(57)【要約】【課題】重量センサーを搭載する高周波加熱装置において、軸にかかる荷重を測定するという重量センサーの特性ゆえ、被加熱物は通常少なくとも何らかの容器に収納されており、重量センサーでは被加熱物実質重量が明確にならないため、容器重量が重い場合には仕上がり温度が若干低めになったり、逆に容器重量が軽い場合には仕上がり温度が若干高めになったり、過加熱状態になったときに被加熱物に焦げてしまったりしていた。【解決手段】被加熱物が高周波加熱されるときに、サーミスタにより検出された加熱室の温度に基づいて被加熱物の重量が所定の領域のいずれに属するかを判定し、判定された領域に応じて高周波発生装置を停止させる加熱終了温度を決定する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
被加熱物を収容する加熱室と、前記加熱室内の被加熱物を高周波加熱するマイクロ波を発生する高周波発生装置と、前記加熱室を加熱するヒータと、前記加熱室の温度を検出するサーミスタと、前記被加熱物の表面温度を検出する赤外線センサーと、前記赤外線センサーの出力に基づいて前記高周波発生装置を制御し、前記サーミスタの出力に基づいて前記加熱室の温度を前記ヒータ通電により制御する制御部とを有する高周波加熱装置であって、前記制御部は、前記被加熱物が高周波加熱されるときに前記サーミスタにより検出される前記加熱室の温度に基づいて前記被加熱物の重量が所定の領域のいずれに属するかを判定し、判定された領域に応じて前記高周波発生装置を停止させる加熱終了温度を決定する高周波加熱装置。
【請求項２】
前記制御部が、２つ以上のしきい値に基づいて前記被加熱物の重量が３つ以上の領域のいずれに属するかを判定する請求項１に記載の高周波加熱装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、赤外線センサーにより加熱室内温度を検知し自動調理を行う高周波加熱装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年の高周波加熱装置は、被加熱物を加熱するにあたり重量センサーで被加熱物重量を検出することで高周波加熱時間を決定し高周波加熱調理することが一般的である（例えば特許文献１参照）。
【０００３】
図４は特許文献１に記載された従来の高周波加熱装置を示すものである。図４に示すように、重量センサー６が調理物４の重量を測定して信号を演算部１０に出力し、演算部１０で信号処理して結果を制御部８に出力しマグネトロン１を制御して常に最適な仕上がり状態の調理を実現するものである。
【特許文献１】特開平６−２５７７５３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、前記従来の構成では、軸にかかる荷重を測定するという重量センサーの特性ゆえ、次のような課題があった。
【０００５】
被加熱物は通常少なくとも何らかの容器に収納されており、重量センサーでは被加熱物実質重量が明確にならないため、容器重量が重い場合には仕上がり温度が若干低め、逆に容器重量が軽い場合には仕上がり温度が若干高めになったり、過加熱状態になったときには被加熱物に焦げ目がついてしまい極端な場合こげの臭いが発生したりしていた。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記従来の課題を解決するために、本発明の高周波加熱装置は、被加熱物を収容する加熱室と、前記加熱室内の被加熱物を高周波加熱するマイクロ波を発生する高周波発生装置と、前記加熱室を加熱するヒータと、前記加熱室の温度を検出するサーミスタと、前記被加熱物の表面温度を検出する赤外線センサーと、前記赤外線センサーの出力に基づいて前記高周波発生装置を制御し、前記サーミスタの出力に基づいて前記加熱室の温度を前記ヒータ通電により制御する制御部とを有する高周波加熱装置であって、前記制御部は、前記被加熱物が高周波加熱されるときに前記サーミスタにより検出される前記加熱室の温度に基づいて前記被加熱物の重量が所定の領域のいずれに属するかを判定し、判定された領域に応じて前記高周波発生装置を停止させる加熱終了温度を決定するものである。
【発明の効果】
【０００７】
本発明の高周波加熱装置によれば、被加熱物が軽量の場合には加熱終了温度を仕上がり温度とほぼ同等に設定すれば、軽量負荷の場合に被加熱物表面温度と中身の温度がほぼ同じであるので過加熱防止を行えるうえ、良好な仕上がり状態が実現できる。
【０００８】
また、被加熱物が大量の場合には被加熱物表面温度より中身の温度が若干低めであるので加熱終了温度を仕上がり温度より若干高めに設定すれば、軽量負荷の場合と同様に良好な仕上がり状態が実現できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
第１の発明は、被加熱物を収容する加熱室と、前記加熱室内の被加熱物を高周波加熱す
るマイクロ波を発生する高周波発生装置と、前記加熱室を加熱するヒータと、前記加熱室の温度を検出するサーミスタと、前記被加熱物の表面温度を検出する赤外線センサーと、前記赤外線センサーの出力に基づいて前記高周波発生装置を制御し、前記サーミスタの出力に基づいて前記加熱室の温度を前記ヒータ通電により制御する制御部とを有する高周波加熱装置であって、前記制御部は、前記被加熱物が高周波加熱されるときに前記サーミスタにより検出される前記加熱室の温度に基づいて前記被加熱物の重量が所定の領域のいずれに属するかを判定し、判定された領域に応じて前記高周波発生装置を停止させる加熱終了温度を決定するものである。
【００１０】
これにより、前記被加熱物が軽量の場合には、前記被加熱物表面温度と中身の温度がほぼ同じであるので、加熱終了温度を仕上がり温度とほぼ同等に設定すれば、前記被加熱物の過加熱防止を行えるうえ、前記被加熱物の良好な仕上がり状態が実現できる。
【００１１】
また、被加熱物が大量の場合には、前記被加熱物表面温度より中身の温度が若干低めであるので、加熱終了温度を仕上がり温度より若干高めに設定すれば前記被加熱物が軽量負荷の場合と同様に良好な仕上がり状態が実現できる。
【００１２】
第２の発明は、特に第１の発明において、前記制御部が、２つ以上のしきい値に基づいて前記被加熱物の重量が３つ以上の領域のいずれに属するかを判定するものであり、より良好に調理を仕上げることができる。
【００１３】
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照しながら説明する。なお、この実施の形態によって本発明が限定されるものではない。
【００１４】
（実施の形態１）
図１は、本発明の第１の実施の形態における高周波加熱装置の断面図であり、図２は本実施の形態における制御部の判断基準（１つのしきい値と２つの領域の関係）を示す図である。
【００１５】
図１に示すように、高周波発生装置２１により発生された高周波は加熱室２６内に放出される。モータ２９で駆動される回転アンテナ２７はその高周波を撹拌し、皿受け台２８上に置かれた被加熱物２５が加熱される。サーミスタ３１は、加熱室２６の温度を検出する。
【００１６】
赤外線センサー２２は、加熱室２６の外郭２３を構成する側面に設けられた開口２４に設置される。制御部３０は、サーミスタ３１で検知した加熱室２６内の温度から単位時間あたりの温度上昇値を算出する。
【００１７】
図２に示すように、制御部２２は、算出した単位時間あたりの温度上昇値と所定のしきい値３２とを基準に、被加熱物２５の状況が領域３３、３４のいずれに属するかを判定し、判定された領域に応じて高周波発生装置２１を停止させる加熱終了温度を決定する。制御部２２は、実際の赤外線センサー２２の検知温度が決定された加熱終了温度と等しくなると高周波発生装置２１を停止させ加熱を終了する。
【００１８】
このとき、制御部３０により、被加熱物２５の状況が領域３３に属すると判定されるということは、被加熱物２５の重量が基準より重いことを表し、被加熱物２５の状況が領域３４に属すると判定されるということは、被加熱物２５の重量が基準より軽いことを表す。
【００１９】
領域３３の場合、すなわち、重量負荷の場合、被加熱物２５表面温度と中身の温度は、
表面温度より中身温度が低い傾向にあるので、加熱終了温度を仕上がり希望温度より高く設定することにより、被加熱物２５の均一で良好な仕上がり状態を実現することができる。
【００２０】
また、領域３４の場合、すなわち、被加熱物２５が軽量の場合には、被加熱物２５表面温度と中身の温度がほぼ同じであるので、加熱終了温度を仕上がり希望温度と同じに設定すれば、被加熱物２５が重量負荷の場合と同様に均一で良好な仕上がり状態が実現できるうえ、特に過加熱により被加熱物２５に焦げや異臭を防止することができる。
【００２１】
（実施の形態２）
図３は、本発明の第２の実施の形態における制御部の判断基準（２つのしきい値と３つの領域の関係）を示す図である。
【００２２】
図３に示すように、制御部３０は、サーミスタ３１から出力されたデータを読み込み、その時の状況が、２つのしきい値４１、４２によって形成される３つの領域４３、４４、４５のいずれかに属するかを判定し、判定された領域に応じて高周波発生装置２１を停止させる加熱終了温度を決定する。
【００２３】
制御部３０は、実際の赤外線センサー２２の検知温度が決定された加熱終了温度と等しくなると、高周波発生装置を停止させ加熱を終了する。ここで、領域４３、４４、４５の順番に、被加熱物２５の重量が基準より軽いことを表している。
【００２４】
以上のように、制御部３０がしきい値に基づいて被加熱物２５の属する領域を決定することにより加熱終了温度を設定するので、被加熱物の重量に応じた加熱制御が行え、より均一な加熱を行うことができる。
【産業上の利用可能性】
【００２５】
本発明は、高周波加熱装置に適用することができ、高周波加熱装置による調理の出来具合をより良好にするものである。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】本発明の第１の実施の形態における高周波加熱装置の断面図
【図２】本発明の第１の実施の形態における制御部の判断基準を示す図
【図３】本発明の第２の実施の形態における制御部の判断基準を示す図
【図４】従来の高周波加熱装置の断面図
【符号の説明】
【００２７】
２１  マグネトロン
２２  赤外線センサー
２３  外郭
２４  開口
２５  被加熱物
２６  加熱室
２７  回転アンテナ
２８  皿受け台
２９  モータ
３０  制御部
３１  サーミスタ
３２、４１、４２  しきい値
３３、３４、４３、４４、４５  領域
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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