(57)【要約】【課題】基板ステージの天板を投影光学系とは独立して浄化することができ、かつ、浄化用の流体が基板ステージに供給される領域を規定することができる技術を提供する。【解決手段】露光装置ＥＸは、天板２１を有する基板ステージによって保持された基板に投影光学系を介して原版のパターンを投影して該基板を露光する。露光装置ＥＸは、投影光学系から分離して配置された浄化ユニット１００を備え、浄化ユニット１００は、天板２１に向けて流体を吐出する吐出ノズル５０と、吐出ノズル５０から天板２１に向けて吐出された流体を回収する回収ノズル５２とを含む。回収ノズル５２の開口部５１が、吐出ノズル５０から吐出される流体の経路を取り囲む形状を有する。【選択図】図４
2010021370.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
天板を有する基板ステージによって保持された基板に投影光学系を介して原版のパターンを投影して該基板を露光する露光装置であって、
前記投影光学系から分離して配置された浄化ユニットを備え、
前記浄化ユニットは、
前記天板に向けて流体を吐出する吐出ノズルと、
前記吐出ノズルから前記天板に向けて吐出された流体を回収する回収ノズルとを含み、
前記回収ノズルの開口部が、前記吐出ノズルから吐出される流体の経路を取り囲む形状を有する、
ことを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記開口部は、前記天板に対向するように配置されている、
ことを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記開口部は、前記吐出ノズルから吐出される流体の経路を全周にわたって取り囲む形状を有する、
ことを特徴とする請求項１又は２に記載の露光装置。
【請求項４】
前記浄化ユニットは、前記吐出ノズルから吐出される流体の飛散を防止するカバーを更に含み、前記カバーは、前記吐出ノズルから吐出される流体の経路を全周にわたって取り囲むとともに前記天板に対して間隙をもって対向する対向面を含み、前記開口部が前記対向面に配置されている、
ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項５】
前記浄化ユニットは、前記対向面と前記天板との間隙であって前記開口部の外側の領域に液膜が形成されるように該領域に液体を供給する供給口を更に含む、
ことを特徴とする請求項４に記載の露光装置。
【請求項６】
前記供給口は、前記対向面であって前記開口部の外側に配置され、
前記浄化ユニットは、回収口を更に含み、前記回収口は、前記対向面であって前記供給口の外側に配置される、
ことを特徴とする請求項５に記載の露光装置。
【請求項７】
前記吐出ノズルから吐出される流体は液体を含み、前記浄化ユニットは、前記カバーの内側に溜まる液体の液面の高さが規定高さを超えないように前記カバーの内側から液体を排出する排出口を更に含む、
ことを特徴とする請求項４乃至６のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項８】
前記浄化ユニットは、前記カバーの内側の空間における圧力を制御する圧力調整部を更に含む、
ことを特徴とする請求項４乃至６のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項９】
前記吐出ノズルは、液体および気体を吐出する２流体ノズルである、
ことを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項１０】
前記投影光学系のほか液体を介して原版のパターンを基板に投影する液浸露光装置として構成されている、
ことを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項１１】
前記浄化ユニットは、前記回収ノズルの温度を調整する温度調整部を有する、
ことを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項１２】
前記温度調整部は、前記回収ノズルに設けられ温調された液体が流れる流路を含む、
ことを特徴とする請求項１１記載の露光装置。
【請求項１３】
前記温度調整部は、前記回収ノズルの温度を検知するセンサと、そのセンサの検知結果に基づいて前記回収ノズルを加熱するヒーターとを含む、
ことを特徴とする請求項１１記載の露光装置。
【請求項１４】
デバイス製造方法であって、
請求項１乃至１３のいずれか１項に記載の露光装置を用いて、感光剤が塗布された基板を露光する工程と、
該感光剤を現像する工程と、
を含むことを特徴とするデバイス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液浸露光装置およびそれを用いてデバイスを製造するデバイス製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体デバイスの製造工程において、原版に形成されたパターンを基板に縮小投影して転写する露光装置が使用されている。微細パターンの転写を可能とするために露光装置の解像力を向上させる伝統的なアプローチとして、露光光の波長を短くするアプローチと、投影光学系の開口数（ＮＡ）を大きくするアプローチとがある。露光光の波長については、近年では１９３ｎｍの波長を有するＡｒＦエキシマレーザ光が主流となっている。
【０００３】
上記とは全く異なるアプローチとして液浸法が注目されている。液浸法では、投影光学系と基板との間の空間が液体で満たされて、投影光学系と液体を介して原版のパターンが基板に投影される。
【特許文献１】特開２００６−１７９９０９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
露光装置において、基板ステージの天板にパーティクルが存在する場合、そのパーティクルが露光空間内に移動して露光ビームを遮ったり、基板や投影光学系に付着したりすることで露光不良を起こしたりする可能性がある。また、基板ステージの天板に配置されている計測マークの上にパーティクルが付着した場合には、マークの計測不良を起こす可能性がある。このような問題は、特に、露光やマーク計測のために基板ステージの天板や計測マークの上を液浸用の液体が相対的に移動する液浸露光装置において発生しやすい。
【０００５】
液浸露光装置においては、基板ステージの天板は、液浸液の回収が容易なように撥水処理がされている場合がある。液浸液が接触する部分が汚染されていると撥水性が低下し、液体の回収が不十分となり、液体が基板ステージの天板に残ったり、基板ステージからこぼれたりする可能性があった。
【０００６】
特許文献１には、最終光学素子、基板テーブル、気体に曝される構成部分又は構造の表面の少なくとも１つを洗浄するように構成された洗浄デバイスを有するリソグラフィー装置が記載されている。しかしながら、特許文献１には、洗浄のための構成について、液浸液を洗浄流体で置き換えるための構成のほかは、具体的な構成が示されていない。特に、特許文献１には、投影光学系から分離して配置された洗浄ユニットの具体的な構成、例えば、洗浄対象領域の規定、並びに、洗浄用の流体の供給および回収のための構成については、何ら開示されていない。
【０００７】
基板ステージの天板を洗浄するには、投影光学系から分離して配置された洗浄ユニットが有用であると考えられる。何故なら、投影光学系の下部に洗浄液を配置して洗浄を行う方式では、洗浄対象領域を投影光学系の下部に移動させる必要があり、例えば、露光動作と並行して洗浄を実施することができないからである。また、このような方式では、基板ステージの洗浄時に常に投影光学系の最終面が浄化用の流体に曝されるということも考慮されるべきである。
【０００８】
本発明は、上記の背景に鑑みてなされたものであり、例えば、基板ステージの天板を投影光学系とは独立して浄化することができ、かつ、浄化用の流体が基板ステージに供給される領域を規定することができる技術を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の第１の側面は、天板を有する基板ステージによって保持された基板に投影光学系を介して原版のパターンを投影して該基板を露光する露光装置に係り、前記露光装置は、前記投影光学系から分離して配置された浄化ユニットを備え、前記浄化ユニットは、前記天板に向けて流体を吐出する吐出ノズルと、前記吐出ノズルから前記天板に向けて吐出された流体を回収する回収ノズルとを含み、前記回収ノズルの開口部が、前記吐出ノズルから吐出される流体の経路を取り囲む形状を有する。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、例えば、基板ステージの天板を投影光学系とは独立して浄化することができ、かつ、浄化用の流体が基板ステージに供給される領域を規定することができる技術が提供される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、図面を参照しながら本発明の好適な実施形態を説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
【００１２】
図１は、本発明の好適な実施形態の露光装置の概略構成を示す図である。図１に示す露光装置ＥＸは、原版（レチクル又はマスクとも呼ばれる）３のパターンを投影光学系１および液浸液１０を介して基板（例えば、ウエハ）２０に投影して基板２０を露光する液浸露光装置として構成されている。しかしながら、本発明は、例えば、投影光学系と基板との間に気体を満たして基板を露光する露光装置など、浄化（クリーニング）されるべき基板ステージを有するあらゆる露光装置に適用可能である。
【００１３】
露光装置ＥＸは、例えば、照明光学系２、原版ステージ４、投影光学系１、基板ステージ２３、ステージ定盤２４、液浸液供給部１２、液浸液回収部１３、計測器２５、浄化ユニット１００を備える。
【００１４】
露光装置ＥＸが走査露光装置として構成される場合、照明光学系２は、不図示の光源から提供された光を用いて、原版ステージ４によって保持された原版３の一部を照明する。原版３が照明された状態で、原版ステージ４と基板ステージ２３は、同期して走査駆動される。この走査駆動によって、原版３のパターンの全体が投影光学系１を介して基板２０に連続的に投影され、基板２０の表面に塗布されている感光剤（レジスト）に潜像パターンが形成される。
【００１５】
投影光学系１の最終面の周囲には、基板２０（又は基板ステージ２３の天板２１）と対向するようにノズルユニット１１が配置されている。液浸液供給部１２からノズルユニット１１に液浸液（液浸用の液体）１０を供給し、ノズルユニット１１から液浸液回収部１３が液浸液１０を回収することにより、投影光学系１の最終面と基板２０との間に液浸液１０の膜が維持される。
【００１６】
基板ステージ２３は、その上部に天板２１を有する。基板は、天板２１に組み込まれた不図示のチャックによって保持される。天板２１には、計測器２５によってアライメントやキャリブレーションのための計測をするのためのマークが配置されたマークユニット２２が搭載されている。
【００１７】
露光動作やマークユニット２２に形成されたマークの計測のためにステージ定盤２４の上で基板ステージ２３が移動すると、液浸液１０は、相対的に基板２０の外側の領域まで移動しうる。そこで、天板２１の上面およびマークユニット２２の上面は、保持される基板２０とほぼ同じ高さになるように構成されている。
【００１８】
このような露光装置において、図２に示すように天板２１に搭載されているマークユニット２２の上にパーティクル３０が付着している場合には、計測器２５が計測不良をおこす可能性がある。
【００１９】
また、図３のように、天板２１の上面にパーティクル３０が存在すると、基板ステージ２３が移動したときに液浸液１０にパーティクル３０が取り込まれてしまう。取り込まれたパーティクル３０は、液浸液１０の中で露光空間（露光ビームが通る空間）に入り込み、露光ビームを遮ったり、基板２０や投影光学系１の表面に付着したりすることで露光不良をおこす可能性がある。
【００２０】
天板２１の上面は、典型的には、液浸液１０の回収が容易なように撥液処理がされる。天板２１の上面の液浸液１０が接触する部分が汚染されていると撥液性が低下し、ノズルユニット１１による液浸液１０の回収が不十分となりうる。これにより、液浸液１０が天板２１に残ったり、ステージ定盤２４にこぼれたりしうる。
【００２１】
パーティクルとしては、露光装置に搬入される基板に付着しているパーティクル、レジストやトップコートの剥離片、空調空間を浮遊するパーティクルが考えられる。更には、露光装置の設置組立て時に付着したパーティクル、露光装置の長期停止中に付着したパーティクルなども考えられる。また、天板２１を汚染させる不純物としては、空調空間の気体に存在する有機物や無機物、液浸液に溶け込んだレジストやトップコートの光分解物、元々液浸液に含まれる有機物や無機物が考えられる。
【００２２】
図４は、浄化ユニット１００の構成例を模式的に示す図である。浄化ユニット１００は、投影光学系１から分離して配置されている。投影光学系１から分離して浄化ユニット１００が配置された構成は、例えば、露光動作と並行して浄化対象部分（例えば、天板２１又はそれに搭載されたマークユニット２２）を浄化することを可能にする。また、このような構成は、投影光学系１を浄化用の流体に曝すことなく浄化対象部分を浄化することを可能にする。これは、例えば、浄化用の流体による投影光学系１の腐食を防止したり、浄化後の投影光学系１のリンス工程を不要にしたりするといった利益を提供しうる。浄化ユニット１００は、固定的に配置されてもよいし、駆動機構によって移動されるように配置されてもよい。
【００２３】
浄化ユニット１００は、基板ステージ２３の天板２１（又は、マークユニット２２）に向けて流体６３を吐出する吐出ノズル５０と、吐出ノズル５０から天板２１に向けて吐出された流体６３を回収する回収ノズル５２とを含む。回収ノズル５２の開口部５１は、吐出ノズル５０から吐出される流体６３の経路を取り囲む形状を有する。回収ノズル５２の開口部５１は、天板２１に対向するように配置されることが好ましい。回収ノズル５２は、流体６３に液体および気体が含まれる場合には、少なくとも液体を回収するように構成されることが好ましい。回収ノズル５２の開口部５１は、吐出ノズル５０から吐出される流体６３の経路を全周にわたって取り囲む形状（例えば、円形又は楕円形等のリング形状、矩形）を有することが好ましい。
【００２４】
吐出ノズル５０は、例えば、気体と液体を混合させて吐出する２流体ノズルであることが好ましい。ここで、気体として、例えば窒素、液体として、例えば純水を用いることができる。気体および液体は、流体供給部６０からそれぞれ気体供給管６１および液体供給管６２を通して吐出ノズル５０に供給される。この際に気体は、加圧された状態で吐出ノズル５０に供給される。加圧された気体の高速の流れにより、液体は、吐出ノズル５０の内部で霧化される。そして、吐出ノズル５０の先端からは、粒径が例えば０．１μｍから１００μｍ程度の範囲内の微小な液滴が高速に吐出される。このような液滴を含む流体６３は、天板２１やそれに搭載されたマークユニット２２に衝突し、これによって衝撃波やジェット流が発生し、天板２１やそれに搭載されたマークユニット２２の上面に存在するパーティクルや不純物が洗い流される。
【００２５】
吐出ノズル５０は、例えば、流体６３が扇状又はシート状に吐出されるように、その先端（開口部）に切り欠きが設けられうる。これにより、一度に浄化をすることができる面積を広くすることができる。吐出ノズル５０は、天板２１の上面に対して垂直な方向に流体６３を吐出するように構成されてもよいし、該上面に対して傾斜した方向に流体６３を吐出するように構成されてもよい。
【００２６】
図５は、浄化ユニット１００の構成例を模式的に示す図である。浄化ユニット１００は、吐出ノズル５０から吐出される流体６３の飛散を防止するカバー８０を更に含むことが好ましい。ここで、吐出ノズル５０から吐出される流体６３には、霧状のまま浮遊する液体も含まれうる。カバー８０は、天板２１に対向する対向面８１を有する対向部８２を含みうる。対向面８１は、吐出ノズル５０から吐出される流体６３の経路を全周にわたって取り囲むとともに天板２１に対して間隙をもって対向している。回収ノズル５２の開口部５１は、対向面８１に配置されうる。
【００２７】
吐出ノズル５０から吐出される霧状の流体６３、即ち多数の液滴は、天板２１に衝突すると、互いに結合して開口部５１から回収される。しかし、吐出ノズル５０に供給する気体と液体との比率によっては、吐出ノズル５０から吐出される液体の量が少ない場合がある。この場合、吐出ノズル５０から吐出された液体は、微小な液滴のまま回収ノズル５２の開口部５１と天板２１との間隙を高速に通り抜けてしまう。
【００２８】
そこで、浄化ユニット１００は、カバー８０の対向面８１と天板２１との間隙であって回収ノズル５２の開口部５１の外側の領域に液膜６４が形成されるように該領域に液体を供給する供給口５３を含むことが好ましい。この液膜６４によって、回収ノズル５２の開口部５１と天板２１との間隙を液滴が通り抜けることが防止される。供給口５３は、例えば、対向面８１であって回収ノズル５２の開口部５１の外側に配置されうる。浄化ユニット１００は、更に、液膜６４を構成する液体（および、回収ノズル５２を通して回収されなかった流体６３）を回収する回収口５９を含むことが好ましい。回収口５９は、対向面８１であって供給口５３の外側に配置されうる。
【００２９】
供給口５３を通して対向面８１と天板２１との間隙に供給される液体は、浄化用の流体６３に含まれる液体と同種類の液体であることが好ましい。供給口５３より前記間隙に液体を供給し続け、回収ノズル５２の開口部５１および回収口５９を通して液体を回収することで液膜６４を維持することができる。吐出ノズル５０から吐出された微小な液滴としての流体６３は、液膜６４に衝突して捕らえられて回収される。回収ノズル５２の開口部５１および回収口５９は、液体供給回収部６５に接続されていて、液体は、回収ノズル５２の開口部５１および回収口５９を通して液体供給回収部６５によって吸引される。液体供給回収部６５は、供給口５３に液体を供給する。
【００３０】
図６は、浄化ユニット１００の対向面８１の構造を例示する図である。図６には、吐出ノズル５０から吐出された流体が浄化対象部分に衝突する範囲６８が模式的に示されている。回収ノズル５２の開口部５１、回収口５９および供給口５３は、例えば、流体６３が浄化対象部分に衝突する範囲６８を全周にわたって取り囲む形状（例えば、円形又は楕円形等のリング形状、矩形）を有することが好ましい。
【００３１】
回収ノズル５２の開口部５１、回収口５９および供給口５３を通過する流体の量を場所に関らず均一にするために、開口部５１、回収口５９および供給口５３には多孔質体や多孔板が取り付けられることが好ましい。
【００３２】
浄化ユニット１００は、対向面８１が天板２１との間に一定の間隙が形成されるように配置される。天板２１と回収ノズル５２との間隙に液膜６４を良好に形成するためには、当該間隙を２ｍｍ以下とすることが好ましい。
【００３３】
なお、回収ノズル５２（開口部５１）を取り除いて、回収ノズル５２（開口部５１）の機能を回収口５９によって提供してもよい。吐出ノズル５０から吐出される流体の量、形成される液滴の大きさ等によっては、供給口５３が不要である場合もありうる。
【００３４】
流体６３が飛散することを防止するカバー８０の内側の空間８３には、霧状のまま空間を浮遊する液滴も存在しうる。空間８３には、液体の吐出に利用される気体が送り込まれる。そこで、浄化ユニット１００は、空間８３から液滴や気体を排出路７０を通して吸引する吸引部９０を含むことが好ましい。
【００３５】
天板２１と対向面８１との間隙に形成される液膜６４の形状の乱れを防止するためには、空間８３内の圧力を一定に維持することが好ましい。そこで、吸引部９０は、空間８３内の圧力を一定に維持する圧力調整部として動作することが好ましい。圧力調整部は、単純な構成としては、カバー８０にその内部空間と外部空間とを連通させる孔を設けることによっても実現されうる。
【００３６】
浄化ユニット１００は、カバー８０の内側に溜まる液体の液面の高さが規定高さを超えないようにカバー８０の内側から液体を排出する排出口５４を更に含むことが好ましい。排出口５４は、例えば、対向部８２の内側に配置されうる。排出口５４は、吸引部９０に液体が吸引されることを防止するためにも有用である。
【００３７】
図７は、浄化ユニット１００による天板２１の浄化プロセスの手順を例示的に説明するフローチャートである。なお、浄化ユニット１００による浄化対象としての天板２１には、マークユニット２２が含まれうる。
【００３８】
ステップＳ１０では、基板ステージ２３の天板２１に搭載されたチャックの上に基板操作機構により浄化プロセス基板が置かれる。浄化プロセス基板は、撥液性の表面を有することが好ましく、ＨＭＤＳ（ヘキサメチルジシラン）＋トップコート処理を施した基板、または、フッ素樹脂のコーティングを施した基板が好適である。浄化プロセス基板は、メンテナンスウエハカセットに常備しておくと良い。浄化プロセス基板は、定期的に浄化ユニット１００によって表面が浄化されうる。この際に、浄化プロセス基板とともに天板２１の全面が浄化されてもよい。
【００３９】
ステップＳ２０では、搬送機構により浄化ユニット１００が天板２１の上に搬送される。該搬送機構として、例えば、天板２１に搭載されているチャック等をメンテナンスする際に使用されるロボットが使用されてもよいし、専用の搬送機構が備えられてもよい。
【００４０】
ステップＳ３０では、浄化ユニット１００の自己浄化がなされる。自己浄化は、例えば、浄化ユニット１００および基板ステージ２３を静止させた状態で、吐出ノズル５０から流体を吐出し回収ノズル５２によって流体を回収することによってなされうる。このような自己浄化を実行することにより、浄化ユニット１００が汚染されていた場合に天板２１の全面（又は、浄化対象部分）が汚染されることを防止することができる。
【００４１】
ステップＳ４０では、吐出ノズル５０から流体を吐出し回収ノズル５２によって流体を回収しながら、天板２１の浄化対象部分（例えば、全体）が浄化されるように浄化ユニット１００に対して天板２１（基板ステージ２３）が相対的に駆動されうる。ここで、基板ステージ２３の代わりに前記搬送機構によって浄化ユニット１００を移動させてもよい。また、基板ステージ２３と浄化ユニットの双方を駆動してもよい。この浄化の際に、浄化プロセス基板と天板２１との境界領域も浄化されうる。
【００４２】
吐出ノズル５０へ供給する液体と気体の圧力やそれらの混合比率を流体供給部６０によって調整することによって浄化力と天板２１が受けるダメージを調整することができる。また、基板ステージ２３の移動速度を制御することによって浄化力が調整されてもよい。例えば、ダメージに弱いマークユニット２２を浄化する時には、吐出ノズル５０へ供給する液体や気体の圧力を下げることが有効である。この場合には、浄化力の低下は、基板ステージ２３の移動速度を遅くして浄化時間を増加させることによって補われうる。
【００４３】
ステップＳ５０では、天板２１の溝部などに液体が残っている場合に、そこに気体を吹き付けることによって当該液体が除去される。つまり、ステップＳ５０では、天板２１が乾燥される。ここでは、液体供給管６２にも気体を流して吐出ノズル５０の流路を乾燥させることが好ましい。乾燥のための気体としては、例えば、乾燥した空気又は窒素が好適である。
【００４４】
ステップＳ６０では、浄化ユニット１００が前記搬送機構によって天板２１の上から待機位置に搬送される。この搬送に先立って、浄化ユニット１００の下部に蓋を配置して、浄化ユニット１００から液体が天板２１やステージ定盤２４に滴り落ちることを防止してもよい。浄化ユニット１００は、汚染を防止するために清浄な空間で保管されうる。浄化ユニット１００は、例えば、過酸化水素水の液中で保管されることにより清浄性が維持されうる。
【００４５】
流体供給部６０および液体供給回収部６５は、それぞれ、例えば、圧送ポンプ、制御弁、圧力センサ、流量センサ、フィルタ、タンクを含みうる。液体供給回収部６５で回収された液体は、気体と液体とが分離された後に露光装置の外部に排出されうる。また、吸引部９０が吸引した気体は、フィルタなどで液滴を除去した後、外部に排気されうる。
【００４６】
回収ノズル５２で液体を回収するときまたは回収ノズル５２を乾燥させるとき、液体の気化冷却の影響で回収ノズル５２の温度が下がる場合がある。回収ノズル５２の温度が下がると回収ノズル５２近傍に存在する露光装置の部品に悪い影響を与えてしまう。そこで、流体供給部６０または液体供給回収部６５に温度調節機構を設けて、吐出ノズル５０または供給口５３に温調した流体または液体を流すとよい。または、回収ノズル(ノズルユニット)５２に温度調整部として温調用の流路５５を別途設けて、その流路５５に温調した液体を流してもよい。なお、その流路５５に分岐路や制御弁を設けて、流体供給部６０または液体供給回収部６５からの流体または液体を兼用しても良い。さらに、回収ノズル(ノズルユニット)５２の内部または表面に、温度調整部としてヒーター５６および温度センサ５７を配置しても良い。温度センサ５７で回収ノズル５２の温度を検知し、その検知結果に基づいて温度コントローラー９５でヒーター５６の温度を制御し、ヒーター５６で回収ノズル５２を加熱する。図５には、流路５５とヒーター５６の両方を記載したが、それらのうちいずれかを回収ノズル５２に設ければよい。
【００４７】
基板ステージ２３を駆動する機構は、図示されていないが、例えば、リニアモーター、レーザー干渉計、ターゲットミラー、制御回路、ドライバ等を含みうる。
【００４８】
浄化用の液体としては、純水のほか、例えば、溶剤又は界面活性剤等の薬液、又は、アルカリイオン水などの電解質、又は、純水にアンモニア、過酸化水素、オゾン、水素、炭酸ガスなどを添加した機能水、なども有用である。特に、純水の吐出による浄化対象部分の帯電を防止するために、炭酸ガスを純水に溶解させることはきわめて有効である。また、薬液で浄化した場合には、浄化後に吐出ノズル５０および供給口５３から供給する液体を純水に切り替えて、吐出ノズル５０、供給口５３および浄化対象部分をリンスしてもよい。浄化後のリンスは、液浸液の供給回収のためのノズルユニット１１を使って実施してもよい。
【００４９】
図５および図６に示す構成例では、回収ノズル５２の開口部５１の外側に液体の供給口５３が配置されているが、微小液滴を含む流体６３を開口部５１の内側へ留まらせるために、加圧したエアを吹き出す口を開口部５１の外側に配置してもよい。
【００５０】
吐出ノズル５０は、２流体ノズルに限られず、液体のみを吐出するノズルであってもよい。また、吐出ノズル５０は、例えば、超音波を印加した液体を吐出する超音波ノズルとして構成されてもよい。液体に超音波を印加する超音波ノズルは、例えば、発振および振動板を含みうる。吐出ノズル５０は、気体のみを吐出するように構成されてもよい。気体の吐出によって巻き上げられたパーティクルを排気することで、天板２１が浄化されうる。これは、イオン化した気体を吹き付ける構成でもよい。
【００５１】
界面活性剤を含む浄化液を使用し、吐出ノズル５０として２流体ノズルまたは超音波ノズルを用いる場合は、供給口５３から当該浄化液を供給し、吐出ノズル５０からは純水又は機能水を吐出してもよい。これにより浄化液の発泡を抑制することができ、浄化剤の回収を速やかに行うことができる。
【００５２】
また、本発明は、複数の基板ステージを有する露光装置にも適用することができる。この場合、複数の基板ステージの天板を順番に浄化してもよいし、複数の浄化ユニットを配置して複数の基板ステージを同時に浄化してもよい。もちろん、浄化するステージは、基板を搭載するステージに限らず、例えば、計測マークのみを搭載したステージでもよい。液浸露光装置の場合には、液浸液が接触するすべての面を浄化の対象とすることが好ましい。
【００５３】
浄化ユニットを用いて基板ステージの天板を定期的に浄化することにより、パーティクルによる露光不良や次工程へのパーティクルの持込を防止したり、計測マークの計測不良を防止したりすることができる。これにより、例えば、製造されるデバイスの歩留まりを高めることができる。
【００５４】
本発明の好適な実施形態のデバイス製造方法は、例えば、半導体デバイス、液晶デバイスの製造に好適であり、感光剤が塗布された基板の該感光剤に上記の露光装置を用いて原版のパターンを転写する工程と、該感光剤を現像する工程とを含みうる。さらに、他の周知の工程（エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等）を経ることによりデバイスが製造される。
【図面の簡単な説明】
【００５５】
【図１】本発明の好適な実施形態の露光装置の概略構成を示す図である。
【図２】パーティクルによって引き起こされる問題点を例示的に説明する図である。
【図３】パーティクルによって引き起こされる問題点を例示的に説明する図である。
【図４】本発明の好適な実施形態の浄化ユニットの構成例を示す図である。
【図５】本発明の好適な実施形態の浄化ユニットの構成例を示す図である。
【図６】本発明の好適な実施形態の浄化ユニットの構成例を示す図である。
【図７】浄化ユニットによる天板の浄化プロセスの手順を例示的に説明するフローチャートである。
【符号の説明】
【００５６】
１：投影光学系
２：照明光学系
３：原版
４：原版ステージ
１０：液浸液
１１：ノズルユニット
１２：液浸液供給部
１３：液浸液回収部
２０：基板
２１：天板
２２：マークユニット
２３：基板ステージ
２４：ステージ定盤
２５：計測器
３０：パーティクル
５０：吐出ノズル
５１：開口部
５２：回収ノズル
５３：供給口
５４：排出口
５９：回収口
６０：流体供給部
６１：気体供給管
６２：液体供給間
６３：流体
６４：液膜
６５：液体供給回収部
８０：カバー
８１：対向面
８２：対向部
８３：空間
９０：吸引部
１００：浄化ユニット
【図１】
2010021370.tif 000003
【図２】
2010021370.tif 000004
【図３】
2010021370.tif 000005
【図４】
2010021370.tif 000006
【図５】
2010021370.tif 000007
【図６】
2010021370.tif 000008
【図７】
2010021370.tif 000009