(57)【要約】【課題】被測定物の測定パターンに関わらず、測定誤差を低減させることができる画像機器の校正用パターンの提供。【解決手段】校正用パターン１は、校正用パターン１の中央に設けられる正方形状の明領域からなる中央部１１と、中央部１１の外側に設けられる枠状パターン１２とを備える。枠状パターン１２は、中央部１１を中心として横方向に沿って両側に延出し、明領域、及び暗領域を交互に繰り返す横方向パターンと、中央部１１を中心として縦方向に沿って両側に延出し、明領域、及び暗領域を交互に繰り返す縦方向パターンとを有している。そして、横方向パターン、及び縦方向パターンは、中央部１１の横方向、及び縦方向における辺の長さに対して１／３の長さにそれぞれ設定される単位長さごとに明領域、及び暗領域を交互に繰り返している。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
対象物を撮像した画像に基づいて、前記対象物の長さを測定する画像機器の測定誤差を校正するために前記画像機器に撮像される画像機器の校正用パターンであって、
前記校正用パターンの中央に設けられる矩形状の明領域、または暗領域からなる中央部と、
前記中央部を中心として横方向に沿って両側に延出し、前記明領域、及び前記暗領域を交互に繰り返す横方向パターンと、
前記中央部を中心として縦方向に沿って両側に延出し、前記明領域、及び前記暗領域を交互に繰り返す縦方向パターンとを備え、
前記横方向パターン、及び前記縦方向パターンは、前記中央部の前記横方向、及び前記縦方向における辺の長さに対して１／３の長さにそれぞれ設定される単位長さごとに前記明領域、及び前記暗領域を交互に繰り返すことを特徴とする画像機器の校正用パターン。
【請求項２】
請求項１に記載の画像機器の校正用パターンにおいて、
前記単位長さの枠幅を有する枠状に形成された前記明領域、及び前記暗領域からなる複数の枠状部を、前記中央部を中心とする同心状に交互に配列した枠状パターンを備え、
前記横方向パターン、及び前記縦方向パターンは、前記枠状パターンの一部とされていることを特徴とする画像機器の校正用パターン。
【請求項３】
請求項１に記載の画像機器の校正用パターンにおいて、
前記単位長さの幅を有し、前記中央部を中心とする渦巻状に形成された前記明領域、及び前記暗領域からなる２つの渦巻部を、互いに平行して配列した渦巻パターンを備え、
前記横方向パターン、及び前記縦方向パターンは、前記渦巻パターンの一部とされていることを特徴とする画像機器の校正用パターン。
【請求項４】
請求項１から請求項３のいずれかに記載の画像機器の校正用パターンにおいて、
前記中央部は、前記画像機器の位置決めをするための位置決め用パターンを備えることを特徴とする画像機器の校正用パターン。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、画像機器の校正用パターンに関し、特に画像機器の測定誤差を校正するために画像機器に撮像される画像機器の校正用パターンに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、対象物を撮像した画像に基づいて、対象物の長さを測定する画像計測器や、光学機器などの画像機器が知られている。このような画像機器では、所定の校正用パターンを撮像することで測定誤差を校正している。
この校正用パターンは、画像機器に撮像されたときに明るい画像となる領域（以下、明領域とする）と、暗い画像となる領域（以下、暗領域とする）とを組み合わせたパターンとして構成されている。そして、画像機器は、明領域、及び暗領域の境界、すなわちエッジを検出し、既知の長さ（以下、基準長さとする）を有する２つのエッジ間の距離を測定することで測定誤差を校正する。なお、以下では、長さを測定するための２つのエッジを測定エッジとする。
また、このような画像機器では、対象物を拡大して撮像するためのズーム機能を備えている場合があり、この場合には、画像機器は、ズームの倍率に応じた大きさの複数の校正用パターンを撮像することで測定誤差を校正する。
【０００３】
図７は、従来の校正用パターンの一例を示す図である。なお、図７では、明領域を白色で示し、暗領域を黒色で示している。以下の図においても同様である。
校正用パターンＰＡは、例えば、図７（Ａ）に示すように、校正用パターンＰＡの中央に正方形状の明領域を配置し、この明領域と同一形状の４つの暗領域を上下左右に配置したパターンとして構成される。そして、画像機器は、校正用パターンＰＡにおける明領域の横方向、及び縦方向の長さを基準長さＡｘ，Ａｙとして測定して測定誤差を校正する。
なお、校正用パターンＰＢ〜ＰＥは、図７（Ｂ）〜（Ｅ）に示すように、ズームの倍率を小さくしていった場合に用いられる校正用パターンであり、校正用パターンＰＡと相似のパターンとして構成される。また、校正用パターンＰＢ〜ＰＥでは、基準長さは、Ｂｘ〜Ｅｘ，Ｂｙ〜Ｅｙとされている。
【０００４】
図８は、暗領域に挟まれた明領域の横方向の長さを測定するときの画像処理の状態を示す図である。
対象物Ｗ１は、図８（Ａ）上図に示すように、中央に正方形状の明領域を配置し、この明領域と同一形状の２つの暗領域を左右に配置したパターンとして構成されている。この対象物Ｗ１における明領域の横方向の長さＬ１を測定するために、画像機器にて対象物Ｗ１を撮像すると、対象物Ｗ１を撮像した画像は、照明光の状態などの影響で明領域、または暗領域が広がった画像となる。なお、以下では、図８（Ａ）下図に示すように、対象物Ｗ１を撮像した画像Ｉｍ１は、明領域が広がっているものとして説明する。
【０００５】
画像Ｉｍ１における横方向の濃淡曲線は、図８（Ｂ）上図に示すように、対象物Ｗ１の明領域の外側で急激に変化する。したがって、この濃淡曲線を微分した微分曲線のピークは、図８（Ｂ）下図に示すように、対象物Ｗ１の明領域の外側となる。このため、長さＬ１に対応する微分曲線のピーク間を長さＬ１の測定エッジ間の距離として測定すると、測定値は、図８（Ａ）に示すように、長さＭ１となり、真値である長さＬ１に対して両側に逆方向の測定誤差を生じることになる。ここで、片側での測定誤差をδとすれば、両側での測定誤差は＋２δとなる。
【０００６】
図９は、明領域に挟まれた暗領域の横方向の長さを測定するときの画像処理の状態を示す図である。
対象物Ｗ２は、図９（Ａ）上図に示すように、対象物Ｗ１の明暗を反転させたパターンとして構成されている。なお、この対象物Ｗ２における暗領域の横方向の長さＬ２は、対象物Ｗ１における明領域の横方向の長さＬ１と同じである。また、以下では、図９（Ａ）下図に示すように、対象物Ｗ２を撮像した画像Ｉｍ２は、対象物Ｗ１を撮像した画像Ｉｍ１と同様に、明領域が広がっているものとして説明する。
【０００７】
画像Ｉｍ２における横方向の濃淡曲線は、図９（Ｂ）上図に示すように、対象物Ｗ２の暗領域の内側で急激に変化する。したがって、この濃淡曲線を微分した微分曲線のピークは、図９（Ｂ）下図に示すように、対象物Ｗ２の暗領域の内側となる。このため、長さＬ２に対応する微分曲線のピーク間を長さＬ２の測定エッジ間の距離として測定すると、測定値は、図９（Ａ）に示すように、長さＭ２となり、真値である長さＬ２に対して両側に逆方向の測定誤差を生じることになる。ここで、片側での測定誤差をδとすれば、両側での測定誤差は−２δとなる。
【０００８】
このように、対象物の測定エッジのうち、一方の測定エッジにおける濃淡曲線の変化方向が増加し、他方の測定エッジにおける濃淡曲線の変化方向が減少する場合、すなわち測定エッジの変化方向が異なる場合には、照明光の状態などの影響で真値に対して±２δの測定誤差が生じるという問題がある。
これに対して、測定エッジの変化方向を同一とすることで真値に対する測定誤差を低減させることができる校正用パターンが知られている（例えば、特許文献１参照）。
以下、測定エッジの変化方向を同一とすることで真値に対する測定誤差を低減させる原理について説明する。
【０００９】
図１０は、対象物の測定エッジの変化方向を同一とした場合における画像処理の状態を示す図である。
対象物Ｗ３は、図１０（Ａ）上図に示すように、正方形状の明領域、及び暗領域を横方向に交互に繰り返して配置したパターンとして構成されている。この対象物Ｗ３における中央の明領域、及び暗領域の長さＬ３を測定するために、画像機器にて対象物Ｗ３を撮像すると、対象物Ｗ３を撮像した画像は、照明光の状態などの影響で明領域、または暗領域が広がった画像となる。なお、以下では、図１０（Ａ）下図に示すように、対象物Ｗ１を撮像した画像Ｉｍ３は、明領域が広がっているものとして説明する。
【００１０】
画像Ｉｍ３における横方向の濃淡曲線は、図１０（Ｂ）上図に示すように、対象物Ｗ３の明領域の外側で急激に変化する。したがって、この濃淡曲線を微分した微分曲線のピークは、図１０（Ｂ）下図に示すように、対象物Ｗ３の明領域の外側となる。このため、長さＬ３に対応する微分曲線のピーク間を長さＬ３の測定エッジ間の距離として測定すると、測定値は、図１０（Ａ）に示すように、長さＭ３となり、真値である長さＬ３に対して両側に同一方向に測定誤差を生じることになる。ここで、片側での測定誤差をδとすれば、両側での測定誤差は０となる。したがって、測定エッジの変化方向を同一とすれば、照明光の状態などの影響がある場合であっても真値に対する測定誤差を低減させることができる。
【００１１】
また、特許文献１に記載の校正用パターンは、複数の測定エッジを同心状に配置したパターンとして構成されている。したがって、特許文献１に記載の校正用パターンによれば、従来の校正用パターンのように、ズームの倍率に応じて校正用パターンを変更することなく、画像機器の測定誤差を校正することができる。したがって、画像機器の校正にかかる時間を短縮することができる。さらに、特許文献１に記載の校正用パターンによれば、ズームの倍率を変更した場合であっても画像機器の位置決めをすることなく測定誤差を校正することができるので、ズームの倍率を変更した場合における画像の中心位置の校正をすることができる。
【００１２】
【特許文献１】特開平８−１７０９０７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
しかしながら、変化方向が同一である測定エッジを有する特許文献１に記載の校正用パターンを撮像することで測定誤差を校正した場合であっても、変化方向が異なる測定エッジを有する被測定物を測定する場合には、測定誤差を生じるという問題がある。
以下の説明では、明領域の長さを測定する対象物Ｗ１のようなパターンを明領域測定パターンとし、暗領域の長さを測定する対象物Ｗ２のようなパターンを暗領域測定パターンとし、明暗領域の長さを測定する対象物Ｗ３のようなパターンを明暗領域測定パターンとする。
なお、明領域測定パターン、及び暗領域測定パターンは、変化方向が異なる測定エッジを測定するパターンであり、明暗領域測定パターンは、変化方向が同一である測定エッジを測定するパターンである。
【００１４】
図１１は、校正用パターン、及び被測定物の組み合わせと、測定誤差との関係を示す図である。
明暗領域測定パターンで構成される校正用パターンを撮像することで測定誤差を校正した場合において、明暗領域測定パターンで構成される被測定物を測定すれば、図１１に示すように、測定誤差は０となる。しかしながら、この場合において、明領域測定パターン、及び暗領域測定パターンで構成される被測定物を測定すれば、測定誤差は±δとなる。
【００１５】
ここで、明領域測定パターンで構成される校正用パターンを撮像することで測定誤差を校正した場合において、明領域測定パターンで構成される被測定物を測定すれば、測定誤差は０となる。また、暗領域測定パターンで構成される校正用パターンを撮像することで測定誤差を校正した場合において、暗領域測定パターンで構成される被測定物を測定すれば、測定誤差は０となる。
すなわち、校正用パターン、及び被測定物を構成する測定パターンが同じであれば、測定誤差は０となるので、校正用パターンの測定パターンは、被測定物の測定パターンに応じて選択することが望ましい。
【００１６】
本発明の目的は、被測定物の測定パターンに関わらず、測定誤差を低減させることができる画像機器の校正用パターンを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
本発明の画像機器の校正用パターンは、対象物を撮像した画像に基づいて、前記対象物の長さを測定する画像機器の測定誤差を校正するために前記画像機器に撮像される画像機器の校正用パターンであって、前記校正用パターンの中央に設けられる矩形状の明領域、または暗領域からなる中央部と、前記中央部を中心として横方向に沿って両側に延出し、前記明領域、及び前記暗領域を交互に繰り返す横方向パターンと、前記中央部を中心として縦方向に沿って両側に延出し、前記明領域、及び前記暗領域を交互に繰り返す縦方向パターンとを備え、前記横方向パターン、及び前記縦方向パターンは、前記中央部の前記横方向、及び前記縦方向における辺の長さに対して１／３の長さにそれぞれ設定される単位長さごとに前記明領域、及び前記暗領域を交互に繰り返すことを特徴とする。
【００１８】
このような構成において、中央部の横方向、及び縦方向における辺の長さに対して、２：１となる位置に基準長さの中点を設定する。そして、この中点から横方向、及び縦方向の両側に単位長さのｎ倍（ｎは、２以上の整数）の距離だけ離間した位置にある横方向パターン上、及び縦方向パターン上のエッジを基準長さの測定エッジとすれば、各基準長さの測定エッジの変化方向は同一となる。すなわち、本発明の校正用パターンを、明暗領域測定パターンで構成された校正用パターンとして用いることができる。
【００１９】
また、このような構成において、中央部の横方向、及び縦方向における辺の長さに対して、１：１となる位置に基準長さの中点を設定する。そして、この中点から横方向、及び縦方向の両側に単位長さの０．５＋ｍ倍（ｍは、１以上の整数）の距離だけ離間した位置にある横方向パターン上、及び縦方向パターン上のエッジを基準長さの測定エッジとすれば、各基準長さの測定エッジの変化方向は異なることになる。すなわち、本発明の校正用パターンを、明領域測定パターン、及び暗領域測定パターンで構成された校正用パターンとして用いることができる。
したがって、校正用パターンは、被測定物の測定パターンに応じて測定パターンを選択することができるので、被測定物の測定パターンに関わらず、測定誤差を低減させることができる。
【００２０】
また、横方向パターン、及び縦方向パターンは、明領域、及び暗領域を交互に繰り返すパターンとして構成されているので、特許文献１に記載の校正用パターンと同様に、複数の測定エッジを同心状に配置したパターンとして構成されている。
したがって、画像機器の校正にかかる時間を短縮することができ、ズームの倍率を変更した場合における画像の中心位置の校正をすることができる。
【００２１】
本発明では、前記単位長さの枠幅を有する枠状に形成された前記明領域、及び前記暗領域からなる複数の枠状部を、前記中央部を中心とする同心状に交互に配列した枠状パターンを備え、前記横方向パターン、及び前記縦方向パターンは、前記枠状パターンの一部とされていることが好ましい。
【００２２】
このような構成によれば、前述した校正用パターンと同様の作用効果を奏することができる。また、枠状パターンは、簡素な形状であるので、校正用パターンを容易に製造することができる。
【００２３】
本発明では、前記単位長さの幅を有し、前記中央部を中心とする渦巻状に形成された前記明領域、及び前記暗領域からなる２つの渦巻部を、互いに平行して配列した渦巻パターンを備え、前記横方向パターン、及び前記縦方向パターンは、前記渦巻パターンの一部とされていることが好ましい。
【００２４】
このような構成によれば、前述した校正用パターンと同様の作用効果を奏することができる。また、渦巻パターンは、簡素な形状であるので、校正用パターンを容易に製造することができる。
【００２５】
本発明では、前記中央部は、前記画像機器の位置決めをするための位置決め用パターンを備えることが好ましい。
【００２６】
このような構成によれば、校正用パターンは、位置決め用パターンを備えるので、画像機器は、位置決め用パターンを検出することで、容易に位置決めをすることができる。したがって、画像機器の校正にかかる時間を短縮することができ、ズームの倍率を変更した場合における画像の中心位置の校正を容易にすることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２７】
〔第１実施形態〕
以下、本発明の第１実施形態を図面に基づいて説明する。
図１は、本発明の第１実施形態に係る校正用パターン１を示す図である。
校正用パターン１は、対象物を撮像した画像に基づいて、対象物の長さを測定する画像機器（図示略）の測定誤差を校正するために画像機器に撮像される画像機器の校正用パターンであり、図１に示すように、校正用パターン１の中央に設けられる正方形状の明領域からなる中央部１１と、中央部１１の外側に設けられる枠状パターン１２とを備える。
【００２８】
枠状パターン１２は、中央部１１の横方向、及び縦方向における辺の長さに対して１／３の長さにそれぞれ設定される単位長さの枠幅を有する枠状に形成された明領域、及び暗領域からなる複数の枠状部１２１〜１２５を備える。そして、各枠状部１２１〜１２５は、中央部１１を中心とする同心状に交互に配列されている。
なお、本実施形態では、横方向パターン、及び縦方向パターンは、枠状パターン１２の一部とされている。
【００２９】
言い換えると、枠状パターン１２は、中央部１１を中心として横方向に沿って両側に延出し、明領域、及び暗領域を交互に繰り返す横方向パターンと、中央部１１を中心として縦方向に沿って両側に延出し、明領域、及び暗領域を交互に繰り返す縦方向パターンとを有している。そして、横方向パターン、及び縦方向パターンは、単位長さごとに明領域、及び暗領域を交互に繰り返している。
【００３０】
次に、校正用パターン１を撮像することで画像機器の測定誤差を校正する方法について説明する。
校正用パターン１を明暗領域測定パターンで構成された校正用パターンとして用いる場合には、図１に示すように、中央部１１の横方向、及び縦方向における辺の長さに対して、２：１となる位置に基準長さの中点を設定する。
そして、この中点から横方向、及び縦方向の両側に単位長さのｎ倍（ｎは、２以上の整数）の距離だけ離間した位置にある枠状パターン１２上のエッジを基準長さの測定エッジとする。このように中点、及び基準長さを設定すれば、各基準長さの測定エッジの変化方向は同一となる。すなわち、校正用パターン１を、明暗領域測定パターンで構成された校正用パターンとして用いることができる。なお、本実施形態では、単位長さの２〜６倍の距離だけ離間した位置にあるエッジを基準長さＡｘ〜Ｅｘ，Ａｙ〜Ｅｙの測定エッジとしている。
【００３１】
図２は、校正用パターン１を明領域測定パターン、及び暗領域測定パターンで構成された校正用パターンとして用いる場合を示す図である。
校正用パターン１を明領域測定パターン、及び暗領域測定パターンで構成された校正用パターンとして用いる場合には、図２に示すように、中央部１１の横方向、及び縦方向における辺の長さに対して、１：１となる位置に基準長さの中点を設定する。
そして、この中点から横方向、及び縦方向の両側に単位長さの０．５＋ｍ倍（ｍは、１以上の整数）の距離だけ離間した位置にある枠状パターン１２上のエッジを基準長さの測定エッジとする。このように中点、及び基準長さを設定すれば、各基準長さの測定エッジの変化方向は異なることになる。すなわち、校正用パターン１を、明領域測定パターン、及び暗領域測定パターンで構成された校正用パターンとして用いることができる。なお、本実施形態では、単位長さの１．５〜６．５倍の距離だけ離間した位置にあるエッジを基準長さａｘ〜ｆｘ，ａｙ〜ｆｙの測定エッジとしている。
【００３２】
このような本実施形態によれば以下の効果がある。
（１）校正用パターン１は、被測定物の測定パターンに応じて測定パターンを選択することができるので、被測定物の測定パターンに関わらず、測定誤差を低減させることができる。
（２）横方向パターン、及び縦方向パターンは、明領域、及び暗領域を交互に繰り返すパターンとして構成されているので、複数の測定エッジを同心状に配置したパターンとして構成されている。したがって、画像機器の校正にかかる時間を短縮することができ、ズームの倍率を変更した場合における画像の中心位置の校正をすることができる。
（３）枠状パターン１２は、簡素な形状であるので、校正用パターン１を容易に製造することができる。
【００３３】
〔第２実施形態〕
以下、本発明の第２実施形態を図面に基づいて説明する。
図３は、本発明の第２実施形態に係る校正用パターン１Ａを示す図である。図４は、校正用パターン１Ａを明領域測定パターン、及び暗領域測定パターンで構成された校正用パターンとして用いる場合を示す図である。
なお、以下の説明では、既に説明した部分については、同一符号を付してその説明を省略する。
【００３４】
前記第１実施形態では、校正用パターン１は、枠状パターン１２を備え、横方向パターン、及び縦方向パターンは、枠状パターン１２の一部とされていた。
これに対して、本実施形態では、校正用パターン１Ａは、図３、及び図４に示すように、渦巻パターン１３を備え、横方向パターン、及び縦方向パターンは、渦巻パターン１３の一部とされている点で異なる。
【００３５】
校正用パターン１Ａは、中央部１１と、中央部１１の外側に設けられる渦巻パターン１３とを備える。
渦巻パターン１３は、単位長さの幅を有し、中央部１１を中心とする渦巻状に形成された明領域、及び暗領域からなる２つの渦巻部１３１，１３２を備える。そして、渦巻部１３１，１３２は、互いに平行して配列されている。
【００３６】
このような本実施形態においても、前記第１実施形態と同様の作用、効果を奏することができる他、以下の作用、効果を奏することができる。
（４）渦巻パターン１３は、簡素な形状であるので、校正用パターン１Ａを容易に製造することができる。
【００３７】
〔第３実施形態〕
以下、本発明の第３実施形態を図面に基づいて説明する。
図５は、本発明の第３実施形態に係る校正用パターン１Ｂを示す図である。図６は、校正用パターン１Ｃを示す図である。
なお、校正用パターン１Ｂは、前記第１実施形態における校正用パターン１と同様に枠状パターン１２を備えるものであり、校正用パターン１Ｃは、前記第２実施形態における校正用パターン１Ａと同様に渦巻パターン１３を備えるものである。
【００３８】
前記各実施形態では、校正用パターン１，１Ａは、中央部１１を備え、中央部１１は、正方形状の明領域とされていた。
これに対して、本実施形態では、校正用パターン１Ｂ，１Ｃは、図５、及び図６に示すように、中央部１４を備え、中央部１４は、画像機器の位置決めをするための位置決め用パターン１４１を備えている点で異なる。
【００３９】
このような本実施形態においても、前記第１実施形態と同様の作用、効果を奏することができる他、以下の作用、効果を奏することができる。
（５）校正用パターン１Ｂ，１Ｃは、位置決め用パターン１４１を備えるので、画像機器は、位置決め用パターン１４１を検出することで、容易に位置決めをすることができる。したがって、画像機器の校正にかかる時間を短縮することができ、ズームの倍率を変更した場合における画像の中心位置の校正を容易にすることができる。
【００４０】
〔実施形態の変形〕
なお、本発明は前記各実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良等は本発明に含まれるものである。
例えば、前記各実施形態では、校正用パターンとして、校正用パターン１Ａ〜１Ｃを例示したが、これら以外のパターンとされていてもよい。要するに、校正用パターンは、中央部と、横方向パターン、及び縦方向パターンを備えていればよい。
前記各実施形態では、中央部１１，１４は、明領域とされていたが、暗領域とされていてもよい。なお、この場合には、枠状パターン１２、及び渦巻パターン１３の明暗を反転させればよい。要するに、中央部は、明領域、または暗領域とされていればよい。
前記各実施形態では、中央部１１，１４は、正方形状とされていたが、矩形状とされていてもよい。
【産業上の利用可能性】
【００４１】
本発明は、画像機器の校正用パターンに利用でき、特に、画像機器の測定誤差を校正するために画像機器に撮像される画像機器の校正用パターンに好適に利用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００４２】
【図１】本発明の第１実施形態に係る校正用パターンを示す図。
【図２】前記実施形態における校正用パターンを明領域測定パターン、及び暗領域測定パターンで構成された校正用パターンとして用いる場合を示す図。
【図３】本発明の第２実施形態に係る校正用パターン１Ａを示す図。
【図４】前記実施形態における校正用パターンを明領域測定パターン、及び暗領域測定パターンで構成された校正用パターンとして用いる場合を示す図。
【図５】本発明の第３実施形態に係る校正用パターンを示す図。
【図６】前記実施形態における校正用パターンを示す図。
【図７】従来の校正用パターンの一例を示す図。
【図８】暗領域に挟まれた明領域の横方向の長さを測定するときの画像処理の状態を示す図。
【図９】明領域に挟まれた暗領域の横方向の長さを測定するときの画像処理の状態を示す図。
【図１０】対象物の測定エッジの変化方向を同一とした場合における画像処理の状態を示す図。
【図１１】は、校正用パターン、及び被測定物の組み合わせと、測定誤差との関係を示す図。
【符号の説明】
【００４３】
１，１Ａ-１Ｃ…校正用パターン
１１，１４…中央部
１２…枠状パターン
１２１-１２５…枠状部
１３…渦巻パターン
１３１，１３２…渦巻部
１４１…位置決め用パターン
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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