(57)【要約】【課題】着色画素４２上の黒欠陥の除去を修正口Ｓを設けることなく、その厚さに高低があっても、高い部分も除去し、着色画素は除去せずに黒欠陥のみを除去するカラーフィルタの欠陥修正方法を提供する。【解決手段】１）黒欠陥Ｄ１の画像情報からレーザー光の初期照射範囲Ｃ１を設定し、空間光変調素子により細分化した照射を与えて初期照射範囲の上層を剥ぐように初期揮散剥離し、２）第２黒欠陥Ｄ２の第２照射範囲Ｃ２を設定し、細分化した照射を与えて第２照射範囲の上層を剥ぐように第２揮散剥離し、３）以降、繰り返し、第（３〜ｎ（最終））照射範囲を設定し、細分化した照射を与えて第（３〜ｎ（最終））照射範囲の上層を剥ぐように第（３〜ｎ（最終））揮散剥離し、黒欠陥Ｄ１を段階的に除去する。【選択図】図８
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
カラーフィルタの黒欠陥にレーザー光を照射して該黒欠陥を除去するカラーフィルタの欠陥修正方法において、
１）撮像カメラを備えた顕微鏡光学系を用いて得られた前記黒欠陥の画像情報から、該黒欠陥の輪郭認識及びレーザー光の照射範囲を設定し、
２）該照射範囲へのレーザー光の照射は、空間光変調素子により細分化した照射を与えて照射範囲を揮散剥離し、
黒欠陥を除去することを特徴とするカラーフィルタの欠陥修正方法。
【請求項２】
カラーフィルタの黒欠陥にレーザー光を照射して該黒欠陥を除去するカラーフィルタの欠陥修正方法において、
１）撮像カメラを備えた顕微鏡光学系を用いて得られた前記黒欠陥の画像情報から、該黒欠陥（初期黒欠陥）の輪郭認識及びレーザー光の初期照射範囲（第１照射範囲）を設定し、
２）該初期照射範囲へのレーザー光の照射は、空間光変調素子により細分化した照射を与えて初期照射範囲の上層を剥ぐように初期揮散剥離（第１揮散剥離）し、
３）初期揮散剥離後の第２黒欠陥の画像情報から、第２黒欠陥の輪郭認識及びレーザー光の第２照射範囲を設定し、
４）該第２照射範囲へのレーザー光の照射は、空間光変調素子により細分化した照射を与えて第２照射範囲の上層を剥ぐように第２揮散剥離し、
５）以降、繰り返し、第（２〜（ｎ−１））揮散剥離後の第（３〜ｎ（最終））黒欠陥の画像情報から、第（３〜ｎ（最終））黒欠陥の輪郭認識及びレーザー光の第（３〜ｎ（最終））照射範囲を設定し、
６）該第（３〜ｎ（最終））照射範囲へのレーザー光の照射は、空間光変調素子により細分化した照射を与えて第（３〜ｎ（最終））照射範囲の上層を剥ぐように第（３〜ｎ（最終））揮散剥離し、
黒欠陥を段階的に除去することを特徴とするカラーフィルタの欠陥修正方法。
【請求項３】
前記レーザー光がパルス出力であることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載のカラーフィルタの欠陥修正方法。
【請求項４】
前記空間光変調素子がマイクロミラーデバイスであることを特徴とする請求項１、請求項２、又は請求項３に記載のカラーフィルタの欠陥修正方法。
【請求項５】
カラーフィルタの黒欠陥にレーザー光を照射して該黒欠陥を除去する欠陥修正装置において、
１）前記黒欠陥が発生したカラーフィルタを水平に載置する基板ステージ、
２）該基板ステージの上方に、その光軸を垂直にして設けられた顕微鏡光学系、
３）該顕微鏡光学系側部に、その照明光が顕微鏡光学系内の第１ビームスプリッターにより垂直下方に屈折されてカラーフィルタの上面を照明するように設けられた照明光源、
４）顕微鏡光学系上部に設けられた、黒欠陥を撮像する撮像カメラ、
５）該撮像カメラが撮像した黒欠陥の画像情報から、黒欠陥の輪郭認識をする画像処理部、及びモニター、
６）該輪郭認識からレーザー光の照射範囲を設定する露光位置処理部、
７）空間光変調素子ドライバへの動作範囲指示、切り替えタイミングと照射タイミングの調整を行う出力制御部、
８）レーザー光源、及び細分化したレーザー光の照射が顕微鏡光学系内の第２ビームスプリッターにより垂直下方に屈折されて黒欠陥の上面を照射するように設けられた空間光変調素子、
を少なくとも具備することを特徴とする欠陥修正装置。
【請求項６】
前記レーザー光がパルス出力であることを特徴とする請求項５に記載の欠陥修正装置。
【請求項７】
前記空間光変調素子がマイクロミラーデバイスであることを特徴とする請求項５又は請求項６に記載の欠陥修正装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、カラーフィルタの欠陥修正方法に関するものであり、特に、黒欠陥にレーザー光を照射して黒欠陥を除去する際に、修正口を設けずに黒欠陥のみを、黒欠陥内の厚さの高い部分が残されてしまうことなく除去し、修正口への修正液の被着を必要としないカラーフィルタの欠陥修正方法、及び該カラーフィルタの欠陥修正方法に用いるに好適な欠陥修正装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
表示装置において、カラー表示、反射率の低減、コントラストの改善、分光特性制御などの目的にカラーフィルタを用いることは、有用な手段となっている。
この表示装置に用いるカラーフィルタは、多くの場合、カラーフィルタは画素として形成されて使用される。この表示装置に用いるカラーフィルタの画素を形成する方法としては、フォトリソグラフィ法が広く用いられている。
【０００３】
図３は、液晶表示装置に用いるカラーフィルタの一例を模式的に示した平面図である。また、図４は、図３に示すカラーフィルタのＸ−Ｘ線における断面図である。
図３、及び図４に示すように、液晶表示装置に用いるカラーフィルタは、ガラス基板（４０）上にブラックマトリックス（４１）、着色画素（４２）、及び透明導電膜（４３）が順次に形成されたものである。
図３、及び図４はカラーフィルタを模式的に示したもので、着色画素（４２）は１２個表されているが、実際のカラーフィルタにおいては、例えば、対角１７インチの画面に数百μｍ程度の着色画素が多数個配列されている。
【０００４】
液晶表示装置の多くに用いられている、上記構造のカラーフィルタの製造方法としては、先ず、ガラス基板上にブラックマトリックスを形成し、次に、このブラックマトリックスの開口部に位置合わせして着色画素を形成し、更に透明導電膜を位置合わせして形成するといった方法が広く用いられている。
ブラックマトリックス（４１）は、遮光性を有するマトリックス状のものであり、着色画素（４２）は、例えば、赤色、緑色、青色のフィルタ機能を有するものであり、透明導電膜（４３）は、透明な電極として設けられたものである。
【０００５】
ブラックマトリックス（４１）は、着色画素（４２）間のマトリックス部（４１Ａ）と、着色画素（４２）が形成された領域（表示部）の周辺部を囲む額縁部（４１Ｂ）とで構成されている。ブラックマトリックスは、カラーフィルタの着色画素の位置を定め、大きさを均一なものとし、また、表示装置に用いられた際に、好ましくない光を遮蔽し、表示装置の画像をムラのない均一な、且つコントラストを向上させた画像にする機能を有している。
【０００６】
ガラス基板上へのブラックマトリックスの形成は、例えば、ガラス基板（４０）上に、ブラックマトリックス形成用の黒色フォトレジストを用いて塗布膜を設け、この塗布膜への露光、現像によってブラックマトリックス（４１）を形成するといった方法がとられている。
【０００７】
また、着色画素（４２）の形成は、このブラックマトリックスが形成されたガラス基板上に、例えば、顔料などの色素を分散させたネガ型の着色フォトレジストを用いて塗布膜を設け、この塗布膜への露光、現像によって着色画素を形成するといった方法がとられている。また、透明導電膜（４３）の形成は、ブラックマトリックス、着色画素が形成され
たガラス基板上に、例えば、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）を用いスパッタ法によって透明導電膜を形成するといった方法がとられている。
すなわち、一例として示す液晶表示装置に用いるカラーフィルタにおいては、透明導電膜を除きフォトリソグラフィ法によって画素（パターン）として形成されている。
【０００８】
上記ブラックマトリックス（４１）或いは着色画素（４２）を形成する際に、画素（パターン）には欠陥が生じることがある。画素（パターン）欠陥は、主として、画素の一部が欠落した白欠陥と異物の付着などによる黒欠陥に分類される。
白欠陥は、例えば、ガラス基板表面のフォトレジストの弾き、フォトレジスト中の気泡、画素上の異物の脱落に伴う膜剥がれなどにより生じる画素の欠落部、或いは、画素の厚みが薄くなっている部分、すなわち、ピンホールである。ピンホールのあるカラーフィルタが液晶表示装置に組み込まれると、白点として光って観視されるので表示品質を損ねる。
【０００９】
また、黒欠陥は、工程中で発生するパーティクル、作業場に浮遊する塵埃などが付着したものであり画素は暗く観視される。この黒欠陥は、画素上で突起となることが多く、例えば、この突起の高さが液晶表示装置の対向基板に接触するような高さであると、短絡を起こし表示品質を損ねる。
従って、ブラックマトリックス（４１）或いは着色画素（４２）を形成する際に発生した白欠陥や黒欠陥などの画素（パターン）欠陥に対しては修正が施される。
【００１０】
図１（ａ）〜（ｄ）は、黒欠陥を修正する方法の一例の説明図である。図１（ａ）は、ガラス基板（４０）上にブラックマトリックス（４１）、着色画素（４２）が順次に形成された段階で、着色画素（４２）に黒欠陥（Ｄ）が発生した状態を表したものである。着色画素（４２）の大きさ（ａ×ｂ）は、３００μｍ×１００μｍ程度であり、膜厚は１．０μｍ程度である。黒欠陥（Ｄ）は、２０μｍ〜７０μｍ程度の大きさ（ｃ）のものが修正の対象となる。
【００１１】
図１（ｂ）は、着色画素（４２）の黒欠陥（Ｄ）の部分に修正口（Ｓ）が形成された段階を表したものである。黒欠陥（Ｄ）の平面形状は不定型であるが、修正口（Ｓ）は、図１（ｂ）に示すように、例えば、正方形の形状に黒欠陥（Ｄ）の周囲の着色画素をも除去したものである。この着色画素の除去には、例えば、レーザー光の照射により当該部分を揮散させる。修正口（Ｓ）には、黒欠陥（Ｄ）、及びその下方と周辺の着色画素（４２）が除去されてガラス基板（４０）が露出している。
【００１２】
図１（ｃ）は、着色画素（４２）内の修正口（Ｓ）に対して修正が施され、修正膜（４５）が形成された段階を表したものである。また、図１（ｄ）は、図１（ｃ）におけるＸ−Ｘ線での断面図である。修正口（Ｓ）に対しては、例えば、先端部を偏平に加工した修正針の先端に修正液を付着させ修正口（Ｓ）、すなわち、修正口（Ｓ）から露出しているガラス基板面上に修正液を被着させる。
【００１３】
ガラス基板面上に修正液を被着させる他の方法としては、修正針に代わりディスペンサを用いる方法が挙げられる。この方法は、ガラス製のディスペンサに修正液を充填し、空気による加圧で修正液を吐出させ、修正口に修正液を被着させるといった修正方法である。例えば、本体内径１ｍｍφ程度、先端の吐出口内径５〜１０μｍφ程度のマイクロディスペンサと称する小型のディスペンサを用いるものである。
ガラス基板面上の修正液の被膜には、修正液の組成に準じ、例えば、ＵＶ光照射による硬化、或いはスポットヒーターを用いた加熱処理による硬化を行い、修正膜（４５）となし、黒欠陥の修正を完了する。
【００１４】
しかし、上記のような黒欠陥の修正方法では、例えば、黒欠陥（Ｄ）で、その厚さに高
低があると、厚さの高い部分がレーザー光の照射により揮散によっては除去しきれずに、残されてしまうことがある。図２は、図１（ｂ）の修正口（Ｓ）の部分を拡大したものであるが、図２（ｂ）中、符号（Ｄ’）で示すように、黒欠陥（Ｄ）の厚さの高い部分が除去しきれずに残されてしまうことがある。
また、図１（ｃ）、（ｄ）に示すように、修正を施した修正口（Ｓ）の周囲、すなわち、修正を施す必要のない正常な着色画素（４２）上にも修正液が被着されてしまい、修正口（Ｓ）の周囲の画素上に修正液が重なり、新たな突起（４４）が形成されてしまうことがある。
【００１５】
この新たな突起（４４）は、修正液が高濃度である際に発生し易い。また、修正液が低濃度である際には突起とならず、修正液が修正口の周囲の画素上に広がり新たに混色（欠陥）が発生し易い。すなわち、欠陥の修正作業が良好に行われなかった場合であり、黒欠陥の一部残（Ｄ’）や、黒欠陥とは異なる、新たな突起欠陥や混色欠陥が生じることがある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１６】
【特許文献１】特開２００６−２３９７４３号公報
【特許文献２】特開２００７−３３３９７２号公報
【特許文献３】特開２００８−９２１３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１７】
本発明は、上記の問題を解決するためになされたものであり、ガラス基板上にブラックマトリックス、着色画素が順次に形成されたカラーフィルタの黒欠陥をレーザー光の照射によって除去する際の、着色画素上の上記黒欠陥の除去を修正口を設けることなく除去する欠陥修正方法であって、黒欠陥内で、その厚さに高低があっても、厚さの高い部分が除去されずに残されてしまうことのなく、黒欠陥下方の着色画素は除去せずに黒欠陥のみを除去することのできるカラーフィルタの欠陥修正方法を提供することを課題とするものである。また、上記カラーフィルタの欠陥修正方法に用いるに好適な欠陥修正装置を提供することを課題とする。
これにより、修正口への修正液の被着を必要とせず、また、修正作業に伴う新たな突起欠陥や混色欠陥を発生させることはなくなる。更には、その厚さに高低のある黒欠陥であっても、黒欠陥下方の着色画素にダメージを与えることはない。
【課題を解決するための手段】
【００１８】
本発明は、カラーフィルタの黒欠陥にレーザー光を照射して該黒欠陥を除去するカラーフィルタの欠陥修正方法において、
１）撮像カメラを備えた顕微鏡光学系を用いて得られた前記黒欠陥の画像情報から、該黒欠陥の輪郭認識及びレーザー光の照射範囲を設定し、
２）該照射範囲へのレーザー光の照射は、空間光変調素子により細分化した照射を与えて照射範囲を揮散剥離し、
黒欠陥を除去することを特徴とするカラーフィルタの欠陥修正方法である。
【００１９】
また、本発明は、カラーフィルタの黒欠陥にレーザー光を照射して該黒欠陥を除去するカラーフィルタの欠陥修正方法において、
１）撮像カメラを備えた顕微鏡光学系を用いて得られた前記黒欠陥の画像情報から、該黒
欠陥（初期黒欠陥）の輪郭認識及びレーザー光の初期照射範囲（第１照射範囲）を設定し、
２）該初期照射範囲へのレーザー光の照射は、空間光変調素子により細分化した照射を与えて初期照射範囲の上層を剥ぐように初期揮散剥離（第１揮散剥離）し、
３）初期揮散剥離後の第２黒欠陥の画像情報から、第２黒欠陥の輪郭認識及びレーザー光の第２照射範囲を設定し、
４）該第２照射範囲へのレーザー光の照射は、空間光変調素子により細分化した照射を与えて第２照射範囲の上層を剥ぐように第２揮散剥離し、
５）以降、繰り返し、第（２〜（ｎ−１））揮散剥離後の第（３〜ｎ（最終））黒欠陥の画像情報から、第（３〜ｎ（最終））黒欠陥の輪郭認識及びレーザー光の第（３〜ｎ（最終））照射範囲を設定し、
６）該第（３〜ｎ（最終））照射範囲へのレーザー光の照射は、空間光変調素子により細分化した照射を与えて第（３〜ｎ（最終））照射範囲の上層を剥ぐように第（３〜ｎ（最終））揮散剥離し、
黒欠陥を段階的に除去することを特徴とするカラーフィルタの欠陥修正方法である。
【００２０】
また、本発明は、上記発明によるカラーフィルタの欠陥修正方法において、前記レーザー光がパルス出力であることを特徴とするカラーフィルタの欠陥修正方法である。
【００２１】
また、本発明は、上記発明によるカラーフィルタの欠陥修正方法において、前記空間光変調素子がマイクロミラーデバイスであることを特徴とするカラーフィルタの欠陥修正方法である。
【００２２】
また、本発明は、カラーフィルタの黒欠陥にレーザー光を照射して該黒欠陥を除去する欠陥修正装置において、
１）前記黒欠陥が発生したカラーフィルタを水平に載置する基板ステージ、
２）該基板ステージの上方に、その光軸を垂直にして設けられた顕微鏡光学系、
３）該顕微鏡光学系側部に、その照明光が顕微鏡光学系内の第１ビームスプリッターにより垂直下方に屈折されてカラーフィルタの上面を照明するように設けられた照明光源、
４）顕微鏡光学系上部に設けられた、黒欠陥を撮像する撮像カメラ、
５）該撮像カメラが撮像した黒欠陥の画像情報から、黒欠陥の輪郭認識をする画像処理部、及びモニター、
６）該輪郭認識からレーザー光の照射範囲を設定する露光位置処理部、
７）空間光変調素子ドライバへの動作範囲指示、切り替えタイミングと照射タイミングの調整を行う出力制御部、
８）レーザー光源、及び細分化したレーザー光の照射が顕微鏡光学系内の第２ビームスプリッターにより垂直下方に屈折されて黒欠陥の上面を照射するように設けられた空間光変調素子、
を少なくとも具備することを特徴とする欠陥修正装置である。
【００２３】
また、本発明は、上記発明による欠陥修正装置において、前記レーザー光がパルス出力であることを特徴とする欠陥修正装置である。
【００２４】
また、本発明は、上記発明による欠陥修正装置において、前記空間光変調素子がマイクロミラーデバイスであることを特徴とする欠陥修正装置である。
【発明の効果】
【００２５】
本発明は、撮像カメラを備えた顕微鏡光学系を用いて得られた前記黒欠陥の画像情報から、該黒欠陥の輪郭認識及びレーザー光の照射範囲を設定し、該照射範囲へのレーザー光の照射は、空間光変調素子により細分化した照射を与えて照射範囲を揮散剥離し、黒欠陥
を除去するので、着色画素上の黒欠陥の除去を修正口を設けることなく除去する欠陥修正方法であって、黒欠陥下方の着色画素は除去せずに黒欠陥のみを除去することのできるカラーフィルタの欠陥修正方法となる。これにより、修正口への修正液の被着を必要とせず、また、修正作業に伴う新たな突起欠陥や混色欠陥を発生させることはなくなる。
【００２６】
また、本発明は、１）撮像カメラを備えた顕微鏡光学系を用いて得られた前記黒欠陥の画像情報から、該黒欠陥（初期黒欠陥）の輪郭認識及びレーザー光の初期照射範囲（第１照射範囲）を設定し、２）該初期照射範囲へのレーザー光の照射は、空間光変調素子により細分化した照射を与えて初期照射範囲の上層を剥ぐように初期揮散剥離（第１揮散剥離）し、３）初期揮散剥離後の第２黒欠陥の画像情報から、第２黒欠陥の輪郭認識及びレーザー光の第２照射範囲を設定し、４）該第２照射範囲へのレーザー光の照射は、空間光変調素子により細分化した照射を与えて第２照射範囲の上層を剥ぐように第２揮散剥離し、５）以降、繰り返し、第（２〜（ｎ−１））揮散剥離後の第（３〜ｎ（最終））黒欠陥の画像情報から、第（３〜ｎ（最終））黒欠陥の輪郭認識及びレーザー光の第（３〜ｎ（最終））照射範囲を設定し、６）該第（３〜ｎ（最終））照射範囲へのレーザー光の照射は、空間光変調素子により細分化した照射を与えて第（３〜ｎ（最終））照射範囲の上層を剥ぐように第（３〜ｎ（最終））揮散剥離し、黒欠陥を段階的に除去するので、着色画素上の黒欠陥の除去を修正口を設けることなく除去する欠陥修正方法であって、黒欠陥内で、その厚さに高低があっても、厚さの高い部分が除去されずに残されてしまうことのなく、黒欠陥下方の着色画素は除去せずに黒欠陥のみを除去することのできるカラーフィルタの欠陥修正方法となる。
これにより、修正口への修正液の被着を必要とせず、また、修正作業に伴う新たな突起欠陥や混色欠陥を発生させることはなくなる。更には、その厚さに高低のある黒欠陥であっても、黒欠陥下方の着色画素にダメージを与えることはない。
【００２７】
また、本発明は、１）黒欠陥が発生したカラーフィルタを水平に載置する基板ステージ、２）該基板ステージの上方に、その光軸を垂直にして設けられた顕微鏡光学系、３）該顕微鏡光学系側部に、その照明光が顕微鏡光学系内の第１ビームスプリッターにより垂直下方に屈折されてカラーフィルタの上面を照明するように設けられた照明光源、４）顕微鏡光学系上部に設けられた、黒欠陥を撮像する撮像カメラ、５）該撮像カメラが撮像した黒欠陥の画像情報から、黒欠陥の輪郭認識をする画像処理部、及びモニター、６）該輪郭認識からレーザー光の照射範囲を設定する露光位置処理部、７）空間光変調素子ドライバへの動作範囲指示、切り替えタイミングと照射タイミングの調整を行う出力制御部、８）レーザー光源、及び細分化したレーザー光の照射が顕微鏡光学系内の第２ビームスプリッターにより垂直下方に屈折されて黒欠陥の上面を照射するように設けられた空間光変調素子、を少なくとも具備するので、上記カラーフィルタの欠陥修正方法に用いるに好適な欠陥修正装置となる。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
【図１】（ａ）〜（ｄ）は、黒欠陥を修正する方法の一例の説明図である。
【図２】図１（ｂ）の修正口の部分を拡大した説明図である。
【図３】液晶表示装置に用いるカラーフィルタの一例を模式的に示した平面図である。
【図４】図３に示すカラーフィルタのＸ−Ｘ線における断面図である。
【図５】本発明による欠陥修正装置の一例の概略を説明する構成図である。
【図６】本発明によるカラーフィルタの欠陥修正方法の一例を説明する黒欠陥を例示したものである。
【図７】図６（ａ）の符号（Ａ）で示す部分を拡大した説明図である。
【図８】（ａ）、（ｂ）は、請求項２に係わるカラーフィルタの欠陥修正方法の一例を説明する黒欠陥を例示したものである。
【図９】（ａ）、（ｂ）は、黒欠陥（初期黒欠陥）の初期揮散剥離（第１揮散剥離）後に得られた第２黒欠陥の平面図、及びＸ−Ｘ線での断面図である。
【図１０】（ａ）、（ｂ）は、第２黒欠陥の第２揮散剥離後に得られた第３黒欠陥の平面図、及びＸ−Ｘ線での断面図である。
【図１１】（ａ）、（ｂ）は、第３黒欠陥の第３揮散剥離後に得られた第４黒欠陥の平面図、及びＸ−Ｘ線での断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２９】
以下に、本発明によるカラーフィルタの欠陥修正方法及び欠陥修正装置を、その実施の形態に基づいて説明する。
図５は、本発明による欠陥修正装置の一例の概略を説明する構成図である。図５に示す欠陥修正装置は、カラーフィルタの黒欠陥にレーザー光を照射して黒欠陥を除去する欠陥修正装置であり、レーザー光としてパルス出力を用い、空間光変調素子としてマイクロミラーデバイスを用いた例を示したものである。
【００３０】
図５に示すように、この欠陥修正装置は、
１）ガラス基板（４０）上にブラックマトリックス、着色画素（４２）が順次に形成されたカラーフィルタの、着色画素（４２）上に黒欠陥（Ｄ）が発生したカラーフィルタ（ＣＦ）を水平に載置する基板ステージ（１０）、
２）該基板ステージ（１０）の上方に、その光軸を垂直にして設けられた顕微鏡光学系（２０）、
３）該顕微鏡光学系（２０）の側部に、その照明光が、図５中、点線で示すように、顕微鏡光学系（２０）内の第１ビームスプリッター（Ｂｓ−１）により垂直下方に屈折されてカラーフィルタ（ＣＦ）の上面を照明するように設けられた照明光源（Ｌ１）、
４）顕微鏡光学系（２０）上部に設けられた、黒欠陥を撮像する撮像カメラ（３０）、
５）該撮像カメラ（３０）が撮像した黒欠陥（Ｄ）の画像情報から、黒欠陥の輪郭認識をする画像処理部（５０）、及びモニター（Ｍｏ）、
６）該認識した黒欠陥（Ｄ）の輪郭からレーザー光の照射範囲を設定する露光位置処理部（６０）、
７）マイクロミラーデバイス・ドライバ（Ｄｒ）への動作範囲指示、切り替えタイミングと照射タイミングの調整を行う出力制御部（７０）、
８）レーザー光源（Ｌ２）、及び細分化したレーザー光の照射が顕微鏡光学系（２０）内の第２ビームスプリッター（Ｂｓ−２）により垂直下方に屈折されて黒欠陥（Ｄ）の上面を照射するように設けられたマイクロミラーデバイス（８０）、で構成されたものである。
【００３１】
上記欠陥修正装置を用いてのカラーフィルタの欠陥修正方法は、例えば、顕微鏡光学系（２０）に備えられた黒欠陥（Ｄ）の画像情報を基に、画像処理部（５０）で黒欠陥（Ｄ）の輪郭の認識を行い、この輪郭から露光位置処理部（６０）でレーザー光の照射範囲を設定する。
レーザー光を照射範囲に照射する際は、マイクロミラーデバイス（８０）により細分化した照射を与えて、その照射範囲を揮散剥離し黒欠陥を除去するといった方法である。
【００３２】
図６は、本発明によるカラーフィルタの欠陥修正方法の一例を説明するための、着色画素（４２）上に発生した黒欠陥を例示したものである。図６（ａ）は、一例として示す黒欠陥（Ｄ−２）の平面図、図６（ｂ）は、Ｘ−Ｘ線での断面図である。
この黒欠陥（Ｄ−２）は、黒欠陥の中でも比較的その厚さが低く、厚さが略均一で、その輪郭（Ｃ）部の厚さの傾斜が急峻な黒欠陥を例としてしている。
【００３３】
本発明によるカラーフィルタの欠陥修正方法は、着色画素上の黒欠陥の除去をする際に、修正口を設けることなく、また黒欠陥下方の着色画素は除去せずに黒欠陥のみを除去する欠陥修正方法である。レーザー光の照射は、予め得られた黒欠陥の画像情報から認識した輪郭に基づいて設定した照射範囲に、細分化したレーザー光の照射を与えて黒欠陥のみを揮散剥離し除去することを特徴としている。
【００３４】
図７は、図６（ａ）の符号（Ａ）で示す部分を拡大したものである。図７は、空間光変調素子によって、例えば、マイクロミラーデバイスによって、細分化されたレーザー光が黒欠陥（Ｄ−２）を照射する状態を拡大して説明する平面図である。
図７中、符号（Ｃ）は、黒欠陥（Ｄ−２）の輪郭であり、輪郭に基づいて設定した照射範囲を表している。図７に示すうように、細分化されたレーザー光は、碁盤目のように細分化した照射を黒欠陥（Ｄ−２）上に与える。碁盤目に×印を付けた符号（ｓ）で示す部分は、レーザー光が照射されて揮散剥離される部分である。また、碁盤目に×印を付けていない符号（ｐ）で示す部分は、レーザー光が照射されない着色画素（４２）の部分である。
【００３５】
レーザー光の照射強度は、図６（ｂ）に示す、厚さ（Ｈ）を有する黒欠陥（Ｄ−２）を揮散剥離して除去できる強度とする。この強度の調整は、例えば、レーザー光をパルス出力とし、パルス回数によって調整することが好ましい。
このような照射強度のレーザー光を細分化して照射することによって、黒欠陥（Ｄ−２）のみを除去し、黒欠陥下方の着色画素は除去されない状態が保たれる。
【００３６】
図７に示す、細分化された碁盤目のサイズ（ｋ×ｋ）は、例えば、図６（ａ）に示す黒欠陥（Ｄ−２）の大きさ（ｊ）が４０μｍ程度の際に、ｋ×ｋ＝０．０８×０．０８μｍ程度のサイズのものとなる。
細分化されて照射されるレーザー光によって揮散剥離される碁盤目の状態を詳細にみると、符号（ｓ）、符号（ｐ）で表される部分のように、明確に照射される部分と、明確に照射されない部分とがある。
【００３７】
一方では、黒欠陥（Ｄ−２）の輪郭（Ｃ）は不定形であるために、輪郭（Ｃ）の部分の碁盤目では、サイズ（ｋ×ｋ）の碁盤目内にて、レーザー光が照射されない着色画素の部分（ｒ）と、照射されずに揮散剥離されなかった黒欠陥の部分（ｑ）とが共存する碁盤目、及びレーザー光が照射されて揮散剥離された黒欠陥の部分（ｕ）と、照射されて揮散剥離された着色画素の部分（ｔ）とが共存する碁盤目、といった２種の碁盤目が発生することになる。
【００３８】
しかし、この輪郭（Ｃ）の部分での、この現象は、前記図２に示す修正口（Ｓ）内での黒欠陥（Ｄ）の周囲の部分（ｅ）、或いは、黒欠陥の一部残（Ｄ’）に比較すると、極めて微小なものであり、実質的に問題となるものではない。つまり、インクの被着、或いは、研磨などの再修正を要するものではない。
【００３９】
上述するように、発明によるカラーフィルタの欠陥修正方法は、着色画素上の黒欠陥の除去を修正口を設けることなく除去する欠陥修正方法であり、黒欠陥下方の着色画素は除去せずに黒欠陥のみを除去するができ、黒欠陥下方の着色画素に実質的にダメージを与えることはない。
【００４０】
図８（ａ）、（ｂ）は、請求項２に係わるカラーフィルタの欠陥修正方法の一例を説明するための、着色画素上に発生した黒欠陥を例示したものである。図８（ａ）は、一例として示す黒欠陥（Ｄ１）の平面図、図８（ｂ）は黒欠陥（Ｄ１）のＸ−Ｘ線での断面図である。この黒欠陥（Ｄ１）は、黒欠陥の中でも比較的その厚さが高く、黒欠陥内で厚さに高低があり、その輪郭の傾斜が急峻な箇所と緩やかな箇所のある黒欠陥を例としている。
【００４１】
この黒欠陥（Ｄ１）の高さ（Ｈ４）は、上記図６に示す黒欠陥（Ｄ−２）の高さ（Ｈ）に比較して高く、例えば、黒欠陥（Ｄ１）の高さ（Ｈ４）は、黒欠陥（Ｄ−２）の高さ（Ｈ）の略２倍のものを例としている（Ｈ４≒２×Ｈ）。
この黒欠陥（Ｄ１）の高さ（Ｈ４）を略４等分した高さの間隔（ΔＨ、Ｈ４／４≒ΔＨ）で、黒欠陥（Ｄ１）の高さをＨ１〜Ｈ４で表し、各高さでの等高線を表したのが、図８（ａ）に示す、各々の等高線Ｃ１〜Ｃ４である。図８中、黒欠陥（Ｄ１）の右方の傾斜が急峻であり、左方の傾斜が緩やかである。
【００４２】
このような黒欠陥（Ｄ１）を前記従来の手法で除去すると、例えば、図８中、等高線（Ｃ３）または等高線（Ｃ４）で表される高い部分が除去しきれずに残されるといったことがある。
【００４３】
このような黒欠陥（Ｄ１）を上記図６に示す手法で除去すると、同様に、例えば、図８中、等高線（Ｃ３）または等高線（Ｃ４）で表される高い部分が除去しきれずに残されるといったことがある。或いは、レーザー光の照射強度を調整し、高さ（Ｈ４）を除去できるように強度を上げると、等高線（Ｃ２）または等高線（Ｃ１）で示す部分の下方に位置する着色画素（４２）をも揮散剥離し除去してしまうといったことがある。
【００４４】
本発明によるカラーフィルタの欠陥修正方法は、修正口を設けずに、また黒欠陥下方の着色画素は除去せずに黒欠陥のみを除去する方法であり、その手法として、予め設定した照射範囲に細分化したレーザー光の照射を与え黒欠陥のみを揮散剥離するものであるが、更には、上記黒欠陥（Ｄ１）を初期黒欠陥として、該初期黒欠陥の初期照射範囲（第１照射範囲）を設定し、この初期照射範囲（第１照射範囲）へのレーザー光の照射は、例えば、マイクロミラーデバイスにより細分化した照射を与えて初期照射範囲（第１照射範囲）の上層を剥ぐように初期揮散剥離（第１揮散剥離）を行う。
以降、繰り返して、照射範囲の設定、及びレーザー光の照射を与えての上層を剥ぐように揮散剥離を行い、段階的に黒欠陥を除去することを特徴としている。
【００４５】
図８に示す符号（Ｃ１）は等高線であるが、また黒欠陥（Ｄ１）を初期黒欠陥とし、この初期黒欠陥に設定された初期照射範囲（第１照射範囲）を表している。図８は、高さ（Ｈ４）の黒欠陥（初期黒欠陥）（Ｄ１）に４段階のレーザー光の照射を与え揮散剥離して除去する方法を例示したものである。
すなわち、１回のレーザー光の照射により黒欠陥（初期黒欠陥）（Ｄ１）の高さ（Ｈ４）の１／４（Ｈ４／４≒ΔＨ）の高さ分の黒欠陥（初期黒欠陥）を剥ぐように揮散剥離し、合計４回にわたるレーザー光の照射により黒欠陥（初期黒欠陥）（Ｄ１）のみを全て除去する方法である。
【００４６】
この際のレーザー光の照射強度（Ｋ）は、黒欠陥（初期黒欠陥）（Ｄ１）の高さ（Ｈ４）の１／４（Ｈ４／４≒ΔＨ）の高さ分、つまり、高さ（ΔＨ）を１回のレーザー光の照射により揮散剥離できる照射強度であり、「照射強度（Ｋ）＝最低照射強度×あるパルス回数」により、適宜に調整される強度である。
【００４７】
図９（ａ）、（ｂ）は、黒欠陥（初期黒欠陥）（Ｄ１）の輪郭に基づき設定された初期照射範囲（第１照射範囲）（Ｃ１）への初期揮散剥離（第１揮散剥離）後に得られた第２黒欠陥（Ｄ２）の平面図、及びＸ−Ｘ線での断面図である。
図９（ａ）、（ｂ）に示すように、第２黒欠陥（Ｄ２）は、初期揮散剥離（第１揮散剥離）によって黒欠陥（初期黒欠陥）（Ｄ１）よりも高さ（ΔＨ）ほど低い高さ（Ｈ３）となり（Ｈ４−ΔＨ＝Ｈ３）、また設定された第２照射範囲（Ｃ２）は、初期照射範囲（第１照射範囲）（Ｃ１）より小さい照射範囲となっている。
【００４８】
続く、第２黒欠陥（Ｄ２）の第２照射範囲（Ｃ２）へのレーザー光の照射は、上記照射強度（Ｋ）にて細分化した照射を与えて第２照射範囲（Ｃ２）の高さ（ΔＨ）分、その上層を剥ぐように第２揮散剥離を行う。
尚、上記第２揮散剥離が行われる前に、レーザー光の照射を細分化する空間光変調素子を制御するドライバへの動作範囲指示、切り替えタイミングと照射タイミングの調整を行っておく。以降、各揮散剥離の前に調整を行っておく。
【００４９】
図１０（ａ）、（ｂ）は、第２黒欠陥（Ｄ２）の輪郭に基づき設定された第２照射範囲）（Ｃ２）への第２揮散剥離後に得られた第３黒欠陥（Ｄ３）の平面図、及びＸ−Ｘ線での断面図である。
図１０（ａ）、（ｂ）に示すように、第３黒欠陥（Ｄ３）は、第２揮散剥離によって第２黒欠陥（Ｄ２）よりも高さ（ΔＨ）ほど低い高さ（Ｈ２）となり（Ｈ３−ΔＨ＝Ｈ２）、また設定された第３照射範囲（Ｃ３）は、第２照射範囲（Ｃ２）より小さい照射範囲となっている。
【００５０】
続く、第３黒欠陥（Ｄ３）の第３照射範囲（Ｃ３）へのレーザー光の照射は、上記照射強度（Ｋ）にて細分化した照射を与えて第３照射範囲（Ｃ３）の高さ（ΔＨ）分、その上層を剥ぐように第３揮散剥離を行う。
【００５１】
図１１（ａ）、（ｂ）は、第３黒欠陥（Ｄ３）の輪郭に基づき設定された第３照射範囲）（Ｃ３）への第３揮散剥離後に得られた第４黒欠陥（Ｄ４）の平面図、及びＸ−Ｘ線での断面図である。
図１１（ａ）、（ｂ）に示すように、第４黒欠陥（Ｄ４）は、第３揮散剥離によって第３黒欠陥（Ｄ３）よりも高さ（ΔＨ）ほど低い高さ（Ｈ１）となり（Ｈ２−ΔＨ＝Ｈ１）、また設定された第４照射範囲（Ｃ４）は、第３照射範囲（Ｃ３）より小さい照射範囲となっている。
【００５２】
続く、第４黒欠陥（Ｄ４）の第４照射範囲（Ｃ４）へのレーザー光の照射は、上記照射強度（Ｋ）にて細分化した照射を与えて第４照射範囲（Ｃ４）の高さ（ΔＨ＝Ｈ１）分、つまり、残された第４黒欠陥（Ｄ４）を全て揮散剥離し、黒欠陥（初期黒欠陥）（Ｄ１）の除去を終了する。
【００５３】
上述するように、本発明によるカラーフィルタの欠陥修正方法は、着色画素上の黒欠陥の除去を修正口を設けることなく除去する欠陥修正方法であって、黒欠陥下方の着色画素は除去せずに黒欠陥のみを除去するのであるが、黒欠陥の除去を段階的に行うので、黒欠陥内で、その厚さに高低があっても、厚さの高い部分が除去されるカラーフィルタの欠陥修正方法となる。
従って、その厚さに高低のある黒欠陥であっても、黒欠陥下方の着色画素にダメージを与えることはない。また、修正口への修正液の被着を必要とせず、また、修正作業に伴う新
たな突起欠陥や混色欠陥を発生させることはなくなる。
【００５４】
尚、図７に示すサイズ（ｋ×ｋ）の碁盤目内にては、レーザー光が照射されない着色画素の部分（ｒ）と、照射されずに揮散剥離されなかった黒欠陥の部分（ｑ）とが共存する碁盤目、及びレーザー光が照射されて揮散剥離された黒欠陥の部分（ｕ）と、照射されて揮散剥離された着色画素の部分（ｔ）とが共存する碁盤目、といった２種の碁盤目が発生する。
請求項２に係わる欠陥修正方法においても、同様に上記２種の碁盤目が発生するのであるが、高さ（ΔＨ）分を段階的に行うので、揮散剥離されなかった黒欠陥の部分（ｑ）に相当する部分の高さは低く、また揮散剥離された着色画素の部分（ｔ）に相当する部分の深さは浅いものとなる。
【符号の説明】
【００５５】
１０・・・基板ステージ
２０・・・顕微鏡光学系
３０・・・撮像カメラ
４０・・・ガラス基板
４１・・・ブラックマトリックス
４２・・・着色画素
４３・・・透明導電膜
５０・・・画像処理部
６０・・・露光位置処理部
７０・・・出力制御部
８０・・・マイクロミラーデバイス
Ｂｓ−１、Ｂｓ−２・・・第１ビームスプリッター、第２ビームスプリッター
Ｃ・・・輪郭
Ｃ１〜Ｃ４・・・黒欠陥の等高線（照射範囲）
ＣＦ・・・カラーフィルタ
Ｄ、Ｄ−２・・・黒欠陥
Ｄ１〜Ｄ４・・・黒欠陥（初期黒欠陥）〜第４黒欠陥
Ｄｒ・・・マイクロミラーデバイス・ドライバ
Ｈ１〜Ｈ４・・・黒欠陥の高さ
ΔＨ・・・１回のレーザー光の照射により揮散剥離できる黒欠陥の高さ
Ｌ１・・・照明光源
Ｌ２・・・レーザー光源
Ｍｏ・・・モニター
Ｓ・・・修正口
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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