(57)【要約】【課題】安価な構成で、大型基板を安定的にかつ円滑に搬送しながら乾燥処理を施す。【解決手段】基板乾燥装置は、基板Ｗを搬送する基板搬送機構と、この基板搬送機構による基板Ｗの搬送路を斜め横切るエアナイフ１６とを含む。基板搬送機構は、エアナイフ１６の上流側領域ＥＡに配置される上流側ローラ群と、下流側領域ＥＢに設けられる下流側ローラ群と、駆動系５０と、補助ローラ７６を有する補助支持装置７０とを含む。各ローラ群はそれぞれ、同じ長さを有する複数本の搬送ローラからなる単位ローラ群Ｇ１〜Ｇ３、Ｇ４〜Ｇ６からなり、各単位ローラ群Ｇ１〜Ｇ３、Ｇ４〜Ｇ６における搬送ローラの長さは、上流側ローラ群では上流側の単位ローラ群ほど長く、下流側ローラ群では上流側の単位ローラ群ほど短く設定される。そして、補助支持装置７０は、上流側及び下流側の各ローラ群とエアナイフ１６との間に形成されるスペースＳ１〜Ｓ４に配置される。【選択図】図１
2010093196.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を所定方向に搬送する搬送手段と、この搬送手段による基板の搬送路を斜めに横切るように設けられ、かつ前記搬送手段により搬送される基板の上下各面に対して気体をそれぞれ噴射する上下一対のノズル部材とを備えた基板乾燥装置において、
前記搬送手段は、基板搬送方向における前記ノズル部材よりも上流側の領域に配置され、かつ前記基板搬送方向に互いに平行に並ぶ複数本の搬送ローラを有する上流側ローラ群と、前記基板搬送方向における前記ノズル部材よりも下流側の領域に配置され、前記基板搬送方向に互いに平行に並ぶ複数本の搬送ローラを有する下流側ローラ群と、各ローラ群の搬送ローラを駆動するための駆動系と、前記基板を支持すると共に当該基板の搬送に伴い連れ回りする補助ローラを含む補助支持部材と、を備え、
前記各ローラ群はそれぞれ、基板搬送方向に並ぶ複数の単位ローラ群からなり、これら単位ローラ群はそれぞれ、同じ長さを有する複数本の前記搬送ローラからなり、
前記上流側ローラ群は、前記基板搬送方向における最も上流側に位置する単位ローラ群の搬送ローラの長さが最も長く、下流側に位置する単位ローラ群ほど搬送ローラの長さが短くなるように各単位ローラ群の搬送ローラの長さが設定され、
前記下流側ローラ群は、前記基板搬送方向における最も上流側に位置する単位ローラ群の搬送ローラの長さが最も短く、下流側に位置する単位ローラ群ほど搬送ローラの長さが長くなるように各単位ローラ群の搬送ローラの長さが設定されており、
前記補助支持部材は、前記上流側および下流側の各ローラ群と前記ノズル部材との間に形成される隙間部分に配置されていることを特徴とする基板乾燥装置。
【請求項２】
請求項１に記載の基板乾燥装置において、
前記上流側の領域に設けられる上流側ローラ群および補助支持部材と、前記下流側の領域に設けられる下流側ローラ群および補助支持部材とが、前記ノズル部材の長手方向における略中間位置を支点として互いに回転対称の構成とされていることを特徴とする基板乾燥装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の基板乾燥装置において、
上流側ローラ群に含まれる各搬送ローラと下流側ローラ群に含まれる各搬送ローラとが前記ノズル部材を挟んで同一軸線上に並んでいることを特徴とする基板乾燥装置。
【請求項４】
請求項１乃至３の何れか一項に記載の基板乾燥装置において、
前記搬送ローラをその長手方向の一乃至複数の位置で回転自在に支持する中間支持手段を備えていることを特徴とする基板乾燥装置。
【請求項５】
請求項１乃至４の何れか一項に記載の基板乾燥装置において、
前記補助支持部材として前記補助ローラの数又はその配列が互いに異なる複数種類の補助支持部材をその種類毎に複数有し、これら補助支持部材が前記隙間部分を埋めるように所定の配列で当該隙間部分に配置されていることを特徴とする基板乾燥装置。
【請求項６】
請求項１乃至５の何れか一項に記載の基板乾燥装置において、
前記駆動系は、前記各ローラ群に含まれる各搬送ローラのうち前記基板搬送方向におけるノズル部材の特定位置よりも上流側に位置するものを駆動する第１駆動系と、前記各搬送ローラのうち前記特定位置よりも下流側に位置するものを駆動する第２駆動系とからなることを特徴とする基板乾燥装置。
【請求項７】
請求項６に記載の基板乾燥装置において、
前記第１，第２駆動系はそれぞれ、前記搬送路の幅方向一端側の位置に配置されて回転駆動力を発生させる駆動源と、前記搬送路を横断するように設けられる軸部材と、前記幅方向一端側の位置で前記搬送ローラ及び軸部材に対して前記駆動源の回転駆動力を伝達する伝達手段と、前記軸部材に伝達された回転駆動力をさらに前記幅方向一端側とは反対側の他端側の位置で当該軸部材から前記搬送ローラに伝達する伝達手段とを含むことを特徴とする基板乾燥装置。
【請求項８】
請求項７に記載の基板乾燥装置において、
第１駆動系の前記軸部材は、前記ローラ群よりも前記基板搬送方向における上流側の位置に設けられる基板搬送用の搬送ローラからなり、第２駆動系の前記軸部材は、前記ローラ群よりも前記基板搬送方向における下流側の位置に設けられる基板搬送用の搬送ローラからなることを特徴とする基板乾燥装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＬＣＤ（液晶表示装置）やＰＤＰ（プラズマディスプレイ）等のＦＰＤ（フラットパネルディスプレイ）用ガラス基板、有機ＥＬ用ガラス基板、光ディスク用基板、フォトマスク用ガラス基板、半導体ウエハ等といった各基板に乾燥処理を施す乾燥処理装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来から、ウエット洗浄後のＬＣＤ、ＰＤＰ用ガラス基板等の基板を搬送ローラの駆動により搬送しながら、基板の上下各面に対してエア（気体）を吹き付けることにより、基板に付着した洗浄液を除去して基板を乾燥させる基板乾燥装置が知られている。
【０００３】
この種の装置の多くは、例えば特許文献１に記載されるように、基板の搬送路を斜めに横切るように上下一対のエアナイフが設けられており、基板搬送に伴いその先端角部から徐々にエアを吹き付けることによって基板に付着した洗浄液を除去するように構成される。
【０００４】
この場合、搬送路の全幅に亘って前記搬送ローラを設けるとすれば、搬送ローラが下側のエアナイフと交差してエアの吹き付けの邪魔になるため、通常は、同文献１（図１参照）に示すように、エアナイフに沿って徐々に軸長が短くなる（長くなる）ように長さ設定された搬送ローラを、前記エアナイフを挟んでその上流側及び下流側にそれぞれ分けて配列することにより上記の都合を回避することが行われている。
【特許文献１】特開２００３−１７６９８２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
近年、処理対象とされる基板の大型化が著しい。このような大型化した基板は、搬送中の僅かな撓みがヒビ割れ等の原因となるため、よりフラットな状態で搬送することが求められる。また、大型化により高重量化した基板をスムーズに搬送するためには、より多くの駆動力を基板に伝えることも必要となる。従って、上記のような基板乾燥装置においては、より多くの搬送ローラを、そのピッチを詰めて配列することが望ましい。
【０００６】
しかし、特許文献１のように、エアナイフに沿って徐々に軸長が短くなる（長くなる）ように長さ設定された搬送ローラを配列する従来の装置では、ピッチを詰めて多くの搬送ローラを配列しようとすると、互いに長さの異なる多数本の搬送ローラが必要となるため、製造コスト（特に、搬送ローラの製造コスト）が高くつくという問題がある。特に、軸長が長くなるとその精度を出すことが難しく製造コストが高くなるため、大型基板を対象とする場合には、軸長が長く、かつ互いに長さが異なる多数本の搬送ローラが必要となるためかかる問題が顕著となる。
【０００７】
本発明は、上記の問題を解決するためになされたもので、より安価な構成で、大型基板を安定的にかつ円滑に搬送しながら当該基板に乾燥処理を施すことができる基板乾燥装置を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するために、本発明は、基板を所定方向に搬送する搬送手段と、この搬送手段による基板の搬送路を斜めに横切るように設けられ、かつ前記搬送手段により搬送される基板の上下各面に対して気体をそれぞれ噴射する上下一対のノズル部材とを備えた基板乾燥装置において、前記搬送手段は、基板搬送方向における前記ノズル部材よりも上流側の領域に配置され、かつ前記基板搬送方向に互いに平行に並ぶ複数本の搬送ローラを有する上流側ローラ群と、前記基板搬送方向における前記ノズル部材よりも下流側の領域に配置され、前記基板搬送方向に互いに平行に並ぶ複数本の搬送ローラを有する下流側ローラ群と、各ローラ群の搬送ローラを駆動するための駆動系と、前記基板を支持すると共に当該基板の搬送に伴い連れ回りする補助ローラを含む補助支持部材と、を備え、前記各ローラ群はそれぞれ、基板搬送方向に並ぶ複数の単位ローラ群からなり、これら単位ローラ群はそれぞれ、同じ長さを有する複数本の前記搬送ローラからなり、前記上流側ローラ群は、前記基板搬送方向における最も上流側に位置する単位ローラ群の搬送ローラの長さが最も長く、下流側に位置する単位ローラ群ほど搬送ローラの長さが短くなるように各単位ローラ群の搬送ローラの長さが設定され、前記下流側ローラ群は、前記基板搬送方向における最も上流側に位置する単位ローラ群の搬送ローラの長さが最も短く、下流側に位置する単位ローラ群ほど搬送ローラの長さが長くなるように各単位ローラ群の搬送ローラの長さが設定されており、前記補助支持部材は、前記上流側および下流側の各ローラ群と前記ノズル部材との間に形成される隙間部分に配置されているものである。
【０００９】
この基板乾燥装置によれば、上記の通り、ノズル部材の上流側及び下流側の各ローラ群がそれぞれ、同じ長さを有する複数本の搬送ローラを含む単位ローラ群からなるため、ピッチを詰めて多くの搬送ローラを配列するような場合でも、同じ長さの搬送ローラを複数本使用できる分、すなわち、製造コストの高い搬送ローラの共通化を図れる分、装置全体としての製造コストを抑えることが可能となる。他方、上記のように上流側及び下流側の各ローラ群を構成すると、各ローラ群の占有スペースが階段状となり各ローラ群とノズル部材との間に三角形状の隙間部分が形成されるが、この基板乾燥装置では、当該隙間部分に対し、補助ローラを有する補助支持部材が配置されるため、上記のように各ローラ群を構成しながらも当該隙間部分で基板が撓むことを防止できる。なお、補助支持部材は、基板を支持しつつその移動に伴い連れ回りするように補助ローラを設けただけの簡素なものであるため、高い精度が要求される搬送ローラに比べると格段に安いコストで製作できる。従って、トータル的には、製造コストのうち搬送手段の占める割合を低減させることができ、これによって基板乾燥装置の低廉化を図ることが可能となる。
【００１０】
この装置においては、前記上流側の領域に設けられる上流側ローラ群および補助支持部材と、前記下流側の領域に設けられる下流側ローラ群および補助支持部材とが、前記ノズル部材の長手方向における略中間位置を支点として互いに回転対称の構成とされているのが好適である。
【００１１】
この構成によれば、ノズル部材の上流側及び下流側の各領域に設けられる搬送ローラ及び補助支持部材の共通化が可能となるため、製造コストの低廉化の上でより有利となる。
【００１２】
また、この装置においては、上流側ローラ群に含まれる各搬送ローラと下流側ローラ群に含まれる各搬送ローラとが前記ノズル部材を挟んで同一軸線上に並んでいるのが好適である。
【００１３】
この構成によれば、同一軸線上で基板の幅方向のほぼ全体に亘って駆動力（推進力）を与えることができるため、基板の直進安定性を確保する上で有利となる。
【００１４】
また、この装置においては、前記搬送ローラをその長手方向の一乃至複数の位置で回転自在に支持する中間支持手段を備えているのが好適である。
【００１５】
この構成によれば、長さの異なる各単位ローラ群の搬送ローラを撓み等を伴うことなく安定的に設けることができる。
【００１６】
また、この装置においては、前記補助支持部材として前記補助ローラの数又はその配列が互いに異なる複数種類の補助支持部材をその種類毎に複数有し、これら補助支持部材が、前記隙間部分を埋めるように所定の配列で当該隙間部分に配置されているのが好適である。
【００１７】
このように共通の補助支持部材を複数用いる構成によれば、部品の共通化を通じて製造コストの低廉化により貢献することができる。
【００１８】
なお、上記の装置において、前記駆動系は、前記各ローラ群に含まれる各搬送ローラのうち前記基板搬送方向におけるノズル部材の特定位置よりも上流側に位置するものを駆動する第１駆動系と、前記各搬送ローラのうち前記特定位置よりも下流側に位置するものを駆動する第２駆動系とからなるものであるのが好適である。
【００１９】
具体的には、第１，第２駆動系はそれぞれ、前記搬送路の幅方向一端側の位置に配置されて回転駆動力を発生させる駆動源と、前記搬送路を横断するように設けられる軸部材と、前記幅方向一端側の位置で前記搬送ローラ及び軸部材に対して前記駆動源の回転駆動力を伝達する伝達手段と、前記軸部材に伝達された回転駆動力をさらに前記幅方向一端側とは反対側の他端側の位置で当該軸部材から前記搬送ローラに伝達する伝達手段とを含む。
【００２０】
すなわち、複数の搬送ローラの駆動を複数の駆動系に分けて負担させることで、各駆動系の駆動源の出力を抑えながら大型基板を円滑に搬送することが可能となるが、この場合、ローラ群単位で搬送ローラを駆動するように各駆動系を構成するとすれば、基板搬送方向における基板の特定箇所において、ノズル部材の位置を挟んでその両側に互いに別系統の駆動力（推進力）が付与されることとなり、上流側ローラ群の搬送ローラと下流側ローラ群の搬送ローラとに回転速度差があると、基板に回転（捻れ）力が作用して基板が斜行する等の不都合を招くことが考えられる。これに対して、上記のように、ローラ群に拘わらず、基板搬送方向における特定位置を境としてその上流側と下流側とに分けて搬送ローラを駆動する構成によれば、基板に対してはノズル部材を挟んでその両側の位置に同じ駆動系による駆動力（推進力）が付与されることとなるので、上記のような不都合を伴うことなく安定的に基板を搬送することが可能となる。
【００２１】
なお、この場合、第１駆動系の前記軸部材は、前記ローラ群よりも前記基板搬送方向における上流側の位置に設けられる基板搬送用の搬送ローラからなり、第２駆動系の前記軸部材は、前記ローラ群よりも前記基板搬送方向における下流側の位置に設けられる基板搬送用の搬送ローラからなるのが好適である。
【００２２】
この構成によれば、駆動伝達用の軸部材と基板搬送用の搬送ローラとを兼用したより合理的な装置構成となる。
【発明の効果】
【００２３】
本発明によれば、ピッチを詰め多くの搬送ローラを配列する場合でも、上記の通り、同じ長さの搬送ローラを複数本使用できる分、トータル的には、製造コストのうち搬送手段の占める割合を低減させることができる。従って、より安価な構成で、大型の基板を安定的に、かつ円滑に搬送しながら当該基板に乾燥処理を施すことができるようになる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照しながら説明する。
【００２５】
図１は本発明の一実施形態に係る基板乾燥装置を断面図で概略的に示している。同図に示すように、基板乾燥装置は閉鎖型の処理槽１０を有している。この処理槽１０は、搬入口１２及び搬出口１４を有する平面視矩形の箱型の槽本体１０Ａと、支柱１１１及び桟１１２等を含み前記槽本体１０Ａをその外側から支持する支持枠体１０Ｂとからなり、前記槽本体１０Ｂは、帯電防止処理（例えば導電性樹脂のコーティング）が施された塩化ビニル等の硬質の樹脂材料から構成され、他方、支持枠体１０Ｂは、アルミニウム合金等の比較的軽量で強度の高い軽金属材料や樹脂材料により構成されている。
【００２６】
この処理槽１０には、槽本体１０Ａの内部で基板Ｗを前記搬入口１２から搬出口１４に向けて搬送する基板搬送機構（本発明の搬送手段に相当する）が組込まれると共に、当該基板搬送機構により搬送される基板Ｗの上下各面に対してエア（清浄度及び温湿度が所定レベルに調整されたＣＤＡ（Clean Dry Air））を噴射する上下一対のエアナイフ１６，１６（図２参照；本発明のノズル部材に相当する）とが組込まれている。
【００２７】
基板搬送機構は、後に詳述するが、基板Ｗを傾斜姿勢で、具体的には装置の前側（すなわち操作パネル等が配置される側；図１では下側）が先下がりとなる傾斜姿勢で基板Ｗを搬送するように構成されており、前記エアナイフ１６，１６は、この基板搬送機構によって搬送される基板Ｗの搬送路を挟んだ上下両側の位置に配置されている。
【００２８】
各エアナイフ１６，１６は、スリット状の噴射口を有する所謂スリットノズルからなり、同図に示すように搬送路を斜めに横切ると共に、基板Ｗに対して一定隙間を隔てて対向し得るように装置前側が先下がりの傾斜姿勢で配置されている。詳しくは、上位側の端部に対して下位側の端部が基板搬送方向における下流側（以下、単に下流側という）に位置するよう配置されている。なお、各エアナイフ１６，１６は、図２に模式的に示すように、やや基板搬送方向における上流側（以下、単に上流側という）に向かってエアを噴射するように配置されており、これによって、基板Ｗの搬送に伴い、その先端上位側の角部から順に基板Ｗに沿って斜め下向きにエアが吹き付けられるようになっている。
【００２９】
前記基板搬送機構は、図１に示すように、前記エアナイフ１６，１６の位置よりも上流側の領域（上流側領域ＥＡという）に設けられ、かつ基板搬送方向に一定間隔で互いに平行に並ぶ複数本の搬送ローラからなる上流側ローラ群と、エアナイフ１６，１６の位置よりも下流側の領域（下流側領域ＥＢという）に設けられ、かつ基板搬送方向に一定間隔で互いに平行に並ぶ複数本の搬送ローラからなる下流側ローラ群と、各ローラ群の搬送ローラを駆動するための駆動系５０と、各エリアに配置される補助支持装置７０（本発明の補助支持部材に相当する）とを備える。
【００３０】
上流側領域ＥＡに設けられる前記上流側ローラ群は、同じ長さを有する複数本の搬送ローラをそれぞれ有する単位ローラ群からなり、この実施形態では、上流側から順に、２本の同じ長さの搬送ローラ２１を含む第１単位ローラ群Ｇ１、１２本の同じ長さの搬送ローラ２２を含む第２単位ローラ群Ｇ２、および６本の同じ長さの搬送ローラ２３を含む第３単位ローラ群Ｇ３とからなっている。各単位ローラ群Ｇ１〜Ｇ３は、基板搬送方向における最も上流側に位置する第１単位ローラ群Ｇ１の搬送ローラ２１の長さが最も長く、下流側に位置する単位ローラ群ほど搬送ローラの長さが短くなるように各単位ローラ群Ｇ１〜Ｇ３の搬送ローラ２１〜２３の長さが設定されている。
【００３１】
各搬送ローラ２１〜２３は、図１及び図３に示すように、何れもローラ軸２０ａと、当該ローラ軸２０ａに対してその長手方向の複数の位置に各々固定されるローラ本体２０ｂとを備えており、ローラ本体２０ｂにより基板Ｗを支持した状態で、前記駆動系５０によりローラ軸２０ａに回転駆動力が与えられることにより基板Ｗをローラ本体２０ｂの接線方向に搬送する。なお、図１中、ローラ軸２０ａ及びローラ本体２０ｂの符号は一部の搬送ローラにのみ示す。
【００３２】
各搬送ローラ２１〜２３のうち隣接する搬送ローラ２１〜２３同士は、ローラ本体２０ｂが軸方向に半ピッチだけずれた構成となっている。すなわち、各単位ローラ群Ｇ１〜Ｇ３はそれぞれ、前記搬送ローラ２１〜２３として、長さが同じでローラ本体２０ｂの配列ピッチが半ピッチだけずれた２種類の搬送ローラを有しており、これら２種類の搬送ローラが基板搬送方向に交互に配列されている。これによって各搬送ローラ２１〜２３のうち隣接するもの同士のローラ本体２０ｂが半ピッチだけずれた配置となっている。
【００３３】
各単位ローラ群Ｇ１〜Ｇ３の搬送ローラ２１〜２３は、それぞれ前端部が槽本体１０Ａの側板１０１を貫通して槽本体１０Ａの外部に突出し、その突出した端部が支持枠体１０Ｂ側に支持されており、さらに搬送ローラ２１，２２については、その途中部分であって軸方向の一乃至複数の位置が槽本体１０Ａ側に支持されている。
【００３４】
具体的には、図３に示すように、支持枠体１０Ｂにおいては、ブラケット３６を介して横桟１１２に支持板３４が支持され、この支持板３４に前記搬送ローラ２１〜２３のローラ軸２０ａが回転可能に支持されている。詳しくは、前記支持板３４の内側（図３では左側）に補助支持板３８が配設されて当該補助支持板３８が前記支持板３４に連結軸３７を介して連結され、この補助支持板３８の上端に軸受部材３９が固定され、当該軸受部材３９により前記搬送ローラ２１〜２３のローラ軸２０ａが支持されている。
【００３５】
一方、槽本体１０Ａにおいては、その内底板１０２上に軸受装置３０（本発明の中間支持手段に相当する）が立設され、その上端に設けられた軸受３２により前記各搬送ローラ２１，２２のローラ軸２０ａの途中部分が回転可能に支持されている。軸受装置３０には、複数の軸受３２が基板搬送方向に並ぶように設けられており、これにより隣接する複数本のローラ軸２０ａが共通の軸受装置３０により支持されている。
【００３６】
なお、図１では便宜上図示を省略しているが、前記上流側ローラ群には、さらに押えローラ４１が含まれている。押えローラ４１は、図３に示すように、前記搬送ローラ２１〜２３のうち特定の搬送ローラ２１等の上方に設けられており、ローラ軸４０ａとその先端に固定されるローラ本体４０ｂとを備えている。ローラ本体４０ｂは、搬送ローラ２１等のローラ本体２０ｂのうち最も外側のローラ本体２０ｂの上方に位置しており、従って、押えローラ４１は、その位置で基板Ｗの幅方向の端部を上から押え込む。そして、前記搬送ローラ２１〜２３の回転に同期して回転することにより、基板Ｗの搬送を許容しながらその浮き上がりを抑制する。
【００３７】
前記押えローラ４１は、その端部が槽本体１０Ａの前側の側板１０１を貫通して槽本体１０Ａの外部に突出し、片持ち状態で前記支持枠体１０Ｂ側に支持されている。具体的には、前記支持板３４の上端部に軸受部材４２が固定されると共に前記補助支持板３８に軸受部材４４が固定され、これら軸受部材４２，４４により前記押えローラ４１のローラ軸４０ａが支持されている。
【００３８】
下流側領域ＥＢに設けられる前記下流側ローラ群は、上記した上流側ローラ群と対称な構成、具体的には、基板搬送方向におけるエアナイフ１６，１６の中間位置を支点として上流側ローラ群と回転対称となる構成を有している。すなわち、下流側ローラ群は、図１に示すように、上流側から順に、６本の同じ長さの搬送ローラ２４を含む第４単位ローラ群Ｇ４、１２本の同じ長さの搬送ローラ２５を含む第５単位ローラ群Ｇ５、および２本の同じ長さの搬送ローラ２６を含む第６単位ローラ群Ｇ６とからなっている。
【００３９】
各単位ローラ群Ｇ４〜Ｇ６は、基板搬送方向における最も上流側に位置する第４単位ローラ群Ｇ４の搬送ローラ２４の長さが最も長く、下流側に位置する単位ローラ群ほど搬送ローラの長さが長くなるように各単位ローラ群Ｇ４〜Ｇ６の搬送ローラ２４〜２６の長さが設定されており、第４単位ローラ群Ｇ４の搬送ローラ２４は第３単位ローラ群Ｇ３の搬送ローラ２６と、第５単位ローラ群Ｇ５の搬送ローラ２５は第２単位ローラ群Ｇ２の搬送ローラ２２と、第６単位ローラ群Ｇ６の搬送ローラ２６は第１単位ローラ群Ｇ１の搬送ローラ２１とそれぞれ共通の構成を有している。そして、下流側ローラ群における単位ローラ群Ｇ４，Ｇ５の各搬送ローラ２４，２５と上流側ローラ群における単位ローラ群Ｇ２，Ｇ３の各搬送ローラ２２，２３とは、基板搬送方向の両端のものを除いて、エアナイフ１６，１６を挟んで同一軸線上に並ぶように配列されている。
【００４０】
なお、各搬送ローラ２４〜２６は、上述した搬送ローラ２１〜２３と共通の構成であり、処理槽１０に対する搬送ローラ２４〜２６の支持構造も、基本的には上流側ローラ群の各搬送ローラ２１〜２３の支持構造と共通である。また、図示を省略するが、下流側ローラ群も前記押えローラ４１と同様の押えローラを含んでおり、当該押えローラの構成及び処理槽１０に対する支持構造も基本的には前記押えローラ４１と共通である。従って、ここでは搬送ローラ２４〜２６および押えローラについての説明は省略する。
【００４１】
前記駆動系５０は、上流側及び下流側の各ローラ群の各搬送ローラ２１〜２６のうち主にエアナイフ１６，１６の略中間位置（基板搬送方向における中間位置）よりも上流側に位置するものを駆動する第１駆動系５０Ａと、下流側に位置するものを駆動する第２駆動系５０Ｂとからなる。
【００４２】
第１駆動系５０Ａは、図１，図３及び図４に示すように、駆動源であるモータ５４Ａと、このモータ５４Ａの出力する駆動力を前記搬送ローラ２１，２２，２４，２５に伝達するための駆動伝達機構とを含む。この駆動伝達機構は、上流側ローラ群とは別にその上流側の位置に配置される搬送ローラ６１Ａ（本発明の軸部材に相当する）と、装置後側において前記モータ５４Ａの出力軸および搬送ローラ２４，２５，６１Ａの各ローラ軸２０ａ，６０ａの端部に固定されるプーリ５６と、これらのプーリ５６に巻き掛けられる駆動伝達ベルト５８Ａと、装置前側において搬送ローラ２１，２２，６１Ａの各ローラ軸２０ａ，６０ａの端部に固定されるプーリ５７と、これらのプーリ５７に巻き掛けられる駆動伝達ベルト５９Ａとで構成される。すなわち、第１駆動系５０Ａは、モータ５４Ａの駆動力を、駆動伝達ベルト５８Ａ等を介して単位ローラ群Ｇ４，Ｇ５の各搬送ローラ２４，２５（搬送ローラ２５はその一部）に伝達すると共に、搬送ローラ６１Ａ及び駆動伝達ベルト５９Ａ等を介して単位ローラ群Ｇ１，Ｇ２の各搬送ローラ２１，２２（搬送ローラ２２はその一部）に伝達する。
【００４３】
一方、第２駆動系５０Ｂは、駆動源であるモータ５４Ｂと、このモータ５４Ｂの出力する駆動力を前記搬送ローラ２２，２３，２５，２６に伝達するための駆動伝達機構とを含む。この駆動伝達機構は、下流側ローラ群とは別にその下流側の位置に配置される搬送ローラ６１Ｂ（本発明の軸部材に相当する）と、装置後側において前記モータ５４Ｂの出力軸および搬送ローラ２５，２６，６１Ｂの各ローラ軸２０ａ，６０ａの端部に固定されるプーリ５６と、これらのプーリ５６に巻き掛けられる駆動伝達ベルト５８Ｂと、装置前側において搬送ローラ２２，２３，６１Ｂの各ローラ軸端部に固定されるプーリ５７と、これらのプーリ５７に巻き掛けられる駆動伝達ベルト５９Ｂとで構成される。すなわち、第２駆動系５０Ｂは、モータ５４Ｂの駆動力を、駆動伝達ベルト５８Ｂ等を介して単位ローラ群Ｇ５，Ｇ６の各搬送ローラ２５（搬送ローラ２５はその一部）、２６に伝達すると共に、搬送ローラ６１Ｂ及び駆動伝達ベルト５９Ｂ等を介して単位ローラ群Ｇ２，Ｇ３の各搬送ローラ２２（搬送ローラ２２はその一部），２３に伝達する。
【００４４】
搬送ローラ６１Ａ，６１Ｂは、搬送ローラ２１等と同様に、ローラ軸６０ａと、当該ローラ軸６０ａの長手方向の複数の位置に各々固定されるローラ本体６０ｂとを備えた構成である。搬送ローラ６１Ａ，６１Ｂの両端は、それぞれ槽本体１０Ａの前後の側板１０１を貫通して槽本体１０Ａの外部に突出しており、搬送ローラ２１〜２６と同様に、その突出した端部が支持枠体１０Ｂ側に支持されている。この支持構造は、図３中に括弧書きで示しているように、搬送ローラ２１〜２６と同様である。また、搬送ローラ６１Ａ，６１Ｂのローラ軸６０ａは、その途中部分が軸受装置３０により槽本体１０Ａ側に支持されており、この点も搬送ローラ２１等と同様である。
【００４５】
なお、搬送ローラ２１〜２６のローラ軸２０ａ及び押えローラ４１のローラ軸４０ａにはそれぞれ互いに噛合する歯車６４，６６が固定されている。従って、前記搬送ローラ２等の回転駆動により、これと同期して押えローラ４１も回転駆動される。
【００４６】
前記補助支持装置７０は、上流側領域ＥＡおよび下流側領域ＥＢのうち前記ローラ群により基板Ｗを支持できない領域において基板Ｗを支持するものである。すなわち、上流側領域ＥＡにおける上流側ローラ群の占有スペースは、上記の通り長さの異なる単位ローラ群Ｇ１〜Ｇ３が搬送方向に並んでいる結果、階段状となっており、上流側ローラ群とエアナイフ１６，１６との間には、当該エアナイフ１６，１６に沿って三角形のスペースＳ１，Ｓ２が形成される。従って、このスペースＳ１，Ｓ２に前記補助支持装置７０が配置されている。下流側領域ＥＢについても、上記の通り下流側ローラ群は上流側ローラ群と回転対称な構成を有するため、上流側領域ＥＡと同様に、上記スペースＳ１，Ｓ２と回転対称な三角形のスペースＳ３，Ｓ４がエアナイフ１６，１６に沿って形成される。従って、このスペースＳ３，Ｓ４に前記補助支持装置７０が配置されている。
【００４７】
補助支持装置７０は、図６及び図７に示すように、槽本体１０Ａの内底板１０２に固定されるリップ溝型の断面を有するベース７２と、このベース７２の側面に互いに対向して固定される一対の調整板７４とを備えており、各調整板７４の上端部に回転自在に支持される補助ローラ７６によって基板Ｗを移動可能に支持する。
【００４８】
各調整板７４は、ボルト７８によってベース７２に締結されており、固定用ボルト７８を緩めることによりベース７２に対して上下方向に変位可能となっている。また、各調整板７４には、上下方向に貫通するねじ孔を備えたナット部分８０が設けられ、調整用ボルト８２がこのナット部分８０に対して上側から螺合挿入され、そのボルト先端がナット部分８０を貫通してベース７２のリップ部７２ａに突き当てられている。つまり、固定用ボルト７８を緩めた状態で調整用ボルト８２を回転させると、ベース７２に対して調整板７４が上下方向に変位し、これにより補助ローラ７６の高さを調整できると共に調整後は固定用ボルト７８を締結することにより当該高さを保持できる構成となっている。
【００４９】
図示を省略するが、補助支持装置７０としては、図６，図７に示すもの以外に、補助ローラ７６の数又はその配列が互いに異なる複数種類の補助支持装置７０がその種類毎に複数設けられており、これら補助支持装置７０が前記スペースＳ１〜Ｓ４を埋めるように所定の配列で当該スペースＳ１〜Ｓ４に配置されている（図１参照）。なお、前記スペースＳ１，Ｓ２に配置される補助支持装置７０の種類や配置とスペースＳ３，Ｓ４に配置される補助支持装置７０の種類や配置とは互いに回転対称な関係となっている。
【００５０】
以上説明した基板乾燥装置では、前記駆動系５０により各領域ＥＡ，ＥＢのローラ群が駆動されることにより基板Ｗが搬送路に沿って傾斜姿勢で搬送され、この搬送に伴い基板Ｗがエアナイフ１６，１６の位置を通過することにより、当該エアナイフ１６，１６により基板Ｗの上下各面にエアが噴射され、基板Ｗに付着した洗浄液が除去される。この際、この基板乾燥装置では、上記の通りエアナイフ１６，１６を境にしてその上流側と下流側とにローラ群が分断された状態で設けられているので、エアナイフ１６，１６から噴射されるエアが搬送ローラ２１〜２６によって遮られることがなく、従って、基板Ｗに対して良好にエアを吹き付けることができる。
【００５１】
しかも、この基板乾燥装置では、各領域ＥＡ，ＥＢのローラ群がそれぞれ、同じ長さを有する複数本の搬送ローラを含む複数の単位ローラ群Ｇ１〜Ｇ３、Ｇ４〜Ｇ６からなるため、ピッチを詰めて多くの搬送ローラを配列する場合でも、同じ長さの搬送ローラを複数本使用できる分、すなわち、製造コストの高い搬送ローラの共通化を図れる分、従来のこの種の装置（背景技術の特許文献１）に比べると製造コストを抑制することができる。
【００５２】
具体的に説明すると、上記実施形態では、例えば上流側領域ＥＡに設けられる上流側ローラ群に含まれる搬送ローラ２１〜２３の総数は２０本（第１単位ローラ群Ｇ１；２本、第２単位ローラ群Ｇ２；１２本、第３単位ローラ群Ｇ３；６本）であるが、単位ローラ群Ｇ１〜Ｇ３にそれぞれ含まれる搬送ローラ２１〜２６の種類は上述した通りローラ本体２０ｂの配列を考慮すると単位ローラ群当たり２種類であるため、合計６種類の搬送ローラで上流側ローラ群を構築することができる。これに対して、従来装置では、エアナイフに沿って全て長さの異なる搬送ローラを配列するため、上記実施形態と同じピッチで搬送ローラを配列しようとすると丸々２０種類の搬送ローラが必要となる。従って、実施形態の基板乾燥装置によると、このように搬送ローラの種類が少ない分、搬送ローラの製造コストを従来装置に比べて抑えることが可能となる。また、この実施形態の基板乾燥装置では、各領域ＥＡ，ＥＢのローラ群が上記のような構成である結果、上流側及び下流側の各ローラ群とエアナイフ１６，１６との間に三角形のスペースＳ１〜Ｓ４が形成されてしまうが、この装置では、当該Ｓ１〜Ｓ４に補助支持装置７０が配置され、これによって基板Ｗを移動可能に支持するように構成されているため、上記のように各ローラ群を構成しながらも当該スペースＳ１〜Ｓ４で基板Ｗが撓むのを有効に防止することができる。従って、従来装置と遜色ないレベルで基板Ｗをフラットに支持することができる。
【００５３】
なお、この実施形態では、同じ長さの搬送ローラを複数本使用する分、搬送ローラの製造コストを低減することができるが、前記スペースＳ１〜Ｓ４に補助支持装置７０を設ける必要があるため、その分の製造コストが必要となる。しかし、補助支持装置７０は、上記の通り基板Ｗを支持しつつその移動に伴い連れ回りするように補助ローラ７６を設けただけの簡素なものであるため、高い精度が要求される搬送ローラ２１〜２６等に比べると格段に安いコストで製作できる。しかも、この実施形態では、上記の通り補助支持装置７０として補助ローラ７６の数又はその配列が互いに異なる複数種類の補助支持装置７０をその種類毎に複数有し、これら補助支持装置７０が前記スペースＳ１〜Ｓ４を埋めるように所定の配列で当該前記スペースＳ１〜Ｓ４に配置されており、このように共通の補助支持装置７０が複数用いられることにより、補助支持装置７０に要するコストが抑えられている。従って、トータル的には、製造コストのうち基板搬送機構の占める割合を低減させることができ、その結果、従来装置に比べると、安価な構成で、大型の基板Ｗを安定的に、かつ円滑に搬送しながら当該基板に乾燥処理を施すことができるようになる。
【００５４】
また、上記実施形態の基板乾燥装置では、各領域ＥＡ，ＥＢのローラ群を駆動する駆動系５０を、上流側及び下流側の各ローラ群の各搬送ローラ２１〜２６のうち主にエアナイフ１６，１６の略中間位置（基板搬送方向における中間位置）よりも上流側に位置するものを駆動する第１駆動系５０Ａと、下流側に位置するものを駆動する第２駆動系５０Ｂとから構成しているので、斜行等の不都合を伴うことなく基板Ｗを良好に搬送することができるという利点がある。すなわち、上流側ローラ群と下流側ローラ群とを別々の駆動系で駆動するようにしてもよいが、この場合には、基板Ｗのうちエアナイフ１６，１６の位置を挟んで搬送路の幅方向両側に互いに別系統の駆動力（推進力）が与えるため、例えば、上流側ローラ群の回転速度と下流側ローラ群の回転速度とに差があると、基板Ｗに回転（捻れ）力が作用して基板Ｗが斜行する等の不都合を招くことが考えられる。その点、上記実施形態のように、ローラ群に拘わらず、前記中間位置を境としてその上流側と下流側とに分けて搬送ローラ２１〜２６を駆動する構成によれば、基板Ｗに対してはエアナイフ１６，１６を挟んでその両側の位置に同じ駆動系による駆動力（推進力）を付与することができるので、上記のような不都合を伴うことなくスムーズかつ安定的に基板Ｗを搬送することが可能となる。
【００５５】
なお、以上説明した基板乾燥装置は、本発明の実施形態の一例であって、その具体的な構成は、本発明の要旨を逸脱しない範囲で適宜変更可能である。
【００５６】
例えば、実施形態では、上流側及び下流側の各領域ＥＡ，ＥＢに設けられるローラ群は、それぞれ搬送方向に並ぶ３つの単位ローラ群Ｇ１〜Ｇ３、Ｇ４〜Ｇ６からなるが、各ローラ群に含まれる単位ローラ群の数や単位ローラ群に含まれる搬送ローラの数等は、実施形態に限定されるものではなく、前記領域ＥＡ，ＥＢの広さ及び基板Ｗのサイズ等に応じて適宜選定することができる。
【００５７】
また、実施形態では、上流側領域ＥＡに設けられる上流側ローラ群と下流側領域ＥＢに設けられる下流側ローラ群とは、上記の通り、回転対称な構成となっているが、必ずしも回転対称である必要はない。但し、実施形態のように、回転対称にした場合には、上記の通り、上流側ローラ群の搬送ローラ２１〜２３と下流側ローラ群の搬送ローラ２４〜２６とを共通化できるため、製造コストの低廉化および部品管理の面で有利となる。この点は、各領域ＥＡ，ＥＢに配置される補助支持装置７０の配置や構成についても同様である。
【００５８】
また、実施形態では、搬送ローラ２１〜２６のうち主にエアナイフ１６，１６の略中間位置（基板搬送方向における中間位置）よりも上流側に位置するものを第１駆動系５０Ａにより駆動し、下流側に位置するものを第２駆動系５０Ｂにより駆動するように駆動系５０が構成されているが、勿論、上流側ローラ群と下流側ローラ群との回転速度による影響等が問題とならない場合等には、駆動系としてローラ群毎に搬送ローラを駆動する構成を採用しても構わない。また、上流側および下流側の各ローラ群を単一の駆動系で駆動するように構成してもよい。
【００５９】
また、実施形態は、基板Ｗをその搬送方向から見て傾斜する姿勢で搬送しながら当該基板Ｗにエアを吹き付ける基板乾燥装置について本発明の適用例を説明したが、勿論、本発明は、基板Ｗを水平姿勢で搬送する装置についても適用可能であり、その場合にも、上記実施形態と同様の作用効果を享受することができる。
【図面の簡単な説明】
【００６０】
【図１】本発明の一実施形態に係る基板乾燥装置を示す平面概略図である。
【図２】エアナイフと基板との関係を示す模式図である。
【図３】搬送ローラ及び押えローラの支持構造を示す断面図（図５のIII−III線断面図）である。
【図４】ローラ群を駆動する駆動系を示す基板乾燥装置の側面図（図１のIV矢視図）である。
【図５】ローラ群を駆動する駆動系を示す基板乾燥装置の側面図（図１のV矢視図）である。
【図６】補助支持装置の構成を示す側面概略図である。
【図７】補助支持装置の構成を示す断面図（図６のVII−VII線断面図）である。
【符号の説明】
【００６１】
１０  処理槽
１０Ａ  槽本体
１０Ｂ  支持枠体
１２  搬入口
１４  搬出口
１６  エアナイフ
２０ａ  ローラ軸
２０ｂ  ローラ本体
２１〜２６  搬送ローラ
５０  駆動系
５０Ａ  第１駆動系
５０Ｂ  第２駆動系
６１Ａ，６１Ｂ  搬送ローラ
７０  補助支持装置
ＥＡ  上流側領域
ＥＢ  下流側領域
Ｇ１  第１単位ローラ群
Ｇ２  第２単位ローラ群
Ｇ３  第３単位ローラ群
Ｇ４  第４単位ローラ群
Ｇ５  第５単位ローラ群
Ｇ６  第６単位ローラ群
Ｗ  基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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