(57)【要約】【課題】観察者がワーク全体として描画ムラを認識し難いように吐出パターンデータを補正する。【解決手段】ワーク上の描画領域をマトリクス状に区分した複数の仮想分割部位に対し、描画処理により付与される機能液付与量をそれぞれ算出し、複数の仮想分割部位に対する機能液付与量をそれぞれ多階調表現したマトリクスデータを生成し、マトリクスデータをｎ値化（ｎ≧２）してｎ値化マトリクスデータを生成し、ｎ値化マトリクスデータの各ｎ値化データが機能液付与量「大」側を表す各仮想分割部位に対する機能液付与量の減少と、ｎ値化マトリクスデータの各ｎ値化データが機能液付与量「小」側を表す各仮想分割部位に対する機能液付与量の増加と、の少なくとも一方が為されるように、吐出パターンデータを補正する。【選択図】図４
2010115650.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ワークに対し、機能液滴吐出ヘッドを相対的に移動させながら、吐出パターンデータにより前記機能液滴吐出ヘッドの複数のノズルから機能液滴をそれぞれ選択的に吐出・着弾させる描画処理に際して、描画ムラを解消するために前記吐出パターンデータを補正する吐出パターンデータ補正方法であって、
前記ワーク上の描画領域をマトリクス状に区分した複数の仮想分割部位に対し、前記描画処理により付与される機能液付与量をそれぞれ算出する算出工程と、
前記複数の仮想分割部位に対する機能液付与量をそれぞれ多階調表現したマトリクスデータを生成するデータ生成工程と、
前記マトリクスデータをｎ値化（ｎ≧２）してｎ値化マトリクスデータを生成する階調処理工程と、
前記ｎ値化マトリクスデータの各ｎ値化データが前記機能液付与量「大」側を表す前記各仮想分割部位に対する前記機能液付与量の減少と、前記ｎ値化マトリクスデータの各ｎ値化データが前記機能液付与量「小」側を表す前記各仮想分割部位に対する前記機能液付与量の増加と、の少なくとも一方が為されるように、前記吐出パターンデータを補正するデータ補正工程と、
を備えたことを特徴とする吐出パターンデータ補正方法。
【請求項２】
前記階調処理工程において、閾値法、組織的ディザ法および誤差拡散法のいずれかを用いたｎ値化処理により、前記ｎ値化マトリクスデータを生成することを特徴とする請求項１に記載の吐出パターンデータ補正方法。
【請求項３】
前記算出工程に先立って、前記各仮想分割部位に対応する１以上の前記ノズルから成るノズル群から吐出される単位ショット数当たりの機能液吐出量を測定する吐出量測定工程を、さらに備え、
前記算出工程において、前記機能液吐出量の測定結果と、前記吐出パターンデータとに基づいて、前記機能液付与量を算出することを特徴とする請求項１または２に記載の吐出パターンデータ補正方法。
【請求項４】
前記算出工程に先立って、前記描画処理により前記ワーク上に形成した機能液による成膜部の前記各仮想分割部位における光学濃度を測定する光学濃度測定工程を、さらに備え、
前記算出工程において、前記光学濃度の測定結果に基づいて、前記機能液付与量を算出することを特徴とする請求項１または２に記載の吐出パターンデータ補正方法。
【請求項５】
前記算出工程に先立って、前記描画処理により前記ワーク上に形成した機能液による成膜部の前記各仮想分割部位における膜厚を測定する膜厚測定工程を、さらに備え、
前記算出工程において、前記膜厚の測定結果に基づいて、前記機能液付与量を算出することを特徴とする請求項１または２に記載の吐出パターンデータ補正方法。
【請求項６】
前記データ補正工程は、前記各ノズルからのショット数の増減および／または１ショット当たりの機能液吐出量の増減により、前記機能液付与量が増減するように、前記吐出パターンデータを補正することを特徴とする請求項１ないし５のいずれかに記載の吐出パターンデータ補正方法。
【請求項７】
ワークに対し、機能液滴吐出ヘッドを相対的に移動させながら、吐出パターンデータにより前記機能液滴吐出ヘッドの複数のノズルから機能液滴をそれぞれ選択的に吐出・着弾させる描画処理に際して、描画ムラを解消するために前記吐出パターンデータを補正する吐出パターンデータ補正装置であって、
前記吐出パターンデータを記憶する記憶手段と、
前記ワーク上の描画領域をマトリクス状に区分した複数の仮想分割部位に対し、前記描画処理により付与される機能液付与量をそれぞれ算出する算出手段と、
前記複数の仮想分割部位に対する機能液付与量をそれぞれ多階調表現したマトリクスデータを生成するデータ生成手段と、
前記マトリクスデータをｎ値化（ｎ≧２）してｎ値化マトリクスデータを生成する階調処理手段と、
前記ｎ値化マトリクスデータの各ｎ値化データが前記機能液付与量「大」側を表す前記各仮想分割部位に対する前記機能液付与量の減少と、前記ｎ値化マトリクスデータの各ｎ値化データが前記機能液付与量「小」側を表す前記各仮想分割部位に対する前記機能液付与量の増加と、の少なくとも一方が為されるように、前記吐出パターンデータを補正するデータ補正手段と、
を備えたことを特徴とする吐出パターンデータ補正装置。
【請求項８】
前記機能液滴吐出ヘッドと、
前記ワークに対し、前記機能液滴吐出ヘッドを相対的に移動させる移動手段と、
請求項１ないし６のいずれかに記載の吐出パターンデータ補正方法により補正された前記吐出パターンデータに基づいて、前記機能液滴吐出ヘッドの各ノズルを制御するヘッド制御手段と、
を備えたことを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項９】
請求項８に記載の液滴吐出装置を用い、前記ワーク上に機能液による成膜部を形成することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１０】
請求項８に記載の液滴吐出装置を用い、前記ワーク上に機能液による成膜部を形成したことを特徴とする電気光学装置。
【請求項１１】
請求項９に記載の電気光学装置の製造方法により製造した電気光学装置または請求項１０に記載の電気光学装置を、搭載したことを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ワークに対し、インクジェットヘッドに代表される機能液滴吐出ヘッドの複数のノズルから機能液滴をそれぞれ選択的に吐出する描画処理を行うための吐出パターンデータを補正する吐出パターンデータ補正方法、吐出パターンデータ補正装置、液滴吐出装置、並びに電気光学装置の製造方法、電気光学装置および電子機器に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、複数列の着色部を配列したカラーフィルタ（ワーク）に対して、吐出パターンデータにより、インクジェットヘッド（機能液滴吐出ヘッド）のインク吐出ノズル（ノズル）からインク（機能液）を吐出して描画処理を行う液滴吐出装置が知られている。複数のインク吐出ノズル間では、インク吐出量が均一ではないため、複数列の着色部間でのインク吐出量を均一化すべく、各列の着色部の色濃度を検出し、当該色濃度に基づいて、各列の着色部に対するインク吐出密度（吐出パターンデータ）を補正することが考えられている（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開平１０−３１５５１０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、このような吐出パターンデータ補正方法では、複数列の着色部間でインク吐出密度が異なるものとなるため、複数列の着色部間でのインク吐出量が均一化されたとしても、かえって描画ムラの原因となっていた。すなわち、他の着色部とはインク吐出密度が異なる着色部が一列に連なることになるため、カラーフィルタを全体として観察したとき、その列の着色部がすじムラとなって認識される結果となっていた。
【０００５】
本発明は、観察者がワーク全体として描画ムラを認識し難いように吐出パターンデータを補正することができる吐出パターンデータ補正方法、吐出パターンデータ補正装置、液滴吐出装置、並びに電気光学装置の製造方法、電気光学装置および電子機器を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の吐出パターンデータ補正方法は、ワークに対し、機能液滴吐出ヘッドを相対的に移動させながら、吐出パターンデータにより機能液滴吐出ヘッドの複数のノズルから機能液滴をそれぞれ選択的に吐出・着弾させる描画処理に際して、描画ムラを解消するために吐出パターンデータを補正する吐出パターンデータ補正方法であって、ワーク上の描画領域をマトリクス状に区分した複数の仮想分割部位に対し、描画処理により付与される機能液付与量をそれぞれ算出する算出工程と、複数の仮想分割部位に対する機能液付与量をそれぞれ多階調表現したマトリクスデータを生成するデータ生成工程と、マトリクスデータをｎ値化してｎ値化マトリクスデータを生成する階調処理工程と、ｎ値化マトリクスデータの各ｎ値化データが機能液付与量「大」側を表す各仮想分割部位に対する機能液付与量の減少と、ｎ値化マトリクスデータの各ｎ値化データが機能液付与量「小」側を表す各仮想分割部位に対する機能液付与量の増加と、の少なくとも一方が為されるように、吐出パターンデータを補正するデータ補正工程と、を備えたことを特徴とする。
【０００７】
また、本発明の吐出パターンデータ補正装置は、ワークに対し、機能液滴吐出ヘッドを相対的に移動させながら、吐出パターンデータにより機能液滴吐出ヘッドの複数のノズルから機能液滴をそれぞれ選択的に吐出・着弾させる描画処理に際して、描画ムラを解消するために吐出パターンデータを補正する吐出パターンデータ補正装置であって、吐出パターンデータを記憶する記憶手段と、ワーク上の描画領域をマトリクス状に区分した複数の仮想分割部位に対し、描画処理により付与される機能液付与量をそれぞれ算出する算出手段と、複数の仮想分割部位に対する機能液付与量をそれぞれ多階調表現したマトリクスデータを生成するデータ生成手段と、マトリクスデータをｎ値化してｎ値化マトリクスデータを生成する階調処理手段と、ｎ値化マトリクスデータの各ｎ値化データが機能液付与量「大」側を表す各仮想分割部位に対する機能液付与量の減少と、ｎ値化マトリクスデータの各ｎ値化データが機能液付与量「小」側を表す各仮想分割部位に対する機能液付与量の増加と、の少なくとも一方が為されるように、吐出パターンデータを補正するデータ補正手段と、を備えたことを特徴とする。
【０００８】
これらの構成によれば、各仮想分割部位に対する機能液付量に基づくマトリクスデータをｎ値化処理することで、補正した吐出パターンデータは、各仮想分割部位に対する機能液付与量を適切に増加および／または減少させるものとなる。例えば、機能液付与量を「０」（機能液付与量：大）から「９」（機能液付与量：小）の１０段階で表現してマトリクスデータを作成し、２値化処理を行うと、機能液付与量の多い領域において、一部の仮想分割部位の２値化データが「０」となる。そして、その仮想分割部位に対する機能液付与量を減少させるため、機能液付与量の多い領域全体として機能液付与量が減少され、ワーク全体として、描画ムラが解消されることになる。このため、観察者がワーク全体として描画ムラを認識し難いように吐出パターンデータを補正することができる。
【０００９】
なお、上記の例では、２値化処理についての説明を行ったが、階調処理は２値化に限定する必要はない。また、ｎ値化マトリクスデータの階調数を、１ショット当たりの機能液吐出量の調整可能数に基づいて、設定することが好ましい。例えば、１ショット当たりの機能液吐出量を大・中・小と打ち分けられる場合には、３値化としたり、あるいは、さらに吐出しない場合を加えて４値化とする。
【００１０】
上記の吐出パターンデータ補正方法において、階調処理工程において、閾値法、組織的ディザ法および誤差拡散法のいずれかを用いたｎ値化処理により、ｎ値化マトリクスデータを生成することが好ましい。
【００１１】
この構成によれば、一般的且つ容易なデータ処理で、マトリクスデータのｎ値化処理を適切に行うことができる。なお、誤差拡散法によることがさらに好ましく、これによれば、大まかな領域になるほど見かけ上の階調を向上させることができるため、描画ムラをより認識させ難くすることができる。
【００１２】
これらの場合、算出工程に先立って、各仮想分割部位に対応する１以上のノズルから成るノズル群から吐出される単位ショット数当たりの機能液吐出量を測定する吐出量測定工程を、さらに備え、算出工程において、機能液吐出量の測定結果と、吐出パターンデータとに基づいて、機能液付与量を算出することが好ましい。
【００１３】
この構成によれば、機能液滴吐出ヘッドから検査的に機能液滴を吐出させて機能液吐出量を測定することで、描画処理を行うことなく、マトリクスデータを生成することができる。このため、第１回目のワークから、描画処理を適切に行うことができる。
なお、機能液吐出量は、機能液滴の重量計測、機能液滴の飛行速度の計測、飛行中の機能液滴の大きさの計測、着弾した機能液滴の着弾径の計測等を行うことで、測定することが好ましい。
【００１４】
またこれらの場合、算出工程に先立って、描画処理によりワーク上に形成した機能液による成膜部の各仮想分割部位における光学濃度を測定する光学濃度測定工程を、さらに備え、算出工程において、光学濃度の測定結果に基づいて、機能液付与量を算出することが好ましい。
【００１５】
この構成によれば、ワーク上に形成された成膜部の光学濃度の測定結果に基づいて、機能液付与量を算出する。このため、実際の描画結果に基づいて、マトリクスデータを的確に生成することができる。
なお、成膜部の光学濃度は、透過率計測、吸光度計測、反射率計測等を行うことで、測定することが好ましい。
【００１６】
またこれらの場合、算出工程に先立って、描画処理によりワーク上に形成した機能液による成膜部の各仮想分割部位における膜厚を測定する膜厚測定工程を、さらに備え、算出工程において、膜厚の測定結果に基づいて、機能液付与量を算出することが好ましい。
【００１７】
この構成によれば、ワーク上に形成された成膜部の膜厚の測定結果に基づいて、機能液付与量を算出する。実際の描画結果に基づいて、マトリクスデータを的確に生成することができる。
なお、成膜部の膜厚の測定として、光干渉法、触針法等により測定することが好ましい。
【００１８】
これらの場合、データ補正工程は、各ノズルからのショット数の増減および／または１ショット当たりの機能液吐出量の増減により、機能液付与量が増減するように、吐出パターンデータを補正することが好ましい。
【００１９】
この構成によれば、各ノズルからのショット数を増減させる、あるいは１ショット当たりの機能液吐出量を増減させるという簡易な制御により、各仮想分割部位に対する機能液付与量を増減させることができる。
【００２０】
本発明の液滴吐出装置は、機能液滴吐出ヘッドと、ワークに対し、機能液滴吐出ヘッドを相対的に移動させる移動手段と、上記した吐出パターンデータ補正方法により補正された吐出パターンデータに基づいて、機能液滴吐出ヘッドの各ノズルを制御するヘッド制御手段と、を備えたことを特徴とする。
【００２１】
この構成によれば、観察者がワーク全体として描画ムラを認識し難いように補正された吐出パターンデータにより、描画処理を行う。このため、観察者が描画ムラを認識し難いワークを提供することができる。
【００２２】
本発明の電気光学装置の製造方法は、上記した液滴吐出装置を用い、ワーク上に機能液による成膜部を形成することを特徴とする。
【００２３】
また、本発明の電気光学装置は、上記した液滴吐出装置を用い、ワーク上に機能液による成膜部を形成したことを特徴とする。
【００２４】
これらの構成によれば、観察者がワーク全体として描画ムラを認識し難いように描画処理を行うことができる液滴吐出装置を用いたことで、高品質な電気光学装置を製造することができる。なお、電気光学装置（フラットパネルディスプレイ：ＦＰＤ）としては、カラーフィルタ、液晶表示装置、有機ＥＬ装置、ＰＤＰ装置、電子放出装置等が考えられる。なお、電子放出装置は、いわゆるＦＥＤ（Field Emission Display）やＳＥＤ（Surface-conduction Electron-Emitter Display）装置を含む概念である。さらに、電気光学装置としては、金属配線形成、レンズ形成、レジスト形成および光拡散体形成等を包含する装置が考えられる。
【００２５】
本発明の電子機器は、上記した電気光学装置の製造方法により製造した電気光学装置または上記した電気光学装置を搭載したことを特徴とする。
【００２６】
この場合、電子機器としては、いわゆるフラットパネルディスプレイを搭載した携帯電話、パーソナルコンピュータのほか、各種の電気製品がこれに該当する。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】本発明の一実施形態に係る液滴吐出装置の平面模式図である。
【図２】液滴吐出装置に搭載した機能液滴吐出ヘッドの外観斜視図である。
【図３】液滴吐出装置の制御系について説明したブロック図である。
【図４】吐出パターンデータの補正処理を示すフローチャートである。
【図５】補正前の吐出パターンデータによる描画結果を模式的に表した図である。
【図６】多階調マトリクスデータの一例を示す図である。
【図７】２値化マトリクスデータの一例を示す図である。
【図８】補正後の吐出パターンデータによる描画結果を模式的に表した図である。
【図９】カラーフィルタ製造工程を説明するフローチャートである。
【図１０】（ａ）〜（ｅ）は、製造工程順に示したカラーフィルタの模式断面図である。
【図１１】本発明を適用したカラーフィルタを用いた液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。
【図１２】本発明を適用したカラーフィルタを用いた第２の例の液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。
【図１３】本発明を適用したカラーフィルタを用いた第３の例の液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。
【図１４】有機ＥＬ装置である表示装置の要部断面図である。
【図１５】有機ＥＬ装置である表示装置の製造工程を説明するフローチャートである。
【図１６】無機物バンク層の形成を説明する工程図である。
【図１７】有機物バンク層の形成を説明する工程図である。
【図１８】正孔注入／輸送層を形成する過程を説明する工程図である。
【図１９】正孔注入／輸送層が形成された状態を説明する工程図である。
【図２０】青色の発光層を形成する過程を説明する工程図である。
【図２１】青色の発光層が形成された状態を説明する工程図である。
【図２２】各色の発光層が形成された状態を説明する工程図である。
【図２３】陰極の形成を説明する工程図である。
【図２４】プラズマ型表示装置（ＰＤＰ装置）である表示装置の要部分解斜視図である。
【図２５】電子放出装置（ＦＥＤ装置）である表示装置の要部断面図である。
【図２６】表示装置の電子放出部廻りの平面図（ａ）およびその形成方法を示す平面図（ｂ）である。
【発明を実施するための形態】
【００２８】
以下、添付の図面を参照して、本発明に係る吐出パターンデータ補正方法により補正された吐出パターンデータに基づいて描画処理を行う液滴吐出装置の一実施形態について説明する。この液滴吐出装置は、フラットパネルディスプレイの製造ラインに組み込まれるものであり、インクジェットヘッドである機能液滴吐出ヘッドを用いた印刷技術（インクジェット方式）により、液晶表示装置のカラーフィルタや有機ＥＬ装置の各画素となる発光素子等を形成するものである。
【００２９】
図１に示すように、液滴吐出装置１は、機台２と、機台２上の全域に広く載置され、機能液滴吐出ヘッド１７を搭載した描画装置３と、機台２上で描画装置３に添設された保守装置４とを備え、保守装置４により機能液滴吐出ヘッド１７のメンテナンス処理（機能維持・回復）を行うと共に、描画装置３により基板Ｗ上に機能液を吐出させる描画動作を行うようにしている。さらに、この液滴吐出装置１には、各種データを入力する操作パネル５や、各部を統括制御するコントローラ６（図３参照）等が設置されている。
【００３０】
描画装置３は、Ｘ軸テーブル１２およびＸ軸テーブル１２に直交するＹ軸テーブル１３から成るＸＹ移動機構１１と、Ｙ軸テーブル１３に移動自在に取り付けられたキャリッジ１４と、キャリッジ１４に垂設したヘッドユニット１５とを有している。そして、ヘッドユニット１５には、機能液滴吐出ヘッド１７が装着されている。一方、基板Ｗは、Ｘ軸テーブル１２の端部に臨む一対の基板認識カメラ１８（図３参照）により、Ｘ軸テーブル１２に位置決めされた状態で搭載されている。なお、本実施形態では、単一の機能液滴吐出ヘッド１７を搭載しているが、その個数は任意である。
【００３１】
Ｘ軸テーブル１２は、機台２上に直接支持されており、Ｘ軸方向の駆動系を構成するモータ駆動のＸ軸スライダ２１と、吸着テーブル２３および基板θ軸テーブル２４等から成り、Ｘ軸スライダ２１に移動自在に搭載されたセットテーブル２２と、セットテーブル２２の刻々の移動位置を検出するＸ軸リニアスケール２５（図３参照）とを有している。
【００３２】
Ｙ軸テーブル１３は、機台２上に立設した左右の支柱２７に支持されてＸ軸テーブル１２と保守装置４とを跨ぐように延在しており、上記のキャリッジ１４を移動自在に搭載してＹ軸方向の駆動系を構成するモータ駆動のＹ軸スライダ２６と、キャリッジ１４の刻々の移動位置を検出するＹ軸リニアスケール２８（図３参照）とを有している。
【００３３】
そして、Ｙ軸テーブル１３は、これに搭載したヘッドユニット１５を、Ｘ軸テーブル１２の直上部に位置する描画エリア９１と、保守装置４の直上部に位置するメンテナンスエリア９２との相互間で、適宜移動させる。すなわち、Ｙ軸テーブル１３は、Ｘ軸テーブル１２に導入した基板Ｗに描画動作を行う場合には、ヘッドユニット１５を描画エリア９１に臨ませ、機能液滴吐出ヘッド１７のメンテナンス処理を行う場合には、ヘッドユニット１５をメンテナンスエリア９２に臨ませる。
【００３４】
また、キャリッジ１４は、垂設したヘッドユニット１５をモータ駆動で水平面内に微小量正逆回転（θ回転）させるヘッドθ軸テーブル３１と、ヘッドユニット１５をＺ軸方向（上下方向）にモータ駆動で微小移動させるヘッドＺ軸テーブル３２（図３参照）とを有している。
【００３５】
図２に示すように、機能液滴吐出ヘッド１７は、インクジェット方式で機能液を吐出するものであって、２連の接続針４２を有する機能液導入部４１と、機能液導入部４１の側方に連なる２連のヘッド基板４３と、機能液導入部４１の下方（同図では上方）に連なり、内部に機能液で満たされるヘッド内流路が形成されたヘッド本体４４とを備えている。接続針４２は、図示しない機能液パックに給液チューブを介して接続されており、機能液滴吐出ヘッド１７のヘッド内流路に機能液を供給する。
【００３６】
ヘッド本体４４は、ピエゾ素子等で構成されたポンプ部５１と、２本のノズル列５４を相互に平行に形成したノズル面５３を有するノズルプレート５２とを備えている。
各ノズル列５４は、複数のノズル５５（例えば１８０個）が等ピッチで並べられて構成されている。
【００３７】
各ノズル列５４は複数（例えば１８０個）のノズル５５が等ピッチ（例えば１４１μｍ）で並べられて構成されている。そして、両ノズル列５４は、互いにノズル列方向に半ピッチ（７０μｍ）分ずれている。すなわち、２本のノズル列５４によるノズルピッチが、７０μｍとなっている。
【００３８】
また、ヘッド基板４３には、２連のコネクタ５６が設けられており、各コネクタ５６はフレキシブルフラットケーブルにより後述するヘッドドライバ１１１（図７参照）に接続されている。そして、コントローラ６からヘッドドライバ１１１を介して各ポンプ部５１に駆動波形が印加され、各ノズル５５から機能液滴が吐出される。
【００３９】
各ノズル５５からの機能液吐出量は、駆動波形の印加電圧値を制御することで、例えば、大・中・小の３段階に調整することができる。なお、ヘッド内流路の構造等に起因して、各ノズル５５からの機能液の吐出量は、同電圧値の駆動波形を印加したとしても、複数のノズル５５間で均一でなく、ばらついている。
【００４０】
保守装置４は、メンテナンスエリア９２において、吸引ユニット６１と、吸引ユニット６１に対しＹ軸方向の描画エリア９１側に並ぶワイピングユニット６２とを備えている。吸引ユニット６１は、機能液滴吐出ヘッド１７のノズル５５から機能液を吸引する吸引処理を行い、ワイピングユニット６２は、機能液滴吐出ヘッド１７のノズル面５３をワイピングシート８１で払拭するワイピング処理を行う。
【００４１】
次に、図３を参照して、液滴吐出装置１全体の制御系について説明する。液滴吐出装置１の制御系は、基本的に、操作パネル５を有する入力部１０１と、基板認識カメラ１８を有して基板Ｗを画像認識する画像認識部１０２と、Ｘ軸リニアスケール２５およびＹ軸リニアスケール２８を有してセットテーブル２２およびキャリッジ１４の刻々の位置を検出する移動検出部１０３と、機能液滴吐出ヘッド１７、ＸＹ移動機構１１等を駆動する各種ドライバを有する駆動部１０４と、これら各部を含め液滴吐出装置１を統括制御する制御部１０５（コントローラ６）とを備えている。
【００４２】
駆動部１０４は、機能液滴吐出ヘッド１７を吐出駆動制御するヘッドドライバ１１１と、ＸＹ移動機構１１の各モータをそれぞれ駆動制御するモータドライバ１１２とを有している。ヘッドドライバ１１１は、制御部１０５の指示に従って所定の駆動波形を生成・印加して、機能液滴吐出ヘッド１７を吐出駆動制御する（詳細は後述する）。また、モータドライバ１１２は、Ｘ軸モータドライバ１１３、Ｙ軸モータドライバ１１４、基板θ軸モータドライバ１１５、ヘッドθ軸モータドライバ１１６およびヘッドＺ軸モータドライバ１１７を有し、これらは制御部１０５の指示に従って、Ｘ軸テーブル１２、Ｙ軸テーブル１３、基板θ軸テーブル２４、ヘッドθ軸テーブル３１およびヘッドＺ軸テーブル３２の各駆動モータを駆動制御する。
【００４３】
制御部１０５は、ＣＰＵ１２１と、ＲＯＭ１２２と、ＲＡＭ１２３と、Ｐ−ＣＯＮ１２４とを備え、これらは互いにバス１２５を介して接続されている。ＲＯＭ１２２は、ＣＰＵ１２１で処理する制御プログラム等を記憶する制御プログラム領域と、描画処理や画像認識を行うための制御データ等を記憶する制御データ領域とを有している。
【００４４】
ＲＡＭ１２３は、各種レジスタ群のほか、描画処理のための吐出パターンデータを記憶する描画データ領域、画像データを一時的に記憶する画像データ領域、基板Ｗや各キャリッジ１４を位置補正するための補正データを記憶する補正データ領域等を有し、制御処理のための各種作業領域として使用される。
【００４５】
Ｐ−ＣＯＮ１２４には、ＣＰＵ１２１の機能を補うと共に、周辺回路とのインタフェース信号を取り扱うための論理回路が構成されて組み込まれている。このため、Ｐ−ＣＯＮ１２４は、画像データや入力部１０１からの各種指令等をそのままあるいは加工してバス１２５に取り込むと共に、ＣＰＵ１２１と連動して、ＣＰＵ１２１等からバス１２５に出力されたデータや制御信号を、そのままあるいは加工して駆動部１０４に出力する。
【００４６】
そして、ＣＰＵ１２１は、ＲＯＭ１２２内の制御プログラムに従って、Ｐ−ＣＯＮ１２４を介して各種検出信号、各種指令、各種データ等を入力し、ＲＡＭ１２３内の各種データ等を処理した後、Ｐ−ＣＯＮ１２４を介して駆動部１０４等に各種の制御信号を出力することにより、液滴吐出装置１全体を制御している。
【００４７】
例えば、制御部１０５は、吐出パターンデータに基づいて、機能液滴吐出ヘッド１７の駆動を制御し、各ノズル５５から選択的に機能液滴を吐出させるようにしている。すなわち、まず、Ｘ軸リニアスケール２５およびＹ軸リニアスケール２８で検出される基板Ｗの位置およびヘッドユニット１５の位置に対応させて、順次吐出パターンデータを取り出す。取り出した吐出パターンデータは、機能液滴吐出ヘッド１７の駆動信号（駆動波形）に変換された後、機能液滴吐出ヘッド１７に送られる。そして、駆動信号に基づいて、機能液滴吐出ヘッド１７のポンプ部５１が駆動され、各ノズル５５から選択的に機能液滴が吐出されるようになっている。
【００４８】
このように構成された液滴吐出装置１は、保守装置４により機能液滴吐出ヘッド１７に対し適宜メンテナンス処理を行うと共に、描画装置３により基板Ｗに描画動作を行うようにしている。すなわち、描画装置３は、コントローラ６による制御を受けながら、基板ＷをＸ軸テーブル１２によりＸ軸方向に往動させると共に、これに同期して機能液滴吐出ヘッド１７を駆動させて、基板Ｗに対する主走査を行う。そして、Ｙ軸テーブル１３によりヘッドユニット１５をＹ軸方向に副走査させた後、基板ＷをＸ軸方向に復動させると共に、これに同期して機能液滴吐出ヘッド１７を駆動させて、再度主走査を行う。このような基板Ｗの往復動に伴う主走査およびヘッドユニット１５の副走査を複数回繰り返すことで、基板Ｗ（の描画領域Ｗｄ）の端から端まで機能液滴の吐出（描画）が行われる。
【００４９】
続いて、図４ないし図８を参照して、液滴吐出装置１において実行される吐出パターンデータの補正処理について詳細に説明する。図５は、補正前の吐出パターンデータによる描画結果を模式的に表した図であり、基板Ｗの描画領域Ｗｄの上下両端側の領域で濃く描画されている。上述したように、機能液滴吐出ヘッド１７の複数のノズル５５の機能液吐出量は均一でないため、補正前の吐出パターンデータにより各ノズル５５から機能液滴を吐出させたとしても、実際には、図示したように描画ムラが生じてしまう。そこで、以下の吐出パターンデータの補正を行うようになっている。
【００５０】
なお、図の符号Ｐは、制御部１０５により設定される、基板Ｗの描画領域Ｗｄをマトリクス状に区分した複数の仮想分割部位であり、各仮想分割部位Ｐは、基板Ｗに着弾した機能液滴の着弾径と略合致するサイズに設定されている。もっとも、各仮想分割部位Ｐの設定は任意であって、例えば、基板Ｗ上に形成された後述する各画素領域５０７ａ（図１０参照）を、各仮想分割部位Ｐとしてもよい。
【００５１】
まず、図示省略したが、液滴吐出装置１とは別に設けた吐出量測定装置により、機能液滴吐出ヘッド１７の各ノズル５５から吐出される単位ショット数当たりの機能液吐出量を測定する（図４のＳ１１）。吐出量測定装置は、測定に供される機能液滴吐出ヘッド１７を搭載すると共に、機能液滴吐出ヘッド１７を吐出駆動制御する吐出装置と、機能液滴吐出ヘッド１７から受け容器上に吐出された機能液滴の重量を計測する重量計測器と、重量計測器による計測結果を演算処理して、各ノズル５５から吐出される単位ショット数当たりの機能液吐出量を算出する演算装置とを備えたものである。この吐出量測定装置により得られた機能液吐出量の測定結果を、液滴吐出装置１の操作パネル５により入力する。
【００５２】
各画素領域５０７ａを各仮想分割部位Ｐとする場合には、上記の機能液吐出量の測定において、各仮想分割部位Ｐ（各画素領域５０７ａ）に対応する複数のノズル５５から成るノズル群から吐出される単位ショット数当たりの機能液吐出量を測定する。すなわち、各ノズル５５の機能液吐出量を重量計測し、その計測結果から各ノズル群の機能液吐出量を算出してもよく、ノズル群単位で機能液吐出量を重量計測してもよい。
【００５３】
なお、本実施形態では、液滴吐出装置１とは別に、測定用の吐出量測定装置を用いたが、液滴吐出装置１に重量計測器を設けるようにしてもよい。また、機能液滴の重量計測のほか、飛行中（ノズル５５より吐出されてからワークに着弾するまで）の機能液滴を撮像して、機能液滴の飛行速度や大きさを計測したり、所定の接触角を為すように表面処理された検査用ワークに着弾した機能液滴の着弾径を計測したりして、機能液吐出量を測定するようにしてもよい。
【００５４】
続いて、制御部１０５は、機能液吐出量の測定結果と、補正前の吐出パターンデータ（各仮想分割部位Ｐに対する機能液滴のショット数）とに基づいて、複数の仮想分割部位Ｐに対し、補正前の吐出パターンデータに基づいた描画処理により付与（投入）される機能液付与量を算出する（Ｓ１２）。ここでは、上下両端側の領域において機能液付与量が比較的「大」となる。
【００５５】
続いて、制御部１０５は、複数の仮想分割部位Ｐに対する機能液付与量をそれぞれ多階調表現したマトリクスデータを生成する（Ｓ１３、図６参照）。ここでは、機能液付与量を「０」（機能液付与量：大）〜「９」（機能液付与量：小）の１０段階で表現している。
【００５６】
次に、制御部１０５は、多階調マトリクスデータを２値化して２値化マトリクスデータを生成する（Ｓ１４、図７参照）。ここでは、遅延＆減衰フィルタとして例えばFloyd & Steinbergを用いた誤差拡散法により２値化（擬似階調処理）を行う。これにより、描画領域Ｗのうち、濃く描画される上下両端側の領域において、一部の仮想分割部位Ｐの２値化データが「０」となる。なお、一般的且つ容易なデータ処理として、誤差拡散法のほか、閾値法や組織的ディザ法を用いてもよい。もっとも、誤差拡散法を用いることで、大まかな領域になるほど見かけ上の階調を向上させることができるため、描画ムラをより認識させ難くすることができる。
【００５７】
最後に、制御部１０５は、２値化マトリクスデータの各２値化データが「０」、つまり機能液付与量「大」を表す各仮想分割部位Ｐに対する機能液付与量が減少するように、ＲＡＭ１２３に格納された吐出パターンデータを補正する（Ｓ１５）。すなわち、２値化データが「０」となった各仮想分割部位Ｐに対して、各ノズル５５からの機能液滴が不吐出となるように、吐出パターンデータを補正する。これにより、機能液付与量の多かった上下両端側の領域全体として、機能液付与量が減少され、基板Ｗ（描画領域Ｗｄ）全体として、描画ムラが解消されることになる。なお、ドット抜けを防止すべく、不吐出に代えて、通常の機能液滴よりも液量の小さい小液滴を吐出するように補正してもよい。すなわち、印加電圧値の小さい駆動信号を生成するようにしてもよい。
【００５８】
このようにして補正された吐出パターンデータに基づいて、液滴吐出装置１により描画処理を行うことで、いわば２値化データが「０」となった各仮想分割部位Ｐを間引くようにして、その他の各仮想分割部位Ｐに対して機能液滴の吐出・着弾を行うことができる。したがって、観察者が全体として描画ムラを認識し難い基板Ｗを提供することができる（図８参照）。
【００５９】
上記の例では、２値化処理についての説明を行ったが、階調処理は２値化に限定する必要はない。例えば、４値化処理（機能液付与量大：「０」〜機能液付与量小「３」）を行い、機能液付与量「大」側を表す各仮想分割部位Ｐに対する機能液付与量が段階的に減少するように、４値化データが「１」となった各仮想分割部位Ｐに対して、各ノズル５５から小液滴を吐出し、４値化データが「０」となった各仮想分割部位Ｐに対して、各ノズル５５からの機能液滴が不吐出となるように、データ補正を行ってもよい。さらに、１ショット当たりの機能液吐出量を大・中・小と打ち分けられる場合には、４値化データと１ショット当たりの機能液吐出量とを対応させてもよい。すなわち、４値化データが「３」の場合に大液滴を吐出し、「２」の場合に中液滴を吐出し、「１」の場合に小液滴を吐出し、「０」の場合に不吐出となるように、データ補正をする。
【００６０】
また、上述したように、各画素領域５０７ａを各仮想分割部位Ｐとしたような場合には、２値化データが「０」となった各仮想分割部位Ｐに対するショット数を減少させるようにする。例えば、補正前の吐出パターンデータが、その仮想分割部位Ｐに対し、５個のノズル５５から１０ショットずつ計５０ショットの機能液滴を吐出するものであったところ、それを、１のノズル５５を９ショットにして計４９ショットを吐出するように補正する。
【００６１】
なお、２値化マトリクスデータの各２値化データが機能液付与量「小」を表す各仮想分割部位Ｐに対する機能液付与量を増加させるように、吐出パターンデータを補正してもよく、かかる機能液付与量の増加および減少の双方が為されるように、吐出パターンデータを補正してもよい。
【００６２】
例えば、上記の例とは逆に、上下両端側の領域において機能液付与量が比較的「小」となっている場合に、上記の例とは反対に、「０」を機能液付与量「小」、「９」を機能液付与量「大」として機能液付与量を表現すれば、上記と同じ多階調マトリクスデータが得られる。そして、同様に２値化処理を行い、２値化マトリクスデータの各２値化データが「０」となった各仮想分割部位Ｐに対する機能液付与量を増加（通常の機能液滴よりも液量の大きい大液滴を吐出する等）させるように、吐出パターンデータを補正する。これにより、機能液付与量の少なかった上下両端側の領域全体として、機能液付与量が増加され、基板Ｗ全体として、描画ムラが解消されることになる。
【００６３】
さらに、本実施形態では、機能液吐出量の測定結果に基づいて、機能液付与量を算出したが、基板Ｗ上に形成した機能液による成膜部（例えば、後述する着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂ、図１０参照）の各仮想分割部位Ｐにおける光学濃度あるいは膜厚の測定結果に基づいて、機能液付与量を算出してもよい。
【００６４】
すなわち、予め、液滴吐出装置１により、補正前の吐出パターンデータに基づいて、描画処理を行い、基板Ｗ上に成膜部を形成する。描画処理後、基板Ｗを液滴吐出装置１から搬出し、図示しない光学濃度測定装置や膜厚測定装置により、光学濃度あるいは膜厚を測定する。そして、その測定結果に基づいて、機能液付与量を算出し、以下、上記と同様にして、吐出パターンデータを補正し、次回の描画処理を行う。
【００６５】
このようにすることで、実際の描画結果に基づいて、多階調マトリクスデータを的確に生成することができる。もっとも、本実施形態のように機能液吐出量を測定することで、描画処理を行うことなく、多階調マトリクスデータを生成することができ、第１回目のワークから、描画処理を適切に行うことができる。
【００６６】
なお、光学濃度測定装置としては、例えば、透過率計測器、吸光度計測器または反射率計測器により構成されたものを用いることができる。また、膜厚測定装置としては、例えば、光干渉式や触針式のものを用いることができる。もちろん、液滴吐出装置１に光学濃度測定装置や膜厚測定装置を設けるようにしてもよい。
【００６７】
以上のように、本実施形態の吐出パターン補正処理によれば、各仮想分割部位Ｐに対する機能液付量に基づく多階調マトリクスデータを２値化処理することで、補正した吐出パターンデータは、各仮想分割部位Ｐに対する機能液付与量を適切に増加および／または減少させるものとなる。このため、観察者が基板Ｗ全体として描画ムラを認識し難いように吐出パターンデータを補正することができる。
【００６８】
次に、本実施形態の液滴吐出装置１を用いて製造される電気光学装置（フラットパネルディスプレイ）として、カラーフィルタ、液晶表示装置、有機ＥＬ装置、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ装置）、電子放出装置（ＦＥＤ装置、ＳＥＤ装置）、さらにこれら表示装置に形成されてなるアクティブマトリクス基板等を例に、これらの構造およびその製造方法について説明する。なお、アクティブマトリクス基板とは、薄膜トランジスタ、および薄膜トランジスタに電気的に接続するソース線、データ線が形成された基板をいう。
【００６９】
まず、液晶表示装置や有機ＥＬ装置等に組み込まれるカラーフィルタの製造方法について説明する。図９は、カラーフィルタの製造工程を示すフローチャート、図１０は、製造工程順に示した本実施形態のカラーフィルタ５００（フィルタ基体５００Ａ）の模式断面図である。
まず、ブラックマトリクス形成工程（Ｓ１０１）では、図１０（ａ）に示すように、基板（Ｗ）５０１上にブラックマトリクス５０２を形成する。ブラックマトリクス５０２は、金属クロム、金属クロムと酸化クロムの積層体、または樹脂ブラック等により形成される。金属薄膜からなるブラックマトリクス５０２を形成するには、スパッタ法や蒸着法等を用いることができる。また、樹脂薄膜からなるブラックマトリクス５０２を形成する場合には、グラビア印刷法、フォトレジスト法、熱転写法等を用いることができる。
【００７０】
続いて、バンク形成工程（Ｓ１０２）において、ブラックマトリクス５０２上に重畳する状態でバンク５０３を形成する。即ち、まず図１０（ｂ）に示すように、基板５０１およびブラックマトリクス５０２を覆うようにネガ型の透明な感光性樹脂からなるレジスト層５０４を形成する。そして、その上面をマトリクスパターン形状に形成されたマスクフィルム５０５で被覆した状態で露光処理を行う。
さらに、図１０（ｃ）に示すように、レジスト層５０４の未露光部分をエッチング処理することによりレジスト層５０４をパターニングして、バンク５０３を形成する。なお、樹脂ブラックによりブラックマトリクスを形成する場合は、ブラックマトリクスとバンクとを兼用することが可能となる。
このバンク５０３とその下のブラックマトリクス５０２は、各画素領域５０７ａを区画する区画壁部５０７ｂとなり、後の着色層形成工程において機能液滴吐出ヘッド１７により着色層（成膜部）５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂを形成する際に機能液滴の着弾領域を規定する。
【００７１】
以上のブラックマトリクス形成工程およびバンク形成工程を経ることにより、上記フィルタ基体５００Ａが得られる。
なお、本実施形態においては、バンク５０３の材料として、塗膜表面が疎液（疎水）性となる樹脂材料を用いている。そして、基板（ガラス基板）５０１の表面が親液（親水）性であるので、後述する着色層形成工程においてバンク５０３（区画壁部５０７ｂ）に囲まれた各画素領域５０７ａ内への液滴の着弾位置のばらつきを自動補正できる。
【００７２】
次に、着色層形成工程（Ｓ１０３）では、図１０（ｄ）に示すように、機能液滴吐出ヘッド１７によって機能液滴を吐出して区画壁部５０７ｂで囲まれた各画素領域５０７ａ内に着弾させる。この場合、機能液滴吐出ヘッド１７を用いて、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の機能液（フィルタ材料）を導入して、機能液滴の吐出を行う。なお、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の配列パターンとしては、ストライプ配列、モザイク配列およびデルタ配列等がある。
【００７３】
その後、乾燥処理（加熱等の処理）を経て機能液を定着させ、３色の着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂを形成する。着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂを形成したならば、保護膜形成工程（Ｓ１０４）に移り、図１０（ｅ）に示すように、基板５０１、区画壁部５０７ｂ、および着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂの上面を覆うように保護膜５０９を形成する。
即ち、基板５０１の着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂが形成されている面全体に保護膜用塗布液が吐出された後、乾燥処理を経て保護膜５０９が形成される。
そして、保護膜５０９を形成した後、カラーフィルタ５００は、次工程の透明電極となるＩＴＯ（Indium Tin Oxide）などの膜付け工程に移行する。
【００７４】
図１１は、上記のカラーフィルタ５００を用いた液晶表示装置の一例としてのパッシブマトリックス型液晶装置（液晶装置）の概略構成を示す要部断面図である。この液晶装置５２０に、液晶駆動用ＩＣ、バックライト、支持体などの付帯要素を装着することによって、最終製品としての透過型液晶表示装置が得られる。なお、カラーフィルタ５００は図１０に示したものと同一であるので、対応する部位には同一の符号を付し、その説明は省略する。
【００７５】
この液晶装置５２０は、カラーフィルタ５００、ガラス基板等からなる対向基板５２１、および、これらの間に挟持されたＳＴＮ（Super Twisted Nematic）液晶組成物からなる液晶層５２２により概略構成されており、カラーフィルタ５００を図中上側（観測者側）に配置している。
なお、図示していないが、対向基板５２１およびカラーフィルタ５００の外面（液晶層５２２側とは反対側の面）には偏光板がそれぞれ配設され、また対向基板５２１側に位置する偏光板の外側には、バックライトが配設されている。
【００７６】
カラーフィルタ５００の保護膜５０９上（液晶層側）には、図１１において左右方向に長尺な短冊状の第１電極５２３が所定の間隔で複数形成されており、この第１電極５２３のカラーフィルタ５００側とは反対側の面を覆うように第１配向膜５２４が形成されている。
一方、対向基板５２１におけるカラーフィルタ５００と対向する面には、カラーフィルタ５００の第１電極５２３と直交する方向に長尺な短冊状の第２電極５２６が所定の間隔で複数形成され、この第２電極５２６の液晶層５２２側の面を覆うように第２配向膜５２７が形成されている。これらの第１電極５２３および第２電極５２６は、ＩＴＯなどの透明導電材料により形成されている。
【００７７】
液晶層５２２内に設けられたスペーサ５２８は、液晶層５２２の厚さ（セルギャップ）を一定に保持するための部材である。また、シール材５２９は液晶層５２２内の液晶組成物が外部へ漏出するのを防止するための部材である。なお、第１電極５２３の一端部は引き回し配線５２３ａとしてシール材５２９の外側まで延在している。
そして、第１電極５２３と第２電極５２６とが交差する部分が画素であり、この画素となる部分に、カラーフィルタ５００の着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂが位置するように構成されている。
【００７８】
通常の製造工程では、カラーフィルタ５００に、第１電極５２３のパターニングおよび第１配向膜５２４の塗布を行ってカラーフィルタ５００側の部分を作成すると共に、これとは別に対向基板５２１に、第２電極５２６のパターニングおよび第２配向膜５２７の塗布を行って対向基板５２１側の部分を作成する。その後、対向基板５２１側の部分にスペーサ５２８およびシール材５２９を作り込み、この状態でカラーフィルタ５００側の部分を貼り合わせる。次いで、シール材５２９の注入口から液晶層５２２を構成する液晶を注入し、注入口を閉止する。その後、両偏光板およびバックライトを積層する。
【００７９】
実施形態の液滴吐出装置１は、例えば上記のセルギャップを構成するスペーサ材料（機能液）を塗布すると共に、対向基板５２１側の部分にカラーフィルタ５００側の部分を貼り合わせる前に、シール材５２９で囲んだ領域に液晶（機能液）を均一に塗布することが可能である。また、上記のシール材５２９の印刷を、機能液滴吐出ヘッド１７で行うことも可能である。さらに、第１・第２両配向膜５２４，５２７の塗布を機能液滴吐出ヘッド１７で行うことも可能である。
【００８０】
図１２は、本実施形態において製造したカラーフィルタ５００を用いた液晶装置の第２の例の概略構成を示す要部断面図である。
この液晶装置５３０が上記液晶装置５２０と大きく異なる点は、カラーフィルタ５００を図中下側（観測者側とは反対側）に配置した点である。
この液晶装置５３０は、カラーフィルタ５００とガラス基板等からなる対向基板５３１との間にＳＴＮ液晶からなる液晶層５３２が挟持されて概略構成されている。なお、図示していないが、対向基板５３１およびカラーフィルタ５００の外面には偏光板等がそれぞれ配設されている。
【００８１】
カラーフィルタ５００の保護膜５０９上（液晶層５３２側）には、図中奥行き方向に長尺な短冊状の第１電極５３３が所定の間隔で複数形成されており、この第１電極５３３の液晶層５３２側の面を覆うように第１配向膜５３４が形成されている。
対向基板５３１のカラーフィルタ５００と対向する面上には、カラーフィルタ５００側の第１電極５３３と直交する方向に延在する複数の短冊状の第２電極５３６が所定の間隔で形成され、この第２電極５３６の液晶層５３２側の面を覆うように第２配向膜５３７が形成されている。
【００８２】
液晶層５３２には、この液晶層５３２の厚さを一定に保持するためのスペーサ５３８と、液晶層５３２内の液晶組成物が外部へ漏出するのを防止するためのシール材５３９が設けられている。
そして、上記した液晶装置５２０と同様に、第１電極５３３と第２電極５３６との交差する部分が画素であり、この画素となる部位に、カラーフィルタ５００の着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂが位置するように構成されている。
【００８３】
図１３は、本発明を適用したカラーフィルタ５００を用いて液晶装置を構成した第３の例を示したもので、透過型のＴＦＴ（Thin Film Transistor）型液晶装置の概略構成を示す分解斜視図である。
この液晶装置５５０は、カラーフィルタ５００を図中上側（観測者側）に配置したものである。
【００８４】
この液晶装置５５０は、カラーフィルタ５００と、これに対向するように配置された対向基板５５１と、これらの間に挟持された図示しない液晶層と、カラーフィルタ５００の上面側（観測者側）に配置された偏光板５５５と、対向基板５５１の下面側に配設された偏光板（図示せず）とにより概略構成されている。
カラーフィルタ５００の保護膜５０９の表面（対向基板５５１側の面）には液晶駆動用の電極５５６が形成されている。この電極５５６は、ＩＴＯ等の透明導電材料からなり、後述の画素電極５６０が形成される領域全体を覆う全面電極となっている。また、この電極５５６の画素電極５６０とは反対側の面を覆った状態で配向膜５５７が設けられている。
【００８５】
対向基板５５１のカラーフィルタ５００と対向する面には絶縁層５５８が形成されており、この絶縁層５５８上には、走査線５６１および信号線５６２が互いに直交する状態で形成されている。そして、これらの走査線５６１と信号線５６２とに囲まれた領域内には画素電極５６０が形成されている。なお、実際の液晶装置では、画素電極５６０上に配向膜が設けられるが、図示を省略している。
【００８６】
また、画素電極５６０の切欠部と走査線５６１と信号線５６２とに囲まれた部分には、ソース電極、ドレイン電極、半導体、およびゲート電極とを具備する薄膜トランジスタ５６３が組み込まれて構成されている。そして、走査線５６１と信号線５６２に対する信号の印加によって薄膜トランジスタ５６３をオン・オフして画素電極５６０への通電制御を行うことができるように構成されている。
【００８７】
なお、上記の各例の液晶装置５２０，５３０，５５０は、透過型の構成としたが、反射層あるいは半透過反射層を設けて、反射型の液晶装置あるいは半透過反射型の液晶装置とすることもできる。
【００８８】
次に、図１４は、有機ＥＬ装置の表示領域（以下、単に表示装置６００と称する）の要部断面図である。
【００８９】
この表示装置６００は、基板（Ｗ）６０１上に、回路素子部６０２、発光素子部６０３および陰極６０４が積層された状態で概略構成されている。
この表示装置６００においては、発光素子部６０３から基板６０１側に発した光が、回路素子部６０２および基板６０１を透過して観測者側に出射されると共に、発光素子部６０３から基板６０１の反対側に発した光が陰極６０４により反射された後、回路素子部６０２および基板６０１を透過して観測者側に出射されるようになっている。
【００９０】
回路素子部６０２と基板６０１との間にはシリコン酸化膜からなる下地保護膜６０６が形成され、この下地保護膜６０６上（発光素子部６０３側）に多結晶シリコンからなる島状の半導体膜６０７が形成されている。この半導体膜６０７の左右の領域には、ソース領域６０７ａおよびドレイン領域６０７ｂが高濃度陽イオン打ち込みによりそれぞれ形成されている。そして陽イオンが打ち込まれない中央部がチャネル領域６０７ｃとなっている。
【００９１】
また、回路素子部６０２には、下地保護膜６０６および半導体膜６０７を覆う透明なゲート絶縁膜６０８が形成され、このゲート絶縁膜６０８上の半導体膜６０７のチャネル領域６０７ｃに対応する位置には、例えばＡｌ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｗ等から構成されるゲート電極６０９が形成されている。このゲート電極６０９およびゲート絶縁膜６０８上には、透明な第１層間絶縁膜６１１ａと第２層間絶縁膜６１１ｂが形成されている。また、第１、第２層間絶縁膜６１１ａ、６１１ｂを貫通して、半導体膜６０７のソース領域６０７ａ、ドレイン領域６０７ｂにそれぞれ連通するコンタクトホール６１２ａ，６１２ｂが形成されている。
【００９２】
そして、第２層間絶縁膜６１１ｂ上には、ＩＴＯ等からなる透明な画素電極６１３が所定の形状にパターニングされて形成され、この画素電極６１３は、コンタクトホール６１２ａを通じてソース領域６０７ａに接続されている。
また、第１層間絶縁膜６１１ａ上には電源線６１４が配設されており、この電源線６１４は、コンタクトホール６１２ｂを通じてドレイン領域６０７ｂに接続されている。
【００９３】
このように、回路素子部６０２には、各画素電極６１３に接続された駆動用の薄膜トランジスタ６１５がそれぞれ形成されている。
【００９４】
上記発光素子部６０３は、複数の画素電極６１３上の各々に積層された機能層６１７と、各画素電極６１３および機能層６１７の間に備えられて各機能層６１７を区画するバンク部６１８とにより概略構成されている。
これら画素電極６１３、機能層６１７、および、機能層６１７上に配設された陰極６０４によって発光素子が構成されている。なお、画素電極６１３は、平面視略矩形状にパターニングされて形成されており、各画素電極６１３の間にバンク部６１８が形成されている。
【００９５】
バンク部６１８は、例えばＳｉＯ、ＳｉＯ2、ＴｉＯ2等の無機材料により形成される無機物バンク層６１８ａ（第１バンク層）と、この無機物バンク層６１８ａ上に積層され、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂等の耐熱性、耐溶媒性に優れたレジストにより形成される断面台形状の有機物バンク層６１８ｂ（第２バンク層）とにより構成されている。このバンク部６１８の一部は、画素電極６１３の周縁部上に乗上げた状態で形成されている。
そして、各バンク部６１８の間には、画素電極６１３に対して上方に向けて次第に拡開した開口部６１９が形成されている。
【００９６】
上記機能層６１７は、開口部６１９内において画素電極６１３上に積層状態で形成された正孔注入／輸送層６１７ａと、この正孔注入／輸送層６１７ａ上に形成された発光層６１７ｂとにより構成されている。なお、この発光層６１７ｂに隣接してその他の機能を有する他の機能層をさらに形成しても良い。例えば、電子輸送層を形成することも可能である。
正孔注入／輸送層６１７ａは、画素電極６１３側から正孔を輸送して発光層６１７ｂに注入する機能を有する。この正孔注入／輸送層６１７ａは、正孔注入／輸送層形成材料を含む第１組成物（機能液）を吐出することで形成される。正孔注入／輸送層形成材料としては、公知の材料を用いる。
【００９７】
発光層６１７ｂは、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、または青色（Ｂ）のいずれかに発光するもので、発光層形成材料（発光材料）を含む第２組成物（機能液）を吐出することで形成される。第２組成物の溶媒（非極性溶媒）としては、正孔注入／輸送層６１７ａに対して不溶な公知の材料を用いることが好ましく、このような非極性溶媒を発光層６１７ｂの第２組成物に用いることにより、正孔注入／輸送層６１７ａを再溶解させることなく発光層６１７ｂを形成することができる。
【００９８】
そして、発光層６１７ｂでは、正孔注入／輸送層６１７ａから注入された正孔と、陰極６０４から注入される電子が発光層で再結合して発光するように構成されている。
【００９９】
陰極６０４は、発光素子部６０３の全面を覆う状態で形成されており、画素電極６１３と対になって機能層６１７に電流を流す役割を果たす。なお、この陰極６０４の上部には図示しない封止部材が配置される。
【０１００】
次に、上記の表示装置６００の製造工程を図１５〜図２３を参照して説明する。
この表示装置６００は、図１５に示すように、バンク部形成工程（Ｓ１１１）、表面処理工程（Ｓ１１２）、正孔注入／輸送層形成工程（Ｓ１１３）、発光層形成工程（Ｓ１１４）、および対向電極形成工程（Ｓ１１５）を経て製造される。なお、製造工程は例示するものに限られるものではなく必要に応じてその他の工程が除かれる場合、また追加される場合もある。
【０１０１】
まず、バンク部形成工程（Ｓ１１１）では、図１６に示すように、第２層間絶縁膜６１１ｂ上に無機物バンク層６１８ａを形成する。この無機物バンク層６１８ａは、形成位置に無機物膜を形成した後、この無機物膜をフォトリソグラフィ技術等によりパターニングすることにより形成される。このとき、無機物バンク層６１８ａの一部は画素電極６１３の周縁部と重なるように形成される。
無機物バンク層６１８ａを形成したならば、図１７に示すように、無機物バンク層６１８ａ上に有機物バンク層６１８ｂを形成する。この有機物バンク層６１８ｂも無機物バンク層６１８ａと同様にフォトリソグラフィ技術等によりパターニングして形成される。
このようにしてバンク部６１８が形成される。また、これに伴い、各バンク部６１８間には、画素電極６１３に対して上方に開口した開口部６１９が形成される。この開口部６１９は、画素領域を規定する。
【０１０２】
表面処理工程（Ｓ１１２）では、親液化処理および撥液化処理が行われる。親液化処理を施す領域は、無機物バンク層６１８ａの第１積層部６１８ａａおよび画素電極６１３の電極面６１３ａであり、これらの領域は、例えば酸素を処理ガスとするプラズマ処理によって親液性に表面処理される。このプラズマ処理は、画素電極６１３であるＩＴＯの洗浄等も兼ねている。
また、撥液化処理は、有機物バンク層６１８ｂの壁面６１８ｓおよび有機物バンク層６１８ｂの上面６１８ｔに施され、例えば四フッ化メタンを処理ガスとするプラズマ処理によって表面がフッ化処理（撥液性に処理）される。
この表面処理工程を行うことにより、機能液滴吐出ヘッド１７を用いて機能層６１７を形成する際に、機能液滴を画素領域に、より確実に着弾させることができ、また、画素領域に着弾した機能液滴が開口部６１９から溢れ出るのを防止することが可能となる。
【０１０３】
そして、以上の工程を経ることにより、表示装置基体６００Ａが得られる。この表示装置基体６００Ａは、図２に示した液滴吐出装置１のセットテーブル２２に載置され、以下の正孔注入／輸送層形成工程（Ｓ１１３）および発光層形成工程（Ｓ１１４）が行われる。
【０１０４】
図１８に示すように、正孔注入／輸送層形成工程（Ｓ１１３）では、機能液滴吐出ヘッド１７から正孔注入／輸送層形成材料を含む第１組成物を画素領域である各開口部６１９内に吐出する。その後、図１９に示すように、乾燥処理および熱処理を行い、第１組成物に含まれる極性溶媒を蒸発させ、画素電極（電極面６１３ａ）６１３上に正孔注入／輸送層６１７ａを形成する。
【０１０５】
次に発光層形成工程（Ｓ１１４）について説明する。この発光層形成工程では、上述したように、正孔注入／輸送層６１７ａの再溶解を防止するために、発光層形成の際に用いる第２組成物の溶媒として、正孔注入／輸送層６１７ａに対して不溶な非極性溶媒を用いる。
しかしその一方で、正孔注入／輸送層６１７ａは、非極性溶媒に対する親和性が低いため、非極性溶媒を含む第２組成物を正孔注入／輸送層６１７ａ上に吐出しても、正孔注入／輸送層６１７ａと発光層６１７ｂとを密着させることができなくなるか、あるいは発光層６１７ｂを均一に塗布できない虞がある。
そこで、非極性溶媒並びに発光層形成材料に対する正孔注入／輸送層６１７ａの表面の親和性を高めるために、発光層形成の前に表面処理（表面改質処理）を行うことが好ましい。この表面処理は、発光層形成の際に用いる第２組成物の非極性溶媒と同一溶媒またはこれに類する溶媒である表面改質材を、正孔注入／輸送層６１７ａ上に塗布し、これを乾燥させることにより行う。
このような処理を施すことで、正孔注入／輸送層６１７ａの表面が非極性溶媒になじみやすくなり、この後の工程で、発光層形成材料を含む第２組成物を正孔注入／輸送層６１７ａに均一に塗布することができる。
【０１０６】
そして次に、図２０に示すように、各色のうちのいずれか（図２０の例では青色（Ｂ））に対応する発光層形成材料を含有する第２組成物を機能液滴として画素領域（開口部６１９）内に所定量打ち込む。画素領域内に打ち込まれた第２組成物は、正孔注入／輸送層６１７ａ上に広がって開口部６１９内に満たされる。なお、万一、第２組成物が画素領域から外れてバンク部６１８の上面６１８ｔ上に着弾した場合でも、この上面６１８ｔは、上述したように撥液処理が施されているので、第２組成物が開口部６１９内に転がり込み易くなっている。
【０１０７】
その後、乾燥工程等を行うことにより、吐出後の第２組成物を乾燥処理し、第２組成物に含まれる非極性溶媒を蒸発させ、図２１に示すように、正孔注入／輸送層６１７ａ上に発光層６１７ｂが形成される。この図の場合、青色（Ｂ）に対応する発光層６１７ｂが形成されている。
【０１０８】
同様に、機能液滴吐出ヘッド１７を用い、図２２に示すように、上記した青色（Ｂ）に対応する発光層６１７ｂの場合と同様の工程を順次行い、他の色（赤色（Ｒ）および緑色（Ｇ））に対応する発光層６１７ｂを形成する。なお、発光層６１７ｂの形成順序は、例示した順序に限られるものではなく、どのような順番で形成しても良い。例えば、発光層形成材料に応じて形成する順番を決めることも可能である。また、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の配列パターンとしては、ストライプ配列、モザイク配列およびデルタ配列等がある。
【０１０９】
以上のようにして、画素電極６１３上に機能層６１７、即ち、正孔注入／輸送層６１７ａおよび発光層６１７ｂが形成される。そして、対向電極形成工程（Ｓ１１５）に移行する。
【０１１０】
対向電極形成工程（Ｓ１１５）では、図２３に示すように、発光層６１７ｂおよび有機物バンク層６１８ｂの全面に陰極６０４（対向電極）を、例えば蒸着法、スパッタ法、ＣＶＤ法等によって形成する。この陰極６０４は、本実施形態においては、例えば、カルシウム層とアルミニウム層とが積層されて構成されている。
この陰極６０４の上部には、電極としてのＡｌ膜、Ａｇ膜や、その酸化防止のためのＳｉＯ2、ＳｉＮ等の保護層が適宜設けられる。
【０１１１】
このようにして陰極６０４を形成した後、この陰極６０４の上部を封止部材により封止する封止処理や配線処理等のその他処理等を施すことにより、表示装置６００が得られる。
【０１１２】
次に、図２４は、プラズマ型表示装置（ＰＤＰ装置：以下、単に表示装置７００と称する）の要部分解斜視図である。なお、同図では表示装置７００を、その一部を切り欠いた状態で示してある。
この表示装置７００は、互いに対向して配置された第１基板７０１、第２基板７０２、およびこれらの間に形成される放電表示部７０３を含んで概略構成される。放電表示部７０３は、複数の放電室７０５により構成されている。これらの複数の放電室７０５のうち、赤色放電室７０５Ｒ、緑色放電室７０５Ｇ、青色放電室７０５Ｂの３つの放電室７０５が組になって１つの画素を構成するように配置されている。
【０１１３】
第１基板７０１の上面には所定の間隔で縞状にアドレス電極７０６が形成され、このアドレス電極７０６と第１基板７０１の上面とを覆うように誘電体層７０７が形成されている。誘電体層７０７上には、各アドレス電極７０６の間に位置し、且つ各アドレス電極７０６に沿うように隔壁７０８が立設されている。この隔壁７０８は、図示するようにアドレス電極７０６の幅方向両側に延在するものと、アドレス電極７０６と直交する方向に延設された図示しないものを含む。
そして、この隔壁７０８によって仕切られた領域が放電室７０５となっている。
【０１１４】
放電室７０５内には蛍光体７０９が配置されている。蛍光体７０９は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のいずれかの色の蛍光を発光するもので、赤色放電室７０５Ｒの底部には赤色蛍光体７０９Ｒが、緑色放電室７０５Ｇの底部には緑色蛍光体７０９Ｇが、青色放電室７０５Ｂの底部には青色蛍光体７０９Ｂが各々配置されている。
【０１１５】
第２基板７０２の図中下側の面には、上記アドレス電極７０６と直交する方向に複数の表示電極７１１が所定の間隔で縞状に形成されている。そして、これらを覆うように誘電体層７１２、およびＭｇＯなどからなる保護膜７１３が形成されている。
第１基板７０１と第２基板７０２とは、アドレス電極７０６と表示電極７１１が互いに直交する状態で対向させて貼り合わされている。なお、上記アドレス電極７０６と表示電極７１１は図示しない交流電源に接続されている。
そして、各電極７０６，７１１に通電することにより、放電表示部７０３において蛍光体７０９が励起発光し、カラー表示が可能となる。
【０１１６】
本実施形態においては、上記アドレス電極７０６、表示電極７１１、および蛍光体７０９を、図２に示した液滴吐出装置１を用いて形成することができる。以下、第１基板７０１におけるアドレス電極７０６の形成工程を例示する。
この場合、第１基板７０１を液滴吐出装置１のセットテーブル２２に載置された状態で以下の工程が行われる。
まず、機能液滴吐出ヘッド１７により、導電膜配線形成用材料を含有する液体材料（機能液）を機能液滴としてアドレス電極形成領域に着弾させる。この液体材料は、導電膜配線形成用材料として、金属等の導電性微粒子を分散媒に分散したものである。この導電性微粒子としては、金、銀、銅、パラジウム、またはニッケル等を含有する金属微粒子や、導電性ポリマー等が用いられる。
【０１１７】
補充対象となるすべてのアドレス電極形成領域について液体材料の補充が終了したならば、吐出後の液体材料を乾燥処理し、液体材料に含まれる分散媒を蒸発させることによりアドレス電極７０６が形成される。
【０１１８】
ところで、上記においてはアドレス電極７０６の形成を例示したが、上記表示電極７１１および蛍光体７０９についても上記各工程を経ることにより形成することができる。
表示電極７１１の形成の場合、アドレス電極７０６の場合と同様に、導電膜配線形成用材料を含有する液体材料（機能液）を機能液滴として表示電極形成領域に着弾させる。
また、蛍光体７０９の形成の場合には、各色（Ｒ，Ｇ，Ｂ）に対応する蛍光材料を含んだ液体材料（機能液）を機能液滴吐出ヘッド１７から液滴として吐出し、対応する色の放電室７０５内に着弾させる。
【０１１９】
次に、図２５は、電子放出装置（ＦＥＤ装置あるいはＳＥＤ装置ともいう：以下、単に表示装置８００と称する）の要部断面図である。なお、同図では表示装置８００を、その一部を断面として示してある。
この表示装置８００は、互いに対向して配置された第１基板８０１、第２基板８０２、およびこれらの間に形成される電界放出表示部８０３を含んで概略構成される。電界放出表示部８０３は、マトリクス状に配置した複数の電子放出部８０５により構成されている。
【０１２０】
第１基板８０１の上面には、カソード電極８０６を構成する第１素子電極８０６ａおよび第２素子電極８０６ｂが相互に直交するように形成されている。また、第１素子電極８０６ａおよび第２素子電極８０６ｂで仕切られた部分には、ギャップ８０８を形成した導電性膜８０７が形成されている。すなわち、第１素子電極８０６ａ、第２素子電極８０６ｂおよび導電性膜８０７により複数の電子放出部８０５が構成されている。導電性膜８０７は、例えば酸化パラジウム（ＰｄＯ）等で構成され、またギャップ８０８は、導電性膜８０７を成膜した後、フォーミング等で形成される。
【０１２１】
第２基板８０２の下面には、カソード電極８０６に対峙するアノード電極８０９が形成されている。アノード電極８０９の下面には、格子状のバンク部８１１が形成され、このバンク部８１１で囲まれた下向きの各開口部８１２に、電子放出部８０５に対応するように蛍光体８１３が配置されている。蛍光体８１３は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のいずれかの色の蛍光を発光するもので、各開口部８１２には、赤色蛍光体８１３Ｒ、緑色蛍光体８１３Ｇおよび青色蛍光体８１３Ｂが、上記した所定のパターンで配置されている。
【０１２２】
そして、このように構成した第１基板８０１と第２基板８０２とは、微小な間隙を存して貼り合わされている。この表示装置８００では、導電性膜（ギャップ８０８）８０７を介して、陰極である第１素子電極８０６ａまたは第２素子電極８０６ｂから飛び出す電子を、陽極であるアノード電極８０９に形成した蛍光体８１３に当てて励起発光し、カラー表示が可能となる。
【０１２３】
この場合も、他の実施形態と同様に、第１素子電極８０６ａ、第２素子電極８０６ｂ、導電性膜８０７およびアノード電極８０９を、液滴吐出装置１を用いて形成することができると共に、各色の蛍光体８１３Ｒ，８１３Ｇ，８１３Ｂを、液滴吐出装置１を用いて形成することができる。
【０１２４】
第１素子電極８０６ａ、第２素子電極８０６ｂおよび導電性膜８０７は、図２６（ａ）に示す平面形状を有しており、これらを成膜する場合には、図２６（ｂ）に示すように、予め第１素子電極８０６ａ、第２素子電極８０６ｂおよび導電性膜８０７を作り込む部分を残して、バンク部ＢＢを形成（フォトリソグラフィ法）する。次に、バンク部ＢＢにより構成された溝部分に、第１素子電極８０６ａおよび第２素子電極８０６ｂを形成（液滴吐出装置１によるインクジェット法）し、その溶剤を乾燥させて成膜を行った後、導電性膜８０７を形成（液滴吐出装置１によるインクジェット法）する。そして、導電性膜８０７を成膜後、バンク部ＢＢを取り除き（アッシング剥離処理）、上記のフォーミング処理に移行する。なお、上記の有機ＥＬ装置の場合と同様に、第１基板８０１および第２基板８０２に対する親液化処理や、バンク部８１１，ＢＢに対する撥液化処理を行うことが、好ましい。
【０１２５】
また、他の電気光学装置としては、金属配線形成、レンズ形成、レジスト形成および光拡散体形成等の装置が考えられる。上記した液滴吐出装置１を各種の電気光学装置（デバイス）の製造に用いることにより、各種の電気光学装置を効率的に製造することが可能である。
【符号の説明】
【０１２６】
１…液滴吐出装置  １１…ＸＹ移送機構  １７…機能液滴吐出ヘッド  ５５…ノズル  １０５…制御部  １１１…ヘッドドライバ  Ｐ…仮想分割部位  Ｗ…基板  Ｗｄ…描画領域
【図１】
2010115650.tif 000003
【図２】
2010115650.tif 000004
【図３】
2010115650.tif 000005
【図４】
2010115650.tif 000006
【図５】
2010115650.tif 000007
【図６】
2010115650.tif 000008
【図７】
2010115650.tif 000009
【図８】
2010115650.tif 000010
【図９】
2010115650.tif 000011
【図１０】
2010115650.tif 000012
【図１１】
2010115650.tif 000013
【図１２】
2010115650.tif 000014
【図１３】
2010115650.tif 000015
【図１４】
2010115650.tif 000016
【図１５】
2010115650.tif 000017
【図１６】
2010115650.tif 000018
【図１７】
2010115650.tif 000019
【図１８】
2010115650.tif 000020
【図１９】
2010115650.tif 000021
【図２０】
2010115650.tif 000022
【図２１】
2010115650.tif 000023
【図２２】
2010115650.tif 000024
【図２３】
2010115650.tif 000025
【図２４】
2010115650.tif 000026
【図２５】
2010115650.tif 000027
【図２６】
2010115650.tif 000028
【手続補正書】
【提出日】平成22年1月22日(2010.1.22)
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、ワークに対し、インクジェットヘッドに代表される機能液滴吐出ヘッドの複数のノズルから機能液滴をそれぞれ選択的に吐出する描画処理を行うための吐出パターンデータを補正する吐出パターンデータ補正方法に関するものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明は、観察者がワーク全体として描画ムラを認識し難いように吐出パターンデータを補正することができる吐出パターンデータ補正方法を提供することを目的とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明の吐出パターンデータ補正方法は、ワークに対し、機能液滴吐出ヘッドを第１の方向に移動させながら、吐出パターンデータにより機能液滴吐出ヘッドの複数のノズルから機能液滴をそれぞれ選択的に吐出・着弾させる描画処理に際して、描画ムラを解消するために吐出パターンデータを補正する吐出パターンデータ補正方法であって、ワーク上の描画領域をマトリクス状に区分した複数の仮想分割部位に対し、描画処理により付与される機能液付与量をそれぞれ算出する算出工程と、複数の仮想分割部位に対する機能液付与量をそれぞれ多階調表現したマトリクスデータを生成するデータ生成工程と、マトリクスデータをｎ値化してｎ値化マトリクスデータを生成する階調処理工程と、前記ワークの前記第１の方向と平行な端部に対応する前記各仮想分割部位であって、当該各仮想分割部位に対応する前記ｎ値化マトリクスデータの各ｎ値化データによって、前記ノズルからの前記機能液付与量が減少するように、吐出パターンデータを補正するデータ補正工程と、を備えたことを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
この構成によれば、各仮想分割部位に対する機能液付量に基づくマトリクスデータをｎ値化処理することで、補正した吐出パターンデータは、各仮想分割部位に対する機能液付与量を適切に増加および／または減少させるものとなる。例えば、機能液付与量を「０」（機能液付与量：大）から「９」（機能液付与量：小）の１０段階で表現してマトリクスデータを作成し、２値化処理を行うと、機能液付与量の多い領域において、一部の仮想分割部位の２値化データが「０」となる。そして、その仮想分割部位に対する機能液付与量を減少させるため、機能液付与量の多い領域全体として機能液付与量が減少され、ワーク全体として、描画ムラが解消されることになる。このため、観察者がワーク全体として描画ムラを認識し難いように吐出パターンデータを補正することができる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２４】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ワークに対し、機能液滴吐出ヘッドを第１の方向に移動させながら、吐出パターンデータにより前記機能液滴吐出ヘッドの複数のノズルから機能液滴をそれぞれ選択的に吐出・着弾させる描画処理に際して、描画ムラを解消するために前記吐出パターンデータを補正する吐出パターンデータ補正方法であって、
前記ワーク上の描画領域をマトリクス状に区分した複数の仮想分割部位に対し、前記描画処理により付与される機能液付与量をそれぞれ算出する算出工程と、
前記複数の仮想分割部位に対する機能液付与量をそれぞれ多階調表現したマトリクスデータを生成するデータ生成工程と、
前記マトリクスデータをｎ値化（ｎ≧２）してｎ値化マトリクスデータを生成する階調処理工程と、
前記ワークの前記第１の方向と平行な端部に対応する前記各仮想分割部位であって、当該各仮想分割部位に対応する前記ｎ値化マトリクスデータの各ｎ値化データによって、前記ノズルからの前記機能液付与量が減少するように、前記吐出パターンデータを補正するデータ補正工程と、
を備えたことを特徴とする吐出パターンデータ補正方法。