(57)【要約】【課題】アンカーコート層が形成された透明フィルムをロール状に巻き取った積層フィルムロールの耐ブロッキング性を向上させることを目的とする。【解決手段】一方の面上にアンカーコート層を有する長尺状の透明フィルムがロール状に巻き取られた積層フィルムロールであって、  前記アンカーコート層の表面粗さＲａが、０．０１５〜０．０６０μｍであることを特徴とする積層フィルムロール。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
一方の表面上にアンカーコート層を有する長尺状の透明フィルムがロール状に巻き取られた積層フィルムロールであって、
前記アンカーコート層の表面粗さＲａが、０．０１５〜０．０６０μｍであることを特徴とする積層フィルムロール。
【請求項２】
前記アンカーコート層が無機粒子を含有することを特徴とする請求項１に記載の積層フィルムロール。
【請求項３】
前記無機粒子の含有量が、前記アンカーコート層の全成分に対して６〜３０質量％である請求項２に記載の積層フィルムロール。
【請求項４】
前記無機粒子の平均粒子径が、前記アンカーコート層の厚さに対して１．０〜５．０倍である請求項２又は３に記載の積層フィルムロール。
【請求項５】
前記アンカーコート層の厚さが、０．１〜０．５μｍである請求項１〜４のいずれか１項に記載の積層フィルムロール。
【請求項６】
前記透明フィルムと前記アンカーコート層との間に、易接着層を有する請求項１〜５のいずれか１項に記載の積層フィルムロール。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか１項に記載の積層フィルムロールのアンカーコート層上にパターン状の電磁波シールド層が形成されてなり、且つこれらが所定の大きさに裁断されてなることを特徴とする光学フィルタ。
【請求項８】
請求項１〜６のいずれか１項に記載の積層フィルムロールから送り出した前記透明フィルムの走行下で、前記アンカーコート層上に溶剤に対して可溶な材料を含む印刷インクをドット状に印刷してドット状のパターンを形成する工程（Ａ）、
前記パターンを有するアンカーコート層上に、前記溶剤に対して不溶な導電材料を含む導電材料層を形成する工程（Ｂ）、及び
前記溶剤により、前記パターン及び前記パターン上の導電材料層を除去することによりメッシュ状の電磁波シールド層を形成する工程（Ｃ）、
を含む光学フィルタの製造方法。
【請求項９】
前記溶剤が水である請求項８に記載の光学フィルタの製造方法。
【請求項１０】
前記溶剤に対して可溶な材料がポリビニルアルコールである請求項８又は９に記載の光学フィルタの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はＰＤＰ（プラズマディスプレーパネル）の前面フィルタや、病院などの電磁波シールドを必要とする建築物の窓材料（例えば貼着用フィルム）等として有用な光学フィルタに関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、ＥＬディスプレイ等のフラットパネルディスプレイ、及びＣＲＴディスプレイは、近年、大画面表示が主流となり、次世代の大画面表示デバイスとしてＰＤＰが一般的になってきている。しかしながら、このＰＤＰでは画像表示のため発光部に高周波パルス放電を行っているため、不要な電磁波の輻射や赤外線リモコン等の誤動作の原因ともなる赤外線の輻射の恐れがある。
【０００３】
このため、ＰＤＰなどのディスプレイに用いられるフィルタとして、透明基材上に電磁波シールド層が形成されたものなどが知られている。電磁波シールド層には、例えば、（１）金属銀を含む透明導電薄膜、（２）金属線又は導電性繊維を網状にした導電メッシュ、（３）銅箔等の金属箔に開口部を設けたメッシュ状の導電層、（４）導電性インクをメッシュ状に印刷した導電層などが用いられる。なかでも、開口部により高い光透過性が得られ、微細なメッシュ構造を有する導電層を形成できることがから、（４）のメッシュ状の導電層が好適に用いられている。導電性のメッシュの部分によって電磁波がシールドされ、開口部によって光の透過が確保される。
【０００４】
電磁波シールド層が優れた性能を発揮するためには、線幅が十分に小さく、開口率が著しく高いことが必要とされる。そこで、特許文献１には、透明基材上に溶剤に対して可溶な材料を含むドットを形成する工程、前記透明基材に該溶剤に対して不溶な導電材料よりなる電磁波シールド層を形成する工程、及び前記透明基材を前記溶剤と接触させて前記ドット及び前記ドット上の電磁波シールド層を除去する工程を有する光学フィルタの製造方法が開示されている。
【０００５】
上記のように、溶剤に可溶なパターンに対してネガ印刷（反転印刷）し、その上に電磁波シールド層を形成し、パターンを溶剤で除去する上記従来の方法によれば、著しく細い導電性メッシュパターンを高精度にて形成することができるが、透明基板として主に用いられているＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム等の透明基材に対して、銅などの金属を蒸着してなる電磁波シールド層の密着性が十分でなく、後工程の加工等の取り扱い時に剥れる場合があった。この問題を解決するために特許文献２において、導電性パターンの密着性を向上させるために、透明基板上にアンカーコート層を形成することが提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００１−３３２８８９号公報
【特許文献２】特開２００４−３３５６０９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
近年、電子ディスプレイが著しく普及するとともに大画面化が主流となってとなってきている一方で、コストダウンへの要求が強まっている。したがって、ディスプレイ用光学フィルタについてもコストダウンを図るために、生産性の向上が求められている。
【０００８】
従来の光学フィルタの製造方法では、枚葉化した複数の透明基材上にアンカーコート層、電磁波シールド層などの各層を形成する手段を用いるため、製造工程が複雑となるだけでなく印刷速度又は塗工速度も遅くなり、生産性を向上させるには限界があった。
【０００９】
そこで、ロール・ツー・ロール（ｒｏｌｌ  ｔｏ  ｒｏｌｌ）方式を用いれば、連続的に大量に生産が可能となり、生産コストを抑えることが可能となる。このような方法は、具体的には、長尺状の透明基材をロール状に巻き取ったロールから、透明基材を引き出しながら、アンカーコート層及び電磁波シールド層を形成した後、再びロール状に巻き取ることにより行われる。また、ロール・ツー・ロール方式において作業性を考慮した場合、アンカーコート層及び電磁波シールド層を形成する工程ごとに、ロールから透明基材を引き出し、再度ロール状に巻き取るのが好ましい。
【００１０】
一方、アンカーコート層は電磁波シールド層の密着性を向上させるために設けられるが、アンカーコート層が形成された透明基材をロール状に巻き取った積層フィルムロールでは、ブロッキング現象が発生する場合があった。すなわち、前記積層フィルムロールにおいてアンカーコート層とこれに接する透明基材裏面とが密着することにより、前記積層フィルムロールから透明基材を引き出すのが困難となり、作業性を低下させるだけでなく、ロールを廃棄する場合までも生じ得る。
【００１１】
したがって、本発明の目的は、アンカーコート層の電磁波シールド層への密着性を低下させずに、積層フィルムロールの耐ブロッキング性を向上させることである。
【００１２】
さらに、本発明の他の目的は、前記積層フィルムロールを用いて得られる光学フィルタ及びその製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明は、一方の面上にアンカーコート層を有する長尺状の透明フィルムがロール状に巻き取られた積層フィルムロールであって、
前記アンカーコート層の表面粗さＲａが、０．０１５〜０．０６０μｍであることを特徴とする積層フィルムロールにより、上記課題を解決する。
【発明の効果】
【００１４】
本発明者は、積層フィルムロールの耐ブロッキング性を向上させるには、アンカーコート層の表面粗さを向上させる手段が有効であることに着目して種々の検討を行った。その結果、単にアンカーコート層の表面粗さを向上させただけでは、アンカーコート層に求められる電磁波シールド層への密着性を低下させ得る。しかしながら、アンカーコート層の表面粗さが上述した特定の範囲内であれば、電磁波シールド層の密着性を向上させつつ耐ブロッキング性が付与された、相反する特性が両立されたアンカーコート層が得られることを見出した。
【００１５】
したがって、上記した表面粗さを有するアンカーコート層が形成された透明フィルムをロール状に巻き取ったフィルムロールでは、ブロッキング現象が抑制され、透明基材の巻き出しを円滑に行うことができる。さらに、フィルムロールから巻きだされた透明基材上に形成されたアンカーコート層上には、電磁波シールド層が強固に接着することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明の
【図２】本発明の光学フィルタの製造方法を各工程に沿って説明した説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
本発明の積層フィルムロールは、一方の表面上にアンカーコート層を有する長尺状の透明フィルムがロール状に巻き取とられた構成を有する。
【００１８】
前記アンカーコート層の表面粗さＲａは、０．０１５〜０．０６０μｍ、より好ましくは０．０１５〜０．０５０μｍである。このような表面粗さを有するアンカーコート層は、耐ブロッキング性及び電磁波シールド層への密着性の双方に優れる。
【００１９】
アンカーコート層の表面粗さＲａを上述の範囲内に調整するには、アンカーコート層に無機粒子を添加することにより行うのが好ましい。無機粒子によれば、アンカーコート層の透明性を低下させることなく、表面粗さを容易に調整することができる。
【００２０】
無機粒子として具体的には、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、酸化チタン、水酸化アルミニウム、シリカ、硝子、タルク、マイカ、酸化マグネシウム、酸化亜鉛等が挙げられ、これらは脂肪酸やシリコーンカップリング剤、チタネート系カップリング剤等で表面処理が施されたものであってもよい。
【００２１】
無機粒子としては、シリカ（ＳｉＯ2）を用いるのが特に好ましい。
【００２２】
アンカーコート層における無機粒子の含有量は、アンカーコート層の全成分に対して、６〜３０質量％とするのが好ましい。これにより、アンカーコート層の耐ブロッキング性を向上させることができる。
【００２３】
無機粒子の平均粒子径は、アンカーコート層の厚さに対して、１．０〜５．０倍、特に１．５〜４．０倍とするのが好ましい。このような平均粒子径を有する無機粒子によれば、アンカーコート層の表面に微細な凹凸を付与することにより表面粗さを向上させることができ、アンカーコート層の耐ブロッキング性を向上させることができる。
【００２４】
アンカーコート層の厚さは、耐ブロッキング性及び電磁波シールド層への密着性を両立させる観点から、０．１〜１．０μｍ、特に０．１〜０．５μｍとするのが好ましい。
【００２５】
したがって、無機粒子の平均粒子径は、０．１〜５．０μｍ、特に０．１５〜２．０μｍとするのが好ましい。なお、無機粒子の平均粒子径は、アンカーコート層の断面を透過型電子顕微鏡により倍率１０万倍程度で観測し、少なくとも１００個の無機粒子の投影面積円相当径を求めた数平均値とする。
【００２６】
アンカーコート層は、電磁波シールド層への密着性を向上させるために、合成樹脂を含むのが好ましい。アンカーコート層は、活性水素を含む基を有する合成樹脂と、少なくとも２個のイソシアネート基を有するポリイソシアネートと、必要に応じて透明無機微粒子とを含む組成物の硬化層であるのが特に好ましい。
【００２７】
活性水素を含む基を有する合成樹脂としては、ポリオール樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステルポリオール樹脂、アクリル樹脂及び酢酸ビニル樹脂を挙げることができ、ポリエステルポリオール樹脂が好ましい。これらは単独で使用しても、２種以上混合して使用しても良い。また他の樹脂を少量（２０質量％以下程度）併用しても良い。
【００２８】
ポリエステルポリオール樹脂は、多価カルボン酸を主体とした酸成分と、多価アルコールを主体としたアルコール成分との重縮合物である。
【００２９】
酸成分としては、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸またはその無水物、２，６−ナフタレンジカルボン酸、２，７−ナフタレンジカルボン酸などの芳香族ジカルボン酸およびその無水物；コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン酸、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸などの脂肪族ジカルボン酸があげられる。さらに、γ−ブチロラクトン、ε−カプロラクトンなどのラクトン類；および対応するヒドロキシカルボン酸や、ｐ−オキシエトキシ安息香酸などの芳香族オキシモノカルボン酸；トリメリット酸、トリメジン酸、ピロメリット酸などの３価以上の多価カルボン酸を小割合で含むことができる。
【００３０】
アルコール成分としては、エチレングリコール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、１，５−ヘキサンジオール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、１，４−シクロヘキサンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、ビスフェノールＡアルキレンオキシド付加物、ビスフェノールＳアルキレンオキシド付加物のほか、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，２−ペンタンジオール、２，３−ペンタンジオール、１，４−ペンタンジオール、１，４−ヘキサンジオール、２，５−ヘキサンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，２−ドデカンジオール、１，２−オクタデカンジオールなどの側鎖を有する脂肪族グリコールがある。アルコール成分はまた、トリメチロールプロパン、グリセリン、ペンタエリスリトールなどの３価以上の多価アルコールの小割合を含んでもよい。
【００３１】
活性水素を含む基としては、ヒドロキシル基、１級アミノ基、２級アミノ基、カルボキシル基等を挙げることができ、ヒドロキシル基が好ましい。活性水素を含む基の当量（例、ヒドロキシル価）は、樹脂（１ｇ）に対して１０〜３００ｍｇＫＯＨ／ｇ、特に３０〜１００ｍｇＫＯＨ／ｇの範囲が好ましい。
【００３２】
上記ポリイソシアネートとしては、トリレンジイソシアネート（ＴＤＩ）、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−４，４−ジイソシアネート等の芳香族系ポリイソシアネート；ジシクロペンタニルジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、２，４，４’−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、２，２’，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネートを挙げることができる。またトリメチロールプロパンのＴＤＩ付加体等の３官能以上のイソシアネート化合物等のポリイソシアネートも使用することができる。これらの中で芳香族系ポリイソシアネートが好ましい。
【００３３】
合成樹脂に対するポリイソシアネートの使用量は、２〜３０質量％、特に５〜２０質量％が好ましい。
【００３４】
アンカーコート層は、上述した合成樹脂、ポリイソシアネート、及び無機粒子を含む塗布液を透明フィルム上に塗布、硬化することにより得ることができる。アンカーコート層を形成する工程は、ロール・ツー・ロール方式を用いて行われるのが好ましい。具体的には、図１に示すように、透明フィルムをロール状に巻き取ったロール１００ａから透明フィルム１１０を引き出し、矢印ａの方向に走行されている透明フィルム１１０上にアンカーコート層形成用塗布液を、塗工装置１０１により塗工した後、加熱装置などの硬化装置１０２により硬化させてアンカーコート層１２０を形成する。その後、アンカーコート層１２０が形成された透明フィルム１１０を再度ロール状に巻き取ることにより行われるのが好ましい。このような方法により、本発明の積層フィルムロール１００ｂが得られる。
【００３５】
塗布液の塗布方法としては、グラビアコート、マイクログラビアコート、ダイコート、リップコート、ロールリバースコート、ワイヤーバーコート、キスコートなど、既存のコーティング法のいずれでも採用することができる。
【００３６】
塗布液の硬化方法は、常温でも可能であり、その場合、例えば１〜５日（特に２〜４日）の間放置する。加熱すれば、その温度に応じて加熱時間は短縮される。加熱する場合、上記塗布液を透明フィルムに塗布した後、８０〜１４０℃、特に９０〜１２０℃に加熱して、硬化させるのが好ましい。この際の加熱時間は、０．５〜３分程度であればよい。
【００３７】
アンカーコート層が形成された透明フィルムをロール状に巻き取るには、当該透明フィルムを紙管などの中空円筒状の巻芯の外周に巻き取ることにより行われるのが好ましい。巻取方式としては、センターワインディング（ｃｅｎｔｅｒ  ｗｉｎｄｉｎｇ、中心駆動巻取）、サーフェス・ワインディング（ｓｕｒｆａｃｅ  ｗｉｎｄｉｎｇ、表面駆動巻取）、センター・サーフェス・ワインディング（ｃｅｎｔｅｒ−ｓｕｒｆａｃｅ  ｗｉｎｄｉｎｇ、中心表面巻取）などが用いられる。なかでも、センターワインディング方式が好ましい。センターワインディング方式によれば、巻取張力を一定に制御することができ、透明フィルムが硬く巻き付けられるのを抑制することができる。
【００３８】
アンカーコート層と透明フィルムとの間には、易接着層が配置されるのが好ましい。これにより、アンカーコート層と透明フィルムとの接着性を向上させることができる。
【００３９】
易接着層は、接着性を向上させるために、無機粒子などの粒子を含まないのが好ましい。易接着層は、具体的には、活性水素を含む基を有する合成樹脂と、少なくとも２個のイソシアネート基を有するポリイソシアネートとを含む組成物の硬化層であるのが特に好ましい。易接着層に用いられる合成樹脂とポリイソシアネート、及び易接着層の製造方法については、上述したアンカーコート層と同様であるため、ここでは詳細な説明を省略する。
【００４０】
易接着層の厚さは、０．０１〜１．００μｍ、特に０．０２〜０．５０μｍとするのが好ましい。
【００４１】
上述したアンカーコート層が形成される長尺状の透明フィルムは、透明性（特に、可視光に対して）を有する基板であればよい。具体的には、ポリエステル（例、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリブチレンテレフタレート）、アクリル樹脂（例、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ））、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリスチレン、セルローストリアセテート、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール、金属イオン架橋エチレン−メタクリル酸共重合体、ポリウレタン、セロファン等を挙げることができる。これらの中で、加工処理（加熱、溶剤、折り曲げ）による劣化が少なく、透明性の高い材料であるＰＥＴ、ＰＥＮ、ＰＣ、ＰＭＭＡが好ましい。
【００４２】
透明基板フィルムの厚さは、１μｍ〜５ｍｍ、特に１０μｍ〜１ｍｍであることが好ましい。
【００４３】
本発明ではアンカーコート層が優れた耐ブロッキング性を有するため、アンカーコート層が形成された長尺状の透明フィルムをロール状に巻き取ったとしても、透明フィルムの巻き出しを円滑に行うことができる。また、フィルムを巻き取ったロールでは一般的に巻芯部付近のフィルムは製品には適用できないロス部分が生じるが、上述した非常に長いフィルムを巻き取ることができればロス部分を少なくすることができる。
【００４４】
本発明の積層フィルムロールを構成するアンカーコート層が形成された透明フィルムは、光学フィルタに好適に用いられる。光学フィルタでは、前記アンカーコート層上にメッシュ状など所定のパターン状の電磁波シールド層などが形成される。また、アンカーコート層及び電磁波シールド層が形成された透明フィルムを、用途に応じて矩形状など、所定の大きさに裁断するのが好ましい。
【００４５】
アンカーコート層上に形成される電磁波シールド層は、金属からなる層であるのが好ましい。前記金属としては、銅、ステンレス、アルミニウム、ニッケル、鉄、真鍮、或いはこれらの合金、好ましくは銅、ステンレス、アルミニウムが用いられる。
【００４６】
電磁波シールド層が有するパターン形状は、ストライプ状、メッシュ状であるのが好ましく、メッシュ状であるのが特に好ましい。これらのパターンを有する電磁波シールド層は、パターン形成部分により導電性を確保でき、開口部によって光の透過を確保できるため好ましい。
【００４７】
電磁波シールド層におけるメッシュパターンの形状には特に制限はなく、例えば四角形の開口部が形成された格子状や、円形、六角形、三角形又は楕円形の開口部が形成されたパンチングメタル状などが挙げられる。また、開口部は規則的に並んだものに限らず、ランダムパターンとしても良い。
【００４８】
メッシュ状の電磁波シールド層の線幅は、一般に５０μｍ以下、好ましくは５〜４５μｍ、特に５〜３０μｍである。線のピッチは３００μｍ以下が好ましい。また、開口率は５０〜９５％であることが好ましく、特に５５〜８０％である。なお、開口率とは、電磁波シールド層の投影面積における開口部分が占める割合をいう。
【００４９】
上述した金属からなる電磁波シールド層をアンカーコート層上に作製して、光学フィルタを得るには、図２に示すように、下記工程；
積層フィルムロール（図示せず）から前記アンカーコート層２２０が形成された透明フィルム２１０を送り出し、前記透明フィルム２１０の走行下で、前記アンカーコート層２２０上に溶剤に対して可溶な材料を含む印刷インクをドット状に印刷してドット状のパターン２３０を形成する工程（Ａ）；
前記パターン２３０を有するアンカーコート層２２０上に、前記溶剤に対して不溶な導電材料を含む導電材料層２４０ａを形成する工程（Ｂ）；及び
前記溶剤により、前記パターン２３０及び前記パターン２３０上の導電材料層２４０ａを除去することによりメッシュ状の電磁波シールド層２４０ｂを形成する工程（Ｃ）；
を含む方法が用いられる。
【００５０】
水等の溶剤によって洗浄することにより、ドット状のパターン２３０が溶解し、このパターン２３０上の導電材料層２４０ａもアンカーコート層２２０から剥れて除去される。そして、ドット同士の間の領域に残された導電材料が電磁波シールド層２４０ｂを形成する。この電磁波シールド層２４０ｂは、ドット間の領域を占めるものであるから、全体としてはメッシュ状（格子状）となる。したがって、ドット間の間隙を狭くしておくことにより、線幅の小さい格子状の電磁波シールド層２４０ｂが形成される。また、各ドットの面積を広くすることにより、開口率の大きなメッシュ状の電磁波シールド層２４０ｂが形成される。
【００５１】
本発明の方法では、まず、積層フィルムロールから送り出した透明フィルムの走行下で、前記アンカーコート層上に溶剤に対して可溶な材料を含む印刷インクをドット状に印刷してドット状のパターンを形成する工程（Ａ）を実施する。
【００５２】
前記印刷インクの材料は、後の除去に用いる溶剤に応じて選択される。例えば、溶剤として水系溶剤を用いる場合には水溶性物質が用いられ、溶剤として油系溶剤を用いる場合には油溶性物質が用いられる。
【００５３】
前記溶剤が水である場合、前記ドットパターンの形成に使用する材料としては、ポリビニルアルコール、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ポリエチレンオキサイド、ポリアクリルアミド、ポリビニルピロリドン等の水溶性樹脂などの水溶性高分子材料が好ましく、特に、良好な水溶性を有する点で、ポリビニルアルコールが好ましい。水溶性樹脂の分子量としては、一般に１００００〜１０００００（ＧＰＣによる数平均分子量）、特に２９０００〜４００００が好ましい。特に、ポリビニルアルコールを用いる場合、その重合度は一般に３００〜１５００、特に５００〜１０００であることが好ましく、また鹸化度は８５〜９０であることが好ましい。
【００５４】
前記印刷インクには、所望により、仕上がり状況を確認し易くするために顔料や染料等を混合してもよい。顔料として、硫酸バリウム、炭酸カルシウム、シリカ、マイカ、クレー等を挙げることができるが、硫酸バリウムが好ましい。顔料は水溶性樹脂に対して２０〜２００質量％の範囲、２０〜１５０質量％の範囲が好ましい。
【００５５】
上記ドットは、それらの間のアンカーコート層の露出領域がメッシュ状、好ましくはこの露出領域の線幅が５０μｍ以下のメッシュ状となるように印刷される。アンカーコート層上に印刷インクを用いてドットパターンを形成する方法としては、線幅が小さくかつ開口率の高い導電性パターンを形成可能な点で、印刷法が採用される。印刷手法としては、グラビア印刷、フレキソ印刷、グラビアオフセット印刷、スクリーン印刷、インクジェット印刷、静電印刷等が挙げられ、これらの中でも、より導電性パターンの細線化が可能な点で、グラビア印刷、グラビアオフセット印刷が特に好ましい。
【００５６】
ドットの形状は、円、楕円、角形（４角形、６角形）など任意であるが、角形とくに正方形であることが好ましい。ドットの印刷厚さは、特に限定されるものではないが、一般には０．１〜５μｍ程度である。
【００５７】
本発明の方法では、次に、前記パターンを有するアンカーコート層上に、前記溶剤に対して不溶な導電材料を含む導電材料層を形成する工程（Ｂ）を実施する。ドットの印刷後、好ましくは乾燥し、次いで導電材料層を形成する工程（Ｂ）を実施する。
【００５８】
前記導電材料としては、電磁波シールド層に用いられる金属と同じものが用いられ、前記金属については上述した通りである。
【００５９】
前記導電材料層の厚さは、薄過ぎると電磁波シールド性能が不足するので好ましくなく、厚過ぎると得られる電磁波シールド性光透過窓材の厚さに影響を及ぼすと共に、視野角を狭くしてしまうことから、０．５〜１００μｍ程度とするのが好ましい。
【００６０】
導電材料層の形成手法としては、スパッタリング、イオンプレーティング、真空蒸着、化学蒸着などの蒸着法（気相メッキ法）や、液相メッキ（電解メッキ、無電解メッキ等）、印刷、塗布などが例示されるが、広義の気相メッキ（スパッタリング、イオンプレーティング、真空蒸着、化学蒸着）又は液相メッキが好適である。
【００６１】
本発明の方法では、導電材料層の形成後、前記溶剤、好ましくは水により、前記パターン及び前記パターン上の導電材料層を除去することによりメッシュ状の導電層を形成する工程（Ｃ）を実施する。前記工程（Ｃ）により得られた導電層付き透明基板は、必要に応じて乾燥させた後、そのまま光学フィルタとして使用しても良い。
【００６２】
前記溶剤としては、公知の有機溶媒等も挙げられるが、安価で、環境への影響を考慮すると、水が特に好ましい。水は、通常の水のほか、水に可溶な有機溶剤（例、メタノール、エタノール等のアルコール）、酸、アルカリ又は界面活性剤を含んだ水溶液であってもよい。水とメタノールとの組見合わせが好ましく、その割合は質量比で９５：５〜５０：５０が好ましい。
【００６３】
前記溶剤で前記パターン及び前記パターン上の導電材料層を除去する際には、必要に応じ、超音波照射やブラシ、スポンジ等で擦るなどの溶解促進手段を併用してもよい。
【００６４】
本発明の方法においては、所望により防眩層等、他の層を設けるための工程をさらに行っても良い。例えば、ドット状のパターンを有するアンカーコート層上に、前記溶剤に不溶な防眩層を形成する工程を実施し、その後、導電材料層を形成する工程を実施しても良い。
【００６５】
ドット状のパターンを有するアンカーコート層上に形成される上記防眩層の材料としては、形成された防眩層が前記溶剤に不溶であって、ＰＤＰ等の前面にフィルタとして用いた際に、外光の反射を低減することができるものであればよく、特に制限はないが、例えば、黒又は暗色系インキ等が好適に挙げられる。該黒又は暗色系インキとしては、例えば、前記溶剤が水である場合には、カーボンブラック等の無機顔料、有機顔料、油性染料、分散染料等のほか、ウレタンやアクリル樹脂等の樹脂に、顔料を分散させた加工顔料等が挙げられる。これらの中でも、ウレタンやアクリル樹脂等の樹脂に顔料を分散させた加工顔料等が特に好ましい。また、電磁波のシールド性により優れる点で、防眩層が導電性となるよう導電性物質を用いるのが特に好ましい。
【００６６】
上記防眩層の形成方法としては、特に制限はなく、印刷、塗布、蒸着等の公知の形成方法が挙げられる。これらの中でも、より好適に防眩層を形成可能な点で、印刷により形成するのが好ましく、前記ドットパターン及びドットパターンを有する透明基板上のアンカーコート層を全て覆うように全面ベタにより印刷するのが特に好ましい。また、溶剤の浸透性を良くするために、細かいドット状に印刷して形成することも好ましい。
【００６７】
防眩層の厚みとしては、１０〜１０００ｎｍが好ましく、１０〜１００ｎｍがさらに好ましい。この厚みが、１０ｎｍ未満であると、光の反射防止効果が充分でないことがある一方、１０００ｎｍを超えると、パターンを除去するのが困難となり、また斜視した際の見かけ上の開口率が低下することがある。
【００６８】
本発明の方法では、また、溶剤による除去処理を行って電磁波シールド層を形成する工程の後、電気メッキ処理又は無電解メッキ処理を行って電磁波シールド層上に金属メッキ層を形成しても良い。また、この金属メッキ層上に前記防眩層を形成しても良いし、下記の黒化処理を行っても良い。
【００６９】
メッキ処理に用いる材質としては、金属メッキ層が優れた電磁波シールド効果を有するものであればよく特に制限はないが、例えば、銅、ニッケル、クロム、亜鉛、スズ、銀、及び、金等の金属が挙げられる。これらは、１種単独で使用されてもよく、２種以上の合金として使用されてもよい。
【００７０】
金属メッキ層の厚さは、０．１〜１０μｍが好ましく、２〜５μｍがより好ましい。前記厚みが０．１μｍ未満であると、充分な電磁波シールド効果を付与できないことがある一方、１０μｍを超えると、メッキは、メッキ層形成に際し、巾方向にも広がることから、線幅が太くなり、導電層の開口率が低くなってしまうことがある。
【００７１】
金属メッキ層における表面抵抗率としては、３Ω／□以下が好ましく、１Ω／□以下がより好ましい。メッキ層の表面抵抗率が３Ω／□を超えると、導電性が不充分で、電磁波シールド効果が不充分となることがある。
【００７２】
金属メッキ層を形成した後、防眩化処理を行う場合、前述の防眩層を設けた後、或いは前述の防眩層を設けずに、黒化処理を行っても良く、例えば、金属膜の酸化処理、クロム合金等の黒色メッキ、黒又は暗色系インキの塗布等を行うことができる。
【００７３】
上述した本発明の方法では、所定の表面粗さを有するアンカーコート層を有する長尺状の透明フィルムがロール状に巻き取られた積層フィルムロールを用いたことを特徴とする。生産性向上の観点から、工程（Ｂ）及び（Ｃ）も透明フィルムの走行下で行われるのが好ましい。
【００７４】
さらに、ドット状のパターン、電磁波シールド層などを形成する各工程をロール・ツー・ロール方式で行ってもよい。積層フィルムロールから引き出された透明フィルムは、工程ごとにロール状に巻き取られてもよい。したがって、工程（Ａ）を行った後に透明フィルムをロール状に巻き取り、得られたロールから透明フィルムを送り出し、透明フィルムロールの走行下で工程（Ｂ）を行うのが好ましい。その後、工程（Ｂ）を行った後に透明フィルムをロール状に巻き取り、得られたロールから透明フィルムを送り出し、透明フィルムの走行下で工程（Ｃ）を行うのが好ましい。
【００７５】
本発明の方法では、全工程が終了した後、アンカーコート層など各層が形成された透明フィルムを、矩形状など、所望の用途に応じて裁断することにより光学フィルタが得られる。
【００７６】
本発明の光学フィルタは、ＰＤＰ（プラズマディスプレイパネル）の前面フィルタや、病院等の電磁波シールドを必要とする建築物の窓材料（例えば貼着用フィルム）等として有用である。なお、防眩層を形成した電磁波シールド性光透過窓材を、ＰＤＰ（プラズマディスプレイパネル）として用いる場合には、視認性の点で、防眩層が観察者側に配置されるよう使用するのが好ましい。
【実施例】
【００７７】
以下、本発明を実施例により説明する。本発明は、以下の実施例により制限されるものではない。
【００７８】
（実施例１）
１．積層フィルムロールの作製
ＰＥＴフィルム上に、グラビアコートにより、下記の組成のアンカーコート層形成用塗布液を乾燥厚さ０．３μｍとなるように塗布した後、１００℃、１分間乾燥して、溶剤を除去した。これによりアンカーコート層（厚さ０．３μｍ）を形成した。なお、ＰＥＴフィルム（厚さ１００μｍ、長さ１０００ｍ）はロール状に巻き取ったＰＥＴフィルムロールを用い、ＰＥＴフィルムロールからＰＥＴフィルムを巻き出しながら、このＰＥＴフィルムの走行下で、アンカーコート層を形成した。その後、アンカーコート層が形成されたＰＥＴフィルムを再度、ロール状に巻き取り、積層フィルムロールを得た。
【００７９】
（アンカーコート層形成用塗布液の組成）
ポリエステルポリオール樹脂                              ９０質量部（溶液で）
（ＬＸ−９０１、大日本インク化学工業（株）製、５０質量％溶液）
ポリイソシアネート                                      １０質量部（溶液で）
（ＫＧ−７５、大日本インク化学工業（株）製、７５質量％溶液）
酢酸エチル                                            ３００質量部
トルエン                                              ３００質量部
ＳｉＯ2 （平均粒子径０．５μｍ）                          ４質量部
２．光学フィルタの作製
【００８０】
次に、積層フィルムロールからアンカーコート層が形成されたＰＥＴフィルムを巻き出しながら、このＰＥＴフィルムの走行下で、アンカーコート層上に、水溶性インク（大日本インキ化学工業製：ＭＣＡ−２０５５、ポリビニルアルコールの２０％水溶液）をスクリーン印刷によりドット状に印刷した。開口率８５％の設計に基づき、ドット１個の大きさは１辺が２３４μｍの正方形状、ドット同士間の間隔が２０μｍ、そしてドットが正方格子状に規則配列したドットパターンを印刷した。印刷厚さは、乾燥後で４μｍである。
【００８１】
その上に、銅を平均膜厚４μｍとなるように真空蒸着した。次いで、常温の水に浸漬し、スポンジで擦ることによりドット部分を溶解除去し、水でリンスした後、乾燥させて、メッシュ状のパターンを有する電磁波シールド層を形成した。
【００８２】
その後、アンカーコート層及び電磁波シールド層が形成されたＰＥＴフィルムを矩形状に裁断し、光学フィルタを得た。この光学フィルタ表面の電磁波シールド層は、正確にドットのネガパターンに対応した正方格子状のものであり、線幅は２０μｍ、開口率は８５％であった。
【００８３】
（実施例２及び３、比較例１〜３）
アンカーコート層におけるＳｉＯ2の含有量を表１に示す通りに変更した以外は、実施例１と同様にして光学フィルタを作製した。なお、表１に示すＳｉＯ2の含有量は、得られたアンカーコート層における固形分（ポリエステルポリオール樹脂、ポリイソシアネート、及びＳｉＯ2）の合計量に対するＳｉＯ2の含有量を示す。
【００８４】
（評価）
上記で作製した光学フィルタについて下記手順にしたがって評価を行った。
【００８５】
１．アンカーコート層の厚さ
アンカーコート層の厚さは、表面粗さ計（商品名：サーフコム４８０Ａ；東京精密（株）製）を用いてＪＩＳ  Ｂ  ０６０１−２００１に従って、透明フィルム表面と、その表面上に形成されたアンカーコート層表面を測定し、その差から算出した。
【００８６】
２．アンカーコート層の表面粗さ（Ｒａ）
アンカーコート層の表面粗さ（Ｒａ）は、表面粗さ計（商品名：サーフコム４８０Ａ；東京精密（株）製）を用いてＪＩＳ  Ｂ０６０１−２００１に従って測定した。結果を表１に示す。
【００８７】
３．積層フィルムロールの耐ブロッキング性
積層フィルムロールを、２０℃、５０％ＲＨの雰囲気下に１０日間放置した。その後、積層フィルムロールを図１に示す装置（塗工及び乾燥は行わない）に供し、１０ｍ／分の速度でロールの巻き替えを行うことにより、ブロッキングの発生の有無を確認した。
【００８８】
表１において、ブロッキングの発生が無く、円滑に巻き替えが行えたものを「○」とし、ブロッキングが発生して円滑に巻き替えが行えなかったものを「×」とした。
【００８９】
４．電磁波シールド層の密着性
光学フィルタの電磁波シールド層上にセロファンテープを貼りつけて剥し、電磁波シールド層の剥離の有無を評価した。結果を表１に示す。
【００９０】
なお、表１において、電磁波シールド層が剥れなかったものを「○」とし、電磁波シールド層の一部が剥れたものを「△」とし、電磁波シールド層が幅広く剥れたものを「×」とした。
【００９１】
【表１】
2010253784.tif 000002
【００９２】
表１より、本発明によれば、電磁波シールド層への密着性に優れたアンカーコート層を有し、ブロッキングの発生が高く抑制された積層フィルムロールが得られることが分かる。
【符号の説明】
【００９３】
１００ａ        透明フィルムロール
１１０ｂ        積層フィルムロール
１０１          塗工装置
１０２          硬化装置
１１０、２１０  透明フィルム、
１２０、２２０  アンカーコート層、
１３０、２３０  ドット、
２４０ａ        導電材料層、
２４０ｂ        電磁波シールド層。
【図１】
2010253784.tif 000003
【図２】
2010253784.tif 000004