(57)【要約】【課題】プラズマ生成空間が広く、プラズマ処理を連続かつ均一に行うことができるプラズマ生成装置を提供する。【解決手段】誘電体板２と、この誘電体板２の片面に設けられた板状のスロットアンテナ４と、このスロットアンテナ４の外側に設けられたマイクロ波導波管５とからなるマイクロ波プラズマ発生手段Ｒが、上記誘電体板２を対向させた状態で配置され、その対向する一組のマイクロ波プラズマ発生手段Ｒの間の周縁が壁体１２，１４により囲まれ、上記一組のマイクロ波プラズマ発生手段Ｒと上記壁体１２，１４とで形成される空間がプラズマ生成空間になっている。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
誘電体板と、この誘電体板の片面に設けられた板状のスロットアンテナと、このスロットアンテナの外側に設けられたマイクロ波導波管とからなるマイクロ波プラズマ発生手段が、上記誘電体板を対向させた状態で配置され、その対向する一組のマイクロ波プラズマ発生手段の間の周縁が壁体により囲まれ、上記一組のマイクロ波プラズマ発生手段と上記壁体とで形成される空間がプラズマ生成空間になっていることを特徴とするプラズマ生成装置。
【請求項２】
上記対向する一組のマイクロ波プラズマ発生手段と上記壁体とが着脱自在に形成され、上記壁体が上記対向する一組のマイクロ波プラズマ発生手段の間の距離を調整するスペーサになっている請求項１記載のプラズマ生成装置。
【請求項３】
上記マイクロ波プラズマ発生手段が長尺に形成され、その長手方向に沿って、上記プラズマ生成空間内をプラズマ被処理体が移動しその過程でプラズマ処理されるようになっている請求項１または２記載のプラズマ生成装置。
【請求項４】
上記スロットアンテナに、その長手方向に沿って、複数のスロットが形成されている請求項３記載のプラズマ生成装置。
【請求項５】
上記プラズマ被処理体が、金属配管，樹脂配管，ゴム配管，ホース，チューブ，糸からなる群から選ばれる一つの長尺体である請求項３または４記載のプラズマ生成装置。
【請求項６】
上記対向する一組のマイクロ波プラズマ発生手段のマイクロ波導波管に、複数の同軸導波管の組み合わせからなるマイクロ波立体回路および方形導波管を介して、マイクロ波発振器が接続されている請求項１〜５のいずれか一項に記載のプラズマ生成装置。
【請求項７】
マイクロ波発振器が、分岐型導波管を介して、上記対向する一組のマイクロ波プラズマ発生手段のマイクロ波導波管に接続されている請求項１〜６のいずれか一項に記載のプラズマ生成装置。
【請求項８】
上記プラズマ生成空間を形成する、対向する一組の壁体の外面に、予備真空室が設けられ、その予備真空室の外壁に、プラズマ被処理体の外径よりも小径の貫通孔を有するゴム弾性体製シール部材が設けられている請求項１〜７のいずれか一項に記載のプラズマ生成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、マイクロ波を活用して減圧空間に高密度の表面波プラズマを広い空間に生成し、被処理体の外周面を３次元的にプラズマ処理するプラズマ生成装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、減圧下でプラズマによる中間資材へのクリーニング，表面改質，エッチング，成膜等の処理が揮発性有機化合物（ＶＯＣ）抑制等に向けた環境保護や処理効果等の観点から産業界において広く用いられるようになってきている。
【０００３】
減圧プラズマ処理としては、主に、高周波（ＲＦ）によりプラズマを生成し、その生成したプラズマを被着体に照射して処理する方法が多く見受けられる。例えば、フッ素樹脂層外周面を減圧高周波（ＲＦ）プラズマにより表面改質し、ポリアミド樹脂層との接着性を向上させる方法に利用されている（特許文献１参照）。
【０００４】
また、最近、ランチャーを配置した真空容器内に、マイクロ波を供給して体積波プラズマを生成させる方法がある。例えば、一対のランチャーを配置した真空容器内に、マイクロ波を供給してプラズマを生成させ、そのプラズマを利用したＣＶＤ法により、ダイヤモンド薄膜を製造している（特許文献２参照）。
【特許文献１】特開２００１−２７００５１公報
【特許文献２】特開２００４−３４６３８５公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、上記特許文献１に記載の減圧高周波（ＲＦ）プラズマ処理は、プラズマ生成空間が狭く限定されるため、処理面の径が限定される等の問題がある。さらに、プラズマ電子密度が低いため、処理に時間を要し、さらに、それにより得られる層間接着性も、あまり高くないといった問題がある。そこで、上記処理後にカップリング剤を塗工し、接着性を高める方法も提案されているが、工程が増えるため、作業性に問題がある。
【０００６】
また、上記特許文献２に記載の体積波プラズマは、中心のプラズマ密度が最も高く、中心から離れるにつれ、プラズマ電子密度が低くなるという問題がある。つまり、被着体の外周が大きくなるにつれ、プラズマ処理効果が低くなってしまう。また、体積プラズマは、ボール型のプラズマのため、被着体を動かせながらプラズマ処理する場合には、沢山の対のランチャーが必要となり、設備コスト面で経済性を損なう（設備コストが高くなる）等の問題があるとともに、不連続のボールプラズマでは、処理効果に問題が残る可能性がある。
【０００７】
本発明は、このような事情に鑑みなされたもので、プラズマ生成空間が広く、プラズマ処理を連続かつ均一に行うことができるプラズマ生成装置の提供をその目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記の目的を達成するため、本発明のプラズマ生成装置は、誘電体板と、この誘電体板の片面に設けられた板状のスロットアンテナと、このスロットアンテナの外側に設けられたマイクロ波導波管とからなるマイクロ波プラズマ発生手段が、上記誘電体板を対向させた状態で配置され、その対向する一組のマイクロ波プラズマ発生手段の間の周縁が壁体により囲まれ、上記一組のマイクロ波プラズマ発生手段と上記壁体とで形成される空間がプラズマ生成空間になっているという構成をとる。
【発明の効果】
【０００９】
本発明のプラズマ生成装置は、誘電体板とスロットアンテナとマイクロ波導波管とを備えた２つのプラズマ発生手段が相対向して設けられている。このため、上記チャンバ内では、各プラズマ発生手段が発生させたプラズマを重ね合わせることができる。これにより、相対向する２つのプラズマ発生手段の間では、プラズマ密度を均一にすることができる。そして、その間（プラズマ密度が均一なプラズマ領域）にプラズマ被処理体を移動させることにより、そのプラズマ被処理体またはプラズマ生成装置を回転させなくても、その外周面全体を一度に均一にマイクロ波プラズマ処理することができる。しかも、上記プラズマ生成空間（プラズマ密度が均一なプラズマ領域）は、従来のＲＦプラズマと比較して広い。そのため、例えば、プラズマ被処理体の外径を５０ｍｍ以上変更しても、プラズマ生成装置を再作製することなく、マイクロ波プラズマ処理することができる。
【００１０】
さらに、上記対向する一組のマイクロ波プラズマ発生手段と上記壁体とが着脱自在に形成され、上記壁体が上記対向する一組のマイクロ波プラズマ発生手段の間の距離を調整するスペーサになっている場合には、上記壁体の寸法を変えたり、壁体を追加したりすることにより、プラズマ被処理体に対してのプラズマ照射距離を変更することができ、それにより、プラズマ密度を調整することができる。このため、プラズマ生成装置を再作製することなく、様々な径の大きさに対応することができる。
【００１１】
また、上記マイクロ波プラズマ発生手段が長尺に形成され、その長手方向に沿って、上記プラズマ生成空間内をプラズマ被処理体が移動しその過程でプラズマ処理されるようになっている場合には、プラズマ被処理体をマイクロ波プラズマに晒す距離を長くすることができるため、プラズマ被処理体の移動時間を速めて短時間でマイクロ波プラズマ処理することができる。
【００１２】
また、上記スロットアンテナに、その長手方向に沿って、複数のスロットが形成されている場合も、上記と同様に、プラズマ被処理体をマイクロ波プラズマに晒す距離を長くすることができ、プラズマ被処理体の移動時間を速めて短時間でマイクロ波プラズマ処理することができる。
【００１３】
そして、上記プラズマ被処理体が、金属配管，樹脂配管，ゴム配管，ホース，チューブ，糸からなる群から選ばれる一つの長尺体である場合には、マイクロ波プラズマ処理を、その長尺体の軸方向に沿って連続かつ均一に行うことができる。
【００１４】
特に、上記対向する一組のマイクロ波プラズマ発生手段のマイクロ波導波管に、複数の同軸導波管の組み合わせからなるマイクロ波立体回路および方形導波管を介して、マイクロ波発振器が接続されている場合には、上記方形導波管およびマイクロ波立体回路の配置を変更することにより、上記対向する一組のマイクロ波プラズマ発生手段の間の距離を、プラズマ被処理体の形状やプラズマに合わせて変更することができ、マイクロ波導波管を再作製する必要がない。
【００１５】
また、マイクロ波発振器が、分岐型導波管を介して、上記対向する一組のマイクロ波プラズマ発生手段のマイクロ波導波管に接続されている場合には、マイクロ波発振器からのマイクロ波を分岐型導波管にて分岐することにより、マイクロ波電源や発振器等を新たに導入する必要がない。しかも、相対向する一組のプラズマ発生手段の間では、プラズマ密度を均一にしやすくなる。
【００１６】
さらに、上記プラズマ生成空間を形成する、対向する一対の壁体の外面に、予備真空室が設けられ、その予備真空室の外壁に、プラズマ被処理体の外径よりも小径の貫通孔を有するゴム弾性体製シール部材が設けられている場合には、大気圧下の仕掛品インラインで連動してマイクロ波プラズマ処理することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
つぎに、本発明の実施の形態を図面にもとづいて詳しく説明する。
【００１８】
図１は、本発明のプラズマ生成装置の一実施の形態を用いて燃料低透過性ホースを製造する方法を模式的に示している。この実施の形態では、まず、第１の押出機Ｍ1 により、フッ素系樹脂等からなる燃料低透過層Ａを連続して円筒状に押出成形する。ついで、その燃料低透過層Ａを繰り出しながら連続して本発明のプラズマ生成装置Ｐ内に導入し、燃料低透過層Ａの軸方向に沿う左右または上下両側（図１では左右両側）に設けられたマイクロ波プラズマ発生手段Ｒから、上記円筒状の燃料低透過層Ａの外周面に、周波数４３３ＭＨｚ〜２．４５ＧＨｚのマイクロ波プラズマ処理を軸方向に連続して施す。つづいて、上記燃料低透過層Ａをプラズマ生成装置Ｐから導出した後、第２の押出機Ｍ2 に導入し、マイクロ波プラズマ処理され活性化された燃料低透過層Ａの外周面に、円筒状の外層Ｂを押出成形により直接積層形成する。このようにして、燃料低透過性ホースを連続して製造する。その後、適宜の長さに切断されて使用される。
【００１９】
上記プラズマ生成装置Ｐは、図２に示すように、略角筒状の密封型チャンバ１を備えている。このチャンバ１の内部空間がプラズマ生成空間になっている。このチャンバ１の略角筒状の周壁を形成する第１〜第４の壁体１１〜１４のうち、垂直状態で相対向する第１および第３の壁体１１，１３に、上記プラズマ発生手段Ｒが対向して設けられている。また、水平状態で相対向する第２および第４の壁体１２，１４は、金属製の板状体からなり、そのうち、第２の壁体１２には、チャンバ１の内部にプラズマ発生用ガスを供給するガス供給口１５が形成され、第４の壁体１４には、チャンバ１の内部のガスを排出するガス排出口１６が形成されている。そして、上記略角筒状のチャンバ１の一端開口部には、上記燃料低透過層Ａを上記チャンバ１内に導入する導入口が形成された壁体（図示せず）が設けられ、他端開口部には、その燃料低透過層Ａを上記チャンバ１内から導出する導出口が形成された壁体（図示せず）が設けられている。
【００２０】
上記プラズマ発生手段Ｒは、上記略角筒状の密封型チャンバ１の軸方向に沿って長尺に形成されており、図２に示すように、石英からなる誘電体板２と、その外側の金属製の板状のスロットアンテナ４と、略コ字状断面を有する金属製のマイクロ波導波管５とを備えている。上記誘電体板２は、上記略角筒状の密封型チャンバ１の軸方向に沿って長板状に形成されており、内部に冷却水用の流路３４を有する厚肉板状の金属製ホルダー３に固定されている。そのホルダー３が上記相対向する第２および第４の壁体１２，１４に固定されることにより、上記誘電体板２は、相対向した状態となり、上記チャンバ１の第１および第３の壁体１１，１３を形成している。上記板状のスロットアンテナ４は、上記略角筒状の密封型チャンバ１の軸方向に沿って長板状に形成されており、上記相対向する誘電体板２の外側に各誘電体板２と対面し接触した状態で配置されている。上記略コ字状断面を有するマイクロ波導波管５は、上記略角筒状の密封型チャンバ１の軸方向に沿って長尺に形成されており、その略コ字状の開口を板状のスロットアンテナ４に対面させ、いわばマイクロ波導波管５を形成する周壁の一部が上記スロットアンテナ４で構成されたような状態になっている。これにより、スロットアンテナ４の外側にマイクロ波伝播用の空間が設けられた状態になっている。上記マイクロ波導波管５の軸方向の端部には、マイクロ波発振器６（図１参照）が接続されている。
【００２１】
より詳しく説明すると、上記略角筒状のチャンバ１の相対向する第２および第４の壁体１２，１４には、その長手方向の左右両側縁に、フランジ１７が立設されている。このフランジ１７には、チャンバ１の軸方向に沿って所定間隔で、ボルト７挿通用の貫通孔１８が形成されている。この貫通孔１８を利用して、上記誘電体板２を固定したホルダー３が、上記フランジ１７に、ボルト７・ナット８で着脱自在に固定されている。この厚肉板状のホルダー３には、長手軸に沿う端縁に段部３１が形成され、その段部３１に上記誘電体板２の端縁が支持されている。また、上記ホルダー３には、上記チャンバ１の第２および第４の壁体１２，１４のフランジ１７に形成された貫通孔１８に対応する位置に、ボルト７挿通用の貫通孔３２が形成されている。そして、上述したように、それら両貫通孔１８，３２にボルト７を挿通し、ナット８で締めることにより、上記誘電体板２を固定したホルダー３が上記チャンバ１のフランジ１７に着脱自在に密封状態で固定されている。また、上記ホルダー３には、上記マイクロ波導波管５をボルト９で固定する際に使用される雌螺子３３が形成されている。さらに、上記ホルダー３の内部には、冷却水等の冷却用流体を流す流路３４が形成されている。この流路３４を流れる冷却用流体により、マイクロ波やプラズマによる誘電体板２の過剰加熱を防止し、誘電体板２の割れ等を防止することができる。
【００２２】
上記誘電体板２の、上記スロットアンテナ４が接触している表面の両側部には、誘電体板２の側縁に沿って所定間隔で、上記スロットアンテナ４を位置決めするためのピン２１が設けられている。また、上記誘電体板２の形成材料（誘電体）としては、前記の石英の他，アルミナ等があげられる。
【００２３】
上記スロットアンテナ４は、その長手方向に沿って、銅板等の金属板に多数のスロット（細長い貫通孔）４１が形成されたものである。このスロット４１は、上記マイクロ波導波管５内を伝播するマイクロ波を捕らえ、そのマイクロ波を高密度にして上記チャンバ１内方向（誘電体板２方向）に向けて照射する。このスロットアンテナ４により、大気圧下でも容易にプラズマを発生させることができる。上記多数のスロット４１は、隣り合うスロット４１間に所定の間隔をあけて整然と配置されていることが好ましく、通常、複数のスロット４１が列をなして形成されている。この列は、複数列であることが好ましい。また、上記スロットアンテナ４の両側部には、上記誘電体板２に形成されたスロットアンテナ４位置決め用ピン２１に対応する位置に、貫通孔４２が形成されている。この貫通孔４２に、上記ピン２１を挿通させることにより、上記スロットアンテナ４が上記誘電体板２に対して適正に位置決めされている。
【００２４】
上記マイクロ波導波管５は、略コ字状断面を有する長尺体からなり、その略コ字状の開口縁から、フランジ５１が延びている。そのフランジ５１には、上記誘電体板２固定用ホルダー３に形成された雌螺子３３に対応する位置に、ボルト９挿通用の貫通孔５２が形成されている。そして、その貫通孔５２にボルト９を挿通し、上記雌螺子３３に螺合させることにより、上記マイクロ波導波管５が上記誘電体板２固定用ホルダー３に固定されている。この固定状態では、上記マイクロ波導波管５のフランジ５１と誘電体板２固定用ホルダー３とにより、上記スロットアンテナ４と誘電体板２とが挟持され固定されている。この固定により、上記誘電体板２，ホルダー３，スロットアンテナ４，マイクロ波導波管５が一体となり、上記プラズマ発生手段Ｒを構成している。
【００２５】
上記マイクロ波発振器６（図１参照）は、周波数４３３ＭＨｚ〜２．４５ＧＨｚのマイクロ波を発振するものである。好ましい周波数は、８４６ＭＨｚ，８９６ＭＨｚ，９１５ＭＨｚもしくは２．４５ＧＨｚである。このような周波数のマイクロ波で処理を行うことにより、電波法の範囲内で、より良好に表面改質がなされるからである。
【００２６】
そして、このようなプラズマ生成装置Ｐによるマイクロ波プラズマ処理は、つぎのようにして行われる。すなわち、まず、上記ガス供給口１５から、チャンバ１の内部にプラズマ発生用ガスを供給しながら、上記ガス排出口１６からチャンバ１の内部のガスを排出する。これにより、チャンバ１の内部をプラズマ発生用ガス雰囲気にする。ついで、上記マイクロ波発振器６（図１参照）からマイクロ波を発振する。発振されたマイクロ波は、上記マイクロ波導波管５内を伝播し、上記スロットアンテナ４により誘電体板２に照射される。これにより、相対向する誘電体板２の表面に表面波が発生する。この表面波は、それ自身の表面波エネルギーにより、上記プラズマ発生用ガスを励起させ、プラズマを発生させる。この状態で、チャンバ１の一端部の導入口から円筒状の燃料低透過層Ａをチャンバ１内に連続的に導入し、それを、上記相対向する誘電体板２の間に走行させた後、チャンバ１の他端部の導出口から導出する。ここで、燃料低透過層Ａが相対向する誘電体板２の間を走行する過程では、図３に示すように、相対向する誘電体板２からのプラズマ（図示の一点鎖線参照）により、プラズマの照射距離（一点鎖線の長さ）にかかわらず、燃料低透過層Ａの外周面が均一にマイクロ波プラズマ処理され、その外周面における全点（例えば、図示の４点ａ〜ｄ）では、マイクロ波プラズマ処理による効果は同一となる。これは、上記相対向する２つの誘電体板２の表面波により発生した２つのプラズマが重なり合い、相対向する誘電体板２の間のプラズマ密度が均一になることによると考えられる。すなわち、プラズマ密度が均一なプラズマ領域内（相対向する誘電体板２の間）を燃料低透過層Ａが走行すると、その燃料低透過層Ａが円筒状であっても、その外周面全体に、上記均一密度のプラズマを均一に作用させることができ、その外周面を均一にマイクロ波プラズマ処理することができる。さらに、そのマイクロ波プラズマ処理は、上記円筒状の燃料低透過層Ａの軸方向に沿って連続的に行うことができる。
【００２７】
また、この実施の形態では、図２に示すように、誘電体板２固定用ホルダー３とチャンバ１の第２および第４の壁体１２，１４とが、ボルト７・ナット８による固定により着脱自在になっているため、チャンバ１の第２および第４の壁体１２，１４を適宜の寸法のものと取り替えることが容易にでき、マイクロ波プラズマ処理する燃料低透過層Ａの様々な径の大きさに対応することができる。
【００２８】
なお、上記実施の形態では、プラズマ被処理体として燃料低透過層Ａを例にあげたが、それ以外のものでもよく、例えば、金属配管，樹脂配管，ゴム配管，ホース，チューブ，糸等の長尺体があげられる。
【００２９】
また、上記実施の形態では、２つのマイクロ波プラズマ発生手段Ｒを対向させ一組としたが、３つ以上のマイクロ波プラズマ発生手段Ｒを対向させ一組としてもよい。このようにすると、プラズマ生成の自由度が増し、マイクロ波プラズマ処理の自由度も増す。
【００３０】
さらに、上記実施の形態において、図４に示すように、対向する一組のマイクロ波プラズマ発生手段Ｒのマイクロ波導波管５に、複数の同軸導波管Ｖを直列に連結させてなるマイクロ波立体回路Ｗを接続し、そのマイクロ波立体回路Ｗに方形導波管Ｘを接続し、それらマイクロ波立体回路Ｗおよび方形導波管Ｘを介して、マイクロ波発振器６を接続してもよい。このようにすると、上記マイクロ波立体回路Ｗを構成する複数の同軸導波管Ｖの配置や方形導波管Ｘの配置を変更することにより、上記対向する一組のマイクロ波プラズマ発生手段Ｒの間の距離を、プラズマ被処理体（例えば、燃料低透過層Ａ）の形状やプラズマに合わせて変更することができ、マイクロ波導波管５を再作製する必要がない。
【００３１】
また、上記実施の形態では、対向する一組のマイクロ波プラズマ発生手段Ｒのマイクロ波導波管５のそれぞれにマイクロ波発振器６を接続したが、図５に示すように、１つのマイクロ波発振器６を、分岐型導波管Ｙを介して、上記マイクロ波導波管５に接続してもよい。このようにすると、マイクロ波発振器６からのマイクロ波を分岐型導波管Ｙにて分岐することができるため、マイクロ波電源や発振器等を新たに導入する必要がない。しかも、相対向する一組のプラズマ発生手段Ｒの間では、プラズマ密度を均一にしやすくなる。さらに、図６に示すように、上記分岐型導波管Ｙとマイクロ波導波管５との間に、上記方形導波管Ｘおよびマイクロ波立体回路Ｗを接続してもよい。
【００３２】
また、上記実施の形態において、プラズマ被処理体（例えば、燃料低透過層Ａ）を上記チャンバ１内に導入する導入口が形成された壁体（図示せず）およびその燃料低透過層Ａを上記チャンバ１内から導出する導出口が形成された壁体（図示せず）の外面に、予備真空室（図示せず）を設け、その予備真空室の外壁に、プラズマ被処理体の外径よりも小径の貫通孔を有するゴム弾性体製シール部材を設けてもよい。
【００３３】
つぎに、実施例について説明する。但し、本発明は、実施例に限定されるわけではない。
【実施例１】
【００３４】
ラングミュアプローブを用い、プラズマの電子密度を円周方向に計測した。なお、電子密度計測には、直径０．１ｍｍ、先端長さ４．５ｍｍタングステン製のラングミュアプローブを用い、ラングミュアプローブ先端の中心とプローブ軸中心との間の距離を２ｃｍとした。プローブは、ｚ軸方向に掃引可能かつ、ｚ軸を中心に回転することが可能である。プローブ先端は、ｚ＝０ｃｍに固定し、ｚ軸を中心に回転させることで、ｚ軸から半径２ｃｍの周方向の電子密度を計測した。電子温度は、プローブの電流・電圧特性より導出し、プローブに負電圧−２０Ｖを印加し、イオン飽和電流を計測することによって、電子密度を評価した（ラングミュアプローブを取り付けた金属棒を長手方向に差し込み、先端の棒を２ｃｍ折り曲げ、円周方向に３０°置きに回転させ計測した）。円周方向の電子密度が平均１．３３×１０12ｃｍ-3、偏差０．０５×１０12ｃｍ-3と高密度でばらつきの小さいプラズマの生成を確認した（下記の表１参照）。
【００３５】
【表１】
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【実施例２】
【００３６】
外径４０ｍｍ、厚み２ｍｍのＰＴＦＥチューブ（３２ｃｍ長）をマイクロ波プラズマ処理装置内に導入し、その軸方向に沿う左右両側に設けられたマイクロ波プラズマ発生手段により、上記円筒状の燃料低透過層の外周面をマイクロ波プラズマ処理した。このマイクロ波プラズマ処理は、アルゴンガス雰囲気下、１３Ｐａ（絶対圧）の減圧下において、周波数２．４５ＧＨｚのマイクロ波により、１０秒間行った。その後、水接触角を協和界面科学社製  ＦＡＣＥ接触角計（型式：ＣＡ−Ｘ）にて円周方向と長手方向の接触角を計測した。その結果、未処理時の接触角が１１０℃に対し、円周方向・長手方向ともに、一様に接触角が低減し、疎水性の表面が親水性に改質されている事を確認した。
【００３７】
次に、ＰＴＦＥに代えて、ＥＴＦＥ（旭硝子社製、フルオンＥＴＦＥ  Ｃ８８ＡＸＰ）にて、円周方向の水接触角を計測した。未処理が１０２°に対して、３４°と親水化した。
【実施例３】
【００３８】
燃料低透過層の材料であるＥＴＦＥ（旭硝子社製、フルオンＥＴＦＥ  Ｃ８８ＡＸＰ）を円筒状に溶融押出成形し（内径６ｍｍ、厚み０．２５ｍｍ）、それを連続的に繰り出しながら、マイクロ波プラズマ生成装置内に導入し、その軸方向に沿う左右両側に設けられたマイクロ波プラズマ発生手段により、上記円筒状の燃料低透過層の外周面をマイクロ波プラズマ処理した。このマイクロ波プラズマ処理は、アルゴンガス雰囲気下、１３Ｐａ（絶対圧）の減圧下において、周波数２．４５ＧＨｚのマイクロ波により、２秒間行った。つづいて、上記燃料低透過層をプラズマ生成装置から導出した後、第２の押出機に導入し、マイクロ波プラズマ処理された燃料低透過層の外周面に、溶融押出し機にてＰＡ１２（宇部興産社製、ウベスタ３０３０ＪＬＸ２）を溶融被覆し、円筒状の外層（厚み０．７５ｍｍ）を形成した。これにより、２層構造の燃料低透過性ホース（内径６ｍｍ、外径８ｍｍ、長さ３００ｍｍ）を製造した。
【００３９】
〔層間接着性〕
実施例２，３の各燃料低透過性ホース内に、レギュラーガソリン（新日石社製）にエタノールを１０ｖｏｌ％混合したガソリン（Ｅ１０）を封入（ホース両端をスェージロックで密封）した後、６０℃で５００時間放置した。その後、各燃料低透過性ホースを周方向で４等分となるよう切断することにより、短冊状のサンプルをそれぞれ４個作製した。そして、各サンプルの燃料低透過層と外層とを引張試験機の各チャックに挟み、引張速度５０ｍｍ／分の条件で、１８０°剥離試験を行った。これにより、破断時の荷重を測定するとともに、破断面の破断状態を目視にて評価した。その結果、実施例２，３の各燃料低透過性ホースは、４個のサンプル全てが、破断時の荷重２０Ｎ／ｃｍ以上であり、界面剥離することなく破断した。この結果は、層間接着性が充分に優れていることを示している。
【００４０】
〔均一接着性〕
上記１８０°剥離試験において、４個のサンプルの破断時の荷重について、最大値と最小値との差を評価した。その結果、実施例２，３の各燃料低透過性ホースでは、その差が２Ｎ／ｃｍ未満であった。この結果は、均一接着性が充分に優れていることを示している。
【図面の簡単な説明】
【００４１】
【図１】本発明のプラズマ生成装置の一実施の形態を用いた燃料低透過性ホースの製法を模式的に示す説明図である。
【図２】上記プラズマ生成装置を模式的に示す断面斜視図である。
【図３】上記プラズマ処理状態を模式的に示す説明図である。
【図４】上記プラズマ生成装置の第１変形例を模式的に示す説明図である。
【図５】上記プラズマ生成装置の第２変形例を模式的に示す説明図である。
【図６】上記プラズマ生成装置の第３変形例を模式的に示す説明図である。
【符号の説明】
【００４２】
Ｒ  マイクロ波プラズマ発生手段
２  誘電体板
４  スロットアンテナ
５  マイクロ波導波管
１２，１４  壁体
【図１】
2010061860.tif 000004
【図２】
2010061860.tif 000005
【図３】
2010061860.tif 000006
【図４】
2010061860.tif 000007
【図５】
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【図６】
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