉ）の下端部はＣ（１）の下端部よりΔｂ（ｉ）だけ上方に位置し、Δｂ（ｉ）は１ｍｍ以上である。一方、Ｗ（ｉ）の上端部はＣ（ｉ）の上端部よりΔｔ（ｉ）だけ下方に位置し、Δｔ（ｉ）は１ｍｍ以上である。
被塗布体の端部が励磁コイルの端部より外側にはみ出すと、被塗布体端部の昇温が不十分になり好ましくない。また、逆に励磁コイルの端部が被塗布体の端部より１０ｍｍ以上はみ出すと、磁界の集中による被塗布体端部の昇温が大きくなるため、感光層全域で加熱温度ムラを抑制し、感光体としての特性のムラ抑制を目的とする場合は好ましくない。
従って、本発明では、前記誘導加熱の対象となる被塗布体をＷとし、Ｗを誘導加熱するために高周波電流が供給される励磁コイル群の成す列をＣとすると、Ｗの軸方向に対してＷの端部がＣの端部より外側に突き出す長さは±５ｍｍ以内であり、これがＷの両方の端部で成り立っていることが好ましい。
【００２１】
次に、分割された励磁コイルの一例を図３に示す。図３の励磁コイルは、ループ状の輪に囲まれるような鞍形状をしたコイルを感光体の半周を囲む形で配置した形状をしている。このコイルに高周波電流を流した時にコイルの周囲に発生する交番磁界により円筒状導電性支持体に渦電流が発生し、支持体自体が持つ電気抵抗によって支持体がその表面側から加熱される。
前述の通り、コイルと感光体は塗膜を傷つけないよう非接触にしておく必要があるが、両者の離間距離が１０ｍｍを超えると交番磁界により発生する渦電流が著しく減少し、感光体に対する加熱効率が低下する。よって、コイルと感光体の間の距離は０ｍｍより大きく、１０ｍｍ以下であることが好ましい。
【００２２】
また、図４に示すように、コイルの内側の両サイドに銅板を貼り合わせた構成にすると、加熱効率を上げることが可能となり、より好ましい。更に、コイルに冷却水を通水したパイプ等を接続すれば温度の精密な調整が可能になると共に、熱暴走による過昇温を防止することが可能となり好ましい。
高周波電磁誘導加熱の時、被塗布体はコイルに接近している部分ほど高温になる。そこで、図３中の矢印で示すように、加熱中に被塗布体を適当な速度で回転させることにより、周方向の加熱温度ムラを抑制することができる。
【００２３】
次に、誘導加熱を行なう際に、励磁コイルに供給される高周波電流の制御について説明する。
まず、図１に示す構成の場合、Ｗ（１）の誘導加熱にはＣ（１）を用い、Ｃ（２）、Ｃ（３）は用いない。よって、高周波電流が流れるのはＣ（１）のみである。Ｗ（２）の誘導加熱にはＣ（１）とＣ（２）を用い、Ｃ（３）は用いない。よって、高周波電流が流れるのはＣ（１）、Ｃ（２）のみである。Ｗ（３）の誘導加熱にはＣ（１）、Ｃ（２）およびＣ（３）を用いるので、全てのコイルに高周波電流が流れる。
これを一般化し、前記と同様にしてｎ種類（ただしｎは２以上の任意の自然数）の長さの被塗布体がある場合を考えると次のようになる。すなわち、１≦ｉ≦ｎの任意の自然数ｉに対し、Ｗ（ｉ）の誘導加熱に用いる励磁コイルはＣ（１）からＣ（ｉ）までのｉ個で、Ｃ（ｉ＋１）からＣ（ｎ）までのｎ−ｉ個は使用しない。よって、高周波電流が流れるのはＣ（１）からＣ（ｉ）までのｉ個のみである。
【００２４】
２≦ｉ≦ｎの時、Ｗ（ｉ）の誘導加熱に使用されるｉ個の励磁コイルにはそれぞれ高周波電流が流れ、各励磁コイルの周囲には交番磁界が発生する。しかしながら各励磁コイルが発生する交番磁界の強さの差が大きいと、被塗布体には加熱温度ムラが生じてしまう。
各励磁コイルの発生する交番磁界の強さの調節は、高周波電流の大きさを調整することにより行なうことができる。
【００２５】
また、加熱温度ムラの抑制のためには、加熱に用いる各コイルに供給される高周波電流の周波数と位相が揃っていると更に好ましい。一例として、２つのコイルで被塗布体を誘導加熱する場合の模式図を図５に示す。図５に示す励磁コイル３１、３２は、図３で例示したのと同種のコイルである。ある瞬間に励磁コイル３１、３２に流れる高周波電流の向きを、それぞれ３５、３６の矢印で示している。３５、３６は交流電流であるため時間によってその向きと大きさが変化するが、図５の励磁コイルの例では、３５と３６の矢印の向きが常に一致するよう高周波電流の周波数と位相が制御されている。
すなわち、本発明は、前記励磁コイル群を成す個々の励磁コイルには個別に高周波電流を供給可能であり、該高周波電流は個々の励磁コイルごとに独立して制御可能であり、被塗布体の誘導加熱に使用される全ての励磁コイルに供給される高周波電流の周波数と位相が互いにほぼ一致するようにする制御する電子写真感光体製造方法である。
【００２６】
図６では、図５と同じ装置構成だが、励磁コイル３１、３２に流れる高周波電流の周波数と位相が揃っておらず、ある瞬間に励磁コイル３１、３２に流れる高周波電流３７、３８の向きが逆転した状態になった様子を模式的に示している。高周波電流の周波数と位相が揃っていない時には、図５および図６の状態に交互に移り変わることになる。この場合、２つのコイルが隣接している部分の近傍（図６の３８で示す領域の近傍）では被塗布体を貫く磁束密度の大きさが不均一になり、加熱温度ムラを生じやすくなる。また、隣接して配置された励磁コイル間で生じる相互誘導の影響により、高周波電磁誘導加熱装置の動作が不安定になる場合もある。
本発明の電子写真感光体製造方法は、被塗布体の長さを検知する手段と検知された被塗布体の長さに応じて誘導加熱に使用する励磁コイルを選択する手段を組み合わせて用いてもよい。
本発明においては、前記励磁コイル群を成す個々の励磁コイルが、円筒状導電性支持体をその周方向に１８０度以内で囲む単線のコイル１対を支持体の軸方向に並行に対向するように繋いだ形状の高周波電磁誘導加熱用コイルを採用している。
【００２７】
次に、被塗布体の温度を測定する方法について説明する。温度測定法としては、同組成の温度測定用被塗布体を別途準備し、以下の（１）から（３）の方法により測定することが可能である。
（１）該被塗布体表面にサーモラベルを貼り付ける；
（２）該被塗布体表面にテープ型熱電対温度計を接触させる；または
（３）該被塗布体表面近傍に非接触型放射温度計を配置する。
【００２８】
続いて、本発明の電子写真感光体製造方法で製造される電子写真感光体の構成を具体的に説明する。
本発明の電子写真感光体製造方法で製造される電子写真感光体は、円筒状導電性支持体上に有機光導電性物質を含有する感光層を形成した円筒状電子写真感光体である。該感光層は、感光層用塗布液を塗布した後、これを乾燥及びまたは硬化させて形成される。積層型感光体の場合、機能の異なる各層用の塗布液を塗布し、これを乾燥及びまたは硬化させる工程を複数回繰り返すが、任意の層の乾燥及びまたは硬化させる工程において、本発明の電子写真感光体製造方法を用いることが可能である。
【００２９】
導電性支持体の材料は、導電性を示すものであればよく、例えば、鉄、銅、金、銀、アルミニウム、亜鉛、チタン、鉛、ニッケル、スズ、アンチモン、インジウム、クロム、アルミニウム合金、ステンレスなどの金属製（合金製）などが挙げられる。また、アルミニウム、アルミニウム合金、酸化インジウム−酸化スズ合金などを真空蒸着によって被膜形成した層を有する上記金属製支持体やプラスチック製支持体を用いることもできる。また、カーボンブラック、酸化スズ粒子、酸化チタン粒子、銀粒子などの導電性粒子を適当な結着樹脂と共にプラスチックや紙に含浸した支持体や、導電性結着樹脂を有するプラスチック製の支持体などを用いることもできる。
【００３０】
支持体の表面は、レーザー光などの散乱による干渉縞の防止などを目的として、切削処理、粗面化処理、アルマイト処理などを施してもよい。
支持体と、後述の中間層又は感光層（電荷発生層、電荷輸送層）との間には、レーザー光などの散乱による干渉縞の防止や、支持体の傷の被覆を目的とした導電層を設けてもよい。
導電層は、カーボンブラック、導電性顔料や抵抗調節顔料を結着樹脂に分散及び／又は溶解させた導電層用塗布液を用いて形成されてもよい。導電層用塗布液には、加熱又は放射線照射により硬化重合する化合物を添加してもよい。導電性顔料や抵抗調節顔料を分散させた導電層は、その表面が粗面化される傾向にある。
導電層の膜厚は、０．２μｍ以上４０μｍ以下であることが好ましく、さらには１μｍ以上３５μｍ以下であることがより好ましく、さらには５μｍ以上３５μｍ以下であることがより一層好ましい。
【００３１】
導電層に用いられる結着樹脂としては、例えば、スチレン、酢酸ビニル、塩化ビニル、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、フッ化ビニリデン、トリフルオロエチレンなどのビニル化合物の重合体／共重合体が挙げられる。また、ポリビニルアルコール、ポリビニルアセタール、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリスルホン、ポリフェニレンオキサイド、ポリウレタン、セルロース樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ケイ素樹脂及びエポキシ樹脂などが挙げられる。
【００３２】
導電性顔料及び抵抗調節顔料としては、例えば、アルミニウム、亜鉛、銅、クロム、ニッケル、銀、ステンレスなどの金属（合金）の粒子や、これらをプラスチックの粒子の表面に蒸着したものなどが挙げられる。また、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化スズ、酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化ビスマス、スズをドープした酸化インジウム、アンチモンやタンタルをドープした酸化スズなどの金属酸化物の粒子でもよい。これらは、単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。２種以上を組み合わせて用いる場合は、単に混合するだけでもよいし、固溶体や融着の形にしてもよい。
【００３３】
支持体又は導電層と感光層（電荷発生層、電荷輸送層）との間には、バリア機能や接着機能を有する中間層を設けてもよい。中間層は、感光層の接着性改良、塗工性改良、支持体からの電荷注入性改良、感光層の電気的破壊に対する保護などのために形成される。
中間層の材料としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリ−Ｎ−ビニルイミダゾール、ポリエチレンオキシド、エチルセルロースなどが挙げられる。また、エチレン−アクリル酸共重合体、カゼイン、ポリアミド、Ｎ−メトキシメチル化６ナイロン、共重合ナイロン、にかわ及びゼラチンなどが挙げられる。中間層は、これらの材料を溶剤に溶解させることによって得られる中間層用塗布液を塗布し、これを乾燥させることによって形成することができる。
中間層の膜厚は０．０５μｍ以上７μｍ以下であることが好ましく、さらには０．１μｍ以上３μｍ以下であることがより好ましい。
【００３４】
次に、電荷発生層について説明する。電荷発生層に用いられる電荷発生物質としては、例えば、セレン−テルル、ピリリウム、チアピリリウム系染料、各種の中心金属及び各種の結晶系を有するフタロシアニン顔料が挙げられる。また、アントアントロン顔料や、ジベンズピレンキノン顔料や、ピラントロン顔料や、モノアゾ、ジスアゾ、トリスアゾなどのアゾ顔料や、インジゴ顔料や、キナクリドン顔料や、非対称キノシアニン顔料や、キノシアニン顔料などが挙げられる。これら電荷発生物質は１種のみ用いてもよく、２種以上用いてもよい。
【００３５】
電荷発生層の形成方法としては、電荷発生層用塗布液を塗布、乾燥する方法や、電荷発生物質の蒸着膜を形成する方法などが挙げられる。
電荷発生層用塗布液は、電荷発生物質を０．３〜４倍量（質量比）の結着樹脂及び溶剤とともに、ホモジナイザー、超音波分散、ボールミル、振動ボールミル、サンドミル、アトライター、ロールミルまたは高圧分散機などを用いる方法で分散して得ることができる。結着樹脂としては、例えば、スチレン、酢酸ビニル、塩化ビニル、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、フッ化ビニリデン、トリフルオロエチレンなどのビニル化合物の重合体及び共重合体などが挙げられる。また、ポリビニルアルコール、ポリビニルアセタール、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリスルホン、ポリフェニレンオキサイド、ポリウレタン、セルロース樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ケイ素樹脂及びエポキシ樹脂などが挙げられる。
電荷発生層の膜厚は５μｍ以下であることが好ましく、さらには０．１μｍ以上２μｍ以下であることがより好ましい。
【００３６】
続いて、電荷輸送層について説明する。電荷輸送層に用いられる電荷輸送物質としては、例えば、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリスチリルアントラセンなどの複素環や縮合多環芳香族を有する高分子化合物が挙げられる。また、ピラゾリン、イミダゾール、オキサゾール、トリアゾール、カルバゾールなどの複素環化合物、トリフェニルメタンなどのトリアリールアルカン誘導体、トリフェニルアミンなどのトリアリールアミン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、Ｎ−フェニルカルバゾール誘導体、スチルベン誘導体、ヒドラゾン誘導体といった低分子化合物などが挙げられる。
電荷輸送層は、電荷輸送物質と結着樹脂とを溶剤に溶解させることによって得られる電荷輸送層用塗布液を塗布し、これを乾燥させることによって形成することができる。この場合の電荷輸送物質と結着樹脂の比率は、両者の全質量を１００とした場合に、電荷輸送物質の質量が３０〜１００の範囲であることが好ましく、好ましくは５０〜１００の範囲で適宜選択される。
結着樹脂としては、前記の電荷発生層用の結着樹脂と同様のものを使用することができる。
電荷輸送層の膜厚は５μｍ以上、５０μｍ以下であることが好ましく、さらには１０μｍ以上、３５μｍ以下であることがより好ましい。
【００３７】
本発明の電子写真感光体製造方法で製造される感光体は、耐久性の向上を目的として、電荷輸送層の上に保護層または第二の電荷輸送層といった最表面層を設けても良い。
例えば、前記第一の電荷輸送層の上に電荷輸送材料及び重合或いは架橋性のモノマーやオリゴマーを含有する溶液を塗布し、その塗布膜の全面に電子線を照射し、続いて塗布膜を加熱して重合反応をさせることにより最表面層を形成できる。この加熱の際、本発明の高周波誘導加熱手段を好適に用いることができる。
電子線照射に用いる加速器としては、スキャニング型、エレクトロカーテン型、ブロードビーム型、パルス型およびラミナー型などいずれの形式も使用することができる。
電子線の加速電圧は２５０ｋＶ以下が好ましく、最適には１５０ｋＶ以下である。また、感光体表面での電子線の吸収線量は好ましくは５．０×１０３Ｇｙ以上１．０×１０６Ｇｙ以下、より好ましくは５．０×１０５Ｇｙ以下、更により好ましくは５．０×１０４Ｇｙ以下である。加速電圧、吸収線量が上記範囲より大きい場合、電子線照射による感光体の電気的特性の劣化が大きくなる傾向にある。
【００３８】
電子線の吸収線量は、汎用のフィルム線量計、例えばＦａｒ  Ｗｅｓｔ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ社製  ＲＡＤＩＡＣＨＲＯＭＩＣ  ＲＥＡＤＥＲおよびＲａｄｉａｃｈｒｏｍｉｃ線量計（１０μｍ）により測定することができる。但し、直接測定できる吸収線量は１×１０５Ｇｙ以下であり、それを超える場合は１×１０５Ｇｙ以下の吸収線量を測定した時の電流値（あるいは時間）より概算する。
なお、本発明における感光体表面での電子線の吸収線量とは、前記Ｒａｄｉａｃｈｒｏｍｉｃ線量計（１０μｍ）のフィルムを、最表面層用塗布液を塗布する前の電子写真感光体表面に貼り付けて電子線を照射した時に計測される吸収線量のことを意味する。
【００３９】
最表面層に用いる電荷輸送材料としては、公知の電荷輸送性化合物を用いることができる。重合あるいは架橋性のモノマーやオリゴマーとしては、アクリロイルオキシ基やスチレン基を有する連鎖重合系の材料、水酸基やアルコキシシリル基、イソシアネート基などを有する逐次重合系の材料が挙げられる。得られる電子写真特性、汎用性や材料設計、製造安定性などの観点から正孔輸送性化合物と連鎖重合系材料の組み合わせが好ましく、さらには正孔輸送性基およびアクリロイルオキシ基の両者を分子内に有する化合物を硬化させる系が特に好ましい。
電子線による重合反応の利点として、重合開始剤を必要としないことが挙げられる。ただし、連鎖重合性基の種類や中心骨格の種類によっては重合反応が進行しにくい場合があるため、その際には電子写真特性に影響のない範囲内で重合開始剤を添加することができる。
最表面層の膜厚は、０．１μｍ以上２０μｍ以下であることが好ましく、さらには１μｍ以上１０μｍ以下であることが好ましい。
【００４０】
本発明の電子写真感光体製造方法により製造される電子写真感光体の各層には、各種添加剤を添加することができる。添加剤としては、酸化防止剤や紫外線吸収剤などの劣化防止剤や、フッ素原子含有樹脂粒子などの潤滑剤などが挙げられる。
上述した各層を塗布する方法としては、例えば、浸漬コーティング法、スプレーコーティング法、カーテンコーティング法およびスピンコーティング法などが知られているが、効率性／生産性の点からは浸漬コーティング法が好ましい。
【実施例】
【００４１】
以下、実施例に従って本発明をより詳細に説明する。なお、実施例中の「部」は「質量部」を示す。
感光体用導電性支持体は、軸方向の長さの異なるアルミニウム製円筒状導電性支持体を用いた。使用した支持体の長さは２６１ｍｍ、３４６ｍｍ、３７０ｍｍの３種類で、いずれも外径は３０ｍｍ、管の肉厚は０．７ｍｍであった。便宜的に、ここでは長さの最も短いものからＷ（１）、Ｗ（２）、Ｗ（３）と呼ぶことにする。
感光体の電荷輸送層の上に積層する最表面層を硬化させるための加熱手段として、図７および図８に模式的に示す誘導加熱手段を用いた。励磁コイルは３分割されており、各々は図４に示すようなループ状コイルである。コイルにより円筒状導電性支持体は１８０度囲まれており、加熱効率を上げるためコイルの内側には支持体を挟んで向かい合うように長方形の銅板を貼り合わせてある。銅板と円筒状導電性支持体の間の距離は５ｍｍになるよう調整した。
【００４２】
便宜的に、ここではＷ（１）の円筒状導電性支持体の加熱に用いる励磁コイルをＣ（１）、それに連なって並ぶ励磁コイルを順にＣ（２）、Ｃ（３）と呼ぶことにする。それぞれの励磁コイルに取り付ける銅板の長さは、Ｃ（１）が２６３ｍｍ、Ｃ（２）が８２ｍｍ、Ｃ（３）が２１ｍｍとした。各々の銅板は図７、８では４１、４２、４３で示される。図８で示すように、ここでの銅板の長さとは、誘導加熱時に被塗布体の軸方向と並行を成す方向に測定した長さのことである。また、図８に示すように、Ｃ（１）とＣ（２）、Ｃ（２）とＣ（３）の間隔は、隣あう励磁コイルの銅板同士が、それぞれ３ｍｍずつ離間するように配置した。
誘導加熱を行なう時の被塗布体Ｗ（１）、Ｗ（２）、Ｗ（３）と、励磁コイルＣ（１）、Ｃ（２）、Ｃ（３）の位置関係を図９に示す。Ｗ（１）、Ｗ（２）、Ｗ（３）の下端部は、誘導加熱の際、Ｃ（１）の下端部より１ｍｍ上方になるよう調整した。また、Ｗ（１）の上端はＣ（１）の上端より１ｍｍ下方に位置する。同様に、Ｗ（２）の上端はＣ（２）の上端より１ｍｍ下方に位置し、Ｗ（３）の上端はＣ（３）の上端より１ｍｍ下方に位置する。
Ｃ（１）、Ｃ（２）、Ｃ（３）はそれぞれ高周波電源に接続されている。誘導加熱時にコイルに供給する高周波電流の大きさ、周波数および位相は励磁コイルごとに調整できるようにした。また、誘導加熱時には、周方向の加熱温度ムラ抑制のため、被塗布体を周方向に６０ｒｐｍで回転させた。
被塗布体の温度測定には、放射温度計（商品名：ＩＲ−ＢＡＴ２Ｍ、（株）ＣＨＩＮＯ製）を使用した。測定位置は、各励磁コイルの中央部に対向する被塗布体表面で、これらをＣ（１）、Ｃ（２）、Ｃ（３）に対応してＴ（１）、Ｔ（２）、Ｔ（３）とする。高周波出力をＣ（１）に印加した場合、Ｔ（１）にて測定された温度を用いて、Ｃ（１）に印加する高周波出力にＰＩＤ制御をかけた。Ｃ（２）、Ｃ（３）についても同様にした。
【００４３】
[実施例１]
外径３０ｍｍ、長さ３７０ｍｍ、肉厚０．７ｍｍのアルミニウムシリンダーを支持体（円筒状支持体）とした。
次に、以下の成分からなる溶液を直径１ｍｍのガラスビーズを用いたサンドミルで３時間分散して分散液を調整した。
酸化スズの被覆層を有する硫酸バリウム粒子からなる粉体                ６０部
（商品名：パストランＰＣ１、三井金属鉱業（株）製）
酸化チタン                                                          １５部
（商品名：ＴＩＴＡＮＩＸ    ＪＲ、テイカ（株）製）
レゾール型フェノール樹脂                                            ４３部
（商品名：フェノライト  Ｊ−３２５、大日本インキ化学工業（株）製、固形分７０％）
２−メトキシ−１−プロパノール                                      ５０部
メタノール                                                          ５０部
この分散液に、表面粗し付与材としてのシリコーン樹脂粒子と、レベリング剤としてのシリコーンオイルを添加して攪拌し、導電層用塗布液を調整した。シリコーン樹脂粒子とシリコーンオイルの種類、および添加量を以下に示す。
シリコーン樹脂                                                    ３．６部
（商品名：トスパール１２０、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製）
シリコーンオイル                                              ０．０１５部
（商品名：ＳＨ２８ＰＡ、東レシリコーン（株）製）
このようにして調製した導電層用塗布液をアルミニウムシリンダー上に浸漬法によって塗布し、１４０℃のオーブンで１時間加熱硬化することにより、膜厚が１５μｍの樹脂層を形成した。
【００４４】
次に、以下の成分をメタノール４００部／ｎ−ブタノール２００部の混合液に溶解した。
共重合ナイロン樹脂                                                  １０部
（商品名：アミランＣＭ８０００、東レ（株）製）
メトキシメチル化６ナイロン樹脂                                      ３０部
（商品名：トレジンＥＦ−３０Ｔ、帝国化学（株）製）
このようにして調整した中間層用塗料を、上述の樹脂層の上に浸漬塗布し、１００℃のオーブンで３０分間加熱乾燥することにより、膜厚が０．４５μｍの中間層を形成した。
【００４５】
次に、以下の成分を、直径１ｍｍのガラスビーズを用いたサンドミル装置で４時間分散した後、酢酸エチル７００部を加えて電荷発生層用分散液を調製した。
ヒドロキシガリウムフタロシアニン                                    ２０部
（ＣｕＫα特性Ｘ線回折において、７．４°及び２８．２°（ブラッグ角２θ±０．２°））に強いピークを有するもの）
下記構造式（１）のカリックスアレーン化合物                        ０．２部
【化１】
2010197663.tif 000002
ポリビニルブチラール                                                １０部
（商品名：エスレックＢＸ−１、積水化学工業（株）製）
シクロヘキサノン                                                  ６００部
これを浸漬コーティング法で中間層上に塗布し、８５℃のオーブンで１０分間加熱乾燥することにより、膜厚が０．１４μｍの電荷発生層を形成した。
【００４６】
次いで、以下の成分をモノクロロベンゼン６００部及びメチラール２００部の混合溶媒中に溶解して電荷輸送層用塗料を調製した。
下記構造式（２）の正孔輸送性化合物                                  ７０部
【化２】
2010197663.tif 000003
ポリカーボネート樹脂                                              １００部
（商品名：ユーピロンＺ４００、三菱エンジニアリングプラスチックス（株）製）
このようにして調整した電荷輸送層用塗料を用いて、前記電荷発生層上に電荷輸送層を浸漬塗布し、１００℃のオーブンで６０分間加熱乾燥することにより、膜厚が１８μｍの電荷輸送層を形成した。
【００４７】
次いで、分散剤として、以下の成分を、１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフルオロシクロペンタン（商品名：ゼオローラＨ、日本ゼオン（株）製）２０部及び１−プロパノール２０部の混合溶剤に溶解した。
フッ素原子含有樹脂（商品名：ＧＦ−３００、東亞合成（株）製）      ０．５部
これに、潤滑剤として４フッ化エチレン樹脂粉体（商品名：ルブロンＬ−２、ダイキン工業（株）製）１０部を加えた。その後、この混合液を、高圧分散機（商品名：マイクロフルイダイザーＭ−１１０ＥＨ、米Ｍｉｃｒｏｆｌｕｉｄｉｃｓ社製）で０．５８８Ｐａの圧力で４回の処理を施し均一に分散させた。さらに、この分散液をポリフロンフィルター（商品名：ＰＦ−０４０、アドバンテック東洋（株）製）で濾過を行ない、潤滑剤分散液を調製した。その後、下記構造式（３）で示される正孔輸送性化合物９０部、１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフルオロシクロペンタン７０部及び１−プロパノール７０部を潤滑剤分散液に加えた。これを、ポリフロンフィルター（商品名：ＰＦ−０２０、アドバンテック東洋（株）製）を用いて濾過し、最表面層用塗料を調製した。
【化３】
2010197663.tif 000004
【００４８】
この塗料を用いて、前記電荷輸送層上に最表面層を塗布した後、大気中にて５０℃のオーブンで１０分間の前乾燥を行った。その後、酸素濃度を１５ｐｐｍ以下に保った窒素雰囲気中にて加速電圧７０ｋＶ、ビーム電流６．０ｍＡの条件でシリンダーを３００ｒｐｍで回転させながら１．６秒間電子線照射を行った。このときの電子線の吸収線量を測定したところ１５×１０３Ｇｙであった。
続いて、酸素濃度１５ｐｐｍ以下の窒素雰囲気中にて、前述の本発明による高周波電磁誘導加熱装置を用いて加熱し、硬化反応を行った。励磁コイルはＣ（１）〜Ｃ（３）を全て使用し、各励磁コイルには周波数８０ｋＨｚ、３．２ｋＷの高周波出力を印加し、被塗布体の表面温度が２５℃から約１１５℃に昇温したところで各励磁コイルに印加した高周波出力を停止させた。この時、各励磁コイルに高周波出力が印加されていた時間はいずれも約１０秒であった。また、誘導加熱の際、放射温度計により、Ｃ（１）とＣ（２）の境目に対向する位置と、Ｃ（２）とＣ（３）の境目に対向する位置の塗布体表面温度も測定した。それぞれの位置で測定された最高温度をＴ（４）、Ｔ（５）とする。Ｔ（１）〜Ｔ（５）で測定された最高温度を表１に示す。
誘導加熱工程終了後、サンプルを大気中に取り出して２５℃まで冷却し、１００℃のオーブンにて１０分間の後加熱処理を行ない、膜厚５μｍの最表面層を形成し、電子写真感光体を得た。
【００４９】
【表１】
2010197663.tif 000005
【００５０】
[実施例２]
外径３０ｍｍ、長さ３４６ｍｍ、肉厚０．７ｍｍのアルミニウムシリンダーを支持体とし、最表面層塗布後の誘導加熱をＣ（１）とＣ（２）のみ使用して行なった。また、Ｔ（５）の測定位置を支持体の上端の温度が測定できる位置にした。それ以外は実施例１と同様にして感光体を作成した。Ｔ（１）、Ｔ（２）、Ｔ（４）、Ｔ（５）で測定された最高温度を表１に示す。
【００５１】
[実施例３]
外径３０ｍｍ、長さ２６１ｍｍ、肉厚０．７ｍｍのアルミニウムシリンダーを支持体とし、最表面層塗布後の誘導加熱をＣ（１）のみ使用して行なった。また、Ｔ（２）の測定位置を支持体の上端の温度が測定できる位置にした。それ以外は実施例１と同様にして感光体を作成した。Ｔ（１）、Ｔ（２）で測定された最高温度を表１に示す。
【００５２】
[実施例４]
外径３０ｍｍ、長さ３６６ｍｍ、肉厚０．７ｍｍのアルミニウムシリンダーを支持体とした。また、また、Ｔ（３）の測定位置を支持体の上端の温度が測定できる位置にした。それ以外は実施例１と同様にして感光体を作成した。Ｔ（１）〜Ｔ（５）で測定された最高温度を表１に示す。
【００５３】
[実施例５]
外径３０ｍｍ、長さ３５２ｍｍ、肉厚０．７ｍｍのアルミニウムシリンダーを支持体とし、最表面層塗布後の誘導加熱をＣ（１）とＣ（２）のみ使用して行なった。また、Ｔ（５）の測定位置を支持体の上端の温度が測定できる位置にした。それ以外は実施例１と同様にして感光体を作成した。Ｔ（１）、Ｔ（２）、Ｔ（４）、Ｔ（５）で測定された最高温度を表１に示す。
【００５４】
[比較例１]
外径３０ｍｍ、長さ３７０ｍｍ、肉厚０．７ｍｍのアルミニウムシリンダーを支持体とし、最表面層塗布後の誘導加熱をＣ（１）のみ使用して行ない、それ以外はＴ（１）〜Ｔ（５）の温度測定も含めて実施例１と同様にして感光体を作成した。Ｔ（１）〜Ｔ（５）で測定された最高温度を表１に示す。
【００５５】
[比較例２]
外径３０ｍｍ、長さ３４６ｍｍ、肉厚０．７ｍｍのアルミニウムシリンダーを支持体とした。また、最表面層塗布後の誘導加熱にＣ（１）〜Ｃ（３）の全てを使用し、Ｃ（２）とＣ（３）の高周波出力の印加と停止をＣ（１）と同じになるようにした。また、Ｔ（５）の測定位置を支持体の上端の温度が測定できる位置にした。それ以外は実施例１と同様にして感光体を作成した。Ｔ（１）、Ｔ（２）、Ｔ（４）、Ｔ（５）で測定された最高温度を表１に示す。
【００５６】
[比較例３]
外径３０ｍｍ、長さ３５８ｍｍ、肉厚０．７ｍｍのアルミニウムシリンダーを支持体とした。また、最表面層塗布後の誘導加熱にＣ（１）とＣ（２）のみ使用した。また、Ｔ（３）の測定位置を支持体の上端の温度が測定できる位置にした。それ以外は実施例１と同様にして感光体を作成した。Ｔ（１）〜Ｔ（５）で測定された最高温度を表１に示す。
表１から明らかなように、実施例に比べ、比較例では加熱温度ムラが悪化することがわかる。
【００５７】
[実施例６]
実施例１において、最表面層塗布後の誘導加熱工程を、被塗布体の表面温度が２５℃から約８０℃に昇温したところで各励磁コイルに印加した高周波出力を停止させるように変更した。更に、誘導加熱工程終了後の大気中での後加熱処理も行なわなかった。このようにして膜厚５μｍの最表面層を形成した以外は実施例１と同様にして電子写真感光体を作成した。
得られた感光体を、キヤノン（株）製の電子写真複写機ｉＲ２８７０改造機に搭載し、Ａ３紙でのハーフトーン画像出力を行なった。この時、カートリッジの帯電ローラーに印加するＤＣバイアスは−７８０Ｖとし、ＡＣバイアスは２．５ｋＨｚ、１．７ｋＶｐｐとした。また、前露光量は１０ｌｘとし、像露光量は０．２μＪ／ｃｍ２とした。
出力したハーフトーン画像を目視で観察し、以下のように評価を行った。結果を表２に示す。
Ａ＝画像ムラの発生がなく良好な状態
Ｂ＝軽微な画像ムラが発生している状態
Ｃ＝実用上の問題となるレベルの悪い画像ムラが発生している状態
【００５８】
【表２】
2010197663.tif 000006
【００５９】
[比較例４]
実施例６において、Ｃ（２）に印加する高周波出力を１．７ｋＷとし、Ｔ（２）の温度測定値によらず、Ｃ（２）に対する高周波出力印加時間を実施例６と同じにした以外は実施例１と同様にして感光体を作成し、画像評価を行なった。結果を表２に示す。
表２から明らかなように、実施例に比べ、比較例では加熱温度ムラが悪化することがわかる。
【００６０】
[比較例５]
実施例６において、Ｃ（２）に流れる高周波電流の周波数を６０ｋＨｚに変更したところ、各励磁コイル間の相互誘導の影響により高周波電磁誘導加熱装置の制御が不安定になる問題が生じた。
このことから、接近して配置された複数の励磁コイルを同時に使用する場合、各励磁コイルに供給する高周波電流の周波数と位相が揃っていないと高周波電磁誘導加熱装置の制御が困難になることがわかる。
【符号の説明】
【００６１】
１  被塗布体Ｗ（１）
２  被塗布体Ｗ（２）
３  被塗布体Ｗ（３）
４  高周波電磁誘導加熱手段
５  高周波電磁誘導加熱手段
６  高周波電磁誘導加熱手段
７  励磁コイルＣ（１）
８  励磁コイルＣ（２）
９  励磁コイルＣ（３）
１０  高周波電源
１１  高周波電源
１２  高周波電源
１３  Δｂ（１）
１４  Ｌｗ（１）
１５  Ｌｗ（２）
１６  Ｌｗ（３）
１７  Ｌｃ（１）
１８  Ｌｃ（２）
１９  Ｌｃ（３）
２０  Δｔ（１）
２１  Δｔ（２）
２２  Δｔ（３）
２３  被塗布体
２４  励磁コイル
２５  高周波電源
２６  被塗布体
２７  励磁コイル
２８  銅板
２９  高周波電源
３０  被塗布体
３１  励磁コイル
３２  励磁コイル
３３  高周波電源
３４  高周波電源
３５  励磁コイル３１に流れる電流の向き
３６  励磁コイル３２に流れる電流の向き
３７  励磁コイル３１に流れる電流の向き
３８  励磁コイル３２に流れる電流の向き
３９  励磁コイル３１、３２の境目にあたる領域
４０  被塗布体
４１  励磁コイル
４２  励磁コイル
４３  励磁コイル
４４  高周波電源
４５  高周波電源
４６  高周波電源
４７  励磁コイル４１に流れる電流の向き
４８  励磁コイル４２に流れる電流の向き
４９  励磁コイル４３に流れる電流の向き
５０  被塗布体Ｗ（１）
５１  被塗布体Ｗ（２）
５２  被塗布体Ｗ（３）
【図１】
2010197663.tif 000007
【図２】
2010197663.tif 000008
【図３】
2010197663.tif 000009
【図４】
2010197663.tif 000010
【図５】
2010197663.tif 000011
【図６】
2010197663.tif 000012
【図７】
2010197663.tif 000013
【図８】
2010197663.tif 000014
【図９】
2010197663.tif 000015