(57)【要約】【課題】発光材料に対して良好な電子注入を実現し、発光効率や素子寿命が改善された有機エレクトロルミネッセンス装置を提供する。【解決手段】基板１０Ａと、基板１０Ａに設けられた陽極３０と、陽極３０に対向する陰極５０と、陽極３０と陰極５０との間に配置された有機発光層４６と、を有する発光素子６０を、基板１０Ａ上に複数備え、陰極５０は、有機発光層４６に接して配置された第１陰極層５２と、第１陰極層５２の有機発光層４６とは反対側に配置された第２陰極層５４と、第１陰極層５２と第２陰極層５４との間に第１陰極層５２に接して配置された第３陰極層５６と、を有し、第３陰極層５６の形成材料は、第１陰極層５２および第２陰極層５４の形成材料よりも低い仕事関数を有する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
前記基板に設けられた陽極と、該陽極に対向する陰極と、該陽極と該陰極との間に配置された有機発光層と、を有する発光素子を、前記基板上に複数備え、
前記陰極は、前記有機発光層に接して配置された第１陰極層と、
前記第１陰極層の前記有機発光層とは反対側に配置された第２陰極層と、
前記第１陰極層と前記第２陰極層との間に前記第１陰極層に接して配置された第３陰極層と、を有し、
前記第３陰極層の形成材料は、前記第１陰極層および前記第２陰極層の形成材料よりも低い仕事関数を有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス装置。
【請求項２】
前記陰極は、前記第２陰極層と前記第３陰極層との間に、前記第２陰極層の形成材料よりも低く且つ前記第３陰極層の形成材料よりも高い仕事関数を有する材料を形成材料とする第４陰極層を有することを特徴とする請求項１に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。
【請求項３】
前記第１陰極層と前記第４陰極層とは、同じ形成材料であることを特徴とする請求項２に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。
【請求項４】
前記第１陰極層は、アルカリ金属若しくは仕事関数が２．９ｅＶ以下のアルカリ土類金属、またはこれらの金属塩を形成材料とすることを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。
【請求項５】
前記陽極は光透過性を有するとともに、前記第２陰極層は半透過反射性を有し、前記陽極を挟んで前記有機発光層の反対側には光反射層が配置され、前記光反射層と前記陰極との間で、前記有機発光層から射出された光を共振させる光共振器構造が構成されていることを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。
【請求項６】
請求項１から５のいずれか１項に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置を備えることを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機エレクトロルミネッセンス装置および電子機器に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
情報機器の多様化等に伴い、消費電力が少なく軽量化された平面表示装置のニーズが高まっている。この様な平面表示装置の一つとして、有機発光層を備えた有機エレクトロルミネッセンス装置（以下「有機ＥＬ装置」という）が知られている。
【０００３】
有機ＥＬ装置を良好に発光させて安定駆動させるためには、有機発光層への電子注入を行う陰極の構造が大きな影響を与えることが知られている。電子注入性の良否は、主に陰極と有機発光層とのエネルギーレベル差が大きい事（エネルギー障壁）に起因しており、電子注入性を向上させるために、様々な陰極構造の検討が成されている。
【０００４】
例えば、特許文献１では、陰極からの電子注入性を改善するために、有機発光層と接し、有機発光層への電子注入を行いやすい低い仕事関数を有する下地金属電極を、下地金属電極より仕事関数の大きい金属で覆って積層する構成が提案されている。また、特許文献２，３では、陰極と発光層との間に配置する電子注入層の材料を工夫することによって電子注入性を改良する方法が検討されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特許第２７６０３４７号公報
【特許文献２】特開２００３−３４７０６１号公報
【特許文献３】特開２０００−２９９１８９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、上記特許文献に示された構成を有する有機ＥＬ装置においても、電子注入性の改善は十分ではなく、そのため、発光効率や素子寿命などの更なる向上が求められている。
【０００７】
本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであって、発光材料に対して良好な電子注入を実現し、発光効率や素子寿命が改善された有機エレクトロルミネッセンス装置を提供することを目的とする。また、このような有機エレクトロルミネッセンス装置を備える電子機器を提供することを合わせて目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記の課題を解決するため、本発明の有機エレクトロルミネッセンス装置は、基板と、前記基板に設けられた陽極と、該陽極に対向する陰極と、該陽極と該陰極との間に配置された有機発光層と、を有する発光素子を、前記基板上に複数備え、前記陰極は、前記有機発光層に接して配置された第１陰極層と、前記第１陰極層の前記有機発光層とは反対側に配置された第２陰極層と、前記第１陰極層と前記第２陰極層との間に前記第１陰極層に接して配置された第３陰極層と、を有し、前記第３陰極層の形成材料は、前記第１陰極層および前記第２陰極層の形成材料よりも低い仕事関数を有することを特徴とする。
【０００９】
この構成によれば、第１陰極層から有機発光層への電子注入性が、第３陰極層の影響を受け、第１陰極層よりも低い仕事関数を有する第３陰極層の電子注入性に近づく。また、第２陰極層から第３陰極層への電子注入性は、両者の相対的な仕事関数の大きさに起因して良好なものとなっている。そのため、良好な電子注入性が得られる陰極とすることができる。このような構成の陰極の電子注入性は、例えば第１陰極層の形成材料の選択、第１陰極層の層厚、および／または第３陰極層の形成材料の選択、第３陰極層の層厚によって制御することができる。そのため、有機発光層に対応した良好な電子注入性を有する陰極を容易に形成することができ、発光効率が改善された有機エレクトロルミネッセンス装置を提供することが可能となる。
【００１０】
本発明においては、前記陰極は、前記第２陰極層と前記第３陰極層との間に、前記第２陰極層の形成材料よりも低く且つ前記第３陰極層の形成材料よりも高い仕事関数を有する材料を形成材料とする第４陰極層を有することが望ましい。
第４陰極層の形成材料は、下層に設けられている第３陰極層の形成材料よりも仕事関数が高く反応性が低いため、第４陰極層が第３陰極層を保護することにより、第３陰極層の劣化を抑制することができる。また、第４陰極層を設けることにより、第２陰極層と第３陰極層との形成材料の仕事関数差に起因するエネルギー障壁を緩和し、良好な電子注入を行うことができる。したがって、良好な表示特性を備え長寿命な有機エレクトロルミネッセンス装置とすることができる。
【００１１】
本発明においては、前記第１陰極層と前記第４陰極層とは、同じ形成材料であることが望ましい。
この構成によれば、共通の形成材料を用いて層構造を形成するため、製造装置や工程を共通化することが可能となり、容易に良好な表示特性を備える有機エレクトロルミネッセンス装置とすることができる。
【００１２】
本発明においては、前記第１陰極層は、アルカリ金属若しくは仕事関数が２．９ｅＶ以下のアルカリ土類金属、またはこれらの金属塩を形成材料とすることが望ましい。
この構成によれば、有機発光層に対して良好な電子注入性を実現する陰極とすることができる。
【００１３】
本発明においては、前記陽極は光透過性を有するとともに、前記第２陰極層は半透過反射性を有し、前記陽極を挟んで前記有機発光層の反対側には光反射層が配置され、前記光反射層と前記陰極との間で、前記有機発光層から射出された光を共振させる光共振器構造が構成されていることが望ましい。
この構成によれば、有機発光層から射出された光を共振させる光共振構造を構成することで、各々の有機ＥＬ素子からは光反射層と陰極との間の光学的距離に対応した共振波長の条件を満たす光のみが増幅されて取り出される。例えば、赤色（Ｒ），緑色（Ｇ），青色（Ｂ）の各色に対応する共振波長を有する有機ＥＬ素子を形成することで、フルカラー表示が可能な有機ＥＬ装置を提供することができる。
【００１４】
本発明の電子機器は、上述の有機エレクトロルミネッセンス装置を備えることを特徴とする。
この構成によれば、発光効率が高く長寿命な有機ＥＬ装置を備え、信頼性に優れた電子機器を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明の第１実施形態に係る有機ＥＬ装置を模式的に示す断面図である。
【図２】第１実施形態の有機ＥＬ装置の変形例を模式的に示す断面図である。
【図３】本発明の第２実施形態に係る有機ＥＬ装置を模式的に示す断面図である。
【図４】第２実施形態の有機ＥＬ装置の変形例を模式的に示す断面図である。
【図５】本発明に係る電子機器の一例を示す斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
［第１実施形態］
以下、図１〜図２を参照しながら、本発明の第１実施形態に係る有機ＥＬ装置１について説明する。なお、以下の全ての図面においては、図面を見やすくするため、各構成要素の膜厚や寸法の比率などは適宜異ならせてある。
【００１７】
また、本発明の説明における金属の仕事関数の値としては、文献公知の値を用いることができる（例えば、Herbert B. Michaelson, 「The work function of the elements and its periodicity」, Journal of Applied Physics, November 1977, Vol.48, No.11, p.4729-p.4733）。
【００１８】
図１は、有機ＥＬ装置１を模式的に示す断面図である。図に示すように、有機ＥＬ装置１は、基板本体１０と、基板本体１０上に形成された不図示の駆動素子等を備える素子層１１と、を備える基板１０Ａと、基板１０Ａ上に形成され光透過性を有する画素電極（陽極）３０と、画素電極３０と平面的に重なる開口部を備えた画素隔壁層１２と、画素隔壁層１２の上に形成された共通隔壁層１４と、を備えている。
【００１９】
共通隔壁層１４に囲まれた領域には、共通隔壁層１４の側壁に当接して発光部４０が形成されており、発光部４０の上面の全面を覆う陰極５０が形成されている。画素電極３０と発光部４０と陰極５０とで有機ＥＬ素子（発光素子）６０を形成している。本発明の陰極５０は、後述するように複数層で構成されている。
【００２０】
発光部４０には、画素電極３０からの正孔の注入を容易にする正孔注入層４２と、正孔注入層４２からの正孔の移動を促す正孔輸送層４４と、有機発光層４６とを備えており、画素電極３０上にこの順に積層している。
【００２１】
陰極５０は、共通隔壁層１４の頂面及び側壁を覆って有機発光層４６の上面の全面を覆う第１陰極層５２と、第１陰極層５２の表面全面を覆う第２陰極層５４と、さらに第１陰極層５２と第２陰極層５４の間に設けられ第１陰極層５２の表面全面を覆う第３陰極層５６と、を備えている。
【００２２】
本実施形態の有機ＥＬ装置１は、有機発光層４６で生じる光Ｌが、画素電極３０を介して外部へ射出されるボトムエミッション方式を採用している。以下、各構成要素について順に説明する。
【００２３】
基板本体１０は、光透過性を備える透明基板を用いることができる。このような透明基板としては、例えばガラス、石英ガラス、窒化ケイ素等の無機物や、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂等の有機高分子（樹脂）を用いることができる。また、光透過性を備えるならば、前記材料を積層または混合して形成された複合材料を用いることもできる。本実施形態では、基板本体１０の材料としてガラスを用いる。
【００２４】
素子層１１は、有機ＥＬ装置１を駆動させるための各種配線や駆動素子、及び無機物または有機物の絶縁膜などを備えている。各種配線や駆動素子はフォトリソグラフィーによりパターニングした後エッチングすることにより、また、絶縁膜は蒸着法やスパッター法など通常知られた方法により適宜形成することができる。
【００２５】
素子層１１の上には、画素電極３０が形成されている。画素電極３０の形成材料には、光透過性を備え、仕事関数が５ｅＶ以上の材料を用いることができる。このような材料は、正孔注入効果が高いため画素電極３０の形成材料として好ましい。このような材料としては、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide:インジウム錫酸化物）等の金属酸化物を挙げることができる。本実施形態ではＩＴＯを用いる。
【００２６】
また、素子層１１の上には、画素電極３０の端部に一部が乗り上げるように、画素隔壁層１２が形成されている。画素隔壁層１２は画素電極３０に対応する開口部を備えており、該開口部内に画素電極３０が露出している。画素隔壁層１２は、酸化シリコンや窒化シリコン等の無機絶縁材料で形成されており、開口部の位置に対応するマスクを介したエッチング等の公知の方法で形成することができる。
【００２７】
画素隔壁層１２上には、画素電極３０の周囲を囲むように共通隔壁層１４が形成されている。共通隔壁層１４は、断面形状が順テーパー状に形成されている。そのため、共通隔壁層１４で囲まれた空間は、下部よりも上部が広く開口している。共通隔壁層１４は、例えば光硬化性のアクリル樹脂やポリイミド樹脂等で形成される。
【００２８】
共通隔壁層１４に囲まれた領域の底面に露出した面（ここでは画素電極３０と画素隔壁層１２の一部）には、共通隔壁層１４の側壁に当接して、画素電極３０からの正孔の注入を容易にする電荷移動層としての正孔注入層４２が形成されている。正孔注入層４２の形成材料は、通常知られた材料を用いる事ができる。本実施形態ではＰＥＤＯＴ／ＰＳＳを用いる。
【００２９】
正孔注入層４２の上には、共通隔壁層１４の側壁に当接して正孔輸送層４４が形成され、更に有機発光層４６が形成されている。これらの層の形成材料としては、通常知られた材料を用いる事ができる。
【００３０】
例えば、正孔輸送層４４の形成材料としては、下記の化学式１で示されるＡＤＳ２５９ＢＥ（American Dye Source社製、商品名）を用いることが出来る。また、有機発光層４６の形成材料としては、化学式２で示される緑色発光高分子材料ＡＤＳ１０９ＧＥ（同社製、商品名）、化学式３で示される赤色発光高分子材料ＡＤＳ１１１ＲＥ（同社製、商品名）、化学式４で示される青色発光高分子材料ＡＤＳ１３６ＢＥ（同社製、商品名）を用いることができる。
【００３１】
【化１】
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【００３２】
【化２】
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【００３３】
【化３】
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【００３４】
【化４】
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【００３５】
（陰極の構成）
有機発光層４６の上には、共通隔壁層１４の頂面および側壁を覆って表面全面に陰極５０が形成されている。本実施形態の陰極５０は、上述のように、第１陰極層５２，第３陰極層５６，第２陰極層５４がこの順に積層した構造を有している。
【００３６】
これらの各陰極層の形成材料は、仕事関数がそれぞれ相対的な大小関係を有しており、第１陰極層５２の形成材料を基準とすると、第２陰極層５４の形成材料は第１陰極層５２の形成材料よりも高い仕事関数を有しており、第３陰極層５６の形成材料は第１陰極層５２の形成材料よりも低い仕事関数を有している。
【００３７】
第１陰極層５２は、アルカリ金属または仕事関数が２．９ｅＶ以下のアルカリ土類金属およびそれら金属を含む無機塩を形成材料として用い真空蒸着して形成することができ、具体的には、Ｌｉ，Ｃｓ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａを挙げることができる。このような材料を用いると、有機発光層４６への良好な電子注入性を実現することが容易となる。本実施形態ではＣａを材料として形成する。第１陰極層５２の膜厚は、透明性の確保、及び良好な電子注入性の実現を考慮すると、５ｎｍ以下であることが好適である。本実施形態の第１陰極層５２の厚みは５ｎｍである。
【００３８】
第１陰極層５２の上には、第１陰極層５２の表面全面を覆って第３陰極層５６が形成されている。第３陰極層５６は、第１陰極層５２の形成材料よりも低い仕事関数を有する金属、およびそのような金属を含む無機塩を形成材料として用い真空蒸着して形成する。本実施形態では、ＣｓＣＯ３を材料として形成する。第３陰極層５６は、光反射性を有さない膜厚であることが望ましい。本実施形態の第３陰極層５６は、０．５ｎｍの膜厚に成膜されている。
【００３９】
第３陰極層５６の上には、第３陰極層５６の表面全面を覆ってＡｌを形成材料とする第２陰極層５４が形成されている。本実施形態の第２陰極層５２は、２００ｎｍの膜厚に成膜されており、十分な光反射性と導電性とを備えている。また、第２陰極層５４の形成材料であるＡｌは、水分や酸素に対して安定であるため、装置外から水分・酸素が浸入した場合に、下層に形成されている第３陰極層５６や第１陰極層５２を保護し、劣化から守る保護層としての機能も有している。第２陰極層５４は、不図示の陰極取り出し端子へとつながる陰極コンタクト部へ接続されている。
【００４０】
このような構成の陰極５０では、次の様な現象が生じる。
まず、発明者が行った検討により、Ｃａを形成材料とする第１陰極層５２を形成せず、ＣｓＣＯ３を形成材料とする第３陰極層５６が有機発光層４６と接するように形成すると、ＣｓＣＯ３の低い仕事関数に起因して電子注入性が改善される反面、電子注入性が高すぎて発光素子２１でのキャリアバランスが崩れてしまい、かえって発光効率が低下することが分かっている。
【００４１】
ここで、電子注入性が高すぎて「キャリアバランスが崩れる」とは、陽極から注入される正孔の量に対して陰極から注入される電子の量が多く、結果、注入した電子の量に対して有機発光層４６において結合する正孔と電子との量（すなわち発光量）が少ないことを意味する。過剰な電子は発光には使用されず、電流が流れるのみとなる。すると、投入する電力に対して発光に寄与する電子の量の率が小さくなり、投入電力に対して効率よく発光させることができなくなる。つまり、発光効率が低下することとなる。
【００４２】
このような場合に、上述のように、有機発光層４６と第３陰極層５６との間に第３陰極層５６よりも仕事関数が高い第１陰極層５２が形成されることにより、第３陰極層５６から有機発光層４６への高い電子注入性を抑え、第１陰極層５２に起因する電子注入性に近づける効果が生じる。すなわち、有機発光層４６への電子注入性は、有機発光層４６に接する第１陰極層５２の仕事関数にのみ起因するものではなく、第３陰極層５６の影響も受けることとなる。
【００４３】
別途行った検討により、有機発光層４６と接する陰極５０が、上述のＣａを形成材料とする第１陰極層５２と、Ａｌを形成材料とする第２陰極層５４と、の積層構造である場合と比べ、第１陰極層５２と第２陰極層５４との間にＣｓＣＯ３を形成材料とする第３陰極層５６を設けた本実施形態の陰極５０のほうが、電子注入性が良く発光効率が良いことが確かめられた。
【００４４】
この結果からは、第１陰極層５２が第３陰極層５６から有機発光層４６への高い電子注入性を抑えると言うこともでき、また、第１陰極層５２と第２陰極層５４との間に、第１陰極層５２の形成材料よりも低い仕事関数の形成材料を用いた第３陰極層５６を配置すると、第１陰極層５２の電子注入性が改善されると言うこともできる。いずれにおいても、陰極５０を構成する各陰極層が上述のような仕事関数の形成材料を用いて形成されていることにより、良好な電子注入性を実現することができる。
【００４５】
また、電子注入性は、第１陰極層５２の形成材料の選択、第１陰極層５２の層厚、または第３陰極層５６の形成材料の選択、第３陰極層５６の層厚によって制御することができる。そのため、用いる有機発光層４６の形成材料に対応した良好な電子注入性を有する陰極５０を容易に形成することができる。
【００４６】
陰極５０の上には、不図示のＳｉＯｘＮｙなどの無機膜を形成し、更に無機膜の上にはエポキシ樹脂を介してガラス基板を貼り合わせる、所謂、固体封止構造を備えるものとすると良い。
【００４７】
また、ガラス基板に凹部を設け乾燥剤を配置した封止缶部材を用い、ガラス基板の凹部側の面を陰極５０に対向させて配置し、該ガラス基板と基板１０Ａとが平面的に重なる部分の周縁をエポキシ樹脂等で接着する、所謂、缶封止構造を備えるものとしても良い。
本実施形態の有機ＥＬ装置１は、以上のような構成となっている。
【００４８】
以上のような構成の有機ＥＬ装置１によれば、良好な電子注入性を示す陰極を有しているため、発光効率や素子寿命が改善された有機ＥＬ装置１とすることができる。
【００４９】
なお、本実施形態においては、陰極５０は、３種の陰極層が積層している構成としたが、これに限らない。図２は、本実施形態の変形例である有機ＥＬ装置２を模式的に示す断面図であり、図１に対応する図である。有機ＥＬ装置２は、第３陰極層５６と第２陰極層５４との間に、第４陰極層５８が形成されている。
【００５０】
第４陰極層５８の形成材料の仕事関数は、第３陰極層５６の形成材料よりも高く、第２陰極層５４の形成材料よりも低くなっている。本実施形態の有機ＥＬ装置２では、第４陰極層５８の形成材料は、第１陰極層５２と同じくＣａであることとしている。このように共通の形成材料を用いると、必要原料の種類が減るため、工程負荷が軽減され好ましい。
【００５１】
第４陰極層５８の形成材料は、下層に設けられている第３陰極層５６の形成材料よりも仕事関数が高く反応性が低いため、第４陰極層５８が第３陰極層５６を保護することにより、第３陰極層５６の劣化を抑制することができる。また、第４陰極層５８を設けることにより、第３陰極層５６と第２陰極層５４との形成材料の仕事関数差に起因するエネルギー障壁を緩和し、良好な電子注入を行うことができる。
【００５２】
また、本実施形態においては、第１陰極層５２の形成材料としてアルカリ金属または仕事関数が２．９ｅＶ以下のアルカリ土類金属およびそれらの金属塩を用いることとしたが、これに限らない。第１陰極層５２の形成材料として、仕事関数が低い材料を用いる場合には膜厚を相対的に厚く、仕事関数が高い材料を用いる場合には膜厚を相対的に薄く形成することにより、他の金属材料を用いることができる。例えば、第１陰極層５２の形成材料にＡｌ（仕事関数：４．２８）を用いる場合には、本実施形態で用いたＣａ（仕事関数：２．８７）よりも仕事関数が高いため、膜厚を１ｎｍとして、相対的に膜厚を薄くすると良い。
【００５３】
また、本実施形態においては、有機発光層４６の形成材料が高分子化合物であることとしたが、これに限らず、低分子化合物の有機発光材料を用いる場合であっても、同様に効果が得られる。
【００５４】
［第２実施形態］
図３〜図４は、本発明の第２実施形態に係る有機ＥＬ装置２の説明図である。本実施形態の有機ＥＬ装置２は、第１実施形態の有機ＥＬ装置１と一部共通している。異なるのは、有機発光層４６で生じる光が陰極５０側へ射出されるトップエミッション方式を採用していることである。したがって、本実施形態において第１実施形態と共通する構成要素については同じ符号を付し、詳細な説明は省略する。
【００５５】
図３は、有機ＥＬ装置２を模式的に示す断面図である。図に示すように、素子層１１内の基板本体１０上には、画素電極３０と平面的に重なって、反射層（光反射層）２０が形成されている。反射層はＡｌＮｄ合金を形成材料としており、マスクパターニングなど通常知られた方法で形成されている。本実施形態では、反射層２０は基板本体１０上に形成されることとしたが、素子層１１中に形成されることとしても良く、また、素子層１１表面に形成されることとしても良い。
【００５６】
第３陰極層５６の上には、第３陰極層５６の表面全面を覆って第２陰極層５４が形成されている。第２陰極層５４は、３．５ｅＶ以上４．２ｅＶ未満の仕事関数を有する金属材料と、４．２ｅＶ以上の仕事関数を有する金属材料とを用い、真空共蒸着にて形成された合金層である。前者の金属材料としては、Ｍｇ，Ｓｃ，Ｍｎ，Ｉｎ，Ｚｒ，Ａｓを挙げることができ、後者の金属材料としては、Ａｌ，Ａｇ，Ｃｕ，Ｎｉ，Ａｕを挙げることができる。本実施形態では、金属材料としてＭｇとＡｇとを用いる。
【００５７】
第２陰極層５４は、ＭｇとＡｇとの合金層であることで、Ａｇ単体の場合よりも低い仕事関数と、Ａｇの性質に由来する水分や酸素に対する高い安定性とを兼ね備える陰極層となっている。本実施形態では、ＭｇとＡｇとの共蒸着比率は、体積比で１０：１とした。
【００５８】
また、第２陰極層５４は、共振層（半透過反射層）としての役割を担い、その膜厚は、光透過性と光反射性とを両立させるため２０ｎｍ以下であることが好ましい。また、良好な面方向の導電性の確保（低いシート抵抗値）を考慮すると、例えば５ｎｍ以上程度の膜厚を備えることが好ましい。本実施形態の第２陰極層５４は、１５ｎｍの膜厚となっている。
【００５９】
有機ＥＬ装置２は、第２陰極層５４と反射層２０との間で光を共振させる光共振構造を構成しており、有機ＥＬ素子６０からは、反射層２０と第２陰極層５４との間の光学的距離に対応した共振波長の条件を満たす光のみが増幅されて取り出される構成となっている。例えば、複数の有機ＥＬ素子６０を有する有機ＥＬ装置において、赤色（Ｒ），緑色（Ｇ），青色（Ｂ）の各色に対応する共振波長を有する有機ＥＬ素子を形成することで、フルカラー表示が可能な有機ＥＬ装置を提供することができる。
【００６０】
陰極５０の上は、固体封止構造を備えるものとすると良い。本実施形態の有機ＥＬ装置２は、以上のような構成となっている。
【００６１】
以上のような構成の有機ＥＬ装置２によれば、良好な光共振構造を備えたトップエミッション方式の有機ＥＬ装置とすることができ、射出される光の色純度を高めた高品質な有機ＥＬ装置とすることができる。
【００６２】
なお、本実施形態においては、陰極５０は、３種の陰極層が積層している構成としたがこれに限らず、第１実施形態の変形例と同様に、図４に示すように、第３陰極層５６と第２陰極層５４との間に、第４陰極層５８が形成された有機ＥＬ装置４とすることができる。
【００６３】
［電子機器］
次に、本発明の電子機器の実施形態について説明する。図５は、本発明の有機ＥＬ装置を用いた電子機器の一例を示す斜視図である。図５に示す携帯電話（電子機器）１３００は、本発明の有機ＥＬ装置を小サイズの表示部１３０１として備え、複数の操作ボタン１３０２、受話口１３０３、及び送話口１３０４を備えて構成されている。これにより、本発明の有機ＥＬ装置により構成された、発光ムラのない表示部を具備した携帯電話１３００を提供することができる。
【００６４】
上記各実施の形態の有機ＥＬ装置は、上記携帯電話に限らず、電子ブック、プロジェクター、パーソナルコンピューター、ディジタルスチルカメラ、テレビジョン受像機、ビューファインダー型あるいはモニター直視型のビデオテープレコーダー、カーナビゲーション装置、ページャー、電子手帳、電卓、ワードプロセッサー、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた機器等々の画像表示手段として好適に用いることができる。かかる構成とすることで、表示品質が高く、信頼性に優れた表示部を備えた電子機器を提供できる。
【００６５】
更には、上記各実施の形態の有機ＥＬ装置をラインヘッドとして用いることができ、該ラインヘッドを光源として備えた画像形成装置（光プリンター）として好適に用いることができる。このようにすると、発光ムラが無く信頼性に優れた光プリンターとすることができる。
【００６６】
以上、添付図面を参照しながら本発明に係る好適な実施の形態例について説明したが、本発明は係る例に限定されないことは言うまでもない。上述した例において示した各構成部材の諸形状や組み合わせ等は一例であって、本発明の主旨から逸脱しない範囲において設計要求等に基づき種々変更可能である。
【符号の説明】
【００６７】
１〜４…有機エレクトロルミネッセンス装置、１０Ａ…基板、２０…光反射層、３０…画素電極（陽極）、４０…発光部、４６…有機発光層、５２…第１陰極層、５０…陰極、５４…第２陰極層、５６…第３陰極層、５８…第４陰極層、６０…有機ＥＬ素子（発光素子）、１３００…携帯電話（電子機器）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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