(57)【要約】【課題】加熱処理などを処理対象部材に均一に実行できる部材処理装置を提供する。【解決手段】対象支持フォーク１２０で処理対象部材ＧＢを対象待機位置ＷＰから対象処理位置ＢＰまで前進させ、対象支持フォーク１２０を複数の前後張架線材１０１より下方まで相対移動させることで、左右方向に並列な配置で前後方向に各々張架されている複数の前後張架線材１０１で処理対象部材ＧＢを対象処理位置ＢＰに支持させる。この状態で、フォーク移動機構１２２により複数の前後張架線材１０１より下方に位置させた対象支持フォーク１２０を対象処理位置ＢＰから対象待機位置ＷＰまで後退させる。このような状態で、複数の前後張架線材１０１で対象処理位置ＢＰに支持された処理対象部材ＧＢにパネルヒータ１１１で加熱処理が実行される。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
平板状の処理対象部材を対象処理位置に後方の対象待機位置から搬入して所定処理を実行する部材処理装置であって、
左右方向に並列な配置で前後方向に各々張架されていて前記処理対象部材を前記対象処理位置に支持する複数の前後張架線材と、
複数の前記前後張架線材で前記対象処理位置に支持された前記処理対象部材に前記所定処理を実行する部材処理機構と、
張架されている複数の前記前後張架線材の間隙を通過する形状の少なくとも一対の対象支持クローで前記処理対象部材を略水平に支持する対象支持フォークと、
前記対象支持フォークを前記対象待機位置と前記対象処理位置とに前後移動させる前後移動機構と、
前記対象支持フォークを少なくとも前記対象処理位置で複数の前記前後張架線材より上方と下方とに相対移動させる上下移動機構と、
を有する部材処理装置。
【請求項２】
前記対象処理位置で少なくとも前記対象支持フォークが移動自在な間隙を介して複数の前記前後張架線材の下方に前後方向に並列な配置で左右方向に各々張架されている複数の左右張架線材を、さらに有する請求項１に記載の部材処理装置。
【請求項３】
少なくとも前記対象処理位置より前方で複数の前記前後張架線材を巻回している前方巻回機構と、
少なくとも前記対象処理位置より後方で複数の前記前後張架線材を巻回している後方巻回機構と、
前記前方巻回機構と前記後方巻回機構との少なくとも一方を回転駆動して前記前後張架線材を前後遷移させる前後駆動機構と、
少なくとも前記対象処理位置より左方で複数の前記左右張架線材を巻回している左方巻回機構と、
少なくとも前記対象処理位置より右方で複数の前記左右張架線材を巻回している右方巻回機構と、
前記左方巻回機構と前記右方巻回機構との少なくとも一方を回転駆動して前記左右張架線材を左右遷移させる左右駆動機構と、
を有する請求項２に記載の部材処理装置。
【請求項４】
前記後方巻回機構は、複数の前記前後張架線材を個々に巻回している複数の大径の線材巻回プーリと、複数の前記線材巻回プーリが軸心方向に配列されている回転自在な小径のプーリ回転軸と、を有し、
前記プーリ回転軸と前記線材巻回プーリとの外周面の段差が前記対象支持フォークの前記対象支持クローの上下厚より大きい請求項２または３に記載の部材処理装置。
【請求項５】
前記部材処理機構は、複数の前記前後張架線材で前記対象処理位置に支持された前記処理対象部材を加熱処理する請求項１ないし４の何れか一項に記載の部材処理装置。
【請求項６】
前記部材処理機構は、複数の前記前後張架線材で前記対象処理位置に支持された前記処理対象部材を減圧乾燥する請求項１ないし４の何れか一項に記載の部材処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、平板状の処理対象部材を対象処理位置に後方の対象待機位置から搬入して所定処理を実行する部材処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、部材処理装置である加熱処理装置でガラス基板などの処理対象部材を加熱処理するとき、処理対象部材をリフトピン機構の不動ピンと可動ピンとで支持している。このリフトピン機構では、可動ピンが上下方向と水平方向とに移動する。
【０００３】
そこで、上昇した可動ピンで処理対象部材を支持して水平方向に移動させ、可動ピンを下降させて不動ピンで支持させる。この動作を繰り返すことにより、可動ピンと不動ピンとが処理対象部材に接触する位置を常時変化させ、ピン接触に起因した処理対象部材の温度ムラを抑制する(例えば、特許文献１，２参照)。
【特許文献１】特開平１０−７６２１１号公報
【特許文献２】特開２００６−６１７５５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかし、上述の部材処理装置では、リフトピン機構の可動ピンと不動ピンとで交互に処理対象部材を支持するため、その構造が複雑である。しかも、可動ピンと不動ピンにより平板状の処理対象部材を水平に複数箇所で点状に支持する。
【０００５】
このため、可動ピンと不動ピンによる処理対象部材の支持位置に応力および伝熱が点状に集中することになり、加熱処理や減圧乾燥などの所定処理を処理対象部材に均一に実行することが困難である。
【０００６】
本発明は上述のような課題に鑑みてなされたものであり、加熱処理や減圧乾燥などの所定処理を処理対象部材に均一に実行することができる部材処理装置を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の部材処理装置は、平板状の処理対象部材を対象処理位置に後方の対象待機位置から搬入して所定処理を実行する部材処理装置であって、左右方向に並列な配置で前後方向に各々張架されていて処理対象部材を対象処理位置に支持する複数の前後張架線材と、複数の前後張架線材で対象処理位置に支持された処理対象部材に所定処理を実行する部材処理機構と、張架されている複数の前後張架線材の間隙を通過する形状の少なくとも一対の対象支持クローで処理対象部材を略水平に支持する対象支持フォークと、対象支持フォークを対象待機位置と対象処理位置とに前後移動させる前後移動機構と、対象支持フォークを少なくとも対象処理位置で複数の前後張架線材より上方と下方とに相対移動させる上下移動機構と、を有する。
【０００８】
従って、本発明の部材処理装置では、張架されている複数の前後張架線材の間隙を通過する形状の対象支持フォークの少なくとも一対の対象支持クローで処理対象部材を略水平に対象待機位置に支持する。この対象支持フォークを上下移動機構により前後張架線材より上方に位置させた状態で、前後移動機構により対象待機位置から対象処理位置まで前進させる。この状態で、上下移動機構により対象支持フォークを複数の前後張架線材より下方まで相対移動させることで、左右方向に並列な配置で前後方向に各々張架されている複数の前後張架線材で処理対象部材を対象処理位置に支持させる。この状態で、例えば、上下移動機構により複数の前後張架線材より下方に位置させた対象支持フォークを、前後移動機構により対象処理位置から対象待機位置まで後退させる。このような状態で、複数の前後張架線材で対象処理位置に支持された処理対象部材に部材処理機構で所定処理が実行される。
【０００９】
また、上述のような部材処理装置において、対象処理位置で少なくとも対象支持フォークが移動自在な間隙を介して複数の前後張架線材の下方に前後方向に並列な配置で左右方向に各々張架されている複数の左右張架線材を、さらに有してもよい。
【００１０】
また、上述のような部材処理装置において、少なくとも対象処理位置より前方で複数の前後張架線材を巻回している前方巻回機構と、少なくとも対象処理位置より後方で複数の前後張架線材を巻回している後方巻回機構と、前方巻回機構と後方巻回機構との少なくとも一方を回転駆動して前後張架線材を前後遷移させる前後駆動機構と、少なくとも対象処理位置より左方で複数の左右張架線材を巻回している左方巻回機構と、少なくとも対象処理位置より右方で複数の左右張架線材を巻回している右方巻回機構と、左方巻回機構と右方巻回機構との少なくとも一方を回転駆動して左右張架線材を左右遷移させる左右駆動機構と、を有してもよい。
【００１１】
また、上述のような部材処理装置において、後方巻回機構は、複数の前後張架線材を個々に巻回している複数の大径の線材巻回プーリと、複数の線材巻回プーリが軸心方向に配列されている回転自在な小径のプーリ回転軸と、を有し、プーリ回転軸と線材巻回プーリとの外周面の段差が対象支持フォークの対象支持クローの上下厚より大きい。
【００１２】
また、上述のような部材処理装置において、部材処理機構は、複数の前後張架線材で対象処理位置に支持された処理対象部材を加熱処理してもよい。
【００１３】
また、上述のような部材処理装置において、部材処理機構は、複数の前後張架線材で対象処理位置に支持された処理対象部材を減圧乾燥してもよい。
【００１４】
なお、本発明の各種の構成要素は、必ずしも個々に独立した存在である必要はなく、複数の構成要素が一個の部材として形成されていること、一つの構成要素が複数の部材で形成されていること、ある構成要素が他の構成要素の一部であること、ある構成要素の一部と他の構成要素の一部とが重複していること、等でもよい。
【発明の効果】
【００１５】
本発明の部材処理装置では、複数の前後張架線材で対象処理位置に支持された処理対象部材に部材処理機構で所定処理を実行することができるので、加熱処理や減圧乾燥などの所定処理を処理対象部材に均一に実行することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
本発明の実施の第一の形態を図面を参照して以下に説明する。なお、本実施の形態では図示するように上下方向以外に前後左右の方向も規定して説明する。しかし、これは構成要素の相対関係を簡単に説明するために便宜的に規定するものである。従って、本発明を実施する製品の製造時や使用時の方向を限定するものではない。
【００１７】
本実施の形態の部材処理装置１００は、いわゆるプリベーク装置であり、液晶パネルに使用するガラス基板などの平板状の処理対象部材ＧＢを、対象処理位置ＢＰに後方の対象待機位置ＷＰから搬入して所定処理である加熱処理を実行する。
【００１８】
このため、図１に示すように、部材処理装置１００は、左右方向に並列な配置で前後方向に各々張架されていて処理対象部材ＧＢを対象処理位置ＢＰに支持する複数の前後張架線材１０１と、複数の前後張架線材１０１で対象処理位置ＢＰに支持された処理対象部材ＧＢに加熱処理を実行する部材処理機構であるパネルヒータ１１１と、張架されている複数の前後張架線材１０１の間隙を通過する形状の少なくとも一対の対象支持クロー１２１で処理対象部材ＧＢを略水平に支持する対象支持フォーク１２０と、対象支持フォーク１２０を対象待機位置ＷＰと対象処理位置ＢＰとに前後移動させる前後移動機構と、対象支持フォーク１２０を少なくとも対象処理位置ＢＰで複数の前後張架線材１０１より上方と下方とに相対移動させる上下移動機構と、を有する。
【００１９】
より具体的には、本実施の形態の部材処理装置１００では、上述の前後移動機構および上下移動機構は、対象支持フォーク１２０を前後方向および上下方向に移動させるフォーク移動機構１２２として形成されている。
【００２０】
また、部材処理装置１００は、対象処理位置ＢＰで少なくとも対象支持フォーク１２０が移動自在な間隙を介して複数の前後張架線材１０１の下方に前後方向に並列な配置で左右方向に各々張架されている複数の左右張架線材１０２を、さらに有する。
【００２１】
そして、少なくとも対象処理位置ＢＰより前方で複数の前後張架線材１０１を巻回している前方巻回機構１３０と、少なくとも対象処理位置ＢＰより後方で複数の前後張架線材１０１を巻回している後方巻回機構１４０と、少なくとも対象処理位置ＢＰより左方で複数の左右張架線材１０２を巻回している左方巻回機構１５０と、少なくとも対象処理位置ＢＰより右方で複数の左右張架線材１０２を巻回している右方巻回機構１６０と、を有する。
【００２２】
後方巻回機構１４０は、複数の前後張架線材１０１を個々に巻回している複数の大径の線材巻回プーリ１４１と、複数の線材巻回プーリ１４１が軸心方向に配列されている回転自在な小径のプーリ回転軸１４２と、を有する。
【００２３】
このプーリ回転軸１４２は、前後駆動機構であるサーボモータ１４３に連結されているので、このサーボモータ１４３により後方巻回機構１４０が回転駆動される。なお、プーリ回転軸１４２と線材巻回プーリ１４１との外周面の段差が対象支持フォーク１２０の対象支持クロー１２１の上下厚より大きい。
【００２４】
同様に、前方巻回機構１３０も、複数の前後張架線材１０１を個々に巻回している複数の大径の線材巻回プーリ１３１と、複数の線材巻回プーリ１３１が軸心方向に配列されている回転自在な小径のプーリ回転軸１３２と、を有し、このプーリ回転軸１３２が前後駆動機構であるサーボモータ１３３に連結されている。
【００２５】
さらに同様に、左方巻回機構１５０と右方巻回機構１６０も、複数の線材巻回プーリ１５１，１６１、プーリ回転軸１５２，１６２、左右駆動機構であるサーボモータ１５３，１６３、を有し、左右張架線材１０２を左右遷移させる。
【００２６】
前方巻回機構１３０およびサーボモータ１３３は、前部ベース部材１３４に搭載されており、後方巻回機構１４０およびサーボモータ１４３は、後部ベース部材１４４に搭載されている。
【００２７】
この前部ベース部材１３４と後部ベース部材１４４とは、第一昇降機構１７１によりパネルヒータ１１１の下方で一体に連結されており、上下方向に移動自在に支持されている。
【００２８】
同様に、左方巻回機構１５０およびサーボモータ１５３は、左部ベース部材１５４に搭載されており、右方巻回機構１６０およびサーボモータ１６３は、右部ベース部材１６４に搭載されている。
【００２９】
この左部ベース部材１５４と右部ベース部材１６４も、第二昇降機構１７２によりパネルヒータ１１１の下方で一体に連結されており、上下方向に移動自在に支持されている。
【００３０】
また、各ベース部材１３４，１４４，１５４，１６４にはボックス状の防汚カバー１３５，１４５，１５５，１６５が個々に装着されており、この防汚カバー１３５，１４５，１５５，１６５に各巻回機構１３０，１４０，１５０，１６０およびサーボモータ１３３，１４３，１５３，１６３が収容されている。当然ながら、防汚カバー１３５，１４５，１５５，１６５には複数の前後張架線材１０１および複数の左右張架線材１０２を個々に通過させる小孔が形成されている。
【００３１】
さらに、対象支持フォーク１２０が、処理対象部材ＧＢを処理対象位置に置いて後退したり、所定の処理が終了した処理対象部材ＧＢを取り出すために前進することから、防汚カバー１４５には、例えば、図３に示すように、対象支持クロー１２１の寸法および配置に合わせた、逃げ溝１４６が形成されている。
【００３２】
また、図４に示すように、防汚カバー１３５，１４５，１５５，１６５には吸引ポンプ１１２が配管されている。なお、本実施の形態の部材処理装置１００では、上述のように上下方向に移動自在な前後張架線材１０１および左右張架線材１０２に対し、パネルヒータ１１１は処理装置本体（図示せず）に不動に固定されている。
【００３３】
このパネルヒータ１１１は、複数の前後張架線材１０１および複数の左右張架線材１０２で対象処理位置ＢＰに支持された処理対象部材ＧＢを、例えば、８０〜１５０℃に下方から加熱処理する。
【００３４】
前後張架線材１０１および左右張架線材１０２は、例えば、２００℃以上の耐熱性がある、メタ系アラミド繊維やポリイミド繊維などの人工繊維からなる。このため、前後張架線材１０１と左右張架線材１０２とは、長手方向と直交する断面の面積が充分に小さい線材からなり、物性的にも処理対象部材ＧＢより充分に熱容量が小さい。
【００３５】
上述のような構成において、本実施の形態の部材処理装置１００は、前述のように平板状の処理対象部材ＧＢを対象処理位置ＢＰに後方の対象待機位置ＷＰから搬入して加熱処理を実行する。
【００３６】
より詳細には、本実施の形態の部材処理装置１００は、図２(ａ)に示すように、初期状態では前後張架線材１０１が第一昇降機構１７１により最上位に位置しており、パネルヒータ１１１から離反している。
【００３７】
また、左右張架線材１０２は、第二昇降機構１７２により後方巻回機構１４０のプーリ回転軸１４２の上面より下方かつパネルヒータ１１１の上面より上方の位置に配置されている。
【００３８】
そして、処理対象部材ＧＢは、フォーク移動機構１２２により前後張架線材１０１より上方で対象待機位置ＷＰに位置された対象支持フォーク１２０により、略水平に支持される。
【００３９】
つぎに、図２(ｂ)に示すように、この対象支持フォーク１２０がフォーク移動機構１２２により前後張架線材１０１より上方に位置されたまま、対象待機位置ＷＰから対象処理位置ＢＰまで前進される。
【００４０】
つぎに、図２(ｃ)に示すように、フォーク移動機構１２２により対象支持フォーク１２０が複数の前後張架線材１０１より下方まで移動されることで、左右方向に並列な配置で前後方向に各々張架されている複数の前後張架線材１０１で処理対象部材ＧＢが対象処理位置ＢＰに支持される。
【００４１】
前述のように、対象支持フォーク１２０の対象支持クロー１２１の上下厚は、プーリ回転軸１４２と線材巻回プーリ１４１との外周面の段差より小さい。このため、対象支持フォーク１２０はプーリ回転軸１４２に衝突することなく、線材巻回プーリ１４１に張架されている前後張架線材１０１に処理対象部材ＧＢを支持させることができる。
【００４２】
このような状態で、図２(ｄ)に示すように、対象支持フォーク１２０がフォーク移動機構１２２により複数の前後張架線材１０１より下方に位置されたまま、対象処理位置ＢＰから対象待機位置ＷＰまで後退される。
【００４３】
つぎに、図２(ｅ)に示すように、第一昇降機構１７１により前後張架線材１０１が左右張架線材１０２の位置まで下降されることで、前後張架線材１０１と左右張架線材１０２とで処理対象部材ＧＢが支持される。
【００４４】
つぎに、図２(ｆ)に示すように、第一昇降機構１７１および第二昇降機構１７２が所定位置まで下降することで、処理対象部材ＧＢが前後張架線材１０１および左右張架線材１０２で前後左右に支持された状態でパネルヒータ１１１の上面近傍に配置される。
【００４５】
このような状態で、パネルヒータ１１１により処理対象部材ＧＢが加熱処理される。このとき、処理対象部材ＧＢは複数の前後張架線材１０１および複数の左右張架線材１０２で前後左右に支持されている。
【００４６】
前後張架線材１０１と左右張架線材１０２とは、前述のように断面積と熱容量とが充分に小さいので、熱伝導も低減されている。このため、パネルヒータ１１１により加熱処理される処理対象部材ＧＢの温度分布の偏差を抑制することができ、処理対象部材ＧＢを均一に加熱処理することができる。
【００４７】
さらに、処理対象部材ＧＢは複数の前後張架線材１０１および複数の左右張架線材１０２で前後左右に支持されているので、この支持の応力が局所的に集中することもない。このため、処理対象部材ＧＢは応力集中による変形などが発生することなく加熱処理される。
【００４８】
上述のような処理対象部材ＧＢの加熱処理が完了すると、前述の図２(ａ)〜(ｆ)の動作を反対に実行することにより、加熱処理された処理対象部材ＧＢが対象待機位置ＷＰに搬出される。
【００４９】
このとき、本実施の形態の部材処理装置１００では、サーボモータ１３３，１４３，１５３，１６３により各巻回機構１３０，１４０，１５０，１６０が回転駆動され、対象処理位置ＢＰに位置する前後張架線材１０１および左右張架線材１０２が刷新される。
【００５０】
このため、前回の加熱修理により汚損された前後張架線材１０１および左右張架線材１０２で処理対象部材ＧＢが支持されないので、処理対象部材ＧＢの不要な加熱ムラや汚損などを防止することができる。
【００５１】
しかも、本実施の形態の部材処理装置１００では、サーボモータ１３３，１４３，１５３，１６３により各巻回機構１３０，１４０，１５０，１６０が回転駆動されるとき、吸引ポンプ１１２により防汚カバー１３５，１４５，１５５，１６５の内部の空気が吸引される。
【００５２】
このため、各巻回機構１３０，１４０，１５０，１６０の作動に起因して塵芥が発生しても、これは対象処理位置ＢＰに侵入することなく部材処理装置１００の外部に排出される。従って、処理対象部材ＧＢの汚損を確実に防止することができる。
【００５３】
なお、本実施の形態の部材処理装置１００では、上述のように各巻回機構１３０，１４０，１５０，１６０の全部にサーボモータ１３３，１４３，１５３，１６３が装備されている。このため、前後張架線材１０１および左右張架線材１０２を確実に遷移させることができ、その張力も最適に維持することができる。
【００５４】
なお、本発明は本実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で各種の変形を許容する。例えば、上記形態では処理対象部材ＧＢの加熱処理を実行するごとに各巻回機構１３０，１４０，１５０，１６０を一定方向に回転駆動して前後張架線材１０１および左右張架線材１０２を刷新することを例示した。
【００５５】
しかし、処理対象部材ＧＢの加熱処理を実行するごとに各巻回機構１３０，１４０，１５０，１６０を反対方向に回転駆動して前後張架線材１０１および左右張架線材１０２を往復移動させてもよい。
【００５６】
この場合も、加熱されていない処理対象部材ＧＢが加熱された前後張架線材１０１および左右張架線材１０２で支持されることを防止できる。さらに、所定長さの前後張架線材１０１および左右張架線材１０２を繰り返し使用することかできるので、部材処理装置１００のランニングコストを低減することができる。
【００５７】
なお、上述のように前後張架線材１０１および左右張架線材１０２を往復移動させる場合、例えば、移動する前後張架線材１０１および左右張架線材１０２を除塵する機構を防汚カバー１３５，１４５，１５５，１６５などに搭載することが好適である(図示せず)。
【００５８】
また、上記形態では前後左右の巻回機構１３０，１４０，１５０，１６０の全部をサーボモータ１３３，１４３，１５３，１６３で回転駆動することを例示した。しかし、前後張架線材１０１および左右張架線材１０２を一定方向のみ遷移させるのであれば、前方巻回機構１３０および後方巻回機構１４０の一方と、左方巻回機構１５０および右方巻回機構１６０の一方と、にサーボモータなどの回転駆動機構があればよい。
【００５９】
その場合、回転駆動機構がない他方には、図５に示すように、前後張架線材１０１および左右張架線材１０２の張力を一定とするワンウェイクラッチなどのトルククラッチ１７５などを搭載することが好適である。
【００６０】
なお、このようなトルククラッチ１７５を回転駆動される巻回機構にも搭載すれば、巻回される前後張架線材１０１や左右張架線材１０２の張力を一定以下として破断を防止することもできる。
【００６１】
さらに、上記形態では加熱されていない処理対象部材ＧＢが加熱されている前後張架線材１０１および左右張架線材１０２で支持されることを防止するため、前後張架線材１０１および左右張架線材１０２を前後左右の巻回機構１３０，１４０，１５０，１６０で巻回して遷移させることを例示した。
【００６２】
しかし、前後張架線材１０１および左右張架線材１０２の熱容量が充分に小さい場合や放熱性が充分な場合、また、前後張架線材１０１および左右張架線材１０２を冷却する機構を搭載することなどにより、前後張架線材１０１および左右張架線材１０２を遷移させない部材処理装置も不可能ではない(図示せず)。
【００６３】
また、上記形態では部材処理装置１００が前後張架線材１０１とともに左右張架線材１０２も有することを例示したが、前後張架線材１０１のみで処理対象部材ＧＢを支持する部材処理装置(図示せず)も不可能ではない。
【００６４】
さらに、上記形態では左右張架線材１０２が前後張架線材１０１と直交する左右方向に張架されていることを例示した。しかし、左右張架線材１０２が前後張架線材１０１と所定角度で交差する方向に張架されていることも不可能ではなく、前後張架線材１０１に複数方向で交差するように複数セットの線材が張架されていることも不可能ではない(図示せず)。
【００６５】
また、上記形態では対象支持フォーク１２０と前後左右の巻回機構１３０，１４０，１５０，１６０の全部が上下移動することを例示した。しかし、左右張架線材１０２の熱容量が充分に小さく放熱性が充分に良好で、左右の巻回機構１５０，１６０による刷新などで対象処理位置ＢＰの左右張架線材１０２が確実に冷却されるならば、例えば、図６に例示する部材処理装置２００のように、左右の巻回機構１５０，１６０と対象支持フォーク１２０とを上下移動させなくとも必要な機能を実現することができる。
【００６６】
より詳細には、この部材処理装置２００では、パネルヒータ１１１の上方の所定位置に左右張架線材１０２が配置されるように左右の巻回機構１５０，１６０が固定されており、さらに上方に対象支持フォーク１２０が前後方向のみ移動するように支持されている。
【００６７】
図６(ａ)に示すように、初期状態では上下方向に移動自在な第一昇降機構１７１により、前後張架線材１０１が左右張架線材１０２より上方で対象支持フォーク１２０より下方の位置に配置されている。
【００６８】
このような状態で、図６(ｂ)に示すように、この対象支持フォーク１２０が対象待機位置ＷＰから対象処理位置ＢＰまで前進される。つぎに、図６(ｃ)に示すように、前後張架線材１０１が第一昇降機構１７１により対象支持フォーク１２０より上方まで移動されることで処理対象部材ＧＢが支持される。
【００６９】
このような状態で、図６(ｄ)に示すように、対象支持フォーク１２０が対象処理位置ＢＰから対象待機位置ＷＰまで後退される。つぎに、図６(ｅ)に示すように、第一昇降機構１７１により前後張架線材１０１が左右張架線材１０２の位置まで下降されることで、前後張架線材１０１と左右張架線材１０２とで処理対象部材ＧＢが支持される。
【００７０】
この状態で処理対象部材ＧＢは前後張架線材１０１および左右張架線材１０２で前後左右に支持されてパネルヒータ１１１の上面近傍に配置されるので、このパネルヒータ１１１により処理対象部材ＧＢが加熱処理される。この部材処理装置２００では、対象支持フォーク１２０と左右の巻回機構１５０，１６０は上下移動する必要がないので、その構造および制御を簡単とすることができる。
【００７１】
なお、この部材処理装置２００では、左右張架線材１０２がパネルヒータ１１１の上方の所定位置に配置されているが、処理対象部材ＧＢの加熱処理が完了するごとに左右の巻回機構１５０，１６０により巻回されて刷新される。
【００７２】
このため、これから加熱処理する処理対象部材ＧＢが高温の左右張架線材１０２に支持されることを簡単かつ確実に防止できる。ただし、それでも左右張架線材１０２の余熱などが問題となる場合には、前述の部材処理装置１００と同様に左右張架線材１０２も上下移動させればよい。
【００７３】
さらに、上記形態では前後張架線材１０１を前後移動させる前方巻回機構１３０および後方巻回機構１４０と上下移動させる第一昇降機構１７１とが別個に形成されていることを例示した。
【００７４】
しかし、図７に例示する部材処理装置２１０のように、前後張架線材１０１を前後移動させる前方巻回機構２１１および後方巻回機構２１２により、前後張架線材１０１の上下移動を実現することも可能である。
【００７５】
より詳細には、この部材処理装置２１０でも、パネルヒータ１１１の上方の所定位置に左右張架線材１０２が固定されており、さらに上方に対象支持フォーク１２０が前後方向のみ移動するように支持されている。
【００７６】
前方巻回機構２１１および後方巻回機構２１２は、プーリ回転軸１３２，１４２に大径の線材巻回プーリ２１３，２１４が偏心して支持されている。図７(ａ)に示すように、初期状態では前方巻回機構２１１および後方巻回機構２１２の線材巻回プーリ２１３，２１４が下方に位置することで、前後張架線材１０１が左右張架線材１０２より上方で対象支持フォーク１２０より下方の位置に配置されている。
【００７７】
このような状態で、図７(ｂ)に示すように、この対象支持フォーク１２０が対象待機位置ＷＰから対象処理位置ＢＰまで前進される。つぎに、図７(ｃ)(ｄ)に示すように、前方巻回機構２１１および後方巻回機構２１２が回転駆動されることで、偏心している線材巻回プーリ２１３，２１４とともに前後張架線材１０１が上方に変位して処理対象部材ＧＢが支持される。
【００７８】
このような状態で、図７(ｄ)に示すように、対象支持フォーク１２０が対象処理位置ＢＰから対象待機位置ＷＰまで後退される。つぎに、図７(ｅ)(ｆ)に示すように、さらに前方巻回機構２１１および後方巻回機構２１２が回転駆動されることで、偏心している線材巻回プーリ２１３，２１４とともに前後張架線材１０１が下方に変位して左右張架線材１０２とともに処理対象部材ＧＢが支持される。
【００７９】
この状態で処理対象部材ＧＢは前後張架線材１０１および左右張架線材１０２で前後左右に支持されてパネルヒータ１１１の上面近傍に配置されるので、このパネルヒータ１１１により処理対象部材ＧＢが加熱処理される。
【００８０】
この部材処理装置２１０では、前方巻回機構２１１および後方巻回機構２１２で前後張架線材１０１を前後方向に遷移させることで、上下方向にも変位させることができるので、さらに構造および制御を簡単とすることができる。
【００８１】
当然ながら、この部材処理装置２１０でも、左右張架線材１０２は処理対象部材ＧＢの加熱処理が完了するごとに左右の巻回機構１５０，１６０により巻回されて刷新されるので、これから加熱処理する処理対象部材ＧＢが高温の左右張架線材１０２に支持されることを簡単かつ確実に防止できる。
【００８２】
なお、上記形態では前後張架線材１０１と左右張架線材１０２との断面積と熱容量とが充分に小さいことで熱伝導を低減し、パネルヒータ１１１により加熱処理される処理対象部材ＧＢの温度分布の偏差を抑制することを例示した。
【００８３】
当然ながら、前後張架線材１０１と左右張架線材１０２との断面積や熱容量は、許容される処理対象部材ＧＢの温度分布の偏差、処理対象部材ＧＢを支持するための強度や耐久性、等を条件として適正に決定される。
【００８４】
また、上記形態では部材処理装置１００がパネルヒータ１１１により処理対象部材ＧＢを下方から加熱処理することを例示した。しかし、パネルヒータ１１１により処理対象部材ＧＢを下方から加熱処理する部材処理装置や、一対のパネルヒータ１１１により処理対象部材ＧＢを上方と下方との両方から加熱処理する部材処理装置なども可能である(ともに図示せず)。
【００８５】
さらに、上記形態ではパネルヒータ１１１により処理対象部材ＧＢを加熱処理するプリベーク装置を部材処理装置１００として例示した。しかし、処理対象部材ＧＢを減圧乾燥する減圧乾燥装置を部材処理装置とすることもできる(図示せず)。
【００８６】
なお、当然ながら、上述した実施の形態および複数の変形例は、その内容が相反しない範囲で組み合わせることができる。また、上述した実施の形態および変形例では、各部の構造などを具体的に説明したが、その構造などは本願発明を満足する範囲で各種に変更することができる。
【図面の簡単な説明】
【００８７】
【図１】本発明の実施の形態の部材処理装置の内部構造を示す模式的な斜視図である。
【図２】部材処理装置の内部機構の作動工程を示す模式的な側面図である。
【図３】部材処理装置の要部の構造を示す模式的な斜視図である。
【図４】部材処理装置の要部の配管構造を示す模式図である。
【図５】一の変形例の要部の内部構造を示す縦断側面図である。
【図６】他の変形例の部材処理装置の内部機構の作動工程を示す模式的な側面図である。
【図７】さらに他の変形例の部材処理装置の内部機構の作動工程を示す模式的な側面図である。
【符号の説明】
【００８８】
１００    部材処理装置
１０１    前後張架線材
１０２    左右張架線材
１１１    パネルヒータ
１１２    吸引ポンプ
１２０    対象支持フォーク
１２１    対象支持クロー
１２２    フォーク移動機構
１３０    前方巻回機構
１３１    線材巻回プーリ
１３２    プーリ回転軸
１３３    サーボモータ
１３４    前部ベース部材
１３５，１４５，１５５，１６５    防汚カバー
１４０    後方巻回機構
１４１    線材巻回プーリ
１４２    プーリ回転軸
１４３    サーボモータ
１４４    後部ベース部材
１４６    逃げ溝
１５０    左方巻回機構
１５１，１６１    線材巻回プーリ
１５２，１６２    プーリ回転軸
１５３    サーボモータ
１５４    左部ベース部材
１６０    右方巻回機構
１６３    サーボモータ
１６４    右部ベース部材
１７１    第一昇降機構
１７２    第二昇降機構
１７５    トルククラッチ
２００    部材処理装置
２１０    部材処理装置
２１１    前方巻回機構
２１２    後方巻回機構
２１３，２１４    線材巻回プーリ
ＢＰ    対象処理位置
ＧＢ    処理対象部材
ＷＰ    対象待機位置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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