(57)【要約】【課題】ディスプレイに装着し易く且つ接地し易いアース用電極部を精度良く且つ容易に形成することが可能なアース用電極部を有するディスプレイ用光学フィルタの製造方法を提供する。【解決手段】矩形状の透明基材１０１ａの周縁部の少なくとも一部に貫通孔１０２を形成する工程（Ａ）と、  前記貫通孔１０２に導電性材料を充填することによりアース電極部１０３を形成する工程（Ｂ）と、  前記透明基材１０１ａの一方の表面全面上にパターン状の電磁波シールド層１０４を形成する工程（Ｃ）と、  前記透明基材１０１ａの他方の表面上であって前記周縁部を除く中央部上に機能性層１０５を形成する工程（Ｄ）と、を含むアース用電極部を有するディスプレイ用光学フィルタの製造方法。【選択図】図１
2010021481.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
矩形状の透明基材の周縁部の少なくとも一部に貫通孔を形成する工程と、
前記貫通孔に導電性材料を充填することによりアース電極部を形成する工程と、
前記透明基材の一方の表面全面上にパターン状の電磁波シールド層を形成する工程と、
前記透明基材の他方の表面上であって前記周縁部を除く中央部上に機能性層を形成する工程と、
を含むことを特徴とするアース用電極部を有するディスプレイ用光学フィルタの製造方法。
【請求項２】
矩形状の透明基材の周縁部の少なくとも一部に貫通孔を形成する工程と、
前記貫通孔に導電性材料を充填することによりアース電極部を形成する工程と、
前記透明基材の一方の表面全面上にパターン状の電磁波シールド層を形成する工程と、
前記電磁波シールド層上に機能性層を形成する工程と、
を含むことを特徴とするアース用電極部を有するディスプレイ用光学フィルタの製造方法。
【請求項３】
前記透明基材の周縁部全体に複数の貫通孔を間欠的に形成することを特徴とする請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
前記機能性層がハードコート層である請求項１〜３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
長尺状の透明基材上にその長手方向に向かって複数の矩形状単位領域を設定し、前記透明基材の矩形状単位領域内の周縁部の少なくとも一部に貫通孔を形成する工程と、
前記貫通孔に導電性材料を充填することによりアース電極部を形成する工程と、
前記透明基材の一方の表面全面上にパターン状の電磁波シールド層を形成する工程と、
前記透明基材の他方の表面上であって、前記矩形状領域内の周縁部を除く中央部上に機能性層を形成する工程と、
前記透明基材を前記矩形状領域ごとに裁断する工程と、
を含むことを特徴とするアース用電極部を有するディスプレイ用光学フィルタの製造方法。
【請求項６】
長尺状の透明基材上にその長手方向に向かって複数の矩形状単位領域を設定し、前記透明基材の矩形状単位領域内の周縁部の少なくとも一部に貫通孔を形成する工程と、
前記貫通孔に導電性材料を充填することによりアース電極部を形成する工程と、
前記透明基材の一方の表面全面上にパターン状の電磁波シールド層を形成する工程と、
前記電磁波シールド層上に機能性層を形成する工程と、
前記透明基材を前記矩形状領域ごとに裁断する工程と、
を含むことを特徴とするアース用電極部を有するディスプレイ用光学フィルタの製造方法。
【請求項７】
前記矩形状単位領域内の周縁部全体に複数の貫通孔を間欠的に形成することを特徴とする請求項５又は６に記載の方法。
【請求項８】
前記機能性層がハードコート層である請求項５〜７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか１項に記載の方法により得られたアース用電極部を有するディスプレイ用光学フィルタ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、ブラウン管（ＣＲＴ）ディスプレイ、液晶ディスプレイ、有機ＥＬ（電界発光）ディスプレイ、表面電界型ディスプレイ（ＳＥＤ）を含む電界放出型ディスプレイ（ＦＥＤ）等の各種ディスプレイに対して反射防止、近赤外線遮断、電磁波遮蔽等の各種機能を有する光学フィルタの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、ＥＬディスプレイ等のフラットパネルディスプレイ、及びＣＲＴディスプレイは、近年、大画面表示が主流となり、次世代の大画面表示デバイスとしてＰＤＰが一般的になってきている。しかしながら、このＰＤＰでは画像表示のため発光部に高周波パルス放電を行っているため、不要な電磁波の輻射や赤外線リモコン等の誤動作の原因ともなる赤外線の輻射の恐れがある。
【０００３】
このため、ＰＤＰなどのディスプレイに用いられるフィルタとして、透明基材上に電磁波シールド層が形成されたものなどが知られている。電磁波シールド層には、例えば、（１）金属銀を含む透明導電薄膜、（２）金属線又は導電性繊維を網状にした導電メッシュ、（３）銅箔等の金属箔に開口部を設けたメッシュ状の導電層、（４）導電性インクをメッシュ状に印刷した導電層などが用いられる。なかでも、開口部により高い光透過性が得られることから（２）〜（４）のメッシュ状の導電層が好適に用いられている。導電性のメッシュの部分によって電磁波がシールドされ、開口部によって光の透過が確保される。
【０００４】
さらに、従来のディスプレイ用光学フィルタには、耐傷付き性を付与するためのハードコート層、蛍光灯などの外部光源から照射された光線の反射を抑制して視認性を向上させるための反射防止層、さらに、赤外線を遮蔽するために近赤外線遮蔽層などの機能性層を積層して用いられる。
【０００５】
このようなディスプレイ用光学フィルタを作製するには、電磁波シールド層が形成された透明基材上に、機能性層を塗工によって形成する方法が用いられている。このような塗工方法によれば、各機能性層を別途作製して貼り合わせる方法に比べて、生産性の向上及びコストの低減が図れる。
【０００６】
ディスプレイ用光学フィルタでは、電磁波シールド性を良好なものとするために、電磁波シールド層をＰＤＰ本体に接地（アース）する必要がある。したがって、機能性層の周縁部の少なくとも一部を除去して、電磁波シールド層のアース電極部を露出させる必要がある。しかしながら、上記のように塗工によって各機能性層を形成すると、電磁波シールド層が露出しない状態となるためアース電極部を露出させることができないとの問題がある。また、機能性層は非常に薄膜であるため、塗工範囲を調整することにより電磁波シールド層を精度よく露出させるのも困難であった。
【０００７】
そこで、特許文献１には、プラスチックフィルム基材上に導電膜及び非導電膜が形成されたディスプレイ用光学フィルタの一端に接続端子を狭着させ、この接続端子によりアース電極部を設けることが開示されている。具体的には、接続端子でディスプレイ用光学フィルタの一端を挟み込み、かしめて強く圧することにより、接続端子が非導電膜の一部分を破断して導電膜と接触する。
【０００８】
【特許文献１】特開平１０−１３８３８３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
特許文献１では、接続端子を単に圧することにより非導電膜を破断するため、ディスプレイ用光学フィルタを破壊させないように接続端子によりかしめる際の圧力を制御するのが困難である。
【００１０】
したがって、本発明の目的は、アース用電極部を精度良く且つ容易に形成することが可能な、アース用電極部を有するディスプレイ用光学フィルタの製造方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明の第１の方法は、
矩形状の透明基材の周縁部の少なくとも一部に貫通孔を形成する工程と、
前記貫通孔に導電性材料を充填することによりアース電極部を形成する工程と、
前記透明基材の一方の表面全面上にパターン状の電磁波シールド層を形成する工程と、
前記透明基材の他方の表面上であって前記周縁部を除く中央部上に機能性層を形成する工程と、
を含むことを特徴とするアース用電極部を有するディスプレイ用光学フィルタの製造方法である。
【００１２】
本発明の第２の方法は、
矩形状の透明基材の周縁部の少なくとも一部に貫通孔を形成する工程と、
前記貫通孔に導電性材料を充填することによりアース電極部を形成する工程と、
前記透明基材の一方の表面全面上にパターン状の電磁波シールド層を形成する工程と、
前記電磁波シールド層上に機能性層を形成する工程と、
を含むことを特徴とするアース用電極部を有するディスプレイ用光学フィルタの製造方法である。
【００１３】
本発明の第３の方法は、
長尺状の透明基材上にその長手方向に向かって複数の矩形状単位領域を設定し、前記透明基材の矩形状単位領域内の周縁部の少なくとも一部に貫通孔を形成する工程と、
前記貫通孔に導電性材料を充填することによりアース電極部を形成する工程と、
前記透明基材の一方の表面全面上にパターン状の電磁波シールド層を形成する工程と、
前記透明基材の他方の表面上であって、前記矩形状領域内の周縁部を除く中央部上に機能性層を形成する工程と、
前記透明基材を前記矩形状領域ごとに裁断する工程と、
を含むことを特徴とするアース用電極部を有するディスプレイ用光学フィルタの製造方法である。
【００１４】
本発明の第４の製造方法は、
長尺状の透明基材上にその長手方向に向かって複数の矩形状単位領域を設定し、前記透明基材の矩形状単位領域内の周縁部の少なくとも一部に貫通孔を形成する工程と、
前記貫通孔に導電性材料を充填することによりアース電極部を形成する工程と、
前記透明基材の一方の表面全面上にパターン状の電磁波シールド層を形成する工程と、
前記電磁波シールド層上に機能性層を形成する工程と、
前記透明基材を前記矩形状領域ごとに裁断する工程と、
を含むことを特徴とするアース用電極部を有するディスプレイ用光学フィルタの製造方法である。
【発明の効果】
【００１５】
本発明のディスプレイ用光学フィルタの製造方法では、透明基材に形成された貫通孔内に導電性材料を充填することによりアース用電極を形成することを特徴とする。このようなアース用電極は、容易に精度良く形成することができ、電磁波シールド層との電気的接触も良好である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
（第１の方法）
本発明のディスプレイ用光学フィルタの第１の製造方法について説明する。図１に本発明の第１の製造方法の１例を説明するための図を示す。
【００１７】
本発明の第１の製造方法は、
矩形状の透明基材１０１ａの周縁部の少なくとも一部に貫通孔１０２を形成する工程（Ａ）と、
前記貫通孔１０２に導電性材料を充填することによりアース電極部１０３を形成する工程（Ｂ）と、
前記透明基材１０１ａの一方の表面全面上にパターン状の電磁波シールド層１０４を形成する工程（Ｃ）と、
前記透明基材１０１ａの他方の表面上であって前記周縁部を除く中央部上に機能性層１０５を形成する工程（Ｄ）と、
を含む。
【００１８】
このような本発明の第一の方法により得られるディスプレイ用光学フィルタの機能性層が形成された面上の上面図を図２に示す。また、図２における線Ａ−Ａ'間におけるディスプレイ用光学フィルタの断面図が図１における工程（Ｄ）により得られたディスプレイ用光学フィルタの断面図に相当する。本発明の方法によれば、矩形状の透明基材１０１ａの一方の表面全面上にパターン状の電磁波シールド層１０４を有し、透明基材１０１ａの他方の表面上の周縁部を除く中央部上に機能性層１０５を有し、さらに透明基材１０１ａの周縁部の少なくとも一部に貫通孔１０２が形成され、この貫通孔１０２には導電性材料が充填されることにより形成されたアース電極部１０３を有するディスプレイ用光学フィルタを提供することができる。
【００１９】
本発明の方法では、まず、工程（Ａ）において、矩形状の透明基材の周縁部の少なくとも一部に貫通孔を形成する。
【００２０】
透明基材において貫通孔が形成される位置は、得られるアース用電極が、透明基材上に形成された電磁波シールド層と十分に接触することができ、ディスプレイ本体に確実に接地することができるようにする。したがって、図２に示すように、透明基材の周縁部全体に複数の貫通孔を間欠的に形成するのが好ましい。
【００２１】
貫通孔を間欠的に形成した場合、相互に隣接する貫通孔の間隔（図２におけるＬ1）は、１〜２０ｍｍ、特に５〜１５ｍｍとするのが好ましい。これにより、貫通孔と電磁波シールド層とを十分に接触させることができる。
【００２２】
アース用電極部を形成するための貫通孔は、導電性材料を充填且つ保持できる大きさであれば、円形、矩形状など、いかなる形状であってもよい。例えば、貫通孔の形状が円形であった場合、貫通孔の直径は、０．０１〜０．５ｍｍ、特に０．０２〜０．１ｍｍとするのが好ましい。また、貫通孔の形状が正方形であった場合、貫通孔の一辺の長さは、０．０１〜０．５ｍｍ、特に０．０２〜０．１ｍｍとするのが好ましい。
【００２３】
このような貫通孔を透明基材に形成するには、ドリル加工、パンチ加工、レーザ加工など、公知の方法を用いることができる。なかでも、微小な貫通孔を高い寸法精度で形成できることから、レーザ加工を用いるのが好ましい。レーザ加工において、レーザは、パルスレーザ（パルス発振レーザ）を用いるのが好ましい。
【００２４】
例えば、連続波レーザを用いる場合には、透明基材に形成される貫通孔と対応する位置に開口部が形成されたマスクを用い、当該マスクを透明基材上に積層した後、マスク全面に連続波レーザを照射する方法などが用いられる。これにより、透明基材のマスクが有する開口部において露出している部分のみを昇華させて、透明基材の周縁部の少なくとも一部に貫通孔を形成することができる。また、このような方法によれば、複数の貫通孔を透明基材の所望する位置に同時に形成することができる。
【００２５】
また、パルスレーザによれば、透明基材の周縁部全体に間欠的に複数の貫通孔を容易に形成することができる。パルスレーザを透明基材の周縁部に沿って走査するには、ガルバノミラー又は移動光学系ユニットなどを用いることにより容易に行うことができる。
【００２６】
レーザ光は、短時間で、透明基材の他の部位に熱的損傷を与えることのないもの、或いはそのように設定できるものであればよい。例えば、ＹＡＧレーザ（基本波、２倍波、３倍波）、ルビーレーザ、エキシマレーザ、半導体レーザ、ＣＯ2レーザ、アルゴンレーザ等を用いることができる。特に、ＹＡＧレーザ（基本波）、半導体レーザ、ＣＯ2レーザが、好ましい。
【００２７】
また、レーザ光は、矩形状又は楕円状に成形して、透明基材上に照射するのが好ましい。このようにレーザ光を成形するには、凹状のシリンドリカルレンズなどを用いて行うことができる。
【００２８】
パルスレーザ光の照射条件は、例えば、レーザエネルギー５０〜２００ｍＪ、パルス幅２００〜６００μｓｅｃ、レーザ照射スポット径５０〜１００μｍ、スキャン速度５００〜１５００ｍｍ／ｓｅｃの条件でパルスレーザを照射することによって、透明基材に他の部位に損傷を与えることなく貫通孔を形成することができる。
【００２９】
本発明に使用される透明基材としては、透明度及び可とう性を備え、その後の処理に耐えるものであれば特に制限はない。透明基材の材質としては、例えば、ガラス、ポリエステル（例、ポリエチレンテレフタレート、（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート）、アクリル樹脂（例、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ））、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリスチレン、セルローストリアセテート、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール、金属イオン架橋エチレン−メタクリル酸共重合体、ポリウレタン、セロファン等を挙げることができる、これらの中で、加工処理（加熱、溶剤、折り曲げ）による劣化が少なく、透明性の高い材料であるＰＥＴ、ＰＣ、ＰＭＭＡが好ましい。なかでも、安価であり優れた耐久性を有することから、ＰＥＴであるのが好ましい。透明基材は、これらの材質からなるシート、フィルム、または板として用いられる。
【００３０】
前記透明基材の厚さは、特に制限されないが、６〜２５０μｍ、特に６〜１５０μｍ程度であるのが好ましい。
【００３１】
次に、工程（Ｂ）において、上述の通りにして形成した貫通孔内に、導電性材料を充填することによりアース電極部を形成する。
【００３２】
貫通孔内に充填する導電性材料は、バインダ樹脂及び導電性粒子を含むペーストの硬化物であるのが好ましい。
【００３３】
このような導電性材料を貫通孔内に充填するには、例えば、前記ペーストを透明基材の貫通孔内に充填した後、硬化させる方法が用いられる。
【００３４】
前記ペーストを透明基材の貫通孔内に充填するには、貫通孔が形成された透明基材の周縁部上に前記ペーストを塗布し、スリットダイヘッドなどを押し当てて圧入する方法などが用いられる。この他にも、スクリーン印刷法が好ましく用いられる。
【００３５】
スクリーン印刷法により導電性材料を貫通孔内に充填するには、まず、貫通孔に対応した領域に開口部が形成され、貫通孔と同じ大きさ及び厚さを有するマスクを用意する。透明基材の貫通孔とマスクの開口部との位置が合うように位置合わせして、マスクを透明基材上に積層する。次いで、マスク上にペーストをスキージで押し当てながら印刷する。これにより、貫通孔内にペーストを充填することができる。
【００３６】
貫通孔内にペーストを充填する工程は、減圧又は真空下で行われるのが好ましい。これにより、貫通孔内に確実にペーストを充填させることができる。真空又は減圧の程度は、１００〜１００００Ｐａとするのが好ましい。
【００３７】
導電性材料に用いられるバインダ樹脂としては、熱可塑性、熱硬化型、又は光（一般に紫外線）硬化型の樹脂である。具体的には、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、マレイン酸樹脂、メラミン樹脂、ユリア樹脂、ポリイミド樹脂、含ケイ素樹脂等を挙げることができ、アクリル樹脂が好ましい。
【００３８】
導電性材料に用いられる導電性粒子としては、アルミニウム、ニッケル、インジウム、クロム、金、バナジウム、スズ、カドミウム、銀、プラチナ、銅、チタン、コバルト、鉛等の金属、合金；或いはＩＴＯ、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化インジウム−酸化スズ（ＩＴＯ、いわゆるインジウムドープ酸化スズ）、酸化スズ−酸化アンチモン（ＡＴＯ、いわゆるアンチモンドープ酸化スズ）、酸化亜鉛−酸化アルミニウム（ＺＡＯ；いわゆるアルミニウムドープ酸化亜鉛）等の導電性酸化物等を挙げることができる。
【００３９】
導電性粒子の平均粒子径は、１０〜１００００ｎｍ、特に１０〜５０ｎｍであるのが好ましい。このような導電性粒子であれば、貫通孔において高く分散して、優れた導電性を発揮することができる。
【００４０】
導電性材料における導電性粒子の含有量は、バインダ樹脂１００質量部に対して、１００〜４００質量部、特に３００〜３５０質量部とするのが好ましい。
【００４１】
ペーストは、バインダ樹脂及び導電性粒子を適宜有機溶剤中に分散させたものである。有機溶剤としては、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、イソプロピルアルコール等のアルコール類を挙げることができる。
【００４２】
ペーストは、２５℃において１〜２０Ｐａ・ｓ、特に５〜１０Ｐａ・ｓの粘度を有するのが好ましい。これにより、透明基材の貫通孔内にペーストを充填し保持させることができる。
【００４３】
ペーストは、これを硬化させるため、バインダ樹脂及び導電性粒子の他、重合開始剤、架橋剤をさらに含むのが好ましい。例えば、熱硬化させる場合には熱重合開始剤を使用し、紫外線硬化させる場合は、光重合開始剤、重合性モノマー、重合性オリゴマー等を使用することが好ましい。
【００４４】
貫通孔内に充填したペーストを硬化させるには、加熱、又は紫外線、Ｘ線、γ線、電子線などの光照射により行えばよい。
【００４５】
また、導電性材料を貫通孔内に充填するには、バインダ樹脂中に導電性粒子を分散させたペーストを予め透明基材に形成した貫通孔と同じ形状に成形して硬化させ、これにより得られた硬化物を貫通孔内に充填することにより行われてもよい。好ましくは、透明基材にパンチ加工により貫通孔を形成する際に、パンチの先端に前記硬化物を仕込んでおくことにより、パンチ加工時に貫通孔の形成と同時に硬化物の充填を行うことができる。
【００４６】
次に、工程（Ｃ）において、透明基材の一方の表面全面上にパターン状の電磁波シールド層を形成する。
【００４７】
電磁波シールド層は、金属を含み導電性を有する。例えば、（１）銅などの金属からなるもの、（２）バインダ樹脂中に導電性粒子を分散させたもの、等を挙げることができる。
【００４８】
前記（１）金属からなる電磁波シールド層において、前記金属としては、銅、ステンレス、アルミニウム、ニッケル、鉄、真鍮、或いはこれらの合金、好ましくは銅、ステンレス、アルミニウムが用いられる。
【００４９】
例えば、（１）銅などの金属からなるパターン状の電磁波シールド層を形成する場合、まず、スパッタリング、イオンプレーティング、電子ビーム蒸着、真空蒸着、化学蒸着等の気相製膜法や、印刷、塗工などの方法を用いて透明基材上に前記金属からなる金属箔を形成し、その後、前記金属箔をエッチングして開口部を設けることによりパターン状にする方法など、公知の方法を用いて行えばよい。
【００５０】
前記（１）の電磁波シールド層を作製するには、上記方法の他にも、透明基材上に、溶剤に対して可溶な材料によってドットを形成し、フィルム面に溶剤に対して不溶な導電材料からなる導電材料層を形成し、フィルム面を溶剤と接触させてドット及びドット上の導電材料層を除去する方法を用いても良い。このような方法は、例えば、特開２００１−３３２８８９号公報などに記載されている。
【００５１】
（２）バインダ樹脂中に導電性粒子を分散させた電磁波シールド層において、前記導電性粒子としては、例えば、アルミニウム、ニッケル、インジウム、クロム、金、バナジウム、スズ、カドミウム、銀、プラチナ、銅、チタン、コバルト、鉛等の金属、合金；或いはＩＴＯ、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化インジウム−酸化スズ（ＩＴＯ、いわゆるインジウムドープ酸化スズ）、酸化スズ−酸化アンチモン（ＡＴＯ、いわゆるアンチモンドープ酸化スズ）、酸化亜鉛−酸化アルミニウム（ＺＡＯ；いわゆるアルミニウムドープ酸化亜鉛）等の導電性酸化物等を挙げることができる。特に、ＩＴＯが好ましい。
【００５２】
バインダ樹脂の例としては、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、マレイン酸樹脂、メラミン樹脂、ユリア樹脂、ポリイミド樹脂、含ケイ素樹脂等を挙げることができる。さらに、これらの樹脂のうち熱硬化性樹脂であることが好ましい。
【００５３】
また、（２）バインダ樹脂中に導電性粒子を分散させたパターン状の電磁波シールド層を形成する場合、導電性粒子をバインダ樹脂に分散させた導電性インクを透明基材上にパターン状に印刷する方法を用いることができる。前記導電性インクは導電性粒子及びバインダ樹脂の他に、適度な粘度に調整するため、さらに溶剤を含んでいてもよい。導電性インクを透明基材上にパターン状に印刷するには、グラビア印刷、フレキソ印刷、グラビアオフセット印刷、スクリーン印刷、インクジェット印刷、静電印刷など公知の方法を用いて行えばよい。その後、必要に応じ室温〜１２０℃で乾燥させて硬化させる。
【００５４】
電磁波シールド層としては、防眩性及び導電性に優れることから、上述したもののうち（１）の電磁波シールド層を用いるのが好ましい。
【００５５】
電磁波シールド層が有するパターン形状は、ストライプ状、メッシュ状であるのが好ましい。これらのパターンを有する電磁波シールド層は、パターン形成部分により導電性を確保でき、開口部によって光の透過を確保できるため好ましい。
【００５６】
電磁波シールド層におけるメッシュパターンの形状には特に制限はなく、例えば四角形の開口部が形成された格子状や、円形、六角形、三角形又は楕円形の開口部が形成されたパンチングメタル状などが挙げられる。また、開口部は規則的に並んだものに限らず、ランダムパターンとしても良い。
【００５７】
メッシュ状の電磁波シールド層の線幅は、一般に５０μｍ以下、好ましくは５〜４５μｍ、特に５〜３０μｍである。線のピッチは２００μｍ以下が好ましい。また、開口率は５０〜９５％であることが好ましく、特に５５〜８０％である。なお、開口率とはメッシュの線幅と１インチ幅に存在する線の数から計算で求めたものである。
【００５８】
電磁波シールド層をさらに低い抵抗値にして、電磁波シールド効果を向上させたい場合は、電磁波シールド層上に金属メッキ層を形成することが好ましい。
【００５９】
金属メッキ層は、公知の電解メッキ法、無電解メッキ法により形成することができる。メッキに使用される金属としては、一般に銅、銅合金、ニッケル、銀、金、亜鉛又はスズ等を使用することが可能であり、これらは単独で使用しても、２種以上の合金として使用しても良い。金属メッキ層の厚さは、０．０１〜５μｍとするのが好ましい。
【００６０】
また、電磁波シールド層に防眩性能を付与しても良い。この防眩化処理は、電磁波シールド層の表面に黒化処理を行って、黒化層を設けることにより行っても良い。例えば、酸化処理、クロム合金等の黒色メッキ、黒又は暗色系のインクの塗布等により行うことができる。
【００６１】
次に、工程（Ｄ）において、透明基材の他方の表面上であって前記周縁部を除く中央部上に機能性層を形成する。
【００６２】
透明基材の他方の表面上であって貫通孔が形成された周縁部を除く中央部上に機能性層を作製するには、機能性層を透明基材の他方の表面全面上に形成した後、機能性層の周縁部を除去する方法が好ましく用いられる。これにより、透明基材の表面上の周縁部を除く中央部上に機能性層が形成され、アース用電極部を露出させることができる。
【００６３】
機能性層としては、近赤外線吸収層、ハードコート層及び／又は反射防止層などが挙げられる。また、反射防止層としては、屈折率の低い低屈折率層及び／又は屈折率の高い高屈折率層が挙げられる。なかでも、機能性層は、少なくともハードコート層を含むのが好ましい。なお、本発明において、ハードコート層とは、ＪＩＳ５６００−５−４（１９９９）で規定される鉛筆硬度試験でＨ以上の硬度を有するものをいう。
【００６４】
機能性層としてハードコート層を形成するには、合成樹脂組成物を含む塗工液を透明基材の表面上に塗工し、得られた塗工層を硬化させる方法が好ましく用いられる。
【００６５】
ハードコート層の形成に使用される合成樹脂組成物は、少なくとも合成樹脂を含む。前記合成樹脂は、一般に熱硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂であり、紫外線硬化性樹脂が好ましい。紫外線硬化性樹脂は、短時間で硬化させることができ、優れた表面平滑性を有する機能性層を形成することが可能となる。
【００６６】
熱硬化性樹脂としては、フェノール樹脂、レゾルシノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、フラン樹脂、シリコン樹脂などを挙げることができる。
【００６７】
紫外線硬化性樹脂（モノマー、オリゴマー）としては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシルポリエトキシ（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、フェニルオキシエチル（メタ）アクリレート、トリシクロデカンモノ（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルホリン、Ｎ−ビニルカプロラクタム、２−ヒドロキシ−３−フェニルオキシプロピル（メタ）アクリレート、ｏ−フェニルフェニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジプロポキシジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメチロールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、トリス〔（メタ）アクリロキシエチル〕イソシアヌレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレートモノマー類；ポリオール化合物（例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、１，６−ヘキサンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，９−ノナンジオール、２−エチル−２−ブチル−１，３−プロパンジオール、トリメチロールプロパン、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、１，４−ジメチロールシクロヘキサン、ビスフェノールＡポリエトキシジオール、ポリテトラメチレングリコール等のポリオール類、前記ポリオール類とコハク酸、マレイン酸、イタコン酸、アジピン酸、水添ダイマー酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸等の多塩基酸又はこれらの酸無水物類との反応物であるポリエステルポリオール類、前記ポリオール類とε−カプロラクトンとの反応物であるポリカプロラクトンポリオール類、前記ポリオール類と前記、多塩基酸又はこれらの酸無水物類のε−カプロラクトンとの反応物、ポリカーボネートポリオール、ポリマーポリオール等）と有機ポリイソシアネート（例えば、トリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−４，４'−ジイソシアネート、ジシクロペンタニルジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、２，４，４'−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、２，２'−４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等）と水酸基含有（メタ）アクリレート（例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェニルオキシプロピル（メタ）アクリレート、シクロヘキサン−１，４−ジメチロールモノ（メタ）アクリレー��、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート等）の反応物であるポリウレタン（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂等のビスフェノール型エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸の反応物であるビスフェノール型エポキシ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレートオリゴマー類等を挙げることができる。これら化合物は１種又は２種以上、混合して使用することができる。これらの紫外線硬化性樹脂を、熱重合開始剤とともに用いて熱硬化性樹脂として使用してもよい。
【００６８】
上記の紫外線硬化性樹脂（モノマー、オリゴマー）のうち、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の硬質の多官能モノマーを主に使用することが好ましい。
【００６９】
ハードコート層の形成に使用される合成樹脂組成物は、さらに、紫外線硬化性樹脂の光重合開始剤を含むのが好ましい。前記光重合開始剤としては、紫外線硬化性樹脂の性質に適した任意の化合物を使用することができる。例えば、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルホリノプロパン−１などのアセトフェノン系、ベンジルジメチルケタールなどのベンゾイン系、ベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノンなどのベンゾフェノン系、イソプロピルチオキサントン、２−４−ジエチルチオキサントンなどのチオキサントン系、その他特殊なものとしては、メチルフェニルグリオキシレートなどが使用できる。特に好ましくは、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルホリノプロパン−１、ベンゾフェノン等が挙げられる。これら光重合開始剤は、必要に応じて、４−ジメチルアミノ安息香酸のごとき安息香酸系叉は、第３級アミン系などの公知慣用の光重合促進剤の１種または２種以上を任意の割合で混合して使用することができる。また、光重合開始剤のみの１種または２種以上の混合で使用することができる。特に１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(チバ・スペシャリティケミカルズ社製、イルガキュア（登録商標）１８４）が好ましい。
【００７０】
光重合開始剤の含有量は、合成樹脂組成物に対して一般に０．１〜１０質量％、好ましくは０．１〜５質量％である。
【００７１】
ハードコート層の形成に使用される合成樹脂組成物は、さらに、シリコーンオイルを含有するのが好ましい。これにより、機能性層の表面平滑性を向上させることが可能となる。前記シリコーンオイルとしては、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル、及びメチルハイドロジェンシリコーンオイルなどが好ましく挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよく、２種以上を混合して使用してもよい。
【００７２】
シリコーンオイルの含有量は、合成樹脂１００質量部に対して、好ましくは０．０００５〜０．１質量部、より好ましくは０．００１〜０．０５質量部である。これにより、透明性及び表面平滑性に優れる第１の機能性層が得られる。
【００７３】
機能性層がハードコート層である場合、機能性層は、合成樹脂のみを含んでいてもよいが、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、老化防止剤、塗料加工助剤、着色剤などの他の成分をさらに含んでいても良い。紫外線吸収剤、特にベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤又はベンゾフェノン系紫外線吸収剤を含むことが好ましい。これによりフィルタの黄変などの防止を効率的に行うことができる。他の成分の含有量は、合成樹脂組成物に対して、一般に０．１〜１０質量％、好ましくは０．１〜５質量％である。
【００７４】
ハードコート層形成用塗工液は、合成樹脂組成物を、有機溶剤中に分散又は溶解させたものである。有機溶剤としては、特に制限されないが、乾燥が容易なものが好ましい。具体的には、アセトン、メチルエチルケトン、メチルエチルイソブチルケトン等のケトン類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、トルエン、キシレン等の芳香族類、メタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類を用いることができる。アセトン、メチルエチルケトン、酢酸メチル、酢酸エチルが好ましい。これらは、一種単独で用いてもよく、二種以上を混合して用いてもよい。
【００７５】
ハードコート層形成用塗工液における有機溶剤の含有量は、合成樹脂組成物１００質量部に対して、好ましくは５０質量部以下、好ましくは２０〜４０質量部、特に好ましくは２５〜３５質量部である。このような含有量であれば、塗工層の硬化時に有機溶剤が揮発することによって表面に発生し得る凹凸を抑制することができ、優れた表面平滑性を有する機能性層を形成することが可能となる。
【００７６】
ハードコート層形成用塗工液を透明基材の表面上に塗工するには、例えば、グラビアコーター、ロールコーター（サイズプレス、ゲートロールコーター等）、バーコーター、エアナイフコーター、ブレードコーター、ディッピング、バーコーター、ブレードコーター、ナイフコーター、リバースロールコーター、グラビアロールコーター、スクイズコーター、カーテンコーター、スプレーコーター、ダイコーターなどの塗工手段を用いて行うことができる。
【００７７】
ハードコート層形成用塗工液を塗工した後に硬化させるには、加熱又は紫外線照射などの手段を用いて行えばよい。これにより、ハードコート層が得られる。優れた表面平滑性を有する機能性層を形成することが可能となることから、紫外線硬化性の合成樹脂組成物を使用し、紫外線照射により塗工層を硬化させるのが好ましい。したがって、紫外線硬化性の合成樹脂組成物は、上述した紫外線硬化性樹脂及び光重合開始剤を含むのが好ましい。
【００７８】
紫外線硬化の場合、光源として紫外〜可視領域に発光する多くのものが採用でき、例えば超高圧、高圧、低圧水銀灯、ケミカルランプ、キセノンランプ、ハロゲンランプ、マーキュリーハロゲンランプ、カーボンアーク灯、白熱灯、レーザ光等を挙げることができる。照射時間は、ランプの種類、光源の強さによって一概には決められないが、数秒〜数分程度である。また、硬化促進のために、予め塗工層を４０〜１２０℃に加熱し、これに紫外線を照射してもよい。
【００７９】
機能性層としてハードコート層を形成する場合、ハードコート層の厚さは、通常は１〜５０μｍ、好ましくは５〜４０μｍ、特に好ましくは５〜３５μｍである。
【００８０】
本発明の方法では、上述の通りにして形成したハードコート層上に、他の機能性層として反射防止層をさらに形成してもよい。このように反射防止層を形成することによって、反射防止性をさらに向上させることができる。
【００８１】
反射防止層としては、屈折率の低い低屈折率層及び／又は屈折率の高い高屈折率層が挙げられる。反射防止層として、ハードコート層上に、（１）ハードコート層より屈折率の低い低屈折率層のみが形成されてもよく、（２）ハードコート層より屈折率の高い高屈折率層と、前記高屈折率層より屈折率の低い低屈折率層とがこの順で積層されて形成されてもよい。
【００８２】
低屈折率層を形成するには、合成樹脂、好ましくは紫外線硬化性樹脂のモノマー、オリゴマー、光重合開始剤の他、シリカ、フッ素樹脂等の微粒子、好ましくは中空シリカを含む塗工液が用いられる。
【００８３】
高屈折率層を形成するには、合成樹脂、好ましくは紫外線硬化性樹脂のモノマー、オリゴマー、光重合開始剤の他、ＩＴＯ、ＡＴＯ、Ｓｂ2Ｏ3、ＺｒＯ2、ＳｂＯ2、Ｉｎ2Ｏ3、ＳｎＯ2、ＺｎＯ、ＡｌをドープしたＺｎＯ、ＴｉＯ2等の金属酸化物微粒子を含む塗工液が用いられる。金属酸化物微粒子は、平均粒径１０〜１００００ｎｍ、好ましくは１０〜５０ｎｍのものが好ましい。ＩＴＯ、特に平均粒径１０〜５０ｎｍのものが好ましい。
【００８４】
低屈折率層及び高屈折率層の形成に使用される塗工液は、それぞれ有機溶剤を含んでいてもよい。前記塗工液に使用される合成樹脂、光重合開始剤及び有機溶剤は、ハードコート層において上述したものと同じものをそれぞれ使用できる。また、低屈折率層及び高屈折率層は、ハードコート層上に各塗工液を順次、塗工した後、ハードコート層と同様にして硬化させることにより形成することができる。
【００８５】
低屈折率層の厚さは、通常は１０〜５００ｎｍの範囲、好ましくは２０〜２００ｎｍである。また、低屈折率層の屈折率は、１．３５〜１．４５が好ましい。この屈折率が１．４５超であると、反射防止フィルムの反射防止特性が低下する。
【００８６】
高屈折率層の厚さは、通常は１０〜５００ｎｍ、好ましくは２０〜２００ｎｍである。また、高屈折率層の屈折率は１．６４以上であるのが好適である。高屈折率層の屈折率を１．６４以上とすることにより反射防止層の表面反射率の最小反射率を１．５％以内にすることができ、１．６９以上、好ましくは１．６９〜１．８２とすることにより反射防止層の表面反射率の最小反射率を１．０％以内にすることができる。
【００８７】
次に、上述の通りにして形成した機能性層の周縁部を除去し、アース用電極部を露出させるには、ダイヤモンドホイール、サンドブラスト、ヤスリ、針などを用いて研磨除去する方法や、ヘール加工などの切削加工法、レーザ加工などの方法が用いられる。
【００８８】
ヘール加工法を用いる場合、超音波振動を加えたヘールバイトにより機能性層を除去するのが好ましい。これにより、機能性層のみを高い精度で容易に除去することができる。
【００８９】
塗工層の除去方法としては、レーザ加工を用いるのが好ましい。機能性層上に照射されるレーザスポットを、機能性層表面の周縁部に沿って走査（スキャン）させることによって、機能性層を除去することができるものである。
【００９０】
レーザは、短時間で、透明基材に熱的損傷を与えることなく、機能性層の合成樹脂等を燃焼、分解等により除去できるもの、又はそのように設定できるものであればよい。レーザ光としては、ＹＡＧレーザ（基本波、２倍波、３倍波）、ルビーレーザ、エキシマレーザ、半導体レーザ、ＣＯ2レーザ、アルゴンレーザ等を用いることができる。特に、ＹＡＧレーザ（基本波、）、半導体レーザ、ＣＯ2レーザが、短時間で合成樹脂層を除去することができるので、好ましい。
【００９１】
例えば、レーザエネルギー３０〜５０ｍＪ、パルス幅１００〜２５０μｓｅｃ、レーザ照射スポット径５０〜３００μｍ、スキャン速度２００〜１０００ｍｍ／ｓｅｃの条件でパルスレーザを照射することによって、機能性層を部分的に除去して透明基材の表面を部分的に露出させることができる。
【００９２】
機能性層が形成されずに露出する透明基材の周縁部の幅（図２におけるＬ2）は、１〜１００ｍｍ、特に２〜５０ｍｍとするのが好ましい。これにより、アース用電極部を確実に露出させることができる。
【００９３】
本発明の方法により得られるディスプレイ用光学フィルタは、電磁波シールド層との電気的接触が良好なアース用電極を、容易に精度良く形成することができる。また、前記アース用電極によれば、ディスプレイ用光学フィルタの表面及び裏面のいずれの面からもＰＤＰ本体に接地することが可能となる。さらに、ディスプレイ用光学フィルタの裏面に電磁波シールド層を配置しても、前記アース用電極により容易にディスプレイ本体に接地することができるため、ディスプレイ用光学フィルタの表面上に直接、機能性層を形成することができる。したがって、このような機能性層は優れた表面平滑性を有し、反射防止性に優れる。
【００９４】
（第２の方法）
上述した本発明の第１の方法では、透明基材の表面上の周縁部を除く中央部上に機能性層を形成する工程（Ｄ）を実施したが、機能性層が形成される位置はこれに限定されず、電磁波シールド層上に形成することもできる。すなわち、本発明の第２の方法は、図３の説明図に示すように、上述した第１の方法において工程（Ｄ）に代えて、前記電磁波シールド層１０４上に機能性層１０５を形成する工程（Ｄ'）を実施する。これにより、アース用電極部を露出させるために形成位置が制限されることなく、機能性層を形成することができる。
【００９５】
本発明の第２の方法では、電磁波シールド層上に機能性層を形成する工程（Ｄ'）を実施する以外は、上述した第１の方法と同様に実施することができる。したがって、以下では、前記工程（Ｄ'）についてのみ説明する。
【００９６】
電磁波シールド層上の機能性層を形成する位置は、特に制限されず、透明基材の周縁部を除く中央部であってもよいが、電磁波シールド層全体上に機能性層が形成されるのが好ましい。形成位置に制限がないことから、容易に機能性層を形成することができる。機能性層は、少なくともハードコート層を含むことが好ましく、前記ハードコート層上には反射防止層がさらに形成されてもよい。このような機能性層を形成するには、上述した第１の方法と同様の方法を用いればよい。
【００９７】
本発明の第２の方法によれば、矩形状の透明基材の一方の表面全面上にパターン状の電磁波シールド層を有し、前記電磁波シールド層上に機能性層を有し、さらに透明基材の周縁部の少なくとも一部に貫通孔が形成され、この貫通孔には導電性材料が充填されることにより形成されたアース電極部を有するディスプレイ用光学フィルタを提供することができる。
【００９８】
このように本発明の方法により得られるディスプレイ用光学フィルタは、電磁波シールド層との電気的接触が良好なアース用電極を、容易に精度良く形成することができる。また、ディスプレイ用光学フィルタの表面においてアース用電極部が露出しており、これによりＰＤＰ本体に容易に接地することが可能となる。
【００９９】
（第３の方法）
上述した第１及び第２の方法では、予め矩形状の透明基材を用いたディスプレイ用光学フィルタの製造方法であったが、長尺状の透明基材を用いてディスプレイ用光学フィルタを作製することもできる。
【０１００】
すなわち、本発明の第３の方法は、
長尺状の透明基材上にその長手方向に向かって複数の矩形状単位領域を設定し、前記透明基材の矩形状単位領域内の周縁部の少なくとも一部に貫通孔を形成する工程（Ａ）と、
前記貫通孔に導電性材料を充填することによりアース電極部を形成する工程（Ｂ）と、
前記透明基材の一方の表面全面上にパターン状の電磁波シールド層を形成する工程（Ｃ）と、
前記透明基材の他方の表面上であって、前記矩形状領域内の周縁部を除く中央部上に機能性層を形成する工程（Ｄ）と、
前記透明基材を前記矩形状領域ごとに裁断する工程（Ｅ）と、
を含むことを特徴とするアース用電極部を有するディスプレイ用光学フィルタの製造方法である。
【０１０１】
本発明の方法では、まず、長尺状の透明基材上にその長手方向に向かって複数の矩形状単位領域を設定し、前記透明基材の矩形状単位領域内の周縁部の少なくとも一部に貫通孔を形成する工程（Ａ）を実施する。
【０１０２】
具体的には、図４に示すように、所定の大きさで区切られた複数の矩形状単位領域（図４において破線部と透明基材１０１ｂの側端部で囲まれた領域Ｓ1、Ｓ2、…Ｓn）を長尺状の透明基材１０１ｂ上にその長手方向に向かって連続的に設定し、矩形状単位領域内の周縁部の少なくとも一部に貫通孔１０２を形成する。
【０１０３】
矩形状単位領域の大きさは、後工程で透明基材を裁断した際に得られる光学フィルムが所望の大きさを有するように決定すればよい。
【０１０４】
貫通孔が形成される位置は、透明基材における矩形状単位領域内の周縁部の少なくとも一部であればよい。図４に示すように、透明基材における矩形状単位領域内の周縁部全体に複数の貫通孔を間欠的に形成するのが好ましい。これにより、得られるアース用電極が、透明基材上に形成された電磁波シールド層と十分に接触することができ、ディスプレイ本体に確実に接地することができる。
【０１０５】
このような貫通孔は、図４に示すように、初めに矩形状単位領域の周縁部全体に間欠的に形成することもできる。また、図５に示すように、初めに、透明基材の両側端部の帯状領域に貫通孔を間欠的に形成した後、後工程で矩形状単位領域の周縁部全体に貫通孔が形成されるように、さらに貫通孔を形成する工程を実施してもよい。
【０１０６】
アース用電極部を形成するための貫通孔は、導電性材料を充填且つ保持できる大きさであれば、円形、矩形状など、いかなる形状であってもよい。例えば、貫通孔の形状が円形であった場合、貫通孔の直径は、０．０１〜０．５ｍｍ、特に０．０２〜０．１ｍｍとするのが好ましい。また、貫通孔の形状が正方形であった場合、貫通孔の一辺の長さは、０．０１〜０．５ｍｍ、特に０．０２〜０．１ｍｍとするのが好ましい。
【０１０７】
貫通孔を間欠的に形成した場合、相互に隣接する貫通孔の間隔（図２におけるＬ1）は、１〜２０ｍｍ、特に５〜１５ｍｍとするのが好ましい。これにより、貫通孔と電磁波シールド層とを十分に接触させることができる。
【０１０８】
透明基材に貫通孔を形成するには、上述した第１の方法と同様の方法が用いられる。
【０１０９】
次に、本発明では、前記貫通孔に導電性材料を充填することによりアース電極部を形成する工程（Ｂ）、及び前記透明基材の一方の表面全面上にパターン状の電磁波シールド層を形成する工程（Ｃ）を実施するが、これらの工程は、上述した第１の方法と同様にして実施することができる。
【０１１０】
次に、本発明では、図６に示すように、長尺状の透明基材１０１ｂの他方の表面上であって、矩形状領域内の周縁部を除く中央部上に機能性層１０５を形成する工程（Ｄ）を実施する。
【０１１１】
このように機能性層を作製するには、機能性層を長尺状の透明基材の他方の表面全体上に形成した後、矩形状領域内の周縁部上に形成された機能性層を除去する方法が好ましく用いられる。
【０１１２】
機能性層としては、近赤外線吸収層、ハードコート層及び／又は反射防止層などが挙げられる。また、反射防止層としては、屈折率の低い低屈折率層及び／又は屈折率の高い高屈折率層が挙げられる。なかでも、機能性層は、少なくともハードコート層を含むのが好ましい。ハードコート層上には反射防止層がさらに形成されていてもよい。
【０１１３】
これらの機能性層の具体的な作製方法、及び矩形状領域内の周縁部上に形成された機能性層を除去する方法については、上述した第１の方法と同様にして実施することができる。
【０１１４】
本発明の第３の方法では、長尺状の透明基材を最初に設定した矩形状領域ごとに裁断する工程（Ｅ）を実施することにより、図２に示すのと同様の構成を有する矩形状のディスプレイ用光学フィルタを最終的に得ることができる。
【０１１５】
また、本発明の第３の方法では、全ての工程を、透明基材を走行させながら実施するのが好ましい。このような場合、ロール・ツー・ロール（Ｒｏｌｌ  ｔｏ  Ｒｏｌｌ）方式を用いるのが好ましい。
【０１１６】
当該第３の方法においても、機能性層が形成されずに露出する透明基材の周縁部の幅（図２におけるＬ2）は、１〜１００ｍｍ、特に２〜５０ｍｍとするのが好ましい。
【０１１７】
なお、長尺状の透明基材を裁断する工程（Ｅ）を実施する時期は、特に制限されず、透明基材に貫通孔を形成する工程（Ａ）を実施した後であればいつでも実施することができる。
【０１１８】
（第４の方法）
上述した本発明の第３の方法では、長前記透明基材の他方の表面上であって、前記矩形状領域内の周縁部を除く中央部上に機能性層を形成する工程（Ｄ）を実施したが、機能性層が形成される位置はこれに限定されず、電磁波シールド層上に形成することもできる。すなわち、本発明の第４の方法は、上述した第３の方法において工程（Ｄ）に代えて、前記電磁波シールド層上に機能性層を形成する工程（Ｄ'）を実施する。これにより、アース用電極部を露出させるために形成位置が制限されることなく機能性層を形成することができる。
【０１１９】
本発明の第２の方法では、電磁波シールド層上に機能性層を形成する工程（Ｄ'）を実施する以外は、上述した第３の方法と同様に実施することができる。したがって、以下では、前記工程（Ｄ'）についてのみ説明する。
【０１２０】
電磁波シールド層上の機能性層が形成される位置は、特に制限されないが、電磁波シールド層全体上に機能性層が形成されるのが好ましい。形成位置に制限がないことから、容易に機能性層を形成することができる。また、機能性層は、少なくともハードコート層を含むことが好ましく、前記ハードコート層上には反射防止層がさらに形成されてもよい。このような機能性層を形成するには、上述した第１の方法と同様の方法を用いればよい。
【０１２１】
本発明の第４の方法によれば、第２の方法により得られるディスプレイ用光学フィルタと同様の構成を有する矩形状のディスプレイ用光学フィルタを提供することができる。
【０１２２】
上述した本発明の第１〜第４の方法により得られるディスプレイ用光学フィルタは、特に制限されないが、ディスプレイの画像表示ガラス板の表面に透明粘着層を介して貼合する等の手段を用いて、ディスプレイに適用できる。このようなディスプレイとしては、表面電界型ディスプレイ（ＳＥＤ）を含む電界放出型ディスプレイ（ＦＥＤ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、ＥＬディスプレイ等のフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）、及びＣＲＴディスプレイなどが挙げられる。
【０１２３】
また、ディスプレイ用光学フィルタが有するアース電極部は、電子ディスプレイ本体へ接地するために用いられる。接地をより確実に行うために、アース電極部上に導電性粘着テープを付着してもよい。
【０１２４】
導電性粘着テープは、金属箔の一方の面に、導電性粒子含有接着剤の塗布層を設けたものなどが用いられる。導電材料含有接着剤は、導電性粒子を接着剤、及び適宜有機溶剤中に分散させたものである。
【０１２５】
導電性粒子としては、電磁波シールド層において上述したものと同じものが用いられる。また、接着剤としては、ブチルアクリレート等から形成されたアクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、ＳＥＢＳ（スチレン／エチレン／ブチレン／スチレン）及びＳＢＳ（スチレン／ブタジエン／スチレン）等の熱可塑性エラストマー（ＴＰＥ）を主成分とするＴＰＥ系粘着剤及び接着剤等も用いることができる。
【０１２６】
導電性粘着テープの基材となる金属箔としては、銅、銀、ニッケル、アルミニウム、ステンレス等の箔を用いることができ、その厚さは通常の場合、１〜１００μｍ程度とされる。
【０１２７】
導電性材料含有接着剤層は、この金属箔に、前記導電性粒子、接着剤、及び適宜有機溶剤を所定の割合で均一に混合した導電性材料含有接着剤をロールコーター、ダイコーター、ナイフコーター、マイカバーコーター、フローコーター、スプレーコーター等により塗工することにより容易に形成することができる。導電性粒子含有接着剤層の厚さは通常の場合５〜１００μｍ程度とされる。
【０１２８】
ディスプレイ用光学フィルタにおいて導電性粘着テープを接着する部位は、電子ディスプレイ本体へのアースの接地をより確実に行えるように決定すればよい。導電性粘着テープの一方の端部を電磁波シールド層のアース電極部の少なくとも一部、好ましくは全領域を覆うようにして接着させ、導電性粘着テープの他方の端部を光学フィルタの裏面に接着させるのが好ましい。これにより、電子ディスプレイ本体への接地を確実に行うことができる。
【実施例】
【０１２９】
以下、本発明を実施例により説明する。本発明は、以下の実施例により制限されるものではない。
【０１３０】
（実施例１）
ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（厚さ１００μｍ、寸法６００ｍｍ×４００ｍｍ）の周縁部全体に、パンチ加工により、直径１０ｍｍの円形の貫通孔を間欠的に形成した。貫通孔同士の間隔（Ｌ1）は５ｍｍとした。
【０１３１】
次に、下記成分を含むペースト（２５℃における粘度１０Ｐａ・ｓ）を調製し、スクリーン印刷により前記貫通孔内に充填した後、紫外線照射により硬化させた。
【０１３２】
ペースト組成：
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）３０質量部
イルガキュア１８４（チバスペシャリティケミカル社製）５質量部
ＩＴＯ（平均粒径１００ｎｍ）５０質量部
メチルエチルケトン１０質量部
トルエン５質量部
【０１３３】
次に、ＰＥＴフィルムの裏面全面上に、ポリビニルアルコールの２０％水溶液をドット状に印刷した。ドット１個の大きさは１辺が２３４μｍの正方形状であり、ドット同士間の間隔は２０μｍであり、ドット配列は正方格子状である。印刷厚さは、乾燥後で５μｍである。その上に、銅を平均膜厚４μｍとなるように真空蒸着した。次いで、常温の水に浸漬し、スポンジで擦ることによりドット部分を溶解除去し、次いで水でリンスした後、乾燥した。これにより、ＰＥＴフィルムの裏面全面上にメッシュ状の電磁波シールド層を形成した。この電磁波シールド層は、正確にドットのネガパターンに対応した正方格子状のものであり、平均厚さは４μｍ、平均線幅は２０μｍ、平均ピッチは２５４μｍ、開口率は７７％であった。
【０１３４】
次に、下記成分を含むハードコート層形成用塗工液を調製し、ＰＥＴフィルムの表面全面上にバーコータにより塗布し、紫外線照射により硬化させることにより、ハードコート層を形成した。このハードコート層の周縁部全体に、ＣＯ2レーザ加工機を用いて、出力３０Ｗ、焦点位置での直径０．５ｍｍに集光して、移動速度１００ｍｍ／秒でレーザ照射した。
【０１３５】
これにより、図２に示すように、ハードコート層１０５の全周囲に、ＰＥＴフィルム１０１ａが幅（Ｌ）５ｍｍで露出し、当該露出領域にアース用電極部１０３が間欠的に連続して形成されている光学フィルタを得た。
【０１３６】
（評価）
光学フィルタのアース用電極部（相対する２個の電極部）に抵抗計（ミリオームハイテスタ；日置電機（株）製）を接続して、抵抗値を測定した。実施例１で得られ光学フィルタの抵抗値は８７ｍΩであった。
【０１３７】
また、実施例１で得られた光学フィルタは、実際にＰＤＰに貼付しても透明性、電磁波遮蔽性等において、従来のものと遜色はなく、ＰＤＰへの貼付も極めて容易に行うことができた。
【図面の簡単な説明】
【０１３８】
【図１】本発明の第１の製造方法の１例を説明するための図である。
【図２】本発明の第１及び第３の方法により得られるディスプレイ用光学フィルタの機能性層が形成された面上の上面図である。
【図３】本発明の第２の製造方法の１例を説明するための図である。
【図４】本発明の第３及び第４の方法の工程（Ａ）において貫通孔が形成された長尺状の透明基材の上面図である。
【図５】本発明の第３及び第４の方法の工程（Ａ）において貫通孔が形成された長尺状の透明基材の上面図である。
【図６】本発明の第３の方法の工程（Ｄ）において長尺状の透明基材の機能性層が形成された面上の上面図である。
【符号の説明】
【０１３９】
１０１ａ  矩形状の透明基材、
１０１ｂ  長尺状の透明基材、
１０２    貫通孔、
１０３    アース用電極部、
１０４    パターン状の電磁波シールド層、
１０５    機能性層、
Ｓ1       矩形状単位領域、
Ｓ2       矩形状単位領域。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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