(57)【要約】【課題】対物レンズユニットの上部の振動を低減し、歪みの少ない光学画像を取得可能なマスク検査装置を提供する。【解決手段】少なくとも水平方向に移動自在であり、被検査マスクＭが載置されるステージ１を定盤２５上に設ける。定盤２５上に、マスクＭを透過した透過光もしくはマスクＭで反射した反射光を集光する対物レンズと、この対物レンズを内蔵し且つ保持する柱状の対物レンズ枠７１とを有する対物レンズユニット７０を設ける。対物レンズ枠７１の側面の上部に制振部材２９が接するように構成する。制振部材２９は、板状の弾性体であり、かつ、対物レンズ枠７１の側面の上部に応力が加わるように撓ませた状態で保持部２８により保持される。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
定盤と、
前記定盤上で少なくとも水平方向に移動自在に設けられ、被検査マスクが載置されるステージと、
前記定盤上に設けられ、前記被検査マスクを透過した透過光もしくは前記被検査マスクで反射した反射光を集光する対物レンズと、該対物レンズを内蔵し且つ保持する柱状の対物レンズ枠とを有する対物レンズユニットと、
前記ステージの移動と同期して、前記対物レンズにより集光された透過光もしくは反射光を撮像する画像センサと、
前記対物レンズ枠の側面の上部に接する制振部材と、
前記対物レンズ枠の側面に隣接して配置され、前記弾性体を保持する保持部とを備えたことを特徴とするマスク検査装置。
【請求項２】
前記制振部材は、板状の弾性体であり、かつ、前記対物レンズ枠の側面の上部に応力が加わるように撓ませた状態で前記保持部により保持されたことを特徴とする請求項１記載のマスク検査装置。
【請求項３】
前記制振部材は、少なくとも一部が前記対物レンズ枠の側面の上部に接し、かつ、前記対物レンズ枠の側面に水平方向の力が加わるように前記保持部により保持されたことを特徴とする請求項１記載のマスク検査装置。
【請求項４】
前記対物レンズ枠の側面の上部から水平方向に突出するリング状のフランジを有し、
前記制振部材の下面と前記フランジの上面との間に生じる摩擦力によって、前記対物レンズユニットの上部の水平方向の振動を低減することを特徴とする請求項１記載のマスク検査装置。
【請求項５】
前記制振部材が少なくとも２個以上設けられたことを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれか１項に記載のマスク検査装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、マスクの欠陥検査を行うマスク検査装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体デバイスの製造過程において、基板上にパターンを形成するための原画としてフォトマスク或いはレチクル（以下「マスク」という。）が用いられている。マスクのパターンに欠陥が存在すると、基板上に欠陥が転写されるため、半導体デバイスの歩留まりが低下する。そこで、マスク製造後にマスクの欠陥検査が行われている。
【０００３】
マスクの欠陥検査方法として、マスク上の異なる位置にある同一パターンの光学画像同士を比較するダイ・トゥ・ダイ（Die-to-Die）検査方法と、マスクにパターンを描画する際に使用した設計データ（ＣＡＤデータ）から生成される参照画像と実際のマスクのパターンの光学画像とを比較するダイ・トゥ・データベース（Die-to-Database）検査方法とがある。
【０００４】
このような欠陥検査を行うマスク検査装置において、光学画像を取得する画像センサとして、マスクに対する光の照射量が少ない場合でも受光光量を十分に得ることが可能な電荷蓄積型のＴＤＩセンサが用いられることが多い。ここで、ＴＤＩセンサの撮像周期は、ＴＤＩ方向（電荷蓄積方向）へのステージの移動と同期している。すなわち、ステージをＴＤＩ方向（例えばＸ方向）に一定量移動させ、マスクに対してＴＤＩセンサを相対的に一定量移動させる毎に、ＴＤＩセンサによる撮像を行っている。
【０００５】
これらのマスクとＴＤＩセンサとの間には、対物レンズユニットが配置されている。対物レンズユニットは、対物レンズ枠と、この対物レンズ枠に内蔵され且つ保持される対物レンズとを有する。この対物レンズユニットには、床面からの振動（「外部振動」ともいう。）や、ステージ移動に伴う振動や他のモータなどの駆動源からの振動（「内部振動」ともいう。）が伝わる。これにより、対物レンズユニットが振動すると共に対物レンズが振動するため、ステージの移動量とＴＤＩセンサの撮像周期との間で同期がとれないという問題がある。その結果、所望のステージ位置でＴＤＩセンサによる撮像が行われず、光学画像がＴＤＩ方向に歪む（伸縮する）という問題が生じる。
【０００６】
例えば、特許文献１には、装置外部からの外部振動を除振台により減衰させると共に、対物レンズユニットとステージを同じ定盤上に固定することで、定盤から対物レンズユニットに伝わる振動の振幅及び位相と、定盤からステージ上のマスクに伝わる振動の振幅及び位相とを略等しくしてステージ移動に伴う内部振動を減衰させるように構成した外観検査装置が開示されている。
【０００７】
然し、本発明者等が検討した結果、特許文献１に記載されたように対物レンズユニットとステージとを同じ定盤上に固定しても、対物レンズユニットの上部が共振して水平方向に微振動することが判った。このように対物レンズユニットの上部が微振動すると、ステージの移動量とＴＤＩセンサの撮像周期との間で同期が図れないため、ＴＤＩセンサで取得される光学画像が歪む。
【０００８】
他方、特許文献２には、鏡筒定盤上に配置された３つの防振装置によって投影光学系を支持するように構成された露光装置が開示されている。この防振装置によって上記マスク検査装置の対物レンズユニットを下方から支持することが考えられる。然し、この防振装置は対物レンズユニットの上部の水平方向の微振動を低減するものではないため、ステージの移動量とＴＤＩセンサの撮像周期との間で同期が図れず、ＴＤＩセンサで取得される画像が歪む。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開２００２−１６８７９６号公報
【特許文献２】特開２００４−６３６５３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明の課題は、上記課題に鑑み、対物レンズユニットの上部の振動を低減し、歪みの少ない光学画像を取得可能なマスク検査装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記課題を解決するため、本発明は、定盤と、定盤上で少なくとも水平方向に移動自在に設けられ、被検査マスクが載置されるステージと、定盤上に設けられ、被検査マスクを透過した透過光もしくは被検査マスクで反射した反射光を集光する対物レンズと該対物レンズを内蔵し且つ保持する柱状の対物レンズ枠とを有する対物レンズユニットと、ステージの移動と同期して、対物レンズにより集光された透過光もしくは反射光を撮像する画像センサと、対物レンズユニットの側面の上部に接する制振部材と、対物レンズユニットの側面に隣接して配置され、弾性体を保持する保持部とを備えたことを特徴とする。
【００１２】
本発明において、制振部材は、板状の弾性体であり、かつ、対物レンズ枠の側面の上部に応力が加わるように撓ませた状態で保持部により保持されることが好ましい。
【００１３】
本発明において、制振部材は、少なくとも一部が対物レンズ枠の側面の上部に接し、かつ、対物レンズ枠の側面に水平方向の力が加わるように保持部により保持されることが好ましい。
【００１４】
本発明において、対物レンズユニットは、側面の上部から水平方向に突出するリング状のフランジを有し、制振部材の下面とフランジ上面との間に生じる摩擦力によって、対物レンズユニットの上部の水平方向の振動を低減するように構成されることが好ましい。
【００１５】
本発明において、制振部材が少なくとも２個以上設けられることが好ましい。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、対物レンズを保持する柱状の対物レンズ枠の側面の上部に接するように制振部材を設けることで、ステージ移動や他のモータなどの駆動源に起因する対物レンズユニット上部の振動を低減することができるため、歪みの少ない光学画像を取得することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本発明の実施の形態において、マスク検査装置１００を説明するための概念図である。
【図２】対物レンズユニット上部の微振動を低減するための機構を示す概略断面図である。
【図３】図２に示した対物レンズ枠７１と制振部材２９と保持部２８との位置関係を示す上面図である。
【図４】（ａ）乃至（ｃ）は制振部材の他の配置例を示す上面図である。
【図５】制振部材の他の例を示す概略断面図である。
【図６】制振部材の他の例を示す概略断面図である。
【図７】制振部材の他の例を示す概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、本発明の実施の形態について具体的に説明する。
【００１９】
図１は、本発明の実施の形態において、マスク検査装置１００を説明するための概念図である。マスク検査装置１００は、検査対象物であるマスクＭが載置されるステージ１を備えている。マスクＭは、例えば、ガラス基板上に酸化クロム膜のパターンが形成されたものである。ステージ１は、Ｘ方向モータ２Ａと、Ｙ方向モータ２Ｂと、Ｚ方向ピエゾ２Ｄ、θ方向モータ２Ｃとによって、Ｘ方向、Ｙ方向、Ｚ方向及びθ方向（水平回転方向）に駆動される。これらのモータ２Ａ、２Ｂ、２Ｃ及びピエゾ２Ｄの駆動制御は、ステージ制御部１３によって実行される。ステージ１のＸ方向及びＹ方向の位置は、レーザ干渉計３と、このレーザ干渉計３に接続された位置検出部１７とによって検出される。
【００２０】
マスク検査装置１００は、光源４と、この光源４から発せられたレーザ光をマスクＭに照射する透過照明光学系５及び反射照明光学系６と、マスクＭを透過した透過光及びマスクＭで反射した反射光を集光する対物レンズ７とを備えている。透過照明光学系５は、ビームスプリッタ５１、ミラー５２及びコンデンサレンズ５３を有する。反射照明光学系６は、ミラー６１及びビームスプリッタ６２を有する。また、対物レンズ７は、後述する円柱状の対物レンズ枠７１によって保持されることで、対物レンズユニット７０を構成している。
【００２１】
また、マスク検査装置１００は、対物レンズ７で集光された透過光をＴＤＩ（Time Delay Integration）センサ９Ａに結像する結像レンズ８Ａと、対物レンズ７で集光された反射光をＴＤＩセンサ９Ｂに結像する結像レンズ８Ｂとを備えている。画像センサたるＴＤＩセンサ９Ａ、９Ｂは、例えば、電荷蓄積方向（ＴＤＩ方向）に複数段のラインを有し、各ラインは複数の画素で構成される。これらのＴＤＩセンサ９Ａ、９Ｂは、長方形の撮像領域を有する。ＴＤＩ方向とステージ１が移動するＸ方向とが平行となるように、ＴＤＩセンサ９Ａ、９Ｂが配置されている。
【００２２】
また、マスク検査装置１００は、マスクＭの欠陥検査に関する全体的な制御を行う制御計算機１０を備えている。制御計算機１０には、バス１１を介して、記憶装置１２、ステージ制御部１３、展開部１４、参照部１５、比較部１６及び位置検出部１７が接続されている。記憶装置１２は、例えば、磁気ディスク装置、磁気テープ装置、ＦＤもしくは半導体メモリ等である。
【００２３】
展開部１４は、記憶装置１２に記憶されたＣＡＤデータ（作図データ）を展開し、展開データを参照部１５に出力する。参照部１５は、展開部１４から入力される展開データに対してリサイズ処理、コーナ丸め処理及び点広がり分布関数（ＰＳＦ）フィルタ処理を一括して施すことにより参照画像を生成し、参照画像を比較部１６に出力する。比較部１６は、ＴＤＩセンサ９Ａ、９Ｂから入力される光学画像と、参照部１５から入力される参照画像とを比較する。
【００２４】
次に、上記マスク検査装置１００の動作について説明する。
【００２５】
光源４から発せられたレーザ光は、ビームスプリッタ５１によって透過照明光と反射照明光とに分離される。分離された透過照明光は、ミラー５２で反射された後、コンデンサレンズ５３によりマスクＭに照射される。マスクＭの透過領域（すなわち、酸化クロム膜が形成されていないガラス基板）を透過した透過光は、対物レンズ７で集光され、ビームスプリッタ６２を透過した後、結像レンズ８ＡによりＴＤＩセンサ９Ａに結像される。ここで、ステージ１をＸ方向に等ピッチで連続移動させてマスクＭをＴＤＩセンサ９Ａに対して相対的に移動させるのと同期して、ＴＤＩセンサ９Ａにより撮像を行う。これにより、マスクＭの検査領域をＹ方向に短冊状に分割した一の検査ストライプ領域の光学画像が取得される。そして、ステージ１をＹ方向にステップ移動させた後、ステージ１を逆向きのＸ方向に連続移動させながらＴＤＩセンサ９Ａにより撮像を行うことによって、次の検査ストライプ領域の光学画像が取得される。取得した光学画像は、参照部１５及び比較部１６に入力される。
【００２６】
また、ビームスプリッタ５１によって分離された反射照明光は、ミラー６１で反射された後、ビームスプリッタ６２により反射光と透過光とに分離される。分離された反射光は、対物レンズ７を介してマスクＭに照射される。マスクＭの反射領域（すなわち、酸化クロム膜が形成された領域）で反射した反射光は、対物レンズ７で集光され、ビームスプリッタ６２を透過した後、結像レンズ８ＢによりＴＤＩセンサ９Ｂに結像される。上記した透過光の場合と同様に、ステージ１をＸ方向に等ピッチで連続移動させるのと同期してＴＤＩセンサ９Ｂにより撮像を行うことによって、検査ストライプ毎に反射光の光学画像が取得される。取得した光学画像は、参照部１５及び比較部１６に入力される。
【００２７】
一方、展開部１４は、記憶装置１２に記憶されたＣＡＤデータを展開し、展開データを参照部１５に出力する。参照部１５は、ＴＤＩセンサ９Ａ、９Ｂから入力される光学画像を参照しつつ、展開部１４から入力される展開データに対してリサイズ処理、コーナ丸め処理及び点広がり分布関数フィルタ処理を一括して施すことによって参照画像を生成し、参照画像を比較部１６に出力する。
【００２８】
比較部１６は、位置検出部１７により検出されたステージ位置を参照しつつ、ＴＤＩセンサ９Ａ、９Ｂから入力される光学画像と、参照部１５から入力される参照画像とを比較し、両者のパターン形状が相違する場合にパターン欠陥として検出する。
【００２９】
ここで、比較部１６による欠陥検出精度を向上させるためには、高精度の光学画像を取得する必要がある。そのためには、光学画像を取得する際、ステージ１の移動量とＴＤＩセンサ９Ａ、９Ｂの撮像周期とを同期させる必要がある。然し、ステージ１の移動および図示しないモータなどの駆動源に起因して、対物レンズ７の上部が水平方向に微振動（共振）する問題がある。
【００３０】
ところで、既述した特許文献２には鏡筒の振動を低減する防振装置が開示されている。この防振装置を上記対物レンズユニットに対して適用することが考えられる。然し、特許文献２に記載された防振装置は、下方からの振動の伝達を減衰させるものであり、対物レンズユニットの上部の微振動を直接的に低減するものではない。従って、仮にこの防振装置を対物レンズユニットに適用したとしても、対物レンズユニット上部の振動は低減されないため、取得した光学画像に歪みが生じる。
【００３１】
そこで、本実施の形態では、対物レンズユニットの上部の微振動を低減する機構を新たに設けた。図２は、対物レンズユニット上部の微振動を低減するための機構を示す概略断面図である。図３は、対物レンズユニット７０と制振部材２９と保持部２８との位置関係を示す上面図である。
【００３２】
図２に示すように、ステージ１は、Ｙ方向に移動自在なＹステージ２１と、Ｙステージ２１上に配置され、Ｘ方向に移動自在なＸステージ２２と、Ｘステージ２２上に配置され、Ｚ方向（鉛直方向）及びθ方向（水平回転方向）に移動自在なＺステージ２３とを有する。Ｙステージ２１はステージベース２４上に配置されており、ステージベース２４は光学定盤（以下「定盤」という。）２５上に設けられている。定盤２５の下面には、マスク検査装置１００の設置面（床面）からの振動を減衰させる除振台２６が設けられている。
【００３３】
各ステージ２１、２２、２３及びステージベース２４の中央には相互に連通する開口部が形成されており、この開口部に対物レンズユニット７０が配置されている。上述したように、対物レンズユニット７０は、円柱状の対物レンズ枠７１と、この対物レンズ枠７１に内蔵され且つ保持された対物レンズ７と、対物レンズ枠７１の下部に設けられたフランジ７２とを有している。このフランジ７２は、タワー部２７の上面に固定されている。タワー部２７は、反射照明光学系６を内蔵している。図２においては、対物レンズ７と反射照明光学系６の図示を省略している。
【００３４】
尚、ステージ１は、Ｘ、Ｙ、Ｚ及びθ方向に移動可能なものに限らず、少なくともＸＹ方向に移動可能なものを用いることができる。
【００３５】
Ｚステージ２３には、中央の開口部を取り囲むように枠状の窪み２３ａが形成されている。この窪み２３ａにマスクＭの周縁部が位置するように、Ｚステージ２３上にマスクＭが載置される。尚、図３において、マスクＭの図示を省略している。
【００３６】
対物レンズ枠７１の側面の上部には、図２及び図３に示すように、４個の制振部材２９が接している。対物レンズ枠７１側面と各制振部材２９とが接する位置は、対物レンズユニット７０の高さの半分よりも高い位置が好ましく、対物レンズユニット７０の上面に近いほどより好ましい。２個の制振部材２９はＸ方向に沿って対物レンズ枠７１を挟んで対向配置され、他の２個の制振部材２９はＹ方向に沿って対物レンズ枠７１を挟んで対向配置されている。各制振部材２９は、例えば、板状の弾性体である。そして、各制振部材２９は、応力（板バネ力）が対物レンズ枠７１の側面の上部に加えられるように、撓ませた状態で円筒状の保持部２８により保持されている。この応力は、例えば、１００ｇｆ（＝９８１Ｎ）程度である。各制振部材２９は、例えば、高い振動吸収性（制振性）を有するゴムや金属等で形成されている。
【００３７】
保持部２８は、例えば、アルミニウムなどの金属材料からなり、対物レンズユニット７０の対物レンズ枠７１上に設けられている。保持部２８は対物レンズ枠７１の側面に隣接して配置されており、保持部２８と対物レンズユニット７０の間隔は、例えば、１ｃｍ程度である。保持部２８の上面２８Ａは、対物レンズユニット７０に近い内周側から外周側に向かって徐々に低くなるように傾斜している。この傾斜面２８Ａに沿って板状の弾性体２９を配置し、図示しないビス等で固定することによって、弾性体２９が撓んだ状態で保持される。
【００３８】
尚、保持部２８の上面２８Ａに弾性体２９の一辺の幅と同じ幅を有する切り欠きを形成し、この切り欠きに弾性体２９の一端部を挿入することによって、弾性体２９を撓ませた状態で保持してもよい。この場合、ビス等による固定が不要となる。
【００３９】
また、制振部材２９として金属からなる板バネを用いる場合、対物レンズ枠７１と金属板バネ２９とが接触することによりパーティクルが発生する可能性がある。この場合、パーティクルの飛散を防止するため、制振部材２９及び保持部２８をカバーで覆うことが好ましい。また、制振部材２９としてシロキサンを含有するゴムを用いる場合も、シロキサンによる悪影響を防止するため、制振部材２９及び保持部２８をカバーで覆うことが好ましい。
【００４０】
以上説明したように、対物レンズ枠７１の側面上部に制振部材２９の応力が加わるように、制振部材２９である板状ゴムを撓ませた状態で保持部２８により保持することで、ステージ移動やモータなどの駆動源に起因する対物レンズユニット７０上部の微振動を低減することができる。従って、光学画像取得時のステージ移動量とＴＤＩセンサ９の撮像周期との間で同期が図れるため、歪みの少ない光学画像を取得することができる。その結果、比較部１６による欠陥検出精度を向上させることができる。
【００４１】
尚、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲内で種々変形して実施することができる。例えば、対物レンズユニット７０はステージ１中央の開口部に配置されているが、光透過性の高い材料でステージ１を形成すれば、ステージ１の下方に対物レンズユニット７０を配置してもよい。この場合、ステージ１に載置されたマスクＭから対物レンズユニット７０までの距離が長くなるため、マスク検査装置１００全体の高さが高くなる。
【００４２】
また、制振部材２９の配置例は、図３に示す例に限られず、図４（ａ）乃至図４（ｃ）に示すように配置してもよい。図４（ａ）乃至（ｃ）は、制振部材２９の他の配置例を示す上面図である。図４（ａ）に示すように、Ｘ方向から４５度傾斜した方向に沿って対物レンズ枠７１を挟んで２個の制振部材２９を対向配置すると共に、この方向と直交する方向に沿って対物レンズ枠７１を挟んで２個の制振部材２９を対向配置してもよい。また、図４（ｂ）に示すように、対物レンズ枠７１の側面に沿って等間隔（１２０度間隔）で３個の制振部材２９を配置してもよい。また、図４（ｃ）に示すように、ＴＤＩ方向であるＸ方向に沿って対物レンズ枠７１を挟んで２個の制振部材２９を対向配置してもよい。対物レンズ枠７１の側面の上部に応力が加わるように２個以上の制振部材２９を配置することが好ましい。
【００４３】
また、図５に示すように、対物レンズ枠７１の側面の上部にブロック状の制振部材３２の側面が接するように構成してもよい。ここで、各制振部材３２の側面から対物レンズ枠７１の側面の上部に水平方向の力が加わるように、各制振部材３２を保持することが好ましい。また、対物レンズ枠７１の側面と各制振部材３２とが接する位置は、対物レンズユニット７０の高さの半分よりも高い位置が好ましく、対物レンズユニット７０の上面に近いほど好ましい。各制振部材３２は、高い振動吸収性（制振性）を有する材料（例えば、ゴム）で形成されており、円筒状の保持部３１の上面３１Ａに図示しないビス等により固定される。保持部３１は、上記保持部２８と同様に、対物レンズユニット７０のフランジ７２上に設けられている。このように、対物レンズ枠７１の側面の上部に制振部材３２の側面が接するように構成することで、ステージ移動に起因する対物レンズユニット７０上部の微振動を低減することができる。従って、光学画像取得時のステージ移動量とＴＤＩセンサ９の撮像周期との間で同期が図れるため、歪みの少ない光学画像を取得することができる。尚、制振部材３２の形状はブロック状に限らず、対物レンズ枠７１の側面の上部と制振部材３２の少なくとも一部が接していれば他の形状であってもよい。
【００４４】
また、図６に示すように、制振部材３３を保持部３１の内側面３１Ｂの上部に図示しないビス等により固定してもよい。この場合、図５に示すように制振部材３２を保持部３１の上面３１Ａに固定した場合と同様の効果を得ることができる。
【００４５】
また、図７に示すように、対物レンズ枠７１の側面の上部から水平方向に突出するリング状の上部フランジ７３を設け、このフランジ７３の上面と、対物レンズ枠７１を挟んで対向配置された２個のブロック状の制振部材３４の下面との間で、上記のように制振部材３２側面から対物レンズ枠７１側面の上部に加えられる力に相当する摩擦力を生じさせ、この摩擦力により対物レンズユニット７０上部の振動を低減するように構成してもよい。大きな摩擦力を生じさせるためには、フランジ７３上面に対して制振部材３４を所定の力で下方に押し付けた状態で、保持部３１によって制振部材３４を保持することが好ましい。各制振部材３４は円筒状の保持部３１の上面３１Ａに図示しないビス等により固定される。尚、フランジ７３は、対物レンズユニット７０の高さの半分よりも高い位置に形成されることが好ましい。また、保持部３１は、フランジ７２上に設けられている。このように、対物レンズユニット７０上部に設けられたフランジ７３上面と制振部材３４下面との間で生じた摩擦力によって、ステージ移動に起因する対物レンズユニット７０上部の微振動を低減することができる。従って、光学画像取得時のステージ移動量とＴＤＩセンサ９の撮像周期との間で同期が図れるため、歪みの少ない光学画像を取得することができる。尚、上記摩擦力を発生させるべく、制振部材３４下面及び／又はフランジ７３上面に対して粗面処理（例えば、ブラスト処理）を施してもよい。また、上記摩擦力をフランジ７３との間で生じさせることができれば、制振部材３４の形状や材料は任意である。
【符号の説明】
【００４６】
Ｍ    マスク
１    ステージ
２Ａ、２Ｂ、２Ｃ  モータ
２Ｄ  ピエゾ
３    レーザ干渉計
４    光源
５    透過照明光学系
６    反射照明光学系
７    対物レンズ
８Ａ、８Ｂ  結像レンズ
９Ａ、９Ｂ  ＴＤＩセンサ
１０  制御計算機
１４  展開部
１５  参照部
１６  比較部
１７  位置検出部
２１  Ｙステージ
２２  Ｘステージ
２３  Ｚ、θステージ
２４  ステージベース
２５  定盤
２６  除振台
２７  タワー部
２８、３１  保持部
２９、３２、３３、３４  制振部材、弾性体
７０  対物レンズユニット
７１  対物レンズ枠
７２  フランジ
７３  上部フランジ
１００  マスク検査装置
【図１】
2010266641.tif 000003
【図２】
2010266641.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
2010266641.tif 000008
【図７】
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