(57)【要約】【課題】セルギャップの均一化を図ることができるスペーサの形成方法、表示パネル用の基板の製造方法、スペーサ、表示パネル用の基板を提供すること。【解決手段】前記表示パネル用の基板１の表面に感光性材料の膜１７を形成する段階と、感光性材料の膜１７の所定の領域に第一の強さの光エネルギを照射するとともに感光性材料の膜１７のスペーサ１５ａに対応する領域の周縁部に前記第一の強さの光エネルギよりも弱い第二の強さの光エネルギを照射する段階と、感光性材料の膜１７を現像することによってスペーサ１５ａに対応する領域にスペーサ１５ａを形成するとともにスペーサ１５ａに対応する領域の周縁部にスペーサ１５ａに対応する領域の周縁部以外に比較して高さが低い部分を形成する段階とを有する。【選択図】図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示パネル用の基板の間のセルギャップを規定するスペーサの形成方法であって、
前記表示パネル用の基板の表面にフォトレジスト材料の膜を形成する段階と、
前記フォトレジスト材料の膜の前記スペーサに対応する領域の周縁部にフォトマスクに形成される第一の半透過領域を通じて光エネルギを照射する段階と、
前記フォトレジスト材料の膜を現像することによって前記フォトマスクの前記第一の半透過領域を通じて光エネルギを照射した領域に他の部分に比較して高さの低い部分を形成する段階と、
を有することを特徴とするスペーサの形成方法。
【請求項２】
前記現像されたフォトレジスト材料を加熱して軟化させることにより上面を略平面に形成することを特徴とする請求項１に記載のスペーサの形成方法。
【請求項３】
前記フォトレジスト材料はポジ型のフォトレジスト材料であり、
前記フォトマスクは前記スペーサに対応する遮光領域と第一の半透過領域を有するものであって前記第一の半透過領域は前記遮光領域の周縁部に形成され、
前記フォトレジスト材料の膜のうち前記スペーサに対応する領域を遮光するとともに前記スペーサに対応する領域の周縁部に前記第一の半透過領域を通じて光エネルギを照射し、
前記フォトレジスト材料の膜の現像においてスペーサに対応する領域にフォトレジスト材料を残すとともに前記第一の半透過領域を通じて光エネルギを照射した領域に前記遮光した領域よりも高さが低い部分を形成することを特徴とする請求項１または請求項２に記載のスペーサの形成方法。
【請求項４】
セルギャップを規定するスペーサを有する表示パネル用の基板の製造方法であって、
前記表示パネル用の基板の表面にフォトレジスト材料の膜を形成する段階と、
前記フォトレジスト材料の膜の前記スペーサに対応する領域の周縁部にフォトマスクに形成される第一の半透過領域を通じて光エネルギを照射する段階と、
前記フォトレジスト材料の膜を現像することによって前記フォトマスクの前記第一の半透過領域を通じて光エネルギを照射した領域に他の部分に比較して高さの低い部分を形成する段階と、
を有することを特徴とする表示パネル用の基板の製造方法。
【請求項５】
前記現像されたフォトレジスト材料を加熱して軟化させることにより上面を略平面に形成することを特徴とする請求項４に記載の表示パネル用の基板の製造方法。
【請求項６】
前記フォトレジスト材料はポジ型のフォトレジスト材料であり、
前記フォトマスクは前記スペーサに対応する遮光領域と第一の半透過領域とを有し前記第一の半透過領域は前記遮光領域の周縁部に形成され、
前記フォトレジスト材料の膜のうち前記スペーサに対応する領域を遮光するとともに前記スペーサに対応する領域のうちの周縁部に前記第一の半透過領域を通じて光エネルギを照射し、
前記フォトレジスト材料の膜の現像において遮光された領域にフォトレジスト材料を残すとともに前記第一の半透過領域を通じて光エネルギを照射した領域に遮光した領域寄りも高さが低い部分を形成することを特徴とする請求項４または請求項５に記載の表示パネル用の基板の製造方法。
【請求項７】
前記フォトマスクは液晶の配向を制御する配向制御構造物のパターンに対応した第二の半透過領域をさらに有し、前記スペーサに対応する領域の周縁部に前記第一の半透過領域を通じて光エネルギを照射すると同時に前記配向制御構造物に対応する領域に前記第二の半透過領域を通じて光エネルギを照射することを特徴とする請求項６に記載の表示パネル用の基板の製造方法。
【請求項８】
表示パネル用の基板の間のセルギャップを規定するスペーサの形成方法であって、
前記表示パネル用の基板の表面に感光性材料の膜を形成する段階と、
前記感光性材料の膜の所定の領域に第一の強さの光エネルギを照射するとともに前記感光性材料の膜の前記スペーサに対応する領域の周縁部に前記第一の強さの光エネルギよりも弱い第二の強さの光エネルギを照射する段階と、
前記感光性材料の膜を現像することによって前記スペーサに対応する領域にスペーサを形成するとともに前記スペーサに対応する領域の周縁部に前記スペーサに対応する領域の周縁部以外の部分に比較して高さが低い部分を形成する段階と、
を有することを特徴とするスペーサの形成方法。
【請求項９】
前記感光性材料の膜の前記所定の領域にはフォトマスクに形成される透光領域を通じて第一の強さの光エネルギを照射し、前記感光性材料の膜の前記スペーサに対応する領域の周縁部には前記フォトマスクに形成される第一の半透過領域を通じて第一の強さの光エネルギよりも弱い第二の強さの光エネルギを照射することを特徴とする請求項８に記載のスペーサの形成方法。
【請求項１０】
前記感光性材料の膜はポジ型の感光性材料からなり、
前記感光性材料の膜の前記所定の領域は現像によって除去される領域であり、
前記フォトマスクは、前記スペーサに対応する遮光領域および該遮光領域を囲繞して形成される第一の半透過領域と、前記遮光領域と前記第一の半透過領域以外の部分に形成される透光領域とを有し、
前記感光性材料の膜の前記所定の領域には前記フォトマスクに形成される透光領域を通じて第一の強さの光エネルギを照射し、前記感光性材料の膜のうち前記スペーサに対応する領域の周縁部以外は前記フォトマスクに形成される遮光領域により遮光し、前記感光性材料の膜のうち前記スペーサに対応する領域の周縁部には前記フォトマスクに形成される第一の半透過領域を通じて前記第一の強さの光エネルギよりも弱い第二の強さの光エネルギを照射し、
前記感光性材料の膜を現像してスペーサに対応する領域に感光性材料の膜を残すとともに前記第一の半透過領域を通じて第二の強さの光エネルギを照射した領域に前記フォトマスクの遮光領域により遮光した領域よりも高さが低い部分を形成することを特徴とする請求項９に記載のスペーサの形成方法。
【請求項１１】
前記感光性材料の膜の前記所定の領域に第一の強さの光エネルギを照射するとともに前記感光性材料の膜の前記スペーサに対応する領域の周縁部に前記第一の強さの光エネルギよりも弱い第二の強さの光エネルギを照射する段階において、前記感光性材料の膜の前記スペーサに対応する領域の略中心部に、前記第一の強さの光エネルギよりも弱い光エネルギを照射し、
前記感光性材料の膜を現像することによって前記スペーサに対応する領域の周縁部に前記スペーサに対応する領域の周縁部以外の部分に比較して高さが低い部分を形成する段階において、前記スペーサに対応する領域の中心部に凹部を形成することを特徴とする請求項８に記載のスペーサの形成方法。
【請求項１２】
前記感光性材料の膜の前記所定の領域にはフォトマスクに形成される透光領域を通じて第一の強さの光エネルギを照射し、前記感光性材料の膜の前記スペーサに対応する領域の周縁部には前記フォトマスクに形成される第一の半透過領域を通じて第一の強さの光エネルギよりも弱い第二の強さの光エネルギを照射し、前記感光性材料の前記スペーサに対応する領域の中心部には前記フォトマスクに形成される第二の半透過領域を通じて前記第一の強さの光エネルギよりも弱い光エネルギを照射することを特徴とする請求項１１に記載のスペーサの形成方法。
【請求項１３】
前記感光性材料の膜はポジ型の感光性材料からなり、
前記感光性材料の膜の前記所定の領域は現像によって除去される領域であり、
前記フォトマスクは、前記スペーサに対応する第二の半透過領域と該第二の半透過領域を囲繞して形成される遮光領域と該遮光領域を囲繞して形成される第一の半透過領域とを有し、
前記感光性材料の膜の前記所定の領域には前記フォトマスクに形成される透光領域を通じて第一の強さの光エネルギを照射し、前記感光性材料の膜のうち前記スペーサに対応する領域の周縁部には前記フォトマスクに形成される第一の半透過領域を通じて前記第一の強さの光エネルギよりも弱い第二の強さの光エネルギを照射し、前記感光性材料の膜のうち前記スペーサに対応する領域の中心部は前記フォトマスクに形成される第二の半透過領域を通じて前記第一の強さの光エネルギよりもよりも弱い光エネルギを照射し、前記感光性材料の膜のうち前記スペーサに対応する領域の周縁部および中心部以外は前記フォトマスクに形成される遮光領域により遮光し、
前記感光性材料の膜を現像してスペーサに対応する領域に感光性材料の膜を残すとともに前記第一の半透過領域を通じて第二の強さの光エネルギを照射した領域および前記第二の半透過領域を通じて前記第一の強さの光エネルギよりもより弱い光エネルギを照射した領域に前記遮光領域により遮光した領域よりも高さが低い部分を形成することを特徴とする請求項１２に記載のスペーサの形成方法。
【請求項１４】
前記現像された感光性材料の膜を加熱して軟化させることにより、前記現像された感光性材料の膜の上面を略平面に形成することを特徴とする請求項８から請求項１３のいずれかに記載のスペーサの形成方法。
【請求項１５】
セルギャップを規定するスペーサを有する表示パネル用の基板の製造方法であって、
前記表示パネル用の基板の表面に感光性材料の膜を形成する段階と、
前記感光性材料の膜の所定の領域に第一の強さの光エネルギを照射するとともに前記感光性材料の膜の前記スペーサに対応する領域の周縁部に前記第一の強さの光エネルギよりも弱い第二の強さの光エネルギを照射する段階と、
前記感光性材料の膜を現像することによって前記スペーサに対応する領域にスペーサを形成するとともに前記スペーサに対応する領域の周縁部に前記スペーサに対応する領域の周縁部以外に比較して高さが低い部分を形成する段階と、
を有することを特徴とする表示パネル用の基板の製造方法。
【請求項１６】
前記感光性材料の膜の前記所定の領域にはフォトマスクに形成される透光領域を通じて第一の強さの光エネルギを照射し、前記感光性材料の膜の前記スペーサに対応する領域の周縁部には前記フォトマスクに形成される第一の半透過領域を通じて第一の強さの光エネルギよりも弱い第二の強さの光エネルギを照射することを特徴とする請求項１５に記載の表示パネル用の基板の製造方法。
【請求項１７】
前記感光性材料の膜はポジ型の感光性材料からなり、
前記感光性材料の膜の前記所定の領域は現像によって除去される領域であり、
前記フォトマスクは、前記スペーサに対応する遮光領域および該遮光領域を囲繞して形成される第一の半透過領域と、前記遮光領域と前記第一の半透過領域以外の部分に形成される透光領域とを有し、
前記感光性材料の膜の前記所定の領域には前記フォトマスクに形成される透光領域を通じて第一の強さの光エネルギを照射し、前記感光性材料の膜のうち前記スペーサに対応する領域の中心部は前記フォトマスクに形成される遮光領域により遮光し、前記感光性材料の膜のうち前記スペーサに対応する領域の周縁部には前記フォトマスクに形成される第一の半透過領域を通じて前記第一の強さの光エネルギよりも弱い第二の強さの光エネルギを照射し、
前記感光性材料の膜を現像してスペーサに対応する領域に感光性材料の膜を残すとともに前記第一の半透過領域を通じて第二の強さの光エネルギを照射した領域に遮光した領域よりも高さが低い部分を形成することを特徴とする請求項１６に記載の表示パネル用の基板の製造方法。
【請求項１８】
前記感光性材料の膜の所定の領域に第一の強さの光エネルギを照射するとともに前記感光性材料の膜の前記スペーサに対応する領域の周縁部に前記第一の強さの光エネルギよりも弱い第二の強さの光エネルギを照射する段階において、前記感光性材料の膜の前記スペーサに対応する領域の中心部に前記第一の強さの光エネルギよりも弱い光エネルギを照射し、
前記感光性材料の膜を現像することによって前記スペーサに対応する領域にスペーサを形成するとともに前記スペーサに対応する領域の周縁部に前記スペーサに対応する領域の周縁部以外に比較して高さが低い部分を形成する段階において、前記スペーサに対応する領域の中心部に凹部を形成することを特徴とする請求項１５に記載の表示パネル用の基板の製造方法。
【請求項１９】
前記感光性材料の膜の前記所定の領域にはフォトマスクに形成される透光領域を通じて第一の強さの光エネルギを照射し、前記感光性材料の膜の前記スペーサに対応する領域の周縁部には前記フォトマスクに形成される第一の半透過領域を通じて第一の強さの光エネルギよりも弱い第二の強さの光エネルギを照射し、前記感光性材料の前記スペーサに対応する領域の中心部には前記フォトマスクに形成される第二の半透過領域を通じて前記第一の強さの光エネルギよりも弱い光エネルギを照射することを特徴とする請求項１６に記載の表示パネル用の基板の製造方法。
【請求項２０】
前記感光性材料の膜はポジ型の感光性材料からなり、
前記感光性材料の膜の前記所定の領域は現像によって除去される領域であり、
前記フォトマスクは、前記スペーサに対応する第二の半透過領域と該第二の半透過領域を囲繞して形成される遮光領域と該遮光領域を囲繞して形成される第一の半透過領域とを有し、
前記感光性材料の膜の前記所定の領域には前記フォトマスクに形成される透光領域を通じて第一の強さの光エネルギを照射し、前記感光性材料の膜のうち前記スペーサに対応する領域の周縁部の領域には前記フォトマスクに形成される第一の半透過領域を通じて前記第一の強さの光エネルギよりも弱い第二の強さの光エネルギを照射し、前記感光性材料の膜のうち前記スペーサに対応する領域の中心部は前記フォトマスクに形成される第二の半透過領域を通じて前記第一の強さの光エネルギよりもよりも弱い光エネルギを照射し、前記感光性材料の膜のうち前記スペーサに対応する領域の周縁部および中心部以外の領域は前記フォトマスクに形成される遮光領域により遮光し、
前記感光性材料の膜を現像してスペーサに対応する領域に感光性材料の膜を残すとともに前記第一の半透過領域を通じて第二の強さの光エネルギを照射した部分および前記第二の半透過領域を通じて前記第一の強さの光エネルギよりもより弱い光エネルギを照射した領域に前記遮光領域により遮光した領域よりも高さが低い部分を形成することを特徴とする請求項１９に記載の表示パネル用の基板の製造方法。
【請求項２１】
前記フォトマスクは配向規制構造物のパターンに対応した第三の半透過領域をさらに有し、前記スペーサに対応する領域の略中心の領域に前記第一の半透過領域を通じて第二の強さの光エネルギを照射すると同時に前記配向制御構造物に対応する領域に前記第三の半透過領域を通じて光エネルギを照射することを特徴とする請求項１６、請求項１７、請求項１９、請求項２０のいずれかに記載の表示パネル用の基板の製造方法。
【請求項２２】
前記現像された感光性材料を加熱して軟化させることにより前記現像された感光性材料の上面を略平面に形成することを特徴とする請求項１７から請求項２１のいずれかに記載の表示パネル用の基板の製造方法。
【請求項２３】
表示パネル用の基板の間のセルギャップを規定するスペーサであって、上面は略平面に形成されるかまたは上面の略中心に凹部が形成されることを特徴とするスペーサ。
【請求項２４】
感光性材料の単層構造をすることを特徴とする請求項２３に記載のスペーサ。
【請求項２５】
上面は略平面に形成されるかまたは上面の略中心には凹部が形成されるスペーサを有することを特徴とする表示パネル用の基板。
【請求項２６】
前記スペーサは感光性材料の単層構造を有し略柱状に形成されることを特徴とする請求項２５に記載の表示パネル用の基板。
【請求項２７】
前記スペーサは、配向制御構造物と同じ材料により形成されることを特徴とする請求項２５または請求項２６に記載の表示パネル用の基板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、スペーサの形成方法、表示パネル用基板の製造方法、スペーサ、表示パネル用の基板に関するものであり、詳しくは、セルギャップを規定するためのスペーサの形成方法と、このスペーサを備える表示パネル用の基板の製造方法、セルギャップを規定するためのスペーサ、このスペーサを備える表示パネル用の基板に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
一般的な液晶表示パネルは、二枚の表示パネル用の基板を備える。たとえばアクティブマトリックスタイプの液晶表示パネルであれば、表示パネル用の基板として、ＴＦＴアレイ基板とカラーフィルタとを備える。そして、二枚の表示パネル用の基板が所定の微小な間隔をおいて対向して貼り合わされ、これらの間に液晶が充填される（すなわち、二枚の表示パネル用の基板の間に、液晶の層が形成される）。
【０００３】
液晶の層の厚さ（または二枚の表示パネル用の基板の間の間隔。以下、「セルギャップ」と称する）が不均一であると、画面上にムラが発生することがある。このため、液晶表示パネルの表示品位の維持または向上を図るためには、セルギャップを、表示パネルの全面にわたって均一に維持する必要がある。そこで一般的には、スペーサを用いることによって、セルギャップを均一に維持するという構成が採用されている。
【０００４】
たとえば、スペーサが、液晶の配向を規制する構造物（以下、「配向規制構造物」と称する）と同じ材料により形成されるという構成が用いられることがある。ただし、スペーサの高さは配向規制構造物の高さよりも高い必要があるから、このような構成においては、スペーサが二段以上の積層構造にされることがある。すなわち、まず、スペーサの下段部分と配向規制構造物とが、同じ材料により同じ工程において形成される。次いで、スペーサの上段部分が、先に形成されたスペーサの下段部分に積み重ねられるように形成される。これにより、スペーサの高さを、配向規制構造物の高さよりも高くすることができる。
【０００５】
このほかの構成として、スペーサが着色層と同じ材料により形成される構成も提案されている（特許文献１参照）。すなわち、表示パネル用の基板の表面に、着色層と同じ材料を積層させることにより、柱状のスペーサが形成される。
【０００６】
ところで、配向規制構造物と同じ材料を積層させることによりスペーサを形成する構成は、次のような問題を有することがある。スペーサおよび配向規制構造物は、一般的に感光性材料からなる。そして、フォトリソグラフィ法により所定の形状に形成される。このため、配向規制構造物およびスペーサの下段部分を形成するためのフォトマスクと、スペーサの上段部分を形成するためのフォトマスクとが必要となる。このように、スペーサを形成するために複数枚のフォトマスクが必要であり、設備コストの上昇を招いている。また、配向規制構造物およびスペーサの下段部分を形成する工程と、スペーサの上段部分を形成する工程とが必要となるため、工程数が増加し、製造コストの上昇を招いている。
【０００７】
また、感光性材料から形成されるスペーサは、加熱処理が施されると、先端部分が球面状または張り出した曲面状になることがある。スペーサの先端が球面状または張り出した曲面状であると、スペーサに圧縮力が加わった場合に、スペーサの先端が潰れやすくなる。そしてスペーサの先端が潰れると、スペーサの高さが低くなる。このため、表示パネル用の基板どうしが貼り合わせられる際に、圧縮力が加えられた箇所（たとえば、貼り合わせ装置のリフトピンにより押圧された箇所）に形成されるスペーサは、その先端が潰れて高さが低くなることがある。そうすると、圧縮力が加えられた箇所と加えられなかった箇所とで、スペーサの高さが相違することになり、その結果、セルギャップが不均一になることがある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開平９−１２００７５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
上記実情に鑑み、本発明が解決しようとする課題は、セルギャップの均一化を図ることができるスペーサの形成方法、表示パネル用の基板の製造方法、スペーサ、表示パネル用の基板を提供すること、または、所定のセルギャップを確保することができるスペーサの形成方法、表示パネル用の基板の製造方法、スペーサ、表示パネル用の基板を提供すること、または設備コストや製造コストの削減を図ることができるスペーサの形成方法、表示パネル用の基板の製造方法、表示パネル用の基板を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
前記課題を解決するため、本発明は、表示パネル用の基板の間のセルギャップを規定するスペーサの形成方法であって、前記表示パネル用の基板の表面にフォトレジスト材料の膜を形成する段階と、前記フォトレジスト材料の膜の前記スペーサに対応する領域の周縁部にフォトマスクに形成される第一の半透過領域を通じて光エネルギを照射する段階と、前記フォトレジスト材料の膜を現像することによって前記フォトマスクの前記第一の半透過領域を通じて光エネルギを照射した領域に他の部分に比較して高さの低い部分を形成する段階と、を有することを要旨とするものである。
【００１１】
ここで、前記現像されたフォトレジスト材料を加熱して軟化させることにより上面を略平面に形成する構成が好適に適用できる。
【００１２】
前記フォトレジスト材料にはポジ型のフォトレジスト材料が適用でき、この場合には、前記フォトマスクは前記スペーサに対応する遮光領域と第一の半透過領域を有するものであって前記第一の半透過領域は前記遮光領域の周縁部に形成され、前記フォトレジスト材料の膜のうち前記スペーサに対応する領域を遮光するとともに前記スペーサに対応する領域の周縁部に前記第一の半透過領域を通じて光エネルギを照射し、前記フォトレジスト材料の膜の現像においてスペーサに対応する領域にフォトレジスト材料を残すとともに前記第一の半透過領域を通じて光エネルギを照射した領域に前記遮光した領域よりも高さが低い部分を形成する構成であることが好ましい。
【００１３】
本発明は、セルギャップを規定するスペーサを有する表示パネル用の基板の製造方法であって、前記表示パネル用の基板の表面にフォトレジスト材料の膜を形成する段階と、前記フォトレジスト材料の膜の前記スペーサに対応する領域の周縁部にフォトマスクに形成される第一の半透過領域を通じて光エネルギを照射する段階と、前記フォトレジスト材料の膜を現像することによって前記フォトマスクの前記第一の半透過領域を通じて光エネルギを照射した領域に他の部分に比較して高さの低い部分を形成する段階と、を有することを要旨とするものである。
【００１４】
この場合には、前記現像されたフォトレジスト材料を加熱して軟化させることにより上面を略平面に形成する構成が適用できる。
【００１５】
前記フォトレジスト材料にはポジ型のフォトレジスト材料が適用でき、この場合には、前記フォトマスクは前記スペーサに対応する遮光領域と第一の半透過領域とを有し前記第一の半透過領域は前記遮光領域の周縁部に形成され、前記フォトレジスト材料の膜のうち前記スペーサに対応する領域を遮光するとともに前記スペーサに対応する領域のうちの周縁部に前記第一の半透過領域を通じて光エネルギを照射し、前記フォトレジスト材料の膜の現像において遮光された領域にフォトレジスト材料を残すとともに前記第一の半透過領域を通じて光エネルギを照射した領域に遮光した領域寄りも高さが低い部分を形成する構成が好ましい。
【００１６】
前記フォトマスクは液晶の配向を制御する配向制御構造物のパターンに対応した第二の半透過領域をさらに有し、前記スペーサに対応する領域の周縁部に前記第一の半透過領域を通じて光エネルギを照射すると同時に前記配向制御構造物に対応する領域に前記第二の半透過領域を通じて光エネルギを照射することが好ましい。
【００１７】
本発明は、表示パネル用の基板の間のセルギャップを規定するスペーサの形成方法であって、前記表示パネル用の基板の表面に感光性材料の膜を形成する段階と、前記感光性材料の膜の所定の領域に第一の強さの光エネルギを照射するとともに前記感光性材料の膜の前記スペーサに対応する領域の周縁部に前記第一の強さの光エネルギよりも弱い第二の強さの光エネルギを照射する段階と、前記感光性材料の膜を現像することによって前記スペーサに対応する領域にスペーサを形成するとともに前記スペーサに対応する領域の周縁部に前記スペーサに対応する領域の周縁部以外の部分に比較して高さが低い部分を形成する段階とを有すること要旨とするものである。
【００１８】
第一の強さの光エネルギとは、表示パネル用の基板の表面に形成される感光性材料がポジ型である場合には、現像工程においてこの感光性材料を表示パネル用の基板の表面から完全に又はほぼ除去できる程度の強さの光エネルギをいう。また、表示パネル用の基板の表面に形成される感光性材料がネガ型である場合には、現像工程において、表示パネルの表面に加工性材料を完全に又はほぼそのまま残すことができる程度の光エネルギをいう。第二の強さの光エネルギとは、第一の強さの光エネルギよりも弱い強さの光エネルギであり、表示パネル用の基板の表面に形成される感光性樹脂材料がポジ型である場合であってもネガ型である場合であっても、現像工程において、表示パネル用の基板の表面に形成される感光性材料の一部を除去し一部を残すことができる（すなわち、現像工程において、表示パネル用の基板の表面に形成される感光性樹脂材料の厚さを薄くすることができるが完全には除去することができない）程度の強度の光エネルギをいう。
【００１９】
前記感光性材料の膜の前記所定の領域にはフォトマスクに形成される透光領域を通じて第一の強さの光エネルギを照射し、前記感光性材料の膜の前記スペーサに対応する領域の周縁部には前記フォトマスクに形成される第一の半透過領域を通じて第一の強さの光エネルギよりも弱い第二の強さの光エネルギを照射すること構成が適用できる。
【００２０】
なお、フォトマスクに形成される透光領域は、この透光領域を通じて照射することができる光エネルギの強度が、半透過領域を通じて照射することができる光エネルギの強度よりも強くできる構成であればよい。すなわち、透光領域が、たとえば露光装置の光源が発する光をそのまま透過させる構成に限定されるものではなく、透過する光エネルギの強度を調整（たとえば弱める）ことができる構成であってもよい。
【００２１】
前記感光性材料の膜はポジ型の感光性材料が適用できる。この場合には、前記感光性材料の膜の前記所定の領域は現像によって除去される領域となる。前記フォトマスクは、前記スペーサに対応する遮光領域および該遮光領域を囲繞して形成される第一の半透過領域と、前記遮光領域と前記第一の半透過領域以外の部分に形成される透光領域とを有する。そして前記感光性材料の膜の前記所定の領域には前記フォトマスクに形成される透光領域を通じて第一の強さの光エネルギを照射し、前記感光性材料の膜のうち前記スペーサに対応する領域の周縁部以外は前記フォトマスクに形成される遮光領域により遮光し、前記感光性材料の膜のうち前記スペーサに対応する領域の周縁部には前記フォトマスクに形成される第一の半透過領域を通じて前記第一の強さの光エネルギよりも弱い第二の強さの光エネルギを照射する。そして、前記感光性材料の膜を現像してスペーサに対応する領域に感光性材料の膜を残すとともに前記第一の半透過領域を通じて第二の強さの光エネルギを照射した領域に前記フォトマスクの遮光領域により遮光した領域よりも高さが低い部分を形成する。
【００２２】
前記感光性材料の膜の前記所定の領域に第一の強さの光エネルギを照射するとともに前記感光性材料の膜の前記スペーサに対応する領域の周縁部に前記第一の強さの光エネルギよりも弱い第二の強さの光エネルギを照射する段階において、前記感光性材料の膜の前記スペーサに対応する領域の略中心部に、前記第一の強さの光エネルギよりも弱い光エネルギを照射し、前記感光性材料の膜を現像することによって前記スペーサに対応する領域の周縁部に前記スペーサに対応する領域の周縁部以外の部分に比較して高さが低い部分を形成する段階において、前記スペーサに対応する領域の中心部に凹部を形成する構成が適用できる。
【００２３】
前記感光性材料の膜の前記所定の領域にはフォトマスクに形成される透光領域を通じて第一の強さの光エネルギを照射し、前記感光性材料の膜の前記スペーサに対応する領域の周縁部には前記フォトマスクに形成される第一の半透過領域を通じて第一の強さの光エネルギよりも弱い第二の強さの光エネルギを照射し、前記感光性材料の前記スペーサに対応する領域の中心部には前記フォトマスクに形成される第二の半透過領域を通じて前記第一の強さの光エネルギよりも弱い光エネルギを照射する構成が適用できる。
【００２４】
前記感光性材料の膜はポジ型の感光性材料が適用できる。この場合には、前記感光性材料の膜の前記所定の領域は、現像によって除去される領域となる。前記フォトマスクは、前記スペーサに対応する第二の半透過領域と該第二の半透過領域を囲繞して形成される遮光領域と該遮光領域を囲繞して形成される第一の半透過領域とを有する。そして、前記感光性材料の膜の前記所定の領域には前記フォトマスクに形成される透光領域を通じて第一の強さの光エネルギを照射し、前記感光性材料の膜のうち前記スペーサに対応する領域の周縁部には前記フォトマスクに形成される第一の半透過領域を通じて前記第一の強さの光エネルギよりも弱い第二の強さの光エネルギを照射し、前記感光性材料の膜のうち前記スペーサに対応する領域の中心部は前記フォトマスクに形成される第二の半透過領域を通じて前記第一の強さの光エネルギよりもよりも弱い光エネルギを照射し、前記感光性材料の膜のうち前記スペーサに対応する領域の周縁部および中心部以外は前記フォトマスクに形成される遮光領域により遮光する。そして、前記感光性材料の膜を現像してスペーサに対応する領域に感光性材料の膜を残すとともに前記第一の半透過領域を通じて第二の強さの光エネルギを照射した領域および前記第二の半透過領域を通じて前記第一の強さの光エネルギよりもより弱い光エネルギを照射した領域に前記遮光領域により遮光した領域よりも高さが低い部分を形成する。
【００２５】
前記現像された感光性材料の膜を加熱して軟化させることにより、前記現像された感光性材料の膜の上面を略平面に形成する構成が適用できる。
【００２６】
本発明は、セルギャップを規定するスペーサを有する表示パネル用の基板の製造方法であって、前記表示パネル用の基板の表面に感光性材料の膜を形成する段階と、前記感光性材料の膜の所定の領域に第一の強さの光エネルギを照射するとともに前記感光性材料の膜の前記スペーサに対応する領域の周縁部に前記第一の強さの光エネルギよりも弱い第二の強さの光エネルギを照射する段階と、前記感光性材料の膜を現像することによって前記スペーサに対応する領域にスペーサを形成するとともに前記スペーサに対応する領域の周縁部に前記スペーサに対応する領域の周縁部以外に比較して高さが低い部分を形成する段階とを有することを要旨とするものである。
【００２７】
前記感光性材料の膜の前記所定の領域にはフォトマスクに形成される透光領域を通じて第一の強さの光エネルギを照射し、前記感光性材料の膜の前記スペーサに対応する領域の周縁部には前記フォトマスクに形成される第一の半透過領域を通じて第一の強さの光エネルギよりも弱い第二の強さの光エネルギを照射する構成が適用できる。
【００２８】
前記感光性材料の膜はポジ型の感光性材料からなり、前記感光性材料の膜の前記所定の領域は現像によって除去される領域であり、前記フォトマスクは、前記スペーサに対応する遮光領域および該遮光領域を囲繞して形成される第一の半透過領域と、前記遮光領域と前記第一の半透過領域以外の部分に形成される透光領域とを有し、前記感光性材料の膜の前記所定の領域には前記フォトマスクに形成される透光領域を通じて第一の強さの光エネルギを照射し、前記感光性材料の膜のうち前記スペーサに対応する領域の中心部は前記フォトマスクに形成される遮光領域により遮光し、前記感光性材料の膜のうち前記スペーサに対応する領域の周縁部には前記フォトマスクに形成される第一の半透過領域を通じて前記第一の強さの光エネルギよりも弱い第二の強さの光エネルギを照射し、前記感光性材料の膜を現像してスペーサに対応する領域に感光性材料の膜を残すとともに前記第一の半透過領域を通じて第二の強さの光エネルギを照射した領域に遮光した領域よりも高さが低い部分を形成する構成が適用できる。
【００２９】
前記感光性材料の膜の所定の領域に第一の強さの光エネルギを照射するとともに前記感光性材料の膜の前記スペーサに対応する領域の周縁部に前記第一の強さの光エネルギよりも弱い第二の強さの光エネルギを照射する段階において、前記感光性材料の膜の前記スペーサに対応する領域の中心部に前記第一の強さの光エネルギよりも弱い光エネルギを照射し、前記感光性材料の膜を現像することによって前記スペーサに対応する領域にスペーサを形成するとともに前記スペーサに対応する領域の周縁部に前記スペーサに対応する領域の周縁部以外に比較して高さが低い部分を形成する段階において、前記スペーサに対応する領域の中心部に凹部を形成する構成が適用できる。
【００３０】
前記感光性材料の膜の前記所定の領域にはフォトマスクに形成される透光領域を通じて第一の強さの光エネルギを照射し、前記感光性材料の膜の前記スペーサに対応する領域の周縁部には前記フォトマスクに形成される第一の半透過領域を通じて第一の強さの光エネルギよりも弱い第二の強さの光エネルギを照射し、前記感光性材料の前記スペーサに対応する領域の中心部には前記フォトマスクに形成される第二の半透過領域を通じて前記第一の強さの光エネルギよりも弱い光エネルギを照射する構成が適用できる。
【００３１】
前記感光性材料の膜はポジ型の感光性材料が適用できる。この場合には、前記感光性材料の膜の前記所定の領域は、現像によって除去される領域となる。前記フォトマスクは、前記スペーサに対応する第二の半透過領域と該第二の半透過領域を囲繞して形成される遮光領域と該遮光領域を囲繞して形成される第一の半透過領域とを有する。そして、前記感光性材料の膜の前記所定の領域には前記フォトマスクに形成される透光領域を通じて第一の強さの光エネルギを照射し、前記感光性材料の膜のうち前記スペーサに対応する領域の周縁部には前記フォトマスクに形成される第一の半透過領域を通じて前記第一の強さの光エネルギよりも弱い第二の強さの光エネルギを照射し、前記感光性材料の膜のうち前記スペーサに対応する領域の中心部は前記フォトマスクに形成される第二の半透過領域を通じて前記第一の強さの光エネルギよりもよりも弱い光エネルギを照射し、前記感光性材料の膜のうち前記スペーサに対応する領域の周縁部および中心部以外の領域は前記フォトマスクに形成される遮光領域により遮光する。そして、前記感光性材料の膜を現像してスペーサに対応する領域に感光性材料の膜を残すとともに前記第一の半透過領域を通じて第二の強さの光エネルギを照射した部分および前記第二の半透過領域を通じて前記第一の強さの光エネルギよりもより弱い光エネルギを照射した領域に前記遮光領域により遮光した領域よりも高さが低い部分を形成する。
【００３２】
前記フォトマスクは配向規制構造物のパターンに対応した第三の半透過領域をさらに有し、前記スペーサに対応する領域の略中心の領域に前記第一の半透過領域を通じて第二の強さの光エネルギを照射すると同時に前記配向制御構造物に対応する領域に前記第三の半透過領域を通じて光エネルギを照射する構成が適用できる。
【００３３】
前記現像された感光性材料を加熱して軟化させることにより前記現像された感光性材料の上面を略平面に形成する構成が適用できる。
【００３４】
本発明は、表示パネル用の基板の間のセルギャップを規定するスペーサであって、上面が略平面に形成されるかまたは上面の略中心に凹部が形成されることを要旨とするものである。
【００３５】
このスペーサは、感光性材料の単層構造を有し略柱状に形成される構成であることが好ましい。
【００３６】
本発明は、表示パネル用の基板であって、上面が略平面に形成されるかまたは上面の略中心には凹部が形成されるスペーサを有することを要旨とするものである。このスペーサは、感光性材料の単層構造を有し略柱状に形成される構成であることが好ましい。
【００３７】
前記スペーサは、配向制御構造物と同じ材料により形成される構成が適用できる。
【発明の効果】
【００３８】
本発明によれば、スペーサを形成する工程において、スペーサの上面が上方に向かって張り出したような曲面になることや、半球状になることが防止または抑制される。そして、最終的に形成されるスペーサの上面を、略平面状にすることができる。このような形状のスペーサは、上面が略球面状または張り出した曲面状に形成されるスペーサに比較して、圧縮力が加わっても潰れにくい。すなわち、上面が略球面状または張り出した曲面状に形成されるスペーサは、換言すると先細り形状であるから、細くなっている部分の強度が低い。このため、スペーサに圧縮力が加わると、先端部が潰れて高さが低くなりやすい。これに対して、上面が略平面状のスペーサは、上面が先細り形状ではないから、圧縮力が加わっても潰れにくい。このため、スペーサの変形が防止または抑制され、所定の寸法のセルギャップを確保することができる。
【００３９】
また、本発明によれば、スペーサの上面が略平面状であるから、スペーサの形状や高さが均一となる。すなわち、上面が略球面状または張り出した曲面状のスペーサは、加熱温度などの加工条件が相違すると、上面の曲率半径や高さが変化する。このため、加工条件が不均一となると、スペーサの高さや形状も不均一となる。これに対して、これに対してスペーサの上面が略平面状であれば、加工条件が相違しても高さが変化することが少ない。したがって、スペーサの高さを均一に揃えることができ、セルギャップを均一に維持することができる。
【００４０】
本発明によれば、液晶の配向を規制する構造物（配向規制構造物）とスペーサとが、同じ工程で同時に形成される。したがって、別々に形成する構成に比較して工程数を削減することができ、生産コストの削減を図ることができる。
【００４１】
また、本発明によれば、スペーサは単層構造を有するから、積層構造を有するスペーサに比較して、形成の際に必要となるフォトマスクの枚数を削減することができる。すなわち、一枚のフォトマスクを用いて一回の露光および一回の現像によりスペーサを形成することができるから、積層構造を有するスペーサを形成する構成に比較して、フォトマスクの枚数の削減および工程の削減を図ることができる。したがって、設備コストの削減および製造コストの削減を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００４２】
【図１】本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板の構成を模式的に示した図であり、（ａ）は全体構造を示した斜視図、（ｂ）は絵素の一つの構造を示した平面図、（ｃ）は（ｂ）のＡ−Ａ線断面図であって絵素の断面構造を示した断面図である。
【図２】本発明の実施形態にかかるスペーサの構成を模式的に示した断面図であり、（ａ）は上面が略平面に形成される構成を示し、（ｂ）は上面に凹部が形成される構成を示す。
【図３】本発明の実施形態にかかるスペーサの形成方法の所定の工程を示した断面図である。
【図４】本発明のスペーサを形成する際に使用するフォトマスクの構成を、模式的に示した図であり、（ａ）は平面図、（ｂ）は断面図である。
【図５】本発明の実施形態にかかるスペーサの形成方法の所定の工程（露光工程）を示した断面図である。
【図６】本発明の実施形態にかかるスペーサの形成方法の所定の工程（現像工程）を示した断面図である。
【図７】本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板の製造方法の所定の工程を模式的に示した断面図である。
【図８】本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板の製造方法の所定の工程を模式的に示した断面図である。
【図９】本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板の製造方法の所定の工程を模式的に示した断面図である。
【図１０】本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板の製造方法の所定の工程を模式的に示した断面図である。
【図１１】本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板の製造方法の所定の工程を模式的に示した断面図である。
【図１２】本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板の製造方法の所定の工程を模式的に示した断面図である。
【図１３】本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板の製造方法の所定の工程を模式的に示した断面図である。
【図１４】本発明の第二実施形態にかかるスペーサ１５ｂの構成を模式的に示した断面図であり、（ａ）は上面が略平面に形成される構成を示し、（ｂ）は上面に凹部が形成される構成を示す。
【図１５】本発明の第二実施形態にかかるスペーサ１５ｂの形成に使用するフォトマスクの構成を模式的に示した図であり、（ａ）は平面図、（ｂ）は断面図である。
【図１６】本発明の第二実施形態にかかるスペーサ１５ｂの形成方法における露光工程を模式的に示した断面図である。
【図１７】本発明の第二実施形態にかかるスペーサ１５ｂの形成方法における現像工程によって形成された柱状の感光性材料の構成を、模式的に示した断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００４３】
以下に、本発明の実施形態について、図面を参照して詳細に説明する。本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板は、液晶表示パネル用のカラーフィルタである。
【００４４】
図１（ａ）は、本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板１の全体構造を模式的に示した平面図、図１（ｂ）は、本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板１に形成される絵素の一つを抜き出して示した平面図、図１（ｃ）は、図１（ｂ）のＡ−Ａ線断面図であって、絵素の断面構造を示した図である。
【００４５】
図１（ａ）、（ｂ）、（ｃ）に示すように、本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板１は、透明基板１１の表面に、ブラックマトリックス１２と、所定の色の着色層１３と、共通電極１４と、配向規制構造物１６と、本発明の第一実施形態にかかるスペーサ１５ａまたは第二実施形態にかかるスペーサ１５ｂとが形成されるという構成を有する。
【００４６】
図１（ａ）、（ｂ）に示すように、ブラックマトリックス１２は、格子状の構造物であり、たとえば黒色着色剤が含有された感光性材料（たとえば感光性樹脂組成物）により形成される。このブラックマトリックス１２は、公知の各種カラーフィルタのブラックマトリックスと同じ構成が適用できる。したがって、詳細な説明は省略する。
【００４７】
ブラックマトリックス１２により区画される領域（すなわち、ブラックマトリックス１２により形成される各格子の内側）には、赤色、緑色、青色の各色の着色層１３が形成される。着色層１３は、赤色、緑色、青色の着色剤を含有する樹脂組成物により形成される。
【００４８】
ブラックマトリックス１２および着色層１３の表面には、特に図１（ｃ）に示すように、共通電極１４が形成される。共通電極１４は、透明な導電性材料により形成される。透明な導電性材料には、たとえば、インジウム酸化スズ（ＩＴＯ：Indium Tin Oxide）が適用できる。
【００４９】
共通電極１４の表面には、図１（ｂ）、（ｃ）に示すように、配向規制構造物１６が形成される。配向規制構造物１６は、液晶の配向を規制するための凸状の構造物である。この配向規制構造物１６は、感光性材料（たとえば感光性樹脂組成物）により形成される。
【００５０】
共通電極１４の表面のブラックマトリックス１２に重畳する位置には、本発明の第一実施形態にかかるスペーサ１５ａまたは第二実施形態にかかるスペーサ１５ｂが形成される。スペーサ１５ａ，１５ｂは、セルギャップを規定するための柱状の構造物である。図１（ｂ）は、スペーサ１５ａ，１５ｂが略円柱形状に形成される構成を示すが、スペーサ１５ａ，１５ｂの形状は特に限定されるものではない。たとえば、スペーサ１５ａ，１５ｂが四角柱状や八角柱状に形成される構成であってもよい。
【００５１】
図２は、本発明の第一実施形態にかかるスペーサ１５ａの構成を、模式的に示した断面図である。図２に示すように、本発明の第一実施形態にかかるスペーサ１５ａは、本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板１の表面に形成される柱状の構造物である。このスペーサ１５ａは、感光性材料（たとえば、アクリル系樹脂などからなる感光性樹脂組成物）の単層構造を有する。すなわち、このスペーサ１５ａは、複数の感光性材料の膜を積層させて形成されるものではなく、単一の感光性材料により一体的に形成される。そして図２に示すように、スペーサ１５ａの上面が略平面に形成される。
【００５２】
このような形状のスペーサ１５ａは、上面が略球面状または張り出した曲面状に形成されるスペーサに比較して、圧縮力が加わっても潰れにくい。すなわち、上面が略球面状または張り出した曲面状に形成されるスペーサは、先細り形状であるといえるから、圧縮力が加わると、先細り部分（球面状の部分または張り出している部分）が潰れて高さが低くなりやすい。これに対して、上面が略平面状のスペーサ１５ａは、上面に圧縮力が加わったときに、上面全体で圧縮力を受けるから、圧縮力が加わっても潰れにくい。このため、スペーサ１５ａの変形が防止または抑制され、所定の寸法のセルギャップを確保することができる。
【００５３】
次に、本発明の第一実施形態にかかるスペーサ１５ａの形成方法について説明する。図３、図５、図６は、本発明の第一実施形態にかかるスペーサ１５ａの形成方法の各工程を、模式的に示した断面図である。
【００５４】
まず、図３に示すように、ブラックマトリックス１２、着色層１３、共通電極１４が形成された透明基板１１（すなわち、本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板１）の表面に、感光性材料（たとえば、アクリル系樹脂からなる感光性樹脂組成物）の膜１７が形成される。この感光性材料の膜１７は、単一の材料からなる単層構造を有する。感光性材料の膜１７の形成には、スリットコータなどが用いられる。なお、感光性材料は、ポジ型でもネガ型でもよいが、本発明の実施形態においてはポジ型であるものとする。
【００５５】
次いで、形成された感光性材料の膜１７に、露光処理が施される。図４は、露光処理において用いられるフォトマスク９ａのうち、スペーサ１５ａを形成するために必要な部分を抜き出して示した図であり、図４（ａ）は平面図、図４（ｂ）は断面図である。
【００５６】
図４（ａ）、（ｂ）に示すように、フォトマスク９ａには、光エネルギが透過できる透光領域９１と、光エネルギを遮断する遮光領域９２と、光エネルギの一部が透過できる第一の半透過領域９３ａが形成される。具体的には、スペーサ１５ａを形成する位置に対応する位置に、スペーサ１５ａの形状に略等しい形状の遮光領域９２および第一の半透過領域９３ａが形成される。たとえば円柱状のスペーサを形成する場合には、図４（ａ）に示すように、略円形の遮光領域９２が形成される。そして、遮光領域９２の外側には、遮光領域９２を囲繞するように第一の半透過領域９３ａが形成される。また、スペーサ１５ａが形成されない領域（すなわち、現像によって感光性材料の膜１７が除去される領域）に対応する領域には、透光領域９１が形成される。
【００５７】
なお、フォトマスク９ａに形成される透光領域９１は、この透光領域９１を通じて照射することができる光エネルギの強度が、第一の半透過領域９３ａを通じて照射することができる光エネルギの強度よりも強くできる構成であればよい。すなわち、透光領域９１が、たとえば露光装置の光源が発する光をそのまま透過させる構成に限定されるものではなく、透過する光エネルギの強度を調整（たとえば弱める）ことができる構成であってもよい。
【００５８】
図５は、露光工程を模式的に示した断面図である。図５に示すように、感光性材料の膜１７が形成された透明基板１１に、フォトマスク９ａが重ねられる。そして、フォトマスク９ａを通じて感光性材料の膜１７に露光処理が施される（図中の矢印は、照射される光エネルギを模式的に示す）。フォトマスク９ａを通じて露光処理が施されると、図５に示すように、感光性材料の膜１７のうち、フォトマスク９ａの透光領域９１に対応する領域は、第一の強さの光エネルギが照射される。遮光領域９２に対応する領域には、光エネルギが照射されない。また、第一の半透過領域９３ａに対応する領域には、第二の強さの光エネルギが照射される。
【００５９】
第一の強さの光エネルギは、感光性材料の膜１７がポジ型の感光性材料（すなわち、ポジ型レジスト）からなるものである場合には、後の現像工程において、感光性材料の膜１７を完全にまたはほぼ除去するのに必要充分な露光量を与えることができる強さの光エネルギである。第二の強さの光エネルギは、第一の強さの光エネルギよりも弱い強さの光エネルギであって、後の現像工程において、感光性材料の膜１７の一部を除去でき一部を残すことができる（すなわち、現像工程において、感光性材料の膜１７の厚さを薄くすることができる）強さの光エネルギである。露光機の光源から発せられた光エネルギは、フォトマスク９ａの第一の半透過領域９３ａを透過することにより、強さが弱められて第二の強さの光エネルギとなる。このように、フォトマスク９ａの透光領域９１を透過した光エネルギは、第一の強さの光エネルギとして感光性材料の膜１７に照射される。またフォトマスク９ａの第一の半透過領域９３ａを透過した光エネルギは弱められ、第二の強さの光エネルギとして感光性材料の膜１７に照射される。
【００６０】
次いで、露光処理が施された感光性材料の膜１７に、現像処理が施される。現像処理が施されると、図６に示すように、感光性材料の膜１７のうち、フォトマスク９ａの透光領域９１を通じて第一の強さの光エネルギが照射された部分が除去される。遮光領域９２により光エネルギが遮断された部分（すなわち、光エネルギが照射されなかった部分）には、感光性材料の膜１７が残る。また、第一の半透過領域９３ａを通じて露光された部分は、感光性材料の膜１７が残るが、その厚さは、遮光領域９２により遮光された部分よりも低くなる。この結果、図６に示すように、表示パネル用の基板１の表面には、周縁部の高さが低く中心部の高さが高い柱状の感光性材料が残る。この残った柱状の感光性材料がスペーサ１５ａとなる。
【００６１】
次に、現像処理が施された感光性材料に、加熱処理が施される。感光性材料は、加熱されてガラス転移点以上の温度になると、軟化し、表面張力により変形する。ここで、表示パネル用の基板の表面に残された感光性材料（すなわち、スペーサ）が、全長にわたって均一な太さであると、表面張力によって先細り形状となる。形状が変化しても感光性材料の体積は変化しないから、先細りとなった分だけ感光性材料が上端側に移動し、上面が半球状または張り出した曲面状となる。また、スペーサの高さも高くなる。
【００６２】
これに対して、周縁部に高さが低い部分が形成される形状は、段階的な先細り形状であるといえる。表示パネル用の基板１の表面に残された柱状の感光性材料は、表面張力によって先細り形状になろうとするが、もともと先細り形状であるため、大きくは変形しない。また、先細り形状となったことにより追いだされた感光性材料は、基端部の外周縁に移動することができる。したがって、感光性材料が上端側に移動することを防止または抑制でき、上面が略平面に維持される。このため、加熱後の柱状の感光性材料（すなわちスペーサ１５ａ）の上面は、図２に示すように略平面となる。
【００６３】
なお、最終的なスペーサ１５ａの上面の形状は、現像処理によって残された柱状の感光性材料（スペーサ１５ａ）の周縁部の高さ、加熱処理における加熱温度や加熱時間などに依存する。したがって、これらを適宜調整することによって、スペーサ１５ａの最終的な形状を設定することができる。
【００６４】
このような構成によれば、スペーサ１５ａの形状や高さを均一にすることができる。すなわち、上面が略球面状または張り出した曲面状のスペーサは、加熱温度などの加工条件が相違すると、上面の曲率半径や高さが変化する。このため、加工条件が不均一となると、スペーサの高さや形状も不均一となる。これに対して、これに対してスペーサ１５ａの上面が略平面状であれば、加工条件が相違しても高さが変化することが少ない。したがって、スペーサ１５ａの高さを均一に揃えることができ、セルギャップを均一に維持することができる。
【００６５】
また、スペーサ１５ａは感光性材料の単層構造を有するから、積層構造を有するスペーサに比較して、形成の際に必要となるフォトマスクの枚数を削減することができる。すなわち、一枚のフォトマスク９ａを用いて一回の露光および一回の現像によりスペーサ１５ａを形成することができる。このため、感光性材料の積層構造を有するスペーサを形成する場合に比較して、フォトマスクの枚数の削減および工程の削減を図ることができる。したがって、設備コストの削減および製造コストの削減を図ることができる。
【００６６】
なお、前記実施形態においては、ポジ型の感光性材料が適用される構成を示したが、ネガ型の感光性材料（すなわち、ネガ型レジスト）が適用される構成であってもよい。感光性材料の膜１７がネガ型の感光性材料からなるものである場合には、第一の強さの光エネルギは、後の現像工程において、感光性材料の膜１７を硬化させて完全にまたはほぼそのまま残すために必要充分な露光量を与えることができる強さの光エネルギである。第二の強さの光エネルギは、第一の強さの光エネルギよりも弱い強さの光エネルギであって、後の現像工程において、感光性材料の膜１７の一部を除去でき一部を残すことができる（すなわち、現像工程において、感光性材料の膜１７の厚さを薄くすることができる）強さの光エネルギである。
【００６７】
感光性材料の膜１７がネガ型の感光性材料からなる場合には、露光工程において使用するフォトマスクは、感光性材料の膜１７がポジ型の感光性材料からなる場合に使用するフォトマスク９ａと、透光領域と遮光領域が入れ替わった構成を有するフォトマスクが使用される。第一の半透過領域のパターンは、感光性材料の膜１７がネガ型の感光性材料からなる場合であっても、ポジ型の感光性材料からなる場合であっても、同じパターンを有する。露光機の光源から発せられた光エネルギは、フォトマスクの第一の半透過領域を透過することにより、強さが弱められて第二の強さの光エネルギとなる。
【００６８】
図４を参照して説明すると、スペーサ１５ａを形成する位置に対応する位置に、スペーサ１５ａの形状に略等しい形状の第一の半透過領域および透光領域が形成される（図４に示す遮光領域９２が透光領域に置き換わる。第一の半透過領域９３ａは、そのまま第一の半透過領域となる）。また、スペーサ１５ａが形成されない領域（すなわち、現像によって感光性材料の膜１７が除去される領域）に対応する領域には、遮光領域が形成される（図４に示す透光領域９１が遮光領域に置き換わる）。
【００６９】
そして、表示パネル用の基板の表面に形成された感光性材料の膜１７のうち、現像工程において残す部分（すなわち、スペーサとなる部分）には、フォトマスクに形成される透光領域を通じて第一の強さの光エネルギを照射する。そしてスペーサ１５ａの周縁部となる部分には、第一の半透過領域を通じて第二の強さの光エネルギを照射する。また、現像工程において除去する部分には、フォトマスクに形成される透光領域により遮光して光エネルギを照射しない。
【００７０】
このような構成とすると、図６および図２に示すような構成のスペーサが得られる。すなわち、感光性材料の膜１７がネガ型の感光性材料からなる場合であっても、図６に示すような構造物および図２に示すようなスペーサ１５ａを形成することができる。
【００７１】
次に、本発明の第二実施形態にかかるスペーサ１５ｂおよびその形成方法について説明する。なお、第一実施形態にかかるスペーサ１５ａと共通する構成については説明を省略することがある。
【００７２】
図７は、本発明の第二実施形態にかかるスペーサ１５ｂの構成を、模式的に示した断面図である。図７（ａ）は、上面が略平面に形成されるスペーサ１５ｂを示す。図７（ｂ）は、上面に凹部が形成されるスペーサ１５ｂを示す。図７（ａ）、（ｂ）に示すように、本発明の第二実施形態にかかるスペーサ１５ｂは、表示パネル用の基板１に形成される柱状の構造物である。このスペーサ１５ｂは、感光性材料の単層構造を有する。そして図７（ａ）に示すように、スペーサ１５ｂの上面が略平面に形成されるか、または図７（ｂ）に示すように、スペーサ１５ｂの上面の略中心が窪んだ形状に形成される。
【００７３】
このような形状のスペーサ１５ｂも、第一実施形態にかかるスペーサ１５ａと同様の作用効果を奏することができる。
【００７４】
本発明の第二実施形態にかかるスペーサ１５ｂの形成方法は、次のとおりである。なお、第一実施形態にかかるスペーサ１５ａの形成方法と共通する部分については説明を省略する。
【００７５】
図８は、第二実施形態にかかるスペーサ１５ｂを形成する際に使用されるフォトマスク９ｂから、スペーサ１５ｂの形成に必要な部分を抜き出して示した模式図であり、図８（ａ）は平面図、図８（ｂ）は断面図である。図９は、露光工程を模式的に示した断面図である。図１０は、現像により形成された柱状の感光性材料（すなわち、スペーサ１５ｂ）の構成を、模式的に示した断面図である。ここでは、スペーサ１５ｂがポジ型の感光性材料からなる構成を用いて説明する。
【００７６】
図８（ａ）、（ｂ）に示すように、フォトマスク９ｂには、光エネルギが透過できる透光領域９１と、光エネルギを遮断する遮光領域９２と、光エネルギの一部が透過できる第一の半透過領域９３ａおよび第二の半透過領域９３ｂが形成される。具体的には、スペーサ１５ｂを形成する位置に対応する位置に、第二の半透過領域９３ｂと、第二の半透過領域９３ｂを囲繞する遮光領域９２と、遮光領域９２を囲繞する第一の半透過領域９３ａとが、略同心に形成される。すなわち、略円形の第二の半透過領域９３ｂが形成され、第二の半透過領域９３ｂを囲繞するように遮光領域９２が形成され、さらに遮光領域９２を囲繞するように第一の半透過領域９３ａが形成される。また、スペーサ１５ｂが形成されない領域（すなわち、現像によって感光性材料の膜１７が除去される領域）に対応する領域には、透光領域９１が形成される。
【００７７】
なお、フォトマスク９ｂに形成される透光領域９１は、この透光領域９１を通じて照射することができる光エネルギの強度が、第一の半透過領域９３ａを通じて照射することができる光エネルギの強度および第二の半透過領域９３ｂを通じて照射することができる光エネルギの強度よりも強くできる構成であればよい。すなわち、透光領域９１が、たとえば露光装置の光源が発する光をそのまま透過させる構成に限定されるものではなく、透過する光エネルギの強度を調整（たとえば弱める）ことができる構成であってもよい。
【００７８】
図９に示すように、ブラックマトリックス１２、着色層１３、共通電極１４が形成された透明基板１１（すなわち、本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板１）の表面に、感光性材料（たとえば、アクリル系樹脂からなる感光性樹脂組成物）の膜１７が形成される。
【００７９】
そして、フォトマスク９ｂを通じて感光性材料の膜１７に露光処理が施される（図中の矢印は、照射される光エネルギを模式的に示す）。フォトマスク９ｂを通じて露光処理が施されると、感光性材料の膜１７のうち、透光領域９１に対応する部分は、第一の強さの光エネルギが照射される。遮光領域９２に対応する部分には、光エネルギが照射されない。第一の半透過領域９３ａに対応する部分には、第二の強さの光エネルギが照射される。第二の半透過領域９３ｂに対応する部分には、第一の強さの光エネルギよりも弱い光エネルギが照射される。
【００８０】
第一の強さの光エネルギは、感光性材料の膜１７がポジ型の感光性材料（すなわち、ポジ型レジスト）からなるものである場合には、後の現像工程において、感光性材料の膜１７を完全にまたはほぼ除去するのに必要充分な露光量を与えることができる強さの光エネルギである。第二の強さの光エネルギおよび第二の半透過領域９３ｂを通じて照射される光エネルギは、第一の強さの光エネルギよりも弱い強さの光エネルギであって、後の現像工程において、感光性材料の膜１７の一部を除去でき一部を残すことができる（すなわち、現像工程において、感光性材料の膜１７の厚さを薄くすることができる）強さの光エネルギである。露光機の光源から発せられた光エネルギは、フォトマスク９ｂの第一の半透過領域９３ａを透過することにより、強さが弱められて第二の強さの光エネルギとなる。同様に、露光装置の光源から発せられた光エネルギは、フォトマスク９ｂの第二の半透過領域９３ｂを透過することにより、強さが弱められて、第一の強さの光エネルギよりも弱い強さの光エネルギとなる。このように、フォトマスク９ｂの透光領域９１を透過した光エネルギは、第一の強さの光エネルギとして感光性材料の膜１７に照射される。フォトマスク９ｂの第一の半透過領域９３ａを透過した光エネルギは弱められ、第二の強さの光エネルギとして感光性材料の膜１７の所定の領域に照射される。フォトマスク９ｂの第二の半透過領域９３ｂを透過した光エネルギは弱められ、感光性材料の膜１７の所定の領域に照射される。
【００８１】
次いで、露光処理が施された感光性材料の膜１７に、現像処理が施される。現像処理が施されると、図１０に示すように、感光性材料の膜１７のうち、フォトマスク９ｂの透光領域９１を通じて第一の強さの光エネルギが照射された部分が除去される。遮光領域９２により光エネルギが遮断された部分（すなわち、光エネルギが照射されなかった部分）には、感光性材料の膜１７が残る。また、第一の半透過領域９３ａおよび第二の半透過領域９３ｂを通じて露光された部分は、感光性材料の膜１７が残るが、その厚さは、遮光領域９２により遮光された部分よりも薄くなる。
【００８２】
この結果、図１０に示すように、柱状の感光性材料の構造物が残る。この柱状の感光性材料の構造物がスペーサ１５ｂとなる。前記のようにスペーサ１５ｂの周縁部は、フォトマスク９ｂの第一の半透過領域９３ａを通じて第二の強さの光エネルギが照射されるから、遮光された部分よりも高さが低くなる。スペーサ１５ｂの中心部は、フォトマスク９ｂの第二の半透過領域９３ｂを通じて第一の強さの光エネルギよりも弱い光エネルギが照射されるから、遮光された部分よりも高さが低くなり、結果として凹部が形成される。
【００８３】
次に、現像処理が施された感光性材料に、加熱処理が施される。表示パネル用の基板１の表面の残された柱状の感光性材料は、段階的な先細り形状であるといえる。したがって、第一実施形態にかかるスペーサ１５ａと同様に、上面が略平面に維持される。さらに、上面の中心部に凹部が形成されると、上面が上方に向かって張り出すことを防止または抑制することができる。このため、図７（ａ）に示すように、スペーサ１５ｂの上面が略平面となるか、または図７（ｂ）に示すように、スペーサ１５ｂの上面の略中心に凹部が形成される。
【００８４】
なお、前記実施形態においては、ポジ型の感光性材料が適用される構成を示したが、ネガ型の感光性材料（すなわち、ネガ型レジスト）が適用される構成であってもよい。感光性材料の膜１７がネガ型の感光性材料からなるものである場合には、第一の強さの光エネルギは、後の現像工程において、感光性材料の膜１７を硬化させて完全にまたはほぼそのまま残すために必要充分な露光量を与えることができる強さの光エネルギである。第二の強さの光エネルギは、第一の強さの光エネルギよりも弱い強さの光エネルギであって、後の現像工程において、感光性材料の膜１７の一部を除去でき一部を残すことができる（すなわち、現像工程において、感光性材料の膜１７の厚さを薄くすることができる）強さの光エネルギである。露光機の光源から発せられた光エネルギは、フォトマスクの第一の半透過領域を透過することにより、強さが弱められて第二の強さの光エネルギとなる。
【００８５】
感光性材料の膜１７がネガ型の感光性材料からなる場合には、露光工程において使用するフォトマスクは、感光性材料の膜１７がポジ型の感光性材料からなる場合に使用するフォトマスク９ｂと、透光領域と遮光領域が入れ替わった構成を有するフォトマスクが使用される。第一の半透過領域のパターンおよび第二の半透過領域のパターンは、感光性材料の膜１７がネガ型の感光性材料からなる場合であっても、ポジ型の感光性材料からなる場合であっても、同じパターンを有する。ただし、第一の半透過領域９３ａの光エネルギの通しやすさおよび第二の半透過領域９３ｂの光エネルギの通しやすさ（すなわち、透過する光エネルギを弱めることができる程度）も、スペーサ１５ｂの周縁部の高さが低い部分の高さおよび中心部の凹部の高さに応じて適宜設定される。露光機の光源から発せられた光エネルギは、フォトマスクの第一の半透過領域を透過することにより、強さが弱められて第二の強さの光エネルギとなる。また、露光機の光源から発せられた光エネルギは、フォトマスクの第二の半透過領域を通過することにより、強さが弱められて、第一の強さの光エネルギよりも弱い強さの光エネルギとなる。
【００８６】
図８を参照して説明すると、スペーサ１５ｂを形成する位置に対応する位置に、スペーサ１５ｂの形状に略等しい形状の第一の半透過領域、透光領域および第二の半透光領域が形成される（図８に示す遮光領域９２が透光領域に置き換わる。第一の半透過領域９３ａはそのまま第一の半透過領域となり、第二の半透過領域９３ｂもそのまま第二の半透過領域となる）。また、スペーサ１５ｂが形成されない領域（すなわち、現像によって感光性材料の膜１７が除去される領域）に対応する領域には、遮光領域が形成される（図８に示す透光領域９１が遮光領域に置き換わる）。
【００８７】
そして、表示パネル用の基板の表面に形成された感光性材料の膜１７のうち、現像工程において残す部分（すなわち、スペーサ１５ｂとなる部分）には、フォトマスクに形成される透光領域を通じて第一の強さの光エネルギを照射する。スペーサ１５ｂの周縁部となる部分には、第一の半透過領域を通じて第二の強さの光エネルギを照射する。さらに、スペーサ１５ｂとなる領域の略中心には、第二の半透過領域を通じて第一の強さの光エネルギよりも弱い強さの光エネルギを照射する。また、現像工程において除去する部分には、フォトマスクに形成される遮光領域により遮光して光エネルギを照射しない。
【００８８】
このような構成とすると、図１０および図７に示すような構成のスペーサ１５ｂが得られる。すなわち、感光性材料の膜１７がネガ型の感光性材料からなる場合であっても、図１０および図７に示すようなスペーサ１５ｂを形成することができる。
【００８９】
次に、本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板１の製造方法について説明する。図１１から図１７は、本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板１の製造方法の各工程を、模式的に示した断面図である。本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板１の製造工程には、ブラックマトリックス形成工程と、着色層形成工程と、透明電極（共通電極）形成工程とが含まれる。なお、これらの図は説明のための模式的なものであり、特定の切断線に沿って切断したものではない。また、第一実施形態にかかるスペーサ１５ａを備える表示パネル用の基板の製造方法と、第二実施形態にかかるスペーサ１５ｂを備える表示パネル用の基板の製造方法とでは、露光工程において使用するフォトマスクが相違するのみである。このため、第一実施形態にかかるスペーサ１５ａを備える表示パネル用の基板の製造方法について説明し、第二実施形態にかかるスペーサ１５ｂの製造方法については省略する。
【００９０】
図１１に示すように、ガラスなどからなる透明基板１１の表面に、ブラックマトリックス１２が形成される。ブラックマトリックス１２の形成方法は、たとえば樹脂ＢＭ法であれば次のとおりである。まず、透明基板１１の表面に、黒色着色剤を含有する感光性樹脂組成物（「ＢＭレジスト」とも称する）の層が形成される。次いで、形成されたＢＭレジストが、フォトリソグラフィ法などにより所定のパターンにパターニングされる。これにより、格子状のブラックマトリックス１２が形成される。
【００９１】
図１２に示すように、着色層形成工程では、カラー表示用の赤色、緑色、青色の各色の着色層１３が形成される。着色層１３の形成には、インクジェット印刷機が用いられる。すなわち、インクジェット印刷機を用いて、ブラックマトリックス１２により区画される各領域（すなわち、ブラックマトリックス１２の各格子の内側）に、所定の色の着色剤を含有する樹脂材料が滴下される。そして滴下された樹脂材料が固化される。これにより、各色の着色層１３が形成される。
【００９２】
図１３に示すように、共通電極形成工程においては、ブラックマトリックス１２および着色層１３の表面に、共通電極１４が形成される。たとえばマスキング法であれば、前記工程を経た透明基板１１の表面にマスクが配置され、スパッタリングなどによって透明な導電性材料が蒸着させられる。これにより、透明基板１１の所定の位置に、所定のパターンの共通電極１４が形成される。また、フォトリソグラフィ法によれば、前記工程を経た透明基板１１の表面に導電性材料の膜が形成され、形成された導電性材料の膜が、エッチングによって所定のパターンにパターニングされる。このパターニングには、塩化第二鉄を用いたウェットエッチングが適用できる。透明な導電性材料には、インジウム酸化スズ（ＩＴＯ：Indium Tin Oxide）が適用できる。
【００９３】
次いで、スペーサ１５ａと配向規制構造物１６が同じ工程において同時に形成される。具体的には次のとおりである。
【００９４】
まず図１４に示すように、共通電極１４の表面に、感光性材料（たとえばアクリル系樹脂からなる感光性樹脂組成物）の膜１７が形成される。感光性材料の膜１７の形成には、たとえば、スリットコータによって感光性材料を塗布する方法が適用できる。また、ここでは、感光性材料の膜１７が、ポジ型の感光性材料からなる構成を用いて説明する。
【００９５】
そして、図１５に示すように、形成された感光性材料の膜１７に、所定のフォトマスク９ａを用いて露光処理が施される。このフォトマスク９ａには、スペーサ１５ａを形成するための遮光領域９２および第一の半透過領域９３ａと、配向規制構造物１６を形成するための第三の半透過領域９３ｃとが形成される。なお、第二実施形態にかかるスペーサ１５ｂを形成する場合には、スペーサ１５ｂを形成するための遮光領域９２、第一の半透過領域９３ａおよび第二の半透過領域９３ｂと、配向規制構造物１６を形成するための第三の半透過領域９３ｃが形成されるフォトマスク９ｂが用いられる。透光領域９１は、光エネルギを透過させることができる。遮光領域９２は、光エネルギを遮断することができる。第一の半透過領域９３ａ、第二の半透過領域９３ｂおよび第三の半透過領域９３ｃは、透過する光エネルギの強度を弱めることができる。
【００９６】
そして、図１５に示すように、感光性材料の膜１７のうち、後の現像工程において除去される部分には、フォトマスク９ａの透光領域９１を通じて第一の強さの光エネルギが照射される。また、感光性材料の膜１７のうち、スペーサ１５ａとなる部分の中心部は、フォトマスク９ａの遮光領域９２により遮光される。スペーサ１５ａとなる部分の周縁部には、第一の半透過領域９３ａを通じて第二の強さの光エネルギが照射される。
【００９７】
配向規制構造物１６となる部分は、フォトマスク９ａの第三の半透過領域９３ｃを通じて光エネルギが照射される。
【００９８】
フォトマスク９ａの第三の半透過領域９３ｃを通じて照射される光エネルギの強さは、第一の強さの光エネルギよりも弱い強さの光エネルギであって、後の現像工程において、感光性材料の膜１７の一部を除去でき一部を残すことができる（すなわち、現像工程において、感光性材料の膜１７の厚さを薄くすることができる）強さの光エネルギである。具体的な強さは、形成される配向規制構造物１６の高さに応じて設定される。
【００９９】
次いで、露光処理が施された感光性材料の膜１７に、現像処理が施される。現像処理が施されると、図１６に示すように、感光性材料の膜１７のうち、フォトマスク９ａの透光領域９１を通じて第一の強さの光エネルギが照射された部分が除去され、フォトマスク９ａの遮光領域９２により遮光された部分（すなわち、光エネルギが照射されなかった部分）が残る。また、フォトマスク９ａの第一の半透過領域９３ａを通じて第二の強さの光エネルギが照射された部分と、フォトマスク９ａの第三の半透過領域９３ｃを通じて第一の強さの光エネルギよりも弱い強さの光エネルギが照射された部分も残る。このため、表示パネル用の基板１の表面には、柱状のスペーサ１５ａと、所定のパターンの配向規制構造物１６が残る。
【０１００】
感光性材料の膜１７のうち、フォトマスク９ａの第一の半透過領域９３ａを通じて第二の強さの光エネルギが照射された部分は、遮光領域９２により遮光された部分に比較して厚さが薄くなる。このため、柱状のスペーサ１５ａの周縁部は中心部に比較して厚さが薄くなり、柱状のスペーサ１５ａは段階的な先細り形状となる。同様に、フォトマスク９ａの第三の半透過領域９３ｃを通じて第一の強さの光エネルギよりも弱いエネルギが照射された部分も、遮光領域９２により遮光された部分に比較して厚さが薄くなる。このため、配向規制構造物１６の高さは、スペーサ１５ａの中心部の高さよりも低くなる。
【０１０１】
なお、感光性材料の膜１７がネガ型の感光性材料からなる場合であっても、前記構成を有するスペーサ１５ａおよび配向規制構造物１６を形成することができる。感光性材料の膜１７がネガ型の感光性材料からなる場合において、露光工程で使用するフォトマスクは、感光性材料の膜１７がポジ型の感光性材料からなる場合において使用するフォトマスクと、透光領域と遮光領域とが入れ替わった構成を有する。スペーサ１５ａの周縁部の高さが低い部分を形成するための第一の半透過領域のパターンと、配向規制構造物１６を形成するための第三の半透過領域のパターンは、感光性材料の膜１７がネガ型の感光性材料からなる場合であっても、ポジ型の感光性材料からなる場合であっても、同じパターンを有する。
【０１０２】
すなわち、図１５を参照して説明すると、図１５に示すフォトマスク９ａの遮光領域９２が、感光性材料の膜１７がネガ型の感光性材料により形成される場合に使用するフォトマスクでは、透光領域となる。図１５に示すフォトマスク９ａの透光領域９１が、感光性材料の膜がネガ型の感光性材料により形成される場合に使用するフォトマスクでは、遮光領域となる。スペーサ１５ａの周縁部に高さが低い部分を形成するための第一の半透過領域のパターンと、配向規制構造物１６を形成するための第三の半透過領域のパターンは、感光性材料の膜１７がネガ型の感光性材料からなる場合であっても、ポジ型の感光性材料からなる場合であっても、同じパターンを有する。ただし、第三の半透光領域における光エネルギの強度の透過しやすさ（光エネルギの強度を弱める程度）は、現像工程後に残す配向規制構造物１６の高さに応じて設定される。
【０１０３】
そして、感光性材料の膜１７のうち、後の現像工程において除去される部分は、フォトマスクの遮光領域により遮光されて光エネルギが照射されない。後の現像工程において、そのまま残る部分（すなわち、スペーサ１５ａとなる部分）には、透光領域を通じて第一の強さの光エネルギが照射される。スペーサ１５ｂとなる領域の周縁部には、第一の半透過領域を通じて第二の強さの光エネルギが照射される。配向規制構造物１６となる部分には、フォトマスクの第三の半透過領域を通じて光エネルギが照射される。
【０１０４】
フォトマスクの第三の半透過領域を通じて照射される光エネルギの強さは、第一の強さの光エネルギよりも弱い強さの光エネルギであって、後の現像工程において、感光性材料の膜１７の一部を除去でき一部を残すことができる（すなわち、現像工程において、感光性材料の膜１７の厚さを薄くすることができる）強さの光エネルギである。具体的な強さは、形成される配向規制構造物１６の高さに応じて設定される。
【０１０５】
次いで、露光処理が施された感光性材料の膜１７に、現像処理が施される。図１６に示すように、現像処理が施されると、感光性材料の膜１７がネガ型の感光性材料からなる場合には、感光性材料の膜１７のうち、フォトマスクの透光領域を通じて第一の強さの光エネルギが照射された部分が残り、フォトマスクの遮光領域により遮光された部分（すなわち、光エネルギが照射されなかった部分）が除去される。また、フォトマスクの第一の半透過領域を通じて第二の強さの光エネルギが照射された部分と、フォトマスクの第三の半透過領域を通じて第一の強さの光エネルギよりも弱い強さの光エネルギが照射された部分も残る。このため、表示パネル用の基板１の表面には、柱状のスペーサ１５ａと、所定のパターンの配向規制構造物１６が残る。
【０１０６】
感光性材料の膜１７のうち、フォトマスクの第一の半透過領域を通じて第二の強さの光エネルギが照射された部分は、透光領域を通じて光エネルギが照射された部分に比較して厚さが薄くなる。このため、柱状のスペーサ１５ａの上面の略中心は厚さが薄くなり、上面の略中心に凹部が形成される。同様に、フォトマスクの第三の半透過領域を通じて第一の強さの光エネルギよりも弱いエネルギが照射された部分も、透光領域を通じて光エネルギが照射された部分に比較して厚さが薄くなる。このため、配向規制構造物１６の高さは、スペーサ１５ａの高さよりも低くなる。
【０１０７】
このように、感光性材料の膜１７がネガ型の感光性材料からなる場合であっても、ポジ型の感光性材料からなる場合と同様な構成のスペーサ１５ａおよび配向規制構造物１６を形成することができる。
【０１０８】
次いで、現像処理が施された感光性材料の膜１７（すなわち、スペーサ１５ａおよび配向規制構造物１６）に、加熱処理が施される。感光性材料がガラス転移点温度以上に加熱されると、図１６に示すように、形成されたスペーサ１５ａおよび配向規制構造物１６は軟化し、表面張力によって変形する。スペーサ１５ａの周縁部は中心部に比較して高さが低く、スペーサ１５ａは全体として段階的な先細り形状であるから、前記の通りスペーサ１５ａの上面は略平面に維持される。一方、配向規制構造物１６は、その断面が略半円状または上側に張り出した曲線状になる。
【０１０９】
このような工程を経て、本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板１が製造される。
【０１１０】
このように、本発明の実施形態によれば、液晶の配向を規制する配向規制構造物１６とスペーサ１５ａとが、同じ工程で同時に形成される。したがって、別々に形成する構成に比較して工程数を削減することができ、生産コストの削減を図ることができる。
【産業上の利用可能性】
【０１１１】
以上、本発明の実施形態について、図面を参照して詳細に説明したが、本発明は前記各実施形態に何ら限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲内において種々の改変が可能であることはいうまでもない。
【符号の説明】
【０１１２】
１  表示パネル用の基板
１１  透明基板
１２  ブラックマトリックス
１３  着色層
１４  共通電極
１５ａ  本発明の第一実施形態にかかるスペーサ
１５ｂ  本発明の第二実施形態にかかるスペーサ
１６  配向規制構造物
１７  感光性樹脂組成物の層
９ａ、９ｂ  フォトマスク
９１  透光領域
９２  遮光領域
９３ａ  第一の半透過領域
９３ｂ  第二の半透過領域
９３ｃ  第三の半透過領域
【図１】
2010160341.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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