(57)【要約】【課題】皺を生じさせることなく吸着対象体を確実に吸着し得る吸着装置を提供する。【解決手段】上面２１に複数の吸気孔２２が形成されて上面２１に回路基板１００を載置可能に構成された箱状の載置台１１と、載置台１１の内部空間の空気を吸引する吸引機構１２と、吸引機構１２を制御して内部空間の空気を吸引させることによって上面２１に載置された回路基板１００を上面２１に吸着させる吸着処理を実行する制御部とを備え、載置台１１は、内部空間を区画して形成された複数の区画領域（３１ａ〜３１ｄ）が上面２１に沿って並設されて構成され、吸引機構１２は、各区画領域内の空気を各区画領域毎に個別に吸引可能に構成され、制御部は、吸着処理時において、吸引機構１２を制御して、吸引状態の区画領域の数を徐々に増加させて上面２１に吸着させる回路基板１００の吸着面積を徐々に増加させる。【選択図】図４
2010129706.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一面に複数の吸気孔が形成されて当該一面に吸着対象体を載置可能に構成された箱状の載置台と、前記載置台の内部空間の空気を吸引する吸引機構と、前記吸引機構を制御して前記内部空間の空気を吸引させることによって前記一面に載置された前記吸着対象体を当該一面に吸着させる吸着処理を実行する制御部とを備えた吸着装置であって、
前記載置台は、前記内部空間を区画して形成された複数の区画領域が前記一面に沿って並設されて構成され、
前記吸引機構は、前記各区画領域内の空気を当該各区画領域毎に個別に吸引可能に構成され、
前記制御部は、前記吸着処理時において、前記吸引機構を制御して、吸引状態の前記区画領域の数を徐々に増加させて前記一面に吸着させる前記吸着対象体の吸着面積を徐々に増加させる吸着装置。
【請求項２】
前記制御部は、前記吸着処理時において、前記吸引機構を制御して、前記一面の一端部から他端部に向かう向きに沿って前記吸引状態の区画領域の数を徐々に増加させる請求項１記載の吸着装置。
【請求項３】
前記載置台の前記一面に吸着された前記吸着対象体を押圧する押圧部と、当該押圧部による押圧状態を維持しつつ当該押圧部および当該載置台のいずれか一方に対していずれか他方を相対的に移動させる移動機構とを備え、
前記制御部は、前記吸着処理時において、前記吸引機構を制御して、前記移動機構による前記相対的な移動に連動させて前記吸引状態の区画領域の数を徐々に増加させる請求項１または２記載の吸着装置。
【請求項４】
請求項１から３のいずれかに記載の吸着装置と、当該吸着装置によって吸着されている吸着対象体に対する所定の検査を実行する検査部とを備えている検査装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、吸着対象体を吸着する吸着装置、およびその吸着装置を備えて吸着対象体に対する所定の検査を実行する検査装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
この種の検査装置として、特開２００２−３５０４８３号公報において出願人が開示した回路基板検査装置が知られている。この回路基板検査装置は、回路基板吸着装置、移動機構、検査用プローブおよび制御部等を備えて、回路基板吸着装置によって吸着された回路基板に対する検査を実行可能に構成されている。この場合、回路基板吸着装置は、上面が開口された箱状のケースおよび複数の吸気孔が形成されてケースの開口部位に装着された載置板を有する基板載置台と、基板載置台の内部空間の空気を吸引するエアポンプとを備えて、エアポンプによる内部空間の空気の吸引によって内部空間を負圧にすることにより、載置板に載置された回路基板を吸着可能に構成されている。
【特許文献１】特開２００２−３５０４８３号公報（第３頁、第１−２図）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
ところが、上記の回路基板検査装置には、解決すべき以下の課題がある。すなわち、上記の回路基板検査装置における回路基板吸着装置では、エアポンプが作動を開始した際に、回路基板の全領域が一斉に吸着される。このため、例えば、回路基板が薄厚でかつ反ったりうねったりしている（平坦ではない）ときには、吸着の際にその反り等が矯正されずに皺となって現れ易いという課題があり、この点の改善が望まれている。
【０００４】
本発明は、かかる解決すべき課題に鑑みてなされたものであり、皺を生じさせることなく吸着対象体を確実に吸着し得る吸着装置および検査装置を提供することを主目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記目的を達成すべく請求項１記載の吸着装置は、一面に複数の吸気孔が形成されて当該一面に吸着対象体を載置可能に構成された箱状の載置台と、前記載置台の内部空間の空気を吸引する吸引機構と、前記吸引機構を制御して前記内部空間の空気を吸引させることによって前記一面に載置された前記吸着対象体を当該一面に吸着させる吸着処理を実行する制御部とを備えた吸着装置であって、前記載置台は、前記内部空間を区画して形成された複数の区画領域が前記一面に沿って並設されて構成され、前記吸引機構は、前記各区画領域内の空気を当該各区画領域毎に個別に吸引可能に構成され、前記制御部は、前記吸着処理時において、前記吸引機構を制御して、吸引状態の前記区画領域の数を徐々に増加させて前記一面に吸着させる前記吸着対象体の吸着面積を徐々に増加させる。
【０００６】
また、請求項２記載の吸着装置は、請求項１記載の吸着装置において、前記制御部は、前記吸着処理時において、前記吸引機構を制御して、前記一面の一端部から他端部に向かう向きに沿って前記吸引状態の区画領域の数を徐々に増加させる。
【０００７】
また、請求項３記載の吸着装置は、請求項１または２記載の吸着装置において、前記載置台の前記一面に吸着された前記吸着対象体を押圧する押圧部と、当該押圧部による押圧状態を維持しつつ当該押圧部および当該載置台のいずれか一方に対していずれか他方を相対的に移動させる移動機構とを備え、前記制御部は、前記吸着処理時において、前記吸引機構を制御して、前記移動機構による前記相対的な移動に連動させて前記吸引状態の区画領域の数を徐々に増加させる。
【０００８】
また、請求項４記載の検査装置は、請求項１から３のいずれかに記載の吸着装置と、当該吸着装置によって吸着されている吸着対象体に対する所定の検査を実行する検査部とを備えている。
【発明の効果】
【０００９】
請求項１記載の吸着装置および請求項４記載の検査装置では、内部空間を区画して形成した複数の区画領域が一面に沿って並設されて載置台が構成され、各区画領域内の空気を各区画領域毎に個別に吸引可能に吸引機構が構成され、制御部が吸着処理時において吸引機構を制御して吸引状態の区画領域の数を徐々に増加させて一面に吸着させる吸着対象体の吸着面積を徐々に増加させる。このため、この吸着装置および検査装置によれば、吸着対象体に反り等が生じていたときに、吸着の際に矯正されるその反りの矯正分を未吸着の領域に順次繰り出すことができる結果、吸着対象体の全領域が一斉に吸着されて反りの矯正分の繰り出しが阻害されるおそれのある従来の構成とは異なり、吸着の際の吸着対象体における皺の発生を確実に防止することができる。
【００１０】
また、請求項２記載の吸着装置および請求項４記載の検査装置では、制御部が、吸着処理時において吸引機構を制御して、一面の一端部から他端部に向かう向きに沿って吸引状態の区画領域の数を徐々に増加させる。このため、この吸着装置および検査装置によれば、吸着の際に、反りの矯正分を一面の一端部から他端部に向けて繰り出すことができる結果、一面の一端部に吸着対象体の一端部を位置決めすることで、両者の一端部同士の位置ずれを確実に防止することができる。
【００１１】
また、請求項３記載の吸着装置および請求項４記載の検査装置では、載置台の一面に吸着された吸着対象体に対する押圧部による押圧状態を維持しつつ押圧部および載置台のいずれか一方に対していずれか他方を相対的に移動させる移動機構を備え、制御部が、吸着処理時において吸引機構を制御して、移動機構による相対的な移動に連動させて吸引状態の区画領域の数を徐々に増加させる。このため、この吸着装置および検査装置によれば、例えば、吸着対象体の剛性が高く、吸気孔からの吸引力だけでは反りの矯正が困難な場合であっても、押圧部の押圧力によって反りを確実に矯正することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、本発明に係る吸着装置および検査装置の最良の形態について、添付図面を参照して説明する。
【００１３】
最初に、図１に示す基板検査装置１の構成について説明する。基板検査装置１は、本発明に係る検査装置の一例であって、同図に示すように、基板吸着装置２および検査部３を備えて、本発明における吸着対象体の一例としての回路基板１００に対する所定の電気的検査を実行可能に構成されている。ここで、回路基板１００は、一例として、フレキシブル基板等の薄厚の基板であって、例えば、厚みが０．４ｍｍ程度の基板本体と、基板本体に配設された導体パターンとを備えて構成されている。
【００１４】
基板吸着装置２は、本発明に係る吸着装置の一例であって、図２に示すように、載置台１１、吸引機構１２、押圧部１３、移動機構１４および制御部１５を備えて構成されている。載置台１１は、図４に示すように、内部に空間を有する箱状に形成されると共に、上面（本発明における一面）２１に複数の吸気孔２２が形成されて、上面２１に回路基板１００を載置可能に構成されている。また、載置台１１は、その内部空間が隔壁２５によって複数（例えば４つ）の区画領域（同図に示す、第１区画領域３１ａ、第２区画領域３１ｂ、第３区画領域３１ｃおよび第４区画領域３１ｄであって、以下、区別しないときには「区画領域３１」ともいう）に区画され、各区画領域３１が上面２１に沿って並設されて構成されている。また、載置台１１の下面２３には、各区画領域３１にそれぞれ連通する複数（この例では、４つ）の排気孔２４ａ〜２４ｄ（以下、区別しないときには「排気孔２４」ともいう）が形成されている。
【００１５】
吸引機構１２は、図２に示すように、吸引ポンプ４１、および複数（この例では、４つ）の電磁バルブ４２ａ〜４２ｄ（以下、区別しないときには「電磁バルブ４２」ともいう）を備えて構成されている。この吸引機構１２では、各電磁バルブ４２と吸引ポンプ４１との間が吸気管４３（図４参照）によって接続されると共に、載置台１１の下面２３に形成されている各排気孔２４と各電磁バルブ４２との間が吸気管４３によって接続されることにより、各排気孔２４から吸引ポンプ４１に至る４つの独立した吸気経路が形成されている。また、各電磁バルブ４２は、制御部１５の制御に従って作動して、各吸気経路の開閉を個別に行う。この構成により、吸引機構１２は、各区画領域３１内の空気を各区画領域３１毎に個別に吸引することが可能となっている。
【００１６】
押圧部１３は、図４に示すように、第１ローラー５１、第２ローラー５２および支持部５３を備えて構成されている。第１ローラー５１は、円柱状に形成されて、支持部５３によって回転可能に支持されている。また、第１ローラー５１は、その表面または全体が例えば弾性を有する材料（例えば軟質の樹脂やゴム等）で構成されている。第２ローラー５２は、円柱状に形成されて、その表面が第１ローラー５１の表面に当接するように支持部５３によって回転可能に支持されている。また、第２ローラー５２の表面には、粘着性を有する部材（例えば、取り替え可能な粘着シート等）が配設されている。この場合、第２ローラー５２は、第１ローラー５１の表面に付着した付着物を除去する機能を有している。また、押圧部１３は、ばね等の付勢部材によって下向きに付勢されており、載置台１１に吸着（載置）された回路基板１００に第１ローラー５１が当接して、回路基板１００を押圧するように構成されている。
【００１７】
移動機構１４は、制御部１５の制御に従い、載置台１１に吸着された回路基板１００に対する押圧部１３による押圧状態を維持しつつ載置台１１を所定の向き（図４に示す矢印Ａの向き）に沿って移動（押圧部１３に対して相対的に移動）させる第１移動処理を実行する。また、移動機構１４は、制御部１５の制御に従い、載置台１１への回路基板１００の吸着が行われる吸着位置と、検査部３によって検査が行われる検査位置との間で載置台１１を移動させる第２移動処理を実行する。
【００１８】
制御部１５は、吸引機構１２を制御して載置台１１の内部空間の空気を吸引させることによって載置台１１の上面２１に載置された回路基板１００を上面２１に吸着させる吸着処理を実行する。この場合、制御部１５は、吸着処理時において吸引機構１２の各電磁バルブ４２による吸気経路の開閉を制御して、移動機構１４による載置台１１の移動に連動させて吸引状態（吸引されている状態）の区画領域３１の数を徐々に増加させることにより、上面２１に吸着させる回路基板１００の面積（吸着面積）を徐々に増加させる。また、制御部１５は、移動機構１４を制御して、図４に示す矢印Ａの向きに沿って載置台１１を移動させる。
【００１９】
検査部３は、図３に示すように、プロービング機構６１および測定部６２を備えて構成されている。プロービング機構６１は、基板吸着装置２によって吸着されている回路基板１００の所定のプロービングポイントに検査用プローブ７１をプロービングさせる。測定部６２は、検査用プローブ７１を介して入力した電気信号に基づいて所定の物理量を測定すると共に、その物理量に基づいて回路基板１００の良否を検査する。
【００２０】
次に、基板検査装置１を用いて回路基板１００を検査する方法について、添付図面を参照して説明する。
【００２１】
まず、図４に示すように、基板吸着装置２の上面２１に回路基板１００を載置し、次いで、押圧部１３の第１ローラー５１を回路基板１００の一端部（同図における左端部）に当接させて押圧部１３で一端部を押圧させる。続いて、図外の操作部を用いて検査開始の操作を行う。これに応じて、基板吸着装置２の制御部１５が、吸着処理を実行する。
【００２２】
この吸着処理では、制御部１５は、載置台１１における各区画領域３１のうちの上面２１の一端部（図４における左端部）に位置する第１区画領域３１ａに連通する排気孔２４ａに接続されている電磁バルブ４２ａを制御して、排気孔２４ａから吸引ポンプ４１に至る吸気経路を開放させる。この際に、吸引ポンプ４１の吸引力によって第１区画領域３１ａ内の空気が吸引されて、第１区画領域３１ａ内が負圧となるため、第１区画領域３１ａに面している上面２１の第１範囲２１ａ（図５参照）に形成されている吸気孔２２から、載置台１１の外部の空気が第１区画領域３１ａ内に吸引される。これに伴い、同図に示すように、第１範囲２１ａに対向する回路基板１００の第１範囲１００ａが第１範囲２１ａに吸着される。
【００２３】
また、制御部１５は、吸着処理の実行開始に合わせて（連動して）移動機構１４を制御して、図５に示すように、載置台１１に吸着された回路基板１００に対する押圧部１３による当接状態を維持しつつ載置台１１を矢印Ａの向きに沿って移動させる第１移動処理を開始させる。この際に、載置台１１の移動に伴って第１ローラー５１が回転し、第１ローラー５１の表面にその表面が当接している第２ローラー５２が第１ローラー５１の回転に伴って回転する。この場合、例えば、回路基板１００の表面に埃等の付着物が付着していて、第１ローラー５１の回転の際にその付着物が第１ローラー５１の表面に転着したとしても、その付着物が第２ローラー５２の表面に配設されている粘着性部材にさらに転着するため、回路基板１００および第１ローラー５１の表面が清浄な状態に維持される。
【００２４】
一方、例えば図４に示すように、初期状態（吸着前の状態）において回路基板１００の第１範囲１００ａに反り等が生じていたとしても、図５に示すように、吸気孔２２からの吸引力によってその反りが矯正されて、上面２１の第１範囲２１ａに第１範囲１００ａが平坦な状態で吸着される。この場合、この時点では、回路基板１００における第１範囲１００ａよりも右側の範囲が未吸着の状態となっている。このため、第１範囲１００ａにおける反りの矯正分（平坦な状態となることによって伸ばされた分）が第１範囲１００ａの右側に繰り出される。この結果、回路基板１００の全領域が一斉に吸着される構成とは異なり、反りの矯正分の繰り出しが阻害されることに起因して第１範囲１００ａに皺が発生する事態が確実に防止される。また、この基板吸着装置２では、押圧部１３の第１ローラー５１によって回路基板１００が押圧されているため、例えば、回路基板１００の剛性が高く、吸気孔２２からの吸引力だけでは反りの矯正が困難な場合であっても、押圧部１３の押圧力によって反りを確実に矯正することが可能となっている。
【００２５】
続いて、制御部１５は、押圧部１３の第１ローラー５１が載置台１１の第１範囲２１ａにおける右端部に位置した時点で、載置台１１における第１区画領域３１ａの右側に位置する（隣接する）第２区画領域３１ｂ（図６参照）に連通する排気孔２４ｂに接続されている電磁バルブ４２ｂを制御して、排気孔２４ｂから吸引ポンプ４１に至る吸気経路を開放させる。この際に、第１区画領域３１ａと同様にして、第２区画領域３１ｂ内が負圧となり、同図に示すように、第２区画領域３１ｂに面している上面２１の第２範囲２１ｂに形成されている吸気孔２２からの空気の吸引に伴い、第２範囲２１ｂに対向する回路基板１００の第２範囲１００ｂが第２範囲２１ｂに吸着される。この場合、第１範囲１００ａと同様にして、第２範囲１００ｂに反り等が生じていたとしても、その反りが矯正されて第２範囲１００ｂが上面２１の第２範囲２１ｂに平坦な状態で吸着されると共に、第２範囲１００ｂにおける皺の発生が確実に防止される。
【００２６】
次いで、制御部１５は、押圧部１３の第１ローラー５１が上面２１の第２範囲２１ｂにおける右端部に位置した時点で、載置台１１における第２区画領域３１ｂの右側に位置する第３区画領域３１ｃ（図７参照）に連通する排気孔２４ｃに接続されている電磁バルブ４２ｃを制御して、排気孔２４ｃから吸引ポンプ４１に至る吸気経路を開放させる。この際に、同図に示すように、第１区画領域３１ａおよび第２区画領域３１ｂと同様にして、第３区画領域３１ｃに面している上面２１の第３範囲２１ｃに対向する回路基板１００の第３範囲１００ｃが第３範囲２１ｃに吸着される。この場合、第１範囲１００ａおよび第２範囲１００ｂと同様にして、第３範囲１００ｃに反り等が生じていたとしても、その反りが矯正されて第３範囲１００ｃが上面２１の第３範囲２１ｃに平坦な状態で吸着されると共に、第３範囲１００ｃにおける皺の発生が確実に防止される。
【００２７】
続いて、制御部１５は、押圧部１３の第１ローラー５１が載置台１１の第３範囲２１ｃにおける右端部に位置した時点で、載置台１１における第３区画領域３１ｃの右側に位置する第４区画領域３１ｄ（図８参照）に連通する排気孔２４ｄに接続されている電磁バルブ４２ｄを制御して、排気孔２４ｄから吸引ポンプ４１に至る吸気経路を開放させる。この際に、同図に示すように、第１区画領域３１ａ、第２区画領域３１ｂおよび第３区画領域３１ｃと同様にして、第４区画領域３１ｄに面している上面２１の第４範囲２１ｄに対向する回路基板１００の第４範囲１００ｄが第４範囲２１ｄに吸着される。この場合、第１範囲１００ａ、第２範囲１００ｂおよび第３範囲１００ｃと同様にして、回路基板１００の第４範囲１００ｄに反り等が生じていたとしても、その反りが矯正されて第４範囲１００ｄが上面２１の第４範囲２１ｄに平坦な状態で吸着されると共に、第４範囲１００ｄにおける皺の発生が確実に防止される。
【００２８】
次いで、制御部１５は、押圧部１３の第１ローラー５１が載置台１１の第４範囲２１ｄにおける右端部に位置した時点で、移動機構１４を制御して、第１移動処理を終了させる。以上により、基板吸着装置２への回路基板１００の吸着が完了する。この場合、この基板吸着装置２では、上記したように、吸引状態の区画領域３１の数を徐々に増加させて、上面２１に吸着させる回路基板１００の吸着面積（範囲１００ａ〜１００ｄの数）を徐々に増加させている。このため、回路基板１００に反り等が生じていたときに、吸着の際に矯正されるその反りの矯正分が順次繰り出されて、吸着の際の回路基板１００における皺の発生が確実に防止されている。
【００２９】
続いて、制御部１５は、移動機構１４を制御して、第２移動処理を実行させる。この際に、移動機構１４は、回路基板１００を吸着している状態の載置台１１を検査位置に移動させる。次いで、検査部３のプロービング機構６１が、検査位置に移動させられた載置台１１に吸着されている回路基板１００の所定のプロービングポイントに対して検査用プローブ７１をプロービングさせる。続いて、検査部３の測定部６２が、検査用プローブ７１を介して入力した電気信号に基づいて所定の物理量を測定すると共に、その物理量に基づいて回路基板１００の良否を検査する。この場合、この基板検査装置１の基板吸着装置２では、上記したように、回路基板１００に反り等が生じていたとしても、その反りが矯正されて回路基板１００が上面２１に平坦な状態で吸着されると共に、吸着の際の回路基板１００における皺の発生が確実に防止されている。このため、この基板検査装置１では、検査用プローブ７１をプロービングポイントに確実にプロービングさせることができる結果、検査精度を十分に向上させることが可能となっている。
【００３０】
次いで、検査部３による検査が終了したときには、基板吸着装置２の制御部１５が、移動機構１４を制御して第２移動処理を実行させて、回路基板１００を吸着している状態の載置台１１を検査位置から吸着位置に移動させる。続いて、移動機構１４は、吸引機構１２の各電磁バルブ４２を制御して、各吸気経路を閉塞させる。この際に、各区画領域３１内からの空気の吸引が停止して、回路基板１００の吸着が解除される。次いで、他の回路基板１００を検査する際には、上記した各工程を実行する
【００３１】
このように、この基板吸着装置２および基板検査装置１では、内部空間を区画した複数の区画領域３１が上面２１に沿って並設されて載置台１１が構成され、各区画領域３１内の空気を各区画領域３１毎に個別に吸引可能に吸引機構１２が構成され、制御部１５が吸着処理時において吸引機構１２を制御して吸引状態の区画領域３１の数を徐々に増加させて上面２１に吸着させる基板の吸着面積を徐々に増加させている。このため、この基板吸着装置２および基板検査装置１によれば、回路基板１００に反り等が生じていたときに、吸着の際に矯正されるその反りの矯正分を未吸着の領域に順次繰り出すことができる結果、回路基板１００の全領域が一斉に吸着されて反りの矯正分の繰り出しが阻害されるおそれのある従来の構成とは異なり、吸着の際の回路基板１００における皺の発生を確実に防止することができる。
【００３２】
また、この基板吸着装置２および基板検査装置１では、制御部１５が、吸着処理時において吸引機構１２を制御して、上面２１の一端部から他端部に向かう向きに沿って吸引状態の区画領域３１を徐々に増加させる。このため、この基板吸着装置２および基板検査装置１によれば、吸着の際に、反りの矯正分を上面２１の一端部から他端部に向けて繰り出すことができる結果、上面２１の一端部に回路基板１００の一端部を位置決めすることで、両者の一端部同士の位置ずれを確実に防止することができる。
【００３３】
また、この基板吸着装置２および基板検査装置１では、載置台１１の上面２１に吸着された回路基板１００に対する押圧部１３による押圧状態を維持しつつ押圧部１３に対して載置台１１を相対的に移動させる移動機構１４を備え、制御部１５が、吸着処理時において吸引機構１２を制御して、移動機構１４による載置台１１の相対的な移動に連動させて吸引状態の区画領域３１を徐々に増加させる。このため、この基板吸着装置２および基板検査装置１によれば、例えば、回路基板１００の剛性が高く、吸気孔２２からの吸引力だけでは反りの矯正が困難な場合であっても、押圧部１３の押圧力によって反りを確実に矯正することができる。
【００３４】
なお、本発明は、上記の構成に限定されない。例えば、載置台１１の内部空間を４つの区画領域３１に区画した例について上記したが、区画領域３１の数はこれに限定されず任意の複数に規定することができる。また、押圧部１３を移動させずに載置台１１を押圧部１３に対して相対的に移動させる例について上記したが、載置台１１を移動させずに押圧部１３を載置台１１に対して相対的に移動させる構成を採用することもできる。さらに、２つのローラー５１，５２を備えて押圧部１３を構成した例について上記したが、１つのローラー（例えば上記した第１ローラー５１）だけを備えて構成した押圧部１３を採用することもできる。また、ローラー５１，５２に代えて、スキージ等の部材で押圧部１３を構成することもできる。また、押圧部１３および移動機構１４を備えていない構成、つまり吸気孔２２からの吸引力だけで回路基板１００の反り等を矯正する構成を採用することもできる。また、吸着対象体としての回路基板１００を吸着する例について上記したが、回路基板１００以外の各種の吸着対象体を吸着することができ、この場合においても、上記と同様の効果を実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３５】
【図１】基板検査装置１の構成を示す構成図である。
【図２】基板吸着装置２の構成を示す構成図である。
【図３】検査部３の構成を示す構成図である。
【図４】基板吸着装置２の動作を説明するための第１の説明図である。
【図５】基板吸着装置２の動作を説明するための第２の説明図である。
【図６】基板吸着装置２の動作を説明するための第３の説明図である。
【図７】基板吸着装置２の動作を説明するための第４の説明図である。
【図８】基板吸着装置２の動作を説明するための第５の説明図である。
【符号の説明】
【００３６】
１  基板検査装置
２  基板吸着装置
３  検査部
１１  載置台
１２  吸引機構
１３  押圧部
１４  移動機構
１５  制御部
２１  上面
２２  吸気孔
２５  隔壁
３１ａ  第１区画領域
３１ｂ  第２区画領域
３１ｃ  第３区画領域
３１ｄ  第４区画領域
４１  吸引ポンプ
４２ａ〜４２ｄ  電磁バルブ
１００  回路基板
１００ａ  第１範囲
１００ｂ  第２範囲
１００ｃ  第３範囲
１００ｄ  第４範囲
Ａ  矢印
【図１】
2010129706.tif 000003
【図２】
2010129706.tif 000004
【図３】
2010129706.tif 000005
【図４】
2010129706.tif 000006
【図５】
2010129706.tif 000007
【図６】
2010129706.tif 000008
【図７】
2010129706.tif 000009
【図８】
2010129706.tif 000010