(57)【要約】【課題】簡易な構成としつつ、対向電極となるガス噴射部およびエミッタの先端部における異物の付着を抑制することにより、良好な放電特性の長期間の維持を実現するコロナ放電型イオナイザを提供する。【解決手段】ガスが流れるガス流路１１ａを内部に有するガス供給部１１と、ガスを噴射する噴射孔１２ａを有し、ガス供給部１１と電気的に接続されるとともにガス流路１１ａと噴射孔１２ａとが連通するガス噴射部１２と、先端部がガス噴射部１２と対向するように配置されるエミッタ１４と、を備え、エミッタ１４と、このエミッタ１４の対向電極として機能するガス噴射部１２と、が高圧電界を形成してイオンを生成し、かつガス噴射部１２からの噴射ガスによりエミッタ１４の先端部の方向とは逆方向へイオンを噴射するコロナ放電型イオナイザ１とした。【選択図】図１
2010021086.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コロナ放電により発生させたイオンを被除電物に到達させて被除電物を除電するコロナ放電型イオナイザにおいて、
電気的な導体で形成され、ガスが流れるガス流路を内部に有するガス供給部と、
電気的な導体で形成され、ガスを噴射する噴射孔を有し、ガス供給部と機械的に連結されることによりガス供給部と電気的に接続されるとともにガス流路と噴射孔とが連通するガス噴射部と、
電気的な導体で形成され、先端部がガス噴射部と対向するよう配置されるエミッタと、
を備え、
エミッタと、このエミッタの対向電極として機能するガス噴射部と、が高圧電界を形成してイオンを生成し、かつガス噴射部からの噴射ガスによりエミッタの先端部の方向とは逆方向へイオンを噴射することを特徴とするコロナ放電型イオナイザ。
【請求項２】
請求項１に記載のコロナ放電型イオナイザにおいて、
前記ガス噴射部は、その外周面の曲率半径を前記エミッタの先端部の曲率半径よりも大きくすることを特徴とするコロナ放電型イオナイザ。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載のコロナ放電型イオナイザにおいて、
前記ガス噴射部は、噴射孔の孔径が異なる複数のガス噴射部に交換可能であることを特徴とするコロナ放電型イオナイザ。
【請求項４】
請求項１〜請求項３の何れか一項に記載のコロナ放電型イオナイザにおいて、
前記ガス噴射部の先端部と前記エミッタの先端部との間の距離を可変とすることを特徴とするコロナ放電型イオナイザ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、コロナ放電を行って生成したイオンを用いて除電を行うコロナ放電型イオナイザに関する。
【背景技術】
【０００２】
コロナ放電型イオナイザの従来技術として、例えば、図７に記載したようなコロナ放電型イオナイザ１００が知られている。このコロナ放電型イオナイザ１００は、イオナイザ本体１０１、高圧電源線１０２、エミッタ１０３、噴射部１０４を備える。イオナイザ本体１０１の内部では高圧電源線１０２が配線され、この高圧電源線１０２にエミッタ１０３が電気的に接続されている。噴射部１０４はエミッタ１０３の先端部に向けてガスを噴射するようになされており、例えばエミッタ１０３の先端部に付着した異物１０５を吹き飛ばすようにしている。
【０００３】
また、コロナ放電型イオナイザの他の従来技術として、例えば図８に記載したようなコロナ放電型イオナイザ２００が知られている。このコロナ放電型イオナイザ２００は、イオナイザ本体２０１、高圧電源線２０２、エミッタ２０３、噴射部２０４を備える。イオナイザ本体２０１の内部では高圧電源線２０２が配線され、この高圧電源線２０２にエミッタ２０３が電気的に接続されている。噴射部２０４はエミッタ２０３の周囲を通過してガスを噴射するようになされており、例えばエミッタ２０３の先端部に付着した異物２０５を吹き飛ばすようにしている。
【０００４】
また、他の従来技術として、例えば、特許文献１（特開２００３−２１７８９４号公報，発明の名称，コロナ放電型イオナイザ）に記載された発明が知られている。
特許文献１に記載の従来技術において、 下側のエミッタと上側の接地電極との間に高電圧を印加してコロナ放電により発生させたイオンを、送風源からの気流により下側の被除電物に到達させて被除電物を除電するコロナ放電型イオナイザとしている。
【０００５】
【特許文献１】特開２００３−２１７８９４号公報（段落番号［００１１］〜［００１６］，図１）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
コロナ放電型イオナイザでは、特にエミッタのように尖った先端部周囲に埃、ごみ、シロキサン等（以下、異物という）が付着し易いが、図７に示した従来技術では、噴射部からエミッタの先端部までの距離が長く、エミッタの先端部に到達するまでガスが分散して勢いが弱くなるため異物が除去できないこともあるという問題があった。
また、図８に示した従来技術では、噴射孔内にエミッタを配置するため、噴射孔の開口径は比較的大径になる、つまりガスの噴射の勢いが弱くなる傾向にあり、そしてエミッタの先端部でガスが分散して勢いがさらに弱くなり、異物が除去できないこともあるという問題があった。
【０００７】
特許文献１に記載の従来技術でも、エミッタの先端部周囲をエアが流れるようにしているが、流れる空間が広大であるため、エミッタの先端部ではエアの勢いが弱くなり、エミッタの先端部に異物が付着すれば、エアで除去することは容易ではなく、異物が除去できないこともあるという問題があった。
【０００８】
そしてシリコン樹脂製品に含まれる低分子シロキサンの揮発により発生するガス状のシロキサンが堆積して付着したシロキサンが異物である場合には、半導体用シリコンウェハーなどを製造しているクリーンルームにおいては電気回路の表面にこのシロキサンが付着すると接点障害が引き起こされるため特に問題があった。
【０００９】
そこで、本発明は、上記課題を解決するためになされたものであり、その目的は、簡易な構成としつつ、対向電極となるガス噴射部およびエミッタの先端部における異物の付着を抑制することにより、良好な放電特性の長期間の維持を実現するコロナ放電型イオナイザを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の請求項１に係るコロナ放電型イオナイザは、
コロナ放電により発生させたイオンを被除電物に到達させて被除電物を除電するコロナ放電型イオナイザにおいて、
電気的な導体で形成され、ガスが流れるガス流路を内部に有するガス供給部と、
電気的な導体で形成され、ガスを噴射する噴射孔を有し、ガス供給部と機械的に連結されることによりガス供給部と電気的に接続されるとともにガス流路と噴射孔とが連通するガス噴射部と、
電気的な導体で形成され、先端部がガス噴射部と対向するよう配置されるエミッタと、
を備え、
エミッタと、このエミッタの対向電極として機能するガス噴射部と、が高圧電界を形成してイオンを生成し、かつガス噴射部からの噴射ガスによりエミッタの先端部の方向とは逆方向へイオンを噴射することを特徴とする。
【００１１】
また、本発明の請求項２に係るコロナ放電型イオナイザは、
請求項１に記載のコロナ放電型イオナイザにおいて、
前記ガス噴射部は、その外周面の曲率半径を前記エミッタの先端部の曲率半径よりも大きくすることを特徴とする。
【００１２】
また、本発明の請求項３に係るコロナ放電型イオナイザは、
請求項１または請求項２に記載のコロナ放電型イオナイザにおいて、
前記ガス噴射部は、噴射孔の孔径が異なる複数のガス噴射部に交換可能であることを特徴とする。
【００１３】
また、本発明の請求項４に係るコロナ放電型イオナイザは、
請求項１〜請求項３の何れか一項に記載のコロナ放電型イオナイザにおいて、
前記ガス噴射部の先端部と前記エミッタの先端部との間の距離を可変とすることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１４】
以上のような本発明によれば、簡易な構成としつつ、対向電極となるガス噴射部およびエミッタの先端部における異物の付着を抑制することにより、良好な放電特性の長期間の維持を実現するコロナ放電型イオナイザを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
続いて、本発明を実施するための最良の形態について図に基づいて説明する。図１は本形態のコロナ放電型イオナイザの説明図である。コロナ放電型イオナイザ１は、ガス供給部１１、ガス噴射部１２、接地部１３、エミッタ１４、高圧電源線１５を備えている。なお、被除電物２は、除電が必要な半導体ウェハ等の部材であり、エミッタ１４の下方に置かれる。
【００１６】
ガス供給部１１は、電気的な導体で形成されており、さらにその内部にガス流路１１ａを有する。本形態ではガス供給部１１は一定長さを有する円管体（図２（ｂ）参照）として形成されており、円管体内部の中空内部がガス流路１１ａとなる。このガス供給部１１は、図示しないガス供給源（高圧ボンベ、コンプレッサやファンによりガスを高圧にして供給する装置）から送られるガスが流れている。なお、本明細書中のガスとはエア（洗浄された空気）、窒素ガス等の非反応性ガス、希ガス等であり、少なくとも被除電物２に噴射可能な気体をいう。
【００１７】
ガス噴射部１２は、電気的な導体で形成されており、さらにその内部に噴射孔１２ａを有する。ガス供給部１１とガス噴射部１２とは機械的に連結されるとともに電気的に接続され、さらにガス流路１１ａと噴射孔１２ａとが連通しており、噴射孔１２ａからガスが噴射される。
【００１８】
接地部１３は、電気的な導体であり、ガス供給部１１を基準電位点（例えば大地）に電気的に接続する。これにより、ガス供給部１１およびガス噴射部１２を基準電位点と同電位とする。なお、ガス供給部１１と接地部１３との接続に代えて、図示しないが、ガス噴射部１２と接地部１３を接続して基準電位点と同電位に設定しても良い。
【００１９】
エミッタ１４は、その先端部がガス噴射部１２の噴射孔１２ａに向けて立設されている。ガス噴射部１２の先端部とエミッタ１４の先端部とは対向していれば良いが、本形態では説明の具体化のため、ガス噴射部１２の先端部が基準面（例えば地面）に対して垂直方向下側に向き、また、エミッタ１４の先端部が基準面（例えば地面）に対して垂直方向上側に向いているものとする。
ガス噴射部１２の先端部とエミッタ１４の先端部との距離ＤＥＧは後述する昇降手段により調整可能となっている。
【００２０】
高圧電源線１５は、エミッタ１４および図示しない高圧電源に接続されており、エミッタ１４に高圧電源を供給する。
コロナ放電型イオナイザ１はこのようなものである。
【００２１】
続いて、距離ＤＥＧを可変調整する昇降手段の一例について図を参照しつつ説明する。図２は昇降手段の一例を説明する説明図であり、図２（ａ）は昇降手段の正面図、図２（ｂ）は昇降手段の側面図である。昇降手段は、下側支持部１６、支柱部１７、上側支持部１８、ナット部１９を備えている。下側支持部１６に支柱部１７が固定され、さらに支柱部１７の上側のねじ部１７ａにはナット部１９により昇降可能になされた上側支持部１８が配置されている。
【００２２】
下側支持部１６の上側では、高圧電源線１５とともにエミッタ１４が固定されている。上側支持部１８の上側では、ガス供給部１１が載置されている。
このような昇降手段ではナット部１９を回転させれば、上側支持部１８も上下方向（矢印ａ方向）に移動するため、上側支持部１８とともにガス供給路１１およびガス噴射部１２も上下動するため、距離ＤＥＧの調整は容易である。昇降手段の一例の構成はこのようなものであるが、昇降手段の構成は各種採用することができる。
【００２３】
続いてコロナ放電型イオナイザ１による除電について図を参照しつつ説明する。図３はコロナ放電型イオナイザの動作を説明する説明図であり、図３（ａ）は電界の説明図、図３（ｂ）はイオン生成の説明図である。まず距離ＤＥＧの調整を行う。なお、距離ＤＥＧが近すぎるとエミッタ１４から発生するイオンが対向電極として機能するガス噴射部１２に吸収される。また、距離ＤＥＧが遠すぎるとガス噴射部１２からの噴射ガスによる噴射効果が低くなり、異物が付着し易くなる。そこで、発生するイオン量と洗浄能力とを勘案しつつ距離ＤＥＧが最適な位置となるように決定する。
【００２４】
本形態ではガス噴射部がガス噴射機能に加えて対向電極としての機能も有するため、図３（ａ）で示すように、エミッタとガス噴射部との間に電界が形成される。ここで仮にエミッタ１４の先端部よりも尖った部分が、対向電極であるガス噴射部１３に存在すると、そのガス噴射部１３の尖った部分に電界が集中し、その尖った部分に異物が付着しやすい傾向を生じることとなる。しかしながら、本形態では対向電極側となるガス噴射部１２はエミッタ１４の先端部より尖っている箇所がない（最大でも直角程度の尖りである）ため、エミッタ１４の先端部よりは電界が分散されており、ガス噴射部１２に異物を付着しにくくすることができる。
【００２５】
続いてコロナ放電型イオナイザ１を稼働させるものとする。ここに上記構成において、エミッタ１４に交流の高電圧を印加し、エミッタ１４の周囲に正負のイオンを発生させたときの動作を以下に説明する。例えば、エミッタ１４に正電圧が印加されている間は、エミッタ１４からガス噴射部１２に向かう方向に電界Ｅが発生する。このとき、エミッタ１４の先端部付近に発生した正イオンは、電界Ｅに沿ってクーロン力により上方のガス噴射部１２方向へ移動しようとするが、ガス噴射部１２からの下方へ向かう噴射ガスにより押し戻されるため、模式的には矢印ｂに示すような経路を経て下方に移動し、更に下方の被除電物２に到達して除電を行う。
【００２６】
エミッタ１４に負電圧が印加されている間は、エミッタ１４とガス噴射部１２との間の電界Ｅの方向が逆転する。そして、エミッタ１４の先端部付近に発生した負イオンは、電界Ｅに沿ってクーロン力により前記同様に上方のガス噴射部１２方向へ移動し、ガス噴射部１２から噴射される、上方から下方へ向かう噴射ガスにより押し戻されて矢印ｂの経路をとって下方に移動し、更に下方の被除電物２に到達して除電を行う。
【００２７】
このように、本形態ではエミッタ１４から発生する電界が被除電物２に直接作用することがなく、またエミッタ１４が被除電物２とは逆方向に向いていて放電に伴う磁界の影響が被除電物２に及びにくいため、静電誘導や電磁誘導に起因するノイズ電圧やノイズ電流が被除電物２に発生するおそれがなく、被除電物２の内部に形成された回路を誤動作させたり破壊してしまう心配がない。なお、上記形態はエミッタ１４に交流電圧を印加するＡＣ型イオナイザに関するものであるが、直流電圧を印加するＤＣ型イオナイザにも適用可能である。
【００２８】
また、ガス噴射部１２からの下方に向かう噴射ガスを考慮せず、イオンを上方へ移動させる力を、エミッタ１４による電界のクーロン力のみに依存する場合、ＡＣタイプのイオナイザでは、所定サイクルで交互に発生する正イオンと負イオンとの位置が余り離れていないと両者が再結合して消失してしまい、これらのイオンが被除電物２まで到達しないことがある。このため、本形態では、例えばエミッタ１４の周辺で負イオンが発生した時点において、前サイクルに発生した正イオンがエミッタ１４から遠い位置に離れているように、ガス噴射部１２からの下方に向かう噴射ガスをエミッタ１４に向けて噴射することでイオンが矢印ｂ方向の経路を経て下側へ高速に移動するため、正負イオンの再結合を防止する。
【００２９】
また、ガス噴射部１２からガスがエミッタ１４の先端部に直接噴射される。このガス噴射によりエミッタ１４の先端部には異物、特にガス状のシロキサンは到達できなくなって絶縁性を有するシロキサン等の異物が付着しなくなり、エミッタ１４の長期間にわたる良好な放電特性の維持が可能となり、加えてシロキサン等の異物を被除電物２に噴射するおそれもなくなり、被除電物２に対して除電のみを確実に行う。また、生成したイオンをガス噴射により下側へ搬送するため、イオンが被除電物２の表面へ確実に到達する。
【００３０】
本形態によれば、正負イオンの再結合を防止して除電効率を高め、除電時間を短縮することができる。
また、エミッタや被除電物に異物が付着しないようにして、不良品が発生しないようにする。
【００３１】
続いて、ガス噴射部１２を変換可能に構成した点について説明する。
図１〜図３で示したガス噴射部１２の外径はそのままに、ガス噴射孔１２ａの開口径を種々変化させた多数種類のガス噴射部１２を用意して変換可能とする。変換可能とするためには、ガス噴射部１２の外周に雄ねじを、ガス供給部１１に雌ねじを形成することで変換可能となる。
このように所望のガス噴射部１２を接続することで、ガス噴射量を増やして異物除去能力を高めたり、また、ガス噴射量を少なくしてガス供給源の稼働効率を高めてランニングコストを下げたりすることができる。
【００３２】
続いて他の形態について図を参照しつつ説明する。図４は他のコロナ放電型イオナイザの動作を説明する説明図であり、図４（ａ）は電界の説明図、図４（ｂ）はイオン生成の説明図である。
本形態では先に図１〜図３を用いて説明した形態と比較すると、ガス噴射部を変更した点が相違する。そこで、相違点以外は同じ符号を付して重複する説明を省略し、相違点のみ説明する。
【００３３】
ガス噴射部２０は、噴射孔２１を有し、その外周面の形状が球面２２であって半球型となるように形成される。また、ガス噴射部２０には雄ねじ部２３が形成されており、雄ねじ部２３と、ガス供給部１１の雌ねじ部１１ｂと、にＯリングのようなシール材を挟持しつつ螺挿して機械的に連結すると、雄ねじ部２３と雌ねじ部１１ｂとで電気的に接続される。ガス噴射部２０はこのようなものである。なお、このような雄ねじ部と雌ねじ部による連結構造を先に図１〜図３を用いて説明したコロナ放電型イオナイザ１のガス噴射部１２の取付構造に適用しても良い。
【００３４】
ガス噴射部２０を半球型とした理由について説明する。仮に対向電極としての機能を有するガス噴射部２０に尖った部分があると、その尖った部分に電界が集中し、異物が付着しやすくなる。そこで、対向電極側となるガス噴射部２０を凸型の半球型に形成し、このガス噴射部２０の球面２２の曲率半径をエミッタ１４の先端部の曲率半径よりも大きくする。このように形成することで、ガス噴射部２０の球面２２では電界が分散されてガス噴射部２０には異物を付着しにくくすることができる。また、電界が集中するエミッタ１４の先端部にはガス噴射により異物が近づけないようにしており、やはり異物を付着しにくくすることができる。したがって、エミッタ１４およびガス噴射部２０共々異物の付着を抑制している。
【００３５】
続いてコロナ放電型イオナイザ１’による除電について説明する。このようなコロナ放電型イオナイザ１’では上記のような昇降手段や他の構成の昇降手段により距離ＤＥＧの調整可能に構成されており、距離ＤＥＧの調整を行う。発生するイオン量と洗浄能力とを勘案しつつ距離ＤＥＧが最適な位置となるように決定する。
【００３６】
本形態ではガス噴射部がガス噴射機能に加えて対向電極としての機能も有するため、図４（ａ）で示すように、エミッタ１４とガス噴射部２０との間に電界が形成される。本形態では対向電極側となるガス噴射部２０は球面２２として形成しているためエミッタ１４の先端部より尖っている箇所がなく、エミッタ１４の先端部よりは電界が分散されており、ガス噴射部２０に異物を付着しにくくすることができる。
【００３７】
続いて図４（ｂ）に示すように、コロナ放電型イオナイザ１’を稼働させるものとする。ここに上記構成において、エミッタ１４に交流の高電圧を印加し、エミッタ１４の周囲に正負のイオンを発生させたときの動作を以下に説明する。例えば、エミッタ１４に正電圧が印加されている間は、エミッタ１４からガス噴射部２０に向かう方向に電界Ｅが発生する。このとき、エミッタ１４の先端部付近に発生した正イオンは、電界Ｅに沿ってクーロン力により上方のガス噴射部２０方向へ移動しようとするが、ガス噴射部２０からの下方へ向かう噴射ガスにより押し戻されるため、模式的には矢印ｃに示すような経路を経て下方に移動し、更に下方の被除電物２に到達して除電を行う。
【００３８】
エミッタ１４に負電圧が印加されている間は、エミッタ１４とガス噴射部２０との間の電界Ｅの方向が逆転する。そして、エミッタ１４の先端部付近に発生した負イオンは、電界Ｅに沿ってクーロン力により前記同様に上方のガス噴射部２０方向へ移動し、ガス噴射部２０から噴射される、上方から下方へ向かう噴射ガスにより押し戻されて矢印ｃの経路をとって下方に移動し、更に下方の被除電物に到達して除電を行う。
【００３９】
このように、本形態ではエミッタ１４から発生する電界が被除電物２に直接作用することがなく、またエミッタ１４が被除電物２とは逆方向に向いていて放電に伴う磁界の影響が被除電物２に及びにくいため、静電誘導や電磁誘導に起因するノイズ電圧やノイズ電流が被除電物２に発生するおそれがなく、被除電物２の内部に形成された回路を誤動作させたり破壊してしまう心配がない。なお、上記形態はエミッタ１４に交流電圧を印加するＡＣ型イオナイザに関するものであるが、直流電圧を印加するＤＣ型イオナイザにも適用可能である。
【００４０】
また、このガス噴射部２０の球面形状はそのままに、噴射孔２１の孔径を種々変化させたガス噴射部２０を複数用意して変換可能とする。
このようにすることで、ガス噴射量を増やして異物除去能力を高めたり、また、ガス噴射量を少なくしてガス供給源の稼働効率を高めてランニングコストを下げたりすることができる。
【００４１】
続いて他の形態について図を参照しつつ説明する。図５は他のコロナ放電型イオナイザの動作を説明する説明図であり、図５（ａ）は電界の説明図、図５（ｂ）はイオン生成の説明図である。
本形態では先に図１〜図３を用いて説明した形態と比較すると、ガス噴射部を変更した点が相違する。そこで、相違点以外は同じ符号を付して重複する説明を省略し、相違点のみ説明する。
【００４２】
ガス噴射部３０は、噴射孔３１を有し、その先端部に曲面状の端部３２が形成される。また、ガス噴射部３０には雄ねじ部３３が形成されており、雄ねじ部３３と、ガス供給部１１の雌ねじ部１１ｂと、にＯリングのようなシール材を挟持しつつ螺挿して機械的に連結すると、雄ねじ部３３と雌ねじ部１１ｂとで電気的に接続される。ガス噴射部３０はこのようなものである。
【００４３】
ガス噴射部３０の外周面としてその先端部に曲面状の端部を形成した理由について説明する。仮に対向電極としての機能を有するガス噴射部３０に尖った部分があると、その尖った部分に電界が集中し、異物が付着しやすくなる。そこで、対向電極側となるガス噴射部３０を全体形状としては凹型であって特に先端部に曲面状の端部３２を形成し、このガス噴射部３０の端部３２の曲率半径をエミッタ１４の先端部の曲率半径よりも大きくする。このように形成することで、ガス噴射部３０の端部３２では電界が分散されてガス噴射部３０には異物を付着しにくくすることができる。また、電界が集中するエミッタ１４の先端部にはガス噴射により異物が近づけないようにしてあり、やはり異物を付着しにくくすることができる。したがって、エミッタ１４およびガス噴射部３０共々異物の付着を抑制している。
【００４４】
続いてコロナ放電型イオナイザ１”による除電について説明する。このようなコロナ放電型イオナイザ１”では上記のような昇降手段や他の構成の昇降手段により距離ＤＥＧの調整可能に構成されており、距離ＤＥＧの調整を行う。発生するイオン量と洗浄能力とを勘案しつつ距離ＤＥＧが最適な位置となるように決定する。
【００４５】
本形態ではガス噴射部３０がガス噴射機能に加えて対向電極としての機能も有するため、図５（ａ）で示すように、エミッタ１４とガス噴射部３０との間に電界が形成される。本形態では対向電極側となるガス噴射部３０は端部３２を曲面状に形成しているためエミッタ１４の先端部より尖っている箇所がなく、エミッタ１４の先端部よりは電界が分散されており、ガス噴射部３０に異物を付着しにくくすることができる。
【００４６】
続いて図５（ｂ）に示すように、コロナ放電型イオナイザ１”を稼働させるものとする。ここに上記構成において、エミッタ１４に交流の高電圧を印加し、エミッタ１４の周囲に正負のイオンを発生させたときの動作を以下に説明する。例えば、エミッタ１４に正電圧が印加されている間は、エミッタ１４からガス噴射部３０に向かう方向に電界Ｅが発生する。このとき、エミッタ１４の先端部付近に発生した正イオンは、電界Ｅに沿ってクーロン力により上方のガス噴射部３０方向へ移動しようとするが、ガス噴射部３０からの下方へ向かう噴射ガスにより押し戻されるため、模式的には矢印ｄに示すような経路を経て下方に移動し、更に下方の被除電物２に到達して除電を行う。
【００４７】
エミッタ１４に負電圧が印加されている間は、エミッタ１４とガス噴射部３０との間の電界Ｅの方向が逆転する。そして、エミッタ１４の先端部付近に発生した負イオンは、電界Ｅに沿ってクーロン力により前記同様に上方のガス噴射部３０方向へ移動し、ガス噴射部３０から噴射される、上方から下方へ向かう噴射ガスにより押し戻されて矢印ｄの経路をとって下方に移動し、更に下方の被除電物２に到達して除電を行う。
【００４８】
このように、本形態ではエミッタ１４から発生する電界が被除電物２に直接作用することがなく、またエミッタ１４が被除電物２とは逆方向に向いていて放電に伴う磁界の影響が被除電物２に及びにくいため、静電誘導や電磁誘導に起因するノイズ電圧やノイズ電流が被除電物２に発生するおそれがなく、被除電物２の内部に形成された回路を誤動作させたり破壊してしまう心配がない。なお、上記形態はエミッタ１４に交流電圧を印加するＡＣ型イオナイザに関するものであるが、直流電圧を印加するＤＣ型イオナイザにも適用可能である。
【００４９】
また、このガス噴射部３０の形状はそのままに、噴射孔３１の孔径を種々変化させたガス噴射部３０を複数用意して変換可能とする。
このようにすることで、ガス噴射量を増やして異物除去能力を高めたり、また、ガス噴射量を少なくしてガス供給源の稼働効率を高めてランニングコストを下げたりすることができる。
【００５０】
続いて、本発明によるコロナ放電型イオナイザにおける効果について実験を行ったので説明する。図６はコロナ放電型イオナイザのエミッタにおける異物の付着具合を説明する写真であり、図６（ａ）は従来方式のエミッタの写真、図６（ｂ）は本発明のエミッタの使用初期の写真、図６（ｃ）は本発明のエミッタの所定期間経過後の写真である。図６（ｂ），（ｃ）は、図１で示したエミッタ１４の先端部である。従来方式の放電電極では所定期間経過後に図６（ａ）で示すようにエミッタ１４の先端部に異物（シロキサン）が付着するが、本発明の方式では図６（ｂ）の使用の初期から図６（ｃ）の所定期間経過後まで経過した後も初期と変わりなく、異物は付着しないことが確認された。
【００５１】
以上説明した本形態のコロナ放電型イオナイザ１，１’，１”は、エミッタ１４やガス噴射部１２，２０，３０に異物を付着しないようにしたため、良好な放電特性の維持を図り、また、異物を被除電物に照射しないようにして、被除電物の除電のみを確実に行うようにすることができる。
【図面の簡単な説明】
【００５２】
【図１】本発明を実施するための最良の形態のコロナ放電型イオナイザの構成図である。
【図２】昇降手段の一例を説明する説明図であり、図２（ａ）は昇降手段の正面図、図２（ｂ）は昇降手段の側面図である。
【図３】コロナ放電型イオナイザの動作を説明する説明図であり、図３（ａ）は電界の説明図、図３（ｂ）はイオン生成の説明図である。
【図４】他のコロナ放電型イオナイザの動作を説明する説明図であり、図４（ａ）は電界の説明図、図４（ｂ）はイオン生成の説明図である。
【図５】他のコロナ放電型イオナイザの動作を説明する説明図であり、図５（ａ）は電界の説明図、図５（ｂ）はイオン生成の説明図である。
【図６】コロナ放電型イオナイザのエミッタにおける異物の付着具合を説明する写真であり、図６（ａ）は従来方式のエミッタの写真、図６（ｂ）は本発明のエミッタの使用初期の写真、図６（ｃ）は本発明のエミッタの所定期間経過後の写真である。
【図７】従来技術のコロナ放電型イオナイザの説明図である。
【図８】従来技術のコロナ放電型イオナイザの説明図である。
【符号の説明】
【００５３】
１，１’，１”：コロナ放電型イオナイザ
１１：ガス供給部
１１ａ：ガス流路
１１ｂ：雌ねじ部
１２：ガス噴射部
１２ａ：噴射孔
１３：接地部
１４：エミッタ
１５：高圧電源線
１６：下側支持部
１７：支柱部
１７ａ：ねじ部
１８：上側支持部
１９：ナット部
２０：ガス噴射部
２１：噴射孔
２２：球面
２３：雄ねじ部
３０：ガス噴射部
３１：噴射孔
３２：端部
３３：雄ねじ部
２：被除電物
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図７】
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【図８】
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【図６】
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