(57)【要約】【課題】高精度なパターンを形成可能な露光方法を提供する。【解決手段】本発明の露光方法は、原版のパターンを基板に投影する投影光学系と該基板との間に供給された液体を介して該基板を露光する露光方法であって、前記基板の走査露光を行う工程と、露光光の照射により生成された前記液体の光照射領域を液体回収手段に近づけるように基板ステージを移動させる工程と、前記液体回収手段を用いて前記光照射領域における前記液体を除去する工程とを有する。【選択図】図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
原版のパターンを基板に投影する投影光学系と該基板との間に供給された液体を介して該基板を露光する露光方法であって、
前記基板の走査露光を行う工程と、
露光光の照射により生成された前記液体の光照射領域を液体回収手段に近づけるように基板ステージを移動させる工程と、
前記液体回収手段を用いて前記光照射領域における前記液体を除去する工程と、を有することを特徴とする露光方法。
【請求項２】
前記光照射領域を除去するために前記基板ステージが移動する移動量は、該基板ステージの移動方向における露光スリットの幅と前記液体の幅とを合わせた値の１／２の距離以上であることを特徴とする請求項１記載の露光方法。
【請求項３】
前記液体の除去は、所定のショット行における最終端ショットの露光後であって次のショット行におけるショットの露光前に行われることを特徴とする請求項１又は２記載の露光方法。
【請求項４】
原版のパターンを基板に投影する投影光学系を有し、該投影光学系と該基板との間に供給された液体を介して該基板を露光する露光装置であって、
前記基板を支持する基板ステージと、
前記液体を供給する液体供給手段と、
前記液体を回収する液体回収手段と、
露光光の照射により生成された前記液体の光照射領域を前記液体回収手段に近づけるように前記基板ステージを移動させる制御手段と、を有し、
前記液体回収手段は、前記光照射領域における前記液体を除去するように構成されていることを特徴とする露光装置。
【請求項５】
請求項４記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
露光された前記基板を現像する工程と、を有することを特徴とするデバイス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液浸法を用いて基板を露光する露光方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、液浸法を用いた露光方法が注目されている。この露光装置は、投影光学系の最終面とウエハ等の基板面との間の空間に液体を供給して投影露光を行うものである。
【０００３】
例えば特許文献１には、投影光学系の最終面とウエハ面との間の空間に液体を供給する方法として、投影光学系とウエハ面とで挟まれた空間だけに液体を流すローカルフィル法を用いた露光装置が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】国際公開第９９／４９５０４号パンフレット
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
液浸法では、露光光の照射により基板（基板を構成する基材上の膜を含む）が加熱され、基板上の液浸領域（光照射領域）の液体に温度変化や温度分布を生じさせる可能性がある。液体の温度変化や温度分布は、液体の屈折率変化を引き起こすため、投影光学系の液体を介した結像特性に影響を与え、基板上に高精度なパターンを形成できないおそれがある。
【０００６】
例えば、露光順序は、通常、予め決定された露光ショットレイアウトに従って決定される。すなわち、ウエハの上又は下のショットから、左右いずれかの方向に順に移動して露光が行われる。所定の該当ショット行の最終端ショットを露光した後には改行が行われ、再び、露光ショットレイアウトに従って、順に移動して露光が行われる。
【０００７】
所定の該当ショット行の最終端ショット露光後、ウエハステージは、露光済みショットの方向へ移動する。その方向は、既に露光光によって加熱された液体が残留している方向（光照射領域が存在する方向）である。その方向に向かって露光を行うことは、残留熱による温度変化や露光によりレジスト等から発生した不純物を多く含んだ液膜部を介して露光を行うこととなる。このため、基板上に高精度なパターンを形成できないおそれがある。
【０００８】
そこで本発明は、高精度なパターンを形成可能な露光方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の一側面としての露光方法は、原版のパターンを基板に投影する投影光学系と該基板との間に供給された液体を介して該基板を露光する露光方法であって、前記基板の走査露光を行う工程と、露光光の照射により生成された前記液体の光照射領域を液体回収手段に近づけるように基板ステージを移動させる工程と、前記液体回収手段を用いて前記光照射領域における前記液体を除去する工程とを有する。
【００１０】
本発明の他の側面としての露光方法は、原版のパターンを基板に投影する投影光学系を有し、該投影光学系と該基板との間に供給された液体を介して該基板を露光する露光装置であって、前記基板を支持する基板ステージと、前記液体を供給する液体供給手段と、前記液体を回収する液体回収手段と、露光光の照射により生成された前記液体の光照射領域を前記液体回収手段に近づけるように前記基板ステージを移動させる制御手段とを有し、前記液体回収手段は、前記光照射領域における前記液体を除去するように構成されている。
【００１１】
本発明の他の側面としてのデバイス製造方法は、前記露光装置を用いて基板を露光する工程と、露光された前記基板を現像する工程とを有する。
【００１２】
本発明の他の目的及び特徴は、以下の実施例において説明される。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、高精度なパターンを形成可能な露光方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本実施例における露光装置の概略構成図である。
【図２】液浸露光装置における要部断面図である。
【図３】露光ショットレイアウトの一例である。
【図４】図３の露光ショットレイアウトを用いた場合において、液膜２１を上面から見たときの従来の露光動作である。
【図５】図３の露光ショットレイアウトを用いた場合において、液膜２１を上面から見たときの本実施例における露光動作である。
【図６】本実施例における露光装置の要部断面図である。
【図７】図３の露光ショットレイアウトを用いた場合において、液膜２１を上面から見たときの本実施例における露光動作の別形態である。
【図８】本実施例において、光照射領域除去工程を実行するショットを３ショット毎に設定した例である。
【図９】本実施例において、光照射領域除去工程を全ショットに設定した例である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、本発明の実施例について、図面を参照しながら詳細に説明する。各図において、同一の部材については同一の参照番号を付し、重複する説明は省略する。
【００１６】
まず、本実施例における露光装置に構成について説明する。図１は、本実施例における露光装置１００の概略構成図である。露光装置１００は、露光光として例えば紫外光を用い、投影光学系と基板（例えば、ウエハ）との間に供給された液体を介して基板を露光する液浸露光装置である。また、露光装置１００は、基板と原版とを同期スキャンしながら基板に原版のパターンをスリット光によりスキャン露光する走査型露光装置である。ただし、本実施例はこれに限定されるものではなく、基板を静止させた状態で基板に原版のパターンを投影転写する露光装置にも適用可能である。
【００１７】
図１において、ＡｒＦエキシマレーザやＦ２レーザなどの露光光源（不図示）から射出された光は、照明光学系２に入射する。照明光学系２は、露光スリット２２を備える。露光スリット２２は、露光光源からの光を用いてスリット光（スリットを通過したような断面形状を有する光）を形成する。このように、照明光学系２は、レチクル１（原版）の一部をスリット光で照明する。
【００１８】
スリット光によってレチクル１を照明している間、レチクル１を支持するレチクルステージ３（原版ステージ）、及び、ウエハ９（基板）を支持するウエハステージ１０（基板ステージ）は、互いに同期しながらスキャン移動する。このような同期スキャンにより、レチクル１上のパターン全体が投影光学系４を介してウエハ９上に連続的に結像し、ウエハ９の表面に塗布されたレジストを感光させる。投影光学系４は、レチクル１のパターンをウエハ９に投影する。
【００１９】
レチクルステージ３及びウエハステージ１０の二次元的な位置は、参照ミラー１１及びレーザ干渉計１２によってリアルタイムに計測される。この計測値に基づいて、ステージ制御装置１３（制御手段）は、レチクル１（レチクルステージ３）及びウエハ９（ウエハステージ１０）の位置決め制御及び同期制御を行い、両ステージの移動を制御する。ウエハステージ１０には、ウエハ９の上下方向（鉛直方向）の位置や回転方向、傾きを調整、変更又は制御する駆動装置が内蔵されている。この駆動装置は、露光の際に、投影光学系４の焦点面にウエハ９上の露光領域が常に高精度に合致するようにウエハステージ１０を制御する。ウエハ９上面の位置（上下方向位置と傾き）は、不図示の光フォーカスセンサーによって計測され、その計測値はステージ制御装置１３に出力される。
【００２０】
露光装置１００の本体は、不図示の環境チャンバの中に設置されており、露光装置１００の本体を取り巻く環境は所定の温度に保たれる。レチクルステージ３、ウエハステージ１０、及び、レーザ干渉計１２を取り巻く空間や、投影光学系４を取り巻く空間には、更に個別に温度制御された空調空気が吹き込まれ、環境温度が更に高精度に維持される。
【００２１】
上述のとおり、露光装置１００は、投影光学系４とウエハ９との間の空間（間隙）を液体（液膜２１）を供給して露光する液浸露光装置である。このため、この空間に液体を供給するために、ウエハ９の上方かつ投影光学系４の近傍に液体供給ノズル５（液体供給手段）が配置されている。また、この空間から液体を回収するために、投影光学系４を挟んで液体供給ノズル５の反対側に液体回収ノズル６（液体回収手段）が配置されている。液体供給ノズル５は、供給管１６を介して液体供給装置７に接続されている。同様に、液体回収ノズル６は、回収管１７を介して液体回収装置８に接続されている。
【００２２】
液体供給装置７は、例えば、液体を貯めるタンク、液体を送り出す圧送装置、及び、液体の供給流量の制御を行う流量制御装置を備えている。液体供給装置７には、更に、液体の供給温度を制御するための温度制御装置を含むことが好ましい。また、液体回収装置８は、例えば、回収した液体を一時的に貯めるタンク、液体を吸い取る吸引装置、及び、液体の回収流量を制御するための流量制御装置を備えている。
【００２３】
露光制御装置１４は、不図示のショットレイアウトの作成等を行うコンソールを含み、露光ジョブの開始又は終了の指示等、露光装置１００の全体の制御を行う。
【００２４】
次に、液浸露光装置による露光動作について説明する。図２は、液浸露光装置における要部断面図であり、投影光学系４とウエハ９との間の空間に液膜２１（液体）を供給してウエハ９を露光している状態を示している。図２（ａ）〜図２（ｅ）は時系列に描かれている。
【００２５】
図２（ａ）に示されるように、まず、ウエハ９が静止した状態又は移動している状態で、液体供給ノズル５よりウエハ９上に、例えば略一定の流量で液体を供給し、投影光学系４（最終レンズ）の下面とウエハ９の上面との間に液体を供給して液膜２１を形成する。液体供給ノズル５から液体を供給するとともに、この空間の液体を液体回収ノズル６で回収することにより、投影光学系４とウエハ９との間の空間には、安定して液体（液膜２１）が供給される。
【００２６】
次に、図２（ｂ）に示されるように、投影光学系４とウエハ９との間の空間に液体（液膜２１）が供給された状態でウエハ９が走査方向に移動して露光開始位置に至ると、露光スリット２２を介してスリット光による走査露光が開始される。ここで２３は、液膜２１のうち露光光が照射された光照射領域である。図２（ｃ）に示されるように、露光中においても、液体供給ノズル５から液体を供給し続け、また、供給された液体を液体回収ノズル６で回収することにより、投影光学系４とウエハ９との間の空間に安定して液体が供給されて露光が行われる。露光中、ウエハ９が走査方向に移動することにより、液膜２１のうちの光照射領域２３は広がっていく。図２（ｄ）に示されるように、ウエハ９が更に走査方向に移動して露光終了位置に至ると、走査露光は終了する。その後、図２（ｅ）に示されるように、ウエハ９は上記とは反対の走査方向に移動しながら次の露光が行われる。２４は、光照射領域２３のうち露光光が再度照射された光再照射領域である。
【００２７】
液膜２１は、液体供給ノズル５及び液体回収ノズル６による液体の供給及び回収動作により形成されるが、液膜２１を構成する液体の大部分は、ウエハ９の移動とともに走査方向に移動する。移動した液体部分は、液体回収ノズル６に近づくことにより、液体回収ノズル６に回収される。一方、新たな液体が液体供給ノズル５から供給される。このようにして、液膜２１を構成する液体は入れ替わる。しかし、通常、走査露光時におけるウエハステージ１０の移動領域は、液膜２１の存在領域よりも小さい。このため、液膜２１の存在領域の全てにおける液体が走査露光動作によって回収されることはない。
【００２８】
液膜２１に露光光が照射されると、液膜２１の光照射領域２３は加熱されて温度ムラが生じ、また、レジストから発生した多くの不純物を含むようになる。このため、高精度なパターンを形成するには、図２（ｅ）に示されるように、光照射領域２３を再度露光して光再照射領域２４を生じさせることは好ましくない。
【００２９】
光再照射領域２４を生じさせることが好ましくない理由について、図３及び図４を参照して説明する。図３は、ショットレイアウトの一例である。図３のショットレイアウトは、縦横２行２列のショット配置であり、簡略化したものである。図３において、露光ショットは番号１、２、３、４の順序で行われ、走査露光は、Ｙ方向すなわち図中の上下方向に行われる。なお、図中の矢印は、走査方向を示している。
【００３０】
図４は、図３のショットレイアウトを用いた場合において、液膜２１を上面から見たときの露光動作である。液膜２１のＸ方向の幅はＱＸであり、Ｙ方向の幅はＱＹである。また、露光スリット２２のＸ方向の幅はＥＸであり、Ｙ方向の幅はＥＹである。なお、図４（ａ）〜図４（ｅ）において、液膜２１の中央に表記されている数は、図３の露光ショットの順序（番号１、２、３、４）に対応している。
【００３１】
図４（ａ）は、第１ショット前（露光開始前）の液膜２１の状態を示している。このとき、液膜２１の温度は、全域でほぼ均一になっている。図４（ｂ）に示されるように、第１ショットの走査露光が−Ｙ方向（図３、４の下方向）に行われると、露光光の照射により暖められた光照射領域２３が液膜２１の中央下部に発生する。次の第２ショットの走査露光の際には、ウエハステージ１０がＸ方向（図３、４の右方向）に移動した後、ウエハ９のＹ方向（図３、４の上方向）に走査露光が行われる。このとき、第１ショットで暖められた光照射領域２３は、図４（ｃ）に示されるように−Ｘ方向（図３、４の左方向）に移動し、また、第２ショットで暖められた光照射領域２３が液膜２１の中央上部に発生する。
【００３２】
第２ショットの終了後に改行が行われ、第３ショットの走査露光が行われる。図４（ｄ）に示されるように、第３ショットの走査方向は、第２ショットに対して逆の方向（−Ｙ方向）である。このとき、第３ショットのＸ方向の位置は、第２ショットと同じである。このため、第２ショットの走査露光で暖められた光照射領域２３が再度露光され、光再照射領域２４が液膜２１の中央下部に発生する。
【００３３】
図４（ｅ）に示されるように、第４ショットは、ウエハステージ１０はＸ方向（図中の左方向）へ移動するものの、第１ショットで暖められた液膜２１（光照射領域２３）が多少拡散した状態で第４ショットの露光スリット領域に内に再び位置する。第４ショットにおいて光照射領域２３を露光することにより、光再照射領域２４が発生する。
【００３４】
上述の走査方法では、露光光により加熱され、また、露光によりレジスト等から発生した不純物の濃度が高くなった光照射領域２３に、再度露光を行う状況となる。このため、高精度なパターンを形成できない可能性がある。そこで本実施例では、光照射領域２３が発生した後、光照射領域２３が無くなる位置（液体回収ノズル６の近傍）までウエハステージ１０を移動させ、光照射領域２３を回収（除去）してから次ショットの露光を行う。
【００３５】
図５は、図３のショットレイアウトを用いた場合において、液膜２１を上面から見たときの本実施例における露光動作である。図５は、光照射領域２３を回収する工程が付加されている以外の各条件は、図４の場合と同様である。
【００３６】
図５（ａ）は、第１ショット前の状態を示しており、液膜２１の全域における温度は略均一になっている。図５（ｂ）に示されるように、第１ショットの走査露光が−Ｙ方向（図３、図５の下方向）に行われると、露光光によって暖められた光照射領域２３が、液膜２１の中央下部に発生する。次に、ウエハステージ１０がＸ方向（図３、図５の右方向）に移動した後、第２ショットの走査露光がＹ方向（図３、図５の上方向）に行われる。このとき、第１ショットで暖められた光照射領域２３は、−Ｘ方向（図５（ｃ）の左方向）に移動しており、第２ショットで暖められた光照射領域２３が液膜２１の中央上部に発生する。ここまでは、図４の説明と同じである。
【００３７】
次に、光照射領域除去工程が行われる（図５（ｄ））。すなわち、第２ショットの走査露光が終了した後（ショットの改行時）、露光光が照射された光照射領域２３が無くなる領域まで（光照射領域２３が液体回収ノズル６の近傍に至るまで）、更にウエハステージ１０を移動させる。ウエハステージ１０が所定の位置まで移動することにより、第１ショット及び第２ショットにより生成された光照射領域２３を回収（除去）することができる。上述の光照射領域除去工程でウエハステージ１０を移動させる方向は、効率的な除去のため、直前の走査方向と同じ方向とするのが好ましい。
【００３８】
光照射領域除去工程におけるウエハステージ１０の移動量Ｄ（駆動量）は、この工程におけるウエハステージ１０の移動方向と同じ方向の液膜２１の幅の１／２と露光スリット２２の幅の１／２を合わせた値以上に設定される。本実施例では、ウエハステージ１０の移動量Ｄは、Ｙ方向の液膜２１の幅ＱＹと露光スリット２２の幅ＥＹとを合わせた値の１／２の距離Ｌｙを用いて、以下の式（１）の範囲に設定される。
【００３９】
Ｄ≧Ｌｙ＝（ＱＹ＋ＥＹ）／２  …  （１）
このような移動量Ｄだけウエハステージ１０を移動させることにより、光照射領域２３を確実に除去することが可能となる。
【００４０】
露光スリット２２は、液膜２１の中心に配置されている。このため、ウエハステージ１０の移動量Ｄを、液膜２１の幅ＱＹと露光スリット２２の幅ＥＹとを合わせた値の１／２の距離Ｌｙ以上にする。ウエハステージ１０をこのような距離以上移動させることにより、露光開始端位置から液膜最端位置までを包含することができる。また、ウエハステージ１０の移動量Ｄは、液膜２１のＹ方向の幅ＱＹ又はそれ以上に設定されることがより好ましい。このように本実施例では、露光光の照射により生成された液膜２１の光照射領域２３を液体回収ノズル６に近づけるようにウエハステージ１０を移動させる。このため、光照射領域２３における液膜２１は、液体回収ノズル６を用いて回収（除去）され、光照射領域２３がリフレッシュされる。
【００４１】
図６は、本実施例における露光装置の要部断面図であり、投影光学系とウエハとの間の空間に液膜２１（液体）を供給してウエハを露光している状態を示している。図６（ａ）〜図６（ｄ）は時系列に描かれている。図６（ａ）は露光開始時の状態、図６（ｂ）は露光完了後の状態、図６（ｃ）は光照射領域除去工程を実行している状態、図６（ｄ）は光照射領域除去工程が完了した後の状態である。
【００４２】
光照射領域除去工程におけるウエハステージ１０の移動速度は、走査露光時の移動速度とは異なる値に設定可能である。走査露光時のウエハステージ１０の移動速度には、照明条件、必要照度、レジスト条件等の制約があるため、走査速度がロット毎に異なる場合がある。光照射領域除去工程におけるウエハステージ１０を、走査露光時と同じ速度で移動させると、光照射領域２３における液膜２１が十分に回収されず液膜２１の温度分布が変化する可能性がある。光照射領域除去工程におけるウエハステージ１０の移動速度は、上述の露光条件に依存するものではない。このため、予め、シミュレーションや実験等で光照射露光除去工程に適した移動速度を求めて設定するのが望ましい。これにより、走査露光時のウエハステージ１０の移動速度に影響を及ぼすことなく、安定して光照射領域２３の除去を行うことができる。
【００４３】
光照射領域除去工程後、液膜２１は、第１ショット前における液膜２１の状態にほぼ等しくなり、温度が安定して、かつ、不純物が少ない液膜２１を全域に生成することができる。その後、図５（ｅ）に示されるように、第３ショットの走査露光が行われる。このとき、暖められた光照射領域２３は除去されており、液膜２１は第１ショット前とほぼ同様の状態に回復している。このような状態で、走査露光が−Ｙ方向（図３、図５の下方向）に行われると、液膜２１の中央下部に新たな光照射領域２３が発生する。
【００４４】
次に、第４ショットの露光のため、ウエハステージ１０が−Ｘ方向（図３、図５の左方向）へ移動することにより、第３ショットで生成された光照射領域２３はＸ方向（図３、図５の右方向）に移動する。図５（ｆ）に示されるように、液膜２１のうち光照射領域２３が生成されていない領域において、Ｙ方向（図３、図５の上方向）に走査露光が行われる。
【００４５】
上述のように、本実施例では、所定のショット行における最終端ショットの露光後であって次のショット行におけるショットの露光前に、既に露光光によって暖められた液膜（光照射領域２３）を除去する。このため、ウエハステージ１０が前ショット行と反対方向に向かって次行の露光を行う場合でも、露光光が照射された液膜２１（光照射領域２３）が逆戻りすることなく、安定した液膜状態で露光が可能となる。また、露光の順番や見方によって行か列かは異なるので、ここでは行としているが列であってもよい。なお、上述の光照射領域除去工程におけるウエハステージの移動方向は、走査露光方向と同一方向（Ｙ方向）であるが、本実施例はこれに限定されるものではない。図７は、図３の露光ショットレイアウトを用いた場合において、液膜２１を上面から見たときの本実施例における露光動作の別形態である。具体的には、光照射領域除去工程において、ウエハステージをＸ方向に移動させている。このように、ウエハステージをＸ方向へ移動させても上述と同様の効果を得ることができる。このとき、ウエハステージの移動量Ｄは、液膜２１のＸ方向の幅ＱＸと、露光スリット２２のＸ方向の幅ＥＸを合わせた値の１／２の距離Ｌｘ以上に設定することにより、露光開始点から液膜端までを包含することができる。ウエハステージの移動量Ｄは、液膜２１のＸ方向の幅ＱＸ又はそれ以上に設定されることがより好ましい。このように、ウエハステージの移動方向は特に限定されるものではなく、光照射領域が確実に除去されるだけの移動量を設定すれば、上述と同様の効果を得ることができる。
【００４６】
次に、光照射領域除去工程の実行タイミングについて説明する。上述の光照射領域除去工程は、露光ショット行の最終端ショットの露光後に実行されるが、本実施例はこれに限定されるものではない。光照射領域除去工程の実行タイミングは、上述の実行タイミングに加えて、任意のショットＳの露光後に実施するように構成することができる。
【００４７】
図８は、光照射領域除去工程を実行するショットを３ショット毎に設定した例である。Ｄは前述の行最終端ショットであり、Ｓは任意に設定したショットであり、ここでは３ショット毎に設定されている。また、図９は、光照射領域除去工程を全ショットＡに対して実行するように設定した例である。このように、本実施例では、行最終端ショットだけでなく、露光ショット行内の任意のショットにおいて光照射領域除去工程を実行可能に構成することができる。このため、露光熱による液膜温度変化や液膜不純物による影響が更に低減されるとともに、液膜内での不純物の残留時間が短くなるため、投影光学系の最終レンズ下面に不純物が蓄積するのを低減することが可能となる。
【００４８】
上述のとおり、本実施例によれば、前露光により光照射された光照射領域を除去した後に、次ショットの露光が行われる。このため、液膜内の熱や露光光によりレジスト等から出た不純物が無い状態で露光することができる。従って、本実施例によれば、高精度なパターンを形成可能な露光方法及び露光装置を提供することができる。
【００４９】
デバイス（半導体集積回路素子、液晶表示素子等）は、前述のいずれかの実施例の露光装置を使用して感光剤を塗布した基板（ウエハ、ガラスプレート等）を露光する工程と、その基板を現像する工程と、他の周知の工程と、を経ることにより製造される。本実施例によれば、生産性の高いデバイス製造方法を提供することができる。
【００５０】
以上、本発明の実施例について具体的に説明した。ただし、本発明は上記実施例として記載された事項に限定されるものではなく、本発明の技術思想を逸脱しない範囲内で適宜変更が可能である。
【符号の説明】
【００５１】
１：レチクル
４：投影光学系
５：液体供給ノズル
６：液体回収ノズル
９：ウエハ
１０：ウエハステージ
２１：液膜
２３：光照射領域
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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