(57)【要約】【課題】照明光の照明領域を設定する際に、駆動機構から発生する異物及び／又は熱の影響を軽減する照明技術を提供する。【解決手段】露光光の一部を遮光部材３９ａで遮光する遮光ユニット３８は、遮光部材３９ａの変位を検出するセンサ４３と、センサ４３の検出結果に基づいて遮光部材３９ａを駆動する駆動装置４４と、センサ４３及び駆動装置４４を収納する容器４０と、遮光部材に対する容器４０を気密化するベローズ機構４１とを備える。【選択図】図４
2010016376.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遮光ユニットであって、
照明光の一部を遮光する遮光部材と、
前記照明光の光量を制御するために、前記遮光部材を駆動する駆動機構と、
前記遮光部材の駆動量を検出する検出器と、
前記駆動機構及び前記検出器を収納する容器と、
前記遮光部材に対して前記容器を気密化するベローズ機構と、
を備える遮光ユニット。
【請求項２】
前記ベローズ機構は、前記遮光部材の位置を復元するダイアフラムを有することを特徴とする請求項１に記載の遮光ユニット。
【請求項３】
前記駆動機構は、回転モータと、該回転モータの駆動量を前記遮光部材の駆動量に変換する変換部とを有することを特徴とする請求項１又は２に記載の遮光ユニット。
【請求項４】
前記駆動機構は、前記遮光部材に設けられた磁性体と、該磁性体を駆動する電磁コアとを有することを特徴とする請求項１又は２に記載の遮光ユニット。
【請求項５】
前記磁性体は、第１及び第２磁性体を有し、
前記電磁コアは、前記第１及び第２磁性体を互いに独立に駆動する第１及び第２電磁コアを有することを特徴とする請求項４に記載の遮光ユニット。
【請求項６】
前記駆動機構は、駆動素子と、該駆動素子の変位を拡大して前記遮光部材を駆動する変位拡大部とを有することを特徴とする請求項１又は２に記載の遮光ユニット。
【請求項７】
前記容器内に冷却用の気体を供給する供給口をさらに備えることを特徴とする請求項１から６のいずれか一項に記載の遮光ユニット。
【請求項８】
前記遮光部材の前記照明光の光軸方向の位置を制御するために、前記遮光部材の傾斜角を制御するチルト機構をさらに備えることを特徴とする請求項１から７のいずれか一項に記載の遮光ユニット。
【請求項９】
前記遮光部材に接続され、前記駆動機構からの駆動力が遮光部材に伝達される伝達部を有し、該伝達部が前記容器中に収容されている請求項１から８のいずれか一項に記載の遮光ユニット。
【請求項１０】
所定形状の照明光を形成する可変スリット装置であって、
請求項１から９のいずれか一項に記載の遮光ユニットを複数個備え、
前記複数の遮光ユニットの前記遮光部材を同一面内に配置したことを特徴とする可変スリット装置。
【請求項１１】
前記複数の遮光ユニットの遮光部材が、前記所定形状に応じて、互いに異なる形状を有する請求項１０に記載の可変スリット装置。
【請求項１２】
所定形状の照明光を形成する可変スリット装置であって、
前記照明光の一部を遮光する遮光部材をそれぞれ含む複数の遮光ユニットと、
前記複数の遮光ユニットにおける前記遮光部材の前記照明光の光軸方向の位置を制御するために、前記複数の遮光ユニット又は前記遮光部材の傾斜角を制御するチルト機構と、
を備える可変スリット装置。
【請求項１３】
前記複数の遮光ユニット又は前記遮光部材の傾斜角に応じて、前記複数の遮光ユニットにおける前記遮光部材による前記照明光の遮光量を調整する調整装置をさらに備えることを特徴とする請求項１２に記載の可変スリット装置。
【請求項１４】
前記複数の遮光ユニットを並列に支持するベース部材を備え、
前記チルト機構は、前記複数の遮光ユニットの配列方向にほぼ平行な軸の周りに前記ベース部材を回転する機構を有することを特徴とする請求項１２又は１３に記載の可変スリット装置。
【請求項１５】
前記遮光ユニットは、
前記遮光部材を駆動する駆動機構と、前記遮光部材の駆動量を検出する検出器と、
前記駆動機構及び前記検出器を収納する容器と、前記遮光部材に対して前記容器を気密化するベローズ機構とを備えることを特徴とする請求項１２から１４のいずれか一項に記載の可変スリット装置。
【請求項１６】
前記ベローズ機構は、前記遮光部材の位置を復元するダイアフラムを有することを特徴とする請求項１５に記載の可変スリット装置。
【請求項１７】
露光光でパターンを照明し、前記露光光で前記パターン及び投影光学系を介して基板を露光する露光装置において、
請求項１０から１６のいずれか一項に記載の可変スリット装置を備え、
前記可変スリット装置の前記遮光部材で前記露光光の一部を遮光することを特徴とする露光装置。
【請求項１８】
前記投影光学系を介した前記露光光の光量情報を計測する計測装置と、
前記計測装置の計測結果に応じて、前記可変スリット装置の前記遮光部材を駆動することによって前記露光光の光量を調整する調整装置とを備えることを特徴とする請求項１７に記載の露光装置。
【請求項１９】
照明光でパターンを介して基板を露光する露光装置であって、
前記照明光の一部を遮光し且つ同一平面上に配置される複数の遮光部材及び該遮光部材を駆動する駆動装置を有する可変スリットと、
前記可変スリットを通った照明光を基板に導く光学系とを備え、
前記駆動装置が、前記遮光部材が存在する空間及び前記光学系が存在する空間とは独立した空間に存在する露光装置。
【請求項２０】
前記駆動装置からの駆動力が遮光部材に伝達される伝達部を有し、前記駆動装置が存在する空間内に前記伝達部が存在する請求項１９に記載の露光装置。
【請求項２１】
前記伝達部が、前記駆動装置から非接触で駆動力を受ける請求項１９または２０に記載の露光装置。
【請求項２２】
前記パターンが存在する空間と前記駆動装置が存在する空間が独立している請求項１９〜２１のいずれ一項に記載の露光装置。
【請求項２３】
請求項１７から２２のいずれか一項に記載の露光装置を用いて感光性基板を露光することと、
前記露光された感光性基板を処理することと、を含むデバイス製造方法
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、照明光を制御するための遮光ユニット、照明光の形状をスリット状等に形成するための可変スリット装置、この可変スリット装置を用いる露光技術、及びこの露光技術を用いるデバイス製造技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば半導体デバイス等を製造する際に、レチクル（又はフォトマスク等）に形成されたパターンをレジストが塗布されたウエハ（又はガラスプレート等）上に転写露光するために、従来より露光光として水銀ランプの輝線又はエキシマレーザ光等の遠紫外域から真空紫外域にかけての光を用いる露光装置が使用されている。最近では、露光波長を短波長化して解像度を高めるために、露光光として波長が例えば１００ｎｍ程度以下の極端紫外光（Extreme Ultraviolet Light:以下、ＥＵＶ光という）を用いる露光装置（以下、ＥＵＶ露光装置という。）も開発されている。
【０００３】
これらの露光装置のうちで、レチクルとウエハとを投影光学系に対して同期して移動してウエハを露光する走査型の露光装置（スキャニングステッパ等）においては、レチクルを照明する照明領域は走査方向に直交する方向に細長い長方形又は円弧状等のスリット状に設定される。従来より、そのスリット状の照明領域を設定するために、例えば照明領域の一方の長辺の形状を規定する複数の可動のブレードを有する第１のブラインドと、照明領域の他方の形状を規定するほぼ直線又は円弧状等のエッジ部を有する第２のブラインドとを有する可変ブラインドが使用されている（例えば、特許文献１参照）。
【特許文献１】国際公開第２００５／４８３２６号パンフレット
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
従来の可変ブラインドにおいて、照明領域の形状を制御するためにブレードを駆動すると、ブレードの駆動機構から塵等の微小な異物が発生することがある。この場合、その異物が照明光学系及び投影光学系中の光学部材に付着すると、その光学部材の透過率又は反射率が次第に低下して、露光光の利用効率が低下する。
露光光として水銀ランプの輝線又はエキシマレーザ光等の遠紫外域から真空紫外域にかけての光を用いる露光装置では、レチクルのパターン面にパーティクルなどが付着していると、パーティクルもウエハ上に転写されてしまう。そこで、レチクルのパターン面には、フレームを介して、パターン面から僅かに離した位置にペリクルと呼ばれる透明な薄膜が取り付けられている。
【０００５】
しかし、現在のところ、ＥＵＶ露光装置では、ＥＵＶ光を透過する最適なペリクルが存在しないため、レチクルにペリクルを取り付けられない。
そうすると、ブレードの駆動機構から発生した異物がレチクルのパターン面に付着すると、本来のパターン以外のパターンがウエハ上に露光される。従って、特にＥＵＶ露光装置のように高解像度の装置において解像度低下の一つの要因となる。
また、例えばレチクルの高さの変動によって、可変ブラインドによって設定される照明領域のエッジ部の状態（例えばブレードのエッジ部の像のデフォーカス量）が変化する場合にも、解像度等の特性が劣化する恐れがある。
【０００６】
さらに、そのブレードの駆動機構からの発熱の影響によってレチクル及び投影光学系等の中の光学部材の形状が僅かに変形する恐れもある。この場合、露光光の光路に気体がある装置では、気体の対流によってその駆動機構から発生する熱は拡散されて、その影響は軽減される。しかしながら、真空紫外域程度以下の短い波長の露光光（ＥＵＶ光等）を使用する装置では、露光光の光路が真空であるため、駆動機構から発生する熱が放射によって直接光学部材に達して、その光学部材に熱変形等の影響を与える恐れがある。
【０００７】
本発明は、かかる事情に鑑み、照明光の照明領域を設定する際に、駆動機構から発生する異物及び／又は熱の影響を軽減できる照明技術を提供することを第１の目的とする。
また、本発明は、照明光の照明領域のエッジ部の状態（例えば、デフォーカス量）を調整できる照明技術を提供することを第２の目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の第１の態様に従えば、遮光ユニットであって、照明光の一部を遮光する遮光部材と、その照明光の光量（遮光量）を制御するために、その遮光部材を駆動する駆動機構と、その遮光部材の駆動量を検出する検出器と、その駆動機構及びその検出器を収納する容器と、その遮光部材に対して容器を気密化するベローズ機構とを備える遮光ユニットが提供される。
【０００９】
本発明の第２の態様に従えば、所定形状の照明光を形成する可変スリット装置であって、本発明の遮光ユニットを複数個備え、その複数の遮光ユニットの遮光部材を同一面内に配置した可変スリット装置が提供される。
本発明の第３の態様に従えば、所定形状の照明光を形成する可変スリット装置であって、その照明光の一部を遮光する遮光部材をそれぞれ含む複数の遮光ユニットと、その複数の遮光ユニットにおけるその遮光部材のその照明光の光軸方向の位置を制御するために、その複数の遮光ユニット又はその遮光部材の傾斜角を制御するチルト機構とを備える可変スリット装置が提供される。
【００１０】
本発明の第４の態様に従えば、露光光でパターンを照明し、その露光光でそのパターン及び投影光学系を介して基板を露光する露光装置において、本発明の可変スリット装置を備え、その可変スリット装置の遮光部材でその露光光の一部を遮光する露光装置が提供される。
本発明の第５の態様に従えば、照明光でパターンを介して基板を露光する露光装置であって、前記照明光の一部を遮光し且つ同一平面上に配置される複数の遮光部材及び該遮光部材を駆動する駆動装置を有する可変スリットと、前記可変スリットを通った照明光を基板に導く光学系とを備え、前記駆動装置が、前記遮光部材が存在する空間及び前記光学系が存在する空間とは独立した空間に存在する露光装置が提供される。
本発明の第６の態様に従えば、本発明の露光装置を用いて感光性基板を露光することと、その露光された感光性基板を処理することとを含むデバイス製造方法が提供される。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、遮光部材の駆動機構が容器内に収納され、その遮光部材とその容器との間が気密化されているため、駆動機構から発生する異物及び／又は熱の影響が軽減される。
本発明によれば、照明光の照明領域のエッジ部の状態（例えば、デフォーカス量）を調整することができ、高精度な露光を行える。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明の実施形態の一例の露光装置の概略構成を示す断面図である。
【図２】（Ａ）は図１中の可変ブラインド３５を示す一部を切り欠いた平面図、（Ｂ）は照明領域が長方形の場合の可変ブラインド３５を示す平面図である。
【図３】（Ａ）は図１中の複数のブラインドユニット３８の回転機構の要部を示す斜視図、（Ｂ）は図３（Ａ）の回転機構を示す側面図である。
【図４】図３（Ａ）のブラインドユニット３８の構成を示す断面図である。
【図５】第１変形例のブラインドユニット３８Ａの構成を示す断面図である。
【図６】（Ａ）は第２変形例のブラインドユニット３８Ｂの構成を示す断面図、（Ｂ）は図６（Ａ）のブレード３９を回転した状態を示す要部の図である。
【図７】第３変形例のブラインドユニット３８Ｃの構成を示す断面図である。
【図８】デバイスの製造工程の一例を示すフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
本発明の実施形態の一例につき図１〜図４を参照して説明する。
図１は、本実施形態の露光光ＥＬ（照明光）として波長が３〜５０ｎｍ程度の範囲内で例えば１１ｎｍ又は１３ｎｍ等のＥＵＶ光を用いる露光装置（ＥＵＶ露光装置）１００の全体構成を概略的に示す断面図である。図１において、露光装置１００は、露光光（照明光）ＥＬを発生するレーザプラズマ光源１０と、露光光ＥＬでレチクルＲ（マスク）を照明する照明光学系ＩＬＳと、レチクルＲを保持して移動するレチクルステージＲＳＴと、レチクルＲのパターン面（レチクル面）に形成されたパターンを、レジスト（感光材料）が塗布されたウエハＷ（感光性基板）上に投影する投影光学系ＰＯとを備えている。さらに、露光装置１００は、ウエハＷを保持して移動するウエハステージＷＳＴと、装置全体の動作を統括的に制御するコンピュータを含む主制御系３１等とを備えている。
【００１４】
本実施形態では、露光光ＥＬとしてＥＵＶ光が使用されているため、照明光学系ＩＬＳ及び投影光学系ＰＯは、特定のフィルタ等（不図示）を除いて複数の反射光学部材より構成され、レチクルＲも反射型である。これらの反射光学部材の反射面及びレチクル面には、ＥＵＶ光を反射する多層の反射膜が形成されている。レチクル面上の反射膜上には、吸収層によって回路パターンが形成されている。また、露光光ＥＬの気体による吸収を防止するため、露光装置１００はほぼ全体として箱状の真空チャンバ１内（真空チャンバ１により区画される空間）に収容され、真空チャンバ１内の空間を排気管３２Ａａ，３２Ｂａ等を介して真空排気するための大型の真空ポンプ３２Ａ，３２Ｂ等が備えられている。さらに、真空チャンバ１内で露光光ＥＬの光路上の真空度をより高めるために複数のサブチャンバ（不図示）も設けられている。一例として、真空チャンバ１内の気圧は１０-5Ｐａ程度、真空チャンバ１内で投影光学系ＰＯを収納するサブチャンバ（不図示）内の気圧は１０-5〜１０-6Ｐａ程度である。
【００１５】
以下、図１において、ウエハステージＷＳＴが載置される面（真空チャンバ１の底面）の法線方向にＺ軸を取り、Ｚ軸に垂直な平面内で図１の紙面に垂直にＸ軸を、図１の紙面に平行にＹ軸を取って説明する。本実施形態では、照明光学系ＩＬは、レチクル面上にＸ方向に伸びる細長い円弧状の照明領域を形成し、露光時にレチクルＲ及びウエハＷは投影光学系ＰＯに対してＹ方向（走査方向）に同期して走査される。
【００１６】
先ず、レーザプラズマ光源１０は、高出力のレーザ光源（不図示）と、このレーザ光源から真空チャンバ１の窓部材１５を介して供給されるレーザ光を集光する集光レンズ１２と、キセノン又はクリプトン等のターゲットガスを噴出するノズル１４と、回転楕円面状の反射面を持つ集光ミラー１３とを備えた、ガスジェットクラスタ方式の光源である。レーザプラズマ光源１０から放射された露光光ＥＬは、集光ミラー１３の第２焦点に集光する。その第２焦点に集光した露光光ＥＬは、凹面ミラー２１を介してほぼ平行光束となり、露光光ＥＬの照度分布を均一化するための一対のフライアイ光学系２２及び２３からなるオプティカル・インテグレータに導かれる。フライアイ光学系２２及び２３のより具体的な構成及び作用については、例えば米国特許第６，４５２，６６１号明細書に開示されており、指定国または選択国の法令が許す範囲において米国特許第６，４５２，６６１号の開示を援用して本文の記載の一部とする。
【００１７】
図１において、フライアイ光学系２３の反射面の近傍の面は、照明光学系ＩＬＳの瞳面であり、この瞳面又はこの近傍の位置に開口絞りＡＳが配置されている。開口絞りＡＳは、種々の形状の開口を有する複数の開口絞りを代表的に表している。主制御系３１の制御のもとで、開口絞りＡＳを交換することによって、照明条件を通常照明、輪帯照明、２極照明、又は４極照明等に切り換えることができる。
【００１８】
開口絞りＡＳを通過した露光光ＥＬは、一度集光した後に曲面ミラー２４に入射し、曲面ミラー２４で反射された露光光ＥＬは、凹面ミラー２５で反射された後、−Ｙ方向の端部が、Ｘ方向に細長いブラインド板２６のほぼ円弧状のエッジ部を通過して、円弧状に形成される。円弧状に形成された露光光ＥＬは、レチクルＲのパターン面を下方から斜めに均一な照度分布で照明する。したがって、レチクルＲのパターン面には、円弧状の照明領域２７Ｒが形成される。曲面ミラー２４と凹面ミラー２５とからコンデンサ光学系が構成されている。コンデンサ光学系によって、第２フライアイ光学系２３の多数の反射ミラー要素からの光がレチクル面の照明領域２７Ｒを重畳的に照明する。なお、図１の例では、曲面ミラー２４は凸面ミラーであるが、曲面ミラー２４を凹面ミラーより構成し、その分だけ凹面ミラー２５の曲率を小さくするようにしてもよい。凹面ミラー２１、フライアイ光学系２２，２３、開口絞りＡＳ、曲面ミラー２４、及び凹面ミラー２５を含んで照明光学系ＩＬＳが構成されている。なお、照明光学系ＩＬＳの構成は任意であり、例えば露光光ＥＬのレチクル面に対する入射角をさらに小さくするために、例えば凹面ミラー２５とレチクルＲとの間にミラーを配置してもよい。
【００１９】
また、レチクル面で反射した露光光ＥＬは、Ｘ方向に配列された複数のブラインドユニット３８のブレード３９の先端部で一部が遮光されて投影光学系ＰＯに入射する。投影光学系ＰＯを通過した露光光ＥＬは、ウエハＷ上の露光領域（照明領域２７Ｒと共役な領域）２７Ｗに投影される。この場合、ブラインド板２６及び多数のブラインドユニット３８を含んで、照明領域２７Ｒの形状、ひいては露光領域２７Ｗの形状を規定する可変ブラインド（可変視野絞り）３５が構成されている（詳細後述）。なお、レチクル面とフライアイ光学系２２の配置面とは共役であり、照明領域２７Ｒのおおまかな形状は、フライアイ光学系２２を構成する個々のミラー要素の形状によっても規定される。
【００２０】
また、ウエハＷ上の各ショット領域（ダイ）の走査露光の開始時及び終了時に露光領域２７ＷをＹ方向（走査方向）に閉じるとともに、露光領域２７Ｗ（照明領域２７Ｒ）のＸ方向の幅を規定するための開閉用のブラインドを、例えばブラインド板２６の近傍、又はレチクル面との共役面に配置してもよい。
レチクルＲは、レチクルステージＲＳＴの底面に静電チャックＲＨを介して吸着保持されている。レチクルステージＲＳＴは、レーザ干渉計（不図示）の計測値及び主制御系３１の制御情報に基づいて、真空チャンバ１の外面のＸＹ平面に平行なガイド面に沿って駆動系（不図示）によってＹ方向に所定ストロークで駆動されるとともに、Ｘ方向及びθｚ方向（Ｚ軸回りの回転方向）等にも微小量駆動される。レチクルステージＲＳＴを真空チャンバ１側に覆うようにパーティション８が設けられ、パーティション８内は不図示の真空ポンプによって大気圧と真空チャンバ１内の気圧との間の気圧に維持されている。
【００２１】
レチクル面側には、照明領域２７Ｒ内の複数位置に対して斜めに（例えば−Ｘ方向から）計測光を照射する照射系と、レチクルＲで斜めに（例えば＋Ｘ方向に）反射された計測光を受光する受光系とを含むオートフォーカスセンサ（以下、レチクルＡＦ系という）２８が配置されている。レチクルＡＦ系２８は、レチクル面内の照明領域２７Ｒにおける複数個所でＺ方向の位置を計測し、計測値を主制御系３１に供給する。主制御系３１は、走査露光中にレチクルＡＦ系２８の計測値に基づいて、例えばレチクルステージＲＳＴ内のＺ駆動機構（不図示）を用いてレチクル面のＺ方向の位置（Ｚ位置）を許容範囲内に設定する。さらに、例えばレチクル面と可変ブラインド３５のブレード３９の先端とのＺ方向の間隔が所定範囲内に維持されるように、主制御系３１はブラインド制御系３３を介してブラインドユニット３８の回転角を制御する（詳細後述）。
【００２２】
投影光学系ＰＯは、一例として、６枚のミラーＭ１〜Ｍ６を不図示の鏡筒で保持することによって構成され、物体（レチクルＲ）側に非テレセントリックで、像（ウエハＷ）側にテレセントリックの反射系であり、投影倍率は１／４倍等の縮小倍率である。レチクルＲの照明領域２７Ｒで反射された露光光ＥＬが、投影光学系ＰＯを介してウエハＷ上の露光領域２７Ｗに、レチクルＲのパターンの一部の縮小像を形成する。
【００２３】
投影光学系ＰＯにおいて、レチクル面で反射した露光光ＥＬは、ミラーＭ１で上方（＋Ｚ方向）に反射され、続いてミラーＭ２で下方に反射された後、ミラーＭ３で上方に反射され、ミラーＭ４で下方に反射される。次にミラーＭ５で上方に反射された露光光ＥＬは、ミラーＭ６で下方に反射されて、ウエハＷ上にレチクルＲのパターンの一部の像を形成する。一例として、ミラーＭ１，Ｍ２，Ｍ４，Ｍ６は凹面鏡であり、他のミラーＭ３，Ｍ５は凸面鏡である。なお、投影光学系ＰＯは、図１の構成には限定されず、反射光学部材の枚数も６枚以外の何枚であってもよい。
【００２４】
一方、ウエハＷは、静電チャック（不図示）を介してウエハステージＷＳＴ上に吸着保持されている。ウエハステージＷＳＴは、ＸＹ平面に沿って配置されたガイド面上に配置されている。ウエハステージＷＳＴは、レーザ干渉計（不図示）の計測値及び主制御系３１の制御情報に基づいて、駆動機構（不図示）によってＸ方向及びＹ方向に所定ストロ−クで駆動され、必要に応じてθｚ方向等にも駆動される。
【００２５】
ウエハステージＷＳＴ上のウエハＷの近傍には、例えばＸ方向に配列された複数の光電センサを含む照射量モニタ２９が設置され、照射量モニタ２９の検出信号が主制御系３１に供給されている。ウエハステージＷＳＴを駆動して露光領域２７Ｗに照射量モニタ２９の受光面を移動することによって、露光領域２７Ｗ（照明領域２７Ｒ）のＸ方向の各計測位置の露光光ＥＬの照度（又はパルスエネルギー）を計測できる。この計測結果に基づいて、主制御系３１はブラインド制御系３３を介して、露光領域２７Ｗに対して走査されるウエハＷ上の各点の積算露光量が均一になるように、可変ブラインド３５によって照明領域２７ＲのＸ方向の各位置のＹ方向の幅（スリット幅）を制御する。また、この計測結果に基づいて、主制御系３１はブラインド制御系３３を介して、レチクル面に対する各ブレード３９の位置（レチクル面と各ブレードの間隔）が所定の関係になるように、レチクル面に対する各ブレードの位置を調整する。可変ブラインド３５の制御については、後述する。
【００２６】
露光の際には、ウエハＷ上のレジストから生じるガスが投影光学系ＰＯのミラーＭ１〜Ｍ６に悪影響を与えないように、ウエハＷはパーティション７の内部に配置される。パーティション７には露光光ＥＬを通過させる開口が形成され、パーティション７内の空間は、真空ポンプ（不図示）により真空排気されている。
ウエハＷ上の１つのショット領域（ダイ）を露光するときには、円弧状に形成された露光光ＥＬが照明光学系ＩＬＳによりレチクル面に照射され、レチクル面の照明領域２７Ｒで反射した露光光ＥＬが投影光学系ＰＯに入射する。その間、レチクルＲとウエハＷとは投影光学系ＰＯに対して投影光学系ＰＯの縮小倍率に従った所定の速度比でＹ方向に同期して移動する（同期走査される）。このようにして、レチクルＲのパターンはウエハＷ上の一つのショット領域に露光される。その後、ウエハステージＷＳＴを駆動してウエハＷをステップ移動した後、ウエハＷ上の次のショット領域に対してレチクルＲのパターンが走査露光される。このようにステップ・アンド・スキャン方式でウエハＷ上の複数のショット領域に対して順次レチクルＲのパターンの像が露光される。
【００２７】
次に、本実施形態の露光装置１００の可変ブラインド３５につき説明する。
図２（Ａ）は、図１の可変ブラインド３５をレチクルＲ側から見た一部を切り欠いた平面図である。図２（Ａ）において、レチクルＲ上の円弧状の照明領域２７Ｒの−Ｙ方向のエッジ部２７Ｒｂの形状は、図１のブラインド板２６によって規定される。また、断面形状がＬ字型の回転部材３７上の位置Ｐｉ（ｉ＝１，２，…）にＸ方向に密着して複数のブラインドユニット３８が固定され、これらのブラインドユニット３８はそれぞれＹ方向に変位可能なブレード３９を備え、これらのブレード３９が照明領域２７Ｒから反射される露光光の＋Ｙ方向のエッジ部２７Ｒａを遮光している。ブラインドユニット３８（ブレード３９）の個数が多いほど、高精度に照明領域２７Ｒの形状を制御できる。ブラインドユニット３８の個数は例えば１０個程度から数１０個である。
【００２８】
この場合、エッジ部２７Ｒａが円弧状であるため、複数のブラインドユニット３８のブレード３９は、Ｙ方向の長さが、両端（例えば位置Ｐ１）のブレード３９で最も短く、中央のブレード３９ほど長く設定されている。位置Ｐｉのブラインドユニット３８のブレード３９のＹ方向の位置を制御することによって、その位置Ｐｉにおける照明領域２７ＲのＹ方向の幅（スリット幅）ｈｉを個別に制御できる。例えば初期状態では、全部のブラインドユニット３８のブレード３９による露光光のＹ方向の遮光幅はほぼ同じで、照明領域２７Ｒのスリット幅ｈｉもほぼ同じになるように設定されている。
【００２９】
なお、図２（Ａ）において、回転部材３７上の−Ｘ方向側の複数のブラインドユニット３８は図示省略されている。また、回転部材３７上にはそれぞれブラインドユニット３８の底面を位置決めするための複数の位置決め溝３６ａが形成され、各ブラインドユニット３８は、対応する位置決め溝３６ａ上に載置された後、開口３６ｂを通してボルト５０（図３（Ａ）参照）によって固定される。従って、例えばメンテナンス時等に回転部材３７上の各ブラインドユニット３８は、容易に他のブラインドユニットと交換することができる。
【００３０】
また、回転部材３７はＸ軸に平行な回転軸３７ａの周りに回転可能にフレーム３６によって支持され、回転軸３７ａの一方の端部は、フレーム３６に固定された回転モータ４９によって回転可能である。フレーム３６は、図１の真空チャンバ１の側壁等に連結部材（不図示）を介して支持され、回転モータ４９はブラインド制御系３３によって制御される。
【００３１】
なお、例えば、照明光学系ＩＬＳは、図２（Ｂ）に示すように、レチクル面上にＸ方向に延びる矩形（長方形）状の照明領域２７ＡＲを形成してもよい。この場合、回転部材３７上の各位置Ｑｉ（ｉ＝１，２，…）におけるブラインドユニット３８のＹ方向のブレード３９の長さは全部同じでよい。すなわち、照明領域の形状に応じて、複数のブラインドユニット３８のブレード３９の先端形状を変化させてもよい。この場合にも、位置Ｑｉのブレード３９のＹ方向の位置を制御することによって、照明領域２７ＡＲのＹ方向のスリット幅ｈｉが個別に制御される。
【００３２】
図３（Ａ）は、図２（Ａ）の可変ブラインド３５における複数のブラインドユニット３８の支持機構を示す要部の斜視図、図３（Ｂ）は、図３（Ａ）を＋Ｘ方向に見た側面図である。説明の便宜上、図３（Ａ）ではブラインドユニット３８のブレード３９の形状は同じ形状とされているが、実際には図２（Ａ）から分かるようにブレード３９の形状は互いに異なっている。また、図３（Ａ）では図３（Ｂ）のフレーム３６が図示省略されている。
【００３３】
図３（Ａ）において、各ブラインドユニット３８のブレード３９のＹ方向の位置は互いに独立に制御可能であり、各ブラインドユニット３８は信号ケーブルＣＡを介して図１のブラインド制御系３３に接続されている。また、回転モータ４９を介して回転部材３７を回転することによって、図３（Ｂ）に示すように、各ブラインドユニット３８を一体的に回転モータ４９の回転軸を中心にして回転することができる。これによって、ブラインドユニット３８が元の姿勢から傾斜して、点線の位置３９Ｂで示すように、各ブラインドユニット３８のブレード３９の先端部のＺ位置をｄＺだけ調整することができる。このような動作は、例えば図１のレチクルＡＦ系２８によって計測されるレチクル面のＺ位置がｄＺだけ変動したときに、レチクル面とブレード３９の先端部との間隔を一定に維持するために行われる。この動作は、例えば主制御系３１からブラインド制御系３３にブレード３９の先端のＺ位置をｄＺだけ駆動するようにとの制御情報が供給されたときに行われる。これによって、ウエハＷ上の露光領域２７Ｗのエッジ部の状態（デフォーカス量）が均一に維持されて、高精度に露光を行うことがきる。
【００３４】
ただし、回転部材３７の回転軸３７ａの中心からブレード３９の先端までの距離をＬとして、ブレード３９の先端のＺ位置をｄＺだけ変化させると、ブレード３９の先端のＹ方向の位置はほぼ次式のｄＹだけ変化する。
ｄＹ＝（Ｌ2＋ｄＺ2）1/2−Ｌ  …（１）
そこで、ブレード３９の先端のＺ位置をｄＺ（傾斜角に換算してほぼｄＺ／Ｌ（ｒａｄ））だけ変化させた場合には、ブレード３９の先端のＹ方向の位置をそれまでの状態に維持するために、ブラインド制御系３３は、ブラインドユニット３８を介して各ブレード３９のＹ方向の位置を式（１）のｄＹだけ移動させている。これによって、ブレード３９を移動前の姿勢（あるいは照明光の光軸）に対して傾斜した場合でも、照明領域２７Ｒのスリット幅を一定に維持できる。
【００３５】
図３（Ａ）の可変ブラインド３５の複数のブラインドユニット３８はブレード３９の形状以外の構成は共通である。そこで、代表的に一つのブラインドユニット３８の構成につき説明する。
図４は、図３（Ａ）のブラインドユニット３８の構成を示す拡大断面図である。図４において、ブラインドユニット３８は、耐圧性の高い箱状部材４０と、箱状部材４０の前面に取り付けられてＹ方向に或る程度（ブレード３９のＹ方向の移動ストロークを含む範囲）の可撓性を持つダイアフラム４１と、ダイアフラム４１の中央に固定されたブレード３９と、箱状部材４０内（箱状部材４０の内部空間）に設置されてブレード３９の端部（一端部）３９ｃとのＹ方向のギャップｇを検出する静電容量センサ４３と、箱状部材４０内に固定されてブレード３９をＹ方向に変位させる回転モータ４４とを備えている。箱状部材４０及びダイアフラム４１は例えばステンレスのような脱ガスの少ない金属製である。さらに、箱状部材４０内に、回転モータ４４側にブレード３９を付勢する案内ローラ４５及びプリロード用の板ばね４６が設けられ、摩擦力によってブレード３９を保持している。
【００３６】
静電容量センサ４３及び回転モータ４４は信号ケーブルＣＡを介して、ブラインド制御系３３に接続されている。ブラインド制御系３３は静電容量センサ４３によって検出されるギャップｇからブレード３９の先端（他端部）のＹ方向の位置を求め、このＹ方向の位置が主制御系３１から設定された値になるように回転モータ４４を介してブレード３９のＹ方向の位置を制御する。
【００３７】
ブレード３９は、回転モータ４４によって駆動されるロッド状の軸部３９ａと、軸部３９ａの＋Ｙ方向の端部に固定された端部３９ｃと、ダイアフラム４１から軸部３９ａに安定に＋Ｙ方向への付勢力を伝えるための段差部３９ｄと、軸部３９ａの先端に固定された平板部３９ｂとを含んでいる。段差部３９ｄは、端部３９ｃと先端との間で、軸部３９ａの周方向に突出するように形成されている。遮光部材として機能する平板部３９ｂは直接ＥＵＶ光が照射されるため、ジルコニア等の高耐熱性のセラミックス、又はベリリウム（Ｂｅ）若しくはクロム−モリブデン鋼等の高耐熱性の金属から形成されている。ブレード３９の軸部３９ａ及び段差部３９ｄは熱伝導率の高い金属製であり、端部３９ｃは例えば静電容量センサ４３の電極としてもよい。
【００３８】
また、箱状部材４０とダイアフラム４１との間は溶接部４１ａによって封止され、ダイアフラム４１とブレード３９との間は溶接部４１ｂによって封止され、箱状部材４０の内部は気密化されている。本実施形態では、箱状部材４０の外部はＥＵＶ光を通すために高真空とされ、箱状部材４０の内部はほぼ大気圧である。箱状部材４０の底面には給気口４２Ａ及び排気口４２Ｂが設けられている。また、図１の真空チャンバ１の外部に、冷却された空気等の気体（冷媒）を送風する送風部４７Ａと、気体を吸引（回収）する吸引部４７Ｂとが配置され、送風部４７Ａからの冷却された気体が配管４８Ａ及び給気口４２Ａを介して箱状部材４０内に供給され、箱状部材４０内を流れた気体が排気口４２Ｂ及び配管４８Ｂを介して吸引部４７Ｂで回収される。送風部４７Ａ及び吸引部４７Ｂはブラインド制御系３３によって制御される。
【００３９】
このブラインドユニット３８によれば、回転モータ４４の駆動力が軸部３９ａに伝達されて平板部３９ｂを移動する。すなわち、ブレード３９は、回転モータ４４及び案内ローラ４５によってＹ方向に直進運動するため、回転モータ４４によって安定にブレード３９のＹ方向の位置を高精度に制御できる。また、回転モータ４４は、駆動時に塵等の微小な異物を殆ど発生しない。仮に、異物が箱状部材４０内で発生したとしても吸引部４７Ｂを通じて回収されることになる。
本実施形態の作用効果は以下の通りである。
【００４０】
（１）本実施形態の図４のブラインドユニット３８は、露光光の光量を調整するためのユニットであって、露光光の一部を遮光するブレード３９と、ウエハ上での露光光の光量を制御するために、ブレード３９をＹ方向に駆動するブラインド制御系３３及び回転モータ４４と、ブレード３９のＹ方向の変位を検出する静電容量センサ４３と、静電容量センサ４３及び回転モータ４４を収納する箱状部材４０と、ブレード３９の平板部３９ｂと箱状部材４０との間を気密化する（ブレード３９の平板部３９ｂに対して箱状部材４０を気密化する）ダイアフラム４１とを備えている。
【００４１】
従って、箱状部材４０が気密化されているため、仮に回転モータ４４から塵等の微小な異物が発生しても、その異物が箱状部材４０の外部に出ることがなく、その異物が図１のレチクル面、及び照明光学系ＩＬＳ、投影光学系ＰＯを構成する光学部材に付着することがない。換言すれば、ブレード３９を駆動する回転モータ４４が収容された空間とレチクル面、照明光学系ＩＬＳ及び投影光学系ＰＯを収容する空間から分離されているので、仮に回転モータ４４から塵等の微小な異物が発生しても、それが後者の空間に侵入することがない。従って、ウエハＷ上に不要なパターンが転写されることがないとともに、光学部材の反射率が高く維持されるため、露光工程のスループットが高く維持される。
【００４２】
また、回転モータ４４から発生する熱は、箱状部材４０に遮られて直接レチクル面及び他の光学部材に放射されないため、その熱の影響が軽減される。すなわち、回転モータ４４が収容された空間とその他の空間との間での伝熱が抑制されている。
【００４３】
（２）ダイアフラム４１は可撓性であるために、箱状部材４０の気密性を保ちつつ、ブレード３９の箱状部材４０（あるいは照明光）に対する相対移動（変位）を可能にする。また、図４のブラインドユニット３８では、ダイアフラム４１がブレード３９の位置を例えば初期状態の位置（中立位置）に復元する機能を有するため、別途ブレード３９を付勢するためのバネ機構等を設ける必要がない。さらに、回転モータ４４と案内ローラ４５とでブレード３９をＹ方向に案内しているため、ブレード３９のＹ方向の位置を高精度に設定できる。
【００４４】
（３）また、箱状部材４０は給気口４２Ａを備えており、外部の送風部４７Ａから配管４８Ａ及び給気口４２Ａを介して箱状部材４０内に冷却用の気体を供給している。従って、回転モータ４４から発生する熱及び露光光からブレード３９に与えられる照射熱は、冷却用の気体によって排熱されるため、箱状部材４０からの放射熱がさらに低減される。
（４）また、図３（Ａ）の可変ブラインド３５は、複数のブラインドユニット３８のブレード３９を同一面に配置している。従って、それらのブレード３９を露光装置のレチクルＲの近傍等の視野絞り面に配置することができ、ブレード３９のＹ方向の位置制御によって、レチクルＲ上のスリット状の照明領域２７Ｒ（ひいてはウエハＷ上の露光領域２７Ｗ）の幅、ひいては対応するウエハＷ上での露光光の光量を高精度に制御できる。
【００４５】
（５）また、図３（Ａ）の可変ブラインド３５は、複数のブレード３９をそれぞれ含むブラインドユニット３８と、ブレード３９の先端部（平板部３９ｂの先端部）のＺ方向の位置（露光光の光軸方向の位置）を制御するために、複数のブラインドユニット３８の傾斜角を制御する回転部材３７及び回転モータ４９を備えている。
従って、例えばレチクル面のＺ位置の変化に応じて複数のブラインドユニット３８のブレード３９の先端のＺ位置を一体的に容易に調整できる。
【００４６】
（６）また、そのブラインドユニット３８の傾斜角（回転モータ４４の回転角）によって式（１）のようにブレード３９のＹ方向の位置が変化する場合には、その変化を相殺するように回転モータ４４によってブレード３９のＹ方向の位置を調整している。従って、ブラインドユニット３８の傾斜角が変化しても、照明領域２７ＲのＹ方向の幅を一定に維持できる。
（７）また、図１の露光装置１００は、露光光ＥＬでレチクルＲのパターンを照明し、露光光ＥＬでそのパターン及び投影光学系ＰＯを介してウエハＷを露光する露光装置において、可変ブラインド３５の複数のブラインドユニット３８のブレード３９で露光光ＥＬの一部を遮光している。従って、そのブレード３９の位置を制御してその遮光量を制御することで、レチクルＲ上の照明領域の形状、ひいてはウエハＷ上の露光領域の形状を所望の形状に容易に設定でき、走査露光後のウエハＷ上の各点での積算露光量を高精度に制御できる。この際に、各ブラインドユニット３８の回転モータ４４の発塵及び発熱の影響が軽減されているため、レチクルＲのパターンを高精度に、かつ高いスループットでウエハＷ上に露光できる。
【００４７】
（８）この場合、例えば予めウエハステージＷＳＴ上の照射量モニタ２９によって、露光領域２７ＷのＸ方向の照度分布を計測しておき、この計測結果からブラインド制御系３３によって、例えばその照度分布が一様になるように各ブラインドユニット３８のブレード３９の位置を制御することで、ウエハＷ上での積算露光量の均一性が向上する。
次に、図４のブラインドユニット３８の変形例につき図５〜図７を参照して説明する。図５〜図７において図４に対応する部分には同一符号を付してその詳細な説明を省略する。
【００４８】
図５は、第１変形例のブラインドユニット３８Ａを示す一部を切り欠いた図である。図５において、箱状部材４０内でブレード３９の軸部３９ａが軸受け５１によってＹ方向に案内され、段差部３９ｄが磁性体から厚く形成されている。また、ブレード３９の下端部３９ｃに磁性体のコア部材３９ｅ（駆動力伝達部）が固定され、コア部材３９ｅは引っ張りコイルばね５５によって箱状部材４０の底面側に付勢されている。さらに、箱状部材４０内に、軸部３９ａを囲むようにコア部材５３が配置され、コア部材５３にコイル５２が巻回され、コイル５２にはブラインド制御系３３から駆動電流が供給される。その他の構成は図４の実施形態と同一である。
【００４９】
この第１変形例では、ＥＩコア方式と同様に、コイル５２に電流を供給することで、コア部材３９ｅ及び５３内に閉じた磁気回路５４が形成される。その電流を制御することによって、コア部材５３側（−Ｙ方向）に対するコア部材３９ｅ（ひいてはブレード３９）の吸引力を制御でき、これによってブレード３９をＹ方向に移動できる。この構成では、コア部材５３からブレード３９に非接触で駆動力を与えて、ブレード３９をＹ方向に駆動（移動）できるため、駆動部での発塵がさらに低減する。
【００５０】
図６（Ａ）は、第２変形例のブラインドユニット３８Ｂを示す一部を切り欠いた図である。図６（Ａ）において、箱状部材４０内でブレード３９の軸部３９ａの端部に磁性体のコア部材３９ｅ（駆動力伝達部）が固定され、軸部３９ａをＺ方向に挟むように第１及び第２のコア部材５３Ａ及び５３Ｂが配置され、コア部材５３Ａ，５３Ｂにコイル５２Ａ，５２Ｂが巻回され、コイル５２Ａ，５２Ｂにはブラインド制御系３３から個別に駆動電流が供給される。また、コア部材５３Ａ，５３Ｂに対向するようにコア部材３９ｅの底面に下端部３９ｆ及び３９ｃが固定され、箱状部材４０の底面に下端部３９ｆ及び３９ｃとの間のギャップを個別に計測するための静電容量センサ４３Ａ及び４３Ｂが固定されている。さらに、コア部材５３Ａ，５３Ｂに対向するように箱状部材４０の底面に固定された引っ張りコイルばね５５Ａ，５５Ｂによって、コア部材３９ｅは箱状部材４０の底面側に付勢されている。その他の構成は図４の実施形態と同様である。
【００５１】
この第２変形例では、コイル５２Ａ，５２Ｂに供給する電流を制御することで、コア部材５３Ａ，５３Ｂとコア部材３９ｅとの間の吸引力を独立に制御できる。従って、その２つの吸引力を共通に制御することによって、ブレード３９のＹ方向の位置を制御できる。さらに、その２つの吸引力を異ならせることによって、例えば図６（Ｂ）の点線の位置Ｂ６で示すように、ブレード３９をダイアフラム４１の中央の支点Ｂ７を中心として回転させることができる。これによって、ブレード３９の先端のＺ位置を制御できるため、図３（Ａ）に示す複数のブラインドユニット３８を全体として回転する機構を省くことができる。ブレード３９の先端のＺ位置は、個別に制御することも可能である。
【００５２】
ただし、ブレード３９を回転することによって、ブレード３９の先端のＹ方向の位置が変化した時には、その位置の変化を相殺するようにブレード３９のＹ方向の位置を調整してもよい。
図７は、第３変形例のブラインドユニット３８Ｃを示す一部を切り欠いた図である。図７において、箱状部材４０の内部でブレード３９の軸部３９ａは軸受け５１によってＹ方向に案内され、軸部３９ａに対向する箱状部材４０の側面に、積層ピエゾ素子（圧電素子）よりなりＹ方向に伸縮する駆動素子６１が固定されている。また、駆動素子６１と軸部３９ａとの間にＹ方向に細長いロッド６２Ａ，６２Ｂ，６２Ｃが配置され、駆動素子６１の先端とロッド６２Ａの一端、ロッド６２Ａの他端とロッド６２Ｂの一端、ロッド６２Ｂの他端とロッド６２Ｃの一端、及びロッド６２Ｃの他端と軸部３９ａの端部とは、それぞれピボット６３Ａ，６３Ｂ，６３Ｃ，６３Ｄの周りに回転可能なリンク部材６４Ａ，６４Ｂ，６４Ｃ，６４Ｄによって連結されている。リンク部材６４Ａ〜６４Ｄの端部はそれぞれ圧縮コイルばね５６等（１箇所のみ図示）によって駆動素子６１又はロッド６２Ａ〜６２Ｃ側に付勢されている。これらのリンク部材６４Ａ〜６４Ｄ、ロッド６２Ａ〜６２Ｃ及びピボット６３Ａ〜６３Ｄがリンク機構（または駆動力伝達部）を構成する。
【００５３】
また、ブレード３９の下端部３９ｃと対向する位置に静電容量センサ４３が固定され、ブラインド制御系３３は静電容量センサ４３の検出結果から求められるブレード３９のＹ方向の位置に基づいて駆動素子６１の伸縮量を制御する。この他の構成は図４の実施形態と同様である。
この第３変形例において、駆動素子６１とピボット６３Ａとの間隔をａ、ピボット６３Ａとロッド６２Ａとの間隔をｂとして、間隔ａ及びｂを例えば以下のように設定すると、駆動素子６１の伸縮量はロッド６２Ａで４倍に拡大される。
【００５４】
ａ：ｂ＝１：４  …（２）
また、他のリンク部材６４Ｂ〜６４Ｄでもそれぞれ変位を４倍に拡大するものとすると、駆動素子６１のＹ方向の伸縮量δｙは、次のようにほぼ２５６倍に拡大されてブレード３９のＹ方向への移動量ΔＹとなる。
ΔＹ＝４×４×４×４×δｙ＝２５６・δｙ  …（３）
従って、例えば駆動素子６１の駆動量δｙを４μｍとすると、ブレード３９を１０２４μｍ、即ちほぼ１ｍｍのストロークでＹ方向に駆動可能である。なお、リンク部材６４Ａ〜６４Ｄの倍率（ｂ／ａ）及び段数は、必要な移動量ΔＹ及び駆動素子６１の駆動量δｙに応じて任意に設定可能である。
【００５５】
この第３変形例によれば、駆動素子６１の駆動量をリンク機構で拡大しているため、駆動素子６１自体の駆動量を小さくでき、発熱量を低減できる。
なお、上記の実施形態ではブレード３９の変位を検出するために静電容量センサ４３を使用しているが、その変位検出用には光学式の近接センサ、小型のリニアエンコーダ、又は回転モータに組み込んだロータリエンコーダ等の他のセンサも使用できる。
【００５６】
なお、上記の実施形態では、図１の可変ブラインド３５は、レチクル面の近傍に配置されているが、ブラインド板２６及び／又は多数のブラインドユニット３８を照明光学系ＩＬＳ内のレチクル面との共役面の近傍に配置してもよい。
また、上記の実施形態では、ブラインドユニット３８の箱状部材４０内に冷却された気体を供給しているが、その代わりに、例えば箱状部材４０の側面に密着させた配管内に冷却された液体（冷媒）を流してもよい。さらに、箱状部材４０の側面にペルチェ素子（吸熱素子）を固定し、このペルチェ素子の発熱を冷媒で排熱するようにしてもよい。
【００５７】
なお、上述の実施形態では、レチクルＡＦ系２８の計測値に基づいて、ブラインドユニット３８の回転角、あるいはブレード３９の先端のＺ位置を制御する構成について、説明した。しかしながら、この構成に限定されない。例えば、予めＹ方向にレチクルＲが移動した際に変化するレチクル面のＺ方向の位置を計測し、その結果をマップ情報として記憶する。この記憶されたマップ情報に基づいて、ブラインドユニット３８の回転角、あるいはブレード３９の先端のＺ位置を制御してもよい。このような構成にした場合、レチクルＡＦ系を省略することができる。
【００５８】
また、上述の実施形態では、箱状部材４０の内部を大気圧にしていたが、箱状部材４０の内部を真空排気してもよい。例えば、箱状部材４０の気圧は、真空チャンバ１内と同じ気圧にすることができる。この場合、前述したように、箱状部材４０側面にペルチェ素子を固定して、箱状部材４０の温度を調整してもよい。
また、上述の実施形態では、可変ブラインド３５をレチクルＲのパターン面近傍に配置したが、投影光学系ＰＯとウエハＷとの間に配置してもよい。
【００５９】
また、上述の実施形態では、露光光源としてレーザプラズマ光源を用いるものとしたが、これに限らず、ＳＯＲ（Synchrotron Orbital Radiation)リング、ベータトロン光源、ディスチャージド光源、Ｘ線レーザなどのいずれを用いても良い。
また、上記の実施形態では、露光光としてＥＵＶ光を用いているが、本発明は、露光光としてＫｒＦ（波長２４８ｎｍ）、ＡｒＦ（波長１９３ｎｍ）などのエキシマレーザ光、又は固体レーザの高調波等を用いる露光装置にも適用可能である。また、気体中でも透過する露光光を使用する場合には、照明光学系及び投影光学系は屈折系、又は反射屈折系でもよい。この場合には、レチクルも透過型として例えば図２（Ｂ）のような配置で可変ブラインド３５を設置することによって、透過型でレチクル上に照明領域を設定してもよい。
【００６０】
また、露光光の光路に気体がある場合には、図４の箱状部材４０のダイアフラム４１の内外差圧は小さいため、ダイアフラム４１の替わりに可撓性のより大きい例えば薄い金属製又は合成樹脂製等のダイアフラム又はベローズ等を使用してもよい。あるいは、弾性膜や、一部が箱状部材４０から突出する円筒状のベローズであってもよい。本明細書ではそれらをまとめて、ベローズ機構とも言う。
【００６１】
上記実施形態では、箱状部材４０を給気口４２Ａ及び排気口４２Ｂを介して送風部４７Ａと吸引部４７Ｂにより内部の気体を供給及び排気したが、箱状部材４０を密閉することで、給気口４２Ａ、排気口４２Ｂ、送風部４７Ａ及び吸引部４７Ｂを省略してもよい。
【００６２】
上記実施形態では、露光装置に設けられた遮光ユニット及びそれを有する可変スリット装置をブラインドユニット３８及び可変ブラインド３５を例に挙げて説明したが、本発明の遮光部材及びそれを有する可変スリット装置は、露光装置に用いられる場合に限らず、宇宙空間における観測機や撮影装置などにも有効である。
【００６３】
上記実施形態では、ブラインドユニット３８が同一平面上に配列した可変ブラインド３５を説明したが、用途に応じてブラインドユニット３８を単体または、一対で用いても良い。
【００６４】
また、上記の実施形態の露光装置を用いて半導体デバイス等の電子デバイス（又はマイクロデバイス）を製造する場合、電子デバイスは、図８に示すように、電子デバイスの機能・性能設計を行うステップ２２１、この設計ステップに基づいたマスク（レチクル）を製作するステップ２２２、デバイスの基材である基板（ウエハ）を製造してレジストを塗布するステップ２２３、前述した実施形態の露光装置（ＥＵＶ露光装置）によりマスクのパターンを基板（感応基板）に露光する工程、露光した基板を現像する工程、現像した基板の加熱（キュア）及びエッチング工程などを含む基板処理ステップ２２４、デバイス組み立てステップ（ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程などの加工プロセスを含む）２２５、並びに検査ステップ２２６等を経て製造される。なお、露光工程では、照明光学系ＩＬＳによりレチクルを照明してレチクル面上にＸ方向に伸びる細長い円弧状の照明領域を形成しつつ、レチクルＲ及びウエハＷを投影光学系ＰＯ（露光光）に対してＹ方向に同期移動することで基板が走査露光される。露光装置を用いる露光方法は当業者に知られているのでその詳細な説明は省略する。  
【００６５】
言い換えると、このデバイスの製造方法は、上記の実施形態の露光装置を用いてその投影面上に設置される基板（ウエハ）を露光することと、露光された基板を処理すること（ステップ２２４）とを含んでいる。この際に、上記の実施形態の露光装置によれば、可変ブラインド３５における発塵及び発熱の影響が軽減されているため、高精度にかつ高スループットでデバイスを製造できるとともに、露光装置のメンテナンスコストを低減できる。
【産業上の利用可能性】
【００６６】
本発明の遮光ユニット、可変スリット装置及びそれを有する露光装置によれば、遮光部材の駆動装置などから生じうる発塵及び発熱を抑制することができるので、周辺の光学素子の汚染や熱変形を防止することができる。このため、本発明を用いることにより高機能デバイスを高スループットで製造するでき、それゆえ、本発明は、半導体産業を含む精密機器産業の国際的な発展に著しく貢献するであろう。
【符号の説明】
【００６７】
１…真空チャンバ、ＩＬＳ…照明光学系、Ｒ…レチクル、ＰＯ…投影光学系、Ｗ…ウエハ、１０…レーザプラズマ光源、２６…ブラインド板、２７Ａ…照明領域、２８…レチクルＡＦ系、２９…照射量モニタ、３３…ブラインド制御系、３５…可変ブラインド、３８，３８Ａ，３８Ｂ，３８Ｃ…ブラインドユニット、３９…ブレード、４０…箱状部材、４１…ダイアフラム、４４…回転モータ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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