(57)【要約】【課題】優れた耐熱性、靭性を有し、且つ、透明性を維持した光弾性係数の小さい光学フィルムを提供すること。【解決手段】メタクリル酸エステル及び／又はアクリル酸エステル単位４０質量％以上９０質量％以下と、芳香族ビニル化合物単位５質量％以上４０質量％以下と、下記一般式（１）で表される化合物単位５質量％以上３０質量％以下と、を含む耐熱アクリル系樹脂（ａ）１００質量部に対して、  【化１】2010024338.tif 000006（式中、ＸはＯ又はＮ−Ｒを示し、Ｏは酸素原子、Ｎは窒素原子、Ｒは水素原子、アルキル基、アリール基又はシクロアルキル基を示す。）  前記耐熱アクリル系樹脂（ａ）との屈折率差が０．０１５以下、平均粒子径が０．０４μｍ以上０．１３μｍ以下の、多層構造を有するゴム質含有共重合体粒子（ｂ）を０．１質量部以上５０質量部以下含む、光学フィルム。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
メタクリル酸エステル及び／又はアクリル酸エステル単位４０質量％以上９０質量％以下と、芳香族ビニル化合物単位５質量％以上４０質量％以下と、下記一般式（１）で表される化合物単位５質量％以上３０質量％以下と、を含む耐熱アクリル系樹脂（ａ）１００質量部に対して、
【化１】
2010024338.tif 000005
（式中、ＸはＯ又はＮ−Ｒを示し、Ｏは酸素原子、Ｎは窒素原子、Ｒは水素原子、アルキル基、アリール基又はシクロアルキル基を示す。）
前記耐熱アクリル系樹脂（ａ）との屈折率差が０．０１５以下、平均粒子径が０．０４μｍ以上０．１３μｍ以下の、多層構造を有するゴム質含有共重合体粒子（ｂ）を０．１質量部以上５０質量部以下含む、光学フィルム。
【請求項２】
前記ゴム質含有共重合体粒子（ｂ）は、三層構造以上の多層構造を有する粒子である、請求項１記載の光学フィルム。
【請求項３】
前記ゴム質含有共重合体粒子（ｂ）は、内側から硬質層―軟質層−硬質層の順に形成された三層構造を有する粒子である、請求項１又は２記載の光学フィルム。
【請求項４】
膜厚が１００μｍ以下、２３℃環境下のヘイズ値が１．２％以下である、請求項１〜３のいずれか１項記載の光学フィルム。
【請求項５】
７０℃環境下のヘイズ値が２．０％以下である、請求項１〜４のいずれか１項記載の光学フィルム。
【請求項６】
Ｔｇ（ガラス転移温度）が１２０℃以上である、請求項１〜５のいずれか１項記載の光学フィルム。
【請求項７】
２３℃環境下の光弾性係数の絶対値が５．０×１０−１２／Ｐａ以下である、請求項１〜６のいずれか１項記載の光学フィルム。
【請求項８】
ＭＤに対して垂直方向の耐折強度が１．０以上である、請求項１〜７のいずれか１項記載の光学フィルム。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか１項記載の光学フィルムからなる偏光板保護フィルム。
【請求項１０】
請求項１〜８のいずれか１項記載の光学フィルムからなる位相差フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、耐熱性、透明性、靭性及び光学特性に優れた光学フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
最近、ディスプレイ市場の拡大に伴い、より画像を鮮明に見たいという要求が高まっており、単なる透明材料ではなく、より高度な光学特性が付与された光学材料が求められている。
高分子は分子主鎖方向と、その垂直方向とで屈折率が異なるために複屈折を生じる。用途によっては、この複屈折を厳密にコントロールすることが求められており、液晶の偏光板に用いられる保護フィルムの場合は、全光線透過率が同じであっても複屈折がより小さい高分子材料成形体が必要とされる。この用途では、セルローストリアセテート、ポリ乳酸のフィルムを偏光板保護フィルムに検討した例が知られており（特許文献１）、セルローストリアセテートが代表的な材料として挙げられる。一方、液晶ディスプレイにおいて、偏光板により偏光された光を円偏光に変える機能を持つ１／４波長板等の位相差フィルムには、高分子材料成形体に意識的に複屈折を生じさせることで機能を付与しており、ポリカーボネート等が代表的な材料として挙げられる。
近年、液晶ディスプレイの大型化に伴い、それに必要な高分子光学材料成形品が大型化するにつれて、外力の偏りによって生じる複屈折の分布を小さくするために、外力による複屈折の変化、即ち光弾性係数の小さい材料が求められている。しかし、現在、光学フィルムとして一般的に用いられているセルロースアセテートやポリカーボネートは、光弾性係数が大きく、これらの要求に対しては満足のいくものではない。
光弾性係数が小さく、負の複屈折性を持つ材料としては、アクリル系樹脂が知られている。しかし、アクリル系樹脂の有する問題として、靭性（トリミング性や耐折強度）に劣るため脆くて割れやすく、フィルムの破断等の際には亀裂が生じ、生産性が乏しいと言う点が挙げられる。この脆性改良法として、一般的に強靭剤等を添加する方法があるが、この方法では、靭性は向上するものの、透明性や耐熱性が低下する傾向にある。
特許文献２には、アクリル系樹脂に耐衝撃性アクリルゴム−メチルメタクリレートグラフト共重合体を含有させた偏光膜保護用フィルムが開示されている。
また、特許文献３には、機械的強度の向上を目的として、アクリル系樹脂にスチレン系エラストマー、スチレン−ブタジエンゴム等を含有させた偏光子保護フィルムが開示されている。
さらに、特許文献４には、耐熱性及び靭性の付与されたアクリル樹脂フィルムとして、グルタル酸無水物単位を含有するアクリル樹脂に多層構造を有する架橋弾性体を含有させる技術が開示されている。
【０００３】
【特許文献１】特開２００２−８２２２３号公報
【特許文献２】特開平５−１１９２１７号公報
【特許文献３】特開２００６−２８４８８１号公報
【特許文献４】特開２０００−１７８３９９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、特許文献２に開示されたフィルムは、透明性（ヘイズ値）と耐熱性（軟化温度）において十分な値であるとは言えず、アクリルゴムの詳細についても記載されていない。
特許文献３に開示されたフィルムは、比較的スチレン系エラストマーが少量で、かつ原反フィルムにも関わらず、ヘイズ値が１．０％を超えるという問題がある。
特許文献４に開示されたフィルムは、耐折れ性を向上させるためには、架橋弾性体を多量に含有する必要があり、それに伴い耐熱性の低下及びヘイズ値が上昇することが懸念される。
従って、上述した従来技術の光学フィルムは、耐熱性、透明性及び靭性のバランスの観点から、未だ不十分なものである。
【０００５】
上記事情に鑑み、本発明が解決しようとする課題は、優れた耐熱性、靭性を有し、且つ、透明性を維持した光弾性係数の小さい光学フィルムを提供することであり、特に薄膜状のフィルムを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者らは上記課題に対して鋭意検討を行った結果、特定組成比の耐熱アクリル系樹脂（ａ）に、屈折率及び平均粒子径が制御された、多層構造を有するゴム質含有共重合体粒子（ｂ）を特定の割合で配合することにより、上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００７】
即ち、本発明は以下のとおりである。
［１］
メタクリル酸エステル及び／又はアクリル酸エステル単位４０質量％以上９０質量％以下と、芳香族ビニル化合物単位５質量％以上４０質量％以下と、下記一般式（１）で表される化合物単位５質量％以上３０質量％以下と、を含む耐熱アクリル系樹脂（ａ）１００質量部に対して、
【０００８】
【化１】
2010024338.tif 000002
【０００９】
（式中、ＸはＯ又はＮ−Ｒを示し、Ｏは酸素原子、Ｎは窒素原子、Ｒは水素原子、アルキル基、アリール基又はシクロアルキル基を示す。）
前記耐熱アクリル系樹脂（ａ）との屈折率差が０．０１５以下、平均粒子径が０．０４μｍ以上０．１３μｍ以下の、多層構造を有するゴム質含有共重合体粒子（ｂ）を０．１質量部以上５０質量部以下含む、光学フィルム。
［２］
前記ゴム質含有共重合体粒子（ｂ）は、三層構造以上の多層構造を有する粒子である、上記［１］記載の光学フィルム。
［３］
前記ゴム質含有共重合体粒子（ｂ）は、内側から硬質層―軟質層−硬質層の順に形成された三層構造を有する粒子である、上記［１］又は［２］記載の光学フィルム。
［４］
膜厚が１００μｍ以下、２３℃環境下のヘイズ値が１．２％以下である、上記［１］〜［３］のいずれか記載の光学フィルム。
［５］
７０℃環境下のヘイズ値が２．０％以下である、上記［１］〜［４］のいずれか記載の光学フィルム。
［６］
Ｔｇ（ガラス転移温度）が１２０℃以上である、上記［１］〜［５］のいずれか記載の光学フィルム。
［７］
２３℃環境下の光弾性係数の絶対値が５．０×１０−１２／Ｐａ以下である、上記［１］〜［６］のいずれか記載の光学フィルム。
［８］
ＭＤに対して垂直方向の耐折強度が１．０以上である、上記［１］〜［７］のいずれか記載の光学フィルム。
［９］
上記［１］〜［８］のいずれか記載の光学フィルムからなる偏光板保護フィルム。
［１０］
上記［１］〜［８］のいずれか記載の光学フィルムからなる位相差フィルム。
【発明の効果】
【００１０】
本発明により、優れた耐熱性、靭性を有し、且つ、透明性を維持した光弾性係数の小さい光学フィルムを提供することができる。本発明の光学フィルムは、耐折強度にも優れているため、フィルムの生産工程や部材への組み込み時における割れの発生や、トリミング工程におけるマイクロクラックや亀裂等の発生を低減することが可能であり、結果として、光学フィルムの生産性を著しく向上させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、本発明を実施するための最良の形態（以下、本実施の形態）について詳細に説明する。なお、本発明は、以下の実施の形態に限定されるものではなく、その要旨の範囲内で種々変形して実施することができる。
なお、本実施の形態においては、重合前のモノマー成分のことを「〜単量体」（ただし、「単量体」を省略して化合物名のみ記載する場合もある）といい、共重合体を構成する構成単位のことを「〜単位」という。
【００１２】
本実施の形態の光学フィルムは、メタクリル酸エステル及び／又はアクリル酸エステル単位４０質量％以上９０質量％以下と、芳香族ビニル化合物単位５質量％以上４０質量％以下と、下記一般式（１）で表される化合物単位５質量％以上３０質量％以下と、を含む耐熱アクリル系樹脂（ａ）１００質量部に対して、
【００１３】
【化１】
2010024338.tif 000003
【００１４】
（式中、ＸはＯ又はＮ−Ｒを示し、Ｏは酸素原子、Ｎは窒素原子、Ｒは水素原子、アルキル基、アリール基又はシクロアルキル基を示す。）
【００１５】
前記耐熱アクリル系樹脂（ａ）との屈折率差が０．０１５以下、平均粒子径が０．０４μｍ以上０．１３μｍ以下の、多層構造を有するゴム質含有共重合体粒子（ｂ）を０．１質量部以上５０質量部以下含む樹脂組成物を成形して得られる光学フィルムである。
【００１６】
耐熱アクリル系樹脂（ａ）の第一の単量体成分であるメタクリル酸エステル及び／又はアクリル酸エステルの具体例としては、例えば、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ｎ−ブチル、メタクリル酸ｎ−ヘキシル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸ｔ−ブチルシクロヘキシル等のメタクリル酸エステル；アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸イソプロピル、アクリル酸２−エチルヘキシル等のアクリル酸エステルが挙げられる。上記の中でも、透明性や重合し易さの観点からメタクリル酸メチルが好ましい。
【００１７】
耐熱アクリル系樹脂（ａ）の第二の単量体成分である芳香族ビニル化合物の具体例としては、例えば、スチレン、ｏ−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、２，４−ジメチルスチレン、エチルスチレン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルスチレン等の核アルキル置換スチレン；α−メチルスチレン、α−メチル−ｐ−メチルスチレン等のα−アルキル置換スチレン等が挙げられる。上記の中でも、耐熱分解性や重合し易さの観点からスチレンが好ましい。
【００１８】
耐熱アクリル系樹脂（ａ）の第三の単量体成分である一般式（１）で表される化合物単位のうち、ＸがＯであるものとしては、例えば、無水マレイン酸、イタコン酸、エチルマレイン酸、メチルイタコン酸、クロルマレイン酸等の無水物である不飽和ジカルボン酸無水物単量体単位が挙げられる。上記の中でも、耐熱分解性や耐熱性向上の観点から、無水マレイン酸単量体単位が好ましい。また、ＸがＮ−Ｒであるものとしては、例えば、Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド等のマレイミド単量体単位が挙げられる。
【００１９】
耐熱アクリル系樹脂（ａ）を構成する単量体単位の共重合割合は、耐熱性、光弾性係数の観点から、メタクリル酸エステル及び／又はアクリル酸エステル単位が４０質量％以上９０質量％以下、芳香族ビニル化合物単位が５質量％以上４０質量％以下、上記一般式
（１）で表される化合物単位が５質量％以上３０質量％以下である。
【００２０】
メタクリル酸エステル及び／又はアクリル酸エステル単位の共重合割合が４０質量％以上であると、光学特性や重合安定性が良好となる傾向にあり、９０質量％以下であると、耐熱性が維持される傾向にある。また、芳香族ビニル化合物単位の共重合割合が５質量％以上であると、光学特性が良好となる傾向にあり、４０質量％以下であると、耐候性が維持される傾向にある。さらに、上記一般式（１）で表される化合物単位が５質量％以上であると、耐熱性が良好となる傾向にあり、３０質量％以下であると、着色性や重合安定性
が維持される傾向にある。
【００２１】
より好ましくは、メタクリル酸エステル及び／又はアクリル酸エステル単位が４２質量％以上８３質量％以下、芳香族ビニル化合物単位が１２質量％以上４０質量％以下、上記一般式（１）で表される化合物単位が５質量％以上１８質量％以下である。
【００２２】
さらに好ましくは、メタクリル酸エステル及び／又はアクリル酸エステル単位が４５質量％以上７８質量％以下、芳香族ビニル化合物単位が１６質量％以上４０質量％以下、上記一般式（１）で表される化合物単位が６質量％以上１５質量％以下である。
【００２３】
また、上記一般式（１）で表される化合物単位の共重合割合に対する芳香族ビニル化合物単位の共重合割合が１倍以上３倍以下であることが好ましい。この割合が、上記範囲よりも小さいと芳香族ビニル化合物の添加の効果が得られ難く、重合体の収率が低下する傾向にあり、上記範囲よりも大きいとモノマー配合相への溶解が困難になり、樹脂の強度が低くなる傾向がある。
【００２４】
耐熱アクリル系樹脂（ａ）としては、上述した必須構成単量体成分に加え、必要に応じて共重合可能な他の単量体を共重合して得られた耐熱アクリル系樹脂も包含される。ここで用いられる共重合可能な他の単量体としては、例えば、メタクリル酸、アクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、桂皮酸等の不飽和カルボン酸単量体；アクリロニトリル、メタクリロニトリル等の不飽和ニトリル単量体；１，３‐ブタジエン、２‐メチル‐１，３‐ブタジエン（イソプレン）、２，３‐ジメチル‐１，３‐ブタジエン、１，３‐ペンタジエン、１，３‐ヘキサジエン等の共役ジエン単量体等が挙げられ、これらの２種以上を共重合することも可能である。
【００２５】
耐熱アクリル系樹脂（ａ）を製造する方法としては、ラジカル開始剤を使用した塊状重合が適した方法であるが、溶液重合、乳化重合を用いることも可能である。水系懸濁重合は、無水マレイン酸を単量体成分として用いる場合には、その水溶性が高いため、終始安定な懸濁系を保つことが困難となる傾向にあり推奨されない。
【００２６】
ラジカル開始剤としては一般に使用されているものを用いることができるが、中でも、過酸化系開始剤であるラウロイルパーオキサイド、デカノイルパーオキサイド、ｔ−ブチルパーオキシ２−エチルヘキサノエートを使用すると、耐熱アクリル系樹脂（ａ）の着色が抑制される傾向にある。従って、耐熱アクリル系樹脂（ａ）を重合する際のラジカル開始剤としては、ラウロイルパーオキサイドのようなジアシルパーオキサイドを適用することが好ましい。
【００２７】
耐熱アクリル系樹脂（ａ）の好ましい重合方法としては、例えば、特公昭６３−１９６４号公報に記載された方法等が挙げられる。
【００２８】
耐熱アクリル系樹脂（ａ）のメルトインデックス（ＡＳＴＭ  Ｄ１２３８：Ｉ条件）は、光学フィルムの強度の観点から、好ましくは１０ｇ／１０分以下、より好ましくは６ｇ／１０分以下、さらに好ましくは３ｇ／１０分以下である。
【００２９】
耐熱アクリル系樹脂（ａ）のＴｇ（ガラス転移温度）は、実用途上、好ましくは１２０℃以上、より好ましくは１２５℃以上、さらに好ましくは１３０℃以上である。Ｔｇが１２０℃以上であると、実用温度下での熱変形が低減する傾向にある。
【００３０】
耐熱アクリル系樹脂（ａ）は、ブロックポリマーであってもランダムポリマーであってもよいが、耐熱性や剛性、リサイクル性の観点からは、統計的ランダムポリマーであることが好ましい。
【００３１】
耐熱アクリル系樹脂（ａ）の分子量分布範囲は、重量平均分子量（Ｍｗ）と数平均分子量（Ｍｎ）の比（Ｍｗ／Ｍｎ）が１．６〜４．０の範囲にあることが好ましい。より好ましくは１．７〜３．７であり、さらに好ましくは１．８〜３．５の範囲である。Ｍｗ／Ｍｎが１．６以上であると、樹脂のフィルム加工性と機械物性のバランスが良好となる傾向にある。また、Ｍｗ／Ｍｎが４．０以下であると、溶融流動性が改善し、加工性が良好となる傾向にある。
【００３２】
本実施の形態における重量平均分子量（Ｍｗ）と数平均分子量（Ｍｎ）の比（Ｍｗ／Ｍｎ）は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）を用いて、ポリスチレン換算によって求めた値を言う。
【００３３】
耐熱アクリル系樹脂（ａ）の、ＧＰＣにより測定した重量平均分子量（Ｍｗ）は、好ましくは１０万〜５０万、より好ましくは１２〜３０万、さらに好ましくは１４〜２０万である。耐熱アクリル系樹脂（ａ）の重量平均分子量が５０万以下であると、押出し延伸加工時に十分な流動性が得られるため、溶融押出、延伸成膜が大きな支障なく行える傾向にある。また、耐熱アクリル系樹脂（ａ）の重量平均分子量が１０万以上であると、良好な延伸安定性と、フィルムに十分な配向度が付与される傾向にある。
【００３４】
本実施の形態の光学フィルムは、上述した耐熱アクリル系樹脂（ａ）との屈折率差が０．０１５以下、平均粒子径が０．０４μｍ以上０．１３μｍ以下の、多層構造を有するゴム質含有共重合体粒子（ｂ）を含む。
【００３５】
ゴム質含有共重合体粒子（ｂ）としては、上記特性を満たすものであれば、特に限定されず、一般的なブタジエン系ＡＢＳゴム、アクリル系、ポリオレフィン系、シリコーン系、フッ素ゴム等の多層構造を有するゴム粒子を使用することができる。中でも、三層構造以上の多層構造を有する粒子が好ましく、三層構造以上の多層構造を有するアクリル系ゴム粒子がより好ましい。ゴム質含有共重合体粒子（ｂ）として、上記三層構造以上の多層構造を有するゴム粒子を用いることにより、加熱によるゴム質含有共重合体粒子（ｂ）の変形が抑制され、光学フィルムのガラス転移温度（Ｔｇ）や透明性が維持される傾向にある。
【００３６】
三層構造以上の多層構造を有するゴム質含有共重合体粒子（ｂ）とは、ゴム状ポリマーからなる軟質層と、ガラス状ポリマーからなる硬質層とが積層した多層構造のゴム粒子を言い、好ましくは、内側から硬質層―軟質層−硬質層の順に形成された三層構造を有する粒子である。硬質層を最内層と最外層に有することにより、ゴム質含有共重合体粒子（ｂ）の変形が抑制される傾向にあり、中央層に軟質成分を有することにより良好な靭性が付与される傾向にある。
【００３７】
三層構造を有するゴム質含有共重合体粒子（ｂ）の最内層（ｂ−ｉ）を形成する共重合体は、好ましくは、メタクリル酸メチル６５〜９０質量％と、これと共重合可能な他の共重合性単量体１０〜３５質量％とを含む。屈折率を適切に制御する観点から、上記他の共重合性単量体は、好ましくは、アクリル酸エステル単量体０．１〜５質量％と、芳香族ビニル化合物単量体５〜３５質量％と、共重合性多官能単量体０．０１〜５質量％とを含む。
【００３８】
三層構造を有するゴム質含有共重合体粒子（ｂ）の最内層（ｂ−ｉ）を形成する共重合体中のアクリル酸エステル単量体としては、特に限定されないが、好ましくは、アクリル酸ｎ−ブチル、アクリル酸２−へキシルである。芳香族ビニル化合物単量体としては、耐熱アクリル系樹脂（ａ）に使用される単量体と同様のものを用いることができるが、好ましくは、最内層（ｂ−ｉ）の屈折率を調整して光学フィルムの透明性を良好にする観点から、スチレン又はその誘導体が用いられる。共重合性多官能単量体としては、特に限定されないが、好ましくは、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，３−ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸アリル、トリアリルイソシアヌレート、マレイン酸ジアリル、ジビニルベンゼン等から１種又は２種以上を併用して用いる。上記化合物の中でも特に好ましいのは、（メタ）アクリル酸アリルである。
【００３９】
三層構造を有するゴム質含有共重合体粒子（ｂ）の中央層（ｂ−ｉｉ）を形成する共重合体は、好ましくは、アクリル酸エステル５５〜７５質量％と、これと共重合可能な他の共重合性単量体２５〜４５質量％とを含む。上記他の共重合性単量体としては、好ましくは、芳香族ビニル化合物単量体と、共重合性多官能単量体０．１〜５質量％とを含む。
【００４０】
三層構造からなるゴム質含有共重合体粒子（ｂ）の中央層（ｂ−ｉｉ）を形成する共重合体は、光学フィルムに優れた靭性を付与する観点から、軟質なゴム弾性を示す共重合体であることが好ましい。中央層（ｂ−ｉｉ）を構成するアクリル酸エステルとしては、特に限定されないが、好ましくは、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ｎ−ブチル、アクリル酸２−エチルへキシル等から１種又は２種以上を併用して用いる。中でも、アクリル酸ｎ−ブチル、アクリル酸２−へキシルがより好ましい。また、アクリル酸エステルと共重合される芳香族ビニル化合物単量体としては、耐熱アクリル系樹脂（ａ）に使用される単量体と同様のものを用いることができるが、好ましくは中央層（ｂ−ｉｉ）の屈折率を調整して光学フィルムの透明性を良好にする観点から、スチレン又はその誘導体が用いられる。また、共重合性多官能単量体としては、最内層（ｂ−ｉ）で用いられる共重合性多官能単量体と同様のものを用いることができ、その含有量としては、０．１質量％以上５質量％以下であると、良好な架橋効果を有し、かつ、架橋が適度でゴム弾性効果が大きくなるため、光学フィルムの靭性が向上する傾向にあり好ましい。
【００４１】
三層構造を有するゴム質含有共重合体粒子（ｂ）の最外層（ｂ−ｉｉｉ）を形成する共重合体は、好ましくは、メタクリル酸メチル７０〜１００質量％と、これと共重合可能な他の共重合性単量体０〜３０質量％とを含む。
【００４２】
三層構造を有するゴム質含有共重合体粒子（ｂ）の最外層（ｂ−ｉｉｉ）の、メタクリル酸メチルと共重合可能な他の共重合性単量体としては、特に限定されないが、好ましくは、アクリル酸ｎ−ブチル、アクリル酸２−へキシルである。
【００４３】
ゴム質含有共重合体粒子（ｂ）の製造方法としては特に制限されず、塊状重合、溶液重合、懸濁重合及び乳化重合等の公知重合法により得ることが可能であり、特に、乳化重合により得ることが好ましい。この場合、乳化剤、開始剤の存在下、初めに最内層（ｂ−ｉ）の単量体混合物を添加し重合を完結させ、次に中央層（ｂ−ｉｉ）の単量体混合物を添加して重合を完結させ、次いで最外層（ｂ−ｉｉｉ）の単量体混合物を添加して重合を完結させることにより、容易に多層構造粒子をラテックスとして得ることができる。このゴム質含有共重合体粒子（ｂ）はラテックスから塩析、噴霧乾燥、凍結乾燥等の公知の方法により粉体として回収できる。
【００４４】
ゴム質含有共重合体粒子（ｂ）は、耐熱アクリル系樹脂（ａ）との屈折率差が０．０１５以下であり、より好ましくは０．０１２以下、さらに好ましくは、０．０１以下である。ゴム質含有共重合体粒子（ｂ）と、耐熱アクリル系樹脂（ａ）との屈折率差が０．０１５以下であると、透明性に優れた光学フィルムを得ることが可能となる。
【００４５】
上記屈折率条件を満たすための方法としては、耐熱アクリル系樹脂（ａ）の各単量体の単位組成比を調整する方法、及び／又は、ゴム質含有共重合体粒子（ｂ）に使用される各層における重合体もしくは単量体の組成比を調整する方法等が挙げられる。
【００４６】
屈折率差の測定方法としては、まず、ゴム質含有共重合粒子（ｂ）において、各々１．５９及び１．４９の屈折率を有する媒質を混合し、比率を変えながら（ｂ）と混合させ、白濁が消失する点をゴム質含有共重合粒子（ｂ）の屈折率（２３℃、５５０ｎｍ）とする。そして、別途レーザー屈折計にて測定した、プレス成形した耐熱アクリル系樹脂（ａ）の屈折率との差を算出することにより求めることができる。
【００４７】
また、ゴム質含有共重合体粒子（ｂ）の平均粒子径は、０．０４μｍ以上０．１３μｍ以下であり、好ましくは０．０５μｍ以上０．１μｍ以下、より好ましくは０．０５５μｍ以上０．０８μｍ、さらに好ましくは０．０６μｍ以上０．０７５μｍである。ゴム質含有共重合体粒子（ｂ）の平均粒子径が０．０４μｍ以上であると、光学フィルムの靭性を維持でき、０．１３μｍ以下であると、光学フィルムの透明性を保つことができる。特に、１００μｍ以下の膜厚を有する光学フィルムの場合においては、透明性維持のために、平均粒子径は０．１μｍ以下であることが好ましく、高温ヘイズ（７０℃下）においては、０．０８μｍ以下であることが好ましい。
【００４８】
本実施の形態の光学フィルム中のゴム質含有共重合体粒子（ｂ）は、トリミング性、耐折強度及び透明性の観点からアクリル系樹脂（ａ）１００質量部に対して、０．１質量部以上５０質量部以下含み、より好ましくは５質量部以上４５質量部以下、さらに好ましくは１０質量部以上４０質量部以下、特に好ましくは１５質量部以上３５質量部以下含む。ゴム質含有共重合体粒子（ｂ）の含有量が０．１質量部以上であると、光学フィルムのトリミング性及び耐折強度に優れ、トリミング工程においてマイクロクラックや亀裂等を抑制でき、５０質量部以下であると、光学フィルムの耐熱性及び透明性を維持することができる。
【００４９】
なお、トリミング工程とは、光学フィルムを製造する際に、フィルムの幅を一定に揃えるために両端を切り落とす工程を意味する。この際、フィルムがトリミング性に劣っていると、該工程中にマイクロクラックや亀裂現象等が起こり、光学フィルムの生産性が著しく低下することとなる。
【００５０】
本実施の形態の光学フィルムは、透明性を表す指標の一つである２３℃環境下のヘイズ値（濁度）が、好ましくは１．２％以下、より好ましくは１．０％以下、さらに好ましくは０．６％以下である。２３℃環境下のヘイズ値が１．２％以下であると、光学フィルムに高度な透明性が付与される傾向にある。
【００５１】
さらに、本実施の形態の光学フィルムは、７０℃環境下のヘイズ値が、好ましくは２．０％以下、より好ましくは１．５％以下、さらに好ましくは１．２％以下である。７０℃環境下でのヘイズ値が２．０％以下であると、例えば、液晶ディスプレイ等に使用した場合に温度上昇による透明性低下が抑制される傾向にある。
【００５２】
本実施の形態の光学フィルムは、２３℃環境下の光弾性係数の絶対値が５．０×１０−１２／Ｐａ以下であることが好ましく、４．０×１０−１２／Ｐａ以下であることがより好ましく、３．０×１０−１２／Ｐａ以下であることがさらに好ましい。光弾性係数が上記範囲内であると、応力による複屈折の変化が少ないため、液晶表示装置等に使用した場合にコントラストや画面の均一性に優れる傾向にある。
【００５３】
本実施の形態における「光弾性係数」とは、外力による複屈折の変化の生じやすさを表す係数で、下式により定義される。
ＣＲ［／Ｐａ］＝Δｎ／σＲ
ここで、σＲは伸張応力［Ｐａ］、Δｎは応力付加時の複屈折であり、Δｎは下式により定義される。
Δｎ＝ｎ１−ｎ２
（式中、ｎ１は伸張方向と平行な方向の屈折率、ｎ２は伸張方向と垂直な方向の屈折率である。）
【００５４】
ここで、光弾性係数の値がゼロに近いほど、外力による複屈折の変化が小さいことを示す。
【００５５】
光学フィルムの光弾性係数は、耐熱アクリル系樹脂（ａ）の共重合比率を変化させること等により制御することができる。
【００５６】
本実施の形態の光学フィルムのＴｇ（ガラス転移温度）は、実用途上、好ましくは１２０℃以上、より好ましくは１２５℃以上、さらに好ましくは１３０℃以上である。Ｔｇが１２０℃以上であると、加工工程等での光学フィルムの熱変形が抑制される傾向にある。
【００５７】
本実施の形態の光学フィルムには、本発明の効果を損なわない範囲で、上述した（ａ）及び（ｂ）成分以外の、他の重合体を混合することができる。そのような他の重合体としては、例えば、ポリスチレン、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリエステル、ポリスルホン、ポリフェニレンオキサイド、ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリアセタール等の熱可塑性樹脂、及びフェノール樹脂、メラミン樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂等が挙げられる。
【００５８】
また、本実施の形態の光学フィルムには、本発明の効果を損なわない範囲内で、各種目的に応じて任意の添加剤を配合することができる。添加剤の種類は、樹脂の配合に一般的に用いられるものであれば特に制限はなく、例えば、二酸化珪素等の無機充填剤、酸化鉄等の顔料、ステアリン酸、ベヘニン酸、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸マグネシウム、エチレンビスステアロアミド等の滑剤、離型剤、パラフィン系プロセスオイル、ナフテン系プロセスオイル、芳香族系プロセスオイル、パラフィン、有機ポリシロキサン、ミネラルオイル等の軟化剤・可塑剤、難燃剤、帯電防止剤、有機繊維、ガラス繊維、炭素繊維、金属ウィスカ等の補強剤、着色剤、その他添加剤或いはこれらの混合物等が挙げられる。
【００５９】
さらに、本実施の形態の光学フィルムには、本発明の効果を損なわない範囲で、紫外線吸収剤を添加することができる。混合することができる紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾトリアジン系化合物、ベンゾエート系化合物、ベンゾフェノン系化合物、オキシベンゾフェノン系化合物、フェノール系化合物、オキサゾール系化合物、マロン酸エステル系化合物、シアノアクリレート系化合物、ラクトン系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンズオキサジノン系化合物、ヒンダードアミン系化合物、トリアジン系化合物等が挙げられる。これらの紫外線吸収剤は単独で用いても、２種以上を併用しても構わない。
【００６０】
本実施の形態の光学フィルムの製造方法は、特に制限されるものではなく、耐熱アクリル系樹脂（ａ）、ゴム質含有共重合体粒子（ｂ）、及び必要に応じて、その他の重合体、添加剤を原料として、公知の方法により得ることができる。例えば、単軸押出機、二軸押出機、バンバリーミキサー、ブラベンダー、各種ニーダー等の溶融混練機を用いて（ａ）及び（ｂ）成分を含む樹脂組成物を製造し、その後、Ｔダイ、円形ダイ等が装着された押出機等を用いて、原反フィルム又はシートを押し出し成形することにより製造することができる。押し出し成形により成形品を得る場合は、事前に（ａ）及び（ｂ）成分を溶融混錬した材料を用いてもよいし、押し出し成形時に溶融混錬を経て成形することもできる。また、薄膜成形品であれば、ブロー成形、インジェクションブロー成形、インフレーション成形、発泡成形等、公知の方法で成形することによって製造することでき、圧空成形、真空成形等の二次加工成形法を用いることもできる。
【００６１】
本実施の形態の光学フィルムの膜厚は、好ましくは１００μｍ以下であり、より好ましくは１０μｍ以上９０μｍ以下、さらに好ましくは２０μｍ以上８０μｍ以下、特に好ましくは３０μｍ以上６０μｍ以下である。特に、液晶ディスプレイ周辺の光学フィルムとして用いる場合には、１００μｍ以下の膜厚が要求されており、耐折強度の観点から薄膜であることが好ましい。
【００６２】
本実施の形態における光学フィルムは、ＭＤに対して垂直方向の耐折強度が、好ましくは１．０以上、より好ましくは１．５以上、さらに好ましくは２．０以上である。ここで耐折強度とは、ＪＩＳ  Ｐ  ８１１５（国際標準化機構：ＩＳＯ５６２６）に従って求めた耐折回数をＬｏｇでとった値をいう。ＭＤに対して垂直方向の耐折強度が１．０以上であることにより、光学フィルムを筐体に組み込んだり、取り扱い時にぶつける等の衝撃でも割れてしまうリスクが低減する傾向にある。ここで、ＭＤとは、フィルム成形時のおける機械的流れ方向を示す。
【００６３】
本実施の形態の光学フィルムには、位相差を付与するために適宜延伸加工を施してもよい。延伸方法は特に制限されるものではなく、機械的流れ方向（ＭＤ）に縦一軸延伸、機械的流れ方向に直行する方向（ＴＤ）に横一軸延伸する方法等が利用でき、一軸又は二軸延伸によって延伸することが好ましい。例えば、工業的には、ロール延伸又はテンター延伸による一軸延伸法、ロール延伸とテンター延伸の組み合わせによる逐次二軸延伸法、テンター延伸による同時二軸延伸法、チューブラー延伸による二軸延伸法等によって延伸成形体を製造することができる。
【００６４】
延伸倍率は、０．１％以上２００％以下であることが好ましい。より好ましくは１％以上１５０％以下であり、さらに好ましくは１０％以上１３０％以下である。延伸倍率を上記範囲に調整することにより、光弾性係数、機械強度において好ましい延伸成形体が得られる傾向にある。
【００６５】
延伸倍率は、得られた延伸成形体をガラス転移温度よりも２０℃以上高い温度で収縮させ、以下の関係式から決定することができる。    延伸倍率（％）＝［（収縮前の長さ／収縮後の長さ）−１］×１００
【００６６】
また、延伸温度としては、好ましくはＴｇ（ガラス転移温度）−５℃〜＋４０℃であり、より好ましくはＴｇ＋０℃〜３０℃、さらに好ましくはＴｇ＋５℃〜２０℃の範囲である。ここで、ガラス転移温度はＤＳＣ法や粘弾性法により求めることができる。
【００６７】
本実施の形態の光学フィルムは、靭性の付与された偏光板保護フィルム又は位相差フィルムの用途に好適に用いることができる。
【００６８】
本実施の形態の光学フィルムを偏光板保護フィルムとして用いる場合の、面内レターデーション（Ｒｅ）の絶対値は、好ましくは０ｎｍ以上５０ｎｍ以下、より好ましくは４０ｎｍ以下、さらに好ましくは２０ｎｍ以下、特に好ましくは１０ｎｍ以下である。Ｒｅを上記範囲に調整することにより、偏光板保護フィルムとして好適に用いることができる。特に溶融押出しにより製造する場合は、原反フィルム（未延伸）Ｒｅが小さいため、原反フィルムを偏光板保護フィルムとして用いるのが好ましい。
【００６９】
本実施の形態の光学フィルムを位相差フィルムとして用いる場合の、Ｒｅの絶対値は、好ましくは１００ｎｍ以上１８０ｎｍ以下、より好ましくは１２０ｎｍ以上１６０ｎｍ以下である。Ｒｅを上記範囲に調整することにより、１／４波長板として好適に用いることができる。
【００７０】
光学フィルムの面内レターデーション（Ｒｅ）は、耐熱アクリル系樹脂（ａ）の共重合比率や、延伸倍率及び膜厚を好ましい範囲内に設計すること等により制御することができる。
【００７１】
ここで、面内レターデーション（Ｒｅ）は下式により定義されるものである。
Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
（式中、ｎｘ、ｎｙ：面内の主屈折率、ｄ：厚み）
【００７２】
本実施の形態の光学フィルムには、例えば、反射防止処理、透明導電処理、電磁波遮蔽処理、ガスバリア処理等の表面機能化処理を適宜施してもよい。
【実施例】
【００７３】
以下に実施例を示して、本実施の形態をより詳細に説明するが、本実施の形態は以下に記載の実施例によって限定されるものではない。
［測定方法］
実施例中の各物性等の測定及び評価方法は次の通りである。
（１）光弾性係数（ＣＲ）の測定
測定光の経路に引張装置（井元製作所株式会社製）を配置し、試験片に伸張応力をかけながらその複屈折をＲｅｔｓ−ＲＦＩ（大塚電子株式会社製）を用いて測定した。伸張時の歪速度は０．３％／分（チャック間：３０ｍｍ、チャック移動速度０．１ｍｍ／分）、試験片幅は１０ｍｍとした。２３℃における、試験片の０〜０．５％の歪範囲における複屈折の絶対値（｜Δｎ｜）をｙ軸、伸張応力（σＲ）をｘ軸としてプロットし、最小二乗近似により線形領域の直線の傾きを求め、光弾性係数の絶対値（｜ＣＲ｜）を計算した。
【００７４】
（２）平面レターデーション（Ｒｅ）の測定
大塚電子株式会社製複屈折測定装置ＲＥＴＳ−１００を用いて、回転検光子法により各フィルムの２３℃における平面レターデーション（Ｒｅ）を測定した。
【００７５】
（３）ガラス転移温度（Ｔｇ）の測定
ＤＳＣ−７型（パーキン・エルマー社製）を用い、室温から２００℃までの昇温測定において、昇温速度２０℃／分で原反フィルムサンプル質量８．０〜１０ｍｇのＴｇを測定した。
【００７６】
（４）ゴム質含有共重合体粒子（ｂ）の平均粒子径の測定
三層構造のゴム質含有共重合体粒子の乳化液をサンプリングして、固形分５００ｐｐｍになるように水で希釈し、ＵＶ１２００Ｖ分光光度計（株式会社島津製作所製）を用いて波長５５０ｎｍでの吸光度を測定した。この値から、透過型電子顕微鏡写真より粒子径を計測したサンプルについて、同様に吸光度を測定して作成した検量線を用いて平均粒子径を求めた。
【００７７】
（５）耐折強度の測定（靭性の評価）
光学フィルムの靭性は、以下の耐折強度の測定により評価した。
長さ１１０ｍｍ×幅１５ｍｍに裁断したサンプルをＪＩＳ  Ｐ  ８１１５（国際標準化機構：ＩＳＯ５６２６）に従って、ＭＤ方向に対して垂直方向の耐折回数を測定し、その平均値を示した。下記に試験条件を記載する。
試験条件  試験機：ＭＩＴ耐揉試験機（東洋精機製作所株式会社）
荷重：２．４５Ｎ  （＝２５０ｇ）
折り曲げ角度：±１３５°
折り曲げ速度：１７５ｃｐｍ
試験片つかみ具
先端半径：Ｒ＝０．３８ｍｍ
開き：０．２５ｍｍ
当該耐折試験の結果は、耐折強度をもって表示する。
耐折強度は次の式で算出される。
耐折強度  ＝  Ｌｏｇ  ｎ
（式中、ｎは試験片が損傷（折れ破壊）にいたる試験回数を示す。）
【００７８】
（６）フィルム膜厚の測定
マイクロメーター（ミツトヨ株式会社製）を用いて各原反フィルムの中央部を測定した。
【００７９】
（７）屈折率の測定
Ｍｅｔｒｉｃｏｎ社製レーザー屈折計Ｍｏｄｅｌ２０１０を用いて、耐熱アクリル系樹脂（ａ）フィルムの２３℃、５５０ｎｍでの平均屈折率を測定した。
【００８０】
（８）ヘイズの測定
各原反フィルムのヘイズ値をＪＩＳ−Ｋ７１３６に準じて測定した。
【００８１】
実施例中の各樹脂の製造方法は次の通りである。
［樹脂製造方法］
・  耐熱アクリル系樹脂（ａ）
（１−１）耐熱アクリル系樹脂（ａ−１）
特公昭６３−１９６４に記載された方法で、メタクリル酸メチル−スチレン−無水マレイン酸共重合体である耐熱アクリル系樹脂（ａ−１）を得た。得られた共重合体の組成は、メタクリル酸メチル７２質量％、スチレン１６質量％、無水マレイン酸１２質量％であり、共重合体メルトフローレート値（ＡＳＴＭ−Ｄ１２３８；２３０℃、３．８ｋｇ荷重）は１．６ｇ／１０分であった。
（１−２）アクリル系樹脂（ａ−２）
上記と同様の方法により、メタクリル酸メチル５１質量％、スチレン４５質量％、無水マレイン酸４質量％の共重合組成を有するアクリル系樹脂（ａ−２）を得た。アクリル系樹脂（ａ−２）は、後述する比較例２で用いた。
【００８２】
（２）ゴム質含有共重合体粒子（ｂ）
ゴム質含有共重合体粒子の製造法において用いた略号は、以下の化合物を示す。
ＭＭＡ；メチルメタクリレ−ト
ＢＡ；ｎ−ブチルアクリレ−ト
Ｓｔ；スチレン
ＭＡ；メチルアクリレ−ト
ＡＬＭＡ；アリルメタクリレ−ト
ＰＥＧＤＡ；ポリエチレングリコ−ルジアクリレ−ト（分子量２００）
ＤＰＢＨＰ；ジイソプロピルベンゼンハイドロパ−オキサイド
ｎ−ＯＭ；ｎ−オクチルメルカプタン
ＨＭＢＴ；２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール
【００８３】
（２−１）三層構造を有するゴム質含有共重合体粒子（ｂ−１）
内容積１０Ｌの還流冷却器付反応器に、イオン交換水４６００ｍＬ、乳化剤としてジオクチルスルホコハク酸ナトリウム２４ｇを投入し、２５０ｒｐｍの回転数で攪拌しながら、窒素雰囲気下８０℃に昇温し、酸素の影響が事実上無い状態にした。次いで、還元剤としてロンガリツトｌ．２ｇを加え均一に溶解した。
第一層として、ＭＭＡ１５０ｇ、ＢＡ２．５ｇ、Ｓｔ４０ｇ、ＡＬＭＡ０．２ｇ、ＤＰＢＨＰ０．２ｇの単量体混合物を加え、８０℃で重合した。約１５分で反応は完了した。
次いで、第二層として、ＢＡ１１１０ｇ、Ｓｔ５７２ｇ、ＰＤＥＧＡ４０ｇ、ＡＬＭＡ７．０ｇ、ＤＰＢＨＰ３．５ｇ、ロンガリツト２．０ｇの単量体混合物を９０分にわたって滴下した。滴下終了後６０分で反応は完了した。
次いで、第三層１段としてＭＭＡ１９０ｇ、ＢＡ２．０ｇ、ＤＰＢＨＰ０．２ｇ、ｎ−ＯＭ０．１ｇの単量体混合物を５分にわたって滴下し、滴下終了後、この段階の反応は約１５分で完了した。
最後に、第三層２段としてＭＭＡ３８０ｇ、ＢＡ２．５ｇ、ＤＰＢＨＰ０．４ｇ、ｎ−ＯＭ１．２ｇの単量体混合物を１０分にわたって加えた。この段階は約１５分で反応が完了した。
温度を９５℃に上げ、１時間保持し、得られた乳化液を０．５％塩化アルミニウム水溶液中に投入して重合体を凝集させ、温水で５回洗浄後、乾燥して白色フロック状の材料を得た。得られたゴム質含有共重合体粒子（ｂ−１）の平均粒子径は０．１μｍであった。また、耐熱アクリル系樹脂（ａ）との屈折率差は０．００４であった。
【００８４】
（２−２）三層構造を有するゴム質含有共重合体粒子（ｂ−２）
内容積１０Ｌの還流冷却器付反応器に、イオン交換水４６００ｍＬ、ジオクチルスルホコハク酸ナトリウム３３ｇを投入し、２５０ｒｐｍの回転数で攪拌しながら、窒素雰囲気下８０℃に昇温し、酸素の影響が事実上無い状態にした。ナトリウムホルムアルデヒドスルホキシレート１．０ｇを添加してから５分後に、ＭＭＡ２２０ｇ、ＢＡ３．５ｇ、Ｓｔ４８ｇ、ＡＬＭＡ０．２７ｇ及びＤＰＢＨＰ０．２７ｇからなる単量体混合物のうち３０質量％を一括添加し、その直後から残りの７０質量％を２０分間かけて連続的に添加し、添加終了後さらに６０分間保持して最内層の重合を完結させた。
【００８５】
次に、ナトリウムホルムアルデヒドスルホキシレート０．８ｇを添加してから５分後に、ＢＡ６２０ｇ、Ｓｔ３２５ｇ、ＡＬＭＡ１４ｇ、テトラエチレングリコールジアクリレート４．８ｇ及びＤＰＢＨＰ２．０ｇからなる単量体混合物を６０分間かけて連続的に添加し、添加終了後さらに８０分間保持して軟質層（中間層）の重合を完結させた。
【００８６】
次に、ＭＭＡ７６０ｇ、ＢＡ５０ｇ、ＤＰＢＨＰ１．６ｇ及びｎ−ＯＭ１．０ｇからなる単量体混合物を７０分間かけて連続的に添加し、添加終了後さらに６０分間保持した。次いで、９５℃に昇温し６０分間保持して最外層の重合を完結させた。このようにして得られた重合体乳化液を少量採取し、吸光度法により平均粒子径を求めたところ、０．０９μｍであった。残りの乳化液を３質量％硫酸ナトリウム温水溶液中へ投入して、塩析・凝固させ、次いで、脱水・洗浄を繰り返したのち乾燥し、ゴム質含有共重合体粒子（ｂ−２）をパウダ−として得た。また、耐熱アクリル系樹脂（ａ）との屈折率差は０．００８であった。
【００８７】
（２−３）三層構造を有するゴム質含有共重合体粒子（ｂ−３）
内容積１０Ｌの還流冷却器付反応器に、イオン交換水５６００ｍＬ、ジオクチルスルホコハク酸ナトリウム４０ｇを投入し、２５０ｒｐｍの回転数で攪拌しながら、窒素雰囲気下８０℃に昇温し、酸素の影響が事実上無い状態にした。ナトリウムホルムアルデヒドスルホキシレ−ト１．２ｇを添加してから５分後に、ＭＭＡ２６０ｇ、ＢＡ４．２ｇ、Ｓｔ６４ｇ、ＡＬＭＡ０．３３ｇ及びＤＰＢＨＰ０．３３ｇからなる単量体混合物のうち３０質量％を一括添加し、その直後から残りの７０質量％を２０分間かけて連続的に添加し、添加終了後さらに６０分間保持して最内層の重合を完結させた。
次に、ナトリウムホルムアルデヒドスルホキシレ−ト１．０ｇを添加してから５分後に、ＢＡ９１７ｇ、Ｓｔ４８０ｇ、ＡＬＭＡ２１ｇ、テトラエチレングリコールジアクリレート７．０ｇ及びＤＰＢＨＰ２．９ｇからなる単量体混合物を９０分間かけて連続的に添加し、添加終了後さらに８０分間保持して軟質層（中間層）の重合を完結させた。
次に、ＭＭＡ６９５ｇ、ＢＡ４５ｇ、ＤＰＢＨＰ１．４７ｇ及びｎ−ＯＭ０．９ｇからなる単量体混合物を６０分間かけて連続的に添加し、添加終了後さらに６０分間保持した。次いで、９５℃に昇温し６０分間保持して、最外層の重合を完結させた。このようにして得られた重合体乳化液を少量採取し、吸光度法により平均粒子径を求めたところ、０．０８μｍであった。残りの乳化液を３質量％硫酸ナトリウム温水溶液中へ投入して、塩析・凝固させ、次いで、脱水・洗浄を繰り返したのち乾燥し、ゴム含有共重合体（ｂ−３）をパウダ−として得た。また、耐熱アクリル系樹脂（ａ）との屈折率差は０．００８であった。
【００８８】
（２−４）三層構造を有するゴム質含有共重合体粒子（ｃ−１）
内容積１０Ｌの還流冷却器付反応器に、イオン交換水４６００ｍＬ、乳化剤としてジオクチルスルホコハク酸ナトリウム２４ｇを投入し、２５０ｒｐｍの回転数で攪拌しながら、窒素雰囲気下８０℃に昇温し、酸素の影響が事実上無い状態にした。次いで、還元剤としてロンガリツト１．３ｇを加え均一に溶解した。第一層としてＭＭＡ１９０ｇ、ＢＡ２．５ｇ、ＡＬＭＡ０．２ｇ、ＤＰＢＨＰ０．２ｇの単量体混合物を加え８０℃で重合した。約１５分で反応は完了した。
次いで、第二層としてＢＡ１３６０ｇ、Ｓｔ３２０ｇ、ＰＤＥＧＡ４０ｇ、ＡＬＭＡ７．０ｇ、ＤＰＢＨＰ１．６ｇ、ロンガリツト１．０ｇの単量体混合物を９０分にわたって滴下した。滴下終了後４０分で反応は完了した。
次に、第三層１段としてＭＭＡ１９０ｇ、ＢＡ２．３ｇ、ＤＰＢＨＰ０．２ｇの単量体混合物を５分にわたって滴下し、滴下終了後、この段階の反応は約１５分で完了した。
最後に、第三層２段としてＭＭＡ３８０ｇ、ＢＡ４．６ｇ、ＤＰＢＨＰ０．４ｇ、ｎ−ＯＭの量を１．２ｇの単量体混合物を１０分にわたって加えた。この段階は約１５分で反応が完了した。
温度を９５℃に上げ、１時間保持し、得られた乳化液を０．５％塩化アルミニウム水溶液中に投入して重合体を凝集させ、温水で５回洗浄後、乾燥して白色フロック状の材料を得た。得られたゴム質含有共重合体粒子（ｃ−１）の平均粒子径は０．１μｍであった。また、耐熱アクリル系樹脂（ａ）との屈折率差は０．０１９であった。
【００８９】
（２−５）三層構造を有するゴム質含有共重合体粒子（ｃ−２）
内容積１０Ｌの還流冷却器付反応器に、イオン交換水６８６８ｍＬ、ジヘキシルスルホコハク酸ナトリウム１３．７ｇを投入し、２５０ｒｐｍの回転数で攪拌しながら、窒素雰囲気下７５℃に昇温し、酸素の影響が事実上無い状態にした。ＭＭＡ９０７ｇ、ＢＡ３３ｇ、ＨＭＢＴ０．２８ｇ及びＡＬＭＡ０．９３ｇからなる混合物（Ｉ−１）のうち２２２ｇを一括添加し、５分後に過硫酸アンモニウム０．２２ｇを添加した。その４０分後から（Ｉ−１）の残りの７１９ｇを２０分間かけて連続的に添加し、添加終了後さらに６０分間保持した。
次に、過硫酸アンモニウム１．０１ｇを添加した後、ＢＡ１０６７ｇ、Ｓｔ２１９ｇ、ＨＭＢＴ０．３９ｇ、ＡＬＭＡ２７．３ｇからなる混合物（Ｉ−２）を１４０分間かけて連続的に添加し、添加終了後さらに１８０分間保持した。
次に、過硫酸アンモニウム０．３０ｇを添加した後、ＭＭＡ７３０ｇ、ＢＡ２６．５ｇ、ＨＭＢＴ０．２２ｇ、ｎ−ＯＭ０．７６ｇからなる混合物（Ｉ−３）を４０分間かけて連続的に添加し、添加終了後９５℃に昇温し３０分間保持した。
残りのラテックスを３質量％硫酸ナトリウム温水溶液中へ投入して、塩拆・凝固させ、次いで、脱水・洗浄を繰り返したのち乾燥し、ゴム含有共重合体粒子（ｃ−２）を得た。得られたゴム質含有共重合体粒子（ｃ−２）の平均粒子径は０．２３μであった。また、耐熱アクリル系樹脂（ａ）との屈折率差は０．０２であった。
【００９０】
（２−６）三層構造を有するゴム質含有共重合体粒子（ｃ−３）
乳化剤としてジオクチルスルホコハク酸ナトリウム１５ｇを投入したこと以外は、（ｂ−１）と同様の処方で重合を行った。得られたゴム質含有共重合体粒子（ｃ−３）の平均粒子径は０．１５μｍであり、耐熱アクリル系樹脂（ａ）との屈折率差は０．００４であった。
【００９１】
［実施例１〜５及び比較例１〜５］
プラスチック工学研究所製Ｔダイ装着押し出し機（ＢＴ−３０−Ｃ−３６−Ｌ型／幅４００ｍｍＴダイ装着／リップ厚０．８ｍｍ）を用いて、スクリュー回転数、押し出し機のシリンダー内樹脂温度、Ｔダイの温度を調整し、押出し成形をすることにより原反フィルムを得た。フィルムの流れ（押し出し方向）をＭＤ方向、ＭＤ方向に垂直な方向をＴＤ方向とした。
実施例１〜３、比較例３〜５においては、耐熱アクリル系樹脂と、各種ゴム質含有共重合体粒子を、二軸押出し機によりコンパウンドし、そのペレットをＴダイ押出し成形した。比較例１及び２においては、ゴム質含有共重合体粒子を配合せずに押出し成形を行った。
耐熱アクリル系樹脂の共重合組成比、ゴム質含有共重合体粒子の配合比、フィルム成形条件、特性評価結果及びフィルム光学特性結果を表１に示す。
【００９２】
【表１】
2010024338.tif 000004
【００９３】
実施例１〜３においては、特定の共重合組成比の耐熱アクリル系樹脂に、特定の三層構造を有するゴム質含有共重合体粒子（ｂ−１〜ｂ−３）を配合することにより、耐熱性及び透明性を維持した、靭性に優れる光弾性係数の絶対値が小さい光学フィルムが得られた。また、延伸加工を行っていないため、平面レターデーションが非常に小さく、偏光板保護フィルムに適したものが得られた。
比較例１では、ゴム質含有共重合体粒子を混合していないため、靭性が不十分であった。比較例２では、耐熱アクリル系樹脂の共重合組成比が適切でないため、耐熱性が不十分であり、ゴム質含有共重合体粒子を混合していないため、靭性も不十分であった。
また、比較例３では、耐熱アクリル系樹脂とゴム質含有共重合体粒子（ｃ−１）との屈折率差が大きいために、ヘイズ値の上昇が見られた。さらに、比較例４においては、平均粒子径の大きいゴム質含有共重合体粒子（ｃ−２）を用いたことにより、薄膜状にした際に表面凹凸（外部ヘイズ）が発生し、フィルムのヘイズ値が上昇した。
比較例５では、ゴム質含有共重合体粒子（ｃ−３）を用いたことにより、耐熱アクリル系樹脂との屈折率差は適切であったが、平均粒子径が大きいため、フィルムのヘイズ値が上昇した。
【産業上の利用可能性】
【００９４】
本発明の光学フィルムは、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、フィールドエミッションディスプレイ、リアプロジェクションテレビ等のディスプレイに用いられる導光板、拡散板、偏光板保護フィルム、１／４波長板、１／２波長板、視野角制御フィルム、液晶光学補償フィルム等の位相差フィルム、ディスプレイ前面板、ディスプレイ基盤、レンズ、タッチパネル等、また、太陽電池に用いられる透明基盤等への産業上利用可能性を有する。その他にも、光通信システム、光交換システム、光計測システムの分野において、導波路、レンズ、光ファイバー、光ファイバーの被覆材料等にも利用することができる。本発明の光学フィルムは、例えば、反射防止処理、透明導電処理、電磁波遮蔽処理、ガスバリア処理等の表面機能化処理をすることもできる。