(57)【要約】【課題】光沢感や透明感があって反射防止性を有し、かつ斜めからの観賞でも映り込みが防止された、低コストのディスプレイ用フィルターを提供する。【解決手段】基材上に凹凸構造を有する導電性メッシュを有し、該導電性メッシュ上に、第２の層及び第１の層をこの順に有するディスプレイ用フィルターであって、  前記第１の層及び第２の層が単一層の相分離によって形成されたものであり、  かつ前記第１の層及び第２の層が導電性メッシュの凹凸構造に由来する凹凸構造を有し、  第１の層の側から測定した波長３８０〜７８０ｎｍにおける視感反射率が２．５％以下であることを特徴とする、ディスプレイ用フィルター。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材上に凹凸構造を有する導電性メッシュを有し、該導電性メッシュ上に、第２の層及び第１の層をこの順に有するディスプレイ用フィルターであって、
前記第１の層及び第２の層が単一層の相分離によって形成されたものであり、
かつ前記第１の層及び第２の層が導電性メッシュの凹凸構造に由来する凹凸構造を有し、
第１の層の側から測定した波長３８０〜７８０ｎｍにおける視感反射率が２．５％以下であることを特徴とする、ディスプレイ用フィルター。
【請求項２】
前記第１の層の表面の中心線平均粗さＲａが５０ｎｍ〜７００ｎｍである、請求項１に記載のディスプレイ用フィルター。
【請求項３】
前記第１の層及び第２の層に形成された凹凸構造の高低差（Ｄ）が、０．３μｍ〜７μｍである、請求項１または２に記載のディスプレイ用フィルター。
【請求項４】
前記導電性メッシュの厚みが０．５μｍ以上８μｍ未満である、請求項１〜３のいずれかに記載のディスプレイ用フィルター。
【請求項５】
前記第1の層と第２の層との合計の厚みが１μｍ〜８μｍである、請求項１〜４のいずれかに記載のディスプレイ用フィルター。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＣＲＴ、有機ＥＬディスプレイ、液晶ディスプレイ、及びプラズマディスプレイ等のディスプレイ装置の画面に装着されるディスプレイ用フィルターに関し、詳しくは、光沢感や透明感があって反射防止性を有し、かつ斜めからの観賞でも映り込みが防止されたディスプレイ用フィルターに関する。
【背景技術】
【０００２】
ディスプレイに要求される性能の１つとして、蛍光灯等の外光の映り込みの防止がある。従来の映り込み防止の方法として、ディスプレイの前面に、基材上に屈折率差を利用した反射防止層を有する反射防止フィルムを設置する方法、あるいは基材上に粒子を含有する防眩層を有する防眩性フィルムを設置する方法が一般的に知られている。
【０００３】
しかしながら、反射防止フィルムの場合は、ディスプレイを斜めから観賞した場合には、映り込み防止効果が低減するという問題があり、一方、防眩性フィルムの場合は、映り込み防止効果を高めようとすれば、ディスプレイ画像の光沢感や透明感が低下するという問題がある。
【０００４】
近年、画面サイズが４０インチ以上、更には５０インチ以上の薄型で大画面のプラズマディスプレイや液晶ディスプレイが普及しており、これらの薄型大画面のディスプレイは、画像観賞のみではなく、室内装飾用の置物としての役割も担っている。
このような状況において、光沢感の低下は、ディスプレイを点灯しているときの画像品質の低下だけではなく、ディスプレイを消灯しているときの画面のざらつきによって、室内装飾性を大きく損なう要因となっていた。
【０００５】
従来から一般的に知られているディスプレイ用フィルターとして、プラスチックフィルム上に反射防止層や近赤外線遮蔽層が設けられた光学機能性フィルムと、導電層（電磁波遮蔽層）が設けられたプラスチックフィルム（電磁波遮蔽フィルム）とを接着層を介して積層されたものが挙げられる。
【０００６】
近年、ディスプレイの低価格化に伴ってディスプレイ用フィルターも低価格化を余儀なくされている。上記したような２枚のフィルムからなるディスプレイ用フィルターに対して、プラスチックフィルムを１枚のみにすることによって低価格化が可能となる。このような１枚のプラスチックフィルムからなるディスプレイ用フィルターの１つの態様として、プラスチックフィルム上に導電層を設け更にその上に、ハードコート層、反射防止層、防眩層等の機能層を積層したディスプレイ用フィルターが提案されている（特許文献１〜３）。
【０００７】
一方、相分離構造を有するハードコート層が知られている（特許文献４、５）。相分離構造のハードコート層は、相分離を利用して、ハードコート層（下層）と低屈折率層（上層）を単一層の塗工で形成するというものである。
【特許文献１】特開２００７−１４０２８２号公報
【特許文献２】特開２００７−２４３１５８号公報
【特許文献３】ＷＯ２００８／０２９７０９号公報
【特許文献４】特許第３８６１５６２号公報
【特許文献５】特開２００８−２４１８８２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、特許文献１〜３に記載されている構成は、導電性メッシュ上にハードコート層と反射防止層を積層する構成、導電性メッシュ上に防眩層を積層する構成、あるいは導電性メッシュ上に防眩層と反射防止層を積層する構成であり、これらの構成は、従来から一般的に知られている、ハードコート層、反射防止層、あるいは防眩層を単に積層するというものであり、導電性メッシュ上にこれらの層を積層することによる特異的な効果を意図したものではない。そして、特許文献１〜３には、単一層の相分離によって形成されたハードコート層と低屈折率層を、導電性メッシュ上に積層することは記載されていない。
【０００９】
凹凸構造を有する導電性メッシュ上に、極薄膜の反射防止層を直接に塗工形成することは困難であり、特許文献１〜３にも記載されているように、先ず導電性メッシュ上に厚みの比較的大きいハードコート層を塗工形成し、その上に低屈折率層等の反射防止層を塗工形成する必要がある。このように、導電性メッシュ上に反射防止層を形成するためには、少なくとも２回の塗工工程が必要であり、生産性の低下、コスト増の要因となっていた。また、前述したように反射防止層は、正面からの観賞においては、外光（蛍光灯等）映り込み防止効果はあるが、斜めからの観賞では映り込み防止効果が低減するという問題がある。
【００１０】
また、前述したように、粒子を含有する防眩層は、映り込み防止効果を高めようとすれば、ディスプレイ画像の光沢感や透明感が低下するという問題があり、上記の特許文献１〜３に記載されている、導電性メッシュ上に粒子を含有する防眩層を形成する場合も同様な問題がある。
特許文献４、５には、相分離構造のハードコート層が記載されているが、導電性メッシュ上に相分離構造のハードコート層を積層することは記載されておらず、ましてや導電性メッシュの凹凸構造に由来する凹凸構造を、相分離構造のハードコート層に形成することは全く記載されていない。
また、上記特許文献１〜３のような、導電性メッシュを基材（プラスチックフィルム）より視認側（鑑賞者側）に配置し、導電性メッシュ上にはハードコート層や反射防止層等の薄膜の機能層のみしか有しない構成のディスプレイ用フィルターは、導電性メッシュに起因すると考えられる微小異物（点状欠点）が目立ちやすくなると言う問題があった。
【００１１】
そこで、本発明は、上記の従来技術にかかる課題に鑑み、光沢感や透明感があって反射防止性を有し、かつ斜めからの観賞でも映り込みが防止された、低コストのディスプレイ用フィルターを提供することを目的とし、また、本発明は、導電性メッシュを基材より視認側に配置したときに生じる、微小異物の視認性を抑制（微小異物の隠蔽性を高めること）されたディスプレイ用フィルターを提供することを目的とし、また更に、本発明は、薄型大画面のディスプレイの室内装飾用としての機能を高めることができるディスプレイ用フィルターを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明の上記目的は、以下の発明によって基本的に達成された。
１）基材上に凹凸構造を有する導電性メッシュを有し、該導電性メッシュ上に、第２の層及び第１の層をこの順に有するディスプレイ用フィルターであって、
前記第１の層及び第２の層が単一層の相分離によって形成されたものであり、
かつ前記第１の層及び第２の層が導電性メッシュの凹凸構造に由来する凹凸構造を有し、
第１の層の側から測定した波長３８０〜７８０ｎｍにおける視感反射率が２．５％以下であることを特徴とする、ディスプレイ用フィルター。
２）前記第１の層の表面の中心線平均粗さＲａが５０ｎｍ〜７００ｎｍである、前記１）に記載のディスプレイ用フィルター。
３）前記第２の層及び第１の層に形成された凹凸構造の高低差（Ｄ）が、０．３μｍ〜７μｍである、前記１）または２）に記載のディスプレイ用フィルター。
４）前記導電性メッシュの厚みが０．５μｍ以上８μｍ未満である、前記１）〜３）のいずれかに記載のディスプレイ用フィルター。
５）前記第２の層と第１の層との合計の厚みが１μｍ〜８μｍである、前記１）〜４）のいずれかに記載のディスプレイ用フィルター。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、光沢感や透明感があり、かつどの角度からディスプレイを観賞しても外光の映り込みが防止されたディスプレイ用フィルターを低コストで提供することができる。また、本発明によれば、導電性メッシュを基材より視認側に配置したときに生じる、微小異物の視認性を抑制することができる。また更に、本発明のディスプレイ用フィルターを薄型大画面のディスプレイに装着することによって、室内装飾用としての機能を高めることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
本発明のディスプレイ用フィルターは、基材上に凹凸構造を有する導電性メッシュを有し、該導電性メッシュ上に、単一層の相分離によって形成された第２の層と第１の層をこの順に有し、前記第２の層及び第１の層は、前記導電性メッシュの凹凸構造に由来する凹凸構造を有し、かつ第１の層の側から測定した波長３８０〜７８０ｎｍにおける視感反射率が２．５％以下であることを特徴とする。
【００１５】
以下、第２の層と第１の層とが、単一層の相分離によって形成される態様について詳細に説明する。
【００１６】
上記の相分離は、第２の層を形成する成分（第２の層形成成分）と第１の層を形成する成分（第１の層形成成分）とが混合された、単一層形成用の塗布液を塗工し、塗工された単一層を乾燥する過程において、単一層から第２の層形成成分と第１の層形成成分が相分離し、相対的に表面エネルギーの低い第１の層形成成分が空気との界面、即ち塗布膜の表面に移動することによって成され、その結果、下側に第２の層、上側に第１の層が形成される。また、第２の層形成成分と第１の層形成成分との相溶性を低くすることによって、単一層の相分離を促進させることができる。
【００１７】
本発明における第1の層としては、第２の層よりも屈折率の低い層、つまり低屈折率層であることが好ましく、第２の層としては、第１の層よりも屈折率が高く、かつ硬度が高い層、つまりハードコート層であることが好ましい。
【００１８】
上記のように、単一層からの相分離によって、第１の層（好ましくは低屈折率層）を上側に、第２の層（好ましくはハードコート層）を下側（基材側）に形成することによって、第１の層の側から測定した波長３８０〜７８０ｎｍにおける視感反射率を２．５％以下とすることができ、ディスプレイを正面から観察したときの映り込み防止の低減が図られる。
【００１９】
上記の視感反射率は、２．３％以下が好ましく、２．１％以下がより好ましい。視感反射率の下限は、０．１％程度である。
【００２０】
本発明における第２の層と第１の層とが単一層の相分離によって形成される態様は特に限定されないが、このような単一層の相分離によって形成される第２の層と第１の層については、例えば、ハードコート性の第２の層と低屈折率性の第１の層を単一層から相分離して形成することが、特許第３８６１５６２号公報や特開２００８−２４１８８２号公報に記載されており、本発明はこれらの技術を用いることも可能である。
【００２１】
上述した第１の層形成成分としては、フッ素含有化合物が好ましく用いられる。第２の層形成成分としては、多官能（メタ）アクリレート化合物が好ましく用いられる。ここで、多官能（メタ）アクリレートとは、多官能アクリレートと多官能メタクリレートを総称したものである。
【００２２】
第１の層形成成分として好ましく用いられるフッ素含有化合物としては、例えば、ａ）パーフルオロアルキル基含有シランの加水分解物とコロイダルシリカ等のシリカ微粒子との反応物、ｂ）含フッ素（メタ）アクリレートで形成された微粒子が挙げられる。ここで、含フッ素（メタ）アクリレートとは、含フッ素アクリレートと含フッ素メタクリレートを総称したものである。
【００２３】
上記ａ）のパーフルオロアルキル基含有シランの加水分解物とコロイダルシリカ等のシリカ微粒子との反応物について詳細に説明する。
【００２４】
パーフルオロアルキル基含有シランとしては、例えば、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリエトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリエトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリエトキシシラン等が好ましく用いられる。これらの化合物は単独、あるいは２種以上組み合わせて使用することができる。
【００２５】
パーフルオルロアルキル基含有シランの加水分解物は、以下のようにして得ることができる。即ち、パーフロロアルキル基含有シランに純水を添加し、混合する。あるいは塩酸、硝酸、硫酸、酢酸、シュウ酸、クエン酸、酒石酸等の酸を触媒として添加した酸性水、若しくはアンモニア、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミンなどの塩基を触媒として添加した塩基性水を添加し、撹拌する。このとき、水の添加量を制御することにより、加水分解の進行度合を調節することができる。なお、一般には、水の添加量は、加水分解の対象となる化合物の加水分解性基と等モル以上、具体的には、例えば１．０〜２．０倍モルであることが望ましい。また、加水分解の反応系を均一化させる目的で、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロピルアルコールなどのアルコール類などの溶媒を、水に対して１０〜８０重量％程度添加することもできる。
【００２６】
上記のパーフロロアルキル基含有シランの加水分解物と反応せしめられるシリカ微粒子は、粒子表面に水酸基を有し、パーフルオロアルキル基含有シランの加水分解物と脱水縮合反応が可能なものである。シリカ微粒子の表面の水酸基とパーフルオロアルキル基含有シランの加水分解物のシラノール基が脱水縮合反応する結果、低屈折率化に寄与するパーフルオロアルキル基が、シリカ微粒子表面に化学的に固定化される。
【００２７】
上記シリカ微粒子としては、コロイド状のシリカ微粒子が好ましく、その平均粒子径としては、１〜１００ｎｍの範囲が好ましく、５〜７０ｎｍの範囲がより好ましい。かかるシリカ微粒子として、コロイダルシリカが好ましく用いられる。ここで、シリカ微粒子の平均粒子径は、透過型電子顕微鏡観察によって求めた平均粒子径である。具体的には、透過型電子顕微鏡（（株）日立製作所製のＨ−７１００ＦＡ型）を用いて、上記のシリカ微粒子分散液を倍率１０万〜５０万倍で撮影して得られた写真投影図において、任意の５０個の粒子についてそれぞれの最大径を測定し、平均したものである。撮影倍率は、シリカ微粒子の平均粒子径に応じて適宜選択する。
【００２８】
パーフルオロアルキル基含有シランの加水分解物とシリカ微粒子の混合比率は、シリカ微粒子１００質量部に対し、パーフルオロアルキル基含有シランの加水分解物は０．５〜４０質量部の範囲が適当であり、パーフルオロアルキル基含有シランの加水分解物は１〜２０質量部の範囲が好ましい。
【００２９】
また、パーフルオロアルキル基含有シランの加水分解物と併せて、さらに（メタ）アクリル官能性シランの加水分解物をもシリカ微粒子と反応せしめることが好ましい。これによって、第２の層と第１の層との界面における架橋硬化に寄与する（メタ）アクリロイル基が、シリカ微粒子表面に化学的に固定化される。ここで、（メタ）アクリル官能性シランとは、アクリル官能性シランとメタクリル官能性シランを総称したものである。
【００３０】
パーフルオロアルキル基含有シランの加水分解物と（メタ）アクリル官能性シランの加水分解物との混合比率は、パーフルオロアルキル基含有シランの加水分解物１００質量部に対して、（メタ）アクリル官能性シランの加水分解物が２０質量部〜１００質量部の範囲が適当である。
【００３１】
第１の層形成成分として好ましく用いられる、ｂ）含フッ素（メタ）アクリレートで形成された微粒子について以下に説明する。
【００３２】
含フッ素（メタ）アクリレートとしては、例えば、２，２，２−トリフルオロエチルアクリレート、２，２，２−トリフルオロエチルメタクリレート、２，２，３，３−テトラフルオロプロピルアクリレート、１Ｈ、１Ｈ、５Ｈ−オクタフルオロペンチルアクリレート、１Ｈ、１Ｈ、５Ｈ−オクタフルオロペンチルメタクリレート、パーフルオロオクチルエチルメタクリレート等が挙げられる。これらは単独あるいは２種以上を混合して重合時に使用してもよい。
【００３３】
含フッ素（メタ）アクリレートで形成された微粒子の形状は、球状、数珠状が好ましいが、特にこれらに限定されない。かかる微粒子の平均粒子径としては、５０〜５００ｎｍの範囲にあることが好ましく、８０〜３００ｎｍの範囲がより好ましい。ここで、微粒子の平均粒子径は、透過型電子顕微鏡観察によって求めた平均粒子径である。具体的には、透過型電子顕微鏡（（株）日立製作所製のＨ−７１００ＦＡ型）を用いて、上記微粒子の分散液を倍率１０万〜５０万倍で撮影して得られた写真投影図において、任意の５０個の粒子についてそれぞれの最大径を測定し、平均したものである。撮影倍率は、微粒子の平均粒子径に応じて適宜選択する。
【００３４】
上記微粒子の屈折率は、１．４０〜１．４９の範囲が好適である。屈折率が１．４０以上であれば、低屈折率微粒子の合成が容易であり、また、１．４９以下であれば、十分な反射防止性能が得られる。
【００３５】
上記微粒子は、例えば、乳化重合法により合成することができる。この場合、上記した含フッ素（メタ）アクリレートを含むモノマー全量１００質量％のうち、１質量％〜５０質量％の範囲で、フッ素を含まない２官能以上の（メタ）アクリレートモノマーを用いることが好ましい。乳化重合法を用いれば、合成された微粒子の粒子径のバラツキを小さくすることができる。そのことにより、微粒子から成る第１の層を均一に配向させることができ、反射防止効果を、画面内でより一層、均一化することができる。
【００３６】
次に第２の層形成成分について説明する。かかる第２の層形成成分として、多官能（メタ）アクリレート化合物が好ましく用いられる。
【００３７】
多官能（メタ）アクリレート化合物としては、（メタ）アクリロイル基を分子内に２個以上有する多官能（メタ）アクリレート化合物が好ましく、更に（メタ）アクリロイル基を分子内に３個以上有する多官能（メタ）アクリレート化合物が好ましく、特に（メタ）アクリロイル基を分子内に３〜１０個有する多官能（メタ）アクリレート化合物が好ましく用いられる。
【００３８】
かかる多官能（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジイルジメチレンジ（メタ）アクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルの両末端（メタ）アクリル酸付加物、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、グリセロールトリ（メタ）アクリレート、エチレン変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス−（２−ヒドロキシエチル）−イソシアヌル酸エステルトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００３９】
第２の層形成成分として、更に光重合開始剤を含有することが好ましい。かかる光重合開始剤としては、具体的には、ソジウムメチルジチオカーバメイトサルファイド、ジフェニルモノサルファイド、ジベンゾチアゾイルモノサルファイド及びジサルファイド等のサルファイド類や、チオキサントン、２−エチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン等のチオキサントン誘導体や、ヒドラゾン、アゾビスイソブチロニトリル等のアゾ化合物や、ベンゼンジアゾニウム塩等のジアゾ化合物や、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾフェノン、ジメチルアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンジルアントラキノン、ｔ−ブチルアントラキノン、２−メチルアントラキノン、２−エチルアントラキノン、２−アミノアントラキノン、２−クロロアントラキノン等の芳香族カルボニル化合物や、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸メチル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル、Ｄ−ジメチルアミノ安息香酸ブチル、ｐ−ジエチルアミノ安息香酸イソプロピル等のジアルキルアミノ安息香酸エステルや、ベンゾイルパーオキサイド、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド等の過酸化物や、９−フェニルアクリジン、９−ｐ−メトキシフェニルアクリジン、９−アセチルアミノアクリジン、ベンズアクリジン等のアクリジン誘導体や、９，１０−ジメチルベンズフェナジン、９−メチルベンズフェナジン、１０−メトキシベンズフェナジン等のフェナジン誘導体や、６，４’，４”−トリメトキシ−２、３−ジフェニルキノキサリン等のキノキサリン誘導体や、２，４，５−トリフェニルイミダゾイル二量体、２−ニトロフルオレン、２，４，６−トリフェニルピリリウム四弗化ホウ素塩、２，４，６−トリス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、３，３’−カルボニルビスクマリン、チオミヒラーケトン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシド、オリゴ（２−ヒドロキシ−２−メチル−１−（４−（１−メチルビニル）フェニル）プロパノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン等を使用することができる。
【００４０】
光重合開始剤の含有量は、多官能（メタ）アクリレート化合物１００質量部に対して、０．１〜２０質量部が好ましく、１．０〜１５．０質量部の範囲がより好ましい。
【００４１】
また、第２の層形成成分に、上記光重合開始剤の酸素阻害による感度の低下を防止するために、光重合開始剤にアミン化合物を共存させてもよい。このようなアミン化合物としては、例えば、脂肪族アミン化合物や、芳香族アミン化合物等の不揮発性のものであれば、特に限定されないが、例えば、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン等が適切である。
【００４２】
第１の層形成成分と第２の層形成成分の混合比率は、第２の層形成成分１００質量部に対して、第１の層形成成分が０．１〜３０質量部の範囲が好ましい。これによって、良好なハードコート性と反射防止性が得られる。
【００４３】
本発明の第２の層形成成分と第１の層形成成分を含有する単一層形成用の塗布液は、適当な有機溶剤によって希釈し、該塗布液の粘度を調整することが好ましい。かかる有機溶剤としては、エタノール、イソプロピルアルコール、トルエン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、酢酸エチル等が好ましく用いられる。
【００４４】
本発明は、上記した第２の層形成成分と第１の層形成成分とを含む単一層を導電性メッシュ上に塗工により形成した後、該単一層が相分離することによって形成された第２の層及び第１の層が、導電性メッシュの凹凸構造に由来した凹凸構造を有することを特徴とする。
【００４５】
第２の層及び第１の層が、導電性メッシュの凹凸構造に由来する凹凸構造を有するとは、導電性メッシュの凹凸構造、即ち、導電性メッシュを構成する細線（凸部）と、細線と細線で囲まれた開口部（凹部）を利用して、導電性メッシュの細線上に第２の層及び第１の層の凸部を形成し、導電性メッシュの開口部に第２の層及び第１の層の凹部を形成することを意味する。
【００４６】
図１は、導電性メッシュ上に、単一層の相分離によって形成された第２の層と第１の層が積層された状態の一例を示す模式断面図である。図１は、導電性メッシュ上に、単一層の塗布膜３が塗工された後、相分離によって第２の層４と第１の層５が形成された状態を示すものである。図１において、導電性メッシュの細線（凸部）２の上に、第２の層４及び第１の層５の凹凸構造のなかの凸部が形成され、導電性メッシュの開口部（細線と細線の間）に第２の層４と第１の層５の凹凸構造のなかの凹部が形成されている。符号１は、基材である。
【００４７】
本発明にかかる第２の層及び第１の層に、導電性メッシュの凹凸構造に由来する凹凸構造を形成することによって、光沢感や透明感があり、かつどの角度からディスプレイを観賞しても外光の映り込みが有効に防止される。即ち、ディスプレイを正面から観賞した場合の映り込みの防止は、第１の層を設けることによって成され、ディスプレイを斜めから観賞した場合の映り込みの防止は、第２の層及び第１の層が上記した凹凸構造を有することによって成される。
【００４８】
本発明において、第２の層及び第１の層の凹凸構造が、導電性メッシュの凹凸構造に由来するかどうかは、第２の層及び第１の層の表面形状を観察もしくは測定することによって判定することができる。例えば、１つの判定方法として、第２の層及び第１の層の２次元の表面形状プロファイルをレーザー顕微鏡（例えば、（株）キーエンスのＶＫ−９７００）で測定し、導電性メッシュの細線上に第２の層及び第１の層の凸部が形成され、導電性メッシュの開口部に表面層の凹部が形成されているかどうかで判定することができる。
【００４９】
本発明において、ディスプレイを斜めから観賞したときの映り込み防止の効果を高めるためには、第２の層及び第１の層に形成された凹凸構造の粗さ程度を比較的大きくすることが好ましく、上記凹凸構造の粗さ程度は、中心線平均粗さＲａで表すことができる。本発明にかかる第２の層及び第１の層の中心線平均粗さＲａ、即ち第１の層表面の中心線平均粗さＲａは、５０ｎｍ以上が好ましく、８０ｎｍ以上がより好ましく、１００ｎｍ以上が更に好ましく、特に１２０ｎｍ以上が好ましい。また、第２の層及び第１の層に適度の凹凸構造を形成することによって、耐擦傷性が向上するという効果もある。
【００５０】
一方、第１の層の中心線平均粗さＲａが大きくなり過ぎると、光沢感や透明感の低下、反射防止性効果の低下、及び相分離構造の形成不良等が起こる場合があるので、第１の層の中心線平均粗さＲａの上限は、７００ｎｍ以下が好ましく、６００ｎｍ以下がより好ましく、更に５００nm以下が好ましく、特に４００ｎｍ以下が好ましい。
【００５１】
また、第２の層及び第１の層に形成された凹凸構造の粗さ程度を比較的大きくするという観点から、第２の層及び第１の層の凹凸構造の高低差（Ｄ）、即ち、凸部の頂点６と凹部の最低点７との垂直距離が、０．３μｍ以上が好ましく、０．４μｍ以上がより好ましく、特に０．５μｍ以上が好ましい。一方、上記凹凸構造の高低差（Ｄ）が大きくなり過ぎると、光沢感や透明感の低下、反射防止性効果の低下、及び相分離構造の形成不良等が起こる場合があるので、凹凸構造の高低差（Ｄ）の上限は、７μｍ以下が好ましく、５μｍ以下がより好ましく、更に４μｍ以下が好ましく、特に３μｍ以下が好ましい。
【００５２】
第２の層及び第１の層に、導電性メッシュの凹凸構造に由来する凹凸構造を有効に形成するには、導電性メッシュの厚み１００％に対して、第２の層及び第１の層の合計厚みを３００％以下にすることが好ましい。導電性メッシュの厚み１００％に対して、第２の層及び第１の層の合計厚みが３００％を越えると、第２の層及び第１の層に凹凸構造が十分に形成されない場合がある。
【００５３】
第２の層及び第１の層の合計厚みは、導電性メッシュの厚み１００％に対して、２５０％以下がより好ましく、更に２００％以下が好ましく、特に１６０％以下が好ましい。下限は５０％程度である。
【００５４】
また、第２の層及び第１の層の合計厚みが大きくなりすぎると、相分離が起こりにくくなったり、カールが発生しやすくなったりするので、第２の層と第１の層の合計厚みは、８μｍ以下が好ましく、７μｍ以下がより好ましく、更に６μｍ以下が好ましく、特に５μｍ以下が好ましい。厚みの下限は、第２の層のハードコート性を確保するという観点から１μｍ程度である。
【００５５】
ここで、第２の層と第１の層の合計厚みとは、導電性メッシュの開口部（導電性メッシュの細線と細線で囲まれた領域）における、最も厚みの小さい部分（図１の最低点７）の厚みを意味する。図１の符号Ｌが、第２の層と第１の層の合計厚みを表し、基材１の第１の層側の最表面から第１の層５の基材を有する側とは異なる側の最表面までの距離である。
【００５６】
上記した、第２の層及び第１の層の合計厚みの好ましい範囲で、塗工の均一性及び安定性を確保し、かつ導電性メッシュに由来する凹凸構造を有効に形成するためには、導電性メッシュの厚みは、比較的小さいことが好ましい。具体的には、導電性メッシュの厚みは、８μｍ未満が好ましく、６μｍ未満がより好ましく、更に４μｍ未満が好ましく、特に３μｍ未満が好ましい。導電性メッシュの厚みの下限は、電磁波遮蔽性を確保するという観点から０．５μｍ程度である。
【００５７】
第２の層形成成分と第１の層形成成分を含む単一層形成用塗布液の塗工の観点から、第２の層及び第１の層に導電性メッシュの凹凸構造に由来する凹凸構造を形成する方法について以下に説明する。以下、第２の層形成成分と第１の層形成成分を含む単一層形成用塗布液を単に、塗布液と略記する。
【００５８】
上記の１つの方法として、塗布液の粘度を比較的小さくする方法が挙げられる。具体的には、上記塗布液の粘度（２３℃）は、２０ｍＰａ・ｓ以下が好ましく、１５ｍＰａ・ｓ以下がより好ましく、特に１０ｍＰａ・ｓ以下が好ましい。下限の粘度は１ｍＰａ・ｓ程度である。塗布液の粘度の調整は、上述したように、適当な有機溶媒で希釈することによって成される。
【００５９】
また、別の方法として、塗布液にレベリング剤を含有させる方法が挙げられる。かかるレベリング剤としては、シリコーン系レベリング剤、フッ素系レベリング剤、アクリル系レベリング剤が挙げられる。上記レベリング剤は、単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００６０】
上記のレベリング剤の中でも、シリコーン系レベリング剤、フッ素系レベリング剤が好ましい。本来、レベリング剤は、塗工された塗布液を平滑化するために用いられるものであるが、導電性メッシュ上に直接に本発明にかかる塗布液を塗工する場合、レベリング剤は導電性メッシュの凹凸構造に由来する凹凸構造を形成するのに有効に作用する。
【００６１】
前記シリコーン系レベリング剤としては、例えば、ポリエーテル変性シリコーン、ポリエステル変性シリコーン、パーフルオロ変性シリコーン、反応性シリコーン、ポリジメチルシロキサン、ポリメチルアルキルシロキサン等があげられる。
【００６２】
かかるシリコーン系レベリング剤としては、日本ユニカー（株）製の「ＳＩＬＷＥＴシリーズ」、「ＳＵＰＥＲＳＩＬＷＥＴシリーズ」、「ＡＢＮＳＩＬＷＥＴシリーズ」、信越化学社製の「ＫＦシリーズ」、「Ｘ−２２シリーズ」、ビックケミー・ジャパン（株）製の「ＢＹＫ−３００シリーズ」、共栄社化学（株）製の「グラノールシリーズ」、東レダウコーニング（株）製の「ＳＨシリーズ」、「ＳＴシリーズ」、「ＦＺシリーズ」、チッソ（株）製の「ＦＭシリーズ」、ＧＥ東芝シリコーン（株）製の「ＴＳＦシリーズ」（以上商品名）等が市販されている。
【００６３】
フッ素系レベリング剤としては、フルオロアルキル基を有する化合物が好ましい。かかるフルオロアルキル基としては、炭素数１〜２０の直鎖あるいは分岐構造、脂環式構造（好ましくは５員環または６員環）であっても良く、エーテル結合を有していても良い。上記のフッ素系レベリング剤は、ポリマーであっても、オリゴマーであってもよい。
【００６４】
また、フッ素系レベリング剤としては、疎水基がパーフルオロカーボンチェインをもつレベリング剤が挙げられる。具体的には、フルオロアルキルカルボン酸、Ｎ−パーフルオロオクタンスルホニルグルタミン酸ジナトリウム、３−（フルオロアルキルオキシ）−１−アルキルスルホン酸ナトリウム、３−（ω−フルオロアルカノイル−Ｎ−エチルアミノ）−１−プロパンスルホン酸ナトリウム、Ｎ−（３−パーフルオロオクタンスルホンアミド）プロピル−Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−カルボキシメチレンアンモニウムベタイン、パーフルオロアルキルカルボン酸、パーフルオロオクタンスルホン酸ジエタノールアミド、パーフルオロアルキルスルホン酸塩、Ｎ−プロピル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）パーフルオロオクタンスルホンアミド、パーフルオロアルキルスルホンアミドプロピルトリメチルアンモニウム塩、パーフルオロアルキル−Ｎ−エチルスルホニルグリシン塩、リン酸ビス（Ｎ−パーフルオロオクチルスルホニル−Ｎ−エチルアミノエチル）等が挙げられる。      
【００６５】
かかるフッ素系レベリング剤としては、例えば、共栄社化学（株）製の「ポリフロー６００」、ダイキン化学工業（株）製の「Ｒ−２０２０、Ｍ−２０２０、Ｒ−３８３３、Ｍ−３８３３」、大日本インキ（株）製の「メガファックＦ−１７１、Ｆ−１７２Ｄ、Ｆ−１７９Ａ、Ｆ−４７０、Ｆ−４７５、Ｒ−０８、ディフェンサＭＣＦ−３００」（以上商品名）などが挙げられる。
【００６６】
アクリル系レベリング剤としては、東亜合成化学（株）製の「ＡＲＵＦＯＮ−ＵＰ１０００シリーズ」、「ＵＨ２０００シリーズ」、「ＵＣ３０００シリーズ」、共栄社化学（株）製の「ポリフロー７７」（以上商品名）等が市販されている。
【００６７】
塗布液中へのレベリング剤の添加量は、塗布液に含まれる固形分総量（有機溶剤を除く全ての成分）１００質量％に対して、０．０５〜３質量％の範囲が好ましく、０．１〜２質量％の範囲がより好ましく、特に０．２〜１質量％の範囲が好ましい。
【００６８】
塗布液の塗工方法としては、各種の塗工方法、例えば、リバースコート法、グラビアコート法、ロッドコート法、バーコート法、ダイコート法またはスプレーコート法などを用いることができる。これらの中でも、グラビアコート法、ダイコート法が好ましく用いられる。
【００６９】
塗布液は、導電性メッシュ上に直接に塗布されることが好ましい。塗布液が導電性メッシュ上に塗工され、乾燥された後、活性線を照射して硬化せしめることが好ましい。かかる活性線としては、紫外線、電子線および放射線（α線、β線、γ線など）などが挙げられ、実用的には、紫外線が簡便であり好ましい。紫外線源としては、紫外線蛍光灯、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノン灯、炭素アーク灯などを用いることができる。また、活性線を照射するときに、低酸素濃度下で照射を行なうと、効率よく硬化させることができる。また、電子線照射方式は、装置が高価で不活性気体下での操作が必要ではあるが、塗布液中に光重合開始剤や光増感剤などを含有させなくてもよい点で有利である。
【００７０】
上述したような第１の層形成成分、第２の層形成成分、更に必要に応じて溶媒や各種添加剤を含む単一層形成用塗布液を、上述のように導電性メッシュ上に塗工して単一層を形成し、続いて乾燥、活性線照射をすることで、該単一層は導電性メッシュ側から第２の層と第１の層に相分離することとなり、結果として導電性メッシュ上に第２の層及び第１の層をこの順に形成することができる。
【００７１】
（導電性メッシュ）
以下に、本発明にかかる導電性メッシュについて詳細に説明する。導電性メッシュは、ディスプレイから発生される電磁波を遮蔽するためのものであり、その観点から、面抵抗で３Ω／□以下が好ましく、１Ω／□以下がより好ましく、更に０．５Ω／□以下が好ましい。面抵抗は低いほど電磁波遮蔽性が向上するために好ましいが、現実的な下限は０．０１Ω／□程度と考えられる。
【００７２】
本発明は、第２の層及び第１の層が、導電性メッシュの凹凸構造に由来する凹凸構造を有することが重要であるので、導電性メッシュは特定の厚みを有していることが重要である。さらに前述したように、第２の層形成成分と第１の層形成成分を含む塗布液の塗工性の観点から、導電性メッシュの厚みは、８μｍ未満が好ましく、６μｍ未満がより好ましく、更に４μｍ未満が好ましく、特に３μｍ未満が好ましい。導電性メッシュの厚みの下限は、電磁波遮蔽性を確保するという観点から０．５μｍ程度である。
【００７３】
本発明にかかる導電メッシュのピッチは、５０〜５００μｍの範囲が好ましく、７５〜４５０ｎｍの範囲がより好ましく、１００〜３５０μｍの範囲が更に好ましい。
【００７４】
導電メッシュのピッチが５０μｍより小さくなると透過率が低下する傾向にあり、５００μｍより大きくなると導電性が低下する傾向があり好ましくない。
【００７５】
本発明にかかる導電メッシュの線幅は、３〜３０μｍの範囲が好ましく、５〜２０μｍの範囲がより好ましい。
【００７６】
導電メッシュの線幅が、３μｍより小さくなると電磁波遮蔽性が低下する傾向にあり、一方、線幅が３０μｍより大きくなるとディスプレイ用フィルターの透過率が低下する傾向にある。
【００７７】
導電メッシュのメッシュパターンの形状（開口部の形状）は、例えば、正方形、長方形、菱形等の４角形からなる格子状メッシュパターン、三角形、５角形、６角形、８角形、１２角形のような多角形からなるメッシュパターン、円形、楕円形からなるメッシュパターン、前記の複合形状からなるメッシュパターン、及びランダムメッシュパターンが挙げられる。上記の中でも、４角形からなる格子状メッシュパターン、６角形からなるメッシュパターンが好ましく、更に規則的なメッシュパターンが好ましく用いられる。
【００７８】
以下に、基材上に導電性メッシュを形成する方法について説明する。導電性メッシュの製造方法としては、様々な方法が知られており、本発明ではこれらの公知の方法を用いることができる。例えば、１）基材上に導電性インキをパターン状に印刷する方法。２）メッキの触媒核を含むインキでパターン印刷した後にメッキを施す方法、３）導電性繊維を用いる方法、４）基材上に金属箔を接着剤で貼り合わせた後にパターニングする方法、５）基材上に気相製膜法あるいはメッキ法により金属薄膜を形成した後にパターニングする方法、６）感光性銀塩を用いる方法、及び７）金属薄膜をレーザーアブレーションする方法等が挙げられるが、本発明における基材上に導電性メッシュを形成する方法としてはこれらに限定されない。
【００７９】
上記の導電性メッシュの製造方法について詳細に説明する。
【００８０】
１）基材上に導電性インキをパターン状に印刷する方法は、基材上に導電性インキを、スクリーン印刷、グラビア印刷等の公知の印刷法によりパターン状に印刷する方法である。
【００８１】
２）メッキの触媒核を含むインキでパターン印刷した後にメッキを施す方法は、例えば、パラジウムコロイド含有ペーストからなる触媒インクを用いてパターン状に印刷し、これを無電解銅メッキ液中に浸漬して無電解銅メッキを施し、続いて電解銅メッキを施し、さらにＮｉ−Ｓｎ合金の電解メッキを施して導電性メッシュパターンを形成する方法である。
【００８２】
３）導電性繊維を用いる方法は、導電性繊維からなる編布を接着剤または粘着材を介して貼り合わせる方法である。
【００８３】
４）基材上に金属箔を接着剤で貼り合わせた後にパターニングする方法は、基材上に金属箔（銅、アルミニウム、又はニッケル等）を接着剤または粘着材を介して貼り合わせた後、この金属箔をフォトリソグラフィー法あるいはスクリーン印刷法などを利用してレジストパターンを作製した後、金属箔をエッチングする方法である。上記のレジストパターンを形成する方法としては、フォトリソグラフィー法が好ましく、フォトリソグラフィー法は、金属箔上に感光性レジストを塗工又は感光性レジストフィルムをラミネートし、パターンマスクを密着させて露光後、現像液で現像してエッチングレジストパターンを形成し、さらに適当なエッチング液でパターン部以外の金属を溶出させて所望の導電性メッシュを形成する方法である。
【００８４】
５）基材上に気相製膜法あるいはメッキ法により金属薄膜を形成した後にパターニングする方法は、基材上に金属薄膜（銅、アルミニウム、銀、金、パラジウム、インジウム、スズ、あるいは銀とそれ以外の金属の合金などからなる金属）を、蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング等の気相製膜法、あるいはメッキ法によって形成し、この金属薄膜をフォトリソグラフィー法あるいはスクリーン印刷法などを利用してレジストパターンを作製した後、金属薄膜をエッチングする方法である。上記のレジストパターンを形成する方法としては、フォトリソグラフィー法が好ましく、フォトリソグラフィー法は、金属薄膜上に感光性レジストを塗工又は感光性レジストフィルムをラミネートし、パターンマスクを密着させて露光後、現像液で現像してエッチングレジストパターンを形成し、さらに適当なエッチング液でパターン部以外の金属を溶出させて所望の導電性メッシュを形成する方法である。この方法では、接着剤や粘着剤を介さずに、基材上に金属薄膜を形成することが好ましい。
【００８５】
６）感光性銀塩を用いる方法は、ハロゲン化銀などの銀塩乳剤層を基材上にコーティングし、フォトマスク露光あるいはレーザー露光の後、現像処理して銀のメッシュを形成する方法がある。形成された銀メッシュはさらに銅、ニッケルなどの金属でメッキするのが好ましい。この方法は、ＷＯ２００４／７８１０号公報、特開２００４−２２１５６４号公報、特開２００６−１２９３５号公報などに記載されており、参照することができる。
【００８６】
７）金属薄膜をレーザーアブレーションする方法は、上記５）と同様の方法で基材上に形成された金属薄膜をレーザーアブレーション方式で、金属薄膜のメッシュパターンを作製する方法である。
【００８７】
レーザーアブレーションとは、レーザー光を吸収する固体表面へエネルギー密度の高いレーザー光を照射した場合、照射された部分の分子間の結合が切断され、蒸発することにより、照射された部分の固体表面が削られる現象である。この現象を利用することで固体表面を加工することが出来る。レーザー光は直進性、集光性が高い為、アブレーションに用いるレーザー光の波長の約３倍程度の微細な面積を選択的に加工することが可能であり、レーザーアブレーション法により高い加工精度を得ることが出来る。
【００８８】
かかるアブレーションに用いるレーザーは金属が吸収する波長のあらゆるレーザーを用いることが出来る。例えばガスレーザー、半導体レーザー、エキシマレーザー、または半導体レーザーを励起光源に用いた固体レーザーを用いることが出来る。また、これら固体レーザーと非線形光学結晶を組み合わせることにより得られる第二高調波光源（ＳＨＧ）、第三高調波光源（ＴＨＧ）、第四高調波光源（ＦＨＧ）を用いることが出来る。
【００８９】
かかる固体レーザーの中でも、プラスチックフィルムを加工しないという観点から、波長が２５４ｎｍから５３３ｎｍの紫外線レーザーを用いることが好ましい。中でも好ましくはＮｄ：ＹＡＧ（ネオジウム：イットリウム・アルミニウム・ガーネット）などの固体レーザーのＳＨＧ（波長５３３ｎｍ）、さらに好ましくはＮｄ：ＹＡＧ などの固体レーザーのＴＨＧ（波長３５５ｎｍ）の紫外線レーザーを用いることが好ましい。
【００９０】
かかるレーザーの発振方式としてはあらゆる方式のレーザーを用いることが出来るが，加工精度の点からパルスレーザーを用い，さらに望ましくはパルス幅がｎｓ以下のＱスイッチ方式のパルスレーザーを用いることが好ましい。
【００９１】
金属薄膜の上（視認側）に更に０．０１〜０．１μｍの金属酸化物層を形成した後に、金属薄膜と金属酸化物層とをレーザーアブレーションするのが好ましい。金属酸化物としては銅、アルミニウム、ニッケル、鉄、金、銀、ステンレス、クロム、チタン、すずなどの金属酸化物を用いることができるが、価格や膜の安定性などの点から銅酸化物が好ましい。金属酸化物の形成方法は、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレート法、化学蒸着法、無電解および電解めっき法等を用いることができる。
【００９２】
上記した導電性メッシュの製造方法の中でも、厚みが比較的小さい導電性メッシュ、即ち、厚みが８μｍ未満、好ましくは６μｍ未満、更に好ましくは４μｍ未満、特に好ましくは３μｍ未満である導電性メッシュを容易に製造することができ、かつ高い電磁波シールド性を確保できるという観点から、上記の２）、５）、６）及び７）の製造方法が好ましく用いられる。
【００９３】
また、単一層の形成に用いられる単一層形成用塗布液の塗工性、及び単一層の相分離によって形成された第２の層と導電性メッシュとの密着性の観点からは、上記の２）、５）及び７）の製造方法で製造された導電性メッシュが好ましく用いられる。特に、上記５）の製造方法は、塗布液の塗工性が良好であり、かつ導電性メッシュの製造コストが低いことから、特に好ましく用いられる。
【００９４】
上記５）の製造方法について、更に詳細に説明する。
【００９５】
基材上に金属薄膜を形成する方法としては、気相製膜法が好ましい。上記の気相製膜法としては、スパッタリング、イオンプレーティング、電子ビーム蒸着、真空蒸着、化学蒸着等が挙げられるが、これらの中でも、スパッタリング及び真空蒸着が好ましい。金属薄膜を形成するための金属としては、銅、アルミニウム、ニッケル、鉄、金、銀、ステンレス、クロム、チタンなどの金属の内、１種または２種以上を組合せた合金あるいは多層のものを使用することができる。これらの中でも、良好な電磁波シールド性が得られ、メッシュパターン加工が容易で、かつ低価格であるなどの点から、銅が好ましく用いられる。
【００９６】
また、金属薄膜の金属として銅を用いる場合は、基材と銅薄膜との間に、５〜１００ｎｍの厚みのニッケル薄膜を用いるのが好ましい。これによって、基材と銅薄膜の接着性が向上する。
【００９７】
また、金属薄膜の表面に、金属酸化物、金属窒化物、金属硫化物等の金属化合物を、気相製膜法で積層することができる。この金属化合物の積層によって、後述する黒化処理を省略することができるので好ましい。かかる金属化合物としては、金、白金、銀、水銀、銅、アルミニウム、ニッケル、クロム、鉄、スズ、亜鉛、インジウム、パラジウム、イリジウム、コバルト、タンタル、アンチモン、及びチタン等の金属の酸化物、窒化物、あるいは硫化物が挙げられる。
【００９８】
上記の金属化合物の厚みは、５〜２００ｎｍの範囲が好ましく、１０〜１００ｎｍの範囲がより好ましい。この金属化合物層は、金属薄膜の一部を構成し、更に導電性メッシュの一部を構成する。
【００９９】
金属薄膜上にレジストパターンを形成する方法としては、フォトリソグラフィーが好ましく用いられる。かかるフォトリソグラフィー法は、金属薄膜上に感光性レジスト層を積層し、該レジスト層をメッシュパターン状に露光し、現像してレジストパターンを形成し、次いで、金属薄膜をエッチングしてメッシュパターン化し、メッシュ上のレジスト層を剥離除去する方法である。
【０１００】
感光性レジスト層としては、露光部分が硬化するネガレジスト、あるいは逆に露光部分が現像によって溶解するポジレジストを用いることができる。感光性レジスト層は金属薄膜上に直接に塗工して積層してもよいし、あるいはフォトレジストからなるフィルムを貼り合わせてもよい。フォトレジスト層を露光する方法としては、フォトマスクを介して紫外線等で露光する方法、もしくはレーザーを用いて直接に走査露光する方法を用いることができる。
【０１０１】
また、上記のレジスト層に、カーボンブラックやチタンブラック等の黒顔料を含有させて、黒色化することができる。この黒色レジスト層は、除去せずに、導電性メッシュ上にそのまま残すことによって、後述する黒化処理を省略することができるので好ましい。
【０１０２】
エッチングする方法としては、ケミカルエッチング法等がある。ケミカルエッチングとは、レジストパターンで保護された金属部分以外の金属をエッチング液で溶解し、除去する方法である。エッチング液としては、塩化第二鉄水溶液、塩化第二銅水溶液、アルカリエッチング液等がある。
【０１０３】
本発明にかかる導電性メッシュは、黒化処理が施されていることが好ましい。黒化処理を施すことにより、導電性メッシュの金属光沢による視聴者側からの反射やディスプレイ側からの反射も低減することができ、さらに画像視認性の低下を低減することができ、コントラスト・視認性に優れたディスプレイ用フィルターが得られる。
【０１０４】
本発明にかかる導電性メッシュの周辺部分、即ち、本発明のディスプレイ用フィルターをディスプレイに装着したときにディスプレイの画像表示領域の外周部分に相当する部分は、必ずしもメッシュパターンを有している必要はなく、これら部分は金属薄膜がパターニングされていない、所謂、金属ベタ部であってもよいより。加えて、この金属ベタ部が、黒色であると、そのままディスプレイ用フィルターの額縁印刷として使えて好適である。
【０１０５】
（基材）
本発明のディスプレイ用フィルターには、基材が用いられるが、該フィルターは１枚のみの基材で構成されることが好ましい。本発明にかかる基材としては、プラスチックフィルムが好ましく用いられる。
【０１０６】
かかるプラスチックフィルムを構成する樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル樹脂、トリアセチルセルロース等のセルロース樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブチレン等のポリオレフィン樹脂、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、アートン樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリスルフォン樹脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂、ポリエーテルスルフォン樹脂等が挙げられる。これらの中でも、ポリエステル樹脂、ポリオレフィン樹脂及びセルロース樹脂が好ましく、特にポリエステル樹脂が好ましく用いられる。プラスチックフィルムの厚みとしては、５０〜３００μｍの範囲が適当であるが、コストの観点及びディスプレイ用フィルターの剛性を確保するという観点から８０〜２５０μｍの範囲が特に好ましい。またプラスチックフィルムとしては、複数の層を積層した積層フィルムを用いることもできる。
【０１０７】
また、基材として、導電性メッシュ、第２の層あるいは後述する近赤外線遮蔽層との密着性（接着強度）を強化するための易接着層が予め積層されたプラスチックフィルムが好ましく用いられる。
【０１０８】
（ディスプレイ用フィルター）
本発明のディスプレイ用フィルターには、更に近赤外線遮蔽機能、色調調整機能、あるいは可視光透過率調整機能の中から選ばれる少なくとも一つの機能を有する層を付与するのが好ましい。
【０１０９】
近赤外線遮蔽機能は、波長８００〜１１００ｎｍの範囲における光線透過率の最大値が１５％以下となるように調整するのが好ましい。近赤外線遮蔽機能は、プラスチックフィルムや機能層、あるいは後述する接着層に近赤外線吸収剤を混錬、分散することによって付与してもよいし、近赤外線遮蔽層を新たに設けてもよい。近赤外線遮蔽機能は、近赤外線吸収剤を用いることによって、あるいは導電性薄膜のような金属の自由電子によって近赤外線を反射する層を設けることによって付与することができる。
【０１１０】
本発明においては、近赤外線吸収剤を樹脂バインダー中に分散もしくは溶解した塗料を塗布乾燥して形成した近赤外線遮蔽層を用いること、あるいは後述する接着層に上記近赤外線吸収剤を含有させる態様が好ましく用いられる。
【０１１１】
近赤外線吸収剤としては、フタロシアニン系化合物、アントラキノン系化合物、ジチオール系化合物、ジイモニウム系化合物等の有機系近赤外線吸収剤、あるいは酸化チタン、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化錫、硫化亜鉛、セシウム含有酸化タングステン等の無機系近赤外線吸収剤を用いることができる。
【０１１２】
上記した近赤外線遮蔽層を新たに設ける場合は、基材と導電性メッシュとの間、もしくは基材に対して導電性メッシュとは反対面に、基材に塗工形成して設けることができる。
【０１１３】
近赤外線遮蔽機能を基材より視認側に付与する場合は、耐光性に優れる無機系近赤外線吸収剤を用いるのが好ましい。
【０１１４】
色調調整機能は、ディスプレイから発光される特定波長の光を吸収して色純度や白色度を向上させるための機能である。特に赤色発光の色純度を低下させるオレンジ光を遮蔽するのが好ましく、波長５８０〜６２０ｎｍの範囲に吸収極大を有する色素、例えばテトラアザポルフィリン系色素を含有させるのが好ましい。更に、白色度を向上させるために波長４８０〜５００ｎｍに吸収極大を有する色素を含有させるのが好ましい。色調調整機能は、上記した波長の光を吸収する色素を含有する層を新たに設けてもよいし、上述の近赤外線遮蔽層、第２の層あるいは後述する接着層に色素を含有させてもよい。
【０１１５】
可視光透過率調整機能は、可視光の透過率を調整するための機能であり、染料や顔料を含有させて調整することができる。可視光透過率調整機能は、基材、近赤外線遮蔽層、あるいは後述する接着層に付与してもよいし、新たに透過率調整層を設けてもよい。
【０１１６】
上述した色調調整機能を有する層及び可視光透過率調整機能を有する層をそれぞれ新たに設ける場合、これらの層は基材と導電性メッシュとの間、もしくは基材に対して導電性メッシュとは反対面に設けることができる。
【０１１７】
本発明のディスプレイ用フィルターは、ディスプレイに直接、あるいはガラス板、アクリル板、ポリカーボネート板等の公知の高剛性基板を介して装着することができる。本発明のディスプレイ用フィルターには、ディスプレイあるいは高剛性基板に貼り付けるための接着層を設けるのが好ましい。
【０１１８】
上記の高剛性基板は、通常、０．５〜５ｍｍの厚みを有する基板であって、かかる高剛性基板は、本発明のディスプレイ用フィルターを構成する基材には含まれない。
【０１１９】
接着層には、前述したように近赤外線遮蔽機能、色調調整機能、あるいは可視光透過率調整機能を付与することができる。また、接着層に、ディスプレイを衝撃から保護するための衝撃緩和機能を付与することは好ましい態様である。接着層に衝撃緩和機能を付与するには、接着層の厚みを１００μｍ以上にすることが好ましく、３００μｍ以上がより好ましい。上限の厚みは、接着層のコーティング適性を考慮して３０００μｍ以下が好ましい。
【０１２０】
接着層には、公知の接着材あるいは粘着材を用いることができる。粘着材としては、アクリル、シリコーン、ウレタン、ポリビニルブチラール、エチレン−酢酸ビニルなどが挙げられる。接着材としては、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、テトラヒドロキシフェニルメタン型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、レゾルシン型エポキシ樹脂、ポリオレフィン型エポキシ樹脂などのエポキシ樹脂、天然ゴム、ポリイソプレン、ポリ−１、２−ブタジエン、ポリイソブテン、ポリブテン、ポリ−２−ヘプチル−１、３−ブタジエン、ポリ−１、３−ブタジエンなどの（ジ）エン類、ポリオキシエチレン、ポリオキシプロピレン、ポリビニルエチルエーテル、ポリビニルヘキシルエーテルなどのポリエーテル類、ポリビニルアセテート、ポリビニルプロピオネートなどのポリエステル類、ポリウレタン、エチルセルロース、ポリ塩化ビニル、ポリアクリロニトリル、ポリメタクリロニトリル、ポリスルフォン、フェノキシ樹脂などが挙げられる。
【実施例】
【０１２１】
以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれにより何ら制限されるものではない。
【０１２２】
（評価方法）
（１）第２の層及び第１の層の２次元の表面形状プロファイルの測定
レーザー顕微鏡ＶＫ−９７００（（株）キーエンス）を用いて測定する。まず、観察・測定ソフトウェアＶＫ−Ｈ１Ｖ１を用いて、５ｃｍ×５ｃｍサイズのサンプルを導電性メッシュの任意のメッシュの細線が画面の中央に垂直になるようにセットし、測定する。
【０１２３】
次に、得られた測定データを解析ソフトウェアＶＫ−Ｈ１Ａ１を用いて解析する。まず、測定データの画像ノイズを自動で除去し、測定時に対象物が微妙に傾いていた場合などの傾きを補正する。その後、中央のメッシュの細線に対して垂直な方向にプロファイル解析を行う。得られたプロファイルから、メッシュの細線上に第２の層及び第１の層の凸部が存在するかどうか、及び導電性メッシュの開口部に第２の層及び第１の層の凹部が存在するかどうかを確認し、第２の層と第１の層に導電性メッシュの凹凸構造に由来する凹凸構造が形成されているかどうかを判断した。
（２）第１の層の中心線平均粗さＲa
第１の層の中心線平均粗さＲaを、表面粗さ測定器ＳＥ−３４００（（株）小坂研究所製）を用いて測定した。
【０１２４】
２０ｃｍ×２０ｃｍサイズのサンプル１枚から任意の５箇所以上について計測し、その平均値を第１の層のＲa値とした。尚、上記の計測に際し、測定針の移動方向を、導電性メッシュの細線に平行で、かつ導電性メッシュの開口部のほぼ中心を通るようにセットし、測定によって得られた波形のピッチが導電性メッシュのピッチとほぼ同じように表れている計測値を５つ採用し、平均した。
・測定条件：
送り速さ；０．５ｍｍ／Ｓ
カットオフ値λｃ；
Ｒaが２０ｎｍより大きく１００ｎｍ以下の場合、λｃ＝０．２５ｍｍ
Ｒaが１００ｎｍより大きく２０００ｎｍ以下の場合、λｃ＝０．８ｍｍ
評価長さ；８ｍｍ
・Ｒａ：表面粗さ測定器ＳＥ−３４００（（株）小坂研究所製）でＲaと定義されたパラメータ。ＪＩＳ  Ｂ０６０１−１９８２の方法に基づいて測定した。
（３）第２の層及び第１の層の凹凸構造の高低差（Ｄ）
高低差（Ｄ）を、レーザー顕微鏡ＶＫ−９７００（（株）キーエンス）を用いて測定した。２０ｃｍ×２０ｃｍサイズのサンプル１枚から任意の１０箇所について計測し、その平均値を高低差（Ｄ）とした。
【０１２５】
測定方法としては、観察・測定ソフトウェアＶＫ−Ｈ１Ｖ１を用いて、まず５ｃｍ×５ｃｍサイズのサンプルを導電性メッシュの開口部の上辺と下辺が画面に平行になるように設置する。倍率は、導電性メッシュの少なくとも１つの開口部が入るように設定する。焦点を合わせ、測定高さ範囲を設定した後、測定を開始する。
【０１２６】
次に、測定データを解析ソフトウェアＶＫ−Ｈ１Ａ１を用いて解析する。まず、測定データの画像ノイズを自動で除去し、測定時に対象物が微妙に傾いていた場合などの傾きを補正する。その後に、線粗さを測定する。このとき、少なくとも導電性メッシュの開口部１つを含む画面に対して平行な直線で解析する。
【０１２７】
各種補正（高さスムージング→±１２単純平均、傾き補正→直線（自動））を行い、カットオフ値λｃ＝０．０８ｍｍ（λｓ及びλｆは設定せず）で、うねり曲線を算出し、ＪＩＳ  Ｂ０６３３−２００１の規格に基づき算出される最大高さＷｚを高低差（Ｄ）とした。
（４）導電性メッシュの厚み
ミクロトームにてサンプル断面を切り出し、その断面を電解放射型走査電子顕微鏡（（株）日立製Ｓ―８００、加速電圧２６ｋＶ、観察倍率３０００倍）にて観察し、導電性メッシュの厚みを計測した。
【０１２８】
２０ｃｍ×２０ｃｍサイズのサンプル１枚から任意の５箇所について計測し、その平均値を導電性メッシュの厚みとした。
（５）導電性メッシュの線幅及びピッチ
（株）キーエンス製デジタルマイクロスコープ（ＶＨＸ−２００）を用いて、倍率４５０倍で表面観察を行った。その測長機能を用いて、格子状導電性メッシュのピッチを測長した。２０ｃｍ×２０ｃｍサイズのサンプル１枚から、任意の２５箇所について計測し、その平均値を導電性メッシュの線幅、ピッチとした。なお、導電性メッシュのピッチとは、メッシュ構造のある開口部と、この開口部と１辺を共有する隣接する開口部との重心間の距離とする。
（６）第２の層と第１の層の合計厚み
２０ｃｍ×２０ｃｍサイズのサンプル１枚から任意の開口部５箇所を選び、ミクロトームにてサンプル断面を切り出し、その断面を電解放射型走査電子顕微鏡（（株）日立製Ｓ―８００、加速電圧１５ｋＶ、観察倍率２０００倍）にて観察し、第２の層及び第１の層に形成された凹みの最も低い部分と接する基材の位置から、該基材に垂直な第１の層最表面までの距離を計測し、平均する。
（７）映り込みの評価
ディスプレイ用フィルターサンプル（２０ｃｍ×２０ｃｍ）を視認面側（第１の層側）が上になるように黒紙（王子特殊紙（株）製  ＡＣカード  ＃３００）の上に貼り付ける。得られたサンプルを暗室中で、フィルターサンプルの直上２００ｃｍの場所に３波長蛍光灯（ナショナル  パルック  ３波長形昼白色（F.L 15EX-N 15W））を設置する。フィルターの視認面を、正面（垂直方向）と、斜め４５度から、それぞれ３０ｃｍの距離で肉眼観察し、フィルター視認面に映り込んだ蛍光灯像の輪郭の鮮明性を評価する。
・映り込み像の輪郭が不鮮明        ：  ○
・映り込み像の輪郭が僅かに不鮮明  ：  △
・映り込み像の輪郭が鮮明に見える  ：  ×
（８）異物隠蔽性の評価
ディスプレイ用フィルターサンプル（２０ｃｍ×２０ｃｍ）を視認面側（第１の層側）が上になるように黒紙（王子特殊紙（株）製  ＡＣカード  ＃３００）の上に貼り付ける。得られたサンプルを暗室中で、フィルターサンプルの直上２００ｃｍの場所に３波長蛍光灯（ナショナル  パルック  ３波長形昼白色（F.L 15EX-N 15W））を設置する。フィルターの視認面を正面３０ｃｍの距離から肉眼観察し、導電性メッシュの細線上及び細線近傍に異物が視認されるかどうかを評価する。
・異物が全く視認されないか、異物が視認されても３個以内である  ：  ○
・異物が１０個以上視認される                                  ：  ×
（９）耐擦傷性；スチールウール硬度評価
耐擦傷性は、ディスプレイ用フィルターの第１の層の表面を＃００００のスチールウールに２５０ｇの荷重をかけて、ストローク幅１０ｃｍ、速度３０ｍｍ／ｓｅｃで１０往復摩擦した後、表面を目視で観察し、傷の付き方を次の５段階で評価した。
【０１２９】
５級：傷が全く付かない。
【０１３０】
４級：傷が１本以上５本以下。
【０１３１】
３級：傷が６本以上１０本以下。
【０１３２】
２級：傷が１１本以上。
【０１３３】
１級：全面に無数の傷。
【０１３４】
上記の等級において、３級、４級、５級のいずれかであれば合格レベルである。
（１０）ディスプレイの室内装飾性
市販の５０インチサイズのプラズマディスプレイ（プラズマテレビ）の前面フィルターを取り外して、実施例及び比較例のディスプレイ用フィルターを装着した。このプラズマディスプレイを、照度が５００ルックス、広さが２５平方メートルの室内の壁際に設置した。ディスプレイを消灯した状態で、ディスプレイ画面の光沢感を目視で評価し、室内装飾性とした。評価基準を以下に示す。
【０１３５】
○；光沢感があり、室内装飾性が良好である。
【０１３６】
×；光沢感が無く、室内装飾性に劣る。
（１１）視感反射率の測定
島津製作所（株）の分光光度計ＵＶ−３１５０を用いて測定を行った。サンプルは＃３２０〜４００の耐水サンドペーパーで第１の層とは反対側の面に均一に傷をつけ、黒色塗料（黒マジックインキ（登録商標）液）を塗布して、第１の層面とは反対側の面からの反射を完全になくして、第１の層の表面を積分球に押し当てて測定した。入射角度は５゜であり、検査波長領域は３８０ｎｍ〜７８０ｎｍで行い、視感反射率を求めた。
（実施例１）
以下の要領でディスプレイ用フィルターを作製した。
＜導電性メッシュの作製＞
光学用ポリエステルフィルム（東レ（株）製のルミラー（登録商標）、厚み１００μｍ）の片面に、常温にて３×１０−３Ｐａの真空下で、真空蒸着法によりニッケル層（厚み０．０２μｍ）を形成した。さらにその上に、同じく常温にて３×１０−３Ｐａの真空下で、真空蒸着法により銅層（厚み２．８μｍ）を形成した。その後、この銅層側の表面にフォトレジスト層を塗工形成し、格子状メッシュパターンのマスクを介してフォトレジスト層を露光、現像し、次いでエッチング処理を施して、導電性メッシュを作製した。さらに、導電性メッシュに黒化処理（酸化処理）を施した。この導電性メッシュは、線幅が１３μｍ、ピッチが３００μｍ、厚みが２．８μｍ、開口率が８９％であった。
＜相分離用単一層の塗布液の調製＞
＜第１の層形成成分の調製＞
トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン７０質量部、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン３０質量部に対し、イソプロピルアルコールを３７質量部加え、撹拌した後、０．０５Ｎ希塩酸２９質量部を約１０℃で３０分かけて滴下し、さらに室温で６時間熟成させることによって、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシランと３−アクリロキシプロピルトリメトキシシランの加水分解物を得た。
【０１３７】
次いで、上記で得られたトリデカフルオロオクチルトリメトキシシランと３−アクリロキシプロピルトリメトキシシランの加水分解を含む溶液５０質量部と、平均粒子径が１２ｎｍのコロイダルシリカのＩＰＡ分散液（ＩＰＡ−ＳＴ：シリカ固形分３０ｗｔ％、日産化学社製）２００質量部とを混合し、室温で４時間熟成させて、第１の層形成成分を得た。
【０１３８】
＜第２の層形成成分の調製＞
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２０質量部、ペンタエリスリトールトリアクリレート６０質量部、トリメチロールプロパントリアクリレート２０質量部、イソプロピルアルコール４０質量部と、光重合開始剤（Ｄａｒｏｃｕｒｅ１１７３、日本チバガイギー社製）４質量部とを混合して、第２の層形成成分を得た。
＜塗布液の調製＞
上記の第２の層形成成分に、上記の第１の層形成成分の１．６質量部を配合し、更に、粘度が３ｍＰａ・ｓとなるようにイソプロピルアルコールで希釈して、塗布液を調製した。
＜塗布液の塗工＞
上記で得られた導電性メッシュを有するポリエステルフィルムの導電性メッシュ側に、上記塗布液をマイクログラビアコーターにて塗工し、９０℃で乾燥後、紫外線１．０Ｊ／ｃｍ２を照射して硬化させ、第２の層と第１の層を単一層の相分離によって形成した。第２の層と第１の層の合計厚みは３．５μｍであった。
＜Ｎｅカット機能を有する近赤外線遮断層の作製＞
近赤外線吸収色素として、日本化薬（株）製  ＫＡＹＡＳＯＲＢ（登録商標）  ＩＲＧ−０５０を１４．５質量部、日本触媒（株）製  イーエクスカラー（登録商標）  ＩＲ−１０Ａを８質量部、さらに５９３ｎｍに主吸収ピークを有する有機色素として、山田化学工業（株）製ＴＡＰ−２を２．９質量部、メチルエチルケトン２０００質量部に攪拌混合して溶解させた。この溶液を透明高分子樹脂バインダー溶液として、日本触媒（株）製  ハルスハイブリッド（登録商標）  ＩＲ−Ｇ２０５（固形分濃度２９％溶液）２０００質量部と攪拌混合して塗料を作製した。
【０１３９】
導電性メッシュを形成した側と反対側の光学用ポリエステルフィルム面に、ダイコーターを用いて上記塗料を塗工し、１２０℃で乾燥して、厚み１０μｍの近赤外線遮断層を積層して、本発明のディスプレイ用フィルターを作製した。
（比較例１）
実施例１の塗布液の塗工において、第２の層と第１の層の合計厚みが９μｍ程度となるように塗布液を塗工する以外は、実施例１と同様にしてディスプレイ用フィルターを作製した。
（実施例２）
以下の要領でディスプレイ用フィルターを作製した。
＜導電性メッシュの作製＞
実施例１の導電性メッシュの作製において、銅層の厚みを２．１μｍに変更する以外は、実施例１と同様にして導電性メッシュを作製した。
＜相分離用単一層の塗布液の調製＞
＜第１の層形成成分と調製＞
攪拌機、温度計、還流冷却器および窒素ガス導入口を備えた重合容器に、脱イオン水１２０質量部、ジアルキルスルホコハク酸エステルナトリウム０．８質量部、及びｐＨ緩衝剤として重炭酸ナトリウム０．４質量部を仕込み攪拌しながら６０℃に加熱した後、窒素置換した。この中にメチルメタクリレート２質量部を添加し、１０分後に０．９８質量部の脱イオン水に溶解した過硫酸ナトリウム０．１質量部を添加しシード重合を行った。発熱開始から６０分後、４．９質量部の脱イオン水に溶解した過硫酸ナトリウム０．１質量部を添加し、さらに１０分後、２，２，２―トリフルオロエチルメタクリレート７０質量部、メチルメタクリレート２５質量部、エチレングリコールジメタクリレート５質量部、脱イオン水６０質量部、ジアルキルスルホコハク酸エステルナトリウム１．２質量部、及び重炭酸ナトリウム０．５質量部からなる乳化モノマー液を、攪拌下、温度を８０℃に保ちながら３時間かけて滴下し、滴下終了後２時間８５℃を維持し重合を終了させ水系ラテックスを得た。この水系ラテックスは、含フッ素（メタ）アクリレートにより形成された微粒子を固形分で３４．１質量％含み、該微粒子の平均粒子径は１００ｎｍであり、該微粒子固形物の屈折率は１．４３であった。
【０１４０】
上記で合成された水系ラテックスに、有機溶剤への転相の妨げとなるイオン性不純物の除去を目的に、イオン交換樹脂ＭＢ−２を２５質量部添加し攪拌した。２４時間攪拌した後、濾過によりイオン交換樹脂を除去し、精製された水系ラテックスを得た。
【０１４１】
この精製された水系ラテックスに、酢酸エチル５７０質量部を加え攪拌し、水系ラテックス中に存在する微粒子の有機層への転相を行った。その後静置し、透明な水相と白濁した有機相とを分離し、非水系微粒子分散体である微粒子含有スラリーを得た。微粒子含有スラリーの固形分は、１５．０質量％であった。
【０１４２】
＜第２の層形成成分＞
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（新中村化学工業株式会社製 商品名Ａ−ＤＰＨ）１００質量部、ジルコニアスラリー（シーアイ化成株式会社製 固形分１５質量％）を６６．７質量部、メチルエチルケトンを６５質量部、光重合開始剤としてＩｒｇａｃｕｒｅ１８４を５質量部含む。
＜塗布液の調製＞
上記の第２の層形成成分のジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（新中村化学工業株式会社製商品名Ａ−ＤＰＨ）１００質量部に対して、上記の微粒子含有スラリー（固形分１５質量％）を３３．３質量部、レベリング剤としてＳＮレベラーＳ−９０６（サンノプコ株式会社製固形分５０％）を０．５質量部加えて、塗布液を調製した。
＜塗布液の塗工＞
上記で得られた導電性メッシュを有するポリエステルフィルムの導電性メッシュ側に、上記塗布液をマイクログラビアコーターにて塗工し、９０℃で乾燥後、紫外線１．０Ｊ／ｃｍ２を照射して硬化させ、第２の層と第１の層を相分離によって形成した。第２の層と第１の層の合計厚みは２．８μｍであった。
＜Ｎｅカット機能を有する近赤外線遮断層の作製＞
実施例１と同様にして、Ｎｅカット機能を有する近赤外線遮断層を積層して、本発明のディスプレイ用フィルターを得た。
（比較例２）
実施例２の塗布液の塗工において、第２の層と第１の層の合計厚みが７μｍ程度となるように塗工する以外は、実施例１と同様にしてディスプレイ用フィルターを作製した。
（評価）
上記で作製したそれぞれのサンプルについて、評価した結果を表１に示す。
【０１４３】
【表１】
2010151886.tif 000003
【０１４４】
表１の結果から分かるように、本発明の実施例は、正面及び斜め４５度からの観賞における映り込み防止性が良好であり、耐擦傷性及び異物隠蔽性に優れる。また、本発明の実施例は、室内装飾性も良好である。
【０１４５】
一方、比較例１、２は、第２の層及び第１の層に導電性メッシュの凹凸構造に由来する凹凸構造が形成されていないために、特に斜め４５度における映り込み防止性が悪く、また、耐傷性、異物隠蔽性も劣っている。
【図面の簡単な説明】
【０１４６】
【図１】本発明のディスプレイ用フィルターの一例の模式断面図。
【符号の説明】
【０１４７】
１  基材
２  導電性メッシュの細線
３  単一層
４  第２の層
５  第１の層
６  凸部の頂点
７  凹部の最低点
Ｄ  凹凸構造の高低差
Ｌ  第２の層と第１の層の合計厚み
【図１】
2010151886.tif 000004