(57)【要約】【課題】殺菌性金属イオン発生装置を増設することなく、湯張り時には浴槽に一定濃度の殺菌性金属イオンを含む温水を供給でき且つ追焚き時には湯を追加することなく浴槽水に殺菌性金属イオンを補充できる風呂給湯システムを提供する。【解決手段】本風呂給湯システム１は、浴槽５内の浴槽水を風呂用熱交換器３０へ循環させて追焚きするための追焚き循環管路３、給湯用熱交換器２０を備える給湯管路２から分岐させて追焚き循環管路３に接続して浴槽５に湯張り温水を湯張りするための湯張り管路４を備える。湯張り管路４と追焚き循環管路３の合流部７に殺菌性金属イオンを溶出させる殺菌性金属イオン発生装置６を設ける。具体的には、合流部７に浴槽水を追焚き循環管路３内に循環させるポンプＰが配設され、このポンプＰ内に殺菌性金属イオン発生装置６が設けられる。【選択図】図１
2010025423.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
浴槽内の浴槽水を風呂用熱交換器へ循環させて追焚きするための追焚き循環管路と、給湯用熱交換器を備える給湯管路から分岐させて上記追焚き循環管路に接続して浴槽に湯張り温水を湯張りするための湯張り管路とを備え、
上記湯張り管路と上記追焚き循環管路との合流部に、殺菌性金属イオンを溶出させる殺菌性金属イオン発生装置を設ける風呂給湯システム。
【請求項２】
請求項１に記載の風呂給湯システムにおいて、
上記合流部には浴槽水を追焚き循環管路内に循環させるためのポンプを配設し、このポンプ内に上記殺菌性金属イオン発生装置を設ける風呂給湯システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、浴槽内の浴槽水や浴槽へ注湯する湯張り温水を殺菌性金属イオンにより殺菌するための風呂給湯システムに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、殺菌機能を備えた風呂給湯装置として、図３に示すように、給湯管路３０１から分岐させて追焚き循環管路３０４に接続した湯張り管路３０２において銀イオン発生装置３０３を配設するものがある（例えば、特許文献１）。この風呂給湯装置３００によれば、湯張り時に銀イオン発生装置３０３を稼動して浴槽３０５に注湯する湯張り温水に銀イオンを溶出させて殺菌するようにしている。
【０００３】
また、図４に示す風呂給湯装置４００のように、浴槽４０５内の浴槽水を追焚きするための追焚き循環管路４０４の途中に銀イオン発生装置４０３を配設するものがある（例えば、特許文献２）。この風呂給湯装置４００によれば、追焚き時に銀イオン発生装置４０３を稼動して追焚き循環管路４０４内を循環する浴槽水に銀イオンを溶出させて殺菌するようにしている。
【特許文献１】特開２００６−３２９５２７号公報
【特許文献２】特公平６−４０８５９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、図３に示した風呂給湯装置３００では、銀イオン発生装置３０３を湯張り管路３０２に設けるため、追焚き時には湯張り管路３０２から足し湯することなく浴槽３０５内の浴槽水に銀イオンを補充することができない。そのため、浴槽３０５内の湯を増やすことなく入浴により汚れた浴槽水を銀イオンにより殺菌することができなかった。
【０００５】
また、図４に示した風呂給湯装置４００では、銀イオン発生装置４０３を追焚き循環管路４０４の途中に設けるため、湯張り時には給湯管路４０１より分岐した湯張り管路４０２から落とし込まれた湯張り温水を追焚き循環管路４０４の往き管と戻り管の両方から送る両搬送とすれば、湯張り温水に銀イオンを混入させることができる。しかし、湯張りを両搬送する場合は、追焚き循環管路４０４の配管施工や配管長さ等によって往き管側と戻り管側に流れる湯張り温水の比率にばらつきが生じ、そのため、一定濃度の銀イオンを含む湯張り温水を浴槽４０５に供給することが困難となることがあった。
【０００６】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、銀イオン等の殺菌性金属イオンの発生装置を増設することなく、湯張り時には浴槽に一定濃度の殺菌性金属イオンを含む温水を供給することができ、且つ追焚き時には温水を追加することなく浴槽水に殺菌性金属イオンを補充することができる風呂給湯システムを提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明に係る風呂給湯システムは、
浴槽内の浴槽水を風呂用熱交換器へ循環させて追焚きするための追焚き循環管路と、給湯用熱交換器を備える給湯管路から分岐させて上記追焚き循環管路に接続して浴槽に湯張り温水を湯張りするための湯張り管路とを備え、
上記湯張り管路と上記追焚き循環管路との合流部に、殺菌性金属イオンを溶出させる殺菌性金属イオン発生装置を設ける構成とする。
【０００８】
上記構成より、湯張り時には上記合流部に湯張り温水の全流量が流れ込む。よって、湯張りを両搬送とするか片搬送とするかを問わず、上記合流部では追焚き循環管路の配管施工や配管長さ等によって湯張り温水の流量に変動を来たすことがない。つまり、上記合流部での湯張り温水の流量は湯張り管路での流量と一致する。従って、この合流部にて殺菌性金属イオン発生装置により一定量の殺菌性金属イオンを溶出させることで、湯張り時には殺菌性金属イオン濃度が一定となった湯張り温水を浴槽へ安定して供給することができる。
【０００９】
また、追焚き時には追焚き循環管路に循環する浴槽水が上記合流部を必ず通過する。よって、この合流部にて殺菌性金属イオン発生装置により殺菌性金属イオンを溶出させることで、浴槽内の湯を増やすことなく浴槽水に殺菌性金属イオンを補充することができる。
【００１０】
上記合流部には浴槽水を追焚き循環管路内に循環させるためのポンプを配設し、このポンプ内に上記殺菌性金属イオン発生装置を設ける構成としてもよい。
【００１１】
これによれば、追焚き時にはポンプを駆動させて浴槽水を追焚き循環管路内に循環させるが、ポンプ内では比較的強い水流が起こっているから、このポンプ内に設ける殺菌性金属イオン発生装置には浴槽水中の汚濁物が付着することが抑制される。従って、浴槽水中の汚濁物の付着により殺菌性金属イオン発生装置での殺菌性金属イオンの溶出能力が劣化することを防止できる。
しかも、殺菌性金属イオン発生装置がポンプと一体化されるので、共通化したポンプの取替えにより殺菌性金属イオン殺菌機能の搭載の有無の対応が容易となる。
【発明の効果】
【００１２】
以上のように、本発明によれば、湯張り管路と追焚き循環管路との合流部に殺菌性金属イオン発生装置を設けることにより、殺菌性金属イオン発生装置を増設することなく、湯張り時には浴槽に一定濃度の殺菌性金属イオンを含む湯張り温水を供給することができ、且つ追焚き時には浴槽内に湯を追加することなく浴槽水に殺菌性金属イオンを補充することができる。従って、湯張り時及び追焚き時のいずれのときでも一定濃度の殺菌性金属イオンにより入浴に使用される湯の殺菌を行うことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下に、本発明の実施形態について添付図面を参照しながら説明する。
図１に示す風呂給湯システム１は、給水管２１及び出湯管２２が給湯用熱交換器２０に接続された給湯管路２と、戻り管３１及び往き管３２が追焚き用熱交換器３０に接続されると共に浴槽５の循環金具５１に接続された追焚き循環管路３と、給湯管路２の出湯管２２から分岐して追焚き循環管路３の戻り管３１に接続された湯張り管路４とを備えている。追焚き循環管路３の戻り管３１には、ポンプＰ、水位センサ３３等が設けられている。また、湯張り管路４には、注湯電磁弁４１、逆止弁４２、流量センサ４３等が設けられている。
【００１４】
そして、上記湯張り管路４と上記追焚き循環管路３との合流部７には、殺菌性金属イオンとしての銀イオンを溶出させる銀イオン発生装置（殺菌性金属イオン発生装置）６が設けられている。すなわち、上記合流部７には、浴槽５内の浴槽水を追焚き循環管路３内に循環させるための上記ポンプＰが配設されており、このポンプＰ内に銀イオン発生装置６が設けられている。
【００１５】
上記ポンプＰは、図示しない内部の通水室において追焚き循環管路３を循環する浴槽水が通過すると共に湯張り管路４から導入される湯張り温水が通過する構成となっている。なお、湯張り時には、ポンプＰの吸込口と吐出口から湯張り温水が流出されて追焚き循環管路３の往き管３２と戻り管３１とにより両搬送することもできる。
【００１６】
銀イオン発生装置６は、ポンプＰ内の上記通水室に配設された一対の銀電極６１と、この銀電極６１に電源から所定の電流値が通電されるように制御する通電制御部（図示せず）とを備えている。そして、上記一対の銀電極６１間に通電することで銀電極６１の電気分解により溶出された銀イオンがポンプＰ内に流れ込んだ湯又は水に混入される。この銀イオンの溶出量Ｙは、次式（１）により算出される。
【００１７】
Ｙ＝１０８Ａｔ／Ｆ  ・・・（１）
【００１８】
ここで、式（１）中、「Ｙ」は銀電極６１からの銀イオン溶出量、「１０８」は銀の１グラム当量、「Ａ」は銀電極６１への電流値、「ｔ」は銀電極６１の通電時間、「Ｆ」はファラデー定数を示す。従って、銀電極６１からの銀イオン溶出量（Ｘ）は、銀電極６１への電流値（Ａ）と通電時間（ｔ）より設定される。上記電流値（Ａ）と上記通電時間（ｔ）とは、上記通電制御部により設定される。そして、銀電極６１に流通する湯又は水の銀イオン濃度は、ポンプＰ内に流通される湯又は水の流量と上記電流値（Ａ）と上記通電時間（ｔ）とを設定することにより制御される。
【００１９】
以上の構成の風呂給湯システム１において、浴槽５への湯張り時には、注湯電磁弁４１を開くことにより、給湯管路２からの温水が、湯張り管路４を経て追焚き循環管路３との合流部７のポンプＰに流入され、このポンプＰ内に設置された銀イオン発生装置６の銀電極６１に流通される。そして、この銀電極６１に流通された湯張り温水は、ポンプＰから追焚き循環管路３の戻り管３１及び往き管３２の両方に流出（両搬送）されて循環金具５１より浴槽５内に注湯される。この湯張り中に銀イオン発生装置６が稼動されることにより、ポンプＰ内に流入された湯張り温水に銀イオンが溶出されて湯張り温水が殺菌される。従って、この殺菌された湯張り温水が浴槽５へ注湯されることとなる。
【００２０】
ところで、ポンプＰ内には湯張り管路４に流通される湯張り温水の全流量が流れ込むから、このポンプＰ内に流入される湯張り温水の流量は、湯張り管路４に設けた水量センサ４３により検出することができる。そして、銀イオン発生装置６により湯張り温水に溶出される銀イオンの溶出量Ｙは、上述のとおり銀電極６１に通電する電流値（Ａ）と通電時間（ｔ）によって制御することができる。従って、湯張り温水の流量が注湯電磁弁４１によりほぼ定流量に設定されるので、この流量に基づいて銀電極６１に通電する電流値（Ａ）と通電時間（ｔ）を設定することにより、浴槽５へ注湯する湯張り温水の銀イオン濃度を一定濃度に設定することができる。この湯張り時の銀イオン濃度として、例えば、１００ｐｐｂ〜５００ｐｐｂに設定される。これは、殺菌効果を発揮するには銀イオン濃度が１００ｐｐｂ以上であることが好ましく、また、入浴者の人体への影響を考慮して銀イオン濃度が５００ｐｐｂ以下であることが好ましいからである。
なお、以上の湯張り動作は、図示しない制御部により動作制御される。
【００２１】
次に、浴槽水の追焚き時はポンプＰが駆動されることにより、浴槽５内の浴槽水が、追焚き循環管路３内に循環されて上記合流部７のポンプＰを経て風呂用熱交換器３０で加熱される。そして、この循環される浴槽水は、上記ポンプＰ内に設けられた銀イオン発生装置６の銀電極６１に流通されるので、追焚き中に銀イオン発生装置６が稼動されることにより、銀電極６１からの銀イオンが浴槽水に溶出されて浴槽水が殺菌される。従って、この殺菌された浴槽水が浴槽５へ戻されるから、浴槽５内に湯を追加することなく浴槽水に銀イオンを補充することができる。
【００２２】
この追焚き時は、浴槽５内の貯水量に対して所定の銀イオン濃度（例えば、１００ｐｐｂ）とするための上記電流値（Ａ）と上記通電時間（ｔ）を決定し、これに沿って銀イオン発生装置６が稼動される。この際、銀イオン発生装置６は、例えば、浴槽５内の全貯水量に対して銀電極６１への電流値（Ａ）と通電時間（ｔ）を定めて稼動するようにしてもよいし、また、単位時間当たりに追焚き循環管路３を流れる流量に対して所定の銀イオン濃度となるように銀電極６１への電流値（Ａ）と通電時間（ｔ）を定めて稼動するようにしてもよい。また、浴槽５内の全貯水量は、例えば、水位センサ３３で検出される浴槽５内の水位から求めることができる。
なお、以上の追焚き動作は、図示しない制御部により動作制御される。
【００２３】
以上の実施形態による風呂給湯システム１によれば、湯張り時及び追焚き時のいずれのときも上記合流部７に湯（湯張り温水、浴槽水）が流れ込む。そして、湯張り時は上記合流部７に湯張り温水の全流量が流れるため、追焚き循環管路３の配管施工や配管長さ等に影響されることがなく合流部７での湯の流量が決定される。従って、この合流部７にて銀イオン発生装置６により一定量の銀イオンを溶出させることで、湯張り時には一定濃度の銀イオンを含む湯張り温水を浴槽５へ安定して供給することができる。また、追焚き時に上記合流部７にて銀イオン発生装置６により銀イオンを溶出させることで、浴槽５内に湯を増やすことなく浴槽水に銀イオンを補充して浴槽水の殺菌を行うことができる。
【００２４】
このように、湯張り管路４と追焚き循環管路３との合流部７に銀イオン発生装置６を設けることにより、銀イオン発生装置６を増設することなく、湯張り時には浴槽５に一定濃度の銀イオンを含む湯張り温水を供給することができ、且つ追焚き時には浴槽５内に新たな湯を追加することなく浴槽水に銀イオンを補充することができる。従って、湯張り時及び追焚き時のいずれのときでも入浴に使用される湯（湯張り温水、浴槽水）を一定濃度の銀イオンにより殺菌することができる。
【００２５】
また、追焚き時にはポンプＰを駆動させて浴槽水を追焚き循環管路３内に循環させるが、ポンプＰ内では比較的強い水流が起こっているから、このポンプＰ内に設ける銀イオン発生装置６の銀電極６１には浴槽水の汚濁物が付着することが抑制される。従って、銀イオン発生装置６をポンプＰ内に設けることにより、浴槽水中の汚濁物の付着により銀電極６１からの銀イオン溶出が劣化されることを防止することができる。
【００２６】
また、銀イオン発生装置６がポンプＰと一体化されるので、共通化したポンプＰの取替えにより、銀イオン機能の搭載の有無の機種対応を容易に行うことができる。
【００２７】
（他の実施形態）
図２には、風呂給湯システムの他の実施形態を示す。
図２に示す風呂給湯システム１Ａでは、上記湯張り管路４と上記追焚き循環管路３との合流部７をポンプＰの吐出口側に配置し、この合流部７に上記銀イオン発生装置６を設ける構成としている。このものでも、湯張り時及び追焚き時のいずれのときも銀イオン発生装置６を設けた上記合流部７に湯（湯張り温水、浴槽水）が流れ込むから、湯張り時及び追焚き時のいずれのときでも一定濃度の銀イオンにより入浴に使用される湯の殺菌を行うことができる。
【００２８】
また、銀イオン発生装置６がポンプＰの吐出口側に配置されるが、その場合、銀イオン発生装置６を配設する合流部７をポンプＰの吐出口の近傍に設けるのが好ましい。これにより、追焚き時にはポンプＰから比較的勢いよく吐出された浴槽水が合流部７の銀イオン発生装置６に送り込まれるから、銀イオン発生装置６の銀電極６１には浴槽水の汚濁物が付着することが抑制される。
以上説明した風呂給湯システム１Ａにおいて、上述以外の構成及び作用効果は、図１の風呂給湯システムと同様である。
【００２９】
なお、本発明は、上記実施形態のみに限定されず、本発明の範囲内で種々の変更を施すことが可能である。
例えば、上記湯張り管路４と上記追焚き循環管路３との合流部７は、図２の風呂給湯システム１Ａとは逆側であるポンプＰの吸込口側に配設されて、この合流部７に上記銀イオン発生装置６を設ける構成としてもよい。この場合でも、湯張り時及び追焚き時のいずれのときも銀イオン発生装置６を設けた上記合流部７に湯が流れ込むから、銀イオン発生装置６を増設することなく、湯張り時には浴槽５に一定濃度の銀イオンを含む湯張り温水を供給することができ、且つ追焚き時には浴槽５に新たな湯を追加することなく浴槽水に銀イオンを補充することができる。
また、殺菌性金属イオンとしては、上述の銀イオンに限らず、銅イオン、亜鉛イオン、コバルトイオン等の殺菌作用を発揮する金属イオンであればよい。この場合、殺菌性金属イオン発生装置の電極として当該金属イオンの金属材料よりなる電極を用いればよい。
【図面の簡単な説明】
【００３０】
【図１】本発明の実施の形態による風呂給湯システムの全体構成を示す模式図である。
【図２】本発明の他の実施の形態による風呂給湯システムの全体構成を示す模式図である。
【図３】従来の殺菌機能付き風呂給湯装置を示す構成図である。
【図４】従来の他の殺菌機能付き風呂給湯装置を示す構成図である。
【符号の説明】
【００３１】
１，１Ａ  風呂給湯システム
２  給湯管路
３  追焚き循環管路
４  湯張り管路
５  浴槽
６  銀イオン発生装置
７  合流部
６１  銀電極
Ｐ  ポンプ
【図１】
2010025423.tif 000003
【図２】
2010025423.tif 000004
【図３】
2010025423.tif 000005
【図４】
2010025423.tif 000006