(57)【要約】【課題】六角形ハニカム形状のハニカム構造体を成形するための成形用口金を、簡便かつ高精度に製造することが可能なハニカム構造体成形用口金の製造方法を提供する。【解決手段】導入孔形成工程と、六角形ハニカム状のスリット５、及び六角柱状突起部５０を形成するスリット形成工程と、を含み、スリット形成工程は、円柱状の放電加工孔が複数設けられた有孔電極を、坏土成形面７に対して押し付けて行う円柱放電加工により、スリット５及び六角柱状突起部５０を形成する前段階として、坏土成形面７に複数の円柱状突起部を形成する円柱状突起部形成工程と、円柱状突起部形成工程の後、複数の板状の突起電極が配設された櫛歯電極を、隣接する円柱状突起部どうしの間隙に挿入する櫛歯放電加工を行って、円柱状突起部を六角柱状突起部５０として形成する六角柱状突起部形成工程と、を有したハニカム構造体成形用口金１の製造方法。【選択図】図２Ｂ
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
一方の端面と他方の端面を有した板状の口金基体の、坏土導入面とされる前記他方の端面に、坏土を導入するための複数の導入孔を形成する導入孔形成工程と、
前記口金基体の坏土成形面とされる前記一方の端面に、前記導入孔に連通させた、前記坏土がハニカム成形体として押出される六角形ハニカム状のスリット、及び前記スリットで仕切られる複数の六角柱状突起部を形成するスリット形成工程と、を含み、
前記スリット形成工程は、円柱状の放電加工孔が複数設けられた有孔電極を、前記坏土成形面に対して押し付けて行う円柱放電加工により、前記スリット及び前記六角柱状突起部を形成する前段階として、前記坏土成形面に複数の円柱状突起部を形成する円柱状突起部形成工程と、
前記円柱状突起部形成工程の後、前記スリットの溝幅に対応する複数の板状の突起電極が配設された櫛歯電極を、隣接する前記円柱状突起部どうしの間隙に挿入する櫛歯放電加工を行って、前記円柱状突起部を前記六角柱状突起部として形成する六角柱状突起部形成工程と、を有したハニカム構造体成形用口金の製造方法。
【請求項２】
前記円柱状突起部形成工程において、前記坏土成形面上の、前記六角柱状突起部の六辺と接する六角形を基準六角形とし、前記基準六角形の内接円の半径をＲｉｎ、前記基準六角形の外接円の半径をＲｏｕｔとし、前記円柱状突起部の外周円の半径をＲとし、前記円柱放電加工の放電ギャップをＧとした場合に、Ｒｉｎ＜Ｒ≦Ｒｏｕｔかつ、Ｘ＝Ｒ＋Ｇの関係にあるＸを半径とする円柱状の前記放電加工孔が複数設けられた前記有孔電極を用いて円柱放電加工を行う請求項１に記載のハニカム構造体成形用口金の製造方法。
【請求項３】
前記六角柱状突起部形成工程において、前記基準六角形の各辺のうち一辺に平行な板状の複数の前記突起電極を並列させた前記櫛歯電極を用い、前記基準六角形の各辺に平行な３方向のそれぞれに対応させて少なくとも３回に分けて前記櫛歯放電加工を行う請求項２に記載のハニカム構造体成形用口金の製造方法。
【請求項４】
前記有孔電極を、銅タングステン電極として作成する請求項１〜３のいずれか１項に記載のハニカム構造体成形用口金の製造方法。
【請求項５】
前記櫛歯電極を、カーボン電極として作成する請求項１〜４のいずれか１項に記載のハニカム構造体成形用口金の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、六角形状のハニカム構造体成形用口金の製造方法に関する。特に詳しくは、高密度で薄壁の六角形状セルを有したハニカム構造体を成形するためのハニカム構造体成形用口金の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
セラミック質の六角形状のハニカム構造体の製造方法としては、従来から、成形原料（以下、「坏土」と言うことがある）を導入する裏孔（以下、「導入孔」と言うことがある）と、この裏孔に連通する六角形状等のスリットとが形成された口金基体を備えたハニカム構造体成形用口金（以下、「口金」と言うことがある）を用いて押出成形する方法が知られている。この口金は、通常、口金基体の一方の端面に、ハニカム構造体の隔壁厚さに対応する幅のスリットが六角形状に設けられており、その反対側の端面（他方の端面）に、スリットと連通する裏孔が大きな面積で開口して設けられている。そして、この裏孔は、通常、六角形状のスリットが交差する位置に対応して設けられ、両者は、口金基体内部で連通している。従って、裏孔から導入されたセラミック原料等の成形原料は、比較的内径の大きな裏孔から、幅の狭いスリットへと移行して、このスリットの開口部からハニカム構造の成形体（ハニカム成形体）として押出される。
【０００３】
このような六角形状のハニカム構造体成形用口金を製造する方法としては、例えば、上述したハニカム形状のスリットを放電加工（ＥＤＭ加工）により形成する製造方法が開示されている（例えば、特許文献１、特許文献２参照、特許文献３）。
【０００４】
特許文献１および特許文献２に開示されたハニカム・ダイスの製造方法によれば、正六角形のハニカム状の成形溝の交差部が面取りされた形状を有する成形溝を同一工程中に成形することが可能な正六角形状のハニカム体を製造するためのハニカム・ダイスの製造方法が示されている。このように、成形溝の交差部が面取りされることにより、ハニカム構造体のアイソスタティック強度を向上させることが可能である。
【０００５】
また特許文献３に開示された製造方法によれば、金型素材（口金基体）の穴形成面に供給穴（導入孔）を形成した後に、該穴形成面の反対面である溝形成面におけるスリット形成位置の一部と上記供給穴とが貫通するように下穴を複数設け、上記溝形成面に放電加工用電極を対面させるとともに、上記溝形成面に加工液を供給しながら、かつ、上記下穴を通して上記溝形成面側から上記穴形成面側へ上記加工液を吸引しながら上記放電加工用電極を前進させて放電加工を進め、次いで、放電加工を止めて上記放電加工用電極を後退させて加工途中の上記スリットを開放し、上記下穴を介して上記穴形成面側から上記溝形成面側へ抜けるように上記加工液を噴流させる逆流処理を行い、その後、上記放電加工と上記逆流処理とを交互に繰り返して上記スリットを形成するものである。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特許第１７８４８２２号公報
【特許文献２】特許第１７８４８２３号公報
【特許文献３】特開２００２−２７３６２６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、上述した特許文献１および特許文献２に開示されたハニカム・ダイスの製造方法においては、近年のハニカム構造体のセル密度向上、薄壁化に伴って、成形溝の幅や間隔が狭まった緻密なハニカム・ダイスを製造する際に、放電加工に用いる櫛歯状の電極の厚みが減少しており、破損しやすくなっていた。放電加工時に折れた櫛歯状の電極はセル形状が異常となる不良の発生原因となっていた。櫛歯状の電極の折損は、放電加工により発生するスラッジが加工点より十分に排出されず、電極とスラッジの間で二次放電が発生することによるものである。
【０００８】
また、上述した特許文献３に開示されたハニカム構造体成形用金型の製造方法においては、下穴を通して溝形成面側から穴形成面側へ加工液を吸引しながら放電加工用電極を前進させて放電加工を行うことから、放電加工によって生じたスラッジが、吸引する加工液にのって、実質的な放電加工が行われる放電加工用電極の先端部と金型素材（口金基体）との間を通過することとなる。このため、放電電極による放電が不安定となり加工不良を引き起すという問題があった。また、一次的に逆流処理を行ったとしても、放電加工中に常時発生するスラッジを取り除くことはできないという問題があった。特に、六角形ハニカム形状のハニカム構造体成形用口金においては、スリットの形状が四角形ハニカム形状等と比較して複雑になることから、上述した問題が顕著なものとなっていた。また精度の高い放電加工用電極を作成することも、非常に困難であった。放電加工用電極を作成する際の加工性と耐久性とは相反するため、放電加工用電極の準備作成段階を含めた製造工程で効率の良い口金の製造方法が求められていた。
【０００９】
そして、上述したようなハニカム構造体のセルの緻密化により、例えば、１平方インチ当りの六角セルの数が４００〜９００個と増加してきている。これに伴い六角セルのサイズも六角形の対向する２辺間の距離を対辺長とすると、対辺長で１．００〜１．５０ｍｍと微小化し、更に加工対象としての六角形格子状のスリットを構成する六角形の辺の数も飛躍的に増加した。またハニカム構造体のセルのリブ厚（隔壁の厚さ）も２．５〜４．５ｍｉｌと薄くなってきたため、より高精度な加工が必要となり、放電加工の速度も落とさざるを得なくなってきている。
【００１０】
本発明は、上述した問題に鑑みてなされたものであり、六角形ハニカム形状のハニカム構造体を成形するための成形用口金の製造時に、セルブロックの六角形の頂点の面取りと、スリット形成の粗加工とを効率よく行うことにより、簡便かつ高精度に製造することが可能なハニカム構造体成形用口金の製造方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明は、以下のハニカム構造体成形用口金の製造方法を提供するものである。
【００１２】
［１］  一方の端面と他方の端面を有した板状の口金基体の坏土導入面とされる前記他方の端面に、坏土を導入するための複数の導入孔を形成する導入孔形成工程と、前記口金基体の坏土成形面とされる前記一方の端面に、前記導入孔に連通させた、前記坏土がハニカム成形体として押出される六角形ハニカム状のスリット、及び前記スリットで仕切られる複数の六角柱状突起部を形成するスリット形成工程と、を含み、前記スリット形成工程は、円柱状の放電加工孔が複数設けられた有孔電極を、前記坏土成形面に対して押し付けて行う円柱放電加工により、前記スリット及び前記六角柱状突起部を形成する前段階として、前記坏土成形面に複数の円柱状突起部を形成する円柱状突起部形成工程と、前記円柱状突起部形成工程の後、前記スリットの溝幅に対応する複数の板状の突起電極が配設された櫛歯電極を、隣接する前記円柱状突起部どうしの間隙に挿入する櫛歯放電加工を行って、前記円柱状突起部を前記六角柱状突起部として形成する六角柱状突起部形成工程と、を有したハニカム構造体成形用口金の製造方法。
【００１３】
［２］  前記円柱状突起部形成工程において、前記坏土成形面上の、前記六角柱状突起部の六辺と接する六角形を基準六角形とし、前記基準六角形の内接円の半径をＲｉｎ、前記基準六角形の外接円の半径をＲｏｕｔとし、前記円柱状突起部の外周円の半径をＲとし、前記円柱放電加工の放電ギャップをＧとした場合に、Ｒｉｎ＜Ｒ≦Ｒｏｕｔかつ、Ｘ＝Ｒ＋Ｇの関係にあるＸを半径とする円柱状の前記放電加工孔が複数設けられた前記有孔電極を用いて前記円柱放電加工を行う前記［１］に記載のハニカム構造体成形用口金の製造方法。
【００１４】
［３］  前記六角柱状突起部形成工程において、前記基準六角形の各辺のうち一辺に平行な板状の複数の前記突起電極を並列させた前記櫛歯電極を用い、前記基準六角形の各辺に平行な３方向のそれぞれに対応させて少なくとも３回に分けて前記櫛歯放電加工を行う前記［２］に記載のハニカム構造体の成形用口金の製造方法。
【００１５】
［４］  前記六角柱状突起部形成工程において、前記突起電極の列間隔が前記基準六角形の対向する辺の間隔と等しい電極を対向辺櫛歯電極とした場合に、この対向辺櫛歯電極を前記櫛歯電極として用い、一度の放電加工で前記基準六角形の各辺に平行な３方向のうち一方向に隣接する前記六角柱状突起部と接するスリットに対してのみ放電加工を行い、前記基準六角形の各辺に対応させた少なくとも６回の放電加工を行う前記［３］に記載のハニカム構造体の成形用口金の製造方法。
【００１６】
［５］  前記有孔電極を、銅タングステン電極として作成する前記［１］〜［４］のいずれかに記載のハニカム成形用口金の製造方法。
【００１７】
［６］  前記櫛歯電極を、カーボン電極として作成する前記［１］〜［５］のいずれかに記載のハニカム成形用口金の製造方法。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば、六角形ハニカム形状のハニカム構造体を成形するための成形用口金の製造時に、六角形の頂点の面取りと、スリット形成の粗加工とを効率よく行うことにより、簡便かつ高精度にハニカム構造体成形用口金を製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明のハニカム構造体成形用口金の製造方法の実施の形態によって製造されたハニカム構造体成形用口金によって押出成形されるハニカム構造体を模式的に示す斜視図である。
【図２Ａ】本発明のハニカム構造体成形用口金の製造方法の実施の形態によって製造されたハニカム構造体成形用口金を模式的に示す断面図である。
【図２Ｂ】本発明のハニカム構造体成形用口金の製造方法の実施の形態によって製造されたハニカム構造体成形用口金を模式的に示す一部拡大斜視図である。
【図２Ｃ】本発明のハニカム構造体成形用口金の製造方法の実施の形態によって製造されたハニカム構造体成形用口金を模式的に示す平面図である。
【図２Ｄ】本発明のハニカム構造体成形用口金の製造方法の実施の形態によって製造されたハニカム構造体成形用口金を模式的に示す一部拡大平面図である。
【図３】本発明の一実施形態における導入孔形成工程を模式的に示す斜視図である。
【図４Ａ】図３の工程における口金基体の表面を模式的に示す平面図である。
【図４Ｂ】図３の工程における口金基体を模式的に示す断面図である。
【図５Ａ】有孔電極の一実施形態を模式的に示す平面図である。
【図５Ｂ】有孔電極の一実施形態を模式的に示す図５ＡのＡ−Ａ’断面図である。
【図６】本発明の一実施形態における円柱状突起部形成工程を模式的に示す平面図である。
【図７Ａ】図６の工程における口金基体を模式的に示す平面図である。
【図７Ｂ】図６の工程における口金基体を模式的に示す一部拡大平面図である。
【図８】本発明の一実施形態における基準六角形と円柱状突起部の関係を模式的に説明する説明図である。
【図９】本発明の一実施形態における面取り部の円弧状領域を模式的に説明する説明図である。
【図１０】本発明のハニカム構造体成形用口金の製造方法に用いられる櫛歯電極の一実施形態を模式的に示す斜視図である。
【図１１】本発明のハニカム構造体成形用口金の製造方法に用いられる櫛歯電極の他の実施形態を模式的に示す斜視図である。
【図１２】本発明の一実施形態における六角柱状突起部形成工程を模式的に説明する説明図である。
【図１３】本発明の一実施形態における六角柱状突起部形成工程を模式的に示す図１２のＤ−Ｄ’断面図である。
【図１４】本発明の一実施形態における六角柱状突起部形成工程を模式的に示す図１２のＤ−Ｄ’断面図である。
【図１５】本発明の一実施形態における六角柱状突起部形成工程を模式的に説明する説明図である。
【図１６】本発明の一実施形態における六角柱状突起部形成工程を模式的に説明する説明図である。
【図１７】本発明の一実施形態における六角柱状突起部形成工程を模式的に説明する説明図である。
【図１８】本発明の一実施形態における六角柱状突起部形成工程を模式的に説明する説明図である。
【図１９】本発明の一実施形態における六角柱状突起部形成工程を模式的に説明する説明図である。
【図２０】参考例１における加工液穴を形成する工程を模式的に示す一部を拡大して斜めから見た断面図である。
【図２１】図２０の工程における口金基体の表面を模式的に示す平面図である。
【図２２】参考例１における導入孔を形成する工程を模式的に示す斜視図である。
【図２３】図２２の工程における口金基体の表面を模式的に示す平面図である。
【図２４】参考例１におけるスリットを形成する工程を模式的に示す斜視図である。
【図２５】図２４の工程における口金基体の表面を模式的に示す平面図である。
【図２６】図２４の工程における口金基体を模式的に示す断面図である。
【図２７】口金のスリット形状の異常発生箇所を示す口金の一部拡大写真である。
【図２８】リブ交差部の内接円を説明する模式的一部拡大平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
以下、図面を参照して、本発明のハニカム構造体成形用口金の製造方法の実施の形態について詳細に説明するが、本発明は、これに限定されて解釈されるものではなく、本発明の範囲を逸脱しない限りにおいて、当業者の知識に基づいて、種々の変更、修正、改良を加え得るものである。
【００２１】
本実施形態のハニカム構造体成形用口金の製造方法は、図１に示すような、隔壁４１によって六角形のハニカム形状に区画形成された流路４２（以下、「セル」とも言う）を有するハニカム構造体４０を押出し成形するために用いられるハニカム構造体成形用口金を製造する方法である。また、図２Ａ〜図２Ｄに示すように、このハニカム構造体成形用口金１は、口金基体２の坏土成形面とされる一方の端面７に六角形６を充填させてその辺に沿って形成された六角形ハニカム形状のスリット５と、このスリット５で仕切られた六角柱状突起部５０（以下、「セルブロック」とも言う）を有するとともに、口金基体２の坏土導入面とされる他方の端面８にこのスリット５と連通する導入孔４を有している。更に、この導入孔４に導入されたセラミックス坏土がハニカム成形体として六角形ハニカム状のスリット５から押出し成形されるものである。また更に、このハニカム構造体成形用口金１は、スリット５が交差している六角柱状突起部５０の六角形の頂点にあたる箇所に面取りを行って、円弧状の面取り部５５を有している。
【００２２】
この面取り部５５は、六角柱状突起部５０の中心点を中心とした円弧状に曲線をなしている。この面取り部５５を設けることにより、このハニカム構造体成形用口金１を用いて得られたハニカム成形体は、複数の六角形状のセルを区画する隔壁の交差部において成形不良の発生や焼成時のクラックを防止し、アイソスタティック強度に優れた特性を有するものである。なお、このハニカム成形体を焼成して得られる図１に示すようなハニカム構造体４０は、内燃機関、ボイラー、化学反応機器及び燃料電池用改質器等の触媒作用を利用する触媒用担体や、排気ガス中の微粒子捕集フィルター等に好適に用いることができる。
【００２３】
（口金基体を構成する材質）
本実施形態で用いられる口金基体２を構成する材料としては、ハニカム構造体成形用口金の材料として一般的に用いられている金属又は合金を挙げることができる。例えば、鉄（Ｆｅ）、チタン（Ｔｉ）、ニッケル（Ｎｉ）、銅（Ｃｕ）、及びアルミニウム（Ａｌ）からなる群より選ばれる少なくとも一つの金属を含む金属又は合金を挙げることができる。なお、このような第一の板状部材２３を構成する金属又は合金は、炭素（Ｃ）、ケイ素（Ｓｉ）、クロム（Ｃｒ）、マンガン（Ｍｎ）、モリブデン（Ｍｏ）、白金（Ｐｔ）、パラジウム（Ｐｄ）等の添加剤を含んだものであることが更に好ましい。
【００２４】
また、口金基体２を構成する合金の他の例として、ステンレス合金、より具体的には、ＳＵＳ６３０（Ｃ；０．０７以下，Ｓｉ；１．００以下，Ｍｎ；１．００以下，Ｐ；０．０４０以下，Ｓ；０．０３０以下，Ｎｉ；３．００〜５．００，Ｃｒ；１５．５０〜１７．５０，Ｃｕ；３．００〜５．００，Ｎｂ＋Ｔａ；０．１５〜０．４５，Ｆｅ；残部（単位は質量％））を好適例として挙げることができる。このようなステンレス合金は、加工が比較的に容易であるとともに、安価な材料である。
【００２５】
また、口金基体２を構成する合金の他の例として、耐摩耗性に優れた炭化タングステン基超硬合金から構成されたものを用いることが好ましい。これにより、スリット５の磨耗が有効に防止されたハニカム構造体成形用口金１を製造することができる。
【００２６】
上記した炭化タングステン基超硬合金は、少なくとも炭化タングステンを含む合金であり、炭化タングステンを、鉄（Ｆｅ）、コバルト（Ｃｏ）、ニッケル（Ｎｉ）、チタン（
Ｔｉ）、及びクロム（Ｃｒ）からなる群より選択される少なくとも一つの金属で焼結した合金であることが好ましい。上記群より選択される少なくとも一つの金属を結合材として使用した炭化タングステン基超硬合金は、耐摩耗性や機械的強度に特に優れている。具体的なものとしては、例えば、コバルト（Ｃｏ）を結合材として使用した炭化タングステン基超硬合金、ＷＣ−Ｃｏ０．１〜５０質量％等を挙げることができる。
【００２７】
本実施形態のハニカム構造体成形用口金の製造方法は、一方の端面７と他方の端面８を有した板状の口金基体２の、坏土導入面とされる他方の端面８に、坏土を導入するための複数の導入孔４を形成する導入孔形成工程と、口金基体２の坏土成形面とされる前記一方の端面７に、導入孔４より導入された坏土がハニカム成形体として押出される導入孔４に連通させた六角形ハニカム状のスリット５、及びこのスリットで仕切られる複数の六角柱状突起部５０を形成するスリット形成工程と、を含むものである。また、このスリット形成工程は更に、以下に説明する円柱状突起部形成工程と、この円柱状突起部形成工程の後で行われる六角柱状突起部形成工程と、を有するものである。これら円柱状突起部形成工程と、これに続いて行われ六角柱状突起部形成工程の概略を以下に説明する。
【００２８】
本実施形態のスリット形成工程に含まれる円柱状突起部形成工程は、図５Ａ，図５Ｂに示すように、円柱状の放電加工孔１３が複数設けられた有孔電極１１を用いて行うものである。また、円柱状突起部形成工程は、図６に示すように有孔電極１１を口金１の坏土成形面８に対して押し付けて行う放電加工（以下、「円柱放電加工」とも言う。）により、スリット５及び六角柱状突起部５０を形成する前段階として、図７Ａ，７Ｂに示すような坏土成形面７に複数の円柱状突起部５１を形成するものである。
【００２９】
図１２に示すように、この円柱状突起部５１はスリットの前段階である粗加工スリット５２により仕切られている。このような粗加工スリット５２をあらかじめ設けておくことにより、続く六角柱状突起部形成工程において櫛歯電極２１、３１を用いた精度の高い六角柱状突起部を形成する際に、図９に示す円弧状領域５６で示す部分が、櫛歯電極により取り除かれて生じたスラッジ１９（図１４参照）を効率良く排除することが可能となる。また、円弧状領域５６のみを櫛歯電極で取り除けば良いため、櫛歯電極の破損を防止することが可能となる。また更に、円弧状領域５６のみを櫛歯電極で取り除けば良いため、櫛歯電極による放電加工の速度を上げて、生産効率を上昇させることが可能となる。
【００３０】
本実施形態のスリット形成工程に含まれる六角柱状突起部形成工程は、上述の円柱状突起部形成工程の後で行われ、図１０、図１１に示すようなスリット５の溝幅に対応する複数の板状の突起電極２３、３３がそれぞれ配設された櫛歯電極２１、または櫛歯電極３１を用いるものである。また、本実施形態のスリット形成工程に含まれる六角柱状突起部形成工程は更に、例えば図１２に示すような隣接する円柱状突起部５３どうしの間隙に上述の櫛歯電極３１を挿入する放電加工（「以下、櫛歯放電加工」とも言う。）により、図９に示すような円柱状突起部５１の円弧状領域５６を取り除いて六角柱状突起部として形成するものである。このようにして、坏土成形面に六角形ハニカム形状スリット５およびこのスリットスリットで仕切られる六角柱状突起部５０が設けられたハニカム構造体成形用口金１を得る。
【００３１】
また、スリット形成工程で図２Ｂ〜図２Ｄに示すようにスリット５および導入孔４を形成した後に、この口金基体２にＣＶＤ等のコーティングを行ってもよい。このようにコーティングすることによって、口金基体２の耐摩耗性を向上させることができる。
【００３２】
以下、本実施形態の各工程をより具体的に説明する。
【００３３】
（導入孔形成工程）
まず、図３、図４Ｂに示すように、口金基体２の坏土導入端面とされる他方の端面８に厚さ方向に開口する導入孔４を形成する。また、口金基体２に導入孔４を形成する際には、図２Ｃに示すように、ハニカム構造体成形用口金１の六角形ハニカム形状のスリット５における交差部の部分と連通するような位置に形成することが好ましい。このような位置に導入孔４を形成することにより、ハニカム構造体成形用口金１を用いて押出成形を行う際に、導入孔４に導入した成形原料をスリット５全体に均一に広げることができ、高い成形性を実現することができる。また、導入孔４は、図３及び図４Ａに示すように、口金基体２の他方の端面８（図４Ａの裏側）に、押出成形するハニカム構造体４０（図１参照）の六角形ハニカム形状を構成する六角形６の頂点のうちの少なくとも一つの頂点に相当する位置（図２Ａ〜図２Ｄ参照）に導入孔４を形成する。
【００３４】
導入孔４の開口径の大きさは、製造するハニカム構造体成形用口金１の大きさや、押出成形するハニカム構造体４０（図１参照）の形状等によって適宜決定することができる。例えば、導入孔４の開口径の大きさの好ましい範囲は、六角形セルブロックの対辺長の０．７〜１．８倍が好ましく、下限１．０倍、または上限１．５倍の範囲であることが更に好ましい。このような導入孔４を形成する方法については特に制限はないが、例えば、電解加工（ＥＣＭ加工）、放電加工（ＥＤＭ加工）、レーザ加工、ドリル等の機械加工等による従来公知の方法を好適に用いることができる。
【００３５】
（スリット形成工程）
スリット形成工程は、円柱状突起部形成工程と、円柱状突起部形成工程の後に続く六角柱状突起部形成工程とを含む。以下に各工程を具体的に説明する。スリット形成工程で形成されるスリットは、六角形のハニカム状であり、坏土成形面上の六角柱状突起部を仕切るものとなる。スリットの幅は０．０５〜１．００ｍｍであることが好ましい。スリットの坏土成形面からの深さとしては、０．５０〜５．００ｍｍであることが好ましい。
【００３６】
（円柱状突起部形成工程）
円柱状突起部形成工程においては、図５Ａ，図５Ｂに示すような有孔電極１１を用いて口金基体２の坏土成形面とされる一方の端面にスリット５の粗加工を行う。次に、スリットの粗加工の寸法に関する条件を説明する。坏土成形面上で六角柱状突起部の六辺と接する六角形を基準六角形６１とすると、図８に示すように、この基準六角形６１の内周円の半径Ｒｉｎは０．３０〜０．９０ｍｍであることが好ましい。また、基準六角形６１の外周円の半径Ｒｏｕｔは０．３５〜１．０５ｍｍであることが好ましい。円柱状突起部５１の外周円の半径をＲとする。
【００３７】
スリット５の交差部（図２Ｄ参照）に設けられた、図２Ｄ、図９に示すような六角形の頂点に当たる部分の面取り部５５の円弧状をその一部となす円の半径は、この円柱状突起部外周円の半径Ｒに等しい。円柱状突起部外周円半径Ｒの数値範囲は所望のハニカム構造体のセルの密度と隔壁の厚さにより変化するものであるが、０．３３〜１．０３ｍｍの範囲であることが好ましい。またこの半径Ｒの好ましい範囲は下限が０．４０、または上限が０．７０ｍｍの範囲であることが更に好ましい。なお、ハニカム構造体のセルのサイズと隔壁の厚さは、口金のセルブロックのサイズとスリットの幅に概ね相当するが、成形によって口金のサイズが転写された後も、焼成によって収縮するため、セラミックス成形材料の種類や所望のハニカム構造体の種類に応じて適宜寸法を変更することが好ましい。
【００３８】
上述した円柱状突起部外周円の半径Ｒは、続く六角柱状突起部形成工程で得られる六角柱状突起部の面取り部の円弧状部分をその一部とする円の半径と等しい。即ち、円柱状突起形成工程においては、スリットの粗加工と、スリットの交差部に当たる六角柱状突起部の面取りとを同時に行うことになる。こうして、スリットの交差部の面取りを行うことによって口金を成形して得られるハニカム構造体のアイソスタティック強度を向上させる。また、そのようなハニカム構造体成形用口金を従来のハニカム構造体成形用口金の製造方法と比較して短期間かつ低コストで製造することができる。
【００３９】
円柱状突起部外周円６０の半径Ｒ、基準六角形６１の内周円の半径Ｒｉｎ、基準六角形６１の外周円の半径Ｒｏｕｔのそれぞれの好ましい範囲の関係式は、「１．０５≦Ｒ／Ｒｉｎ≦１．１３」である。この関係式において、Ｒ／Ｒｉｎ＝１のときセルブロックは円形となって六角形格子状のスリットが形成されない。また、Ｒ／Ｒｉｎ＝１．１５５（≒２／√３）のときは面取り部が形成されない。
【００４０】
この面取り部５５の円弧状をその一部となす円の半径、即ち円柱状突起部外周円６０の半径Ｒに、放電ギャップＧを加算した値のＸを、円柱状突起部形成工程で用いる有孔電極に設けられた円柱状の放電加工孔の半径とすることにより、六角柱状突起部５０とスリット５の粗加工とともに、六角柱状突起部５０の面取り加工も同時に行うことができる。また、この面取り部５５が円柱状突起部形成工程において設けられたことにより、続く六角柱状突起部形成工程で行われる櫛歯電極２１，３１での放電加工が容易となり、櫛歯電極と、スラッジ１９を介した意図しない放電が起こることによる櫛歯電極の破損を防ぐ事が可能となる。このようにして、生産工程を短縮し、生産効率を大幅に向上させることが可能となる。
【００４１】
（有孔電極）
上述の円柱状突起部形成工程で用いられる有孔電極１１は、図５Ａ，図５Ｂで示されるように複数の円柱状の放電加工孔１３を有している。放電加工孔の寸法は、所望の六角形状のセルの大きさや、面取り部の大きさに応じて適宜選択可能であるが、この放電加工孔の深さは１．００〜２０．０ｍｍが好ましく、円柱状の半径は０．４０〜１．２０ｍｍが好ましい。更に放電加工孔の間隔は、所望のスリットの幅および所望のハニカム構造体のセルピッチに応じて適宜選択可能であるが、隣接する放電加工孔の円柱状の中心軸どうしの間隔として０．８０〜２．５０ｍｍが好ましい。
【００４２】
なお、「ハニカム構造体のセルピッチ」とは、等間隔に隣接するセルどうしの間隔のうち、同一方向に配置された最短の間隔のことを言う。例えば、図１に示すようなハニカム構造体４０の図中上端面の正六角形のセル４２の形状において、一つの正六角形状のセル４２の内壁側で対向する２辺の間隔である対辺長が０．９ｍｍで、かつ、その正六角形状のセルを区画する隔壁４１の厚さが０．１ｍｍで一定間隔に配置されている場合、セルピッチは１．０ｍｍとなる。
【００４３】
ここで、「口金のセルピッチ」即ち「口金の六角柱状突起部（セルブロック）のピッチ」について説明する。上述したように、口金の坏土成形面上の、スリットで区画される六角柱状突起部の六辺と接する六角形を基準六角形とする。「口金のセルピッチ」即ち「口金の六角柱状突起部（セルブロック）のピッチ」とは、スリットで区画され、等間隔に隣接した、口金の坏土成形面上における六角柱状突起部（セルブロック）どうしの間隔のうち、同一方向に配置された最短の間隔のことを言う。例えば、図２Ｄに示すようなハニカム構造体成形用口金１の図中の坏土成形面上の六角柱状突起部（セルブロック）５０の形状において、一つの基準六角形の対向する２辺の間隔である対辺長が０．９ｍｍで、かつ、坏土成形面上のスリットの幅が０．１ｍｍで一定間隔に配置されている場合、「口金のセルピッチ」即ち「口金の六角柱状突起部（セルブロック）のピッチ」はこれらの値を加算した１．０ｍｍとなる。
【００４４】
有孔電極１１に設ける放電加工孔１３の、円柱状の穴はドリルで容易に精度良く穿孔加工ができる。この放電加工孔の半径Ｘは、円柱放電加工の放電ギャップをＧ（ｍｍ）とすると、Ｘ（ｍｍ）＝Ｒ（ｍｍ）＋Ｇ（ｍｍ）の関係にある。この放電ギャップＧの値は、所望のスリット幅や、スリットで区画される六角柱状突起部の寸法等や、加工スピード、放電加工機の出力や設定条件にも依存するものであって、適宜変更可能なものとする。このように、特に限定するものではないが、放電ギャップＧ（ｍｍ）の好ましい範囲は０．０１０〜０．２００ｍｍである。放電ギャップＧ（ｍｍ）の好ましい範囲は、更に好ましくは下限が０．０２０ｍｍ、または上限が０．１００ｍｍとすることが好ましい。これをもし、従来技術の範囲で、例えば六角柱状突起部形成工程で得られる六角柱状突起部と同じ形状の放電加工孔を有するような、六角有孔電極を作製しようとすると、精度の良いドリルによる穿孔加工が不可能なため、放電加工で行う必要がある。仮にこの場合、製品サイズにもよるが、口金１台当り５，０００〜２５，０００箇所の六角柱状の放電加工孔を加工する必要があるため、１箇所当たり数分〜数十分要する放電加工では、多大な工数がかかる。
【００４５】
具体的には、従来技術の範囲で、銅タングステン合金からなり、六角柱状の放電加工孔を有した有孔電極の製作に要する時間は、概ね２〜４ヶ月である。そして口金１個を製造するに要する（電極の使用時に消耗した部分のみを研削して除去する）延べ使用有孔電極枚数は、３〜６枚である。また、口金１個の作製で放電加工に要した放電加工時間は１．０〜２．０ヶ月である。このような六角柱状の放電加工孔を有した有孔電極を使用して、口金１個を製作するのに要する総工数は、３．５〜７ヶ月である。
【００４６】
これに対して、本発明において、例えば、銅タングステン製合金からなり、円柱状の放電加工孔を有した有孔電極においては、有孔電極の製作時間は１〜５日である。また口金１個を製作するのに要する有孔電極の枚数は１枚である。また、口金１個作製するのに要する櫛歯電極は６〜１８枚である。そしてその製作時間は約０．２５日である。口金１個につき、櫛歯電極を用いた六角柱状突起部形成工程に要する放電加工時間は、約０．５〜１．５ヶ月である。口金１個を製作するのに要する総工数は、約０．７５〜２．０ヶ月である。
【００４７】
従って、本発明のハニカム構造体成形用口金の製造方法で用いられるように、円柱状の放電加工孔を有した精度の高い有孔電極を効率良く作製して使用することが、生産コストの観点からも、品質維持の観点からも優れている。
【００４８】
（有孔電極を構成する材質）
本実施形態で用いられる有孔電極１１を構成する材料としては特に限定するものではないが、銅タングステン合金、銀タングステン合金、銅、カーボングラファイト等を挙げることができる。より具体的には、Ｃｕ；５０、Ｗ；５０からなる銅タングステン合金（単位は質量％）を好適例として挙げることができる。このような銅タングステン合金はドリル等による穿孔加工が可能で、高導電率や高融点という特性から耐腐食性、耐摩耗性に優れており、放電特性が良く加工精度が高いという利点がある。銅タングステン合金からなる有孔電極を用いることにより、破損等を防止することが可能である。
【００４９】
（六角柱状突起部形成工程）
六角柱状突起部形成工程においては、上述の基準六角形６１の各辺のうち一辺に平行な板状の複数の突起電極２３を突起電極支持部２２に並列させた図１０に示すような、櫛歯電極２１を用いて、坏土成形面上で、基準六角形６１の各辺に平行な３方向のそれぞれに対応させて少なくとも３回に分けて前記櫛歯放電加工を行うことが好ましい。各方向に揃った櫛歯電極２１を３種類用意しても良いし、同じ櫛歯電極２１を６０°ずつ回転させて行っても良い。
【００５０】
前記六角柱状突起部形成工程においてはまた、図１１に示すような突起電極３３の列間隔が上述の基準六角形６１の対向する辺の間隔Ｃと等しい櫛歯電極３１を用い、一度の放電加工で基準六角形６１の各辺に平行な３方向のうち一方向に隣接する六角柱状突起部５３（図１２、図１５〜図１９参照）の間の粗加工スリット５２に対してのみ放電加工を行って円弧状領域５６（図９参照）を取り除き、基準六角形６１の各辺に対応させた少なくとも６回の放電加工を行うことが更に好ましい。このような櫛歯電極３１を用いて六角柱放電加工をおこなうことにより、櫛歯電極２１を用いた場合より放電加工の回数は２倍となるが、一度の放電加工に伴うスラッジの発生量そのものを抑制することや、一度の放電加工の速度を上述の櫛歯電極２１を用いた場合の速度と比較して３倍とすることが可能となる。これに加えて、櫛歯電極３１の破損のおそれを更に抑制することができきる。各方向に揃った櫛歯電極３１を複数用意しても良いし、同じ櫛歯電極３１を６０°ずつ回転させて行っても良い。
【００５１】
（櫛歯電極）
上述の六角柱状突起部形成工程で用いられる櫛歯電極としては、図１０、図１１で示すような最終的に得られる所望のハニカム構造体成形用口金１のスリット５の幅に対応する寸法と配置の複数の板状の突起電極２３、３３それぞれが平行で、突起電極支持部に垂直に配設された櫛歯電極２１、３１を好適に用いることができる。
【００５２】
櫛歯電極に設けれらた複数の突起電極２３，３３は、厚みｔをスリット５の幅に対応させて０．０２０〜０．８００ｍｍとすることが好ましい。また突起電極２３，３３の高さはスリット５の深さよりも長く、１．００〜８．００ｍｍとすることが好ましい。そして突起電極２３，３３の幅Ｌは０．４０〜２．００ｍｍとすることが好ましい。
【００５３】
櫛歯電極２１においては、突起電極が基準六角形６１の対向する３組の辺のうち、１組の辺に平行な全ての辺に対応させて設けられている。この突起電極２３の板状の面に垂直な方向の一定間隔とされたピッチは、加工対象であるスリットによって適宜変更可能なものであり、特に限定するものではない。この突起電極２３のピッチは、例えば、図１０に示すように基準六角形６１の対向する２辺の距離の２分の１のＢにスリット幅の値を加えた値とすることが好ましい。突起電極２３の板状の面に垂直な方向の一定間隔とされたピッチは、例えば、０．３０〜１．８０ｍｍの範囲であることが好ましく、更に好ましくは、下限が０．４０、または上限が１．２５ｍｍの範囲であることが特に好ましい。
【００５４】
なお、スリットの深さが深い場合には櫛歯電極の複数回加工を行うことが好ましい。その理由は、電極の消耗により、スリットが深い部分ほどスリット幅が狭いテーパ状になることがあるためである。この深い部分のスリット幅を広げるため、櫛歯放電加工を行った後で同じ位置に、櫛歯電極を新たのものと交換し、複数回に分けて新しい櫛歯電極で放電加工を行うことが好ましい。また、繰り返し時の櫛歯放電加工に突起電極の厚みｔを薄くしたものを用いることは、加工面の上面に近い部分ではほとんど加工が行われず、スリット幅がテーパー状に狭くなったスリットの深い部分のみを加工可能であることから好ましい。
【００５５】
櫛歯電極３１においては、突起電極３３が基準六角形６１の対向する３組の辺のうち、１組の辺に平行な辺のうち、一方向に隣接する六角形の辺のみに対応させて設けられている。この突起電極３３の板状の面に垂直な方向の一定間隔としたピッチは、加工対象であるスリットによって適宜変更可能なものであり、特に限定するものではない。この突起電極３３のピッチは、例えば、図１１に示すように基準六角形６１の対向する２辺の距離Ｃにスリット幅の値を加えた値とすることが好ましい。例えば、この突起電極３３のピッチの好ましい範囲は、０．６０〜３．６０ｍｍであることが好ましく、更に好ましくは、下限が０．８０ｍｍ、または上限が２．５０ｍｍの範囲であることが好ましい。
【００５６】
なお、上記した櫛歯電極２１と同様に、櫛歯電極３１においても、電極の消耗により、スリット幅が狭くなった部分のスリット幅を広げるため、櫛歯放電加工を行った後で同じ位置に、櫛歯電極を新たのものと交換し、複数回に分けて新しい櫛歯電極で放電加工を行うことが好ましい。また、繰り返し時の櫛歯放電加工に突起電極の厚みｔを薄くしたものを用いることは、加工面の上面に近い部分ではほとんど加工が行われず、スリット幅がテーパー状に狭くなったスリットの深い部分のみを加工可能であることから好ましい。
【００５７】
（櫛歯電極を構成する材質）
本実施形態で用いられる櫛歯電極２１、３１を構成する材料としては特に限定するものではないが、微粒子高強度高密度カーボングラファイト材を挙げることができる。より具体的には平均粒子径５μｍ以下のものを好適例として挙げることができる。このようなカーボングラファイトを材質としたカーボン電極は、櫛歯電極２１，３１の突起電極２３，３３等の微細形状のものを高い精度で形成することが可能であるという利点や、高硬度で耐摩耗性に優れている、加工速度が速いという利点がある。しかし、高硬度であるが故に、破損しやすいため、微粒子高強度高密度カーボングラファイト材を櫛歯電極２１，３１を構成する材料として用いた場合には、本実施形態に示されるような粗スリット加工等を行って、加工領域をあらかじめ省いておくことや、放電加工に伴って発生するスラッジを加工液などによって効率良く排除することが特に好ましい。
【実施例】
【００５８】
以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
【００５９】
（実施例１）
導入孔形成工程において、ステンレス製で、縦横１８０×１８０ｍｍ、厚さ２０ｍｍの板状の口金基体２の他方の端面８に、開口径が０．９０ｍｍの導入孔４を図４Ａ、図４Ｂに示すように、押出成形するハニカム構造体の六角形ハニカム形状を構成するそれぞれの六角形の頂点のうち一つおきに三つの頂点に相当する位置に、坏土導入面から１７．５ｍｍの深さまで、約１万個形成した。
【００６０】
次に、スリット形成工程の円柱状突起部形成工程で、図５Ａ，図５Ｂに示すような半径０．５７ｍｍ（放電ギャップＧ（ｍｍ）＝０．０３０ｍｍ）、深さ１５．０ｍｍの円柱状の放電加工孔１３を、隣接する放電加工孔１３の円柱状の中心軸の間隔を１．２０ｍｍとして、その放電加工孔１３の円柱状の中心軸がハニカム構造体の六角形ハニカム形状を構成するそれぞれの六角形の中点に対応するような位置に約１万個配置した有孔電極を用いて図６に示すように口金基材に押しつける放電加工（円柱放電加工）を行った。これにより、口金基体２の坏土成形面７に図７Ａ、図７Ｂに示すような粗加工スリット５２およびこの粗加工スリットで仕切られる約１万個の円柱状突起部５１を形成した。この粗加工スリット５２の坏土成形面からの深さは３．００ｍｍで、口金基体２の内部で導入孔４と連通している。円柱放電加工の速度はサーボによる自動制御とした。放電加工は、ＮＣ放電加工機を用いて行った。加工液は一般的な放電加工油を使用した。
【００６１】
円柱状突起部形成工程に続く六角柱状突起部形成工程において、図１１に示すような櫛歯電極３１を用いて、図９に示すような円弧状領域５６を取り除くための櫛歯放電加工を行った。具体的には、櫛歯電極３１に設けられた板状の突起電極３３は、厚さｔが０．０８ｍｍ、高さＨが４．５０ｍｍ、突起電極３３に平行な方向の幅Ｌが０．７０ｍｍ、突起電極の間隔Ｃは図１１に示すような基準六角形６１の対向する２辺と同じ１．２０ｍｍであるものを使用した。
【００６２】
このような櫛歯電極３３を、図１３に示すような口金基体２の一方の端面７から間隔を隔てた状態から図中下方に向けて放電加工を行った。このようにして、図１４に示すように放電加工用の加工液１０中の口金基体２の他方の端面８側から導入孔４及び粗加工スリット５２を経由して一方の端面７側に加工液１０を流出させながら、櫛歯放電加工を行った。
【００６３】
具体的には、図１２、図１５、図１６に示すように櫛歯電極３３の角度を６０°ずつ回転させて各櫛歯放電加工を行い、更に図１７〜図１９に示すように加工対象とする六角柱状突起部の列をずらし、続いて同様に角度を６０°ずつ回転させて各放電加工を行うことにより、円弧状領域５５を取り除いた。これにより、口金基体２の一方の端面７から導入孔４に連通する深さまで加工して、口金基体の一方の端面７に六角形ハニカム形状のスリット５、およびこのスリット５で仕切られる六角柱状突起部５１を形成し、図２Ａ〜図２Ｄに示すようなハニカム構造体成形用口金１を製造した。本実施例における放電加工は、ＮＣ放電加工機を用いて行った。加工液１０は円柱状突起部形成工程と同じものを使用し、加圧圧力が０．０１ＭＰａとなるようにポンプを用いて他方の端面側から流出させた。なお、本実施例１においては、上述した方法で、ハニカム構造体成形用口金を２個作製した。スリット幅は１５０μｍとなった。
【００６４】
（参考例１）
参考例として、特開２００５−２５４３４５号公報に記載の、口金基体にあらかじめ加工液用穴を設けた後で放電加工を行う口金の製造方法に基づいて実施例１と同様の口金を製造した（図２０〜図２６参照）。参考例における口金基体の詳細は、図２０に示すような、実施例１で使用したものと同じ寸法、同じ材質の口金基体２を使用した。図２１は、参考例１における加工液穴を形成する工程を模式的に示す一部を拡大して斜めから見た断面図である。この口金基体２の一方の端面７に、開口径が８０μｍの加工液用穴３を、押出成形するハニカム構造体の六角形ハニカム形状を構成するそれぞれの六角形６の六つの頂点のうち一つおきに三つの頂点に相当する位置に、２．７０ｍｍの深さまで、約１万個形成した。図２２は、参考例１における導入孔を形成する工程を模式的に示す斜視図である。図２３は、導入孔を形成する工程における口金基体の表面を模式的に示す平面図である。次に、加工液用穴３を形成した口金基体２の、その他方の端面８に、加工液用穴３と連通するように、開口径が０．９０ｍｍの導入孔４を形成した。次に、実施例１で用いた図１１に示すような６枚の櫛歯電極３１を用意した。この櫛歯電極に設けられた突起電極３３を、口金基体２の一方の端面７から間隔を隔てた状態で、かつ加工液用穴３の開口部の少なくとも一部を覆うように配設した。次いで、放電加工用の加工液を、口金基体２の他方の端面８側から導入孔４及び加工液用穴３を経由して一方の端面７側に流出させながら、６枚の櫛歯電極３３を用いた放電加工により、口金基体２の一方の端面７から導入孔４に連通する深さまで加工した（図２４）。このようにして、図２５に示すような口金基体２の一方の端面７に六角形ハニカム形状のスリット５を形成し、ハニカム構造体成形用口金を製造した。参考例における放電加工は、ＮＣ放電加工機を用いて行った。加工液は一般的な放電加工油を使用し、加圧圧力が０．０１ＭＰａとなるようにポンプを用いて他方の端面８側から流出させた。なお、参考例においては、上述した方法で、ハニカム構造体成形用口金を２個作製した。このとき、スリット幅は１５０μｍとなった。
【００６５】
実施例１では有孔電極１枚での粗加工が、参考例１において櫛歯電極６枚分の加工に相当する。また、実施例１での有孔電極によりスリット粗加工（円柱状突起部形成工程）を行った後で、櫛歯電極による櫛歯放電加工（六角柱状突起部形成工程）を行って、スリット加工を行った場合と、参考例１での口金にあらかじめ加工液孔を設けた後での櫛歯電極のみでスリット加工を行った場合の加工安定性と加工精度、加工工数の比較を行った。加工安定性の比較においては、スラッジ排出性の影響によるスリット加工時（６枚ごとに突起電極の厚みを変更）の櫛歯電極の破損箇所数ならびに口金のスリット形状の異常発生箇所数をカウントした。口金のスリット形状の異常箇所については、一例として図２７のスリット形成不良箇所（図中領域Ｅ）の写真を示す。また加工精度については各実施例、各参考例ごとのスリット幅の平均値からのばらつき（サンプル測定箇所数：５，０００箇所）、加工工数について、全てのスリット放電加工に要した総時間で比較した。比較結果を表１に示す。
【００６６】
【表１】
2010234515.tif 000003
【００６７】
（実施例２、参考例２）
実施例１で得られた口金においては、有孔電極を使用した円柱放電加工により、最終的に得られる六角柱状突起部（セルブロック）が面取りされた形状となる。この口金を用いてハニカム構造体を押出成形して形成した際には、その形状が転写される。図２８は、図１のハニカム構造体４０の図中上端の複数のセル４２のうちの一部分（３個のセル）を、上方から見た、ハニカム構造体のリブ交差部４８の内接円を説明する模式的一部拡大平面図である。
【００６８】
ハニカム構造体の強度に寄与する要素として、ハニカム構造体の隔壁の厚み（リブ厚）とハニカム構造体のセルピッチがある。そして、これらに加えて応力の集中しやすいリブ交差部４８の幅（リブ交差部内接円６５の直径）もあり（図２８参照）、面取りされた形状の場合はこのリブ交差部内接円６５の直径が大きくなる。なお、リブ交差部４８とは、例えば、図２８に示すような、ハニカム構造体の隔壁４１（リブ）が格子状に交差した部分のことを言う。また、リブ交差部内接円とは、例えば、図２８に示すように、リブ交差部４８において、隣接する３つのセル４２と内接する円のことを言う。実施例２として、実施例１で得られたセルブロック頂点が面取りされた口金を用いた場合と、参考例２として参考例１で得られた面取りされていない口金を用いてハニカム構造体を成形、焼成して作製し、強度を比較した結果を表２に示す。強度の指標としてアイソスタティック強度を用いた。口金や面取り部の具体的なサイズや製造方法は、実施例２が実施例１と同条件、参考例２が参考例１と同じ条件とした。結果を表２に示す。
【００６９】
【表２】
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【００７０】
表１に示すように、実施例１において製造されたハニカム構造体成形用口金は、スリット幅が１５０μｍと狭く、それぞれの幅のバラツキが小さく、加工精度の高い優れたものであった。工程に要した時間は１９２〜１９５時間、使用した櫛歯電極の枚数は１２枚であった。参考例１において製造されたハニカム構造体成形用口金は、スリットの幅にバラツキがあった。また、参考例２において製造されたハニカム構造体成形用口金においては、工程に要した時間、電極の枚数は３００時間以上、１８枚であった。これらの結果から、実施例１のハニカム構造体成形用口金の製造方法が生産性、コストの面で優れていることが明らかとなった。
【産業上の利用可能性】
【００７１】
本発明のハニカム構造体成形用口金の製造方法は、六角形ハニカム形状のハニカム構造体を成形するための成形用口金を、簡便かつ高精度に製造することが可能である。
【符号の説明】
【００７２】
１：ハニカム構造体成形用口金、２：口金基体、３：加工液穴、４：導入孔、５：スリット、６：六角形、７：一方の端面、８：他方の端面、９：放電電極、１０：加工液、１１：有孔電極、１２：電極基体、１３：放電加工孔、１４：電極後面、１５：電極前面、１９：スラッジ、２１：櫛歯電極、２２：櫛歯電極支持部、２３：突起電極、３１：櫛歯電極、３２：櫛歯電極支持部、３３：突起電極、４０：ハニカム構造体、４１：隔壁、４２：流路（セル）、４８：リブ交差部（隔壁交差部）、５０：六角柱状突起部（セルブロック）、５１：円柱状突起部、５２：粗加工スリット、５３：一定方向に隣接する六角柱状突起部、５４：一方向に隣接する六角柱状突起部、５５：面取り部、５６：円弧状領域、６０：円柱状突起部外周円、６１：基準六角形、６２：内接円、６３：外接円、６５：リブ交差部内接円（隔壁交差部内接円）。
【図１】
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【図２Ａ】
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【図２Ｂ】
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【図２Ｃ】
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【図２Ｄ】
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【図３】
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【図４Ａ】
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【図４Ｂ】
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【図５Ａ】
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【図５Ｂ】
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【図６】
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【図７Ａ】
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【図７Ｂ】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２８】
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【図２７】
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