(57)【要約】【課題】  真空容器内における負に印加したワークを回転させながら周囲より正イオン化した被蒸発材料を同ワークに衝突させて同被蒸発材料による被膜を形成するイオンプレーティング装置よりも、ワークの表面に形成する被膜をより滑らかなものにできるイオンプレーティング装置を提供できるようにした。【解決手段】  真空容器内にて、負に印加した被処理物に蒸発させかつ正イオン化した被蒸発材料を衝突させて同被蒸発材料による被膜を形成するイオンプレーティング装置において、真空容器１内にセットする被処理物たるワーク２が、正イオン化した蒸発材料９が衝突する衝撃によって少なくとも前後方向に揺動するようにセットできるよう構成する。【選択図】  図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
真空容器内にて、負に印加した被処理物に蒸発させかつ正イオン化した被蒸発材料を衝突させて同被蒸発材料による被膜を形成するイオンプレーティング装置において、真空容器内にセットする被処理物が、被蒸発材料が衝突する衝撃によって少なくとも前後方向に揺動するようにセットできるよう構成してなるイオンプレーティング装置。
【請求項２】
前記被処理物が、真空容器内を略水平方向に回転する回転テーブルに立設した支柱にセットされる請求項１に記載のイオンプレーティング装置。
【請求項３】
前記支柱が、同支柱の軸周りに回転する請求項２に記載のイオンプレーティング装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、負に印加した被処理物たるワークに蒸発させかつ正イオン化した被蒸発材料を衝突させ、同被蒸発材料による被膜を形成するイオンプレーティング装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、イオンプレーティング装置は、被処理物たるワーク上に所定の被蒸発材料による被膜を形成する際に用いられている。
【０００３】
同イオンプレーティング装置による被膜の形成は、蒸発させた被蒸発材料を正イオン化するとともにワークを負に印加することにより、正イオン化した被蒸発材料を同ワークに向かって高速で突進させかつ衝突させて同被蒸発材料による被膜を形成しているので、同被膜は密着力が大であり、かつ形成された被膜の表面硬度が大で傷付き難いといった特徴がある。
【０００４】
そして、被蒸発材料の被膜を形成するワークによっては、真空容器内における負に印加したワークを回転させながら周囲より正イオン化した被蒸発材料を同ワークに衝突させることによって、ワークの表面に形成される被膜を滑らかなものにしている（例えば、特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開平６−７３５３８号公報（第１〜８頁、図１〜８）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、本出願人は、ワークの表面に滑らかな被蒸発材料の被膜を形成する方法として最良と言われている従来の方法、すなわち、真空容器内における負に印加したワークを回転させながら周囲より正イオン化した被蒸発材料を同ワークに衝突させて同被蒸発材料による被膜を形成する方法を用いたイオンプレーティング装置よりも、ワークの表面に形成する被膜をより滑らかなものにできるイオンプレーティング装置を提供できるようにした。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上述した課題を解決するために、本発明に係るイオンプレーティング装置は、真空容器内にて、負に印加した被処理物に蒸発させかつ正イオン化した被蒸発材料を衝突させて同被蒸発材料による被膜を形成するイオンプレーティング装置において、真空容器内にセットする被処理物が、被蒸発材料が衝突する衝撃によって少なくとも前後方向に揺動するようにセットできるよう構成したものとしてある。
【０００８】
また前記被処理物が、真空容器内を略水平方向に回転する回転テーブルに立設した支柱にセットされるものとしてある。
【０００９】
また前記支柱が、同支柱の軸周りに回転するものとしてある。
【発明の効果】
【００１０】
本発明に係るイオンプレーティング装置によれば、被処理物に被蒸発材料による被膜を形成している際に、イオン化した被蒸発材料が衝突する衝撃によって同被処理物が少なくとも前後に揺動するため、被処理物にイオン化した被蒸発材料が衝突した際の衝撃力が適当に緩和されて同衝突したイオン化した被蒸発材料が被処理物上で弾くことなく馴染むので、被処理物を前後左右に動かないように固定セットしているものに比して、ワークの表面により滑らかな被蒸発材料による被膜を形成することができる。
【００１１】
また、ワークが前後または左右に揺動できるように構成してあるので、特に凹凸や孔を有するような複雑な形状のワークに利用した際、均一でむらのない高精度な表面加工を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明に係るイオンプレーティング装置における真空容器内の概略図。
【図２】ワークのセット例を示した斜視図。
【図３】ワークの他のセット例を示した斜視図。
【図４】図１に示した真空容器内の平面図。
【図５】図１に示した真空容器内の一部拡大図。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
本発明に係るイオンプレーティング装置を、以下、添付図面に基づいて説明する。
【実施例】
【００１４】
本イオンプレーティング装置は、図１に示すように、イオンプレーティング装置の本体たる真空容器１内にセットする被処理物たるワーク２を、回転テーブル３に立設する支柱４のアーム部４ａに取り付けたフック５に、少なくとも前後方向に揺動できるようにセットしている。
【００１５】
同ワーク２の取り付けは、図２に示すように、ワーク２に通孔２ａのようなフック５を遊通できる係着孔等が有する場合は、同図２に示したようにワーク２の通孔２ａにフック５を挿通させ、同ワーク２をセットする。
【００１６】
また、ワーク２にフック５を遊通できる係着孔等が無い場合は、図３に示すように、適当な取り付け手段によってワーク２に取り付けた治具６（取り付け手段自体の図示は省略）に設けている通孔６ａをフック５に挿通させ、同ワーク２をセットする。
【００１７】
実施例では、ワーク２を、フック５を介して支柱４のアーム部４ａに取り付けてあるが、アーム部４ａに、ワーク２を少なくとも前後方向に揺動できるように取り付けられる取り付け手段を初めから設けて（図示は省略）、フック５を用いなくてもワーク２をアーム部４ａに取り付けられるようにする場合がある。
【００１８】
そして、図４に示すように、ワーク２を取り付ける支柱４が、回転テーブル３により真空容器１内を略水平方向に回転移動できるようにしている。
【００１９】
また、同回転テーブル３上に立設する支柱４も、同支柱４の支柱台７とともに支柱４の軸周りに回転できるようにしている。
【００２０】
また回転テーブル３や支柱４は、同一方向に回転させるのではなく、所定の条件により反対方向への回転も含ませる場合がある。
【００２１】
そして、実施例では回転テーブル３上に立設している支柱４は４本であるが、これより少ない本数また多い本数の支柱４を配設する場合もある。
【００２２】
実施例に示したイオンプレーティング装置の形態は一例であり、被処理物たるワーク２の形状また大きさ等により、真空容器１内に備える支柱４等の部材形態は異なる構造とする場合がある。
【００２３】
したがって本イオンプレーティング装置は、図５に示すように、同装置内における所定の部位（図示は省略）にて被蒸発材料を蒸発させかつ正イオン化（正イオン化過程における図示および説明は省略）し、真空容器１内の正イオン化部８より正イオン化した蒸発材料９を負に印加しているワーク２に高速で突進させかつ衝突させて被膜を形成している。
【００２４】
そして、ワーク２に前記被蒸発材料が高速で衝突した時、ワーク２は、図５中に示した矢印のように前後また左右に揺動するので、正イオン化した被蒸発材料９が衝突する際の衝撃力を適当に緩和している。
【００２５】
またワーク２を揺動させる場合、ワーク２を固定セットした支柱４やアーム部４ａを機械的な揺動手段により強制的に揺動させる場合もあるが、本発明のように、被蒸発材料たる正イオン化した蒸発材料９が衝突する衝撃によりワーク２を揺動させる方が望ましい。
【００２６】
また、ワーク２が前後または左右に揺動するので、特に凹凸や孔を有するような複雑な形状のワークに利用した際、均一でむらのない高精度な表面加工を行うことができる。
【００２７】
実施例における図４中の符号１ａは、真空容器１内にワーク２をセットする際また取り出す際の開閉扉である。
【符号の説明】
【００２８】
１  真空容器
１ａ  開閉扉
２  ワーク
２ａ  通孔
３  回転テーブル
４  支柱
４ａ  アーム部
５  フック
６  治具
６ａ  通孔
７  支柱台
８  正イオン化部
９  正イオン化した蒸発材料
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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