(57)【要約】【目的】描画時間の見積もり精度を劣化させずに描画データの転送時間の短縮をはかる描画装置を提供することを目的とする。【構成】描画装置１００は、４５度の整数倍以外の角度をもつ任意角図形の図形コードとそれ以外の複数の非任意角図形で分割近似する際の分割数と分割方法を示す分割方法コードとが定義されている任意角図形の図形データを含む描画データを描画装置外部から入力し、描画データに含まれる任意角図形の図形データに定義されている分割数と分割方法コードが示す分割方法とに従って、任意角図形を複数の非任意角図形に分割近似する分割部１１４と、電子ビーム２００を用いて、複数の非任意角図形を試料に描画する描画部１５０と、を備えたことを特徴とする。本発明によれば、描画時間の見積もり精度を劣化させずに描画データの転送時間を短縮することができる。【選択図】図１
2010015480.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
４５度の整数倍以外の角度をもつ任意角図形を示す図形コードと４５度の整数倍の角度だけからなる複数の非任意角図形で前記任意角図形を分割近似する際の分割数と前記分割近似する際の分割方法を示す分割方法コードとが定義されている前記任意角図形の図形データを含む描画データを描画装置外部から入力して記憶する記憶部と、
前記記憶部から前記描画データを読み出し、前記描画データに含まれる前記任意角図形の図形データに定義されている前記分割数と前記分割方法コードが示す分割方法とに従って、前記任意角図形を前記複数の非任意角図形に分割近似する分割部と、
荷電粒子ビームを用いて、前記複数の非任意角図形を試料に描画する描画部と、
を備えたことを特徴とする描画装置。
【請求項２】
前記分割方法コードは、分割方向と分割図形形状を示すことを特徴とする請求項１記載の描画装置。
【請求項３】
前記分割部は、前記分割方向に向かって前記分割図形形状で前記分割数だけ前記任意角図形を分割することを特徴とする請求項２記載の描画装置。
【請求項４】
４５度の整数倍以外の角度をもつ任意角図形の図形データを含む設計データを入力し、記憶装置に記憶する工程と、
前記設計データを読み出し、前記任意角図形を４５度の整数倍の角度だけからなる複数の非任意角図形で分割近似する場合の分割数と前記分割近似する際の分割方法を示す分割方法コードとが含まれるように前記任意角図形の図形データを変換し、描画装置入力用データを作成する工程と、
を備えたことを特徴とする描画装置入力用データの作成方法。
【請求項５】
作成された描画装置入力用データには、前記任意角図形を前記複数の非任意角図形に分割近似せずに任意角図形の状態での図形データが含まれることを特徴とする請求項４記載の描画装置入力用データの作成方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、描画装置及び描画装置入力用データの作成方法に係り、特に、４５度の整数倍以外の角度をもつ任意角図形の図形データを含む描画データの作成方法とその描画データを入力する描画装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体デバイスの微細化の進展を担うリソグラフィ技術は半導体製造プロセスのなかでも唯一パターンを生成する極めて重要なプロセスである。近年、ＬＳＩの高集積化に伴い、半導体デバイスに要求される回路線幅は年々微細化されてきている。これらの半導体デバイスへ所望の回路パターンを形成するためには、高精度の原画パターン（レチクル或いはマスクともいう。）が必要となる。ここで、電子線（電子ビーム）描画技術は本質的に優れた解像性を有しており、高精度の原画パターンの生産に用いられる。
【０００３】
図７は、従来の可変成形型電子線描画装置の動作を説明するための概念図である。
可変成形型電子線描画装置（ＥＢ（Ｅｌｅｃｔｒｏｎ  ｂｅａｍ）描画装置）における第１のアパーチャ４１０には、電子線３３０を成形するための矩形例えば長方形の開口４１１が形成されている。また、第２のアパーチャ４２０には、第１のアパーチャ４１０の開口４１１を通過した電子線３３０を所望の矩形形状に成形するための可変成形開口４２１が形成されている。荷電粒子ソース４３０から照射され、第１のアパーチャ４１０の開口４１１を通過した電子線３３０は、偏向器により偏向され、第２のアパーチャ４２０の可変成形開口４２１の一部を通過して、所定の一方向（例えば、Ｘ方向とする）に連続的に移動するステージ上に搭載された試料に照射される。すなわち、第１のアパーチャ４１０の開口４１１と第２のアパーチャ４２０の可変成形開口４２１との両方を通過できる矩形形状が、Ｘ方向に連続的に移動するステージ上に搭載された試料３４０の描画領域に描画される。第１のアパーチャ４１０の開口４１１と第２のアパーチャ４２０の可変成形開口４２１との両方を通過させ、任意形状を作成する方式を可変成形方式という。
【０００４】
図８は、従来の描画用のデータ作成から描画までのフローを示す概念図である。図８において、電子ビーム描画を行なうにあたり、まず、半導体集積回路のレイアウトが設計され、パターンレイアウトが定義されたレイアウトデータ（設計データ）が生成される。そして、設計データは、描画装置を使用するユーザ側の別のデータ処理装置の磁気ディスク装置４００に格納される。そして、データ処理装置内で、かかる設計データが変換され、電子ビーム描画装置に入力可能な描画データ（描画装置入力用データ）が生成される（Ｓ４００）。そして、生成された描画装置入力用データは、かかる磁気ディスク装置４０２に格納される。ここで、描画装置では、通常、４５度の整数倍の角度を成形するアパーチャが配置されている場合が多い。そのため、４５度の整数倍以外の角度をもつ図形（任意角図形）をそのまま描画することは難しい。しかし、半導体集積回路のレイアウトが設計される段階で、４５度の整数倍の角度だけから構成される図形（非任意角図形５２０）の他に任意角図形５１０が含まれることがある。そのため、従来、描画装置に入力される前の段階で、要求される精度内に収まるように長方形（矩形）や４５度の整数倍の角度だけからなる台形といった複数の非任意角図形群５１２を用いて分割近似される（例えば、特許文献１参照）。また、非任意角図形５２０であっても形状が複雑な場合には、同様に複数の長方形（矩形）の非任意角図形５２２，５２４等によって分割される。
【０００５】
図９は、任意角図形の近似図形生成までのフローの一例を示す図である。図９における各工程は、図８で示すデータ変換工程（Ｓ４００）における任意角図形の分割近似部分についての内部工程の一例を示している。磁気ディスク装置４００に格納された設計データ中の任意角図形４２７は、まず、少なくとも一辺がｘ方向あるいはｙ方向に平行な三角形４３１（あるいは台形でもよい）とその他の図形４２９に分割される（Ｓ４０１）。分割された三角形４３１は、図形タイプの判定において判定しやすい方向に回転処理する(Ｓ４０２)。その後、図形タイプの判定を行なう（Ｓ４０４）。例えば、図形タイプとして三角形１−２で示す図形タイプであると判定する。そして、近似図形になり得ない或いはなり難い基準寸法以下となる先端部分については削除され、先端がカットされた図形４３２が生成される（Ｓ４０６）。そして、図形４３２が９０度以下の角度で構成されるように複数の任意角図形４３４，４３６，４３８にカットされる（Ｓ４０８）。ここでは、再帰カットと示している。そして、これら複数の任意角図形４３４，４３６，４３８を複数の非任意角図形で分割近似するにあたり、より最適な分割方法が判定される（Ｓ４１０）。そして、この分割方法に従って予め決められたタイプの複数の非任意角図形４４４，４４６，４４８で分割近似された近似図形群が生成される（Ｓ４１２）。このようなタイプごとに決められた処理が順次行なわれる。このようにして生成された複数の非任意角図形４４４，４４６，４４８のデータが磁気ディスク装置４０２に格納される。以上のように描画装置外部で生成され磁気ディスク装置４０２に格納された描画装置入力用データは、電子ビーム描画装置内の磁気ディスク装置５０４に一括転送入力される。そして、描画装置内で、描画データに対しさらに複数段のデータ変換処理が行なわれ、図形群５１６，５２６で示すようなショットサイズの描画装置内のフォーマットのデータ（ショットデータ）が生成される（Ｓ５０４）。そして、生成されたショットデータは描画装置内の磁気ディスク装置５０６に格納される。そして、描画装置内では、生成されたショットデータに基づいてパターンが描画される（Ｓ５０６）。
【０００６】
ここで、任意角図形は、分割近似による多数の図形で表現され、かつ寸法がそれぞれ異なる場合が多いために簡単にアレイ配置で定義することができない。そのため、分割近似しないその他の非任意角図形の図形データに比べ、データ量が多くなる。設計データに任意角図形が多用されている場合や高い近似精度が要求される場合は、描画装置に入力される描画装置入力用データのデータ量が増えてしまう。そのため、外部から描画装置内へのデータ転送に時間がかかり、ひいては描画時間全体が増大してしまうといった問題がある。近年のＬＳＩの高集積化に伴って、描画時間の増大は見過ごせない大きな問題となっている。
【特許文献１】特開２００８−０８５２４８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
上述したように、任意角図形は、分割近似しないその他の非任意角図形の図形データに比べ、データ量が多くなる。データ量の増大に伴って、描画時間全体が増大してしまうといった問題があった。ここで、上述した図９のＳ４０２からＳ４１２で説明した任意角図形の分割近似までの処理を描画装置内で行なうことも考えられる。
【０００８】
図１０は、任意角図形の分割近似までの処理を描画装置内で行なった場合における描画用のデータ作成から描画までのフローを示す概念図である。図１０において、磁気ディスク装置４００に設計データが格納されるまでは図８と同様である。そして、描画装置外のデータ処理装置内で、かかる設計データが変換され、電子ビーム描画装置に入力可能な描画データ（描画装置入力用データ）が生成される（Ｓ５００）。ここでは、図８や図９で説明したような任意角図形の分割近似はせずに任意角図形５１０のままで電子ビーム描画装置に入力可能な描画データ（描画装置入力用データ）が生成される。そして、生成された描画装置入力用データは、かかる磁気ディスク装置４０２に格納される。かかる描画装置入力用データの任意角図形の図形データ部分には、任意角図形コード、図形サイズが何バイトのバイト数で表現されるか及び図形の配置表現のタイプを示すフラグ、図形座標（ｘ１，ｙ１）、及び図形サイズ（Ｌｘ，Ｌｙ）が定義される。以上のように描画装置外部で生成され磁気ディスク装置４０２に格納された描画装置入力用データは、電子ビーム描画装置内の磁気ディスク装置５０４に一括転送入力される。そして、描画装置内で、まず、上述した図９のＳ４０２からＳ４１２で説明した任意角図形の分割近似までの処理を描画装置内で行なう（Ｓ４０１）。このようにして、任意角図形５１０は、複数の非任意角図形群５１２に分割近似される。その後に、描画データに対しさらに複数段のデータ変換処理が行なわれ、図形群５１６，５２６で示すようなショットサイズの描画装置内のフォーマットのデータ（ショットデータ）が生成される（Ｓ５０４）。そして、生成されたショットデータは描画装置内の磁気ディスク装置５０６に格納される。そして、描画装置内では、生成されたショットデータに基づいてパターンが描画される（Ｓ５０６）。
【０００９】
以上のように構成することで、描画装置に入力される前の段階では、任意角図形のデータ量がその他の非任意角図形の図形データと同等となり、全体のデータ量を少なくすることができる。そのため、外部から電子ビーム描画装置内へとデータ転送するための時間を短縮することができる。しかしながら、逆に描画装置内で負荷が増大することになる。さらに、次のような問題が生じてしまう。一般に、描画装置では、描画開始前に描画時間の見積もりを行ない、ユーザに示している。これは、描画装置に入力される前の段階で既に任意角図形が複数の非任意角図形群に分割近似されているために高精度な見積もりが可能となる。しかし、図１０で示した手法では、描画装置に入力される前の段階ではどのように任意角図形が複数の非任意角図形群に分割近似されるか不明であるため描画時間の見積もり精度が劣化してしまう。さらに、ユーザ側としては、描画装置内で分割近似の仕方が決定されてしまうと処理に対する自由度が減少するためにこのような図形演算を描画装置内で行なうことは望んでいないと思われる。
【００１０】
そこで、本発明は、かかる問題点を克服し、描画時間の見積もり精度を劣化させずに描画データの転送時間の短縮をはかる描画装置及び描画装置入力用データの作成方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明の一態様の描画装置は、
４５度の整数倍以外の角度をもつ任意角図形を示す図形コードと４５度の整数倍の角度だけからなる複数の非任意角図形で任意角図形を分割近似する際の分割数と分割近似する際の分割方法を示す分割方法コードとが定義されている任意角図形の図形データを含む描画データを描画装置外部から入力して記憶する記憶部と、
記憶部から描画データを読み出し、描画データに含まれる任意角図形の図形データに定義されている分割数と分割方法コードが示す分割方法とに従って、任意角図形を複数の非任意角図形に分割近似する分割部と、
荷電粒子ビームを用いて、複数の非任意角図形を試料に描画する描画部と、
を備えたことを特徴とする。
【００１２】
かかる構成により、描画装置内では、分割数と分割方法コードが示す分割方法とに従って任意角図形を複数の非任意角図形に分割近似すればよい。すなわち、描画装置内では、分割数と分割方法コードが示す分割方法を求める演算が不要となる。
【００１３】
また、分割方法コードは、分割方向と分割図形形状を示すと好適である。
【００１４】
また、分割部は、分割方向に向かって分割図形形状で分割数だけ任意角図形を分割すればよい。
【００１５】
本発明の一態様の描画装置入力用データの作成方法は、
４５度の整数倍以外の角度をもつ任意角図形の図形データを含む設計データを入力し、記憶装置に記憶する工程と、
設計データを読み出し、任意角図形を４５度の整数倍の角度だけからなる複数の非任意角図形で分割近似する場合の分割数と分割近似する際の分割方法を示す分割方法コードとが含まれるように任意角図形の図形データを変換し、描画装置入力用データを作成する工程と、
を備えたことを特徴とする。
【００１６】
特に、作成された描画装置入力用データには、任意角図形を複数の非任意角図形に分割近似せずに任意角図形の状態での図形データが含まれることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、描画時間の見積もり精度を劣化させずに描画データの転送時間を短縮することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下、実施の形態では、荷電粒子ビームの一例として、電子ビームを用いた構成について説明する。但し、荷電粒子ビームは、電子ビームに限るものではなく、イオンビーム等の荷電粒子を用いたビームでも構わない。また、荷電粒子ビーム装置の一例として、荷電粒子ビーム描画装置、特に、可変成形型の電子ビーム描画装置について説明する。
【００１９】
図１は、実施の形態１における描画装置の構成を示す概念図である。図１において、描画装置１００は、描画部１５０と制御部１６０を備えている。描画部１５０は、描画室１０３と描画室１０３の上部に配置された電子鏡筒１０２を備えている。電子鏡筒１０２内には、電子銃２０１、照明レンズ２０２、第１のアパーチャ２０３、投影レンズ２０４、偏向器２０５、第２のアパーチャ２０６、対物レンズ２０７、及び偏向器２０８を有している。そして、描画室１０３内には、ＸＹステージ１０５が配置され、ＸＹステージ１０５上に描画対象となる試料１０１が配置される。試料１０１として、例えば、半導体装置が形成されるウェハやウェハにパターンを転写する露光用のマスクが含まれる。また、このマスクは、例えば、まだ何もパターンが形成されていないマスクブランクスが含まれる。制御部１６０は、磁気ディスク装置１４０，１４２、制御計算機１１０、メモリ１１２、及び偏向制御回路１２０を有している。制御部１６０の各構成は図示しないバスを介して互いに接続されている。制御計算機１１０内では、分割部１１４及びデータ変換処理部１１６といった機能を有している。分割部１１４及びデータ変換処理部１１６といった機能は、ソフトウェアにより各機能の処理を実行させても構わないし、電気的な回路によるハードウェアにより構成しても構わない。或いは、電気的な回路によるハードウェアとソフトウェアとの組合せにより実施させても構わない。或いは、かかるハードウェアとファームウェアとの組合せでも構わない。また、制御計算機１１０に入力される情報或いは演算処理中及び処理後の各情報はその都度メモリ１１２に記憶される。図１では、本実施の形態１を説明する上で必要な構成部分以外については記載を省略している。描画装置１００にとって、通常、必要なその他の構成が含まれても構わない。
【００２０】
図２は、実施の形態１における描画用のデータ作成から描画までのフローを示す概念図である。図２において、電子ビーム描画を行なうにあたり、まず、半導体集積回路のレイアウトが設計され、パターンレイアウトが定義されたレイアウトデータ（設計データ）が生成される。そして、設計データは、描画装置を使用するユーザ側の別のデータ処理装置の磁気ディスク装置２４０に格納される。上述したように、半導体集積回路のレイアウトが設計される段階で、４５度の整数倍の角度だけから構成される図形（非任意角図形２０）の他に任意角図形１０が含まれることがある。このように、描画装置外部のデータ処理装置は、４５度の整数倍以外の角度をもつ任意角図形の図形データを含む描画データを入力し、磁気ディスク装置２４０に記憶する。そして、描画装置外のデータ処理装置内で、かかる設計データが変換され、電子ビーム描画装置に入力可能な描画データ（描画装置入力用データ）が生成される（Ｓ１００）。Ｓ１００で示すデータ変換処理中では、任意角図形の分割近似はせずに任意角図形の状態で電子ビーム描画装置に入力可能な描画データ（描画装置入力用データ）が生成される。ここで、Ｓ１００で示すデータ変換処理中における任意角図形のデータ処理について説明する。
【００２１】
図３は、実施の形態１における任意角図形のデータ処理のフローの一例を示す図である。図３における各工程は、図２で示すデータ変換工程（Ｓ１００）における任意角図形のデータ処理部分についての内部工程の一例を示している。描画装置外のデータ処理装置は、磁気ディスク装置２４０から設計データを読み出し、任意角図形を４５度の整数倍の角度だけからなる複数の非任意角図形で分割近似する場合の分割数Ｎと分割近似する際の分割方法を示す分割方法コードとが含まれるように任意角図形の図形データを変換し、描画装置入力用データを作成する。具体的には以下のように処理される。磁気ディスク装置２４０に格納された設計データ中の任意角図形２７は、まず、少なくとも一辺がｘ方向あるいはｙ方向に平行な三角形３０（あるいは台形でもよい）とその他の図形２９に分割される（Ｓ１０１）。ここでは、内容を理解し易くするために三角形３０について以下説明する。分割された三角形３０は、図形タイプの判定において判定しやすい方向に回転処理する(Ｓ４０２)。その後、図形タイプの判定を行なう（Ｓ１０４）。例えば、図形タイプとして三角形１−２で示す図形タイプであると判定する。そして、近似図形になり得ない或いはなり難い基準寸法以下となる先端部分については削除され、先端がカットされた図形３２が生成される（Ｓ１０６）。近似図形になり得ない或いはなり難い基準寸法以下となる先端部分が存在しなければ、この工程は省略されて構わない。次に、図形３２が９０度以下の角度で構成されるように複数の任意角図形３４，３６，３８にカットされる（Ｓ１０８）。ここでは、再帰カットと示している。元々の図形が９０度以下の角度だけで構成されていればこの工程は省略されて構わない。そして、これら複数の任意角図形３４，３６，３８を複数の非任意角図形で分割近似するにあたり、より最適な分割方法とその分割数Ｎが判定され、設定される（Ｓ１１０）。図３では、任意角図形３４について分割方法１と分割数Ｎ１が任意角図形３４の図形データに追加定義される。また、任意角図形３６について分割方法２と分割数Ｎ２が任意角図形３６の図形データに追加定義される。任意角図形３８について分割方法１と分割数Ｎ３が任意角図形３８の図形データに追加定義される。
【００２２】
以上のようにして、生成された描画装置入力用データの任意角図形の図形データ部分には、任意角図形コード、データ量を示すフラグ、図形座標（ｘ１，ｙ１）、図形サイズ（Ｌｘ，Ｌｙ）、分割数Ｎ、及び分割方法を示す分割方法コードが定義される。
【００２３】
図２では、データ処理工程（Ｓ１００）によって、任意角図形１０が９０度以下の角度だけで構成されているので任意角図形１０のままとなる。しかし、任意角図形１０の図形データには、任意角図形コード、図形サイズが何バイトのバイト数で表現されるか及び図形の配置表現のタイプを示すフラグ、図形座標（ｘ１，ｙ１）、図形サイズ（Ｌｘ，Ｌｙ）、分割数Ｎ、及び分割方法を示す分割方法コードが定義される。非任意角図形２０は、９０度以下の角度だけで構成される非任意角図形２２，２４へと変換される。
【００２４】
以上のようにして生成された描画装置入力用データは、描画装置１００外のデータ処理装置の磁気ディスク装置２４２に格納される。このように、作成された描画装置入力用データには、任意角図形を複数の非任意角図形に分割近似せずに任意角図形の状態での図形データが含まれる。よって、任意角図形を複数の非任意角図形に分割近似する場合にくらべて、データ量を大幅に低減させることができる。
【００２５】
図４は、任意角図形を分割近似させた場合のデータ量の一例を示す図である。図４において、任意角図形１０を複数の非任意角図形群１２に分割近似した場合、非任意角図形群１２の各図形について、図形座標（ｘ１，ｙ１）、図形サイズ（Ｌｘ，Ｌｙ）が定義されることになる。また、これらの先頭に任意角図形１０を示す図形コード、及び図形サイズが何バイトのバイト数で表現されるかと図形の配置表現のタイプとを示すフラグが定義されることになる。図形座標（ｘ１，ｙ１）のｘ値に３バイト、図形座標（ｘ１，ｙ１）のｙ値に３バイト、図形サイズ（Ｌｘ，Ｌｙ）のＬｘ値に３バイト、及び図形サイズ（Ｌｘ，Ｌｙ）のＬｙ値に３バイトが必要とすると、１つの図形あたり１２バイト必要となる。そして、これらは分割される図形数Ｎだけ必要となるので、合計１２Ｎバイト必要となる。そして、図形コードに１バイト、フラグに１バイトが必要とすると、先頭に、さらに２バイトが必要となる。よって、任意角図形１０を分割近似させた場合、２＋１２Ｎバイト必要となる。
【００２６】
図５は、実施の形態１で示すように、任意角図形を分割近似させずに分割数と分割方法コードを付加させた場合のデータ量の一例を示す図である。分割数Ｎに３バイト、分割方法コードに１バイトが必要とすると、図形座標（ｘ１，ｙ１）と図形サイズ（Ｌｘ，Ｌｙ）の合計１２バイトが同様に必要なので、任意角図形を分割近似させずに分割数と分割方法コードを付加させた場合、合計１８バイトで済ますことができる。描画装置入力用データ中に任意角図形が多用されていれば、データ量は大幅に低減することになる。
【００２７】
以上のように描画装置外部で生成され磁気ディスク装置２４２に格納された描画装置入力用データは、描画装置１００内の磁気ディスク装置１４０に一括転送入力される。描画装置入力用データのデータ量は大幅に低減されているので転送時間を大幅に短縮することができる。さらに、図示していないが、描画装置１００内では、描画時間の見積もりを行なうが、既に、分割数Ｎと分割方法コードが示す分割方法が示されているので、分割された図形を予測することができる。そのため、描画時間の見積もりを従来と同様の精度を行なうことができる。そして、描画装置１００内で、分割部１１４が、磁気ディスク装置１４０から描画装置入力用データである描画データを読み出し、描画データに含まれる任意角図形１０の図形データに定義されている分割数Ｎと分割方法コードが示す分割方法とに従って、任意角図形１０を複数の非任意角図形群１２に分割近似する（Ｓ２０２）。図３では、分割数Ｎ１と分割方法１とに従って、任意角図形３４を複数の非任意角図形群４４に分割近似する。また、分割数Ｎ２と分割方法２とに従って、任意角図形３６を複数の非任意角図形群４６に分割近似する。また、分割数Ｎ３と分割方法１とに従って、任意角図形３８を複数の非任意角図形群４８に分割近似する。既に、分割数Ｎと分割方法コードが設定されているので、分割部１１４はそれに従えばよい。例えば、分割方法コードが分割方向と分割図形形状とを示すとすると、分割方法コードが示す分割方向（例えばｘ方向）に向かって分割数Ｎだけ均等な幅の分割方法コードが示す分割図形形状で任意角図形を分割すればよい。そして、ｙ方向の高さは、例えば、分割される各図形の上辺の中心が任意角を構成する辺の高さに合うように設定すればよい。そのため、要求される精度を満たす分割数Ｎと分割方法とを演算する必要がない。そのため、演算の負荷を大幅に減らすことができる。そして、データ変換処理部１１６は、描画データに対しさらに複数段のデータ変換処理を行ない、図２の図形群１６，２６で示すようなショットサイズの描画装置内のフォーマットのデータ（ショットデータ）が生成される（Ｓ２０４）。そして、生成されたショットデータは描画装置内の磁気ディスク装置１４２に格納される。そして、描画装置内では、生成されたショットデータに基づいてパターンが描画される（Ｓ２０６）。ショットデータは、偏向制御回路１２０に出力され、偏向制御回路１２０は、各偏向器を制御するための信号を描画部１５０に出力する。描画部１５０は、電子ビーム２００を用いて、分割近似した複数の非任意角図形を含む各図形を試料１０１に描画する。描画部１５０の動作については以下に説明する。
【００２８】
試料１０１にパターンを描画する際には、以下のように動作する。電子銃２０１から出た電子ビーム２００は、照明レンズ２０２により矩形例えば長方形の穴を持つ第１のアパーチャ２０３全体を照明する。ここで、第１のアパーチャ２０３の開口を通過させることで電子ビーム２００をまず矩形例えば長方形に成形する。そして、第１のアパーチャ２０３を通過した第１のアパーチャ像の電子ビーム２００は、投影レンズ２０４により第２のアパーチャ２０６上に投影される。かかる第２のアパーチャ２０６上での第１のアパーチャ像の位置は、偏向器２０５によって偏向制御され、ビーム形状と寸法を変化させることができる。そして、第２のアパーチャ２０６を通過した第２のアパーチャ像の電子ビーム２００は、対物レンズ２０７により焦点を合わせ、偏向器２０８によって偏向され、移動可能に配置されたＸＹステージ１０５上の試料１０１の所望する位置に照射される。
【００２９】
ここで、上述した例では、分割数と分割方法コードを図形データに付加させた場合を説明したが、これに限るものではない。
図６は、実施の形態１における任意角図形の図形データの他の例を示す図である。図６において、外部のデータ処理装置で生成される描画装置入力用データの任意角図形の図形データ部分には、任意角図形コード、図形サイズが何バイトのバイト数で表現されるかと図形の配置表現のタイプとを示すフラグ、図形座標（ｘ１，ｙ１）、図形サイズ（Ｌｘ，Ｌｙ）、スリット幅、及び分割方法を示す分割方法コードが定義される。このように、分割数の代わりにスリット幅を定義しても好適である。かかる場合には、分割方法コードが分割方向と分割図形形状とを示すとすると、分割方法コードが示す分割方向（例えばｘ方向）に向かって同じスリット幅の分割方法コードが示す分割図形形状で順次任意角図形を分割すればよい。そして、ｙ方向の高さは、例えば、分割される各図形の上辺の中心が任意角を構成する辺の高さに合うように設定すればよい。
【００３０】
以上のように、実施の形態１によれば、設計データに占める任意角図形の割合が多い場合や、高い近似精度が要求される場合に、描画装置入力用データのデータ量を少なくすることができる。そして、同時に、任意角図形の処理のうち主要な部分の処理（図３のＳ１０２からＳ１１０）を描画装置外部で行なうことで、描画装置の負荷をあまり増加させないようにすることができる。このように、描画装置に転送されるデータ量が少なくなり、また、描画装置の負荷をあまり増加させないことで、結果的に従来よりも描画時間全体を短縮することができる。また、描画装置内ですべての任意角図形の処理を行なう場合に比べて描画開始前の描画時間の見積もりの精度を従来と同等に保つことができる。さらに、任意角図形の図形演算を描画装置外で行なうことを望むユーザの要望にも沿うことができる。
【００３１】
以上の説明において、「〜部」或いは「〜工程」と記載したものは、コンピュータで動作可能なプログラムにより構成することができる。或いは、ソフトウェアとなるプログラムだけではなく、ハードウェアとソフトウェアとの組合せにより実施させても構わない。或いは、ハードウェアとファームウェアとの組合せでも構わない。また、プログラムにより構成される場合、プログラムは、磁気ディスク装置１４０，１４２、メモリ１１２、図示しない磁気テープ装置、ＦＤ、ＣＤ、ＤＶＤ、ＭＯ或いはＲＯＭ等の記録媒体に記録される。
【００３２】
以上、具体例を参照しつつ実施の形態について説明した。しかし、本発明は、これらの具体例に限定されるものではない。
【００３３】
また、装置構成や制御手法等、本発明の説明に直接必要しない部分等については記載を省略したが、必要とされる装置構成や制御手法を適宜選択して用いることができる。例えば、描画装置１００を制御する制御部構成については、記載を省略したが、必要とされる制御部構成を適宜選択して用いることは言うまでもない。
【００３４】
その他、本発明の要素を具備し、当業者が適宜設計変更しうる全ての荷電粒子ビーム描画装置、荷電粒子ビーム描画方法、描画装置入力用データの作成方法、描画装置入力用データの変換方法、及びそれらの装置は、本発明の範囲に包含される。
【図面の簡単な説明】
【００３５】
【図１】実施の形態１における描画装置の構成を示す概念図である。
【図２】実施の形態１における描画用のデータ作成から描画までのフローを示す概念図である。
【図３】実施の形態１における任意角図形のデータ処理のフローの一例を示す図である。
【図４】任意角図形を分割近似させた場合のデータ量の一例を示す図である。
【図５】実施の形態１で示すように、任意角図形を分割近似させずに分割数と分割方法コードを付加させた場合のデータ量の一例を示す図である。
【図６】実施の形態１における任意角図形の図形データの他の例を示す図である。
【図７】従来の可変成形型電子線描画装置の動作を説明するための概念図である。
【図８】従来の描画用のデータ作成から描画までのフローを示す概念図である。
【図９】任意角図形の近似図形生成までのフローの一例を示す図である。
【図１０】任意角図形の分割近似までの処理を描画装置内で行なった場合における描画用のデータ作成から描画までのフローを示す概念図である。
【符号の説明】
【００３６】
１０，２７，３０，３４，３６，３８  任意角図形
４２７，４３１，４３４，４３６，４３８，５１０  任意角図形
１２，４４，４６，４８，４４４，４４６，４４８，５１２  非任意角図形群
１６，２６，５１６，５２６  図形群
２０，２２，２４，５２０，５２２，５２４  非任意角図形
２９，３２，４２９，４３２  図形
１００  描画装置
１０１，３４０  試料
１０２  電子鏡筒
１０３  描画室
１０５  ＸＹステージ
１１０  制御計算機
１１２  メモリ
１１４  分割部
１１６  データ変換処理部
１２０  偏向制御回路
１４０，１４２，２４０，２４２,４００，４０２，５０４，５０６  磁気ディスク装置
１５０  描画部
１６０  制御部
２００  電子ビーム
２０１  電子銃
２０２  照明レンズ
２０３，４１０  第１のアパーチャ
２０６，４２０  第２のアパーチャ
２０４  投影レンズ
２０５，２０８  偏向器
２０７  対物レンズ
３３０  電子線
４１１  開口
４２１  可変成形開口
４３０  荷電粒子ソース
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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