(57)【要約】【課題】様々な置換様式をもつビアリール化合物を効率的、かつ、簡便に得る製造方法を提供すること。【解決手段】  下記一般式（１）で表されるエンインを、ルテニウム又はモリブデン触媒の存在下で反応させて環状化合物を発生させ、更に、加熱分解又は酸若しくは塩基存在下で反応させてビアリール化合物を製造する方法とする。2010208977.tif 000093【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（１）で表されるエンインを、ルテニウム又はモリブデン触媒の存在下で反応させて下記一般式（２）で表される環状化合物を発生させ、更に、加熱分解又は酸若しくは塩基存在下で反応させて下記一般式（３）で表されるビアリール化合物を製造する方法。
【化１】
2010208977.tif 000063
（上記式中、R1〜R16は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基（−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールチオ基（−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基（−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基（−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、水酸基又はハロゲン原子である。また、R1〜R16は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。また、R1及びR2、R3及びR4、R4及びR6、R6及びR7、R7及びR8、R9及びR10、R10及びR12、R12及びR13、R13及びR14、並びに、R15及びR16は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は−N(B)−で示される基（ここでBは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。）で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。）
【化２】
2010208977.tif 000064
（式中、R3〜R14は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基，置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基（−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールチオ基（−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基（−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基（−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、水酸基又はハロゲン原子である。また、R3〜R14は、それぞれ互いに独立し、同一または異なっていてもよい。また、R3及びR4、R4及びR6、R6及びR7、R7及びR8、R9及びR10、R10及びR12、R12及びR13、並びにR13及びR14は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は−N(B)−で示される基（ここでBは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。）で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。）
【化３】
2010208977.tif 000065
（式中、R3、R4、R6〜R10、R12〜R14は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基（−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールチオ基（−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基（−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基（−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、水酸基又はハロゲン原子である。また、R3〜R14は、それぞれ互いに独立し、同一または異なっていてもよい。また、R3及びR4、R4及びR6、R6及びR7、R7及びR8、R9及びR10、R10及びR12、R12及びR13、並びにR13及びR14は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は−N(B)−で示される基（ここでBは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。）で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。）
【請求項２】
下記一般式（４）で表されるジエンインを、ルテニウム又はモリブデン触媒の存在下で反応させて一般式（５）で表されるビアリール化合物を製造する方法。
【化４】
2010208977.tif 000066
（式中、R1〜R4、R7〜R10、R13〜R16、は水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基（−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールチオ基（−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基（−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基（−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、水酸基、又はハロゲン原子である。また、R1〜R4、R7〜R10、R13〜R16は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。またR1及びR2、R3及びR4、R7及びR8、R9及びR10、R13及びR14、R15及びR16は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基（式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。）で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。また、Xは、酸素原子、硫黄原子又は置換基を有していてもよい窒素原子である。）
【化５】
2010208977.tif 000067
（式中、R3、R4、R7〜R10、R13、R14、は水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基（−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールチオ基（−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基（−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基（−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、水酸基、又はハロゲン原子である。また、R3、R4、R7〜R10、R13、R14は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。またR3及びR4、R7及びR8、R9及びR10、R13及びR14は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基（式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。）で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。また、Xは、酸素原子、硫黄原子又は置換基を有していてもよい窒素原子である。）
【請求項３】
下記一般式（６）で表されるエンインを、ルテニウム又はモリブデン触媒の存在下で反応させ、下記一般式（７）で表される環状化合物を発生させ、更に加熱分解、又は酸若しくは塩基存在下で反応させて、下記一般式（８）で表されるビアリール化合物を製造する方法。
【化６】
2010208977.tif 000068
（式中、R1〜R16は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基（−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールチオ基（−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基（−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基（−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、水酸基、又はハロゲン原子である。また、R1〜R16は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。また、R1及びR2、R3及びR4、R4及びR5、R5及びR7、R7及びR8、R9及びR11、R11及びR12、R12及びR13、R13及びR14、R15及びR16は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基（式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。）で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。）
【化７】
2010208977.tif 000069
（式中、R3〜R14は水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基（−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールチオ基（−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基（−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基（−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、水酸基、又はハロゲン原子である。また、R3〜R14はそれぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。また、R3及びR4、R4及びR5、R5及びR7、R7及びR8、R9及びR11、R11及びR12、R12及びR13、R13及びR14は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基（式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。）で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。）
【化８】
2010208977.tif 000070
（式中、R3〜R5
、R7〜R9、R11〜R14は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基（−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールチオ基（−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基（−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基（−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、水酸基、又はハロゲン原子である。また、R3〜R5 、R7〜R9、R11〜R14は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。また、R3及びR4、R4及びR5、R5及びR7、R7及びR8、R9及びR11、R11及びR12、R12及びR13、R13及びR14は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基（式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。）で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。）
【請求項４】
下記一般式（９）で表されるジエンインを、ルテニウムもしくはモリブデン触媒の存在下で反応させることを特徴とする一般式（１０）で表されるビアリール化合物を製造する方法。
【化９】
2010208977.tif 000071
（式中、R1〜R5、R8、R9、R12〜R16は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基（−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールチオ基（−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基（−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基（−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、水酸基、又はハロゲン原子である。また、R1〜R5、R8、R9、R12〜R16は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。またR1及びR2、R3及びR4、R4及びR5、R12及びR13、R13及びR14、R15及びR16は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基（式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。）で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。また、Xは、酸素原子、硫黄原子、又は置換基を有していてもよい窒素原子である。）
【化１０】
2010208977.tif 000072
（式中、R3〜R5、R8、R9、R12〜R14は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基（−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールチオ基（−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基（−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基（−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、水酸基、又はハロゲン原子である。また、R3〜R5、R8、R9、R12〜R14は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。またR3及びR4、R4及びR5、R12及びR13、R13及びR14は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基（式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。）で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。また、Xは、酸素原子、硫黄原子、又は置換基を有していてもよい窒素原子である。）
【請求項５】
下記一般式（１１）で表されるエンインを、ルテニウムもしくはモリブデン触媒の存在下で反応させることで、一般式（１２）で表される環状化合物を発生させ、このものを加熱分解、あるいは酸もしくは塩基存在下で反応させる下記一般式（１３）で表されるビアリール化合物を製造する方法。
【化１１】
2010208977.tif 000073
（式中、R1〜R16は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基（−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールチオ基（−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基（−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基（−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、水酸基、又はハロゲン原子である。また、R1〜R16は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。また、R1及びR2、R3及びR5、R5及びR6、R6及びR7、R7及びR8、R9及びR10、R10及びR11、R11及びR13、R13及びR14、R15及びR16は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基（式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。）で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。）
【化１２】
2010208977.tif 000074
（式中、R3〜R14は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基（−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールチオ基（−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基（−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基（−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、水酸基、又はハロゲン原子である。また、R3〜R14は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。また、R3及びR5、R5及びR6、R6及びR7、R7及びR8、R9及びR10、R10及びR11、R11及びR13、R13及びR14は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基（式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。）で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。）
【化１３】
2010208977.tif 000075
（式中、R3、R5〜R11 、R13、R14は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基（−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールチオ基（−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基（−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基（−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、水酸基、又はハロゲン原子である。また、R3、R5〜R11 、R13、R14は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。また、R3及びR5、R5及びR6、R6及びR7、R7及びR8、R9及びR10、R10及びR11、R11及びR13、R13及びR14は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基（式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。）で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。）
【請求項６】
下記一般式（１４）で表されるジエンインを、ルテニウム又はモリブデン触媒の存在下で反応させて下記一般式（１５）で表されるビアリール化合物を製造する方法。
【化１４】
2010208977.tif 000076
（式中、R1〜R3、R6〜R11、R14〜R16は水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基（−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールチオ基（−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基（−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基（−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、水酸基又はハロゲン原子である。また、R1〜R3、R6〜R11 、R14〜R16は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。またR1及びR2、R6及びR7、R7及びR8、R9及びR10、R10及びR11、R15及びR16は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基（式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。）で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。また、Xは酸素原子、硫黄原子又は置換基を有していてもよい窒素原子である。）
【化１５】
2010208977.tif 000077
（式中、R3、R6〜R11、R14は水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基（−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールチオ基（−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基（−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基（−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、水酸基又はハロゲン原子である。また、R3、R6〜R11、R14は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。またR6及びR7、R7及びR8、R9及びR10、R10及びR11は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基（式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。）で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。また、Xは酸素原子、硫黄原子又は置換基を有していてもよい窒素原子である。）
【請求項７】
下記一般式（１６）で表されるエンインを、ルテニウム又はモリブデン触媒の存在下で反応させて下記一般式（１７）で表される環状化合物を発生させ、さらに、加熱分解又は酸若しくは塩基存在下で反応させて下記一般式（１８）で表されるビアリール化合物を製造する方法。
【化１６】
2010208977.tif 000078
（式中、R1〜R16は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基（−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールチオ基（−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基（−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基（−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、水酸基又はハロゲン原子であある。また、R1〜R16は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。またR1及びR2、R3及びR4、R4及びR5、R5及びR6、R6及びR8、R10及びR11、R11及びR12、R12及びR13、R13及びR14、R15及びR16は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基（式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。）で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。）
【化１７】
2010208977.tif 000079
（式中、R3〜R14は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基（−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールチオ基（−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基（−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基（−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、水酸基又はハロゲン原子であある。また、R3〜R13は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。またR3及びR4、R4及びR5、R5及びR6、R6及びR8、R10及びR11、R11及びR12、R12及びR13、R13及びR14は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基（式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。）で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。）
【化１８】
2010208977.tif 000080
（式中、R3〜R6、R8、R10〜R14は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基（−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールチオ基（−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基（−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基（−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、水酸基又はハロゲン原子であある。また、R3〜R6、R8、R10〜R14は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。またR3及びR4、R4及びR5、R5及びR6、R6及びR8、R10及びR11、R11及びR12、R12及びR13、R13及びR14は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基（式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。）で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。）
【請求項８】
下記一般式（１９）で表されるジエンインを、ルテニウム又はモリブデン触媒の存在下で反応させて下記一般式（２０）で表されるビアリール化合物を製造する方法。
【化１９】
2010208977.tif 000081
（式中、R1〜R6、R11〜R16は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基（−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールチオ基（−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基（−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基（−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、水酸基又はハロゲン原子である。
また、R1〜R6、R11〜R16は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。またR1及びR2、R3及びR4、R4及びR5、R5及びR6、R11及びR12、R12及びR13、R13及びR14、R15及びR16は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基（式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。）で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。また、Xは、酸素原子；硫黄原子；又は置換基を有していてもよい窒素原子である。）
【化２０】
2010208977.tif 000082
（式中、R3〜R6、R11〜R14は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基（−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールチオ基（−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基（−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基（−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、水酸基又はハロゲン原子である。また、R3〜R6、R11〜R14は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。またR3及びR4、R4及びR5、R5及びR6、R11及びR12、R12及びR13、R13及びR14は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基（式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。）で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。また、Xは、酸素原子；硫黄原子；又は置換基を有していてもよい窒素原子である。）
【請求項９】
下記一般式（２１）で表されるエンインを、ルテニウム又はモリブデン触媒の存在下で反応させて下記一般式（２２）で表される環状化合物を発生させ、さらに加熱分解又は酸若しくは塩基存在下で反応させて下記一般式（２３）で表わされるビアリール化合物を製造する方法。
【化２１】
2010208977.tif 000083
（式中、R1〜R16は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基（−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールチオ基（−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基（−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基（−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、水酸基又はハロゲン原子である。また、R1〜R16はそれぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。また、R1及びR2、R3及びR5、R5及びR6、R6及びR7、R7及びR8、R9及びR10、R10及びR11、R11及びR13、R13及びR14、R15及びR16は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基（式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。）で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。）
【化２２】
2010208977.tif 000084
（式中、R3〜R14は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基（−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールチオ基（−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基（−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基（−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、水酸基又はハロゲン原子である。また、R3〜R14はそれぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。また、R3及びR5、R5及びR6、R6及びR7、R7及びR8、R9及びR10、R10及びR11、R11及びR13、R13及びR14は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基（式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。）で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。）
【化２３】
2010208977.tif 000085
（式中、R3、R5〜R11、R13、R14は水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基（−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールチオ基（−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基（−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基（−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、水酸基又はハロゲン原子である。また、R3、R5〜R11、R13、R14はそれぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。また、R3及びR5、R5及びR6、R6及びR7、R7及びR8、R9及びR10、R10及びR11、R11及びR13、R13及びR14は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基（式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。）で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。）
【請求項１０】
下記一般式（２４）で表されるジエンインを、ルテニウム又はモリブデン触媒の存在下で反応させて下記一般式（２５）表されるビアリール化合物を製造する方法。
【化２４】
2010208977.tif 000086
（式中、R1〜R3、R6〜R11、R14〜R16は水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基（−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールチオ基（−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基（−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基（−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、水酸基又はハロゲン原子である。また、R1〜R3、R6〜R11、R14〜R16はそれぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。また、R1及びR2、R6及びR7、R7及びR8、R9及びR10、R10及びR11、R15及びR16は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基（式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。）で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。また、Xは、酸素原子、硫黄原子又は置換基を有していてもよい窒素原子である。）
【化２５】
2010208977.tif 000087
（式中、R3、R6〜R11、R14は水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基（−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールチオ基（−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基（−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基（−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、水酸基又はハロゲン原子である。また、R1〜R3、R6〜R11、R14〜R16はそれぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。また、R1及びR2、R6及びR7、R7及びR8、R9及びR10、R10及びR11、R15及びR16は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基（式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。）で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。また、Xは、酸素原子、硫黄原子又は置換基を有していてもよい窒素原子である。）
【請求項１１】
下記一般式（２６）で表されるエンインを、ルテニウム又はモリブデン触媒の存在下で反応させて下記一般式（２７）で表される環状化合物を発生させ、さらに、加熱分解又は酸若しくは塩基存在下で反応させて下記一般式（２８）で表されるビアリール化合物を製造する方法。
【化２６】
2010208977.tif 000088
（式中、R1〜R16は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基（−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールチオ基（−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基（−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基（−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、水酸基又はハロゲン原子である。また、R1〜R16は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。またR1及びR2、R3及びR4、R4及びR5、R5及びR6、R6及びR8、R10及びR11、R11及びR12、R12及びR13、R13及びR14、R15及びR16は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基（式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。）で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。）
【化２７】
2010208977.tif 000089
（式中、R3〜R14は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基（−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールチオ基（−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基（−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基（−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、水酸基又はハロゲン原子である。また、R3〜R14は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。またR3及びR4、R4及びR5、R5及びR6、R6及びR8、R10及びR11、R11及びR12、R12及びR13、R13及びR14は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基（式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。）で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。）
【化２８】
2010208977.tif 000090
（式中、R3〜R6、R8、R10〜R14は水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基（−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールチオ基（−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基（−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基（−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、水酸基又はハロゲン原子である。また、R3〜R6、R8、R10〜R14は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。またR3及びR4、R4及びR5、R5及びR6、R6及びR8、R10及びR11、R11及びR12、R12及びR13、R13及びR14は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基（式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。）で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。）
【請求項１２】
下記一般式（２９）で表されるジエンインを、ルテニウム又はモリブデン触媒の存在下で反応させて下記一般式（３０）で表されるビアリール化合物を製造する方法。
【化２９】
2010208977.tif 000091
（式中、R1〜R6、R11〜R16は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基（−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールチオ基（−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基（−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基（−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、水酸基又はハロゲン原子である。また、R1〜R6、R11〜R16はそれぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。またR1及びR2、R3及びR4、R4及びR5、R5及びR6、R11及びR12、R12及びR13、R13及びR14、R15及びR16は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基（式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。）で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。また、Xは、酸素原子、硫黄原子又は置換基を有していてもよい窒素原子である。）
【化３０】
2010208977.tif 000092
（式中、R3〜R6、R11〜R14は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基（−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールチオ基（−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基（−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基（−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、水酸基又はハロゲン原子である。また、R3〜R6、R11〜R14はそれぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。またR3及びR4、R4及びR5、R5及びR6、R11及びR12、R12及びR13、R13及びR14、R15及びR16は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基（式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。）で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。また、Xは、酸素原子、硫黄原子又は置換基を有していてもよい窒素原子である。）
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ビアリール化合物を製造する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ビアリール誘導体は天然に多く存在し、また、触媒、医薬品、機能性材料等の製造中間体としても有用である。しかし、ビアリール化合物は多数の置換様式をもつため、その置換位置の選択的な合成は困難であった。現存する置換ビアリール化合物の合成法としては、既存のビアリール骨格への求電子置換反応（例えば、非特許文献１参照。）や、遷移金属触媒によるクロスカップリング反応（例えば、非特許文献２参照。）が挙げられる。
【非特許文献１】Jerry March,Advanced OrganicChemistry,4th ed.,Wiley,New York,1992,Chapter 11,p501.
【非特許文献２】Norio Miyaura,Akira Suzuki,Chem.Rev., 1995,95,2457−2483.
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、上記非特許文献１、２に記載された技術により得られるビアリール誘導体は限定的であるといった課題がある。
【０００４】
そこで、本発明は、上記課題を鑑み、様々な置換様式をもつビアリール化合物を効率的、かつ、簡便に得る製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者らは、上記課題について鋭意検討を重ねた結果、ルテニウム触媒の存在下、容易に合成可能な様々な置換基を有するエンイン化合物のタンデム閉環エンインメタセシス／閉環オレフィンメタセシス反応を行なうことによって、様々なビアリール化合物が製造できることを見いだした。
【０００６】
即ち、本発明の第一の態様は、下記一般式（１）で表されるエンインを、ルテニウム又はモリブデン触媒の存在下で反応させて下記一般式（２）で表される環状化合物を発生させ、更に、加熱分解又は酸若しくは塩基存在下で反応させて下記一般式（３）で表されるビアリール化合物を製造する方法である。
【化１】
2010208977.tif 000002
【０００７】
上記一般式（１）中、R1〜R16は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基（−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールチオ基（−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基（−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基（−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、水酸基又はハロゲン原子である。また、R1〜R16は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。また、R1及びR2、R3及びR4、R4及びR6、R6及びR7、R7及びR8、R9及びR10、R10及びR12、R12及びR13、R13及びR14、並びに、R15及びR16は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は−N(B)−で示される基（ここでBは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。）で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。
【化２】
2010208977.tif 000003
【０００８】
上記一般式（２）中、R3〜R14は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基，置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基（−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールチオ基（−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基（−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基（−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、水酸基又はハロゲン原子である。また、R3〜R14は、それぞれ互いに独立し、同一または異なっていてもよい。また、R3及びR4、R4及びR6、R6及びR7、R7及びR8、R9及びR10、R10及びR12、R12及びR13、並びにR13及びR14は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は−N(B)−で示される基（ここでBは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。）で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。
【化３】
2010208977.tif 000004
【０００９】
上記一般式（３）中、R3、R4、R6〜R10、R12〜R14は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基（−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールチオ基（−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基（−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基（−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、水酸基又はハロゲン原子である。また、R3〜R14は、それぞれ互いに独立し、同一または異なっていてもよい。また、R3及びR4、R4及びR6、R6及びR7、R7及びR8、R9及びR10、R10及びR12、R12及びR13、並びにR13及びR14は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は−N(B)−で示される基（ここでBは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。）で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。
【００１０】
また、本発明の第二の態様は、下記一般式（４）で表されるジエンインを、ルテニウム又はモリブデン触媒の存在下で反応させて一般式（５）で表されるビアリール化合物を製造する方法である。
【化４】
2010208977.tif 000005
【００１１】
なお上記一般式（４）中、R1〜R4、R7〜R10、R13〜R16、は水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基（−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールチオ基（−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基（−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基（−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、水酸基、又はハロゲン原子である。また、R1〜R4、R7〜R10、R13〜R16は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。またR1及びR2、R3及びR4、R7及びR8、R9及びR10、R13及びR14、R15及びR16は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基（式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。）で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。また、Xは、酸素原子、硫黄原子又は置換基を有していてもよい窒素原子である。
【化５】
2010208977.tif 000006
【００１２】
また、上記一般式（５）中、R3、R4、R7〜R10、R13、R14、は水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基（−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールチオ基（−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基（−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基（−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、水酸基、又はハロゲン原子である。また、R3、R4、R7〜R10、R13、R14は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。またR3及びR4、R7及びR8、R9及びR10、R13及びR14は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基（式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。）で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。また、Xは、酸素原子、硫黄原子又は置換基を有していてもよい窒素原子である。
【００１３】
また、本発明の第三の態様は、下記一般式（６）で表されるエンインを、ルテニウム又はモリブデン触媒の存在下で反応させ、下記一般式（７）で表される環状化合物を発生させ、更に加熱分解、又は酸若しくは塩基存在下で反応させて、下記一般式（８）で表されるビアリール化合物を製造する方法である。
【化６】
2010208977.tif 000007
【００１４】
なお、上記一般式（６）中、R1〜R16は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基（−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールチオ基（−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基（−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基（−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、水酸基、又はハロゲン原子である。また、R1〜R16は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。また、R1及びR2、R3及びR4、R4及びR5、R5及びR7、R7及びR8、R9及びR11、R11及びR12、R12及びR13、R13及びR14、R15及びR16は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基（式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。）で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。
【化７】
2010208977.tif 000008
【００１５】
なお、上記一般式（７）中、R3〜R14は水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基（−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールチオ基（−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基（−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基（−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、水酸基、又はハロゲン原子である。また、R3〜R14はそれぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。また、R3及びR4、R4及びR5、R5及びR7、R7及びR8、R9及びR11、R11及びR12、R12及びR13、R13及びR14は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基（式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。）で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。
【化８】
2010208977.tif 000009
【００１６】
なお上記一般式（８）中、R3〜R5 、R7〜R9、R11〜R14は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基（−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールチオ基（−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基（−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基（−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、水酸基、又はハロゲン原子である。また、R3〜R5 、R7〜R9、R11〜R14は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。また、R3及びR4、R4及びR5、R5及びR7、R7及びR8、R9及びR11、R11及びR12、R12及びR13、R13及びR14は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基（式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。）で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。
【００１７】
また本発明の第四の態様は、下記一般式（９）で表されるジエンインを、ルテニウムもしくはモリブデン触媒の存在下で反応させることを特徴とする一般式（１０）で表されるビアリール化合物を製造する方法である。
【化９】
2010208977.tif 000010
【００１８】
なお上記一般式（９）中、R1〜R5、R8、R9、R12〜R16は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基（−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールチオ基（−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基（−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基（−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、水酸基、又はハロゲン原子である。また、R1〜R5、R8、R9、R12〜R16は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。またR1及びR2、R3及びR4、R4及びR5、R12及びR13、R13及びR14、R15及びR16は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基（式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。）で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。また、Xは、酸素原子、硫黄原子、又は置換基を有していてもよい窒素原子である。
【化１０】
2010208977.tif 000011
【００１９】
なお、上記一般式（１０）中、R3〜R5、R8、R9、R12〜R14は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基（−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールチオ基（−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基（−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基（−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、水酸基、又はハロゲン原子である。また、R3〜R5、R8、R9、R12〜R14は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。またR3及びR4、R4及びR5、R12及びR13、R13及びR14は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基（式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。）で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。また、Xは、酸素原子、硫黄原子、又は置換基を有していてもよい窒素原子である。
【００２０】
また本発明の第五の態様は、下記一般式（１１）で表されるエンインを、ルテニウムもしくはモリブデン触媒の存在下で反応させることで、一般式（１２）で表される環状化合物を発生させ、このものを加熱分解、あるいは酸もしくは塩基存在下で反応させる下記一般式（１３）で表されるビアリール化合物を製造する方法である。
【化１１】
2010208977.tif 000012
【００２１】
なお上記一般式（１１）中、R1〜R16は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基（−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールチオ基（−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基（−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基（−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、水酸基、又はハロゲン原子である。また、R1〜R16は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。また、R1及びR2、R3及びR5、R5及びR6、R6及びR7、R7及びR8、R9及びR10、R10及びR11、R11及びR13、R13及びR14、R15及びR16は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基（式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。）で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。
【化１２】
2010208977.tif 000013
【００２２】
なお、上記一般式（１２）中、R3〜R14は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基（−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールチオ基（−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基（−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基（−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、水酸基、又はハロゲン原子である。また、R3〜R14は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。また、R3及びR5、R5及びR6、R6及びR7、R7及びR8、R9及びR10、R10及びR11、R11及びR13、R13及びR14は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基（式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。）で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。
【化１３】
2010208977.tif 000014
【００２３】
なお上記一般式（１３）中、R3、R5〜R11 、R13、R14は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基（−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールチオ基（−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基（−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基（−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、水酸基、又はハロゲン原子である。また、R3、R5〜R11 、R13、R14は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。また、R3及びR5、R5及びR6、R6及びR7、R7及びR8、R9及びR10、R10及びR11、R11及びR13、R13及びR14は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基（式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。）で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。
【００２４】
また本発明の第六の態様は、下記一般式（１４）で表されるジエンインを、ルテニウム又はモリブデン触媒の存在下で反応させて下記一般式（１５）で表されるビアリール化合物を製造する方法である。
【化１４】
2010208977.tif 000015
【００２５】
なお上記一般式（１４）中、R1〜R3、R6〜R11、R14〜R16は水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基（−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールチオ基（−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基（−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基（−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、水酸基又はハロゲン原子である。また、R1〜R3、R6〜R11 、R14〜R16は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。またR1及びR2、R6及びR7、R7及びR8、R9及びR10、R10及びR11、R15及びR16は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基（式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。）で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。また、Xは酸素原子、硫黄原子又は置換基を有していてもよい窒素原子である。
【化１５】
2010208977.tif 000016
【００２６】
なお上記一般式（１５）中、R3、R6〜R11、R14は水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基（−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールチオ基（−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基（−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基（−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、水酸基又はハロゲン原子である。また、R3、R6〜R11、R14は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。またR6及びR7、R7及びR8、R9及びR10、R10及びR11は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基（式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。）で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。また、Xは酸素原子、硫黄原子又は置換基を有していてもよい窒素原子である。
【００２７】
また、本発明の第七の態様は、下記一般式（１６）で表されるエンインを、ルテニウム又はモリブデン触媒の存在下で反応させて下記一般式（１７）で表される環状化合物を発生させ、さらに、加熱分解又は酸若しくは塩基存在下で反応させて下記一般式（１８）で表されるビアリール化合物を製造する方法である。
【化１６】
2010208977.tif 000017
【００２８】
なお上記一般式（１６）中、R1〜R16は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基（−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールチオ基（−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基（−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基（−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、水酸基又はハロゲン原子であある。また、R1〜R16は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。またR1及びR2、R3及びR4、R4及びR5、R5及びR6、R6及びR8、R10及びR11、R11及びR12、R12及びR13、R13及びR14、R15及びR16は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基（式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。）で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。）
【化１７】
2010208977.tif 000018
【００２９】
上記一般式（１７）中、R3〜R14は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基（−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールチオ基（−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基（−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基（−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、水酸基又はハロゲン原子であある。また、R3〜R13は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。またR3及びR4、R4及びR5、R5及びR6、R6及びR8、R10及びR11、R11及びR12、R12及びR13、R13及びR14は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基（式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。）で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。
【化１８】
2010208977.tif 000019
【００３０】
上記一般式（１８）中、R3〜R6、R8、R10〜R14は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基（−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールチオ基（−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基（−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基（−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、水酸基又はハロゲン原子であある。また、R3〜R6、R8、R10〜R14は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。またR3及びR4、R4及びR5、R5及びR6、R6及びR8、R10及びR11、R11及びR12、R12及びR13、R13及びR14は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基（式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。）で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。
【００３１】
また本発明の第八の態様は、一般式（１９）で表されるジエンインを、ルテニウム又はモリブデン触媒の存在下で反応させて下記一般式（２０）で表されるビアリール化合物を製造する方法である。
【化１９】
2010208977.tif 000020
【００３２】
上記一般式（１９）中、R1〜R6、R11〜R16は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基（−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールチオ基（−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基（−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基（−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、水酸基又はハロゲン原子である。また、R1〜R6、R11〜R16は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。またR1及びR2、R3及びR4、R4及びR5、R5及びR6、R11及びR12、R12及びR13、R13及びR14、R15及びR16は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基（式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。）で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。また、Xは、酸素原子；硫黄原子；又は置換基を有していてもよい窒素原子である。
【化２０】
2010208977.tif 000021
【００３３】
上記一般式（２０）中、R3〜R6、R11〜R14は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基（−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールチオ基（−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基（−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基（−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、水酸基又はハロゲン原子である。また、R3〜R6、R11〜R14は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。またR3及びR4、R4及びR5、R5及びR6、R11及びR12、R12及びR13、R13及びR14は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基（式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。）で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。また、Xは、酸素原子；硫黄原子；又は置換基を有していてもよい窒素原子である。
【００３４】
また本発明の第九の態様は、下記一般式（２１）で表されるエンインを、ルテニウム又はモリブデン触媒の存在下で反応させて下記一般式（２２）で表される環状化合物を発生させ、さらに加熱分解又は酸若しくは塩基存在下で反応させて下記一般式（２３）で表わされるビアリール化合物を製造する方法である。
【化２１】
2010208977.tif 000022
【００３５】
上記一般式（２１）中、R1〜R16は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基（−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールチオ基（−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基（−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基（−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、水酸基又はハロゲン原子である。また、R1〜R16はそれぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。また、R1及びR2、R3及びR5、R5及びR6、R6及びR7、R7及びR8、R9及びR10、R10及びR11、R11及びR13、R13及びR14、R15及びR16は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基（式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。）で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。
【化２２】
2010208977.tif 000023
【００３６】
上記一般式（２２）中、R3〜R14は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基（−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールチオ基（−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基（−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基（−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、水酸基又はハロゲン原子である。また、R3〜R14はそれぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。また、R3及びR5、R5及びR6、R6及びR7、R7及びR8、R9及びR10、R10及びR11、R11及びR13、R13及びR14は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基（式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。）で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。
【化２３】
2010208977.tif 000024
【００３７】
上記一般式（２３）中、R3、R5〜R11、R13、R14は水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基（−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールチオ基（−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基（−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基（−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、水酸基又はハロゲン原子である。また、R3、R5〜R11、R13、R14はそれぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。また、R3及びR5、R5及びR6、R6及びR7、R7及びR8、R9及びR10、R10及びR11、R11及びR13、R13及びR14は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基（式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。）で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。
【００３８】
また本発明の第十の態様は、下記一般式（２４）で表されるジエンインを、ルテニウム又はモリブデン触媒の存在下で反応させて下記一般式（２５）表されるビアリール化合物を製造する方法である。
【化２４】
2010208977.tif 000025
【００３９】
なお上記一般式（２４）中、R1〜R3、R6〜R11、R14〜R16は水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基（−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールチオ基（−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基（−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基（−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、水酸基又はハロゲン原子である。また、R1〜R3、R6〜R11、R14〜R16はそれぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。また、R1及びR2、R6及びR7、R7及びR8、R9及びR10、R10及びR11、R15及びR16は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基（式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。）で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。また、Xは、酸素原子、硫黄原子又は置換基を有していてもよい窒素原子である。
【化２５】
2010208977.tif 000026
【００４０】
なお上記一般式（２５）中、R3、R6〜R11、R14は水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基（−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールチオ基（−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基（−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基（−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、水酸基又はハロゲン原子である。また、R1〜R3、R6〜R11、R14〜R16はそれぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。また、R1及びR2、R6及びR7、R7及びR8、R9及びR10、R10及びR11、R15及びR16は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基（式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。）で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。また、Xは、酸素原子、硫黄原子又は置換基を有していてもよい窒素原子である。
【００４１】
また本発明の第十一の態様は、下記一般式（２６）で表されるエンインを、ルテニウム又はモリブデン触媒の存在下で反応させて下記一般式（２７）で表される環状化合物を発生させ、さらに、加熱分解又は酸若しくは塩基存在下で反応させて下記一般式（２８）で表されるビアリール化合物を製造する方法である。
【化２６】
2010208977.tif 000027
【００４２】
なお上記一般式（２６）中、R1〜R16は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基（−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールチオ基（−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基（−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基（−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、水酸基又はハロゲン原子である。また、R1〜R16は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。またR1及びR2、R3及びR4、R4及びR5、R5及びR6、R6及びR8、R10及びR11、R11及びR12、R12及びR13、R13及びR14、R15及びR16は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基（式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。）で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。
【化２７】
2010208977.tif 000028
【００４３】
なお上記一般式（２７）中、R3〜R14は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基（−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールチオ基（−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基（−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基（−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、水酸基又はハロゲン原子である。また、R3〜R14は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。またR3及びR4、R4及びR5、R5及びR6、R6及びR8、R10及びR11、R11及びR12、R12及びR13、R13及びR14は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基（式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。）で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。
【化２８】
2010208977.tif 000029
【００４４】
なお上記一般式（２８）中、R3〜R6、R8、R10〜R14は水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基（−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールチオ基（−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基（−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基（−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、水酸基又はハロゲン原子である。また、R3〜R6、R8、R10〜R14は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。またR3及びR4、R4及びR5、R5及びR6、R6及びR8、R10及びR11、R11及びR12、R12及びR13、R13及びR14は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基（式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。）で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。
【００４５】
また本発明の第十二の態様は、下記一般式（２９）で表されるジエンインを、ルテニウム又はモリブデン触媒の存在下で反応させて下記一般式（３０）で表されるビアリール化合物を製造する方法である。
【化２９】
2010208977.tif 000030
【００４６】
なお上記一般式（２９）中、R1〜R6、R11〜R16は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基（−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールチオ基（−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基（−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基（−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、水酸基又はハロゲン原子である。また、R1〜R6、R11〜R16はそれぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。またR1及びR2、R3及びR4、R4及びR5、R5及びR6、R11及びR12、R12及びR13、R13及びR14、R15及びR16は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基（式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。）で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。また、Xは、酸素原子、硫黄原子又は置換基を有していてもよい窒素原子である。
【化３０】
2010208977.tif 000031
【００４７】
なお上記一般式（３０）中、R3〜R6、R11〜R14は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基（−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールチオ基（−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基（−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基（−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、水酸基又はハロゲン原子である。また、R3〜R6、R11〜R14はそれぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。またR3及びR4、R4及びR5、R5及びR6、R11及びR12、R12及びR13、R13及びR14、R15及びR16は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基（式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。）で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。また、Xは、酸素原子、硫黄原子又は置換基を有していてもよい窒素原子である。
【発明の効果】
【００４８】
以上、本発明により、様々な置換様式をもつビアリール化合物を効率的、かつ、簡便に得る製造方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４９】
以下、本発明を実施するための形態について詳細に説明する。
【００５０】
（第一の実施形態）
本発明の第一の実施形態は、下記一般式（１）で表されるエンインを、ルテニウム又はモリブデン触媒の存在下で反応させて下記一般式（２）で表される環状化合物を発生させ、更に、加熱分解又は酸若しくは塩基存在下で反応させて下記一般式（３）で表されるビアリール化合物を製造する方法である。
【化３１】
2010208977.tif 000032
【００５１】
上記一般式（１）中、R1〜R16は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基（−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールチオ基（−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基（−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基（−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、水酸基又はハロゲン原子である。また、R1〜R16は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。また、R1及びR2、R3及びR4、R4及びR6、R6及びR7、R7及びR8、R9及びR10、R10及びR12、R12及びR13、R13及びR14、並びに、R15及びR16は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は−N(B)−で示される基（ここでBは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。）で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。
【化３２】
2010208977.tif 000033
【００５２】
上記一般式（２）中、R3〜R14は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基，置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基（−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールチオ基（−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基（−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基（−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、水酸基又はハロゲン原子である。また、R3〜R14は、それぞれ互いに独立し、同一または異なっていてもよい。また、R3及びR4、R4及びR6、R6及びR7、R7及びR8、R9及びR10、R10及びR12、R12及びR13、並びにR13及びR14は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は−N(B)−で示される基（ここでBは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。）で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。
【化３３】
2010208977.tif 000034
【００５３】
上記一般式（３）中、R3、R4、R6〜R10、R12〜R14は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基（−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールチオ基（−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基（−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基（−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、水酸基又はハロゲン原子である。また、R3〜R14は、それぞれ互いに独立し、同一または異なっていてもよい。また、R3及びR4、R4及びR6、R6及びR7、R7及びR8、R9及びR10、R10及びR12、R12及びR13、並びにR13及びR14は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は−N(B)−で示される基（ここでBは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。）で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。
【００５４】
ここで、本明細書及び特許請求の範囲において、「C1〜C20炭化水素基」の炭化水素基は、飽和若しくは不飽和の非環式であってもよいし、飽和若しくは不飽和の環式であってもよい。C1〜C20炭化水素基が非環式の場合には、線状でもよいし、枝分かれしたものでもよい。「C1〜C20炭化水素基」にはC1〜C20アルキル基、C2〜C20アルケニル基、C2〜C20アルキニル基、C4〜C20アルキルジエニル基、C6〜C20アリール基、C6〜C20アルキルアリール基、C6〜C20アリールアルキル基、C3〜C20シクロアルキル基、C3〜C20シクロアルケニル基、（C3〜C10シクロアルキル）C1〜C20アルキル基などが含まれる。
【００５５】
また本明細書及び特許請求の範囲において、「C1〜C20アルキル基」は、C1〜C10アルキル基であることが好ましく、C1〜C6アルキル基であることがさらに好ましい。アルキル基の例としては、制限するわけではないが、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、n−ブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ドデカニル等を挙げることができる。
【００５６】
また本明細書及び特許請求の範囲において、「C2〜C20アルケニル基」は、C2〜C10アルケニル基であることが好ましく、C2〜C6アルケニル基であることがさらに好ましい。アルケニル基の例としては、制限するわけではないが、ビニル、アリル、プロペニル、イソプロペニル、２−メチル−１−プロペニル、２−メチルアリル、２−ブテニル等を挙げることができる。
【００５７】
また本明細書及び特許請求の範囲において、「C2〜C20アルキニル基」は、C2〜C10アルキニル基であることが好ましく、C2〜C6アルキニル基であることがさらに好ましい。アルキニル基の例としては、制限するわけではないが、エチニル、２−プロピニル、２−ブチニル等を挙げることができる。
【００５８】
また本明細書及び特許請求の範囲において、「C4〜C20アルキルジエニル基」は、C4〜C10アルキルジエニル基であることが好ましく、C4〜C6アルキルジエニル基であることがさらに好ましい。アルキルジエニル基の例としては、制限するわけではないが、１、３−ブタジエニル等を挙げることができる。
【００５９】
また本明細書及び特許請求の範囲において、「C6〜C20アリール基」は、C6〜C10アリール基であることが好ましい。アリール基の例としては、制限するわけではないが、フェニル、１−ナフチル、２−ナフチル、インデニル、ビフェニリル、アントリル、フェナントリル等を挙げることができる。
【００６０】
また本明細書及び特許請求の範囲において、「C6〜C20アルキルアリール基」は、C6〜C12アルキルアリール基であることが好ましい。アルキルアリール基の例としては、制限するわけではないが、o−トリル、m−トリル、p−トリル、2,3−キシリル、o−クメニル、m−クメニル、p−クメニル、メシチル等を挙げることができる。
【００６１】
本明細書及び特許請求の範囲において,「C6〜C20アリールアルキル基」は、C6〜C12アリールアルキル基であることが好ましい。アリールアルキル基の例としては、制限するわけではないが、ベンジル、フェネチル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、１−ナフチルメチル、２−ナフチルメチル、２、２−ジフェニルメチル、３−フェニルプロピル、４−フェニルブチル、５−フェニルペンチル等を挙げることができる。
【００６２】
また本明細書及び特許請求の範囲において、「C3〜C20シクロアルキル基」は、C3〜C10シクロアルキル基であることが好ましい。シクロアルキル基の例としては、制限するわけではないが、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル等を挙げることができる。
【００６３】
また本明細書及び特許請求の範囲において、「C3〜C20シクロアルケニル基」は、C3〜C10シクロアルケニル基であることが好ましい。シクロアルケニル基の例としては、制限するわけではないが、シクロプロペニル、シクロブテニル、２−シクロペンテン−１−イル、２−シクロヘキセン−１−イル、３−シクロヘキセン−１−イル等を挙げることができる。
【００６４】
また本明細書及び特許請求の範囲において、「C1〜C20アルコキシ基」は、C1〜C10アルコキシ基であることが好ましく、C1〜C6アルコキシ基であることがさらに好ましい。アルコキシ基の例としては、制限するわけではないが、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、ペンチルオキシ等がある。
【００６５】
また本明細書及び特許請求の範囲において、「C6〜C20アリールオキシ基」は、C6〜C10アリールオキシ基であることが好ましい。アリールオキシ基の例としては、制限するわけではないが、フェニルオキシ、ナフチルオキシ、ビフェニリルオキシ等を挙げることができる。
【００６６】
また本明細書及び特許請求の範囲において、「アルキルチオ基（−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）」及び「アルキルスルホニル基（−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）」において、Y1及びY3は、C1〜C10アルキル基であることが好ましく、C1〜C6アルキル基であることが更に好ましい。アルキル基の例としては、制限するわけではないが、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、n−ブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ドデカニル等を挙げることができる。
【００６７】
また本明細書及び特許請求の範囲において、R1〜R16で示される「C1〜C20炭化水素基」、「C1〜C20アルコキシ基」、「C6〜C20アリールオキシ基」、「アミノ基」、「シリル基」、「アルキルチオ基」、「アリールチオ基」、「アルキルスルホニル基」、「アリールスルホニル基」には、置換基が導入されていてもよい。この置換基としては、例えば、C1〜C10炭化水素基（例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、フェニル、ナフチル、インデニル、トリル、キシリル、ベンジル等）、C1〜C10アルコキシ基（例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ等）、C6〜C10アリールオキシ基（例えば、フェニルオキシ、ナフチルオキシ、ビフェニルオキシ等）アミノ基、水酸基、ハロゲン原子（例えば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素）又はシリル基などを挙げる事ができる。この場合、置換基は、置換可能な位置に１個以上導入されていてもよく、好ましくは１個〜６個導入されていてもよい。置換基数が２個以上である場合、各置換基は同一であっても異なっていてもよい。
【００６８】
また、本明細書及び特許請求の範囲において、「置換基を有していてもよいアミノ基」の例としては、制限するわけではないが、アミノ、ジメチルアミノ、メチルアミノ、メチルフェニルアミノ、フェニルアミノ等がある。
【００６９】
また、本明細書及び特許請求の範囲において、「置換基を有していてもよいシリル基」の例としては、制限するわけではないが、トリメチルシリル、トリエチルシリル、トリメトキシシリル、トリエトキシシリル、ジフェニルメチルシリル、トリフェニルシリル、トリフェノキシシリル、ジメチルメトキシシリル、ジメチルフェノキシシリル、メチルメトキシフェニル等がある。
【００７０】
また、本明細書及び特許請求の範囲において、R1〜R16で示される置換基は互いに架橋してC4〜C20飽和環又は不飽和環を形成してもよい。これらの置換基が形成する環は、４員環〜１２員環であることが好ましく、４員環〜６員環であることが更に好ましい。この環は、ベンゼン環等の芳香族環であってもよいし、脂肪族環であってもよい。また、これらの置換基が形成する環に、更に単数又は複数の環が形成されていてもよい。前記飽和環又は不飽和環は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は−N(B)−で示される（Bは水素原子またはC1〜C20炭化水素基である。）で中断されていてもよい。即ち、前記飽和環または不飽和環はヘテロ環であってもよい。かつ、置換基を有していてもよい。不飽和環は、ベンゼン環等の芳香族環であってもよい。Bは、水素原子またはC1〜C10炭化水素基であることが好ましく、水素原子またはC1〜C7炭化水素基であることが更に好ましく、Bは水素原子、C1〜C3アルキル基、フェニル基又はベンジル基であることが更になお好ましい。この飽和環又は不飽和環は、置換基を有していてもよく、例えば、C1〜C10炭化水素基（例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル基）、C1〜C10アルコキシ基（例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ等）、C6〜C10アリールオキシ基（例えば、フェニルオキシ、ナフチルオキシ、ビフェニルオキシ等）、アミノ基、水酸基、ハロゲン原子（例えば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素）又はシリル基などの置換基が導入されていてもよい。
【００７１】
また、本明細書及び特許請求の範囲において、「芳香環」とは、単環式芳香環、多環式芳香環をあげることができる。「単環式芳香環」としては、ベンゼン環、５員又は６員の複素環を挙げることができる。「５員又は６員の複素環」としては、フラン、チオフェン、ピロ−ル、ピラン、チオピラン、ピリジン、チアゾ−ル、イミダゾ−ル、ピリミジン、１、３、５−トリアジン等を挙げることができる。「多環式芳香族環」としては、多環式芳香族炭化水素、多環式複素芳香族環を挙げることができる。「多環式複素炭化水素」としては、ビフェニル、トリフェニル、ナフタレン、インデン、アントラセン、フェナントレン等を挙げることができる。「多環式複素芳香環」としては、インド−ル、キノリン、プリン等を挙げることができる。
【００７２】
また、本実施形態において「ルテニウム又はモリブデン触媒」とは、ルテニウム又はモリブデン化合物と、ホスフィン配位子、カルベン配位子、アルコキシ配位子、又はハロゲン配位子とを有する触媒をあらわす。具体例としては、特に限定されないが、ベンジリデンビス（トリシクロヘキシルホスフィン）ジクロロルテニウムや（１、３−ビス−（２、４、６−トリメチルフェニル）−２−イミダゾリジニリデン）ジクロロ（フェニルメチレン）−（トリシクロヘキシルホスフィン）ジクロロルテニウム等が挙げられる。
【００７３】
（第二の実施形態）
また、本発明の第二の実施形態は、下記一般式（４）で表されるジエンインを、ルテニウム又はモリブデン触媒の存在下で反応させて一般式（５）で表されるビアリール化合物を製造する方法である。
【化３４】
2010208977.tif 000035
【００７４】
なお上記一般式（４）中、R1〜R4、R7〜R10、R13〜R16、は水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基（−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールチオ基（−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基（−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基（−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、水酸基、又はハロゲン原子である。また、R1〜R4、R7〜R10、R13〜R16は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。またR1及びR2、R3及びR4、R7及びR8、R9及びR10、R13及びR14、R15及びR16は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基（式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。）で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。また、Xは、酸素原子、硫黄原子又は置換基を有していてもよい窒素原子である。
【化３５】
2010208977.tif 000036
【００７５】
また、上記一般式（５）中、R3、R4、R7〜R10、R13、R14、は水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基（−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールチオ基（−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基（−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基（−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、水酸基、又はハロゲン原子である。また、R3、R4、R7〜R10、R13、R14は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。またR3及びR4、R7及びR8、R9及びR10、R13及びR14は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基（式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。）で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。また、Xは、酸素原子、硫黄原子又は置換基を有していてもよい窒素原子である。
【００７６】
（第三の実施形態）
また、本発明の第三の実施形態は、下記一般式（６）で表されるエンインを、ルテニウム又はモリブデン触媒の存在下で反応させ、下記一般式（７）で表される環状化合物を発生させ、更に加熱分解、又は酸若しくは塩基存在下で反応させて、下記一般式（８）で表されるビアリール化合物を製造する方法である。
【化３６】
2010208977.tif 000037
【００７７】
なお、上記一般式（６）中、R1〜R16は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基（−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールチオ基（−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基（−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基（−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、水酸基、又はハロゲン原子である。また、R1〜R16は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。また、R1及びR2、R3及びR4、R4及びR5、R5及びR7、R7及びR8、R9及びR11、R11及びR12、R12及びR13、R13及びR14、R15及びR16は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基（式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。）で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。
【化３７】
2010208977.tif 000038
【００７８】
なお、上記一般式（７）中、R3〜R14は水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基（−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールチオ基（−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基（−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基（−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、水酸基、又はハロゲン原子である。また、R3〜R14はそれぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。また、R3及びR4、R4及びR5、R5及びR7、R7及びR8、R9及びR11、R11及びR12、R12及びR13、R13及びR14は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基（式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。）で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。
【化３８】
2010208977.tif 000039
【００７９】
なお上記一般式（８）中、R3〜R5 、R7〜R9、R11〜R14は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基（−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールチオ基（−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基（−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基（−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、水酸基、又はハロゲン原子である。また、R3〜R5 、R7〜R9、R11〜R14は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。また、R3及びR4、R4及びR5、R5及びR7、R7及びR8、R9及びR11、R11及びR12、R12及びR13、R13及びR14は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基（式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。）で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。
【００８０】
（第四の実施形態）
また本発明の第四の実施形態は、下記一般式（９）で表されるジエンインを、ルテニウムもしくはモリブデン触媒の存在下で反応させることを特徴とする一般式（１０）で表されるビアリール化合物を製造する方法である。
【化３９】
2010208977.tif 000040
【００８１】
なお上記一般式（９）中、R1〜R5、R8、R9、R12〜R16は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基（−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールチオ基（−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基（−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基（−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、水酸基、又はハロゲン原子である。また、R1〜R5、R8、R9、R12〜R16は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。またR1及びR2、R3及びR4、R4及びR5、R12及びR13、R13及びR14、R15及びR16は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基（式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。）で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。また、Xは、酸素原子、硫黄原子、又は置換基を有していてもよい窒素原子である。
【化４０】
2010208977.tif 000041
【００８２】
なお、上記一般式（１０）中、R3〜R5、R8、R9、R12〜R14は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基（−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールチオ基（−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基（−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基（−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、水酸基、又はハロゲン原子である。また、R3〜R5、R8、R9、R12〜R14は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。またR3及びR4、R4及びR5、R12及びR13、R13及びR14は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基（式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。）で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。また、Xは、酸素原子、硫黄原子、又は置換基を有していてもよい窒素原子である。
【００８３】
（第五の実施形態）
また本発明の第五の実施形態は、下記一般式（１１）で表されるエンインを、ルテニウムもしくはモリブデン触媒の存在下で反応させることで、一般式（１２）で表される環状化合物を発生させ、このものを加熱分解、あるいは酸もしくは塩基存在下で反応させる下記一般式（１３）で表されるビアリール化合物を製造する方法である。
【化４１】
2010208977.tif 000042
【００８４】
なお上記一般式（１１）中、R1〜R16は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基（−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールチオ基（−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基（−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基（−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、水酸基、又はハロゲン原子である。また、R1〜R16は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。また、R1及びR2、R3及びR5、R5及びR6、R6及びR7、R7及びR8、R9及びR10、R10及びR11、R11及びR13、R13及びR14、R15及びR16は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基（式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。）で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。
【化４２】
2010208977.tif 000043
【００８５】
なお、上記一般式（１２）中、R3〜R14は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基（−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールチオ基（−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基（−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基（−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、水酸基、又はハロゲン原子である。また、R3〜R14は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。また、R3及びR5、R5及びR6、R6及びR7、R7及びR8、R9及びR10、R10及びR11、R11及びR13、R13及びR14は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基（式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。）で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。
【化４３】
2010208977.tif 000044
【００８６】
なお上記一般式（１３）中、R3、R5〜R11 、R13、R14は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基（−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールチオ基（−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基（−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基（−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、水酸基、又はハロゲン原子である。また、R3、R5〜R11 、R13、R14は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。また、R3及びR5、R5及びR6、R6及びR7、R7及びR8、R9及びR10、R10及びR11、R11及びR13、R13及びR14は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基（式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。）で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。
【００８７】
（第六の実施形態）
また本発明の第六の実施形態は、下記一般式（１４）で表されるジエンインを、ルテニウム又はモリブデン触媒の存在下で反応させて下記一般式（１５）で表されるビアリール化合物を製造する方法である。
【化４４】
2010208977.tif 000045
【００８８】
なお上記一般式（１４）中、R1〜R3、R6〜R11、R14〜R16は水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基（−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールチオ基（−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基（−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基（−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、水酸基又はハロゲン原子である。また、R1〜R3、R6〜R11 、R14〜R16は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。またR1及びR2、R6及びR7、R7及びR8、R9及びR10、R10及びR11、R15及びR16は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基（式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。）で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。また、Xは酸素原子、硫黄原子又は置換基を有していてもよい窒素原子である。
【化４５】
2010208977.tif 000046
【００８９】
なお上記一般式（１５）中、R3、R6〜R11、R14は水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基（−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールチオ基（−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基（−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基（−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、水酸基又はハロゲン原子である。また、R3、R6〜R11、R14は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。またR6及びR7、R7及びR8、R9及びR10、R10及びR11は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基（式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。）で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。また、Xは酸素原子、硫黄原子又は置換基を有していてもよい窒素原子である。
【００９０】
（第七の実施形態）
また、本発明の第七の実施形態は、下記一般式（１６）で表されるエンインを、ルテニウム又はモリブデン触媒の存在下で反応させて下記一般式（１７）で表される環状化合物を発生させ、さらに、加熱分解又は酸若しくは塩基存在下で反応させて下記一般式（１８）で表されるビアリール化合物を製造する方法である。
【化４６】
2010208977.tif 000047
【００９１】
なお上記一般式（１６）中、R1〜R16は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基（−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールチオ基（−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基（−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基（−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、水酸基又はハロゲン原子であある。また、R1〜R16は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。またR1及びR2、R3及びR4、R4及びR5、R5及びR6、R6及びR8、R10及びR11、R11及びR12、R12及びR13、R13及びR14、R15及びR16は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基（式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。）で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。）
【化４７】
2010208977.tif 000048
【００９２】
上記一般式（１７）中、R3〜R14は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基（−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールチオ基（−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基（−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基（−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、水酸基又はハロゲン原子であある。また、R3〜R13は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。またR3及びR4、R4及びR5、R5及びR6、R6及びR8、R10及びR11、R11及びR12、R12及びR13、R13及びR14は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基（式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。）で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。
【化４８】
2010208977.tif 000049
【００９３】
上記一般式（１８）中、R3〜R6、R8、R10〜R14は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基（−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールチオ基（−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基（−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基（−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、水酸基又はハロゲン原子であある。また、R3〜R6、R8、R10〜R14は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。またR3及びR4、R4及びR5、R5及びR6、R6及びR8、R10及びR11、R11及びR12、R12及びR13、R13及びR14は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基（式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。）で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。
【００９４】
（第八の実施形態）
また本発明の第八の実施形態は、一般式（１９）で表されるジエンインを、ルテニウム又はモリブデン触媒の存在下で反応させて下記一般式（２０）で表されるビアリール化合物を製造する方法である。
【化４９】
2010208977.tif 000050
【００９５】
上記一般式（１９）中、R1〜R6、R11〜R16は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基（−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールチオ基（−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基（−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基（−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、水酸基又はハロゲン原子である。また、R1〜R6、R11〜R16は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。またR1及びR2、R3及びR4、R4及びR5、R5及びR6、R11及びR12、R12及びR13、R13及びR14、R15及びR16は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基（式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。）で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。また、Xは、酸素原子；硫黄原子；又は置換基を有していてもよい窒素原子である。
【化５０】
2010208977.tif 000051
【００９６】
上記一般式（２０）中、R3〜R6、R11〜R14は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基（−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールチオ基（−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基（−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基（−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、水酸基又はハロゲン原子である。また、R3〜R6、R11〜R14は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。またR3及びR4、R4及びR5、R5及びR6、R11及びR12、R12及びR13、R13及びR14は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基（式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。）で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。また、Xは、酸素原子；硫黄原子；又は置換基を有していてもよい窒素原子である。
【００９７】
（第九の実施形態）
また本発明の第九の実施形態は、下記一般式（２１）で表されるエンインを、ルテニウム又はモリブデン触媒の存在下で反応させて下記一般式（２２）で表される環状化合物を発生させ、さらに加熱分解又は酸若しくは塩基存在下で反応させて下記一般式（２３）で表わされるビアリール化合物を製造する方法である。
【化５１】
2010208977.tif 000052
【００９８】
上記一般式（２１）中、R1〜R16は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基（−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールチオ基（−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基（−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基（−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、水酸基又はハロゲン原子である。また、R1〜R16はそれぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。また、R1及びR2、R3及びR5、R5及びR6、R6及びR7、R7及びR8、R9及びR10、R10及びR11、R11及びR13、R13及びR14、R15及びR16は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基（式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。）で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。
【化５２】
2010208977.tif 000053
【００９９】
上記一般式（２２）中、R3〜R14は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基（−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールチオ基（−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基（−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基（−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、水酸基又はハロゲン原子である。また、R3〜R14はそれぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。また、R3及びR5、R5及びR6、R6及びR7、R7及びR8、R9及びR10、R10及びR11、R11及びR13、R13及びR14は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基（式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。）で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。
【化５３】
2010208977.tif 000054
【０１００】
上記一般式（２３）中、R3、R5〜R11、R13、R14は水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基（−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールチオ基（−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基（−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基（−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、水酸基又はハロゲン原子である。また、R3、R5〜R11、R13、R14はそれぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。また、R3及びR5、R5及びR6、R6及びR7、R7及びR8、R9及びR10、R10及びR11、R11及びR13、R13及びR14は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基（式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。）で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。
【０１０１】
（第十の実施形態）
また本発明の第十の実施形態は、下記一般式（２４）で表されるジエンインを、ルテニウム又はモリブデン触媒の存在下で反応させて下記一般式（２５）表されるビアリール化合物を製造する方法である。
【化５４】
2010208977.tif 000055
【０１０２】
なお上記一般式（２４）中、R1〜R3、R6〜R11、R14〜R16は水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基（−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールチオ基（−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基（−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基（−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、水酸基又はハロゲン原子である。また、R1〜R3、R6〜R11、R14〜R16はそれぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。また、R1及びR2、R6及びR7、R7及びR8、R9及びR10、R10及びR11、R15及びR16は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基（式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。）で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。また、Xは、酸素原子、硫黄原子又は置換基を有していてもよい窒素原子である。
【化５５】
2010208977.tif 000056
【０１０３】
なお上記一般式（２５）中、R3、R6〜R11、R14は水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基（−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールチオ基（−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基（−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基（−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、水酸基又はハロゲン原子である。また、R1〜R3、R6〜R11、R14〜R16はそれぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。また、R1及びR2、R6及びR7、R7及びR8、R9及びR10、R10及びR11、R15及びR16は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基（式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。）で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。また、Xは、酸素原子、硫黄原子又は置換基を有していてもよい窒素原子である。
【０１０４】
（第十一の実施形態）
また本発明の第十一の実施形態は、下記一般式（２６）で表されるエンインを、ルテニウム又はモリブデン触媒の存在下で反応させて下記一般式（２７）で表される環状化合物を発生させ、さらに、加熱分解又は酸若しくは塩基存在下で反応させて下記一般式（２８）で表されるビアリール化合物を製造する方法である。
【化５６】
2010208977.tif 000057
【０１０５】
なお上記一般式（２６）中、R1〜R16は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基（−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールチオ基（−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基（−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基（−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、水酸基又はハロゲン原子である。また、R1〜R16は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。またR1及びR2、R3及びR4、R4及びR5、R5及びR6、R6及びR8、R10及びR11、R11及びR12、R12及びR13、R13及びR14、R15及びR16は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基（式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。）で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。
【化５７】
2010208977.tif 000058
【０１０６】
なお上記一般式（２７）中、R3〜R14は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基（−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールチオ基（−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基（−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基（−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、水酸基又はハロゲン原子である。また、R3〜R14は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。またR3及びR4、R4及びR5、R5及びR6、R6及びR8、R10及びR11、R11及びR12、R12及びR13、R13及びR14は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基（式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。）で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。
【化５８】
2010208977.tif 000059
【０１０７】
なお上記一般式（２８）中、R3〜R6、R8、R10〜R14は水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基（−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールチオ基（−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基（−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基（−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、水酸基又はハロゲン原子である。また、R3〜R6、R8、R10〜R14は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。またR3及びR4、R4及びR5、R5及びR6、R6及びR8、R10及びR11、R11及びR12、R12及びR13、R13及びR14は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基（式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。）で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。
【０１０８】
（第十二の実施形態）
また本発明の第十二の実施形態は、下記一般式（２９）で表されるジエンインを、ルテニウム又はモリブデン触媒の存在下で反応させて下記一般式（３０）で表されるビアリール化合物を製造する方法である。
【化５９】
2010208977.tif 000060
【０１０９】
なお上記一般式（２９）中、R1〜R6、R11〜R16は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基（−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールチオ基（−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基（−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基（−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、水酸基又はハロゲン原子である。また、R1〜R6、R11〜R16はそれぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。またR1及びR2、R3及びR4、R4及びR5、R5及びR6、R11及びR12、R12及びR13、R13及びR14、R15及びR16は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基（式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。）で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。また、Xは、酸素原子、硫黄原子又は置換基を有していてもよい窒素原子である。
【化６０】
2010208977.tif 000061
【０１１０】
なお上記一般式（３０）中、R3〜R6、R11〜R14は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基（−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールチオ基（−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基（−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。）、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基（−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。）、水酸基又はハロゲン原子である。また、R3〜R6、R11〜R14はそれぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。またR3及びR4、R4及びR5、R5及びR6、R11及びR12、R12及びR13、R13及びR14、R15及びR16は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基（式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。）で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。また、Xは、酸素原子、硫黄原子又は置換基を有していてもよい窒素原子である。
【０１１１】
次に、上記実施形態一乃至十二に係るビアリール化合物を製造する方法について説明する。
【０１１２】
（第一の製造条件）
まず、上記一般式（１）、（６）、（１１）、（１６）、（２１）、（２６）で表される原料をルテニウム触媒又はモリブデン触媒存在下の存在下に反応させ、それぞれ上記一般式（２）、（７）、（１２）、（１７）、（２２）、（２７）で表される環状化合物を発生させた後に、（２）、（７）、（１２）、（１７）、（２２）、（２７）に対して脱離処理することで、それぞれ一般式（３）、（８）、（１３）、（１８）、（２３）、（２８）で表されるビアリール化合物を得ることができる。
【０１１３】
本製造方法において、ルテニウム触媒又はモリブデン触媒はそのまま用いてもよいし、反応に使用する溶媒に溶解しない物質、例えば炭素、シリカ、アルミナなどに担持してもよい。かかる反応においてルテニウム触媒又はモリブデン触媒の使用量は原料に対し通常０．００００１モル倍以上、通常１モル倍以下、好ましくは０．２モル倍以下である。また、脱離反応に用いる酸もしくは塩基もそのまま用いてもよいし、反応に使用する溶媒に溶解しない物質、例えば炭素、シリカ、アルミナなどに担持してもよい。かかる反応においてこれらの使用量は原料に対し通常０．００００１モル倍以上、通常１００モル倍以下、好ましくは０．２モル倍以下である。
【０１１４】
またこの反応は、通常、有機溶媒中で行なわれる。有機溶媒としては、N−メチルピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、アセトニトリルなどの非プロトン性極性溶媒、ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、ジエチレングリコ−ルジメチルエ−テル、１、４−ジオキサン、テトラヒドロフランなどのエ−テル系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、ヘキサン、ヘプタンなどの脂肪族炭化水素類、ジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタンなどの含ハロゲン溶媒などが挙げられる。
溶媒はそれぞれ単独で又は２種以上を組み合わせて用いられ、その使用量は原料に対して通常は１重量倍以上２０００重量倍以下、好ましくは５重量倍以上５００重量倍以下程度である。
【０１１５】
上記反応は空気下でおこなってもよいし、窒素やエチレンガス雰囲気下で行ってもよい。そのガス圧は、通常は１気圧以上５００気圧以下、好ましくは１気圧以上５気圧以下程度である。
【０１１６】
上記反応は、−７８℃以上２００℃以下の温度範囲で行われることが好ましく、より好ましくは０℃以上１５０℃以下の温度範囲、さらに好ましくは２０℃以上１００℃以下の温度範囲である。
【０１１７】
また上記反応の反応時間は特に限定されないが、好ましくは１分以上２４時間以下、さらに好ましくは１０分以上１２時間以下である。
【０１１８】
そしてこの反応終了後、生成した上記一般式（３）、（８）、（１３）、（１８）、（２３）、（２８）で表わされるビアリール化合物は、例えば、溶媒を留去することにより、反応マスから取り出すことができる。また、得られたビアリール化合物は、必要に応じて再結晶等の手段を施すことにより、更に精製することもできる。
【０１１９】
また、本反応において、原料、ルテニウム触媒又はモリブデン触媒、及び溶媒は任意の順序で加えることができる。
【０１２０】
（第二の製造条件）
次に、一般式（４）、（９）、（１４）、（１９）、（２４）、（２９）で表される原料をルテニウム触媒存在下又はモリブデン触媒存在下に反応させ、。それぞれ一般式（５）、（１０）、（１５）、（２０）、（２５）、（３０）で表されるビアリール化合物を得る製造方法について説明する。
【０１２１】
本製造方法において、ルテニウム触媒又はモリブデン触媒はそのまま用いてもよいし、反応に使用する溶媒に溶解しない物質、例えば炭素、シリカ、アルミナなどに担持してもよい。かかる反応においてルテニウム触媒又はモリブデン触媒の使用量は原料に対し通常０．００００１モル倍以上、通常１モル倍以下、好ましくは０．２モル倍以下である。
【０１２２】
また本反応は、通常、有機溶媒中で行なわれる。有機溶媒としては、N−メチルピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、アセトニトリルなどの非プロトン性極性溶媒、ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、ジエチレングリコ−ルジメチルエ−テル、１、４−ジオキサン、テトラヒドロフランなどのエ−テル系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、ヘキサン、ヘプタンなどの脂肪族炭化水素類、ジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタンなどの含ハロゲン溶媒などが挙げられる。
溶媒はそれぞれ単独で又は２種以上を組み合わせて用いられ、その使用量は原料に対して通常は１重量倍以上２０００重量倍以下、好ましくは５重量倍以上５００重量倍以下程度である。
【０１２３】
また、本反応は空気下でおこなってもよいし、窒素やエチレンガス雰囲気下で行ってもよい。そのガス圧は、通常は１気圧以上５００気圧以下、好ましくは１気圧以上５気圧以下程度である。
【０１２４】
また、本反応の反応温度の範囲は−７８℃以上２００℃以下であることが好ましく、より好ましくは０℃以上１５０℃以下、さらに好ましくは２０℃以上１００℃以下である。
【０１２５】
また、本反応の反応時間は特に限定されないが、好ましくは１分以上２４時間以下、さらに好ましくは１０分以上１２時間以下である。
【０１２６】
また本反応終了後、生成したビアリール化合物（５）、（１０）、（１５）、（２０）、（２５）、（３０）は、例えば、溶媒を留去することにより、反応マスから取り出すことができる。また、得られたビアリール化合物は、必要に応じて再結晶等の手段を施すことにより、更に精製することもできる。
【０１２７】
なお本反応において、原料、ルテニウム触媒、及び溶媒は任意の順序で加えることができる。
【実施例】
【０１２８】
以下、本発明の効果の確認として、具体的な実施を行った。以下具体的に説明する。
【０１２９】
（実施例１）
窒素雰囲気下において、1−(5−fluoro−2−((6−(1−hydroxybut−3−enyl)benzo[d][1,3]dioxol−5−yl)  ethynyl)phenyl)but−3−en−1−ol (59.0 mg, 0.155 mmol)のトルエン(27 mL)懸濁液を５０度で１０分間加熱することで均一溶液とした後、室温まで冷却した。反応容器にグラブス触媒第二世代(10.2 mg, 0.012 mmol)を添加し、８０度で２時間撹拌した。その後、反応液を室温まで冷却し、パラトルエンスルホン酸（2.4 mg, 0.014 mmol）を加え１時間撹拌した。減圧下、反応液から溶媒を留去し、得られた残査をシリカゲルクロマトグラフィ−（ヘキサン／ジクロロメタン = 1/1）を用いて精製し、目的の5−(6−fluoronaphthalen−1−yl)naphtho[2,3−d][1,3]dioxole （41.2mg, 84%）を得た。なお融点、NMRデ−タ、及びHRMSデ−タは、以下のようであった。
【０１３０】
mp 215−218 °C; 1H
NMR (CDCl3)・・5.95 (s, 2H), 6.59 (s, 1H),
7.06 (ddd, J = 9.2, 8.2, 2.5 Hz, 1H), 7.21 (s, 1H), 7.31 (dd, J =
7.0, 1.2 Hz, 1H), 7.37 (dd, J = 9.5, 5.8 Hz, 1H), 7.41−7.44 (m, 2H), 7.53 (dd, J = 9.8, 2.8 Hz, 1H), 7.59 (t, J
= 7.7 Hz, 1H), 7.76 (d, J = 8.3 Hz, 1H), 7.86 (d, J = 8.2 Hz,
1H); 13C NMR (CDCl3)・・101.02, 102.65,
104.04, 111.03 (d, J = 20.1 Hz), 116.28 (d, J = 25.1 Hz), 123.94,
126.37, 126.57, 126.89 (d, J = 2.0 Hz), 127.05, 127.20 (d, J =
5.0 Hz), 129.12 (d, J = 9.0 Hz), 129.77, 129.82, 130.70, 134.46 (d, J
= 9.1 Hz), 137.24, 139.00, 147.49, 147.84, 160.57 (d, J = 245.5 Hz);
HRMS (FAB) calcd for C21H13FO2 (M+)
316.0900, found 316.0912.
【化６１】
2010208977.tif 000062
【産業上の利用可能性】
【０１３１】
本発明は、ビアリール化合物の製造方法として、産業上の利用可能性がある。