(57)【要約】【課題】液晶表示装置等の画像表示装置の表示性能の向上及び薄型化に寄与する、光散乱性基材を提供する。【解決手段】熱可塑性樹脂と平均一次粒径が３μｍ以上１２μｍ以下である少なくとも１種の透光性粒子とを含有し、少なくとも一方の表面に凹凸形状を有する光散乱性基材。凹凸形状を有する面の表面から透光性粒子の平均一次粒径の１／２以上４倍以下の厚みを有する領域、及び、その裏面の表面から透光性粒子の平均一次粒径の３／２以上の厚みを有する領域を、実質的に透光性粒子を含有しない領域とする。【選択図】図１ｃ
2010277080.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
熱可塑性樹脂と平均一次粒径が３μｍ以上１２μｍ以下である少なくとも１種の透光性粒子とを含有し、一方の表面に凹凸形状を有する光散乱性基材であって、
該凹凸形状を有する面の表面から前記透光性粒子の平均一次粒径の１／２以上４倍以下の厚みを有する領域、及び、その裏面の表面から前記透光性粒子の平均一次粒径の３／２以上の厚みを有する領域が、実質的に該透光性粒子を含有しない領域を有することを特徴とする光散乱性基材。
【請求項２】
光散乱性基材の凹凸形状を有する表面の、ＪＩＳ  Ｂ０６０１に基づく算術平均粗さＲａ、平均凹凸間隔Ｓｍ及び凹凸の平均傾斜角θａが、下式（式１）から（式３）を満たすことを特徴とする請求項１に記載の光散乱性基材。
０．０３μｍ≦Ｒａ≦０．３μｍ  ・・・（式１）
１０μｍ≦Ｓｍ≦３００μｍ      ・・・（式２）
０．２°≦θａ≦２．５°        ・・・（式３）
【請求項３】
光散乱性基材の凹凸形状を有する表面の凹凸の傾斜角が以下の分布となることを特徴とする請求項１に記載の光散乱性基材。
（ａ）０°以上０．５°未満の頻度の積分値が２５％未満
（ｂ）０．５°以上１０°未満の頻度の積分値が６５％以上１００％未満
（ｃ）１０°以上の頻度の積分値が０％以上２０％未満
【請求項４】
前記透光性粒子は略球状の樹脂粒子であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の光散乱性基材。
【請求項５】
前記透光性粒子の屈折率と前記光散乱性基材から前記透光性粒子を除いた場合の該光散乱性基材の屈折率との差の絶対値が０．０９未満であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の光散乱性基材。
【請求項６】
ＪＩＳ  Ｋ７１０５に基づく像鮮明度測定装置を用いて２ｍｍの幅を有する光学櫛を通して測定される像鮮明度の値が５〜６０％である光散乱性を有することを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の光散乱性基材。
【請求項７】
受光角２°のゴニオフォトメーターで測定される透過散乱光プロファイルが以下の式（ｄ）を満たすことを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の光散乱性基材。
（ｄ）０．０３≦Ｉ（４°）／Ｉ０≦０．０７
ここで、Ｉ（４°）は光散乱性基材の法線から４°傾いた位置における透過光強度、Ｉ０は光源を正面から測定したときの光強度である。
【請求項８】
内部に起因するヘイズ値が０．１％以上３０％未満であり、表面に起因するヘイズ値が３％以上３０％未満である請求項１〜７のいずれか１項に記載の光散乱性基材。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか１項に記載の光散乱性基材の製造方法であって、
熱可塑性樹脂と平均一次粒径が３μｍ以上１２μｍ以下である少なくとも１種の透光性粒子とを含む透光性粒子含有ドープと、
熱可塑性樹脂を含み、かつ平均一次粒径が１μｍ以上の粒子を実質的に含まない表面形状調整用ドープであって、熱可塑性樹脂の濃度が前記透光性粒子含有ドープより低い表面形状調整用ドープと、
をこの順番に同時又は逐次で支持体上に流延して成膜することを特徴とする光散乱性基材の製造方法。
【請求項１０】
更に、平均一次粒径が１μｍ以上の粒子を実質的に含まない熱可塑性樹脂からなるドープを用い、該ドープと、前記透光性粒子含有ドープと、前記表面形状調整用ドープとをこの順に同時又は逐次で支持体上に流延して成膜することを特徴とする請求項９記載の光散乱性基材の製造方法。
【請求項１１】
前記表面形状調整用ドープの乾燥後の膜厚が、前記透光性粒子の平均一次粒径をＤとしたきに（１／２）Ｄ〜４Ｄとなるように流量を調整することを特徴とする請求項９又は１０に記載の光散乱性基材の製造方法。
【請求項１２】
前記表面形状調整用ドープの室温下での粘度が１Ｐａ・ｓ以上２００Ｐａ・ｓ以下であることを特徴とする請求項９〜１１のいずれか１項に記載の光散乱性基材の製造方法。
【請求項１３】
前記複数のドープと支持体間に、平均一次粒径が１μｍ以上の粒子を実質的に含まず隣接するドープより熱可塑性樹脂の濃度が低いドープを同時又は逐次で流延して成膜することを特徴とする請求項９〜１２のいずれか１項に記載の光散乱性基材の製造方法。
【請求項１４】
偏光膜と該偏光膜の少なくとも一方の側に保護フィルムを有する偏光板であって、該保護フィルムが請求項１〜８のいずれか１項に記載の光散乱性基材である偏光板。
【請求項１５】
請求項１〜８のいずれか１項に記載の光散乱性基材、又は請求項１４に記載の偏光板のいずれかを有する画像表示装置。
【請求項１６】
光源、下偏光板、液晶セル、上偏光板をこの順に有する画像表示装置であって、前記下偏光板が請求項１４に記載の偏光板である画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光散乱性基材、光散乱性基材の製造方法、偏光板、及び画像表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶表示装置（ＬＣＤ）は、薄型で、軽量で、かつ消費電力が小さいことから広く使用されてきている。液晶表示装置は、液晶セル及び偏光板を含む。偏光板は、通常、保護膜と偏光膜とからなり、ポリビニルアルコールフィルムからなる偏光膜をヨウ素にて染色し、延伸を行い、その両面を保護膜にて積層して得られる。透過型液晶表示装置では、この偏光板を液晶セルの両側に取り付け、更には一枚以上の光学補償シートを配置することもある。また、反射型液晶表示装置では、通常、反射板、液晶セル、一枚以上の光学補償シート及び偏光板の順に配置する。
【０００３】
ＬＣＤは自発光型の表示装置ではないため、面光源が必要である。面光源の態様としては、液晶セルと発光光源との間に拡散シートやプリズムシートなどの光拡散能を持つ部材などを介在させて一様な面光源とするバックライト型が広く用いられており、その発光光源として冷陰極管（ＣＣＦＬ）やＬＥＤが使用されている。また一部のＬＣＤでは、導光板のエッジ部分に光源を配置し、拡散シートやプリズムシートなどとの組み合せで、面光源化している形態（エッジライトタイプ）も知られている。これらは上述の様に一般的に線光源あるいは点光源から面光源に変換をするため、拡散シート又は拡散フィルム（光拡散シート又は光拡散フィルム）を用いて均一な面光源化をしている。
【０００４】
面光源を得るためのバックライトの部材のなかで、拡散シートは、一般的に、バックライトとバックライト側偏光板との間に配置される。拡散シートを配置することで、光源による輝度ムラの低減と表示特性の面均一化が達成されるとともに（特許文献１）、入射光が液晶セル中の画素と干渉して、モアレ等の干渉縞を生じるのを抑制することができる。
しかし近年、液晶表示装置の部材数の削減や、低消費電力化のため光源に利用される蛍光灯数を減少することが試みられている。またＬＣＤの薄型化のため、バックライト光源と拡散シートとの距離が近くなり、そのため、従来の拡散フィルムでは、均一な光拡散を達成することが困難になってきている。そこで可能な限り距離を稼ぐため、拡散シートの代替として、バックライト側偏光板の表面に拡散性を有するものが使用されてきている。
【０００５】
例えば、特許文献１には、多孔質不定形粒子と球状粒子とを分散含有する、所定の特性の光拡散層を有する光拡散偏光板が提案され、これによって光拡散シートを省略できることが開示されている。また、特許文献２及び３には、微粒子を含有するドープを支持体上に流延することを含む光拡散フィルムの製造方法が提案され、この方法によれば、光学的等方性等に優れる光拡散フィルムが作製できることが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２０００−７５１３４号公報
【特許文献２】特開２００１−１７２４０３号公報
【特許文献３】特開２００３−２５５０４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかし、上記文献に記載の光学フィルムは、全光透過率が低いので、画像表示装置に用いると、正面白輝度の低下の一因になる場合がある。一方で、正面輝度を維持するため、ヘイズを下げる、つまり全光透過率を上げると、表示画面の均一性の悪化（バックライトのムラ等）やモアレ等の干渉縞を生じるのを抑制できなくなる場合がある。これらは、光散乱性を制御しにくい不定形粒子や二次粒子を用いたり、表面の形状を例えばＲａ、Ｒｔなど高さに関する項目だけで制御しており、厳密な光散乱のための表面設計にまで及んでいないためである。
また、上記記載の光学フィルムは表面凹凸形状により、プリズムシートなど隣り合う他の光学部材により傷つけられる、又は、他の光学部材を傷つけるなど耐擦傷性に問題生じる場合がある。
特に特許文献２ではＲａを０．２μｍ以下とすると表面が平滑になり好ましいとの記載があるが、この付近の平滑な領域で、傾斜角度等を考慮し表面形状を精密に制御することが、光学と物理特性の両立のために必要である。
【０００８】
本発明は、液晶表示装置等の画像表示装置の表示性能の向上及び薄型化に寄与する、光散乱性基材、偏光板、及び前記光散乱性基材を簡易にかつ低コストで製造可能な方法を提供することを課題とする。
また本発明は、正面白輝度が高くかつ画面内において均一かつモアレなどの干渉縞抑制が可能であり、耐擦傷性の問題もなく、しかも薄型化に対応可能な、画像表示装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
以下の構成により上記課題は達成された。
（１）
熱可塑性樹脂と平均一次粒径が３μｍ以上１２μｍ以下である少なくとも１種の透光性粒子とを含有し、一方の表面に凹凸形状を有する光散乱性基材であって、
該凹凸形状を有する面の表面から前記透光性粒子の平均一次粒径の１／２以上４倍以下の厚みを有する領域、及び、その裏面の表面から前記透光性粒子の平均一次粒径の３／２以上の厚みを有する領域が、実質的に該透光性粒子を含有しない領域を有することを特徴とする光散乱性基材。
（２）
光散乱性基材の凹凸形状を有する表面の、ＪＩＳ  Ｂ０６０１に基づく算術平均粗さＲａ、平均凹凸間隔Ｓｍ及び凹凸の平均傾斜角θａが、下式（式１）から（式３）を満たすことを特徴とする上記（１）に記載の光散乱性基材。
０．０３μｍ≦Ｒａ≦０．３μｍ  ・・・（式１）
１０μｍ≦Ｓｍ≦３００μｍ      ・・・（式２）
０．２°≦θａ≦２．５°        ・・・（式３）
（３）
光散乱性基材の凹凸形状を有する表面の凹凸の傾斜角が以下の分布となることを特徴とする上記（１）に記載の光散乱性基材。
（ａ）０°以上０．５°未満の頻度の積分値が２５％未満
（ｂ）０．５°以上１０°未満の頻度の積分値が６５％以上１００％未満
（ｃ）１０°以上の頻度の積分値が０％以上２０％未満
（４）
前記透光性粒子は略球状の樹脂粒子であることを特徴とする上記（１）〜（３）のいずれか１項に記載の光散乱性基材。
（５）
前記透光性粒子の屈折率と前記光散乱性基材から前記透光性粒子を除いた場合の該光散乱性基材の屈折率との差の絶対値が０．０９未満であることを特徴とする上記（１）〜（４）のいずれか１項に記載の光散乱性基材。
（６）
ＪＩＳ  Ｋ７１０５に基づく像鮮明度測定装置を用いて２ｍｍの幅を有する光学櫛を通して測定される像鮮明度の値が５〜６０％である光散乱性を有することを特徴とする上記（１）〜（５）のいずれか１項に記載の光散乱性基材。
（７）
受光角２°のゴニオフォトメーターで測定される透過散乱光プロファイルが以下の式（ｄ）を満たすことを特徴とする上記（１）〜（６）のいずれか１項に記載の光散乱性基材。
（ｄ）０．０３≦Ｉ（４°）／Ｉ０≦０．０７
ここで、Ｉ（４°）は光散乱性基材の法線から４°傾いた位置における透過光強度、Ｉ０は光源を正面から測定したときの光強度である。
（８）
内部に起因するヘイズ値が０．１％以上３０％未満であり、表面に起因するヘイズ値が３％以上３０％未満である上記（１）〜（７）のいずれか１項に記載の光散乱性基材。
（９）
上記（１）〜（８）のいずれか１項に記載の光散乱性基材の製造方法であって、
熱可塑性樹脂と平均一次粒径が３μｍ以上１２μｍ以下である少なくとも１種の透光性粒子とを含む透光性粒子含有ドープと、
熱可塑性樹脂を含み、かつ平均一次粒径が１μｍ以上の粒子を実質的に含まない表面形状調整用ドープであって、熱可塑性樹脂の濃度が前記透光性粒子含有ドープより低い表面形状調整用ドープと、
をこの順番に同時又は逐次で支持体上に流延して成膜することを特徴とする光散乱性基材の製造方法。
（１０）
更に、平均一次粒径が１μｍ以上の粒子を実質的に含まない熱可塑性樹脂からなるドープを用い、該ドープと、前記透光性粒子含有ドープと、前記表面形状調整用ドープとをこの順に同時又は逐次で支持体上に流延して成膜することを特徴とする上記（９）記載の光散乱性基材の製造方法。
（１１）
前記表面形状調整用ドープの乾燥後の膜厚が、前記透光性粒子の平均一次粒径をＤとしたきに（１／２）Ｄ〜４Ｄとなるように流量を調整することを特徴とする上記（９）又は（１０）に記載の光散乱性基材の製造方法。
（１２）
前記表面形状調整用ドープの室温下での粘度が１Ｐａ・ｓ以上２００Ｐａ・ｓ以下であることを特徴とする上記（９）〜（１１）のいずれか１項に記載の光散乱性基材の製造方法。
（１３）
前記複数のドープと支持体間に、平均一次粒径が１μｍ以上の粒子を実質的に含まず隣接するドープより熱可塑性樹脂の濃度が低いドープを同時又は逐次で流延して成膜することを特徴とする上記（９）〜（１２）のいずれか１項に記載の光散乱性基材の製造方法。
（１４）
偏光膜と該偏光膜の少なくとも一方の側に保護フィルムを有する偏光板であって、該保護フィルムが上記（１）〜（８）のいずれか１項に記載の光散乱性基材である偏光板。
（１５）
上記（１）〜（８）のいずれか１項に記載の光散乱性基材、又は上記（１４）に記載の偏光板のいずれかを有する画像表示装置。
（１６）
光源、下偏光板、液晶セル、上偏光板をこの順に有する画像表示装置であって、前記下偏光板が上記（１４）に記載の偏光板である画像表示装置。
【発明の効果】
【００１０】
本発明により得られる光散乱性基材は、特に液晶表示装置のバックライト側偏光板保護フィルムとして使用した場合、正面での白輝度の低下とモアレが生じることがなく、輝度の均一性の高い画像表示を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１ａ】本発明の光散乱性基材の一例を示す断面図である。
【図１ｂ】本発明の光散乱性基材の一例を示す断面図である。
【図１ｃ】本発明の光散乱性基材の一例を示す断面図である。
【図２ａ】従来の光散乱性基材の一例を示す断面図である。
【図２ｂ】従来の光散乱性基材の一例を示す断面図である。
【図３】流延ドラムを用いた溶液製膜装置を示す図である。
【図４】流延バンドを用いた溶液製膜装置を示す図である。
【図５】光散乱プロファイル測定装置の模式図である。
【図６ａ】マルチマニホールド型の共流延ダイを示す図である。
【図６ｂ】フィードブロック型の共流延ダイを示す図である。
【図７】光散乱性基材断面を示す模式図である。
【図８ａ】従来の液晶表示装置の一例を表す模式図。
【図８ｂ】本発明の液晶表示装置の一例を表す模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、本発明を実施するための形態について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、本明細書において、数値が物性値、特性値等を表す場合に、「（数値１）〜（数値２）」という記載は「（数値１）以上（数値２）以下」の意味を表す。また、本明細書において、「（メタ）アクリレート」との記載は、「アクリレート及びメタクリレートの少なくともいずれか」の意味を表す。「（メタ）アクリル酸」、「（メタ）アクリロイル」等も同様である。
【００１３】
本発明は、厚さ方向の特定の位置に粒子を配し表面に特定の凹凸形状を有する、光散乱性を制御した光散乱性基材に関する。具体的には図１（ａ）〜（ｃ）に示したように厚み方向のある場所に粒子を配することを特徴とし、これにより表面凹凸形状における数°付近（０．５°以上１０°未満）の低傾斜角成分の頻度を高くすることができ、特に液晶表示装置のバックライト側の偏光板保護フィルムとして用いた際に、正面白輝度が高くかつ画面内において均一かつモアレなどの干渉縞抑制が可能であり、隣あう他の光学部材と傷つけあうこともなく、しかも薄型化に対応可能な、画像表示装置を提供できる。
【００１４】
＜液晶表示装置の構成＞
従来の液晶表示装置の構成の一例においては、図８（ａ）に示すように、光源側から、〔光源４１／導光板（蛍光管）４２／下拡散シート４３／集光シート４４（プリズムシートなど）／上拡散シート４５／液晶パネル（下偏光板４６／基板４８／液晶セル４７／基板４８／上偏光板４６）〕となっている。下拡散シートは、主に、光源４１と導光板４２を含むバックライトユニットの面内輝度ムラを低減するための光拡散性の強い光学シートであり、集光シートは拡散光を液晶表示装置の正面方向（表示装置平面の法線方向）に集光させるための光学シートであり、上拡散シートは集光シートであるプリズムシートや液晶セル中の画素など周期的構造により発生するモアレを低減するためや、下拡散シートで除去しきれない面内輝度ムラを更に低減するため等に用いられる光学シートである。
本発明の液晶表示装置の好ましい態様においては、図８（ｂ）に示すように、光源側から、〔光源４１／導光板（蛍光管）４２／下拡散シート４３／集光シート４４（プリズムシートなど）／液晶パネル（下偏光板４６（光散乱性基材４９を含む）／基板４８／液晶セル４７／基板４８／上偏光板４６）〕との構成を有している。上拡散シートの代わりに、下偏光板の保護フィルムに光散乱性基材４９により光拡散性を付与し、上拡散シートと同様以上の性能を発揮させるものであり、上記構成とすることで、モアレや面内輝度ムラを軽減するだけでなく、上拡散シートを用いる従来技術では弊害となっていた、正面輝度や正面コントラストの低下を抑える効果をもたらす。更に上拡散シートを除去することで、液晶表示装置全体の厚みを薄くすることができ、上拡散シートを複数枚使用する場合はより効果的である。原理的には除去した拡散シートの厚み分だけ薄くすることができる。
【００１５】
具体的には、上拡散シートを用いる従来技術では必要以上に広角の範囲まで入射光を拡散させており、これにより相対的に正面方向への出射光量を低下させていた。本発明の構成、即ち下偏光板に付与した光拡散性保護フィルムの光拡散プロファイルを最適化させた液晶表示装置においては、正面方向への出射光量を低下させることなく、モアレや輝度ムラ軽減に必要十分な拡散性を付与しているため、この問題を解決できる。また、バックライト、下拡散シートの特性を変えたり、これら部材を複合化したりすることで、本発明に用いる光拡散性を有する光学フィルムの最適光散乱プロファイルも変化はするが、上述の構成範囲内であれば概ね目的の性能を発揮することが可能である。
【００１６】
本発明の光散乱性基材は、上偏光板の表面側保護フィルムとして使用することも可能である。本発明の効果を特に有効に発揮させる観点からは、以上のように、下偏光板に用いることが好ましい。本発明の光散乱性基材を下偏光板の表面保護フィルムとして用いた場合、上偏光板の表面保護フィルムには、防眩フィルムやクリアフィルムなど任意の機能性フィルムを選択して適用できる点からも好ましい構成である。
【００１７】
更に、一部の液晶表示装置では、輝度向上フィルム（例えば、ＤＢＥＦ；３Ｍ社製）を下偏光板の直下に使用するものがあり、下偏光板の保護フィルムに従来の光散乱性基材を配すると偏光解消が起こり輝度向上性能の低下を招くことがあるが、本発明の液晶表示装置では偏光解消の大きい広角散乱成分が少ない光散乱性基材を用いているため、輝度向上性能の低下を極めて少なくすることができる。
【００１８】
広角散乱成分を減らした本発明の光散乱性基材の表面の凹凸は、数°付近の低傾斜角の成分により主に構成されているため、例えばプリズムシートの頂角と接触し擦れた場合にも応力集中が軽減され、これによりプリズムシートで傷が付いたり、あるいはプリズムシートを破壊するなどの問題が発生しない。
【００１９】
＜光散乱性基材の表面形状＞
以下、本発明の光散乱性基材について説明する。
本発明の光散乱性基材は、少なくとも一方の表面に凹凸形状（傾斜面）を有した、平均一次粒径が３〜１２μｍの透光性粒子と熱可塑性樹脂とを含む光散乱性フィルムである。
図１（ａ）〜（ｃ）に示すように、本発明の光散乱性基材１は、平均一次粒径が３〜１２μｍの透光性粒子５を実質的に含まない領域である表層４、表層４ｂや基層２（図１（ｂ））又は表層３の厚みを下記で述べるように特定の範囲としている。これにより、好ましい光散乱性を得ることのできる凹凸形状の表面（表層４、表層４ｂの表面）と、他部材との貼り合わせに適した平滑なバック面（基層２（図１（ｂ））、表層３の表面）を得ている。
これに対して、従来の光散乱性基材は、図２（ａ）〜（ｂ）に示すように、最表層に硬化層６、７を塗設することにより表面形状を変化させているが、レベリングし易い低粘度の塗布液を用いることが普通であり、Ｒａ値など高さ方向の調整はできるものの、モアレ解消に効果のある数°付近の低傾斜各成分の頻度を上げづらく、モアレ解消と正面輝度との両立は困難である。また、特別な装置を用いない限り、硬化層の塗布を行う工数が増え、生産上のコストアップは避けられない。
以下の説明において、光散乱性の制御のために凹凸形状を制御した表面をＡ面と定義し、別の表面をＢ面と定義する。まず以下Ａ面の形状について説明する。
【００２０】
前述のように広角散乱を減らし、耐擦傷性を付与するためには、Ａ面の表面の凹凸形状はランダムで、凹凸が連続するなだらかな斜面から構成されることが好ましい。該凹凸形状は、例えば、透光性粒子の中心はＡ面表面からフィルム厚さ方向にＤ〜４．５Ｄのいずれかに位置させる（ここで、Ｄは透光性粒子の平均一次粒径）、すなわち凹凸表面からＤ／２〜４Ｄの範囲内の表層に該透光性粒子を実質的に存在させないことで達成できる。更には、凹凸表面からＤ／２〜３Ｄの範囲内に透光性粒子を実質的に存在させないことが好ましく、凹凸表面から３Ｄ／４〜２．５Ｄの範囲内に透光性粒子を実質的に存在させないことがより好ましい。図１（ａ）〜（ｃ）を用いて説明すると、本発明の光散乱性基材１では、透光性粒子５の平均一次粒径をＤとしたときに、表層４や表層４ｂの厚みがＤ／２〜４Ｄであり、該表層４や表層４ｂに透光性粒子５が実質的に存在しない。Ａ面の表面からの厚みがＤ／２〜４Ｄの表層４や表層４ｂに透光性粒子が存在すると、高傾斜角の表面成分が増え不必要に広角散乱してしまう。また、透光性粒子が実質的に存在しない表層４や表層４ｂのＡ面の表面からの厚みがＤ／２〜４Ｄの範囲より大きいと、Ａ面が平滑になりすぎ十分な散乱が得られなくなる。
ここで「透光性粒子を実質的に含まない」とは、例えば光散乱性基材１０ｍ2の範囲において、好ましくは該透光性粒子が数個以下であることを意味する。これ以上の頻度（個数）になると、Ａ面側では点欠陥として認識されてしまう恐れがあり、Ｂ面側では偏光板との貼合わせの際に気泡の原因になるなどの懸念が生じる。
【００２１】
Ｂ面の表面凹凸は特に限定はしないが、偏光子など他部材と貼合する観点では平滑であることが好ましく、透光性粒子の平均一次粒径をＤとしたときにＢ面表面から３Ｄ／２以上の範囲に実質的に前記透光性粒子を存在させないことで接着などに実害のないレベルの平滑な表面形状を達成できる。図１（ａ）〜（ｃ）を用いて説明すると、本発明の光散乱性基材１では、透光性粒子５の平均一次粒径をＤとしたときに、図１（ａ）や図１（ｃ）における表層３や図１（ｂ）における基層２の厚みが３Ｄ／２以上であり、該表層３や基層２に透光性粒子５が実質的に存在しない。なお、図１（ｃ）においては、表層３と基層２を合わせた厚みが３Ｄ／２以上であってもよい。実質的に透光性粒子を存在させない前記Ｂ面表面から３Ｄ／２以上の範囲の上限には特に制限はないが、該範囲の上限は、粒子中心がＡ面表面から膜厚方向にＤ〜５Ｄに位置することができるような上限とすることが好ましい（ただし、前述のように、粒子中心をＡ面表面から膜厚方向にＤ〜４．５Ｄのいずれかに位置させる）。また、実質的に透光性粒子を存在させない前記Ｂ面表面から３Ｄ／２以上の範囲は、後述する透光性基材全体の膜厚が２００μｍ以内となるように適宜調整することが好ましい。
Ｂ面のＪＩＳ  Ｂ０６０１（１９９４、２００１）に基づく算術平均粗さ（Ｒａ）は、０．００１μｍ〜０．１０μｍであるのが好ましく、更に好ましくは０．００１μｍ〜０．０５μｍであり、最も好ましくは０．００１μｍ〜０．０３μｍである。
【００２２】
基材全体で考えた場合、透光性粒子の膜厚方向での分布位置は、平均一次粒径をＤとしたときに粒子中心がＡ面表面からＤ〜５Ｄ付近の深さに存在することが好ましい。ただし、前述のように、粒子中心をＡ面表面から膜厚方向にＤ〜４．５Ｄのいずれかに位置させることにより、Ａ面表面からＤ／２〜４Ｄの範囲内の表層に該透光性粒子を実質的に存在させないようにする。この範囲内であれば目的のＡ面表面形状を得ることができる。
【００２３】
また、透光性粒子を複数種使用することも構わないが、この場合平均一次粒径Ｄは使用する粒子のうち、平均一次粒子径の一番大きいものの値と定義する。
【００２４】
本発明の光散乱性基材は、前方散乱性を有するように、その表面の傾斜角を制御する必要がある。このため、Ａ面の表面形状はＪＩＳ  Ｂ０６０１による粗さのパラメータ（算術平均粗さＲａ、平均凹凸間隔Ｓｍ及び凹凸の平均傾斜角θａ）で表すと、下記（式１）から（式３）を満たすことが必要である。
０．０３μｍ≦Ｒａ≦０．３μｍ  ・・・（式１）
１０μｍ≦Ｓｍ≦３００μｍ      ・・・（式２）
０．２°≦θa≦２．５°         ・・・（式３）
また、好ましい範囲としては、
０．０５μｍ≦Ｒａ≦０．２５μｍ  ・・・（式１’）
３０μｍ≦Ｓｍ≦２５０μｍ        ・・・（式２’）
０．４°≦θa≦２．３°           ・・・（式３’）
であり、更に好ましい範囲としては、
０．０８μｍ≦Ｒａ≦０．２μｍ  ・・・（式１”）
５０μｍ≦Ｓｍ≦２００μｍ      ・・・（式２”）
０．５°≦θa≦２．０°         ・・・（式３”）
であり、特に好ましい範囲としては、
０．１２μｍ≦Ｒａ≦０．２μｍ  ・・・（式１”’）
６０μｍ≦Ｓｍ≦１３０μｍ      ・・・（式２”’）
０．５°≦θa≦２．０°         ・・・（式３”）
である。
これら粗さのパラメータは、ＪＩＳ−Ｂ０６０１（１９９４、２００１）に準じた測定器、たとえば小坂研究所（株）製、サーフコーダー  ＭＯＤＥＬ  ＳＥ−３５００などを用いて測定することができる。
【００２５】
Ｒａの値が０．０３μｍ以上であると、十分な散乱効果を得ることができ、０．３μｍ以下であると、不必要な広角範囲まで光が散乱することを防ぎ十分な正面輝度が確保でき、また隣合う部材との耐擦傷性の問題も生じない。また、Ｓｍの値が３００μｍ以下であれば、バックライトの均一性が向上し、モアレも解消される。また、本発明における平均一次粒径が３μｍ〜１２μｍの透光性粒子を用いて光散乱性基材を作製する際には、Ｓｍが１０μｍ以上であれば、θａが２．５°以下との両立も容易となり、目標の表面形状が得られ易くなる。液晶表示装置のモアレの解消には、Ｓｍとしてはバックライト側のプリズムシートのピッチ以下、又は液晶セルの画素ピッチの２倍以下であることが好ましい。更に、θａの値が０．２°以上であると、直進方向への光の成分が多くなりすぎることなく、十分な散乱効果が得られ、２．５°以下であると不必要な広角散乱成分を抑え、正面輝度が向上し、隣り合う部材との耐擦傷性も良好に保てる。
【００２６】
つぎに、本発明においてＡ面の表面形状を別の表現、すなわち凹凸の傾斜角及びその割合で表した場合には、以下の方法で決定される。
まず、面積が０．５乃至２平方マイクロメートルである三角形の頂点を透明支持体上に仮定し、その３つの頂点から鉛直上向きに法線を伸ばす（支持体上の３つの法線）。この支持体上の３つの法線がフィルム表面（Ａ面）と交わる３点によって三角形を形成する。このようにして形成された三角形の面の法線が、支持体から鉛直上向きに伸ばした法線となす角を傾斜角と定義する。
【００２７】
次に、傾斜角の割合（頻度）の求め方を説明する。支持体上で２５００００平方マイクロメートル（０．２５平方ミリメートル）以上の面積を先に述べた三角形に分割し、それぞれの三角形全てについて傾斜角の測定を行う。各測定点での傾斜角度を求め、全測定点の数に対する、各傾斜角度の数（頻度）の割合を求める。この割合を傾斜角の頻度と定義する。本発明においては、０°以上０．５°未満、０．５°以上１０．０°未満、及び１０．０°以上の範囲の傾斜角の頻度の積分値を求める。測定方法の詳細は、特開２００７−１０８７２４号公報の６頁第１２段落に記載されている方法を採ることができる。
【００２８】
本発明においては、測定面積はフィルム上で２５００００平方マイクロメートル（０．２５平方ミリメートル）以上が好ましく、０．２５平方ミリメートル以上、１．０平方ミリメートル以下が測定精度と測定効率を両立させる上で好ましい。測定単位の三角形の面積は０．５乃至２平方マイクロメートルが測定精度を保証する上で好ましい。
【００２９】
測定する装置はいくつかあるが、本発明においてはマイクロマップ社（米国）製ＳＸＭ５２０−ＡＳ１５０型を用いる。本装置は、光源に中心波長５６０ｎｍの干渉フィルターを挿入したハロゲンランプ、倍率２．５倍〜５０倍の対物レンズを内蔵している。データの取り込みは画素数６４０×４８０の２／３インチの標準装備のＣＣＤによって行う。本発明においては、対物レンズが１０倍傾斜角の測定単位は０．８平方マイクロメートル、測定面積は５０００００平方マイクロメートル（０．５平方ミリメートル）に設定する。所望によっては、対物レンズの倍率を大きくし、それに合わせて測定単位と測定面積は小さくすることもできる。測定データはＭａｔｈ  Ｗｏｒｋｓ，  Ｉｎｃ．（米国）製、ＭＡＴ−ＬＡＢ等のソフトを用いて解析し、傾斜角分布を算出することができる。本発明では、傾斜角の刻みは０．０１°程度に設定する。
【００３０】
本発明においては、光散乱性基材のＡ面の凹凸の傾斜角が以下の分布を有することが好ましい。
（ａ）０°以上０．５°未満の頻度の積分値が２５％未満
（ｂ）０．５°以上１０°未満の頻度の積分値が６５％以上１００％未満
（ｃ）１０°以上の頻度の積分値が０％以上２０％未満
また、好ましい傾斜角分布としては、
（ａ）０°以上０．５°未満の頻度の積分値が２０％未満
（ｂ）０．５°以上１０°未満の頻度の積分値が６８％以上１００％未満
（ｃ）１０°以上の頻度の積分値が０％以上１８％未満
であり、更に好ましい傾斜角分布としては
（ａ）０°以上０．５°未満の頻度の積分値が１５％以下
（ｂ）０．５°以上１０°未満の頻度の積分値が７０％以上１００％未満
（ｃ）１０°以上の頻度の積分値が０％以上１５％以下
である。
【００３１】
傾斜角が０°以上０．５°未満の頻度の積分値が２５％未満であると、平滑な面の割合が少なく十分な散乱性を得ることができる。また、０．５°以上１０°未満の頻度の積分値が６５％以上であると、正面コントラスト低下の影響の少ない適度な散乱角度をもった散乱成分を十分に確保できる。また、１０°以上の頻度の積分値が２０％未満とすると広角側の散乱成分を抑えて正面コントラストを確保し、耐擦傷性も良好に保つことができる。耐擦傷性の観点では特に、傾斜角が２０°を超える成分は、５％未満が好ましく、２％未満が更に好ましい。
【００３２】
また、本発明における光散乱性基材の前記表面形状は、数°付近のなだらかな傾斜構造かつ、耐擦傷性で問題となる１０°以上の高傾斜角度成分を少なくすることが望ましい。このために、透光性粒子を実質的に含まないＡ面側の溶液（表面形状調整用ドープ）はレベリングがわずかで、内部の透光性粒子の形状を適度に保ったまま乾燥されることが望ましい。具体的には室温下（好ましくは２５℃）におけるドープの粘度は１Ｐa・ｓ以上２００Ｐa・ｓ以下が好ましく、より好ましくは５〜１００Ｐa・ｓ、更に好ましくは１０〜１００Ｐa・ｓである。塗布など従来の方法ではこのような高粘度溶液を塗設することは困難であり、低粘度溶液を塗設するとレベリングしてしまい特に高傾斜角度成分が取り除けなかった。この点について本発明では、高粘度の熱可塑性樹脂溶液（ポリマー溶液のドープ、例えば粘度１０Ｐa・ｓ）を流延することにより、上述のような数°の傾斜角成分の頻度が高い表面形状が得られることができる。
【００３３】
また、目的の表面形状を維持する範囲内で、Ａ面側ドープ中に光／熱硬化性モノマー、導電性無機微粒子、導電性ポリマー、フッ素系やシリコーン系の防汚素材、すべり剤などを有しても構わない。ブロッキング防止のために、一次粒子径が１μｍ未満の無機微粒子などをＡ面及び／又はＢ面側に有しても構わない。
更に、Ａ面上にハードコート層、防眩層、導電性無機微粒子含有層、導電性ポリマー層、フッ素系やシリコーン系の防汚層、低屈折率層、或いは反射防止層などを積層させても構わない。
【００３４】
＜光散乱性基材の光学特性＞
光散乱性基材の法線方向から光を入射させた際に該光散乱性基材を透過してくる出射光強度（入射光の強度に対する出射光の強度）を考える。光源からの略平行光を正面から測定したときの光強度をＩ０とする。同じ光を法線方向から本発明の光散乱性基材に入射させたとき、該光散乱性基材を透過し法線方向に出射する出射光の強度をＩ（０°）とする。このとき、Ｉ（０°）のＩ０に対する比Ｉ（０°）／Ｉ０が０．４０〜０．９８であることが好ましく、０．４５〜０．８０であることが更に好ましく、０．５０〜０．７０であることが最も好ましい。０．４０〜０．９８であれば白発色時の白輝度の低下が小さく、表示画面が暗くならず、好ましい。
【００３５】
正面白輝度及び正面コントラストを維持しながら、モアレや面内の輝度ムラ抑制を両立するためには、光散乱性基材としては、低角側への光散乱強度比が大きい（前方散乱性の強い）ものが好ましく、基材の法線方向から入射する直線光に対し、該法線方向から２°〜６°付近への出射光強度が他の角度への出射光強度と比べ相対的に大きいフィルムが好ましいことを見出した。本発明の光散乱性基材の場合、具体的には、該光散乱性基材表面の法線方向から４°傾いた位置における出射光強度Ｉ（４°）のＩ０に対する比Ｉ（４°）／Ｉ０が０．０３〜０．０７であることが好ましく、更に好ましくは０．０３〜０．０６５であり、最も好ましくは０．０３５〜０．０６である。Ｉ（４°）／Ｉ０の値が０．０３〜０．０７であると、コントラスト低下が少なく、モアレの発生が抑制できる。この値が０．０３以上ではモアレ解消能が向上し、０．０７以下では正面コントラストの低下が少なくなる。これらの透過散乱光プロファイルは、受光角２°のゴニオフォトメーターで測定される。
【００３６】
光散乱性基材の内部に起因するヘイズ値（内部ヘイズ値。全ヘイズ値から表面ヘイズ値を引いた値）は０．１％以上３０％未満であることが好ましく、更に好ましくは０．５％〜２７％であり、最も好ましくは１％〜２５％である。この範囲であれば、表面凹凸による表面散乱に加えて、適度な内部散乱により液晶パネルの模様や色ムラ、輝度ムラなどを見難くすることができる。
【００３７】
光散乱性基材の表面に起因するヘイズ値（表面ヘイズ値）は３％以上３０％未満であることが好ましく、更に好ましくは５％〜２５％、最も好ましくは８％〜２５％である。また、光散乱性基材の全ヘイズ値は４〜４０％が好ましく、５〜３０％が更に好ましい。
【００３８】
光散乱性基材のＪＩＳ  Ｋ７１０５に基づく像鮮明度測定装置を用いて２ｍｍの幅を有する光学櫛を通して測定される像鮮明度の値は５〜６０％が好ましく、更に好ましくは１０％〜６０％であり、最も好ましくは２０％〜５５％である。この範囲であれば、正面コントラストの低下が少なく、かつ、液晶パネルの模様や色ムラ、輝度ムラ、モアレなどを見難くできる。
【００３９】
＜透光性粒子＞
本発明の光散乱性フィルムにおける透光性微粒子は略球状が好ましい。透光性微粒子は前述のように光散乱性基材の厚み方向において、内側の特定位置に分布していることが必要である。透光性粒子の平均一次粒径は３〜１２μｍであり、該範囲内であれば凸部の形成に加え、内部散乱を付与した場合に広角散乱を抑え、前方散乱しやすい。更には３．５μｍを超え１１μｍ以下が好ましく、５μｍを超え１０μｍ以下が最も好ましい。３μｍ未満だと、凸部が形成し難く、また不必要な広角にまで光が散乱してしまう。１２μｍを超えると、該粒子を含む層の表面調整がし難くなる。透光性粒子の屈折率は１．４０〜１．６５が好ましく、更に好ましくは１．４５〜１．６０であり、最も好ましくは１．４５〜１．５５である。
透光性粒子と光散乱性基材との屈折率差の絶対値は０．０９未満であることが好ましく、０．０７以下であることがより好ましく、更には０．０５以下であることが好ましい。ここで、光散乱性基材の屈折率とは、光散乱性基材から透光性粒子を除いた場合（光散乱性基材の透光性粒子以外の部分）の該光散乱性基材の屈折率を意味する。０．０９未満であれば透光性粒子界面での散乱角が大きくなりすぎず、広角散乱成分が増えない。また、この範囲内であれば内部散乱と表面散乱を組み合せて適度な前方散乱性の光学特性とすることができる。この際に、粒子の屈折率と光散乱性基材の屈折率の大小はいずれであっても構わない。また、光散乱性基材より屈折率が大きい粒子と小さい粒子を併用しても構わない。
【００４０】
表面形状をより良く調整するためには、透光性粒子を複数種使用することも好ましく、光散乱性基材との屈折率差が小さい粒子を併用することもできる。具体的には、上記基材との屈折率差が０．０３未満で、平均粒子径が内部散乱性を有する粒子のそれよりも小さくかつ３μｍ以上、６μｍ未満の粒子を併用することも効果的である。
【００４１】
透光性粒子の使用量は、単位面積あたり０．１ｇ／ｍ２〜５.０ｇ／ｍ２が好ましく、
更に好ましくは、０．２ｇ／ｍ２〜３.０ｇ／ｍ２、最も好ましくは０．３ｇ／ｍ２〜２
．０ｇ／ｍ２である。この範囲の使用量にすることで、所望の表面形状を得ることができる。
【００４２】
透光性粒子は、無機粒子、有機粒子ともに用いることができる。無機粒子としては、シリカやアルミナなどが挙げられる。例えば（株）マイクロンの球状シリカ、球状アルミナが挙げられる。
【００４３】
有機粒子としては、ポリメタアクリル酸メチルアクリレート樹脂、アクリルスチレン系樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂、シリコン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリカーボネート樹脂、ベンゾグアナミン系樹脂、メラミン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、或いは低屈折率のポリ弗化エチレン系樹脂、シリコーン樹脂等を挙げることができる。
市販品としては、スチレン、アクリル系樹脂として、綜研化学（株）製のケミスノーＭＸシリーズ、ＳＸシリーズや、積水化成品工業（株）製のテクポリマーなどが挙げられ、ベンゾグアナミン系樹脂としては、日本触媒（株）製のエポスター、メラミン系樹脂としては、日産化学（株）製のオプトビーズ、シリコーン樹脂として、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製のトスパールなどが挙げられる。
光散乱性基材における熱可塑性樹脂との密着性の観点や、湿度や熱による界面剥離、脱落などの観点から、膨張率特性が熱可塑性樹脂に近い有機粒子を用いるほうが好ましい。本発明では、透光性粒子は略球状の樹脂粒子であることが特に好ましい。
【００４４】
＜光散乱性基材の材料＞
次に本発明に係る透光散乱性基材の材料について説明する。本発明の光散乱性基材を構成する主成分（光散乱性フィルムの固形分の５１質量％以上９９質量％以下の材料）は、熱可塑性樹脂であることが好ましく、具体例には、セルロースアシレート（例えばトリアセチルセルロース（セルローストリアセテート）、ジアセチルセルロース、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルブチリルセルロース（セルロースアセテートブチレート）、アセチルプロピオニルセルロース、ニトロセルロース）、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル（例えばポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリ−１，４−シクロヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリエチレン−１，２−ジフェノキシエタン−４，４’−ジカルボキシレート、ポリブチレンテレフタレート）、ポリスチレン（例えばシンジオタクチックポリスチレン）、ポリオレフィン（例えばポリプロピレン、ポリエチレン、ポリメチルペンテン、ポリシクロアルカン）、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリメチルメタクリレート、ポリエーテルケトン、ノルボルネン系樹脂（アートン：商品名、ＪＳＲ社製）、非晶質ポリオレフィン（ゼオネックス：商品名、日本ゼオン社製）、（メタ）アクリル系樹脂（アクリペットＶＲＬ２０Ａ：商品名、三菱レイヨン社製、特開２００４−７０２９６号公報や特開２００６−１７１４６４号公報記載の環構造含有アクリル系樹脂）等が含まれる。トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、アセチルブチリルセルロース、プロピオニルセルロース、ポリカーボネート、変成ポリメチルメタクリレートが好ましく、トリアセチルセルロース、アセチルブチリルセルロール、ポリカーボネートが特に好ましい。
【００４５】
偏光板に用いるのに好ましい透明保護フィルムとしては、フィルムの疎水性／親水性のバランス、偏光膜のビニルアルコール系膜との貼合性やフィルム面内全体の光学特性の均一性が重要であり、特に、セルロースの脂肪酸エステル（セルロースアシレート）が好ましく、更にはトリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、アセチルブチリルセルロース、プロピオニルセルロースであるのが好ましい。
【００４６】
本発明の光散乱性フィルムを製造するには、共流延法（重層同時流延）、逐次流延法等の積層流延する方法を用いることができる。共流延法及び逐次流延法により製造する場合には、先ず、複数のドープ（熱可塑性樹脂、及び必要に応じて透光性粒子などを溶剤に溶かしたもの）を調製する。共流延法は、流延用支持体（バンド又はドラム）の上に、複数のドープ（３層あるいはそれ以上でも良い）を別のスリットなどから同時に押出す流延用ギーサ（流延ダイ）からドープを押出して各層を同時に流延し、適度に乾燥させた後に支持体から剥ぎ取り、乾燥させて光散乱性基材を成形する流延法である。流延ダイは、図６（a）に示したマルチマニホールド型、図６（ｂ）に示したフィードブロック型いず
れでも使用できる。またドープ吐出部には減圧チャンバーを設けた装置が好ましい。
図３及び図４は、流延を行う溶液成膜装置の例を示した図である。図３は支持体に流延ドラムを用いた例であり、特にドラムを冷却することによりドープが支持体に接触している間に冷却ゲル化、或いはゲルに近い状態にさせることができ、早いタイミングで剥ぎ取ることができ生産性が高い。図４は支持体にエンドレスベルトを用いた例であり、ドープがベルトに接触している間に、自己支持性がある程度の濃度まで溶剤を乾燥させた後に剥ぎ取りを行う方法である。
【００４７】
逐次流延法は、流延用支持体の上に先ず第１の流延用ドープを流延用ギーサから押出して流延し、乾燥後あるいは乾燥させることなく、その上に第２の流延用ドープを流延用ギーサから押出して流延し、以後、同様に第３以降のドープを逐次流延・積層し、適当な時期に支持体から剥ぎ取り、乾燥させて光散乱性基材を成形する流延法である。また、剥ぎ取りから乾燥までの間に、基材を一定方向に延伸しても構わない、具体的には例えば縦方向及び／又は横方向に０．９倍〜１．５倍程度延伸することが好ましい。
【００４８】
以上のように、光散乱性基材を製造するには、共流延法、逐次流延法、及び溶融押出し製膜法のどの方法を用いてもよい。一般的に、逐次流延法では工程が複雑で大掛かりになり、フィルムの平面性を維持することが困難であるが、共流延法では工程が単純で、生産性が高いため、共流延法で製造することが好ましい。
【００４９】
また、流延初期にレベリングしないように支持体の温度は２０℃以下にすることが好ましく、更に流延後に冷却ゲル化するように支持体の温度を０℃以下にすることも好ましい。
【００５０】
更に、共流延法において、前記透光性粒子を含有するドープが光散乱性フィルムの内層部に配置されることが好ましい。具体的には流延の際、支持体面若しくは空気界面側に該ドープ以外の透光性粒子など平均一次粒径が１μｍ以上の粒子を実質上含まないドープを置くことが好ましい。
従って、光散乱性基材の深さ方向で透光性粒子の存在量の異なる領域が形成されていることが好ましく、更に透光性粒子存在量が多い領域は光散乱性基材のＡ面側に存在することが好ましく、Ａ面側の表面から光散乱性基材の厚み方向深さでＡ面側表面から全体の１０〜８０％まで深さの領域に粒子中心が存在することが好ましく、更に好ましくはＡ面側表面から１０〜７５％まで深さ、最も好ましくはＡ面側表面から１０〜５０％までの深さに存在することが好ましい。
【００５１】
透光性粒子を特定の深さ方向に偏析させるには、粒子含率の異なる複数のドープを同時又は逐次に流延したり、粒子含率の異なる複数の溶解した樹脂を共押し出しして光散乱性基材を形成したりすることができる。更に、剥離が起こらない限り、各層で熱可塑性樹脂の種類が異なっていても良い。例えばセルロースアシレートの置換基や置換量の異なるドープを積層させるなどが挙げられる。
【００５２】
光散乱性基材の膜厚は、２０μｍ〜２００μｍであることが好ましく、より好ましくは、２０μｍ〜８０μｍ、最も好ましくは２５μｍ〜６０μｍである。共流延で複数のドープを用いて光散乱性基材を形成する場合には、表層ドープ（両面にある場合は合計厚み）と基層ドープの厚み比｛（表層ドープトータルの厚み／基層ドープの厚み）×１００｝は、５％〜８０％が好ましく、１０％〜５０％がより好ましい。該厚み比が５％以上であると、均一な層を形成することが容易である。また、該厚み比が８０％以下であれば、ドープの界面が安定し面状が損なわれる場合が少ない。ここで、ドープの厚み（膜厚）とは溶剤が揮発した後（乾燥後）の厚みをいう。また、表層ドープ、基層ドープという言葉は、熱可塑性樹脂が溶剤に溶解したドープ状態で、流延ダイを通して相互に隣接して表層と基層を成している状態を表しており、溶剤が蒸発した後に光散乱性基材において必ずしも界面が存在することを表すものではない。このため、図１（ａ）〜（ｃ）、図２（ａ）〜（ｂ）中においては各ドープの境界部として破線で表記した。
【００５３】
本発明における共流延又は逐次流延による光散乱性基材の好ましい製造方法では、熱可塑性樹脂と平均一次粒径が３μｍ以上１２μｍ以下である少なくとも１種の透光性粒子とを含む透光性粒子含有ドープと、平均一次粒子径が１μｍ以上の粒子を実質的に含まない熱可塑性樹脂からなる前記透光性粒子含有ドープより低樹脂濃度の表面形状調整用ドープとをこの順番に流延して成膜する。ここで、透光性粒子含有ドープは基層ドープであってもよいし（図１（ａ）の層２を形成）、表層ドープであってもよい（図１（ｂ）及び（ｃ）の層４ａを形成）。表面形状調整用ドープは表層ドープ（図１（ａ）の層４、図１（ｂ）及び（ｃ）の層４ｂを形成）に対応する。表面形状調整用ドープの熱可塑性樹脂濃度は、基層ドープの樹脂濃度より、０．１〜８．０質量％低いのが好ましく、１．０〜５．０質量％低いのがより好ましい。
透光性粒子含有ドープは、１μｍ以上の粒子を実質的に含まない熱可塑性樹脂からなるドープ（図１（ａ）の層３、図１（ｂ）及び（ｃ）の層２を形成）上に流延してもよい。
また、上記複数のドープと支持体との間に、１μｍ以上の粒子を実質的に含まず隣接するドープより熱可塑性樹脂濃度が低い表層ドープ（図１（ａ）及び（ｃ）の層３）を流延してもよい。該ドープの樹脂濃度は、隣接するドープの樹脂濃度より、０．１〜８．０質量％低いのが好ましく、１．０〜５．０質量％低いのがより好ましい。
表層ドープの樹脂濃度を低濃度とすることにより乾燥中に「カワバリ」（すなわち、ドープ表面のみ乾燥が進み樹脂濃度が高くなり、ドープ内部の乾燥が進まなくなる状態）が生じず生産性を向上させることができる。また、図１（ｃ）の態様において、層３のドープの樹脂濃度を低濃度とすることにより平滑なバック面（Ｂ面）が得られる。
また、表面形状調整用ドープの乾燥後の膜厚が、平均一次粒径が３μｍ以上１２μｍ以下である透光性粒子の平均一次粒径をＤとしたきに（１／２）Ｄ〜４Ｄとなるように、好ましくはＤ／２〜３Ｄ、より好ましくは３Ｄ／４〜２．５Ｄとなるように、流量を調整することが好ましい。
本発明の光散乱性基材の製造方法によれば、光散乱性基材として最適な散乱性を有するフィルムが一貫作製できるため、塗布などによる散乱性付与手段と比較して工数削減によるコストダウンが図れ、かつ得られる光散乱性基材は実質的に界面がないので、密着性や界面間で生じる干渉ムラなどの問題が生じない。
【００５４】
本発明において光散乱性基材の材料として好ましく用いることのできる材料は、セルロースアシレートであり、特にセルロースアシレートとしてはセルロースの総炭素数２〜２２のカルボン酸エステルが好ましい。例えばセルロースのアルキルカルボニルエステル、アルケニルカルボニルエステル、シクロアルキルカルボニルエステル、あるいは芳香族カルボニルエステル、芳香族アルキルカルボニルエステルなどであり、それぞれ更に置換された基を有していてもよい。
【００５５】
本発明に用いられるセルロースアシレートの炭素数２〜２２のアシル基としては、脂肪族アシル基でも芳香族アシル基でもよく、特に限定されない。これらの好ましいアシル基としては、アセチル、プロピオニル、ブタノイル、ヘプタノイル、ヘキサノイル、オクタノイル、シクロヘキサンカルボニル、アダマンタンカルボニル、フェニルアセチル、ベンゾイル、ナフチルカルボニル、（メタ）アクリロイル、シンナモイル基などを挙げることができる。これらの中でも、より好ましいアシル基は、アセチル、プロピオニル、ブタノイル、ペンタノイル、ヘキサノイル、シクロヘキサンカルボニル、フェニルアセチル、ベンゾイル、ナフチルカルボニルなどである。
【００５６】
本発明に好適に用いられるセルロースアシレートとしては、セルロースの水酸基への置換度が下記数式（７）及び（８）を満足するものが好ましい。
数式（７）：２．３≦ＳＡ’＋ＳＢ’≦３．０
数式（８）：０≦ＳＡ’≦３．０
【００５７】
ここで、ＳＡ’はセルロースの水酸基の水素原子を置換しているアセチル基の置換度、またＳＢ’はセルロースの水酸基の水素原子を置換している炭素原子数３〜２２のアシル基の置換度を表す。なお、ＳＡはセルロースの水酸基の水素原子を置換しているアセチル基を表し、ＳＢはセルロースの水酸基の水素原子を置換している炭素原子数３〜２２のアシル基を表す。
【００５８】
セルロースを構成するβ−１，４結合しているグルコース単位は、２位、３位及び６位に遊離の水酸基を有している。セルロースアシレートは、これらの水酸基の一部又は全部をアシル基によりエステル化したものである。アシル置換度は、２位、３位及び６位のそれぞれについて、水酸基がエステル化している割合（各位それぞれ１００％のエステル化は置換度１）を意味する。本発明では、ＳＡとＳＢの置換度の総和（ＳＡ’＋ＳＢ’）は、より好ましくは２．６〜３．０であり、特に好ましくは２．７０〜３．００である。また、ＳＡの置換度（ＳＡ’）はより好ましくは１．４〜３．０であり、特には２．３〜２．９である。
【００５９】
また、本発明においては、上記ＳＢであるセルロースの水酸基の水素原子を置換しているアシル基の炭素原子数が３又は４であることが好ましい。これら炭素原子数のアシル基により置換された置換度は、上記数式（７）及び（８）に加え、更に、下記数式（９）を同時に満足することが好ましい。
数式（９）：  ０≦ＳＢ”≦１．２
ここで、ＳＢ”はセルロースの水酸基の水素原子を置換している炭素原子数３又は４のアシル基の置換度を表す。
【００６０】
なお、置換度はセルロース中の水酸基に結合した脂肪酸の結合度を測定し、計算によって得られる。測定方法としては、ＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９１、ＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９６に準拠して測定することができる。また、水酸基へのアシル基の置換の状態は、13Ｃ  ＮＭＲ法によって測定される。
【００６１】
上記セルロースアシレートフィルムは、フィルムを構成するポリマー成分が実質的に前記の数式（７）及び（８）を満足するセルロースアシレートからなることが好ましい。「実質的に」とは、全ポリマー成分の５５質量％以上（好ましくは７０質量％以上、更に好ましくは８０質量％以上）を意味する。セルロースアシレートは単独若しくは２種類以上の併用であってもよい。
【００６２】
本発明で好ましく用いられるセルロースアシレートの重合度は、粘度平均重合度２００〜７００、好ましくは２３０〜５５０、更に好ましくは２３０〜３５０であり、特に好ましくは粘度平均重合度２４０〜３２０である。平均重合度は、宇田らの極限粘度法（宇田和夫、斉藤秀夫、繊維学会誌、第１８巻第１号、１０５〜１２０頁、１９６２年）により測定できる。更に特開平９−９５５３８号公報に詳細に記載されている。
【００６３】
またセルロースアシレートの数平均分子量Ｍｎは、好ましくは７〜２５×１０4の範囲、より好ましくは、８〜１５×１０4の範囲にあることが望ましい。また、該セルロースアシレートの質量平均分子量Ｍｗとの比、Ｍｗ／Ｍｎは、好ましくは１．０〜５．０、より好ましくは１．０〜３．０である。なお、セルロースアシレートの平均分子量及び分子量分布は、高速液体クロマトグラフィーを用いて測定でき、これを用いて上記Ｍｎ及びＭｗを算出し、Ｍｗ／Ｍｎを計算することができる。
【００６４】
［可塑剤］
本発明においては、光散乱性基材に柔軟性を与え、寸法安定性を向上させ、耐湿性を向上させるために可塑剤を用いてもよい。
【００６５】
セルロースアシレートを光散乱性基材の材料とする場合には、オクタノール／水分配係数（ｌｏｇＰ値）が０ないし１０である可塑剤が特に好ましく用いられる。化合物のｌｏｇＰ値が１０以下であれば、セルロースアシレートとの相溶性が良好で、フィルムの白濁や粉吹きなどの不具合を生じることがなく、またｌｏｇＰ値が０以上であれば、親水性が高くなりすぎることがないのでセルロースアシレートフィルムの耐水性を悪化させるなどの弊害が生じにくいので、上記範囲内のものを用いることが好ましい。ｌｏｇＰ値として、更に好ましい範囲は１ないし８であり、特に好ましい範囲は２ないし７である。
【００６６】
オクタノール／水分配係数（ｌｏｇＰ値）の測定は、日本工業規格（ＪＩＳ）Ｚ７２６０−１０７（２０００）に記載のフラスコ浸とう法により実施することができる。また、オクタノール／水分配係数（ｌｏｇＰ値）は実測に代わって、計算化学的手法あるいは経験的方法により見積もることも可能である。計算方法としては、Ｃｒｉｐｐｅｎ’ｓ  ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法［Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｆ．Ｃｏｍｐｕｔ．Ｓｃｉ．，２７巻２１頁（１９８７）］、Ｖｉｓｗａｎａｄｈａｎ’ｓ  ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法［Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｆ．Ｃｏｍｐｕｔ．Ｓｃｉ．，２９巻１６３頁（１９８９）］、Ｂｒｏｔｏ’ｓ  ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法［Ｅｕｒ．Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．−Ｃｈｉｍ．Ｔｈｅｏｒ．，１９巻７１頁（１９８４）］などが好ましく用いられるが、中でもＣｒｉｐｐｅｎ’ｓ  ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法がより好ましい。ある化合物のｌｏｇＰの値が、測定方法又は計算方法により異なる場合に、該化合物が本発明の範囲内であるかどうかは、Ｃｒｉｐｐｅｎ’ｓ  ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法により判断することが好ましい。
【００６７】
好ましく添加される可塑剤としては、上記の物性の範囲内にある分子量１９０〜５０００程度の低分子〜オリゴマー化合物が挙げられ、例えばリン酸エステル、カルボン酸エステル、ポリオールエステル等が用いられる。
【００６８】
リン酸エステルの例には、トリフェニルホスフェート（ＴＰＰ）、トリクレジルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ビフェニルジフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェート等が含まれる。好ましくは、トリフェニルホスフェート、ビフェニルジフェニルホスフェートである。
【００６９】
カルボン酸エステルとしては、フタル酸エステル及びクエン酸エステルが代表的である。フタル酸エステルの例には、ジメチルフタレート、ジエチルフタレート、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジフェニルフタレート、ジエチルヘキシルフタレート等が挙げられる。クエン酸エステルの例には、Ｏ−アセチルクエン酸トリエチル、Ｏ−アセチルクエン酸トリブチル、クエン酸アセチルトリエチル、クエン酸アセチルトリブチル等が挙げられる。
これらの好ましい可塑剤は、２５℃においてＴＰＰ（融点約５０℃）以外は液体であり、沸点も２５０℃以上である。
【００７０】
その他のカルボン酸エステルの例には、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル、種々のトリメリット酸エステルが含まれる。グリコール酸エステルの例としては、トリアセチン、トリブチリン、ブチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、メチルフタリルメチルグリコレート、プロピルフタリルプロピルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、オクチルフタリルオクチルグリコレートなどがある。
【００７１】
また、特開平５−１９４７８８号、特開昭６０−２５００５３号、特開平４−２２７９４１号、特開平６−１６８６９号、特開平５−２７１４７１号、特開平７−２８６０６８号、特開平５−５０４７号、特開平１１−８０３８１号、特開平７−２０３１７号、特開平８−５７８７９号、特開平１０−１５２５６８号、特開平１０−１２０８２４号の各公報などに記載されている可塑剤も好ましく用いられる。これらの公報によると可塑剤の例示だけでなくその利用方法あるいはその特性についての好ましい記載が多数あり、本発明においても好ましく用いられるものである。
【００７２】
その他の可塑剤としては、特開平１１−１２４４４５号記載の（ジ）ペンタエリスリトールエステル類、特開平１１−２４６７０４号記載のグリセロールエステル類、特開２０００−６３５６０号記載のジグリセロールエステル類、特開平１１−９２５７４号記載のクエン酸エステル類、特開平１１−９０９４６号記載の置換フェニルリン酸エステル類、特開２００３−１６５８６８号等記載の芳香環とシクロヘキサン環を含有するエステル化合物などが好ましく用いられる。
【００７３】
また、分子量が略１０万未満の樹脂成分を有するオリゴマー、ポリマー可塑剤も好ましく用いられる。例えば、特開２００２−２２９５６号公報、特開２０１０−５３２５４、ＷＯ２００９／１１０１５９Ａ１に記載のポリエステル及び又はポリエーテル、特開平５−１９７０７３号公報に記載のポリエステルエーテル、ポリエステルウレタン又はポリエステル、特開平２−２９２３４２号公報に記載のコポリエステルエーテル、特開２００２−１４６０４４号公報等記載のエポキシ樹脂又はノボラック樹脂等が挙げられる。
【００７４】
これらの可塑剤は単独若しくは２種類以上を混合して用いてもよい。可塑剤の添加量はセルロースアシレート１００質量部に対して２〜３０質量部、特に５〜２０質量部が好ましい。また、透光性粒子を含有する層には、セルロースアシレートと透光性粒子の親和性改良、脆性改良のために、可塑剤含率を高めることが好ましい。
【００７５】
［紫外線吸収剤］
上記光散乱性基材には、フィルム自身の耐光性向上、或いは偏光板、液晶表示装置の液晶化合物等の画像表示部材の劣化防止のために、更に紫外線吸収剤（紫外線防止剤）を添加することが好ましい。
【００７６】
紫外線吸収剤としては、液晶の劣化防止の点より波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れ、かつ良好な画像表示性の点より波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が可及的に少ないものを用いることが好ましい。特に、波長３７０ｎｍでの透過率が、２０％以下であることが望ましく、好ましくは１０％以下、より好ましくは５％以下である。このような紫外線吸収剤としては、例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物、前記のような紫外線吸収性基を含有する高分子紫外線吸収化合物等があげられるが、これらに限定されない。紫外線吸収剤は２種以上用いてもよい。
【００７７】
本発明において紫外線吸収剤の使用量は、光散乱性基材に用いられる熱可塑性樹脂１００質量部に対し０．１〜５．０質量部、好ましくは０．５〜４．０質量部、より好ましくは０．８〜２．５質量部である。
【００７８】
［他の添加剤］
更に、光散乱性基材を形成する組成物（ドープ）には、各調製工程において用途に応じた他の種々の添加剤（例えば、劣化防止剤（例えば、酸化防止剤、過酸化物分解剤、ラジカル禁止剤、金属不活性化剤、酸捕獲剤、アミン等）、光学異方性コントロール剤、剥離剤、帯電防止剤、赤外吸収剤等）を加えることができ、それらは固体でもよく油状物でもよい。すなわち、その融点や沸点において特に限定されるものではない。更にまた、赤外吸収剤としては例えば特開２００１−１９４５２２号公報に記載のものが使用できる。
【００７９】
これらの添加剤の添加する時期は、ドープ作製工程において何れで添加してもよいが、ドープ調製工程の最後の調製工程に添加剤を添加し調製する工程を加えて行ってもよい。更にまた、各素材の添加量は機能が発現する限りにおいて特に限定されない。また、光散乱性基材が多層から形成される場合、各層の熱可塑性樹脂・添加物の種類や添加量が異なってもよい。例えば特開平２００１−１５１９０２号公報などに記載されているが、これらは従来から知られている技術である。上記の紫外線吸収剤を含めてこれらの詳細は、発明協会公開技報公技番号２００１−１７４５号（２００１年３月１５日発行、発明協会）１６〜２２頁に詳細に記載されている素材が好ましく用いられる。
【００８０】
これらの添加剤の使用量は、光散乱性基材を構成する全組成物中、０．００１〜２０質量％の範囲で適宜用いられることが好ましい。
【００８１】
［溶媒］
次に、光散乱性基材を形成する材料を溶解する有機溶媒について記述する。用いる有機溶媒としては、従来公知の有機溶媒が挙げられ、例えば溶解度パラメーターで１７〜２２の範囲ものが好ましい。溶解度パラメーターは、例えばＪ．Ｂｒａｎｄｒｕｐ、Ｅ．Ｈ等の「ＰｏｌｙｍｅｒＨａｎｄｂｏｏｋ（４ｔｈ．ｅｄｉｔｉｏｎ）」、ＶＩＩ／６７１〜ＶＩＩ／７１４に記載の内容のものを表す。低級脂肪族炭化水素の塩化物、低級脂肪族アルコール、炭素原子数３から１２までのケトン、炭素原子数３〜１２のエステル、炭素原子数３〜１２のエーテル、炭素原子数５〜８の脂肪族炭化水素類、炭素数６〜１２の芳香族炭化水素類、フルオロアルコール類（例えば、特開平８−１４３７０９号公報  段落番号［００２０］、同１１−６０８０７号公報  段落番号［００３７］等に記載の化合物）等が挙げられる。
【００８２】
光散乱性基材を形成する材料は、有機溶媒に１０〜３０質量％溶解していることが好ましく、より好ましくは１３〜２７質量％であり、特には１５〜２５質量％である。これらの濃度に調製する方法は、溶解する段階で所定の濃度になるように調製してもよく、また予め低濃度溶液（例えば９〜１４質量％）として作製した後に後述する濃縮工程で所定の高濃度溶液に調整してもよい。更に、予め高濃度の光散乱性基材を形成する材料の溶液として後に、種々の添加物を添加することで所定の低濃度の溶液としてもよい。
溶媒は１種でも２種以上用いてもよい。
【００８３】
＜ドープの調製＞
セルロースアシレート等の光散乱性基材を形成する材料の溶液（ドープ）の調製について、その溶解方法は、上記のように特に限定されるものではなく、室温溶解法、冷却溶解法又は高温溶解方法により実施され、更にはこれらの組み合せで実施される。これらに関しては、例えば特開平５−１６３３０１号、特開昭６１−１０６６２８号、特開昭５８−１２７７３７号、特開平９−９５５４４号、特開平１０−９５８５４号、特開平１０−４５９５０号、特開２０００−５３７８４号、特開平１１−３２２９４６号、特開平１１−３２２９４７号、特開平２−２７６８３０号、特開２０００−２７３２３９号、特開平１１−７１４６３号、特開平０４−２５９５１１号、特開２０００−２７３１８４号、特開平１１−３２３０１７号、特開平１１−３０２３８８号などの各公報にセルロースアシレート溶液の調製法が記載されている。これらのセルロースアシレートの有機溶媒への溶解方法は、本発明においても、その範囲内であればこれらの技術を適宜適用できるものである。これらの詳細、特に非塩素系溶媒系については、前記の公技番号２００１−１７４５号の２２〜２５頁に詳細に記載されている方法で実施される。更にセルロースアシレートのドープ溶液は、溶液濃縮，濾過が通常実施され、同様に前記の公技番号２００１−１７４５号の２５頁に詳細に記載されている。なお、高温度で溶解する場合は、使用する有機溶媒の沸点以上の場合がほとんどであり、その場合は加圧状態で用いられる。
【００８４】
本発明の光散乱性基材を、偏光板の保護フィルムとして使用し、偏光膜と接着させる場合には、偏光膜との接着性の観点から、酸処理、アルカリ処理、プラズマ処理、コロナ処理等の表面を親水的にする処理を実施することが特に好ましい。
【００８５】
接着性などの観点から、光散乱性基材のＢ面側の表面エネルギーは、５５ｍＮ／ｍ以上であることが好ましく、６０ｍＮ／ｍ以上７５ｍＮ／ｍ以下であることが更に好ましく、上記表面処理により調整することができる。
【００８６】
＜偏光板＞
［偏光板の構成］
本発明の光散乱性基材は、偏光膜とその少なくとも一方の側に配置された保護フィルムとを有する偏光板において、その保護フィルムとして使用することができる。本発明の光散乱性基材を用いて偏光板を作製するときは、Ａ面を偏光板の表面側に使用し、Ｂ面を偏光膜側に使用することで、本発明の目的である光学特性を得ることができる。本発明の光散乱性基材が保護フィルムを兼ねることで、偏光板の製造コストを低減できる。
また、バックライトを有する液晶表示装置に用いる偏光板を考えた場合、本発明の偏光板を該液晶表示装置の液晶セルのバックライト側の最表面に使用することが好ましく、これにより正面コントラストとモアレや輝度ムラ軽減を両立することができる。また、液晶表示装置の液晶セルに対してバックライト側にある偏光板の表面保護フィルムとして用いることが好ましい。
【００８７】
また偏光板の構成として、偏光膜の両面に保護フィルムを配置する形態においては、一方の保護フィルムとして本発明の光散乱基材を用い、他方の保護フィルムには、通常のセルロースアセテートフィルムを用いてもよいし、他方の保護フィルムには、位相差フィルムを用いることもできる。
更には、本発明の偏光板において、片面が本発明の光散乱性基材であるのに対して、他方の保護フィルムが液晶性化合物からなる光学異方性層を有する光学補償フィルムであることも好ましい態様である。
【００８８】
［偏光膜］
偏光膜には、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜がある。ヨウ素系偏光膜及び染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造することができる。
【００８９】
また偏光膜としては、公知の偏光膜や、偏光膜の吸収軸が長手方向に平行でも垂直でもない長尺の偏光膜から切り出された偏光膜を用いてもよい。偏光膜の吸収軸が長手方向に平行でも垂直でもない長尺の偏光膜は以下の方法により作製される。
すなわち、連続的に供給されるポリビニルアルコール系フィルムなどのポリマーフィルムの両端を保持手段により保持しつつ張力を付与して延伸して、少なくともフィルム幅方向に１．１〜２０．０倍に延伸し、フィルム両端の保持装置の長手方向進行速度差が３％以内で、フィルム両端を保持する工程の出口におけるフィルムの進行方向と、フィルムの実質延伸方向のなす角が、２０〜７０゜傾斜するように、フィルム進行方向を、フィルム両端を保持させた状態で屈曲させてなる延伸方法によって製造することができる。特に４５°傾斜させたものが生産性の観点から好ましく用いられる。
【００９０】
［光学補償フィルム］
偏光膜の２枚の保護フィルムのうち、本発明の光散乱性基材以外のフィルムが、光学異方層を含んでなる光学補償層を有する光学補償フィルムであることも好ましい態様である。光学補償フィルム（位相差フィルム）は、液晶表示画面の視野角特性を改良することができる。
【００９１】
光学補償フィルムとしては、公知のものを用いることができるが、視野角を広げるという点では、特開２００１−１０００４２号公報に記載されている光学補償フィルムが好ましい。
【００９２】
＜本発明の使用形態＞
［画像表示装置］
本発明の、光散乱性基材は、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）のような画像表示装置に好適に用いられる。
【００９３】
［液晶表示装置］
本発明の光散乱性基材、及び偏光板は、液晶表示装置等の画像表示装置に有利に用いることができる。バックライトを有する透過型／半透過型液晶表示装置において、本発明の偏光板は液晶セルのバックライト側の最表層に用いることが特に好ましく、本発明の光散乱性基材は該偏光板のバックライト側の表面保護フィルムに用いることが特に好ましい。
【００９４】
一般的に、液晶表示装置は、液晶セル及びその両側に配置された２枚の偏光板を有し、液晶セルは、２枚の電極基板の間に液晶を担持している。更に、光学異方性層が、液晶セルと一方の偏光板との間に一枚配置されるか、又は液晶セルと双方の偏光板との間に２枚配置されることもある。
【００９５】
液晶セルは、ＴＮモード、ＶＡモード、ＯＣＢモード、ＩＰＳモード又はＥＣＢモードであることが好ましい。
【実施例】
【００９６】
［実施例１］
［光散乱性基材の作製］
表１に示したドープ用固形分組成にて、各ドープを作製し、基層ドープと表層ドープを乾燥後の膜厚が表２に示した構成になるように同時に流延し、光散乱性基材１〜光散乱性基材２３を作製した。光散乱性基材１〜２１は、図３に示した流延装置を使い、表層１用のドープが鏡面仕上げし−１０℃に冷却したドラム側になるように流延し、溶剤を揮発させながら冷却ゲル化させ、ウェブを剥ぎ取った。１００℃の熱風にて残留溶剤量が１０質量％になるまで乾燥し、その後１４０℃の熱風にて１０分間乾燥させた。光散乱性基材２２、２３は図４に示した流延装置を使い、鏡面仕上げした１８℃のバンド上に流延し、同様の乾燥を行った。光散乱性基材の屈折率はいずれも１．４８だった。表２の膜厚は乾燥後の設計厚みを表記した。
【００９７】
【表１】
2010277080.tif 000003
【００９８】
【表２】
2010277080.tif 000004
【００９９】
使用した材料を以下に示す。
セルローストリアセテート：アセチル置換度２．８６、粘度平均重合度３１０
紫外線吸収剤：ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤（TINUVIN３２６／TINUVIN３２８の２０／８０質量％の混合物、それぞれチバ・ジャパン（株）製）
Ｒ９７２：一次粒径約１６ｎｍ、ＡＥＲＯＳＩＬ  Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製
Ｓ４３１：平均粒径（平均一次粒径を意味する。以下の記載でも同様。）約２．５μｍ、サイリシア４３１、富士シリシア化学（株）製
ＫＥＰ−１５０：シリカ真球状粒子、平均粒径２．５μｍ、シーホスタＫＥＰ−１５０、日本触媒（株）製
ＭＸ−３５０：架橋ポリメチルメタクリレート真球状粒子、平均粒径３．５μｍ、綜研化学（株）製
ＭＸ−６７５：架橋ポリメチルメタクリレート真球状粒子、平均粒径６．０μｍ、綜研化学（株）製
ＭＸ−１５００：架橋ポリメチルメタクリレート真球状粒子、平均粒径２０μｍ、綜研化学（株）製
ＳＫＫ−８０Ｍ：架橋ポリメチルメタクリレート真球状粒子、平均粒径８μｍ、積水化成品工業（株）製
ＳＫＫ−６０ＭＳ：架橋ポリメチルメタクリレート−スチレン共重合真球状粒子、平均粒径６μｍ、積水化成品工業（株）製
ＳＫＫ−１００Ｍ：架橋ポリメチルメタクリレート真球状粒子、平均粒径１０μｍ、積水化成品工業（株）製
ＳＫＫ−８０ＭＳ：架橋ポリメチルメタクリレート−スチレン共重合真球状粒子、平均粒径８μｍ、積水化成品工業（株）製
なお、基層として用いた場合のドープの固形分濃度は２３質量％、透光性粒子又は微粒子を含まない表層として用いたドープの固形分濃度は１８質量％、透光性粒子又は微粒子を含む表層用ドープは該粒子を除いた固形分濃度は１８．５質量％となるように、メチレンクロライド：メタノールの９０：１０質量比の混合溶剤で調整した。透光性粒子又は微粒子を含むドープを作製する場合には上記固形分濃度のドープに表１に記載の量の粒子を添加した。光散乱性基材の空気側最表面（Ａ面）側に配される表層ドープの室温下（２５℃）における粘度はドープＢが３６Ｐａ・ｓ、ドープＪが３９Ｐａ・ｓ、ドープＬが４１Ｐａ・ｓであった。ここで、表１の組成においては、上記固形分濃度に熱可塑性樹脂の濃度も比例する、即ち、上記固形分濃度が高いドープほど、熱可塑性樹脂の濃度も高い。
また、粒子の屈折率は、屈折率の異なる２種類の溶媒の混合比を変化させて屈折率を変化させた溶媒中に粒子を等量分散して濁度を測定し、濁度が極小になった時の溶媒の屈折率をアッベ屈折計で測定することで測定した。
【０１００】
［偏光板の作製］
作製した光散乱性基材1〜２３を１．５ＮのＮａＯＨ水溶液に５５℃で２分浸漬し、鹸
化処理を行いその後１００℃で３分乾燥した。鹸化後の光散乱性基材のＢ面、延伸したヨウ素系ＰＶＡ偏光子、トリアセチルセルロース（ＴＤ８０ＵＬ、富士フイルム（株）製）をこの順番で、ＰＶＡ系接着剤で貼合し、熱乾燥し偏光板１〜２３を得た。光散乱性基材８を用いた偏光板８は貼合わせ面内に気泡を生じ、評価に値しなかった。
【０１０１】
［画像表示装置の作製］
ＬＧ  Ｄｉｓｐｌａｙ社製ノートＰＣ（Ｒ７００−ＸＰ５０Ｋ）を分解し、バックライトと液晶パネルの間にある上拡散シートを取り外し、更に液晶セルに貼られたバックライト側の偏光板を剥がして、その代わりに偏光板１〜２３を粘着材を介して貼り付けた。
【０１０２】
〔光散乱性基材、及びそれを用いた画像表示装置の評価〕
作製した光散乱性基材１〜２３に対して、以下の評価を実施した。
【０１０３】
（１）表面形状の測定
ＪＩＳ−Ｂ０６０１（１９９４、２００１）に準じて、小坂研究所（株）製、サーフコーダー  ＭＯＤＥＬ  ＳＥ−３５００を用いてＡ面の算術平均粗さＲａ、平均山谷間隔Ｓｍ、平均傾斜角θａを測定した。
【０１０４】
（２）傾斜角分布プロファイルの測定
マイクロマップ社（米国）製SXM520-AS150型を用い、得られた光散乱性基材のＡ面表面硬化性化合物を測定した。光源には中心波長５６０ｎｍの干渉フィルターを挿入したハロゲンランプを使用した。対物レンズの倍率は１０倍であり、画素数６４０×４８０の２／３インチのＣＣＤによりデータを取り込んだ。これより、縦及び横方向の測定ピッチは１．３マイクロメートルであり、傾斜角度の測定単位は０．８平方マイクロメートル、測定範囲は５０００００平方マイクロメートル（０．５平方ミリメートル）となった。
測定単位である３点の高さデータから傾斜角度を算出し、全測定データから、傾斜角の０°以上０．５°未満、０．５°以上１０．０°未満、及び１０°以上の傾斜角成分の頻度の積分値を求めた。
【０１０５】
（３）光散乱性基材の断面形状観察：粒子の厚み方向位置の観察
ミクロトームにて光散乱性基材の断面を粒子の中心を通るように切削し、走査型電子顕微鏡にて基材断面を観察し、粒子界面のＡ面表面まで及びＢ面表面までの距離（厚み）を測定した。基材断面の模式図を図７に示す。これを２０点測定し、前記Ａ面表面までの最小値をＤｓ、Ｂ面表面までの最小値をＤｂとした（図７参照）。
表３において、粒子のない領域を「Ｄｓ／平均粒径」、「Ｄｂ／平均粒径」で表した。ここで、平均粒径は、各光散乱性基材の作製に用いた微粒子又は透光微粒子の平均粒径（複数種類の粒子を用いた場合には、平均粒径が一番大きい種類の粒子の平均粒径）を表す。
【０１０６】
（４）透過画像鮮明度
光散乱性基材の像線明度（％）測定は、ＪＩＳ  Ｋ７１０５（１９９９）に準拠し、スガ試験機（株）社製ＩＣＭ-１Ｔを使用した。本発明のおける像線明度の光学櫛は２.０ｍｍで測定した値と規定する。
【０１０７】
（５）光散乱プロファイルの測定
ゴニオフォトメータ（ＧＰ−５（株）村上色彩技術研究所製）を用い測定した。図５に示したように、光源は角度１．５°の収斂光、検出器の受光角は２°の条件とした。得られた光散乱性基材の法線方向から光を入射し、フィルム法線を含む平面内で角度を連続的に変えながら透過散乱光量を測定し、光散乱プロファイルを得た。透過散乱光量は、フィルムがない状態での光源の光量を１とした。
【０１０８】
（６）ヘイズの測定
［１］ＪＩＳ−Ｋ７１３６に準じて、得られた光散乱性基材の全ヘイズ値（Ｈ）を測定する：日本電色工業（株）製ヘーズメーターＮＤＨ２０００を用いた。
［２］光散乱性基材の表面及び裏面に顕微鏡用イマージョンオイル（ニコン（株）製イマージョンオイルＴＹＰＥ  Ａ、屈折率ｎ＝１．５１５）を数滴添加し、厚さ１ｍｍのガラス板（ミクロスライドガラス品番Ｓ９１１１、ＭＡＴＳＵＮＡＭＩ製）を２枚用いて裏表より挟んで、完全に２枚のガラス板と得られた光学フィルムを密着し、表面ヘイズを除去した状態でヘイズを測定し、別途測定したガラス板２枚の間にシリコーンオイルのみを挟みこんで測定したヘイズを引いた値をフィルムの内部ヘイズ（Ｈin）として算出した。
［３］上記［１］で測定した全ヘイズ（Ｈ）から上記［２］で算出した内部ヘイズ（Ｈin）を引いた値をフィルムの表面ヘイズ（Ｈout）として算出した。
【０１０９】
（７）モアレ
作製した液晶表示装置にビデオ信号ジェネレーター（ＶＧ−８４８；アストロデザイン（株）製）より信号を入力し、全面ベタ表示で１２８／２５６階調の灰色表示とし、暗室下で様々な方向から画面を目視観察し、モアレ発生の有無を評価した。
○：モアレが観察されない。
△：モアレが僅かに観察されるがほとんど気にならない。
×：モアレが明瞭に観察される。
【０１１０】
（８）正面白輝度
モアレ評価と同様の方法で液晶表示装置を全面ベタ表示で２５６／２５６階調の白色表示とし、暗室下において液晶表示装置平面の法線（正面）方向から輝度計（ＢＭ５−Ａ；（株）トプコン製）にて輝度を測定した。画面の中央の点から３ｃｍの間隔で上下各１点、左右各１点の合計５点を測定し、平均値を算出した。バックライト側偏光板の表面に光散乱性基材を使用しない場合を基準として、以下の３段階で評価した。
○：ほとんど低下していない（基準値の９９％以上）
△：やや低下している（基準値の９７％以上９９％未満）
×：低下しており（基準値の９７％未満）、問題なレベル
【０１１１】
（９）耐擦傷性評価
ＬＧ  Ｄｉｓｐｌａｙ社製ノートＰＣ（Ｒ７００−ＸＰ５０Ｋ）からプリズムシートを取り出し、学振式磨耗試験機の圧子側に取り付け、作製した光散乱性基材のＡ面表面を擦り、Ａ面表面の傷つき具合を評価した。プリズムシートの面積は１ｃｍ２、加重は２００ｇで１０往復させた。
○：傷がまったく見えない
△：傷が僅かに発生しているが、光学特性上問題ないレベル
×：明らかに傷は発生しており、光学特性に問題がある
【０１１２】
各試料の評価結果、及び、それを液晶表示装置のバックライト側偏光板保護フィルムとして使用したときの表示性能は表３に示した。
【０１１３】
【表３】
2010277080.tif 000005
【０１１４】
［実施例２］
表４に示した組成のドープを作製し、光散乱性基材２３のドープＡ（表層１）の代わりにドープＰ−１を、ドープＢ（基層）の代わりにドープＰ−２を、ドープＫ（表層２）の代わりにドープＰ−３を、ドープＢ（表層３）の代わりにドープＰ−１を使用した以外は基材２３と同様の方法にて、光散乱性基材２４を作製した。光散乱性基材の屈折率は１．４８だった。また、光散乱性基材の空気側最表面（Ａ面）側に配される表層ドープＰ−１の室温下（２５℃）における粘度は２６Ｐａ・ｓであった。
【０１１５】
［実施例３］
表４に示した組成のドープを作製し、基材２３のドープＡ（表層１）の代わりにドープＱ−３を、ドープＢ（基層）の代わりにドープＱ−１を、ドープＫ（表層２）の代わりにドープＱ−２を、ドープＢ（表層３）の代わりにドープＱ−３を使用した以外は光散乱性基材２３と同様の方法にて、光散乱性基材２５を作製した。使用した素材を以下に示す。光散乱性基材の屈折率は１．５８だった。表４中、ポリカーボネートは、質量平均分子量４５，０００のポリカーボネート樹脂である。また、光散乱性基材の空気側最表面（Ａ面）側に配される表層ドープＱ−３の室温下（２５℃）における粘度は２２Ｐａ・ｓであった。
また、以下の材料を使用した。
ＳＢＸ−８：架橋ポリスチレン真球状粒子、平均粒径８μｍ、積水化成品工業（株）製
【０１１６】
【表４】
2010277080.tif 000006
【０１１７】
以降、同様の評価をおこなったところ、光散乱性基材２４、２５ともにＤｓ、Ｄｂの値も含め光散乱性基材２３とほぼ同様の性能を示すことを確認した。
【０１１８】
表４より、本発明の光散乱性基材を液晶表示装置のバックライト側偏光板保護フィルムとして使用することにより、正面での白輝度の低下とモアレが生じることがなく、かつ隣合う他の部材との耐擦傷性にも優れた画像表示装置が得られた。
【産業上の利用可能性】
【０１１９】
本発明は、特に、液晶表示装置のバックライト側の偏光板保護フィルムとして用いることができ、正面白輝度が高くかつ画面内において均一かつモアレなどの干渉縞抑制が可能である。
【符号の説明】
【０１２０】
１  光散乱性基材
２  基層
３  表層
４、４ａ、４ｂ  表層
５  透光性粒子
６  第１の硬化層
７  第２の硬化層
１１  攪拌機
１２  移送ポンプ
１３  濾過器
１４  ストックタンク
１５ａ  バック層用流延送液ポンプ
１５ｂ  基層用流延送液ポンプ
１５ｃ  表層用流延送液ポンプ
１５ｄ  最表層用流延送液ポンプ
１６ａ  添加剤注入ポンプ（溶剤、マット剤、他）
１６ｃ  添加剤注入ポンプ（溶剤、透光性粒子、他）
１６ｄ  添加剤注入ポンプ（溶剤、透光性粒子、他）
１７  流延ダイ
１８  流延バンド
１９  減圧チャンバー
２０  流延ドラム
３０  流延ダイ
３２  マニホールド
３３  フィードブロック
４１  光源
４２  蛍光管
４３  下拡散シート
４４  集光シート
４５  上拡散シート
４６  偏光板
４７  液晶セル
４８  基板
４９  光散乱性基材
【図１ａ】
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【図１ｂ】
2010277080.tif 000008
【図１ｃ】
2010277080.tif 000009
【図２ａ】
2010277080.tif 000010
【図２ｂ】
2010277080.tif 000011
【図３】
2010277080.tif 000012
【図４】
2010277080.tif 000013
【図５】
2010277080.tif 000014
【図６ａ】
2010277080.tif 000015
【図６ｂ】
2010277080.tif 000016
【図７】
2010277080.tif 000017
【図８ａ】
2010277080.tif 000018
【図８ｂ】
2010277080.tif 000019