(57)【要約】【課題】描画データのデータ量を軽減させ、描画データの作成時間や描画時間を短縮し、スループットの向上を図ることができる描画データ作成プログラム、描画データ作成方法、描画データ作成装置、描画システムを提供することである。【解決手段】設計データＤａのパターン図形Ｚを描画単位の図形の単位に分解し、複数の線分と複数の頂点とで定義された閉図形の各線分に対して、閉図形の外側又は内側に、線分に対して垂直方向に所定の幅を有する幅付けを行い、その幅付けの領域より内側の領域を内側部又は第１パターン領域として設定し、閉図形の各線分が、隣接する他の閉図形と重複する重複線分であるか、重複しない非重複線分であるか判定して、その線分が重複線分であるか非重複線分であるかに応じて、その線分の垂直方向に幅付けを行うか否かに関する情報を付与して、輪郭部又は第２パターン領域を設定することを特徴とする。【選択図】図４
2010129900.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
描画データに基づいて電子線又はレーザを用いて描画を行う描画装置の前記描画データを設計データから作成する描画データ作成プログラムであって、
コンピュータを、
前記設計データのパターン図形を複数の描画単位の図形に分解し、前記描画単位の図形の外周を複数の線分と複数の頂点とで表現した閉図形として定義する閉図形定義手段と、
前記閉図形の内側へ所定の寸法の幅付けを行う幅付け情報の入力を受け付ける幅情報受け付け手段と、
前記閉図形の内側へ、前記幅付け情報に基づいて前記線分の垂直方向に幅付けを行い、前記幅付けされる領域より内側の領域を第１描画領域として設定する情報を、前記線分に付与する第１描画領域情報付与手段と、
前記線分が、隣接する他の閉図形と重複する重複線分であるか、非重複線分であるか判定する重複線分判定手段と、
前記重複線分に対して、前記幅付け情報に基づいて前記閉図形の内側へ幅付けを行い、前記幅付けされる領域を第２描画領域として設定する情報を付与する第２描画領域情報付与手段と、
前記各線分と前記各線分に付与された前記第１描画領域に関する情報とを関連付け、前記各重複線分と前記各重複線分に付与された前記第２描画領域に関する情報とを関連付けて、前記描画データに含ませて出力する描画データ出力手段と、
として機能させることを特徴とする描画データ作成プログラム。
【請求項２】
請求項１に記載の描画データ作成プログラムにおいて、
前記第２描画領域情報付与手段では、前記非重複線分に対して、前記閉図形の内側へ幅付けを行わないという情報を付与すること、
を特徴とする描画データ作成プログラム。
【請求項３】
描画データに基づいて電子線又はレーザを用いて描画を行う描画装置の前記描画データを設計データから作成する描画データ作成プログラムであって、
コンピュータを、
前記設計データのパターン図形を複数の描画単位の図形に分解し、前記描画単位の図形の外周を複数の線分と複数の頂点とで表現した閉図形として定義する閉図形定義手段と、
前記閉図形の外側へ幅付けする幅付け情報の入力を受け付ける幅情報受け付け手段と、
前記閉図形の外側へ、前記幅付け情報に基づいて前記線分の垂直方向に幅付けを行い、前記幅付けされる領域よりも内側の領域を第１描画領域とする情報を、前記線分に付与する第１描画領域情報付与手段と、
前記線分が、隣接する他の閉図形と重複する重複線分であるか、非重複線分であるか判定する重複線分判定手段と、
前記非重複線分に対して、前記幅付け情報に基づいて前記閉図形の外側へ幅付けを行い、前記幅付けされる領域を第２描画領域として設定する情報を付与する第２描画領域情報付与手段と、
前記各線分と前記各線分に付与された前記第１描画領域に関する情報とを関連付け、前記各非重複線分及び前記各非重複線分に付与された前記第２描画領域に関する情報とを関連付けて、前記描画データに含ませて出力する描画データ出力手段と、
として機能させることを特徴とする描画データ作成プログラム。
【請求項４】
請求項３に記載の描画データ作成プログラムにおいて、
前記第２描画領域情報付与手段では、前記重複線分に対して、前記閉図形の外側へ幅付けを行わないという情報を付与すること、
を特徴とする描画データ作成プログラム。
【請求項５】
請求項２又は請求項４に記載の描画データ作成プログラムにおいて、
前記第２描画領域情報付与手段では、前記非重複線分に付与される幅付けに関する情報が、前記重複線分に付与される幅付けに関する情報よりも優先されること、
を特徴とする描画データ作成プログラム。
【請求項６】
描画データに基づいて電子線又はレーザを用いて描画を行う描画装置の前記描画データを設計データから作成する描画データ作成プログラムであって、
コンピュータを、
前記設計データのパターン図形を複数の描画単位の図形に分解し、前記描画単位の図形の外周を複数の線分と複数の頂点とで表現した閉図形として定義する閉図形定義手段と、
前記閉図形の内側又は外側へ幅付けを行う幅付け情報の入力を受け付ける幅情報受け付け手段と、
前記幅付け情報が、前記閉図形の内側への幅付け情報の入力の場合には、内側処理手段とし、前記受け付け手段に入力された情報が、外側への幅付け情報の入力の場合には、外側処理手段として機能させ、
前記内側処理手段を、
前記閉図形の内側へ、前記幅付け情報に基づいて前記線分の垂直方向に幅付けを行い、前記幅付けされる領域より内側の領域を第１描画領域として設定する情報を、前記線分に付与する第１描画領域情報付与手段と、
前記線分が、隣接する他の閉図形と重複する重複線分であるか、非重複線分であるか判定する重複線分判定手段と、
前記重複線分に対して、前記幅付け情報に基づいて前記閉図形の内側へ幅付けを行い、前記幅付けされる領域を第２描画領域として設定する情報を付与する第２描画領域情報付与手段と、
前記各線分と前記各線分に付与され前記第１描画領域に関する情報とを関連付け、前記各重複線分及び前記各重複線分に付与された前記第２描画領域に関する情報とを関連付けて、前記描画データに含ませて出力する描画データ出力手段として機能させ、
前記外側処理手段を、
前記閉図形の外側へ、前記幅付け情報に基づいて前記線分の垂直方向に幅付けを行い、前記幅付けされる領域より内側の領域を第１描画領域とする情報を、前記線分に付与する第１描画領域情報付与手段と、
前記線分が、隣接する他の閉図形と重複する重複線分であるか、非重複線分であるか判定する重複線分判定手段と、
前記非重複線分に対して、前記幅付け情報に基づいて前記閉図形の外側へ幅付けを行い、前記幅付けされる領域を第２描画領域として設定する情報を付与する第２描画領域情報付与手段と、
前記各線分及び前記各線分に付与された前記第１描画領域に関する情報とを関連付け、前記各非重複線分及び前記各非重複線分に付与された前記第２描画領域に関する情報とを関連付けて、前記描画データに含ませて出力する描画データ出力手段として機能させること、
を特徴とする描画データ作成プログラム。
【請求項７】
請求項１から請求項６までのいずれか１項に記載の描画データ作成プログラムにおいて、
前記幅付け情報の幅寸法は、可変であること、
を特徴とする描画データ作成プログラム。
【請求項８】
請求項１から請求項７までのいずれか１項に記載の描画データ作成プログラムにおいて、
前記閉図形定義手段では、設計データのパターン図形を、隣接する２つの描画単位の図形の重複する辺の長さが等しくなるように分解することを、
を特徴とする描画データ作成プログラム。
【請求項９】
描画データに基づいて電子線又はレーザを用いて描画を行う描画装置の前記描画データを設計データから作成する描画データ作成方法であって、
前記設計データのパターン図形を複数の描画単位の図形に分解し、前記描画単位の図形の外周を複数の線分と複数の頂点とで表現した閉図形として定義する閉図形定義工程と、
前記閉図形定義工程において定義された前記閉図形の内側へ幅付けする幅付け情報の入力を受け付ける幅情報受け付け工程と、
前記幅情報受け付け工程において入力された前記幅付け情報に基づいて、前記閉図形の内側へ前記線分の垂直方向に幅付けを行い、前記幅付けされる領域より内側の領域を第１描画領域として設定する情報を、前記線分に付与する第１描画領域情報付与工程と、
前記線分が、隣接する他の閉図形と重複する重複線分であるか、非重複線分であるか判定する重複線分判定工程と、
前記重複線分に対して、前記幅付け情報に基づいて前記閉図形の内側へ幅付けを行い、前記幅付けされる領域を第２描画領域として設定する情報を付与する第２描画領域情報付与工程と、
前記各線分と前記各線分に付与された前記第１描画領域に関する情報とを関連付け、前記各重複線分及び前記各重複線分に付与された前記第２描画領域に関する情報とを関連付けて、前記描画データに含ませて出力する描画データ出力工程と、
を備えることを特徴とする描画データ作成方法。
【請求項１０】
描画データに基づいて電子線又はレーザを用いて描画を行う描画装置の前記描画データを設計データから作成する描画データ作成方法であって、
前記設計データのパターン図形を複数の描画単位の図形に分解し、前記描画単位の図形の外周を複数の線分と複数の頂点とで表現した閉図形として定義する閉図形定義工程と、
前記閉図形定義工程において定義された前記閉図形の外側へ幅付けする幅付け情報の入力を受け付ける幅情報受け付け工程と、
前記幅情報受け付け工程において入力された前記幅付け情報に基づいて、前記閉図形の外側へ前記線分の垂直方向に幅付けを行い、前記幅付けされる領域より内側の領域を第１描画領域として設定する情報を、前記線分に付与する第１描画領域情報付与工程と、
前記線分が、隣接する他の閉図形と重複する重複線分であるか、非重複線分であるか判定する重複線分判定工程と、
前記非重複線分に対して、前記幅付け情報に基づいて前記閉図形の外側へ幅付けを行い、前記幅付けされる領域を第２描画領域として設定する情報を付与する第２描画領域情報付与工程と、
前記各線分及び前記各線分に付与された前記第１描画領域に関する情報とを関連付け、前記各非重複線分及び前記各非重複線分に付与された前記第２描画領域に関する情報とを関連付けて、前記描画データに含ませて出力する描画データ出力工程と、
を備えることを特徴とする描画データ作成方法。
【請求項１１】
描画データに基づいて電子線又はレーザを用いて描画を行う描画装置の前記描画データを設計データから作成する描画データ作成方法であって、
前記設計データのパターン図形を複数の描画単位の図形に分解し、前記描画単位の図形の外周を複数の線分と複数の頂点とで表現した閉図形として定義する閉図形定義工程と、
前記閉図形定義工程において定義された前記閉図形の内側又は外側へ幅付けを設定する幅付け情報の入力を受け付ける幅情報受け付け工程と、
前記幅情報受け付け工程において入力された前記幅付け情報が、前記閉図形の内側への幅付け情報の入力の場合には、内側処理工程とし、前記受け付け手段に入力された情報が、外側への幅付け情報の入力の場合には、外側処理工程とする幅付け方向判定工程とを備え、
前記内側処理工程は、
前記閉図形の内側へ、前記幅付け情報に基づいて前記線分の垂直方向に幅付けを行い、前記幅付けされる領域より内側の範囲を第１描画領域として設定する情報を、前記線分に付与する第１描画領域情報付与工程と、
前記線分が、隣接する他の閉図形と重複する重複線分であるか、非重複線分であるか判定する重複線分判定工程と、
前記各重複線分に対して、前記閉図形の内側へ幅付けを行い、前記幅付けされる領域を第２描画領域とする情報を、前記重複線分に対して付与する第２描画領域情報付与工程と、
前記各線分及び前記各線分に付与された前記第１描画領域に関する情報とを関連付け、前記各重複線分及び前記各重複線分に付与された前記第２描画領域に関連する情報とを関連付けて、前記描画データに含ませて出力する描画データ出力工程とを有し、
前記外側処理工程は、
前記閉図形の外側へ、前記幅付け情報に基づいて前記線分の垂直方向に幅付けを行い、前記幅付けされる領域より内側の領域を第１描画領域として設定する情報を、前記線分に付与する第１描画領域情報付与工程と、
前記線分が、隣接する他の閉図形と重複する重複線分であるか、非重複線分であるか判定する重複線分判定工程と、
前記非重複線分に対して、前記幅付け情報に基づいて前記閉図形の外側へ幅付けを行い、前記幅付けされる領域を第２描画領域として設定する情報を付与する第２描画領域情報付与工程と、
前記各線分及び前記各線分に付与された前記第１描画領域に関する情報とを関連付け、前記各非重複線分及び前記各非重複線分に付与された前記第２描画領域に関する情報とを関連付けて、前記描画データに含ませて出力する描画データ出力工程とを有すること、
を特徴とする描画データ作成方法。
【請求項１２】
描画データに基づいて電子線又はレーザを用いて描画を行う描画装置の前記描画データを設計データから作成する描画データ作成装置であって、
設計データを入力する設計データ入力部と、
請求項１から請求項８までのいずれか１項に記載の描画データ作成プログラムを記憶する記憶部と、
前記描画データ作成プログラムを実行する制御部と、
前記描画データ作成プログラムの実行に必要な指示を入力する操作入力部と、
描画データを出力する描画データ出力部と、
を備えることを特徴とする描画データ作成装置。
【請求項１３】
請求項１から請求項８までの描画データ作成プログラムを記憶する記憶部と、
前記描画データ作成プログラムを実行する制御部と、
前記描画データ作成プログラムによって作成された描画データに基づいて、電子線又はレーザを用いて基板上に前記第１描画領域及び前記第２描画領域を描画する機能を有する描画部と、
を備える描画システム。
【請求項１４】
請求項１２に記載の描画データ作成装置と、
前記描画データに基づいて、電子線又はレーザを用いて基板上に前記第１描画領域及び前記第２描画領域を描画する機能を有する描画部を備える描画装置と、
を備える描画システム。
【請求項１５】
請求項１３又は請求項１４に記載の描画システムにおいて、
前記描画データに基づいて前記第１描画領域を描画する機能を有する第１描画部と、前記描画データに基づいて前記第２描画領域を描画する機能を有する第２描画部とを備えること、
を特徴とする描画システム。
【請求項１６】
請求項１３から請求項１５までのいずれか１項に記載の描画システムにおいて、
前記第２描画領域を描画する電子線又はレーザの照射面積は、前記第１描画領域を描画する電子線又はレーザの照射面積より小さいこと、
を特徴とする描画システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、微細パターン形成に用いられる描画データ作成プログラム、描画データ作成方法、描画データ作成装置、描画システムに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、半導体素子やＭＥＭＳ（Ｍｉｃｒｏ  Ｅｌｅｃｔｒｏ  Ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ  Ｓｙｓｔｅｍｓ）等の微細パターン形成に用いられ、電子線描画やレーザ描画等を行う描画装置では、主に描画データ上、パターン図形の外郭を線分と頂点とで表現し、その線分の始点と終点が必ず一致するように定義している。そして、その線分に囲まれた内側を１つの描画領域として、パターン描画する方法が主である。
また、このような描画データを得るために、一般的に、パターンの設計が完了した後に出力されるＧＤＳＩＩ等の設計データを入力として、マスクレイヤーのデータを作成させるための論理演算処理や、ウエハプロセスのために必要となるＯＰＣパターン、ダミーパターン等の図形発生処理、さらには、マスク作成のためのサイジング処理等、多くの図形データ処理を行う必要があり、その処理負荷は、増大している。
しかも、半導体素子等のパターンサイズの高集積化、微細化は、日々進んでおり、描画用のデータ量自体も非常に大きくなってきている。
【０００３】
近年は、マスクの種類によっては、構造の複雑化や描画スループット改善のため、１枚のマスクを作成するために、複数回の描画、複数回のプロセスを行うことが必要な場合もあり、そのためのパターン分離、分割等の処理と、その結果である複数回描画用のそれぞれ別の描画データが必要になる等、処理負荷やデータハンドリングの煩雑さ等が増大している。
このため、描画精度を低下させることなく、高い生産性を維持するための描画方法が様々に提案されている（例えば、特許文献１〜３参照）。
上記の特許文献１〜３に記載された描画方法は、いずれも、パターンの輪郭部とその内側部とを異なる別々の領域と捉え、輪郭部のみのパターンの描画データと、内側部のみのパターンの描画データとをそれぞれ作成し、それぞれのパターンを別々に描画するという手法を用いている。例えば、描画データの輪郭部のみのパターンは、微小スポットの電子線描画に優れた高精度の描画装置で描画し、内側部のみのパターンは、スループットの高い可変成形電子線描画装置やレーザ描画装置を用いて、ショットの当たり寸法を大きくして描画する等により、描画精度とスループットの両立を図っている。
【特許文献１】特開平１０−２０９０００号公報
【特許文献２】特許第２８５４６７４号公報
【特許文献３】特開２００３−１９５５１１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、特許文献１〜３に記載された従来の方法は、輪郭部のパターンと内側部のパターンとを別々のパターンとして捉え、それぞれ別の描画データとして作成され、描画も別々に行うものである。そのため、描画データの作成時間が増大して作業負荷が増え、描画データのデータ量も増え、描画時間も増大し、生産性が低下するという問題があった。
【０００５】
本発明の課題は、電子線やレーザを用いる描画用の描画データのデータ量を軽減し、描画データの作成時間や描画時間を短縮して、スループットの向上を図ることができる描画データ作成プログラム、描画データ作成方法、描画データ作成装置、描画システムを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、以下のような解決手段により、前記課題を解決する。なお、理解を容易にするために、本発明の実施形態に対応する符号を付して説明するが、これに限定されるものではない。
請求項１の発明は、描画データに基づいて電子線又はレーザを用いて描画を行う描画装置の前記描画データを設計データから作成する描画データ作成プログラムであって、コンピュータ（３０）を、前記設計データ（Ｄａ）のパターン図形（Ｚ）を複数の描画単位の図形に分解し、前記描画単位の図形の外周を複数の線分と複数の頂点とで表現した閉図形として定義する閉図形定義手段（１３１，Ｓ２０２〜Ｓ２０４）と、前記閉図形の内側へ所定の寸法の幅付けを行う幅付け情報の入力を受け付ける幅情報受け付け手段（１３２，Ｓ２０５）と、前記閉図形の内側へ、前記幅付け情報に基づいて前記線分の垂直方向に幅付けを行い、前記幅付けされる領域より内側の領域を第１描画領域として設定する情報を、前記線分に付与する第１描画領域情報付与手段（３３３，Ｓ２０６，Ｓ２１４）と、前記線分が、隣接する他の閉図形と重複する重複線分であるか、非重複線分であるか判定する重複線分判定手段（３３４，Ｓ２１５，Ｓ２１６）と、前記重複線分に対して、前記幅付け情報に基づいて前記閉図形の内側へ幅付けを行い、前記幅付けされる領域を第２描画領域として設定する情報を付与する第２描画領域情報付与手段（３３４，Ｓ２１７，Ｓ２１９）と、前記各線分及び前記各線分に付与された前記第１描画領域に関する情報とを関連付け、前記各重複線分及び前記各重複線分に付与された前記第２描画領域に関する情報とを関連付けて、前記描画データに含ませて出力する描画データ出力手段（１５，Ｓ２２１）と、として機能させることを特徴とする描画データ作成プログラムである。
請求項２の発明は、請求項１に記載の描画データ作成プログラムにおいて、前記第２描画領域情報付与手段（３３４）では、前記非重複線分に対して、前記閉図形の内側へ幅付けを行わないという情報を付与すること（Ｓ２１８）、を特徴とする描画データ作成プログラムである。
【０００７】
請求項３の発明は、描画データに基づいて電子線又はレーザを用いて描画を行う描画装置の前記描画データを設計データから作成する描画データ作成プログラムであって、コンピュータ（１０，３０）を、前記設計データ（Ｄａ）のパターン図形（Ｚ）を複数の描画単位の図形に分解し、前記描画単位の図形の外周を複数の線分と複数の頂点とで表現した閉図形として定義する閉図形定義手段（１３１，Ｓ１０２〜Ｓ１０４，Ｓ２０２〜Ｓ２０４）と、前記閉図形の外側へ幅付けする幅付け情報の入力を受け付ける幅情報受け付け手段（１３２，Ｓ１０５，３３２，Ｓ２０５）と、前記閉図形の外側へ、前記幅付け情報に基づいて前記線分の垂直方向に幅付けを行い、前記幅付けされる領域よりも内側の領域を第１描画領域とする情報を、前記線分に付与する第１描画領域情報付与手段（１３２，Ｓ１０６，３３３，Ｓ２０６，Ｓ２０８）と、前記線分が、隣接する他の閉図形と重複する重複線分であるか、非重複線分であるか判定する重複線分判定手段（１３３，１３４，Ｓ１０７，Ｓ１０８，３３４，Ｓ２０９，Ｓ２１０）と、前記非重複線分に対して、前記幅付け情報に基づいて前記閉図形の外側へ幅付けを行い、前記幅付けされる領域を第２描画領域として設定する情報を付与する第２描画領域情報付与手段（１３４，Ｓ１１０，３３４，Ｓ２１２，Ｓ２１３）と、前記各線分及び前記各線分に付与された前記第１描画領域に関連する情報と、前記非重複線分及び前記非重複線分に付与された前記第２描画領域に関連する情報とを、前記描画データ（Ｄｂ，Ｄｃ）に含ませて出力する描画データ出力手段（１５，Ｓ１１３，Ｓ２２１）と、として機能させることを特徴とする描画データ作成プログラムである。
請求項４の発明は、請求項３に記載の描画データ作成プログラムにおいて、前記第２描画領域情報付与手段（１３４，３３４）では、前記重複線分に対して、前記閉図形の外側へ幅付けを行わないという情報を付与すること（Ｓ１０９，Ｓ２１１）、を特徴とする描画データ作成プログラムである。
請求項５の発明は、請求項２又は請求項４に記載の描画データ作成プログラムにおいて、前記第２描画領域情報付与手段（１３３，１３４，３３４）では、前記非重複線分に付与される幅付けに関する情報が、前記重複線分に付与される幅付けに関する情報よりも優先されること、を特徴とする描画データ作成プログラムである。
【０００８】
請求項６の発明は、描画データに基づいて電子線又はレーザを用いて描画を行う描画装置の前記描画データを設計データから作成する描画データ作成プログラムであって、コンピュータ（３０）を、前記設計データ（Ｄａ）のパターン図形（Ｚ）を複数の描画単位の図形に分解し、前記描画単位の図形の外周を複数の線分と複数の頂点とで表現した閉図形として定義する閉図形定義手段（１３１，Ｓ２０２〜Ｓ２０４）と、前記閉図形の内側又は外側へ幅付けを行う幅付け情報の入力を受け付ける幅情報受け付け手段（３３２，Ｓ２０５）と、前記幅付け情報が、前記閉図形の内側への幅付け情報の入力の場合には、内側処理手段とし、前記受け付け手段に入力された情報が、外側への幅付け情報の入力の場合には、外側処理手段として機能させ、前記内側処理手段を、前記閉図形の内側へ、前記幅付け情報に基づいて前記線分の垂直方向に幅付けを行い、前記幅付けされる領域より内側の領域を第１描画領域として設定する情報を、前記線分に付与する第１描画領域情報付与手段（３３３，Ｓ２０６，Ｓ２１４）と、前記線分が、隣接する他の閉図形と重複する重複線分であるか、非重複線分であるか判定する重複線分判定手段（３３４，Ｓ２１５，２１６）と、前記重複線分に対して、前記幅付け情報に基づいて前記閉図形の内側へ幅付けを行い、前記幅付けされる領域を第２描画領域として設定する情報を付与する第２描画領域情報付与手段（３３４，Ｓ２１７，Ｓ２１９）と、前記各線分及び前記各線分に付与された第１描画領域に関する情報とを関連付け、前記各重複線分及び前記各重複線分に付与された第２描画領域に関する情報とを関連付けて、前記描画データに含ませて出力する描画データ出力手段（１５，Ｓ２２１）として機能させ、前記外側処理手段を、前記閉図形の外側へ、前記幅付け情報に基づいて前記線分の垂直方向に幅付けを行い、前記幅付けされる領域より内側の領域を第１描画領域とする情報を、前記線分に付与する第１描画領域情報付与手段（３３３，Ｓ２０６，Ｓ２０８）と、前記線分が、隣接する他の閉図形と重複する重複線分であるか、非重複線分であるか判定する重複線分判定手段（３３４，Ｓ２０９，Ｓ２１０）と、前記非重複線分に対して、前記幅付け情報に基づいて前記閉図形の外側へ幅付けを行い、前記幅付けされる領域を第２描画領域として設定する情報を付与する第２描画領域情報付与手段（３３４，Ｓ２１２，Ｓ２１３）と、前記各線分及び前記各線分に付与された前記第１描画領域に関する情報とを関連付け、前記各非重複線分及び前記各非重複線分に付与された前記第２描画領域に関する情報とを関連付けて、前記描画データに含ませて出力する描画データ出力手段（１５，Ｓ２２１）として機能させること、を特徴とする描画データ作成プログラムである。
【０００９】
請求項７の発明は、請求項１から請求項６までのいずれか１項に記載の描画データ作成プログラムにおいて、前記幅付け情報の幅寸法は、可変であること、を特徴とする描画データ作成プログラムである。
請求項８の発明は、請求項１から請求項７までのいずれか１項に記載の描画データ作成プログラムにおいて、前記閉図形定義手段（１３１）では、前記設計データのパターン図形を隣接する２つの前記描画基本図形の重複する辺の長さが等しくなるように分解すること、を特徴とする描画データ作成プログラムである。
【００１０】
請求項９の発明は、描画データに基づいて電子線又はレーザを用いて描画を行う描画装置の前記描画データを設計データから作成する描画データ作成方法であって、前記設計データ（Ｄａ）のパターン図形（Ｚ）を複数の描画単位の図形に分解し、前記描画単位の図形の外周を複数の線分と複数の頂点とで表現した閉図形として定義する閉図形定義工程（Ｓ２０２〜Ｓ２０４）と、前記閉図形定義工程において定義された前記閉図形の内側へ幅付けする幅付け情報の入力を受け付ける幅情報受け付け工程（Ｓ２０５）と、前記幅情報受け付け工程において入力された前記幅付け情報に基づいて、前記閉図形の内側へ前記線分の垂直方向に幅付けを行い、前記幅付けされる領域より内側の領域を第１描画領域として設定する情報を、前記線分に付与する第１描画領域情報付与工程（Ｓ２０６，Ｓ２１４）と、前記線分が、隣接する他の閉図形と重複する重複線分であるか、非重複線分であるか判定する重複線分判定工程（Ｓ２１５，Ｓ２１６）と、前記重複線分に対して、前記幅付け情報に基づいて前記閉図形の内側へ幅付けを行い、前記幅付けされる領域を第２描画領域として設定する情報を付与する第２描画領域情報付与工程（Ｓ２１７，Ｓ２１９）と、前記各線分及び前記各線分に付与された前記第１描画領域に関する情報とを関連付け、前記各重複線分及び前記各重複線分に付与された前記第２描画領域に関する情報とを関連付けて、前記描画データ（Ｄｃ）に含ませて出力する描画データ出力工程（Ｓ２２１）と、を備えることを特徴とする描画データ作成方法である。
【００１１】
請求項１０の発明は、描画データに基づいて電子線又はレーザを用いて描画を行う描画装置の前記描画データを設計データから作成する描画データ作成方法であって、前記設計データ（Ｄａ）のパターン図形（Ｚ）を複数の描画単位の図形に分解し、前記描画単位の図形の外周を複数の線分と複数の頂点とで表現した閉図形として定義する閉図形定義工程（Ｓ１０２〜Ｓ１０４，Ｓ２０２〜Ｓ２０４）と、前記閉図形定義工程において定義された前記閉図形の外側へ幅付けする幅付け情報の入力を受け付ける幅情報受け付け工程（Ｓ２０５）と、前記幅情報受け付け工程において入力された前記幅付け情報に基づいて、前記閉図形の外側へ前記線分の垂直方向に幅付けを行い、前記幅付けされる領域より内側の領域を第１描画領域として設定する情報を、前記線分に付与する第１描画領域情報付与工程（Ｓ１０６，Ｓ２０６，Ｓ２０８）と、前記線分が、隣接する他の閉図形と重複する重複線分であるか、非重複線分であるか判定する重複線分判定工程（Ｓ１０７，Ｓ１０８，Ｓ２０９，Ｓ２１０）と、前記非重複線分に対して、前記幅付け情報に基づいて前記閉図形の外側へ幅付けを行い、前記幅付けされる領域を第２描画領域として設定する情報を付与する第２描画領域情報付与工程（Ｓ１１０，Ｓ２１２，Ｓ２１３）と、前記各線分及び前記各線分に付与された前記第１描画領域に関連する情報と、前記非重複線分及び前記非重複線分に付与された前記第２描画領域に関連する情報とを前記描画データ（Ｄｂ，Ｄｃ）に含ませて出力する描画データ出力工程（Ｓ１１３，Ｓ２２１）と、を備えることを特徴とする描画データ作成方法である。
【００１２】
請求項１１の発明は、描画データに基づいて電子線又はレーザを用いて描画を行う描画装置の前記描画データを設計データから作成する描画データ作成方法であって、前記設計データ（Ｄａ）のパターン図形（Ｚ）を複数の描画単位の図形に分解し、前記描画単位の図形の外周を複数の線分と複数の頂点とで表現した閉図形として定義する閉図形定義工程（Ｓ２０２〜Ｓ２０４）と、前記閉図形定義工程において定義された前記閉図形の内側又は外側へ幅付けを設定する幅付け情報の入力を受け付ける幅情報受け付け工程（Ｓ２０５）と、前記幅情報受け付け工程において入力された前記幅付け情報が、前記閉図形の内側への幅付け情報の入力の場合には、内側処理工程とし、前記受け付け手段に入力された情報が、外側への幅付け情報の入力の場合には、外側処理工程とする幅付け方向判定工程（Ｓ２０７）とを備え、前記内側処理工程は、前記閉図形の内側へ、前記幅付け情報に基づいて前記線分の垂直方向に幅付けを行い、前記幅付けされる領域より内側の範囲を第１描画領域として設定する情報を、前記線分に付与する第１描画領域情報付与工程（Ｓ２０６，Ｓ２１４）と、前記線分が、隣接する他の閉図形と重複する重複線分であるか、非重複線分であるか判定する重複線分判定工程（Ｓ２１５，Ｓ２１６）と、前記各重複線分に対して、前記閉図形の内側へ幅付けを行い、前記幅付けされる領域を第２描画領域とする情報を、前記重複線分に対して付与する第２描画領域情報付与工程（Ｓ２１７，Ｓ２１９）と、前記各線分及び前記線分に付与された前記第１描画領域に関する情報とを関連付け、前記各重複線分及び前記各重複線分に付与された前記第２描画領域に関する情報とを関連付けて、前記描画データ（Ｄｂ）に含ませて出力する描画データ出力工程（Ｓ２２１）を有し、前記外側処理工程は、前記閉図形の外側へ、前記幅付け情報に基づいて前記線分の垂直方向に幅付けを行い、前記幅付けされる領域より内側の領域を第１描画領域として設定する情報を、前記線分に付与する第１描画領域情報付与工程（Ｓ２０６，Ｓ２０８）と、前記線分が、隣接する他の閉図形と重複する重複線分であるか、非重複線分であるか判定する重複線分判定工程（Ｓ２０９，Ｓ２１０）と、前記非重複線分に対して、前記幅付け情報に基づいて前記閉図形の外側へ幅付けを行い、前記幅付けされる領域を第２描画領域として設定する情報を付与する第２描画領域情報付与工程（Ｓ２１２，Ｓ２１３）と、前記各線分及び前記各線分に付与された前記第１描画領域に関する情報とを関連付け、前記各非重複線分及び前記各非重複線分に付与された前記第２描画領域に関する情報とを関連付けて、前記描画データ（Ｄｃ）に含ませて出力する描画データ出力工程（Ｓ２２１）とを有すること、を特徴とする描画データ作成方法である。
【００１３】
請求項１２の発明は、描画データに基づいて電子線又はレーザを用いて描画を行う描画装置の前記描画データを設計データから作成する描画データ作成装置であって、設計データ（Ｄａ）を入力する設計データ入力部（１１）と、請求項１から請求項８までのいずれか１項に記載の描画データ作成プログラムを記憶する記憶部（１４）と、前記描画データ作成プログラムを実行する制御部（１３，３３）と、前記描画データ作成プログラムの実行に必要な指示を入力する操作入力部（１２）と、描画データを出力する描画データ出力部（１５）と、を備えることを特徴とする描画データ作成装置（１０，３０）である。
請求項１３の発明は、請求項１から請求項８までの描画データ作成プログラムを記憶する記憶部（１４）と、前記描画データ作成プログラムを実行する制御部（１３，３３）と、前記描画データ作成プログラムによって作成された描画データ（Ｄｂ，Ｄｃ）に基づいて、電子線又はレーザを用いて基板上に第１描画領域及び第２描画領域を描画する機能を有する描画部（２０）と、を備える描画システムである。
請求項１４の発明は、請求項１２に記載の描画データ作成装置（１０，３０）と、前記描画データ（Ｄｂ，Ｄｃ）に基づいて、電子線又はレーザを用いて基板上に第１描画領域及び第２描画領域を描画する機能を有する描画部を備える描画装置（２０）と、を備える描画システムである。
【００１４】
請求項１５の発明は、請求項１３又は請求項１４に記載の描画システムにおいて、前記描画データ（Ｄｂ，Ｄｃ）に基づいて前記第１描画領域を描画する機能を有する第１描画部と、前記描画データに基づいて前記第２描画領域を描画する機能を有する第２描画部とを備えること、を特徴とする描画システムである。
請求項１６の発明は、請求項１３から請求項１５までのいずれか１項に記載の描画システムにおいて、前記第２描画領域を描画する電子線又はレーザの照射面積は、前記第１の描画領域を描画する電子線又はレーザの照射面積より小さいこと、を特徴とする描画システムである。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、以下の効果を奏することができる。
（１）本発明による描画データの作成プログラムは、コンピュータを、閉図形の内側へ、幅付け情報に基づいて線分の垂直方向に幅付けを行い、幅付けされる領域より内側の領域を第１描画領域として設定する情報を、線分に付与する第１描画領域情報付与手段と、線分が、隣接する他の閉図形と重複する重複線分であるか、非重複線分であるか判定する重複線分判定手段と、重複線分に対して、幅付け情報に基づいて閉図形の内側へ幅付けを行い、幅付けされる領域を第２描画領域として設定する情報を付与する第２描画領域情報付与手段として機能させるので、描画データ上に、第１描画領域と第２描画領域の２つの描画領域を設定できる。従って、描画領域毎に異なる描画データを作成する必要がなく、描画データ作成にかかるコンピュータの負荷を低減できる。
【００１６】
（２）本発明による描画データの作成プログラムは、コンピュータを、閉図形の外側へ、幅付け情報に基づいて線分の垂直方向に幅付けを行い、幅付けされる領域よりも内側の領域を第１描画領域とする情報を、線分に付与する第１描画領域情報付与手段と、線分が、隣接する他の閉図形と重複する重複線分であるか、非重複線分であるか判定する重複線分判定手段と、非重複線分に対して、幅付け情報に基づいて閉図形の外側へ幅付けを行い、幅付けされる領域を第２描画領域として設定する情報を付与する第２描画領域情報付与手段として機能させるので、描画データ上に、第１描画領域と第２描画領域の２つの描画領域を設定できる。従って、描画領域毎に異なる描画データを作成する必要がなく、描画データ作成にかかるコンピュータの負荷を低減できる。
【００１７】
（３）閉図形の内側へ、幅付け情報に基づいて線分の垂直方向に幅付けを行うとき、第２描画領域設定手段では、コンピュータが、非重複線分に対して、閉図形の内側へ幅付けを行わないという情報を付与し、非重複線分の幅付けに関する情報は、前記重複線分の幅付けに関する情報よりも優先されるので、幅付けされるべき領域が幅付けしないという情報によって描画されないことによって生じるパターンの断線を防止できる。
（４）閉図形の外側へ、幅付け情報に基づいて線分の垂直方向に幅付けを行うとき、第２描画領域情報付与手段では、コンピュータが、重複線分に対して、閉図形の外側へ幅付けを行わないという情報を付与し、非重複線分の幅付けに関する情報は、重複線分の幅付けに関する情報よりも優先されるので、描画領域の重複を解消でき、スループットの向上や、多重露光による描画パターンの変形防止を図ることができる。
【００１８】
（５）コンピュータを、幅情報受け付け手段において入力された幅付け情報が、閉図形の内側へ幅付けを行う情報である場合には、内側処理手段とし、受け付け手段に入力された情報が、閉図形の外側へ幅付けを行う情報である場合には、外側処理手段として機能させるので、アンダーサイジング、オーバーサイジングのいずれかを行う場合であっても、効率よく描画データを作成することができる。
【００１９】
（６）幅付け情報の幅寸法は、可変であるので、幅寸法の変更が容易であり、適宜所望する寸法で幅付けを容易に行うことができる。
（７）閉図形定義手段では、設計データのパターン図形を隣接する２つの描画単位の図形の重複する辺の長さが等しくなるように分解するので、設計データのパターン図形が複雑な形状であっても、幅付け処理が複雑化することなく、容易に行える。
【００２０】
（８）本発明による描画データ作成方法は、第１描画領域を設定する情報を線分に付与する第１描画領域情報付与工程と、閉図形の各線分が、隣接する他の閉図形と重複する重複線分であるか、重複しない非重複線分であるか判定する重複線分判定工程と、重複線分に対して、幅付け情報に基づいて閉図形の内側へ幅付けを行い、幅付けされる領域を第２描画領域として設定する情報を付与する第２描画領域情報付与工程とを備えるので、描画データ上に、第１描画領域と第２描画領域の２つの描画領域を設定できる。従って、描画領域毎に異なる描画データを作成する必要がなく、描画データ作成にかかるコンピュータの負荷を低減できる。
【００２１】
（９）本発明による描画データ作成方法は、第１描画領域を設定する情報を線分に付与する第１描画領域情報付与工程と、閉図形の各線分が、隣接する他の閉図形と重複する重複線分であるか、重複しない非重複線分であるか判定する重複線分判定工程と、非重複線分に対して、幅付け情報に基づいて閉図形の外側へ幅付けを行い、幅付けされる領域を第２描画領域として設定する情報を付与する第２描画領域情報付与工程とを備えるので、描画データ上に、第１描画領域と第２描画領域の２つの描画領域を設定できる。従って、描画領域毎に異なる描画データを作成する必要がなく、描画データ作成にかかるコンピュータの負荷を低減できる。
【００２２】
（１０）本発明による描画データ作成方法は、受け付け工程において入力された幅付け情報が、閉図形の内側への幅付け情報である場合には、内側処理工程とし、受け付け手段に入力された情報が、外側への幅付け情報である場合には、外側処理工程とする幅付け方向判定工程を備えるので、オーバーサイジングやアンダーサイジングを行う場合に、容易に幅付け方向を適宜選択することができる。
【００２３】
（１１）本発明による描画データ作成装置は、本発明による描画データ作成プログラムを記憶する記憶部と、描画データ作成プログラムを実行する制御部と、描画データ作成プログラムの実行に必要な指示を入力する操作入力部と、描画データを出力する描画データ出力部とを備えるので、描画データを容易に作成することができる。
【００２４】
（１２）本発明による描画システムは、本発明による描画データ作成プログラムを記憶する記憶部と、描画データ作成プログラムを実行する制御部と、描画データ作成プログラムによって作成された描画データに基づいて、電子線又はレーザを用いて基板上に所定のパターンを描画する機能を有する描画部とを備えるので、描画データを容易に作成することができ、かつ、高精度でありながらスループット高い描画を行うことができる。
（１３）本発明による描画システムは、本発明による描画データ作成装置と、描画データに基づいて、電子線又はレーザを用いて基板上に所定のパターンを描画する機能を有する描画部を備える描画装置とを備えるので、描画データを容易に作成することができ、かつ、高精度でありながらスループット高い描画を行うことができる。
【００２５】
（１４）描画データに基づいて第１描画領域を描画する機能を有する第１描画部と、描画データに基づいて第２描画領域を描画する機能を有する第２描画部とを備えるので、描画領域毎に描画する電子線又はレーザの照射面積や強度等を使い分けることができ、スループットの向上を図ることができる。
（１５）第２描画領域を描画する電子線又はレーザの照射面積は、第１の描画領域を描画する電子線又はレーザの照射面積より小さいので、輪郭部分となる第２描画領域を高精細に描画し、輪郭部分より内側の第１描画領域を低精細に描画するといった描き分けを行うことができ、精度の高い描画を行いながら、スループットの向上を図ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
以下、図面等を参照しながら本発明の実施形態について説明する。なお、図１を含め以下に示す各図は、模式的に示した図であり、各部の大きさ、形状は、理解を容易にするために、適宜誇張している。
【００２７】
（第１実施形態）
図１は、第１実施形態の描画システムを示すブロック図である。
図２は、第１実施形態における描画データの流れを説明する図である。
本実施形態の描画システムは、電子計算機１０と、描画装置２０とを備えている。そして、本実施形態の描画システムでは、図２に示すように、電子計算機１０が、設計データＤａから描画データＤｂを作成し、描画装置２０が、その描画データＤｂの情報に基づいて、高精細で描画する領域及び低精細で描画する領域のそれぞれのパターンを認識し、それぞれの領域を照射面積の異なる電子線又はレーザで描画する。
図１に示すように、電子計算機１０は、設計データＤａから描画データＤｂを作成する描画データ作成装置である。この電子計算機１０は、設計データ入力部１１、操作入力部１２、制御部１３、記憶部１４、描画データ出力部１５等を備えている。
なお、本発明におけるコンピュータとは、記憶装置、制御部等を備えた情報処理装置をいい、電子計算機１０は、記憶部１４、制御部１３等を備えた情報処理装置であり、本発明のコンピュータの概念に含まれる。
【００２８】
設計データ入力部１１は、描画データＤｂを作成する基となる設計データＤａを電子計算機１０へ入力する。本実施形態の設計データ入力部１１は、ハードディスクから情報（設計データ）を読み込んで入力するが、これに限らず、例えば、ＣＤ−ＲＯＭやＤＶＤ等の外部の情報記憶媒体からの情報（設計データ）を読み込み可能としてもよい。
操作入力部１２は、描画データＤｂの作成に伴う各種処理の指示や、必要な数値等を入力する部分である。操作入力部１２は、例えばキーボードである。
制御部１３は、ＣＰＵ等から構成され、操作入力部１２の入力や、設計データ入力部１１から入力された設計データＤａを基に、描画データＤｂを作成するための様々な演算や、処理を行う。この制御部１３は、閉図形定義部１３１、輪郭部設定部１３２、重複線分抽出部１３３、幅付け情報設定部１３４、フォーマット変換部１３５等を備えている。
【００２９】
閉図形定義部１３１は、設計データの多角形のパターン図形を、三角形又は四角形の描画基本図形に分解し、その個々の描画基本図形を、頂点と線分からなる閉図形として定義する。
輪郭部設定部１３２は、操作入力部１２で入力された幅情報により、個々の閉図形の線分に対して垂直な方向に所定の幅を有する輪郭部を定義する。
重複線分抽出部１３３は、閉図形の個々の線分について、その線分が隣接する閉図形の線分と重複しているか否かを判別し、重複する線分を抽出する。
幅付け情報設定部１３４は、閉図形の個々の線分について、その線分が重複する線分であるか否かに応じて、幅付けの有無に関する情報をその線分に付与する。
フォーマット変換部１３５は、上述の様々な定義や情報を含む描画データのフォーマットを、描画装置が認識可能なフォーマットに変換する。
【００３０】
記憶部１４は、設計データＤａを基に描画データＤｂを作成するための描画データ作成プログラムを記憶したり、制御部１３が行う処理により発生したデータ等を順次記憶したりするメモリである。
描画データ出力部１５は、制御部により作成された描画データを、出力する部分である。この描画データ出力部１５は、ハードディスクへ情報（描画データ）を出力する。なお、描画データ出力部１５は、例えば、ＣＤ−ＲＯＭやＤＶＤ等の外部の情報記録媒体へ描情報を出力可能としてもよい。
【００３１】
次に、描画装置２０は、入力された描画データＤｂに基づいて、不図示の基板上に電子線又はレーザを照射して所定のパターンを描画する機能を有するもの（描画部）であり、半導体素子等のパターン形成等に利用される。本実施形態の描画装置２０は、描画データ入力部２１、描画操作入力部２２、描画制御部２３、描画記憶部２４、発光部２５を備えた可変成形電子線描画装置である。
描画データ入力部２１は、電子計算機１０により作成された描画データＤｂを、描画装置２０に入力する部分であり、例えば、ハードディスクから情報（描画データ）を読み込んで入力する。なお、描画データ入力部２１は、ＣＤ−ＲＯＭやＤＶＤ等の外部の情報記録媒体から情報を読み込み可能としてもよい。
描画操作入力部２２は、描画装置２０の操作に伴う各種処理の指示や、必要な数値等を入力する部分であり、例えば、キーボード等を用いることができる。
描画制御部２３は、入力された描画データＤｂに基づいて、描画する部分を認識し、発光部２５の発光や駆動を制御する部分である。
描画記憶部２４は、描画データＤｂを一次的に記憶したり、描画制御部２３の描画に関するプログラムを記憶したりするメモリである。
発光部２５は、電子線又はレーザを基板上に照射する部分であり、電子線又はレーザを照射する不図示のヘッドと、所定のパターンを描画するためにヘッドを駆動する不図示の駆動部とを備えている。本実施形態の発光部２５は、描画制御部２３からの指示により、照射する電子線のビーム径の大きさを適宜調節可能である。
【００３２】
図３は、第１実施形態の描画データ作成方法及び描画方法を説明するフローチャートである。図４は、第１実施形態の描画データ作成方法を説明する図である。
第１実施形態の描画データの作成方法について説明する。本実施形態では、設計データＤａのパターン図形Ｚに対して、パターン図形Ｚの外側に外周に沿って所定の幅を有する輪郭部と輪郭部の内側の領域である内側部（パターン図形Ｚと同一の領域）との２つの領域とを描画領域として定義し、輪郭部を高精細に、内側部を輪郭部に比べて低精細で描画する際の描画データを作成する。つまり、本実施形態では、オーバーサイジングしながら輪郭付近とその内側の領域との描き分けを行う場合の描画データの作成方法を例に挙げて説明する。
【００３３】
本実施形態の描画データ作成方法は、ステップ（以下、単にＳと記載する）１０１からＳ１１３を有し、描画方法は、Ｓ１１４からＳ１１６を有する。
まず、本実施形態の描画データ作成方法を説明する。
Ｓ１０１では、ユーザの操作により、電子計算機１０の設計データ入力部１１に、設計データＤａが入力される。
フォトマスクの設計データＤａは、一般的に、レイアウトデータを多角形で表現したＧＤＳＩＩデータが用いられる場合が多いが、これ以外のデータ形式を用いてもよい。
なお、理解を容易にするために、本実施形態の設計データＤａに表現される描画したいパターン図形Ｚは、矩形として説明する（図４（ａ）参照）。
【００３４】
次に、Ｓ１０２では、閉図形定義部１３１は、入力された設計データＤａのパターン図形に多角形が存在するか否かを判断する。多角形が存在する場合は、Ｓ１０３へ進み、存在しない場合は、Ｓ１０４へ進む。
Ｓ１０３では、設計データＤａのパターン図形中の多角形を、三角形又は四角形の描画単位の図形（描画基本図形）に分解する。本実施形態では、２つの隣接する四角形に分解している（図４（ｂ）参照）。
Ｓ１０４では、閉図形定義部１３１が、個々の描画基本図形の外周を、線分と点で表現した閉図形として定義する。本実施形態では、設計データＤａのパターン図形は、破線で示される８つの線分（ａｂ，ｂｃ，ｃｄ，ｄａ，ｅｆ，ｆｇ，ｇｈ，ｈｅ）と、黒丸で示される６つの点（（Ｘａ，Ｙａ）〜（Ｘｄ，Ｙｄ），（Ｘｅ，Ｙｅ）〜（Ｘｈ，Ｙｈ））で表現される２つの閉図形として定義される。
【００３５】
Ｓ１０５では、制御部１３は、操作入力部１２の操作に応じて、後述のＳ１０６で定義する輪郭部Ａ１，Ａ２の幅の寸法の数値等の幅情報を入力する。ここで、幅情報とは、幅の寸法や、線分を基準として閉図形に対して内側へ幅付けして輪郭部を形成するのか、外側へ幅付けして輪郭部を形成するのか等の情報をいう。本実施形態では、幅の寸法をＷ１とし、各線分を基準として閉図形の外側へ幅付けして輪郭部を形成する。幅Ｗ１は、線分に対して垂直方向の寸法である。
Ｓ１０６では、輪郭部設定部１３２が、閉図形を構成する個々の線分について、その線分を基準として幅Ｗ１の帯状の輪郭部Ａ１，Ａ２を設定する（図４（ｄ）参照）。また、輪郭部Ａ１，Ａ２より内側となる領域を内側部Ｂ１，Ｂ２として設定する（図４（ｅ）参照）。
本実施形態では、閉図形が隣接しているため、輪郭部Ａ１，Ａ２が重複している領域Ｏ１，Ｏ２や、本来の設計データのパターン図形Ｚにおいて、その外周ではない領域Ｐ１，Ｐ２にも輪郭部が定義される（図５（ｃ）参照）。
Ｓ１０７では、重複線分抽出部１３３が、個々の閉図形の各線分について、隣接する閉図形の線分と重複する線分を抽出する。本実施形態では、線分ｂｃと線分ｈｅが重複する線分に該当し、抽出される。
【００３６】
Ｓ１０８では、幅付け情報設定部１３４が、閉図形を構成する個々の線分に関して、その線分が重複する線分（以下、重複線分という）であるか、重複しない線分（以下、非重複線分という）であるかを判別する。重複する線分であれば、Ｓ１０９へ進み、重複しない線分であれば、Ｓ１１０へ進む。
Ｓ１０９では、幅付け情報設定部１３４が、重複線分であると判定された線分に対して、その垂直方向には幅付けをしない、という情報を付与する。本実施形態では、線分ｂｃ，ｈｅは、重複線分であるので（Ｓ１０８：Ｙｅｓ）、線分ｂｃ，ｈｅには幅付けをしないという情報が付与される（Ｓ１０９）。従って、線分ｂｃ，ｈｅの垂直方向には幅付けをしない、という情報が付与され、領域Ｃ１，Ｃ２（線分ｂｃ，ｈｅの垂直方向に幅付けされる領域、図４（ｆ）参照）は、輪郭部として設定されない。
なお、本実施形態では、線分に対する幅付けの有無に関する情報は、フラグとして付与される。「ｆｌａｇ＝０」というフラグが設定された場合、その線分の垂直方向には幅付けしないものとする。
【００３７】
Ｓ１１０では、幅付け情報設定部１３４が、非重複線分であると判定された線分に対して、その垂直方向へ幅付けを行う、という情報を付与する。
本実施形態では、線分ａｂ，ｃｄ，ｄａ，ｅｆ，ｆｇ，ｇｈが、非重複線分であるので（Ｓ１０８：Ｎｏ）、線分ａｂ，ｃｄ，ｄａ，ｅｆ，ｆｇ，ｇｈに対して、その垂直方向へ幅付けを行う、という情報を付与が付与される。本実施形態では、線分に対する幅付けの有無に関する情報は、フラグとして付与され、「ｆｌａｇ＝１」というフラグが設定された場合、その線分の垂直方向には幅付けを行うものとする。従って、非重複線分ａｂ，ｃｄ，ｄａ，ｅｆ，ｆｇ，ｇｈについては、輪郭部設定部１３２が定義した幅付け（輪郭部）が維持される形態となる。
なお、本実施形態では、Ｓ１０８〜Ｓ１１０において、輪郭部を設定するために各線分に付与される情報は、非重複線分に付与される幅付け情報が、重複線分に付与される幅付け情報より優先される。従って、幅付けするという情報が、幅付けしないという情報よりも優先される。
【００３８】
Ｓ１１１では、幅付け情報設定部１３４が、すべての線分に対して幅付け情報を設定する処理が完了したかを判断する。すべての線分に幅付け情報の設定が完了していれば、Ｓ１１２へ進む。完了していなければ、Ｓ１０８へ進み、幅付け情報が設定されていない線分に関して、Ｓ１０８以降の処理を行う。
上述のＳ１０８〜Ｓ１１１を行うことにより、輪郭部Ｄ（Ｄ１，Ｄ２）（図４（Ｄ）参照）が設定される。
Ｓ１１２では、フォーマット変換部１３５が、上述の処理に基づく情報や定義を含む描画データを、描画装置２０が認識可能なフォーマットに変換して、描画データＤｂとする。このとき、描画データＤｂには、閉図形の定義、各線分とそれに付与された内側部を設定する情報、各重複線分，各非重複線分とそれに付与された各重複線分，各非重複線分に付与された輪郭部を設定する情報が、それぞれ、関連付けられた状態で含まれている。これにより、描画装置２０は、１つの描画データＤｂから、輪郭部Ｄ（図４（ｇ）参照）と、輪郭部の内側の領域である内側部Ｂ（Ｂ１，Ｂ２）（図４（ｅ）参照）との２つの領域を認識可能となる。
Ｓ１１３では、操作入力部１２の操作等により、描画データ出力部１５から、作成された描画データＤｂを出力する。このとき、描画データＤｂを、ハードディスクへ出力してもよいし、ＣＤ−Ｒ等の各種記憶媒体に出力して書き込んでもよいし、電子計算機１０と描画装置２０とを信号、電気ケーブル等のラインでつなぎ、情報記憶媒体等を通すことなく、描画装置２０へ直接出力してもよい。
【００３９】
Ｓ１１４では、ユーザの操作により、電子計算機１０によって作成された描画データＤｂが描画装置２０の描画データ入力部２１へ入力される。
Ｓ１１５では、描画操作入力部２２からの指示により、入力された描画データＤｂに基づいて、描画制御部２３が、描画する２つの領域を認識する。本実施形態では、描画操作入力部２２からの指示に応じて輪郭部Ｄ（図４（ｇ）参照）、内側部Ｂ（図４（ｅ）参照）のいずれかを認識する。
Ｓ１１６では、発光部２５が、描画制御部２３が認識した領域を描画する。このとき、描画操作入力部２２の入力に応じて、描画制御部２３が、輪郭部Ｄは、小さなビーム径によって高精度に描画し、内側部Ｂは、輪郭部Ｄより大きなビーム径によって描画するように発光部２５に指示し、発光部２５のヘッドの発光の強度等を制御する。発光部２５は、描画制御部２３からの指示により、輪郭部Ｄを小さなビーム径によって高精度に描画し、内側部Ｂを輪郭部Ｄより大きなビーム径によって描画する。
【００４０】
よって、本実施形態によれば、閉図形の各線分に対して、幅付けの有無の情報を与えることにより、１つの描画データＤｂでありながら、描画装置２０が輪郭部Ｄと内側部Ｂとの２つの領域を認識することが可能となる。従って、描画領域毎に描画データを作成する必要がなくなり、描画データ作成のデータ処理に関して電子計算機にかかる負荷を軽減することができる。
【００４１】
ここで、閉図形の個々の線分に幅付け情報を設定しない場合を考える。
図５は、線分に対して幅付け情報を設定しない場合の問題点を説明する図である。
図５に示すように、描画基本図形が隣接する場合、２つの閉図形において重複する線分ｂｃ，ｈｅが存在する（図５（ａ）参照）。
そのため、仮に、各線分に対して一律に閉図形の外側に幅付けして輪郭部Ａ１２，Ａ２２として定義する場合には、本来の設計データＤａのパターン図形では輪郭部に相当しない内側部Ｂ１２，Ｂ２２である領域Ｐ１，Ｐ２や、輪郭部が重複する領域Ｏ１，Ｏ２が発生する。
この領域Ｐ１，Ｐ２は、設計データＤａのパターン図形において、そのパターン図形Ｚの外周よりも内側の領域であり、高精度に描画する必要がない。しかし、このまま描画装置により描画した場合には、描画装置２０は、この領域Ｐ１，Ｐ２を輪郭部と認識して高精度に描画することになり、スループットの低下を招く。また、領域Ｐ１，Ｐ２は、内側部Ｂ１２、Ｂ２２（図５（ｂ）参照）と重複しており、領域Ｏ１，Ｏ２は、輪郭部が重複している領域である。つまり、これらの領域は、描画領域が重複しているので、多重露光することとなり、スループットの低下に加えて、多重露光による描画パターンの変形等が生じる。
【００４２】
これに対して、本実施形態によれば、高精度で描画する必要のない閉図形の内側は、輪郭部とならないように、幅付け情報によってその部分の幅付け（図４（ｆ）に示す領域Ｃ１，Ｃ２）を行わないこととでき、スループットの向上や作業時間の短縮、消費電力の低減等を図ることができる。
そして、本実施形態によれば、重複する描画領域が発生しないので、多重露光となる領域が発生せず、スループットの向上等や作業時間の短縮、消費電力の低減等に加えて、多重露光による描画パターンの変形を防止することができる。
【００４３】
（第２実施形態）
第２実施形態の描画システムは、輪郭部と内側部との描き分けを行わず、オーバーサイジング又はアンダーサイジングを行うという点が、第１実施形態とは異なる以外は、第１実施形態の描画システムと略同様の形態である。そこで、上述した第１実施形態と同様の機能を果たす部分には、同一の符号又は末尾に同一の符号を付して、重複する説明を適宜省略する。
図６は、第２実施形態の描画システムを示すブロック図である。図７は、第２実施形態の描画システムにおける描画データの流れを説明する図である。
第２実施形態の描画システムは、電子計算機３０と描画装置２０とを備えている。第２実施形態の描画システムでは、オーバーサイジング又はアンダーサイジングを行い、設計データＤａのパターン図形よりも、パターン図形を太らせた（拡大した）パターン図形又は細らせた（縮小した）パターン図形を描画装置２０に認識させる描画データＤｃを電子計算機３０が作成し、その描画データＤｃに基づいて、描画装置２０が不図示の基板上に太らせたパターン図形を描画する。
【００４４】
電子計算機３０は、設計データ入力部１１、操作入力部１２、制御部３３、記憶部１４、描画データ出力部１５を備える。
制御部３３は、閉図形定義部１３１、サイジング領域設定部３３２、第１パターン領域設定部３３３、第２パターン領域設定部３３４、フォーマット変換部１３５等を備え、描画データ作成のための様々な演算や処理を行う。
サイジング領域設定部３３２は、操作入力部１２から入力されたサイジング情報に基づいて、各閉図形に対するサイジング領域を定義する。本実施形態のサイジング情報は、設計データＤａのパターン図形に対して、どの程度太らせるのか又は細らせるのかという情報、すなわち、オーバーサイジング又はアンダーサイジングの量（すなわち、太らせる又は細らせる寸法）と、その方向（すなわち、閉図形の外側へ又は内側への幅付けであること）とを示す情報をいう。
【００４５】
第１パターン領域設定部３３３は、描画領域となる第１パターン領域を設定する。第１パターン領域とは、サイジング領域設定部３３２により定義されたサイジング領域の内側の領域として定義される第１描画領域（図９（ｅ）に示す領域Ｆ、図１０（ｅ）に示す領域Ｊ参照）である。
第２パターン領域設定部３３４は、重複線分抽出部３３５と幅付け情報設定部３３６とを有し、描画領域となる第２パターン領域を設定する。第２パターン領域とは、後述する重複線分抽出部３３５及び幅付け情報設定部３３６によって各線分に付与された情報によって設定される第２描画領域（図９（ｇ）に示す領域Ｈ、図１０（ｇ）に示す領域Ｌ参照）である。
重複線分抽出部３３５は、閉図形の個々の線分の中から、隣接する閉図形の線分と重複している線分を抽出する。
幅付け情報設定部３３６は、個々の線分に対し、重複する線分であるか重複しない線分であるかを判定し、その結果に応じてその線分に対して幅付けに関する情報を付与する。
【００４６】
（オーバーサイジング）
図８は、第２実施形態の描画データ作成方法及び描画方法を示すフローチャートである。図９は、第２実施形態の描画データ作成方法（オーバーサイジング）を説明する図である。
まず、本実施形態においてオーバーサイジングを行う場合を説明する。オーバーサイジングを行う描画データ作成方法は、Ｓ２０１〜Ｓ２１３，Ｓ２２０，Ｓ２２１を有する。
Ｓ２０１〜Ｓ２０４は、第１実施形態に示したＳ１０１〜Ｓ１０４と同様の処理を行っている（図９（ａ）〜（ｃ）参照）。
Ｓ２０５では、操作入力部１２からサイジング情報を入力する。ここでは、設計データＤａのパターン図形Ｚに対して寸法Ｗ２だけ太らせてオーバーサイジングした描画領域を得るために、個々の線分に対して幅寸法Ｗ２だけ外側へ幅付けしてサイジング領域とするという情報を操作入力部１２から入力する。
【００４７】
Ｓ２０６では、サイジング領域設定部３３２が、個々の閉図形に対して、サイジング領域を定義する。ここではオーバーサイジングを行うので、サイジング領域設定部３３２は、個々の線分に対して外側へ幅寸法Ｗ２で幅付けしたサイジング領域Ｅ１，Ｅ２を設定する（図９（ｄ）参照）。
Ｓ２０７では、サイジング領域設定部３３２が、入力されたサイジング情報からオーバーサイジングを行うのか、アンダーサイジングを行うのかを判断する。オーバーサイジングであればＳ２０８へ進み、アンダーサイジングであればＳ２１４へ進む。ここでは、オーバーサイジングを行うので、Ｓ２０８へ進む。アンダーサイジングを行う場合については後述する。
【００４８】
Ｓ２０８では、第１パターン領域設定部３３３が、サイジング領域Ｅ１，Ｅ２の内側を、第１パターン領域Ｆ（Ｆ１，Ｆ２）として設定する。ここでは、オーバーサイジングを行うので、個々の閉図形で定義される領域（描画基本図形）を描画領域である第１パターン領域Ｆ（Ｆ１，Ｆ２）であると設定する（図９（ｅ）参照）
Ｓ２０９では、重複線分抽出部３３５が、個々の閉図形において、隣接する閉図形の線分と重複する重複線分を抽出する。本実施形態では、線分ｂｃ，ｈｅが該当し、抽出される。
Ｓ２１０では、幅付け情報設定部３３６が、個々の線分が重複線分であるか否かを判定する。重複線分であれば、Ｓ２１１へ進み、非重複線分であればＳ２１２へ進む。
Ｓ２１１では、幅付け情報設定部３３６が、重複線分に対して、その線分の垂直方向へは幅付けしないという情報を付与し、Ｓ２１３へ進む。本実施形態では、線分ｂｃ，ｈｅに対して、幅付けしないという情報をフラグ（ｆｌａｇ＝０）等を用いて付与する。
Ｓ２１２では、幅付け情報設定部３３６が、非重複線分に対して、その線分の垂直方向へ幅付けするという情報を付与し、Ｓ２１３へ進む。本実施形態では、線分ａｂ，ｃｄ，ｄａ，ｅｆ，ｆｇ，ｇｈに対して、幅付けするという情報をフラグ（ｆｌａｇ＝１）等を用いて付与する。
なお、Ｓ２１０〜Ｓ２１２において、第２パターン領域の設定のために各線分に付与される情報は、非重複線分に付与される幅付け情報が、重複線分に付与される幅付け情報よりも優先される。従って、幅付けするという情報（ｆｌａｇ＝１）が、幅付けしない（ｆｌａｇ＝０）という情報よりも優先される。
【００４９】
Ｓ２１３では、幅付け情報設定部３３６が、すべての線分に対して幅付け情報の設定が完了しているかを判断する。完了している場合には、Ｓ２２０へ進み、完了していない場合は、Ｓ２１０へ進み、幅付け情報が付与されていない線分に対して、Ｓ２１０以降の処理を行う。
Ｓ２０９〜Ｓ２１３の処理を行うことにより、一様に幅付けしてオーバーサイジングを行った場合に、幅付けが不要な領域Ｇ１，Ｇ２（図９（ｆ）参照）への幅付けを削除することができる。そして、オーバーサイジングにより新しく設定された描画領域である第２パターン領域Ｈ（Ｈ１，Ｈ２）を定義できる（図９（ｇ）参照）。
Ｓ２２０では、フォーマット変換部１３５が、上述に処理により付与された情報や定義を含む描画データを、描画装置２０が認識可能なフォーマットへ変換する。このとき、描画データＤｃには、各線分とそれに付与された第１パターン領域を設定する情報、各重複線分，各非重複線分とそれに付与された各重複線分，各非重複線分に付与された第２パターン領域を設定する情報とが、それぞれ関連付けられた状態で含まれている。
Ｓ２２１では、描画データ出力部１５が、描画データＤｃを出力する。
【００５０】
（アンダーサイジング）
図１０は、第２実施形態の描画データ作成方法（アンダーサイジング）を説明する図である。
アンダーサイジングを行う描画データ作成方法は、Ｓ２０１〜Ｓ２０７、Ｓ２１４〜Ｓ２１９，Ｓ２２０，Ｓ２２１を有する。アンダーサイジングを行う場合も、オーバーサイジングを行う場合と同様に、Ｓ２０１〜Ｓ２０４は、第１実施形態に示したＳ１０１〜Ｓ１０４と同様の処理を行っている（図１０（ａ）〜（ｃ）参照）。
図８に示すＳ２０５で、操作入力部１２からサイジング情報を入力する。アンダーサイジングを行う場合には、設計データＤａのパターン図形に対して寸法Ｗ３だけ細らせてアンダーサイジングした描画領域を得るために、個々の線分に対して寸法Ｗ３だけ内側へ幅付けしてサイジング領域とするという情報を操作入力部１２から入力する。
Ｓ２０６では、サイジング領域設定部３３２が、個々の閉図形に対して、サイジング領域を設定する。本実施形態では、閉図形の個々の線分に対して内側に幅寸法Ｗ３だけ幅付けして帯状のサイジング領域Ｉ１，Ｉ２（図１０の（ｄ）参照）を設定する。なお、アンダーサイジングを行う場合、このサイジング領域Ｉ１，Ｉ２は非描画領域である。
【００５１】
Ｓ２０７では、サイジング領域設定部３３２が、アンダーサイジングを行うのか、オーバーサイジングを行うのかを、入力されたサイジング情報から判断する。ここではアンダーサイジングを行うので、Ｓ２１４へ進む。
Ｓ２１４では、第１パターン領域設定部３３３が、サイジング領域設定部３３２で設定されたサイジング領域より内側の領域を、第１パターン領域として定義する。ここでは、アンダーサイジングを行うので、サイジング領域Ｉ１，Ｉ２（図１０（ｄ）参照）の内側となる領域Ｊ１，Ｊ２（図１０（ｅ）参照）を、第１パターン領域Ｊとして定義する。
【００５２】
Ｓ２１５では、第２パターン領域設定部３３４の重複線分抽出部３３５が、閉図形の個々の線分のうち、隣接する閉図形の線分と重複している重複線分を抽出する。本実施形態では、線分ｂｃ，ｈｅが重複線分に該当し、抽出される。
Ｓ２１６では、第２パターン領域設定部３３４の幅付け情報設定部３３６が、個々の線分に対して、その線分が重複線分であるか否かを判別する。重複線分であると判定した場合はＳ２１７へ進み、非重複線分でないと判定した場合には、Ｓ２１８へ進む。
Ｓ２１７では、幅付け情報設定部３３６が、重複線分であると判定された線分に対して、その線分の垂直方向に幅付けするという情報を付与する。本実施形態では、線分ｂｃ，ｈｅに対して、その線分の垂直方向に幅付けするという情報をフラグ（ｆｌａｇ＝１）等で設定する。
【００５３】
Ｓ２１８では、幅付け情報設定部３３６が、非重複線分であると判定された線分に対して、その線分の垂直方向に対して幅付けしないという情報を付与する。本実施形態では、線分ａｂ，ｃｄ，ｄａ，ｅｆ，ｆｇ，ｇｈが、非重複線分と判定され、これらの線分に対して、幅付けしないという情報をフラグ（ｆｌａｇ＝０）等を用いて設定する。
Ｓ２１９では、幅付け情報設定部３３６が、すべての線分に対して幅付け情報を付与したか否かを判断する。すべての線分に対して幅付け情報が付与されていればＳ２２０へ進む。付与されていない線分が存在する場合には、Ｓ２１６へ進み、その線分に対してＳ２１６以降の処理を行う。
なお、本実施形態では、Ｓ２１６〜Ｓ２１８において第２パターン領域を設定するために各線分に付与される幅付け情報は、非重複線分に付与される幅付け情報が、重複線分に付与される幅付け情報より優先される。従って、幅付けしないという情報（ｆｌａｇ＝０）が、幅付けするという情報（ｆｌａｇ＝１）よりも優先される。
【００５４】
上述のＳ２１５〜Ｓ２１９を行うことにより、第２パターン領域Ｌ（Ｌ１，Ｌ２）が定義される（図１０の（ｇ）参照）。
ここで仮に、閉図形の線分に対して一律に閉図形の内側へ幅付けしたサイジング領域を定義して、アンダーサイジングを行う場合には、個々の第１パターン領域Ｊ１，Ｊ２間には、隙間（スリット）Ｋが生じる場合がある（図１０（ｆ）参照）。この状態のまま描画装置２０によって第１パターン領域Ｊを描画すると、隙間Ｋ部分が描画されないので、パターン図形が断線した状態で描画されてしまう。第２パターン領域Ｌは、幅付け情報を付与することにより、第１パターン領域Ｊ（Ｊ１，Ｊ２）域間の隙間Ｋとなる領域に、描画領域として定義されるので、そのようなパターンの断線を防止できる。
【００５５】
Ｓ２２０では、フォーマット変換部１３５が、上述に処理により付与された情報や定義を含む描画データを、描画装置２０が認識可能なフォーマットへ変換する。このとき、描画データＤｃには、各線分とそれに付与された第１パターン領域を設定する情報、各重複線分，各非重複線分とそれに付与された各重複線分，各非重複線分に付与された第２パターン領域を設定する情報とが、それぞれ関連付けられた状態で含まれている。
Ｓ２２１では、描画データ出力部１５が、描画データＤｃを出力する。
【００５６】
（描画方法）
次に、描画方法について説明する。本実施形態の描画方法は、Ｓ２２２〜Ｓ２２４を有する。
Ｓ２２２では、ユーザの操作等により、描画装置２０の描画データ入力部２１が、作成された描画データＤｃを描画制御部２３へ入力する。
Ｓ２２３では、描画制御部２３が、描画データＤｃに基づいて、第１パターン領域と第２パターン領域とを認識する。本実施形態では、オーバーサイジングを行う場合、描画制御部２３は、第１パターン領域Ｆ（図９（ｅ）参照）と第２パターン領域Ｈ（図９（ｇ）参照）とを描画領域として認識する。一方、アンダーサイジングを行う場合、描画制御部２３は、第１パターン領域Ｊ（図１０（ｅ）参照）と第２パターン領域Ｌ（図１０（ｇ）参照）とを、描画領域として認識する。
【００５７】
Ｓ２２１では、発光部２５が、描画制御部２３の指示に基づいて、第１パターン領域及び第２パターン領域からなる描画領域を描画する。
本実施形態では、発光部２５は、オーバーサイジングを行う場合、第１パターン領域Ｆ及び第２パターン領域Ｈからなる描画領域を描画し、アンダーサイジングを行う場合、第１パターン領域Ｊ及び第２パターン領域Ｌからなる描画領域を描画する。このとき、照射する電子線のビーム径は、描画操作入力部２２から入力された指示に従い、適宜調節される。また、発光部２５は、第１パターン領域及び第２パターン領域からなる領域（領域Ｆ，Ｈ又は領域Ｊ，Ｌ）を一度に描画してもよいし、第１パターン領域（領域Ｆ，Ｊ）と第２パターン領域（領域Ｈ，Ｌ）とを別々に描画してもよい。
【００５８】
本実施形態によれば、１つの描画データＤｃから、描画装置２０に対して第１パターン領域及び第２パターン領域の２つの描画領域を認識させることができる。従って、描画領域である第１パターン領域Ｆ，Ｊ、第２パターン領域Ｈ，Ｌ毎に、それぞれの描画データを作成する必要がなく、電子計算機３０にかかる描画データＤｃ作成の負荷を低減できる。
また、オーバーサイジングを行う場合には、重複する描画領域が発生しないので、多重露光による変形を防止でき、かつ、スループットを向上することができる。
さらに、アンダーサイジングを行う場合には、一律に基本図形の内側に非描画領域を設定してアンダーサイジングを行った場合に生じるスリット（隙間Ｋ）を防止でき、パターン図形の断線を防止できる。
【００５９】
（変形形態）
以上説明した実施形態に限定されることなく、種々の変形や変更が可能であって、それらも本発明の範囲内である。
（１）第１実施形態において、描画装置２０として、ビーム径の大きさを適宜調節可能な１つのヘッドを備える可変成形電子線描画装置を例に挙げて説明したが、これに限らず、例えば、照射面積の異なる２つのヘッドを備える１つの描画装置によって、輪郭部Ｄを高精度に描画し、内側部Ｂを輪郭部Ｄに比べてラフに描画してもよい。また、例えば、輪郭部Ｄは照射面積の小さい微小スポットの電子線を照射する描画装置で描画し、内側部Ｂは、照射面積の大きいレーザを照射する描画装置で描画するといったように、照射面積の異なる２台の描画装置を用いて描画してもよい。
なお、各実施形態中に示した描画装置２０としては、リソグラフィ用描画装置であれば特に限定されず、例えば、スポットビーム電子線描画装置、可変成形電子線描画装置、マルチビーム電子線描画装置、レーザ描画装置等を用いてもよい。
【００６０】
（２）各実施形態において、幅付けの寸法は、所定の値Ｗ１，Ｗ２，Ｗ３である例を示したが、これに限らず、幅付けの寸法は、可変としてもよい。この場合、例えば、入力される幅情報では、幅付けの寸法は、変数ｘで表現され、描画装置の操作入力部から入力した値で適宜設定されるものとしてもよい。このような形態とすれば、幅付けの寸法の変更が容易となり、例えば、サイジングや高精細描画と低精細描画の描き分けを行う場合等に、試作時の描画の状態を確認した後、サイジング領域や輪郭部の寸法を変化させて再度描画するといった処理を複雑な工程を経ることなく簡便に行うことができる。
【００６１】
（３）各実施形態において、フォトマスクを用いたフォトリソグラフィ用のマスク製作における描画データ作成プログラム、描画データ作成方法、描画データ作成装置、描画システムについて説明したが、これに限らず、ウエハ基板への電子線やレーザ光のによる描画等のその他のリソグラフィ技術にも適用できる。
【００６２】
（４）各実施形態において、隣接する描画基本図形が接する辺の長さが等しい（閉図形の重複する線分ｂｃと線分ｈｅの長さが等しい）例を示して説明した。しかし、接する辺（重複する線分）の長さが異なる基本図形（閉図形）が生じる可能性がある。
図１１は、変形形態の描画データ作成方法を説明する図である。
図１１（ａ）に示すような設計パターンのパターン図形Ｚ１では、描画データ作成プログラムにおいて、描画基本図形に分解された場合に、図１１（ｂ）に示すように、隣接する描画基本図形の接する辺の長さが異なる場合がある。
このとき、１つの方法としては、そのような辺が生じなくなるまで、さらに描画基本図形に分解し、閉図形を定義する（図１１（ｃ）参照）という処理を行う。そうすることにより、以降は、上述の第１実施形態及び第２実施形態に示した処理を行うことができる。
【００６３】
また、もう１つの方法としては、隣接する描画基本図形の接する辺の長さが異なる状態のまま閉図形を定義し（図１１（ｄ）参照）、サイジング領域又は輪郭部Ｍ１，Ｍ２を定義した後に、短い方の線分の末端から外側又は内側に幅付け境界点を設ける。図１１では、オーバーサイジングを行う場合を例に挙げて説明するが、図１１（ｅ）に示すように、幅付け境界点ｑを設けて、線分ｈｃを線分ｈｑと線分ｑｃとに分解する。
そして、それぞれの線分に対して、幅付け情報を付与する。図１１に示す例では、２つの辺の交点に相当する点ｈ（Ｘｈ，Ｙｈ）と境界点ｑとを結ぶ線分ｈｑには、幅付けしないという情報を付与する。他の線分に対しては、第２実施形態に示すように、重複する線分であれば、幅付けしないという情報を付与し、重複しない線分であれば幅付けするという情報を付与することにより、第２パターン領域Ｎ（Ｎ１，Ｎ２）を設定する。
このように新たに線分上に境界点を設けて、その境界点により線分を新たに定義して、その線分に対して幅付け情報を付与することにより、重複して描画する領域が生じることを防止でき、スループットの向上や多重露光による変形の防止等の効果が得られる。
【００６４】
（５）各実施形態において、電子計算機１０，３０は、描画装置２０とは別体である例を示したが、これに限らず、例えば、電子計算機が描画装置内に設けられていてもよい。
【００６５】
（６）第１実施形態において、線分を基準として閉図形の外側へ幅付けして輪郭部を設定する例を示したが、これに限らず、線分を基準として内側へ幅付けして輪郭部を定義してもよい。この場合、重複する線分か否かに応じて幅付けの有無に関する情報を付与する等の処理は行わず、個々の線分に対して一律に幅付けを行って輪郭部と内側部とを定義してよい。
【００６６】
（７）第２実施形態において、Ｓ２０８で、制御部３３がオーバーサイジングを行うのか、アンダーサイジングを行うのか、アンダーサイジングを行うのかをサイジング情報から判断し、それぞれの場合に応じた処理を行う例を示したが、これに限らず、例えば、そのような判断を行わず、アンダーサイジングのみを行う、又は、アンダーサイジングのみを行うものとしてもよい。
なお、本実施形態及び変形形態は、適宜組み合わせて用いることもできるが、詳細な説明は省略する。また、本発明は以上説明した各実施形態によって限定されることはない。
【図面の簡単な説明】
【００６７】
【図１】第１実施形態の描画システムを示すブロック図である。
【図２】第１実施形態の描画システムにおける描画データの流れを説明する図である。
【図３】第１実施形態の描画データ作成方法及び描画方法を説明するフローチャートである。
【図４】第１実施形態の描画データ作成方法を説明する図である。
【図５】線分に対して幅付け情報を設定しない場合の問題点を説明する図である。
【図６】第２実施形態の描画システムを示すブロック図である。
【図７】第２実施形態の描画システムにおける描画データの流れを説明する図である。
【図８】第２実施形態の描画データ作成方法及び描画方法を示すフローチャートである。
【図９】第２実施形態の描画データ作成方法（オーバーサイジング）を説明する図である。
【図１０】第２実施形態の描画データ作成方法（アンダーサイジング）を説明する図である。
【図１１】変形形態の描画データ作成方法を説明する図である。
【符号の説明】
【００６８】
１０，３０    電子計算機
１１    設計データ入力部
１２    操作入力部
１３，３３    制御部
１３１    閉図形定義部
１３２    輪郭部設定部
１３３，３３５    重複線分抽出部
１３４，３３６    幅付け情報設定部
３３３    第１パターン領域設定部
３３４    第２パターン領域設定部
１４    記憶部
１５    描画データ出力部
２０    描画装置
【図１】
2010129900.tif 000003
【図２】
2010129900.tif 000004
【図３】
2010129900.tif 000005
【図４】
2010129900.tif 000006
【図５】
2010129900.tif 000007
【図６】
2010129900.tif 000008
【図７】
2010129900.tif 000009
【図８】
2010129900.tif 000010
【図９】
2010129900.tif 000011
【図１０】
2010129900.tif 000012
【図１１】
2010129900.tif 000013