(57)【要約】【課題】薄板（板厚が０．７ｍｍ以下）であり、且つ機械的強度が高い強化ガラス基板を得ること。【解決手段】本発明の強化ガラス基板は、圧縮応力層を有する強化ガラス基板において、板厚が０．７ｍｍ以下であり、且つ主表面に形成される圧縮応力層の深さＤＴが、端面に形成される圧縮応力層の深さＤＨより小さいことを特徴とする。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
圧縮応力層を有する強化ガラス基板において、
板厚が０．７ｍｍ以下であり、
且つ主表面に形成される圧縮応力層の深さＤＴが、端面に形成される圧縮応力層の深さＤＨより小さいことを特徴とする強化ガラス基板。
【請求項２】
内部引っ張り応力が２００ＭＰａ以下であることを特徴とする請求項１に記載の強化ガラス基板。
【請求項３】
ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ２４５〜７５％、Ａｌ２Ｏ３ １〜３０％、Ｎａ２Ｏ ０〜２０％、Ｋ２Ｏ ０〜２０％含有することを特徴とする請求項１または２に記載の強化ガラス基板。
【請求項４】
質量比（Ａｌ２Ｏ３＋Ｋ２Ｏ）／Ｎａ２Ｏの値が０．１〜６．５であることを特徴とする請求項３に記載の強化ガラス基板。
【請求項５】
主表面に形成される圧縮応力層の圧縮応力値が５０ＭＰａ以上、圧縮応力層の深さが５０μｍ以下であり、且つ端面に形成される圧縮応力層の圧縮応力値が３００ＭＰａ以上、圧縮応力層の深さが１０μｍ以上であることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の強化ガラス基板。
【請求項６】
密度が２．８ｇ／ｃｍ３以下であることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の強化ガラス基板。
【請求項７】
ヤング率が６７ＧＰａ以上であることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の強化ガラス基板。
【請求項８】
ディスプレイに用いることを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の強化ガラス基板。
【請求項９】
タッチパネルディスプレイに用いることを特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載の強化ガラス基板。
【請求項１０】
（１）ガラス原料を調合し、ガラスバッチを得る工程、（２）ガラスバッチを溶融し、得られた溶融ガラスを０．７ｍｍ以下のガラス基板に成形する工程、（３）ガラス基板に圧縮応力層を形成し、強化ガラス基板を得る工程、（４）主表面に形成される圧縮応力層の深さＤＴを、端面に形成される圧縮応力層の深さＤＨよりも小さくする工程を有することを特徴とする強化ガラス基板の製造方法。
【請求項１１】
強化ガラス基板の主表面に形成された圧縮応力層の一部を除去することにより、主表面に形成される圧縮応力層の深さＤＴを、端面に形成される圧縮応力層の深さＤＨよりも小さくすることを特徴とする請求項１０に記載の強化ガラス基板の製造方法。
【請求項１２】
強化ガラス基板の主表面に形成された圧縮応力層の全部を除去した後、更に強化ガラス基板の主表面に圧縮応力層を形成することにより、主表面に形成される圧縮応力層の深さＤＴを、端面に形成される圧縮応力層の深さＤＨよりも小さくすることを特徴とする請求項１０に記載の強化ガラス基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、強化ガラス基板に関するものであり、具体的には携帯電話、デジタルカメラ、ＰＤＡ（携帯端末）、或いはタッチパネルディスプレイに好適な強化ガラス基板に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
携帯電話、デジタルカメラ、ＰＤＡ、或いはタッチパネルディスプレイといったデバイスは、ますます普及する傾向にある。これらの用途に用いられるガラス基板は、高い機械的強度が求められると同時に、薄型で軽量であることが求められる。このような事情から、一部のデバイスには、イオン交換等で化学強化したガラス基板（所謂、強化ガラス基板）が用いられている（特許文献１、非特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２００６−８３０４５号公報
【非特許文献１】泉谷徹朗等、「新しいガラスとその物性」、初版、株式会社経営システム研究所、１９８４年８月２０日、ｐ．４５１−４９８
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
上記の通り、携帯機器等に搭載される基板は、高強度化、薄型化および軽量化の要求が高まっており、薄板の強化ガラス基板の要求が高まっている。しかし、以下の理由により、薄板の強化ガラス基板は、機械的強度を向上させることが困難であった。
【０００４】
強化ガラス基板の機械的強度を高めるためには、圧縮応力層の圧縮応力値を高く、圧縮応力層を深く形成することが有効である。しかし、このようにすると、強化ガラス基板の内部に、その圧縮応力の大きさに相当する引っ張り応力が形成され、強化ガラス基板が破損するおそれが生じる。特に、強化ガラス基板の板厚を薄くした場合に、その傾向が顕著になる。
【０００５】
内部引っ張り応力は、内部引っ張り応力[ＭＰａ]＝（主表面に形成される圧縮応力層の圧縮応力値[ＭＰａ]×主表面に形成される圧縮応力層の深さ［μｍ］）／（板厚［μｍ］−主表面に形成される圧縮応力層の深さ［μｍ］×２）の関係で表される。上記関係式から分かるように、強化ガラス基板は、内部引っ張り応力により、自己破壊する可能性がある。特に、薄板の強化ガラス基板は、主表面に形成される圧縮応力層の圧縮応力値が高く、圧縮応力層が深くなると、その可能性が高くなる。結果として、強化ガラス基板の板厚を薄くした場合に、高強度化が困難になる。
【０００６】
上記事情に鑑み、本発明は、薄板（板厚が０．７ｍｍ以下）であり、且つ機械的強度が高い強化ガラス基板を得ることを技術的課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者は、薄板の強化ガラス基板を高強度化するために、強化ガラス基板の内部に形成される圧縮応力歪みの分布を鋭意検討し、強化ガラス基板が破損に至る際、端面を起点に破損する確率が高く、強化ガラス基板の主表面の面内強度が端面強度より高いことを見出した。これらの知見から、本発明者は、強化ガラス基板の端面には、破損に至る深い傷が形成されている、或いは形成されやすく、その一方で主表面は、深い傷が形成され難いことを見出し、強化ガラス基板の内部引っ張り応力が適正となるように、強化ガラス基板の主表面方向と端面方向で異なる応力分布を形成すれば、薄板の強化ガラス基板の機械的強度を向上できることを見出し、本発明として、提案するものである。すなわち、本発明の強化ガラス基板は、圧縮応力層を有する強化ガラス基板において、板厚が０．７ｍｍ以下であり、且つ主表面に形成される圧縮応力層の深さＤＴが、端面に形成される圧縮応力層の深さＤＨより小さいことを特徴とする。ここで、「主表面」とは、強化ガラス基板の板厚方向における表面（おもて面および裏面）を指し、具体的には強化ガラス基板の有効面（ディスプレイ用途の場合、表示面）に相当する。また、「端面」とは、強化ガラス基板の外周部を構成する側面を指す。
【０００８】
第二に、本発明の強化ガラス基板は、内部引っ張り応力が２００ＭＰａ以下であることを特徴とする。ここで、「内部引っ張り応力」とは、（主表面に形成される圧縮応力層の圧縮応力値[ＭＰａ]×主表面に形成される圧縮応力層の深さ［μｍ］）／（板厚［μｍ］−主表面に形成される圧縮応力層の深さ［μｍ］×２）の式で計算される値を指す。
【０００９】
第三に、本発明の強化ガラス基板は、ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ２４５〜７５％、Ａｌ２Ｏ３ １〜３０％、Ｎａ２Ｏ ０〜２０％、Ｋ２Ｏ ０〜２０％含有することを特徴とする。
【００１０】
第四に、本発明の強化ガラス基板は、質量比（Ａｌ２Ｏ３＋Ｋ２Ｏ）／Ｎａ２Ｏの値が０．１〜６．５であることを特徴とする。
【００１１】
第五に、本発明の強化ガラス基板は、主表面に形成される圧縮応力層の圧縮応力値が５０ＭＰａ以上、圧縮応力層の深さが５０μｍ以下であり、且つ端面に形成される圧縮応力層の圧縮応力値が３００ＭＰａ以上、圧縮応力層の深さが１０μｍ以上であることを特徴とする。ここで、「圧縮応力層の圧縮応力値」および「圧縮応力層の厚み」は、表面応力計で干渉縞の本数とその間隔を観察することで算出することができる。
【００１２】
第六に、本発明の強化ガラス基板は、密度が２．８ｇ／ｃｍ３以下であることを特徴とする。ここで、「密度」は、周知のアルキメデス法で測定した値を指す。
【００１３】
第七に、本発明の強化ガラス基板は、ヤング率が６７ＧＰａ以上であることを特徴とする。ここで、「ヤング率」は、曲げ共振法により測定した値を指す。
【００１４】
第八に、本発明の強化ガラス基板は、ディスプレイに用いることを特徴とする。
【００１５】
第九に、本発明の強化ガラス基板は、タッチパネルディスプレイに用いることを特徴とする。
【００１６】
第十に、本発明の強化ガラス基板の製造方法は、（１）ガラス原料を調合し、ガラスバッチを得る工程、（２）ガラスバッチを溶融し、得られた溶融ガラスを０．７ｍｍ以下のガラス基板に成形する工程、（３）ガラス基板の圧縮応力層を形成し、強化ガラス基板を得る工程、（４）主表面に形成される圧縮応力層の深さＤＴを、端面に形成される圧縮応力層の深さＤＨよりも小さくする工程を有することを特徴とする。
【００１７】
第十一に、本発明の強化ガラス基板の製造方法は、強化ガラス基板の主表面に形成された圧縮応力層の一部を除去することにより、主表面に形成される圧縮応力層の深さＤＴを、端面に形成される圧縮応力層の深さＤＨよりも小さくすることを特徴とする。
【００１８】
第十二に、本発明の強化ガラス基板の製造方法は、強化ガラス基板の主表面に形成された圧縮応力層の全部を除去した後、更に強化ガラス基板の主表面に圧縮応力層を形成することにより、主表面に形成される圧縮応力層の深さＤＴを、端面に形成される圧縮応力層の深さＤＨよりも小さくすることを特徴とする。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
本発明の強化ガラス基板において、板厚は０．７ｍｍ以下であり、０．６ｍｍ以下、０．５ｍｍ以下、０．４ｍｍ以下、０．３ｍｍ以下、０．２ｍｍ以下、特に０．１ｍｍ以下が好ましい。強化ガラス基板の板厚が小さい程、強化ガラス基板を軽量化することでき、結果として、デバイスの薄型化、軽量化を図ることができる。なお、本発明の強化ガラス基板は、板厚が小さくても、機械的強度が高い性質を有する。
【００２０】
本発明の強化ガラス基板は、主表面に形成される圧縮応力層の深さＤＴが、端面に形成される圧縮応力層の深さＤＨより小さいことを特徴とし、ＤＴ／ＤＨの値は０．１〜０．９９、０．１〜０．７、０．１〜０．５、０．１〜０．４５、０．１５〜０．４５、特に０．２〜０．４が好ましい。ＤＴ／ＤＨの値を上記範囲にすれば、強化ガラス基板の端面において、圧縮応力層の深さを適正化することができ、内部引っ張り応力を不当に上昇させずに、強化ガラス基板の機械的強度を高めることができる。
【００２１】
本発明の強化ガラス基板において、主表面に形成される圧縮応力層の圧縮応力値は１００ＭＰａ以上、２００ＭＰａ以上、３００ＭＰａ以上、４００ＭＰａ以上、特に５００ＭＰａ以上が好ましい。圧縮応力層の圧縮応力値が大きくなる程、強化ガラス基板の機械的強度が高くなる。
【００２２】
本発明の強化ガラス基板において、主表面に形成される圧縮応力層の深さＤＴは５０μｍ以下、４５μｍ以下、３５μｍ以下、３０μｍ以下、２５μｍ以下、２０μｍ以下、１５μｍ以下、特に１０μｍ以下が好ましい。圧縮応力層の深さＤＴの下限値は１μｍ以上、３μｍ以上、５μｍ以上、１０μｍ以上、特に１５μｍ以上が好ましい。圧縮応力層が深くなり過ぎると、内部引っ張り応力が高くなり過ぎて、強化ガラス基板が自己破壊するおそれがある。一方、圧縮応力層が浅くなり過ぎると、強化ガラス基板に形成された研磨痕、取り扱い傷等を起点として、強化ガラス基板が破損しやすくなる。以上の点から、強化ガラス基板の板厚と要求される機械的強度のバランスを考慮し、主表面に形成される圧縮応力層の深さＤＴを決定する必要がある。
【００２３】
本発明の強化ガラス基板において、端面に形成される圧縮応力層の圧縮応力値は３００ＭＰａ以上、４００ＭＰａ以上、５００ＭＰａ以上、６００ＭＰａ以上、７００ＭＰａ以上、特に８００ＭＰａ以上が好ましい。圧縮応力層の圧縮応力値が大きくなる程、強化ガラス基板の機械的強度が高くなる。
【００２４】
端面に形成される圧縮応力層の深さＤＨは１０μｍ以上、１５μｍ以上、２０μｍ以上、２５μｍ以上、３０μｍ以上、３５μｍ以上、４０μｍ以上、４５μｍ以上、５０μｍ以上、特に５５μｍ以上が好ましい。端面には、製造プロセスでの取り扱い時、或いは端面加工（面取り加工）時に深い傷が形成されやすい。圧縮応力層の深さＤＨが１０μｍ未満であると、これらの傷を起点として、強化ガラス基板が破損しやすくなり、事実上、機械的強度を高めることが困難になる。
【００２５】
本発明の強化ガラス基板において、ガラス組成を上記範囲に限定した理由を以下に説明する。なお、以下の％表示は、特に断りがある場合を除き、質量％を指す。
【００２６】
ＳｉＯ２は、ガラスのネットワークを形成する成分であり、その含有量は４５〜７５％、好ましくは５０〜７５％、より好ましくは５２〜６５％、更に好ましくは５２〜６３％である。ＳｉＯ２の含有量が４５％より少ないと、熱膨張係数が大きくなり過ぎて、耐熱衝撃性が低下しやすくなったり、ガラス化し難くなったり、耐失透性が低下しやすくなる。一方、ＳｉＯ２の含有量が７５％より多いと、ガラスの溶融、成形が難しくなったり、熱膨張係数が小さくなり過ぎて、周辺材料の熱膨張係数に整合し難くなる。
【００２７】
Ａｌ２Ｏ３は、耐熱性、イオン交換性能およびヤング率を高める成分であり、その含有量は１〜３０％である。Ａｌ２Ｏ３の含有量が１％より少ないと、十分なイオン交換性能を発揮できないおそれが生じる。一方、Ａｌ２Ｏ３の含有量が３０％より多いと、ガラスに失透結晶が析出しやすくなったり、熱膨張係数が小さくなり過ぎて、周辺材料の熱膨張係数に整合し難くなる。また、Ａｌ２Ｏ３の含有量が３０％より多いと、高温粘性が高くなり、溶融性が低下するおそれもある。Ａｌ２Ｏ３の好適な範囲は、上限が２５％以下、２０％以下、１７％以下、１６．５％以下、１６％以下、特に１５％以下であり、下限が１．５％以上、３％以上、５％以上、１０％以上、特に１２％以上である。
【００２８】
Ｎａ２Ｏは、イオン交換成分であるとともに、高温粘度を低下させて、溶融性や成形性を向上させたり、耐失透性を改善する成分である。Ｎａ２Ｏの含有量は０〜２０％、好ましくは７〜２０％、より好ましくは７〜１８％、更に好ましくは８〜１６％、最も好ましくは８〜１５％である。Ｎａ２Ｏの含有量が２０％より多いと、熱膨張係数が大きくなり過ぎて、耐熱衝撃性が低下したり、周辺材料の熱膨張係数に整合し難くなる。また、Ｎａ２Ｏの含有量が２０％より多いと、ガラス組成の成分バランスが損なわれて、逆に耐失透性が低下する傾向がある。さらに、Ｎａ２Ｏの含有量が２０％より多いと、歪点が低下し過ぎて、耐熱性が低下したり、かえってイオン交換性能が低下する場合がある。
【００２９】
Ｋ２Ｏは、イオン交換を促進する効果があり、アルカリ金属酸化物の中では圧縮応力層を深く形成する効果がある。また、Ｋ２Ｏは、高温粘度を低下させて、溶融性や成形性を高めたり、クラック発生率を低減させたり、耐失透性を改善する成分である。Ｋ２Ｏの含有量は０〜２０％、好ましくは０．１〜１０％、より好ましくは０．５〜８％、更に好ましくは１〜８％、特に好ましくは２〜８％、最も好ましくは３〜７％である。Ｋ２Ｏの含有量が２０％より多いと、熱膨張係数が大きくなり過ぎて、耐熱衝撃性が低下したり、周辺材料の熱膨張係数に整合し難くなる。また、Ｋ２Ｏの含有量が２０％より多いと、ガラス組成の成分バランスが損なわれて、逆に耐失透性が低下する傾向がある。
【００３０】
本発明の強化ガラス基板において、強化ガラス基板の主表面に形成された圧縮応力層の一部を除去することにより、主表面に形成される圧縮応力層の深さＤＴを、端面に形成される圧縮応力層の深さＤＨよりも小さくする場合、或いは強化ガラス基板の主表面に形成された圧縮応力層の全部を除去した後、更に強化ガラス基板の主表面に圧縮応力層を形成することにより、主表面に形成される圧縮応力層の深さＤＴを、端面に形成される圧縮応力層の深さＤＨよりも小さくする場合、圧縮応力層の一部または全部を除去する前に、イオン交換処理で圧縮応力層の深さ、特に端面に形成される圧縮応力層の深さＤＨを大きくすることが好ましい。そこで、質量比（Ａｌ２Ｏ３＋Ｋ２Ｏ）／Ｎａ２Ｏの値を０．１〜６．５、０．１〜５、０．２〜３、０．２〜２．５、０．４〜２、０．７〜１．７、特に１．０〜１．５に規制すれば、イオン交換処理で圧縮応力層の深さを大きくすることができる。質量比（Ａｌ２Ｏ３＋Ｋ２Ｏ）／Ｎａ２Ｏの値が０．１より小さいと、圧縮応力層の深さを大きくすることが困難になる。一方、質量比（Ａｌ２Ｏ３＋Ｋ２Ｏ）／Ｎａ２Ｏの値が６．５より大きいと、ガラス組成の成分バランスが損なわれ、Ｎａ２Ｏ成分が不足することに起因して、逆に圧縮応力層の圧縮応力値が低下することに加えて、耐失透性が低下する傾向がある。
【００３１】
本発明の強化ガラス基板において、ガラス組成として、上記成分に加えてＬｉ２Ｏ、Ｂ２Ｏ３、ＴｉＯ２、ＺｎＯ、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ、Ｐ２Ｏ５、ＺｒＯ２等の成分を合量で３０％、好ましくは２０％まで添加可能である。なお、Ｌｉ２Ｏ、Ｂ２Ｏ３、ＴｉＯ２、ＺｎＯ、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ、Ｐ２Ｏ５、ＺｒＯ２等の成分は任意成分である。
【００３２】
Ｌｉ２Ｏは、イオン交換成分であり、高温粘度を低下させて溶融性や成形性を向上させる成分であり、更にはヤング率を向上させる成分である。Ｌｉ２Ｏの含有量は０〜２０％、０〜１０％、０〜８％、０〜６％、０〜４％、０〜３．５％、０〜３％、特に０〜１％が好ましい。Ｌｉ２Ｏの含有量が２０％より多いと、ガラスが失透しやすくなり、液相粘度が低下することに加えて、熱膨張係数が大きくなり過ぎて、耐熱衝撃性が低下したり、周辺材料の熱膨張係数に整合し難くなる。また、Ｌｉ２Ｏの含有量が２０％より多いと、歪点が低下し過ぎて、耐熱性が低下したり、かえってイオン交換性能が低下する場合がある。
【００３３】
Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ（Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２Ｏ、Ｋ２Ｏの合量）が多過ぎると、ガラスが失透しやすくなることに加えて、熱膨張係数が大きくなり過ぎて、耐熱衝撃性が低下したり、周辺材料の熱膨張係数に整合し難くなる。また、Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏが多過ぎると、歪点が低下し過ぎて、圧縮応力層の圧縮応力値が低下し過ぎるおそれがある。よって、Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏは、３０％以下、２２％以下、特に２０％以下が好ましい。一方、Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏが少な過ぎると、イオン交換性能や溶融性が低下しやすくなる。よって、Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏは、５％以上、１０％以上、１３％以上、１５％以上、特に１７％以上が好ましい。
【００３４】
Ｂ２Ｏ３は、液相温度、高温粘度および密度を低下させる成分であり、その含有量は０〜７％、０〜５％、０〜３％、特に０〜１％が好ましい。Ｂ２Ｏ３の含有量が７％より多いと、イオン交換によって表面にヤケが発生したり、耐水性が低下したり、低温粘性が低下し過ぎたりして、圧縮応力層の圧縮応力値が低下しやすくなる場合がある。
【００３５】
ＴｉＯ２は、イオン交換性能を高め、ガラス基板の機械的強度を向上させる成分であるが、その含有量が多過ぎると、ガラスが失透しやすくなったり、着色しやすくなる。よって、ＴｉＯ２の含有量は０〜１０％、０〜５％、０〜１％、特に０〜０．５％が好ましく、実質的に含有しないことがより好ましい。ここで、「実質的にＴｉＯ２を含有しない」とは、ガラス組成中のＴｉＯ２の含有量が０．１％以下の場合を指す。
【００３６】
ＺｎＯは、上記ガラス系に適量添加すれば、圧縮応力層の圧縮応力値を向上させる効果がある。また、ＺｎＯは、高温粘度を低下させたり、ヤング率を向上させる効果がある。しかし、ＺｎＯの含有量が１５％より多いと、密度や熱膨張係数が大きくなり過ぎ、更には耐失透性が低下する傾向にある。よって、ＺｎＯの含有量は０〜１５％、０〜１０％、０〜２％、０〜０．５％、特に０〜０．１％が好ましい。
【００３７】
ＭｇＯは、高温粘度を低下させて、溶融性や成形性を高めたり、歪点やヤング率を高めたりする成分である。また、ＭｇＯは、アルカリ土類金属酸化物の中ではイオン交換性能を向上させる効果が比較的高い。しかし、ＭｇＯの含有量が多くなると、密度、熱膨張係数およびクラック発生率が高くなったり、ガラスが失透しやすくなる。よって、ＭｇＯの含有量は１０％以下、９％以下、６％以下、４％以下、特に３％以下が好ましい。
【００３８】
ＣａＯは、高温粘度を低下させて、溶融性や成形性を高めたり、歪点やヤング率を高める成分である。しかし、ＣａＯの含有量が多くなると、密度、熱膨張係数およびクラック発生率が高くなったり、ガラスが失透しやすくなる。よって、ＣａＯの含有量は１０％以下、８％以下、５％以下、特に３％以下が好ましい。
【００３９】
ＳｒＯは、高温粘度を低下させて、溶融性や成形性を向上させたり、歪点やヤング率を高める成分である。しかし、ＳｒＯの含有量が多くなると、密度、熱膨張係数およびクラック発生率が高くなったり、ガラスが失透しやすくなったり、更にはイオン交換性能が低下する傾向がある。よって、ＳｒＯの含有量は１０％以下、８％以下、５％以下、３％以下、１％以下、０．８％以下、特に０．５％以下が好ましく、実質的に含有しないことがより好ましい。ここで、「実質的にＳｒＯを含有しない」とは、ガラス組成中のＳｒＯの含有量が０．２％以下の場合を指す。
【００４０】
ＢａＯは、高温粘度を低下させて、溶融性や成形性を向上させたり、歪点やヤング率を高める成分である。しかし、ＢａＯの含有量が多くなると、密度、熱膨張係数およびクラック発生率が高くなったり、ガラスが失透しやすくなったり、更にはイオン交換性能が低下する傾向がある。また、ＢａＯは、その原料である化合物が環境負荷物質であることから、環境的視点に立てば、その使用を極力控えることが好ましい。よって、ＢａＯの含有量は３％以下、２．５％以下、２％以下、１％以下、０．８％以下、特に０．５％以下が好ましく、実質的に含有しないことがより好ましい。ここで、「実質的にＢａＯを含有しない」とは、ガラス組成中のＢａＯの含有量が０．１％以下の場合を指す。
【００４１】
ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ（ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯの合量）が多くなると、密度や熱膨張係数が高くなったり、耐失透性が低下したり、イオン交換性能が低下する傾向がある。よって、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯの含有量は０〜１６％、０〜１０％、特に０〜６％が好ましい。
【００４２】
（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）を（Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ）で除した値が大きくなると、密度が高くなり過ぎたり、耐失透性が低下する傾向が現れる。それ故、質量比（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）／（Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ）の値は０．５以下、０．４以下、０．３以下、０．２以下、特に０．１以下が好ましい。
【００４３】
ＺｒＯ２は、歪点やヤング率を向上させ、イオン交換性能を向上させる成分であり、また高温粘性を低下させる成分である。さらに、ＺｒＯ２は、液相温度付近の粘性を高める効果があるため、カ゛ラス組成中に適量含有させることで液相粘度を高めることができる。しかし、ＺｒＯ２の含有量が多くなると、耐失透性が極端に低下する場合がある。よって、ＺｒＯ２の含有量は０〜１０％、０〜９％、２〜９％、３〜９％、３〜８％、３．５〜７％、３．５〜６％、特に３．５〜５．５％が好ましい。
【００４４】
Ｐ２Ｏ５は、イオン交換性能を高める成分であり、特に、圧縮応力層の厚みを大きくする効果が高い。しかし、Ｐ２Ｏ５の含有量が多くなると、ガラスが分相したり、耐水性が低下する。よって、Ｐ２Ｏ５の含有量は８％以下、５％以下、４％以下、３％以下、特に２％以下が好ましい。
【００４５】
さらに、上記成分以外にも他の成分を２０％まで添加することができる。
【００４６】
清澄剤としてＳＯ３、Ｃｌ、ＣｅＯ２、Ｓｂ２Ｏ３およびＳｎＯ２から選択された一種または二種以上を０〜３％含有することが好ましい。Ａｓ２Ｏ３やＦも清澄効果を奏するが、環境に対し悪影響を与えるおそれがあるため、極力使用しないことが好ましく、実質的に含有しないことがより好ましい。また、Ｓｂ２Ｏ３は、Ａｓ２Ｏ３に比べ、その毒性は低いが、環境的観点から使用が制限される場合もあり、実質的に含有しないことが好ましい場合もある。また、環境的観点および清澄効果を考慮すれば、清澄剤として、ＳｎＯ２を０．０１〜３％（望ましくは０．０５〜１％）含有させることが好ましい。ここで、「実質的にＡｓ２Ｏ３を含有しない」とは、ガラス組成中のＡｓ２Ｏ３の含有量が０．１％以下の場合を指す。「Ｆを実質的に含有しない」とは、ガラス組成中のＦの含有量が０．０５％以下の場合を指す。「実質的にＳｂ２Ｏ３を含有しない」とは、ガラス組成中のＳｂ２Ｏ３の含有量が０．１％以下の場合を指す。一方、Ｓｂ２Ｏ３やＳＯ３は清澄剤の中では、透過率が低下する事態を防止する効果が高いため、高透過率が要求される用途に用いる場合は、清澄剤としてＳｂ２Ｏ３＋ＳＯ３を０．００１〜５％含有させることが好ましい。
【００４７】
Ｎｂ２Ｏ５やＬａ２Ｏ３等の希土類酸化物は、ヤング率を高める成分である。しかし、原料コストが高く、また多量に含有させると、耐失透性が低下する。よって、希土類酸化物の含有量は３％以下、２％以下、１％以下、特に０．５％以下が好ましく、実質的に含有しないことがより好ましい。ここで、「実質的に希土類酸化物を含有しない」とは、ガラス組成中の希土類酸化物の含有量が０．１％以下の場合を指す。
【００４８】
Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ等の着色作用を有する遷移金属元素は、強化ガラス基板の透過率を低下させるため好ましくない。特に、ディスプレイ用途に用いる場合、遷移金属酸化物の含有量が多いと、ディスプレイの視認性が損なわれる。よって、遷移金属酸化物の含有量は０．５％以下、０．１％以下、特に０．０５％以下が好ましい。
【００４９】
ＰｂＯは、環境負荷物質であるため、実質的に含有しないことが好ましい。ここで、「ＰｂＯを実質的に含有しない」とは、ガラス組成中のＰｂＯの含有量が０．１％以下の場合を指す。
【００５０】
各成分の好適な含有範囲を適宜選択し、好ましいガラス組成範囲とすることができる。その中でも、より好ましいガラス組成範囲として、
（１）質量％で、ＳｉＯ２  ４５〜７５％、Ａｌ２Ｏ３  １〜２５％、Ｌｉ２Ｏ  ０〜９％、Ｎａ２Ｏ  ７〜２０％、Ｋ２Ｏ  ０〜８％を含有し、実質的にＡｓ２Ｏ３、Ｆ、ＰｂＯを含有しない、  
（２）質量％で、ＳｉＯ２  ４５〜７５％、Ａｌ２Ｏ３  ３〜２５％、Ｌｉ2Ｏ  ０〜３．５％、Ｎａ２Ｏ  ７〜２０％、Ｋ２Ｏ  ０〜７％を含有し、質量比（Ａｌ２Ｏ３＋Ｋ２Ｏ）／Ｎａ２Ｏの値が０．１〜３であり、実質的にＡｓ２Ｏ３、Ｆ、ＰｂＯを含有しない、
（３）質量％で、ＳｉＯ２  ４５〜７０％、Ａｌ２Ｏ３  １０〜２０％、Ｌｉ２Ｏ  ０〜３％、Ｎａ２Ｏ  ７〜２０％、Ｋ２Ｏ  ０〜７％を含有し、質量比（Ａｌ２Ｏ３＋Ｋ２Ｏ）／Ｎａ２Ｏの値が０．５〜２であり、実質的にＡｓ２Ｏ３、Ｆ、ＰｂＯを含有しない、
（４）質量％で、ＳｉＯ２  ４５〜６５％、Ａｌ２Ｏ３  １０〜２０％、Ｌｉ２Ｏ  ０〜３％、Ｎａ２Ｏ  ７〜１６％、Ｋ２Ｏ  ０〜７％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ  ０〜１０％を含有し、質量比（Ａｌ２Ｏ３＋Ｋ２Ｏ）／Ｎａ２Ｏの値が０．３〜１．８であり、実質的にＡｓ２Ｏ３、Ｆ、ＰｂＯを含有しない、
（５）質量％で、ＳｉＯ２４５〜６５％、Ａｌ２Ｏ３ １１〜２０％、Ｌｉ２Ｏ ０〜３％、Ｎａ２Ｏ ７〜１６％、Ｋ２Ｏ ０〜７％、ＭｇＯ  ０〜３％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ  ０〜９％を含有し、質量比で（Ａｌ２Ｏ３＋Ｋ２Ｏ）／Ｎａ２Ｏの範囲が１〜１．５であり、実質的にＡｓ２Ｏ３、Ｆ、ＰｂＯを含有しない。
（６）質量％で、ＳｉＯ２  ５０〜６３％、Ａｌ２Ｏ３  １１〜１８％、Ｌｉ２Ｏ  ０〜２％、Ｎａ２Ｏ  ８〜１５．５％、Ｋ２Ｏ  ０〜６％、ＭｇＯ  ０〜３％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ  ０〜８％を含有し、質量比で（Ａｌ２Ｏ３＋Ｋ２Ｏ）／Ｎａ２Ｏの範囲が１〜１．５であり、実質的にＡｓ２Ｏ３、Ｆ、ＰｂＯを含有しない、
（７）質量％で、ＳｉＯ２  ５０〜６３％、Ａｌ２Ｏ３  １１〜１６％、Ｌｉ２Ｏ  ０〜１％、Ｎａ２Ｏ  ８〜１５％、Ｋ２Ｏ  ０．１〜５％、ＭｇＯ  ０〜２．５％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ  ０〜６％を含有し、質量比で（Ａｌ２Ｏ３＋Ｋ２Ｏ）／Ｎａ２Ｏの範囲が１〜１．５であり、実質的にＡｓ２Ｏ３、Ｆ、ＰｂＯを含有しない、が挙げられる。
【００５１】
本発明の強化ガラス基板において、密度は２．８ｇ／ｃｍ３以下、２．７ｇ／ｃｍ３以下、２．６ｇ／ｃｍ３以下、２．５７ｇ／ｃｍ３以下、２．５５ｇ／ｃｍ３以下、２．５ｇ／ｃｍ３以下、２．４５ｇ／ｃｍ３以下、特に２．４ｇ／ｃｍ３以下が好ましい。密度が小さい程、強化ガラス基板を軽量化することができる。
【００５２】
本発明の強化ガラス基板において、ヤング率は６７ＧＰａ以上、６８ＧＰａ以上、７０ＧＰａ以上、７１ＧＰａ以上、特に７３ＧＰａ以上が好ましい。ヤング率が高い程、強化ガラス基板が撓み難くなり、タッチパネルディスプレイ等のデバイスにおいてペン等でディスプレイを押す際に、デバイス内部の液晶素子等が圧迫され難くなるため、ディスプレイに表示不良が発生し難くなる。一方、ヤング率が高過ぎると、強化ガラス基板がペン等で押されて変形する際、その変形により発生する応力が高くなりやすい。特に、薄板の強化ガラス基板の場合、変形しやすく、また割れやすい性質を有するため、変形による応力値が高くならないように、ヤング率を１００ＧＰａ以下、９５ＧＰａ以下、９０ＧＰａ以下、８５ＧＰａ以下、８０ＧＰａ以下、特に７８ＧＰａ以下とするのが好ましい。
【００５３】
本発明の強化ガラス基板において、比ヤング率は、２７ＧＰａ／（ｇ／ｃｍ３）以上、２８ＧＰａ／（ｇ／ｃｍ３）以上、２９ＧＰａ／（ｇ／ｃｍ３）以上、特に３０ＧＰａ／（ｇ／ｃｍ３）以上が好ましい。比ヤング率が高い程、自重により強化ガラス基板が撓み難くなる。その結果、強化ガラス基板をカセット等に収納する際、強化ガラス基板同士のクリアランスを狭くして、強化ガラス基板を収納することが可能になり、強化ガラス基板の生産性およびデバイスの生産性が向上する。
【００５４】
本発明の強化ガラス基板において、液相温度は１２００℃以下、１１００℃以下、１０５０℃以下、１０００℃以下、９３０℃以下、９００℃以下、特に８８０℃以下が好ましい。液相温度が低い程、オーバーフローダウンドロー法等で成形する際に、ガラスが失透し難くなる。ここで、「液相温度」は、ガラスを粉砕し、標準篩３０メッシュ（篩目開き５００μｍ）を通過し、５０メッシュ（篩目開き３００μｍ）に残るガラス粉末を白金ボートに入れ、温度勾配炉中に２４時間保持して、結晶が析出する温度を測定した値を指す。
【００５５】
本発明の強化ガラス基板において、液相粘度は１０４．０ｄＰａ・ｓ以上、１０４．３ｄＰａ・ｓ以上、１０４．５ｄＰａ・ｓ以上、１０５．０ｄＰａ・ｓ以上、１０５．５ｄＰａ・ｓ以上、１０５．７ｄＰａ・ｓ以上、１０５．９ｄＰａ・ｓ以上、特に１０６．０ｄＰａ・ｓ以上が好ましい。液相粘度が高い程、オーバーフローダウンドロー法等で成形する際に、ガラスが失透し難くなる。ここで、「液相粘度」は、液相温度におけるガラスの粘度を白金球引き上げ法で測定した値を指す。
【００５６】
本発明の強化ガラス基板において、熱膨張係数は４０〜１１０×１０−７／℃、７０〜１０５×１０−７／℃、７５〜１００×１０−７／℃、８０〜１００×１０−７／℃、特に８０〜９０×１０−７／℃が好ましい。熱膨張係数を上記範囲とすれば、金属、有機系接着剤等の部材と熱膨張係数が整合しやすくなり、金属、有機系接着剤等の部材の剥離を防止することができる。ここで、「熱膨張係数」は、ディラトメーターを用いて、３０〜３８０℃の温度範囲における平均値を測定した値を指す。
【００５７】
本発明の強化ガラス基板において、歪点は５００℃以上、５１０℃以上、特に５２０℃以上が好ましい。歪点が高いと、イオン交換処理の際、応力緩和が生じ難くなり、圧縮応力層の圧縮応力値を高めやすくなる。ここで、「歪点」は、ＡＳＴＭ  Ｃ３３６の方法に基づいて測定した値を指す。なお、ガラス組成中のアルカリ土類金属酸化物、Ａｌ２Ｏ３、ＺｒＯ２、Ｐ２Ｏ５の含有量を増加、或いはアルカリ金属酸化物の含有量を低減すれば、歪点が上昇する。
【００５８】
本発明の強化ガラス基板において、高温粘度１０２．５ｄＰａ・ｓにおける温度は１７００℃以下、１６００℃以下、１５６０℃以下、１５００℃以下、１４５０℃以下、１４２０℃以下、特に１４００℃以下が好ましい。高温粘度１０２．５ｄＰａ・ｓにおける温度が低い程、溶融窯等のガラスの製造設備への負担が小さいとともに、ガラス基板の泡品位を高めることができる。つまり、高温粘度１０２．５ｄＰａ・ｓにおける温度が低い程、ガラス基板の製造コストが低下する。ここで、「高温粘度１０２．５ｄＰａ・ｓにおける温度」は、白金球引き上げ法で測定した値を指す。なお、高温粘度１０２.５ｄＰａ・ｓにおける温度は、ガラスの溶融温度に相当しており、高温粘度１０２．５ｄＰａ・ｓにおける温度が低い程、低温でガラスを溶融することができる。
【００５９】
本発明の強化ガラス基板の製造方法は、（１）ガラス原料を調合し、ガラスバッチを得る工程、（２）ガラスバッチを溶融し、得られた溶融ガラスを０．７ｍｍ以下のガラス基板に成形する工程、（３）ガラス基板に圧縮応力層を形成し、強化ガラス基板を得る工程、（４）主表面に形成される圧縮応力層の深さＤＴを、端面に形成される圧縮応力層の深さＤＨよりも小さくする工程を有することを特徴とする。本発明の強化ガラス基板の製造方法において、強化ガラス基板の好適な組成および特性は、本発明の強化ガラス基板の説明の欄に記載した通りであり、ここでは、その記載を省略する。
【００６０】
本発明の強化ガラス基板の製造方法において、オーバーフローダウンドロー法で０．７ｍｍ以下のガラス基板に成形することが好ましい。オーバーフローダウンドロー法の場合、薄板のガラス基板を容易に作製することができる。ここで、オーバーフローダウンドロー法は、溶融ガラスを耐熱性の樋状構造物の両側から溢れさせて、溢れた溶融ガラスを樋状構造物の下端で合流させながら、下方に延伸成形してガラス基板を成形する方法である。樋状構造物の構造や材質は、所望の寸法や表面品位を実現できる限り、特に限定されない。また、下方に延伸成形する際、ガラスに力を印加する方法は特に限定されない。例えば、充分に大きい幅を有する耐熱性ロールをガラスに接触させた状態で回転させて延伸する方法を採用してもよいし、複数の対になった耐熱性ロールをガラスの端縁近傍のみに接触させて延伸する方法を採用してもよい。なお、液相温度が１２００℃以下、且つ液相粘度が１０４．０ｄＰａ・ｓ以上であれば、オーバーフローダウンドロー法で薄板のガラス基板を作製することができる。
【００６１】
本発明の強化ガラス基板の製造方法において、オーバーフローダウンドロー法以外にも、種々の成形方法、例えば、フロート法、スロットダウン法、リドロー法、ロールアウト法、プレス法等の様々な成形方法を採用することができる。
【００６２】
本発明の強化ガラス基板の製造方法は、ガラス基板に圧縮応力層を形成し、強化ガラス基板を得る工程を有する。ガラス基板に圧縮応力層を形成する方法には、物理強化法と化学強化法がある。本発明の強化ガラス基板は、化学強化法で圧縮応力層を形成することが好ましい。化学強化法は、ガラスの歪点以下の温度でイオン交換し、ガラス表面にイオン半径の大きいアルカリイオンを導入する方法である。イオン交換条件は、特に限定されず、ガラスの粘度特性等を考慮して決定すればよい。特に、ガラス組成中のＮａ成分をＫＮＯ３溶融塩中のＫイオンでイオン交換すると、圧縮応力層を効率良く形成することができる。なお、化学強化法は、風冷強化法等の物理強化法と異なり、化学強化した後に強化ガラス基板を切断しても、強化ガラス基板が容易に破損しない利点がある。
【００６３】
本発明の強化ガラス基板の製造方法において、３５０〜５００℃のＫＮＯ３溶融塩中にガラス基板を２〜２４時間浸漬することにより、ガラス基板に圧縮応力層を形成することが好ましい。このようにすれば、ガラス基板に圧縮応力層を効率よく形成することができる。
【００６４】
本発明の強化ガラス基板の製造方法において、強化ガラス基板の主表面に形成された圧縮応力層の一部を除去することが好ましく、エッチングまたは研磨により圧縮応力層の一部を除去することがより好ましい。このようにすれば、主表面に形成される圧縮応力層の深さＤＴを、端面に形成される圧縮応力層の深さＤＨより小さくしやすくなる。
【００６５】
本発明の強化ガラス基板の製造方法において、強化ガラス基板の主表面に形成された圧縮応力層の全部を除去した後、更に強化ガラス基板の主表面に圧縮応力層を形成することが好ましく、エッチングまたは研磨により圧縮応力層の全部を除去した後、更に強化ガラス基板の主表面に圧縮応力層を形成することがより好ましい。このようにすれば、一旦、強化ガラス基板の端面のみに圧縮応力歪みが存在する状態になり、主表面の圧縮応力層を除去する際に、主表面のおもて面と裏面の応力差で発生する反りを防止しやすくなるとともに、主表面に形成される圧縮応力層の深さＤＴを、端面に形成される圧縮応力層の深さＤＨより小さくしやすくなる。二回目の強化処理は、一回目の強化処理と同様の薬液を用い、一度目の強化処理よりも強化する際の温度（イオン交換温度）を低下する、或いは強化処理の時間（イオン交換時間）を短くする等の対策を行い、強化ガラス基板の主表面に極端に深い圧縮応力層が形成されないようにすることが好ましい。
【００６６】
本発明の強化ガラス基板の製造方法は、ガラス基板の主表面をマスキングした状態でガラス基板の端面に圧縮応力層を形成した後、マスキングを取り除き、更に強化ガラス基板の主表面に圧縮応力層を形成することにより、主表面に形成される圧縮応力層の深さＤＴを、端面に形成される圧縮応力層の深さＤＨより小さくことが好ましい。このようにすれば、一旦、強化ガラス基板の端面のみに圧縮応力歪みが存在する状態になり、主表面のおもて面と裏面の応力差で発生する反りを防止しやすくなるとともに、主表面に形成される圧縮応力層の深さＤＴを、端面に形成される圧縮応力層の深さＤＨより小さくしやすくなる。
【実施例】
【００６７】
以下、本発明を実施例に基づいて説明する。
表１、２は、本発明の実施例（試料Ｎｏ．１〜１４）を示している。
【００６８】
【表１】
2010116276.tif 000002
【００６９】
【表２】
2010116276.tif 000003
【００７０】
次のようにして各試料を作製した。まず、表１、２のガラス組成となるように、ガラス原料を調合し、ガラスバッチを作製した後、このガラスバッチを白金ポットに投入し、１６００℃８時間溶融し、溶融ガラスを得た。次に、溶融ガラスをカーボン板の上に流し出してガラス基板に成形した。得られたガラス基板について、種々の特性を評価した。
【００７１】
密度は、周知のアルキメデス法で測定した値である。
【００７２】
歪点Ｐｓ、徐冷点Ｔａは、ＡＳＴＭ Ｃ３３６の方法に基づいて測定した値である。
【００７３】
軟化点Ｔｓは ＡＳＴＭ Ｃ３３８の方法に基づいて測定した値である。
【００７４】
高温粘度１０４．０ｄＰａ・ｓ、１０３．０ｄＰａ・ｓ、１０２．５ｄＰａ・ｓにおける温度は、周知の白金球引き上げ法で測定した。
【００７５】
熱膨張係数αは、ディラトメーターを用いて、３０〜３８０℃における平均熱膨張係数を測定した値である。
【００７６】
液相温度は、ガラス基板を粉砕し、標準篩３０メッシュ（篩目開き５００μｍ）を通過し、５０メッシュ（篩目開き３００μｍ）に残るガラス粉末を白金ボートに入れ、温度勾配炉中に２４時間保持して、結晶の析出する温度を測定した値である。
【００７７】
ヤング率は共振法により測定した値である。
【００７８】
表１、２から明らかなように、試料Ｎｏ．１〜１４は、密度が２．５７ｇ／ｃｍ３以下、ヤング率が６７ＧＰａ以上、熱膨張係数が５８〜１００×１０-７／℃であった。さらに、試料Ｎｏ．１〜１４は、液相粘度が１０４．４ｄＰａ・ｓ以上、高温粘度１０２．５ｄＰａ・ｓにおける温度が１６５０℃以下であった。
【００７９】
なお、未強化ガラス基板と強化ガラス基板は、表層において微視的にガラス組成が異なっているものの、全体としてガラス組成が実質的に相違しない。よって、密度、粘度、ヤング率等の特性は、実質的に、未強化ガラス基板と強化ガラス基板で相違しない。
【００８０】
続いて、各試料の主表面に光学研磨を施した後、イオン交換処理を行った。イオン交換は、４１０℃のＫＮＯ３溶融塩中に４時間、或いは４４０℃のＫＮＯ３溶融塩中に６時間浸漬することで行った。次に、イオン交換処理後の各試料の表面を洗浄した上で、表面応力計（株式会社東芝製ＦＳＭ−６０００）を用いて、観察される干渉縞の本数とその間隔から圧縮応力層の圧縮応力値と厚みを算出した。なお、測定に際し、屈折率を１．５２、光弾性定数を２８［(ｎｍ／ｃｍ)／ＭＰａ]とした。
【００８１】
表１、２から明らかなように、試料Ｎｏ．１〜１４は、圧縮応力層の圧縮応力値が３００ＭＰａ以上であり、その厚みが１５μｍ以上であった。
【００８２】
実施例の実験は、本発明の説明の便宜上、溶融ガラスを流し出し、ガラス基板を成形した後、イオン交換処理の前に光学研磨を行った。製造効率の観点から、工業的規模で強化ガラス基板を作製する場合は、オーバーフローダウンドロー法等でガラス基板を成形した後、未研磨のガラス基板をイオン交換処理することが望ましい。
【００８３】
試料Ｎｏ．１〜１４について、オーバーフローダウンドロー法により４０ｍｍ×８０ｍｍ×０．５ｍｍと４０ｍｍ×８０ｍｍ×０．５２ｍｍのガラス基板を作製した。次に、ガラス基板をＫＮＯ３溶融塩中で４４０℃６時間イオン交換処理し、強化ガラス基板を得た。板厚０．５２ｍｍの強化ガラス基板について、主表面（おもて面と裏面）を１０μｍ光学研磨し、板厚０．５ｍｍの強化ガラス基板を得た。各強化ガラス基板につき、ＡＧ−１０ｋＮＩＳ（島津製作所製）を用いて、４点曲げ試験を行った。試験に際し、支持スパンは５０ｍｍ、負荷冶具スパンは２５ｍｍとした。その結果、主表面を研磨した強化ガラス基板の強度値は、両主表面を研磨していない強化ガラス基板の強度値とほぼ同等であった。
【産業上の利用可能性】
【００８４】
本発明の強化ガラス基板は、携帯電話、デジタルカメラ、ＰＤＡ等のカバーガラス、或いはタッチパネルディスプレイ等の基板として好適である。また、本発明の強化ガラス基板は、これらの用途以外にも、高強度が要求される用途、例えば窓板ガラス、磁気ディスク用基板、フラットパネルディスプレイ用基板、太陽電池用カバーガラス、固体撮像素子用カバーガラス、食器への応用が期待できる。