(57)【要約】【課題】基材フィルムの１方の表面上に導電層と、その導電層と電気的に導通する接地用電極が設けられた構造を含むディスプレイ用光学フィルタの製造方法であって、煩雑な工程を用いることなく、確実に導電層の導通が確保されたディスプレイ用光学フィルタの製造方法、及びその製造方法により製造されたディスプレイ用光学フィルタを提供する。【解決手段】前記基材フィルム１２の１方の表面上に前記導電層１３及び機能層を有する積層体２０に対して、端部３１に連続する凹凸の帯状領域３２を有する板状の接地用電極３０を、凹凸帯状領域３２を有する端部３１と前記積層体３０の端面とを対向させて、前記積層体３０の端面の少なくとも一部に水平方向に差し込み、前記凹凸帯状領域３２を前記導電層１３と接触させる電極差込工程を含むことを特徴とするディスプレイ用光学フィルタの製造方法。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材フィルムの１方の表面上に導電層と、該導電層と電気的に導通する接地用電極が設けられた構造を含むディスプレイ用光学フィルタの製造方法であって、
前記基材フィルムの１方の表面上に前記導電層及び機能層を有する積層体に対して、端部に連続する凹凸の帯状領域を有する板状の接地用電極を、該凹凸帯状領域を有する端部と前記積層体の端面とを対向させて、前記積層体の端面の少なくとも一部に水平方向に差し込み、前記凹凸帯状領域を前記導電層と接触させる電極差込工程を含むことを特徴とするディスプレイ用光学フィルタの製造方法。
【請求項２】
前記積層体が、前記導電層上に少なくとも１層の機能層を有し、前記基材フィルムの導電層を形成した面の他面上に少なくとも１層の機能層を有することを特徴とする請求項１に記載のディスプレイ用光学フィルタの製造方法。
【請求項３】
前記電極差込工程の前に、前記積層体をディスプレイの画像表示部の表面に貼り付ける工程を含むことを特徴とする請求項１又は２に記載のディスプレイ用光学フィルタの製造方法。
【請求項４】
前記凹凸帯状領域が、帯状方向に対して垂直方向に傾斜していることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタの製造方法。
【請求項５】
前記電極差込工程において、前記傾斜の向きが先端に向かうに従って、対向する前記積層体の導電層から離れる向きであることを特徴とする請求項４に記載のディスプレイ用光学フィルタの製造方法。
【請求項６】
前記導電層上に形成する機能層に粘着層を含み、該粘着層で前記積層体を前記画像表示部の表面に貼り付ける工程を含むことを特徴とする請求項３〜５のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタの製造方法。
【請求項７】
前記接地用電極の端部の板厚が前記粘着層の層厚以上であることを特徴とする請求項６に記載のディスプレイ用光学フィルタの製造方法。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか１項に記載の製造方法により製造されたことを特徴とするディスプレイ用光学フィルタ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、ブラウン管（ＣＲＴ）ディスプレイ、液晶ディスプレイ、有機ＥＬ（電界発光）ディスプレイ等のディスプレイの画像表示部に用いられ、電磁波シールド性を有するディスプレイ用光学フィルタの製造方法、及びその製造方法により製造されたディスプレイ用光学フィルタに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、ＰＤＰ等のディスプレイから発生する不要な電磁波の輻射や赤外線リモコン等の誤作動の原因となる赤外線の輻射を遮蔽するディスプレイ用フィルタとして、フィルタ内にメッシュ状の導電層を設けた、電磁波シールド性および光透過性を有するディスプレイ用光学フィルタが開発されている。
【０００３】
上記ディスプレイ用光学フィルタにおいては、導電層による電磁波シールド性が良好に発揮するように導電層とディスプレイ本体の導電面との間で、均一に導通を図る必要がある。そのため、ディスプレイ用光学フィルタからメッシュ状の導電層を外部にはみ出させ、ディスプレイ用光学フィルタの裏側に折り込ませて導通させるか、導電層に接触するように導電性粘着テープを挟み込み、外部への導通を図る等の手段が用いられている。
【０００４】
また、上記ディスプレイ用光学フィルタには、１枚の基材フィルム上に導電層を設け、その上にハードコート層や反射防止層等の機能層を積層させているものも開発されている。この様な光学フィルタにおいては、導電層から外部への導通を図る場合に、例えば、形成した機能層の一部をレーザー照射により除去して導電層を露出させる手段が用いられている（特許文献１）。
【０００５】
さらに、１枚の基材フィルム上に導電層が設けられ、その導電層が設けられている面がディスプレイの画像表示部側であるディスプレイ用光学フィルタにおいて、導電層から外部への導通を図る手段として、画像表示部と光学フィルタとにより接地用電極を挟持して、接地用電極と導電層を電気的に接続する構造が知られている（特許文献２）。
【０００６】
【特許文献１】特開２００７−２４３１５８号公報
【特許文献２】特開２００７−１４８２７５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、レーザー照射等によって、形成した機能層の一部を除去する工程には、新たな設備投資が必要となる場合もあり、生産工程も複雑となる点で、光学フィルタの生産効率を向上させることが困難となる可能性がある。
【０００８】
また、光学フィルタとディスプレイの画像表示部とにより接地用電極を挟持して、導電層と外部との導通を図る構造は、光学フィルタと画層表示部との間に接地用電極を挟持させる工程が煩雑であり、生産効率を向上させることが困難である。
【０００９】
従って、本発明の目的は、基材フィルムの一方の表面上に導電層と、その導電層と電気的に導通する接地用電極が設けられた構造を含むディスプレイ用光学フィルタの製造方法であって、煩雑な工程を用いることなく、確実に導電層の導通が確保されたディスプレイ用光学フィルタの製造方法、及びその製造方法により製造されたディスプレイ用光学フィルタを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記目的は基材フィルムの１方の表面上に導電層と、導電層と電気的に導通する接地用電極が設けられた構造を含むディスプレイ用光学フィルタの製造方法であって、
前記基材フィルムの１方の表面上に前記導電層及び機能層を有する積層体に対して、端部に連続する凹凸の帯状領域を有する板状の接地用電極を、凹凸帯状領域を有する端部と前記積層体の端面とを対向させて、前記積層体の端面の少なくとも一部に水平方向に差し込み、前記凹凸帯状領域を前記導電層と接触させる電極差込工程を含むことを特徴とするディスプレイ用光学フィルタの製造方法によって達成される。
【００１１】
この方法においては、板状の接地用電極の端部が連続する凹凸の帯状領域を有しているので、接地用電極を積層体の端面に差し込むことにより、接地用電極の端部が導電層と多くの接触点で接触し、導通範囲を拡大することができる。このため、少なくとも基材フィルムの１方の表面上に導電層が設けられたディスプレイ用光学フィルタにおいて、導電層がディスプレイの画像表示部側にある場合でも、画像表示部と反対側（視聴者側）にある場合でも複雑な工程により導電層を露出したり、表示部と光学フィルタの間に接地用電極を挟持したりする煩雑な工程を用いることなく、確実に導電層の導通が確保されたディスプレイ用光学フィルタを製造することができる。
【００１２】
本発明に係るディスプレイ用光学フィルタの好ましい態様は以下の通りである。
（１）前記積層体が、前記導電層上に少なくとも１層の機能層を有し、前記基材フィルムの導電層を形成した面の他面上に少なくとも１層の機能層を有することを特徴とする。これにより、本発明のディスプレイ用光学フィルタの製造方法において、より有効な積層体を構成することができる。
（２）電極差込工程の前に、前記積層体をディスプレイの画像表示部の表面に貼り付ける工程を含むことを特徴とする。これにより、積層体がより安定した状態で電極差込工程を行うことができるので、より確実に接地用電極の端部を導電層に接触させることができる。
（３）前記凹凸帯状領域が、帯状方向に対して垂直方向に傾斜していることを特徴とする。これにより、接地用電極を積層体の端面に差し込み易く、導電層に接触させ易い形状とすることができる。
（４）前記電極差込工程において、前記傾斜の向きが先端に向かうに従って、対向する前記積層体の導電層から離れる向きであることを特徴とする。これにより、接地用電極を積層体の端面に差し込んだ際に、傾斜が凹凸帯状領域を導電層に近づく方向に導き、凹凸帯状領域が導電層と確実に接触するため、導通不良を回避することができる。
（５）前記導電層上に形成する機能層に粘着層を含み、該粘着層で前記積層体を前記画像表示部の表面に貼り付ける工程を含むことを特徴とする。この方法においては、導電層がディスプレイの画像表示部側となるため、前記積層体の端面における、接地用電極を差し込む位置が、基材フィルムと画像表示部の界面となり、より安定して接地用電極を差し込むことができる。
（６）（５）において、前記接地用電極の端部の板厚が前記粘着層の層厚以上であることを特徴とする。これにより、接地用電極の端部の厚さが画像表示部と導電層との間隔以上になるため、接地用電極の端部を導電層に確実に接触させることができる。
（７）前記接地用電極の材料が銅合金又はステンレス鋼である。これにより、電気抵抗が小さく、良好な導電性を有し、変形・破損し難い、接地用電極とすることができる。
（８）前記接地用電極が銀めっき又はニッケルめっきが施されている。これにより、導電性が向上し、防錆により耐久性に優れた接地用電極とすることができる。
（９）前記接地用電極の凹凸帯状領域を有する端部と反対側の端部に断面Ｌ字状の支持部を有している。これにより、電極差込工程において、接地用電極の本体と断面Ｌ字状の支持部により形成された断面コ字状の部分が画像表示部を挟み込むので、接地用電極を容易に固定することができる。
（１０）前記接地用電極の支持部が画像表示部を押圧するバネを有している。これにより、接地用電極が画像表示部に押し付けられるので、接地用電極を積層体に差し込んだことによる積層体の「剥がれ」や「浮き」による導通不良を防ぐことができる。
また、上記目的は、本発明の製造方法により製造されたことを特徴とするディスプレイ用光学フィルタによって達成することができる。これにより、基材フィルムの一方の表面上に導電層と、導電層と電気的に導通する接地用電極が設けられた構造を含むディスプレイ用光学フィルタであって、導電層がディスプレイの表示部側にある場合でも、視聴者側にある場合でも、煩雑な工程を用いることなく、確実に導電層の導通が確保されたディスプレイ用光学フィルタを提供することができる。
【発明の効果】
【００１３】
本発明の製造方法によれば、基材フィルムの一方の上に導電層と、その導電層と電気的に導通する接地用電極が設けられた構造を含むディスプレイ用光学フィルタであって、煩雑な工程を用いることなく、確実に導電層の導通が確保されたディスプレイ用光学フィルタを製造することができるため、ディスプレイ用光学フィルタの生産効率を向上させることができる。従って、今後のディスプレイ用光学フィルタの需要の伸びに対応することが可能となる。また、本発明の製造方法により得られるディスプレイ用光学フィルタは、煩雑な工程を用いることなく、確実に導電層の導通が確保されているので、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、ブラウン管（ＣＲＴ）ディスプレイ、液晶ディスプレイ、有機ＥＬ（電界発光）ディスプレイ等を含む電界放出型ディスプレイ等の各種ディスプレイに対して、適用し易く、電磁波シールド性の信頼性が高いディスプレイ用光学フィルタであるということができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下に、本発明のディスプレイ用光学フィルタの製造方法及びディスプレイ用光学フィルタについて、図面を参照しながら説明する。図１は、本発明のディスプレイ用光学フィルタの製造方法の代表的な１例を示す概略断面図である。
【００１５】
図示の通り、まず、矩形状の透明な基材フィルム１２の表面全域にメッシュ状の導電層１３を形成する（１）（導電層形成工程）。基材フィルム１２と導電層１３等との接着性を保持するために、基材フィルム１２と導電層１３との間に中間層を形成しても良い（図示していない）。次いで導電層１３の全域に第１の機能層として近赤外線吸収層１４、及びその上に透明な粘着剤層１５を形成する（２）（第１機能層形成工程）。第１の機能層としては何らかの機能を示す合成樹脂を含む層であればどのようなものでも良い。図１の例においては２層の組合せであるが、粘着剤層１５は設けなくても良く、近赤外線吸収層１４に換えて、又は加えて、ネオンカット層を設けても良い。ディスプレイの画面表示部に貼り付けるためには、粘着剤層１５は設けた方が好ましい。粘着剤層１５の表面には、作業性を向上するため剥離層を設けても良い。
【００１６】
第１機能層形成工程後、基材フィルム１２の導電層１３を形成した面の他面上に合成樹脂からなるハードコート層１６を形成する（３）（第２機能層形成工程）。第２の機能層としても何らかの機能を示す合成樹脂を含む層であればどのようなものでも良い。図１の例においては、ハードコート層１６のみであるが、例えば、ハードコート層１６の上に反射防止性を得るために、ハードコート層より屈折率の低い低屈折率層や屈折率層の高い高屈折率層を形成しても良い（図示していない）。また、第２機能層形成工程を行った後、導電層形成工程、第１機能層形成工程を行っても良い。
【００１７】
機能層は第１の機能層又は第２の機能層のどちらかが形成されていれば良いが、より有効な光学フィルタとするために、両方の機能層を形成する方が好ましい。
【００１８】
また、積層体２０は上記のように枚葉に加工しても良いが、以下のように連続的に形成することも可能である。即ち、長尺状の基材フィルム１２にメッシュ状の導電層１３、その上に近赤外線吸収層１４等の第１の機能層を形成させ、さらにその他面上にハードコート層１６等の第２の機能層を連続的に形成した後、必要な長さで裁断する。
【００１９】
以上の工程により形成された積層体２０を粘着剤層１５でディスプレイの画像表示部であるガラス基板２１に貼り付ける（４）。その後、積層体２０の４端面の導電層１３が形成されている位置、即ち基材フィルム１２とガラス基板２１の界面に、板状の接地用電極３０を水平方向に差し込む（５）（電極差込工程）。その結果、接地用電極３０の端部が導電層１３と接触し、導電層１３の導通が確保される。接地用電極３０は４辺全てに差し込まなくても、少なくとも１端面に差し込めば良い。導電層の導通を確保し、ディスプレイ用光学フィルタの電磁波シールド性を良好にするためには、好ましくは両側端面に、さらに好ましくは４端面全てに差し込む。
【００２０】
電極差込工程は接地用電極３０を導電層１３に接触させるように差し込むことができれば、積層体２０をガラス基板２１に貼り付けて行わなくても良い。積層体２０が安定した状態に固定され、接地用電極３０を確実に積層体２０の端面に差し込むことができるので、ガラス基板２１に貼り付けた後に、電極差込工程を行うことが好ましい。
【００２１】
図２は、本発明のディスプレイ用光学フィルタの製造方法の別の代表例を示す概略断面図である。
【００２２】
矩形状の透明な基材フィルム１２の表面全域にメッシュ状の導電層２３を形成する（１）（導電層形成工程）。次いで第１の機能層として合成樹脂からなるハードコート層２６を形成する（２）（第１機能層形成工程）。第１の機能層としては何らかの機能を示す合成樹脂を含む層であればどのようなものでも良い。図２の例においては、ハードコート層２６のみであるが、例えば、ハードコート層２６の上に反射防止性を得るために、ハードコート層より屈折率の低い低屈折率層や屈折率層の高い高屈折率層を形成しても良い（図示していない）。
【００２３】
第１機能層形成工程後、基材フィルム１２の導電層２３と他面上に第２の機能層としての近赤外線吸収層２４及びその上に透明な粘着剤層２５が形成される（３）（第２機能層形成工程）。第２の機能層も何らかの機能を示す合成樹脂を含む層であればどのようなものでも良い。図１の例においては２層の組合せであるが、粘着剤層２５は設けなくても良く、近赤外線吸収層２４に換えて、又は加えて、ネオンカット層を設けても良い。また、第２機能層形成工程を行った後、導電層形成工程、第１機能層形成工程を行っても良い。
【００２４】
機能層は第１の機能層又は第２の機能層のどちらかが形成されていれば良いが、より有効な光学フィルタとするために、両方の機能層を形成する方が好ましい。
【００２５】
また、上記のように枚葉に加工しても良いが、以下のように連続的に形成することも可能である。即ち、長尺状の基材フィルム１２にメッシュ状の導電層２３、その上にハードコート層２６等の第１の機能層を形成させ、さらにその他面上に近赤外線吸収層２４等の第２の機能層を連続的に形成した後、必要な長さで裁断する。
【００２６】
以上の工程により形成された積層体４０を粘着剤層２５でディスプレイの画像表示部であるガラス基板２１に貼り付ける（４）。その後、積層体４０の４端面の導電層２３が形成されている位置、即ち、図１の場合と異なり、基材フィルム１２とハードコート層２６の界面に、板状の接地用電極３０を水平方向に差し込む（５）（電極差込工程）。その結果、接地用電極３０の端部が導電層２３と接触し、導電層２３の導通が確保される。接地用電極３０は４端面全てに差し込まなくても、少なくとも１端面に差し込めば良い。導電層の導通を確保し、ディスプレイ用光学フィルタの電磁波シールド性を良好にするためには、好ましくは両側端面に、さらに好ましくは４端面全てに差し込む。
【００２７】
電極差込工程は接地用電極３０を導電層２３に接触させるように差し込むことができれば、積層体４０をガラス基板２１に貼り付けて行わなくても良い。積層体４０が安定した状態に固定され、接地用電極３０を確実に積層体４０端面に差し込むことができるので、ガラス基板２１に貼り付けた後に、電極差込工程を行うことが好ましい。
【００２８】
図３は本発明の図１に示したディスプレイ用光学フィルタの製造方法における電極差込工程の１例を説明する図であり、図３（ａ）は概略平面図であり、図３（ｂ）は接地用電極３０と導電層１３との接触部の部分拡大図であり、図３（ｃ）は接地用電極３０の端部の凹凸帯状領域の形状の例である。板状の接地用電極３０はその１方の端部３１に連続する凹凸帯状領域３２を有している。凹凸帯状領域３２を有する端部３１は積層体２０の端面と対向して、積層体２０の端面に差し込まれるので、接地用電極３０の端部３１は導電層１３と多くの接触点により接触することができ、導電層１３の導通が確保される。凹凸帯状領域３２は導電層１３との接触点が多くなるように連続する凹凸が形成されていればどのようなものでも良い。例えば、図３（ｃ）(i)に示すように三角形が連続する鋸歯状（図３（ａ）と同様）、図３（ｃ）(ii)、（iii）に示すように、半円又は半楕円形（弧が端側でも内側でも良い）が連続するような波型等が挙げられる。凹凸帯状領域３２の先端は尖っていても、図３（ｃ）(iv)に示すように平らになっていても良い。凹凸帯状領域３２は複数の形状の凹凸が複合したものでも良いが、均一に導通を図るために、同一の形状が連続する凹凸が好ましい。
【００２９】
図４は本発明のディスプレイ用光学フィルタの製造方法における接地用電極３０の好ましい態様の１例を説明する概略断面図である。図４においては、図１に示したような積層体２０の端面の導電層１３が形成された位置が、基材フィルム１２とガラス基板２１の界面である製造方法の例に対応して示した。
【００３０】
図示の通り、接地用電極３０の端部３１に形成された凹凸帯状領域３２には、帯状方向に対して垂直方向に傾斜部３３が形成されている。このため、接地用電極３０は積層体２０の端面に差し込み易い形状である。また、この傾斜は先端に向かうに従って、対向する積層体２０の導電層１３から離れる向き（即ち、ガラス基板２１に近づく向き）の傾斜である。これにより、接地用電極３０を積層体２０の端面の導電層１３が形成された位置に差し込んだ場合に、傾斜部３３が凹凸帯状領域３２を導電層１３に近づく方向に導くことになる。その結果、凹凸帯状領域３２を導電層１３に確実に接触させることができる。傾斜部３３が形成されていることにより、接地用電極３０の端部３１を基材フィルム１２とガラス基板２１の界面にスムーズに差し込むことができるので、積層体２０が隆起して導通不良が生じるようなことを回避することができる。
【００３１】
図２に示したような、積層体４０の端面の導電層２３が形成された位置が基材フィルム１２とハードコート層２６の界面である製造方法の例の場合は、接地用電極３０は基材フィルム１２のガラス基板２１と反対側（視聴者側）に差し込むことになる。従って、この場合は凹凸帯状領域３２の傾斜部３３の好ましい向きは図４に示した場合と逆向きとなる（図示していない）。
【００３２】
傾斜部３３は凹凸帯状領域３２の一部にのみ形成されていても良い、また、傾斜は凹凸帯状領域３２の帯状方向に対して垂直方向であれば、向きはどちらでも良い。ただし、図４に示したように、電極差込工程において、少なくとも一部が先端に向かうに従って対向する積層体２０の導電層１３から離れる向きが好ましい。一部に図４に示した傾斜と逆向きの傾斜が形成されていても良いが、導電層１３の導通をより確実にするために、また接地用電極３０の加工が容易な点からも、凹凸帯状領域３２の全域に図４に示した向きの傾斜部３３が形成されているのが好ましい。また、傾斜部３３の断面は直線で構成されていても、曲線で構成されていても良い。
【００３３】
本発明のディスプレイ用光学フィルタの製造方法は、図１に示したような基材フィルム１２の導電層１３上に第１の機能層として粘着剤層１５を含み、その粘着剤層１５でガラス基板２１に貼り付ける工程を含むほうが好ましい。この場合、積層体２０の端面における、接地用電極３０を差し込む位置が基材フィルム１２とガラス基板２１の界面になるため、より安定して接地用電極３０を差し込むことができる。
【００３４】
また、図４に示すように、接地用電極３０の端部３１の板厚Ｄ１は基材フィルム１２と基板ガラス２１の間に入り込む厚さであれば、どのような厚さでも良い。端部３１を導電層１３に確実に接触させるためには、粘着剤層１５の層厚Ｄ２との関係で、Ｄ１≧Ｄ２であるのが好ましい。板厚Ｄ１が厚過ぎると、基材フィルム１２に歪みが生じる可能性があるため、板厚Ｄ１は層厚Ｄ２と比較して、同一又は１〜５μｍ大きい厚さとするのが好ましい。
【００３５】
また、接地用電極３０の材料は接地に使用できる良好な導電性があり、本発明の製造方法における工程で変形・破損することのない一定の硬さを有していれば、いかなる材料でも良い。電気抵抗が小さく、良好な導電性を有し、変形・破損し難い点で、銅合金、ステンレス鋼、銀合金、鉛合金等の金属材料が好ましく、特に銅合金、ステンレス鋼が好ましい。必要に応じて、導電性の向上、錆等による電極の劣化を防止するため、銀、ニッケル、銅、金、錫、ロジウム等のめっきが施されていても良い。特に、導電性の向上、被膜の硬度向上、防錆のためには銀又はニッケルめっきが好ましい。
【００３６】
本発明のディスプレイ用光学フィルタの製造方法において、接地用電極３０の固定にはガラス基板２１上に両面粘着テープや他の固定部材等で固定しても良い。しかし、電極差込工程において、ガラス基板２１に容易に固定することが出来るように、接地用電極３０の凹凸帯状領域３２を有する端部３１と反対側の端部近傍に支持部を設けても良い。
【００３７】
図５は本発明のディスプレイ用光学フィルタの製造方法における、接地用電極３０の好ましい態様の１例を説明する概略断面図である。図示のように、接地用電極３０の端部３１の反対側の端部には断面Ｌ字状の支持部３４が設けられ、支持部３４と接地用電極３０の本体とにより断面コ字状の部分を形成している。この断面コ字状の部分がガラス基板２１の端部の両面を挟み込むことで接地用電極３０が固定される。支持部３４の接地用電極３０の本体からの高さＤ３はガラス基板２１の板厚Ｄ４との関係で、Ｄ３≧Ｄ４である。高さＤ３が大き過ぎるとガラス基板２１への固定が困難になるので、高さＤ３は板厚Ｄ４と比較して、１〜２００μｍ大きい高さとするのが好ましい。
【００３８】
また、好ましくは、支持部３４はガラス基板２１を押圧するバネ力を有している。図示のように接地用電極３０の本体で形成された断面コ字状の部分の開口部３５はガラス基板２１に装着していない時はガラス基板２１の板厚Ｄ４よりも狭くなっており、ガラス基板２１の端部を挟み込んだ際に、ガラス基板２１を押圧する向きのバネ力を有している。このような構造を有することで、接地用電極３０を積層体２０に差し込んだことによる積層体２０の「剥がれ」や「浮き」による導通不良を防ぐことが出来る。接地用電極３０の支持部３４の端部３６は平坦でも良いが、図示のように、ガラス基板２１に装着し易いように外側に屈曲していても良い。
【００３９】
ガラス基板２１と接地用電極３０をバネ力により固定する場合、接地用電極３０とは別の断面コ字状部材を用いても良い。
【００４０】
接地用電極３０は本発明に適用できれば、どのような製造方法で製造しても良い。図６は接地用電極３０の好ましい製造方法の１例を示すフロー図である。まず、銅合金等の金属材料を必要な長さに裁断する（１）。裁断した金属材料をプレス加工により連続する凹凸の帯状領域を設けるとともに、必要な折り曲げを行う（２）。次いで、折り曲げた固定部のバネの機械的性質を改善し、形状安定化するため、熱処理を行う（３）。熱処理は２００〜４５０℃、２０〜１２０時間行う。さらに、必要に応じて、防錆等のために表面処理を行う（４）。表面処理はニッケルめっき処理、無電解ニッケルめっき処理、及び／又は銀めっき処理等を行う。
【００４１】
図７は、本発明のディスプレイ用光学フィルタの代表的な１例を示し、図７（ａ）は概略断面図であり、図７（ｂ）は平面図である。図７では、本発明の図１に示した製造方法で得られたディスプレイ用光学フィルタを示した。図示のように上から（視聴者側から）ハードコート層１６、基材フィルム１２、導電層１３、近赤外線吸収層１４、透明な粘着剤層１５が形成されており、その積層体２０がガラス基板２１に粘着剤層１５で貼り付けられている。さらに、基材フィルム１２の４辺縁端から接地用電極３０が差し込まれ、端部３１の凹凸帯状領域３２で導電層１３と接触している。従って、本発明のディスプレイ用光学フィルタは、煩雑な工程を用いることなく、導電層１３が確実に外部との良好な導通を確保している。なお、本発明の図２に示した製造方法で得られたディスプレイ用光学フィルタの場合も同様な効果が得られる（図示していない）。
【００４２】
本発明のディスプレイ用光学フィルタの製造方法により製造される本発明のディスプレイ用光学フィルタは、本発明の目的を達成することができれば、どのような材料や工程を用いても良い。以下に好ましい態様を説明する。
【００４３】
基材フィルムは、一般に、透明なプラスチックフィルムである。その材料としては、透明（「可視光に対して透明」を意味する。）であれば特に制限はない。プラスチックフィルムの例としては、ポリエステル｛例、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート｝、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、アクリル樹脂、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリスチレン、トリアセテート樹脂、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール、金属イオン架橋エチレン−メタクリル酸共重合体、ポリウレタン、セロファン等を挙げることができる。これらの中でも、加工時の負荷（熱、溶剤、折り曲げ等）に対する耐性が高く、透明性が特に高い等の点で、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）等が好ましい。特に、ＰＥＴが、加工性に優れているので好ましい。また、第２の機能性層に含まれる有機色素類は紫外線を受けて耐久性が低下しやすいが、ＰＥＴ等のポリエステルはこのような紫外線を吸収する傾向があり好ましい。
【００４４】
基材フィルムの厚さとしては、光学フィルタの用途等によっても異なるが、一般に１μｍ〜１０ｍｍ、１μｍ〜５ｍｍ、特に２５〜２５０μｍが好ましい。
【００４５】
導電層は、一般に１０Ω／□以下、好ましくは０．００１〜５Ω／□の範囲、特に０．００５〜５Ω／□のとなるように設定される。前述の様な、メッシュ状の導電層も好ましい。或いは、導電層は、気相成膜法により得られる層（金属酸化物（ＩＴＯ等）の透明導電薄膜）でも良い。さらに、ＩＴＯ等の金属酸化物の誘電体膜とＡｇ等の金属層との交互積層体（例、ＩＴＯ／銀／ＩＴＯ／銀／ＩＴＯの積層体）であっても良い。
【００４６】
メッシュ状の導電層としては金属繊維及び金属被覆有機繊維の金属を網状にしたもの、透明フィルム上の銅箔等の層を網状にエッチング加工し、開口部を設けたもの、透明フィルム上に導電性インクをメッシュ状に印刷したもの、等を挙げることができる。
【００４７】
メッシュ状の導電層の場合、メッシュとしては、金属繊維及び／又は金属被覆有機繊維よりなる線径１μｍ〜１ｍｍ、開口率４０〜９５％のものが好ましい。より好ましい線径は１０〜５００μｍ、開口率は５０〜９５％である。メッシュ状の導電層において、線径が１ｍｍを超えると電磁波シールド性が向上するが、開口率が低下し両立させることができない。１μｍ未満では、メッシュとしての強度が下がり取扱いが困難となる。また開口率が９５％を超えるとメッシュとしての形状を維持することが困難であり、４０％未満では光透過性が低下し、ディスプレイからの光量も低下する。
【００４８】
なお、メッシュの開口率とは、当該メッシュの投影面積における開口部分が占める面積割合を言う。
【００４９】
メッシュ状の導電層を構成する金属繊維及び金属被覆有機繊維の金属としては、銅、ステンレス、アルミニウム、ニッケル、チタン、タングステン、錫、鉛、鉄、銀、炭素又はこれらの合金、好ましくは銅、ステンレス、ニッケルが用いられる。
【００５０】
金属被覆有機繊維の有機材料としては、ポリエステル、ナイロン、塩化ビニリデン、アラミド、ビニロン、セルロース等が用いられる。
【００５１】
金属箔等の導電性の箔をパターンエッチングしたもの場合、金属箔の金属としては、銅、ステンレス、アルミニウム、ニッケル、鉄、真鍮、或いはこれらの合金、好ましくは銅、ステンレス、アルミニウムが用いられる。
【００５２】
金属箔の厚さは、薄過ぎると取扱い性やパターンエッチングの作業性等の面で好ましくなく、厚過ぎると得られるフィルムの厚さに影響を及ぼし、エッチング工程の所要時間が長くなることから、１〜２００μｍ程度とするのが好ましい。
【００５３】
エッチングパターンの形状には特に制限はなく、例えば四角形の孔が形成された格子状の金属箔や、円形、六角形、三角形又は楕円形の孔が形成されたパンチングメタル状の金属箔等が挙げられる。また、孔は規則的に並んだものに限らず、ランダムパターンとしても良い。この金属箔の投影面における開口部分の面積割合は、２０〜９５％であることが好ましい。
【００５４】
上記の他に、メッシュ状の導電層として、フィルム面に、溶剤に対して可溶な材料によってドットを形成し、フィルム面に溶剤に対して不溶な導電材料からなる導電材料層を形成し、フィルム面を溶剤と接触させてドット及びドット上の導電材料層を除去することによって得られるメッシュ状の導電層を用いても良い。
【００５５】
導電層上に、さらに金属メッキ層を、導電性を向上させるためは設けても良い（特に、上記溶剤に対して可溶な材料によってドットを形成する方法の場合）。金属メッキ層は、公知の電解メッキ法、無電解メッキ法により形成することができる。メッキに使用される金属としては、一般に銅、銅合金、ニッケル、アルミ、銀、金、亜鉛又はスズ等を使用することが可能であり、好ましくは銅、銅合金、銀、又はニッケルであり、特に経済性、導電性の点から、銅又は銅合金を使用することが好ましい。
【００５６】
また、防眩性能を付与させても良い。この防眩化処理を行う場合、（メッシュ）導電層の表面に黒化処理を行っても良い。例えば、金属膜の酸化処理、クロム合金等の黒色メッキ、黒又は暗色系のインクの塗布等を行うことができる。
【００５７】
基材フィルムと導電層との間に中間層を形成する場合は、その材料として、主として、ポリエステル樹脂を用いる。ポリエステル樹脂は、一般にグリコールと多価（一般に二価）のカルボン酸との重縮合により得られる。グリコールの例としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ブタンジオール、ヘキサンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール（ネオペンチルグリコール）、２−メチル−２−エチル−１，３−プロパンジオール、２−メチル−２−ブチル−１，３−プロパンジオール、２−メチル−２−プロピル−１，３−プロパンジオール、２−メチル−２−イソプロピル−１，３−プロパンジオール、２−メチル−２−ｎ−ヘキシル−１，３−プロパンジオール、２，２−ジエチル−１，３−プロパンジオール、２−エチル−２−ｎ−ブチル−１，３−プロパンジオール、２−エチル−２−ｎ−ヘキシル−１，３−プロパンジオール、２，２−ジ−ｎ−ブチル−１，３−プロパンジオール、２−ｎ−ブチル−２−プロピル−１，３−プロパンジオール、２，２−ジ−ｎ−ヘキシル−１，３−プロパンジオールを挙げることができる。エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ブタンジオール、ヘキサンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオールが好ましい。
【００５８】
多価（一般に二価）のカルボン酸の例としては、テレフタル酸、イソフタル酸、ジフェニルカルボン酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸等の芳香族ジカルボン酸；アジピン酸、コハク酸、マロン酸、グルタル酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、フマル酸、マレイン酸を挙げることができる。テレフタル酸、イソフタル酸、アジピン酸、コハク酸、アゼライン酸、セバシン酸が好ましい。
【００５９】
ポリエステル樹脂の重量平均分子量は一般に１０００〜５００００の範囲、特に２０００〜２００００の範囲が好ましい。また、数平均分子量は一般に１０００〜５００００の範囲、特に２０００〜２００００の範囲が好ましい。
【００６０】
ポリエステル樹脂以外の樹脂成分として、アクリル樹脂、スチレン−マレイン酸グラフトポリエステル樹脂、アクリルグラフトポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、シリコーン樹脂等を使用しても良い。
【００６１】
中間層形成用の塗工液は、上記ポリエステル樹脂、各種添加剤を有機溶剤に混合、溶解させることにより得ることができる。そして、得られた塗工液を公知の塗工法により、塗工、乾燥することにより中間層を得ることができる。この塗工液は、通常、硬化剤を含んでいないので、塗工後、溶剤を蒸発させることにより中間層を形成することができる。
機能層の内、視聴者側に形成される機能層は、一般にハードコート層とその上に設けられたハードコート層より屈折率の低い低屈折率層との複合膜であるか、或いはハードコート層と低屈折率層との間にさらに高屈折率層が設けられた複合膜である。反射防止のためには基板フィルムより屈折率の低いハードコート層のみであっても有効である。但し、基材フィルムの屈折率が低い場合、基材フィルムより屈折率の高いハードコート層とその上に設けられた低屈折率層との複合膜、或いは低屈折率層上にさらに高屈折率層が設けられた複合膜としても良い。
【００６２】
ハードコート層は、アクリル樹脂層、エポキシ樹脂層、ウレタン樹脂層、シリコン樹脂層等の合成樹脂を主成分とする層である。なお、本発明において、ハードコート層とは、ＪＩＳ５６００−５−４（１９９９）で規定される鉛筆硬度試験でＨ以上の硬度を有するものをいう。通常、ハードコート層の厚さは１〜５０μｍ、好ましくは１〜２０μｍである。合成樹脂は、一般にフェノール樹脂、レゾルシノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、フラン樹脂、シリコン樹脂などの熱硬化性樹脂、又は紫外線硬化性樹脂であり、紫外線硬化性樹脂が好ましい。紫外線硬化性樹脂は、短時間で硬化させることができ、生産性に優れる点から好ましい。紫外線硬化性樹脂を用いる場合は、紫外線硬化性樹脂組成物（紫外線硬化性樹脂、光重合開始剤等からなる）として使用する。
【００６３】
紫外線硬化性樹脂（モノマー、オリゴマー）としては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシルポリエトキシ（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、フェニルオキシエチル（メタ）アクリレート、トリシクロデカンモノ（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルホリン、Ｎ−ビニルカプロラクタム、２−ヒドロキシ−３−フェニルオキシプロピル（メタ）アクリレート、ｏ−フェニルフェニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジプロポキシジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメチロールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、トリス〔（メタ）アクリロキシエチル〕イソシアヌレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレートモノマー類；ポリオール化合物（例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、１，６−ヘキサンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，９−ノナンジオール、２−エチル−２−ブチル−１，３−プロパンジオール、トリメチロールプロパン、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、１，４−ジメチロールシクロヘキサン、ビスフェノールＡポリエトキシジオール、ポリテトラメチレングリコール等のポリオール類、前記ポリオール類とコハク酸、マレイン酸、イタコン酸、アジピン酸、水添ダイマー酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸等の多塩基酸又はこれらの酸無水物類との反応物であるポリエステルポリオール類、前記ポリオール類とε−カプロラクトンとの反応物であるポリカプロラクトンポリオール類、前記ポリオール類と前記多塩基酸又はこれらの酸無水物類のε−カプロラクトンとの反応物、ポリカーボネートポリオール、ポリマーポリオール等）と有機ポリイソシアネート（例えば、トリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−４，４′−ジイソシアネート、ジシクロペンタニルジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、２，４，４′−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、２，２′−４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等）と水酸基含有（メタ）アクリレート（例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェニルオキシプロピル（メタ）アクリレート、シクロヘキサン−１，４−ジメチロールモノ（メタ）アクリレ��ト、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート等）の反応物であるポリウレタン（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂等のビスフェノール型エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸の反応物であるビスフェノール型エポキシ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレートオリゴマー類等を挙げることができる。これら化合物は１種又は２種以上、混合して使用することができる。これらの紫外線硬化性樹脂を、熱重合開始剤とともに用いて熱硬化性樹脂として使用してもよい。
【００６４】
ハードコート層とするには、上記の紫外線硬化性樹脂（モノマー、オリゴマー）の内、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の硬質の多官能モノマーを主に使用することが好ましい。
【００６５】
紫外線硬化性樹脂の光重合開始剤として、紫外線硬化性樹脂の性質に適した任意の化合物を使用することができる。例えば、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルホリノプロパン−１などのアセトフェノン系、ベンジルジメチルケタールなどのベンゾイン系、ベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノンなどのベンゾフェノン系、イソプロピルチオキサントン、２−４−ジエチルチオキサントンなどのチオキサントン系、その他特殊なものとしては、メチルフェニルグリオキシレートなどが使用できる。特に好ましくは、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルホリノプロパン−１、ベンゾフェノン等が挙げられる。これら光重合開始剤は、必要に応じて、４−ジメチルアミノ安息香酸のごとき安息香酸系叉は、第３級アミン系などの公知慣用の光重合促進剤の１種または２種以上を任意の割合で混合して使用することができる。また、光重合開始剤のみの１種または２種以上の混合で使用することができる。特に１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(チバ・スペシャリティケミカルズ社製、イルガキュア１８４）が好ましい。
【００６６】
光重合開始剤の量は、樹脂組成物に対して一般に０．１〜１０質量％、好ましくは０．１〜５質量％である。
【００６７】
さらに、ハードコート層は、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、老化防止剤、塗料加工助剤、着色剤等を少量含んでいても良い。特に、紫外線吸収剤（例、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤又はベンゾフェノン系紫外線吸収剤）を含むことが好ましく、これによりフィルタの黄変等の防止が効率的に行うことができる。その量は、樹脂組成物に対して一般に０．１〜１０質量％、好ましくは０．１〜５質量％である。
【００６８】
高屈折率層は、ポリマー（好ましくは紫外線硬化性樹脂）中に、ＩＴＯ，ＡＴＯ，Ｓｂ２Ｏ３，ＳｂＯ２，Ｉｎ２Ｏ３，ＳｎＯ２，ＺｎＯ、ＡｌをドープしたＺｎＯ、ＴｉＯ２等の導電性金属酸化物微粒子（無機化合物）が分散した層（硬化層）とすることが好ましい。金属酸化物微粒子としては、平均粒径１０〜１００００ｎｍ、好ましくは１０〜５０ｎｍのものが好ましい。特にＩＴＯ（特に平均粒径１０〜５０ｎｍのもの）が好ましい。膜厚は一般に１０〜５００ｎｍの範囲、好ましくは２０〜２００ｎｍである。
【００６９】
低屈折率層は、シリカ、フッ素樹脂等の微粒子、好ましくは中空シリカを１０〜４０重量％（好ましくは１０〜３０質量％）がポリマー（好ましくは紫外線硬化性樹脂）中に分散した層（硬化層）であることが好ましい。膜厚は一般に１０〜５００ｎｍの範囲、好ましくは２０〜２００ｎｍである。中空シリカとしては、平均粒径１０〜１００ｎｍ、好ましくは１０〜５０ｎｍ、比重０．５〜１．０、好ましくは０．８〜０．９のものが好ましい。
【００７０】
ハードコート層は、可視光線透過率が８５％以上であることが好ましい。高屈折率層及び低屈折率層の可視光線透過率も、いずれも８５％以上であることが好ましい。
【００７１】
視聴者側の機能層がハードコート層と上記２層より構成される場合、例えば、ハードコート層の厚さは２〜２０μｍ、高屈折率層の厚さは５０〜１５０ｎｍ、低屈折率層の厚さは５０〜１５０ｎｍであることが好ましい。
【００７２】
視聴者側の機能層の、各層を形成するには、例えば、前記の通り、ポリマー（好ましくは紫外線硬化性樹脂）に必要に応じ上記の微粒子を配合し、得られた塗工液を、前記の矩形透明基板表面に塗工し、次いで乾燥した後、紫外線照射して硬化すればよい。この場合、各層を１層ずつ塗工し硬化させてもよく、全層を塗工した後、まとめて硬化させてもよい。
【００７３】
塗工の具体的な方法としては、アクリル系モノマー等を含む紫外線硬化性樹脂をトルエン等の溶媒で溶液にした塗工液をグラビアコータ等によりコーティングし、その後乾燥し、次いで紫外線により硬化する方法を挙げることができる。このウェットコーティング法であれば、高速で均一に且つ安価に成膜できるという利点がある。このコーティング後に例えば紫外線を照射して硬化することにより密着性の向上、膜の硬度の上昇という効果が得られる。前記導電層も同様に形成することができる。
【００７４】
紫外線硬化の場合は、光源として紫外〜可視領域に発光する多くのものが採用でき、例えば超高圧、高圧、低圧水銀灯、ケミカルランプ、キセノンランプ、ハロゲンランプ、マーキュリーハロゲンランプ、カーボンアーク灯、白熱灯、レーザー光等を挙げることができる。照射時間は、ランプの種類、光源の強さによって一概には決められないが、数秒〜数分程度である。また、硬化促進のために、予め積層体を４０〜１２０℃に加熱し、これに紫外線を照射してもよい。
【００７５】
機能層の内、ディスプレイの画像表示部のガラス基板側に形成される近赤外線吸収層は、一般に、基板フィルムの表面に色素等を含む層が形成されることにより得られる。近赤外線吸収層は、例えば上記色素及びバインダ樹脂等を含む塗工液を塗工、必要により乾燥、そして硬化させることにより得られる。或いは上記色素及びバインダ樹脂等を含む塗工液を塗工、そして単に乾燥させることによっても得られる。フィルムとして使用する場合は、一般に近赤外線カットフィルムであり、例えば色素等を含有するフィルムである。色素としては、一般に８００〜１２００ｎｍの波長に吸収極大を有するもので、例としては、フタロシアニン系色素、金属錯体系色素、ニッケルジチオレン錯体系色素、シアニン系色素、スクアリリウム系色素、ポリメチン系色素、アゾメチン系色素、アゾ系色素、ポリアゾ系色素、ジイモニウム系色素、アミニウム系色素、アントラキノン系色素、を挙げることができ、特にシアニン系色素又、フタロシアニン系色素、ジイモニウム系色素が好ましい。これらの色素は、単独又は組み合わせて使用することができる。バインダ樹脂の例としては、アクリル樹脂等の熱可塑性樹脂を挙げることができる。
【００７６】
近赤外線吸収層に、ネオン発光の吸収機能（ネオンカット機能）を付与することにより色調の調節機能を持たせても良い。このために、ネオン発光の吸収層（ネオンカット層）を設けても良いが、近赤外線吸収層にネオン発光の選択吸収色素を含有させても良い。
【００７７】
ネオン発光の選択吸収色素としては、シアニン系色素、スクアリリウム系色素、アントラキノン系色素、フタロシアニン系色素、ポリメチン系色素、ポリアゾ系色素、アズレニウム系色素、ジフェニルメタン系色素、トリフェニルメタン系色素を挙げることができる。このような選択吸収色素は、５８５ｎｍ付近のネオン発光の選択吸収性とそれ以外の可視光波長において吸収が小さいことが必要であるため、吸収極大波長が５７５〜５９５ｎｍであり、吸収スペクトル半値幅が４０ｎｍ以下であるものが好ましい。
【００７８】
また、近赤外線やネオン発光の吸収色素を複数種組み合わせる場合、色素の溶解性に問題がある場合、混合による色素間の反応ある場合、耐熱性、耐湿性等の低下が認められる場合には、すべての近赤外線吸収色素を同一の層に含有させる必要はなく、別の層に含有させても良い。
【００７９】
また、光学特性に大きな影響を与えない限り、さらに着色用の色素、紫外線吸収剤、酸化防止剤等を加えても良い。
【００８０】
近赤外線吸収特性としては、８５０〜１０００ｎｍの透過率を、２０％以下、さらに１５％するのが好ましい。また選択吸収性としては、５８５ｎｍの透過率が５０％以下であることが好ましい。特に前者の場合には、周辺機器のリモコン等の誤作動が指摘されている波長領域の透過度を減少させる効果があり、後者の場合は、５７５〜５９５ｎｍにピークを持つオレンジ色が色再現性を悪化させる原因であることから、このオレンジ色の波長を吸収させる効果があり、これにより真赤性を高めて色の再現性を向上させたものである。近赤外線吸収層の層厚は、０．５〜５０μｍが一般的である。
【００８１】
ガラス基板側の機能層の透明な粘着剤層は、ガラス基板に接着する接着機能を有するものであればどのような樹脂でも使用することができる。例えば、エチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）、エチレン−アクリル酸メチル共重合体、ブチルアクリレート等から形成されたアクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、ＳＥＢＳ（スチレン／エチレン／ブチレン／スチレン）及びＳＢＳ（スチレン／ブタジエン／スチレン）等の熱可塑性エラストマー（ＴＰＥ）を主成分とするＴＰＥ系粘着剤及び接着剤等も用いることができる。
【００８２】
その層厚は、一般に５〜５００μｍ、特に１０〜１００μｍの範囲が好ましい。光学フィルタは、一般に上記粘着剤層をディスプレイのガラス板に圧着することにより装備することができる。
【００８３】
前記粘着剤層の材料として、ＥＶＡを使用する場合、ＥＶＡとしては酢酸ビニル含有量が５〜５０重量％、好ましくは１５〜４０重量％のものが使用される。酢酸ビニル含有量が５重量％より少ないと透明性に問題があり、また４０重量％を超すと機械的性質が著しく低下する上に、成膜が困難となり、フィルム相互のブロッキングが生じ易い。
【００８４】
架橋剤としては加熱架橋する場合は、有機過酸化物が適当であり、シート加工温度、架橋温度、貯蔵安定性等を考慮して選ばれる。使用可能な過酸化物としては、例えば２，５−ジメチルヘキサン−２，５−ジハイドロパーオキサイド；２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン−３；ジーｔ−ブチルパーオキサイド；ｔ−ブチルクミルパーオキサイド；２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン；ジクミルパーオキサイド；α，α’−ビス（ｔ−ブチルパーオキシイソプロピル）ベンゼン；ｎ−ブチル−４，４−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）バレレート；２，２−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）ブタン；１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）シクロヘキサン；１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン；ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート；ベンゾイルパーオキサイド；第３ブチルパーオキシアセテート；２，５−ジメチル−２，５−ビス（第３ブチルパーオキシ）ヘキシン−３；１，１−ビス（第３ブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン；１，１−ビス（第３ブチルパーオキシ）シクロヘキサン；メチルエチルケトンパーオキサイド；２，５−ジメチルヘキシル−２，５−ビスパーオキシベンゾエート；第３ブチルハイドロパーオキサイド；ｐ−メンタンハイドロパーオキサイド；ｐ−クロルベンゾイルパーオキサイド；第３ブチルパーオキシイソブチレート；ヒドロキシヘプチルパーオキサイド；クロルヘキサノンパーオキサイド等を挙げることができる。これらの過酸化物は１種を単独で又は２種以上を混合して、通常ＥＶＡ１００重量部に対して、５質量部以下、好ましくは０．５〜５．０質量部の割合で使用される。
【００８５】
有機過酸化物は通常ＥＶＡに対し押出機、ロールミル等で混練されるが、有機溶媒、可塑剤、ビニルモノマー等に溶解し、ＥＶＡのフィルムに含浸法により添加しても良い。
【００８６】
なお、ＥＶＡの物性（機械的強度、光学的特性、接着性、耐候性、耐白化性、架橋速度など）改良のために、各種アクリロキシ基又はメタクリロキシ基及びアリル基含有化合物を添加することができる。この目的で用いられる化合物としてはアクリル酸又はメタクリル酸誘導体、例えばそのエステル及びアミドが最も一般的であり、エステル残基としてはメチル、エチル、ドデシル、ステアリル、ラウリル等のアルキル基の他、シクロヘキシル基、テトラヒドロフルフリル基、アミノエチル基、２−ヒドロキシエチル基、３−ヒドロキシプロピル基、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル基などが挙げられる。また、エチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール等の多官能アルコールとのエステルを用いることもできる。アミドとしてはダイアセトンアクリルアミドが代表的である。
【００８７】
その例としては、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、グリセリン等のアクリル又はメタクリル酸エステル等の多官能エステルや、トリアリルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレート、フタル酸ジアリル、イソフタル酸ジアリル、マレイン酸ジアリル等のアリル基含有化合物が挙げられ、これらは１種を単独で或いは２種以上を混合して、通常ＥＶＡ１００質量部に対して０．１〜２質量部、好ましくは０．５〜５質量部用いられる。
【００８８】
ＥＶＡを光により架橋する場合、上記過酸化物の代りに光増感剤が通常ＥＶＡ１００質量部に対して５質量部以下、好ましくは０．１〜３．０質量部使用される。
【００８９】
この場合、使用可能な光増感剤としては、例えばベンゾイン、ベンゾフェノン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ジベンジル、５−ニトロアセナフテン、ヘキサクロロシクロペンタジエン、ｐ−ニトロジフェニル、ｐ−ニトロアニリン、２，４，６−トリニトロアニリン、１，２−ベンズアントラキノン、３−メチル−１，３−ジアザ−１，９−ベンズアンスロンなどが挙げられ、これらは１種を単独で或いは２種以上を混合して用いることができる。
【００９０】
また、接着促進剤としてシランカップリング剤が併用される。このシランカップリング剤としては、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（β−メトキシエトキシ）シラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルメトキシシラン、ビニルトリクロロシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシランなどが挙げられる。
【００９１】
シランカップリング剤は、一般にＥＶＡ１００質量部に対して０．００１〜１０質量部、好ましくは０．００１〜５質量部の割合で１種又は２種以上が混合使用される。
【００９２】
なおＥＶＡの透明接着層には、その他、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、老化防止剤、塗料加工助剤、着色剤等を少量含んでいてもよく、また、場合によってはカーボンブラック、疎水性シリカ、炭酸カルシウム等の充填剤を少量含んでも良い。
【００９３】
上記粘着剤層は、例えばＥＶＡと上述の添加剤とを混合し、押出機、ロール等で混練した後、カレンダー、ロール、Ｔダイ押出、インフレーション等の成膜法により所定の形状にシート成形することにより製造される。
【００９４】
粘着剤層上に設けられる剥離シートの材料としては、ガラス転移温度が５０℃以上の透明のポリマーが好ましく、このような材料としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリシクロヘキシレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、ナイロン４６、変性ナイロン６Ｔ、ナイロンＭＸＤ６、ポリフタルアミド等のポリアミド系樹脂、ポリフェニレンスルフィド、ポリチオエーテルサルフォン等のケトン系樹脂、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン等のサルフォン系樹脂の他に、ポリエーテルニトリル、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、トリアセチルセルロース、ポリスチレン、ポリビニルクロライド等のポリマーを主成分とする樹脂を用いることができる。これら中で、ポリカーボネート、ポリメチルメタアクリレート、ポリビニルクロライド、ポリスチレン、ポリエチレンテレフタレートが好適に用いることができる。厚さは１０〜２００μｍが好ましく、特に３０〜１００μｍが好ましい。
【実施例】
【００９５】
以下、本発明を実施例により説明する。
（１）接地用電極の作成
厚さ３０μｍベリリウム銅の圧延材を必要な大きさに裁断し、板材とした。次いで、プレス加工により、幅方向の一方の端部に鋸歯状の連続する凹凸の帯状領域を形成し、さらに、凹凸帯状領域を形成した反対側の端部を折り曲げ、断面Ｌ字状の支持部を形成した。Ｌ字状の支持部と接地用電極の本体とで形成された断面コ字状の部分はガラス基板を挟みこむバネが作用するように、開口部を狭めて折り曲げた。凹凸帯状領域全域に、グラインダにより帯方向と垂直方向に傾斜を形成した。傾斜は先端に向うに従って、支持部が形成された面と反対側の面から離れる向きに形成した。次に、得られた形成体を３１５℃、９０時間の熱処理し、冷却後、無電解ニッケルめっき、銀めっきにより表面処理を行い、接地用電極を得た。
【００９６】
（２）メッシュ状導電層の形成
表面に易接着層（ポリエステルポリウレタン；厚さ２０ｎｍ）を有する厚さ１００μｍの長尺状ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（幅：６００ｍｍ、長さ１００ｍ）の易接着層上に、ポリビニルアルコールの２０％水溶液をドット状に印刷した。ドット１個の大きさは１辺が２３４μｍの正方形状であり、ドット同士間の間隔は２０μｍであり、ドット配列は正方格子状である。印刷厚さは、乾燥後で約５μｍである。
【００９７】
その上に、銅を平均膜厚４μｍとなるように真空蒸着した。次いで、常温の水に浸漬し、スポンジで擦ることによりドット部分を溶解除去し、次いで水でリンスした後、乾燥してＰＥＴフィルムの全面にメッシュ状導電層を形成した（図１（１）参照）。
【００９８】
このフィルム表面の導電層は、正確にドットのネガパターンに対応した正方格子状のものであり、線幅は２０μｍ、開口率は７７％であった。また、導電層（銅層）の平均厚さは４μｍであった。
【００９９】
（３）近赤外線吸収層の形成
下記の配合：
ポリメチルメタクリレート                                  ３０質量部
ＴＡＰ−２（山田化学工業（株）製）                          ０．４質量部
Ｐｌａｓｔ  Ｒｅｄ  ８３８０（有本化学工業（株）製）        ０．１質量部
ＣＩＲ−１０８５（日本カーリット（株）製）                  １．３質量部
ＩＲ−１０Ａ（（株）日本触媒製）                            ０．６質量部
メチルエチルケトン                                      １５２質量部
メチルイソブチルケトン                                    １８質量部
を混合して得た塗工液を、上記メッシュ状導電層の全面にバーコータを用いて塗布し、８０℃のオーブン中で５分間乾燥させた。これにより、導電層上に厚さ５μｍの近赤外線吸収層を形成した（図１（２）参照）。
【０１００】
（４）粘着剤層の形成
下記の配合：
ＳＫダイン１８１１Ｌ（綜研化学（株）製）                １００質量部
硬化剤Ｌ−４５（綜研化学（株）製）                          ０．４５質量部
トルエン                                                  １５質量部
酢酸エチル                                                  ４質量部
を混合して得た塗工液を、上記近赤外線吸収層上にバーコータを用いて塗布し、８０℃のオーブン中で５分間乾燥させた。これにより、近赤外線吸収層上に厚さ２５μｍの透明粘着剤層を形成した（図１（２）参照）。
【０１０１】
（５）ハードコート層の形成
下記の配合：
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）        ８０質量部
ＩＴＯ（平均粒径１５０ｎｍ）                                ２０質量部
メチルエチルケトン                                        １００質量部
トルエン                                                  １００質量部
イルガキュア１８４（チバスペシャリティケミカル社製）          ４質量部
を混合して得た塗工液を、上記ＰＥＴフィルムのメッシュ状導電層を形成した面と反対側の全面に、バーコータにより塗布し、紫外線照射により硬化させた。これにより、メッシュ状導電層上に厚さ５μｍのハードコート層を形成した（図１（３）参照）。
【０１０２】
（６）接地用電極の差し込み
粘着剤層を介して、上記により形成した積層体をディスプレイのガラス基板に圧着して貼り付けた（図１（４）参照）。次いで、積層体の４端面の導電層が形成された位置（即ちＰＥＴフィルムとガラス基板の界面）に（１）で作製した接地用電極を差し込み、導電層と接地用電極の端部を接触させた。同時に、接地用電極の固定部でガラス基板を挟み込み、接地用電極を固定した。
【０１０３】
導電層と接地用電極の接触状態を目視観察したところ、接地用電極の端部が凹凸帯状領域により、メッシュ状の導電層と多数の点で接触していた。
【０１０４】
なお、本発明は上記の実施の形態の構成及び実施例に限定されるものではなく、発明の要旨の範囲内で種々変形が可能である。
【図面の簡単な説明】
【０１０５】
【図１】本発明のディスプレイ用光学フィルタの製造方法の代表的な１例を説明するための概略断面図である。
【図２】本発明のディスプレイ用光学フィルタの製造方法の別の１例を説明するための概略断面図である。
【図３】本発明の図１に示したディスプレイ用光学フィルタの製造方法における電極差込工程の１例を説明する図であり、図３（ａ）は概略平面図であり、破線円で囲まれた内部を透過図としたもので、図３（ｂ）は接地用電極と導電層の接触部（破線円の内部）の部分拡大図であり、図３（ｃ）は接地用電極端部の凹凸帯状領域の形状の例を示す平面図である。
【図４】本発明のディスプレイ用光学フィルタの製造方法に係る接地用電極の１例を説明するための概略断面図である。
【図５】本発明のディスプレイ用光学フィルタの製造方法に係る接地用電極の１例を説明するための概略断面図である。
【図６】本発明のディスプレイ用光学フィルタの製造方法に係る接地用電極の製造方法の１例を示すフロー図である。
【図７】本発明のディスプレイ用光学フィルタの代表的な１例を示す図であり、図８（ａ）は概略断面図であり、図８（ｂ）は平面図である。
【符号の説明】
【０１０６】
１２                  基材フィルム
１３、２３            導電層
１４、２４            近赤外線吸収層
１５、２５            粘着剤層
１６、２６            ハードコート層、
２０、４０            積層体
２１                  ガラス基板
３０                  接地用電極
３１                  端部
３２                  凹凸帯状領域
３３                  傾斜部
３４                  支持部
３５                  開口部
３６                  端部
【図１】
2010021488.tif 000003
【図２】
2010021488.tif 000004
【図３】
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【図４】
2010021488.tif 000006
【図５】
2010021488.tif 000007
【図６】
2010021488.tif 000008
【図７】
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