(57)【要約】【課題】遮光部材を上流側に戻す際に、遮光部材の影が露光に影響するのをできるだけ抑えることができるスキャン露光装置及びスキャン露光方法を提供する。【解決手段】スキャン露光装置１において、各遮光部１４は、それぞれ異なる高さで移動可能に配置される複数の遮光部材６０，６１，６２，６３を有し、最も高い位置に配置されて波状のＸ方向両側面を有する遮光部材６３は、Ｘ方向における幅ｗ４が他の遮光部材６０，６１，６２のものより広い。【選択図】図３
2010096833.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定の方向に沿って基板を搬送可能な基板搬送機構と、
複数のマスクをそれぞれ保持する複数のマスク保持部と、
前記複数のマスク保持部の上方にそれぞれ配置され、前記露光用光を照射する複数の照射部と、
前記各照射部と前記各マスク保持部との間にそれぞれ配置され、前記照射部から出射された前記露光用光を遮光する複数の遮光部と、
を備え、前記所定の方向に搬送される基板に対して前記マスクを介して露光用光を照射し、前記基板に前記マスクのパターンを露光するスキャン露光装置であって、
前記各遮光部は、それぞれ異なる高さで移動可能に配置される複数の遮光部材を有し、
最も高い位置に配置される前記遮光部材は、前記所定の方向における幅が残りの遮光部材のものより広いことを特徴とするスキャン露光装置。
【請求項２】
前記最も高い位置に配置される前記遮光部材は、前記所定の方向における両側面が、前記所定の方向と直交する方向に対して傾斜して、或いは、曲線状に設けられていることを特徴とする請求項１に記載のスキャン露光装置。
【請求項３】
前記最も高く配置される前記遮光部材は、前記所定の方向における両側面が、波状に形成されていることを特徴とする請求項２に記載のスキャン露光装置。
【請求項４】
所定の方向に沿って基板を搬送可能な基板搬送機構と、
複数のマスクをそれぞれ保持する複数のマスク保持部と、
前記複数のマスク保持部の上方にそれぞれ配置され、前記露光用光を照射する複数の照射部と、
前記各照射部と前記各マスク保持部との間にそれぞれ配置され、前記照射部から出射された前記露光用光を遮光する複数の遮光部と、
を備え、前記所定の方向に搬送される基板に対して前記マスクを介して露光用光を照射し、前記基板に前記マスクのパターンを露光するスキャン露光装置であって、
前記各遮光部は、それぞれ異なる高さで移動可能に配置される少なくとも２枚の遮光部材を有し、
前記２枚の遮光部材の一方の前記所定の方向における上流側側面と、前記他方の遮光部材の前記所定の方向における下流側側面とは、前記所定の方向と直交する方向に対して傾斜して、或いは、曲線状に形成され、前記一方の遮光部材の下流側側面と、前記他方の遮光部材の上流側側面とは、前記直交方向に沿った直線状に形成されることを特徴とするスキャン露光装置。
【請求項５】
所定の方向に沿って基板を搬送可能な基板搬送機構と、複数のマスクをそれぞれ保持する複数のマスク保持部と、前記複数のマスク保持部の上方にそれぞれ配置され、前記露光用光を照射する複数の照射部と、前記各照射部と前記各マスク保持部との間にそれぞれ配置され、前記照射部から出射された前記露光用光を遮光する複数の遮光部と、を備え、該各遮光部は、それぞれ異なる高さで移動可能に配置される少なくとも３枚の遮光部材を有し、前記所定の方向に搬送される基板に対して前記マスクを介して露光用光を照射し、前記基板に前記マスクのパターンを露光するスキャン露光装置のスキャン露光方法であって、
前記基板が前記マスクの下方で搬送されている状態で、前記複数の遮光部材を前記基板と同速度で前記所定の方向に移動させることによって、前記マスクのパターンを遮光して前記基板に遮光領域を形成する工程と、
前記基板が前記マスクの下方で搬送されている状態で、前記マスクに対して下流側に移動した後の前記複数の遮光部材を前記所定の方向と反対方向に移動させ、前記露光中の前記マスクのパターンを横切って、前記マスクに対して上流側に戻す工程と、
を有し、
前記遮光工程は、下から２枚の前記遮光部材を最も上流側と最も下流側に配置した状態で行なわれ、
前記戻し工程は、最も高く配置される前記所定の方向における幅が最も広い前記遮光部材の下方に、前記残りの遮光部材を配置した状態で行なわれることを特徴とするスキャン露光方法。
【請求項６】
所定の方向に沿って基板を搬送可能な基板搬送機構と、複数のマスクをそれぞれ保持する複数のマスク保持部と、前記複数のマスク保持部の上方にそれぞれ配置され、前記露光用光を照射する複数の照射部と、前記各照射部と前記各マスク保持部との間にそれぞれ配置され、前記照射部から出射された前記露光用光を遮光する複数の遮光部と、を備え、該各遮光部は、それぞれ異なる高さで移動可能に配置される少なくとも２枚の遮光部材を有し、該２枚の遮光部材の一方の前記所定の方向における上流側側面と、前記他方の遮光部材の前記所定の方向における下流側側面とは、前記所定の方向と直交する方向に対して傾斜して、或いは、曲線状に形成され、前記一方の遮光部材の下流側側面と、前記他方の遮光部材の上流側側面とは、前記直交方向に沿った直線状に形成されており、前記所定の方向に搬送される基板に対して前記マスクを介して露光用光を照射し、前記基板に前記マスクのパターンを露光するスキャン露光装置のスキャン露光方法であって、
前記基板が前記マスクの下方で搬送されている状態で、前記遮光部材を前記基板と同速度で前記所定の方向に移動させることによって、前記マスクのパターンを遮光して前記基板に遮光領域を形成する工程と、
前記基板が前記マスクの下方で搬送されている状態で、前記マスクに対して下流側に移動した後の前記複数の遮光部材を前記所定の方向と反対方向に移動させ、前記露光中の前記マスクのパターンを横切って、前記マスクに対して上流側に戻す工程と、
を有し、
前記遮光工程は、前記一方の遮光部材の上流側側面と前記他方の遮光部材の下流側側面とをオーバーラップさせた状態で行なわれ、
前記戻し工程は、前記一方の遮光部材の下流側側面と前記他方の遮光部材の上流側側面とをオーバーラップさせた状態で行なわれることを特徴とするスキャン露光方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、スキャン露光装置およびスキャン露光方法に関し、より詳細には、液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等の大型のフラットパネルディスプレイのカラーフィルタ基板やアレイ基板等に所望のパターンを露光転写するのに好適なスキャン露光装置およびスキャン露光方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
大型の薄形テレビ等に用いられる液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等の大型のフラットパネルディスプレイの露光方法として、マスクを細分化して、これらマスクを保持する複数のマスク保持部を千鳥状に配置し、基板を一方向に移動させながら露光を行うスキャン露光方式が知られている（例えば、特許文献１参照。）。この露光方式では、基板に形成されるパターンに、ある程度繰り返される部位があることを前提として、これをつなぎ合わせることで大きなパターンを形成できることを利用したものである。この場合、マスクは、パネルに合わせて大きくする必要がなく、比較的安価なマスクを用いることができる。  
【０００３】
また、特許文献１に記載の露光装置では、複数の遮光部材を用いて、基板の移動速度に合わせて遮光部材を移動させると共に、露光中に、移動した遮光部材を重ね合わせながら上流側に移動させるようにして、遮光部材の移動に伴う露光への影響を抑えることが提案されている。
【特許文献１】特開２００７−３１０００７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、上記スキャン露光装置では、遮光部材が高い位置にある場合には、露光光が回折して遮光部材の内側へ回り込む光の幅が大きくなる一方、遮光部材が低い位置にある場合には、遮光部材の内側へ回り込む光の幅が小さい。このため、例えば、複数の遮光部材を重ね合わせながら上流側に戻す際、下方に位置する２枚の遮光部材が最も上流側と下流側に位置すると、遮光部材の影が露光に影響する可能性がある。
また、遮光部材はすべて長方形状の薄板によって形成され、移動方向の両側面が該移動方向と直交する方向に延びているため、遮光部材を高速で戻したとしても、遮光部材の移動方向の両側面による影が露光に影響する可能性がある。
【０００５】
本発明は、前述した課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、遮光部材を上流側に戻す際に、遮光部材の影が露光に影響するのをできるだけ抑えることができるスキャン露光装置及びスキャン露光方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の上記目的は、下記の構成により達成される。
（１）  所定の方向に沿って基板を搬送可能な基板搬送機構と、
複数のマスクをそれぞれ保持する複数のマスク保持部と、
前記複数のマスク保持部の上方にそれぞれ配置され、前記露光用光を照射する複数の照射部と、
前記各照射部と前記各マスク保持部との間にそれぞれ配置され、前記照射部から出射された前記露光用光を遮光する複数の遮光部と、
を備え、前記所定の方向に搬送される基板に対して前記マスクを介して露光用光を照射し、前記基板に前記マスクのパターンを露光するスキャン露光装置であって、
前記各遮光部は、それぞれ異なる高さで移動可能に配置される複数の遮光部材を有し、
最も高い位置に配置される前記遮光部材は、前記所定の方向における幅が他の遮光部材のものより広いことを特徴とするスキャン露光装置。
（２）  前記最も高い位置に配置される前記遮光部材は、前記所定の方向における両側面が、前記所定の方向と直交する方向に対して傾斜して、或いは、曲線状に設けられていることを特徴とする（１）に記載のスキャン露光装置。
（３）  前記最も高く配置される前記遮光部材は、前記所定の方向における両側面が、波状に形成されていることを特徴とする（２）に記載のスキャン露光装置。
（４）  所定の方向に沿って基板を搬送可能な基板搬送機構と、
複数のマスクをそれぞれ保持する複数のマスク保持部と、
前記複数のマスク保持部の上方にそれぞれ配置され、前記露光用光を照射する複数の照射部と、
前記各照射部と前記各マスク保持部との間にそれぞれ配置され、前記照射部から出射された前記露光用光を遮光する複数の遮光部と、
を備え、前記所定の方向に搬送される基板に対して前記マスクを介して露光用光を照射し、前記基板に前記マスクのパターンを露光するスキャン露光装置であって、
前記各遮光部は、それぞれ異なる高さで移動可能に配置される少なくとも２枚の遮光部材を有し、
前記２枚の遮光部材の一方の前記所定の方向における上流側側面と、前記他方の遮光部材の前記所定の方向における下流側側面とは、前記所定の方向と直交する方向に対して傾斜して、或いは、曲線状に形成され、前記一方の遮光部材の下流側側面と、前記他方の遮光部材の上流側側面とは、前記直交方向に沿った直線状に形成されることを特徴とするスキャン露光装置。  
【０００７】
（５）  所定の方向に沿って基板を搬送可能な基板搬送機構と、複数のマスクをそれぞれ保持する複数のマスク保持部と、前記複数のマスク保持部の上方にそれぞれ配置され、前記露光用光を照射する複数の照射部と、前記各照射部と前記各マスク保持部との間にそれぞれ配置され、前記照射部から出射された前記露光用光を遮光する複数の遮光部と、を備え、該各遮光部は、それぞれ異なる高さで移動可能に配置される少なくとも３枚の遮光部材を有し、前記所定の方向に搬送される基板に対して前記マスクを介して露光用光を照射し、前記基板に前記マスクのパターンを露光するスキャン露光装置のスキャン露光方法であって、
前記基板が前記マスクの下方で搬送されている状態で、前記複数の遮光部材を前記基板と同速度で前記所定の方向に移動させることによって、前記マスクのパターンを遮光して前記基板に遮光領域を形成する工程と、
前記基板が前記マスクの下方で搬送されている状態で、前記マスクに対して下流側に移動した後の前記複数の遮光部材を前記所定の方向と反対方向に移動させ、前記露光中の前記マスクのパターンを横切って、前記マスクに対して上流側に戻す工程と、
を有し、
前記遮光工程は、下から２枚の前記遮光部材を最も上流側と最も下流側に配置した状態で行なわれ、
前記戻し工程は、最も高く配置される前記所定の方向における幅が最も広い前記遮光部材の下方に、前記残りの遮光部材を配置した状態で行なわれることを特徴とするスキャン露光方法。
（６）  所定の方向に沿って基板を搬送可能な基板搬送機構と、複数のマスクをそれぞれ保持する複数のマスク保持部と、前記複数のマスク保持部の上方にそれぞれ配置され、前記露光用光を照射する複数の照射部と、前記各照射部と前記各マスク保持部との間にそれぞれ配置され、前記照射部から出射された前記露光用光を遮光する複数の遮光部と、を備え、該各遮光部は、それぞれ異なる高さで移動可能に配置される少なくとも２枚の遮光部材を有し、該２枚の遮光部材の一方の前記所定の方向における上流側側面と、前記他方の遮光部材の前記所定の方向における下流側側面とは、前記所定の方向と直交する方向に対して傾斜して、或いは、曲線状に形成され、前記一方の遮光部材の下流側側面と、前記他方の遮光部材の上流側側面とは、前記直交方向に沿った直線状に形成されており、前記所定の方向に搬送される基板に対して前記マスクを介して露光用光を照射し、前記基板に前記マスクのパターンを露光するスキャン露光装置のスキャン露光方法であって、
前記基板が前記マスクの下方で搬送されている状態で、前記遮光部材を前記基板と同速度で前記所定の方向に移動させることによって、前記マスクのパターンを遮光して前記基板に遮光領域を形成する工程と、
前記基板が前記マスクの下方で搬送されている状態で、前記マスクに対して下流側に移動した後の前記複数の遮光部材を前記所定の方向と反対方向に移動させ、前記露光中の前記マスクのパターンを横切って、前記マスクに対して上流側に戻す工程と、
を有し、
前記遮光工程は、前記一方の遮光部材の上流側側面と前記他方の遮光部材の下流側側面とをオーバーラップさせた状態で行なわれ、
前記戻し工程は、前記一方の遮光部材の下流側側面と前記他方の遮光部材の上流側側面とをオーバーラップさせた状態で行なわれることを特徴とするスキャン露光方法。
【発明の効果】
【０００８】
本発明のスキャン露光装置によれば、各遮光部は、それぞれ異なる高さで移動可能に配置される複数の遮光部材を有し、最も高い位置に配置される遮光部材は、所定の方向における幅が他の遮光部材のものより広いので、遮光部材を上流側に戻す際に、遮光部材の影が露光に影響するのをできるだけ抑えることができる。
また、最も高い位置に配置される遮光部材は、所定の方向における両側面が、所定の方向と直交する方向に対して傾斜して、或いは、曲線状に設けられているので、遮光部材を上流側に戻す際に、遮光部材の影が露光に影響するのをさらに抑えることができる。
さらに、上記遮光部材を有するスキャン露光装置のスキャン露光方法によれば、遮光工程は、下から２枚の遮光部材を最も上流側と最も下流側に配置した状態で行なわれ、戻し工程は、最も高く配置される所定の方向における幅が最も広い遮光部材の下方に、他の遮光部材を配置した状態で行なわれるので、遮光部材を用いて露光用光を遮光する際に、精度の良い遮光領域が形成可能であると共に、遮光部材を上流側に戻す際に、遮光部材の影が露光に影響するのをできるだけ抑えることができる。
【０００９】
また、本発明のスキャン露光装置及びスキャン露光方法によれば、各遮光部は、それぞれ異なる高さで移動可能に配置される少なくとも２枚の遮光部材を有し、２枚の遮光部材の一方の所定の方向における上流側側面と、前記他方の遮光部材の前記所定の方向における下流側側面とは、前記所定の方向と直交する方向に対して傾斜して、或いは、曲線状に形成され、前記一方の遮光部材の下流側側面と、前記他方の遮光部材の上流側側面とは、前記直交方向に沿った直線状に形成される。これにより、遮光工程は、一方の遮光部材の上流側側面と他方の遮光部材の下流側側面とをオーバーラップさせた状態で行なわれ、直線状の側面によって精度の良い遮光領域が形成可能である。また、戻し工程は、一方の遮光部材の下流側側面と他方の遮光部材の上流側側面とをオーバーラップさせた状態で行なわれ、非直線状の側面によって遮光部材の影が露光に影響するのをできるだけ抑えることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
（第１実施形態）
以下、本発明の第１実施形態に係るスキャン露光装置及びスキャン露光方法の実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。尚、以下の説明では、下地パターン層であるブラックマトリクス層が形成された露光領域と、下地パターン層が形成されていない非露光領域を有した、複数のカラーフィルタ用パネルを形成するためのガラス基板に、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の着色層のいずれかを形成する近接スキャン露光装置及び露光方法について説明する。  
【００１１】
先ず、本実施形態の近接スキャン露光装置１の構成について概略説明する。図１及び図２に示すように、本実施形態のスキャン露光装置１は、基板（カラーフィルタ基板）Ｗを浮上させて支持すると共に、所定方向（図１のＸ方向）に搬送する基板搬送機構１０と、複数のマスクＭをそれぞれ保持し、所定方向と直交する方向（図１のＹ方向）に沿って千鳥状に二列配置された複数（図１に示す実施形態において、左右それぞれ６個）のマスク保持部１１と、マスク保持部１１を駆動するマスク駆動部１２と、複数のマスク保持部１１の上部にそれぞれ配置されて露光用光を照射する複数の照射部１３と、各照射部１３と各マスク保持部１１との間にそれぞれ配置され、照射部１３から出射された露光用光を遮光する複数の遮光部１４と、スキャン露光装置１の各作動部分の動きを制御する制御部１５と、を主に備える。  
【００１２】
基板搬送機構１０は、浮上ユニット１６と、基板ＷのＹ方向一側（図１において上辺）を保持してＸ方向に搬送する基板駆動ユニット１７とを備える。浮上ユニット１６は、複数のフレーム１９上にそれぞれ設けられた複数の排気エアパッド２０及び吸排気エアパッド２１を備え、ポンプ（図示せず）やソレノイドバルブ（図示せず）を介して排気エアパッド２０や吸排気エアパッド２１からエアを排気或いは、吸排気する。基板駆動ユニット１７は、図１に示すように、浮上ユニット１６によって浮上、支持された基板Ｗの一端を保持する吸着パッド２２を備え、モータ２３、ボールねじ２４、及びナット（図示せず）からなるボールねじ機構２５によって、ガイドレール２６に沿って基板ＷをＸ方向に搬送する。なお、図２に示すように、複数のフレーム１９は、地面にレベルブロック１８を介して設置された装置ベース２７上に他のレベルブロック２８を介して配置されている。また、基板Ｗは、ボールねじ機構２５の代わりに、リニアサーボアクチュエータによって搬送されてもよい。
【００１３】
マスク駆動部１２は、フレーム（図示せず）に取り付けられ、マスク保持部１１をＸ方向に沿って駆動するＸ方向駆動部３１と、Ｘ方向駆動部３１の先端に取り付けられ、マスク保持部１１をＹ方向に沿って駆動するＹ方向駆動部３２と、Ｙ方向駆動部３２の先端に取り付けられ、マスク保持部１１をθ方向（Ｘ，Ｙ方向からなる水平面の法線回り）に回転駆動するθ方向駆動部３３と、θ方向駆動部３３の先端に取り付けられ、マスク保持部１１をＺ方向（Ｘ，Ｙ方向からなる水平面の鉛直方向）に駆動するＺ方向駆動部３４と、を有する。これにより、Ｚ方向駆動部３４の先端に取り付けられたマスク保持部１１は、マスク駆動部１２によってＸ，Ｙ，Ｚ，θ方向に駆動可能である。なお、Ｘ，Ｙ，θ，Ｚ方向駆動部３１，３２，３３，３４の配置の順序は、適宜変更可能である。    
【００１４】
また、図１に示すように、千鳥状に二列配置された搬入側及び搬出側マスク保持部１１ａ，１１ｂ間には、各マスク保持部１１ａ，１１ｂのマスクＭを同時に交換可能なマスクチェンジャ２が配設されている。マスクチェンジャ２により搬送される使用済み或いは未使用のマスクＭは、マスクストッカ３，４との間でローダー５により受け渡しが行われる。なお、マスクストッカ３，４とマスクチェンジャ２とで受け渡しが行われる間にマスクプリアライメント機構（図示せず）によってマスクＭのプリアライメントが行われる。
【００１５】
図２に示すように、マスク保持部１１の上部に配置される照射部１３は、ＹＡＧレーザーや、エキシマレーザー等の光源４１と、この光源４１から照射された光を集光する凹面鏡４２と、この凹面鏡４２の焦点近傍に切替え自在に配置された二種類のオプチカルインテグレータ４３と、光路の向きを変えるための平面ミラー４５及び球面ミラー４６と、この平面ミラー４５とオプチカルインテグレータ４３との間に配置されて照射光路を開閉制御する露光制御用シャッター４４と、を備える。なお、光源４１としては、紫外線を含んだ連続光に放射する、超高圧水銀ランプであってもよく、フラッシュ光を放射するＹＡＧレーザーやエキシマレーザーであってもよい。  
【００１６】
図３に示すように、各遮光部１４は、それぞれ異なる高さで移動可能に配置される第１〜第４の遮光部材６０，６１，６２，６３を有する。各遮光部材６０，６１，６２，６３は、搬送方向に直交する方向に延在しており、その一端部はリニアモータ７０，７１，７２，７３に連結されている。リニアモータ７０，７１，７２，７３は、不図示のドライバにより、ガイドレール７５，７６，７７，７８に沿ってＸ軸方向に移動自在となっている。  
【００１７】
これら遮光部材６０，６１，６２，６３のうち、第１〜第３の遮光部材６０，６１，６２は、Ｘ方向（所定の方向）における両側面が直交方向に沿った直線状の略長方形に形成される一方、最も高い位置に配置される第４の遮光部材６３は、Ｘ方向における両側面が波状に形成されている。また、第４の遮光部材６３の搬送方向における最も狭い位置での幅ｗ４は、残りの遮光部材６０，６１，６２の幅ｗ１，ｗ２，ｗ３より広くなるように設定されている。これにより、４つの遮光部材６０，６１，６２，６３は、第４の遮光部材６３の下方に、残りの遮光部材６０，６１，６２が上面視で隠れるように配置することができる。  
【００１８】
なお、第４の遮光部材６３のＸ方向における両側面は、波状に限定されず、曲線状に形成されればよく、或いは、平行四辺形や台形等によって、該直交方向に対して傾斜して形成されてもよい。ただし、波状とすることで、遮光部材の影を効果的にぼかすことができると共に、Ｘ方向における幅の増加を抑えることができる。
また、第４の遮光部材６３のＸ方向における両側面は、該直交方向に対して傾斜して設けられればよいので、基板Ｗ、若しくは、マスクＭのパターンに対して、即ち、該直交方向に対して若干斜めに配置されてもよく、この場合は長方形状のものが使用されてもよい。
また、本実施形態では、第１及び第２の遮光部材６０，６１の幅ｗ１，ｗ２を同一としている。  
【００１９】
次に、このように構成された近接スキャン露光装置１の動作について説明する。ここで、使用される基板としては、例えば、図４に示すように、パネル間の非露光領域ＮＲを有する基板Ｗを用い、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の着色層のいずれかのパターンを基板Ｗに塗布されたフォトレジストに転写する場合について説明する。
【００２０】
近接スキャン露光装置１は、浮上ユニット１６の排気エアパッド２０及び吸排気エアパッド２１の空気流によって基板Ｗを浮上させて保持し、基板Ｗの一端を基板駆動ユニット１７で吸着してＸ方向に一定の速度で搬送する。そして、マスク保持部１１の下方に位置する基板Ｗに対して、照射部１３からの露光用光ＥＬがマスクＭを介して照射され、マスクＭのパターンを基板Ｗに塗布されたフォトレジストに転写する。このとき、基板ＷとマスクＭとの位置誤差は、図示しない撮像手段が検出する基板Ｗ及びマスクＭの位置データに基づいて制御部１５から出力される指令信号によって、θ方向駆動部３３、及びＹ方向駆動部３２が作動してマスクＭの位置を微調整することで補正（位置合わせ）される。
【００２１】
ここで、図５に示すように、基板ＷがマスクＭの下方で搬送され、基板Ｗにパターンの露光転写が行なわれている状態で、基板Ｗの非露光領域ＮＲがマスクＭのパターン領域の下方に入る。すると、マスクＭに対して上流側に待機していた複数の遮光部材６０，６１，６２，６３は、搬送方向に必要重ね代を持って並べられ非露光領域ＮＲの幅に対応するように配置される。そして、遮光部材６０，６１，６２，６３を基板Ｗの搬送と同速度でＸ方向に移動させ、マスクＭのパターンを遮光して、非露光領域ＮＲ上に遮光領域を形成する。  
【００２２】
このとき、下から２枚の第１及び第２の遮光部材６０，６１が、最も上流側と最も下流側に配置されることで、露光光が回折して遮光部材６０，６１の内側へ回り込む光の幅が小さくなり、露光領域ＥＲと被露光領域ＮＲ（遮光領域）との境界をくっきりと露光転写することができる。  
【００２３】
一方、図６に示すように、遮光動作が完了し、次の遮光領域を遮光するまでの露光動作中、マスクＭに対して下流側に移動した後の遮光部材６０，６１，６２，６３をＸ方向と反対方向に高速で移動させ、露光中のマスクＭのパターンを横切って、マスクＭに対して上流側に戻す必要がある。この戻し工程時には、最も高く配置される第４の遮光部材６３の下方に、残りの遮光部材６０，６１，６２が隠れるように重なって配置されることで、遮光部材６０，６１，６２，６３が横切る幅をできるだけ小さくして露光への影響を極力抑えることができ、また、露光光が回折して第４の遮光部材６３の内側へ回り込む光の幅が大きくなり、遮光部材６３の影がくっきりと残らず、露光への影響を抑えることができる。また、遮光部材６３のＸ方向における両側面が波状に形成されているので、直線状のすじムラとならず、遮光部材６３の影を分散してぼかすことができ、露光への影響を抑えることができる。  
【００２４】
以上説明したように、本実施形態のスキャン露光装置１、各遮光部１４は、それぞれ異なる高さで移動可能に配置される複数の遮光部材６０，６１，６２，６３を有し、最も高い位置に配置される第４の遮光部材６３は、Ｘ方向における幅ｗ４が他の遮光部材６０，６１，６２のものより広いので、遮光部材６０，６１，６２，６３を上流側に戻す際に、遮光部材の影が露光に影響するのをできるだけ抑えることができる。
【００２５】
また、第４の遮光部材６３は、Ｘ方向における両側面が、Ｙ方向に対して傾斜して、或いは、波状のような曲線状に形成されているので、遮光部材６０，６１，６２，６３を上流側に戻す際に、遮光部材の影が露光に影響するのをさらに抑えることができる。  
【００２６】
さらに、スキャン露光方法によれば、遮光工程は、下から２枚の第１及び第２の遮光部材６０，６１を最も上流側と最も下流側に配置した状態で行なわれ、戻し工程は、最も高く配置されるＸ方向における幅ｗ４が最も広い第４の遮光部材６３の下方に、他の遮光部材６０，６１，６２を配置した状態で行なわれるので、遮光部材６０，６１，６２，６３を用いて露光用光を遮光する際に、精度の良い遮光領域が形成可能であると共に、遮光部材６０，６１，６２，６３を上流側に戻す際に、遮光部材の影が露光に影響するのをできるだけ抑えることができる。  
【００２７】
なお、各遮光部材６０，６１，６２，６３の高さは任意に設定できるが、露光領域と遮光領域の境界の露光精度に影響を与える下から２枚の遮光部材６０，６１は、マスクＭの上面にできるだけ近い方が好ましく、一方、戻し工程で露光への影響を抑える遮光部材６３は、その下の遮光部材６２との高さ方向の間隔を、下から２枚の遮光部材６０，６１同士の間隔より大きくして、できるだけ高く配置されることが望ましい。
【００２８】
また、最も高く配置される遮光部材は、本実施形態のように波状に形成するほうが好ましいが、図７に示すように、長方形状の遮光部材６３ａであっても上記効果を奏することができる。
【００２９】
（第２実施形態）
次に、本発明の第２実施形態に係るスキャン露光装置及びスキャン露光方法の実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。なお、本実施形態は、遮光部の遮光部材の構成において第１実施形態と異なる。そのため、第１実施形態と同一または同等部分については、同一符号を付して説明を省略或いは簡略化する。
【００３０】
本実施形態では、各遮光部１４は、それぞれ異なる高さで配置される２枚の遮光部材６４，６５を有し、その一端部はリニアモータ７０，７１に連結され、不図示のドライバにより、ガイドレール７５，７６に沿ってＸ軸方向に移動可能となっている。
【００３１】
遮光部材６４，６５は、Ｘ方向における一側面をＹ方向に沿った直線状、Ｘ方向における他側面を波状とした幅ｗ５を有した同一形状とし、互いにＸ方向の向きを反対にして配置されている。即ち、一方の遮光部材６４のＸ方向における上流側側面と、他方の遮光部材６５のＸ方向における下流側側面とは、波状に形成され、一方の遮光部材６４の下流側側面と、他方の遮光部材６５の上流側側面とは、Ｙ方向に沿った直線状に形成される。
【００３２】
従って、この遮光部材６４，６５を用いたスキャン露光装置１では、第１実施形態と同様、基板Ｗの非露光領域ＮＲ上に遮光領域を形成する場合には、図９（ａ）に示すように、非露光領域ＮＲの幅に合わせて、一方の遮光部材６４の波状の上流側側面と他方の遮光部材６５の波状の下流側側面とをオーバーラップさせた状態で、これら遮光部材６４，６５を基板Ｗの搬送と同速度で移動させる。これにより、露光領域ＥＲと被露光領域ＮＲ（遮光領域）との境界が一方の遮光部材６４の直線状の下流側側面と、他方の遮光部材６５の直線状の上流側側面とで形成されるので、該境界をくっきりと露光転写することができる。  
【００３３】
一方、戻し工程では、図９（ｂ）に示すように、できるだけ重ね代を大きして、一方の遮光部材６４の直線状の下流側側面と他方の遮光部材６５の直線状の上流側側面とをオーバーラップさせた状態で、これら遮光部材６４，６５を高速で搬送方向と反対に戻す。これにより、一方の遮光部材６４の波状の上流側側面と他方の遮光部材６５の波状の下流側側面の影をぼかすことができ、露光への影響を抑えることができる。  なお、その他の構成及び作用については、第１実施形態のものと同様である。また、この場合、２つの遮光部材６４，６５の下方に他の遮光部材を設け、他の遮光部材を最も上流側と最も下流側に配置して遮光を行なってもよい。
【００３４】
尚、本発明は、前述した実施形態に限定されるものではなく、適宜、変形、改良、等が可能である。
なお、上記実施形態では、最も高く配置された遮光部材のＸ方向両側面の波形状は、遮光部材の面に沿って形成されているが、立体的に形成されてもよい。
【００３５】
例えば、上記実施形態においては、基板搬送機構１０は、浮上ユニット１６と基板駆動ユニット１７によって基板Ｗを浮上して保持しながら搬送する場合について述べたが、これに限らず、基板Ｗを上面に載置しながら保持及び搬送するものであってもよい。
【図面の簡単な説明】
【００３６】
【図１】本発明の実施形態である近接スキャン露光装置の平面図である。
【図２】図１における近接スキャン露光装置の正面図である。
【図３】本実施形態の遮光部材とマスクのパターンとを示す斜視図である。
【図４】非露光領域を有する基板を示す図である。
【図５】遮光工程における遮光部材の位置関係を示し、（ａ）は側面図であり、（ｂ）は上面図である。
【図６】戻し工程における遮光部材の位置関係を示し、（ａ）は側面図であり、（ｂ）は上面図である。
【図７】本実施形態の変形例における遮光部材とマスクのパターンとを示す斜視図である。
【図８】本発明の第２実施形態に係る遮光部材とマスクのパターンとを示す斜視図である。
【図９】（ａ）は、遮光工程における遮光部材の位置関係を示す上面図であり、（ｂ）は、戻し工程における遮光部材の状態を示す上面図である。
【符号の説明】
【００３７】
１    近接スキャン露光装置
１０    基板搬送機構
１１    マスク保持部
１３    照射部
１４    遮光部
６０    第１の遮光部材
６１    第２の遮光部材
６２    第３の遮光部材
６３    第４の遮光部材
６４，６５  遮光部材
ＥＬ    露光用光
Ｍ    マスク
Ｗ    ガラス基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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