(57)【要約】【課題】位置合せが容易な位置合せ方法を提供する。【解決手段】照明部より前記基板又はシートの面に対し斜め方向より光を入射させ、前記基板又はシートに設けられた前記位置合せマークの直上に設けられた撮像機器により、前記位置合せマークを撮像することにより位置合せを行う基板又はシートの位置合せ方法であって、前記位置合せマークは、前記基板又はシートに設けられた可視領域で透明な材料により形成されており、前記透明な材料の形成される領域と前記透明な材料の形成されない領域とが形成されたパターンにより形成されているものであることを特徴とする位置合せ方法により上記課題を解決する。【選択図】  図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
照明部より前記基板又はシートの面に対し斜め方向より光を入射させ、前記基板又はシートに設けられた前記位置合せマークの直上に設けられた撮像機器により、前記位置合せマークを撮像することにより位置合せを行う基板又はシートの位置合せ方法であって、
前記位置合せマークは、前記基板又はシートに設けられた可視領域で透明な材料により形成されており、前記透明な材料の形成される領域と前記透明な材料の形成されない領域とが形成されたパターンにより形成されているものであることを特徴とする位置合せ方法。
【請求項２】
前記位置合せマークは、２枚の基板又はシートに各々形成されるものであって、一方の基板又はシートに形成される位置合せマークに周期的に形成される前記透明な材料の形成される領域と前記透明な材料の形成されない領域とによるパターンと、他方の基板又はシートに形成される位置合せマークに周期的に形成される前記透明な材料の形成される領域と前記透明な材料の形成されない領域とによるパターンとは、異なるパターンであることを特徴とする請求項１に記載の基板又はシートの位置合せ方法。
【請求項３】
前記透明な材料の形成される領域の幅が１０μｍ以下であり、また、前記透明な材料の形成されない領域の幅が１０μｍ以下であることを特徴とする請求項１または２に記載の位置合せ方法。
【請求項４】
前記透明な材料は、透明導電膜であることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の位置合せ方法。
【請求項５】
２枚の基板又はシート上に位置合せマークを各々形成する位置合せマーク形成工程と、
前記位置合せマークに基づき、前記２枚の基板又はシートの位置合せを行う位置合せ工程と、
前記位置合せがされた前記２枚の基板又はシートを張り合わせる張り合わせ工程と、
前記２枚の基板又はシートの間に画像表示材料を封入する画像表示材料封入工程と、
を有する画像表示装置の製造方法であって、
前記位置合せマークは、前記基板又はシートに設けられた可視領域で透明な材料により形成されており、前記透明な材料の形成される領域と前記透明な材料の形成されない領域とが形成されたパターンにより形成されているものであることを特徴とする画像表示装置の製造方法。
【請求項６】
基板又はシート上に位置合せマークを各々形成する位置合せマーク形成工程と、
前記基板又はシート上に画像表示層を形成する画像表示層形成工程と、
前記画像表示層形成工程の後、前記位置合せマークを基準にレジストパターンを形成するレジストパターン形成工程と、
形成された前記レジストパターンに基づき電極を形成する電極形成工程と、
を有する画像表示装置の製造方法であって、
前記位置合せマークは、前記基板又はシートに設けられた可視領域で透明な材料により形成されており、前記透明な材料の形成される領域と前記透明な材料の形成されない領域とが形成されたパターンにより形成されているものであることを特徴とする画像表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、位置合せ方法及び画像表示装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
フラットパネルディスプレイ等の画像表示装置を製造する際、２枚の透明な基板又はシートを張り合わせる工程が必要な場合があり、２枚の透明な基板又はシートは、正確な位置合せを行った後に張り合わせが行われる。具体的には、２枚の透明な基板又はシートには双方に位置合せマークが形成されており、この位置合せマークを基準として位置合せを行った後、張り合わせが行われる。
【０００３】
通常のフラットパネルディスプレイの多くでは、電極としてＩＴＯ（Indium  Tin  Oxide）等の透明電極が用いられており、透明な基板又はシート上に透明導電膜を形成した後、この透明導電膜を加工することにより透明電極を形成している。この位置合せマークは、通常、透明電極を形成する際に同時に形成されることから、透明導電膜により形成されている。しかしながら、位置合せマークが形成される基板又はシートは透明であり、位置合せマークは透明導電膜により形成されていることから、ともに透明であるため、視覚により位置合せマークを認識し、位置合せを行うことは極めて困難を伴う作業である。
【０００４】
一方、位置合せマークを透明ではない金属膜等により形成する方法がある。この場合、位置合せマークは視覚的には認識されやすくなり、位置合せ作業等が容易となるものの、位置合せマークを形成するために金属膜等を形成する必要があり、製造工程及び製造時間が増加し、画像表示装置を製造する際の製造コストを上昇させる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開平９−１８９９１６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
よって、透明の基板又はシートを張り合わせることにより製造される画像表示装置等において、製造工程等を増加させることなく、視認性の高い位置合せマークが望まれている。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本実施の形態の一観点によれば、照明部より前記基板又はシートの面に対し斜め方向より光を入射させ、前記基板又はシートに設けられた前記位置合せマークの直上に設けられた撮像機器により、前記位置合せマークを撮像することにより位置合せを行う基板又はシートの位置合せ方法であって、前記位置合せマークは、前記基板又はシートに設けられた可視領域で透明な材料により形成されており、前記透明な材料の形成される領域と前記透明な材料の形成されない領域とが形成されたパターンにより形成されているものである。
【発明の効果】
【０００８】
開示の位置合せ方法及び画像表示装置の製造方法によれば、視認性の高い位置合せマークを得ることができ、容易に正確な位置合せを行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】位置合せマークの上面図
【図２】第１の実施の形態における位置合せマークの上面図
【図３】第１の実施の形態における位置合せマークの位置合せ方法の説明図
【図４】第１の実施の形態における位置合せマークに光を照射した場合の説明図
【図５】第１の実施の形態における位置合せマークにおける撮像画像の概念図
【図６】第２の実施の形態における位置合せマークの上面図
【図７】第２の実施の形態における位置合せマークの位置合せ方法の説明図
【図８】第２の実施の形態における位置合せマークに光を照射した場合の説明図
【図９】第２の実施の形態における位置合せマークの撮像画像の概念図
【図１０】第３の実施の形態における位置合せマークの説明図
【図１１】第３の実施の形態における位置合せマークの位置合せ方法の説明図
【図１２】第３の実施の形態における位置合せマークにおける撮像画像の概念図（１）
【図１３】第３の実施の形態における位置合せマークにおける撮像画像の概念図（２）
【図１４】第４の実施の形態における位置合せマークの説明図（１）
【図１５】第４の実施の形態における位置合せマークの説明図（２）
【図１６】第５の実施の形態における画像形成装置の製造方法を示すフローチャート
【図１７】第６の実施の形態における画像形成装置の製造方法を示すフローチャート
【図１８】第６の実施の形態における別の画像形成装置の製造方法を示すフローチャート
【発明を実施するための形態】
【００１０】
実施するための形態について、以下に説明する。
【００１１】
〔第１の実施の形態〕
第１の実施の形態における位置合せマーク及び位置合せ方法について説明する。図１は、従来からある透明のシートに形成された透明の位置合せマークを示すものである。この位置合せマーク１２は、透明のシート１１上に透明導電膜からなる位置合せマーク１２を十字の形状に形成したものである。画像表示装置であるフラットパネルディスプレイでは、材料の多くは可視領域において透明な材料で形成されていることから、通常、位置合せマークは透明導電膜等により形成されている。透明のシート１１も位置合せマーク１２もともに可視域では透明であることから、透明のシート１１上に形成された透明の位置合せマーク１２を人間の視覚において認識することは非常に困難である。
【００１２】
発明者は、図１に示す位置合せマーク１２において、位置合せマーク１２の周囲のエッジ部分１３が他の部分よりも明るくなることに気が付いた。通常、位置合せマーク１２は、シート１１上の全面に透明導電膜を形成した後、レジストパターンを形成し、ウエットエッチングにより、レジストパターンの形成されていない領域の透明導電膜を除去し、更に、レジストパターンを除去することにより形成される。尚、上記のレジストパターンは、透明電極の形成される領域及び位置合せマーク１２の形成される領域上に形成される。
【００１３】
従って、位置合せマーク１２の周囲の側面は、ウエットエッチングによりエッチングされたエッチング面であるため、面が粗く形成されている。よって、透明導電膜が除去された側面において入射した光が散乱され、位置合せマーク１２の周囲のエッジ部分１３が他の部分よりも明るくなるものと推察される。従って、透明導電膜が除去された側面となる部分を位置合せマークの内部に形成することにより、位置合せマーク全体を明るくすることができるということに想到したのである。
【００１４】
図２に基づき本実施の形態における位置合せマーク２２について説明する。図２（ａ）に示すように、本実施の形態における位置合せマーク２２は、位置合せマーク２２の形成される領域の内部において、透明導電膜の形成される領域２３と透明導電膜の形成されない領域２４とが格子状、又は市松模様状に二次元的に交互に周期的に形成されている。尚、透明導電膜の形成されない領域２４においては、シート２１の表面が露出している。図２（ｂ）は、図２（ａ）に示される位置合せマーク２２において、破線で囲まれた領域の拡大図である。図２（ｂ）に示すように、位置合せマーク２２の形成される領域に透明導電膜の形成される領域２３と透明導電膜の形成されない領域２４とを形成することにより、透明導電膜の形成される領域２３の側面に入射する光を散乱させることができる。これにより、位置合せマーク２２の全体を明るくすることができ、位置合せをしやすくすることができる。
【００１５】
次に、図３に基づき本実施の形態における位置合せマークの検出装置について説明する。本実施の形態における位置合せマークの検出装置は、シート２１上に形成された複数の位置合せマークのうち、異なる２つの位置合せマーク２２及び２５の略直上に、各々の位置合せマーク２２及び２５に対応する２台の位置合せマーク認識用カメラ３１、３２を設置したものである。具体的には、位置合せマーク２２の略直上となるシート２１面に対し垂直方向に、位置合せマーク認識用カメラ３１を設置し、位置合せマーク２５の略直上となるシート２１面に対し垂直方向に、位置合せマーク認識用カメラ３２を設置したものである。尚、位置合せマーク２２及び２５を含む全ての位置合せマークは略同一の形状で形成されている。撮像装置である位置合せマーク認識用カメラ３１、３２の各々には照明部３３、３４が設けられており、この照明部３３、３４が輪体照明となっており、各々の位置合せマーク２２及び２５に対し、斜め方向より光を照射する。また、位置合せマーク認識用カメラ３１及び３２は画像処理部３５に接続されている。
【００１６】
次に、図４に基づき本実施の形態における位置合せマーク２２に斜め方向より光を照射する場合について説明する。
【００１７】
位置合せマーク２２は、上述のとおり、透明導電膜の形成される領域２３と透明導電膜の形成されない領域２４により形成されている。位置合せマーク２２の形成されたシート２１に入射する光のうち、シート２１の表面に入射する入射光ａ１は、シート２１の表面は平坦性が高く鏡面に近いため、入射角と略同じ角度で反射し反射光ａ２となる。即ち、位置合せマーク２２の形成されていない領域及び位置合せマーク２２において透明導電膜の形成されない領域２４においては、入射角と略同じ角度で反射し反射光ａ２となる。従って、この反射する角度方向に撮像機器が設置されている場合には反射光ａ２を検出することができるが、この反射する角度以外の方向に撮像機器が設置されている場合では反射光ａ２を検出することはできない。よって、シート２１の表面に対し斜め方向より入射した入射光ａ１は、シート２１面に対し垂直方向に設置された撮像機器においては検出することができない。
【００１８】
一方、位置合せマーク２２に入射する光は、格子状、又は市松模様状に形成された位置合せマーク２２において、透明導電膜の形成される領域２３の側面に入射する入射光ｂ１と透明導電膜の形成される領域２３の表面に入射する入射光ｃ１とが存在する。透明導電膜の形成される領域２３の表面に入射する入射光ｃ１は、透明導電膜の表面はシート２１の表面と同様に平坦性が高いため、入射光ａ１と同様に、透明導電膜の形成される領域２３の表面において入射角と略同じ角度で反射する反射光ｃ２となる。よって、透明導電膜の形成される領域２３の表面に対し斜め方向より入射した入射光ｃ１は、シート２１に対し垂直方向に設置された撮像機器においては検出することができない。また、透明導電膜の形成される領域２３の側面に入射する入射光ｂ１は、透明導電膜の側面が、透明導電膜がウエットエッチングにより除去された面であることから面が粗くなっており、この面に入射した入射光ｂ１は散乱される。よって、透明導電膜の形成される領域２３の側面に入射する入射光ｂ１は散乱され散乱光となり、シート２１に対し垂直方向に進行する光ｂ２も発生する。尚、入射光ｂ１は散乱されるため散乱光は広がりをもった光となるが、図においては、後述する撮像機器により検出される光ｂ２のみを図示した。従って、シート２１面に対し垂直方向に設置された撮像機器においては、この光ｂ２が入射するため、位置合せマーク２２の全体が明るく映し出される。尚、位置合せマーク２５についても、位置合せマーク２２と同様である。
【００１９】
更に、図２（ｂ）に示すように、位置合せマーク２２及び２５における透明導電膜の形成される領域２３の幅Ｔ１は、位置合せマーク認識用カメラ３１、３２の撮像分解能以下で形成されていることが好ましく、具体的には、１０μｍ以下であることが好ましい。また、位置合せマーク２２及び２５における透明導電膜の形成されない領域２４の幅Ｔ２は、位置合せマーク認識用カメラ３１、３２の撮像分解能以下で形成されていることが好ましく、具体的には、１０μｍ以下であることが好ましい。撮像分解能以下の幅であれば、格子状に形成されたパターンの影響を受けることなく位置合せマーク２２及び２５を全体的に明るくすることができるため、視認性がより高まるからである。また、透明導電膜の形成される領域２３の側面は、ウエットエッチングにより形成されることから、透明導電膜の形成される領域２３の幅Ｔ１及び、透明導電膜の形成されない領域２４の幅Ｔ２は、２μｍ以上であることが好ましい。
【００２０】
図５に、図２に示す位置合せマーク２２及び２５を位置合せマーク認識用カメラ３１、３２により撮像した画像の状態を示す。図５（ｂ）は、図５（ａ）の位置合せマーク２２及び２５において、破線で囲まれた領域の拡大図である。図５（ｂ）に示されるように、位置合せマーク２２及び２５の形成されている領域では、透明導電膜の形成される領域２３と透明導電膜の形成されない領域２４との間の領域２９において明るくなり、従って、位置合せマーク２２及び２５の全体が明るく認識される。これにより、位置合せマーク２２及び２５が認識されやすくなり、位置合せマーク２２及び２５を基準とした位置合せ作業の効率を高めることができ、更には、フラットパネルディスプレイ等の画像表示装置を低コストで製造することができる。
【００２１】
〔第２の実施の形態〕
次に、第２の実施の形態について説明する。本実施の形態は、第１の実施の形態とは異なるパターンの位置合せマークである。
【００２２】
図６に本実施の形態における位置合せマークを示す。本実施の形態における位置合せマーク１２２は、シート１２１上において、十字の形状の位置合せマーク１２２の形成される領域において、透明導電膜の形成される領域１２３と透明導電膜の形成されない領域１２４とを縞状に交互に形成したものである。尚、図６（ｂ）は図６（ａ）に示す位置合せマーク１２２において、破線で囲まれた領域の拡大図である。
【００２３】
次に、図７に基づき本実施の形態における位置合せマークの検出装置について説明する。図７に示すように、位置合せマーク１２２において、透明導電膜の形成される領域１２３と透明導電膜の形成されない領域１２４とにより形成される縞に対し、入射光が直角となるように、斜方光源１３１より斜め方向より光を入射させる。同様に、位置合せマーク１２５において、透明導電膜の形成される領域と透明導電膜の形成されない領域とにより形成される縞に対し、入射光が直角となるように、斜方光源１３２より斜め方向より光を入射させる。また、シート１２１上に形成された複数の位置合せマークのうち、異なる２つの位置合せマーク１２２及び１２５の略直上に、各々の位置合せマーク１２２及び１２５に対応する２台の位置合せマーク認識用カメラ１３３及び１３４が設置される。具体的には、位置合せマーク１２２の略直上となるシート１２１面に対し垂直方向に、位置合せマーク認識用カメラ１３３を設置され、位置合せマーク１２５の略直上となるシート１２１面に対し垂直方向に、位置合せマーク認識用カメラ１３４を設置されている。位置合せマーク認識用カメラ１３３及び１３４は画像処理部１３５に接続されている。尚、位置合せマーク１２２及び１２５を含む全ての位置合せマークは略同一の形状で形成されている。
【００２４】
図８に基づき、本実施の形態における位置合せマーク１２２について説明する。本実施の形態における位置合せマーク１２２は、透明導電膜の形成される領域１２３と透明導電膜の形成されない領域１２４とが縞状に交互に形成されている。
【００２５】
位置合せマーク１２２は、上述のとおり、透明導電膜の形成される領域１２３と透明導電膜の形成されない領域１２４により形成されている。位置合せマーク１２２の形成されたシート１２１に入射する光のうち、シート１２１の表面に入射する入射光ｄ１は、シート１２１の表面は平坦性が高く鏡面に近いため、入射角と略同じ角度で反射し反射光ｄ２となる。即ち、位置合せマーク１２２の形成されていない領域及び位置合せマーク１２２において透明導電膜の形成されない領域１２４においては、入射角と略同じ角度で反射し反射光ｄ２となる。従って、この反射する角度方向に撮像機器が設置されている場合には反射光ｄ２を検出することができるが、この反射する角度以外の方向に撮像機器が設置されている場合では反射光ｄ２を検出することはできない。よって、シート１２１の表面に対し斜め方向より入射した入射光ｄ１は、シート１２１面に対し垂直方向に設置された撮像機器においては検出することができない。
【００２６】
一方、位置合せマーク１２２に入射する光は、縞状に形成された位置合せマーク１２２において、透明導電膜の形成される領域１２３の側面に入射する入射光ｅ１と透明導電膜の形成される領域１２３の表面に入射する入射光ｆ１とが存在する。透明導電膜の形成される領域１２３の表面に入射する入射光ｆ１は、透明導電膜の表面はシート１２１の表面と同様に平坦性が高いため、入射光ｄ１と同様に、透明導電膜の形成される領域１２３の表面において入射角と略同じ角度で反射する反射光ｆ２となる。よって、透明導電膜の形成される領域１２３の表面に対し斜め方向より入射した入射光ｆ１は、シート１２１に対し垂直方向に設置された撮像機器においては検出することができない。また、透明導電膜の形成される領域１２３の側面に入射する入射光ｅ１は、透明導電膜の側面が、透明導電膜がウエットエッチングにより除去された面であることから面が粗くなっており、この面に入射した入射光ｅ１は散乱される。よって、透明導電膜の形成される領域１２３の側面に入射する入射光ｅ１は散乱され散乱光となり、シート１２１に対し垂直方向に進行する光ｅ２も発生する。従って、シート１２１面に対し垂直方向に設置された撮像機器においては、この光ｅ２が入射するため、位置合せマーク１２２の全体が明るく映し出される。尚、位置合せマーク１２５についても、位置合せマーク１２２と同様である。
【００２７】
更に、図６（ｂ）に示すように、位置合せマーク１２２及び１２５における透明導電膜の形成される領域１２３の幅Ｔ３は、位置合せマーク認識用カメラ１３３及び１３４の撮像分解能以下で形成されていることが好ましく、１０μｍ以下であることが好ましい。また、位置合せマーク１２２及び１２５における透明導電膜の形成されない領域１２４の幅Ｔ４は、位置合せマーク認識用カメラ１３３及び１３４の撮像分解能以下で形成されていることが好ましく、１０μｍ以下であることが好ましい。撮像分解能以下の幅であれば、格子状に形成されたパターンの影響を受けることなく位置合せマーク１２２及び１２５を全体的に明るくすることができるため、視認性がより高まるからである。また、透明導電膜の形成される領域１２３の側面は、ウエットエッチングにより形成されることから、透明導電膜の形成される領域１２３の幅Ｔ３及び、透明導電膜の形成されない領域１２４の幅Ｔ４は、２μｍ以上であることが好ましい。
【００２８】
図９に、図６に示す位置合せマーク１２２及び１２５を位置合せマーク認識用カメラ１３３、１３４により撮像した画像の状態を示す。図９（ｂ）は、図９（ａ）の位置合せマーク１２２及び１２５において、破線で囲まれた領域の拡大図である。図９（ｂ）に示されるように、位置合せマーク１２２及び１２５の形成されている領域では、透明導電膜の形成される領域１２３と透明導電膜の形成されない領域１２４との間の領域１２９において明るくなるため、位置合せマーク１２２及び１２５の全体が明るく映し出される。これにより、位置合せマーク１２２及び１２５が認識されやすくなり、位置合せマーク１２２及び１２５を基準とした位置合せ作業の効率を高めることができ、更には、フラットパネルディスプレイ等の画像表示装置を低コストで製造することができる。
【００２９】
尚、上述した内容以外については、第１の実施の形態と同様である。
【００３０】
〔第３の実施の形態〕
次に、第３の実施の形態について説明する。本実施の形態は、第２の実施の形態と同様の位置合せマークを用いるものであり、位置合せの対象となる２枚の透明な基板又はシート上の各々の位置合せマークにおいて、透明導電膜により形成される縞の方向が異なる方向となるものである。
【００３１】
図１０に基づき本実施の形態について説明する。尚、図１０（ａ）は、上部の透明シート２２１と下部の透明のシート２３１の斜視図であり、図１０（ｂ）は、上部の透明シート２２１の位置合せマーク２２２の上面図であり、図１０（ｃ）は、下部の透明シート２３１の位置合せマーク２３２の上面図である。本実施の形態は、図１０（ｂ）に示すように、上部の透明のシート２２１に形成された十字の形状の位置合せマーク２２２と、下部の透明のシート２３１に形成された十字の形状の位置合せマーク２３２との位置合せを行うものである。上側の透明シート２２１上には、位置合せマーク２２２が形成される領域において、透明導電膜の形成される領域２２３と透明導電膜の形成されない領域２２４とが縞状に交互に形成されている。また、図１０（ｃ）に示すように、下部の透明のシート２３１上には、位置合せマーク２３２が形成される領域において、透明導電膜の形成される領域２３３と透明導電膜の形成されない領域２３４とが縞状に交互に形成されている。位置合せマーク２２２と位置合せマーク２３２とは略同一形状である。また、位置合せマーク２２２における透明導電膜の形成される領域２２３と透明導電膜の形成されない領域２２４との縞の向きと、位置合せマーク２３２における透明導電膜の形成される領域と透明導電膜の形成されない領域との縞の向きとは、９０°異なっている。
【００３２】
図１１に示すように、位置合せマーク２２２に光を照射するため、透明導電膜の形成される領域２２３と透明導電膜の形成されない領域２２４とにより形成される縞に対し、入射光が直角となるように上部斜方照明部２４１により斜め方向より光を入射させる。また、位置合せマーク２３２に光を照射するため、透明導電膜の形成される領域２３３と透明導電膜の形成されない領域２３４とにより形成される縞に対し、入射光が直角となるように下部斜方照明部２４２により斜め方向より光を入射させる。上部斜方照明部２４１により照射された光により位置合せマーク２２２の全体が明るくなり、下部斜方照明部２４２により照射された光により位置合せマーク２３２の全体が明るくなる。よって、位置合せマーク２２２と位置合せマーク２３２とを相対的に移動させた場合においても、位置合せマーク２２２と位置合せマーク２３２とを各々特定することができる。これら位置合せマーク２２２と位置合せマーク２３２からの光は、位置合せマーク２２２と位置合せマーク２３２の直上であって、上部の透明のシート２２１面及び下部の透明のシート２３１面に対し垂直方向に設置された撮像機器２４５により撮像される。この後、撮像された画像情報が画像処理部２４７に伝達され画像が表示される。
【００３３】
同様に、位置合せマーク２２５に光を照射するため、透明導電膜の形成される領域と透明導電膜の形成されない領域とにより形成される縞に対し、入射光が直角となるように上部斜方照明部２４３により斜め方向より光を入射させる。また、位置合せマーク２３５に光を照射するため、透明導電膜の形成される領域と透明導電膜の形成されない領域とにより形成される縞に対し、入射光が直角となるように下部斜方照明部２４４により斜め方向より光を入射させる。位置合せマーク２２２と位置合せマーク２３２の場合と同様に、位置合せマーク２２５に形成される縞の方向と位置合せマーク２３５に形成される縞の方向とは、９０°異なっている。これにより、上部斜方照明部２４３により照射された光により位置合せマーク２２５の全体を明るくすることができ、下部斜方照明部２４４により照射された光により位置合せマーク２３５の全体を明るくすることができる。よって、位置合せマーク２２５と位置合せマーク２３５とを相対的に移動させた場合においても、位置合せマーク２２５と位置合せマーク２３５とを各々特定することができる。これら位置合せマーク２２５と位置合せマーク２３５からの光は、位置合せマーク２２５と位置合せマーク２３５の直上であって、上部の透明のシート２２１面及び下部の透明のシート２３１面に対し垂直方向に設置された撮像機器２４６により撮像される。この撮像された画像情報が画像処理部２４７に伝達され表示される。
【００３４】
図１２に、図１０（ａ）に示す位置合せマーク２２２を位置合せマーク認識用カメラ２４５により撮像した画像の状態を示す。また、図１３に、図１０（ａ）に示す位置合せマーク２３２を位置合せマーク認識用カメラ２４５により撮像した画像の状態を示す。図１２に示されるように、位置合せマーク２２２の形成されている領域では、透明導電膜の形成される領域２２３と透明導電膜の形成されない領域２２４との間の領域２２９において明るくなり、従って、位置合せマーク２２２の全体が明るく認識される。また、図１３に示されるように、位置合せマーク２３２の形成されている領域では、透明導電膜の形成される領域２３３と透明導電膜の形成されない領域２３４との間の領域２３９において明るくなり、従って、位置合せマーク２３２の全体が明るく認識される。位置合せマーク２２２を照射する上部斜方照明部２４１と位置合せマーク２３２を照射する下部斜方照明部２４２とは異なるものであり、よって、位置合せマーク２２２と位置合せマーク２３２とを独立して識別することができる。これにより、位置合せマーク２２２及び２３２を基準とした位置合せ作業の効率を高めることができ、更には、フラットパネルディスプレイ等の画像表示装置を低コストで製造することができる。
【００３５】
尚、上述した内容以外については、第１及び第２の実施の形態と同様である。
【００３６】
〔第４の実施の形態〕
次に、第４の実施の形態について説明する。本実施の形態は、第１、２の実施の形態とは異なるパターンの位置合せマークである。
【００３７】
図１４に基づき本実施の形態における位置合せマークについて説明する。本実施の形態における位置合せマーク３２２は、透明のシート３２１上において、十字の形状に形成されている。位置合せマーク３２２は、位置合せマーク３２２の形成される領域において、透明導電膜の形成される領域３２３と透明導電膜の形成されない領域３２４とが略三角形の形状で形成されたものである。図１４（ａ）は、本実施の形態における位置合せマーク３２２を示すものであり、図１４（ｂ）は、位置合せマーク３２２において、破線で囲まれた領域の拡大図である。このような構造の位置合せマーク３２２であっても第１の実施の形態と同様に、位置合せマーク全体を明るくすることができる。
【００３８】
また、図１４（ｂ）に示す位置合せマーク３２２を上部の透明シートに形成し、下部の透明シートには、位置合せマーク３２２におけるパターンとは１８０°異なる向きのパターンを有する位置合せマークを形成することにより、各々独立して識別することができる。即ち、下部の透明シートに形成される位置合せマークは、図１５に示すように、位置合せマーク３２２とは１８０°異なる向きの透明導電膜の形成される領域３２３と透明導電膜の形成されない領域３２４とによるパターンを形成する。これにより、上部の透明シートにおける位置合せマークと下部の透明シートにおける位置合せマークとは、内部におけるパターンが異なるものとすることができる。従って、これら各々の位置合せマークについて、各々の位置合せマークに対応した各々の斜方照明部により光を照射することにより、第３の実施の形態と同様に上部の透明シートと下部の透明シートとを各々独立して識別することができる。
【００３９】
尚、上述した内容以外については、第１及び第３の実施の形態と同様である。
【００４０】
〔第５の実施の形態〕
次に、第５の実施の形態について説明する。本実施の形態は、第１から第４における位置合せマークを用いた画像表示装置の製造方法である。
【００４１】
図１６に基づき本実施の形態について説明する。
【００４２】
最初に、ステップ１０２（Ｓ１０２）において、透明シートに透明導電膜を形成する。具体的には、上部の透明シート及び下部の透明シート上にＩＴＯ等の透明導電膜を形成する。形成方法は塗布法等であるが、スパッタリング又は真空蒸着等により形成することも可能である。尚、透明シートに代えて透明基板を用いることも可能である。
【００４３】
次に、ステップ１０４（Ｓ１０４）において、透明シートの透明導電膜の形成された面にフォトレジストを塗布する。具体的には、フォトレジストをスピンコーター等により塗布する。尚、フォトレジストを塗布する代わりに、ドライフィルムレジスト等のレジストフィルムを透明シートに張り付ける方法であってもよい。
【００４４】
次に、ステップ１０６（Ｓ１０６）において、露光及び現像を行う。具体的には、透明電極及び位置合せマークのパターンが形成されているマスク又はレチクルを用い露光装置により露光し現像する。これにより、透明導電膜において透明電極及び第１から第４の実施の形態における位置合せマークの形成される領域上にレジストパターンが形成される。
【００４５】
次に、ステップ１０８（Ｓ１０８）において、ウエットエッチングを行う。ウエットエッチングを行うことにより、レジストパターンが形成されていない領域における透明導電膜が除去される。尚、レジストパターンが形成されている領域においては、レジストパターンにより保護されるため、透明導電膜はエッチングされることはない。
【００４６】
次に、ステップ１１０（Ｓ１１０）において、レジストパターンを除去する。具体的には、有機溶剤等によりレジストパターンを除去する。これにより、透明電極及び第１から第４の実施の形態における位置合せマークの形成された上部の透明シート及び下部の透明シートが形成される。尚、例えば、形成される画像表示装置が液晶表示装置である場合には、レジストパターンを除去した後、配向膜の形成及びラビング処理等が行われ、更に、必要に応じて、スペーサの形成やシールの形成が行われる。
【００４７】
次に、ステップ１１２（Ｓ１１２）において、透明シートの位置合せを行う。具体的には、第１から第４の実施の形態に記載されている方法により、上部の透明シートに形成された位置合せマークと下部の透明シートに形成された位置合せマークに基づき上部の透明シートと下部の透明シートとの相対的な位置合せを行う。
【００４８】
次に、ステップ１１４（Ｓ１１４）において、透明シートを張り合わせる。具体的には、ステップ１１２において位置合せがなされた状態で上部の透明シートと下部の透明シートとの張り合わせを行う。この後、画像表示をするための材料、例えば、形成される画像表示装置が液晶表示装置である場合には、液晶材料を上部の透明シートと下部の透明シートとの間に封入する。尚、上部の透明シートと下部の透明シートとを張り合わせる前に、液晶等の画像表示するための材料を下部の透明シートに滴下し、その後、上部の透明シートと下部の透明シートとを張り合わせる方法であってもよい。
【００４９】
このようにして、本実施の形態における画像表示装置の製造方法により、画像表示装置である液晶または電気泳動等のフラットパネルディスプレイを製造することができる。本実施の形態では、上部の透明シートと下部の透明シートとを短時間で容易に張り合わせることができるため、画像表示装置を低コストで製造することができる。
【００５０】
〔第６の実施の形態〕
次に、第６の実施の形態について説明する。本実施の形態は、第５の実施形態とは異なる第１、第２又は第４の実施の形態における位置合せマークを用いた画像表示装置の製造方法である。
【００５１】
図１７に基づき本実施の形態について説明する。
【００５２】
最初に、ステップ２０２（Ｓ２０２）において、透明シートに透明導電膜を形成する。具体的には、透明シート上に下部電極となるＩＴＯ等の透明導電膜を形成する。形成方法は、塗布法等であるが、スパッタリング又は真空蒸着等により形成することも可能である。尚、透明シートに代えて透明基板を用いることも可能である。
【００５３】
次に、ステップ２０４（Ｓ２０４）において、透明シートの透明導電膜の形成された面にフォトレジストを塗布する。具体的には、フォトレジストをスピンコーター等により塗布する。尚、フォトレジストを塗布する代わりに、ドライフィルムレジスト等のレジストフィルムを透明シートに張り付ける方法であってもよい。
【００５４】
次に、ステップ２０６（Ｓ２０６）において、露光及び現像を行う。具体的には、透明電極及び位置合せマークが形成されているマスク又はレチクルを用い露光装置により露光し現像する。これにより、透明導電膜において下部電極となる透明電極の形成される領域及び第１、第２又は第４の実施の形態における位置合せマークの形成される領域上にレジストパターンが形成される。
【００５５】
次に、ステップ２０８（Ｓ２０８）において、ウエットエッチングを行う。ウエットエッチングを行うことにより、レジストパターンが形成されていない領域における透明導電膜が除去される。
【００５６】
次に、ステップ２１０（Ｓ２１０）において、レジストパターンを除去する。具体的には、有機溶剤等によりレジストパターンを除去する。これにより、下部電極となる透明電極及び第１、第２又は第４の実施の形態における位置合せマークの形成された透明シートが形成される。
【００５７】
次に、ステップ２１２（Ｓ２１２）において、画像表示層が形成される。具体的には、例えば、形成される画像表示素子がエレクトロルミネッセンス等のディスプレイである場合、画像表示層として、誘電体層、発光層、誘電体層の積層膜が形成される。尚、位置合せマークの形成されている領域は、必要に応じてメタルマスク等により被われている。
【００５８】
次に、ステップ２１４（Ｓ２１４）において、導電膜を形成する。この導電膜は上部電極となるものであり、透明導電膜、金属膜のいずれであってもよい。尚、位置合せマークの形成されている領域は、必要に応じてメタルマスク等により被われている。
【００５９】
次に、ステップ２１６（Ｓ２１６）において、レジストパターンを形成する。具体的な形成方法は、ステップ２０４及び２０６と同様であり、フォトレジストの塗布、露光、現像を行うことによりレジストパターンを形成する。このレジストパターンを形成する際には、マスク又はレチクル等を用いて露光装置により露光が行われるが、透明シート上に形成されている位置合せマークを基準としてマスク又はレチクルの位置合せが行われた後、露光装置による露光が行われる。これにより、導電膜において上部電極が形成される領域上にレジストパターンが形成される。位置合せマークによる位置合せは、第１、第２又は第４の実施の形態に記載されている方法により行われる。
【００６０】
次に、ステップ２１８（Ｓ２１８）において、導電膜のエッチングが行われる。具体的には、レジストパターンの形成されていない領域の導電膜が除去される。このエッチングは、ウエットエッチング又はドライエッチングのいずれであってもよい。この後、レジストパターンを除去することにより上部電極が形成される。
【００６１】
このようにして、本実施の形態における画像表示装置の製造方法により、画像表示装置である液晶または電気泳動等のフラットパネルディスプレイを製造することができる。本実施の形態では、ステップ２１６において、露光する際に行われるマスク又はレチクルの位置合せを短時間で容易に行うことができるため、画像表示装置を低コストで製造することができる。
【００６２】
次に、図１８に基づき、本実施の形態における別の画像表示装置の製造方法について説明する。
【００６３】
最初に、ステップ３０２（Ｓ３０２）において、透明シートに透明導電膜を形成する。具体的には、透明シート上に下部電極となるＩＴＯ等の透明導電膜を形成する。形成方法は、塗布法等であるが、スパッタリング又は真空蒸着等により形成することも可能である。尚、透明シートに代えて透明基板を用いることも可能である。
【００６４】
次に、ステップ３０４（Ｓ３０４）において、透明シートの透明導電膜の形成された面にフォトレジストを塗布する。具体的には、フォトレジストをスピンコーター等により塗布する。尚、フォトレジストを塗布する代わりに、ドライフィルムレジスト等のレジストフィルムを透明シートに張り付ける方法であってもよい。
【００６５】
次に、ステップ３０６（Ｓ３０６）において、露光及び現像を行う。具体的には、透明電極及び位置合せマークが形成されているマスク又はレチクルを用い露光装置により露光し現像する。これにより、透明導電膜において下部電極となる透明電極の形成される領域及び第１、第２又は第４の実施の形態における位置合せマークの形成される領域上にレジストパターンが形成される。
【００６６】
次に、ステップ３０８（Ｓ３０８）において、ウエットエッチングを行う。ウエットエッチングを行うことにより、レジストパターンが形成されていない領域における透明導電膜が除去される。
【００６７】
次に、ステップ３１０（Ｓ３１０）において、レジストパターンを除去する。具体的には、有機溶剤等によりレジストパターンを除去する。これにより、下部電極となる透明電極及び第１、第２又は第４の実施の形態における位置合せマークの形成された透明シートが形成される。
【００６８】
次に、ステップ３１２（Ｓ３１２）において、画像表示層が形成される。具体的には、例えば、形成される画像表示素子がエレクトロルミネッセンス等のディスプレイである場合、画像表示層として、誘電体層、発光層、誘電体層の積層膜が形成される。尚、位置合せマークの形成されている領域は、必要に応じてメタルマスク等により被われている。
【００６９】
次に、ステップ３１４（Ｓ３１４）において、レジストパターンを形成する。具体的な形成方法は、ステップ３０４及び３０６と同様であり、フォトレジストの塗布、露光、現像を行うことによりレジストパターンを形成する。このレジストパターンを形成する際には、マスク又はレチクル等を用いて露光装置により露光が行われるが、透明シート上に形成されている位置合せマークを基準としてマスク又はレチクルの位置合せが行われた後、露光装置による露光が行われる。位置合せマークによる位置合せは、第１、第２又は第４の実施の形態に記載されている方法により行われる。これにより、導電膜において上部電極が形成される領域以外の領域上にレジストパターンが形成される。
【００７０】
次に、ステップ３１６（Ｓ３１６）において、導電膜を形成する。この導電膜は上部電極となるものであり、透明導電膜、金属膜のいずれであってもよい。
【００７１】
次に、ステップ３１８（Ｓ３１８）において、リフトオフが行われる。具体的には、有機溶剤等により、レジストパターン上に形成された導電膜をレジストパターンとともに除去される。これにより上部電極が形成される。
【００７２】
これにより、画像表示装置である液晶または電気泳動等のフラットパネルディスプレイを製造することができる。本実施の形態では、ステップ３１４において、露光する際に行われるマスク又はレチクルの位置合せを短時間で容易に行うことができるため、画像表示装置を低コストで製造することができる。
【００７３】
以上、実施の形態について詳述したが、特定の実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載された範囲内において、種々の変形及び変更が可能である。
【００７４】
以上の説明に関し、更に以下の付記を開示する。
（付記１）
照明部より前記基板又はシートの面に対し斜め方向より光を入射させ、前記基板又はシートに設けられた前記位置合せマークの直上に設けられた撮像機器により、前記位置合せマークを撮像することにより位置合せを行う基板又はシートの位置合せ方法であって、
前記位置合せマークは、前記基板又はシートに設けられた可視領域で透明な材料により形成されており、前記透明な材料の形成される領域と前記透明な材料の形成されない領域とが形成されたパターンにより形成されているものであることを特徴とする位置合せ方法。
（付記２）
前記位置合せマークは、２枚の基板又はシートに各々形成されるものであって、一方の基板又はシートに形成される位置合せマークに周期的に形成される前記透明な材料の形成される領域と前記透明な材料の形成されない領域とによるパターンと、他方の基板又はシートに形成される位置合せマークに周期的に形成される前記透明な材料の形成される領域と前記透明な材料の形成されない領域とによるパターンとは、異なるパターンであることを特徴とする付記１に記載の基板又はシートの位置合せ方法。
（付記３）
前記一方の基板又はシートに形成される位置合せマークに周期的に形成される前記透明な材料の形成される領域と前記透明な材料の形成されない領域とによるパターンと、前記他方の基板又はシートに形成される位置合せマークに周期的に形成される前記透明な材料の形成される領域と前記透明な材料の形成されない領域とによるパターンとは、同一の形状のパターンであって、周期的な配列方向が異なるものであることを特徴とする付記２に記載の基板又はシートの位置合せ方法。
（付記４）
前記位置合せマークにおける前記透明な材料の形成される領域と前記透明な材料の形成されない領域とが、格子状、市松模様状、帯状又は三角形状のいずれかの形状で形成されていることを特徴とする付記１から３のいずれかに記載の位置合せ方法。
（付記５）
前記透明な材料の形成される領域の幅が１０μｍ以下であり、また、前記透明な材料の形成されない領域の幅が１０μｍ以下であることを特徴とする付記１から４のいずれかに記載の位置合せ方法。
（付記６）
前記透明な材料は、透明導電膜であることを特徴とする付記１から５のいずれかに記載の位置合せ方法。
（付記７）
前記透明導電膜は、ＩＴＯであることを特徴とする付記６に記載の位置合せマーク。
（付記８）
２枚の基板又はシート上に位置合せマークを各々形成する位置合せマーク形成工程と、
前記位置合せマークに基づき、前記２枚の基板又はシートの位置合せを行う位置合せ工程と、
前記位置合せがされた前記２枚の基板又はシートを張り合わせる張り合わせ工程と、
前記２枚の基板又はシートの間に画像表示材料を封入する画像表示材料封入工程と、
を有する画像表示装置の製造方法であって、
前記位置合せマークは、前記基板又はシートに設けられた可視領域で透明な材料により形成されており、前記透明な材料の形成される領域と前記透明な材料の形成されない領域とが形成されたパターンにより形成されているものであることを特徴とする画像表示装置の製造方法。
（付記９）
基板又はシート上に位置合せマークを各々形成する位置合せマーク形成工程と、
前記基板又はシート上に画像表示層を形成する画像表示層形成工程と、
前記画像表示層形成工程の後、前記位置合せマークを基準にレジストパターンを形成するレジストパターン形成工程と、
形成された前記レジストパターンに基づき電極を形成する電極形成工程と、
を有する画像表示装置の製造方法であって、
前記位置合せマークは、前記基板又はシートに設けられた可視領域で透明な材料により形成されており、前記透明な材料の形成される領域と前記透明な材料の形成されない領域とが形成されたパターンにより形成されているものであることを特徴とする画像表示装置の製造方法。
（付記１０）
前記位置合せマークは、前記基板又はシート上に透明電極を形成する際に同時に形成されるものであることを特徴とする付記９又は１０に記載の画像表示装置の製造方法。
【符号の説明】
【００７５】
２１        透明シート
２２        位置合せマーク
２３        透明導電膜の形成される領域
２４        透明導電膜の形成されない領域
２５        位置合せマーク
３１        位置合せマーク認識用カメラ
３２        位置合せマーク認識用カメラ
３３        照明部
３４        照明部
３５        画像処理部
【図１】
2010278144.tif 000003
【図２】
2010278144.tif 000004
【図３】
2010278144.tif 000005
【図４】
2010278144.tif 000006
【図５】
2010278144.tif 000007
【図６】
2010278144.tif 000008
【図７】
2010278144.tif 000009
【図８】
2010278144.tif 000010
【図９】
2010278144.tif 000011
【図１０】
2010278144.tif 000012
【図１１】
2010278144.tif 000013
【図１２】
2010278144.tif 000014
【図１３】
2010278144.tif 000015
【図１４】
2010278144.tif 000016
【図１５】
2010278144.tif 000017
【図１６】
2010278144.tif 000018
【図１７】
2010278144.tif 000019
【図１８】
2010278144.tif 000020