(57)【要約】【課題】凹凸パターンで形成された記録層を有し、良好な記録／再生特性が得られ、生産性に優れる磁気記録媒体を提供する。【解決手段】磁気記録媒体１０は、基板と、基板の上に所定の凹凸パターンで形成され該凹凸パターンの凸部が記録要素１４Ａを構成する記録層１４と、記録要素１４Ａの間の凹部１６に配置された充填材１８と、記録要素１４Ａ及び充填材１８の上に配置された潤滑剤２０と、を有し、充填材１８及び潤滑剤２０はいずれもフッ素系有機化合物であり、且つ、充填材１８の質量平均分子量が潤滑剤２０の質量平均分子量よりも大きい。【選択図】図３
2010073260.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、該基板の上に所定の凹凸パターンで形成され該凹凸パターンの凸部が記録要素を構成する記録層と、前記記録要素の間の凹部に配置された充填材と、前記記録要素及び前記充填材の上に配置された潤滑剤と、を有し、前記充填材及び前記潤滑剤はいずれもフッ素系有機化合物であり、且つ、前記充填材の質量平均分子量が前記潤滑剤の質量平均分子量よりも大きいことを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項２】
請求項１において、
前記充填材は前記記録要素の間の凹部において前記記録要素の上におけるよりも厚いことを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項３】
請求項１又は２において、
前記記録要素の間の凹部に配置された前記充填材の厚さが該充填材の上に配置された前記潤滑剤の厚さよりも厚いことを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれかにおいて、
前記記録要素の上面に配置された保護膜を更に有し、前記記録要素の間の凹部に配置された前記充填材の上面における最も低い部位が前記記録要素の上の前記保護膜の上面よりも低いことを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれかにおいて、
前記記録要素の間の凹部の中に材料がＤＬＣの要素が配置され、該ＤＬＣの要素に接して前記凹部に前記充填材が配置されたことを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれかに記載の磁気記録媒体と、該磁気記録媒体に対して磁気信号の記録／再生を行うための磁気ヘッドと、を備えることを特徴とする磁気記録再生装置。
【請求項７】
表面が所定の凹凸パターンである被加工体の上に充填材を塗布して前記凹凸パターンの凹部に前記充填材を配置する充填材塗布工程と、潤滑剤を前記充填材の上に塗布する潤滑剤塗布工程と、を有し、前記充填材及び前記潤滑剤はいずれもフッ素系有機化合物であり、且つ、前記充填材の質量平均分子量が前記潤滑剤の質量平均分子量よりも大きいことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、凹凸パターンで形成された記録層を有する磁気記録媒体、これを備えた磁気記録再生装置及び磁気記録媒体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、ハードディスク等の磁気記録再生装置では、磁気記録媒体と磁気ヘッドとの接触による破損を防止するために磁気記録媒体の表面に潤滑剤が塗布されている。このような磁気記録再生装置は、磁気記録媒体の記録層を構成する磁性粒子の微細化、材料の変更、磁気ヘッドの加工の微細化等の改良により著しい面記録密度の向上が図られており、今後も一層の面記録密度の向上が期待されているが、磁気ヘッドの加工限界、磁気ヘッドの記録磁界の広がりに起因する磁気記録媒体の記録対象のトラックに隣り合うトラックへの誤った情報の記録、再生時のクロストークなどの問題が顕在化し、従来の改良手法による面記録密度の向上は限界にきている。
【０００３】
これに対し、一層の面記録密度の向上を実現可能である磁気記録媒体の候補として、記録層が凹凸パターンで形成され、凹凸パターンの凸部が記録要素を構成するディスクリートトラックメディアや、パターンドメディアが提案されている。ディスクリートトラックメディアの記録要素はトラックの形状であり、パターンドメディアの記録要素はトラックを周方向に分割した形状である。
【０００４】
一方、ハードディスク等の磁気記録再生装置では磁気ヘッドの浮上高さを安定させて良好な記録／再生特性を得るために磁気記録媒体の表面の平坦性が重視される。従って、凹凸パターンで形成された記録層の上に充填材を成膜して記録要素の間の凹部を充填材で充填し、記録層の上の余剰の充填材を除去して記録要素及び充填材の上面を平坦化することが好ましいと考えられている（例えば、特許文献１参照）。充填材としては非磁性で化学的に安定している酸化物等を用いることができる。充填材を成膜して凹部を充填する手法としては、スパッタリング法等を利用できる。又、余剰の充填材を除去して表面を平坦化する手法としては、ＣＭＰ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ  Ｐｏｌｉｓｈｉｎｇ）法やドライエッチングを利用できる。このように記録要素及び充填材の上面を平坦化してから磁気記録媒体の上に潤滑剤を塗布することが好ましいと考えられている。又、磁気ヘッドと磁気記録媒体とが間欠接触することにより磁気記録媒体の表面の潤滑剤の形態が変形することがあるので、分子量が小さく形状が復元しやすい潤滑剤を用いることが好ましいと考えられている。
【０００５】
しかしながら、酸化物等の充填材を成膜して凹部を充填し、更に余剰の充填材を除去して表面を平坦化する手法は、スパッタリング、ＣＭＰ、ドライエッチング等の加工のための設備が必要であるため生産コストが高いという問題がある。又、この手法はスパッタリング、ＣＭＰ、ドライエッチング等の加工のための時間が長いという問題もある。
【０００６】
これに対し、記録要素の間の凹部に酸化物等の充填材を充填することなく潤滑剤を成膜して凹部を潤滑剤で充填する手法が知られている（例えば、特許文献２参照）。
【０００７】
【特許文献１】特開平９−９７４１９号公報
【特許文献２】特開２０００−２９３８４３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら潤滑剤は流動性を有するため磁気記録媒体が長期間高速で回転するうちに凹部に配置されていた潤滑剤が記録要素の上に流れ出すことがある。即ち、分子量が小さい潤滑剤は形状が復元しやすいというメリットがある反面、凹部の中からから記録要素の上に流れ出しやすいというデメリットがある。これにより記録要素の上における潤滑剤の厚さが過度に厚くなり、磁気ヘッドが磁気記録媒体に吸着しやすくなるという問題がある。又、磁気記録媒体の表面の凹凸の段差が大きくなり、磁気ヘッドの浮上高さが不安定になるという問題もある。
【０００９】
本発明は以上の問題点に鑑みてなされたものであって、凹凸パターンで形成された記録層を有し、良好な記録／再生特性が得られ、生産性に優れる磁気記録媒体、このような磁気記録媒体を備えた磁気記録再生装置及びこのような磁気記録媒体の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明は、基板と、該基板の上に所定の凹凸パターンで形成され該凹凸パターンの凸部が記録要素を構成する記録層と、記録要素の間の凹部に配置された充填材と、記録要素及び充填材の上に配置された潤滑剤と、を有し、充填材及び潤滑剤はいずれもフッ素系有機化合物であり、且つ、充填材の質量平均分子量が潤滑剤の質量平均分子量よりも大きい磁気記録媒体により上記目的を達成したものである。
【００１１】
又、本発明は、表面が所定の凹凸パターンである被加工体の上に充填材を塗布して凹凸パターンの凹部に充填材を配置する充填材塗布工程と、潤滑剤を充填材の上に塗布する潤滑剤塗布工程と、を有し、充填材及び潤滑剤はいずれもフッ素系有機化合物であり、且つ、充填材の質量平均分子量が潤滑剤の質量平均分子量よりも大きい磁気記録媒体の製造方法により上記目的を達成したものである。
【００１２】
充填材は潤滑剤と同様にフッ素系有機化合物であり、凹凸パターンである被加工体の上に充填材を塗布することにより凹凸パターンの凹部に容易に充填材を配置できる。又、溶剤による洗浄等により余剰の充填材を容易に除去できる。従って、上記の磁気記録媒体は生産性がよい。
【００１３】
又、上記の磁気記録媒体の充填材は潤滑剤と同様に流動性を有するフッ素系有機化合物であるが、充填材の質量平均分子量が潤滑剤の質量平均分子量よりも大きいので充填材は潤滑剤よりも流動しにくい。従って、磁気記録媒体が長期間高速で回転しても凹部に配置された充填材は記録要素の上に流れ出しにくい。
【００１４】
又、仮に凹部に配置された充填材が記録要素の上に流れ出したとしても、充填材は潤滑剤よりも流動しにくいので、磁気ヘッドが磁気記録媒体に吸着しやすくなったり、磁気ヘッドの浮上高さが不安定になる程度にまで記録要素の上に充填材が流れ出すことはない。尚、本発明に想到する過程で発明者は、表面の凹凸の段差が異なる様々な磁気記録媒体を用意し、磁気ヘッドの浮上高さを測定した。この結果、発明者は、記録要素の間の凹部に充填材が完全に充填されず磁気記録媒体の表面に凹凸が形成されていても表面の凹凸の段差が１〜１０ｎｍ程度であれば表面がほぼ平坦である場合と同様に磁気ヘッドの浮上高さを安定させることが可能であるという知見を得た。
【００１５】
又、記録要素及び充填材の上には充填材よりも質量平均分子量が小さく形状が復元しやすい潤滑剤が配置されているので上記の磁気記録媒体の表面の潤滑性は良好である。
【００１６】
又、仮に凹部に配置された充填材が記録要素の上に流れ出したとしても、充填材は潤滑剤と同様にフッ素系有機化合物であり記録要素の上において潤滑の役割を担うことができるので、磁気記録媒体の表面の潤滑性を良好に維持できる。
【００１７】
即ち、次のような本発明により、上記目的を達成することができる。
【００１８】
（１）基板と、該基板の上に所定の凹凸パターンで形成され該凹凸パターンの凸部が記録要素を構成する記録層と、前記記録要素の間の凹部に配置された充填材と、前記記録要素及び前記充填材の上に配置された潤滑剤と、を有し、前記充填材及び前記潤滑剤はいずれもフッ素系有機化合物であり、且つ、前記充填材の質量平均分子量が前記潤滑剤の質量平均分子量よりも大きいことを特徴とする磁気記録媒体。
【００１９】
（２）  （１）において、前記充填材は前記記録要素の間の凹部において前記記録要素の上におけるよりも厚いことを特徴とする磁気記録媒体。
【００２０】
（３）  （１）又は（２）において、前記記録要素の間の凹部に配置された前記充填材の厚さが該充填材の上に配置された前記潤滑剤の厚さよりも厚いことを特徴とする磁気記録媒体。
【００２１】
（４）  （１）乃至（３）のいずれかにおいて、前記記録要素の上面に配置された保護膜を更に有し、前記記録要素の間の凹部に配置された前記充填材の上面における最も低い部位が前記記録要素の上の前記保護膜の上面よりも低いことを特徴とする磁気記録媒体。
【００２２】
（５）  （１）乃至（４）のいずれかにおいて、前記記録要素の間の凹部の中に材料がＤＬＣの要素が配置され、該ＤＬＣの要素に接して前記凹部に前記充填材が配置されたことを特徴とする磁気記録媒体。
【００２３】
（６）  （１）乃至（５）のいずれかに記載の磁気記録媒体と、該磁気記録媒体に対して磁気信号の記録／再生を行うための磁気ヘッドと、を備えることを特徴とする磁気記録再生装置。
【００２４】
（７）表面が所定の凹凸パターンである被加工体の上に充填材を塗布して前記凹凸パターンの凹部に前記充填材を配置する充填材塗布工程と、潤滑剤を前記充填材の上に塗布する潤滑剤塗布工程と、を有し、前記充填材及び前記潤滑剤はいずれもフッ素系有機化合物であり、且つ、前記充填材の質量平均分子量が前記潤滑剤の質量平均分子量よりも大きいことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【００２５】
尚、本出願において「凹凸パターンで形成され凹凸パターンの凸部が記録要素を構成する記録層」とは、連続記録層が所定のパターンで分割され記録要素を構成する凸部が相互に完全に分離した記録層の他、データ領域では相互に分離した凸部同士がデータ領域とサーボ領域との境界付近等では連続している記録層、又、例えば螺旋状の渦巻き形状の記録層のように基板の上の一部に連続して形成される記録層、凹凸パターンの下の層の凸部の上面と凹部の底面とに分離されて形成され凸部の上面に形成された部分が記録要素を構成する記録層、凹部が厚さ方向の途中まで形成されて底部において連続した記録層、凹凸パターンの下の層に倣って凹凸パターンで成膜された連続膜の記録層も含む意義で用いることとする。
【００２６】
又、本出願において「充填材は記録要素の間の凹部において記録要素の上におけるよりも厚い」とは、充填材が記録要素の間の凹部及び記録要素の上に配置され凹部に配置された充填材が記録要素の上に配置された充填材よりも厚い場合、及び充填材が記録要素の間の凹部だけに配置され記録要素の上に充填材が配置されていない場合の両方を含む意義で用いることとする。
【００２７】
又、本出願において「凹部に配置された充填材の上面における最も低い部位が記録要素の上の保護膜の上面よりも低い」とは、充填材の上面における最も基板に近い部位が、記録要素の上の保護膜の上面よりも基板に近い位置に存在するという意義で用いることとする。
【００２８】
又、本出願において「ＤＬＣ」という用語は、炭素を主成分としＳＰ３混成軌道の炭素結合を有する材料という意義で用いることとする。「炭素を主成分とする材料」とは、材料を構成する総ての原子の原子数に対する炭素の原子数の比率が５０％以上である材料であることを意味する。
【００２９】
又、本出願において「磁気記録媒体」という用語は、情報の記録、読み取りに磁気のみを用いるハードディスク、フロッピー（登録商標）ディスク、磁気テープ等に限定されず、磁気と共に光や熱を併用するＭＯ（Ｍａｇｎｅｔｏ  Ｏｐｔｉｃａｌ）等の光磁気記録媒体、熱アシスト型の記録媒体も含む意義で用いることとする。
【発明の効果】
【００３０】
本発明によれば、凹凸パターンで形成された記録層を有し、良好な記録／再生特性が得られ、生産性に優れる磁気記録媒体、このような磁気記録媒体を備えた磁気記録再生装置を実現できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３１】
以下、本発明の好ましい実施形態について図面を参照して詳細に説明する。
【００３２】
図１に示されるように、本発明の第１実施形態に係る磁気記録再生装置２は、磁気記録媒体１０と、磁気記録媒体１０に対して磁気信号の記録／再生を行うために磁気記録媒体１０の表面に近接して浮上可能であるように設置された磁気ヘッド４と、を備えている。
【００３３】
尚、磁気記録媒体１０は中心孔１０Ａを有し、中心孔１０Ａにおいてチャック６によりスピンドルモータ（図示省略）に結合され、該チャック６と共に回転自在である。又、磁気ヘッド４は、アーム８の先端近傍に装着され、アーム８はベース９に回動自在に取付けられている。これにより、磁気ヘッド４は磁気記録媒体１０の表面に近接して磁気記録媒体１０の径方向に沿う円弧軌道で可動とされている。
【００３４】
磁気記録媒体１０は垂直記録型のディスクリートトラックメディアである。図２及び３に示されるように、磁気記録媒体１０は、基板１２と、基板１２の上に所定の凹凸パターンで形成され該凹凸パターンの凸部が記録要素１４Ａを構成する記録層１４と、記録要素１４Ａの間の凹部１６に配置された充填材１８と、記録要素１４Ａ及び充填材１８の上に配置された潤滑剤２０と、を有し、充填材１８及び潤滑剤２０はいずれもフッ素系有機化合物であり、且つ、充填材１８の質量平均分子量が潤滑剤２０の質量平均分子量よりも大きいことを特徴としている。他の構成については本第１実施形態の理解のために重要とは思われないため説明を適宜省略する。
【００３５】
磁気記録媒体１０は、記録要素１４Ａの上に配置された保護膜２２を更に有し、記録要素１４Ａの上では潤滑剤２０は保護膜２２の上面に接して配置されている。又、潤滑剤２０は、記録要素１４Ａの間の凹部１６では充填材１８に接して配置されている。
【００３６】
又、磁気記録媒体１０は、軟磁性層２４、配向層２６を有している。軟磁性層２４、配向層２６、記録層１４、保護膜２２及び潤滑剤２０は、この順で基板１２の上に配置されている。
【００３７】
基板１２は、中心孔を有する略円板形状である。基板１２の材料としてはガラス、Ａｌ、Ｓｉ、Ａｌ２Ｏ３等を用いることができる。
【００３８】
記録層１４は、厚さが５〜３０ｎｍである。記録層１４の材料としてはＣｏＣｒＰｔ合金等のＣｏＰｔ系合金、ＦｅＰｔ系合金、これらの積層体、ＳｉＯ２等の酸化物系材料のマトリックス材料の中にＣｏＣｒＰｔ等の強磁性粒子を含ませた複合材料等を用いることができる。記録層１４の凸部である記録要素１４Ａは、データ領域においてトラックの形状、即ち径方向に微細な間隔で分離された多数の同心の円弧の形状で形成されており、図２及び３はこれを示す径方向に沿う断面図である。データ領域における記録要素１４Ａの上面の径方向の幅は１０〜１００ｎｍである。又、記録要素１４Ａの上面のレベルにおける凹部１６の径方向の幅は１０〜１００ｎｍである。尚、磁気記録媒体１０には、周方向適宜な間隔でサーボ領域が放射状に設けられており、サーボ領域とデータ領域とが周方向に交互に並んでいる。記録要素１４Ａはサーボ領域において、所定のサーボパターンで形成されている（図示省略）。
【００３９】
充填材１８及び潤滑剤２０は、上記のようにフッ素系有機化合物である。例えば、フッ化エーテル、フッ化アルコール、フッ化カルボン酸、フッ化カルボン酸エステル（フッ化カルボン酸アルキルエステル）等のフッ素系有機化合物を用いることができる。例えば、(C2F4O)m(CF2O)n、(CF2O)m、(C2F3O)m、(C2F4O)m、(C3F6O)m、(C3F6O)m、(CF2O)m(C2F3O)n、(C3F6O)m(CF2O)n等の鎖状構造を有するフッ素系有機化合物を用いることができる。より詳細には、-(−CF2−CF2−O−)m(−CF2−O−)n-、-(−CF2−O−)m-、-(−CF−CF2−O−)m-、-(−CF2−CF2−O−)m-、-(−CF2−CF2−CF2−O−)m-、-(−CF−CF3−CF2−O−)m-、-(−CF2−O−)m(−CF−CF2−O−)n-、-(−CF−CF3−CF2−O−)m(−CF2−O−)n-等の鎖状構造を有するフッ素系有機化合物を用いることができる。尚、m、nは１以上の実数である。例えば、次の式(I)〜(VIII)で表されるフッ素系有機化合物を用いることができる。
【００４０】
X−CF2−O(−CF2−CF2−O−)m(−CF2−O−)nCF2−Z （I）
X−CF2−O(−CF2−O−)mCF2−Z （II）
X−CF2−O(−CF−CF2−O−)mCF2−Z （III）
X−CF2−O(−CF2−CF2−O−)mCF2−Z （IV）
X−CF2−O(−CF2−CF2−CF2−O−)mCF2−Z （V）
X−CF2−O(−CF−CF3−CF2−O−)mCF2−Z （VI）
X−CF2−O(−CF2−O−)m(−CF−CF2−O−)nCF2−Z （VII）
X−CF2−O(−CF−CF3−CF2−O−)m(−CF2−O−)nCF2−Z （VIII）
ここでX、Zは−CF3、−CH2−OH、−CH2(−O−CH2−CH2−)p−OH、−CH2−O−CH2−CH(OH)−CH2−OH等の官能基であるが必ずしもこれらに限定されない。X、Zは、例えば次の一般式［化１］や［化２］に示される官能基でもよい。
【００４１】
【化１】
2010073260.tif 000003
【００４２】
【化２】
2010073260.tif 000004
【００４３】
各化合物につき少なくとも一つはOH基を有する官能基を備えることが好ましい。Ｐは１以上の整数である。尚、上記の式(I)〜(VIII)の一端の官能基Xと他端の官能基Zとは同じ種類でもよく、異なる種類でもよい。又、式(I)〜(VIII)の官能基X又はZの一方のみを一端に備え他端の官能基X又はZを省略した構造のフッ素系有機化合物を用いてもよい。
【００４４】
ところで潤滑剤２０及び充填材１８に作用する遠心力が大きい程、潤滑剤２０や充填材１８が流動しやすい。磁気記録媒体１０の外径が大きい程、潤滑剤２０や充填材１８に作用する遠心力が大きい。又、磁気記録媒体１０の回転速度が速い程、潤滑剤２０や充填材１８に作用する遠心力が大きい。従って、潤滑剤２０や充填材１８の流動を抑制するためには、磁気記録媒体１０の外径が大きい程、質量平均分子量が大きい潤滑剤２０及び充填材１８を用いることが好ましい。又、磁気記録媒体１０の回転速度が速い程、質量平均分子量が大きい潤滑剤２０及び充填材１８を用いることが好ましい。一方、潤滑性能を高めるためには質量平均分子量が小さい潤滑剤２０及び充填材１８を用いることが好ましい。従って、磁気記録媒体１０の外径や回転速度に応じて、適切な質量平均分子量の潤滑剤２０と充填材１８の組合せを選択することが好ましい。
【００４５】
例えば、質量平均分子量が２１００〜１００００の充填材１８を用いる場合、質量平均分子量が１０００〜２０００の潤滑剤２０を用いることが好ましい。
【００４６】
又、例えば、質量平均分子量が２５００〜１００００の充填材１８を用いる場合、質量平均分子量が１０００〜２４００の潤滑剤２０を用いることが好ましく、質量平均分子量が２０００〜２４００の潤滑剤２０を用いることがより好ましい。
【００４７】
又、例えば、質量平均分子量が３５００〜１００００の充填材１８を用いる場合、質量平均分子量が１０００〜３４００の潤滑剤２０を用いることが好ましく、質量平均分子量が２４００〜３４００の潤滑剤２０を用いることがより好ましい。
【００４８】
充填材１８、潤滑剤２０の具体的な材料の組合せとしては例えば下の表１に示されるような組合せを挙げることができる。
【００４９】
【表１】
2010073260.tif 000005
【００５０】
表１の１段目及び２段目の潤滑剤の具体的な製品としては、Fomblin-Z-Dol-2000（ソルベイ  ソレクシス社）を挙げることができる。又、表１の１段目の充填材の具体的な製品としては、Fomblin-Z-TETRAOL-2000S（ソルベイ  ソレクシス社）を挙げることができる。又、表１の２段目の充填材の具体的な製品としては、Fomblin AM 3001（ソルベイ  ソレクシス社）を挙げることができる。又、表１の３段目の潤滑剤の具体的な製品としては、MORESCO Phosfarol A20H（松村石油研究所）を挙げることができる。又、表１の３段目の充填材の具体的な製品としては、MORESCO Phosfarol A20H-D（松村石油研究所）を挙げることができる。尚、Fomblin及びMORESCOは登録商標である。
【００５１】
充填材１８の厚さは、３〜２５ｎｍである。記録要素１４Ａの間の凹部１６に配置された充填材１８の厚さは該充填材１８の上に配置された潤滑剤２０の厚さよりも厚いことが好ましい。本第１実施形態では充填材１８は記録要素１４Ａの間の凹部１６だけに配置され記録要素１４Ａの上には充填材１８は配置されていない。従って、充填材１８は記録要素１４Ａの間の凹部１６において記録要素１４Ａの上におけるよりも厚い。又、記録要素１４Ａの間の凹部１６に配置された充填材１８の上面における最も低い部位は、記録要素１４Ａの上の保護膜２２の上面よりも低いことが好ましい。言い換えれば、記録要素１４Ａの間の凹部１６に配置された充填材１８の上面における最も低い部位は記録要素１４Ａの上の潤滑剤２０の下面よりも低いことが好ましい。
【００５２】
潤滑剤２０の厚さは、１〜３ｎｍである。尚、図２及び３において潤滑剤２０は充填材１８及び保護膜２２を完全に被覆するように磁気記録媒体１０の全面に配置されているが、潤滑剤２０が配置されず充填材１８や保護膜２２が露出する領域が磁気記録媒体１０の表面に点在していてもよい。この場合、磁気記録媒体１０の表面の４０％以上に潤滑剤２０が配置されていることが好ましく、５０％以上に潤滑剤２０が配置されていることがより好ましい。
【００５３】
保護膜２２は、厚さが１〜５ｎｍである。保護膜２２の材料としてはＤＬＣ（ダイヤモンドライクカーボン）を用いることができる。
【００５４】
軟磁性層２４は、厚さが２０〜２００ｎｍである。軟磁性層２４の材料としてはＦｅ合金、Ｃｏ合金等もしくはこれらの材料を用いたシンセティック構造の材料を用いることができる。
【００５５】
配向層２６は、厚さが２〜４０ｎｍである。配向層２６の材料としては非磁性のＣｏＣｒ合金、Ｔｉ、Ｒｕ、ＲｕとＴａの積層体、ＭｇＯ等を用いることができる。
【００５６】
次に、磁気記録再生装置２の作用について説明する。
【００５７】
磁気記録再生装置２は、磁気記録媒体１０の記録要素１４Ａの間の凹部１６に充填材１８が配置されているので、磁気記録媒体１０の表面の凹凸の段差が記録層１４の凹凸の段差よりも小さい。従って、磁気ヘッド４の浮上高さが安定し、良好な記録／再生特性が得られる。尚、前述のように磁気記録媒体１０の表面に凹凸が形成されていても表面の凹凸の段差が１０ｎｍ以下であれば表面がほぼ平坦である場合と同様に磁気ヘッド４の浮上高さを安定させることが可能である。磁気ヘッド４の浮上高さを安定させるためには磁気記録媒体１０の表面の凹凸の段差は５ｎｍ以下であることがより好ましい。
【００５８】
又、磁気記録媒体１０の充填材１８は潤滑剤２０と同様に流動性を有するフッ素系有機化合物であるが、充填材１８の質量平均分子量は潤滑剤２０の質量平均分子量よりも大きいので充填材１８は潤滑剤２０よりも流動しにくい。従って、磁気記録媒体１０が長期間高速で回転しても凹部１６に配置された充填材１８は記録要素１４Ａの上に流れ出しにくい。
【００５９】
又、記録要素１４Ａの間の凹部１６に配置された充填材１８の上面における最も低い部位は、記録要素１４Ａの上の保護膜２２の上面よりも低いので、この点でも凹部１６に配置された充填材１８は記録要素１４Ａの上に流れ出しにくい。
【００６０】
又、仮に凹部１６に配置された充填材１８が記録要素１４Ａの上に流れ出したとしても、充填材１８は潤滑剤２０よりも流動しにくいので、磁気ヘッド４が磁気記録媒体１０に吸着しやすくなったり、磁気ヘッド４の浮上高さが不安定になる程度にまで記録要素１４Ａの上に充填材１８が流れ出すことはない。
【００６１】
尚、記録要素１４Ａ及び充填材１８の上には充填材１８よりも質量平均分子量が小さく形状が復元しやすい潤滑剤２０が配置されているので、磁気記録媒体１０の表面の潤滑性は良好である。
【００６２】
又、記録要素１４Ａの間の凹部１６に配置された充填材１８の厚さを該充填材１８の上に配置された潤滑剤２０の厚さよりも厚くすることで、その分凹部１６に配置された流動しやすい潤滑剤２０の厚さを薄くしても磁気記録媒体１０の表面の凹凸の段差を小さくすることができる。このように凹部１６に配置された流動しやすい潤滑剤２０の厚さを薄くすることができるので、凹部１６に配置された潤滑剤２０が記録要素１４Ａの上に流れ出すことも抑制することができる。
【００６３】
又、仮に凹部１６に配置された充填材１８が記録要素１４Ａの上に流れ出したとしても、充填材１８は潤滑剤２０と同様にフッ素系有機化合物であり記録要素１４Ａの上において潤滑の役割を担うことができるので、磁気記録媒体１０の表面の潤滑性を良好に維持できる。
【００６４】
又、充填材１８は記録要素１４Ａの間の凹部１６だけに配置され記録要素１４Ａの上には充填材１８は配置されていないので、記録要素１４Ａと磁気ヘッド４との磁気的ギャップが小さく良好な記録／再生特性が得られる。
【００６５】
次に、磁気記録媒体１０の製造方法について図４に示されるフローチャートに沿って説明する。
【００６６】
まず、図５に示されるような被加工体４０の出発体を用意する（Ｓ１０２）。被加工体４０の出発体は基板１２の上に、軟磁性層２４、配向層２６、（凹凸パターンに加工される前の連続膜の）記録層１４、（凹凸パターンに加工される前の連続膜の）保護膜２２、マスク層４４をこの順でスパッタリング法、ＣＶＤ法等により成膜することにより得られる。マスク層４４の材料としては、Ｎｉ等を用いることができる。尚、保護膜２２は、最終的に記録要素１４Ａの上に配置される厚さよりも例えば１〜２ｎｍ程度厚く成膜する。
【００６７】
次に、図６に示されるように、被加工体４０のマスク層４４の上にスピンコート法により樹脂材料を塗布し、更に図示しないスタンパを用いてインプリント法により樹脂材料に記録層１４の凹凸パターンに相当する凹凸パターンを転写し、凹凸パターンの樹脂層４６を形成する（Ｓ１０４）。インプリント法としては、熱インプリント、紫外線等による光インプリント等を用いることができる。熱インプリントの場合、樹脂層４６の材料としては熱可塑性樹脂等を用いることができる。又、光インプリントの場合、樹脂層４６の材料としては紫外線硬化性樹脂等を用いることができる。樹脂層４６の厚さ（凸部の厚さ）は、例えば、１０〜３００ｎｍである。又、樹脂材料として感光性レジスト又は電子線レジストを用い、光リソグラフィ又は電子線リソグラフィの手法で記録層１４の凹凸パターンに相当する凹凸パターンの樹脂層４６を形成してもよい。尚、凹部底部の樹脂層４６はアッシング等により除去する。
【００６８】
次に、Ａｒガス等の希ガスを用いたＩＢＥ（Ｉｏｎ  Ｂｅａｍ  Ｅｔｃｈｉｎｇ）又はＲＩＥ（Ｒｅａｃｔｉｖｅ  Ｉｏｎ  Ｅｔｃｈｉｎｇ）により、凹部底部のマスク層４４を除去し、更に、Ｏ２ガスを用いたＩＢＥ又はＲＩＥにより、凹部底部の保護膜２２を除去し、更にＡｒガス等の希ガスを用いたＩＢＥ又はＲＩＥにより、凹部底部の記録層１４を除去する（Ｓ１０６）。これにより、図７に示されるように多数の記録要素１４Ａに分割された前記凹凸パターンの記録層１４と、記録要素１４Ａの上面に配置された保護膜２２と、を有する被加工体４０が得られる。即ち、表面が所定の凹凸パターンである被加工体４０が得られる。保護膜２２は、凹部底部の記録層１４を除去するエッチングにおいてマスクの役割を果たすので、記録要素１４Ａの上面に配置された保護膜２２は、最初に成膜された連続膜の保護膜２２よりも薄くなる。
【００６９】
尚、本出願において「ＩＢＥ」という用語は、例えばイオンミリング等の、イオン化したガスを被加工体に照射して加工対象物を除去する加工方法の総称という意義で用いることとする。又、本出願では、希ガスのように加工対象物と化学的に反応しないガスを用いる場合でも、ＲＩＥ装置を用いてエッチングを行う場合には「ＲＩＥ」という用語を用いることとする。
【００７０】
次に、図８に示されるようにディッピング法、スピンコート法、スプレーコート法等により、表面が凹凸パターンである被加工体４０の上に充填材１８を塗布して凹凸パターンの凹部１６に充填材１８を配置する（充填材塗布工程：Ｓ１０８）。充填材１８は流動性を有するフッ素系有機化合物であるので凹凸パターンである被加工体４０の上に充填材１８を塗布することにより凹凸パターンの凹部１６に容易に充填材１８を配置できる。又、充填材１８は流動性を有するフッ素系有機化合物であるので充填材１８の上面は、充填材１８を塗布する前の被加工体４０の上面よりも平坦に近い形状になる。尚、充填材１８は、記録要素１４Ａの間の凹部１６だけでなく、記録要素１４Ａの上の保護膜２２の上にも塗布される。
【００７１】
次に、図９に示されるように、ディッピング法により被加工体４０を溶剤に浸漬し、充填材１８の表面近傍の部分を溶解させて余剰の充填材１８を除去する（余剰充填材除去工程：Ｓ１１０）。溶剤としては、例えばフロリナート（フッ素系不活性液体）、アルコール類（エタノール、イソプロピルアルコール等）、アセトン等を用いることができる。尚、余剰の充填材１８とは、充填材１８における記録要素１４Ａの上の保護膜２２の上面のレベルよりも上側（基板１２と反対側）に存在する部分という意義で用いることとする。これにより、充填材１８における記録要素１４Ａの上の（保護膜２２の上の）部分は完全に除去される。被加工体４０を溶剤に浸漬する時間を調整することにより、充填材１８における凹部１６に配置された部分の上面を、記録要素１４Ａの近傍の周縁部よりも中央部が凹んだ形状にすることができる。この場合、凹部１６に配置された充填材１８の上面の中央部（上面における最も低い部位）は記録要素１４Ａの上の保護膜２２の上面よりも低くなる。尚、余剰の充填材１８が除去された後、アニール処理により溶剤を除去し、充填材１８を乾燥させる。
【００７２】
次に、ディッピング法、スピンコート法、スプレーコート法等により、凹部１６に配置された充填材１８及び記録要素１４Ａの上に配置された保護膜２２の上に潤滑剤２０を塗布する（潤滑剤塗布工程：Ｓ１１２）。更に、アニール処理により潤滑剤２０を乾燥させる。これにより、前記図２及び３に示される磁気記録媒体１０が完成する。
【００７３】
次に、本発明の第２実施形態について説明する。前記第１実施形態に係る磁気記録媒体１０は、記録要素１４Ａの上面だけに保護膜２２が配置されているのに対し、図１０及び１１に示されるように、本第２実施形態に係る磁気記録媒体５０は、記録要素１４Ａの上面だけでなく記録要素１４Ａの側面及び凹部１６の底面（凹部１６の中）にも保護膜（ＤＬＣの要素）２２が配置されている。他の構成については前記第１実施形態に係る磁気記録媒体１０と同様であるので、同様の構成については図１〜９と同一符号を付することとして説明を省略する。
【００７４】
充填材１８の官能基に含まれるOH基は保護膜２２の材料であるＤＬＣと結合しやすい性質がある。従って、凹部１６の中に配置された保護膜２２と、凹部１６に配置された充填材１８とが結合することで、凹部１６に配置された充填材１８の流動を更に抑制することができる。
【００７５】
次に、磁気記録媒体５０の製造方法について図１２に示されるフローチャートに沿って説明する。
【００７６】
前記第１実施形態と同様に、被加工体の加工出発体用意工程（Ｓ１０２）、樹脂層形成工程（Ｓ１０４）、記録層加工工程（Ｓ１０６）を実行する。これにより前記図７に示されるように多数の記録要素１４Ａに分割された前記凹凸パターンの記録層１４と、記録要素１４Ａの上面に配置された保護膜２２と、を有する被加工体４０が得られる。即ち、表面が所定の凹凸パターンである被加工体４０が得られる。尚、被加工体の加工出発体用意工程（Ｓ１０２）において前記第１実施形態よりも保護膜２２を薄く成膜し、記録層加工工程（Ｓ１０６）後に記録要素１４Ａの上面に残存する保護膜２２が前記第１実施形態よりも薄くなるようにする。又、記録層加工工程（Ｓ１０６）において記録要素１４Ａの上の保護膜２２を完全に除去してもよい。又、記録層加工工程（Ｓ１０６）の後に、Ｈ２ガス、ＮＨ３ガス等の水素を含むガス、又はＯ２、Ｏ３ガス等のガスを用いたドライエッチングを行って記録要素１４Ａの上の保護膜２２を除去してもよい。
【００７７】
次に、図１３に示されるように、ＣＶＤ法等により被加工体４０の上に保護膜２２を成膜する（Ｓ２０２）。保護膜２２は被加工体４０の凹凸パターンに倣って、記録要素１４Ａの上面、記録要素１４Ａの側面及び凹部１６の底面に成膜される。
【００７８】
更に、前記第１実施形態と同様に、充填材塗布工程（Ｓ１０８）、余剰充填材除去工程（Ｓ１１０）、潤滑剤塗布工程（Ｓ１１２）を実行する。これにより、前記図１０及び１１に示される磁気記録媒体５０が完成する。
【００７９】
次に、本発明の第３実施形態について説明する。前記第１実施形態に係る磁気記録媒体１０は、記録要素１４Ａの間の凹部１６の中に１種類の充填材１８が配置されているのに対し、図１４に示されるように、本第３実施形態に係る磁気記録媒体６０は、凹部１６の中に第１充填材１８Ａ及び第２充填材１８Ｂが配置されている。即ち、凹部１６の中に２種類の充填材が配置されている。他の構成については前記第１実施形態に係る磁気記録媒体１０と同様であるので、同様の構成については図１〜９と同一符号を付することとして説明を省略する。
【００８０】
第１充填材１８Ａ及び第２充填材１８Ｂは、前記充填材１８と同様にフッ素系有機化合物であり、且つ、第１充填材１８Ａ及び第２充填材１８Ｂの質量平均分子量は潤滑剤２０の質量平均分子量よりも大きい。
【００８１】
このように凹部１６の中に２種類の充填材（第１充填材１８Ａ及び第２充填材１８Ｂ）が配置されている場合も、凹部１６の中に１種類の充填材１８が配置されている前記第１実施形態と同様に、凹部１６の中から記録要素１４Ａの上に充填材（第１充填材１８Ａ及び第２充填材１８Ｂ）が流れ出すことを抑制できる。
【００８２】
尚、第１充填材１８Ａ及び第２充填材１８Ｂの一方又は両方は、潤滑剤２０よりも薄くてもよいが、第１充填材１８Ａ及び第２充填材１８Ｂの合計の厚さである、凹部１６に配置された充填材の厚さは、これらの上に配置された潤滑剤２０の厚さよりも厚いことが好ましい。このように凹部１６に配置された充填材の合計の厚さを、これらの上に配置された潤滑剤２０の厚さよりも厚くする場合も、凹部１６に配置された流動しやすい潤滑剤２０の厚さを薄くすることができるので、凹部１６に配置された潤滑剤２０が記録要素１４Ａの上に流れ出すことを抑制することができる。
【００８３】
本第３実施形態に係る磁気記録媒体６０は、前記第１実施形態に対し、充填材塗布工程（Ｓ１０８）及び余剰充填材除去工程（Ｓ１１０）を２回繰り返すことにより製造できる。尚、充填材塗布工程（Ｓ１０８）及び余剰充填材除去工程（Ｓ１１０）を３回以上繰り返し、凹部１６の中に３種類以上の充填材を配置してもよい。この場合、３種類以上の充填材の一部又は全部が潤滑剤２０よりも薄くてもよいが、３種類以上の充填材の合計の厚さである、凹部１６に配置された充填材の厚さが、これらの上に配置された潤滑剤２０の厚さよりも厚いことが好ましい。
【００８４】
次に、本発明の第４実施形態について説明する。図１５に示されるように、本第４実施形態に係る磁気記録媒体７０は、前記第２実施形態に係る磁気記録媒体５０に前記第３実施形態を適用したものであり、前記第３実施形態と同様に凹部１６の中に第１充填材１８Ａ及び第２充填材１８Ｂが配置されている。他の構成については前記第２及び第３実施形態に係る磁気記録媒体５０、６０と同様であるので、図１〜１４と同一符号を付することとして説明を省略する。
【００８５】
次に、本発明の第５実施形態について説明する。前記第１実施形態に係る磁気記録媒体１０は、記録要素１４Ａの間の凹部１６の底面に接して充填材１８が配置されているのに対し、図１６に示されるように、本第５実施形態に係る磁気記録媒体８０は、凹部１６の底面に非磁性材８２が配置され、非磁性材８２に接して充填材１８が配置されている。非磁性材８２は、フッ素系有機化合物ではない。非磁性材８２としてはＳｉＯ２、ＤＬＣ、非磁性金属材料等を用いることができる。他の構成については前記第１実施形態に係る磁気記録媒体１０と同様であるので、同様の構成については図１〜９と同一符号を付することとして説明を省略する。
【００８６】
このように凹部１６の底面に非磁性材８２が配置され、非磁性材８２に接して充填材１８が配置されている場合も、充填材１８の質量平均分子量が潤滑剤２０の質量平均分子量よりも大きいので、凹部１６の底面に接して充填材１８が配置されている前記第１実施形態と同様に、凹部１６の中から記録要素１４Ａの上に充填材１８が流れ出すことを抑制できる。凹部１６の中から記録要素１４Ａの上に充填材１８が流れ出すことを抑制する効果を高めるためには、非磁性材８２がＤＬＣ等であることが好ましい。
【００８７】
本第５実施形態に係る磁気記録媒体８０は、前記第１実施形態に対し、記録層加工工程（Ｓ１０６）と充填材塗布工程（Ｓ１０８）との間に、非磁性材８２をスパッタリング法やＣＶＤ法で成膜した後、ドライエッチング等で記録要素１４Ａの上の非磁性材８２を除去すると共に凹部１６の非磁性材８２の上面が凹部の上端よりも低くなるまで被加工体の表面を加工することにより製造できる。
【００８８】
次に、本発明の第６実施形態について説明する。図１７に示されるように、本第６実施形態に係る磁気記録媒体９０は、前記第２実施形態に係る磁気記録媒体５０に前記第５実施形態を適用したものであり、前記第５実施形態と同様に凹部１６の底面に非磁性材８２が配置されている。尚、保護膜２２は、凹部１６内において非磁性材８２の上に形成されている。又、充填材１８は、凹部１６の中の保護膜２２の上面に接して配置されている。他の構成については前記第２及び第５実施形態に係る磁気記録媒体５０、８０と同様であるので、同様の構成については図１〜１６と同一符号を付することとして説明を省略する。
【００８９】
本第６実施形態に係る磁気記録媒体９０は、前記第２実施形態に対し、記録層加工工程（Ｓ１０６）と保護膜成膜工程（Ｓ２０２）との間に、非磁性材８２をスパッタリング法やＣＶＤ法で成膜した後、ドライエッチング等で記録要素１４Ａの上の非磁性材８２を除去すると共に凹部１６の非磁性材８２の上面が凹部の上端よりも低くなるまで被加工体の表面を加工することにより製造できる。
【００９０】
尚、前記第１〜第６実施形態において、充填材１８、第１充填材１８Ａ、第２充填材１８Ｂは、記録要素１４Ａの間の凹部１６内だけに配置され、記録要素１４Ａの上には充填材が配置されていないが、記録要素の上にも充填材が配置されていてもよい。この場合、充填材は凹部において記録要素の上におけるよりも厚いことが好ましい。前記第３及び第４実施形態のように、複数の種類の充填材が積層される場合、複数の種類の充填材の合計の厚さである充填材の厚さが凹部において記録要素の上におけるよりも厚いことが好ましい。このように、記録要素の上の充填材を記録要素の間の凹部に配置された充填材よりも薄くすることで、記録要素と磁気ヘッドとの磁気的ギャップが小さくなり良好な記録／再生特性が得られる。
【００９１】
又、前記第１〜第６実施形態において、保護膜２２の材料としてはＤＬＣが例示されているが、保護膜２２の材料はＤＬＣ以外の材料でもよい。例えば、保護膜の材料としてＤＬＣではないＣ（炭素）、ＳｉやＴａ、Ｔｉ、Ｗ等の非磁性金属材料、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、等の酸化物、Ｓｉ３Ｎ４、ＡｌＮ、ＴｉＮ、ＴａＮ等の窒化物、ＳｉＣ、ＴｉＣ等の炭化物を用いてもよい。
【００９２】
又、前記第１〜第６実施形態において、記録要素１４Ａの上に保護膜２２が配置されているが、保護膜を備えていない磁気記録媒体にも本発明は適用可能である。
【００９３】
又、前記第１〜第６実施形態において、記録層１４の下に軟磁性層２４、配向層２６が形成されているが、記録層１４の下の層の構成は、磁気記録媒体の種類に応じて適宜変更すればよい。例えば、軟磁性層２４と基板１２との間に下地層や反強磁性層を形成してもよい。又、軟磁性層２４、配向層２６の一方又は両方を省略してもよい。又、基板上に記録層を直接形成してもよい。
【００９４】
又、前記第１〜第６実施形態において、連続膜の保護膜２２、マスク層４４、樹脂層４６を連続膜の記録層１４の上に形成し、３段階のドライエッチングで記録層１４を凹凸パターンに分割しているが、記録層１４を高精度で加工できれば、マスク層、樹脂層の材料、積層数、厚さ、ドライエッチングの種類等は特に限定されない。
【００９５】
又、前記第１〜第６実施形態において、磁気記録媒体１０（５０、６０、７０、８０、９０）は記録層１４の凹凸パターンの凹部が記録層１４に接する配向層２６の上面まで形成されているが、記録層１４の凹凸パターンの凹部が配向層の途中、配向層の下面、又は軟磁性層等の配向層よりも基板側の層まで形成された磁気記録媒体にも本発明は適用可能である。
【００９６】
又、前記第１〜第６実施形態において、磁気記録媒体１０（５０、６０、７０、８０、９０）は記録層１４等が基板１２の片面だけに形成された片面記録式であるが、記録層等が基板１２の両面に形成された両面記録式の磁気記録媒体にも本発明を適用可能である。
【００９７】
又、前記第１〜第６実施形態において、磁気記録媒体１０（５０、６０、７０、８０、９０）は記録層１４がトラックの径方向に微細な間隔で分割された垂直記録型のディスクリートトラックメディアであるが、トラックの径方向及び周方向の両方向に微細な間隔で分割されたパターンドメディア、渦巻き形状の記録層を有する磁気ディスク、凹凸パターンの下の層の凸部の上面と凹部の底面とに分離して形成され凸部の上面に形成された部分が記録要素である記録層を有する磁気ディスク、凹部が厚さ方向の途中まで形成されて底部において連続した記録層を有する磁気ディスク、凹凸パターンの下の層に倣って凹凸パターンで成膜された連続膜の凹凸パターンの記録層を有する磁気ディスクにも本発明は適用可能である。又、面内記録型の磁気ディスクにも本発明は適用可能である。又、ＭＯ等の光磁気ディスク、磁気と熱を併用する熱アシスト型の磁気ディスク、更に、磁気テープ等ディスク形状以外の他の凹凸パターンの記録層を有する磁気記録媒体にも本発明は適用可能である。
【実施例】
【００９８】
前記第１〜第６実施形態に係る磁気記録媒体１０、５０、６０、７０、８０及び９０に相当する６種類のサンプルＷ１〜Ｗ６を作製した。具体的には、サンプルＷ１〜Ｗ６は、円板形状のディスクリートトラックメディアである。サンプルＷ１〜Ｗ６の他の主要な仕様を表２に示す。
【００９９】
【表２】
2010073260.tif 000006
【０１００】
尚、表２に示されるトラックピッチはデータ領域におけるトラックピッチである。又、表２に示される記録要素の幅は、データ領域における記録層１４の上面における記録要素１４Ａの径方向の幅である。又、表２に示される凹部の幅は、データ領域における記録層１４の上面のレベルにおける凹部１６の径方向の幅である。又、表２に示される凹部の深さは、記録層加工完了時における凹部の底面と記録要素の上の保護膜の上面との磁気記録媒体の厚さ方向の距離である。サンプルＷ１〜Ｗ６は凹部が配向層まで形成され、隣り合う記録要素同士は凹部で分割されていた。
【０１０１】
尚、サンプルＷ１〜Ｗ６のいずれも、充填材１８、第１充填材１８Ａ、第２充填材１８Ｂは、凹部１６の中だけに配置され、記録要素１４の上には配置されていなかった。
【０１０２】
又、サンプルＷ１〜Ｗ６の潤滑剤２０、サンプルＷ１、Ｗ２、Ｗ５、Ｗ６の充填材１８、サンプルＷ３、Ｗ４の第１充填材１８Ａ、第２充填材１８Ｂを表３〜５に示す。
【０１０３】
【表３】
2010073260.tif 000007
【０１０４】
【表４】
2010073260.tif 000008
【０１０５】
【表５】
2010073260.tif 000009
【０１０６】
尚、表３のＷ１の潤滑剤は、前述のFomblin-Z-Dol-2000（ソルベイ  ソレクシス社）である。又、表３のＷ１の充填材は、前述のFomblin-Z-TETRAOL-2000S（ソルベイ  ソレクシス社）である。又、表３のＷ２、表５のＷ５の潤滑剤は、前述のMORESCO Phosfarol A20H（松村石油研究所）である。又、表３のＷ２、表５のＷ５の充填材は、前述のMORESCO Phosfarol A20H-D（松村石油研究所）である。又、表４のＷ３、Ｗ４、表５のＷ６の潤滑剤も、前述のMORESCO Phosfarol A20H-D（松村石油研究所）である。
【０１０７】
これらのサンプルＷ１〜Ｗ６を磁気記録再生装置に装着して回転させながら、サンプルＷ１〜Ｗ６の最内周と最外周との間で磁気ヘッドのシーク動作を繰り返す試験を１ヶ月間連続して行った。尚、磁気ヘッドの平均浮上高さは大気圧の環境下において９ｎｍであるように設計されていたが、この試験においては磁気記録再生装置の内部を大気圧よりも低い約８００ｈＰａに保持し、磁気ヘッドの平均浮上高さを６ｎｍに設定した。即ち、通常よりも磁気ヘッドと磁気記録媒体とのクラッシュが発生しやすい条件で試験を行った。試験中、磁気ヘッドの背面にレーザーを照射し、レーザードップラーを用いてヘッド浮上量の変動を観察した。試験終了後、磁気ヘッド及び磁気記録媒体の表面を観察した。サンプルＷ１〜Ｗ６のいずれについても磁気ヘッドとのクラッシュの痕跡は確認されなかった。
【０１０８】
次に、これらのサンプルＷ１〜Ｗ６を磁気記録再生装置から取り外し、温度８０℃、相対湿度８０％の高温高湿環境下に３週間保持した後、サンプルＷ１〜Ｗ６の表面を観察した。サンプルＷ１〜Ｗ６のいずれにも腐食は発生していなかった。
【０１０９】
[比較例]
上記実施例のサンプルＷ２に対し、凹部１６内に充填材１８が配置されず、図１８に示されるように充填材１８に代えて潤滑剤２０が凹部１６内に配置された磁気記録媒体１００の２種類のサンプルＣ１及びＣ２を作製した。サンプルＣ１の潤滑剤２０は、表３に示されるサンプルＷ２の潤滑剤と同じMORESCO Phosfarol A20H（質量平均分子量2144）だった。又、サンプルＣ２の潤滑剤２０は、表４に示されるサンプルＷ３、Ｗ４の第２充填材（質量平均分子量6354）と同じ材料だった。Ｃ１、Ｃ２の凹部１６内における潤滑剤２０の厚さはいずれも１２ｎｍだった。一方、Ｃ１、Ｃ２の記録要素１４Ａの上における潤滑剤２０の厚さは実施例と同様に２ｎｍだった。尚、サンプルＣ１、Ｃ２の他の構成はサンプルＷ２と同じであった。サンプルＣ１、Ｃ２の主要な仕様を表２に併記する。
【０１１０】
前記実施例と同様に、サンプルＣ１、Ｃ２の最内周と最外周との間で磁気ヘッドのシーク動作を繰り返す試験を連続して行った。尚、試験の条件は前記実施例と同じだった。
【０１１１】
Ｃ２については１６日目にヘッド浮上高さの異常な変動（異常に大きい変動）が発生したため試験を終了した。磁気ヘッド及び磁気記録媒体の表面を観察したところ、磁気ヘッドと磁気記録媒体とのクラッシュの痕跡が確認された。磁気記録媒体の表面には、記録要素１４Ａの上における潤滑剤２０の厚さが０．５〜１ｎｍとなっている（即ち試験前よりも１〜２ｎｍ潤滑剤の厚さが減少している）箇所が多数観察された。
【０１１２】
又、Ｃ１についても２５日目にヘッド浮上高さの異常な変動が発生したため試験を終了した。磁気ヘッド及び磁気記録媒体の表面を観察したところ、Ｃ２と同様に磁気ヘッドと磁気記録媒体とのクラッシュの痕跡が確認された。記録要素１４Ａの上における潤滑剤２０の厚さは４〜５ｎｍだった。即ち、記録要素１４Ａの上における潤滑剤２０の厚さは試験前よりも２〜３ｎｍ増加していた。
【０１１３】
尚、磁気ヘッドと磁気記録媒体とのクラッシュの痕跡を確認した後、これらのサンプルＣ１、Ｃ２（磁気記録媒体のみ）を温度８０℃、相対湿度８０％の高温高湿環境下に３週間保持した後、サンプルＣ１、Ｃ２の表面を観察した。サンプルＣ１、Ｃ２に腐食は発生していなかった。
【０１１４】
比較例のサンプルＣ１は、長期間高速で回転するうちに凹部に配置されていた潤滑剤が記録要素の上に流れ出し、記録要素の上における潤滑剤の厚さが厚くなったと考えられる。これにより、磁気記録媒体の表面の凹凸の段差が大きくなり、磁気ヘッドの浮上高さが不安定になって、磁気ヘッドと磁気記録媒体とのクラッシュが発生したと考えられる。
【０１１５】
又、サンプルＣ２は、潤滑剤の質量平均分子量が大きいため、磁気ヘッドとの間欠接触により変形した潤滑剤の形状が充分に復元しなかったと考えられる。このため、潤滑剤に局在した凹凸により磁気ヘッドと磁気記録媒体とのクラッシュが発生したと考えられる。
【０１１６】
これに対し上記のように実施例のサンプルＷ１〜Ｗ６のいずれにも磁気ヘッドとのクラッシュは発生していなかった。サンプルＷ１、Ｗ２、Ｗ５、Ｗ６の充填材１８、サンプルＷ３、Ｗ４の第１充填材１８Ａ、第２充填材１８Ｂは、潤滑剤２０と同様に流動性を有するフッ素系有機化合物であるが、質量平均分子量が潤滑剤２０の質量平均分子量よりも大きいので潤滑剤２０よりも流動しにくい。従って、サンプルＷ１〜Ｗ６が長期間高速で回転しても凹部１６に配置された充填材１８、第１充填材１８Ａ、第２充填材１８Ｂは記録要素１４Ａの上に流れ出すことなく凹部１６内に保持されたと考えられる。
【０１１７】
又、仮に凹部１６に配置された充填材１８、第１充填材１８Ａ、第２充填材１８Ｂが記録要素１４Ａの上に流れ出していたとしても、充填材１８、第１充填材１８Ａ、第２充填材１８Ｂは潤滑剤２０よりも流動しにくいので、磁気ヘッドが磁気記録媒体に吸着しやすくなったり、磁気ヘッドの浮上高さが不安定になる程度にまで記録要素の上に充填材１８、第１充填材１８Ａ、第２充填材１８Ｂが流れ出すことはなかったと考えられる。
【０１１８】
又、記録要素１４Ａ及び充填材１８（第１充填材１８Ａ、第２充填材１８Ｂ）の上には充填材１８（第１充填材１８Ａ、第２充填材１８Ｂ）よりも質量平均分子量が小さく形状が復元しやすい潤滑剤２０が配置されていたので、磁気記録媒体１０の表面の潤滑性が良好であったと考えられる。
【０１１９】
又、仮に凹部１６に配置された充填材１８、第１充填材１８Ａ、第２充填材１８Ｂが記録要素１４Ａの上に流れ出していたとしても、充填材１８、第１充填材１８Ａ、第２充填材１８Ｂは潤滑剤２０と同様にフッ素系有機化合物であり記録要素１４Ａの上において潤滑の役割を担うことができたので、磁気記録媒体の表面の潤滑性が良好に維持されたと考えられる。
【０１２０】
このように記録要素の間の凹部に質量平均分子量が潤滑剤の質量平均分子量よりも大きいフッ素系有機化合物の充填材を配置することで、良好な記録／再生特性が得られ、生産性に優れる磁気記録媒体を実現できることが確認された。
【産業上の利用可能性】
【０１２１】
本発明は、例えば、ディスクリートトラックメディア、パターンドメディア等の凹凸パターンの記録層を有する磁気記録媒体に利用することができる。
【図面の簡単な説明】
【０１２２】
【図１】本発明の第１実施形態に係る磁気記録再生装置の概略構造を模式的に示す斜視図
【図２】同磁気記録再生装置の磁気記録媒体の構造を模式的に示す径方向に沿う断面図
【図３】同磁気記録媒体の充填材及び潤滑剤の周辺を拡大して示す径方向に沿う断面図
【図４】同磁気記録媒体の製造工程の概要を示すフローチャート
【図５】同製造工程における被加工体の出発体の構造を模式的に示す径方向に沿う断面図
【図６】凹凸パターンの樹脂層が形成された同被加工体の形状を模式的に示す径方向に沿う断面図
【図７】記録層が凹凸パターンに加工された同被加工体の形状を模式的に示す径方向に沿う断面図
【図８】同記録層の上に充填材が塗布されて凹部に充填材が配置された同被加工体の形状を模式的に示す径方向に沿う断面図
【図９】余剰の充填材が除去された同被加工体の形状を模式的に示す径方向に沿う断面図
【図１０】本発明の第２実施形態に係る磁気記録媒体の構造を模式的に示す径方向に沿う断面図
【図１１】同磁気記録媒体の充填材及び潤滑剤の周辺を拡大して示す径方向に沿う断面図
【図１２】同磁気記録媒体の製造工程の概要を示すフローチャート
【図１３】同磁気記録媒体の製造工程において凹凸パターンの表面に倣って保護膜が成膜された被加工体の形状を模式的に示す径方向に沿う断面図
【図１４】本発明の第３実施形態に係る磁気記録媒体の充填材及び潤滑剤の周辺の構造を拡大して模式的に示す径方向に沿う断面図
【図１５】本発明の第４実施形態に係る磁気記録媒体の充填材及び潤滑剤の周辺の構造を拡大して模式的に示す径方向に沿う断面図
【図１６】本発明の第５実施形態に係る磁気記録媒体の充填材及び潤滑剤の周辺の構造を拡大して模式的に示す径方向に沿う断面図
【図１７】本発明の第６実施形態に係る磁気記録媒体の充填材及び潤滑剤の周辺の構造を拡大して模式的に示す径方向に沿う断面図
【図１８】比較例に係る磁気記録媒体の潤滑剤の周辺の構造を拡大して模式的に示す径方向に沿う断面図
【符号の説明】
【０１２３】
２…磁気記録再生装置
４…磁気ヘッド
１０、５０、６０、７０、８０、９０、１００…磁気記録媒体
１２…基板
１４…記録層
１４Ａ…記録要素
１６…凹部
１８…充填材
１８Ａ…第１充填材
１８Ｂ…第２充填材
２０…潤滑剤
２２…保護膜
２４…軟磁性層
２６…配向層
４０…被加工体
４４…マスク層
４６…樹脂層
８２…非磁性材
Ｓ１０２…被加工体の加工出発体用意工程
Ｓ１０４…樹脂層形成工程
Ｓ１０６…記録層加工工程
Ｓ１０８…充填材塗布工程
Ｓ１１０…余剰充填材除去工程
Ｓ１１２…潤滑剤成膜工程
Ｓ２０２…保護膜成膜工程
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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