(57)【要約】    【課題】微細なシリコーン層のパターンを有する印刷版の製造方法を提供すること。    【解決手段】支持体上に少なくとも感光層または感熱層と、シリコーン層をこの順に有する印刷版原版を、露光または加熱した後、シリコーン層を選択的に除去してシリコーン層のパターンを形成する印刷版の製造方法であって、現像液の存在下において、見掛比重が０．１５以上の編物布、織物布または不織布でシリコーン層表面を摩擦することにより前記シリコーン層の選択的除去を行うことを特徴とする印刷版の製造方法。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体上に少なくとも感光層または感熱層と、シリコーン層をこの順に有する印刷版原版を、露光または加熱した後、シリコーン層を選択的に除去してシリコーン層のパターンを形成する印刷版の製造方法であって、現像液の存在下において、見掛比重が０．１５以上の編物布、織物布または不織布でシリコーン層表面を摩擦することにより前記シリコーン層の選択的除去を行うことを特徴とする印刷版の製造方法。
【請求項２】
前記編物布、織物布または不織布が、ポリエステル繊維、ポリアミド繊維、またはセルロース繊維を含むことを特徴とする請求項１記載の印刷版の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は印刷版の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、電子部品の低コスト化および微細化に対応するため、電子部品を製造するための画像パターンを印刷法により形成することが試みられている。微細な画像パターンを形成するための印刷版として、エッジ角度が５°以上４５°以下である水なし平版印刷版（例えば、特許文献１参照）や、シリコーン層の初期弾性率が０．２ＭＰａ以上０．８ＭＰａ以下である水なし平版印刷版原版（例えば、特許文献２参照）が提案されている。これら表面にシリコーン層のパターンを有する水なし印刷版を用いた水なしオフセット印刷は、印刷版のシリコーン層のパターンがない部分にインキが付着して画線部分となり、シリコーン層のパターン部分にはインキが付着せず、非画線部分となる印刷方法である。ＰＳ版を使用するオフセット印刷と異なり、インキ付着性の制御のために湿し水が不要であるため、滲みのない精細な印刷物が得られる。より微細なパターンを形成するために、シリコーン層の初期弾性率が０．６ＭＰａ以上０．８ＭＰａ以下である水なし平版印刷版原版（例えば、特許文献３参照）が提案されているが、さらに高精細なパターンが求められている。
【０００３】
また、微細な画像パターンを形成するための印刷法として、（１）画線部（撥樹脂機能）と非画線部（親樹脂機能）を有する画像形成版に樹脂を塗布し、（２）撥樹脂機能を施した画像転写シートを画像形成版に押圧し画線部上樹脂を画像転写シートに転写する工程、（３）画像転写シートの画線部上樹脂を基板に転写する工程を有する方法（いわゆる剥離印刷）が提案されている（例えば、特許文献４参照）。剥離印刷は、シリコーン層のパターン部分をインキ転写部とし、印刷版の全面に塗布したインキのうち、シリコーン層のパターン部分のインキを選択的にブランケットに転写し、さらに被印刷体に再転写する印刷方法であり、インキの糸曳き現象をなくし、フォトリソ法に近い高品質の印刷物が得られる。この印刷法においても、より微細なパターンを形成するために、より高精細なシリコーン層のパターンを有する印刷版が求められている。
【０００４】
一方、微細なシリコーン層パターンを形成するため、ポリエチレングリコール誘導体とアルカンジオールを含有する水なし平版印刷版用現像液（例えば、特許文献５参照）が提案されている。また、現像性や画像再現性に優れた種々の現像ブラシ（例えば、特許文献６〜７参照）や、現像する際にあらかじめ現像パッドや現像ブラシを界面活性剤で処理しておく現像方法（特許文献８）などが提案されている。しかしながら、これらの方法を用いても、近年求められる微細なシリコーン層のパターンを形成することは困難であった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００４−１９１９６４号公報
【特許文献２】特開２００７−１４８３８６号公報
【特許文献３】特開２００７−２１９３５８号公報
【特許文献４】特開２００４−２４９６９６号公報
【特許文献５】特開平６−１４８９０２号公報
【特許文献６】特開平６−２２２５６６号公報
【特許文献７】特開２００８−２４９７５８号公報
【特許文献８】特開昭６０−１４０２４３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の目的は、微細なシリコーン層のパターンを有する印刷版の製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
すなわち本発明は、支持体上に少なくとも感光層または感熱層と、シリコーン層をこの順に有する印刷版原版を、露光または加熱した後、シリコーン層を選択的に除去してシリコーン層のパターンを形成する印刷版の製造方法であって、現像液の存在下において、見掛比重が０．１５以上の編物布、織物布または不織布でシリコーン層表面を摩擦することにより前記シリコーン層の選択的除去を行うことを特徴とする印刷版の製造方法である。
【発明の効果】
【０００８】
本発明の印刷版の製造方法によれば、微細なシリコーン層のパターンを有する印刷版を得ることができる。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
本発明において好適に使用される印刷版原版は、支持体上に少なくとも感光層または感熱層と、シリコーン層をこの順に有するものである。シリコーン層の表面を保護するため、保護フィルムを有してもよい。
【００１０】
支持体は、寸法安定性のある板またはフィルムが使用できる。具体的には、アルミニウム、ステンレスなどの金属板、ソーダライム、石英などのガラス板、シリコンウェハー、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリフェニレンサルファイド、ポリエーテルスルホン、ポリイミド、アラミド、ポリカーボネート、シクロオレフィンポリマーなどの耐熱フィルムなどが挙げられる。
【００１１】
感光層または感熱層は、露光または加熱により、あるいはその後の現像液の存在下において、シリコーンゴム層との接着性が変化する性質を有する。現像によって相対的に接着性が低い部分のシリコーン層を選択的に除去することによって、シリコーン層のパターンを形成し、印刷版を得る。感光層または感熱層は、光または熱の作用によって少なくとも一部が架橋または分解する層であることが好ましい。光架橋性の感光層として、例えば、特許第２７３９３９２号明細書、特許第２７３９３８７号明細書、特許第２７３９３８３号明細書などに記載の感光層、光分解性の感光層として、例えば、特公昭６１−５４２２２号公報、第２５０７３４７号明細書などに記載の感光層、感熱層として、例えば、特許第４１８６２７８号明細書などに記載の感熱層を使用できる。
【００１２】
光分解性感光層は、光剥離性感光層であることが好ましい。本発明でいう光剥離性感光層とは、現像により、露光部感光層が実質的に除去されることなく、その上のシリコーン層のみが除去されるものである。
【００１３】
このような光剥離性感光層は、公知の光可溶化型感光性化合物を多官能化合物で架橋せしめるか、あるいは光可溶化型感光性化合物中の活性基を単官能化合物と結合するなどして変性し、現像液に難溶もしくは不溶とすることにより得られる。ここでいう光可溶化型感光性化合物としてはキノンジアジド基を有する化合物が好ましく、例えば、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホン酸または１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−４−スルホン酸と、フェノールホルムアルデヒドノボラック樹脂、クレゾールホルムアルデヒドノボラック樹脂などのノボラック樹脂とのエステル化物が挙げられる。これらの光可溶化型感光性化合物は反応性基を有することが好ましい。反応性基としては、水酸基、アミノ基などが挙げられ、フェノール性水酸基が好ましい。
【００１４】
多官能化合物としては多官能イソシアネート化合物、多官能エポキシ化合物が好ましい。多官能イソシアネート化合物としては、例えば、パラフェニレンジイソシアネート、２，４−または２，６−トルエンジイソシアネート、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネートの多量体、フェニルイソシアネートのホルマリン縮合物などの多価芳香族イソシアネートが挙げられる。
【００１５】
光可溶化型感光性化合物と多官能化合物との反応を促進する目的で触媒を使用することができる。また、反応速度を調節するために安定剤を併用できる。イソシアネートの場合は、例えばパラトルエンスルホン酸、ギ酸、酢酸、塩酸などの公知の酸を用いることができる。
【００１６】
本発明において特に好ましい感光層は、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホン酸クロリドとフェノールホルムアルデヒドノボラック樹脂の部分エステル化物と多官能イソシアネートを架橋して得られる。
【００１７】
シリコーン層は、オルガノポリシロキサンを含む層である。膜厚は０．３〜２０ｇ／ｍ２が好ましい。
【００１８】
シリコーン層に含まれるオルガノポリシロキサンは公知のものが使用できる。例えば、下記一般式（１）で表されるｎ個の繰り返し単位を含むオルガノポリシロキサンを挙げることができる。
【００１９】
【化１】
2010224348.tif 000002
【００２０】
ｎは２以上の整数である。Ｒ１およびＲ２はそれぞれ独立に炭素数１〜５０の飽和または不飽和の炭化水素基を表す。これらの炭化水素基は置換されていてもよく、また芳香環を含んでいてもよい。
【００２１】
本発明に使用する印刷版原版の具体例として、“東レ水なし平版（登録商標）”アナログタイプポジ版、“東レ水なし平版”アナログタイプネガ版、東レ水なしＣＴＰ版、プレステック社のＰＥＡＲＬｄｒｙなどが挙げられる。
【００２２】
本発明の印刷版の製造方法は、前記印刷版原版を、露光または加熱した後、シリコーン層を選択的に除去してシリコーン層のパターンを形成するものである。
【００２３】
まず、印刷版原版を露光または加熱する工程（露光または加熱工程）について説明する。印刷版原版を露光光源からの光またはレーザーで所望のパターンに露光するか、熱源からの熱で所望のパターンに加熱する。印刷版原版が保護フィルムを有する場合には、保護フィルムを剥離してから、あるいは保護フィルム上から露光または加熱する。露光光源としては低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノンランプ、メタルハライドランプ、タングステンランプ、ハロゲンランプ、蛍光灯、紫外光レーザー、可視光レーザー、赤外光レーザーなどが挙げられる。加熱の熱源としては、サーマルヘッドなどが挙げられる。
【００２４】
次に、現像液の存在下において、見掛比重が０．１５以上の編物布、織物布または不織布でシリコーン層の表面摩擦する工程（現像工程）により、シリコーン層を選択的に除去する。本発明の印刷版の製造方法は、シリコーン層表面を摩擦する材料として、見掛比重が０．１５以上の編物布、織物布、不織布のいずれかの布材を用いることを特徴とし、これによって微細なシリコーン層のパターンを形成することができる。見掛比重が０．１５未満の布材の場合には、微細なパターンを形成することが困難である。さらに、見掛比重が０．１５〜０．６であることが好ましく、０．２０〜０．４５であることがより好ましい。また、上記布材の中でも、編物布がより好ましい。
【００２５】
編物布、織物布または不織布の見掛比重は、次の式によって算出する。
【００２６】
【数１】
2010224348.tif 000003
【００２７】
標準状態における１ｍ２当たりの質量（ｇ／ｍ２）と厚さ（ｍｍ）は、ＪＩＳ  Ｌ  １０９６：１９９９に従って測定する。ここで、厚さは布材を載せたリファレンスプレートと圧力を加えるプレッサフットの垂直距離とし、プレッサフットの大きさは２，０００ｍｍ２、圧力は１ｋＰａとする。
【００２８】
耐久性の点から、編物布、織物布または不織布の１ｍ２当たりの質量は１０ｇ／ｍ２以上、厚さは０．０５ｍｍ以上が好ましい。
【００２９】
編物布、不織布または織物布は、一層で使用しても、多層に重ねたり、折り畳んでもよい。また、板状、ディスク状、ロール状などの成形物に被覆して使用してもよい。
【００３０】
編物布、織物布または不織布の材質は特に限定されないが、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリプロピレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリ乳酸などのポリエステル繊維、ナイロン６、ナイロン６６などのポリアミド繊維、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン繊維、ポリウレタン繊維、アクリル繊維などの合成繊維、綿、麻、絹、ウール、竹などの天然繊維、ビスコースレーヨン、溶剤紡糸セルロース繊維、キュプラ、ポリノジックなどの再生繊維を使用できる。これらを２種以上用いてもよい。これらの中でも、ポリエステル繊維、ポリアミド繊維、セルロース繊維が好ましい。ポリエステル繊維がより好ましく、２種以上の繊維を有する場合には、ポリエステル繊維を７０％以上含むことが好ましく、８０％以上がより好ましい。
【００３１】
編物布、織物布または不織布は、単繊維径が０．１〜２０μｍの繊維を含むことが好ましく、１〜１５μｍの繊維を含むことがより好ましい。これらの繊維の含有率は全繊維の５０重量％以上であることが好ましい。単繊維径が０．１〜２０μｍの繊維を含むことで微細なパターンの解像性がより向上する。
【００３２】
単繊維径は、単繊維の断面が円状の場合は直径、楕円状の場合は長径、扁平の場合は最大幅、断面がＵ字型やＣ字型や多葉形の場合は投影した最大の幅とし、光学顕微鏡または電子顕微鏡の写真から測定する。
【００３３】
現像液の存在下において、編物布、織物布または不織布でシリコーン層表面を摩擦する方法としては、例えば、現像液を含浸した編物布、織物布または不織布でシリコーン層表面を摩擦する方法、印刷版原版の表面を現像液であらかじめ濡らしておき、これを編物布、織物布または不織布で摩擦する方法、印刷版原版表面に現像液を供給しながら編物布、織物布または不織布でシリコーン層表面を摩擦する方法などが挙げられる。これらの方法を組み合わせてもよい。摩擦は、編物布、織物布または不織布を押し当て、その裏側から所定の圧力を加えた状態で、編物布、織物布または不織布、あるいは基板の一方または双方を移動することによって実施できる。押し当ての圧力は、１０〜１，０００ｋＰａが好ましい。摩擦は、往復運動または回転運動によって実施でき、両者を併用することが好ましい。編物布、織物布または不織布と印刷版原版表面との相対速度は、２〜５００ｍ／分が好ましい。
【００３４】
現像液としては、例えば、水や、水と界面活性剤を含有するもの、水と下記の極性溶剤を少なくとも１種含有するものや、イソパラフィン系炭化水素溶剤、脂肪族炭化水素溶剤、芳香族炭化水素溶剤、ナフテン系炭化水素溶剤、ハロゲン系炭化水素溶剤などの炭化水素溶剤の少なくとも１種に、下記の極性溶剤を少なくとも１種含有するものが用いられる。極性溶剤としてはアルコール系溶剤、グリコール系溶剤、グリコールエーテル系溶剤、エステル系溶剤、ケトン系溶剤、エーテル系溶剤、カルボン酸、アミンなどを使用できる。アルコール系溶剤としてイソプロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、エチルアルコールなど、グリコール系溶剤としてエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、グリコールエーテル系溶剤としてエチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノｔ−ブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、３−メトキシ−３−メチル−１−ブタノールなど、エステル系溶剤として酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸ノルマルプロピル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチル−３−エトキシプロピオネートなど、ケトン系溶剤としてメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセトンなど、エーテル系溶剤としてテトラヒドロフラン１，４−ジオキサンなど、カルボン酸として、酢酸、２−エチルヘキサン酸、２−エチル酪酸など、アミンとしてモノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、２−メチルアミノエタノール、ジエチレングリコールアミンなどが挙げられる。
【００３５】
イソパラフィン系炭化水素溶剤としては、例えば“アイソパー（登録商標）”Ｅ、“アイソパー”Ｇ、“アイソパー”Ｈ、“アイソパー”Ｌ、“アイソパー”Ｍ（エクソン社製）が挙げられる。脂肪族炭化水素溶剤としては、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタンなど、芳香族炭化水素溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシレンなど、ハロゲン系炭化水素溶剤としては、トリクロロエテンなどが挙げられる。
【００３６】
現像液に、染料を含有してもよい。現像液の温度は任意でよいが、１０℃〜５０℃が好ましい。
【００３７】
現像液の具体例としては、水、東レ水なし平版の手現像用現像液であるＷＨ−３、ＨＰ−７Ｎ（いずれも東レ（株）製）を挙げることができる。
【００３８】
現像工程の前に、前処理工程を加えてもよい。前処理工程は、現像工程でのシリコーン層の除去を容易とするために、露光または加熱後の印刷版原版を処理する工程であり、処理液（以下、前処理液）に印刷版原版を浸漬する方法や、前処理液を印刷版原版に塗り広げる方法が好適に使用できる。
【００３９】
前処理液は、イソパラフィン系炭化水素溶剤、脂肪族炭化水素溶剤、芳香族炭化水素溶剤、ナフテン系炭化水素溶剤、ハロゲン系炭化水素溶剤などの炭化水素溶剤を主成分とするものが好ましい。炭化水素溶剤は、現像液として例示したものを使用できる。炭化水素溶剤に加えて、水、アルコール系溶剤、グリコール系溶剤、グリコールエーテル系溶剤、エステル系溶剤、ケトン系溶剤、エーテル系溶剤、カルボン酸、アミン、界面活性剤や染料を含有してもよい。前処理液の温度は任意でよいが、１０℃〜５０℃が好ましい。
【００４０】
前処理液の例として、特開昭６３−１７９３６１号公報、特開平４−１６３５５７号公報、特開平４−３４３３６０号公報、特開平９−３４１３２号公報、特許第３７１６４２９号明細書に記載されたような水なし平版印刷版原版の前処理液、現像液に関して開示されたものを挙げられる。前処理液の具体例としては、東レ水なし平版の自動現像機用前処理液、手現像用前処理液である、ＰＰ−１、ＰＰ−３、ＰＰ−Ｆ、ＰＰ−ＦＩＩ、ＰＴＳ−１、ＣＰ−１、ＮＰ−１、ＤＰ−１、ＰＴＳ−２、ＨＰ−７Ｎ（いずれも東レ（株）製）を挙げることができる。
【００４１】
現像工程の後に後処理工程、水洗工程を加えてもよい。
【００４２】
後処理工程において、現像により形成されたシリコーン層のパターンの確認を容易にするために、染色液で染色してもよい。染色液は、水や、水と前記の極性溶剤を少なくとも１種含有するものに染料を溶解したものを使用できる。染料としては、塩基性染料、酸性染料、直接染料、分散染料、および反応性染料などの中から単独で、あるいは２種以上用いることができる。なかでも、水溶性の塩基性染料および酸性染料が好ましく用いられる。その他、染色助剤、有機酸、無機酸、消泡剤、可塑剤、界面活性剤を任意に含有してもよい。染色液の温度は任意でよいが、１０℃〜５０℃が好ましい。
【００４３】
水洗工程において、前処理液や現像液、染色液を版面から洗い落とすために、水で印刷版表面を洗浄してもよい。水洗水の温度は任意でよいが、１０℃〜５０℃が好ましい。
【実施例】
【００４４】
以下に実施例を用いて本発明を説明する。まず、各実施例における測定方法について説明する。
【００４５】
現像工程に使用する布材の厚さ（ｍｍ）：
試料を載せたリファレンスプレートと圧力を加えるプレッサフットの垂直距離を厚さとした。プレッサフットの大きさは２，０００ｍｍ２、圧力は１ｋＰａとし、その他の条件は、ＪＩＳ  Ｌ  １０９６：１９９９に従った。
【００４６】
現像工程に使用する布材の標準状態における１ｍ２当たりの質量（ｇ／ｍ２）：
試料を標準状態で調整し、長さ、幅および重量を測定し、１ｍ２当たりの質量を算出した。標準状態は相対湿度（６５±２）％、温度（２０±２）℃とし、その他の条件は、ＪＩＳ  Ｌ  １０９６：１９９９に従った。
【００４７】
現像工程に使用する布材の見掛比重：
次の式によって算出した。
【００４８】
【数２】
2010224348.tif 000004
【００４９】
シリコーン層のパターンの解像度：
印刷版のシリコーン層のパターンを光学顕微鏡で観察し、マスクパターンの遮光部幅／露光部幅が５０μｍ／５０μｍ、４０μｍ／４０μｍ、３０μｍ／３０μｍ、２０μｍ／２０μｍ、１５μｍ／１５μｍ、１０μｍ／１０μｍとなる部分において、シリコーン層のパターンが欠落なく、独立に形成されている最小の遮光部幅を、シリコーン層のパターンの解像度とした。
【００５０】
（印刷版原版の作製）
下記支持体上にプライマー層、感光層、シリコーン層を下記方法でこの順に積層して印刷版原版を作製した。
【００５１】
＜支持体＞
厚さ０．２４ｍｍの脱脂したアルミ基板（三菱アルミ（株）製）を支持体とした。
【００５２】
＜プライマー層＞
支持体上に下記のプライマー層組成物液を塗布し、２００℃で９０秒間乾燥し、膜厚１０ｇ／ｍ２のプライマー層を設けた。
【００５３】
＜プライマー層組成物液＞
（ａ）エポキシ樹脂：“エピコート（登録商標）”−１０１０（ジャパンエポキシレジン（株）製）：３５重量部
（ｂ）ポリウレタン：“サンプレン（登録商標）”−ＬＱ−Ｔ１３３１Ｄ（三洋化成工業（株）製、固形分濃度：２０重量％）：３７５重量部
（ｃ）アルミキレート：“アルミキレート”−ＡＬＣＨ−ＴＲ（川研ファインケミカル（株）製）：１０重量部
（ｄ）レベリング剤：“ディスパロン（登録商標）”−ＬＣ９５１（楠本化成（株）製、固形分：１０重量％）：１重量部
（ｅ）酸化チタン：“タイペーク（登録商標）”−ＣＲ−５０（石原産業（株）製）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド分散液（酸化チタン５０重量％）：６０重量部
（ｆ）溶剤：Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド：７３０重量部
（ｇ）溶剤：メチルエチルケトン：２５０重量部。
【００５４】
＜感光層＞
支持体上に設けたプライマー層の上に、下記の感光層組成物液を塗布し、８０℃で９０秒間加熱し、膜厚１．５ｇ／ｍ２の感熱層を設けた。
【００５５】
＜感光層組成物液＞
（ａ）光可溶化型感光性化合物：１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホン酸クロライドと“スミライトレジン（登録商標）”ＰＲ５０７３１（住友ベークライト（株）製）の部分エステル化物＜エステル化度３６％＞：１００重量部
（ｂ）ポリウレタン：“サンプレン”−ＬＱ−Ｔ１３３１Ｄ：５０重量部
（ｃ）４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン：１０重量部
（ｄ）多官能イソシアネート化合物：“ミリオネート（登録商標）”−ＭＲ２００（日本ポリウレタン工業（株）製）：２０重量部
（ｄ）触媒：ジブチル錫ジアセテート：０．２重量部
（ｅ）安定剤：酢酸：２重量部
（ｆ）溶剤：テトラヒドロフラン：８００重量部。
【００５６】
＜シリコーン層＞
支持体、プライマー層の上に積層した感光層の上に、下記のシリコーン層組成物液を塗布し、１００℃で６０秒間加湿加熱し、膜厚２．０ｇ／ｍ２のシリコーン層を設けた。
【００５７】
＜シリコーン層組成物液＞
（ａ）オルガノポリシロキサン：両末端水酸基ポリジメチルシロキサン（分子量約３５，０００）：１００重量部
（ｂ）架橋剤：ビニルトリス（メチルエチルケトオキシム）シラン：９重量部
（ｃ）触媒：ジブチル錫ジアセテート：０．５重量部
（ｄ）溶剤：“アイソパー”Ｅ（エクソン社製）：１２００重量部。
【００５８】
実施例１
（印刷版原版の露光）
得られた印刷版原版を、超高圧水銀灯露光機ＰＥＭ−６Ｍ（ユニオン光学（株）製）で、照射露光量５０ｍＪ／ｍ２（ｈ線換算）で全面露光した後、解像度テスト用マスクＭＵＬＴＩ−ＤＥＮＳＩＴＹ  ＲＥＳＯＬＵＴＩＯＮ  ＭＡＳＫ（オプトライン社製）を介して照射露光量１５０ｍＪ／ｍ２（ｈ線換算）でパターン露光した。
【００５９】
（印刷版原版の現像）
パターン露光した印刷版原版を、前処理液ＰＴＳ−２（東レ（株）製、合成イソパラフィン系炭化水素７９重量％／ジエチレングリコールジメチルエーテル１２重量％／プロピレングリコールモノメチルエーテル５重量％／有機塩基４重量％）に２３℃で１分間浸漬した。ゴムブレードで前処理液を掻き取った後、現像液ＷＨ−３（東レ（株）製、ジエチレングリコールモノブチルエーテル２０重量％／染料０．１重量％／界面活性剤０．５重量％／有機酸４重量％／ジエチレングリコールモノエチルエーテル１重量％／水７４．４重量％）を１０ｇ含ませた、５ｃｍ×４ｃｍに折り畳んだ“トレシー（登録商標）”ＭＥワイパー（東レ（株）製、ＰＥＴ編物布、標準状態における１ｍ２当たりの質量１５５ｇ／ｍ２、厚さ０．５５ｍｍ、見掛比重０．２８）を布材として、押し付け荷重１５Ｎで摩擦し、シリコーン層のパターンを形成し、印刷版を得た。得られた印刷版のシリコーン層のパターンを光学顕微鏡で観察したところ、遮光部幅１０μｍのパターンが解像していた。
【００６０】
（水なしオフセット印刷）
得られた印刷版をオフセット印刷機（小森スプリント４色機）に取り付け、“ドライオカラー”（大日本インキ化学工業（株）製）紅インキを用いて、コート紙に印刷を行った。印刷したパターンを光学顕微鏡で観察したところ、線幅１０μｍのパターンが再現していた。
【００６１】
（剥離印刷）
得られた印刷版を定盤に固定し、ドクターブレードで印刷版全面に樹脂と顔料を混入したカラーフイルター用インキを使用し、芳香族炭化水素を調整剤として加えたものをインキとして塗布した。次いで、シリコーンブランケットを押し当て、印刷版のシリコーン層のパターン（画線部）上のインキをシリコーンブランケット面上に転移した。次に、シリコーンブランケット面上のインキパターンをガラス基板に転移し画像を形成した。印刷したパターンを光学顕微鏡で観察したところ、線幅１０μｍのパターンが再現していた。
【００６２】
実施例２
実施例１の布材に替えて、５ｃｍ×４ｃｍに折り畳んだポリエステル編物布（東レ（株）製、ＰＥＴ編物布、標準状態における１ｍ２当たりの質量２２１ｇ／ｍ２、厚さ０．６４ｍｍ、見掛比重０．３５）を被覆したものを布材として使用して、実施例１と同様に印刷版を作製した。得られた印刷版のシリコーン層のパターンを光学顕微鏡で観察したところ、遮光部幅１０μｍのパターンが解像していた。
【００６３】
実施例３
実施例１の布材に替えて、５ｃｍ×４ｃｍに折り畳んだ“トレシー”ＭＥワイパーの外側に“トレシー”ＭＫクロス（東レ（株）製、ＰＥＴ編物布、標準状態における１ｍ２当たりの質量２００ｇ／ｍ２、厚さ０．４８ｍｍ、見掛比重０．４２）を被覆したものを布材として使用して、実施例１と同様に印刷版を作製した。得られた印刷版のシリコーン層のパターンを光学顕微鏡で観察したところ、遮光部幅１０μｍのパターンが解像していた。
【００６４】
実施例４
実施例１の布材に替えて、５ｃｍ×４ｃｍに折り畳んだ“トレシー”ＭＥワイパーの外側に“マイクロワイパー”（（株）ブラストン製、ポリエステル７０％とナイロン３０％の織物布、標準状態における１ｍ２当たりの質量２２４ｇ／ｍ２、厚さ０．５２ｍｍ、見掛比重０．４３）を被覆したものを布材として使用して、実施例１と同様に印刷版を作製した。得られた印刷版のシリコーン層のパターンを光学顕微鏡で観察したところ、遮光部幅１５μｍのパターンが解像していた。
【００６５】
実施例５
実施例１の布材に替えて、５ｃｍ×４ｃｍに折り畳んだ“トレシー”ＭＥワイパーの外側に“トレシー”ＣＣクリーンクロス（東レ（株）製、ＰＥＴ織物布、標準状態における１ｍ２当たりの質量７０ｇ／ｍ２、厚さ０．１６ｍｍ、見掛比重０．４４）を被覆したものを布材として使用して、実施例１と同様に印刷版を作製した。得られた印刷版のシリコーン層のパターンを光学顕微鏡で観察したところ、遮光部幅１５μｍのパターンが解像していた。
【００６６】
実施例６
実施例１の布材に替えて、５ｃｍ×４ｃｍに折り畳んだ“トレシー”ＭＥワイパーの外側にＴｅｃｈｎｉＣｌｏｔｈ  ＴＸ６０９（ＩＴＷ  Ｔｅｘｗｉｐｅ社製、セルロース５５％とポリエステル４５％の不織布、標準状態における１ｍ２当たりの質量７０ｇ／ｍ２、厚さ０．２８ｍｍ、見掛比重０．２５）を被覆したものを布材として使用して、実施例１と同様に印刷版を作製した。得られた印刷版のシリコーン層のパターンを光学顕微鏡で観察したところ、遮光部幅１０μｍのパターンが解像していた。
【００６７】
比較例１
実施例１の布材に替えて、５ｃｍ×４ｃｍに折り畳んだ“トレシー”ＭＥワイパーの外側に“ソフパッド”（（株）ダイニック製、コットンの綿（わた）状パッド、標準状態における１ｍ２当たりの質量１１０ｇ／ｍ２、厚さ０．８７ｍｍ、見掛比重０．１３）を被覆したものを布材として使用して、実施例１と同様に印刷版を作製した。得られた印刷版のシリコーン層のパターンを光学顕微鏡で観察したところ、遮光部幅２０μｍのパターンが解像していたが、これよりも微細なパターンは解像できなかった。
【００６８】
比較例２
実施例１の布材に替えて、５ｃｍ×４ｃｍに折り畳んだ“トレシー”ＭＥワイパーの外側に“ベンコット（登録商標）”Ｍ−３（旭化成せんい（株）製、コットンキュプラの不織布（ガーゼ）、標準状態における１ｍ２当たりの質量２８ｇ／ｍ２、厚さ０．４２ｍｍ、見掛比重０．０７）を被覆したものを布材として使用して、実施例１と同様に印刷版を作製した。得られた印刷版のシリコーン層のパターンを光学顕微鏡で観察したところ、遮光部幅３０μｍのパターンが解像していたが、これよりも微細なパターンは解像できなかった。
【００６９】
比較例３
実施例１の布材に替えて、“カペロン”（カンボークリエート（株）製、電気植毛ナイロンカーペット、単糸径１００μｍ、毛足長さ３．５〜７ｍｍ）を布材として使用して、実施例１と同様に印刷版を作製した。得られた印刷版のシリコーン層のパターンを光学顕微鏡で観察したところ、遮光部幅２０μｍのパターンが解像していたが、これよりも微細なパターンは解像できなかった。
【００７０】
比較例４（自動現像機）
実施例１記載の方法で得られた露光後の印刷版原版を、水なし平版用自動現像機ＴＷＬ−１１６０Ｋを使用して現像し、印刷版を作製した。前処理槽に東レ製の自動現像機用前処理液ＮＰ−１（グリコール誘導体約８０重量％／有機塩基約１３重量％／界面活性剤約０．５１重量％／水約６．２４重量％／イソプロピルアルコール約０．２５重量％）、現像槽に水、後処理槽（染色槽）に東レ製の自動現像機用後処理液ＮＡ−１（ジエチレングリコール誘導体１８重量％／クリスタルバイオレット０．１重量％／界面活性剤１．５重量％／２−エチルヘキサン酸１重量％／水７９．４重量％）を入れ、液温度を順に４５℃、２５℃、２５℃に加温し、処理速度４０ｃｍ／分で現像した。現像ブラシは、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）単糸を賦型法により巻縮加工を施した、直径１５０μｍの単糸を毛足長さ１５ｍｍになるように植え込んだ外径１３０ｍｍのロール状物を長さ１１６０ｍｍに旋盤でカットしたチャンネルロールブラシを用い、搬送方向と同方向に毎分４００回転させるとともに、毎分１２０往復で幅３０ｍｍの揺動をさせた。得られた印刷版のシリコーン層のパターンを光学顕微鏡で観察したところ、遮光部幅２０μｍのパターンが解像していたが、これよりも微細なパターンは解像できなかった。
【００７１】
各実施例および比較例の結果を表１に示す。
【００７２】
【表１】
2010224348.tif 000005