(57)【要約】【課題】紫外線遮蔽機能をもち、酸性雨に対する耐性の高いハードコート構造を備えた透明体を提供する。【解決手段】透明基材１と、基材１上に順に配置された、紫外線吸収層２とハードコート層３とを有する透明体であって、紫外線吸収層２として、アモルファスなＴｉＯ２膜を用いる。ＴｉＯ２膜は、耐酸性が高い性質を有し、しかも、アモルファスなＴｉＯ２膜は光触媒性能を備えないため、基材との密着性が高い。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材と、該基材上に順に配置された、紫外線吸収層とハードコート層とを有し、
前記紫外線吸収層は、アモルファスなＴｉＯ２膜であることを特徴とする透明体。
【請求項２】
請求項１に記載の透明体において、前記アモルファスなＴｉＯ２膜は、微結晶を含まないことを特徴とする透明体。
【請求項３】
請求項１または２に記載の透明体において、前記アモルファスなＴｉＯ２膜の膜厚は、１．０μｍより大きいことを特徴とする透明体。
【請求項４】
プラズマガンが発生した直流プラズマを坩堝に導き、
坩堝に充填されたＴｉＯ２を直流プラズマにより加熱して蒸発させ、透明基材上に堆積させることにより、アモルファスなＴｉＯ２膜を成膜する工程を有することを特徴とする透明体の製造方法。
【請求項５】
請求項４に記載の透明体の製造方法において、
前記成膜工程では、前記透明基材を１５０℃以下の温度に維持することを特徴とする透明体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基材上にハードコート構造を備えた透明体に関し、特に、紫外線遮蔽機能をもつハードコート構造を備えた透明体に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来よりレンズ等の透明部材は、表面の傷や割れを防止するためにハードコート層が設けられる。ハードコート層としては、一般的に酸化珪素（ＳｉＯｘ）薄膜が用いられる。
【０００３】
また、透明部材の基材がポリカーボネート（以下ＰＣと記す）からなる場合、ＰＣが波長２５０〜３６０ｎｍの紫外線によって黄変する性質があるため、ハードコート層とは別に、紫外線を遮蔽する層を設け、黄変を防止する必要がある。紫外線を遮蔽する層としては、酸化亜鉛（ＺｎＯ）等の金属酸化物薄膜からなる紫外線吸収層が用いられる。ＺｎＯは、約３．３eVのバンドギャップを持つ半導体で３８０ｎｍ付近以下の紫外線を吸収し、数千オングストロームの膜厚でＰＣの黄変を防止できる。他にＩＴＯ（酸化インウム・スズ）膜やＴｉＯ２膜等を用いることができる。ＺｎＯ膜はイオンプレーティングやスパッタ等の真空蒸着又は塗布によって成膜する。
【０００４】
紫外線吸収層とハードコート層とを組み合わせて用いる場合、透明基材上に紫外線吸収層を配置し、最上層にハードコート層を設ける。このような二層構造で紫外線遮蔽機能を持つハードコートは、例えば特許文献１に開示されている。しかし、紫外線吸収層（ＺｎＯ膜）とハードコート層の２層からなるハードコート構造をＰＣ基材上に設けた場合、ＰＣ基材とＺｎＯ膜との界面からハードコート構造が剥離しやすい。そこで、特許文献２には、ＰＣ基材とＺｎＯ膜との間にバッファ層を挿入し、ハードコート構造を３層にすることが提案されている。バッファ層としては、例えば酸化珪素（ＳｉＯｘ）膜が開示されている。
【０００５】
また、特許文献３には、所定の割合で炭素を含有する酸化チタン層を保護膜として透明基材上に形成することにより、透明で紫外線を遮断し、かつ、耐候性の高い透光性積層体が提供できると開示されている。特許文献３において、酸化チタン層に所定割合で炭素を含有させているのは、酸化チタンに備わる光触媒能により基材が変質し、基材の透明性が劣化したり、酸化チタン層が剥離しやすくなるのを防止するためである。
【０００６】
紫外線吸収層とハードコート層の２層からなるハードコート構造は、例えば自動車用ヘッドランプに用いられる。ヘッドランプの構造は、特許文献４に記載されているようにランプが固定されたハウジングの前面にＰＣ製のレンズが密封接着されている。レンズの内壁への入射光はランプからの光に限られ、ＰＣ製のレンズを黄変させる波長は含まれないため、レンズの内壁には紫外線吸収層は不要である。そこで、太陽光等が入射するレンズの外壁には、紫外線吸収層とハードコート層の積層構造を設けることにより、レンズ基材がＰＣであっても傷や損傷を防止でき、しかも黄変を防止することができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開平７−２６７６８３号公報
【特許文献２】特開２００８−１０５３１３号公報
【特許文献３】特開２００８−４５１６０号公報
【特許文献４】特開２０００−２０７９０８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
自動車用ヘッドランプは酸性雨に曝される可能性があるため、レンズには耐酸性が求められる。しかしながら、紫外線吸収層として用いられる酸化亜鉛（ＺｎＯ）膜は酸に弱いという性質がある。紫外線吸収層は、その上をハードコート層である酸化珪素（ＳｉＯｘ）膜に覆われてはいるが、酸化珪素膜には若干の水浸透性があり、酸の一部は酸化亜鉛膜まで達することがある。この場合、酸が到達した部分は、酸化亜鉛膜が溶解して消失し、ＰＣ基材の黄変防止能力を失ってしまう。一方、酸化亜鉛膜に酸が到達しないように水浸透性のない透明ハードコート層を形成することは現時点の技術では非常に困難である。
【０００９】
また、特許文献３のように所定の割合で炭素を含有する酸化チタン層を形成するためには、有機チタン化合物を原料としてプラズマＣＶＤ法で成膜する必要がある。しかしながら、有機チタン化合物は高価であるため、低コストなハードコート構造を実現することが困難である。
【００１０】
本発明の目的は、紫外線遮蔽機能をもち、酸性雨に対する耐性の高いハードコート構造を備えた透明体を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記目的を達成するために、本発明の第１の態様によれば、以下のような透明体が提供される。透明基材と、基材上に順に配置された、紫外線吸収層とハードコート層とを有する透明体であって、紫外線吸収層として、アモルファスなＴｉＯ２膜を用いる。ＴｉＯ２膜は、耐酸性が高い性質を有し、しかも、アモルファスなＴｉＯ２膜は光触媒性能を備えないため、基材との密着性が高い。
【００１２】
アモルファスなＴｉＯ２膜は、微結晶を含まないことが望ましい。
【００１３】
アモルファスなＴｉＯ２膜の膜厚は、１．０μｍより大きいことが望ましい。膜厚を１．０μｍより大きくすることにより、波長３５０ｎｍの透過率が３０％以下になるため、透明基材の黄変防止効果を発揮できる。
【００１４】
本発明の第１の態様によれば、以下のような透明体の製造方法が提供される。すなわち、プラズマガンが発生した直流プラズマを坩堝に導き、坩堝に充填されたＴｉＯ２を直流プラズマにより加熱して蒸発させ、透明基材上に堆積させることにより、アモルファスなＴｉＯ２膜を成膜する工程を有する製造方法である。このように、直流プラズマを用いてＴｉＯ２膜を形成することにより、ＴｉＯ２を蒸発源として容易にアモルファスなＴｉＯ２膜を成膜することができる。
【００１５】
上記成膜工程では、透明基材を１００℃以下の温度に維持することが望ましい。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、アモルファスなＴｉＯ２膜を紫外線吸収層として用いることにより、酸性雨や紫外線に対する耐性の高いハードコート構造を備えた透明体を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本実施形態の透明体の構造を示す断面図。
【図２】本実施形態の透明体の製造に用いる成膜装置のブロック図。
【図３】実施例で形成したアモルファスなＴｉＯ２膜のＸ線回折測定結果を示すグラフ。
【図４】実施例の透明体の分光透過率を示すグラフ。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
本発明の一実施の形態について図面を用いて説明する。
【００１９】
まず、本実施の形態の透明体の構造について図１を用いて説明する。本実施の形態の透明体は、ＰＣ（ポリカーボネート）製の基材１と、これを傷や損傷から保護するためのハードコート構造５とを備えるものであり、ハードコート構造５は、ＰＣ製基材１を黄変させる紫外線を遮蔽する機能を備える。このような透明体の一例としては、ヘッドランプのＰＣレンズ、眼鏡のＰＣレンズ、ＰＣを使用した窓等の建材、ならびに、ＰＣを使用した自動車窓等が挙げられるが、本実施の形態の透明体は、これらに限定されるものではなく、他の用途の透明体にも適用される。
【００２０】
具体的には、ハードコート構造５は、図１に示したように基材１の上に形成された紫外線吸収層２、およびハードコート層３の２層構造である。紫外線吸収層２の材質は、アモルファスなＴｉＯ２である。アモルファスなＴｉＯ２は、微結晶を含まないことが望ましい。このようにアモルファスなＴｉＯ２膜を紫外線吸収層２として用いることにより、ＴｉＯ２膜は光触媒性能を備えないため、ＰＣ基材１に対する密着性が高く、しかも、光触媒性能によりＰＣ基材１を劣化させるおそれもない。
【００２１】
紫外線吸収層（アモルファスなＴｉＯ２膜）２の膜厚は、１．０μｍより大きい値に設定することが望ましい。発明者らは、ＰＣ基材１にＴｉＯ２膜を紫外線吸収層２として備えた場合に、ＰＣ基材１に黄変を生じさせないための紫外線吸収層２の透過率を予め測定した結果、波長３５０ｎｍにおける透過率が３０％より小さいと黄変が生じないことを目視にて確認している。一方、アモルファスなＴｉＯ２膜の膜厚と波長３５０ｎｍにおける透過率とは、表１のような関係にある。表１より紫外線吸収層（アモルファスなＴｉＯ２膜）２の膜厚を１．０μｍより大きい値に設定することにより、透過率を３０％より小さくすることができるため望ましい。
【００２２】
【表１】
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【００２３】
また、紫外線吸収層（アモルファスなＴｉＯ２膜）２は、３．０μｍ以下であることが望ましい。その理由は、膜厚が３．０μｍを超えると、波長３５０ｎｍのＴｉＯ２の吸収率は２％付近で飽和するため、膜厚を３．０μｍを超えて厚くしても紫外線吸収能力は高くならず、膜厚が３．０μｍを超えた辺りからＰＣ製基材１やハードコート層３との密着性が低下し、剥がれやすくなるためである。
【００２４】
ハードコート層３の材質は、ＳｉＯｘである。ｘは、１．５＜ｘ＜２．０であることが望ましい。
【００２５】
ハードコート層（ＳｉＯｘ膜）３の膜厚は、ハードコートとして機能しうる硬度を生じさせるために１０００オングストローム以上であることが望ましく、５０００オングストローム以上１０μｍ以下であることがより望ましい。
【００２６】
つぎに、ハードコート構造５の各層の機能について説明する。ハードコート層３は、基材１に傷や割れが生じるのを防止するために最表層に配置されている。紫外線吸収層２を構成するアモルファスなＴｉＯ２膜は、３．０〜３．３eVのバンドギャップを有し、３８０ｎｍ付近以下の紫外線を吸収する性質を有する。よって、アモルファスなＴｉＯ２膜を紫外線吸収層２としてハードコート層３と基材１との間に配置したことにより、ＰＣ基材１に黄変を生じさせる波長２５０〜３６０ｎｍの紫外線を紫外線吸収層２に吸収させることができる。
【００２７】
本実施の形態では、微結晶を含まないアモルファスなＴｉＯ２膜は、光触媒性能を有さないため、ＰＣ基材１の上に直接配置しても、高い密着性を得ることができ、ハードコード構造５を基材１上に強固に配置することができる。また、光触媒性能を有していないため、光触媒性能によりＰＣ基材を劣化させることもない。
【００２８】
また、アモルファスなＴｉＯ２膜は、ＳｉＯｘ膜とも密着性が高い。よって、紫外線吸収層（アモルファスなＴｉＯ２膜）２とハードコート層（ＳｉＯｘ膜）３との界面における密着性も高い。
【００２９】
また、ＴｉＯ２膜は、耐酸性が高いことが知られている。この性質は、アモルファスなＴｉＯ２膜であっても変わらない。よって、ハードコート層（ＳｉＯｘ膜）３に酸性雨が浸透した場合であっても、紫外線吸収層（アモルファスなＴｉＯ２膜）２が溶解して消失することがなく、ＰＣ基材の黄変防止能力を継続して発揮することができる。
【００３０】
つぎに、本実施の形態の透明体の製造方法について説明する。ここでは、直流プラズマを用いる図２の成膜装置を用いて、直流プラズマを用いた真空蒸着法と化学的気相成長（ＣＶＤ）法により透明体のハードコート構造５を連続して形成する。
【００３１】
図２の成膜装置は、プラズマガン３１と成膜室７とを備えている。成膜室７には、プラズマガン３１と対向する位置にアノード電極３８が配置され、直流プラズマがプラズマガン３１からアノード電極３８に向かって生じる。これらの間の空間に反応ガス３７を導入するための反応ガス導入管８が備えられ、反応ガス導入管８と向かい合う位置に基材１を保持する基材ホルダー３６が備えられている。これらの構成により、ＣＶＤ法により成膜を行うことができる。また、成膜室７内には、電極を兼ねた坩堝３３が配置され、プラズマガン３１からのプラズマを坩堝３３内の材料に導くことにより、坩堝３３内に充填されているＴｉＯ２３４を蒸発させ、蒸着法による成膜を行うことができる。プラズマガン３１とアノード電極３８と坩堝３３には、それぞれ電源１０が接続されている。プラズマガン３１の外側、ならびに、成膜室７の外側にはそれぞれ中心軸が一致するように電磁石１２が配置されている。電磁石１２は、プラズマガン３１が発生したプラズマ３５をビーム状に収束する作用をする。
【００３２】
まず、基材１を基材ホルダー３６にセットし、成膜室７を所定の圧力まで排気した後、プラズマガン３１にキャリアガス３２を導入し、プラズマガン３１と坩堝３３間に電圧を印加し、坩堝３３との間にプラズマ３５を発生させる。これにより、坩堝３３内のＴｉＯ２３４を加熱して蒸発させ、基材１上にアモルファスなＴｉＯ２を所定の厚さまで堆積させる。これにより、紫外線吸収層（ＴｉＯ２膜）２を形成する。
【００３３】
直流プラズマを用い、基板温度を１５０℃以下に維持することにより、ＴｉＯ２を蒸発源としてアモルファスなＴｉＯ２膜を蒸着法により容易に形成できる。他の成膜条件は、例えば、成膜速度５０００オングストローム／ｍｉｎ以下、ＤＣ放電電力１０ｋＷ以下に設定する。しかしながら、基板温度を除き成膜条件は、この成膜条件に限定されるものではない。
【００３４】
つぎに、アモルファスなＴｉＯ２膜成膜後、成膜室７を開放することなく、プラズマガン３１とアノード電極３８間に電圧を印加しプラズマ３５を発生させる。そこに反応ガス３７としてシロキサンを反応ガス導入管８から導入し、重合反応を生じさせ、基材１にＳｉＯｘを所定の厚さまで堆積させる。これにより、ハードコート層（ＳｉＯｘ層）３を形成する。ただし、ハードコート層３は、ハードコートとして機能を発揮させるために上述した所定の膜厚に成膜する。なお、ハードコート層３の成膜方法は、この成膜方法に限られるものではなく、例えば蒸着法やスパッタ法等の他の成膜方法により形成することが可能である。
【００３５】
以上により、図１のように基材１上に二層構造のハードコート構造５を備えた透明体を連続成膜より効率よく製造できる。
【００３６】
このように本実施の形態の透明体は、紫外線吸収層２として、耐酸性の大きなＴｉＯ２膜を微結晶を含まないアモルファスな構造とすることにより、光触媒性能を生じさせず、ＰＣ基材との密着性を高めることができる。また、ＰＣ基材を光触媒性能により劣化させることもない。したがって、紫外線吸収層２によってＰＣ基材１の黄変を防ぎつつ、ハードコート層３によって基材１の傷や損傷を防ぐことができる。
【００３７】
しかも、本実施の形態では、直流プラズマを用いることにより、アモルファスなＴｉＯ２膜をＴｉＯ２を蒸発源として容易に成膜することができるため、高価な材料を用いる必要がなく、耐酸性に優れたハードコート構造５を低コストで形成することができる。
【００３８】
本実施の形態の透明体の構造は、ヘッドランプのＰＣレンズ、眼鏡のＰＣレンズ、ＰＣを使用した窓等の建材、ならびに、自動車のＰＣを使用した窓等に適用することができる。例えば、自動車用ヘッドランプに用いる場合、ランプが固定されたハウジングの前面に密封接着されたＰＣ製レンズに、本実施の形態のハードコート構造５を適用することができる。すなわち、ＰＣ製レンズを基材１として、その表面にハードコート構造５を設けることができる。ＰＣ製レンズの内壁への入射光はランプからの光に限られ、ＰＣ製のレンズを黄変させる紫外波長は含まれないため、レンズの内壁には紫外線吸収層は不要である。そこで、太陽光等が入射するレンズの外壁に、本実施の形態ハードコート構造５を設ける。これにより、レンズ基材がＰＣであっても傷や損傷を防止でき、しかも黄変を防止す
ることができる。
【実施例】
【００３９】
以下、本発明の一実施例について説明する。
【００４０】
本実施例では、図１の構造の透明体を製造した。紫外線吸収層２の材質は、微結晶を含まないアモルファスなＴｉＯ２である。ハードコート層３の材質は、ＳｉＯｘ（１．５＜ｘ＜２．０）である。基材１はＰＣであり、厚さ３ｍｍの板状である。
【００４１】
紫外線吸収層（アモルファスなＴｉＯ２膜）２の膜厚は、２．０μｍとした。ハードコート層（ＳｉＯｘ膜）３の膜厚は、０．５μｍ、１μｍ、１．５μｍ、２．０μｍ、２．５μｍの５種類の実施例の透明体を製造した。
【００４２】
各層の成膜は、実施の形態で説明した製造手順の通り、図２の成膜装置を用いて行った。アモルファスなＴｉＯ２膜の成膜時の蒸発源はＴｉＯ２を用いた。このとき基板１は加熱せず、基材１の温度が１５０℃以下になるように制御した。ハードコート層３となるＳｉＯｘ膜の成膜時の反応ガス３７は、ヘキサメチルジシロキサンを用いた。キャリアガス３２としては、Ａｒを用いた。
【００４３】
本実施例と同じ成膜条件により形成したＴｉＯ２膜の結晶構造をＸ線回折により測定したところ、図３に示すように、ブロードであり、アモルファスであることが確認された。
【００４４】
また、比較例として、ハードコート層３を備えず、他の構成については本実施例と同様にした比較例の透明体を製造した。さらに、紫外線吸収層をＩｎ２Ｏ３膜（厚さ０．５μｍ）とし、ハードコート層３としてＳｉＯｘ膜（膜厚：０μｍ、０．５μｍ、１μｍ、１．５μｍ、２．０μｍ、２．５μｍ）とした６種類の透明体を製造した。さらに別の比較例として、ＰＣ基材１上にバッファー層としてＳｉＯｘ層（厚さ０．５〜１μｍ）を配置した後、紫外線吸収層としてＺｎＯ膜（厚さ０．２μｍ）を形成し、さらにハードコート層３としてＳｉＯｘ膜（膜厚：０μｍ、０．５μｍ、１μｍ、１．５μｍ、２．０μｍ、２．５μｍ）を形成した６種類の透明体を製造した。なお、ＺｎＯ膜の下にバッファー層を配置したのは、ＰＣ基材１上にＺｎＯ膜を直接形成すると後述する表３のように剥離しやすく、剥離のために耐酸性試験を行うことが困難になるためである。
【００４５】
比較例の透明体の製造は、図２の成膜装置を用いて、本実施例と同様に行った。
【００４６】
＜評価＞
（耐酸性）
ハードコート層３の膜厚の異なる５種類の実施例の透明体と、比較例の計１３種類の透明体について、耐酸性試験を行った。試験は、実施例および比較例の試料のハードコート構造５の上に0.1ＮのＨ２ＳＯ４溶液０．２ｍｌを滴下し、２４時間放置後水洗いし、さらに１時間放置することにより行った。試験後、目視にて、基板の状態を観察し、評価した。その結果を表２に示す。
【００４７】
【表２】
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【００４８】
表２より、紫外線吸収層としてＺｎＯ膜を用いた比較例は、ハードコート層（ＳｉＯｘ膜）３がどのような膜厚であっても、ＺｎＯ膜がすべて消失しており、0.1ＮのＨ２ＳＯ４に対して耐酸性がないことがわかった。
【００４９】
紫外線吸収層としてＩｎ２Ｏ３膜を用いた比較例は、ハードコート層（ＳｉＯｘ膜）３の厚さが２μｍ以上であれば、Ｉｎ２Ｏ３膜が消失しないが、２μｍよりも薄い場合には、Ｉｎ２Ｏ３膜が消失してしまうことがわかる。
【００５０】
これに対し、本実施例の紫外線吸収層２としてアモルファスなＴｉＯ２膜を用いた試料は、ハードコート層（ＳｉＯｘ膜）３がどのような膜厚であってもアモルファスなＴｉＯ２膜が消失しないことがわかる。さらに、ハードコート層（ＳｉＯｘ膜）３を備えない（０μｍ）比較例であっても、アモルファスなＴｉＯ２膜は消失してしない。
【００５１】
このことから、紫外線吸収層２としてアモルファスなＴｉＯ２膜は、Ｉｎ２Ｏ３膜やＺｎＯ膜と比較し、耐酸性に非常に優れ、ハードコート層３の水浸透性に関わらず溶解することはない。よって、酸性雨にさらされた場合でも、消失することなく、紫外線吸収性能を発揮し続けることができ、ＰＣ基材１の黄変を防止できる。
【００５２】
（密着性）
次に、ＰＣ基材と本実施例のアモルファスなＴｉＯ２膜との密着性を測定した。密着性の測定は、JIS D0202 8.12に準ずるゴバン目試験により行った。ただし、試験に用いた試料のアモルファスなＴｉＯ２膜２の膜厚は2000オングストロームとした。ハードコート層３は形成しなかった。
【００５３】
また、比較例として、ＰＣ基材の上にＩｎ２Ｏ３膜（膜厚2000オングストローム）を配置した試料、ＰＣ基材の上にＺｎＯ膜（膜厚２０００オングストローム）を配置した試料をそれぞれ蒸着法により形成し、同様に密着性を測定した。
【００５４】
その結果、表３に示すようにＰＣ基材とアモルファスなＴｉＯ２膜との密着性、および、ＰＣ基材とＩｎ２Ｏ３膜との密着性は、いずれも１であり、これらの密着性は良好であることがわかった。これに対し、ＰＣ基材とＺｎＯ膜のゴバン目試験の結果は４であり、密着性は低かった。これにより、アモルファスなＴｉＯ２膜は、ＰＣ基材への密着性が高く、膜剥がれを生じないことが確認できた。よって、ＰＣ基材とＴｉＯ２との間にバッファ層等を配置する必要がなく、製造工程を簡略化できる。
【００５５】
【表３】
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【００５６】
（耐熱性）
また、本実施例の透明体と比較例の透明体を用いて耐熱性試験を行った。本実施例の透明体試料は、耐酸性試験で用いた試料と同様に、ＰＣ基材１上に紫外線吸収層２（アモルファスなＴｉＯ２膜（膜厚２μｍ））とハードコート層３を備えたものである。また、比較例として、ＰＣ基材１上に紫外線吸収層（Ｉｎ２Ｏ３膜（膜厚０．５μｍ））とハードコート層を備えた試料と、ＰＣ基材１上にバッファー層（ＳｉＯｘ層（厚さ０．５〜１μｍ））と紫外線吸収層（ＺｎＯ膜（厚さ０．２μｍ））とハードコート層を備えた試料とを用いた。ハードコート層は、実施例と比較例のいずれの試料もＳｉＯｘ層（厚さ２．５μｍ）とした。
【００５７】
耐熱試験方法は、１３０℃で１時間加熱した後、ゴバン目試験を行い、目視にて密着性を評価することにより行った。
【００５８】
その結果、アモルファスなＴｉＯ２膜を用いる本実施例の試料と、ＺｎＯ膜を用いる比較例の試料に剥がれは見られなかったが、Ｉｎ２Ｏ３膜を用いる比較例の試料には剥がれが生じていた。
【００５９】
以上の耐酸性、密着性および耐熱性の各評価結果から、本実施例のアモルファスなＴｉＯ２膜を用いる実施例の試料が、耐酸性、密着性および耐熱性に優れていることがわかった。
【００６０】
（分光透過性）
さらに、本実施例のハードコート構造５（アモルファスなＴｉＯ２膜（厚さ２．０μｍ）とＳｉＯｘ膜（厚さ１．０μｍ）の積層体）の分光透過率を測定したところ、図４のグラフのように３５０ｎｍの透過率が２０％以下であり、ＰＣ基材１を黄変させないための３５０ｎｍの透過率３０％以下の条件を満たしていた。図４のグラフから明らかなように、実施例のハードコート構造は、紫外線吸収層２としてＺｎＯ膜を形成した試料よりも紫外線透過率が高いが、十分な黄変防止性能が得られる。
【００６１】
なお、アモルファスなＴｉＯ２膜が、ＺｎＯ膜よりも紫外線透過率が高くてもＰＣ基材に対して十分な黄変防止性能が得られる理由は現時点では明らかではないが、黄変防止性能が十分であることは、本実施例のアモルファスなＴｉＯ２膜を用いた試料に促進紫外線照射試験（波長295〜450ｎｍ、100mw／cm２の強度の光を72時間照射する試験）を施し、ＰＣ基材に黄変が生じないことにより確認している。
【符号の説明】
【００６２】
１…ＰＣ基材、２…紫外線防止層、３…ハードコート層、５…ハードコート構造、７…成膜室、８…反応ガス導入管、１０…電源、１２…電磁石、３１…プラズマガン、３２…キャリアガス、３３…坩堝、３４…蒸発源ＴｉＯ２、３５…プラズマ、３６…基板ホルダー、３７…材料ガス、３８…アノード電極。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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