(57)【要約】【課題】可視光の透過率および赤色純度の低下を抑えつつ、近赤外線を充分に吸収できるプラズマディスプレイ用近赤外線吸収ガラス、プラズマディスプレイ用ガラス基板およびプラズマディスプレイ用保護板を提供する。【解決手段】Ｓｉ、Ａｌ、Ｃａ、Ｍｇ、Ｎａ、Ｆｅの各元素を含有する酸化物ガラスであり、各元素のガラス中の含有量が、各酸化物基準の質量百分率表示で、ＳｉＯ２：６５〜７５％、Ａｌ２Ｏ３：０．８〜３％、ＣａＯ：５〜１２％、ＭｇＯ：０．２〜１０％、Ｎａ２Ｏ：１０〜２０％、Ｆｅ２Ｏ３：０．５６〜１．５９％であり、Ｆｅには２価のＦｅが含まれ、該２価のＦｅのガラス中の含有量が、ＦｅＯ基準の質量百分率表示で、０．３３〜０．４８％であり、Ｆｅ元素全量のうちの２価のＦｅの割合が、４０〜６５モル％である近赤外線吸収ガラスを、保護板１のガラス基板１０として用いる。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｓｉ、Ａｌ、Ｃａ、Ｍｇ、Ｎａ、Ｆｅの各元素を含有する酸化物ガラスであり、
Ｓｉ、Ａｌ、Ｃａ、Ｍｇ、Ｎａ、Ｆｅのガラス中の含有量が、下記成分基準の質量百分率表示で、
ＳｉＯ２：６５〜７５％、
Ａｌ２Ｏ３：０．８〜３％、
ＣａＯ：５〜１２％、
ＭｇＯ：０．２〜１０％、
Ｎａ２Ｏ：１０〜２０％、
Ｆｅ２Ｏ３：０．５６〜１．５９％であり、
Ｆｅには２価のＦｅが含まれ、該２価のＦｅのガラス中の含有量が、ＦｅＯ基準の質量百分率表示で、０．３３〜０．４８％であり、
Ｆｅ元素全量のうちの２価のＦｅの割合が、４０〜６５モル％である、プラズマディスプレイ用近赤外線吸収ガラス。
【請求項２】
波長６１０ｎｍにおける光の透過率（Ｔ６１０）と波長８２０ｎｍにおける光の透過率（Ｔ８２０）との比（Ｔ６１０／Ｔ８２０）が、３．０以上である、請求項１に記載のプラズマディスプレイ用近赤外線吸収ガラス。
【請求項３】
請求項１または２に記載のプラズマディスプレイ用近赤外線吸収ガラスからなる、プラズマディスプレイ用ガラス基板。
【請求項４】
波長６１０ｎｍにおける光の透過率（Ｔ６１０）が６０％以上であり、波長８２０ｎｍにおける光の透過率（Ｔ８２０）が２２％以下である、請求項３に記載のプラズマディスプレイ用ガラス基板。
【請求項５】
厚さが１〜１０ｍｍである、請求項３または４に記載のプラズマディスプレイ用ガラス基板。
【請求項６】
請求項３〜５のいずれかに記載のプラズマディスプレイ用ガラス基板を備えた、プラズマディスプレイ用保護板。
【請求項７】
プラズマディスプレイ用ガラス基板のプラズマディスプレイパネル側の面に、銀を主成分とする層を有する電磁波遮蔽膜が配置された、請求項６に記載のプラズマディスプレイ用保護板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイ用近赤外線吸収ガラス、プラズマディスプレイ用ガラス基板およびプラズマディスプレイ用保護板に関する。
【背景技術】
【０００２】
プラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰと記す。）からは、可視光線と同時に、近赤外線、電磁波等も放射される。たとえば、近赤外線は、家電製品用の近赤外線リモコンを誤作動させる。そのため、ＰＤＰの前面（視認側）には、近赤外線（８００〜１０００ｎｍ）を吸収し得るプラズマディスプレイ用保護板の設置が必要となっている。
【０００３】
プラズマディスプレイ用保護板に近赤外線吸収能を付与する方法としては、下記の方法が知られている。
（１）シアニン系またはジイモニウム系の近赤外線吸収色素を含む近赤外線吸収層を有する近赤外線吸収フィルムをプラズマディスプレイ用保護板に設ける方法。
（２）プラズマディスプレイ用保護板において、ガラス基板や各種フィルムを貼り合わせている粘着剤層に、フタロシアニン系の近赤外線吸収色素を含ませる方法。
【０００４】
しかし、（１）の方法には、シアニン系およびジイモニウム系の近赤外線吸収色素の耐久性が低いという問題がある。
（２）の方法には、フタロシアニン系の近赤外線吸収色素が高価であるという問題がある。
【０００５】
近赤外線吸収色素を用いることなく、ＰＤＰから放射される近赤外線を吸収または反射する方法としては、下記の方法が提案されている。
（３）プラズマディスプレイ用保護板のガラス基板、またはＰＤＰ本体の前面ガラス基板に、Ｆｅを含ませる方法（特許文献１、２）。
【０００６】
（３）の方法において、Ｆｅのうち、近赤外線の吸収に特に有効な成分は、２価のＦｅである。よって、近赤外線吸収能を高めるためには、２価のＦｅの量を増やせばよいことも知られている（特許文献２、３）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００６−２６５０２４号公報
【特許文献２】特開２００７−１６１５４９号公報
【特許文献３】国際公開第２００７／１１１０７９号パンフレット
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
２価のＦｅの量を増やすと波長６１０ｎｍ付近の可視光（赤色）も吸収され、可視光の透過率が低下し、かつディスプレイの赤色の純度が低下し、ディスプレイの画像の色の鮮やかさが失われるという問題がある。また、２価のＦｅの量を増やすと、ガラス自体の熱伝導率が低下することから、ガラス製造時にガラス内で温度分布が発生し、ガラス組成のムラやひずみが発生する問題がある。
逆に、２価のＦｅの量を少なくして波長６１０ｎｍ付近の光の透過率を高くした場合に、近赤外線領域、特に可視光領域と近接する８２０ｎｍ付近の光の透過率が高くなるという問題がある。
【０００９】
前記の問題点を解決するために、本発明は、可視光の透過率および赤色純度の低下を抑えつつ、近赤外線を充分に吸収できる近赤外線吸収ガラス、ディスプレイ用ガラス基板およびプラズマディスプレイ用保護板を提供する。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明のプラズマディスプレイ用近赤外線吸収ガラスは、Ｓｉ、Ａｌ、Ｃａ、Ｍｇ、Ｎａ、Ｆｅの各元素を含有する酸化物ガラスであり、
Ｓｉ、Ａｌ、Ｃａ、Ｍｇ、Ｎａ、Ｆｅのガラス中の含有量が、下記成分基準の質量百分率表示で、
ＳｉＯ２：６５〜７５％、
Ａｌ２Ｏ３：０．８〜３％、
ＣａＯ：５〜１２％、
ＭｇＯ：０．２〜１０％、
Ｎａ２Ｏ：１０〜２０％、
Ｆｅ２Ｏ３：０．５６〜１．５９％であり、
Ｆｅには２価のＦｅが含まれ、該２価のＦｅのガラス中の含有量が、ＦｅＯ基準の質量百分率表示で、０．３３〜０．４８％であり、
Ｆｅ元素全量のうちの２価のＦｅの割合が、４０〜６５モル％であることを特徴とする。
【００１１】
本発明のプラズマディスプレイ用近赤外線吸収ガラスにおける、波長６１０ｎｍにおける光の透過率（Ｔ６１０）と波長８２０ｎｍにおける光の透過率（Ｔ８２０）との比（Ｔ６１０／Ｔ８２０）は、３．０以上であることが好ましい。
【００１２】
本発明のプラズマディスプレイ用ガラス基板は、本発明のプラズマディスプレイ用近赤外線吸収ガラスからなることを特徴とする。
本発明のプラズマディスプレイ用ガラス基板は、波長６１０ｎｍにおける光の透過率（Ｔ６１０）は６０％以上であり、波長８２０ｎｍにおける光の透過率（Ｔ８２０）は２２％以下であることが好ましい。
本発明のプラズマディスプレイ用ガラス基板は、厚さが１〜１０ｍｍであることが好ましい。
【００１３】
本発明のプラズマディスプレイ用保護板は、本発明のプラズマディスプレイ用ガラス基板を備えたことを特徴とする。
本発明のプラズマディスプレイ用保護板は、ディスプレイ用ガラス基板のＰＤＰ側の面に、銀を主成分とする層を有する電磁波遮蔽膜が配置されたものであることが好ましい。
【発明の効果】
【００１４】
本発明の近赤外線吸収ガラス、ディスプレイ用ガラス基板およびプラズマディスプレイ用保護板によれば、可視光の透過率、特に赤色光の透過率の低下を抑えつつ、近赤外線を充分に吸収できる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明のプラズマディスプレイ用保護板の第１の実施形態を示す断面図である。
【図２】本発明のプラズマディスプレイ用保護板の第２の実施形態を示す断面図である。
【図３】本発明のプラズマディスプレイ用保護板の第３の実施形態を示す断面図である。
【図４】本発明のプラズマディスプレイ用保護板の第４の実施形態を示す断面図である。
【図５】本発明のプラズマディスプレイ用保護板の第５の実施形態を示す断面図である。
【図６】本発明のプラズマディスプレイ用保護板の第６の実施形態を示す断面図である。
【図７】本発明のプラズマディスプレイ用保護板の第７の実施形態を示す断面図である。
【図８】本発明のプラズマディスプレイ用保護板の第８の実施形態を示す断面図である。
【図９】本発明のプラズマディスプレイ用保護板の第９の実施形態を示す断面図である。
【図１０】例３６、例３７のプラズマディスプレイ用保護板の透過率を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
＜プラズマディスプレイ用近赤外線吸収ガラス＞
本発明のプラズマディスプレイ用近赤外線吸収ガラス（以下、近赤外線吸収ガラスと記す。）は、Ｓｉ、Ａｌ、Ｃａ、Ｍｇ、Ｎａ、Ｆｅの各元素を含有する酸化物ガラスである。
【００１７】
Ｓｉのガラス中の含有量は、ＳｉＯ２基準の質量百分率表示で、６５〜７５％であり、６７〜７３％が好ましく、６８〜７２％がより好ましい。以下、ＳｉＯ２基準のＳｉ含有量を、ＳｉＯ２含有量と記す。
ＳｉＯ２含有量が６５％以上であれば、耐候性が良好となる。ＳｉＯ２含有量が７５％以下であれば、粘性が低くなり、溶融性が良好となる。
【００１８】
Ａｌのガラス中の含有量は、Ａｌ２Ｏ３基準の質量百分率表示で、０．８〜３％であり、１．０〜２．４％が好ましく、１．２〜２．２％がより好ましい。以下、Ａｌ２Ｏ３基準のＡｌ含有量を、Ａｌ２Ｏ３含有量と記す。
Ａｌ２Ｏ３含有量が０．８％以上であれば、耐候性が良好となる。Ａｌ２Ｏ３含有量が３％以下であれば、粘性が低くなり、溶融性が良好となる。
【００１９】
Ｃａのガラス中の含有量は、ＣａＯ基準の質量百分率表示で、５〜１２％であり、６．５〜１１％が好ましく、７〜１０％がより好ましい。以下、ＣａＯ基準のＣａ含有量を、ＣａＯ含有量と記す。
ＣａＯ含有量が５％以上であれば、溶融性が良好となる。ＣａＯ含有量が１２％以下であれば、失透しにくくなり、フロート法でガラスに成形する際の安定性がよくなる。
【００２０】
Ｍｇのガラス中の含有量は、ＭｇＯ基準の質量百分率表示で、０．２〜１０％であり、０．４〜９％が好ましく、１〜６％がより好ましい。以下、ＭｇＯ基準のＭｇ含有量を、ＭｇＯ含有量と記す。
ＭｇＯ含有量が０．２％以上であれば、溶融性が良好となる。ＭｇＯ含有量が１０％以下であれば、失透しにくくなり、フロート法でガラスに成形する際の安定性がよくなる。
【００２１】
また、Ｃａの含有量とＭｇの含有量については、これらの含有量の比率が２価のＦｅの吸光度に影響する。ＣａＯ含有量とＭｇＯ含有量との質量比（ＣａＯ／ＭｇＯ）が、小さければ小さいほど、２価のＦｅの波長６１０ｎｍにおける光の吸光度が下がり、波長８２０ｎｍにおける光の吸光度が上がる。すなわち、ＣａＯ／ＭｇＯが小さいほど、本発明の近赤外線吸収ガラスの波長６１０ｎｍにおける光の透過率を高くでき、波長８２０ｎｍにおける光の透過率を低くできる。そして、ＣａＯ／ＭｇＯは、３０以下であることが好ましく、０．８〜２．５がより好ましく、１．３〜１．８がさらに好ましい。ＣａＯ／ＭｇＯが３０以下であれば、２価のＦｅの量を増やして近赤外線吸収能を高めても、可視光の透過率の低下を抑えることができる。前記可視光の中でも特に赤色の波長領域（波長６１０ｎｍ付近）での光の透過率の低下を抑え、透過する光の赤色純度の低下を抑えることができる。ＣａＯ／ＭｇＯが０．８以上であれば、ガラスが失透しにくくなり、フロート法でガラスに成形する際の安定性がよくなる。
【００２２】
Ｎａのガラス中の含有量は、Ｎａ２Ｏ基準の質量百分率表示で、１０〜２０％であり、１１〜１８％が好ましく、１２〜１６％がより好ましい。以下、Ｎａ２Ｏ基準のＮａ含有量をＮａ２Ｏ含有量と記す。
Ｎａ２Ｏ含有量が１０％以上であれば、溶融性が良好となる。Ｎａ２Ｏ含有量が１０％以下であれば、耐候性が良好となる。
【００２３】
Ｆｅのガラス中の含有量は、Ｆｅ２Ｏ３基準の質量百分率表示で、０．５６〜１．５９％であり、０．６６〜１．０９％が好ましく、０．７０〜０．９０％がより好ましい。以下、Ｆｅ２Ｏ３基準のＦｅ含有量を、全Ｆｅ２Ｏ３含有量と記す。
全Ｆｅ２Ｏ３含有量が０．５６％以上であれば、近赤外線吸収能が充分に高くなる。全Ｆｅ２Ｏ３含有量が１．５９％以下であれば、可視光の透過率の低下が抑えられ、また溶融性が良好となる。
【００２４】
Ｆｅのうち、近赤外線の吸収に特に有効な成分は、２価のＦｅ（Ｆｅ２＋）である。
２価のＦｅのガラス中の含有量は、ＦｅＯ基準の質量百分率表示で、０．３３〜０．４８％であり、０．３５〜０．４５％が好ましく、０．３６〜０．４０％がより好ましい。以下、ＦｅＯ基準の２価のＦｅ含有量をＦｅＯ含有量と記す。
ＦｅＯ含有量を０．３３％以上とすることで必要な近赤外線吸収能を付与できる。また、ＦｅＯ含有量が０．４８％を超えると波長６１０ｎｍの光の吸収が大きくなりすぎるため、プラズマディスプレイの画像の赤色の純度が低下する不具合がある。また、ＦｅＯ含有量が０．４８％を超えると、ガラスの熱伝導率が低下する。このことからガラス製造時に、ガラス内で温度分布が発生し、その結果ガラスの組成にムラが発生する。そしてこの組成のムラが、ひずみ（リーム）となる不具合がある。
【００２５】
Ｆｅ元素全量のうちの２価のＦｅの割合は、４０〜６５モル％であり、４５〜６０モル％が好ましく、５０〜５５モル％がより好ましい。以下、Ｆｅ元素全量のうちの２価のＦｅの割合を、Ｒｅｄｏｘと記す。
Ｒｅｄｏｘが４０モル％以上であれば、全Ｆｅ２Ｏ３含有量を抑えつつ、近赤外線吸収能を高めることができる。Ｒｅｄｏｘが６０モル％以下であれば、ガラス成形時の還元剤の量を減らすことができ、製造コストが抑えられる。
【００２６】
本発明の近赤外線吸収ガラスは、必要に応じて、他の元素（Ｋ、Ｌｉ、Ｔｉ、Ｃｅ、Ｂａ、Ｓｒ、Ｂ、Ｚｎ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｓ、Ｆ、Ｃｌ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｓｅ、Ｍｏ、Ａｇ、Ｉｎ、Ｔｅ、Ｌａ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｗ、Ａｕ等。）を含んでいてもよい。
【００２７】
本発明の近赤外線吸収ガラスは、２価のＦｅの量を特定の範囲とすることで、波長６１０ｎｍにおける光の透過率（Ｔ６１０）を高く、かつ波長８２０ｎｍにおける光の透過率（Ｔ８２０）を低くできる。通常、２価のＦｅを含有させることで、波長８２０ｎｍの光を含む近赤外線領域の光の透過率を抑えることができるが、波長６１０ｎｍの光の透過率も低下させてしまう。これは、近赤外線領域の波長と、可視光領域のうち赤色の波長である６１０ｎｍとが近接していることで発生する問題である。しかし、２価のＦｅの量を特定の範囲とすることで、近赤外線領域の波長と可視光領域の波長の境界付近（近赤外線側である波長８２０ｎｍにおける光と可視光側である波長６１０ｎｍにおける光との間）での透過率の差を大きくできる。すなわち、近赤外線領域におけるＴ８２０を低く、赤色の領域におけるＴ６１０を高くできる。
【００２８】
本発明の近赤外線吸収ガラスにおけるＴ６１０／Ｔ８２０は、３．０以上が好ましく、３．５以上がより好ましい。Ｔ６１０／Ｔ８２０が３．０以上であれば、近赤外線の吸収と可視光の透過および赤色純度とを、高いレベルで両立できる。Ｔ６１０／Ｔ８２０の値は、大きければ大きいほどよいが、製造の困難性の問題から上限値は８であることが好ましく、６であることがより好ましい。
【００２９】
本発明の近赤外線吸収ガラスは、たとえば、下記の工程（ａ）〜（ｄ）を経て製造される。
（ａ）各元素源、還元剤、清澄剤等を、目標とするガラス組成となるような割合にて混合してガラス原料を調製する。
（ｂ）該ガラス原料を溶融窯内に投入し、所定の温度にて溶融させ溶融ガラスとする。
（ｃ)該溶融ガラスを、フロート法等の公知の成形法により所定の厚さの板となるように成形する。
（ｄ）成形されたガラスリボンを徐冷した後、所定の大きさに切断し、板状のガラスを得る。
【００３０】
以上説明した本発明の近赤外線吸収ガラスにあっては、ガラス中のＣａＯ／ＭｇＯを適正範囲におさめているため、ガラス中の２価のＦｅの量を増やして近赤外線吸収能を高めても、可視光の透過率の低下および赤色純度の低下を抑えることができる。
【００３１】
本発明の近赤外線吸収ガラスは、近赤外線を吸収し、かつ波長６１０ｎｍの赤色の可視光の透過率を高くできることから、ディスプレイ用ガラス基板に用いることが好ましい。本発明の近赤外線吸収ガラスをディスプレイ用ガラス基板に用いると、ディスプレイの画像の赤色純度を高くできることから好ましい。ディスプレイの中でも特に、プラズマディスプレイは近赤外線を発生することから、プラズマディスプレイ用ガラス基板として用いると、近赤外線を吸収し、かつ画像の赤色純度を高くできるため好ましい。
以下、本発明の近赤外線吸収ガラスを、プラズマディスプレイ用ガラス基板として用いた例について説明する。
【００３２】
＜プラズマディスプレイ用ガラス基板＞
本発明のプラズマディスプレイ用ガラス基板（以下、ガラス基板と記す。）は、本発明の近赤外線吸収ガラスからなるため、可視光の透過率、特に赤色光の透過率の低下を抑えつつ、近赤外線を充分に吸収できる。また、本発明のガラス基板は、ガラス中に赤外線吸収機能を有する成分を含んでいることから、熱、光、湿気等により近赤外線吸収機能がほとんど劣化しない。
【００３３】
本発明のガラス基板の厚さは、１〜１０ｍｍであることが好ましく、２〜５ｍｍであることがより好ましい。厚さが１ｍｍ以上であれば、物理的な強度が充分である。また、厚さが１ｍｍ以上であることで、単位面積あたりの２価のＦｅ量を充分な量とすることができるため、近赤外線吸収能が充分なものとなる。また、厚さを１０ｍｍ以下とすることで、ガラス基板が重くなりすぎず実用性に優れる。また、厚さが１０ｍｍ以下であることで、単位面積あたりの２価のＦｅ量が適度な量となるため、赤色光の透過が充分なものとなる。
【００３４】
本発明のガラス基板におけるＴ８２０は、２２％以下が好ましく、２０％以下がより好ましく、１７％以下がさらに好ましい。本発明のガラス基板のＴ８２０が２２％以下であると、ＰＤＰから発生する近赤外線を充分に遮蔽できる。近赤外線を２２％超透過させると、近赤外線により通信しているリモコンの誤動作が発生する等の不具合がある。
【００３５】
本発明のガラス基板におけるＴ６１０は、６０％以上が好ましく、６３％以上がより好ましく、６５％以上がさらに好ましい。本発明のガラス基板のＴ６１０が、６０％以上であることで、赤色光の透過を十分なものとすることができるため、画像全体の明るさを落とすことなくプラズマディスプレイの画像の赤色を充分表示できる。
【００３６】
本発明のガラス基板におけるＴ６１０／Ｔ８２０は、３．０以上が好ましく、３．５以上がより好ましい。Ｔ６１０／Ｔ８２０が３．０以上であれば、近赤外線の吸収と可視光の透過および赤色純度とを、高いレベルで両立できる。Ｔ６１０／Ｔ８２０の値は、大きければ大きいほどよいが、製造の困難性の問題から上限値は８であることが好ましく、６であることがより好ましい。
【００３７】
本発明のガラス基板は、プラズマディスプレイ用保護板のガラス基板、ＰＤＰ本体の前面ガラス基板、広告用途等のために外部環境におかれ、太陽光等の熱線を遮断し、プラズマディスプレイの温度上昇を防ぐことが可能な保護板等として用いることができる。
以下、本発明のガラス基板を、プラズマディスプレイ用保護板のガラス基板として用いた例について説明する。
【００３８】
＜プラズマディスプレイ用保護板＞
本発明のプラズマディスプレイ用保護板（以下、保護板と記す。）は、本発明のガラス基板を備えたものである。
【００３９】
本発明の保護板においては、ガラス基板そのものが近赤外線吸収機能を有する。ガラス中に近赤外線吸収機能を有する成分を含んでいることから、本発明の保護板は、熱、光、湿気等により近赤外線吸収機能がほとんど劣化しない。すなわち、たとえば有機染料を含む樹脂層を積層することにより近赤外線吸収機能が付与された場合に比べて、耐候性等の耐久性に優れる。また、本発明のガラス基板は優れた近赤外線吸収機能を有すると同時に、波長６１０ｎｍの赤色光の透過にも優れる。以上のことから、本発明の保護板は、近赤外線遮吸収能、赤色光透過性および耐久性の全てを同時に満たすことができる。保護板は、近赤外線吸収機能だけでなく、電磁波遮蔽機能、反射防止機能、色調補正機能等の機能を有することが好ましい。
【００４０】
保護板としては、ＰＤＰ側の面に、銀を主成分とする層（以下、銀層と記す。）を有する電磁波遮蔽膜が配置された保護板が好ましく挙げられる（たとえば、後述の図７、図８の構成の保護板）。前記の構成の保護板においては、ＰＤＰ側から、電磁波遮蔽膜、ガラス基板がこの順に配置される。この構成の保護板がＰＤＰの視認側に装着された場合、ＰＤＰ側から入射した外光の一部は、電磁波遮蔽膜において反射する。電磁波遮蔽膜に銀層が含まれる場合、その反射光が赤色光（６５０ｎｍ付近の不要な赤色光）を多く含むおそれがあり、プラズマディスプレイの外観を損ねるという問題があった。しかし、本発明の保護板の構成においては、電磁波遮蔽膜よりも視認側に本発明のガラス基板が配置されている。本発明のガラス基板は、波長６１０ｎｍにおける光の透過率は高いが、そこから長波長になるにしたがって急峻に透過率が下がり、波長６５０ｎｍにおける光の吸収は大きくなる。したがって、電磁波遮蔽膜で反射された波長６５０ｎｍの光の多くは、本発明のガラス基板において吸収される。したがって、視聴者にはその一部しか到達しないため、反射色の赤色が低減されるという効果を奏する。特に、銀層を有する電磁波遮蔽膜が、高屈折率の金属酸化物層と銀層とがこの順に（２ｎ＋１）層積層された膜である場合、ｎが小さい、具体的にはｎ＝１〜３であるときには、電磁波遮蔽性能を充分なものとするために、銀層１層あたりの厚さを厚くする必要がある。銀層１層あたりの厚さが厚くなると、波長６５０ｎｍの光の反射量がより多くなる傾向があるが、前記の保護板の構成であれば、ｎが１〜３であっても、電磁波遮蔽膜における波長６５０ｎｍの反射光をガラス基板が吸収できるため、本発明の保護板の反射色が赤くなるという外観不良を低減できる。
【００４１】
以下の第１〜第９の実施形態においては、低反射層が形成された側が視認側であり、その反対側がＰＤＰ側となる。
【００４２】
（第１の実施形態）
図１に、第１の実施形態の保護板を示す。保護板１は、本発明の近赤外線吸収ガラスからなるガラス基板１０と、ガラス基板１０の表面に透明粘着剤層１２を介して貼り合わされた電磁波遮蔽フィルム１４と、電磁波遮蔽フィルム１４の表面（ただし、該表面の周縁部を除く。）に着色粘着剤層１６を介して貼り合わされた低反射フィルム１８と、電磁波遮蔽フィルム１４の表面の周縁部、保護板１の周側面およびガラス基板１０の裏面の周縁部に導電性粘着剤層２０を介して貼り合わされた金属箔２２とを有するものである。
【００４３】
透明粘着剤層１２は、透明粘着剤からなる層である。透明粘着剤層１２は、紫外線遮蔽能を有していてもよい。粘着剤としては、市販されている粘着剤が挙げられる。たとえば、アクリル酸エステル共重合体、ポリ塩化ビニル、エポキシ樹脂、ポリウレタン、酢酸ビニル共重合体、スチレン−アクリル共重合体、ポリエステル、ポリアミド、ポリオレフィン、スチレン−ブタジエン共重合体系ゴム、ブチルゴム、シリコーン樹脂等の粘着剤が挙げられる。粘着剤には、紫外線吸収剤が配合されていてもよい。
【００４４】
電磁波遮蔽フィルム１４は、樹脂フィルム２４の表面に銅からなる導電性メッシュ層２６を形成したものであり、電磁波遮蔽能を有する。導電性メッシュ層２６は、たとえば、樹脂フィルム２４の表面に銅箔を貼り合わせた後、メッシュ状に加工することにより形成される。樹脂フィルム２４としては、ポリエチレンテレフタレート（以下、ＰＥＴと記す。）フィルム等が挙げられる。
【００４５】
着色粘着剤層１６は、色調補正能を有する粘着剤からなる層である。透明粘着剤層が紫外線遮蔽能を有さない場合、着色粘着剤層１６は、さらに紫外線遮蔽能を有する。粘着剤としては、市販されている粘着剤が挙げられる。粘着剤には、着色剤が配合され、さらに紫外線吸収剤が配合されていてもよい。
【００４６】
低反射フィルム１８は、樹脂フィルム２８の表面に低反射層３０を形成したものであり、反射抑制能を有する。低反射層３０としては、スパッタリング法またはウエットコーティング法によって形成された、ＳｉＯ２、含フッ素樹脂等の低屈折率の材料からなる膜等が挙げられる。樹脂フィルム２４としては、ＰＥＴフィルム等が挙げられる。
【００４７】
導電性粘着剤層２０は、導電性フィラー（ニッケル粉、銀粉、銅粉、カーボン粉等。）または導電性高分子を含む粘着剤からなる層である。粘着剤としては、市販されている粘着剤が挙げられる。
金属箔２２としては、アルミニウム箔、銅箔等が挙げられる。
【００４８】
（第２の実施形態）
図２に、第２の実施形態の保護板を示す。保護板２は、本発明の近赤外線吸収ガラスからなるガラス基板１０と、ガラス基板１０の表面に着色粘着剤層１６を介して貼り合わされた低反射フィルム１８と、ガラス基板１０の裏面に透明粘着剤層１２を介して貼り合わされた電磁波遮蔽フィルム１４と、電磁波遮蔽フィルム１４の表面（ただし、該表面の周縁部を除く。）に透明粘着剤層３２を介して貼り合わされた樹脂フィルム３４とを有するものである。
なお、第２の実施形態において、第１の実施形態と同じ構成については図１と同じ符号を付して説明を省略する。
【００４９】
透明粘着剤層３２は、透明粘着剤からなる層である。透明粘着剤層３２は、紫外線吸収能を有していてもよい。粘着剤としては、市販されている粘着剤が挙げられる。粘着剤には、紫外線吸収剤が配合されていてもよい。
樹脂フィルム３４としては、ＰＥＴフィルム等が挙げられる。
【００５０】
（第３の実施形態）
図３に、第３の実施形態の保護板を示す。保護板３は、本発明の近赤外線吸収ガラスからなるガラス基板１０と、ガラス基板１０の表面に着色粘着剤層１６を介して貼り合わされた低反射フィルム１８と、ガラス基板１０の裏面に透明粘着剤層１２を介して貼り合わされた電磁波遮蔽フィルム３６とを有するものである。
なお、第３の実施形態において、第１の実施形態と同じ構成については図１と同じ符号を付して説明を省略する。
【００５１】
電磁波遮蔽フィルム３６は、樹脂フィルム３８の表面に銀からなる導電性メッシュ層４０を形成したものであり、電磁波遮蔽能を有する。導電性メッシュ層４０は、たとえば、樹脂フィルム３８の表面に、銀ペーストをメッシュ状に印刷し、銀ペーストを焼成することにより形成される。樹脂フィルム３８としては、ＰＥＴフィルム等が挙げられる。
【００５２】
（第４の実施形態）
図４に、第４の実施形態の保護板を示す。保護板４は、本発明の近赤外線吸収ガラスからなるガラス基板１０と、ガラス基板１０の表面に形成された低反射層４２と、ガラス基板１０の裏面に着色粘着剤層４４を介して貼り合わされた電磁波遮蔽フィルム３６とを有するものである。
なお、第４の実施形態において、第１の実施形態および第３の実施形態と同じ構成については図１、図３と同じ符号を付して説明を省略する。
【００５３】
低反射層４２は、ガラス基板１０の表面に直接形成されたものであり、反射抑制能を有する。低反射層３０としては、スパッタリング法またはウエットコーティング法によって形成されたＳｉＯ２等の低屈折率の材料からなる膜等が挙げられる。
【００５４】
着色粘着剤層４４は、色調補正機能と紫外線遮蔽機能とを併せ持つ粘着剤からなる層である。粘着剤としては、市販されている粘着剤が挙げられる。粘着剤には、着色剤、紫外線吸収剤が配合される。
【００５５】
（第５の実施形態）
図５に、第５の実施形態の保護板を示す。保護板５は、本発明の近赤外線吸収ガラスからなるガラス基板１０と、ガラス基板１０の表面に形成された導電性メッシュ層４６と、導電性メッシュ層４６の表面（ただし、該表面の周縁部を除く。）に着色粘着剤層４４を介して貼り合わされた低反射フィルム１８と、導電性メッシュ層４６の表面の周縁部、保護板１の周側面およびガラス基板１０の裏面の周縁部に導電性粘着剤層２０を介して貼り合わされた金属箔２２とを有するものである。
なお、第５の実施形態において、第１の実施形態および第４の実施形態と同じ構成については図１、図４と同じ符号を付して説明を省略する。
【００５６】
導電性メッシュ層４６は、ガラス基板１０の表面に直接形成されたものであり、電磁波遮蔽能を有する。導電性メッシュ層４６は、たとえば、ガラス基板１０の表面に、銅ペーストをメッシュ状に印刷し、銅ペーストを焼成することにより形成される。
【００５７】
（第６の実施形態）
図６に、第６の実施形態の保護板を示す。保護板６は、本発明の近赤外線吸収ガラスからなるガラス基板１０と、ガラス基板１０の表面に透明粘着剤層１２を介して貼り合わされた電磁波遮蔽フィルム４８と、電磁波遮蔽フィルム４８の表面（ただし、該表面の周縁部を除く。）に着色粘着剤層１６を介して貼り合わされた低反射フィルム１８と、電磁波遮蔽フィルム４８の表面の周縁部、保護板１の周側面およびガラス基板１０の裏面の周縁部に導電性粘着剤層２０を介して貼り合わされた金属箔２２とを有するものである。
なお、第５の実施形態において、第１の実施形態と同じ構成については図１と同じ符号を付して説明を省略する。
【００５８】
電磁波遮蔽フィルム４８は、樹脂フィルム５０の表面にスパッタリング法で透明導電層５２を形成したものであり、電磁波遮蔽能を有する。透明導電層５２としては、低抵抗タイプおよび高抵抗タイプが挙げられる。
【００５９】
低抵抗タイプの透明導電層（シート抵抗：２Ω／□以下）は、電磁波遮蔽機能と近赤外線遮蔽能とを併せ持つものであり、たとえば、金属酸化物層（ＩｎとＳｎとの酸化物、ＴｉとＺｎとの酸化物、ＡｌとＺｎとの酸化物、Ｎｂの酸化物等。）と、金属層（Ａｇ、Ａｇ合金等。）とをスパッタリング法にて交互に形成し、金属層の数がｎであり、金属酸化物層の数がｎ＋１（ただし、ｎは１以上の整数である。）である積層膜である。低抵抗タイプの透明導電層は、一般的に近赤外線遮蔽能が高いが、本発明の近赤外線吸収ガラスと併用することで、より高度に近赤外線吸収能を高めることができる。なお。低抵抗タイプの透明導電層は、ＰＤＰからの電磁波の不要輻射レベルが高い場合に用いることが好ましい。
【００６０】
高抵抗タイプの透明導電層（シート抵抗：２Ω／□超）は、低抵抗タイプに比べ電磁波遮蔽能および近赤外線遮蔽能が劣るが、簡便に、かつ低コストで形成できるものであり、たとえば、Ｚｎの酸化物層と、金属層（Ａｇ、Ａｇ合金等。）とをスパッタリング法にて交互に形成し、金属層の数が２であり、金属酸化物層の数が３である積層膜、またはＣＶＤ法で形成されたＳｎの酸化物層からなる単層膜である。高抵抗タイプの透明導電層と本発明の近赤外線吸収ガラスとを併用することで、保護板の近赤外線吸収能は、プラズマディスプレイ用として充分なレベルとすることができる。なお、高抵抗タイプの透明導電層は、ＰＤＰからの電磁波の不要輻射レベルが低い場合に用いることが好ましい。
樹脂フィルム５０としては、ＰＥＴフィルム等が挙げられる。
【００６１】
（第７の実施形態）
図７に、第７の実施形態の保護板を示す。保護板７は、本発明の近赤外線吸収ガラスからなるガラス基板１０と、ガラス基板１０の表面に着色粘着剤層１６を介して貼り合わされた低反射フィルム１８と、ガラス基板１０の裏面に透明粘着剤層１２を介して貼り合わされた電磁波遮蔽フィルム４８と、電磁波遮蔽フィルム４８の表面（ただし、該表面の周縁部を除く。）に透明粘着剤層３２を介して貼り合わされた樹脂フィルム３４とを有するものである。
なお、第７の実施形態において、第１の実施形態、第２の実施形態および第６の実施形態と同じ構成については図１、図２、図７と同じ符号を付して説明を省略する。
【００６２】
（第８の実施形態）
図８に、第８の実施形態の保護板を示す。保護板８は、本発明の近赤外線吸収ガラスからなるガラス基板１０と、ガラス基板１０の表面に形成された低反射層４２と、ガラス基板１０の裏面に着色粘着剤層４４を介して貼り合わされた電磁波遮蔽フィルム４８とを有するものである。
なお、第８の実施形態において、第１の実施形態、第４の実施形態および第６の実施形態と同じ構成については図１、図４、図７と同じ符号を付して説明を省略する。
【００６３】
（第９の実施形態）
図９に、第９の実施形態の保護板を示す。保護板９は、本発明の近赤外線吸収ガラスからなるガラス基板１０と、ガラス基板１０の表面に形成された透明導電層５４と、透明導電層５４の表面（ただし、該表面の周縁部を除く。）に着色粘着剤層４４を介して貼り合わされた低反射フィルム１８と、透明導電層５４の表面の周縁部、保護板１の周側面およびガラス基板１０の裏面の周縁部に導電性粘着剤層２０を介して貼り合わされた金属箔２２とを有するものである。
なお、第９の実施形態において、第１の実施形態および第５の実施形態と同じ構成については図１、図５と同じ符号を付して説明を省略する。
【００６４】
透明導電層５４は、ガラス基板１０の表面に直接形成されたものであり、電磁波遮蔽能を有する。透明導電層５４としては、上述した透明導電層５２と同様に、低抵抗タイプおよび高抵抗タイプが挙げられる。
【００６５】
以上説明した本発明の保護板にあっては、本発明の近赤外線吸収ガラスをガラス基板として用いているため、可視光の透過率および赤色純度の低下を抑えつつ、近赤外線を充分に吸収できる。したがって、本発明の保護板は、ＰＤＰより発せられる不要な近赤外線を充分に遮蔽でき、かつＰＤＰからの可視光、特には赤色の光を充分高く透過でき、プラズマディスプレイの画像における赤色の純度を高くできる。したがって、プラズマディスプレイに表示される画像を、きれいな画像とすることができる。
【実施例】
【００６６】
以下に、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの例によって限定されない。
例１〜１２、１４、１５、１７、１８、２０、２２、２３、２５〜３０、３４、３６は実施例であり、例１３、１６、１９、２１、２４、３１〜３３、３５、３７は比較例である。
【００６７】
（２価の鉄の濃度）
ガラスサンプルの小片を酸分解、溶液化した後、指示薬を滴下して発光させ、吸光光度法により２価の鉄の濃度を測定した。該濃度および全Ｆｅ２Ｏ３含有量に基づいて、ＦｅＯ含有量、Ｒｅｄｏｘを求めた。
【００６８】
（光の透過率）
ガラスサンプルを研削、研磨して厚さを２．８ｍｍに整え、表面を鏡面状に仕上げたものについて、積分球付の分光光度計（島津製作所社製、ＵＶ３１００ＰＣ）を用いて、Ｔ６１０およびＴ８２０を測定した。
【００６９】
（失透温度）
ガラスサンプルを、様々な温度に保持した電気炉内で加熱し、急冷した後に光学顕微鏡で観察して失透の有無を調べた。失透が確認された最低温度を失透温度とした。失透温度が１１００℃以上では、ガラス成形が困難となる。
【００７０】
〔例１〜３５〕
ケイ砂、長石、苦灰石、炭酸カルシウム、水酸化マグネシウム、炭酸カリウム、ソーダ灰、芒硝、酸化第二鉄、コークスを、表１、表２に示す組成が得られるように調合したガラス原料を、酸素濃度２％の雰囲気下、白金るつぼ中で溶融した。溶融ガラスをカーボン板上に流し出してから徐冷し、ガラスサンプルを得た。ガラスサンプルについて、光の透過率および失透温度を測定した。結果を表１、表２に示す。
【００７１】
【表１】
2010275144.tif 000003
【００７２】
【表２】
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【００７３】
〔例３６〕
例２と同じ組成となるようにフロート法で厚さ２．８ｍｍのガラス基板を製造した。該ガラス基板を用いて、以下の方法で図１に示す構成の保護板１を製造し、透過率を測定した。結果を図１０に示す。
【００７４】
テトラアザポルフィリン系色素（山田化学社製、商品名「ＴＡＰ−１８」）の０．０３００ｇ、キノフタロン系色素（三井化学社製、商品名「ＭＳ−Ｙｅｌｌｏｗ  ＨＤ−１３７」）の０．００３１ｇからなる色調補正色素と、紫外線吸収剤（チバスペシャリティケミカルズ社製のトリアジン系化合物、商品名「ＴＩＮＵＶＩＮ  ４７９」）の２．００００ｇとをメチルエチルケトンの１２ｇに溶解させた。この中に、アクリル系粘着剤（東洋インキ社製、商品名「ＮＣＫ１０１」、酸価：０ｍｇＫＯＨ／ｇ、濃度：３７％）の６８ｇおよび架橋剤（日本ポリウレタン社製、商品名「コロネートＨＬ」）の０．５ｇを溶解させて着色粘着剤組成物を調製した。
【００７５】
ＰＥＴフィルムからなる樹脂フィルム２８の一方の面に低反射層３０が形成された低反射フィルム１８（日本油脂社製の反射防止フィルム、商品名「リアルック  ＲＬ７８００」、１００×１００ｍｍ、厚さ：１００μｍ）を用意した。
低反射フィルム１８の樹脂フィルム２８側の表面に、乾燥塗膜の厚さが２５μｍとなるように、前記着色粘着剤組成物をアプリケーターにて塗布して、着色粘着層１６付きの低反射フィルム１８を得た。
【００７６】
メチルエチルケトンの１２ｇの中に、アクリル系粘着剤（東洋インキ社製、商品名「ＮＣＫ１０１」、酸価：０ｍｇＫＯＨ／ｇ、濃度：３７％）の６８ｇおよび架橋剤（日本ポリウレタン社製、商品名「コロネートＨＬ」）の０．５ｇを溶解させて透明粘着剤組成物を調製した。
【００７７】
銅からなる導電性メッシュ層２６とＰＥＴフィルムからなる樹脂フィルム２４とが接着層（図示略）を介して積層された電磁波遮蔽フィルム１４（大日本印刷社製のメッシュフィルム、商品名「ＡＲ５０ＧＡ０Ｔ−７５    Ｐ３００  Ｌ１０」、１００×１００ｍｍ）の樹脂フィルム２４側の表面に、前記透明粘着剤組成物を塗布し透明粘着剤層１２を形成した。
【００７８】
前記電磁波遮蔽フィルム１４の透明粘着剤層１２と、１００×１００ｍｍの前記ガラス基板１０とを貼り合わせた。ついで、電磁波遮蔽フィルム１４の導電性メッシュ層２６表面と、低反射フィルム１８の着色粘着層１６とが接触するように貼り合わせた。最後に、貼り合わせたものをオートクレーブ内に入れて、温度：６０℃、圧力：１ＭＰａ、時間：３０分の条件で加熱、加圧処理を施して保護板１を作製した。
【００７９】
〔例３７〕
下記の点を変更した以外は、例３６と同様にして、図２に示す構成と同様の保護板２を製造し、透過率を測定した。結果を図１０に示す。
ガラス基板１０として厚さ２．８ｍｍの市販のソーダライムガラスを用いた。
電磁波遮蔽フィルム１４をガラス基板１０のＰＤＰ側に貼り合わせた。
電磁波遮蔽フィルム１４の表面に、前記透明粘着剤組成物に近赤外線吸収色素を加えた組成物からなる透明粘着剤層３２と、ＰＥＴフィルムからなる樹脂フィルム３４とを有する保護フィルムを貼り合わせた。
低反射フィルム１８をガラス基板１０の視認側に直接貼り合わせた。
【産業上の利用可能性】
【００８０】
本発明の近赤外線吸収ガラスは、可視光の透過率および赤色純度の低下を抑えつつ、近赤外線を充分に吸収できるため、プラズマディスプレイ用保護板のガラス基板等として有用である。
【符号の説明】
【００８１】
１  保護板
２  保護板
３  保護板
４  保護板
５  保護板
６  保護板
７  保護板
８  保護板
９  保護板
１０  ガラス基板
【図１】
2010275144.tif 000005
【図２】
2010275144.tif 000006
【図３】
2010275144.tif 000007
【図４】
2010275144.tif 000008
【図５】
2010275144.tif 000009
【図６】
2010275144.tif 000010
【図７】
2010275144.tif 000011
【図８】
2010275144.tif 000012
【図９】
2010275144.tif 000013
【図１０】
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