(57)【要約】【課題】物理的蒸着法よりも容易な方法で形成された透明導電膜を有し、かつ、ニュートンリングを抑制できる光学部材を提供する。【解決手段】光学部材２０は、透明な基材２１と透明導電塗膜２２とを備える。基材２１の主面２２１には、柱状の複数の凸部ＣＰが並設されている。透明導電塗膜２２は、導電性を有する無機酸化物粒子とバインダ樹脂とを含有する塗料を基材２１の主面２１に塗布することで形成される。透明導電塗膜２２の表面２２０は、凸部ＣＰの上に位置する複数のサブ凸部２２１と、各々が隣り合う凸部ＣＰ間に位置する複数のサブ凹部とを含む凹凸状である。透明導電塗膜２２の表面２２０の凹凸形状によりニュートンリングの発生を抑制する。【選択図】図３
2010160915.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
各々が頂上へ向かうにつれて狭くなる幅を有する複数の主凸部が形成された主面を有する基材と、
前記主面上に形成される透明導電塗膜とを備え、
前記透明導電塗膜は、前記主凸部上に形成されるサブ凸部と、隣り合う前記主凸部の間に形成されるサブ凹部とを含む凹凸状の表面を有し、前記サブ凸部の頂上における膜厚よりも、前記サブ凹部の底における膜厚の方が厚いことを特徴とする光学部材。
【請求項２】
請求項１に記載の光学部材であって、
前記透明導電塗膜は、
導電性を有する複数の無機酸化物粒子と、
樹脂とを含有することを特徴とする光学部材。
【請求項３】
請求項２に記載の光学部材であって、
前記透明導電塗膜は、前記無機酸化物粒子と前記樹脂とを含有する塗料を前記主面上に塗布することにより形成されることを特徴とする光学部材。
【請求項４】
請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の光学部材であって、
前記複数の主凸部は、各々が前記主面に沿って延在する尾根状であって、互いに並設されることを特徴とする光学部材。
【請求項５】
請求項４に記載の光学部材であってさらに、
前記透明導電塗膜上に形成され前記主凸部と交差する電極部材を備え、抵抗膜式のタッチパネル装置に用いられることを特徴とする光学部材。
【請求項６】
請求項４に記載の光学部材であって、
前記主凸部は蛇行していることを特徴とする光学部材。
【請求項７】
請求項５に記載の光学部材と、
前記光学部材と対向して配設され、電極部材を有する透明導電膜が表面に形成された当該他の光学部材と、
前記光学部材及び当該他の光学部材の電極部材と接続され、前記光学部材又は当該他の光学部材上における押圧位置を特定する制御装置とを備えることを特徴とする抵抗膜式タッチパネル装置。
【請求項８】
請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の光学部材であって、
前記複数の主凸部は、格子状に配列されていることを特徴とする光学部材。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学部材に関し、さらに詳しくは、抵抗膜式タッチパネル装置に用いられる光学部材に関する。
【背景技術】
【０００２】
代表的なタッチパネル装置として、抵抗膜式のタッチパネル装置がある。抵抗膜式のタッチパネル装置は、たとえば液晶パネル上に敷設される。抵抗膜式タッチパネルは、液晶パネル側に敷設され透明導電膜が表面に形成された透明な下基板と、下基板と対向して配設され、下基板と対向する表面に透明導電膜が形成された透明な上基板とを備える。ユーザがタッチペンや指で上基板の所望の位置を押圧すると、上基板のうち押圧された部分が凹んで下基板と接触する。このとき、接触部分で通電する。抵抗膜式タッチパネル装置は、この通電に基づいて押圧位置を検知する。抵抗膜式タッチパネル装置には、アナログ型と、デジタル型（マトリックス型）の２種類が存在する。
【０００３】
タッチパネル装置に利用される透明導電膜は一般的に、真空蒸着法やスパッタリング法といった物理的蒸着法により基板上に形成される。これらの物理的蒸着法により形成された透明導電膜は表面に均一の厚さで形成され、緻密であり低抵抗である。しかしながら、物理的蒸着法は真空環境を必要とする等、製造工程が煩雑である。また、成膜速度が遅いため、大量生産に不向きである。
【０００４】
ところで、抵抗膜式タッチパネル装置では押圧時にニュートンリングが発生しやすい。ニュートンリングはディスプレイの視認性を低下する。このようなニュートンリングの発生を抑制する技術は特開平８−２８１８５６号公報及び特開２００５−１８７２６号公報に開示されている。これら文献では、基板の表面に複数の凹凸や畝部が形成され、真空蒸着法等の物理的蒸着法により基板の表面上に透明導電膜が均一な厚さで形成される。確かに、これらの技術によればニュートンリングを抑制することができる。しかしながら、物理的蒸着法により透明導電膜を形成するため、上述のとおり製造工程が煩雑で大量生産しにくい。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開平８−２８１８５６号公報
【特許文献２】特開２００５−１８７２６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の目的は、物理的蒸着法よりも容易な方法で形成された透明導電膜を有し、かつ、ニュートンリングを抑制できる光学部材を提供することである。
【課題を解決するための手段及び発明の効果】
【０００７】
本発明による光学部材は、基材と、透明導電塗膜とを備える。基材は、複数の主凸部が形成された主面を有する。各主凸部は、自身の頂上へ向かうにつれて狭くなる幅を有する。透明導電塗膜は、主凸部上に形成されるサブ凸部と、隣り合う主凸部の間に形成されるサブ凹部とを含む凹凸状の表面を有する。そして、サブ凸部の頂上における膜厚よりも、サブ凹部の底における膜厚の方が厚い。
【０００８】
本発明による光学部材は、透明電導膜を、物理的蒸着法ではなく塗布することにより形成する。そのため、真空環境は不要となり、物理的蒸着法よりも容易に製造できる。さらに、透明導電塗膜には、基材の主凸部に起因した凹凸状の表面が形成され、この凹凸によりニュートンリングの発生が抑制される。さらに、サブ凹部の膜厚はサブ凸部の膜厚よりも厚く形成されるため、サブ凹部では低抵抗となる。
【０００９】
好ましくは、透明導電塗膜は、導電性を有する複数の無機酸化物粒子と、樹脂とを含有する。
【００１０】
好ましくは、透明導電塗膜は、無機酸化物粒子と樹脂とを含有する塗料を主面上に塗布することにより形成される。
【００１１】
この場合、導電性を有する無機酸化物粒子を含み樹脂をバインダとした塗料を塗布することで、透明導電塗膜を容易に形成できる。
【００１２】
好ましくは、各主凸部は主面に沿って延在する尾根状である。さらに、複数の主凸部は互いに並設される。
【００１３】
好ましくは、光学部材は、抵抗膜式のタッチパネル装置に用いられる。光学部材はさらに、透明導電塗膜上に形成され主凸部と交差する方向に延在する電極部材を備える。
【００１４】
この場合、電極部材と交差する方向に沿って低抵抗のサブ凹部が形成されている。そのため、抵抗膜式タッチパネル装置では導通を検知しやすい。
【００１５】
好ましくは、主凸部は蛇行している。
【００１６】
タッチパネル装置がたとえば液晶パネル上に敷設されると、液晶パネル内の画素配列と主凸部の配列が周期的に同期してモアレが発生する場合がある。主凸部が蛇行していれば、画素配列との周期的に同期しにくくなり、モアレの発生を抑制できる。
【００１７】
本発明による抵抗膜式タッチパネル装置は、上述の光学部材と、光学部材と対向して配設され、電極部材を有する透明導電膜が表面に形成された当該他の光学部材と、制御装置とを備える。制御装置は、光学部材及び当該他の光学部材の電極部材と接続され、光学部材又は当該他の光学部材上における押圧位置を特定する。
【００１８】
本発明による抵抗膜式タッチパネル装置では、上述の光学部材において電極部材と交差する方向に沿って低抵抗のサブ凹部が形成されている。そのため、抵抗膜式タッチパネルは光学部材と当該他の光学部材との接触による導通を検知しやすい。
【００１９】
また、本発明による光学部材の複数の主凸部は、好ましくは、格子状に配列されている。
【００２０】
この場合、サブ凹部が格子状に形成されるため、透明導電塗膜の抵抗を低く抑えることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】本発明の実施の形態による光学部材を備えるタッチパネル装置の斜視図である。
【図２】図１中の線分ＩＩ−ＩＩでの断面図である。
【図３】図１中の光学部材の表面近傍部分の斜視図である。
【図４】図３中の線分ＩＶ−ＩＶでの断面図である。
【図５】図４と異なる他の構成の光学部材の断面図である。
【図６】図３と異なる、図１中の光学部材の他の表面近傍部分の斜視図である。
【図７】図３と異なる他の構成の光学部材の斜視図である。
【図８】図３及び図７と異なる他の構成の光学部材の上面図である。
【図９】図３、図７及び図８と異なる他の構成の光学部材の斜視図である。
【図１０】図９中の線分Ｘ−Ｘでの断面図である。
【図１１】図１と異なる他の構成のタッチパネル装置の斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下、図面を参照し、本発明の実施の形態を詳しく説明する。図中同一又は相当部分には同一符号を付してその説明は繰り返さない。
【００２３】
［抵抗膜式タッチパネルの全体構成］
図１及び図２に示す抵抗膜式タッチパネル装置１は、いわゆるアナログ型のタッチパネル装置である。タッチパネル装置１は、矩形状の上基板１０と、矩形状の下基板として機能する光学部材２０と、制御装置４０とを備える。図１には図示していないが、図２に示すように、上基板１０と光学部材２０との間には、複数のスペーサ６０が挟まれている。
【００２４】
上基板１０はシート状またはフィルム状であって、基材１１と、基材１１上に形成される透明導電膜１２と、透明導電膜１２上に形成される帯状の電極部材（以下、バスバーという）１３及び１４とを備える。
【００２５】
基材１１は、可視光に対して透明で、シート状又はフィルム状である。基材１１は可撓性を有する。基材１１はたとえば、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアクリル酸エステル系樹脂、脂環式ポリオレフィン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリエーテルスルホン酸系樹脂、トリアセチルセルロース系樹脂等の樹脂で構成される。
【００２６】
透明導電膜１２は従前のスパッタリング法や真空蒸着法等の物理的蒸着法により形成される。透明導電膜１２はたとえば、多結晶又は非晶質のスズ含有酸化インジウム（ＩＴＯ）膜である。
【００２７】
バスバー１３及び１４は、矩形状の透明導電膜１２の表面１２１の対辺の各々に沿って互いに対向して配設される。より具体的には、バスバー１３は表面１２１の４つの辺のうちの１つの辺の縁近傍に形成される。バスバー１４はバスバー１３が形成された辺と反対側の辺の縁近傍に形成される。バスバー１３及び１４は、制御装置４０内の図示しない電源及び接地電位と接続可能である。バスバー１３及び１４は、導電性を有するペーストを用いて印刷法等により形成される。導電性を有するペーストは、金、銀、銅、ニッケル等の金属やカーボン等の導電フィラと、樹脂バインダとで構成される。印刷法はたとえば、スクリーン印刷やオフセット印刷、グラビア印刷、フレキソ印刷法である。バスバー１３及び１４は他の公知の方法により形成されてもよい。
【００２８】
スペーサ６０は、上基板１０と光学部材２０との間に挟まれ、上基板１０を光学部材２０と所定距離だけ離間させる。スペーサ６０は絶縁材である。スペーサ６０はたとえば、アクリレート樹脂等に代表される透明な樹脂からなる。
【００２９】
光学部材２０は、可撓性又は剛性を有する透明な基材２１と、透明導電塗膜２２と、バスバー２３及び２４とを備える。透明導電塗膜２２は、透明導電膜１２と対向する。つまり、透明導電塗膜２２は、基材２１の表面のうち、上基板１０と対向する表面（以下、主面という）上に形成される。バスバー２３及び２４は、矩形状の透明導電塗膜２２の表面の対辺の各々に沿って互いに対向して配設される。バスバー２３及び２４はさらに、バスバー１３及び１４と直交するように配設される。バスバー１３及び１４は、制御装置４０内の図示しない電源及び接地電位と接続可能である。
【００３０】
制御装置４０は、タッチパネル装置１を制御する。具体的には、制御装置４０は、バスバー１３，１４，２３，２４と、図示しない電源、検知器及び接地電位とを適宜組み合わせて接続する。そして、バスバー１３及び１４間に電圧を印加したり、バスバー２３及び２４間に電圧を印可する。さらに、検知器を用いて上基板１０の表面１１１のうち押圧された点の座標位置を特定する。
【００３１】
［押圧位置特定方法］
上述のタッチパネル装置１は公知の方法で押圧位置を特定する。ユーザがタッチペン又は指で表面１１１の任意の位置を押圧すると、上基板１０が凹んで光学部材２０と接触する。このとき、上基板１０と光学部材２０とは押圧点で導通する。このとき、制御装置４０は押圧点の座標位置を求める。ここで、バスバー２３及び２４の延在方向をＸ方向と定義し、バスバー１３及び１４の延在方向をＹ方向と定義する。押圧点のＸ座標を求める場合、制御装置４０はバスバー１３及び１４と電源、接地電位とを接続し、バスバー１３及び１４間に電圧を印加する。このとき、透明導電膜１２及び透明導電塗膜２２が持つ抵抗により、バスバー１３と１４との間に電位勾配が形成される。制御装置４０はさらに、バスバー２３又は２４に検知器を接続し、検知器により押圧点の電位を検出する。制御装置４０は、検出された電位に基づいて押圧点のＸ座標を特定する。同様に、押圧点のＹ座標を求めるとき、制御装置４０はバスバー２３及び２４間に電圧を印加する。このとき、バスバー２３及び２４間に電位勾配が形成される。制御装置４０は検知器をバスバー１３又は１４に接続して押圧点の電位を検出し、押圧点のＹ座標を特定する。
【００３２】
上述の説明では、電圧印加により形成される電位勾配を利用して押圧点の座標を求めたが、制御装置４０内の検知器が押圧点の電位の代わりに押圧点の位置に応じた電流比率を検出することにより、押圧点の座標を求めてもよい。
【００３３】
［光学部材の構成］
図３及び図４に光学部材２０の表面近傍の拡大図を示す。以下、光学部材２０の構成について詳述する。
【００３４】
［基材］
図３及び図４を参照して、基材２１のうち透明導電塗膜２２が形成される主面２１１は、複数の主凸部ＣＰ(Convex Portion、以下、単に凸部ＣＰという)を有する。各凸部ＣＰの横断面は三角形状である。また、各凸部ＣＰは主面２１１に沿って延在しており、互いに並設される。図３及び図４では、隣り合う凸部ＣＰは互いに接触しているが、隣り合う凸部ＣＰが互いに接触せずに離れていてもよい。
【００３５】
基材２１は、複数の凸部ＣＰが形成された主面２１１を有する構造化層２１２とシート又はフィルム状のベース層２１３とを含む。ベース層２１３は、可撓性を有し透明な樹脂を素材とする。ベース層２１３の素材はたとえば、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアクリル酸エステル系樹脂、脂環式ポリオレフィン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリエーテルスルホン酸系樹脂、トリアセチルセルロース系樹脂である。
【００３６】
構造化層２１２は、電離放射線硬化樹脂からなる。電離放射線硬化樹脂は、紫外線や電子線等の電離放射線により硬化する。電離放射線硬化樹脂は、たとえば、ポリエステル系アクリレート樹脂、ウレタン系アクリレート樹脂、ポリエーテル系アクリレート樹脂、エポキシ系アクリレート樹脂、ポリエステル系メタクリレート樹脂、ウレタン系メタクリレート樹脂、ポリエーテル系メタクリレート樹脂、エポキシ系メタクリレート樹脂である。
【００３７】
基材２１の製造方法の一例は次の通りである。初めに、ロール状の金型（以下、ロール版という）を準備する。ロール版の表面には、複数の凸部ＣＰに対応するパターン溝が切削加工により形成されている。続いて、ベース層２１３に相当するベースフィルムを準備し、ベースフィルムとロール版との間に電離放射線硬化樹脂を充填する。そして、電離放射線硬化樹脂に電離放射線を照射して硬化する。硬化した電離放射線硬化樹脂層は構造化層２１２となる。構造化層２１２が形成されたベース層２１３をロール版から剥離すれば、基材２１が得られる。
【００３８】
基材２１は、図５に示すとおり、構造化層及びベース層の区別なく１つの素材で一体的に形成されてもよい。この場合の基材２１の素材は上述のベース層２１３と同じである。図５に示す基材２１の製造方法の一例は以下のとおりである。基材２１の素材となる熱可塑性樹脂シートを準備する。そして、凸部ＣＰに対応する凹凸パターンが表面に形成された金型を熱可塑性樹脂シートに加熱押圧し、凸部ＣＰをシート表面に賦形する。以上の工程により基材２１が製造される。周知の押出成型法やプレス成型法、あるいは金型に溶融樹脂を注入する射出成形法等により基材２１を製造してもよい。
【００３９】
［透明導電塗膜］
透明導電塗膜２２は、複数の無機酸化物粒子と、バインダ樹脂とを含有する。無機酸化物粒子は、導電性を有し、かつ、可視光に対して透明である。無機酸化物粒子はたとえば、酸化スズ、アンチモン含有酸化スズ（ＡＴＯ）、スズ含有酸化インジウム（ＩＴＯ）、アルミニウム含有酸化亜鉛及びガリウム含有酸化亜鉛等からなる。バインダ樹脂は、溶剤に可溶な樹脂である。バインダ樹脂は、電離放射線硬化樹脂により硬化する樹脂であってもよい。
【００４０】
透明導電塗膜２２は、上述の無機酸化物粒子及びバインダ樹脂を含有した透明導電塗料を塗布することにより形成される。具体的には、初めに、ダイコータやグラビアコータ等を用いて透明導電塗料を基材２１の主面２１１上に塗布する（塗布工程）。このとき、塗布後の塗膜表面が平坦になるように、いわゆるベタ塗布する。
【００４１】
透明導電塗料を塗布した後、塗膜を硬化する（硬化工程）。具体的には、塗膜を公知の方法により乾燥及び加熱して溶剤を除去し、バインダ樹脂を硬化する。また、塗膜が電離放射線硬化樹脂を含有する場合、塗膜に電離放射線を照射してバインダ樹脂を硬化する。いずれの場合においても、塗膜表面は凸部ＣＰに対応した凹凸状の表面が形成され、透明導電塗膜２２が形成される。
【００４２】
図３及び図４を参照して、透明導電塗膜２２の表面２２０は、複数のサブ凸部２２１及びサブ凹部２２２を有し、凹凸状である。サブ凸部２２１は、凸部ＣＰ上に形成され、その幅は、自身の頂上に向かうにつれて徐々に狭くなる。つまり、サブ凸部２２１も凸部ＣＰ同様に尾根状に形成される。サブ凹部２２２は、隣り合う凸部ＣＰの間に形成され、隣り合うサブ凸部２２１となめらかにつながっている。
【００４３】
透明導電塗膜２２の表面２２０に形成された凹凸は、ニュートンリングの発生を抑制する。押圧により上基板１０が凹み、透明導電膜１２と透明導電塗膜２２とが接触したとき、上基板１０の表面１１１から入射して透明導電膜１２の表面１２１で反射する光と、表面１２１を透過して透明導電塗膜２２の表面２２０で反射する光とが干渉すれば、ニュートンリングが発生する。しかしながら、透明導電塗膜２２の表面２２０は凹凸を有するため、表面２２０に入射した光が乱される。その結果、透明導電膜１２での反射光と透明導電塗膜２２での反射光との干渉が抑制され、ニュートンリングの発生が抑制される。
【００４４】
上述のとおり、塗布工程において、透明導電塗料は表面が平坦となるように基材２１上にベタ塗布される。そのため、塗布後の塗膜の膜厚は、凸部ＣＰ頂上近傍で薄く、隣り合う凸部ＣＰ間で厚くなる。この状態で塗膜を乾燥又は照射により硬化させれば、塗膜の厚い部分が塗膜の薄い部分よりも大きく収縮する。そのため、サブ凸部２２１及びサブ凹部２２２が形成される。
【００４５】
塗布後の塗膜を乾燥又は硬化させれば、塗膜の収縮により透明導電塗膜２２の表面２２０には凹凸が形成されるが、塗膜の収縮には限度がある。そのため、透明導電塗膜２２の表面２２０の凹凸は、基材２１の主面２１１の凹凸よりも緩やかな形状になる。より具体的には、表面２２０におけるサブ凸部２２１とサブ凹部２２２との凹凸差Ｈ２２１は、基材２１の主面２１１における凹凸差（凸部ＣＰの高さに相当）ＨＣＰよりも小さくなる。したがって、上記製造方法では、形成したい表面２２０の凹凸形状を考慮して、主面２１１の凸部ＣＰの高さＨＣＰを予め適宜設定すればよい。なお、ここでいう表面２２０の凹凸差Ｈ２２１とは、サブ凹部２２２の底Ｂ２２２からサブ凸部２２１の頂上Ｃ２２１までの高さである。
【００４６】
透明導電塗膜２２の膜厚は、サブ凸部２２１で薄く、サブ凹部２２２で厚い。より具体的には、図４中のサブ凹部２２２の底Ｂ２２２における膜厚Ｔ２２２は、サブ凸部２２１の頂上Ｃ２２１における膜厚Ｔ２２１よりも厚い。したがって、サブ凹部２２２の方がサブ凸部２２１よりも低抵抗である。
【００４７】
透明導電膜を塗膜で形成する場合、物理的蒸着法により形成される透明導電膜のように多結晶又は非晶質の膜を形成することはできないため、全体的に薄い透明導電塗膜を形成すれば、膜の抵抗値が高くなる可能性がある。しかしながら、光学部材２０の透明導電塗膜２２では、アンチニュートンリングを目的とした凹凸を形成するとともに、低抵抗の領域（サブ凹部２２２）も形成することができる。したがって、図６に示すように、光学部材２０に形成されるバスバー２３及び２４は、凸部ＣＰと直交して配設されるのが好ましい。このようにバスバー２３及び２４を配置すれば、サブ凹部２２２がＹ方向に延在する。そのため、透明導電塗膜２２は、バスバー２３及び２４とを結ぶＹ方向で低抵抗となり導通しやすくなる。そのため、押圧点のＹ座標を検知しやすくなる。
【００４８】
なお、バスバー２３及び２４と基材２１の凸部ＣＰとが直交する場合が最も好ましいが、厳密に直交していなくてもよい。すくなくとも、バスバー２３及び２４と凸部ＣＰとが交差していれば、バスバー２３及び２４間の抵抗をある程度低く抑えることができる。
【００４９】
［透明導電塗料］
透明導電塗膜２２の形成に用いられる透明導電塗料は、上述の導電性粒子と、バインダ樹脂と、溶剤とを含有する。バインダ樹脂は溶剤に可溶であり、塗膜を形成できるものであればよい。バインダ樹脂はたとえば、ポリメタクリル、ポリエステル、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリウレタン、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル等の樹脂である。
【００５０】
溶剤は、バインダ樹脂を溶解し、かつ、塗布後の乾燥時に除去できるものであればよい。溶剤はたとえば、エタノール、プロパノール、ブタノールなどのアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジエチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族化合物、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコールなどのグリコール類、エチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートなどのグリコールアルキルエーテルやグリコールアルキルエステル類等である。
【００５１】
透明導電塗料はまた、上述の樹脂に代えて、又は、上述の樹脂とともに、バインダ樹脂として電離放射線硬化モノマーと重合開始剤とを含有してもよい。
【００５２】
電離放射線硬化モノマーは、単官能モノマー及び／又は多官能モノマーである。単官能モノマーはたとえば、ビニルピロリドン、ビニルホルムアミド等のビニルモノマー、ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート等のアルキル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート等の脂環式（メタ）アクリレート、（メタ）ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート等のヒドロキシ（メタ）アクリレート、アクリロイルモルフォリン、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート等の窒素含有（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート等の芳香族系（メタ）アクリレート等である。
【００５３】
多官能モノマーはたとえば、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレートネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等である。また、３官能以上の多官能モノマーはたとえば、共栄社化学社製の商品名ＡＨ−６００、ＵＡ−３０６Ｈや、新中村化学社製の商品名ＮＫオリゴＵ−６ＨＡ、Ｕ−１５ＨＡ等である。
【００５４】
重合開始剤はたとえば、ベンジル、ジアセチル等のα−ジケトン類、ベンゾイン等のアシロイン類、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル等のアシロインエーテル類、チオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、チオキサントン−４−スルホン酸等のチオキサントン類、ベンゾフェノン、４，４'−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４'−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン等のベンゾフェノン類、ミヒラーケトン類、アセトフェノン、２−（４−トルエンスルホニルオキシ）−２−フェニルアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノアセトフェノン、α，α'−ジメトキシアセトキシベンゾフェノン、２，２'−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、ｐ−メトキシアセトフェノン、２−メチル［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−１−プロパノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン等のアセトフェノン類、アントラキノン、１，４−ナフトキノン等のキノン類、フェナシルクロライド、トリハロメチルフェニルスルホン、トリス（トリハロメチル）−ｓ−トリアジン等のハロゲン化合物、アシルホスフィンオキシド類、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド等の過酸化物等である。これらの重合開始剤は、単独で用いてもよいし、２種以上を混合して用いてもよい。
【００５５】
［その他の製造工程］
なお、上述の光学部材２０の製造工程では、塗布工程及び硬化工程を実行して透明導電塗膜２２を形成した後、カレンダ工程をさらに実施して光学部材２０を圧縮するのが好ましい。カレンダ工程を実施すれば、導電性を有する無機酸化物粒子同士がより近接し導通しやすくなる。
【００５６】
［光学部材の他の構成例］
上述の説明では、凸部ＣＰの横断形状を三角形状としたが、凸部ＣＰが自身の底面から頂上に向かうにつれて狭くなる幅を有する形状であれば三角形状以外の他の形状でもよい。たとえば、図７に示すように、凸部ＣＰの横断形状は弓状であって、主面に沿って延在するシリンドリカル形状でもよい。ここでいう弓状とはたとえば、円弧や楕円弧を含む。凸部ＣＰがこのような形状であっても、基材２１の主面２１１上に塗布されて形成された透明導電塗膜２２の表面２２０は、複数のサブ凸部２２１及びサブ凹部２２２を有する凹凸形状となる。
【００５７】
また、図３では、光学部材２０の凸部ＣＰは直線状に延在しているが、図８に示すように、凸部ＣＰが長手方向に沿って幅方向に蛇行していてもよい。凸部ＣＰが蛇行していれば、凸部ＣＰの配列ピッチと液晶パネル３０内の画素の配列ピッチがずれて同期にくくなるため、モアレの発生を抑制できる。
【００５８】
また、上述の実施の形態では凸部ＣＰを基材２１の主面２１１に沿って延在する柱状としたが、凸部ＣＰは、図９及び図１０に示すように半球状であってもよい。図９及び図１０では、凸部ＣＰは格子状に配列される。このような場合であっても凸部ＣＰは自身の底面から頂上に向かうにつれて狭くなる幅を有する。図９及び図１０に示す光学部材２０では、サブ凹部２２２が２軸（Ｘ軸及びＹ軸）の方向に延在する。そのため、塗布により形成される透明導電塗膜２２は、２軸方向（Ｘ方向及びＹ方向）で低抵抗となり、より導通しやすい。凸部ＣＰは半球状に代えて、円錐状であってもよく、円錐台状や、四角錐状、多角錘状であってもよい。
【００５９】
上述の実施の形態では、光学部材２０を下基板として適用したが、光学部材２０と同様の構成を有する光学部材を上基板１０として適用してもよい。この場合、バスバー１３及び１４は、基材に形成された凸部ＣＰの延在方向と直交するように配設されるのが好ましい。このように配設すれば、上基板１０として利用される光学部材の透明導電塗膜は、Ｘ方向で低抵抗となる。
【００６０】
また、タッチパネル装置１は、上基板１０として本発明による光学部材を適用し、下基板２０は従来どおり、平坦な表面を有する基材とスパッタリング法により形成された透明導電膜とを備える光学部材（基板）を用いてもよい。
【００６１】
また、上述の実施の形態では、本発明による光学部材をいわゆるアナログ型のタッチパネル装置１に適用したが、本発明による光学部材は図１１に示すデジタル型（マトリックス型）のタッチパネル１００に適用することもできる。図１１を参照して、デジタル型のタッチパネル１００は、互いに対向する上基板７０と底基板８０とを備える。上基板７０は可撓性を有する透明なシートであり、下基板８０と対向する表面７１上に短冊状の複数の光学部材９０を備える。下基板８０も透明なシートであって、上基板７０と対向する表面８１上に短冊状の複数の光学部材９０を備える。上基板７０上の複数の光学部材９０は、Ｙ方向に並設される。一方、下基板８０上の複数の光学部材９０はＸ方向に並設され、上基板７０の光学部材９０と直交する。
【００６２】
各光学部材９０は図３に示す光学部材２０と同様に、柱状の複数の凸部が並設された表面を有する基材と、基材表面上に塗布により形成される透明導電塗膜とを備える。さらに、光学部材９０の端部の透明導電塗膜上にはバスバー９５が柱状の凸部と交差して配設される。各光学部材９０に形成されたバスバー９５は、制御装置４０と接続されている。マトリックス型のタッチパネル装置１００は、上基板７０上の光学部材９０と下基板８０上の光学部材９０との交差点がスイッチとして機能する。ユーザが上基板７０上の任意の点を押下したとき、上基板７０の複数の光学部材９０のいずれか１つと、下基板８０の複数の光学部材９０のいずれか１つが接触して導通する。制御装置は導通した光学部材９０を特定することで、押圧点を特定する。
【００６３】
本実施の形態による光学部材は、上述の抵抗膜式（アナログ型及びデジタル型）タッチパネル装置に限定されず、他の用途にも適用することができる。
【実施例１】
【００６４】
図３及び図４に示す形状の光学部材を以下の方法で製造した。初めに、本実施例の光学部材を構成する基材を以下の方法で製造した。互いに並設されたＶ字状の溝が形成された表面を有するロール版を準備した。また、透明なベースフィルムを準備した。ロール版表面に紫外線硬化樹脂を充填して、ベースフィルムをロール版に押し当てながら紫外線を照射し、基材を製造した。基材の表面に形成された複数の凸部は、横断形状が図４に示すように三角形状であり、図８に示すように蛇行していた。隣り合う凸部の頂上間距離（配列ピッチ）ＰＣＰは１００μｍであった。また、凸部の高さ（凸部の縁から凸部の頂上までの高さ）ＨＣＰは５μｍであった。また、凸部の蛇行は周期的に幅方向に振幅しており、その振幅は２．５μｍであり、周期は２ｍｍであった。
【００６５】
製造された基材上に透明導電塗膜を形成した。具体的には、ＩＴＯ粒子と溶剤と溶剤に可溶な樹脂とを含有した塗料を準備した。ダイコータを用いて塗料を基材上にベタ塗布した。そして、塗膜を乾燥及び加熱して透明導電塗膜を形成し、光学部材を製造した。
【００６６】
形成された透明導電塗膜のサブ凸部での厚さＴ２２１は０．５μｍであり、サブ凹部での厚さＴ２２２は４．５μｍであった。隣り合うサブ凸部の頂上Ｃ２２１間の距離（配列ピッチ）Ｐ２２１は配列ピッチＰＣＰと同じ１００μｍであった。また、サブ凸部の頂上Ｃ２２１とサブ凹部の底Ｂ２２２との間の高さＨ２２１は１μｍであった。
【００６７】
また、製造された光学部材の凸部の延在方向の抵抗は４５０Ω／□であり、凸部の横断方向（並設方向）の抵抗は８００Ω／□であった。また、光学部材の全光線透過率は８５％であった。
【００６８】
製造された光学部材を図１に示す構成のアナログ型タッチパネル装置に下基板として敷設した。そして、光学部材を含むタッチパネル装置を液晶ディスプレイ装置上に敷設し、押下時のニュートンリングとモアレの発生具合を目視により観察した。観察の結果、ニュートンリング及びモアレは目視で確認できない程度に抑えられていた。
【実施例２】
【００６９】
図９及び図１０に示す形状の光学部材を実施例１と同様の方法で製造した。まず、上述と同様の方法で基材を製造した。製造された基材表面に形成された凸部は半球状で、その周縁は、１００μｍの直径ＤＣＰを有する円であった。また、凸部の周縁から頂上までの高さＨＣＰは１０μｍであり、曲率半径ＲＣＰは１３０μｍであった。凸部は行列状に配列され、隣り合う凸部の頂上間距離（配列ピッチ）ＰＣＰは１５０μｍであった。
【００７０】
製造された凸部に実施例１と同じ組成の塗膜を塗布して透明導電塗膜を形成し、光学部材を製造した。透明導電膜のサブ凸部の配列ピッチは凸部の配列ピッチと同じ１５０μｍであり、サブ凹部の底Ｂ２２２からサブ凸部の頂上Ｃ２２１までの高さは１．５μｍであった。また、サブ凸部での膜厚Ｔ２２１は０．５μｍであり、サブ凹部での膜厚Ｔ２２２は１．５μｍであった。光学部材の抵抗は３００Ω／□であり、全光線透過率は８８％であった。
【００７１】
製造された光学部材を図１に示す構成のアナログ型タッチパネル装置に下基板として敷設した。そして、光学部材を含むタッチパネル装置を液晶ディスプレイ装置上に敷設し、押下時のニュートンリングとモアレの発生具合を目視により観察した。観察の結果、ニュートンリング及びモアレは目視で確認できない程度に抑えられていた。
【００７２】
以上、本発明の実施の形態を説明したが、上述した実施の形態は本発明を実施するための例示に過ぎない。よって、本発明は上述した実施の形態に限定されることなく、その趣旨を逸脱しない範囲内で上述した実施の形態を適宜変形して実施することが可能である。
【符号の説明】
【００７３】
１，１００  タッチパネル装置
１０，７０  上基板
１３，１４，２３，２４，９５  バスバー
２０，９０  光学部材
２１  基材
２２  透明導電塗膜
３０  液晶パネル
４０  制御装置
６０  スペーサ
２１１  主面
２１２  構造化層
２１３  ベース層
２２１  サブ凸部
２２２  サブ凹部
ＣＰ  凸部
【図１】
2010160915.tif 000003
【図２】
2010160915.tif 000004
【図３】
2010160915.tif 000005
【図４】
2010160915.tif 000006
【図５】
2010160915.tif 000007
【図６】
2010160915.tif 000008
【図７】
2010160915.tif 000009
【図８】
2010160915.tif 000010
【図９】
2010160915.tif 000011
【図１０】
2010160915.tif 000012
【図１１】
2010160915.tif 000013