(57)【要約】【課題】プリンタに対する侵食性が改善されたインクジェット記録インクを提供する。【解決手段】スルホキシド化合物と分子内に芳香族ヘテロ環を有する水溶性染料と水と水溶性有機溶媒とを有し、前記スルホキシド化合物の含有量が全質量中１質量％以上１０質量％未満であることを特徴とするインクジェット用インク。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
スルホキシド化合物と分子内に芳香族ヘテロ環を有する水溶性染料と水と水溶性有機溶媒とを有し、前記スルホキシド化合物の含有量が全質量中１質量％以上１０質量％未満であることを特徴とするインクジェット用インク。
【請求項２】
前記水溶性染料は、下記一般式（Ｙ）で示される染料であることを特徴とする請求項１に記載のインクジェット用インク。
一般式（Ｙ）：
【化１】
2010248486.tif 000025
（式中、Ｇはヘテロ環基を表し、Ｒ、Ｘ、Ｙ、Ｚ、及びＱは、水素原子又は置換基を表し、ｎは１〜３の整数を表す。ｎが１の時は、Ｒ、Ｘ、Ｙ、Ｚ、Ｑ、Ｇは１価の基を表す。ｎが２の時は、Ｒ、Ｘ、Ｙ、Ｚ、Ｑ、Ｇは１価または２価の置換基を表し、少なくとも１つは２価の置換基を表す。ｎが３の時は、Ｒ、Ｘ、Ｙ、Ｚ、Ｑ、Ｇは１価、２価または３価の置換基を表し、そのうちの２つが２価の置換基を表すかまたは１つが３価の置換基を表す。）
【請求項３】
前記スルホキシド化合物は、アミノ酸のスルホキシド体であることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載のインクジェット用インク。
【請求項４】
前記スルホキシド化合物は、メチオニンスルホキシドであることを特徴とする請求項３に記載のインクジェット用インク。
【請求項５】
インクが接する部材のすくなくとも一部に酸化シリコン層又はシランカップリング処理層を有するインクジェットプリンタを用いて、スルホキシド化合物と水溶性染料とを含有し、該スルホキシド化合物の含有量が全質量中１質量％以上１０質量％未満であるインクジェット用インクを吐出して、インクジェット記録媒体に画像を記録することを特徴とするインクジェット記録方法。
【請求項６】
前記シランカップリング処理層を形成するシランカップリング剤がフッ素原子を含有し、かつ、前記シランカップリング処理層は前記インクジェットプリンタのインクジェットヘッドのノズルプレート表面に形成されていることを特徴とする請求項５に記載のインクジェット記録方法。
【請求項７】
支持体上に無機顔料粒子を含有するインク受容層を有する前記インクジェット記録媒体上に画像を記録することを特徴とする請求項５又は請求項６に記載のインクジェット記録方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はインクジェット用インク及びインクジェット記録方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、コンピューターの普及に伴いインクジェットプリンターがオフィスだけでなく家庭で紙、フィルム、布等に印字・描画するために広く利用されている。
インクジェット記録方法には、ピエゾ素子により圧力を加えて液滴を吐出させる方式、熱によりインク中に気泡を発生させて液滴を吐出させる方式、超音波を用いた方式、あるいは静電力により液滴を吸引吐出させる方式がある。これらのインクジェット記録用インクとしては、水性インク、油性インク、あるいは固体（溶融型）インクが用いられる。
これらのインクのうち、水性インクは、製造・取り扱い性・臭気・安全性等の点を両立させ得る可能性の点では油性インクや固体（溶融型）インクよりは比較的優っているので、現用インクジェット記録用インクの主流となっている。
【０００３】
これらのインクジェット記録用インクに用いられる色素に対しては、溶剤（インク媒体）に対する溶解性が高いこと、高濃度記録が可能であること、色相が良好であること、光、熱、空気、水や薬品に対する堅牢性に優れていること、受像材料に対して定着性が良く滲みにくいこと、インクとしての保存性に優れていること、毒性がないこと、純度が高いこと、さらには、安価に入手できることが要求されている。
【０００４】
上記問題の耐オゾン性及び吐出安定性を解決する手段として、チオエーテル若しくはスルホキシド部位を有する化合物を１０〜８０質量％含み、かつ、特定のマゼンタ染料と水溶性有機溶剤とを有するインク組成物が開示されている（例えば、特許文献１参照。）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００７−２０４６３２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
近年、上記問題に応えるために様々なインクジェット記録用インクが検討される中、インクジェットプリンタの流路やヘッド部材を侵食、劣化する問題が生じて来ている。
本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであり、プリンタに対する侵食性が改善されたインクジェット記録インクを提供することを目的とする。
また、本発明はプリンタに対する侵食性が改善されたインクジェット記録インクを用いたインクジェット記録方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
＜１＞
スルホキシド化合物と分子内に芳香族ヘテロ環を有する水溶性染料と水と水溶性有機溶媒とを有し、前記スルホキシド化合物の含有量が全質量中１質量％以上１０質量％未満であることを特徴とするインクジェット用インク。
＜２＞
前記水溶性染料は、下記一般式（Ｙ）で示される染料であることを特徴とする上記＜１＞に記載のインクジェット用インク。
一般式（Ｙ）：
【０００８】
【化１】
2010248486.tif 000002
（式中、Ｇはヘテロ環基を表し、Ｒ、Ｘ、Ｙ、Ｚ、及びＱは、水素原子又は置換基を表し、ｎは１〜３の整数を表す。ｎが１の時は、Ｒ、Ｘ、Ｙ、Ｚ、Ｑ、Ｇは１価の基を表す。ｎが２の時は、Ｒ、Ｘ、Ｙ、Ｚ、Ｑ、Ｇは１価または２価の置換基を表し、少なくとも１つは２価の置換基を表す。ｎが３の時は、Ｒ、Ｘ、Ｙ、Ｚ、Ｑ、Ｇは１価、２価または３価の置換基を表し、そのうちの２つが２価の置換基を表すかまたは１つが３価の置換基を表す。）
＜３＞
前記スルホキシド化合物は、アミノ酸のスルホキシド体であることを特徴とする上記＜１＞または＜２＞に記載のインクジェット用インク。
＜４＞
前記スルホキシド化合物は、メチオニンスルホキシドであることを特徴とする上記＜３＞に記載のインクジェット用インク。
＜５＞
インクが接する部材のすくなくとも一部に酸化シリコン層又はシランカップリング処理層を有するインクジェットプリンタを用いて、スルホキシド化合物と水溶性染料とを含有し、該スルホキシド化合物の含有量が全質量中１質量％以上１０質量％未満であるインクジェット用インクを吐出して、インクジェット記録媒体に画像を記録することを特徴とするインクジェット記録方法。
【０００９】
＜６＞
前記シランカップリング処理層を形成するシランカップリング剤がフッ素原子を含有し、かつ、前記シランカップリング処理層は前記インクジェットプリンタのインクジェットヘッドのノズルプレート表面に形成されていることを特徴とする上記＜５＞に記載のインクジェット記録方法。
＜７＞
支持体上に無機顔料粒子を含有するインク受容層を有する前記インクジェット記録媒体上に画像を記録することを特徴とする上記＜５＞又は＜６＞に記載のインクジェット記録方法。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、プリンタに対する侵食性が改善されたインクジェット記録インクを提供することができる。
また、本発明によればプリンタに対する侵食性が改善されたインクジェット記録インクを用いたインクジェット記録方法を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
［インクジェット用インク］
本発明のインクジェット用インク（以下、「インク」ともいう。）は、スルホキシド化合物と分子内に芳香族ヘテロ環を有する水溶性染料と水と水溶性有機溶媒とを有し、かつ、前記スルホキシド化合物の含有量が全質量中１質量％以上１０質量％未満であることにより構成される。
更に、本発明のインクジェット用インクはノニオン系界面活性剤を含有することが好ましく、必要に応じてその他の成分等を用いて構成してもよい。
本発明は、上記構成のように、特に、スルホキシド化合物の含有量を１質量％以上１０質量％未満とすることにより、プリンタに対する侵食性が改善されたインクジェット用インクとすることができる。
スルホキシド化合物の含有量を１０質量％以上とすると、プリンタに対する侵食、劣化の抑制効果は有するものの、インクの吐出性が悪化する。また、１質量％以上であることはスルホキシド化合物を積極的に含有することを意味し、侵食、劣化の抑制効果が得られる。即ち、スルホキシド化合物を含有することによりプリンタに対する侵食、劣化の抑制効果が徐々に得られ、上記範囲とすることにより、インク吐出性に優れ、また、プリンタに対する侵食、劣化の抑制効果が顕著となるインクとすることができる。
【００１２】
−スルホキシド化合物−
本発明のインクジェット用インクはスルホキシド化合物の少なくとも１種を含有する。
スルホキシド化合物は、分子内にスルホキシド構造を有する化合物であれば、特に限定されるものではないが、下記一般式（１）で表される構造を分子内に１個以上有することが好ましい。
【００１３】
【化２】
2010248486.tif 000003
【００１４】
一般式（１）で表される構造を有するスルホキシド化合物は、親水性基で置換されていてもよい。親水性基としては、置換又は無置換のアミノ基、置換又は無置換のカルバモイル基、置換又は無置換のスルファモイル基、置換又は無置換のアンモニウム、ヒドロキシル基、スルホン酸、カルボン酸、リン酸、エチレンオキシ酸、置換又は無置換の含窒素ヘテロ環等が挙げられる。
【００１５】
本発明におけるインクは実質的に水系であることから、本発明におけるスルホキシド化合物は水溶性であることが好ましい。
【００１６】
本発明におけるスルホキシド化合物は、更に好ましくは上記一般式（１）で表される構造を分子内に１〜２個有する。
本発明におけるスルホキシド化合物は、単独で用いても、２種以上を併用してもよい。
【００１７】
前記スルホキシド化合物の具体例（例示化合物Ａ−１〜Ａ−５２）を以下に示すが、本発明はこれに限定されることはない。
【００１８】
【化３】
2010248486.tif 000004
【００１９】
【化４】
2010248486.tif 000005
【００２０】
【化５】
2010248486.tif 000006
【００２１】
【化６】
2010248486.tif 000007
【００２２】
本発明においては、上記スルホキシド化合物の中でも、プリンタに対する侵食性抑制の観点から、アミノ酸のスルホキシド体が好ましい。具体的には、Ａ−４１）〜Ａ−４７）、Ａ−５１）〜Ａ−５２）が好ましく、Ａ−４１）〜Ａ−４４）がより好ましく、Ａ−４１）（メチオニンスルホキシド）が特に好ましい。
【００２３】
本発明におけるスルホキシド化合物のインク中における含有量は、プリンタに対する侵食性抑制、特に、インクに接する部材に対する侵食性を抑制する観点から、１質量％以上１０質量％未満含有することが必要であり、２質量％〜９質量％であることが好ましく、３質量％〜８質量％が更に好ましい。
前記含有量が２質量％以上であると侵食性抑制の効果が顕著になり、また９質量％以下であるとインク粘度の大幅な上昇による吐出性の悪化を引き起こす事が無く好ましい。
本発明のインクにおいて、インク中にスルホキシド化合物を特定の量を含有させることにより、インクが接する酸化シリコン層又はシランカップリング処理層に対するインクの侵食性が改善され、その結果インク流路の腐食によるインク漏れが起きにくく、またノズルプレートの撥インク性が長期間維持され、良好な吐出性が得られる様になる。
【００２４】
［分子内に芳香族ヘテロ環を有する水溶性染料］
本発明のインクは、水溶性染料の中でも、分子内に芳香族ヘテロ環を有する水溶性染料（以下、「特定の水溶性染料」ともいう。）の少なくとも１種を含んで構成される。
本発明において、特に、特定の水溶性染料と前記スルホキシド化合物を含有するインクとすることにより、インクジェット記録において用いるプリンタに対する侵食性が改善される。
前記特定の水溶性染料が、後述の水溶性アゾ染料である水溶性イエロー染料、水溶性マゼンタ染料、水溶性シアン染料及び水溶性ブラック染料であることが好ましく、中でも好ましくは水溶性イエロー染料である。
本発明において、特に断らない限り、一般式で表される化合物はその塩も含むものとする。
【００２５】
（水溶性イエロー染料）
前記分子内に芳香族ヘテロ環を有する水溶性染料は、下記一般式（Ｙ）で表される化合物及びその塩からなる群より選ばれる水溶性アゾ染料の少なくとも１種であることが好ましい。
この水溶性アゾ染料は、色再現性に優れ、光、熱、湿度、及び環境中の活性ガスに対する堅牢性に優れるイエロー系の染料である。
なお、「水溶性」とは、水１００ｇ（２５℃）に１ｇ以上溶解することをいう。
【００２６】
【化７】
2010248486.tif 000008
【００２７】
式中、Ｇはヘテロ環基を表し、Ｒ、Ｘ、Ｙ、Ｚ、及びＱは、水素原子又は置換基を表し、ｎは１〜３の整数を表す。ｎが１のときは、Ｒ、Ｘ、Ｙ、Ｚ、Ｑ、Ｇは１価の基を表す。ｎが２のときは、Ｒ、Ｘ、Ｙ、Ｚ、Ｑ、Ｇは１価又は２価の置換基を表し、少なくとも１つは２価の置換基を表す。ｎが３のときは、Ｒ、Ｘ、Ｙ、Ｚ、Ｑ、Ｇは１価、２価又は３価の置換基を表し、そのうちの２つが２価の置換基を表すか又は１つが３価の置換基を表す。
【００２８】
以下、一般式（Ｙ）について詳細に説明する。
一般式（Ｙ）中、Ｇとしては、５〜８員ヘテロ環基が好ましく、その中でも、５員又は６員の置換もしくは無置換の、芳香族もしくは非芳香族のヘテロ環基が好ましく、それらは更に縮環していてもよい。更に好ましくは、炭素数３〜３０の５員又は６員の芳香族のヘテロ環基である。
【００２９】
前記Ｇで表されるヘテロ環基の例には、置換位置を限定しないで例示すると、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、ピリミジン、トリアジン、キノリン、イソキノリン、キナゾリン、シンノリン、フタラジン、キノキサリン、ピロール、インドール、フラン、ベンゾフラン、チオフェン、ベンゾチオフェン、ピラゾール、イミダゾール、ベンズイミダゾール、トリアゾール、オキサゾール、ベンズオキサゾール、チアゾール、ベンゾチアゾール、イソチアゾール、ベンズイソチアゾール、チアジアゾール、イソオキサゾール、ベンズイソオキサゾール、ピロリジン、ピペリジン、ピペラジン、イミダゾリジン、チアゾリン、スルホランなどが挙げられる。
【００３０】
前記ヘテロ環基が、更に置換基を有することが可能な基であるときは、以下に挙げたような置換基を更に有してもよい。
【００３１】
炭素数１〜１２の直鎖又は分岐鎖アルキル基、炭素数７〜１８の直鎖又は分岐鎖アラルキル基、炭素数２〜１２の直鎖又は分岐鎖アルケニル基、炭素数２〜１２の直鎖又は分岐鎖アルキニル基、炭素数３〜１２の直鎖又は分岐鎖シクロアルキル基、炭素数３〜１２の直鎖又は分岐鎖シクロアルケニル基（以上の各基は分岐鎖を有するものが染料の溶解性及びインクの安定性を向上させる理由から好ましく、不斉炭素を有するものが特に好ましい。例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、２−エチルヘキシル、２−メチルスルホニルエチル、３−フェノキシプロピル、トリフルオロメチル、シクロペンチル）、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子）、アリール基（例えば、フェニル、４−ｔ−ブチルフェニル、２，４−ジ−ｔ−アミルフェニル）、ヘテロ環基（例えば、イミダゾリル、ピラゾリル、トリアゾリル、２−フリル、２−チエニル、２−ピリミジニル、２−ベンゾチアゾリル）、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシ基、アミノ基、アルキルオキシ基（例えば、メトキシ、エトキシ、２−メトキシエトキシ、２−メチルスルホニルエトキシ）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ、２−メチルフェノキシ、４−ｔ−ブチルフェノキシ、３−ニトロフェノキシ、３−ｔ−ブチルオキシカルボニルフェノキシ、３−メトキシカルボニルフェニルオキシ、アシルアミノ基（例えば、アセトアミド、ベンズアミド、４−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）ブタンアミド）、アルキルアミノ基（例えば、メチルアミノ、ブチルアミノ、ジエチルアミノ、メチルブチルアミノ）、アリールアミノ基（例えば、フェニルアミノ、２−クロロアニリノ）、ウレイド基（例えば、フェニルウレイド、メチルウレイド、Ｎ，Ｎ−ジブチルウレイド）、スルファモイルアミノ基（例えば、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイルアミノ）、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ、オクチルチオ、２−フェノキシエチルチオ）、アリールチオ基（例えば、フェニルチオ、２−ブトキシ−５−ｔ−オクチルフェニルチオ、２−カルボキシフェニルチオ）、アルキルオキシカルボニルアミノ基（例えば、メトキシカルボニルアミノ）、アルキルスルホニルアミノ基及びアリールスルホニルアミノ基（例えば、メチルスルホニルアミノ、フェニルスルホニルアミノ、ｐ−トルエンスルホニルアミノ）、カルバモイル基（例えば、Ｎ−エチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジブチルカルバモイル）、スルファモイル基（例えば、Ｎ−エチルスルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイル、Ｎ−フェニルスルファモイル）、スルホニル基（例えば、メチルスルホニル、オクチルスルホニル、フェニルスルホニル、ｐ−トルエンスルホニル）、アルキルオキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル、ブチルオキシカルボニル）、ヘテロ環オキシ基（例えば、１−フェニルテトラゾール−５−オキシ、２−テトラヒドロピラニルオキシ）、アゾ基（例えば、フェニルアゾ、４−メトキシフェニルアゾ、４−ピバロイルアミノフェニルアゾ、２−ヒドロキシ−４−プロパノイルフェニルアゾ）、アシルオキシ基（例えば、アセトキシ）、カルバモイルオキシ基（例えば、Ｎ−メチルカルバモイルオキシ、Ｎ−フェニルカルバモイルオキシ）、シリルオキシ基（例えば、トリメチルシリルオキシ、ジブチルメチルシリルオキシ）、アリールオキシカルボニルアミノ基（例えば、フェノキシカルボニルアミノ）、イミド基（例えば、Ｎ−スクシンイミド、Ｎ−フタルイミド）、ヘテロ環チオ基（例えば、２−ベンゾチアゾリルチオ、２，４−ジ−フェノキシ−１，３，５−トリアゾール−６−チオ、２−ピリジルチオ）、スルフィニル基（例えば、３−フェノキシプロピルスルフィニル）、ホスホニル基（例えば、フェノキシホスホニル、オクチルオキシホスホニル、フェニルホスホニル）、アリールオキシカルボニル基（例えば、フェノキシカルボニル）、アシル基（例えば、アセチル、３−フェニルプロパノイル、ベンゾイル）、イオン性親水性基（例えば、カルボキシル基、スルホ基、ホスホノ基及び４級アンモニウム基）が挙げられる。
【００３２】
前記一般式（Ｙ）において、Ｑ、Ｒ、Ｘ、Ｙ、及びＺの好ましい例について、詳細に説明する。
【００３３】
Ｑ、Ｒ、Ｘ、Ｙ及びＺが１価の基を表す場合、１価の基としては、１価の置換基を表す。１価の置換基を更に詳しく説明する。この１価の置換基の例としては、ハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アミノ基（アルキルアミノ基、アリールアミノ基）、アシルアミノ基（アミド基）、アミノカルボニルアミノ基（ウレイド基）、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキルスルホニルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、シリル基、アゾ基、又はイミド基を挙げることができ、各々はさらに置換基を有していてもよい。
【００３４】
中でも、特に好ましいものは、記録した画像の湿度や酸化性ガス・光等に対する保存性及び良好な色相の点で、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、アルコキシ基、アミド基、ウレイド基、アルキルスルホニルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基、スルファモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、カルバモイル基、又はアルコキシカルボニル基であり、特に水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、シアノ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、又はヘテロ環基が好ましく、水素原子、アルキル基、アリール基、シアノ基、又はアルキルスルホニル基が最も好ましい。
【００３５】
以下、前記Ｑ、Ｒ、Ｘ、Ｙ、及びＺについて更に詳しく説明する。
Ｑ、Ｒ、Ｘ、Ｙ及びＺで表されるハロゲン原子は、塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子を表す。中でも塩素原子、又は臭素原子が好ましく、特に塩素原子が好ましい。
【００３６】
Ｑ、Ｒ、Ｘ、Ｙ及びＺで表されるアルキル基は、置換もしくは無置換のアルキル基が含まれる。置換又は無置換のアルキル基は、炭素原子数が１〜３０のアルキル基が好ましい。置換基の例としては、上記Ｇが更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。中でも、ヒドロキシ基、アルコキシ基、シアノ基、及びハロゲン原子、スルホ基（塩の形でもよい）又はカルボキシル基（塩の形でもよい）が好ましい。前記アルキル基の例には、メチル、エチル、ブチル、ｔ−ブチル、ｎ−オクチル、エイコシル、２−クロロエチル、ヒドロキシエチル、シアノエチル又は４−スルホブチルを挙げることができる。
【００３７】
Ｑ、Ｒ、Ｘ、Ｙ及びＺで表されるシクロアルキル基は、置換もしくは無置換のシクロアルキル基が含まれる。置換基又は無置換のシクロアルキル基は、炭素原子数が５〜３０のシクロアルキル基が好ましい。置換基の例としては、上記Ｇが更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。前記シクロアルキル基の例にはシクロヘキシル、シクロペンチル、又は４−ｎ−ドデシルシクロヘキシルを挙げることができる。
【００３８】
Ｑ、Ｒ、Ｘ、Ｙ及びＺで表されるアラルキル基は、置換もしくは無置換のアラルキル基が含まれる。置換もしくは無置換のアラルキル基としては、炭素原子数が７〜３０のアラルキル基が好ましい。置換基の例としては、上記Ｇが更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。前記アラルキルの例にはベンジル及び２−フェネチルを挙げることができる。
【００３９】
Ｑ、Ｒ、Ｘ、Ｙ及びＺで表されるアルケニル基は、直鎖、分岐、環状の置換もしくは無置換のアルケニル基を表す。好ましくは炭素数２−３０の置換又は無置換のアルケニル基、例えば、ビニル、アリル、プレニル、ゲラニル、オレイル、２−シクロペンテン−１−イル、２−シクロヘキセン−１−イルなどを挙げることができる。
【００４０】
Ｑ、Ｒ、Ｘ、Ｙ及びＺで表されるアルキニル基は、炭素数２〜３０の置換又は無置換のアルキニル基であり、例えば、エチニル、又はプロパルギルを挙げることができる。
【００４１】
Ｑ、Ｒ、Ｘ、Ｙ及びＺで表されるアリール基は、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリール基、例えばフェニル、ｐ−トリル、ナフチル、ｍ−クロロフェニル、又はｏ−ヘキサデカノイルアミノフェニルである。置換基の例としては、上記Ｇが更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。
【００４２】
Ｑ、Ｒ、Ｘ、Ｙ及びＺで表されるヘテロ環基は、５又は６員の置換もしくは無置換の、芳香族もしくは非芳香族のヘテロ環化合物から一個の水素原子を取り除いた１価の基であり、それらは更に縮環していてもよい。更に好ましくは、炭素数３〜３０の５もしくは６員の芳香族のヘテロ環基である。置換基の例としては、上記Ｇが更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。前記ヘテロ環基の例には、置換位置を限定しないで例示すると、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、ピリミジン、トリアジン、キノリン、イソキノリン、キナゾリン、シンノリン、フタラジン、キノキサリン、ピロール、インドール、フラン、ベンゾフラン、チオフェン、ベンゾチオフェン、ピラゾール、イミダゾール、ベンズイミダゾール、トリアゾール、オキサゾール、ベンズオキサゾール、チアゾール、ベンゾチアゾール、イソチアゾール、ベンズイソチアゾール、チアジアゾール、イソオキサゾール、ベンズイソオキサゾール、ピロリジン、ピペリジン、ピペラジン、イミダゾリジン、チアゾリンなどが挙げられる。
【００４３】
Ｑ、Ｒ、Ｘ、Ｙ及びＺで表されるアルコキシ基は、置換もしくは無置換のアルコキシ基が含まれる。置換もしくは無置換のアルコキシ基としては、炭素原子数が１〜３０のアルコキシ基が好ましい。置換基の例としては、上記Ｇが更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。前記アルコキシ基の例には、メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ、ｎ−オクチルオキシ、メトキシエトキシ、ヒドロキシエトキシ及び３−カルボキシプロポキシなどを挙げることができる。
【００４４】
Ｑ、Ｒ、Ｘ、Ｙ及びＺで表されるアリールオキシ基は、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシ基が好ましい。置換基の例としては、上記Ｇが更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。前記アリールオキシ基の例には、フェノキシ、２−メチルフェノキシ、４−ｔ−ブチルフェノキシ、３−ニトロフェノキシ、２−テトラデカノイルアミノフェノキシなどを挙げることができる。
【００４５】
Ｑ、Ｒ、Ｘ、Ｙ及びＺで表されるシリルオキシ基は、炭素数３〜２０のシリルオキシ基が好ましく、例えば、トリメチルシリルオキシ、ｔ−ブチルジメチルシリルオキシなどを挙げることができる。
【００４６】
Ｑ、Ｒ、Ｘ、Ｙ及びＺで表されるヘテロ環オキシ基は、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のヘテロ環オキシ基が好ましい。置換基の例としては、上記Ｇが更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。前記ヘテロ環オキシ基の例には、例えば、１−フェニルテトラゾール−５−オキシ、２−テトラヒドロピラニルオキシなどを挙げることができる。
【００４７】
Ｑ、Ｒ、Ｘ、Ｙ及びＺで表されるアシルオキシ基は、ホルミルオキシ基、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニルオキシ基が好ましく、置換基の例としては、上記Ｇが更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。前記アシルオキシ基の例には、例えば、ホルミルオキシ、アセチルオキシ、ピバロイルオキシ、ステアロイルオキシ、ベンゾイルオキシ、ｐ−メトキシフェニルカルボニルオキシなどを挙げることができる。
【００４８】
Ｑ、Ｒ、Ｘ、Ｙ及びＺで表されるカルバモイルオキシ基は、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のカルバモイルオキシ基が好ましく、置換基の例としては、上記Ｇが更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。
前記カルバモイルオキシ基の例には、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイルオキシ、モルホリノカルボニルオキシ、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルアミノカルボニルオキシ、Ｎ−ｎ−オクチルカルバモイルオキシなどを挙げることができる。
【００４９】
Ｑ、Ｒ、Ｘ、Ｙ及びＺで表されるアルコキシカルボニルオキシ基は、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニルオキシ基が好ましく、置換基の例としては、上記Ｇが更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。前記アルコキシカルボニルオキシ基の例には、例えばメトキシカルボニルオキシ、エトキシカルボニルオキシ、ｔ−ブトキシカルボニルオキシ、ｎ−オクチルカルボニルオキシなどを挙げることができる。
【００５０】
Ｑ、Ｒ、Ｘ、Ｙ及びＺで表されるアリールオキシカルボニルオキシ基は、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニルオキシ基が好ましく、置換基の例としては、上記Ｇが更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。前記アリールオキシカルボニルオキシ基の例には、例えば、フェノキシカルボニルオキシ、ｐ−メトキシフェノキシカルボニルオキシ、ｐ−ｎ−ヘキサデシルオキシフェノキシカルボニルオキシなどを挙げることができる。
【００５１】
Ｑ、Ｒ、Ｘ、Ｙ及びＺで表されるアミノ基は、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルアミノ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールアミノ基が好ましく、置換基の例としては、上記Ｇが更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。前記アミノ基の例には、例えば、アミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、アニリノ、Ｎ−メチル−アニリノ、ジフェニルアミノ、ヒドロキシエチルアミノ、カルボキシエチルアミノ、スルフォエチルアミノ、３，５−ジカルボキシアニリノなどを挙げることができる。
【００５２】
Ｑ、Ｒ、Ｘ、Ｙ及びＺで表されるアシルアミノ基は、ホルミルアミノ基、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニルアミノ基が好ましく、置換基の例としては、上記Ｇが更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。前記アシルアミノ基の例には、例えば、ホルミルアミノ、アセチルアミノ、ピバロイルアミノ、ラウロイルアミノ、ベンゾイルアミノ、３，４，５−トリ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニルアミノなどを挙げることができる。
【００５３】
Ｑ、Ｒ、Ｘ、Ｙ及びＺで表されるアミノカルボニルアミノ基は、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアミノカルボニルアミノ基が好ましく、置換基の例としては、上記Ｇが更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。前記アミノカルボニルアミノ基の例には、例えば、カルバモイルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノカルボニルアミノ、モルホリノカルボニルアミノなどを挙げることができる。
【００５４】
Ｑ、Ｒ、Ｘ、Ｙ及びＺで表されるアルコキシカルボニルアミノ基は、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニルアミノ基が好ましく、置換基の例としては、上記Ｇが更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。前記アルコキシカルボニルアミノ基の例には、例えば、メトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ、ｔ−ブトキシカルボニルアミノ、ｎ−オクタデシルオキシカルボニルアミノ、Ｎ−メチルーメトキシカルボニルアミノなどを挙げることができる。
【００５５】
Ｑ、Ｒ、Ｘ、Ｙ及びＺで表されるアリールオキシカルボニルアミノ基は、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニルアミノ基が好ましく、置換基の例としては、上記Ｇが更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。前記アリールオキシカルボニルアミノ基の例には、例えば、フェノキシカルボニルアミノ、ｐ−クロロフェノキシカルボニルアミノ、ｍ−ｎ−オクチルオキシフェノキシカルボニルアミノなどを挙げることができる。
【００５６】
Ｑ、Ｒ、Ｘ、Ｙ及びＺで表されるスルファモイルアミノ基は、炭素数０〜３０の置換もしくは無置換のスルファモイルアミノ基が好ましく、置換基の例としては、上記Ｇが更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。前記スルファモイルアミノ基の例には、例えば、スルファモイルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノスルホニルアミノ、Ｎ−ｎ−オクチルアミノスルホニルアミノなどを挙げることができる。
【００５７】
Ｑ、Ｒ、Ｘ、Ｙ及びＺで表されるアルキル及びアリールスルホニルアミノ基は、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルスルホニルアミノ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールスルホニルアミノ基が好ましく、置換基の例としては、上記Ｇが更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。前記アルキルスルホニルアミノ基及びアリールスルホニルアミノ基の例には、例えば、メチルスルホニルアミノ、ブチルスルホニルアミノ、フェニルスルホニルアミノ、２，３，５−トリクロロフェニルスルホニルアミノ、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノなどを挙げることができる。
【００５８】
Ｑ、Ｒ、Ｘ、Ｙ及びＺで表されるアルキルチオ基は、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルチオ基が好ましく、置換基の例としては、上記Ｇが更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。前記アルキルチオ基の例には、例えばメチルチオ、エチルチオ、ｎ−ヘキサデシルチオなどを挙げることができる。
【００５９】
Ｑ、Ｒ、Ｘ、Ｙ及びＺで表されるアリールチオ基は炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールチオ基が好ましく、置換基の例としては、上記Ｇが更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。前記アリールチオ基の例には、例えば、フェニルチオ、ｐ−クロロフェニルチオ、ｍ−メトキシフェニルチオなどを挙げることができる。
【００６０】
Ｑ、Ｒ、Ｘ、Ｙ及びＺで表されるヘテロ環チオ基は、炭素数２〜３０の置換又は無置換のヘテロ環チオ基が好ましく、置換基の例としては、上記Ｇが更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。前記ヘテロ環チオ基の例には、例えば、２−ベンゾチアゾリルチオ、１−フェニルテトラゾール−５−イルチオなどを挙げることができる。
【００６１】
Ｑ、Ｒ、Ｘ、Ｙ及びＺで表されるスルファモイル基は、炭素数０〜３０の置換もしくは無置換のスルファモイル基が好ましく、置換基の例としては、上記Ｇが更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。前記スルファモイル基の例には、例えば、Ｎ−エチルスルファモイル、Ｎ−（３−ドデシルオキシプロピル）スルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル、Ｎ−アセチルスルファモイル、Ｎ−ベンゾイルスルファモイル、Ｎ−（Ｎ‘−フェニルカルバモイル）スルファモイル）などを挙げることができる。
【００６２】
Ｑ、Ｒ、Ｘ、Ｙ及びＺで表されるアルキル及びアリールスルフィニル基は、炭素数１〜３０の置換又は無置換のアルキルスルフィニル基、６〜３０の置換又は無置換のアリールスルフィニル基が好ましく、置換基の例としては、上記Ｇが更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。前記アルキル及びアリールスルフィニル基の例には、例えば、メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、フェニルスルフィニル、ｐ−メチルフェニルスルフィニルなどを挙げることができる。
【００６３】
Ｑ、Ｒ、Ｘ、Ｙ及びＺで表されるアルキル及びアリールスルホニル基は、炭素数１〜３０の置換又は無置換のアルキルスルホニル基、６〜３０の置換又は無置換のアリールスルホニル基が好ましく、置換基の例としては、上記Ｇが更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。前記アルキル及びアリールスルホニル基の例には、例えば、メチルスルホニル、エチルスルホニル、フェニルスルホニル、ｐ−トルエンスルホニルなどを挙げることができる。
【００６４】
Ｑ、Ｒ、Ｘ、Ｙ及びＺで表されるアシル基は、ホルミル基、炭素数２〜３０の置換又は無置換のアルキルカルボニル基、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニル基、炭素数４〜３０の置換もしくは無置換の炭素原子でカルボニル基と結合しているヘテロ環カルボニル基が好ましく、置換基の例としては、上記Ｇが更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。前記アシル基の例には、例えば、アセチル、ピバロイル、２−クロロアセチル、ステアロイル、ベンゾイル、ｐ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニル、２―ピリジルカルボニル、２―フリルカルボニルなどを挙げることができる。
【００６５】
Ｑ、Ｒ、Ｘ、Ｙ及びＺで表されるアリールオキシカルボニル基は、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニル基が好ましく、置換基の例としては、上記Ｇが更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。前記アリールオキシカルボニル基の例には、例えば、フェノキシカルボニル、ｏ−クロロフェノキシカルボニル、ｍ−ニトロフェノキシカルボニル、ｐ−ｔ−ブチルフェノキシカルボニルなどを挙げることができる。
【００６６】
Ｑ、Ｒ、Ｘ、Ｙ及びＺで表されるアルコキシカルボニル基は、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニル基が好ましく、置換基の例としては、上記Ｇが更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。前記アルコキシカルボニル基の例には、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル、ｎ−オクタデシルオキシカルボニルなどを挙げることができる。
【００６７】
Ｑ、Ｒ、Ｘ、Ｙ及びＺで表されるカルバモイル基は、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のカルバモイル基が好ましく、置換基の例としては、上記Ｇが更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。前記カルバモイル基の例には、例えば、カルバモイル、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルカルバモイル、Ｎ−（メチルスルホニル）カルバモイルなどを挙げることができる。
【００６８】
Ｑ、Ｒ、Ｘ、Ｙ及びＺで表されるホスフィノ基は、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のホスフィノ基が好ましく、置換基の例としては、上記Ｇが更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。前記ホスフィノ基の例には、例えば、ジメチルホスフィノ、ジフェニルホスフィノ、メチルフェノキシホスフィノなどを挙げることができる。
【００６９】
Ｑ、Ｒ、Ｘ、Ｙ及びＺで表されるホスフィニル基は、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のホスフィニル基が好ましく、置換基の例としては、上記Ｇが更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。前記ホスフィニル基の例には、例えば、ホスフィニル、ジオクチルオキシホスフィニル、ジエトキシホスフィニルなどを挙げることができる。
【００７０】
Ｑ、Ｒ、Ｘ、Ｙ及びＺで表されるホスフィニルオキシ基は、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のホスフィニルオキシ基が好ましく、置換基の例としては、上記Ｇが更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。前記ホスフィニルオキシ基の例には、例えば、ジフェノキシホスフィニルオキシ、ジオクチルオキシホスフィニルオキシなどを挙げることができる。
【００７１】
Ｑ、Ｒ、Ｘ、Ｙ及びＺで表されるホスフィニルアミノ基は、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のホスフィニルアミノ基が好ましく、置換基の例としては、上記Ｇが更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。前記ホスフィニルアミノ基の例には、例えば、ジメトキシホスフィニルアミノ、ジメチルアミノホスフィニルアミノなどを挙げることができる。
【００７２】
Ｑ、Ｒ、Ｘ、Ｙ及びＺで表されるシリル基は、炭素数３〜３０の置換もしくは無置換のシリル基が好ましく、置換基の例としては、上記Ｇが更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。前記シリル基の例には、例えば、トリメチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリル、フェニルジメチルシリルなどを挙げることができる。
【００７３】
Ｑ、Ｒ、Ｘ、Ｙ及びＺで表されるアゾ基は、例えば、フェニルアゾ、４−メトキシフェニルアゾ、４−ピバロイルアミノフェニルアゾ、２−ヒドロキシ−４−プロパノイルフェニルアゾなどを挙げることができる。
【００７４】
Ｑ、Ｒ、Ｘ、Ｙ及びＺで表されるイミド基は、例えば、Ｎ−スクシンイミド、Ｎ−フタルイミドなどを挙げることができる。
【００７５】
Ｑ、Ｒ、Ｘ、Ｙ及びＺが２価の基を表す場合、２価の基としては、アルキレン基（例、メチレン、エチレン、プロピレン、ブチレン、ペンチレン）、アルケニレン基（例、エテニレン、プロぺニレン）、アルキニレン基（例、エチニレン、プロピニレン）、アリーレン基（例、フェニレン、ナフチレン）、２価のヘテロ環基（例、６−クロロ−１、３、５−トリアジン−２、４−ジイル基、ピリミジン−２、４−ジイル基、ピリミジン−４、６−ジイル基、キノキサリン−２、３−ジイル基、ピリダジン−３，６−ジイル）、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＲ’−（Ｒ’は水素原子、アルキル基又はアリール基）、−Ｓ−、−ＳＯ２−、−ＳＯ−又はこれらの組み合わせ（例えば−ＮＨＣＨ２ＣＨ２ＮＨ−、−ＮＨＣＯＮＨ−等）であることが好ましい。
【００７６】
アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、アリーレン基、２価のヘテロ環基、Ｒのアルキル基又はアリール基は、置換基を有していてもよい。置換基の例としては、前記Ｇで説明した置換基と同義である。
【００７７】
前記Ｒ’のアルキル基及びアリール基は、前記Ｇの置換基例と同義である。
【００７８】
さらに好ましくは、炭素数１０以下のアルキレン基、炭素数１０以下のアルケニレン基、炭素数１０以下のアルキニレン基、炭素数６以上１０以下のアリーレン基、２価のヘテロ環基、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−又はこれらの組み合わせ（例えば−ＳＣＨ２ＣＨ２Ｓ−、−ＳＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓ−等）であることがさらに好ましい。
【００７９】
２価の連結基の総炭素数は０〜５０であることが好ましく、０〜３０であることがより好ましく、０〜１０であることが最も好ましい。
【００８０】
Ｑ、Ｒ、Ｘ、Ｙ及びＺが３価の基を表す場合、３価の基としては、３価の炭化水素基、３価のヘテロ環基、＞Ｎ−、又はこれと２価の基の組み合わせ（例えば＞ＮＣＨ２ＣＨ２ＮＨ−、＞ＮＣＯＮＨ−等）であることが好ましい。
【００８１】
３価の連結基の総炭素数は０〜５０であることが好ましく、０〜３０であることがより好ましく、０〜１０であることが最も好ましい。
【００８２】
一般式（Ｙ）中、ｎの好ましい例は、１又は２であり、特に２が好ましい。
【００８３】
一般式（Ｙ）中、Ｘの好ましい置換基例は電子吸引性基である。特に、ハメットの置換基定数σｐ値が０．２０以上の電子吸引性基であり、より好ましくはσｐ値が０．３０以上の電子吸引性基であることが好ましい。上限としては、σｐ値が１．０の電子吸引性基である。
【００８４】
σｐ値が０．２０以上の電子吸引性基であるＸの具体例としては、アシル基、アシルオキシ基、カルバモイル基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、シアノ基、ニトロ基、ジアルキルホスホノ基、ジアリールホスホノ基、ジアリールホスフィニル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホニルオキシ基、アシルチオ基、スルファモイル基、チオシアネート基、チオカルボニル基、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン化アルコキシ基、ハロゲン化アリールオキシ基、ハロゲン化アルキルアミノ基、ハロゲン化アルキルチオ基、σｐ値が０．２０以上の他の電子吸引性基で置換されたアリール基、ヘテロ環基、ハロゲン原子、アゾ基、又はセレノシアネート基が挙げられる。
【００８５】
Ｘの好ましいものとしては、炭素数２〜１２のアシル基、炭素数２〜１２のアシルオキシ基、炭素数１〜１２のカルバモイル基、炭素数２〜１２のアルキルオキシカルボニル基、炭素数７〜１８のアリールオキシカルボニル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜１２のアルキルスルフィニル基、炭素数６〜１８のアリールスルフィニル基、炭素数１〜１２のアルキルスルホニル基、炭素数６〜１８のアリールスルホニル基、炭素数０〜１２のスルファモイル基、炭素数１〜１２のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜１２のハロゲン化アルキルオキシ基、炭素数１〜１２のハロゲン化アルキルチオ基、炭素数７〜１８のハロゲン化アリールオキシ基、２つ以上のσｐ０．２０以上の他の電子吸引性基で置換された炭素数７〜１８のアリール基、及び窒素原子、酸素原子、又はイオウ原子を有する５〜８員環で炭素数１〜１８のヘテロ環基を挙げることができる。
【００８６】
更に好ましくは、シアノ基、炭素数１〜１２のアルキルスルホニル基、炭素数６〜１８のアリールスルホニル基、又は炭素数０〜１２のスルファモイル基である。
【００８７】
Ｘとして特に好ましいものは、シアノ基、炭素数１〜１２のアルキルスルホニル基、又は炭素数０〜１２のスルファモイル基であり、最も好ましいものは、シアノ基、又は炭素数１〜１２のアルキルスルホニル基である。
【００８８】
一般式（Ｙ）中、Ｚの好ましい例は、水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のシクロアルキル基、置換もしくは無置換のアルケニル基、置換もしくは無置換のアルキニル基、置換もしくは無置換のアラルキル基、置換もしくは無置換のアリール基、又は置換もしくは無置換のヘテロ環基などである。
Ｚで表される基の詳細については、前記Ｇで表されるヘテロ環基の例に説明した対応する置換基の例と同義であり、好ましい例も同じである。
【００８９】
Ｚの特に好ましくは、置換アリール基、又は置換へテロ環基であり、その中でも特に置換アリール基が好ましい。
【００９０】
一般式（Ｙ）中、Ｑは、水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアシル基、置換もしくは無置換のアルキルスルホニル基、又は置換もしくは無置換のアリールスルホニル基が好ましく、特に水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、又は置換もしくは無置換のアシル基が好ましく、その中でも特に水素原子が好ましい。
【００９１】
一般式（Ｙ）中、Ｒは置換もしくは無置換の総炭素数１〜１２のアルキル基、置換もしくは無置換の総炭素数６〜１８のアリール基、又は置換もしくは無置換の総炭素数４〜１２のヘテロ環基が好ましく、その中でも、総炭素原子数１〜８の直鎖アルキル基又は分岐のアルキル基が好ましく、特に２級又は３級アルキル基が好ましく、ｔ−ブチル基が最も好ましい。
【００９２】
一般式（Ｙ）中、Ｙは水素原子、置換もしくは無置換の総炭素数１〜１２のアルキル基、置換もしくは無置換の総炭素数６〜１８のアリール基、又は置換もしくは無置換の総炭素数４〜１２ヘテロ環基が好ましく、その中でも、水素原子、総炭素数１〜８の直鎖アルキル基及び又は分岐のアルキル基が好ましく、特に水素原子、又は総炭素数１〜８のアルキル基が好ましく、水素原子が最も好ましい。
【００９３】
一般式（Ｙ）で表される色素におけるＧ，Ｒ，Ｘ，Ｙ，Ｚ，Ｑの好ましい組み合わせについては、種々の基の少なくとも１つが前記の好ましい基である化合物が好ましく、より多くの種々の基が前記好ましい基である化合物がより好ましく、全ての基が前記好ましい基である化合物が最も好ましい。
【００９４】
一般式（Ｙ）で表される色素として特に好ましい組み合わせは、以下の（イ）〜（ト）を含むものである。
【００９５】
（イ）Ｇは、５〜８員含窒素ヘテロ環が好ましく、特にＳ−トリアジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、ピラジン環、ピリジン環、イミダゾール環、ピラゾール環、又はピロール環が好ましく、その中でもＳ−トリアジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、又はピラジン環が好ましく、Ｓ−トリアジン環が最も好ましい。
（ロ）Ｒは置換もしくは無置換の総炭素数１〜１２のアルキル基、置換もしくは無置換の総炭素数６〜１８のアリール基、又は置換もしくは無置換の総炭素数４〜１２ヘテロ環基が好ましく、その中でも、総炭素数１〜８の直鎖アルキル基又は分岐のアルキル基が好ましく、特に２級又は３級アルキル基が好ましく、ｔ−ブチル基が最も好ましい。
（ハ）Ｘとして特に好ましいものは、シアノ基、総炭素数１〜１２のアルキルスルホニル基、総炭素数６〜１８のアリールスルホニル基、又は総炭素数０〜１２のスルファモイル基であり、その中でも、シアノ基、又は総炭素数１〜１２のアルキルスルホニル基が好ましく、最も好ましいものは、シアノ基である。
（ニ）Ｙは水素原子、置換もしくは無置換の総炭素数１〜１２のアルキル基、置換もしくは無置換の総炭素数６〜１８のアリール基、又は置換もしくは無置換の総炭素数４〜１２ヘテロ環基が好ましく、その中でも、水素原子、総炭素数１〜８の直鎖アルキル基又は分岐のアルキル基が好ましく、特に水素原子、又は総炭素数１〜８のアルキル基が好ましく、水素原子が最も好ましい。
（ホ）Ｚは、水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のシクロアルキル基、置換もしくは無置換のアルケニル基、置換もしくは無置換のアルキニル基、置換もしくは無置換のアラルキル基、置換もしくは無置換のアリール基、又は置換もしくは無置換のヘテロ環基が好ましく、特に好ましい置換基は置換アリール基、又は置換へテロ環基であり、その中でも特に置換アリール基が好ましい。
（ヘ）Ｑは、水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアシル基、置換もしくは無置換のアルキルスルホニル基、又は置換もしくは無置換のアリールスルホニル基が好ましく、特に水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、又は置換もしくは無置換のアシル基が好ましく、その中でも特に水素原子が好ましい。
（ト）ｎは１〜３の整数を表し、好ましくは１又は２であり、特に２が最も好ましい。
【００９６】
前記一般式（Ｙ）で表される化合物は、下記の一般式（Ｙ−１）、一般式（Ｙ−２）、一般式（Ｙ−３）、一般式（Ｙ−４）、及び一般式（Ｙ−５）のいずれかで表される化合物であることが好ましい。
【００９７】
【化８】
2010248486.tif 000009
【００９８】
式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１、Ｘ２、Ｙ１、Ｙ２、Ｚ１、及びＺ２は１価の基を表し、Ｇは５〜８員含窒素ヘテロ環を構成する原子団を表し、Ｍは水素原子又はカチオンを表す。ｍ１は０〜３の整数を表す。
Ｇの例としては、前述の一般式（Ｙ）におけるＧと同様のものが挙げられ、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１、Ｘ２、Ｙ１、Ｙ２、Ｚ１、及びＺ２の表す１価の基の例としては、前述の一般式（Ｙ）におけるＱ、Ｒ、Ｘ、Ｙ、及びＺと同様のものが挙げられる。
【００９９】
【化９】
2010248486.tif 000010
【０１００】
式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｘ１、Ｘ２、Ｚ１、及びＺ２は１価の基を表し、Ｌ１は２価の連結基を表し、Ｇ１、Ｇ２はそれぞれ独立に５〜８員含窒素ヘテロ環を構成する原子団を表し、Ｍは水素原子又はカチオンを表す。ｍ２１、ｍ２２は、それぞれ独立に０〜３の整数を表す。
Ｇ１、Ｇ２の例としては、前述の一般式（Ｙ）におけるＧと同様のものが挙げられ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｘ１、Ｘ２、Ｚ１、及びＺ２の表す１価の基の例としては、前述の一般式（Ｙ）におけるＱ、Ｒ、Ｘ、Ｙ、及びＺと同様のものが挙げられ、Ｌ１の表す２価の連結基の例としては、前述の一般式（Ｙ）におけるＱ、Ｒ、Ｘ、Ｙ、及びＺが２価の基を表す場合の例と同様のものが挙げられる。
【０１０１】
【化１０】
2010248486.tif 000011
【０１０２】
式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｘ１、Ｘ２、Ｙ１、及びＹ２は１価の基を表し、Ｌ２は２価の連結基を表し、Ｇ１、Ｇ２はそれぞれ独立に５〜８員含窒素ヘテロ環を構成する原子団を表し、Ｍは水素原子又はカチオンを表す。ｍ３１、ｍ３２は、それぞれ独立に０〜３の整数を表す。
Ｇ１、Ｇ２の例としては、前述の一般式（Ｙ）におけるＧと同様のものが挙げられ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｘ１、Ｘ２、Ｙ１、及びＹ２の表す１価の基の例としては、前述の一般式（Ｙ）におけるＱ、Ｒ、Ｘ、Ｙ、及びＺと同様のものが挙げられ、Ｌ２の表す２価の連結基の例としては、前述の一般式（Ｙ）におけるＱ、Ｒ、Ｘ、Ｙ、及びＺが２価の基を表す場合の例と同様のものが挙げられる。
【０１０３】
【化１１】
2010248486.tif 000012
【０１０４】
式中、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｘ１、Ｘ２、Ｙ１、Ｙ２、Ｚ１、及びＺ２は１価の基を表し、Ｌ３は２価の連結基を表し、Ｇ１、Ｇ２はそれぞれ独立に５〜８員含窒素ヘテロ環を構成する原子団を表し、Ｍは水素原子又はカチオンを表す。ｍ４１、ｍ４２は、それぞれ独立に０〜３の整数を表す。
Ｇ１、Ｇ２の例としては、前述の一般式（Ｙ）におけるＧと同様のものが挙げられ、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｘ１、Ｘ２、Ｙ１、Ｙ２、Ｚ１、及びＺ２の表す１価の基の例としては、前述の一般式（Ｙ）におけるＱ、Ｒ、Ｘ、Ｙ、及びＺと同様のものが挙げられ、Ｌ３の表す２価の連結基の例としては、前述の一般式（Ｙ）におけるＱ、Ｒ、Ｘ、Ｙ、及びＺが２価の基を表す場合の例と同様のものが挙げられる。
【０１０５】
【化１２】
2010248486.tif 000013
【０１０６】
式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｙ１、Ｙ２、Ｚ１、及びＺ２は１価の基を表し、Ｌ４は２価の連結基を表し、Ｇ１、Ｇ２はそれぞれ独立に５〜８員含窒素ヘテロ環を構成する原子団を表し、Ｍは水素原子又はカチオンを表す。ｍ５１、ｍ５２は、それぞれ独立に０〜３の整数を表す。
Ｇ１、Ｇ２の例としては、前述の一般式（Ｙ）におけるＧと同様のものが挙げられ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｙ１、Ｙ２、Ｚ１、及びＺ２の表す１価の基の例としては、前述の一般式（Ｙ）におけるＱ、Ｒ、Ｘ、Ｙ、及びＺと同様のものが挙げられ、Ｌ４の表す２価の連結基の例としては、前述の一般式（Ｙ）におけるＱ、Ｒ、Ｘ、Ｙ、及びＺが２価の基を表す場合の例と同様のものが挙げられる。
【０１０７】
一般式（Ｙ）で表される化合物は、下記一般式（Ｙ−１）、一般式（Ｙ−２）、一般式（Ｙ−３）、一般式（Ｙ−４）又は一般式（Ｙ−５）中、Ｇ、Ｇ１及びＧ２で構成される含窒素ヘテロ環がＳ−トリアジン環であることが好ましい。
【０１０８】
以下、一般式（Ｙ）で表される化合物で表される染料の具体例（例示染料ＤＹＥ−１〜２６）を示す。但し、本発明に用いられる染料は、下記例に限定されるものではない。また、以下の具体例の構造は遊離の酸の形で示すが、任意の塩の形で用いてもよい。また、好ましいカウンターカチオンとしては、アルカリ金属（例えば、リチウム、ナトリウム、カリウム）、アンモニウム、又は有機のカチオン（例えば、ピリジニウム、テトラメチルアンモニウム、グアニジウム）を挙げることができる。
【０１０９】
【化１３】
2010248486.tif 000014
【０１１０】
【化１４】
2010248486.tif 000015
【０１１１】
【化１５】
2010248486.tif 000016
【０１１２】
【化１６】
2010248486.tif 000017
【０１１３】
【化１７】
2010248486.tif 000018
【０１１４】
上記の一般式（Ｙ）で表される化合物及びその塩の合成は、例えば、特開２００１−２７９１４５号、特開２００３−２７７６６１号、特開２００３−２７７６６２号、特開２００４−８３９０３号等の各公報に記載の合成法を参照して行なうことができる。
【０１１５】
（水溶性マゼンタ染料）
本発明のインクにおける前記特定の水溶性染料が下記一般式（Ｍ−１）で表される化合物（水溶性マゼンタ染料）であることも好ましい。
本発明のインクは一般式（Ｍ−１）で表される化合物を含むことによりマゼンタインクを調製することができ、インクジェットプリンタに対する侵食性の抑制効果が顕著となる。
【０１１６】
【化１８】
2010248486.tif 000019
【０１１７】
前記一般式（Ｍ−１）中、Ａは、５員ヘテロ環ジアゾ成分Ａ−ＮＨ２の残基を表す。Ｂ１およびＢ２は、各々−ＣＲ１３＝、−ＣＲ１４＝を表すか、あるいはいずれか一方が窒素原子，他方が−ＣＲ１３＝または−ＣＲ１４＝を表す。
Ｒ１１、Ｒ１２は、各々独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、またはスルファモイル基を表わす。各基は更に置換基を有していてもよい。
Ｇ、Ｒ１３、Ｒ１４は、各々独立して、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、カルボキシル基、カルバモイル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アルキル基またはアリール基またはヘテロ環基で置換されたアミノ基、アシルアミノ基、ウレイド基、スルフアモイルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、アルキルおよびアリールスルホニルアミノ基、ニトロ基、アルキルおよびアリールチオ基、アルキルおよびアリールスルホニル基、アルキルおよびアリールスルフィニル基、スルファモイル基、ヘテロ環チオ基、またはイオン性親水性基を表す。各基は更に置換されていてもよい。また、Ｒ１３とＲ１１、あるいはＲ１１とＲ１２が結合して５〜６員環を形成してもよい。但し、一般式（Ｍ−１）は、少なくとも一つのイオン性親水性基を有する。
【０１１８】
一般式（Ｍ−１）に示される染料の好ましい具体例としては、特開２００８−１０１１７３号公報の［００３２］〜［００５２］に記載の化合物が挙げられる。
【０１１９】
（水溶性シアン染料）
本発明のインクにおける前記特定の水溶性染料が下記一般式（Ｃ−１）で表される化合物（水溶性シアン染料）であることも好ましい。
本発明のインクは下記一般式（Ｃ−１）に示される染料を含むことによりシアンインクを調製することができ、インクジェットプリンタに対する侵食性の抑制効果が顕著となる。
更に、水溶性シアン染料の５０質量％以上が、下記一般式（Ｃ−１）であることが画像の保存安定性の観点で好ましく、７０質量％以上がより好ましく、８０質量％以上であることが特に好ましい。
一般式（Ｃ−１）：
【０１２０】
【化１９】
2010248486.tif 000020
【０１２１】
前記一般式（Ｃ−１）中、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３及びＸ４は、それぞれ独立に、−ＳＯ−Ｚ、−ＳＯ２−Ｚ、−ＳＯ２ＮＶ１Ｖ２、−ＣＯＮＶ１Ｖ２、−ＣＯ２Ｚ、−ＣＯ−Ｚ及びスルホ基のいずれかを表す。ここで、Ｚは、それぞれ独立に、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のシクロアルキル基、置換若しくは無置換のアルケニル基、置換若しくは無置換のアルキニル基、置換若しくは無置換のアラルキル基、置換若しくは無置換のアリール基、又は置換若しくは無置換のヘテロ環基を表す。Ｖ１，Ｖ２は、同一または異なっていてもよく、水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のシクロアルキル基、置換もしくは無置換のアルケニル基、置換もしくは無置換のアルキニル基、置換もしくは無置換のアラルキル基、置換もしくは無置換のアリール基、置換もしくは無置換のヘテロ環基を表す。
Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３及びＹ４は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アラルキル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アミド基、アリールアミノ基、ウレイド基、スルファモイルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルコキシカルボニルアミノ基、スルホンアミド基、カルバモイル基、スルファモイル基、アルコキシカルボニル基、ヘテロ環オキシ基、アゾ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、シリルオキシ基、アリールオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニルアミノ基、イミド基、ヘテロ環チオ基、ホスホリル基、アシル基、又はイオン性親水性基を表し、各々の基はさらに置換基を有していてもよい。
ａ１〜ａ４及びｂ１〜ｂ４は、それぞれＸ１〜Ｘ４及びＹ１〜Ｙ４の置換基数を表す。
そして、ａ１〜ａ４は、それぞれ独立に、０〜４の整数であり、すべてが同時に０になることはない。ｂ１〜ｂ４は、それぞれ独立に、０〜４の整数を表す。
Ｍは、水素原子、金属原子又はその酸化物、水酸化物若しくはハロゲン化物である。ただし、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３、Ｘ４、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３及びＹ４の内の少なくとも１つは、イオン性親水性基であるか又はイオン性親水性基を置換基として有する基である。
【０１２２】
一般式（Ｃ−１）に示される染料の好ましい具体例としては、特開２００８−１０１１７３号公報の[０１３３]〜[０１４０]に記載の化合物が挙げられる。また、一般式（Ｃ−１）に示される染料は、上記公開公報の[０１４１]に引用されている各公開公報に従って合成することが可能である。
【０１２３】
（水溶性ブラック染料）
本発明のインクにおける前記特定の水溶性染料が下記一般式（Ｂ−１）で表される化合物（水溶性ブラック染料）であることも好ましい。
本発明のインクは一般式（Ｂ−１）で表される化合物を含むことによりブラックインクを調製することができ、インクジェットプリンタに対する侵食性の抑制効果が顕著となる。
【０１２４】
【化２０】
2010248486.tif 000021
【０１２５】
上記一般式（Ｂ−１）中、Ａ、Ｂは、各々独立に、置換されていてもよい芳香族基または置換されていてもよいヘテロ環基を表す（Ａは一価の基であり、Ｂは二価の基である）。
Ｔ１およびＴ２は、各々＝ＣＲ４３−および−ＣＲ４４＝を表すか、あるいはいずれか一方が窒素原子、他方が＝ＣＲ４３−または−ＣＲ４４＝を表す。
Ｖ１、Ｒ４３およびＲ４４は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、カルボキシル基、カルバモイル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、複素環オキシカルボニル基、アシル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、シリルオキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アミノ基（アルキルアミノ基、アリ−ルアミノ基、ヘテロ環アミノ基を含む）、アシルアミノ基、ウレイド基、スルファモイルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、アルキルもしくはアリールスルホニルアミノ基、ヘテロ環スルホニルアミノ基、ニトロ基、アルキル及びアリールチオ基、ヘテロ環チオ基、アルキル及びアリールスルホニル基、ヘテロ環スルホニル基、アルキル及びアリールスルフィニル基、ヘテロ環スルフィニル基、スルファモイル基、またはスルホ基を表し、各基は更に置換されていても良い。
Ｒ４１、Ｒ４２は、各々独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルまたはアリールスルホニル基、スルファモイル基を表し、各基は更に置換基を有していても良い。但し、Ｒ４１、Ｒ４２が同時に水素原子であることはない。また、Ｒ４３とＲ４１、あるいはＲ４１とＲ４２が結合して５乃至６員環を形成しても良い。
【０１２６】
一般式（Ｂ−１）に示される染料の好ましい具体例としては、特開２００８−１０１１７３号公報の［０１５２］〜［０１６６］に記載の化合物が挙げられる。
【０１２７】
上記一般式（Ｙ）で表される化合物（イエロー染料）、一般式（Ｍ−１）で表される化合物（マゼンタ染料）、一般式（Ｃ−１）で表される化合物（シアン染料）、一般式（Ｂ−１）で表される化合物（ブラック染料）に対して、色相の調整や退色速度の調整等の目的で、他の染料を併用しても良い。併用する上で好適な染料の具体例としては、例えば特開２００７−１３８１２４号公報の［０４７３］〜［０４８１］（イエロー染料の併用染料）、［０５７０］〜［０５７８］（マゼンタ染料の併用染料）、［０６６０］〜［０６６４］（シアン染料の併用染料）、［０７７９］〜［０７９２］（ブラック染料の併用染料）に記載の化合物が挙げられる。
【０１２８】
本発明のインクは、前記特定の水溶性染料を全質量中、０．５質量％〜１５質量％の範囲で含有することが好ましい。
前記特定の水溶性染料を上記範囲で含む本発明のインクは、インクジェットプリンタに対する侵食性が低減され、かつ、急激な褪色によるカラーバランスの低下を回避でき、長期での保存性に優れた画像を得ることができる。
【０１２９】
本発明のインク中の前記特定の水溶性染料が、一般式（Ｙ）で表される化合物及びその塩である場合、インク中の染料濃度は、０．５質量％〜１５質量％が好ましく、１．０〜８質量％の範囲がより好ましく、１．５質量％〜７質量％の範囲が特に好ましい。
前記イエローインクのインク中の染料濃度を０．５質量％以上に多くすると、受像紙上に大量のインクを吐出する必要がなく、高湿条件下での滲みや染料に対する有機溶剤量の過多によるインクの乾燥不良を防いで、経時での画像のカラーバランスをより保つことができる。
【０１３０】
また、前記特定の水溶性染料が、一般式（Ｙ）で表される化合物及びその塩である場合、イエローインク中の全染料の５０質量％以上の範囲で含有することが好ましい。一般式（Ｙ）で表される化合物及びその塩のイエローインク中における含有量が前記範囲内であると、急激な褪色によるカラーバランスの低下を回避でき、長期での保存性に優れた画像を得ることができるという効果が顕著となる。
一般式（Ｙ）で表される化合物及びその塩のイエローインク中における含有量としては、前記同様の理由から、全染料量に対して、７０質量％以上の範囲がより好ましく、８０質量％以上の範囲が特に好ましい。
【０１３１】
なお、本発明における一般式（Ｙ）で表される化合物を含むイエローインクは、前記一般式（Ｙ）で表される化合物及びその塩に加え、さらに他のイエロー染料を併用することができる。他のイエロー染料には、特に制限はなく、公知の染料を任意に選択して用いることができる。
【０１３２】
前記特定の水溶性染料が前記一般式（Ｍ−１）で表される化合物及びその塩であるマゼンタインクの場合、マゼンタインク中の染料濃度を０．５質量％〜１５質量％の範囲であることが好ましい。
なお、本発明における一般式（Ｍ−１）で表される化合物を含むマゼンタインクは、前記一般式（Ｍ−１）で表される化合物及びその塩に加え、さらに他のマゼンタ染料を併用することができる。他のマゼンタ染料には、特に制限はなく、公知の染料を任意に選択して用いることができる。
【０１３３】
前記特定の水溶性染料が、前記一般式（Ｃ−１）で表される化合物及びその塩である場合、本発明において、シアンインク中に含まれる水溶性シアン染料の含有量は、一般式（Ｃ−１）で表されるシアン染料の合計量が、シアンインク中に、シアンインクの総質量に対して１〜１０質量％含まれることが好ましく、１．５〜８質量％含まれることがさらに好ましい。
シアンインク中に含まれる一般式（Ｃ−１）の染料の合計量を１質量％以上にすることで、印刷したときの記録媒体上におけるインクの発色性を良好にでき、かつ必要とされる画像濃度を確保できる。また、シアンインク中に含まれる一般式（Ｃ−１）の染料の合計量を１０質量％以下にすることで、インクジェット記録方法に用いた場合にシアンインクの吐出性を良好にでき、しかもインクジェットノズルが目詰まりしにくい等の効果が得られる。
なお、本発明における一般式（Ｃ−１）で表される化合物を含むシアンインクは、一般式（Ｃ−１）で表される化合物及びその塩に加え、さらに他のシアン染料を併用することができる。他のシアン染料には、特に制限はなく、公知の染料を任意に選択して用いることができる。
【０１３４】
前記特定の水溶性染料が前記一般式（Ｂ−１）で表される化合物及びその塩であるブラックインクの場合、ブラックインク中の染料濃度を０．５質量％〜１５質量％の範囲であることが好ましい。
なお、本発明における一般式（Ｂ−１）で表される化合物を含むブラックインクは、前記一般式（Ｂ−１）で表される化合物及びその塩に加え、さらに他のブラック染料を併用することができる。他のブラック染料には、特に制限はなく、公知の染料を任意に選択して用いることができる。
【０１３５】
（水溶性有機溶媒）
本発明のインクは水溶性有機溶媒を少なくとも１種含有する。
水溶性有機溶媒としては、特に限定されず用いることができ、具体的な例としては、アルコール（例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔ−ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコール）、多価アルコール類（例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、ブチレングリコール、ヘキサンジオール、ペンタンジオール、グリセリン、ヘキサントリオール）、グリコール誘導体（例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングルコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングルコールモノメチルエーテル、エチレングリコールジアセテート、エチレングルコールモノメチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールモノプロピルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル）、アミン（例えば、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、Ｎ−メチルジエタノールアミン、Ｎ−エチルジエタノールアミン、モルホリン、Ｎ−エチルモルホリン、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、ポリエチレンイミン、テトラメチルプロピレンジアミン）、尿素、尿素誘導体およびその他の極性溶媒（例えば、ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−ビニル−２−ピロリドン、２−オキサゾリドン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、アセトニトリル、アセトン）が挙げられる。尚、前記水溶性有機溶媒は、２５℃において液体でも固体でもよい化合物であり、２種類以上を併用してもよい。
水溶性有機溶媒の使用量は、本発明における前記インク中、好ましくは１０〜８０質量％、より好ましくは２０〜６０質量％である。また本発明でいう水溶性とは、２５℃の水に対する溶解度が、１ｇ／１００ｇ以上であることを意味する。
【０１３６】
本発明のインクは、スルホキシド化合物、前記特定の水溶性染料及び前記水溶性有機溶媒と共に、さらに界面活性剤を含有することが好ましい。界面活性剤は、静的表面張力および動的表面張力の調整が行なえる。
界面活性剤としては、ノニオン系、カチオン系、又はアニオン系などの界面活性剤が挙げられる。本発明のインクでは、インクの保存安定性や吐出安定性、更に受像紙へのインクの迅速な浸透性の点で、ノニオン系界面活性剤を含有することがより好ましい。
【０１３７】
前記ノニオン系界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルアリルエーテル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルアミン、グリセリン脂肪酸エステル、オキシエチレンオキシプロピレンブロックコポリマー等を挙げることができる。中でも、吐出安定性や受像紙へのインクの迅速な浸透性の点で、アセチレンジオール系界面活性剤が好ましく、好ましい例として、アセチレングリコール系（好ましくはアセチレン系ポリオキシエチレンオキシド）界面活性剤が好ましい。アセチレングリコール系界面活性剤の例として、ＳＵＲＦＹＮＯＬＳ（ＡｉｒＰｒｏｄｕｃｔｓ＆Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ社、サーフィノール４６５など）やオルフィン（日信化学社、オルフィンＥ１０１０など）が挙げられる。
【０１３８】
前記界面活性剤のインク中における含有量としては、インク全質量に対して、０．００１〜１５質量％が好ましく、より好ましくは０．００５〜１０質量％であり、更に好ましくは０．０１〜５質量％であり、特に好ましくは０．１〜５質量％である。
界面活性剤（特にノニオン系界面活性剤）の含有量が前記範囲内であると、良好な吐出安定性が得られる点で有利である。
【０１３９】
本発明のインクには、インクの噴射口での乾操による目詰まりを防止するための乾燥防止剤、インクを紙によりよく浸透させるための浸透促進剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、粘度調整剤、表面張力調整剤、分散剤、分散安定剤、防黴剤、防錆剤、ｐＨ調整剤、消泡剤、キレート剤等の添加剤を適宜選択して適量使用することができる。これらの各種添加剤の具体例や好ましい使用量は、特開２００４−３３１８７１号公報に記載の通りである。
【０１４０】
本発明に使用されるｐＨ調整剤はｐＨ調節、分散安定性付与などの点で好適に使用する事ができ、２５℃でのインクのｐＨが４〜１１に調整されていることが好ましい。ｐＨが４未満である場合は染料の溶解性が低下してノズルが詰まりやすく、１１を超えると耐水性が劣化する傾向がある。ｐＨ調製剤としては、塩基性のものとして有機塩基、無機アルカリ等が、酸性のものとして有機酸、無機酸等が挙げられる。
【０１４１】
前記有機塩基としてはトリエタノールアミン、ジエタノールアミン、Ｎ−メチルジエタノールアミン、ジメチルエタノールアミンなどが挙げられる。前記無機アルカリとしては、アルカリ金属の水酸化物（例えば、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、水酸化カリウムなど）、炭酸塩（例えば、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウムなど）、アンモニウムなどが挙げられる。また、前記有機酸としては酢酸、プロピオン酸、トリフルオロ酢酸、アルキルスルホン酸などが挙げられる。前記無機酸としては、塩酸，硫酸、リン酸などが挙げられる。
【０１４２】
本発明において、インクは少なくとも水を含有する。水は、水もしくは水と前記水溶性有機溶媒との混合溶媒である形態で用いてもよい。
本発明において、含有する水の量には特に制限はないが、好ましい含有量は、１０〜９９質量％であり、より好ましくは３０〜８０質量％であり、更に好ましくは５０〜７０質量％である。
【０１４３】
本発明のインクを作製する際には、濾過により固形分であるゴミを除く工程がインクの安定性向上および色相の向上のために重要である。この作業には濾過フィルターを使用するが、このときの濾過フィルターとは、有効径が１μｍ以下、好ましくは０．０５μｍ以上０．３μｍ以下、より好ましくは０．２０μｍ以上０．３μｍ以下のフィルターを用いる。フィルターの材質としては種々のものが使用できるが、特に水溶性染料のインクの場合には、水系の溶媒用に作製されたフィルターを用いるのが好ましい。中でも特にゴミの出にくい、ポリマー材料で作製されたジャケット型のフィルターを用いるのが好ましい。濾過法としては送液によりジャケットを通過させてもよいし、加圧濾過、減圧濾過のいずれの方法も利用可能である。
また、濾過後には溶液中に空気を取り込むことが多い。この空気に起因する泡もインクジェット記録において画像の乱れの原因となることが多いため、本発明では脱泡工程を別途設ける。脱泡の方法としては、超音波脱泡や減圧脱泡等種々の方法が利用可能である。
【０１４４】
本発明におけるインク粘度は、２３℃において３〜１０ｍＰａ・ｓであることが好ましい。１０ｍＰａ・ｓを超えると記録画像の定着速度が遅くなり、吐出性能も低下する傾向となり、３ｍＰａ・ｓ未満では、記録画像がにじむために品位が低下する場合がある。
【０１４５】
粘度の調整は前述の水溶性有機溶媒の添加量で任意に調整可能である。また、各種高分子量ポリマーなどの粘度調節剤（増粘剤）等の添加によっても調節可能である。
【０１４６】
粘度の測定方法は、ＪＩＳのＺ８８０３に詳細に記載されているが、市販品の粘度計にて簡便に測定することができる。例えば、回転式では東京計器のＢ型粘度計、Ｅ型粘度計がある。本発明では東機産業のＥ型粘度計ＴＶ−２２により２５℃にて測定した。粘度の単位はパスカル秒（Ｐａ・ｓ）であるが、通常はミリパスカル秒（ｍＰａ・ｓ）を用いる。
【０１４７】
本発明のインクは、２３℃での静的表面張力が２５〜４０ｍＮ／ｍであることが好ましい。さらに、２３℃での静的表面張力が３０〜４０ｍＮ／ｍであることが好ましい。インクの静的表面張力が４０ｍＮ／ｍを超えると、吐出安定性の低下、混色時の滲みの発生、ひげ発生（例えば、シアンベタ上に黒文字を印字した場合などに、黒文字からヒモ状に滲みが発生することがある）などのように印字品質が著しく低下する場合がある。また、インクの静的表面張力が２５ｍＮ／ｍに満たないと、吐出時にハード表面へのインクの付着等が生じ、印字不良となる場合がある。
【０１４８】
静的表面張力測定法としては、毛細管上昇法、滴下法、吊環法等が知られているが、本発明においては、垂直板法を静的表面張力測定法として用いる。垂直板法の原理を以下に示す。
ガラスまたは白金の薄い板を液体中に一部分浸して垂直に吊るすと、液面と板との接する部分に表面張力が下向きに働く。この表面張力は板を吊るしている上向きの力と釣り合わせることで測定することができる。
本発明で用いるインクの動的表面張力は、２３℃において２５〜４０ｍＮ／ｍであることが好ましく、３０〜４０ｍＮ／ｍであることがさらに好ましい。動的表面張力が４０ｍＮ／ｍを超えると、吐出安定性の低下、混色時の滲みの発生、ひげ発生などのように印字品質が著しく低下する場合がある。また、２５ｍＮ／ｍに満たないと、吐出時にハード表面へのインクの付着等が生じ、印字不良となる場合がある。
【０１４９】
動的表面張力測定方法としては、例えば「新実験化学講座、第１８巻、界面とコロイド」［（株）丸善、ｐ．６９〜９０（１９７７）］に記載されるように、振動ジェット法、メニスカス落下法、最大泡圧法等が知られており、さらに、特開平３−２０６４号公報に記載されているような液膜破壊法が知られているが、本発明においては、動的表面張力測定法として、バブルプレッシャー差圧法を用いている。以下、その測定原理と方法を説明する。
界面活性剤を添加した溶液を撹拌して均一とし、溶液中で気泡を生成すると、新たな気−液界面が生成され、溶液中の界面活性剤分子が水の表面に一定速度で集まってくる。バブルレート（気泡の生成速度）を変化させたとき、生成速度が遅くなれば、より多くの界面活性剤が泡の表面に集まってくるため、泡がはじける直前の最大泡圧が小さくなり、バブルレートに対する最大泡圧（表面張力）が検出できる。本発明における動的表面張力測定では、大小２本のプローブを用いて溶液中で気泡を生成させ、２本のプローブの最大泡圧状態での差圧を測定し、動的表面張力を算出する。
【０１５０】
静的表面張力および動的表面張力の調整は、表面張力調整剤を用いることにより行うことができ、上記範囲とすることが可能である。
表面張力調整剤としては、ノニオン、カチオンあるいはアニオン界面活性剤が挙げられる。例えばアニオン系界面活性剤としては、脂肪酸塩、アルキル硫酸エステル塩、アルキルアリールスルホン酸塩（例えば、アルキルベンゼンスルホン酸塩、石油スルホン酸塩など）、ジアルキルスルホコハク酸塩、アルキルリン酸エステル塩、ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物、ポリオキシエチレンアルキル硫酸エステル塩等を挙げることができ、ノニオン系界面活性剤としては、アセチレン系ジオール（例えば、２，４，７，９−テトラメチル−５−デシン−４，７−ジオールなど）、ポリオキシエチレンアルキルエーテル（例えば、ポリオキシエチレンデシルエーテル、アセチレン系ジオールのエチレンオキシド付加物など）、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルアミン、グリセリン脂肪酸エステル、オキシエチレンオキシプロピレンブロックコポリマー等を挙げることができる。
【０１５１】
また、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−アルキルアミンオキシドのようなアミンオキシド型の両性界面活性剤等も好ましい。更に、特開昭５９−１５７，６３６号の第（３７）〜（３８）頁、リサーチディスクロージャーＮｏ．３０８１１９（１９８９年）記載の界面活性剤として挙げたものも使うことができる。
前記各インクからの析出や分離が起こりにくく、発泡性が少なくいことから、疎水性部位が２本鎖あるいは疎水性部位が分岐しているアニオン性界面活性剤や疎水性部位の中央付近に親水性基を有するアニオン性またはノニオン性界面活性剤、疎水性部位が２本鎖あるいは疎水性部位が分岐しているノニオン性界面活性剤が好ましい。
この目的のための界面活性剤の含有量は、インクに対して０．００１〜１５質量％、好ましくは０．００５〜１０質量％、更に好ましくは０．０１〜５質量である。
【０１５２】
なお、インクジェット記録用インクの調製方法については、特開平５−１４８４３６号、同５−２９５３１２号、同７−９７５４１号、同７−８２５１５号、同７−１１８５８４号の各公報に詳細が記載されていて、本発明のインクジェット記録用インクの調製にも利用できる。
【０１５３】
［インクジェット記録方法］
本発明のインクジェット記録方法は、インクが接する部材のすくなくとも一部に酸化シリコン層（ＳｉＯ２層）又はシランカップリング処理層を有するインクジェットプリンタを用いて、スルホキシド化合物と水溶性染料とを含有し、該スルホキシド化合物の含有量が全質量中１質量％以上１０質量％未満であるインクジェット用インクを吐出して、インクジェット記録媒体上に画像を記録することを特徴とする。
本発明は、上記構成とすることにより、酸化シリコン層又はシランカップリング処理層を有するインクジェットプリンタに対する侵食性が抑制されたインクジェット記録方法とすることができる。
そして、例えば、インクジェットプリンタヘッドにおける酸化シリコン層のインクによる層厚み減少やインクジェットプリンタヘッドのノズルプレート表面のシランカップリング処理層のインクに対する接触角の低下を抑制することができ、その結果、インクジェット用インクの均一な吐出が可能となりより鮮明な画像を得ることができ、更には、インクジェットプリンタヘッドの耐久性をも向上させることができる。
【０１５４】
本発明のインクジェット記録方法は、インクが接する部材のすくなくとも一部に酸化シリコン層（例えば、ＳｉＯ２層）又はシランカップリング処理層を有するインクジェットプリンタを少なくとも用いて構成され、これらの層のうち少なくとも１つを有するインクジェットプリンタであればよい。
ここで、「インクが接する部材」とは、インクジェット記録に用いるインクジェット用インクが接するインクジェットプリンタの部材をいい、例えば、インクジェットプリンタヘッド（単に、ヘッド）、ノズル（ノズルプレート表面を含む。）、インクタンク、圧力室、インク流路等を挙げることができる。
上記インクが接する部材の中でも、ヘッドやノズルのすくなくとも一部に、酸化シリコン層又はシランカップリング処理層を有するインクジェットプリンタを用いた場合、特に、インクが接する表面が酸化シリコン層であるインク流路及び／又は表面がシランカップリング処理層であるノズルプレートを備えたインクジェットプリンタを用いた場合に、本発明のインクジェット記録方法はヘッドやノズルの侵食の抑制効果及び均一なインク吐出性向上の効果が顕著となる点で好ましい。
【０１５５】
前記「インクが接する部材のすくなくとも一部に酸化シリコン層又はシランカップリング処理層を有する」とは、前記部材の全体又は一部に酸化シリコン層又はシランカップリング層を有することをいい、本発明においては層とは言えないような酸化シリコンを前記部材の一部に有する又はシランカップリング処理された個所を部材の一部に有することをも含むものとする。
【０１５６】
前記酸化シリコン層は、何れの方法で形成された層であって特に限定されない。
インクが接する部材のすくなくとも一部に酸化シリコン層を有する場合、インクによる層厚み減少が生じるが、本発明のインクジェット記録方法はこれを抑制することができる。
【０１５７】
また、前記シランカップリング処理された層は何れの方法で形成された層であってもよい。中でも、インクに対する侵食の抑制効果、及び均一なインク吐出性効果が顕著となる点で、シランカップリング処理された層はフッ素原子を分子内に含有するシランカップリング剤を用いて形成されたシランカップリング層であることが好ましく、更に、シランカップリング剤がフッ素原子を含有し、かつ、該シランカップリング剤を用いてシランカップリング処理層が形成されたノズルプレート表面が撥インク性である態様がより好ましい。
前記シランカップリング剤としては、例えば信越シリコーン（株）社製のＫＡ−１００３、ＫＢＭ−１００３、ＫＢＥ−１００３、ＫＢＭ−３０３、ＫＢＭ−４０３、ＫＢＥ−４０２、ＫＢＥ−４０３、ＫＢＭ−１４０３、ＫＢＭ−５０２、ＫＢＭ−５０３、ＫＢＥ−５０２、ＫＢＥ−５０３、ＫＢＭ−５１０３、ＫＢＭ−６０２、ＫＢＭ−６０３、ＫＢＥ−６０３，ＫＢＭ−９０３，ＫＢＥ−９０３，ＫＢＥ−９１０３，ＫＢＭ−５７３、ＫＢＭ−５７５、ＫＢＭ−６１２３、ＫＢＥ−５８５、ＫＢＭ−７０３、ＫＢＭ−８０２、ＫＢＭ−８０３、ＫＢＥ−８４６、ＫＢＥ−９００７、ＫＢＭ−０４、ＫＢＥ−０４、ＫＢＭ−１３、ＫＢＥ−１３、ＫＢＥ−２２、ＫＢＥ−１０３、ＨＭＤＳ−３、ＫＢＭ−３０６３、ＫＢＭ−３１０３Ｃ、ＫＰＮ−３５０４、ＫＦ−９９等が挙げられる。また、フッ素原子を分子内に含有するシランカップリング剤としては、例えば信越シリコーン（株）社製ＫＰ−８０１Ｍ、Ｘ−２４−７８９０や、Ｔ＆Ｋ（株）社製ＮＡＮＯＳ−Ｂ、ＮＡＮＯＳ−Ｙ、ＮＡＮＯＳ−ＳＧなどのＮＡＮＯＳシリーズ等が挙げられる。これらの中で、ＫＰ−８０１ＭやＸ−２４−７８９０、ＮＡＮＯＳ−Ｂ、ＮＡＮＯＳ−ＳＧ等を用いると、良好な撥インク性や耐傷性が得られ好ましい。
前記シランカップリング処理された層としては、例えばインクジェットプリンタのインクジェットヘッドノズルプレート表面等が挙げられる。
【０１５８】
また、本発明のインクジェット記録方法は、全質量中１質量％以上１０質量％未満含有されるスルホキシド化合物を少なくとも１種を含むインクジェット用インクを用いて構成される。
該スルホキシド化合物は、前記インクジェット用インクの項において記載された化合物例、好適例、及びその含有量等も同様である。
本発明は、全質量中１質量％以上１０質量％未満でスルホキシド化合物を含有するインクジェット用インクを用いたインクジェット記録方法とすることにより、インクジェットプリンタに対する侵食性が抑制でき、インク吐出性が良好となり、鮮明な画像を得ることができる。
スルホキシド化合物の含有量を１０質量％以上とするとインクジェットプリンタのインク流路やヘッド部材の侵食、劣化を抑制することができないため、インク吐出性が悪化し、鮮明な画像を得ることができない。
【０１５９】
本発明のインクジェット記録方法は、水溶性染料の少なくとも１種を含有するインクジェット用インクを用いて構成される。
水溶性染料は特に限定されず用いることができるが、中でも、前述の本発明のインクジェット用インクにおいて用いる分子内に芳香族ヘテロ環を有する水溶性染料であることが好ましく、その好ましい例及び含有量も同様である。
【０１６０】
本発明のインクジェット記録方法におけるインクジェット用インクは、上記の中でも、インクジェットプリンタに対する侵食性及びインク吐出性の点で、前述の本発明のインクジェット用インクであることが好ましく、より好ましい態様も同様である。
【０１６１】
本発明のインクジェット記録方法においては、前記インクジェット用インク及び前記インクジェットプリンタを用いて画像を記録するが、記録紙及び記録フィルム等のインクジェット記録媒体としては、公知の被記録材、すなわち普通紙、樹脂コート紙、例えば特開平８−１６９１７２号公報、同８−２７６９３号公報、同２−２７６６７０号公報、同７−２７６７８９号公報、同９−３２３４７５号公報、特開昭６２−２３８７８３号公報、特開平１０−１５３９８９号公報、同１０−２１７４７３号公報、同１０−２３５９９５号公報、同１０−３３７９４７号公報、同１０−２１７５９７号公報、同１０−３３７９４７号公報等に記載のインクジェット専用紙、フィルム、電子写真共用紙、布帛、ガラス、金属、陶磁器等を用いることができる。
【０１６２】
記録紙及び記録フィルム等のインクジェット記録媒体における支持体は、ＬＢＫＰ、ＮＢＫＰ等の化学パルプ、ＧＰ、ＰＧＷ、ＲＭＰ、ＴＭＰ、ＣＴＭＰ、ＣＭＰ、ＣＧＰ等の機械パルプ、ＤＩＰ等の古紙パルプ等を用い、必要に応じて従来の公知の顔料、バインダー、サイズ剤、定着剤、カチオン剤、紙力増強剤等の添加剤を混合し、長網抄紙機、円網抄紙機等の各種装置で製造されたもの等が使用可能である。支持体としては、これらの支持体の他に合成紙、プラスチックフィルムシートのいずれであってもよく、支持体の厚みは１０〜２５０μｍ、坪量は１０〜２５０ｇ／ｍ２が望ましい。
【０１６３】
支持体としては、両面をポリオレフィン（例、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリブテン及びこれらのコポリマー）やポリエチレンテレフタレートでラミネートした紙及びプラスチックフイルムがより好ましく用いられる。ポリオレフィン中に、白色顔料（例、酸化チタン、酸化亜鉛）又は色味付け染料（例、コバルトブルー、群青、酸化ネオジウム）を添加することが好ましい。
【０１６４】
本発明においては、上記インクジェット記録媒体の中でも、支持体上に無機微粒子を含有するインク受容層を有するインクジェット記録媒体が好ましい。以下、支持体上に設けられるインク受容層について説明する。
インク受容層は、多孔質材料や水性バインダーを用いて形成できる。また、インク受容層には、無機微粒子として顔料を含む場合が好ましく、顔料としては、白色顔料が好ましい。白色顔料としては、炭酸カルシウム、カオリン、タルク、クレー、珪藻土、合成非晶質シリカ、珪酸アルミニウム、珪酸マグネシウム、珪酸カルシウム、水酸化アルミニウム、アルミナ、リトポン、ゼオライト、硫酸バリウム、硫酸カルシウム、二酸化チタン、硫化亜鉛、炭酸亜鉛等の無機白色顔料、スチレン系ピグメント、アクリル系ピグメント、尿素樹脂、メラミン樹脂等の有機顔料等が挙げられる。特に好ましくは、多孔性の白色無機顔料がよく、特に細孔面積が大きい合成非晶質シリカ等が好適である。合成非晶質シリカは、乾式製造法（気相法）によって得られる無水珪酸及び湿式製造法によって得られる含水珪酸のいずれも使用可能である。
【０１６５】
前記顔料をインク受容層に含有するインクジェット記録媒体としての記録紙としては、具体的には、特開平１０−８１０６４号、同１０−１１９４２３号、同１０−１５７２７７号、同１０−２１７６０１号、同１１−３４８４０９号、特開２００１−１３８６２１号、同２０００−４３４０１号、同２０００−２１１２３５号、同２０００−３０９１５７号、同２００１−９６８９７号、同２００１−１３８６２７号、特開平１１−９１２４２号、同８−２０８７号、同８−２０９０号、同８−２０９１号、同８−２０９３号、同８−１７４９９２号、同１１−１９２７７７号、特開２００１−３０１３１４号などの各公報に記載のものを用いることができる。
【０１６６】
前記水性バインダーとしては、ポリビニルアルコール、シラノール変性ポリビニルアルコール、デンプン、カチオン化デンプン、カゼイン、ゼラチン、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ポリビニルピロリドン、ポリアルキレンオキサイド、ポリアルキレンオキサイド誘導体等の水溶性高分子、スチレンブタジエンラテックス、アクリルエマルジョン等の水分散性高分子等が挙げられる。これらの水性バインダーは単独又は２種以上併用して用いることができる。中でも特に、ポリビニルアルコール、シラノール変性ポリビニルアルコールが顔料に対する付着性、インク受容層の耐剥離性の点で好適である。
【０１６７】
インク受容層は、顔料及び水性バインダーのほか、媒染剤、耐水化剤、耐光性向上剤、耐ガス性向上剤、界面活性剤、硬膜剤その他の添加剤を含有することができる。なお、インク受容層中に含まれる媒染剤は、不動化されていることが好ましい。そのためには、ポリマー媒染剤が滲み防止の点で好ましく用いられる。
【０１６８】
本発明のインクジェット記録方法において、インクジェット用インクの吐出に用いるインクジェット方式には、特に制限はなく、公知の方式、例えば静電誘引力を利用してインクを吐出させる電荷制御方式、ピエゾ素子の振動圧力を利用するドロップオンデマンド方式（圧力パルス方式）、電気信号を音響ビームに変えインクに照射して放射圧を利用してインクを吐出させる音響インクジェット方式、及びインクを加熱して気泡を形成し、生じた圧力を利用するサーマルインクジェット（バブルジェット（登録商標））方式等を適用することができる。インクジェット方式には、フォトインクと称する濃度の低いインクを小さい体積で多数射出する方式、実質的に同じ色相で濃度の異なる複数のインクを用いて画質を改良する方式や無色透明のインクを用いる方式が含まれる。
【実施例】
【０１６９】
以下に実施例を挙げて本発明を更に具体的に説明する。本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。尚、特に断りの無い限り、「部」及び「％」は質量基準である。
【０１７０】
［実施例１］
［ブラックインクの作製］
＜ブラックインクＫ−１０１の調製＞
下記の成分にイオン交換水を加え１０００ｇとした後、３０〜４０℃で加熱しながら１時間撹拌した。その後、平均孔径０．２μｍのミクロフィルターで加圧濾過してブラックインク（Ｋ−１０１）を調製した。
【０１７１】
〔ブラックインク：Ｋ−１０１処方〕
（固形分）
・ブラック染料（下記構造式のブラック染料Ｋ−１のカリウム塩）          ６０．０ｇ
・プロキセルＸＬ−２（アーチ・ケミカルズ・ジャパン（株）製）            １．０ｇ
（液体成分）
・グリセリン                                                              ８１ｇ
・トリエチレングリコール                                                  ９６ｇ
・トリエチレングリコールモノブチルエーテル                                ９１ｇ
・プロピレングリコール                                                      ３ｇ
・オルフィンＥ１０１０（日信化学工業（株）製；アセチレンジオールのエチレンオキサイド（１０モル）付加物（ノニオン系界面活性剤））                          ２０ｇ
・メチオニンスルホキシド                                                  ５０ｇ
・イオン交換水                                                          ５９８ｇ
（固形分及び液体成分の全体で１０００ｇになるように添加）
【０１７２】
【化２１】
2010248486.tif 000022
【０１７３】
[実施例２]
＜イエローインクＹ−１０１の調製＞
実施例１において、ブラック染料（ブラック染料Ｋ−１のカリウム塩）を、下記構造式のイエロー染料Ｙ−１のカリウム塩に変更した以外は、実施例１と同様に行い、表１に記載のインクを調製した。
【０１７４】
【化２２】
2010248486.tif 000023
【０１７５】
［実施例３、４］
＜イエローインクＹ−１０２、１０３の調製＞
実施例２において、メチオニンスルホキシドの含有量を、表１に記載の含有量に変更した以外は、実施例２と同様に行い表１に記載のインクを調製した。
【０１７６】
［実施例５］
＜イエローインクＹ−１０４の調製＞
実施例２において、メチオニンスルホキシドを表１のスルホキシド化合物に変更した以外は、実施例２と同様に行い表１に記載のインクを調製した。
【０１７７】
［比較例１］
＜ブラックインクＫＣ−１０１の調製＞
実施例１において、メチオニンスルホキシドをイオン交換水に置き換えた以外は実施例１と同様にして、インクを調製した。
【０１７８】
［比較例２］
＜イエローインクＹＣ−１０１の調製＞
実施例２において、メチオニンスルホキシドの含有量を、表１に記載の含有量に変更した以外は実施例２と同様にして、インクを調製した。
【０１７９】
［比較例３］
＜イエローインクＹＣ−１０２の調製＞
実施例２において、メチオニンスルホキシドをイオン交換水に置き換えた以外は実施例２と同様にして、インクを調製した。
【０１８０】
［評価］
＜ヘッド部材の侵食性評価＞
（Ａ）酸化シリコン表面保護膜（酸化シリコン層）の侵食性
熱酸化により酸化シリコン被膜（膜厚１００ｎｍ）が表面に形成された２ｃｍ×２ｃｍの大きさのシリコン基板を、実施例及び比較例で得られたインク５０ｍｌに浸漬させて、密封状態で６０℃×１００時間放置した。その後、前記インク中からシリコン基板を取り出し、酸化シリコン被膜の膜厚を自動偏光解析装置エリプソメーター（ハイソル（株）社製）を用いて測定し、酸化シリコン被膜の膜厚の浸漬前後で差を算出することにより、酸化シリコン被膜の減少分を求めた。
酸化シリコン被膜の減少分が少ないほど良好である。インクの侵食による酸化シリコン被膜の減少分が多い場合には、予め酸化シリコン被膜を厚く形成する必要が生じるが、その際に酸化シリコン被膜によるストレインなどによる変形等が発生する場合があり、好ましくない。
【０１８１】
（Ｂ）シランカップリング層（撥インク膜）の接触角による侵食性
ｂ１）シランカップリング層（撥インク膜）の作製
上記テストで用いた基板と同様に表面に熱酸化シリコン被膜が形成されたシリコン基板の表面を、Ａｒ気体中で酸素ガスでエッチングして表面を活性化した後、フッ素原子を含有したシランカップリング剤（製品名：ＮＡＮＯＳ−Ｂ  Ｔ＆Ｋ（株）製）を用いてシランカップリング処理を行う事で、表面にシランカップリング層を２０ｎｍの厚みで形成して撥インク化した。
【０１８２】
ｂ２）シランカップリング層に対する接触角評価
上記で作製された撥インク性シリコン基板の表面に対する上記実施例及び比較例で得られたインクの浸漬前の接触角を、接触角計ドロップマスターＤＭ７００（協和界面科学（株）社製）を用いて算出した。
これとは別に、上記で得られた撥インク性シリコン基板を、２ｃｍ×４ｃｍに切断した後、実施例及び比較例で得られたインクの５０ｍｌに浸漬させて、密封状態で４５℃×１００時間放置した。その後、インク中からシリコン基板を取り出し、浸漬前の接触角の測定と同様にインクに対する接触角を求め、接触角の変化の度合いを評価した。
【０１８３】
（Ｃ）シランカップリング層（撥インク膜）に対するインク切れ評価
上記で作製された撥インク性シリコン基板を、２ｃｍ×３ｃｍに切断した後、５０ｍｌのインクに浸漬させて、浸した状態から基板を１０ｃｍ／ｓの速度で引き上げ、基板全面に付着したインクが基板から離れるまでの時間（インク切れ時間）を評価した。評価は、以下の基準により行った。
（評価基準）
○：インク切れ時間が３秒未満
△：インク切れ時間が３秒以上〜５秒未満
×：インク切れ時間が５秒以上
【０１８４】
＜インクの吐出性テスト＞
ノズルプレートの表面が撥インク処理されているフジフイルムディマティックス（株）社製インクジェットプリンタＤＭＰ−２８３１のヘッド部分を、上記で得られた実施例及び比較例の前記インク１００ｍｌ中に浸漬させて、密封状態で４５℃×１００時間放置した。その後、インク中からヘッド部分を取り出し、イオン交換水で洗浄・乾燥した後、ヘッド部分を前記プリンタに装填し、インクをヘッド内に充填した。インクジェット受像紙として、富士フイルム（株）社製「画彩Ｖａｌｕｅ」をセットし、テストパターンを印画して評価した。
（評価基準）
○：鮮明に印画できた。
△：かすれが一部発生した。
×：インクの吐出方向がずれ、鮮明に印画できなかった。
【０１８５】
【表１】
2010248486.tif 000024
【０１８６】
上記表１の結果から、インクが接する部材に酸化シリコン又はシランカップリング剤により形成された撥インク膜が使用されているプリンタに、本発明におけるスルホキシド化合物を特定量添加したインクを用いる事で、ヘッド部材に対するインクの侵食性が改良され、長期間使用しても良好な吐出性が得られる事がわかる。また、実施例１と実施例２の比較により、特定の染料との組み合わせで、さらに好ましい効果が得られる事がわかる。