(57)【要約】【課題】磁気ヘッドスライダ上に潤滑剤溜まりが生じる。【解決手段】磁気記録媒体２２の回転による空気流で浮上する磁気ヘッドスライダ１であって、磁気記録媒体の対向面に配置され、且つ空気量で浮上するスライダ本体部２と、スライダ本体部２の空気流の流出側端部に設けられ、且つ磁気ヘッド素子を含む絶縁層３と、磁気記録媒体２２の表面に付着した潤滑材の磁気ヘッドスライダ１への付着を防止するために、絶縁層の空気流の流出側辺部に配置された突形状部８と、を有すること磁気ヘッドスライダ１が提供される。【選択図】図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
磁気記録媒体の回転による空気流で浮上する磁気ヘッドスライダであって、
前記磁気記録媒体の対向面に配置され、且つ前記空気量で浮上するスライダ本体部と、
前記スライダ本体部の前記空気流の流出側端部に設けられ、且つ磁気ヘッド素子を含む絶縁層と、
前記磁気記録媒体の表面に付着した潤滑材の前記磁気ヘッドスライダへの付着を防止するために、前記絶縁層の前記空気流の流出側端部に配置された突形状部と、
を有することを特徴とする磁気ヘッドスライダ。
【請求項２】
前記突形状部は、前記絶縁層の前記空気流の流出側端部から水平方向に伸びた形状を有する請求項１に記載の磁気ヘッドスライダ。
【請求項３】
前記突形状部は、互いに間隔を開けて複数個設けられることを特徴とする請求項１又は２に記載の磁気ヘッドスライダ。
【請求項４】
前記突形状部は、前記絶縁層の前記空気流の流出側端部から垂直方向に互いに間隔を開けて複数個設けられることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の磁気ヘッドスライダ。
【請求項５】
磁気ヘッドスライダを有するサスペンションアーム、磁気記録媒体を回転するモータ、該サスペンションアームを駆動するモータ、及び制御装置を有する磁気ディスク装置であって、前記磁気ヘッドスライダは、
前記磁気記録媒体の対向面に配置され、且つ前記磁気記録媒体の回転による空気量で浮上するスライダ本体部と、
前記スライダ本体部の前記空気流の流出側端部に設けられ、且つ磁気ヘッド素子を含む絶縁層と、
前記磁気記録媒体の表面に付着した潤滑材の前記磁気ヘッドスライダへの付着を防止するために、前記絶縁層の前記空気流の流出側端部に配置された突形状部と、
を有することを特徴とする磁気ディスク装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気ヘッドスライダ、及び磁気ディスク装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
磁気ディスク装置の記録密度の増大に伴い、磁気ディスク装置における磁気ディスクと磁気ヘッドスライダとの間の距離は、年々狭小化している。
【０００３】
通常、磁気ディスクの表面には、磁気ヘッドスライダとの偶発的な接触によるヘッドやディスクの損傷を防止するための潤滑剤が塗布されている。この潤滑剤は液体であるが、比較的粘度が高いため、潤滑剤は高速回転する磁気ディスク表面で被膜を形成する。
また、磁気ディスクの回転により発生する空気流は、磁気ヘッドスライダと磁気ディスクとの間を通過する時に流路に沿って圧縮される。そのため、圧縮された空気流によって、磁気ヘッドスライダは、磁気ディスク上の潤滑剤の被膜の上で浮上する。このとき、浮上した磁気ヘッドスライダと、磁気ディスクとの間の距離を「浮上量」と言う。
【０００４】
磁気ディスク装置の記録密度の増大に伴い、浮上量を小さくすると、気化した潤滑剤が磁気ヘッドスライダの表面に接触して凝縮することで、潤滑剤が磁気ヘッドスライダの表面に付着するという現象が生じる。付着した潤滑剤の溜まりは、媒体上に落下し、媒体部に付着し、その付着した潤滑剤溜まりとヘッドスライドとの接触は、ＨＤＩ（Head Disk Interface：ヘッドとディスク間の磨耗）障害を発生させる。
【０００５】
磁気ディスクの回転により発生する空気流の方向に関して上流側の磁気ヘッドスライダの端部に突起を設けることにより、潤滑材が磁気ヘッドスライダに付着するのを防止する技術が知られている。しかし、空気流の流入側の突起により潤滑剤の一部の流入を防いでも、スライダの浮上に必要な空気流とともに潤滑剤は磁気ヘッドスライダ表面に付着する。そのため、磁気ヘッドスライダ表面には潤滑剤溜まりが生成する。
【０００６】
【特許文献１】特開２００４−５５１２７号
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本出願は、磁気ヘッドスライダ上に潤滑剤溜まりを生じさせないことを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するために、磁気記録媒体の回転による空気流で浮上する磁気ヘッドスライダが提供される。上記磁気ヘッドスライダは、上記磁気記録媒体の対向面に配置され、且つ上記空気量で浮上するスライダ本体部と、上記スライダ本体部の上記空気流の流出側端部に設けられ、且つ磁気ヘッド素子を含む絶縁層と、上記磁気記録媒体の表面に付着した潤滑材の上記磁気ヘッドスライダへの付着を防止するために、上記絶縁層の上記空気流の流出側辺部に配置された突形状部と、を有する。
【発明の効果】
【０００９】
本磁気ヘッドスライダは、磁気ヘッドスライダ上に潤滑剤溜まりを生じさせ無いことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下、図面を参照して、本磁気ヘッドスライダの実施形態を説明する。
図１を用いて、磁気ディスク装置の構成の一例を説明する。磁気ディスク装置は、磁気ディスクに磁気ヘッドを用いて、情報を記録又は読み出す装置として機能する。
図示のように、磁気ディスク装置２０は、基台２１とトップカバー（図示しない）内に、磁気ディスク２２、ディスク固定機構２３、ストッパ機構２４、ヘッドスタックアセンブリ２６、スピンドルモータ２７（図示しない）、ボイスコイルモータ２８、プリント基板１９（後述）、ヘッドアンプ（ＨＡ）５８を有する。
【００１１】
磁気ディスク２２は、アルミニウムやガラス基板の上に磁性層を形成した磁気記録媒体である。磁気ディスク２２の下部に配置されるスピンドルモータ２７は、磁気ディスク２２を回転させるためのモータである。スピンドルモータ２７は、磁気ディスク２２を固定するハブの内側にコイルステータとマグネットを有する。
ディスク固定機構２３は、スピンドルモータ２７のハブと磁気ディスク２２を挟んで、磁気ディスク２２をスピンドルモータ２７に固定する。ストッパ機構２４は、磁気ディスク装置２０が停止する際に、磁気ヘッド素子４（後述）を磁気ディスク２２面上から退避させるスロープを有する機構である。ヘッドスタックアセンブリ２６は、磁気ヘッド素子４を搭載して、磁気ディスク２２上の所定の位置に磁気ヘッド素子４を回転移動する機構である。ボイスコイルモータ２８は、ヘッドスタックアセンブリ２６に対する駆動力を発生する。
ヘッドアンプ５８は、データを記録するためのライトドライバと再生用のリードアンプを内蔵しており、配線用基板３２（後述）で接続される磁気ヘッド素子４から読み出した信号を増幅し、及び書き込み用信号の電流を増幅する。
【００１２】
図１では、磁気ディスク装置２０に、１枚の磁気ディスク２２が搭載され、１つの磁気ヘッド素子４を搭載したヘッドスタックアセンブリ２６が示される。しかしながら、磁気ディスク２２の両面にデータが記録できるように、１枚の磁気ディスク２２に対して、磁気ディスク装置２０は、２つのヘッドスタックアセンブリ２６を備えても良い。その場合、２つのヘッドスタックアセンブリ２６を、同一のボイスコイルモータ２８で同時に駆動しても良い。また、磁気ディスク装置２０は、複数枚の磁気ディスク２２を搭載しても良い。
【００１３】
図２を用いて、ヘッドスタックアセンブリの装置構成の一例を説明する。
ヘッドスタックアセンブリ２６は、磁気ヘッドスライダ１、配線用基板３２、サスペンションアーム３１を有する。磁気ヘッドスライダ１は、磁気ヘッド素子４を有し、サスペンションアーム３１は、磁気ヘッドスライダ１を保持する。また、磁気ヘッド素子４は、配線用基板３２で接続されており、配線用基板３２はプリント基板１９上のヘッドアンプ５８に接続されている。
サスペンションアーム３１は、ボイスコイルモータ２８の回転動作によって、磁気ヘッド素子４を、磁気ディスク２２上の目的の書き込み又は読み取りのエリアまで移動する。
空洞３３には、基台２１と接続された軸受けユニットが挿入され、ボイスコイルモータ２８が軸受けユニットに固定されることで、ボイスコイルモータ２８の駆動力がサスペンションアーム３１に伝えられる。
【００１４】
図３を用いて、プリント基板の一例を説明する。プリント基板に備えられた、各装置は、磁気ディスク装置の制御装置として機能する。
プリント基板には、リード／ライトチャネル回路（ＲＷＣ）５１、ハードディスクコントローラ（ＨＤＣ）５２、マイクロプロセッサ（μＰ）５３、モータドライバ（ＭＤ）５４、ランダムアクセスメモリ（ＲＡＭ）５５、リードオンリーメモリ（ＲＯＭ）５６、及びインタフェース５９が設けられる。
【００１５】
リード／ライトチャネル回路５１は、書き込むデータをコード変調して図１に示したヘッドアンプ５８に出力し、且つ、ヘッドアンプ５８で読み出した信号からデータを検出してコード復調する。高密度記録を実現するＰＲＭＬ（Partial Response Maximum Likelihood）方式の信号処理回路や、磁気ヘッド素子４の位置決めに使われる位置情報を取り出す回路を内蔵することが出来る。
【００１６】
ハードディスクコントローラ５２は、エラー訂正回路、バッファ制御回路を含む。エラー訂正回路は、リード／ライトチャネル回路５１の読み出し信号に対してエラー訂正を行う。バッファ制御回路は、ＲＡＭ５５のバッファ容量を制御する。
マイクロプロセッサ５３は、磁気ディスク装置２０全体の管理制御を行い、主に磁気ヘッド素子４のポジション制御、インタフェース制御を行う。また、マイクロプロセッサ５３は、制御処理を実行するためのプログラム格納用のＲＡＭ及びＲＯＭや、ロジック回路を含むことができる。なお、マイクロプロセッサ５３に内蔵されるＲＡＭ及びＲＯＭの機能は、マイクロプロセッサ５３の外部にあるＲＡＭ５５及びＲＯＭ５６に代替させても良い。
【００１７】
モータドライバ５４は、スピンドルモータ２７やボイルコイルモータのドライバ回路として機能し、回転制御を行うためにスピンドルモータ２７に対して電流を出力し、且つ、磁気ヘッドスライダ１のロード／アンロードを行うためにボイルコイルモータに対して電流を出力する。
ＲＡＭ５５は、データのバッファ用として使用する。ＲＯＭ５６は、上記したマイクロプロセッサ５３が実行する制御プログラム格納用として使用することができる。
インタフェース５９は、ＳＣＳＩ（Small Computer System Interface）やＡＴＡ（AT Attachment）等のインタフェースである。磁気ディスク装置２０は、インタフェース５９を介して磁気ディスク装置２０が格納されるコンピュータの中にあるバスと接続することが出来る。
【００１８】
図４を用いて、磁気ヘッドスライダの概要を説明する。磁気ディスク２２は、基板、下地層、保護膜を含むディスク層２２ａと、潤滑剤の層である潤滑層２２ｂとを有する。
磁気ヘッドスライダ１は、磁気ディスク２２の回転による空気流で浮上することにより、磁気ディスク２２上に配置される。磁気ディスク２２に対面する磁気ヘッドスライダ１の表面であるＡＢＳ（Air Bearing Surface）１１は、様々な環境条件において所望の浮上量を得るために、空気流９０によって浮力を生じるための形状を備える。
また、磁気ヘッドスライダ１は、スライダ本体２と、絶縁層３とを有する。スライダ本体２は、アルチック材料（アルミナ・チタン・カーバイド（Ａｌ２Ｏ３・ＴｉＣ））で形成され、絶縁層３はスライダ本体２の空気流９０の流出端１３にアルミナ（Ａｌ２Ｏ３）で形成され得る。
絶縁層３は、磁気ヘッダ素子４を有する。磁気ヘッダ素子４は、磁気抵抗素子を含むリード素子５を積層し、その上にライトコイルを含むライト素子６を積層して、形成され得る。リード素子５は、ＧＭＲ素子、ＴＭＲ素子、又はＣＰＰ素子である。また、絶縁層３の空気流９０の流出端１３には、アルミナで形成可能な突形状部８（後述）が設けられる。
なお、潤滑剤は、例えば、ＰＦＰＥ（パーフルオロポリエーテル油）や、ソルベイ・ソレクシス社の「Ｆｏｍｂｌｉｎ（登録商標）Ｚ」がある。
【００１９】
磁気ヘッドスライダ１の浮上時は、ＡＢＳ１１の空気流９０の流入側の端部１４にある前辺１０は、絶縁層３の空気流９０流出側の端部１３にある後辺９よりも高い位置となる。したがって、磁気ヘッドスライダ１の後辺９は、磁気ディスク２２に最も近い状態で、潤滑層２２ｂ上に浮上する。
【００２０】
図示のように、磁気ヘッド素子４は、浮上時に磁気ディスク２２に近い位置である後辺９の近傍に搭載される。そのため、磁気ヘッド素子４は、磁気ディスク２２に近接して磁気ディスク２２に磁気信号を書き込み、又は、磁気ディスク２２に記録された磁気信号を読み取ることができる。
なお、磁気ヘッドスライダ１は、例えば、幅１ｍｍ、長さ２２ｍｍ、厚さ数３００μｍ程度の大きさで形成することが出来る。
【００２１】
図５を用いて、磁気ヘッドスライダの構成の一例を説明する。図５（ａ）は、磁気ヘッドスライダ１を空気流の流出端側から見た側面図である。図５（ｂ）は、磁気ディスクの回転方向と直交する方向から見たヘッドスライド１の絶縁層３の側面図である。図５（ｃ）は、磁気ディスクの回転方向と直交する方向から見た突形状部８の無い磁気ヘッドスライダ１２の側面図である。
絶縁層３の空気流の流出端１３に設けられた端子パッド７は、配線用基板３２に接続するためのパッドであり、リード素子５から読み取った信号を配線用基板３２に伝送し、及び、配線用基板３２から受信した書き込み信号をライト素子６に伝送する。
【００２２】
図５（ｃ）に示すように、気化した潤滑剤が磁気ヘッドスライダの表面に接触して凝縮すると、凝縮した潤滑剤が空気流９０に流されて後辺９に潤滑剤溜まり１５として留まる。
潤滑剤は、表面張力の影響により、表面積を小さくするために半球状の形状で磁気ヘッドスライダに付着する。表面張力の影響を考慮して、潤滑剤溜まりを球体として幾何学的に計算すると、潤滑剤溜まり量の体積Ｖは、下記に示す式１に示されるように、潤滑剤の高さｈと、潤滑剤溜まりの底面の直径ｒによって算出することができる。
【００２３】
【数１】
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【００２４】
図６に、式１によって算出される潤滑剤体積Ｖを示す。
式１及び図６に示されるように、絶縁層３上の潤滑剤溜まり１５の底面直径ｒを減少させることによって、潤滑剤溜まり１５の体積Ｖを減少させることが出来る。そのため、潤滑剤溜まり１５の体積を減少させるために、磁気ヘッドスライダ１の表面において潤滑剤溜まりが成長する平面領域を減少させ、且つ、平面領域を形成する直線距離を短小化することが好ましい。
【００２５】
図７は、潤滑剤溜まり体積と底面直径の関係を示すグラフである。
このグラフは、潤滑剤とスライダ表面の接触角θを６０°として、式１を用いて作成された。図示されるように、潤滑剤溜まり体積Ｖは、底面直径の二乗に比例している。
【００２６】
そのため、図５（ａ）及び図５（ｂ）に示す磁気ヘッドスライダ１は、磁気ヘッドスライダ上の潤滑剤溜まりの生成を防ぐために、後辺９に突形状部８を有する。突形状部８を設けることで、後辺９において潤滑剤溜まりの底面部が成長する平面領域を減少させ、且つ、平面領域を形成する直線距離を短小化することができる。
なお、突形状部８を形成する場所は、図５（ｃ）に示すように潤滑剤溜まりが生成し易い部位である後辺９近傍に設けるのが好ましい。しかしながら、突形状部８を形成する場所は、潤滑剤溜まりの生成を防ぐために、後辺９近傍以外の他の磁気ヘッドスライダ１の表面に設けても良い。
【００２７】
図８を用いて、磁気ヘッドスライダの構成の一例をさらに説明する。図８（ａ）は、磁気ヘッドスライダ１ａを空気流の流出端側から見た側面図である。図８（ｂ）は、磁気ディスク２２の回転方向と直交する方向から見たヘッドスライド１ａの絶縁層３の側面図である。
磁気ヘッドスライダ１ａの突形状部８ａは、後辺９に沿って配置された複数の突形状を有する。複数の突形状によって、後辺９における磁気ヘッドスライダ表面の平面領域の減少並びに直線距離の短小化を図られている。
【００２８】
図９を用いて、磁気ヘッドスライダの構成の一例をさらに説明する。図９（ａ）は、磁気ヘッドスライダ１ｂを空気流の流出端側から見た側面図である。図９（ｂ）は、磁気ディスク２２の回転方向と直交する方向から見たヘッドスライド１ｂの絶縁層３の側面図である。
磁気ヘッドスライダ１ｂの突形状部８ｂは、後辺９に沿って垂直方向に２列並んで配置された複数の突形状を有する。突形状部８ｂでは、後辺９側から２列目の列形状８ｂ−２の突形状は、後辺９側から１列目の列形状８ｂ−１において突形状の無い部分を覆うように形成される。このように突形状部８ｂを形成することで、列形状８ｂ−１単独の場合よりも、後辺９における磁気ヘッドスライダ表面の平面領域の減少並びに直線距離の短小化を図られている。
【００２９】
図１０を用いて、磁気ヘッドスライダの構成の一例をさらに説明する。図１０（ａ）は、磁気ヘッドスライダ１ｃを空気流の流出端側から見た側面図である。図１０（ｂ）は、磁気ディスクの回転方向と直交する方向から見たヘッドスライド１ｃの絶縁層３の側面図である。
磁気ヘッドスライダ１ｃの突形状部８ｃは、後辺９に沿って水平方向に２階層構造で配置された複数の突形状を有する。後辺９側から水平方向に１列目の列形状８ｃ−１には、突形状は無いが、２列目の列形状８ｃ−２には突形状を形成する。このように形成することで、列形状８ｃ−１の上の平面領域の減少並びに直線距離の短小化が図られている。
【００３０】
図１１を用いて、磁気ヘッドスライダの構成の一例をさらに説明する。図１１（ａ）は、磁気ヘッドスライダ１ｄを空気流の流出端側から見た側面図である。図１１（ｂ）は、磁気ディスク２２の回転方向と直交する方向から見たヘッドスライド１ｄの絶縁層３の側面図である。
磁気ヘッドスライダ１ｄの突形状部８ｄは、後辺９に沿って垂直方向に３列並んで配置された複数の突形状を有する。突形状は円柱の形状を有しており、突形状部８ｄでは、３つの列形状８ｄ−１、８ｄ−２、８ｄ−３が後辺９側から垂直方向に配置される。図示されるように、突形状部８ｄは、後辺９側から１列目の列形状８ｄ−１では突形状の無い部分を、後辺９側から２列目の列形状８ｂ−２の突形状が覆い、さらに、後辺９側から３列目の列形状８ｄ−３が列形状８ｄ−１では突形状の無い部分を突形状で覆うように形成される。このように形成することで、列形状８ｄ−１単独の場合よりも、後辺９における磁気ヘッドスライダ表面の平面領域の減少並びに直線距離の短小化を図られている。
なお、図示した突形状は円柱構造であったが、直方体構造であっても良い。また、突形状をテーパで形成することで、潤滑剤溜まりの底面部が成長する平面の面積をさらに小さくすることができる。
【００３１】
以上説明したように、磁気ヘッドスライダ表面に突形状部を設けることで、平面領域の削減並びに直線部の短小化を図ることができ、これにより磁気ヘッドスライダにおける潤滑剤溜まりの生成を抑制することができる。
【００３２】
図１２は、磁気ヘッドスライダの製造方法の一例を示すフローチャートである。図１３及び図１４は、製造工程における磁気ヘッドスライダの形状を示す断面図である。図１５は、磁気ヘッドスライダの製造において使用するフォトマスクの一例を示す図である。
【００３３】
以下、図１３を参照して、図１２に示す磁気ヘッドスライダの製造方法の一例を説明する。
磁気ヘッドスライダ１は、スライダ本体部をアルチック材料で形成し、そのスライダ本体部の流出端にリード素子５及びライト素子６を埋め込んだ絶縁層を形成することで製造される。そして、このアルチック基板を、スライダバー状に切断し、リード素子５及びライト素子６を埋め込んだスライダが、横方向に複数個並んだスライダバーを作成する。
なお、磁気ヘッドスライダ製造における一連の工程は、スライダバー状態で行なわれるのが一般的である。ここでは、便宜上、１つのスライダを示して説明する。
【００３４】
まず、スライダ本体２に相当するアルチック基板上に、フォトリソグラフィによりＡＢＳ１１を形成する（Ｓ１０１）。具体的には、スライダ本体２の表面にフォトレジストを塗布し、ステッパを用いて、フォトレジスト上にフォトマスクに描かれたＡＢＳ１１の表面を形成するパターンを露光する。フォトレジストが塗布されていない表面は、エッチングによって除去される。フォトレジストは、溶剤によって除去される。
このようにして、所望の浮上量を獲得するためのＡＢＳ１１は形成される。上記したＡＢＳ１１の作成工程におけるフォトリソグラフィは、ＡＢＳ１１の浅溝や深溝等の複数段階の溝構造を形成するために、複数回繰り返しても良い。
【００３５】
次に、スライダ本体２の流出側端部に相当する基板の末端部にメッキ装置によるメッキ法により絶縁層を形成する（Ｓ１０２）。なお、メッキ法は、ＰＶＤ（Physical Vapor Deposition）法、ＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）法等がある。メッキ装置は、メッキ法を行うための装置である。ここでは、図１３（ａ）に示されるように、スライダ本体２の空気流の流出側端部に、絶縁層６１をメッキ装置を用いてメッキ法により形成する。
次に、リード素子の形成工程が行われる（Ｓ１０３）。具体的には、図１３（ａ）に示されるように、スライダ本体２の流出側端部上に、絶縁層６１の上にメッキ装置を用いてメッキ法によりリード素子５を形成する。さらに、図１３（ａ）に示されるように、リード素子５の上に、絶縁層６５がメッキ装置を用いてメッキ法で形成される。
【００３６】
続いて、ライト素子の形成工程が行われる（Ｓ１０４）。具体的には、図１３（ｂ）に示されるように、絶縁層６５の上に、銅等のコイルをメッキ装置を用いてメッキ法により形成して、ライト素子６を形成する。そして、メッキ装置を用いてメッキ法によりライト素子６上に絶縁層７１を形成する。
【００３７】
次に、絶縁層７１の上に、メッキ装置を用いてメッキ法でさらに突形状部８を構成するための絶縁層７３を形成する（Ｓ１０５）。次に、絶縁層７３上にネガフォトレジスト７４を塗布する（Ｓ１０６）。そして、ステッパ用いて、突形状部の流出側端部を形成するためのフォトマスクの開口部を通してネガフォトレジスト７４を露光する（Ｓ１０７）。露光したネガフォトレジストを現像液に浸すことで、露光されていない部分のネガフォトレジストを除去され、ネガフォトレジストの露光部分７５が残る。
【００３８】
除去されたネガフォトレジストの下部にある絶縁層７３は、エッチングにより除去する（Ｓ１０８）。ネガフォトレジストの露光部分７５の下部にある絶縁層は、エッチングにより削除されないため、絶縁層７１の端部に突形状部８が形成される。
次に、ネガフォトレジストの露光部分７５を、溶剤により除去して（Ｓ１０９）、磁気ヘッド素子製造工程を終了する。
【００３９】
上記した磁気ヘッドスライダの製造方法では、ネゴフォトレジストを用いた。次に、図１５を参照して、図１４に示すポジネガフォトレジストを用いた磁気ヘッドスライダの製造方法の一例を説明する。
図１４に示すＳ１０１〜Ｓ１０５は、図１３と同じ工程であるため、説明を省略する。絶縁層７１の上にポジフォトレジストを塗布する工程（Ｓ２０１）では、図１５（ａ）に示すように、絶縁層７１の上にポジフォトレジスト７６が塗布される。
次に、ステッパ用いて、突形状部の流出側端部を形成するためのフォトマスクの開口部を通してポジフォトレジスト７６を露光する（Ｓ２０２）。露光されたポジフォトレジスト７７は溶解液に対して溶解性が増大する。そのため、図１５（ｂ）に示すように、ポジフォトレジスト７６の露光部分７７は、溶解液で除去することが出来る（Ｓ２０３）。
【００４０】
溶解液で除去されたポジフォトレジスト７６の露光部分７７には、メッキ装置を用いてメッキ法により絶縁層７８をメッキする（Ｓ２０４）。図１５（ｃ）に示すように、溶解して削除されたポジフォトレジストがあった部位に、絶縁層７８がメッキされる。
そして、ポジフォトレジスト７６全体を露光して（Ｓ２０５）、露光したポジフォトレジスト７６を溶解液で除去（Ｓ２０６）することにより、図１５（ｄ）に示すように、絶縁層７１の流出側端部に絶縁材の突形状部８をメッキ法により形成することができる。
【００４１】
図１６を用いて、突起形状を形成するためのフォトマスクの一例を説明する。フォトマスク８１〜８５には、それぞれステッパで露光するための開口部９１〜９５が開けられている。この開口部９１〜９５を用いてポジフォトレジスト又はネガフォトレジストを露光することで、上記のように絶縁層から突形状部８、８ａ〜８ｄを形成することができる。
なお、突形状部８ｃは、後辺９に沿って水平方向に２階層構造の形状であるため、絶縁層を２段階構成で形成する必要がある。そのため、フォトマスク８４を用いて開口部９４で、突形状形成工程（Ｓ１０６）で図１０に示す突形状の第１階層８ｃ−１を形成し、さらに、突形状の第１階層８ｃ−１の上にフォトマスク８２を用いて突形状の第２階層８ｃ−２を形成する。
【００４２】
以上述べた実施態様は、以下の付記の通りである。
（付記１）
磁気記録媒体の回転による空気流で浮上する磁気ヘッドスライダであって、
前記磁気記録媒体の対向面に配置され、且つ前記空気量で浮上するスライダ本体部と、
前記スライダ本体部の前記空気流の流出側端部に設けられ、且つ磁気ヘッド素子を含む絶縁層と、
前記磁気記録媒体の表面に付着した潤滑材の前記磁気ヘッドスライダへの付着を防止するために、前記絶縁層の前記空気流の流出側端部に配置された突形状部と、
を有することを特徴とする磁気ヘッドスライダ。
（付記２）
前記突形状部は、前記絶縁層の前記空気流の流出側端部から水平方向に伸びた形状を有する付記１に記載の磁気ヘッドスライダ。
（付記３）
前記突形状部は、互いに間隔を開けて複数個設けられることを特徴とする付記１又は２に記載の磁気ヘッドスライダ。
（付記４）
前記突形状部は、前記絶縁層の前記空気流の流出側端部から垂直方向に互いに間隔を開けて複数個設けられることを特徴とする付記１〜３のいずれか１項に記載の磁気ヘッドスライダ。
（付記５）
磁気ヘッドスライダを有するサスペンションアーム、磁気記録媒体を回転するモータ、該サスペンションアームを駆動するモータ、及び制御装置を有する磁気ディスク装置であって、前記磁気ヘッドスライダは、
前記磁気記録媒体の対向面に配置され、且つ前記磁気記録媒体の回転による空気量で浮上するスライダ本体部と、
前記スライダ本体部の前記空気流の流出側端部に設けられ、且つ磁気ヘッド素子を含む絶縁層と、
前記磁気記録媒体の表面に付着した潤滑材の前記磁気ヘッドスライダへの付着を防止するために、前記絶縁層の前記空気流の流出側端部に配置された突形状部と、
を有することを特徴とする磁気ディスク装置。
（付記６）
前記突形状部は、前記絶縁層の前記空気流の流出側端部から水平方向に伸びた形状を有する付記５に記載の磁気ディスク装置。
（付記７）
前記突形状部は、互いに間隔を開けて複数個設けられることを特徴とする付記５又は６に記載の磁気ディスク装置。
（付記８）
前記突形状部は、前記絶縁層の前記空気流の流出側端部から垂直方向に互いに間隔を開けて複数個設けられることを特徴とする付記５〜７のいずれか１項に記載の磁気ディスク装置。
（付記９）
磁気記録媒体の回転による空気流で浮上する磁気ヘッドスライダの製造方法であって、
磁気ヘッドスライダのスライダ本体の空気流の流出側端部に、磁気ヘッド素子を含む絶縁層をメッキ法により形成する工程と、
前記絶縁層の上に、ネガフォトレジストを塗布する工程と、
開口部を有するフォトマスクを用いて、前記ネガフォトレジスト上の一部を前記開口部を通して露光する工程と、
前記露光がされていないネガフォトレジストを除去する工程と、
前記ネガフォトレジストで覆われていない絶縁層をエッチングして、前記絶縁層の流出側端部に突形状部を形成する工程と、
前記露光がされたネガフォトレジストを除去する工程と、
を有することを特徴とする磁気ヘッドスライダの製造方法。
（付記１０）
前記突形状部は、前記絶縁層の前記空気流の流出側端部から水平方向に伸びた形状を有する付記９に記載の磁気ヘッドスライダの製造方法。
（付記１１）
前記突形状部は、互いに間隔を開けて複数個設けられることを特徴とする付記９又は１０に記載の磁気ヘッドスライダの製造方法。
（付記１２）
前記突形状部は、前記絶縁層の前記空気流の流出側端部から垂直方向に互いに間隔を開けて複数個設けられることを特徴とする付記９〜１１のいずれか１項に記載の磁気ヘッドスライダの製造方法。
（付記１３）
磁気記録媒体の回転による空気流で浮上する磁気ヘッドスライダの製造方法であって、
磁気ヘッドスライダのスライダ本体の空気流の流出側端部に、磁気ヘッド素子を含む絶縁層をメッキ法により形成する工程と、
前記絶縁層の上に、ポジフォトレジストを塗布する工程と、
開口部を有するフォトマスクを用いて、前記ポジフォトレジスト上の一部を前記開口部を通して露光する工程と、
前記露光がされたポジフォトレジストを除去する工程と、
前記除去されたポジフォトレジスト部位に、前記絶縁層の流出側端部に絶縁材の突形状部をメッキ法により形成する工程と、
前記露光がされていないポジフォトレジストを除去する工程と、
を有することを特徴とする磁気ヘッドスライダの製造方法。
（付記１４）
前記突形状部は、前記絶縁層の前記空気流の流出側端部から水平方向に伸びた形状を有する付記１３に記載の磁気ヘッドスライダの製造方法。
（付記１５）
前記突形状部は、互いに間隔を開けて複数個設けられることを特徴とする付記１３又は１４に記載の磁気ヘッドスライダの製造方法。
（付記１６）
前記突形状部は、前記絶縁層の前記空気流の流出側端部から垂直方向に互いに間隔を開けて複数個設けられることを特徴とする付記１３〜１５のいずれか１項に記載の磁気ヘッドスライダの製造方法。
【図面の簡単な説明】
【００４３】
【図１】図１は、磁気ディスク装置構成の一例を示す図である。
【図２】図２は、ヘッドスタックアセンブリの装置構成の一例を示す図である。
【図３】図３は、プリント基板の一例を示す図である。
【図４】図４は、磁気ヘッドスライダの概要を示す図である。
【図５】図５は、磁気ヘッドスライダの構成の一例を示す図である。
【図６】図６は、潤滑剤体積を示す図である。
【図７】図７は、潤滑剤溜まりと底面直径の関係を示すグラフである。
【図８】図８は、磁気ヘッドスライダの構成の一例を示す図である。
【図９】図９は、磁気ヘッドスライダの構成の一例を示す図である。
【図１０】図１０は、磁気ヘッドスライダの構成の一例を示す図である。
【図１１】図１１は、磁気ヘッドスライダの構成の一例を示す図である。
【図１２】図１２は、磁気ヘッドスライダの製造方法の一例を示すフローチャートである。
【図１３】図１３は、製造工程における磁気ヘッドスライダの形状を示す断面図である。
【図１４】図１４は、磁気ヘッドスライダの製造方法の一例を示すフローチャートである。
【図１５】図１５は、製造工程における磁気ヘッドスライダの形状を示す断面図である。
【図１６】図１６は、磁気ヘッドスライダの製造において使用するフォトマスクの一例を示す図である。
【符号の説明】
【００４４】
１、１ａ、１ｂ、１ｃ、１ｄ    磁気ヘッドスライダ
２    スライダ本体
３、６１、６５、７１、７３    絶縁層
４    磁気ヘッド素子
５    リード素子
６    ライト素子
７    端子パッド
８、８ａ、８ｂ、８ｃ、８ｄ    突形状部
９    後辺
１０    前辺
１１    ＡＢＳ
１３    流出端
１４    流入端
１５    潤滑剤溜まり
１９    プリント基板
２０    磁気ディスク装置
２２    磁気ディスク
２２ａ    ディスク層
２２ｂ    潤滑層
２３    ディスク固定機構
２４    ストッパ機構
２６    ヘッドスタックアセンブリ
２７    スピンドルモータ
２８    ボイスコイルモータ
３１    サスペンションアーム
３２    配線用基板
３３    空洞
５１    リード／ライトチャネル回路
５２    ハードディスクコントローラ
５３    マイクロプロセッサ
５４    モータドライバ
５５    ランダムアクセスメモリ
５６    リードオンリーメモリ
５９    インタフェース
７４    ネガフォトレジスト
７５    ネガフォトレジストの露光部分
７６    ポジフォトレジスト
７７    ポジフォトレジストの露光部分
８１、８２、８３、８４、８５    フォトマスク
９０    空気流
９１、９２、９３、９４、９５    開口部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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