(57)【要約】【課題】カラーフィルターのスクライブ時に表示領域の周縁部に形成された引き回し配線が断線し難い液晶表示装置を提供すること。【解決手段】走査線用引き回し配線ＧＬ１〜ＧＬｎを、第２接続部ＣＰ２でゲート絶縁膜及びパッシベーション膜で被覆されている下層配線ＧＬ１、ＧＬ５、・・・とパッシベーション膜によって被覆されている上層配線ＧＬ３、ＧＬ７、・・・とで構成し、張り出し部２ａ'よりも表示領域側で、上層配線を走査線用第１接続部ＳＰ１'において下側の走査線用引き回し配線ＧＬ３'、ＧＬ７'・・・に変換して電極端子ｔ１及びｔ２に電気的に接続し、信号線ＳＷ１〜ＳＷｍを信号線用第１接続部ＳＰ１においてゲート絶縁膜の下層に形成されている信号線用引き回し配線ＳＬ１〜ＳＬｎに切り替えて信号線用電極端子ｔ３に電気的に接続する。【選択図】図１
2010160381.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶層を挟持して対向配置された下側の第１基板と上側の第２基板とを備え、前記第２
基板がスクライブラインに沿って分断されていることにより、前記第１基板には、前記ス
クライブラインを境にその上面が露出された張り出し部が設けられ、前記張り出し部に複
数の電極端子が形成された液晶表示装置であって、
前記第１基板の前記液晶層側には、表示領域の周縁部に走査線用及び信号線用の引き回
し配線が形成されており、
前記引き回し配線は、
第１絶縁膜及び第２絶縁膜によって被覆されて前記電極端子に直接電気的に接続されて
いる下層配線と、前記第１絶縁膜上に形成されて前記第２絶縁膜によって被覆されている
上層配線とからなり、
前記上層配線は、前記スクライブラインよりも前記表示領域側となる非張り出し部内に
形成された第１接続部において、前記下層配線に切り替えられて前記電極端子に電気的に
接続されており、
前記走査線は、一部が前記表示領域の周辺部に形成された第２接続部において前記上層
配線に電気的に接続されており、残部が前記下層配線に直接電気的に接続されており、
前記信号線は、前記第１接続部において前記下層配線に電気的に接続されている、
ことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
前記第１接続部は、前記第１絶縁膜及び前記第２絶縁膜を貫通して前記下層配線を露呈
させている第１コンタクトホールと前記第２絶縁膜を貫通して前記上層配線又は信号線を
露呈させている第２コンタクトホールとを有し、前記第１接続部において、前記上層配線
及び前記信号線は、前記第１及び第２コンタクトホールを経て、それぞれ下層配線に透明
導電性材料からなる層によって電気的に接続されており、
前記第２接続部は、前記第１絶縁膜及び前記第２絶縁膜を貫通して前記走査線を露呈さ
せている第３コンタクトホールと、前記第２絶縁膜を貫通して前記上層配線を露呈させて
いる第４コンタクトホールとを有し、前記第２接続部において、前記走査線は、前記第３
及び第４コンタクトホールを経て、透明導電性材料からなる層によって前記上層配線に電
気的に接続されている、
ことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記第１及び第２コンタクトホール間を電気的に接続する透明導電性材料からなる層及
び前記第３コンタクトホール及び第４コンタクトホール間を電気的に接続する透明導電性
材料からなる層は、前記表示領域に形成された液晶駆動用の画素電極又は共通電極と同一
素材である、
ことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記第１絶縁膜は前記走査線を非被覆するゲート絶縁膜であり、前記第２絶縁膜は前記
表示領域に形成されたスイッチング素子としての薄膜トランジスターの表面を被覆するパ
ッシベーション膜である、
ことを特徴とする請求項１〜３の何れかに記載の液晶表示装置。
【請求項５】
前記液晶表示装置はフリンジ・フィールド・スイッチングモードの液晶表示装置であり
、
前記第１絶縁膜は前記走査線を非被覆するゲート絶縁膜から形成され、前記第２絶縁膜
は、前記表示領域に形成されたスイッチング素子としての薄膜トランジスターの表面を被
覆するパッシベーション膜及び前記液晶駆動用の画素電極及び共通電極の間に形成された
電極間絶縁膜から形成されている、
ことを特徴とする請求項１〜３の何れかに記載の液晶表示装置。
【請求項６】
前記液晶表示装置はフリンジ・フィールド・スイッチングモードの液晶表示装置であり
、
前記第１絶縁膜は前記走査線を非被覆するゲート絶縁膜から形成され、前記第２絶縁膜
は前記液晶駆動用の画素電極及び共通電極の間に形成された電極間絶縁膜から形成されて
いる、
ことを特徴とする請求項１〜３の何れかに記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、製造時に表示領域の周縁部に形成された引き回し配線が断線し難い液晶表示
装置に関する。更に詳しくは、本発明は、引き回し配線が接続部において全てゲート絶縁
膜の下に位置するように切り替えられて少なくとも２層の絶縁膜によって被覆された状態
で電極端子に電気的に接続されており、製造時に引き回し配線が断線し難い液晶表示装置
に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置はＣＲＴ（陰極線管）と比較して軽量、薄型、低消費電力という特徴があ
るため、表示用として多くの電子機器に使用されている。液晶表示装置の液晶層に電界を
印加する方法として、縦電界方式のものと横電界方式のものとがある。縦電界方式の液晶
表示装置は、液晶層を挟んで配置される一対の透明基板上にそれぞれ電極が設けられ、こ
れら一対の電極により、概ね列方向の電界を液晶分子に印加するものである。この縦電界
方式の液晶表示装置としては、ＴＮ（Twisted Nematic）モード、ＶＡ（Vertical Alignm
ent）モード、ＭＶＡ（Multi-domain Vertical Alignment）モード等のものが知られてい
る。横電界方式の液晶表示装置は、液晶層を挟んで配設される一対の基板のうちの一方の
内面側にのみ一対の電極を絶縁して設け、概ね横方向の電界を液晶分子に対して印加する
ものである。この横電界方式の液晶表示装置としては、一対の電極が平面視で重ならない
ＩＰＳ（In-Plane Switching）モードのものと、重なるＦＦＳ（Fringe Field Switching
）モードのものとが知られている。
【０００３】
このように、液晶表示装置には複数の方式のものが知られている。これらの液晶表示装
置は、いずれも液晶分子の配向を変化させるための電界を形成する画素電極及び共通電極
と、マトリクス状に整列された画素ごとに画素電極の電圧を変化させるための走査線及び
信号線が、アレイ基板の表示領域に形成されている。
【０００４】
そして、アレイ基板の非表示領域には、ドライバー用ＩＣとの電気的接続用の電極端子
が形成され、これら電極端子には走査線及び信号線が引き回し配線を介して電気的に接続
されている。これらの引き回し配線は表示領域の周縁領域に形成されるが、走査線及び信
号線用の引き回し配線は非常に数が多いので、広い周縁領域が必要とされる。特に、ドラ
イバー用ＩＣが、走査線の延在方向ではなく、信号線の延在方向に配設されているときは
、表示領域が液晶表示装置の左右のいずれにも偏らないようにして中央に配置されている
ようにするためには、走査線用の引き回し配線を表示領域の左右の両側から信号線の延在
方向に引き回す必要があるため、さらに広い周縁領域が必要とされる。このような周縁領
域に必要な面積を減らす目的で、下記特許文献１には、引き回し配線を多層構造化した液
晶表示装置が開示されている。ここで、下記特許文献１に開示されている液晶表示装置の
引き回し配線の構成を図７を用いて説明する。
【０００５】
図７Ａは従来例の液晶表示装置の周縁領域左側における引き回し配線の配置を示す部分
拡大平面図、図７Ｂは図７ＡのVIIＢ−VIIＢ線の断面図、図７Ｃは図７Ａの第１接続部を
拡大した断面図である。
【０００６】
なお、理解を容易とするために、図７Ａにおいては、走査線と同一材料（以下、「ゲー
ト材料」という。）で形成された導電部材を点線で示し、信号線と同一材料（以下、「ソ
ース材料」という。）で形成された導線部材を実線で示している。
【０００７】
下記特許文献１に開示された液晶表示装置にあっては、アレイ基板は、透明ガラス基板
６０の表面に走査線６１及び信号線６２とがマトリクス状に配置された表示領域と、表示
領域の左右両側（図７Ａにおいては左側のみ示されている）及び下側に位置する周縁領域
とに区画されている。周縁領域には、信号線６２の延在方向に、ドライバー用ＩＣ（図示
省略）との接続のためのゲート材料で形成された走査線用電極端子６３及びソース材料で
形成された信号線用電極端子６４が設けられており、周縁領域には更に、走査線６１と走
査線用電極端子６３とを接続するための引き回し配線６５が形成されている。
【０００８】
この引き回し配線６５は、ゲート材料で構成された第１引き回し配線６５ａと、ソース
材料で構成された第２引き回し配線６５ｂとからなっている。そして、図７Ｂに示される
ように、これらの第１引き回し配線６５ａと、第２引き回し配線６５ｂとは、間にゲート
絶縁膜６６を挟んで２層構造化されると共に、平面視で互いに重なることなく互い違いに
隣接配置されており、それぞれ交互に走査線６１と電気的に接続されている。この際、第
１引き回し配線６５ａは、一端が走査線６１と直接接続され、他端がゲート絶縁膜６６の
下側に形成された電極端子６３と直接接続されている。
【０００９】
一方、第２引き回し配線６５ｂは、図７Ｃに示されるように、第１接続部６７において
、第２引き回し配線６５ｂの一端が、ゲート絶縁膜６６に形成されたコンタクトホール６
９を介して走査線６１にブリッジ接続されている。また、第２引き回し配線６５ｂも、第
２接続部６８において、ゲート絶縁膜６６に形成されたコンタクトホール（図示省略）を
介して下側配線部６５ｂ'とブリッジ接続され、この下側配線部６５ｂ'を介して電極端子
６３と電気的に接続されている。なお、第２接続部６８の構成は、実質的に第１接続部６
７と同様の構成であるので、図示省略した。
【００１０】
この特許文献１の液晶表示装置によれば、第１及び第２引き回し配線６５ａ、６５ｂが
２層構造化されていることから、引き回し配線間のピッチを狭めることができ、周縁領域
の占める面積の狭小化が達成される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１１】
【特許文献１】特開２００５−９１９６２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
液晶表示装置は、縦電界方式、横電界方式を問わず、通常、複数枚の液晶表示パネルを
同時製造できるだけの十分な大きさを有するアレイ基板用のマザー基板及びカラーフィル
ター基板用のマザー基板を用い、各種の製造工程を経て製造される。この製造工程では、
まず、アレイ基板用のマザー基板に、表示領域に走査線、信号線、スイッチング素子とし
ての薄膜トランジスター（ＴＦＴ：Thin Film Transistor）、画素電極等を備えると共に
、非表示領域に各種引き回し配線や電極端子等が形成された複数のパネル領域を形成する
。次いで、複数のパネル領域に形成されたそれぞれの表示領域の周囲にシール材を塗布し
た後、アレイ基板用のマザー基板と別途作製されたカラーフィルター基板用のマザー基板
と貼り合せ、貼り合された両方のマザー基板を個々の液晶表示装置に分断し、更に、分断
された個々の液晶表示装置に液晶を封入することにより液晶表示装置が完成される。
【００１３】
ところで、液晶表示装置の製造工程には、貼り合された両方のマザー基板から個々の液
晶表示装置を作製する前に、個々の液晶表示装置の前駆体に分断した後、カラーフィルタ
ー基板の一端を切除し、アレイ基板の上面の一部を露出させて張り出し部（図７Ａの参照
符号６０'の部分参照）を設けるスクライブ処理工程が含まれている。このスクライブ処
理工程は、アレイ基板のドライバー用ＩＣの搭載領域や外部接続端子部等を露出させるた
めのものである。このスクライブ処理工程では、カッターホイールを用いてカラーフィル
ター基板上の所定位置にスクライブライン（図７Ａの参照符号ＳＣＲの部分参照）を形成
し、このスクライブラインＳＣＲに対応する位置の外表面を分断バーと呼ばれる専用の工
具で叩くことによって、カラーフィルター基板の一端を切除している。このカラーフィル
ター基板の一端を切除する際に、カラーフィルター基板の切断片がアレイ基板の表面に衝
突し、アレイ基板に形成されている引き回し配線に断線が発生することがある。この現象
を図８を用いて説明する。
【００１４】
図８Ａは従来のスクライブ処理工程を説明するための断面図であり、図８Ｂは図８Ａの
VIIIB部の拡大図である。
【００１５】
図８Ａに示すスクライブ処理工程における液晶表示装置の前駆体７０は、第１のガラス
基板７２の表面に各種の電極及び配線等７３が形成されたアレイ基板７１と第２のガラス
基板７５の表面にカラーフィルター層等７６が形成されたカラーフィルター基板７４とが
対向配置され、外周囲がシール材７７によってシールされ、内部に液晶が封止された構成
を有している。そして、予め第２のガラス基板７５の所定位置にスクライブラインＳＣＲ
を形成した後、スクライブラインＳＣＲに沿って分断バー７８によりブレークすることに
よって、第２のガラス基板７５の端材７５ａを切除し、アレイ基板７１上の端子領域の周
辺回路配線７３ａを露出させる。このとき、図８Ｂに示すように、端材７５ａの角がアレ
イ基板７１の周辺回路配線７３ａに接触する。そのため、端材７５ａの角がアレイ基板７
１の周辺回路配線７３ａに接触した衝撃によって、アレイ基板７１上の周辺回路配線７３
ａに亀裂７９が入り、周辺回路配線７３ａが断線することになるわけである。
【００１６】
図７において、上述のような引き回し配線６５の断線は、たとえ上側の第２引き回し配
線６５ｂの表面がパッシベーション膜で被覆されていたとしても、この上側の第２引き回
し配線６５ｂに生じやすい。このような現象が生じる理由は、下側の第１引き回し配線６
５ａはゲート絶縁膜６６及びパッシベーション膜で被覆されているのに対し、上側の第２
引き回し配線６５ｂはパッシベーション膜のみで被覆されているためと考えられる。
【００１７】
本発明は、従来技術の上記問題点に鑑みてなされたものであって、本発明の目的は、周
縁領域の引き回し配線が多層構造化された液晶表示装置において、スクライブ処理工程で
発生し易い引き回し配線の断線が抑制された液晶表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１８】
上記目的を達成するため、本発明の液晶表示装置は、液晶層を挟持して対向配置された
下側の第１基板と上側の第２基板とを備え、前記第２基板がスクライブラインに沿って分
断されていることにより、前記第１基板には、前記スクライブラインを境にその上面が露
出された張り出し部が設けられ、前記張り出し部に複数の電極端子が形成された液晶表示
装置であって、前記第１基板の前記液晶層側には、表示領域の周縁部に走査線用及び信号
線用の引き回し配線が形成されており、前記引き回し配線は、第１絶縁膜及び第２絶縁膜
によって被覆されて前記電極端子に直接電気的に接続されている下層配線と、前記第１絶
縁膜上に形成されて前記第２絶縁膜によって被覆されている上層配線とからなり、前記上
層配線は、前記スクライブラインよりも前記表示領域側となる非張り出し部内に形成され
た第１接続部において、前記下層配線に切り替えられて前記電極端子に電気的に接続され
ており、前記走査線は、一部が前記表示領域の周辺部に形成された第２接続部において前
記上層配線に電気的に接続されており、残部が前記下層配線に直接電気的に接続されてお
り、前記信号線は、前記第１接続部において前記下層配線に電気的に接続されている、こ
とを特徴とする。
【００１９】
本発明の液晶表示装置は、液晶層を挟持して対向配置された下側の第１基板と上側の第
２基板とを備え、前記第２基板の一端がスクライブラインに沿って分断されていることに
より前記第２基板のスクライブラインが基板端部となり、前記第１基板には、前記スクラ
イブラインを境にその上面が露出された張り出し部が設けられ、前記張り出し部に複数の
電極端子が形成されている。このような構成の液晶表示装置は、携帯電話機等の小型の電
子機器に多く使用されている。
【００２０】
そして、本発明の液晶表示装置では、前記第１基板の前記液晶層側には、表示領域の周
縁部に走査線用及び信号線用の引き回し配線が形成されており、前記引き回し配線は、第
１絶縁膜及び第２絶縁膜によって被覆されて前記電極端子に直接電気的に接続されている
下層配線と、前記第１絶縁膜上に形成されて前記第２絶縁膜によって被覆されている上層
配線とからなり、前記上層配線は、前記スクライブラインよりも前記表示領域側となる非
張り出し部内に形成された第１接続部において、前記下層配線に切り替えられて前記電極
端子に電気的に接続されており、前記走査線は、一部が前記表示領域の周辺部に形成され
た第２接続部において前記上層配線に電気的に接続されており、残部が前記下層配線に直
接電気的に接続されている。すなわち、本発明の液晶表示装置においては、スクライブラ
インよりも表示領域側となる非張り出し部内に形成された第１接続部において、上層配線
は全て下層配線に切り替えられてこれらの下層配線を経て電極端子に接続されている。
【００２１】
液晶表示装置の製造時に第２基板をスクライブラインに沿って分断すると、第２基板の
切断片は第１基板の張り出し部の表面と衝突するので、張り出し部に形成されている引き
回し配線の表面に被覆されている絶縁膜の厚さが薄いと、引き回し配線が断線し易くなる
。しかしながら、本発明の液晶表示装置においては、張り出し部における引き回し配線は
、全て第１絶縁膜及び第２絶縁膜で被覆されているので、第２基板をスクライブラインに
沿って分断した際に第２基板の切断片が第１基板の張り出し部の表面と衝突しても、断線
する可能性が大きく減少する。
【００２２】
更に、本発明の液晶表示装置によれば、走査線用の引き回し配線は上層配線と下層配線
とに振り分けられて電極端子との接続を行っており、しかも、上層配線と下層配線とは異
なる層に形成されているために、同一層にある上層配線同士の距離及び下層配線同士の距
離を十分に確保できるから、配線間ピッチを狭めることによる短絡等が生じる可能性も減
少する。
【００２３】
また、本発明の液晶表示装置においては、前記第１接続部は、前記第１絶縁膜及び前記
第２絶縁膜を貫通して前記下層配線を露呈させている第１コンタクトホールと前記第２絶
縁膜を貫通して前記上層配線又は信号線を露呈させている第２コンタクトホールとを有し
、前記第１接続部において、前記上層配線及び前記信号線は、前記第１及び第２コンタク
トホールを経て、それぞれ下層配線に透明導電性材料からなる層によって電気的に接続さ
れており、前記第２接続部は、前記第１絶縁膜及び前記第２絶縁膜を貫通して前記走査線
を露呈させている第３コンタクトホールと、前記第２絶縁膜を貫通して前記上層配線を露
呈させている第４コンタクトホールとを有し、前記第２接続部において、前記走査線は、
前記第３及び第４コンタクトホールを経て、透明導電性材料からなる層によって前記上層
配線に電気的に接続されていることが好ましい。
【００２４】
液晶表示装置の製造工程においては、画素電極とＴＦＴのドレイン電極とを電気的に接
続するため、ＴＦＴの表面を被覆する第２絶縁膜（例えばパッシベーション膜）にコンタ
クトホールを形成する工程がある。本発明の液晶表示装置は、このコンタクトホールの形
成工程時に同時に第１接続部及び第２接続部の第１〜第４コンタクトホールを形成するこ
とができる。しかも、第１接続部及び第２接続部の透明導電性材料からなる層の形成を同
一工程で行うことができる。そのため、本発明の液晶表示装置によれば、あまり製造工程
数を増加させることなく第１接続部及び第２接続部を形成することができるようになる。
【００２５】
また、本発明の液晶表示装置においては、前記第１及び第２コンタクトホール間を電気
的に接続する透明導電性材料からなる層及び前記第３コンタクトホール及び第４コンタク
トホール間を電気的に接続する透明導電性材料からなる層は、前記表示領域に形成された
液晶駆動用の画素電極又は共通電極と同一素材とすることが好ましい。
【００２６】
本発明の液晶表示装置によれば、第１接続部における上層配線及び信号線と下層配線と
の電気的接続と、第２接続部における走査線と上層配線との電気的接続を、表示領域の画
素電極又は共通電極と同時に形成することができるため、特に第１接続部及び第２接続部
の透明導電性材料からなる層を形成するために製造工数を増やす必要がなくなる。
【００２７】
また、本発明の液晶表示装置においては、前記第１絶縁膜は前記走査線を非被覆するゲ
ート絶縁膜であり、前記第２絶縁膜は前記表示領域に形成されたスイッチング素子として
のＴＦＴの表面を被覆するパッシベーション膜であることが好ましい。
【００２８】
通常の液晶表示装置は、縦電界方式の液晶表示装置であっても横電界方式の液晶表示装
置であっても、スイッチング素子としてのＴＦＴの表面を被覆するパッシベーション膜を
備えている。このパッシベーション膜は、ＴＦＴのチャネル領域及び各種電極や配線の保
護のためにも受けられるものである。そのため、本発明は、幅広い形式の液晶表示装置に
適用することができるようになる。
【００２９】
また、本発明の液晶表示装置は、前記液晶表示装置はＦＦＳモードの液晶表示装置であ
り、前記第１絶縁膜は前記走査線を非被覆するゲート絶縁膜から形成され、前記第２絶縁
膜は、前記表示領域に形成されたスイッチング素子としての薄膜トランジスターの表面を
被覆するパッシベーション膜及び前記液晶駆動用の画素電極及び共通電極の間に形成され
た電極間絶縁膜から形成されているものとすることもできる。
【００３０】
ＦＦＳモードの液晶表示パネルには、層間樹脂膜上に電極間絶縁膜を挟んで下電極と複
数のスリット状開口を備える上電極とから形成されるものがある。このような構成のＦＦ
Ｓモードの液晶表示装置は、スイッチング素子としてのＴＦＴの表面を被覆するパッシベ
ーション膜、層間樹脂膜及び電極間絶縁膜を備えている。そのため、本発明の液晶表示装
置は、このようなパッシベーション膜、層間樹脂膜及び電極間絶縁膜が形成されているＦ
ＦＳモードの液晶表示装置に対しても適用可能となる。この場合、第２絶縁膜は、パッシ
ベーション膜及び電極間絶縁膜の２層構造からなるので、厚さが十分に厚くなるためによ
り引き回し配線の断線が生じ難くなる。
【００３１】
また、本発明の液晶表示装置は、前記液晶表示装置はＦＦＳモードの液晶表示装置であ
り、前記第１絶縁膜は前記走査線を非被覆するゲート絶縁膜から形成され、前記第２絶縁
膜は前記液晶駆動用の画素電極及び共通電極の間に形成された電極間絶縁膜から形成され
ているものとすることができる。
【００３２】
ＦＦＳモードの液晶表示パネルには、層間樹脂膜上に電極間絶縁膜を挟んで下電極と複
数のスリット状開口を備える上電極とから形成されるものがある。このような構成のＦＦ
Ｓモードの液晶表示装置は、ＴＦＴのチャネル領域は層間樹脂膜と電極間樹脂膜によって
被覆されるため、パッシベーション膜を省略しても、ＴＦＴのチャネル領域を十分に保護
することができる。本発明の液晶表示装置によれば、このようなパッシベーション膜が形
成されていないＦＦＳモードの液晶表示装置に対しても適用可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００３３】
【図１】各実施形態に共通する液晶表示装置のカラーフィルター基板を透視して表したアレイ基板の概略平面図である。
【図２】図２Ａは図１のIIＡ−IIＡ線の断面図、図２Ｂは図１のIIＢ−IIＢ線の断面図である。
【図３】図３Ａは図１の第１接続部の拡大平面図、図３Ｂは図３ＡのIIIＢ−IIIＢ線の断面図である。
【図４】図４Ａは図１の第２接続部の拡大平面図、図４Ｂは図４ＡのIVＢ−IVＢ線の断面図である。
【図５】図５Ａは第２実施形態の液晶表示装置のアレイ基板の１サブ画素分の層構造を示す断面図、図５Ｂは第２実施形態の液晶表示装置の図３Ｂに対応する断面図である。
【図６】図６Ａは第３実施形態の液晶表示装置のアレイ基板の１サブ画素分の層構造を示す断面図、図６Ｂは第３実施形態の液晶表示装置の図３Ｂに対応する断面図である。
【図７】図７Ａは従来例の液晶表示装置の周縁領域左側における引き回し配線の配置を示す部分拡大平面図、図７Ｂは図７ＡのVIIＢ−VIIＢ線の断面図、図７Ｃは図７Ａの第１接続部の拡大した断面図である。
【図８】図８Ａは従来のスクライブ工程を説明するための断面図であり、図８Ｂは図８ＡのVIIIB部の拡大図である。
【発明を実施するための形態】
【００３４】
以下、図面を参照して本発明の最良の実施形態を説明する。但し、以下に示す実施形態
は、本発明の技術思想を具体化するための液晶表示装置を例示するものであって、本発明
をこの液晶表示装置に特定することを意図するものではなく、特許請求の範囲に含まれる
その他の実施形態のものにも等しく適応し得るものである。更に、この明細書における説
明のために用いられた各図面においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大き
さとするため、各層や各部材毎に縮尺を異ならせて表示しており、必ずしも実際の寸法に
比例して表示されているものではない。
【００３５】
図１は各実施形態に共通する液晶表示装置のカラーフィルター基板を透視して表したア
レイ基板の概略平面図である。図２Ａは図１のIIＡ−IIＡ線の断面図、図２Ｂは図１のII
Ｂ−IIＢ線の断面図である。図３Ａは図１の第１接続部の拡大平面図、図３Ｂは図３Ａの
IIIＢ−IIIＢ線の断面図である。図４Ａは図１の第２接続部の拡大平面図、図４Ｂは図４
ＡのIVＢ−IVＢ線の断面図である。図５Ａは第２実施形態の液晶表示装置のアレイ基板の
１サブ画素分の層構造を示す断面図、図５Ｂは第２実施形態の液晶表示装置の図３Ｂに対
応する断面図である。図６Ａは第３実施形態の液晶表示装置のアレイ基板の１サブ画素分
の層構造を示す断面図、図６Ｂは第３実施形態の液晶表示装置の図３Ｂに対応する断面図
である。
【００３６】
［第１実施形態］
図１及び図２を参照して、本発明の第１実施形態に係る液晶表示装置の概要を説明する
。なお、理解を容易とするために、図１においては、ゲート材料で形成された走査線、第
１引き回し配線、並びに第２引き回し線の下側配線部は点線で示し、ソース材料で形成さ
れた信号線並びに第２引き回し配線の上側配線部は実線で示している。なお、第１実施形
態の液晶表示装置１は、アクティブマトリクス方式のものであり、縦電界方式及び横電界
方式の両者共に適用可能であるが、以下においては縦電界方式の液晶表示装置であるとし
て説明する。
【００３７】
この液晶表示装置１は、図１及び図２Ａに示すように、透明ガラス基板２を備えるアレ
イ基板ＡＲと、これに対向配置される透明ガラス基板３を備えるカラーフィルター基板Ｃ
Ｆとを有している。このアレイ基板ＡＲが本発明における第１基板に対応し、また、カラ
ーフィルター基板ＣＦが本発明の第２基板に対応する。アレイ基板ＡＲとカラーフィルタ
ー基板ＣＦとは、その周囲に塗布されたシール材４により、内部に適宜本数の柱状スペー
サー（図示せず）を介在させて、張り合わされている。柱状スペーサーは、アレイ基板Ａ
Ｒとカラーフィルター基板ＣＦとの間の距離を一定に維持するために形成されるものであ
る。
【００３８】
そして、アレイ基板ＡＲ、カラーフィルター基板ＣＦ及びシール材４によって形成され
た内部空間内に液晶が注入されて液晶層５が構成されている。なお、アレイ基板ＡＲ上に
は、スイッチング素子としてのＴＦＴ、画素電極、各種配線及び絶縁膜等が設けられてい
るが、これらは図２Ａにおいては構造物６として包括的に図示されている。また、カラー
フィルター基板ＣＦには、カラーフィルター層、遮光部材、共通電極等が設けられている
が、これらは図２Ａにおいては構造物７として包括的に図示されている。
【００３９】
アレイ基板ＡＲは、図１に示すように上下に短辺２ｂ、２ａ及び左右に長辺２ｃ、２ｄ
を有する縦長長方形状をなし、下方には、張り出し部２ａ'が設けられている。この張り
出し部２ａ'は、アレイ基板ＡＲとカラーフィルター基板ＣＦとを積層して貼合せた後に
、上側に位置するカラーフィルター基板ＣＦをスクライブラインＳＣＲに沿って分断する
ことによって、下側に位置するアレイ基板ＡＲの上面の一部が平面視でカラーフィルター
基板ＣＦから露出することにより特定される部位である。スクライブラインＳＣＲは、図
１においては点線で示されている。
【００４０】
張り出し部２ａ'には、ＩＣチップ実装領域Ｍが設けられており、このＩＣチップ実装
領域Ｍには、例えば走査線駆動用ドライバー回路及び信号線駆動用ドライバー回路がワン
チップ化された液晶駆動用ドライバーＩＣＤｒが搭載されている。ＩＣチップ実装領域Ｍ
には、液晶駆動用ドライバーＩＣＤｒの実装領域の中央部からアレイ基板ＡＲの上側短辺
２ｂに向けて信号線駆動用ドライバー回路に対応する線状の複数本の信号線用電極端子ｔ
３が形成されている。また、ＩＣチップ実装領域Ｍの両側部からアレイ基板ＡＲの上側短
辺２ｂに向けて走査線駆動用ドライバー回路に対応する線状の複数本の走査線用電極端子
ｔ１、ｔ２がそれぞれ延在して設けられている。ＩＣチップ実装領域Ｍには、更に、液晶
駆動用ドライバーＩＣＤｒからアレイ基板ＡＲの下側短辺２ａに向かって複数本の外部接
続端子Ｔが導出されている。これらの外部接続端子Ｔには、フレキシブル配線基板（図示
省略）が接続される。
【００４１】
また、アレイ基板ＡＲの液晶層５側には、中央に表示領域ＤＡが配され、その左右に周
縁領域ＰＡＬ、ＰＡＲ、下側に周縁領域ＰＡＢがそれぞれ区画されている。表示領域ＤＡ
には例えばＡｌ、Ａｌ合金、Ｍｏ等の金属材料からなる複数本の走査線ＧＷ１〜ＧＷｎと
、同じくＡｌ、Ａｌ合金、Ｍｏ等の金属材料からなる複数本の信号線ＳＷ１〜ＳＷｍとが
、ゲート絶縁膜８（本発明の「第１絶縁膜」に相当。図２Ｂ参照。）を挟んで互いに絶縁
された状態でマトリクス状に配設されている。これらの走査線ＧＷ１〜ＧＷｎと信号線Ｓ
Ｗ１〜ＳＷｍとの交差部近傍には、走査線ＧＷ１〜ＧＷｎからの走査信号によって動作す
るスイッチング素子としてのＴＦＴ（図示省略）が形成されている。また、表示領域ＤＡ
の各画素には、ＴＦＴを介して信号線ＳＷ１〜ＳＷｍからの映像信号が供給される画素電
極（図示省略）が形成される。なお、この画素電極は、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）ない
しＩＺＯ（Indium Zinc Oxide）等の透明導電性材料からなる層で形成することができる
。
【００４２】
走査線ＧＷ１〜ＧＷｎは、上側短辺２ｂから下側短辺２ａまで、所定のピッチでそれぞ
れ平行に横列に配設されている。これらの走査線ＧＷ１〜ＧＷｎは、奇数番目の走査線Ｇ
Ｗ１、ＧＷ３、ＧＷ５・・・と、偶数番目の走査線ＧＷ２、ＧＷ４、ＧＷ６・・・とに分
配されてそれぞれが左右に延在されており、その端部は各周縁領域ＰＡＬ、ＰＡＲにまで
達している。
【００４３】
走査線ＧＷ１〜ＧＷｎは、窒化ケイ素や酸化ケイ素等の透明絶縁材料からなるゲート絶
縁膜８で覆われている。そしてゲート絶縁膜８の表面には、複数本の信号線ＳＷ１〜ＳＷ
ｍが各走査線ＧＷ１〜ＧＷｎと交差するように配設されている。これらの信号線ＳＷ１〜
ＳＷｍは、左側長辺２ｃから右側長辺２ｄまで所定のピッチでそれぞれ縦列に配設されて
いる。
【００４４】
信号線ＳＷ１〜ＳＷｍは、下方端が周縁領域ＰＡＢ内を延在されて張り出し部２ａ'に
形成された信号線用電極端子ｔ３に電気的に接続されているが、この信号線ＳＷ１〜ＳＷ
ｍと信号線用電極端子ｔ３との具体的な接続関係については後述する。そして、これらの
信号線ＳＷ１〜ＳＷｍはパッシベーション膜９（本発明の「第２絶縁膜」に相当）で被覆
されている。なお、パッシベーション膜９は、一義的には液晶表示装置のＴＦＴのチャネ
ル領域等を保護するための保護絶縁膜として使用されるもので、ゲート絶縁膜８と同じ窒
化ケイ素や酸化ケイ素等の透明絶縁材料から形成されている。
【００４５】
上記構成により、アレイ基板ＡＲ上にあっては、各走査線ＧＷ１〜ＧＷｎは、ゲート絶
縁膜８の下側に位置する下層配線となり、各信号線ＳＷ１〜ＳＷｍはゲート絶縁膜８の上
側に位置する上層配線となっている。
【００４６】
左右の周縁領域ＰＡＬ、ＰＡＲには、それぞれ走査線ＧＷ１〜ＧＷｎに接続される走査
線用引き回し配線ＧＬ１〜ＧＬｎが配設されている。そして、奇数番目の走査線ＧＷ１、
ＧＷ３、ＧＷ５、ＧＷ７・・・は、図１における右側の周縁領域ＰＡＲに設けられた走査
線用引き回し配線ＧＬ１、ＧＬ３、ＧＬ５、ＧＬ７・・・にそれぞれ接続されている。ま
た、偶数番目の走査線ＧＷ２、ＧＷ４、ＧＷ６、ＧＷ８・・・は、左側の周縁領域ＰＡＬ
に設けられた走査線用引き回し配線ＧＬ２、ＧＬ４、ＧＬ６、ＧＬ８・・・にそれぞれ接
続されている。
【００４７】
これら走査線用引き回し配線ＧＬ１〜ＧＬｎは、更に、ゲート絶縁膜８の下側に形成さ
れた図１中では点線で示されている下側の走査線用引き回し配線ＧＬ１、ＧＬ２、ＧＬ５
、ＧＬ６…と、ゲート絶縁膜８の上側に形成され、図１中では実線で示されている上側の
走査線用引き回し配線ＧＬ３、ＧＬ４、ＧＬ７、ＧＬ８…とに区別されている。すなわち
、走査線ＧＷ１〜ＧＷｎは、全てゲート絶縁膜８の下に形成されているため、奇数番目の
走査線ＧＷ１、ＧＷ３、ＧＷ５、ＧＷ７・・・は右側の周縁領域ＰＡＲに形成されている
第２接続部ＣＰ２において１本おきに上側の走査線用引き回し配線に切り替えられ、同じ
く、偶数番目の走査線ＧＷ２、ＧＷ４、ＧＷ６、ＧＷ８・・・は左側の周縁領域ＰＡＬに
形成されている第２接続部ＣＰ２において１本おきに上側の走査線用引き回し配線に切り
替えられている。
【００４８】
より詳細には、奇数番目の走査線ＧＷ１、ＧＷ３、ＧＷ５、ＧＷ７・・・のうち、ＧＷ
３、ＧＷ７・・・は右側の周縁領域ＰＡＲに形成されている第２接続部ＣＰ２において上
側の走査線用引き回し配線ＧＬ３、ＧＬ７・・に切り替えられている。また、奇数番目の
走査線ＧＷ１、ＧＷ３、ＧＷ５、ＧＷ７・・・のうち、ＧＷ１、ＧＷ５・・・はそのまま
下側の走査線用引き回し配線ＧＬ１、ＧＬ５・・・として、右側の周縁領域ＰＡＲを張り
出し部２ａ'まで延在され、ＩＣチップ実装領域Ｍの走査線用電極端子ｔ１と電気的に接
続されている。
【００４９】
同様に、偶数番目の走査線ＧＷ２、ＧＷ４、ＧＷ６、ＧＷ８・・・のうち、ＧＷ４、Ｇ
Ｗ８・・・は左側の周縁領域ＰＡＬに形成されている第２接続部ＣＰ２において上側の走
査線用引き回し配線ＧＬ４、ＧＬ８・・に切り替えられている。また、偶数番目の走査線
ＧＷ２、ＧＷ４、ＧＷ６、ＧＷ８・・・のうち、ＧＷ２、ＧＷ６・・・はそのまま下側の
走査線用引き回し配線ＧＬ２、ＧＬ６・・・として、左側の周縁領域ＰＡＲを張り出し部
２ａ'まで延在され、ＩＣチップ実装領域Ｍの走査線用電極端子ｔ２と電気的に接続され
ている。
【００５０】
そして、上側の走査線用引き回し配線であるＧＬ３、ＧＬ４、ＧＬ７、ＧＬ８・・・は
、それぞれスクライブラインＳＣＲよりも表示領域ＤＡ側となる非張り出し部内に形成さ
れた走査線用第１接続部ＣＰ１'において、再度下側の走査線用引き回し配線ＧＬ３'、Ｇ
Ｌ４'、ＧＬ７'、ＧＬ８'・・・に切り替えられ、この下側の走査線用引き回し配線ＧＬ
３'、ＧＬ４'、ＧＬ７'、ＧＬ８'・・・は張り出し部２ａ'まで延在され、ＩＣチップ実
装領域Ｍの走査線用電極端子ｔ１ないしｔ２と電気的に接続されている。そして、これら
走査線用引き回し配線ＧＬ１〜ＧＬｎは、図１に示されるように、平面視において互いに
重なることなく交互に隣接するように形成されている。
【００５１】
また、信号線ＳＷ１〜ＳＷｍは、非張り出し領域内に形成されたソース配線用の第１接続
部ＣＰ１においてゲート絶縁膜８の下側に形成されている信号線用引き回し配線ＳＬ１〜
ＳＬｍに切り替えられて、信号線用電極端子ｔ３に電気的に接続されている。
【００５２】
ここで、走査線用引き回し配線ＧＬ１〜ＧＬｎの断面構造を、図２Ｂを用いて説明する
。透明ガラス基板２の表面に形成された下側の走査線用引き回し配線ＧＬ１、ＧＬ５・・
・の表面及び透明ガラス基板２の露出面はゲート絶縁膜８に被覆されている。また、ゲー
ト絶縁膜８の表面には、平面視で下側の走査線用引き回し配線ＧＬ１、ＧＬ５・・・と重
畳しないように、上側の走査線用引き回し配線ＧＬ３、ＧＬ７・・・が形成されている。
そして、上側の走査線用引き回し配線ＧＬ３、ＧＬ７・・・の表面及びゲート絶縁膜８の
露出面はパッシベーション膜９で被覆されている。そのため、下側の走査線用引き回し配
線ＧＬ１、ＧＬ５・・・はゲート絶縁膜８及びパッシベーション膜９によって被覆されて
いるのに対し、上側の走査線用引き回し配線ＧＬ３、ＧＬ７・・・はパッシベーション膜
９のみによって被覆されていることになる。なお、信号線ＳＷ１〜ＳＷｍも、ゲート絶縁
膜８の表面に形成されているので、パッシベーション膜９によってのみ被覆されているこ
とになる。
【００５３】
そのため、上側の走査線用引き回し配線ＧＬ３、ＧＬ７・・・及び信号線ＳＷ１〜ＳＷ
ｍは、そのままスクライブラインＳＣＲを越えて張り出し部２ａ'のＩＣチップ実装領域
Ｍまで延在させてしまうと、パッシベーション膜９の厚さが薄いため、液晶表示装置１の
製造時にカラーフィルター基板ＣＦの透明ガラス基板３をスクライブラインＳＣＲで分断
する際、分断された透明ガラス基板が衝突して引き回し配線や信号線、走査線等を断線し
てしまう可能性が大きくなる。そこで、第１実施形態の液晶表示装置１では、上側の走査
線用引き回し配線ＧＬ３、ＧＬ７・・・及び信号線ＳＷ１〜ＳＷｍを、スクライブライン
ＳＣＲよりも表示領域ＤＡ側で、走査線用第１接続部ＣＰ１'及び信号線用第１接続部Ｃ
Ｐ１において、ゲート絶縁膜８の下側に形成されている走査線用引き回し配線ＧＬ３'、
ＧＬ４'、ＧＬ７'、ＧＬ８'・・・及び信号線用引き回し配線ＳＬ１〜ＳＬｎにそれぞれ
電気的に切り替えている。
【００５４】
そのため、走査線用引き回し配線ＧＬ３'、ＧＬ４'、ＧＬ７'、ＧＬ８'・・・及び信号
線用引き回し配線ＳＬ１〜ＳＬｎは共にゲート絶縁膜８及びパッシベーション膜９によっ
て被覆されているため、液晶表示装置１の製造時にカラーフィルター基板ＣＦの透明ガラ
ス基板３をスクライブラインＳＣＲで分断した際に、分断された透明ガラス基板が衝突し
ても引き回し配線や信号線、走査線等を断線する可能性が大きく減少するようになる。
【００５５】
ここで、信号線用第１接続部ＣＰ１、走査線用第１接続部ＣＰ１'及び走査線用第２接
続部ＣＰ２の構成をそれぞれ図３及び図４を用いて説明する。まず、信号線用第１接続部
ＣＰ１の具体的構成を信号線ＳＷ１及び信号線用引き回し配線ＳＬ１に代表させ、図３を
用いて説明する。信号線ＳＷ１はゲート絶縁膜８とパッシベーション膜９との間に形成さ
れており、信号線用引き回し配線ＳＬ１は透明ガラス基板２とゲート絶縁膜８との間に形
成されている。そして、信号線用第１接続部ＣＰ１は、スクライブラインＳＣＲよりも表
示領域ＤＡ側に位置しているため、平面視ではカラーフィルター基板ＣＦと重畳している
。この信号線用第１接続部ＣＰ１では、信号線用引き回し配線ＳＬ１の表面のゲート絶縁
膜８及びパッシベーション膜９を貫通するように第１コンタクトホール１１が形成され、
信号線ＳＷ１の表面のパッシベーション膜９を貫通するように第２コンタクトホール１２
が形成されている。
【００５６】
更に、信号線用第１接続部ＣＰ１第１コンタクトホール１１及び第２コンタクトホール
１２を介して透明導電性材料からなる層１３がブリッジ状に形成されており、信号線引き
回し配線ＳＬ１と信号線ＳＷ１とが透明導電性材料からなる層１３によって電気的に接続
されている。この透明導電性材料からなる層１３は、例えば表示領域ＤＡに形成する画素
電極(図示省略)と同じＩＴＯないしＩＺＯで形成することができるため、画素電極と同時
に形成することができる。
【００５７】
次に、走査線用第１接続部ＣＰ１'及び第２接続部ＣＰ２の具体的構成を、右側の周辺
領域ＰＡＲにおける走査線用引き回し配線ＧＬ３、下側の走査線用引き回し配線ＧＬ３'
に代表させ、図４を用いて説明する。なお、図４Ａには、走査線用引き回し配線ＧＬ１、
ＧＬ５及びＧＬ７、下側の走査線用引き回し配線ＧＬ７'も同時に示してある。ただし、
走査線用第１接続部ＣＰ１'及び第２接続部ＣＰ２は、それぞれ実質的に同様の構成を備
えているので、図４においては第２接続部ＣＰ２の構成については括弧書きで参照符号を
付与して説明する。
【００５８】
走査線用引き回し配線ＧＬ３はゲート絶縁膜８とパッシベーション膜９との間に形成さ
れており、下側の走査線用引き回し配線ＧＬ３'は透明ガラス基板２とゲート絶縁膜８と
の間に形成されている。そして、走査線用第１接続部ＣＰ１'は、スクライブラインＳＣ
Ｒよりも表示領域ＤＡ側に位置しているため、平面視ではカラーフィルター基板ＣＦと重
畳している。この走査線用第１接続部ＣＰ１'では、例えば下側の走査線用引き回し配線
ＧＬ３'の表面のゲート絶縁膜８及びパッシベーション膜９を貫通するように第１コンタ
クトホール１１'が形成され、走査線用引き回し配線ＧＬ３の表面のパッシベーション膜
９を貫通するように第２コンタクトホール１２'が形成されている。なお、走査線用引き
回し配線ＧＬ１及びＧＬ５は、透明ガラス基板２とゲート絶縁膜８との間に形成されてい
るため、図４Ａに示したように、走査線用第１接続部ＣＰ１'ではそのまま延在されて走
査線用電極端子ｔ１（図１参照）に電気的に接続されている。
【００５９】
更に、走査線用第１接続部ＣＰ１'第１コンタクトホール１１'及び第２コンタクトホー
ル１２'を介して透明導電性材料からなる層１３'がブリッジ状に形成されており、走査線
用引き回し配線ＧＬ３と下側の走査線用引き回し配線ＧＬ３'及び走査線用引き回し配線
ＧＬ７と下側の走査線用引き回し配線ＧＬ７'とが透明導電性材料からなる層１３'によっ
て電気的に接続されている。この透明導電性材料からなる層１３'も、表示領域ＤＡに形
成する画素電極と同じＩＴＯないしＩＺＯから形成することができるため、画素電極と同
時に形成することができる。
【００６０】
一方、走査線ＧＷ１〜ＧＷｎは透明ガラス基板２とゲート絶縁膜８との間に形成されて
いる。そのため、例えば走査線ＧＷ１及びＧＷ５は走査線用第２接続部ＣＰ２及び走査線
用第１接続部ＣＰ１'ではそのまま走査線用引き回し配線ＧＬ１及びＧＬ５として走査線
用電極端子ｔ１（図１参照）に電気的に接続されている。また、走査線用第２接続部ＣＰ
２において、たとえば下側の走査線ＧＷ３の表面のゲート絶縁膜８及びパッシベーション
膜９を貫通するように第３コンタクトホール１４が形成され、上側の走査線用引き回し配
線ＧＬ３の表面のパッシベーション膜９を貫通するように第４コンタクトホール１５が形
成されている。
【００６１】
更に、第３コンタクトホール１４及び第４コンタクトホール１５を介して透明導電性材
料からなる層１６がブリッジ状に形成されており、走査線ＧＷ３と上側の走査線用引き回
し配線ＧＬ３とが透明導電性材料からなる層１６によって電気的に接続されている。この
透明導電性材料からなる層１６も、表示領域ＤＡに形成する画素電極と同じＩＴＯないし
ＩＺＯから形成することができるため、画素電極と同時に形成することができる。このよ
うにして、走査線用第２接続部ＣＰ２では、走査線の一部がゲート絶縁膜８上に形成され
た上側の走査線用引き回し配線に切り替えられて、走査線用第１接続部ＣＰ１'にまで延
在されている。
【００６２】
このようにして、第１実施形態の液晶表示装置１では、アレイ基板ＡＲの張り出し部２
ａ'における全ての引き回し配線は、ゲート絶縁膜８及びパッシベーション膜９で被覆さ
れているので、カラーフィルター基板ＣＦの一端をスクライブラインＳＣＲに沿って分断
した際に、カラーフィルター基板ＣＦの切断片がアレイ基板ＡＲの張り出し部２ａ'の表
面と衝突しても、引き回し配線や信号線、走査線等を断線する可能性が大きく減少する。
【００６３】
［第２実施形態］
次に、第２実施形態の液晶表示装置１Ａのアレイ基板ＡＲの１サブ画素分の層構造及び
信号線用第１接続部ＣＰ１の構成を図５を参照しつつ説明する。なお、第２実施形態の液
晶表示装置１Ａにおいては、図１及び図２Ａに対応する基本構成は第１実施形態の液晶表
示装置１の場合と同様であるので適宜図１及び図２を援用して説明し、更に、第１実施形
態の液晶表示装置１と同一の構成部分には同一の参照符号を付与して説明する。また、第
２実施形態の液晶表示装置１Ａの走査線用第１接続部ＣＰ１'及び第２接続部ＣＰ２の構
成は、実質的に信号線用第１接続部ＣＰ１の構成の同様であるので、それらの詳細な説明
は省略する。
【００６４】
第２実施形態の液晶表示装置１ＡはＦＦＳモードで作動するものである。この液晶表示
装置１Ａのアレイ基板ＡＲの表示領域ＤＡ（図１参照）には、図５Ａに示すように、ガラ
ス等の透明基板２の表面にマトリクス状に走査線（図示省略）が形成されており、この走
査線からはサブ画素毎にゲート電極Ｇが延在されている。このゲート電極Ｇ及び透明基板
２の露出している表面はゲート絶縁膜８によって被覆されている。ゲート絶縁膜８の表面
のＴＦＴ形成領域には例えばａ−Ｓｉ層からなる半導体層１７が形成され、更に、ゲート
絶縁膜８の表面には、ソース電極Ｓ部分を含む信号線（図示省略）及びドレイン電極Ｄ部
分が形成されている。なお、ソース電極Ｓ部分及びドレイン電極Ｄ部分はいずれも半導体
層１７の表面に部分的に重なっている。これらのゲート電極Ｇ、ソース電極Ｓ及びドレイ
ン電極がＴＦＴの各電極を構成する。
【００６５】
そして、信号線の表面、ＴＦＴのチャネル領域、ソース電極Ｓ及びドレイン電極Ｄの表
面を含み、露出しているゲート絶縁膜８の表面はパッシベーション膜９で被覆されており
、更にこのパッシベーション膜９の表面は層間樹脂膜１８によって被覆されている。また
、ドレイン電極Ｄ上のパッシベーション膜９及び層間樹脂膜１８にはコンタクトホール２
１が形成されており、更に、層間樹脂膜１８の表面には、サブ画素毎に、ＩＴＯないしＩ
ＺＯからなる下電極１９が形成されており、この下電極１９はコンタクトホール２１を介
してドレイン電極Ｄと電気的に接続されている。そのため、この下電極１９は画素電極と
して作動する。
【００６６】
下電極１９の表面には、酸化ケイ素ないし窒化ケイ素からなる電極間絶縁膜２０が形成
されており、電極間絶縁膜２０の表面はサブが素領域毎に複数のスリット２２が形成され
たＩＴＯないしＩＺＯからなる上電極２３が形成されている。この上電極２３は、全ての
サブ画素に共通して形成されており、共通電極として作動する。このような構成を備える
第２実施形態の液晶表示装置１Ａは，ＦＦＳモードで作動する。
【００６７】
一方、第２実施形態の液晶表示装置１Ａの信号線用第１接続部ＣＰ１は、図５Ｂに示す
ように、ガラス等の透明基板２の表面に信号線用引き回し配線ＳＬ１が形成されている。
この信号線用引き回し配線ＳＬ１は、表示領域ＤＡの走査線と同時に形成され、ＩＣチッ
プ実装領域Ｍまで延在されて信号線用電極端子ｔ３と電気的に接続されており、信号線が
形成されている。信号線用引き回し配線ＳＬ１及び露出している透明基板２の表面はゲー
ト絶縁膜８により被覆されており、このゲート絶縁膜８の表面には信号線ＳＷ１が延在さ
れている。更に、信号線ＳＷ１及び露出しているゲート絶縁膜８の表面はパッシベーショ
ン膜９によって被覆されており、このパッシベーション膜９の表面は更に電極間絶縁膜２
０によって被覆されている。
【００６８】
そして、信号線用引き回し配線ＳＬ１の表面が露出するように、ゲート絶縁膜８、パッ
シベーション膜９及び電極間絶縁膜２０を貫通するように第１コンタクトホール１１が形
成されている。また、走査線ＳＷ１の表面が露出するように、パッシベーション膜９及び
電極間絶縁膜２０を貫通するように第２コンタクトホール１２が形成されている。更に、
第１コンタクトホール１１及び第２コンタクトホール１２を介して透明導電性材料からな
る層１３がブリッジ状に形成されており、信号線引き回し配線ＳＬ１と信号線ＳＷ１とが
透明導電性材料からなる層１３によって電気的に接続されている。この透明導電性材料か
らなる層１３は、例えば表示領域ＤＡに形成する上電極２３と同じＩＴＯないしＩＺＯか
ら形成することができる。
【００６９】
そのため、第２実施形態の液晶表示装置では、信号線用第１接続部ＣＰ１は、全て表示
領域ＤＡを形成する際に同時に形成することができる。なお、図示省略したが、走査線用
第１接続部ＣＰ１'及び第２接続部ＣＰ２も、ほぼ同様の構成を備えているため、全て表
示領域ＤＡを形成する際に同時に形成することができる。なお、第２実施形態の液晶表示
装置１では、ゲート絶縁膜８が本発明の第１絶縁膜に対応し、パッシベーション膜９及び
電極間絶縁膜２０が本発明の第２絶縁膜に対応する。このような構成を備える第２実施形
態の液晶表示装置１Ａによれば、張り出し部２ａ'（図１参照）における全ての引き回し
配線は、ゲート絶縁膜８、パッシベーション膜９及び電極間絶縁膜２０の３層で被覆され
ている。そのため、第２実施形態の液晶表示装置１Ａは、第１実施形態の液晶表示装置１
の場合よりも、カラーフィルター基板ＣＦの一端をスクライブラインＳＣＲに沿って分断
した際に、カラーフィルター基板ＣＦの切断片がアレイ基板ＡＲの張り出し部２ａ'の表
面と衝突しても、引き回し配線や信号線、走査線等を断線する可能性が減少する。
【００７０】
［第３実施形態］
第２実施形態の液晶表示装置１Ａでは、ＴＦＴの表面上は、パッシベーション膜９、層
間樹脂膜１８及び電極間絶縁膜２０によって被覆されている。電極間絶縁膜２０は、ゲー
ト絶縁膜８やパッシベーション膜９と同じ酸化ケイ素や窒化ケイ素より作製されているの
で、十分な耐湿性を備えている。そのため、第２実施形態の液晶表示装置１Ａにおいては
、パッシベーション膜９を省略しても、十分な耐湿性を確保することができる。なお、こ
のようなパッシベーション膜を省略したＦＦＳモードの液晶表示装置は、本願の出願人よ
り既に特許出願（特願２００７−３０９９７８号。以下、「先願」という。）されている
。この先願発明の液晶表示装置は、表示領域のＴＦＴのパッシベーション膜を省略して層
間樹脂膜でチャネル領域を直接被覆することで、基板上に形成される成膜構造を簡略化し
て製造コストを削減可能としながらも、従来例のものと同等の耐湿性を備えることを可能
としたものである。
【００７１】
第３実施形態の液晶表示装置１Ｂは、上述の先願発明に対して本願発明を適用したもの
である。この第３実施形態の液晶表示装置１Ｂのアレイ基板ＡＲの１サブ画素分の層構造
及び信号線用第１接続部ＣＰ１の構成を図６を参照しつつ説明する。なお、第３実施形態
の液晶表示装置１Ｂにおいては、パッシベーション膜が存在しない以外は第２実施形態の
液晶表示装置１Ａと構成に相違はないので、この構成が相違する点を重点的に説明し、第
２実施形態の液晶表示素１Ａと構成が同一の部分には同一の参照符号を付与してその詳細
な説明は省略する。また、第３実施形態の液晶表示装置１Ｂの走査線用第１接続部ＣＰ１
'及び第２接続部ＣＰ２の構成は、実質的に信号線用第１接続部ＣＰ１の構成の同様であ
るので、それらの詳細な説明は省略する。
【００７２】
第３実施形態の液晶表示装置１ＢはＦＦＳモードで作動するものであるが、図６Ａに示
すように、信号線の表面、ＴＦＴのチャネル領域、ソース電極及びドレイン電極の表面を
含み、露出しているゲート絶縁膜８の表面は、パッシベーション膜がないために、層間樹
脂膜１８によって直接被覆されている点でのみ、第２実施形態の液晶表示装置１Ａの場合
と構成が相違する。また、第３実施形態の液晶表示装置１Ｂの信号線用第１接続部ＣＰ１
は、図６Ｂに示すように、パッシベーション膜が形成されていないため、ゲート絶縁膜８
の表面が直接電極間絶縁膜２０によって被覆されている点で、第２実施形態の液晶表示装
置１Ａの場合と構成が相違する。そのため、第３実施形態の液晶表示装置１Ｂでは、電極
間絶縁膜２０が本発明の第２絶縁膜に相当する。
【００７３】
このような第３実施形態の液晶表示装置１Ｂでは、ＴＦＴのチャネル領域は層間樹脂膜
１８及び電極間絶縁膜２０で被覆されているため、成膜構造を簡略化して製造コストを削
減可能としながらも、第１実施形態の液晶表示装置１と実質的に同等の耐湿性を備えてい
る。しかも、張り出し部２ａ'（図１参照）における全ての引き回し配線は、ゲート絶縁
膜８及び電極間絶縁膜２０の２層で被覆されている。そのため、第３実施形態の液晶表示
装置１Ｂでは、第１実施形態の液晶表示装置１の場合と同様に、カラーフィルター基板Ｃ
Ｆの一端をスクライブラインＳＣＲに沿って分断した際に、カラーフィルター基板ＣＦの
切断片がアレイ基板ＡＲの張り出し部２ａ'の表面と衝突しても、引き回し配線や信号線
、走査線等を断線する可能性が減少する。
【符号の説明】
【００７４】
１…液晶表示装置  ２…透明ガラス基板  ２ａ…下側短辺  ２ａ'…張り出し部  ２ｂ
…上側短辺  ２ｃ…左側長辺  ２ｄ…右側長辺  ３…透明ガラス基板  ４…シール材  ５
…液晶層  ６、７…構造物  ８…ゲート絶縁膜  ９…パッシべーション膜  １１、１１'
…第１コンタクトホール  １２、１２'…第２コンタクトホール  １３、１３'…透明導電
性材料からなる層  １４…第３コンタクトホール  １５…第４コンタクトホール  １６…
透明導電性材料からなる層  １７…半導体層  １８…層間樹脂膜  １９：下電極  ２０…
電極間絶縁膜  ２１…コンタクトホール  ２２…スリット  ２３…上電極  ＳＣＲ…スク
ライブライン  Ｍ…ＩＣチップ実装領域  ＧＷ１〜ＧＷｎ…走査線  ＳＷ１〜ＳＷｍ…信
号線  ＣＰ１…信号線用第１接続部  ＣＰ１'…走査線用第１接続部  ＣＰ２…第２接続
部  ＧＬ１〜ＧＬｎ…走査線用引き回し配線  ＧＬ３'、ＧＬ４'、ＧＬ７'、ＧＬ８'…下
側の走査線用引き回し配線  ＳＬ１〜ＳＬｎ…信号線用引き回し配線  ＰＡＲ、ＰＡＬ、
ＰＡＢ…周縁領域  ｔ１、ｔ２…走査線用電極端子  ｔ３…信号線用電極端子
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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