(57)【要約】【課題】  反射防止体、位相差板、光拡散板、超撥水等の凹凸パターン形状のあるナノバックリングシートの製造方法を提供する。【解決手段】  ナノバックリングシートの製造方法であって、前記MD方向加熱収縮性フィルムとして連続シートを用い、前記MD方向加熱収縮性フィルムの片面または両面に硬質層を少なくとも１層以上設けた連続積層シートを製造する工程と、前記連続積層シートを加熱収縮ゾーンにて連続的に加熱収縮する工程と、からなるナノバックリングシートの製造方法である。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
微細凹凸シートの製造方法であって、前記MD方向加熱収縮性フィルムとして連続シートを用い、前記MD方向加熱収縮性フィルムの片面または両面に硬質層を少なくとも１層以上設けた連続積層シートを製造する工程と、前記連続積層シートを加熱収縮ゾーンにて連続的に加熱収縮する工程と、からなる微細凹凸シートの製造方法。
【請求項２】
前記加熱収縮する工程において、前記連続積層シートを主にＭＤ方向に収縮させることを特徴とする請求項１に記載の微細凹凸シートの製造方法。
【請求項３】
第１の工程のＭＤ方向の収縮率が、１０％〜９５％の範囲である請求項１または２記載の微細凹凸シートの製造方法。
【請求項４】
第１の工程における加熱収縮ゾーンの出口ライン速度に対する入口ライン速度の比が、０．１〜０．９５である請求項１〜３のいずれかに記載の微細凹凸シートの製造方法。
【請求項５】
請求項１〜４の製造方法により製造された微細凹凸が、ＣＤ方向に延伸していることを特徴とする微細凹凸シート。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、凹凸パターン形状のあるシートの製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
微細な波状の凹凸からなる凹凸パターンが表面に形成され、凹凸パターンの平均ピッチが可視光の波長以下の凹凸パターン形成シートは、反射防止体や位相差板等の光学素子として利用できることが知られている（非特許文献１）。
また、前記凹凸パターンの平均ピッチが１〜１０μｍの凹凸パターン形成シートは光拡散体として利用できることが知られている（特許文献１，２）。
【０００３】
このような凹凸パターン形成シートを製造する方法として、パターンマスクを使用する可視光によるフォトリソグラフィ法や、より微細加工が可能な紫外線レーザー照射法や電子線リソグラフィ法が知られている。
これらの方法では、基板上に形成されたレジスト層を可視光、紫外線レーザー光あるいは電子線で露光し現像してレジストパターン層を形成し、このレジストパターン層をマスクとして、ドライエッチング法等により凹凸形状を形成する。しかし、これらの方法は煩雑であるという問題を有していた。
また、微細凹凸シートの製造方法としてＣＤ方向の加熱収縮性フィルムを用いる方法が開示されている（特許文献３）。しかし、この方法ではマシン幅方向で収縮させるため、幅広な製造装置となるばかりか大きなシワ発生を防ぐために両エッジにクリップを装備した特殊な製造機が必要であり生産性が悪かった。また、得られる微細凹凸形状は主にＭＤ方向のものしかできないという問題があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平１０-１２３３０７号公報
【特許文献２】特開２００６−２６１０６４号公報
【特許文献３】特開２００８−３０４６５１号公報
【非特許文献】
【０００５】
【非特許文献１】菊田久雄、岩田耕一著、「光学」、日本光学会発行、第２７巻、第１号、１９９８年、ｐ．１２−１７
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、前記事情を鑑みてなされたものであり、反射防止体や位相差板、光拡散板等の光学素子等として利用した際に優れた性能を示す凹凸パターン形成シートを連続シートとして製造する方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、以下の構成を有する。
[１]   微細凹凸シートの製造方法であって、前記MD方向加熱収縮性フィルムとして連続シートを用い、前記MD方向加熱収縮性フィルムの片面または両面に硬質層を少なくとも１層以上設けた連続積層シートを製造する工程と、前記連続積層シートを加熱収縮ゾーンにて連続的に加熱収縮する工程と、からなる微細凹凸シートの製造方法。
[２]  前記加熱収縮する工程において、前記連続積層シートを主にＭＤ方向に収縮させることを特徴とする請求項１に記載の微細凹凸シートの製造方法。
[３]  第１の工程のＭＤ方向の収縮率が、１０％〜９５％の範囲である[１]または[２]記載の微細凹凸シートの製造方法。
[４]  第１の工程における加熱収縮ゾーンの出口ライン速度に対する入口ライン速度の比が、０．１〜０．９５である[１]〜[３]のいずれかに記載の微細凹凸シートの製造方法。
[５]  [１]〜[４]の製造方法により製造された微細凹凸が、ＣＤ方向に延伸していることを特徴とする微細凹凸シート。
【発明の効果】
【０００８】
本発明では、表面に微細な凹凸パターンをつけたシートを容易に大面積で形成でき、光学素子等に好適に利用できる凹凸パターン形成シートを簡便に、かつ、大量に製造できる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本発明の微細凹凸シートの製造方法の一実施形態における積層シートを示す断面図である。
【図２】本発明の微細凹凸シートの一実施形態の一部を拡大して示す拡大斜視図である。
【図３】原子間力顕微鏡像のフーリエ変換像
【図４】Ｙ´´Ｆ−ＺＦ図
【図５】図２の微細凹凸シートを、微細凹凸形状の方向（ＣＤ方向）と直交する方向（ＭＤ方向）に切断した際の断面図である。
【図６】微細凹凸レプリカの製造方法の一例を説明する図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
まず、本発明の微細凹凸シートとは、図１に示すように、加熱収縮性フィルム１１の片面または両面に平滑な硬質層１２ａを少なくとも１層以上設けた積層シート１０ａ（図１では硬質層は片面に設けてあるが両面であっても構わない）を少なくとも１方向に加熱収縮させることにより製造する。加熱収縮させることにより積層シートの硬質層を蛇行変形させ、図２に示すような凹凸パターンである微細凹凸形状１３が、加熱収縮性フィルム１１の表面に形成された微細凹凸シート１０と定義する。
微細凹凸形状を微細凹凸シートの片面に設けたい場合は、加熱収縮性フィルムの片面に硬質層を設け、微細凹凸形状を両面に設けたい場合は加熱収縮性フィルムの両面に硬質層を設ける。両面に微細凹凸形状を設ける場合、各々の面の微細凹凸の大きさは異なっていても良い。ここで、加熱収縮前の積層シート１０ａの平滑な硬質層１２ａとは、ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１に記載の中心線平均粗さ０．１μｍ以下であることが好ましい。また、「蛇行変形」とは、図２に示すような、波状の凹凸パターンを形成するような変形をいう。良好な微細凹凸シートを得るため、本発明では蛇行変形する際に硬質層に割れが生じないようにする必要がある。
【００１１】
（微細凹凸シートの製造方法）
加熱収縮性フィルムに前記平滑な硬質層１２ａを形成する方法としては、（Ａ）金属や金属化合物の場合には、例えば、（１）加熱収縮性フィルム１１の表面に金属や金属化合物を蒸着して硬質層を設ける方法、（２）加熱収縮性フィルム１１の表面に金属あるいは金属化合物のナノ粒子分散液を塗工し、乾燥させる方法、（３）加熱収縮性フィルム１１の表面に蒸着あるいは塗工した金属や金属化合物を更に化学反応をさせて改質し、これを硬質層とする方法、（４）加熱収縮性フィルム１１の表面に、あらかじめ作製した平滑な硬質層を積層する方法などが挙げられる。また、（Ｂ）樹脂の場合には、例えば、（５）樹脂の溶液または分散液を塗工し、溶媒を乾燥させる方法、（６）加熱収縮性フィルム１１の表面に、あらかじめ作製した平滑な硬質層１２ａを積層シートとする方法などが挙げられる。
硬質層を蒸着する方法は、公知の蒸着方式を用いることが好ましい。公知の蒸着方式として物理蒸着方式、化学蒸着方式を挙げることができ、物理蒸着方式として、抵抗加熱蒸着、電子ビーム蒸着、高周波誘導蒸着、分子線エピタキシー蒸着、イオンプレーティング蒸着、イオンビームデポジション蒸着、スパッタ蒸着等を好ましく挙げることができる。また化学蒸着方式としては、熱CVD、プラズマCVD、光CVD、エピタキシャルCVD、アトミックレイヤーCVD、有機金属気相成長法、触媒化学気相成長法等を好ましく挙げることができる。特に好ましい蒸着方式は、抵抗加熱蒸着、電子ビーム蒸着、スパッタ蒸着である。必要な部分のみ硬質層を蒸着により設けることもでき、その際にはフィルムやオイル等のマスクを使用できる。
硬質層を塗工する方法は、公知の塗布方式を使用することができる。例えば、エアナイフコーティング、ロールコーティング、ブレードコーティング、メイヤーバーコーティング、グラビアコーティング、スプレーコーティング、キャストコーティング、カーテンコーティング、ダイスロットコーティング、ゲートロールコーティング、サイズプレスコーティング、スピンコーティング、ディップコーティング、インクジェットコーティング、フレキソコーティング等を好ましく挙げることができる。必要なところのみ硬質層を塗工により設けることもでき、前記した塗工方式も使用できるが、好ましくは印刷方式ともなるグラビアコーティング、インクジェットコーティング、フレキソコーティングを挙げることができる。
【００１２】
本発明の積層シートを加熱収縮する方法としては例えば以下の方法が適用できる。
巻出ゾーン、加熱収縮ゾーン、仕上げゾーンの少なくとも３つのゾーンを持つマシンにて製造することが好ましい。巻出ゾーンに連続した積層シートの巻取りをセットし、繰り出し、加熱収縮ゾーンにて連続した積層シートを主にＭＤ方向に収縮して蛇行変形し、続いて、仕上げゾーンでは巻取装置にて微細凹凸シートを巻取り状に製造し、あるいは巻取装置の代わりに連続した微細凹凸シートを枚葉に断裁し製造する。
本発明では、加熱によるＭＤ方向の収縮率をコントロールするため、加熱収縮ゾーンの出口ライン速度／入口ライン速度の比が０．０５〜０．９で操業することが好ましく、０．１〜０．７であることがより好ましく、０．２〜０．５５であることが特に好ましい。出口ライン速度／入口ライン速度の比が小さいとＭＤ方向の収縮率が小さ過ぎる問題が生じ、出口ライン速度／入口ライン速度の比が大き過ぎると入口ライン速度と出口ライン速度のコントロールが難しくなり好ましくない。入口ライン速度と出口ライン速度を変える方法は公知の方法を利用できる。例えば、ドロー方式、ダンサー方式、少なくとも２本以上のロール周速差を利用する方法、連続シートの両端面を複数のクリップで掴み流れ方向にクリップの間隔を狭めていく方法等を好ましく挙げることができる。また加熱収縮ゾーンは、熱風ドライヤー、ドラムドライヤー、赤外線ドライヤー、遠赤外線ドライヤー、バーナードライヤー、スチームドライヤー等のドライヤーや温水を含む熱溶媒に浸漬する方法等を用いることができ、また加熱収縮ゾーン内のシート搬送は公知の方法を行えば良く、例えば、ロールサポート搬送、フローティング搬送、ベルト搬送、キャンバス搬送、連続シートの両端面を複数のクリップ掴みながらの搬送等を挙げることができる。
【００１３】
本発明の微細凹凸シートは、微細凹凸形状の方向が主にＣＤ方向である。本発明の微細凹凸シートは図２示すように微細凹凸形状の山（山頂部１３ａ）が一方向に連なった方向を持っている。また谷（谷底部１３ｂ）も一方向に連なった方向を持っている。この山および谷の連なった方向を本発明では微細凹凸形状の方向と呼ぶ。微細凹凸形状の方向にはバラツキがあり、本発明の微細凹凸形状の方向は、主にＣＤ方向であれば良い。
微細凹凸形状の方向のバラツキの程度は、次に示す微細凹凸形状の配向度で把握することもできる。
本発明の微細凹凸形状の配向度は、大き過ぎると微細凹凸形状の方向性が低下するため、本発明の微細凹凸形状の配向度は、１．０以下であることが好ましく、より好ましくは０．７以下であり、特に好ましくは０．４未満である。なお本発明の微細凹凸形状の配向度の定義は、次の通りである。
微細凹凸形状を原子間力顕微鏡によりHeight像を観察（グレースケール画像に変換する）し、その観察したグレースケール画像をフーリエ変換する。このフーリエ変換像には微細凹凸形状のピッチおよび配向の情報が含まれる。なお、原子間力顕微鏡で観察できる凹凸の大きさでない場合は、光学顕微鏡像を用いることができる。
【００１４】
本発明の配向度は、フーリエ変換像の配向の情報を取り出して求める。具体的には、図３を用いて説明する。フーリエ変換像の最大輝度部分がフーリエ変換像のXF-YF座標面のXF軸上にない場合は、フーリエ変換像の中心を原点にθだけ回転させてXF軸上に最大輝度部分が一致するようにθ回転したフーリエ変換像を作成する（ここでθ回転を必要とする理由は、原子間力顕微鏡観察において試料セットを人間の手で行うため試料の方向がずれてしまうことにある）。フーリエ変換像には最大輝度部分が２つ存在するものが多く、原点を中心にほぼ180°回転した位置あるはずである。最大輝度部分はどちらか１方を任意に選択してXF軸に一致させればよい。なお、図３はθ回転したフーリエ変換像である。以後断りのない限りθ回転したフーリエ変換像をフーリエ変換像とする。 (XFmax、YFmax)を通るYF軸に並行な補助線Y´Fを引き、補助線Y´Fを横軸として、補助線Y´F上の輝度（ZF軸）を縦軸としたY´F-ZF図を作成する。このY´F-ZF図のY´F軸の値を平均ピッチAで割ったY´´F-ZF図（図４）を作成する。この図４の横軸は、微細凹凸形状の配向を示す指標が含まれている。図４のプロットにおけるピークの半値幅Ｗ１（頻度が最大値の半分になる高さでのピークの幅）が、本発明の微細凹凸形状の配向度を表す。半値幅Ｗ１が大きい程、配向がばらついていることを表しており、微細凹凸形状の方向のバラツキの程度を表している。
【００１５】
本発明の平均ピッチＡは、各ピッチＡ１，Ａ２，Ａ３・・・の平均値であり、微細凹凸形状の配向度を求めたときと同じようにフーリエ変換像（例えば図３）を用いて求めることが好ましい。図３のようにフーリエ変換像のXF-YF座標面上に頻度が濃淡で表される。このフーリエ変換のZF軸情報の頻度は必要に応じてスムージングを行い、フーリエ変換像の中心部を除く部分の最大頻度を示す位置(XFmax、YFmax)が本発明の平均ピッチA=1/｛√(XFmax2+YFmax2)｝を示す。平均ピッチＡは１ｎｍ〜１００μｍであることが好ましく、より好ましくは１０ｎｍ〜２０μｍである。特に反射防止等光の回折現象を避ける必要のある光学素子として用いる場合は、平均ピッチＡは１０００ｎｍ以下であることが更に好ましく、２００ｎｍ以下であれば特に好ましい。また特に光拡散性や集光性を期待する光学素子として用いる場合は、平均ピッチＡは５００ｎｍ以上であることが更に好ましく、１μｍ〜１０μｍであることが特に好ましい。また、各ピッチＡ１，Ａ２，Ａ３・・・は、平均ピッチＡが１ｎｍ〜１００μｍであることを満たした上で、連続的に変化してもかまわない。
本発明の微細凹凸形状の平均深さＢは、微細凹凸シート１０を長さ方向に沿って切断した断面（図５参照）を見た際の、微細凹凸シート１０全体の面方向と平行な基準線Ｌ１から微細凹凸形状の各山頂部までの長さＢ１，Ｂ２，Ｂ３・・・の平均値（ＢＡＶ）と、基準線Ｌ１から各谷底部までの長さｂ１，ｂ２，ｂ３・・・の平均値（ｂＡＶ）との差（ｂＡＶ−ＢＡＶ）のことである。
本発明では、光学素子等の性能を向上させるために、平均深さＢと平均ピッチＡとの比Ｂ／Ａが０．１以上であることが好ましく、０．３以上であることがより好ましく、０．７以上であれば特に好ましい。
【００１６】
本発明で用いる加熱収縮性フィルムは、ＭＤ方向加熱収縮性フィルムを用いるのが好ましい。本発明のＭＤ方向加熱収縮性フィルムとは加熱することにより主にＭＤ方向に収縮するフィルムのことである。ＭＤ方向加熱収縮性フィルムは加熱によりＣＤ方向に伸びるあるいはＭＤ方向より小さな収縮率で収縮する必要がある。もしＣＤ方向の収縮率がＭＤ方向の収縮率より大きくなると微細凹凸の形状方向がＣＤ方向となり辛くなるため、ＣＤ方向への収縮率はＭＤ方向の収縮率の４分の１以下であることが好ましく、１０分の１以下であることがより好ましく、５０分の１以下であることが特に好ましい。ＣＤ方向に伸びる場合は、微細凹凸の形状方向がＣＤ方向となり難くなることはないので、特に制限はない。ここで収縮率とは、（収縮前の長さ−収縮後の長さ）／（収縮前の長さ）×１００（％）のことである。
本発明のＭＤ方向加熱収縮性フィルムは、加熱によるＭＤ方向の収縮率が１０％以上であることが好ましい。１０％未満であると微細凹凸の形状方向がＣＤ方向となり辛くなったり、平均深さＢが不十分であったりする。平均深さＢは収縮率に大きく影響する。本発明のより好ましいＭＤ方向の収縮率は３０％以上であり、特に好ましくい収縮率は４５％以上である。収縮率の上限はないが、収縮率が大きすぎると生産性が極端に低下することから９５％以下であることが好ましく、８０％以下であることがより好ましい。本発明のＭＤ加熱収縮性フィルムの加熱収縮を開始する温度は、５０℃以上が好ましく、９０℃以上であればより好ましく、１３０℃以上であれば特に好ましい。加熱収縮を開始する温度が低すぎると硬質層を設ける際に加熱収縮性フィルムが収縮し易くなるため好ましくない。
【００１７】
本発明のＭＤ方向加熱収縮性フィルムは、フィルム製造時にＭＤ方向のみ延伸したものが好ましい。ＭＤ方向のみ延伸する方法は公知の方法を利用できるが、例えば、無延伸フィルムをロールの周速差を利用してＭＤ方向に延伸する方法や無延伸フィルムをクリップで掴むテンターにおいて幅を変えずに流れ方向のクリップの間隔を開けていく方法などを挙げることができる。またインフレーション法においても流れ方向への延伸倍率を大きくすることにより製造することもできる。無延伸フィルムの製造方法に特に制限はなく公知の方法を使用できる。例えば、Ｔダイによる溶融押し出し法（溶融押し出し後によりキャスティングロールによる平滑化や冷却等を行うこともできる）、溶媒に溶解しキャストする方法等を挙げることができる。無延伸フィルムは、１層であっても２層以上の多層であっても良く、多層の場合それぞれの層のポリマー組成が異なっていても良い。
ＭＤ方向のみ延伸した後、熱緩和等の熱処理や電子線照射処理を行うことは何ら制限することもなく使用でき、コロナ放電処理、プラズマ処理等の表面濡れ性向上処理をすることについても何ら制限を受けることはなく行うことができる。またブロッキング防止等の為に例えばフイルム両端にナーリング処理を施すこともできる。
ＭＤ方向加熱収縮性フィルムの材質としては、公知のポリマーを使用できるが、好ましくは、ポリエチレンテレフタレート系やポリエチレンナフタレート系などのポリエステル系、ポリスチレン系、ポリエチレン系やポリプロピレン系やシクロポリオレフィン系を含むポリオレフィン系、ポリビニルアルコール系、ポリカーボネート系、ポリ塩化ビニル系、ナイロン系、ポリアセチルアセテート系など挙げることができ、ポリエステル系、ポリオレフィン系、ポリカーボネート系をより好ましく挙げることができる。これらのポリマーはホモポリマーであってもコポリマーであっても構わない。また２種類以上のポリマーを混合して使用することもできる。また必要に応じて、公知のアンチブロッキング剤（例えば無機顔料系としてシリカを挙げることができる）、酸化防止剤、可塑剤、潤剤、帯電防止剤を配合することができる。
【００１８】
本発明ではＭＤ方向加熱収縮性フィルムとして市販のＭＤ方向ポリエステル系シュリンクフィルム、ＭＤ方向ポリスチレン系シュリンクフィルム、ＭＤ方向ポリオレフィン系シュリンクフィルム、ＭＤ方向ポリカーボネート系シュリンクフィルム、ＭＤ方向ポリ塩化ビニル系シュリンクフィルムを好ましく用いることができる。
本発明のＭＤ方向加熱収縮性フィルムは、連続シートであることが好ましく、巻取りとして取扱いができることが特に好ましい。連続シートとすることにより生産性が高くできるため工業的かつ値段としても有利である。連続シートでなく枚葉シートの場合は、バッチ式製造となるため、生産性が低い。
【００１９】
加熱収縮性フィルムの片面または両面に平滑な硬質層を少なくとも１層以上設けた本発明の積層シートは、連続シートであることが好ましい。
本発明の硬質層は、金属、金属化合物または加熱収縮性フィルムの加熱収縮温度より３℃以上高いガラス転移温度を有する樹脂の中から選ばれる少なくとも１種で構成する。このような構成により、積層シートを加熱収縮させる際、加熱収縮性フィルムより、硬質層の弾性率を大きくすることができ、加熱による収縮により硬質層が波状に蛇行変形して、微細凹凸シートを容易に形成できる。
【００２０】
硬質層に使用できる金属としては、弾性率が過剰に高くならず、より容易に微細凹凸形状が形成できることから、金、アルミニウム、銀、炭素、銅、ゲルマニウム、インジウム、マグネシウム、ニオブ、パラジウム、鉛、白金、シリコン、スズ、チタン、バナジウム、亜鉛、ビスマス、ニッケルよりなる群から選ばれる少なくとも１種の金属であることが好ましい。ここでいう金属は、半金属も含む。
【００２１】
また、金属化合物としては、上述と同様の理由から、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化マグネシウム、酸化スズ、酸化銅、酸化インジウム、酸化カドミウム、酸化鉛、酸化ケイ素、フッ化バリウム、フッ化カルシウム、フッ化マグネシウム、硫化亜鉛、ＩＴＯ、ガリウムヒ素よりなる群から選ばれる少なくとも１種の金属化合物であることが好ましい。中でも、酸化チタンは、光が当たると表面に付着した有機物を分解する光触媒であり、自己洗浄機能を有しているため、好ましい。
【００２２】
さらに、樹脂としては、加熱収縮性フィルムの加熱収縮温度より３℃以上高いガラス転移温度を有する樹脂であればよく、例えば、ポリビニルアルコール、ポリスチレン、アクリル樹脂、スチレン−アクリル共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、ポリエーテルスルホン、ポリイミド、フッ素樹脂、シリコーン樹脂等が挙げられ、２種以上の樹脂を混合してもよい。
【００２３】
硬質層が金属または金属化合物の場合は、厚さは２μｍ以下であることが好ましい。また、硬質層が樹脂の場合、厚さは１０μｍ以下であることが好ましい。硬質層の厚さが厚過ぎると蛇行変形の際、硬質層が割れることがあるためである。これら硬質層にはピンホールがあっても構わない。一葉な微細凹凸形状を得るため、各ピンホールの大きさは微細凹凸シートの平均ピッチの１０分の１以下であることが好ましい。
本発明の平均ピッチＡは硬質層の弾性率が大きいほど、あるいは硬質層の厚さが大きいほど平均ピッチＡが大きくなる。
本発明では、加熱収縮性フィルムと硬質層との間には、密着性の向上等を目的として、プライマー層を形成してもよい。
【００２４】
本発明によれば、反射防止体、位相差板、光拡散体等の光学素子として性能に優れた微細凹凸シートを簡便に、かつ、大面積で製造できる。またこの微細凹凸形状を利用して金属細線を設けたワイヤーグリツド偏光板にも利用できる。またこれら光学素子以外にも、包装材料、研磨シート、比表面積が大きいことを利用して微細凹凸シート表面に触媒を付けた触媒シート、光触媒シート、電極剤を付けた電極シート、その他の用途として細胞培養シート、燃料電池用電解質膜、離型フィルム、アンチブロッキングフィルム、易接着フィルム、印刷性向上フィルムなどにも利用できる。また微細凹凸シートのわずかな凹凸間を気体や液体が流れる微細流量路など利用法を挙げることができる。もちろんこれらの用途に本発明は限定されることはない。
【００２５】
（反射防止体）
本発明の反射防止体は、上述した微細凹凸シートを備え、平均ピッチＡが１μｍ以下で、平均深さＢと平均ピッチＡの比Ｂ／Ａが０．１以上である。
本発明の反射防止体においては、微細凹凸シートの片面または両面に他の層を備えてもよい。例えば、微細凹凸形状が形成されている側の面に、その面の汚れを防止するために、フッ素樹脂またはシリコーン樹脂を主成分として含有する厚さ１〜５ｎｍ程度の防汚層を備えてもよい。
【００２６】
本発明の反射防止体は、微細凹凸形状の部分にて、空気の屈折率と微細凹凸シートの屈折率（加熱収縮性フィルムの屈折率）の間の中間屈折率を示し、その中間屈折率が連続的に変化する。しかも平均ピッチＡが１μｍ以下で、平均深さＢと平均ピッチＡの比Ｂ／Ａが０．１以上である。これらのことから、光の反射率を特に低くできる。これは、上述したように、平均ピッチＡが１μｍ以下と短い上に、平均深さＢと平均ピッチＡの比Ｂ／Ａが０．１以上と深くなっており、中間屈折率が連続的に変化する部分が厚さ方向に長くなり、光の反射を抑制する効果を顕著に発揮できるためである。
【００２７】
このような反射防止体は、例えば、液晶表示パネルやプラズマディスプレイ等の画像表示装置、発光ダイオードの発光部先端、太陽電池パネルの表面などに取り付けられる。画像表示装置に取り付けた場合には、照明の映りこみを防止できるため、画像の視認性が向上する。発光ダイオードの発光部先端に取り付けた場合には、光の取り出し効率が向上する。太陽電池パネルの表面に取り付けた場合には、光の取り込み量が多くなるため、太陽電池の発電効率が向上する。
【００２８】
（位相差板）
本発明の位相差板は、微細凹凸シートの平均ピッチＡが１μｍ以下で、平均深さＢと平均ピッチＡの比Ｂ／Ａが０．１以上である。本発明の位相差板においても、上記反射防止体と同様に、微細凹凸シートの片面または両面に他の層を備えてもよく、例えば、微細凹凸形状が形成されている側の面に防汚層を備えてもよい。
【００２９】
本発明の位相差板では、位相差を生じさせる効果を顕著に発揮できる。これは、上述したように、平均ピッチＡが１μｍ以下と短い上に、平均深さＢと平均ピッチＡの比Ｂ／Ａが０．１以上と深いため、屈折率が互いに異なる空気と微細凹凸形状の凹凸が交互に配置される部分が厚さ方向に長くなり、光学異方性を示す部分が長くなるためである。さらに、平均ピッチＡが可視光の波長と同程度かそれ以下である場合には、広い可視光波長領域にわたり同等の位相差を生じさせることができる。
【００３０】
（光拡散体）
本発明の光拡散体は、平均ピッチＡが１μｍを超え、２０μｍ以下であり、平均深さＢと平均ピッチＡの比Ｂ／Ａが０．１以上である。
本発明ではＭＤ方向加熱収縮性フィルムを使用するので光拡散性に異方性が現れる。
【００３１】
本発明の光拡散体においては、加熱収縮性フィルムには、より光拡散効果を高める目的で、光透過率等の光学特性を大きく損なわない範囲内で、無機化合物からなる光拡散剤、有機化合物からなる有機光拡散剤あるいは微細気泡を含有させることができる。
【００３２】
（光学素子製造用工程シート原版および微細凹凸レプリカ）
本発明の光学素子製造用工程シート原版（以下、工程シート原版という）は、上述した本発明の微細凹凸シートを備えたものであり、微細凹凸形状の凹凸パターンを、以下に示すような方法で他の素材に転写させることにより、該工程シート原版と同等の平均ピッチおよび平均深さの凹凸パターンが表面に形成された微細凹凸レプリカを作成でき、反射防止体や位相差板、光拡散体等の光学素子などとして使用可能な凹凸パターン形成シートを大面積で大量に製造するための型として用いられるものである。
【００３３】
工程シート原版を用いて微細凹凸レプリカを製造する具体的な方法としては、例えば、下記（ａ）〜（ｃ）の方法が挙げられる。
（ａ）工程シート原版の凹凸パターンが形成された面に、未硬化の電離放射線硬化性樹脂を塗工し、電離放射線を照射して前記硬化性樹脂を硬化させた後、硬化した塗膜を工程シート原版から剥離する方法。ここで、電離放射線とは、通常、紫外線または電子線のことであるが、本発明では、可視光線、Ｘ線、イオン線等も含む。
（ｂ）工程シート原版の凹凸パターンが形成された面に、未硬化の液状熱硬化性樹脂を塗工し、加熱して前記液状熱硬化性樹脂を硬化させた後、硬化した塗膜を工程シート原版から剥離する方法。
（ｃ）工程シート原版の凹凸パターンが形成された面に、シート状の熱可塑性樹脂を接触させ、該熱可塑性樹脂を工程シート原版に押圧しながら加熱して軟化させた後、冷却し、その冷却したシート状の熱可塑性樹脂を工程シート原版から剥離する方法。
【００３４】
また、工程シート原版を用いて２次工程シートを作製し、その２次工程シートを用いて、微細凹凸レプリカを製造することもできる。２次工程シートを用いる具体的な方法としては、下記（ｄ）〜（ｆ）の方法が挙げられる。
（ｄ）工程シート原版の凹凸パターンが形成された面に、ニッケル等の金属めっきを行って、めっき層（凹凸パターン転写用材料）を積層し、そのめっき層を工程シート原版から剥離し、金属性の２次工程シートを作製し、次いで、２次工程シートの凹凸パターンと接していた側の面に、未硬化の電離放射線硬化性樹脂を塗工し、電離放射線を照射して前記硬化性樹脂を硬化させた後、硬化した塗膜を２次工程シートから剥離する方法。
（ｅ）（ｄ）と同様にして２次工程シートを作製し、該２次工程シートの凹凸パターンと接していた側の面に、未硬化の液状熱硬化性樹脂を塗工し、加熱により該樹脂を硬化させた後、硬化した塗膜を２次工程シートから剥離する方法。
（ｆ）（ｄ）と同様にして２次工程シートを作製し、該２次工程シートの凹凸パターンと接していた側の面に、シート状の熱可塑性樹脂を接触させ、該熱可塑性樹脂を２次工程シートに押圧しながら加熱して軟化させた後、冷却し、その冷却したシート状の熱可塑性樹脂を２次工程シートから剥離する方法。
【００３５】
（ａ）の方法の具体例について説明する。図６に示すように、まず、ウェブ状の工程シート原版１１０の凹凸パターン１１３ａが形成された面に、コーター１２０により未硬化の液状電離放射線硬化性樹脂１１３ｃを塗工する。次いで、該硬化性樹脂を塗工した工程シート１１０を、ロール１３０を通すことにより押圧して、前記硬化性樹脂を工程シート原版１１０の凹凸パターン１１３ａ内部に充填する。その後、電離放射線照射装置１４０により電離放射線を照射して、硬化性樹脂を架橋・硬化させる。そして、硬化後の電離放射線硬化性樹脂を工程シート原版１１０から剥離させることにより、ウェブ状の光学素子１５０を製造することができる。このようにウェブ状で行う場合、本発明の微細凹凸シートを工程シート原版に用いると、これにより作成されるウェブ状の微細凹凸レプリカは、微細凹凸形状の方向がＣＤ方向となる利点を持ち、ＣＤ方向加熱収縮性フィルムでは得られなかった特徴を持つ。
【００３６】
（ａ）の方法において、工程シート原版の凹凸パターンが形成された面には、離型性を付与する目的で、未硬化の電離放射線硬化性樹脂塗工前に、シリコーン樹脂、フッ素樹脂等からなる層を１〜１０ｎｍ程度の厚さで設けてもよい。
工程シート原版の凹凸パターンが形成された面に、未硬化の電離放射線硬化性樹脂を塗工するコーターとしては、ダイコーター、ロールコーター、バーコーター等が挙げられる。
未硬化の電離放射線硬化性樹脂としては、エポキシアクリレート、エポキシ化油アクリレート、ウレタンアクリレート、不飽和ポリエステル、ポリエステルアクリレート、ポリエーテルアクリレート、ビニル／アクリレート、ポリエン／アクリレート、シリコンアクリレート、ポリブタジエン、ポリスチリルメチルメタクリレート等のプレポリマー、脂肪族アクリレート、脂環式アクリレート、芳香族アクリレート、水酸基含有アクリレート、アリル基含有アクリレート、グリシジル基含有アクリレート、カルボキシ基含有アクリレート、ハロゲン含有アクリレート等のモノマーの中から選ばれる１種類以上の成分を含有するものが挙げられる。未硬化の電離放射線硬化性樹脂は溶媒等で希釈することが好ましい。
また、未硬化の電離放射線硬化性樹脂には、フッ素樹脂、シリコーン樹脂等を添加してもよい。
未硬化の電離放射線硬化性樹脂を紫外線により硬化する場合には、未硬化の電離放射線硬化性樹脂にアセトフェノン類、ベンゾフェノン類等の光重合開始剤を添加することが好ましい。
【００３７】
未硬化の液状電離放射線硬化性樹脂を塗工した後には、樹脂、ガラス等からなる基材を貼り合わせてから電離放射線を照射してもよい。電離放射線の照射は、基材、工程シート原版の電離放射線透過性を有するいずれか一方から行えばよい。
【００３８】
硬化後の電離放射線硬化性樹脂のシートの厚みは０．１〜１００μｍ程度とすることが好ましい。硬化後の電離放射線硬化性樹脂のシートの厚みが０．１μｍ以上であれば、充分な強度を確保でき、１００μｍ以上であれば、充分な可撓性を確保できる。
【００３９】
上記図６に示す方法では、工程シート原版がウェブ状であったが、枚葉のシートであってもよい。枚葉のシートを用いる場合、枚葉のシートを平板状の型として使用するスタンプ法、枚葉のシートをロールに巻きつけて円筒状の型として使用するロールインプリント法等を適用できる。また、射出成形機の型の内側に枚葉の工程シート原版を配置させてもよい。
しかし、これら枚葉のシートを用いる方法において、光学素子を大量生産するためには、凹凸パターンを形成する工程を多数回繰り返す必要がある。電離放射線硬化性樹脂と工程シートとの離型性が低い場合には、多数回繰り返した際に凹凸パターンに目詰まりが生じ、凹凸パターンの転写が不完全になる傾向にある。
これに対し、図６に示す方法では、工程シート原版がウェブ状であるため、大面積で連続的に凹凸パターンを形成させることができるため、凹凸パターン形成シートの繰り返し使用回数が少なくても、必要な量の光学素子を短時間に製造できる。
【００４０】
（ｂ），（ｅ）の方法において、液状熱硬化性樹脂としては、例えば、未硬化の、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂等が挙げられる。
また、（ｂ）の方法における硬化温度は、工程シート原版のガラス転移温度より低いことが好ましい。硬化温度が工程シート原版のガラス転移温度以上であると、硬化時に工程シート原版の凹凸パターンが変形するおそれがあるからである。
【００４１】
（ｃ），（ｆ）の方法において、熱可塑性樹脂としては、例えば、アクリル樹脂、ポリオレフィン、ポリエステル等が挙げられる。
シート状の熱可塑性樹脂を２次工程シートに押圧する際の圧力は１〜１００ＭＰａであることが好ましい。押圧時の圧力が１ＭＰａ以上であれば、凹凸パターンを高い精度で転写させることができ、１００ＭＰａ以下であれば、過剰な加圧を防ぐことができる。
また、（ｃ）の方法における熱可塑性樹脂の加熱温度は、工程シート原版のガラス転移温度より低いことが好ましい。加熱温度が工程シート原版のガラス転移温度以上であると、加熱時に工程シート原版の凹凸パターンが変形するおそれがあるからである。
加熱後の冷却温度としては、凹凸パターンを高い精度で転写させることができることから、熱可塑性樹脂のガラス転移温度未満であることが好ましい。
【００４２】
（ａ）〜（ｃ）の方法の中でも、加熱を省略でき、工程シート原版の凹凸パターンの変形を防止できる点で、電離放射線硬化性樹脂を使用する（ａ）の方法が好ましい。
【００４３】
（ｄ）〜（ｆ）の方法においては、２次工程シートの厚さを５０〜５００μｍ程度とすることが好ましい。２次工程シートの厚さが５０μｍ以上であれば、２次工程シートが充分な強度を有し、５００μｍ以下であれば、充分な可撓性を確保できる。
（ｄ）〜（ｆ）の方法では、熱による変形が小さい２次工程シートを工程シートとして用いるため、凹凸パターン形成シート用の材料として、電離放射線硬化性樹脂、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂のいずれも使用できる。
【００４４】
なお、（ｄ）〜（ｆ）では工程シート原版の凹凸パターンを金属に転写させて２次工程シートを得たが、樹脂に転写させて２次工程シートを得てもよい。その場合に使用できる樹脂としては、例えば、ポリカーボネート、ポリアセタール、ポリスルホン、アクリル樹脂、（ａ）の方法で使用する電離放射線硬化性樹脂などが挙げられる。電離放射線硬化性樹脂を用いる場合には、（ａ）の方法と同様に、電離放射線硬化性樹脂の塗工、硬化、剥離を順次行なって、２次工程シートを得る。
【００４５】
工程シート原版として用いた微細凹凸シートあるいは２次工程シートを剥離せずに保護層として用い、微細凹凸レプリカの使用直前に保護層を剥離してもよい。
上述のようにして得た微細凹凸シートおよび微細凹凸レプリカには、凹凸パターンの形成された面と反対の面に粘着剤層を設けても構わない。
【実施例】
【００４６】
以下、実施例により本発明を説明する。
【００４７】
＜実施例１＞
ポリマー組成が、テレフタル酸：セバシン酸／エチレングリコール：ジエチレングリコール：ネオペンチルグリコール：１，４−ブタンジオール＝９７：３／５３：２：２０：２５となるようにポリエチレンテレフタレート系ポリマーを直接重合法にて重合した。これに平均粒子径２．５μｍのシリカを０．０５質量％配合し、１５０℃で６時間乾燥した後、２８０℃でＴダイにて溶融押出し、厚さ２００μｍの無延伸フィルムを得た。この無延伸フィルムを１００℃１０秒間余熱した後、８０℃にて延伸倍率５倍にて縦延伸を行い、縦延伸後７０℃１０秒間熱処理を行ってＭＤ方向加熱収縮性フィルムＡの連続シートの巻取りを得た。
得られたＭＤ方向加熱収縮性フィルムＡの片面上に二酸化珪素を厚さ１．５ｎｍになるように蒸着し、積層シート１を巻取りで得た。
得られた積層シートの巻取りを巻出しゾーンに設置し、１５０℃に設定したフローティング熱風ドライヤーを加熱収縮ゾーンとして搬送し収縮させ巻取った。加熱収縮ゾーンには１０秒滞在するようにライン速度を調整し、加熱収縮ゾーンの出口ライン速度／入口ライン速度比を０．４とした。これにより収縮率６０％の大きなシワのない収縮シート１を得た。
得られた収縮シート１の硬質層を設けた面の表面を原子間力顕微鏡（日本ビーコ社製ナノスコープＩＩＩ）により観察したところ、微細凹凸形状が観察され、微細凹凸形状の方向がＣＤ方向であることを確認した。また次の方法により、平均ピッチＡ、平均深さＢ、配向度Ｗ１を求めた。原子間力顕微鏡像をグレースケール画像に変換した後、2次元フーリエ変換を行う。このフーリエ変換像の頻度（ZF）のスムージングを行い、フーリエ変換像の中心部を除く部分の最大頻度を示す位置(XFmax、YFmax)から平均ピッチA=1/｛√(XFmax2+YFmax2)｝を求めた。続いてこのフーリエ変換画像を用いて配向度を「発明を実施するための最良の形態」で示した方法で求める。すなわち、フーリエ変換像の最大輝度部分をXF-YF座標面のXF軸上にθだけ回転させてXF軸上に最大輝度部分が一致するようにθ回転したフーリエ変換像を作成し、(XFmax、YFmax)を通るYF軸に並行な補助線Y´Fを引き、補助線Y´Fを横軸として、補助線Y´F上の輝度（ZF軸）を縦軸としたY´F-ZF図を作成する。このY´F-ZF図のY´F軸の値を平均ピッチAで割ったY´´F-ZF図を作成し、Y´´- ZF図からピークの半値幅Ｗ１（頻度が最大値の半分になる高さでのピークの幅）を求め、配向度Ｗ１を求めた。原子間力顕微鏡測定より得られる断面画像にて、10箇所の山谷により平均深さＢを求めた。結果を表１に示す。
【００４８】
＜実施例２＞
ポリマー組成が、テレフタル酸／エチレングリコール＝１／１となるようにポリエチレンテレフタレート系ポリマーを直接重合法にて重合した。これに平均粒子径２．５μｍのシリカを０．０５質量％配合し、１５０℃で６時間乾燥した後、２８５℃でＴダイにて溶融押出し、厚さ２００μｍの無延伸フィルムを得た。この無延伸フィルムを１００℃１０秒間余熱した後、１００℃にて延伸倍率５倍にて縦延伸を行いＭＤ方向加熱収縮性フィルムＢの連続シートの巻取りを得た。
得られたＭＤ方向加熱収縮性フィルムＢの片面上に酸化アルミニウムを厚さ２ｎｍになるように蒸着し、積層シート２を巻取りで得た。
得られた積層シートの巻取りを巻出しゾーンに設置し、１３０℃に設定したフローティング熱風ドライヤーを加熱収縮ゾーンとして搬送し収縮させ巻取った。加熱収縮ゾーンには２０秒滞在するようにライン速度を調整し、加熱収縮ゾーンの出口ライン速度／入口ライン速度比を０．８とした。これにより収縮率２０％の大きなシワのない収縮シート２を得た。表面形状を実施例１と同様にして観察したところ、微細凹凸形状が観察され、微細凹凸形状の方向がＣＤ方向であることを確認した。平均ピッチＡ、平均深さＢ、配向度Ｗ１は表１に示す。
【００４９】
＜実施例３＞
実施例２のポリエチレンテレフタレート系ポリマー９２．５質量％にポリブチレンテレフタレート７．５質量％を混合し、これに平均粒子径２．５μｍのシリカを０．０５質量％配合し、１５０℃で６時間乾燥した後、２８５℃でＴダイにて溶融押出し、厚さ２００μｍの無延伸フィルムを得た。この無延伸フィルムを１００℃１０秒間余熱した後、１００℃にて延伸倍率３．５倍にて縦延伸を行いＭＤ方向加熱収縮性フィルムＣの連続シートの巻取りを得た。
得られたＭＤ方向加熱収縮性フィルムＣの片面上にアルミニウムを厚さ０．７ｎｍになるように蒸着し、積層シート３を巻取りで得た。
得られた積層シートの巻取りを巻出しゾーンに設置し、１３０℃に設定したフローティング熱風ドライヤーを加熱収縮ゾーンとして搬送し収縮させ巻取った。加熱収縮ゾーンには３０秒滞在するようにライン速度を調整し、加熱収縮ゾーンの出口ライン速度／入口ライン速度比を０．７とした。これにより収縮率３０％の大きなシワのない収縮シート３を得た。表面形状を実施例１と同様にして観察したところ、微細凹凸形状が観察され、微細凹凸形状の方向がＣＤ方向であることを確認した。平均ピッチＡ、平均深さＢ、配向度Ｗ１は表１に示す。
【００５０】
＜実施例４＞
ポリマー組成が、テレフタル酸：イソフタル酸／エチレングリコール＝８３：１７／１００となるようにポリエチレンテレフタレート系ポリマーＡを、テレフタル酸：イソフタル酸／テトラメチレングリコール＝７０：３０／１００となるようにポリエチレンテレフタレート系ポリマーＢを、テレフタル酸：イソフタル酸／エチレングリコール＝８７：１３／１００になるようにポリエチレンテレフタレート系ポリマーＣをそれぞれ直接重合法にて重合した。ポリエチレンテレフタレート系ポリマーＡとポリエチレンテレフタレート系ポリマーＢを質量比４：１で混ぜ合せ、これに平均粒子径２．５μｍのシリカを０．０５質量％配合し、表層樹脂とした。ポリエチレンテレフタレート系ポリマーＣを芯層樹脂とした。それぞれを１５０℃で６時間乾燥した後、表層用、芯層用の２台の押出機ホッパーに供給して２９０℃でマルチマニホールドダイにて表面温度２０℃の冷却ドラム上に押出して急冷し全層の厚さ１８０μｍの表層厚さ15μｍ／芯層厚さ150μｍ／表層厚さ15μｍの２種３層の無延伸フィルムを得た。この無延伸フィルムを１００℃１０秒間余熱した後、７６℃にて延伸倍率３．７倍にて縦延伸を行い、縦延伸後７７℃１０秒間熱処理を行ってＭＤ方向加熱収縮性フィルムＤの連続シートの巻取りを得た。
得られたＭＤ方向加熱収縮性フィルムＤの片面上に硬質層としてポリスチレンを乾燥後の厚さ１０ｎｍになるようにグラビアコーティングにて塗工乾燥し、積層シート４を巻取りで得た。
得られた積層シートの巻取りを巻出しゾーンに設置し、９０℃に設定したフローティング熱風ドライヤーを加熱収縮ゾーンとして搬送し収縮させ巻取った。加熱収縮ゾーンには６０秒滞在するようにライン速度を調整し、加熱収縮ゾーンの出口ライン速度／入口ライン速度比を０．５とした。これにより収縮率５０％の大きなシワのない収縮シート４を得た。表面形状を実施例１と同様にして観察したところ、微細凹凸形状が観察され、微細凹凸形状の方向がＣＤ方向であることを確認した。平均ピッチＡ、平均深さＢ、配向度Ｗ１は表１に示す。
【００５１】
＜実施例５＞
加熱収縮性フィルムとして、ポリカーボネート系ＭＤ方向加熱収縮性フィルム（銘柄Ｔ−１０８０［帝人化成社品］）を用い、片面上に二酸化珪素を厚さ２ｎｍになるように蒸着し、積層シート５を巻取りで得た。
得られた積層シートの巻取りを巻出しゾーンに設置し、２００℃に設定したフローティング熱風ドライヤーを加熱収縮ゾーンとして搬送し収縮させ巻取った。加熱収縮ゾーンには３０秒滞在するようにライン速度を調整し、加熱収縮ゾーンの出口ライン速度／入口ライン速度比を０．７とした。これにより収縮率３０％の大きなシワのない収縮シート５を得た。表面形状を実施例１と同様にして観察したところ、微細凹凸形状が観察され、微細凹凸形状の方向がＣＤ方向であることを確認した。平均ピッチＡ、平均深さＢ、配向度Ｗ１は表１に示す。
【００５２】
＜実施例６＞
酸化アルミニウムを厚さ２５ｎｍとする以外、実施例２と同様に行ったところ、大きなシワのない収縮シート６が得られ、この収縮シートの硬質層表面には微細凹凸形状が観察され、微細凹凸形状の方向がＣＤ方向であることを確認した。平均ピッチＡ、平均深さＢ、配向度Ｗ１は表１に示す。
【００５３】
＜実施例７＞
ポリスチレン硬質層の厚さを１μｍとする以外、実施例４と同様に行い積層シート７を得た。  得られた積層シートの巻取りを巻出しゾーンに設置し、９０℃に設定したフローティング熱風ドライヤーを加熱収縮ゾーンとして搬送し収縮させ巻取った。加熱収縮ゾーンには２０秒滞在するようにライン速度を調整し、加熱収縮ゾーンの出口ライン速度／入口ライン速度比を０．７とした。これにより収縮率３０％の大きなシワのない収縮シート７を得た。この収縮シートの硬質層表面には微細凹凸形状が観察され、微細凹凸形状の方向がＣＤ方向であることを確認した。平均ピッチＡ、平均深さＢ、配向度Ｗ１は表１に示す。
【００５４】
＜比較例１＞
加熱収縮性フィルムとして、ＣＤ方向加熱収縮性フィルム（ヒシペットＬＸ−１４Ｓ［三菱樹脂社製］を使用する以外、実施例１と同様に行ったところ、微細凹凸形状とは異なるＭＤ方向に大きな引きシワが生じ使い物になるシートが得られなかった。
【００５５】
＜比較例２＞
加熱収縮性フィルムとして、ＣＤ方向加熱収縮性フィルム（ヒシペットＬＸ−１４Ｓ［三菱樹脂社製］を使用する以外、実施例７と同様に行ったところ、微細凹凸形状とは異なるＭＤ方向に大きな引きシワが生じ使い物になるシートが得られなかった。
【００５６】
＜比較例３＞
加熱収縮性フルムに硬質層を設けた積層シートの両端耳部をクリップで把持し、張力を作用させながら、１００℃で１分間加熱することにより、ＣＤ方向に収縮率６０％となるよう収縮させる以外、比較例１と同様に行ったところ、大きなシワのない収縮シート１３を得た。このとき加熱収縮ゾーンの出口ライン速度／入口ライン速度比は、１であった。得られた収縮シートの硬質層側の表面には微細凹凸形状が観察され、微細凹凸形状の方向がＭＤ方向であることを確認した。平均ピッチＡ、平均深さＢ、配向度Ｗ１は表１に示す。
【００５７】
＜比較例４＞
加熱収縮性フィルムに硬質層を設けた積層シートの両端耳部をクリップで把持し、張力を作用させながら、９０℃で３０分間加熱することにより、ＣＤ方向に収縮率３０％となるよう収縮させる以外、比較例２と同様に行ったところ、大きなシワのない収縮シート１４を得た。このとき加熱収縮ゾーンの出口ライン速度／入口ライン速度比は、１であった。得られた収縮シートの硬質層側の表面には微細凹凸形状が観察され、微細凹凸形状の方向がＭＤ方向であることを確認した。平均ピッチＡ、平均深さＢ、配向度Ｗ１は表１に示す。
【産業上の利用可能性】
【００５８】
本発明の微細凹凸シートは、反射防止体、位相差板、光拡散体等の光学素子、この微細凹凸形状を利用して金属細線を設けたワイヤーグリツド偏光板、これら光学素子以外にも、包装材料、研磨シート、比表面面積が大きいことを利用して微細凹凸シート表面に触媒を付けた触媒シート、光触媒シート、電極剤を付けた電極シート、その他にも細胞培養シート、燃料電池用電解質膜、離型フィルム、アンチブロッキングフィルム、易接着フィルム、印刷性向上フィルムなどにも利用できる。また、上記用途のうちの複数を兼用することもできる。
【００５９】
【表１】
2010266479.tif 000002
【符号の説明】
【００６０】
１０  微細凹凸シート
１０ａ  積層シート
１１  加熱収縮性フィルム
１２  硬質層
１２ａ  平滑な硬質層
１３  微細凹凸形状
１３ａ  山頂部
１３ｂ  谷底部
【図１】
2010266479.tif 000003
【図２】
2010266479.tif 000004
【図３】
2010266479.tif 000005
【図４】
2010266479.tif 000006
【図５】
2010266479.tif 000007
【図６】
2010266479.tif 000008