(57)【要約】【課題】  ＰＤＰに係わり、明室コントラスト向上などを実現できる技術を提供する。【解決手段】  本ＰＤＰ１０は、セル内の底面部の蛍光膜反射率に分布をもたせた構造である。セル内の上側に位置する領域の反射率が、下側に位置する領域の反射率よりも高くなるように形成する。【選択図】  図１
2010129402.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
放電を形成するための放電ガスが封入された放電空間と、前記放電空間で隔壁により区画された複数の放電セルと、前記隔壁間に前記放電で発生する紫外線による励起で可視光を発光する蛍光体から構成される蛍光膜と、該蛍光膜に隣接し前記放電空間と逆側に配置された誘電体層と、前記放電セルに電圧を印加するための表示電極と、を少なくとも有するプラズマディスプレイパネルにおいて、
前記放電セルは、四方を前記隔壁で囲まれたボックス型のセルであって、
前記隔壁間の底面部の蛍光膜面は、反射率の大きさが異なる領域を有することを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項２】
請求項１に記載のプラズマディスプレイパネルにおいて、
前記放電セルの底面部の面内で、当該放電セルにおける上側に位置する領域の蛍光膜面の反射率が、下側に位置する領域の蛍光膜面の反射率よりも高いことを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項３】
請求項１又は２に記載のプラズマディスプレイパネルにおいて、
前記放電セルの側壁面に配置された蛍光膜面の内、当該放電セルにおける上側に位置する側壁面に配置された蛍光膜面の反射率が、下側に位置する側壁面に配置された蛍光膜面の反射率よりも高いことを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項４】
請求項１に記載のプラズマディスプレイパネルにおいて、
前記蛍光膜の膜厚が、前記底面部の面内で異なる領域を有することを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項５】
請求項４に記載のプラズマディスプレイパネルにおいて、
前記底面部の蛍光膜において、当該放電セルにおける上側に位置する領域の膜厚が、下側に位置する領域の膜厚よりも厚いことを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項６】
請求項１に記載のプラズマディスプレイパネルにおいて、
前記誘電層と前記蛍光膜の間の一部に、蛍光膜面の反射率を調整するための反射率調整部材が配置されていることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項７】
請求項６に記載のプラズマディスプレイパネルにおいて、
前記反射率調整部材の反射率が、同一の膜厚の蛍光体層の反射率よりも低く、前記反射率調整部材は、前記セル内の下側に位置する領域に形成されることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項８】
請求項６に記載のプラズマディスプレイパネルにおいて、
前記反射率調整部材の反射率が、同一の膜厚の蛍光体層の反射率よりも高く、前記反射率調整部材は、前記セル内の上側に位置する領域に形成されることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項９】
請求項１に記載のプラズマディスプレイパネルにおいて、
前記誘電層と前記蛍光膜の間に、蛍光膜面の反射率を調整するための反射率調整部材が配置され、セル内で反射率調整部材の膜厚の厚さが分布を有することを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項１０】
請求項９に記載のプラズマディスプレイパネルにおいて、
前記反射率調整部材の反射率が、同一の膜厚の蛍光膜の反射率よりも低く、前記反射率調整部材の膜厚が、当該放電セルにおける上側に位置する領域よりも下側に位置する領域が薄いことを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項１１】
請求項９に記載のプラズマディスプレイパネルにおいて、
前記反射率調整部材の反射率が、同一の膜厚の蛍光膜の反射率よりも高く、反射率調整部材の膜厚が、当該放電セルにおける上側に位置する領域よりも下側に位置する領域が厚いことを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項１２】
請求項７乃至請求項１０に記載のプラズマディスプレイパネルにおいて、
底面部の蛍光膜の内、当該放電セルにおける上側に位置する領域の蛍光膜の膜厚が、下側に位置する領域の蛍光膜の膜厚よりも厚いことを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項１３】
請求項８乃至請求項１１に記載のプラズマディスプレイパネルにおいて、
底面部の蛍光膜の内、当該放電セルにおける上側に位置する領域の蛍光膜の膜厚が、下側に位置する領域の蛍光膜の膜厚よりも薄いことを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項１４】
請求項６乃至請求項９に記載のプラズマディスプレイパネルにおいて、
前記反射率調整部材は、前記誘電体層と実質的に同一の材料で形成されていることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項１５】
請求項６乃至請求項９に記載のプラズマディスプレイパネルにおいて、
前記反射率調整部材は、前記隔壁と実質的に同一の材料で形成されていることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項１６】
請求項８乃至請求項１１に記載のプラズマディスプレイパネルにおいて、
前記反射率調整部材は、少なくとも酸化チタン、酸化亜鉛、アルミナ、酸化マグネシウム、酸化ケイ素の少なくとも１種を含む材料で構成されることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項１７】
請求項７乃至請求項９に記載のプラズマディスプレイパネルにおいて、
前記反射率調整部材は、少なくとも酸化マンガン又は酸化鉄を含む材料から構成されていることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項１８】
請求項８乃至請求項１１に記載のプラズマディスプレイパネルにおいて、
前記反射率調整部材の反射率が、８３％以上であることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項１９】
請求項６乃至請求項９に記載のプラズマディスプレイパネルにおいて、
前記反射率調整部材に接する蛍光膜の膜厚が２０μｍ以下であることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項２０】
前記蛍光膜の形成プロセス又は前記隔壁の形成プロセスにおいて、基板を傾けることを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）を備える表示装置（プラズマディスプレイ装置：ＰＤＰ装置）等のフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）に関し、特に、セルの構成及び構造等に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＰＤＰ装置、液晶ディスプレイ、有機ＥＬ等のＦＰＤでは、性能やコストの競争が激しく、特に、ＰＤＰの性能としては、明るい環境下でのコントラスト（明室コントラスト）の向上が要求されている。
【０００３】
上記明室コントラスト向上等に関する従来技術例として、特許文献１や特許文献２記載の技術がある。これらの技術では、パネルの前面に配置したフィルム内に、光を吸収する光吸収部が少なくとも一次元方向に多数平行に並べて配置される。外光はこれら光吸収部で遮光されるため、パネルへ入射する外光が抑制され、結果として明室コントラストが向上する。
【０００４】
また、特許文献３特許文献４では、セル内に外光反射を抑制するための光反射層または光吸収層を蛍光体層の裏面側に設けることにより、外光反射を抑制し、同時に蛍光体からの発光を効率よく放射することにより明室コントラストを向上する。
【０００５】
さらに、特許文献５では、蛍光体の表面に顔料を被覆し、蛍光体の発光色以外の色を吸収することにより、外光反射を抑制し、明室コントラストを向上する技術が開示されている。
【０００６】
【特許文献１】特開２００７−２７２１６１号公報
【特許文献２】特開２００６−２０１５７７号公報
【特許文献３】特開平１１−１６２３５７号公報
【特許文献４】特開平１０−１８８８２０号公報
【特許文献５】特開平１１−１３１０５９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明が解決しようとする課題は、ＰＤＰにおける明室コントラストの向上である。明室コントラストを低下させる最大の要因は、パネル内に入射する外光の反射である。一般的なＰＤＰは、セル内の蛍光膜（蛍光体層）が前面側から透過により直接見える構造であるため、その外光反射により、黒表示時の輝度が高くなり、明室コントラストが低下する問題点がある。また、上記従来技術では、パネル前面の光吸収部やセル内の外光反射抑制層、蛍光体への顔料の被膜により外光反射を抑制してはいるものの、外光反射輝度の大きさの分布については考慮されておらず、セルやパネルの面上に一様に外光反射抑制のための部材を設けているにすぎない。また、外光反射輝度抑制が充分できても、逆に表示光の取り出し効率が悪くなるという問題もあった。
【０００８】
本発明は以上のような問題に鑑みてなされたものであり、その主な目的は、ＰＤＰに係わり、明室コントラスト向上をより実現できる技術を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本願において開示される発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、次のとおりである。前記目的を達成するために、本発明の代表的な実施の形態は、ＰＤＰの技術であって、ＰＤＰは、放電を形成するための放電ガスが封入された放電空間と、放電空間で隔壁（リブ）により区画された複数のセル（放電セル）と、隔壁間に放電で発生する紫外線による励起で可視光を発光する蛍光膜（蛍光体）と、蛍光膜に隣接し放電空間と逆側に配置された誘電体層と、セルに電圧を印加するための電極（表示電極）と、を少なくとも構成要素の一部として有するものであり、以下に示す構成を有することを特徴とする。
【００１０】
（１）本形態は、上記放電セルが、四方を隔壁で囲まれたボックス型のセルであり、隔壁と隔壁の間に配置され側壁部を除いた底面部の蛍光膜面で、反射率の大きさが異なる領域を有する構造とする。
【００１１】
（２）本形態は、上記放電セルの底面部の面内で、当該放電セルにおける上側に位置する領域の蛍光膜面の反射率が、下側に位置する領域の蛍光膜面の反射率よりも高い構成とする。
【００１２】
（３）本形態は、例えば、上記隔壁と隔壁の間に配置され、側壁部を除く底面部の蛍光膜の膜厚が、底面部の面内で異なる領域を有し、側壁部を除く底面部の蛍光膜の内、当該放電セルにおける上側に位置する領域の蛍光膜の膜厚が、下側に位置する領域の蛍光膜の膜厚よりも厚い構造とする。  
（４）また、前記誘電層と蛍光層の間の一部に、反射率調整部材を有する構造とする。
【発明の効果】
【００１３】
本願において開示される発明のうち、代表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば以下のとおりである。本発明によれば、ＰＤＰに係わり、明室コントラストの向上を実現できる。特に、セル内に入射する外光の反射を抑制することにより、外光の反射輝度を低減し、明室コントラスト向上を実現する。また、外光反射の抑制により、色再現範囲の向上も実現でき、それらによるＰＤＰ性能向上を図ることができる。さらには低コスト化などが実現できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。なお、実施の形態を説明するための全図において、同一部には原則として同一符号を付し、その繰り返しの説明は省略する。なお、説明のため、ｘ方向（画面内の横方向）、ｙ方向（画面内の縦方向）、ｚ方向（パネル厚さ方向）を有する。
【００１５】
図９を用いて、前提となる一般的なＰＤＰについて簡単に説明する。図９は、ＰＤＰの平面図と縦方向（ｙ）の断面（平面図でのＡ−Ａ’）の一部概略を示している。パネル厚さ方向（ｚ）における右側から左側へ向かう矢印がパネル正面の視線方向Ｓである。ｙ方向における上側がパネル上部、下側がパネル下部である。
【００１６】
このパネルでは、パネル（画面）の全面で同一のセル構造である。背面側の第２構造体１２には、隔壁（リブ）８及び蛍光体（蛍光膜）９、さらに、蛍光膜に隣接して放電空間とは逆側に誘電体層７が形成され、前面側の第１構造体１１と重ね合わせることでパネルが構成される。セルでは、リブ８間に蛍光体９が形成される。リブ８の側面に蛍光体９の側面部が形成され、基板面上に蛍光体９の底面部が形成される。
【００１７】
ａで示すように、基本的に、外光（室内照明など）は、パネルの斜め上方向から入射される。セル内への外光入射のうち蛍光体９により反射されｚ方向（視線方向Ｓ）に出射される成分（外光反射輝度）により、コントラスト（明室コントラスト）が低下する。
【００１８】
一般に明室コントラストは次のような（数１）で表すことができる。ここでC：明室コントラスト、Bp：パネル発光輝度、Bb：背景輝度（黒輝度）、Br：外光反射輝度である。
（数１）
C＝(Bp+Br)/(Bb+Br)                
明室下では、一般的にBb<<Br<<Bpとなるため、（数１）は（数２）のように表せる。
（数２）
C＝(Bp＋Br)/(Bb＋Br)≒Bp/Br    
この（数２）から分かるように、明室コントラストは、外光反射輝度Brが大きく影響し、その値が大きいほど、明室コントラストは低くなる。明室コントラストを向上させるためには、Brを小さくする必要がある。
【００１９】
さらにこの外光反射輝度Brは、（数３）のように表せる。ここで、I：外光入射輝度、β：セル内反射率、である。
（数３）
Br＝I×β              
Iは環境の明るさで決まるため、プラズマディスプレイ性能として、変えることはできない。従って、（数３）からBrを小さくするためには、βを小さくすればよいことが分かる。しかし、βを小さくすることは、外光反射を抑制する正の効果と同時に、セル内で発光した表示光の取り出し効率を抑制する負の効果も生じてしまう。
【００２０】
そこで、本発明者等は、外光反射輝度の抑制と、セル内で発光した表示光の取り出し効率を両立させるために、次で述べる外光反射輝度の面内分布に着目した。
【００２１】
＜外光反射輝度の分布＞
本発明者等は、この外光反射輝度の低減を検討する中で、セル内において、外光反射輝度の大きさが面内分布を有することを見出し、それに着目した。
【００２２】
図１０は、左側に、図９のような一般的なＰＤＰのセルの断面（ｙ−ｚ面）と、右側に、ａのような外光照射によるセルから出射される光（外光反射光）の反射輝度分布（セル垂直方向（ｙ）位置に対する反射輝度）とを示す。本セルは非点灯状態であり、本セルから反射される外光ａ（外光反射光）の光強度のみを測定したものである。この反射輝度分布において、概略的に、領域Ａでは、セルの上側に配置された隔壁８の影により、外光の入射が抑制され、その反射輝度が低い。領域Ｂでは、セルの底面に位置する蛍光膜９の反射により、反射輝度が高くなる。さらに、領域Ｃにおいては、セルの下側に配置された隔壁８に形成された蛍光膜９からの反射光も寄与するため、反射輝度が急激に高くなる。即ち、外光による反射輝度はセル内で分布を有し、セルの垂直方向（ｙ）の位置で下へ行くほど大きくなる。
【００２３】
このような反射輝度の分布は、大きく２つの因子に起因する。一つは、外光（例えば、室内照明に代表される光）が、パネルあるいはセルに対して非対称な方向、即ち、パネルあるいはセルに対して上方向から入射すること。もう一つは、図１１に示すように、セル内の反射率がセル底面部で一様であること、である。本明細書において、セルの底面部というのは、隔壁と隔壁に挟まれた領域である。セル底面部では、蛍光膜が一様の膜厚で形成されているため、図１１に示すように反射率の大きさの分布がほとんどなく、ほぼフラットな状態である。反射輝度は、これら２つの因子の掛け合わせで生じるものであり、反射率の分布がほとんどない面に、非対称方向から外光が入射することによって、図１０の右側に示す外光反射輝度の分布を生じることになる。
【００２４】
本発明者等は、これら外光反射輝度の分布を調整、即ちそれに関わる因子であるセル内での反射率分布を調整することにより、セル内で発光した表示光の取り出し効率を低下させることなく、外光反射輝度を低減できると考えた。具体的な手法を含めた、外光反射低減の考え方は次で述べる。
【００２５】
なお、図９、図１０における前面基板（第１構造体１１）において、バス電極をほぼリブ８の頂上部から、セル内側に配置して示しているが、実際のパネルにおいては、構造や駆動などに応じて当該バス電極の配置箇所は種々存在する。例えば、リブ頂上部に配置される構造でもよく、以下で述べる本発明の構成と効果においては、特に当該バス電極の位置は限定されない。
【００２６】
＜外光反射輝度低減の考え方＞
図１を用いて、外光反射輝度低減の考え方を説明する。図１の左側は、ＰＤＰの背面側の基板における１セルの断面を示した図である。また、右側には、セルの底面部での反射率分布を示している（図１（a）（b）（c））。従来のＰＤＰにおけるセル底面部での反射率分布は、図１（a）（b）（c）グラフ中の破線で示すように、一様（フラット）な分布を示す。
【００２７】
先に述べたように、セルの下側に位置する領域からの外光反射輝度が高く、これを抑制することにより、明室コントラストを向上することができる。外光反射輝度を低減するためには、セルの下側に位置する領域の反射率を低くすることが有効である。しかし一方で、セル下側領域の反射率を低減するだけでは、セル内で発光した表示光の取り出し効率が低下するので、これを補償するために、セル上側に位置する領域の反射率を高くする必要がある。セル上側に位置する領域の反射率を高くしても、例えば、セルの上部に位置するリブに近い領域では、リブの影になるために、外光が入射しないので、底面の反射率は外光に対してはほとんど無関係である。従って、反射率を高く設定しても大きな問題とはならない。セル底面部での反射率分布としては、図１（a）（b）（c）に示すようにセル上側に位置する領域の反射率が、セル下側に位置する領域の反射率より高い分布が望ましい。  このように、セル底面部において、反射率を面内で分布させ、さらに、セル上側に位置する領域の反射率が、セル下側に位置する領域の反射率よりも高く設定することで、セル内で発光した表示光の取り出し効率を低下させることなく、外光反射輝度を低減できる。なお反射率の分布は、図１（a）（b）に示すように、段階的に変化させてもよいし、図１（c）のように連続的に変化させてもよい。
【００２８】
さらに、リブの影になる領域には、外光がほとんど入射しないことを考慮すると、これらの領域では、反射率をいくら高く設定しても外光反射輝度には影響しない。この領域の反射率を高くすることで、同時にセル内で発光する表示光の取り出し効率を従来以上に向上することができる。このとき、リブの影になる領域、すなわち反射率を極度に高くできる領域は、図２に示すようにセルの上部からほぼＬの領域に相当する。Ｌは次の（数４）ように表すことができる。ここで、ｈ：リブ高さ、θ：外光入射角度である。
（数４）
L＝h×tanθ          
先に示した（数４）からＬについて詳細に考える。一般的に室内照明のある室内環境でＰＤＰを鑑賞する場合には、外光はＰＤＰの斜め上方から照射されることが殆どであり、ＪＥＩＴＡでの規格を参照すれば、外光入射角度θは、ほぼ３０°から６０°の間である（３０°≦θ≦６０°：θ条件（１））。さらに最も一般的には、θは、３５°から４５°の間である（３５°≦θ≦４５°：θ条件（２））。このことから、Ｌは以下の（数５）（数６）の関係を満足することが望ましい。（数５）はθ条件（１）を、（数６）はθ条件（２）から導かれるものである。
（数５）
０．５８×ｈ≦Ｌ≦１．７３×ｈ            
（数６）
０．７０×ｈ≦Ｌ≦１．００×ｈ            
以上では、セル底面部について述べたが、隔壁部に位置するセル側壁部の反射率を同様に変化させることで、セル内からの表示光の外光反射輝度を低減することが可能である。
【００２９】
セルの上側に位置する隔壁に沿って配置された側壁の蛍光膜面には、外光はほとんど入射しない。一方、セルの下側に位置する隔壁に沿って配置された側壁の蛍光膜面には外光が入射しやすい。従って、セルの上側に位置する側壁面の蛍光膜面反射率は高く、セルの下側に位置する側壁面の蛍光膜面反射率を低く設定すればよい。これにより、外光反射輝度を抑制し、セル内で発光する表示光を効率よく取り出すことが可能となる。
【００３０】
なお、この外光反射輝度を抑制し、明室コントラストを向上する本技術は、同時に、色再現範囲の拡大も実現できる。特に明室環境下での低階調領域における色再現範囲の拡大である。明室環境下において、色再現範囲が低下する要因は、外光反射成分が、表示光に混色するからである。低階調領域では、表示光の輝度そのものが小さいために、外光反射成分の寄与が大きくなり、色再現範囲低下の影響は大きい。本発明による技術を適用することで、外光反射輝度を抑制できるため、明室環境下における色再現範囲の低下を抑制することが可能となる。
【００３１】
＜外光反射輝度低減の具体的手法＞
次に、上記考え方に基づいた反射率分布を実現するための具体的手法について述べる。セル底面部の蛍光膜面の反射率を変える方法としては、大きく二つある。即ち、（１）蛍光膜の膜厚を変化させることにより膜面の反射率を変化させる、（２）ある一定以下の蛍光膜膜厚において、蛍光膜の下側（蛍光膜に対して放電空間側と逆側）に配置される下地部材の反射率を変える、方法である。
【００３２】
まず（１）について述べる。図３に蛍光膜の膜厚と蛍光膜反射率の関係を示す。本データは素ガラス上に蛍光膜を膜厚を変えて形成し、反射率を測定した結果である。このように、蛍光膜の反射率は膜厚が厚くなるに従い、単調に増加し、４０μｍ以上の膜厚で反射率はほぼ飽和する。従って、セル内において異なる膜厚を分布させた蛍光膜とすることで、反射率の大きささの分布を形成することができる。図４（a）（b）（c）に示すように、高い反射率が必要な領域では、蛍光膜の膜厚が厚くなるように形成し、低い反射率が必要な領域では蛍光膜の膜厚が薄くなるように形成する。セル底面部における蛍光膜の膜厚は段階的に変化させてもよいし、連続的に変化させてもよい。
【００３３】
さらに図５に示すような構成とすることで、セル内での蛍光膜の膜厚を変化させてもよい。即ち、蛍光膜に隣接する位置（放電空間と逆側）に、段差を形成するものを配置してもよい。これにより、セル内の底面部での実効的な蛍光膜の膜厚が分布を有することになり、上記で述べた蛍光膜膜厚を変化させることと同等の効果を得ることができる。この段差を形成するものは、後でも述べるが、隔壁や誘電体層と実質的に同じ材料で形成しもよい。
【００３４】
次に（２）について述べる。各種反射率を有する基板上に形成した蛍光膜反射率の膜厚依存性を図６に示す。蛍光膜厚が厚い領域、例えば、４０μｍ以上の領域では、下地である基板の反射率Rbは、ほとんど影響せず、蛍光膜の反射率はほとんど変化しない。しかし、それ以下の蛍光膜膜厚では、蛍光膜面の反射率には、下地の反射率が大きく影響し、下地基板の反射率が大きいほど蛍光膜面の反射率が高くなることがわかる。特に蛍光膜厚が２０μｍ以下の領域においては、下地反射率の影響が顕著に現れている。
【００３５】
そこで、この下地反射率の効果を利用して、セル内の底面部での反射率分布を形成することを見出した。図７と図８にその構造例を示す。図７と図８に示すように、誘電体層と蛍光膜層の間に反射率調整部材が配置され、セル内の一部の底面部のみに形成される（図７（a）、図８（a））、あるいは、反射率調整部材の膜厚がセル内で分布を有する（図７（b）、図８（b））構造とする。さらに、蛍光膜の下地となる反射率調整部材の反射率が、同一の膜厚の蛍光体層の反射率に比べて低い場合には、図７（a）（b）に示すように、反射率調整部材を、セルの下側領域に配置する、もしくはセルの下側領域で膜厚を厚くする。一方、蛍光膜の下地となる反射率調整部材の反射率が、同一の膜厚の蛍光体層の反射率に比べて高い場合には、図８（a）（b）に示すように、反射率調整部材を、セルの上側領域に配置する、もしくはセルの上側領域で膜厚を厚くする。このような構造とすることで、セル内の底面部において、セルの上側領域で蛍光膜面の反射率を高く、下側領域で反射率を低くすることができる。
【００３６】
本構成により効果を得るためには、反射率調整部材の反射率として少なくとも８３％以上の反射率が必要である。これは、従来技術で用いられている蛍光膜の膜厚２０μｍでの蛍光膜の反射率（約８２％）よりも高くある必要があるためである。
【００３７】
上記反射率調整部材の材料としては、反射率を高くする場合には、酸化チタンや酸化亜鉛、アルミナ、酸化マグネシウム、酸化ケイ素など白色粉末からなる膜で構成されてもよい。また、これらを含むガラス系の材料で形成されてもよい。また、反射率を低くする場合には、酸化マンガンや酸化鉄を含む材料から構成されることが望ましい。なお、上記反射率調整部材は、蛍光膜の下地として配置される部材であり、材料としては、誘電体層と実質的に同じであってもよいし、さらには、隔壁と実質的に同じ材料で構成されてもよい。
【００３８】
以下、詳細な実施例について説明する。ただし、本発明は上記で述べた考え方に基づくものであり、以下の実施例に限定されるものではない。
【実施例１】
【００３９】
本実施例のＰＤＰの構造は、セル内の蛍光膜膜厚分布を特徴とする。その他の構成は、一般的なＰＤＰと同様な構成を用いてもよい。蛍光膜の構成は、図４（c）に示すように、セル内で膜厚を分布させる構造とした。セル内上側領域での蛍光膜の膜厚が、セル内下側領域での蛍光膜の膜厚に比べて厚い構成である。このとき、セル内底面部における反射率の分布は、図１（c）に示したような分布となる。
【００４０】
本実施例では、セル上側の蛍光膜膜厚をほぼ３５μｍ程度（反射率約９０％）、セル下側の蛍光膜膜厚をほぼ１５μｍ程度（反射率約７５％）とした。なお、従来の構成は、セル内の底面部での蛍光膜膜厚はほぼ一定であり、ほぼ２０μｍ程度（反射率約８２％）である。
【００４１】
このように、セル内で蛍光膜を連続的に分布させるためには、図１２で示すような蛍光膜形成プロセスが有効である。一般には蛍光膜は、スクリーン印刷によってセル内に蛍光体の粉末を含むペーストをセル内に充填し、それを乾燥させることで形成する。通常は基板を平行にして乾燥させるが、これを傾けて乾燥させることにより、膜厚分布を有する蛍光膜を形成できる。
【００４２】
本構成を有するＰＤＰにおいて、明室コントラストを約２％向上することができた。なお、セル内で発光する表示光の取り出し効率は変わらず、外光反射を抑制できた結果である。
【実施例２】
【００４３】
本実施例のＰＤＰの構造は、セル内の蛍光膜膜厚分布、及び反射率調整部材を形成することを特徴とする。セル内の構成は、図７（b）に示す構成とした。即ち、セル内に反射率調整部材を形成し、その膜厚をセル上側領域から下側領域にかけて厚くする膜厚分布を有する構造である。
【００４４】
本実施例では、反射率調整部材を次のようにリブ材形成時に形成した。リブ材の形成方法には各種あるが、ここではサンドブラスト法を用いた。隔壁となる材料を基板面に塗布し、マスクをかけて隔壁を砂で削りだしていくときに、図１３に示すように砂の噴射される方向に対して基板を斜めに配置することで、このような構造を形成することができる。即ち、この場合には、反射率調整部材は、リブ材と実質的に同じ材料（ホウ珪酸ガラス系）となる。
【００４５】
ここで用いた反射率調整部材は、同じ膜厚の蛍光体膜の反射率に比べて低いため（膜厚２０μｍのとき、蛍光膜反射率約８０％に対し、リブ材反射率は１０％以下）、図７（b）のように、セル下側領域で反射率調整部材の膜厚を厚くする。また、蛍光膜は、セル上側の蛍光膜膜厚をほぼ３５μｍ程度（反射率約９０％）、セル下側の蛍光膜膜厚をほぼ１５μｍ程度（反射率約７５％）とした。なお、従来の構成は、セル内の底面部での蛍光膜膜厚はほぼ一定であり、ほぼ２０μｍ程度（反射率約８２％）である。セル内の底面部でのリブ材（図７(b)２０に相当）の膜厚はセル上側ではほぼゼロであり、下側でほぼ２５μｍとした。
【００４６】
本構成を有するＰＤＰにおいて、明室コントラストを約２％向上することができた。なお、セル内で発光する表示光の取り出し効率は変わらず、外光反射を抑制できた結果である。
【００４７】
本実施例では、図７（b）の構造について述べたが、図７（a）（c）（d）に示す構造においても、反射率調整部材の反射率と、蛍光膜膜厚の設定によって、同様の効果を得ることができる。
【実施例３】
【００４８】
本実施例のＰＤＰの構造は、セル内の蛍光膜膜厚分布、及び反射率調整部材を形成するすることを特徴とする。セル内の構成は、図８（a）に示す構成とした。即ち、セル内の上側領域の一部に、反射率調整部材を形成する。
【００４９】
本実施例では、反射率調整部材を酸化チタンで形成し、その膜厚を１０μｍとした。また、蛍光膜の膜厚は、反射率調整部材に接している領域（セル上側領域）では、８μｍとし、それ以外の領域では８μｍとした。このとき、セル上側領域での蛍光膜面の反射率はほぼ９２％である。また蛍光膜のみで形成されるセル下側領域での反射率は８１％程度である。なお、従来の構成は、セル内の底面部での蛍光膜膜厚はほぼ一定であり、ほぼ２０μｍ程度（反射率約８２％）である。
【００５０】
なお、反射率調整部材の領域は、リブ（隔壁）高さｈに応じて、その０．７０倍とした（Ｌ＝０．７０×ｈ）。
【００５１】
本構成を有するＰＤＰにおいて、明室コントラストを約１％向上することができた。なお、セル内で発光する表示光の取り出し効率は変わらず、外光反射を抑制できた結果である。
【００５２】
本実施例では、図８（a）の構造について述べたが、図８（b）（c）（d）に示す構造においても、反射率調整部材の反射率と、蛍光膜膜厚の設定によって、同様の効果を得ることができる。
【産業上の利用可能性】
【００５３】
本発明は、ＰＤＰ装置に利用可能である。
【図面の簡単な説明】
【００５４】
【図１】本発明のセル内反射率分布を説明する図である。
【図２】本発明のセル内反射率分布を説明する図である。
【図３】蛍光膜の反射率の蛍光膜厚依存を示す図である。
【図４】本発明の実施の形態を示す図であり、蛍光膜の膜厚のみをセル内で変化させて効果を得るための構造である。
【図５】本発明の実施の形態を示す図であり、反射率調整部材を設けることで、実効的に蛍光膜の厚みをセル内で変化させて効果を得るための構造である。
【図６】反射率の異なる下地層上に形成した蛍光膜の反射率の蛍光膜厚依存性を示す図である。
【図７（ａ）（ｂ）】本発明の実施の形態を示す図であり、反射率調整部材の反射率が、同じ膜厚の蛍光膜の反射率よりも低い場合に効果を示すことのできる構造を示した図である。
【図７（ｃ）（ｄ）】本発明の実施の形態を示す図であり、反射率調整部材の反射率が、同じ膜厚の蛍光膜の反射率よりも低い場合に効果を示すことのできる構造を示した図である。
【図８（ａ）（ｂ）】本発明の実施の形態を示す図であり、反射率調整部材の反射率が、同じ膜厚の蛍光膜の反射率よりも高い場合に効果を示すことのできる構造を示した図である。
【図８（ｃ）（ｄ）】本発明の実施の形態を示す図であり、反射率調整部材の反射率が、同じ膜厚の蛍光膜の反射率よりも高い場合に効果を示すことのできる構造を示した図である。
【図９】一般的なＰＤＰの縦方向断面を示す図である。
【図１０】一般的なＰＤＰ（セル）の縦方向断面と、セルからの外光反射の輝度分布とを示す図である。
【図１１】一般的なＰＤＰ（セル）の背面板側の縦方向断面と、セル底面部での蛍光膜面の反射率分布を示した図である。
【図１２】蛍光膜の形成プロセスの概略を示した図である。
【図１３】蛍光膜の形成プロセスの概略を示した図である。
【符号の説明】
【００５５】
１…前面基板（ガラス基板）、２…表示電極（Ｘ電極，Ｙ電極）、３，７…誘電体層、４…保護膜、５…背面基板（ガラス基板）、６…アドレス電極、８…隔壁（リブ）、８…リブ（上辺部）、９…蛍光体（蛍光膜）、１０…ＰＤＰ（パネル）、１１…第１構造体（前面基板構造体）、１２…第２構造体（背面基板構造体）、１３…放電空間（基板間領域）、２０…反射率調整部材、２１…サンドブラスト用砂、２２…サンドブラスト用マスク、４０…セル（発光領域）、９０…蛍光体ペースト
【図１】
2010129402.tif 000003
【図２】
2010129402.tif 000004
【図３】
2010129402.tif 000005
【図４】
2010129402.tif 000006
【図５】
2010129402.tif 000007
【図６】
2010129402.tif 000008
【図７（ａ）（ｂ）】
2010129402.tif 000009
【図７（ｃ）（ｄ）】
2010129402.tif 000010
【図８（ａ）（ｂ）】
2010129402.tif 000011
【図８（ｃ）（ｄ）】
2010129402.tif 000012
【図９】
2010129402.tif 000013
【図１０】
2010129402.tif 000014
【図１１】
2010129402.tif 000015
【図１２】
2010129402.tif 000016
【図１３】
2010129402.tif 000017