(57)【要約】    【課題】  入射光学系に回折光学素子を使用し、ダブルパスタイプを用いた走査光学系において回折光学素子からの、不要回折光を含めたレンズ表面で反射されるゴースト光の影響を低減するころができ、光学性能の環境安定性が良好な走査光学装置を得ること。    【解決手段】  光源手段から出射された光束の集光状態を変化させる入射光学手段と、入射光学系からの光束を偏向走査する偏向手段と、偏向手段で偏向された光束を被走査面上に結像させる結像光学系を有し、入射光学手段は１つ以上の回折光学素子を有し、結像光学系のうち偏向手段に最も近い第１の結像光学素子はダブルパスの位置に配置されており、第１の結像光学素子の主走査方向と副走査方向の焦点距離をＦｍ、Ｆｓは、  Ｆｍ＜Ｆｓであり、回折光学素子の使用回折次数のうち少なくとも一方の回折光は副走査断面内において、偏向手段と第１の結像光学素子の間に集光していること。【選択図】    図１
2010096897.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源手段と、前記光源手段から出射された光束の集光状態を変化させる入射光学手段と、前記入射光学系からの光束を偏向走査する偏向手段と、前記偏向手段の偏向面にて偏向走査された光束を被走査面上に結像させる結像光学系と、を有する走査光学装置において
前記入射光学手段は、少なくとも１つの回折光学素子を有し、
前記結像光学系を構成する結像光学素子のうち前記偏向手段に最も近い第１の結像光学素子は前記入射光学手段からの光束と前記偏向手段の偏向面にて偏向走査された光束が通過する位置に配置されており、
前記第１の結像光学素子の主走査方向の焦点距離をＦｍと副走査方向の焦点距離をＦｓとするとき
Ｆｍ＜Ｆｓ
であり、前記回折光学素子の使用回折次数に対し隣接する次数の回折光のうち少なくとも一方の回折光は、副走査断面内において、前記偏向手段と前記第１の結像光学素子の間に集光していることを特徴とする走査光学装置。
【請求項２】
副走査断面内において、前記入射光学系からの光束の主光線の前記偏向手段の偏向面への入射角度をαとするとき、α≠０であることを特徴とする請求項１に記載の走査光学装置。
【請求項３】
前記入射光学系からの光束の主光線と前記結像光学系の光軸を主走査断面内に投影したとき、双方は重複又は平行であることを特徴とする請求項１又は２に記載の走査光学装置。
【請求項４】
副走査断面内において、
前記第１の結像光学素子と被走査面との間であって、前記入射光学系からの光束の主光線と前記偏向手段の偏向面にて偏向走査された光束の主光線との間に遮光部材が配置されており、
前記偏向手段の偏向面から前記第１の結像光学素子の入射面もしくは出射面までの距離をＳ１、
前記第１の結像光学素子の入射面もしくは出射面から前記遮光部材までの距離をＳ２、
とするとき、
０．５＜ｓ２／ｓ１＜１．５
を満たすことを特徴とする請求項１、２又は３に記載の走査光学装置。
【請求項５】
副走査断面内において、
前記入射光学系からの光束の主光線の偏向面への入射角をα、
前記第１の結像光学素子と被走査面との間であって、前記入射光学系からの光束の主光線と前記偏向手段の偏向面にて偏向走査された光束の主光線との間に遮光部材が配置されており、
前記回折光学素子の使用回折次数に対し隣接する次数の回折光のうち少なくとも一方の回折光の前記集光点と前記偏向手段の偏向面との距離をＡ、
使用回折次数の回折光が前記偏向手段の偏向面に入射する時の光束の開き角を２Θ、
前記回折光学素子と偏向手段の偏向面との距離Ｆｃｌ、
前記偏向手段の偏向面から前記第１の結像光学素子の入射面もしくは出射面までの距離をＳ１、
前記第１の結像光学素子の入射面もしくは出射面から遮光部材までの距離をＳ２
とするとき
ｆｃｌ＊ｓｉｎΘ＊Ａ／（Ｆｃｌ−Ａ）＜（Ｓ１＋Ｓ２）ＴＡＮ（α−Θ）−１．０
を満たすことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の走査光学装置。
【請求項６】
前記第１の結像光学素子は樹脂より形成されていることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項の走査光学装置。
【請求項７】
請求項１から６の何れか１項に記載の走査光学装置と、前記被走査面に配置された感光ドラムと、前記走査光学装置で走査された光ビームによって前記感光ドラムに形成された静電潜像をトナー像として現像する現像器と、現像されたトナー像を被転写材に転写する転写器と、転写されたトナー像を被転写材に定着させる定着器とを有することを特徴とする画像形成装置。
【請求項８】
請求項１から６の何れか１項に記載の走査光学装置と、外部機器から入力したコードデータを画像信号に変換して走査光学装置に入力せしめるプリンタコントローラとを有していることを特徴とする画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は走査光学装置及びそれを用いた画像形成装置に関し、例えば電子写真プロセスを有するレーザビームプリンタやデジタル複写機、マルチファンクションプリンタ（多機能プリンタ）等の画像形成装置に好適なものである。
【背景技術】
【０００２】
電子写真プロセスを有するレーザビームプリンタやデジタル複写機等の画像形成装置として走査光学装置（走査光学系）が広く用いられている。
【０００３】
走査光学装置は、半導体レーザーなどの光源手段から出射された光束（光ビーム）をコリメータレンズで平行光束に変換し、ポリゴンミラー（回転多面鏡）からなる偏向手段の偏向面（偏向面）に導いている。そして偏向手段によって偏向走査された光束を結像光学系（ｆθレンズ系）を用いて、被走査面上にスポット結像させつつ等速走査させている。
【０００４】
偏向方向（主走査方向）と直交する副走査方向（副走査断面内）では、コリメータレンズから射出された平行光束をシリンドリカルレンズを用いて、偏向面に集光し、その後結像光学系で被走査面に再結像する、所謂面倒れ補正光学系を用いることもある。
【０００５】
一方、コリメータレンズから射出された平行光束の光束幅を主走査断面内で偏向面より狭くし、全ての光束を偏向手段で偏向走査させるアンダーフィルド走査光学系（以下「ＵＦＳ」と称す。）が用いられてきた。
【０００６】
ＵＦＳは光エネルギーを無駄なく偏向走査することができる反面、偏向面をある程度大きくする必要があり、偏向手段が大型化する傾向にあった。
【０００７】
近年、レーザビームプリンタやデジタル複写機では印字速度の向上の要望が強くなってきているが、印字速度を向上させる為には、偏向手段を高速に回転させるか、偏向面の面数を増やす必要がある。偏向手段が大型なＵＦＳでは、更に高速回転させると偏向手段の発熱や騒音、電力等の問題点が生じる。また偏向面の面数を増やすと、さらに偏向手段が大型化し、同様に偏向手段の発熱や騒音、電力等の問題点が生じる。
【０００８】
これに対し光源手段から出射された光束を偏向手段の偏向面に対し、該偏向面の主走査方向の幅より広い状態で入射させるオーバーフィルド走査光学系（以下「ＯＦＳ」と称す。）が用いられてきた(特許文献１参照)。
【０００９】
ＯＦＳは、ＵＦＳに比べ偏向手段そのものが小さく、更なる高速回転や反射面数の増加が可能である。しかしＯＦＳは光束を偏向手段の偏向面に対し、該偏向面の主走査方向の幅より広い状態で入射させ、光束の一部を偏向面で切り取るようにしているので光エネルギーの利用効率がＵＦＳより低い分、光源手段の出力パワーが必要という問題点がある。しかし、近年ではハイパワーの半導体レーザーが登場しており、この問題点は解決されている。
【００１０】
ＯＦＳでは偏向反射器の法線に対して入射光束を、主走査方向（主走査断面内）では正面から、副走査方向（副走査断面内）については角度をつけて入射させる斜入射方式が多く用いられている。その際、偏向手段に対する入射光束の副走査方向の入射角度の制限を解消する必要がある。このため、結像光学系（走査レンズ）のうち偏向手段近傍の結像レンズに入射光学系からの入射光束と偏向面からの偏向光束を通過させる所謂ダブルパス方式を用いた走査光学装置が知られている（特許文献２）。
【００１１】
ダブルパス方式では、結像レンズに光束を２度通過させるため、入射光束の一部が結像レンズの表面で反射して感光ドラムに達してフレアーやゴーストが発生することがある。このときの、フレアーやゴーストの発生を防止するため、結像レンズのレンズ表面からの反射光を遮光する遮光手段を用いた走査光学装置が知られている（特許文献３）。
【００１２】
入射光学系での収差補正を良好に行いつつ、入射光学系にプラスチックレンズを採用した際に環境時の昇温によるピントズレを入射光学系に回折光学素子を用いて軽減した走査光学装置が知られている（特許文献４）。
【特許文献１】特開平０８−１７１０７０号公報
【特許文献２】特開２００６−０７１８９３号公報
【特許文献３】特開２００６−７２３３９号公報
【特許文献４】特開２００５−２４１７２７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
走査光学装置に用いる回折光学素子は、一般的に使用次数の回折効率ができるだけ高くなるように回折格子の形状が定められている。その結果、回折格子形状はピッチが数十μｍ〜、高さ方向が波長オーダのという寸法になる。また、製造方法は一般的には型による成形や切削加工、半導体製造プロセス応用加工等に製造されている。
【００１４】
製造された回折格子の形状が設計値に比較し誤差を生じると、使用次数の回折光の回折効率が低減し、非使用次数の回折光（不要回折光）の回折効率が増大してくる。特に増大が著しいのは使用次数に隣接する回折次数の回折光である。回折格子の形状が誤差をもって製造されると、たとえば使用次数が＋１次回折光として回折格子の形状を設定した回折光学素子では、使用次数に隣接する次数の＋２次回折光と０次回折光が特に増大する。
【００１５】
精度が不十分な形状より成る回折光学素子を使用して組み立てられた走査光学系では、＋２次回折光は被走査面より手前、０次回折光は被走査面上より奥に結像するようになる。この結果、＋２次回折光と０次回折光は、被走査面上ではスポットが肥大した状態で偏向走査される。幸いにもスポットが大きく肥大した状態で走査されるために、画像への影響は小さい。
【００１６】
しかしながら、入射光束がダブルパスする方式を用いると偏向手段近傍の結像レンズ（走査レンズ）の表面では、＋１次の使用回折光と同様に、＋２次回折光と０次回折光の一部もレンズ表面で反射する。このときのレンズ表面からの反射の様子について、図１０を用いて説明する。
【００１７】
図１０は特許文献２で開示されている走査光学系の副走査断面図である。簡略化し偏向手段近傍のみを示す。図中、５は偏向手段としてのポリゴンミラーである。４４は入射光学系の一部を構成する少なくとも副走査方向にパワーを有すアナモフックレンズである。
【００１８】
不図示の光源手段はアナモフィックレンズ４４より右方にあり、光源手段から発した光束は不図示のコリメート光学系により平行光束に変換されアナモフィックレンズ４４に入射する。アナモフィックレンズ４４は入射した平行光束を偏向手段５上に光束を集光する機能を持つとともに入射面もしくは出射面に回折格子を形成している。回折格子は１次光を使用回折光として形状が最適化されており、偏向手段５に集光する光束は１次回折光である。
【００１９】
図中の実線が１次回折光である。６３は偏向手段近傍に設けられた結像レンズの一部であり、図１０に示されるように、偏向手段５に向かう入射光束と偏向手段５によって偏向走査された偏向光束の両方が通過するダブルパス方式となっている。
【００２０】
特許文献３では偏向手段５に向かう１次回折光の一部は結像レンズ６３の表面で反射されゴースト光となる。１次回折光のゴースト光の集光位置近傍に遮光板９を設け、ゴースト光が被走査面上に向かわないように構成している。
【００２１】
この構成では＋２次回折光と０次回折光の結像レンズ６３のレンズ表面からの反射光を効果的に遮光するのが難しい。
【００２２】
図１０では、＋２次回折光を破線の光束として示している。図１０に示されるように遮光板９上での光束幅は＋１次回折光の表面反射光に比べ＋２次回折光の表面反射光が幅広い。
【００２３】
不図示であるが０次回折光についても同様に遮光板９上での光束の太さが＋１次回折光の表面反射光に対して幅広くなっている。このため＋１次回折光を遮光するために設けた遮光板９では他の次数の回折光によるフレアーが遮光板９を超えて被走査面上に向かう場合がある。
【００２４】
本発明は環境変化によるピントズレを補正するために入射光学系に回折光学素子を用いた場合、＋１次回折光の表面反射光ばかりでなく＋２次回折光と０次回折光の表面反射光の影響を低減し、良好なる画像形成が容易な走査光学装置の提供を目的とする。
【００２５】
ここで、表面反射光は被走査面上にスポットを結ぶ光束の一部が表面反射した反射光束である。
【課題を解決するための手段】
【００２６】
本発明の走査光学装置は、光源手段と、前記光源手段から出射された光束の集光状態を変化させる入射光学手段と、前記入射光学系からの光束を偏向走査する偏向手段と、前記偏向手段の偏向面にて偏向走査された光束を被走査面上に結像させる結像光学系と、を有する走査光学装置において
前記入射光学手段は、少なくとも１つの回折光学素子を有し、
前記結像光学系を構成する結像光学素子のうち前記偏向手段に最も近い第１の結像光学素子は前記入射光学手段からの光束と前記偏向手段の偏向面にて偏向走査された光束が通過する位置に配置されており、
前記第１の結像光学素子の主走査方向の焦点距離をＦｍと副走査方向の焦点距離をＦｓとするとき
Ｆｍ＜Ｆｓ
であり、前記回折光学素子の使用回折次数に対し隣接する次数の回折光のうち少なくとも一方の回折光は、副走査断面内において、前記偏向手段と前記第１の結像光学素子の間に集光していることを特徴としている。
【発明の効果】
【００２７】
本発明によれば、入射光学系に回折光学素子を使用し、ダブルパスタイプを用いたとき回折光学素子からの、不要回折光を含めたレンズ表面で反射されるゴースト光の影響を低減するころができ、光学性能の環境安定性が良好な走査光学装置が得られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２８】
本発明の走査光学装置は、１以上の光束を発する（発光点を有する）光源手段と、光源手段から出射した光束の集光状態を変化させて偏向手段に入射させる１以上の回折格子を含む入射光学手段を有している。
【００２９】
偏向手段の偏向面で偏向された光束を被走査面上に結像させる複数の結像光学素子を含む結像光学系を有している。
【００３０】
結像光学系を構成する光学素子のうち、偏向手段に最も近い第１の結像光学素子は入射光学手段からの光束と偏向手段によって偏向走査された光束が通過する位置に配置されており、これにより、ダブルパス方式を構成している。
【００３１】
第１の結像光学素子の主走査方向の焦点距離をＦｍと副走査方向の焦点距離をＦｓとするとき
Ｆｍ＜Ｆｓ
である。
【００３２】
回折光学素子の使用回折次数（設計次数、例えば１次）に対し隣接する次数（２次、０次）の回折光のうち少なくとも一方の回折光は副走査断面内において、偏向手段と第１の結像光学素子の間に集光している。
【実施例１】
【００３３】
本発明の各実施例の走査光学装置を説明する。
【００３４】
図１は本発明の走査光学装置の実施例１の主走査断面図、図２は本発明の走査光学装置の実施例２の副走査断面図である。
【００３５】
尚、以下の説明において、副走査方向（Ｚ方向）とは、偏向手段の回転軸と平行な方向である。主走査断面とは、副走査方向（偏向手段の回転軸と平行な方向）を法線とする断面である。主走査方向（Ｙ方向）とは、偏向手段で偏向走査される光束を主走査断面に投射した方向である。副走査断面とは、主走査方向を法線とする断面である。
【００３６】
図中、１は、１以上の光束を出射する光源手段であり、例えば半導体レーザーより成っている。
【００３７】
２は集光レンズ（コリメータレンズ）であり、光源手段１より出射された光束を平行光束（もしくは発散光束もしくは収束光束）に変換している。
【００３８】
３はシリンドリカルレンズ（シリンダレンズ）であり、副走査方向（副走査断面内）のみに有限のパワー（屈折力）を有している。
【００３９】
４は補正素子であり、アナモフィックレンズ（入射アナモレンズ）より成り、入射面が主走査方向（主走査断面内）と副走査方向とで互いに異なるパワーを持つアナモフィックな非球面より成っている。またアナモフィックレンズ４は、その出射面にフラットな面に回折格子が付与されている。
【００４０】
尚、集光レンズ２、シリンドリカルレンズ３、補正素子４、そして後述する第１の結像レンズ６１の各要素は入射光学系ＬＡの一要素を構成している。
【００４１】
５は偏向手段（光偏向器）であり、モーター等の駆動手段（不図示）により図中矢印ＹＡ方向に一定速度で回転している。本実施例における偏光手段５は１０面のポリゴンミラーより成っている。本実施例はＯＦＳより成り、この偏向面５１の幅が主走査方向の実質的な絞りの役目を果たす。
【００４２】
６は結像光学系であり、主走査断面内と副走査断面内とで異なるパワーを有する第１の結像レンズ（第１の結像光学素子）６１と第２の結像レンズ（第２の結像光学素子）６２を有している。結像光学素子としての第１、第２の結像レンズ６１、６２はいずれも樹脂より成るアナモフィックレンズである。結像光学系６は、偏向手段５の偏向面によって偏向走査された画像情報に基づく光束を主走査断面内において被走査面としての感光ドラム面７上にスポットに結像させている。かつ副走査断面内において偏向手段５の偏向面５１と感光ドラム面７との間を光学的に共役関係にすることにより、面倒れ補正を行っている。また第１の結像レンズ６１は入射光学系ＬＡの一部をも構成している。
【００４３】
また本実施例では偏向手段５に入射する光束(入射光束)が第１の結像レンズ６１を通過し、該偏向手段５で偏向走査された光束(走査光束)が再度、第１の結像レンズ６１に入射するダブルパス構成としている。
【００４４】
７は被走査面としての感光ドラム面である。
【００４５】
本実施例では、同期信号検出手段を有し、同期信号検出手段で得られた同期信号（同期検出用信号）を用いて感光ドラム面７上への画像記録の走査開始位置のタイミングを調整している。
【００４６】
本実施例において、半導体レーザー１から光変調され出射した発散光束は集光レンズ２
によって平行光束に変換される。そして、シリンドリカルレンズ３によって一度収束光束に変換されて補正素子（アナモフィックレンズ）４に入射している。補正素子４に入射した光束のうち、副走査断面内における光束は収束して第１の結像レンズ６１を通過（ダブルパス構成）して偏向手段５の偏向面５１に入射し、該偏向面５１に線像（主走査方向に長手の線像）として結像している。このとき偏向面５１に入射する光束を偏向手段５の回転軸と結像光学系６の光軸を含む副走査断面内から、偏向手段５の回転軸と垂直な平面（偏向手段５の回転平面）に対して有限の角度（α＝＋１．５度）をもって斜め方向から入射させている。これにより入射光束と偏向光束とを分離している（斜入射光学系）。
【００４７】
一方、主走査断面内における光束は発散して第１の結像レンズ６１を通過することによって平行光束に変換され、偏向手段５の偏向角の中央から偏向面５１に入射している（正面入射）。
【００４８】
このときの平行光束の光束幅は主走査方向において偏向手段５の偏向面５１のファセット幅に対して十分広くなるように設定している（オーバーフィルド光学系ＯＦＳ）。
【００４９】
そして偏向手段５の偏向面５１で偏向走査された光束は、第１、第２の結像レンズ６１、６２を介して感光ドラム面７に導光される。そして偏向手段５を矢印ＹＡ方向に回転させることによって、該感光ドラム面７上を矢印ＹＢ方向（主走査方向）に等速走査している。
【００５０】
これにより記録媒体としての感光ドラム面７上に画像記録を行っている。
【００５１】
以上のように本実施例の走査光学装置は図２に示すように副走査断面（紙面に対して平行な面）内で、ポリゴンミラー（偏向手段）５の偏向面５１の垂線に対して所定の入射角度α（α≠０）で斜めに光束を入射させている斜入射走査光学系である。
【００５２】
また図２に示すように、副走査断面内で所定の入射角度α＝１．５度で偏向面５１へ入射した入射光束Ｌｉと偏向面５１によって偏向反射された偏向光束Ｌｏは結像光学系（Ｆθレンズ）６の一部を通過する。即ち、第１の結像レンズ（第１の結像光学素子）６１を通過する所謂ダブルパスを構成している。
【００５３】
次に実施例１における集光レンズ２から被走査面７に至る走査光学系の各要素の諸元を表１に示す。
【００５４】
ただし、表現式を以下のように定義する。
【００５５】
・レンズ面形状（トーリック形状）‥‥‥主走査方向が１０次までの関数で表せる非球面形状である。光軸との交点を原点とし、光軸方向をｘ軸、主走査面内において光軸と直交する軸をｙ軸、副走査断面内において光軸と直交する軸をｚ軸としたとき、主走査方向と対応する母線方向が、
【００５６】
【数１】
2010096897.tif 000003
（但し、Ｒ  は曲率半径、Ｋ、Ｂ４、Ｂ６、Ｂ８、Ｂ１０  は非球面係数）
で表わされる。また副走査方向（光軸を含み主走査方向に対して直交する方向）と対応する子線方向が、
【００５７】
【数２】
2010096897.tif 000004
ここで  ｒ’＝ｒ０（１＋Ｄ２Ｙ２＋Ｄ４Ｙ４＋Ｄ６Ｙ６＋Ｄ８Ｙ８＋Ｄ１０Ｙ１０）
（但し、ｒ０は光軸上の子線曲率半径、Ｄ２、Ｄ４、Ｄ６、Ｄ８、Ｄ１０は係数）
で表わされる。
【００５８】
・回折格子の形状‥‥‥主走査方向が１０次まで、副走査方向が主走査方向の位置により異なる２次の位相関数で表される回折面である。
【００５９】
φ＝ｍλ＝  ｂ２Ｙ２＋ｂ４Ｙ４＋ｃ２２Ｙ２Ｚ２＋ｄ２Ｚ２＋ｄ４Ｚ４
（但し、ｍは回折次数：＋１次回折光を使用）
である。
【００６０】
偏向手段５はφ（直径）１７．０（ｍｍ）に内接する１０面のポリゴンミラーであり、偏向面５１の主走査方向の幅は５．２５ｍｍである。ＯＦＳではこの偏向面５１の幅が主走査方向の絞りの役目を果たす。副走査方向の絞りは図１には示されていないが、光源手段１から偏向手段５に至る光路上に設けると構成しやすい。
【００６１】
偏向手段５にα＝１．５°の入射角度で光束を斜入射させることによって被走査面７における光束のスポットが回転し、更に被走査面７上の走査線が湾曲する。スポット及び走査線の直線性を良好に補正するために、第１の結像レンズ６１に対して第２の結像レンズ６２の副走査断面内の光軸離間距離をｄＺｇ２＝５．８ｍｍとしている。
【００６２】
次に集光レンズ２、シリンダレンズ３、補正素子４及び第１の結像レンズ６１を有する入射光学系の光学作用を説明する。
【００６３】
光源手段１から放射された発散光束は集光レンズ２によって平行又は略平行光に変換される。
【００６４】
まず主走査方向については、平行光束に変換された入射光束は、主走査方向にパワーをもつシリンダレンズ３によって、主走査方向に略収束光に変換される。その後に補正素子４及び第１の結像レンズ（第１の結像光学素子）６１によって再度平行光束に変換され、さらに偏向手段５の１つの偏向面５１の主走査方向の幅より広い光束幅で偏向手段５に入射されている。
【００６５】
次に副走査方向においては、集光レンズ２で平行光束に変換された入射光束は、シリンダレンズ３を通過し、補正素子４により収束光束に変換され、偏向手段５の１つの偏向面５１又はその近傍に集光する。
【００６６】
よって偏向面５１又はその近傍に光束は線像を形成している。図１からも明らかなように第１の結像レンズ６１の光軸Ｌｉａと入射光線の主光線は、副走査断面に垂直な面（主走査断面）（紙面）に投影してみると、互いに重複又は並行である。
【００６７】
さらに偏向手段５の回転中心５ａは第１の結像レンズ６１の光軸Ｌｉａの延長にある。この結果、第１の結像レンズ６１の光軸Ｌｉａと入射光線Ｌｉの主光線と偏向手段５の回転中心５ａは同一平面内（副走査断面内）に構成される。
【００６８】
偏向手段５では、偏向面５１の主走査方向の幅より広い状態で入射してきた入射光束Ｌｉの一部を偏向面５１で切り取るようにして光束を反射偏向しＦθレンズ（結像光学系）６に導いている。
【００６９】
よって、被走査面７上の像高に応じて、偏向手段５への入射光束の異なる部分を使用することになる。たとえば、被走査面７上の中央部に導かれる光束は偏向手段５の偏向面５１への入射光束の中央部分が使用される。被走査面７の周辺部に導かれる光束は偏向手段５の偏向面５１への入射光束の周辺部分が使用される。
【００７０】
次に走査光学系の一部を構成する結像光学系（Ｆθレンズ）６の構成と光学作用について述べる。
【００７１】
Ｆθレンズ６は、樹脂製の第１の結像レンズ６１と樹脂製の第２の結像レンズ６２の２枚構成である。偏向手段５で偏向走査された光束（偏向光束）Ｌｏを被走査面７上に結像しビームスポットを形成すると共に被走査面７上を等速走査する。
【００７２】
樹脂製の第１、第２の結像レンズ６１、６２は、金型に樹脂を充填させ冷却後に型から取り出す既知の成形技術にて製造される。これにより材料より成るガラスレンズを使用したＯＦＳ用の結像レンズより簡単に製造することができる。
【００７３】
表１に示すごとく、主に主走査方向にパワーを有する第１の結像レンズ６１は、レンズ面形状は与式の関数で表現された非球面形状である。第１の結像レンズ６１は副走査断面内のパワーφｓより主走査断面内のパワーφｍの方が大きく（φｓ＜φｍ）、かつ、主走査断面の面は非円弧で偏向手段５側に凹面を向けた正のメニスカス形状である。
【００７４】
主走査断面内の面形状は光軸に対して対称である。副走査方向の面は入射面と出射面が同じ曲率のノンパワーの形状である。
【００７５】
ここで、略ノンパワーとはパワーをφとするとき
０≦φ＜０．００１
である。
【００７６】
例えば両面が副走査方向にフラットなシリンダー形状より成っている。入射した光束に対し主に主走査方向に結像している。
【００７７】
一方の第２の結像レンズ６２は表１に示すごとく主に副走査方向にパワーを持つアナモフィックレンズより成っている。レンズ面形状は与式の関数で表現された非球面形状である。第２の結像レンズ６２は主走査断面内のパワーφｍより副走査断面内のパワーφｓの方が大きく（φｍ＜φｓ）、かつ、主走査断面の入射面が円弧であり他の面が非円弧の形状をしている。
【００７８】
主走査断面内の面は光軸に対して対称形状であり、軸上近傍の主走査方向はノンパワー又は略ノンパワーの形状である。副走査断面の面形状は入射面の曲率が極めて緩い平面又は略平面、出射面が軸上から軸外にかけて曲率が徐々に変化する凸形状であり、光軸に対して対称形状をしている。
【００７９】
入射した光束に対し主に副走査方向の結像及び主走査方向の若干の歪曲収差の補正を担っている。第１、第２の結像レンズ６１、６２からなるＦθレンズ６による副走査方向の結像関係は、偏向面５１と被走査面７が共役関係又は略共役関係となる所謂倒れ補正系となっている。
【００８０】
なお、Ｆθレンズ６は必ずしも表１に示されるような関数表現式である必要はなく既知の表現式であっても良い。
【００８１】
Ｆθレンズ６は１枚又は３枚以上のレンズから成っていても良い。
【００８２】
第１の結像レンズ６１の主走査方向と副走査方向の焦点距離を各々Ｆｍ、Ｆｓとするとき表１に示されるが如くＦｍ＜Ｆｓである。
【００８３】
補正素子４の入射面４１は主走査方向と副走査方向が異なるパワーを持つアナモフィックな非球面形状より成っている。また出射面４２はフラットなベース面上に回折格子を形成して回折光学素子を構成している。入射面４１の非球面形状は主に第１の結像レンズ６１で発生する球面収差を補償する作用を有し、出射面４２の回折格子は主に結像レンズ６が昇温した時のピント変動（色収差）を補償する作用を有する。
【００８４】
本実施例では回折格子による１次回折光（使用回折次数）を利用している。さらに、回折格子の高次項による非球面効果で、第２の結像レンズ６２で発生する球面収差を補償、もしくは低減する特性をもつように構成されている。この結果、被走査面７上の像高に応じて第２の結像レンズ６２で発生する球面収差を、回折格子を有する補正素子（回折光学素子）４で補償している。
【００８５】
次に図３を用いて補正素子（回折光学素子）４から生ずる不要回折光の光路について説明する。図中番号は図１、図２と共通である。９は遮光部材である。
【００８６】
図３において、偏向手段５から第１の結像レンズ６１（第１の結像光学素子）の（入射光束の）入射面（図中右側の面）６１ｓまでの距離をＳ１とする。また第１の結像レンズ６１の入射面６１ｓから遮光板（遮光部材）９迄の距離をＳ２とする。また偏向手段５から＋２次回折光（使用回折次数に対し隣接する次数の回折光）までの距離をＡとする。
【００８７】
このとき、
０．５＜ｓ２／ｓ１＜１．５    ・・・式１
を満足するように構成している。更に好ましくは、
０．７５＜ｓ２／ｓ１＜１．２５  ・・・式２
を満足するように構成している。
【００８８】
本実施例ではＳ１＝５３．０（ｍｍ）である。よって＋１次回折光の一部が第１の結像レンズ６１の入射面６１ｓで反射したゴースト光はＳ２≒５３（ｍｍ）に集光する。
【００８９】
＋２次回折光についてトレースすると距離Ａ＝５１．０（ｍｍ）であり、遮光部材９上では＋２次回折光の一部が第１の結像レンズ６１の入射面６１ｓで反射したゴースト光の光束幅は、１．０５ｍｍである。０次回折光についてトレースすると距離Ａ＝−１５９．１であり、遮光部材９上では＋２次回折光の一部が第１の結像レンズ６１の入射面６１ｓで反射したゴースト光の光束幅は、１．０５ｍｍである。
【００９０】
＋２次回折光、０次回折光の集光点のうち、＋２次回折光が偏向手段５と第１の結像素子（結像レンズ６１）の間にある。
【００９１】
次に本発明の比較例として特開２００６−７１８９３号公報で記載された数値実施例を用いる。
【００９２】
図１０は比較例で開示されている数値実施例に基づく副走査断面内の要部概略図である。
【００９３】
尚、比較例において遮光板（遮光部材）９は開示されていないが、図１０において本発明と対比するために示している。
【００９４】
図１０において、偏向手段５から結像光学系（走査レンズ）の一部である第１の結像レンズ６３（第１の結像光学素子）の（入射光束の）入射面（図中右側の面）６３ｓまでの距離をＳ１とする。また第１の結像レンズ６３の入射面６３ｓから遮光部材９迄の距離をＳ２とする。
【００９５】
また偏向手段５から＋２次回折光までの距離をＡとする。比較例に記載の数値実施例ではＳ１＝５３．０（ｍｍ）である。よって＋１次回折光の一部が第１の結像レンズ６３の入射面６３ｓで反射したゴースト光はＳ２≒５３（ｍｍ）に集光する。
【００９６】
＋２次回折光についてトレースするとＡ＝９６．０（ｍｍ）となることがわかった。この結果遮光板９上では＋２次回折光の一部が第１の結像レンズ６３の入射面６３ｓで反射したゴースト光の光束幅は、２．１５ｍｍであった。
【００９７】
また、０次回折光についてトレースするとＡ＝−４３４．９（ｍｍ）となることがわかった。つまり＋２次回折光、０次回折光ともに集光点は偏向手段５と第１の結像光学素子（第１の結像レンズ６３）の間にない。
【００９８】
この結果、遮光部材９上では０次回折光の一部が第１の結像レンズ６３の入射面６３ｓで反射したゴースト光の光束幅は、２．１５ｍｍであった。
【００９９】
これに対して本発明の実施例１によれば、前述した如く比較例に対し遮光部材９上での＋２次回折光、０次回折光の反射ゴースト光の幅が半減しており、より小さな遮光部材でも効率よく遮光できる。
【０１００】
次に図４を用いて遮光部材９の大きさについて説明する。図４は図３の一部を簡略化して記載している。偏向手段５は偏向面５１のみを記載し、第１の結像レンズ６１は入射面６１Ｓのみを記載している。
【０１０１】
また、使用回折次数に対し隣接する次数の回折光のうち＋２次回折光の集光点から偏向手段５までの距離をＡとする。
【０１０２】
使用回折次数である１次光回折光が偏向手段５１に入射する時の光束の開き角２Θとする。
【０１０３】
補正素子４（回折光学素子）と偏向面５１の距離Ｆｃｌとする。
【０１０４】
偏向面５１から第１の結像レンズ６１（第１の結像光学素子）の入射面６１Ｓまでの距離をＳ１とする。
【０１０５】
第１の結像レンズ６１の入射面６１Ｓから遮光部材９までの距離Ｓ２とする。
【０１０６】
このとき、図４から明らかなように、遮光部材９付近での＋２次回折光ＤＦ２と中心線（光軸Ｌｉａ）との距離は
ｆｃｌ＊ｓｉｎΘ＊Ａ／（Ｆｃｌ−Ａ）
である。
【０１０７】
一方、遮光部材９付近での走査光束ＬＲと中心線Ｌｉａとの距離は
（Ｓ１＋Ｓ２）ＴＡＮ（α−Θ）
となる。
【０１０８】
しかし、実際には製造時の各部品の取り付け精度や使用環境の影響を勘案し、走査光束ＬＲやゴースト光の振れを考慮する必要がある。
【０１０９】
実験の結果、光線の振れ量として０．５ｍｍのマージンが必要であることがわかった。したがって
ｆｃｌ＊ｓｉｎΘ＊Ａ／（Ｆｃｌ−Ａ）＋０．５＜（Ｓ１＋Ｓ２）ＴＡＮ（α−Θ）−０．５
となる。
【０１１０】
すなわち、本実施例では
ｆｃｌ＊ｓｉｎΘ＊Ａ／（Ｆｃｌ−Ａ）＜（Ｓ１＋Ｓ２）ＴＡＮ（α−Θ）−１．０・・・式３
となるように構成している。
【０１１１】
本件の実施例１では前述した各パラメータは
ｆｃｌ    １５０．０３ｍｍ
θ        ０．００７ｒａｄ
α        ０．０２６ｒａｄ
Ａ        ５０．９８ｍｍ
Ｓ１      ５３．００ｍｍ
Ｓ２      ５３．００ｍｍ
左辺      ０．５３
右辺      １．０５
となり、式３を満たす。
【０１１２】
また、
Ｓ１／Ｓ２＝５３．０
である事から、
０．５＜ｓ２／ｓ１＜１．５    ・・・式１
をさらには、
０．７５＜ｓ２／ｓ１＜１．２５  ・・・式２
を満たすことがわかる。
【０１１３】
一方、比較例では
ｆｃｌ    ２４６．４３ｍｍ
θ        ０．００７ｒａｄ
α        ０．０２６ｒａｄ
Ａ        ９５．９９ｍｍ
Ｓ１      ５３．００ｍｍ
Ｓ２      ５３．００ｍｍ
左辺      １．０７ 
右辺      １．０５ 
と式３を満たさない。
【０１１４】
以上のように、本実施例では結像光学系６の一部の結像レンズをダブルパスする走査光学系を用いている。
【０１１５】
そして、入射光学系は回折光学素子を有し、使用次数を＋１次回折光としたとき、その隣接する次数（＋２次と０次）の回折光の集光点を偏向手段５の偏向面５１と第１の結像レンズ６１の間に設定した。
【０１１６】
これにより、遮光部材９上での隣接する次数（＋２次と０次）の回折光（不要光）の光束幅が狭くなり、これを効率的に遮光している。
【０１１７】
本実施例では第１の結像レンズ６１（第１の結像光学素子）の入射面６１ｓに着目して事例を述べたが、第１の結像レンズ６１（第１の結像光学素子）の出射面についても同様に適用できる。
【０１１８】
第１の結像レンズ６１の肉厚が薄いときは入射面と出射面はほぼ同位置にあるとして設計することも可能である。肉厚が厚いときは個別に反射ゴーストを算定し、両立させるように＋２次回折光と０次回折光の集光位置を算定してもよい。
【０１１９】
また、使用回折次数は＋１次に限ることなく、別の次数に対しても応用できる。
【０１２０】
【表１】
2010096897.tif 000005
【実施例２】
【０１２１】
図５、図６は本発明の実施例２の主走査断面と副走査断面の腰部概略図である。表２、表３に実施例２の数値例を示す。
【０１２２】
図５は主走査配置図と図６の副走査配置図において、半導体レーザーからなる光源手段１、集光レンズ２、シリンダレンズ３、補正素子４、偏向手段としてのポリゴンミラー５、結像光学系（Ｆθレンズ）６、被走査面７等は実施例１と同様である。
【０１２３】
Ｆθレンズ６は樹脂製の第１の結像レンズ６１，樹脂製の第２の結像レンズ６２より成る。
【０１２４】
本実施例の走査光学系は、図６に示すよう副走査断面（紙面に対して平行な面）内で、ポリゴンミラー（偏向手段）５の偏向面５１の垂線に対して所定の入射角度θ（θ≠０）で斜めに光束を入射させている斜入射走査光学系である。
【０１２５】
また図６に示すように、副走査断面内で所定の入射角度α＝１．５度で偏向面５１へ入射した入射光束Ｌｉと偏向面５１によって偏向反射された偏向光束Ｌｏは結像光学系（Ｆθレンズ）６の一部を通過している。即ち第１の結像レンズ６１を通過する所謂ダブルパスを構成している。
【０１２６】
ただし、表現式は実施例１と同等とする。
【０１２７】
表３は、表２におけるｒ５、ｒ７、ｄ２、ｄ４の値の組合せ事例を７つ示している。
【０１２８】
偏向手段５はφ（直径）１７．０ｍｍに内接する１０面のポリゴンミラーであり、偏向面５１の主走査方向の幅は５．２５ｍｍである。
【０１２９】
ＯＦＳではこの偏向面５１の幅が主走査方向の絞りの役目を果たす。副走査方向の絞りは図５には示されていないが、光源手段１から偏向手段に至る光路上に設けると構成しやすい。
【０１３０】
偏向手段５に１．５°の入射角度で光束を斜入射させることによって生じる被走査面７における光束のスポットが回転し、更に被走査面７上の走査線が湾曲する。スポット及び走査線の直線性を良好に補正するために、第１の結像光学素子６１に対して第２の結像光学素子６２の副走査断面内の光軸離間距離をｄＺｇ２＝５．８ｍｍとしている。
【０１３１】
集光レンズ２、シリンダレンズ３、補正素子４及び第１の結像レンズ６１を有する入射光学系の光学作用は実施例１と同様である。
【０１３２】
また、第１、第２の結像レンズ６１、６２の光学作用も実施例１と同様である。
【０１３３】
補正素子４は入射面４１が主走査方向と副走査方向が異なるパワーを持つアナモフィックな非球面形状より成っている。また出射面４２はフラットなベース面上に回折格子を形成して、回折光学素子を構成している。
【０１３４】
入射面４１の非球面形状は主に第１の結像レンズ６１で発生する球面収差を補償する作用を有し、出射面４２の回折格子は主に結像レンズ６が昇温した時のピント変動（色収差）を補償する作用を有する。
【０１３５】
さらに、回折格子の高次項による非球面効果で、第２の結像レンズ６２で発生する球面収差を補償、もしくは低減する特性をもつように構成されている。
【０１３６】
この結果、被走査面７上の像高に応じて第２の結像レンズ６２で発生する球面収差を、回折格子を有する補正素子（回折光学素子）４で補償しているのである。
【０１３７】
次に図７を用いて補正素子４から生ずる不要回折光の光路について説明する。図中番号は図５、図６と共通である。９は遮光部材である。
【０１３８】
図７において、偏向手段５から第１の結像レンズ６１（第１の結像光学素子）の（入射光束の）入射面（図中右側の面）６１ｓまでの距離をＳ１とする。
【０１３９】
また第１の結像レンズ６１の入射面６１ｓから遮光板９迄の距離をＳ２とする。また偏向面５１から＋２次回折光までの距離をＡとする。
【０１４０】
本実施例ではＳ１＝５３．０（ｍｍ）である。よって＋１次回折光の一部が第１の結像レンズ６１の入射面６１ｓで反射したゴースト光はＳ２≒５３（ｍｍ）に集光する。
【０１４１】
表３の組合せ１〜５までの＋２次回折光についてトレースすると距離Ａ＝４９．０〜０．５（ｍｍ）である。また、表３の組合せ６〜７までの０次回折光についてトレースするとＡ＝６．０〜２５．６（ｍｍ）である。
【０１４２】
＋２次回折光、０次回折光の集光点のうち、どちらかが偏向手段５と第１の結像光学素子（第１の結像レンズ６１）の間にあることがわかる。
【０１４３】
実施例１で説明した通り、＋２次回折光、０次回折光の集光点のうち、どちらかが偏向手段５と第１の結像光学素子（第１の結像レンズ６１）の間にあるとする。このとき、遮光部材９上での＋２次回折光、０次回折光の反射ゴースト光の幅が小さくなり、より小さな遮光部材でも効率よく遮光できることがわかる。
【０１４４】
以上のように、本実施例では結像光学系６の一部の結像レンズをダブルパスする走査光学系を用いている。そして入射光学系は回折光学素子を有し、使用次数を＋１次回折光としたとき、その隣接する次数（＋２次と０次）の回折光の集光点を偏向手段５の偏向面５１と第１の結像レンズ６１の間に設定した。
【０１４５】
これにより、遮光部材９上での隣接する次数（＋２次と０次）の回折光（不要光）の光束幅が狭くなり、これを効率的に遮光している。
【０１４６】
本実施例では第１の結像レンズ６１（第１の結像光学素子）の入射面６１ｓに着目して事例を述べたが、第１の結像レンズ６１（第１の結像光学素子）の出射面についても同様に適用できる。
【０１４７】
第１の結像レンズ６１の肉厚が薄いときは入射面と出射面はほぼ同位置にあるとして設計することも可能である。肉厚が厚いときは個別に反射ゴーストを算定し、両立させるように＋２次回折光と０次回折光の集光位置を算定してもよい。
【０１４８】
また、使用回折次数は＋１次に限ることなく、別の次数に対しても応用できる。
【０１４９】
【表２】
2010096897.tif 000006
【０１５０】
【表３】
2010096897.tif 000007
【実施例３】
【０１５１】
図８は本発明の実施例３の副走査断面図である。図中の各番号は実施例１〜２と同じ要素を示す。
【０１５２】
本実施例３は実施例１もしくは実施例２の走査光学系を副走査断面において上下方向（回転軸方向）に反転し２つの走査光学系ＳＴ１、ＳＴ２を配置した構成である。
【０１５３】
まず、２つの走査光学系を光源手段１から補正素子４まではそれぞれ別々に設け、上下方向に２段に配置する。
【０１５４】
双方の光軸Ｌａ１、Ｌｂ１は副走査断面内で相対的に３°の角度を有しており、偏向面５１に入射する光束の角度が±１．５°となるように配置する。上下の走査光学系ＳＴ１、ＳＴ２の光路は補正素子４の後方（偏向手段５側）で副走査断面内で交差しており、その後、共通の第１の結像光学素子６１を通過して単一の偏向手段５に達する。偏向手段５の偏向面５１上で２つの光束が副走査方向に離間した位置に入射させている。
【０１５５】
偏向手段５によって偏向された光束は再度第１の結像光学素子６１を通過して、それぞれの光路上に設けられた第２の結像光学素子６２を通過後、それぞれの被走査面７上に結像走査される。
【０１５６】
このように走査光学系ＳＴ１、ＳＴ２を副走査方向に二段に配置することで偏向手段５および偏向手段駆動系（不図示）と第１の結像光学素子６１を共用して複数の被走査面を同時に走査することができる。部品点数の削減と構成の簡素化を容易にする。
【０１５７】
このとき、第１の結像光学素子６１では２つの光路がそれぞれ２度通過し（ダブルパスし）、合計４つの光束が副走査断面内で別々の場所、すなわち光軸から離れた軸外を通過している。
【０１５８】
表１もしくは表２に示される如く、第１の結像光学素子６１の副走査断面の曲率は入出射面で非常に緩い同じ曲率にし、パワー（屈折力）をほぼゼロとしている。
【０１５９】
このため合計４つの光束が副走査断面内で別々の場所、すなわち光軸から離れた軸外を通過しても平行平板を通過するが如く収差の悪化は少ない（厳密には軽微なコマ収差が各光路で同等に生じる）。
【０１６０】
さらに、第１の結像光学素子６１のパワーがほぼゼロである事でダブルパスしているのも関わらず昇温時の光学性能の劣化も低減できる。
【０１６１】
第１の結像光学素子６１が副走査断面でパワーをもつように各面の曲率を設けると、光軸から離れるほど球面収差の影響を受け、光線としては大きなコマ収差を生じる。また、昇温時の材料の屈折率の変動により光路の屈折角がずれて、被走査面における光束の照射位置が変動してくる。
【０１６２】
本実施例では第１の結像光学素子６１の副走査方向のパワーをほぼゼロとする事で、このような球面収差の影響や環境変動を回避している。
【０１６３】
また上下方向に設けた２つの走査光学系にはそれぞれ遮光板（遮光部材）９が設置され、実施例１や実施例２と同じく、レンズ表面で反射した＋１次回折光や隣接する不要回折光（０次、＋２次）を遮光している。
【実施例４】
【０１６４】
図９は、前述した実施例１、２の走査光学装置を用いた画像形成装置（電子写真プリンタ）の実施形態を示す要部断面図である。
【０１６５】
図９において、符号１０４は画像形成装置を示す。この画像形成装置１０４には、パーソナルコンピュータ等の外部機器１１７からコードデータ（カラーのときは色信号）Ｄｃが入力する。このコードデータＤｃは、画像形成装置１０４内のプリンタコントローラ１１１によって、画像データ（画像信号）（ドットデータ）Ｄｉに変換される。
【０１６６】
この画像データＤｉは、各実施例１、２、３で示した構成を有する走査光学装置（光走査ユニット）１００に入力される。そして、この光走査ユニット（走査光学系）１００からは、画像データＤｉに応じて変調された光ビーム（光束）１０３が射出され、この光ビーム１０３によって感光ドラム１０１の感光面が主走査方向に走査される。
【０１６７】
静電潜像担持体（感光体）たる感光ドラム１０１は、モーター１１５によって時計廻りに回転させられる。
【０１６８】
そして、この回転に伴って、感光ドラム１０１の感光面が光ビーム１０３に対して、主走査方向と直交する副走査方向に移動する。感光ドラム１０１の上方には、感光ドラム１０１の表面を一様に帯電せしめる帯電ローラ１０２が表面に当接するように設けられている。
【０１６９】
そして、帯電ローラ１０２によって帯電された感光ドラム１０１の表面に、光走査ユニット１００によって走査される光ビーム１０３が照射されるようになっている。
【０１７０】
先に説明したように、光ビーム１０３は、画像データＤｉに基づいて変調されており、この光ビーム１０３を照射することによって感光ドラム１０１の表面に静電潜像を形成せしめる。この静電潜像は、光ビーム１０３の照射位置よりもさらに感光ドラム１０１の回転断面内における下流側で感光ドラム１０１に当接するように配設された現像器１０７によってトナー像として現像される。
【０１７１】
現像器１０７によって現像されたトナー像は、感光ドラム１０１の下方で、感光ドラム１０１に対向するように配設された転写ローラ（転写器）１０８によって被転写材たる用紙１１２上に転写される。用紙１１２は感光ドラム１０１の前方（図９において右側）の用紙カセット１０９内に収納されているが、手差しでも給紙が可能である。用紙カセット１０９端部には、給紙ローラ１１０が配設されており、用紙カセット１０９内の用紙１１２を搬送路へ送り込む。
【０１７２】
以上のようにして、未定着トナー像を転写された用紙１１２はさらに感光ドラム１０１後方（図９において左側）の定着器へと搬送される。
【０１７３】
定着器は内部に定着ヒータ（図示せず）を有する定着ローラ１１３とこの定着ローラ１１３に圧接するように配設された加圧ローラ１１４とで構成されている。そして、転写部から撒送されてきた用紙１１２を定着ローラ１１３と加圧ローラ１１４の圧接部にて加圧しながら加熱することにより用紙１１２上の未定着トナー像を定着せしめる。
【０１７４】
更に定着ローラ１１３の後方には排紙ローラ１１６が配設されており、定着された用紙１１２を画像形成装置１０４の外に排出せしめる。
【０１７５】
図９においては図示していないが、プリントコントローラ１１１は、先に説明したデータの変換だけでなく、モーター１１５を始め画像形成装置内の各部や、光走査ユニット１００内のポリゴンモータなどの制御を行う。
【０１７６】
なお、本発明の画像形成装置はモノトーンでプリントするタイプのものであるが、複数の感光体を有し、複数のビームで走査描画するカラー画像形成装置に転用できる。
【０１７７】
例えば４色の画像を重ねるカラーが像形成装置で４本の感光ドラムを有する場合、実施例１、２の走査光学装置では同じ走査光学系を４つ並列すればよい。
【０１７８】
また実施例２の走査光学装置では同じ走査光学装置を２つ並列すればよい。
【図面の簡単な説明】
【０１７９】
【図１】本発明の実施例１の主走査断面図
【図２】本発明の実施例１の副走査断面図
【図３】本発明の実施例１のゴースト光の遮光を説明する図
【図４】本発明の実施例１のゴースト光の遮光を説明する図
【図５】本発明の実施例２の主走査断面図
【図６】本発明の実施例２の副走査断面図
【図７】本発明の実施例２のゴースト光の遮光を説明する図
【図８】本発明の実施例３の副走査断面図
【図９】本発明の画像形成装置の概略図
【図１０】従来例の走査光学装置におけるゴースト光の遮光を説明する図
【符号の説明】
【０１８０】
１  半導体レーザーからなる光源
２  集光レンズ
３  シリンダレンズ
４  補正素子
５  偏向手段
６  Ｆθレンズ
６１  第１の結像レンズ
６２  第２の結像レンズ
７  被走査面
９  遮光部材
１００  走査光学装置
１０１  感光ドラム
１０２  帯電ローラ
１０３  光ビーム
１０４  画像形成装置
１０７  現像装置
１０８  転写ローラ
１０９  用紙カセット
１１０  給紙ローラ
１１１  プリンタコントローラ
１１２  転写材（用紙）
１１３  定着ローラ
１１４  加圧ローラ
１１５  モーター
１１６  排紙ローラ
１１７  外部機器
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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