(57)【要約】【課題】  マスクブランクからマスクを作製する際、マスクブランク起因によるパターン不良を抑制する。【解決手段】  付与装置は基板を収納した第１の流通カセットの記録媒体に対し基板の管理番号を書き込み、処理条件に対応するレシピ番号を含む工程フローと管理番号とをホストコンピュータに送信する。ホストコンピュータは工程フローと管理番号とを互いに対応付けて蓄積する。成膜装置は第１の流通カセットから取り出した基板に対し、その記録媒体内の管理番号に対応するスパッタ条件で薄膜を成膜後、その基板を第２の流通カセットに収納してその記録媒体に管理番号を書き込む。欠陥検査装置は第２の流通カセットから取り出した基板に対し、その記録媒体内の管理番号に対応する検査条件で薄膜の欠陥検査をし、欠陥検査情報を管理番号と対応付けてホストコンピュータに送信し、検査後の基板を第３の流通カセットに収納してその記録媒体に管理番号を書き込む。【選択図】  図１
2010224581.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の流通カセット、付与装置、ホストコンピュータ、成膜装置及び欠陥検査装置を備えるマスクブランク生産ライン制御システムにおいて、
前記複数の流通カセットは、機械による読み出し及び書き込みが可能な記録媒体をそれぞれ備え、
前記付与装置は、基板を管理するための管理番号を、基板が収納された第１の流通カセットの記録媒体に対して書き込む手段と、前記成膜装置で行う処理条件に対応するレシピ番号を含む工程フローと前記管理番号とを前記ホストコンピュータに送信する手段とを備え、
前記ホストコンピュータは、前記工程フローと前記管理番号とを前記付与装置から受信する手段と、受信した前記工程フローと前記管理番号とを互いに対応付けて蓄積する手段とを備え、
前記成膜装置は、前記第１の流通カセットの前記記録媒体から読み取った管理番号に対応するレシピ番号を取得する手段と、前記第１の流通カセットから取り出された前記基板に対し、前記レシピ番号に対応したスパッタ条件で第１の薄膜を成膜する手段と、前記第１の薄膜が成膜された基板を第２の流通カセットに収納し、第２の流通カセットの記録媒体に前記管理番号を書き込む手段とを備え、
前記欠陥検査装置は、前記第２の流通カセットの記録媒体から読み取った前記管理番号に対応するレシピ番号を取得する手段と、前記第２の流通カセットから取り出された前記基板に対し、前記レシピ番号に対応した検査条件で前記第１の薄膜の欠陥検査を行う手段と、前記第１の薄膜の欠陥検査情報を前記管理番号と対応付けてホストコンピュータに送信する手段と、前記欠陥検査が行われた基板を第３の流通カセットに収納し、第３の流通カセットの記録媒体に前記管理番号を書き込む手段とを備える
ことを特徴とするマスクブランク生産ライン制御システム。
【請求項２】
前記流通カセットを装置間で搬送するカセット搬送手段を更に備え、
前記ホストコンピュータは、予め管理番号と関連づけて蓄積した工程フローと、前記成膜装置が少なくとも前記第１の流通カセットの記録媒体から読み出して送信した管理番号とに基づいて、前記第２の流通カセットの搬送先を特定し、前記カセット搬送手段に搬送先を指示する
ことを特徴とする請求項１に記載のマスクブランク生産ライン制御システム。
【請求項３】
前記ホストコンピュータは、前記第２の流通カセットの管理番号と前記成膜装置に送信したスパッタのレシピ番号を欠陥検査装置に送信することを特徴とする請求項１記載のマスクブランク生産ライン制御システム。
【請求項４】
前記流通カセットは、基板を収納する複数のスロットを備え、前記スロットにはそれぞれスロット番号が付与されていることを特徴とする請求項１記載のマスクブランク生産ライン制御システム。
【請求項５】
前記付与装置は、レシピ番号を含む工程フローと、前記管理番号と、前記基板が収納されているスロット番号とを前記ホストコンピュータに送信する手段を備え、
前記成膜装置は、前記基板が収納されていた第１の流通カセットのスロット番号と、前記第１の薄膜が成膜された基板が収納された第２の流通カセットのスロット番号をホストコンピュータに送信する手段を備え、
前記欠陥検査装置は、前記第１の薄膜の欠陥検査情報を、欠陥検査が行われた基板が収納された第３の流通カセットの記録媒体に記録された管理番号およびスロット番号と対応付けてホストコンピュータに送信する手段を備えることを特徴とする請求項４記載のマスクブランク生産ライン制御システム。
【請求項６】
前記成膜装置は、前記基板に第１の薄膜を成膜する過程でスパッタ実績を収集し、第１の流通カセットのスロット番号と関連付ける手段を備えることを特徴とする請求項５記載のマスクブランク生産ライン制御システム。
【請求項７】
前記成膜装置は、前記基板が収納されていた第１の流通カセットのスロット番号、前記第１の流通カセットの当該スロット番号に関連付けられたスパッタ実績、及び、前記第１の薄膜が成膜された基板が収納された第２の流通カセットのスロット番号をホストコンピュータに送信する手段を備えることを特徴とする請求項６記載のマスクブランク生産ライン制御システム。
【請求項８】
前記流通カセットを装置間で搬送するカセット搬送手段を更に備え、
前記ホストコンピュータは、予め管理番号と関連づけて蓄積した工程フローと、前記成膜装置が少なくとも前記第１の流通カセットの記録媒体から読み出して送信した管理番号とに基づいて、前記第２の流通カセットの搬送先を特定し、前記カセット搬送手段に搬送先を指示する
ことを特徴とする請求項５に記載のマスクブランク生産ライン制御システム。
【請求項９】
前記ホストコンピュータは、前記第２の流通カセットの記録媒体に記録された管理番号と前記成膜装置に送信したスパッタのレシピ番号とを欠陥検査装置に送信することを特徴とする請求項５記載のマスクブランク生産ライン制御システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体製造用のマスクブランクに関し、特に、マスクブランクの品質情報の取得及び管理、並びに、マスクブランク及びマスクの製造に関する。
【背景技術】
【０００２】
本発明に関連する従来技術として、日本国特許公開公報特開２００３−１４９７９３号公報を挙げる。この公報に記載の技術によれば、ブランクメーカーが、検査結果に従って欠陥ランク別にブランクを分類し、欠陥情報を添付してマスクメーカーにブランクを供給することが記載されている。
【０００３】
また、特開２００３−２４８２９９号公報では、フォトマスク基板上の欠陥位置を正確に把握するための技術が開示されている。
【０００４】
こうした従来の技術では、マスクブランクと共に提供される欠陥情報は、マスクブランク表面に存在する欠陥同士の相対的な位置関係を示すものの、マスクブランクと欠陥情報の位置情報を対応させる基準が設けられていなかったために、欠陥情報があっても実際のマスクブランク上のどこに欠陥があるのか正確に把握することができず、描画・現像処理でのパターン不良が発生していた。更に、収納ケースに収納されたマスクブランクの方向と、欠陥情報の方向を一致させる上での明確な保証がなかった。そのため、実際のマスクブランクと欠陥情報が、９０度、１８０度、２７０度ずれることにより、描画・現像処理でのパターン不良が発生していた。これは、製造工程にて流通ケース、カセット、収納ケース等の容器に収めた基板を取りだし、所定の処理を基板に対して行った後、他の容器に再度収める際に、基板を収めた方向が先の容器と後の容器とで同じであることを確認するための手段がなかったからである。
【０００５】
従来、マスクメーカーがマスクを作製する上で、こうした欠陥情報で特に不都合はなかった。これは、従来の露光光源であるｉ線（波長３６５ｎｍ）、ＫｒＦ（波長２４８ｎｍ）等においては、許容できる欠陥のレベル、即ち、欠陥のサイズ及び個数の許容範囲がそれほど狭くなかったからである。
【０００６】
しかし、半導体デバイスの高集積化に伴い、パターンが複雑化すると共に、パターンの線幅が狭くなっている。これに対応するため、露光光源の波長が短波長化され、光源としてＡｒＦ（波長１９３ｎｍ）、Ｆ２（１５７ｎｍ）等が検討されており、その結果、マスクにおいて許容できる欠陥のレベルが以前よりも厳しくなることが予想される。
【０００７】
また、パターンの複雑化及び微小化により、描画機にてパターンを描画してマスクを製造する際の所要時間とコストが飛躍的に増大している。このため、マスクブランク起因によるパターン欠陥を抑える必要性が高まってきている。このようなパターン欠陥には例えばパーティクルやピンホールと呼ばれる欠陥がある。
【０００８】
他方、パターンの微細化に対応したマスクブランクとして、位相シフトマスクブランクの需要が高まっている。位相シフトマスクブランクの一種であるハーフトーン型位相シフトマスクブランクは、ハーフトーン膜、遮光膜、場合によっては更にレジスト膜が形成される。ハーフトーン膜は遮光機能と位相シフト機能を有し、遮光膜とは異なる役割を有する。
【０００９】
このようなマスクの製造工程の歩留まり向上、工程の簡略化、コスト低減等を行うためには、マスクブランクを構成する各膜の欠陥情報を得ることが必要となる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特開２００３−１４９７９３号公報
【特許文献２】特開２００３−２４８２９９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
しかし、従来の技術によれば、各膜の欠陥情報を取得する必要性がなく、上述のように最終出荷形態のマスクブランクを検査した結果のみが提供されていた。このため、ブランクメーカーは、マスクブランクの製造工程において基板毎の欠陥情報を管理しておらず、マスクブランクの各膜の欠陥情報をマスクメーカーに提供することができなかった。
【００１２】
そのため、マスクメーカーにおいては、マスクブランク起因の欠陥を原因とする描画・現像処理でのパターン不良の発生を抑制することができなかった。また、通常、パターン不良は、ＦＩＢ（ｆｏｃｕｓｅｄ  ｉｏｎ  ｂｅａｍ、集束イオンビーム）やレーザー等を用いてパターン修正工程にて修正されるが、パターンの複雑化・微小化が進んだため、修正ができないケースが現れた。こうしたケースでは、マスクを一から製造しなおさなければならない。
【００１３】
本発明はこのような状況に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、マスクブランクからマスクを作製する際、マスクブランク起因によるパターン不良を抑制することができるマスクブランク生産ライン制御システムを提供することである。また、マスクブランクからマスクを作製する際、マスクブランク起因によるパターン不良を抑制することができるマスク作製支援方法を提供することである。また、別の目的は、マスクブランクからマスクを作製する際、マスクブランク起因によるパターン不良を抑制できるように膜情報を付加したマスクブランクの提供方法、及びマスクブランクの製造方法を提供することである。また、別の目的は、膜情報を利用して形成すべきパターンと照合することで、製造歩留まりを向上し、製造コストを抑えることができる転写マスクの製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明はその一態様として次のようなマスクブランク生産ライン制御システムを提供する。
【００１５】
即ち、本発明は、その一態様として、複数の流通カセット、付与装置、ホストコンピュータ、成膜装置及び欠陥検査装置を備えるマスクブランク生産ライン制御システムにおいて、複数の流通カセットは、機械による読み出し及び書き込みが可能な記録媒体をそれぞれ備え、付与装置は、基板を管理するための管理番号を、基板が収納された第１の流通カセットの記録媒体に対して書き込む手段と、成膜装置で行う処理の条件に対応するレシピ番号を含む工程フローと管理番号とをホストコンピュータに送信する手段とを備え、ホストコンピュータは、工程フローと管理番号とを付与装置から受信する手段と、受信した工程フローと管理番号とを互いに対応付けて蓄積する手段とを備え、成膜装置は、第１の流通カセットの記録媒体から読み取った管理番号に対応するレシピ番号を取得する手段と、第１の流通カセットから取り出された基板に対し、レシピ番号に対応したスパッタ条件で第１の薄膜を成膜する手段と、第１の薄膜が成膜された基板を第２の流通カセットに収納し、第２の流通カセットの記録媒体に管理番号を書き込む手段とを備え、欠陥検査装置は、第２の流通カセットの記録媒体から読み取った管理番号に対応するレシピ番号を取得する手段と、第２の流通カセットから取り出された基板に対し、レシピ番号に対応した検査条件で第１の薄膜の欠陥検査を行う手段と、第１の薄膜の欠陥検査情報を管理番号と対応付けてホストコンピュータに送信する手段と、欠陥検査が行われた基板を第３の流通カセットに収納し、第３の流通カセットの記録媒体に管理番号を書き込む手段とを備えることを特徴とするマスクブランク生産ライン制御システムを提供する。
【００１６】
このマスクブランク生産ライン制御システムは、流通カセットを装置間で搬送するカセット搬送手段を更に備え、ホストコンピュータは、予め管理番号と関連づけて蓄積した工程フローと、成膜装置が少なくとも第１の流通カセットの記録媒体から読み出して送信した管理番号とに基づいて、第２の流通カセットの搬送先を特定し、カセット搬送手段に搬送先を指示することとしてもよい。
【００１７】
また、ホストコンピュータは、第２の流通カセットの管理番号と成膜装置に送信したスパッタのレシピ番号を欠陥検査装置に送信することとしてもよい。
【００１８】
また、流通カセットは、基板を収納する複数のスロットを備え、スロットにはそれぞれスロット番号が付与されていることとしてもよい。
【００１９】
前段の場合、付与装置は、レシピ番号を含む工程フローと、管理番号と、基板が収納されているスロット番号とをホストコンピュータに送信する手段を備え、成膜装置は、基板が収納されていた第１の流通カセットのスロット番号と、第１の薄膜が成膜された基板が収納された第２の流通カセットのスロット番号をホストコンピュータに送信する手段を備え、欠陥検査装置は、第１の薄膜の欠陥検査情報を、欠陥検査が行われた基板が収納された第３の流通カセットの記録媒体に記録された管理番号およびスロット番号と対応付けてホストコンピュータに送信する手段を備えることとしてもよい。
【００２０】
前段の場合、成膜装置は、基板に第１の薄膜を成膜する過程でスパッタ実績を収集し、第１の流通カセットのスロット番号と関連付ける手段を備えることとしてもよい。
【００２１】
前段の場合、成膜装置は、基板が収納されていた第１の流通カセットのスロット番号、第１の流通カセットの当該スロット番号に関連付けられたスパッタ実績、及び、第１の薄膜が成膜された基板が収納された第２の流通カセットのスロット番号をホストコンピュータに送信する手段を備えることとしてもよい。
【００２２】
流通カセットは基板を収納する複数のスロットを備え、スロットにはそれぞれスロット番号が付与されていて、付与装置は、レシピ番号を含む工程フローと、管理番号と、基板が収納されているスロット番号とをホストコンピュータに送信する手段を備え、成膜装置は、基板が収納されていた第１の流通カセットのスロット番号と、第１の薄膜が成膜された基板が収納された第２の流通カセットのスロット番号をホストコンピュータに送信する手段を備え、欠陥検査装置は、第１の薄膜の欠陥検査情報を、欠陥検査が行われた基板が収納された第３の流通カセットの記録媒体に記録された管理番号およびスロット番号と対応付けてホストコンピュータに送信する手段を備える場合は、流通カセットを装置間で搬送するカセット搬送手段を更に備え、ホストコンピュータは、予め管理番号と関連づけて蓄積した工程フローと、成膜装置が少なくとも第１の流通カセットの記録媒体から読み出して送信した管理番号とに基づいて、第２の流通カセットの搬送先を特定し、カセット搬送手段に搬送先を指示することとしてもよい。また、ホストコンピュータは、第２の流通カセットの記録媒体に記録された管理番号と成膜装置に送信したスパッタのレシピ番号とを欠陥検査装置に送信することとしてもよい。
【００２３】
更に、上述の目的を達成するため、本発明は次のような技術を提供する。
【００２４】
（１）マスクブランクを構成する複数の膜の膜情報をマスクメーカーに提供し、マスクブランクから前記膜をパターニングして転写マスクを作製する際、パターン形成不良を抑制するためのマスク作製支援方法、マスクブランク提供方法、マスクブランク製造方法、該マスクブランクを使用して転写マスクを製造する方法を提供することである。
【００２５】
詳しくは、マスクブランク製造工程において、基板に対し管理番号を付与し、複数の膜の膜情報を管理番号に基づき照合する、または、複数の膜の各膜情報における同一位置に形成された表面形態情報（凸部又は凹部）に基づいて複数の膜の膜情報を照合することにより、複数の膜情報間の位置情報が保証され、マスク作製時におけるパターン不良を防止するものである。
【００２６】
本発明の別側面は以下の通りである。
【００２７】
マスクブランクの製造工程において、生産に供される基板やマスクブランクの一つ一つに対して管理番号を付与する等の手段を利用し、個体の識別を行う。
【００２８】
次いで、前記基板上に複数の膜を順次積層するとともに、前記膜に関する膜情報を取得する。
【００２９】
膜情報とは、膜の表面情報、表面形態情報、例えば、膜面の凸形状、凹形状、それらの組合せ、或いは光学特性情報等を含む膜の状態情報であって、膜面の位置情報に関連付けされている情報である。なおここで言う光学特性とは、透過率、反射率、吸光率、位相差などを含む。
【００３０】
基板上に積層された複数の膜それぞれについて取得された前記膜情報は管理番号などに基づいて個体識別でき、情報どおしが照合されるので、マスクブランク個体と取得された複数の膜情報との関係が保証されるとともに、複数の膜情報間の関係が保証でき、また、複数の膜情報に含まれている位置情報により示されるマスクブランク内の位置が保証される。
【００３１】
なお、ここで基板に関する基板情報を取得しても良い。
【００３２】
基板情報とは、基板の表面情報、表面形態情報、例えば、基板面の凸形状、凹形状、それらの組合せ、或いは光学特性情報等を含む基板の状態情報であって、基板面の位置情報に関連付けされている情報である。なおここで言う光学特性とは、透過率、反射率、吸光率、位相差などを含む。
【００３３】
基板上に膜を形成するとともに、前記基板に関する基板情報と前記膜に関する膜情報を取得すれば、基板情報と膜情報は前記管理番号などに基づいて個体識別でき、照合できるので、マスクブランク個体と、取得された基板情報及び膜情報との関係が保証されるとともに、基板情報と膜情報との関係が保証でき、基板情報または膜情報に含まれている位置情報により示されるマスクブランク内の位置が保証される。
【００３４】
また、基板に対して必ずしも管理番号を付与しなくてもよい。膜の表面形態は該膜の下層の膜の表面形態、或いは基板の表面形態に従って形成されるので、複数の膜情報或いは、膜情報と基板情報に含まれる形態情報を照合することにより、マスクブランク個体と、取得された膜情報または基板情報との関係の保証ができ、複数の膜情報間の関係または膜情報と基板情報との関係が保証でき、複数の膜情報に含まれている位置情報とマスクブランク内の位置との関係が保証され、また、基板情報または膜情報に含まれている位置情報とマスクブランク内の位置との関係が保証される。
【００３５】
本発明においては、基板と、基板上に形成された膜により構成されるマスクブランク個体に対して、基板情報と膜情報、又は複数の膜情報からなるマスクブランク情報が取得されている。また、マスクブランク情報に含まれる位置情報はマスクブランク内の位置が保証されている。即ち、本発明におけるマスクブランク情報はマスクブランクの立体情報であり、マスクブランクの内部情報、即ちマスクブランク体内情報として認識可能に取得されているところに特徴がある。
【００３６】
マスクブランク表面のみならずマスクブランク体内の情報が予め把握できるので、マスク作製に際して不良な転写マスクの作製を防ぐことができる。
【００３７】
本発明においては、マスクブランク情報に含まれる位置情報の位置の基準点と、マスクブランクの位置の基準点とが対応付けされて情報が取得される構成を含む。また、前記基板情報に含まれる位置情報の位置の基準点と、基板の位置の基準点とが対応付けされて情報が取得される構成を含む。また、前記膜情報に含まれる位置情報の位置の基準点と、基板又は膜の位置の基準点とが対応付けされて情報が取得される構成を含む。
【００３８】
（２）表面形態情報と位置情報を含むマスクブランクの表面情報をマスクメーカーに提供し、この表面情報とマスクブランクの表面形態とをそれぞれ設けた基準点によって対応付けられていることによって、マスク作製者がパターン形成の領域を特定できるようにしたマスク作製支援方法、マスクブランク提供方法、マスクブランク製造方法、該マスクブランクを使用して転写マスクを製造する方法を提供することである。
【００３９】
詳しくは、マスクブランク製造の各工程及び、マスクメーカーにマスクブランクを提供する際に使用する収納ケースにマスクブランクを収納する際、基板若しくは基板上に設けた基準マークに従って基板の方向性を管理する（ある特定の方向に揃えておく）ことにより、マスクブランクにおける表面形態情報と位置情報を含む表面情報と、マスクブランクの表面形態の位置を対応させることができるので、マスク作製時におけるパターン不良を防止するものである。
【００４０】
ここで、膜情報とは、基板上に形成された直後の膜のそれぞれを検査して得られる情報である。膜情報には、膜上の欠陥の位置・大きさ・種別等を示す表面形態情報や、膜材料が部分的に組成変化を起こした位置・範囲・組成変化後の状態等を含む膜面内における組成分布を示す組成分布情報が含まれる。また、マスクブランク完成後に表面となる最上位の膜の表面形態情報を含む表面情報を、マスクブランクの表面情報と呼ぶ。
【００４１】
本発明の別の側面は以下の通りである。
【００４２】
前記マスクブランク情報をマスクメーカーに提供するに際して、マスクブランク情報と、この情報に係るマスクブランク個体とを対応付け可能に提供することにより、マスク作製者が該マスクブランクに所定のマスクパターンを形成すべき領域を選択できるようにしたマスク作製支援方法、マスクブランク情報提供方法、マスクブランク提供方法、マスクブランク製造方法、該マスクブランクを使用して転写マスクを製造する方法を提供することである。
【００４３】
本発明においては、マスクブランク情報に含まれる位置情報の位置の基準点と、マスクブランクの位置の基準点とが対応付けされている構成を含む。
【００４４】
本発明においては、マスクブランク製造工程において、及び／又は、マスクメーカーにマスクブランクを提供する際において使用する収納具に基板又はマスクブランクを収納するに際し、基板又はマスクブランクの配列や方向性を管理する構成を含む。例えば、複数の基板又は複数のマスクブランクをある所定の方向に揃えて収納していく態様を含む。このとき、基板、膜又はマスクブランクに設けられた基準点を参照して収納してもよい。
【００４５】
例えばマスクブランク製造工程には、基板を準備する工程、基板情報を取得する工程（例えば、基板検査工程）、基板上に膜を形成する工程、膜情報を取得する工程（例えば、膜の検査工程）、マスクメーカーにマスクブランクを提供するためにマスクブランクを収納具に収納する工程などが含まれるが、これらの工程で行われる基板又はマスクブランクの収納作業において、基板又はマスクブランクの方向性を管理するために、複数の基板又は複数のマスクブランクをある所定の方向に揃えて収納していく態様を含む。
【００４６】
ここで言う収納具には例えば後述する保持具やケースが含まれる。ここでいう基準点とは例えば識別可能なマークを利用できる。
【００４７】
本発明において利用されるマーク、基準マークとしては、例えば後述するノッチマークと呼称されるような基板に付与されたマークや、膜マークと呼称されるような膜に付与されたマークを利用することができる。
【００４８】
以上のように収納されてマスクブランクが提供されると、マスクブランクが所定の配列で、所定の方向性に揃って提供されるので、マスク作製者はマスクブランク個体を識別でき、基準点を参照し又は参照すること無しに、マスクブランクの位置の基準点を把握することができる。
【００４９】
本発明によれば、マスク作製者は、マスクブランクの位置の基準点を媒介して、提供されたマスクブランク情報を基に、転写マスクを作製しようとするマスクブランクの表面情報や内部情報を把握できるので、所定のマスクパターンを形成すべき領域を選択できる。即ち、マスク作製者は所定のマスクパターンを形成するまえに、パターン不良を生じせしめる、或いは転写マスクの所望の機能を阻害する表面欠陥や内部欠陥の存在を把握することができるので製造歩留を向上せしめ、利益率の高い転写マスクの生産、或いは廉価な転写マスクの生産を行うことができる。
【００５０】
なお、本発明は、位相シフト膜、例えばハーフトーン膜が形成されたマスクブランク、或いは転写マスクに関して利用することが好ましい。例えば、位相シフトマスクの一種であるハーフトーン型位相シフトマスクは、透光性基板上にハーフトーン膜、遮光膜が形成される。ハーフトーン膜は、露光光を実質的に遮断する遮光機能と露光光の位相をシフトさせる位相シフト機能を兼ね備えるものであり、透過率と位相差を制御して被転写体に転写されるパターンのパターンエッジを強調させる機能を有するものである。ハーフトーン型位相シフトマスクは、透光性基板上にハーフトーン膜のパターンが形成されており、ハーフトーン膜のパターンが形成されていない実質的に露光に寄与する強度の光を透過させる光透過部と、ハーフトーン膜のパターンが形成されている実質的に露光に寄与しない強度の光を透過させる光半透過部とで構成し、かつ、この光半透過部を透過した光の位相が光透過部を透過した光の位相に対して実質的に反転した関係にすることによって、光半透過部と光透過部との境界部近傍を通過し回折現象によって互いに相手の領域に回り込んだ光が互いに打ち消し合うようにし、境界部における光強度をほぼゼロとし境界部のコントラストを向上させるものである。従って、ハーフトーン膜が形成されたマスクブランクに要求される品質は、単なる遮光膜だけを形成したマスクブランクに比べて高く、さらに、マスクブランクにパターニング処理を施して転写マスクを作製する場合において、不良率を下げる事が難しいのである。
【００５１】
本発明は次のような技術を提供する。
【００５２】
基板上に少なくとも転写パターンとなる薄膜を含む複数の膜が形成されたマスクブランクから前記薄膜をパターニングして転写マスクを作製する際、パターン形成不良を抑制するために、パターン形成する領域を特定するための膜情報をマスクメーカーに提供するマスク作製支援方法であって、膜情報は、マスクブランクを構成する複数の膜から得られる情報であることを特徴とするマスク作製支援方法を提供する。
【００５３】
パターンは、相対的に密なパターンが形成される密パターン形成領域と、相対的に疎なパターンが形成される疎パターン形成領域とを有することとしてもよい。
【００５４】
膜情報は、パターン欠陥起因となる凸部又は凹部の種類、凸部又は凹部の大きさ、凸部又は凹部の位置情報の何れかが含まれていることとしてもよい。
【００５５】
位置情報は、基板に形成されているノッチマーク及び／又は基板主表面上の周縁部に形成された薄膜による膜マークを基準にして作られたものであることとしてもよい。
【００５６】
マスクブランク情報、基板情報及び膜情報の一部乃至全部の提供は、通信回線を利用して行われることとしてもよい。
【００５７】
膜は、露光光に対して位相シフト機能を有する位相シフト膜を含むこととしてもよい。
【００５８】
また、本発明は、上述のマスク作製支援方法をマスクブランクと共にマスクメーカーに提供するマスクブランク提供方法であって、マスクブランクは、収納ケース内に収納され、且つ、該マスクブランクを保持すべく形成された保持スロットを備える保持具によって保持して提供されるものであって、マスクブランク情報は、マスクブランクに間接的に付与されるマスクブランク特定手段によって照合されることを特徴とするマスクブランク提供方法を提供する。
【００５９】
マスクブランク情報は、保持具のスロットに付与されたスロット番号によって照合されることとしてもよい。
【００６０】
また、本発明は、マスクブランク用基板を準備する工程と、基板上に転写パターンとなる薄膜を形成する薄膜形成工程と、薄膜の膜情報を取得する薄膜情報取得工程と、薄膜情報取得工程で取得された薄膜の膜情報を情報蓄積媒体に記録し保存する薄膜情報記録工程と、薄膜上にレジスト膜を形成するレジスト膜形成工程と、レジスト膜の膜情報を取得するレジスト膜情報取得工程と、レジスト膜情報取得工程で取得されたレジスト膜の膜情報を情報蓄積媒体に記録し保存するレジスト膜情報記録工程と、薄膜の膜情報とレジスト膜の膜情報を照合する膜情報照合工程とを有するマスクブランクの製造方法を提供する。
【００６１】
なお、ここで、マスクブランク用基板を準備する工程の後に、該基板の基板情報を取得する基板情報取得工程を含んでも良く、更に、基板情報取得工程で取得された基板情報を情報蓄積媒体に記録し保存する基板情報記録工程を含んでも良い。また、基板情報と膜情報とを照合する照合工程とを有しても良い。
【００６２】
マスクブランクス用基板を準備した後、マスクブランクス用基板に管理番号を付与する管理番号付与工程を有し、付与された管理番号に基づき薄膜の膜情報とレジスト膜の膜情報とを照合することとしてもよい。また、基板情報と膜情報を照合してもよい。
【００６３】
基板情報又は膜情報は、凸部又は凹部の種類、凸部又は凹部の大きさ、凸部又は凹部の位置情報の何れかが含まれていることとしてもよい。
【００６４】
位置情報は、基板に形成されているノッチマーク及び／又は基板主表面上の周縁部に形成された薄膜による膜マークを基準にして作られたものであることとしてもよい。
【００６５】
基板情報や薄膜の膜情報やレジスト膜の膜情報は、基板情報や薄膜の膜情報とレジスト膜の膜情報に含まれる同一位置に形成された特定の形態、例えば凸部又は凹部によって照合することとしてもよい。
【００６６】
また、本発明は、基板上に少なくとも転写パターンとなる薄膜を含む膜が形成されたマスクブランクを使用し、形成すべきパターンデータに従って前記薄膜をパターニングし転写マスクを作製する転写マスクの製造方法であって、上述のマスク作製支援方法によって得たマスクブランク情報と、前記パターンデータとを照合し、パターン形成不良を抑制するように、マスクブランクにおけるパターン形成する領域を特定することを特徴とする転写マスクの製造方法を提供する。
【００６７】
パターンは、相対的に密なパターンが形成される密パターン形成領域と、相対的に疎なパターンが形成される疎パターン形成領域とを有することとしてもよい。
【００６８】
また、本発明には次の発明も包含される。即ち、基板上に少なくとも転写パターンとなる薄膜を含む膜が形成されたマスクブランクから薄膜をパターニングして転写マスクを作製する際、パターン形成の不良を抑制するためにパターン形成する領域を特定するために必要なマスクブランク情報をマスク作製者に提供するマスク作製支援方法において、マスクブランク情報は、表面形態情報を含み、マスク作製者に提供されるマスクブランクにおける表面形態の位置の基準点と、表面形態情報に対応する位置情報の基準点とが対応しており、マスク作製者は基準点を媒介してマスクブランク情報をマスクブランクに反映させ、マスクブランクの状態を把握し、パターン形成すべき領域を特定できるようにしたことを特徴とするマスク作製支援方法を提供する。
【００６９】
基板若しくは基板上に基準マークを設け、位置情報の基準点は、基準マークとある一定の関係を持って作成され、マスクブランクにおける表面形態の位置の基準点と対応していることとしてもよい。
【００７０】
基板又は膜若しくはマスクブランクに基準マークを設け、基板情報又は膜情報の取得に際して、前記情報に含まれる位置情報の基準点が前記基準マークと一定の関係を有するように情報を作成することによって、マスクブランク情報の位置の基準点と提供されるマスクブランクの位置の基準点とを対応させてもよい。
【００７１】
基準マークは、基板又はマスクブランクの向きや方向を特定可能に付与することが好ましい。
【００７２】
基準マークは基板又はマスクブランクの角部に隣接する部位に付与することが好ましい。基準マークを偶数部位に付与する場合においては、基板又はマスクブランクを平面視したときに、一の基準マークに対する回転対称の部位に他の基準マークを付与しないこととすれば、基板又はマスクブランクの向きや方向性の特定が容易であるので好ましい。
【００７３】
基準マークは、基板の方向性を特定できる形状とすることとしてもよい。
【００７４】
基準マークは、基板の辺に対して平行でかつ基板中心を通る線に対して非対象の位置に設けることとしてもよい。
【００７５】
基準マークは、基板に形成されているノッチマーク及び／又は基板主表面上に形成された薄膜による膜マークであることとしてもよい。
【００７６】
基板情報や膜情報は、基準マークを基準にして特定の方向で取得した情報であることとしてもよい。
【００７７】
転写パターンとなる薄膜を含む膜を基板上に形成する膜形成工程と、膜の表面情報を取得する表面情報取得工程と、を有し、膜形成工程及び表面情報取得工程において、基準マークを基準にして基板又はマスクブランクの方向性を管理することとしてもよい。
【００７８】
マスクブランクを製造する際の各工程において、基板又はマスクブランクを各工程に搬送する際に使用するケースに基板又はマスクブランクを収納する際、基準マークを基準にして基板又はマスクブランクの方向性を管理することとしてもよい。
【００７９】
以上のように基板又はマスクブランクの方向性が所定に管理される、即ち、複数の基板又はマスクブランクの向きが一定になるように配列され、情報を取得されるに際しても、複数の基板又はマスクブランクが一定の方向に揃えられて情報が取得されていくと本発明にとって好適である。
【００８０】
表面情報は、基板の表面情報、膜の表面情報のうち少なくとも１つを含むものであることとしてもよい。
【００８１】
膜の表面情報は、位相シフト膜の表面情報を含むこととしてもよい。
【００８２】
表面形態は、マスクブランクから薄膜をパターニングして転写マスクを作製する際、パターン形成不良となる表面粗さやうねり、凸部及び／又は凹部、異物や凹み、膜抜け、更には、欠陥検査装置によって取得されるパーティクル状欠陥及び／又はピンホール状欠陥を含むこととしてもよい。
【００８３】
表面情報には、粗さやうねりの高さや波長や周期、凸部の高さや大きさ、凹部の深さや大きさ、異物の高さや大きさ、凹みの深さや大きさ、パーティクルの高さや大きさ、ピンホールの深さや大きさの情報が含まれていることとしても良い。
【００８４】
パターンは、相対的に密なパターンが形成される密パターン形成領域と、相対的に疎なパターンが形成される疎パターン形成領域とを有することとしてもよい。
【００８５】
疎パターン形成領域は、電気特性を試験するために形成されたモニターチップ形成領域であることとしてもよい。
【００８６】
転写マスクは、システムLSI製造用転写マスクであることとしてもよい。
【００８７】
複数枚のマスクブランクと、各マスクブランクに対応したマスクブランク情報をマスク作製者に提供することとしてもよい。
【００８８】
また、本発明は、上述のマスク作製支援方法を行うためのマスクブランク取引システムであって、マスクメーカーに納める複数のマスクブランクに対して直接的又は間接的に各マスクブランクを特定する管理番号又は管理記号を付与し、マスクブランク情報は、管理番号又は管理記号と関連付けてマスクブランクとともに、マスクメーカーに提供することを特徴とするマスクブランク取引システムを提供する。
【００８９】
管理番号又は管理記号は、マスクブランクを保持すべくスロットが形成された保持具、及び該保持具を収納する収納ケースに付与されたスロット番号及びケース番号であることとしてもよい。
【００９０】
マスクブランク情報は、通信回線を利用してマスクメーカーに提供することとしてもよい。
【００９１】
マスクブランク情報は、管理番号又は管理記号と関連付けて情報蓄積手段（サーバー）に保存され、マスクメーカーは、通信回線を利用して情報蓄積手段（サーバー）にアクセスし、管理番号又は管理記号を元にマスクブランク情報を得ることとしてもよい。
【００９２】
また、本発明は、マスクブランク用基板を準備する工程と、基板の主表面上に転写パターンとなる薄膜を含む膜を形成する膜形成工程と、薄膜をパターニングして転写マスクを作製する際、パターン形成の不良を抑制するためにパターン形成する領域を特定するために必要なマスクブランクの表面情報を取得する表面情報取得工程と、表面情報を情報蓄積媒体に記録し保存する表面情報保存工程と、を有するマスクブランク製造方法であって、基板若しくは基板上に基準マークを設け、該基準マークを基準にして特定の方向で表面情報を取得することを特徴とするマスクブランク製造方法を提供する。
【００９３】
基準マークは、基板の方向性を特定できる形状とすることとしてもよい。
【００９４】
基準マークは、基板の辺に対して平行で且つ基板中心通る線に対して非対象の位置に設けることとしてもよい。
【００９５】
基準マークは、基板に形成されているノッチマーク及び／又は基板主表面上に形成された薄膜による膜マークであることとしてもよい。
【００９６】
マスクブランクを製造する際の各工程において、基板を各工程に搬送する際に使用するケースに基板を収納する際、基準マークを基準にして基板の方向性を管理することとしてもよい。
【００９７】
マスクブランク用基板を準備した後、マスクブランク用基板に基板を特定する管理番号を直接的又は間接的に付与する管理番号付与工程を有し、付与された管理番号に基づき製造されたマスクブランクの表面情報を照合することとしてもよい。
【００９８】
さらにマスクブランクを収納ケース内に収納し梱包する梱包工程と、を有し、マスクブランクは、収納ケース内に収納されたマスクブランクを保持すべくスロットが形成された保持具によって保持され、該マスクブランクと表面情報とを照合するためのマスクブランク特定手段が、マスクブランクに直接的又は間接的に付与されて収納することとしてもよい。
【００９９】
マスクブランク特定手段は、保持具及び収納ケースに付与されたスロット番号及びケース番号であることとしてもよい。
【０１００】
また、本発明は、基板上に少なくとも転写パターンとなる薄膜を含む膜が形成されたマスクブランクを使用し、形成すべきパターンデータに従って薄膜をパターニングし転写マスクを作製する転写マスクの製造方法であって、上述のマスク作製支援方法によって得たマスクブランクにおける表面形態の位置が対応付けされたマスクブランクの表面情報と、パターンデータと照合し、パターン形成の不良を抑制するように、マスクブランクにおけるパターン形成する領域を特定することを特徴とする転写マスクの製造方法を提供する。
【０１０１】
パターンデータは、相対的に密なパターンが形成される密パターン形成領域と、相対的に疎なパターンが形成される疎パターン形成領域とを有するものであり、表面情報にパターン不良となる表面形態が含まれている場合、表面情報とパターンデータとを照合して、パターン不良となる表面形態が、密パターン形成領域以外に配置されるように、マスクブランクに対するパターンデータの配置を特定することとしてもよい。
【０１０２】
また、本発明は、基板上に少なくとも転写パターンとなる薄膜を含む膜が形成されたマスクブランクを使用し、形成すべきパターンデータに従って薄膜をパターニングし転写マスクを作製する転写マスクの製造方法であって、前記マスクブランクにパターニング処理を行う前に、本発明になるマスク作製支援方法によって得られた該マスクブランクに係るマスクブランク情報と前記パターンデータとを照合し、パターン形成の不良を抑制するように、及び／又は、転写マスクの機能が阻害されないように、該マスクブランクにおける前記パターンを形成すべき領域を選択することを特徴とする転写マスクの製造方法を提供する。
【０１０３】
前記パターンデータは、相対的に密なパターンを有する領域と、相対的に疎なパターンを有する領域とを含むものであり、前記マスクブランク情報にパターン不良の原因となる、或いは、転写マスクの機能を阻害する原因となる状態情報、即ち、形態情報や光学特性情報等が含まれている場合に、該状態の存在する位置以外の位置を選択して相対的に密なパターンを形成する領域を配置することができる。
【０１０４】
また、本発明は、基板上に少なくとも転写パターンとなる薄膜を含む膜が形成されたマスクブランクを使用し、形成すべきパターンデータに従って薄膜をパターニングし転写マスクを作製する転写マスク作製者を支援するための転写マスク作製支援方法であって、
前記マスクブランクにパターニング処理を行う前に、本発明により予め取得された該マスクブランクに係る前記マスクブランク情報と前記パターンデータとを照合し、パターン形成の不良を抑制するように、及び／又は、転写マスクの機能が阻害されないように、該マスクブランクにおける前記パターンを形成すべき領域を選択する転写マスクの作製支援方法を提供する。
【０１０５】
また、本発明は、基板上に少なくとも転写パターンとなる薄膜を含む膜が形成されたマスクブランクを使用し、形成すべきパターンデータに従って薄膜をパターニングし転写マスクを作製する転写マスク作製者を支援するための転写マスク作製支援方法であって、
マスクブランクにパターニング処理を行う前に、本発明により予め取得されたマスクブランクに係るマスクブランク情報と前記パターンデータとを照合し、パターン形成の不良を抑制するために、及び／又は、転写マスクの機能が阻害されないようにするため、特定のマスクブランクを選択する転写マスクの作製支援方法を提供する。
【０１０６】
疎パターン形成領域が、電気特性を試験するために形成されたモニターチップ形成領域であることとしてもよい。
【０１０７】
転写マスクは、システムＬＳＩ製造用転写マスクであることとしてもよい。
【０１０８】
また、本発明は、上述のマスク作製支援方法をマスクブランクと共にマスクメーカーに提供するマスクブランク提供方法であって、マスクブランクは、収納ケース内に収納され、収納ケース内に収納されるマスクブランクの方向性と、表面情報を取得する表面情報取得工程における基板の方向性とを、基準マークで対応付けされていることとしても良い。
【０１０９】
マスクブランクを製造する際の各工程において、基板を各工程に搬送する際に使用するケースに基板を収納する際、基準マークを基準にして基板の方向性を管理することとしても良い。
【０１１０】
本発明のマスクブランク情報取得方法は、次のように言うこともできる。
【０１１１】
即ち、基板面上に積層された複数の膜を備えるマスクブランクに係る情報であるマスクブランク情報を取得する方法において、マスクブランク情報は、基板情報及び一以上の膜情報、又は、二以上の膜情報を含み、基板情報は、基板面に対応する平面座標系（二次元座標系）における位置情報と、位置情報に関連付けられた基板の状態を示す状態情報とを含み、一の膜情報は、一の膜に対応する平面座標系における位置情報と、位置情報に関連付けられた当該膜の状態を示す状態情報とを含み、マスクブランク情報に含まれる基板情報又は膜情報の平面座標系は、定められた対応関係を有することを特徴とするマスクブランク情報取得方法を、本発明は提供する。
【０１１２】
例えば、基板面上又は基板面上に成膜された他の膜の上に第１の膜を成膜する段階と、成膜された第１の膜の状態に係る第１の膜情報を取得する段階と、第１の膜の上に第２の膜を成膜する段階と、成膜された第２の膜の状態に係る第２の膜情報を取得する段階と、第１の膜情報及び第２の膜情報を含むマスクブランク情報を生成する段階とを含むように実施されることとしてもよい。
【０１１３】
或いは、基板を準備する段階と、準備した基板の状態に係る基板情報を取得する段階と、基板の面上に膜を成膜する段階と、成膜された膜の状態に係る膜情報を取得する段階と、基板情報及び膜情報を含むマスクブランク情報を生成する段階とを含むこととしてもよい。
【０１１４】
基板情報及び膜情報に含まれる平面座標系の基準点は、互いに予め定められた関係を有することとしてもよいし、或いは、基板に形成されたマーク及び膜に形成されたマークの少なくとも一方を基準として定められることとしてもよい。
【０１１５】
基板情報及び／又は膜情報を互いに照合する段階を更に含むこととしてもよい。
【０１１６】
状態情報は、表面形態に関する情報及び光学特性に関する情報のうち少なくとも一方を含むこととしてもよい。
【０１１７】
膜の少なくとも１つは、露光光の位相をシフトする位相シフト膜であることとしてもよい。
【０１１８】
複数の膜の膜情報を平面に投影して生成した情報を、マスクブランク情報に含むこととしてもよい。
【０１１９】
基板の向きを示す情報を基板に付与するには、複数の手法が考えられる。例えば、膜情報の取得に先立って、基板上及び／又は膜上の予め定められた位置に、状態情報として検出可能な基準マークを付与する段階を更に含み、基準マークに基づいて定めた基板の向きを示す情報を、マスクブランク情報に含むこととしてもよい。または、基準マークは、方向を特定可能な形状を有することとしてもよい。または、基板の輪郭は回転対称性を有する形状であって、付与された基準マークを含む基板の形状は、回転非対称性を有することとしてもよい。基板の代表的な輪郭は正方形及び長方形を含む方形である。
【０１２０】
基準マークを付与する場合、装置Ａにて基板上に膜ａを成膜すると共に、膜aを測定して基準マークを含む膜情報ａを取得する段階と、その基板を装置Ａから取り出す段階と、基準マークを基準として、その基板を予め定められた向きにして、ケースに収納する段階と、ケースを装置Ｂに搬送する段階と、基準マークを基準として、その基板を予め定められた向きにして、装置Ｂに設置する段階と、装置Ｂにてその基板上に膜ｂを成膜すると共に、膜ｂを測定して基準マークを含む膜情報ｂを取得する段階とを含むこととしてもよい。
【０１２１】
また、基準マークを付与する場合、基板を測定装置に設置して基板を測定し、基準マークを含む基板情報を取得する段階と、その基板を測定装置から取り出す段階と、基準マークを基準として、その基板を予め定められた向きにして、ケースに収納する段階と、ケースを装置Ａに搬送する段階と、基準マークを基準として、その基板を予め定められた向きにして、装置Ａに設置する段階と、装置Ａにて基板上に膜ａを成膜すると共に、膜ａを測定して基準マークを含む膜情報ａを取得する段階とを含むこととしてもよい。
【０１２２】
取得したマスクブランク情報を参照することにより、マスクブランクの個体を識別することとしてもよい。
【０１２３】
状態情報は少なくとも２種類の測定値を含むこととしてもよい。
【０１２４】
基板情報及び膜情報の少なくとも一方は、基板情報及び膜情報の少なくとも一方は、基板または膜の厚さ方向の座標を更に含む立体座標系における位置情報を含むこととしてもよい。
【０１２５】
また、本発明は、基板上に複数の膜を重ねて成膜して作製されるマスクブランクに係る情報であるマスクブランク情報を提供する方法において、上述のマスクブランク情報取得方法にて取得したマスクブランク情報を、そのマスクブランクと共に提供することを特徴とするマスクブランク情報提供方法を提供する。
【０１２６】
また、本発明は、マスクブランク情報をマスクメーカーに提供して、転写マスクの作製を支援する方法において、上述のマスクブランク情報提供方法により、マスクメーカーにマスクブランク情報を提供する段階を含み、提供するマスクブランク情報は、不良な転写マスクの作製を防ぐため、対応するマスクブランクにマスクパターンを形成するのに先立って、マスクブランク上のマスクパターンを形成する領域を特定する際に参照されることを特徴とする転写マスク作製支援方法を提供する。
【０１２７】
また、本発明は、マスクブランク情報をマスクメーカーに提供して、転写マスクの作製を支援する方法において、上述のマスクブランク情報提供方法により、マスクメーカーにマスクブランク情報を提供する段階を含み、マスクメーカーに対し、マスクブランク情報中の座標系の基準点を、基準マークを介して通知する方法であって、提供を受けたマスクメーカーは、基準マークを介して、平面座標系間の対応関係を取得し、取得した対応関係及びマスクブランク情報に基づいて、マスクパターンを形成すべき領域を定めることを特徴とする転写マスク作製支援方法を提供する。
【０１２８】
この転写マスク作製支援方法において、マスクブランクに形成されるマスクパターンは、相対的に密なパターンのブロックと、相対的に疎なパターンのブロックとを含むこととしてもよい。
【０１２９】
また、本発明は、マスクブランクに転写パターンとなるマスクパターンを形成して転写マスクを製造する方法において、上述のマスクブランク情報取得方法により取得されたマスクブランク情報に基づいて、マスクブランクにマスクパターンを配置する領域を定めることを特徴とする転写マスク製造方法を提供する。
【０１３０】
また、本発明は、マスクブランクの製造方法において、上述のマスクブランク情報取得方法を含むことを特徴とするマスクブランク製造方法を提供する。
【０１３１】
また、本発明は、基板面上に積層された複数の膜を備えるマスクブランクに係る情報であるマスクブランク情報を取得するシステムにおいて、基板の状態に係る基板情報を取得する手段、基板面上又は基板面上に成膜された他の膜の上に成膜された第1の膜の状態に係る第1の膜情報を取得する手段、及び基板面上に成膜された第1の膜以外の膜である第2の膜の状態に係る第２の膜情報を取得する手段のうち、少なくとも２つの情報取得手段を備え、更に、当該情報取得手段にて取得した情報を含むマスクブランク情報を生成する手段を備えることを特徴とするマスクブランク情報取得システムを提供する。
【０１３２】
このマスクブランク情報取得システムにおいて、基板情報は、基板面に対応する平面座標系における位置情報と、位置情報に関連付けられた基板の状態を示す状態情報を含み、一の膜情報は、一の膜に対応する平面座標系における位置情報と、位置情報に関連付けられた当該膜の状態を示す状態情報を含み、マスクブランク情報に含まれる基板情報又は膜情報の平面座標系は、定められた対応関係を有することとしてもよい。
【０１３３】
上述のマスクブランク情報取得方法において、基板は多角形であって、基板の互いに接する二側辺に挟まれた領域に、基準マークを付与することとしてもよい。
【０１３４】
上述のマスクブランク情報取得方法において、偶数個の基準マークを、互いに回転非対称の位置に付与することとしてもよい。
【０１３５】
また、マスクブランク情報をマスクメーカーに提供して、転写マスクの作製を支援する方法において、上述のマスクブランク情報提供方法により、マスクメーカーに複数のマスクブランクのマスクブランク情報を提供する段階を含み、提供するマスクブランク情報は、マスクパターンを形成するのに先立って、複数のマスクブランクの一を選択する際に参照されることを特徴とする転写マスク作製支援方法を、本発明は提供する。
【０１３６】
上述のマスクブランク情報取得方法において、膜情報ｂを取得する段階の後、基準マークを基準として、その基板を予め定められた向きにして、ケースに収納する段階を更に含むこととしてもよい。
【０１３７】
上述のマスクブランク情報取得方法において、膜情報ａを取得する段階の後、基準マークを基準として、その基板を予め定められた向きにして、ケースに収納する段階を更に含むこととしてもよい。
【０１３８】
マスクブランクを提供する方法において、マスクブランクと共に、上述のマスクブランク情報取得方法にて取得した当該マスクブランクに係るマスクブランク情報を提供することを特徴とするマスクブランク提供方法を、本発明は提供する。
【発明の効果】
【０１３９】
マスクブランクの製造過程を通じて、基板情報、膜情報の向きと、実際の基板の向きとを一致させることができる。また、仮に製造過程において基板を誤った向きで取り扱ったとしても、基板情報・膜情報を相互に比較することにより、向きの誤りを検出することができる。
【０１４０】
取得した基板情報・膜情報に基づいて、個々のマスクブランクを識別することができる。即ち、基板情報・膜情報を一種の識別子として用いることが出来る。
【０１４１】
基板の向きと対応した基板情報、膜情報を提供することにより、マスクブランクの基板及び膜の各層に存在する欠陥の位置を正確に伝達することができる。
【０１４２】
マスクブランクの各層の欠陥を正確に伝達することができるので、欠陥部を避けてマスクを作製することが可能となり、マスクのパターン不良を防止することができる。
【０１４３】
また、欠陥を有する部位であっても、その種類・大きさ・数等と、描こうとするパターンの形状・粗密等に応じては、パターンを描いても問題がないと予め判断することが可能であり、マスクブランクの有効利用を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【０１４４】
【図１】図１は、本発明のマスクブランク膜情報取得方法を説明するためのフローチャートである。
【図２Ａ】図２Ａは、マスクブランクの収納ケース１０について説明するための断面図である。
【図２Ｂ】図２Ｂは、マスクブランクの収納ケース１０について説明するための平面図である。
【図３Ａ】図３Ａは、マスクブランクの表裏を示すトレーマーク３１について説明するための図である。
【図３Ｂ】図３Ｂは、マスクブランクの表裏を示すノッチマーク１について説明するための図である。
【図４】図４は、本発明のマスクブランク膜情報（表面情報）取得工程により取得されるマスクブランク膜情報（表面情報）の一例を説明するためのグラフである。
【図５】図５は、本発明のマスクブランク膜情報管理システム５０について説明するためのブロック図である。
【図６】図６は、ホストコンピュータ５１について説明するためのブロック図である。
【図７】図７は、カセット番号、スロット番号付与装置５２について説明するためのブロック図である。
【図８】図８は、１次膜成膜装置５３について説明するためのブロック図である。
【図９】図９は、１次膜欠陥検査装置５４について説明するためのブロック図である。
【図１０】図１０は、レジスト膜成膜装置５７について説明するためのブロック図である。
【図１１】図１１は、マスク作製支援システム１１０について説明するためのブロック図である。
【図１２】図１２は、発注者／マスク工場１２内のマスク製造工程でパターンの描画・現像処理を説明するためのフローチャートである。
【図１３Ａ】図１３Ａは、マスク製造工程の描画・現像処理を受ける前のマスクブランクの断面図である。
【図１３Ｂ】図１３Ｂは、マスク製造工程を経て作製された転写マスクの断面図である。
【図１４】図１４は、ブランク膜情報及びマスクパターンデータに基づいて行う疎パターン形成領域及び密パターン形成領域の配置について説明するための図である。
【図１５】図１５は、本発明のマスク作製支援方法において、マスクブランクの製造工程と、マスクブランクの製造過程においてマスクブランクの膜情報を取得し保存する方法を説明するためのフローチャートである。
【図１６Ａ】図１６Ａは、マスクブランクのノッチマーク１について説明するための図である。
【図１６Ｂ】図１６Ｂは、マスクブランクの膜マーク３１について説明するための図である。
【図１７】図１７は、本発明のマスクブランク膜情報（表面情報）取得工程により取得されるマスクブランク膜情報（表面情報）の一例を説明するためのグラフである。
【図１８Ａ】図１８Ａは、マスクブランクを収納する収納ケース１０について説明するための断面図である。
【図１８Ｂ】図１８Ｂは、マスクブランクを収納する収納ケース１０について説明するための平面図である。
【図１９】図１９は、マスク作製支援システム１１０について説明するためのブロック図である。
【図２０】図２０は、マスク工場１１２が、ブランク膜情報を利用して、マスクブランクのレジスト膜に描画・現像処理してパターンを形成する工程を有するマスク製造工程を説明するためのフローチャートである。
【図２１Ａ】図２１Ａは、マスク製造工程の描画・現像処理を行う前のマスクブランクの断面図である。
【図２１Ｂ】図２１Ｂは、マスク製造工程を経て作製された転写マスクの断面図である。
【図２２】図２２は、ブランク膜情報及びマスクパターンデータに基づいて行う疎パターン形成領域及び密パターン形成領域の配置について説明するための図である。
【図２３】図２３は、本発明のマスクブランク膜情報管理システム５０について説明するためのブロック図である。
【図２４】図２４は、カセット番号、スロット番号付与装置５２について説明するためのブロック図である。
【図２５】図２５は、ホストコンピュータ５１について説明するためのブロック図である。
【図２６】図２６は、１次膜成膜装置５３について説明するためのブロック図である。
【図２７】図２７は、１次膜欠陥検査装置５４について説明するためのブロック図である。
【図２８】図２８は、レジスト膜成膜装置５７について説明するためのブロック図である。
【符号の説明】
【０１４５】
１  ノッチマーク
２  流通ケース
２’、４’、５’、７’、８’、９’、１０’  ＩＤタグ
３、６、３１  膜マーク
４、５、７、８、９、１０  流通ケース
２０  収納ケース
２１  ケース番号
２２  蓋
２３  外箱
２４  内箱
２５  スロット
２６  前面表示
５０  マスクブランク生産ライン制御システム
５１  ホストコンピュータ
５２  カセット番号・スロット番号付与装置
５３  １次膜成膜装置
５４  １次膜欠陥検査装置
５５  ２次膜成膜装置
５６  ２次膜欠陥検査装置
５７  レジスト膜成膜装置
５８  レジスト膜欠陥検査装置
１１０  マスク作製支援システム
１１１  マスクブランク工場
１１２  マスク工場
１１３  データ通信回線（インターネット）
１１４  サーバ
１４２  マスクパターン
１４３  密パターン形成領域
１４４  疎パターン形成領域
５１１  データ送受信部
５１２  工程フロー蓄積部
５１３  情報蓄積部
５１４  欠陥情報照合部
５２１  入力部
５２２  データ送受信部
５３１  ローダーポート
５３２  データ送受信部
５３３  レシピ番号−スパッタ条件照合部
５３４  スパッタ条件蓄積部
５３５  スパッタ条件制御部
５３６  スパッタ装置
５３７  スロット番号、スパッタ実績、アンローダースロット番号収集部
５３８  アンローダーポート
５４１  データ送受信部
５４２  カセット番号−レシピ番号照合部
５４３  ローダーポート
５４４  欠陥検査条件蓄積部
５４５  欠陥検査条件制御部
５４６  欠陥検査装置
５４７  アンローダーポート
５４８  アンローダーカセット番号、アンローダースロット番号付与部
５７１  データ送受信部
５７２  ローダーポート
５７３  ＲＣレシピＮｏ．−レジスト塗布条件、レジスト加熱条件、レジスト冷却条件照合部
５７４  レジスト塗布条件、レジスト加熱条件、レジスト冷却条件蓄積部
５７５  レジスト塗布条件、レジスト加熱条件、レジスト冷却条件制御部
５７６  レジスト塗布装置
５７７  加熱装置
５７８  冷却装置
５７９  アンローダーポート
５８０  スロット番号、レジスト塗布実績、アンローダースロット番号付与部
【発明を実施するための形態】
【０１４６】
本発明の第１の実施の形態であるマスクブランク膜情報取得方法について説明する。尚、以下実施の形態の説明において、膜情報は、上述のとおり表面情報を含むものであり、膜情報をそのまま表面情報と読みかえることができる。
【０１４７】
マスクブランク膜情報取得方法は、ガラス基板に１次膜、２次膜、レジスト膜を形成して製造したマスクブランクを収納ケースに収納するまでの工程と並行して行われる。１次膜、２次膜及びレジスト膜のそれぞれを形成する毎に、各膜の検査を行ってその結果に応じた１次膜膜情報、２次膜膜情報及びレジスト膜膜情報を生成してホストコンピュータに登録する。ホストコンピュータはこれら膜情報をまとめてマスクブランク膜情報を生成して蓄積し、外部からの要求に応じて蓄積したマスクブランク膜情報を紙・電子媒体・通信回線等に出力する。
【０１４８】
図１を参照すると本図は点線にて上中下の三段に分かれている。下段は工程の流れを示し、中段は各工程に対応した製造過程のマスクブランクを示し、上段は検査工程で生成される膜情報を示す。以下、下段の工程の流れに沿って説明する。
【０１４９】
（１）基板加工工程
ノッチマーク１が形成されたガラス基板の準備する。ノッチマークは形状によって基板の硝種を示している。次に、ガラス基板の表面を研削・研磨加工し、所望の表面粗さと平坦度に仕上げる。研磨工程で使用した研磨剤を除去するためにガラス基板を洗浄した後、ＩＤタグがついた流通ケース２にガラス基板を収納する。流通ケース２にはノッチマーク１を基準にガラス基板の方向を揃えて収納されている。
【０１５０】
（２）１次膜成膜工程
生産管理を行うホストコンピュータを使用し、流通ケース２に添付したＩＤタグに、各基板を管理する管理番号を付与する。ホストコンピュータは、製造工程の順序、製造条件の設定、各製造工程の情報を収集して記録・保存する。流通ケース２内に収納されたガラス基板をスパッタリング装置に搬入して、ノッチマーク１が形成されている側と反対側に、１次膜であるＭｏＳｉＮハーフトーン膜を反応性スパッタリングにより成膜する。この時、基板保持具によりＭｏＳｉＮ膜が形成されない箇所に膜マーク３が形成される。ＭｏＳｉＮハーフトーン膜付き基板を流通ケース２とは別の流通ケース４に収納する。これと共に、１次膜成膜終了の情報がホストコンピュータに保存される。流通ケース４の添付のＩＤタグに管理番号が転送される。流通ケース４にノッチマーク１（又は膜マーク３）を基準に基板の方向を揃えて収納される。
【０１５１】
（３）１次膜検査工程
流通ケース４に収納されたハーフトーン膜付き基板を、１次膜の欠陥を検査する欠陥検査装置に搬入し、欠陥検査を行って膜情報を取得する。膜情報（膜の表面情報）として、欠陥の位置情報、欠陥のサイズ（大きさをランク別で表示）、欠陥の種類（ピンホール、パーティクル、その他）が、管理番号毎にホストコンピュータに保存される。ここで取得した膜情報を１次膜膜情報と呼ぶ。欠陥検査が完了した基板を別の流通ケース５に収納する。これと共に、流通ケース５のＩＤタグに管理番号が転送される。流通ケース５に、ノッチマーク１（又は膜マーク３）を基準に基板が方向を揃えて収納される。
【０１５２】
（４）２次膜成膜工程
流通ケース５内に収納されたハーフトーン膜付き基板をインライン型スパッタリング装置に搬入して、１次膜上に２次膜であるＣｒ遮光膜を反応性スパッタリングにより成膜する。この時、基板保持部によりＣｒ膜が形成されない箇所に膜マーク６が形成される。Ｃｒ遮光膜つき基板を別の流通ケース７に収納する。これと共に、２次膜成膜終了の情報がホストコンピュータに保存される。流通ケース７に添付のＩＤタグに管理番号が転送される。流通ケース７にノッチマーク１（又は膜マーク３、６）を基準に基板の方向を揃えて収納する。
【０１５３】
（５）２次膜検査工程
流通ケース７に収納されたＣｒ遮光膜付き基板を、２次膜の欠陥を検査する欠陥検査装置に搬入し、欠陥検査を行って膜情報（膜の表面情報）を取得する。膜情報は、欠陥の位置情報、欠陥のサイズ（大きさをランク別で表示）、欠陥の種類（ピンホール、パーティクル、その他）が、管理番号毎にホストコンピュータに保存される。ここで取得した膜情報を２次膜膜情報と呼ぶ。欠陥検査が完了した基板を別の流通ケース８に収納する。これと共に、流通ケース８に添付のＩＤタグに管理番号が転送される。流通ケース８に、ノッチマーク１（又は膜マーク３、６）を基準に基板が方向を揃えて収納される。
【０１５４】
（６）レジスト成膜工程
流通ケース８内に収納されたＣｒ遮光膜付き基板を回転塗布装置に搬入して、２次膜上にレジスト膜を回転塗布法により塗布し、ベーク、冷却を経てレジスト膜を形成する。レジスト膜付き基板（マスクブランク）を別の流通ケース９に収納する。これと共に、レジスト膜成膜終了の情報がホストコンピュータに保存される。流通ケース９に添付のＩＤタグに管理番号が転送される。流通ケース９にノッチマーク１（又は膜マーク３、６）を基準にマスクブランクの方向を揃えて収納される。
【０１５５】
（７）レジスト膜検査工程
流通ケース９に収納されたレジスト膜付き基板（マスクブランク）を、欠陥検査装置に搬入し、欠陥検査を行って膜情報を取得する。膜情報として、欠陥の位置情報、欠陥のサイズ（大きさをランク別で表示）、欠陥の種類（ピンホール、パーティクル、その他）が管理番号毎にホストコンピュータに保存される。ここで取得した膜情報をレジスト膜膜情報と呼ぶ。欠陥検査が完了した基板を別の流通ケース１０に収納する。これと共に、流通ケース１０に添付のＩＤタグに管理番号が転送される。流通ケース１０に、ノッチマーク１（又は膜マーク３、６）を基準にマスクブランクの方向を揃えて収納する。
【０１５６】
（８）膜情報の照合工程
１次膜膜情報、２次膜膜情報、レジスト膜膜情報を互いに照合することにより、膜情報同士の間で方向が一致しているか確認する。
【０１５７】
具体的には、位置変化しない欠陥を基準に各膜の欠陥情報データを照合する。これは、最下層の膜である１次膜に欠陥がある場合、１次膜より上層の膜である２次膜、レジスト膜にも欠陥が生じることを利用して、１次膜膜情報を基準として他の膜情報の方向の正否を判定する。
【０１５８】
これにより、膜情報同士の間での方向は一致させることができるが、例えば、ある流通ケースから別の流通ケースに基板を移す際に、基板の向きを誤って流通ケースに収めてしまう可能性があり、こうした場合、膜情報間が一致していても、膜情報と基板の向きとが不一致となってしまう。
【０１５９】
こうした可能性を避けるため、流通ケースや収納ケースに基板を出し入れする際、その作業者は、ノッチマーク１、膜マーク３及び６を基板の向きの基準として参照し、予め定められた向きに沿って基板を出し入れすることとする。
【０１６０】
これにより、マスクブランクの製造過程（１）〜（９）における基板の向きを一定に保ち、基板の向きと膜情報の向きとの不一致を避けると共に、膜情報同士間の向きを一致させることができるので、基板の向きと全ての膜情報の向きとを一致させることができる。また、膜情報同士の一致を確認するので、仮に製造過程で基板の向きを間違って流通ケースや収納ケースに収めたとしても、それを検出することが可能である。
【０１６１】
（９）ブランク梱包工程
マスクブランクを収納ケース２０に収納して梱包し、マスクメーカーに配送する。
【０１６２】
ここで収納ケース２０について図２Ａ及び（Ｂ）を参照して説明する。収納ケース２０のそれぞれには固有のケース番号２１が付与されて添付されている。収納ケース２０は蓋２２と外箱２３とからなり、外箱２３の中には更に内箱２４、スロット２５からなる。内箱２４は外箱２３に収められて基板保持具として作用する。スロット２５は基板間の仕切りであるが、以下説明の便宜上、隣接する２つのスロット２５の間の基板を格納する部分をスロットと呼ぶこともある。この意味で図２Ｂには５枚の基板を格納するためのスロットがある。各スロットにはスロット番号が付与され、それぞれをスロットＮｏ．１、スロットＮｏ．２、…スロットＮｏ．５と呼ぶ。外箱２３の外面のうち、スロットＮｏ．１に近い面に収納ケース２０の向きを示す前面表示２６が記載されている。ケース番号及びスロット番号を組み合わせて収納ケース２０に格納されているマスクブランクを識別する。
【０１６３】
各マスクブランクにおける膜情報の位置情報の基準点と、収納ケース２０に収納された上述の位置情報の基準点と対応させるためのマスクブランクの基準点を対応させるために、マスクブランクを収納ケース２０に収納する際、上述のノッチマーク１（又は膜マーク３、６）を基準にマスクブランクの方向性を揃えて収納されている。このように、マスクブランク製造工程における各工程において、ノッチマーク１（又は膜マーク３、６）を基準に基板の方向性を揃えて膜の成膜や、欠陥検査を行い、さらには、各工程間における基板の搬送の際に使用する基板流通ケースにおいても、ノッチマーク１（又は膜マーク３、６）を基準に基板の方向性を揃えて収納し、マスクブランクを収納ケースに収納してマスクメーカーに提供する際も、ノッチマーク１（又は膜マーク３、６）を基準にマスクブランクの方向性を揃えて収納することによって、マスクブランクと欠陥情報の位置情報を正確に対応させることができ、マスク作製時のパターン不良を防止することができる。
【０１６４】
ブランク梱包工程に説明を戻すと、このとき、１次膜膜情報、２次膜膜情報、レジスト膜膜情報を含むブランク膜情報を、それぞれのマスクブランク毎に配送先のマスクメーカーに提供する。ブランク膜情報の提供方法は、（ａ）収納ケース２０にブランク膜情報を印刷した印刷物を添付する、（ｂ）ブランク膜情報データを記録したフレキシブルディスクやＣＤ−ＲＯＭ等の記録媒体を収納ケース２０に添付する、（ｃ）データ通信回線を介してブランク膜情報データを配送先のマスクメーカーのコンピュータ等に送信する等がある。（ａ）及び（ｂ）の場合はブランク膜情報そのものをスロット番号との対応関係と共に収納ケース２０に添付する。（ｃ）の場合はマスクメーカーからケース番号及びスロット番号を送信し、該当するブランク膜情報を受信することにより提供を受ける。
【０１６５】
尚、１次膜成膜工程−１次膜検査工程、及び、２次膜成膜工程−２次膜検査工程の間に、洗浄工程を設けても良い。
【０１６６】
上述の（１）〜（１０）の過程、更にマスクメーカーにおいて、マスクブランクの表裏は図３（Ａ）及び（Ｂ）に示すような膜マーク３１及びノッチマーク１にて区別される。図３（Ａ）に示すように表面には膜マーク３１が記される。図３（Ｂ）に示すように裏面にはノッチマーク１が記される。
【０１６７】
各膜情報は、基板の所定の方向を基準として膜上に予め定められたＸＹ座標系のＸ座標、Ｙ座標、欠陥の大きさ、欠陥の種類からなる。欠陥の種類はピンホールとパーティクルからなる。パーティクルは膜上に粒状物質が付着した状態を指し、ピンホールはいったん付着した粒状物質が抜け落ちた跡の状態を指す。
【０１６８】
図４はブランク膜情報の例である。一次膜の段階で欠陥があった箇所には二次膜及びレジスト膜の両方で同じ位置に欠陥が発生していることがわかる。
【０１６９】
次に、本発明の第２の実施の形態であるマスクブランク生産ライン制御システム５０について説明する。図５を参照すると、マスクブランク生産コントロールシステム５０は、ホストコンピュータ５１、カセット番号・スロット番号付与装置５２（以下付与装置５２と記す）、１次膜成膜装置５３、１次膜欠陥検査装置５４、２次膜成膜装置５５、２次膜欠陥検査装置５６、レジスト膜成膜装置５７及びレジスト膜欠陥検査装置５８からなる。
【０１７０】
カセットは基板を収めるスロットを複数有すると共にＩＤタグを備える。ＩＤタグには、そのカセットに付与されるカセット番号が記録される。
【０１７１】
図７を参照すると、生産ラインに基板を投入するには、基板をカセットに収め、付与装置５２にて、カセット番号、スロット番号、工程フローを入力部５２１から入力する。工程フローとは、工程順位、工程にて用いられる装置名、各装置で使用するレシピ番号からなり、生産しようとするマスクに応じてカセット単位で与えられる。尚、生産ライン上において、基板の特定は、工程内での位置、カセット番号、スロットにて行われる。
【０１７２】
付与装置５２はカセットのＩＤタグにカセット番号を書き込むと共に、データ送受信部５２２によってホストコンピュータ５１にカセット番号、スロット番号及び工程フローを送信する。図６を参照すると、ホストコンピュータ５１は、データ送受信部５１１にて受信後、カセット番号、スロット番号及び工程フローを互いに関連付けて工程フロー蓄積部５１２に蓄積する。
【０１７３】
付与装置５２にてカセット番号の入力を終えたカセット（以後、このカセットをカセットＡと記す）が、１次膜成膜装置５３のローダーポート５３１にセットされると、カセットＡのＩＤタグからカセット番号を読み取ってデータ送受信部５３２によりホストコンピュータ５１に通知する。
【０１７４】
図８を参照すると、これに応答して、ホストコンピュータ５１は、カセットＡのカセット番号、スロット番号、スパッタのレシピ番号を１次膜成膜装置５３に送信する。尚、レシピ番号についてはスパッタ装置の動作開始直前であってもよい。
【０１７５】
これを受信した１次成膜装置５３では、レシピ番号−スパッタ条件照合部５３３にてレシピ番号に対応したスパッタ条件を照合し、スパッタ条件蓄積部５３４に照合したスパッタ条件を蓄積する。このスパッタ条件に従って、スパッタ条件制御部５３５はスパッタ装置５３６を制御し、スパッタ処理を行う。
【０１７６】
スパッタ装置５３６は、カセットＡから基板を抜き取り、スパッタ処理を開始する。スパッタ処理の過程で、スパッタ実績を収集し、スロット番号と関連付ける。
【０１７７】
スパッタ処理が終了した基板はアンローダーポート５３８に予め準備された別のカセット（以後カセットＢと記す）のスロットに入る。このとき、スロット番号、スパッタ実績、アンローダースロット番号収集部５３７（以後収集部５３７と記す）は、カセットＡでのスロット番号、関連付けられたスパッタ実績、カセットＢでのスロット番号を収集し、データ送受信部５３２を用いてホストコンピュータ５１に送信する。また、カセットＢのスロットが全て１次膜成膜後の基板で埋まると、収集部５３７は、カセットＢのカセット番号と共にその旨をホストコンピュータ５１に通知する。
【０１７８】
これを受けて、ホストコンピュータ５１は、カセット番号Ｂ、カセット番号Ａ、工程フローの手順で次の工程を特定し、不図示のカセット搬送部に対して搬送先を指示する。また、ホストコンピュータ５１は、カセットＢのカセット番号、及び、１次膜成膜装置５３に送信したスパッタのレシピ番号を、１次膜欠陥検査装置５４に送信する。
【０１７９】
図９を参照すると、１次膜欠陥検査装置５４は、データ送受信部５４１にてこれらを受信すると、カセット番号−レシピ番号照合部５４２にこれらを渡す。
【０１８０】
ローダーポート５４３にカセットが搬入されると、カセット番号−レシピ番号照合部５４２は、カセットのＩＤタグから読み取ったカセット番号に対応するレシピ番号を照合する。ここでカセット番号がカセットＢのものであれば、カセットＢに収められた基板に対してスパッタ処理した際のレシピ番号が得られる。
【０１８１】
欠陥検査条件蓄積部５４４には、レシピ番号と、レシピ番号が示すレシピ条件下で成膜された膜に対して行うべき検査条件との対応関係が予め蓄積されており、カセット番号−レシピ番号照合部５４２からレシピ番号を受け取ると、行うべき検査条件を出力する。
【０１８２】
この検査条件に従って、欠陥検査条件制御部５４５は、欠陥検査装置５４６を制御して検査を行う。欠陥検査装置５４６は検査結果を欠陥検査情報として出力する。検査の済んだ基板は、アンローダーポート５４７に予めセットした別カセット（以下カセットＣと記す）のスロットに収められる。
【０１８３】
アンローダーカセット番号、アンローダースロット番号付与部５４８は、カセットＣにカセット番号を付与すると共に、カセットＣのカセット番号、カセットＣのスロット番号、スロットに収められた基板の欠陥検査情報とを関連付けて、データ送受信部５４１を用いてホストコンピュータ５１に送信する。
【０１８４】
ホストコンピュータ５１は、送信された情報を、１次膜成膜装置５３にて得られたスパッタ実績等と関連付けて情報蓄積部５１３に蓄積する。
【０１８５】
２次膜成膜装置５５、２次膜検査装置５６、については、それぞれ１次膜成膜装置５３及び１次膜検査装置５４と比較すると、成膜する膜の種類の違いに起因する相違のみで、構成要素及び動作に大きな違いがないので説明を省略する。図１０に示すレジスト膜成膜装置５７及びレジスト膜欠陥検査装置５８についても同様である。
【０１８６】
このようにして、１次膜成膜装置５３、１次膜検査装置５４、２次膜成膜装置５５、２次膜検査装置５６、レジスト膜成膜装置５７及びレジスト膜欠陥検査装置５８から、収集した情報を元に、欠陥情報照合部５１４は、第１の実施の形態にて説明した１次膜膜情報、２次膜膜情報、レジスト膜膜情報を生成すると共に、これらを互いに照合して、図４に示すようなブランク膜情報を生成する。
【０１８７】
次に、本発明の第３の実施の形態であるマスク作製支援システム１１０について説明する。
【０１８８】
図１１を参照すると、マスク作製支援システム１１０は、マスクブランク工場１１１と、マスクブランク工場１１１にて製造されたマスクブランクを元にマスクを製造するマスク工場１１２と、両工場を接続するデータ通信回線１１３からなる。更に、マスクブランク工場１１１は、ホストコンピュータ５１及びサーバ１１４からなる。マスクブランク工場１１１にて製造されたマスクブランクは前述の収納ケース１０に収めてマスク工場１１２に配送される。ホストコンピュータ５１は前述のマスクブランク生産ライン制御システム５０のホストコンピュータ５１である。サーバ１１４は、ホストコンピュータ５１から必要な情報を受け取り、インターネット１１３を介してマスク工場１１２遠隔地のコンピュータに情報を提供する。
【０１８９】
マスク作製支援システム１１０にてマスクブランクのレジスト膜にパターンを描画する工程について説明する。
【０１９０】
第２の実施の形態にて説明したように、ホストコンピュータ５１には、予め製造したマスクブランクのブランク膜情報が蓄積されている。ブランク膜情報は、ノッチマークまたは膜マークを基準に方向性を特定し、基準点が保証されている。また、製造されたマスクブランクは、ノッチマークまたは膜マークを基準にマスクブランクの方向性を揃えて収納ケース１０に収めてマスク工場１１２に配送される。このとき、収納ケース１０にはケース番号が添付されている。ケース番号の添付は印刷等の視認可能な状態に限らず、例えばバーコード、磁気記録媒体、ＩＣチップ等の機械機械読み取り可能な状態にて添付されることとしてもよい。
【０１９１】
図１２を参照してマスク工場１１２でのマスク描画・現像処理について説明する。収納ケース１０を受け取ったマスク工場１１２の作業者は、視認或いは機械読み取りによりケース番号を収納ケース１０から取得した後、コンピュータ等のデータ通信装置を用いて、ケース番号をインターネット等のデータ通信回線１１３を介してサーバ１１４に送信する。これに応じて、サーバ１１４は、そのケース番号の収納ケースの各スロットに収めたマスクブランクのブランク膜情報を返信する（ステップＳ１２１）。
【０１９２】
データ通信の形態としては様々な形態が考えられる。例えばケース番号及びブランク膜情報の伝送の両方を、電子メールを介して行っても良いし、或いは、ケース番号とそのケース番号の収納ケースの各スロットに収めたマスクブランクのブランク膜情報との対応関係を表すデータベースをサーバ１１４に設置し、マスク工場１１２側から入力されたケース番号に応じたブランク膜情報を返信することとしてもよい。この段階では、マスクブランクは図１３Ａのような断面を有し、ガラス基板上に、１次膜、２次膜、レジスト膜の三層の膜が成膜された状態になっている。
【０１９３】
ブランク膜情報を受け取ったマスク工場１１２は、ブランク膜情報と、製造しようとしているマスクのマスクパターンとを照合する（ステップＳ１２２）。上述したように、このとき、マスクブランク内の位置情報の基準点と、ブランク膜情報における位置情報の基準点とが対応している。或いは、このとき、マスクブランク内の位置情報の基準点と、マスクパターンデータの位置情報の基準点とが対応している。
【０１９４】
今、マスク工場１１２は、マスクブランク工場１１１からブランク膜情報１４１を受け取り、マスクパターン１４２を描画しようとしているものとする。ブランク膜情報１４１は１次膜膜情報、２次膜膜情報、レジスト膜膜情報を含んでいる。
【０１９５】
一般に、マスクパターンは、密度が密な密パターン形成領域１４３と、密度が疎な疎パターン形成領域１４４とを有する。
【０１９６】
一方、一般にマスクブランクのピンホールやパーティクルは均一に分布しているのではなく、ある程度局所的に分散している。そこで、ブランク膜情報１４２を参照し、ピンホールやパーティクルが密パターン形成領域１４３以外の領域に配置されるように、パターン描画位置を調整して決定する（ステップＳ１２３）。
【０１９７】
パターン描画位置の調整方法としては、基板の向きに対するマスクパターン１４２の向きを変更することが考えられる。また、密パターン形成領域１４３と疎パターン形成領域１４４の相対的な位置関係が変更可能であれば、これを変更することにより調整してもよい。
【０１９８】
最後に、決定したパターン描画位置に従って、レジスト膜にパターンを描画し、現像する（ステップＳ１２４）。
【０１９９】
次に第４の実施の形態について説明する。本実施の形態では、ブランク膜情報と基板の向きを一致させる技術について特に取り上げて説明する。
【０２００】
再度図１及び３を参照すると、マスクブランクのガラス基板にはノッチマーク１が記されている。従来の技術では、ノッチマーク１はガラス基板の硝種を示すことのみを目的としていて、その形状の違いによりガラス基板の硝種を示していた。
【０２０１】
また、膜上には本来は膜の種類を示す目的で膜マークが記されている。ノッチマーク１と同様に、膜マークは、その形状の違いと、その膜と他の膜との位置関係により膜の種類を示していた。例えば、１次膜上の膜マーク２はＭｏＳｉＮ膜であることを示す形状を有し、２次膜上の膜マーク３はＣｒ膜であることを示す形状を有する。尚、図上では膜マークを簡略化して記してあるので実際の形状とは一致していない。
【０２０２】
本発明では、これらのノッチマークや膜マークを基板の向きの目安とし、流通ケース、カセット、収納ケース等の容器に出し入れする際、常に同じ向きに収めるようにする。これにより、１次膜膜情報、２次膜膜情報、レジスト膜膜情報の方向は、それぞれが全て基板の方向と一致することになる。
【０２０３】
本実施の形態では、膜情報の膜の枚数は単一であってもよい。従来技術に見られるような、マスクブランク工場出荷直前のマスクブランク表面、即ち表面膜上のみを観察して得られた欠陥情報であっても適用することができる。この場合であっても、欠陥情報の方向と基板の方向との一致を保障する効果がある。
【０２０４】
次に、本発明の第５の実施の形態について説明する。第５の実施の形態は上述の第１から第４の実施の形態を包括的に含む形態の一部を変更したものであり、以下では、マスクブランク情報取得方法、マスク作製支援方法、マスクメーカーに提供するマスクブランクの製造方法、転写マスクの製造方法、マスクブランクの製造過程においてマスクブランク情報を取得し保存する方法について説明する。また、マスクブランク情報提供方法、マスクブランク提供方法の具体例についても開示される。
【０２０５】
尚、以下実施の形態の説明において、膜情報は、表面情報を含むものであり、膜情報を表面情報と読みかえることができる。
【０２０６】
膜情報とは、膜の表面を走査して取得される面情報である。また、基板情報とは、基板の表面を走査して取得される面情報である。面情報とは、二次元座標である平面座標に投影して把握可能な情報である。
【０２０７】
また、以下では、欠陥検査を利用して基板情報又は膜情報を取得する例について示すが、欠陥とは、転写マスクの機能を阻害し、又は不良な転写マスクの原因となる表面形態或いは光学特性のことを言う。具体的には、パーティクル状欠陥やピンホール状欠陥を例示できる。
【０２０８】
マスクブランク情報の取得は図１５に示す通り、ガラス基板に１次膜、２次膜、レジスト膜のそれぞれの薄膜を形成して製造したマスクブランクをケースに収納するまでの工程と並行して行われる検査工程を利用して行われる。図１５の例では基板検査を図示していないが、鏡面研磨等の加工処理を行ったガラス基板を準備し、１次膜成膜に先立って基板検査を行えば、基板情報を取得できる。
【０２０９】
図１５に示す実施形態では、１次膜、２次膜及びレジスト膜のそれぞれの薄膜を形成した都度に、薄膜の欠陥検査を行う。その検査結果に応じた１次膜の膜情報、２次膜の膜情報及びレジスト膜の膜情報を生成し、各基板（各マスクブランク）に対応させてホストコンピュータにこれらの情報を記録し保存する。その後に、ホストコンピュータに記録し保存されている基板情報や膜情報を照合し、まとめてマスクブランク情報を生成する。
【０２１０】
マスクブランク情報は、基板情報、１次膜膜情報、２次膜膜情報、レジスト膜膜情報等の面情報を、複数統合して生成される。マスクブランク情報を構成する面情報は、それぞれが同じマスクブランクの異なる断面に関する情報である。このため、マスクブランク情報は、マスクブランクの内部の状態を立体的に示す情報となる。
【０２１１】
マスクブランク情報は、マスクブランクの製造工程を経て製造され収納ケース２０内に収納されている各マスクブランク個体と対応させられて、マスクメーカーに提供される。上記情報は、紙書類、電子媒体、磁気媒体、通信回線等を利用してマスクブランクメーカーからマスクメーカーに提供される。
【０２１２】
図１５を参照すると本図は点線にて上中下の三段に分かれている。図１５の下段はマスクブランクの製造工程と、各工程間で基板を搬送する際に使用するカセット内に基板又はマスクブランクが収納される方向性、即ち、向きの経緯を示している。
【０２１３】
図１５の中段は各工程に対応した製造過程の膜の構造と、膜付き基板の形態を示している。図１５の上段は欠陥検査工程で生成される膜情報を示す。以下、下段のマスクブランクの製造工程の流れに沿って、膜情報を取得し保存する方法を詳細に説明する。
【０２１４】
（１）基板加工工程
ノッチマーク１が形成されたガラス基板の準備する。このノッチマークによって、ガラス基板の硝種を判別することができる。
【０２１５】
例えば、ノッチマーク１は、実開昭６２−１７９４８号公報に示されるような、ガラス基板のコーナー部において、主表面と該コーナー部を形成する２つの端面との３面を斜断面状に切り落としてなることによって形成された面形状を有している。なお、形成されているノッチマークの個数と、形成位置により該ガラス基板を構成する硝種（ガラスの種類）を判別に利用することもできる。
【０２１６】
本発明の実施の形態においては、ノッチマーク１は、基板の方向性を特定するための基準マークとしての役割と、後述する欠陥検査工程で取得する膜情報における基準点としての役割を有する。
【０２１７】
ノッチマーク１の具体例としては、図１６Ａに示すように基板の一方の主表面側のコーナー部２箇所に設けることができる。対角の位置にノッチマーク１が形成されているこのガラス基板の硝種は、合成石英ガラスである。
【０２１８】
次に、ガラス基板の表面を研削、研磨加工し、所望の表面粗さと平坦度に仕上げる。また、研磨加工で使用した研磨剤を除去するためにガラス基板を洗浄する。
【０２１９】
次に、ＩＤタグ２’がついた工程内流通用のカセット２にガラス基板を収納する。以下このカセットを流通カセット２と呼称する。このＩＤタグは、流通カセットや、流通カセットに収納される基板又はマスクブランクに関する情報を書き込み又は、読み出すことができる情報管理手段である。ＩＤタグは情報を記録し保持することができる媒体である。例えばＩＣタグを用いることができる。
【０２２０】
このＩＤタグに対して、流通カセットに収納される各基板又は各マスクブランクを管理する管理番号、例えば識別番号を付与し、保持させることができる。
【０２２１】
この管理番号としては、流通カセット毎に付与するカセット番号や、該流通カセットに複数枚の基板を収納するために設けられている、複数の溝に対応して付与されるスロット番号がある。管理番号に基づいて、各基板を識別し、各基板を管理することができる。
【０２２２】
ＩＤタグに付与された管理番号は、次工程以降で行われる取得される各工程の情報、例えば、それぞれの薄膜の検査工程で生成された膜情報や、それぞれの薄膜の形成工程で利用された製造条件や製造レシピなどと、各基板とを対応させる役割がある。
【０２２３】
また、流通カセット２は、カセットの向き、即ち、前後左右が区別できるようになっている。また、流通カセット２の対向する二つの内壁には、上下方向に伸びる溝が所定の間隔で複数形成されていて、それぞれの溝にガラス基板又はマスクブランクを収納できるようになっている。ノッチマーク１を基準として、これら複数の溝の夫々に１枚のガラス基板又はマスクブランクが互いに方向を揃えて収納されている。
【０２２４】
具体的には、流通カセット２の所定位置に対して、ガラス基板に形成されているノッチマーク１が所定の関係に配置されるように収納される。カセット内の複数のガラス基板又はマスクブランクは同一の向きに揃って配列され、収納される。
【０２２５】
本実施形態においては、流通カセット２の前側に複数枚のガラス基板のノッチマーク１が手前の特定の位置にくるように収納される。
【０２２６】
即ち、流通カセット２に付与された前面を基準とし、ノッチマーク１が形成された基板面をカセット前面に向けて配列するとともに、カセット前面からみて、収納された複数枚のガラス基板のノッチマークが同一の位置関係に揃えられて収納されている。
【０２２７】
尚、次工程以降、各工程間で基板を収納する流通カセットの構造は、上述の流通カセット２と同じ構造を有するものを使用する。
【０２２８】
（２）１次膜成膜工程
生産管理を行うホストコンピュータを使用し、流通カセット２に添付したＩＤタグ２’に、各基板を管理する管理番号を付与する。ホストコンピュータは、ＩＤタグに付与された管理番号と、各基板が処理されるべき製造工程の順序、各工程で用いる製造条件とを対応させる。ホストコンピュータは、製造工程内の各装置から情報（例えば基板情報、膜情報など）を収集して管理番号毎に記録・保存することができる機能を持つ。
【０２２９】
詳細には、生産管理を行うホストコンピュータは、各流通カセット毎に添付されたＩＤタグ２’の夫々に、流通カセット又は収納された各基板の夫々を管理するための管理番号を付与して記録する。また、このホストコンピュータは、ＩＤタグ２’に付与した管理番号と、各基板が処理される複数の製造工程や検査工程の順序、及びそれら工程において設定される製造条件等と、を対応させる。さらに、このホストコンピュータは、前記複数の工程で取得された各工程毎の情報（たとえば、基板情報、それぞれの薄膜の検査工程で生成された膜情報、それぞれの薄膜の形成工程で利用された製造条件や製造レシピなど）を、各基板毎に収集して、記録し、保存する機能を備える。
【０２３０】
流通カセット２内に収納されたガラス基板を１枚ずつ取り出し、ノッチマーク１が形成された側の基板面が上方を向くように、ノッチマークが形成されていない側の基板面がスパッタリングターゲットに相対するように、スパッタリング装置の保持具に基板を配置する。
【０２３１】
次に、ＭｏＳｉのスパッタリングターゲットを使用し、アルゴンガスと窒素ガスの混合ガス雰囲気において、反応性スパッタリング法により、位相シフト膜であるハーフトーン膜をガラス基板面に成膜し、形成する。
【０２３２】
成膜はノッチマーク１が形成されている主表面に対向する（反対面の）ガラス基板の主表面に行う。以上のようにして、ガラス基板表面にＭｏＳｉＮを含むハーフトーン膜である位相シフト膜が形成される。
【０２３３】
基板の保持具には、基板主表面の周縁部の所定領域にＭｏＳｉＮハーフトーン膜が形成されないように遮蔽手段を設ける。
【０２３４】
この遮蔽手段により、基板主表面上にＭｏＳｉＮ膜が形成されない所定領域が形成され、膜マーク３となされる。
【０２３５】
膜マーク３の形状の違いや、膜マークの位置、配置等により、ガラス基板上に形成されている薄膜の種類を判別することができる。本実施形態ではハーフトーン膜用に用いる膜マークを利用する。
【０２３６】
膜マーク３は、上述のノッチマーク１と同様に、基板の方向性を特定するための基準マークや、後述する検査工程で取得する膜情報における基準点として使用することができる。
【０２３７】
膜マーク３１の具体例としては、図１６Ｂに示すようにノッチマーク１が形成されている側とは反対側の主表面におけるコーナー部２箇所に、図示するように設けることができる。
【０２３８】
スパッタリング装置によりガラス基板表面にＭｏＳｉＮ膜が形成されたＭｏＳｉＮハーフトーン膜付き基板を、流通カセット２とは別の流通カセット４に収納する。流通カセット４にはノッチマーク１又は膜マーク３を基準に複数枚のハーフトーン膜付き基板が基板の方向を揃えて収納される。
【０２３９】
具体的には、流通カセット４の所定位置に対して、基板に形成されている膜マーク３が所定の関係に配置されるように収納される。
【０２４０】
本実施形態においては、複数枚のハーフトーン膜付き基板の膜マーク３が、流通カセット４後側の特定の位置（図１５において流通カセットに対して下方）にくるように収納されている。
【０２４１】
即ち、流通カセット４に付与される前面を基準とし、膜マーク３が形成されていない側の基板面がカセット前面に向くように、即ち、ノッチマーク１が形成されている基板面がカセット前面に向くように基板を配列するとともに、カセット前面からみて、収納された複数枚の基板の膜マーク３が同一の位置関係（図１５において流通カセットに対して下方）になるように揃えられて収納される。
【０２４２】
１次膜成膜終了の情報が管理番号毎にホストコンピュータに保存される。
【０２４３】
また、流通カセット４の添付のＩＤタグ４’に、上述のＩＤタグ２’に付与されている管理番号の情報が転送される。ＩＤタグ４’に転送される管理番号は、ＩＤタグ２’に付与されている管理番号と同じであっても良いし、またはホストコンピュータから新たな管理番号を付与しても構わない。後者の場合、ＩＤタグ２’に付与されている管理番号と、新たにＩＤタグ４’に付与された管理番号とを関連付けてホストコンピュータに保存される。
【０２４４】
（３）１次膜検査工程
この工程は、１次膜の薄膜情報を取得する工程と、取得された膜情報を情報蓄積媒体に記録し保存する薄膜情報記録工程を含む。
【０２４５】
流通カセット４に収納されたハーフトーン膜付き基板を取り出し、１次膜（ＭｏＳｉＮハーフトーン膜）の欠陥を検査する欠陥検査装置に基板を載置する。
【０２４６】
ノッチマーク１が形成された面を下方に向けて、膜マーク３が形成された面を上方に向けて基板を保持具に載置する。
【０２４７】
その後、１次膜の欠陥検査装置を利用して膜の表面を走査し、この１次膜に関する膜情報を取得する。
【０２４８】
膜情報は、膜の状態に係る状態情報であって、膜の表面を走査して取得される膜の表面情報である。膜情報としては、表面形態情報や光学特性情報が挙げられる。取得された膜情報は平面に投影して二次元の面の情報として把握可能に構成される。
【０２４９】
マスク製造工程でパターン不良を引き起こす可能性のある欠陥の位置情報（例えば平面座標系におけるＸ座標、Ｙ座標）、欠陥の大きさ、欠陥の種類、などが欠陥毎に欠陥検査装置によって判定され、その結果は管理番号毎にホストコンピュータに保存される。
【０２５０】
その際、欠陥の大きさは、直径等の欠陥の大きさを示す測定値をそのまま保存してもよいし、または、欠陥の大きさを分類するための複数のランクを予め定め、該当するランクを欠陥の大きさとして保存してもよい。
【０２５１】
欠陥の種類は、凸部形状、凹部形状、その他の欠陥などと分類して保存することができる。凸部形状としては例えばピンホール状の欠陥があり、凹部形状としては例えばパーティクル状の欠陥が挙げられる。
【０２５２】
パーティクル状の欠陥とは、膜上又は膜中に異物（例えば粒状質等）が付着した状態の欠陥を指し、ピンホール状の欠陥とは、膜中に付着した異物が抜け落ちた跡、膜抜けの状態の欠陥を指す。膜抜けは膜の下地の状態が確認できる完全に膜がない状態や、膜の下地の状態が確認できない局所的に膜厚が薄くなった状態がある。
【０２５３】
位置情報は、ノッチマーク１を基準に、ガラス基板のサイズからガラス基板主表面の中心を算出してこれを基準点（Ｏ）とし、該基準点を通りガラス基板の各辺に平行な線を仮想のＸ軸、Ｙ軸としたＸＹ座標系における各欠陥のＸ座標、Ｙ座標で保存される。
【０２５４】
詳しくは、上述の欠陥の位置情報は、まず、ノッチマーク１の位置を基準とし、ガラス基板のサイズ、例えば辺の長さに基づいて、ガラス基板主表面の中心を算出してこれを基準点（Ｏ）と定め、次に、この基準点（Ｏ）を原点として、直交するガラス基板の辺に沿う直交平面座標系（ＸＹ座標系）を定め、最後に、この二次元のＸＹ座標系において、各欠陥のＸ座標位置、Ｙ座標位置を算出し、このＸ座標、Ｙ座標の値で保存される。
【０２５５】
ここで取得した薄膜の膜情報を１次膜膜情報と呼ぶ。
【０２５６】
欠陥検査が完了したハーフトーン膜付き基板を流通カセット４とは別の流通カセット５に収納する。流通カセット５には、ノッチマーク１又は膜マーク３を基準に複数枚のハーフトーン膜付き基板が方向を揃えて収納される。
【０２５７】
具体的には、流通カセット５の所定位置に対して、基板に形成されている膜マーク３が所定の関係に配置されるように収納される。
【０２５８】
本実施形態においては、流通カセット５に複数枚のハーフトーン膜付き基板の膜マーク３が後側の特定の位置（図１５において流通カセットに対して下方）にくるように収納されている。
【０２５９】
即ち、流通カセット５に付与される前面を基準とし、ノッチマークが形成された基板面がカセット前面に向き、膜マーク３が形成された面がカセット前面とは反対側に向かって配列されるとともに、カセット前面からみて、収納された複数枚の基板の膜マーク３が同一の位置関係（図１５において流通カセットに対して下方）に揃うように収納される。
【０２６０】
検査前において、複数の基板の収納方向が所定に揃うように収納方法が管理されているので、検査工程で取得された面情報の方向性、座標系と基準点は検査に供された複数の基板間で統一され情報が取得される。
【０２６１】
検査後において、複数の基板の収納方向が所定に揃うように収納方法が管理されているので、次の工程においても、処理に供される基板の方向性（向き）は維持される。
【０２６２】
これと共に、流通カセット５のＩＤタグ５’に、上述のＩＤタグ４’に付与されている管理番号の情報が転送される。尚、上述の通り、ＩＤタグ５’に転送される管理番号は、ＩＤタグ４’に付与されている管理番号と同じであっても、新たな管理番号を付与しても構わない。
【０２６３】
カセットに収納された複数の基板はカセットごとに次の工程に搬送される。
【０２６４】
（４）２次膜成膜工程
次ぎに、流通カセット５内に収納されたハーフトーン膜付き基板を、インライン型スパッタリング装置の保持具に載置する。このとき、ノッチマーク１が形成された側の基板表面を上方に向けて、膜マーク３が形成された側の面を下方に向けて保持具に載置する。
【０２６５】
クロム（Ｃｒ）のスパッタリングターゲットを使用し、アルゴンガス、又はアルゴンガスと酸素ガス及び／又は窒素ガスの混合ガス雰囲気において、反応性スパッタリング法により、１次膜であるＭｏＳｉＮハーフトーン膜上に２次膜であるＣｒを含む遮光膜（以降、Ｃｒ遮光膜と称す。）を成膜し形成する。
【０２６６】
基板主表面周縁部の所定領域にＣｒ遮光膜が形成されないようにするため、基板保持具には遮蔽手段が設けられている。このため、ＭｏＳｉＮハーフトーン膜上にＣｒ遮光膜が形成されない所定領域が形成され、膜マーク６が付与される。この膜マーク６の形状により膜種が判別できる。本実施形態ではＣｒ遮光膜用に付与された膜マークを利用する。
【０２６７】
また、Ｃｒ遮光膜に形成された膜マーク６は、ガラス基板に形成されたノッチマーク１やハーフトーン膜に形成された膜マーク３と同様に、基板の方向性を特定するための基準マークや、後述する欠陥検査工程で取得する膜情報における基準点として利用することができる。
【０２６８】
本実施形態では、ＭｏＳｉＮハーフトーン膜はCr遮光膜によって覆われてしまう。従って、基板の膜が形成される側の面からは膜マーク３は見ることが困難である。しかし、ハーフトーン膜に付与された膜マーク３は、基板の反対側の主表面からガラス基板を透して確認することができる。膜マーク３によって基板の方向性を特定しようとする場合には、基板の膜が形成されていない側から利用することができる。
【０２６９】
インライン型スパッタリング装置によりＭｏＳｉＮハーフトーン膜上に形成されたＣｒ遮光膜付き基板を、流通カセット５とは別の流通カセット７に収納する。流通カセット７には膜マーク６を基準に複数枚のＣｒ遮光膜付基基板が基板の方向を揃えて収納される。
【０２７０】
具体的には、流通カセット７の所定位置に対して、基板に形成されている膜マーク６が所定の関係に配置されるように収納される。
【０２７１】
本実施形態においては、流通カセット７に複数枚のＣｒ遮光膜付き基板の膜マーク６が後側の特定の位置（図１５において流通カセットに対して上方）にくるように収納されている。
【０２７２】
即ち、流通カセット７に付与される前面を基準とし、膜マーク６が形成された側の面がカセット前面とは反対側に向くように、ノッチマーク１が形成された側の面がカセット前面側に向くように複数の基板が配列される。カセット前面からみて、収納された複数枚の基板の膜マーク６が同一の位置関係（図１５において流通カセットに対して上方）になるように揃えられて収納されている。
【０２７３】
また、２次膜成膜終了の情報が管理番号毎にホストコンピュータに保存される。流通カセット７に添付のＩＤタグ７’に、上述のＩＤタグ５’に付与されている管理番号の情報が転送される。尚、上述の通り、ＩＤタグ７’に転送される管理番号は、ＩＤタグ５’に付与されている管理番号と同じであっても、新たな管理番号を付与しても構わない。
【０２７４】
基板上に１次膜、２次膜が積層された膜付き基板はカセット７に収納されて次工程に搬送される。
【０２７５】
（５）２次膜検査工程
この工程は、１次膜検査工程と同様の工程である。この工程は、２次膜の薄膜情報を取得する工程と、取得された膜情報を情報蓄積媒体に記録し保存する薄膜情報記録工程を含む。
【０２７６】
流通カセット７に収納されたＣｒ遮光膜付き基板を、２次膜（Ｃｒ遮光膜）の欠陥を検査する検査装置の基板載置ステージにセットする。このとき、ノッチマーク１が形成された面を下方に向けて、膜マーク６が形成された面を上方に向けて載置するとともに、ノッチマーク１を載置ステージに対して所定位置になるように基板を配置する。
【０２７７】
前記した１次膜の欠陥検査と同様に２次膜の欠陥検査を行い２次膜の膜情報を取得する。２次膜の欠陥検査装置を利用して膜の表面を走査し、この２次膜に関する膜情報を取得する。
【０２７８】
膜情報は、膜の状態に係る状態情報であって、膜の表面を走査して取得される膜の表面情報である。膜情報としては、表面形態情報や光学特性情報が挙げられる。取得された膜情報は平面に投影して二次元の面の情報として把握可能に構成される。
【０２７９】
マスク製造工程でパターン不良を引き起こす可能性のある欠陥の位置情報（例えば平面座標系におけるＸ座標、Ｙ座標）、欠陥の大きさ、欠陥の種類、などが欠陥検査装置によって判定され、その結果は管理番号毎にホストコンピュータに保存される。
【０２８０】
欠陥の大きさは、欠陥のサイズを個別に保存することができるが、例えば、所定のサイズランク別に表示してもよい。
【０２８１】
欠陥の種類は、凸部形状、凹部形状、その他の欠陥などと分類して保存することができる。凸部形状としては例えばピンホール状の欠陥があり、凹部形状としては例えばパーティクル状の欠陥が挙げられる。
【０２８２】
パーティクル状の欠陥とは、膜上又は膜中に異物（例えば粒状質等）が付着した状態の欠陥を指し、ピンホール状の欠陥とは、膜中に付着した異物が抜け落ちた跡、膜抜けの状態の欠陥を指す。膜抜けは膜の下地の状態が確認できる完全に膜がない状態や、膜の下地の状態が確認できない局所的に膜厚が薄くなった状態がある。
【０２８３】
位置情報は、ノッチマーク１を基準に、ガラス基板のサイズからガラス基板主表面の中心を算出してこれを基準点（Ｏ）とし、該基準点を通りガラス基板の各辺に平行な線を仮想のＸ軸、Ｙ軸としたＸＹ座標系における各欠陥のＸ座標、Ｙ座標で保存される。
【０２８４】
上述の欠陥の位置情報は、１次膜検査工程と同様に、まず、ノッチマーク１の位置を基準とし、ガラス基板のサイズ、例えば辺の長さに基づいて、ガラス基板主表面の中心を算出してこれを基準点（Ｏ）と定め、次に、この基準点（Ｏ）を原点として、直交するガラス基板の辺に沿う平面直交座標系（ＸＹ座標系）を定め、最後に、この二次元のＸＹ座標系において、各欠陥のＸ座標位置、Ｙ座標位置を算出し、このＸ座標、Ｙ座標の値で保存される。ここで取得した膜情報を２次膜膜情報と呼ぶ。
【０２８５】
欠陥検査が完了したＣｒ遮光膜付き基板を流通カセット７とは別の流通カセット８に収納する。流通カセット８には、膜マーク６を基準に複数枚のＣｒ遮光膜付き基板が方向を揃えて収納される。
【０２８６】
具体的には、流通カセット８の所定位置に対して、基板に形成されている膜マーク６が所定の関係に配置されるように収納される。
【０２８７】
本実施形態においては、流通カセット８に複数枚のＣｒ遮光膜付き基板の膜マーク６が後側の特定の位置（図１５において流通カセットに対して上方）にくるように収納されている。
【０２８８】
即ち、流通カセット８に付与されるカセット前面を基準とし、膜マーク６が形成された面がカセット前面の反対側に向かって、即ち、ノッチマーク１が形成された面がカセット前面に向かって配列される。また、カセット前面からみて、収納された複数枚の基板の膜マーク６が同一の位置関係（図１５において流通カセットに対して上方）になるように揃えて収納されている。
【０２８９】
検査前において、複数の基板の収納方向が所定に揃うように収納方法が管理されているので、検査工程で取得された面情報の方向性、座標系と基準点は検査に供された複数の基板間で統一され情報が取得される。
【０２９０】
検査後において、複数の基板の収納方向が所定に揃うように収納方法が管理されているので、次の工程においても、処理に供される基板の方向性（向き）は維持される。
【０２９１】
流通カセット８に添付のＩＤタグ８’に、上述のＩＤタグ７’に付与されている管理番号の情報が転送される。尚、上述の通り、ＩＤタグ８’に転送される管理番号は、ＩＤタグ７’に付与されている管理番号と同じであっても、新たな管理番号を付与しても構わない。
【０２９２】
カセットに収納された複数の基板はカセットごとに次の工程に搬送される。
【０２９３】
（６）レジスト成膜工程
流通カセット８内に収納されたＣｒ遮光膜付き基板を回転塗布装置に搬入して、２次膜上にレジスト膜を回転塗布法により塗布し、ベーク、冷却を経てレジスト膜を形成する。
【０２９４】
以上のようにして、基板、１次膜、２次膜、レジスト膜が積層されたマスクブランクが作製される。なおレジスト膜は所望により形成されない場合もある。
【０２９５】
作製されたマスクブランクを、流通カセット８とは別の流通カセット９に収納する。流通カセット９には膜マーク６を基準に複数枚のマスクブランクがマスクブランクの方向を揃えて収納される。
【０２９６】
具体的には、流通カセット９の所定位置に対して、基板に形成されている膜マーク６が所定の関係に配置されるように収納される。
【０２９７】
本実施形態においては、流通カセット９に複数枚のマスクブランクの膜マーク６が後側の特定の位置（図１５において流通カセットに対して上方）にくるように収納されている。
【０２９８】
即ち、流通カセット９のカセット前面を基準とし、膜マーク６が形成された面をカセット前面の反対側に向けて、即ち、ノッチマーク１が形成された面をカセット前面に向けて配列するとともに、カセット前面からみて、収納された複数枚の基板の膜マーク６が同一の位置関係（図１５において流通カセットに対して上方）になるように揃えて収納されている。
【０２９９】
また、レジスト膜成膜終了の情報が基板番号毎にホストコンピュータに保存される。流通ケース９に添付のＩＤタグ９’に、上述のＩＤタグ８’に付与されている管理番号の情報が転送される。尚、上述の通り、ＩＤタグ９’に転送される管理番号は、ＩＤタグ８’に付与されている管理番号と同じであっても、新たな管理番号を付与しても構わない。
【０３００】
（７）レジスト膜検査工程
この工程は、１次膜検査工程、２次膜検査工程と同様の工程である。この工程は、レジスト膜の薄膜情報を取得する工程と、取得された膜情報を情報蓄積媒体に記録し保存する薄膜情報記録工程を含む。
【０３０１】
流通カセット９に収納されたレジスト膜付き基板（マスクブランク）を、レジスト膜の欠陥を検査する欠陥検査装置の基板を載置するステージにセットする。
【０３０２】
このとき、該ステージにノッチマーク１が形成された面を下側に向けて、膜マーク６が形成された面を上方に向けて載置する。また、ノッチマーク１がステージに対して所定位置に配置されるようにセットする。
【０３０３】
レジスト膜の欠陥検査を行ってレジスト膜の膜情報を取得する。レジスト膜の欠陥検査装置を利用して膜の表面を走査し、このレジスト膜に関する膜情報を取得する。
【０３０４】
膜情報は、膜の状態に係る状態情報であって、膜の表面を走査して取得される膜の表面情報である。膜情報としては、表面形態情報や光学特性情報が挙げられる。取得された膜情報は平面に投影して二次元の面の情報として把握可能に構成される。
【０３０５】
マスク製造工程でパターン不良を引き起こす可能性のある欠陥の位置情報（例えば平面座標系におけるＸ座標、Ｙ座標）、欠陥の大きさ、欠陥の種類、などが欠陥検査装置によって判定され、その結果は管理番号毎にホストコンピュータに保存される。
【０３０６】
位置情報は、ノッチマーク１を基準に、ガラス基板のサイズからガラス基板主表面の中心を算出してこれを基準点（Ｏ）とし、該基準点を通りガラス基板の各辺に平行な線を仮想のＸ軸、Ｙ軸としたＸＹ座標系における各欠陥のＸ座標、Ｙ座標で保存される。
【０３０７】
尚、上述の欠陥の位置情報は、上述の１次膜検査工程、２次膜検査工程と同様に、まず、ノッチマーク１の位置を基準とし、ガラス基板のサイズ（辺の長さ）に基づいて、ガラス基板主表面の中心を算出してこれを基準点（Ｏ）と定め、次に、この基準点（Ｏ）を原点として、直交するガラス基板の辺に沿う直交座標系（ＸＹ座標系）を定め、最後に、このＸＹ座標系において、各欠陥のＸ座標位置、Ｙ座標位置を算出し、このＸ座標、Ｙ座標の値で保存される。ここで取得した膜情報をレジスト膜膜情報と呼ぶ。
【０３０８】
欠陥検査が完了したマスクブランクを流通カセット９とは別の流通カセット１０に収納する。流通カセット１０には、膜マーク６を基準に複数枚のマスクブランクがマスクブランクの方向を揃えて収納される。
【０３０９】
具体的には、流通カセット１０の所定位置に対して、基板に形成されている膜マーク６が所定の関係に配置されるように収納される。
【０３１０】
本実施形態においては、流通カセット１０に複数枚のマスクブランクの膜マーク６が後側の特定の位置（図１５において流通カセットに対して上方）にくるように収納されている。即ち、流通カセット１０のカセット前面を基準とし、膜マーク６が形成された面をカセット前面に対して反対方向に向けて、つまり、ノッチマーク１が形成された面をカセット前面に向けて複数のマスクブランクを配列し、カセット前面からみて、収納された複数枚の基板の膜マーク６が同一の位置関係（図１５において流通カセットに対して上方）になるように揃えられて収納されている。
【０３１１】
検査前において、複数のマスクブランクの収納方向が所定に揃うように収納方法が管理されているので、検査工程で取得された面情報の方向性、座標系と基準点は検査に供された複数のマスクブランク間で統一され情報が取得される。
【０３１２】
検査後において、複数のマスクブランクの収納方向が所定に揃うように収納方法が管理されているので、次の工程においても、マスクブランクの方向性（向き）は維持される。
【０３１３】
流通ケース１０に添付のＩＤタグ１０’に、上述のＩＤタグ９’に付与されている管理番号の情報が転送される。尚、上述の通り、ＩＤタグ１０’に転送される管理番号は、ＩＤタグ９’に付与されている管理番号と同じであっても、新たな管理番号を付与しても構わない。
【０３１４】
（８）膜情報の照合工程
ガラス基板上に順次成膜された１次膜、２次膜、レジスト膜の各薄膜について、それぞれ取得された膜情報を互いに照合する。また基板情報を取得した場合は、基板情報と膜情報とを照合することができる。
【０３１５】
照合されるマスクブランクに係る膜情報は、管理番号により特定することができる。
【０３１６】
本発明では、膜情報は面情報として取得されている。この面情報における位置の基準点は、基板或いはマスクブランクに設けられて基準マークとなされるノッチマークや膜マークと所定の関係を持って取得されている。また。膜情報、面情報の取得に際しては、基板又はマスクブランクが全て同じ向きに揃えられて情報が取得されている。
【０３１７】
１次膜膜情報、２次膜膜情報、レジスト膜膜情報を互いに照合することにより、それぞれの膜情報が一致した向きの面情報になっているのか検証することができる。また、検証結果に基づいて、それぞれの膜情報の向きを一致させることができる。
【０３１８】
具体的には、成膜工程の前後で基板上の位置が変化しない、即ち、同一位置にある形状を基準として各膜の膜情報を照合できる。
【０３１９】
例えば、最下層の膜である１次膜に欠陥等の特定の形状が存在する場合、１次膜より上層の膜である２次膜、レジスト膜にも１次膜の形状が反映されるので、１次膜膜情報を基準として他の膜情報の方向性、即ち位置情報における基準点、ＸＹ座標系が相互に一致しているかどうかを照合して確認することができる。
【０３２０】
例えば、最下層の膜である１次膜に欠陥がある場合、１次膜より上層の膜である2次膜、レジスト膜にも欠陥が生じるので、1次膜情報に含まれる欠陥を基準として他の膜情報の方向の正否を判定できる。
【０３２１】
図１７は、１次膜膜情報、２次膜膜情報、レジスト膜膜情報を照合した例である。図１７では、１次膜の膜情報、２次膜の膜情報、レジスト膜の膜情報に共通して検出される欠陥を基準にした。詳しくは、基板上の位置座標が変化せず、同一位置にある欠陥（□、△、×が重なっている箇所）を基準に、２次膜、レジスト膜の膜情報を照合した例である。
【０３２２】
このように膜情報の照合を行うことで、膜情報同士の方向性（向き）、即ち、位置情報における基準点、ＸＹ座標系を一致させることができる。
【０３２３】
ところで、例えば、ある流通カセットから別の流通カセットに基板を移す際に、基板の方向性を誤って流通カセットに収めてしまう恐れが考えられる。また、流通カセットから各検査装置、各検査装置から流通カセットに基板を移す際に、基板の方向性を誤って出し入れする恐れが考えられる。こうした場合、膜情報とマスクブランクの方向性とが不一致となってしまう恐れがある。
【０３２４】
こうした恐れを避けるためには、流通カセットや収納ケースに基板やマスクブランクを出し入れする際、各膜の欠陥検査装置に基板をセットする際、その作業者は、ノッチマーク１、膜マーク３及び６を基板の向きを示す基準マークとして、予め定められた方向性（向き）に従って基板やマスクブランクを出し入れする。
【０３２５】
具体的には、前述の通り、各工程間で基板やマスクブランクを収納する流通カセットに対しては、流通カセットの前側に向かって複数枚の基板やマスクブランクのノッチマークが配列され、また、カセット前面からみて、所定の位置にノッチマークが揃うように基板やマスクブランクを収納すればよい。
【０３２６】
なお、便宜的にカセットの前方表示が付与されている場合を記述しているが、例えばケースの向きが必ず同じ向きになるように配列されるのであれば、必ずしも視認可能な前方表示は必要ではない。また、ホストコンピュータ等により、カセットの向きが把握され管理されているのであれば、必ずしも視認可能な前方表示は必要ではない。
【０３２７】
膜マーク３が流通カセット内の下方位置に、膜マーク６が流通ケース内の上方位置に配置するように基板やマスクブランクが収納される。
【０３２８】
また、各膜の欠陥検査装置に基板やマスクブランクをセットする際、ノッチマークや膜マークが所定の方向に向くようにステージに載置し、さらに、ステージに対してノッチマークや膜マークが所定位置にくるように載置し、所定の検査をすればよい。
【０３２９】
このようにすれば、膜情報間で方向性（向き）が不一致となることを予め防止できる。また、膜情報の方向性（向き）と、収納されたマスクブランクスの方向性（向き）が不一致となることを予め防止できる。
【０３３０】
マスクブランクの製造過程における基板、マスクブランクの方向性（向き）を一定に保つことにより、マスクブランクの基準点、ＸＹ座標系を一致させ、さらに、このマスクブランクの基準点、ＸＹ座標系と、各膜の膜情報の基準点、ＸＹ座標系を一致させることができる。
【０３３１】
以上のように、膜情報、基板情報に含まれる位置情報の面座標や位置の基準点が相互の関連付け可能にマスクブランク情報が構成されているので、このマスクブランク情報はマスクブランク体内の内部立体情報として認識可能である。
【０３３２】
さらに、上記照合工程を経ているので、信頼性の高いマスクブランク体内の立体情報として保証することができる。
【０３３３】
（９）マスクブランク梱包工程
マスクブランクを収納ケース２０に収納して梱包し、マスクメーカーに配送する。
【０３３４】
ここで収納ケース２０について図１８Ａ及び１８Ｂを参照して説明する。収納ケース２０のそれぞれには固有のケース番号２１が付与されて添付されている。
【０３３５】
このケース番号２１は、後述するスロット番号と共に、上述のマスクブランクの製造過程で、各基板と各工程の情報（例えば、膜情報）とを対応させるために付けられていた管理番号と関連付けて付与されている。また、ケース番号２１は、ホストコンピュータに保存されている各膜の膜情報或いは基板情報と対応付けがされている。
【０３３６】
ケース番号２１は、収納ケース２０に添付されるが、ケース番号２１の添付は、印刷等の視認可能な状態に限らず、例えば、バーコード、磁気記録媒体、ＩＣチップ、ＩＣタグなどの、読み取り可能な媒体として添付しても良い。
【０３３７】
収納ケース２０は蓋２２と外箱２３とからなり、外箱２３の中には更に内箱２４が収納されるようになっている。内箱２４は、上方から下方に向けて複数の仕切であるスロット２５が形成され、スロット２５間に溝が所定間隔で複数形成され、これらの溝にマスクブランクが収納できるようになっている。
【０３３８】
スロット２５はマスクブランク間の仕切りであるが、以下説明の便宜上、隣接する２つのスロット２５間の基板を格納する溝部分をスロットと呼ぶこともある。この意味で図１８Ｂには５枚の基板を格納するための５つの溝、即ち５つのスロットがある。
【０３３９】
各溝に対応してスロット番号が付与され、それぞれをスロットＮｏ．１、スロットＮｏ．２、…スロットＮｏ．５と呼ぶ。外箱２３の外面のうち、スロットＮｏ．１に近い面に収納ケース２０の向きを示す前面表示２６が記載されている。
【０３４０】
マスクブランクは、各溝（スロットＮｏ．１、スロットＮｏ．２、…スロットＮｏ．５）に、マスクブランクに形成されているノッチマーク１が前面表示２６側の特定の位置に配置され、さらに膜マーク３が収納ケースに対して下方に、膜マーク６が収納ケースに対して上方に配置するように収納され、梱包される。
【０３４１】
上述のケース番号及びスロット番号を組み合わせて収納ケース２０に格納されているマスクブランクを個体識別することができる。そして、このケース番号及びスロット番号により、ホストコンピュータに保存されている各膜の膜情報又は基板情報と対応させ、マスクブランク情報が特定される。
【０３４２】
上述のように、梱包工程においても各溝に、マスクブランクに形成されているノッチマーク１が前面表示２６側の特定の位置に配置され、膜マーク３が収納ケースに対して下方に、膜マーク６が収納ケースに対して上方に配置するように収納することによって、各マスクブランクの基準点、ＸＹ座標系と、各膜の膜情報又は基板情報の基準点、ＸＹ座標系を一致させることができる。
【０３４３】
よって、マスクブランク個体と該マスクブランク個体に係るマスクブランク情報とを正確に対応させることができ、マスク作製時のパターン不良を防止することができる。
【０３４４】
また、マスク作製者はマスクブランクの表面情報のみならず、マスクブランクの内部状態を把握することができる。
【０３４５】
次ぎに、ブランク梱包工程を終えた収納ケースに格納されたマスクブランクと、このマスクブランクの膜情報をマスクメーカーに提供するマスクブランク提供方法、及びマスク作製支援システムについて図１９を参照して説明する。
【０３４６】
上述のように、管理番号毎にホストコンピュータに保存されている１次膜膜情報、２次膜膜情報、レジスト膜膜情報を含むマスクブランクの個体情報（マスクブランク情報）を、ケース番号及びスロット番号とにより特定されるマスクブランク個体と対応させて、収納ケースに格納された複数枚のマスクブランクとともに、マスクメーカーに提供する。
【０３４７】
マスクブランク情報の提供方法は、（ａ）収納ケース２０に情報を印刷した印刷物を添付する、（ｂ）情報データを記録したフレキシブルディスクやＣＤ−ＲＯＭ等の記録媒体を収納ケース２０に添付する、（ｃ）データ通信回線を介して情報データを配送先のマスクメーカーのコンピュータ等に送信する等がある。
【０３４８】
（ａ）及び（ｂ）の場合は情報そのものをスロット番号との対応関係と共に収納ケース２０に添付する。（ｃ）の場合はマスクメーカーからケース番号及びスロット番号を送信し、該当する情報を受信することにより提供を受ける。
【０３４９】
尚、情報は、図１７のように、各欠陥がどのように配置されているか視覚的にわかるようにマップ化したものでも良いし、各欠陥の種類、欠陥のサイズ、欠陥の位置情報（Ｘ座標、Ｙ座標）のデータシートであっても良い。情報は、各膜の膜情報毎にマスクメーカーに提供するのが一般的であるが、図１７のように各膜の膜情報が一つの欠陥マップとしてマスクメーカーに提供しても良い。
【０３５０】
上述の通り、面情報として取得された基板情報又は膜情報における位置情報、例えば欠陥の位置情報は、この実施形態ではノッチマーク１を基準に、基板主表面の中心を算出してこれを基準点（Ｏ）とし、該基準点を通るＸＹ座標系における各欠陥のＸ座標、Ｙ座標で表されており、また、収納ケースに格納されているマスクブランクも、ノッチマーク１が収納ケースに対して特定の位置にくるように揃えられて収納されているので、収納ケースに格納されているマスクブランクにおける基準点、座標系と、位置情報における基準点、座標系とが対応関係を把握可能に、或いは一致した状態でマスクメーカーに提供される。
【０３５１】
以上のように、一つ一つのマスクブランク個体に対応するマスクブランク情報がマスクメーカーに提供される。提供されるマスクブランク個体は、その位置の基準点や座標系とブランク膜情報の位置の基準点や座標系とが対応する関係でマスクメーカーに提供される。
【０３５２】
マスクメーカーは、ケース番号やスロット番号、管理番号や管理記号などのマスクブランクに間接的に付与されたマスクブランクスを特定するための手段を利用して、提供されたマスクブランクを個体識別し、前記所定の関係にある基準点や座標系を媒介にして、提供されたマスクブランクとマスクブランク情報とを照合できる。また、前記所定の関係にある基準点や座標系を媒介にして、一つ一つのマスクブランクの表面形態等の状態を的確に把握することができる。
【０３５３】
従って、所定の転写パターン（マスクパターン）を形成すべきマスクブランク上の領域を所望に応じて適切に特定することができる。従って、形成すべきパターンのパターン形成の不良を抑制することができる。
【０３５４】
マスクメーカーは提供されたマスクブランク上で、転写パターンを含むマスクパターンを形成する領域を特定し、マスクブランク上に形成された薄膜にパターニングを行い、転写マスクを作製できる。
【０３５５】
次ぎに、上述（ｃ）のデータ通信回線を介して情報を提供する提供方法を具体例として、本発明のマスク作製支援システム１１０について図１９を参照して説明する。
【０３５６】
図１９を参照すると、マスク作製支援システム１１０は、マスクブランク工場１１１と、マスクブランク工場１１１にて製造されたマスクブランクを元にマスクを製造するマスク工場１１２と、両工場を接続するデータ通信回線１１３からなる。更に、マスクブランク工場１１１は、ホストコンピュータ５１及びサーバ１１４からなる。
【０３５７】
マスクブランク工場１１１にて製造されたマスクブランクは前述の収納ケース１０に収めてマスク工場１１２に配送される。ホストコンピュータ５１は前述のマスクブランク生産ライン制御システム５０のホストコンピュータ５１である。
【０３５８】
サーバ１１４は、ホストコンピュータ５１から必要な情報（膜情報など）を受け取り、マスク工場１１２に配送したマスクブランクを特定するケース番号とスロット番号とブランク膜情報とを対応させて保存され、インターネット１１３を介してマスク工場１１２遠隔地のコンピュータに所定の情報を提供する。
【０３５９】
尚、ホストコンピュータ５１に、マスク工場１１２に配送したマスクブランクを特定するケース番号とスロット番号と膜情報などのマスクブランク情報とを対応させて保存してもよい。
【０３６０】
次ぎに、マスク工場１１２がマスク作製支援システム１１０にて受け取った情報を利用して、マスクブランクのレジスト膜にパターンを描画・現像処理する工程を有するマスク製造工程についての一例を図２０を参照して説明する。
【０３６１】
収納ケース１０を受け取ったマスク工場１１２の作業者は、視認或いは機械読み取りによりケース番号を収納ケース１０から取得した後、コンピュータ等のデータ通信装置を用いて、ケース番号をインターネット等のデータ通信回線１１３を介してサーバ１１４に送信する。これに応じて、サーバ１１４は、そのケース番号の収納ケースの各スロットに収めたマスクブランクの膜情報を、ケース番号、スロット番号と対応させて返信する（ステップＳ１２１）。
【０３６２】
データ通信の形態としては様々な形態が考えられる。例えばケース番号やスロット番号等のマスクブランクを個体識別するための情報と、膜情報等のマスクブランク情報の伝送の双方を電子メールを介して行っても良い。
【０３６３】
或いは、ケース番号と、そのケース番号の収納ケースの各溝に収めたマスクブランクの情報との対応関係を表すデータベースをサーバ１１４に設置し、マスク工場１１２側から入力されたケース番号に応じた膜情報などのマスクブランク情報を返信することとしてもよい。
【０３６４】
この段階では、マスクブランクは図２１Ａのような断面を有し、ガラス基板上に、１次膜（ハーフトーン膜）、２次膜（遮光膜）、レジスト膜の複数層の膜が積層されて成膜された状態になっている。
【０３６５】
膜情報を受け取ったマスク工場１１２は、取得された膜情報と、製造しようとしているマスクのマスクパターンデータとを照合する（ステップＳ１２２）。
【０３６６】
上述したように、このとき、マスクブランクの基準点、ＸＹ座標系と、膜情報における位置情報の基準点、ＸＹ座標系とが対応しており、膜情報とマスクパターンデータとを照合することにより、マスクブランクに対するマスクパターンの配置を決定することができる。
【０３６７】
今、マスク工場１１２は、マスクブランク工場１１１からマスクブランク情報１４１を受け取り、マスクパターン１４２を描画しようとしているものとする。マスクブランク情報１４１は１次膜膜情報、２次膜膜情報、レジスト膜膜情報を含んでいる。
【０３６８】
一般に、図２２に示すようにマスクに形成されるマスクパターンは、パターンの密度が密な密パターン領域１４３と、パターンの密度が疎な疎パターン領域１４４とを有する。
【０３６９】
マスクパターンとして密パターンが形成される領域１４３と疎パターンが形成される領域１４４とを有するマスクとしては、システムＬＳＩ製造用マスクなどが挙げられる。
【０３７０】
特に、疎パターン形成領域として、電気特性を試験するために形成されたモニターチップ形成領域を有するマスクパターンの場合に本発明のマスク作製支援方法は特に有効である。
【０３７１】
一方、一般にマスク製造工程においてパターン不良となる可能性があるマスクブランクの欠陥、具体的にはピンホールやパーティクルは、均一に分布しているのではなく、偏在していることが多い。
【０３７２】
受け取ったマスクブランク情報である膜情報１４１を参照し、パターン不良となる可能性があるピンホールやパーティクルが、マスクパターンデータにおける密パターン形成領域１４３以外の領域に配置されるように、パターン描画位置を調整して決定する（ステップＳ１２３）。
【０３７３】
パターン描画位置の調整方法としては、マスクブランクの向きに対するマスクパターン１４２の向きを変更することが考えられる。また、密パターン形成領域１４３と疎パターン形成領域１４４の相対的な位置関係が変更可能であれば、これを変更することにより調整してもよい。
【０３７４】
最後に、決定したパターン描画位置に従って、レジスト膜にパターンを描画し、現像することで、ガラス基板上にマスクパターン（転写パターン）が形成されたマスクを得る（ステップＳ１２４）。
【０３７５】
以上のようなステップＳ１２１〜ステップＳ１２４を経て作製されたマスクは、マスクブランクにおけるパターン不良となる可能性があるピンホールやパーティクルが、疎パターン形成領域に配置されることになるので、マスクパターンのパターン形成の不良を抑制することができる。
【０３７６】
次に、上述の実施の形態において、ホストコンピュータ５１が、各装置から各工程の情報（たとえば、それぞれの検査工程で生成された基板情報、膜情報や、製造条件、レシピなどの情報）を収集するマスクブランク生産ライン制御システム５０の一例について図２３を参照して詳細に説明する。
【０３７７】
図２３を参照すると、マスクブランク生産コントロールシステム５０は、ホストコンピュータ５１、カセット番号・スロット番号付与装置５２（以下付与装置５２と記す）、１次膜成膜装置５３、１次膜欠陥検査装置５４、２次膜成膜装置５５、２次膜欠陥検査装置５６、レジスト膜成膜装置５７及びレジスト膜欠陥検査装置５８からなる。
【０３７８】
流通カセットは複数枚の基板を収納できるように、上方から下方に向けて複数の溝が所定間隔で形成されていると共にＩＤタグを備える。ＩＤタグには、流通カセットに収納される各基板を管理する情報が付与される。具体的には、流通カセットのカセット番号が記録される。
【０３７９】
図２４を参照すると、生産ラインに基板を投入するには、基板を流通カセットの各溝に収め、付与装置５２にて、カセット番号、スロット番号、工程フローを入力部５２１からＩＤタグに入力する。
【０３８０】
工程フローとは、工程順位、工程にて用いられる装置名、各装置で行われる処理の処理条件に対応したレシピ番号からなり、生産しようとするマスクブランクに応じて流通カセット単位で与えられる。尚、生産ライン上において、基板の特定は、工程内での位置、カセット番号、スロット番号にて行うことができる。
【０３８１】
付与装置５２は流通カセットのＩＤタグにカセット番号を書き込むと共に、データ送受信部５２２によってホストコンピュータ５１にカセット番号、スロット番号及び工程フローを送信する。図２５を参照すると、ホストコンピュータ５１は、付与装置５２から送信されたデータをデータ送受信部５１１にて受信後、カセット番号、スロット番号及び工程フローを互いに関連付けて工程フロー蓄積部５１２に蓄積する。
【０３８２】
付与装置５２にてカセット番号の入力を終えた流通カセット（以後、この流通カセットをカセットＡと記す）が、１次膜成膜装置５３のローダーポート５３１にセットされると、カセットＡのＩＤタグからカセット番号を読み取ってデータ送受信部５３２によりホストコンピュータ５１に通知する。
【０３８３】
図２６を参照すると、これに応答して、ホストコンピュータ５１は、カセットＡのカセット番号、スロット番号、スパッタ成膜のレシピ番号を１次膜成膜装置５３に送信する。尚、レシピ番号についてはスパッタ成膜の動作開始直前であってもよい。
【０３８４】
これを受信した１次成膜装置５３では、レシピ番号−スパッタ条件照合部５３３にてレシピ番号に対応したスパッタ条件を照合し、スパッタ条件蓄積部５３４に照合したスパッタ条件を蓄積する。このスパッタ条件に従って、スパッタ条件制御部５３５はスパッタ装置５３６を制御し、スパッタ成膜を行う。
【０３８５】
スパッタ装置５３６は、カセットＡから基板を抜き取り、スパッタ成膜を開始する。スパッタ成膜の過程で、スパッタ実績を収集し、スロット番号と関連付ける。
【０３８６】
スパッタ成膜が終了した基板はアンローダーポート５３８に予め準備された別の流通カセット（以後カセットＢと記す）のスロットに入る。このとき、スロット番号、スパッタ実績、アンローダースロット番号収集部５３７（以後収集部５３７と記す）は、カセットＡでのスロット番号、関連付けられたスパッタ実績、カセットＢでのスロット番号を収集し、データ送受信部５３２を用いてホストコンピュータ５１に送信する。また、カセットＢのスロットが全て１次膜成膜後の基板で埋まると、収集部５３７は、カセットＢのカセット番号と共にその旨をホストコンピュータ５１に通知する。
【０３８７】
これを受けて、ホストコンピュータ５１は、カセット番号Ｂ、カセット番号Ａ、工程フローの手順で次の工程を特定し、不図示のカセット搬送部に対して搬送先を指示する。また、ホストコンピュータ５１は、カセットＢのカセット番号、及び、１次膜成膜装置５３に送信したスパッタのレシピ番号を、１次膜欠陥検査装置５４に送信する。
【０３８８】
図２７を参照すると、１次膜欠陥検査装置５４は、データ送受信部５４１にてこれらを受信すると、カセット番号−レシピ番号照合部５４２にこれらを渡す。
【０３８９】
ローダーポート５４３に流通カセットが搬入されると、カセット番号−レシピ番号照合部５４２は、流通カセットのＩＤタグから読み取ったカセット番号に対応するレシピ番号を照合する。ここでカセット番号がカセットＢのものであれば、カセットＢに収められた基板に対してスパッタ成膜した際のレシピ番号が得られる。
【０３９０】
欠陥検査条件蓄積部５４４には、レシピ番号と、レシピ番号が示すレシピ条件下で成膜された膜に対して行うべき検査条件との対応関係が予め蓄積されており、カセット番号−レシピ番号照合部５４２からレシピ番号を受け取ると、行うべき検査条件を出力する。
【０３９１】
この検査条件に従って、欠陥検査条件制御部５４５は、欠陥検査装置５４６を制御して検査を行う。欠陥検査装置５４６は検査結果を欠陥検査情報として出力する。検査の済んだ基板は、アンローダーポート５４７に予めセットした別の流通カセット（以下カセットＣと記す）のスロットに収められる。
【０３９２】
アンローダーカセット番号、アンローダースロット番号付与部５４８は、カセットＣにカセット番号を付与すると共に、カセットＣのカセット番号、カセットＣのスロット番号、スロットに収められた基板の欠陥検査情報とを関連付けて、データ送受信部５４１を用いてホストコンピュータ５１に送信する。
【０３９３】
ホストコンピュータ５１は、送信された情報を、１次膜成膜装置５３にて得られたスパッタ実績等と関連付けて情報蓄積部５１３に蓄積する。
【０３９４】
２次膜成膜装置５５、２次膜検査装置５６、については、それぞれ１次膜成膜装置５３及び１次膜検査装置５４と比較すると、成膜する膜の種類の違いに起因する相違のみで、構成要素及び動作に大きな違いがないので説明を省略する。図２８に示すレジスト膜成膜装置５７及びレジスト膜欠陥検査装置５８についても同様である。
【０３９５】
このようにして、１次膜成膜装置５３、１次膜検査装置５４、２次膜成膜装置５５、２次膜検査装置５６、レジスト膜成膜装置５７及びレジスト膜欠陥検査装置５８から、収集した情報を元に、欠陥情報照合部５１４は、第１の実施の形態にて説明した１次膜膜情報、２次膜膜情報、レジスト膜膜情報を生成すると共に、これらを互いに照合して、図１７に示すようなマスクブランク情報を生成する。
【０３９６】
上述の実施の形態では、流通カセットや収納ケース、スパッタリング装置の基板の保持具、欠陥検査装置のステージに、基板やマスクブランクをセットする際、ノッチマーク１、膜マーク３、６を基準にある特定の方向性（向き）となるように管理したが、これに限らず、マスクブランク製造工程全てにおいてノッチマーク１のみで基板の方向性を特定することもでき、ノッチマーク１のみで基板の方向性を管理しても良い。
【０３９７】
また、ノッチマーク１や膜マーク３、６以外に、基板に付与する基準マークであっても良い。この場合における基準マークは、基板の方向性（向き）を特定できる形状とすることができる。
【０３９８】
また、基板上、或いはマスクブランクス上の基準マークの配置位置は、基板の中心に対して回転非対称の位置に設けたものとすることができる。
【０３９９】
また、上述の実施の形態では、膜情報を基板上に形成される複数の膜の膜情報としたが、取得する膜情報は単一の膜であってもよい。マスクブランク工場からマスクブランクが出荷されるに際して取得された情報であっても適用することができる。この場合であっても、膜情報の基準点とＸＹ座標系と、マスクブランクの基準点とＸＹ座標系との一致を保証する作用がある。また、膜情報の他に基板表面の情報を含んでも良い。
【０４００】
また、上述の実施の形態では、マスクブランクとしてガラス基板上に、ＭｏＳｉＮハーフトーン膜、Ｃｒ遮光膜、レジスト膜が形成されたハーフトーン型の位相シフトマスクブランクを例に挙げて本発明のマスク作製支援方法を説明したが、これに限らず、ガラス基板上に、Ｃｒ遮光膜、レジスト膜が形成された所謂、フォトマスクブランクや、ガラス基板上に多層反射膜、吸収体膜、レジスト膜が形成された反射型マスクブランクにおいても適用することができる。
【０４０１】
また、上述のマスクブランクにおいて、レジスト膜が形成されていないマスクブランクでも本発明を利用することができる。
【０４０２】
また、本発明においては、実施の形態に記載されているハーフトーン膜の膜材料、遮光膜の膜材料に限定されず、一般にマスクブランクに適用することができる他の膜材料であっても構わない。
【０４０３】
また、上述の実施の形態では、ＩＤタグを各流通ケース毎に別々に設けていたが、流通ケースは別であるが、ＩＤタグは次工程で使用する流通ケースに付け替えて使用しても構わない。
【０４０４】
以上、本発明を実施の形態に基づいて説明したが、本発明はこれらに限定されるものではなく、当業者の通常の知識の範囲内でその変更や改良が可能であることは勿論である。
【０４０５】
例えば、上述の実施の形態における膜情報は、基板の所定の方向を基準として膜上に予め定められたＸＹ座標系のＸ座標、Ｙ座標、欠陥の大きさ、欠陥の種類を含むものであったが、各座標における測定値の種類及びその数はこれに限定されるものではない。平面度等の形状に係る値、電気抵抗値等の電気特性値、屈折率等の光学特性値等を、膜情報として含むことが考えられる。これら測定値のうち、全てを膜情報に含むこととしてもよいし、一部でもよい。
【０４０６】
また、基板情報や各種膜情報において、座標系として直交座標系を用いたが、これに限定されるものではなく、他の極座標系でもよいし、二次元座標系の代わりに三次元座標系を用いることとしてもよい。例えば、膜情報にＸＹＺ座標系を用いることとすれば、膜表面のＸ及びＹで表される点で深さＺの位置にホールが存在するといった情報を盛り込むことが可能となり、より詳細なマスクブランク情報を取得することが可能となる。
【図１】
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【図２Ａ】
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【図２Ｂ】
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【図３Ａ】
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【図３Ｂ】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３Ａ】
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【図１３Ｂ】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６Ａ】
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【図１６Ｂ】
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【図１７】
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【図１８Ａ】
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【図１８Ｂ】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１Ａ】
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【図２１Ｂ】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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