(57)【要約】【課題】干渉縞の発生を抑え、外観が良好で、生産性に優れ、複数層のハードコート層でも機能分離が可能な光学シートの製造方法及び光学シートを提供すること。【解決手段】光透過性樹脂基材を準備する工程、架橋反応性を有する成分を含み、全成分に対して、それぞれ、固形分の総和が３０質量％以上である第一及び第二の硬化性樹脂組成物を準備する工程、光透過性樹脂基材の一面側に、当該光透過性基材側から順に第一の硬化性樹脂組成物、及び第二の硬化性樹脂組成物を同時に塗布し、塗膜とする工程、第一及び第二の硬化性樹脂組成物の塗膜に光照射し、塗膜を硬化させ、第一のハードコート層及び第二のハードコート層を形成する工程を含むことを特徴とする、光学シートの製造方法。【選択図】図３
2010224150.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ｉ）光透過性樹脂基材を準備する工程、
（ｉｉ）それぞれ、同種及び異種の反応性官能基間で架橋反応性を有する反応性官能基ａ、ｂ、及びｃであって、粒子表面に反応性官能基ａを有する平均１次粒径１〜１００ｎｍの第一の反応性シリカ微粒子、及び反応性官能基ｂを有する第一のバインダー成分を含み、第一の硬化性樹脂組成物の全成分に対する固形分の総和が３０質量％以上である第一の硬化性樹脂組成物、並びに、反応性官能基ｃを有する第二のバインダー成分を含み、第二の硬化性樹脂組成物の全成分に対する固形分の総和が３０質量％以上である第二の硬化性樹脂組成物を準備する工程、
（ｉｉｉ）当該光透過性樹脂基材の一面側に、当該光透過性基材側から順に当該第一の硬化性樹脂組成物、及び第二の硬化性樹脂組成物を同時に塗布し、塗膜とする工程、
（ｉｖ）当該第一及び第二の硬化性樹脂組成物の塗膜に光照射し、当該塗膜を硬化させ、第一のハードコート層及び第二のハードコート層を形成する工程を含むことを特徴とする、光学シートの製造方法。
【請求項２】
前記第一の硬化性樹脂組成物及び第二の硬化性樹脂組成物が、さらにそれぞれ、溶剤を含み、当該第一の硬化性樹脂組成物の全成分に対する固形分の総和が４０〜６０質量％であり、且つ、前記第二の硬化性樹脂組成物の全成分に対する固形分の総和が４０〜６０質量％であることを特徴とする、請求項１に記載の光学シートの製造方法。
【請求項３】
光透過性樹脂基材の一面側に、当該光透過性樹脂基材側から第一のハードコート層及び第二のハードコート層がこの順に設けられている光学シートであって、
当該光透過性樹脂基材、それぞれ、同種及び異種の反応性官能基間で架橋反応性を有する反応性官能基ａ、ｂ、及びｃであって、粒子表面に反応性官能基ａを有する平均１次粒径１〜１００ｎｍの第一の反応性シリカ微粒子、及び反応性官能基ｂを有する第一のバインダー成分を含み、第一の硬化性樹脂組成物の全成分に対する固形分の総和が３０質量％以上である第一の硬化性樹脂組成物、並びに、反応性官能基ｃを有する第二のバインダー成分を含み、第二の硬化性樹脂組成物の全成分に対する固形分の総和が３０質量％以上である第二の硬化性樹脂組成物を準備し、
当該光透過性樹脂基材の一面側に、当該光透過性樹脂基材側から順に当該第一の硬化性樹脂組成物、及び第二の硬化性樹脂組成物を同時に塗布し、塗膜とし、
当該第一及び第二の硬化性樹脂組成物の塗膜に光照射し、当該塗膜を硬化させ、第一のハードコート層及び第二のハードコート層を形成させて得られ、当該第一のハードコート層と第二のハードコート層の間には層界面がないことを特徴とする、光学シート。
【請求項４】
前記第一の硬化性樹脂組成物及び第二の硬化性樹脂組成物が、さらにそれぞれ、溶剤を含み、当該第一の硬化性樹脂組成物の全成分に対する固形分の総和が４０〜６０質量％であり、且つ、前記第二の硬化性樹脂組成物の全成分に対する固形分の総和が４０〜６０質量％であることを特徴とする、請求項３に記載の光学シート。
【請求項５】
ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−４（１９９９）に規定する鉛筆硬度試験（４．９Ｎ荷重）の硬度が、４Ｈ以上であることを特徴とする、請求項３又は４に記載の光学シート。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ディスプレイ等の表面を保護する目的等で使用される光学シートの製造方法及び光学シートに関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイ、ＣＲＴディスプレイ、プロジェクションディスプレイ、プラズマディスプレイ、エレクトロルミネッセンスディスプレイ、反射スクリーン等の画像表示装置における画像表示面は、取り扱い時に傷がつかないように、耐擦傷性を付与することが要求される。
これに対して、基材にハードコート（以下、ＨＣともいうことがある。）層を設けたハードコートフィルムや光学シートを利用することにより、画像表示装置の画像表示面の耐擦傷性を向上させることが一般になされている。
【０００３】
バインダー成分のみが硬化したＨＣ層は耐擦傷性や硬度が不十分となることが多く、バインダー成分に加えて反応性無機微粒子を含む組成物を硬化させてＨＣ層を形成することにより光学シートの耐擦傷性や硬度を向上させることが一般になされている。
【０００４】
また、硬度向上のためにハードコート層を２層積層することも一般になされている。ＨＣ層を２層積層することの利点は、厚さの増加による硬度向上の他に、上下層の反応性無機微粒子の含有割合を変化させ、下層の反応性無機微粒子の含有割合を上層に比べて高くし下層を下地層として機能させることによる硬度向上や、光学シートをアルカリ処理した際の表面からのシリカ微粒子の脱落や流出を抑える性質（耐けん化性ともいう。）の向上が挙げられる。
【０００５】
特許文献１では、１層目に対して光照射量を抑えて半硬化（ハーフキュアーともいう。）させ、次いで、当該半硬化した１層目の上に２層目の組成物を塗布し、半硬化した１層目と、２層目の塗膜を一緒に完全硬化（フルキュアーともいう。）させている。このハーフキュアーを用いた方法では１層目及び２層目をそれぞれフルキュアーして形成する方法よりも層界面が生じ難いという利点に加え、１層目と２層目の密着性が向上するという利点がある。
【０００６】
しかし、このハーフキュアーを用いる方法では塗布と光照射工程が複数回に及ぶため、工程が複雑となり、製造コストが上昇してしまう問題がある。
【０００７】
これに対して、特許文献２では、同時重層塗布により塗工工程を少なくし、高い生産性と層間の密着性を得て、各層間の機能分離を行っている。しかし、硬化時には同時塗布した複数の組成物が混合するのを抑えるため、応急的に１回目の電離放射線照射を行い、乾燥させた後、本格的な２回目の電離放射線照射を行っており、光照射工程を少なくするまでには至っていない。
【０００８】
また、特許文献２のハードコート層又は防眩層である１層目と、低屈折率層である２層目のように、１層目と２層目が異なる機能を有する層である場合は同時重層塗布（以下、同時多層塗布ともいうことがある。）によっても機能分離を行うことができるが、２つの層の成分がほぼ同じ場合、例えば、２層ともＨＣ層の場合には、２つの組成物の塗布時に当該組成物同士が混合してしまうことがあった。このとき、上記したように上下層で反応性シリカ微粒子の割合が異なる組成物を用いていると、混合により反応性シリカ微粒子が２層にわたって均一に分散してしまい、例えば、下層の反応性シリカ微粒子の割合が上層に比べて多いと、下地層による硬度向上の効果が得られず、また耐けん化性も低下してしまうという問題、すなわち機能分離が困難であるという問題があった。さらに、２つの組成物が混合することにより、凹凸のスジ（以下、塗工スジともいう。）が生じ、当該塗工スジにより外観不良となってしまう問題もあった。
【０００９】
このようなことから、外観が良好で、干渉縞がなく、生産性に優れ、且つ、ハードコート層が複数層積層されていても機能分離が可能な光学シートが要求されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特開２００８−１６５０４１号公報
【特許文献２】特開２００８−２５０２６７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明は上記問題点を解消するためになされたものであり、外観が良好で、干渉縞の発生を抑え、生産性に優れ、且つ、ハードコート層が複数層積層されていても機能分離が可能な光学シートの製造方法及び光学シートを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明者らが鋭意検討した結果、生産性に優れる同時多層塗布において、同時塗布する２つの組成物が同種の機能層を形成するための組成物（例えば、２つの組成物がいずれもハードコート層を形成するための組成物）であっても、それぞれの組成物の全成分に対する固形分濃度を一定以上に高めることで、同時多層塗布において当該２つの組成物全体が混合するのを抑えながらも、当該２つの組成物が接触する部分においては２つの組成物が適度に混合して界面を生じないため、組成物の硬化膜においては２つの組成物全体が混合した時に生ずる塗工スジを抑え、且つ、層界面の存在による干渉縞の発生も抑えられ、さらに２つの組成物全体が混合しないため、複数の同種の機能層を積層しても各層の機能を分離できることを見出した。
【００１３】
すなわち、本発明に係る光学シートの製造方法は、（ｉ）光透過性樹脂基材を準備する工程、
（ｉｉ）それぞれ、同種及び異種の反応性官能基間で架橋反応性を有する反応性官能基ａ、ｂ、及びｃであって、粒子表面に反応性官能基ａを有する平均１次粒径１〜１００ｎｍの第一の反応性シリカ微粒子、及び反応性官能基ｂを有する第一のバインダー成分を含み、第一の硬化性樹脂組成物の全成分に対する固形分の総和が３０質量％以上である第一の硬化性樹脂組成物、並びに、反応性官能基ｃを有する第二のバインダー成分を含み、第二の硬化性樹脂組成物の全成分に対する固形分の総和が３０質量％以上である第二の硬化性樹脂組成物を準備する工程、
（ｉｉｉ）当該光透過性樹脂基材の一面側に、当該光透過性基材側から順に当該第一の硬化性樹脂組成物、及び第二の硬化性樹脂組成物を同時に塗布し、塗膜とする工程、
（ｉｖ）当該第一及び第二の硬化性樹脂組成物の塗膜に光照射し、当該塗膜を硬化させ、第一のハードコート層及び第二のハードコート層を形成する工程を含むことを特徴とする。
【００１４】
第一及び第二の硬化性樹脂組成物において、それぞれ、全成分に対して固形分の総和を３０質量％以上とすることにより、ともにハードコート層を形成するための組成物であっても同時に塗布した際に組成物全体が混合するのを抑えながらも、２つの組成物の接触部分は適度に混合する。そして、このように上下各層の組成を保ちながら光照射工程で硬化させるため、塗工スジの発生を抑えて光学シートの外観を良好なものとすることができる。また、２つの組成物の接触部分は適度に混合するため、各層それぞれの硬度発現や柔軟性発現等の機能の分離を可能としながらも、層界面が生じず、光学シートの干渉縞の発生を抑えられる。
【００１５】
なお、本発明において、第一のハードコート層と第二のハードコート層の間の層界面とは、光学シートの膜厚方向の断面のＴＥＭ（透過型電子顕微鏡）を用いた観察において、視認できる界面を意味する。
【００１６】
第一の硬化性樹脂組成物に含まれる第一の反応性シリカ微粒子と第一のバインダー成分、及び第二の硬化性樹脂組成物に含まれる第二のバインダー成分は、その反応性官能基が同種、及び異種の反応性官能基間で架橋反応が可能であり、光照射により硬化する際に架橋結合を形成し、硬度向上に寄与する。
【００１７】
本発明に係る光学シートの製造方法によれば、第一のＨＣ層と第二のＨＣ層の２層間の密着性が向上し、光学シートの硬度も向上する。
この理由としては定かではないが、以下のような理由が推測される。従来のハーフキュアーを行い、積層体を形成する方法の場合、下層となる組成物のみで少量ではあるが一旦光照射されるため、下層の表面では下層の組成物の成分同士のみで硬化が進行してしまう。これに対して本発明に係る製造方法ではハーフキュアーを行わないため、下層となる第一の硬化性樹脂組成物の塗膜表面において当該組成物の第一の反応性シリカ微粒子や第一のバインダー成分が上層となる第二の硬化性樹脂組成物の第二のバインダー成分とも十分に反応可能となり、２層間の密着性と光学シートの硬度が向上するものと推測される。
【００１８】
本発明に係る光学シートの製造方法では、前記第一の硬化性樹脂組成物及び第二の硬化性樹脂組成物が、さらにそれぞれ、溶剤を含み、当該第一の硬化性樹脂組成物の全成分に対する固形分の総和が４０〜６０質量％であり、且つ、前記第二の硬化性樹脂組成物の全成分に対する固形分の総和が４０〜６０質量％であることが、第一及び第二の硬化性樹脂組成物全体の混合を抑え、塗工スジの発生を抑制する点から好ましい。
【００１９】
本発明に係る光学シートは、光透過性樹脂基材の一面側に、当該光透過性樹脂基材側から第一のハードコート層及び第二のハードコート層がこの順に設けられている光学シートであって、
当該光透過性樹脂基材、それぞれ、同種及び異種の反応性官能基間で架橋反応性を有する反応性官能基ａ、ｂ、及びｃであって、粒子表面に反応性官能基ａを有する平均１次粒径１〜１００ｎｍの第一の反応性シリカ微粒子、及び反応性官能基ｂを有する第一のバインダー成分を含み、第一の硬化性樹脂組成物の全成分に対する固形分の総和が３０質量％以上である第一の硬化性樹脂組成物、並びに、反応性官能基ｃを有する第二のバインダー成分を含み、第二の硬化性樹脂組成物の全成分に対する固形分の総和が３０質量％以上である第二の硬化性樹脂組成物を準備し、
当該光透過性樹脂基材の一面側に、当該光透過性樹脂基材側から順に当該第一の硬化性樹脂組成物、及び第二の硬化性樹脂組成物を同時に塗布し、塗膜とし、
当該第一及び第二の硬化性樹脂組成物の塗膜に光照射し、当該塗膜を硬化させ、第一のハードコート層及び第二のハードコート層を形成させて得られ、当該第一のハードコート層と第二のハードコート層の間には層界面がないことを特徴とする。
【００２０】
本発明において、第一のハードコート層と第二のハードコート層の間の層界面とは、光学シートの膜厚方向の断面のＴＥＭ（透過型電子顕微鏡）を用いた観察において、視認できる界面を意味する。
【００２１】
本発明に係る光学シートの好適な実施形態では、光学シートのＪＩＳ  Ｋ５６００−５−４（１９９９）に規定する鉛筆硬度試験（４．９Ｎ荷重）の硬度を、４Ｈ以上とすることも可能である。
【００２２】
なお、フィルムとシートのＪＩＳ−Ｋ６９００での定義では、シートとは薄く一般にその厚さが長さと幅の割りには小さい平らな製品をいい、フィルムとは長さ及び幅に比べて厚さが極めて小さく、最大厚さが任意に限定されている薄い平らな製品で、通例、ロールの形で供給されるものをいう。従って、シートの中でも厚さの特に薄いものがフィルムであるといえるが、シートとフィルムの境界は定かではなく、明確に区別しにくいので、本発明では、厚みの厚いもの、及び薄いものの両方の意味を含めて、「シート」と定義する。
本発明において、「ハードコート層」とは、ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−４（１９９９）に規定する鉛筆硬度試験（４．９Ｎ荷重）で、「Ｈ」以上の硬度を示すものをいう。
【発明の効果】
【００２３】
本発明に係る光学シートの製造方法において、第一及び第二の硬化性樹脂組成物において、それぞれ、全成分に対して固形分の総和を３０質量％以上とすることにより、ともにハードコート層を形成するための組成物であっても同時に塗布した際に組成物全体が混合するのを抑え、上下各層の組成を保ちながら光照射工程で硬化させるため、塗工スジの発生を抑えて外観を良好なものとすることができる。また、２つの硬化性樹脂組成物全体の混合を抑えながらも、２つの硬化性樹脂組成物の接触部分は適度に混合するため、層界面が生じず、光学シートの干渉縞の発生を抑えられる。また、１層ごとのフルキュアーやハーフキュアーを行わないため、下層となる第一の硬化性樹脂組成物の塗膜表面において当該組成物の第一の反応性シリカ微粒子や第一のバインダー成分が上層となる第二の硬化性樹脂組成物の塗膜表面の第二のバインダー成分とも十分に反応可能となり、２層間の密着性が向上し、光学シートの硬度が向上する効果も奏する。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】図１は、本発明に係る光学シートの層構成の一例を模式的に示した図である。
【図２】図２は、本発明に係る光学シートの層構成の他の一例を模式的に示した図である。
【図３】図３は、同時多層塗布方法の一例を模式的に示した図である。
【図４】図４は、実施例４の光学シートの膜厚方向の断面のＴＥＭ写真である。
【図５】図５は、比較例１の光学シートの膜厚方向の断面のＴＥＭ写真である。
【図６】図６は、比較例１の光学シートのハードコート層表面の写真である。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
以下、まず本発明に係る光学シートについて説明し、次いで当該光学シートの製造方法について説明する。
【００２６】
なお、本発明において、（メタ）アクリレートは、アクリレート及び／又はメタクリレートを表す。
本発明において、微粒子の平均１次粒径とは、溶液中の当該微粒子を動的光散乱方法で測定し、粒径分布を累積分布で表したときの５０％粒子径（ｄ５０  メジアン径）を意味する。当該平均１次粒径は、日機装（株）製のＭｉｃｒｏｔｒａｃ粒度分析計又はＮａｎｏｔｒａｃ粒度分析計を用いて測定することができる。
また、本発明の光には、可視及び非可視領域の波長の電磁波だけでなく、電子線のような粒子線、及び、電磁波と粒子線を総称する放射線又は電離放射線が含まれる。
本発明において、特に記載がない限り膜厚とは乾燥時の膜厚（乾燥膜厚）を意味する。
本発明において、分子量とは、分子量分布を有する場合には、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定したポリスチレン換算値である重量平均分子量を意味し、分子量分布を有しない場合には、化合物そのものの分子量を意味する。
なお、球状とは、真球に加え、回転楕円体や、多面体等をも含めた球体に近似できる形状も包含する概念である。
【００２７】
（光学シート）
本発明に係る光学シートは、光透過性樹脂基材の一面側に、当該光透過性樹脂基材側から第一のハードコート層及び第二のハードコート層がこの順に設けられている光学シートであって、
当該光透過性樹脂基材、それぞれ、同種及び異種の反応性官能基間で架橋反応性を有する反応性官能基ａ、ｂ、及びｃであって、粒子表面に反応性官能基ａを有する平均１次粒径１〜１００ｎｍの第一の反応性シリカ微粒子、及び反応性官能基ｂを有する第一のバインダー成分を含み、第一の硬化性樹脂組成物の全成分に対する固形分の総和が３０質量％以上である第一の硬化性樹脂組成物、並びに、反応性官能基ｃを有する第二のバインダー成分を含み、第二の硬化性樹脂組成物の全成分に対する固形分の総和が３０質量％以上である第二の硬化性樹脂組成物を準備し、
当該光透過性樹脂基材の一面側に、当該光透過性樹脂基材側から順に当該第一の硬化性樹脂組成物、及び第二の硬化性樹脂組成物を同時に塗布し、塗膜とし、
当該第一及び第二の硬化性樹脂組成物の塗膜に光照射し、当該塗膜を硬化させ、第一のハードコート層及び第二のハードコート層を形成させて得られ、当該第一のハードコート層と第二のハードコート層の間には層界面がないことを特徴とする。
【００２８】
図１は、本発明に係る光学シートの層構成の一例を模式的に示した図である。
光学シート１において、光透過性樹脂基材１０の一面側に、第一のハードコート層２０、及び第二のハードコート層３０がこの順に設けられている。
【００２９】
本発明に係る光学シートは、第一及び第二の硬化性樹脂組成物において、それぞれ、全成分に対して固形分の総和を３０質量％以上とすることにより、ともにハードコート層を形成するための組成物であっても同時に塗布した際に組成物全体が混合するのを抑えられる。これにより塗工スジの発生が抑えられ外観が良好となり、且つ、第一の硬化性樹脂組成物に含まれる反応性シリカ微粒子の硬化したシリカ微粒子は第二のハードコート層全体にまで分散せずに、主に第一のハードコート層に存在し、第一のハードコート層の下地層としての機能を確保する。
また、本発明に係る光学シートは、２つの硬化性樹脂組成物全体の混合が抑えられながらも、当該２つの硬化性樹脂組成物の接触部分では適度に混合しているため、層界面が生じず、光学シートの干渉縞の発生が抑えられる。さらに、当該光学シートは、１層ごとのフルキュアーや下層のハーフキュアーと続く上下層合わせてのフルキュアが行われていないため、下層となる第一の硬化性樹脂組成物の塗膜表面において当該組成物の第一の反応性シリカ微粒子や第一のバインダー成分が上層となる第二の硬化性樹脂組成物の塗膜表面の第二の反応性シリカ微粒子や第二のバインダー成分とも十分に反応しており、２層間の密着性が向上し、優れた硬度を有する。
【００３０】
第一のＨＣ層と第二のＨＣ層の間の層界面は、光学シートの膜厚方向の断面のＴＥＭ（透過型電子顕微鏡）を用いた観察において、視認できる界面を意味する。従って、ＴＥＭを用いた観察で第一のＨＣ層と第二のＨＣ層の界面が視認できなければ、層界面はない。
また、層界面がないことは、干渉縞がないことによっても確かめられる。干渉縞がなければ層界面はないためである。干渉縞は、光学シートの基材側表面に黒いテープを貼り、三波長管ランプ下で観察することで有無を確かめられる。
【００３１】
以下、本発明に係る光学シートに必須の光透過性樹脂基材、第一のハードコート層、及び第二のハードコート層、並びに必要に応じて適宜設けることができるその他の層について順に説明する。
【００３２】
（光透過性樹脂基材）
本発明に用いられる光透過性樹脂基材は、光透過性の高いプラスチックフィルム又はシートであり、光学シートの光透過性樹脂基材として用い得る物性を満たすものであれば特に限定されることはなく、適宜選んで用いることができる。
通常、光学シートに用いられる基材には、透明、半透明、無色又は有色を問わないが、光透過性が要求される。なお、光透過率の測定は、紫外可視分光光度計（例えば、（株）島津製作所製  ＵＶ−３１００ＰＣ）を用い、室温、大気中で測定した値を用いる。光透過性樹脂基材の平均光透過率は７０％以上、更に８５％以上であることが好ましい。
【００３３】
本発明においては、光透過性樹脂基材の厚さは適宜選択して用いることができるが、光学シートの表面を割れにくく、且つ、硬度を付与する点から、１０〜２００μｍの光透過性樹脂基材を用いることが好ましく、３０〜１５０μｍであることがより好ましい。
【００３４】
光透過性樹脂基材の材料として好ましいものとしては、セルロースアシレート、シクロオレフィンポリマー、ポリカーボネート、アクリレート系ポリマー、又はポリエステルを主体とするものが挙げられる。ここで、「主体とする」とは、基材構成成分の中で最も含有割合が高い成分を示すものである。
【００３５】
セルロースアシレートの具体例としては、セルローストリアセテート、セルロースジアセテート、セルロースアセテートブチレート等が挙げられる。
シクロオレフィンポリマーとしては、例えば、ノルボルネン系重合体、単環の環状オレフィン系重合体、環状共役ジエン系重合体、ビニル脂環式炭化水素系重合体樹脂等が挙げられ、より具体的には、日本ゼオン（株）製のゼオネックスやゼオノア（ノルボルネン系樹脂）、住友ベークライト（株）製  スミライトＦＳ−１７００、ＪＳＲ（株）製  アートン（変性ノルボルネン系樹脂）、三井化学（株）製  アペル（環状オレフィン共重合体）、Ｔｉｃｏｎａ社製の  Ｔｏｐａｓ（環状オレフィン共重合体）、日立化成（株）製  オプトレッツＯＺ−１０００シリーズ（脂環式アクリル樹脂）等が挙げられる。
ポリカーボネートの具体例としては、ビスフェノール類（ビスフェノールＡ等）をベースとする芳香族ポリカーボネート、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート等の脂肪族ポリカーボネート等が挙げられる。
アクリレート系ポリマーの具体例としては、ポリ（メタ）アクリル酸メチル、ポリ（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸ブチル共重合体等が挙げられる。
ポリエステルの具体例としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等が挙げられる。
【００３６】
本発明に用いられる光透過性樹脂基材として、最も光透過性に優れた材料は、セルロースアシレートであり、中でもトリアセチルセルロースを用いることが好ましい。
トリアセチルセルロース（以下、ＴＡＣということもある。）フィルムは、可視光域３８０〜７８０ｎｍにおいて、平均光透過率を５０％以上とすることが可能な光透過性樹脂基材である。
ＴＡＣフィルムは、光学的等方性を有するため、液晶ディスプレイ用途の場合においても好ましく用いることができる。
【００３７】
尚、本発明におけるトリアセチルセルロースとしては、純粋なトリアセチルセルロース以外に、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレートの如くセルロースとエステルを形成する脂肪酸として酢酸以外の成分も併用した物であっても良い。又、これらトリアセチルセルロースには、必要に応じて、ジアセチルセルロース等の他のセルロース低級脂肪酸エステル、或いは可塑剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤等の各種添加剤が添加されていても良い。
【００３８】
また、本発明においては、ＴＡＣフィルムに表面処理（例、けん化処理、グロー放電処理、コロナ放電処理、紫外線（ＵＶ）処理、火炎処理）を実施してもよく、プライマー層（接着剤層）を形成してもよい。本発明における光透過性樹脂基材は、これらの表面処理及びプライマー層も含めたものをいう。
【００３９】
（第一のハードコート層）
本発明の第一のハードコート層は、粒子表面に反応性官能基ａを有する平均１次粒径１〜１００ｎｍの第一の反応性シリカ微粒子、及び反応性官能基ｂを有する第一のバインダー成分を含み、第一の硬化性樹脂組成物の全成分に対する固形分の総和が３０質量％以上である第一の硬化性樹脂組成物の硬化物からなる。
【００４０】
また、第一のＨＣ層は上記光透過性樹脂基材と後述する第二のＨＣ層との間に設けられる層であり、光照射により第二のＨＣ層と同時に形成される。
【００４１】
第一の反応性シリカ微粒子及び第一のバインダー成分は、それぞれ、後述する第二のバインダー成分を含めて、同種及び異種の反応性官能基間で架橋反応可能な反応性官能基を有するため、硬化する際に架橋密度を高め第一のＨＣ層の硬度向上に寄与することに加え、同時に塗布され、硬化する第二のＨＣ層との境界では第二のバインダー成分とも架橋反応し、第一のＨＣ層と第二のＨＣ層の密着性向上にも寄与する。
【００４２】
第一のＨＣ層と第二のＨＣ層は同時に形成されるため、密着性に優れ、第一のＨＣ層と第二のＨＣ層の機能分離を果たしながらも、干渉縞の発生を抑えることができる。
【００４３】
第一のＨＣ層の膜厚は、特に限定されず、光学シートの要求される性能に応じて適宜調節すればよく、好ましくは５〜２０μｍである。また、第一のＨＣ層と第二のＨＣ層の厚さの総和は１０〜４０μｍが好ましい。総和が１０μｍ以上であれば硬度向上による本発明の効果が発揮されやすく、４０μｍより厚いと、光学シートのカールがきつくなり、クラックが生じやすくなる。またコストが上がる。
【００４４】
以下、硬化して本発明の第一のＨＣ層となる第一の硬化性樹脂組成物について説明する。
【００４５】
（第一の硬化性樹脂組成物）
本発明の第一の硬化性樹脂組成物は、シリカ微粒子表面に反応性官能基ａを有する平均１次粒径１〜１００ｎｍの反応性シリカ微粒子、及び反応性官能基ｂを有する第一のバインダー成分を含む。
【００４６】
第一の硬化性樹脂組成物において、その全成分に対し、固形分の総和は３０質量％以上である。第一の硬化性樹脂組成物の固形分としては、少なくとも第一の反応性シリカ微粒子及び第一のバインダー成分が含まれる。当該固形分の総和は、塗布性を向上させる点、及び第一及び第二の硬化性樹脂組成物の全体的な混合を抑制し塗工スジの発生を抑えて外観を良好に保つ点から４０〜６０質量％がより好ましい。３０質量％未満では、後述する第二の硬化性樹脂組成物と組成物全体が混合してしまい、第一のＨＣ層と第二のＨＣ層の硬度や柔軟性、各層ごとの添加剤による機能の発現等の機能分離ができず、塗工スジも発生し、外観が悪化してしまう。
【００４７】
また、第一及び第二の硬化性樹脂組成物の混合を制御する点から、第一の硬化性樹脂組成物の粘度を５〜５０ｍＰａ・ｓ、第二の硬化性樹脂組成物の粘度を３〜４０ｍＰａ・ｓ、且つ、第一の硬化性樹脂組成物の粘度を第二の硬化性樹脂組成物の粘度以上とすることが好ましい。
【００４８】
第一の硬化性樹脂組成物の全成分に対して固形分の総和が３０質量％以上を満たせば、その他、機能性付与を目的として防眩剤や防汚剤及び帯電防止剤、コーティング適性の制御としてレベリング剤や溶剤、ブロッキング防止を目的として易滑剤等を含有していても良い。
【００４９】
（第一の反応性シリカ微粒子）
第一の反応性シリカ微粒子は、平均１次粒径１〜１００ｎｍのシリカ微粒子の表面に、第一のバインダー成分の反応性官能基ｂ、及び後述する第二のバインダー成分の反応性官能基ｃとの架橋反応性を有する反応性官能基ａを有することにより、第一の硬化性樹脂組成物を硬化させ第一のＨＣ層とした際に、これらの架橋反応可能な成分と架橋反応し、第一のＨＣ層と第二のＨＣ層の密着性、光学シートの硬度向上に寄与する。
【００５０】
第一の反応性シリカ微粒子の平均１次粒径は１〜１００ｎｍであるが、１０〜８０ｎｍであることが好ましく、１２〜５０ｎｍであることがさらに好ましい。反応性シリカ微粒子の平均１次粒径が１ｎｍ未満ではハードコート層の硬度向上には寄与できない。平均１次粒径が１００ｎｍを超えると、ヘイズの上昇を招く。
【００５１】
また、第一の反応性シリカ微粒子は、光透過性を損なうことなく、後述する第一のバインダー成分のみを用いた場合の復元率を維持しつつ、硬度を向上させる点から、粒径分布が狭く、単分散であることがより好ましい。
【００５２】
シリカ微粒子の表面には通常、シリカ微粒子内ではこの形態で存在できない基を有する。これら表面の基は通常、相対的に反応しやすい官能基である。例えば、金属酸化物の場合には、例えば、水酸基及びオキシ基、例えば、金属硫化物の場合には、チオール基及びチオ基、又は例えば、窒化物の場合には、アミノ基、アミド基及びイミド基を有する。
【００５３】
第一の硬化性樹脂組成物の全固形分に対して、第一の反応性シリカ微粒子の含有量の割合は、光学シートの要求される物性に応じて適宜調節すればよいが、１５〜７０質量％含まれることが好ましく、３５〜６５質量％がより好ましく、５０〜６５質量％がさらに好ましい。１５質量％未満ではハードコート層に十分な硬度を付与できない恐れがある。微粒子が最密充填した場合の微粒子の硬化性樹脂組成物に対する含有量が７０質量％であるため７０質量％を超えると、充填率が上がり過ぎ、シリカ微粒子と第一のバインダー成分との密着性が悪化し、かえって第一のＨＣ層の硬度を低下させてしまう恐れがある。
【００５４】
第一の反応性シリカ微粒子は単一の平均１次粒径のものだけでなく、平均１次粒径の異なるものを２種類以上組み合わせて用いても良い。２種類以上組み合わせて用いる場合は、各粒子の平均１次粒径が１〜１００ｎｍ以内となれば良い。
【００５５】
本発明の第一の反応性シリカ微粒子は、第一のＨＣ層の硬度向上の点からは粒子内部に空孔や多孔質組織を有しない中実粒子を用いることが好ましく、第一のＨＣ層の屈折率低下の点からは中空粒子のような粒子内部に空孔や多孔質組織を有する粒子を用いることが好ましい。
【００５６】
第一の反応性シリカ微粒子は、第一のＨＣ層に更に機能を付与するものであっても良く、目的に合わせて適宜選択して用いる。
【００５７】
第一の反応性シリカ微粒子が表面に有する反応性官能基ａは、第一のバインダー成分、及び第二のバインダー成分に応じて、適宜選択される。当該反応性官能基ａとしては、重合性不飽和基が好適に用いられ、好ましくは光硬化性不飽和基であり、特に好ましくは電離放射線硬化性不飽和基である。その具体例としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、アリル基等のエチレン性不飽和結合及びエポキシ基等が挙げられる。
第一の反応シリカ微粒子の反応性官能基ａと、第一のバインダー成分の反応性官能基ｂ、及び第二のバインダー成分の反応性官能基ｃは同じであっても異なっていても良い。
【００５８】
第一の反応性シリカ微粒子は、少なくとも表面の一部に有機成分が被覆され、当該有機成分により導入された反応性官能基ａを表面に有する。ここで、有機成分とは、炭素を含有する成分である。また、少なくとも表面の一部に有機成分が被覆されている態様としては、例えば、シリカ微粒子の表面に存在する水酸基にシランカップリング剤等の有機成分を含む化合物が反応して、表面の一部に有機成分が結合した態様、または、シリカ微粒子の表面に存在する水酸基にイソシアネート基を有する有機成分を含む化合物が反応して、表面の一部に有機成分が結合した態様、のほか、例えば、シリカ微粒子の表面に存在する水酸基に水素結合等の相互作用により有機成分を付着させた態様や、ポリマー粒子中に１個又は２個以上のシリカ微粒子を含有する態様、などが含まれる。
【００５９】
少なくとも表面の一部に有機成分が被覆され、当該有機成分により導入された反応性官能基ａを表面に有する反応性シリカ微粒子を調製する方法としては、当該シリカ微粒子に導入したい反応性官能基ａにより、従来公知の方法を適宜選択して用いることができる。
中でも、本発明においては、シリカ微粒子同士の凝集を抑制し、膜の硬度を向上させる点から、以下の（ｉ）（ｉｉ）のシリカ微粒子のいずれかを適宜選択して用いることが好ましい。
（ｉ）飽和又は不飽和カルボン酸、当該カルボン酸に対応する酸無水物、酸塩化物、エステル及び酸アミド、アミノ酸、イミン、ニトリル、イソニトリル、エポキシ化合物、アミン、β‐ジカルボニル化合物、シラン、及び官能基を有する金属化合物よりなる群から選択される１種以上の分子量５００以下の表面修飾化合物の存在下、分散媒としての水及び／又は有機溶剤の中にシリカ微粒子を分散させることにより得られる、表面に反応性官能基ａを有するシリカ微粒子。
（ｉｉ）被覆前のシリカ微粒子に導入する反応性官能基ａ、下記化学式（１）に示す基、及びシラノール基又は加水分解によってシラノール基を生成する基を含む化合物と、金属酸化物微粒子とを結合することにより得られる、表面に反応性官能基ａを有するシリカ微粒子。
化学式（１）
−Ｑ１−Ｃ（＝Ｑ２）−Ｑ３−
化学式（１）中、Ｑ１は、ＮＨ、Ｏ（酸素原子）、又はＳ（硫黄原子）を示し、Ｑ２はＯ又はＳを示し、Ｑ３は、ＮＨ又は２価以上の有機基を示す。
【００６０】
以下、好適に用いられる第一の反応性シリカ微粒子を順に説明する。
（ｉ）飽和又は不飽和カルボン酸、当該カルボン酸に対応する酸無水物、酸塩化物、エステル及び酸アミド、アミノ酸、イミン、ニトリル、イソニトリル、エポキシ化合物、アミン、β‐ジカルボニル化合物、シラン、及び官能基を有する金属化合物よりなる群から選択される１種以上の分子量５００以下の表面修飾化合物の存在下、分散媒としての水及び／又は有機溶剤の中にシリカ微粒子を分散させることにより得られる、表面に反応性官能基ａを有するシリカ微粒子。
上記（ｉ）の反応性シリカ微粒子を用いる場合には、有機成分含量が少なくても膜強度を向上できるというメリットがある。
【００６１】
上記（ｉ）の反応性シリカ微粒子に用いられる上記表面修飾化合物は、カルボキシル基、酸無水物基、酸塩化物基、酸アミド基、エステル基、イミノ基、ニトリル基、イソニトリル基、水酸基、チオール基、エポキシ基、第一級、第二級及び第三級アミノ基、Ｓｉ−ＯＨ基、シランの加水分解性残基、又はβ−ジカルボニル化合物のようなＣ−Ｈ酸基等の、分散条件下において上記シリカ微粒子の表面に存在する基と化学結合可能な官能基を有する。ここでの化学結合は、好ましくは、共有結合、イオン結合又は配位結合が含まれるが、水素結合も含まれる。配位結合は錯体形成であると考えられる。例えば、ブレンステッド又はルイスに従う酸性／塩基反応、錯体形成又はエステル化が、上記表面修飾化合物の官能基とシリカ微粒子表面の基の間で生じる。上記（ｉ）の反応性シリカ微粒子に用いられる上記表面修飾化合物は、１種又は２種以上を混合して用いることができる。
【００６２】
上記表面修飾化合物は通常、シリカ微粒子の表面の基との化学結合に関与できる少なくとも１つの官能基（以下、第１の官能基という）に加えて、当該官能基を介して上記表面修飾化合物に結びついた後に、シリカ微粒子に新たな特性を付与する分子残基を有する。分子残基又はその一部は疎水性又は親水性であり、例えば、シリカ微粒子を安定化、融和化、又は活性化させる。
例えば、疎水性分子残基としては、不活性化又は反発作用をもたらす、アルキル、アリール、アルカリル、アラルキル又はフッ素含有アルキル基等が挙げられる。親水性基としてはヒドロキシ基、アルコキシ基又はポリエステル基等が挙げられる。
【００６３】
上記表面修飾化合物の上記分子残基中に、他の反応性官能基ｂ〜ｄと反応できる反応性官能基ａが含まれる場合には、上記表面修飾化合物中に含まれる第１の官能基をシリカ微粒子表面に反応させることによって、上記（ｉ）の反応性シリカ微粒子の表面にバインダー成分と反応できる反応性官能基ａを導入することが可能である。例えば、第１の官能基のほかに、更に重合性不飽和基を有する表面修飾化合物が、好適なものとして挙げられる。
【００６４】
一方で、上記表面修飾化合物の上記分子残基中に、第２の官能基を含有させ、当該第２の官能基を足掛かりにして、上記（ｉ）の反応性シリカ微粒子の表面に他の反応性官能基ｂ〜ｄと反応できる反応性官能基ａが導入されても良い。例えば、第２の官能基として水酸基及びオキシ基のような水素結合が可能な基（水素結合形成基）を導入し、当該微粒子表面上に導入された水素結合形成基に、更に別の表面修飾化合物の水素結合形成基が反応することにより、他の反応性官能基ｂ〜ｄと反応できる反応性官能基ａを導入することが好ましい。すなわち、表面修飾化合物として、水素結合形成基を有する化合物と、重合性不飽和基などのバインダー成分と反応できる反応性官能基ａと水素結合形成基を有する化合物とを併用して用いることが好適な例として挙げられる。水素結合形成基の具体例としては、水酸基、カルボキシル基、エポキシ基、グリシジル基、アミド基、といった官能基、もしくはアミド結合を示すものである。ここで、アミド結合とは、−ＮＨＣ（Ｏ）や＞ＮＣ（Ｏ）−を結合単位に含むものを示す旨である。本発明の表面修飾化合物に用いられる水素結合形成基としては、中でもカルボキシル基、水酸基、アミド基が好ましい。
【００６５】
上記（ｉ）の反応性シリカ微粒子に用いられる上記表面修飾化合物は５００以下、より好ましくは４００、特に２００を超えない分子量を有する。このような低分子量を有するため、シリカ微粒子表面を急速に占有し、シリカ微粒子同士の凝集を妨げることが可能であると推測される。
【００６６】
上記（ｉ）の反応性シリカ微粒子に用いられる上記表面修飾化合物は、表面修飾のための反応条件下で好ましくは液体であり、分散媒中で溶解性又は少なくとも乳化可能であるのが好ましい。中でも分散媒中で溶解し、分散媒中で離散した分子又は分子イオンとして一様に分布して存在することが好ましい。
【００６７】
飽和又は不飽和カルボン酸としては、１〜２４の炭素原子を有しており、例えば、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、クエン酸、アジピン酸、琥珀酸、グルタル酸、シュウ酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸及びステアリン酸、並びに対応する酸無水物、塩化物、エステル及びアミド、例えばカプロラクタム等が挙げられる。また、不飽和カルボン酸を用いると、重合性不飽和基を導入することができる。
【００６８】
好ましいアミンの例は、化学式Ｑ３−ｎＮＨｎ（ｎ＝０，１又は２）を有するものであり、残基Ｑは独立して、１〜１２、特に１〜６、特別好ましくは１〜４の炭素原子を有するアルキル（例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル及びブチル）、並びに６〜２４の炭素原子を有するアリール、アルカリル又はアラルキル（例えば、フェニル、ナフチル、トリル及びベンジル）を表す。また、好ましいアミンの例としては、ポリアルキレンアミンが挙げられ、具体例は、メチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、エチルアミン、アニリン、Ｎ−メチルアニリン、ジフェニルアミン、トリフェニルアミン、トルイジン、エチレンジアミン、ジエチレントリアミンである。
【００６９】
好ましいβ−ジカルボニル化合物は４〜１２、特に５〜８の炭素原子を有するものであり、例えば、ジケトン（アセチルアセトンなど）、２，３−ヘキサンジオン、３，５−ヘプタンジオン、アセト酢酸、アセト酢酸−Ｃ１−Ｃ４−アルキルエステル（アセト酢酸エチルエステルなど）、ジアセチル及びアセトニルアセトンが挙げられる。
アミノ酸の例としては、β−アラニン、グリシン、バリン、アミノカプロン酸、ロイシン及びイソロイシンが挙げられる。
【００７０】
好ましいシランは、少なくとも１つの加水分解性基又はヒドロキシ基と、少なくとも１つの非加水分解性残基を有する加水分解性オルガノシランである。ここで加水分解性基としては、例えば、ハロゲン、アルコキシ基及びアシルオキシ基が挙げられる。非加水分解性残基としては、反応性官能基ａを有する及び／又は反応性官能基ａを有しない非加水分解性残基が用いられる。また、フッ素で置換されている有機残基を少なくとも部分的に有するシランを使用しても良い。
【００７１】
用いられるシランとしては特に限定されないが、例えば、ＣＨ２＝ＣＨＳｉ（ＯＯＣＣＨ３）３、ＣＨ２＝ＣＨＳｉＣｌ３、ＣＨ２＝ＣＨＳｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、ＣＨ２＝ＣＨ−Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ４ＯＣＨ３）３、ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＨ２−Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＨ２−Ｓｉ（ＯＯＣＣＨ３）３、γ−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン（ＧＰＴＳ）、γ−グリシジルオキシプロピルジメチルクロロシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン（ＡＰＴＳ）、３−アミノプロピルトリエトキシシラン（ＡＰＴＥＳ）、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−［Ｎ’−（２’−アミノエチル）−２−アミノエチル］−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、ヒドロキシメチルトリメトキシシラン、２−［メトキシ（ポリエチレンオキシ）プロピル］トリメトキシシラン、ビス−（ヒドロキシエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−ヒドロキシエチル−Ｎ−メチルアミノプロピルトリエトキシシラン、３−（メタ）アクリルオキシプロピルトリエトキシシラン及び３−（メタ）アクリルオキシプロピルトリメトキシシラン等を挙げることができる。
【００７２】
上記シランカップリング剤としては、特に限定されず、公知のものを挙げることができ、例えば、ＫＢＭ−５０２、ＫＢＭ−５０３、ＫＢＥ−５０２、ＫＢＥ−５０３、ＫＢＭ−５１０３（商品名、いずれも、信越化学工業（株）製）等を挙げることができる。
【００７３】
官能基を有する金属化合物としては、元素周期表の第１群ＩＩＩ〜Ｖ及び／又は第２群ＩＩ〜ＩＶからの金属Ｍの金属化合物が挙げられる。ジルコニウム及びチタニウムのアルコキシド、Ｍ（ＯＲ）４（Ｍ＝Ｔｉ、Ｚｒ）、（式中、ＯＲ基の一部はβ−ジカルボニル化合物又はモノカルボン酸などの錯生成剤により置換される。）が挙げられる。重合性不飽和基を有する化合物（メタクリル酸など）が錯生成剤として使用される場合には、重合性不飽和基を導入することができる。
【００７４】
分散媒として、水及び／又は有機溶剤が好適に使用される。特に好ましい分散媒は、蒸留された（純粋な）水である。有機溶剤として、極性及び非極性及び非プロトン性溶剤が好ましい。それらの例として、炭素数１〜６の脂肪族アルコール（特にメタノール、エタノール、ｎ（ノルマル）−及びｉ（イソ）−プロパノール及びブタノール）等のアルコール、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセトン及びブタノン等のケトン類、酢酸エチルなどのエステル類；ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン及びテトラヒドロピランなどのエーテル類；ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミドなどのアミド類；スルホラン及びジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類及びスルホン類；及びペンタン、ヘキサン及びシクロヘキサン等の脂肪族（任意にハロゲン化された）炭化水素類が挙げられる。これらの分散媒は混合物として使用することができる。
分散媒は、蒸留（任意に減圧下）により容易に除去できる沸点を有することが好ましく、沸点が２００℃以下、特に１５０℃以下の溶剤が好ましい。
【００７５】
（ｉ）の反応性シリカ微粒子の調製に際し、分散媒の濃度は、通常４０〜９０、好ましくは５０〜８０、特に５５〜７５質量％である。分散液の残りは、未処理のシリカ微粒子及び上記表面修飾化合物から構成される。ここで、シリカ微粒子／表面修飾化合物の質量比は、１００：１〜４：１とすることが好ましく、更に５０：１〜８：１、より更に２５：１〜１０：１とすることが好ましい。
【００７６】
（ｉ）の反応性シリカ微粒子の調製は、好ましくは室温（約２０℃）〜分散媒の沸点で行われる。特に好ましくは、分散温度は５０〜１００℃である。分散時間は、特に使用される材料のタイプに依存するが、一般に数分から数時間、例えば、１〜２４時間である。
【００７７】
（ｉｉ）被覆前のシリカ微粒子に導入する反応性官能基ａ、下記化学式（１）に示す基、及びシラノール基又は加水分解によってシラノール基を生成する基を含む化合物と、コアとなるシリカ微粒子としての金属酸化物微粒子とを結合することにより得られる、表面に反応性官能基ａを有するシリカ微粒子。
化学式（１）
−Ｑ１−Ｃ（＝Ｑ２）−Ｑ３−
化学式（１）中、Ｑ１は、ＮＨ、Ｏ（酸素原子）、又はＳ（硫黄原子）を示し、Ｑ２はＯ又はＳを示し、Ｑ３は、ＮＨ又は２価以上の有機基を示す。
上記（ｉｉ）の反応性シリカ微粒子を用いる場合には、有機成分量が高まり、分散性、及び膜強度がより高まるという利点がある。
【００７８】
まず、被覆前のシリカ微粒子に導入したい反応性官能基ａ、上記化学式（１）に示す基、及びシラノール基又は加水分解によってシラノール基を生成する基を含む化合物（以下、反応性官能基修飾加水分解性シランという場合がある。）について説明する。
上記反応性官能基修飾加水分解性シランにおいて、当該シリカ微粒子に導入したい反応性官能基ａは、他の反応性官能基ｂ〜ｄと反応可能なように適宜選択すれば特に限定されない。上述したような重合性不飽和基を導入するのに適している。
【００７９】
上記反応性官能基修飾加水分解性シランにおいて、上記化学式（１）に示す基の［−Ｑ１−Ｃ（＝Ｑ２）−］部分は、具体的には、［−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−］、［−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−］、［−Ｓ−Ｃ（＝Ｏ）−］、［−ＮＨ−Ｃ（＝Ｏ）−］、［−ＮＨ−Ｃ（＝Ｓ）−］、及び［−Ｓ−Ｃ（＝Ｓ）−］の６種である。これらの基は、１種単独で又は２種以上を組合わせて用いることができる。中でも、熱安定性の観点から、［−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−］基と、［−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−］基及び［−Ｓ−Ｃ（＝Ｏ）−］基の少なくとも１種を併用することが好ましい。前記化学式（１）に示す基［−Ｑ１−Ｃ（＝Ｑ２）−Ｑ３−］は、分子間において水素結合による適度の凝集力を発生させ、硬化物にした場合、優れた機械的強度、基材との密着性及び耐熱性等の特性を付与することが可能になると考えられる。
【００８０】
また、加水分解によってシラノ−ル基を生成する基としては、ケイ素原子上にアルコキシ基、アリールオキシ基、アセトキシ基、アミノ基、ハロゲン原子等を有する基を挙げることができ、アルコキシシリル基又はアリールオキシシリル基が好ましい。シラノール基又は、加水分解によってシラノ−ル基を生成する基は、縮合反応又は加水分解に続いて生じる縮合反応によって、金属酸化物微粒子と結合することができる。
【００８１】
上記反応性官能基修飾加水分解性シランの好ましい具体例としては、例えば、下記化学式（２）及び（３）に示す化合物を挙げることができ、化学式（３）に示す化合物が硬度の点からより好ましく用いられる。
【００８２】
【化１】
2010224150.tif 000003
【００８３】
【化２】
2010224150.tif 000004
【００８４】
化学式（２）及び（３）中、Ｒａ、Ｒｂは同一でも異なっていてもよいが、水素原子又はＣ１からＣ８のアルキル基若しくはアリール基であり、例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、オクチル、フェニル、キシリル基等を挙げることができる。ここでｍは１、２又は３である。
［（ＲａＯ）ｍＲｂ３ーｍＳｉ−］で示される基としては、例えば、トリメトキシシリル基、トリエトキシシリル基、トリフェノキシシリル基、メチルジメトキシシリル基、ジメチルメトキシシリル基等を挙げることができる。このような基のうち、トリメトキシシリル基又はトリエトキシシリル基等が好ましい。
【００８５】
化学式（２）及び（３）中、ＲｃはＣ１からＣ１２の脂肪族又は芳香族構造を有する２価の有機基であり、鎖状、分岐状又は環状の構造を含んでいてもよい。そのような有機基としては例えば、メチレン、エチレン、プロピレン、ブチレン、ヘキサメチレン、シクロヘキシレン、フェニレン、キシリレン、ドデカメチレン等を挙げることができる。これらのうち好ましい例は、メチレン、プロピレン、シクロヘキシレン、フェニレン等である。
【００８６】
化学式（２）中、Ｒｄは２価の有機基であり、通常、分子量１４から１０，０００、好ましくは、分子量７６から５００の２価の有機基の中から選ばれる。例えば、ヘキサメチレン、オクタメチレン、ドデカメチレン等の鎖状ポリアルキレン基；シクロヘキシレン、ノルボルニレン等の脂環式又は多環式の２価の有機基；フェニレン、ナフチレン、ビフェニレン、ポリフェニレン等の２価の芳香族基；及びこれらのアルキル基置換体、アリール基置換体を挙げることができる。また、これら２価の有機基は炭素及び水素原子以外の元素を含む原子団を含んでいてもよく、ポリエーテル結合、ポリエステル結合、ポリアミド結合、ポリカーボネート結合、さらには前記化学式（１）に示す基を含むこともできる。
【００８７】
化学式（２）及び（３）中、Ｒｅは（ｎ＋１）価の有機基であり、好ましくは鎖状、分岐状又は環状の飽和炭化水素基、不飽和炭化水素基の中から選ばれる。
【００８８】
化学式（２）及び（３）中、Ｙ’は反応性官能基ａを有する１価の有機基を示す。上述のような反応性官能基ａそのものであっても良い。例えば、反応性官能基ａを重合性不飽和基から選択する場合、（メタ）アクリロイル（オキシ）基、ビニル（オキシ）基、プロペニル（オキシ）基、ブタジエニル（オキシ）基、スチリル（オキシ）基、エチニル（オキシ）基、シンナモイル（オキシ）基、マレエート基、（メタ）アクリルアミド基等を挙げることができる。また、ｎは好ましくは１〜２０の正の整数であり、さらに好ましくは１〜１０、特に好ましくは１〜５である。
【００８９】
本発明で用いられる反応性官能基修飾加水分解性シランの合成は、例えば、特開平９−１００１１１号公報に記載された方法を用いることができる。すなわち、例えば、重合性不飽和基を導入したい場合、（イ）メルカプトアルコキシシランと、ポリイソシアネート化合物と、イソシアネート基と反応可能な活性水素基含有重合性不飽和化合物との付加反応により行うことができる。また、（ロ）分子中にアルコキシシリル基及びイソシアネート基を有する化合物と、活性水素基含有重合性不飽和化合物との直接的反応により行うことができる。さらに、（ハ）分子中に重合性不飽和基及びイソシアネート基を有する化合物と、メルカプトアルコキシシラン又はアミノシランとの付加反応により直接合成することもできる。
【００９０】
（ｉｉ）の反応性シリカ微粒子の製造においては、反応性官能基修飾加水分解性シランを別途加水分解操作を行った後、これとシリカ微粒子を混合し、加熱、攪拌操作を行う方法、もしくは反応性官能基修飾加水分解性シランの加水分解をシリカ微粒子の存在下に行う方法、また、他の成分、例えば、多価不飽和有機化合物、単価不飽和有機化合物、放射線重合開始剤等の存在下、シリカ微粒子の表面処理を行う方法を選ぶことができるが、反応性官能基修飾加水分解性シランの加水分解をシリカ微粒子の存在下行う方法が好ましい。（ｉｉ）の反応性シリカ微粒子を製造する際、その温度は、通常２０℃以上１５０℃以下であり、また処理時間は５分〜２４時間の範囲である。
【００９１】
加水分解反応を促進するため、触媒として酸、塩もしくは塩基を添加してもよい。酸としては有機酸及び不飽和有機酸；塩基としては３級アミン又は４級アンモニウムヒドロキシドが好適な物として挙げられる。これら酸もしくは塩基触媒の添加量は反応性官能基修飾加水分解性シランに対して０．００１〜１．０質量％、好ましくは０．０１〜０．１質量％である。
【００９２】
第一の反応性シリカ微粒子としては、分散媒を含有しない粉末状の微粒子を用いてもよいが、分散工程を省略でき、生産性が高い点から微粒子を溶剤分散ゾルとしたものを用いることが好ましい。
【００９３】
上記第一の反応性シリカ微粒子の市販品としては、日産化学工業（株）製のＭＩＢＫ−ＳＤ、ＭＩＢＫ−ＳＤＭＳ、ＭＩＢＫ−ＳＤＬ、ＭＩＢＫ−ＳＤＺＬ、日揮触媒化成（株）製のＤＰ１０２１、ＤＰ１０２２、ＤＰ１０３２、ＤＰ１０３７、ＤＰ１０４１、ＤＰ１０４２、ＤＰ１０４４等を挙げることができる。
【００９４】
本発明においては、第一の反応性シリカ微粒子が、平均１次粒径１〜１００ｎｍの球状のシリカ微粒子３〜２０個が無機の化学結合により結合し表面に反応性官能基ａを有する反応性異形シリカ微粒子であることが、ＨＣ層の硬度をさらに向上できるため好ましい。
【００９５】
以下、反応性異形シリカ微粒子について説明する。
反応性異形シリカ微粒子は、平均１次粒径１〜１００ｎｍの球状のシリカ微粒子の３〜２０個が無機の化学結合により結合して異形シリカ微粒子を形成し、その異形シリカ微粒子表面に反応性官能基ａを有する。
【００９６】
反応性異形シリカ微粒子を凝集粒子としてみた場合は、当該反応性異形シリカ微粒子と同程度の粒径の通常の凝集した反応性シリカ微粒子と比べると、その凝集粒子としての強度が高く、ＨＣ層においても硬度に優れる。
【００９７】
平均１次粒径１〜１００ｎｍの球状のシリカ微粒子の３〜２０個が無機の化学結合により結合している反応性異形シリカ微粒子の大きさ、すなわち長軸の長さは、適宜調節すればよく、２０〜３００ｎｍであることが好ましい。この範囲であればＨＣ層に硬度を付与しやすく且つＨＣ層の光透過性を維持しやすい。
【００９８】
なお、球状とは、真球に加え、回転楕円体や、多面体等をも含めた球体に近似できる形状も包含する概念である。
【００９９】
反応性異形シリカ微粒子の大きさは、第一の硬化性樹脂組成物においては、上記反応性シリカ微粒子と同様の方法で測定可能であり、第一のＨＣ層においては当該ハードコート層の断面をＳＥＭ写真又はＴＥＭ写真を用いて観察し、観察された硬化した異形シリカ微粒子を１００数え、アスペクト比１．３未満として観察される粒子の平均値を１次粒径とし、アスペクト比が最大値近傍の５点の平均を長軸長さとして求める。
【０１００】
本発明の異形シリカ微粒子は、前記シリカ微粒子の３〜２０個、好ましくは３〜１０個が無機の化学結合によって結合してなる。
前記シリカ微粒子が無機の化学結合によって結合した当該微粒子数が３〜２０個であれば、硬度向上の効果が得られる。
【０１０１】
上記無機の化学結合としては、例えば、イオン結合、金属結合、配位結合、及び共有結合が挙げられる。中でも、上記異形シリカ微粒子を極性溶剤中に添加しても、結合した微粒子が分散しない結合、具体的には、金属結合、配位結合、及び共有結合が好ましく、更に、共有結合が好ましい。共有結合のない従来の凝集体では、物理的な外力（例えば、インキの段階では攪拌におけるシェアー、ドクターナイフ等の塗布時に受けるシェアー）によって、凝集体が分離する恐れがある。化学的にも、凝集を崩す溶剤、バインダー成分、界面活性剤等の添加剤によって凝集体が分離する恐れがある。また、光学シートとなった場合にも、物理的な外力（尖ったもの等による接触）によって、凝集体が分離し、光学シートの傷となる恐れがあり、好ましくない。これに対して、共有結合であれば、物理的、化学的な力にによる分解が起こりにくく、安定している。
なお、極性溶剤としては、例えば、水、並びにメタノール、及びエタノール、イソプロパノール等の低級アルコール等が挙げられる。
【０１０２】
本発明の異形シリカ微粒子は、上記反応性シリカ微粒子が反応性官能基ａにより第一のバインダー成分を介して結合したものよりも硬度に優れ、当該異形シリカ微粒子を表面処理し、反応性官能基ａを有する反応性異形シリカ微粒子を用いることにより本発明に係る光学シートは優れた硬度を発揮する。
異形シリカ微粒子が反応性シリカ微粒子の反応性官能基ａにより３〜２０個結合したものよりも硬度に優れる理由は定かではないが、異形シリカ微粒子の無機の化学結合は、有機成分である反応性官能基同士による結合よりも剛性が高いためと推測される。
【０１０３】
異形シリカ微粒子の製造方法は、前記シリカ微粒子が無機の化学結合により結合したものが得られれば特に限定されず、従来公知の方法を適宜選択して用いることができる。例えば、単分散のシリカ微粒子分散液の濃度、あるいはｐＨを調節し、１００℃以上の高温で水熱処理することによって得ることができる。このとき、必要に応じてバインダー成分を添加してシリカ微粒子の結合を促進することもできる。また、使用されるシリカ微粒子分散液をイオン交換樹脂に通液することで、イオンを除去してもよい。このようなイオン交換処理によってシリカ微粒子の結合を促進することができる。水熱処理後、再度イオン交換処理を行ってもよい。
【０１０４】
異形シリカ微粒子の表面に反応性官能基ａを導入し、反応性異形シリカ微粒子とする方法は、上記反応性シリカ微粒子のシリカ微粒子に反応性官能基ａを導入する方法を用いることができる。
【０１０５】
第一の反応性シリカ微粒子として、上記反応性異形シリカ微粒子が含まれる場合、当該反応性異形シリカ微粒子の他に、平均１次粒径１〜１００ｎｍの球状の反応性シリカ微粒子が含まれていても良い。反応性異形シリカ微粒子及び上記球状の反応性シリカ微粒子が含まれる場合は、当該２種の反応性シリカ微粒子の合計量に対して、反応性異形シリカ微粒子が５０質量％以上含まれることが好ましく、８０質量％以上含まれることが硬度向上の点からより好ましい。また、反応性異形シリカ微粒子の反応性官能基ａと球状の反応性シリカ微粒子の反応性官能基ａは同じでも異なっていても良い。
【０１０６】
上記反応性異形シリカ微粒子の市販品としては、日揮触媒化成（株）製のＤＰ１０３９、ＤＰ１０４０、ＤＰ１０７１、ＤＰ１０７２、ＤＰ１０７３等を挙げることができる。
【０１０７】
（第一のバインダー成分）
第一の硬化性樹脂組成物に用いられる第一のバインダー成分は、反応性官能基ｂを有し、硬化する際に第一のバインダー成分同士で架橋し、第一のＨＣ層のマトリクスとなる成分である。また、反応性官能基ｂは、第一の反応性シリカ微粒子の反応性官能基ａ、及び後述する第二のバインダー成分の反応性官能基ｃと架橋反応性を有するため、これらの成分と架橋し、網目構造が形成され、第一のＨＣ層と第二のＨＣ層の密着性、及び光学シートの硬度を更に高める。
【０１０８】
反応性官能基ｂとしては、重合性不飽和基が好適に用いられ、好ましくは光硬化性不飽和基であり、特に好ましくは電離放射線硬化性不飽和基である。その具体例としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、アリル基等のエチレン性不飽和結合及びエポキシ基等が挙げられる。
【０１０９】
反応性官能基ｂは、他の反応性官能基ａ及びｃと同じであっても異なっていても良い。
【０１１０】
第一のバインダー成分としては、硬化性有機樹脂が好ましく、塗膜とした時に光が透過する透光性のものが好ましく、紫外線又は電子線で代表される電離放射線により硬化する樹脂である電離放射線硬化性樹脂、その他公知の硬化性樹脂などを要求性能などに応じて適宜採用すればよい。電離放射線硬化性樹脂としては、アクリレート系、オキセタン系、シリコーン系などが挙げられる。
【０１１１】
第一のバインダー成分として、１種又は２種以上のバインダー成分を用いることができる。
【０１１２】
第一のバインダー成分は、第一の硬化性樹脂組成物において、当該組成物の全成分に対して少なくとも上記第一の反応性シリカ微粒子との固形分の総和が３０質量％以上であれば、塗布性等を考慮して適宜量を調節して用いればよい。第一の硬化性樹脂組成物の全固形分から第一の反応性シリカ微粒子を除いたものに対して、２０〜９５質量％含まれることが硬化膜のマトリクスを形成する点から好ましい。
【０１１３】
第一のバインダー成分は、反応性官能基ｂを３つ以上有することが、架橋密度を高められる点から好ましい。
【０１１４】
反応性官能基ｂを３つ以上有するバインダー成分としては、例えば、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンヘキサ（メタ）アクリレート、及びこれらの変性体が挙げられる。
尚、変性体としては、ＥＯ（エチレンオキサイド）変性体、ＰＯ（プロピレンオキサイド）変性体、ＣＬ（カプロラクトン）変性体、及びイソシアヌル酸変性体等が挙げられる。
【０１１５】
第一のバインダー成分としては、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、及びジペンタエリスリトールペンタアクリレートが好ましく用いられ、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、及びジペンタエリスリトールペンタアクリレートが特に好ましく用いられる。
【０１１６】
このほか、第一のＨＣ層において、硬度を向上させる点から、第一のバインダー成分として、下記化学式（４）で表されるポリアルキレンオキシド鎖含有ポリマー（Ａ）と２つ以上の反応性官能基ｂを有する分子量が１０，０００未満の化合物（Ｂ）とを組み合わせて用いることが好ましい。
【０１１７】
【化３】
2010224150.tif 000005
化学式（４）において、Ｘは直鎖、分枝、又は環状の炭化水素鎖が単独又は組み合わされてなり、当該炭化水素鎖は置換基を有していても良く、また当該炭化水素鎖間には異種原子が含まれていても良い、前記置換基を除いた炭素数が３〜１０の３価以上の有機基である。ｋは３〜１０の整数を表す。Ｌ１〜Ｌｋはそれぞれ独立に、エーテル結合、エステル結合、及びウレタン結合よりなる群から選択される１種以上を含む２価の基、又は、直接結合である。Ｒ１〜Ｒｋはそれぞれ独立に、炭素数１〜４の直鎖又は分岐の炭化水素基である。ｎ１、ｎ２・・・ｎｋはそれぞれ独立の数である。Ｙ１〜Ｙｋはそれぞれ独立に、１つ以上の反応性官能基ｂを有する化合物残基を示す。
【０１１８】
前記ポリマー（Ａ）、及び化合物（Ｂ）が他の反応性官能基を有する反応性シリカ微粒子や第一のバインダー成分と架橋結合を形成するため、光学シートに硬度を付与することができると推測される。
【０１１９】
（化学式（４）で表されるポリアルキレンオキシド鎖含有ポリマー（Ａ））
前記ポリアルキレンオキシド鎖含有ポリマー（Ａ）は、下記化学式（４）で表され、末端に３つ以上の反応性官能基ｂを有する分子量が１０００以上のポリアルキレンオキシド鎖含有ポリマーである。
【０１２０】
【化４】
2010224150.tif 000006
化学式（４）において、Ｘは直鎖、分枝、又は環状の炭化水素鎖が単独又は組み合わされてなり、当該炭化水素鎖は置換基を有していても良く、また当該炭化水素鎖間には異種原子が含まれていても良い、前記置換基を除いた炭素数が３〜１０の３価以上の有機基である。ｋは３〜１０の整数を表す。Ｌ１〜Ｌｋはそれぞれ独立に、エーテル結合、エステル結合、及びウレタン結合よりなる群から選択される１種以上を含む２価の基、又は、直接結合である。Ｒ１〜Ｒｋはそれぞれ独立に、炭素数１〜４の直鎖又は分岐の炭化水素基である。ｎ１、ｎ２・・・ｎｋはそれぞれ独立の数である。Ｙ１〜Ｙｋはそれぞれ独立に、１つ以上の反応性官能基ｂを有する化合物残基を示す。
【０１２１】
化学式（４）において、Ｘは直鎖、分枝、又は環状の炭化水素鎖が単独又は組み合わされてなり、当該炭化水素鎖は置換基を有していても良く、また当該炭化水素鎖間には異種原子が含まれていても良く、前記置換基を除いた炭素数が３〜１０の３価以上の有機基である。化学式（４）で表されるポリアルキレンオキシド鎖含有ポリマー（Ａ）において、Ｘは、線状側鎖であるポリアルキレンオキシド鎖（Ｏ−Ｒｋ）ｎｋ部分が出ている分岐点をｋ個有する短い主鎖に該当する。
【０１２２】
上記炭化水素鎖は、−ＣＨ２−のような飽和炭化水素又は−ＣＨ＝ＣＨ−のような不飽和炭化水素を含むものである。環状の炭化水素鎖は、脂環式化合物からなるものであっても良いし、芳香族化合物からなるものであっても良い。また、炭化水素鎖間にはＯ、Ｓ等の異種原子が含まれていても良く、炭化水素鎖間にエーテル結合、チオエーテル結合、エステル結合、ウレタン結合等を含んでいても良い。なお、直鎖や環状の炭化水素鎖に対して異種原子を介して分岐している炭化水素鎖は、後述する置換基の炭素数として数えられる。
【０１２３】
上記炭化水素鎖に有していても良い置換基としては、具体的にはハロゲン原子、水酸基、カルボキシル基、アミノ基、エポキシ基、イソシアネート基、メルカプト基、シアノ基、シリル基、シラノール基、ニトロ基、アセチル基、アセトキシ基、スルホン基等が挙げられるが特に限定されない。上記炭化水素鎖に有していても良い置換基には、上述のように直鎖や環状の炭化水素鎖に対して異種原子を介して分岐している炭化水素鎖も含まれ、例えば、アルコキシ基（ＲＯ−、ここでＲは飽和又は不飽和の直鎖、分枝、又は環状の炭化水素鎖である。）、アルキルチオエーテル基（ＲＳ−、ここでＲは飽和又は不飽和の直鎖、分枝、又は環状の炭化水素鎖である。）、アルキルエステル基（ＲＣＯＯ−、ここでＲは飽和又は不飽和の直鎖、分枝、又は環状の炭化水素鎖である。）等が挙げられる。
【０１２４】
Ｘは、前記置換基を除いた炭素数が３〜１０の３価以上の有機基である。Ｘの前記置換基を除いた炭素数が３未満であると、線状側鎖であるポリアルキレンオキシド鎖（Ｏ−Ｒｋ）ｎｋ部分を３個以上有することが困難となる。一方、Ｘの前記置換基を除いた炭素数が１０を超えると、柔軟な部分が増え硬化膜の硬度が低下し、好ましくない。上記置換基を除いた炭素数の炭素数は、好ましくは３〜７であり、更に好ましくは３〜５である。
【０１２５】
Ｘとしては、上記条件を満たせば特に限定されない。例えば、下記構造を有するものが挙げられる。
【０１２６】
【化５】
2010224150.tif 000007
【０１２７】
中でも、好適な構造としては、上記構造（ｘ−１）、（ｘ−２）、（ｘ−３）、（ｘ−７）等が挙げられる。
【０１２８】
Ｘの原料としては、中でも、１，２，３−プロパントリオール（グリセロール）、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール等、水酸基を分子中に３個以上有する炭素数が３〜１０の多価アルコール類や、カルボキシル基を分子中に３個以上有する炭素数が３〜１０の多価カルボン酸類や、アミノ基を分子中に３個以上有する炭素数が３〜１０の多価アミン酸類等が好適に用いられる。
【０１２９】
化学式（４）において、上記ｋは、分子中に有するポリアルキレンオキシド鎖（Ｏ−Ｒｋ）ｎｋの数を表し、３〜１０の整数を表す。ｋが３未満、すなわちポリアルキレンオキシド鎖が２つでは、十分な硬度が得られない。またｋが１０を超えると、柔軟な部分が増え硬化膜の硬度が低下し好ましくない。上記ｋは、好ましくは３〜７であり、更に好ましくは３〜５である。
【０１３０】
化学式（４）において、上記Ｌ１〜Ｌｋはそれぞれ独立に、エーテル結合、エステル結合、及びウレタン結合よりなる群から選択される１種以上を含む２価の基、又は、直接結合である。エーテル結合、エステル結合、及びウレタン結合よりなる群から選択される１種以上を含む２価の基とは、エーテル結合（−Ｏ−）、エステル結合（−ＣＯＯ−）、ウレタン結合（−ＮＨＣＯＯ−）そのものであっても良い。これらの結合は分子鎖が広がりやすく自由度が高いため、他の樹脂成分との相溶性を実現しやすい。
【０１３１】
エーテル結合、エステル結合、及びウレタン結合よりなる群から選択される１種以上を含む２価の基としては、例えば、−Ｏ−Ｒ−Ｏ−、−Ｏ（Ｃ＝Ｏ）−Ｒ−Ｏ−、−Ｏ（Ｃ＝Ｏ）−Ｒ−（Ｃ＝Ｏ）Ｏ−、−（Ｃ＝Ｏ）Ｏ−Ｒ−Ｏ−、−（Ｃ＝Ｏ）Ｏ−Ｒ−（Ｃ＝Ｏ）Ｏ−、−（Ｃ＝Ｏ）Ｏ−Ｒ−Ｏ（Ｃ＝Ｏ）−、−ＮＨＣＯＯ−Ｒ−Ｏ−、−ＮＨＣＯＯ−Ｒ−Ｏ（Ｃ＝Ｏ）ＮＨ−、−Ｏ（Ｃ＝Ｏ）ＮＨ−Ｒ−Ｏ−、−Ｏ（Ｃ＝Ｏ）ＮＨ−Ｒ−Ｏ（Ｃ＝Ｏ）ＮＨ−、−ＮＨＣＯＯ−Ｒ−Ｏ（Ｃ＝Ｏ）ＮＨ−、−ＮＨＣＯＯ−Ｒ−（Ｃ＝Ｏ）Ｏ−、−Ｏ（Ｃ＝Ｏ）ＮＨ−Ｒ−（Ｃ＝Ｏ）Ｏ−、−ＮＨＣＯＯ−Ｒ−Ｏ（Ｃ＝Ｏ）−、−Ｏ（Ｃ＝Ｏ）ＮＨ−Ｒ−Ｏ（Ｃ＝Ｏ）−等が挙げられる。ここでＲは、飽和又は不飽和の、直鎖、分枝、又は環状の炭化水素鎖を示す。
【０１３２】
上記２価の基の具体例としては、例えば、（ポリ）エチレングリコール、（ポリ）プロピレングリコール等のジオールや、フマル酸、マレイン酸、コハク酸等のジカルボン酸、トリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソボロンジイソシアネート等のジイソシアネート等の活性水素を除いた残基が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【０１３３】
化学式（４）において、（Ｏ−Ｒｋ）ｎｋは、アルキレンオキシドが繰り返し単位の線状側鎖であるポリアルキレンオキシド鎖である。ここでＲ１〜Ｒｋはそれぞれ独立に、炭素数１〜４の直鎖又は分岐の炭化水素基である。アルキレンオキシドとしては、メチレンオキシド、エチレンオキシド、プロピレンオキシド、イソブチレンオキシド等が挙げられるが、炭素数２〜３の直鎖又は分岐の炭化水素基であるエチレンオキシド、プロピレンオキシドが好適に用いられる。
【０１３４】
アルキレンオキシドＲｋ−Ｏの繰り返し単位数であるｎ１、ｎ２・・・ｎｋはそれぞれ独立の数である。ｎ１、ｎ２・・・ｎｋは、分子全体として重量平均分子量が１０００以上であることを満たせば特に限定されない。ｎ１、ｎ２・・・ｎｋは、それぞれ異なっていても良いが、鎖長がほぼ同様であることがハードコート層を形成した際の硬度を維持しつつクラックを抑制する点から好ましい。従って、ｎ１、ｎ２・・・ｎｋの差はそれぞれ０〜１００程度、更に０〜５０程度、特に０〜１０程度であることが好ましい。
ＨＣ層を形成した際の硬度を維持しつつクラックを抑制する点から、ｎ１、ｎ２・・・ｎｋはそれぞれ２〜５００の数であることが好ましく、更に２〜３００の数であることが好ましい。
【０１３５】
Ｙ１〜Ｙｋはそれぞれ独立に、反応性官能基ｂ、又は、１つ以上の反応性官能基ｂを有する化合物残基を示す。これにより、当該ポリアルキレンオキシド鎖含有ポリマーの末端に３つ以上の反応性官能基ｂがもたらされる。
Ｙ１〜Ｙｋが反応性官能基ｂそのものである場合、Ｙ１〜Ｙｋとしては例えば、（メタ）アクリロイル基、ビニル基（ＣＨ２＝ＣＨ−）等の重合性不飽和基が挙げられる。
【０１３６】
また、Ｙ１〜Ｙｋが１つ以上の反応性官能基ｂを有する化合物残基の場合の反応性官能基ｂとしては、例えば、（メタ）アクリロイルオキシ基ｂＨ２＝ＣＲ−（ここでＲは炭化水素基）等の重合性不飽和基が挙げられる。反応性シリカ微粒子や後述する化合物（Ｂ）と反応可能なように、適宜反応性官能基ｂを選択すれば、化合物残基としては特に限定されない。Ｙ１〜Ｙｋが化合物残基の場合、当該Ｙ１〜Ｙｋが有する反応性官能基ｂの数は、１つでも良いが、２つ以上であることが更に架橋密度を上げることができ、ハードコート層とした際の耐擦傷性及び硬度の点から好ましい。
【０１３７】
Ｙ１〜Ｙｋが１つ以上の反応性官能基ｂを有する化合物残基である場合、当該化合物残基は、少なくとも１つ以上の反応性官能基ｂと当該反応性官能基ｂとは別に更に反応性置換基を有する化合物から、当該反応性置換基又は当該反応性置換基の一部（水素等）を除いた残基である。
例えば、エチレン性不飽和基を有する化合物残基としては、具体的には例えば、以下の化合物のエチレン性不飽和基以外の反応性置換基又は反応性置換基の一部（水素等）を除いた残基が挙げられる。例えば、（メタ）アクリル酸、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートなどが挙げられるがこれらに限定されるものではない。
【０１３８】
また、本発明に用いられるポリアルキレンオキシド鎖含有ポリマー（Ａ）の分子量は、硬化膜に柔軟性を与え、クラックを防止する点から、１０００以上であり、更に好ましくは５０００以上、特に好ましくは１００００以上である。
【０１３９】
上記化学式（４）で表されるポリアルキレンオキシド鎖含有ポリマー（Ａ）を含有する市販品としては、例えば、商品名ダイヤビームＵＫ−４１５３（三菱レイヨン製；化学式（４）において、Ｘが（ｘ−７）、ｋは３、Ｌ１〜Ｌ３はそれぞれ直接結合、Ｒ１〜Ｒ３はそれぞれエチレンであり、ｎ１、ｎ２、ｎ３の合計が２０、Ｙ１〜Ｙ３はそれぞれアクリロイルオキシ基である。）等が挙げられる。
【０１４０】
前記ポリマー（Ａ）の含有量は、後述する化合物（Ｂ）１００質量部に対して５〜１００質量部であることが好ましく、１０〜５０質量部であることが更に好ましい。前記ポリマー（Ａ）の含有量は、後述する化合物（Ｂ）１００質量部に対して５質量部以上であれば、硬化膜に柔軟性と復元性を付与でき、１００質量部以下であれば、硬化膜の硬さを維持できる。
【０１４１】
（２つ以上の反応性官能基ｂを有する分子量が１０，０００未満の化合物（Ｂ））
２つ以上の反応性官能基ｂを有する分子量が１０，０００未満の化合物（Ｂ）は、第一の反応性シリカ微粒子と相俟って、第一のＨＣ層の硬度を向上させ、硬度を付与するものである。なお、上記ポリマー（Ａ）の構造を有するものは、２つ以上の反応性官能基ｂを有する分子量が１０，０００未満の化合物（Ｂ）から除かれる。
当該化合物（Ｂ）としては、１種単独で用いても良く、２種以上を適宜混合して用いても良い。
２つ以上の反応性官能基ｂを有する分子量が１００００未満の化合物（Ｂ）は、１分子中に含まれる反応性官能基ｂが３個以上であることが、硬化膜の架橋密度をあげて、硬度を付与する点から好ましい。ここで化合物（Ｂ）が分子量分布を有するオリゴマーの場合、反応性官能基ｂ数は、平均の個数で表される。
また、化合物（Ｂ）の分子量は、硬度向上の点から、５，０００未満であることが好ましい。
【０１４２】
以下に具体例を挙げるが、本発明に用いられる化合物（Ｂ）は、これらに限定されるものではない。
重合性不飽和基を有する具体例として、重合性不飽和基を１分子内に２つ以上有する多官能（メタ）アクリレート系モノマーとしては、例えば、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキサイド変性ジ（メタ）アクリレート等の２官能すなわち反応性官能基が２つの（メタ）アクリレート化合物；トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、及びそのＥＯ、ＰＯ、エピクロルヒドリン変性品、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、グリセロールトリ（メタ）アクリレート、及びそのＥＯ、ＰＯ、エピクロルヒドリン変性品、イソシアヌール酸ＥＯ変性トリ（メタ）アクリレート（東亞合成製アロニックスＭ−３１５等）、トリス（メタ）アクリロイルオキシエチルフォスフェート、フタル酸水素−（２，２，２−トリ−（メタ）アクリロイルオキシメチル）エチル、グリセロールトリ（メタ）アクリレート、及びそのＥＯ、ＰＯ、エピクロルヒドリン変性品等の３官能（メタ）アクリレート化合物；ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、及びそのＥＯ、ＰＯ、エピクロルヒドリン変性品、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート等の４官能（メタ）アクリレート化合物；ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、及びそのＥＯ、ＰＯ、エピクロルヒドリン、脂肪酸、アルキル、ウレタン変性品等の５官能（メタ）アクリレート化合物；ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、及びそのＥＯ、ＰＯ、エピクロルヒドリン、脂肪酸、アルキル、ウレタン変性品、ソルビトールヘキサ（メタ）アクリレート、及びそのＥＯ、ＰＯ、エピクロルヒドリン、脂肪酸、アルキル、ウレタン変性品等の６官能（メタ）アクリレート化合物が挙げられる。
【０１４３】
３官能以上のアクリレート樹脂としては、市販品を使用することができ、具体的には、日本化薬（株）製のＫＡＹＡＲＡＤ、ＫＡＹＡＭＥＲシリーズ（例えば、ＤＰＨＡ、ＰＥＴ３０、ＧＰＯ３０３、ＴＭＰＴＡ、ＴＨＥ３３０、ＴＰＡ３３０、Ｄ３１０、Ｄ３３０、ＰＭ２、ＰＭ２１、ＤＰＣＡ２０、ＤＰＣＡ３０、ＤＰＣＡ６０、ＤＰＣＡ１２０）；東亞合成（株）製のアロニックスシリーズ（例えば、Ｍ３０５、Ｍ３０９、Ｍ３１０、Ｍ３１５、Ｍ３２０、Ｍ３２７、Ｍ３５０、Ｍ３６０、Ｍ４０２、Ｍ４０８、Ｍ４５０、Ｍ７１００、Ｍ７３００Ｋ、Ｍ８０３０、Ｍ８０６０、Ｍ８１００、Ｍ８５３０、Ｍ８５６０、Ｍ９０５０）；新中村化学工業（株）製のＮＫエステルシリーズ（例えば、ＴＭＰＴ、Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−ＴＭＭ−３、Ａ−ＴＭＭ３Ｌ、Ａ−ＴＭＭＴ、Ａ−ＴＭＰＴ−６ＥＯ、Ａ−ＴＭＰＴ−３ＣＬ、Ａ−ＧＬＹ−３Ｅ、Ａ−ＧＬＹ−６Ｅ、Ａ−ＧＬＹ−９Ｅ、Ａ−ＧＬＹ−１１Ｅ、Ａ−ＧＬＹ−１８Ｅ、Ａ−ＧＬＹ−２０Ｅ、Ａ−９３００、ＡＤ−ＴＭＰ−４ＣＬ、ＡＤ−ＴＭＰ）；新中村化学工業（株）製のＮＫエコノマーシリーズ（例えば、ＡＤＰ５１、ＡＤＰ３３、ＡＤＰ４２、ＡＤＰ２６、ＡＤＰ１５）；第一工業製薬（株）製のニューフロンティアシリーズ（例えば、ＴＭＰＴ、ＴＭＰ３、ＴＭＰ１５、ＴＭＰ２Ｐ、ＴＭＰ３Ｐ、ＰＥＴ３、ＴＥＩＣＡ）；ダイセル・ユーシービー（株）製のＥｂｅｃｒｙｌシリーズ、（例えば、ＴＭＰＴＡ、ＴＭＰＴＡＮ、１６０、ＴＭＰＥＯＴＡ、ＯＴＡ４８０、５３、ＰＥＴＩＡ、２０４７、４０、１４０、１１４０、ＰＥＴＡＫ、ＤＰＨＡ）；ＳＡＲＴＯＭＥＲ社製のＣＤ５０１、ＣＤ９０２１、ＣＤ９０５２、ＳＲ３５１、ＳＲ３５１ＨＰ、ＳＲ３５１ＬＶ、ＳＲ３６８、ＳＲ３６８Ｄ、ＳＲ４１５、ＳＲ４４４、ＳＲ４５４、ＳＲ４５４ＨＰ、ＳＲ４９２、ＳＲ４９９、ＳＲ５０２、ＳＲ９００８、ＳＲ９０１２、ＳＲ９０２０、ＳＲ９０２０ＨＰ、ＳＲ９０３５、ＣＤ９０５１、ＳＲ３５０、ＳＲ９００９、ＳＥ９０１１、ＳＲ２９５、ＳＲ３５５、ＳＲ３９９、ＳＲ３９９ＬＶ、ＳＲ４９４、ＳＲ９０４１等が挙げられる。
【０１４４】
（メタ）アクリレート系オリゴマー（乃至プレポリマー）としては、例えば、グリシジルエーテルと（メタ）アクリル酸若しくはカルボン酸塩基を持つモノマーとの付加反応によって得られるエポキシ（メタ）アクリレート類；ポリオールとポリイソシアネートとの反応物と水酸基を含有する（メタ）アクリレートとの付加反応によって得られるウレタン（メタ）アクリレート類；ポリオールと多塩基酸から成るポリエステルポリオールと、（メタ）アクリル酸とのエステル化によって得られるポリエステルアクリレート類；ポリブタジエン又は水添ポリブタジエン骨格を有する（メタ）アクリル化合物であるポリブタジエン（メタ）アクリレート等が挙げられる。本発明における必須成分が有する反応性官能基ｂが重合性不飽和基の場合、中でもウレタン（メタ）アクリレートは、硬化膜に硬度と柔軟性を与える点から、好適に用いられる。
【０１４５】
上記エポキシ（メタ）アクリレート類に用いられるグリシジルエーテルとしては、例えば、１，６−ヘキサンジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールグリシジルエーテル、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ナフタレン系エポキシ樹脂、カルドエポキシ樹脂、グリセロールトリグリシジルエーテル、フェノールノボラック型エポキシ樹脂等が挙げられる。
また、上記ウレタン（メタ）アクリレート類に用いられるポリオールとしては、例えば、１，６−ヘキサンジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、ポリカプロラクトンジオール、ポリカーボネートジオール、ポリブタジエンポリオール、ポリエステルジオール等が挙げられる。上記ウレタン（メタ）アクリレート類に用いられるポリイソシアネートとしては、トリレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ジフエニルメタンジイソシアネート、テトラメチルキシレンジイソシアネート、ヘキサメレチンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート等が挙げられる。上記ウレタン（メタ）アクリレート類に用いられる水酸基を含有する（メタ）アクリレートとしては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトール（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
また、上記ポリエステルアクリレート類に用いられるポリエステルポリオールを形成するためのポリオールとしては、例えばエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、１，４−ブタンジオール、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール等が挙げられ、多塩基酸としては、例えばコハク酸、アジピン酸、セバシン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、トリメリット酸、ピロメリット酸等が挙げられる。
【０１４６】
また、本発明に用いられる化合物（Ｂ）としては、分子量が１００００未満である下記化学式（５）で表される重合体も用いることができる。
【０１４７】
【化６】
2010224150.tif 000008
化学式（５）中、Ｄは炭素数１〜１０の連結基を表し、ｑは０又は１を表す。Ｒは水素原子又はメチル基を表す。Ｅは任意のビニルモノマーの重合単位を表し、単一成分であっても複数の成分で構成されていてもよい。ｏ、ｐは各重合単位のモル％である。ｐは０であっても良い。
【０１４８】
化学式（５）中のＤは炭素数１〜１０の連結基を表し、より好ましくは炭素数１〜６の連結基であり、特に好ましくは２〜４の連結基であり、直鎖であっても分岐構造を有していてもよく、環構造を有していてもよく、Ｏ、Ｎ、Ｓから選ばれるヘテロ原子を有していても良い。
【０１４９】
化学式（５）中の連結基Ｄの好ましい例としては、＊−（ＣＨ２）２−Ｏ−＊＊，＊−（ＣＨ２）２−ＮＨ−＊＊、＊−（ＣＨ２）４−Ｏ−＊＊、＊−（ＣＨ２）６−Ｏ−＊＊、＊−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ）２−Ｏ−＊＊、＊−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３−Ｏ−＊＊、＊−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２−Ｏ−＊＊、＊−ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＯＮＨ（ＣＨ２）３−Ｏ−＊＊等が挙げられる。ここで、＊は、ポリマー主鎖側の連結部位を表し、＊＊は、（メタ）アクリロイル基側の連結部位を表す。
【０１５０】
化学式（５）中、Ｒは水素原子又はメチル基を表すが、硬化反応性の観点から、より好ましくは水素原子である。
【０１５１】
化学式（５）においてｏは１００モル％、すなわち単独の重合体であっても良い。また、ｏが１００モル％であっても、ｏモル％で表された（メタ）アクリロイル基を含有する重合単位が２種以上混合して用いられた共重合体であってもよい。ｏとｐの比は、特に制限はなく、硬度や、溶剤への溶解性、光透過性等種々の観点から適宜選択することができる。
【０１５２】
化学式（５）中、Ｅは任意のビニルモノマーの重合単位を表し、特に制限はなく、硬度や、溶剤への溶解性、光透過性等種々の観点から適宜選択することができ、目的に応じて単一あるいは複数のビニルモノマーによって構成されていても良い。
【０１５３】
例えば、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、ｔ−ブチルビニルエーテル、シクロへキシルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、グリシジルビニルエーテル、アリルビニルエーテル等のビニルエーテル類、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル等のビニルエステル類、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、グリシジルメタアクリレート、アリル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン等の（メタ）アクリレート類、スチレン、ｐ−ヒドロキシメチルスチレン等のスチレン誘導体、クロトン酸、マレイン酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸及びその誘導体等を挙げることができる。
【０１５４】
また、重量平均分子量が１００００未満である、末端や側鎖にエチレン性不飽和結合を有する反応性オリゴマーも用いることができる。当該反応性オリゴマーとしては、骨格成分がポリ（メタ）アクリル酸メチル、ポリスチレン、ポリ（メタ）アクリル酸ブチル、ポリ（アクリロニトリル／スチレン）、ポリ（（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシメチル／（メタ）アクリル酸メチル）、ポリ（（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシメチル／（メタ）アクリル酸ブチル）、及び、これらの樹脂とシリコーン樹脂との共重合体等が挙げられる。
【０１５５】
以上の化合物については市販品を用いることができる。重量平均分子量が１００００未満であり、且つ、２以上の重合性不飽和基を有するウレタンアクリレートとしては、共栄社化学（株）製  商品名ＡＨ−６００、ＡＴ−６００、ＵＡ−３０６Ｈ、ＵＡ−３０６Ｔ、ＵＡ−３０６Ｉ等が挙げられる。前記ポリマー（Ａ）との組み合わせにおいて好適に用いられるウレタン（メタ）アクリレートとしては、イソホロンジイソシアネートの単量体又は多量体とペンタエリスリトール多官能アクリレートとジペンタエリスリトール多官能アクリレートとを反応して得られるウレタン（メタ）アクリレートが挙げられる。当該ウレタン（メタ）アクリレートの市販品としては、例えば、商品名ＵＶ−１７００Ｂ（日本合成化学工業（株）製）が挙げられる。
【０１５６】
ウレタン（メタ）アクリレート樹脂は市販品を使用することができ、具体的には、日本合成化学工業（株）製の紫光シリーズ、例えば、ＵＶ１７００Ｂ、ＵＶ６３００Ｂ、ＵＶ７６５Ｂ、ＵＶ７６４０Ｂ、ＵＶ７６００Ｂ等が挙げられ；根上工業（株）製のアートレジンシリーズ、例えば、アートレジンＨＤＰ、アートレジンＵＮ９０００Ｈ、アートレジンＵＮ３３２０ＨＡ、アートレジンＵＮ３３２０ＨＢ、アートレジンＵＮ３３２０ＨＣ、アートレジンＵＮ３３２０ＨＳ、アートレジンＵＮ９０１Ｍ、アートレジンＵＮ９０２ＭＳ、アートレジンＵＮ９０３等が挙げられ；新中村化学工業（株）製のＵＡ１００Ｈ、Ｕ４Ｈ、Ｕ６Ｈ、Ｕ１５ＨＡ、ＵＡ３２Ｐ、Ｕ６ＬＰＡ、Ｕ３２４Ａ、Ｕ９ＨＡＭＩ等が挙げられ；ダイセル・ユーシービー（株）製のＥｂｅｃｒｙｌシリーズ、例えば、１２９０、５１２９、２５４、２６４、２６５、１２５９、１２６４、  ４８６６、９２６０、８２１０、２０４、２０５、６６０２、２２０、４４５０等が挙げられ；荒川化学工業（株）製のビームセットシリーズ、例えば、５７７、５７７ＢＶ、５７７ＡＫ等が挙げられ；三菱レイヨン（株）製のＲＱシリーズが挙げられ；ＤＩＣ（株）製のユニディックシリーズ等が挙げられ；ＤＰＨＡ４０Ｈ（日本化薬（株）製）、ＣＮ９００６、ＣＮ９６８（ＳＡＲＴＯＭＥＲ社製）等が挙げられる。この中でも、好ましくは、ＵＶ１７００Ｂ（日本合成化学工業（株）製）、ＤＰＨＡ４０Ｈ（日本化薬（株）製）、アートレジンＨＤＰ（根上工業（株）製）、ビームセット５７７（荒川化学工業（株）製）、Ｕ１５ＨＡ（新中村化学工業（株）製）等が挙げられる。
【０１５７】
また、重量平均分子量が１００００未満であり、且つ、２以上の重合性不飽和基を有するエポキシアクリレートとしては、昭和高分子（株）製  商品名ＳＰシリーズ（ＳＰ−４０６０、１４５０等）、ＶＲシリーズ（ＶＲ−６０、１９５０；ＶＲ−９０、１１００等）等；日本合成化学工業（株）製  商品名ＵＶ−９１００Ｂ、ＵＶ−９１７０Ｂ等；新中村化学工業（株）製  商品名ＥＡ−６３２０／ＰＧＭＡｃ、ＥＡ−６３４０／ＰＧＭＡｃ等が挙げられる。
【０１５８】
また、重量平均分子量が１００００未満であり、且つ、２以上の重合性不飽和基を有する反応性オリゴマーとしては、東亞合成（株）製  商品名マクロモノマーシリーズ  ＡＡ−６、ＡＳ−６、ＡＢ−６、ＡＡ−７１４ＳＫ等が挙げられる。
【０１５９】
ハードコート層のカール性及びクラック性を考慮して、前記化学式（５）と同様の繰り返し単位からなり、分子量が１００００以上１０００００未満のものも、バインダー成分として用いても良い。
分子量が１００００以上１０００００未満のバインダー成分の例としては、荒川化学工業（株）製のＢＳ３７１、ＢＳ３７１ＭＬＶ，ＤＫ１、ＤＫ２、ＤＫ３などが挙げられる。
【０１６０】
（第一の硬化性樹脂組成物のその他の成分）
第一の硬化性樹脂組成物は、第二の硬化性樹脂組成物との組成物全体の混合を防ぐため当該組成物の全成分に対して固形分の総和が３０質量％以上であるが、この範囲であれば第一の硬化性樹脂組成物に上記成分のほかに、更に溶剤、重合開始剤、帯電防止剤、防眩剤等を適宜加えることもできる。更に、反応性又は非反応性レベリング剤、各種増感剤等の各種添加剤が混合されていても良い。帯電防止剤及び／又は防眩剤を含む場合には、第一のＨＣ層に、更に帯電防止性及び／又は防眩性を付与できる。
【０１６１】
（第一の硬化性樹脂組成物の溶剤）
溶剤は、第一の硬化性樹脂組成物の全成分に対する少なくとも第一の反応性シリカ微粒子及び第一のバインダー成分を含む固形分の総和が３０質量％以上となれば特に制限なく、適宜選択して用いることができる。
【０１６２】
溶剤の具体例としては、メタノール、エタノール、ノルマルプロパノール、イソプロパノール（ＩＰＡ）、ノルマルブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、イソブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、メチルグリコール、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）、メチルグリコールアセテート、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ等のアルコール類；アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール等のケトン類；蟻酸メチル、酢酸メチル、酢酸エチル、乳酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類；ニトロメタン、Ｎ―メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の含窒素化合物；ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジオキソラン等のエーテル類；塩化メチレン、クロロホルム、トリクロロエタン、テトラクロルエタン等のハロゲン化炭化水素；ジメチルスルホキシド、炭酸プロピレン等のその他の物；又はこれらの混合物が挙げられる。
【０１６３】
光学シートの硬度を向上できる点から、ＭＩＢＫ、ＰＧＭＥ、ノルマルプロパノール、イソプロパノール、ノルマルブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、イソブタノール、及びｔｅｒｔ−ブタノールよりなる群から選ばれる１種以上の非浸透性溶剤であることが好ましい。非浸透性溶剤を用いることにより、上記第一のバインダー成分が光透過性樹脂基材に浸透しなくなるため、第一のＨＣ層の硬度を高めることができる。
なお、本発明において、浸透とは、光透過性樹脂基材を溶解又は膨潤させることをいう。
【０１６４】
第一の硬化性樹脂組成物の溶剤は、低沸点又は高揮発性であることが溶剤の揮発により塗布直後の硬化性樹脂組成物の粘度を高め、第一及び第二の硬化性樹脂組成物全体の混合をより抑えることができ、塗工スジの発生を抑え、機能分離を確実に行えるため好ましい。
このような溶剤としては、沸点が１２０℃以下の溶剤が好ましく、例えば、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、酢酸イソブチル、トルエン、酢酸エチル等が挙げられる。
【０１６５】
（重合開始剤）
上記ラジカル重合性官能基やカチオン重合性官能基の反応を開始又は促進させるために、必要に応じてラジカル重合開始剤、カチオン重合開始剤、ラジカル及びカチオン重合開始剤等を適宜選択して用いても良い。これらの重合開始剤は、光照射及び／又は加熱により分解されて、ラジカルもしくはカチオンを発生してラジカル重合とカチオン重合を進行させるものである。
【０１６６】
ラジカル重合開始剤は、光照射及び／又は加熱によりラジカル重合を開始させる物質を放出することが可能であれば良い。例えば、光ラジカル重合開始剤としては、イミダゾール誘導体、ビスイミダゾール誘導体、Ｎ−アリールグリシン誘導体、有機アジド化合物、チタノセン類、アルミナート錯体、有機過酸化物、Ｎ−アルコキシピリジニウム塩、チオキサントン誘導体等が挙げられ、更に具体的には、１，３−ジ（ｔｅｒｔ−ブチルジオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラキス（ｔｅｒｔ−ブチルジオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３−フェニル−５−イソオキサゾロン、２−メルカプトベンズイミダゾール、ビス（２，４，５−トリフェニル）イミダゾール、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン（商品名イルガキュア６５１、チバ・ジャパン（株）製）、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン（商品名イルガキュア１８４、チバ・ジャパン（株）製）、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン（商品名イルガキュア３６９、チバ・ジャパン（株）製）、ビス（η５−２，４−シクロペンタジエン−１−イル）−ビス（２，６−ジフルオロ−３−（１Ｈ−ピロール−１−イル）−フェニル）チタニウム）（商品名イルガキュア７８４、チバ・ジャパン（株）製）等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【０１６７】
上記以外にも、市販品が使用でき、具体的には、チバ・ジャパン（株）製のイルガキュア９０７、イルガキュア３７９、イルガキュア８１９、イルガキュア１２７、イルガキュア５００、イルガキュア７５４、イルガキュア２５０、イルガキュア１８００、イルガキュア１８７０、イルガキュアＯＸＥ０１、ＤＡＲＯＣＵＲ  ＴＰＯ、ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３、日本シイベルヘグナー（株）製のＳｐｅｅｄｃｕｒｅＭＢＢ、ＳｐｅｅｄｃｕｒｅＰＢＺ、ＳｐｅｅｄｃｕｒｅＩＴＸ、ＳｐｅｅｄｃｕｒｅＣＴＸ、ＳｐｅｅｄｃｕｒｅＥＤＢ、Ｅｓａｃｕｒｅ  ＯＮＥ、Ｅｓａｃｕｒｅ  ＫＩＰ１５０、Ｅｓａｃｕｒｅ  ＫＴＯ４６、日本化薬（株）製のＫＡＹＡＣＵＲＥ  ＤＥＴＸ−Ｓ、ＫＡＹＡＣＵＲＥ  ＣＴＸ、ＫＡＹＡＣＵＲＥ  ＢＭＳ、ＫＡＹＡＣＵＲＥ  ＤＭＢＩ等が挙げられる。
【０１６８】
また、カチオン重合開始剤は、光照射及び／又は加熱によりカチオン重合を開始させる物質を放出することが可能であれば良い。カチオン重合開始剤としては、スルホン酸エステル、イミドスルホネート、ジアルキル−４−ヒドロキシスルホニウム塩、アリールスルホン酸−ｐ−ニトロベンジルエステル、シラノール−アルミニウム錯体、（η６−ベンゼン）（η５−シクロペンタジエニル）鉄（ＩＩ）等が例示され、さらに具体的には、ベンゾイントシレート、２，５−ジニトロベンジルトシレート、Ｎ−トシフタル酸イミド等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【０１６９】
ラジカル重合開始剤としても、カチオン重合開始剤としても用いられるものとしては、芳香族ヨードニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族ホスホニウム塩、トリアジン化合物、鉄アレーン錯体等が例示され、更に具体的には、ジフェニルヨードニウム、ジトリルヨードニウム、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウム、ビス（ｐ−クロロフェニル）ヨードニウム等のヨードニウムのクロリド、ブロミド、ホウフッ化塩、ヘキサフルオロホスフェート塩、ヘキサフルオロアンチモネート塩等のヨードニウム塩、トリフェニルスルホニウム、４−ｔｅｒｔ−ブチルトリフェニルスルホニウム、トリス（４−メチルフェニル）スルホニウム等のスルホニウムのクロリド、ブロミド、ホウフッ化塩、ヘキサフルオロホスフェート塩、ヘキサフルオロアンチモネート塩等のスルホニウム塩、２，４，６−トリス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−フェニル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−メチル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン等の２，４，６−置換−１，３，５トリアジン化合物等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【０１７０】
重合開始剤が用いられる場合、第一の硬化性樹脂組成物の全固形分に対して１〜１２質量％、３〜６質量％となるように含まれることがより好ましい。
【０１７１】
（帯電防止剤）
帯電防止剤の具体例としては、第４級アンモニウム塩、ピリジニウム塩、第１〜第３アミノ基等のカチオン性基を有する各種のカチオン性化合物、スルホン酸塩基、硫酸エステル塩基、リン酸エステル塩基、ホスホン酸塩基などのアニオン性基を有するアニオン性化合物、アミノ酸系、アミノ硫酸エステル系などの両性化合物、アミノアルコール系、グリセリン系、ポリエチレングリコール系などのノニオン性化合物、スズ及びチタンのアルコキシドのような有機金属化合物及びそれらのアセチルアセトナート塩のような金属キレート化合物等が挙げられ、さらに上記に列記した化合物を高分子量化した化合物が挙げられる。また、第３級アミノ基、第４級アンモニウム基、又は金属キレート部を有し、且つ、電離放射線により重合可能なモノマー又はオリゴマー、或いは電離放射線により重合可能な重合可能な官能基を有する且つ、カップリング剤のような有機金属化合物等の重合性化合物もまた帯電防止剤として使用できる。
【０１７２】
帯電防止剤としては、導電性ポリマーも挙げることができる。導電性ポリマーとしては特に限定されず、例えば、芳香族共役系のポリ（パラフェニレン）、複素環式共役系のポリピロール、ポリチオフェン、脂肪族共役系のポリアセチレン、含ヘテロ原子共役系のポリアニリン、混合型共役系のポリ（フェニレンビニレン）、分子中に複数の共役鎖を持つ共役系である複鎖型共役系、前述の共役高分子鎖を飽和高分子にグラフト又はブロック共重した高分子である導電性複合体等を挙げることができる。
【０１７３】
また、前記帯電防止剤の他の例としては、導電性微粒子が挙げられる。当該導電性微粒子の具体例としては、金属酸化物からなるものを挙げることができる。そのような金属酸化物としては、ＺｎＯ（屈折率１．９０、以下、カッコ内の数値は屈折率を表す。）、ＣｅＯ２（１．９５）、Ｓｂ２Ｏ２（１．７１）、ＳｎＯ２（１．９９７）、ＩＴＯと略して呼ばれることの多い酸化インジウム錫（１．９５）、Ｉｎ２Ｏ３（２．００）、Ａｌ２Ｏ３（１．６３）、アンチモンドープ酸化錫（略称；ＡＴＯ、２．０）、アルミニウムドープ酸化亜鉛（略称；ＡＺＯ、２．０）等を挙げることができる。前記導電性微粒子の平均粒径は、０．１ｎｍ〜０．１μｍであることが好ましい。かかる範囲内であることにより、前記導電性微粒子をバインダーに分散した際、ヘイズがほとんどなく、全光線透過率が良好な高透明な膜を形成可能な組成物が得られる。
【０１７４】
帯電防止剤が用いられる場合、第一のバインダー成分１００質量部に対して１〜３０質量部含まれることが好ましい。
【０１７５】
（防眩剤）
防眩剤としては微粒子が挙げられ、微粒子の形状は、真球状、楕円状などのものであってよく、好ましくは真球状のものが挙げられる。また、微粒子は無機系、有機系のものが挙げられるが、好ましくは有機系材料により形成されてなるものが好ましい。微粒子は、防眩性を発揮するものであり、好ましくは光透過性のものがよい。微粒子の具体例としては、プラスチックビーズが挙げられ、より好ましくは、光透過性を有するものが挙げられる。プラスチックビーズの具体例としては、スチレンビーズ（屈折率１．５９）、メラミンビーズ（屈折率１．５７）、アクリルビーズ（屈折率１．４９）、アクリル−スチレンビーズ（屈折率１．５４）、ポリカーボネートビーズ、ポリエチレンビーズなどが挙げられる。微粒子の添加量は、樹脂組成物１００質量部に対し、０〜３０質量部が好ましい。
【０１７６】
（レベリング剤）
本発明の第一の硬化性樹脂組成物には、レベリング剤を添加することができ、中でも、フッ素系又はシリコーン系等のレベリング剤を添加することが好ましい。レベリング剤を添加した第一の硬化性樹脂組成物は、塗布又は乾燥時に塗膜表面に対して塗工安定性、滑り性、防汚染性、及び耐擦傷性を付与することができる。
【０１７７】
従来のハーフキュアーによりハードコート層を積層する方法を用いて製造された光学シートでは、下層となる硬化性樹脂組成物にレベリング剤が含まれ、且つ、上層となる硬化性樹脂組成物に防汚剤、及び易滑剤等の機能性の添加剤が含まれる場合、当該上層及び下層となる硬化性樹脂組成物全体が混合してしまうため、当該下層側のレベリング剤が上層側の硬化性樹脂組成物に混入してしまっていた。しかし、当該混入が起こると、レベリング剤が防汚剤や易滑剤等の機能性添加剤のはたらきを阻害してしまうことがあった。
【０１７８】
この理由は定かではないが、防汚剤や易滑剤は、層表面を粗くするはたらきがあり、一方、レベリング剤は、層表面を滑らかにするはたらきがあるため、互いにその効果を打ち消してしまうためと推測される。
【０１７９】
これに対して、本発明に係る光学シートでは、塗布された第一及び第二の硬化性樹脂組成物全体の混合は抑えられて２つの組成物の接触部分が適度に混合して光照射により硬化して第一及び第二のＨＣ層が形成されるため、第一の硬化性樹脂組成物にレベリング剤が含まれ、第二の硬化性樹脂組成物に防汚剤、及び易滑剤等の機能性添加剤が含まれていても、機能分離が可能である。
【０１８０】
レベリング剤の添加量としては、第一の硬化性樹脂組成物の全固形分に対して０〜０．５質量％が好ましく、０〜０．２質量％がより好ましい。
【０１８１】
レベリング剤としては、電離放射線硬化性基を有しても、有さなくてもよい。
レベリング剤として市販のものを使用することもできる。本発明において使用することができる市販のレベリング剤としては、例えば以下のものが挙げられる。
【０１８２】
電離放射線硬化性基を有しない市販のレベリング剤としては、ＤＩＣ（株）製のメガファックシリーズ（ＭＣＦ３５０−５、Ｆ４７２、Ｆ４７６、Ｆ４４５、Ｆ４４４、Ｆ４４３、Ｆ１７８、Ｆ４７０、Ｆ４７５、Ｆ４７９、Ｆ４７７、Ｆ４８２、Ｆ４８６、ＴＦ１０２５、Ｆ４７８、Ｆ１７８Ｋ等）；信越化学工業（株）製のＸ２２−３７１０、Ｘ２２−１６２Ｃ、Ｘ２２−３７０１Ｅ、Ｘ２２１６０ＡＳ、Ｘ２２１７０ＤＸ、Ｘ２２４０１５、Ｘ２２１７６ＤＸ、Ｘ２２−１７６Ｆ、Ｘ２２４２７２、ＫＦ８００１、Ｘ２２−２０００等；チッソ（株）製のＦＭ４４２１、ＦＭ０４２５、ＦＭＤＡ２６、ＦＳ１２６５等；東レ・ダウコーニング（株）製のＢＹ１６−７５０、ＢＹ１６８８０、ＢＹ１６８４８、ＳＦ８４２７、ＳＦ８４２１、ＳＨ３７４６、ＳＨ８４００、ＳＦ３７７１、ＳＨ３７４９、ＳＨ３７４８、ＳＨ８４１０等；モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン社製のＴＳＦシリーズ（ＴＳＦ４４６０、ＴＳＦ４４４０、ＴＳＦ４４４５、ＴＳＦ４４５０、ＴＳＦ４４４６、ＴＳＦ４４５３、ＴＳＦ４４５２、ＴＳＦ４７３０、ＴＳＦ４７７０等）、ＦＧＦ５０２、ＳＩＬＷＥＴシリーズ（ＳＩＬＷＥＴＬ７７、ＳＩＬＷＥＴＬ２７８０、ＳＩＬＷＥＴＬ７６０８、ＳＩＬＷＥＴＬ７００１、ＳＩＬＷＥＴＬ７００２、ＳＩＬＷＥＴＬ７０８７、ＳＩＬＷＥＴＬ７２００、ＳＩＬＷＥＴＬ７２１０、ＳＩＬＷＥＴＬ７２２０、ＳＩＬＷＥＴＬ７２３０、ＳＩＬＷＥＴＬ７５００、ＳＩＬＷＥＴＬ７５１０、ＳＩＬＷＥＴＬ７６００、ＳＩＬＷＥＴＬ７６０２、ＳＩＬＷＥＴＬ７６０４、ＳＩＬＷＥＴＬ７６０４、ＳＩＬＷＥＴＬ７６０５、ＳＩＬＷＥＴＬ７６０７、ＳＩＬＷＥＴＬ７６２２、ＳＩＬＷＥＴＬ７６４４、ＳＩＬＷＥＴＬ７６５０、ＳＩＬＷＥＴＬ７６５７、ＳＩＬＷＥＴＬ８５００、ＳＩＬＷＥＴＬ８６００、ＳＩＬＷＥＴＬ８６１０、ＳＩＬＷＥＴＬ８６２０、ＳＩＬＷＥＴＬ７２０）等を挙げることができる。
また（株）ネオス製のフタ―ジェントシリーズ（ＦＴＸ２１８、２５０、２４５Ｍ、２０９Ｆ、２２２Ｆ、２４５Ｆ、２０８Ｇ、２１８Ｇ、２４０Ｇ、２０６Ｄ、２４０Ｄ等）やＫＢシリーズ等、ビックケミー・ジャパン（株）製のＢＹＫ３３３、３００等、共栄社化学（株）製のＫＬ６００等も挙げられる。
【０１８３】
電離放射線硬化性基を有するものとして、信越化学工業（株）製のＸ２２−１６３Ａ、Ｘ２２−１７３ＤＸ、Ｘ２２−１６３Ｃ、ＫＦ１０１、Ｘ２２１６４Ａ、Ｘ２４−８２０１、Ｘ２２１７４ＤＸ、Ｘ２２１６４Ｃ、Ｘ２２２４２６、Ｘ２２２４４５、Ｘ２２２４５７、Ｘ２２２４５９、Ｘ２２２４５、Ｘ２２１６０２、Ｘ２２１６０３、Ｘ２２１６４Ｅ、Ｘ２２１６４Ｂ、Ｘ２２１６４Ｃ、Ｘ２２１６４Ｄ、ＴＭ０７０１等；チッソ（株）製のサイラプレーンシリーズ（ＦＭ０７２５、ＦＭ０７２１、ＦＭ７７２５、ＦＭ７７２１、ＦＭ７７２６、ＦＭ７７２７等）；東レ・ダウコーニング（株）製のＳＦ８４１１、ＳＦ８４１３、ＢＹ１６−１５２Ｄ、ＢＹ１６−１５２、ＢＹ１６−１５２Ｃ、８３８８Ａ等；新中村化学工業（株）製のＳＵＡ１９００Ｌ１０、ＳＵＡ１９００Ｌ６等；ダイセル・サイテック（株）製のＥｂｅｃｒｙｌ１３６０、Ｅｂｅｃｒｙｌ３５０、ＫＲＭ７０３９、ＫＲＭ７７３４等；エボニック  デグサ  ジャパン（株）製のＴＥＧＯ  Ｒａｄ２１００、２２００Ｎ、２５００、２６００，２７００等；出光興産（株）製のＡＦ１００；三菱化学（株）製のＨ５１２Ｘ、Ｈ５１３Ｘ、Ｈ５１４Ｘ等；ダイキン工業（株）製のオプツールＤＡＣ；日本合成社製のＵＴ３９７１、ＵＴ４３１５、ＵＴ４３１３；ＤＩＣ（株）製のデイフェンサシリーズ（ＴＦ３００１、ＴＦ３０００、ＴＦ３００４、ＴＦ３０２８、ＴＦ３０２７、ＴＦ３０２６、ＴＦ３０２５等）、ＲＳシリーズ（ＲＳ７１、ＲＳ１０１、ＲＳ１０２、ＲＳ１０３、ＲＳ１０４、ＲＳ１０５等）；ビックケミー・ジャパン（株）製のＢＹＫ３５００；共栄社化学（株）製のライトプロコートＡＦＣ３０００；信越シリコーン社製のＫＮＳ５３００；モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン社製のＵＶＨＣ１１０５、ＵＶＨＣ８５５０；日本ペイント（株）製のＡＣＳ−１１２２、リペルコートシリーズ等を挙げることができる。
【０１８４】
（第二のハードコート層）
本発明の第二のハードコート層は、反応性官能基ｃを有する第二のバインダー成分を含み、第二の硬化性樹脂組成物の全成分に対する固形分の総和が３０質量％以上である第二の硬化性樹脂組成物の硬化物からなる。
【０１８５】
第二のＨＣ層は上記第一のＨＣ層の光透過性樹脂基材とは反対側に設けられる層であり、光照射により第一のＨＣ層と同時に形成される。
【０１８６】
第二のバインダー成分は、上記第一の反応性シリカ微粒子及び第一のバインダー成分を含めて、同種及び異種の反応性官能基間で架橋反応可能な反応性官能基を有するため、硬化する際に架橋密度を高め第二のＨＣ層の硬度向上に寄与することに加え、同時に塗布され、硬化する第一のＨＣ層との境界では第一の反応性シリカ微粒子及び第一のバインダー成分とも架橋反応し、第一のＨＣ層と第二のＨＣ層の密着性向上にも寄与する。
【０１８７】
第二のＨＣ層の膜厚は、特に限定されず、光学シートの要求される性能に応じて適宜調節すればよく、好ましくは５〜２０μｍである。また、第一のＨＣ層と第二のＨＣ層の厚さの総和は１０〜４０μｍが好ましい。総和が１０μｍ以上であれば硬度向上による本発明の効果が発揮されやすく、４０μｍより厚いと、光学シートのカールがきつくなり、クラックが生じやすくなる。またコストが上がる。
【０１８８】
以下、硬化して本発明の第二のＨＣ層となる第二の硬化性樹脂組成物について説明する。
【０１８９】
（第二の硬化性樹脂組成物）
本発明の第二の硬化性樹脂組成物は、反応性官能基ｃを有する第二のバインダー成分を含む。
【０１９０】
第二の硬化性樹脂組成物において、その全成分に対し、固形分の総和は３０質量％以上である。第二の硬化性樹脂組成物の固形分としては、少なくとも第二のバインダー成分が含まれる。固形分の総和は、塗布性を向上させる点、及び第一及び第二の硬化性樹脂組成物全体の混合による塗工スジの発生を抑えて外観を良好に保つ点から４０〜６０質量％がより好ましい。３０質量％未満では、第一の硬化性樹脂組成物と第二の硬化性樹脂組成物の全体が混合してしまい、第一のＨＣ層と第二のＨＣ層の硬度や柔軟性等の機能分離ができず、塗工スジも発生し、外観が悪化してしまう。
【０１９１】
第二の硬化性樹脂組成物は、第一の硬化性樹脂組成物との組成物全体の混合を防ぐため当該組成物の全成分に対して固形分の総和が３０質量％以上であるが、この範囲であれば第二の硬化性樹脂組成物に第二のバインダー成分のほかに、機能性付与を目的として防眩剤、防汚剤及び帯電防止剤、コーティング適性の制御としてレベリング剤や溶剤、ブロッキング防止を目的として易滑剤等を含有していても良い。
【０１９２】
（第二のバインダー成分）
第二の硬化性樹脂組成物に用いられる第二のバインダー成分は、反応性官能基ｃを有し、硬化する際に第二のバインダー成分同士で架橋し、第二のＨＣ層のマトリクスとなる成分である。また、反応性官能基ｃは、他の反応性官能基ａ及びｂと架橋反応性を有するため、これらの成分と架橋し、網目構造が形成され、第一のＨＣ層と第二のＨＣ層の密着性、及び光学シートの硬度を更に高める。
【０１９３】
第二のバインダー成分の反応性官能基の種類、数、及び第二のバインダー成分の種類については、上記第一のバインダー成分と同様である。第一のバインダー成分と第二のバインダー成分は同じであっても良いし、異なっていても良い。
【０１９４】
第二のバインダー成分は、第二の硬化性樹脂組成物において、当該組成物の全成分に対して固形分の総和が３０質量％以上であれば、塗布性等を考慮して適宜量を調節して用いればよい。第二の硬化性樹脂組成物の全固形分に対して２０〜１００質量％含まれることが好ましい。
【０１９５】
（第二の硬化性樹脂組成物のその他の成分）
第二の硬化性樹脂組成物は、第一の硬化性樹脂組成物との組成物全体の混合を防ぐため当該組成物の全成分に対して固形分の総和が３０質量％以上であるが、この範囲であれば第二の硬化性樹脂組成物に第二のバインダー成分のほかに、第一の硬化性樹脂組成物と同様の溶剤、第二の反応性シリカ微粒子、重合開始剤、帯電防止剤、防眩剤、防汚剤、易滑剤等を適宜添加することもできる。更に、各種増感剤等の各種添加剤が混合されていても良い。帯電防止剤及び／又は防眩剤を含む場合には、第二のＨＣ層に、更に帯電防止性及び／又は防眩性を付与できる。
【０１９６】
溶剤は、第二の硬化性樹脂組成物の全成分に対する少なくとも第二のバインダー成分を含む固形分の総和が３０質量％以上となれば特に制限なく、適宜選択して用いることができる。
例えば、メチルイソブチルケトン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ノルマルプロパノール、イソプロパノール、ノルマルブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、イソブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール等の溶剤が挙げられる。また、メチルエチルケトン等のケトン系や酢酸エチル等のエステル系の溶剤も挙げられる。
【０１９７】
第二の硬化性樹脂組成物の溶剤としては、第一の硬化性樹脂組成物で挙げたものを用いることができる。沸点が１２０℃以下の溶剤が好ましく、例えば、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、酢酸イソブチル、トルエン、酢酸エチル等が挙げられる。
【０１９８】
（第二の反応性シリカ微粒子）
第二の反応性シリカ微粒子は、平均１次粒径１〜１００ｎｍのシリカ微粒子の表面に、他の反応性官能基ａ〜ｃとの架橋反応性を有する反応性官能基ｄを有することにより、第二の硬化性樹脂組成物を硬化させ第二のＨＣ層とした際に、これらの架橋反応可能な成分と架橋反応し、第一のＨＣ層と第二のＨＣ層の密着性、光学シートの硬度向上に寄与する。第二の反応性シリカ微粒子は、光学シートの要求される性能に応じて適宜調節して用いることができ、第二の硬化性樹脂組成物に第二の反応性シリカ微粒子が含まれていなくとも良い。
【０１９９】
第二の反応性シリカ微粒子については、平均１次粒径、反応性官能基ｄの種類、及びその修飾方法は上記第一の反応性シリカ微粒子と同様である。第一の反応性シリカ微粒子と第二の反応性シリカ微粒子は同じであっても良いし、異なっていても良い。
【０２００】
第二の硬化性樹脂組成物の全固形分に対して、第二の反応性シリカ微粒子の含有量の割合は、光学シートの要求される物性に応じて適宜調節すればよいが、光学シートの硬度向上の点から、５０質量％以下であることが好ましく、０〜３０質量％がより好ましい。５０質量％を超えると、表層としての柔軟性が悪化し、かえって第二のＨＣ層の硬度を低下させてしまう恐れがある。また、けん化処理する際に反応性シリカ微粒子の硬化したシリカ微粒子の脱落や流出も多くなり、好ましくない。
【０２０１】
本発明に係る光学シートの好適な実施形態では、第二の硬化性樹脂組成物には反応性シリカ微粒子を含ませず、固形分は主に上記第二のバインダー成分を含む第二の硬化性樹脂組成物の硬化物からなる第二のＨＣ層を形成することが、上層の第二のＨＣ層がシリカ微粒子を含まないことによる柔軟性を確保し、シリカ微粒子を含む下層の第一のＨＣ層が下地層として機能して、第一及び第二のＨＣ層を合わせて優れた硬度を発現する点から好ましい。
【０２０２】
（防汚剤）
防汚剤は、光学シート表面の汚れを防止又は低減するために用いる成分である。
防汚剤としては、含シリコーン系と含フッ素系防汚剤が挙げられ、それぞれ単独で使用しても良いし、混合して使用してもよい。
【０２０３】
防汚剤の具体例としては、含フッ素系防汚剤（商品名オプツールＤＡＣ、ダイキン工業（株）製）等が挙げられる。
防汚剤が用いられる場合、防汚剤の含有量は第二の硬化性樹脂組成物の全固形分に対し０．０１〜１．０重量％であることが好ましい。
【０２０４】
（易滑剤）
易滑剤は、光学シート表面の耐擦傷性を向上させるために用いる成分である。
易滑剤としては無機微粒子又は有機微粒子が挙げられ、それぞれ単独で使用しても良いし、混合して使用しても良い。
易滑剤の具体例としては、シリカ微粒子（商品名ＭＩＢＫＳＩＲ、触媒化成工業（株）製）等が挙げられる。
易滑剤が用いられる場合、易滑剤の含有量は第二の硬化性樹脂組成物の固形分に対し０．１〜３．０重量％であることが好ましい。
【０２０５】
（光学シートのその他の層）
本発明に係る光学シートは、上記したように光透過性樹脂基材、第一のＨＣ層及び第二のＨＣ層より基本的には構成されてなる。しかしながら、光学シートとしての機能又は用途を加味して、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、上記第二のＨＣ層の第一のＨＣ層とは反対側の面に、更に下記のような一又は二以上の層を設けてもよい。これらその他の層を設ける場合は、上記第一及び第二のＨＣ層を形成した後、その他の層の組成物を塗布し、硬化させ形成しても良いし、第一及び第二の硬化性樹脂組成物と同時に同時多層塗布により塗布し、硬化させ形成しても良い。同時多層塗布により形成する場合は、その他の層の組成物において、当該組成物の全成分に対する固形分の総和は３０質量％以上とする。
【０２０６】
その他の層の厚さは、上記第一及び第二のＨＣ層を含めた積層条件により異なるので、適宜調節すればよい。
【０２０７】
（帯電防止層）
帯電防止層は、帯電防止剤と硬化性樹脂を含む帯電防止層用硬化性樹脂組成物の硬化物からなる。帯電防止層の厚さは、３０ｎｍ〜３μｍ程度であることが好ましい。
【０２０８】
帯電防止剤としては、上記ＨＣ層の帯電防止剤で挙げたものと同様のものを用いることができる。
【０２０９】
帯電防止層用硬化性樹脂組成物に含まれる硬化性樹脂としては、公知のものを適宜選択して、１種又は２種以上用いることができる。
【０２１０】
（防汚層）
本発明の好ましい態様によれば、光学シート最表面の汚れ防止を目的として、光学シートの光透過性樹脂基材とは反対側の最表面に防汚層を設けることができる。防汚層により、光学シートに対して防汚性と耐擦傷性のさらなる改善を図ることが可能となる。防汚層は、防汚剤と硬化性樹脂組成物を含む防汚層用硬化性樹脂組成物の硬化物からなる。
【０２１１】
防汚層用硬化性樹脂組成物に含まれる防汚剤や硬化性樹脂は、公知の防汚剤及び硬化性樹脂から適宜選択して１種又は２種以上を用いることができる。
【０２１２】
（低屈折率層）
低屈折率層は、当該層の基材側に隣接する層よりも屈折率が低い層であり、低屈折率層用硬化性樹脂組成物の硬化物からなる。当該低屈折率層用硬化性樹脂組成物には、前記隣接する層よりも屈折率が低くなるように、適宜公知の低屈折率硬化性樹脂や微粒子を用いることができる。
【０２１３】
図２は、本発明に係る光学シートの層構成の他の一例を模式的に示した図である。
図２の光学シート１では、光透過性樹脂基材１０の一面側に、第一のＨＣ層２０、第二のＨＣ層３０、及び帯電防止層４０がこの順序で積層されている。
【０２１４】
（光学シートの製造方法）
本発明に係る光学シートの製造方法は、（ｉ）光透過性樹脂基材を準備する工程、
（ｉｉ）それぞれ、同種及び異種の反応性官能基間で架橋反応性を有する反応性官能基ａ、ｂ、及びｃであって、粒子表面に反応性官能基ａを有する平均１次粒径１〜１００ｎｍの第一の反応性シリカ微粒子、及び反応性官能基ｂを有する第一のバインダー成分を含み、第一の硬化性樹脂組成物の全成分に対する固形分の総和が３０質量％以上である第一の硬化性樹脂組成物、並びに、反応性官能基ｃを有する第二のバインダー成分を含み、第二の硬化性樹脂組成物の全成分に対する固形分の総和が３０質量％以上である第二の硬化性樹脂組成物を準備する工程、
（ｉｉｉ）当該光透過性樹脂基材の一面側に、当該光透過性基材側から順に当該第一の硬化性樹脂組成物、及び第二の硬化性樹脂組成物を同時に塗布し、塗膜とする工程、
（ｉｖ）当該第一及び第二の硬化性樹脂組成物の塗膜に光照射し、当該塗膜を硬化させ、第一のハードコート層及び第二のハードコート層を形成する工程を含むことを特徴とする。
【０２１５】
本発明に係る光学シートの製造方法では、第一及び第二の硬化性樹脂組成物において、それぞれ、全成分に対して固形分の総和を３０質量％以上とすることにより、ともにハードコート層を形成するための組成物であっても同時に塗布した際に組成物全体が混合するのを抑えながらも、２つの組成物の接触部分は適度に混合する。そして、このように上下各層の組成を保ちながら光照射工程で硬化させるため、塗工スジの発生を抑え、光学シートの外観を良好なものとすることができる。また、２つの組成物の接触部分は適度に混合するため、各層の硬度や柔軟性発現等の機能の分離を可能としながらも、層界面が生じず、光学シートの干渉縞の発生を抑えられる。
【０２１６】
従来のハーフキュアーを行い、積層体を形成する方法の場合、下層となる組成物のみで少量ではあるが一旦光照射されるため、下層の表面では下層の組成物の成分同士のみで硬化が進行してしまう。
これに対して本発明に係る光学シートの製造方法では、ハーフキュアーを行わないため、下層となる第一の硬化性樹脂組成物の塗膜表面において当該組成物の第一の反応性シリカ微粒子や第一のバインダー成分が上層となる第二の硬化性樹脂組成物の第二のバインダー成分とも十分に反応可能となり、２層間の密着性と光学シートの硬度が向上するものと推測される。
【０２１７】
以下、各工程について説明する。
【０２１８】
（ｉ）工程において、上記光学シートで述べた、光透過性樹脂基材を準備する。
【０２１９】
（ｉｉ）工程において、上記光学シートで述べた、第一及び第二の硬化性樹脂組成物を準備する。
第一の硬化性樹脂組成物は、通常、溶剤に反応性シリカ微粒子や第一のバインダー成分の他、重合開始剤等を一般的な調製法に従って、混合し分散処理することにより調製される。混合分散には、ペイントシェーカー又はビーズミル等を用いることができる。第一のバインダー成分が流動性を有する場合には、溶剤を用いなくとも第一の硬化性樹脂組成物を基材に塗布することができるため、適宜、必要に応じて溶剤を用いればよい。
第二の硬化性樹脂組成物も第一の硬化性樹脂組成物と同様に調製可能である。
【０２２０】
なお、（ｉ）工程と（ｉｉ）工程はどちらを先に行っても良く、同時に行っても良い。
【０２２１】
（ｉｉｉ）工程において、塗布方法は、光透過性樹脂基材の一面側に第一及び第二の硬化性樹脂組成物を均一に塗布することができる方法であれば特に限定されるものではなく、
従来公知の方法を用いることができる。なかでも特許文献２のようにエクストルージョン型ダイコーターを用いて塗布するのが簡便であるため好ましい。
【０２２２】
図３は２スロットエクストルージョン型ダイコーターを用いた同時多層塗布の模式図である。第一の硬化性樹脂組成物２１及び第二の硬化性樹脂組成物３１をそれぞれ、エクストルージョン型ダイコーターのダイコーターヘッド５０のスリット６１及び６２より吐出させて塗膜とする。エクストルージョン型ダイコーターの２つのスリットのうち、光透過性樹脂基材の進行方向に対して、上流側に位置するスリット６１より第一の硬化性樹脂組成物２１を、下流側に位置するスリット６２より第二の硬化性樹脂組成物３１を吐出させて塗布を行う。
【０２２３】
同時多層塗布により第二のＨＣ層上にその他の層を設ける場合には、光透過性樹脂基材の進行方向に対して下流側にその他の層の組成物を吐出するスロットをさらに設けることで、その他の層を設けることができる。例えば、図示しないが３スロットダイコートを用いて、光透過性樹脂基材上に第一の硬化性樹脂組成物、その上に第二の硬化性樹脂組成物、さらにその上に帯電防止層用硬化性樹脂組成物を同時多層塗布し、光照射して硬化させることにより、図２に示す層構成の光学シートを得ることも可能である。
【０２２４】
本発明においては、ダイコーターヘッド５０と光透過性樹脂基材１０の距離であるコーターギャップ７０と光透過性樹脂基材１０上に同時多層塗布した際の第一及び第二の硬化性樹脂組成物の塗膜の合計の厚さ８０が、コーターギャップ７０＜（厚さ８０の２倍）の関係にあることが好ましい。このような関係を保ちながら同時多層塗布することで、光透過性樹脂基材１０とダイコーターヘッド５０の間に形成される塗布ビードが安定化する。特にこの塗布ビードは塗布により形成する層が薄膜化するほど不安定になりやすく、塗布面にむらやすじを生じさせ、外観を悪化させる原因となるが、上記コーターギャップ７０と厚さ８０の関係を保つことで、塗布ビードを安定化させることができる。なお、塗布ビードとは、塗布装置と基材との間に生成する液だまりを意味する。
【０２２５】
また、第一及び第二の硬化性樹脂組成物の塗膜の厚さは、相対的に第一の硬化性樹脂組成物の塗膜の厚さを厚くすることが好ましい。このようにすることで、塗布速度を速くすることができ、高い生産性で光学シートを製造することができる。
【０２２６】
また、光透過性樹脂基材上への第一及び第二の硬化性樹脂組成物の塗布量としては、得られる光学シートが要求される性能により異なるものであり、乾燥後の膜厚が上記光学シートで述べた第一のＨＣ層、第二のＨＣ層の膜厚となるように適宜調節すればよい。
【０２２７】
また、（ｉｉｉ）工程と（ｉｖ）工程の間に、必要に応じて塗膜の乾燥を行っても良い。
乾燥方法としては、例えば、減圧乾燥又は加熱乾燥、更にはこれらの乾燥を組み合わせる方法等が挙げられる。また、常圧で乾燥させる場合は、３０〜１１０℃で乾燥させることが好ましい。例えば、第一又は第二の硬化性樹脂組成物の溶剤としてメチルイソブチルケトンを用いる場合は、通常室温〜８０℃、好ましくは４０℃〜７０℃の範囲内の温度で、２０秒〜３分、好ましくは３０秒〜１分程度の時間で乾燥工程が行われる。
【０２２８】
（ｉｖ）工程において、光照射には、主に、紫外線、可視光、電子線、電離放射線等が使用される。紫外線硬化の場合には、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプ等の光線から発する紫外線等を使用する。エネルギー線源の照射量は、紫外線波長３６５ｎｍでの積算露光量として、５０〜５００ｍＪ／ｃｍ２である。
光照射に加えて、加熱を行っても良く、加熱する場合は、通常４０℃〜１２０℃の温度にて処理する。また、室温（２５℃）で２４時間以上放置することにより反応を行っても良い。
【０２２９】
（その他の層の形成）
第二のＨＣ層の第一のＨＣ層とは反対側にその他の層を形成する場合は、第一及び第二の硬化性樹脂組成物の塗膜を硬化させる前、又は上記（ｉｖ）工程の後にその他の層の硬化性樹脂組成物を塗布し、乾燥させ、光照射及び／又は加熱してその他の層を形成すればよい。
【実施例】
【０２３０】
以下、実施例を挙げて、本発明を更に具体的に説明する。これらの記載により本発明を制限するものではない。
【０２３１】
シリカ微粒子（１）として、日産化学工業（株）製：ＩＰＡ−ＳＴ（Ｌ）、平均１次粒径４４ｎｍ、コロイダルシリカ、固形分４０％液を用いた。
反応性異形シリカ微粒子（１）として、日揮触媒化成製：ＤＰ１０３９（平均１次粒径２５ｎｍのシリカ微粒子が平均５個無機の化学結合により結合した長軸の長さ１２５ｎｍ、固形分４０質量％、分散媒ＭＩＢＫ溶剤、反応性官能基はメタクリロイル基）を用いた。
【０２３２】
バインダー成分（１）として、日本化薬（株）製：６官能のジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（製品名：ＤＰＨＡ）を用いた。
バインダー成分（２）として、日本化薬（株）製：３官能のペンタエリスリトールトリアクリレート（製品名：ＰＥＴ３０）を用いた。
バインダー成分（３）として、荒川化学工業（株）製：３０官能以上、重量平均分子量４００００のポリマーアクリレート（製品名：ＢＳ３７１）を用いた。
【０２３３】
重合開始剤として、チバ・ジャパン（株）製：イルガキュアー１８４を用いた。
トリアセチルセルロース基材として、コニカ（株）製：ＫＣ４ＵＹ（厚さ４０μｍ）を用いた。
同時多層塗布装置として、２スロットダイコーターを用いた。
各化合物の略語はそれぞれ、以下の通りである。
ＤＰＨＡ：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
ＰＥＴＡ：ペンタエリスリトールトリアクリレート
ＭＩＢＫ：メチルイソブチルケトン
ＩＰＡ：イソプロパノール
ＭＥＫ：メチルエチルケトン
ＴＡＣ：トリアセチルセルロース
【０２３４】
（反応性シリカ微粒子（１）の調製）
シリカ微粒子（１）をロータリーエバポレーターを用いてＩＰＡからＭＩＢＫに溶剤置換を行い、シリカ粒子４０重量％のＭＩＢＫ分散液を得た。このＭＩＢＫ分散液１００重量部に３−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシランを５重量部添加し、５０℃で１時間加熱処理することにより、表面処理された平均１次粒径４４ｎｍの反応性シリカ微粒子（１）の固形分４０重量％ＭＩＢＫ分散液を得た。
【０２３５】
（硬化性樹脂組成物の調製）
下記に示す組成の成分を配合して硬化性樹脂組成物１−１〜１−７、及び２−１〜２−６をそれぞれ、調製した。
【０２３６】
（硬化性樹脂組成物１−１）
反応性シリカ微粒子（１）：３０質量部（固形分：１２質量部）
ＤＰＨＡ：１３質量部
ＢＳ３７１：１３質量部
イルガキュアー１８４：４質量部
ＭＥＫ：８０質量部
【０２３７】
（硬化性樹脂組成物１−２）
反応性シリカ微粒子（１）：６５質量部（固形分：２６質量部）
ＤＰＨＡ：１３質量部
ＢＳ３７１：１３質量部
イルガキュアー１８４：４質量部
ＭＥＫ：４５質量部
【０２３８】
（硬化性樹脂組成物１−３）
反応性シリカ微粒子（１）：１００質量部（固形分：４０質量部）
ＤＰＨＡ：１３質量部
ＢＳ３７１：１３質量部
イルガキュアー１８４：４質量部
ＭＥＫ：１０質量部
【０２３９】
（硬化性樹脂組成物１−４）
反応性シリカ微粒子（１）：７８質量部（固形分：２２質量部）
ＤＰＨＡ：２９質量部
ＢＳ３７１：２９質量部
イルガキュアー１８４：４質量部
【０２４０】
（硬化性樹脂組成物１−５）
反応性異形シリカ微粒子（１）：１００質量部（固形分：４０質量部）
ＤＰＨＡ：１３質量部
ＢＳ３７１：１３質量部
イルガキュアー１８４：４質量部
ＭＥＫ：１０質量部
【０２４１】
（硬化性樹脂組成物１−６）
反応性シリカ微粒子（１）：１２．５質量部（固形分：５質量部）
ＤＰＨＡ：１３質量部
ＢＳ３７１：１３質量部
イルガキュアー１８４：４質量部
ＭＥＫ：９７．５質量部
【０２４２】
（硬化性樹脂組成物１−７）
シリカ微粒子（１）：１００質量部（固形分：４０質量部）
ＤＰＨＡ：１３質量部
ＢＳ３７１：１３質量部
イルガキュアー１８４：４質量部
ＭＥＫ：１０質量部
【０２４３】
（硬化性樹脂組成物２−１）
ＰＥＴ３０：３０質量部
ＭＥＫ：７０質量部
【０２４４】
（硬化性樹脂組成物２−２）
ＰＥＴ３０：４０質量部
ＭＥＫ：６０質量部
【０２４５】
（硬化性樹脂組成物２−３）
ＰＥＴ３０：５０質量部
ＭＥＫ：５０質量部
【０２４６】
（硬化性樹脂組成物２−４）
ＤＰＨＡ：５０質量部
ＭＥＫ：５０質量部
【０２４７】
（硬化性樹脂組成物２−５）
ＰＥＴ３０：６０質量部
ＭＥＫ：４０質量部
【０２４８】
（硬化性樹脂組成物２−６）
ＤＰＨＡ：２５質量部
ＭＥＫ：７５質量部
【０２４９】
（実施例１：光学シートの作製）
ＴＡＣ基材の片面に、２スロットダイコーターを用いて第一の硬化性樹脂組成物として、硬化性樹脂組成物１−１がＴＡＣ基材に隣接するように（硬化した際に下層となるように）、且つ第二の硬化性樹脂組成物として、硬化性樹脂組成物２−１を硬化性樹脂組成物１−１上に（硬化した際に上層となるように）、塗布速度５０ｍ／ｍｉｎにて同時に塗布し、塗膜とした。
その後７０℃、１分間乾燥を行った直後に塗布機に近接して設けた紫外線照射装置により１００ｍＪ／ｃｍ２で紫外線照射をし、塗膜を硬化させ、ＴＡＣ基材上にそれぞれ、厚さ１５μｍの第一のＨＣ層及び第二のＨＣ層をこの順で形成した。
【０２５０】
（実施例２〜６及び比較例１〜３）
第一及び第二の硬化性樹脂組成物をそれぞれ、表１に示すものに代えた以外は実施例１と同様にして、実施例２〜６及び比較例１〜３の光学シートを作製した。
【０２５１】
（比較例４）
ＴＡＣ基材の片面に、まず硬化性樹脂組成物１−３を塗布し、温度７０℃の熱オーブン中で１分間乾燥し、塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外線を積算光量が５０ｍＪ／ｃｍ２になるように照射してハーフキュアーを行い、次いで、当該ハーフキュアーした第一のＨＣ層上に、硬化性樹脂組成物２−４を塗布し、温度７０℃の熱オーブン中で６０秒間乾燥し、塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外線を積算光量が２００ｍＪ／ｃｍ２になるように照射して第一及び第二の硬化性樹脂組成物の塗膜をフルキュアーさせることにより、それぞれ膜厚１５μｍの第一のＨＣ層（下層）及び第二のＨＣ層（上層）を形成した。
【０２５２】
【表１】
2010224150.tif 000009
【０２５３】
（光学シートの評価）
作製した実施例１〜６及び比較例１〜４の光学シートについて、以下の様に外観、干渉縞、鉛筆硬度、及び密着性を評価した。その結果を表１に合わせて示す。
また、実施例４、及び比較例１について、光学シートの膜厚方向断面のＴＥＭ写真（倍率１０００倍）をそれぞれ、図４、図５に示す。また、比較例１の光学シートのハードコート層表面の写真を図６に示す。
【０２５４】
（評価：外観）
反射光条件下、目視にて観察を行い、塗工スジの有無を判断した。
○：外観良（塗工スジ無し）
×：外観不良（塗工スジあり）
【０２５５】
（評価：干渉縞）
光学シートの基材側に黒いテープを貼り、三波長管ランプ下で観察した。
○：干渉縞無し
×：干渉縞あり
【０２５６】
（評価：鉛筆硬度）
鉛筆硬度試験；鉛筆引っ掻き試験の硬度は、作製した光学シートを温度２５℃、相対湿度６０％の条件で２時間調湿した後、ＪＩＳ−Ｓ−６００６が規定する試験用鉛筆（硬度４Ｈ）を用いて、ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−４（１９９９）に規定する鉛筆硬度試験（４．９Ｎ荷重）を行い、下記基準で測定した。
○：４Ｈ合格（５本線中、傷が無し又は１本）
×：４Ｈ不合格（５本線中、傷が２本以上）
【０２５７】
（評価：密着性）
光学シートの第二のＨＣ層側に１ｍｍ角で合計１００目の碁盤目を入れ、ニチバン（株）製工業用２４ｍｍセロテープ（登録商標）を用いて５回連続剥離試験を行い、残っているマス目の数量を計測し、下記基準に基づいて密着度を測定することにより密着性を評価した。
密着度（％）＝（剥がれなかったマス目の数／合計のマス目数１００）×１００
○：９０％以上
×：９０％未満
【０２５８】
（結果のまとめ）
表１より、実施例１〜６の光学シートは良好な評価結果を得た。
図４に示す実施例４の光学シートの膜厚方向の断面のＴＥＭ写真では、第一及び第二の硬化性樹脂組成物全体の混合が抑えられ、第一の硬化性樹脂組成物に含まれる反応性シリカ微粒子の硬化したシリカ微粒子が主に第一のＨＣ層（下層）側に存在している。
しかし、硬化性樹脂組成物の全成分に対する固形分質量が３０質量％未満の比較例１では、第一の硬化性樹脂組成物と第二の硬化性樹脂組成物が全体的に混合してしまい、第一の硬化性樹脂組成物に含まれる反応性異形シリカ微粒子の硬化した異形シリカ微粒子が第二のＨＣ層にまで広く分布していることが図５の比較例１の光学シートの膜厚方向の断面のＴＥＭ写真からわかる。また、図６の比較例１の光学シート表面の写真に示すように光学シート表面に塗工スジが発生し、外観不良という結果になった。
第一の硬化性樹脂組成物に含まれるシリカ微粒子に反応性基がない比較例２では、反応性シリカ微粒子のバインダー成分との架橋がないことによる第一のＨＣ層の強度不足により、鉛筆硬度が十分でない結果となった。
下層の組成物に反応性シリカ微粒子が含まれない比較例３では、下地層がないため硬度が不十分となった。
また、実施例４と同じ第一及び第二の硬化性樹脂組成物を用いて、同時多層塗布ではなく、第一の硬化性樹脂組成物のハーフキュアーを行い、次いで、ハーフキュアーした塗膜と、第二の硬化性樹脂組成物の塗膜を合わせてフルキュアーを行い光学シートを得た比較例４では、下層をハーフキュアーにより硬化させることにより上層の硬化性樹脂組成物が適度に下層の硬化性樹脂組成物と混合しないため、層界面が存在し、干渉縞が生じてしまった。また、下層がハーフキュアーにより硬化が進行してしまうため、光学シートの密着性も不十分な結果となった。
【符号の説明】
【０２５９】
１  光学シート
１０  光透過性樹脂基材
２０  第一のハードコート層
２１  第一の硬化性樹脂組成物
３０  第二のハードコート層
３１  第二の硬化性樹脂組成物
４０  帯電防止層
５０  ダイコーターヘッド
６１、６２  スリット
７０  コーターギャップ
８０  第一及び第二の硬化性樹脂組成物の塗膜の合計の厚さ
９０  第一のハードコート層とトリアセチルセルロース基材との界面
１００  第二のハードコート層の空気界面
１１０  塗工スジ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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