(57)【要約】【課題】フィラメント32から陽極ターゲット27へ向かう電子の軌道を確実に偏向させる回転陽極型Ｘ線管装置を提供する。【解決手段】陰極支持体33と陽極ターゲット27とが互いに対向する方向において、磁極54の長さをＹ、陽極ターゲット27に対向する陰極支持体33の表面と磁極54の前記方向における中心位置との距離をＸとした場合、Ｙ＞Ｘの関係を有する。好ましくはＹ＞Ｘ＞−Ｙの関係を有し、より好ましくは０．５Ｙ＞Ｘ＞−０．５Ｙの関係を有する。フィラメント32に近い位置で偏向磁界を発生させることにより、フィラメント32から陽極ターゲット27へ移動する電子の速度が比較的遅いうちに電子の軌道を確実に偏向させる。【選択図】図１
2010021010.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
真空外囲器と、
この真空外囲器内に配置される陰極の電子発生源と、
この電子発生源を支持する陰極支持体と、
前記真空外囲器内に回転可能に配置され、前記電子発生源から発生する電子が衝撃してＸ線を発生するＸ線焦点が形成される陽極ターゲットと、
前記真空外囲器の外側で、前記真空外囲器内の前記電子発生源から発生する電子が前記陽極ターゲットへ移動する軌道に対向する位置に配置される複数の磁極を有し、前記電子発生源から発生する電子の軌道を偏向する偏向磁界を形成する偏向磁界形成手段とを具備し、
前記陰極支持体と前記陽極ターゲットとが互いに対向する方向において、前記磁極の長さをＹ、前記陽極ターゲットに対向する前記陰極支持体の表面と前記磁極の前記方向における中心位置との距離をＸとした場合、Ｙ＞Ｘの関係を有する
ことを特徴とする回転陽極型Ｘ線管装置。
【請求項２】
前記陽極ターゲットに対向する前記陰極支持体の表面を基準に前記陽極ターゲットに対して反対側を−側とした場合、Ｙ＞Ｘ＞−Ｙの関係を有する
ことを特徴とする請求項１記載の回転陽極型Ｘ線管装置。
【請求項３】
Ｙ＞Ｘ＞−Ｙの関係は、好ましくは０．５Ｙ＞Ｘ＞−０．５Ｙである
ことを特徴とする請求項２記載の回転陽極型Ｘ線管装置。
【請求項４】
前記陰極支持体に設けられ、前記電子発生源近傍での磁場強度を低減させる磁気遮蔽体を具備している
ことを特徴とする請求項１ないし３いずれか記載の回転陽極型Ｘ線管装置。
【請求項５】
前記陰極支持体は、少なくとも前記陽極ターゲットに対向する表面を構成する材料が軟磁性体である
ことを特徴とする請求項１ないし３いずれか記載の回転陽極型Ｘ線管装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子発生源から発生する電子を回転する陽極ターゲットに衝突させてＸ線を発生させる回転陽極型Ｘ線管装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、例えば、Ｘ線ＣＴ装置などでは、陰極の電子発生源から発生する電子を回転する陽極ターゲットに衝突させ、この陽極ターゲットの電子が衝突して形成されるＸ線焦点からＸ線を発生させる回転陽極型Ｘ線管装置が用いられている。
【０００３】
このようなＸ線ＣＴ装置などでは、Ｘ線撮影中に、回転陽極型Ｘ線管装置で異なった位置にＸ線焦点を配置することにより、被写体を通じて検出器に入射するＸ線の入射角度をわずかにずらし、Ｘ線撮影画像の解像特性を向上させる技術が知られている。
【０００４】
Ｘ線撮影中に、回転陽極型Ｘ線管装置で異なった位置にＸ線焦点を配置するには、Ｘ線焦点を瞬時に微小移動させる必要がある。
【０００５】
Ｘ線焦点を瞬時に微小移動させる方式の１つとして、真空容器内に配置する偏向電極に偏向電圧を印加し、静電的に電子ビームを偏向させる静電的電子ビーム偏向方式がある（例えば、特許文献１参照。）。
【０００６】
一般的に、陰極と陽極との間の電圧が１００ｋＶを超えるＸ線管では、少なくとも陰極には負の高電圧電位が供給されるため、陰極電圧供給用ケーブルとしては高電圧ケーブルが採用されているが、静電的電子ビーム偏向方式では、偏向電極に偏向電圧を印加させる必要があるために従来の高電圧ケーブルを使用することができず、専用の高電圧ケーブルが必要となり、また、高電圧電源も専用の電源が必要となる。そのため、回転陽極型Ｘ線管装置を交換するのみで既存のＸ線ＣＴ装置のアップグレイドを達成することはできず、経済性に問題が生じ、逆に、静電偏向方式の回転陽極型Ｘ線管装置、専用高電圧電源と専用高電圧ケーブルを採用した新しいＸ線ＣＴ装置に、従来の回転陽極型Ｘ線管装置を搭載することが困難であるため、回転陽極型Ｘ線管装置がダウンした場合の復旧に支障を来たす場合が生じる。
【０００７】
また、Ｘ線焦点を瞬時に微小移動させる他の方式として、磁極が発生する偏向磁界により電子ビームを偏向させる磁気的電子ビーム変更方式がある。
【０００８】
この磁気的電子ビーム偏向方式では、陰極と陽極ターゲットとの間に位置する真空外囲器に径小となるくびれ部を設け、そこに偏向磁界を発生する磁極を配置した構成がある。この構成では、くびれ部により真空外囲器が径小となるため、磁極間の距離が短くなり、電子ビーム位置での磁束密度を高め、電子の速度が速くても偏向することが可能となる（例えば、特許文献２〜４参照。）。
【０００９】
また、磁気的電子ビーム変更方式において、陰極の一部を磁性体からなる磁路とし、磁路に巻き付けられたコイルにより磁界を発生させる構成もあるが（例えば、特許文献５参照。）、この構成では、コイルが真空外囲器内の陰極位置に配置されているため、コイルへの電流供給は高電圧ケーブルを通して行う必要があり、上述した静電的電子ビーム偏向方式の問題点と全く同様の問題点がある。
【特許文献１】米国特許第４６８９８０９号
【特許文献２】米国特許第７２８９６０３号
【特許文献３】米国特許第６９７７９９１号
【特許文献４】米国特許第６５２９５７９号
【特許文献５】特開平１１−１１１２０４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
上述のように、電子の軌道を確実に偏向させるために、陰極と陽極ターゲットとの間に位置する真空外囲器にくびれ部を設け、そのくびれ部に磁極を配置した磁気的電子ビーム偏向方式では、静電的電子ビーム偏向方式や、磁気的電子ビーム変更方式においても陰極の一部を磁路としてコイルを巻き付けた構成のような問題点がない利点がある。
【００１１】
しかしながら、真空外囲器のくびれ部の形成に伴い、陰極と真空外囲器との間の空間絶縁距離を維持させるために、陰極を陽極ターゲットからより離して配置する必要が生じ、また、くびれ部の形成に伴い、電子ビームが集束しにくくなるように電位分布が変化してしまい、これらが相俟って、Ｘ線焦点の拡大、ぼけ、歪みなどが発生する問題がある。
【００１２】
本発明は、このような点に鑑みなされたもので、電子発生源から陽極ターゲットへ向かう電子の軌道を確実に偏向させることができるとともに、Ｘ線焦点の拡大、ぼけ、歪みなどの発生を低減できる回転陽極型Ｘ線管装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明は、真空外囲器と、この真空外囲器内に配置される陰極の電子発生源と、この電子発生源を支持する陰極支持体と、前記真空外囲器内に回転可能に配置され、前記電子発生源から発生する電子が衝撃してＸ線を発生するＸ線焦点が形成される陽極ターゲットと、前記真空外囲器の外側で、前記真空外囲器内の前記電子発生源から発生する電子が前記陽極ターゲットへ移動する軌道に対向する位置に配置される複数の磁極を有し、前記電子発生源から発生する電子の軌道を偏向する偏向磁界を形成する偏向磁界形成手段とを具備し、前記陰極支持体と前記陽極ターゲットとが互いに対向する方向において、前記磁極の長さをＹ、前記陽極ターゲットに対向する前記陰極支持体の表面と前記磁極の前記方向における中心位置との距離をＸとした場合、Ｙ＞Ｘの関係を有するものである。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、電子発生源に近い位置で偏向磁界を発生させることにより、電子発生源から陽極ターゲットへ移動する電子の速度が比較的遅いうちに電子の軌道を確実に偏向させることができる。そのため、従来のように磁極間の距離を短くして磁束密度を高めなくてもよいことから、Ｘ線焦点の拡大、ぼけ、歪みなどの発生を低減できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、本発明の一実施の形態を、図面を参照して説明する。
【００１６】
図１ないし図４に第１の実施の形態を示す。
【００１７】
図１および図２に示すように、回転陽極型Ｘ線管装置は、ハウジング11、およびこのハウジング11内に配置された陽極接地型の回転陽極型Ｘ線管12を備えている。ハウジング11と回転陽極型Ｘ線管12との間の空間には水系の冷却液が満たされ、この冷却液をハウジング11に対してホースで接続された冷却器に循環させて冷却するように構成されている。
【００１８】
回転陽極型Ｘ線管12は、真空外囲器15を備え、この真空外囲器15は、径大部16、この径大部16の上下の径小部17，18を有する円筒状に形成されている。さらに、真空外囲器15の径大部16上には円筒状の陰極収納部19が形成されている。
【００１９】
陰極収納部19を含む真空外囲器15の材料は、非磁性体であり、交流磁界によって渦電流が発生し難い高電気抵抗材であることが好ましい。例えば、非磁性ステンレス鋼、インコネル、インコネルＸ、チタン、導電性セラミクス、表面を金属薄膜でコーティングした非導電性セラミクスなどを用いてもよい。
【００２０】
真空外囲器15の径大部16の外周面には、陰極収納部19の位置に対応して、Ｘ線が透過するＸ線透過窓20が取り付けられている。
【００２１】
また、真空外囲器15内には、真空外囲器15の中心に固定軸23が配置されているとともに、この固定軸23に対して回転可能に支持された回転体24が配置されている。この固定軸23は、回転体24からみて、回転体24の回転中心となる回転軸として構成される。
【００２２】
この回転体24には、径大部16内に回転可能に配置される円板部25、および下部側の径小部18内に回転可能に配置されるロータ部26が形成されている。回転体24の円板部25の上面外周部側は、Ｘ線透過窓20へ向けて対向するように所定の角度で下降傾斜され、この下降傾斜された表面に電子が衝突してＸ線を発生する陽極ターゲット27が設けられている。
【００２３】
真空外囲器15の下部側の径小部18の外側には、誘導電磁界を発生してロータ部26を介して回転体24および陽極ターゲット27を回転させるコイル28が配置されている。
【００２４】
また、真空外囲器15の陰極収納部19内には、陽極ターゲット27に対向するように配置された陰極31が収納されている。この陰極31は、図３に示すように、電子を発生する電子発生源としてのフィラメント32、およびこのフィラメント32を支持する陰極支持体33を備えている。
【００２５】
フィラメント32は、小焦点用フィラメント32aと大焦点用フィラメント32bとを備え、それぞれ幅が長い長手方向とこの長手方向に直交する幅が狭い幅方向とを有する形状に形成され、陰極支持体33に対して幅方向に沿った方向に互いに並列に配置されている。フィラメント32の長手方向が陽極ターゲット27の径方向に沿って配置され、幅方向が陽極ターゲット27の回転方向に沿って配置されている。
【００２６】
陰極支持体33の主要部を構成する材料は、非磁性体であり、例えば、非磁性ステンレス鋼、インコネル、インコネルＸ、チタン、導電性セラミクス、表面を金属薄膜でコーティングした非導電性セラミクス、モリブデンなどを用いてもよい。
【００２７】
陰極支持体33の外周部には、フィラメント32の付近の磁場強度を低減する磁気遮蔽体34が設けられている。この磁気遮蔽体34は、陰極支持体33の一部を構成してフィラメント32の周囲を囲むように円筒状に設けられた軟磁性体であり、例えば、鉄、コバール、電磁ステンレス鋼、ニッケル、ニッケル合金などを用いてもよい。
【００２８】
陰極支持体33は、絶縁体35によって真空外囲器15に支持されている。
【００２９】
また、図１および図２に示すように、真空外囲器15の陰極収納部19は、上部側が円筒状の周壁部38にて構成され、下部側が環状の反跳電子捕獲構造体39にて構成されている。
【００３０】
反跳電子捕獲構造体39は、陽極ターゲット27からの反跳電子を捕獲するもので、中心部にはフィラメント32から発生する電子を通過させる円形状の開口部40が形成されており、フィラメント32から発生する電子が陽極ターゲット27へ移動する軌道を取り囲むように配置されている。反跳電子捕獲構造体39の陰極31に対向する面は凹面に形成され、陽極ターゲット27に対向する面は平坦面に形成され、外周面は円筒状側面に形成されている。
【００３１】
反跳電子捕獲構造体39の材料は、非磁性体でかつ高熱伝導性材であることが好ましく、例えば、銅、銅合金、ＧＬＩＤ−ＣＯＰなどの強化銅、モリブデン、モリブデン合金などの金属材料の他、熱伝導率が大きいＳｉＣ、ＡｌＮ、ＢｅＯなどのセラミクス表面を金属薄膜でコーティングしたものを用いてもよい。
【００３２】
図示していないが、反跳電子捕獲構造体39は冷却構造を備えており、この冷却構造としては、例えば、反跳電子捕獲構造体39の内部に冷却液が循環する冷却液流路が形成され、この冷却液流路の冷却液を冷却器に循環させて反跳電子捕獲構造体39を冷却するように構成されている。
【００３３】
また、図１および図４に示すように、真空外囲器15の陰極収納部19の外側には、フィラメント32から発生する電子の軌道を偏向する偏向磁界を形成する偏向磁界形成手段51が配置されている。この偏向磁界形成手段51は、略コ字形のヨーク52、およびこのヨーク52の両端にそれぞれ巻回されたコイル53を有し、ヨーク52の両端に対の磁極54が形成された双極子で構成されている。対の磁極54は、陽極ターゲット27の回転方向であってフィラメント32の幅方向に沿った方向に互いに対向して配置されている。
【００３４】
ヨーク52を構成する主材料は、軟磁性体であり、かつ交流磁界によって渦電流が発生し難い高電気抵抗体であり、例えば、Ｆｅ−Ｓｉ合金（珪素鋼）、Ｆｅ−Ａｌ合金、電磁ステンレス鋼、パーマロイなどのＦｅ−Ｎｉ高透磁率合金、Ｎｉ−Ｃｒ合金、Ｆｅ−Ｎｉ−Ｃｒ合金、Ｆｅ−Ｎｉ−Ｃｏ合金、Ｆｅ−Ｃｒ合金などからなる薄板を電気絶縁膜を挟んで積層させた積層体や、これら材料からなる線材を電気絶縁膜で覆ってから束にして固めた集合体、またはこれら材料を１μｍ程度の微細な粉末にしてその表面を電気絶縁膜で覆ってから圧縮成形により形成した成形体を用いてもよい。さらに、ソフトフェライトも最適な材料である。
【００３５】
そして、図１に示すように、陰極支持体33と陽極ターゲット27とが互いに対向する方向にみて、磁極54の長さをＹ、陽極ターゲット27に対向する陰極支持体33の表面と磁極の前記方向における中心位置との距離をＸとした場合、Ｙ＞Ｘの関係を有する。
【００３６】
より具体的には、陽極ターゲット27に対向する陰極支持体33の表面を基準に陽極ターゲット27に対して反対側を−側とした場合、Ｙ＞Ｘ＞−Ｙの関係を有し、より好ましくは０．５Ｙ＞Ｘ＞−０．５Ｙの関係を有する。
【００３７】
なお、この陽極接地型の回転陽極型Ｘ線管12は、陽極のみならず、反跳電子捕獲構造体39や真空外囲器15の金属部分も接地電位である。
【００３８】
また、図２に示すように、ハウジング11には、真空外囲器15のＸ線透過窓20に対向してＸ線が透過するＸ線透過窓11aが設けられている。
【００３９】
そうして、図２において、Ｘ線撮影時には、回転陽極型Ｘ線管装置において、回転体24および陽極ターゲット27が回転し、陰極31のフィラメント32から発生する電子が陽極ターゲット27に衝突して、フィラメント32の形状に対応したＸ線焦点が形成され、この陽極ターゲット27のＸ線焦点から発生したＸ線が真空外囲器15のＸ線透過窓20およびハウジング11のＸ線透過窓11aを通じて外部へ照射される。
【００４０】
ここで、Ｘ線焦点とは、実焦点ではなく、実効焦点を意味している。
【００４１】
陽極ターゲット27からの反跳電子が反跳電子捕獲構造体39で捕獲される。
【００４２】
また、図４に示すように、偏向磁界形成手段51のコイル53への通電にて偏向磁界が発生し、この偏向磁界により、フィラメント32から陽極ターゲット27へ向かう電子が陽極ターゲット27の径方向（フィラメント32の長手方向）に偏向され、陽極ターゲット27に形成されるＸ線焦点が陽極ターゲット27の径方向（Ｘ線焦点の長手方向）に微小移動する。
【００４３】
このとき、磁極54は、陰極支持体33に対して、Ｙ＞Ｘの関係、好ましくはＹ＞Ｘ＞−Ｙの関係、より好ましくは０．５Ｙ＞Ｘ＞−０．５Ｙの関係を有するため、フィラメント32に近い位置で偏向磁界を発生させるため、フィラメント32から陽極ターゲット27へ移動する電子の速度が比較的遅いうちに電子の軌道を確実に偏向させることができる。
【００４４】
磁極54は、陰極支持体33に対して、Ｙ＞Ｘの関係、より好ましくは０．５Ｙ＞Ｘの関係にないと、磁極54が陰極支持体33から陽極ターゲット27の方向に離れてしまい、フィラメント32から陽極ターゲット27へ移動する電子の速度が速い位置で電子の軌道を偏向させることになるため、電子を偏向しにくくなり、従来のように磁極間の距離を近付けるなどして磁界強度を高める必要が生じる。一方、Ｘ＞−Ｙの関係、より好ましくはＸ＞−０．５Ｙの関係にないと、磁極54が陰極支持体33側に寄り過ぎるために、フィラメント32から陽極ターゲット27へ移動する電子に対して磁極54が発生する偏向磁界が弱くなり、電子を偏向しにくくなる。
【００４５】
そのため、従来のように真空外囲器にくびれ部を設け、磁極間の距離を短くして磁束密度を高めなくてもよいことから、Ｘ線焦点の拡大、ぼけ、歪みなどの発生を低減できる。
【００４６】
しかも、磁場を発生するためのコイル53への電流を低減させることができ、発熱が少なく、効率の良い偏向磁界形成手段51を実現することができる。
【００４７】
また、陰極支持体33に取り付けられた磁気遮蔽体34、もしくは陰極支持体33が軟磁性体である場合には、陰極支持体33自身に沿って磁力線が流れるため、フィラメント32の近傍の磁界は弱められる。その結果、フィラメント32の表面近くの、まだ陽極ターゲット27の方向に向きが定まらない速度が非常に小さい電子に対する磁界による悪影響が防止され、Ｘ線焦点の歪むのを防止できる。
【００４８】
次に、図５に第２の実施の形態を示す。
【００４９】
偏向磁界形成手段51の対の磁極54を、陽極ターゲット27の回転方向であってフィラメント32の幅方向に沿った方向に対して所定の角度αだけずらした位置に、互いに対向して配置する。
【００５０】
そして、対の磁極54が発生する偏向磁界により、Ｘ線焦点は陽極ターゲット27の径方向（Ｘ線焦点の長さ方向）および回転方向（Ｘ線焦点の幅方向）に同時に移動することができる。
【００５１】
角度αは、Ｘ線焦点の陽極ターゲット27の径方向（Ｘ線焦点の長さ方向）への移動距離および回転方向（Ｘ線焦点の幅方向）への移動距離の比に合わせて設定する。
【００５２】
Ｘ線焦点を、Ｘ線焦点の長さ方向と幅方向に等しい距離移動させるためには、角度αは陽極ターゲット27の傾斜角に等しくする。
【００５３】
次に、図６は第３の実施の形態を示す。
【００５４】
偏向磁界形成手段51として、２組の双極子を備える。
【００５５】
２組の双極子の対の磁極54を、陽極ターゲット27の回転方向であってフィラメント32の幅方向に沿った方向に対してそれぞれ反対側へ所定の角度αずつずらした位置に、互いに対向して配置する。
【００５６】
そして、２組の双極子の対の磁極54が発生する偏向磁界により、Ｘ線焦点は陽極ターゲット27の径方向（Ｘ線焦点の長さ方向）および回転方向（Ｘ線焦点の幅方向）に同時に移動することができる。
【００５７】
Ｘ線焦点の陽極ターゲット27の径方向（Ｘ線焦点の長さ方向）への移動距離および回転方向（Ｘ線焦点の幅方向）への移動距離の比は、２組の双極子のそれぞれの磁界の比を変えることにより、０からｔａｎαの間の範囲で自由に変えることができる。
【００５８】
次に、図７は第４の実施の形態を示す。
【００５９】
偏向磁界形成手段51として、個別のヨーク52とコイル53とを組み合わせて個別の対の磁極54を設けた双磁極子を用い、これら対の磁極54を陽極ターゲット27の回転方向であってフィラメント32の幅方向に沿った方向に配置する。
【００６０】
そして、対の磁極54が発生する偏向磁界により、Ｘ線焦点は陽極ターゲット27の径方向（Ｘ線焦点の長さ方向）に移動することができる。
【００６１】
次に、図８は第５の実施の形態を示す。
【００６２】
偏向磁界形成手段51の双磁極子の対の磁極54を、陽極ターゲット27の回転方向であってフィラメント32の幅方向に沿った方向に対して所定の角度αだけずらした位置に、互いに対向して配置する。
【００６３】
そして、対の磁極54が発生する偏向磁界により、Ｘ線焦点は陽極ターゲット27の径方向（Ｘ線焦点の長さ方向）および回転方向（Ｘ線焦点の幅方向）に同時に移動することができる。
【００６４】
角度αは、Ｘ線焦点の陽極ターゲット27の径方向（Ｘ線焦点の長さ方向）への移動距離および回転方向（Ｘ線焦点の幅方向）への移動距離の比に合わせて設定する。
【００６５】
Ｘ線焦点を、Ｘ線焦点の長さ方向と幅方向に等しい距離移動させるためには、角度αは陽極ターゲット27の傾斜角に等しくする。
【００６６】
次に、図９は第６の実施の形態を示す。
【００６７】
偏向磁界形成手段51として、２組の双磁極子を備える。
【００６８】
２組の双磁極子の対の磁極54を、陽極ターゲット27の回転方向であってフィラメント32の幅方向に沿った方向に対してそれぞれ反対側へ所定の角度αずつずらした位置に、互いに対向して配置する。
【００６９】
そして、２組の双磁極子の対の磁極54が発生する偏向磁界により、Ｘ線焦点は陽極ターゲット27の径方向（Ｘ線焦点の長さ方向）および回転方向（Ｘ線焦点の幅方向）に同時に移動することができる。
【００７０】
Ｘ線焦点の陽極ターゲット27の径方向（Ｘ線焦点の長さ方向）への移動距離および回転方向（Ｘ線焦点の幅方向）への移動距離の比は、２組の双磁極子のそれぞれの磁界の比を変えることにより、０からｔａｎαの間の範囲で自由に変えることができる。
【００７１】
次に、図１０は第７の実施の形態を示す。
【００７２】
偏向磁界形成手段51として、両端に磁極54が形成される２つの双極子を備える。
【００７３】
２つの双極子の両端の磁極54を、陽極ターゲット27の回転方向であってフィラメント32の幅方向に沿った方向に対してそれぞれ反対側へ所定の角度βずつずらした位置に配置する。
【００７４】
そして、２つの双極子の磁極54が発生する偏向磁界により、Ｘ線焦点は陽極ターゲット27の径方向（Ｘ線焦点の長さ方向）に移動することができる。
【００７５】
次に、図１１は第８の実施の形態を示す。
【００７６】
偏向磁界形成手段51として、２組の双磁極子を備える。
【００７７】
２組の双磁極子の対の磁極54を、陽極ターゲット27の回転方向であってフィラメント32の幅方向に沿った方向に対してそれぞれ反対側へ例えば４５°ずつずらした等間隔位置に、互いに対向して配置する。
【００７８】
そして、２組の双磁極子の対の磁極54が発生する偏向磁界により、Ｘ線焦点は陽極ターゲット27の径方向（Ｘ線焦点の長さ方向）および回転方向（Ｘ線焦点の幅方向）に同時に移動することができる。
【００７９】
次に、第９の実施の形態を説明する。
【００８０】
この第９の実施の形態では、構造に関しては図１ないし図４に示した第１の実施の形態と同様であるが、陰極支持体33を軟磁性体で構成し、その軟磁性体で構成される陰極磁性体33の外周部の磁気遮蔽体34を非磁性体で構成する。軟磁性体としては、例えば、鉄、コバール、電磁ステンレス鋼、ニッケル、ニッケル合金などを用いてもよい。また、非磁性体としては、例えば、非磁性ステンレス鋼、インコネル、インコネルＸ、チタン、導電性セラミクス、表面を金属薄膜でコーティングした非導電性セラミクス、モリブデンなどを用いてもよい。
【００８１】
このように陰極支持体33および磁気遮蔽体34の材料を選択した場合にも、第１の実施の形態などと同様の作用、効果が得られる。
【００８２】
なお、以上述べた実施の形態では、陰極支持体33の一部が軟磁性体から構成され、かつ磁気遮蔽機能を有する場合であるが、本発明は陰極支持体33が全て非磁性体から構成されている場合にも適用することが可能である。その場合、フィラメント32の表面近くの、まだ陽極ターゲット27の方向に向きが定まらない速度が非常に小さい電子に対する磁界による悪影響を防止するため、磁極54は、陰極支持体33に対して、Ｙ＞Ｘ＞０となるように配置することが好ましい。
【図面の簡単な説明】
【００８３】
【図１】本発明の第１の実施の形態を示す回転陽極型Ｘ線管装置の断面図である。
【図２】同上回転陽極型Ｘ線管装置の図１に対して９０°異なる方向の断面図である。
【図３】同上回転陽極型Ｘ線管装置の陰極を示し、(a)は陰極の断面図、(b)は陰極の底面図である。
【図４】同上回転陽極型Ｘ線管装置における偏向磁界形成手段の配置を示す平面図である。
【図５】本発明の第２の実施の形態を示す回転陽極型Ｘ線管装置における偏向磁界形成手段の配置を示す平面図である。
【図６】本発明の第３の実施の形態を示す回転陽極型Ｘ線管装置における偏向磁界形成手段の配置を示す平面図である。
【図７】本発明の第４の実施の形態を示す回転陽極型Ｘ線管装置における偏向磁界形成手段の配置を示す平面図である。
【図８】本発明の第５の実施の形態を示す回転陽極型Ｘ線管装置における偏向磁界形成手段の配置を示す平面図である。
【図９】本発明の第６の実施の形態を示す回転陽極型Ｘ線管装置における偏向磁界形成手段の配置を示す平面図である。
【図１０】本発明の第７の実施の形態を示す回転陽極型Ｘ線管装置における偏向磁界形成手段の配置を示す平面図である。
【図１１】本発明の第８の実施の形態を示す回転陽極型Ｘ線管装置における偏向磁界形成手段の配置を示す平面図である。
【符号の説明】
【００８４】
15    真空外囲器
27    陽極ターゲット
31    陰極
32    電子発生源としてのフィラメント
33    陰極支持体
34    磁気遮蔽体
51    偏向磁界形成手段
54    磁極
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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