(57)【要約】【課題】チャックを複数の部材で構成する際、各部材の設置高さの違いによる露光むらを抑制する。【解決手段】チャック１０を、複数のチャック部材１０ａ，１０ｂ，１０ｃで構成する。各チャック部材１０ａ，１０ｂ，１０ｃに、基板１を真空吸着する１つ以上の真空区画を設け、チャック部材とチャク部材との境界１０ｄ，１０ｅを含む領域に、基板１を真空吸着しない非真空区画を設けて、各チャック部材の真空区画により基板１を真空吸着する。各チャック部材１０ａ，１０ｂ，１０ｃの設置高さが微妙に異なり、チャック部材とチャク部材との境界１０ｄ，１０ｅに段差があっても、チャック１０に搭載された基板１は、境界１０ｄ，１０ｅを含む領域で真空吸着されないので、段差に倣うことなく緩やかに変形する。従って、各チャック部材１０ａ，１０ｂ，１０ｃの設置高さの違いによる露光むらが抑制される。【選択図】図４
2010160328.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を支持するチャックと、マスクを保持するマスクホルダとを備え、マスクと基板との間に微小なギャップを設けて、マスクのパターンを基板へ転写するプロキシミティ露光装置において、
前記チャックは、基板を真空吸着する１つ以上の真空区画を有する複数のチャック部材から成り、チャック部材とチャク部材との境界を含む領域に、基板を真空吸着しない非真空区画を有することを特徴とするプロキシミティ露光装置。
【請求項２】
各チャック部材は、基板を支持する複数の凸部と、該凸部以外の部分と基板との空間に真空区画を形成する土手と、該土手により形成された真空区画の真空引きを行う吸着孔とを有することを特徴とする請求項１に記載のプロキシミティ露光装置。
【請求項３】
各チャック部材の裏面を複数箇所で支持するチャック支持台と、
前記チャック支持台が各チャック部材の裏面を支持する高さを調整する複数の高さ調整機構とを備え、
前記複数のチャック部材の内の少なくとも１つは、前記高さ調整機構を操作するための少なくとも１つの開口と、該開口に取り付けられた蓋とを有し、該開口の周囲に基板を真空吸着しない非真空区画を有することを特徴とする請求項１又は請求項２に記載のプロキシミティ露光装置。
【請求項４】
基板を支持するチャックと、マスクを保持するマスクホルダとを備え、マスクと基板との間に微小なギャップを設けて、マスクのパターンを基板へ転写するプロキシミティ露光装置の基板支持方法であって、
チャックを複数のチャック部材で構成し、
各チャック部材に基板を真空吸着する１つ以上の真空区画を設け、チャック部材とチャク部材との境界を含む領域に、基板を真空吸着しない非真空区画を設けて、各チャック部材の真空区画により基板を真空吸着することを特徴とするプロキシミティ露光装置の基板支持方法。
【請求項５】
各チャック部材に複数の凸部を設けて、複数の凸部により基板を支持し、
凸部以外の部分と基板との空間に、土手により真空区画を形成して、真空区画を真空引きすることを特徴とする請求項４に記載のプロキシミティ露光装置の基板支持方法。
【請求項６】
各チャック部材をチャック支持台に搭載して、各チャック部材の裏面をチャック支持台により複数箇所で支持し、
チャック支持台が各チャック部材の裏面を支持する高さを調整する複数の高さ調整機構を設け、
複数のチャック部材の内の少なくとも１つに、高さ調整機構を操作するための少なくとも１つの開口と、開口に取り付ける蓋とを設け、
開口の周囲に基板を真空吸着しない非真空区画を設けて、各チャック部材の真空区画により基板を真空吸着することを特徴とする請求項４又は請求項５に記載のプロキシミティ露光装置の基板支持方法。
【請求項７】
請求項１乃至請求項３のいずれか一項に記載のプロキシミティ露光装置を用いて基板の露光を行うことを特徴とする表示用パネル基板の製造方法。
【請求項８】
請求項４乃至請求項６のいずれか一項に記載のプロキシミティ露光装置の基板支持方法を用いて基板を支持して、基板の露光を行うことを特徴とする表示用パネル基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶ディスプレイ装置等の表示用パネル基板の製造において、プロキシミティ方式を用いて基板の露光を行うプロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置の基板支持方法、及びそれらを用いた表示用パネル基板の製造方法に係り、特に、大型の基板の露光を行うのに好適なプロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置の基板支持方法、及びそれらを用いた表示用パネル基板の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
表示用パネルとして用いられる液晶ディスプレイ装置のＴＦＴ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）基板やカラーフィルタ基板、プラズマディスプレイパネル用基板、有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）表示パネル用基板等の製造は、露光装置を用いて、フォトリソグラフィー技術により基板上にパターンを形成して行われる。露光装置としては、レンズ又は鏡を用いてマスクのパターンを基板上に投影するプロジェクション方式と、マスクと基板との間に微小な間隙（プロキシミティギャップ）を設けてマスクのパターンを基板へ転写するプロキシミティ方式とがある。プロキシミティ方式は、プロジェクション方式に比べてパターン解像性能は劣るが、照射光学系の構成が簡単で、かつ処理能力が高く量産用に適している。
【０００３】
プロキシミティ露光装置は、基板を支持するチャックと、マスクを保持するマスクホルダとを備え、マスクホルダに保持されたマスクとチャックに支持された基板とを極めて接近させて露光を行う。チャックには、従来、表面が平らなものと、表面にピン形状の凸部を複数設けたものとがあった。後者は、ピン形状の凸部により複数の点で基板を支持し、ピン形状の凸部以外の部分と基板との空間を真空引きすることにより、基板を真空吸着して支持する。この様なチャックでは、大型の基板を均等に真空吸着するために、ピン形状の凸部以外の部分と基板との空間を複数の真空区画に分けて真空引きを行っていた。そのため、チャックの表面には、真空区間を形成するための土手（ライン）が設けられていた。
【０００４】
ガラス基板等の様に光が透過する基板では、露光時に基板を透過した光が、チャックで反射し、再び基板を透過して基板の表面に達することにより、チャックの表面形状等が基板の表面に焼き付けられる現象が発生することがある。この現象は、「裏面転写」と呼ばれている。従来の表面が平らなチャックでは、基板の裏面の汚れがチャックに堆積し、この汚れにより裏面転写が発生していた。
【０００５】
一方、表面にピン形状の凸部を設けたチャックでは、汚れの堆積による裏面転写の発生が少ない。しかしながら、裏面転写が発生してチャックの表面形状が基板の表面に焼き付けられたとき、ピン形状の凸部は小さくて人間の目で認識され難いので問題とならないが、真空区画を形成する土手は、直線等の規則的な形状のため人間の目で認識され易いという問題があった。これに対し、特許文献１には、チャックの真空区画を形成する土手を不規則な線で構成し、裏面転写が発生しても人間の目で認識され難くする技術が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００５−３３２９１０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
従来、チャックは、アルミニウム等の金属材料から成る部材を加工して製造され、チャック全体が１つの部材で構成されていた。しかしながら、近年の表示用パネルの大画面化に伴い基板が大型化すると、チャックも大型化し、チャックの加工及び運搬が困難になってきた。そのため、チャックを複数の部材に分割し、複数の部材によりチャックを構成する必要が出てきた。
【０００８】
プロキシミティ露光装置で露光精度を向上させるためには、露光時に、基板をより平坦に支持しなければならない。そのため、基板を支持するチャックには、高い平坦度が要求され、特に、基板が大型化する程、チャックの平坦度の要求が強くなる。しかしながら、チャックを複数の部材に分割して構成する場合、各部材を表面の高さが全く同じになる様に設置することは困難であり、部材と部材との境界には微小な段差が生じる。
【０００９】
表面にピン形状の凸部を設けたチャックでは、チャックを複数の部材に分割して構成する場合、部材と部材との境界で真空区画も分割され、境界の両側に真空区画が配置されることとなる。図１２（ａ）は境界の両側に真空区画を有するチャックの断面図、図１２（ｂ）は境界に段差がある場合のチャック及び基板を示す一部断面側面図である。図１２（ａ）では、チャック５０が、２つのチャック部材５０ａ，５０ｂにより構成されている。各チャック部材５０ａ，５０ｂの表面には、複数のピン形状の凸部５１が設けられている。各チャック部材５０ａ，５０ｂの表面の縁には、土手５２が設けられており、チャック部材５０ａとチャック部材５０ｂとの境界５０ｃの両側に、真空区画が形成されている。
【００１０】
図１２（ｂ）に示す様に、基板１をチャック５０に搭載したとき、各真空区画は、吸着孔５３により真空引きが行われて、基板１を真空吸着する。このとき、チャック部材５０ａ，５０ｂの設置高さが微妙に異なり、両者の境界５０ｃに段差があると、図１２（ｂ）に示す様に、基板１が段差の形状に倣って急激に歪み、基板１の露光時に露光むらが発生するという問題がある。
【００１１】
本発明の課題は、チャックを複数の部材で構成する際、各部材の設置高さの違いによる露光むらを抑制することである。また、本発明の課題は、大型の表示用パネル基板を歩留まり良く製造することである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明のプロキシミティ露光装置は、基板を支持するチャックと、マスクを保持するマスクホルダとを備え、マスクと基板との間に微小なギャップを設けて、マスクのパターンを基板へ転写するプロキシミティ露光装置において、チャックが、基板を真空吸着する１つ以上の真空区画を有する複数のチャック部材から成り、チャック部材とチャク部材との境界を含む領域に、基板を真空吸着しない非真空区画を有するものである。
【００１３】
また、本発明のプロキシミティ露光装置の基板支持方法は、基板を支持するチャックと、マスクを保持するマスクホルダとを備え、マスクと基板との間に微小なギャップを設けて、マスクのパターンを基板へ転写するプロキシミティ露光装置の基板支持方法であって、チャックを複数のチャック部材で構成し、各チャック部材に基板を真空吸着する１つ以上の真空区画を設け、チャック部材とチャク部材との境界を含む領域に、基板を真空吸着しない非真空区画を設けて、各チャック部材の真空区画により基板を真空吸着するものである。
【００１４】
チャックを複数のチャック部材で構成し、各チャック部材に基板を真空吸着する１つ以上の真空区画を設け、チャック部材とチャク部材との境界を含む領域に、基板を真空吸着しない非真空区画を設けて、各チャック部材の真空区画により基板を真空吸着するので、各チャック部材の設置高さが微妙に異なり、チャック部材とチャック部材との境界に段差があっても、チャックに搭載された基板は、境界を含む領域で真空吸着されないので、段差に倣うことなく緩やかに変形する。従って、各チャック部材の設置高さの違いによる露光むらが抑制される。
【００１５】
さらに、本発明のプロキシミティ露光装置は、各チャック部材が、基板を支持する複数の凸部と、凸部以外の部分と基板との空間に真空区画を形成する土手と、土手により形成された真空区画の真空引きを行う吸着孔とを有するものである。また、本発明のプロキシミティ露光装置の基板支持方法は、各チャック部材に複数の凸部を設けて、複数の凸部により基板を支持し、凸部以外の部分と基板との空間に、土手により真空区画を形成して、真空区画を真空引きするものである。各チャック部材に複数の凸部を設けて、複数の凸部により基板を支持するので、基板の裏面の汚れがチャックに堆積しにくく、汚れの堆積による裏面転写の発生が抑制される。
【００１６】
さらに、本発明のプロキシミティ露光装置は、各チャック部材の裏面を複数箇所で支持するチャック支持台と、チャック支持台が各チャック部材の裏面を支持する高さを調整する複数の高さ調整機構とを備え、複数のチャック部材の内の少なくとも１つが、高さ調整機構を操作するための少なくとも１つの開口と、開口に取り付けられた蓋とを有し、開口の周囲に基板を真空吸着しない非真空区画を有するものである。
【００１７】
また、本発明のプロキシミティ露光装置の基板支持方法は、各チャック部材をチャック支持台に搭載して、各チャック部材の裏面をチャック支持台により複数箇所で支持し、チャック支持台が各チャック部材の裏面を支持する高さを調整する複数の高さ調整機構を設け、複数のチャック部材の内の少なくとも１つに、高さ調整機構を操作するための少なくとも１つの開口と、開口に取り付ける蓋とを設け、開口の周囲に基板を真空吸着しない非真空区画を設けて、各チャック部材の真空区画により基板を真空吸着するものである。
【００１８】
チャック支持台が各チャック部材の裏面を支持する高さを調整する複数の高さ調整機構を設け、複数のチャック部材の内の少なくとも１つに、高さ調整機構を操作するための少なくとも１つの開口と、開口に取り付ける蓋とを設け、開口の周囲に基板を真空吸着しない非真空区画を設けて、各チャック部材の真空区画により基板を真空吸着するので、蓋の取り付け高さがチャック部材の設置高さと微妙に異なり、チャック部材と蓋との境界に段差があっても、チャックに搭載された基板は、境界を含む領域で真空吸着されないので、段差に倣うことなく緩やかに変形する。従って、蓋の取り付け高さとチャック部材の設置高さの違いによる露光むらが抑制される。
【００１９】
本発明の表示用パネル基板の製造方法は、上記のいずれかのプロキシミティ露光装置を用いて基板の露光を行い、あるいは、上記のいずれかのプロキシミティ露光装置の基板支持方法を用いて基板を支持して、基板の露光を行うものである。各チャック部材の設置高さの違い又は蓋の取り付け高さとチャック部材の設置高さの違いによる露光むらが抑制されるので、不良品の発生が少なくなる。
【発明の効果】
【００２０】
本発明のプロキシミティ露光装置及びプロキシミティ露光装置の基板支持方法によれば、チャックを複数のチャック部材で構成し、各チャック部材に基板を真空吸着する１つ以上の真空区画を設け、チャック部材とチャク部材との境界を含む領域に、基板を真空吸着しない非真空区画を設けて、各チャック部材の真空区画により基板を真空吸着することにより、各チャック部材の設置高さの違いによる露光むらを抑制することができる。
【００２１】
さらに、本発明のプロキシミティ露光装置及びプロキシミティ露光装置の基板支持方法によれば、各チャック部材に複数の凸部を設けて、複数の凸部により基板を支持し、凸部以外の部分と基板との空間に、土手により真空区画を形成して、真空区画を真空引きすることにより、チャックに汚れが堆積して裏面転写が発生するのを抑制することができる。
【００２２】
さらに、本発明のプロキシミティ露光装置及びプロキシミティ露光装置の基板支持方法によれば、各チャック部材をチャック支持台に搭載して、各チャック部材の裏面をチャック支持台により複数箇所で支持し、チャック支持台が各チャック部材の裏面を支持する高さを調整する複数の高さ調整機構を設け、複数のチャック部材の内の少なくとも１つに、高さ調整機構を操作するための少なくとも１つの開口と、開口に取り付ける蓋とを設け、開口の周囲に基板を真空吸着しない非真空区画を設けて、各チャック部材の真空区画により基板を真空吸着することにより、蓋の取り付け高さとチャック部材の設置高さの違いによる露光むらを抑制することができる。
【００２３】
本発明の表示用パネル基板の製造方法によれば、各チャック部材の設置高さの違い又は蓋の取り付け高さとチャック部材の設置高さの違いによる露光むらを抑制し、不良品の発生を少なくすることができるので、大型の表示用パネル基板を歩留まり良く製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】本発明の一実施の形態によるプロキシミティ露光装置の概略構成を示す図である。
【図２】図２（ａ）は本発明の一実施の形態によるプロキシミティ露光装置のチャックの上面図、図２（ｂ）はチャック及びチャック支持台の側面図である。
【図３】本発明の一実施の形態によるプロキシミティ露光装置のチャックの真空区画を示す図である。
【図４】図４（ａ）は図２（ａ）のＡ−Ａ部の断面図、図４（ｂ）は境界に段差がある場合のチャック及び基板を示す一部断面側面図である。
【図５】図５（ａ）はチャック支持台の上面図、図５（ｂ）はチャック支持台の側面図である。
【図６】チャック支持台に設けられた高さ調整機構の一部断面側面図である。
【図７】チャック部材１０ａの蓋の部分を拡大した図である。
【図８】図７のＢ−Ｂ部の一部断面側面図である。
【図９】図７のＣ−Ｃ部の一部断面側面図である。
【図１０】液晶ディスプレイ装置のＴＦＴ基板の製造工程の一例を示すフローチャートである。
【図１１】液晶ディスプレイ装置のカラーフィルタ基板の製造工程の一例を示すフローチャートである。
【図１２】図１２（ａ）は境界の両側に真空区画を有するチャックの断面図、図１２（ｂ）は境界に段差がある場合のチャック及び基板を示す一部断面側面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
図１は、本発明の一実施の形態によるプロキシミティ露光装置の概略構成を示す図である。プロキシミティ露光装置は、ベース３、Ｘガイド４、Ｘステージ５、Ｙガイド６、Ｙステージ７、θステージ８、チャック支持台９、チャック１０、及びマスクホルダ２０を含んで構成されている。プロキシミティ露光装置は、これらの他に、基板１をチャック１０へ搬入し、また基板１をチャック１０から搬出する基板搬送ロボット、露光光を照射する照射光学系、装置内の温度管理を行う温度制御ユニット等を備えている。
【００２６】
なお、以下に説明する実施の形態におけるＸＹ方向は例示であって、Ｘ方向とＹ方向とを入れ替えてもよい。
【００２７】
図１において、チャック１０は、基板１のロード及びアンロードを行うロード／アンロード位置にある。ロード／アンロード位置において、図示しない基板搬送ロボットにより、基板１がチャック１０へ搬入され、また基板１がチャック１０から搬出される。チャック１０への基板１のロード及びチャック１０からの基板１のアンロードは、チャック１０に設けた複数の突き上げピンを用いて行われる。突き上げピンは、チャック１０の内部に収納されており、チャック１０の内部から上昇して、基板１をチャック１０にロードする際、基板搬送ロボットから基板１を受け取り、基板１をチャック１０からアンロードする際、基板搬送ロボットへ基板１を受け渡す。
【００２８】
基板１の露光を行う露光位置の上空には、マスク２を保持するマスクホルダ２０が設置されている。マスクホルダ２０は、マスク２の周辺部を真空吸着して保持する。マスクホルダ２０に保持されたマスク２の上空には、図示しない照射光学系が配置されている。露光時、照射光学系からの露光光がマスク２を透過して基板１へ照射されることにより、マスク２のパターンが基板１の表面に転写され、基板１上にパターンが形成される。
【００２９】
チャック１０は、チャック支持台９を介してθステージ８に搭載されており、θステージ８の下にはＹステージ７及びＸステージ５が設けられている。Ｘステージ５は、ベース３に設けられたＸガイド４に搭載され、Ｘガイド４に沿ってＸ方向（図１の図面横方向）へ移動する。Ｙステージ７は、Ｘステージ５に設けられたＹガイド６に搭載され、Ｙガイド６に沿ってＹ方向（図１の図面奥行き方向）へ移動する。θステージ８は、Ｙステージ７に搭載され、θ方向へ回転する。チャック支持台９は、θステージ８に搭載され、チャック１０を支持する。
【００３０】
Ｘステージ５のＸ方向への移動及びＹステージ７のＹ方向への移動により、チャック１０は、ロード／アンロード位置と露光位置との間を移動される。ロード／アンロード位置において、Ｘステージ５のＸ方向への移動、Ｙステージ７のＹ方向への移動、及びθステージ８のθ方向への回転により、チャック１０に搭載された基板１のプリアライメントが行われる。露光位置において、Ｘステージ５のＸ方向への移動及びＹステージ７のＹ方向への移動により、チャック１０に搭載された基板１のＸＹ方向へのステップ移動が行われる。そして、Ｘステージ５のＸ方向への移動、Ｙステージ７のＹ方向への移動、及びθステージ８のθ方向への回転により、基板１の位置決めが行われる。また、図示しないＺ−チルト機構によりマスクホルダ２０をＺ方向（図１の図面上下方向）へ移動及びチルトすることにより、マスク２と基板１とのギャップ合わせが行われる。
【００３１】
なお、本実施の形態では、マスクホルダ２０をＺ方向へ移動及びチルトすることにより、マスク２と基板１とのギャップ合わせを行っているが、チャック支持台９にＺ−チルト機構を設けて、チャック１０をＺ方向へ移動及びチルトすることにより、マスク２と基板１とのギャップ合わせを行ってもよい。
【００３２】
図２（ａ）は本発明の一実施の形態によるプロキシミティ露光装置のチャックの上面図、図２（ｂ）はチャック及びチャック支持台の側面図である。本実施の形態では、チャック１０が、３つのチャック部材１０ａ，１０ｂ，１０ｃにより構成されている。しかしながら、本発明はこれに限らず、チャック１０を２つ又は４つ以上のチャック部材で構成してもよい。チャック１０を複数のチャック部材で構成することにより、チャック１０全体の寸法が大きくても、チャック１０の加工及び運搬を、チャック部材毎に容易に行うことができる。
【００３３】
図２（ａ）において、各チャック部材１０ａ，１０ｂ，１０ｃの表面には、図示しない凸部と、土手１２とが設けられている。凸部は、直径数ｍｍのピン形状であり、各チャック部材１０ａ，１０ｂ，１０ｃの表面に所定の間隔で複数設けられている。チャック１０に基板１が搭載されたとき、凸部は、基板１を複数の点で支持する。このとき、チャック１０の表面の凸部以外の部分と基板１との間には、空間が形成される。土手１２は、所定の幅の連続した壁であり、チャック１０の表面の凸部以外の部分と基板１との間の空間に、真空区画を形成する。
【００３４】
なお、土手１２は、裏面転写が発生したときに人間の目で認識され難い様に、直線ではなく不規則な線で構成されているが、図２（ａ）では、見易くするため、土手１２の縁を直線で示している。また、各チャック部材１０ａ，１０ｂ，１０ｃの表面には、凸部と土手１２の他に、真空区画の真空引きを行う吸着孔、及び突き上げピンが通る貫通孔が設けられているが、図２（ａ）ではそれらが省略されている。
【００３５】
図３は、本発明の一実施の形態によるプロキシミティ露光装置のチャックの真空区画を示す図である。図３において、チャック部材１０ａ，１０ｂ，１０ｃ上の破線で囲まれ網掛けが施された領域１０ｆ〜１０ｚが、土手１２により形成された真空区画である。チャック部材１０ａとチャック部材１０ｂとの境界１０ｄを含み、境界１０ｄから所定距離Ｄの領域、及びチャック部材１０ａとチャック部材１０ｃとの境界１０ｅを含み、境界１０ｅから所定距離Ｄの領域は、真空区画ではなく、非真空区画と成っている。
【００３６】
なお、本実施の形態では、チャック部材１０ａに長方形又は正方形の合計１３個の真空区画１０ｆ〜１０ｒが設けられ、チャック部材１０ｂ，１０ｃに長方形の合計４個の真空区画１０ｓ〜１０ｖ，１０ｗ〜１０ｚがそれぞれ設けられているが、真空区画の形状及び数は、これに限定されるものではない。
【００３７】
図４（ａ）は図２（ａ）のＡ−Ａ部の断面図、図４（ｂ）は境界に段差がある場合のチャック及び基板を示す一部断面側面図である。図４（ａ）に示す様に、各チャック部材１０ａ，１０ｂの表面には、複数の凸部１１が設けられている。チャック部材１０ａとチャック部材１０ｂとの境界１０ｄから所定距離Ｄだけ離れた所には、土手１２がそれぞれ設けられており、チャック部材１０ａの土手１２から右側、及びチャック部材１０ｂの土手１２から左側に、真空区画が形成されている。各真空区画には、真空区画を真空引きするための吸着孔１３が設けられており、吸着孔１３は、図示しない真空設備に接続されている。チャック部材１０ａとチャック部材１０ｂとの境界１０ｄを含む、チャック部材１０ａの土手１２からチャック部材１０ｂの土手１２までの領域は、非真空区画と成っている。
【００３８】
図４（ｂ）に示す様に、基板１をチャック１０に搭載したとき、各真空区画は、吸着孔１３により真空引きが行われて、基板１を真空吸着する。このとき、チャック部材１０ａ，１０ｂの設置高さが微妙に異なり、チャック部材１０ａとチャック部材１０ｂとの境界１０ｄに段差があっても、チャック１０に搭載された基板１は、境界１０ｄを含む領域で真空吸着されないので、段差に倣うことなく緩やかに変形する。従って、各チャック部材１０ａ，１０ｂの設置高さの違いによる露光むらが抑制される。チャック部材１０ａとチャック部材１０ｃについても、同様である。
【００３９】
図２（ｂ）において、チャック支持台９は、各チャック部材１０ａ，１０ｂ，１０ｃの裏面を複数箇所で支持する。チャック支持台９には、後述する様に、チャック支持台９が各チャック部材１０ａ，１０ｂ，１０ｃの裏面を支持する高さを調整する複数の高さ調整機構が設けられている。また、チャック部材１０ａの裏面の中央部付近にも、後述する様に、チャック支持台９がチャック部材１０ａの裏面を支持する高さを調整する複数の高さ調整機構が設けられている。
【００４０】
図２（ａ）において、チャック部材１０ａの中央部付近には、複数の円形の開口が設けられており、開口には蓋１４が取り付けられている。本実施の形態では、各チャック部材１０ａ，１０ｂ，１０ｃをチャック支持台９に搭載した後、チャック支持台９に設けられた高さ調整機構をチャック１０の外側から操作し、チャック部材１０ａの裏面の中央部付近に設けられた高さ調整機構を開口から操作して、チャック支持台９が各チャック部材１０ａ，１０ｂ，１０ｃの裏面を支持する高さを調整する。チャック１０全体の寸法が大きく、チャック１０の外側からチャック部材１０ａの裏面の中央部付近に設けられた高さ調節機構に工具が届かなくても、チャック部材１０ａの裏面の中央部付近に設けられた高さ調節機構を開口から容易に操作することができるので、チャック１０の平坦度を向上させることができる。
【００４１】
なお、本実施の形態では、チャック部材１０ａの中央部付近に１２個の開口が設けられているが、開口の位置及び数は、これに限定されるものではない。
【００４２】
図５（ａ）はチャック支持台の上面図、図５（ｂ）はチャック支持台の側面図である。チャック支持台９は、フレーム３０、調整ねじ３１を含む高さ調整機構、及び受け部３５を含んで構成されている。フレーム３０は、図１のθステージ８に搭載されている。フレーム３０は、放射状又は縦横に伸びる所定の厚さの複数のスポークを有し、各スポークの中間及び先端には、所定の厚さのリムが取り付けられて、格子状の枠を形成している。フレーム３０の上面には、調整ねじ３１を含む高さ調整機構と、チャック部材１０ａの裏面の中央部付近に設けられた高さ調整機構が接触する受け部３５とが取り付けられている。
【００４３】
なお、本実施の形態では、調整ねじ３１を含む高さ調整機構が８２箇所に取り付けられ、受け部３５が１２箇所に取り付けられているが、調整ねじ３１を含む高さ調整機構及び受け部３５の数及びそれらの配置は、チャック部材の大きさ及び形状に応じて適宜決定される。
【００４４】
図２（ｂ）において、各チャック部材１０ａ，１０ｂ，１０ｃの裏面には、調整ねじ３１が接触する複数の支持部１５が設けられている。調整ねじ３１は、各チャック部材１０ａ，１０ｂ，１０ｃの裏面に設けられた支持部１５に接触し、各チャック部材１０ａ，１０ｂ，１０ｃの裏面を複数の点で支持する。
【００４５】
図６は、チャック支持台に設けられた高さ調整機構の一部断面側面図である。高さ調整機構は、フレーム３０に設けられたねじ穴と、調整ねじ３１、ばね座金３２、平座金３３、及び止めナット３４とを含んで構成されている。各チャック部材１０ａ，１０ｂ，１０ｃの裏面に設けられた支持部１５は、ねじ受け１６、カバー１７、及びボルト１８から成る。
【００４６】
調整ねじ３１の頭は、球面の一部を形成しており、その頂点がねじ受け１６に接触している。調整ねじ３１の頭とカバー１７との間には、ばね座金３２が入れられ、カバー１７は、ボルト１８によりねじ受け１６に固定されている。ばね座金３２を調整ねじ３１の頭とカバー１７との間に入れることにより、各チャック部材１０ａ，１０ｂ，１０ｃの横方向へのずれが防止される。
【００４７】
調整ねじ３１のねじ部３１ａは、フレーム３０に設けられたねじ穴にねじ込まれている。調整ねじ３１のねじ部３１ａには、平座金３３及び止めナット３４が取り付けられており、止めナット３４により調整ねじ３１がフレーム３０に固定されている。止めナット３４を緩め、調整ねじ３１のねじ込み量を調整して、再び止めナット３４を締めることにより、調整ねじ３１が各チャック部材１０ａ，１０ｂ，１０ｃの裏面を支持する点の高さが調整される。
【００４８】
図７は、チャック部材１０ａの蓋の部分を拡大した図である。図７において、チャック部材１０ａ及び蓋１４の表面には、複数の凸部１１が所定の間隔で設けられている。また、チャック部材１０ａの開口の周囲には、土手１２が設けられており、土手１２の外側に、真空区画が形成されている。土手１２の外側に形成された真空区画には、真空区画を真空引きするための吸着孔１３が設けられており、吸着孔１３は、図示しない真空設備に接続されている。土手１２の内側で、チャック部材１０ａと蓋１４との境界１４ａを含む開口の周囲は、非真空区画と成っている。蓋１４の周辺部には、後述する止めねじ４７，４８ ，４９をねじ 込むねじ穴が複数箇所に設けられている。
【００４９】
図８は、図７のＢ−Ｂ部の一部断面側面図である。また、図９は、図７のＣ−Ｃ部の一部断面側面図である。図８において、チャック部材１０ａの裏面の開口周辺には、蓋１４を支持する支持部材４０が取り付けられている。支持部材４０は、ボルト４５によりチャック部材１０ａの裏面に固定されている。チャック部材１０ａの裏面の中央部付近に設けられた高さ調整機構は、支持部材４０に設けられたねじ穴と、調整ねじ４１、ばね座金４２、及び止めナット４４とを含んで構成されている。フレーム３０の上面に設けられた受け部３５は、ねじ受け３６、カバー３７、及びボルト３８から成る。
【００５０】
調整ねじ４１の頭は、球面の一部を形成しており、その頂点がねじ受け３６に接触している。調整ねじ４１の頭とカバー３７との間には、ばね座金４２が入れられ、カバー３７は、ボルト３８によりねじ受け３６に固定されている。ばね座金４２を調整ねじ４１の頭とカバー３７との間に入れることにより、チャック部材１０ａの横方向へのずれが防止される。
【００５１】
調整ねじ４１のねじ部４１ａは、支持部材４０に設けられたねじ穴にねじ込まれている。調整ねじ４１のねじ部４１ａの上端には、調整ねじ４１を上方から回すための、図示しない溝が設けられている。調整ねじ４１のねじ部４１ａには、止めナット４４が取り付けられており、止めナット４４により調整ねじ４１が支持部材４０に固定されている。止めナット４４を緩め、調整ねじ４１のねじ込み量を調整して、再び止めナット４４を締めることにより、チャック支持台９がチャック部材１０ａの裏面を支持する高さが調整される。チャック部材１０ａの開口に蓋１４を取り付けない状態で、開口からこれらの操作を行った後、開口に蓋１４を取り付ける。
【００５２】
図９において、止めねじ４８は、蓋１４の周辺部に設けたねじ穴にねじ込まれて、止めねじ４９により固定されている。止めねじ４８は、蓋１４の底面から突き出て、支持部材４０に接触している。本実施の形態では、止めねじ４９を外し、止めねじ４８のねじ込み量を調整して、再び止めねじ４９を締めることにより、蓋１４の取り付け高さを調整する。蓋１４の底面から突き出した止めねじ４８を用いて、蓋１４の取り付け高さを容易に調整することができる。蓋１４の取り付け高さを調整した後、図８において、ボルト４６により蓋１４を支持部材４０に固定し、ボルト４６を止めねじ４７で固定する。
【００５３】
図８において、基板１をチャック１０に搭載したとき、チャック部材１０ａの土手１２の外側に形成された真空区画は、吸着孔１３により真空引きが行われて、基板１を真空吸着する。このとき、蓋１４の取り付け高さがチャック部材１０ａの設置高さと微妙に異なり、チャック部材１０ａと蓋１４との境界１４ａに段差があっても、チャック１０に搭載された基板１は、境界１４ａを含む領域で真空吸着されないので、段差に倣うことなく緩やかに変形する。従って、蓋１４の取り付け高さとチャック部材１０ａの設置高さの違いによる露光むらが抑制される。
【００５４】
以上説明した実施の形態によれば、チャック１０を複数のチャック部材１０ａ，１０ｂ，１０ｃで構成し、各チャック部材１０ａ，１０ｂ，１０ｃに基板１を真空吸着する１つ以上の真空区画１０ｆ〜１０ｚを設け、チャック部材とチャク部材との境界１０ｄ，１０ｅを含む領域に、基板１を真空吸着しない非真空区画を設けて、各チャック部材１０ａ，１０ｂ，１０ｃの真空区画１０ｆ〜１０ｚにより基板１を真空吸着することにより、各チャック部材１０ａ，１０ｂ，１０ｃの設置高さの違いによる露光むらを抑制することができる。
【００５５】
さらに、各チャック部材１０ａ，１０ｂ，１０ｃに複数の凸部１１を設けて、複数の凸部１１により基板１を支持し、凸部１１以外の部分と基板１との空間に、土手１２により真空区画１０ｆ〜１０ｚを形成して、真空区画１０ｆ〜１０ｚを真空引きすることにより、チャック１０に汚れが堆積して裏面転写が発生するのを抑制することができる。
【００５６】
さらに、各チャック部材１０ａ，１０ｂ，１０ｃをチャック支持台９に搭載して、各チャック部材１０ａ，１０ｂ，１０ｃの裏面をチャック支持台９により複数箇所で支持し、チャック支持台９が各チャック部材１０ａ，１０ｂ，１０ｃの裏面を支持する高さを調整する複数の高さ調整機構を設け、複数のチャック部材１０ａ，１０ｂ，１０ｃの内の少なくとも１つに、高さ調整機構を操作するための少なくとも１つの開口と、開口に取り付ける蓋１４とを設け、開口の周囲に基板１を真空吸着しない非真空区画を設けて、各チャック部材１０ａ，１０ｂ，１０ｃの真空区画１０ｆ〜１０ｚにより基板１を真空吸着することにより、蓋１４の取り付け高さとチャック部材の設置高さの違いによる露光むらを抑制することができる。
【００５７】
本発明のプロキシミティ露光装置を用いて基板の露光を行い、あるいは、本発明のプロキシミティ露光装置の基板支持方法を用いて基板を支持して、基板の露光を行うことにより、各チャック部材の設置高さの違い又は蓋の取り付け高さとチャック部材の設置高さの違いによる露光むらを抑制し、不良品の発生を少なくすることができるので、大型の表示用パネル基板を歩留まり良く製造することができる。
【００５８】
例えば、図１０は、液晶ディスプレイ装置のＴＦＴ基板の製造工程の一例を示すフローチャートである。薄膜形成工程（ステップ１０１）では、スパッタ法やプラズマ化学気相成長（ＣＶＤ）法等により、基板上に液晶駆動用の透明電極となる導電体膜や絶縁体膜等の薄膜を形成する。レジスト塗布工程（ステップ１０２）では、ロール塗布法等により感光樹脂材料（フォトレジスト）を塗布して、薄膜形成工程（ステップ１０１）で形成した薄膜上にフォトレジスト膜を形成する。露光工程（ステップ１０３）では、プロキシミティ露光装置や投影露光装置等を用いて、マスクのパターンをフォトレジスト膜に転写する。現像工程（ステップ１０４）では、シャワー現像法等により現像液をフォトレジスト膜上に供給して、フォトレジスト膜の不要部分を除去する。エッチング工程（ステップ１０５）では、ウエットエッチングにより、薄膜形成工程（ステップ１０１）で形成した薄膜の内、フォトレジスト膜でマスクされていない部分を除去する。剥離工程（ステップ１０６）では、エッチング工程（ステップ１０５）でのマスクの役目を終えたフォトレジスト膜を、剥離液によって剥離する。これらの各工程の前又は後には、必要に応じて、基板の洗浄／乾燥工程が実施される。これらの工程を数回繰り返して、基板上にＴＦＴアレイが形成される。
【００５９】
また、図１１は、液晶ディスプレイ装置のカラーフィルタ基板の製造工程の一例を示すフローチャートである。ブラックマトリクス形成工程（ステップ２０１）では、レジスト塗布、露光、現像、エッチング、剥離等の処理により、基板上にブラックマトリクスを形成する。着色パターン形成工程（ステップ２０２）では、染色法、顔料分散法、印刷法、電着法等により、基板上に着色パターンを形成する。この工程を、Ｒ、Ｇ、Ｂの着色パターンについて繰り返す。保護膜形成工程（ステップ２０３）では、着色パターンの上に保護膜を形成し、透明電極膜形成工程（ステップ２０４）では、保護膜の上に透明電極膜を形成する。これらの各工程の前、途中又は後には、必要に応じて、基板の洗浄／乾燥工程が実施される。
【００６０】
図１０に示したＴＦＴ基板の製造工程では、露光工程（ステップ１０３）において、図１１に示したカラーフィルタ基板の製造工程では、ブラックマトリクス形成工程（ステップ２０１）及び着色パターン形成工程（ステップ２０２）の露光処理において、本発明のプロキシミティ露光装置又は本発明のプロキシミティ露光装置の基板支持方法を適用することができる。
【符号の説明】
【００６１】
１  基板
２  マスク
３  ベース
４  Ｘガイド
５  Ｘステージ
６  Ｙガイド
７  Ｙステージ
８  θステージ
９  チャック支持台
１０  チャック
１０ａ，１０ｂ，１０ｃ  チャック部材
１１  凸部
１２  土手
１３  吸着孔
１４  蓋
１５  支持部
１６，３６  ねじ受け
１７，３７  カバー
１８，３８  ボルト
２０  マスクホルダ
３０  フレーム
３１，４１  調整ねじ
３２，４２  ばね座金
３３  平座金
３４，４４  止めナット
３５  受け部
４０  支持部材
４５，４６  ボルト
４７ ，４８，４９  止めねじ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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