(57)【要約】      （修正有）【課題】有機溶剤に可溶で、しかも接着性、耐熱性、機械的特性及びフレキシブル性に優れ、光照射によってアルカリ可溶の高感度ポジ型フォトレジストの特性を示す感光性ポリイミド組成物を提供する。【解決手段】光酸発生剤と、該光酸発生剤の存在下にポジ型感光性を示す溶剤可溶のポリイミドとを含むポジ型感光性ポリイミド組成物。前記ポリイミドは、光増感性芳香族ジアミン及び／又は光分解酸によりアルカリ可溶性を示す芳香族ジアミンをジアミン成分として含む。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
光酸発生剤と、該光酸発生剤の存在下にポジ型感光性を示す溶剤可溶のポリイミドとを含むポジ型感光性ポリイミド組成物。
【請求項２】
前記ポリイミドは、光増感性芳香族ジアミン及び／又は光分解酸によりアルカリ可溶性を示す芳香族ジアミンをジアミン成分として含む請求項１記載の組成物。
【請求項３】
前記光増感性芳香族ジアミンが、４，４’―ジアミノジフェニルスルホン、３，３’―ジアミノジフェニルスルホン、ビス｛４―（４―アミノフェノキシ）フェニル｝スルホン、ビス｛４―（３―アミノフェノキシ）フェニル｝スルホン、Ｏ−トリジンスルホン、４，４’―ジアミノジフェニルスルフィド、４，４’―ジアミノジフェニルジスルフィド、４，４’―ジアミノベンゾフェノン、３，３’―ジアミノベンゾフェノン、１，５―ジアミノアントラキノン、２―ニトロー１，４―ジアミノベンゼン、３，３’―ジニトロー４，４’―ジアミノビフェニル、３，３’―ジメトキシー４，４’―ジアミノビフェニル、１，５―ジアミノナフタリン、９，９―ビス（４―アミノフェニル）フルオレン及び９，１０―ビス（４―アミノフェニル）アントラセンから成る群より選ばれる少なくとも１種である請求項２記載の組成物。
【請求項４】
光分解酸によりアルカリ可溶性を示す前記芳香族ジアミンが、３，５―ジアミノ安息香酸、３，５―ジアミノ安息香酸のモルホリンアミド、３，５―ジアミノ安息香酸のＮ−メチルピペリジンアミド、２，６―ジアミノピリジン、３，５―ジアミノピリジン、２―ヒドロキシー１，４―ジアミノベンゼン及び３，３’―ジヒドロキシー４，４’―ジアミノビフェニルから成る群より選ばれる少なくとも１種である請求項２又は３記載の組成物。
【請求項５】
前記ポリイミドは、芳香族ジアミン成分として、４，４’―ジアミノジフェニルエーテル、３，４’―ジアミノジフェニルエーテル、ビス（４―フェノキシ）１，４―ベンゼン、ビス（３―フェノキシ）１，４―ベンゼン、ビス（３―フェノキシ）１，３―ベンゼン、２，２―ビス（４―アミノフェニル）プロパン、１，１，１，３，３，３―ヘキサフルオロー２―ビス（４―アミノフェニル）プロパン、４，４’―ジアミノジフェニルメタン、ビス（４―アミノフェノキシ）４，４’―ジフェニル、２，２―ビス｛（４―アミノフェノキシ）フェニル｝プロパン、２，２―ビス｛（４―アミノフェノキシ）フェニル｝ヘキサフルオルプロパン、１，３―ジアミノベンゼン、１，４―ジアミノベンゼン、２，４―ジアミノトルエン、３，３’―ジメチルー４，４’―ジアミノビフェニル、２，２’―ビス（トリフルオロメチル）ベンジジン、α，α’―ビス（４―アミノフェニル）―１，４―ジイソプロピルベンゼン、ビス（４―アミノフェノキシ）―１，３―（２，２―ジメチル）プロパン及びジアミノシロキサンから成る群より選ばれる少なくとも１種を含む、請求項１ないし４のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項６】
前記ポリイミドは、酸成分として、３，４，３’，４’―ベンゾフェノンテトラカルボン酸ジ無水物、３，４，３’，４’―ビフェニルテトラカルボン酸ジ無水物、ピロメリット酸ジ無水物、２，３，３’，４’―ビフェニルエーテルテトラカルボン酸ジ無水物、１，２，５，６―ナフタレンテトラカルボン酸ジ無水物、２，３，５，６―ピリジンテトラカルボン酸ジ無水物、３，４，３’，４’―ビフェニルスルホンテトラカルボン酸ジ無水物、ビシクロ（２，２，２）―オクトー７―エンー２，３，５，６―テトラカルボン酸ジ無水物、４，４’―｛２及び２，２―トリフルオロー１―（トリフルオロメチル）エチリデン｝ビス（１，２―ベンゼンジカルボン酸ジ無水物）から成る群より選ばれる少なくとも１種を含む請求項１ないし５のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項７】
前記ポリイミドは、芳香族ジアミンの一成分として、ジアルキルージアミノービフェニルスルホン及び／又はジアルコオキシージアミノービフェニルスルホンを含有する請求項１ないし６のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項８】
前記ジアルキルージアミノービフェニルスルホン及び／又はジアルコオキシージアミノービフェニルスルホンが、３，３’―ジメチルー４，４’―ジアミノービフェニルスルホン及び／又は３，３’―ジメトキシー４，４’―ジアミノービフェニルスルホンである請求項７記載の組成物。
【請求項９】
前記ポリイミドは、芳香族ジアミンの一成分として、９，９―ビス（アミノフェニル）フルオレン及び／又は９，９―ビス（アミノアルキルーフェニル）フルオレンを含有する請求項１ないし６のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項１０】
前記９，９―ビス（アミノフェニル）フルオレン及び／又は９，９―ビス（アミノアルキルーフェニル）フルオレンが、９，９―ビス（４―アミノフェニル）フルオレン及び／又は９，９―ビス（３―メチルー４―アミノフェニル）フルオレンである請求項９記載の組成物。
【請求項１１】
前記ポリイミドは、芳香族ジアミンの一成分としてジアミノピリジン及び／又はジアミノアクリジニウムを含有する請求項１ないし６のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項１２】
前記ジアミノピリジン及び／又はジアミノアクリジニウムが、２，６―ジアミノピリジン及び／又はアクリフラビンである請求項１１記載の組成物。
【請求項１３】
前記ポリイミドは、二成分以上の芳香族ジアミンを含み、その一つがジアミノジヒドロキシベンゼン、ジアミノジヒドロキシビフェニル及びジアミノジアルコキシビフェニルから成る群より選ばれる少なくとも１種のヒドロキシル基又はアルコキシル基含有芳香族ジアミンである請求項１ないし６のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項１４】
前記ヒドロキシル基又はアルコキシル基含有芳香族ジアミンが、１，４―ジアミノー２―ヒドロキシベンゼン、３，３’―ジヒドロキシー４，４’―ジアミノビフェニル及び３，３’―ジメトキシー４，４’―ジアミノビフェニルから成る群より選ばれる少なくとも１種である請求項１３記載の組成物。
【請求項１５】
前記ポリイミドは、芳香族ジアミンの一成分として、ニトロ芳香族ジアミンを含有する請求項１ないし６のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項１６】
前記ニトロ芳香族ジアミン成分が、１，４―ジアミノー２―ニトロベンゼン及び／又は３，３’―ジニトロー４，４’―ジアミノビフェニルである請求項１５記載の組成物。
【請求項１７】
前記ポリイミドは、芳香族ジアミンの一成分として、１，５―ジアミノアントラキノンを含有する請求項１ないし６のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項１８】
前記ポリイミドは、ポリイミド主鎖中に、ジフェニルスルフィド基を含有する請求項１ないし６のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項１９】
ジフェニルスルフィド基が、４，４’―ジアミノジフェニルスルフィド中のジフェニルスルフィド基である請求項１８記載の組成物。
【請求項２０】
前記ポリイミドは、ポリイミド主鎖中に、ジフェニルジスルフィド基を含有する請求項１ないし６のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項２１】
前記ジフェニルジスルフィド基が、４，４’―ジアミノジフェニルジスルフィド中のジフェニルジスルフィド基である請求項２０記載の組成物。
【請求項２２】
前記ポリイミドは、ポリイミド主鎖中に、芳香族ジアミンと共に１，４―ビスー（３―アミノプロピル）ピペラジンを含む請求項１ないし６のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項２３】
前記ポリイミドは、ポリイミド主鎖中に、芳香族ジアミン成分と共に３，９―ビス（３―アミノプロピル）―２，４，８，１０―テトラオキサスピロー（５，５）―ウンデカンを含む請求項１ないし６のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項２４】
前記ポリイミドは、ポリイミド主鎖中に、芳香族ジアミンの一成分として、９，１０―ビス（４―アミノフェニル）アントラセンを含有する請求項１ないし６のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項２５】
前記ポリイミドは、ポリイミド主鎖中にビフェニルスルホン基を持つ芳香族ジアミンを含有する請求項１ないし６のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項２６】
ビフェニルスルホン基を持つ前記芳香族ジアミン成分が、３，３’―ジアミノジフェニルスルホン、４，４’―ジアミノジフェニルスルホン、ビスー｛４―（３―アミノフェノキシ）ビフェニル｝スルホン及びビスー｛４―（４―アミノフェノキシ）ビフェニル｝スルホンから成る群より選ばれる少なくとも１種である請求項２５記載の組成物。
【請求項２７】
前記ポリイミドは、ポリイミド主鎖中に、二成分以上の芳香族ジアミンを含み、その一つがジアミノ安息香酸の酸アミドである請求項１ないし６のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項２８】
前記ジアミノ安息香酸の酸アミドが３，５―ジアミノ安息香酸のモルホリンアミド及び／又はＮ−メチルピペラジンアミドである請求項２７記載の組成物。
【請求項２９】
前記ポリイミドは、３成分以上により構成された請求項２ないし４のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項３０】
前記ポリイミドは、ラクトンと塩基により生成した酸触媒の存在下に、極性溶媒中で加熱  して、酸ジ無水物と芳香族ジアミンをモル比が1.05〜0.95となるように加えて、加熱、脱水して得られたものである請求項１ないし２９のいずれか１項に記載の組成物．
【請求項３１】
前記ラクトンはγ−バレロラクトンであり、前記塩基はピリジン及び／又はメチルモルフォリンである請求項３０記載の組成物。
【請求項３２】
前記ポリイミドは、ジアミン成分としての芳香族ジアミンと酸成分としてのテトラカルボン酸ジ無水物のいずれかの成分を多量にして、ポリイミドオリゴマーとし、ついで芳香族ジアミン又は／及びテトラカルボン酸ジ無水物を加えて二段階重縮合して得られた、全芳香族ジアミンと全テトラカルボン酸ジ無水物のモル比が１．０５―０．９５であるポリイミドブロック共重合体である請求項３０又は３１記載の組成物。
【請求項３３】
前記ポリイミドのポリスチレン換算の重量平均分子量が２万５０００乃至４０万であり、その熱分解開始温度が４５０℃以上である請求項１ないし３２のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項３４】
前記重量平均分子量が３万ないし２０万である請求項３３記載の組成物。
【請求項３５】
前記光酸発生剤を前記ポリイミドの重量に対し１０から５０重量％含む請求項１ないし３４のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項３６】
前記光酸発生剤はキノンジアジド化合物である請求項１ないし３５のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項３７】
溶媒に溶解された溶液の形態にあり、かつ、前記ポリイミドの含有量が５重量％以上である請求項１ないし３６のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項３８】
請求項３７の組成物を製膜したポジ型感光性樹脂フィルム。
【請求項３９】
請求項３７記載の組成物を基材上に被覆し、乾燥し、光線又は電子線照射によって画像を露光し、その照射域をアルカリ性溶液現像液で除去して形成したパターンを有するポリイミド絶縁膜。
【請求項４０】
請求項３７記載の組成物を基材上に被覆し、乾燥し、光線又は電子線照射によって画像を露光し、その照射域をアルカリ性溶液現像液で除去するポリイミド絶縁膜パターンの形成方法。
【請求項４１】
波長２５０〜４５０ｎｍの光線を照射することにより画像を露光する請求項４０記載の方法。
【請求項４２】
請求項２ないし４、７ないし２８のいずれか１項に記載された組成物中に含まれるポリイミド。
ができる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ポジ型感光性ポリイミド組成物、それから形成された絶縁膜及びそれを用いる絶縁膜パターンの形成方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
感光性樹脂組成物は、Ａ）露光した部分の極性が変化し、溶解性に差の出る極性変化型、Ｂ）露光により化学結合が切れ、露光部が可溶化する切断型、Ｃ）架橋反応が進み露光部分が不溶化する架橋型に分類される。極性変化型は、現像液組成によって、ポジ型としてもネガ型としても利用できる。切断型はポジ型として、架橋型は原理上ネガ型として利用可能である。また、架橋型感光材料は、有機溶媒現像により、露光部の膨潤が起こるため高解度の微細加工を行う上で不利となる。
【０００３】
近年、フレキシブル配線板のオーバーコート材や多層基板の層間絶縁膜、半導体工業における固体素子への絶縁膜やパッシベーション膜の成型材料、及び半導体集積回路や多層プリント配線板等の層間絶縁材料は、耐熱性に富むことが要請され、また高密度化、高集積化の要求から感光性を有する耐熱材料が求められている。
【０００４】
ミクロ電子工業の半導体集積部品となる半導体基材は、フォトレジストで被覆する。フォトレジスト層の画像形成及び現像によって、フォトレジストレリーフ構造を作り出す。このレリーフ構造は、回路パターンを半導体基材上に作るためのマスクとして使用する。この加工サイクルによって、マイクロチップのレリーフ構造を基材に移すことができる。
【０００５】
フォトレジストには、異なる２種のフォトレジスト、ポジ型フォトレジストとネガ型フォトレジストがある。この違いは、ポジ型フォトレジストの露光域が現像プロセスによって除去され、未現像領域が基材上に残る。一方、ネガ型フォトレジストの照射域はレリーフ構造として残る。ポジ型フォトレジストは、本質的に高い画像分解能を有し、ＶＬＳＩ（超大規模集積回路）の製造に適する。
【０００６】
従来より用いられているポジ型フォトレジストは、水性アルカリに可溶な一種のノボラック型樹脂と、アルカリ中においてこの樹脂の溶解度を低減させる感光性キノンジアジドを含有する。このフォトレジスト層を照射するとキノンジアジドは光励起してカルボン酸に構造変換し、露光域ではアルカリへの溶解度を増大する。従って、水性アルカリ現像をして、ポジ型フォトレジストレリーフ構造が得られる（ＵＳＰ３６６６４７３５他）。
【０００７】
工業的実施に要するフォトレジスト組成物の特性は、塗布溶剤中でのフォトレジストの溶解度、フォトレジストの感光速度、現像コントラスト、環境面で許される現像液の溶解度、フォトレジストの密着性、高温での寸法安定性及び耐摩耗性である。
【０００８】
露光、現像によって得られたフォトレジストレリーフの構造は、通常、１２０℃乃至１８０℃の範囲内で熱処理（ポストベーク）を受ける。この目的は、基材に対するフォトレジストの接着性の向上、フォトレジスト構造の硬化及びその後に続くエッチングによる浸蝕の低減をもたらすために、なお残る全ての揮発成分を除去することにある。
【０００９】
しかし、プラズマエッチングでは２００℃を超える温度が基材に生じる。ノボラック樹脂に安定化改質剤をベースにするフォトレジストを１８０℃以上に熱安定化することはできない。
【００１０】
ポリイミド樹脂は、約４００℃の高温に耐え、かつ、薬品に対しても安定である。従って、耐熱性フォトレジスト層の形成に有効である。
【００１１】
従来使用されているポリイミドのフォトレジストは、ネガ型の作用をする。このネガ型フォトレジストの基本系は光反応性側鎖を持つポリアミド酸ポリマーから成り立つ。しかし、この基材は、貯蔵安定性が悪く、感光速度が非常に遅く、且つ現像、硬化後に過大な構造収縮（ポストベーク後の収縮率が６０％程度）を生じるという難点がある。この組成の材料は、高い分解度の構造体を得るためには１０分間程度の露光処理が必要であり、厚膜フィルムを塗布する高濃度溶液では、特に貯蔵安定性が悪い。
【００１２】
ポジ型フォトレジストは、解像度が高く、短時間の露光、アルカリ現像性に優れている。フェノール基をもつポジ型高温型フォトレジストが開発された。３，３'―ジヒドキシー４，４’―ジアミノビフェニルとイソフタル酸ジクロリドの反応によるポリオキサゾール前躯体が合成された。この組成物は、Ｏ−キノンジアジド又はナフトキノンジアジドと混合して、高感度のポジ型感光性ポリオキサゾール前躯体を作り、加工後にポリオキサゾールとしてポリイミド膜とほぼ同じレベルの耐熱性、機械的特性を示す材料であることが示されている（ＵＳＰ４３３９５２１、ＵＳＰ４３９５４８２）。
【００１３】
ヘキサフルオロー２、２―ビス（ヒドロキシアミノフェノール）プロパンと ヘキサフルオロー２、２―ビス（ジカルボキシフェニル）プロパン二無水物（６ＦＤＡ）、又は３，４，３'，４'−ベンゾフェノンテトラカルボン酸ジ無水物（ＢＴＤＡ）、又は５，５’ーオキシービスー１，３―イソベンゾフランジオン（４，４'―オキシジフタル酸二無水物）とで溶剤可溶のポリイミドが合成され、これにＯ−ナフトキノンジアジドが混合されてポジ型感光性ポリイミドとされた。この方法（特開昭６４―６０６３０公報、ＵＳＰ４９２７７３６）においては、フッ素原子含有のポリイミドは、極性溶媒に可溶である。ｐ−トルエンスルホン酸を触媒として、１４０〜１６０℃に加熱して、直接ポリイミド溶液を合成する新規な方法が採用された。しかし、触媒とポリイミドとを分離するためにポリイミド溶液をメタノール中に注いでポリイミド樹脂を沈殿として回収し、ついで再溶解するという工業的に不適当な方法が採用されている。 
【００１４】
フェノール基、又はカルボン酸基をテトラヒドロー２Ｈ−ピラニル基で保護してアルカリ可溶性を消失させ，これに光酸発生剤を加え、光照射すると光で酸が発生し、この酸によってヒドロキシル基、又はカルボン酸基のブロックが分解してアルカリ可溶となる。露光後に加熱処理を行うと酸が触媒的に複数のブロックを外して増幅効果が生じて高感度化される(T.Omote他;Macromol., 23, 4788 (1990),K.Naitoh他;Polym. Adv. Technol. 4, 294 (1993)、K.Naitoh他;J. Photopolym. Sci. Technol. 4, 294 (1993)、 T.Yamaoka他;Photosensitive Polyimides Fundamental & Application, 177-211, Technomic Publish Company Inc. USA(1995))。
【００１５】
ポリアミド酸のカルボキシ基を２―ニトロベンジルアルコールのエステルにして、アルカリ可溶性を防ぎ、これに光照射することによって、２―ニトロベンジル基のエステルは分解してカルボン酸を生成することによりアルカリ可溶となるポジ型感光性ポリアミド酸が発表された(S.Kubota他;J. Macromol. Sci. Chem. A24 (10) 1407 (1987)、山岡亜夫他;Polyfile 2, 14(1990))。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１６】
【特許文献１】ＵＳＰ３６６６４７３５
【特許文献２】ＵＳＰ４３３９５２１
【特許文献３】ＵＳＰ４３９５４８２
【特許文献４】特開昭６４―６０６３０公報
【特許文献５】ＵＳＰ４９２７７３６
【非特許文献】
【００１７】
【非特許文献１】T.Omote他;Macromol., 23, 4788 (1990),K.Naitoh他;Polym. Adv. Technol. 4, 294 (1993)
【非特許文献２】K.Naitoh他;J. Photopolym. Sci. Technol. 4, 294 (1993)
【非特許文献３】T.Yamaoka他;Photosensitive Polyimides Fundamental & Application, 177-211, Technomic Publish Company Inc. USA(1995)
【非特許文献４】S.Kubota他;J. Macromol. Sci. Chem. A24 (10) 1407 (1987)
【非特許文献５】山岡亜夫他;Polyfile 2, 14(1990)
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１８】
本発明の目的は、有機溶剤に可溶で、しかも接着性、耐熱性、機械的特性及びフレキシブル性に優れ、光照射によってアルカリ可溶の高感度ポジ型フォトレジストの特性を示す感光性ポリイミド組成物を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１９】
本願発明者らは、鋭意研究の結果、溶剤可溶なポリイミドと光酸発生剤とを組み合わせることにより、光照射によってアルカリ可溶となる高感度のポジ型感光性ポリイミド組成物が得られ、該ポジ型感光性ポリイミド組成物から構成される絶縁膜が接着性、耐熱性、機械的特性及びフレキシブル性に優れていることを見出し、本発明を完成した。
【００２０】
すなわち、本発明は、光酸発生剤と、該光酸発生剤の存在下にポジ型感光性を示す溶剤可溶のポリイミドとを含むポジ型感光性ポリイミド組成物を提供する。また、本発明は、溶剤に溶解した上記本発明の組成物を製膜したポジ型感光性樹脂フィルムを提供する。さらに、本発明は、溶剤に溶解した上記本発明の組成物を基材上に被覆し、乾燥し、光線又は電子線照射によって画像を露光し、その照射域をアルカリ性溶液現像液で除去して形成したパターンを有するポリイミド絶縁膜を提供する。さらに、本発明は、溶剤に溶解した上記本発明の組成物を基材上に被覆し、乾燥し、光線又は電子線照射によって画像を露光し、その照射域をアルカリ性溶液現像液で除去するポリイミド絶縁膜パターンの形成方法を提供する。
【００２１】
本発明により、光照射によってアルカリ可溶となるポジ型感光性ポリイミド組成物が提供された。該ポジ型感光性ポリイミド組成物は、感度が高い、すなわち、極めて良好な画像解像度が得られる。本発明のポジ型感光性ポリイミド組成物から構成される絶縁膜は接着性、耐熱性、機械的特性及びフレキシブル性に優れている。従って、該絶縁膜は、高温度耐熱性、電気絶縁性、接着性を有したポリイミド絶縁膜であり、半導体や電子部品等の製造分野に幅広く利用することができる。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
上述のように、本発明のポジ型感光性ポリイミド組成物は、光酸発生剤と、該光酸発生剤の存在下にポジ型感光性を示す溶剤可溶のポリイミドとを含むものである。
【００２３】
ここで、光酸発生剤とは、光線又は電子線の照射を受けると酸を発生する化合物である。酸の作用により、ポリイミドは分解されてアルカリ可溶性になるので、本発明で採用される光酸発生剤は特に限定されず、光線又は電子線の照射を受けると酸を発生するいずれの化合物をも用いることができる。好ましい光酸発生剤として感光性キノンジアジド化合物及びオニウム塩を挙げることができる。
【００２４】
感光性キノンジアジド化合物の好ましい例として、１，２―ナフトキノンー２―ジアジドー５―スルホン酸、１，２―ナフトキノンー２―ジアジドー４―スルホンの低分子芳香族ヒドロキシ化合物、例えば２，３，４―トリヒドロキシベンゾフェノン、１，３，５―トリヒドロキシベンゼン並びに２―及び４―メチルーフェノール、４，４'―ヒドロキシープロパンのエステルを挙げることができるがこれらに限定されるものではない。
【００２５】
オニウム塩の好ましい例として、アリールジアゾニウム塩、例えば４（Ｎ−フェニル）アミノフェニルジアゾニウム塩、ジアリールハロニウム塩、例えばジフェニルヨードニウム塩、トリフェニルスルホニウム塩、例えばビス｛４―（ジフェニルスルホニオ）フェニル｝スルフィド、ビスヘキサフルオロアンチモナートを挙げることができるがこれらに限定されるものではない。
【００２６】
本発明のポリイミド組成物中に含まれるポリイミドは、本質的に芳香族ジアミン成分と芳香族酸成分とから成り、芳香族ジアミンと芳香族テトラカルボン酸ジ無水物との直接的なイミド化反応により製造されるものである。
【００２７】
本発明のポリイミド組成物中に含まれるポリイミドを構成する芳香族ジアミン成分の好ましい例(モノマーの形態で記載）として、４，４’―ジアミノジフェニルエーテル、３，４’―ジアミノジフェニルエーテル、ビス（４―フェノキシ）１，４―ベンゼン、ビス（３―フェノキシ）１，４―ベンゼン、ビス（３―フェノキシ）１，３―ベンゼン、２，２―ビス（４―アミノフェニル）プロパン、１，１，１，３，３，３―ヘキサフルオロー２―ビス（４―アミノフェニル）プロパン、４，４’―ジアミノジフェニルメタン、ビス（４―アミノフェノキシ）４，４’―ジフェニル、２，２―ビス｛（４―アミノフェノキシ）フェニル｝プロパン、２，２―ビス｛（４―アミノフェノキシ）フェニル｝ヘキサフルオルプロパン、１，３―ジアミノベンゼン、１，４―ジアミノベンゼン、２，４―ジアミノトルエン、３，３’―ジメチルー４，４’―ジアミノビフェニル、２，２’―ビス（トリフルオロメチル）ベンジジン、α，α’―ビス（４―アミノフェニル）―１，４―ジイソプロピルベンゼン、ビス（４―アミノフェノキシ）―１，３―（２，２―ジメチル）プロパン及びジアミノシロキサンを挙げることができる。これらの芳香族ジアミン成分は、単独で又は組み合わせて採用することができる。
【００２８】
本発明のポリイミド組成物中に含まれるポリイミドを構成する芳香族酸成分の好ましい例(モノマーの形態で記載）として、３，４，３’，４’―ベンゾフェノンテトラカルボン酸ジ無水物、３，４，３’，４’―ビフェニルテトラカルボン酸ジ無水物、ピロメリット酸ジ無水物、２，３，３’，４’―ビフェニルエーテルテトラカルボン酸ジ無水物、１，２，５，６―ナフタレンテトラカルボン酸ジ無水物、２，３，５，６―ピリジンテトラカルボン酸ジ無水物、３，４，３’，４’−ビフェニルスルホンテトラカルボン酸ジ無水物、ビシクロ（２，２，２）−オクト−７−エン−２，３，５，６―テトラカルボン酸ジ無水物、４，４’―｛２及び２，２―トリフルオロー１―（トリフルオロメチル）エチリデン｝ビス（１，２―ベンゼンジカルボン酸ジ無水物）を挙げることができる。これらの芳香族酸成分は、単独で又は組み合わせて採用することができる。
【００２９】
ポリイミドを構成する芳香族ジアミンとして、カルボニル基、ニトロ基、メトキシ基、スルホン基、スルフィド基、アントラセン基又はフルオレン基が導入されたもの(以下、「光増感性芳香族ジアミン」ということがある)を用いると、光酸発生剤を添加して紫外線照射した際に、容易に光励起して、少ない線量で高感度高解像度の画像を形成することができるので好ましい。
【００３０】
光増感性芳香族ジアミンの好ましい例として、先ず、３，３’―ジメチルー４，４’―ジアミノービフェニルスルホン及び３，３’―ジメトキシー４，４’―ジアミノービフェニルスルホンのようなジアルキルージアミノービフェニルスルホン及びジアルコキシージアミノービフェニルスルホンを挙げることができる。これらのビフェニルスルホンを含有するポリイミドは、機械的強度が強く、弾性率が高い線状高分子となり、高弾性のポリイミド繊維として研究され、更にフィルム特性を示すためガス分離膜としても研究されている。繊維として、又フィルムとして使用が可能であり、感光性フィルムとしても使用できる。これらビフェニルスルホンを含むポリイミドは、下記実施例に示すように、増感剤のミヘラーケトンやラジカル発生剤を添加しても感光性は示さない。しかし、キノンジアジド化合物を添加して光照射すると、アルカリ可溶性になることが見出された。ポリイミドの分子量（スチレン換算）が、３万、５万、１０万と変化しても光照射によってアルカリ可溶性になる。この事実からキノンジアジドが光分解してラジカルを発生すると同時にインデン酸となり、ポリイミド基、ビフェニルスルホン基と相互作用をして、ポリイミドがアルカリ可溶性になるものと考えられる。すなわち、紫外線照射によって、キノンジアジド化合物が光分解し、更にインデン酸が生成する。この結果、ビフェニル基のアルキル基又はアルコキシ基が活性化し、スルホン結合が開裂し、これにインデン酸の付加によってアルカリに対する溶解性を増大するものと推定される。
【００３１】
さらに、光増感性芳香族ジアミンの好ましい例として、９，９―ビス（アミノフェニル）フルオレン及び９，９―ビス（アミノアルキルーフェニル）フルオレンを挙げることができる。これらのフルオレンを含有するポリイミドは、機械的強度が強く、弾性率が高い線状高分子となり、フィルム特性の優れたポリイミドとなり、ガス分離膜としても優れた性能を示すことが認められている。繊維として、又フィルムとして使用が可能であり、感光性フィルムとしても使用できる。下記実施例に示すように、増感剤のミヘラーケトンを添加しても感光性は示さない。しかし、キノンジアジド化合物を添加して光照射すると、アルカリ可溶性の現像画像が鮮明になることが見出された。感光性ポリイミドの重量平均分子量（スチレン換算）が、３万、５万、１０万と変化してもキノンジアジドが光分解してラジカルと酸になり、これらと相互作用してアルカリ可溶のポリイミドを生成して、鮮明なポジ型画像を形成する。すなわち、９，９―ビス（アミノフェニル）フルオレンは、酸触媒の存在下、フルオレノンとアニリンから合成される(Beilstein 13,III,548a)。フルオレノンはミヘラーケトンやベンザンスロンと同様に常用されている光増感剤である。フルオレノン含有のポリイミドは、光照射によって増感するけれども、通常光分解しない。しかし、キノンジアジドが共存する場合、キノンジアジドが光によりラジカルを発生しインデン酸となって相互作用を及ぼしてビス（アミノフェニル）フルオレン含有のポリイミドはアルカリ可溶になることが見出された。これはポリイミド鎖中にあるビス（アミノフェニル）フルオレン基の９位にあるＳＰ３炭素構造が、一時的に共鳴安定化してＳＰ２炭素構造に変化すると推定される。その結果、アニリン基は脱離し、ポリイミド鎖が開裂すると推定される。フルオレノンは各種の異性体が知られている。例えば、２―ニトロ、２，７―ジニトロ化合物、７―クロル化合物等がある。また、アニリンも２―メチルアニリン、２―メトキシアニリン等の各種の異性体が知られている。上記フルオレノン誘導体とアニリン誘導体とから、酸触媒の存在下に各種の９，９―ビス（アミノフェニル）フルオレン誘導体が生成する。これらの誘導体もまたポジ型感光性組成物となる。フルオレノンの代わりにベンザンスロン化合物もポジ型感光性ポリイミド組成物となる。
【００３２】
さらに、光増感性芳香族ジアミンの好ましい例として、ニトロ芳香族ジアミンを挙げることができる。１，４―ジアミノー２―ニトロベンゼン、又は／及び、３，３'―ジニトロー４，４’―ジアミノビフェニルは、イミド基の中のＮ原子の付いたＣ原子の隣りのＣ原子がニトロ化されている。ニトロ基とベンゼン環は、電子共鳴によって光照射すると励起すると共に、ニトロ基の酸素原子がイミド基のＮ原子に作用して電子効果を大きくする。ジアゾキノンの光照射によって生成したプロトンはイミド結合のＮ原子を攻撃してイミド結合が切断してアミド結合となり、アルカリ可溶性になるものと推定される。ニトロ芳香族ジアミンの好ましい例として、１，４―ジアミノー２―ニトロベンゼン、１，５―ジアミノー２―ニトロベンゼン、３―ニトロー４，４'―ジアミノビフェニル、３，３’―ジニトロー４，４'―ジアミノビフェニル等を挙げることができ、これらのうち１，４―ジアミノニトロベンゼン及び３，３’―ジニトロー４，４'―ジアミノビフェニルが特に好ましい。
【００３３】
さらに、光増感性芳香族ジアミンの好ましい例として、１，５―ジアミノアントラキノンを挙げることができる。１，５―ジアミノアントラキノン含有のポリイミドでは、アントラキノンは容易に光励起する。アントラキノンのＮ原子の付いたＣ原子の隣のＣ原子と結合したカルボニル基は、イミド結合のＮ原子に電子効果を及ぼし、ジアゾキノンの光照射によって生成したプロトンは、イミド結合のＮ原子を攻撃してイミド結合が切断して、アミド結合となり、アルカリ可溶性になるものと推定される。アントラキノンは、光増感剤でもあり、少ないエネルギー照射によって有効にポジ型パターンが形成される。１，５―ジアミノアントラキノンの作用類似の化合物としては、２，４―ジアミノアセトフェノン、２，４―ジアミノベンゾフェノン、２―アミノー４'―アミノベンゾフェノン、２―アミノー５―アミノフルオレノン等があり、これらを用いることもできる、好ましくは、１，５―ジアミノアントラキノンが用いられる。
【００３４】
さらに、光増感性芳香族ジアミンの好ましい例として、４，４’―ジアミノジフェニルスルフィドのようなジフェニルスルフィド基含有ジアミンを挙げることができる。なお、この場合、ジフェニルスルフィド基は、主鎖中に含まれる。主鎖中にジフェニルスルフィドを含むポリイミドは、主鎖中のジフェニルスルフィドがキノンジアジドの存在下に光照射されることによって酸が生成し、この酸とスルフィド基が結合して、スルフィド基がチオールとなって開裂するものと考えられる。ポリイミド主鎖中のジフェニルスルフィド基は、４，４'―ジアミノジフェニルスルフィド、３，４’―ジアミノジフェニルスルフィド、４，４'―ジアミノー３，３’―ジメチルスルフィド、ビス（４―アミノフェノキシフェニル）スルフィドやチオニン等のジアミノ化合物から由来するものであってよい。これらのうち、入手しやすく、かつ、効果の高い４，４'―ジアミノジフェニルスルフィドが好ましい。
【００３５】
さらに、光増感性芳香族ジアミンの好ましい例として、４，４’―ジアミノジフェニルジスルフィドのようなジフェニルジスルフィド基を含有するジアミンを挙げることができる。なお、この場合、ジフェニルジスルフィド基はポリイミドの主鎖中に含まれる。主鎖中にジフェニルジスルフィド基を含有するポリイミドは、キノンジアジドの光照射によって生成したプロトンと結合して容易に２分子のチオールとなると考えられる。事実、ジスルフィド化合物は、スルフィド化合物よりも容易に開裂し、さらに鋭いパターンを生成する。ポリイミド主鎖中のジフェニルジスルフィド基は、４，４'―ジアミノジフェニルジスルフィド、３，４’―ジアミノジフェニルジスルフィド、４，４'―ジアミノー３，３’―ジメチルジスルフィド、ビス（４―アミノフェノキシフェニル）ジスルフィドやチオニン等のジアミノ化合物から由来するものであってよい。これらのうち、入手しやすく、かつ、効果の高い４，４'―ジアミノジフェニルジスルフィドが好ましい。
さらに、光増感性芳香族ジアミンの好ましい例として、９，１０―ビス（４―アミノフェニル）アントラセンを挙げることができる。芳香族ジアミンの一成分として、主鎖中に９，１０―ビス（４―アミノフェニル）アントラセンを含有する溶剤可溶のポジ型感光性ポリイミドは、機械的強度が強く、弾性率が高い線状高分子となり、フィルム特性の優れたポリイミドとなり、ガス分離膜としても優れた性質を示すことが認められている。繊維として、又、フィルムとして使用が可能であり、感光性フィルムとしても使用できる。アントラキノンは、光照射すると容易に励起して増感剤として広く使用されている。９，１０―ビス（４―アミノフェニル）アントラセン基は、光照射によって増感し、活性化すると共に、キノンジアジドが共存すると、キノンジアジドが光分解して生成した酸と作用して、９位及び１０位のアミノフェニル基がプロトンの攻撃を受けてアントラセン基から離脱してアントラキノンが生成すると推定される。この結果、ポリイミド主鎖は切断され、アルカリ可溶のポリイミドとなり、鮮明なポジ型画像を形成することができると考えられる。アントラキノンは、増感剤として知られているように、この系の光増感作用が大きく、特別に増感剤を併用する必要がなく、短時間、少ないエネルギーの照射によって、ポジ型のパターンが有効に形成される。
【００３６】
さらに、光増感性芳香族ジアミンの好ましい例として、３，３’―ジアミノジフェニルスルホン、４，４’―ジアミノジフェニルスルホン、ビスー｛４―（３―アミノフェノキシ）ビフェニル｝スルホン及びビスー｛４―（４―アミノフェノキシ）ビフェニル｝スルホンのような、ビフェニルスルホン基を持つ芳香族ジアミンを挙げることができる。なお、この場合、ビフェニルスルホン基はポリイミドの主鎖中に含まれる。ビフェニルスルホン基を主鎖中に含有するポリイミドは、機械的強度が強く、弾性率が高い線状高分子となり、高弾性のポリイミド繊維として研究され、更にフィルム特性を示すためガス分離膜としても研究されている。繊維として、又フィルムとして使用が可能であり、感光性フィルムとして使用ができる。また、実施例に示すように、ビフェニルスルホン基を主鎖中に含有するポリイミドは、キノンジアジド化合物を添加して光照射すると、アルカリ可溶性になることが見出された。ポリイミドの分子量（スチレン換算）が、４万、１０万、１５万と変化しても光照射によってアルカリ可溶性になる。この事実からキノンジアジドが光分解してラジカルを発生すると同時にインデン酸となり、光照射によって励起されるビフェニルスルホン基に作用をして、フェニルスルホン酸として分解し、ポリイミドがアルカリ可溶性になるものと考えられる。紫外線照射によって、キノンジアジド化合物が光分解し、更にインデン酸が生成する。この結果、ビフェニルスルホン基が活性化し、インデン酸の作用でスルホン結合が開裂し、フェニルスルホン酸となりアルカリに対する溶解性を増大するものと推定される。
【００３７】
さらに光増感性芳香族ジアミンの好ましい例として、ビス｛４―（４―アミノフェノキシ）フェニル｝スルホン、ビス｛４―（３―アミノフェノキシ）フェニル｝スルホン、Ｏ−トリジンスルホン、４，４’―ジアミノベンゾフェノン、３，３’―ジアミノベンゾフェノン、２―ニトロー１，４―ジアミノベンゼン、３，３’―ジニトロー４，４’―ジアミノビフェニル、３，３’―ジメトキシー４，４’―ジアミノビフェニル及び１，５―ジアミノナフタリンを挙げることができる。
【００３８】
上記した各種の光増感性芳香族ジアミンは、単独でも２種以上を組み合わせても採用することができる。
【００３９】
また、ポリイミドを構成する芳香族ジアミンとして、ヒドロキシル基、ピリジン基、オキシカルボニル基又は第３級アミン基が導入されたもの(以下、便宜的に「アルカリ溶解性増大芳香族ジアミン」ということがある）を用いると、光発生酸と結合、又は相互作用してアルカリ易溶解となり、アルカリ処理によってポジ型の画像を形成しやすくなる。
【００４０】
アルカリ溶解性増大芳香族ジアミンの好ましい例として、先ず、ジアミノピリジン及びジアミノアクリジニウムを挙げることができる。ポリイミド主鎖中に含まれるピリジン基が弱塩基であり、ジアゾナフトキノンの紫外線照射によって生成した酸と酸―塩基結合を生成してアルカリ可溶性となる性質を利用する。本発明のポリイミド主鎖中のジアミノピリジンとしては、２，６―ジアミノピリジン、３，５―ジアミノピリジン、３，５―ジアミノー２，４―ジメチルピリジン等があるが、好ましくは、２，６―ジアミノピリジン、３，５―ジアミノピリジンが用いられる。また、ピリジン核を持つ化合物として、ジアミノアクリジウムがある。例えば、アクリフラビン、アクリジンイエロー、プロフラビン等があるが、アクリフラビンが好ましい。
【００４１】
さらに、アルカリ溶解性増大芳香族ジアミンの好ましい例として、ジアミノジヒドロキシベンゼン、ジアミノジヒドロキシビフェニル又はジアミノジアルコキシビフェニルであるヒドロキシル基又はアルコキシル基含有芳香族ジアミンを挙げることができる。これらのヒドロキシル基又はアルコキシル基含有芳香族ジアミンは、ニ成分以上の芳香族ジアミンを含むポリイミド中の一成分として含まれることが好ましい。これらの好ましい例として、１，４―ジアミノー２―ヒドロキシベンゼン、３，３’―ジヒドロキシー４，４’―ジアミノビフェニル及び３，３’―ジメトキシー４，４’―ジアミノビフェニルを挙げることができる。ポリイミド主鎖中のヒドロキシ基及びメトキシ基は、キノンジアジドの光照射によって生成した酸と結合してアルカリ可溶性になる。
【００４２】
さらに、アルカリ溶解性増大芳香族ジアミンの好ましい例として、１，４―ビスー（３―アミノプロピル）ピペラジン（以降ジアミノピペラジンという）を挙げることができる。これは、ポリイミド主鎖中に、他の芳香族ジアミンと共に含まれることが好ましい。ポリイミド主鎖中に、芳香族ジアミンと共に含まれるジアミノピペラジンは、２つの第３級アミンをもつ強アルカリ性を示す化合物である。したがって、ジアゾナフトキノンの光照射によって生成したカルボン酸とピペラジン基が結合して、酸―塩基結合を形成してアルカリ可溶性を示す。
【００４３】
さらに、アルカリ溶解性増大芳香族ジアミンの好ましい例として、３，９―ビス（３―アミノプロピル）―２，４，８，１０―テトラオキサスピロー（５，５）―ウンデカンを挙げることができる。これは、ポリイミド主鎖中に、他の芳香族ジアミンと共に含まれることが好ましい。ジアミノテトラオキサスピロウンデカンは、酸の作用によって分解し、アルデヒドとアルコールになることが知られている。ジアミノテトラオキサスピロウンデカンを含有するポリイミドは、ジアゾナフトキノンの光照射によって生成したカルボン酸の作用によってポリイミド主鎖中にあるテトラオキサスピロ基が分解してアルカリ可溶性を示し、ポジ型の感光性フォトレジストの特性を示すものと推定される。
【００４４】
さらに、アルカリ溶解性増大芳香族ジアミンの好ましい例として、ジアミノ安息香酸の酸アミドを挙げることができる。この場合、ポリイミド主鎖中に、二成分以上の芳香族ジアミンを含み、その一つがジアミノ安息香酸の酸アミドであることが好ましい。ジアミノ安息香酸の酸アミドとしては３，５―ジアミノ安息香酸のモルホリンアミド及びＮ−メチルピペラジンアミドが好ましい。もっとも、ジアミノ安息香酸の酸アミドは、これらに限定されるものではなく、酸アミドを形成するためのアミンとして、脂肪族第一級、第二級、及び第三級のアミンを用いることができ、これらの塩基を含むアルコール、脂肪族アミンを用いることもできる。ここで、「脂肪族アミン」の炭素数は、特に限定されないが、通常２ないし６程度が好ましい。
【００４５】
さらに、アルカリ溶解性増大芳香族ジアミンの好ましい例として、３，５―ジアミノ安息香酸及び２―ヒドロキシー１、４―ジアミノベンゼンを挙げることができる。
【００４６】
上記した各種の光増感性芳香族ジアミンは、単独でも２種以上を組み合わせても採用することができる。
【００４７】
なお、上記のような光増感性芳香族ジアミン及び／又はアルカリ溶解性増大芳香族ジアミンの使用は必須的ではなく、上記した芳香族ジアミン成分及び芳香族酸成分の組合せから成るポリイミドを用いることができ、特に露光に電子ビームを用いる場合には、光増感性芳香族ジアミン及び／又はアルカリ溶解性増大芳香族ジアミンを用いずとも良好なポジ型画像を高感度に形成することができる。
【００４８】
また、ポリイミドのジアミン成分は、上記のような光増感性芳香族ジアミン及び／又はアルカリ溶解性増大芳香族ジアミンのみから成っていてもよいし、上記した芳香族ジアミン成分と共にポリイミドを構成していてもよい。光増感性芳香族ジアミン及び／又はアルカリ溶解性増大芳香族ジアミンの全芳香族ジアミン成分中の含有量は、３０〜１００モル％が好ましく、さらには５０〜１００モル％が好ましい。
【００４９】
なお、上記した各種化合物又は成分において、アルキル基又はアルキル部分を含む基においては、特に断りがない限り、当該アルキル基又はアルキル部分の炭素数は１〜６が好ましい。また、芳香族としては、特に断りがない限り、ベンゼン環、ナフタレン環及びアントラセン環並びにこれらの複素環が好ましい。
【００５０】
本発明の組成物中のポリイミドは、溶剤可溶である。ここで、「溶剤可溶」とは、Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ)中に、５重量％以上、好ましくは１０重量％以上の濃度で溶解することを意味する。
【００５１】
本発明の組成物中のポリイミドの分子量は、ポリスチレン換算の重量平均分子量として２万５千〜４０万が好ましく、さらに好ましくは３万〜２０万である。重量平均分子量が２万５千〜４０万の範囲内にあると、良好な溶剤可溶性と膜形成性、膜強度及び絶縁性を達成することができる。また、上記分子量範囲を満足すると共に、熱分解開始温度が４５０℃以上であることが耐熱性の観点から好ましい。
【００５２】
本発明の組成物中のポリイミドは、芳香族ジアミンと芳香族テトラカルボン酸ジ無水物により直接イミド化反応によって製造することができる。従来から用いられているネガ型ポリイミドフォトレジストは、光反応性側鎖をもつポリアミック酸を使用する。このポリアミック酸は、空気中で容易に分解し、貯蔵安定性が悪い。更に、このポリアミック感光性は、現像後に２５０―３５０℃に加熱してイミド化反応を必要とする。これに対し、本発明の組成物中のポリイミドは、ポリアミック酸を経由せずに芳香族ジアミンと芳香族テトラカルボン酸ジ無水物とのイミド化反応により直接製造されるものであり、この点で従来のネガ型感光性ポリイミドとは大きく異なる。
【００５３】
芳香族ジアミンと芳香族テトラカルボン酸ジ無水物との直接イミド化反応は、ラクトンと塩基と水との次の平衡反応を利用した触媒系を用いて行なうことができる。
｛ラクトン｝＋｛塩基｝＋｛水｝  ＝  ｛酸基}＋｛塩基}―
【００５４】
この｛酸基}＋｛塩基}―系を触媒として、１４０―１８０℃に加熱してポリイミド溶液を得ることができる。イミド化反応により生成する水は、トルエンと共沸させて反応系外へ除く。反応系のイミド化が終了した時点で、｛酸基}＋｛塩基}―はラクトンと塩基になり、触媒作用を失うと同時にトルエンと共に反応系外へ除かれる。この方法によるポリイミド溶液は、上記触媒物質が、反応後のポリイミド溶液に含まれないため高純度のポリイミド溶液として、そのまま工業的に使用可能となる。
【００５５】
上記イミド化反応に使われる反応溶媒は、上記したトルエンに加え、極性の有機溶媒が使用される。これらの有機溶媒としては、Ｎ−メチルー２―ピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、スルホラン、テトラメチル尿素等があげられる。
【００５６】
また、ラクトンとしてはγ−バレロラクトンが好ましく、塩基としてはピリジン及び／又はメチルモルフォリンが好ましい。
【００５７】
上記イミド化反応に供する芳香族酸ジ無水物と芳香族ジアミンとの混合比率(酸／ジアミン）は、モル比で1.05〜0.95程度が好ましい。また、反応開始時における反応混合物全体中の酸ジ無水物の濃度は４〜１６重量％程度が好ましく、ラクトンの濃度は０．２〜０．６重量％程度が好ましく、塩基の濃度は０．３〜０．９重量％程度が好ましく、トルエンの濃度は６〜１５重量％程度が好ましい。また、反応時間は特に限定されず、製造しようとするポリイミドの分子量等により異なるが、通常２〜１０時間程度である。また、反応は撹拌下に行なうことが好ましい。
【００５８】
なお、ラクトン及び塩基から成る２成分系触媒を用いたポリイミドの製造方法自体は公知であり、例えば米国特許第5,502,143に記載されている。
【００５９】
上記のイミド化反応を、異なる酸ジ無水物及び／又は異なるジアミンを用いて逐次的に２段階行なうことにより、ブロック共重合ポリイミドを製造することができる。従来のポリアミック酸を経由するポリイミドの製造方法によれば、共重合体はランダム共重合体しか製造できなかった。任意の酸及び／又はジアミン成分を選択してブロック共重合ポリイミドを製造することができるので、接着性や寸法安定性の付与、低誘電率化等の任意の所望の性質又は機能をポリイミドに付与することができる。本発明の組成物では、このような共重合ポリイミドを好ましく採用することもできる。
【００６０】
ブロック共重合ポリイミドを製造する場合の好ましい方法として、上記のラクトンと塩基により生成した酸触媒を用いて、芳香族ジアミンとテトラカルボン酸ジ無水物のいずれかの成分を多量にして、ポリイミドオリゴマーとし、ついで芳香族ジアミン及び／又はテトラカルボン酸ジ無水物を加えて（全芳香族ジアミンと全テトラカルボン酸ジ無水物のモル比は、１.０５―０.９５である）２段階重縮合する方法を挙げることができる。
【００６１】
本発明の感光性ポリイミド組成物は、前記光酸発生剤を前記ポリイミドの重量に対し１０から５０重量％含むことが好ましい。
【００６２】
本発明の感光性ポリイミド組成物は、基材上に適用するのに適した、溶液の形態にあることができる。この場合、溶剤としては、イミド化反応の溶媒として用いられる、Ｎ−メチルー２―ピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、スルホラン、テトラメチル尿素等の極性溶媒を用いることができる。溶液中のポリイミドの濃度は５重量％〜５０重量％が好ましく、さらに好ましくは１０重量％〜４０重量％である。なお、上記のラクトンと塩基から成る触媒系を用いた直接イミド化反応により得られるポリイミドは、極性溶媒中に溶解された溶液の形態で得られ、しかも、ポリイミドの濃度も上記の好ましい範囲内で得られるので、上記方法により製造されたポリイミド溶液をそのままで好ましく用いることができる。もっとも、所望により、製造されたポリイミド溶液を希釈剤により、さらに希釈することができる。希釈剤としては、溶解性を著しく減じないような溶剤、例えば、ジオキサン、ジオキソラン、ガンマーブチロラクトン、シクロヘキサノン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、乳酸メチル、アニソール、酢酸エチル等があげられるが、特にこれらに限定されない。
【００６３】
本発明の組成物は、それぞれの最終用途に適合するために、本発明の感光性ポリイミドに光増感剤を付与してパターン解像の感度を高めることができる。この光増感剤としては、特に限定されないが、例えば、ミヒラーケトン、ベンゾインエーテル、２―メチルアントラキノン、ベンゾフェノン等が用いられる。さらに、通常の感光性ポリイミドの中に添加される改質剤、例えば、カップリング剤、可塑剤、膜形成樹脂、界面活性剤、安定剤、スペクトル感度調節剤等を添加してもよい。
【００６４】
溶液の形態にある本発明の感光性ポリイミド組成物を基材上に塗布し、乾燥し、選択露光し、現像することにより、基材上に任意のパターンを有するポリイミド膜を形成することができる。あるいは、ポリイミド組成物から押出し法等の常法によりポリイミドフィルムを形成し、これを基材上に接着し、選択露光し、現像することによっても、基材上に任意のパターンを有するポリイミド膜を形成することができる。このようなポリイミド膜は、耐熱性及び絶縁性を有するので、半導体装置等の絶縁膜又は誘電層としてそのまま利用することができるし、また、基材を選択露光するためのフォトレジストとして利用することもできる。
【００６５】
本発明の感光性ポリイミドが使用される基材としては、半導体ディスク、シリコンウエハー、ゲルマニウム、ガリウム砒素、ガラス、セラミック，銅箔、プリント基板等を例示することができる。
【００６６】
被覆は、通常、浸漬、噴霧、ロール塗り、又はスピンコーティング等の方法によって行われる。また、接着フィルムは、通常熱圧着することによって、均一な被膜製品とすることができる。これらの方法によって、本発明の感光性ポリイミドは、０．１乃至２００ミクロンの厚さを有する塗膜層、及びレリーフ構造を作るのに有効に使用できる。
【００６７】
多層回路における薄膜は、例えば一時の間に合わせ用のフォトレジストとして、または絶縁膜層もしくは誘電層として使用される場合、厚さは０．１乃至５ミクロン程度が好ましい。厚い層、例えば、不動層としての使用のためには、半導体記憶要素をアルファー放射線から保護するために１０―２００ミクロンの厚さを有することが好ましい。
【００６８】
感光性ポリイミドを基材に塗布した後、これを８０乃至１２０℃の温度範囲で予備乾燥することが好ましい。この場合、オーブン又は加熱プレートが使用されるが、赤外線ヒーターによる加熱が望ましい。この場合の乾燥時間は、５―２０分間程度でよい。
【００６９】
この後、感光性ポリイミド層は、輻射を受ける。普通の場合、紫外線が用いられるが、高エネルギー放射線、例えば、Ｘ線または電子ビーム或いは超高圧水銀灯の高出力発振線等を使用することもできる。照射又は露光はマスクを介して行うが、輻射線ビームを感光性ポリイミド層の表面に当てることもできる。普通、輻射は、２５０―４５０ｎｍ、好ましくは３００―４００ｎｍの範囲における波長を発する紫外線ランプを用いて行われる。露光は単色、又は多色的な方法を用いても良い。市販で入手できる輻射装置、例えば接触および層間露光器、走査投光型装置、またはウェハーステッパーを使用することが望ましい。
【００７０】
露光後、パターンはフォトレジスト層の照射域を、アルカリ水溶液性の現像液で感光性層を処理することにより、照射域の部分を取り除く事ができる。これら処理は、例えば、浸漬するか又は加圧噴霧することにより基材の露光部分を溶出させることによって可能となる。現像液として用いるアルカリとしては、特に限定されないが、アミノエタノールのようなアミノアルコール、メチルモルホリン、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、ジメチルアミノエタノール、水酸化テトラメチルアンモニウム等を挙げることができ、また、これらのアルカリの現像液中の濃度は、特に限定されないが、通常３０〜５重量％程度である。
【００７１】
これらの現像時間は、露光エネルギー、現像液の強さ、現像の形式、予備乾燥温度、及び現像剤の処理温度等に依存する。一般には、浸漬現像においては、１―１０分間程度であり、噴霧現像処理では１０―６０秒間程度である。現像は、不活性溶剤、例えばイソプロパノール、又は脱イオン水中への浸漬又はそれらの噴霧によって停止される。
【００７２】
本発明のポジ型感光性ポリイミド組成物を用い、０．５―２００ミクロンの層の厚さを有するポリイミド被膜、及び鋭い輪郭のつけられたレリーフ構造を作ることができる。
【００７３】
本発明の組成物中のポリイミドは、完全な線状ポリイミドから出来ているため水や熱に対して変化せず、保存安定性が良い。従って、感光性フィルムとして使用可能である。また、パターンの現像後は、従来のポリアミック酸分子のようなポストベーク温度２５０―４５０℃の加熱処理は必要でなく、１２０―２００℃の加熱乾燥によって、溶剤を飛散させるだけでよい。また、パターン形成後のポリイミド膜は、強靭で高温度耐熱性、機械的特性に優れている。
【００７４】
ここに、ノボラック感光性材料とジアゾナフトキノンからなるフォトレジストは、ノボラックの分子量が１万以下であり、５０００―１００００の分子量の平均化した材料が、解像度、感光性共に優れているといわれている。
【００７５】
ポジ型感光性ポリイミドも、分子量及び分子量分布によって解像度、及び感光性感度が異なり、またポリイミドの耐熱性、耐薬品性、機械的強度が異なる。分子量が大きく、カルボン酸含量の小さい程、現像時間、アルカリ液の浸漬時間が長くなる傾向にある。
【００７６】
以下、本発明を実施例に基づきさらに具体的に説明する。もっとも、下記実施例は例示のためにのみ記載するものであり、いかなる意味においても限定的に解釈してはならない。種々の酸ジ無水物、芳香族ジアミンの組み合わせによって、特性のある感光性ポリイミドが得られることは当業者にとって明らかである。
【実施例】
【００７７】
実施例１
ステンレススチール製の碇型攪拌器を取り付けた１リットルのセパラブル３つ口フラスコに、水分分離トラップを備えた玉付冷却管を取り付けた。４，４’―｛２、２、２―トリフルオロー１―（トリフルオロメチル）エチリデン｝ビス（１、２―ベンゼンジカルボン酸ジ無水物）（ヘキストセラニーズ社製品、分子量４４４．２５、以降６ＦＤＡという）２２．２１ｇ（５０ミリモル）、２，２―ビス｛４―（４―アミノフェノキシ）フェニル｝ヘキサフルオロプロパン２５．９３ｇ（５０ミリモル、以降ＨＦＢＡＰＰという）、γ―バレロラクトン１．０ｇ（１０ミリモル）及びピリジン１．６ｇ（２０ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン１８５ｇ、トルエン３０ｇを上記フラスコに仕込んだ。室温で窒素雰囲気下で１８０ｒｐｍで０．５時間攪拌した後、１８０℃に昇温し、１８０ｒｐｍで２．０時間攪拌した。反応中、トルエンー水の共沸分を除いた。
【００７８】
このようにして得られたポリイミド溶液のポリマー濃度は、２０重量％であった。このポリイミドの分子量を、高速液体クロマトグラフィー（東ソー社製）で測定したところ、ポリスチレン換算分子量は、数平均分子量（Ｍｎ）５７，８００、重量平均分子量（Ｍｗ）１０８，１００、Ｚ平均分子量（Ｍｚ）１９２，３００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．８７、Ｍｚ／Ｍｎ＝３．３３であった。なお、分子量の測定はより詳細には次のように行なった。すなわち、東ソー社製高速液体クロマトグラフィーで分子量を測定した。展開液は、LiBr含有ジメチルホルムアミドを使用した。スチレン換算の分子量を測定し、数平均分子量(Mn)、重量平均分子量(Mw)、Ｚ平均分子量(Mz)、Mw/Mn比及びMz/Mn比を測定した。
【００７９】
実施例２
基本的に実施例１と同様に操作した。
【００８０】
３，４，３’，４’―ビフェニルテトラカルボン酸ジ無水物（宇部興産株式会社製品、以下ＢＰＤＡという）１４．７１ｇ（５０ミリモル）、２，３―ジアミノジフェニルエーテル５．００ｇ（２５ミリモル）、２，２―ビス｛４―（４―アミノフェノキシ）フェニル｝プロパン１０．２７ｇ（２５ミリモル、以降ＢＡＰＰという）、γ―バレロラクトン０．５ｇ（５ミリモル）及びピリジン０．８ｇ（１０ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン１１３ｇ、トルエン３０ｇをセパラブル３つ口フラスコに仕込んだ。室温で窒素雰囲気下で１８０ｒｐｍで０．５時間攪拌した後、１８０℃に昇温し、１８０ｒｐｍで０．５時間攪拌した。反応中、トルエンー水の共沸分を除いた。
【００８１】
このようにして得られたポリイミド溶液のポリマー濃度は、２０重量％であった。実施例１と同様に測定したところ、ポリスチレン換算分子量は、数平均分子量（Ｍｎ）２６，０００、重量平均分子量（Ｍｗ）４２，９００、Ｚ平均分子量（Ｍｚ）６０，８００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．６５、Ｍｚ／Ｍｎ＝２．３３であった。
【００８２】
実施例３
基本的に実施例１と同様に操作した。
【００８３】
６ＦＤＡ８．８９ｇ（２０モル）、ＨＦＢＡＰＰ５．１９ｇ（１０ミリモル）、γ―バレロラクトン０．３ｇ（３ミリモル）及びピリジン０．５ｇ（６ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン７０ｇ、トルエン２０ｇをセパラブル３つ口フラスコに仕込んだ。室温で窒素雰囲気下で１８０ｒｐｍで０．５時間攪拌した後、１８０℃に昇温し、１８０ｒｐｍで１時間攪拌した。反応後、トルエンー水の共沸分を除いた。
【００８４】
室温に冷却して、ＢＰＤＡ２．９４ｇ（１０ミリモル）、２，２’―ビス（トリフルオロメチルーベンチジン）６．４０ｇ（２０ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン５７ｇ、トルエン１０ｇを加えて室温で１時間攪拌後、１８０℃、１８０ｒｐｍで３．７５時間攪拌した。反応後、トルエンー水の共沸分を除いた。
【００８５】
このようにして得られたポリイミド溶液のポリマー濃度は、１５重量％であった。このポリイミドの分子量を、実施例１と同様にして測定したところ、ポリスチレン換算分子量は、数平均分子量（Ｍｎ）２４８００、重量平均分子量（Ｍｗ）４１７００、Ｚ平均分子量（Ｍｚ）６３３００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．６８、Ｍｚ／Ｍｎ＝２．５６であった。
【００８６】
実施例４
基本的に実施例３と同様に操作した。
【００８７】
３，４，３’，４’―ベンゾフェノンテトラカルボン酸ジ無水物（以下ＢＴＤＡという）９．６７ｇ（３０ミリモル）、２，４―ジアミノトルエン４．８９ｇ（４０ミリモル）、ジアミノシロキサン（信越化学工業株式会社製品、アミン価４４０）８．８０ｇ（１０ミリモル）、γ―バレロラクトン１．０ｇ（１０ミリモル）及びピリジン１．６ｇ（２０ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン６０ｇ、トルエン３０ｇをセパラブル３つ口フラスコに仕込んだ。室温で窒素雰囲気下で１８０ｒｐｍで０．５時間攪拌した後、１８０℃に昇温し、１８０ｒｐｍで１時間攪拌した。反応中、トルエンー水の共沸分を除いた。
【００８８】
室温に冷却して、ＢＰＤＡ  １４．７１ｇ（５０ミリモル）、３，４’―ジアミノジフェニルエーテル４．００ｇ（２０ミリモル）、ＢＡＰＰ  ４．１０５ｇ（１０ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン７０ｇ、トルエン３０ｇを加えて室温で２５分間攪拌後、１８０℃、１８０ｒｐｍで４時間攪拌した。反応後、Ｎ−メチルピロリドン４３ｇを加えた。
【００８９】
このようにして得られたポリイミド溶液のポリマー濃度は、２０重量％であった。このポリイミドの分子量を、実施例１と同様にして測定したところ、ポリスチレン換算分子量は、数平均分子量（Ｍｎ）３１７００、重量平均分子量（Ｍｗ）５６４００、Ｚ平均分子量（Ｍｚ）８８９００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．７８、Ｍｚ／Ｍｎ＝２．８１であった。
【００９０】
実施例５    感光性組成物の調製及び選択露光によるパターン形成
【００９１】
(1)感光性組成物の調製
感光性組成物は、下記表1に示す成分を混合し、３ミクロン細孔径の濾過膜で濾過して製造した。
【００９２】
【表１】
2010266868.tif 000002
【００９３】
(2)画像形成
上記の感光性組成物を、表面処理した直径５ｃｍの銅箔（日本電解株式会社製品、１８ミクロン厚さ）の表面上に、スピンコート法で塗布した。ついで、赤外線熱風乾燥機中で９０℃１０分間乾燥した。この感光性膜の厚さは、約１０ミクロンであった。
【００９４】
この感光性塗布膜上に、ポジ型フォトマスク用のテストパターン（１０、１５、２０、２５、――、２００ミクロンのスルーホール及びラインアンドスペースパターン）を置き、２ｋｗ超高圧水銀灯照射装置（オーク製作所製品：ＪＰ−２０００Ｇ）を用いて、画像が得られる露光量で照射した。なお、波長領域は３２０〜３９０ｎｍで、ピークは３６０ｎｍであった（以下の実施例においても同じ）。紫外線照射量と現像時間を下記表２に示す。
【００９５】
【表２】
2010266868.tif 000003
【００９６】
現像液組成は、アミノエタノール３０ｇ、Ｎ−メチルピロリドン３０ｇ、水３０ｇの混合液であった。この液中に、上記照射後の塗布膜を上記時間浸漬した後、脱イオン水で水洗し、赤外線ランプで乾燥後、解像度を観察した。このポリイミド塗布膜の９０℃、３０分間の乾燥処理におけるポリイミド膜厚は、約９ミクロンであった。
【００９７】
組成物I、II、III、IV共にポリイミド塗布膜のスルーホールパターンは、鋭く輪郭の丸みの切り口で１５ミクロン口径の孔が確認された。ラインアンドスペースパターンでは、１５ミクロンの線像が確認された。
【００９８】
実施例６
基本的に実施例１と同様に操作した。
【００９９】
ステンレススチール製の碇型攪拌器を取り付けた１リットルのセパラブル３つ口フラスコに、水分分離トラップを備えた玉付冷却管を取り付けた。
【０１００】
６ＦＤＡ  １７．７７ｇ（４０ミリモル）、ｍ―ＢＡＰＳ  ８．６５ｇ（２０ミリモル）、３，３’―ジメチルベンチジン４．２５ｇ（２０ミリモル）、γ―バレロラクトン０．４ｇ（４ミリモル）及びピリジン０．６ｇ（８ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン１１７ｇ、トルエン３０ｇを仕込んだ。室温で窒素雰囲気下で１８０ｒｐｍで０．５時間攪拌した後、１８０℃に昇温し、１８０ｒｐｍで４．７５時間攪拌した。反応中、トルエンー水の共沸分を除いた。
【０１０１】
このようにして得られたポリイミド溶液のポリマー濃度は、２０重量％であった。このポリイミドの分子量を、実施例1と同様にして測定したところ、ポリスチレン換算分子量は、数平均分子量（Ｍｎ）６７３００、重量平均分子量（Ｍｗ）１２８３００、Ｚ平均分子量（Ｍｚ）２１９５００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．９０、Ｍｚ／Ｍｎ＝３．２６であった。
【０１０２】
実施例７
基本的に実施例６と同様に操作した。
【０１０３】
ピロメリット酸ジ無水物１３．０９ｇ（６０ミリモル）、ビシクロ（２，２，２）―オクトー７―エンー２，３，５，６―テトラカルボン酸ジ無水物（以降ＢＣＤという）１４．８９ｇ（６０ミリモル）、ｍ―ＢＡＰＳ６１．９ｇ（１２０ミリモル）、γ―バレロラクトン１．２ｇ（１２ミリモル）及びピリジン１．２ｇ（２４ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン３０２ｇ、トルエン５０ｇをセパラブル３つ口フラスコに仕込んだ。室温で窒素雰囲気下で１８０ｒｐｍで０．５時間攪拌した後、１８０℃に昇温し、１８０ｒｐｍで３．７５時間攪拌した。反応中、トルエンー水の共沸分を除いた。
【０１０４】
このようにして得られたポリイミド溶液のポリマー濃度は、２０重量％であった。このポリイミドの分子量を、実施例1と同様に測定したところ、ポリスチレン換算分子量は、数平均分子量（Ｍｎ）７１１００、重量平均分子量（Ｍｗ）１１３６００、Ｚ平均分子量（Ｍｚ）１６７１００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．６０、Ｍｚ／Ｍｎ＝２．３５であった。
【０１０５】
実施例８
基本的に実施例３と同様に操作した。
【０１０６】
ＢＴＤＡ９．６７ｇ（３０モル）、３，５―ジアミノ安息香酸９．１３ｇ（６０ミリモル）、γ―バレロラクトン１．２ｇ（１２ミリモル）及びピリジン２．４ｇ（２４ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン１５０ｇ、トルエン３０ｇをセパラブル３つ口フラスコに仕込んだ。室温で窒素雰囲気下で１８０ｒｐｍで０．５時間攪拌した後、１８０℃に昇温し、１８０ｒｐｍで１時間攪拌した。反応後、トルエンー水の共沸分を除いた。室温に冷却して、ＢＰＤＡ  ２９．００ｇ（９０ミリモル）、ｍ―ＢＡＰＳ  １２．９８ｇ（３０ミリモル）、９，９―ビス（４―アミノフェニル）フルオレン１０．４６ｇ（３０ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン１１８ｇ、トルエン２０ｇを加えて室温で０．４５時間攪拌後、１８０℃、１８０ｒｐｍで２．６０時間攪拌した。反応後、トルエンー水の共沸分を除いた。
【０１０７】
このようにして得られたポリイミド溶液のポリマー濃度は、２０重量％であった。このポリイミドの分子量を、実施例1と同様にして測定したところ、ポリスチレン換算分子量は、数平均分子量（Ｍｎ）２９９００、重量平均分子量（Ｍｗ）７７４００、Ｚ平均分子量（Ｍｚ）１７５４００、Ｍｗ／Ｍｎ＝２．５９、Ｍｚ／Ｍｎ＝５．８６であった。
【０１０８】
実施例９
基本的に実施例３と同様に操作した。
【０１０９】
ＢＴＤＡ  １２．８９ｇ（４０モル）、ｍ―ＢＡＰＳ  ８．６５ｇ（２０ミリモル）、γ―バレロラクトン０．４ｇ（４ミリモル）及びピリジン０．６４ｇ（８ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン７７ｇ、トルエン３０ｇをセパラブル３つ口フラスコに仕込んだ。室温で窒素雰囲気下で１８０ｒｐｍで０．５時間攪拌した後、１８０℃に昇温し、１８０ｒｐｍで１時間攪拌した。反応後、トルエンー水の共沸分を除いた。室温に冷却して、３，３’―ジハイドロオキシー４、４’―ジアミノビフェニル２．１６ｇ（１０ミリモル）、３，４’―ジアミノジフェニルエーテル２．００ｇ（１０ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン２０ｇ、トルエン１０ｇを加えて室温で０．４５時間攪拌後、１８０℃、１８０ｒｐｍで１．０時間攪拌した。反応後、トルエンー水の共沸分を除いた。
【０１１０】
このようにして得られたポリイミド溶液のポリマー濃度は、１５重量％であった。このポリイミドの分子量を、高速液体クロマトグラフィー（東ソ製品）で測定したところ、ポリスチレン換算分子量は、数平均分子量（Ｍｎ）３２３００、重量平均分子量（Ｍｗ）１４０２００、Ｚ平均分子量（Ｍｚ）４４２０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝４．３４、Ｍｚ／Ｍｎ＝１３．６８であった。
【０１１１】
実施例１０
基本的に実施例５と同様の操作を行った。
【０１１２】
(1)感光性組成物の調製
感光性組成物は、下記表３に示す成分を混合し、３ミクロン細孔径の濾過膜で濾過して製造した。
【０１１３】
【表３】
2010266868.tif 000004
【０１１４】
(2)画像形成方法
上記の感光性組成物を、表面処理した直径５ｃｍの銅箔（日本電解株式会社製品、１８ミクロン厚さ）の表面上に、スピンコート法で塗布した。ついで、赤外線熱風乾燥機中で９０℃１０分間乾燥した。この感光性膜の厚さは、約１０ミクロンであった。
【０１１５】
この感光性組成物塗布膜上に、ポジ型フォトマスク用のテストパターン（１０、１５、２０、２５、――、２００ミクロンのスルーホール及びラインアンドスペースパターン）を置き、２ｋｗ超高圧水銀灯照射装置（オーク製作所製品：ＪＰ−２０００Ｇ）を用いて、画像が得られる露光量で照射した。紫外線照射量と現像時間を下記表４に示す。
【０１１６】
【表４】
2010266868.tif 000005
【０１１７】
現像液組成は、アミノエタノール３０ｇ、Ｎ−メチルピロリドン７０ｇ、水３０ｇの混合液であった。
【０１１８】
この液中に、上記照射後の塗布膜を上記時間浸漬した後、脱イオン水で水洗し、赤外線ランプで乾燥後、解像度を観察した。このポリイミド塗布膜の９０℃、３０分間の乾燥処理におけるポリイミド膜厚は、約９ミクロンであった。
【０１１９】
組成物V，VI，VII共にポリイミド塗布膜のスルーホールパターンは、鋭く輪郭の丸みの切り口で１５ミクロン口径の孔が確認された。ラインアンドスペースパターンでは、１５ミクロンの線像が確認された。
【０１２０】
実施例１１
基本的に実施例３と同様に操作した。
【０１２１】
ＢＴＤＡ１９．３３ｇ（６０ミリモル）、４，４’―ジアミノジフェニルスルフィド１４．９７ｇ（９０ミリモル）、γ―バレロラクトン１．５ｇ（１５ミリモル）及びピリジン２．４ｇ（３０ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン１５０ｇ、トルエン３０ｇをセパラブル３つ口フラスコに仕込んだ。
【０１２２】
室温で窒素雰囲気下で１８０ｒｐｍで０．５時間攪拌した後、１８０℃に昇温し、１８０ｒｐｍで１時間攪拌した。反応中、トルエンー水の共沸分を除いた。
室温に冷却して、ＢＰＤＡ２６．４８ｇ（９０ミリモル）、３，３’―ジヒドロオキシベンチジン６．４ｇ（３０ミリモル）、ｍ―ＢＡＰＳ１２．９８ｇ（３０ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン８５ｇ、トルエン３０ｇを加えて室温で２５分間攪拌後、１８０℃、１８０ｒｐｍで２時間攪拌した。反応後、Ｎ−メチルピロリドン７９ｇを加えた。
【０１２３】
このようにして得られたポリイミド溶液のポリマー濃度は、２０重量％であった。このポリイミドの分子量を、実施例1と同様にして測定したところ、ポリスチレン換算分子量は、数平均分子量（Ｍｎ）２４０００、重量平均分子量（Ｍｗ）４８５００、Ｚ平均分子量（Ｍｚ）８２１００、Ｍｗ／Ｍｎ＝２．０２、Ｍｚ／Ｍｎ＝３．４１であった。
【０１２４】
実施例１２
基本的に実施例３と同様に操作した。
【０１２５】
ＢＴＤＡ９．６７ｇ（３０モル）、３，５―ジアミノ安息香酸９．１３ｇ（６０ミリモル）、γ―バレロラクトン１．２ｇ（１２ミリモル）及びピリジン２．０ｇ（２４ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン１５０ｇ、トルエン３０ｇをセパラブル３つ口フラスコに仕込んだ。室温で窒素雰囲気下で１８０ｒｐｍで０．５時間攪拌した後、１８０℃に昇温し、１８０ｒｐｍで１時間攪拌した。反応後、トルエンー水の共沸分を除いた。
【０１２６】
室温に冷却して、ＢＴＤＡ２９．００ｇ（９０ミリモル）、ｍ―ＢＡＰＳ１２．９８ｇ（３０ミリモル）、３，３’―ジハイドロオキシベンチジン６．４９ｇ（３０ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン１０２ｇ、トルエン２０ｇを加えて室温で０．４５時間攪拌後、１８０℃、１８０ｒｐｍで２．５０時間攪拌した。反応後、トルエンー水の共沸分を除いた。
【０１２７】
このようにして得られたポリイミド溶液のポリマー濃度は、２０重量％であった。このポリイミドの分子量を、実施例１と同様にして測定したところ、ポリスチレン換算分子量は、数平均分子量（Ｍｎ）２４０００、重量平均分子量（Ｍｗ）４５７００、Ｚ平均分子量（Ｍｚ）８２３００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．９０、Ｍｚ／Ｍｎ＝３．４２であった。
【０１２８】
実施例１３
基本的に実施例１２と同様に操作した。
【０１２９】
ピロメリット酸ジ無水物２．１８ｇ（１０ミリモル）、２，２’―ジートリフルオロメチルーベンチジン６．４０ｇ（２０ミリモル）、γ―バレロラクトン０．４ｇ（４ミリモル）及びピリジン０．８ｇ（１０ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン８６ｇ、トルエン２０ｇをセパラブル３つ口フラスコに仕込んだ。室温で窒素雰囲気下で１８０ｒｐｍで０．５時間攪拌した後、１８０℃に昇温し、１８０ｒｐｍで１．０時間攪拌した。反応中、トルエンー水の共沸分を除いた。
【０１３０】
室温に冷却して、ＢＰＤＡ８．８３ｇ（３０ミリモル）、ＢＡＰＰ４．７９ｇ（１１．６７ミリモル）、３，５―ジアミノ安息香酸１．５２ｇ（１０ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン３０ｇ、トルエン１０ｇを加えて室温で０．５時間攪拌後、１８０℃、１８０ｒｐｍで３時間攪拌した。反応後、トルエンー水の共沸分を除いた。
【０１３１】
このようにして得られたポリイミド溶液のポリマー濃度は、１５重量％であった。このポリイミドの分子量を、実施例１と同様にして測定したところ、ポリスチレン換算分子量は、数平均分子量（Ｍｎ）１７８００、重量平均分子量（Ｍｗ）３１１００、Ｚ平均分子量（Ｍｚ）４８２００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．７４、Ｍｚ／Ｍｎ＝２．７０であった。
【０１３２】
実施例１４
基本的に実施例３と同様に操作した。
【０１３３】
ＢＰＤＡ２．９４ｇ（１０モル）、２，２’―ジートリフルオロメチルーベンチジン６．４０ｇ（２０ミリモル）、γ―バレロラクトン０．３ｇ（３ミリモル）及びピリジン０．４８ｇ（６ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン７８ｇ、トルエン２０ｇをセパラブル３つ口フラスコに仕込んだ。室温で窒素雰囲気下で１８０ｒｐｍで０．５時間攪拌した後、１８０℃に昇温し、１８０ｒｐｍで１時間攪拌した。反応後、トルエンー水の共沸分を除いた。
【０１３４】
室温に冷却して、ＢＰＤＡ５．８８ｇ（２０ミリモル）、ＢＡＰＰ２．７４ｇ（６．６７ミリモル）、３，５―ジアミノ安息香酸０．７６ｇ（５ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン２０ｇ、トルエン１０ｇを加えて室温で０．５時間攪拌後、マレイン酸無水物０．３３ｇ（３．３３ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン１０ｇを加えて室温で０．５時間攪拌し、１８０℃、１８０ｒｐｍで３時間攪拌した。反応後、トルエンー水の共沸分を除いた。
【０１３５】
このようにして得られたポリイミド溶液のポリマー濃度は、１５重量％であった。このポリイミドの分子量を、実施例１と同様にして測定したところ、ポリスチレン換算分子量は、数平均分子量（Ｍｎ）１７０００、重量平均分子量（Ｍｗ）２８０００、Ｚ平均分子量（Ｍｚ）４２３００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．５４、Ｍｚ／Ｍｎ＝２．４８であった。
【０１３６】
実施例１５
基本的に実施例５と同様の操作を行った。
【０１３７】
(1)感光性組成物の調製
感光性組成物は、下記表５に示す成分を混合し、３ミクロン細孔径の濾過膜で濾過して製造した。
【０１３８】
【表５】
2010266868.tif 000006
【０１３９】
(2)画像形成方法
上記の感光性組成物を、表面処理した直径５ｃｍの銅箔（日本電解株式会社製品、１８ミクロン厚さ）の表面上に、スピンコート法で塗布した。ついで、赤外線熱風乾燥機中で９０℃１０分間乾燥した。この感光性膜の厚さは、約１０ミクロンであった。
【０１４０】
この感光性組成物塗布膜上に、ポジ型フォトマスク用のテストパターン（１０、１５、２０、２５、――、２００ミクロンのスルーホール及びラインアンドスペースパターン）を置き、２ｋｗ超高圧水銀灯照射装置（オーク製作所製品：ＪＰ−２０００Ｇ）を用いて、画像が得られる露光量で照射した。紫外線照射量と現像時間を下記表６に示す。
【０１４１】
【表６】
2010266868.tif 000007
【０１４２】
現像液組成は、アミノエタノール３０ｇ、Ｎ−メチルピロリドン３０ｇ、水３０ｇの混合液であった。
【０１４３】
この液中に、上記照射後の塗布膜を上記時間浸漬した後、脱イオン水で水洗し、赤外線ランプで乾燥後、解像度を観察した。このポリイミド塗布膜の９０℃、３０分間の乾燥処理におけるポリイミド膜厚は、約９ミクロンであった。
【０１４４】
組成物VIII，IX，X，XI共にポリイミド塗布膜のスルーホールパターンは、鋭く輪郭の丸みの切り口で１５ミクロン口径の孔が確認された。ラインアンドスペースパターンでは、１５ミクロンの線像が確認された。
【０１４５】
実施例１６
ステンレススチール製の碇型攪拌器を取り付けた１リットルのセパラブル３つ口フラスコに、水分分離トラップを備えた玉付冷却管を取り付けた。窒素ガスを通しながら、シリコン浴中に上記フラスコをつけて加熱攪拌し、３，４，３’，４’―ベンゾフェノンテトラカルボン酸ジ無水物（Ｈｉｍｉｅ Ｌｉｎｚ Ｇｅｓ． ｍ．ｂ．Ｈ社製品、分子量３２２．２３、以下ＢＴＤＡという）３２．２３ｇ（１００モル）、ビスー４―（３―アミノフェノキシ）フェニルスルホン（和歌山精化株式会社製品、分子量４３２．５）２１．６３ｇ（５０ミリモル）、３，３’―ジアミノー４，４’―ジメチルビフェニルスルホン（和歌山精化株式会社製品、分子量２７４．３、以下Ｏ−トリジンスルホンという）１３．２７ｇ（５０ミリモル）、γ―バレロラクトン１．０ｇ（１０ミリモル）及びピリジン１．６ｇ（２０ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン２５７ｇ、トルエン６０ｇを仕込む。室温で窒素雰囲気下で２００ｒｐｍで３０分攪拌した後、１８０℃に昇温（浴温度）し、１８０ｒｐｍで４．５時間攪拌した。トラップに溜まったトルエンー水（１４ｍｌ）の共沸分を除きながら反応を終えた。
【０１４６】
このようにして得られたポリイミド溶液のポリマー濃度は、２０重量％であった。このポリイミドの分子量を、実施例１と同様にして測定したところ、スチレン換算分子量は、数平均分子量（Ｍｎ）２６７６０、重量平均分子量（Ｍｗ）３９５４０、Ｚ平均分子量（Ｍｚ）５７１６０、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．４８であった。このポリイミドを、メタノールに注ぎ粉末にして熱分析した。ポリイミドの分解開始温度は、４８４℃であった。
【０１４７】
実施例１７
基本的に実施例１６と同様の操作を行なった。
【０１４８】
ステンレススチール製の碇型攪拌器を取り付けた０．５リットルのセパラブル３つ口フラスコに、水分分離トラップを備えた玉付冷却管を取り付けた。窒素ガスを通しながら加熱攪拌し、６ＦＤＡ（ヘキストセラニーズ社製品)１７．７７ｇ（４０ミリモル）、ビス｛４―（３―アミノフェノキシ）フェニル｝スルホン８．６５ｇ（２０ミリモル）、Ｏ−トリジンスルホン５．４９ｇ（２０ミリモル）、γ―バレロラクトン０．５ｇ（５ミリモル）及びピリジン０．８ｇ（１０ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン１２２ｇ、トルエン３０ｇを仕込んだ。室温で窒素雰囲気下で２００ｒｐｍで３０分攪拌した後、１８０℃に昇温し、１８０ｒｐｍで６．１５時間攪拌した。反応中、トルエンー水の共沸分を除いた。
【０１４９】
このようにして得られたポリイミド溶液のポリマー濃度は、２０重量％であった。このポリイミドの分子量を、実施例１と同様にして測定したところ、スチレン換算分子量は、数平均分子量（Ｍｎ）６６５９０、重量平均分子量（Ｍｗ）１０２４５０、Ｚ平均分子量（Ｍｚ）１４８５４０、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．５４であった。このポリイミドを、メタノールに注ぎ粉末にして熱分析した。ポリイミドの分解開始温度は、４３１℃と５０６℃であった。
【０１５０】
実施例１８
基本的に実施例１６と同様な操作を行なった。
【０１５１】
窒素ガスを通しながら加熱攪拌し、６ＦＤＡ１７．７７ｇ（４０ミリモル）、２，２―ビスー４（４’―アミノフェノキシ）フェニルプロパン（和歌山精化株式会社製品、分子量４１０．５）８．２１ｇ（２０ミリモル）、Ｏ−トリジンスルホン５．４９ｇ（２０ミリモル）、γ―バレロラクトン０．５ｇ（５ミリモル）及びピリジン０．８ｇ（１０ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン１２０ｇ、トルエン３０ｇを仕込む。
【０１５２】
室温で窒素雰囲気下で１８０ｒｐｍで３０分攪拌した後、１８０℃に昇温し、１８０ｒｐｍで３．１５時間攪拌した。反応中のトルエンー水の共沸分を除いた。
このようにして得られたポリイミド溶液のポリマー濃度は、２０重量％であった。このポリイミドの分子量を、実施例１と同様にして測定したところ、スチレン換算分子量は、数平均分子量（Ｍｎ）５４４００、重量平均分子量（Ｍｗ）７４８００、Ｚ平均分子量（Ｍｚ）１００２００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．３７であった。
【０１５３】
実施例１９
(1)  感光性組成物の調製
感光性組成物は、下記表７に示す成分を混合し、３ミクロン細孔径の濾過膜で濾過して製造した。
【０１５４】
【表７】
2010266868.tif 000008
【０１５５】
(2)画像形成方法
上記感光性組成物XII、XIII、XIVを、表面処理した直径５ｃｍの銅箔（日本電解株式会社製品、１８ミクロン厚さ）の表面上に、スピンコート法で塗布した。ついで、赤外線熱風乾燥機中で９０℃１０分間乾燥した。この感光性膜の厚さは、約１０ミクロンであった。
【０１５６】
この感光性塗布膜上に、ポジ型フォトマスク用のテストパターン（１０、１５、２０、２５、――、２００ミクロンのスルーホール及びラインアンドベースパターン）を置き、２ｋｗ超高圧水銀灯照射装置（オーク製作所製品：ＪＰ−２０００Ｇ）を用いて、画像が得られる露光量で照射した。
【０１５７】
組成物XIIは、３００ｍＪで照射した後、下記条件で現像した。現像液組成は、Ｎ−メチルピロリドン４０ｇ、アミノエタノール２５ｇ、メタノール２５ｇ、水１０ｇの混合液であった。この液中に、上記照射後の塗布膜を５分間浸漬した後、脱イオン水で水洗し、赤外線ランプで乾燥後、解像度を観察した。このポリイミド塗布膜の９０℃、３０分間の乾燥処理におけるポリイミド膜厚は、９ミクロンであった。
【０１５８】
このポリイミド塗布膜のスルーホールパターンは、鋭く輪郭の丸みの切り口で１５ミクロン口径の孔が確認された。ラインアンドベースパターンでは、１０ミクロンの線像が確認された。
【０１５９】
このポリイミド塗布膜を、１５０℃で３０分間の赤外線加熱処理をすると、膜厚は８ミクロンで殆ど変化がなかった。さらに、このポリイミド塗布膜を、２６０℃で３０分間の赤外線加熱処理すると、膜厚は６ミクロンとなった。
【０１６０】
さらに、上記ポリイミド膜と銅箔との密着性を碁盤目試験法で評価した。ナイフで塗布膜に、１ｍｍＸ１ｍｍの碁盤目の切り傷をつけ、セロテープ（登録商標）で剥離する試験では、１００／１００（剥離部分なし）を示し、ポリイミド膜と銅箔は、充分実用可能な密着性を示した。
【０１６１】
また、本ポリイミド膜の、熱分解開始温度は、４８４℃であり、高温度領域において良好な耐熱特性を示した。
【０１６２】
実施例２０
基本的に実施例４と同様に行った。
【０１６３】
組成物XIIIは、５００ｍＪで照射した後、下記条件で現像した。現像液組成は、Ｎ−メチルピロリドン４０ｇ、アミノエタノール２５ｇ、メタノール２５ｇ、水１０ｇの混合液であった。この液中に、上記照射後の塗布膜を２分間浸漬した後、脱イオン水で水洗し、赤外線ランプで乾燥後、解像度を観察した。９０℃で３０分間の乾燥処理で膜厚は、２０ミクロンであった。
【０１６４】
このポリイミド膜のスルーホールパターンは、鋭く輪郭の丸みの切り口で２０ミクロン口径の孔が確認された。ラインアンドベースパターンでは、１０ミクロンの線像が確認された。
【０１６５】
実施例２１
基本的に実施例４と同様に行った。
【０１６６】
組成物XIVは、３００ｍＪで照射した後、下記条件で現像した。現像液組成は、Ｎ−メチルピロリドン４０ｇ、アミノエタノール２５ｇ、メタノール２５ｇ、水１０ｇの混合液である。この液中に、上記照射後の塗布膜を３分間浸漬した後、脱イオン水で水洗し、赤外線ランプで乾燥後、解像度を観察した。９０度Ｃで３０分間の乾燥処理で膜厚は、１１ミクロンであった。
【０１６７】
このポリイミド膜のスルーホールパターンは、鋭く輪郭の丸みの切り口で１５ミクロン口径の孔が確認された。ラインアンドベースパターンでは、１０ミクロンの線像が確認された。
【０１６８】
比較例１
実施例１６のポリイミド液２５ｇ（ポリイミド５ｇ）にミヘラーケトン１．５ｇを加え、混合機で混合し、銅箔上に塗布膜の乾燥後の厚さが約１０ミクロンの厚さになるようスピンコートした。実施例１９に準じて光照射して現像した。５００ｍＪの照射では、画像は得られなかった。２、５００ｍＪの照射でわずかな画像が認められた。
【０１６９】
比較例２
実施例１６のポリイミド液２５ｇ（ポリイミド５ｇ）に２，６―ビス（アジドベンジリデン）４―メチルシクロヘキサノン０．５ｇ、及びミヘラーケトン１．５ｇを加え、混合機で混合し、銅箔上に塗布膜の乾燥後の厚さが約１０ミクロンの厚さになるようスピンコートした。実施例１９に準じて光照射して現像した。２５００ｍＪの照射では、画像は得られなかった。
【０１７０】
実施例２２
実施例１６のポリイミド液２５ｇ（ポリイミド５ｇ）にミヘラーケトン１．５ｇ及びナフトキノンジアジドー１，２，５―Ｏ−クレゾールエステル１．５ｇを加え、混合機で混合し、銅箔上に塗布膜の乾燥後の厚さが約１０ミクロンの厚さになるようスピンコートした。実施例１９に準じて光照射して現像した。３００ｍＪの照射で、感度の良い画像が得られた。
【０１７１】
実施例２３
実施例１６のポリイミド液２５ｇ（ポリイミド５ｇ）にナフトキノンジアジドー１，２，５―Ｏ−クレゾールエステル１．５ｇを加え、混合機で混合し、均一な溶液とした。この溶液を実施例１９に準じて、銅箔上に塗布膜の乾燥後の厚さが約１０ミクロンの厚さになるようスピンコートして得たポリイミド膜を赤外線炉で９０℃、１０分間乾燥して３００ｍＪの紫外線を照射して、直ちに現像液で処理すると、約３０秒で画像が現れ、水洗した。このものを乾燥後１５０℃，３０分間熱処理した。スルーホールテストでは、２０ミクロンの細孔が確認されたが、鋭さに欠けていた。
【０１７２】
これに対して、光照射後、１５０℃、１０分間赤外線炉で処理した後、現像し、ついで、１５０℃、３０分間熱処理した。ついで現像液で５分間処理、水洗し、ポジ型のテストマスクでは、１５ミクロンの細孔は確認できたが、１０ミクロンの細孔の確認は困難であった。従って、ネガ型のテストマスクを利用すると、細孔の部分が突起となり、１０ミクロンの鋭い突起物として観察され、１０ミクロンの画像が確認された。
【０１７３】
実施例２４
ステンレススチール製の碇型攪拌器を取り付けた１リットルのセパラブル３つ口フラスコに、水分分離トラップを備えた玉付冷却管を取り付けた。窒素ガスを通しながら加熱攪拌し、６ＦＤＡ（ヘキストセラニーズ社製品)１７．７７ｇ（４０ミリモル）、ｍ―ＢＡＰＳ８．６５ｇ（２０ミリモル）、９，９―ビス（４―アミノフェニル）フルオレン（和歌山精化株式会社製品、以降「ＦＤＡ」という）６．９７ｇ（２０ミリモル）、γ―バレロラクトン０．４ｇ（４ミリモル）及びピリジン０．６ｇ（８ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン１２８ｇ、トルエン３０ｇを仕込んだ。室温で窒素雰囲気下で２００ｒｐｍで３０分攪拌した後、１８０℃に昇温し、１８０ｒｐｍで５．８５時間攪拌した。反応中、トルエンー水の共沸分を除いた。
【０１７４】
このようにして得られたポリイミド溶液のポリマー濃度は、２０重量％であった。このポリイミドの分子量を、実施例１と同様にして測定したところ、スチレン換算分子量は、数平均分子量（Ｍｎ）４９７００、重量平均分子量（Ｍｗ）８５２００、Ｚ平均分子量（Ｍｚ）１２３０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．７１であった。このポリイミドを、メタノールに注ぎ粉末にして熱分析した。ポリイミドの分解開始温度は、５４０℃であった。
【０１７５】
実施例２５
(1)  感光性組成物の調製
感光性組成物は、実施例２４で得られたポリイミド溶液１５ｇ（ポリイミド含量３ｇ)と、１，２―ナフトキノンー２―ジアジドー５―スルホン酸 ―Ｏ―クレゾールエステル０．９ｇとを混合し、３ミクロン細孔径の濾過膜で濾過して製造した。
【０１７６】
(2)  画像形成
上記の感光性組成物を、表面処理した直径５ｃｍの銅箔（日本電解株式会社製品、１８ミクロン厚さ）の表面上に、スピンコート法で塗布した。ついで、赤外線熱風乾燥機中で９０℃１０分間乾燥した。この感光性膜の厚さは、約１０ミクロンであった。
【０１７７】
この感光性組成物塗布膜上に、ポジ型フォトマスク用のテストパターン（１０、１５、２０、２５、――、２００ミクロンのスルーホール及びラインアンドベースパターン）を置き、２ｋｗ超高圧水銀灯照射装置（オーク製作所製品：ＪＰ−２０００Ｇ）を用いて、画像が得られる露光量で照射した。
【０１７８】
上記感光性組成物は、３００ｍＪで照射した後、下記条件で現像した。現像液組成は、Ｎ−メチルピロリドン４０ｇ、アミノエタノール２５ｇ、メタノール２５ｇ、水１０ｇの混合液であった。この液中に、上記照射後の塗布膜を１分２５秒間浸漬した後、脱イオン水で水洗し、赤外線ランプで乾燥後、解像度を観察した。このポリイミド塗布膜の９０℃、３０分間の乾燥処理におけるポリイミド膜厚は、９ミクロンであった。
【０１７９】
このポリイミド塗布膜のスルーホールパターンは、鋭く輪郭の丸みの切り口で１５ミクロン口径の孔が確認された。ラインアンドベースパターンでは、１０ミクロンの線像が確認された。
【０１８０】
比較例３
実施例２４のポリイミド溶液１５ｇにミヘラーケトン０．９ｇを加え、混合して均一な溶液とした後、２５００ｍＪの紫外線を照射し、実施例２５で示したと同様に処理したが、画像は得られなかった。
【０１８１】
比較例４
実施例２４のポリイミド溶液１５ｇにミヘラーケトン０．９ｇ、２，６ービス（４―アジドベンジリデン）―４―メチルシクロヘキサノン０．３ｇを加え、混合して均一な溶液とした後、２５００ｍＪの紫外線を照射し、実施例２５で示したと同様に処理したが、画像は得られなかった。
【０１８２】
実施例２６
基本的に実施例２４と同様に操作した。
【０１８３】
ステンレススチール製の碇型攪拌器を取り付けた１リットルのセパラブル３つ口フラスコに、水分分離トラップを備えた玉付冷却管を取り付けた。窒素ガスを通しながら加熱攪拌し、ＢＴＤＡ１２．８９ｇ（４０モル）、ビス｛４―（３―アミノフェノキシ）フェニル｝スルホン８．６５ｇ（２０ミリモル）、９，９―ビス（４―アミノフェニル）フルオレン６．９７ｇ（２０ミリモル）、γ―バレロラクトン０．４ｇ（４ミリモル）及びピリジン０．６ｇ（８ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン１０８ｇ、トルエン３０ｇを仕込んだ。室温で窒素雰囲気下で２００ｒｐｍで３０分攪拌した後、１８０℃に昇温（浴温度）し、１８０ｒｐｍで２時間攪拌した。トラップに溜まったトルエンー水（１４ｍｌ）の共沸分を除きながら反応を終えた。
【０１８４】
このようにして得られたポリイミド溶液のポリマー濃度は、２０重量％であった。このポリイミドの分子量を、実施例１と同様にして測定したところ、スチレン換算分子量は、数平均分子量（Ｍｎ）３２３００、重量平均分子量（Ｍｗ）８３１００、Ｚ平均分子量（Ｍｚ）１９６０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝２．５８であった。このポリイミドを、メタノールに注ぎ粉末にして熱分析した。ポリイミドの分解開始温度は、５４９℃であった。
【０１８５】
実施例２７
(1)  感光性組成物の調製
感光性組成物は、実施例２６で得られたポリイミド溶液１５ｇ（ポリイミド含量３ｇ)と、１，２―ナフトキノンー２―ジアジドー５―スルホン酸 ―Ｏ―クレゾールエステル０．９ｇとを混合し、３ミクロン細孔径の濾過膜で濾過して製造した。
【０１８６】
(2)  画像形成
上記の感光性組成物を、表面処理した直径５ｃｍの銅箔（日本電解株式会社製品、１８ミクロン厚さ）の表面上に、スピンコート法で塗布した。ついで、赤外線熱風乾燥機中で９０℃１０分間乾燥した。このフォトレジスト膜の厚さは、約１０ミクロンであった。
【０１８７】
このフォトレジスト配合塗布膜上に、ポジ型フォトマスク用のテストパターン（１０、１５、２０、２５、――、２００ミクロンのスルーホール及びラインアンドベースパターン）を置き、２ｋｗ超高圧水銀灯照射装置（オーク製作所製品：ＪＰ−２０００Ｇ）を用いて、画像が得られる露光量で照射した。
【０１８８】
感光性組成物は、３００ｍＪで照射した後、下記条件で現像した。現像液組成は、Ｎ−メチルピロリドン４０ｇ、アミノエタノール２５ｇ、メタノール２５ｇ、水１０ｇの混合液であった。この液中に、上記照射後の塗布膜を３分間浸漬した後、脱イオン水で水洗し、赤外線ランプで乾燥後、解像度を観察した。このポリイミド塗布膜の９０℃、３０分間の乾燥処理におけるポリイミド膜厚は、９ミクロンであった。
【０１８９】
このポリイミド塗布膜のスルーホールパターンは、鋭く輪郭の丸みの切り口で２０ミクロン口径の孔が確認された。ラインアンドベースパターンでは、１５ミクロンの線像が確認された。
【０１９０】
実施例２８
実施例２６と同じ組成の出発混合物を室温で窒素雰囲気下で２００ｒｐｍで３０分攪拌した後、１８０℃に昇温（浴温度）し、１８０ｒｐｍで２．４時間攪拌した。トラップに溜まったトルエンー水（１４ｍｌ）の共沸分を除きながら反応を終えた。
【０１９１】
このようにして得られたポリイミド溶液のポリマー濃度は、２０重量％であった。このポリイミドの分子量を、実施例１と同様にして測定したところ、スチレン換算分子量は、数平均分子量（Ｍｎ）４６８００、重量平均分子量（Ｍｗ）２１４０００、Ｚ平均分子量（Ｍｚ）７３８０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝４．５７、Ｍｚ／Ｍｎ＝１５．７４であった。
【０１９２】
実施例２６と同様にして、光照射し、現像を行った。５００ｍＪの光照射の後、同様の液で１２分間浸漬処理し、水洗した。ラインアンドベースパターンでは、１５ミクロンの鋭い線像が確認された。
【０１９３】
実施例２９
(1)  ９，９―ビス（３―メチルー４―アミノフェニル）フルオレンの合成
フルオレノン１０ｇ（５５．５ミリモル）、Ｏ−トリジン２０ｇ（１８６ミリモル）、パラトルエンスルホン酸１水塩３ｇ（１５．８ミリモル）、スルホラン１００ｇ、トルエン２０ｇを加え、実施例２４と同じ装置で１８０℃、２時間反応した。１０％水酸化カリウム水溶液４００ｍＬ、水２００ｍＬ加えると、沈殿物ができた。この沈殿をデカントした後、熱水で４回洗った。さらに、熱水で２回洗い、減圧乾燥した。
【０１９４】
(2)  ポリイミドの合成
上記化合物７．５３ｇ（２０ミリモル、分子量３７６．５）、ＢＴＤＡ１２．８９ｇ（４０ミリモル）、ｍ―ＢＡＰＳ８．６５ｇ（２０ミリモル）、γ―バレロラクトン０．４ｇ（４ミリモル）及びピリジン０．６ｇ（８ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン１１１ｇ、トルエン３０ｇを仕込み、１８０℃，１８０ｒｐｍで３．７時間、実施例２４と同様に反応させた。
【０１９５】
(3)  感光性組成物の調製及び画像形成
上記反応液１５ｇと実施例２６の反応液１５ｇをとり、ナフトキノンジアジドスルホン酸ーＯ−クレゾールエステル１．８ｇを加えて均一の溶液にした。実施例２５と同様の操作を行い、１００ｍＪの光照射後、３０秒間現像で高感度の解像度で良好な画像が得られた。
【０１９６】
実施例３０
基本的に実施例２４と同様に操作した。
【０１９７】
ＢＴＤＡ２５．７ｇ（８０ミリモル）、ＦＤＡ１３．９４ｇ（４０ミリモル）、γ―バレロラクトン０．８ｇ（８ミリモル）及びピリジン１．２ｇ（１６ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン１１３ｇ、トルエン３０ｇを仕込み、１８０℃、１８０ｒｐｍで１時間、実施例２４と同様に反応させた。
【０１９８】
ついで室温に冷却し、２，２―ビス｛４―（４―アミノフェノキシ）フェニル｝プロパン１６．４２ｇ（４０ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン１００ｇ、トルエン２０ｇを加え、室温で１時間反応後、１８０℃，１８０ｒｐｍで１．５時間反応させた。反応後、Ｎ−メチルピロリドン３０ｇを追加した。この液の一部をガラス板の上にとり、１３０℃で乾燥すると強いフィルムとなる１８％濃度のポリイミド溶液を得た。
このポリイミドの分子量を、実施例１と同様にして測定したところ、スチレン換算分子量は、数平均分子量（Ｍｎ）２６３００、重量平均分子量（Ｍｗ）１３１７００、Ｚ平均分子量（Ｍｚ）４４５２００、Ｍｗ／Ｍｎ＝５．００、Ｍｚ／Ｍｎ＝１５．９１であった。このポリイミドの熱分解開始温度は５５９℃であった。
【０１９９】
上記反応液２０ｇをとり、ナフトキノンジアジドスルホン酸ーＯ−クレゾールエステル２．８ｇを加えて均一の溶液にした。実施例２５と同様の操作を行い、３００ｍＪの光照射後、１７０℃で５秒間加熱し、現像液に２．５分間浸漬し、水洗して赤外線で乾燥した。ネガ型マスク及びポジ型マスクによって解像度を求めた。この結果、１０ミクロンの鋭い円形の孔が、また、１０ミクロンの鋭い線形の画像が高感度の解像度で良好な画像として得られた。
【０２００】
実施例３１
ステンレススチール製の碇型攪拌器を取り付けた１リットルのセパラブル３つ口フラスコに、水分分離トラップを備えた玉付冷却管を取り付けた。窒素ガスを通しながら加熱攪拌し、ＢＴＤＡ３２．２２ｇ（１００ミリモル）、２，６―ジアミノピリジン（Ａｌｄｒｉｃｈ社製品）５．４５ｇ（５０ミリモル）、ｍ―ＢＡＰＳ２１．６２５ｇ（５０ミリモル）、γ―バレロラクトン１．０ｇ（１０ミリモル）及びピリジン１．６ｇ（２０ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン２２３ｇ、トルエン３０ｇを仕込んだ。室温で窒素雰囲気下で１８０ｒｐｍで３０分間攪拌した後、１８０℃に昇温し、１８０ｒｐｍで３．５時間攪拌した。反応中、トルエンー水の共沸分を除いた。
【０２０１】
このようにして得られたポリイミド溶液のポリマー濃度は、２０重量％であった。このポリイミドの分子量を、実施例１と同様にして測定したところ、スチレン換算分子量は、数平均分子量（Ｍｎ）＝１０５００、重量平均分子量（Ｍｗ）＝１５８００、Ｚ平均分子量（Ｍｚ）＝２２６００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．５１、Ｍｚ／Ｍｎ＝２．１５であった。
【０２０２】
実施例３２
(1)  感光性組成物の調製
感光性組成物は、実施例３１で得られたポリイミド溶液１５ｇ（ポリイミド含量３ｇ)と、１，２―ナフトキノンー２―ジアジドー５―スルホン酸 ―Ｏ―クレゾールエステル０．９ｇとを混合し、３ミクロン細孔径の濾過膜で濾過して製造した。
【０２０３】
(2)  画像形成
上記の感光性組成物を、表面処理した直径５ｃｍの銅箔（日本電解株式会社製品、１８ミクロン厚さ）の表面上に、スピンコート法で塗布した。ついで、赤外線熱風乾燥機中で９０℃１０分間乾燥した。この感光性膜の厚さは、約１０ミクロンであった。
【０２０４】
この感光性組成物塗布膜上に、ポジ型フォトマスク用のテストパターン（１０、１５、２０、２５、――、２００ミクロンのスルーホール及びラインアンドベースパターン）を置き、２ｋｗ超高圧水銀灯照射装置（オーク製作所製品：ＪＰ−２０００Ｇ）を用いて、画像が得られる露光量で照射した。
【０２０５】
３００ｍＪで照射した後、下記条件で現像した。現像液組成は、Ｎ−メチルピロリドン４０ｇ、アミノエタノール１０ｇ、メタノール２５ｇ、水２５ｇの混合液であった。この液中に、上記照射後の塗布膜を１分１５秒間浸漬した後、脱イオン水で水洗し、赤外線ランプで乾燥後、解像度を観察した。このポリイミド塗布膜の９０℃、３０分間の乾燥処理におけるポリイミド膜厚は、９ミクロンであった。
【０２０６】
このポリイミド塗布膜のスルーホールパターンは、鋭く輪郭の丸みの切り口で１５ミクロン口径の孔が確認された。ラインアンドベースパターンでは、１０ミクロンの線像が確認された。
【０２０７】
実施例３３
基本的に実施例３１と同様に操作した。
【０２０８】
窒素ガスを通しながら加熱攪拌し、ＢＰＤＡ２９．４２２ｇ（１００ミリモル）、２，６―ジアミノピリジン（Ａｌｄｒｉｃｈ社製品）５．４５ｇ（５０ミリモル）、ビス｛４―（３―アミノフェノキシ）フェニル｝ヘキサフルオロプロパン（和歌山精化株式会社製品）２９．９７５ｇ（５０ミリモル）、γ―バレロラクトン１．０ｇ（１０ミリモル）及びピリジン１．６ｇ（２０ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン２２９ｇ、トルエン３０ｇを仕込んだ。室温で窒素雰囲気下で１８０ｒｐｍで３０分間攪拌した後、１８０℃に昇温し、１８０ｒｐｍで２．０時間攪拌した。反応中、トルエンー水の共沸分を除いた。
このようにして得られたポリイミド溶液のポリマー濃度は、２０重量％であった。このポリイミドの分子量を、高速液体クロマトグラフィー（東ソ製品）で測定したところ、スチレン換算分子量は、数平均分子量（Ｍｎ）＝９３００、重量平均分子量（Ｍｗ）＝１４６００、Ｚ平均分子量（Ｍｚ）＝２１３００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．５５、Ｍｚ／Ｍｎ＝２．２６であった。
【０２０９】
実施例３４
(1)  感光性組成物の調製
感光性組成物は、実施例３３で得られたポリイミド溶液１５ｇ（ポリイミド含量３ｇ)と、１，２―ナフトキノンー２―ジアジドー５―スルホン酸 ―Ｏ―クレゾールエステル０．９ｇとを混合し、３ミクロン細孔径の濾過膜で濾過して製造した。
【０２１０】
(2)  画像形成
実施例３２(2)に記載した方法により感光性組成物膜を作製した。
この感光性組成物膜上に、ポジ型フォトマスク用のテストパターン（１０、１５、２０、２５、――、２００ミクロンのスルーホール及びラインアンドベースパターン）を置き、２ｋｗ超高圧水銀灯照射装置（オーク製作所製品：ＪＰ−２０００Ｇ）を用いて、画像が得られる露光量で照射した。
【０２１１】
２００ｍＪで照射した後、下記条件で現像した。現像液組成は、メタノール１０ｇ、１５％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド溶液２０ｇ、水４０ｇの混合液であった。この液中に、上記照射後の塗布膜を５分間浸漬した後、脱イオン水で水洗し、赤外線ランプで乾燥後、解像度を観察した。このポリイミド塗布膜の９０℃、３０分間の乾燥処理におけるポリイミド膜厚は、９ミクロンであった。
【０２１２】
このポリイミド塗布膜のスルーホールパターンは、鋭く輪郭の丸みの切り口で１５ミクロン口径の孔が確認された。ラインアンドベースパターンでは、１０ミクロンの線像が確認された。
【０２１３】
実施例３５
基本的に実施例３１と同様の操作を行った。
【０２１４】
ステンレススチール製の碇型攪拌器を取り付けた１リットルのセパラブル３つ口フラスコに、水分分離トラップを備えた玉付冷却管を取り付けた。窒素ガスを通しながら加熱攪拌し、ＢＴＤＡ１９．３３ｇ（６０ミリモル）、２，４―ジアミノトルエン３．６６ｇ（３０ミリモル）、γ―バレロラクトン１．０ｇ（１０ミリモル）及びピリジン１．６ｇ（２０ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン１００ｇ、トルエン２０ｇを仕込んだ。室温で窒素雰囲気下で１８０ｒｐｍで３０分間攪拌した後、１８０℃に昇温し、１８０ｒｐｍで１時間攪拌した。反応中、トルエンー水の共沸分を除いた。
【０２１５】
ついで、３，４，３’，４’―ビフェニルテトラカルボン酸ジ無水物８．８２７ｇ（３０ミリモル）、２，６―ジアミノピリジン３．２７４ｇ（３０ミリモル）、２，２―ビス｛４―（４―アミノフェノキシ）フェニル｝プロパン（和歌山精化株式会社製品）１２．３１５ｇ（３０ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン７７ｇ、トルエン１０ｇを仕込んだ。室温で窒素雰囲気下で１８０ｒｐｍで３０分間攪拌した後、１８０℃に昇温し、１８０ｒｐｍで１時間攪拌した。反応中、トルエンー水の共沸分を除いた。この２段目の反応を２時間１０分間行った。
【０２１６】
このようにして得られたポリイミド溶液のポリマー濃度は、２０重量％であった。このポリイミドの分子量を、実施例１と同様にして測定したところ、スチレン換算分子量は、数平均分子量（Ｍｎ）＝１２３００、重量平均分子量（Ｍｗ）＝２００００、Ｚ平均分子量（Ｍｚ）＝２９９００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．６２、Ｍｚ／Ｍｎ＝２．４２であった。
【０２１７】
実施例３６
(1)  感光性組成物の調製
感光性組成物は、実施例３５で得られたポリイミド溶液１５ｇ（ポリイミド含量３ｇ)と、１，２―ナフトキノンー２―ジアジドー５―スルホン酸 ―Ｏ―クレゾールエステル０．９ｇとを混合し、３ミクロン細孔径の濾過膜で濾過して製造した。
【０２１８】
(2)  画像形成
実施例３２(2)に記載した方法により感光性組成物膜を作製した。
【０２１９】
この感光性組成物塗布膜上に、ポジ型フォトマスク用のテストパターン（１０、１５、２０、２５、――、２００ミクロンのスルーホール及びラインアンドベースパターン）を置き、２ｋｗ超高圧水銀灯照射装置（オーク製作所製品：ＪＰ−２０００Ｇ）を用いて、画像が得られる露光量で照射した。
【０２２０】
１００ｍＪで照射した後、実施例３２で示した現像液で現像した。この液中に上記塗膜を、１分間浸漬後、脱イオン水で水洗し、赤外線ランプで乾燥後、解像度を観察した。このポリイミド塗布膜の９０℃、３０分間の乾燥処理におけるポリイミド膜厚は、９ミクロンであった。
【０２２１】
このポリイミド塗布膜のスルーホールパターンは、鋭く輪郭の丸みの切り口で１５ミクロン口径の孔が確認された。ラインアンドベースパターンでは、１０ミクロンの線像が確認された。
【０２２２】
実施例３７
基本的に実施例３５と同様に２段階反応を行った。
【０２２３】
ステンレススチール製の碇型攪拌器を取り付けた１リットルのセパラブル３つ口フラスコに、水分分離トラップを備えた玉付冷却管を取り付けた。窒素ガスを通しながら加熱攪拌し、ビシクロ（２，２，２）―オクトー７エンー２，３，５，６―テトラカルボン酸ジ無水物（Ａｌｄｒｉｃｈ社製品）９．９３ｇ（４０ミリモル）、３，４’―ジアミノジフェニルエーテル４．００ｇ（２０ミリモル）、γ―バレロラクトン０．６ｇ（１０ミリモル）及びピリジン１．０ｇ（１２ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン７６ｇ、トルエン３０ｇを仕込んだ。室温で窒素雰囲気下で１８０ｒｐｍで３０分間攪拌した後、１８０℃に昇温し、１８０ｒｐｍで１時間攪拌した。反応中、トルエンー水の共沸分を除いた。
【０２２４】
ついで、ＢＴＤＡ６．４４ｇ（２０ミリモル）、２，６―ジアミノピリジン２．１８ｇ（２０ミリモル）、ビス｛４―（３―アミノフェノキシ）フェニル｝スルホン８．６５ｇ（２０ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン４０ｇ、トルエン１０ｇを仕込んだ。室温で窒素雰囲気下で１８０ｒｐｍで３０分間攪拌した後、１８０℃に昇温し、１８０ｒｐｍで１時間攪拌した。反応中、トルエンー水の共沸分を除いた。この２段目の反応を３時間行った。
【０２２５】
このようにして得られたポリイミド溶液のポリマー濃度は、２０重量％であった。このポリイミドの分子量を、実施例１と同様にして測定したところ、スチレン換算分子量は、数平均分子量（Ｍｎ）＝１０３００、重量平均分子量（Ｍｗ）＝１４０００、Ｚ平均分子量（Ｍｚ）＝１８６００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．３６、Ｍｚ／Ｍｎ＝１．８１であった。
【０２２６】
実施例３８
(1)  感光性組成物の調製
感光性組成物は、実施例３７で得られたポリイミド溶液１５ｇ（ポリイミド含量３ｇ)と、１，２―ナフトキノンー２―ジアジドー５―スルホン酸 ―Ｏ―クレゾールエステル０．９ｇとを混合し、３ミクロン細孔径の濾過膜で濾過して製造した。
【０２２７】
(2)  画像形成
実施例３２(2)に記載した方法により感光性組成物膜を作製した。
【０２２８】
この感光性組成物塗布膜上に、ポジ型フォトマスク用のテストパターン（１０、１５、２０、２５、――、２００ミクロンのスルーホール及びラインアンドベースパターン）を置き、２ｋｗ超高圧水銀灯照射装置（オーク製作所製品：ＪＰ−２０００Ｇ）を用いて、画像が得られる露光量で照射した。
【０２２９】
３００ｍＪで照射した後、下記現像液で現像した。現像液組成は、水酸化カリウム３０ｇ、水１００ｇであった。この液中に上記塗膜を、３分間浸漬後、脱イオン水で水洗し、赤外線ランプで乾燥後、解像度を観察した。このポリイミド塗布膜の９０度Ｃ、３０分間の乾燥処理におけるポリイミド膜厚は、９ミクロンであった。
【０２３０】
このポリイミド塗布膜のスルーホールパターンは、鋭く輪郭の丸みの切り口で１５ミクロン口径の孔が確認された。ラインアンドベースパターンでは、１０ミクロンの線像が確認された。
【０２３１】
実施例３９
ステンレススチール製の碇型攪拌器を取り付けた０．５リットルのセパラブル３つ口フラスコに、水分分離トラップを備えた玉付冷却管を取り付けた。ＢＴＤＡ１９．３３ｇ（６０モル）、２，４―ジアミノフェノール２塩酸塩（東京化成株式会社製品）５．９１ｇ（３０ミリモル）、ビス｛４―（３―アミノフェノキシ）フェニル｝スルホン（和歌山精化株式会社製品）２．９８ｇ（３０ミリモル）、γ―バレロラクトン１．０ｇ（１０ミリモル）、Ｎ−メチルモルホリン１０ｇ（１００ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン１４４ｇ、トルエン４０ｇを仕込んだ。室温で窒素雰囲気下で１８０ｒｐｍで３０分攪拌した後、１８０℃に昇温（浴温度）し、１８０ｒｐｍで０．５時間攪拌した。トラップに溜まったトルエンー水の共沸分を除きながら反応を終えた。
【０２３２】
このようにして得られたポリイミド溶液のポリマー濃度は、２０重量％であった。このポリイミドの分子量を、実施例１と同様に測定したところ、スチレン換算分子量は、数平均分子量（Ｍｎ）＝４２５００、重量平均分子量（Ｍｗ）＝６６０００、Ｚ平均分子量（Ｍｚ）＝１００７５００、Ｍｗ／Ｍｎ＝３．９１、Ｍｚ／Ｍｎ＝１１．９６であった。このポリイミドの一部を、メタノールに注ぎ、濾過、赤外線乾燥炉で３０分間２００℃で乾燥してポリイミド粉末とした。
【０２３３】
実施例４０
基本的に実施例３９と同様に操作した。
【０２３４】
６ＦＤＡ２６．６６ｇ（６０ミリモル）、２，４―ジアミノフェノールジ塩酸塩（東京化成株式会社製品）５．９１ｇ（３０ミリモル）、２，２―ビス｛４―（４―アミノフェノキシ）フェニル｝ヘキサフルオロプロパン（和歌山精化株式会社製品）１５．５６ｇ（３０ミリモル）、γ―バレロラクトン１．０ｇ（１０ミリモル）、Ｎ−メチルモルホリン１０ｇ（１００ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン１８４ｇ、トルエン４０ｇを仕込んだ。室温で窒素雰囲気下で２００ｒｐｍで３０分攪拌した後、１８０℃に昇温し、１８０ｒｐｍで７０分間攪拌した。Ｎ−メチルピロリドン７７ｇを追加して加えた。また、反応中、トルエンー水の共沸分を除いた。
【０２３５】
このようにして得られたポリイミド溶液のポリマー濃度は、１５重量％であった。このポリイミドの分子量を、実施例１と同様にして測定したところ、スチレン換算分子量は、数平均分子量（Ｍｎ）＝１１１５００、重量平均分子量（Ｍｗ）＝３０３６００、Ｚ平均分子量（Ｍｚ）＝６８２４００、Ｍｗ／Ｍｎ＝２．７２、Ｍｚ／Ｍｎ＝６．１２であった。このポリイミドの一部を、メタノールに注ぎ粉末にした。
【０２３６】
実施例４１
基本的に実施例３９と同様に操作した。
【０２３７】
３，４，３’，４’―ビフェニルテトラカルボン酸ジ無水物１７．６５ｇ（６０モル）、２，４―ジアミノフェノール２塩酸塩５．９１ｇ（３０ミリモル）、２，２―ビス｛４―（４―アミノフェノキシ）フェニル｝プロパン（和歌山精化株式会社製品）１２．３２ｇ（３０ミリモル）、γ―バレロラクトン１．０ｇ（１０ミリモル）、Ｎ−メチルモルホリン１０ｇ（１００ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン１３５ｇ、トルエン４０ｇを仕込んだ。室温で窒素雰囲気下で１８０ｒｐｍで３０分攪拌した後、１８０℃に昇温（浴温度）し、１８０ｒｐｍで１時間攪拌した。トラップに溜まったトルエンー水の共沸分を除きながら反応を終えた。
【０２３８】
このようにして得られたポリイミド溶液のポリマー濃度は、２０重量％であった。このポリイミドの分子量を、実施例１と同様にして測定したところ、スチレン換算分子量は、数平均分子量（Ｍｎ）＝３１７００、重量平均分子量（Ｍｗ）＝５７２００、Ｚ平均分子量（Ｍｚ）＝８９５００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．８１、Ｍｚ／Ｍｎ＝２．８２であった。このポリイミドの一部を、メタノールに注ぎ、濾過後、赤外線乾燥炉で３０分間２００℃で乾燥してポリイミド粉末とした。
【０２３９】
実施例４２
(1)  感光性組成物の調製
感光性組成物は、下記表８及び表９に示す成分を混合し、３ミクロン細孔径の濾過膜で濾過して製造した。
【０２４０】
【表８】
2010266868.tif 000009
【０２４１】
【表９】
2010266868.tif 000010
【０２４２】
(2)  画像形成
上記６種類の感光性組成物を、表面処理した直径５ｃｍの銅箔（日本電解株式会社製品、１８ミクロン厚さ）の表面上に、スピンコート法で塗布した。ついで、赤外線熱風乾燥機中で９０℃１０分間乾燥した。このフォトレジスト膜の厚さは、約１０ミクロンであった。
【０２４３】
この感光性組成物塗布膜上に、ポジ型フォトマスク用のテストパターン（１０、１５、２０、２５、――、２００ミクロンのスルーホール及びラインアンドベースパターン）を置き、２ｋｗ超高圧水銀灯照射装置（オーク製作所製品：ＪＰ−２０００Ｇ）を用いて、画像が得られる露光量で照射した。
【０２４４】
配合物XV-XXは、それぞれ下記表１０に示す適当量の紫外線照射量で照射した後、表１０に示す条件で現像した。この液中に、紫外線照射後の塗布膜を表１０に示す条件で浸漬した後、脱イオン水で水洗し、赤外線ランプで乾燥後、解像度を観察した。このポリイミド塗布膜の９０℃、３０分間の乾燥処理におけるポリイミド膜厚は、９ミクロンであった。
【０２４５】
【表１０】
2010266868.tif 000011
（組成１＝Ｎ−メチルピロリドン４０ｇ、アミノエタノール１０ｇ、メタノール２５ｇ、水２５ｇ）
（組成２＝水酸化カリウム３ｇ、水１００ｇ）
【０２４６】
このポリイミド塗布膜のスルーホールパターンは、鋭く輪郭の丸みの切り口で１５ミクロン口径の孔が確認された。ラインアンドベースパターンでは、１０ミクロンの線像が確認された。
【０２４７】
実施例４３
基本的に実施例３９と同様に操作した。
【０２４８】
３，４，３’，４’―ビフェニルテトラカルボン酸ジ無水物１１．７７ｇ（４０モル）、３，３’―ジヒドロオキシー４，４’―ジアミノビフェニル（和歌山精化株式会社製品）４．２９ｇ（２０ミリモル）、１，３―ビス（４―アミノフェノキシ）ベンゼン（和歌山精化株式会社製品）５．８５ｇ（２０ミリモル）、γ―バレロラクトン０．８ｇ（８ミリモル）、ピリジン１．６ｇ（２０ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン８２ｇ、トルエン４０ｇを仕込んだ。室温で窒素雰囲気下で１８０ｒｐｍで３０分攪拌した後、１８０℃に昇温（浴温度）し、１８０ｒｐｍで１時間攪拌した。トラップに溜まったトルエンー水の共沸分を除きながら反応を終えた。上記反応後、Ｎ−メチルピロリドン３４ｇを添加した。
【０２４９】
このようにして得られたポリイミド溶液のポリマー濃度は、１８重量％であった。このポリイミドの分子量を、実施例１と同様にして測定したところ、スチレン換算分子量は、数平均分子量（Ｍｎ）＝３１８００、重量平均分子量（Ｍｗ）＝５９６００、Ｚ平均分子量（Ｍｚ）＝１０２３００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．８７、Ｍｚ／Ｍｎ＝３．２２であった。このポリイミドを、メタノールに注ぎ、濾過後、赤外線乾燥炉で３０分間２００℃で乾燥してポリイミド粉末とした。このポリイミド粉末を熱分析した。熱分解開始温度は、５５９℃であった。
【０２５０】
実施例４４
基本的に実施例３９と同様に操作した。
【０２５１】
３，４，３’，４’―ビフェニルテトラカルボン酸ジ無水物１２．８７ｇ（４０モル）、３，３’―ジヒドロオキシー４，４’―ジアミノビフェニル（和歌山精化株式会社製品）４．２９ｇ（２０ミリモル）、ビスー｛４―（３―アミノフェノキシ）フェニル｝スルホン（和歌山精化株式会社製品）８．６５ｇ（２０ミリモル）、γ―バレロラクトン０．８ｇ（８ミリモル）、ピリジン１．２ｇ（１６ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン９８ｇ、トルエン４０ｇを仕込んだ。室温で窒素雰囲気下で１８０ｒｐｍで３０分攪拌した後、１８０℃に昇温（浴温度）し、１８０ｒｐｍで１．５時間攪拌した。トラップに溜まったトルエンー水の共沸分を除きながら反応を終えた。
【０２５２】
このようにして得られたポリイミド溶液のポリマー濃度は、２０重量％であった。このポリイミドの分子量を、実施例１と同様にして測定したところ、スチレン換算分子量は、数平均分子量（Ｍｎ）＝１９０００、重量平均分子量（Ｍｗ）＝３５８００、Ｚ平均分子量（Ｍｚ）＝６０３００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．８６、Ｍｚ／Ｍｎ＝３．１４であった。このポリイミドの一部を、メタノールに注ぎ、濾過後、赤外線乾燥炉で３０分間２００℃で乾燥してポリイミド粉末とした。このポリイミド粉末を熱分析した。熱分解開始温度は、５５２℃であった。
【０２５３】
実施例４５
基本的に実施例３９と同様に操作した。
【０２５４】
６ＦＤＡ１７．７７ｇ（４０モル）、３，３’―ジヒドロオキシー４，４’―ジアミノビフェニル（和歌山精化株式会社製品）４．２９ｇ（２０ミリモル）、ビスー｛４―（３―アミノフェノキシ）フェニル｝スルホン（和歌山精化株式会社製品）８．６５ｇ（２０ミリモル）、γ―バレロラクトン０．８ｇ（８ミリモル）、ピリジン１．２ｇ（１６ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン１１７ｇ、トルエン４０ｇを仕込んだ。室温で窒素雰囲気下で１８０ｒｐｍで３０分攪拌した後、１８０℃に昇温（浴温度）し、１８０ｒｐｍで３．７時間攪拌した。トラップに溜まったトルエンー水の共沸分を除きながら反応を終えた。
【０２５５】
このようにして得られたポリイミド溶液のポリマー濃度は、２０重量％であった。このポリイミドの分子量を、実施例１と同様にして測定したところ、スチレン換算分子量は、数平均分子量（Ｍｎ）＝１１１６００、重量平均分子量（Ｍｗ）＝１９６０００、Ｚ平均分子量（Ｍｚ）＝３１１７００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．７６、Ｍｚ／Ｍｎ＝２．７９であった。このポリイミドを、メタノールに注ぎ、濾過後、赤外線乾燥炉で３０分間２００℃で乾燥してポリイミド粉末とした。このポリイミド粉末を熱分析した。熱分解開始温度は、５５２℃であった。
【０２５６】
実施例４６
(1)  感光性組成物の調製
感光性組成物は、下記表１１に示す成分を混合し、３ミクロン細孔径の濾過膜で濾過して製造した。
【０２５７】
【表１１】
2010266868.tif 000012
【０２５８】
(2)  画像形成
上記の感光性組成物（XXI、XXII、XXIII）を、表面処理した直径５ｃｍの銅箔（日本電解株式会社製品、１８ミクロン厚さ）の表面上に、スピンコート法で塗布した。ついで、赤外線熱風乾燥機中で９０℃１０分間乾燥した。このフォトレジスト膜の厚さは、約１０ミクロンであった。
【０２５９】
このフォトレジスト配合塗布膜上に、ポジ型フォトマスク用のテストパターン（１０、１５、２０、２５、――、２００ミクロンのスルーホール及びラインアンドベースパターン）を置き、２ｋｗ超高圧水銀灯照射装置（オーク製作所製品：ＪＰ−２０００Ｇ）を用いて、画像が得られる露光量で照射した。
【０２６０】
組成物XXI、XXII、XXIIIは、それぞれ表１２に示す適当量の紫外線照射量で照射した後、表１２に示す条件で現像した。この液中に、紫外線照射後の塗布膜を表１２に示す条件で浸漬した後、脱イオン水で水洗し、赤外線ランプで乾燥後、解像度を観察した。このポリイミド塗布膜の９０℃、３０分間の乾燥処理におけるポリイミド膜厚は、９ミクロンであった。
【０２６１】
【表１２】
2010266868.tif 000013
（組成３＝アミノエタノール２０ｇ、グリセリン１０ｇ、水５０ｇ）
このポリイミド塗布膜のスルーホールパターンは、鋭く輪郭の丸みの切り口で１５ミクロン口径の孔が確認された。ラインアンドベースパターンでは、１０ミクロンの線像が確認された。
【０２６２】
上記ポリイミドの塗布膜は、２６０℃、３０分間の赤外線乾燥機での熱処理をした後、このポリイミド膜と銅箔の密着性について、碁盤目試験（１ｍｍＸ１ｍｍ間隔クロス試験）を行い、１００／１００で好ましい密着性を示した。
【０２６３】
実施例４７
基本的に実施例３９と同様に操作した。
【０２６４】
ＢＴＤＡ１２。８９ｇ（４０ミリモル）、ビスー｛４―（３―アミノフェノキシ）フェニル｝スルホン８。６５ｇ（２０ミリモル）、γ―バレロラクトン０。４ｇ（４ミリモル）、ピリジン０。６４ｇ（８ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン７７ｇ、トルエン３０ｇを仕込んだ。室温で窒素雰囲気下で１８０ｒｐｍで３０分攪拌した後、１８０℃に昇温（浴温度）し、１８０ｒｐｍで１時間攪拌した。トラップに溜まったトルエンー水の共沸分を除きながら反応を終えた。
【０２６５】
これに、３，３’―ジヒドロオキシー４，４’―ジアミノビフェニル２．１６ｇ（１０ミリモル）、３，４’―ジアミノジフェニルエーテル２．００ｇ（１０ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン２０ｇ、トルエン１０ｇを加え、室温で窒素雰囲気下で１８０ｒｐｍで３０分攪拌した後、１８０℃に昇温（浴温度）し、１８０ｒｐｍで１．０時間攪拌した。トラップに溜まったトルエンー水の共沸分を除きながら反応を終えた。反応後、Ｎ−メチルピロリドン４１ｇを加えた。
【０２６６】
このようにして得られたポリイミド溶液のポリマー濃度は、１５重量％であった。このポリイミドの分子量を、実施例１と同様にして測定したところ、スチレン換算分子量は、数平均分子量（Ｍｎ）＝３２３００、重量平均分子量（Ｍｗ）＝１４０２００、Ｚ平均分子量（Ｍｚ）＝４４２０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝４．３４、Ｍｚ／Ｍｎ＝１３．６８であった。このポリイミドを、メタノールに注ぎ、濾過後、赤外線乾燥炉で３０分間２００度Ｃで乾燥してポリイミド粉末とした。このポリイミド粉末を熱分析した。熱分解開始温度は、５６９℃であった。
【０２６７】
実施例４８
基本的に実施例３９と同様に操作した。
【０２６８】
ビシクロ（２，２，２）―オクトー２，３，５，６―テトラカルボン酸ジ無水物（Ａｌｄｒｉｃｈ社製品）９．９３ｇ（４０ミリモル）、１，３―ビスー（３―アミノフェノキシ）ベンゼン（三井東圧株式会社製品）５．８５ｇ（２０ミリモル）、γ―バレロラクトン０．４ｇ（４ミリモル）、ピリジン０．６４ｇ（８ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン５５ｇ、トルエン３０ｇを仕込んだ。室温で窒素雰囲気下で１８０ｒｐｍで３０分攪拌した後、１８０℃に昇温（浴温度）し、１８０ｒｐｍで１．０時間攪拌した。トラップに溜まったトルエンー水の共沸分を除く。冷却後、３，３’―ジヒドロキシー４，４’―ジアミノビフェニル４．３２ｇ（２０ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン２０ｇ、トルエン１０ｇを仕込み、室温で窒素雰囲気下で１８０ｒｐｍで３０分攪拌した後、１８０℃に昇温（浴温度）し、１８０ｒｐｍで１．４５時間攪拌した。トラップに溜まったトルエンー水の共沸分を除いた。
【０２６９】
このようにして得られたポリイミド溶液のポリマー濃度は、２０重量％であった。このポリイミドの分子量を、実施例１と同様にして測定したところ、スチレン換算分子量は、数平均分子量（Ｍｎ）＝５４３００、重量平均分子量（Ｍｗ）＝８８４００、Ｚ平均分子量（Ｍｚ）＝１３０４００、Ｍｗ／Ｍｎ＝２．１６、Ｍｚ／Ｍｎ＝２．４０であった。このポリイミドを、メタノールに注ぎ、濾過後、赤外線乾燥炉で３０分間２００℃で乾燥してポリイミド粉末とした。このポリイミド粉末を熱分析した。熱分解開始温度は、４５７℃であった。
【０２７０】
実施例４９
基本的に実施例４７と同様に操作した。
【０２７１】
ビフェニルテトラカルボン酸ジ無水物２９．４２ｇ（１００ミリモル）、ジアミノシラン（信越化学工業株式会社製品、アミン当量４１６）４１．６ｇ（５０ミリモル）、γ―バレロラクトン１．５ｇ（１５ミリモル）、ピリジン２．４ｇ（３０ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン２００ｇ、トルエン１００ｇを仕込んだ。
【０２７２】
室温で窒素雰囲気下で１８０ｒｐｍで３０分攪拌した後、１８０℃に昇温（浴温度）し、１８０ｒｐｍで１時間攪拌した。トラップに溜まったトルエンー水の共沸分を除きながら反応を終えた。
【０２７３】
これに、ＢＴＤＡ１６．１１ｇ（５０ミリモル）、３，３’―ジヒドロキシー４，４’―ジアミノビフェニル１０．７２ｇ（５０ミリモル）、３，４’―ジアミノジフェニルエーテル１０．０１ｇ（５０ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン２１０ｇ、トルエン２０ｇを加え、室温で窒素雰囲気下で１８０ｒｐｍで３０分攪拌した後、１８０℃に昇温（浴温度）し、１８０ｒｐｍで３．０時間攪拌した。トラップに溜まったトルエンー水の共沸分を除きながら反応を終えた。
【０２７４】
このようにして得られたポリイミド溶液のポリマー濃度は、１０重量％であった。このポリイミドの分子量を、実施例１と同様にして測定したところ、スチレン換算分子量は、数平均分子量（Ｍｎ）＝３３０００、重量平均分子量（Ｍｗ）＝６６３００、Ｚ平均分子量（Ｍｚ）＝１１６７００、Ｍｗ／Ｍｎ＝２．０、Ｍｚ／Ｍｎ＝３．５３であった。
【０２７５】
実施例５０
実施例４７、４８、４９のポリイミドについて、実施例４６と同様な操作を行った。
【０２７６】
(1)  感光性組成物の調製
感光性組成物は、下記表１３に示す成分を混合し、３ミクロン細孔径の濾過膜で濾過して製造した。
【０２７７】
【表１３】
2010266868.tif 000014
【０２７８】
(2)  画像形成
上記の感光性組成物（XXIV、XXV、XXVI)を、表面処理した直径５ｃｍの銅箔（日本電解株式会社製品、１８ミクロン厚さ）の表面上に、スピンコート法で塗布した。ついで、赤外線熱風乾燥機中で９０℃１０分間乾燥した。この感光性膜の厚さは、約１０ミクロンであった。
【０２７９】
この感光性組成物塗布膜上に、ポジ型フォトマスク用のテストパターン（１０、１５、２０、２５、――、２００ミクロンのスルーホール及びラインアンドベースパターン）を置き、２ｋｗ超高圧水銀灯照射装置（オーク製作所製品：ＪＰ−２０００Ｇ）を用いて、画像が得られる露光量で照射した。
【０２８０】
組成物XXIV、XXV、XXVIは、それぞれ下記表１４に示す適当量の紫外線照射量で照射した後、表１４に示す条件で現像した。この液中に、紫外線照射後の塗布膜を表１４に示す条件で浸漬した後、脱イオン水で水洗し、赤外線ランプで乾燥後、解像度を観察した。このポリイミド塗布膜の９０℃、３０分間の乾燥処理におけるポリイミド膜厚は、９ミクロンであった。
【０２８１】
【表１４】
2010266868.tif 000015
（組成１＝Ｎ−メチルピロリドン４０ｇ、アミノエタノール１０ｇ、メタノール２５ｇ、水２５ｇ）
（組成３＝アミノエタノール２０ｇ、グリセリン１０ｇ、水５０ｇ）
【０２８２】
このポリイミド塗布膜のスルーホールパターンは、鋭く輪郭の丸みの切り口で１５ミクロン口径の孔が確認された。ラインアンドベースパターンでは、１０ミクロンの線像が確認された。
【０２８３】
実施例５１
基本的に実施例３９と同様に操作した。
【０２８４】
ＢＴＤＡ３８．６７ｇ（１２０ミリモル）、２，４−ジアミノトルエン１１．００ｇ（９０ミリモル）、３，３’―ジメトオキシー４，４’―ジアミノビフェニル（和歌山精化株式会社製品）７．３３ｇ（３０ミリモル）、γ―バレロラクトン１．２ｇ（１２ミリモル）、ピリジン１．９ｇ（２４ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン２１１ｇ、トルエン４０ｇを仕込んだ。室温で窒素雰囲気下で１８０ｒｐｍで３０分攪拌した後、１８０℃に昇温（浴温度）し、１８０ｒｐｍで３．０時間攪拌した。トラップに溜まったトルエンー水の共沸分を除く。トラップに溜まったトルエンー水の共沸分を除いた。
【０２８５】
このようにして得られたポリイミド溶液のポリマー濃度は、２０重量％であった。このポリイミドの分子量を、実施例１と同様にして測定したところ、スチレン換算分子量は、数平均分子量（Ｍｎ）＝２０３００、重量平均分子量（Ｍｗ）＝４０２００、Ｚ平均分子量（Ｍｚ）＝７２２００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．９８、Ｍｚ／Ｍｎ＝３．５５であった。
【０２８６】
実施例５２
６ＦＤＡ２６．６６ｇ（６０ミリモル）、ビスー｛４―（３―アミノフェノキシ）フェニル｝ヘキサフルオロプロパン（和歌山精化株式会社製品）１０．３７ｇ（２０ミリモル）、３，３’―ジメトキシー４、４’―ジアミノビフェニル４．８９ｇ（２０ミリモル）、３，３’―ジメチルー４，４’―ジアミノビフェニル４．２５ｇ（２０ミリモル）、γ―バレロラクトン０．６ｇ（６ミリモル）、ピリジン１．０ｇ（１２ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン１７６ｇ、トルエン４０ｇを仕込んだ。室温で窒素雰囲気下で１８０ｒｐｍで３０分攪拌した後、１８０℃に昇温（浴温度）し、１８０ｒｐｍで１．７５時間攪拌した。トラップに溜まったトルエンー水の共沸分を除きながら反応を終えた。
【０２８７】
このようにして得られたポリイミド溶液のポリマー濃度は、２０重量％であった。このポリイミドの分子量を、実施例１と同様にして測定したところ、スチレン換算分子量は、数平均分子量（Ｍｎ）＝２３６００、重量平均分子量（Ｍｗ）＝３４４００、Ｚ平均分子量（Ｍｚ）＝４９６００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．４５、Ｍｚ／Ｍｎ＝２．０６であった。
【０２８８】
実施例５３
実施例５１、５２のポリイミドについて、実施例４２と同様な操作を行った。
【０２８９】
(1)  感光性組成物の調製
感光性組成物は、下記表１５に示す成分を混合し、３ミクロン細孔径の濾過膜で濾過して製造した。
【０２９０】
【表１５】
2010266868.tif 000016
【０２９１】
(2)  画像形成
上記の感光性組成物（XXVII、XXVIII）を、表面処理した直径５ｃｍの銅箔（日本電解株式会社製品、１８ミクロン厚さ）の表面上に、スピンコート法で塗布した。ついで、赤外線熱風乾燥機中で９０℃１０分間乾燥した。この感光性膜の厚さは、約１０ミクロンであった。
【０２９２】
この感光性組成物塗布膜上に、ポジ型フォトマスク用のテストパターン（１０、１５、２０、２５、――、２００ミクロンのスルーホール及びラインアンドベースパターン）を置き、２ｋｗ超高圧水銀灯照射装置（オーク製作所製品：ＪＰ−２０００Ｇ）を用いて、画像が得られる露光量で照射した。
【０２９３】
組成物XXVII、XXVIIIは、それぞれ下記表１６に示す適当量の紫外線照射量で照射した後、表１６に示す条件で現像した。この液中に、紫外線照射後の塗布膜を表１６に示す条件で浸漬した後、脱イオン水で水洗し、赤外線ランプで乾燥後、解像度を観察した。このポリイミド塗布膜の９０℃、３０分間の乾燥処理におけるポリイミド膜厚は、９ミクロンであった。
【０２９４】
【表１６】
2010266868.tif 000017
（組成３＝アミノエタノール２０ｇ、グリセリン１０ｇ、水５０ｇ）
【０２９５】
このポリイミド塗布膜のスルーホールパターンは、鋭く輪郭の丸みの切り口で１５ミクロン口径の孔が確認された。ラインアンドベースパターンでは、１０ミクロンの線像が確認された。
【０２９６】
実施例５４
ステンレススチール製の碇型攪拌器を取り付けた１リットルのセパラブル３つ口フラスコに、水分分離トラップを備えた玉付冷却管を取り付けた。６ＦＤＡ２６．６６ｇ（６０ミリモル）、３，３’―ジニトロー４，４’―ジアミノビフェニル５．４８ｇ（東京化成株式会社製品、２０ミリモル）、３，３’―ジメチルー４，４’―ジアミノビフェニル（和歌山精化株式会社製品）８．４９ｇ（４０ミリモル）、γ―バレロラクトン０．８ｇ（８ミリモル）及びＮ−メチルモルホリン１．６ｇ（１６ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン１５４ｇ、トルエン４０ｇを仕込んだ。室温で窒素雰囲気下で１８０ｒｐｍで３０分攪拌した後、１８０℃に昇温し、１８０ｒｐｍで７．５０時間攪拌した。反応中、トルエンー水の共沸分を除いた。
【０２９７】
このようにして得られたポリイミド溶液のポリマー濃度は、２０重量％であった。このポリイミドの分子量を、実施例１と同様にして測定したところ、スチレン換算分子量は、数平均分子量（Ｍｎ）＝７１００、重量平均分子量（Ｍｗ）＝１００００、Ｚ平均分子量（Ｍｚ）＝１４０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．４１、Ｍｚ／Ｍｎ＝１．９７であった。
【０２９８】
実施例５５
基本的に実施例５４と同様の操作を行った。
【０２９９】
６ＦＤＡ２６．６６ｇ（６０ミリモル）、３，３’―ジニトロー４，４’―ジアミノビフェニル５．４８ｇ（２０ミリモル）、３，３’―ジメチルー４，４’―ジアミノビフェニル４．２５ｇ（２０ミリモル）、２，２―ビス｛４―（４―アミノフェノキシ）フェニル｝ヘキサフルオロプロパン１０．３７ｇ（２０ミリモル）、γ―バレロラクトン０．８ｇ（８ミリモル）及びピリジン１．２ｇ（１６ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン１７８ｇ、トルエン４０ｇを仕込んだ。室温で窒素雰囲気下で１８０ｒｐｍで３０分攪拌した後、１８０℃に昇温し、１８０ｒｐｍで４時間攪拌した。反応中、トルエンー水の共沸分を除いた。
【０３００】
このようにして得られたポリイミド溶液のポリマー濃度は、２０重量％であった。このポリイミドの分子量を、実施例１と同様にして測定したところ、スチレン換算分子量は、数平均分子量（Ｍｎ）＝７４００、重量平均分子量（Ｍｗ）＝９６００、Ｚ平均分子量（Ｍｚ）＝１２４００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．２９、Ｍｚ／Ｍｎ＝１．６６であった。
【０３０１】
実施例５６
実施例５４と同様の操作を行った。
【０３０２】
ＢＴＤＡ１９．３３ｇ（６０モル）、３，３’―ジニトロー４，４’―ジアミノビフェニル５．４８ｇ（２０ミリモル）、２，４―ジアミノトルエン（三井東圧化学株式会社製品）２．４４ｇ（２０ミリモル）、ビス｛４―（３―アミノフェノキシ）フェニル｝スルホン８．６５ｇ（２０ミリモル）、γ―バレロラクトン０．８ｇ（８ミリモル）及びピリジン１．２ｇ（１６ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン１２３ｇ、トルエン４０ｇを仕込んだ。室温で窒素雰囲気下で１８０ｒｐｍで３０分攪拌した後、１８０℃に昇温し、１８０ｒｐｍで４．２５時間攪拌した。反応中、トルエンー水の共沸分を除いた。
【０３０３】
このようにして得られたポリイミド溶液のポリマー濃度は、２０重量％であった。このポリイミドの分子量を、実施例１と同様にして測定したところ、スチレン換算分子量は、数平均分子量（Ｍｎ）＝５３００、重量平均分子量（Ｍｗ）＝７２００、Ｚ平均分子量（Ｍｚ）＝９６００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．３７、Ｍｚ／Ｍｎ＝１．８１であった。
【０３０４】
実施例５７
基本的に実施例５４と同様の操作を行った。
【０３０５】
６ＦＤＡ１７．７７ｇ（４０モル）、３，３’―ジニトロー４，４’―ジアミノビフェニル５．４８ｇ（２０ミリモル）、２，２―ビス｛４―（４―アミノフェノキシ）フェニル｝ヘキサフルオロプロパン１０．３７ｇ（２０ミリモル）、γ―バレロラクトン０．４ｇ（４ミリモル）及びＮ―メチルモルホリン０．８ｇ（８ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン１２９ｇ、トルエン４０ｇを仕込んだ。室温で窒素雰囲気下で１８０ｒｐｍで３０分攪拌した後、１８０℃に昇温し、１８０ｒｐｍで５．５０時間攪拌した。反応中、トルエンー水の共沸分を除いた。
このようにして得られたポリイミド溶液のポリマー濃度は、２０重量％であった。このポリイミドの分子量を、高速液体クロマトグラフィー（東ソ製品）で測定したところ、スチレン換算分子量は、数平均分子量（Ｍｎ）＝４９００、重量平均分子量（Ｍｗ）＝６７００、Ｚ平均分子量（Ｍｚ）＝９２００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．３７、Ｍｚ／Ｍｎ＝１．８９であった。
【０３０６】
実施例５８
基本的に実施例５４と同様の操作を行った。
【０３０７】
ＢＴＤＡ１６．１１ｇ（５０モル）、３，３’―ジニトロー４，４’―ジアミノビフェニル６．８６ｇ（２５ミリモル）、ビス｛４―（３―アミノフェノキシ）フェニル｝スルホン１０．８１ｇ（２５ミリモル）、γ―バレロラクトン０．５ｇ（５ミリモル）及びＮ―メチルモルホリン１．０ｇ（１０ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン１２８ｇ、トルエン４０ｇを仕込んだ。室温で窒素雰囲気下で１８０ｒｐｍで３０分攪拌した後、１８０℃に昇温し、１８０ｒｐｍで５．７５時間攪拌した。反応中、トルエンー水の共沸分を除いた。
【０３０８】
このようにして得られたポリイミド溶液のポリマー濃度は、２０重量％であった。このポリイミドの分子量を、実施例１と同様にして測定したところ、スチレン換算分子量は、数平均分子量（Ｍｎ）＝４３００、重量平均分子量（Ｍｗ）＝６１００、Ｚ平均分子量（Ｍｚ）＝８５００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．４０、Ｍｚ／Ｍｎ＝１．９５であった。
【０３０９】
実施例５９
(1)感光性組成物の調製
感光性組成物（XXIX〜XXXIII)は、上記実施例５４〜５８で得られたポリイミド溶液を下記表1７に示すように他の成分と混合し、３ミクロン細孔径の濾過膜で濾過して製造した。
【０３１０】
【表１７】
2010266868.tif 000018
【０３１１】
(2)画像形成
上記の感光性組成物（XXIX〜XXXIII)を、表面処理した直径５ｃｍの銅箔（日本電解株式会社製品、１８ミクロン厚さ）の表面上に、スピンコート法で塗布した。ついで、赤外線熱風乾燥機中で９０℃１０分間乾燥した。このフォトレジスト膜の厚さは、約１０ミクロンであった。
【０３１２】
このフォトレジスト配合塗布膜上に、ポジ型フォトマスク用のテストパターン（１０、１５、２０、２５、――、２００ミクロンのスルーホール及びラインアンドベースパターン）を置き、２ｋｗ超高圧水銀灯照射装置（オーク製作所製品：ＪＰ−２０００Ｇ）を用いて、画像が得られる下記表１８に示す露光量で照射した。
【０３１３】
組成物（XXIX〜XXXIII）は、表１８に示す条件で紫外線照射した後、表１８に示す条件で現像した。
【０３１４】
【表１８】
2010266868.tif 000019
【０３１５】
現像液組成１は、苛性カリ３０ｇ、水１００ｇ、現像液組成２は、Ｎ−メチルピロリドン４０ｇ、アミノエタノール１０ｇ、メタノール１０ｇ、水２５ｇの混合液である。この液中に、上記照射後の塗布膜を上記現像時間浸漬した後、脱イオン水で水洗し、赤外線ランプで乾燥後、解像度を観察した。このポリイミド塗布膜の９０℃、３０分間の乾燥処理におけるポリイミド膜厚は、９ミクロンであった。
【０３１６】
このポリイミド塗布膜のスルーホールパターンは、鋭く輪郭の丸みの切り口で１５ミクロン口径の孔が確認された。ラインアンドベースパターンでは、１０ミクロンの線像が確認された。
【０３１７】
実施例６０
基本的に実施例５４と同様の操作を行った。
【０３１８】
６ＦＤＡ２２．２１ｇ（５０モル）、２―ニトロー１，４―ジアミノベンゼン３．８３ｇ（２５ミリモル）、２，２―ビス｛４―（４―アミノフェノキシ）フェニル｝ヘキサフルオロプロパン１２．９６ｇ（２５ミリモル）、γ―バレロラクトン０．５ｇ（５ミリモル）及びＮ―メチルモルホリン１．０ｇ（１０ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン１４９ｇ、トルエン４０ｇを仕込んだ。室温で窒素雰囲気下で１８０ｒｐｍで３０分攪拌した後、１８０℃に昇温し、１８０ｒｐｍで４時間攪拌した。反応中、トルエンー水の共沸分を除いた。
【０３１９】
このようにして得られたポリイミド溶液のポリマー濃度は、２０重量％であった。このポリイミドの分子量を、実施例１と同様にして測定したところ、スチレン換算分子量は、数平均分子量（Ｍｎ）＝４８００、重量平均分子量（Ｍｗ）＝６４００、Ｚ平均分子量（Ｍｚ）＝９６００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．４３、Ｍｚ／Ｍｎ＝２．００であった。
【０３２０】
実施例６１
基本的に実施例５４と同様の操作を行った。
【０３２１】
３，４，３’，４’―ビフェニルテトラカルボン酸ジ無水物１４．７１ｇ（５０モル）、２―ニトロー１、４―ジアミノベンゼン３．８３ｇ（２５ミリモル）、３，４’―ジアミノジフェニルエーテル５．０１ｇ（２５ミリモル）、γ―バレロラクトン０．５ｇ（５ミリモル）及びＮ―メチルモルホリン１．０ｇ（１０ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン８７ｇ、トルエン４０ｇを仕込んだ。室温で窒素雰囲気下で１８０ｒｐｍで３０分攪拌した後、１８０℃に昇温し、１８０ｒｐｍで４時間攪拌した。反応中、トルエンー水の共沸分を除いた。
【０３２２】
このようにして得られたポリイミド溶液のポリマー濃度は、２０重量％であった。このポリイミドの分子量を、高速液体クロマトグラフィー（東ソ製品）で測定したところ、スチレン換算分子量は、数平均分子量（Ｍｎ）＝２９００、重量平均分子量（Ｍｗ）＝３７００、Ｚ平均分子量（Ｍｚ）＝４９００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．２５、Ｍｚ／Ｍｎ＝１．６９であった。
【０３２３】
実施例６２
基本的に実施例５４と同様の操作を行った。
【０３２４】
ＢＴＤＡ１６．１１ｇ（５０モル）、２―ニトロー１，４―ジアミノトルエン３．８３ｇ（２５ミリモル）、ビス｛４―（３―アミノフェノキシ）フェニル｝スルホン１０．８１ｇ（２５ミリモル）、３，４’―ジアミノジフェニルエーテル５．０１ｇ（２５ミリモル）、γ―バレロラクトン０．５ｇ（５ミリモル）及びＮ―メチルモルホリン１．０ｇ（１０ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン１１６ｇ、トルエン４０ｇを仕込んだ。室温で窒素雰囲気下で１８０ｒｐｍで３０分攪拌した後、１８０℃に昇温し、１８０ｒｐｍで３時間攪拌した。反応中、トルエンー水の共沸分を除いた。
【０３２５】
このようにして得られたポリイミド溶液のポリマー濃度は、２０重量％であった。このポリイミドの分子量を、実施例１と同様にして測定したところ、スチレン換算分子量は、数平均分子量（Ｍｎ）＝４３００、重量平均分子量（Ｍｗ）＝５８００、Ｚ平均分子量（Ｍｚ）＝７７００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．３４、Ｍｚ／Ｍｎ＝１．７８であった。
【０３２６】
実施例６３
実施例６０〜６２で作成したポリイミド溶液を用いて実施例５９と同様の感光性組成物を作成し、２ＫＷ超高圧水銀灯照射で、表１９に示す条件で画像を形成する操作を行った。
【０３２７】
【表１９】
2010266868.tif 000020
【０３２８】
現像液組成３は、Ｎ−メチルピロリドン４０ｇ、アミノエタノール１０ｇ、メタノール２５ｇ、水２５ｇの混合液であった。この液中に、上記照射後の塗布膜を上記表１９に示す現像時間浸漬した後、脱イオン水で水洗し、赤外線ランプで乾燥後、解像度を観察した。このポリイミド塗布膜の９０℃、３０分間の乾燥処理におけるポリイミド膜厚は、９ミクロンであった。
【０３２９】
このポリイミド塗布膜のスルーホールパターンは、鋭く輪郭の丸みの切り口で１５ミクロン口径の孔が確認された。ラインアンドベースパターンでは、１０ミクロンの線像が確認された。
【０３３０】
実施例６４
基本的に実施例５４と同様の操作を行った。
【０３３１】
６ＦＤＡ２２．２１ｇ（５０モル）、１，５―ジアミノアントラキノン（東京化成株式会社製品）５．９６ｇ（２５ミリモル）、２，２―ビス｛４―（４―アミノフェノキシ）フェニル｝ヘキサフルオロプロパン１２．９６ｇ（２５ミリモル）、γ―バレロラクトン０．５ｇ（５ミリモル）及びピリジン０．８ｇ（１０ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン１５７ｇ、トルエン４０ｇを仕込んだ。室温で窒素雰囲気下で１８０ｒｐｍで３０分攪拌した後、１８０℃に昇温し、１８０ｒｐｍで７時間攪拌した。反応中、トルエンー水の共沸分を除いた。
【０３３２】
このようにして得られたポリイミド溶液のポリマー濃度は、２０重量％であった。このポリイミドの分子量を、実施例１と同様にして測定したところ、スチレン換算分子量は、数平均分子量（Ｍｎ）＝４６００、重量平均分子量（Ｍｗ）＝６５００、Ｚ平均分子量（Ｍｚ）＝８８００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．４２、Ｍｚ／Ｍｎ＝１．９３であった。
【０３３３】
実施例６５
基本的に実施例５４と同様の操作を行った。
【０３３４】
ＢＴＤＡ１９．３３ｇ（６０モル）、１，５―ジアミノアントラキノン７．１４ｇ（３０ミリモル）、ビス｛４―（３―アミノフェノキシ）フェニル｝スルホン１２．９８ｇ（３０ミリモル）、γ―バレロラクトン０．６ｇ及びピリジン１．０ｇ、Ｎ−メチルピロリドン１４９ｇ、トルエン４０ｇを仕込んだ。室温で窒素雰囲気下で１８０ｒｐｍで３０分攪拌した後、１８０℃に昇温し、１８０ｒｐｍで３時間攪拌した。反応中、トルエンー水の共沸分を除いた。
【０３３５】
このようにして得られたポリイミド溶液のポリマー濃度は、２０重量％であった。このポリイミドの分子量を、実施例１と同様にして測定したところ、スチレン換算分子量は、数平均分子量（Ｍｎ）＝３８００、重量平均分子量（Ｍｗ）＝５５００、Ｚ平均分子量（Ｍｚ）＝７５００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．４３、Ｍｚ／Ｍｎ＝１．９４であった。
【０３３６】
実施例６６
基本的に実施例５４と同様の操作を行った。
【０３３７】
３，４，３’，４’―ビフェニルテトラカルボン酸ジ無水物１７．６５ｇ（６０モル）、１，５―ジアミノアントラキノン７．１４ｇ（３０ミリモル）、２，２―ビス｛４―（３―アミノフェノキシ）フェニル｝プロパン１２．３２ｇ（２０ミリモル）、γ―バレロラクトン０．６ｇ及びピリジン１．０ｇ、Ｎ−メチルピロリドン１４０ｇ、トルエン４０ｇを仕込んだ。室温で窒素雰囲気下で１８０ｒｐｍで３０分攪拌した後、１８０℃に昇温し、１８０ｒｐｍで７時間攪拌した。反応中、トルエンー水の共沸分を除いた。
【０３３８】
このようにして得られたポリイミド溶液のポリマー濃度は、２０重量％であった。このポリイミドの分子量を、実施例１と同様にして測定したところ、スチレン換算分子量は、数平均分子量（Ｍｎ）＝３３００、重量平均分子量（Ｍｗ）＝４８００、Ｚ平均分子量（Ｍｚ）＝６７００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．４３、Ｍｚ／Ｍｎ＝２．０１であった。
【０３３９】
実施例６７
実施例６４〜６６で作成したポリイミド溶液を用いて実施例５９と同様の感光性組成物を作成し、２ＫＷ超高圧水銀灯照射で、表２０に示す条件で画像を形成する操作を行った。
【０３４０】
【表２０】
2010266868.tif 000021
【０３４１】
現像液組成４は、メタノール１０ｇ、水４０ｇ、１５％テトラメチルアンモニウムヒドロオキシド溶液２０ｇの混合液であった。この液中に、上記照射後の塗布膜を上記表２０に示す現像時間浸漬した後、脱イオン水で水洗し、赤外線ランプで乾燥後、解像度を観察した。このポリイミド塗布膜の９０℃、３０分間の乾燥処理におけるポリイミド膜厚は、９ミクロンであった。
【０３４２】
このポリイミド塗布膜のスルーホールパターンは、鋭く輪郭の丸みの切り口で１５ミクロン口径の孔が確認された。ラインアンドベースパターンでは、１０ミクロンの線像が確認された。
【０３４３】
実施例６８
ステンレススチール製の碇型攪拌器を取り付けた１リットルのセパラブル３つ口フラスコに、水分分離トラップを備えた玉付冷却管を取り付けた。６ＦＤＡ２６．６６ｇ（６０ミリモル）、４，４’―ジアミノジフェニルスルフィド４．３３ｇ（２０ミリモル）、２，２―ビス｛４―（４―アミノフェノキシ）フェニル｝ヘキサフルオロプロパン（和歌山精化株式会社製品）２０．７４ｇ（４０ミリモル）、γ―バレロラクトン０．６ｇ（６ミリモル）及びピリジン１．０ｇ（１２ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン１９８ｇ、トルエン４０ｇを仕込んだ。室温で窒素雰囲気下で２００ｒｐｍで３０分攪拌した後、１８０℃に昇温し、１８０ｒｐｍで２．２５時間攪拌した。反応中、トルエンー水の共沸分を除いた。
【０３４４】
このようにして得られたポリイミド溶液のポリマー濃度は、２０重量％であった。このポリイミドの分子量を、実施例１と同様にして測定したところ、スチレン換算分子量は、数平均分子量（Ｍｎ）＝３３９００、重量平均分子量（Ｍｗ）＝５７２００、Ｚ平均分子量（Ｍｚ）＝９４２００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．７５、Ｍｚ／Ｍｎ＝２．７８であった。
【０３４５】
実施例６９
基本的に実施例６８と同様の操作を行なった。
【０３４６】
ＢＴＤＡ１９．３３ｇ（６０ミリモル）、４，４’―ジアミノジフェニルスルフィド４．３３ｇ（２０ミリモル）、ビス｛４―（３―アミノフェノキシ）フェニル｝スルホン（和歌山精化株式会社製品）１７．３ｇ（４０ミリモル）、γ―バレロラクトン０．６ｇ（６ミリモル）及びピリジン１．０ｇ（１２ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン１５５ｇ、トルエン４０ｇを仕込んだ。室温で窒素雰囲気下で２００ｒｐｍで３０分攪拌した後、１８０℃に昇温し、１８０ｒｐｍで２．４時間攪拌した。反応中、トルエンー水の共沸分を除いた。
【０３４７】
このようにして得られたポリイミド溶液のポリマー濃度は、２０重量％であった。このポリイミドの分子量を、実施例１と同様にして測定したところ、スチレン換算分子量は、数平均分子量（Ｍｎ）＝４２２００、重量平均分子量（Ｍｗ）＝１２６５００、Ｚ平均分子量（Ｍｚ）＝３３４９００、Ｍｗ／Ｍｎ＝３．００、Ｍｚ／Ｍｎ＝７．９３であった。
【０３４８】
実施例７０
基本的に実施例６８と同様の操作を行なった。
【０３４９】
３，４，３’，４’―ベンゾフェノンテトラカルボン酸ジ無水物１７．６５ｇ（６０ミリモル）、４，４’―ジアミノジフェニルスルフィド４．３３ｇ（２０ミリモル）、３，４’―ジアミノジフェニルエーテル（三井石油化学株式会社製品）８．０１ｇ（４０ミリモル）、γ―バレロラクトン０．６ｇ（６ミリモル）及びピリジン０．９６ｇ、Ｎ−メチルピロリドン１１１ｇ、トルエン４０ｇを仕込んだ。室温で窒素雰囲気下で２００ｒｐｍで３０分攪拌した後、１８０℃に昇温し、１８０ｒｐｍで２．０時間攪拌した。反応中、トルエンー水の共沸分を除いた。
【０３５０】
このようにして得られたポリイミド溶液のポリマー濃度は、２０重量％であった。このポリイミドの分子量を、実施例１と同様にして測定したところ、スチレン換算分子量は、数平均分子量（Ｍｎ）＝４４０００、重量平均分子量（Ｍｗ）＝１３６２００、Ｚ平均分子量（Ｍｚ）＝３６８８００、Ｍｗ／Ｍｎ＝３．１０、Ｍｚ／Ｍｎ＝８．３８であった。
【０３５１】
実施例７１
(1)  感光性組成物の調製
感光性組成物は、下記表２１に示す成分を混合し、３ミクロン細孔径の濾過膜で濾過して製造した。
【０３５２】
【表２１】
2010266868.tif 000022
【０３５３】
(2)  画像形成
上記の感光性組成物（XL，XLI，XLII）を、表面処理した直径５ｃｍの銅箔（日本電解株式会社製品、１８ミクロン厚さ）の表面上に、スピンコート法で塗布した。ついで、赤外線熱風乾燥機中で９０℃１０分間乾燥した。このフォトレジスト膜の厚さは、各約１０ミクロンであった。
【０３５４】
この感光性組成物塗布膜上に、ポジ型フォトマスク用のテストパターン（１０、１５、２０、２５、――、２００ミクロンのスルーホール及びラインアンドベースパターン）を置き、２ｋｗ超高圧水銀灯照射装置（オーク製作所製品：ＪＰ−２０００Ｇ）を用いて、画像が得られる露光量で照射した。３種類の塗布膜とも３００ｍＪで照射した後、現像液で２８分間(組成物IL)、８分間（組成物ILI)又は１３分間(組成物ILII)現像した。現像液組成は、Ｎ−メチルピロリドン４０ｇ、アミノエタノール１０ｇ、メタノール２５ｇ、水２５ｇの混合液であった。
この液中に、上記照射後の塗布膜を上記時間浸漬した後、脱イオン水で水洗し、赤外線ランプで乾燥後、解像度を観察した。このポリイミド塗布膜の９０℃、３０分間の乾燥処理におけるポリイミド膜厚は、９ミクロンであった。
【０３５５】
このポリイミド塗布膜のスルーホールパターンは、鋭く輪郭の丸みの切り口で１５ミクロン口径の孔が確認された。ラインアンドベースパターンでは、１０ミクロンの線像が確認された。
【０３５６】
実施例７２
基本的に実施例６８と同様に操作した。
【０３５７】
ＢＣＤ９．９３ｇ（４０モル）、４，４’―ジアミノジフェニルスルフィド１２．９８ｇ（６０ミリモル）、γ―バレロラクトン１．２ｇ（１２ミリモル）及びピリジン１．４ｇ（１８ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン１５０ｇ、トルエン３０ｇを仕込んだ。室温で窒素雰囲気下で２００ｒｐｍで３０分攪拌した後、１８０℃に昇温（浴温度）し、１８０ｒｐｍで２時間攪拌した。トラップに溜まったトルエンー水（１５ｍｌ）の共沸分を除きながら反応を終えた。
【０３５８】
室温に冷やし、３，４，３’，４’―ベンゾフェノンテトラカルボン酸ジ無水物２３．５３ｇ（８０ミリモル）、１，３―ビス（４―アミノフェノキシ）ベンゼン（和歌山精化株式会社製品）１７．５４ｇ（６０ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン８９ｇ、トルエン４０ｇを仕込んだ。室温で窒素雰囲気下で１８０ｒｐｍで３０分攪拌した後、１７０℃に昇温（浴温度）し、１８０ｒｐｍで４時間攪拌した。トラップに溜まったトルエンー水（１５ｍｌ）の共沸分を除きながら、Ｎ−メチルピロリドン１００ｇを追加して反応を終えた。
【０３５９】
このようにして得られたポリイミド溶液のポリマー濃度は、１５重量％であった。このポリイミドの分子量を、高速液体クロマトグラフィー（東ソ製品）で測定したところ、スチレン換算分子量は、数平均分子量（Ｍｎ）＝２２７００、重量平均分子量（Ｍｗ）＝４０８００、Ｚ平均分子量（Ｍｚ）＝６５６００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．８０、Ｍｚ／Ｍｎ＝２．８９であった。
【０３６０】
実施例７３
基本的に実施例７２と同様に操作した。
【０３６１】
ＢＣＤ１９．８６ｇ（８０モル）、４，４’―ジアミノジフェニルスルフィド２５．９６ｇ（１２０ミリモル）、γ―バレロラクトン２．４ｇ（２４ミリモル）、Ｎ−メチルモルホリン４．８６ｇ（４８ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン２５０ｇ、トルエン３０ｇを仕込んだ。室温で窒素雰囲気下で２００ｒｐｍで３０分攪拌した後、１８０℃に昇温（浴温度）し、１８０ｒｐｍで１時間攪拌した。トラップに溜まったトルエンー水の共沸分を除きながら反応を終えた。
【０３６２】
室温に冷やし、ＢＰＤＡ４７．０８ｇ（１６０ミリモル）、ビス｛４―（３―アミノフェノキシ）フェニル｝スルホン４９．２６ｇ（１２０ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン２８４ｇ、トルエン３０ｇを仕込んだ。
【０３６３】
室温で窒素雰囲気下で１８０ｒｐｍで３０分攪拌した後、１８０℃に昇温（浴温度）し、１８０ｒｐｍで３．２０時間攪拌した。トラップに溜まったトルエンー水の共沸分を除きながら、Ｎ−メチルピロリドン２２３ｇを追加して反応を終えた。
【０３６４】
このようにして得られたポリイミド溶液のポリマー濃度は、１５重量％であった。このポリイミドの分子量を、実施例１と同様にして測定したところ、スチレン換算分子量は、数平均分子量（Ｍｎ）＝３９６００、重量平均分子量（Ｍｗ）＝６１５００、Ｚ平均分子量（Ｍｚ）＝８３４００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．５５、Ｍｚ／Ｍｎ＝２．１１であった。
【０３６５】
実施例７４
(1)  感光性組成物の調製
感光性組成物は、下記表２２に示す成分を混合し、３ミクロン細孔径の濾過膜で濾過して製造した。
【０３６６】
【表２２】
2010266868.tif 000023
【０３６７】
(2)  画像形成
上記の感光性組成物（XLIII，XLIV）を、表面処理した直径５ｃｍの銅箔（日本電解株式会社製品、１８ミクロン厚さ）の表面上に、スピンコート法で塗布した。ついで、赤外線熱風乾燥機中で９０℃１０分間乾燥した。この感光性膜の厚さは、約１０ミクロンであった。
【０３６８】
この感光性組成物塗布膜上に、ポジ型フォトマスク用のテストパターン（１０、１５、２０、２５、――、２００ミクロンのスルーホール及びラインアンドベースパターン）を置き、２ｋｗ超高圧水銀灯照射装置（オーク製作所製品：ＪＰ−２０００Ｇ）を用いて、画像が得られる露光量で照射した。紫外線照射量は３００ｍＪであり、現像時間は２４分間（組成物XLIII)又は５分間(組成物XLIV)であった。現像液組成は、Ｎ−メチルピロリドン４０ｇ、アミノエタノール１０ｇ、メタノール２５ｇ、水２５ｇの混合液であった。
【０３６９】
この液中に、上記照射後の塗布膜を上記時間浸漬した後、脱イオン水で水洗し、赤外線ランプで乾燥後、解像度を観察した。このポリイミド塗布膜の９０℃、３０分間の乾燥処理におけるポリイミド膜厚は、各約９ミクロンであった。
【０３７０】
このポリイミド塗布膜のスルーホールパターンは、鋭く輪郭の丸みの切り口で２０ミクロン口径の孔が確認された。ラインアンドベースパターンでは、１５ミクロンの線像が確認された。
【０３７１】
実施例７５
ステンレススチール製の碇型攪拌器を取り付けた０。５リットルのセパラブル３つ口フラスコに、水分分離トラップを備えた玉付冷却管を取り付けた。
ＢＴＤＡ３２．２２ｇ（１００ミリモル）、１，４―ビス（３―アミノプロピル）ピペラジン（東京化成株式会社製品）１０．０１ｇ（５０ミリモル）、ビス｛４―（３―アミノフェノキシ）フェニル｝スルホン（和歌山精化株式会社製品）２１．６ｇ（５０ミリモル）、γ―バレロラクトン１．０ｇ（１０ミリモル）及びピリジン１。６ｇ（２０ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン２４０ｇ、トルエン３０ｇを仕込んだ。室温で窒素雰囲気下で２００ｒｐｍで３０分攪拌した後、１８０℃に昇温し、１８０ｒｐｍで３時間攪拌した。反応中、トルエンー水の共沸分を除いた。
【０３７２】
このようにして得られたポリイミド溶液のポリマー濃度は、２０重量％であった。このポリイミドの分子量を、実施例１と同様にして測定したところ、スチレン換算分子量は、数平均分子量（Ｍｎ）＝６１００、重量平均分子量（Ｍｗ）＝８７００、Ｚ平均分子量（Ｍｚ）＝１１６００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．４２、Ｍｚ／Ｍｎ＝１．９０であった。
【０３７３】
実施例７６
基本的に実施例７５と同様の操作を行なった。
【０３７４】
ＢＰＤＡ２３．５４ｇ（８０ミリモル）、１，３―ビス（３―アミノプロピル）ピペラジン４．０１ｇ（２０ミリモル）、ビス｛４―（３―アミノフェノキシ）フェニル｝スルホン２４．６３ｇ（６０ミリモル）、γ―バレロラクトン０．８ｇ（８ミリモル）及びピリジン１．０ｇ（１２ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン２６２ｇ、トルエン４０ｇを仕込んだ。室温で窒素雰囲気下で２００ｒｐｍで３０分攪拌した後、１８０℃に昇温し、１８０ｒｐｍで２。３時間攪拌した。反応中、トルエンー水の共沸分を除いた。
【０３７５】
このようにして得られたポリイミド溶液のポリマー濃度は、１５重量％であった。
【０３７６】
実施例７７
(1)  感光性組成物の調製
感光性組成物は、下記表２３に示す成分を混合し、３ミクロン細孔径の濾過膜で濾過して製造した。
【０３７７】
【表２３】
2010266868.tif 000024
【０３７８】
(2)  画像形成
上記の感光性組成物（XLVIII，XLIX）を、表面処理した直径５ｃｍの銅箔（日本電解株式会社製品、１８ミクロン厚さ）の表面上に、スピンコート法で塗布した。ついで、赤外線熱風乾燥機中で９０℃１０分間乾燥した。この感光性膜の厚さは、約１０ミクロンであった。
【０３７９】
この感光性組成物塗布膜上に、ポジ型フォトマスク用のテストパターン（１０、１５、２０、２５、――、２００ミクロンのスルーホール及びラインアンドベースパターン）を置き、２ｋｗ超高圧水銀灯照射装置（オーク製作所製品：ＪＰ−２０００Ｇ）を用いて、画像が得られる下記表２４に示す露光量で照射した。
【０３８０】
【表２４】
2010266868.tif 000025
【０３８１】
現像液組成は、Ｎ−メチルピロリドン４０ｇ、アミノエタノール１０ｇ、メタノール２５ｇ、水２５ｇの混合液であった。この液中に、上記照射後の塗布膜を上記時間浸漬した後、脱イオン水で水洗し、赤外線ランプで乾燥後、解像度を観察した。このポリイミド塗布膜の９０℃、３０分間の乾燥処理におけるポリイミド膜厚は、９ミクロンであった。
【０３８２】
このポリイミド塗布膜のスルーホールパターンは、鋭く輪郭の丸みの切り口で１５ミクロン口径の孔が確認された。ラインアンドベースパターンでは、１０ミクロンの線像が確認された。
【０３８３】
実施例７８
基本的に実施例７５と同様の操作を行なった。
【０３８４】
ピロメリット酸ジ無水物１３．０９ｇ（６０ミリモル）、ジアミノシラン（信越化学株式会社製品、アミン価４１６）２９．４６ｇ（３０ミリモル）、γ―バレロラクトン１．０ｇ（１０ミリモル）及びピリジン１．６ｇ（２０ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン１５０ｇ、トルエン７０ｇを仕込んだ。室温で窒素雰囲気下で２００ｒｐｍで３０分攪拌した後、１８０℃に昇温し、１８０ｒｐｍで１時間攪拌した。反応中、トルエンー水の共沸分を除いた。
【０３８５】
室温に冷やし、３，４，３’，４’―ビフェニルテトラカルボン酸ジ無水物８．８３ｇ（３０ミリモル）、１，３―ビス（３―アミノプロピル）ピペラジン６．０１ｇ（３０ミリモル）、２，２―ビス｛４―（４―アミノフェノキシ）フェニル｝プロパン１２．３２ｇ（３０ミリモル）、Ｎ−メチルピペラジン９８ｇ、トルエン２０ｇを仕込んだ。室温で窒素雰囲気下で１８０ｒｐｍで３０分攪拌した後、１８０℃に昇温し、１８０ｒｐｍで４時間攪拌した。反応中、トルエンー水の共沸分を除いた。
【０３８６】
このようにして得られたポリイミド溶液のポリマー濃度は、２０重量％であった。このポリイミドの分子量を、実施例１と同様にして測定したところ、スチレン換算分子量は、数平均分子量（Ｍｎ）＝１６２００、重量平均分子量（Ｍｗ）＝２２２００、Ｚ平均分子量（Ｍｚ）＝２９２００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．３７、Ｍｚ／Ｍｎ＝１．８０であった。
【０３８７】
実施例７９
(1)  感光性組成物の調製
実施例７８で得られたポリイミド溶液を用い，実施例７８と同様にして感光性組成物を調製した。
【０３８８】
(2)  画像形成
上記の感光性組成物を、表面処理した直径５ｃｍの銅箔（日本電解株式会社製品、１８ミクロン厚さ）の表面上に、スピンコート法で塗布した。ついで、赤外線熱風乾燥機中で９０℃１０分間乾燥した。この感光性膜の厚さは、約１０ミクロンであった。
【０３８９】
この感光性組成物塗布膜上に、ポジ型フォトマスク用のテストパターン（１０、１５、２０、２５、――、２００ミクロンのスルーホール及びラインアンドベースパターン）を置き、２ｋｗ超高圧水銀灯照射装置（オーク製作所製品：ＪＰ−２０００Ｇ）を用いて、画像が得られる露光量、すなわち、紫外線照射量１００ｍＪで照射した。次いで22秒間現像を行なった。現像液組成は、アミノエタノール３０ｇ、エタノール５０ｇ、水１５ｇの混合液であった。この液中に、上記照射後の塗布膜を上記時間浸漬した後、脱イオン水で水洗し、赤外線ランプで乾燥後、解像度を観察した。このポリイミド塗布膜の９０℃、３０分間の乾燥処理におけるポリイミド膜厚は、９ミクロンであった。
【０３９０】
このポリイミド塗布膜のスルーホールパターンは、鋭く輪郭の丸みの切り口で１５ミクロン口径の孔が確認された。ラインアンドベースパターンでは、１０ミクロンの線像が確認された。
【０３９１】
実施例８０
実施例７５と同様の操作を行なった。
【０３９２】
ＢＴＤＡ２５．７８ｇ（８０ミリモル）、３，９―ビス（３―アミノプロピル）―２，４，８，１０―テトラオキサスピロー（５、５）―ウンデカン１０．９７ｇ（４０ミリモル）、ビス｛４―（３―アミノフェノキシ）フェニル｝スルホン１７．３ｇ（４０ミリモル）、γ―バレロラクトン０．８ｇ（８ミリモル）及びピリジン１．３ｇ（１６ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン２０５ｇ、トルエン３０ｇを仕込んだ。室温で窒素雰囲気下で２００ｒｐｍで３０分攪拌した後、１８０℃に昇温し、１８０ｒｐｍで３時間攪拌した。反応中、トルエンー水の共沸分を除いた。
【０３９３】
このようにして得られたポリイミド溶液のポリマー濃度は、２０重量％であった。このポリイミドの分子量を、実施例１と同様にして測定したところ、スチレン換算分子量は、数平均分子量（Ｍｎ）＝５０３００、重量平均分子量（Ｍｗ）＝２２６６００、Ｚ平均分子量（Ｍｚ）＝７１２９００、Ｍｗ／Ｍｎ＝４．４２、Ｍｚ／Ｍｎ＝１４．１５であった。
【０３９４】
実施例８１
基本的に実施例８０と同様に操作した。
【０３９５】
６ＦＤＡ１７．７７ｇ（４０ミリモル）、３，４―ビス（３―アミノプロピル）―２，４，８，１０―テトラオキサスピロー（５，５）―ウンデカン５．４９ｇ（２０ミリモル）、ビス｛４―（３―アミノフェノキシ）フェニル｝スルホン８．６５ｇ（２０ミリモル）、γ―バレロラクトン０．４ｇ（４ミリモル）及びピリジン０．６ｇ（８ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン１２２ｇ、トルエン３０ｇを仕込んだ。室温で窒素雰囲気下で２００ｒｐｍで３０分攪拌した後、１８０℃に昇温し、１８０ｒｐｍで１。７５時間攪拌した。反応中、トルエンー水の共沸分を除いた。
【０３９６】
このようにして得られたポリイミド溶液のポリマー濃度は、２０重量％であった。このポリイミドの分子量を、高速液体クロマトグラフィー（東ソ製品）の紫外線検出器で測定したところ、スチレン換算分子量は、数平均分子量（Ｍｎ）＝２１２００、重量平均分子量（Ｍｗ）＝３３５００、Ｚ平均分子量（Ｍｚ）＝４８５００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．５８、Ｍｚ／Ｍｎ＝２．２８であった。
【０３９７】
実施例８２
基本的に実施例８０と同様に操作した。
【０３９８】
６ＦＤＡ３５．４５ｇ（８０ミリモル）、３，９―ビス（３―アミノプロピル）―２，４，８，１０―テトラオキサスピロー（５、５）―ウンデカン１０．９７ｇ（４０ミリモル）、２，２―ビス｛４―（４―アミノフェノキシ）フェニル｝ヘキサフルオロプロパン２０．７４ｇ（４０ミリモル）、γ―バレロラクトン０．８ｇ（８ミリモル）及びピリジン１．２ｇ（１６ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン２８６ｇ、トルエン３０ｇを仕込んだ。室温で窒素雰囲気下で１８０ｒｐｍで３０分攪拌した後、１８０℃に昇温し、１８０ｒｐｍで３時間攪拌した。反応中、トルエンー水の共沸分を除いた。
【０３９９】
このようにして得られたポリイミド溶液のポリマー濃度は、２０重量％であった。このポリイミドの分子量を、実施例１と同様にして測定したところ、スチレン換算分子量は、数平均分子量（Ｍｎ）＝６４３００、重量平均分子量（Ｍｗ）＝１２９１００、Ｚ平均分子量（Ｍｚ）＝２３９５００、Ｍｗ／Ｍｎ＝２．０１、Ｍｚ／Ｍｎ＝３．７３であった。
【０４００】
実施例８３
(1)  感光性組成物の調製
感光性組成物は、下記表２５に示す成分を混合し、３ミクロン細孔径の濾過膜で濾過して製造した。
【０４０１】
【表２５】
2010266868.tif 000026
【０４０２】
(2)  画像形成
上記の感光性組成物（L，LI，LII）を、表面処理した直径５ｃｍの銅箔（日本電解株式会社製品、１８ミクロン厚さ）の表面上に、スピンコート法で塗布した。ついで、赤外線熱風乾燥機中で９０℃１０分間乾燥した。この感光性膜の厚さは、約１０ミクロンであった。
【０４０３】
この感光性組成物塗布膜上に、ポジ型フォトマスク用のテストパターン（１０、１５、２０、２５、――、２００ミクロンのスルーホール及びラインアンドベースパターン）を置き、２ｋｗ超高圧水銀灯照射装置（オーク製作所製品：ＪＰ−２０００Ｇ）を用いて、画像が得られる露光量、すなわち、紫外線照射量３００ｍＪで照射した。次いで、現像時間３．０分間(組成物L)、１．０分間（組成物LI)又は１．５分間(組成物LII)で現像した。現像液組成は、Ｎ−メチルピロリドン４０ｇ、アミノエタノール１０ｇ、メタノール２５ｇ、水２５ｇの混合液であった。この液中に、上記照射後の塗布膜を上記時間浸漬した後、脱イオン水で水洗し、赤外線ランプで乾燥後、解像度を観察した。このポリイミド塗布膜の９０℃、３０分間の乾燥処理におけるポリイミド膜厚は、９ミクロンであった。
【０４０４】
このポリイミド塗布膜のスルーホールパターンは、鋭く輪郭の丸みの切り口で１５ミクロン口径の孔が確認された。ラインアンドベースパターンでは、１０ミクロンの線像が確認された。
【０４０５】
実施例８４
基本的に実施例７８と同様に操作した。
【０４０６】
ＢＴＤＡ１９．３３ｇ（６０ミリモル）、２，４―ジアミノトルエン３．６７ｇ（３０ミリモル）、γ―バレロラクトン１．０ｇ（１０ミリモル）及びピリジン１．２ｇ（１５ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン１００ｇ、トルエン３０ｇを仕込んだ。室温で窒素雰囲気下で２００ｒｐｍで３０分攪拌した後、１８０℃に昇温し、１８０ｒｐｍで１時間攪拌した。反応中、トルエンー水の共沸分を除いた。
【０４０７】
室温に冷やし、ＢＴＤＡ９．６７ｇ（３０ミリモル）、３，９―ビス（３―アミノプロピル）―２，４，８，１０―テトラオキサスピロー（５，５）―ウンデカン８．２３ｇ（３０ミリモル）、２，２―ビス｛４―（４―アミノフェノキシ）フェニル｝プロパン１２．３２ｇ（３０ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン１００ｇ、トルエン３０ｇを仕込んだ。室温で窒素雰囲気下で１８０ｒｐｍで３０分攪拌した後、１８０℃に昇温し、１８０ｒｐｍで２時間攪拌後、Ｎ−メチルピロリドン６０ｇを加え、さらに１時間加熱し、モルホリン２．５ｇを加えた。反応中、トルエンー水の共沸分を除いた。
【０４０８】
このようにして得られたポリイミド溶液のポリマー濃度は、１０重量％であった。このポリイミドの分子量を、実施例１と同様にして測定したところ、スチレン換算分子量は、数平均分子量（Ｍｎ）＝４１８００、重量平均分子量（Ｍｗ）＝１５５２００、Ｚ平均分子量（Ｍｚ）＝４１４１００、Ｍｗ／Ｍｎ＝３．７１、Ｍｚ／Ｍｎ＝９．９０であった。
【０４０９】
実施例８５
基本的に実施例７８と同様に操作した。
【０４１０】
ピロメリット酸ジ無水物１３．０９ｇ（６０ミリモル）、ジアミノシラン（アミン当量４１６）２４．９６ｇ（３０ミリモル）、γ―バレロラクトン１．０ｇ（１０ミリモル）及びピリジン１．２ｇ（１５ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン１６０ｇ、トルエン６０ｇを仕込んだ。室温で窒素雰囲気下で２００ｒｐｍで３０分攪拌した後、１８０℃に昇温し、１８０ｒｐｍで１時間攪拌した。反応中、トルエンー水の共沸分を除いた。
【０４１１】
室温に冷やし、ＢＴＤＡ９．６７ｇ（３０ミリモル）、３，９―ビス（３―アミノプロピル）―２，４，８，１０―テトラオキサスピロー（５，５）―ウンデカン８．２３ｇ（３０ミリモル）、２，２―ビス｛４―（４―アミノフェノキシ）フェニル｝プロパン１２．３２ｇ（３０ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン１００ｇ、トルエン３０ｇを仕込んだ。室温で窒素雰囲気下で１８０ｒｐｍで３０分攪拌した後、１８０℃に昇温し、１８０ｒｐｍで３．１５時間攪拌した。反応中、トルエンー水の共沸分を除いた。
【０４１２】
このようにして得られたポリイミド溶液のポリマー濃度は、２０重量％であった。このポリイミドの分子量を、実施例１と同様にして測定したところ、スチレン換算分子量は、数平均分子量（Ｍｎ）＝３７６００、重量平均分子量（Ｍｗ）＝８３２００、Ｚ平均分子量（Ｍｚ）＝１５６０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝２．１１、Ｍｚ／Ｍｎ＝４．１４であった。
【０４１３】
実施例８６
(1)  感光性組成物の調製
感光性組成物は、下記表２６に示す成分を混合し、３ミクロン細孔径の濾過膜で濾過して製造した。
【０４１４】
【表２６】
2010266868.tif 000027
【０４１５】
(2)  画像形成
上記の感光性組成物（LIII，LIV）を、表面処理した直径５ｃｍの銅箔（日本電解株式会社製品、１８ミクロン厚さ）の表面上に、スピンコート法で塗布した。ついで、赤外線熱風乾燥機中で９０℃１０分間乾燥した。この感光性膜の厚さは、約１０ミクロンであった。
【０４１６】
この感光性組成物塗布膜上に、ポジ型フォトマスク用のテストパターン（１０、１５、２０、２５、――、２００ミクロンのスルーホール及びラインアンドベースパターン）を置き、２ｋｗ超高圧水銀灯照射装置（オーク製作所製品：ＪＰ−２０００Ｇ）を用いて、画像が得られる露光量、すなわち、紫外線量２００ｍＪで照射した。次いで、現像時間９０秒間(組成物LIII)又は５０秒間(組成物LIV)で現像した。現像液組成は、Ｎ−メチルピロリドン４０ｇ、アミノエタノール１０ｇ、メタノール２５ｇ、水２５ｇの混合液であった。この液中に、上記照射後の塗布膜を上記時間浸漬した後、脱イオン水で水洗し、赤外線ランプで乾燥後、解像度を観察した。このポリイミド塗布膜の９０℃、３０分間の乾燥処理におけるポリイミド膜厚は、９ミクロンであった。
【０４１７】
このポリイミド塗布膜のスルーホールパターンは、鋭く輪郭の丸みの切り口で１５ミクロン口径の孔が確認された。ラインアンドベースパターンでは、１０ミクロンの線像が確認された。
【０４１８】
実施例８７
基本的に実施例７５と同様の操作を行なった。
【０４１９】
ＢＴＤＡ３２．２２ｇ（１００ミリモル）、３，７―ビス（３―アミノプロピル）―２，４，８，１０―テトラオキサスピロー（５，５）―ウンデカン１３．７２ｇ（５０ミリモル）、１、４―ビス（３―アミノプロピル）ピペラジン１３。７２ｇ（５０ミリモル）、γ―バレロラクトン１．０ｇ（１０ミリモル）及びピリジン１．６ｇ（２０ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン３０９ｇ、トルエン３０ｇを仕込んだ。室温で窒素雰囲気下で２００ｒｐｍで３０分攪拌した後、１８０℃に昇温し、１８０ｒｐｍで１．５時間攪拌した。反応中、トルエンー水の共沸分を除いた。
【０４２０】
このようにして得られたポリイミド溶液のポリマー濃度は、１５．４重量％であった。
【０４２１】
実施例８８
基本的に実施例７８と同様に操作した。
【０４２２】
ＢＴＤＡ９．６７ｇ（３０ミリモル）、３，９―ビス（３―アミノプロピル）―２，４，８，１０―テトラオキサスピロー（５，５）―ウンデカン８．２３ｇ（３０ミリモル）、２，２―ビス｛４―（４―アミノフェノキシ）フェニル｝プロパン１２．３２ｇ（３０ミリモル）、γ―バレロラクトン１．０ｇ（１０ミリモル）及びピリジン１．６ｇ（２０ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン１０３ｇ、トルエン３０ｇを仕込んだ。室温で窒素雰囲気下で２００ｒｐｍで３０分攪拌した後、１８０℃に昇温し、１８０ｒｐｍで１時間攪拌した。反応中、トルエンー水の共沸分を除いた。
【０４２３】
室温に冷やし、Ｎ−メチルピロリドン８９ｇとモルホリン２．０ｇを加え、ＢＴＤＡ１９．３２ｇ（６０ミリモル）、１，４―ビス（３―アミノプロピル）ピペラジン３．０ｇ（１５ミリモル）、２，２―ビス｛４―（４―アミノフェノキシ）フェニル｝プロパン６．１６ｇ（１５ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン１１９ｇ、トルエン３０ｇを仕込んだ。室温で窒素雰囲気下で１８０ｒｐｍで３０分攪拌した後、１８０℃に昇温し、１８０ｒｐｍで２．４５時間攪拌した。反応中、トルエンー水の共沸分を除いた。
【０４２４】
このようにして得られたポリイミド溶液のポリマー濃度は、１５重量％であった。このポリイミドの分子量を、高速液体クロマトグラフィー（東ソ製品）の紫外線検出器で測定したところ、スチレン換算分子量は、数平均分子量（Ｍｎ）＝１９７００、重量平均分子量（Ｍｗ）＝３０７００、Ｚ平均分子量（Ｍｚ）＝４５４００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．５５、Ｍｚ／Ｍｎ＝２．３０であった。
【０４２５】
実施例８９
(1)  感光性組成物の調製
感光性組成物は、下記表２７に示す成分を混合し、３ミクロン細孔径の濾過膜で濾過して製造した。
【０４２６】
【表２７】
2010266868.tif 000028
【０４２７】
(2)  画像形成
上記の感光性組成物（LV，LVI）を、表面処理した直径５ｃｍの銅箔（日本電解株式会社製品、１８ミクロン厚さ）の表面上に、スピンコート法で塗布した。ついで、赤外線熱風乾燥機中で９０℃１０分間乾燥した。この感光性膜の厚さは、約１０ミクロンであった。
【０４２８】
この感光性組成物塗布膜上に、ポジ型フォトマスク用のテストパターン（１０、１５、２０、２５、――、２００ミクロンのスルーホール及びラインアンドベースパターン）を置き、２ｋｗ超高圧水銀灯照射装置（オーク製作所製品：ＪＰ−２０００Ｇ）を用いて、画像が得られる露光量、すなわち、紫外線量１００ｍＪ(組成物LV)又は２００ｍＪ(組成物LVI)で照射した。次いで、３５秒間現像した。現像液組成は、Ｎ−メチルピロリドン４０ｇ、アミノエタノール１０ｇ、メタノール２５ｇ、水２５ｇの混合液であった。この液中に、上記照射後の塗布膜を上記時間浸漬した後、脱イオン水で水洗し、赤外線ランプで乾燥後、解像度を観察した。このポリイミド塗布膜の９０℃、３０分間の乾燥処理におけるポリイミド膜厚は、９ミクロンであった。
【０４２９】
このポリイミド塗布膜のスルーホールパターンは、鋭く輪郭の丸みの切り口で１５ミクロン口径の孔が確認された。ラインアンドベースパターンでは、１０ミクロンの線像が確認された。
【０４３０】
実施例９０
ステンレススチール製の碇型攪拌器を取り付けた１リットルのセパラブル３つ口フラスコに、水分分離トラップを備えた玉付冷却管を取り付けた。６ＦＤＡ２６．６６ｇ（６０ミリモル）、ビス｛４―（３―アミノフェノキシ）フェニル｝スルホン１７．３ｇ（４０ミリモル）、９，１０―ビス（４―アミノフェニル）アントラキノン（和歌山精化株式会社製品、以降ＡＤＡという）７．２１ｇ（２０ミリモル）、γ―バレロラクトン０．６ｇ（６ミリモル）及びピリジン１．０ｇ（１２ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン１９６ｇ、トルエン３０ｇを仕込んだ。室温で窒素雰囲気下で１８０ｒｐｍで３０分攪拌した後、１８０℃に昇温し、１８０ｒｐｍで２．５０時間攪拌した。反応中、トルエンー水の共沸分を除いた。
【０４３１】
このようにして得られたポリイミド溶液のポリマー濃度は、２０重量％であった。このポリイミドの分子量を、紫外線検出器を用いた高速液体クロマトグラフィー（東ソ製品）で測定したところ、スチレン換算分子量は、数平均分子量（Ｍｎ）＝３１７００、重量平均分子量（Ｍｗ）＝４９４００、Ｚ平均分子量（Ｍｚ）＝７２４００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．５６、Ｍｚ／Ｍｎ＝２．２９であった。
【０４３２】
実施例９１
基本的に実施例９０と同様の操作を行った。
【０４３３】
ＢＴＤＡ１９．３３ｇ（６０ミリモル）、ビス｛４―（３―アミノフェノキシ）フェニル｝スルホン１７．３ｇ（４０ミリモル）、ＡＤＡ７．２１ｇ（２０ミリモル）、γ―バレロラクトン０．６ｇ（６ミリモル）及びピリジン１．０ｇ（１２ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン２３６ｇ、トルエン３０ｇを仕込んだ。室温で窒素雰囲気下で１８０ｒｐｍで３０分攪拌した後、１８０℃に昇温し、１８０ｒｐｍで２．５時間攪拌した。反応中、トルエンー水の共沸分を除いた。
【０４３４】
このようにして得られたポリイミド溶液のポリマー濃度は、１５重量％であった。このポリイミドの分子量を、実施例１と同様にして測定したところ、スチレン換算分子量は、数平均分子量（Ｍｎ）＝４７１００、重量平均分子量（Ｍｗ）＝１３５６００、Ｚ平均分子量（Ｍｚ）＝３４７０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝２．８８、Ｍｚ／Ｍｎ＝７．２８であった。
【０４３５】
実施例９２
(1)  感光性組成物の調製
感光性組成物は、下記表２８に示す成分を混合し、３ミクロン細孔径の濾過膜で濾過して製造した。
【０４３６】
【表２８】
2010266868.tif 000029
【０４３７】
(2)  画像形成
上記の感光性組成物（LVII，LVIII）を、表面処理した直径５ｃｍの銅箔（日本電解株式会社製品、１８ミクロン厚さ）の表面上に、スピンコート法で塗布した。ついで、赤外線熱風乾燥機中で９０℃１０分間乾燥した。この感光性膜の厚さは、約１０ミクロンであった。
【０４３８】
この感光性組成物塗布膜上に、ポジ型フォトマスク用のテストパターン（１０、１５、２０、２５、――、２００ミクロンのスルーホール及びラインアンドベースパターン）を置き、２ｋｗ超高圧水銀灯照射装置（オーク製作所製品：ＪＰ−２０００Ｇ）を用いて、画像が得られる露光量で照射した。下記表２９に示す条件で紫外線照射した後、表２９に示す条件で現像した。
【０４３９】
【表２９】
2010266868.tif 000030
【０４４０】
現像液組成は、Ｎ−メチルピロリドン４０ｇ、アミノエタノール１０ｇ、メタノール２５ｇ、水２５ｇの混合液であった。この液中に、上記照射後の塗布膜を上記現像時間浸漬した後、脱イオン水で水洗し、赤外線ランプで乾燥後、解像度を観察した。このポリイミド塗布膜の９０℃、３０分間の乾燥処理におけるポリイミド膜厚は、９ミクロンであった。
【０４４１】
このポリイミド塗布膜のスルーホールパターンは、鋭く輪郭の丸みの切り口で１５ミクロン口径の孔が確認された。ラインアンドベースパターンでは、１０ミクロンの線像が確認された。
【０４４２】
実施例９３
基本的に実施例９０と同様の操作を行った。
【０４４３】
ＢＴＤＡ１４．８９ｇ（６０モル）、２，６―ジアミノトルエン３．６７ｇ（３０ミリモル）、γ―バレロラクトン０．９ｇ（９ミリモル）及びピリジン１．０ｇ（１２ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン１００ｇ、トルエン３０ｇを仕込んだ。室温で窒素雰囲気下で１８０ｒｐｍで３０分攪拌した後、１８０℃に昇温し、１８０ｒｐｍで１時間攪拌した。反応中、トルエンー水の共沸分を除いた。
【０４４４】
ついで室温に冷却し、ＢＴＤＡ９．６７ｇ（３０ミリモル）、ビス｛４―（３―アミノフェノキシ）フェニル｝スルホン１２．９８ｇ（３０ミリモル）、ＡＤＡ１０．８２ｇ（３０ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン９５ｇ、トルエン１０ｇを仕込んだ。室温で窒素雰囲気下で１８０ｒｐｍで６０分攪拌した後、１８０℃に昇温し、１８０ｒｐｍで２．１５時間攪拌した。反応中、トルエンー水の共沸分を除いた。反応後、Ｎ−メチルピロリドン１００ｇを追加した。
【０４４５】
このようにして得られたポリイミド溶液のポリマー濃度は、１４重量％であった。このポリイミドの分子量を、実施例１と同様にして測定したところ、スチレン換算分子量は、数平均分子量（Ｍｎ）＝１８６００、重量平均分子量（Ｍｗ）＝８０７００、Ｚ平均分子量（Ｍｚ）＝３４２２００、Ｍｗ／Ｍｎ＝４．３４、Ｍｚ／Ｍｎ＝１８．４２であった。
【０４４６】
実施例９４
(1)  感光性組成物の調製
実施例９３で得られたポリイミド溶液１９ｇ（ポリイミド含量２．７ｇ)と１，２―ナフトキノンー２―ジアジドー５―スルホン酸 ―Ｏ―クレゾールエステル０．８ｇとを混合して感光性組成物を調製した。
【０４４７】
(2)  画像形成
実施例９２と基本的に同様にして上記感光性組成物に対して画像形成を行なった。ただし、紫外線照射量は３００ｍＪ、現像時間は６分間、現像液組成は、Ｎ−メチルピロリドン４０ｇ、アミノエタノール１０ｇ、メタノール２５ｇ、水２５ｇの混合液であった。この液中に、上記照射後の塗布膜を上記現像時間浸漬した後、脱イオン水で水洗し、赤外線ランプで乾燥後、解像度を観察した。このポリイミド塗布膜の９０℃、３０分間の乾燥処理におけるポリイミド膜厚は、９ミクロンであった。
【０４４８】
このポリイミド塗布膜のスルーホールパターンは、鋭く輪郭の丸みの切り口で１５ミクロン口径の孔が確認された。ラインアンドベースパターンでは、１０ミクロンの線像が確認された。
【０４４９】
実施例９５
基本的に実施例９３と同様の操作を行った。
【０４５０】
ビシクロ（２，２，２）―オクトー７―エンー２，３，５，６―テトラカルボン酸ジ無水物１４．８９ｇ（４０ミリモル）、３，４’―ジアミノービフェニルエーテル６．０１ｇ（３０ミリモル）、γ―バレロラクトン０．６ｇ（６ミリモル）及びピリジン１．０ｇ（１２ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン１００ｇ、トルエン３０ｇを仕込んだ。室温で窒素雰囲気下で１８０ｒｐｍで３０分攪拌した後、１８０℃に昇温し、１８０ｒｐｍで１時間攪拌した。反応中、トルエンー水の共沸分を除いた。
【０４５１】
ついで室温に冷却し、６ＦＤＡ１３．３３ｇ（３０ミリモル）、２，２―ビス｛４―（３―アミノフェノキシ）フェニル｝ヘキサフルオロプロパン２１．２６ｇ（４１ミリモル）、ＡＤＡ６．９６ｇ（１９ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン１３７ｇ、トルエン１０ｇを仕込んだ。室温で窒素雰囲気下で１８０ｒｐｍで６０分攪拌した後、１８０℃に昇温し、１８０ｒｐｍで２．１５時間攪拌した。反応中、トルエンー水の共沸分を除いた。
【０４５２】
このようにして得られたポリイミド溶液のポリマー濃度は、２０重量％であった。このポリイミドの分子量を、高速液体クロマトグラフィー（東ソ製品）で測定したところ、スチレン換算分子量は、数平均分子量（Ｍｎ）＝６２１００、重量平均分子量（Ｍｗ）＝３５０００、Ｚ平均分子量（Ｍｚ）＝１２３３００、Ｍｗ／Ｍｎ＝２．００、Ｍｚ／Ｍｎ＝１３．５３であった。
【０４５３】
実施例９６
(1)  感光性組成物の調製
実施例９５で得られたポリイミド溶液を用い、実施例９２と同様にして感光性組成物を調製した。
【０４５４】
(2)  画像形成
実施例９２と基本的に同様にして上記感光性組成物に対して画像形成を行なった。ただし、紫外線照射量は３００ｍＪ、現像時間は８．４５分間、現像液組成は、Ｎ−メチルピロリドン４０ｇ、アミノエタノール１０ｇ、メタノール２５ｇ、水２５ｇの混合液であった。この液中に、上記照射後の塗布膜を上記現像時間浸漬した後、脱イオン水で水洗し、赤外線ランプで乾燥後、解像度を観察した。このポリイミド塗布膜の９０℃、３０分間の乾燥処理におけるポリイミド膜厚は、９ミクロンであった。
【０４５５】
このポリイミド塗布膜のスルーホールパターンは、鋭く輪郭の丸みの切り口で１５ミクロン口径の孔が確認された。ラインアンドベースパターンでは、１０ミクロンの線像が確認された。
【０４５６】
実施例９７
ステンレススチール製の碇型攪拌器を取り付けた１リットルのセパラブル３つ口フラスコに、水分分離トラップを備えた玉付冷却管を取り付けた。窒素ガスを通しながら、シリコン浴中に上記フラスコをつけて攪拌し、ＢＰＤＡ５８．８４５ｇ（２００モル）、ビスー４―（３―アミノフェノキシ）フェニルスルホン（和歌山精化株式会社製品）４３．２５ｇ（１００ミリモル）、２，２―ビスー｛４―（３―アミノフェノキシ）フェニル｝ヘキサフルオロプロパン（和歌山精化株式会社製品）５１．８５ｇ（１００ミリモル）、γ―バレロラクトン２．０ｇ（２０ミリモル）及びピリジン３．２ｇ（４０ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン５８７ｇ、トルエン５０ｇを仕込む。室温で窒素雰囲気下で２００ｒｐｍで３０分攪拌した後、１８０℃に昇温（浴温度）し、１８０ｒｐｍで３時間攪拌した。トラップに溜まったトルエンー水の共沸分を除きながら反応を終えた。
【０４５７】
このようにして得られたポリイミド溶液のポリマー濃度は、２０重量％であった。このポリイミドの分子量を、実施例１と同様にして測定したところ、スチレン換算分子量は、数平均分子量（Ｍｎ）５２６００、重量平均分子量（Ｍｗ）８０３００、Ｚ平均分子量（Ｍｚ）１０５８００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．５３、Ｍｚ／Ｍｎ＝２．０１であった。
【０４５８】
実施例９８
基本的に実施例１と同様な操作を行なった。
【０４５９】
ステンレススチール製の碇型攪拌器を取り付けた０。５リットルのセパラブル３つ口フラスコに、水分分離トラップを備えた玉付冷却管を取り付けた。ＢＰＤＡ２６．４８ｇ（９０ミリモル）、ビス｛４―（４―アミノフェノキシ）フェニル｝スルホン１２．９８ｇ（３０ミリモル）、４，４’―ジアミノジフェニルスルホン１４．９０ｇ（６０ミリモル）、γ―バレロラクトン１．０ｇ（１０ミリモル）及びピリジン１．７ｇ（２０ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン２０５ｇ、トルエン５０ｇを仕込んだ。室温で窒素雰囲気下で２００ｒｐｍで３０分攪拌した後、１８０℃に昇温し、１８０ｒｐｍで３時間攪拌した。反応中、トルエンー水の共沸分を除いた。
【０４６０】
このようにして得られたポリイミド溶液のポリマー濃度は、２０重量％であった。このポリイミドの分子量を、実施例１と同様にして測定したところ、スチレン換算分子量は、数平均分子量（Ｍｎ）１８７００、重量平均分子量（Ｍｗ）２９３００、Ｚ平均分子量（Ｍｚ）３９７００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．５２、Ｍｚ／Ｍｎ＝２．１３であった。
【０４６１】
実施例９９
実施例９７と同様な操作を行なった。
【０４６２】
ＢＰＤＡ２６．４８ｇ（９０ミリモル）、２，２―ビスー４（４'―アミノフェノキシ）フェニルプロパン（和歌山精化株式会社製品）１２．３２ｇ（３０ミリモル）、４，４’―ジアミノジフェニルスルホン１４．９０ｇ（６０ミリモル）、γ―バレロラクトン１．０ｇ（１０ミリモル）及びピリジン１．２ｇ（１５ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン１８２ｇ、トルエン４０ｇを仕込んだ。室温で窒素雰囲気下で１８０ｒｐｍで３０分攪拌した後、１８０℃に昇温し、１８０ｒｐｍで３時間攪拌した。反応中のトルエンー水の共沸分を除いた。
【０４６３】
このようにして得られたポリイミド溶液のポリマー濃度は、２０重量％であった。このポリイミドの分子量を、実施例１と同様にして測定したところ、スチレン換算分子量は、数平均分子量（Ｍｎ）３３３００、重量平均分子量（Ｍｗ）４３４００、Ｚ平均分子量（Ｍｚ）５５４００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．３０、Ｍｚ／Ｍｎ＝１．６６であった。
【０４６４】
実施例１００
実施例９７と同様な操作を行なった。
【０４６５】
ＢＴＤＡ９６．６７ｇ（３００ミリモル）、ビスー４―｛（３―アミノフェノキシ）フェニル｝スルホン４７．５８ｇ（１１０ミリモル）、ビス（３，３’―ジアミノプロピル）シラン（信越化学工業株式会社製品、アミン当量８９０）１７８ｇ（２００ミリモル）、５―ノルボルネンー２，３―ジカルボン酸無水物３．２８ｇ（２０ミリモル）、γ―バレロラクトン３．０ｇ（３０ミリモル）及びピリジン４．０ｇ（５０ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン４７３ｇ、トルエン１００ｇを仕込んだ。室温で窒素雰囲気下で１８０ｒｐｍで３０分攪拌した後、１８０℃に昇温し、１８０ｒｐｍで５．５時間攪拌した。反応中のトルエンー水の共沸分を除いた。反応後、ベンジルアルコール７３ｇを加えた。
【０４６６】
このようにして得られたポリイミド溶液のポリマー濃度は、４０重量％であった。このポリイミドの分子量を、実施例１と同様にして測定したところ、スチレン換算分子量は、数平均分子量（Ｍｎ）２２８００、重量平均分子量（Ｍｗ）４１４００、Ｚ平均分子量（Ｍｚ）６７０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．８１、Ｍｚ／Ｍｎ＝２．４４であった。
【０４６７】
実施例１０１
基本的に実施例１と同様な操作を行なった。
【０４６８】
ピロメリット酸ジ無水物１３．０９ｇ（６０ミリモル）、ビシクロ（２，２，２）―オクトー７―エンー２，３，５，６―テトラカルボン酸ジ無水物（Ａｌｄｒｉｃｈ社製品）１４．８９ｇ（６０ミリモル）、ビスー４―｛（３―アミノフェノキシ）フェニル｝スルホン６１．９ｇ（１２０ミリモル）、γ―バレロラクトン１．２ｇ（１２ミリモル）及びピリジン１．１２ｇ（２４ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン３０２ｇ、トルエン５０ｇを仕込んだ。室温で窒素雰囲気下で１８０ｒｐｍで３０分攪拌した後、１８０℃に昇温し、１８０ｒｐｍで３．７５時間攪拌した。反応中のトルエンー水の共沸分を除いた。
【０４６９】
このようにして得られたポリイミド溶液のポリマー濃度は、２０重量％であった。このポリイミドの分子量を、実施例１と同様にして測定したところ、スチレン換算分子量は、数平均分子量（Ｍｎ）７１１００、重量平均分子量（Ｍｗ）１１３６００、Ｚ平均分子量（Ｍｚ）１６７２００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．６０、Ｍｚ／Ｍｎ＝２．３５であった。
【０４７０】
実施例１０２
(1)感光性組成物の調製
感光性組成物は、下記表３０に示成分を混合し、３ミクロン細孔径の濾過膜で濾過して製造した。
【０４７１】
【表３０】
2010266868.tif 000031
【０４７２】
(2)画像形成
上記５種類の感光性組成物を、表面処理した直径５ｃｍの銅箔（日本電解株式会社製品、１８ミクロン厚さ）の表面上に、スピンコート法で塗布した。ついで、赤外線熱風乾燥機中で９０℃１０分間乾燥した。この感光性膜の厚さは、約１０ミクロンであった。
【０４７３】
この感光性組成物塗布膜上に、ポジ型フォトマスク用のテストパターン（１０、１５、２０、２５、――、２００ミクロンのスルーホール及びラインアンドベースパターン）を置き、２ｋｗ超高圧水銀灯照射装置（オーク製作所製品：ＪＰ−２０００Ｇ）を用いて、下記表３１に示す、画像が得られる露光量で照射した。
【０４７４】
【表３１】
2010266868.tif 000032
【０４７５】
現像液組成は、Ｎ−メチルピロリドン４０ｇ、アミノエタノール１０ｇ、メタノール２５ｇ、水２５ｇの混合液であった。この液中に、上記照射後の塗布膜を上記時間浸漬した後、脱イオン水で水洗し、赤外線ランプで乾燥後、解像度を観察した。このポリイミド塗布膜の９０℃、３０分間の乾燥処理におけるポリイミド膜厚は、９ミクロンであった。
【０４７６】
このポリイミド塗布膜のスルーホールパターンは、鋭く輪郭の丸みの切り口で１５ミクロン口径の孔が確認された。ラインアンドベースパターンでは、１０ミクロンの線像が確認された。
【０４７７】
このポリイミド塗布膜を、１５０℃で３０分間の赤外線加熱処理をすると、膜厚は８ミクロンで殆ど変化がなかった。さらに、このポリイミド塗布膜を、２６０℃で３０分間の赤外線加熱処理すると、膜厚は６ミクロンとなった。 さらに、上記ポリイミド膜と銅箔との密着性を碁盤目試験法で評価した。ナイフで塗布膜に、１ｍｍＸ１ｍｍの碁盤目の切り傷をつけ、セロテープ（登録商標）で剥離する試験では、１００／１００（剥離部分なし）を示し、ポリイミド膜と銅箔は、充分実用可能な密着性を示した。
【０４７８】
実施例１０３
基本的に実施例９７と同様な操作を行なった。
【０４７９】
ＢＴＤＡ３８．６２ｇ（１２０ミリモル）、ジアミノトルエン７．３３ｇ（６０ミリモル）、γ―バレロラクトン１．８ｇ（１８ミリモル）及びピリジン２．４ｇ（３６ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン１００ｇ、トルエン３０ｇを仕込んだ。室温で窒素雰囲気下で１８０ｒｐｍで３０分攪拌した後、１８０℃に昇温し、１８０ｒｐｍで１時間攪拌した。反応中のトルエンー水の共沸分を除いた。
【０４８０】
ついで室温に冷却し、ビスー４―｛（３―アミノフェノキシ）フェニル｝スルホン１２．３２ｇ（３０ミリモル）、２，２―ビスー４（４’―アミノフェノキシ）フェニルプロパン１２。９６ｇ（３０ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン９４ｇ、トルエン２０ｇを仕込んだ。その後、室温で窒素雰囲気下で１８０ｒｐｍで３０分攪拌した後、１８０℃に昇温し、１８０ｒｐｍで２。８時間攪拌した。反応中のトルエンー水の共沸分を除いた。
【０４８１】
このようにして得られたポリイミド溶液のポリマー濃度は、２５重量％であった。このポリイミドの分子量を、実施例１と同様にして測定したところ、スチレン換算分子量は、数平均分子量（Ｍｎ）３６０００、重量平均分子量（Ｍｗ）１５８８００、Ｚ平均分子量（Ｍｚ）５５９２００、Ｍｗ／Ｍｎ＝４．４０、Ｍｚ／Ｍｎ＝１５．５２であった。
【０４８２】
実施例１０４
基本的に実施例１０３と同様な操作を行なった。
【０４８３】
窒素ガスを通しながら、ＢＴＤＡ３８．６７ｇ（１２０ミリモル）、ビスー４―｛（３―アミノフェノキシ）フェニル｝スルホン２５．９５ｇ（６０ミリモル）、γ―バレロラクトン１．８ｇ（１８ミリモル）及びピリジン２．９ｇ（３６ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン２００ｇ、トルエン４０ｇを仕込んだ。室温で窒素雰囲気下で１８０ｒｐｍで３０分攪拌した後、１８０℃に昇温し、１８０ｒｐｍで１時間攪拌した。反応中のトルエンー水の共沸分を除いた。
【０４８４】
ついで室温に冷却し、ＢＰＤＡ１７．６５ｇ（６０ミリモル）、３，４’―ジアミノジフェニルエーテル１２．０１ｇ（６０ミリモル）、２，２―ビスー４（４’―アミノフェノキシ）フェニルプロパン２４．６３ｇ（６０ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン２５０ｇ、トルエン２０ｇを仕込む。その後、室温で窒素雰囲気下で１８０ｒｐｍで３０分攪拌した後、１８０℃に昇温し、１８０ｒｐｍで３時間攪拌した。反応中のトルエンー水の共沸分を除いた。
【０４８５】
このようにして得られたポリイミド溶液のポリマー濃度は、２５重量％であった。このポリイミドの分子量を、高速液体クロマトグラフィー（東ソ製品）で測定したところ、スチレン換算分子量は、数平均分子量（Ｍｎ）３９７００、重量平均分子量（Ｍｗ）１１３８００、Ｚ平均分子量（Ｍｚ）２７００００、Ｍｗ／Ｍｎ＝２．８６、Ｍｚ／Ｍｎ＝６．８０であった。
【０４８６】
実施例１０５
基本的に実施例１０３と同様な操作を行なった。
【０４８７】
窒素ガスを通しながら、ＢＴＤＡ４８．３４ｇ（１５０ミリモル）、２，４―ジアミノトルエン９．１６５ｇ（７５ミリモル）、γ―バレロラクトン１．５ｇ（１５ミリモル）及びピリジン１．７８ｇ（３０ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン１３０ｇ、トルエン７０ｇを仕込んだ。室温で窒素雰囲気下で１８０ｒｐｍで３０分攪拌した後、１８０℃に昇温し、１８０ｒｐｍで１。３時間攪拌した。反応中のトルエンー水の共沸分を除いた。
【０４８８】
ついで室温に冷却し、ビスー４―｛（３―アミノフェノキシ）フェニル｝スルホン３２．４４ｇ（７５ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン６７ｇ、トルエン４０ｇを仕込んだ。その後、室温で窒素雰囲気下で１８０ｒｐｍで３０分攪拌した後、１８０℃に昇温し、１８０ｒｐｍで４．５時間攪拌した。反応中のトルエンー水の共沸分を除いた。反応後、Ｎ−メチルピロリドン５２ｇを追加した。
【０４８９】
このようにして得られたポリイミド溶液のポリマー濃度は、２５重量％であった。このポリイミドの分子量を、高速液体クロマトグラフィー（東ソ製品）で測定したところ、スチレン換算分子量は、数平均分子量（Ｍｎ）２１９００、重量平均分子量（Ｍｗ）５９０００、Ｚ平均分子量（Ｍｚ）１４６６００、Ｍｗ／Ｍｎ＝２．７０、Ｍｚ／Ｍｎ＝６．７１であった。
【０４９０】
実施例１０６
(1)感光性組成物の調製
感光性組成物は、下記表３２に示成分を混合し、３ミクロン細孔径の濾過膜で濾過して製造した。
【０４９１】
【表３２】
2010266868.tif 000033
【０４９２】
(2)画像形成
上記３種類の感光性組成物を、表面処理した直径５ｃｍの銅箔（日本電解株式会社製品、１８ミクロン厚さ）の表面上に、スピンコート法で塗布した。ついで、赤外線熱風乾燥機中で９０℃１０分間乾燥した。この感光性膜の厚さは、約１０ミクロンであった。
【０４９３】
この感光性組成物塗布膜上に、ポジ型フォトマスク用のテストパターン（１０、１５、２０、２５、――、２００ミクロンのスルーホール及びラインアンドベースパターン）を置き、２ｋｗ超高圧水銀灯照射装置（オーク製作所製品：ＪＰ−２０００Ｇ）を用いて、画像が得られる露光量、すなわち、紫外線照射量３００ｍＪで照射した。次いで、現像時間２．０分間（組成物LXIV)、２．８分間(組成物LXV)又は０．１５分間(組成物LXVI)で現像した。現像液組成は、Ｎ−メチルピロリドン４０ｇ、アミノエタノール２５ｇ、メタノール２５ｇ、水１０ｇの混合液であった。この液中に、上記照射後の塗布膜を上記時間浸漬した後、脱イオン水で水洗し、赤外線ランプで乾燥後、解像度を観察した。このポリイミド塗布膜の９０℃、３０分間の乾燥処理におけるポリイミド膜厚は、９ミクロンであった。
【０４９４】
このポリイミド塗布膜のスルーホールパターンは、鋭く輪郭の丸みの切り口で１５ミクロン口径の孔が確認された。ラインアンドベースパターンでは、Ｆ及びＧの組成では、１０ミクロンの線像が、Ｈにおいては１５ミクロンの線像が確認された。
【０４９５】
実施例１０７
ステンレススチール製の碇型攪拌器を取り付けた１リットルのセパラブル３つ口フラスコに、水分分離トラップを備えた玉付冷却管を取り付けた。窒素ガスを通しながら、ＢＴＤＡ６．４４ｇ（２０ミリモル）、３，５―ジアミノ安息香酸（以下ＤＡＢＺという）６．０９ｇ（４０ミリモル）、γ―バレロラクトン０．６ｇ（６ミリモル）及びピリジン３．２ｇ（４０ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン６０ｇ、トルエン３０ｇを仕込んだ。室温で窒素雰囲気下で２００ｒｐｍで３０分攪拌した後、１８０℃に昇温し、１８０ｒｐｍで１時間攪拌した。反応中、トルエンー水の共沸分を除いた。ついで、Ｎ−メチルピロリドン１９２ｇを追加した。
【０４９６】
室温に冷却し、６ＦＤＡ１７．７７ｇ（４０ミリモル）、２，２―ビス｛４―（４―アミノフェノキシ）フェニル｝ヘキサフルオロプロパン１０．３７ｇ（２０ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン９４ｇ、トルエン１０ｇを仕込んだ。室温で窒素雰囲気下で１８０ｒｐｍで０。５時間攪拌した後、１８０℃に昇温し、１８０ｒｐｍで２。７時間攪拌した。反応中、トルエンー水の共沸分を除いた。
【０４９７】
さらに、室温に冷却後、モルホリン３．８ｇ（４０ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン１０ｇを加え３０分間攪拌し、ついで１３０℃で１３０ｒｐｍ攪拌で１時間反応した。
このようにして得られたポリイミド溶液のポリマー濃度は、１０重量％であった。このポリイミドの分子量を、実施例１と同様にして測定したところ、スチレン換算分子量は、数平均分子量（Ｍｎ）１３４００、重量平均分子量（Ｍｗ）２３７００、Ｚ平均分子量（Ｍｚ）３７３００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．７７、Ｍｚ／Ｍｎ＝２．７９であった。
【０４９８】
上記２段目の反応時間を２．７時間よりも長くすると、Ｍｗは５００００以上になった。
【０４９９】
実施例１０８
基本的に実施例１０７と同様に操作した。
【０５００】
ＢＴＤＡ６．４４ｇ（２０ミリモル）、ＤＡＢＺ６．０９ｇ（４０ミリモル）、γ―バレロラクトン０．６ｇ（６ミリモル）及びピリジン３．２ｇ（４０ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン６０ｇ、トルエン３０ｇを仕込んだ。室温で窒素雰囲気下で１８０ｒｐｍで３０分攪拌した後、１８０℃に昇温し、１８０ｒｐｍで１時間攪拌した。反応中、トルエンー水の共沸分を除いた。
【０５０１】
室温に冷却し、ＢＴＤＡ１２．８９ｇ（４０ミリモル）、２，２―ビス｛４―（４―アミノフェノキシ）フェニル｝プロパン８．２１ｇ（２０ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン２２３ｇ、トルエン１０ｇを仕込んだ。室温で窒素雰囲気下で１８０ｒｐｍで０．５時間攪拌した後、１８０℃に昇温し、１８０ｒｐｍで２．７時間攪拌した。反応中、トルエンー水の共沸分を除いた。
【０５０２】
さらに、室温に冷却後、Ｎ−メチルピペラジン４．４１ｇ（４４ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン１０ｇを加え３０分間攪拌し、ついで１２０℃で１２０ｒｐｍ攪拌で１時間反応した。
【０５０３】
このようにして得られたポリイミド溶液のポリマー濃度は、１０重量％であった。このポリイミドのジメチルホルムアミドに不溶で分子量は測定できなかった。
【０５０４】
実施例１０９
(1)  感光性組成物の調製
実施例１０７又は１０８で得たポリイミド溶液３０ｇ(ポリイミド含有量はいずれも３ｇ)と、１，２―ナフトキノンー２―ジアジドー５―スルホン酸 ―Ｏ―クレゾールエステル０．９ｇとを混合し、感光性組成物LXVII(実施例１０７)及び感光性組成物LXVIII(実施例１０８）を調製した。
【０５０５】
(2)  画像形成
上記2種類の感光性組成物を、表面処理した直径５ｃｍの銅箔（日本電解株式会社製品、１８ミクロン厚さ）の表面上に、スピンコート法で塗布した。ついで、赤外線熱風乾燥機中で９０℃１０分間乾燥した。この感光性膜の厚さは、約１０ミクロンであった。
【０５０６】
この感光性組成物塗布膜上に、ポジ型フォトマスク用のテストパターン（１０、１５、２０、２５、――、２００ミクロンのスルーホール及びラインアンドベースパターン）を置き、２ｋｗ超高圧水銀灯照射装置（オーク製作所製品：ＪＰ−２０００Ｇ）を用いて、画像が得られる露光量で照射した。
【０５０７】
組成物LXVIIは、５００ｍＪで照射した後、下記条件で現像した。現像液組成は、Ｎ−メチルピロリドン４０ｇ、アミノエタノール１０ｇ、メタノール２５ｇ、水２５ｇの混合液であった。この液中に、上記照射後の塗布膜を３分間浸漬した後、脱イオン水で水洗し、赤外線ランプで乾燥後、解像度を観察した。このポリイミド塗布膜の９０℃、３０分間の乾燥処理におけるポリイミド膜厚は、９ミクロンであった。
【０５０８】
このポリイミド塗布膜のスルーホールパターンは、鋭く輪郭の丸みの切り口で１５ミクロン口径の孔が確認された。ラインアンドベースパターンでは、１０ミクロンの線像が確認された。
【０５０９】
組成物LXVIIIは、５００ｍＪで照射した後、下記条件で現像した。現像液組成は、Ｎ−メチルピロリドン４０ｇ、アミノエタノール１０ｇ、メタノール２５ｇ、水２５ｇの混合液であった。この液中に、上記照射後の塗布膜を１．５分間浸漬した後、脱イオン水で水洗し、赤外線ランプで乾燥後、解像度を観察した。このポリイミド塗布膜の９０℃、３０分間の乾燥処理におけるポリイミド膜厚は、９ミクロンであった。
【０５１０】
このポリイミド塗布膜のスルーホールパターンは、鋭く輪郭の丸みの切り口で１０ミクロン口径の孔が確認された。ラインアンドベースパターンでは、１０ミクロンの線像が確認された。
【０５１１】
実施例１１０
基本的に実施例１０７と同様の操作を行った。
【０５１２】
６ＦＤＡ１７．７７ｇ（４０ミリモル）、ＤＡＢＺ３．０４ｇ（２０ミリモル）、４，４’―ジアミノジフェニルエーテル６．０１ｇ（３０ミリモル）、γ―バレロラクトン０．８ｇ（８ミリモル）及びピリジン１．３ｇ（１６ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン１０７ｇ、トルエン２５ｇを仕込んだ。室温で窒素雰囲気下で１８０ｒｐｍで３０分攪拌した後、１８０℃に昇温し、１８０ｒｐｍで２時間攪拌した。反応中、トルエンー水の共沸分を除いた。
【０５１３】
このようにして得られたポリイミド溶液のポリマー濃度は、２０重量％であった。このポリイミドの分子量を、実施例１と同様にして測定したところ、スチレン換算分子量は、数平均分子量（Ｍｎ）１４８００、重量平均分子量（Ｍｗ）２５４００、Ｚ平均分子量（Ｍｚ）６２５００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．７１、Ｍｚ／Ｍｎ＝４．２１であった。
【０５１４】
実施例１１１
(1)  感光性組成物の調製
実施例１１０で得られたポリイミド溶液１５ｇ(ポリイミド含有量３ｇ)と、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホン酸−Ｏ−クレゾールエステル０．９ｇとを混合して感光性組成物を調製した。
【０５１５】
(2)  画像形成
(1)で調製した感光性組成物を、表面処理した直径５ｃｍの銅箔（日本電解株式会社製品、１８ミクロン厚さ）の表面上に、スピンコート法で塗布した。ついで、赤外線熱風乾燥機中で９０℃１０分間乾燥した。この感光性膜の厚さは、約１０ミクロンであった。
【０５１６】
この感光性組成物塗布膜上に、ポジ型フォトマスク用のテストパターン（１０、１５、２０、２５、――、２００ミクロンのスルーホール及びラインアンドベースパターン）を置き、２ｋｗ超高圧水銀灯照射装置（オーク製作所製品：ＪＰ−２０００Ｇ）を用いて、画像が得られる露光量で照射した。
【０５１７】
３００ｍＪで照射した後、下記条件で現像した。現像液組成は、アミノエタノール３０ｇ、エタノール５０ｇ、水１５ｇの混合液であった。この液中に、上記照射後の塗布膜を１．２５分間浸漬した後、脱イオン水で水洗し、赤外線ランプで乾燥後、解像度を観察した。この結果、シャープさにはやや劣るもののパターンに対応した画像が認められた。
【０５１８】
また、この感光性組成物は５００ｍＪで照射した後、下記条件で現像した。現像液組成は、Ｎ−メチルピロリドン４０ｇ、アミノエタノール１０ｇ、メタノール２５ｇ、水１５ｇの混合液である。この液中に、上記照射後の塗布膜を２．５分間浸漬した後、脱イオン水で水洗し、赤外線ランプで乾燥後、解像度を観察した。この結果、シャープさにはやや劣るもののパターンに対応した画像が認められた。
【０５１９】
実施例１１２
基本的に実施例１０７と同様の操作を行った。
【０５２０】
ビシクロー（２，２，２）―オクトー７―エンー２，３，５，６―テトラカルボン酸ジ無水物２４．８２ｇ（１００ミリモル）、ＤＡＢＺ７．６１ｇ（５０ミリモル）、γ―バレロラクトン１．５ｇ（１５ミリモル）及びピリジン２．４ｇ（３０ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン１２０ｇ、トルエン３０ｇを仕込んだ。室温で窒素雰囲気下で１８０ｒｐｍで３０分攪拌した後、１８０℃に昇温し、１８０ｒｐｍで１時間攪拌した。反応中、トルエンー水の共沸分を除いた。
【０５２１】
室温に冷却し、３，４，３’，４’―ビフェニルテトラカルボン酸ジ無水物１４．７１ｇ（５０ミリモル）、３，４’―ジアミノジフェニルエーテル１０．０１ｇ（５０ミリモル）、２，２―ビス｛４―（４―アミノフェノキシ）フェニル｝プロパン２０．５３ｇ（５０ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン１０９ｇ、トルエン３０ｇを仕込んだ。室温で窒素雰囲気下で１８０ｒｐｍで０．５時間攪拌した後、１８０℃に昇温し、１８０ｒｐｍで２時間攪拌した。反応中、トルエンー水の共沸分を除いた。
【０５２２】
このようにして得られたポリイミド溶液のポリマー濃度は、２０重量％であった。このポリイミドの分子量を、実施例1と同様にして測定したところ、スチレン換算分子量は、数平均分子量（Ｍｎ）４６７００、重量平均分子量（Ｍｗ）１０２６００、Ｚ平均分子量（Ｍｚ）８２４００、Ｍｗ／Ｍｎ＝２．２０、Ｍｚ／Ｍｎ＝３．９０であった。
【０５２３】
実施例１１３
(1)  感光性組成物の調製
実施例１１２で得られたポリイミド溶液１５ｇ(ポリイミド含有量３ｇ)と、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホン酸−Ｏ−クレゾールエステル０．９ｇとを混合して感光性組成物を調製した。
【０５２４】
(2)  画像形成
(1)で得られた上記感光性組成物を、表面処理した直径５ｃｍの銅箔（日本電解株式会社製品、１８ミクロン厚さ）の表面上に、スピンコート法で塗布した。ついで、赤外線熱風乾燥機中で９０度Ｃ１０分間乾燥した。この感光性膜の厚さは、約１０ミクロンであった。
【０５２５】
この感光性組成物塗布膜上に、ポジ型フォトマスク用のテストパターン（１０、１５、２０、２５、――、２００ミクロンのスルーホール及びラインアンドベースパターン）を置き、２ｋｗ超高圧水銀灯照射装置（オーク製作所製品：ＪＰ−２０００Ｇ）を用いて、画像が得られる露光量で照射した。
【０５２６】
３００ｍＪで照射した後、下記条件で現像した。現像液組成は、アミノエタノール３０ｇ、エタノール５０ｇ、水１５ｇの混合液であった。この液中に、上記照射後の塗布膜を６分間浸漬した後、脱イオン水で水洗し、赤外線ランプで乾燥後、解像度を観察した。この結果、シャープさにはやや劣るもののパターンに対応した画像が認められた。
【０５２７】
実施例１１４
基本的に実施例１と同様に操作した。
【０５２８】
ＢＴＤＡ１１．１１ｇ（５０ミリモル）、ＤＡＢＺ３．８０ｇ、ビス｛４―（３―アミノフェノキシ）フェニル｝スルホン１０．８１ｇ（２５ミリモル）、γ―バレロラクトン１．０ｇ（１０ミリモル）及びピリジン２．９ｇ（３０ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン１０６ｇ、トルエン３０ｇを仕込んだ。室温で窒素雰囲気下で１８０ｒｐｍで３０分攪拌した後、１８０℃に昇温し、１８０ｒｐｍで３時間攪拌した。反応中、トルエンー水の共沸分を除いた。
【０５２９】
室温に冷却し、モルホリン２。６１ｇ（３０ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン２１０ｇを仕込んだ。室温で窒素雰囲気下で１８０ｒｐｍで０。５時間攪拌した後、１６０℃に昇温し、１８０ｒｐｍで１時間攪拌した。反応中、トルエンー水の共沸分を除いた。
【０５３０】
このようにして得られたポリイミド溶液のポリマー濃度は、２０重量％であった。このポリイミドの分子量を、実施例１と同様にして測定したところ、スチレン換算分子量は、数平均分子量（Ｍｎ）１３１００、重量平均分子量（Ｍｗ）２２４００、Ｚ平均分子量（Ｍｚ）３６７００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．７１、Ｍｚ／Ｍｎ＝２．６５であった。
【０５３１】
実施例１１５
基本的に実施例１と同様に操作した。
【０５３２】
ＢＴＤＡ２９．００ｇ（９０ミリモル）、ＤＡＢＺ６．８５ｇ（４５ミリモル）、ビス｛４―（３―アミノフェノキシ）フェニル｝スルホン１９．４６ｇ（４５ミリモル）、γ―バレロラクトン０．９ｇ（９ミリモル）及びピリジン３．６ｇ（４５ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン２０８ｇ、トルエン３０ｇを仕込んだ。室温で窒素雰囲気下で１８０ｒｐｍで３０分攪拌した後、１８０℃に昇温し、１８０ｒｐｍで２時間攪拌した。反応中、トルエンー水の共沸分を除いた。
【０５３３】
室温に冷却し、Ｎ−メチルピペリジン５．４１ｇ（５４ミリモル）、トルエン１０ｇを加え、室温で窒素雰囲気下で１６０ｒｐｍで１．３時間攪拌し、反応中、トルエンー水の共沸分を除いた。
【０５３４】
このようにして得られたポリイミド溶液のポリマー濃度は、２０重量％であった。このポリイミドの分子量を、実施例１と同様にして測定したところ、スチレン換算分子量は、数平均分子量（Ｍｎ）５２００、重量平均分子量（Ｍｗ）８９００、Ｚ平均分子量（Ｍｚ）１３０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．７１、Ｍｚ／Ｍｎ＝２．５０であった。
【０５３５】
実施例１１６
(1)  感光性組成物の調製
実施例１１４又は１１５で得たポリイミド溶液１５ｇ(ポリイミド含有量はいずれも３ｇ)と、１，２―ナフトキノンー２―ジアジドー５―スルホン酸 ―Ｏ―クレゾールエステル０．９ｇとを混合し、感光性組成物LXIX(実施例１１４)及び感光性組成物LXX(実施例１１５）を調製した。
【０５３６】
(2)  画像形成
上記２種類の感光性組成物を、表面処理した直径５ｃｍの銅箔（日本電解株式会社製品、１８ミクロン厚さ）の表面上に、スピンコート法で塗布した。ついで、赤外線熱風乾燥機中で９０℃１０分間乾燥した。この感光性膜の厚さは、約１０ミクロンであった。
【０５３７】
この感光性組成物塗布膜上に、ポジ型フォトマスク用のテストパターン（１０、１５、２０、２５、――、２００ミクロンのスルーホール及びラインアンドベースパターン）を置き、２ｋｗ超高圧水銀灯照射装置（オーク製作所製品：ＪＰ−２０００Ｇ）を用いて、画像が得られる露光量で照射した。
【０５３８】
２種類の組成物とも３００ｍＪで照射した後、下記条件で現像した。現像液組成は、アミノエタノール３０ｇ、エタノール５０ｇ、水１５ｇの混合液であった。この液中に、上記照射後の塗布膜を組成物LXIXは１５秒間、LXXは２．５分間浸漬した後、脱イオン水で水洗し、赤外線ランプで乾燥後、解像度を観察した。
【０５３９】
このポリイミド塗布膜のスルーホールパターンは、鋭く輪郭の丸みの切り口で１５ミクロン口径の孔が確認された。ラインアンドベースパターンでは、１５ミクロンの線像が確認された。
【０５４０】
実施例１１７
基本的に実施例１０７と同様に操作した。
【０５４１】
ＢＴＤＡ９６．６７ｇ（３００ミリモル）、ＤＡＢＺ２２．８２ｇ（１５０ミリモル）、ビス｛４―（３―アミノフェノキシ）フェニル｝スルホン６４．８８ｇ（１５０ミリモル）、γ―バレロラクトン３．０ｇ（３０ミリモル）及びピリジン１２ｇ（１５０ミリモル）、Ｎ−メチルピロリドン４０５ｇ、トルエン５０ｇを仕込んだ。室温で窒素雰囲気下で１８０ｒｐｍで３０分攪拌した後、１８０℃に昇温し、１８０ｒｐｍで２．７時間攪拌した。反応中、トルエンー水の共沸分を除いた。
このようにして得られたポリイミド溶液のポリマー濃度は、３０重量％であった。このポリイミドの分子量を、実施例１と同様にして測定したところ、スチレン換算分子量は、数平均分子量（Ｍｎ）２０１００、重量平均分子量（Ｍｗ）４２７００、Ｚ平均分子量（Ｍｚ）１９８００、Ｍｗ／Ｍｎ＝２．１２、Ｍｚ／Ｍｎ＝３．９７であった。
【０５４２】
実施例１１８
(1)  感光性組成物の調製
実施例１１７で得られたポリイミド溶液１０ｇ(ポリイミド含有量３ｇ)と、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホン酸−Ｏ−クレゾールエステル０．９ｇとを混合して感光性組成物を調製した。
【０５４３】
(2)  画像形成
上記(1)で調製した感光性組成物を、表面処理した直径５ｃｍの銅箔（日本電解株式会社製品、１８ミクロン厚さ）の表面上に、スピンコート法で塗布した。ついで、赤外線熱風乾燥機中で９０℃１０分間乾燥した。この感光性膜の厚さは、約１０ミクロンであった。
【０５４４】
このフォトレジスト配合塗布膜上に、ポジ型フォトマスク用のテストパターン（１０、１５、２０、２５、――、２００ミクロンのスルーホール及びラインアンドベースパターン）を置き、２ｋｗ超高圧水銀灯照射装置（オーク製作所製品：ＪＰ−２０００Ｇ）を用いて、画像が得られる露光量で照射した。
【０５４５】
紫外線量３００ｍＪで照射した後、下記条件で現像した。現像液組成は、アミノエタノール３０ｇ、エタノール５０ｇ、水１５ｇの混合液である。この液中に、上記照射後の塗布膜を６．５分間浸漬した後、脱イオン水で水洗し、赤外線ランプで乾燥後、解像度を観察した。
【０５４６】
このポリイミド塗布膜のスルーホールパターンは、コントラストがやや悪いものの、パターンに対応した画像が得られた。
【産業上の利用可能性】
【０５４７】
以上の通り、本発明によれば、芳香族酸ジ無水物、芳香族ジアミンを原料とし、酸触媒の存在下直接重縮合した溶剤可溶のポリイミドは、酸発生剤の存在下に紫外線照射することによって、極めて良好な画像解像度が得られた。本発明の感光性ポリイミドを、耐熱性絶縁膜として利用する場合は、分子量が2万5000―20万のポリイミドが、高温度耐熱性、電気絶縁性、接着性を有した絶縁膜となり、半導体や電子部品等の製造分野に幅広く利用することができる。