(57)【要約】【目的】本発明はレザー装置を公開する。【構成】この装置はリアレンズ、YV04クリスタル、Q-SWクリスタル、フロントレンズ、励起光源、光ファイバスプライス、平行光調節レンズ及びフォーカスヘッドを含む。バックレンズはフラットレンズとし、励起光源の入射点はYV04クリスタル端面中心より0-2mm逸れている。リアレンズ下方にリアレンズ用調節器、Q-SWクリスタルの下方にQ-SWクリスタル用調節器、フロントレンズの上方にレンズ調節器を設置している。また、フォーカスヘッドはバックレンズの前方に、平行光調節レンズはフォーカス前方に、光ファイバスプライスは平行光前方に設置している。そして、レンズ下方にレンズ調節器を設置している。使用の際、励起光源で２つのレザー共振回路が発生可能なので、レザー変換の向上及びNd-YV04の均一的受熱を実現できる。レザー共振回路が2つある為、レザー共振空胴の長さの適応範囲が大きく、40mm-200mmであるので、レザー共振空胴の製造上の技術難易度を下げる。【選択図】図２
2010027990.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レザー装置であり、バックレンズ、YV04クリスタル、Q-SWクリスタル、フロントレンズ及び励起光源を含み、前記のバックレンズをフラットレンズとし、励起光源の入射点はYV04クリスタル端面中心に対して0-2mm逸れていることを特徴とするレザー装置。
【請求項２】
請求項１に記載のレザー装置において、前述のバックレンズラジアンをR=100mm〜2000mmとし、メッキ加工を実施して、一面で800〜970nmの光を全透過し、凹面で1050〜1380nmの光を全反射することを特徴とするレザー装置。
【請求項３】
請求項１又は項2に記載のレザー装置において、前述のYV04クリスタルはa-cut、0.2%-2% Nd Dopedであり、メッキ加工は800〜970nm 、1050〜1380nmであり、両面全透過となっていることを特徴とするレザー装置。
【請求項４】
請求項3に記載のレザー装置において、前述のQ-SWクリスタルは1050-1950nmであり、全透過となっていることを特徴とするレザー装置。
【請求項５】
請求項4に記載のレザー装置において、そのレンズの下方にバックレンズ調節器を設置していることを特徴とするレザー装置。
【請求項６】
請求項5に記載のレザー装置において、そのQ-SWクリスタルの下方にQ-SWクリスタル調節器を設置していることを特徴とするレザー装置。
【請求項７】
請求項6に記載のレザー装置において、フロントレンズの上方にレンズ調節器を設置していることを特徴とするレザー装置。
【請求項８】
請求項7に記載のレザー装置において、光ファイバスプライス、平行光調節レンズ及びフォーカスヘッドを含み、また、前述のフォーカスヘッドはバックレンズの前方に、平行光調節レンズはフォーカスの前方に、光ファイバスプライスは平行光調節レンズの前方に設置していることを特徴とするレザー装置。
【請求項９】
請求項8に記載のレザー装置において、前述のレンズ下方にレンズ調節器を設置していることを特徴とするレザー装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はレザー装置に関し、特に、励起光源に2つのレザー共振回路を発生させるレザー装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来のレザー装置に関する技術は、主に、808nmの励起光源が一回でNd-YV04クリスタルに入射し、可能な限り最大限にレザーエネルギーを発揮することを強調している。一つの励起光源に対して、レザー共振回路が一つしかないので、レザー共振の空胴長さに対する適応範囲が小さく、レザー共振空胴の製造上の技術難易度を高める。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
本発明は、一種のレザー装置を提供する。その装置において、一つの励起光源で２つのレザー共振回路が発生可能なので、共振空胴の長さの適応範囲が大きく、レザー共振空胴の製造上の技術難易度を下げる。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
前記本発明の目的を実現する為、本発明は下記の技術方案を採用する。 
レザー装置には、主にリアレンズ、YV04クリスタル、Q-SWクリスタル、フロントレンズ、励起光源を含む。バックレンズはフラットレンズとし、励起光源の入射点はYV04クリスタル端面中心より0-2mm逸れている（請求項１）。
【０００５】
前述のバックレンズのラジアンはR=100mm〜2000mmとし、メッキ加工を実施して、一面で800〜970nmの光を全透過し、凹面で1050〜1380nmの光を全反射する（請求項２）。
【０００６】
前述のYV04クリスタルはa-cut、0.2%-2% Nd Dopedであり、メッキ加工は800〜970nm 、1050〜1380nmであり、両面全透過となっている（請求項３）。
【０００７】
前述のQ-SWクリスタルは1050-1950nmであり、全透過となっている（請求項４）。
【０００８】
前述のレザー装置において、そのレンズの下方にバックレンズ調節器を設置している（請求項５）。
【０００９】
前述のレザー装置において、そのQ-SWクリスタルの下方にQ-SWクリスタル調節器を設置していることを特徴とする（請求項６）。
【００１０】
前述のレザー装置において、そのフロントレンズの上方にレンズ調節器を設置している（請求項７）。
【００１１】
前述のレザー装置において、光ファイバスプライス、平行光調節レンズ及びフォーカスヘッドを含み、また、前述のフォーカスヘッドはバックレンズの前方に、平行光調節レンズはフォーカスの前方に、光ファイバスプライスは平行光調節レンズの前方に設置している（請求項８）。
【００１２】
前述のレンズ下方にレンズ調節器を設置している（請求項９）。
【発明の効果】
【００１３】
上記の構造を採用すれば、使用の時、励起光源で2つのレザー共振回路が発生する。一つは、Nd-YV04クリスタルへの励起光源により発生し、もう一つは拡散反射の808nm光により発生する。上記により、レザー変換の向上及びNd-YV04の均一的受熱を実現できる。レザー共振回路が2つある為、共振空胴の長さ（バックレンズからフロントレンズまでの距離）の適応範囲が大きく、40ｍｍ-140ｍｍであるので、レザー共振空胴の製造上の技術難易度を下げる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
この技術分野の皆さんに本発明をよく理解していただく為に、添付図と実施方式を利用して、更に詳しく説明する。
【００１５】
図1、2に示しているように、公開したレザー装置において、主に、リアレンズ1、YV04クリスタル2、Q-SWクリスタル3、フロントレンズ4、励起光源5、光ファイバスプライス6、平行光調節レンズ7及びフォーカスヘッド8を含む。そのうち、
前記のバックレンズ１はフラットレンズとし、励起光源5の入射点はYV04クリスタル2端面中心に対して0-2mm逸れている。
【００１６】
前述のバックレンズ１のラジアンはR=100mm〜2000mmとし、メッキ加工を実施して、一面で800〜970nmの光を全透過し、凹面で1050〜1380nmの光を全反射する。
【００１７】
前述のYV04クリスタル2はa-cut、0.2%-2% Nd Dopedであり、メッキ加工は800〜970nm 1050〜1380nmであり、両面全透過となっている。
【００１８】
前述のQ-SWクリスタル31050-1950nmであり、全透過となっている。
【００１９】
前述のレザー装置において、そのバックレンズ1の下方にバックレンズ調節器11を設置している。バックレンズ調節器11がYV04クリスタル2と同じな光軸になるように光回路を調整する。
【００２０】
前述のレザー装置において、そのQ-SWクリスタル3の下方にQ-SWクリスタル調節器31を設置している。Q-SWクリスタル調節器31が光回路を調整し、レザー共振回路を破壊する。
【００２１】
前述のレザー装置において、そのフロントレンズ4の上方にレンズ調節器41を設置している。レンズ調節器41がバックレンズと同じな光軸になるよう光回路を調整する。光回路を調整するほか、全ての光線を反射する。その役割が穴明け付きの反射レンズに当り、もう一つのレザーの発生に助力する。
【００２２】
前述のフォーカスヘッド8はバックレンズ1の前方に、平行光調節レンズ7はフォーカスヘッド8の前方に、光ファイバスプライス6は平行光調節レンズ7の前方に設置している。
【００２３】
レンズ7の下方にレンズ調節器71を設置している。前述のレンズ調節器71は入射光回路を調整し、その出力を一番強くする。
【００２４】
使用の時、励起光源で2つのレザー共振回路が発生する。一つ5’は、Nd-YV04クリスタルへの励起光源により発生し、もう一つ5’’は拡散反射の808nm光により発生する。上記により、レザー変換の向上及びNd-YV04の均一的受熱を実現できる。レザー共振回路が2つある為、共振空胴の長さ（バックレンズからフロントレンズまでの距離）の適応範囲が大きく、40mm-200mmであるので、レザー共振空胴の製造上の技術難易度を下げる。
【００２５】
実施例により本発明を説明したが、本分野の一般技術者でも知っているように、本発明には発明の主旨から切り離れていない変化と変形がある。上記のような変化と変形は添付の特許請求の範囲に含まれていることが望ましい。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】本発明で2つ共振回路が発生する共振空胴の構造図
【図２】本発明で使用する構造図
【図１】
2010027990.tif 000003
【図２】
2010027990.tif 000004