(57)【要約】【課題】液滴吐出処理かかるサイクルタイムを短縮させる。【解決手段】パターンデータに基づいて、液滴の吐出タイミングを制御する吐出データを作成するとともに、前記吐出データに基づいて、基材に向けて液滴を吐出させる液滴吐出装置であって、前記基材の位置を検出する位置検出部と、前もって設定された前記基材の位置と前記位置検出部で検出された前記基材の位置とのずれ量を演算するとともに、前もって用意され、前記ずれ量に対応する前記パターンデータが補正された補正パターンデータを抽出し、前記補正パターンデータに基づいて、前記吐出データを作成する制御部と、前記吐出データに基づいて、前記基材に向けて液滴を吐出する吐出ヘッドと、を備えた。【選択図】図１
2010069376.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材の位置を検出する位置検出部と、
前もって設定された前記基材の位置と前記位置検出部で検出された前記基材の位置とのずれ量を演算するとともに、前もって用意された基本となるパターンデータに対して前記ずれ量に相当するデータ量だけ補正した補正パターンデータを抽出し、前記補正パターンデータに基づいて、吐出データを作成する制御部と、
前記吐出データに基づいて、前記基材に向けて液滴を吐出する吐出ヘッドと、を備えたことを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項２】
請求項１に記載の液滴吐出装置において、
前記制御部は、前もって複数の前記ずれ量のそれぞれに対応する前記補正パターンデータを有する補正パターンデータ群の中から、一の前記ずれ量に対して一の前記補正パターンデータを抽出することを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項３】
請求項２に記載の液滴吐出装置において、
前記補正パターンデータ群には、前記基材の回転方向のずれに対応した前記補正パターンデータが含まれることを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項に記載の液滴吐出装置において、
前記位置検出部は、前記基材または前記吐出ヘッドが移動している間に前記基材の位置を検出することを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項５】
基材の位置を検出させる第１ステップと、
前もって設定された前記基材の位置と前記第１ステップで検出された前記基材の位置とのずれ量を演算させる第２ステップと、
前もって用意された基本となるパターンデータに対して前記ずれ量に相当するデータ量だけ補正した補正パターンデータを抽出させる第３ステップと、
前記補正パターンデータに基づいて、吐出データを作成させる第４ステップと、
前記吐出データに基づいて、前記基材に向けて液滴を吐出させる第５ステップと、を含むことを特徴とする液滴吐出装置の制御方法。
【請求項６】
基材にパターン膜が形成されたパターン膜形成部材の製造方法であって、
前記基材をステージに載置する基材載置工程と、
前記基材の位置を検出する基材位置検出工程と、
前もって設定された前記基材の位置と前記基材位置検出工程において検出された前記基材の位置とのずれ量を演算し、前もって用意された基本となるパターンデータに対して前記ずれ量に相当するデータ量だけ補正した補正パターンデータを抽出し、前記補正パターンデータに基づいて、吐出データを作成し、前記吐出データに基づいて、前記基材に向けて前記パターン膜の材料となる液状体を液滴として吐出して、前記基材に前記液状体を塗布する塗布工程と、
塗布された前記液状体を固化する固化工程と、を含むことを特徴とするパターン膜形成部材の製造方法。
【請求項７】
請求項６に記載のパターン膜形成部材の製造方法を用いて製造されたパターン膜形成部材。
【請求項８】
請求項７に記載のパターン膜形成部材を備えた電気光学装置。
【請求項９】
請求項８に記載の電気光学装置を搭載した電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液滴吐出装置、液滴吐出装置の制御方法、パターン膜形成部材の製造方法、パターン膜形成部材、電気光学装置、電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、テレビ受像機やパーソナルコンピュータ等といった電子機器の表示部として、液晶装置、エレクトロルミネッセンス装置等が用いられている。例えば、液晶装置では、ガラスやプラスチック等の基材の表面に、赤、緑、青の各色の色素膜を、いわゆるストライプ配列、デルタ配列またはモザイク配列等といった所定の配列に並べてカラーフィルタを形成している。また、このようなカラーフィルタの形成方法としては、吐出ヘッドを用いて、赤，緑，青のそれぞれの色素膜の材料となる液状体を液滴として吐出して、ガラス基材等の上に液状体を付着させる方法が知られている（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
【特許文献１】特開平１０−１５１７５５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、各液滴は、基材上の前もって定めた位置に付着させる必要があるので、基材の位置を精度良く調整する必要である。そのため、基材上に形成するパターンが微細なカラーフィルタや、複雑な形状を有する回路等である場合には、高精度の調整機構を設けなければならなかった。しかし、この場合において、調整機構を用いて、基材の位置を調整する機構の駆動に時間がかかってしまい、液滴の塗布処理にかかるサイクルタイムが長くなってしまう、という課題があった。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、上記課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態又は適用例として実現することが可能である。
【０００６】
［適用例１］本適用例にかかる液滴吐出装置は、基材の位置を検出する位置検出部と、前もって設定された前記基材の位置と前記位置検出部で検出された前記基材の位置とのずれ量を演算するとともに、前もって用意された基本となるパターンデータに対して前記ずれ量に相当するデータ量だけ補正した補正パターンデータを抽出し、前記補正パターンデータに基づいて、吐出データを作成する制御部と、前記吐出データに基づいて、前記基材に向けて液滴を吐出する吐出ヘッドと、を備えたことを特徴とする。
【０００７】
この構成によれば、基材の位置が所定の位置からずれた場合に、前もって用意された基本となるパターンデータに対してずれ量に相当するデータ量が補正された補正パターンデータを抽出し、当該補正パターンデータに基づいて吐出データが作成される。そして、当該吐出データに基づいて液滴が吐出される。このように、基材の位置ずれが生じたとしても、適正の位置に液滴を付着させることができる。従って、基材の位置ずれが生じた場合でも、移動装置等を用いて基材を移動させ、基材の位置を補正する必要がないので、サイクルタイムを短縮させることができる。
【０００８】
［適用例２］上記適用例にかかる液滴吐出装置では、前記制御部は、前もって複数の前記ずれ量のそれぞれに対応する前記補正パターンデータを有する補正パターンデータ群の中から、一の前記ずれ量に対して一の前記補正パターンデータを抽出することを特徴とする。
【０００９】
この構成によれば、前もって予見される複数の基材のずれ量を想定して、各ずれ量に対する補正パターンデータを有する補正パターンデータ群を用意しておく。そして、実際の基材のずれ量を演算し、当該ずれ量に対応する一の補正パターンデータを補正パターンデータ群の中から抽出する。従って、基材のずれ量が、１枚毎に異なったとしても、容易に補正パターンデータを抽出でき、サイクルタイムを短縮させることができる。
【００１０】
［適用例３］上記適用例にかかる液滴吐出装置において、前記補正パターンデータ群には、前記基材の回転方向のずれに対応した前記補正パターンデータが含まれることを特徴とする。
【００１１】
この構成によれば、基材の位置が所定の位置から回転方向にずれた際に、前もって用意された回転方向のずれに対する複数のずれ量に応じた補正パターンデータから、演算されたずれ量に対応する一の補正パターンデータを選択し、当該補正パターンデータに基づいて吐出データを作成する。そして、吐出データに基づいて液滴を吐出する。従って、基材が回転方向にずれたとしても、回転移動装置等を用いて基材を回転移動させて基材の位置を補正する必要がないので、サイクルタイムを短縮させることができる。
【００１２】
［適用例４］上記適用例にかかる液滴吐出装置の前記位置検出部は、前記基材または前記吐出ヘッドが移動している間に前記基材の位置を検出することを特徴とする。
【００１３】
この構成によれば、基材または吐出ヘッドが移動している間に基材の位置を検出することにより、基材の位置の検出処理と液滴吐出処理との間の時間を省けるので、さらにサイクルタイムを短縮させることができる。
【００１４】
［適用例５］本適用例にかかる液滴吐出装置の制御方法は、基材の位置を検出させる第１ステップと、前もって設定された前記基材の位置と前記第１ステップで検出された前記基材の位置とのずれ量を演算させる第２ステップと、前もって用意された基本となるパターンデータに対して前記ずれ量に相当するデータ量だけ補正した補正パターンデータを抽出させる第３ステップと、前記補正パターンデータに基づいて、吐出データを作成させる第４ステップと、前記吐出データに基づいて、前記基材に向けて液滴を吐出させる第５ステップと、を含むことを特徴とする。
【００１５】
この構成によれば、基材の位置が所定の位置からずれた場合に、前もって用意された基本となるパターンデータに対してずれ量に相当するデータ量が補正された補正パターンデータを抽出し、当該補正パターンデータに基づいて吐出データが作成される。そして、当該吐出データに基づいて液滴が吐出される。このように制御することにより、基材の位置ずれが生じたとしても、適正の位置に液滴を付着させることができる。従って、基材の位置ずれが生じた場合でも、移動装置等を用いて基材を移動させ、基材の位置を補正する必要がないので、サイクルタイムを短縮させることができる。
【００１６】
［適用例６］本適用例にかかるパターン膜形成部材の製造方法は、基材にパターン膜が形成されたパターン膜形成部材の製造方法であって、前記基材をステージに載置する基材載置工程と、前記基材の位置を検出する基材位置検出工程と、前もって設定された前記基材の位置と前記基材位置検出工程において検出された前記基材の位置とのずれ量を演算し、前もって用意された基本となるパターンデータに対して前記ずれ量に相当するデータ量だけ補正した補正パターンデータを抽出し、前記補正パターンデータに基づいて、吐出データを作成し、前記吐出データに基づいて、前記基材に向けて前記パターン膜の材料となる液状体を液滴として吐出して、前記基材に前記液状体を塗布する塗布工程と、塗布された前記液状体を固化する固化工程と、を含むことを特徴とする。
【００１７】
この構成によれば、基材の位置が所定の位置からずれた場合に、前もって用意された基本となるパターンデータに対してずれ量に相当するデータ量が補正された補正パターンデータを抽出し、当該補正パターンデータに基づいて吐出データが作成される。そして、当該吐出データに基づいて液滴が吐出される。従って、基材の位置ずれが生じたとしても、適正位置に液滴を付着させることができる。さらに、基材の位置ずれが生じた場合でも、移動装置等を用いて基材を移動させ、基材の位置を補正する必要がないので、サイクルタイムを短縮させることができる。
【００１８】
［適用例７］本適用例にかかるパターン膜形成部材は、上記のパターン膜形成部材の製造方法によって製造されたことを特徴とする。
【００１９】
これによれば、パターン膜に欠陥が無く、高品位のパターン膜形成部材を提供することができる。この場合のパターン膜形成部材は、例えば、カラーフィルタ、有機ＥＬ、ＦＥＤ（電界放出ディスプレイ）等のほか、各種配線形成部材等がこれに該当する。
【００２０】
［適用例８］本適用例にかかる電気光学装置は、上記のパターン膜形成部材を備えたことを特徴とする。
【００２１】
このような電気光学装置によれば、信頼性の高いパターン膜形成部材を備えることができる。この場合、電気光学装置は、例えば、液晶ディスプレイや有機ＥＬディスプレイ、ＦＥＤ（電界放出ディスプレイ）等がこれに該当する。
【００２２】
［適用例９］本適用例にかかる電子機器は、上記の電気光学装置を搭載したことを特徴とする。
【００２３】
このような電子機器によれば、信頼性の高い電気光学装置を搭載することができる。この場合、電子機器は、例えば、カラーフィルタや有機ＥＬディスプレイ、ＦＥＤ（電界放出ディスプレイ）を搭載したテレビ受像機、パーソナルコンピュータの他、各種の電子製品がこれに該当する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
以下、本発明を具体化した実施形態について図面を参考にしながら説明する。なお、各図面における各部は、各図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各部ごとに縮小を異ならせて図示している。
【００２５】
（液滴吐出装置の構成）
まず、液滴吐出装置の構成について説明する。図１は、液滴吐出装置の構成を示す斜視図である。また、図２は、液滴吐出装置の制御部のブロック図である。
【００２６】
液滴吐出装置１は、液滴を吐出する吐出ヘッド群３と、基材５を載置するステージ４と、ステージ４をＹ方向に移動させるステージ移動手段と、ステージ４に載置される基材５に形成されたアライメントマーク２１を取得して、基材５の位置を検出する位置検出部としての撮像装置１２と、これらの構成を制御する制御部２等で構成されている。なお、以下において、吐出ヘッド群３の配置方向は、液滴を吐出するノズルの配列方向と同一であり、この方向をＸ方向とし、基材５の搬送方向をＹ方向とする。また、ＸＹ平面内における面内回転方向をθ方向とする。
【００２７】
吐出ヘッド群３は、基台６から立設する支柱７間に、ステージ４を跨ぐようにＸ方向に平行に架設したＸ方向軸８に固定されている。この吐出ヘッド群３は、Ｘ方向軸８に沿って細長形状を有し、１列に配列した複数の吐出ヘッドから構成される。吐出ヘッドの配列長さは、基材５に形成するパターンのＸ方向の長さ以上である。各吐出ヘッドには、Ｘ方向に沿って、液滴を吐出するノズルが基材５に向かって多数穿設してある。液滴を吐出する機構としては、吐出させる液状体を貯溜するチャンバをノズルごとに設け、当該チャンバの壁面を構成する圧電素子を電圧制御により変形させることにより、チャンバの容積を変化させ、連通するノズルから所定の量のインクを液滴として吐出させるものである。なお、吐出ヘッドの構成はこれに限定されるものではない。
【００２８】
基材５を載置するステージ４は、基材５を載置するための載置部４１を有し、ベース部４２に連結した構成を有する。そして、ベース部４２には、Ｙ方向におけるステージ４の位置を検出するためにＹ軸に沿って基台６に取り付けたリニアスケール１５のスケールを読み取るエンコーダ４３を取り付けてある。
【００２９】
さらに、ステージ４は、Ｘ方向と直交するように敷設してあるＹ方向軸９に沿って移動可能な移動手段を備えている。当該移動手段としては、Ｙ方向軸９上に配列した永久磁石１０と、ステージ４のベース部４２の下側に固設したプレート１１にＹ方向に沿って、かつ、永久磁石１０に近接させて配列した複数のコイル（不図示）とから構成されるリニアモータがあげられる。
【００３０】
制御部２は、ＣＰＵ（Ｃｅｎｔｒａｌ Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ Ｕｎｉｔ）と、ＲＯＭ（Ｒｅａｄ Ｏｎｌｙ Ｍｅｍｏｒｙ）、ＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ Ａｃｃｅｓｓ Ｍｅｍｏｒｙ）や、入出力用のインターフェイス、発振回路等をバス接続した構成を有し、液滴吐出装置１を統括して制御する。制御部２に入力されるデータとしては、基材５に形成するパターンをビットマップ形式等の所定の形式に則って作成したパターンデータと、ステージ４の位置情報等があげられる。制御部２から出力するデータとしては、ステージ４のコイルの制御信号と、吐出ヘッド群３の制御信号等があげられる。吐出ヘッド群３の制御信号としては、発振回路で形成したクロック信号と、ノズルごとに吐出タイミングを制御するデータである吐出データ等がある。
【００３１】
また、図２に示すように、制御部２は、吐出データの設定値の入力を受け付ける吐出データ設定値入力部２２と、吐出ヘッド群３の吐出ヘッドの設定値の入力を受け付ける吐出ヘッド設定値入力部２３と、ステージ４に載置される基材５の位置ずれに対応する補正パターンデータの設定値の入力の受け付けやこれらの複数の補正パターンデータを備えた補正パターンデータ群の格納等を行う補正パターンデータ格納部２７と、ステージ４に載置された基材５の位置のずれ量の演算を行うずれ補正演算部２４と、吐出データを作成する吐出データ作成部２５と、外部の各種機器との入出力を制御する入出力ＩＦ（Ｉｎｔｅｒ Ｆａｃｅ）２６と、を有する。
【００３２】
ここで、基材５にパターンを形成するために制御部２に取り込まれる入力データである吐出データ設定値と、吐出ヘッド設定値と、補正パターンデータの設定値と、制御部２からの出力データである吐出データについて説明する。吐出データ設定値は、基材５のサイズやパターンの大きさ、パターンの形成ピッチ等の情報である。吐出ヘッド設定値は、使用するヘッド数、ノズル数、配置についての情報である。補正パターンデータの設定値は、ステージ４に載置される基材５の位置のずれ量に対応してずれ量が補正された補正パターンデータである。本実施形態におけるパターンデータは、例えば、基材５に形成するパターンを設計する際に作成するベクトルデータからなるＣＡＤ（Ｃｏｍｐｕｔｅｒ Ａｉｄｅｄ Ｄｅｓｉｇｎ）データを、ＸＹ格子に多数のピクセルを配列したデータ構成を有するビットマップ形式に変換したデータ（ビットマップデータ）である。
【００３３】
上記のビットマップデータについて具体的に説明する。図３（ａ）に示すように、例えば、パターン膜形成部材としてのカラーフィルタ３１をＣＡＤ装置で設計した場合に、ビットマップデータは、図３（ｂ）に示すようなイメージのパターンデータＢ１（ビットマップデータＢ１）となる。なお、パターンデータＢ１は、基材５の位置ずれが無い場合を想定して作成されたデータであり、基本となるパターンデータに相当する。
【００３４】
図３（ｂ）のビットマップデータで現されるイメージは、横方向が図１のＸ方向に対応し、縦方向がＹ方向に対応する。本実施形態では、吐出ヘッド群３がＸ方向の１列分（ｙ＝０のライン）に相当するノズル数を有するので、Ｘ方向の各ピクセルが吐出ヘッド群３のノズル位置に相当する。このため、図３（ｂ）のイメージに相当するデータが吐出データとなる。すなわち、このビットマップのＸ方向の各ピクセルがノズルからの液滴の吐出のオンまたはオフを示す。ノズルからの液滴の吐出のオン、オフとは、例えば、４列目では、ピクセルＰ３３及びピクセルＰ３４に対応するノズルが液滴を吐出し（オン）、ピクセルＰ３５に対応するノズルは液滴を吐出しない（オフ）ことである。また、Ｙ方向は時間の経過を示す。例えば、吐出開始のときは、ｙ＝０の列のデータが吐出ヘッド群３の各ノズルの制御信号となる。また、最初の液滴の吐出後に１ピクセルに相当する所定距離だけステージ４が移動した後に、ｙ＝１の列のデータが吐出ヘッド群３の各ノズルの制御信号となる。さらに、各ピクセルには吐出させる液状体についての情報が含まれている。これにより、例えば、色素膜Ｒのピクセルに相当する位置では、赤色の色素を含有するインクを吐出させ、他の色素を含有する液状体が吐出されることはない。
【００３５】
そして、このようなパターンは、１枚の基材５に多数形成できるように、いわゆる多面取りできるようになっている。そして、各パターンを正確に形成するため、ステージ４に基材５を載置した際に生じる基材５の位置ずれを適正に修正する必要がある。そこで、本実施形態にかかる液滴吐出装置１では、ステージ４に基材５を載置した際に生じる位置ずれを想定し、基材５の位置のずれ量に対応して、パターンデータを適正値に補正した補正パターンデータが前もって用意されている。
【００３６】
ここで、補正パターンデータについて説明する。なお、ステージ４に基材５が載置された際、Ｘ或いはＹ方向のずれや回転方向のずれ（θ方向ずれ）が想定される。以下、それぞれの場合について説明する。
【００３７】
まず、Ｘ方向における基材５のずれについて説明する。例えば、アライメントマーク２１が、ビットマップのＸ方向で、かつピクセル数が増加する方向（位置ずれの方向）に、２ピクセル分に相当する距離だけずれた位置にあると想定した場合には、図４に示すように、Ｘ方向のずれ量に相当するデータ列として、２列のダミーデータ列をＸ方向に沿って挿入し、その分だけ、基本となるビットマップデータＢ１を位置ずれの方向にシフトさせる。このようにして補正パターンデータＢ２が作成される。また、Ｘ方向ではあるが、ピクセル数が減少する方向（位置ずれの方向）に、基材５の位置がずれた位置にあると想定した場合には、ずれ量に相当するピクセル数だけ、Ｘ方向に沿ってデータ列を削除し、基本となるビットマップデータＢ１に対してデータをその分だけ位置ずれの方向にシフトさせた補正パターンデータＢ２を作成する。
【００３８】
そして、上記の補正パターンデータの作成要領で、前もって、Ｘ方向のずれに関し、ピクセル数が増加する方向のピクセル分（０，１，２，３，…ｎ）と、ピクセル数が減少する方向のピクセル分（０，−１，−２，−３，…−ｎ）とに対応する複数の補正パターンデータ（補正パターンデータ群）を作成する。補正パターンデータ群の作成件数は、任意に設定することができ、特に限定されない。このように作成された補正パターンデータ群は、前もって、制御部２に入力データとして入力され、補正パターンデータ格納部２７に格納される。
【００３９】
そして、実際の基材５のずれ量を演算し、当該ずれ量に対応する補正パターンデータを補正パターンデータ格納部２７に格納された補正パターンデータ群の中から抽出し、抽出された補正パターンデータに基づいて、吐出データ作成部２５によって液滴の吐出位置をＸ方向にオフセットさせた吐出データが作成される。そして、例えば、上記の例では、元のビットマップＢ１のピクセルＰ３３は、補正後のビットマップＢ２ではピクセルＰ５３となり、Ｘ方向に２つずれた位置にあるノズルから液滴が吐出されることになる。
【００４０】
次に、Ｙ方向における基材５のずれについて説明する。アライメントマーク２１が、ビットマップのＹ方向で、かつピクセル数が増加する方向（位置ずれの方向）に、１ピクセル分に相当する距離だけ搬送方向で手前にずれた場合を想定して、図５に示すように、Ｙ方向のずれ量に相当するデータ列として、１列のダミーデータ列をＹ方向に沿って挿入し、その分だけ、基本となるビットマップデータＢ１をＹ方向で、かつ、ピクセル数が増加する方向（位置ずれの方向）にシフトさせた補正パターンデータＢ３を作成する。また、例えば、アライメントマーク２１がＹ方向に１ピクセル分に相当する距離だけ前進した位置にずれた場合を想定して、１ピクセル分のデータ列をＹ方向に沿って、ｙ＝０のピクセル側から削除し、その分だけ、基本となるビットマップデータＢ１をＹ方向で、かつ、ピクセル数が減少する方向にシフトさせた補正パターンデータＢ３を作成する。
【００４１】
そして、上記の要領で、前もって、Ｙ方向のずれに関し、ピクセル数が増加する方向のピクセル分（０，１，２，３，…ｎ）と、ピクセル数が減少する方向のピクセル分（０，−１，−２，−３，…−ｎ）とに対応する複数の補正パターンデータ（補正パターンデータ群）を作成する。補正パターンデータ群の作成件数は、任意に設定することができ、特に限定されない。このように作成された補正パターンデータ群は、前もって、制御部２に入力データとして入力され、補正パターンデータ格納部２７に格納される。
【００４２】
そして、実際の基材５のずれ量を演算し、当該ずれ量に対応する補正パターンデータを補正パターンデータ格納部２７に格納された補正パターンデータ群の中から抽出し、抽出された補正パターンデータに基づいて、吐出データ作成部２５によって液滴の吐出位置をＹ方向にオフセットさせた吐出データが作成される。そして、例えば、上記の例では、元のビットマップＢ１のピクセルＰ３３は、補正後のビットマップＢ３ではピクセルＰ３４となる。これは、元の吐出タイミングに比べて、基材５がＹ方向に１列分だけ遅れたタイミングで吐出されることに相当する。
【００４３】
また、Ｘ及びＹ方向の基材５のずれた場合を予め想定し、アライメントマーク２１がＸ方向およびＹ方向にそれぞれ所定ピクセル数に相当する距離だけずれた位置にあるときには、位置ずれの方向、および、ずれ量に応じて、上述した同様の処理を行い、元のビットマップをＸ方向およびＹ方向にそれぞれ必要なデータ量だけ位置ずれの方向にシフトさせ補正パターンデータを作成し、複数の補正パターンデータを備えた補正パターンデータ群として、前もって制御部２に入力データとして入力され、補正パターンデータ格納部２７に格納される。
【００４４】
次に、回転方向（θ方向）の基材５のずれについて説明する。例えば、アライメントマーク２１が、ビットマップのＸ方向で、ピクセル数が増加する方向（位置ずれの方向）、かつ、ビットマップのＹ方向で、ピクセル数が増加する方向（位置ずれの方向）に回転してずれた場合を想定して、図６に示すように、Ｘ方向のずれ量に相当するデータ列として、ダミーデータ列をＸ方向に沿って挿入するとともに、Ｙ方向のずれ量に相当するデータ列として、ダミーデータ列をＹ方向に沿って挿入し、その分だけ、基本となるビットマップデータＢ１を位置ずれの方向にシフトさせた補正パターンデータＢ４を作成する。
【００４５】
そして、上記の補正パターンデータの作成要領で、前もって、Ｘ方向においてピクセル数が増加する方向のピクセル分（０，１，２，３，…ｎ）と、ピクセル数が減少する方向のピクセル分（０，−１，−２，−３，…−ｎ）と、Ｙ方向においてピクセル数が増加する方向のピクセル分（０，１，２，３，…ｎ）と、ピクセル数が減少する方向のピクセル分（０，−１，−２，−３，…−ｎ）とを組み合わせて、回転方向のずれに対応する複数の補正パターンデータを作成する。補正パターンデータを作成する件数は、任意に設定することができ、特に限定されない。このように作成された補正パターンデータは補正パターンデータ群として、前もって、制御部２に入力データとして入力され、補正パターンデータ格納部２７に格納される。
【００４６】
そして、実際の基材５のずれ量を演算し、当該ずれ量に対応する補正パターンデータを補正パターンデータ格納部２７に格納された補正パターンデータ群の中から抽出し、抽出された補正パターンデータに基づいて、吐出データ作成部２５によって液滴の吐出位置をＸ及びＹ方向にオフセットさせた吐出データが作成される。そして、例えば、図６に示した色素膜Ｒの例では、元のビットマップＢ１のピクセルＰ３３，Ｐ３４，Ｐ３５は、補正後のビットマップＢ４ではピクセルＰ３５，Ｐ４６，Ｐ５７となり、元のビットマップＢ１のピクセルＰ４３，Ｐ４４，Ｐ４５は、補正後のビットマップＢ４ではピクセルＰ４５，Ｐ５６，Ｐ６７となり、Ｘ及びＹ方向にずれた位置にあるノズルから液滴が吐出されることになる。
【００４７】
なお、回転方向のずれ及びＸＹ方向のずれが生じることが想定される。この場合には、上記したＸ及びＹ方向のずれ量の補正パターンデータと、上記した回転方向のずれ量の補正バターンデータとを合成した補正パターンデータを複数作成し、補正パターンデータ群として補正パターンデータ格納部２７に格納すればよい。
【００４８】
（液滴吐出装置の制御方法）
次に、液滴吐出装置の制御方法について説明する。具体的には、基材５をステージ４に載置した際に、基材５が載置された位置が所定の載置位置に対してずれた場合であっても、液滴の吐出位置を補正し、基材５の適正な位置に液滴を付着させる制御方法について説明する。図７は、液滴吐出装置の制御方法を示すフローチャート図である。
【００４９】
図７の第１ステップＳ１では、基材５の位置を検出させる。具体的には、基材５が載置されたステージ４をＹ方向の所定の位置まで移動させ、撮像装置１２を用いて基材５に形成された２つのアライメントマーク２１（図１参照）を取得させる。
【００５０】
図７の第２ステップＳ２では、前もって設定された基材５の位置と撮像装置１２で取得した基材５の位置とのずれ量を演算させる。具体的には、ずれ補正演算部２４によって、撮像装置１２で取得したアライメントマーク２１の像を画像処理し、撮像装置１２の視野の中心からアライメントマーク２１の中心までのずれ量が演算される。そして、２つのアライメントマーク２１の中心を結ぶ仮想線と、Ｘ方向とのなす角度を演算する。この角度は、基材５の回転方向のずれ量（θ方向ずれ量）に相当する。さらに、撮像装置１２の視野の中心からアライメントマーク２１の中心までのＸ方向のずれ量と、Ｙ方向のずれ量とをそれぞれ演算させる。
【００５１】
図７の第３ステップＳ３では、前もって用意された補正パターンデータ群の中から、演算されたずれ量に対応する一の補正パターンデータを抽出させる。具体的には、補正パターンデータ格納部２７には、Ｘ方向のずれ量に関する補正パターンデータと、Ｙ方向のずれ量に関する補正パターンデータと、Ｘ及びＹ方向のずれ量に関する補正パターンデータと、回転方向のずれ量に関する補正パターンデータ等が補正パターンデータ群として格納されており、この補正パターンデータ群の中から、第２ステップＳ２において演算されたずれ量に対応する一の補正パターンデータを抽出させる。
【００５２】
図７の第４ステップＳ４では、抽出された補正パターンデータに基づいて、液滴の吐出タイミングを制御する吐出データを作成させる。具体的には、抽出された補正パターンデータと、吐出データ設定値入力部２２から取得した吐出データ設定値と、吐出ヘッド設定値入力部２３から取得した吐出ヘッド設定値とから吐出ヘッド群３を制御する吐出データを作成させる。そして、作成された吐出データを入出力ＩＦ２６から吐出ヘッド群３に出力させる。
【００５３】
図７の第５ステップＳ５では、吐出ヘッド群３のノズルは、吐出データに従って、液滴を吐出すべきノズルから所定量の液滴を基材５の表面に向けて吐出させる。
なお、補正パターンデータに基づいて吐出データを作成するのとは別に、予めＸ、Ｙ及びθ（回転）方向のずれ量を補正した吐出データを制御部２に格納しておいて、その吐出データから必要なものを抽出して液滴を吐出させるようにしてもよい。
【００５４】
（パターン膜形成部材の製造方法及びパターン膜形成部材の構成）
次に、パターン膜形成部材の製造方法及びパターン膜形成部材の構成について説明する。なお、本実施形態では、パターン膜形成部材としてのカラーフィルタを例に挙げて説明する。図８は、本実施形態にかかるカラーフィルタの製造方法を示す工程図である。
【００５５】
まず、基材載置工程では、図８（ａ）に示すように、基材５を図示しない基材供給装置等を用いてステージ４の載置部４１に載置する。なお、基材５は、透明性を有し、一般にガラス基材が用いられるが、他にプラスチック等も使用可能であり、カラーフィルタとしての透過率、強度等の必要特性を有するものであれば特に限定されるものではない。また、基材５には、基材５の表面に色素膜（Ｒ，Ｇ，Ｂ）を区画するための区画部１１０が形成されている。区画部１１０は、例えば、フォトリソグラフィー法によって形成することができる。
【００５６】
次に、基材位置検出工程では、基材５の載置された位置を検出する。具体的には、位置検出部としての撮像装置１２を用いて基材５に形成された２つのアライメントマーク２１を取得する。
【００５７】
次に、塗布工程では、図８（ｂ）に示すように、吐出データに基づいて、基材５に向けてパターン膜としての色素膜の材料となる液状体を液滴１２１として吐出して、基材５に液状体１４０ａを塗布する。具体的には、前もって設定された基材５の位置と撮像装置１２で検出された基材５の位置とのずれ量を演算し、前もって用意された補正パターンデータ群の中から、ずれ量に対応する補正パターンデータを抽出し、抽出された補正パターンデータに基づいて、吐出データを作成し、吐出データに基づいて、液状体を液滴１２１として吐出する。
【００５８】
そして、１ライン分の吐出データにより吐出した液滴１２１が基材５の表面に着弾してから、次の１ライン分の吐出データにより吐出した液滴１２１が基材５の表面に着弾するまでの間に、ステージ４を１ピクセル分に相当する距離だけ前進させる。ノズルの吐出タイミングと、ステージ４の移動タイミングとは、発振回路で発生させたクロック信号により同期させることができる。
【００５９】
以降は、ステージ４を順送りしながら、吐出データのすべてのラインに基づいて吐出ヘッド群３から液滴１２１を吐出して、基材５に液状体１４０ａを塗布する。
【００６０】
図８（ｃ）の固化工程では、塗布された液状体１４０ａを固化する。例えば、液状体１４０ａを熱乾燥処理等によって固化する。そして、熱乾燥処理によって色素膜１４０（Ｒ，Ｇ，Ｂ）が形成される。その後、必要に応じて、区画部１１０と色素膜１４０（Ｒ，Ｇ，Ｂ）の上に保護膜を形成する。保護膜の形成方法としては、スピンコート法等が用いられ、材料としては、光硬化タイプ、熱硬化タイプあるいは光熱併用タイプの樹脂材料、蒸着、スパッタ等によって形成された無機膜等を用いることができる。
【００６１】
上記の工程を経ることより、基材５と、基材５の表面に形成された区画部１１０と、区画部１１０によって区画された領域に形成された色素膜１４０（Ｒ，Ｇ，Ｂ）を備えたカラーフィルタ３１が形成される。
【００６２】
（電気光学装置）
次に、本実施形態にかかる電気光学装置について説明する。図９は、電気光学装置としての液晶ディスプレイの構成を示す断面図である。
【００６３】
図９において、液晶ディスプレイ１５０は、カラーフィルタ３１と、カラーフィルタ３１に対向して配置された素子基材１５１と、シール材１５２によって接着されたカラーフィルタ３１と素子基材１５１の隙間に充填された液晶１５３等で構成されている。
【００６４】
カラーフィルタ３１の保護膜１４２の上には共通電極１６１が形成され、共通電極１６１の上には配向膜１６２が形成されている。また、基材５の色素膜１４０が形成された面の反対面には偏光板１７５が備えられている。
【００６５】
素子基材１５１は、透明性を有する基材１７０と、基材１７０の上に形成されたＴＦＴ（Thin  Film  Transistor）素子１７１と、基材１７０とＴＦＴ素子１７１の上に形成された配向膜１７２等で構成されている。また、基材１７０のＴＦＴ素子１７１が形成された面の反対面には偏光板１７６が備えられている。
【００６６】
（電子機器）
次に、本実施形態にかかる電子機器について説明する。図１０は、電子機器としてのテレビ受像機の構成を示す斜視図である。図１０において、テレビ受像機１８０の表示部に液晶ディスプレイ１５０が搭載されている。
【００６７】
従って、上記の本実施形態によれば、以下に示す効果がある。
【００６８】
（１）ステージ４に基材５を載置した際に所定の位置からずれた場合に、前もって用意された補正パターンデータ群の中から補正パターンデータを抽出し、当該抽出された補正パターンデータに基づいて吐出データが作成される。そして、当該吐出データに基づいて、液滴１２１を基材５の適切な位置に付着させる。従って、基材５を載置してから改めて適正位置にシフトさせるための演算処理を行う時間が省くことができる。また、移動手段等を用いて適正位置に移動させる時間も省けるので、サイクルタイムを短縮させることができる。
【００６９】
なお、上記の実施形態に限定されるものではなく、以下のような変形例が挙げられる。
【００７０】
（変形例１）上記の実施形態では、回転方向のずれ，Ｘ及びＹ方向のずれ量に対応する補正パターンデータを補正パターンデータ格納部２７に格納したが、これに限定されない。例えば、補正パターンデータは、θ方向のずれ量のみ、またはＸ及びＹ方向のずれ量のみに対応する補正パターンデータを格納するようにしてもよい。例えば、θ方向のずれ量のみに対応する補正パターンデータを格納した場合には、ステージ４をＸ及びＹ方向に移動させる移動手段を設けて、Ｘ及びＹ方向のずれは、当該移動手段で補正し、θ方向の補正のみ補正パターンデータを用いればよい。このようにすれば、制御部２の演算処理量を低減させることができる。
【００７１】
（変形例２）上記の実施形態では、基材５が載置された後に、アライメントマーク２１の読み取りを行ったが、これに限定されない。例えば、塗布工程の合間に吐出ヘッド群３が初期位置（描画位置）に戻る時などの装置類が移動している合間にアライメントマーク２１を読み取ってもよい。このようにすれば、他の動作と同期してアライメントマーク２１の読み取りを行うので、処理時間が省け、さらにサイクルタイムを短縮させることができる。
【００７２】
（変形例３）上記の実施形態では、Ｘ方向軸８に固定した細長形状の吐出ヘッド群３を用いたが、この構成に限定されない。例えば、Ｘ方向軸８を移動可能なキャリッジを備え、当該キャリッジに液滴を吐出する吐出ヘッドを備えた構成であってもよい。このようにすれば、吐出ヘッドを移動させながら液滴を吐出するので、ノズルを穿設したピッチよりも短い間隔で液滴を着弾させることができ、基材５上に形成するパターンの分解能を向上させ、高精度のパターンを形成することができる。
【００７３】
（変形例４）上記の実施形態では、パターン膜形成部材としてカラーフィルタ３１を例として説明したが、これに限定されることなく、例えば、ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏ−Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）発光部材、シリカガラス前駆体、金属化合物等の導電部材、誘電体部材等についても適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００７４】
【図１】液滴吐出装置の構成を示す斜視図。
【図２】液滴吐出装置の制御部のブロック図。
【図３】パターンデータを例示する説明図。
【図４】補正パターンデータを例示する説明図。
【図５】補正パターンデータを例示する説明図。
【図６】補正パターンデータを例示する説明図。
【図７】液滴吐出装置の制御方法を示すフローチャート図。
【図８】パターン膜形成部材の製造方法を示す工程図。
【図９】電気光学装置の構成を示す断面図。
【図１０】電子機器の構成を示す斜視図。
【符号の説明】
【００７５】
１…液滴吐出装置、２…制御部、３…吐出ヘッド群、４…ステージ、５…基材、１２…位置検出部としての撮像装置、２１…アライメントマーク、２２…吐出データ設定値入力部、２３…吐出ヘッド設定値入力部、２４…ずれ補正演算部、２５…吐出データ作成部、２６…入出力ＩＦ、２７…補正パターンデータ格納部、３１…パターン膜形成部材としてのカラーフィルタ、１１０…区画部、１２１…液滴、１４０（Ｒ，Ｇ，Ｇ）…色素膜、１５０…電気光学装置としての液晶ディスプレイ、１８０…電子機器としてのテレビ受像機、Ｂ１…基本となるパターンデータ、Ｂ２，Ｂ３，Ｂ４…補正パターンデータ。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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