(57)【要約】【課題】カバー部によって投写光学系を保護しつつ、コストを抑えながらカバー部の光の入射面での反射による損失を低減して画像の輝度の低下を抑えることのできるプロジェクタを提供すること。【解決手段】プロジェクタは、被照射面に向けて投写光を投写する投写部と、投写部を内部に備えるとともに、投写光を外部に射出させるための開口部が形成された筐体と、開口部に設けられ投写光を透過させるカバー部４と、を備え、カバー部は、投写光の入射角度に基づいて投写光の入射面に複数の領域１５ａ，１５ｂが設定され、投写光の入射角度に応じた反射防止のための処理が領域ごとになされている。【選択図】図１０
2010152263.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被照射面に向けて投写光を投写する投写部と、
前記投写部を内部に備えるとともに、前記投写光を外部に射出させるための開口部が形
成された筐体と、
前記開口部に設けられ前記投写光を透過させるカバー部と、を備え、
前記カバー部は、前記投写光の入射角度に基づいて前記投写光の入射面に複数の領域が
設定され、前記投写光の入射角度に応じた反射防止のための処理が前記領域ごとになされ
ていることを特徴とするプロジェクタ。
【請求項２】
前記複数の領域のうちの１の領域として、所定範囲内の入射角度で入射する投写光の反
射防止のための処理がなされた基準領域が設定され、
前記基準領域から離れた領域ほど、より大きな入射角度で入射する投写光の反射防止の
ための処理がなされていることを特徴とするプロジェクタ。
【請求項３】
前記カバー部は、平面視において略長方形形状を呈し、前記入射面が略長方形形状の長
手方向に３つに区分されることで前記複数の領域とされ、
前記基準領域は、前記複数の領域のうち長手方向における中央に設定された領域である
ことを特徴とする請求項２に記載のプロジェクタ。
【請求項４】
前記カバー部は、平面視において略長方形形状を呈し、前記入射面が略長方形形状の短
手方向に２つに区分されることで前記複数の領域が形成され、
一方の領域は、所定範囲の入射角度で入射する投写光の反射防止のための処理がなされ
、
他方の領域は、前記所定範囲よりも大きな入射角度で入射する投写光の反射防止のため
の処理がなされていることを特徴とする請求項１に記載のプロジェクタ。
【請求項５】
前記投写光の反射防止のための処理が、前記入射面に反射防止膜を施すことであること
を特徴とする請求項１から請求項４のうちいずれか１項に記載のプロジェクタ。
【請求項６】
隣接する前記領域同士の境界で前記反射防止膜が重なりを有していることを特徴とする
請求項５に記載のプロジェクタ。
【請求項７】
前記投写部は、前記投写光を広角化させる広角化反射部を有することを特徴とする請求
項１から請求項６のうちいずれか１項に記載のプロジェクタ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プロジェクタ、特に、投写部を保護するカバー部を備えるプロジェクタの技
術に関する。
【背景技術】
【０００２】
スクリーンに光を投写して画像を表示させるプロジェクタは、光を投写するための投写
光学系を筐体内に備える。投写光学系は、埃や汚れの影響により大きく性能が劣化する場
合がある。そこで、投写光学系を埃や汚れから保護するために光を透過可能なカバー部を
筐体に設ける構成が提案されている（例えば、特許文献１、２、３、４を参照。）。
【０００３】
【特許文献１】特開２００４−１２７４９号公報
【特許文献２】特表２００８−５２２２２９号公報
【特許文献３】特開２００８−１０７８０１号公報
【特許文献４】特開２００８−１６５２０２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
投写光学系から投写された光の多くは、カバー部を透過してスクリーンに投写されるが
、一部の光はカバー部の入射面で反射する。カバー部に入射する光のうち反射する光の割
合、すなわち反射率は、入射面への光の入射角度によって異なる。入射面での反射率は、
入射角度が大きくなるほど高くなる。投写光学系から投写された光は、入射面に対して様
々な角度で入射する場合がある。反射率が高くなれば、スクリーンに到達できる光が少な
くなり、画像の輝度が低下する。したがって、カバー部に入射する投写光のうち、大きな
入射角度で入射した投写光によって表示される画像の輝度が低下してしまうという問題が
生じる。
【０００５】
入射面での反射を抑えるために、カバー部の入射面全体に反射防止膜（ＡＲコート）を
施すことも考えられるが、幅広い入射角度に対して反射防止機能を発揮させるためには、
非常に多層のコーティング膜が必要となり、高コストなものとなってしまう。
【０００６】
また、広角化された光を投写してスクリーンに近い位置から光を投写することが可能な
、いわゆる近接投写型のプロジェクタがある。近接投写型のプロジェクタでは、光が広角
化されていることにより、カバー部への入射角度の幅が広くなり、大きな入射角度で入射
する投写光が生じやすい。このため、特に近接投写型のプロジェクタでは、カバー部への
光の入射角度に起因した画像の輝度の低下が顕著に発生するという問題が生じる。
【０００７】
本発明は、上述の問題に鑑みてなされたものであり、カバー部によって投写光学系を保
護しつつ、コストを抑えながらカバー部の光の入射面での反射による損失を低減して画像
の輝度の低下を抑えることのできるプロジェクタを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明に係るプロジェクタは、被照射
面に向けて投写光を投写する投写部と、投写部を内部に備えるとともに、投写光を外部に
射出させるための開口部が形成された筐体と、開口部に設けられ投写光を透過させるカバ
ー部と、を備え、カバー部は、投写光の入射角度に基づいて投写光の入射面に複数の領域
が設定され、投写光の入射角度に応じた反射防止のための処理が領域ごとになされている
。
【０００９】
カバー部の入射面に複数の領域が設定され、その領域ごとに投写光の入射角度に応じた
反射防止のための処理がなされているので、カバー部の入射面での反射を抑えることがで
きる。入射面での反射を抑えることで、反射による損失を低減して画像の輝度の低下を抑
えることができる。また、領域ごとに入射角度に応じた処理がなされるので、幅広い入射
角度に対して反射防止機能を発揮させるような多層のコーティング膜を入射面全体に施す
必要がなくなるので、製造コストの低減を図ることができる。なお、入射角度とは、投写
光の入射位置における入射面の法線と、その投写光の光線とがなす角度をいう。
【００１０】
また、本発明の好ましい態様としては、複数の領域のうちの１の領域として、所定範囲
内の入射角度で入射する投写光の反射防止のための処理がなされた基準領域が設定され、
基準領域から離れた領域ほど、より大きな入射角度で入射する投写光の反射防止のための
処理がなされていることが望ましい。
【００１１】
例えば、投写光が放射状の光であれば、カバー部の入射面に最も小さな入射角度で投写
光が入射してくる場所から離れるほど、投写光の入射角度は大きくなる。このような場合
に、基準領域から離れた領域ほど、より大きな入射角度で入射する投写光の反射防止のた
めの処理がなされていれば、最も小さな角度で投写光を基準領域に入射させることで、効
果的に入射面での反射を低減し、画像の輝度低下を抑えることができる。
【００１２】
また、本発明の好ましい態様としては、カバー部は、平面視において略長方形形状を呈
し、入射面が略長方形形状の長手方向に３つに区分されることで複数の領域とされ、基準
領域は、複数の領域のうち長手方向における中央に設定された領域であることが望ましい
。
【００１３】
入射面を投写光の入射角度に応じて多数の領域に細かく区分すれば、より多くの投写光
を透過させて被照射面に到達させることができるが、反射防止のための処理等が複雑にな
りコストが増加してしまう。本件では、複数の領域として、入射面が３つに区分されるの
で、入射面を多数の領域に区分する場合に比べて、反射防止のための処理が簡素化され、
コストの抑制を図ることができる。
【００１４】
また、本発明の好ましい態様としては、カバー部は、平面視において略長方形形状を呈
し、入射面が略長方形形状の短手方向に２つに区分されることで複数の領域が形成され、
一方の領域は、所定範囲の入射角度で入射する投写光の反射防止のための処理がなされ、
他方の領域は、所定範囲よりも大きな入射角度で入射する投写光の反射防止のための処理
がなされていることが望ましい。
【００１５】
入射面を投写光の入射角度に応じて多数の領域に細かく区分すれば、より多くの投写光
を透過させて被照射面に到達させることができるが、反射防止のための処理等が複雑にな
りコストが増加してしまう。本件では、複数の領域として、入射面が２つに区分されるの
で、入射面を多数の領域に区分する場合に比べて、反射防止のための処理が簡素化され、
コストの抑制を図ることができる。特に輝度が低下していない画像部分に投写されている
光が、カバー部の短手方向における一方側に偏って入射しており、輝度の低下が顕著とな
っている画像部分に投写されている光が他方側に偏っている場合には、有効な領域設定と
なる。
【００１６】
また、入射面が短手方向に２つの領域に区分されているので、例えば、複数のカバー部
を長手方向に沿って並べれば、反射防止のための処理を複数のカバー部に対して一度に行
うことができる。これにより、少ない工程で多数のカバー部を作成することができ、カバ
ー部の製造効率を高めることができる。また、例えば、カバー部が長手方向に沿って連続
してつながった基板を用意して、その基板の短手方向に２つの領域に区分して反射防止の
ための処理を行えば、処理後の基板を、カバー部の長手方向の寸法で切断することで、簡
単に多数のカバー部を製造することができる。これにより、少ない工程で多数のカバー部
を作成することができ、カバー部の製造効率を高めることができる。
【００１７】
また、本発明の好ましい態様としては、投写光の反射防止のための処理が、入射面に反
射防止膜を施すことであることが望ましい。反射防止膜を施すことで、各領域ごとにその
領域に入射する投写光の入射角度に応じた反射防止のための処理を行うことができる。
【００１８】
また、本発明の好ましい態様としては、隣接する領域同士の境界で反射防止膜が重なり
を有していることが望ましい。隣接する領域同士の境界で反射防止膜が重なりを有してい
るので、被照射面に表示される画像の輝度変化を滑らかにし、観察者に領域同士の境界を
認識しにくくすることができる。
【００１９】
また、本発明の好ましい態様としては、投写部は、投写光を広角化させる広角化反射部
を有することが望ましい。広角化反射部を有するプロジェクタ、すなわち近接投写型のプ
ロジェクタは、光が広角化されていることにより、大きな入射角度で入射する投写光が生
じやすく、反射による損失も生じやすい。本件では、カバー部に対し、入射角度に応じた
反射防止のための処理が領域ごとになされているので、反射による損失を低減し、画像の
輝度低下を抑えることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下に図面を参照して、本発明の実施例を詳細に説明する。
【実施例】
【００２１】
図１は、本発明の実施例に係るプロジェクタの使用状態を示す斜視図である。図２は、
プロジェクタ内部の概略構成を示す横断面図である。図３は、プロジェクタの内部構成を
省略した正面断面図である。プロジェクタ１はスクリーン１０に投写光を投写して画像を
表示させるフロント投写型のプロジェクタである。観察者はスクリーン１０に表示された
画像を観察する。プロジェクタ１は、広角化された投写光をスクリーン１０に近い位置か
ら投写して画像を表示させる近接投写型のプロジェクタである。
【００２２】
スクリーン１０は、反射型投影板であり、表側のスクリーン投写面（被照射面）１０ａ
に入射した入射光を拡散反射することにより画像を表示する。なお、スクリーン投写面１
０ａの法線に沿う軸をＺ軸とする。Ｚ軸と直交し互いに垂直に交わる軸をＸ軸及びＹ軸と
する。
【００２３】
プロジェクタ１は、筐体２、防塵カバー（カバー部）４、投写部６を有して大略構成さ
れる。投写部６は、筐体２の内部に備えられる。これらの構成要素のうち、まず投写部６
について説明する。投写部６は、投写光学系５０と像形成光学部６０を有して構成される
。
【００２４】
投写光学系５０は、物面ＯＳ上の画像をスクリーン１０のスクリーン投写面１０ａ上に
拡大投写するためのものである。投写光学系５０は、屈折光学部２０と、反射光学部（広
角化反射部）３０とを有して構成される。屈折光学部２０は、複数のレンズで構成され、
反射光学部３０は、少なくとも１面の凹面形状の反射面を有している。
【００２５】
図４は、投写光学系５０の概略構成を説明する図である。屈折光学部２０は、図２のス
クリーン１０の下方においてスクリーン投写面１０ａに対して垂直に延びる光軸ＯＡに沿
って配置された複数の屈折レンズで構成される。各レンズは、物面ＯＳ側から反射光学部
３０に向かって配列されている。各レンズは、光軸ＯＡに対し回転対称になっている。な
お、各レンズの全部または一部が非回転対称になっていても構わない。各レンズの配置は
、反射光学部３０等の形状や配置との関係でスクリーン１０に最適な投写ができるように
調整されている。なお、光軸ＯＡは、スクリーン投写面１０ａに対して垂直に延びる場合
に限られない。また、各レンズの一部、またはすべての光軸が同一でなくても構わない。
【００２６】
物面ＯＳ上の各物点からは、物面ＯＳに垂直で光軸ＯＡに平行な主光線を中心として一
定の広がりを有する光束が射出する。物面ＯＳから射出した光束は、屈折光学部２０を通
過した後、光軸ＯＡよりも下側に設けられている反射光学部３０で反射され、放射状の投
写光としてスクリーン１０に投写される。
【００２７】
反射光学部３０は、１枚の曲面ミラー３１で構成される。この曲面ミラー３１は、光軸
ＯＡを軸とする回転対称面で構成される凹面反射ミラーである。曲面ミラー３１は、光軸
ＯＡの下側すなわち光軸ＯＡを挟んでスクリーン１０の反対側に非球面の反射光学面３１
ａを有し、屈折光学部２０を通過した光束をスクリーン１０のスクリーン投写面１０ａに
向けて反射させる。屈折光学部２０を通過して光束は、凹面反射ミラーである曲面ミラー
３１によって、一旦収束してその後拡散するように反射される。すなわち、曲面ミラー３
１は、投写光を広角化させる機能を発揮する。投写光学系５０は、屈折光学部２０と、反
射光学部３０とで構成されるが、屈折光学部のみや、パワーを有する反射光学部のみで構
成されても構わない。
【００２８】
次に、像形成光学部６０について説明する。図５は、像形成光学部６０の概略構成を示
す図である。発光管７０は、赤色（Ｒ）光、緑色（Ｇ）光、青色（Ｂ）光を含む光を射出
する光源部であり、例えば、超高圧水銀ランプである。
【００２９】
第１インテグレータレンズ７１及び第２インテグレータレンズ７２は、アレイ状に配列
された複数のレンズ素子を有する。第１インテグレータレンズ７１は、発光管７０からの
光束を複数に分割する。第１インテグレータレンズ７１の各レンズ素子は、発光管７０か
らの光束を第２インテグレータレンズ７２のレンズ素子近傍にて集光させる。第２インテ
グレータレンズ７２のレンズ素子は、第１インテグレータレンズ７１のレンズ素子の像を
空間光変調装置上に形成する。
【００３０】
２つのインテグレータレンズ７１、７２を経た光は、偏光変換素子７３にて特定の振動
方向の直線偏光に変換される。重畳レンズ７４は、第１インテグレータレンズ７１の各レ
ンズ素子の像を空間光変調装置上で重畳させる。第１インテグレータレンズ７１、第２イ
ンテグレータレンズ７２及び重畳レンズ７４は、発光管７０からの光の強度分布を空間光
変調装置上にて均一化させる。重畳レンズ７４からの光は、第１ダイクロイックミラー７
５に入射する。第１ダイクロイックミラー７５は、Ｒ光を反射し、Ｇ光及びＢ光を透過さ
せる。第１ダイクロイックミラー７５で反射したＲ光は、第１ダイクロイックミラー７５
、反射ミラー７６でそれぞれ光路が折り曲げられ、Ｒ光用フィールドレンズ７７Ｒへ入射
する。Ｒ光用フィールドレンズ７７Ｒは、反射ミラー７６からのＲ光を平行化し、Ｒ光用
空間光変調装置１４Ｒへ入射させる。
【００３１】
Ｒ光用空間光変調装置１４Ｒは、Ｒ光を画像信号に応じて変調する空間光変調装置であ
る。Ｒ光用空間光変調装置１４Ｒで変調されたＲ光は、色合成光学系であるクロスダイク
ロイックプリズム８０へ入射する。
【００３２】
第１ダイクロイックミラー７５を透過したＧ光及びＢ光は、第２ダイクロイックミラー
８１へ入射する。第２ダイクロイックミラー８１は、Ｇ光を反射し、Ｂ光を透過させる。
第２ダイクロイックミラー８１で反射したＧ光は、第２ダイクロイックミラー８１で光路
が折り曲げられ、Ｇ光用フィールドレンズ７７Ｇへ入射する。Ｇ光用フィールドレンズ７
７Ｇは、第２ダイクロイックミラー８１からのＧ光を平行化し、Ｇ光用空間光変調装置１
４Ｇへ入射させる。Ｇ光用空間光変調装置１４Ｇは、Ｇ光を画像信号に応じて変調する空
間光変調装置である。Ｇ光用空間光変調装置１４Ｇで変調されたＧ光は、クロスダイクロ
イックプリズム８０のうちＲ光が入射した面とは異なる面へ入射する。
【００３３】
第２ダイクロイックミラー８１を透過したＢ光は、リレーレンズ８２を透過した後、反
射ミラー８３での反射により光路が折り曲げられる。反射ミラー８３からのＢ光は、さら
にリレーレンズ８４を透過した後、反射ミラー８５での反射により光路が折り曲げられ、
Ｂ光用フィールドレンズ７７Ｂへ入射する。Ｒ光の光路及びＧ光の光路よりもＢ光の光路
が長いことから、空間光変調装置における照明倍率を他の色光と等しくするために、Ｂ光
の光路には、リレーレンズ８２、８４を用いるリレー光学系が採用されている。
【００３４】
Ｂ光用フィールドレンズ７７Ｂは、反射ミラー８５からのＢ光を平行化し、Ｂ光用空間
光変調装置１４Ｂへ入射させる。Ｂ光用空間光変調装置１４Ｂは、Ｂ光を画像信号に応じ
て変調する空間光変調装置である。Ｂ光用空間光変調装置１４Ｂで変調されたＢ光は、ク
ロスダイクロイックプリズム８０のうちＲ光が入射する面、Ｇ光が入射する面とは異なる
面へ入射する。
【００３５】
クロスダイクロイックプリズム８０は、互いに略直交するように配置された２つのダイ
クロイック膜８６、８７を有する。第１ダイクロイック膜８６は、Ｒ光を反射し、Ｇ光及
びＢ光を透過させる。第２ダイクロイック膜８７は、Ｂ光を反射し、Ｒ光及びＧ光を透過
させる。クロスダイクロイックプリズム８０は、それぞれ異なる方向から入射したＲ光、
Ｇ光及びＢ光を合成し、投写光学系５０の方向へ射出する。クロスダイクロイックプリズ
ム８０から射出された像光は、投写光学系５０の屈折光学部２０等を経て投写される。
【００３６】
次に、筐体２及び防塵カバー４について説明する。筐体２は、内部に投写光学系５０及
び像形成光学部６０を備える。筐体２には、投写光学系５０から投写された投写光を外部
に射出させるための開口部２ａが天面部２ｂに形成されている。
【００３７】
防塵カバー４は、開口部２ａを塞ぐように筐体２に設けられている。防塵カバー４は、
開口部２ａを塞ぐことで、筐体内部の投写部６を埃や汚れから保護する。また、開口部２
ａを塞ぐことで、筐体内部への異物の侵入等を防ぎ、投写部６が破壊されたり、傷ついた
りしてしまうことを防ぐ。防塵カバー４は、透光性の材料で構成されており、例えば、ガ
ラスやプラスチックが用いられる。防塵カバー４が透光性の材料で構成されているため、
投写部６から投写された投写光は、防塵カバー４を透過してスクリーン１０に到達するこ
とができる。また、防塵カバー４は、略一定の厚みで形成されている。
【００３８】
図６は、防塵カバー４の平面図である。防塵カバー４は、平面視において略長方形形状
を呈する。図６には、防塵カバー４の入射面への投写光の実際の入射角度を等高線で示し
ている。防塵カバー４の入射面への投写光の入射角度は、約２５度から約８５度までと幅
広くなっている。なお、４０度以下の等高線は間隔が狭くなるため図示を省略している。
ここで、入射角度とは、投写光の入射位置における入射面の法線と、その投写光の光線と
がなす角度をいう。
【００３９】
ここで、防塵カバー４に入射した光の一部は入射面で反射して損失が生じてしまう。防
塵カバー４に入射した光のうち反射される光の割合、すなわち、反射率は投写光の入射角
度によって定まる。
【００４０】
図７は、防塵カバー４へ適用可能な平面ガラスの所定の一点における投写光の入射角度
と反射率との関係を示した図である。図７に示すように、入射角度が大きくなると反射率
も大きくなる。反射率は、入射角度が０度から７０度の間で約２０％増加し、７０度から
８０度の間でさらに２０％増加している。すなわち、入射角度が０度から７０度に変化す
ることでスクリーンに到達する投写光の光量が約２０％低下し、７０度から８０度に変化
することでさらに２０％低下する。
【００４１】
図８は、入射面全体に同一の反射防止膜が施された防塵カバーを用いたプロジェクタで
画像を表示させた場合の、スクリーン投写面１０ａに投写される光の防塵カバー４におけ
る反射率を示す図である。一般的に光量が１０％以上低下すると、観察者は輝度の低下を
感じる。図８が示すように、入射面全体に同一の反射防止膜が施された防塵カバーを用い
た場合、スクリーン投写面１０ａの左右下端において、光量が１０％以上低下しており、
この部分について観察者は輝度の低下を感じることとなる。
【００４２】
図９は、投写光の防塵カバー４における入射位置と、スクリーン１０における投写位置
との関係を示す図である。図９に示すように、スクリーン１０に投写される投写光のほと
んどが防塵カバー４の中央部に入射している。また、スクリーン下部（ｕ点〜ｙ点）に投
写される投写光は防塵カバー４の周囲部分に入射している。
【００４３】
図１０は、防塵カバー４の入射面に設定された複数の領域を説明するための平面図であ
る。防塵カバー４の入射面には、入射角度が２５度から７０度の範囲で投写光が入射する
領域を含む第１領域（基準領域）１５ａが設定される。第１領域１５ａの外側には、入射
角度が７０度から８０度の範囲で投写光が入射する領域を含む第２領域１５ｂが設定され
る。さらに、第２領域１５ｂの外側には、入射角度が８０度以上の範囲で投写光が入射す
る領域を含む第３領域１５ｃが設定されている。
【００４４】
第１領域１５ａには、入射角度が２５度から７０度の範囲で入射する投写光に対する反
射防止効果を有する反射防止膜（ＡＲコート）が施されている。第２領域１５ｂには、入
射角度が７０度から８０度の範囲で入射する投写光に対する反射防止効果を有する反射防
止膜が施されている。第３領域１５ｃには、入射角度が８０度以上の範囲で入射する投写
光に対する反射防止効果を有する反射防止膜が施されている。すなわち、第１領域１５ａ
から離れる領域ほど、より大きな入射角度で入射する投写光の反射防止のための処理がな
されている。
【００４５】
ここで、図１１に従来のプロジェクタ１０１の横断面図を示す。従来のプロジェクタ１
０１は、本実施例のプロジェクタ１と同様に近接投写型のプロジェクタである。近接投写
型のプロジェクタでは、スクリーン１０に向けて光を投写するために、投写光がＹＺ平面
においてスクリーン１０側に傾いて投写される。従来のプロジェクタ１０１では、投写光
の傾きによって、防塵カバー１０４への入射角度が大きくなるのを防ぐために、出射面が
スクリーン１０を向くように傾けて防塵カバー１０４を設けている。しかし、図３にも示
すように、プロジェクタからの投写光はＸＹ平面においても入射角度の範囲が広がってお
り、ＹＺ平面における入射角度の傾きに対処するために防塵カバー１０４を傾けただけで
は、反射による損失を効果的に低減させることはできない。
【００４６】
本実施例では、防塵カバー４の入射面に複数の領域を設定し、その領域ごとに投写光の
実際の入射角度に応じた反射防止効果を有する反射防止膜を施しているので、入射面での
反射による損失を低減し、画像の輝度低下を抑えることができる。また、防塵カバー４の
入射面全体に、幅広い入射角度に対して反射防止機能を発揮させるための多層のコーティ
ング膜を施す場合に比べてコストを抑えることができる。なお、本実施例では、図７で示
したように反射率が２０％程度増加する入射角度の範囲で区切るように各領域を設定して
いるが、これに限られず、さらに細かく領域を設定してもよい。また、入射面での反射を
抑えるための反射防止膜として、例えば、誘電体多層膜によるコーティングが挙げられる
。また、反射防止の処理として、入射面にサブ波長微細構造等を設けて、入射面での反射
を抑えるようにしてもよい。すなわち、反射防止の処理は、角度依存性があり、各領域に
入射する投写光の入射角度範囲に対して反射防止効果を発揮することができるものであれ
ば、反射防止膜に限らず様々なものが採用できる。
【００４７】
また、防塵カバー４は、全体が一定の厚みで形成されているので、光学的なパワーのな
いものとすることができる。防塵カバー４に光学的なパワーがなければ、防塵カバー４の
取付位置に多少の誤差があっても画質への影響が少なくなる。これにより、プロジェクタ
１の組み立てコストの低減を図ることができ、さらに、防塵カバー４の交換も容易になる
ので、メンテナンス性を向上させることもできる。
【００４８】
また、本実施例では、フロント投写方式のプロジェクタとして説明したが、もちろんリ
ア投写方式のプロジェクタであっても構わない。また、レーザ光をスクリーン上に走査さ
せて画像を表示させるスキャン型のプロジェクタにも適用することができる。例えば、ス
クリーンが巨大であったり、スクリーンの近くから画像を表示させたりする場合には、レ
ーザ光の走査角度が大きくなり、防塵カバーへの入射角度も大きくなるが、本実施例で説
明した防塵カバーを用いることで、画像の輝度低下を抑えることができる。また、本実施
例では、反射防止のための処理がなされた防塵カバーをプロジェクタに適用して説明した
が、例えば、広角レンズを備えるカメラに用いても、光の反射を抑えることができ、撮影
画像について本実施例と同様の効果を得ることができる。広角レンズを備えるカメラとし
ては、例えば、防犯カメラが挙げられる。
【００４９】
図１２は、本実施例の変形例１に係る防塵カバー２０４の領域の設定を説明するための
平面図である。本変形例１では、防塵カバー２０４の入射面が長手方向に３つに区分され
て領域が設定されている。これらの領域のうち、長手方向中央の領域が、入射角度が２５
度から７５度の範囲で投写光が入射する領域を含む第１領域（基準領域）１６ａとして設
定される。第１領域１６ａの両側の領域は、入射角度が７５度以上の範囲で投写光が入射
する領域を含む第２領域１６ｂとして設定される。
【００５０】
第１領域１６ａには、入射角度が２５度から７５度の範囲で入射する投写光に対する反
射防止効果を有する反射防止膜が施されている。第２領域１６ｂには、入射角度が７５度
以上の範囲で入射する投写光に対する反射防止効果を有する反射防止膜が施されている。
すなわち、第１領域１６ａから離れる領域ほど、より大きな入射角度で入射する投写光の
反射防止のための処理がなされている。
【００５１】
ここで、図７に示すように、スクリーン１０に投写される光の光量低下が顕著となるの
は、左右下端部分に投写される光である。そして、図９に示すように、スクリーン１０の
左右下端に投写される光（ｕ，ｖ，ｘ，ｙ点）は、防塵カバー２０４の第２領域１６ｂと
して設定された領域に入射し、それ以外のスクリーン１０部分に投射される光（光量低下
が顕著とならない光）は、ほとんどが防塵カバー２０４の第１領域１６ａとして設定され
た領域に入射する。
【００５２】
実施例で説明した防塵カバー４のように細かい領域設定をすれば、より多くの投写光を
防塵カバー４に到達させることができるが、本変形例１のように防塵カバー２０４の入射
面を長手方向に３つに区分して領域を設定した場合でも、観察者に光量の低下を感じさせ
ないようにすることができる。また、細かく領域を設定する場合に比べて、反射防止膜等
の処理・加工が容易となり、コストの抑制を図ることができる。
【００５３】
図１３は、本実施例の変形例２に係る防塵カバー３０４の領域の設定を説明するための
平面図である。本変形例２では、防塵カバー３０４の入射面が長手方向に３つに区分され
ることで複数の領域が設定され、これらの領域が重なりを有している。これらの領域のう
ち、長手方向中央の領域が、入射角度が２５度から７５度の範囲で投写光が入射する領域
を含む第１領域（基準領域）１７ａとして設定される。第１領域１７ａの両側の領域は、
入射角度が７５度以上の範囲で投写光が入射する領域を含む第２領域１７ｂとして設定さ
れる。
【００５４】
第１領域１７ａには、入射角度が２５度から７５度の範囲で入射する投写光に対する反
射防止効果を有する反射防止膜が施されている。第２領域１７ｂには、入射角度が７５度
以上の範囲で入射する投写光に対する反射防止効果を有する反射防止膜が施されている。
すなわち、第１領域１７ａから離れる領域ほど、より大きな入射角度で入射する投写光の
反射防止のための処理がなされている。
【００５５】
第１領域１７ａと第２領域１７ｂ、すなわち隣接する領域同士は重なり（図１３の斜線
部分）を有している。この重なり部分には、反射防止膜が重ねて施されている。この重な
り部分を形成することで、スクリーン１０に表示される画像の輝度変化を滑らかにし、観
察者に領域同士の境界を認識させないようにすることができる。
【００５６】
図１４は、本実施例の変形例３に係る防塵カバー４０４の領域の設定を説明するための
平面図である。本変形例３では、防塵カバー４０４の入射面が短手方向に２つに区分され
て領域が設定されている。これらの領域のうち、一方の領域であって入射角度が２５度か
ら６５度の範囲で投写光が入射する領域を含む第１領域（基準領域）１８ａとして設定さ
れる。第１領域１８ａの他方の領域は、入射角度が７０度以上の範囲で投写光が入射する
領域を含む第２領域１８ｂとして設定される。
【００５７】
ここで、図７に示すように、スクリーン１０に投写される光の光量低下が顕著となるの
は、左右下端部分に投写される光である。そして、図９に示すように、スクリーン１０の
左右下端に投写される光（ｕ，ｖ，ｘ，ｙ点）は、防塵カバー４０４の第２領域１８ｂと
して設定された領域に入射し、それ以外のスクリーン１０部分に投射される光（光量低下
が顕著とならない光）は、ほとんどが防塵カバー４０４の第１領域１８ａとして設定され
た領域に入射する。
【００５８】
実施例で説明した防塵カバー４のように細かい領域設定をすれば、より多くの投写光を
スクリーン１０に到達させることができるが、本変形例３のように防塵カバー４０４の入
射面を短手方向に２つに区分して領域を設定した場合でも、観察者に光量の低下を感じさ
せないようにすることができる。また、細かく領域を設定する場合に比べて、反射防止膜
等の処理・加工が容易となり、コストの抑制を図ることができる。
【００５９】
なお、投写光の広角化の手法は、曲面ミラー３１を用いる場合に限られない。例えば、
シフト光学系により投写光を広角化させてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００６０】
【図１】本発明の実施例に係るプロジェクタの使用状態を示す斜視図。
【図２】プロジェクタ内部の概略構成を示す横断面図。
【図３】プロジェクタの内部構成を省略した正面断面図。
【図４】投写光学系の概略構成を説明する図。
【図５】像形成光学部の概略構成を示す図。
【図６】防塵カバーの平面図。
【図７】防塵カバーへの投写光の入射角度と反射率との関係を示した図。
【図８】入射面全体に同一の反射防止膜が施された防塵カバーを用いたプロジェクタで画像を表示させた場合の、防塵カバーにおける反射率を示す図。
【図９】投写光の防塵カバーにおける入射位置と、スクリーンにおける投写位置との関係を示した図。
【図１０】防塵カバーの入射面に設定された複数の領域を説明するための平面図。
【図１１】従来のプロジェクタの横断面図。
【図１２】変形例１に係る防塵カバーに設定された複数の領域を説明するための平面図。
【図１３】変形例２に係る防塵カバーに設定された複数の領域を説明するための平面図。
【図１４】変形例３に係る防塵カバー防塵カバーに設定された複数の領域を説明するための平面図。
【符号の説明】
【００６１】
１，１０１  プロジェクタ、  ２  筐体、  ２ａ  開口部、  ２ｂ  天面部、  ４，１
０４，２０４，３０４，４０４  防塵カバー（カバー部）、  ６  投写部、  １０  スク
リーン、  １０ａ  スクリーン投写面（被照射面）、  １４Ｒ  Ｒ光用空間光変調装置、
１４Ｇ  Ｇ光用空間光変調装置、  １４Ｂ  Ｂ光用空間光変調装置、  １５ａ，１６ａ
，１７ａ，１８ａ  第１領域（基準領域）、  １５ｂ，１６ｂ，１７ｂ，１８ｂ  第２領
域、  １５ｃ  第３領域、  ２０  屈折光学部、  ３０  反射光学部（広角化反射部）、
３１  曲面ミラー、  ５０  投写光学系、  ６０  像形成光学部、  ７１  第１インテ
グレータレンズ、  ７２  第２インテグレータレンズ、  ７３  偏光変換素子、  ７４  
重畳レンズ、  ７５  第１ダイクロイックミラー、  ７６  反射ミラー、  ７７Ｒ  Ｒ光
用フィールドレンズ、  ７７Ｇ  Ｇ光用フィールドレンズ、  ７７Ｂ  Ｂ光用フィールド
レンズ、  ８０  クロスダイクロイックプリズム、  ８１  第２ダイクロイックミラー、
８２  リレーレンズ、  ８３  反射ミラー、  ８４  リレーレンズ、  ８５  反射ミラ
ー、  ８６  第１ダイクロイック膜、  ８７  第２ダイクロイック膜
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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