(57)【要約】【課題】光ファイバに対して安定的に圧力を付与し、光ファイバを通過する光の偏光状態の経時的変動を抑える。【解決手段】偏光コントローラ１０００は、回転部１０２０の平面部１０２１とブロック１０３０の平面部１０３２とを光ファイバ２０００に当接させ、調整ネジ１１００によって回転部１０２０とブロック１０３０とを相対的に移動させることにより、平面部１０２１と平面部１０３２との間隔を変更して光ファイバ２０００に圧力を印加する。更に、偏光コントローラ１０００は、サブファイバ３０００を有している。サブファイバ３０００は、平面部１０２１と平面部１０３２との間に配置され、光ファイバ２０００と略等しい径を有する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
光ファイバに対して圧力を印加する圧力印加部を有し、前記印加される圧力により前記光ファイバを通過する光の偏光状態を変化させる偏光コントローラであって、
前記圧力印加部は、
前記光ファイバの径方向の対向位置に設けられ、前記光ファイバの側面に当接される平面部をそれぞれ有する一対の当接部材と、
前記一対の平面部の間に配置され、前記光ファイバの径と略等しい厚さを有する部材と、
前記一対の平面部の間隔を変更するように前記一対の当接部材を相対的に移動させて前記圧力を印加する移動機構と、
を備える、
ことを特徴とする偏光コントローラ。
【請求項２】
前記光ファイバの軸方向を回転軸として前記圧力印加部を回転させる回転機構を更に備える、
ことを特徴とする請求項１に記載の偏光コントローラ。
【請求項３】
前記圧力印加部は、前記移動機構により相対的に移動される前記一対の当接部材の位置を固定する固定機構を更に備える、
ことを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の偏光コントローラ。
【請求項４】
前記部材は、前記光ファイバと略等しい径を有する線状部材を含む、
ことを特徴とする請求項１〜請求項３のいずれか一項に記載の偏光コントローラ。
【請求項５】
前記線状部材は、前記光ファイバと同じ形態の光ファイバである、
ことを特徴とする請求項４に記載の偏光コントローラ。
【請求項６】
前記圧力印加部は、前記線状部材を保持する保持部を更に備える、
ことを特徴とする請求項４又は請求項５に記載の偏光コントローラ。
【請求項７】
前記部材は、前記一対の平面部における前記光ファイバの配置位置以外の場所に設けられ、前記光ファイバと略等しい厚さを有する膜状部材を含む、
ことを特徴とする請求項１〜請求項３のいずれか一項に記載の偏光コントローラ。
【請求項８】
第１の光ファイバを含む第１の導光路と、第２の光ファイバを含む第２の導光路と、前記第１の光ファイバ及び／又は前記第２の光ファイバに対して圧力を印加して当該光ファイバを通過する光の偏光状態を変化させる偏光コントローラとを有し、前記第１の導光路により導かれた光と前記第２の導光路により導かれた光とを重畳させて干渉光を生成する干渉計であって、
前記偏光コントローラは、
前記光ファイバの径方向の対向位置に設けられ、前記光ファイバの側面に当接される平面部をそれぞれ有する一対の当接部材と、
前記一対の平面部の間に配置され、前記光ファイバの径と略等しい厚さを有する部材と、
前記一対の平面部の間隔を変更するように前記一対の当接部材を相対的に移動させて前記圧力を印加する移動機構と、
を備える、
ことを特徴とする干渉計。
【請求項９】
低コヒーレンス光を出力する光源と、
前記出力された低コヒーレンス光を信号光と参照光とに分割する分割手段と、
第１の光ファイバを含み、前記信号光を導光して被測定物体に照射し、前記被測定物体を経由した前記信号光を導光する第１の導光路と、
第２の光ファイバを含み、前記参照光を導光して参照物体に照射し、前記参照物体を経由した前記参照光を導光する第２の導光路と、
前記第１の光ファイバ及び／又は前記第２の光ファイバに対して圧力を印加して当該光ファイバを通過する光の偏光状態を変化させる偏光コントローラと、
前記被測定物体を経由して前記第１の導光路により導かれた前記信号光と、前記参照物体を経由して前記第２の導光路により導かれた前記参照光とを重畳させて干渉光を生成する重畳手段と、
前記生成された干渉光を検出して検出信号を生成する検出手段と、
前記生成された検出信号に基づいて前記被測定物体の断層像を形成する画像形成手段と、
を有する光画像計測装置であって、
前記偏光コントローラは、
前記光ファイバの径方向の対向位置に設けられ、前記光ファイバの側面に当接される平面部をそれぞれ有する一対の当接部材と、
前記一対の平面部の間に配置され、前記光ファイバの径と略等しい厚さを有する部材と、
前記一対の平面部の間隔を変更するように前記一対の当接部材を相対的に移動させて前記圧力を印加する移動機構と、
を備える、
ことを特徴とする光画像計測装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、偏光コントローラ、干渉計及び光画像計測装置に関する。この発明に係る偏光コントローラは、光ファイバに圧力を加えて圧縮することにより、この光ファイバを通過する光の偏光状態を変化させるものである。また、この発明に係る干渉計は、この偏光コントローラが適用されたものである。また、この発明に係る光画像計測装置は、この干渉計が適用されたものであり、光ビームを用いて被測定物体の断層像を形成するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、レーザ光源等からの光ビームを用いて被測定物体の表面形態や内部形態を表す画像を形成する光画像計測技術が注目を集めている。光画像計測技術は、Ｘ線ＣＴ装置のような人体に対する侵襲性を持たないことから、特に医療分野や生物学分野における応用の展開が期待されている。
【０００３】
特許文献１には、光画像計測技術を適用した装置が開示されている。この装置は、測定腕が回転式転向鏡（ガルバノミラー）により物体を走査し、参照腕に参照ミラーが設置されており、その出口に計測腕及び参照腕からの光束の干渉光の強度を分光器で分析する干渉器が設けられている。更に、参照腕は、参照光光束位相を不連続な値で段階的に変えるように構成されている。
【０００４】
特許文献１の装置は、いわゆる「フーリエドメインＯＣＴ（Ｆｏｕｒｉｅｒ  Ｄｏｍａｉｎ  Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｃｏｈｅｒｅｎｃｅ  Ｔｏｍｏｇｒａｐｈｙ）」の手法を用いるものである。すなわち、被測定物体に対して低コヒーレンス光のビームを照射し、その反射光と参照光とを重ね合わせて干渉光を生成し、この干渉光のスペクトル強度分布を取得してフーリエ変換を施すことにより被測定物体の深度方向（ｚ方向）の形態を画像化するものである。なお、このタイプの手法は、スペクトラルドメイン（Ｓｐｅｃｔｒａｌ  Ｄｏｍａｉｎ）とも呼ばれる。
【０００５】
更に、特許文献１に記載の装置は、光ビーム（信号光）を走査するガルバノミラーを備え、それにより被測定物体の所望の測定対象領域の画像を形成するようになっている。この装置においては、ｚ方向に直交する１方向（ｘ方向）にのみ光ビームを走査するように構成されているので、この装置により形成される画像は、光ビームの走査方向（ｘ方向）に沿った深度方向（ｚ方向）の２次元断層像となる。
【０００６】
特許文献２には、信号光を水平方向（ｘ方向）及び垂直方向（ｙ方向）に走査することにより水平方向の２次元断層像を複数形成し、これら複数の断層像に基づいて測定範囲の３次元の断層情報を取得して画像化する技術が開示されている。この３次元画像化としては、たとえば、複数の断層像を垂直方向に並べて表示させる方法や（スタックデータなどと呼ばれる）、複数の断層像にレンダリング処理を施して３次元画像を形成する方法などが考えられる。
【０００７】
特許文献３、４には、他のタイプのＯＣＴ装置が開示されている。特許文献３には、被測定物体に照射される光の波長を走査し、各波長の光の反射光と参照光とを重ね合わせて得られる干渉光に基づいてスペクトル強度分布を取得し、それに対してフーリエ変換を施すことにより被測定物体の形態を画像化するＯＣＴ装置が記載されている。このようなＯＣＴ装置は、スウェプトソース（Ｓｗｅｐｔ  Ｓｏｕｒｃｅ）タイプなどと呼ばれる。
【０００８】
また、特許文献４には、所定のビーム径を有する光を被測定物体に照射し、その反射光と参照光とを重ね合わせて得られる干渉光の成分を解析することにより、光の進行方向に直交する断面における被測定物体の画像を形成するＯＣＴ装置が記載されている。このようなＯＣＴ装置は、フルフィールド（ｆｕｌｌ−ｆｉｅｌｄ）タイプ、或いはエンフェイス（ｅｎ−ｆａｃｅ）タイプなどと呼ばれる。
【０００９】
特許文献５には、ＯＣＴ技術を眼科分野に適用した構成が開示されている。なお、ＯＣＴ装置が眼科分野に応用される以前には、眼底カメラ等の眼底観察装置が利用されていた（たとえば特許文献６を参照）。
【００１０】
ＯＣＴ技術を用いた眼底撮影装置は、眼底を前方から撮影するだけの眼底カメラと比較して、眼底の断層像や３次元画像を取得できるという利点がある。そのため、診断精度の向上や病変の早期発見への寄与が期待されている。
【００１１】
ところで、従来の光画像計測装置には、画質の向上を図るために、干渉光を生成するために重畳される２つの光（信号光、参照光）の偏光状態を一致させる偏光コントローラを用いたものがある（たとえば特許文献７を参照）。
【００１２】
偏光コントローラには様々なタイプがある。たとえば、偏光子を用いたもの、波長板を用いたもの、光ファイバを圧縮するもの、光ファイバを振動させるもの、電界や磁界を用いたものなどがある。光画像計測装置に適用するには、サイズや性能を考慮すると、光ファイバを圧縮するタイプが望ましいと考えられる。
【００１３】
圧縮タイプの偏光コントローラとしては、たとえば特許文献８に開示されたものが知られている。この偏光コントローラは、光ファイバの両端を固定するとともに、光ファイバの中央部分を一対のブロックで圧縮することにより光ファイバを通過する光の偏光状態を変更するものであり、更に、一対のブロックを回転可能として光ファイバの圧縮方向を変更できるように構成されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１４】
【特許文献１】特開平１１−３２５８４９号公報
【特許文献２】特開２００２−１３９４２１号公報
【特許文献３】特開２００７−２４６７７号公報
【特許文献４】特開２００６−１５３８３８号公報
【特許文献５】特開２００８−７３０９９公報
【特許文献６】特開平９−２７６２３２号公報
【特許文献７】特開２００８−１４５３７６公報
【特許文献８】米国特許番号第５５６１７２６号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１５】
このような従来の圧縮タイプの偏光コントローラでは、その構造上、光ファイバに対して圧力を安定的に付与することが難しく、光ファイバを通過する光の偏光状態が経時的に変動するおそれがある。
【００１６】
すなわち、従来の偏光コントローラは、光ファイバを一対のブロックで挟み込んで圧力を加えるようになっている。換言すると、従来の偏光コントローラは、線状の光ファイバを２次元的な接触面を有する一対のブロックで挟み込むようになっている。このような構造で光ファイバを圧縮すると、圧力によって光ファイバが移動したり回転したりするおそれがある。特に、圧力を強くした場合にはそのおそれが強くなる。更に、このような構造では、光ファイバに対して一様に圧力を付与することも難しい。また、このような構造では、光ファイバに対して一定の圧力を安定して付与し続けることも難しい。
【００１７】
このような従来の偏光コントローラを干渉計や光画像計測装置に適用すると、干渉光の強度等が経時的に変動するおそれがある。更に、光画像計測装置においては、画質が劣化するおそれがある。
【００１８】
この発明は、このような問題を解決するためになされたもので、その目的は、光ファイバに対して安定的に圧力を付与し、光ファイバを通過する光の偏光状態の経時的変動を抑えることが可能な技術を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１９】
上記目的を達成するために、請求項１に記載の発明は、光ファイバに対して圧力を印加する圧力印加部を有し、前記印加される圧力により前記光ファイバを通過する光の偏光状態を変化させる偏光コントローラであって、前記圧力印加部は、前記光ファイバの径方向の対向位置に設けられ、前記光ファイバの側面に当接される平面部をそれぞれ有する一対の当接部材と、前記一対の平面部の間に配置され、前記光ファイバの径と略等しい厚さを有する部材と、前記一対の平面部の間隔を変更するように前記一対の当接部材を相対的に移動させて前記圧力を印加する移動機構と、を備える、ことを特徴とする。
【００２０】
また、請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の偏光コントローラであって、前記光ファイバの軸方向を回転軸として前記圧力印加部を回転させる回転機構を更に備える、ことを特徴とする。
【００２１】
また、請求項３に記載の発明は、請求項１又は請求項２に記載の偏光コントローラであって、前記圧力印加部は、前記移動機構により相対的に移動される前記一対の当接部材の位置を固定する固定機構を更に備える、ことを特徴とする。
【００２２】
また、請求項４に記載の発明は、請求項１〜請求項３のいずれか一項に記載の偏光コントローラであって、前記部材は、前記光ファイバと略等しい径を有する線状部材を含む、ことを特徴とする。
【００２３】
また、請求項５に記載の発明は、請求項４に記載の偏光コントローラであって、前記線状部材は、前記光ファイバと同じ形態の光ファイバである、ことを特徴とする。
【００２４】
また、請求項６に記載の発明は、請求項４又は請求項５に記載の偏光コントローラであって、前記圧力印加部は、前記線状部材を保持する保持部を更に備える、ことを特徴とする。
【００２５】
また、請求項７に記載の発明は、請求項１〜請求項３のいずれか一項に記載の偏光コントローラであって、前記部材は、前記一対の平面部における前記光ファイバの配置位置以外の場所に設けられ、前記光ファイバと略等しい厚さを有する膜状部材を含む、ことを特徴とする。
【００２６】
また、請求項８に記載の発明は、第１の光ファイバを含む第１の導光路と、第２の光ファイバを含む第２の導光路と、前記第１の光ファイバ及び／又は前記第２の光ファイバに対して圧力を印加して当該光ファイバを通過する光の偏光状態を変化させる偏光コントローラとを有し、前記第１の導光路により導かれた光と前記第２の導光路により導かれた光とを重畳させて干渉光を生成する干渉計であって、前記偏光コントローラは、前記光ファイバの径方向の対向位置に設けられ、前記光ファイバの側面に当接される平面部をそれぞれ有する一対の当接部材と、前記一対の平面部の間に配置され、前記光ファイバの径と略等しい厚さを有する部材と、前記一対の平面部の間隔を変更するように前記一対の当接部材を相対的に移動させて前記圧力を印加する移動機構と、を備える、ことを特徴とする。
【００２７】
また、請求項９に記載の発明は、低コヒーレンス光を出力する光源と、前記出力された低コヒーレンス光を信号光と参照光とに分割する分割手段と、第１の光ファイバを含み、前記信号光を導光して被測定物体に照射し、前記被測定物体を経由した前記信号光を導光する第１の導光路と、第２の光ファイバを含み、前記参照光を導光して参照物体に照射し、前記参照物体を経由した前記参照光を導光する第２の導光路と、前記第１の光ファイバ及び／又は前記第２の光ファイバに対して圧力を印加して当該光ファイバを通過する光の偏光状態を変化させる偏光コントローラと、前記被測定物体を経由して前記第１の導光路により導かれた前記信号光と、前記参照物体を経由して前記第２の導光路により導かれた前記参照光とを重畳させて干渉光を生成する重畳手段と、前記生成された干渉光を検出して検出信号を生成する検出手段と、前記生成された検出信号に基づいて前記被測定物体の断層像を形成する画像形成手段と、を有する光画像計測装置であって、前記偏光コントローラは、前記光ファイバの径方向の対向位置に設けられ、前記光ファイバの側面に当接される平面部をそれぞれ有する一対の当接部材と、前記一対の平面部の間に配置され、前記光ファイバの径と略等しい厚さを有する部材と、前記一対の平面部の間隔を変更するように前記一対の当接部材を相対的に移動させて前記圧力を印加する移動機構と、を備える、ことを特徴とする。
【発明の効果】
【００２８】
この発明に係る偏光コントローラによれば、光ファイバと略等しい厚さの部材を光ファイバとともに一対の平面部の間に配置させているので、光ファイバのみを挟み込む従来の構成と比較して、圧力を印加している状態の当接部材の姿勢が安定し、光ファイバに対して安定的に圧力を付与することができる。それにより、光ファイバを通過する光の偏光状態の経時的変動を抑えることが可能である。
【００２９】
この発明に係る干渉計は、この発明に係る偏光コントローラを備えているので、光ファイバを通過する光の偏光状態の経時的変動を抑えることができる。それにより、好適な干渉光を安定的に得ることができる。
【００３０】
この発明に係る光画像計測装置は、この発明に係る干渉計を備えているので、好適な干渉光を安定的に得ることができる。それにより、好適な断層像を安定的に得ることが可能である。
【図面の簡単な説明】
【００３１】
【図１】この発明に係る偏光コントローラの実施の形態の構成の一例を表す概略図である。
【図２】この発明に係る偏光コントローラの実施の形態の構成の一例を表す概略図である。
【図３】この発明に係る偏光コントローラの実施の形態を説明するための概略図である。
【図４】この発明に係る偏光コントローラの実施の形態の変形例を説明するための概略図である。
【図５】この発明に係る偏光コントローラの実施の形態を説明するための概略図である。
【図６】この発明に係る偏光コントローラの実施の形態を説明するための概略図である。
【図７】この発明に係る光画像計測装置の実施形態の全体構成の一例を表す概略構成図である。
【図８】この発明に係る光画像計測装置の実施形態におけるＯＣＴユニットの構成の一例を表す概略構成図である。
【図９】この発明に係る光画像計測装置の実施形態における制御系の構成の一例を表す概略ブロック図である。
【発明を実施するための形態】
【００３２】
この発明に係る偏光コントローラ、干渉計及び光画像計測装置の実施形態の一例について、図面を参照しながら詳細に説明する。
【００３３】
〈偏光コントローラ〉
まず、この発明に係る偏光コントローラの実施形態を説明する。この発明に係る偏光コントローラは、光ファイバに圧力を加えて圧縮することにより、この光ファイバを通過する光の偏光状態を変化させるものである。なお、偏光状態には、偏光方向や偏光量、更には偏光の種類（直線偏光、円偏光、楕円偏光等）など、偏光の状態を表す各種の物理量や表現が含まれる。
【００３４】
第1の実施形態は、光ファイバと略等しい径を有する線状部材を光ファイバとともに圧縮することにより、光ファイバに対して安定的に圧力を付与するように構成されている。また、第２の実施形態は、光ファイバと略等しい厚さの膜状部材を光ファイバとともに圧縮することにより、光ファイバに対して安定的に圧力を付与するように構成されている。
【００３５】
［第１の実施形態］
第１の実施形態に係る偏光コントローラについて、図１〜図３を参照しつつ説明する。偏光コントローラ１０００は、光ファイバ２０００を通過する光の偏光状態を変化させる。
【００３６】
〔構成〕
光ファイバ２０００は、本体部１０１０により保持される。本体部１０１０は、略円柱状に形成されている。本体部１０１０の中央部分は切り欠かれており、平面状の載置部１０１１が形成されている。載置部１０１１には回転部１０２０が載置される。
【００３７】
載置部１０１１の両端には、回転部１０２０を保持する保持部１０１２が形成されている。これら保持部１０１２は、回転部１０２０の両端を保持している。回転部１０２０は略円柱状に形成されている。保持部１０１２は、回転部１０２０の円柱軸が本体部１０１０の円柱軸に一致するように回転部１０２０を保持している。
【００３８】
各保持部１０１２の外側には、端部１０１３が形成されている。各端部１０１３は、保持部１０１２から外側に向かって突出するように形成されており、光ファイバ２０００をガイドするように作用する。
【００３９】
各保持部１０１２及び各端部１０１３の上部側面（連結部１０５０側の側面）には、本体部１０１０の軸方向に沿って間隙１０１４が形成されている。各保持部１０１２には、回転部１０２０の端部を嵌め込むための中空部が形成されている。中空部は、本体部１０１０の円柱軸を軸とする円柱形状に形成されている。各保持部１０１２の間隙１０１４は、その側面から当該中空部まで形成されている。各端部１０１３には、光ファイバ２０００が配置される孔部１０１５が形成されている。孔部１０１５は円柱形状の空洞を形成している。孔部１０１５は、その円柱軸が本体部１０１０の円柱軸に対して平行になるように形成されている。更に、孔部１０１５の円柱軸は、本体部１０１０の円柱軸にほぼ一致するようになっている。すなわち、孔部１０１５は、本体部１０１０に対して僅かに偏心して形成されている。端部１０１３の間隙１０１４は、端部１０１３の側面から孔部１０１５まで形成されている。
【００４０】
間隙１０１４の両側部には、回転部１０２０を固定／解放するための一対のネジ１０１６が設けられている。各ネジ１０１６は、保持部１０１２の側面から中空部まで貫通するネジ穴（図示せず）に螺入される。各ネジ１０１６の先端はネジ穴から中空部に進入し、回転部１０２０の側面に当接するようになっている。中空部に進入する方向にネジ１０１６を進めることにより、ネジ１０１６が回転部１０２０に与える圧力が増大して回転部１０２０が固定される。逆に、中空部から退避する方向にネジ１０１６を進めることにより、ネジ１０１６が回転部１０２０に与える圧力が減少し、回転部１０２０は回転自在となる。なお、本体部１０１０に対して回転部１０２０が回転する機構は、たとえば前述の特許文献８のような、従来の任意の機構であってもよい。
【００４１】
回転部１０２０は、前述のように略円柱状に形成されており、その両端部が保持部１０１２によって保持されている。回転部１０２０は、本体部１０１０と同様に、その中央部位が切り欠かれており、光ファイバ２０００やサブファイバ３０００が載置される平面部１０２１が形成されている。平面部１０２１は、その法線方向が上方（連結部１０５０側）を向くように形成されている。
【００４２】
光ファイバ２０００は、回転部１０２０の円柱軸にほぼ沿うように配置される。サブファイバ３０００は、当該円柱軸から離れた位置に配置される。なお、サブファイバ３０００は、光ファイバ２０００と平行に配置されてもよいし、非平行に配置されてもよい。
【００４３】
また、サブファイバ３０００は、光ファイバ２０００と略等しい径を有するものである。望ましくは、たとえば光ファイバ２０００と同じロットの光ファイバの切れ端をサブファイバ３０００として用いるなど、光ファイバ２０００と等しい径のものがサブファイバ３０００として用いられる。また、サブファイバ３０００は、光ファイバである必要はなく、光ファイバ２０００と略等しい径を有する任意の材料からなる線状部材であってもよい。
【００４４】
平面部１０２１の両端には、サブファイバ３０００を保持するサブファイバ保持部１０２２が設けられている。各サブファイバ保持部１０２２には、上方から下方に向かって切込部１０２３が形成されている。各切込部１０２３は、サブファイバ３０００の径に略等しい幅を有する。サブファイバ３０００の端部は、上方から切込部１０２３に挿入される。切込部１０２３は当該端部を挟み込む。このようにしてサブファイバ保持部１０２２はサブファイバ３０００を保持する。
【００４５】
平面部１０２１の外側の回転部１０２０の部位には、連結孔１０２４が形成されている。各連結孔１０２４は、上方に向かって開口している。各連結孔１０２４の周面にはネジ山が形成されている。すなわち、連結孔１０２４は雌ネジである。各連結孔１０２４には連結ネジ１０６０の下端部が螺入される。それにより、回転部１０２０と連結部１０５０とが連結される。
【００４６】
連結部１０５０には、上方に延びる円筒状の筒部１０７０が接合されている。筒部１０７０の内部には、円筒状の係合部材１０９０が接合されている。係合部材１０９０の内周面にはネジ山が形成されている。係合部材１０９０には調整ネジ１１００の係合部１１０２が螺入されている。このように、調整ネジ１１００と係合部材１０９０は、雄ネジと雌ネジの関係を有する。調整ネジ１１００のヘッド１１０１を回転させると、係合部１１０２も一体的に回転し、それにより、調整ネジ１１００が係合部材１０９０内を上下に移動する。
【００４７】
調整ネジ１１００の係合部１１０２の下端（ヘッド１１０１の反対側の端部）には、円盤状のバネ支持部材１１１０が設けられている。バネ支持部材１１１０の上面は係合部１１０２の下端に接触しており、下面はバネ１０４０の上端に接触している。なお、これら接触部分は、単に接触しているだけであってもよいし、接着剤等により接合されていてもよい。
【００４８】
バネ１０４０は上下方向に伸縮するように配置されている。バネ１０４０の下端は、ブロック１０３０の上面に形成された凹部１０３１に嵌入されている。調整ネジ１１００が回転されて上下に移動されると、ブロック１０３０はバネ支持部材１１１０とともに上下に移動する。
【００４９】
連結ネジ１０６０により回転部１０２０と連結部１０５０とが連結された状態でブロック１０３０を下方に移動させると、ブロック１０３０の下面（平面部１０３２）が、回転部１０２０の平面部１０２１上に載置された光ファイバ２０００とサブファイバ３０００とに当接される。更に、調整ネジ１１００によりブロック１０３０の上下位置を調整することにより、光ファイバ２０００及びサブファイバ３０００に印加される圧力を調整することができる（図３（Ａ）を参照）。
【００５０】
また、回転部１０２０と連結部１０５０とが連結された状態で、本体部１０１０に対して回転部１０２０を回転させると、ブロック１０３０、バネ１０４０、連結部１０５０、筒部１０７０、調整ネジ固定部１０８０、係合部材１０９０及び調整ネジ１１００は、回転部１０２０と一体的に回転する（図３（Ｂ）を参照）。このとき、回転部１０２０の回転軸は、本体部１０１０及び回転部１０２０の円柱軸Ｃである。
【００５１】
調整ネジ固定部１０８０は、筒部１０７０の円筒軸を中心に回転可能に設けられたナットであり、これを所定方向に回転させると、係合部材１０９０を内側に向かって締め付けるように構成されている。調整ネジ固定部１０８０を逆方向に回転させると、係合部材１０９０に対する締め付けをゆるめるようになっている。
【００５２】
〔使用例〕
以上のように構成された偏光コントローラ１０００の使用方法の一例を説明する。
【００５３】
まず、光ファイバ２０００とサブファイバ３０００を設置する。光ファイバ２０００の設置は、たとえば次のようにして行う。光ファイバ２０００の先端を一方の孔部１０１５から挿入し、回転部１０２０の平面部１０２１上を経由して他方の孔部１０１５から出す。また、間隙１０１４を介して光ファイバ２０００を平面部１０２１に設置することも可能である（比較的長い光ファイバ２０００を使用する場合には、この設置方法の方が好適である）。
【００５４】
サブファイバ３０００の設置は、たとえば次のようにして行う。双方のサブファイバ保持部１０２２の切込部１０２３にサブファイバ３０００の端部を挿入して保持させる。なお、光ファイバ２０００の設置とサブファイバ３０００の設置は、どちらを先に行ってもよい。
【００５５】
次に、連結ネジ１０６０を連結孔１０２４に螺合させることにより、回転部１０２０と連結部１０５０とを接続する。
【００５６】
続いて、光ファイバ２０００の一端から他端に向けて光を通し、他端から出射される光の偏光状態の良否を確認しながら、回転部１０２０の回転位置を変えたり、調整ネジ１１００で光ファイバ２０００に付与する圧力を調整したりすることにより、所望の偏光状態（偏光方向、偏光量等）になるような回転位置や圧力を見つける。
【００５７】
このとき、偏光状態の良否は、たとえば偏光アナライザ等の装置を用いて確認することができる。また、偏光コントローラ１０００を干渉計に適用する場合には、たとえば、生成される干渉光の干渉成分を解析するなどして偏光状態の良否を確認できる。また、偏光コントローラ１０００を光画像計測装置に適用する場合には、たとえば後述のように、干渉光を解析したり、干渉像を解析又は視認したりすることにより偏光状態の良否を確認できる。
【００５８】
また、回転部１０２０の回転位置を変更する際には、光ファイバ２０００に対する圧力を一旦解除するか緩めるかして、光ファイバ２０００が捻れないようにすることが望ましい。
【００５９】
所望の偏光状態が得られたら、調整ネジ固定部１０８０を回転させて調整ネジ１１００の位置を固定するとともに、ネジ１０１６を回転させて回転部１０２０を固定する。なお、調整ネジ固定部１０８０以外の任意の機構によって調整ネジ１１００の位置を固定することも可能である。また、ネジ１０１６以外のロック機構を設けて回転部１０２０等の回転を規制することも可能である。
【００６０】
〔作用・効果〕
以上のような偏光コントローラ１０００の作用及び効果を説明する。
【００６１】
偏光コントローラ１０００は、光ファイバ２０００に対して圧力を印加することにより、光ファイバ２０００を通過する光の偏光状態を変化させる、圧縮タイプの偏光コントローラである。
【００６２】
偏光コントローラ１０００は、回転部１０２０の平面部１０２１とブロック１０３０の平面部１０３２とを光ファイバ２０００に当接させ、調整ネジ１１００によって回転部１０２０とブロック１０３０とを相対的に移動させることにより、平面部１０２１と平面部１０３２との間隔を変更して光ファイバ２０００に圧力を印加するようになっている。
【００６３】
更に、偏光コントローラ１０００は、平面部１０２１と平面部１０３２との間に配置され、光ファイバ２０００と略等しい径を有するサブファイバ３０００を有している。
【００６４】
このような偏光コントローラ１０００によれば、複数の部材（光ファイバ２０００及びサブファイバ３０００）を回転部１０２０とブロック１０３０との間に介在させているので、単一の光ファイバを挟み込む従来の構成と比較して、平面部１０２１と平面部１０３２とが平行状態を保ったまま光ファイバ２０００に圧力を印加することが可能である。それにより、光ファイバ２０００の軸方向に対して直交方向から一様に圧力を掛けることができる。
【００６５】
また、サブファイバ３０００の存在により、圧力を印加している状態のブロック１０３０の姿勢が安定するので、光ファイバ２０００に対して安定的に圧力を付与することができる。それにより、光ファイバ２０００を通過する光の偏光状態の経時的変動を抑えることができる。
【００６６】
なお、回転部１０２０とブロック１０３０は、この発明の「一対の当接部材」の一例である。また、サブファイバ３０００は、この発明の「線状部材」の一例である。また、この発明の「移動機構」は、調整ネジ１１００、係合部材１０９０及びバネ１０４０を含んで構成される。また、この発明の「圧力印加部」は、ブロック１０３０、サブファイバ３０００、調整ネジ１１００、係合部材１０９０及びバネ１０４０を含んで構成される。
【００６７】
更に、偏光コントローラ１０００の回転部１０２０には、光ファイバ２０００の軸方向を回転軸として、ブロック１０３０、サブファイバ３０００、調整ネジ１１００、係合部材１０９０及びバネ１０４０を回転させる機構が設けられている。この機構は、この発明の「回転機構」の一例であり、保持部１０１２やネジ１０１６を含んで構成される。
【００６８】
このような回転機構を設けることで、光ファイバ２０００に対して様々な方向から圧力を印加することが可能となり、偏光状態を調整する際の自由度が高まる。たとえば、光ファイバ２０００を通過する光の偏光方向等を調整することが可能となる。
【００６９】
更に、偏光コントローラ１０００の圧力印加部には、調整ネジ１１００等により移動されるブロック１０３０の位置を固定する調整ネジ固定部１０８０が設けられている。調整ネジ固定部１０８０は、この発明の「固定機構」の一例である。
【００７０】
このような固定機構を設けることにより、光ファイバ２０００に対する圧力を維持することができ、光ファイバ２０００を通過する光の偏光状態の経時的変動を効果的に抑えることが可能となる。
【００７１】
この実施形態に係る偏光コントローラ１０００の特徴は、上記のように、光ファイバ２０００とともにサブファイバ３０００を挟み込む点にある。このような構成により、ブロック１０３０から印加される圧力は、光ファイバ２０００に対する圧力とサブファイバ３０００に対する圧力とに分散される。この実施形態では、バネ１０４０の軸（螺旋状のバネ１０４０の中心軸）は、光ファイバ２０００とサブファイバ３０００との中間に位置するものとする（図３を参照）。この場合、ブロック１０３０から与えられる圧力の半分が光ファイバ２０００に印加される。それにより、調整ネジ１１００の回転量に対する光ファイバ２０００への印加圧力が減少し、結果として偏光状態の変化量が減少するので、偏光状態を微細に調整することが可能となる。
【００７２】
また、偏光コントローラ１０００の圧力印加部には、サブファイバ３０００を保持するサブファイバ保持部１０２２が設けられている。サブファイバ保持部１０２２は、この発明の「保持部」の一例である。
【００７３】
このような保持部を設けることにより、圧力を印加している際のサブファイバ３０００のズレを防止できるとともに、回転部１０２０等を回転させる際のサブファイバ３０００のズレや落下を防止できる。それにより、光ファイバ２０００を通過する光の偏光状態の経時的変動を効果的に抑えことが可能となる。
【００７４】
［変形例］
以上に説明した実施形態は、この発明に係る偏光コントローラの一例に過ぎない。この発明を実施しようとする者は、上記の構成に加えて、又は上記の構成の一部に代えて、任意の変形を施すことが可能である。
【００７５】
〔第１の変形例〕
上記の実施形態においては、光ファイバ２０００とサブファイバ３０００との中間にバネ１０４０の軸を配置しているが、光ファイバ２０００とサブファイバ３０００との中間から外れた位置にバネ１０４０の軸Ａを配置させてもよい。そのためには、ブロック１０３０の凹部の位置を変更すればよい。一例として、図４に示すように、光ファイバ２０００寄りに凹部１０３３を形成することにより、軸Ａを光ファイバ２０００寄りに配置させることが可能である。逆に、サブファイバ３０００寄りに凹部を形成することにより、軸Ａをサブファイバ３０００寄りに配置させることも可能である。なお、圧力印加中におけるブロック１０３０の姿勢の崩れを考慮すると、中間位置から大きく外れた位置に凹部を形成することは望ましくない場合がある。
【００７６】
このように軸Ａの位置をずらすことにより、光ファイバ２０００への印加圧力とサブファイバ３０００への印加圧力との比率を変更することが可能である。すなわち、光ファイバ２０００寄りに軸Ａを配置させることにより、光ファイバ２０００への印加圧力をサブファイバ３０００への印加圧力よりも大きくすることができる。逆に、サブファイバ３０００寄りに軸Ａを配置させることにより、サブファイバ３０００への印加圧力を光ファイバ２０００への印加圧力よりも大きくすることができる。前者の場合には、光ファイバ２０００に対してより効率的に圧力を印加できるというメリットがある。後者の場合には、光ファイバ２０００への印加圧力をより微細に調整できるというメリットがある。
【００７７】
〔第２の変形例〕
調整ネジ１１００による偏光状態の変化量を調整するために、サブファイバ３０００の本数を任意に選択することが可能である。すなわち、１本以上の任意の本数のサブファイバ３０００を設置することが可能である。
【００７８】
また、任意のバネ定数のバネ１０４０を使用することにより、調整ネジ１１００による偏光状態の変化量を調整することも可能である。
【００７９】
また、２本以上のバネを設けることにより、調整ネジ１１００による偏光状態の変化量を調整するようにしてもよい。
【００８０】
〔第３の変形例〕
上記の実施形態では、切込部１０２３を有するサブファイバ保持部１０２２によってサブファイバ３０００の落下等を防止しているが、これ以外の任意の構成で同様の効果を得るようにしてもよい。
【００８１】
たとえば、回転部１０２０の平面部１０２１のサブファイバ載置位置に沿って溝を形成し、この溝にサブファイバを嵌入することによってサブファイバを保持することも可能である。この溝の深さは、サブファイバの径よりもやや浅めに形成することが望ましい。この溝は、この発明の「保持部」の一例である。
【００８２】
また、サブファイバ載置位置の両端にサブファイバの径よりもやや薄目の厚さの膜状部材（シール等）を設置することにより、上記と同様の溝を形成し、この溝にサブファイバを嵌入することによってサブファイバを保持することも可能である。
【００８３】
このような溝にサブファイバを配置させることにより、サブファイバの落下等を防止できるとともに、圧縮等によるサブファイバの変形を防止することが可能である（つまり、サブファイバを直線状に維持することが可能である）。
【００８４】
〔第４の変形例〕
上記の実施形態では、回転部１０２０に対して上方からブロック１０３０を移動させることにより、平面部１０２１と平面部１０３２との間隔を変更しているが、この発明はこれに限定されるものではない。
【００８５】
たとえば、光ファイバに当接される一対の当接部材の双方を移動可能に構成することにより双方の平面部の間隔を変更できるようにしてもよい。
【００８６】
〔第５の変形例〕
上記の実施形態では、光ファイバ２０００と同じ形態（同じ材質、同じ構造、等しい径など）のサブファイバ３０００を使用することを推奨している。すなわち、光ファイバ２０００と同じロットの生産品をサブファイバ３０００として使用することを推奨している。
【００８７】
しかし、この発明を実施する際に、光ファイバ２０００と異なる材質や構造の線状部材を適宜に使用することも可能である。なお、線状部材の径は、光ファイバ２０００と略等しいことが望ましい。
【００８８】
〔その他の変形例〕
この発明に係る回転機構や固定機構は、上記の実施形態のものに限定されるものではない。回転機構は、光ファイバの軸方向を回転軸として、一対の当接部材、光ファイバの径と略等しい厚さを有する部材、及び移動機構を一体的に回転させるように作用するものであれば、その構成は不問である。また、固定機構は、移動機構により相対的に移動される一対の当接部材の位置を固定するように作用するものであれば、その構成は不問である。
【００８９】
［第２の実施形態］
第１の実施形態とは異なる構成の偏光コントローラについて説明する。この実施形態の偏光コントローラの特徴は、線状部材（サブファイバ等）の代わりに、光ファイバと略等しい厚さを有する膜状部材を使用する点にある。
【００９０】
この実施形態に係る偏光コントローラの一例を図５及び図６に示す。なお、第１の実施形態と同じ構成部分（たとえば本体部１０１０、連結部１０５０、筒部１０７０、調整ネジ固定部１０８０、係合部材１０９０、調整ネジ１１００等）については省略する。
【００９１】
偏光コントローラ４０００は、第１の実施形態の偏光コントローラ１０００と同様に、回転部１０２０、ブロック１０３０、バネ１０４０等を有する。ブロック１０３０やバネ１０４０は第１の実施形態と同じ構成を有する。
【００９２】
偏光コントローラ４０００の回転部１０２０の平面部１０２１上には、膜状部材１１２０が設けられている。膜状部材１１２０は、光ファイバ２０００の径と略等しい厚さを有する。
【００９３】
また、膜状部材１１２０は、光ファイバ２０００の配置位置以外の場所に設けられる。この実施形態では、膜状部材１１２０は、平面部１０２１上における光ファイバ２０００の載置位置以外の部分を覆うように配置されている。なお、膜状部材１１２０の少なくとも一部は、平面部１０２１と平面部１０３２との間に配置されている必要がある。
【００９４】
膜状部材１１２０は、適当な弾性を有することが望ましい。膜状部材１１２０は、平面部１０２１上に貼り付けられたものであってもよいし、その他の任意の手法によって平面部１０２１上に設けられたものであってもよい。
【００９５】
また、膜状部材１１２０は、図６に示すような矩形状のものには限定されず、任意の形状のものであってよい。
【００９６】
このような構成の偏光コントローラ４０００によれば、複数の部材（光ファイバ２０００及び膜状部材１１２０）を回転部１０２０とブロック１０３０との間に介在させているので、単一の光ファイバを挟み込む従来の構成と比較して、平面部１０２１と平面部１０３２とが平行状態を保ったまま光ファイバ２０００に圧力を印加することが可能である。それにより、光ファイバ２０００の軸方向に対して直交方向から一様に圧力を掛けることができる。
【００９７】
また、膜状部材１１２０の存在により、圧力を印加している状態のブロック１０３０の姿勢が安定するので、光ファイバ２０００に対して安定的に圧力を付与することができる。それにより、光ファイバ２０００を通過する光の偏光状態の経時的変動を抑えることができる。
【００９８】
この実施形態に係る偏光コントローラに、第１の実施形態やその変形例で説明した任意の構成を付加することが可能である。以下、この発明に係る偏光コントローラの応用例を説明する。
【００９９】
〈光画像計測装置〉
この発明に係る光画像計測装置は、ＯＣＴ技術を用いて被測定物体の断層像を形成する装置である。ＯＣＴ技術により取得される画像をＯＣＴ画像と呼ぶことがある。この発明に係る光画像計測装置には、この発明に係る干渉計が搭載される。
【０１００】
この実施形態では、フーリエドメインタイプの手法を適用して、眼底の断層像を取得する光画像計測装置（眼底観察装置）について説明する。特に、この実施形態では、特許文献５に開示された装置とほぼ同様の構成を具備する眼底観察装置を取り上げる。なお、他のタイプのＯＣＴ技術を適用する場合においても、この実施形態と同様の構成を用いることで同様の作用及び効果が得られる。
【０１０１】
［構成］
眼底観察装置１は、図７に示すように、眼底カメラユニット１Ａ、ＯＣＴユニット１５０及び演算制御装置２００を含んで構成される。眼底カメラユニット１Ａは、従来の眼底カメラとほぼ同様の光学系を有する。眼底カメラは、眼底の表面を撮影して２次元画像を取得する装置である。また、眼底カメラは、眼底血管の形態の撮影にも利用される。ＯＣＴユニット１５０は、眼底のＯＣＴ画像を取得するための光学系を格納している。演算制御装置２００は、各種の演算処理や制御処理等を実行するコンピュータを具備している。
【０１０２】
ＯＣＴユニット１５０には、接続線１５２の一端が取り付けられている。接続線１５２の他端には、接続線１５２を眼底カメラユニット１Ａに接続するコネクタ部１５１が取り付けられている。接続線１５２の内部には光ファイバ１５２ａが導通されている（図８を参照）。ＯＣＴユニット１５０と眼底カメラユニット１Ａは、接続線１５２を介して光学的に接続されている。演算制御装置２００は、眼底カメラユニット１Ａ及びＯＣＴユニット１５０のそれぞれと、電気信号を伝達する通信線を介して接続されている。
【０１０３】
〔眼底カメラユニット〕
眼底カメラユニット１Ａは、眼底表面の形態を表す２次元画像を形成するための光学系を有する。ここで、眼底表面の２次元画像には、眼底表面を撮影したカラー画像やモノクロ画像、更には蛍光画像（フルオレセイン蛍光画像、インドシアニングリーン蛍光画像等）などが含まれる。
【０１０４】
眼底カメラユニット１Ａには、従来の眼底カメラと同様に、照明光学系１００と撮影光学系１２０が設けられている。照明光学系１００は眼底Ｅｆに照明光を照射する。撮影光学系１２０は、この照明光の眼底反射光を撮像装置１０、１２に導く。また、撮影光学系１２０は、ＯＣＴユニット１５０からの信号光を眼底Ｅｆに導くとともに、眼底Ｅｆを経由した信号光をＯＣＴユニット１５０に導く。
【０１０５】
照明光学系１００は、従来の眼底カメラと同様に、観察光源１０１、コンデンサレンズ１０２、撮影光源１０３、コンデンサレンズ１０４、エキサイタフィルタ１０５及び１０６、リング透光板１０７（リングスリット１０７ａ）、ミラー１０８、ＬＣＤ（Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｄｉｓｐｌａｙ）１０９、照明絞り１１０、リレーレンズ１１１、孔開きミラー１１２、対物レンズ１１３を含んで構成される。
【０１０６】
観察光源１０１は、たとえば約４００ｎｍ〜７００ｎｍの範囲の可視領域の波長を含む照明光を出力する。撮影光源１０３は、たとえば約７００ｎｍ〜８００ｎｍの範囲の近赤外領域の波長を含む照明光を出力する。この近赤外光は、ＯＣＴユニット１５０で使用する光の波長よりも短く設定されている（後述）。
【０１０７】
観察光源１０１から出力された照明光は、コンデンサレンズ１０２、１０４、（エキサイタフィルタ１０５又は１０６、）リング透光板１０７、ミラー１０８、ＬＣＤ１０９、照明絞り１１０、リレーレンズ１１１を介して孔開きミラー１１２に到達する。更に、この照明光は、孔開きミラー１１２により反射され、対物レンズ１１３を介して被検眼Ｅに入射して眼底Ｅｆを照明する。一方、撮影光源１０３から出力された照明光は、コンデンサレンズ１０４から対物レンズ１１３までを経由して被検眼Ｅに入射して眼底Ｅｆを照明する。
【０１０８】
撮影光学系１２０は、対物レンズ１１３、孔開きミラー１１２（の孔部１１２ａ）、撮影絞り１２１、バリアフィルタ１２２及び１２３、変倍レンズ１２４、リレーレンズ１２５、撮影レンズ１２６、ダイクロイックミラー１３４、フィールドレンズ（視野レンズ）１２８、ハーフミラー１３５、リレーレンズ１３１、ダイクロイックミラー１３６、撮影レンズ１３３、撮像装置１０、反射ミラー１３７、撮影レンズ１３８、撮像装置１２、レンズ１３９及びＬＣＤ１４０を含んで構成される。撮影光学系１２０は、従来の眼底カメラとほぼ同様の構成を有する。
【０１０９】
ダイクロイックミラー１３４は、照明光学系１００からの照明光の眼底反射光（約４００ｎｍ〜８００ｎｍの範囲に含まれる波長を有する）を反射する。また、ダイクロイックミラー１３４は、ＯＣＴユニット１５０からの信号光ＬＳ（たとえば約８００ｎｍ〜９００ｎｍの範囲に含まれる波長を有する；図８を参照）を透過させる。
【０１１０】
ダイクロイックミラー１３６は、観察光源１０１からの照明光の眼底反射光を透過させる。また、ダイクロイックミラー１３６は、撮影光源１０３からの照明光の眼底反射光を反射する。
【０１１１】
ＬＣＤ１４０は、被検眼Ｅを固視させるための固視標（内部固視標）を表示する。ＬＣＤ１４０からの光は、レンズ１３９により集光され、ハーフミラー１３５により反射され、フィールドレンズ１２８を経由してダイクロイックミラー１３６に反射される。更に、この光は、撮影レンズ１２６、リレーレンズ１２５、変倍レンズ１２４、孔開きミラー１１２（の孔部１１２ａ）、対物レンズ１１３等を経由して被検眼Ｅに入射する。それにより、眼底Ｅｆに内部固視標が投影される。
【０１１２】
ＬＣＤ１４０による内部固視標の表示位置を変更することにより、被検眼Ｅの固視方向を変更することができる。被検眼Ｅの固視方向としては、たとえば従来の眼底カメラと同様に、眼底Ｅｆの黄斑部を中心とする画像を取得するための固視方向や、視神経乳頭を中心とする画像を取得するための固視方向や、黄斑部と視神経乳頭との間の眼底中心を中心とする画像を取得するための固視方向などがある。
【０１１３】
撮像装置１０には、撮像素子１０ａが内蔵されている。撮像装置１０は、特に近赤外領域の波長の光を検出可能である。つまり、撮像装置１０は、近赤外光を検出する赤外線テレビカメラとして機能する。撮像装置１０は、近赤外光を検出して映像信号を出力する。撮像素子１０ａは、たとえば、ＣＣＤ（Ｃｈａｒｇｅ  Ｃｏｕｐｌｅｄ  Ｄｅｖｉｃｅｓ）やＣＭＯＳ（Ｃｏｍｐｌｅｍｅｎｔａｒｙ  Ｍｅｔａｌ  Ｏｘｉｄｅ  Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ）等の任意の撮像素子（エリアセンサ）である。
【０１１４】
撮像装置１２には、撮像素子１２ａが内蔵されている。撮像装置１２は、特に可視領域の波長の光を検出可能である。つまり、撮像装置１２は、可視光を検出するテレビカメラとして機能する。撮像装置１２は、可視光を検出して映像信号を出力する。撮像素子１２ａは、撮像素子１０ａと同様に、任意の撮像素子（エリアセンサ）により構成される。
【０１１５】
タッチパネルモニタ１１は、各撮像素子１０ａ、１２ａからの映像信号に基づいて眼底画像Ｅｆ′を表示する。また、この映像信号は演算制御装置２００に送られる。
【０１１６】
眼底カメラユニット１Ａには、走査ユニット１４１とレンズ１４２とが設けられている。走査ユニット１４１は、ＯＣＴユニット１５０から出力される信号光ＬＳの眼底Ｅｆに対する照射位置を走査する。
【０１１７】
走査ユニット１４１は、図７に示すｘｙ平面上において信号光ＬＳを走査する。そのために、走査ユニット１４１には、たとえば、ｘ方向への走査用のガルバノミラーと、ｙ方向への走査用のガルバノミラーとが設けられている。
【０１１８】
〔ＯＣＴユニット〕
次に、ＯＣＴユニット１５０の構成について図８を参照しつつ説明する。ＯＣＴユニット１５０は、従来のフーリエドメインタイプのＯＣＴ装置と同様の光学系を備えている。すなわち、ＯＣＴユニット１５０は、低コヒーレンス光を参照光と信号光に分割し、被検眼の眼底を経由した信号光と参照物体を経由した参照光とを干渉させて干渉光を生成する光学系（干渉計）と、この干渉光を検出する検出手段とを備えている。干渉光の検出結果（検出信号）は演算制御装置２００に送られる。
【０１１９】
低コヒーレンス光源１６０は、広帯域の低コヒーレンス光Ｌ０を出力する広帯域光源である。この広帯域光源としては、たとえば、スーパールミネセントダイオード（Ｓｕｐｅｒ  Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｔ  Ｄｉｏｄｅ：ＳＬＤ）や、発光ダイオード（Ｌｉｇｈｔ  Ｅｍｉｔｔｉｎｇ  Ｄｉｏｄｅ：ＬＥＤ）などを用いることができる。低コヒーレンス光源１６０は、この発明の「光源」の一例である。
【０１２０】
低コヒーレンス光Ｌ０は、たとえば、近赤外領域の波長の光を含み、かつ、数十マイクロメートル程度の時間的コヒーレンス長を有する。低コヒーレンス光Ｌ０は、眼底カメラユニット１Ａの照明光（波長約４００ｎｍ〜８００ｎｍ）よりも長い波長、たとえば約８００ｎｍ〜９００ｎｍの範囲の波長を含んでいる。
【０１２１】
低コヒーレンス光源１６０から出力された低コヒーレンス光Ｌ０は、光ファイバ１６１を通じて光カプラ１６２に導かれる。光ファイバ１６１は、たとえばシングルモードファイバやＰＭファイバ（Ｐｏｌａｒｉｚａｔｉｏｎ  ｍａｉｎｔａｉｎｉｎｇ  ｆｉｂｅｒ；偏波面保持ファイバ）等により構成される。光カプラ１６２は、低コヒーレンス光Ｌ０を参照光ＬＲと信号光ＬＳとに分割する。
【０１２２】
なお、光カプラ１６２は、光を分割する分割手段（スプリッタ；ｓｐｌｉｔｔｅｒ）、及び、光を重畳する重畳手段（カプラ；ｃｏｕｐｌｅｒ）の双方の作用を有するが、ここでは慣用的に「光カプラ」と称する。なお、この実施形態では、マイケルソン型の干渉計を用いているので、分割手段と重畳手段とを単一の部材（光カプラ）が兼ねているが、他のタイプの干渉計を適用する場合には、分割手段と重畳手段とをそれぞれ個別の部材により構成することがある。
【０１２３】
光カプラ１６２により生成された参照光ＬＲは、シングルモードファイバ等からなる光ファイバ１６３により導光されてそのファイバ端面から出射される。光ファイバ１６３は、この発明の「第２の光ファイバ」の一例である。
【０１２４】
光ファイバ１６３には、偏光コントローラ４００が取り付けられている。偏光コントローラ４００は、この発明に係る任意の偏光コントローラである。偏光コントローラ４００は、光ファイバ１６３を通過する参照光ＬＲの偏光状態を変化させる。参照光ＬＲの偏光状態の調整作業は、たとえば出荷前やメンテナンス時などに実施される。
【０１２５】
偏光コントローラ４００を経由して光ファイバ１６３から出射された参照光ＬＲは、コリメータレンズ１７１により平行光束とされ、ガラスブロック１７２、偏光板（λ／４板）１７５及び濃度フィルタ１７３を経由し、参照ミラー１７４により反射される。参照ミラー１７４は、この発明の「参照物体」の例である。
【０１２６】
参照ミラー１７４により反射された参照光ＬＲは、再び濃度フィルタ１７３、偏光板１７５及びガラスブロック１７２を経由し、コリメータレンズ１７１によって光ファイバ１６３のファイバ端面に集光され、光ファイバ１６３を通じて光カプラ１６２に導かれる。このときにも、偏光コントローラ４００により、光ファイバ１６３を通過する参照光ＬＲの偏光状態が変化される。参照光ＬＲが導光される当該光路（参照光路）は、この発明の「第２の導光路」の一例である。
【０１２７】
なお、ガラスブロック１７２と濃度フィルタ１７３は、参照光ＬＲと信号光ＬＳの光路長（光学距離）を合わせるための遅延手段として作用する。また、ガラスブロック１７２と濃度フィルタ１７３は、参照光ＬＲと信号光ＬＳの分散特性を合わせるための分散補償手段として作用する。
【０１２８】
濃度フィルタ１７３は、参照光ＬＲの光量を減少させる減光フィルタとして作用する。濃度フィルタ１７３は、たとえば、回転型のＮＤ（Ｎｅｕｔｒａｌ  Ｄｅｎｓｉｔｙ）フィルタにより構成される。濃度フィルタ１７３は、図示しない駆動機構によって回転駆動されて、干渉光ＬＣの生成に寄与する参照光ＬＲの光量を変更する。
【０１２９】
また、偏光板１７５は、参照光ＬＲの光路長を補正するために用いられるとともに、ＯＣＴ画像の画質を高めるために使用される。偏光板１７５は、参照光ＬＲの光路方向に直交する方向に対してたとえば３度程度傾斜して配置される。偏光板１７５は、所定の駆動機構により回転駆動され、それにより干渉像の画質が調整される。偏光板１７５は、たとえば演算制御装置２００の制御を受けて回転される。また、手動のノブ等を設けて偏光板１７５を回転させるようにしてもよい。
【０１３０】
また、参照ミラー１７４は、図示しない駆動機構により、参照光ＬＲの進行方向（図８に示す両側矢印方向）に移動される。それにより、被検眼Ｅの眼軸長やワーキングディスタンス（対物レンズ１１３と被検眼Ｅとの間の距離）などに応じて、参照光ＬＲの光路長を確保できる。
【０１３１】
他方、光カプラ１６２により生成された信号光ＬＳは、シングルモードファイバ等からなる光ファイバ１６４により接続線１５２の端部まで導光される。ここで、光ファイバ１６４と光ファイバ１５２ａは、単一の光ファイバから形成されていてもよいし、各々の端面同士を接合するなどして一体的に形成されていてもよい。
【０１３２】
光ファイバ１６４は、この発明の「第１の光ファイバ」の一例である。光ファイバ１６４には、偏光コントローラ３００が取り付けられている。偏光コントローラ３００は、この発明に係る任意の偏光コントローラである。偏光コントローラ３００は、光ファイバ１６４を通過する信号光ＬＳの偏光状態を変化させる。信号光ＬＳの偏光状態の調整作業は、たとえば出荷前やメンテナンス時などに実施される。
【０１３３】
なお、参照光ＬＲ及び信号光ＬＳの各偏光状態の調整は並行して実施される。偏光状態の調整は、たとえば、模型眼の眼底を計測しつつ、ＣＣＤ１８４により得られる検出信号のピーク値を所定範囲内に含ませるようにして行う。また、模型眼の眼底の断層像が良好な画質になるように偏光状態を調整するようにしてもよい。
【０１３４】
光ファイバ１６４を通過した信号光ＬＳは、光ファイバ１５２ａにより導光されて眼底カメラユニット１Ａに案内される。更に、信号光ＬＳは、レンズ１４２、走査ユニット１４１、ダイクロイックミラー１３４、撮影レンズ１２６、リレーレンズ１２５、変倍レンズ１２４、撮影絞り１２１、孔開きミラー１１２の孔部１１２ａ、対物レンズ１１３を経由して被検眼Ｅに照射されて眼底Ｅｆに照射される。なお、信号光ＬＳを眼底Ｅｆに照射させるときには、バリアフィルタ１２２、１２３は事前に光路から退避される。
【０１３５】
被検眼Ｅに入射した信号光ＬＳは、眼底Ｅｆ上にて結像し反射される。このとき、信号光ＬＳは、眼底Ｅｆの表面で反射されるだけでなく、眼底Ｅｆの深部領域にも到達して屈折率境界において散乱される。したがって、眼底Ｅｆを経由した信号光ＬＳは、眼底Ｅｆの表面形態を反映する情報と、眼底Ｅｆの深層組織の屈折率境界における後方散乱の状態を反映する情報とを含んでいる。この光を単に「信号光ＬＳの眼底反射光」と呼ぶことがある。
【０１３６】
信号光ＬＳの眼底反射光は、被検眼Ｅに向かう信号光ＬＳと同じ経路を逆方向に案内されて光ファイバ１５２ａの端面に集光される。更に、信号光ＬＳの眼底反射光は、光ファイバ１５２ａを通じてＯＣＴユニット１５０に入射し、光ファイバ１６４を通じて光カプラ１６２に戻ってくる。このときにも、偏光コントローラ３００により、光ファイバ１６４を通過する信号光ＬＳの偏光状態が変化される。信号光ＬＳが導光される当該光路（信号光路）は、この発明の「第１の導光路」の一例である。
【０１３７】
光カプラ１６２は、眼底Ｅｆを経由して戻ってきた信号光ＬＳと、参照ミラー１７４にて反射された参照光ＬＲとを重ね合わせて干渉光ＬＣを生成する。干渉光ＬＣは、シングルモードファイバ等からなる光ファイバ１６５を通じてスペクトロメータ１８０に導かれる。
【０１３８】
スペクトロメータ（分光計）１８０は、干渉光ＬＣのスペクトル成分を検出する。スペクトロメータ１８０は、コリメータレンズ１８１、回折格子１８２、結像レンズ１８３、ＣＣＤ１８４を含んで構成される。回折格子１８２は、透過型でも反射型でもよい。また、ＣＣＤ１８４に代えて、ＣＭＯＳ等の他の光検出素子（ラインセンサ又はエリアセンサ）を用いることも可能である。
【０１３９】
スペクトロメータ１８０に入射した干渉光ＬＣは、コリメータレンズ１８１により平行光束とされ、回折格子１８２によって分光（スペクトル分解）される。分光された干渉光ＬＣは、結像レンズ１８３によってＣＣＤ１８４の撮像面上に結像される。ＣＣＤ１８４は、分光された干渉光ＬＣの各スペクトル成分を検出して電荷に変換する。ＣＣＤ１８４は、この電荷を蓄積して検出信号を生成する。更に、ＣＣＤ１８４は、この検出信号を演算制御装置２００に送る。スペクトロメータ１８０（特にＣＣＤ１８４）は、この発明の「検出手段」の一例である。
【０１４０】
なお、この実施形態ではマイケルソン型の干渉計を採用しているが、たとえばマッハツェンダー型など任意のタイプの干渉計を適宜に採用することが可能である。
【０１４１】
〔演算制御装置〕
演算制御装置２００の構成について説明する。演算制御装置２００は、ＣＣＤ１８４から入力される検出信号を解析して眼底ＥｆのＯＣＴ画像を形成する。そのための演算処理は、従来のフーリエドメインタイプのＯＣＴ装置と同様である。
【０１４２】
また、演算制御装置２００は、眼底カメラユニット１Ａ及びＯＣＴユニット１５０の各部を制御する。
【０１４３】
眼底カメラユニット１Ａの制御として、演算制御装置２００は、観察光源１０１や撮影光源１０３による照明光の出力制御、エキサイタフィルタ１０５、１０６やバリアフィルタ１２２、１２３の光路上への挿入／退避動作の制御、ＬＣＤ１４０等の表示装置の動作制御、照明絞り１１０の移動制御（絞り値の制御）、撮影絞り１２１の絞り値の制御、変倍レンズ１２４の移動制御（倍率の制御）などを行う。更に、演算制御装置２００は、走査ユニット１４１を制御して信号光ＬＳを走査させる。
【０１４４】
また、ＯＣＴユニット１５０の制御として、演算制御装置２００は、低コヒーレンス光源１６０による低コヒーレンス光Ｌ０の出力制御、参照ミラー１７４の移動制御、濃度フィルタ１７３の回転動作（参照光ＬＲの光量の減少量の変更動作）の制御、ＣＣＤ１８４による電荷蓄積時間や電荷蓄積タイミングや信号送信タイミングの制御などを行う。また、演算制御装置２００は、偏光板１７５の回転制御を行ってもよい。
【０１４５】
演算制御装置２００は、従来のコンピュータと同様に、マイクロプロセッサ、ＲＡＭ、ＲＯＭ、ハードディスクドライブ、キーボード、マウス、ディスプレイ、通信インターフェイスなどを含んで構成される。ハードディスクドライブには、眼底観察装置１を制御するためのコンピュータプログラムが記憶されている。また、演算制御装置２００は、ＣＣＤ１８４からの検出信号に基づいてＯＣＴ画像を形成する専用の回路基板を備えていてもよい。
【０１４６】
〔制御系〕
眼底観察装置１の制御系の構成について図９を参照しつつ説明する。
【０１４７】
（制御部）
眼底観察装置１の制御系は、演算制御装置２００の制御部２１０を中心に構成される。制御部２１０は、たとえば、前述のマイクロプロセッサ、ＲＡＭ、ＲＯＭ、ハードディスクドライブ、通信インターフェイス等を含んで構成される。
【０１４８】
制御部２１０には、主制御部２１１と記憶部２１２が設けられている。主制御部２１１は、前述した各種の制御を行う。
【０１４９】
記憶部２１２は、各種のデータを記憶する。記憶部２１２に記憶されるデータとしては、たとえば、ＯＣＴ画像の画像データ、眼底画像Ｅｆ′の画像データ、被検眼情報などがある。被検眼情報は、患者ＩＤや氏名などの被検者に関する情報や、左眼／右眼の識別情報などの被検眼に関する情報を含む。主制御部２１１は、記憶部２１２にデータを書き込む処理や、記憶部２１２からデータを読み出す処理を行う。
【０１５０】
（画像形成部）
画像形成部２２０は、撮像装置１０、１２からの映像信号を受けて眼底画像Ｅｆ′の画像データを形成する。
【０１５１】
また、画像形成部２２０は、ＣＣＤ１８４からの検出信号に基づいて眼底Ｅｆの断層像の画像データを形成する。この処理には、従来のフーリエドメインタイプのＯＣＴ技術と同様に、ノイズ除去（ノイズ低減）、フィルタ処理、ＦＦＴ（Ｆａｓｔ  Ｆｏｕｒｉｅｒ  Ｔｒａｎｓｆｏｒｍ）などの処理が含まれている。画像形成部２２０は、この発明の「画像形成手段」の一例である。
【０１５２】
画像形成部２２０は、たとえば、前述の回路基板や通信インターフェイス等を含んで構成される。なお、この明細書では、「画像データ」と、それに基づいて呈示される「画像」とを同一視することがある。
【０１５３】
（画像処理部）
画像処理部２３０は、画像形成部２２０により形成された画像に対して各種の画像処理や解析処理を施す。たとえば、画像処理部２３０は、画像の輝度補正や分散補正等の各種補正処理などを実行する。
【０１５４】
また、画像処理部２３０は、画像形成部２２０により形成された断層像の間の画素を補間する補間処理等を実行することにより、眼底Ｅｆの３次元画像の画像データを形成する。
【０１５５】
なお、３次元画像の画像データとは、３次元座標系により画素の位置が定義された画像データを意味する。３次元画像の画像データとしては、３次元的に配列されたボクセルからなる画像データがある。この画像データは、ボリュームデータ或いはボクセルデータなどと呼ばれる。ボリュームデータに基づく画像を表示させる場合、画像処理部２３０は、このボリュームデータに対してレンダリング処理（ボリュームレンダリングやＭＩＰ（Ｍａｘｉｍｕｍ  Ｉｎｔｅｎｓｉｔｙ  Ｐｒｏｊｅｃｔｉｏｎ：最大値投影）など）を施して、特定の視線方向から見たときの擬似的な３次元画像の画像データを形成する。表示部２４０等の表示デバイスには、この擬似的な３次元画像が表示される。
【０１５６】
また、３次元画像の画像データとして、複数の断層像のスタックデータを形成することも可能である。スタックデータは、複数の走査線に沿って得られた複数の断層像を、走査線の位置関係に基づいて３次元的に配列させることで得られる画像データである。すなわち、スタックデータは、元々個別の２次元座標系により定義されていた複数の断層像を、一つの３次元座標系により表現する（つまり一つの３次元空間に埋め込む）ことにより得られる画像データである。
【０１５７】
画像処理部２３０は、たとえば、前述のマイクロプロセッサ、ＲＡＭ、ＲＯＭ、ハードディスクドライブ、回路基板等を含んで構成される。
【０１５８】
（表示部、操作部）
表示部２４０は、ディスプレイを含んで構成される。操作部２５０は、キーボードやマウス等の入力デバイスや操作デバイスを含んで構成される。又、操作部２５０には、眼底観察装置１の筐体や外部に設けられた各種のボタンやキーが含まれていてもよい。
【０１５９】
なお、表示部２４０と操作部２５０は、それぞれ個別のデバイスとして構成される必要はない。たとえばタッチパネル方式のＬＣＤのように、表示部２４０と操作部２５０とが一体化されたデバイスを用いることも可能である。
【０１６０】
〔信号光の走査及びＯＣＴ画像について〕
信号光ＬＳの走査及びＯＣＴ画像について説明する。
【０１６１】
眼底観察装置１による信号光ＬＳの走査態様としては、たとえば、水平スキャン、垂直スキャン、十字スキャン、放射スキャン、円スキャン、同心円スキャン、螺旋スキャンなどがある。これらの走査態様は、眼底の観察部位、解析対象（網膜厚など）、走査に要する時間、走査の精密さなどを考慮して適宜に選択的に使用される。
【０１６２】
水平スキャンは、信号光ＬＳを水平方向（ｘ方向）に走査させるものである。水平スキャンには、垂直方向（ｙ方向）に配列された複数の水平方向に延びる走査線に沿って信号光ＬＳを走査させる態様も含まれる。この態様においては、走査線の間隔を任意に設定することが可能である。走査線の間隔を十分に狭くすることにより、前述の３次元画像を形成することができる（３次元スキャン）。垂直スキャンについても同様である。
【０１６３】
十字スキャンは、互いに直交する２本の直線状の軌跡（直線軌跡）からなる十字型の軌跡に沿って信号光ＬＳを走査するものである。放射スキャンは、所定の角度を介して配列された複数の直線軌跡からなる放射状の軌跡に沿って信号光ＬＳを走査するものである。なお、十字スキャンは放射スキャンの一例である。
【０１６４】
円スキャンは、円形状の軌跡に沿って信号光ＬＳを走査させるものである。同心円スキャンは、所定の中心位置の周りに同心円状に配列された複数の円形状の軌跡に沿って信号光ＬＳを走査させるものである。円スキャンは同心円スキャンの特殊例と考えられる。螺旋スキャンは、螺旋状の軌跡に沿って信号光ＬＳを走査するものである。
【０１６５】
走査ユニット１４１は、前述のような構成により、信号光ＬＳをｘ方向及びｙ方向にそれぞれ独立に走査できるので、ｘｙ面上の任意の軌跡に沿って信号光ＬＳを走査することが可能である。それにより、上記のような各種の走査態様を実現できる。
【０１６６】
上記のような態様で信号光ＬＳを走査することにより、走査線（走査軌跡）に沿った深度方向（ｘ方向）の断層像を形成することができる。また、特に走査線の間隔が狭い場合には、前述の３次元画像を形成することができる。
【０１６７】
［作用・効果］
以上のような眼底観察装置１の作用及び効果について説明する。
【０１６８】
眼底観察装置１は、信号光路に設置された偏光コントローラ３００と、参照光路に設置された偏光コントローラ４００とを有する。各偏光コントローラ３００、４００は、この発明に係る偏光コントローラである。すなわち、偏光コントローラ３００、４００は、それぞれ、光ファイバ１６４、１６３の径方向の対向位置に設けられ、光ファイバ１６４、１６３の側面に当接される平面部をそれぞれ有する一対の当接部材と、一対の平面部の間に配置され、光ファイバ１６４、１６３の径と略等しい厚さを有する部材と、一対の平面部の間隔を変更するように一対の当接部材を相対的に移動させる移動機構とを有する。
【０１６９】
このような偏光コントローラ３００、４００によれば、前述したように、光ファイバ１６４、１６３の軸方向に対して直交方向から一様に圧力を掛けることができるとともに、光ファイバ１６４、１６３を通過する信号光ＬＳや参照光ＬＲの偏光状態の経時的変動を抑えることができる。
【０１７０】
それにより、信号光ＬＳや参照光ＬＲの偏光状態を好適な状態に一旦設定すれば、良好な画質のＯＣＴ画像を従来よりも長期に亘って得ることが可能である。また、干渉光ＬＣの検出時において、好適な干渉光ＬＣを安定的に得ることができ、好適なＯＣＴ画像を安定的に形成することができる。つまり、ブレの無い（又は少ない）ＯＣＴ画像を得ることが可能である。
【０１７１】
なお、眼底観察装置１の参照光ＬＲには偏光板１７５が設けられており、この偏光板１７５によって参照光ＬＲの偏光状態を適宜に調整することも可能である。偏光板１７５による調整が間に合わなくなったときには、偏光コントローラ３００、４００による調整を行えばよい。
【０１７２】
眼底観察装置１には、信号光路と参照光路のそれぞれに偏光コントローラが設置されているが、この発明に係る光画像計測装置においては、信号光路と参照光路の少なくとも一方に偏光コントローラが設置されていれば十分である。しかし、信号光路と参照光路の双方に偏光コントローラを設けることにより、信号光の偏光状態と参照光の偏光状態とをより高精度で一致させることが可能である（双方の偏光状態を近づけるほど、眼底Ｅｆの状態をより高確度で反映した検出信号が得られる）。
【０１７３】
眼底観察装置１には、この発明に係る干渉計が搭載されている。すなわち、この干渉計は、第１の光ファイバを含む第１の導光路と、第２の光ファイバを含む第２の導光路と、第１の光ファイバ及び／又は第２の光ファイバに対して圧力を印加して当該光ファイバを通過する光の偏光状態を変化させる偏光コントローラとを有し、第１の導光路により導かれた光と第２の導光路により導かれた光とを重畳させて干渉光を生成するものであり、更に、上記偏光コントローラは、光ファイバの径方向の対向位置に設けられ、光ファイバの側面に当接される平面部をそれぞれ有する一対の当接部材と、一対の平面部の間に配置され、光ファイバの径と略等しい厚さを有する部材と、一対の平面部の間隔を変更するように一対の当接部材を相対的に移動させる移動機構とを備えるものである。
【０１７４】
このような干渉計によれば、光ファイバ１６４、１６３の軸方向に対して直交方向から一様に圧力を掛けることができるとともに、光ファイバ１６４、１６３を通過する信号光ＬＳや参照光ＬＲの偏光状態の経時的変動を抑えることが可能な偏光コントローラが設けられているので、偏光状態を好適な状態に一旦設定すれば、好適な干渉光を従来よりも長期に亘って得ることが可能である。また、干渉光の生成時において、好適な干渉光を安定的に得ることができる。つまり、ブレの無い（又は少ない）干渉光を得ることが可能である。
【０１７５】
［変形例］
以上に説明した構成は、この発明に係る光画像計測装置を好適に実施するための一例に過ぎない。よって、この発明の要旨の範囲内における任意の変形を適宜に施すことが可能である。
【０１７６】
偏光コントローラを自動で制御して、信号光や参照光の偏光状態を自動的に調整できるように構成することが可能である。一例として、偏光コントローラの調整ネジを回転駆動する機構（パルスモータ等）と、回転部等を回転駆動する機構（パルスモータ等）を設けるとともに、これら機構を演算制御装置２００にて制御するように構成できる。この制御は、たとえば、検出信号や干渉像を解析しつつ、調整ネジや回転部の位置を決定することにより実行できる。
【０１７７】
上記の実施形態では、フーリエドメインタイプの光画像計測装置について説明したが、スウェプトソースタイプやフルフィールドタイプ、更にはタイムドメインタイプの光画像計測装置に対して同様の偏光コントローラを搭載しても、同様の作用及び効果を得ることが可能である。
【０１７８】
また、光画像計測装置以外の任意の装置に対して、この発明に係る干渉計を搭載することも可能である。すなわち、干渉計が搭載された任意の装置に対して、この発明に係る偏光コントローラを適用することが可能である。
【０１７９】
上記の実施形態においては、参照ミラー１７４の位置を変更して信号光ＬＳの光路と参照光ＬＲの光路との光路長差を変更しているが、光路長差を変更する手法はこれに限定されるものではない。たとえば、被検眼Ｅに対して眼底カメラユニット１ＡやＯＣＴユニット１５０を移動させて信号光ＬＳの光路長を変更することにより光路長差を変更することができる。また、特に被測定物体が生体部位でない場合などには、被測定物体を深度方向（ｚ方向）に移動させることにより光路長差を変更することも有効である。
【符号の説明】
【０１８０】
１  眼底観察装置（光画像計測装置）
１Ａ  眼底カメラユニット
１４１  走査ユニット
１５０  ＯＣＴユニット
１６０  低コヒーレンス光源
１６１、１６３、１６４、１６５  光ファイバ
１６２  光カプラ
１７４  参照ミラー
１８０  スペクトロメータ
１８４  ＣＣＤ
２００  演算制御装置
２１０  制御部
２２０  画像形成部
２３０  画像処理部
２４０  表示部
２５０  操作部
３００、４００  偏光コントローラ
１０００、４０００  偏光コントローラ
１０１０  本体部
１０２０  回転部
１０２１  平面部
１０２２  サブファイバ保持部
１０３０  ブロック
１０３２  平面部
１０４０  バネ
１０８０  調整ネジ固定部
１１００  調整ネジ
１１２０  膜状部材
２０００  光ファイバ
３０００  サブファイバ
【図１】
2010197474.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図４】
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