(57)【要約】【課題】ビットパターンド媒体を備えた磁気記録再生装置の記録時に、記録後のドットが周囲のドットによって磁化反転されることがなく、記録情報の安定保持、高記録密度化を実現可能な磁気記録再生装置を提供する。【解決手段】ビットパターンド磁気記録媒体４を使用する磁気記録再生装置において、磁気記録媒体４のドット４３とドット４３の間を、ドット４３を構成する磁性材料のキュリー温度より低いキュリー温度を有する低キュリー温度磁性材料４４で構成し、磁気記録媒体４に記録を行うヘッド２３の周囲に、記録時に低キュリー温度磁性材料４４を加熱する加熱手段１８が設けられていることを特徴とする磁気記録再生装置。【選択図】図５
2010160867.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
記録層の記録ビットが非記録ビットにより離間して配置されるビットパターンド媒体と、前記ビットパターンド媒体に、情報を記録する記録磁極を有するヘッドと、を有する磁気記録再生装置であって、
前記非記録ビットは、前記記録ビットを構成する磁性材料より低いキュリー温度の磁性材料で構成されており、
前記ヘッドには、前記記録磁極の近傍に、記録時に前記非記録ビットを加熱する加熱手段が設けられていることを特徴とする磁気記録再生装置。
【請求項２】
記録層の記録ビットが非記録ビットにより離間して配置されるビットパターンド媒体と、前記ビットパターンド媒体に、情報を記録する記録磁極を有するヘッドと、を有する磁気記録再生装置であって、
前記非記録ビットは非磁性体で構成され、前記記録ビットと前記非記録ビットが形成された記録層の上部又は下部に、前記記録ビットを構成する磁性材料より低いキュリー温度の磁性材料で構成された層が積層されており、
前記ヘッドには、前記記録磁極の近傍に、記録時に前記低キュリー温度磁性材料を加熱する加熱手段が設けられていることを特徴とする磁気記録再生装置。
【請求項３】
前記加熱手段は、記録時に、記録対象ビットとこれに隣接する記録ビットの間の部分にある前記非記録ビットを局部加熱するように構成されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の磁気記録再生装置。
【請求項４】
前記加熱手段は、記録時に、記録対象ビットと、１つ前に記録を実行した前記記録ビットの間の部分にある前記非記録ビットのみを局部加熱するように構成されていることを特徴とする請求項３に記載の磁気記録再生装置。
【請求項５】
前記加熱手段は、記録時に、記録対象ビットと、次に記録を実行する前記記録ビットの間の部分にある前記非記録ビットを除く、前記記録対象ビットの周囲の部分にある前記非記録ビットを局部加熱するように構成されていることを特徴とする請求項３に記載の磁気記録再生装置。
【請求項６】
記録を行うヘッドの記録磁極の近傍に、記録を行う媒体を局部的に加熱可能な加熱手段が設けられている磁気記録再生装置に使用され、記録層の記録ビットが非記録ビットにより離間して配置されるビットパターンド磁気記録媒体であって、
前記非記録ビットが、前記記録ビットを構成する磁性材料より低いキュリー温度の磁性材料で構成されていることを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項７】
記録を行うヘッドの記録磁極の近傍に、記録を行う媒体を局部的に加熱可能な加熱手段が設けられている磁気記録再生装置に使用され、記録層の記録ビットが非記録ビットにより離間して配置されるビットパターンド磁気記録媒体であって、
前記非記録ビットは非磁性体で構成され、前記記録ビットと前記非記録ビットが形成された記録層の上部又は下部に、前記記録ビットを構成する磁性材料より低いキュリー温度の磁性材料で構成された層が積層されていることを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項８】
記録を行うヘッドの記録磁極の近傍に、記録を行う媒体を局部的に加熱可能な加熱手段が設けられている磁気記録再生装置に使用され、記録層の記録ビットが非記録ビットにより離間して配置されるビットパターンド磁気記録媒体の製造方法であって、
ディスク基板の上に軟磁性裏打ち層、中間層、及び記録層をこの順に積層し、
前記記録層の上に所望のビットパターンに対応するレジストパターンを形成し、
イオンミリング或いは反応性イオンエッチングによって前記レジストのない部分の前記記録層を除去してドットを形成して記録ビットとした後、前記レジストを除去し、
前記記録ビット間に前記記録ビットを構成する磁性体より低いキュリー温度の磁性材料を充填して非記録ビットとし、
前記記録層を研磨して平坦化した後に保護層と潤滑剤を積層するビットパターンド磁気記録媒体の製造方法。
【請求項９】
記録を行うヘッドの記録磁極の近傍に、記録を行う媒体を局部的に加熱可能な加熱手段が設けられている磁気記録再生装置に使用され、記録層の記録ビットが非記録ビットにより離間して配置されるビットパターンド磁気記録媒体の製造方法であって、
ディスク基板の上に軟磁性裏打ち層、中間層、低キュリー温度磁性材料から構成される磁性層、及び前記磁性層よりもキュリー温度の高い磁性材料から構成される記録層をこの順に積層し、
前記記録層の上に所望のビットパターンに対応するレジストパターンを形成し、
イオンミリング或いは反応性イオンエッチングによって前記レジストのない部分の前記記録層を除去してドットを形成して記録ビットとした後、前記レジストを除去し、
前記記録ビット間に非磁性材料を充填して非記録ビットとし、
前記記録層を研磨して平坦化した後に保護層と潤滑剤を積層するビットパターンド磁気記録媒体の製造方法。
【請求項１０】
記録を行うヘッドの記録磁極の近傍に、記録を行う媒体を局部的に加熱可能な加熱手段が設けられている磁気記録再生装置に使用され、記録層の記録ビットが非記録ビットにより離間して配置されるビットパターンド磁気記録媒体の製造方法であって、
ディスク基板の上に軟磁性裏打ち層、中間層、及び記録層をこの順に積層し、
前記記録層の上に所望のビットパターンに対応するレジストパターンを形成し、
イオンミリング或いは反応性イオンエッチングによって前記レジストのない部分の前記記録層を除去してドットを形成して記録ビットとした後、前記レジストを除去し、
前記記録ビット間に非磁性材料を充填して非記録ビットとし、
前記記録層を研磨して平坦化し、
平坦化された記録層の上に、前記記録ビットを構成する磁性体より低いキュリー温度の磁性材料を積層し、
最後に保護層と潤滑剤を積層するビットパターンド磁気記録媒体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本出願は磁気記録再生装置、磁気記録媒体及び該磁気記録媒体の製造方法に関し、特に、ビットパターンド媒体を備えた磁気記録再生装置、ビットパターンド媒体及び該ビットパターンド媒体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、ハードディスク装置（Hard Disk Drive：以後ＨＤＤと記す）等の磁気記録再生装置の記憶容量は、近年の情報技術（IT）社会の発展に伴い急速に増加している。このため、磁気記録再生装置の高記録密度化に対する要求も年々増してきている。磁気記録再生装置の記録方式としては、これまで、ディスク媒体の記録層をディスク面内方向に磁化させることにより記録を行う長手磁気記録方式が一般的であった。
【０００３】
一方、磁気記録再生装置の近年の高記録密度化に伴い、熱揺らぎによって、記録データの長期保存が困難になる問題があった。このため、一層熱揺らぎに強い方式として、ディスク媒体の磁気記録層に対して垂直方向に磁化させることにより記録を行う、垂直磁気記録方式が実用化された。垂直磁気記録方式は、現行ＨＤＤの主流技術となっているが、長手磁気記録方式の場合と同様に、やがては熱揺らぎの問題により高密度化が困難になることが考えられる。
【０００４】
即ち、長手磁気記録方式、垂直磁気記録方式を問わず、現在の磁気記録方式では、記録ビットは結晶粒の集合体によって構成されている。こうした形態のディスク媒体をここでは連続媒体と呼ぶ。この場合、熱揺らぎ耐性を決めるエネルギーバリアは、個々の結晶粒の体積に比例する。しかし、高密度化のためには、結晶粒を微細化する必要があり、これに伴い、熱揺らぎ耐性も低下することになる。
【０００５】
そこで、図１（ａ）に示すような、ディスク媒体４に、ビット４Ｂを予め加工技術によって作り込み、１ビットを１粒子とする、所謂、ビットパターンド媒体（Bit Patterned Media：ＢＰＭ）が注目されるようになった。なお、ビット４Ｂは、１ビット内が磁気的に強く結合した粒子集合体であっても良い。ここでは、１ビット４Ｂを構成する粒子又は粒子集合体を記録ビット、或いはドットと呼ぶ。そして、図１（ａ）におけるＣ‐Ｃ方向がディスク媒体４の円周方向であり、この方向に記録ヘッドＨが移動して各ビット４Ｂに記録を行う。このようなビットパターンド媒体については特許文献１に開示がある。なお、ディスク媒体４の１ビット４Ｂ以外の部分には一般に非磁性体が充填される。この非磁性体が充填された部分を、ここでは非記録ビットと呼ぶ。
【０００６】
ビットパターンド媒体では、エネルギーバリアを決める磁気的な粒子体積が、前述の連続媒体の場合に比べ、数倍から数十倍にできるため、熱揺らぎ耐性を飛躍的に向上できる利点がある。また、ビットパターンド媒体では、個々のドットに対して、磁気記録ヘッドを同期させて記録する必要がある。
【０００７】
図１（ｂ）は、ビットパターンド媒体方式の記録過程を模式的に示したものである。記録ヘッドＨから発生される磁界Ｍは有限の広がりを有する。また、各ドット４Ｂを磁化反転させるために必要な磁界強度は、ドット４Ｂの加工ばらつきや磁気特性ばらつき等、様々な要因によってばらつきを持っている。記録中に、記録対象ドット周辺に存在する記録済ドット４Ａの磁化(記録情報)が反転した場合、記録エラーとなる。したがって、個々のドット４Ｂは、周辺の記録済ドット４Ａの記録情報に影響を及ぼされることなく記録できなければならない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２００７−２３４１３０号公報（図１）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
記録エラーを抑制するため、可能な限り急峻な発生磁界分布を有する記録ヘッドを使用することに加え、ディスク媒体としては、（１）ドットピッチのばらつき低減、（２）ドット磁化反転磁界のばらつき低減(磁気異方性、飽和磁化、ドットサイズの各ばらつきの低減)、及び（３）ドット間の静磁気相互作用低減が必要である。これらのうち、（３）の静磁気相互作用を実効的に低減する手法として、ドット同士を部分的に磁気結合させることによりドット間に交換相互作用を導入することが考えられる。
【００１０】
図１（ｃ）に示すように、静磁気相互作用（磁石同士の引力・斥力）は磁化を反平行にするように働き、図１（ｄ）に示すように、交換相互作用（強磁性型）は逆に平行にするように働く。したがって、交換相互作用は静磁気相互作用を打ち消す方向に働く。また、交換相互作用の導入は、記録情報の長期保存に対しても有効である。
【００１１】
しかしながら、図１（ｃ）に示すように、ドット間に強い破線Ｂで示すような、交換相互作用が働くと、記録時に、記録対象ドットの磁化反転に連動して、周辺に存在する記録済のドットの磁化も反転してしまい、かえって記録エラーを助長してしまう問題がある。
【００１２】
この出願の目的は、ビットパターンド媒体を備えた磁気記録再生装置において、記録を行う場合に、記録後のドットが、周囲のドットによって磁化反転されることがなく、記録情報の安定保持、高記録密度化を実現することにある。また、この出願は、ビットパターンド媒体において、記録を行う場合に、記録後のドットが、周囲のドットによって磁化反転されることがなく、記録情報の安定保持、高記録密度化を実現する構造を提供することにある。
【００１３】
更に、この出願の目的は、記録を行う場合に、記録後のドットが、周囲のドットによって磁化反転されることがなく、記録情報の安定保持、高記録密度化を実現する構造を提供することができるビットパターンド媒体の製造方法を提供することにある。このよう磁気記録媒体の構造により、記録後のドットが、周囲のドットによって磁化反転されることがなく磁気記録媒体に情報を記録することができる。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
前記目的を達成するこの出願の磁気記録再生装置の第１の形態は、記録層の記録ビットが非記録ビットにより離間して配置されるビットパターンド媒体と、ビットパターンド媒体に、情報を記録する記録磁極を有するヘッドと、を有する磁気記録再生装置であって、非記録ビットは、記録ビットを構成する磁性材料より低いキュリー温度の磁性材料で構成されており、ヘッドには、記録磁極の近傍に、記録時に非記録ビットを加熱する加熱手段が設けられていることを特徴としている。
【００１５】
前記目的を達成するこの出願の磁気記録再生装置の第２の形態は、記録層の記録ビットが非記録ビットにより離間して配置されるビットパターンド媒体と、ビットパターンド媒体に、情報を記録する記録磁極を有するヘッドと、を有する磁気記録再生装置であって、非記録ビットは非磁性体で構成され、記録ビットと非記録ビットが形成された記録層の上部又は下部に、記録ビットを構成する磁性材料より低いキュリー温度の磁性材料で構成された層が積層されており、ヘッドには、記録磁極の近傍に、記録時に低キュリー温度磁性材料を加熱する加熱手段が設けられていることを特徴としている。
【００１６】
前記目的を達成するこの出願の磁気記録媒体の第１の形態は、記録を行うヘッドの記録磁極の近傍に、記録を行う媒体を局部的に加熱可能な加熱手段が設けられている磁気記録再生装置に使用され、記録層の記録ビットが非記録ビットにより離間して配置されるビットパターンド磁気記録媒体であって、非記録ビットが、記録ビットを構成する磁性材料より低いキュリー温度の磁性材料で構成されていることを特徴としている。
【００１７】
前記目的を達成するこの出願の磁気記録媒体の第２の形態は、記録を行うヘッドの記録磁極の近傍に、記録を行う媒体を局部的に加熱可能な加熱手段が設けられている磁気記録再生装置に使用され、記録層の記録ビットが非記録ビットにより離間して配置されるビットパターンド磁気記録媒体であって、非記録ビットは非磁性体で構成され、記録ビットと非記録ビットが形成された記録層の上部又は下部に、記録ビットを構成する磁性材料より低いキュリー温度の磁性材料で構成された層が積層されていることを特徴としている。
【００１８】
更に、目的を達成するこの出願のビットパターンド磁気記録媒体の製造方法は、記録を行うヘッドの記録磁極の近傍に、記録を行う媒体を局部的に加熱可能な加熱手段が設けられている磁気記録再生装置に使用され、記録層の記録ビットが非記録ビットにより離間して配置されるビットパターンド磁気記録媒体の製造方法であって、以下の３つの形態がある。
【００１９】
第１の形態は、ディスク基板の上に軟磁性裏打ち層、中間層、及び記録層をこの順に積層し、記録層の上に所望のビットパターンに対応するレジストパターンを形成し、イオンミリング或いは反応性イオンエッチングによってレジストのない部分の記録層を除去してドットを形成して記録ビットとした後、レジストを除去し、記録ビット間に記録ビットを構成する磁性体より低いキュリー温度の磁性材料を充填して非記録ビットとし、記録層を研磨して平坦化した後に保護層と潤滑剤を積層するビットパターンド磁気記録媒体の製造方法である。
【００２０】
第２の形態は、ディスク基板の上に軟磁性裏打ち層、中間層、低キュリー温度磁性材料から構成される磁性層、及び磁性層よりもキュリー温度の高い磁性材料から構成される記録層をこの順に積層し、記録層の上に所望のビットパターンに対応するレジストパターンを形成し、イオンミリング或いは反応性イオンエッチングによってレジストのない部分の記録層を除去してドットを形成して記録ビットとした後、レジストを除去し、記録ビット間に非磁性材料を充填して非記録ビットとし、記録層を研磨して平坦化した後に保護層と潤滑剤を積層するビットパターンド磁気記録媒体の製造方法である。
【００２１】
第３の形態は、ディスク基板の上に軟磁性裏打ち層、中間層、及び記録層をこの順に積層し、記録層の上に所望のビットパターンに対応するレジストパターンを形成し、イオンミリング或いは反応性イオンエッチングによってレジストのない部分の記録層を除去してドットを形成して記録ビットとした後、レジストを除去し、記録ビット間に非磁性材料を充填して非記録ビットとし、記録層を研磨して平坦化し、平坦化された記録層の上に、記録ビットを構成する磁性体より低いキュリー温度の磁性材料を積層し、最後に保護層と潤滑剤を積層するビットパターンド磁気記録媒体の製造方法である。
【発明の効果】
【００２２】
本出願によれば、ビットパターンド媒体のドット間に交換相互作用を導入することで、記録された情報の安定保持、静磁気相互作用の低減を図ることができる。また、加熱によってドット間への交換相互作用を低減でき、ドット間への交換相互作用導入の欠点であった、磁化反転の連動によるイレーズも抑制することができる。この結果、ビットパターンド媒体への高密度記録が可能となる。なお、本出願の手法は、記録対象トラック内の記録動作保証だけでなく、隣接トラックのイレーズ耐性保証にも適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】（ａ）は従来のビットパターンド媒体の構成と、ビットパターンド媒体に記録を行うヘッドの位置関係を示す斜視図、（ｂ）は（ａ）のビットパターンド媒体における記録直後のドットの磁化が、記録済の隣接ドットにより磁化反転する様子を示す説明図、（ｃ）は静磁気相互作用の説明図、（ｄ）は交換相互作用の説明図である。
【図２】（ａ）はビットパターンド媒体を備えたハードディスク装置の概略構成を示す斜視図、（ｂ）は（ａ）の一部を部分的に拡大して示す部分拡大平面図である。
【図３】（ａ）は図２（ａ）、（ｂ）に示したサスペンションの先端部に取り付けられたヘッドスライダの一実施例の構成を示す断面図、（ｂ）は（ａ）の部分拡大断面図である。
【図４】（ａ）は図３（ａ）、（ｂ）に示した磁気ヘッドの書き込み用磁極と導波路の一実施例の構成をスライダ浮上面から見た図、（ｂ）は（ａ）に示した磁気ヘッドの書き込み用磁極と導波路の別の実施例の構成をスライダ浮上面から見た図、（ｃ）は（ａ）に示した磁気ヘッドの書き込み用磁極と導波路の更に別の実施例の構成をスライダ浮上面から見た図である。
【図５】（ａ）は図３に示した記録ヘッドによるビットパターンド媒体への記録動作を示す説明図、（ｂ）は低キュリー温度材料と高キュリー材料の温度に対する飽和磁化特性を示す特性図である。
【図６】（ａ）は従来のビットパターンド媒体の層構成を示す断面図、（ｂ）は本出願の第１の実施例のビットパターンド媒体の層構成を示す断面図、（ｃ）は本出願の第２の実施例のビットパターンド媒体の層構成を示す断面図、（ｄ）は本出願の第３の実施例のビットパターンド媒体の層構成を示す断面図である。
【図７】（ａ）から（ｆ）は、図６（ｂ）に示した本出願の第１の実施例のビットパターンド媒体の製造工程の一部を示す工程図である。
【図８】（ａ）はディスク媒体が図６（ｃ）に示した本出願の第２の実施例のビットバターンド媒体である場合の図３に示した記録ヘッドによるビットパターンド媒体への記録動作を示す説明図、（ｂ）はディスク媒体が図６（ｃ）に示した本出願の第３の実施例のビットバターンド媒体である場合の図３に示した記録ヘッドによるビットパターンド媒体への記録動作を示す説明図である。
【図９】ビットパターンド媒体の加熱にレーザーを使用した本出願の磁気記録装置の第１と第２の実施例におけるレーザーパワーとビットエラーレートを、従来の磁気記録装置と比較して示すテーブルである。
【図１０】（ａ）は本出願のサスペンションと、記録ヘッドを備えたヘッドスライダの別の実施例の構成を示す断面図、（ｂ）は（ａ）に示した磁気ヘッドの書き込み用磁極と媒体加熱用ヒータの一実施例の構成をスライダ浮上面から見た図、（ｂ）は（ａ）に示した磁気ヘッドの書き込み用磁極と媒体加熱用ヒータの別の実施例の構成をスライダ浮上面から見た図である。
【図１１】（ａ）は図１０に示した媒体加熱用ヒータの端子の構成と書き込み用磁極の位置関係を示す正面図、（ｂ）は（ａ）の部分拡大図である。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
以下、添付図面を用いて本出願の実施の形態を、具体的な実施例に基づいて詳細に説明する。
【００２５】
図２（ａ）は記憶媒体としてディスク媒体４（以後単にディスク４ということもある）を使用する記憶装置である、ロード／アンロード方式のＨＤＤ（ハードディスク装置）１の一実施例の構成を示すものである。また、図１（ｂ）は図１（ａ）に示されるＨＤＤ１にあるヘッドスライダ１５の位置を示すものである。ディスク４は複数枚設けられることもあり、ＨＤＤ１のベース２の上の一方の側に設けられたスピンドルモータ３によって回転する。このディスク４はビットパターンド媒体であり、データ記録用の多数のドットがある。
【００２６】
ＨＤＤ１のベース２の上の他方の側には、回転軸６を中心にしてスイングするスイングアーム５と、このスイングアーム５を駆動するボイスコイルモータ７、及び信号処理基板１３がある。スイングアーム５の先端部にはサスペンション１４があり、このサスペンション１４には、ディスク４のドットにアクセスしてデータの読み書きを行うヘッドを備えるヘッドスライダ１５が取り付けられている。
【００２７】
また、ロード／アンロード方式のＨＤＤ１では、アンロード時にはヘッドをディスク４の外側に退避させる。このため、ロード／アンロード方式のＨＤＤ１には、ディスク４の外周部近傍のベース２の上に、サスペンション１４の先端部を保持するランプ機構１０がある。ランプ機構１０には、サスペンション１４の先端部に設けられたリフトタブ９を保持するためのランプ１１がある。ランプ機構１０はディスク４の外側のベース２の上に設けられる。
【００２８】
ヘッドスライダ１５が設けられたサスペンション１４の先端部には、スイングアーム５をランプ１１に保持させるためのリフトタブ９がある。ランプ１１のスイングアーム側の面は、スイングアーム５の回転軌跡Ｔに合わせて円周面となっている。このため、リフトタブ９は、スイングアーム５の回転によってランプ１１の上に乗り上げ、ディスク４の外部でランプ１１によって保持される。ランプ機構１０の本体１２は、ネジ８によってベース２に固定される。
【００２９】
図３（ａ）は、図２（ａ）、（ｂ）に示したサスペンション１４の先端部に取り付けられたヘッドスライダ１５の一実施例の構成を示す断面図であり、（ｂ）は（ａ）の部分拡大断面図である。この実施例では、ディスク４を局部的に加熱する加熱手段として、レーザー光が用いられている。レーザー光の発生源については公知であるので説明を省略するが、レーザー光の発生源は、例えば図２（ａ）の信号処理基板１３等に設けられており、レーザー光の発生源から出射されたレーザー光は、光ファイバでスイングアーム５を経てサスペンション１４に導かれる。また、記録時に、記録対象ドットとそれに隣接するドットの間の部分を局部加熱したり、記録対象ドットとそれに隣接するドットの間の部分を局部加熱するために、パルス電源やパルス変調回路を信号処理基板１３に備えても良い。
【００３０】
図３（ａ）にはこのレーザー光を導く光ファイバ１６がサスペンション１４の下部に設置された状態が示されている。この実施例では、サスペンション１４の先端部にカップリングレンズ１７を介してヘッドスライダ１５が取り付けられており、光ファイバ１６はこのカップリングレンズ１７に接続されている。ヘッドスライダ１５にはその詳細を（ｂ）に示す磁気ヘッド２０が設けられており、磁気ヘッド２０の先端側にカップリングレンズ１７に接続された光導波路１８が設けられている。光導波路１８の先端部はヘッドスライダ１５の浮上面に露出しており、光導波路１８を通るレーザー光はディスク４に向けて出射される。
【００３１】
図３（ｂ）に示すように、磁気ヘッド２０は、記録ヘッド部２１と再生ヘッド部２５の２つのヘッド部から構成されている。記録ヘッド部２１は磁極励磁用コイル２２、書き込み用磁極２３、及びヨーク２４から構成されている。この図に示す太線Ｍが、記録時の磁束の流れを示している。再生ヘッド部２５は２つのシールド層２６，２７に挟まれた再生素子２８を備えている。再生素子２８には磁気抵抗効果素子（ＭＲヘッド）が使用されることが多かったが、現在は再生感度と記録密度が更に大きい巨大磁気抵抗効果素子（ＧＭＲヘッド）やトンネル磁気抵抗効果型の素子（ＴＭＲヘッド）が使用されている。前述の光導波路１８は、書き込み用磁極２３に隣接して設けられている。
【００３２】
一方、ヘッドスライダ１５に対向する磁気ディスク４は、この実施例では、ガラス基板やアルミ基板などのディスク基板４０の上に、軟磁性裏打ち層４１、中間層４２、記録層４９、保護層４５、及び潤滑剤４５がこの順に積層されて構成されている。また、記録層４９には、キュリー温度が高い通常の磁性材料からなるドット４３が形成されており、ドット間には後述する低キュリー温度磁性材料４４が充填されている。軟磁性裏打ち層４１は、FeCoZrAl、FeCoTaZr、CoZrNb、FeCoB、FeAlSi、FeTaC、NiFe等から構成することができ、その厚さは５０−１００ｎｍ程度である。中間層４２はRu、Pb等から構成することができ、その厚さは５−２０ｎｍ程度である。記録層４９はCoCrPtB，CoCrPt−SiO２、或いはCoPt合金やCo/Pd多層膜等で構成することができ、その厚さは５−２０ｎｍ程度である。そして、保護層４４は厚さ３ｎｍ程度のダイヤモンド・ライク・カーボン（ＤＬＣ）で構成することができる。
【００３３】
図４（ａ）から（ｃ）は、図３（ａ）、（ｂ）に示した磁気ヘッド２０の書き込み用磁極２３と光導波路１８の構成をスライダ浮上面から見たものであり、ここには３種類の実施例を記載した。（ａ）に示す第１の実施例では、光導波路１８の径方向の幅は、書き込み用磁極２３の径方向の幅よりも広い。また、書き込み用磁極２３の形状が、ヘッドスキュー角が付与された場合に対応できるように台形になっている。また、（ｂ）に示す第２の実施例では、光導波路１８の径方向の幅は、書き込み用磁極２３の径方向の幅と同じになっており、書き込み用磁極２３の形状は矩形である。更に、（ｃ）に示す第３の実施例では、光導波路１８の径方向の幅は、書き込み用磁極２３の径方向の幅よりも狭く、書き込み用磁極２３の形状は台形になっている。書き込み用磁極２３の形状と、光導波路１８の書き込み用磁極２３に対する幅は特に限定されるものではない。
【００３４】
図５（ａ）は図３（ｂ）に示した記録ヘッド２０によるビットパターンド媒体であるディスク４への記録動作を示すものである。なお、説明を簡単にするために、この図には磁気ヘッド２０として、書き込み用磁極２３と光導波路１８のみが示してあり、ディスク４として、軟磁性層４１及びドット４３と低キュリー温度磁性層４４とからなる記録層４９のみが示してある。また、図５（ｂ）は低キュリー温度材料と高キュリー材料の温度に対する飽和磁化特性を示す特性図である。
【００３５】
この実施例では、加熱によってディスク４のドット間の交換相互作用を制御する手法をとる。このため、前述のように、高キュリー温度材料で構成されたドット４３間に、ドット４３のキュリー温度より低いキュリー温度を有する磁性材料で構成された低キュリー温度磁性層４４を配置する。
【００３６】
書き込み用磁極２３によるドット４３の記録時に、光導波路１８からレーザー光をディスク４に向けて照射する。光導波路１８から出射されたレーザー光は、ディスク４を局部的に照射する。このレーザー光により、記録対象ドット４３Ｂとこれに隣接する既に記録が実行された後のドット４３Ａの間の部分の低キュリー温度磁性層４４が局部的に加熱される。このとき、加熱された箇所の低キュリー温度磁性層４４の磁化は完全、もしくはほぼ消失するため、記録対象ドット４３Ｂとこれに隣接するドット４３Ａの間には交換相互作用は働かない。
【００３７】
一方、加熱されていない領域では、ドット４３とドット４３の間に交換相互作用が働き、記録情報は安定保持され、また、静磁気相互作用の影響も低減される。低キュリー温度の磁性材料としては、図５（ｂ）に示したような、キュリー温度が１００〜２００°Ｃ程度と比較的低温であり、かつ、飽和磁化の温度係数が高い（温度による飽和磁化の変化が急峻である）材料が好適である。これは、媒体加熱時に、ドット４３に記録されている情報が消去されることを防ぐため、加熱温度は出来る限り低温の方が好ましいためである。このため、ドット４３とドット４３の間のキュリー温度差は出来る限り大きい方が良い。また、飽和磁化の温度係数が高ければ、ドット間の低キュリー温度磁性層の飽和磁化を瞬時に増減できる。
【００３８】
低キュリー温度、かつ高温度係数を有する磁性材料の例としては、Al（アルミニウム）、Ti（チタン）、Cr（クロム）、Mo（モリブデン）、Si（シリコン）等の元素を含むNi基（ニッケル基）の磁性材料がある。また、フェリ磁性体を用いることも可能である。尚、加熱箇所がドット間のみであることは必須ではなく、ドット４３とドット４３の間のキュリー温度差が十分であれば、ドット４３が加熱されても同様の効果を得ることが可能である。また、この実施例の手法は、記録対象トラック内の記録動作保証だけでなく、隣接トラックのイレーズ抑制にも適用可能である。
【００３９】
図６（ａ）、（ｂ）は従来と前述の実施例（第１の実施例）のディスク（ビットパターンド媒体）４の層構成を比較して示すものである。ディスク４は１インチ平方メートル当たり、５００Ｇｂｉｔの面記録密度に相当する構成となっている。従来と第１の実施例のディスク４は、ディスク基板４０の上に軟磁性裏打ち層４１と中間層４２が積層される構成までは同じである。ここで、例えばディスク基板４０の材質はガラス、軟磁性裏打ち層４１の材質はCoZrNbで厚さ１００ｎｍ、中間層４２の材質はRuで厚さ５ｎｍである。
【００４０】
そして、従来のディスク４では、中間層４２の上に記録層４９としてドット４３が形成され、ドット４３とドット４３の間に非磁性材料４７が充填され、その上に保護層４５と潤滑剤４６が積層されている。ここで、例えばドット４３の材質はCoPtで平面サイズが２０ｎｍ×２０ｎｍ、厚さは１０ｎｍ、非磁性材料４７は材質がアルミナ、 幅が１６ｎｍで厚さが１０ｎｍ、保護層４５は材質がダイヤモンドライクカーボンで 厚さが３ｎｍ、潤滑剤は厚さが１ｎｍである。ドット４３は、トラックピッチおよび最短ビット長により平面寸法が規定される。
【００４１】
これに対して、第１の実施例では、中間層４２の上に記録層４９としてドット４３が形成される点は同じである。ドットの材質、形状、厚さは、従来例と同じで良い。一方、第１の実施例では、ドット間に低キュリー温度磁性材料４４が充填される点が異なる。その上に保護層４５と潤滑剤４６が積層される点は同じである。低キュリー温度磁性材料４４は、例えば材質がNi90Al10であり、幅が１６ｎｍ、厚さが１０ｎｍで、キュリー温度が約１５０°Ｃである。
【００４２】
また、図６（ｃ）と（ｄ）に示すディスク４は、本出願の第２と第３の実施例のディスク４の層構成を示すものであり、第１の実施例のディスク４の層構成の変形例を示すものである。図６（ｃ）に示す第２の実施例のディスク４が（ａ）に示す従来のディスク４と異なる点は、中間層４２とドット４３及び非磁性材料４７とから構成される記録層４９との間に低キュリー温度磁性材料層４４Ｌが設けられている点である。また、図６（ｄ）に示す第３の実施例のディスク４が（ａ）に示す従来のディスク４と異なる点は、ドット４３及び非磁性材料４７とから構成される記録層４９と保護層４５との間に低キュリー温度磁性材料層４４Ｕが設けられている点である。低キュリー温度磁性層４４Ｌ，４４Ｕの材質は、例えばNi90Al10であり、厚さが５ｎｍで、キュリー温度が約１５０°Ｃである。
【００４３】
このように、ドット４３が形成された記録層４９の上部もしくは下部にドット４３のキュリー温度より低いキュリー温度を有する磁性材料からなる層４４Ｌ、４４Ｕを配置しても良い。第２、第３の実施例のディスク４でも、第１の実施例のディスク４の場合と同様の効果を得ることが可能である。即ち、第２、第３の実施例のディスク４でも、ドット間に交換相互作用が導入され、記録された情報の安定保持、静磁気相互作用の低減を図ることができ、さらに、加熱によってビットパターンド媒体のドット間の交換相互作用を低減できる。この結果、ドット間への交換相互作用導入の欠点であった、磁化反転の連動によるイレーズも抑制することができるので、ディスク４の高記録密度化が可能となる。また、本実施例の手法は、記録対象トラック内の記録動作保証だけでなく、隣接トラックのイレーズ耐性保証にも適用可能である。
【００４４】
ここで、図７（ａ）から（ｆ）を用いて、第１の実施例のような構成を備えたディスク４の層構成の製造方を説明する。図７（ａ）に示すように、ディスク基板４０の上に、スパッタ法等により、軟磁性裏打ち層４１、中間層４２、磁性層（記録膜）４３の順に形成する。尚、膜構成はこの構成に限るものではなく、更に層数を増やす等、必要に応じて様々な構成が適用可能である。次に、電子線や光を用いたリソグラフィやナノインプリントリソグラフィ等によりレジストパターン４８を形成する。
【００４５】
次に、図７（ｂ）に示すように、イオンミリングや反応性イオンエッチング等により、記録膜４３をエッチングし、ドット形状に加工する。更に、有機溶剤による超音波洗浄や酸素等によるドライエッチング等により、図７（ｃ）に示すようにレジスト４８を除去する。この後、図７（ｄ）に示すように、低キュリー温度磁性材料４４を堆積する。この際、溝へのカバレッジ能力の優れた化学気相成長法(Chemical Vapor Deposition：CVD)やバイアススパッタ法等を用いることが望ましい。
【００４６】
次いで、図７（ｅ）に示すように、化学機械研磨法(Chemical Mechanical Polishing：CMP)等により、媒体の表面を平坦化する。最後に図７（ｆ）に示すように、保護層４５、潤滑剤４６を順次形成すれば、この出願におけるビットパターンド媒体が完成する。なお、図６（ｃ）、（ｄ）に示した第２、第３の実施例のディスクの層構成も、第１の実施例と同様の手法で製造できる。
【００４７】
図８（ａ）は図３（ｂ）に示した記録ヘッド２０による前述の第２の実施例のディスク４への記録動作を示すものである。説明を簡単にするために、この図においてもお磁気ヘッド２０として、書き込み用磁極２３と光導波路１８のみが示してあり、ディスク４として、軟磁性層４１とその上の低キュリー温度磁性層４４Ｌ，及びドット４３と非磁性材料４７から構成される記録層４９のみが示してある。
【００４８】
書き込み用磁極２３によるドット４３の記録時に、光導波路１８からレーザー光をディスク４に向けて照射する。光導波路１８から出射されたレーザー光は、ディスク４を局部的に照射する。このレーザー光により、記録対象ドット４３Ｂとこれに隣接する既に記録が実行された後のドット４３Ａの間の部分の非磁性材料４７の下に位置する低キュリー温度磁性層４４Ｌが局部的に加熱される。このとき、加熱された部分の低キュリー温度磁性層４４Ｌの磁化は完全、もしくはほぼ消失するため、記録対象ドット４３Ｂとこれに隣接するドット４３Ａの間には交換相互作用は働かない。一方、加熱されていない領域では、ドット間に交換相互作用が働き、記録情報は安定保持され、また、静磁気相互作用の影響も低減される。
【００４９】
図８（ｂ）は図３（ｂ）に示した記録ヘッド２０による前述の第３の実施例のディスク４への記録動作を示すものである。説明を簡単にするために、この図においてもお磁気ヘッド２０として、書き込み用磁極２３と光導波路１８のみが示してあり、ディスク４として、軟磁性層４１とドット４３と非磁性材料４７から構成される記録層４９、及びその上の低キュリー温度磁性層４４Ｕのみが示してある。
【００５０】
書き込み用磁極２３によるドット４３の記録時に、光導波路１８からレーザー光をディスク４に向けて照射する。光導波路１８から出射されたレーザー光は、ディスク４を局部的に照射する。このレーザー光により、記録対象ドット４３Ｂとこれに隣接する既に記録が実行された後のドット４３Ａの間の部分の低キュリー温度磁性層４４Ｕが局部的に加熱される。この結果、記録対象ドット４３Ｂとこれに隣接するドット４３Ａの間には交換相互作用は働かず、加熱されていない領域ではドット間に交換相互作用が働き、記録情報は安定保持され、静磁気相互作用の影響も低減される。
【００５１】
図９は、従来例のディスク４、及び第１と第２の実施例のディスク４について、記録特性の評価を行った結果を示すものである。図３（ｂ）で説明した磁気ヘッド２０は、トンネル磁気抵抗効果型の再生ヘッド部２５と垂直磁気記録ヘッドを有する記録ヘッド部２１からなり、更に、記録用磁極２３の前方にある光導波路１８から集光されたレーザー光がディスク４に照射されるものとする。記録ヘッド部２１および再生ヘッド部２５のトラック幅は共に約３５ｎｍである。ヘッド周速は１５ｍ／ｓとした。
【００５２】
この磁気ヘッド２０により、ディスク４の各ドット４３を交互に磁化反転させるように記録を行い、ビットエラーレートを評価した。線記録密度は約７０６ｋＦＣＩである。従来例ではレーザー照射は実施せずに測定を行った。また、第１の実施例ではレーザー照射ありの場合と、無しの場合の測定を行い、第２の実施例ではレーザー照射ありの場合のみについて測定を行って評価した。レーザーパワーは６０ｍＷとした。本構成では、６０ｍＷのレーザー照射でディスク４のドット間は２００°Ｃ前後に加熱される。尚、記録反転タイミングを最適化するため、各ディスク４について、予め記録電流の反転タイミングを変えて評価を行い、ビットエラーレートが最低(最良)になるように調整している。
【００５３】
評価結果を示す図９から分かるように、従来例ではビットエラーレートは2×10-3と高い値を示した。一方、第１の実施例では、レーザー照射なしの場合で6×10-4であり、若干ではあるがドット間の交換相互作用の効果が認められる。即ち、静磁気相互作用の低減によるものである。静磁気相互作用はヘッド磁界にも影響を及ぼすため、この影響が小さくなるとビットエラーレートは工場する。また、交換相互作用の導入による熱揺らぎ耐性の向上によってもビットエラーレートが向上するため、この相乗効果により、レーザー照射なしの場合でも従来例に比較して改善されている。更に、レーザー照射を行った場合では4×10-5に改善されている。第２の実施例においてもレーザー照射を行うことで5×10-5の良好なビットエラーレートが得られた。これらの結果から、本出願の有効性が確認できた。
【００５４】
尚、実施例では、低キュリー温度磁性層の材料としてNi90Al10を用いたが、この材料の他に、Ti、Cr、Mo、Siの何れかの元素を含むNi基合金を用いても、同様の効果を得ることができる。例えば、以下の合金：Ni90Ti10、Ni95Cr5、Ni95Mo5、(Ni90Al10)99Si1が挙げられる。尚、組成比については、これらの元素に限られるものではなく、媒体加熱温度に対応するキュリー温度になるよう調整することも勿論可能である。
【００５５】
以上説明した実施例では、ディスク４を局部的に加熱する加熱手段がレーザー光源とこれをディスク４の上に導く光ファイバ１６、カップリングレンズ１７、及び光導波路１８とから構成されていた。一方、加熱手段として、レーザー光を用いない従来からの電熱ヒータを用いることも可能である。加熱手段として電熱ヒータ１９を用いた実施例の構成を図１０（ａ）に示す。この実施例では、図３（ｂ）で説明した光導波路１８の位置にヒータ１９が設けられている。その他の構成は図３（ｂ）で説明した構成と同じであるので、同じ構成部材には同じ符号を付してその説明を省略する。
【００５６】
ヒータ１９は、図示しないリード線によって、例えば図２（ａ）に示される信号処理基板１３の電源回路に接続されており、書き込み用磁極２３による記録時に通電が行われて熱を帯びる。図１０（ｂ）は（ａ）に示した磁気ヘッド２０の書き込み用磁極２３とヒータ１９の構成の一例をスライダ１５の浮上面側から見たものである。この実施例では、ヒータ１９の径方向の幅は、書き込み用磁極２３の径方向の幅よりも広い。また、書き込み用磁極２３の形状が、ヘッドスキュー角が付与された場合に対応できるように台形になっている。
【００５７】
図１１（ａ）は、図１０に（ｂ）に示したヒータ１９の端子１９Ａ，１９Ｂの構成の一実施例と、破線で示す書き込み用磁極２３の位置関係を示すものであり、（ｂ）は（ａ）を部分拡大して示す図である。端子１９Ａ，１９Ｂに対してヒータ１９が小さいので、ヒータ１９を高温にすることができる。
【００５８】
また、図１０（ｂ）はヒータ１９の別の実施例を示すものであり、（ｂ）に示したヒータ１９の両端部が書き込み用磁極２３の周方向の側面側まで回り込んだ形状をしている。この実施例では、記録対象ドットの記録時に、この記録対象ドットの径方向に隣接するドットとの間にも交換相互作用が働かなくなる。
【００５９】
なお、非記録ビットを、記録ビットを構成する磁性材料より低いキュリー温度かつ低飽和磁化量の磁性材料で構成した場合においては、記録時、再生時において、記録エラーを抑制することのみならず、再生時における非記録ビットからの漏洩磁界によるノイズをも抑制することが可能となる。
【００６０】
以上、本出願を特にその好ましい実施の形態を参照して詳細に説明した。本出願の容易な理解のために、本出願の具体的な形態を以下に付記する。
【００６１】
（付記１）記録層の記録ビットが非記録ビットにより離間して配置されるビットパターンド媒体と、前記ビットパターンド媒体に、情報を記録する記録磁極を有するヘッドと、を有する磁気記録再生装置であって、
前記非記録ビットは、前記記録ビットを構成する磁性材料より低いキュリー温度の磁性材料で構成されており、
前記ヘッドには、前記記録磁極の近傍に、記録時に前記非記録ビットを加熱する加熱手段が設けられていることを特徴とする磁気記録再生装置。
（付記２）  記録層の記録ビットが非記録ビットにより離間して配置されるビットパターンド媒体と、前記ビットパターンド媒体に、情報を記録する記録磁極を有するヘッドと、を有する磁気記録再生装置であって、
前記非記録ビットは非磁性体で構成され、前記記録ビットと前記非記録ビットが形成された記録層の上部又は下部に、前記記録ビットを構成する磁性材料より低いキュリー温度の磁性材料で構成された層が積層されており、
前記ヘッドには、前記記録磁極の近傍に、記録時に前記低キュリー温度磁性材料を加熱する加熱手段が設けられていることを特徴とする磁気記録再生装置。
（付記３）  前記加熱手段は、記録時に、記録対象ビットとこれに隣接する記録ビットの間の部分にある前記非記録ビットを局部加熱するように構成されていることを特徴とする付記１又は２に記載の磁気記録再生装置。
（付記４）前記加熱手段は、記録時に、記録対象ビットと、１つ前に記録を実行した前記記録ビットの間の部分にある前記非記録ビットのみを局部加熱するように構成されていることを特徴とする付記３に記載の磁気記録再生装置。
【００６２】
（付記５）  前記加熱手段は、記録時に、記録対象ビットと、次に記録を実行する前記記録ビットの間の部分にある前記非記録ビットを除く、前記記録対象ビットの周囲の部分にある前記非記録ビットを局部加熱するように構成されていることを特徴とする付記３に記載の磁気記録再生装置。
（付記６）  前記加熱手段の前記磁気記録媒体の径方向の幅は、前記記録ヘッドの前記径方向の幅よりも広いことを特徴とする付記４に記載の磁気記録再生装置。
（付記７）  前記加熱手段の前記磁気記録媒体の径方向の幅は、前記記録ヘッドの前記径方向の幅と同じであることを特徴とする付記４に記載の磁気記録再生装置。
（付記８）  前記加熱手段の前記磁気記録媒体の径方向の幅は、前記記録ヘッドの前記径方向の幅よりも狭いことを特徴とする付記４に記載の磁気記録再生装置。
【００６３】
（付記９）  前記低キュリー温度磁性材料が、ニッケルを主とし、アルミニウム、チタン、クロム、モリブデン、及びシリコンののうち、少なくとも１つ以上の元素を含む磁性材料であることを特徴とする付記１から８の何れかに記載の磁気記録再生装置。
（付記１０）  前記加熱手段が、レーザー光の発光源と、一端がこのレーザー光の発光源からレーザー光を取り込むべく対向し、他端が前記磁気記録媒体に前記レーザー光を出射できるように前記ヘッドの周囲に配置された光通路とから構成されることを特徴とする付記１から９の何れかに記載の磁気記録再生装置。
（付記１１）  前記加熱手段が、電源と、前記ヘッドの周囲に配置されたヒータと、前期電源とヒータとを接続するケーブルとから構成されることを特徴とする付記１から９の何れかに記載の磁気記録再生装置。
（付記１２）  記録を行うヘッドの記録磁極の近傍に、記録を行う媒体を局部的に加熱可能な加熱手段が設けられている磁気記録再生装置に使用され、記録層の記録ビットが非記録ビットにより離間して配置されるビットパターンド磁気記録媒体であって、
前記非記録ビットが、前記記録ビットを構成する磁性材料より低いキュリー温度の磁性材料で構成されていることを特徴とする磁気記録媒体。
【００６４】
（付記１３）  記録を行うヘッドの記録磁極の近傍に、記録を行う媒体を局部的に加熱可能な加熱手段が設けられている磁気記録再生装置に使用され、記録層の記録ビットが非記録ビットにより離間して配置されるビットパターンド磁気記録媒体であって、
前記非記録ビットは非磁性体で構成され、前記記録ビットと前記非記録ビットが形成された記録層の上部又は下部に、前記記録ビットを構成する磁性材料より低いキュリー温度の磁性材料で構成された層が積層されていることを特徴とする磁気記録媒体。
（付記１４）  低キュリー温度磁性材料が、ニッケルを主とし、アルミニウム、チタン、クロム、モリブデン、及びシリコンののうち、少なくとも1つ以上の元素を含む磁性材料であることを特徴とする付記１２又は１３に記載の磁気記録媒体。
（付記１５）  前記ドットを備える記録層又は前記低キュリー温度磁性材料で構成された層と、ディスク基板の間には、中間層と軟磁性裏打ち層が設けられていることを特徴とする付記１２から１４の何れかに記載の磁気記録媒体。
（付記１６）  記録を行うヘッドの記録磁極の近傍に、記録を行う媒体を局部的に加熱可能な加熱手段が設けられている磁気記録再生装置に使用され、記録層の記録ビットが非記録ビットにより離間して配置されるビットパターンド磁気記録媒体の製造方法であって、
ディスク基板の上に軟磁性裏打ち層、中間層、及び記録層をこの順に積層し、
前記記録層の上に所望のビットパターンに対応するレジストパターンを形成し、
イオンミリング或いは反応性イオンエッチングによって前記レジストのない部分の前記記録層を除去してドットを形成して記録ビットとした後、前記レジストを除去し、
前記記録ビット間に前記記録ビットを構成する磁性体より低いキュリー温度の磁性材料を充填して非記録ビットとし、
前記記録層を研磨して平坦化した後に保護層と潤滑剤を積層するビットパターンド磁気記録媒体の製造方法。
（付記１７）  記録を行うヘッドの記録磁極の近傍に、記録を行う媒体を局部的に加熱可能な加熱手段が設けられている磁気記録再生装置に使用され、記録層の記録ビットが非記録ビットにより離間して配置されるビットパターンド磁気記録媒体の製造方法であって、
ディスク基板の上に軟磁性裏打ち層、中間層、低キュリー温度磁性材料から構成される磁性層、及び前記磁性層よりもキュリー温度の高い磁性材料から構成される記録層をこの順に積層し、
前記記録層の上に所望のビットパターンに対応するレジストパターンを形成し、
イオンミリング或いは反応性イオンエッチングによって前記レジストのない部分の前記記録層を除去してドットを形成して記録ビットとした後、前記レジストを除去し、
前記記録ビット間に非磁性材料を充填して非記録ビットとし、
前記記録層を研磨して平坦化した後に保護層と潤滑剤を積層するビットパターンド磁気記録媒体の製造方法。
（付記１８）  記録を行うヘッドの記録磁極の近傍に、記録を行う媒体を局部的に加熱可能な加熱手段が設けられている磁気記録再生装置に使用され、記録層の記録ビットが非記録ビットにより離間して配置されるビットパターンド磁気記録媒体の製造方法であって、
ディスク基板の上に軟磁性裏打ち層、中間層、及び記録層をこの順に積層し、
前記記録層の上に所望のビットパターンに対応するレジストパターンを形成し、
イオンミリング或いは反応性イオンエッチングによって前記レジストのない部分の前記記録層を除去してドットを形成して記録ビットとした後、前記レジストを除去し、
前記記録ビット間に非磁性材料を充填して非記録ビットとし、
前記記録層を研磨して平坦化し、
平坦化された記録層の上に、前記記録ビットを構成する磁性体より低いキュリー温度の磁性材料を積層し、
最後に保護層と潤滑剤を積層するビットパターンド磁気記録媒体の製造方法。
（付記１９）  記録層の記録ビットが非記録ビットにより離間して配置され、前記非記録ビットは、前記記録ビットを構成する磁性材料より低いキュリー温度の磁性材料で構成されるビットパターンド媒体と、
前記ビットパターンド媒体に、情報を記録する記録磁極を有し、前記記録磁極の近傍に、記録時に前記非記録ビットを加熱する加熱手段が設けられているヘッドと、
を有する磁気記録再生装置における前記媒体への記録方法であって、
前記媒体への記録時に前記加熱手段を動作させ、少なくとも記録対象ビットと１つ前に記録を実行した前記記録ビットの間の部分にある前記非記録ビットのみを、この部分の前記非記録ビットが一時的に非磁性化する温度まで局部加熱するようにしたことを特徴とする磁気記録再生装置における磁気記録媒体への記録方法。
（付記２０）  記録層の記録ビットが非記録ビットにより離間して配置され、前記非記録ビットは非磁性体で構成され、前記記録ビットと前記非記録ビットが形成された記録層の上部又は下部に、前記記録ビットを構成する磁性材料より低いキュリー温度の磁性材料で構成された層が積層されたビットパターンド媒体と、
前記ビットパターンド媒体に、情報を記録する記録磁極を有し、前記記録磁極の近傍に、記録時に前記非記録ビットを加熱する加熱手段が設けられているヘッドと、
を有する磁気記録再生装置における前記媒体への記録方法であって、
前記媒体への記録時に前記加熱手段を動作させ、少なくとも記録対象ビットと１つ前に記録を実行した前記記録ビットの間の部分にある前記非記録ビットに重なる前記低キュリー温度の磁性材料で構成された層の部分を、磁性材料が一時的に非磁性化する温度まで局部加熱するようにしたことを特徴とする磁気記録再生装置における磁気記録媒体への記録方法。
【産業上の利用可能性】
【００６５】
本出願のビットパターンド媒体における記録対象ドットの近傍を加熱することにより、ドット間に働く交換相互作用を増減させる手法は、記録対象トラック内の記録動作保証だけでなく、隣接トラックのイレーズ耐性保証にも適用可能である。
【符号の説明】
【００６６】
１    ＨＤＤ（ハードディスク装置）
４    ディスク媒体（ディスク）
１４    サスペンション
１５    ヘッドスライダ
１６    光ファイバ
１７    カップリングレンンズ
１８    光導波路
１９    ヒータ
２０    磁気ヘッド
２１    記録ヘッド部
２３    書き込み用磁極
４０    ディスク基板
４１    軟磁性裏打ち層
４２    中間層
４３    ドット
４４    低キュリー温度磁性層
４７    非磁性材料
４８    レジスト
４９    記録層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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