(57)【要約】【課題】  露光中に加速状態と等速状態の切り替えをせずに、走査型露光装置のスループットを向上させることを目的とする。【解決手段】  走査型露光装置の露光方法であって、静止している基板ステージを露光を開始するまで加速する助走工程と、前記基板ステージを加速しながら基板の第１領域に露光を行う露光工程と、露光を終了した後に前記基板ステージを減速する減速工程と、を備え、前記減速工程における前記基板ステージの最大加速度の絶対値が、前記助走工程における前記基板ステージの最大加速度の絶対値よりも大きく、かつ、前記助走期間において前記基板ステージが移動する距離と、前記減速工程において前記基板ステージが移動する距離が等しい。【選択図】  図１
2010016166.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を保持して移動する基板ステージと、前記基板ステージを走査方向に駆動する駆動手段と、前記基板に露光のための光又は荷電粒子を照射する露光手段と、前記露光手段及び前記駆動手段を制御する制御手段を備え、前記制御手段は、
基板ステージを前記走査方向に平行な第１方向に加速している間に基板の第１領域の露光を開始し、かつ終了するように露光を行い、
前記基板ステージの速度が零の時点から前記基板ステージを加速して前記第１領域の露光を開始する時点までの期間を第１助走期間とし、
前記第１領域の露光を終了した時点から前記基板ステージを減速して前記基板ステージの速度が零になる時点までの期間を第１減速期間としたときに、
前記第１減速期間における前記基板ステージの最大加速度の絶対値が、前記第１助走期間における前記基板ステージの最大加速度の絶対値よりも大きく、かつ、
前記第１助走期間において前記基板ステージが移動する距離と、前記第１減速期間において前記基板ステージが移動する距離が等しくなるように前記露光手段および前記駆動手段を制御することを特徴とする走査型露光装置。
【請求項２】
前記第１方向と直交する方向に前記第１領域と隣り合い、前記第１領域の次に露光すべき領域を第２領域とし、前記第１減速期間が終了した時点から前記基板ステージを第１方向と反対の第２方向に加速して前記第２領域の露光を開始する時点までの期間を第２助走期間としたときに、
前記第２助走期間における前記基板ステージの第２方向の加速度が前記第１助走期間における前記基板ステージの第１方向の加速度と等しくなるように前記駆動手段を制御することを特徴とする請求項１に記載の走査型露光装置。
【請求項３】
前記第１領域の露光中に前記基板ステージの加速度が一定となるように前記駆動手段を制御することを特徴とする請求項１または２に記載の走査型露光装置。
【請求項４】
前記第１減速期間において、前記駆動手段による前記基板ステージの減速を補助するブレーキ機構を備えることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の走査型露光装置。
【請求項５】
デバイス製造方法であって、
請求項１乃至４のいずれか１項に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、露光された基板を現像する工程と、を備えることを特徴とするデバイス製造方法。
【請求項６】
走査型露光装置の露光方法であって、
静止している基板ステージを露光を開始するまで加速する助走工程と、
前記基板ステージを加速しながら基板の第１領域に露光を行う露光工程と、
露光を終了した後に前記基板ステージを減速する減速工程と、を備え、
前記減速工程における前記基板ステージの最大加速度の絶対値が、前記助走工程における前記基板ステージの最大加速度の絶対値よりも大きく、かつ、
前記助走期間において前記基板ステージが移動する距離と、前記減速工程において前記基板ステージが移動する距離が等しいことを特徴とする露光方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はＩＣやＬＳＩなどの半導体デバイス、ＣＣＤなどの撮像デバイス、液晶パネルなどの表示デバイス、磁気ヘッドやＭＥＭＳなどのデバイスを製造するリソグラフィ工程に使用される走査型露光装置に関する。また、該露光装置を用いた露光方法ならびにデバイス製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
図５は走査型露光装置を例示的に示す図である。光源１からの光束２は照明光学系３、遮蔽部４に形成された開口、照明光学系５を介してレチクル（原版）６に照射される。レチクル６を透過した光束２は、投影光学系７を介してウェハ（基板）８に照射される。駆動可能な遮蔽部４によって光束２の一部は遮られ、レチクル６及びウェハ８にはスリット状の光が照射される。
【０００３】
レチクル６は移動可能なレチクルステージ９に搭載され、ウェハ８は移動可能なウェハステージ１０に搭載される。それぞれのステージの位置はレーザ干渉計１３、１４によって計測され、各ステージはリニアモータ１１、１２によって駆動される。
【０００４】
投影光学系７は、レンズ１８を複数備え、複数のレンズのうち少なくとも２つのレンズ間圧力、または少なくとも１つのレンズ位置を変えることによって投影光学系７の収差を補正する収差補正機構１７を備える。
【０００５】
コントローラ１５は、レーザ干渉計１３、１４の出力にもとづいてリニアモータ１１、１２を制御し、各ステージを同期して走査移動させる。また、コントローラ１５は光源１、照明光学系３、５、遮蔽部４を制御し、ステージの走査移動と露光とを同期させる。
【０００６】
図６は、従来のウェハステージ１０の１回の走査露光における、時間と速度との関係を示す図である。Ｔ＝ｔ０において、ウェハ８がウェハステージ１０上に搭載される。Ｔ＝ｔ０〜ｔ１の間にウェハに対してアライメント処理が行われる。Ｔ＝ｔ１〜ｔ４において、ウェハステージ１０は加速される。Ｔ＝ｔ４〜ｔ６（後述するが、厳密にはｔ５〜ｔ６）において、ウェハステージ１０は等速で駆動される。Ｔ＝ｔ６〜ｔ７においてウェハステージ１０は減速される。
【０００７】
ウェハステージ１０が等速で移動するＴ＝ｔ５〜ｔ６の間に露光を行う。単位時間当たりの露光量を一定にしておけばウェハを均一に露光することが可能となる。
【０００８】
ここで、ウェハステージ１０が加速状態から等速状態になるときに、ウェハステージ１０が駆動機構から受ける力が変化する。すると等速状態になった直後はウェハステージ１０は力の変化により変形や振動の影響を受けてしまう。そこで、露光を行わない整定期間Ｔ＝ｔ４〜ｔ５が設けられている。また、上述の力の変化を緩和するために、加速度の変化を緩やかにするジャーク期間Ｔ＝ｔ３〜ｔ４が設けられている。
【０００９】
また、特許文献１には、ウェハステージが加速状態および減速状態のときにも露光を行うことが記載されている。具体的には、ウェハステージ１０の速度に応じて単位時間当たりの露光量を変化させてウェハ上に均一に露光するようにしている。これにより、図６の場合に比べてスループットを向上させることができる。
【特許文献１】特開平０９−２２３６６２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
上述の従来技術において、スループットを向上させるために特許文献１に記載されるように、ウェハステージが加速状態または減速状態であるときにも露光を行うことが望まれる。
【００１１】
しかしながら、特許文献１は、ウェハステージ１０が加速状態から等速状態になるときに露光を行っているため、上述したウェハステージ１０の変形や振動により露光性能が悪化してしまう。
【００１２】
本発明は、上述の点に鑑みてなされたものであり、変形や振動による露光性能の悪化を小さく抑えつつ、走査型露光装置のスループットを向上させることを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
上述の目的を達成するために、本発明における走査型露光装置は、基板を保持して移動する基板ステージと、前記基板ステージを走査方向に駆動する駆動手段と、前記基板に露光のための光を照射する露光手段と、前記露光手段及び前記駆動手段を制御する制御手段を備える。ここで、制御手段は、基板ステージを前記走査方向に平行な第１方向に加速している間に基板の第１領域の露光を開始し、かつ終了するように露光を行い、前記基板ステージの速度が零の時点から前記基板ステージを加速して前記第１領域の露光を開始する時点までの期間を第１助走期間とし、前記第１領域の露光を終了した時点から前記基板ステージを減速して前記基板ステージの速度が零になる時点までの期間を第１減速期間としたときに、前記第１減速期間における前記基板ステージの最大加速度の絶対値が、前記第１助走期間における前記基板ステージの最大加速度の絶対値よりも大きく、かつ、前記第１助走期間において前記基板ステージが移動する距離と、前記第１減速期間において前記基板ステージが移動する距離が等しくなるように前記露光手段および前記駆動手段を制御する。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、変形や振動による露光性能の悪化を小さく抑えつつ、走査型露光装置のスループットを向上させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
＜実施例１＞
図５は走査型露光装置を例示的に示す図である。光源１からの光束２は照明光学系３、開口を有する遮蔽部４、照明光学系５を介してレチクル（原版）６に照射される。レチクル６を透過した光束２は、投影光学系７を介してウェハ（基板）８に照射される。駆動可能な遮蔽部４によって光束２の一部は遮られ、レチクル６及びウェハ８にはスリット状の光が照射される。
【００１６】
レチクル６は移動可能なレチクルステージ９に搭載され、ウェハ８は移動可能なウェハステージ（基板ステージ）１０に不図示の保持手段に保持された状態で搭載される。それぞれのステージの位置はレーザ干渉計１３、１４によって計測され、各ステージはリニアモータ１１、１２によって走査方向に駆動される。各ステージを駆動する駆動手段はリニアモータに限られるものではなく、ボールねじ等の公知のものを適用してもよい。また、ウェハステージ１０を減速させて停止させるブレーキ機構１９を備える。ブレーキ機構として、例えば摩擦を利用したブレーキ、エアダンパを利用したブレーキ、電磁力を利用したブレーキ、ばねを利用したブレーキ、ダイナミックブレーキといった公知のものが用いられうる。
【００１７】
投影光学系７は、レンズ１８を複数備え、複数のレンズのうち少なくとも２つのレンズ間圧力、または少なくとも１つのレンズ位置を変えることによって投影光学系７の収差を補正する収差補正機構１７を備える。なお、レンズの位置は水平方向および鉛直方向および回転方向を含む。
【００１８】
コントローラ（制御手段）１５は、レーザ干渉計１３、１４の出力にもとづいてリニアモータを制御し、各ステージを同期して走査移動させる。また、コントローラ１５は、ウェハに露光のための光を照射するための露光手段を制御し、ステージの走査移動と露光とを同期させる。本実施例において、露光手段は光源１、照明光学系３、５、遮蔽部４、投影光学系７を含む。ただし、露光装置の形態によってはこれに限定されるものではない。たとえば荷電粒子により露光を行う露光装置にも本発明は適用しうる。コントローラ１５は図５では単体として図示されているが、光源１、遮蔽部４、各ステージ、収差補正機構１７の各々を制御する複数のコントローラを通信可能にしたものであってもよい。プロセッサやメモリを備える公知のコントローラを適用しうる。
【００１９】
図１を参照しつつ、本実施例の露光方法について説明する。図１は、本実施例におけるウェハステージの時間と速度の関係を示す図である。図１（ａ）はウェハステージのＹ方向（走査方向）における速度を表し、図１（ｂ）はウェハステージのＸ方向（走査方向と直交する方向）における速度を表す。
【００２０】
Ｔ＝Ｔ０においてウェハステージ１０の走査方向の速度は零である。この時点からウェハステージ１０は走査方向に加速を開始し、Ｔ＝Ｔ１において露光を開始する。Ｔ＝Ｔ２において露光を終了し、この時点からウェハステージの減速を開始する。つまり前記走査露光の方向とは反対の方向へと加速が始まる。Ｔ＝Ｔ３においてウェハステージの走査方向の速度が零となり、Ｔ＝Ｔ４まで同方向に加速する。
【００２１】
ここで、Ｔ０〜Ｔ１を第１助走期間ΔＴ１、Ｔ１〜Ｔ２を露光期間ΔＴ２、Ｔ２〜Ｔ３を減速期間（第１減速期間）ΔＴ３、Ｔ３〜Ｔ４を第２助走期間ΔＴ４とする。また、Ｔ＝Ｔ１におけるウェハステージの速度をＶｙ０、Ｔ＝Ｔ２における速度をＶｙ１とする。助走期間ΔＴ１及び露光期間ΔＴ２におけるウェハステージの加速度（第１加速度）をａ１とし、減速期間ΔＴ３におけるウェハステージの加速度（第２加速度）をａ２とする。
【００２２】
本実施例において、ΔＴ１およびΔＴ２の間は加速度ａ１は一定である。ここでいう「加速度が一定である」は、完全に一定であるもののみではなく実質的に一定であるものも含む。露光中にウェハステージに加わる力が実質的に一定であれば、ウェハステージの変形や振動による露光性能の悪化を低減することができる。加速度が（実質的に）一定でない場合であっても、加速をしている間に露光を開始し、かつ、終了することにより、露光中に加速状態と等速状態が切り替わることがないため、上述の影響を低減することができる。
【００２３】
なお、Ｔ＝Ｔ２において加速度を変化させているが、ΔＴ３においては露光を行っていないため、露光への影響は考慮しなくてもよい。
【００２４】
１つの領域（第１領域とする）の露光が終了すると、ウェハステージはＸ方向へのステップ移動をする。そのため、Ｔ＝Ｔ２においてウェハステージはＸ方向への加速を開始する。ウェハステージはＸ方向において、Ｔ＝Ｔ３’まで加速し、その後に減速をして、Ｔ＝Ｔ４において停止する。Ｔ＝Ｔ３’におけるウェハステージの速度をＶｘとする。この加速期間をΔＴ３’とし、減速期間をΔＴ４’とする。
【００２５】
Ｔ＝Ｔ４から次の領域（第２領域）の露光を開始する。図２に示すように、第２領域（Ｓ２）は第１領域（Ｓ１）とＸ方向に隣り合い、第１領域の露光時にウェハステージが−Ｙ方向（第１方向）に移動するのに対して、第２領域の露光時にウェハステージは＋Ｙ方向（第２方向）に移動する。ここで、意図的に反対の方向であることを示すために方向に＋、−を付して説明する。実際にはウェハステージが移動するが、図２ではウェハに対するスリット光の軌跡を矢印で示している。
【００２６】
ここで、ΔＴ４における加速度の絶対値はΔＴ１における加速度の絶対値と等しい。ここで、「（２つの）加速度の絶対値が等しい」とは完全に等しい場合のみでなく、実質的に等しい場合も含む。
【００２７】
また、ΔＴ４以降において第１領域と同様にウェハステージが加速している間に露光を開始し、かつ、終了する。Ｘ方向に隣り合うそれ以降の露光領域も同様である。
【００２８】
ここで、ΔＴ３においてウェハステージがＹ方向に移動する距離が、ΔＴ4においてウェハステージがＹ方向に移動する距離と等しくなるように露光を行う。ここで、「（２つの）距離が等しい」は完全に等しい場合のみではなく実質的に等しい場合も含む。一般に、第１領域を露光するときの加速度はリニアモータの駆動性能に応じて最適に設定される。上述のように２つの距離を等しくすることによって、第２領域以降も第１領域と同じ加速度で、第１領域の露光終了位置と同じＹ位置から第２領域の露光を開始することができる。
【００２９】
なお、上述のように、ΔＴ３においてウェハステージがＹ方向に移動する距離は、ΔＴ１においてウェハステージがＹ方向に移動する距離と等しくなるため、ΔＴ１における最大加速度（ここではａ１）の絶対値よりもΔＴ３における最大加速度（ここではａ２）の絶対値の方が大きくなる。したがって、ΔＴ３においてはリニアモータ１１による減速に加えてブレーキ機構１９によって減速を補助することが好ましい。
【００３０】
以上をまとめると、本発明の露光方法は、静止しているウェハステージを露光を開始するまで加速する助走工程（ΔＴ１における工程）を備える。さらに本発明の露光方法は、ウェハステージを加速しながらウェハの第１領域に露光を行う露光工程（ΔＴ２における工程）と、露光を終了した後にウェハステージを減速する減速工程（ΔＴ３における工程）と、を備える。ここで、減速工程におけるウェハステージの加速度の絶対値が、助走工程におけるウェハステージの加速度の絶対値よりも大きく、かつ、助走期間においてウェハステージが移動する距離と、減速工程においてウェハステージが移動する距離が等しい。
【００３１】
また、本実施例では露光中に速度が変化するため、ウェハに均一に露光するために、以下のような露光量の制御を行う。コントローラ１５は、走査速度またはレーザ干渉計１３、１４の出力にもとづいて、光源１、照明光学系３、５、遮蔽部４の少なくともいずれかを制御して、露光量の制御を行う。例えば、走査速度に応じて光源１の露光パルスの発振周波数や出力（パワー）、ＯＮ／ＯＦＦのタイミングを変化させることができる。また、レーザ干渉計の出力にもとづいて一定距離を移動するごとにパルス発光をさせるようにしてもよい。また、照明光学系に配置したプリズムの回転を制御してもよい。以上のようにして、走査速度が小さいときには露光量を減らし、走査速度が大きいときには露光量をふやすことが可能となる。すなわち、露光領域全体において、ウェハに均一に露光することができる。
【００３２】
また、ステージに推力が加えられた状態で露光を行うため、例えばステージ変形によって露光精度が劣化することが懸念される。しかしながら、本実施例では推力が大きく変化することがなく実質的に一定であるため、一定の力に対して補正を行うことでこの影響を低減できる。補正方法として、ステージの位置を補正してもよく、投影光学系の収差を補正してもよい。コントローラ１５は、フォーカスセンサ１６から得られるウェハ８の鉛直方向における位置及び傾きと、干渉計１４から得られる水平方向における位置にもとづいて、ウェハ８の水平方向位置に応じた位置及び傾きに関する情報を得る。コントローラ１５はこの情報にもとづいて、好適な露光が行えるように、リニアモータ１１、１２および収差補正機構１７を制御する。
【００３３】
図３は、本実施例におけるウェハステージの駆動目標信号を算出するフローチャートである。以下の制御はコントローラ１５により行われる。
【００３４】
ステップＳ１において、予め設定された走査露光の移動距離を不図示のメモリから読み込む。ステップＳ２において、予め設定された走査露光時の加速度を読み込む。ここで、加速度はリニアモータおよびブレーキ機構を考慮して設定される。ステップＳ３において、これらの情報にもとづいて、ウェハステージが走査移動およびステップ移動するときの、Ｙ方向における最高速度Ｖｙ１、助走時間ΔＴ１、露光時間ΔＴ２、減速時間ΔＴ３を算出する。なお、ΔＴ４はΔＴ１と実質的に等しい。
【００３５】
コントローラ１５は、算出された時間にもとづいて、図１のように露光を行う。
【００３６】
ステップＳ５において、予め設定されたステップ移動距離を読み込む。この設定は、例えばコントローラ１５と通信可能に構成される入力装置にユーザが入力することによって行われる。ステップＳ６において、予め設定されたステップ移動の加速度を読み込む。ステップＳ７において、これらの情報にもとづいてウェハステージがステップ移動するときのＸ方向における最高速度Ｖｘおよびステップ時間（ΔＴ３’＋ΔＴ４’）が算出される。
【００３７】
ステップＳ９において、算出された減速時間ΔＴ３と加速時間ΔＴ４との和が、ステップ時間（ΔＴ３’＋ΔＴ４’）以下かどうかを判定する。もし（ΔＴ３＋ΔＴ４）が（ΔＴ３’＋ΔＴ４’）以上である場合には、１回の走査露光を終えた後にただちに次の走査露光を行うことができる。すなわち、加速時間と減速時間の和（ΔＴ１＋ΔＴ２＋ΔＴ３）が１ショットの処理時間となる。もし（ΔＴ３＋ΔＴ４）が（ΔＴ３’＋ΔＴ４’）よりも小さい場合には、１回の走査露光を終えた後に、ステップ駆動が完了するのを待って、次の走査露光を行う。すなわち、加速時間とステップ時間の和が１ショットの処理時間となる。
【００３８】
つぎに本実施例において１回の露光にかかる時間を概算して、本発明の効果について説明をする。
【００３９】
ΔＴ１においてウェハステージを加速するときの加速度をａ１とすると、速度Ｖｙ０、Ｖｙ１は以下の式で表される。
Ｖｙ０＝ａ１ΔＴ１                            （１）
Ｖｙ１＝ａ１（ΔＴ１＋ΔＴ２）                （２）
【００４０】
また、ΔＴ３においてウェハステージを減速するときの加速度をａ２とすると、以下の式が成り立つ。
Ｖｙ１＝ａ１（ΔＴ１＋ΔＴ２）＝ａ２ΔＴ３      （３）
露光領域のＹ方向の距離をＬｙとすると、以下の式が成り立つ。
（Ｖｙ０＋Ｖｙ１）×ΔＴ２＝２Ｌｙ              （４）
【００４１】
期間ΔＴ３においてウェハステージがＹ方向に移動する距離は、期間ΔＴ１においてウェハステージがＹ方向に移動する距離と等しくなるため、以下の式が成り立つ。
Ｖｙ０ΔＴ１＝Ｖｙ１ΔＴ３                      （５）
【００４２】
期間（ΔＴ３＋ΔＴ４）にＸ方向の移動が完了する場合、Ｘ方向の最高速度をＶｘ、Ｘ方向の移動距離をＬｘすると、以下の式が成り立つ。
【００４３】
【数１】
2010016166.tif 000003
【００４４】
ここで、ΔＴ１＝ΔＴ４として、上述の式を解くと、ΔＴ１、ΔＴ２、ΔＴ３は以下のようになる。
【００４５】
【数２】
2010016166.tif 000004
【００４６】
【数３】
2010016166.tif 000005
【００４７】
【数４】
2010016166.tif 000006
【００４８】
したがって、１回の走査露光にかかる時間Ｔｔｏｔａｌは以下のようになる。
【００４９】
【数５】
2010016166.tif 000007
【００５０】
例えば、加速度ａ１を１．０［Ｇ］（＝９．８［ｍ／ｓ２］）とし、減速ａ２を５．０［Ｇ］（＝５＊９．８［ｍ／ｓ２］）とし、露光すべき領域を横２０ｍｍ縦３０ｍｍとする。一括露光領域が横２０ｍｍ縦８ｍｍとすると、１回の走査距離は３８ｍｍとなる。従って、Ｌｘ＝０．０２０［ｍ］、Ｌｙ＝０．０３８［ｍ］を代入とすると、１回の走査露光にかかる時間Ｔ＝０．１１８［ｓ］となる。
【００５１】
加速度ａ１は１．０［Ｇ］に限られるものではない。ただし、例えば投影光学系の縮小倍率が４倍である場合にはウェハステージの４倍の速度でレチクルステージを駆動する必要があるため、ウェハステージの加速度はレチクルステージの駆動性能によって制限される。
【００５２】
なお、上述の演算においてΔＴ１は０．０４４［ｓ］、ΔＴ３は０．０２０［ｓ］であるため、Ｘ方向のステップ移動（ΔＴ３’＋ΔＴ4’）が０．０６４［ｓ］以下であれば効率的に効率的に露光を行うことができる。例えば、ウェハステージのX方向の加速度が２．０［Ｇ］以上であれば、この条件を満たす。走査方向に直行するX方向に関しては、レチクルステージは連動しないため、ウェハステージの加速度はレチクルステージの駆動性能によって制限されることはない。
【００５３】
つぎに、本実施例の結果と比較するために、従来技術において１回の露光にかかる時間を概算する。
【００５４】
図７は、従来技術におけるウェハステージの時間と速度の関係を示す図である。図７（ａ）はウェハステージのＹ方向（走査方向）における速度を表し、図７（ｂ）はウェハステージのＸ方向（走査方向と直交する方向）における速度を表す。
【００５５】
Ｔ＝Ｔ０において静止状態であるウェハステージ１０は加速を開始し、Ｔ＝Ｔ1において露光を開始する。Ｔ＝Ｔ2において露光を終了し、Ｔ＝Ｔ2からウェハステージの減速を開始する。Ｔ＝Ｔ3においてウェハステージの速度が零となり、Ｔ＝Ｔ4まで−Ｙ方向に加速する。
【００５６】
ここで、Ｔ０〜Ｔ1を加速期間ΔＴ1、Ｔ1〜Ｔ2を加速期間ΔＴ2、Ｔ2〜Ｔ3を減速期間ΔＴ3、Ｔ3〜Ｔ4を加速期間ΔＴ4とする。また、Ｔ＝Ｔ1におけるウェハステージの速度をＶ1とする。
【００５７】
１回の露光が終了すると、ウェハステージはＸ方向へのステップ移動をする。そのため、Ｔ＝Ｔ2においてウェハステージはＸ方向への加速を開始する。ウェハステージはＸ方向において、Ｔ＝Ｔ3まで加速し、その後に減速をして、Ｔ＝Ｔ4において停止する。Ｔ＝Ｔ3におけるウェハステージの速度をＶ2とする。この加速期間をΔＴ3とし、減速期間をΔＴ4とする。
【００５８】
Ｔ＝Ｔ4から２回目の露光を開始する。２回目の露光以降は１回目の露光と同様であるので、詳細な説明を省略する。
【００５９】
期間ΔＴ3およびΔＴ4におけるウェハステージの加速度（ここでは最大加速度）をａとすると、速度Ｖ2は以下の式で表される。
Ｖ2＝ａΔＴ1      （１１）
またＸ方向に隣り合う露光領域の間の距離をＬｘとすると、以下の式が成り立つ。
Ｖ2ΔＴ3＝Ｌｘ      （１２）
【００６０】
ΔＴ3はＸ方向の移動時間の半分であるため、以下の式が成り立つ。
【００６１】
【数６】
2010016166.tif 000008
【００６２】
一方，Ｙ方向の走査露光速度Ｖ1は以下のように表せる。
Ｖ1＝ａΔＴ1      （１４）
【００６３】
露光領域のＹ方向の距離をＬｙとすると、以下の式が成り立つ。
Ｖ1ΔＴ2＝Ｌｙ
【００６４】
これらを解くと、ΔＴ1、ΔＴ2は以下のようになる。
【００６５】
【数７】
2010016166.tif 000009
【００６６】
【数８】
2010016166.tif 000010
【００６７】
したがって、１回の露光処理にかかる時間Ｔは以下のようになる。
【００６８】
【数９】
2010016166.tif 000011
【００６９】
ここから加速度ａ１を１．０［Ｇ］（＝９．８［ｍ／ｓ２］）とし、減速ａ２を５．０［Ｇ］（＝５＊９．８［ｍ／ｓ２］）とし、露光すべき領域を横２０ｍｍ縦３０ｍｍとする。一括露光領域が横２０ｍｍ縦８ｍｍとすると、１回の走査距離は３８ｍｍとなる。従って、Ｌｘ＝０．０２０［ｍ］、Ｌｙ＝０．０３８［ｍ］を代入とすると、１回の走査露光にかかる時間Ｔ＝０．１７６［ｓ］となる。
【００７０】
以上のことから、本実施例によれば、従来技術に比べて走査露光に要する時間を短縮することができる。
【００７１】
ここで、露光装置の性能をあらわす指標である１時間あたりのウェハ処理枚数に換算してみる。直径３００ｍｍウェハに露光領域が１２２箇所あるとする。ウェハ交換に４［ｓ］、ウェハのアライメントに３［ｓ］かかるとする。
【００７２】
従来技術の場合には、さらにジャーク時間と整定時間が必要であり、この時間を８．６［ｓ］とする。従来技術の露光にかかる時間は０．１７６［ｓ］×１２２＝２１．４７２［ｓ］となり、１枚のウェハを処理するのに３７．０７２［ｓ］かかる。１時間あたりのウェハ処理枚数に換算すると９７枚となる。
【００７３】
一方、本実施例は露光にかかる時間は０．１１８［ｓ］×１２２＝１４．３９６［ｓ］となる。本実施例ではジャーク時間と整定時間が必要ないため、１枚のウェハを処理するのに２１．３９６［ｓ］かかる。１時間あたりのウェハ処理枚数に換算すると１６８枚となる。
【００７４】
このように、従来技術に比べて本実施例によれば約１．７倍の生産性を得られることが分かる。
【００７５】
図３は変形例を示す図である。図に示すように、露光終了後に加速度の変化を滑らかにすることで、加速度が変化するときのステージへの変形や振動の影響を低減するようにしている。
【００７６】
上述の実施例で説明した露光装置を用いてデバイス（半導体集積回路素子、液晶表示素子等）が製造される。ここで、デバイス製造方法は、上述の露光装置を使用して感光剤を塗布したウェハ（基板）を露光する工程と、その基板を現像する工程と、他の周知の工程と、を備える。
【図面の簡単な説明】
【００７７】
【図１】実施例１におけるウェハステージの時間と速度の関係を示す図。
【図２】実施例１におけるウェハステージの駆動方向および時刻を示す図
【図３】実施例１におけるウェハステージの駆動目標信号を算出するフローチャート図。
【図４】実施例２におけるウェハステージの時間と速度の関係を示す図。
【図５】走査型露光装置の概略図。
【図６】従来のウェハステージの１回の走査露光における、時間と速度との関係を示す図。
【図７】従来のウェハステージの時間と速度の関係を示す図
【符号の説明】
【００７８】
１  光源
２  光束
３、５  照明光学系
４  遮蔽部
６  レチクル
７  投影光学系
８  ウェハ
９  レチクルステージ
１０  ウェハステージ
１１、１２  駆動機構
１３、１４  レーザ干渉計
１５  コントローラ
１６  フォーカスセンサ
１７  収差補正機構
１８  レンズ
１９  ブレーキ機構
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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