(57)【要約】【課題】所望の厚さの薄膜を、薄膜としての機能を低下させることなく、液滴吐出法で形成できるようにした薄膜の形成方法と、有機ＥＬ装置の製造方法を提供する。【解決手段】固形分と溶媒とを含む第１の液状体７１ａを、液滴吐出法で基板上に配し、第１の液状膜７１を形成する工程と、第１の液状膜７１を、第１の液状体７１ａの溶媒の飽和蒸気圧より高い圧力雰囲気で乾燥し、第１の乾燥膜７２を形成する工程と、第１の乾燥膜７２上に、固形分と溶媒とを含む第２の液状体７３ａを液滴吐出法で配し、第２の液状膜７３を形成する工程と、第２の液状膜７３および第１の乾燥膜７２を、第２の液状体７３ａの溶媒の飽和蒸気圧以下の圧力雰囲気で乾燥し、第２の液状膜７３および第１の乾燥膜７２からなる薄膜７０Ｒ（７０Ｇ、７０Ｂ）を形成する工程と、を備えた薄膜の形成方法。【選択図】図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
薄膜形成材料となる固形分と溶媒あるいは分散媒とを含む第１の液状体を、液滴吐出法で基板上に配し、第１の液状膜を形成する工程と、
前記第１の液状膜を、前記第１の液状体の溶媒あるいは分散媒の飽和蒸気圧より高い圧力雰囲気で乾燥し、第１の乾燥膜を形成する工程と、
前記第１の乾燥膜上に、薄膜形成材料となる固形分と溶媒あるいは分散媒とを含む第２の液状体を液滴吐出法で配し、第２の液状膜を形成する工程と、
前記第２の液状膜および前記第１の乾燥膜を、前記第２の液状体の溶媒あるいは分散媒の飽和蒸気圧以下の圧力雰囲気で乾燥し、前記第２の液状膜および前記第１の乾燥膜からなる薄膜を形成する工程と、を備えたことを特徴とする薄膜の形成方法。
【請求項２】
前記薄膜を、前記基板上に形成された隔壁によって区画された区画領域に、前記液状体を配すことで形成することを特徴とする請求項１記載の薄膜の形成方法。
【請求項３】
前記第１の液状体の溶媒あるいは分散媒と、前記第２の液状体の溶媒あるいは分散媒とが同じであることを特徴とする請求項１又は２に記載の薄膜の形成方法。
【請求項４】
前記第１の液状体の溶媒あるいは分散媒と、前記第２の液状体の溶媒あるいは分散媒とが異なることを特徴とする請求項１又は２に記載の薄膜の形成方法。
【請求項５】
前記第２の液状体の溶媒あるいは分散媒の飽和蒸気圧が、前記第１の液状体の溶媒あるいは分散媒の飽和蒸気圧より低いことを特徴とする請求項４記載の薄膜の形成方法。
【請求項６】
前記第１の乾燥膜を形成する工程では、形成する第１の乾燥膜中の前記溶媒あるいは分散媒の重量濃度が、１００ｐｐｍ以上５０％以下になるように乾燥を行うことを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の薄膜の形成方法。
【請求項７】
複数の画素領域が隔壁によって区画されてなり、前記画素領域に、第１電極と第２電極と、これら第１電極と第２電極との間に配設された少なくとも有機発光層を含む機能層と、を有する有機ＥＬ素子を備えた有機ＥＬ装置の製造方法であって、
前記機能層を構成する機能膜の形成材料となる固形分と溶媒あるいは分散媒とを含む第１の液状体を、液滴吐出法で前記画素領域内に配し、第１の液状膜を形成する工程と、
前記第１の液状膜を、前記第１の液状体の溶媒あるいは分散媒の飽和蒸気圧より高い圧力雰囲気で乾燥し、第１の乾燥膜を形成する工程と、
前記第１の乾燥膜上に、前記機能層を構成する機能膜の形成材料となる固形分と溶媒あるいは分散媒とを含む第２の液状体を液滴吐出法で配し、第２の液状膜を形成する工程と、
前記第２の液状膜および前記第１の乾燥膜を、前記第２の液状体の溶媒あるいは分散媒の飽和蒸気圧以下の圧力雰囲気で乾燥し、前記第２の液状膜および前記第１の乾燥膜からなる前記機能膜を形成する工程と、を備えたことを特徴とする有機ＥＬ装置の製造方法。
【請求項８】
前記機能膜が有機発光層であることを特徴とする請求項７記載の有機ＥＬ装置の製造方法。
【請求項９】
前記第１の液状体の溶媒あるいは分散媒と、前記第２の液状体の溶媒あるいは分散媒とが同じであることを特徴とする請求項７又は８に記載の有機ＥＬ装置の製造方法。
【請求項１０】
前記第１の液状体の溶媒あるいは分散媒と、前記第２の液状体の溶媒あるいは分散媒とが異なることを特徴とする請求項７又は８に記載の有機ＥＬ装置の製造方法。
【請求項１１】
前記第２の液状体の溶媒あるいは分散媒の飽和蒸気圧が、前記第１の液状体の溶媒あるいは分散媒の飽和蒸気圧より低いことを特徴とする請求項１０記載の有機ＥＬ装置の製造方法。
【請求項１２】
前記第１の乾燥膜を形成する工程では、形成する第１の乾燥膜中の前記溶媒あるいは分散媒の重量濃度が、１００ｐｐｍ以上５０％以下になるように乾燥を行うことを特徴とする請求項７〜１１のいずれか一項に記載の有機ＥＬ装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、薄膜の形成方法および有機ＥＬ装置の製造方法
【背景技術】
【０００２】
近年、有機発光材料を溶剤で溶解してインク（液状体）化し、このインクを液滴吐出法の一種であるインクジェット法で基体上に吐出することにより、陽極と陰極との間に発光層を形成する、有機エレクトロルミネッセンス装置（有機ＥＬ装置）の製造方法が提案されている。
このような液相法であるインクジェット法による成膜では、例えば複数の画素領域を隔壁で区画し、この隔壁内にインクジェット法でインクを選択的に配し、乾燥することで薄膜である発光層を形成している（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
ところで、このように隔壁で区画された画素領域内にインクを選択的に配する場合、隔壁を乗り越えて隣の画素領域にインクが流れ出ないようするため、１回の塗布量は隔壁の高さによって制限されている。したがって、１回のインク塗布とその乾燥で所望の厚さの発光層（薄膜）を形成しようとすると、所望の厚さに対応する固形分の全量を含有したインクを、１回で配してその後乾燥することになるため、使用するインクはその固形分濃度が高くなり、粘度も高くなってしまう。
【０００４】
ところが、このような高い粘度のインクは、インクジェット法で吐出を行う場合に良好な吐出性が得られず、したがってインクジェット法での吐出配置が困難になってしまう場合もある。
そこで、従来ではインクの吐出塗布を複数回に分け、各塗布工程毎にその後乾燥を行うことにより、複数の乾燥膜を積層するようにした製造方法が提案されている（例えば、特許文献２参照）。
【特許文献１】特開２００１−２９１５８３号公報
【特許文献２】特開２００５−３３１６１９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、前記特許文献２のように一つの層を複数の乾燥膜で形成した場合、得られた積層膜からなる機能膜（薄膜）では、前記乾燥膜間に界面が形成されてしまい、この薄膜の目的とする機能が損なわれてしまうといった問題がある。具体的には、機能膜が有機ＥＬ装置の有機発光層である場合、前記の界面によってキャリアの移動性が低下し、したがって発光特性が低下してしまうといった問題がある。
【０００６】
本発明は前記事情に鑑みてなされたもので、その目的とするところは、所望の厚さの薄膜を、薄膜としての機能を低下させることなく、液滴吐出法で形成できるようにした薄膜の形成方法と、有機ＥＬ装置の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の薄膜の形成方法は、薄膜形成材料となる固形分と溶媒あるいは分散媒とを含む第１の液状体を、液滴吐出法で基板上に配し、第１の液状膜を形成する工程と、
前記第１の液状膜を、前記第１の液状体の溶媒あるいは分散媒の飽和蒸気圧より高い圧力雰囲気で乾燥し、第１の乾燥膜を形成する工程と、
前記第１の乾燥膜上に、薄膜形成材料となる固形分と溶媒あるいは分散媒とを含む第２の液状体を液滴吐出法で配し、第２の液状膜を形成する工程と、
前記第２の液状膜および前記第１の乾燥膜を、前記第２の液状体の溶媒あるいは分散媒の飽和蒸気圧以下の圧力雰囲気で乾燥し、前記第２の液状膜および前記第１の乾燥膜からなる薄膜を形成する工程と、を備えたことを特徴としている。
なお、前記の溶媒あるいは分散媒の飽和蒸気圧とは、特に断らない限り本発明においては、乾燥を行うときの環境温度での飽和蒸気圧とする。
【０００８】
この薄膜の形成方法によれば、第１の液状膜を、第１の液状体の溶媒あるいは分散媒の飽和蒸気圧より高い圧力雰囲気で乾燥して第１の乾燥膜を形成するので、前記の溶媒あるいは分散媒が十分に気化されず、したがってこの乾燥工程では十分に乾燥が進むことなく、溶媒あるいは分散媒が比較的多く残留する。そして、このような第１の乾燥膜上に第２の液状膜を形成するので、第１の乾燥膜中には溶媒あるいは分散媒が比較的多く残留することにより、この第１の乾燥膜は少なくともその表層部が、第２の液状膜中の溶媒あるいは分散媒によって再溶解（再分散）する。よって、その後第２の液状体の溶媒あるいは分散媒の飽和蒸気圧以下の圧力雰囲気で乾燥することにより、第２の液状体と少なくとも表層部が再溶解（再分散）した前記第１の乾燥膜とが同時に乾燥し、これによってこれらの間に界面が形成されない均一な薄膜が得られる。
すなわち、所望の厚さを得るべく、複数回に分けて成膜を行うにもかかわらず、界面が形成されないことで、膜本来の機能が損なわれない良好な薄膜を、液滴吐出法で形成することができる。
【０００９】
また、前記薄膜の形成方法においては、前記薄膜を、前記基板上に形成された隔壁によって区画された区画領域に、前記液状体を配すことで形成するようにしてもよい。
このようにすれば、１回の塗布量が隔壁の高さによって制限されるものの、複数回に分けて成膜を行うことが可能なため、液滴吐出法による良好な薄膜の形成が可能になる。
【００１０】
また、前記薄膜の形成方法においては、前記第１の液状体の溶媒あるいは分散媒と、前記第２の液状体の溶媒あるいは分散媒とが同じであってもよく、また、異なっていてもよい。
そして、第１の液状体の溶媒あるいは分散媒と、第２の液状体の溶媒あるいは分散媒とが異なっている場合、前記第２の液状体の溶媒あるいは分散媒の飽和蒸気圧が、前記第１の液状体の溶媒あるいは分散媒の飽和蒸気圧より低いのが好ましい。
このようにすれば、前記の薄膜を形成する工程において、前記第２の液状膜および前記第１の乾燥膜を、前記第２の液状体の溶媒あるいは分散媒の飽和蒸気圧以下の圧力雰囲気で乾燥するので、第１の乾燥膜中に残留する溶媒あるいは分散媒についても、得られる薄膜中から良好に乾燥除去することができる。
【００１１】
また、前記薄膜の形成方法において、前記第１の乾燥膜を形成する工程では、形成する第１の乾燥膜中の前記溶媒あるいは分散媒の重量濃度が、１００ｐｐｍ以上５０％以下になるように乾燥を行うのが好ましい。
形成する第１の乾燥膜中の前記溶媒あるいは分散媒の重量濃度が１００ｐｐｍ未満では、第１の乾燥膜中に残留する溶媒あるいは分散媒が少ないことにより、この第１の乾燥膜上に第２の液状膜を形成した際、第１の乾燥膜の表層部の再溶解（再分散）が起こりにくくなり、したがって第１の液状体からなる膜と第２の液状体からなる膜との間に界面が形成され易くなってしまう。また、５０％を超えると、例えば薄膜を隔壁で区画された区画領域に形成する場合に、この第１の乾燥膜の厚さが厚くなり過ぎ、第２の液状体を配する空間が前記隔壁内に十分に確保されなくなってしまい、液滴吐出法による良好な薄膜の形成が困難になる。そこで、第１の乾燥膜を前記した範囲に乾燥することにより、薄膜の形成をより良好に行うことが可能になる。
【００１２】
本発明の有機ＥＬ装置の製造方法は、複数の画素領域が隔壁によって区画されてなり、前記画素領域に、第１電極と第２電極と、これら第１電極と第２電極との間に配設された少なくとも有機発光層を含む機能層と、を有する有機ＥＬ素子を備えた有機ＥＬ装置の製造方法であって、
前記機能層を構成する機能膜の形成材料となる固形分と溶媒あるいは分散媒とを含む第１の液状体を、液滴吐出法で前記画素領域内に配し、第１の液状膜を形成する工程と、
前記第１の液状膜を、前記第１の液状体の溶媒あるいは分散媒の飽和蒸気圧より高い圧力雰囲気で乾燥し、第１の乾燥膜を形成する工程と、
前記第１の乾燥膜上に、前記機能層を構成する機能膜の形成材料となる固形分と溶媒あるいは分散媒とを含む第２の液状体を液滴吐出法で配し、第２の液状膜を形成する工程と、
前記第２の液状膜および前記第１の乾燥膜を、前記第２の液状体の溶媒あるいは分散媒の飽和蒸気圧以下の圧力雰囲気で乾燥し、前記第２の液状膜および前記第１の乾燥膜からなる前記機能膜を形成する工程と、を備えたことを特徴としている。
なお、前記の溶媒あるいは分散媒の飽和蒸気圧とは、特に断らない限り本発明においては、乾燥を行うときの環境温度での飽和蒸気圧とする。
【００１３】
この有機ＥＬ装置の製造方法によれば、第１の液状膜を、第１の液状体の溶媒あるいは分散媒の飽和蒸気圧より高い圧力雰囲気で乾燥して第１の乾燥膜を形成するので、前記の溶媒あるいは分散媒が十分に気化されず、したがってこの乾燥工程では十分に乾燥が進むことなく、溶媒あるいは分散媒が比較的多く残留する。そして、このような第１の乾燥膜上に第２の液状膜を形成するので、第１の乾燥膜中には溶媒あるいは分散媒が比較的多く残留することにより、この第１の乾燥膜は少なくともその表層部が、第２の液状膜中の溶媒あるいは分散媒によって再溶解（再分散）する。よって、その後第２の液状体の溶媒あるいは分散媒の飽和蒸気圧以下の圧力雰囲気で乾燥することにより、第２の液状体と少なくとも表層部が再溶解（再分散）した前記第１の乾燥膜とが同時に乾燥し、これによってこれらの間に界面が形成されない均一な機能膜が得られる。
すなわち、所望の厚さを得るべく、複数回に分けて成膜を行うにもかかわらず、界面が形成されないことで、膜本来の機能が損なわれない良好な機能膜を、液滴吐出法で形成することができる。
【００１４】
また、前記有機ＥＬ装置の製造方法においては、前記機能膜が有機発光層であるのが好ましい。
このようにすれば、良好な機能を有する有機発光層を形成することができ、したがって優れた発光特性を有する有機ＥＬ装置を製造することができる。
【００１５】
また、前記有機ＥＬ装置の製造方法においては、前記第１の液状体の溶媒あるいは分散媒と、前記第２の液状体の溶媒あるいは分散媒とが同じであってもよく、また、異なっていてもよい。
そして、第１の液状体の溶媒あるいは分散媒と、第２の液状体の溶媒あるいは分散媒とが異なっている場合、前記第２の液状体の溶媒あるいは分散媒の飽和蒸気圧が、前記第１の液状体の溶媒あるいは分散媒の飽和蒸気圧より低いのが好ましい。
このようにすれば、前記の機能膜を形成する工程において、前記第２の液状膜および前記第１の乾燥膜を、前記第２の液状体の溶媒あるいは分散媒の飽和蒸気圧以下の圧力雰囲気で乾燥するので、第１の乾燥膜中に残留する溶媒あるいは分散媒についても、得られる機能膜中から良好に乾燥除去することができる。
【００１６】
また、前記有機ＥＬ装置の製造方法において、前記第１の乾燥膜を形成する工程では、形成する第１の乾燥膜中の前記溶媒あるいは分散媒の重量濃度が、１００ｐｐｍ以上５０％以下になるように乾燥を行うのが好ましい。
形成する第１の乾燥膜中の前記溶媒あるいは分散媒の重量濃度が１００ｐｐｍ未満では、第１の乾燥膜中に残留する溶媒あるいは分散媒が少ないことにより、この第１の乾燥膜上に第２の液状膜を形成した際、第１の乾燥膜の表層部の再溶解（再分散）が起こりにくくなり、したがって第１の液状体からなる膜と第２の液状体からなる膜との間に界面が形成され易くなってしまう。また、５０％を超えると、この第１の乾燥膜の厚さが厚くなり過ぎ、第２の液状体を配する空間が隔壁内において十分に確保されなくなってしまい、液滴吐出法による良好な薄膜の形成が困難になる。よって、第１の乾燥膜を前記した範囲に乾燥することにより、薄膜の形成をより良好に行うことが可能になる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下、本発明を詳しく説明する。
（有機ＥＬ装置）
図１〜図３は、本発明の製造方法によって得られる有機ＥＬ装置の一例を示す図であり、図１は有機ＥＬ装置の配線構造を示す説明図、図２は、図１に示した有機ＥＬ装置の平面模式図、図３は、図１に示した有機ＥＬ装置の要部の断面模式図である。なお、図１〜図３に示す有機ＥＬ装置は、画素領域を縦横に配置するアクティブマトリクス構造としたが、本発明の製造方法は、画素領域をストライプ状に配置してなる構造にも適用可能なのはもちろんである。
【００１８】
図１に示すように、本例の有機ＥＬ装置１は、複数の走査線１０１と、走査線１０１に対して交差する方向に延びる複数の信号線１０２と、信号線１０２に並列に延びる複数の電源線１０３とがそれぞれ配線された構成を有するとともに、走査線１０１及び信号線１０２の各交点付近に、画素領域Ａを形成したものである。
【００１９】
信号線１０２には、シフトレジスタ、レベルシフタ、ビデオライン及びアナログスイッチを備えるデータ側駆動回路１０４が接続されている。走査線１０１には、シフトレジスタ及びレベルシフタを備える走査側駆動回路１０５が接続されている。また、画素領域Ａの各々には、走査線１０１を介して走査信号がゲート電極に供給されるスイッチング用の薄膜トランジスタ１１２と、このスイッチング用の薄膜トランジスタ１１２を介して信号線１０２から供給される画素信号を保持する保持容量ｃａｐと、該保持容量ｃａｐによって保持された画素信号がゲート電極に供給される駆動用の薄膜トランジスタ１１３と、この駆動用薄膜トランジスタ１１３を介して電源線１０３に電気的に接続したときに該電源線１０３から駆動電流が流れ込む陽極（画素電極）１１１と、この画素電極１１１と陰極（対向電極）１２との間に挟み込まれた機能層１１０とが設けられている。
なお、陽極（画素電極）１１１と陰極（対向電極）１２と機能層１１０とを備えてなることにより、有機ＥＬ素子が構成されている。
【００２０】
このような構成によれば、走査線１０１が駆動されてスイッチング用の薄膜トランジスタ１１２がオンになると、そのときの信号線１０２の電位が保持容量ｃａｐに保持され、該保持容量ｃａｐの状態に応じて、駆動用の薄膜トランジスタ１１３のオン・オフ状態が決まる。そして、駆動用の薄膜トランジスタ１１３のチャネルを介して、電源線１０３から画素電極１１１に電流が流れ、さらに機能層１１０を介して陰極１２に電流が流れる。すると、機能層１１０はこれを流れる電流量に応じて発光する。
【００２１】
また、図２及び図３に示すように本例の有機ＥＬ装置１は、ガラス等からなる透明な基板２と、マトリックス状に配置された有機ＥＬ素子とを具備して構成されている。
図３に示すように基板２上に形成される有機ＥＬ素子３は、画素電極１１１と、正孔注入層６０と正孔輸送層６５と発光層（有機発光層）７０からなる機能層１１０と、陰極１２とによって構成されている。
また、基板２の厚さ方向において、前記有機ＥＬ素子３を含むＥＬ素子部１０と基板２との間には、回路素子部１４が形成されている。この回路素子部１４には、前述の走査線、信号線、保持容量、スイッチング用の薄膜トランジスタ、駆動用の薄膜トランジスタ１２３等が形成されている。
【００２２】
また、陰極１２は、その一端が基板２上に形成された陰極用配線（図示略）に接続されており、図２に示すように、この配線の一端部１２ａがフレキシブル基板５上の配線５ａに接続されている。なお、この配線５ａは、フレキシブル基板５上に備えられた駆動ＩＣ６（駆動回路）に接続されている。
【００２３】
また、本例の有機ＥＬ装置１は、機能層１１０から基板２側に発した光が、回路素子部１４及び基板２を透過して基板２の外側（観測者側）に出射されるとともに、機能層１１０から基板２と反対の側に発した光も、陰極１２に反射されて回路素子部１４及び基板２を透過し、基板２の外側（観測者側）に出射される、いわゆるボトムエミッション型となっている。
【００２４】
図３に示すように回路素子部１４には、基板２上にＳｉＯ２を主体とする下地保護層２８１が下地として形成され、その上にはシリコン層２４１が形成されている。このシリコン層２４１の表面には、ＳｉＯ２及び／又はＳｉＮを主体とするゲート絶縁層２８２が形成されている。
また、前記シリコン層２４１のうち、ゲート絶縁層２８２を挟んでゲート電極２４２と重なる領域が、チャネル領域２４１ａとされている。なお、このゲート電極２４２は、図示しない走査線の一部である。一方、シリコン層２４１を覆い、ゲート電極２４２を形成したゲート絶縁層２８２の表面には、ＳｉＯ２を主体とする第１層間絶縁層２８３が形成されている。
【００２５】
また、シリコン層２４１のうち、チャネル領域２４１ａのソース側には、低濃度ソース領域２４１ｂおよび高濃度ソース領域２４１Ｓが設けられる一方、チャネル領域２４１ａのドレイン側には低濃度ドレイン領域２４１ｃおよび高濃度ドレイン領域２４１Ｄが設けられて、いわゆるＬＤＤ（Light Doped Drain ）構造となっている。これらのうち、高濃度ソース領域２４１Ｓは、ゲート絶縁層２８２と第１層間絶縁層２８３とにわたって開孔するコンタクトホール２４３ａを介して、ソース電極２４３に接続されている。このソース電極２４３は、電源線（図示せず）の一部として構成されている。一方、高濃度ドレイン領域２４１Ｄは、ゲート絶縁層２８２と第１層間絶縁層２８３とにわたって開孔するコンタクトホール２４４ａを介して、ソース電極２４３と同一層からなるドレイン電極２４４に接続されている。
【００２６】
ソース電極２４３およびドレイン電極２４４が形成された第１層間絶縁層２８３の上層には、平坦化膜２８４が形成されている。この平坦化膜２８４は、アクリル系やポリイミド系等の、耐熱性絶縁性樹脂などによって形成されたもので、駆動用ＴＦＴ１２３やソース電極２４３、ドレイン電極２４４などによる表面の凹凸をなくすために形成された公知のものである。
【００２７】
そして、この平坦化膜２８４の表面上には画素電極（陽極）１１１が形成されており、この画素電極１１１は、前記平坦化膜２８４に設けられたコンタクトホール１１１ａを介してドレイン電極２４４に接続されている。すなわち、画素電極１１１は、ドレイン電極２４４を介して、シリコン層２４１の高濃度ドレイン領域２４１Ｄに接続されている。なお、画素電極１１１は、ボトムエミッション型である本実施形態では、透明導電材料によって形成され、具体的にはＩＴＯが好適に用いられている。
【００２８】
画素電極１１１が形成された平坦化膜２８４の表面上には、画素電極１１１と、これの周縁部を覆う第１隔壁部２５とが形成されており、さらにこの第１隔壁部２５上には、第２隔壁部２２１が形成されている。第１隔壁部２５は、ＳｉＯ２からなる無機隔壁となっている。また、第２隔壁部２２１は、アクリル樹脂からなる有機隔壁となっており、画素領域を区画するための隔壁となっている。
【００２９】
このような第２隔壁部２２１の開口部内（画素領域）には、それぞれ機能層１１０が設けられている。機能層１１０は、前述したように正孔注入層６０と正孔輸送層６５と発光層（有機発光層）７０Ｒ（７０Ｇ、７０Ｂ）とが、画素電極（陽極）１１１側からこの順で積層されて形成されたもので、これら正孔注入層６０、正孔輸送層６５、発光層７０Ｒ（７０Ｇ、７０Ｂ）が、それぞれ本発明における機能膜となっている。
【００３０】
正孔注入層６０は、その形成材料として、特に３，４−ポリエチレンジオキシチオフェン−ポリスチレンスルフォン酸（ＰＥＤＯＴ−ＰＳＳ）を含有する液、すなわち、分散媒としてのポリスチレンスルフォン酸に３，４−ポリエチレンジオキシチオフェンを分散させ、さらにこれをグリコールエーテル系の溶媒、例えばジエチレングリコールと、水とに分散させあるいは溶解させた液状体が好適に用いられ、形成されたものである。また、この正孔注入層６０は、本例では厚さが５０ｎｍ程度に形成されている。
正孔輸送層６５は、芳香族アミン系ポリマーからなるもので、厚さが１０ｎｍ程度に形成されたものである。
【００３１】
発光層７０Ｒ、７０Ｇ、７０Ｂは、その形成材料として、蛍光あるいは燐光を発光することが可能な公知の発光材料が用いられており、本例では、ポリオレフィン系ポリマー蛍光材料によって形成されたものである。これら発光層７０Ｒ（７０Ｇ、７０Ｂ）は、後述するようにポリオレフィン系ポリマー蛍光材料を固形分とし、これを溶解する溶媒として、シクロヘキシルベンゼンやトリメチルベンゼンなどを用いた溶液（液状体）により、インクジェット法（液滴吐出法）で形成されたものである。また、これら発光層７０Ｒ、７０Ｇ、７０Ｂは、本例では厚さが１００ｎｍ程度に形成されている。なお、前記のポリオレフィン系ポリマー蛍光材料としては、当然ながら赤色の発光層７０Ｒでは赤色発光材料が、緑色の発光層７０Ｇでは緑色発光材料が、青色の発光層７０Ｂでは青色発光材料が用いられている。
【００３２】
陰極１２は、前記発光層７０を覆って形成されたもので、Ｃａからなる厚さ５ｎｍ程度の電子注入層（図示せず）と、Ａｌからなる厚さ３００ｎｍ程度の陰極層（図示せず）とが積層されたことで形成されたものである。なお、陰極１２についても透明な材料を用いれば、発光した光を陰極側からも出射させることができる。透明な材料としては、ＩＴＯ、Ｐｔ、Ｉｒ、Ｎｉ、もしくはＰｄを用いることができる。
また、この陰極１２上には、接着層５１を介して封止基板（図示せず）が貼着されている。
【００３３】
なお、前記機能層１１０において正孔注入層６０は、画素電極１１１から正孔を正孔輸送層６５に注入する機能を有し、正孔輸送層６５は、注入された正孔を発光層７０Ｒ（７０Ｇ、７０Ｂ）に輸送する機能を有している。このような正孔注入層６０及び正孔輸送層６５を画素電極１１１と発光層７０Ｒ（７０Ｇ、７０Ｂ）との間に設けることにより、発光層７０Ｒ（７０Ｇ、７０Ｂ）の発光効率、寿命等の素子特性を向上させることができる。発光層７０Ｒ（７０Ｇ、７０Ｂ）は、正孔注入層６０、正孔輸送層６５を経て注入された正孔と、陰極１２から注入された電子とを再結合させ、発光をなすようになっている。
【００３４】
（有機ＥＬ装置の製造方法）
次に、このような構成の有機ＥＬ装置１の製造方法に基づき、本発明の有機ＥＬ装置の製造方法の第１実施形態について説明する。
この方法では、まず、従来と同様にして基板２上に回路素子部１４を形成する。そして、基板２の全面を覆うように画素電極１１１となる透明導電膜を、ＩＴＯによって形成する。次いで、この導電膜をパターニングすることにより、図４（ａ）に示すように平坦化膜２８４のコンタクトホール１１１ａを介してドレイン電極２４４（図示せず）と導通する画素電極１１１を形成する。
【００３５】
次いで、画素電極１１１上および平坦化膜２８４上に、ＳｉＯ２等の無機絶縁材料をＣＶＤ法等で成膜して第１隔壁層（図示せず）を形成し、続いて、公知のホトリソグラフィー技術、エッチング技術を用いて隔壁層をパターニングする。これにより、図４（ｂ）に示すように、形成する各有機ＥＬ素子３の画素領域毎に開口部（図示略）を形成した、第１隔壁部２５を形成する。
【００３６】
次いで、第１隔壁部２５を覆って、アクリル樹脂を成膜して第２隔壁層（図示せず）を形成し、続いて、この第２隔壁層を公知のホトリソグラフィー技術、エッチング技術を用いてパターニングし、図４（ｃ）に示すように第１隔壁部２５上の所定位置、詳しくは画素領域を区画する位置に第２隔壁部２２１を形成する。
【００３７】
次いで、このようにして画素電極１１１と第１隔壁部２５と第２隔壁部２２１とを形成した側の面を酸素プラズマ処理し、その表面に付着した有機物等の汚染物を除去して濡れ性を向上させる。具体的には、基板２を所定温度、例えば７０〜８０℃程度に加熱し、続いて大気圧下で酸素を反応ガスとするプラズマ処理（Ｏ２プラズマ処理）を行う。
【００３８】
次いで、撥液化処理を行うことにより、特に第２隔壁部２２１の上面及び側面の濡れ性を低下させる。具体的には、大気圧下で４フッ化メタンを反応ガスとするプラズマ処理（ＣＦ４プラズマ処理）を行い、その後、プラズマ処理のために加熱された基板２を室温まで冷却することで、有機隔壁２２１の上面及び側面を撥液化し、その濡れ性を低下させる。
なお、このＣＦ４プラズマ処理においては、画素電極１１１の露出面および無機隔壁２５についても多少の影響を受けるが、画素電極１１１の材料であるＩＴＯおよび無機隔壁２５の構成材料であるＳｉＯ２などはフッ素に対する親和性に乏しいため、酸素プラズマ処理で濡れ性が向上した面は濡れ性がそのままに保持される。
【００３９】
次いで、前記第２隔壁部２２１に囲まれた各画素領域に、正孔注入層６０を形成する。この正孔注入層６０の形成工程では、スピンコート法や液滴吐出法が採用されるが、本実施形態では、第２隔壁部２２１に囲まれた領域に正孔注入層６０の形成材料を選択的に配する必要上、特に液滴吐出法であるインクジェット法が好適に採用される。そして、このインクジェット法により、正孔注入層６０の形成材料であるＰＥＤＯＴ−ＰＳＳの分散液を前記画素電極１１１の露出面上に配し、続いて真空乾燥処理を施し、その後、２００℃で１０分の熱処理を行うことにより、正孔注入層６０を厚さ５０ｎｍ程度に形成する。なお、ＰＥＤＯＴ−ＰＳＳの分散液としては、ＰＥＤＯＴ：ＰＳＳが１：５０（重量比）であり、固形分濃度が０．５重量％、溶媒（分散媒）としてジエチレングリコールが５０重量％、残量が純水であるものを用いている。
【００４０】
次いで、図４（ｄ）に示すように、前記正孔注入層６０の上に正孔輸送層６５を形成する。この正孔輸送層６５の形成工程でも、液滴吐出法であるインクジェット法が好適に採用される。そして、このインクジェット法により、正孔輸送層６５の形成材料である溶液（液状体）、本例では芳香族アミン系ポリマーをシクロヘキシルベンゼンに溶解した溶液を、前記正孔注入層６０上に配し、続いて真空乾燥処理を施す。その後、窒素雰囲気にて１３０℃で１時間の熱処理を行うことにより、正孔輸送層６５を厚さ１０ｎｍ程度に形成する。
【００４１】
次いで、前記正孔輸送層６５上に発光層７０Ｒ、７０Ｇ、７０Ｂを形成する。ここで、この発光層７０Ｒ、７０Ｇ、７０Ｂの形成工程は、本発明の薄膜の形成方法の第１実施形態ともなっており、本実施形態では、所望の厚さの発光層７０Ｒ、７０Ｇ、７０Ｂを形成するべく、この厚さに対応する固形分の全量を含有した液状体（インク）を、約半分ずつ２回に分けて配するようにしている。つまり、第１の液状体の塗布（吐出配置）とその乾燥、及び第２の液状体の塗布（吐出配置）とその乾燥の、２回の成膜処理を行うようにしている。
【００４２】
まず、図５（ａ）に示すように前記正孔注入層６０の上に、発光層７０Ｒ（７０Ｇ、７０Ｂ）の形成材料である第１の液状体７１ａを、液滴吐出ヘッドＨよりインクジェット法（液滴吐出法）で前記第２隔壁部２２１内の正孔輸送層６５上、つまり画素領域内に所定量吐出し配置し、第１の液状膜７１を形成する。ここで、第１の液状体７１ａは、ポリオレフィン系ポリマー蛍光材料を固形分とし、これを溶解する溶媒として、シクロヘキシルベンゼンを用いたものとする。また、この第１の液状体７１ａの吐出量である前記所定量としては、前記したように予め設定した液状体の量（設定した固形分を全量含む液状体の量）の約半分とする。なお、溶媒として用いたシクロヘキシルベンゼンの飽和蒸気圧は、２０℃にて約７Ｐａであり、また、その沸点は２４０℃である。
【００４３】
続いて、この第１の液状膜７１を２０℃の環境温度下で乾燥処理し、図５（ｂ）に示すように第１の乾燥膜７２を形成する。この乾燥処理では、真空チャンバー内において、前記第１の液状体７１ａの溶媒、すなわちシクロヘキシルベンゼンの飽和蒸気圧より高い圧力雰囲気で乾燥する。本実施形態では、スクロールポンプを用いて真空引きし、乾燥雰囲気の圧力を大気圧から５０Ｐａにまで減圧することで、乾燥処理を行った。このように、第１の液状体７１ａの溶媒の飽和蒸気圧より高い圧力雰囲気で乾燥すると、溶媒が十分に気化されず、したがってこの乾燥工程では十分に乾燥が進まず、第１の乾燥膜７２には溶媒が比較的多く残留する。そこで、この乾燥処理では、形成する第１の乾燥膜７２中の前記溶媒の重量濃度を、１００ｐｐｍ以上５０％以下になるようにした。なお、この乾燥処理の時間は２０分とした。
【００４４】
次いで、図５（ｃ）に示すように前記第１の乾燥膜７２上に、発光層７０Ｒ（７０Ｇ、７０Ｂ）の形成材料である第２の液状体７３ａを、液滴吐出ヘッドＨよりインクジェット法（液滴吐出法）で所定量吐出し配置し、第２の液状膜７３を形成する。ここで、第２の液状体７３ａは、前記第１の液状体７１ａと同じ成分のものとする。また、その吐出量である前記所定量としては、予め設定した液状体の量（設定した固形分を全量含む液状体の量）の残り約半分とする。このようにして第１の乾燥膜７２上に第２の液状膜７３を形成すると、前記したように第１の乾燥膜７２中には溶媒が比較的多く残留していることにより、この第１の乾燥膜７２は少なくともその表層部が、第２の液状膜７３中の溶媒によって再溶解する。
【００４５】
続いて、この第２の液状膜７３と前記第１の乾燥膜７２とを２０℃の環境温度下で共に乾燥処理し、図５（ｄ）に示すように発光層７０Ｒ（７０Ｇ、７０Ｂ）を厚さ１００ｎｍ程度に形成する。この乾燥処理では、真空チャンバー内において、前記第２の液状体７３ａの溶媒であるシクロヘキシルベンゼンの飽和蒸気圧以下の圧力雰囲気で乾燥する。本実施形態では、スクロールポンプとメカニカルブースターポンプとを用いて真空引きし、乾燥雰囲気の圧力を大気圧から１Ｐａにまで減圧することで、乾燥処理を行った。なお、この乾燥処理の時間は２０分であった。
このように、第２の液状体７３ａの溶媒の飽和蒸気圧以下の圧力雰囲気で乾燥すると、第２の液状体７３ａ（第２の液状膜７３）と表層部が再溶解した前記第１の乾燥膜７２とが同時に乾燥し、これによってこれらの間に界面が形成されない均一な薄膜となる。
その後、窒素雰囲気中にて１３０℃で１時間加熱処理し、発光層７０Ｒ（７０Ｇ、７０Ｂ）に残留する溶媒を除去する。
【００４６】
したがって、このようにして発光層７０Ｒ（７０Ｇ、７０Ｂ）を形成すると、所望の厚さを得るべく、２回（複数回）に分けて成膜を行うにもかかわらず、界面が形成されないことで、膜本来の機能が損なわれることなく、良好な発光機能を有する発光層７０Ｒ（７０Ｇ、７０Ｂ）が得られる。
【００４７】
また、特に前記第１の液状膜７１の乾燥処理において、形成する第１の乾燥膜７２中の前記溶媒の重量濃度を、１００ｐｐｍ以上５０％以下になるようにしたので、発光層７０Ｒ（７０Ｇ、７０Ｂ）の形成がより良好になる。すなわち、形成する第１の乾燥膜７２中の前記溶媒の重量濃度が１００ｐｐｍ未満では、第１の乾燥膜７２中に残留する溶媒が少ないことにより、この第１の乾燥膜７２上に第２の液状膜７３を形成した際、第１の乾燥膜７２の表層部の再溶解が起こりにくくなり、したがって第１の液状体７１ａからなる膜と第２の液状体７３ａからなる膜との間に界面が形成され易くなってしまう。また、５０％を超えると、この第１の乾燥膜７２の厚さが厚くなり過ぎ、第２の液状体７３ａを配する空間が第２隔壁部２２１内（画素領域内）において十分に確保されなくなってしまい、液滴吐出法による良好な膜形成が困難になる。よって、第１の乾燥膜７２を前記した範囲に乾燥することにより、発光層７０Ｒ（７０Ｇ、７０Ｂ）の形成をより良好に行うことが可能いなる。
【００４８】
次いで、前記各発光層７０Ｒ、７０Ｇ、７０Ｂ及び第２隔壁部２２１を覆って蒸着法でカルシウム（Ｃａ）を５ｎｍ程度の厚さに成膜し、続いてアルミニウム（Ａｌ）を３００ｎｍ程度の厚さに成膜することにより、図３に示したように陰極１２を形成する。なお、この陰極１２の形成では、蒸着法で行うことにより、画素領域にのみ選択的に形成するのでなく、基板２のほぼ全面に陰極１２を形成する。
その後、前記陰極１２上に接着層５１を形成し、さらにこの接着層５１によって封止基板（図示せず）を接着し、封止を行う。これにより、本例の有機ＥＬ装置１を得る。
【００４９】
このような有機ＥＬ装置１の製造方法にあっては、第１の液状膜７１を、第１の液状体７１ａの溶媒の飽和蒸気圧より高い圧力雰囲気で乾燥して第１の乾燥膜７２を形成するので、前記の溶媒が十分に気化されず、したがってこの乾燥工程では十分に乾燥が進むことなく、溶媒が比較的多く残留する。そして、このような第１の乾燥膜７２上に第２の液状膜７３を形成するので、第１の乾燥膜７２中には溶媒が比較的多く残留することにより、この第１の乾燥膜７２は少なくともその表層部が、第２の液状膜中の溶媒によって再溶解する。よって、その後第２の液状体７３ａの溶媒の飽和蒸気圧以下の圧力雰囲気で乾燥することにより、第２の液状体７３ａと少なくとも表層部が再溶解した前記第１の乾燥膜７２とが同時に乾燥し、これによってこれらの間に界面が形成されない均一な発光層７０Ｒ（７０Ｇ、７０Ｂ）が得られる。
すなわち、所望の厚さを得るべく、２回（複数回）に分けて成膜を行うにもかかわらず、界面が形成されないことで、膜本来の機能が損なわれない良好な発光層７０Ｒ（７０Ｇ、７０Ｂ）を、液滴吐出法（インクジェット法）で形成することができる。
【００５０】
次に、本発明の有機ＥＬ装置の製造方法の、第２実施形態について説明する。
この第２実施形態が前記第１実施形態と主に異なるところは、第１実施形態では第１の液状体７１ａ及び第２の液状体７３ａの溶媒として、共にシクロヘキシルベンゼンを用いたのに対し、この第２実施形態では、これら第１の液状体７１ａ及び第２の液状体７３ａの溶媒として、２０℃での飽和蒸気圧が２２０Ｐａのトリメチルベンゼンを用いた点にある。
【００５１】
すなわち、この第２実施形態では、前記正孔輸送層６５上に発光層７０Ｒ、７０Ｇ、７０Ｂを形成するに際し、まず、図５（ａ）に示したように前記正孔注入層６０の上に、第１の液状体７１ａを正孔輸送層６５上に所定量吐出し配置し、第１の液状膜７１を形成する。
【００５２】
続いて、この第１の液状膜７１を乾燥処理し、図５（ｂ）に示したように第１の乾燥膜７２を形成する。この乾燥処理においても、前記第１の液状体７１ａの溶媒、すなわちトリメチルベンゼンの飽和蒸気圧より高い圧力雰囲気で乾燥するが、特に本実施形態では、減圧することなく大気圧下で乾燥処理を行う。このように大気圧下で乾燥すると、溶媒が十分に気化されず、したがってこの乾燥工程でも十分に乾燥が進まず、第１の乾燥膜７２には溶媒が比較的多く残留する。そこで、この乾燥処理でも、形成する第１の乾燥膜７２中の前記溶媒の重量濃度を、１００ｐｐｍ以上５０％以下になるようにした。なお、この乾燥処理の時間、すなわち大気放置時間は１０分とした。
【００５３】
次いで、図５（ｃ）に示したように前記第１の乾燥膜７２上に、第２の液状体７３ａを所定量吐出し配置し、第２の液状膜７３を形成する。
続いて、この第２の液状膜７３と前記第１の乾燥膜７２とを共に乾燥処理し、図５（ｄ）に示すように発光層７０Ｒ（７０Ｇ、７０Ｂ）を厚さ１００ｎｍ程度に形成する。この乾燥処理では、前記第２の液状体７３ａの溶媒であるトリメチルベンゼンの飽和蒸気圧以下の圧力雰囲気で乾燥する。本実施形態では、前記第１実施形態と同様に、スクロールポンプとメカニカルブースターポンプとを用いて真空引きし、乾燥雰囲気の圧力を大気圧から１Ｐａにまで減圧することで、乾燥処理を行った。
【００５４】
このようにして形成することで、得られる発光層７０Ｒ（７０Ｇ、７０Ｂ）は、前記第１実施形態と同様に２回（複数回）に分けて成膜を行うにもかかわらず、界面が形成されないことで、膜本来の機能が損なわれない良好なものとなる。
【００５５】
次に、本発明の有機ＥＬ装置の製造方法の、第３実施形態について説明する。
この第３実施形態が前記第１実施形態と主に異なるところは、第１実施形態では第１の液状体７１ａの溶媒と、第２の液状体７３ａの溶媒とを同じにしたのに対し、これら第１の液状体７１ａの溶媒と、第２の液状体７３ａの溶媒とを異ならせた点にある。すなわち、この第３実施形態では、第１の液状体７１ａの溶媒として前記トリメチルベンゼンを用い、第２の液状体７３ａの溶媒として前記シクロヘキシルベンゼンを用いている。
【００５６】
この第３実施形態では、前記正孔輸送層６５上に発光層７０Ｒ、７０Ｇ、７０Ｂを形成するに際し、まず、図５（ａ）に示したように前記正孔注入層６０の上に、第１の液状体７１ａを正孔輸送層６５上に所定量吐出し配置し、第１の液状膜７１を形成する。
続いて、この第１の液状膜７１を、前記第２実施形態と同様に減圧することなく大気圧下で乾燥処理し、図５（ｂ）に示したように第１の乾燥膜７２を形成する。
【００５７】
次いで、図５（ｃ）に示したように前記第１の乾燥膜７２上に、第２の液状体７３ａを所定量吐出し配置し、第２の液状膜７３を形成する。
続いて、この第２の液状膜７３と前記第１の乾燥膜７２とを前記第１実施形態と同様にして共に乾燥処理し、図５（ｄ）に示すように発光層７０Ｒ（７０Ｇ、７０Ｂ）を厚さ１００ｎｍ程度に形成する。
【００５８】
このようにして形成することで、得られる発光層７０Ｒ（７０Ｇ、７０Ｂ）は、前記第１実施形態と同様に２回（複数回）に分けて成膜を行うにもかかわらず、界面が形成されないことで、膜本来の機能が損なわれない良好なものとなる。
【００５９】
（実験例１）
ガラス基板上に、第１実施形態における第１の液状体７１ａを吐出配置し、続いて、第１実施形態と同様にしてその乾燥を行うことにより、第１の乾燥膜を得た。その後、得られた第１の乾燥膜を３００℃で加熱し、蒸発してきた気体を回収した。
また、同様にガラス基板上に、前記第１実施形態における第２の液状体７３ａを吐出配置し、続いて、第１実施形態と同様にしてその乾燥を行うことにより、第２の乾燥膜を得た。その後、得られた第２の乾燥膜を３００℃で加熱し、蒸発してきた気体を回収した。
そして、これらの処理をそれぞれ３回ずつ繰り返し、第１の乾燥膜、第２の乾燥膜からそれぞれ回収された気体を、ガスクロマトグラフィー（ＧＣ−ＭＳ）で分析し、回収ガス中のシクロヘキシルベンゼンの量を測定した。
【００６０】
得られた測定結果より、第１の乾燥膜から回収されたシクロヘキシルベンゼンの量と、第２の乾燥膜から回収されたシクロヘキシルベンゼンの量とを比較したところ、第１回目の処理では、第１の乾燥膜から回収されたシクロヘキシルベンゼンの量が、第２の乾燥膜から回収されたシクロヘキシルベンゼンの量の１２倍となり、同様に第２回目の処理では２０倍、第３回目の処理では１７倍となった。したがって、シクロヘキシルベンゼンの飽和蒸気圧より高い圧力雰囲気で乾燥した第１の乾燥膜中には、シクロヘキシルベンゼンの飽和蒸気圧以下の圧力雰囲気で乾燥した第２の乾燥膜中に比べ、多くの溶媒が残留することが確認された。
【００６１】
（実験例２）
前記第１実施形態、第２実施形態の有機ＥＬ装置について、それぞれ輝度寿命を測定した。
また、比較例１として、前記第１実施形態における第１の乾燥膜７２の乾燥条件を、この第１の乾燥膜７２と第２の液状膜７３とを同時に乾燥する際の乾燥条件（乾燥雰囲気の圧力を大気圧から１Ｐａにまで減圧する条件）に変えて、発光層を形成した。それ以外は、第１実施形態と同様にして、有機ＥＬ装置を製造した。そして、得られた有機ＥＬ装置について、前記第１実施形態、第２実施形態の場合と同様にして、その輝度寿命を測定した。
【００６２】
さらに、比較例２として、前記第２実施形態における第１の乾燥膜７２の乾燥条件（大気放置）を、この第１の乾燥膜７２と第２の液状膜７３とを同時に乾燥する際の乾燥条件（乾燥雰囲気の圧力を大気圧から１Ｐａにまで減圧する条件）に変えて、発光層を形成した。それ以外は、第２実施形態と同様にして、有機ＥＬ装置を製造した。そして、得られた有機ＥＬ装置について、前記第１実施形態、第２実施形態の場合と同様にして、その輝度寿命を測定した。
【００６３】
このようにしてそれぞれの輝度寿命を測定した結果、比較例１の有機ＥＬ装置は、第１実施形態の有機ＥＬ装置に比べてその輝度寿命が半分になり、また、比較例２の有機ＥＬ装置は、第２実施形態の有機ＥＬ装置に比べてその輝度寿命が１／３になった。
したがって、本発明の実施形態における有機ＥＬ装置の製造方法は、特に第１の乾燥膜７２の乾燥条件を規定することにより、良好な発光特性を有する発光層（機能膜）を形成できることが確認された。
【００６４】
なお、本発明は前記実施形態に限定されることなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の変更が可能である。
例えば、前記実施形態の有機ＥＬ装置の製造方法では、塗布及び乾燥による成膜を２回行うことで、発光層７０Ｒ、７０Ｇ、７０Ｂを形成したが、３回の以上成膜を行うことで形成するようにしてもよい。その場合には、最終回の成膜を、前記実施形態における２回目の条件で乾燥を行い、それ以前の成膜では、前記実施形態における１回目の条件で乾燥を行うようにする。
【００６５】
また、実施形態の有機ＥＬ装置の製造方法では、本発明の機能膜を発光層７０Ｒ、７０Ｇ、７０Ｂとしたが、正孔注入層６０や正孔輸送層６５を本発明の機能膜とし、これらを複数回に分けて成膜するようにしてもよい。
また、本発明の薄膜の形成方法は、前記の有機ＥＬ装置の機能層における機能膜の形成以外にも、種々の薄膜の形成に適用可能である。例えば、電極や配線となる薄膜を、金属微粒子を分散媒に分散させてなるインク（液状体）を用いて形成する方法や、その他各種の有機膜の形成方法などにも適用される。
【図面の簡単な説明】
【００６６】
【図１】有機ＥＬ装置の一実施形態の配線構造を示す説明図である。
【図２】図１の有機ＥＬ装置の平面模式図である。
【図３】図１の有機ＥＬ装置の要部断面模式図である。
【図４】（ａ）〜（ｄ）は図１の有機ＥＬ装置の製造方法を説明する工程図である。
【図５】（ａ）〜（ｄ）は図４に続く製造方法を説明する工程図である。
【符号の説明】
【００６７】
１…有機ＥＬ装置（電気光学装置）、２…基板、１２…陰極、６０…正孔注入層、６５…正孔輸送層、７０Ｒ、７０Ｇ、７０Ｂ…発光層（有機発光層、機能膜、薄膜）、７１…第１の液状膜、７１ａ…第１の液状体、７２…第１の乾燥膜、７３…第２の液状膜、７３ａ…第２の液状体、１１０…機能層、１１１…画素電極（陽極）、２２１…第２隔壁部（隔壁） 、Ｈ…液滴吐出ヘッド
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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