(57)【要約】【課題】異なる装置間での基準点の位置を一致させ、高い位置精度で欠陥位置を修正位置に移動させることを可能とすることである。【解決手段】  第１の画像に基づき欠陥の修正を教示する教示装置に接続され、教示される修正位置と第１の基準点との座標に基づき欠陥を修正する修正装置であって、修正位置の第２の画像を撮影する撮影手段と、第１の基準点と第２の画像に対応する第２の基準点とのずれを補正する補正手段と、教示された修正位置と補正後の第１の基準点とに基づき、第２の画像に修正位置を設定する手段とを備え、補正手段は、マスタ画像を撮影する手段と、マスタ画像に基準点を設定する手段と、教示装置の第１のテンプレート画像上にマスタ画像の基準点と一致する第１の基準点を設定する手段と、修正装置の第２のテンプレート画像上にマスタ画像の基準点と一致する第２の基準点を設定する手段とを備える修正装置である。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に形成されたパターンの欠陥を含む第１の画像に基づいて、前記欠陥の修正を教示する教示装置に接続され、
前記教示装置で教示される修正位置の座標と第１の基準点からの座標とに基づいて、前記基板上に形成されたパターンの欠陥を修正する修正装置であって、
前記修正位置の第２の画像を撮影する撮影手段と、
前記第１の画像に対応する第１の基準点と前記第２の画像に対応する第２の基準点とのずれを補正する補正手段と、
前記教示装置から入力される修正位置の座標と補正された第１の基準点からの座標とに基づいて、前記第２の画像上に前記修正位置を設定する手段とを備え、
前記補正手段は、前記パターンを含むマスタ画像を撮影する手段と、
前記マスタ画像に基準点を設定する手段と、
前記教示装置が有する第１のテンプレート画像と前記マスタ画像とを比較し、前記マスタ画像上に設定した基準点と一致する前記第１のテンプレート画像上の座標位置に第１の基準点を設定する手段と、
当該修正装置が有する第２のテンプレート画像と前記マスタ画像とを比較し、前記マスタ画像上に設定した基準点と一致する前記第２のテンプレート画像上の座標位置に第２の基準点を設定する手段とを備えることを特徴とする修正装置。
【請求項２】
前記教示装置は、通信回線を介して接続されることを特徴とする請求項１に記載の修正装置。
【請求項３】
前記第１のテンプレート画像と前記マスタ画像との比較、及び／又は前記第２のテンプレート画像と前記マスタ画像との比較は、パターンマッチング手法を用いることを特徴とする請求項１又は２に記載の修正装置。
【請求項４】
前記教示装置は、前記欠陥近傍に設定する第１の基準点と、該第１の基準点からの相対距離とにより、前記修正位置を教示することを特徴とする請求項１乃至３の内の何れかに記載の修正装置。
【請求項５】
前記マスタ画像として、前記教示装置又は前記修正装置のテンプレート画像を用いることを特徴とする請求項１乃至４の内の何れかに記載の修正装置。
【請求項６】
基板上に形成されたパターンの欠陥を含む第１の画像に基づいて、前記欠陥の修正を教示する教示装置に接続され、
前記教示装置で教示される修正位置の座標と第１の基準点からの座標とに基づいて、前記基板上に形成されたパターンの欠陥を修正する修正装置でパターンの欠陥を修正する方法であって、
前記修正位置の第２の画像を撮影する撮影工程と、
前記第１の画像に対応する第１の基準点と前記第２の画像に対応する第２の基準点とのずれを補正する補正工程と、
前記教示装置から入力される修正位置の座標と補正された第１の基準点からの座標とに基づいて、前記第２の画像上に前記修正位置を設定する工程とを備え、
前記補正工程は、前記パターンを含むマスタ画像を撮影する工程と、
前記マスタ画像に基準点を設定する工程と、
前記教示装置が有する第１のテンプレート画像と前記マスタ画像とを比較し、前記マスタ画像上に設定した基準点と一致する前記第１のテンプレート画像上の座標位置に第１の基準点を設定する工程と、
前記修正装置が有する第２のテンプレート画像と前記マスタ画像とを比較し、前記マスタ画像上に設定した基準点と一致する前記第２のテンプレート画像上の座標位置に第２の基準点を設定する工程とを備えることを特徴とする電子回路のパターン欠陥修正方法。
【請求項７】
前記第１のテンプレート画像と前記マスタ画像との比較、及び／又は前記第２のテンプレート画像と前記マスタ画像との比較は、パターンマッチング手法を用いることを特徴とする請求項６に記載の電子回路のパターン欠陥修正方法。
【請求項８】
前記教示装置のテンプレート画像および前記修正装置のテンプレート画像の大きさと、画像切り出し精度の４倍とを加算した大きさよりも、前記マスタ画像の大きさが大きいことを特徴とする請求項６又は７に記載の電子回路のパターン欠陥修正方法。
【請求項９】
前記教示装置のテンプレート画像および前記修正装置のテンプレート画像の大きさと基準点の繰り返しピッチの２倍との和から画像切り出し精度の２倍を引いた大きさよりも、前記マスタ画像の大きさが小さいことを特徴とする請求項６乃至８の内の何れかに記載の電子回路のパターン欠陥修正方法。
【請求項１０】
前記マスタ画像は、前記教示装置又は前記修正装置のテンプレート画像であることを特徴とする請求項６乃至９の内の何れかに記載の電子回路のパターン欠陥修正方法。
【請求項１１】
前記修正工程で撮影した前記第１の画像と前記第２の基準点のうち、修正しなかったパターン欠陥に対応する第１の画像と前記第２の基準点を、前記教示工程で用いることを特徴とする請求項６乃至１０の内の何れかに記載の電子回路のパターン欠陥修正方法。
【請求項１２】
予め登録された基板パターンに基づいて、基板上に形成されたパターンの欠陥の有無を検査し、前記欠陥を含む第１の画像を撮影する検査装置に接続され、
前記検査装置の指示に基づいて、前記基板上に形成されたパターンの欠陥を修正する第１の修正装置と、
前記基板上に形成されたパターンの欠陥を含む前記第１の画像に基づいて、前記欠陥の修正を教示する教示装置に接続され、
前記教示装置で教示される修正位置の座標と第１の基準点からの座標とに基づいて、前記基板上に形成されたパターンの欠陥を修正する第２の修正装置とでパターンの欠陥を修正する方法であって、
前記修正位置の第２の画像を撮影する撮影工程と、
前記第１の画像に対応する第１の基準点と前記第２の画像に対応する第２の基準点とのずれを補正する補正工程と、
前記教示装置から入力される修正位置の座標と補正された第１の基準点からの座標とに基づいて、前記第２の画像上に前記修正位置を設定する工程とを備え、
前記補正工程は、前記パターンを含むマスタ画像を撮影する工程と、
前記マスタ画像に基準点を設定する工程と、
前記教示装置が有する第１のテンプレート画像と前記マスタ画像とを比較し、前記マスタ画像上に設定した基準点と一致する前記第１のテンプレート画像上の座標位置に第１の基準点を設定する工程と、
前記第２の修正装置が有する第２のテンプレート画像と前記マスタ画像とを比較し、前記マスタ画像上に設定した基準点と一致する前記第２のテンプレート画像上の座標位置に第２の基準点を設定する工程とを備えることを特徴とする電子回路のパターン欠陥修正方法。
【請求項１３】
前記検査装置は、前記第１の修正装置に修正位置の座標と第３の基準点からの座標を指示する工程を備え、
前記第１の修正装置は、
前記検査装置からの修正位置に対応する第３の画像を撮影する撮影工程と、
前記第１の修正装置が有する第３のテンプレート画像と前記マスタ画像とを比較し、前記マスタ画像上に設定した基準点と一致する前記第３のテンプレート画像上の座標位置に第３の基準点を設定し、前記第１の画像に対応する第１の基準点と前記第３の画像に対応する第３の基準点とのずれを補正する工程と、
前記検査装置から入力される修正位置の座標と補正された第３の基準点からの座標とに基づいて、前記第３の画像上に前記修正位置を設定する工程とを備え、
前記検査装置で教示される修正位置の座標と第３の基準点からの座標とに基づいて、前記基板上に形成されたパターンの欠陥を修正する工程とを備えることを特徴とする請求項１２に記載の電子回路のパターン欠陥修正方法。
【請求項１４】
前記第１の修正工程で撮影した前記第１の画像と前記第３の基準点のうち、修正しなかったパターン欠陥に対応する第１の画像と前記第３の基準点を、前記教示工程で用いることを特徴とする請求項１２又は１３に記載の電子回路のパターン欠陥修正方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、修正装置及び電子回路のパターン欠陥修正方法に係り、特に液晶表示装置や有機ＥＬ表示装置等に代表されるいわゆる平面型の表示装置を構成する薄膜トランジスタ基板に形成された電子回路のパターン欠陥を修復する技術に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置に代表される平面型の表示装置市場の拡大に伴い、低価格化に対する要求がますます増大している。一方、平面型の表示装置の製造に使用されるガラス基板は年々大型化しており、製造プロセスの改善だけでは形成された電子回路のパターンに欠陥のない液晶表示装置を製造することが難しく、コスト増大の大きな原因の一つとなっている。そのため、電子回路のパターン欠陥を修正する工程は製造プロセスにおいては必須である。なお、電子回路のパターン欠陥とは、薄膜トランジスタ基板上に形成された配線や電極のみでなく、半導体層や絶縁層などの電子回路の構成パターン全般を含む。また、カラーフィルタ基板上のカラーフィルタ層やブラックマトリクス層も対象とする。
【０００３】
液晶表示装置は、画素ごとに薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）回路を形成した基板（薄膜トランジスタ基板、ＴＦＴ基板）と赤、青、緑の樹脂フィルタをマトリクス状に配置したカラーフィルタ基板（ＣＦ基板）との間に液晶を挟み込んだ構造をしている。このような構造において、ＴＦＴ基板上に形成された画素回路の配線、電極、絶縁層などに、あるいは、カラーフィルタ基板上のカラーフィルタに、パターン欠陥が発生すると、表示異常となり、その液晶表示装置は不良品となる。表示異常には、例えば、画素回路の電極がショートしたためにその画素が常時点灯状態となる場合や、画素回路の電極の欠損や配線の断線により常時非点灯状態になる点灯不良、カラーフィルタの形成不良や異物による色不良、などがある。
【０００４】
このような欠陥が発生した電子回路の修正技術としては、欠陥検査装置で欠陥を抽出後、修正治具を用いて自動的に欠陥を修正する欠陥修正装置が特許文献１に開示されている。しかしながら、特許文献１に開示される技術では、例えば、欠陥修正装置が自動的に修正箇所を決定できない欠陥が存在すると、欠陥修正装置を一時停止させた後にオペレータ操作によって該当個所を修正する必要や、手動操作で動作する別の欠陥修正装置を用いて欠陥個所を修正する必要があった。
【０００５】
特に、自動修正を一時停止してオペレータ操作を介在させると、オペレータの処理能力や作業時間の制約を受けるために、スループットすなわち欠陥修正に要する効率が低下するという問題があった。そのため、検査装置で抽出した欠陥データをもとに、オフラインでオペレータ操作によって修正方法を指示した後、自動修正装置で修正する方法が考えられる。
【０００６】
しかしながら、液晶表示装置のＴＦＴ基板の製造プロセスでは、修正対象であるＴＦＴ基板が２ｍを超えるような大きさであり、ＴＦＴ基板を移動させるステージの絶対的な座標精度が低い。そのため、欠陥検査装置が抽出した欠陥の座標と自動修正装置の修正座標が一致しない。そこで、欠陥近傍の特徴点、例えば特異な形状をした電極パターン等を用いて詳細な位置合わせを実施し、検査装置が抽出した欠陥の座標と自動修正装置の修正座標を一致させる方法が用いられる。一般的には、それぞれの装置で特徴点をテンプレート画像として登録し、各テンプレート画像上に基準点を定義しておくものである。このような方法を用いることにより、検査装置は修正対象であるＴＦＴ基板の欠陥近傍でテンプレートマッチングを実施して、ＴＦＴ基板上の基準点位置を算出し、基準点からの距離を指定することによって修正治具の位置を指定する構成となっている。自動修正装置も同様に欠陥近傍でテンプレートマッチングを実施して、基準点位置を算出し、修正治具の位置を決定する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２０００−２０８９０２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、テンプレート画像と基準点は、各装置で別々に登録されるため、欠陥検査装置に登録されるテンプレート画像の基準点の位置と自動修正装置に登録されるテンプレート画像の基準点の位置とが異なり、修正位置がずれてしまうという問題があった。
【０００９】
本発明の目的は、異なる装置間での基準点の位置を一致させ、高い位置精度で欠陥位置を修正位置に移動させることが可能な修正装置及び電子回路のパターン欠陥修正方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
（１）前記課題を解決すべく、基板上に形成されたパターンの欠陥を含む第１の画像に基づいて、前記欠陥の修正を教示する教示装置に接続され、前記教示装置で教示される修正位置の座標と第１の基準点からの座標とに基づいて、前記基板上に形成されたパターンの欠陥を修正する修正装置であって、前記修正位置の第２の画像を撮影する撮影手段と、前記第１の画像に対応する第１の基準点と前記第２の画像に対応する第２の基準点とのずれを補正する補正手段と、前記教示装置から入力される修正位置の座標と補正された第１の基準点からの座標とに基づいて、前記第２の画像上に前記修正位置を設定する手段とを備え、前記補正手段は、前記パターンを含むマスタ画像を撮影する手段と、前記マスタ画像に基準点を設定する手段と、前記教示装置が有する第１のテンプレート画像と前記マスタ画像とを比較し、前記マスタ画像上に設定した基準点と一致する前記第１のテンプレート画像上の座標位置に第１の基準点を設定する手段と、当該修正装置が有する第２のテンプレート画像と前記マスタ画像とを比較し、前記マスタ画像上に設定した基準点と一致する前記第２のテンプレート画像上の座標位置に第２の基準点を設定する手段とを備える修正装置である。
【００１１】
（２）前記課題を解決すべく、基板上に形成されたパターンの欠陥を含む第１の画像に基づいて、前記欠陥の修正を教示する教示装置に接続され、前記教示装置で教示される修正位置の座標と第１の基準点からの座標とに基づいて、前記基板上に形成されたパターンの欠陥を修正する修正装置の欠陥修正方法であって、前記修正位置の第２の画像を撮影する撮影工程と、前記第１の画像に対応する第１の基準点と前記第２の画像に対応する第２の基準点とのずれを補正する補正工程と、前記教示装置から入力される修正位置の座標と補正された第１の基準点からの座標とに基づいて、前記第２の画像上に前記修正位置を設定する工程とを備え、前記補正工程は、前記パターンを含むマスタ画像を撮影する工程と、前記マスタ画像に基準点を設定する工程と、前記教示装置が有する第１のテンプレート画像と前記マスタ画像とを比較し、前記マスタ画像上に設定した基準点と一致する前記第１のテンプレート画像上の座標位置に第１の基準点を設定する工程と、前記修正装置が有する第２のテンプレート画像と前記マスタ画像とを比較し、前記マスタ画像上に設定した基準点と一致する前記第２のテンプレート画像上の座標位置に第２の基準点を設定する工程とを備える修正装置の欠陥修正方法である。
【００１２】
（３）前記課題を解決すべく、予め登録された基板パターンに基づいて、基板上に形成されたパターンの欠陥の有無を検査し、前記欠陥を含む第１の画像を撮影する検査装置に接続され、前記検査装置の指示に基づいて、前記基板上に形成されたパターンの欠陥を修正する第１の修正装置と、前記基板上に形成されたパターンの欠陥を含む前記第１の画像に基づいて、前記欠陥の修正を教示する教示装置に接続され、前記教示装置で教示される修正位置の座標と第１の基準点からの座標とに基づいて、前記基板上に形成されたパターンの欠陥を修正する第２の修正装置とからなる修正装置の欠陥修正方法であって、前記修正位置の第２の画像を撮影する撮影工程と、前記第１の画像に対応する第１の基準点と前記第２の画像に対応する第２の基準点とのずれを補正する補正工程と、前記教示装置から入力される修正位置の座標と補正された第１の基準点からの座標とに基づいて、前記第２の画像上に前記修正位置を設定する工程とを備え、前記補正工程は、前記パターンを含むマスタ画像を撮影する工程と、前記マスタ画像に基準点を設定する工程と、前記教示装置が有する第１のテンプレート画像と前記マスタ画像とを比較し、前記マスタ画像上に設定した基準点と一致する前記第１のテンプレート画像上の座標位置に第１の基準点を設定する工程と、前記第２の修正装置が有する第２のテンプレート画像と前記マスタ画像とを比較し、前記マスタ画像上に設定した基準点と一致する前記第２のテンプレート画像上の座標位置に第２の基準点を設定する工程とを備える修正装置の欠陥修正方法である。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、異なる装置間での基準点の位置を一致させ、高い位置精度で欠陥位置を修正位置に移動させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明の実施形態１の修正装置の概略構成を説明するための図である。
【図２】一般的な液晶表示装置の概略構成を説明するための断面図である。
【図３】一般的な液晶表示装置における画素部分の拡大図である。
【図４】図３に示すＡ−Ａ’線での断面図である。
【図５】従来の修正装置を用いる場合の検査・修正プロセスを説明するための図である。
【図６】従来の修正装置における修正指示画面の一例を示す図である。
【図７】本発明の実施形態１の修正装置におけるマスタ画像を説明するための図である。
【図８】本発明の実施形態２の修正装置におけるマスタ画像及びテンプレート画像の登録動作を説明するためのフローである。
【図９】本発明の実施形態３の修正装置における検査・修正プロセスを説明するための図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、本発明が適用された実施形態の例について、図面を用いて説明する。ただし、以下の説明において、同一構成要素には同一符号を付し繰り返しの説明は省略する。
【００１６】
〈実施形態１〉
〈全体構成〉
図１は本発明の実施形態１の修正装置の概略構成を説明するための図である。ただし、以下の説明では、修正対象となる電子回路の一例として、液晶表示装置の場合について説明する。ただし、修正対象は液晶表示装置に限定されることはなく、有機ＥＬ表示装置等の他の平面型表示装置や他の電子回路のパターン欠陥の修正にも適用可能である。
【００１７】
図１に示すように、実施形態１では、検査対象である図示しない液晶表示装置におけるパターン欠陥の有無を検査する欠陥検査装置３００と、該欠陥検査装置３００で検出されたパターン欠陥部の画像及び位置情報とに基づいて、操作者（オペレータ）がパターン欠陥の修正指示を行う教示装置３２０と、該教示装置３２０からの修正指示に基づいてパターン欠陥の修正を行う修正装置３４０と、教示装置３２０と修正装置３４０とがそれぞれ有するテンプレート画像の基準点を設定するためのマスタ画像を保存するマスタ画像保存装置３６０とを有する構成となっている。
【００１８】
特に、実施形態１では、欠陥検査装置３００と、教示装置３２０と、修正装置３４とは周知の通信回線で接続されており、欠陥検査装置３００から教示装置３２０には欠陥位置の画像（欠陥画像、第１の画像）と欠陥座標とが送出される構成となっている。また、教示装置３２０から修正装置３４０には、基準点（第１の基準点）の座標と修正位置の座標とが送出される構成となっている。さらには、マスタ画像保存装置３６０からは、マスタ画像と該マスタ画像に設定した基準点の座標とが教示装置３２０及び修正装置３４０に出力される構成となっている。なお、実施形態１では、教示装置３２０及び修正装置３４０へのマスタ画像と基準点の座標との出力は、図示しない周知の通信回線を介して行うものであるが、これに限定されるものではない。また、実施形態１では欠陥検査装置３００として、光学式検査装置を用いる場合について説明するが、これに限定されることはなく、電気式検査装置等の他の方式の検査装置であってもよい。
【００１９】
〈欠陥検査装置〉
欠陥検査装置３００では、図示しないステージに検査対象である液晶基板（ＴＦＴ基板）が搭載される構成となっている。実施形態１では、液晶基板が搭載されるステージは、ステージ制御部３０８からの指示に基づいて、一定速度で移動される構成となっている。このステージ移動に同期して周知のＣＣＤラインセンサからなる画像撮影部３０１が基板表面の画像を取得（撮影）する構成となっている。このとき、画像撮影部３０１は一定時間毎に取得した画像情報を欠陥抽出部３０２に出力するため、画像上の欠陥位置は検査対象上の欠陥位置と一致しており、後述するように、ステージの走査速度から欠陥座標を算出することが可能である。
【００２０】
画像撮影部３０１で撮影された画像は、欠陥抽出部３０２によってパターン欠陥の有無が検査される。このときの検査法として、例えば、隣接画素比較法を用いることができる。隣接画素比較法は、ＦＰＤ（フラットパネルディスプレイ、平面型表示装置）のように繰り返しパターンが形成された検査対象上の欠陥抽出に有効な方法であり、パターンの繰り返しピッチ分離れた位置の画像情報を比較し、その差を抽出することで、パターン形状の異常な部分を抽出するものである。
【００２１】
欠陥抽出部３０２でパターン形状の異常が抽出されない場合は、順次、検査が進められることとなる。一方、異常が検出された場合には、欠陥抽出部３０２から欠陥座標算出部３０３に異常検出（欠陥検出）と共に画像上の位置情報が出力される。異常検出の入力により、欠陥座標算出部３０３は欠陥抽出部３０２で抽出された欠陥の画像上の位置とステージ制御部３０８の位置情報等とに基づいて、液晶基板上における欠陥の座標位置を算出する。算出された欠陥の座標位置は欠陥座標保存部３０５に出力され、該欠陥座標保存部３０５に保存されると共に、欠陥画像切り出し部３０４にも出力される。ただし、液晶用ＴＦＴ基板等の場合、その大きさは２ｍを超えており、ステージの絶対的な位置精度は、数十μｍ程度である。一方、ＴＦＴ基板上の配線幅が数μｍであるから、欠陥座標算出部３０３が算出する欠陥位置の精度は、基板上に形成されるパターンの形成精度に比較すると低いものとなっている。このために、後述するように、特徴的なパターンを用いたテンプレートマッチングが必要となる。
【００２２】
欠陥座標が入力された欠陥画像切り出し部３０４では、欠陥抽出部３０２で抽出した欠陥部分を中心にして画像を切り出し、この切り出された画像は欠陥画像として欠陥画像保存部３０６に出力され保存される。なお、欠陥画像切り出し部３０４で切り出す画像は、教示装置３２０での基準点抽出で使用するために、少なくとも基準点が１点含まれる大きさが必要となるので、繰り返しパターンピッチの３倍程度とする方がよい。
【００２３】
このようにして欠陥画像保存部３０６及び欠陥座標保存部３０７にそれぞれ保存された欠陥画像及び欠陥位置は関連付けされて液晶基板毎に管理され、教示装置３２０からの送信指示や予め設定された送信周期等に従って、欠陥情報通信部３０７を介して接続される教示装置３２０に送信される構成となっている。
【００２４】
〈教示装置〉
実施形態１の教示装置３２０では、オペレータ（操作者）が欠陥検査装置３００からの欠陥データである欠陥画像を図示しない表示装置に表示させ、この欠陥画像に基づいて欠陥の状態を判断し、修正位置を指示する構成となっている。
【００２５】
まず、オペレータの指示に基づいて、修正位置教示部３２２が欠陥座標・画像保存部３３０から該当する液晶基板に対応する欠陥画像及び欠陥座標を読み出し、欠陥画像を図示しない表示装置に表示させる。次に、オペレータが表示装置に表示される欠陥画像に基づいて、まず、パターン欠陥の修正が必要か否かをその可否を含めて判定し、修正が必要と判定した場合には、当該オペレータが図示しない入力部から具体的な修正位置の指示を行うことにより、画像上の修正位置情報及び欠陥座標が基準点抽出部３２３に出力される。ただし、前述するように、欠陥座標は位置精度が数十μｍ程度であるステージの位置情報に基づいた座標位置となるので、その位置精度も数十μｍ程度である。従って、修正位置教示部３２２から基準点抽出部３２３に出力される修正位置の位置情報は、欠陥座標と共に、表示画像上の修正位置情報すなわち欠陥画像上の特徴的な部分からの座標も位置情報とすることにより、ステージの位置精度によらない精度で修正位置を特定することが可能となる。
【００２６】
修正位置情報及び欠陥座標が入力された基準点抽出部３２３は、まず、テンプレート画像保存部３２６から予め保存してあるテンプレート画像（第１のテンプレート画像）を読み出して取得すると共に、基準点座標保存部３２７から読み出したテンプレート画像に対応する基準点位置を取得する。次に、取得されたテンプレート画像及び基準点位置に基づいて、基準点抽出部３２３は表示装置に表示される画像上すなわち欠陥画像上に基準点を設定する。ただし、後述するように、実施形態１では、各装置に保存されるテンプレート画像の基準点位置がマスタ画像に基づいて設定された基準点位置となっている。
【００２７】
基準点抽出部３２３で設定された基準点位置は修正位置生成部３２４に出力される。該修正位置生成部３２４は、修正位置教示部３２２で指示された修正位置を、基準点抽出部３２３で抽出された基準点位置からの相対距離として算出する。この算出された修正位置と基準点（基準点座標）とは欠陥毎に関連付けされ、液晶基板毎に管理される。また、算出された修正位置と共に基準点は、修正装置からの送信要求又は教示装置からの修正指示等に基づいて、修正情報通信部３２５を介して修正装置３４０に出力される。なお、基準点位置と修正位置とを、直ちに修正情報通信部３２５に出力し、該修正情報送信部３２５を介して修正装置３４０に出力する構成でもよい。
【００２８】
〈修正装置〉
修正装置３４０では、図示しないステージに修正対象である液晶基板（例えば、ＴＦＴ基板）が搭載される構成となっている。また、実施形態１の修正装置では、ステージに搭載された液晶基板を移動させるタイプの場合について説明するが、これに限定されることはなく、ステージの上面側に配置された光学系（レーザ装置や画像撮影装置等が配置される）が移動して、所望の処理を行ういわゆるガントリタイプ、又はステージと光学系が共に移動するタイプ等でもよい。さらには、実施形態１では、前述する欠陥検査装置３００と同様に、ステージの絶対的な位置精度は数十μｍ程度となるので、後述するテンプレートマッチングを用いて正確な位置決めをした後に、修正動作を行う構成となっている。
【００２９】
修正情報通信部３４１を介して教示装置３２０からステージに搭載される液晶基板に対応する欠陥情報として、欠陥毎の修正位置座標等の情報が入力されると、まず、基板位置決め部３４２がステージに搭載される液晶基板の位置ずれを補正し、所定位置に位置合わせするためのアライメントを行う。次に、教示装置３２０から入力された基準点座標に基づいて、画像撮影部３４３が基準点座標位置にステージを移動させるすなわち基準点座標位置を画像撮影装置（光学系）の撮影位置に移動させることにより、基準点近傍の画像（第２の画像）を撮影（取得）する。
【００３０】
撮影された基準点近傍の画像が入力された基準点抽出部３４４は、まず、テンプレート画像保存部３５０から予め保存してあるテンプレート画像（第２のテンプレート）を読み出すと共に、基準点座標保存部３４９から読み出したテンプレート画像に対応する基準点位置を取得する。次に、取得されたテンプレート画像及び基準点に基づいて、例えばパターンマッチング手法により、基準点抽出部３４４は撮影された基準点近傍の画像上に補正された基準点を設定する。
【００３１】
基準点抽出部３４４で設定された基準点は修正位置算出部３４５に出力され、修正位置算出部３４５が教示装置３２０から受け取った修正位置と抽出した基準点の座標とから修正位置を算出する。このとき、後述するように、実施形態１では、各装置に保存されるテンプレート画像の基準点位置はマスタ画像に基づいて補正された基準点位置となっている。従って、修正位置算出部３４５で算出される修正位置は、教示装置３２０の修正位置教示部３２２でオペレータが指示した修正位置と同じ基準点に基づいたものとなるので、非常に高い精度で修正位置を特定することが可能となる。その結果、修正動作指示部３４６はオペレータが指示した修正位置を図示しない修正手段の位置に移動させることができ、正確な修正動作を行わせることが可能となる。
【００３２】
〈マスタ情報保存装置〉
本発明の実施形態１の修正装置に接続されるマスタ情報保存装置３６０は、マスタ画像生成部３６１、基準座標設定部３６２、マスタ画像保存部、及び基準座標保存部３６４を備える構成となるっている。また、実施形態１では、マスタ情報保存装置３６０が有する構成の他に、テンプレート画像に対応する基準点位置をマスタ画像の基準点位置に設定する機構を、教示装置３２０と修正装置３４０とがそれぞれ備える構成となっている。
【００３３】
すなわち、実施形態１のマスタ情報保存装置３６０においては、修正装置３４０の備える画像撮影部３４３で撮影された画像からマスタ画像生成部３６１がマスタ画像となる画像を切り出し（生成）、得られたマスタ画像がマスタ画像保存部３６３に保存されと共に、基準点座標設定部３６２に出力される構成となっている。基準点座標設定部３６２では、生成されたマスタ画像上に基準点が設定され、該設定された基準点座標は基準点座標保存部３６４に保存される。なお、前述するマスタ画像の切り出しや基準点の設定は、教示装置３２０や修正装置３４０におけるテンプレート画像の生成及びテンプレート画像に対する基準点の設定と同様の手順で生成可能である。また、基準点座標の設定手順は、後に詳述する。
【００３４】
マスタ画像保存部３６３及び基準点座標保存部３２７に保存されたマスタ画像及び基準点は、教示装置３２０及び修正装置３４０に適宜読み出され、各装置が有するテンプレート画像の基準点として使用される。すなわち、教示装置３２０の場合には、マスタ画像保存部３６３から読み出されたマスタ画像は、画像比較部３２８に出力される。この時、教示装置３２０の有するテンプレート画像保存部３２６からはテンプレート画像が読み出され、該テンプレート画像は画像比較部３２８に出力される構成となっている。画像比較部３２８に入力されたマスタ画像とテンプレート画像とは、当該画像比較部３２８の有するパターンマッチング機能により、例えば、パターンマッチング手法によりマスタ画像とテンプレート画像とのずれ量が算出される。得られたずれ量は基準点座標算出部３２９に出力され、該ずれ量に基づいて、マスタ画像の基準点座標に対応するテンプレート画像上の座標が算出される。該算出された座標がテンプレート画像の基準点座標として基準点座標保存部３２７に保存され、テンプレート画像保存部３２６から読み出されるテンプレート画像の基準点座標として、基準点抽出部３２３に出力される。
【００３５】
また、修正装置３４０の有する画像比較部３４７、基準点座標算出部３４８、及び基準点座標保存部３４９も同様にして、テンプレート画像保存部３５０に対応する基準点座標を基準点座標保存部３４９から基準点抽出部３４４に出力する構成となっている。
【００３６】
なお、実施形態１では、修正装置３４０の有する画像撮影部３４３で撮影した画像をマスタ画像として用いる構成としたが、これに限定されることはなく、教示装置３２０や修正装置３４０の有するテンプレート画像をマスタ画像として用いる構成でもよい。さらには、マスタ画像保存装置３６０を教示装置３２０及び修正装置３４０とは別の構成としたが、教示装置３２０又は修正装置３４０と一体に構成してもよい。
【００３７】
以上説明したように、実施形態１の修正装置では、教示装置に保存されるテンプレート画像と修正装置に保存されるテンプレート画像とは別のマスタ画像をマスタ画像保存部３６３に保存しておくと共に、該マスタ画像に設定した基準点座標を基準点座標保存部３６４に保存しておき、教示装置３２０の画像比較部３２８がテンプレート画像保存部３２６に保存されるテンプレート画像とマスタ画像とを比較し、そのずれ量に基づいて、基準点座標算出部３２９がマスタ画像上に設定した基準点と一致するテンプレート画像上の座標位置に基準点を設定し、基準点座標保存部３２７に保存する構成となっている。また、同様にして、修正装置３４０の側においても、修正装置３４０の画像比較部３４７がテンプレート画像保存部３５０に保存されるテンプレート画像とマスタ画像とを比較し、そのずれ量に基づいて、基準点座標算出部３４８がマスタ画像上に設定した基準点と一致するテンプレート画像上の座標位置に基準点を設定し、基準点座標保存部３４９に保存する構成となっているので、異なる装置間での基準点の位置を一致させることができる。従って、高い位置精度で欠陥位置を修正位置に移動させることが可能となる。修正位置への修正手段の移動精度を向上させることができるので、修正不良に伴う不良品発生を回避させることすなわち液晶表示装置の製造時における歩留まりを向上させることができ、結果として製造コストを削減できる。
【００３８】
〈実施形態２〉
〈液晶表示装置及び欠陥の説明〉
本実施形態２においては本発明の実施形態１の修正装置における液晶表示装置の修正方法について説明する。
【００３９】
まず、図２に一般的な液晶表示装置の概略構成を説明するための断面図、図３に一般的な液晶表示装置における画素部分の拡大図を示し、液晶表示装置の構成について説明するただし、図３（ａ）は画素部分の拡大平面図であり、図３（ｂ）は図３（ａ）に示すＡ−Ａ’線での断面図である。
【００４０】
図２に示すように、一般的な液晶表示装置は、対向配置される２枚のガラス基板９ａ、９ｂの間に液晶４０を挟み込んだ構造となっており，画素電極３４と対向電極４１で形成されるコンデンサ内の電界によって液晶分子の向きを制御し，バックライト４５の光の透過率を制御するものである。第１のガラス基板９ａの対向面側には画素電極３４の印加電圧を制御する図示しない回路が形成されており、第２のガラス基板９ｂの対向面側にはカラーフィルタが形成されており、カラー画像の表示を可能としている。
【００４１】
図３（ａ）（ｂ）に示すように、液晶表示装置の回路は、複数のパターンを積層して形成されている。第１のガラス基板９ａ上に形成される薄膜多層回路には、ゲート電極３１ａ、ａ−Ｓｉ（アモルファスシリコン層）３２、ソース電極３３ａ、ドレイン線３３、ドレイン電極３３ｂ、開口３７、画素電極３４、ゲート絶縁膜３５、絶縁膜３８等がある。ａ−Ｓｉ３２部分が半導体スイッチとなっており、図示しないゲート線を介してゲート電極３１ａに電圧を印加すると、半導体スイッチがＯＮとなり、ドレイン線３３を介してドレイン電極３３ｂに印加された電圧がソース電極３３ａに出力される。このとき該ソース電極３３ａと画素電極３４とは絶縁膜３８に形成された開口３７を介して電気的に接続される構成となっているので、ソース電極３３ａに出力される電圧が画素電極３４に印加されることによって液晶を駆動する。この後、ゲート電極３１ａの印加電圧を下げると，半導体スイッチがＯＦＦとなり、画素電極３４と対向電極４１で構成されるコンデンサの電圧が保持される。ゲート絶縁膜３５は、ゲート電極３１とａ−Ｓｉ３２の間、及びゲート電極３１とソース電極３３の間に形成され、これらの線のショートを防止する役目がある。また、絶縁膜３８は画素電極３４とドレイン線３３及びドレイン電極の間、ａ−Ｓｉ３２と画素電極３４との間に形成され、これらの線のショートを防止する役目がある。
【００４２】
一般的な液晶表示装置は、このような構成となるので、図４に示すように、異物５１が存在すると、ドレイン線３３と画素電極３４がショートし、常に画素電極３４にドレイン線の電圧が印加されるため回路が正常に動作しない。そこで、ドレイン線３３と画素電極３４の間でショートしている部分にレーザ光を照射することにより除去し、回路を修復する必要がある。修正方法としては、レーザ光照射の他、導電性ペーストを塗布して焼成する断線修正方法や、レーザＣＶＤ方法等を用いることができる。
【００４３】
〈従来の修正動作〉
以下、図５に従来の修正装置を用いる場合の検査・修正プロセスを説明するための図、図６に従来の修正装置における修正指示画面の一例を示す図を示し、以下、図５及び図６に基づいて、従来の欠陥検査動作、教示動作、及び修正動作を説明する。ただし、図６において、図６（ａ）は修正指示画面の一例を説明するための図であり、図６（ｂ）はテンプレート画像の一例を示す図である。
【００４４】
図５に示すように、検査・修正プロセスは欠陥検査装置３００と教示装置３２０、修正装置３４０を用いて実行される。欠陥検査装置３００は、一般的な検査装置を用いることができ、例えば光学式検査装置を用いると正常部と欠陥部の画像を比較することによって異物５１を特定する方法や電気式検査装置でショートしている画素電極３４を特定した後、光学式検査でショート箇所を抽出する方法や電子ビームを使用した検査方法がある。ＣＣＤカメラを用い、画素数の二次元平面での計数による検査方法でもよい。
【００４５】
まず、欠陥検査装置３００で欠陥抽出を実施する（ステップ２０１）。ステップ２０１の欠陥抽出では、抽出した欠陥を中心に欠陥画像を切り出し、保存する。次に、欠陥座標算出を実施する（ステップ２０２）。抽出した欠陥画像と欠陥座標は関連づけられ、欠陥検査装置３００に一時的に保存された後、教示装置３２０に送られる。
【００４６】
教示装置３２０では、欠陥検査装置３００から欠陥画像と欠陥座標を受け取り、修正方法指示を実施する（ステップ２１１）。このステップ２１１の修正方法指示では、欠陥画像を利用して、図６（ａ）に示すように、オペレータ（操作者）が修正位置６２と修正方法を指示する。例えば、マウスでモニタに表示された欠陥画像上の修正位置６２をクリックするという方法で教示（指示）することができる。あるいは、あらかじめ登録しておいた修正手順を選択する方法でもよい。
【００４７】
次に、基準点抽出を実施する（ステップ２１２）。このステップ２１２の基準点抽出では、まず、修正の基準点６１ｂを抽出するためにテンプレート画像６０ａを使用してパターンマッチングを実施する。このとき、欠陥画像には基準点となりうる場所が複数存在する場合があるため、パターンマッチングを実施する領域を指定することで、基準点６１ｂを一つに決定可能である。また、複数の基準点候補が含まれない大きさに欠陥画像を切り出す方法でもよい。
【００４８】
パターンマッチングによりテンプレート画像６０ａと一致する場所６５を抽出後、テンプレート画像６０ａ上に定義した基準点６１ａと一致する欠陥画像上の基準点６１ｂを算出する基準点座標算出を実施する（ステップ２１３）。パターンマッチングを使用することにより、画像の検出分解能以下の精度で基準点６１ｂを設定することができる。
【００４９】
次に、修正位置算出を実施する（ステップ２１４）。このステップ２１４の修正位置算出では、オペレータが指示した修正位置６２を基準点６１ｂからの相対距離として算出する。画像の分解能はあらかじめ保存してあり、欠陥画像上の基準点６１ｂと修正位置６２間の距離に画像分解能を掛けることで、修正位置を算出することができる。
【００５０】
修正装置３４０は、教示装置３２０でオペレータが指示した修正位置６２と修正方法を受け取り、指示に従って自動で欠陥を修正する。このとき、ＴＦＴ基板の大きさは２ｍを超えているため、欠陥検査装置３００の位置決めの絶対精度は数十μｍと低い。したがって、欠陥検査装置３００から受け取った欠陥座標に基づいて教示装置３２０が指示した修正位置６２の座標をそのまま用いると、修正装置３４０の修正位置６２がずれる。そこで、欠陥近傍で精密な位置決めを実施するために欠陥近傍の基準点６１を利用する。なお、修正装置３４０の対象基板と教示装置３２０の対象基板は同じものであるため、修正装置３４０の動作は、教示装置３２０の動作の説明に使用した図６を用いて説明する。
【００５１】
まず、教示装置３２０から受け取った基準点座標に移動する基準点座標移動を実施する（ステップ２２１）。次に、基準点抽出を実施する（ステップ２２２）。ステップ２２２の基準点抽出では、まず画像を取得し、欠陥近傍の基準点６１ｄを抽出する。欠陥近傍の基準点６１ｄは一般的に用いられるパターンマッチング手法で抽出することができる。このパターンマッチング手法では、図６（ｂ）に示すテンプレート画像６０ｃをあらかじめ登録しておき、さらにテンプレート画像６０ｃ上に基準点６１ｃを定義しておく。欠陥画像とテンプレート画像６０ｃを用いてパターンマッチングを実施し、テンプレート画像６０ｃ上の基準点６１ｃに相当する基板上の基準点６１ｄの座標を算出する。
【００５２】
次に、教示装置３２０から受け取った修正位置で修正を実施する（ステップ２２３）。このときの修正位置は基準点６１ｄからの相対距離で示されており、欠陥近傍の基準点６１ｄはパターンマッチング手法を用いて補正されているため、修正位置の精度が向上する。
【００５３】
しかしながら、基準点６１ａ、６１ｃは教示装置３２０と修正装置３４０で別々に設定されるため、教示装置３２０で設定した基準点６１ａと修正装置３４０で設定した基準点６１ｃは必ずしも一致せず、修正位置にずれが発生する。すなわち、一般的に、基準点６１ａ、６１ｃの教示は、モニタに表示された画像上の点をマウスでクリックするなどして指定しており、画像の分解能や基準点指定時のずれが誤差要因となる。
【００５４】
〈本願発明の修正動作〉
本願発明の修正装置では、全装置に共通のマスタ画像を用い、あらかじめマスタ画像上に基準点を定義しておくことにより、教示装置３２０で設定した基準点と修正装置３４０で設定した基準点のずれに伴う修正位置のずれを防止する。ただし、後に詳述するように、本願発明の実施形態１の修正装置における検査・修正プロセスでは、各装置におけるテンプレート画像の登録前にマスタ画像を取得するプロセス、取得したマスタ画像に基準点を設定するプロセス、及び各装置でのマスタ画像に基づいたテンプレート画像の登録プロセスを除く検査・修正プロセスは、前述する従来の検査・修正プロセスと同じプロセスとなる。従って、以下の説明では、マスタ画像を取得するプロセス、取得したマスタ画像に基準点を設定するプロセス、及び各装置でのマスタ画像に基づいたテンプレート画像の登録プロセスについて、詳細に説明する。
【００５５】
図７は本発明の実施形態１の修正装置におけるマスタ画像を説明するための図であり、図８は本発明の実施形態２の修正装置におけるマスタ画像及びテンプレート画像の登録動作を説明するためのフローである。特に、図７（ａ）はマスタ画像の構成を説明するための図であり、図７（ｂ）はテンプレート画像の構成を説明するための図であり、図７（ｃ）は大きいマスタ画像を用いた場合のマスタ画像と基準点との位置関係を説明するための図である。
【００５６】
まず、図８に基づいて、修正装置を含む各装置におけるマスタ画像及びテンプレート画像並びに基準点の登録手順を説明する。まず、欠陥検査装置３００、または修正装置３４０を用いてマスタ画像取得を実施する（ステップ８０１）。次に、マスタ画像６３上に基準点６１ｅを設定する基準点登録を実施する（ステップ８０２）。このステップ８０２における基準点６１ｅの設定は、モニタに表示される画像上の点をオペレータがマウスでクリックするなどして指定可能である。次に、教示装置３２０でテンプレート画像取得を実施し（ステップ８１１）、この後に、マスタ画像６３とのパターンマッチングを実施する（ステップ８１２）。このステップ８１２のパターンマッチングで算出されたマスタ画像６３とテンプレート画像６０のずれ量を補正し、マスタ画像６３上に定義された基準点６１ｅの位置に相当する基準位置６１ａを算出する基準点位置算出を実施する（ステップ８１３）。次に、修正装置３４０でテンプレート画像取得を実施した後（ステップ８２１）、マスタ画像６３とのパターンマッチングを実施する（ステップ８２２）。パターンマッチングで算出されたマスタ画像６３とテンプレート画像６１のずれ量を補正し、マスタ画像６３上に定義された基準点６１ｅの位置に相当する基準位置６１ｃを算出する基準点位置算出を実施する（ステップ８２３）。
【００５７】
以上に説明したマスタ画像を用いた基準点の設定を各装置に対して行うことにより、各装置におけるテンプレート画像６３における基準点６１ａ、６１ｃを一致させることができるので、教示装置３２０の基準点６１ａと修正装置３４０の基準点６１ｃの位置を高精度に一致させることが可能となり、修正位置精度を向上させることができる。
【００５８】
次に、図７に基づいて、実施形態１の修正装置に適用可能なマスタ画像について、詳細に説明する。
【００５９】
前述するように、本願発明の修正装置では、全装置に共通のマスタ画像６３を用い、あらかじめマスタ画像６３上に基準点６１ｅを定義する。次に、教示装置３２０と修正装置３４０でそれぞれ登録したテンプレート画像６０ａ，６０ｃを、それぞれマスタ画像６３とパターンマッチング手法によって相対的位置関係を抽出する。この後に、マスタ画像６３上に定義した基準点６１ｅに相当する位置の基準点６１ａと基準点６１ｃを算出することにより、パターンマッチング手法の画像の分解能以下の精度で基準点６１ａ、６１ｃを定義するものである。
【００６０】
この場合、マスタ画像６３とテンプレート画像６０ａとのパターンマッチング手法によってずれ量を抽出するためには、マスタ画像６３はテンプレート画像６０ａより大きくなければならない。しかしながら、図７（ｃ）に示すように、マスタ画像６３が配線パターンピッチ（Ｐ）より大きい場合、基準位置６１ｅと同じ形状である点６４が複数点存在し、パターンマッチングで間違った基準点を選択してしまう可能性がある。そこで、マスタ画像６３の大きさＬ１は下記の式１を満たすように設定する。
【００６１】
Ｌ２＋４×ε  ≦  Ｌ１  ＜  Ｌ２＋２×Ｐ−２×ε        （式１）
ただし、式１において、画像の切り出し精度を±εとした。マスタ画像６３及びテンプレート画像６０ともに、オペレータが画像上の点を指定して切り出し位置を決定する。このとき、基準点位置が画像の中心からずれている量を画像の切り出し精度とした。
【００６２】
マスタ画像の大きさの最小値（Ｌ２＋４×ε）は、テンプレート画像６０ａの大きさＬ２に、マスタ画像６３の切り出し精度±εとテンプレート画像の切り出し精度±εを加えた大きさとすればよい。最小値をＬ２＋４×εとすることで、例えば、マスタ画像６３が右にεずれた位置で切り出され、テンプレート画像６１ａが左にεずれた位置で切り出された場合や、逆にマスタ画像６３が左にεずれた位置で切り出され、テンプレート画像６１ａが右にεずれた位置で切り出された場合でも、テンプレート画像６１ａがマスタ画像６３からはみ出さないため、パターンマッチングが可能である。
【００６３】
一方、マスタ画像の大きさの最大値（Ｌ２＋２×Ｐ−２×ε）は、テンプレート画像６０ａの大きさＬ２と配線ピッチ（Ｐ）の２倍の画像に対して、例えば、マスタ画像６３が右にεずれた位置で切り出され、テンプレート画像６１ａが左にεずれた位置で切り出された場合や、逆にマスタ画像６３が左にεずれた位置で切り出され、テンプレート画像６１ａが右にεずれた位置で切り出された場合でも、間違った基準点６４を選択することがない。ただし、マスタ画像６３としては、教示装置３２０のテンプレート画像６０ａ、または修正装置３４０のテンプレート画像６０ｃを用いてもよい。
【００６４】
以上説明したように、実施形態２の欠陥修正方法によれば、各装置のテンプレート画像の基準点の登録に際して、各装置に共通のマスタ画像６３を撮影し、該マスタ画像６３に基準点６１ｅを設定し、教示装置３２０が有するテンプレート画像６０ａとマスタ画像６３とを比較し、マスタ画像６３上に設定した基準点６１ｅと一致する教示装置のテンプレート画像６０ａ上の座標位置に基準点６１ａを設定すると共に、修正装置３４０が有するテンプレート画像６０ｃとマスタ画像６３とを比較し、マスタ画像６３上に設定した基準点６１ｅと一致する修正装置のテンプレート画像６０ｃ上の座標位置に基準点６１ｃを設定することにより、各装置におけるテンプレート画像６３における基準点６１ａ、６１ｃを一致させることを可能とするものである。その結果、教示装置３２０の基準点６１ａと修正装置３４０の基準点６１ｃの位置を高精度に一致させることが可能となり、修正位置精度を向上させることができる。
【００６５】
〈実施形態３〉
図９は本発明の実施形態３の修正装置における検査・修正プロセスを説明するための図であり、以下、図９に基づいて、実施形態３の欠陥検査動作、教示動作、及び修正動作を説明する。
【００６６】
図９から明らかなように、実施形態３の修正プロセスは、欠陥検査装置３００と教示装置３２０、そして２台の修正装置３４０ａ、３４０ｂで構成される。ここで、欠陥検査装置３２０は一般的な検査装置を用いることができると共に、教示装置３２０における教示動作及び第２の修正装置３４０ｂにおける修正動作も実施形態１、２と同様である。従って、以下の説明では、実施形態１、２とプロセスが異なる第１の修正装置３４０ａにおける修正動作について、詳細に説明する。
【００６７】
まず、第１の修正装置３４０ａは、欠陥検査装置３００で検出された欠陥の座標を受け取り、該欠陥座標に基づいてステージを移動する（ステップ２３１）。次に、欠陥画像撮影を実施する（ステップ２３２）。次に、撮影した画像を用いて、修正位置と修正方法を決定する修正計画を実施する（ステップ２３３）。ステップ２３３における修正計画としては、画像処理による自動計画やオペレータによる修正位置の指示がある。次に、自動計画、あるいはオペレータによる修正位置指示が完了した欠陥を自動で修正する修正を実施することにより、修正が終了する（ステップ２３４）。一方、ステップ２３３において、自動計画ができなかった欠陥や形状が複雑でオペレータの修正指示に時間がかかる欠陥については、欠陥座標と欠陥画像を教示装置３２０に送る。
【００６８】
教示装置３２０では、第１の修正装置３４０ａから欠陥画像と欠陥座標を受け取り、欠陥画像を利用してオペレータが図６（ａ）に示す実施形態２と同様に、修正位置６２と修正方法を指示する（ステップ２１１〜ステップ２１４）。
【００６９】
第２の修正装置３４０ｂは、教示装置３２０でオペレータが指示した修正位置６２と修正方法を受け取り、指示に従って自動で欠陥を修正する（ステップ２２１〜ステップ２２３）。ただし、実施形態３のプロセスでは、第１の修正装置３４０ａと第２の修正装置３４０ｂは同じ仕様の装置でもよく、この場合、２つのモードを自動的に切り替えて動作させることが可能な装置とすることにより、生産状況に応じて第１の修正装置３４０ａの機能と第２の修正装置３４０ｂの機能を使い分けることができるため、装置稼働率を向上させることが可能となる。また、実施形態３のプロセスでは、第１の修正装置３４０ａで設定した基準点６１と第２の修正装置３４０ｂで設定した基準点６１を一致させるため、マスタ画像６３によるパターンマッチング手法を用いることができる。また、上記マスタ画像６３として、第１の修正装置３４０ａのテンプレート画像６０、または第２の修正装置３４０ｂのテンプレート画像６０を用いてもよい。
【００７０】
以上説明したように、実施形態２の欠陥修正方法によれば、教示装置３２０と第２の修正装置３４０ｂのテンプレート画像の基準点の登録に際して、当該装置に共通のマスタ画像６３を撮影し、該マスタ画像６３に基準点６１ｅを設定し、教示装置３２０が有するテンプレート画像６０ａとマスタ画像６３とを比較し、マスタ画像６３上に設定した基準点６１ｅと一致する教示装置のテンプレート画像６０ａ上の座標位置に基準点６１ａを設定すると共に、第２の修正装置３４０ｂが有するテンプレート画像６０ｃとマスタ画像６３とを比較し、マスタ画像６３上に設定した基準点６１ｅと一致する修正装置のテンプレート画像６０ｃ上の座標位置に基準点６１ｃを設定することにより、教示装置３２０と第２の修正装置３４０ｂにおけるテンプレート画像６３における基準点６１ａ、６１ｃを一致させることを可能とするものである。その結果、教示装置３２０の基準点６１ａと第２の修正装置３４０ｂの基準点６１ｃの位置を高精度に一致させることが可能となり、修正位置精度を向上させることができる。
【００７１】
以上、本発明者によってなされた発明を、前記発明の実施形態に基づき具体的に説明したが、本発明は、前記発明の実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において変更可能であることは勿論である。
【符号の説明】
【００７２】
９ａ・・・第１基板（ＴＦＴ基板）、９ｂ・・・第２基板（ＣＦ基板）
３１・・・ゲート線、３１ａ・・・ゲート電極、３２・・・ａ−Ｓｉ（半導体層）
３３・・・ドレイン線、３３ａ・・・ソース電極、３３ｂ・・・ドレイン電極
３４・・・画素電極、３５・・・ゲート絶縁膜、３７・・・コンタクト
３８・・・絶縁膜、４０・・・液晶、４１・・・対向電極、４５・・・バックライト
５１・・・異物、６０ａ・・・テンプレート画像（教示装置テンプレート画像）
６０ｃ・・・テンプレート画像（修正装置テンプレート画像）
６１ａ〜６１ｅ・・・基準点、６２・・・修正位置、６３・・・マスタ画像
６４・・・間違った基準点、３００・・・欠陥検査装置、３０１・・・画像撮影部
３０２・・・欠陥抽出部、３０３・・・、欠陥座標算出部
３０４・・・欠陥画像切り出し部、３０５・・・欠陥座標保存部
３０６・・・欠陥画像保存部、３０７・・・欠陥情報通信部
３０８・・・ステージ制御部、３２０・・・教示装置、３２１・・・欠陥情報通信部
３２２・・・修正位置教示部、３２３・・・基準点抽出部、３２４・・・修正位置生成部
３２５・・・修正情報通信部、３２６・・・テンプレート画像保存部
３２７・・・基準点座標保存部、３２８・・・画像比較部
３２９・・・基準点座標算出部、３３０・・・欠陥座標・画像保存部
３４０・・・修正装置、３４０ａ・・・第１の修正装置、３４０ｂ・・・第２の修正装置
３４１・・・修正情報通信部、３４２・・・基準点位置決め部、３４３・・・画像撮影部
３４４・・・基準点抽出、３４５・・・修正位置算出部、３４６・・・修正動作指示部
３４７・・・画像比較部、３４８・・・基準点座標算出部
３４９・・・基準点座標保存部、３５０・・・テンプレート画像保存部
３６０・・・マスタ情報保存装置、３６１・・・マスタ画像生成部
３６２・・・基準点座標設定部、３６３・・・マスタ画像保存部
３６４・・・基準点座標保存部
【図１】
2010251550.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
2010251550.tif 000009
【図８】
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【図９】
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