(57)【要約】【課題】蒸気発生装置の加熱体が蒸気発生処理後に錆びないようにする。【解決手段】蒸気発生装置２０は、水を加熱して蒸気を発生させる蒸気発生装置本体３０と、蒸気発生装置本体３０内に収容されてこの蒸気発生装置本体３０内の水を加熱する加熱体５０と、蒸気発生装置本体３０内の水位を検知する水位センサ８１と、蒸気発生装置本体３０に水を供給する給水手段ＷＳと、蒸気発生処理をするときに水位センサ８１の検知水位に基づき所定水位となるように給水手段ＷＳを制御する制御装置９０とを備え、制御装置９０は防錆制御手段により蒸気発生処理後に蒸気発生装置本体３０内に加熱体水没水位Ｌ３まで給水するように給水手段ＷＳを制御し、加熱体５０を水没させる。【選択図】図９
2010101520.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
水を加熱して蒸気を発生させる蒸気発生装置本体と、
前記蒸気発生装置本体内に収容されてこの蒸気発生装置本体内の水を加熱する加熱体と、
前記蒸気発生装置本体内の水位を検知する水位センサと、
前記蒸気発生装置本体内に水を供給する給水手段と、
蒸気発生処理をするときに前記水位センサの検知水位に基づき所定水位となるように給水手段を制御する制御装置とを備えた蒸気発生装置において、
前記制御装置は前記蒸気発生処理後に前記加熱体の上端を越える加熱体水没水位まで給水するように前記給水手段を制御する防錆制御手段を備えたことを特徴とする蒸気発生装置。
【請求項２】
前記蒸気発生装置本体の外周には前記加熱体を加熱させる誘導加熱コイルが巻回され、前記加熱体はこの誘導加熱コイルの巻回位置と同じ高さにあって発熱する発熱部とこの発熱部の上側で発熱しない非発熱部とを備え、前記蒸気発生処理をするときに前記加熱体の非発熱部の少なくとも一部が水没しない水位を前記所定水位としたことを特徴とする請求項１に記載の蒸気発生装置。
【請求項３】
前記防錆制御手段は前記水位センサにより前記加熱体水没水位を検知するようにしたことを特徴とする請求項１または請求項２に記載の蒸気発生装置。
【請求項４】
前記制御装置はタイマを備え、
前記防錆制御手段は前記タイマにより計測される前記給水手段の給水時間により前記加熱体水没水位まで給水するように制御したことを特徴とする請求項１〜請求項３の何れか１項に記載の蒸気発生装置。
【請求項５】
前記蒸気発生装置は前記加熱体水没水位を越える水を排水するオーバーフロー管を備えたことを特徴とする請求項１〜請求項４の何れか１項に記載の蒸気発生装置。
【請求項６】
前記蒸気発生装置はその運転及び運転停止をさせる操作スイッチを備え、
前記制御装置は前記操作スイッチによる前記蒸気発生装置の運転停止を検知したときに前記防錆制御手段を実行するようにしたことを特徴とする請求項１〜請求項５の何れか１項に記載の蒸気発生装置。
【請求項７】
前記制御装置は前記蒸気発生処理が終了してから所定時間経過後に前記防錆制御手段を実行するようにしたことを特徴とする請求項１〜請求項５の何れか１項に記載の蒸気発生装置。
【請求項８】
前記蒸気発生装置は前記蒸気発生装置本体内の水を排出させる排水バルブを備え、
前記制御装置は前記蒸気発生処理後に前記排水バルブを開放して前記蒸気発生装置本体内の水を一旦排出してから前記防錆制御手段を実行するようにしたことを特徴とする請求項１〜請求項７の何れか１項に記載の蒸気発生装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、水を加熱する加熱体を防錆するようにした蒸気発生装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
特許文献１には、食品の調理等に用いる蒸気製造装置が開示されている。この蒸気製造装置は蒸気を発生させるボイラ部を備え、このボイラ部は垂直上向きの管体内の下部に発熱体を収容し、管体に巻回した励磁コイルにより発生する磁界変化により発熱体を発熱させて管体内の水を加熱して蒸気を発生させている。ボイラ部内の発熱体は、励磁コイルを巻回した同じ高さでこの励磁コイルにより発熱する発熱部とこの発熱部より上側で発熱しない非発熱部とからなる。ボイラ部で蒸気を発生させる蒸気発生処理を実行するときには、ボイラ部の管体内に発熱体の発熱部の上端位置まで水を供給し、励磁コイルにより発熱体の発熱部を発熱させることで水を蒸発させて蒸気を発生させている。この蒸気製造装置では、蒸気発生処理を終了させると、ボイラ部の管体内から水の全部を排出している。
【特許文献１】特開平１１−０９４２０３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
特許文献１の蒸気製造装置においては、蒸気発生処理を終了させるとボイラ部の管体内から水の全部を排出しているが、ボイラ部の発熱体がこれに僅かに付着して残る水によって錆びることがあった。また、蒸気発生処理を終了させてボイラ部の管体内から水を排出しないでおけば、発熱体の水中にある発熱部は錆びにくくなるが、発熱体の水面に位置する部分や、これより上側で水中にない非発熱部部分が飛散した水で錆びやすくなるおそれがあった。ボイラ部の発熱体が錆びると、発熱の効率が悪くなったり、送出される蒸気に錆が混入する問題があった。本発明はこのような問題を解決することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明は上記課題を解決するため、水を加熱して蒸気を発生させる蒸気発生装置本体と、蒸気発生装置本体内に収容されてこの蒸気発生装置本体内の水を加熱する加熱体と、蒸気発生装置本体内の水位を検知する水位センサと、蒸気発生装置本体内に水を供給する給水手段と、蒸気発生処理をするときに水位センサの検知水位に基づき所定水位となるように給水手段を制御する制御装置とを備えた蒸気発生装置において、制御装置は蒸気発生処理後に加熱体の上端を越える加熱体水没水位まで給水するように給水手段を制御する防錆制御手段を備えたことを特徴とする蒸気発生装置を提供するものである。
【０００５】
上記のように構成した蒸気発生装置において、制御装置は蒸気発生処理後に加熱体の上端を越える加熱体水没水位まで給水するように給水手段を制御する防錆制御手段を備えているので、加熱体は蒸気発生処理後に水没することで錆びにくくなり、加熱体が錆によって劣化して加熱効率が低下したり、錆が付着した加熱体を用いて蒸気に錆が混入するのを防ぐことができる。上記のように構成した蒸気発生装置は、蒸気発生装置本体の外周には加熱体を加熱させる誘導加熱コイルが巻回され、加熱体はこの誘導加熱コイルの巻回位置と同じ高さにあって発熱する発熱部とこの発熱部の上側で発熱しない非発熱部とを備え、蒸気発生処理をするときに加熱体の非発熱部の少なくとも一部が水没しない水位を所定水位とするものに適用したときには、加熱体は蒸気発生処理の直後に非発熱部の少なくとも一部が水没せずに蒸気発生処理の際に付着した水により錆びやすくなっているが、加熱体を蒸気発生処理後に水没させることで錆びにくくし、加熱体が錆によって劣化して加熱効率が低下したり、錆が付着した加熱体を用いて蒸気に錆が混入するのを防ぐことができる。
【０００６】
上記のように構成した蒸気発生装置においては、防錆制御手段は水位センサにより加熱体水没水位を検知するようにしてもよい。
【０００７】
上記のように構成した蒸気発生装置においては、制御装置はタイマを備え、防錆制御手段はタイマにより計測される給水手段の給水時間により加熱体水没水位まで給水するように制御してもよい。
【０００８】
上記のように構成した蒸気発生装置は、加熱体水没水位を越える水を排水するオーバーフロー管を備えるのが好ましく、このようにしたときには、給水手段により供給される水が加熱体水没水位を大幅に越えて供給されたとしても蒸気発生装置本体から溢れ出ることがない。
【０００９】
上記のように構成した蒸気発生装置においては、蒸気発生装置はその運転及び運転停止をさせる操作スイッチを備え、制御装置は操作スイッチによる蒸気発生装置の運転停止を検知したときに防錆制御手段を実行するようにするのが好ましく、このようにすれば、蒸気発生装置を運転停止させて使用しないときに、加熱体を防錆制御手段により確実に防錆することができる。
【００１０】
上記のように構成した蒸気発生装置においては、制御装置は蒸気発生処理が終了してから所定時間経過後に防錆制御手段を実行するようしてもよく、このようにしたときにも、蒸気発生処理を終了後に加熱体を防錆制御手段により確実に防錆することができる。
【００１１】
上記のように構成した蒸気発生装置においては、蒸気発生装置は蒸気発生装置本体内の水を排出させる排水バルブを備え、制御装置は蒸気発生処理後に排水バルブを開放して蒸気発生装置本体内の水を一旦排出してから防錆制御手段を実行するのが好ましく、このようにしたときには、蒸気発生処理の際にスケール成分が高くなった水が一旦排出されるので、防錆制御手段により加熱体水没水位まで給水しても蒸気発生装置本体にスケールが発生しにくくなる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、本発明による蒸気発生装置の実施形態をスチームコンベクションオーブンに適用させた実施形態により説明する。図１〜図３に示すように、スチームコンベクションオーブン１０は、ハウジング１１内に食材を調理する調理庫１２と、調理庫１２内に設けられてこの調理庫１２内を加熱するヒータ１３と、調理庫１２内に設けられてこの調理庫１２内の空気を対流させる送風ファン１４と、調理庫１２の外側の機械室１５に設けられて調理庫１２内に蒸気を供給する蒸気発生装置２０とを備えている。
【００１３】
図４及び図５に示すように、本発明による蒸気発生装置２０は、水を加熱して蒸気を発生させる蒸気発生装置本体３０と、蒸気発生装置本体３０内に収容されてこの蒸気発生装置本体３０内の水を加熱する加熱体５０と、蒸気発生装置本体３０内の水位を検知するフロートスイッチ（水位センサ）８１と、蒸気発生装置本体３０内に水を供給する給水手段ＷＳと、蒸気発生処理をするときにフロートスイッチ８１の検知水位に基づき加熱上限水位（所定水位）Ｌ１となるように給水手段ＷＳを制御する制御装置９０とを備えている。本発明における蒸気発生装置２０の特徴は、制御装置９０は蒸気発生処理後に加熱体５０の上端を越える加熱体水没水位Ｌ３まで給水するように給水手段ＷＳを制御する防錆制御手段を備えたことである。以下に、この蒸気発生装置２０について詳述する。
【００１４】
図４に示すように、蒸気発生装置２０は、機械室１５の床面に設置された排水タンク２１上に立設した蒸気発生装置本体３０を備えており、この蒸気発生装置本体３０は上下が開放された樹脂製の円筒部材よりなり、この円筒部材の略中間部より下側を水を加熱して蒸気を発生させる蒸気発生部３１とし、円筒部材の略中間部より上側を蒸気発生部３１の上側に立設して蒸気の通路が形成された蒸気通路部３２としている。蒸気発生装置本体３０は、円筒部材の下端の開口を蒸気発生部３１の水の排水口３１ａとし、円筒部材の上端の開口を蒸気通路部３２の蒸気出口３２ａとしている。蒸気発生装置本体３０の下部には、蒸気発生部３１内の水を排出する排水バルブ２２が設けられている。蒸気発生装置本体３０の外周には、樹脂製よりなる環状の取付ブラケット３３，３４が上下に離間して設けられている。
【００１５】
図４に示すように、蒸気発生装置本体３０の外周には、上下の取付ブラケット３３，３４の間に誘導加熱コイル４０が巻回されている。また、上下の取付ブラケット３３，３４には、誘導加熱コイル４０の外周側に誘導加熱コイル４０により生じる電磁波を外側に漏出させないようにするための複数の棒状のフェライト４１が設けられている。
【００１６】
蒸気発生装置本体３０内には、蒸気発生部３１の水を加熱する加熱体５０が収容されている。加熱体５０は、誘導加熱コイル４０により発熱される７本の加熱棒５１と、これら加熱棒５１の下端を一体的に固定するホルダ５２とから構成されている。７本の加熱棒５１は、磁性体である金属製の棒部材よりなり、蒸気発生装置本体３０内に立設している。これら加熱棒５１は、誘導加熱コイル４０の巻回位置と同じ高さ位置にあって誘導加熱コイル４０により発熱する発熱部５１ａと、この発熱部５１ａの下側及び上側位置にあって誘導加熱コイル４０により発熱しない非発熱部５１ｂ，５１ｃとからなる。ホルダ５２は、中心部に水が通過する通路が形成された環状樹脂部材よりなり、各加熱棒５１の下側の非発熱部５１ｂの先端部が挿入されてこれら加熱棒５１を一体となるように固定している。
【００１７】
図４に示すように、蒸気発生装置本体３０の蒸気通路部３２には、７本の加熱棒５１の上端部を保持する保持枠５３が設けられている。保持枠５３は、中心部に蒸気の通る通路が形成された筒状の樹脂部材よりなり、その下面には７本の加熱棒５１を保持する環状の凹部５３ａが形成されている。保持枠５３は、凹部５３ａ内に加熱棒５１の上側の非発熱部５１ｃの先端部が係合されており、加熱棒５１が誘導加熱コイル４０により誘導加熱されるときに振動するのを抑制している。
【００１８】
図４に示すように、蒸気通路部３２には、３枚の蒸気通路部遮蔽板６０〜６２が設けられている。蒸気通路部遮蔽板６０〜６２は、蒸気発生部３１内で加熱体５０により加熱されたときに跳ね上がる水滴を遮るものであり、３枚の蒸気通路部遮蔽板６０〜６２は、上下方向に互いに離間して保持枠５３に取り付けられている。各蒸気通路部遮蔽板６０〜６２には、蒸気を通過させる蒸気孔６０ａ〜６２ａが形成されており、互いに隣り合う上下の蒸気通路部遮蔽板６０〜６２の各蒸気孔６０ａ〜６２は鉛直方向に重ならないようになっている。本実施形態においては、中段の蒸気通路部遮蔽板６１には、中心部に一つの円形の蒸気孔６１ａが形成されており、上段及び下段の蒸気通路部遮蔽板６０，６２には、中段の蒸気通路部遮蔽板６１の蒸気孔６１ａより半径方向外側位置に複数の円形の蒸気孔６０ａ、６２ａが形成されている。
【００１９】
図４に示すように、蒸気発生装置本体３０の上端部には、蒸気発生部３１で発生して蒸気通路部３２の蒸気出口３２ａから送出される蒸気を調理庫１２内に送る蒸気送出筒７０が設けられている。蒸気送出筒７０は、蒸気発生装置本体３０の蒸気出口３２ａから立設して上側が閉じられた水滴分離筒部７１と、この水滴分離筒部７１の中間部から分岐して蒸気の取出口を備える蒸気取出筒部７２とからなる。水滴分離筒部７１は、蒸気発生装置本体３０における蒸気通路部３２の送出口３２ａから水滴を含んで勢いよく上昇する蒸気をその頂部に衝突させてその勢いを低下させ、勢いの低下した蒸気から水滴を落下させて分離して水滴を含まない蒸気とするためのものである。蒸気取出筒部７２は、水滴分離筒部７１で水滴が分離された蒸気をその取出口から調理庫１２に送出するものである。
【００２０】
図４に示すように、蒸気発生装置本体３０には、その水位を検知するための水位検知タンク８０が接続されている。この水位検知タンク８０は、蒸気発生装置本体３０の側方でこれと平行に立設しており、その下部に設けた連通管８２により蒸気発生装置本体３０の誘導加熱コイル４０が巻回された位置より下側位置と連通接続されている。水位検知タンク８０は蒸気発生装置本体３０と同様に大気に開放されており、水位検知タンク８０は蒸気発生装置本体３０と同じ水位となっている。水位検知タンク８０には、フロートスイッチ８１が設けられており、このフロートスイッチ８１は、水位検知タンク８０内の水位を検知することにより蒸気発生装置本体３０内の水位を検知するものである。フロートスイッチ８１は、加熱棒５１の発熱部５１ａの上端となる位置を所定の加熱上限水位Ｌ１として検知し、この加熱上限水位Ｌ１より少し下の水位を所定の加熱下限水位Ｌ２として検知し、加熱棒５１の上端より少し上の（加熱体５０の上端を超える）水位を加熱体水没水位Ｌ３として検知する。水位検知タンク８０の下部には一端が水道等の水の供給源に接続された給水管８３が接続されており、給水管８３から送出される水は水位検知タンク８０内を通って蒸気発生装置本体３０の蒸気発生部３１に供給される。給水管８３には、その開閉を行う給水用ウォータバルブ８４が介装されており、給水用ウォータバルブ８４は排水タンク２１に取り付けられている。給水手段ＷＳは、給水管８３と給水用ウォータバルブ８４とから構成され、水位検知タンク８０を介して蒸気発生装置本体３０に水を供給するものである。水位検知タンク８０には、加熱体水没水位Ｌ３と同じ高さ位置にオーバーフロー管８５が設けられており、このオーバーフロー管８５は、蒸気発生装置本体３０と水位検知タンク８０に水が過剰に供給されたときに溢れ出るのを防止するためのものである。
【００２１】
図５に示すように、蒸気発生装置２０は、排水バルブ２２、誘導加熱コイル４０、フロートスイッチ８１、給水用ウォータバルブ８４に接続されて蒸気発生装置２０の作動を制御する制御装置９０を備えている。制御装置９０は、蒸気発生処理において、フロートスイッチ８１の検知水位に基づき所定水位となるように給水手段ＷＳを制御する給水制御手段を備えている。制御装置９０の給水制御手段は、フロートスイッチ８１により加熱上限水位Ｌ１であることを検知されると給水用ウォータバルブ８４を閉じて給水を中断させ、蒸気発生装置本体３０内の水が蒸気の発生により減少して、フロートスイッチ８１により加熱下限水位Ｌ２であることを検知されると給水用ウォータバルブ８４を開放して給水するように制御する。制御装置９０は、加熱体５０の加熱棒５１を防錆するための防錆制御手段を備えており、この防錆制御手段により蒸気発生処理後に加熱体５０の上端を越える加熱体水没水位Ｌ３まで給水するように給水手段ＷＳを制御する。制御装置９０は、防錆制御手段において、加熱体水没水位Ｌ３をフロートスイッチ８１により検知している。制御装置９０はタイマ９１を備えており、制御装置９０の防錆制御手段は、タイマ９１により計測される給水手段ＷＳの給水時間、すなわち給水用ウォータバルブ８４を開放する時間により加熱体水没水位Ｌ３まで給水するように制御するようにしてもよい。
【００２２】
制御装置９０には、蒸気発生装置２０の運転及び運転停止を含めた操作をする操作スイッチ９２に接続されており、制御装置９０は、操作スイッチ９２により蒸気発生装置２０の運転停止を検知したときに防錆制御手段を実行するように制御している。なお、この操作スイッチ９２は、蒸気発生装置２０の電源を供給または遮断する電源スイッチとは異なるものであり、蒸気発生装置２０は電源スイッチにより電源の供給を遮断されない限り操作スイッチ９２により蒸気発生装置２０を操作可能となっている。また、制御装置９０は、蒸気発生処理終了してから所定時間として例えば１０分経過後に防錆制御手段を実行するように制御するようにしてもよい。制御装置９０の防錆制御手段は、蒸気発生処理後に蒸気発生装置本体３０内の水を一旦全部排出してから加熱体水没水位Ｌ３まで給水するよう給水手段ＷＳを制御する。
【００２３】
上記のように構成したスチームコンベクションオーブン１０の蒸気発生装置２０の作動を図６〜図１０を用いて説明する。まず、図６及び図７に示すように、制御装置９０は、ステップ１００に示す蒸気発生装置２０の給水処理を実行する。制御装置９０は、ステップ１０１において、排水バルブ２２を閉止させるとともに給水用ウォータバルブ８４を開放させ、水位検知タンク８０とこれに連通接続された蒸気発生装置本体３０に水を供給する。制御装置９０は、ステップ１０２において、フロートスイッチ８１により水位検知タンク８０内の水位、すなわち蒸気発生装置本体３０における蒸気発生部３１の水位が所定の加熱上限水位Ｌ１であるか否かの判定を繰返し実行するなかで、フロートスイッチ８１により加熱上限水位Ｌ１であることが検知されると、制御装置９０は、ステップ１０２からステップ１０３に進め、給水用ウォータバルブ８４を閉止させて水の供給を止めて給水処理を終了する。
【００２４】
ステップ１００における給水処理が終了すると、制御装置９０は、図６及び図８のステップ２００に示す蒸気発生処理を実行する。制御装置９０は、ステップ２０１において、誘導加熱コイル４０に給電させると、加熱体５０は誘導加熱コイル４０により発熱して蒸気発生装置本体３０における蒸気発生部３１の水を蒸発させて蒸気を発生させる。蒸気発生部３１の水は、蒸気の発生に伴って減少する。制御装置９０は、ステップ２０１の処理後、ステップ２０２〜２０６の処理を繰り返し実行して蒸気発生処理中に蒸気発生装置本体３０が所定水位となるように制御する。これを詳述すると、制御装置９０は、ステップ２０２〜２０４において、蒸気発生処理中に蒸気発生装置本体３０の水位が加熱下限水位Ｌ２であるか否か、加熱上限水位Ｌ１であるか否かの判定を繰り返し実行しているときに、蒸気発生装置本体３０の水位が蒸気の発生により減少して加熱下限水位Ｌ２になると、制御装置９０は、ステップ２０２におけるＹＥＳの判定によりステップ２０５に進めて、給水用ウォータバルブ８４を開放して蒸気発生装置本体３０に水を供給する。また、蒸気発生装置本体３０に水を供給しているときに、制御装置９０は、ステップ２０２〜２０４において、蒸気発生処理中に蒸気発生装置本体３０の水位が加熱下限水位Ｌ２であるか否か、加熱上限水位Ｌ１であるか否かの判定を繰り返し実行しており、蒸気発生装置本体３０の水位が加熱上限水位Ｌ１になると、制御装置９０は、ステップ２０３におけるＹＥＳの判定によりステップ２０６に進めて、給水用ウォータバルブ８４を閉止して蒸気発生装置本体３０への水の供給を遮断する。制御装置９０は、ステップ２０２〜２０６の処理を繰り返し実行して蒸気発生処理中に蒸気発生装置本体３０が所定水位（加熱上限水位Ｌ１と加熱下限水位Ｌ２との間）となるように制御しているなかで、操作スイッチ９２により蒸気発生処理の終了が入力されると、制御装置９０は、ステップ２０４におけるＹＥＳの判定によりステップ２０７に進めて、誘導加熱コイル４０の給電を停止させて蒸気発生処理を終了させる。
【００２５】
ステップ２００における蒸気発生処理が終了すると、制御装置９０は、図６及び図９のステップ３００に示す防錆処理（防錆制御手段）を実行する。制御装置９０は、ステップ３０１において、操作スイッチ９２により蒸気発生装置２０の運転停止が入力されたか否かの判定を繰り返し実行しているなかで、操作スイッチ９２により蒸気発生装置２０の運転停止が入力されるとステップ３０２に進める。制御装置９０は、ステップ３０２において、排水バルブ２２を開放させて蒸気発生装置本体３０の水を一旦排出し、所定時間経過後に排水バルブ２２を閉止させる。
【００２６】
次ぎに、制御装置９０は、ステップ３０３において、給水用ウォータバルブ８４を開放してステップ３０４に進める。制御装置９０は、ステップ３０４において、フロートスイッチ８１により蒸気発生装置本体３０の水位が加熱体水没水位Ｌ３であるか否かの判定を繰返し実行しているなかで、フロートスイッチ８１により加熱体水没水位Ｌ３であることが検知されると、制御装置９０は、ステップ３０４からステップ３０５に進め、給水用ウォータバルブ８４を閉止させて水の供給を止めて防錆処理を終了する。
【００２７】
なお、制御装置９０は、ステップ３０４において、加熱体水没水位Ｌ３であるか否かをフロートスイッチ８１により検知しているが、タイマ９１により計測される給水手段ＷＳの給水時間、すなわち給水用ウォータバルブ８４を所定時間開放することにより加熱体水没水位Ｌ３まで給水するように制御するようにしてもよい。この場合において、水道等の水の供給源の水圧が想定したより高いときに、給水用ウォータバルブ８４を上記の所定時間開放すると加熱体水没水位Ｌ３を越える量の水が供給されることがあるが、加熱体水没水位Ｌ３と同じ高さ位置に設けられたオーバーフロー管８５により、蒸気発生装置本体３０と水位検知タンク８０に過剰に水が供給されるのを防ぐことができる。また、蒸気発生装置２０は、加熱体水没水位Ｌ３と同じ高さ位置に設けられたオーバーフロー管８５を設けたことで、給水用ウォータバルブ８４を開放する時間を長く設定しておけば、給水用ウォータバルブ８４を開放する時間を詳細に設定することなく加熱体５０を確実に水没させることができる。
【００２８】
また、制御装置９０は、図９に示すステップ３００の防錆処理に代えて図１０に示すステップ３００Ａの防錆処理（防錆制御手段）を実行してもよい。このステップ３００Ａに示す防錆処理においては、制御装置９０は、ステップ３０１Ａにおいて、タイマ９１によりステップ２００における蒸気発生処理から所定時間経過しかた否かを繰り返し実行しているなかで、蒸気発生処理から所定時間経過するとステップ３０２Ａに進める。制御装置９０は、ステップ３０２Ａにおいて、排水バルブ２２を開放させて蒸気発生装置本体３０の水を一旦排出し、所定時間経過後に排水バルブ２２を閉止させる。
【００２９】
次ぎに、制御装置９０は、ステップ３０３Ａにおいて、給水用ウォータバルブ８４を開放してステップ３０４Ａに進める。制御装置９０は、ステップ３０４Ａにおいて、フロートスイッチ８１により蒸気発生装置本体３０の水位が加熱体水没水位Ｌ３であるか否かの判定を繰返し実行しているなかで、フロートスイッチ８１により加熱体水没水位Ｌ３であることが検知されると、制御装置９０は、ステップ３０４Ａからステップ３０５Ａに進め、給水用ウォータバルブ８４を閉止させて水の供給を止めて防錆処理を終了する。
【００３０】
なお、制御装置９０は、ステップ３０４Ａにおいて、加熱体水没水位Ｌ３であるか否かをフロートスイッチ８１により検知しているが、タイマ９１により計測される給水手段ＷＳの給水時間、すなわち給水用ウォータバルブ８４を所定時間開放することにより加熱体水没水位Ｌ３まで給水するように制御するようにしてもよい。
【００３１】
上記のように構成した蒸気発生装置２０において、制御装置９０は蒸気発生処理後に加熱体５０の上端を越える加熱体水没水位Ｌ３まで給水するように給水手段ＷＳを制御する防錆制御手段を備えているので、加熱体５０は蒸気発生処理後に水没することで錆びにくくなり、加熱体５０が錆によって劣化して加熱効率が低下したり、錆が付着した加熱体５０を用いて蒸気に錆が混入するのを防ぐことができる。特に、本実施形態の蒸気発生装置２０は、蒸気発生装置本体３０の外周に加熱体５０を加熱させる誘導加熱コイル４０が巻回され、加熱体５０はこの誘導加熱コイル４０の巻回位置と同じ高さにあって発熱する発熱部５１ａとこの発熱部５１ａの上側で発熱しない非発熱部５１ｃとを備え、蒸気発生処理をするときに加熱体５０の非発熱部５１ｃが水没しない加熱上限水位Ｌ１と加熱下限水位Ｌ２との間の水位となるように給水手段ＷＳを制御しているので、加熱体５０は蒸気発生処理の直後に、非発熱部５１ｃが水没せずに蒸気発生処理の際に付着した水により錆びやすくなっている。しかし、制御装置９０は防錆制御手段により加熱体５０を蒸気発生処理後に水没させることで錆びにくくし、加熱体５０が錆によって劣化して加熱効率が低下したり、錆が付着した加熱体５０を用いて蒸気に錆が混入するのを防ぐことができる。
【００３２】
上記のように構成した蒸気発生装置２０においては、その運転及び運転停止をさせる操作スイッチ９２を備え、制御装置９０は操作スイッチ９２による蒸気発生装置２０の運転停止を検知したときに防錆制御手段を実行するようしているので、蒸気発生装置２０を運転停止させて使用しなくなったときに、加熱体５０を防錆制御手段により確実に防錆することができる。
【００３３】
上記のように構成した蒸気発生装置２０においては、制御装置９０は蒸気発生処理が終了してから所定時間経過後に防錆制御手段を実行するようしてもよく、このようにしたときにも、蒸気発生処理を終了したときに加熱体５０を防錆制御手段により確実に防錆することができる。
【００３４】
上記のように構成した蒸気発生装置２０は、蒸気発生装置本体３０内の水を排出させる排水バルブ２２を備え、制御装置９０は蒸気発生処理後に排水バルブ２２を開放して蒸気発生装置本体３０内の水を一旦排出してから防錆制御手段を実行しているので、蒸気発生処理の際にスケール成分が高くなった水が一旦排出されることで、防錆制御手段により加熱体水没水位Ｌ３まで給水しても蒸気発生装置本体３０にスケールが発生しにくくなる。
【図面の簡単な説明】
【００３５】
【図１】本発明の蒸気発生装置を内蔵したスチームコンベクションオーブンの正面図である。
【図２】図１のＡ−Ａ縦断面図である。
【図３】図１のＢ−Ｂ横断面図である。
【図４】蒸気発生装置の縦断面図である。
【図５】制御装置のブロック図である。
【図６】蒸気発生装置の作動を示すフローチャートである。
【図７】蒸気発生装置の給水処理の作動を示すフローチャートである。
【図８】蒸気発生装置の蒸気発生処理の作動を示すフローチャートである。
【図９】蒸気発生装置の防錆処理の作動を示すフローチャートである。
【図１０】蒸気発生装置の他の防錆処理の作動を示すフローチャートである。
【符号の説明】
【００３６】
２０…蒸気発生装置、２２…排水バルブ、３０…蒸気発生装置本体、４０…誘導加熱コイル、５０…加熱体、５１ａ…発熱部、５１ｃ…非発熱部、８１…水位センサ、８５…オーバーフロー管、９０…制御装置、９１…タイマ、９２…操作スイッチ、ＷＳ…給水手段。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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