(57)【要約】      （修正有）【課題】下地基板と装置自体との係合箇所のかじりおよび破損を簡単な構成で防止することができる下地基板保持装置を提供する。【解決手段】下地基板保持装置１２は、案内溝部１８と下地基板１１の案内突部１４とを係合させつつ、支持部１７の支持面２０で下地基板１１の自重を着脱可能に支持する。案内溝部１８よりも案内突部１４のほうが幅方向Ｙの突出量が大きくなるように、両者が形成される。下地基板１１が幅方向Ｙにずれる場合、案内突部１４の垂直な第２案内面２２と案内溝部１８の垂直な第４案内面２４とが接触して、下地基板１１をずれ方向に拘束する。【選択図】図３
2010116311.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体材料または金属材料が溶融した溶湯に浸漬される平坦な浸漬面を有する板状の浸漬部と、前記浸漬部の前記浸漬面とは反対側の裏面から突出し、前記裏面から垂直な方向に離反するにつれて水平な移動方向と直交する幅方向外方に延びる第１案内面、および第１案内面よりも幅方向外方に形成され、前記裏面に垂直に延びる第２案内面を有する一対の案内突部とを含む下地基板と、
前記下地基板の着脱時に前記浸漬部の裏面を前記一対の案内突部の幅方向両側で着脱可能に支持する支持面が形成される一対の支持部と、
前記支持部の支持面の幅方向内方側から延び、かつ前記下地基板の着脱時に前記第１案内面に対向する第３案内面、および該第３案内面よりも幅方向外方に形成され、着脱時に前記第２案内面に対向しかつ該第２案内面と平行な第４案内面が形成され、前記着脱時に前記案内突部と係合する一対の案内溝部とを含み、
前記各案内突部の前記第１案内面の幅方向内方端から前記第２案内面までの幅方向の突出量は、前記各案内溝部の前記第３案内面の幅方向内方端から前記第４案内面までの幅方向の突出量よりも大きく形成されることを特徴とする下地基板保持装置。
【請求項２】
前記案内溝部は、前記支持部が前記下地基板を支持する間に前記下地基板が前記案内溝部に対して前記浸漬部裏面に垂直な軸線まわりに相対的に角変位したとき、前記案内突部の第２案内面の端と前記案内溝部の第４案内面とが前記垂直な軸線に平行に線接触して、前記下地基板を角変位方向に拘束することを特徴とする請求項１記載の下地基板保持装置。
【請求項３】
前記案内溝部の第４案内面には、前記案内溝部の前記移動方向中央部よりも前記案内溝部の進入側端部が、前記一対の案内溝部の第４案内面間の前記幅方向の間隔が大きくなるように傾斜するテーパ部がそれぞれ形成されることを特徴とする請求項１または２に記載の下地基板保持装置。
【請求項４】
前記一対の支持部および案内溝部は、前記移動方向に平行な旋回軸線まわりに角変位可能に形成され、
前記支持面が前記下地基板の自重を支持する姿勢から前記旋回軸線まわりに１８０度角変位した姿勢においては、前記案内突部および前記案内溝部が係合して、前記下地基板の自重を前記案内溝部の第３案内面で支持することを特徴とする請求項１〜３のうちのいずれか１つに記載の下地基板保持装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、溶解された被析出材料を下地基板上に凝固成長させて析出板を得る析出板製造装置内において、下地基板を保持するための下地基板保持装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
析出板製造装置は、溶解された被析出材料である溶湯に下地基板を浸漬させ、下地基板上に被析出材料を凝固成長させることによって、析出板を得る。被析出材料は、たとえば、半導体材料または金属材料によって実現される。析出板製造装置内部において、前記下地基板は、下地基板保持装置に着脱可能に支持された状態で移動させられる。
【０００３】
第１の従来技術の下地基板保持装置は、真空吸着を用いて下地基板を支持することによって、下地基板の着脱を容易に行う。溶融シリコンの溶湯に下地基板を浸漬してシリコンを析出させる際、下地基板の浸漬する側の一方面と該下地基板の反対側の他方面とに温度差が生じるので、下地基板自体に反りが発生してしまう。このため、真空吸着方式の下地基板保持装置では、下地基板を確実に保持することができなくなる。また真空吸着方式の下地基板保持装置は、真空を引くための配管によって装置構成が複雑になるという問題がさらに生じる。
【０００４】
このため、第２の従来技術として、特許文献１の下地基板保持装置が、出願人から提案されている。第２の従来技術の下地基板保持装置は、下地基板の保持に弾性部材を用いることによって、装置の構成を単純にして部品点数を減少させ、下地基板の着脱を容易に行えるようにしている。
【０００５】
図１１は、第２の従来技術の下地基板保持装置１の構成を示す正面図である。図１２は、図１１の下地基板保持装置１の構成を示す斜視図である。図１１の下地基板保持装置１は、析出板製造装置内部に備えられる。析出板製造装置は、下地基板保持装置１の他に、下地基板２、不図示の析出機構、チャンバ４、浸漬アーム５、真空ポンプ６、および不図示の不活性ガス供給部を含む。下地基板保持装置１は、保持可動部７と、保持固定部８と、弾性部材９とを含む。
【０００６】
析出機構は、下地基板２を溶湯に浸漬させて該下地基板２の一方面上に結晶シリコンを析出させる。析出機構の搬送手段である浸漬アーム５の先端には、下地基板保持装置１が取付けられる。下地基板保持装置１は、浸漬アーム５に装着された状態で、析出機構とともに、析出板製造装置のチャンバ４内に配置される。下地基板保持装置１は、真空ポンプ６と不図示の不活性ガス供給部とによって雰囲気調整されたチャンバ４内で、下地基板２を着脱可能に保持する。
【０００７】
最初に、下地基板２が下地基板保持装置１内の所定の保持位置に装着され、次いで、浸漬アーム５が下地基板保持装置１とともに下地基板２を移動させて該下地基板２を析出機構の溶湯に浸漬させる。被析出材料の析出後、浸漬アーム５が下地基板保持装置１ごと下地基板２を移動させることによって該下地基板２を溶湯から離反させ、次いで、保持中の下地基板２が下地基板保持装置１から離脱させる。
【０００８】
下地基板保持装置１における下地基板２の保持手法は、以下のように行われる。保持固定部８は、下地基板２を保持する一方の保持部材である。保持可動部７は、下地基板２を保持する他方の保持部材であって、保持固定部８に対して相対変位可能に設けられる。保持可動部７と保持固定部８との間に、下地基板２が保持される。弾性部材９は、弾性変形することによって、下地基板２が落下することなく保持されるように、保持可動部７と保持固定部８との相対位置を変化させる。
【０００９】
詳しくは、ガイド体である保持固定部８には、断面形状が逆Ｃ形状である蟻溝部が形成される。下地基板２の他方面には、保持固定部８の蟻溝部と係合させることができる形状の突起である蟻溝係合凸部が形成される。下地基板２の装着時に、下地基板が外部から下地基板保持装置３の所定の保持位置に向かって搬送されるのに伴い、下地基板２の蟻溝係合凸部は下地基板保持装置１の蟻溝部の端から挿入されて該蟻溝部に嵌込みつつ進む。下地基板が下地基板保持装置１に保持される間、下地基板２の蟻溝係合凸部と保持固定部８の蟻溝部とが係合している。
【００１０】
【特許文献１】特開２００６−１６９０５２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
上述したように、下地基板を真空吸着して保持する第１の従来技術の下地基板保持装置は、溶融材料の析出時に下地基板の表裏の温度差に起因する反りが生じるため、下地基板の確実な保持が難しい。また第１の従来技術の下地基板保持装置は、真空吸着のための機構が複雑なので、装置構成の簡略化が困難である。
【００１２】
また上述したように、弾性部材を用いる第２の従来技術の下地基板保持装置１では、下地基板２が下地基板保持装置１に装着される際に、下地基板２の蟻溝係合凸部は下地基板保持装置１の蟻溝部の端から挿入されて、該蟻溝部に嵌込みつつ該蟻溝部に沿って進む。下地基板２と基板保持装置５との基板移動方向に対する幅方向のずれが大きい場合、蟻溝部の斜面部と蟻溝部の上面部との間で下地基板２の蟻溝係合凸部がくさび状に拘束される。これによって、下地基板保持装置１と下地基板２との係合箇所にかじりおよび破損が生じる恐れがある。ゆえに、前記幅方向のずれが大きい場合、下地基板保持装置１が下地基板２を損傷なく装着することは難しい。
【００１３】
また、第２の従来技術の下地基板保持装置１では、析出板形成前に装置３外部から下地基板保持装置１が下地基板２を受取り、析出板形成後に下地基板保持装置１から装置３外部へ下地基板が送られる。下地基板の送受に先立って下地基板２の受渡し位置を確認すると、下地基板２の熱膨張に起因して、下地基板２および下地基板保持装置１の相対位置が熱時と冷時で異なるため、ずれを修正する調整作業が必要である。ゆえに第２の従来技術の下地保持装置３では、下地基板２の着脱時の挙動が複雑化する。
【００１４】
本発明の目的は、下地基板と装置自体との係合箇所のかじりおよび破損を簡単な構成で防止することである。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明は、半導体材料または金属材料が溶融した溶湯に浸漬される平坦な浸漬面を有する板状の浸漬部と、前記浸漬部の前記浸漬面とは反対側の裏面から突出し、前記裏面から垂直な方向に離反するにつれて水平な移動方向と直交する幅方向外方に延びる第１案内面、および第１案内面よりも幅方向外方に形成され、前記裏面に垂直に延びる第２案内面を有する一対の案内突部とを含む下地基板と、
前記下地基板の着脱時に前記浸漬部の裏面を前記一対の案内突部の幅方向両側で着脱可能に支持する支持面が形成される一対の支持部と、
前記支持部の支持面の幅方向内方側から延び、かつ前記下地基板の着脱時に前記第１案内面に対向する第３案内面、および該第３案内面よりも幅方向外方に形成され、着脱時に前記第２案内面に対向しかつ該第２案内面と平行な第４案内面が形成され、前記着脱時に前記案内突部と係合する一対の案内溝部とを含み、
前記各案内突部の前記第１案内面の幅方向内方端から前記第２案内面までの幅方向の突出量は、前記各案内溝部の前記第３案内面の幅方向内方端から前記第４案内面までの幅方向の突出量よりも大きく形成されることを特徴とする下地基板保持装置である。
【００１６】
また本発明は、前記案内溝部は、前記支持部が前記下地基板を支持する間に前記下地基板が前記案内溝部に対して前記浸漬部裏面に垂直な軸線まわりに相対的に角変位したとき、前記案内突部の第２案内面の端と前記案内溝部の第４案内面とが前記垂直な軸線に平行に線接触して、前記下地基板を角変位方向に拘束することを特徴とする。
【００１７】
また本発明は、前記案内溝部の第４案内面には、前記案内溝部の前記移動方向中央部よりも前記案内溝部の進入側端部が、前記一対の案内溝部の第４案内面間の前記幅方向の間隔が大きくなるように傾斜するテーパ部がそれぞれ形成されることを特徴とする。
【００１８】
また本発明は、前記一対の支持部および案内溝部は、前記移動方向に平行な旋回軸線まわりに角変位可能に形成され、
前記支持面が前記下地基板の自重を支持する姿勢から前記旋回軸線まわりに１８０度角変位した姿勢においては、前記案内突部および前記案内溝部が係合して、前記下地基板の自重を前記案内溝部の第３案内面で支持することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１９】
本発明によれば、下地基板保持装置は、浸漬部および一対の案内突部を有する下地基板と一対の支持部と一対の案内溝部とを含む。板状の浸漬部の表側に浸漬面が形成され、該浸漬部の裏側に案内突部が突出する。下地基板は、浸漬部裏面を支持部の支持面に案内突部の幅方向外方で支持されつつ、水平な移動方向に沿って前記支持部に着脱される。下地基板の着脱時に、下地基板の案内突部と案内溝部とが係合する。
【００２０】
案内突部は第１案内面と第２案内面とを有する。案内溝部は、第３案内面と第４案内面とを有する。第１案内面は、裏面から突出し、かつ裏面から垂直な方向に離反するにつれて幅方向外方に延びる斜面である。第２案内面は、第１案内面の幅方向外方端よりも外側に形成され、浸漬部裏面に垂直な面である。案内溝部の第３案内面は、支持面の幅方向内方側から延び、かつ着脱時に案内突部の第１案内面に対向する斜面である。案内溝部の第４案内面は、第３案内面よりも幅方向外方に形成され、案内突部の第２案内面に対向し、かつ第２案内面に平行に延びる垂直面である。
【００２１】
各案内溝部の第３案内面の幅方向内方端から第４案内面までの幅方向の突出量よりも各案内突部の第１案内面の幅方向内方端から第２案内面までの幅方向の突出量のほうが大きくなるように、第１案内面〜第４案内面が形成される。これによって、下地基板が幅方向一方側に横ずれする場合、案内突部の第２案内面が案内溝部の第４案内面に面状に当接する。この結果、案内突部と支持部および案内溝部との間に楔状の噛込みが生じないので、ずれ方向に垂直な分力が前記下地基板と支持部および案内溝部との接触箇所に対して働かない。したがって、本発明の下地基板保持装置は、下地基板と支持部および案内溝部との接触箇所のかじりおよび破損を防止することができる。
【００２２】
また本発明によれば、前記下地基板保持装置は、下地基板が案内溝部に対して浸漬部裏面に垂直な軸線まわりに相対的に傾いた場合、案内突部の第２案内面の端と前記案内溝部の第４案内面とが前記垂直な軸線に平行に線接触することによって前記下地基板を角変位方向に拘束する。このように本発明では、下地基板の案内突部の垂直面である第２案内面の移動方向前端の稜と案内溝部の垂直面である第４案内面とが線接触する。これによって、本発明の下地基板保持装置は、案内突部ならびに案内溝部の磨耗およびカジリを、従来技術よりも低減することができる。
【００２３】
また本発明によれば、前記下地基板保持装置において、前記一対の案内溝部の第４案内面は、前記幅方向に間隔をあけて形成される。前記各第４案内面には、前記移動方向に対する傾斜が付けられたテーパ部が、それぞれ形成される。一対の第４案内面のテーパ部の傾斜は、前記一対の第４案内面間の前記幅方向の間隔が前記移動方向に沿って大きくなるように付されている。かつ、前記案内溝部の前記移動方向中央部よりも前記案内溝部の進入側端部のほうが、前記一対の第４案内面間の前記幅方向の間隔が大きい。これによって、案内突部が第４案内面のテーパ部に沿って進行する間に、下地基板の横ずれおよび角変位が低減される。
【００２４】
このように、本発明の下地基板保持装置は、大きな横ずれおよび大きな角変位が生じていても、第４案内面のテーパ部で下地基板の姿勢の補正が可能である。ゆえに、本発明の下地基板保持装置は、案内突部ならびに案内溝部のかじりおよび破損を防止することができると共に、外部から支持部への下地基板の受渡し可能なずれの範囲を拡大させることができる。これによって、本発明の下地基板保持装置は、受渡し可能範囲内に熱変形による相対ずれ量を収めることによって、熱時と冷時の間の下地基板の位置調整作業を省略することができる。
【００２５】
また本発明によれば、前記下地基板保持装置の前記支持部および前期案内溝部は、前記移動方向に平行な旋回軸線まわりに角変位可能に形成される。前記支持面が下地基板の自重を支持する姿勢から前記旋回軸線まわりに１８０度角変位した姿勢を前記支持部および前記案内溝部が保つ間、前記案内突部と前記案内溝部とが係合する。前記１８０度角変位した姿勢が保持される間、前記下地基板の自重は、前記案内溝部の第３案内面と前記案内突部の第１案内面との接触によって、すなわち前記案内溝部と前記案内突部との斜面どうしの接触によって支持される。これによって、本発明の下地基板保持装置は、前記支持面が下地基板の自重を支持する姿勢だけでなく、前記１８０度角変位した姿勢でも、下地基板の安定した保持が可能である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
図１は、本発明の実施の一形態である下地基板保持装置１２の構成を簡略化して示す斜視図である。図２は、図１の下地基板保持装置１２の構成を模式的に示す斜視図である。図３は、図１の下地基板保持装置１２のＡ−Ａ断面図である。図４は、図３の下地基板保持装置１２の断面図の部分拡大図である。図１〜図４を併せて説明する。
【００２７】
下地基板保持装置１２は、下地基板１１を着脱可能に保持するためのチャッキング部である。下地基板１１は、たとえば、溶融させた被析出材料に浸漬して溶融材料を凝固成長させるために用いられる。被析出材料とは、たとえば、半導体材料または金属材料で実現される。
【００２８】
下地基板１１は、浸漬部１３と一対の案内突部１４とを含む。浸漬部１３は平坦な一対の面を有する板状の部材であって、表側の一方面が浸漬面１５を形成する。浸漬面１５は、被析出材料が溶融した溶湯に浸漬され、溶融した被析出材料を浸漬面１５自身の上に凝固成長させる。浸漬部１３の裏面１６が、着脱時における下地基板１１の被支持面として機能する。浸漬部１３の裏面１６とは、浸漬部１３において浸漬面１５とは反対側の他方面である。一対の案内突部１４は、浸漬部１３の裏面１６から突出する。
【００２９】
以後の説明では、下地基板１１の浸漬部１３の裏面１６の法線に平行な方向を「垂直方向Ｚ」と称する。また、垂直方向Ｚに直交する仮想平面内において下地基板保持装置１２に対して下地基板１１が着脱される方向を「移動方向Ｘ」と称する。さらに、前記仮想平面内で垂直方向Ｚおよび移動方向Ｘに直交する軸線沿いの方向を「幅方向Ｙ」と称する。上述の各方向Ｘ，Ｙ，Ｚにはそれぞれ相反する２つの向きがあるが、特に指定しない限り、向きは限定しないものとする。
【００３０】
下地基板保持装置１２は、一対の支持部１７と一対の案内溝部１８とを含む。一対の支持部１７は、移動方向Ｘおよび幅方向Ｙに平行な平面である支持面２０を有する。下地基板１１の着脱時に、支持部１７の支持面２０は、浸漬部裏面１６内の案内突部１４よりも幅方向Ｙ外方の位置で該裏面１６と接触し、下地基板１１の自重を支持する。下地基板１１は、浸漬部裏面１６が鉛直方向と直交する姿勢で、支持部支持面２０に自重を支持させつつ、水平な移動方向Ｘに沿って支持部１７上を移動する。これによって、下地基板１１が下地基板保持装置１２に着脱される。かつ、着脱中に、下地基板１１の案内突部１４は、下地基板保持装置１２の案内溝部１８に、水平な移動方向Ｘに沿って係合する。
【００３１】
下地基板１１の案内突部１４は、第１案内面２１と第２案内面２２とを有する。下地基板保持装置１２の案内溝部１８は、第３案内面２３と第４案内面２４とを有する。案内突部１４の第１案内面２１は、浸漬部裏面１６に対して交差する斜面であって、移動方向Ｘと平行であり、裏面１６から垂直な方向に離反するにつれて幅方向Ｙ外方に延びる。案内突部１４の第２案内面２２は、浸漬部裏面１６に対して垂直な面であって、第１案内面２１の幅方向Ｙ外方辺よりも外側に形成される。案内溝部１８の第３案内面２３は、支持部１７の支持面２０と交差する斜面であって、支持面２０の幅方向Ｙ内方側から延び、かつ着脱時に案内突部１４の第１案内面２１に対向するように形成される。案内溝部１８の第４案内面２４は、着脱時に、第３案内面よりも幅方向Ｙ外方に形成され、案内突部１４の第２案内面２２に対向し、かつ第２案内面２２に平行に形成される。
【００３２】
図３は、図１の下地基板保持装置１２の幅方向Ｙに平行な断面を示す。図３に示すように、各案内突部１４の第１案内面２１の幅方向内方端から第２案内面２２までの幅方向Ｙの突出量ＷＯＵＴｙ１が各案内溝部１８の第３案内面２３の幅方向内方端から第４案内面２４までの幅方向Ｙの突出量ＷＩＮｙ１よりも大きくなるように、第１案内面２１〜第４案内面２４が形成される。すなわち、案内突部１４の幅方向Ｙ外方側が第１案内面２１と第２案内面２２とによって「く」の字型に張出す。また案内溝部１８の幅方向Ｙ内方側が第３案内面２３と第４案内面２４とによって「く」の字型に窪む。
【００３３】
これによって、本実施形態の下地基板保持装置１２では、下地基板１１が幅方向Ｙに平行に横ずれする場合、案内突部１４の第１案内面２１が案内溝部１８の第３案内面２３に当接する前に、案内突部１４の第２案内面２２が案内溝部１８の第４案内面２４に面状に当接する。この結果、案内突部１４と案内溝部１８との間に楔状の噛込みが生じないので、案内突部１４と案内溝部１８との接触箇所に対してずれ方向に垂直な分力が働かない。したがって、下地基板保持装置１２は、案内突部１４と案内溝部１８との接触箇所におけるかじりおよび破損を防止することができる。
【００３４】
すなわち、下地基板１１の着脱時において、下地基板１１の自重が水平な支持面２０で支持されるように、支持部１７が配置される。かつ、下地基板１１と下地基板保持装置１２とが移動方向Ｘに対し幅方向Ｙに互いにずれた場合、案内突部１４と案内溝部１８とがずれに対して垂直な面で面接触するように、案内突部１４および案内溝部１８の幅方向Ｙの突出量が調整されている。これによって、下地基板保持装置１２が下地基板１１をずれ方向に拘束するので、下地基板１１と支持部１７および案内溝部１８との相対位置の横ずれが抑制される。
【００３５】
このように、下地基板１１が下地基板保持装置１２に対して幅方向Ｙにずれた場合、下地基板１１と下地基板保持装置１２との接触箇所がずれ方向に対して垂直な面状になるので、ずれ方向に垂直な分力が前記接触箇所に対して働かない。このため、従来技術の下地基板保持装置よりも本発明の下地基板保持装置１２のほうが、下地基板１１と下地基板保持装置１２との係合箇所においてくさび状の拘束が発生しにくい。したがって、図１の下地基板保持装置１２は、前記係合箇所のかじりおよび破損を防止することができる。
【００３６】
また、下地基板保持装置１２は、下地基板１１と支持部１７とが垂直方向Ｚに平行な軸線まわりに相対的に角変位した場合、案内突部１４の第２案内面２２と案内溝部１８の第４案内面２４とが垂直方向Ｚに平行な線状に接触することによって、下地基板１１を角変位方向に拘束する。すなわち、下地基板１１の第２案内面２２と案内溝部１８とが鉛直線状に接触することによって、下地基板１１と支持部１７との相対位置の角変位ずれが抑制される。
【００３７】
従来技術において、下地基板１１が垂直方向Ｚ回りに角変位した場合、案内突部１４の移動方向Ｘ前端の頂点と案内溝部１８の第３案内面２３とが点接触するので、案内突部１４ならびに案内溝部１８に磨耗およびカジリが発生する。本実施形態では、各案内突部１４の幅方向Ｙの突出量が各案内溝部１８の幅方向Ｙの突出量よりも大きくなるように、第１案内面２１〜第４案内面２４が形成されるので、案内突部１４の移動方向Ｘ前端の稜と案内溝部１８の第４案内面２４とが線接触する。このため、従来技術の下地基板保持装置よりも本発明の下地基板保持装置１２のほうが、案内突部１４および案内溝部１８の磨耗およびカジリをさらに低減することができる。
【００３８】
本実施形態において、詳しくは、垂直方向Ｚに対する第１案内面２１の傾斜角θＯＵＴ１は、垂直方向Ｚに対する第３案内面２３の傾斜角θＩＮ１と相互に等しい。かつ、第１案内面２１の幅方向Ｙの突出量ＷＯＵＴｙ１よりも第３案内面２３の幅方向Ｙの突出量ＷＩＮｙ１のほうが小さいだけでなく、第１案内面２１の垂直方向Ｚの突出量ＷＯＵＴｚ１よりも第３案内面２３の垂直方向Ｚの突出量ＷＩＮｚ１のほうが小さい。これによって、下地基板１１と支持部１７および案内溝部１８とが相互にずれた場合、案内突部１４の第１案内面２１と案内溝部１８の第３案内面２３とが確実に接触せず、案内突部１４の第２案内面２２と案内溝部１８の第４案内面２４とが接する。これによって、斜面である第１案内面２１および第３案内面２３が接触することに起因するかじり等がより確実に防止される。
【００３９】
なお、以上の説明では、下地基板１１に案内突部１４が形成され、下地基板保持装置
３２に案内溝部１８が形成されている。これとは逆に、下地基板１１に案内溝部１８が形成され、下地基板保持装置１２に案内突部１４が形成されても良い。以後の説明では、案内突部１４および案内溝部１８の少なくとも一方を「案内部」と総称することがある。
【００４０】
前述したように、下地基板１１の案内突部１４は一対の第２案内面２２を有し、下地基板保持装置１２の案内溝部１８は一対の第４案内面２４を有する。詳しくは、一対の第４案内面２４は、垂直方向Ｚにそれぞれ平行であって、移動方向Ｘに沿ってそれぞれ延び、かつ、幅方向Ｙに相互に間隔をあけて配置される。案内突部１４の一対の第２案内面２２は、垂直方向Ｚにそれぞれ平行であって、移動方向Ｘに沿ってそれぞれ延び、かつ、幅方向Ｙに相互に間隔をあけて配置される。案内突部１４と案内溝部１８との係合時に、案内突部１４の各第２案内面２２と案内溝部１８の各第４案内面２４とが、それぞれ対向する。案内部が設けられることによって、図１の下地基板保持装置１２は、下地基板１１を確実に支持することができる。
【００４１】
基本的には、案内溝部１８の一対の第４案内面２４の幅方向Ｙの間隔は、案内突部１４の一対の第２案内面２２の幅方向Ｙの間隔よりも広い。このため、案内突部１４の幅方向Ｙの中心軸線と案内溝部１８の幅方向Ｙの中心軸線とが一致する場合、案内溝部１８の各第４案内面２４と案内突部１４の各第２案内面２２とは接触せず、第２案内面２２と第４案内面２４との間に隙間が生じる。下地基板１１と支持部１７とが所定の位置から幅方向Ｙに相対的にずれた場合、案内突部１４の幅方向Ｙの中心軸線と案内溝部１８の幅方向Ｙの中心軸線とがずれて、案内溝部１８の一方の第４案内面２４と案内突部１４の一方の第２案内面２２とが面接触する。これによって、図１の下地基板保持装置１２は、支持部１７が下地基板１１を確実に支持しつつ、案内突部１４と案内溝部１８との係合箇所のかじりおよび破損を防止することができる。
また、下地基板保持装置１２において、案内溝部１８の一対の第４案内面２４は、移動方向Ｘに沿って伸び、かつ幅方向Ｙに間隔をあけて形成される。また各第４案内面２４には、移動方向Ｘおよび幅方向Ｙに平行な仮想平面に対する傾斜が付けられたテーパ部２５が、それぞれ形成される。一対の各第４案内面２４のテーパ部２５の傾斜は、一対の第４案内面２４間の幅方向Ｙの間隔が移動方向Ｘに沿って大きくなるように、それぞれ付されている。かつ、案内溝部１８の進入側端部の間隔Ｗｅｄｇｅよりも案内溝部１８の移動方向Ｘ中央部の間隔Ｗｃｅｎｔｅｒのほうが、前記一対の第４案内面２４間の幅方向Ｙの間隔が小さい。
【００４２】
すなわち、案内溝部１８には、幅方向Ｙのずれを拘束する接触箇所を形成すべき第４案内面２４が、幅方向Ｙの左右両側に設けられる。かつ、左右の第４案内面２４間の間隔が移動方向Ｘ中央部よりも基板進入側で大きくなるように、基板の移動方向Ｘにそってテーパ面１２５が形成される。
【００４３】
このように、本実施形態の下地基板保持装置１２は、下地基板１１が下地基板保持装置１２の支持部１７に進入する前に幅方向Ｙにずれていた場合および垂直方向Ｚ回りに傾いていた場合であっても、案内溝部１８の第４案内面２４のテーパ部２５に沿って案内突部１４が進行する間に、下地基板１１の横ずれおよび角変位が低減される。かつ、下地基板１１進行時に、下地基板保持装置１２では、前述のように、くさび状の拘束および点接触が発生しない。このため、従来技術の下地基板保持装置よりも本実施形態の下地基板保持装置１２のほうが、大きな横ずれおよび大きな角変位が生じていても、第４案内面２４のテーパ部２５で下地基板１１の姿勢の補正が可能である。
【００４４】
したがって、本実施形態の下地基板保持装置１２では、下地基板１１ならびに案内溝部１８のかじりおよび破損を防止することができると共に、外部から支持部１７への下地基板１１の受渡し可能なずれの範囲が拡大する。これによって、下地基板保持装置１２は、受渡し可能範囲内に熱変形による相対ずれ量を収めることによって、熱時と冷時との間における下地基板１１の位置調整作業を省略することができる。
【００４５】
また、下地基板保持装置１２の支持部１７および案内溝部１８は、移動方向Ｘに平行な旋回軸線まわりに角変位可能に形成される。基本的には、支持部１７および案内溝部１８は、支持部１７よりも案内溝部１８のほうが下側にある着脱姿勢と、案内溝部１８よりも支持部１７のほうが下にある反転姿勢との２通りの姿勢を取り得る。本明細書において、基準点よりも「下側」とは、基準点から見て重力が作用する方向側を指し、基準点よりも「上側」とは、基準点から見て下側の反対側を指す。
【００４６】
この場合、好ましくは、一対の案内突部１４がアリほぞ状に形成され、かつ、一対の案内溝部１８がアリ溝状に形成される。下地基板保持装置１２において、支持部１７および案内溝部１８が前記反転姿勢を保持する際に、案内突部１４および案内溝部１８がアリ継ぎ状に係合する。前記反転姿勢で下地基板１１が保持される間、下地基板１１の自重は、案内突部１４の第１案内面２１と案内溝部１８の第３案内面２３との接触によって支持される。
【００４７】
すなわち、下地基板１１と下地基板保持装置１２とがアリ継ぎ状に係合しており、下地基板１１と下地基板保持装置１２のどちらか一方の案内部がアリほぞ状の突起型に形成され、いずれか他方の案内部がアリ溝状の溝型に形成される。着脱姿勢と上下反対の反転姿勢に保持される際に下地基板１１の自重を下地基板保持装置１２が支持可能な互いに平行でない２つの斜面２１，２３を、各案内部が備える。
【００４８】
このように、図１の下地基板保持装置１２は、支持部１７および案内溝部１８が前記反転姿勢を保つ間、案内突部１４と案内溝部１８とをアリ継ぎ状に係合させる。このため、着脱位置での姿勢と上下反対の反転姿勢に保持される際に、下地基板１１が互いに平行でない２対の斜面２１，２３によって拘束されるため、図１の下地基板保持装置１２は下地基板１１の安定した保持が可能である。
【００４９】
本実施形態の下地基板１１の案内突部１４および下地基板保持装置１２の案内溝部１８の詳細について、図３〜図６を用いて以下に説明する。図５は従来技術の下地基板３０および下地基板保持装置３１の幅方向Ｙに平行な断面を示す模式図である。図６は図５の下地基板保持装置３１の断面模式図の接触箇所の部分拡大図である。なお、図５および図６において、図３および図４と全く同じ機能を有する要素には同じ名称および同じ参照符を付し、詳細な説明は省略する。また、図５および図６において、図３および図４と類似の機能を有する要素には同じ名称および異なる参照符を付し、両者の差異だけを詳細に説明する。
【００５０】
図５（Ａ）および図６（Ａ）は、従来技術の下地基板３０および下地基板保持装置３１において、下地基板３０と下地基板保持装置３１との幅方向Ｙの中心軸線が互いに一致する場合を示す模式図である。下地基板３０の板状の浸漬部１３の裏面１６には、第１案内面３３および第２案内面３４を有する一対の案内突部３２が形成される。下地基板保持装置３１において、支持面２０を有する支持部１７の下側に、第３案内面３６および第４案内面３７を有する案内溝部３５が形成される。下地基板３０の着脱時において、案内突部３２と案内溝部３５とが係合しつつ、下地基板３０の裏面１６と支持部１７の支持面２０が互いに接触することによって、支持面２０が下地基板３０の自重を支持している。
【００５１】
図５（Ａ）の場合、着脱姿勢では、案内突部３２の第１案内面３３と案内溝部３５の第３案内面３６とは、接触せず隙間が開いている。従来技術において、垂直方向Ｚに対する第１案内面３３の傾斜角θＯＵＴ２は、垂直方向Ｚに対する第３案内面３６の傾斜角θＩＮ２と相互に等しい。かつ、第１案内面３３の幅方向Ｙの突出量ＷＯＵＴｙ２よりも第３案内面３６の幅方向Ｙの突出量ＷＩＮｙ２のほうが大きい。さらに、第１案内面３３の垂直方向Ｚの突出量ＷＯＵＴｚ２よりも第３案内面３６の垂直方向Ｚの突出量ＷＩＮｚ２のほうが大きい。
【００５２】
図５（Ｂ）および図６（Ｂ）は、従来技術の下地基板３０および下地基板保持装置３１において、案内突部３２が案内溝部３５に対して幅方向Ｙに限界までずれた場合を示す模式図である。案内突部３２と案内溝部３５とは、案内突部３２の第１案内面３３と案内溝部３５の第３案内面３６とで面接触している。
【００５３】
図６（Ｂ）に示すように下地基板３０が幅方向Ｙにずれた場合、案内溝部３５は、下地基板３０の浸漬部裏面１６および第１案内面３３によってくさび状の拘束を受ける。この結果、従来技術の下地基板保持装置３１の案内溝部３５は、下地基板３０の裏面１６および第１案内面３３からの圧縮力ＦＰ２を受ける。圧縮力ＦＰ２が斜面である第３案内面に働くので、ずれに抗するため、圧縮力ＦＰ２は幅方向Ｙに平行な分力ＦＹ２および垂直方向Ｚに平行な分力ＦＺ２に分たれる。このように、従来技術では、図６の例におけるずれ方向である幅方向Ｙに平行な分力ＦＹ２だけでなく、ずれ方向に垂直な分力ＦＺ２が生じるので、かじりおよび破損が発生し易くなる。
【００５４】
図３（Ａ）および図４（Ａ）は、本実施形態の下地基板１１および下地基板保持装置１２において、下地基板１１と下地基板保持装置１２との幅方向Ｙの中心軸線が互いに一致する場合を示す模式図である。下地基板３２の下面である裏面１６には、案内突部１４が形成される。下地基板保持装置８１の支持部１７の上面である支持面２０の下方には、案内溝部１８が形成される。下地基板１１の着脱時において、案内突部１４と案内溝部１８とが係合しつつ、浸漬部１３の裏面１６と支持部１７の支持面２０が互いに接触し、支持面２０が下地基板１１の自重を支持している。図３（Ａ）の場合、案内突部１４の第１案内面２１と案内溝部１８の第３案内面２３とは、接触せず隙間が開いている。
【００５５】
図３（Ｂ）および図４（Ｂ）は、本実施形態の下地基板１１および下地基板保持装置１２において、案内突部１４が案内溝部１８に対して幅方向Ｙに限界までずれた場合を示す模式図である。案内突部１４と案内溝部１８とは、案内突部１４の第２案内面２２と案内溝部１８の第４案内面２４とで面接触している。
【００５６】
図３（Ｂ）に示すように下地基板１１が幅方向Ｙにずれた場合、ずれ方向に対して垂直な第２案内面２２および第４案内面２４によって案内溝部１８が拘束されるため、ずれ方向である幅方向Ｙに平行な力ＦＹ１とその反力だけが作用し、ずれ方向に垂直な方向の分力は発生しない。すなわち、本実施形態の下地基板保持装置１２は、従来技術のようなくさび状の拘束が案内溝部１８に生じないため、かじりおよび破損の発生を抑制することができる。
【００５７】
以下に、図１および図７を参照して、下地基板保持装置１２の詳細な構成を説明する。下地基板保持装置１２は、上述の基本構成を有するならば、詳細構成は図１の構成に限らず、他の構成でもかまわない。
【００５８】
図１は、本実施形態の下地基板保持装置１２の詳細な構成を示す斜視図である。図１において、下地基板保持装置１２は、カーボン製のチャッキング部で実現される。下地基板保持装置１２は、ベース４１、一対のガイドレール４２、ラチェットピン押さえ４３、およびラチェットピン４４を含んで構成される。各ガイドレール４２は、それぞれ、支持部１７と案内溝部１８とを一体化したものである。
【００５９】
図７は、析出後の下地基板１１の状態を移動方向Ｘから見て示す側面図である。カーボン製の下地基板１１は、長方形の平板の形状をしている。析出板４７が形成されるべき浸漬面１５とは反対側の裏面１６には、一対の案内突部１４が一体化されて逆台形状に形成されている。さらに、案内突部１４の裏面には、下地基板保持装置１２のラチェットピン４４が嵌まり込むための凹部４８が形成されている。
【００６０】
再び図１を参照する。移動方向Ｘと平行に伸びる一対のガイドレール４２が、ベース４１の幅方向Ｙの両端部に、相互に対向する形で固定される。一対のガイドレール４２の間に、下地基板１１の一対の案内突部１４が嵌まり込む。一対のガイドレール４２の相互に対向する面に、案内溝部１８の第４案内面２４が形成され、かつ、テーパ部２５が形成される。一対のガイドレール４２両方の上側の面に、支持面２０がそれぞれ形成される。
【００６１】
また、各ガイドレール４２の上側の支持面２０に、支持傾斜部４５がそれぞれ設けられている。各支持傾斜部４５は、下地基板１１の移動方向Ｘに対する傾斜角を有する。支持傾斜部４５が形成されていることによって、下地基板１１が下地基板保持装置１２に装着される際に、下地基板１１の案内突部１４が一対のガイドレール４２の間に嵌まり込み易くなる。
【００６２】
ベース４１の上側の面には、ラチェットピン４４が、ラチェットピン押さえ４３によって所定の位置に固定される。ラチェットピン４４は、図示しないコイル状のバネによって、伸縮可能な状態にて取付けられる。下地基板保持装置１２に保持中の下地基板１１を固定するために、ラチェットピン４４が用いられる。
【００６３】
下地基板保持装置１２は、下地基板１１を着脱するための待機位置において、一対のガイドレール４２の支持面２０が上側に位置した着脱姿勢で待機する。装着時には、下地基板１１の案内突部１４が下地基板保持装置１２の案内溝部１８に側方から挿入されるように、受渡し位置Ａまで搬送された下地基板１１が挿入される。かつ、装着時には、ラチェットピン４４が下側から下地基板１１の案内突部１４に押付けられつつ、下地基板１１が挿入される。下地基板１１が下地基板保持装置１２内の所定の位置に至ると、下地基板１１の案内溝部１８の凹部４８にラチェットピン４４の先端が嵌まり込む。これによって、案内突部１４と案内溝部１８とが垂直方向Ｚに係合し、下地基板１１を下地基板保持装置１２が保持する保持状態となる。ラチェットピン４４が用いられることによって、下地基板保持装置１２が下地基板１１をより確実に保持することができる。
【００６４】
図１の下地基板保持装置１２は、析出板製造装置５０内部において、可動可能な浸漬アーム６９の先端に取付けられる。長方形の平板の形状をしているベース４１の下側の面の搬送方向ＤＣの両端部に、突起が設けられる。ベース３２の突起は、浸漬アーム６９に対して、ボルト４６を用いて固定されている。
【００６５】
図８〜図１０は、図１の下地基板１１および下地基板保持装置１２を用いる析出板製造装置５０の構成を示す図である。図８〜図１０に基づいて、析出板製造装置５０の構成を以下に説明する。図８は、析出板製造装置５０の全体を示す斜視図である。図９は、析出板製造装置５０の構成を簡略化して示す平面図である。図１０は、析出板製造装置５０の構成を簡略化して示す正面図である。図８〜図１０において、チャンバ５５の一部を切欠いて示す。
【００６６】
析出板製造装置５０は、被析出材料から成る薄膜状または板状の析出板４７を作成する。概略的には、析出板製造装置５０において、析出板４７作成時に、まず、溶湯５２に下地基板１１が浸漬される。下地基板１１の表面上に被析出材料が凝固析出することによって、析出板４７が作成される。析出板４７形成後、下地基板１１が溶湯５２から引上げられる。溶湯５２は、溶融された被析出材料である。被析出材料としては、たとえば、シリコンなどに代表される半導体材料、あるいは、鉄またはチタンなどに代表される金属材料が挙げられる。本実施形態では、シリコンの析出板を作成する場合について例示する。
【００６７】
析出板製造装置５０は、浸漬機構５３、坩堝５４、チャンバ５５、および搬送機構５６を含む。浸漬機構５３および坩堝５４は、チャンバ５５内に配置される。搬送機構５６と浸漬機構５３は、坩堝５４よりも上側に配置される。
【００６８】
搬送機構５６は、チャンバ５５外部から浸漬機構５３に対して未析出の下地基板１１を搬入し、かつ、浸漬機構５３からチャンバ５５外部に対して、析出済の下地基板１１を搬出する。浸漬機構５３は、坩堝５４内の溶湯５２に未析出の下地基板１１を浸漬させ、析出後に該下地基板１１を引上げる。下地基板保持装置１２は、析出板製造装置５０内部において、浸漬機構５３の先端部に設けられて、下地基板１１を着脱可能に保持するために用いられる。図８の例では、析出板製造装置５０内の下地基板１１の搬送方向ＤＣは、析出板製造装置５０内の下地基板保持装置１２の下地基板１１の移動方向Ｘと平行である。
【００６９】
詳しくは、析出板製造装置５０は、溶融機構５７、不図示のガス供給装置、不図示の真空排気装置をさらに含む。溶融機構５７は、坩堝５４内の被析出材料を溶融させて溶湯化させる。チャンバ５５内部には、搬入側支持部材６１、搬出側支持部材６２、および本体フレーム６３が設けられる。搬送機構５６は、搬入側搬送ガイド６４と、搬出側搬送ガイド６５と、基板送り機構６６とを含む。浸漬機構５３は、駆動アーム６８、浸漬アーム６９、駆動機構部７０、不図示のモータ、および旋回機構７２を含む。溶融機構５７は、誘導加熱コイル７５と、坩堝支持台７６と、不図示の電力ケーブルと、不図示の高周波電源とを含む。
【００７０】
析出板製造装置５０は、外部環境から内部を密閉状態に隔離可能な二重壁構造のチャンバ５５を備える。チャンバ５５は、密閉状態の処理室８０を形成している。処理室８０内には、搬入側搬送ガイド６４、搬出側搬送ガイド６５、浸漬機構５３、および坩堝５４が備えられる。搬入側搬送ガイド６４、浸漬機構５３、および搬出側搬送ガイド６５は、坩堝５４よりも上側に配置される。チャンバ５５の搬送方向ＤＣの搬入側に、搬入口８１が設けられる。チャンバ５５の搬送方向ＤＣの搬出側に、搬出口８２が設けられる。搬入口８１は、未析出の下地基板１１を前工程からチャンバ５５内に搬送するための入口である。搬出口８２は、浸漬後の下地基板１１をチャンバ５５内から次工程に搬送するための出口である。
【００７１】
また、図９および図１０に示すように、搬入側支持部材６１および搬出側支持部材６２が、チャンバ５５の内壁面に設けられる。浸漬機構５３よりも搬送方向ＤＣの上流側に、搬入側搬送ガイド６４が、搬入側支持部材６１に支持されて、直線状に水平配置される。浸漬機構５３よりも搬送方向ＤＣの下流側には、搬出側搬送ガイド６５が、搬出側支持部材６２に支持されて、直線状に水平配置される。搬入口８１、搬入側搬送ガイド６４、浸漬機構５３、搬出側搬送ガイド６５、および浸漬機構５３は、搬送方向ＤＣの上流側から下流側に向かって、上記の順で並ぶ。
【００７２】
基板送り機構６６は、概略的には、下地基板１１を前工程から搬送し、下地基板保持装置１２に該下地基板１１を側面から挿入し、浸漬処理後、再び下地基板１１を次工程まで搬送する。搬入側搬送ガイド６４と搬出側搬送ガイド６５とを含む経路中に存在する受渡し位置Ａは、坩堝５４内の溶湯５２の上側であって、溶湯５２の直上から外れた場所に位置する。なお、浸漬機構５３を中心に搬送方向ＤＣの上流側と下流側とに所定間隔を隔てて直列配置された搬入側搬送ガイド６４および搬出側搬送ガイド６５は、相互に同じ構成となっている。
【００７３】
搬入側搬送ガイド６４および搬出側搬送ガイド６５の側方に、基板送り機構６６が配設されている。基板送り機構６６は、搬送方向ＤＣに進退移動可能なように片持ち支持される形で取付けられる。さらに、片持ち支持による撓みを補正するために、基板送り機構６６は、ガイド用レール８４と、搬送ころ８５と、爪部材８６とを含む。カーボン製のガイド用レール８４は、搬入側搬送ガイド６４および搬出側搬送ガイド６５上に、搬送方向ＤＣと平行に設けられる。搬送ころ８５は、ガイド用レール８４上を転がる。爪部材８６は、下地基板１１の側面を押す。基板送り機構６６は、図示しないボールねじおよびモータによって駆動する。
【００７４】
坩堝５４の上方に設けられた浸漬機構５３は、本体フレーム６３に固定される。詳しくは、本体フレーム６３の上面には、浸漬機構５３の駆動機構部７０が取付けられる。駆動アーム６８は、一端部が駆動機構部７０に固定され、鉛直方向に伸びる。駆動アーム６８の他端部に対して、浸漬アーム６９の後端部が、ヒンジ状に接続される。駆動アーム６８の他端部と浸漬アーム６９の後端部との接続部には、旋回軸７３が設けられる。さらに、本体フレーム６３上面において、旋回機構７２が、図示しないモータと一緒に、駆動機構部７０に取付けられる。さらに、本体フレーム６３に、図１の下地基板保持装置１２が、駆動機構部７０から、駆動アーム６８および浸漬アーム６９を介して、所定の位置で可動可能に取付けられている。詳しくは、長方形の平板の形状をしているベース４１の下側の面の搬送方向ＤＣの両端部に、突起が設けられる。ベース３２の突起は、浸漬アーム６９の先端に対して、ボルト４６を用いて固定されている。
【００７５】
駆動機構部７０は、下地基板保持装置１２と駆動アーム６８と浸漬アーム６９とを、浸漬方向ＤＳに平行に、一体的に移動させる。駆動アーム６８は、駆動機構部７０に固定されている。駆動アーム６８に対して、浸漬アーム６９は、搬送方向ＤＣに平行な旋回軸７３まわりに角変位する。チャンバ５５外に設けられた図示しないモータにより、駆動アーム６８を介して、下地基板保持装置１２の駆動が行われる。浸漬方向ＤＳは、搬送方向ＤＣに対して直交する方向であって、図８の例では下地基板１１の幅方向Ｙと平行である。旋回機構７２は、浸漬アーム６９に取付けられた下地基板保持装置１２を、旋回軸７３回りに旋回させる。旋回軸７３を基準に浸漬アーム６９が旋回すると、下地基板保持装置１２に保持された下地基板１１が溶湯５２に浸漬させられて引上げられる。
【００７６】
坩堝５４は、図１０に示すように、溶湯５２を収容している。誘導加熱コイル７５は、坩堝５４の側面壁の周囲に配置される。坩堝支持台７６は、坩堝５４および誘導加熱コイル７５を支持する。誘導加熱コイル７５には、電力ケーブルを介して、高周波電源が接続されている。
【００７７】
坩堝５４の開口部は、図８に示すように、搬送方向ＤＣよりも幅方向Ｙが長尺となるような楕円形状に形成されている。また坩堝５４は、側面壁と底面壁との２方向から大きな熱量が伝達されるように、底面壁が充分に大きな厚みに設定され、かつ、坩堝５４の側面壁が電磁誘導の浸透深さ未満の厚みに設定される。坩堝５４内部で溶湯５２が対流することによって、ゴミなどの落下物が核となって溶湯５２の表面中央で凝固することを防止している。
【００７８】
また、本体フレーム６３には、溶湯５２からの輻射による熱から本体フレーム６３および駆動機構部７０を守るために、図示しない銅パイプが溶接された銅製の熱遮蔽板９０が坩堝５４を囲む形で配置される。銅パイプの中に水を流すことによって銅板が冷却され、熱が本体フレーム６３側に伝わらないようにしている。熱遮蔽板９０は、本体フレーム６３の側面をカバーする側面用熱遮蔽板９１と、上側部分をカバーする上面用熱遮蔽板９２と、駆動機構部７０をカバーする駆動部用熱遮蔽板９３との３種類の銅板で構成される。側面用熱遮蔽板９１は上面用熱遮蔽板９２に溶接によって一体化され、上面用熱遮蔽板９２は本体フレーム６３側に取付けられ、駆動部用熱遮蔽板９３も本体フレーム６３に取付けられている。なお、上面用熱遮蔽板９２には、下地基板１１を溶湯５２に浸漬させるため、下地基板１１を浸漬方向に移動させた際に当らないように、下地基板１１の可動範囲に対応する開口部が設けられている。
【００７９】
チャンバ５５には、ガス供給装置および真空排気装置が接続される。ガス供給装置は、アルゴンガスなどの不活性ガスを処理室８０内に供給する。真空排気装置は、処理室８０の気体を排気する。ガス供給装置および真空排気装置は、処理室８０を所定の圧力に減圧しながら不活性ガスを供給することによって、外部環境とは異なる処理環境を処理室８０内に形成している。
【００８０】
上述した構成の析出板製造装置５０において、初期状態では、下地基板保持装置１２は上述の受渡し位置Ａで待機する。待機時には、下地基板保持装置１２は、支持面２０が上側になるような待機姿勢で待機する。下地基板１１の装着時には、下地基板１１の案内突部１４が下地基板保持装置１２の案内溝部１８に嵌まり込むように、下地基板１１が下地基板保持装置１２の横側から基板送り機構６６によって挿入される。次いで、駆動機構部７０によって、下地基板１１の析出板４７が形成されるべき浸漬表面１５が上側に向いた状態を保ちつつ、駆動アーム６８ごと下地基板１１が溶湯５２への浸漬位置まで平行移動される。次いで、旋回機構７２によって、下地基板１１の浸漬面１５が下側に向くように、旋回軸７３を中心として浸漬アーム６９が旋回する。この結果、溶湯５２に下地基板１１が浸漬される。
【００８１】
下地基板１１の浸漬面１５に析出板４７が形成された後、旋回機構７２によって、旋回軸７３を中心として浸漬時と同じ方向に、浸漬アーム６９がさらに旋回させられる。これによって、下地基板１１が旋回軸７３を中心に１回転する。旋回と同時に、駆動機構部７０によって、受渡し位置Ａまで下地基板１１が平行に戻される。受渡し位置Ａに戻り終えた時点では、下地基板１１は、析出板４７が形成された浸漬面が上に向いた状態となっている。以上の手順で、析出板製造装置５０は、下地基板１１を用いて析出板を製造することができる。
【００８２】
上述の実施形態で説明した下地基板保持装置１２において、種々の構成要素の詳細は、本発明の構成要素の最良の実施形態の１つである。本発明の構成要素の詳細構成は、上述の作用効果が発揮可能な構成であれば、上述した構成に限らず、他の様々な構成が用いられてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００８３】
【図１】本発明の実施の一形態である下地基板保持装置１２の構成を簡略化して示す斜視図である。
【図２】図１の下地基板保持装置１２の構成を模式的に示す斜視図である。
【図３】図１の下地基板保持装置１２の幅方向Ｙに平行なＡ−Ａ断面を示す模式図である。
【図４】図３の下地基板保持装置１２の断面模式図の接触箇所の部分拡大図である。
【図５】従来技術の下地基板保持装置３１の幅方向Ｙに平行な断面を示す模式図である。
【図６】図５の下地基板保持装置３１の断面模式図の接触箇所の部分拡大図である。
【図７】本実施形態における析出後の下地基板１１の状態を示す側面図である。
【図８】図１の下地基板保持装置１２を含む析出板製造装置５０の全体の構成を示す平面図である。
【図９】図８の析出板製造装置５０の構成を簡略化して示す平面図である。
【図１０】図９の析出板製造装置５０の構成を簡略化して示す正面図である。
【図１１】第２の従来技術の下地基板保持装置１の構成を示す正面図である。
【図１２】図１１の下地基板保持装置１の構成を示す斜視図である。
【符号の説明】
【００８４】
１１  下地基板
１２  下地基板保持装置
１３  浸漬部
１４  案内突部
１５  浸漬面
１６  裏面
１８  支持部
１９  案内溝部
２０  支持面
２１  第１案内面
２２  第２案内面
２３  第３案内面
２４  第４案内面
２５  テーパ部
【図１】
2010116311.tif 000003
【図２】
2010116311.tif 000004
【図３】
2010116311.tif 000005
【図４】
2010116311.tif 000006
【図５】
2010116311.tif 000007
【図６】
2010116311.tif 000008
【図７】
2010116311.tif 000009
【図８】
2010116311.tif 000010
【図９】
2010116311.tif 000011
【図１０】
2010116311.tif 000012
【図１１】
2010116311.tif 000013
【図１２】
2010116311.tif 000014