(57)【要約】【課題】大型の基板を精度良く回転して位置決めする。【解決手段】チャック１０を回転するθステージ８を、内輪４２ａと外輪４２ｂとの間に配置した複数のころ４２ｃが回転して、内輪４２ａと外輪４２ｂとが相対的に回転するころ軸受４２と、ころ軸受４２の外側に環状に設置されたレール４３ａに沿って移動ブロック４３ｂが移動するガイド４３とで構成し、θステージ８によりチャック１０を回転して基板１の位置決めを行う。ころ軸受４２は、θステージ８の回転精度を保つ役目を果し、ガイド４３は、チャック１０及び基板１の重量による縦方向の荷重の大部分を支える役目を果す。大型の基板１が精度良く回転されて位置決めされ、露光精度が向上する。【選択図】図７
2010160327.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を支持するチャックと、マスクを保持するマスクホルダとを備え、マスクと基板との間に微小なギャップを設けて、マスクのパターンを基板へ転写するプロキシミティ露光装置において、
内輪と外輪との間に配置した複数のころが回転して、内輪と外輪とが相対的に回転するころ軸受と、該ころ軸受の外側に環状に設置されたレールに沿って移動ブロックが移動するガイドとを有し、前記チャックを回転して基板の位置決めを行うθステージを備えたことを特徴とするプロキシミティ露光装置。
【請求項２】
前記ころ軸受は、内輪と外輪との間に複数のころを交互に直交させて配置したクロスローラベアリングであることを特徴とする請求項１に記載のプロキシミティ露光装置。
【請求項３】
前記ガイドのレールは、前記ころ軸受に取り付けた測定器具を用いて真円度を測定しながら、前記ころ軸受の外側に環状に設置されたことを特徴とする請求項１又は請求項２に記載のプロキシミティ露光装置。
【請求項４】
前記θステージは、前記ころ軸受と前記ガイドとの間に設けられ、両者の高さの差により変位する弾性体を有することを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれか一項に記載のプロキシミティ露光装置。
【請求項５】
基板を支持するチャックと、マスクを保持するマスクホルダとを備え、マスクと基板との間に微小なギャップを設けて、マスクのパターンを基板へ転写するプロキシミティ露光装置の基板位置決め方法であって、
チャックを回転するθステージを、内輪と外輪との間に配置した複数のころが回転して、内輪と外輪とが相対的に回転するころ軸受と、ころ軸受の外側に環状に設置されたレールに沿って移動ブロックが移動するガイドとで構成し、
θステージによりチャックを回転して基板の位置決めを行うことを特徴とするプロキシミティ露光装置の基板位置決め方法。
【請求項６】
ころ軸受として、内輪と外輪との間に複数のころを交互に直交させて配置したクロスローラベアリングを用いることを特徴とする請求項５に記載のプロキシミティ露光装置の基板位置決め方法。
【請求項７】
ころ軸受に取り付けた測定器具を用いて、ガイドのレールの真円度を測定しながら、ガイドのレールをころ軸受の外側に環状に設置することを特徴とする請求項５又は請求項６に記載のプロキシミティ露光装置の基板位置決め方法。
【請求項８】
ころ軸受とガイドとの間に、両者の高さの差により変位する弾性体を設けることを特徴とする請求項５乃至請求項７のいずれか一項に記載のプロキシミティ露光装置の基板位置決め方法。
【請求項９】
請求項１乃至請求項４のいずれか一項に記載のプロキシミティ露光装置を用いて基板の露光を行うことを特徴とする表示用パネル基板の製造方法。
【請求項１０】
請求項５乃至請求項８のいずれか一項に記載のプロキシミティ露光装置の基板位置決め方法を用いて基板を位置決めして、基板の露光を行うことを特徴とする表示用パネル基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶ディスプレイ装置等の表示用パネル基板の製造において、プロキシミティ方式を用いて基板の露光を行うプロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置の基板位置決め方法、及びそれらを用いた表示用パネル基板の製造方法に係り、特に、大型の基板の露光を行うのに好適なプロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置の基板位置決め方法、及びそれらを用いた表示用パネル基板の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
表示用パネルとして用いられる液晶ディスプレイ装置のＴＦＴ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）基板やカラーフィルタ基板、プラズマディスプレイパネル用基板、有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）表示パネル用基板等の製造は、露光装置を用いて、フォトリソグラフィー技術により基板上にパターンを形成して行われる。露光装置としては、レンズ又は鏡を用いてマスクのパターンを基板上に投影するプロジェクション方式と、マスクと基板との間に微小な間隙（プロキシミティギャップ）を設けてマスクのパターンを基板へ転写するプロキシミティ方式とがある。プロキシミティ方式は、プロジェクション方式に比べてパターン解像性能は劣るが、照射光学系の構成が簡単で、かつ処理能力が高く量産用に適している。
【０００３】
プロキシミティ露光装置は、基板を支持するチャックと、マスクを保持するマスクホルダとを備え、マスクホルダに保持されたマスクとチャックに支持された基板とを極めて接近させて露光を行う。チャックの下方には、Ｘ方向へ移動するＸステージ、Ｙ方向へ移動するＹステージ、及びθ方向へ回転するθステージが設けられており、これらのステージによってチャックを移動及び回転することにより、露光時の基板の位置決めが行われる。なお、この様な露光装置として、特許文献１に記載のものがある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００８−９０１２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
プロキシミティ露光装置のθステージには、チャック及び基板の重量を支持する剛性と、ぶれ無く真円度の高い回転を行う回転精度とが要求される。従来、プロキシミティ露光装置のθステージには、環状のレールと、レールに沿って移動する移動ブロックとから成るガイドが用いられていた。しかしながら、近年の表示用パネルの大画面化に伴い基板が大型化すると、チャック及びθステージも大型化し、大型のレールを高い真円度で製作及び設置することが困難になってきた。そのため、θステージによる基板の位置決めが精度良く行われず、露光精度が低下するという問題があった。
【０００６】
本発明の課題は、大型の基板を精度良く回転して位置決めすることである。また、本発明の課題は、大型で高品質な表示用パネル基板を製造することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明のプロキシミティ露光装置は、基板を支持するチャックと、マスクを保持するマスクホルダとを備え、マスクと基板との間に微小なギャップを設けて、マスクのパターンを基板へ転写するプロキシミティ露光装置において、内輪と外輪との間に配置した複数のころが回転して、内輪と外輪とが相対的に回転するころ軸受と、ころ軸受の外側に環状に設置されたレールに沿って移動ブロックが移動するガイドとを有し、チャックを回転して基板の位置決めを行うθステージを備えたものである。
【０００８】
また、本発明のプロキシミティ露光装置の基板位置決め方法は、基板を支持するチャックと、マスクを保持するマスクホルダとを備え、マスクと基板との間に微小なギャップを設けて、マスクのパターンを基板へ転写するプロキシミティ露光装置の基板位置決め方法であって、チャックを回転するθステージを、内輪と外輪との間に配置した複数のころが回転して、内輪と外輪とが相対的に回転するころ軸受と、ころ軸受の外側に環状に設置されたレールに沿って移動ブロックが移動するガイドとで構成し、θステージによりチャックを回転して基板の位置決めを行うものである。
【０００９】
本発明で用いるころ軸受は、内輪と、外輪と、内輪と外輪との間に配置した複数のころとを有し、複数のころが内輪と外輪との間で回転して、内輪と外輪とが相対的に回転するものである。この様なころ軸受は、レールと移動ブロックから成るガイドに比べて回転精度は高いが、大型のものを製作するのが困難である。そこで、本発明では、チャックを回転するθステージを、ころ軸受と、ころ軸受の外側に環状に設置されたレールに沿って移動ブロックが移動するガイドとで構成し、θステージによりチャックを回転して基板の位置決めを行う。ころ軸受は、θステージの回転精度を保つ役目を果し、ガイドは、チャック及び基板の重量による縦方向の荷重の大部分を支える役目を果す。また、チャックをＸＹ方向へ移動する際、ころ軸受は、横方向の荷重を支える役目を果し、ガイドは、減速時に掛かる回転モーメントによる荷重を支える役目を果す。
【００１０】
さらに、本発明のプロキシミティ露光装置は、ころ軸受が、内輪と外輪との間に複数のころを交互に直交させて配置したクロスローラベアリングであるものである。また、本発明のプロキシミティ露光装置の基板位置決め方法は、ころ軸受として、内輪と外輪との間に複数のころを交互に直交させて配置したクロスローラベアリングを用いるものである。クロスローラベアリングは、複数のころを交互に直交させて配置しているため、縦方向及び横方向の荷重を支えることができ、ガイドの荷重の負担が少なくなる。
【００１１】
さらに、本発明のプロキシミティ露光装置は、ガイドのレールが、ころ軸受に取り付けた測定器具を用いて真円度を測定しながら、ころ軸受の外側に環状に設置されたものである。また、本発明のプロキシミティ露光装置の基板位置決め方法は、ころ軸受に取り付けた測定器具を用いて、ガイドのレールの真円度を測定しながら、ガイドのレールをころ軸受の外側に環状に設置するものである。ころ軸受に取り付けた測定器具を用いて、ガイドのレールが高い真円度で設置される。
【００１２】
さらに、本発明のプロキシミティ露光装置は、θステージが、ころ軸受とガイドとの間に設けられ、両者の高さの差により変位する弾性体を有するものである。また、本発明のプロキシミティ露光装置の基板位置決め方法は、ころ軸受とガイドとの間に、両者の高さの差により変位する弾性体を設けるものである。ころ軸受又はガイドの設置高さに誤差があっても、両者の間に設けた弾性体が変位して、両者の高さの差を吸収する。
【００１３】
本発明の表示用パネル基板の製造方法は、上記のいずれかのプロキシミティ露光装置を用いて基板の露光を行い、あるいは、上記のいずれかのプロキシミティ露光装置の基板位置決め方法を用いて基板を位置決めして、基板の露光を行うものである。大型の基板が精度良く回転されて位置決めされ、露光精度が向上するので、大型で高品質な表示用パネル基板が製造される。
【発明の効果】
【００１４】
本発明のプロキシミティ露光装置及びプロキシミティ露光装置の基板位置決め方法によれば、チャックを回転するθステージを、内輪と外輪との間に配置した複数のころが回転して、内輪と外輪とが相対的に回転するころ軸受と、ころ軸受の外側に環状に設置されたレールに沿って移動ブロックが移動するガイドとで構成し、θステージによりチャックを回転して基板の位置決めを行うことにより、ころ軸受によってθステージの回転精度を保ち、かつ、ガイドによってチャック及び基板の重量による縦方向の荷重の大部分を支えることができるので、大型の基板を精度良く回転して位置決めすることができる。従って、露光精度を向上させることができる。
【００１５】
さらに、本発明のプロキシミティ露光装置及びプロキシミティ露光装置の基板位置決め方法によれば、ころ軸受として、内輪と外輪との間に複数のころを交互に直交させて配置したクロスローラベアリングを用いることにより、ガイドの荷重の負担を少なくすることができる。
【００１６】
さらに、本発明のプロキシミティ露光装置及びプロキシミティ露光装置の基板位置決め方法によれば、ころ軸受に取り付けた測定器具を用いて、ガイドのレールの真円度を測定しながら、ガイドのレールをころ軸受の外側に環状に設置することにより、ガイドのレールを高い真円度で設置することができる。
【００１７】
さらに、本発明のプロキシミティ露光装置及びプロキシミティ露光装置の基板位置決め方法によれば、ころ軸受とガイドとの間に、両者の高さの差により変位する弾性体を設けることにより、ころ軸受又はガイドの設置高さに誤差があっても、両者の高さの差を吸収することができる。
【００１８】
本発明の表示用パネル基板の製造方法によれば、大型の基板を精度良く回転して位置決めすることができ、露光精度を向上させることができるので、大型で高品質な表示用パネル基板を製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明の一実施の形態によるプロキシミティ露光装置の概略構成を示す図である。
【図２】本発明の一実施の形態によるプロキシミティ露光装置の平面図である。
【図３】図３（ａ）はチャックの上面図、図３（ｂ）はチャック及びチャック支持台の側面図である。
【図４】図４（ａ）はチャック支持台の上面図、図４（ｂ）はチャック支持台の側面図である。
【図５】高さ調整機構の一部断面側面図である。
【図６】本発明の一実施の形態によるプロキシミティ露光装置のθステージの平面図である。
【図７】図６のＡ−Ａ部の一部断面側面図である。
【図８】図８（ａ）はころ軸受の平面図、図８（ｂ）は図８（ａ）のＢ−Ｂ部の断面図である。
【図９】ガイドのレールの設置方法を説明する図である。
【図１０】θステージに掛かる荷重を説明する図である。
【図１１】液晶ディスプレイ装置のＴＦＴ基板の製造工程の一例を示すフローチャートである。
【図１２】液晶ディスプレイ装置のカラーフィルタ基板の製造工程の一例を示すフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
図１は、本発明の一実施の形態によるプロキシミティ露光装置の概略構成を示す図である。また、図２は、本発明の一実施の形態によるプロキシミティ露光装置の平面図である。プロキシミティ露光装置は、ベース３、Ｘガイド４、Ｘステージ５、Ｙガイド６、Ｙステージ７、θステージ８、チャック支持台９、チャック１０、及びマスクホルダ２０を含んで構成されている。プロキシミティ露光装置は、これらの他に、基板１をチャック１０へ搬入し、また基板１をチャック１０から搬出する基板搬送ロボット、露光光を照射する照射光学系、装置内の温度管理を行う温度制御ユニット等を備えている。
【００２１】
なお、以下に説明する実施の形態におけるＸＹ方向は例示であって、Ｘ方向とＹ方向とを入れ替えてもよい。
【００２２】
図２において、チャック１０は、基板１のロード及びアンロードを行うロード／アンロード位置にある。ロード／アンロード位置において、図示しない基板搬送ロボットにより、基板１がチャック１０へ搬入され、また基板１がチャック１０から搬出される。チャック１０への基板１のロード及びチャック１０からの基板１のアンロードは、チャック１０に設けた複数の突き上げピンを用いて行われる。突き上げピンは、チャック１０の内部に収納されており、チャック１０の内部から上昇して、基板１をチャック１０にロードする際、基板搬送ロボットから基板１を受け取り、基板１をチャック１０からアンロードする際、基板搬送ロボットへ基板１を受け渡す。
【００２３】
基板１の露光を行う露光位置の上空には、マスク２を保持するマスクホルダ２０が設置されている。マスクホルダ２０は、マスク２の周辺部を真空吸着して保持する。マスクホルダ２０に保持されたマスク２の上空には、図示しない照射光学系が配置されている。露光時、照射光学系からの露光光がマスク２を透過して基板１へ照射されることにより、マスク２のパターンが基板１の表面に転写され、基板１上にパターンが形成される。
【００２４】
図１において、チャック１０は、チャック支持台９を介してθステージ８に搭載されており、θステージ８の下にはＹステージ７及びＸステージ５が設けられている。Ｘステージ５は、ベース３に設けられたＸガイド４に搭載され、Ｘガイド４に沿ってＸ方向（図１の図面横方向）へ移動する。Ｙステージ７は、Ｘステージ５に設けられたＹガイド６に搭載され、Ｙガイド６に沿ってＹ方向（図１の図面奥行き方向）へ移動する。θステージ８は、Ｙステージ７に搭載され、θ方向へ回転する。チャック支持台９は、θステージ８に搭載され、チャック１０を支持する。
【００２５】
Ｘステージ５のＸ方向への移動及びＹステージ７のＹ方向への移動により、チャック１０は、ロード／アンロード位置と露光位置との間を移動される。ロード／アンロード位置において、Ｘステージ５のＸ方向への移動、Ｙステージ７のＹ方向への移動、及びθステージ８のθ方向への回転により、チャック１０に搭載された基板１のプリアライメントが行われる。露光位置において、Ｘステージ５のＸ方向への移動及びＹステージ７のＹ方向への移動により、チャック１０に搭載された基板１のＸＹ方向へのステップ移動が行われる。そして、Ｘステージ５のＸ方向への移動、Ｙステージ７のＹ方向への移動、及びθステージ８のθ方向への回転により、基板１の位置決めが行われる。また、図示しないＺ−チルト機構によりマスクホルダ２０をＺ方向（図１の図面上下方向）へ移動及びチルトすることにより、マスク２と基板１とのギャップ合わせが行われる。
【００２６】
なお、本実施の形態では、マスクホルダ２０をＺ方向へ移動及びチルトすることにより、マスク２と基板１とのギャップ合わせを行っているが、チャック支持台９にＺ−チルト機構を設けて、チャック１０をＺ方向へ移動及びチルトすることにより、マスク２と基板１とのギャップ合わせを行ってもよい。
【００２７】
図３（ａ）はチャックの上面図、図３（ｂ）はチャック及びチャック支持台の側面図である。図３（ａ）において、チャック１０の表面には、図示しない凸部と土手と吸着孔とが設けられている。凸部は、直径数ｍｍのピン形状であり、チャック１０の表面に所定の間隔で複数設けられている。チャック１０に基板１が搭載されたとき、凸部は、基板１を複数の点で支持する。このとき、チャック１０の表面の凸部以外の部分と基板１との間には、空間が形成される。土手は、所定の幅の連続した壁であり、チャック１０の表面の凸部以外の部分と基板１との空間に、真空区画を形成する。土手は、チャック１０の表面形状が基板１の表面に焼き付けられる裏面転写が発生したときに人間の目で認識され難い様に、直線ではなく不規則な線で構成されている。吸着孔は、チャック１０の表面の凸部及び土手以外の部分に所定の間隔で複数設けられ、土手により形成された真空区画の真空引きを行う。
【００２８】
なお、チャック１０の表面には、凸部と土手と吸着孔の他に、突き上げピンが通る貫通孔が設けられているが、図３（ａ）ではそれらも省略されている。
【００２９】
図３（ｂ）において、チャック支持台９は、チャック１０の裏面を複数箇所で支持する。チャック支持台９には、後述する様に、チャック支持台９がチャック１０の裏面を支持する高さを調整する複数の高さ調整機構が設けられている。
【００３０】
図４（ａ）はチャック支持台の上面図、図４（ｂ）はチャック支持台の側面図である。チャック支持台９は、フレーム３０、及び調整ねじ３１を含む高さ調整機構を含んで構成されている。フレーム３０は、図１のθステージ８に搭載されている。フレーム３０は、放射状又は縦横に伸びる所定の厚さの複数のスポークを有し、各スポークの中間及び先端には、所定の厚さのリムが取り付けられて、格子状の枠を形成している。フレーム３０の上面には、調整ねじ３１を含む高さ調整機構が取り付けられている。
【００３１】
なお、本実施の形態では、高さ調整機構が７２箇所に取り付けられているが、高さ調整機構の数及びそれらの配置は、チャックの大きさ及び形状に応じて適宜決定される。
【００３２】
図３（ｂ）において、チャック１０の裏面には、調整ねじ３１が接触する複数の支持部１５が設けられている。調整ねじ３１は、チャック１０の裏面に設けられた支持部１５に接触し、チャック１０の裏面を複数の点で支持する。
【００３３】
図５は、高さ調整機構の一部断面側面図である。高さ調整機構は、フレーム３０に設けられたねじ穴と、調整ねじ３１、ばね座金３２、平座金３３、及び止めナット３４とを含んで構成されている。チャック１０の裏面に設けられた支持部１５は、ねじ受け１６、カバー１７、及びボルト１８から成る。
【００３４】
調整ねじ３１の頭は、球面の一部を形成しており、その頂点がねじ受け１６に接触している。調整ねじ３１の頭とカバー１７との間には、ばね座金３２が入れられ、カバー１７は、ボルト１８によりねじ受け１６に固定されている。ばね座金３２を調整ねじ３１の頭とカバー１７との間に入れることにより、チャック１０の横方向へのずれが防止される。
【００３５】
調整ねじ３１のねじ部３１ａは、フレーム３０に設けられたねじ穴にねじ込まれている。調整ねじ３１のねじ部３１ａには、平座金３３及び止めナット３４が取り付けられており、止めナット３４により調整ねじ３１がフレーム３０に固定されている。止めナット３４を緩め、調整ねじ３１のねじ込み量を調整して、再び止めナット３４を締めることにより、調整ねじ３１がチャック１０の裏面を支持する点の高さが調整される。
【００３６】
図６は、本発明の一実施の形態によるプロキシミティ露光装置のθステージの平面図である。また、図７は、図６のＡ−Ａ部の一部断面側面図である。θステージ８は、回転テーブル４０、軸受けベース４１、ころ軸受４２、ガイド４３、板ばね４４、及びθステージ駆動機構を含んで構成されている。図６及び図７において、回転テーブル４０の中央部には円形の開口が形成されており、開口にはころ軸受４２が取り付けられている。
【００３７】
図８（ａ）はころ軸受の平面図、図８（ｂ）は図８（ａ）のＢ−Ｂ部の断面図である。図８（ｂ）に示す様に、ころ軸受４２は、内輪４２ａと、外輪４２ｂと、内輪４２ａと外輪４２ｂとの間に配置した複数のころ４２ｃとを有する。内輪４２ａの外周面及び外輪４２ｂの内周面には、Ｖ字状の溝が設けられている。両者の溝の間には、筒状のころ４２ｃが組み込まれており、複数のころ４２ｃが溝内で回転して、内輪４２ａと外輪４２ｂとが相対的に回転する。
【００３８】
本実施の形態では、ころ軸受４２として、内輪４２ａと外輪４２ｂとの間に複数のころ４２ｃを交互に直交させて配置したクロスローラベアリングを用いる。クロスローラベアリングは、複数のころ４２ｃを交互に直交させて配置しているため、縦方向及び横方向の荷重を支えることができ、後述するガイド４３の荷重の負担が少なくなる。
【００３９】
図７において、ころ軸受４２の内輪４２ａは、Ｙステージ７上に設けられた軸受けベース４１に固定されている。ころ軸受４２の外輪４２ｂは、回転テーブル４０の開口に取り付けられている。回転テーブル４０には、図１のチャック支持台９が搭載されており、ころ軸受４２の外輪４２ｂが回転テーブル４０と伴に回転することにより、チャック支持台９に支持されたチャック１０が回転して、基板１のプリアライメント及び位置決めが行われる。
【００４０】
回転テーブル４０の下方には、レール４３ａと移動ブロック４３ｂとから成るガイド４３が設けられている。レール４３ａは、Ｙステージ７上のころ軸受４２の外側に環状に設置されている。移動ブロック４３ｂは、回転テーブル４０の下面に取り付けられており、レール４３ａに搭載され、レール４３ａに沿って移動する。
【００４１】
図９は、ガイドのレールの設置方法を説明する図である。ころ軸受４２の外輪４２ｂにゲージブロック５１を取り付け、ゲージブロック５１から伸びたアームの先端にダイヤルゲージ５０を取り付ける。ころ軸受４２の外輪４２ｂを回転して、ダイヤルゲージ５０によりレール４３ｂの真円度を測定しながら、レール４３ｂをころ軸受４２の外側に環状に設置する。ころ軸受４２に取り付けたダイヤルゲージ５０を用いて、レール４３ｂが高い真円度で設置される。
【００４２】
図６及び図７において、回転テーブル４０ところ軸受４２の外輪４２ｂとは、複数の板ばね４４によって接続されている。ころ軸受４２又はガイド４３の設置高さに誤差があっても、両者の間に設けた板ばね４４が変位して、両者の高さの差を吸収する。
【００４３】
図６において、θステージ駆動機構は、モータ４５、ボールねじ４６、及びコイルバネ４７を含んで構成されている。回転テーブル４０には、回転テーブル４０を駆動するための突起４０ａが設けられている。突起４０ａには、コイルバネ４７を介して、ボールねじ４６のナットが接続されている。モータ４５がボールねじ４６を回転することにより、ボールねじ４６のナットが移動して、回転テーブル４０がθ方向に回転する。
【００４４】
図１０は、θステージに掛かる荷重を説明する図である。チャック支持台９、チャック１０及び基板１の重量により、θステージ８には、矢印Ｃで示す縦方向に荷重が掛かる。ガイド４３は、この縦方向の荷重の大部分を支える役目を果す。また、チャック１０をＸＹ方向へ移動する際、θステージ８には、矢印Ｄで示す横方向に荷重が掛かる。ころ軸受４２は、θステージ８の回転精度を保つ役目を果すと伴に、この横方向の荷重を支える役目を果す。さらに、チャック１０をＸＹ方向へ移動して停止する際の減速時に、θステージ８には、矢印Ｅで示す方向に回転モーメントによる荷重が掛かる。ガイド４３は、この回転モーメントによる荷重を支える役目を果す。
【００４５】
以上説明した実施の形態によれば、チャック１０を回転するθステージ８を、内輪４２ａと外輪４２ｂとの間に配置した複数のころ４２ｃが回転して、内輪４２ａと外輪４２ｂとが相対的に回転するころ軸受４２と、ころ軸受４２の外側に環状に設置されたレール４３ａに沿って移動ブロック４３ｂが移動するガイド４３とで構成し、θステージ８によりチャック１０を回転して基板１の位置決めを行うことにより、ころ軸受４２によってθステージ８の回転精度を保ち、かつ、ガイド４３によってチャック支持台９、チャック１０及び基板１の重量による縦方向の荷重の大部分を支えることができるので、大型の基板１を精度良く回転して位置決めすることができる。従って、露光精度を向上させることができる。
【００４６】
さらに、ころ軸受４２として、内輪４２ａと外輪４２ｂとの間に複数のころ４２ｃを交互に直交させて配置したクロスローラベアリングを用いることにより、ガイド４３の荷重の負担を少なくすることができる。
【００４７】
さらに、ころ軸受４２に取り付けたダイヤルゲージ５０を用いて、レール４３ａの真円度を測定しながら、レール４３ａをころ軸受４２の外側に環状に設置することにより、レール４３ａを高い真円度で設置することができる。
【００４８】
さらに、ころ軸受４２とガイド４３との間に、両者の高さの差により変位する板ばね４４を設けることにより、ころ軸受４２又はガイド４３の設置高さに誤差があっても、両者の高さの差を吸収することができる。
【００４９】
本発明のプロキシミティ露光装置を用いて基板の露光を行い、あるいは、本発明のプロキシミティ露光装置の基板位置決め方法を用いて基板を位置決めして、基板の露光を行うことにより、大型の基板を精度良く回転して位置決めすることができ、露光精度を向上させることができるので、大型で高品質な表示用パネル基板を製造することができる。
【００５０】
例えば、図１１は、液晶ディスプレイ装置のＴＦＴ基板の製造工程の一例を示すフローチャートである。薄膜形成工程（ステップ１０１）では、スパッタ法やプラズマ化学気相成長（ＣＶＤ）法等により、基板上に液晶駆動用の透明電極となる導電体膜や絶縁体膜等の薄膜を形成する。レジスト塗布工程（ステップ１０２）では、ロール塗布法等により感光樹脂材料（フォトレジスト）を塗布して、薄膜形成工程（ステップ１０１）で形成した薄膜上にフォトレジスト膜を形成する。露光工程（ステップ１０３）では、プロキシミティ露光装置や投影露光装置等を用いて、マスクのパターンをフォトレジスト膜に転写する。現像工程（ステップ１０４）では、シャワー現像法等により現像液をフォトレジスト膜上に供給して、フォトレジスト膜の不要部分を除去する。エッチング工程（ステップ１０５）では、ウエットエッチングにより、薄膜形成工程（ステップ１０１）で形成した薄膜の内、フォトレジスト膜でマスクされていない部分を除去する。剥離工程（ステップ１０６）では、エッチング工程（ステップ１０５）でのマスクの役目を終えたフォトレジスト膜を、剥離液によって剥離する。これらの各工程の前又は後には、必要に応じて、基板の洗浄／乾燥工程が実施される。これらの工程を数回繰り返して、基板上にＴＦＴアレイが形成される。
【００５１】
また、図１２は、液晶ディスプレイ装置のカラーフィルタ基板の製造工程の一例を示すフローチャートである。ブラックマトリクス形成工程（ステップ２０１）では、レジスト塗布、露光、現像、エッチング、剥離等の処理により、基板上にブラックマトリクスを形成する。着色パターン形成工程（ステップ２０２）では、染色法、顔料分散法、印刷法、電着法等により、基板上に着色パターンを形成する。この工程を、Ｒ、Ｇ、Ｂの着色パターンについて繰り返す。保護膜形成工程（ステップ２０３）では、着色パターンの上に保護膜を形成し、透明電極膜形成工程（ステップ２０４）では、保護膜の上に透明電極膜を形成する。これらの各工程の前、途中又は後には、必要に応じて、基板の洗浄／乾燥工程が実施される。
【００５２】
図１１に示したＴＦＴ基板の製造工程では、露光工程（ステップ１０３）において、図１２に示したカラーフィルタ基板の製造工程では、ブラックマトリクス形成工程（ステップ２０１）及び着色パターン形成工程（ステップ２０２）の露光処理において、本発明のプロキシミティ露光装置又は本発明のプロキシミティ露光装置の基板位置決め方法を適用することができる。
【符号の説明】
【００５３】
１  基板
２  マスク
３  ベース
４  Ｘガイド
５  Ｘステージ
６  Ｙガイド
７  Ｙステージ
８  θステージ
９  チャック支持台
１０  チャック
１５  支持部
１６  ねじ受け
１７  カバー
１８  ボルト
２０  マスクホルダ
３０  フレーム
３１  調整ねじ
３２  ばね座金
３３  平座金
３４  止めナット
４０  回転テーブル
４０ａ  突起
４１  軸受けベース
４２  ころ軸受
４２ａ  内輪
４２ｂ  外輪
４２ｃ  ころ
４３  ガイド
４３ａ  レール
４３ｂ  移動ブロック
４４  板ばね
４５  モータ
４６  ボールねじ
４７  コイルバネ
５０  ダイヤルゲージ
５１  ゲージブロック
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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