(57)【要約】【課題】製造工程に起因する凹凸構造の傷や剥がれを防止する。【解決手段】第１の表面２０ａ及び第１の表面と反対側の表面である第２の表面２０ｂを有する長尺の主フィルム２０であって、第１の表面に第１の凹凸構造３０を有する主フィルムを準備する（Ａ）工程、および主フィルムをロール状に巻き取る（Ｂ）工程を含む、グリッド偏光フィルムの製造方法であって、（Ａ）工程および（Ｂ）工程において、第１の表面と接触する接触面６０ａと、第１の表面との静摩擦係数が１．０以下であり、接触面の表面粗さが式（１）および（２）を満たす、グリッド偏光フィルムの製造方法。  ０．０５μｍ≦Ｒａ≦５．０μｍ・・・（１）  ０．１μｍ≦Ｓｍ≦１０μｍ・・・（２）  （Ｒａは平均粗さであり、Ｓｍは平均周期である。）【選択図】図１−２
2010175773.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の表面及び前記第１の表面と反対側の表面である第２の表面を有する長尺の主フィルムであって、前記第１の表面に第１の凹凸構造を有する主フィルムを準備する（Ａ）工程、および
前記主フィルムをロール状に巻き取る（Ｂ）工程を含む、グリッド偏光フィルムの製造方法であって、
前記（Ａ）工程および前記（Ｂ）工程において、前記第１の表面と接触する接触面と、前記第１の表面との静摩擦係数が１．０以下であり、
前記接触面の表面粗さが式（１）および（２）を満たす、グリッド偏光フィルムの製造方法。
０．０５μｍ≦Ｒａ≦５．０μｍ・・・（１）
０．１μｍ≦Ｓｍ≦１０μｍ・・・（２）
（Ｒａは平均粗さであり、Ｓｍは平均周期である。）
【請求項２】
前記接触面が、前記第２の表面を含む、請求項１に記載のグリッド偏光フィルムの製造方法。
【請求項３】
前記主フィルムが、前記第２の表面側の最外層に位置する基材フィルムを備え、前記基材フィルムの前記第２の表面側の面が、前記接触面を構成する、請求項２に記載のグリッド偏光フィルムの製造方法。
【請求項４】
前記基材フィルムの前記第２の表面側の面が、第２の凹凸構造を有する面であり、かつ該第２の凹凸構造を有する面が、前記接触面を構成する、請求項３に記載のグリッド偏光フィルムの製造方法。
【請求項５】
前記主フィルムが、前記第２の表面側の最外層に位置する接触コート層を備え、前記接触コート層の前記第２の表面側の面が、前記接触面を構成する、請求項１に記載のグリッド偏光子の製造方法。
【請求項６】
前記接触コート層が、粒子と有機材料とを含む、請求項５に記載のグリッド偏光フィルムの製造方法。
【請求項７】
前記接触面が、前記（Ａ）工程及び前記（Ｂ）工程においてフィルムを搬送するために用いる搬送ロールの表面を含む、請求項１〜６のいずれか１項に記載のグリッド偏光フィルムの製造方法。
【請求項８】
前記主フィルムが、前記第１の表面側の最外層に、透明な材料からなる層を備え、前記透明な材料からなる層が、前記第１の凹凸構造を構成する、請求項１〜７のいずれか１項に記載のグリッド偏光フィルムの製造方法。
【請求項９】
前記主フィルムが、前記第１の表面側の最外層に、線状に配列した線状金属部材を有し、前記線状金属部材が、前記第１の凹凸構造を構成する、請求項１〜７のいずれか一項に記載のグリッド偏光フィルムの製造方法。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれか１項に記載の方法で製造されたグリッド偏光フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、グリッド偏光フィルムおよびその製造方法に関し、詳しくは製造工程に起因する損傷を効果的に防止できるグリッド偏光フィルムの製造方法およびこの製造方法により製造されるグリッド偏光フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
生産性が高いといった理由から、長尺の樹脂フィルムを送り出しロールから巻き取りロールへと巻き取りながら、繰り出された樹脂フィルムの露出面に対してロールトゥロールでスパッタや蒸着といった種々の処理工程を実施する、グリッド偏光フィルムの製造方法が知られている。
【０００３】
このような製造方法により製造されるグリッド偏光フィルムとしては、例えば、高温高湿環境下でも光学特性の劣化のないグリッド偏光フィルムを提供することを目的として、面内のレターデーション値のばらつきおよび光軸のばらつきが小さい樹脂フィルムの表面および／または内部に、互いに略平行に配置される複数のグリッド線を設けるものが知られている（特許文献１参照。）。
【０００４】
また、例えば均一性の高いグリッド偏光フィルムを高精度に高速に製造することを目的として、凹凸構造が設けられたエンドレスベルト状またはロール状モールド上に、樹脂溶液層を形成する工程と、樹脂溶液層中の溶媒が完全に乾燥する前に、樹脂溶液層と、その溶媒を吸収する、または溶媒により溶解する樹脂を含むフィルム支持体とを貼り合わせる工程と、樹脂溶液層とフィルム支持体とが貼り合わされた光学フィルム中の溶媒が完全に乾燥する前に、光学フィルムをモールドから剥離する工程とからなる、グリッド偏光フィルムの製造方法が知られている（特許文献２参照。）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００７-０５７９７１号公報
【特許文献２】特開２００７-３１３８８８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
前述の特許文献１および２が開示するグリッド偏光フィルムの製造方法によれば、製造工程において、製造途中であるかまたは完成した長尺のグリッド偏光フィルムを、送り出しロールから巻き取りロールへとロール状に巻き取る際に、光学的な機能に関わる微細な凹凸構造と、この凹凸構造に接触する部材の接触面との間で発生する摩擦により、形成された凹凸構造に傷や剥がれが発生してしまうおそれがある。結果として製造されるグリッド偏光フィルムの光学特性が悪化して、所望の光学特性が得られないおそれがある。
【０００７】
本発明者らは鋭意研究を進めたところ、微細な凹凸構造を有する長尺のグリッド偏光フィルムにおいて、微細な凹凸構造とこれに接触する部材の接触面との静摩擦係数および部材の接触面の表面粗さを所定の範囲内に調整すれば、形成された微細な凹凸構造に傷や剥がれといった欠陥（擦傷、すなわち損傷）が発生せず、結果として全領域で光学特性が均一な長尺のグリッド偏光フィルムが得られることを見出し、本発明を完成させるに至った。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、下記を提供する。
〔１〕  第１の表面及び前記第１の表面と反対側の表面である第２の表面を有する長尺の主フィルムであって、前記第１の表面に第１の凹凸構造を有する主フィルムを準備する（Ａ）工程、および前記主フィルムをロール状に巻き取る（Ｂ）工程を含む、グリッド偏光フィルムの製造方法であって、前記（Ａ）工程および前記（Ｂ）工程において、前記第１の表面と接触する接触面と、前記第１の表面との静摩擦係数が１．０以下であり、前記接触面の表面粗さが式（１）および（２）を満たす、グリッド偏光フィルムの製造方法。
０．０５μｍ≦Ｒａ≦５．０μｍ・・・（１）
０．１μｍ≦Ｓｍ≦１０μｍ・・・（２）
（Ｒａは平均粗さであり、Ｓｍは平均周期である。）
〔２〕  前記接触面が、前記第２の表面を含む、〔１〕に記載のグリッド偏光フィルムの製造方法。
〔３〕  前記主フィルムが、前記第２の表面側の最外層に位置する基材フィルムを備え、前記基材フィルムの前記第２の表面側の面が、前記接触面を構成する、〔２〕に記載のグリッド偏光フィルムの製造方法。
〔４〕  前記基材フィルムの前記第２の表面側の面が、第２の凹凸構造を有する面であり、かつ該第２の凹凸構造を有する面が、前記接触面を構成する、〔３〕に記載のグリッド偏光フィルムの製造方法。
〔５〕  前記主フィルムが、前記第２の表面側の最外層に位置する接触コート層を備え、前記接触コート層の前記第２の表面側の面が、前記接触面を構成する、〔１〕に記載のグリッド偏光子の製造方法。
〔６〕  前記接触コート層が、粒子と有機材料とを含む、〔５〕に記載のグリッド偏光フィルムの製造方法。
〔７〕  前記接触面が、前記（Ａ）工程及び前記（Ｂ）工程においてフィルムを搬送するために用いる搬送ロールの表面を含む、〔１〕〜〔６〕のいずれか１つに記載のグリッド偏光フィルムの製造方法。
〔８〕  前記主フィルムが、前記第１の表面側の最外層に、透明な材料からなる層を備え、前記透明な材料からなる層が、前記第１の凹凸構造を構成する、〔１〕〜〔７〕のいずれか１つに記載のグリッド偏光フィルムの製造方法。
〔９〕  前記主フィルムが、前記第１の表面側の最外層に、線状に配列した線状金属部材を有し、前記線状金属部材が、前記第１の凹凸構造を構成する、〔１〕〜〔７〕のいずれか１つに記載のグリッド偏光フィルムの製造方法。
〔１０〕  〔１〕〜〔９〕のいずれか１つに記載の方法で製造されたグリッド偏光フィルム。
【発明の効果】
【０００９】
本発明のグリッド偏光フィルムの製造方法によれば、製造工程に起因する、凹凸構造の傷や剥がれといった欠陥を、効果的に防止することができる。よって、光学的特性が全領域で均一な長尺のグリッド偏光フィルム、ひいては光学特性の良好なグリッド偏光フィルムを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１−１】図１−１は、本発明の製造方法により製造されるグリッド偏光フィルムの構成例を概略的に示す図である。
【図１−２】図１−２は、図１−１に示したＩ−ＩＩ一点鎖線で切断した切断面を概略的に示す図である。
【図２】図２は、本発明の製造方法により製造されるグリッド偏光フィルムの別の構成例の切断面を概略的に示す図である。
【図３】図３は、本発明の製造方法を説明するための概略図である。
【図４−１】図４−１は、本発明の製造方法により製造されたグリッド偏光フィルムの写真図である。
【図４−２】図４−２は、比較例にかかるグリッド偏光フィルムの写真図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、図を参照して、本発明の実施形態につき説明する。なお、各図は、発明が理解できる程度に、構成要素の形状、大きさおよび配置が概略的に示されているに過ぎない。本発明は以下の説明によって限定されるものではなく、各構成要素は本発明の要旨を逸脱しない範囲において適宜変更可能である。また、以下の説明に用いる各図において、同様の構成要素については同一の符号を付して示し、重複する説明を省略する場合がある。
【００１２】
本発明のグリッド偏光フィルムの製造方法は、凹凸構造と接触する接触面の静摩擦係数および接触面の表面粗さを調節する点に特徴を有している。
【００１３】
図１−１、図１−２および図２を参照して、本発明の製造方法により製造される長尺のグリッド偏光フィルムの構成例につき説明する。
【００１４】
＜構成例１＞
図１−１は構成例１の長尺のグリッド偏光フィルムの構成を説明するための概略的な図であり、図１−２は図１−１に示すＩ−ＩＩ一点鎖線で切断した切断面を概略的に示す図である。
【００１５】
図１−１および図１−２に示されるように、グリッド偏光フィルム１０は、主フィルム２０を含んでいる。主フィルム２０は、第１の表面２０ａと、この第１の表面２０ａとは反対側の面である第２の表面２０ｂとを有している。主フィルム２０の第１の表面２０ａには第１の凹凸構造３０が設けられる。
【００１６】
主フィルム２０は、第１の表面２０ａ側の最外層として第１フィルム２２を備えている。第１フィルム２２は、第１表面２２ａと、この第１表面２２ａの反対側の第２表面２２ｂとを有している。
【００１７】
第１フィルム２２の材質は、入射した光の少なくとも一部を透過させることができ、グリッド偏光フィルムとして機能しうることを条件として、任意好適な材質とすることができる。具体的には、第１フィルム２２は、透明樹脂などの透明な材料からなる有機材料の層とすることが、光透過性能と加工の容易さとの観点から好ましい。
【００１８】
かかる透明樹脂は、熱可塑性樹脂であってもよいし、硬化性樹脂を硬化させたものであってもよいが、後述する第１の凹凸構造３０の凸部３２（畝）および凹溝部３４を容易に形成できるという観点から、少なくとも凸部３２の部分に関しては硬化性樹脂を硬化させたものとするのが好ましい。
【００１９】
透明な熱可塑性樹脂としては、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアクリレート樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、脂環式構造含有重合体などが挙げられる。これらのうち、転写性の観点から、脂環式構造重合体が好適である。
【００２０】
硬化性樹脂としては、熱硬化性のものと、エネルギー線硬化性のものとがある。なお、ここでいうエネルギー線とは、可視光線、紫外線、電子線、Ｘ線などである。
【００２１】
熱硬化性樹脂の具体例としては、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、珪素樹脂、ポリシロキサン樹脂などが挙げられる。
【００２２】
エネルギー線硬化性樹脂としては、ラジカル重合性不飽和基および/またはカチオン重合性基を有する低分子量化合物、または樹脂などが挙げられる。なお、ラジカル重合性不飽和基および/またはカチオン重合性基は、１分子中に２つ以上含まれていてもよい。
【００２３】
ラジカル重合性不飽和基を有する低分子量化合物としては、エチレン、プロピレンなどのα−オレフィン；ブタジエン、イソプレンなどの共役ジエン化合物；スチレン、α−メチルスチレン、ｔ−ブチルスチレン、ジビニルベンゼン、ビニルナフタレン、４−ビニルピリジンなどのラジカル反応性芳香族化合物；アクリル酸、メタクリル酸、フマール酸、マレイン酸、エンド−ビシクロ［２．２．１］−５−ヘプテン−２，８−ジカルボン酸（エンディック酸）、テトラヒドロフタル酸、イタコン酸、シトラコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸などの不飽和カルボン酸；アクリル酸クロライド、メタクリル酸クロライド、マレイン酸クロライドなどの不飽和カルボン酸のハライド；アクリルアミド、メタクリルアミド、マレイミドなどの不飽和カルボン酸のアミドまたはイミド誘導体；無水マレイン酸、無水エンディック酸、無水シトラコン酸などの不飽和カルボン酸の無水物；マレイン酸モノメチル、マレイン酸ジメチル、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、アリル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、フエノキシエチル（メタ）アクリレート、へキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメチロールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロピオン酸・ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、プロピオン酸・ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールへキサ（メタ）アクリレートなどの不飽和カルボン酸のエステル誘導体；ビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ｐ−スチリルトリメトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシトリエトキシシランなどのラジカル反応不飽和基を有するシラン化合物；などが挙げられる。
【００２４】
カチオン重合性基を有する低分子量化合物としては、ジシクロペンタジエンジオキサイド、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ビス（２，３−エポキシシクロペンチル）エーテル、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート、ビス（３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシルメチル）アジペート、（３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシル）メチル−３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）アセタール、エチレングリコールのビス（３，４−エポキシシクロヘキシル）エーテル、エチレングリコールの３，４−エポキシシクロヘキサンカルボン酸ジエステルなどの脂環式エポキシ基を含有する化合物；エチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリンジグリシジルエーテル、ジグリセリンテトラグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、スピログリコールジグリシジルエーテルなどのグリシジル基を含有するエポキシ化合物；３−エチル−３−メトキシメチルオキセタン、３−エチル−３−エトキシメチルオキセタン、３−エチル−３−ブトキシメチルオキセタン、３−エチル−３−アリルオキシメチルオキセタン、３−メチル−３−ヒドロキシメチルオキセタン、３−エチル−３−ヒドロキシメチルオキセタン、３−エチル−３−（２’−ヒドロキシエチル）オキシメチルオキセタン、３−エチル−３−（２’−ヒドロキシ−３’−フェノキシプロピル）オキシメチルオキセタン、３−エチル−３−（２’−ヒドロキシ−３’−ブトキシプロピル）オキシメチルオキセタン、３−エチル−３−［２’−（２”−エトキシエチル）オキシメチル］オキセタンなどのオキセタン環を含有する化合物；などが挙げられる。
【００２５】
ラジカル重合性不飽和基またはカチオン重合性基を有する樹脂としては、低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂などの側鎖にラジカル重合性不飽和基またはカチオン重合性基を有する樹脂が挙げられる。
【００２６】
エネルギー線として紫外線や可視光線を用いる場合には、硬化性樹脂の中に光重合開始剤、光増感剤などを含ませる。光重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、テトラメチルチウラムモノサルファイド、チオキサントン類などが挙げられる。光増感剤としてｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィンなどが挙げられる。
【００２７】
第１フィルム２２を構成する透明樹脂は、加工性の観点からガラス転移温度（Ｔｇ）が６０〜２００℃であることが好ましく、１００〜１８０℃であることがより好ましい。なお、ガラス転移温度は示差走査熱量分析（ＤＳＣ）により測定することができる。
【００２８】
透明樹脂は、顔料や染料といった着色剤、蛍光増白剤、分散剤、熱安定剤、光安定剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、酸化防止剤、滑剤、溶剤などの配合剤が適宜配合されたものであってもよい。
【００２９】
透明樹脂は、波長５５０ｎｍで測定したレターデーションＲｅが、５０ｎｍ以下であることが好ましく、２０ｎｍ以下であることがより好ましい。また、面内の任意２点のレターデーションＲｅの差（レターデーションむら）は、好ましくは１０ｎｍ以下であり、より好ましくは５ｎｍ以下である。レターデーションＲｅが大きく、またレターデーションむらが大きいと、液晶表示装置に用いた場合に表示面の明るさにバラツキが生じやすくなる。なお、Ｒｅはｄ×（ｎx−ｎy）で定義される値である（ｎx：面内の遅相軸方向の屈折率、ｎy：遅相軸に面内で直交する方向の屈折率、ｄ：平均厚さ）。
【００３０】
透明樹脂は、１００℃で２時間真空乾燥した後の重量ｗ0から、８０℃の温水に２４時間浸漬し、次いで１００℃で２時間真空乾燥した後の重量ｗ1への重量減量が、ｗ0の１％以下であることが好ましく、０．８％以下であることがより好ましい。
【００３１】
主フィルム２０は、この例では第１の基材フィルム２４を備えている。すなわち、主フィルム２０は、この例では２層の構成とされている。この第１の基材フィルム２４は任意の構成要素であり、グリッド偏光フィルム１０は、こうした基材フィルムを含まない構成としてもよい。第１の基材フィルム２４は、表面２４ａおよびこの表面２４ａとは反対側の裏面２４ｂとを有している。第１の基材フィルム２４は、第１フィルム２２の第２表面２２ｂ側に積層されている。第１の基材フィルム２４の表面２４ａは、第１フィルム２２の第２表面２２ｂと接触するように積層され、第１フィルム２２の第１表面２２ａが露出面、すなわち主フィルム２０の第１の表面２０ａとされている。
第１の基材フィルム２４の材料としては、グリッド偏光フィルムの構成要素として許容される程度の透明度を有する各種の樹脂を用いればよい。第１の基材フィルム２４の材料としては、具体的には、ポリカーボネート樹脂、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、および脂環式構造含有重合体などが挙げられる。これらのうち、ポリカーボネート樹脂、脂環式構造含有重合体が好適である。
【００３２】
第１の基材フィルム２４の厚さは、特に限定されないが、その下限を好ましくは５μｍ程度、より好ましくは２０μｍ程度とするのがよい。また、厚さの上限を好ましくは１０ｍｍ程度、より好ましくは５００μｍ程度とするのがよい。
上記下限以上の厚さとすることにより、応力分散の効果を良好に発揮し耐擦傷性を向上させることができ、また機械的強度を確保することができる。また、上記上限以下の厚さとすることにより、より軽量化することができ、かつ透過する光の損失を低減することができる。
【００３３】
グリッド偏光フィルム１０が基材フィルムを備える態様は、下記の理由により好ましい。
（１）後述する第１の凹凸構造３０を、より硬度の高いものとすることができ、そのため第１の凹凸構造３０が強固でありながらより効果的な応力分散ができ、その結果として耐擦傷性がさらに向上する。
（２）第１フィルム２２をより薄いものとすることができ、そのため第１フィルム２２を、エネルギー線硬化性樹脂、熱硬化性樹脂などの樹脂を材料として、第１の基材フィルム２４上に短時間の工程で形成することができ、その結果としてインラインでのより効率的な生産が可能となり、長尺のグリッド偏光フィルム１０をより低コストで得ることができる。
【００３４】
グリッド偏光フィルム１０は、凹凸構造３０を有している。凹凸構造３０は、第１フィルム２２の第１表面２２ａに設けられている。また凹凸構造３０は、第１表面２２ａの一部または全面に設けることができる。また、第２表面２２ｂは平坦面とされている。
【００３５】
凹凸構造３０は、第１フィルム２２の第１表面２２ａに形成された、複数の凹溝部３４と、凹溝部３４に隣接してこれら凹溝部３４に画成される複数の凸部３２を含んでいる。複数の凸部３２および複数の凹溝部３４は、それぞれが長尺の主フィルム２０の長尺方向に沿う方向に、略平行に延在するように設けられている。なお、本発明において、「略平行」とは、平行方向（この例では主フィルム２０の長尺方向）からのずれが±５°の範囲内にあることをいう。
【００３６】
凸部３２同士の周期Ｐ、すなわち凸部３２同士の中心間距離（以下、ピッチと称される場合がある）は、可視光線の波長よりも短いことが好ましい。凸部３２の垂直断面形状（凸部３２の延在方向に対して垂直方向に切断した断面の形状）は特に限定されないが、矩形、台形、菱形、山形などが挙げられる。
【００３７】
凸部３２の高さＨは、好ましくは５〜３０００ｎｍであり、より好ましくは２０〜１０００ｎｍであり、特に好ましくは５０〜３００ｎｍである。
【００３８】
複数の凸部３２同士間に形成される凹溝部３４の幅Ｗ１は、好ましくは２００ｎｍ以下であり、より好ましくは２０〜１００ｎｍである。凸部３２の幅Ｗ２は、好ましくは２５〜３００ｎｍである。
【００３９】
また、ピッチＰは、好ましくは２０〜５００ｎｍであり、より好ましくは３０〜３００ｎｍである。
【００４０】
凸部３２のアスペクト比（凸部３２の高さＨ／凸部３２の幅Ｗ２）は、好ましくは０．１〜５．０であり、より好ましくは０．４〜３．０であり、特に好ましくは０．８〜２．０である。
【００４１】
偏光分離性能などの光学特性を考慮すると、複数の凸部３２は、互いに略平行かつ同一ピッチで並んだものが好ましい。
【００４２】
凹凸構造３０は、凸部３２の頂部３２ａ上に設けられた第１の線状金属部材３６ａおよび凹溝部３４内の底面上に設けられた第２の線状金属部材３６ａとからなる線状金属部材３６をさらに含んでいる。
【００４３】
複数の第１の線状金属部材３６ａそれぞれは、略平行に互いに離間した複数の凸部３２の各頂部３２ａ上に、長尺の主フィルム２０の長尺方向に沿う方向に延在するように配列されている。また、複数の第２の線状金属部材３６ｂそれぞれは、略平行に互いに離間した凸溝部３４内の底面上に、長尺の主フィルム２０の長尺方向に沿う方向に延在するように配列されている。
【００４４】
凸部３２の頂部３２ａに形成された第１の線状金属部材３６ａの断面（凸部３２の延在方向に対して垂直方向に切断した断面）における断面形状は、この例では長方形状であるが、これに制限されず、台形、円形、山形などとすることができる。第１の線状金属部材３６ａの厚さは、特に制限されないが、好ましくは１００ｎｍ以下であり、より好ましくは３０〜９０ｎｍであり、特に好ましくは５０〜８０ｎｍである。第１の線状金属部材３６ａの幅および長さは、通常、凸部３２の頂部３２ａの形状にしたがってほぼ決まる。
【００４５】
第２の線状金属部材３６ｂの断面形状は、この例では三角形としたが、これに制限されず、台形、円形、矩形などとすることができる。第２の線状金属部材３６ｂの厚さは、好ましくは１００ｎｍ以下であり、より好ましくは３０〜９０ｎｍであり、特に好ましくは５０〜８０ｎｍである。第２の線状金属部材３６ｂの幅および長さは、通常、凹溝部３４の底面の形状にしたがってほぼ決まる。
【００４６】
主フィルム２０の凹凸構造３０が形成される面とは反対側の面、すなわちこの例では第１の基材フィルム２４の平坦面である裏面２４ｂには接触コート層６０が設けられている。接触コート層６０は、第１フィルム２２を含む主フィルム２０（グリッド偏光フィルム１０）が後述する送り出しロールおよび巻き取りロールにロール状に巻き取る工程および巻き取られた状態において、凹凸構造３０が裏面２４ｂといった接触面に接触することにより、特に凸部３２および／または第１の線状金属部材３６ａが傷ついたり、剥がれたりするといった損傷の発生を防止するための構成である。
【００４７】
接触コート層６０の露出面である接触面６０ａは、凹凸構造３０との静摩擦係数が１．０以下とされ、かつ接触面６０ａの表面粗さが下記式（１）および（２）の範囲とされる。なお、式（１）および（２）において、Ｒａは接触面６０の高さ方向（厚み方向）における平均粗さ（中心線平均粗さ）であり、Ｓｍは、面方向における平均周期（凹凸の平均間隔）である。
【００４８】
０．０５μｍ≦Ｒａ≦５．０μｍ・・・（１）
０．１μｍ≦Ｓｍ≦１０μｍ・・・（２）
【００４９】
静摩擦係数および表面粗さをこのようにすれば、送り出しロールからの送り出しおよび巻き取りロールへの巻き取りに起因する、凹凸構造３０、特に凸部３２、第１の線状金属部材３６ａの損傷、剥がれといった擦傷による欠陥の発生を効果的に防止することができる。よって、光学的特性が全領域で均一な長尺のグリッド偏光フィルム、ひいては光学特性の良好なグリッド偏光フィルムを提供することができる。
【００５０】
接触コート層６０は、好ましくは粒子と有機材料とを含む構成とするのがよい。このように粒子および有機材料を用いて、接触コート層６０の有機材料の成分を調整することにより、および／または接触コート層６０の膜厚を制御して、有機材料からの粒子の露出の程度を調節することにより、接触面６０ａの静摩擦係数および表面粗さを前述した好適範囲内とすることができる。
よって、接触コート層６０の厚みは、静摩擦係数および表面粗さが前述した範囲となることを条件として任意好適なものとすることができる。
【００５１】
接触コート層６０に適用される粒子としては、無機微粒子および有機微粒子のいずれか一方またはこれら両方の組み合わせを使用することができる。使用できる無機微粒子としては、金属単体または金属化合物からなり、各種金属を含む。金属としては、具体的には、アルミニウム、銀、酸化アルミニウム、酸化ケイ素、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化バリウム、酸化ジルコニウム、窒化珪素が挙げられる。有機微粒子としては、具体的にはポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリシロキサン、ポリウレタンなどが、使用できる。有機微粒子としては、好ましくは例えば、酸化アルミ、酸化ケイ素、ポリシロキサン、ポリメチルメタクリレートの粒子である。
【００５２】
接触コート層６０に適用される粒子の平均粒径は、製造されるグリッド偏光フィルム１０の仕様を考慮して、任意好適なものとすることができるが、例えば凹凸構造３０のサイズを考慮して粒子が凹凸構造３０に嵌り込まない程度とするのがよい。本発明に適用される粒子の平均粒径は、具体的には０．０５μｍ〜１５μｍ程度とするのがよく、好ましくは０．１μｍ〜１０μｍ程度とするのがよい。
【００５３】
接触コート層６０の基材である有機材料の例としては、ポリエステルウレタン樹脂、ポリエーテルウレタン樹脂、ポリイソシアネート樹脂、ポリオレフィン樹脂、主鎖に炭化水素骨格および/またはポリブタジエン骨格を有する樹脂、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、塩化ビニル-酢酸ビニル共重合体、塩化ゴム、環化ゴムまたはこれらの重合体に極性基を導入した変性物およびこれらの組み合わせなどが挙げられる。
この有機材料は、特に摩擦係数を好適範囲内に収めるために、好適な有機材料に対応した任意好適な架橋剤および／またはスリップ剤をさらに含有していてもよい。
【００５４】
＜構成例２＞
図２を参照して構成例２のグリッド偏光フィルムについて説明する。なお、既に説明した構成例１と同様の構成については、同一の参照番号を付して、その詳細な説明を省略する場合がある。
図２は、構成例２にかかるグリッド偏光フィルムを、既に説明した図１−２と同様に切断した切断面を概略的に示す図である。
【００５５】
図２に示されるように、グリッド偏光フィルム１０は、主フィルム２０を含んでいる。
【００５６】
構成例２にかかるグリッド偏光フィルム１０は、一方の面に接着剤４０を備え、かつ他方の面に接触コート層６０が設けられている第２の基材フィルム５０をさらに有していることを特徴としている。
【００５７】
第１の基材フィルム２４の表面２４ａには、第１フィルム２２が設けられている。
凹凸構造３０は、第１フィルム２２の第１表面２２ａ側に設けられている。また、第２表面２２ｂは平坦面とされている。
【００５８】
凹凸構造３０は、第１フィルム２２の第１表面２２ａに形成された、複数の凹溝部３４と、凹溝部３４に隣接して凹溝部３４により画成される複数の凸部３２とを一体的に含んでいる。複数の凸部３２および複数の凹溝部３４は、それぞれが長尺の主フィルム２０の長尺方向に沿う方向に、略平行に延在するように設けられている。
【００５９】
凹凸構造３０は、凸部３２の頂部３２ａ上に設けられた第１の線状金属部材３６ａおよび凹溝部３４内の底面上に設けられた第２の線状金属部材３６ａとからなる線状金属部材３６をさらに含んでいる。
【００６０】
複数の第１の線状金属部材３６ａそれぞれは、略平行に互いに離間した複数の凸部３２の各頂部３２ａ上に、長尺の主フィルム２０の長尺方向に沿う方向に延在するように配列されている。また、複数の第２の線状金属部材３６ｂそれぞれは、略平行に互いに離間した凹溝部３４内の底面上に、長尺の主フィルム２０の長尺方向に沿う方向に延在するように配列されている。
【００６１】
第２の基材フィルム５０は、第１表面５０ａと、この第１表面５０ａとは反対側の第２表面５０ｂとを有している。第１表面５０ａには接着剤４０が設けられている。第２表面５０ｂは平坦面とされている。
【００６２】
平坦面である第１の基材フィルム２４の裏面２４ｂには、この例では第２の基材フィルム５０の第１表面５０ａ側が接着剤４０により接着されて積層されている。これら接着剤４０および第２の基材フィルム５０としては、第２の基材フィルム５０の一方の面に接着剤４０が予め設けられている、任意好適ないわゆる再剥離粘着フィルムを用いることができる。本実施形態に適用可能な再剥離粘着フィルムは特に限定されず、アクリル樹脂といった粘着剤に加え、紫外線硬化性粘着材および熱硬化性粘着材といった任意好適な粘着剤が設けられた再剥離粘着フィルムとすることができる。こうした再剥離粘着フィルムは、市場にて入手可能である。
また、第２の基材フィルム５０の第２表面５０ｂには、接触コート層６０が設けられている。
【００６３】
接触コート層６０の露出面である接触面６０ａは、前述の構成例１と同様に、第１の凹凸構造３０との静摩擦係数が１．０以下とされ、かつその接触面６０ａの表面粗さが下記式（１）および（２）の範囲とされる。式（１）および（２）において、Ｒａは平均粗さであり、Ｓｍは、平均周期である。
０．０５μｍ≦Ｒａ≦５．０μｍ・・・（１）
０．１μｍ≦Ｓｍ≦１０μｍ・・・（２）
【００６４】
グリッド偏光フィルム１０を、この例のように複数の基材フィルムを備えるように構成しても、送り出しロールからの送り出しおよび巻き取りロールへの巻き取りに起因する、凹凸構造３０、特に凸部３２および／または第１の線状金属部材３６ａの損傷、剥がれといった欠陥の発生を効果的に防止することができる。よって、光学的特性が全領域で均一な長尺のグリッド偏光フィルム、ひいては光学特性の良好なグリッド偏光フィルムを提供することができる。
【００６５】
また、接触コート層６０が剥離可能な第２の基材フィルム５０に設けられているため、グリッド偏光フィルムとしての使用時において、かかる第２の基材フィルム５０を第１の基材フィルム２４の裏面２４ｂから接着剤４０に応じた任意好適な手法で剥離することにより、接触コート層６０をより容易に除去することができる。例えばグリッド偏光フィルムを他の偏光板に積層する場合には、上述のように接触コート層６０が設けられた第２の基材フィルム５０を除去して積層することができる。
このように接触コート層６０を除去すれば、グリッド偏光フィルムを含む光学部材の厚みをより薄くできるとともに、グリッド偏光フィルム１０の使用時における光学特性、さらにはグリッド偏光フィルムを含む光学部材の光学特性、ひいてはこの光学部材が適用された表示装置といった装置全体の光学特性をより向上させることができる。
【００６６】
また前述した構成例１および２では、凹凸構造３０を、第１表面２２ａ自体を凸部３２および凹溝部３４を有する凹凸面として、線状金属部材３６を凸部３２および凹溝部３４に設けた。しかしながら、本発明の製造方法は、これに限定されず、例えば第１表面２２ａを平坦面として、この平坦面上にストライプ状に複数の線状金属部材３６を配設して凹凸構造３０としたグリッド偏光フィルムにも適用することができる。
【００６７】
さらに前述した構成例１および２では、接触コート層６０を接触面とする構成について説明したが、接触コート層６０を形成せず、第１の基材フィルム２４の裏面２４ｂあるいは第２の基材フィルム５０の裏面５０ｂを接触面とするか、または第１の基材フィルム２４を有しない構成とし、凹凸構造３０が形成される第１フィルム２２の第２表面２２ｂを接触面として構成することもできる。この場合には、裏面２４ｂあるいは裏面５０ｂ、または第２表面２２ｂに対して、例えば材料に応じた所定の温度に加熱したロールと賦形ロールとを用いて、裏面２４ｂあるいは裏面５０ｂ、または第２表面２２ｂを、凹凸、すなわち第２の凹凸構造を形成した凹凸形成面とすることにより、静摩擦係数および表面粗さを既に説明した好適範囲とすることができる。
【００６８】
接触コート層６０を設けるか、または上述のように裏面２４ｂあるいは裏面５０ｂ、または第２表面２２ｂに第２の凹凸構造を形成すれば、グリッド偏光フィルムとして、偏光板といった他の光学部材と重ね合わせて使用する場合に、グリッド偏光フィルムが他の部材に密着してはり付いてしまう、いわゆるブロッキングを効果的に防止することができる。よって、接触コート層６０または第２の凹凸構造を設けることにより、ブロッキングに起因する光学干渉の発生を効果的に防止して、光学特性をより向上させることができる。
【００６９】
接触コート層６０は、微細な凹凸構造における傷や剥がれの発生を防止する機能に加え、さらなる機能を有する構成とすることもできる。例えば、接触コート層６０に、入射光を散乱させる機能を持たせることができる。この場合には、接触コート層６０に含まれる粒子を、入射光を散乱させることができる機能を奏する任意好適な粒子とすればよい。
【００７０】
＜グリッド偏光フィルムの製造方法＞
前述した凸部３２および凹溝部３４を有する第１フィルム２２を有する長尺の主フィルム２０は、例えばリソグラフィ法と現像エッチング法との組み合わせによって、または転写型あるいは転写ロールを用いた転写法によって、得ることができる。
【００７１】
具体的には、エネルギー線硬化性樹脂を流延して例えば第１の基材フィルム２４上の塗膜として、第１表面２２ａが平坦面である塗膜を得た後、この塗膜に対して凸部３２に対応する所定のパターンでエネルギー線を照射して現像することにより、凸部３２および凹溝部３４を有する第１フィルム２２が積層された長尺の主フィルム２０を得ることができる。また、エネルギー線硬化性樹脂を流延して第１の基材フィルム２４上に塗膜を得た後、この第１フィルム２２に対して凸部３２および凹溝部３４に対応した凹凸構造が形成された金型または転写ロールを押し当て、押し当てた状態で、または形成された凹凸に、エネルギー線を照射し、硬化させることによって凸部３２および凹溝部３４を有する第１フィルム２２が第１の基材フィルム２４に積層された主フィルム２０を得ることができる。
【００７２】
既に説明した構成例２のように、主フィルム２０が、さらなる第２の基材フィルム５０を有する構成をとる場合には、凹凸構造３０を形成する前に、第１の基材フィルム２４と第２の基材フィルム５０とを予め貼り合わせておくのがよい。
【００７３】
第１フィルム２２の平均厚さは、取り扱い性の観点から通常１μｍ〜１０ｍｍであり、好ましくは２０〜２００μｍである。第１フィルム２２は、波長４００〜７００ｎｍの可視光線領域の光の透過率が８０％以上である透明樹脂フィルムとするのが好ましい。
【００７４】
本発明に用いられる第１フィルム２２は、上述したように好ましくは第１の基材フィルム２４に積層された長尺のフィルムである。具体的には、長手方向（長尺方向）の長さを幅（長手方向に直交する方向の長さ）に対し少なくとも５倍程度以上とすることができ、好ましくは１０倍またはそれ以上の長さとすることができる。
【００７５】
長尺の第１フィルム２２の幅は、好ましくは５００ｍｍ以上であり、より好ましくは１０００ｍｍ以上である。第１フィルム２２、すなわち第１フィルム２２が積層されている第１の基材フィルム２４（および第２の基材フィルム５０）を含む主フィルム２０は、その製造工程の途中において、任意に、その幅方向の両端を切り落とされる（トリミングされる）ことがある。この場合には、主フィルム２０の幅は、両端を切り落とした後の寸法とすることができる。
【００７６】
本発明に用いられる第１フィルム２２は、既に説明した塗膜として得る方法に加え、たとえば、透明樹脂を公知の方法で表面が平らなフィルムに成形し、そのフィルム表面に、畝に対応する形状を賦形することによって得られる。透明樹脂をフィルムに成形する方法としては、キャスト成形法、押出成形法、インフレーション成形法などが挙げられる。賦形方法としては、ロールエンボス加工法、フォトリソグラフ法などが挙げられる。
【００７７】
ここで、接触コート層６０の形成工程につき、説明する。
接触コート層６０の形成工程前に、接触コート層６０の形成面に、例えばコロナ放電処理といった表面改質処理を行なっておくのがよい。こうした表面改質処理を行なうことにより、接触コート層６０の第１の基材フィルム２４または第２の基材フィルム５０に対する付着力を調整することができる。
【００７８】
まず有機材料としての樹脂材料、粒子、例えば純水といった溶媒、さらには所望により架橋剤および／またはスリップ剤を含有する塗布液を調製する。次に表面改質処理を施した第１の基材フィルム２４の裏面２４ｂまたは第２の基材フィルム５０の第２表面５０ｂに、調製された塗布液を、従来公知の任意好適な手法により乾燥処理後の膜厚を考慮しつつ塗布する。次いで所定の温度および時間で乾燥処理を行う。このようにして、所定の膜厚の接触コート層６０を形成することができる。
【００７９】
ここで、図３を参照して、本発明のグリッド偏光フィルムの製造方法についてより具体的に説明する。
【００８０】
図３は、グリッド偏光フィルムの製造方法を説明するための概略図である。ここでは、線状金属部材３６の製造工程を説明する。
【００８１】
（製造装置の構成例）
図３に示されるように、製造装置１００は、送り出しロール１１０および巻き取りロール１２０を備えている。これら送り出しロール１１０および巻き取りロール１２０の構成は、従来公知の任意好適なものとすることができる。送り出しロール１１０には、長尺のフィルム状部材、すなわちこの例では凹溝部および凸部を有する第１フィルム２２を含む主フィルム２０である製造途中のグリッド偏光フィルム１０が巻き取られている。送り出しロール１１０および巻き取りロール１２０は、送り出しロール１１０から繰り出されたフィルム状部材を巻き取りロール１２０が巻き取ることができるように配置されている。
【００８２】
送り出しロール１１０および巻き取りロール１２０の間には、処理用ロール１３０が配置されている。この例では送り出しロール１１０から繰り出されたフィルム状部材が処理用ロールの一部表面に巻き付けられ、さらにフィルム状部材を巻き取りロール１２０に巻き取らせることができるように配置されている。処理用ロール１３０は、巻き付けられたフィルム状部材の露出表面に、任意好適な処理を施すために用いられるロールである。
【００８３】
送り出しロール１１０からのフィルム状部材の繰り出しおよび巻き取りロール１２０への巻き取りは一体的に行われる。このフィルム状部材の繰り出しおよび巻き取りは、搬送ロール１４０により行われる。この例では搬送ロール１４０は、送り出しロール１１０と処理用ロール１３０との間に配置される第１搬送ロール１４０ａと、巻き取りロール１２０と処理用ロール１３０との間に配置される第２搬送ロール１４０ｂとを有している。
【００８４】
処理用ロール１３０は、処理装置１５０により、巻き付けられたフィルム状部材に任意好適な処理を施すことができるように配置されている。この例では、フィルム状部材が巻き付けられた処理用ロール１３０の少なくとも一部領域が、処理装置１５０の処理室１５２内に格納されている。処理室１５２内には、フィルム状部材が巻き付けられた処理用ロール１３０に対向するように、処理部１５４が設けられている。
【００８５】
搬送ロール１４０の表面、すなわちフィルム状部材が接触する接触面は、形成される凹凸構造の静摩擦係数が１．０以下となり、かつ接触面の表面粗さが、下記式（１）および（２）の範囲となるようにされる。なお、Ｒａは平均粗さであり、Ｓｍは平均周期である。
０．０５μｍ≦Ｒａ≦５．０μｍ・・・（１）
０．１μｍ≦Ｓｍ≦１０μｍ・・・（２）
【００８６】
具体的には、搬送ロール１４０の材料、形状といった構成により上記条件を満たす接触面を得るか、または接触面、すなわち搬送ロール１４０の表面を直接的に加工することにより、上記条件を満たす接触面を得ることができる。
【００８７】
また、搬送ロール１４０の表面に、層構造といったさらなる構造を付加することもできる。例えば既に説明した接触コート層６０と同様の構成を有する接触コート層１６０を形成して、その表面を接触面１６０ａとしてもよい。
【００８８】
搬送ロール１４０をこのような構成とすることにより、搬送ロール１４０による搬送に起因する、凹凸構造３０の特に線状金属部材３６の傷や剥がれといった損傷を、効果的に防止することができる。よって、光学的特性が全領域で均一な長尺のグリッド偏光フィルム、ひいては光学特性の良好なグリッド偏光フィルムを提供することができる。
【００８９】
（線状金属部材の形成工程）
図３に示されるように、凹凸構造３０、すなわち凸部３２および凹溝部３４を有する第１フィルム２２を含む主フィルム２０は、この例では凹凸構造３０が送り出しロール１１０の回転軸に向くように送り出しロール１１０に巻き付けられている。主フィルム２０は、第１搬送ロール１４０ａに向かって繰り出され、凹凸構造３０が第１搬送ロール１４０ａの表面に接触するように巻き付けられる。第１搬送ロール１４０ａにより搬送されて繰り出された主フィルム２０は、凹凸構造３０、すなわちこの場合には凸部３２および凹溝部３４により画成される凹凸面が処理部１５４と対向するように処理用ロール１３０に巻き付けられ、対向する処理装置１５０により処理される。
【００９０】
この処理装置１５０による処理は、具体的には、線状金属部材３６の材料３６Ｘを材料供給源を有する処理部１５４から放出させて凸部３２および凹溝部３４上に付着させる積層（成膜）工程とするのがよい。
【００９１】
線状金属部材３６の材料３６Ｘとしては、導電性のものが好ましく、具体的には、アルミニウム、インジウム、マグネシウム、ロジウム、スズなどの金属が挙げられる。
【００９２】
線状金属部材３６の材料３６Ｘを凹凸構造３０に付着させる具体的方法としては、材料を物理蒸着させるＰＶＤ法を挙げることができる。
【００９３】
ＰＶＤ法は、材料３６Ｘを蒸発および／またはイオン化させ、対向する露出面に層（膜）を形成する方法である。ＰＶＤ法として、より具体的には、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング（イオンめっき）法、イオンビームデポジション法などが挙げられる。これらのうち表面粗さを小さくすることが容易という観点から真空蒸着法が好ましい。
【００９４】
真空蒸着法を実施するにあたり、処理室１５２は、室内の圧力を真空を含む任意好適な圧力とすることができる気密の処理室とされる。
【００９５】
より具体的には、真空にした処理室１５２内で、処理部１５４により蒸着材料を加熱して気化または昇華させて、凸部３２および凹溝部３４上に付着させることにより、薄膜を形成することができる。この加熱に用いられる加熱手段としては、抵抗加熱、電子ビーム、高周波誘導、レーザーなどが挙げられる。
【００９６】
物理蒸着を行う際の処理装置１５０の処理室１５２内の圧力は、好ましくは絶対圧１×１０−２Ｐａ以下であり、より好ましくは絶対圧８×１０−３Ｐａ以下である。
【００９７】
物理蒸着による成膜速度は、好ましくは１．０ｎｍ／秒以上であり、より好ましくは２．５ｎｍ／秒以上であり、特に好ましくは４．０ｎｍ／秒以上である。なお、成膜速度の上限は、装置の性能による限界があるのみで、表面粗さを小さくするという観点においては特に制限されない。成膜速度をこの範囲に調整することによって、表面粗さを小さくすることができる。
【００９８】
成膜速度の調節は、例えば真空蒸着を行う場合には、材料供給源の温度、およびその他の蒸着条件を適宜調節することにより行なうことができる。
【００９９】
なお、蒸着工程前に、蒸着面側に、必要に応じて、例えばプラズマ処理装置を用いて、酸素ガスとアルゴンガスを用いたプラズマ処理を行なってもよい。
また、スパッタリング工程により、蒸着面側に、シリコン酸化膜を成膜してもよい。
こうした付加的な表面改質処理または成膜処理を行なっておくことにより、線状金属部材３６の付着力をより向上させることができる。
【０１００】
こうして線状金属部材３６、すなわち第１の線状金属部材３６ａが凸部３２上に、および第２の線状金属部材３６ｂが凹溝部３４に、凹凸構造３０の一部として形成される。
【０１０１】
線状金属部材３６が形成されたフィルム状部材は、凹凸構造３０、すなわち最表面の線状金属部材３６が第２搬送ロール１４０ｂの回転軸に向かう方向に向いて、接触面１６０ａに接触するように巻き付けられる。第２搬送ロール１４０ｂにより搬送されて繰り出されたフィルム状部材は、線状金属部材３６が巻き取りロール１２０の回転軸と対向する向きで巻き取られる。
【０１０２】
搬送ロール１４０による搬送速度は、１〜２００ｍ／ｍｉｎとすることができる。成膜速度、搬送速度、およびその他の諸条件を適宜調節し、また必要に応じて図示しない膜厚測定モニタで成膜された膜の膜厚をモニタし、これに基づいて膜厚を調節することもできる。
【０１０３】
第２の線状金属部材３６ｂの断面形状を上述のように三角形、すなわち第２の線状金属部材３６ｂを上向きの楔状に整形するには、まず断面形状が矩形（四角形）状となるように形成し、次いでドライエッチング工程またはウェットエッチング工程といったエッチング処理を施して整形すればよい。より具体的には、以下に詳述するウェットエッチング工程により第２の線状金属部材３６ｂを整形することができる。
【０１０４】
また、線状金属部材３６を形成するにあたり、例えば前述した蒸着工程により形成された不要部分（余剰部分）は、ウェットエッチング工程によって除去することが好ましい。ここでいう不要部分とは、凹溝部３４を画成する側壁に形成された部分、頂部３２ａの幅からはみ出した部分などである。ウェットエッチング工程は、線状金属部材３６にエッチング液を接触させる工程、リンス液で洗浄する工程、およびリンス液を除去する工程を少なくとも含む。
【０１０５】
前述したエッチング液を接触させる工程の前に、除去されないようにしたい部分上にマスク層を設けてもよい。
【０１０６】
マスク層には、通常、無機化合物膜が用いられる。このマスク層によって形成された線状金属部材３６のウェットエッチング工程による厚さの減少を少なくして吸光性層の幅を狭くすることができる。
【０１０７】
マスク層用の無機化合物は、ウェットエッチング工程に耐えるものであれば特に限定されず、二酸化ケイ素、窒化ケイ素、炭化ケイ素または窒化酸化ケイ素などの化合物が挙げられる。これらの中では特に二酸化ケイ素が好ましい。積層される無機化合物膜の厚さは、特に制限されないが、通常１〜１００ｎｍであり、好ましくは２〜５０ｎｍであり、より好ましくは３〜２０ｎｍである。無機化合物膜は例えばＰＶＤ法によって形成できる。
【０１０８】
形成された線状金属部材３６にエッチング液を接触させる工程の前に、第１フィルム２２を備える主フィルム２０（グリッド偏光フィルム１０）を、互いに略平行に形成された複数の第１の線状金属部材３６ａおよび／または第２の線状金属部材３６ｂに直交する方向に延伸することができる。この延伸によって凸部３２同士の中心間距離が広がり、線状金属部材同士間のピッチ間隔が広がり、結果として光線透過率が高くなる。また凹溝部３４の底面に形成されていた第２の線状金属部材３６ｂの端が、延伸によって、主フィルム２０、すなわち第１フィルム２２から離れ、隙間ができる。すると、ウェットエッチング液がこの隙間に入り込み、矩形状の第２の線状金属部材３６ｂの両端を優先的に除去するため、断面における中央部分よりも両端部分が薄くなり、断面形状を略三角形状とすることができる。
【０１０９】
延伸方法は特に限定されないが、線状金属部材３６の延在方向に直交する方向の延伸倍率を好ましくは１．０５〜５倍とし、より好ましくは１．１〜３倍、線状金属部材３６の延在方向に平行な方向の延伸倍率を好ましくは０．９〜１．１倍とし、より好ましくは０．９５〜１．０５倍にするとよい。このような延伸を行うために、テンター延伸機による連続的な横一軸延伸が好適である。
【０１１０】
エッチング液を接触させる工程の前に、表面改質処理を行うことが好ましい。表面改質処理としては、プラズマ処理、コロナ放電処理、ＵＶ照射処理および有機溶剤処理からなる群から選ばれる少なくとも１つの処理が好適なものとして挙げられる。こうした表面改質処理を行うことによって、光学性能のバラツキを小さくすることができる。
【０１１１】
ウェットエッチング工程に用いられるエッチング液は、第１フィルム２２および／または主フィルム２０を侵食せずに形成された線状金属部材３６の一部を除去できる液であればよく、マスク層（無機化合物膜）、線状金属部材３６、主フィルム２０の材質に応じて適宜選択される。エッチング液としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属化合物を含有する溶液；硫酸、燐酸、硝酸、酢酸、フッ化水素、塩酸などを含有する溶液；過硫酸アンモニウム、過酸化水素、フッ化アンモニウムなどやそれらの混合液からなる溶液などが挙げられる。また、エッチング液には界面活性剤などの添加剤が含まれていてもよい。
【０１１２】
線状金属部材３６にエッチング液を接触させる方法は、特に制限されないが、ディップ法、スプレー法およびコーティング法からなる群から選ばれる少なくとも１つの方法が好ましい。
【０１１３】
ウェットエッチング工程に用いられるリンス液は、エッチング液を線状金属部材３６に接触させたときに発生した残渣を取り除く液である。残渣が残ると線状金属部材３６の表面が荒れ、光学性能に影響を及ぼすことがある。また、残渣が主フィルム２０の好ましくない場所に付着することがある。
【０１１４】
リンス液としては、水（例えば、純水など）、界面活性剤を含有する溶液などが挙げられる。
【０１１５】
リンス液で線状金属部材３６を洗浄する方法は、線状金属部材３６に接触したエッチング液およびエッチング残渣を取り除くことができる方法であれば、特に制限されない。
【０１１６】
リンス液で洗浄した後、リンス液を除去する。リンス液の除去方法は特に制限されないが、エアーブローによる方法が好ましい。
【０１１７】
（その他の層形成工程）
上記工程に加えて、さらに任意の他の工程を実施し、さらに他の層を設けてもよい。具体的には例えば、線状金属部材を含む露出面にさらに直接または他の層を介して保護層を設けることができる。
【０１１８】
保護層は、その材質によって特に制限されないが、透明材料からなるものが好ましい。
透明材料としては、ガラス、無機酸化物、無機窒化物、多孔質物質、透明樹脂などが挙げられる。これらのうち、特に透明樹脂からなるものが好ましい。透明樹脂は、既に説明した透明樹脂基材を構成するものとして示したものから適宜選択して用いることができる。
【０１１９】
透明樹脂からなる保護層は、前述の透明樹脂基材同様に、同様の方法で測定した重量減量が１％以下であることが好ましく、０．８％以下であることがより好ましい。
【０１２０】
保護層の平均厚さは、取り扱い性の観点から通常５μｍ〜１ｍｍであり、好ましくは２０〜２００μｍである。保護層は、波長４００〜７００ｎｍの可視光線領域の光の透過率が８０％以上であるものが好ましい。
【０１２１】
また、保護層は、波長５５０ｎｍで測定したレターデーションＲｅが、５０ｎｍ以下であることが好ましく、２０ｎｍ以下であることがより好ましい。また、面内の任意２点のレターデーションＲｅの差（レターデーションむら）は、好ましくは１０ｎｍ以下であり、より好ましくは５ｎｍ以下である。レターデーションＲｅが大きく、またレターデーションむらが大きいと、液晶表示装置に用いた場合に表示面の明るさにバラツキが生じやすくなる。
【０１２２】
保護層を積層させるために接着剤（粘着剤を含む）を用いることができる。接着剤からなる層（接着層）の平均厚さは、通常０．０１μｍ〜３０μｍであり、好ましくは０．１μｍ〜１５μｍである。保護層を接着剤で貼り付ける場合には、線状金属部材同士間、すなわちグリッド線間の空間に接着剤が入り込まないようにし、グリッド線間の空間に空気が残るようにすることが偏光分離性能を高める点で好ましい。
【０１２３】
本発明の製造方法により得られるグリッド偏光フィルム１０は、グリッド線の間に空気または不活性ガスが含まれる空間があることが好ましい。不活性ガスとしては屈折率の小さいものが好ましく、窒素、ヘリウムなどが挙げられる。
【０１２４】
線状金属部材３６には、腐食防止処理を施して腐食防止膜を設けてもよい。腐食防止膜は、グリッド偏光性能の観点から、単分子膜とするか、またはそれに準じる厚さとするのが好ましく、具体的には、１００ｎｍ以下の厚さであることが好ましい。
完成した長尺のグリッド偏光フィルムは、任意好適なサイズに切り出されて、例えば液晶表示装置用の光学フィルムとして使用される。
【実施例】
【０１２５】
以下に実施例、比較例を挙げて、本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
まず実施された測定方法につき説明する。
【０１２６】
（表面粗さＳｍおよびＲａ）
表面粗さＳｍおよびＲａは、JIS  B  0601：2001の規定に従って、カラー3Dレーザー顕微鏡（キーエンス社製、製品名「VK-9500」）を用いて測定した。
【０１２７】
（摩擦係数）
摩擦係数は、ガラス板上に、３０ｍｍ×５０ｍｍ角のサイズに切り出した試験サンプル（フィルム）を、微細な凹凸構造を有する面を上にして固定し、その上に３０ｍｍ×５０ｍｍ角のサイズに切り出した部材を、試験サンプルの凹凸構造と接触する面を下にして配置して互いに接触させ、微細な凹凸構造の長手方向（畝の延在方向）を移動方向と垂直に配置して、試験サンプルの上側から荷重２００ｇ/ｃｍ２をかけて、ストローク幅２５ｍｍ、速度３０ｍｍ／ｓｅｃで５回測定された値の平均値から静摩擦係数を算出した。
【０１２８】
（傷、剥がれの評価）
得られたグリッド偏光フィルムを白色バックライトの上に乗せて、傷、剥がれなどの欠陥の有無を、以下の基準で評価した。
良：欠陥無し。
可：一部に欠陥有り。
不可：欠陥が目立つ。
【０１２９】
＜実施例１＞
（１−１：樹脂フィルム（１）の作製）
コロナ放電処理により表面改質処理を施した厚さ１００μｍのシクロオレフィンポリマーフィルム（第１の基材フィルム）（ＺＦ−１４：（株）オプテス社製）のコロナ処理面に、ウレタン樹脂（スーパーフレックス２１０：日本合成化学（株）製）８．５重量部、エポキシ（デコナールＥＸ５２１：ナガセケムックス（株）社製）０．８５重量部、架橋剤（アジピン酸ジヒドラジド：和光純薬（株）製）０．４重量部、スリップ剤（スリバックス  Ｅ  ＳＡ-２０：日本化成（株）製）０．１７重量部、微粒子（シリカ、ＭＰ−２０４０：日産化学（株）製、平均粒径２００ｎｍ）１．２５重量部、純水８８．８３重量部からなる塗布液を、乾燥膜厚が０.１μｍになるように塗布して、８０℃で１５分乾燥を行うことにより接触コート層とし、接触コート層が積層されている樹脂フィルム（１）を得た。この接触コート層の露出面をコート面（接触面）と称する。
樹脂フィルム（１）のコート面のＳｍは０．１２μｍであり、Ｒａは０．１５μｍであった。
【０１３０】
（１−２：微細な凹凸構造を有する樹脂フィルム（１）の作製）
８ｍｍ×８ｍｍ×６０ｍｍのＳＵＳ製シャンクにろう付けされた寸法０．２ｍｍ×１ｍｍ×１ｍｍの直方体単結晶ダイヤモンドの０．２ｍｍ×１ｍｍ角サイズの面に、集束イオンビーム加工装置ＳＭＩ３０５０（セイコーインスツルメンツ（株）製）を用いてアルゴンイオンビームを用いた集束イオンビーム加工を行い、長さ１ｍｍの辺に平行な幅９０ｎｍ、深さ８０ｎｍの溝をピッチ１８０ｎｍの矩形形状のパターンとして彫り込み、直線状の突起を有する切削工具を作製した。
【０１３１】
直径２００ｍｍで長さ７００ｍｍの円筒形状ステンレス鋼ＳＵＳ４３０の曲面全面に、厚さ１００μｍのニッケル−リン無電解メッキを施し、次いで、先に作製した直線状突起を形成した切削工具と、精密円筒研削盤Ｓ３０−１（スチューダ製）とを用いて、ニッケル−リン無電解メッキ面に、円筒の円周端面と平行な方向に幅９０ｎｍ、高さ８０ｎｍ、ピッチ１８０ｎｍの直線状の突起を切削加工することにより、転写ロールを得た。
【０１３２】
なお、集束イオンビーム加工による切削工具の作製と、ニッケル−リン無電解メッキ面の切削加工は、温度２０．０℃±０．２℃、振動制御システム（昭和サイエンス製）により０．５Ｈｚ以上の振動の変位が１０μｍ以下に管理された恒温低振動室内で行った。
【０１３３】
直径７０ｍｍのゴム製ロールからなるニップロールおよび上記転写ロールを使用した転写装置を用い、イソボルニルアクリレート８６．６重量部、ジメチロールトリシクロデカンジアクリレート９．６重量部、光重合開始剤（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製、イルガキュアー１８４）３．８重量部からなる塗布液を、コロナ放電処理を行った表面改質済みの樹脂フィルム（１）のコート面の裏面側の表面に５μｍの厚みで塗布し、前述した転写ロール上に塗布面とパターン面が接触するように積層し、次いで紫外線照射することにより、転写ロールの切削加工形状が転写されたフィルム（第１フィルム）が積層された樹脂フィルム（１）を、巻き取りロールにロール状に巻き取ることにより微細な凹凸を有する凹凸面（第１の凹凸構造）を備える樹脂フィルム（１）を得た。得られた長尺の樹脂フィルム（１）を所定のサイズに切り出し、集束イオンビーム加工観察装置ＦＢ−２１００（日立製作所製）のマイクロサンプリング装置を使用してＴＥＭ用観察断面を作製し、透過電子顕微鏡Ｈ−７５００（日立製作所製）にてフィルム断面を観察したところ、樹脂フィルム（１）に形成されたパターンは、開口部（凹溝部）の幅９０ｎｍ、高さ８０ｎｍ、ピッチ１８０ｎｍの矩形形状であった。
【０１３４】
（１−３：グリッド偏光フィルム（１）の作製）
前述した工程により得られた微細な凹凸構造（第１の凹凸構造）が形成された樹脂フィルム（１）の凹凸構造形成面に、アルゴンガス存在下にて出力４００Ｗの条件でのスパッタリングを行うことにより、シリコン酸化膜（ＳｉＯ２膜）を、パターン形成面に対して鉛直方向から成膜した後、ダイナミックレートが１５００ｎｍ・ｍ／ｍｉｎであり、成膜時真空度が５×１０−３Ｐａである条件での真空蒸着により、アルミニウムをシリコン酸化膜に対して鉛直方向から、アルミニウム膜厚が１００ｎｍとなるように成膜して線状金属部材を形成し、ロール状に巻き取りロールに巻き取ることにより、長尺のグリッド偏光フィルム（１）を得た。グリッド偏光フィルム（１）を作製する工程において、微細な凹凸構造が形成された凹凸面に接触するロールとして、Ｓｍが０．５μｍであり、Ｒａが１．０μｍであるステンレス製の搬送ロールを用いた。
【０１３５】
得られたグリッド偏光フィルム（１）を３０ｍｍ×５０ｍｍ角のサイズに切り出し、微細な凹凸構造を有する凹凸面（Ａ面）とコート面（Ｂ面：接触面、以下同じ）との摩擦係数を測定した。摩擦係数は、０．４３であった。また、別に切り出したグリッド偏光フィルム（１）について評価を行った。その結果を表１に示す。また、図４−１に走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）による写真図を示す。
【０１３６】
＜実施例２＞
（２−１：樹脂フィルム（２）の作製）
厚さ５０μｍの粘着層（接着剤）付きポリエチレンテレフタレートフィルム（パナプロテクトＨＴ：パナック（株）社製）（第２の基材フィルム）のポリエチレンテレフタレート面に、コロナ処理を施し、その面にウレタン樹脂（スーパーフレックス２１０：日本合成化学（株）製）８．５重量部、エポキシ（デコナールＥＸ５２１：ナガセケムックス（株）社製）０．８５重量部、アジピン酸ジヒドラジド（和光純薬（株）製）０．４重量部、スリップ剤（スリバックス  Ｅ  ＳＡ-２０：日本化成（株）製）０．１７重量部、微粒子（アルミナ、ＡＯ−５０９：アドマテックス社製、平均粒径１０μｍ）１．２５重量部、純水８８．８３重量部からなる塗布液を乾燥膜厚が８．０μｍになるように塗布して接触コート層とし、粘着面側をポリカーボネートフィルム（第１の基材フィルム）と貼り合わせて樹脂フィルム（２）を得た。接触コート層の露出面をコート面とした。
樹脂フィルム（２）のコート面のＳｍは９．５μｍであり、Ｒａは２．５μｍであった。
【０１３７】
（２−２：グリッド偏光フィルム（２）の作製）
樹脂フィルム（１）を樹脂フィルム（２）に代えた以外は実施例１と同様にして、微細な凹凸構造を有する樹脂フィルム（２）を作製した。得られた樹脂フィルム（２）を用いて、実施例１と同様の方法でグリッド偏光フィルム（２）を得た。得られたグリッド偏光フィルム（２）を３０ｍｍ×５０ｍｍ角のサイズに切り出し、微細な凹凸構造を有する凹凸面（Ａ面）とコート面（Ｂ面）との摩擦係数を測定した。摩擦係数は、０．４１であった。また、別に切り出したグリッド偏光フィルム（２）について評価を行った。その結果を表１に示す。
【０１３８】
＜実施例３＞
（３−１：樹脂フィルム（３）の作製）
樹脂フィルム（２）をトリアセチルセルロースフィルムとし、微粒子をシリカ粒子（ＭＰ−２０４０：日産化学社製、平均粒径２００ｎｍ）とし、純水の配合を８９．０重量部とし、スリップ剤を不含とし、乾燥膜厚を０．１μｍとした以外は、実施例２と同様にして、樹脂フィルム（３）を得た。
樹脂フィルム（３）のコート面のＳｍは０．１２μｍであり、Ｒａは０．１５μｍであった。
【０１３９】
（３−２：グリッド偏光フィルム（３）の作製）
樹脂フィルム（１）を樹脂フィルム（３）に代えた以外は実施例１と同様にして、微細な凹凸構造を有する樹脂フィルム（３）を作製した。得られた樹脂フィルム（３）を用いて、実施例１と同様の方法でグリッド偏光フィルム（３）を得た。得られたグリッド偏光フィルム（３）を３０ｍｍ×５０ｍｍ角のサイズに切り出し、微細な凹凸構造を有する凹凸面（Ａ面）とコート面（Ｂ面）との摩擦係数を測定した。摩擦係数は、０．９０であった。また、別に切り出したグリッド偏光フィルム（３）について評価を行った。その結果を表１に示す。
【０１４０】
＜実施例４＞
（４−１：樹脂フィルム（４）の作製）
ポリメチルメタクリレート樹脂（Ｔｇ１１０℃）のペレットを、窒素を流通させた熱風乾燥器を用いて１００℃で４時間乾燥したのち、５０ｍｍφのスクリューを備えた樹脂溶融混練機を有するＴダイ式フィルム溶融押出し成形機を使用し、溶融樹脂温度２６０℃、Ｔダイの幅６５０ｍｍの成形条件で、厚さ１００μｍのフィルムを押出成形した。上記工程で共押出成形により成形機より出てきたフィルムを、１１０℃に加熱したハードクロムめっき１００μｍを施した金属製の鏡面ロールと、１５０℃に加熱したセラミック製のＳｍが１０．５μｍ、Ｒａが５．５μｍの凹凸を有する賦型ロールを用いて、押出されたフィルムを線圧１００ｋＮ／ｍにて狭圧した。ロールスピードは１０ｍ／ｍｉｎで巻き取り、片方の表面に凹凸（第２の凹凸構造）が形成された凹凸形成面を有するフィルム（樹脂フィルム（４））を得た。
【０１４１】
樹脂フィルム（４）の凹凸形成面のＳｍは９．５μｍであり、Ｒａは２．５μｍであった。
【０１４２】
（４−２：グリッド偏光フィルム（４）の作製）
樹脂フィルム（１）を樹脂フィルム（４）に代えた以外は実施例１と同様にして、凹凸形成面とは反対側の面に微細な凹凸構造（第１の凹凸構造）を有する樹脂フィルム（４）を作製した。得られた樹脂フィルム（４）を用いて、実施例１と同様の方法でグリッド偏光フィルム（４）を得た。得られたグリッド偏光フィルム（４）を３０ｍｍ×５０ｍｍ角のサイズに切り出し、微細な凹凸構造を有する凹凸面（Ａ面）と凹凸形成面（Ｂ面）との摩擦係数を測定した。摩擦係数は、０．９３であった。また、別に切り出したグリッド偏光フィルム（４）について評価を行った。その結果を表１に示す。
【０１４３】
＜実施例５＞
（５−１：樹脂フィルム（５）の作製）
微粒子をアルミナ粒子（ＡＯ−５０９：アドマテックス社製、平均粒径１０μｍ）とし、乾燥膜厚を８．０μｍに変えた以外は、実施例１と同様にして、樹脂フィルム（５）を得た。
樹脂フィルム（５）のコート面のＳｍは９．５μｍであり、Ｒａは２．５μｍであった。
【０１４４】
（５−２：微細な凹凸を有する樹脂フィルム（５）の作製）
樹脂フィルム（１）を樹脂フィルム（５）に代え、スパッタリング工程および真空蒸着工程による線状金属部材の形成を不実施とした以外は実施例１と同様にして、微細な凹凸を有する樹脂フィルム（５）を得た。
得られた微細な凹凸を有する樹脂フィルム（５）を３０ｍｍ×５０ｍｍ角のサイズに切り出し、微細な凹凸を有する凹凸面（Ａ面）とコート面（Ｂ面）との摩擦係数を測定した。摩擦係数は、０．６２であった。また、別に切り出した微細な凹凸を有する樹脂フィルム（５）について評価を行った。その結果を表１に示す。
【０１４５】
＜比較例１＞
（樹脂フィルム（６）の作製）
微粒子をシリカ粒子（スノーテックＺＬ：日産化学社製、平均粒径７０〜１００ｎｍ）とし、塗布乾燥膜厚を０．０３μｍに変えた以外は、実施例１と同様の方法で、樹脂フィルム（６）を得た。
樹脂フィルム（６）のコート面のＳｍは０．０９μｍであり、Ｒａは０．０６μｍであった。
【０１４６】
（グリッド偏光フィルム（６）の作製）
樹脂フィルム（１）を樹脂フィルム（６）に代えた以外は実施例１と同様にして、微細な凹凸構造を有する樹脂フィルム（６）を作製した。得られた樹脂フィルム（６）を用いて、実施例１と同様の方法でグリッド偏光フィルム（６）を得た。得られたグリッド偏光フィルム（６）を３０ｍｍ×５０ｍｍ角のサイズに切り出し、微細な凹凸構造を有する凹凸面（Ａ面）とコート面（Ｂ面）との摩擦係数を測定した。摩擦係数は、０．４９であった。また、別に切り出したグリッド偏光フィルム（６）について評価を行った。その結果を表１に示す。また、図４−２に走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）による写真図を示す。
【０１４７】
＜比較例２＞
（樹脂フィルム（７）の作製）
微粒子をシリコン樹脂粒子（トスパール１１１０：モメンティブ・パフォーマンス・マテリアル社製、平均粒径１１μｍ）とし、塗布乾燥膜厚を９．０μｍに変えた以外は、実施例１と同様の方法で、樹脂フィルム（７）を得た。
樹脂フィルム（７）のコート面のＳｍは１０．５μｍであり、Ｒａは３．０μｍであった。
【０１４８】
（グリッド偏光フィルム（７）の作製）
樹脂フィルム（１）を樹脂フィルム（７）に代えた以外は実施例１と同様にして、微細な凹凸構造を有する樹脂フィルム（７）を作製した。得られた樹脂フィルム（７）を用いて、実施例１と同様の方法でグリッド偏光フィルム（７）を得た。得られたグリッド偏光フィルム（７）を３０ｍｍ×５０ｍｍ角のサイズに切り出し、微細な凹凸構造を有する凹凸面（Ａ面）とコート面（Ｂ面）との摩擦係数を測定した。摩擦係数は、０．４０であった。また、別に切り出したグリッド偏光フィルム（７）について評価を行った。その結果を表１に示す。
【０１４９】
＜比較例３＞
（樹脂フィルム（８）の作製）
微粒子をシリカ粒子（スノーテックＺＬ：日産化学社製、平均粒径７０〜１００ｎｍ）とし、純水の配合量を８９．０重量部とし、スリップ剤を不含とし、塗布乾燥膜厚を０．０３μｍとした以外は、実施例１と同様の方法で、樹脂フィルム（８）を得た。
樹脂フィルム（８）のコート面のＳｍは０．０９μｍであり、Ｒａは０．０６μｍであった。
【０１５０】
（グリッド偏光フィルム（８）の作製）
樹脂フィルム（１）を樹脂フィルム（８）に代えた以外は実施例１と同様にして、微細な凹凸構造を有する樹脂フィルム（８）を作製した。得られた樹脂フィルム（８）を用いて、実施例１と同様の方法でグリッド偏光フィルム（８）を得た。得られたグリッド偏光フィルム（８）を３０ｍｍ×５０ｍｍ角のサイズに切り出し、微細な凹凸構造を有する凹凸面（Ａ面）とコート面（Ｂ面）との摩擦係数を測定した。摩擦係数は、０．９５であった。また、別に切り出したグリッド偏光フィルム（８）について評価を行った。その結果を表１に示す。
【０１５１】
＜比較例４＞
（樹脂フィルム（９）の作製）
微粒子をシリコン樹脂粒子（トスパール１１１０：モメンティブ・パフォーマンス・マテリアル社製、平均粒径１１μｍ）とし、純水の配合量を８９．０重量部とし、スリップ剤を不含とし、塗布乾燥膜厚を９．０μｍとした以外は、実施例１と同様の方法で、樹脂フィルム（９）を得た。
樹脂フィルム（９）のコート面のＳｍは１０．５μｍであり、Ｒａは３．０μｍであった。
【０１５２】
（グリッド偏光フィルム（９）の作製）
樹脂フィルム（１）を樹脂フィルム（９）に代えた以外は実施例１と同様にして、微細な凹凸構造を有する樹脂フィルム（９）を作製した。得られた樹脂フィルム（９）を用いて、実施例１と同様の方法でグリッド偏光フィルム（９）を得た。得られたグリッド偏光フィルム（９）を３０ｍｍ×５０ｍｍ角のサイズに切り出し、微細な凹凸構造を有する凹凸面（Ａ面）とコート面（Ｂ面）との摩擦係数を測定した。摩擦係数は、０．９２であった。また、別に切り出したグリッド偏光フィルム（９）について評価を行った。その結果を表１に示す。
【０１５３】
＜比較例５＞
（樹脂フィルム（１０）の作製）
微粒子をシリカ粒子（スノーテックＺＬ：日産化学社製、平均粒径７０〜１００ｎｍ）とし、純水の配合量を８９．４重量部とし、架橋剤とスリップ剤とを不含とし、塗布乾燥膜厚を０．０３μｍとした以外は、実施例１と同様の方法で、樹脂フィルム（１０）を得た。
樹脂フィルム（１０）のコート面のＳｍは０．０９μｍであり、Ｒａは０．０６μｍであった。
【０１５４】
（グリッド偏光フィルム（１０）の作製）
樹脂フィルム（１）を樹脂フィルム（１０）に代えた以外は実施例１と同様にして、微細な凹凸構造を有する樹脂フィルム（１０）を作製した。得られた樹脂フィルム（１０）を用いて、実施例１と同様の方法でグリッド偏光フィルム（１０）を得た。得られたグリッド偏光フィルム（１０）を３０ｍｍ×５０ｍｍ角のサイズに切り出し、微細な凹凸構造を有する凹凸面（Ａ面）とコート面（Ｂ面）の摩擦係数を測定した。摩擦係数は、１．１２であった。また、別に切り出したグリッド偏光フィルム（１０）について評価を行った。その結果を表１に示す。
【０１５５】
＜比較例６＞
（樹脂フィルム（１１）の作製）
微粒子をシリカ粒子（ＭＰ−２０４０：日産化学社製、平均粒径２００ｎｍ）とし、純水の配合量を８９．４重量部とし、架橋剤とスリップ剤とを不含とし、塗布乾燥膜厚を０．１μｍとした以外は、実施例１と同様の方法で、樹脂フィルム（１１）を得た。
樹脂フィルム（１１）のコート面のＳｍは０．１２μｍであり、Ｒａは０．１５μｍであった。
【０１５６】
（グリッド偏光フィルム（１１）の作製）
樹脂フィルム（１）を樹脂フィルム（１１）に代えた以外は実施例１と同様にして、微細な凹凸構造を有する樹脂フィルム（１１）を作製した。得られた樹脂フィルム（１１）を用いて、実施例１と同様の方法でグリッド偏光フィルム（１１）を得た。得られたグリッド偏光フィルム（１１）を３０ｍｍ×５０ｍｍ角のサイズに切り出し、微細な凹凸構造を有する凹凸面（Ａ面）とコート面（Ｂ面）との摩擦係数を測定した。摩擦係数は、１．１２であった。また、別に切り出したグリッド偏光フィルム（１１）について評価を行った。その結果を表１に示す。
【０１５７】
＜比較例７＞
（樹脂フィルム（１２）の作製）
微粒子をアルミナ粒子（ＡＯ−５０９：アドマテックス社製、平均粒径１０μｍ）とし、純水の配合量を８９．４重量部とし、架橋剤とスリップ剤とを不含とし、塗布乾燥膜厚を８．０μｍとした以外は、実施例１と同様の方法で、樹脂フィルム（１２）を得た。
樹脂フィルム（１２）のコート面のＳｍは９．５μｍであり、Ｒａは２．５μｍであった。
【０１５８】
（グリッド偏光フィルム（１２）の作製）
樹脂フィルム１を樹脂フィルム（１２）に代えた以外は実施例１と同様にして、微細な凹凸構造を有する樹脂フィルム（１２）を作製した。得られた樹脂フィルム（１２）を用いて、実施例１と同様の方法でグリッド偏光フィルム（１２）を得た。得られたグリッド偏光フィルム（１２）を３０ｍｍ×５０ｍｍに切り出し、微細な凹凸構造を有する凹凸面（Ａ面）とコート面（Ｂ面）との摩擦係数を測定した。摩擦係数は、１．１３であった。また、別に切り出したグリッド偏光フィルム（１２）について評価を行った。その結果を表１に示す。
【０１５９】
＜比較例８＞
（樹脂フィルム（１３）の作製）
微粒子をシリコン樹脂粒子（トスパール１１１０：モメンティブ・パフォーマンス・マテリアル社製、平均粒径１１μｍ）とし、純水の配合量を８９．４重量部とし、架橋剤とスリップ剤とを不含とし、塗布乾燥膜厚を９．０μｍとした以外は、実施例１と同様の方法で、樹脂フィルム（１３）を得た。
樹脂フィルム（１３）のコート面のＳｍは１０．５μｍであり、Ｒａは４．５μｍであった。
【０１６０】
（グリッド偏光フィルム（１３）の作製）
樹脂フィルム（１）を樹脂フィルム（１３）に代えた以外は実施例１と同様にして、微細な凹凸構造を有する樹脂フィルム（１３）を作製した。得られた樹脂フィルム（１３）を用いて、実施例１と同様の方法でグリッド偏光フィルム（１３）を得た。得られたグリッド偏光フィルム（１３）を３０ｍｍ×５０ｍｍ角のサイズに切り出し、微細な凹凸構造を有する凹凸面（Ａ面）とコート面（Ｂ面）との摩擦係数を測定した。摩擦係数は、１．１０であった。また、別に切り出したグリッド偏光フィルム（１３）について評価を行った。その結果を表１に示す。
【０１６１】
＜比較例９＞
（樹脂フィルム（１４）の作製）
ノルボルネン系重合体［日本ゼオン社製「ＺＥＯＮＯＲ１４２０」、Ｔｇ（ガラス転移温度）１３６℃］のペレットを、窒素を流通させた熱風乾燥器を用いて１００℃で４時間乾燥したのち、５０ｍｍφのスクリューを備えた樹脂溶融混練機を有するＴダイ式フィルム溶融押出し成形機を使用して、溶融樹脂温度２６０℃、Ｔダイの幅６５０ｍｍの成形条件で、厚さ１００μｍの基材フィルムとして押出成形した。上記工程で共押出成形により成形機より出てきた基材フィルムを、ハードクロムめっき１００μｍが施され、１３５℃に加熱した金属製の鏡面ロールと、セラミック製であって、Ｓｍが１１．０μｍであり、Ｒａが３．９μｍである凹凸を有する、１６０℃に加熱した賦型ロールとを用いて、押出された基材フィルムを線圧１００ｋＮ／ｍにて狭圧した。ロールスピードを１０ｍ／ｍｉｎとして巻き取りロールに巻き取り、片方の表面に凹凸（第２の凹凸構造）が形成された凹凸形成面を有するフィルム（樹脂フィルム（１４））を得た。
樹脂フィルム（１４）の凹凸形成面のＳｍは１０．５μｍであり、Ｒａは１．４μｍであった。
【０１６２】
（グリッド偏光フィルム（１４）の作製）
樹脂フィルム（１）を樹脂フィルム（１４）に代えた以外は実施例１と同様にして、凹凸形成面とは反対側の面に、微細な凹凸構造（第１の凹凸構造）を有する樹脂フィルム（１４）を作製した。得られた樹脂フィルム（１４）を用いて、実施例１と同様の方法でグリッド偏光フィルム（１４）を得た。得られたグリッド偏光フィルム（１４）を３０ｍｍ×５０ｍｍ角のサイズに切り出し、微細な凹凸構造を有する凹凸面（Ａ面）と凹凸形成面（Ｂ面）との摩擦係数を測定した。摩擦係数は、３．０であった。また、別に切り出したグリッド偏光フィルム（１４）について評価を行った。その結果を表１に示す。
【０１６３】
＜比較例１０＞
（グリッド偏光フィルム（１５）の作製）
微細な凹凸構造を有する凹凸面に接触する搬送ロールとして、Ｓｍが０．１５μｍであり、Ｒａが０．０２μｍであるステンレス製の搬送ロールを用いたこと以外は、実施例１と同様の方法でグリッド偏光フィルム（１５）を作製した。
得られたグリッド偏光フィルム（１５）を３０ｍｍ×５０ｍｍ角のサイズに切り出し、微細な凹凸構造を有する凹凸面（Ａ面）と、樹脂フィルム（１５）を作製した際に使用した搬送ロールの表面と同一な表面粗さになるように加工したステンレスの板（Ｂ面：Ｓｍが０．１μｍであり、Ｒａが０．０２μｍであった。）とを重ねて摩擦係数を測定した。摩擦係数は、２．６であった。また、別に切り出したグリッド偏光フィルム（１５）について評価を行った。その結果を表１に示す。
【０１６４】
表１は、前述の実施例および比較例にかかる表面粗さ、摩擦係数および評価結果を示している。
【表１】
2010175773.tif 000003
【０１６５】
表１から明らかなように、前述した実施例１から５のような構成として、（第１の）凹凸構造との接触面である、基材フィルムの裏面、第１フィルムの第２表面、接触コート層の接触面、搬送ロールの表面の表面粗さおよび摩擦係数を既に説明した好適範囲内とすれば、搬送および／または巻き取りに起因する、グリッド偏光フィルムの凹凸構造の傷や剥がれといった破損を、効果的に防止することができる。
また、図４−１に示されるように、本発明の製造方法により製造されたグリッド偏光フィルムの凹凸構造には傷や剥がれが生じなかったのに対して、図４−２に示されるように、比較例にかかる製造方法により製造されたグリッド偏光フィルムの凹凸構造には、場合によっては目視で確認できるほどの傷や剥がれが確認された。
【０１６６】
＜参考例１＞
実施例１において、塗布乾燥膜厚を０．１５μｍ、０．２μｍにそれぞれ変えて、樹脂フィルム（１６）、（１７）を作製した。樹脂フィルム（１６）のＳｍは０．１２μｍであり、Ｒａは０．０６μｍであった。樹脂フィルム（１７）のＳｍは０．１２μｍであり、Ｒａは０．０４μｍであった。
【０１６７】
実施例１と同様の方法でグリッド偏光フィルムを作製し、微細な凹凸を有する凹凸面（Ａ面）とコート面（Ｂ面）との摩擦係数を算出すると、グリッド偏光フィルム（１６）は、０．９であり、グリッド偏光フィルム（１７）は、２．５であった。
このことから、Ｒａが０．０５μｍ以下の場合には、摩擦係数１．０以下は実現できないことが分かった。
【０１６８】
＜参考例２＞
実施例４において、塗布乾燥膜厚を４．７μｍ、５．３μｍにそれぞれ変えて、樹脂フィルム（１８）、（１９）を作製した。樹脂フィルム（１８）のＳｍは９．５μｍであり、Ｒａは４．７μｍであった。樹脂フィルム（１９）のＳｍは９．５μｍであり、Ｒａは５．３μｍであった。
【０１６９】
実施例１と同様の方法でグリッド偏光フィルムを作製し、微細な凹凸を有する凹凸面（Ａ面）とコート面（Ｂ面）との摩擦係数を算出すると、グリッド偏光フィルム（１８）は０．９３であり、グリッド偏光フィルム（１９）は０．９２であった。これらのグリッド偏光フィルムの傷、剥がれの評価を行うと、グリッド偏光フィルム（１８）では傷、剥がれは見られなかったが、グリッド偏光フィルム（１９）では傷、剥がれがみられた。このことより、Ｒａが５．０μｍ以上の場合には、傷、剥がれのない長尺のグリッド偏光フィルムは実現できないことがわかった。
【産業上の利用可能性】
【０１７０】
本発明にかかるグリッド偏光フィルムの製造方法は、例えば液晶表示装置といった光学デバイスに使用される光学フィルムの製造に好適に適用することができる。
【符号の説明】
【０１７１】
１０  グリッド偏光フィルム
２０  主フィルム
２０ａ  第１の表面
２０ｂ  第２の表面
２２  第１フィルム
２２ａ、５０ａ  第１表面
２２ｂ、５０ｂ  第２表面
２４  第１の基材フィルム
２４ａ  表面
２４ｂ  裏面
３０  凹凸構造
３２  凸部
３２ａ  頂部
３４  凹溝部
３６  線状金属部材
３６ａ  第１の線状金属部材
３６ｂ  第２の線状金属部材
４０  接着剤
５０  第２の基材フィルム
６０、１６０  接触コート層
６０ａ、１６０ａ  接触面
１００  製造装置
１１０  送り出しロール
１２０  巻き取りロール
１３０  処理用ロール
１４０  搬送ロール
１４０ａ  第１搬送ロール
１４０ｂ  第２搬送ロール
１５０  処理装置
１５２  処理室
１５４  処理部
【図１−１】
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【図１−２】
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【図２】
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【図３】
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【図４−１】
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【図４−２】
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