(57)【要約】【課題】高価で高精度なステージを不要とし、低価格で高精度な装置を提供できて、生産品の製造コストを低減できる工程処理装置を提供する。【解決手段】ずれ量計測要否判断部１７は、副走査方向９への工程処理部３の目標位置に対する実際の位置のずれ量を、新たに計測する必要があるか否かを予め定められた基準に基づいて判断する。補正移動量算出部１８は、ずれ量計測要否判断部１７により新たなずれ量の計測が必要であると判断された場合、新たに計測されたずれ量に基づいて、工程処理部３の副走査方向９の補正移動量を算出する一方、ずれ量計測要否判断部１７により新たなずれ量の計測が必要でないと判断された場合、予め記憶されたずれ量に基づいて、工程処理部３の副走査方向９の補正移動量を算出する。ステージ制御部１３は、補正移動量算出部１８により算出された補正移動量に応じて工程処理部３の副走査方向９の移動を制御する。【選択図】図１
2010015234.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被処理対象物上の予め定められた位置に対して、第１の方向に往復走査を行いながら工程処理を行う少なくとも１つの工程処理部と、
上記工程処理部毎に設けられると共に、上記被処理対象物の形状を計測し、この計測した形状に基づいて上記第１の方向と異なる第２の方向への上記工程処理部の目標位置に対する実際の位置のずれ量を計測するずれ量計測ユニットと、
上記ずれ量計測ユニットにより計測された上記工程処理部の上記ずれ量と、このずれ量を計測したときの上記第１の方向の上記工程処理部の位置情報とのセットを、記憶するずれ量記憶部と、
上記ずれ量計測ユニットにより新たにずれ量を計測する必要があるか否かを、予め定められた基準に基づいて判断するずれ量計測要否判断部と、
上記ずれ量計測要否判断部により新たなずれ量の計測が必要であると判断された場合、上記ずれ量計測ユニットにより新たに計測されたずれ量に基づいて、上記工程処理部の上記第２の方向の補正移動量を算出する一方、上記ずれ量計測要否判断部により新たなずれ量の計測が必要でないと判断された場合、上記ずれ量記憶部により予め記憶されたずれ量に基づいて、上記工程処理部の上記第２の方向の補正移動量を算出する補正移動量算出部と、
上記工程処理部の上記第１の方向の移動を制御する第１移動制御ユニットと、
上記補正移動量算出部により算出された上記補正移動量に応じて上記工程処理部の上記第２の方向の移動を制御する第２移動制御ユニットと
を備えることを特徴とする工程処理装置。
【請求項２】
請求項１に記載の工程処理装置において、
上記被処理対象物毎の形状の情報を記憶する形状記憶部を備え、
上記ずれ量計測要否判断部は、上記形状記憶部の形状情報を参照して、上記ずれ量計測ユニットの対象とすべき形状位置についてのみ、ずれ量の計測が必要であると判断することを特徴とする工程処理装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の工程処理装置において、
上記工程処理部の上記第１の方向の走査速度を変更する走査速度変更部と、
ずれ量の計測時に必要な走査速度と、ずれ量の計測をせずに工程処理のみ行う場合に必要な走査速度とを、記憶する走査速度記憶部と
を備え、
上記走査速度変更部は、上記走査速度記憶部に記憶された操作速度に基づいて、上記工程処理部の上記第１の方向の走査速度を変更することを特徴とする工程処理装置。
【請求項４】
請求項１から３の何れか一つに記載の工程処理装置において、
上記工程処理部毎に設けられると共に、上記工程処理部と上記被処理対象物との間の距離を測定する距離測定ユニットと、
上記距離測定ユニットの測定結果に基づいて、上記工程処理部と上記被処理対象物との間の距離を制御する距離制御部と
を備えることを特徴とする工程処理装置。
【請求項５】
被処理対象物上の予め定められた位置に対して、第１の方向に往復走査を行いながら工程処理を行う少なくとも１つの工程処理部と、
上記工程処理部毎に設けられると共に、上記工程処理部と上記被処理対象物との間の距離を測定して、上記工程処理部の目標位置に対する実際の位置のずれ量を算出する距離測定ユニットと、
上記距離測定ユニットにより算出された上記工程処理部の上記ずれ量と、このずれ量を算出したときの上記第１の方向の上記工程処理部の位置情報とのセットを、記憶するずれ量記憶部と、
上記距離測定ユニットにより新たにずれ量を算出する必要があるか否かを、予め定められた基準に基づいて判断するずれ量算出要否判断部と、
上記ずれ量算出要否判断部により新たなずれ量の算出が必要であると判断された場合、上記距離測定ユニットにより新たに算出されたずれ量に基づいて、上記工程処理部と上記被処理対象物との間の距離を制御する一方、上記ずれ量算出要否判断部により新たなずれ量の算出が必要でないと判断された場合、上記ずれ量記憶部により予め記憶されたずれ量に基づいて、上記工程処理部と上記被処理対象物との間の距離を制御する距離制御部と
を備えることを特徴とする工程処理装置。
【請求項６】
被処理対象物上の予め定められた位置に対して、工程処理部を第１の方向に往復走査させつつ工程処理を行う方法であって、
上記第１の方向と異なる第２の方向への上記工程処理部の目標位置に対する実際の位置のずれ量を、新たに計測する必要があるか否かを、予め定められた基準に基づいて判断するずれ量計測要否判断工程と、
上記ずれ量計測要否判断工程により新たなずれ量の計測が必要であると判断された場合、新たに計測されたずれ量に基づいて、上記工程処理部の上記第２の方向の補正移動量を算出する一方、上記ずれ量計測要否判断工程により新たなずれ量の計測が必要でないと判断された場合、予め記憶されたずれ量に基づいて、上記工程処理部の上記第２の方向の補正移動量を算出する補正移動量算出工程と、
上記補正移動量算出工程により算出された上記補正移動量に応じて上記工程処理部の上記第２の方向の移動を制御する移動制御工程と
を備えることを特徴とする工程処理方法。
【請求項７】
請求項６に記載の工程処理方法において、
上記工程処理部と上記被処理対象物との間の距離を測定する距離測定工程を備え、
上記移動制御工程は、上記距離測定工程により測定された結果に基づいて、上記工程処理部と上記被処理対象物との間の距離を制御することを特徴とする工程処理方法。
【請求項８】
被処理対象物上の予め定められた位置に対して、工程処理部を第１の方向に往復走査させつつ工程処理を行う方法であって、
上記工程処理部と上記被処理対象物との間の距離に関して、上記工程処理部の目標位置に対する実際の位置のずれ量を、新たに算出する必要があるか否かを、予め定められた基準に基づいて判断するずれ量算出要否判断工程と、
上記ずれ量算出要否判断工程により新たなずれ量の算出が必要であると判断された場合、新たに算出されたずれ量に基づいて、上記工程処理部と上記被処理対象物との間の距離を制御する一方、上記ずれ量算出要否判断工程により新たなずれ量の算出が必要でないと判断された場合、予め記憶されたずれ量に基づいて、上記工程処理部と上記被処理対象物との間の距離を制御する距離制御工程と
を備えることを特徴とする工程処理方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、例えば、被処理対象物としての基板面上に、スペーサのパターンを形成する工程処理装置および工程処理方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、工程処理装置としては、例えば、カラーフィルタを製造する装置がある（特許第３３７２６７１号公報：特許文献１参照）。この装置は、所定形状に形成された遮光部の中心線と吐出ノズルとの位置ずれを検出する。この吐出ノズルは、フィルタエレメントを着色するための着色剤を吐出する。
【０００３】
そして、この装置は、位置ずれから補正量を算出し、吐出ノズルの位置を補正移動してから、吐出ノズルによりフィルタエレメントを着色処理する。
【０００４】
この装置は、カラーフィルタの製造に限定するものであり、所定のパターンで形成された遮光部に対する位置検出を行う場合に、有効である。
【特許文献１】特許第３３７２６７１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、上記従来の装置では、他の製造工場、製造工程に対する汎用性は広範囲に及ばず、例えばＴＦＴ製造工程などパターンが複雑な形状のものに対しては、上記従来の装置の採用は困難であると考えられる。もし、この装置を採用するなら、高価で高精度なステージを必要とし、高価な装置となって、生産品の製造コストが増大する。
【０００６】
そこで、この発明の課題は、高価で高精度なステージを不要とし、低価格で高精度な装置を提供できて、生産品の製造コストを低減できる工程処理装置および工程処理方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するため、この発明の工程処理装置は、
被処理対象物上の予め定められた位置に対して、第１の方向に往復走査を行いながら工程処理を行う少なくとも１つの工程処理部と、
上記工程処理部毎に設けられると共に、上記被処理対象物の形状を計測し、この計測した形状に基づいて上記第１の方向と異なる第２の方向への上記工程処理部の目標位置に対する実際の位置のずれ量を計測するずれ量計測ユニットと、
上記ずれ量計測ユニットにより計測された上記工程処理部の上記ずれ量と、このずれ量を計測したときの上記第１の方向の上記工程処理部の位置情報とのセットを、記憶するずれ量記憶部と、
上記ずれ量計測ユニットにより新たにずれ量を計測する必要があるか否かを、予め定められた基準に基づいて判断するずれ量計測要否判断部と、
上記ずれ量計測要否判断部により新たなずれ量の計測が必要であると判断された場合、上記ずれ量計測ユニットにより新たに計測されたずれ量に基づいて、上記工程処理部の上記第２の方向の補正移動量を算出する一方、上記ずれ量計測要否判断部により新たなずれ量の計測が必要でないと判断された場合、上記ずれ量記憶部により予め記憶されたずれ量に基づいて、上記工程処理部の上記第２の方向の補正移動量を算出する補正移動量算出部と、
上記工程処理部の上記第１の方向の移動を制御する第１移動制御ユニットと、
上記補正移動量算出部により算出された上記補正移動量に応じて上記工程処理部の上記第２の方向の移動を制御する第２移動制御ユニットと
を備えることを特徴としている。
【０００８】
この発明の工程処理装置によれば、上記工程処理部と、上記ずれ量計測ユニットと、上記ずれ量記憶部と、上記ずれ量計測要否判断部と、上記補正移動量算出部と、上記第１移動制御ユニットと、上記第２移動制御ユニットとを備えるので、高価で高精度なステージを不要とし、低価格で高精度な装置を提供できて、生産品の製造コストを低減できる。また、上記ずれ量計測要否判断部を有するので、ずれ量の計測要の回数を減らすことにより、作業の工程数を低減できる。
【０００９】
また、一実施形態の工程処理装置では、
上記被処理対象物毎の形状の情報を記憶する形状記憶部を備え、
上記ずれ量計測要否判断部は、上記形状記憶部の形状情報を参照して、上記ずれ量計測ユニットの対象とすべき形状位置についてのみ、ずれ量の計測が必要であると判断する。
【００１０】
この実施形態の工程処理装置によれば、上記ずれ量計測要否判断部は、上記形状記憶部の形状情報を参照して、上記ずれ量計測ユニットの対象とすべき形状位置についてのみ、ずれ量の計測が必要であると判断するので、ずれ量の計測要の回数を減らすことにより、作業の工程数を低減できる。
【００１１】
また、一実施形態の工程処理装置では、
上記工程処理部の上記第１の方向の走査速度を変更する走査速度変更部と、
ずれ量の計測時に必要な走査速度と、ずれ量の計測をせずに工程処理のみ行う場合に必要な走査速度とを、記憶する走査速度記憶部と
を備え、
上記走査速度変更部は、上記走査速度記憶部に記憶された操作速度に基づいて、上記工程処理部の上記第１の方向の走査速度を変更する。
【００１２】
この実施形態の工程処理装置によれば、上記走査速度変更部は、上記走査速度記憶部に記憶された操作速度に基づいて、上記工程処理部の上記第１の方向の走査速度を変更するので、工程処理のみの場合、ずれ量計測時の走査速度より高速の走査速度とすることで、作業時間を低減できる。
【００１３】
また、一実施形態の工程処理装置では、
上記工程処理部毎に設けられると共に、上記工程処理部と上記被処理対象物との間の距離を測定する距離測定ユニットと、
上記距離測定ユニットの測定結果に基づいて、上記工程処理部と上記被処理対象物との間の距離を制御する距離制御部と
を備える。
【００１４】
この実施形態の工程処理装置によれば、上記距離測定ユニットと上記距離制御部とを備えるので、上記被処理対象物の平面精度に関わらず、上記被処理対象物に対して高精度に工程処理を行うことができる。
【００１５】
また、この発明の工程処理装置は、
被処理対象物上の予め定められた位置に対して、第１の方向に往復走査を行いながら工程処理を行う少なくとも１つの工程処理部と、
上記工程処理部毎に設けられると共に、上記工程処理部と上記被処理対象物との間の距離を測定して、上記工程処理部の目標位置に対する実際の位置のずれ量を算出する距離測定ユニットと、
上記距離測定ユニットにより算出された上記工程処理部の上記ずれ量と、このずれ量を算出したときの上記第１の方向の上記工程処理部の位置情報とのセットを、記憶するずれ量記憶部と、
上記距離測定ユニットにより新たにずれ量を算出する必要があるか否かを、予め定められた基準に基づいて判断するずれ量算出要否判断部と、
上記ずれ量算出要否判断部により新たなずれ量の算出が必要であると判断された場合、上記距離測定ユニットにより新たに算出されたずれ量に基づいて、上記工程処理部と上記被処理対象物との間の距離を制御する一方、上記ずれ量算出要否判断部により新たなずれ量の算出が必要でないと判断された場合、上記ずれ量記憶部により予め記憶されたずれ量に基づいて、上記工程処理部と上記被処理対象物との間の距離を制御する距離制御部と
を備えることを特徴としている。
【００１６】
この発明の工程処理装置によれば、工程処理部と、距離測定ユニットと、ずれ量記憶部と、ずれ量算出要否判断部と、距離制御部とを備えるので、高価で高精度なステージを不要とし、低価格で高精度な装置を提供できて、生産品の製造コストを低減できる。また、ずれ量算出要否判断部を有するので、ずれ量の算出要の回数を減らすことにより、作業の工程数を低減できる。
【００１７】
また、この発明の工程処理方法は、
被処理対象物上の予め定められた位置に対して、工程処理部を第１の方向に往復走査させつつ工程処理を行う方法であって、
上記第１の方向と異なる第２の方向への上記工程処理部の目標位置に対する実際の位置のずれ量を、新たに計測する必要があるか否かを、予め定められた基準に基づいて判断するずれ量計測要否判断工程と、
上記ずれ量計測要否判断工程により新たなずれ量の計測が必要であると判断された場合、新たに計測されたずれ量に基づいて、上記工程処理部の上記第２の方向の補正移動量を算出する一方、上記ずれ量計測要否判断工程により新たなずれ量の計測が必要でないと判断された場合、予め記憶されたずれ量に基づいて、上記工程処理部の上記第２の方向の補正移動量を算出する補正移動量算出工程と、
上記補正移動量算出工程により算出された上記補正移動量に応じて上記工程処理部の上記第２の方向の移動を制御する移動制御工程と
を備えることを特徴としている。
【００１８】
この発明の工程処理方法によれば、上記ずれ量計測要否判断工程と、上記補正移動量算出工程と、上記移動制御工程とを備えるので、高価で高精度なステージを不要とし、低価格で高精度な方法を提供できて、生産品の製造コストを低減できる。また、上記ずれ量計測要否判断工程を有するので、ずれ量の計測要の回数を減らすことにより、作業の工程数を低減できる。
【００１９】
また、一実施形態の工程処理方法では、
上記工程処理部と上記被処理対象物との間の距離を測定する距離測定工程を備え、
上記移動制御工程は、上記距離測定工程により測定された結果に基づいて、上記工程処理部と上記被処理対象物との間の距離を制御する。
【００２０】
この実施形態の工程処理方法によれば、上記距離測定工程を備え、上記移動制御工程は、上記距離測定工程により測定された結果に基づいて、上記工程処理部と上記被処理対象物との間の距離を制御するので、上記被処理対象物の平面精度に関わらず、上記被処理対象物に対して高精度に工程処理を行うことができる。
【００２１】
また、この発明の工程処理方法は、
被処理対象物上の予め定められた位置に対して、工程処理部を第１の方向に往復走査させつつ工程処理を行う方法であって、
上記工程処理部と上記被処理対象物との間の距離に関して、上記工程処理部の目標位置に対する実際の位置のずれ量を、新たに算出する必要があるか否かを、予め定められた基準に基づいて判断するずれ量算出要否判断工程と、
上記ずれ量算出要否判断工程により新たなずれ量の算出が必要であると判断された場合、新たに算出されたずれ量に基づいて、上記工程処理部と上記被処理対象物との間の距離を制御する一方、上記ずれ量算出要否判断工程により新たなずれ量の算出が必要でないと判断された場合、予め記憶されたずれ量に基づいて、上記工程処理部と上記被処理対象物との間の距離を制御する距離制御工程と
を備えることを特徴としている。
【００２２】
この発明の工程処理方法によれば、上記ずれ量算出要否判断工程と、上記距離制御工程とを備えるので、高価で高精度なステージを不要とし、低価格で高精度な方法を提供できて、生産品の製造コストを低減できる。また、上記ずれ量算出要否判断工程を有するので、ずれ量の算出要の回数を減らすことにより、作業の工程数を低減できる。
【発明の効果】
【００２３】
この発明の工程処理装置によれば、上記工程処理部と、上記ずれ量計測ユニットと、上記ずれ量記憶部と、上記ずれ量計測要否判断部と、上記補正移動量算出部と、上記第１移動制御ユニットと、上記第２移動制御ユニットとを備えるので、高価で高精度なステージを不要とし、低価格で高精度な装置を提供できて、生産品の製造コストを低減できる。
【００２４】
この発明の工程処理方法によれば、上記ずれ量計測要否判断工程と、上記補正移動量算出工程と、上記移動制御工程とを備えるので、高価で高精度なステージを不要とし、低価格で高精度な方法を提供できて、生産品の製造コストを低減できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
以下、この発明を図示の実施の形態により詳細に説明する。
【００２６】
（第１の実施形態）
図１は、この発明の工程処理装置の一実施形態である簡略構成図を示している。図２は、この発明の工程処理装置のブロック図を示している。図１と図２に示すように、この工程処理装置は、所定形状に形成された被処理対象物上の予め定められた位置に対して、第１の方向に往復走査を行いながら所定の工程処理を行う。
【００２７】
つまり、この装置では、被処理対象物としての基板１を、吸着ステージ２に固定し、工程処理を行う工程処理部３を、基板１に対して主走査部６および副走査部７により移動させて、工程処理部３にて、基板１面上にスペーサ材料を塗布して、スペーサのパターンを形成する。
【００２８】
主走査部６は、工程処理部３を、第１の方向としての主走査方向８に移動させ、副走査部７は、工程処理部３を、第２の方向としての副走査方向９に移動させる。主走査方向８と副走査方向９とは、互いに直交する。主走査方向８および副走査方向９は、基板１に平行な面上にある。
【００２９】
工程処理部３には、計測カメラ４とアライメントカメラ１５とが取り付けられている。計測カメラ４は、基板１の形状を計測する。計測カメラ４としては、ラインセンサカメラを用い、所定のライン数で１フレームを形成する。なお、計測カメラ４としては、例えば高速シャッターを有するエリアセンサカメラを用いてもよい。アライメントカメラ１５は、基板１面上に形成されたアライメントマークを撮像する。
【００３０】
計測カメラ４およびアライメントカメラ１５は、画像処理部１２に接続され、この画像処理部１２は、計測カメラ４およびアライメントカメラ１５の画像を処理する。
【００３１】
計測カメラ４および画像処理部１２は、ずれ量計測ユニットを構成し、このずれ量計測ユニットは、工程処理部３毎に設けられると共に、基板１の形状を計測し、この計測した形状に基づいて副走査方向９への工程処理部３の目標位置に対する実際の位置のずれ量を計測する。
【００３２】
主走査部６および副走査部７は、ステージ制御部１３に接続され、ステージ制御部１３は、主走査部６および副走査部７を制御して、工程処理部３、計測カメラ４およびアライメントカメラ１５の基板１に対する位置を調整する。
【００３３】
主走査部６およびステージ制御部１３は、第１移動制御ユニットを構成し、第１移動制御ユニットは、工程処理部３の主走査方向８の移動を制御する。副走査部７およびステージ制御部１３は、第２移動制御ユニットを構成し、第２移動制御ユニットは、工程処理部３の副走査方向９の移動を制御する。
【００３４】
吸着ステージ２は、基板位置決め制御部１４に接続され、基板位置決め制御部１４は、吸着ステージ２を制御して、基板１のＸＹθ軸の位置を調整する。
【００３５】
画像処理部１２、ステージ制御部１３および基板位置決め制御部１４は、主制御ユニット１０に接続されて、制御される。
【００３６】
主制御ユニット１０は、記憶ユニット１１に接続され、記憶ユニット１１にデータを入力すると共に記憶ユニット１１からデータを出力する。
【００３７】
主制御ユニット１０は、ずれ量計測要否判断部１７と、補正移動量算出部１８と、走査速度変更部１９とを含む。
【００３８】
記憶ユニット１１は、ずれ量記憶部１１ａと、形状記憶部１１ｂと、走査速度記憶部１１ｃとを含む。
【００３９】
ずれ量記憶部１１ａは、ずれ量計測ユニットにより計測された工程処理部３のずれ量と、このずれ量を計測したときの主走査方向８の工程処理部３の位置情報とのセットを、記憶する。
【００４０】
ずれ量計測要否判断部１７は、ずれ量計測ユニットにより新たにずれ量を計測する必要があるか否かを、予め定められた基準に基づいて判断する。
【００４１】
補正移動量算出部１８は、ずれ量計測要否判断部１７により新たなずれ量の計測が必要であると判断された場合、ずれ量計測ユニットにより新たに計測されたずれ量に基づいて、工程処理部３の副走査方向９の補正移動量を算出する一方、ずれ量計測要否判断部１７により新たなずれ量の計測が必要でないと判断された場合、ずれ量記憶部１１ａにより予め記憶されたずれ量に基づいて、工程処理部３の副走査方向９の補正移動量を算出する。補正移動量算出部１８により算出された補正移動量に応じて、第２移動制御ユニットは、工程処理部３の副走査方向９の移動を制御する。
【００４２】
形状記憶部１１ｂは、基板１の形状の情報を記憶する。ずれ量計測要否判断部１７は、形状記憶部１１ｂの形状情報を参照して、ずれ量計測ユニットの対象とすべき形状位置についてのみ、ずれ量の計測が必要であると判断する。
【００４３】
走査速度変更部１９は、工程処理部３の主走査方向８の走査速度を変更する。走査速度記憶部１１ｃは、ずれ量の計測時に必要な走査速度と、ずれ量の計測をせずに工程処理のみ行う場合に必要な走査速度とを、記憶する。走査速度変更部１９は、走査速度記憶部１１ｃに記憶された操作速度に基づいて、工程処理部３の主走査方向８の走査速度を変更する。
【００４４】
次に、上記構成の工程処理装置による工程処理方法を説明する。
【００４５】
図３のフローチャートに示すように、ステップＳ１では、基板搬入処理を行う。基板搬入処理では、図示しない基板搬送ユニットにより、吸着ステージ２へ基板１を搬入する。基板１は、位置決め制御部１４により、吸着ステージ２に吸着固定される。
【００４６】
ステップＳ２では、アライメント処理を行う。基板１面上に形成されたアライメントマークを撮像するために、ステージ制御部１３の指示により、主走査部６および副走査部７を制御して、アライメントカメラ１５をアライメントマークが撮像可能な位置へ移動する。画像処理部１２により、撮像したマーク位置を計測して、ＸＹθ軸補正量を算出する。主制御ユニット１０は、算出値に応じて、基板位置決め制御部１４へ移動指令を行い、吸着ステージ２の姿勢を制御する。
【００４７】
ステップＳ３では、載置された基板１に対する工程処理のための準備を行う。パターンデータを、図示しないデータサーバーから読み出し、主制御ユニット１０は、パターンデータに応じて、工程処理部３およびステージ制御部１３へ処理指令を送る。主制御ユニット１０は、工程処理部３を工程処理位置へ移動させるため、パターンデータから算出し、ステージ制御部１３へ、主走査部６と副走査部７との絶対位置指令値、あるいは、相対移動指令値を送る。
【００４８】
ステップＳ４では、ステージ制御部１３の指示により、主走査部６および副走査部７を制御して、工程処理部３を走査処理の開始位置へ移動し、工程処理を開始する。基板１の全てのパターンデータに対して工程処理を行う。工程処理部３は、パターンデータに応じて、主走査方向８へ走査中に、図示しないエンコーダ信号により処理タイミングを計って、工程処理を行う。
【００４９】
ステップＳ５では、ずれ量計測要否判断部１７により、ずれ量計測の要否を判断し、必要であればステップＳ６へ、不要であればステップＳ８へ進む。
【００５０】
ここで、ずれ量計測の要否判断とは、予め定められた基準に基づいて判断する。例えば、往復走査処理を行う場合、往路と復路の処理位置が隣接しているのであれば、隣接位置ではずれ量の差が位置検出誤差と比較して大差無いことが予め分かっている場合において、往路で計測したずれ量を基に復路の補正量を算出すればよく、往路ではずれ量計測要、復路ではずれ量計測否と判断して処理することが出来る。
【００５１】
また、例えば、パターンの描画装置が高精度であり、基板１に対して一度ずれ量を計測すれば、その後の処理はそのずれ量を基に補正量を算出するのみで良い場合、最初の往路処理時にのみずれ量計測要とし、その後の処理はずれ量計測否と判断して処理することが出来る。
【００５２】
また、ずれ量計測要否判断部１７は、形状記憶部１１ｂの形状情報を参照して、ずれ量計測ユニットの対象とすべき形状位置についてのみ、ずれ量の計測が必要であると判断するようにしてもよい。
【００５３】
また、走査速度変更部１９は、走査速度記憶部１１ｃに記憶された操作速度に基づいて、工程処理部３の主走査方向８の走査速度を変更するようにしてもよい。
【００５４】
このように、工程処理のみの場合の走査速度に比べ、ずれ量計測を要する場合の走査速度の方を低速にする必要があることから、ずれ量計測要の回数を減らすことにより、タクト短縮を図ることができる。
【００５５】
ステップＳ６では、ずれ量計測ユニットによりずれ量を計測する。図４，５は、計測カメラ４で撮像した画像データを基に、位置取得を行う流れを示す図である。計測カメラ４の撮像画像を投影処理し、所定の閾値を超える領域のエッジ部を検出し、その中心位置を実際の位置として検出している。図４では、目標位置（目標中心位置）と実際の位置（検出位置）が同じであるため、ずれ量０となる。
【００５６】
図５では、目標位置（目標中心位置）と実際の位置（検出位置）が異なるため、計測カメラ４の撮像画像上の目標位置と実際の位置との差を、すれ量として算出する。例えば、水平方向に５１２画素を有する計測カメラを使用した場合に、予め目標とする位置を２５６画素の位置に設定したとして、実際の位置が２５０画素の位置であれば−６画素分がずれ量算出の元データとなる。ここで、素子サイズ１４ミクロンの計測カメラに、固定倍率１０倍レンズを使用して撮像した場合、１画素１．４ミクロン相当分解能となり、−６画素では−６×１．４＝−８．４ミクロンのずれ量と算出される。
【００５７】
ステップＳ７では、計測位置とずれ量をセットにして、ずれ量記憶部１１ａに記憶する。この時、計測位置は、主走査部６および副走査部７の位置情報を基に生成するものとして、ずれ量計測時の副走査部７の位置が、後の補正移動量算出に必要となる。
【００５８】
ステップＳ８では、予め記憶してあるずれ量、あるいは過去に計測した結果データとして、ずれ量記憶部１１ａに記憶されたずれ量を取得する。
【００５９】
ステップＳ９では、計測または取得したずれ量に基づいて、補正移動量算出部１８により、補正移動量を算出する。工程処理部３と計測カメラ４の相対距離を考慮し、先行する計測カメラ４で検出した位置情報を基に算出されたずれ量に対し、工程処理部３が当該処理位置に到達する際、その時点における副走査部７の位置と、計測時点における副走査部７の位置との差に、計測したずれ量を足し込むことにより、補正移動量を算出するものである。例えば、計測時点の副走査部７の位置が＋１００ミクロンの位置で、算出ずれ量が−８．４ミクロン、工程処理部３が計測位置到達時（補正移動実施位置）の副走査部７の位置が＋１０５ミクロンであったとすると、補正に必要な移動量は、（１００−１０５）＋（−８．４）＝−１３．４ミクロンとなる。つまり、（補正移動量）＝（計測時の位置）−（現在位置）＋（ずれ量）となる。
【００６０】
ステップＳ１０では、第２移動制御ユニットにより、算出された補正移動量に応じて、工程処理部３を副走査方向９へ補正移動する。
【００６１】
ステップＳ１１では、その走査処理の終了かどうかを判断し、終了ならステップＳ１２へ、終了でないならステップＳ５へ戻る。
【００６２】
ステップＳ１２では、上記走査処理の終了により、工程処理が終了したかどうかを判断し、終了ならステップＳ１３へ、終了でないならステップＳ１４へ進む。
【００６３】
ステップＳ１４では、次走査開始位置へ移動し、ステップＳ５へ戻り、次の走査処理を開始する。
【００６４】
ステップＳ１３では、基板搬出処理を行う。主制御ユニット１０の指示により、吸着ステージ２により吸着を解除する。次に、図示しない基板搬送ユニットにより、基板１を搬出する。
【００６５】
上記構成の工程処理装置によれば、工程処理部３と、ずれ量計測ユニット４，１２と、ずれ量記憶部１１ａと、ずれ量計測要否判断部１７と、補正移動量算出部１８と、第１移動制御ユニット６，１３と、第２移動制御ユニット７，１３とを備えるので、高価で高精度なステージを不要とし、低価格で高精度な装置を提供できて、生産品の製造コストを低減できる。また、ずれ量計測要否判断部１７を有するので、ずれ量の計測要の回数を減らすことにより、作業の工程数を低減できる。
【００６６】
また、ずれ量計測要否判断部１７は、形状記憶部１１ｂの形状情報を参照して、ずれ量計測ユニットの対象とすべき形状位置についてのみ、ずれ量の計測が必要であると判断するので、ずれ量の計測要の回数を減らすことにより、作業の工程数を低減できる。
【００６７】
また、走査速度変更部１９は、走査速度記憶部１１ｃに記憶された操作速度に基づいて、工程処理部の主走査方向８の走査速度を変更するので、工程処理のみの場合、ずれ量計測時の走査速度より高速の走査速度とすることで、作業時間を低減できる。
【００６８】
上記構成の工程処理方法によれば、副走査方向９への工程処理部３の目標位置に対する実際の位置のずれ量を、新たに計測する必要があるか否かを、予め定められた基準に基づいて判断するずれ量計測要否判断工程と、ずれ量計測要否判断工程により新たなずれ量の計測が必要であると判断された場合、新たに計測されたずれ量に基づいて、工程処理部３の副走査方向９の補正移動量を算出する一方、ずれ量計測要否判断工程により新たなずれ量の計測が必要でないと判断された場合、予め記憶されたずれ量に基づいて、工程処理部３の副走査方向９の補正移動量を算出する補正移動量算出工程と、補正移動量算出工程により算出された補正移動量に応じて工程処理部３の副走査方向９の移動を制御する移動制御工程とを備えるので、高価で高精度なステージを不要とし、低価格で高精度な方法を提供できて、生産品の製造コストを低減できる。また、ずれ量計測要否判断工程を有するので、ずれ量の計測要の回数を減らすことにより、作業の工程数を低減できる。
【００６９】
（第２の実施形態）
図６Ａと図６Ｂは、この発明の工程処理装置の第２の実施形態を示している。上記第１の実施形態と相違する点を説明すると、この第２の実施形態では、工程処理部と基板との間の基板厚み方向の距離を制御している。なお、その他の構造は、上記第１の実施形態と同じであるため、その説明を省略する。
【００７０】
図６Ａに示すように、上記第１の実施形態の構成に加えて、工程処理部３と基板１との間の距離を測定する距離測定ユニット２０と、距離測定ユニット２０の測定結果に基づいて、工程処理部３と基板１との間の距離を制御する距離制御部２１とを有する。
【００７１】
距離測定ユニット２０は、計測カメラ４と距離補正量算出部２２とから構成される。工程処理部３を複数設けた場合、距離測定ユニット２０は、工程処理部３毎に設けられる。
【００７２】
基板１の表面が、仮想線に示す基準位置に比べて、実線に示す実際位置にまで凸状に変化している場合、計測カメラ４は、基板１を撮像し、距離補正量算出部２２は、計測カメラ４のフォーカス位置における基板１の基準位置と実際位置との差分ΔＨを求める。
【００７３】
そして、上記第１の実施形態の主走査部６および副走査部７により、工程処理部３を計測カメラ４のフォーカス位置に移動したときには、距離制御部２１は、工程処理部３を差分ΔＨだけ上方に移動する。
【００７４】
なお、距離制御部２１は、工程処理部３を計測カメラ４のフォーカス位置に移動した後に、工程処理部３を上方に移動するようにしてもよく、または、工程処理部３を計測カメラ４のフォーカス位置に移動しながら、工程処理部３を上方に移動するようにしてもよい。
【００７５】
一方、図６Ｂに示すように、基板１の表面が、仮想線に示す基準位置に比べて、実線に示す実際位置にまで凹状に変化している場合、距離補正量算出部２２は、計測カメラ４のフォーカス位置における基板１の基準位置と実際位置との差分ΔＨを求める。距離制御部２１は、工程処理部３を差分ΔＨだけ下方に移動する。
【００７６】
つまり、距離測定ユニット２０により、工程処理部３と基板１との間の距離（差分ΔＨ）を測定してから、この測定された結果に基づいて、距離制御部２１により、工程処理部３と基板１との間の距離を制御する。
【００７７】
ここで、液晶工場では、基板サイズが大きくなり、基板間公差や吸着ステージの平面精度による、ステップ露光誤差や基板高さ（厚み）誤差の発生率が高くなる。そのため、主走査方向の処理時に副走査方向の補正量計測は必須手段となるが、インクジェット塗布装置などで工程処理を行う場合、特に、工程処理部の走査速度が高速の場合には、着弾誤差への影響が大きく、高さ方向の補正も必要となる。
【００７８】
そして、本発明では、距離測定ユニット２０と距離制御部２１とを備えるので、高さ方向の補正を行い、基板１の平面精度に関わらず、基板１に対して高精度に工程処理を行うことができる。
【００７９】
（第３の実施形態）
図７は、この発明の工程処理装置の第３の実施形態を示している。上記第１の実施形態と相違する点を説明すると、この第３の実施形態では、上記第１の実施形態の副走査方向の補正に代えて、上記第２の実施形態の高さ方向の補正を行っている。なお、上記第１、上記第２の実施形態と同一の符号は、上記第１、上記第２の実施形態と同じ構成であるため、その説明を省略する。
【００８０】
図７に示すように、工程処理装置は、工程処理部３と、距離測定ユニット２０と、ずれ量記憶部３１と、ずれ量算出要否判断部３７と、距離制御部２１とを有する。
【００８１】
工程処理部３は、上記第１の実施形態の工程処理部３と同じ構成であり、その説明を省略する。
【００８２】
距離測定ユニット２０は、上記第２の実施形態の距離測定ユニット２０と同様の構成であり、工程処理部３と基板１との間の距離を測定して、工程処理部３の目標位置に対する実際の位置のずれ量（差分ΔＨ）を算出する。
【００８３】
ずれ量記憶部３１は、上記第１の実施形態のずれ量記憶部１１ａと同様の構成であり、距離測定ユニット２０により算出された工程処理部３のずれ量と、このずれ量を算出したときの主走査方向８の工程処理部３の位置情報とのセットを、記憶する。
【００８４】
ずれ量算出要否判断部３７は、上記第１の実施形態のずれ量計測要否判断部１７と同様の構成であり、距離測定ユニット２０により新たにずれ量を算出する必要があるか否かを、予め定められた基準に基づいて判断する。
【００８５】
距離制御部２１は、上記第２の実施形態の距離制御部２１と同様の構成であり、ずれ量算出要否判断部３７により新たなずれ量の算出が必要であると判断された場合、距離測定ユニット２０により新たに算出されたずれ量に基づいて、工程処理部３と基板１との間の距離を制御する一方、ずれ量算出要否判断部３７により新たなずれ量の算出が必要でないと判断された場合、ずれ量記憶部３１により予め記憶されたずれ量に基づいて、工程処理部３と基板１との間の距離を制御する。
【００８６】
次に、上記構成の工程処理装置による工程処理方法を説明すると、ずれ量算出要否判断部３７により、工程処理部３と基板１との間の距離に関して、工程処理部３の目標位置に対する実際の位置のずれ量（差分ΔＨ）を、新たに算出する必要があるか否かを、予め定められた基準に基づいて判断する（ずれ量算出要否判断工程）。
【００８７】
その後、ずれ量算出要否判断部３７により新たなずれ量の算出が必要であると判断された場合、新たに算出されたずれ量に基づいて、工程処理部３と基板１との間の距離を距離制御部２１により制御する。一方、ずれ量算出要否判断部３７により新たなずれ量の算出が必要でないと判断された場合、予め記憶されたずれ量に基づいて、工程処理部３と基板１との間の距離を距離制御部２１により制御する（距離制御工程）。
【００８８】
上記構成の工程処理装置によれば、工程処理部３と、距離測定ユニット２０と、ずれ量記憶部３１と、ずれ量算出要否判断部３７と、距離制御部２１とを備えるので、高価で高精度なステージを不要とし、低価格で高精度な装置を提供できて、生産品の製造コストを低減できる。また、ずれ量算出要否判断部３７を有するので、ずれ量の算出要の回数を減らすことにより、作業の工程数を低減できる。
【００８９】
また、上記構成の工程処理方法によれば、ずれ量算出要否判断工程と距離制御工程とを備えるので、高価で高精度なステージを不要とし、低価格で高精度な方法を提供できて、生産品の製造コストを低減できる。また、ずれ量算出要否判断工程を有するので、ずれ量の算出要の回数を減らすことにより、作業の工程数を低減できる。
【００９０】
なお、この発明は上述の実施形態に限定されない。例えば、形状記憶部１１ｂ、走査速度変更部１９および走査速度記憶部１１ｃを、省略してもよい。また、工程処理部３を複数設けてもよく、ずれ量計測ユニットを工程処理部３毎に設ければよい。また、第１の方向（主走査方向８）と第２の方向（副走査方向９）とは、互いに直交する必要はなく、互いに異なる方向であればよい。また、工程処理としては、カラーフィルタの製造や、機械加工であってもよい。
【図面の簡単な説明】
【００９１】
【図１】本発明の工程処理装置の一実施形態を示す簡略構成図である。
【図２】工程処理装置のブロック図である。
【図３】工程処理方法のフロー図である。
【図４】工程処理装置の位置検出の一例を示す説明図である。
【図５】工程処理装置の位置検出の他例を示す説明図である。
【図６Ａ】本発明の工程処理装置の他の実施形態を示す簡略構成図である。
【図６Ｂ】本発明の工程処理装置の他の実施形態を示す簡略構成図である。
【図７】本発明の工程処理装置の別の実施形態を示すブロック図である。
【符号の説明】
【００９２】
１  基板（被処理対象物）
２  吸着ステージ
３  工程処理部
４  計測カメラ
６  主走査部
７  副走査部
８  主走査方向（第１の方向）
９  副走査方向（第２の方向）
１０  主制御ユニット
１１  記憶ユニット
１１ａ  ずれ量記憶部
１１ｂ  形状記憶部
１１ｃ  走査速度記憶部
１２  画像処理部
１３  ステージ制御部
１４  基板位置決め制御部
１５  アライメントカメラ
１７  ずれ量計測要否判断部
１８  補正移動量算出部
１９  走査速度変更部
２０  距離測定ユニット
２１  距離制御部
２２  距離補正量算出部
３１  ずれ量記憶部
３７  ずれ量算出要否判断部
【図１】
2010015234.tif 000003
【図２】
2010015234.tif 000004
【図３】
2010015234.tif 000005
【図６Ａ】
2010015234.tif 000006
【図６Ｂ】
2010015234.tif 000007
【図７】
2010015234.tif 000008
【図４】
2010015234.tif 000009
【図５】
2010015234.tif 000010