(57)【要約】  【課題】微粒子を用いずに、高防眩性および高コントラストが得られる光学フィルムを提供する。  【解決手段】光学フィルムは、凸形状の構造体が２次元的、かつ規則的に表面に配設された基材と、基材の構造体が配設された面上に形成されたハードコート層とを備える。ハードコート層表面には、基材表面の構造体に倣って連続的な波面が形成されており、連続的な波面の最大振幅Ａおよび最小波長λがほぼ一定であり、最大振幅Ａと最小波長λとの比率（Ａ／λ）が０．００２を超えて０．０１１以下である。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
凸形状の構造体が２次元的、かつ規則的に表面に配設された基材と、
上記基材の構造体が配設された面上に形成されたハードコート層と
を備え、
上記ハードコート層表面には、上記基材表面の構造体に倣って連続的な波面が形成されており、
上記連続的な波面の最大振幅Ａおよび最小波長λが、ほぼ一定であり、
上記最大振幅Ａと上記最小波長λとの比率（Ａ／λ）が０．００２を超えて０．０１１以下である光学フィルム。
【請求項２】
隣接する上記構造体の頂点を結ぶ線分に沿って切断したハードコート層の断面が、連続波形状である請求項１記載の光学フィルム。
【請求項３】
上記断面が、正弦波状である請求項２記載の光学フィルム。
【請求項４】
上記構造体が、六角形状に配設されている請求項１記載の光学フィルム。
【請求項５】
上記構造体が、任意の構造体の頂点から見て異なる２方向に規則的に配設され、
上記異なる２方向に沿って切断したハードコート層の断面が、連続波形状である請求項１記載の光学フィルム。
【請求項６】
上記構造体が、半円球状、錐体状または柱状である請求項１記載の光学フィルム。
【請求項７】
全光線透過率が９２％以上、へイズが１．５％以下、内部へイズが０．５％以下、白濁度が０．７％以下である請求項１記載の光学フィルム。
【請求項８】
上記基材表面の構造体がエンボス形成されており、
上記構造体の高さがほぼ一様である請求項１記載の光学フィルム。
【請求項９】
上記基材の屈折率が、上記ハードコート層の屈折率より大きい請求項１記載の光学フィルム。
【請求項１０】
上記基材が、トリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート、シクロオレフィン、およびスチレン・ブタジエン共重合体のいずれか１種を主成分とする請求項１記載の光学フィルム。
【請求項１１】
上記ハードコート層は、熱硬化型樹脂および紫外線硬化型樹脂の少なくとも１種を主成分とする請求項１記載の光学フィルム。
【請求項１２】
上記ハードコート層が帯電防止剤を含んでいる請求項１記載の光学フィルム。
【請求項１３】
上記基材と上記ハードコート層との間に形成された帯電防止層をさらに備える請求項１記載の光学フィルム。
【請求項１４】
上記ハードコート層上に形成された反射防止層をさらに備える請求項１記載の光学フィルム。
【請求項１５】
上記基材表面の凹凸量が、上記ハードコート層表面の凹凸量より大きい請求項１記載の光学フィルム。
【請求項１６】
凸形状の構造体を基材表面に２次元的、かつ規則的に形成する工程と、
上記基材の構造体が形成された面上に、ハードコート剤を塗布、硬化することにより、ハードコート層を形成する工程と
を備え、
上記ハードコート層表面には、上記基材表面の構造体に倣って連続的な波面が形成されており、
上記連続的な波面の最大振幅Ａおよび最小波長λが、ほぼ一定であり、
上記最大振幅Ａと上記最小波長λとの比率（Ａ／λ）が０．００２を超えて０．０１１以下である光学フィルムの製造方法。
【請求項１７】
上記ハードコート層を形成する工程では、上記基材の構造体が形成された面上に塗布されたハードコート剤の厚みによって上記比率（Ａ／λ）を制御する請求項１６記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項１８】
上記基材表面に構造体を形成する工程では、エンボスロールにより上記基材表面に凹凸形状を転写することにより、上記基材表面に構造体を形成する請求項１６記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項１９】
偏光子と、
上記偏光子上に設けられた光学フィルムと
を備え、
上記光学フィルムは、
凸形状の構造体が２次元的、かつ規則的に表面に配設された基材と、
上記基材の構造体が配設された面上に形成されたハードコート層と
を備え、
上記ハードコート層表面には、上記基材表面の構造体に倣って連続的な波面が形成されており、
上記連続的な波面の最大振幅Ａおよび最小波長λが、ほぼ一定であり、
上記最大振幅Ａと上記最小波長λとの比率（Ａ／λ）が０．００２を超えて０．０１１以下である防眩性偏光子。
【請求項２０】
画像を表示する表示部と、
上記表示部の表示面側に設けられた光学フィルムと、
を備え、
上記光学フィルムが、
凸形状の構造体が２次元的、かつ規則的に表面に配設された基材と、
上記基材の構造体が配設された面上に形成されたハードコート層と
を備え、
上記ハードコート層表面には、上記基材表面の構造体に倣って連続的な波面が形成されており、
上記連続的な波面の最大振幅Ａおよび最小波長λが、ほぼ一定であり、
上記最大振幅Ａと上記最小波長λとの比率（Ａ／λ）が０．００２を超えて０．０１１以下である表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、光学フィルムおよびその製造方法、防眩性偏光子、ならびに表示装置に関する。詳しくは、ハードコート層を備える光学フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶ディスプレイ（Liquid Crystal Display：ＬＣＤ）やプラズマディスプレイ（Plasma Display Panel：ＰＤＰ）などの各種表示装置が広く普及している。これらの表示装置の画面は、太陽光や室内照明などの外光が映り込むことによって、特に明所での視認性が著しく阻害されるので、画面表面で外光を拡散反射させる防眩性フィルムなどの光学フィルムが多用されている。
【０００３】
従来、この光学フィルムでは、画面表面で外光を拡散反射させるために、表面に微細な凹凸構造を構成する手法を用いている。具体的には、透明プラスチック基材上に擦傷性を考慮してハードコート塗料に透明微粒子を分散した拡散層を塗布する方法が、現在の液晶表示装置の主流となっている。
【０００４】
しかしながら、最近の薄型テレビに代表される前述の各種表示装置では、画質の向上、高精細化が急速に進み、画素が小型化している。このため、光学フィルムを透過する光が防眩層中の微粒子や表面凹凸構造による屈折や拡散によって歪を受け、画像が不鮮明になったり輝度のバラツキ現象としてギラツキが発生したり、表面が白茶けた画質となり品位が著しく劣化するという問題がある。したがって、微粒子を用いて表面凹凸構造を形成する現行の光学フィルムは、上述したような画質の向上や高精細化に十分に追従できず、微粒子を用いないで表面凹凸構造を形成する光学フィルムの実現が望まれている。
【０００５】
ところで、従来、画面表面で外光を拡散反射させるために、表面に微細な凹凸構造を形成する手法として、下記の特許文献１〜４に示すように、微細な凹凸構造をエンボス（形状転写）によって形成しようとする手法が検討されている。
【０００６】
特許文献１では、セルロース系プラスチックの偏光板保護フィルム表面にエンボス加工による微細凹凸粗面を形成し、さらに微細凹凸粗面の表層を有機溶剤で一部溶解することによって高鮮明度無反射偏光板を製造する方法が提案されている。
【０００７】
特許文献２では、透明プラスチックフィルム上に、電離放射線硬化型樹脂の粗い凹凸層と、その表面に沿って細かい凹凸があり、その粗い凹凸を、エンボス法、サンドブラスト法、および乾燥時の樹脂対流法のいずれかによって形成し、細かい凹凸を、薄膜状コート層、またはリフティング効果により形成する防眩フィルムの製造方法が提案されている。
【０００８】
特許文献３では、エンボス加工によりフィルム表面に凹凸を付与する反射防止フィルムにおいて、エンボス加工に使用する版の凹凸の算術平均粗さを０．０５以上２．００μｍ以下とし、凹凸の平均周期を５０μｍ以下とする防眩性反射防止フィルムの製造方法が提案されている。
【０００９】
特許文献４では、熱可塑性樹脂フィルムの製膜工程で、フィルム面に鋳型を押し当てて表面に凹凸を形成する前もしくは後にテンターにより延伸し、得られた凹凸面上にハードコート層を形成する防眩フィルムの製造方法が提案されている。
【００１０】
【特許文献１】特公平４−５９６０５号公報
【特許文献２】特許第３３７４２９９号公報
【特許文献３】特開２００４−２９２４０号公報
【特許文献４】特開２００５−１５６６１５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
上述したように、特許文献１では、偏光板保護フィルムとして、セルロース系プラスチック表面にエンボス加工で形成した微細凹凸粗面を有機溶剤で部分的に溶かして滑らかな凹凸面を作り、高鮮明度無反射偏光板としている。しかし、ハードコート層が表面に形成されていないため擦傷性に劣り、液晶テレビなど耐久性を必要とする液晶表示製品に使用することは困難である。また、特許文献１には、防眩性を発現させる表面形状については記載されていない。
【００１２】
特許文献２および３では、表面粗さで表面形状を規定しているが、算術平均粗さには大小の複雑な凹凸が統計的に含まれている。このため、拡散反射特性は全く制御されず、白茶けた防眩フィルムとなってしまい、画質が著しく悪化するという問題がある。
【００１３】
特許文献４では、熱可塑性樹脂フィルムの製膜工程で鋳型を押し当てて凹凸形状をフィルム表面に転写し、ハードコート層をフィルム表面に塗布形成する防眩フィルムが提案されている。しなしながら、表面形状に関しては、熱可塑性樹脂の凹凸面の中心線平均粗さＲａが０．０５〜１０μｍの範囲に限定されているだけであり（例えば請求項１１参照）、防眩性を発現する表面形状については何ら記載されていない。したがって、拡散反射特性が全く制御されない、白茶けた防眩フィルムとなってしまい、画質が著しく悪化するという問題がある。
【００１４】
上述したように、微粒子を用いずに、表面形状によって防眩性を発現させる従来の光学フィルムでは、表面性を単なる凹凸形状としている、面粗度（算術平均粗さ）によって表面形状を規定している、あるいは、拡散反射特性（光学特性）で表面形状を規定しているにすぎず、明確な表面形状については規定されていない。
【００１５】
したがって、この発明の目的は、微粒子を用いずに、高防眩性および高コントラストが得られる光学フィルムおよびその製造方法、防眩性偏光子、ならびに表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
この発明は、従来技術が有する上述の問題を解決すべく、鋭意検討した結果として案出されたものである。以下にその概要を説明する。
本発明者らは、防眩性を維持しつつ白濁感を抑えることができる、微粒子を用いない防眩性光学フィルムに関して実験により鋭意検討した。
【００１７】
まず、レーザー彫刻をロール表面に施したエンボスロールでロールプレスすることによって、半球状などの所望の構造体を基材上に転写形成できるかどうかを実験により鋭意検討を行った。その結果、エンボスロールの温度と圧力とを調整することで、半球状などの構造体が転写形成できることを見出すに至った。
転写温度と転写圧力は透明基材の物性によって決定される。例えば透明基材としてＴＡＣを使用した場合、転写温度は１７０℃から１９０℃の範囲が好ましい。１７０℃未満であると、転写量が不十分となり平坦な部分が発生する。１９０℃を超えると熱しわが発生しやすくなるためである。転写圧力は１５０ｋｇ／ｃｍ以上が好ましい。これ未満であると転写速度を数ｍ／分以下に下げなければ平坦な部分が発生してしまうため、処理速度が上がらず生産性が劣るからである。
【００１８】
さらに、その転写面にハードコート剤を塗布、乾燥、硬化するとともに、ハードコート剤の塗布厚を制御するだけで、基材の構造体に倣って連続的で滑らかなな波面が得られ、理想に近い拡散反射特性が得られることを見出すに至った。
塗布厚は３μｍから２０μｍが好ましい。３μｍ未満だと硬度が小さく傷つきやすい表面となり、２０μｍを超えると反りが大きくなり偏光板にした後も反りが残りやすいからである。
この発明は以上の検討に基づいて案出されたものである。
【００１９】
上述の課題を解決するために、第１の発明は、
凸形状の構造体が２次元的、かつ規則的に表面に配設された基材と、
基材の構造体が配設された面上に形成されたハードコート層と
を備え、
ハードコート層表面には、基材表面の構造体に倣って連続的な波面が形成されており、
連続的な波面の最大振幅Ａおよび最小波長λが、ほぼ一定であり、
最大振幅Ａと最小波長λとの比率（Ａ／λ）が０．００２を超えて０．０１１以下である光学フィルムである。
【００２０】
第２の発明は、
凸形状の構造体を基材表面に２次元的、かつ規則的に形成する工程と、
基材の構造体が形成された面上に、ハードコート剤を塗布、硬化することにより、ハードコート層を形成する工程と
を備え、
ハードコート層表面には、基材表面の構造体に倣って連続的な波面が形成されており、
連続的な波面の最大振幅Ａおよび最小波長λが、ほぼ一定であり、
最大振幅Ａと最小波長λとの比率（Ａ／λ）が０．００２を超えて０．０１１以下である光学フィルムの製造方法である。
【００２１】
第３の発明は、
偏光子と、
偏光子上に設けられた光学フィルムと
を備え、
光学フィルムは、
凸形状の構造体が２次元的、かつ規則的に表面に配設された基材と、
基材の構造体が配設された面上に形成されたハードコート層と
を備え、
ハードコート層表面には、基材表面の構造体に倣って連続的な波面が形成されており、
連続的な波面の最大振幅Ａおよび最小波長λが、ほぼ一定であり、
最大振幅Ａと最小波長λとの比率（Ａ／λ）が０．００２を超えて０．０１１以下である防眩性偏光子である。
【００２２】
第４の発明は、
画像を表示する表示部と、
表示部の表示面側に設けられた光学フィルムと、
を備え、
光学フィルムが、
凸形状の構造体が２次元的、かつ規則的に表面に配設された基材と、
基材の構造体が配設された面上に形成されたハードコート層と
を備え、
ハードコート層表面には、基材表面の構造体に倣って連続的な波面が形成されており、
連続的な波面の最大振幅Ａおよび最小波長λが、ほぼ一定であり、
最大振幅Ａと最小波長λとの比率（Ａ／λ）が０．００２を超えて０．０１１以下である表示装置である。
【００２３】
この発明では、基材表面の構造体に倣って連続的な波面をハードコート層表面に形成し、連続的な波面の最大振幅Ａおよび最小波長λをほぼ一定とするとともに、最大振幅Ａと波長λとの比率（Ａ／λ）を０．００２を超えて０．０１１以下の範囲内としているので、ハードコート層表面に滑らかなうねりを形成し、このうねりにより光を拡散することができる。また、ハードコート層は微粒子を含んでいないので、微粒子を表面から突出させることにより防眩性を発現させる従来の光学フィルムに比して光の透過性を向上し、高いコントラストを得ることができる。
【発明の効果】
【００２４】
以上説明したように、この発明によれば、ハードコート層表面の滑らかなうねりにより光を拡散することができるとともに、ハードコート層の光透過性が高いので、高防眩性および高コントラストを有する光学フィルムを実現できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
以下、この発明の実施形態について図面を参照しながら説明する。なお、以下の実施形態の全図においては、同一または対応する部分には同一の符号を付す。
【００２６】
（１）第１の実施形態
（１−１）液晶表示装置の構成
図１は、この発明の第１の実施形態による液晶表示装置の構成の一例を示す。この液晶表示装置は、図１に示すように、光を出射するバックライト３と、バックライト３から出射された光を時間的空間的に変調して画像を表示する液晶パネル２とを備える。液晶パネル２の両面にはそれぞれ、偏光子２ａ、２ｂが設けられている。液晶パネル２の表示面側に設けられた偏光子２ｂには、光学フィルム１が設けられている。この発明では、光学フィルム１が一主面に形成された偏光子２ｂを防眩性偏光子４と称する。
【００２７】
バックライト３としては、例えば、直下型バックライト、エッジ型バックライト、平面光源型バックライトを用いることができる。バックライト３は、例えば、光源、反射板、光学フィルムなどを備える。光源としては、例えば、冷陰極蛍光管（Cold Cathode Fluorescent Lamp：ＣＣＦＬ）、熱陰極蛍光管（Hot Cathode Fluorescent Lamp：ＨＣＦＬ）、有機エレクトロルミネッセンス（Organic ElectroLuminescence：ＯＥＬ）、発光ダイオード(Light Emitting Diode：ＬＥＤ)などが用いられる。
【００２８】
液晶パネル２としては、例えば、ツイステッドネマチック（Twisted Nematic：ＴＮ）モード、スーパーツイステッドネマチック（Super Twisted Nematic：ＳＴＮ）モード、垂直配向（Vertically Aligned：ＶＡ）モード、水平配列（In-Plane Switching：ＩＰＳ）モード、光学補償ベンド配向（Optically Compensated Birefringence：ＯＣＢ）モード、強誘電性（Ferroelectric Liquid Crystal：ＦＬＣ）モード、高分子分散型液晶（Polymer Dispersed Liquid Crystal：ＰＤＬＣ）モード、相転移型ゲスト・ホスト（Phase Change Guest Host：ＰＣＧＨ）モードなどの表示モードのものを用いることができる。
【００２９】
液晶パネル２の両面には、例えば偏光子２ａ，２ｂがその透過軸が互いに直交するようにして設けられる。偏光子２ａ，２ｂは、入射する光のうち直交する偏光成分の一方のみを通過させ、他方を吸収により遮へいするものである。偏光子２ａ，２ｂとしては、例えば、ポリビニルアルコール系フィルム、部分ホルマール化ポリビニルアルコール系フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルムなどの親水性高分子フィルムに、ヨウ素や二色性染料などの二色性物質を吸着させて一軸延伸させたものを用いることができる。
【００３０】
（１−２）光学フィルムの構成
図２は、この発明の第１の実施形態による光学フィルムの構成の一例を示す。図２に示すように、この光学フィルム１は、基材１１と、この基材１１上に設けられたハードコート層１２とを備える。
【００３１】
全光線透過率は９２％以上であることが好ましい。９２％以上であると、透明基材の透過性を劣化させることなく、バックライトからの光量を保てるからである。へイズは１．５％以下であることが好ましい。１．５％以下であると、バックライト光の散乱、及び表面反射光の散乱を抑制でき、黒を黒として視認できるからである。内部へイズは、０．５％以下であることが好ましい。０．５％以下であると、同様にバックライト光の散乱を抑制でき、より自然に近い色として視認できるからである。白濁度は、０．７％以下であることが好ましい。０．７％以下であると、同様により黒を黒として視認できるからである。なお、ヘイズは、表面ヘイズと内部ヘイズとを加算したものである。
【００３２】
（基材）
基材１１は、透明性を有するプラスチック基材である。基材１１の形状としては、例えば、透明性を有するフィルム、シート、基板などを用いることができる。基材１１の材料としては、例えば、公知の高分子材料を用いることができる。公知の高分子材料としては、具体的には例えば、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリエステル（ＴＰＥＥ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリイミド（ＰＩ）、ポリアミド（ＰＡ）、アラミド、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリアクリレート、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリプロピレン（ＰＰ）、ジアセチルセルロース、ポリ塩化ビニル、アクリル樹脂（ＰＭＭＡ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、エポキシ樹脂、尿素樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂、シクロオレフィン系樹脂（例えばゼオノア）、スチレン・ブタジエン共重合体（ＳＢＣ）などが挙げられる。基材１１の厚さは、生産性の観点から、３８〜１００μｍであることが好ましいが、この範囲に特に限定されるものではない。
【００３３】
また、基材１１は、偏光子２ｂの保護フィルムとしての機能を有することが好ましい。偏光子２ｂに保護フィルムを別途設ける必要がなくなるので、光学フィルム１を有する偏光子２ｂを薄型化できるからである。
【００３４】
図３は、基材表面における凹凸形状の一例を示す。図３に示すように、基材１１は、ハードコート層１２が設けられる一主面に凹凸形状を有する。具体的には、凸状の構造体１１ａが、基材１１の表面に２次元的、かつ規則的に配設されている。具体的には例えば、構造体１１ａの配設パターンＰとしては、四角形状、六角形状、八角形状などが挙げられる。なお、図３では、構造体１１ａが六角形状に配設された例が示されている。構造体１１ａは、ほぼ一様な高さを有することが好ましい。構造体１１ａは、任意の構造体１１ａの頂点から見て異なる２方向ａ、ｂに規則的に配設されている。方向ａ、ｂのなす角θは、所望とする配設パターンＰに応じて適宜選択される。例えば、配設パターンＰが、図３に示すように、六角形状である場合には、方向ａ、ｂのなす角θは６０度である。また、異なる２方向に沿って切断したハードコート層の断面が、連続波形状であることが好ましい。
【００３５】
凸状の構造体１１ａの形状としては、例えば、半球状（ドーム状）、錐体状または柱状が挙げられるが、これらの形状に限定されるものではなく、所望とする光学特性に応じて任意に選択することができる。錐体状としては、例えば、円錐状、円錐台状、多角錐状などを挙げることができる。多角錐の形状としては、例えば、四角錐、六角錐、八角錐などの形状が挙げられる。柱状としては、例えば、円柱状、多角柱状などを挙げることができる。多角柱の形状としては、例えば、四角柱、六角柱、八角柱などの形状が挙げられる。また、構造体１１ａに形状異方性を付与してもよく、表示装置の水平方向および垂直方向の光学特性を調整する観点から、例えば基材１１の面内方向のうち、直交する２方向に形状異方性を付与することが好ましい。具体的には、形状異方性を有する構造体１１ａの形状としては、例えば、楕円柱状、半楕円球状、楕円錐台状、一方向に引き伸ばされた多角柱状または多角錐状などが挙げられる。
【００３６】
構造体間１１ｂの形状としては、例えば、断面Ｖ字状、断面Ｕ字状などの形状を用いることができるが、これらの形状に限定されるものではなく、所望とする光学特性に応じて任意に選択することができる。また、構造体間１１ｂの形状に形状異方性を付与してもよく、表示装置の水平方向および垂直方向の光学特性を調整する観点から、例えば基材１１の面内方向のうち、直交する２方向に形状異方性を付与することが好ましい。具体的には例えば、構造体間１１ｂの距離が方向により異なるようにしてもよい。例えば、面内において直交する２方向のうち、一方向の構造体間１１ｂの距離を、他方向の構造体間１１ｂの距離に比べて広くするようにしてもよい。
【００３７】
（ハードコート層）
ハードコート層１２は、基材１１の表面、すなわち光学フィルムや表示装置などの表面に耐擦傷性と防眩性とを併せて付与するためのものであり、基材１１より硬い高分子樹脂層である。ハードコート層表面には、基材１１の構造体１１ａに倣って連続的な波面が形成されている。ハードコート層１２の凹部および凸部の位置はそれぞれ、基材１１の凹部および凸部の位置と対応している。ハードコート層表面の凹凸量は基材表面の凹凸量より小さくなり、ハードコート層の塗布厚が厚いほど凹凸量が小さくなる。
【００３８】
連続的な波面の最大振幅Ａおよび最小波長λが、ほぼ一定である。これにより、ハードコート層を塗布したときに塗布全面で平坦部の発生を抑えられ、防眩性を維持することができる。また、最大振幅Ａと最小波長λとの比率（Ａ／λ）が０．００２を超えて０．０１１以下である。０．００２以下であると、防眩性が低下する傾向があり、０．０１１を超えると、白濁度が上昇する傾向があるからである。この発明において、連続波な波面とは、ハードコート層表面に不連続点や段差がなく滑らかにつながっており、具体的には、ハードコート層表面の任意の点において微分可能であることを示す。また、最小波長λとは、隣り合う構造体１１ａの頂点間の距離のうち、最小の距離のことである。また、最大振幅Ａとは、波面の凹部の底面を基準としたときの波面の凸部の頂点の高さのことである。
【００３９】
隣接する構造体１１ａの頂点を通って切断したハードコード層１２の断面が、連続波形状であることが好ましく、正弦波状であることがさらに好ましい。優れた拡散反射特性を得ることができるからである。この発明において、正弦波状には、ほぼ正弦波状も含まれる。
【００４０】
（１−３）エンボス転写装置
次に、図４を参照して、上述の構成を有する基材１１を成形するエンボス転写装置について説明する。図４に示すように、このエンボス転写装置は、エンボスロール２１と、バックロール２２とを備える。
【００４１】
エンボスロール２１としては、例えば、誘導発熱ジャケットロール、熱媒循環ロール、ヒーター内臓ロールなどの加熱ロールを用いることができる。ロール表面のエンボス加工の方法としては、レーザー彫刻、サンドブラスト、機械彫刻、フォトエッチングなどの種々の方法を使用することができるが、レーザー彫刻が好ましい。サンドブラストでは、凹部２１ａの深さを一様とするとともに、凹部２１を２次元的かつ規則的に形成することが困難であり、機械彫刻やフォトエッチングなどで、２５０線/inchを越える高密度な彫刻を施すことは困難であるからである。また、５００線/inchを超える超高密彫刻にはＣＯ2レーザー、あるいはＹＡＧレーザーで彫刻することが好ましい。表面処理としては、長期間使用の磨耗耐久性に優れる点で、硬質クロムメッキやセラミックス溶射が好ましい。
【００４２】
バックロール２２は、基材表面に微細なエンボスを転写するために高い圧力を必要とすることから、例えばＪＩＳ−Ｄ８０度以上のゴム硬度を持ったゴム層、あるいはそれに相当する硬度の樹脂層を鉄ロール表面に施し、表面を研磨仕上げすることが好ましい。
【００４３】
また、バックロール２１の鉄ロール内部で冷媒循環して冷却する、あるいは、冷却ロールまたは冷却ノズルを用いてゴム層、または樹脂層の表面を冷却することが好ましい。バックロール２２のゴム層、または樹脂層が、エンボス処理中にエンボスロール２１から連続的に伝熱されて、温度が上昇し、基材１１が軟化する、あるいは溶けてしまうことを防ぐことができ、連続的なエンボス転写が可能になるからである。
【００４４】
図５は、エンボスロール表面の凹凸形状の一例を示す。図５に示すように、エンボスロール２１は、その円柱面に凹凸形状（エンボス形状）を有する。具体的には、基材１１に構造体１１ａを形成するための凹部２１ａが、エンボスロール２１の表面に形成されている。凹部２１ａは、エンボスロール２１の表面に２次元的、かつ規則的に配設されている。具体的には例えば、凹部２１ａの配設パターンＰとしては、四角形状、六角形状、八角形状などが挙げられる。なお、図５では、構造体１１ａが六角形状に配設された例が示されている。また、構造体１１ａは、任意の構造体１１ａの頂点から見て異なる２方向ａ、ｂに規則的に配設されている。方向ａ、ｂのなす角θは、所望とする配設パターンＰに応じて適宜選択される。例えば、配設パターンＰが、図５に示すように、六角形である場合には、方向ａ、ｂのなす角θは６０度である。
【００４５】
構造体１１ａを形成する凹部２１ａの形状としては、例えば、半円球状（ドーム状）、錐体状または柱状が挙げられるが、これらの形状に限定されるものではなく、所望とする光学特性に応じて任意に選択することができる。錐体状としては、例えば、円錐状、円錐台状、多角錐状などを挙げることができる。多角錐の形状としては、例えば、四角錐、六角錐、八角錐などの形状が挙げられる。柱状としては、例えば、円柱状、多角柱状などを挙げることができる。多角柱の形状としては、例えば、四角柱、六角柱、八角柱などの形状が挙げられる。また、凹部２１ａに形状異方性を付与してもよく、表示装置の水平方向および垂直方向の光学特性を調整する観点から、エンボスロール２１の面内方向のうち直行する２方向、例えば周方向および高さ方向に形状異方性を付与することが好ましい。具体的には、形状異方性を有する凹部２１ａの形状としては、例えば、楕円柱状、半楕円球状、楕円錐台状、一方向に引き伸ばされた多角柱状または多角錐状などが挙げられる。
【００４６】
凹部間２１ｂの形状としては、例えば、断面Ｖ字状、断面Ｕ字状などの形状を用いることができるが、これらの形状に限定されるものではなく、所望とする光学フィルム１の光学特性に応じて任意に選択することができる。また、凹部間２１ｂの形状に形状異方性を不要してもよく、表示装置の水平方向および垂直方向の光学特性を調整する観点から、例えばエンボスロール２１の面内方向のうち直交する２方向、例えば周方向および高さ方向に形状異方性を付与することが好ましい。具体的には例えば、凹部間２１ｂの距離が方向により異なるようにしてもよい。例えば、面内において直交する２方向のうち、一方向の凹部間２１ｂの距離を、他方向の凹部間２１ｂの距離に比べて広くするようにしてもよい。
【００４７】
（１−４）光学フィルムの製造方法
次に、図６を参照して、上述の構成を有する光学フィルムの製造方法の一例について説明する。以下に説明する各工程は、生産性を向上し、コストを低減するために、ロール・ツー・ロールにより行なうことが好ましい。
【００４８】
（転写工程）
まず、図４に示したエンボス転写装置を用いて、エンボスロール２１とバックロール２２とをその間に基材１１を挟んだ状態で連続的に回転しながら基材１１を加熱、および加圧することにより、基材１１の表面に凹凸形状を転写する。これにより、図７Ａに示すように、構造体１１ａが基材１１の表面に２次元的、かつ規則的に形成される。
【００４９】
（塗料調製工程）
次に、例えば、樹脂、光重合開始剤、および溶剤を混合してハードコート剤（塗料）を調製する。また、必要に応じて、光安定剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、難燃剤、酸化防止剤、および粘度調整剤などを添加するようにしてもよい。
【００５０】
樹脂としては、製造の容易性の観点からすると、光または電子線などにより硬化する電離放射線硬化型樹脂、および熱により硬化する熱硬化型樹脂の少なくとも１種を主成分とするものが好ましく、紫外線により硬化する感光性樹脂が最も好ましい。このような感光性樹脂としては、例えば、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレート、ポリオールアクリレート、ポリエーテルアクリレート、メラミンアクリレートなどのアクリレート系樹脂を用いることができる。例えば、ウレタンアクリレート樹脂は、ポリエステルポリオールにイソシアネートモノマー、あるいはプレポリマーを反応させ、得られた生成物に、水酸基を有するアクリレートまたはメタクリレート系のモノマーを反応させることによって得られる。硬化後の特性は適宜選択することが可能であり、例えば、画像透過性の観点からすると透光性に優れるものが好ましく、耐傷性の観点からすると高硬度を有するものが好ましい。なお、感光性樹脂は、上述の例に特に限定されるものではなく、透光性を有するものであれば用いることができるが、着色やヘイズにより透過光の色相や透過光量が顕著に変化しないものが好ましい。特に使用する基材１１との屈折率差が小さい樹脂を使用することが好ましい。屈折率差が大きい樹脂を使用すると基材界面で反射が発生し白濁してしまうからである。
【００５１】
感光性樹脂に、乾燥によって固体となるウレタン樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、スチレン樹脂、メラミン樹脂、セルロース系樹脂、更には電離放射線硬化型オリゴマー、熱硬化型オリゴマーを適宜混合して使用することが好ましい。上記樹脂を適宜混合することによって、ハードコート層１２の硬さやカールを調整することが可能である。樹脂は上述の例に限定されるものではなく、例えばポリマーとしては、アクリル二重結合のような電離放射線官能基、−ＯＨ基などの熱硬化性基を持つものを使用することが可能である。
【００５２】
感光性樹脂に含まれる光重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン誘導体、アセトフェノン誘導体、アントラキノン誘導体などを単独で、あるいは併用して用いることができる。この感光性樹脂には、皮膜形成をより良くさせる成分、例えばアクリル系樹脂などをさらに適宜選択配合してもよい。
【００５３】
溶剤としては、使用する樹脂原料を溶解すると共に、基材１１との濡れ性が良好で、かつ、基材１１を白化させないものが好ましく、例えば、アセトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、メチルエチルケトン、メチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ギ酸メチル、ギ酸エチル、ギ酸プロピル、ギ酸イソプロピル、ギ酸ブチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸第二ブチル、酢酸アミル、酢酸イソアミル、酢酸第二アミル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酪酸メチル、酪酸エチル、乳酸メチルなどのケトン類またはカルボン酸エステル類よりなる溶剤、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、sec-ブタノール、tert-ブタノールなどのアルコール類を挙げることができる。これらの溶剤は単一でも２成分以上の混合物でもよく、さらに、上記に例示したもの以外の溶剤を樹脂組成物の性能が損なわれない範囲で加えることもできる。
【００５４】
帯電防止剤としては、例えば、導電性カーボン、無機微粒子、無機微粉末、界面活性剤、イオン性液体などを用いることができる。これらの帯電防止剤は単独、または２種以上併用してもよい。無機微粒子および無機微粉末の材料としては、例えば、導電性金属酸化物を主成分とする材料が挙げられる。導電性金属酸化物としては、例えば、酸化スズ、酸化インジウム、ＡＴＯ（アンチモンドープ酸化錫）、ＩＴＯ（インジウムドープ酸化錫）、アンチモン酸化亜鉛などを用いることができる。
【００５５】
界面活性剤としては、例えば、カルボン酸系化合物およびホスフェート系塩のようなアニオン系または両性系の化合物、アミン系化合物や第四級アンモニウム塩のようなカチオン系化合物、脂肪酸多価アルコールエステル系化合物やポリオキシエチレン付加物のような非イオン系化合物、ポリアクリル酸誘導体のような高分子系化合物が挙げられる。イオン性液体は、室温で液状を呈する溶融塩である。イオン性液体としては、溶剤および樹脂と相溶性を有し、後述する乾燥工程において溶剤を揮発させた後にも樹脂に相溶した状態で存在するものが好ましい。具体的には、イオン対のカチオン種としては、例えば、含窒素オニウムからなる脂肪族の４級アンモニウムカチオン、含窒素複素環構造の４級アンモニウムカチオン、含リンオニウム塩からなるホスホニウムカチオン、含イオウオニウムからなるスルホニウムカチオンなどが挙げられる。イオン対のアニオン種としては、例えば、ハロゲン陰イオン、有機カルボキシル基陰イオン、有機フッ素系陰イオンなどが挙げられる。特に、アニオンがトリス（トリフロロメチルスルホニル）硝酸のような有機フッ素系陰イオンであると、常温で液体のイオン対となりやすいので好ましい。また、イオン性液体は単独のみならず数種類併用してもよい。
【００５６】
（塗工工程）
次に、図６Ｂに示すように、調製したハードコート剤１３を基材１１上に塗工する。塗工されたハードコート剤１３の液面はレベリングされているが、基材表面の凹凸形状との間の厚みが分布することから、乾燥時の体積変化によって滑らかな凹凸状の気液界面が形成され、ハードコート層１２の表面凹凸量が基材１１の表面凹凸量より小さい光学フィルム１を得ることができる。また、基材１１の表面凹凸量は、塗工するハードコート剤１３の厚みによって、拡散反射特性を制御できることができる。さらに、塗布から硬化に亘る全てのプロセスにおいて、非接触で表面形成できることから、欠陥のない品質の高い光学フィルム１を提供することができる。
【００５７】
塗工方法は、特に限定されるものではなく公知の塗工方法を用いることができる。公知の塗工方法としては、例えば、マイクログラビアコート法、ワイヤーバーコート法、ダイレクトグラビアコート法、ダイコート法、ディップ法、スプレーコート法、リバースロールコート法、カーテンコート法、コンマコート法、ナイフコート法、スピンコート法などが挙げられる。
【００５８】
（乾燥工程）
次に、基材１１上に塗工されたハードコート剤１３を乾燥させることにより、溶剤を揮発させる。乾燥条件は特に限定されるものではなく、自然乾燥であっても、乾燥温度や乾燥時間などの調整による人工的乾燥であってもよい。但し、乾燥時に塗料表面に風を当てる場合、塗膜表面に風紋が生じないようすることが好ましい。風紋が生じると防眩層表面に所望のなだらかなウネリの微細凹凸形状が形成されにくくなる傾向があり、防眩性とコントラストとを両立することが困難になるからである。また、乾燥温度および乾燥時間は塗料中に含まれる溶剤の沸点によって適宜決定することが可能である。その場合、乾燥温度および乾燥時間は、基材１１の耐熱性を配慮し、熱収縮により基材１１の変形が起きない範囲で選定することが好ましい。
【００５９】
（硬化工程）
次に、例えば電離放射線照射または加熱により、基材１１上にて乾燥された樹脂を硬化させる。これにより、図６Ｃに示すように、構造体１１aを１つの山として、滑らかな波面をハードコート層１２の表面に形成することができる。電離放射線としては、例えば、電子線、紫外線、可視光線、ガンマ線、電子線などを用いることができ、生産設備の観点から、紫外線が好ましい。積算照射量は、樹脂の硬化特性、樹脂や基材１１の黄変抑制などを考慮して適宜選択することが好ましい。また、照射の雰囲気としては、樹脂硬化の具合に応じて適宜選択することができ、例えば、空気、窒素、アルゴンなどの不活性ガスの雰囲気が挙げられる。
以上により、目的とする光学フィルムが得られる。
【００６０】
この発明の第１の実施形態では、基材表面の構造体１１ａに倣って連続的な波面をハードコート層表面に形成し、連続的な波面の最大振幅Ａおよび最小波長λをほぼ一定とするとともに、最大振幅Ａと波長λとの比率（Ａ／λ）を０．００２５〜０．０１１の範囲内としているので、ハードコート層表面の滑らかなうねりを形成し、このうねりにより光を拡散することができる。また、ハードコート層１２は微粒子を含んでいないので、微粒子を表面から突出させることにより防眩性を発現させる従来の光学フィルムに比して光の透過性が向上し、高いコントラストを得ることができる。したがって、微粒子を用いずに、防眩性を維持しつつ白濁感を抑えることができる防眩性光学フィルムを実現できる。また、表面の凹凸形状によって自在に光学フィルムの防眩性を設計できるようになる。
【００６１】
また、ロール表面に５００線/inch（直径約５０μｍ）で深さが５〜１０μｍのハニカム状の穴をレーザー彫刻で施したエンボスロール２１でロールプレスする場合、エンボスロール２１の温度と圧力とを調整することで、転写凸量が２〜６μｍのドーム状の構造体１１ａを転写形成することができる。さらに、その転写面にハードコート剤１３を塗布、乾燥、硬化すると、基材１１の凹凸形状に沿ってサインカーブ状の滑らかなうねりを持った表面形状を得ることができる。この際、塗布厚を制御するだけで理想に近い拡散反射特性が得られる。上述したようにすることで、高防眩、および低白濁にとって重要である滑らかなうねりをハードコート層表面に形成することができる。また、拡散反射特性を簡単に制御できることができる。さらに、光学フィルムとして欠陥の無いことが望まれるが、これも同時に満たすことができる。
【００６２】
また、エンボスロール２１の表面に、防眩性（拡散反射特性）を明確にするために規則的な配列の凹凸パターンを形成している。一般的に用いられるサンドブラストの場合、凹凸が３次元的になるため、表面形状を算術平均粗さで表現する以外に方法がない。さらに、そのサンドブラスト面にハードコートを塗布すると、防眩性は確認できるもののハードコート塗料の粘度と表面張力によって基材上の小さな凹凸はハードコート層に埋もれてしまう弊害があるので、これまで防眩性を発現する表面形状を規定することが困難であった。これに対して、この第１の実施形態では、深さが一定で規則的な配列の凹凸パターン版を用いてエンボス転写を行うことで高さが一様な突起を基材表面に形成し、ハードコート剤１３の塗布厚を変化させることで、表面に発生する振幅Ａ／波長λに対する防眩性（拡散反射特性）との関係を明確にすることができる。
【００６３】
また、サンドブラストで転写した場合、表面凹凸量が不均一となりやすく相対的に小さな凹凸部分がハードコート塗布によって埋もれてしまい平坦になりやすい。そのため防眩性を発現するための塗布厚の制御を厳密に行わなければならず、生産性の観点からも、凹凸高さが一定のエンボスロールを使用して転写することがより好ましい。
【００６４】
（２）第２の実施形態
図７は、この発明の第２の実施形態による光学フィルムの構成の一例を示す断面図である。図７に示すように、この光学フィルムは、基材１１とハードコート層１２との間に帯電防止層１４が設けられている点において、第１の実施形態のものとは異なっている。基材１１、およびハードコート層１２は、上述の第１の実施形態と同様であるので、同一の符号を付してその説明を省略する。
【００６５】
帯電防止層１４は、樹脂、および帯電防止剤を含んでいる。必要に応じて、光安定剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、難燃剤、酸化防止剤、および粘度調整剤などの添加剤を帯電防止層に含ませるようにしてもよい。樹脂および帯電防止剤としては第１の実施形態におけるハードコート層１２と同様のものを用いることができる。
【００６６】
この第２の実施形態では、基材１１とハードコート層１２との間に帯電防止層１４を設けているので、高防眩性、高コントラスト、耐擦傷性、および帯電防止機能を有する光学フィルムを得ることができる。
【００６７】
（３）第３の実施形態
図８は、この発明の第３の実施形態による光学フィルムの構成の一例を示す断面図である。図８に示すように、この光学フィルム１は、ハードコート層１２上に反射防止層１５を備えている点において、第１の実施形態のものとは異なっている。基材１１、およびハードコート層１２は、上述の第１の実施形態と同様であるので、同一の符号を付してその説明を省略する。
【００６８】
反射防止層１５としては、例えば、中空微粒子を含む低屈折率層、またはフッ素系樹脂を含む低屈折率層を用いることができる。中空微粒子としては、シリカ、アルミナなどの無機微粒子、あるいはスチレン、アクリルなどの有機微粒子が挙げられるが、シリカ微粒子が特に好ましい。この中空微粒子は内部に空気を含有しているために、それ自身の屈折率は、通常の粒子と比較して低くなる。例えば、シリカ微粒子では屈折率＝１．４６であるのに対して中空シリカ微粒子では屈折率≦１．４５である。
【００６９】
この第３の実施形態では、ハードコート層１２上に反射防止層１５を設けているので、第１の実施形態に比して防眩性を向上することができる。
【実施例】
【００７０】
以下、実施例によりこの発明を具体的に説明するが、この発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。
【００７１】
本実施例では、図４に示すエンボス転写装置を用いて、基材としてのフィルムに対してエンボスを転写した。以下、本実施例で用いたエンボス転写装置について説明する。
【００７２】
エンボスロールの表面に酸化クロムのセラミックス溶射を行ない、研磨後に５００線/inchのＣＯ2レーザー彫刻を施すことで、平均直径が約５０μｍ、深さ１０μｍのハニカム穴のエンボス版を形成した。また、エンボスロールには加熱用ヒーターを内蔵し２００℃以上まで温度調節できるようにした。
【００７３】
バックロールは、鉄ロール表面にＪＩＳ−Ｄ９０度の硬度のゴムを巻いて研磨仕上げし、水冷の冷却ロールと空冷ノズルを用いた。エンボスロールとバックロールの間に８０μｍ厚のトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルムを挟んだ状態で連続的に回転しながら加熱・加圧した。低温、低圧の条件でエンボスを行うと、接触しているエンボスの壁に沿ってフィルム表面に傷が付く程度でドーム状の突起を形成することができない。一方、高温、高圧では、転写量は大きいもののフィルムが熱変形してしまい良好な品物が得られない。線圧が高いほど転写量が増加するが、ロールの撓みが増大することで幅方向に均一な線圧が得られないことから、経済的な判断が伴う。したがって、基材の物性、寸法で最適なエンボス条件を見出すことが重要である。
【００７４】
エンボスロールの表面に形成する凹凸パターンであるが、本実施例では、防眩性（拡散反射特性）を明確にするために規則的な配列の凹凸パターンを形成した。一般的に用いられるサンドブラストの場合、凹凸が３次元に出来上がるために表面形状を算術平均粗さで表現する以外に方法がない。さらに、そのサンドブラスト面にハードコートを塗布すると、防眩性は確認できるもののハードコート剤の粘度と表面張力によってフィルム上の小さな凹凸はハードコート層に埋もれてしまう弊害があるので、これまで防眩性を発現する表面形状を規定することが難しかった。
【００７５】
本実施例では、深さが一定で規則的な配列の凹凸パターン版を用いてエンボス転写を行うことで高さが一様な構造体をフィルム表面に形成し、ハードコート層の塗布厚を変化させることで表面に発生する最大振幅Ａ／最小波長λに対する防眩性（拡散反射特性）との関係を明確にすることができた。
【００７６】
（実施例１）
まず、１８０℃に加熱したエンボスロールと５０℃に冷却したバックロールの間に、８０μｍ厚のトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルムを挟んだ状態で連続的にロールを回転しながら、線圧２０００Ｎ/ｃｍでニップしてエンボスロールの凹凸形状をＴＡＣフィルム表面に連続的に転写した。その後、アクリルウレタンオリゴマー８０重量部、乾燥硬化型アクリルポリマー２０重量部、反応開始剤ＩＲＧ−１８４：５重量部を酢酸ブチルに混合してハードコート剤を調製し、このハードコート剤をワイヤーバーによりＴＡＣフィルムの凹凸面上に塗布した。この際、ワイヤーバーの番手とハードコート剤の樹脂固形分との組み合わせを選択することで、ハードコート剤を乾燥、硬化後に、最大振幅Ａ／最小波長λが０．０１０８となるようにした。次に、８０℃の乾燥炉で溶剤を揮発させた後、紫外線硬化炉に搬送し、出力１６０Ｗ、積算光量３００ｍＪ／ｃｍ2で紫外線硬化させることにより、目的とする光学フィルムを作製した。
【００７７】
（実施例２）
最大振幅Ａ／最小波長λが０．００９８となるように、ワイヤーバーの番手とハードコート剤の樹脂固形分との組み合わせを選択する以外は、実施例１と同様にして光学フィルムを作製した。
【００７８】
（実施例３）
最大振幅Ａ／最小波長λが０．００７１となるように、ワイヤーバーの番手とハードコート剤の樹脂固形分との組み合わせを選択する以外は、実施例１と同様にして光学フィルムを作製した。
【００７９】
（実施例４）
最大振幅Ａ／最小波長λが０．００５１となるように、ワイヤーバーの番手とハードコート剤の樹脂固形分との組み合わせを選択する以外は、実施例１と同様にして光学フィルムを作製した。
【００８０】
（実施例５）
最大振幅Ａ／最小波長λが０．００２７となるように、ワイヤーバーの番手とハードコート剤の樹脂固形分との組み合わせを選択する以外は、実施例１と同様にして光学フィルムを作製した。
【００８１】
（実施例６）
まず、実施例１と同様にして凹凸形状が転写されたフィルムを得た。次に、粒径３０ｎｍのＡＴＯ（アンチモンドープ酸化錫）とＵＶ樹脂であるウレタンアクリルオリゴマーとを体積比１：１で混合し分散塗料（ＩＰＡ分散体）を得た。この分散塗料をＴＡＣフィルム上に、乾燥後の平均膜厚が３００ｎｍとなるように塗布し、乾燥させることにより、帯電防止層を形成した。次に、実施例１と同様にしてハードコート剤をＴＡＣフィルム上に塗布、硬化し、光学フィルムを作製した。
【００８２】
（実施例７）
ＵＶ硬化ウレタンアクリルオリゴマー１００重量部、反応開始剤ＩＲＧ−１８４：５重量部、五酸化アンチモン微粒子（粒径３０ｎｍ）４０重量部を、ＭＩＢＫ／ＩＰＡ＝１／１の混合溶剤に固形分が４０％となるように添加し、混合攪拌してハードコート剤を得た。このハードコート剤を用いること以外は、実施例１と同様にして光学フィルムを作製した。
【００８３】
（比較例１）
粒径５〜７μｍ、平均粒径６μｍのスチレン微粒子５重量部と、紫外線硬化型の４官能ウレタンアクリルオリゴマー１００重量部と、光反応開始剤としてイルガキュア１８４：５重量部とを第３級ブタノールに添加して攪拌し、４０％ブタノール溶液を調製した。その後、開口径５０μｍのメッシュフィルターで濾過し塗料を作製した。次に、濾過した塗料を厚み８０μｍのＴＡＣフィルム上に、グラビアコーターで塗布した後、フィルムを乾燥温度８０℃に設定した乾燥炉で乾燥させた。その後、フィルムを乾燥炉から連続して紫外線硬化炉に搬送し、出力１６０Ｗ、積算光量３００ｍＪ／ｃｍ2の条件で紫外線を照射して、硬化後の平均膜厚８μｍの防眩層をＴＡＣフィルム上に形成した。以上により、目的とする光学フィルムを作製した。
【００８４】
（比較例２）
ハードコート剤を塗布する工程を省略する以外は、実施例１と同様にして光学フィルムを作製した。
【００８５】
（比較例３）
最大振幅Ａ／最小波長λが０．０１６２となるように、ワイヤーバーの番手とハードコート剤の樹脂固形分との組み合わせを選択する以外は、実施例１と同様にして光学フィルムを作製した。
【００８６】
（比較例４）
最大振幅Ａ／最小波長λが０．０１３７となるように、ワイヤーバーの番手とハードコート剤の樹脂固形分との組み合わせを選択する以外は、実施例１と同様にして光学フィルムを作製した。
【００８７】
（比較例５）
最大振幅Ａ／最小波長λが０．０１２７となるように、ワイヤーバーの番手とハードコート剤の樹脂固形分との組み合わせを選択する以外は、実施例１と同様にして光学フィルムを作製した。
【００８８】
（比較例６）
最大振幅Ａ／最小波長λが０．００２０となるように、ワイヤーバーの番手とハードコート剤の樹脂固形分との組み合わせを選択する以外は、実施例１と同様にして光学フィルムを作製した。
【００８９】
上述のようにして作製された実施例、および比較例の光学フィルムについて、凹凸形状（最大振幅Ａ／最小波長λ）、拡散反射特性、白濁度、防眩性、全光線透過率、ヘイズ、および内部へイズを測定評価した。
【００９０】
＜凹凸形状の評価＞
レーザーテック社製のレーザー顕微鏡を用いて、凹凸形状、高度差、振幅、最大振幅Ａ／最小波長λを測定した。その結果を表１に記した。また代表的な形状例として実施例３、比較例２、比較例３の測定形状を図９に示した。また、ＴＡＣフィルムのエンボス転写に用いたエンボスロールのエンボス形状と、実施例１の光学フィルムにおけるエンボス形状とを写真撮影した。その結果を図１０、図１１に示す。
【００９１】
＜拡散反射特性の評価＞
裏面反射の影響を抑えるため、光学フィルムは粘着剤を介して黒色アクリル板に貼合して評価サンプルとした。これをゴニオフォトメータＧＰ−１−３Ｄ（オプテック社製）に取り付け、サンプル面に対して−５°方向からコリメートした入射光を照射し、正反射方向を０°として−５°から３０°まで走査して暗室条件下にて反射光強度を求め、拡散反射特性を評価した。代表例として実施例３、比較例１、比較例３の結果を図１２に示した。反射光強度を示す縦軸のゲインの算出に当たっては、硫酸バリウムからなる標準拡散板に対して同様の評価を行い、その正反射方向における反射光強度を１として、実施例１、比較例１、比較例３の光学フィルムの正反射方向から２０°の方向における反射光強度を規格化して求めた。
【００９２】
＜白濁度の評価＞
裏面反射の影響を抑えるため、光学フィルムは粘着剤を介して黒色アクリル板に貼合して評価サンプルとした。次に、エックスライト社製の積分球型分光測色計ＳＰ６４を用い、拡散光を試料表面に照射して試料法線方向から８°方向に傾いた位置に存在する検出器で反射光を測定するｄ／８°光学系にて測定を行った。測定値は正反射成分を除き拡散反射成分のみ検出するＳＰＥＸモードを採用し、検出視野角２°にて行った。なお、本測定の白濁度は、視覚的に感じる白濁感と相関があることを実験により確認している。その結果を表１に示す。また、最大振幅Ａ／最小波長λと白濁度との関係を図１３に示す。
【００９３】
＜防眩性の評価＞
光学フィルムにむき出しの蛍光灯を写し、反射像のぼやけ方を下記の基準で評価した。その結果を表１に示す。
◎：蛍光灯の輪郭が分からない（２本の蛍光灯が１本に見える）
○：蛍光灯がある程度認識できるが、輪郭がぼやけている
×：蛍光灯がそのまま写りこむ
【００９４】
＜全光線透過率、ヘイズ、内部へイズの評価＞
JIS K-7361、JISK K-7136に従い、村上色彩製HM-150を使用して、全光線透過率、ヘイズを測定した。内部へイズは光学フィルム表面に透明粘着剤を介しＴＡＣフィルムを貼合してからヘイズを測定し、貼合したＴＡＣのヘイズを差し引いて測定した（表面のヘイズ分をキャンセルする）。その結果を表１に示す。
【００９５】
＜鉛筆硬度の評価＞
光学フィルムをガラス板の上に貼り付け、JIS K-5400による鉛筆硬度試験方法に従い評価した。その結果を表１に示す。
【００９６】
＜電気抵抗の評価＞
抵抗率計（三菱化学社製、商品名：ハイレスタＵＰ）を用い、防眩層表面にＭＣＰプローブを押し当てることにより表面電気抵抗を測定した。なお、電気抵抗の測定環境は２３℃、６０％ＲＨ、印加電圧は１０００Ｖである。その結果を表２に示す。
【００９７】
表１および表２に、上述の各評価の結果を示す。
【表１】
2010015109.tif 000003
【表２】
2010015109.tif 000004
【００９８】
上述の評価結果により以下のことがわかる。
実施例３、比較例１、比較例３の白濁度（表１）と拡散反射特性（図４）とを比較すると、白濁感は正反射方向から広角に拡散する光成分強度を減少させることによって減じることができる。
実施例３、比較例３の拡散反射特性は、微粒子により表面に凹凸形状を形成する比較例１よりも、ある角度で急激に光強度が減少することがわかる。このことは、実施例３の光学フィルムの方が、比較例１に示した光学フィルムよりも防眩度を維持したまま白濁感が抑えられることを示している。
樹脂層の塗布厚みを変化させることによって、うねり形状を維持したまま最大振幅Ａ／最小波長λを簡単に制御できる。
実施例１〜５、比較例２〜６から、この最大振幅Ａ／最小波長λを０．００２５〜０．０１１にすることによって、防眩性を維持したまま、白濁度を０．７以下にできる。
実施例１〜５では、ハードコート層に微粒子を含有していないので、必然的にヘイズが小さく、全光線透過率が大きくなる。このように、実施例１〜５の光学フィルムでは、高透明性と低白濁度との組合せによって、高いコントラストを発現する。
【００９９】
ディスプレイの最表面に位置するＡＧフィルムにはディスプレイ表面を保護するため、ハードコートとしての特性も求められるが、表１の鉛筆強度の評価結果に示したとおり、ＴＡＣフィルムは柔らかいため（比較例２）、ハードコート層が必要となる。形状転写したＴＡＣフィルム表面にハードコート剤を塗布すると凹凸差が減少するので、所望の防眩性、白濁度を得るには、転写したＴＡＣフィルムの凹凸差を最表面の凹凸差よりも予め大きくしておく必要がある。
実施例６、７のようにすれば、帯電防止機能を付与した光学フィルムを製造することができる。
【０１００】
（試験例）
エンボスロールを（２００線/インチのメッシュを通して作成した）サンドブラストロールに変更して転写した後に、同様にハードコート剤を塗布した。サンドブラストロール、レーザー彫刻ロールの防眩性と塗布厚の関係を図１４に示し両者を比較した。
【０１０１】
＜塗布厚の評価＞
転写していない平坦なＴＡＣフィルムに樹脂を塗布して、接触式厚み測定器（ＴＥＳＡ株式会社製）を用いて測定した。
【０１０２】
図１４から、サンドブラストロールで転写した光学フィルムの防眩性は、塗布厚４〜６μｍ付近で急激に防眩性が消失するのに対し、凹凸高さが一定のレーザー彫刻ロールで転写した光学フィルムの防眩性は、塗布厚７〜１２μｍまで安定して維持されている。したがって、レーザー彫刻ロールで転写した光学フィルムは、防眩性を高い状態で維持しやすく生産性の観点からより望ましい。
【０１０３】
以上により、本発明の光学フィルムおよびその製造方法によれば、高防眩、かつ高コントラストで表面硬度にも優れた、理想的な光学フィルムを実現することができる。
【０１０４】
以上、この発明の実施形態および実施例について具体的に説明したが、この発明は、上述の実施形態および実施例に限定されるものではなく、この発明の技術的思想に基づく各種の変形が可能である。
【０１０５】
例えば、上述の実施形態および実施例において挙げた数値、形状、および構成などはあくまでも例に過ぎず、必要に応じてこれと異なる数値、形状、および構成などを用いてもよい。
【０１０６】
また、上述の第１〜第３の実施形態の各構成は、この発明の主旨を逸脱しない限り、互いに組み合わせることが可能である。
【０１０７】
また、上述の実施形態では、液晶ディスプレイの表示面に備えられる光学フィルムおよびその製造方法にこの発明を適用する場合を例として説明したが、この発明はこれに限定されるものではなく、ＣＲＴ（Cathode Ray Tube）ディスプレイ、プラズマディスプレイ（Plasma Display Panel：ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンス（Electro Luminescence：ＥＬ）ディスプレイ、表面伝導型電子放出素子ディスプレイ（Surface-conduction Electron-emitter Display：ＳＥＤ）などの各種表示装置の表示面に用いられる光学フィルムおよびその製造方法に適用可能である。また、この発明は表示装置の大きさに特に限定されるものではなく、小型から大型までのすべての表示装置にこの発明は適用可能である。
【０１０８】
また、上述の実施形態において、エンボス転写工程後、ハードコート剤塗工工程前において、エンボス形状が転写された基材１１に対して、一軸延伸処理または二軸延伸延伸処理を施すようにしてもよい。このように延伸処理を施すことで、構造体１１ａを一方向または二方向に引き延ばし、構造体１１ａに形状異方性を付与することができる。例えば、一軸延伸処理により構造体１１ａの形状を円錐台状から楕円錐台状に変形させることができる。
【図面の簡単な説明】
【０１０９】
【図１】この発明の第１の実施形態による液晶表示装置の構成の一例を示す概略断面図である。
【図２】この発明の第１の実施形態による光学フィルムの構成の一例を示す概略断面図である。
【図３】図３Ａは、基材の凹凸形状の一例を示す平面図、図３Ｂは、図３Ａに示した基材のＢ−Ｂ線に沿った断面図、図３Ｃは、図３Ａに示した基材のＣ−Ｃ線に沿った断面図である。
【図４】この発明の第１の実施形態による光学フィルムの製造方法にて用いるエンボス転写装置の構成の一例を示す概略図である。
【図５】図５Ａは、エンボスロールの凹凸形状の一例を示す平面図、図５Ｂは、図５Ａに示したエンボスロールのＢ−Ｂ線に沿った断面図、図５Ｃは、図５Ａに示したエンボスロールのＣ−Ｃ線に沿った断面図である。
【図６】図６Ａ〜図６Ｂは、この発明の第１の実施形態による光学フィルムの製造方法の一例を示す工程図である。
【図７】この発明の第２の実施形態による液晶表示装置の構成の一例を示す概略断面図である。
【図８】この発明の第３の実施形態による液晶表示装置の構成の一例を示す概略断面図である。
【図９】実施例３、比較例２、および比較例３の光学フィルムの断面形状を示す図である。
【図１０】エンボスロールのエンボス形状を示す写真である。
【図１１】実施例１の光学フィルムにおけるエンボス形状を示す写真である。
【図１２】実施例３、比較例１、および比較例３の拡散反射特性を示すグラフである。
【図１３】最大振幅Ａ／最小波長λと白濁度との関係を示すグラフである。
【図１４】塗布厚と防眩性との関係を示すグラフである。
【符号の説明】
【０１１０】
１    光学フィルム
２    液晶パネル
２ａ、２ｂ    偏光子
３    バックライト
１１    基材
１１ａ    構造体
１１ｂ    構造体間
１２    ハードコート層
１３    ハードコート剤
１４    帯電防止層
１５    反射防止層
２１    エンボスロール
２２    バックロール
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１０】
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【図１１】
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