(57)【要約】【課題】近赤外線吸収フィルム及び色味補正用フィルムを不用とし、かつ光劣化を生じさせないように改良された電磁波シ−ルド材を提供することにある。【解決手段】基材層８の一方に面に、格子状に形成された電磁波シ−ルドメッシュ層９が設けられている。電磁波シ−ルドメッシュ層９の上に、プラズマディスプレイパネルの表示部の前面に接着するための粘着剤層１１が設けられている。上記粘着剤層１１は近赤外カット色素とネオンカット色素と紫外線吸収剤とを含む。【選択図】図１
2010098073.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラズマディスプレイの前面に取り付けられる電磁波シ−ルド材であって、
基材層と、
前記基材層の一方の面側に設けられた、格子状に形成された電磁波シ−ルドメッシュ層と、
前記基材層の一方の面側又は他方の面側に設けられた粘着剤層とを備え、
前記粘着剤層に、近赤外カット色素とネオンカット色素を加え、さらに紫外線吸収剤をも含ませたことを特徴とする電磁波シ−ルド材。
【請求項２】
前記粘着性樹脂は、アクリル系粘着剤を含む、請求項１に記載の電磁波シ−ルド材。
【請求項３】
前記アクリル系粘着剤１００重量部（固形分）に対して、２５℃における酢酸エチル１ｇに対する溶解度が０．６ｍｇ以上であるジイモニウム系色素を１〜１０重量部及びネオンカット色素０．０１〜１重量部、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤１〜１０重量部含む請求項２に記載の電磁波シ−ルド材。
【請求項４】
前記アクリル系粘着剤１００重量部（固形分）に対して、さらにイソシアネ−ト系硬化剤、エポキシ系硬化剤及び金属キレ−ト硬化剤からなる群より選ばれる少なくとも１種の硬化剤を０．００１〜１０重量部含む請求項３に記載の電磁波シ−ルド材。
【請求項５】
前記アクリル系粘着剤１００重量部（固形分）に対して、前記ジイモニウム系色素及びフタロシアニン系色素を合わせて１〜１０重量部含む、請求項４に記載の電磁波シ−ルド材。
【請求項６】
前記ネオンカット色素が、シアニン系色素、スクアリリウム系色素、ポルフィリン系色素又はインド−ル系化合物色素である請求項４に記載の電磁波シ−ルド材。
【請求項７】
前記ベンゾフェノン系紫外線吸収剤が、テトラヒドロキシベンゾフェノンを含む請求項４に記載の電磁波シ−ルド材。
【請求項８】
前記基材層の他方の面側に反射防止層が設けられる、請求項１に記載の電磁波シ−ルド材。
【請求項９】
前記電磁波シ−ルドメッシュ層は、銀ペ−ストを用いてスクリ−ン印刷により格子状に形成されている請求項１に記載の電磁波シ−ルド材。
【請求項１０】
前記電磁波シ−ルドメッシュ層は、銅箔をエッチングすることにより格子状に形成されている請求項１に記載の電磁波シ−ルド材。
【請求項１１】
前記粘着剤層は、前記電磁波シ−ルドメッシュ層に接触し、かつこれを被覆するように設けられている請求項１に記載の電磁波シ−ルド材。
【請求項１２】
請求項１−１１のいずれか１項に記載の電磁波シ−ルド材が装着されてなるプラズマディスプレイパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は一般に電磁波シ−ルド材に関するものであり、より特定的には、近赤外線吸収機能を有し、かつ高精度で色味補正が可能であり、さらに劣化を抑制することができるように改良された電磁波シ−ルド材に関する。この発明はそのような電磁波シ−ルド材を装着してなるプラズマディスプレイパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
図４は、種々の機能フィルムが設けられた従来のプラズマディスプレイパネルの分解斜視図である。プラズマディスプレイパネル１の表示部２の前面側に、電磁波シ−ルド（ＥＭＩ）フィルム３と、近赤外線吸収（ＮＩＲ）フィルム４と、色味補正用フィルム５と、反射防止（ＡＲ）フィルム６とが順番に設けられている。近赤外線吸収フィルム４はプラズマディスプレイパネル１から放射される近赤外線を遮断するために設けられており、近赤外線で働くリモコンの誤動作を防止する。色味補正用フィルム５は、例えば青みなどを付与して色合い・明暗のバランスを整えるために設けられている。これらの機能フィルムは、プラズマディスプレイパネルの製造現場では接着剤或は粘着剤で貼り付けられる。
【０００３】
しかし、ディスプレイパネルの組立て現場で、これらのフィルム３，４，５，６（これらを総称して機能フィルムという）をそれぞれ取り揃え、貼り付けるのは部品点数が多くなり、また位置合わせなどの作業が煩雑であった。
【０００４】
そこで、出願人は、図５に示すような近赤外線吸収フィルム及び色味補正用フィルムを不用とする、近赤外（ＮＩＲ）カット色素とネオンカット色素（色味補正用色素）を含む近赤外線吸収性粘着剤組成物を用いた電磁波シ−ルド材を提案している（特許文献１参照）。
【０００５】
図５（Ａ）は、特許文献１に係る電磁波シ−ルド材の平面図であり、図５（Ｂ）は、図５（Ａ）におけるＢ−Ｂ線に沿う断面図である。
【０００６】
これらの図を参照して、電磁波シ−ルド材７は透明性樹脂基材（ＰＥＴ）８を備える。透明性樹脂基材８の一方の面に、図示しないインク受容層を介在させて、電磁波を遮断する電磁波シ−ルドメッシュ層９が設けられている。透明性樹脂基材８の他方の面に反射防止層１０が設けられている。電磁波シ−ルドメッシュ層９を覆うように、近赤外カット色素とネオンカット色素を含む近赤外線吸収性粘着剤組成物よりなる粘着剤層１１が、透明性樹脂基材８の一方の面側に設けられている。
【０００７】
電磁波シ−ルドメッシュ層９は、導電性粉末とバインダ−とからなる、例えば銀ペ−ストを用いてスクリ−ン印刷により、格子状に形成される。粘着剤層１１側をプラズマディスプレイパネルの表示部の前面側に貼り付けて、パネルを完成させる。
【特許文献１】特願２００８−１０２８６０号
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
特許文献１によれば、近赤外線吸収フィルム及び色味補正用フィルムを不用とするので、部品点数が減り、組立て作業が簡略化されるという利点があった。
【０００９】
しかし、粘着剤層中に含まれる近赤外カット色素とネオンカット色素は、光を長時間照射し続けると光劣化を起こすという課題があった。
【００１０】
この発明は上記の課題を解決するためになされたもので、近赤外線吸収フィルム及び色味補正用フィルムを不用とし、かつ光劣化を生じさせないように改良された電磁波シ−ルド材を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明は、プラズマディスプレイの前面に取り付けられる電磁波シ−ルド材に係り、基材層と、上記基材層の一方に面側に設けられ、格子状に形成された電磁波シ−ルドメッシュ層とを備える。上記基材層の一方の面側又は他方の面側に粘着剤層が設けられている。上記粘着剤層に、近赤外カット色素とネオンカット色素を加え、さらに紫外線吸収剤をも含ませたことを特徴とする。
【００１２】
本発明によれば、粘着剤層中に、近赤外カット色素とネオンカット色素を含ませることに加えて、紫外線吸収剤をも含ませているので、近赤外カット色素とネオンカット色素の光劣化を抑制することができる。
【００１３】
さて、粘着剤層中に、近赤外カット色素とネオンカット色素を固溶させた場合、固溶量が限界に近く、該粘着剤層中に固溶できる紫外線吸収剤の量は限られてくる。一方、紫外線吸収剤の量をさらに増加させると、ヘイズが高くなり、固溶させた色素の析出が見られ、近赤外カット効果が高温、湿熱環境下に放置した場合、低下し、色素の劣化が見られる。しかし、発明者らは、鋭意検討の結果、紫外線吸収剤と電磁波シ−ルドメッシュ層を組み合わせることにより、紫外線吸収剤の添加量を少なくすることができることを見出し、本発明に到達した。このような現象が起こる理由の詳細は未だ明確ではないが、紫外線吸収剤と電磁波シ−ルドメッシュ層とを組み合わせることによって、それらの間で何らかの相互作用による相乗作用が生じ、少量の紫外線吸収剤であっても、充分な耐紫外線効果を発揮したものと考えている。その結果、紫外線吸収剤の添加量が減らせるので、ヘイズは高くならず、固溶させた色素の析出が見られず、また、高温、湿熱環境下に放置した場合、色素の劣化も見られない。
【００１４】
上記粘着性樹脂は、アクリルポリマ−を含むアクリル系粘着剤であるのが好ましい。アルキル基の炭素数が４〜８のアクリル酸アルキルエステルを使用すると、得られる粘着剤の粘着力、柔軟性が良好になる、とくにアクリル酸ブチル、アクリル酸２−エチルヘキシルが好ましい。カルボキシル基含有モノマ−、ヒドロキシル基含有モノマ−を共重合すると、イソシアネ−ト系架橋剤などを用いて架橋することができる。
【００１５】
上記アクリル系粘着剤１００重量部に対して、２５℃における酢酸エチル１ｇに対する溶解度が０．６ｍｇ以上であるジイモニウム系色素を１〜１０重量部及びネオンカット色素０．０１〜１重量部、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤を１〜１０重量部含むのが好ましい。
【００１６】
上記アクリル系粘着剤１００重量部に対して、さらにイソシアネ−ト系硬化剤、エポキシ系硬化剤及び金属キレ−ト硬化剤からなる群より選ばれる少なくとも１種の硬化剤を０．００１〜１０重量部含むのが好ましい。
【００１７】
上記アクリル系粘着剤１００重量部に対して、上記ジイモニウム系色素及びフタロシアニン系色素を合わせて１〜１０重量部含むのが好ましい。
【００１８】
上記ネオンカット色素が、シアニン系色素、スクアリリウム系色素、ポルフィリン系色素又はインド−ル系化合物色素であるのが好ましい。
【００１９】
上記ベンゾフェノン系紫外線吸収剤が、テトラヒドロキシベンゾフェノンを含むのが好ましい。
【００２０】
上記基材層の他方の面側に反射防止層が設けられるのが好ましい。
【００２１】
上記電磁波シ−ルドメッシュ層は、銀ペ−ストを用いてスクリ−ン印刷により格子状に形成されているのが好ましい。
【００２２】
上記電磁波シ−ルドメッシュ層は、銅箔をエッチングすることにより格子状に形成されていてもよい。
【００２３】
上記粘着剤層は、上記電磁波シ−ルドメッシュ層に接触し、かつこれを被覆するように設けられているのが好ましい。
【発明の効果】
【００２４】
本発明に係る電磁波シ−ルド材によれば、近赤外線吸収フィルム及び色味補正用フィルムを別途用意する必要がなくなり、ひいては部品点数が減る。また、粘着剤層中に、近赤外カット色素とネオンカット色素を含ませることに加えて、紫外線吸収剤をも含ませているので、近赤外カット色素とネオンカット色素の光劣化を抑制することができる。そして、上記紫外線吸収剤と電磁波シ−ルドメッシュ層の相乗作用効果により、紫外線吸収剤の添加量を少なくすることができ、ヘイズは高くならず、析出も生じない。また、紫外線吸収剤による近赤外カット色素の劣化も抑制できる。なお、紫外線吸収剤を多量に添加すると近赤外カット色素が劣化して、色味変化や近赤外領域の透過率が上昇するが、本発明によれば、紫外線吸収剤の添加量を減らせるので、これが防止される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
近赤外線吸収フィルム及び色味補正用フィルムを不用とし、かつ光劣化を生じさせないように改良された電磁波シ−ルド材を得るという目的を、粘着剤層に近赤外カット色素とネオンカット色素を加えて、紫外線吸収剤を含めることによって実現した。以下、本発明を図を用いて説明する。
（実施の形態１）
【００２６】
図１は、本発明に係る電磁波シ−ルド材７の断面図である。
【００２７】
基材層（ＰＥＴフィルム）８の一方に面に、格子状に形成された電磁波シ−ルドメッシュ層９が設けられている。電磁波シ−ルドメッシュ層９は、透明性樹脂基材８の上の図示しないインキ受容層の上に、導電性ペ−ストインキをスクリ−ン印刷して形成される。導電性ペ−ストインキは、導電性粉末とバインダ−とからなる。例えば、銀ペ−ストを用いてスクリ−ン印刷により格子状に形成される。導電性ペ−ストインキを焼成すると、電磁波シ−ルドメッシュ層９が形成される。電磁波シ−ルドメッシュ層９の上に、プラズマディスプレイパネルの前面に接着するための粘着剤層１１が設けられている。上記粘着剤層１１は近赤外カット色素とネオンカット色素と紫外線吸収剤とを含む。
【００２８】
本発明に用いられる近赤外カット色素は、８００ｎｍ〜１１００ｎｍに極大吸収波長を有する色素であればよく、ジイモニウム系色素、フタロシアニン系色素が挙げられる。この両者を単独或いは２種以上を組み合わせて使用しても良い。このうち、ジイモニウム系色素が好ましく、本発明ではジイモニウム系色素を必須とする。これらの色素は溶媒等への溶解性が高い方が良い。具体的には、常圧（約０．１ＭＰａ）下、２５℃における酢酸エチル１ｇに対する溶解度が、０．６ｍｇ以上、好ましくは０．８〜３００ｍｇ、より好ましくは１〜２００ｍｇである。ここで、酢酸エチルを基準溶媒としたのは、酢酸エチルの溶解度パラメ−タ値（ＳＰ値）はアクリル系粘着剤（Ａ）のそれと近似するからである。
【００２９】
本発明では、ジイモニウム系色素の含有量は、重量平均分子量１２０万〜２００万のアクリル系粘着剤１００重量部（固形分）に対して、１〜１０重量部であり、好ましくは１．２〜８重量部であり、より好ましくは１．５〜６重量部である。
【００３０】
上記の量で使用することにより、ジイモニウム系色素が、アクリル系粘着剤によって安定化され優れたヘイズ特性や湿熱環境下での透過率の低下やヘイズの上昇を抑えることができる。
【００３１】
さらに、ジイモニウム系色素に加えてフタロシアニン系色素を併用してもよい。その場合、ジイモニウム系色素及びフタロシアニン系色素の合計量が、アクリル系粘着剤１００重量部に対して、１〜１０重量部であり、好ましくは１．２〜８重量部であり、より好ましくは１．５〜６重量部である。また、ジイモニウム系色素とフタロシアニン系色素との含有比（質量比）は、例えば１００：１〜１：１、好ましくは２０：1〜５：４である。
【００３２】
上記の所定の色素を所定量用いるのは、色素の配合量が少ない場合は、粘着剤中に色素が析出したり、劣化する場合多く、また、配合量が多いと可視域での透過率が低下するためである。
【００３３】
ジイモニウム系色素としては、一般式（Ｉ）：
【化１】
2010098073.tif 000003
で表される部分構造を有する化合物が挙げられる。具体的には、一般式（Ｉａ）：
【化２】
2010098073.tif 000004
（式中、Ｒ１〜Ｒ８は独立して水素原子、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアルケニル基、置換基を有してもよいアラルキル基、置換基を有してもよいアリ−ル基、ヒドロキシ基、置換基を有してもよいアリ−ルオキシ基、置換基を有してもよいアルコキシ基、又はアシルオキシ基を示し、Ｘ−は陰イオンを示す。）で表される化合物が挙げられる。
【００３４】
置換基を有してもよいアルキル基のアルキル基としては、例えば、炭素数１〜２０、好ましくは４〜８、より好ましくは４〜６の、直鎖、分岐、又は環状のアルキル基が挙げられる。炭素数が４以上であると有機溶剤に対する溶解性が良好であり、炭素数が８以下であると耐熱性が良好である。該アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉｓｏ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉｓｏ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、３−メチル−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｉｓｏ−ペンチル基、ｎｅｏ−ペンチル基、シクロペンチル基、１，２−ジメチルプロピル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、１，３−ジメチルブチル基、１−ｉｓｏ−プロピルプロピル基、１，２−ジメチルブチル基、ｎ−ヘプチル基、１，４−ジメチルペンチル基、２−メチル−１−ｉｓｏ−プロピルプロピル基、１−エチル−３−メチルブチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、３−メチル１−ｉｓｏ−プロピルブチル基、２−メチル−１−ｉｓｏ−プロピル基、１−ｔ−ブチル−２−メチルプロピル基、ｎ−ノニル基、３，５，５−トリメチルヘキシル基等が挙げられる。
【００３５】
該アルキル基は、水酸基、ハロゲン原子、アミノ基、アルキルアミノ基、アルコキシカルボニル基、アシル基、スルホ基、又はカルボキシル基等の置換基を有してもよい。
【００３６】
置換基を有してもよいアルケニル基のアルケニル基としては、例えば、炭素数２〜２０、好ましくは４〜８、より好ましくは４〜６の、直鎖、分岐、又は環状のアルケニル基が挙げられる。該アルケニル基としては、例えば、ビニル基、プロペニル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基、又はオクテニル基等が挙げられる。
【００３７】
該アルケニル基は、水酸基、ハロゲン原子、アミノ基、アルキルアミノ基、アルコキシカルボニル基、アシル基、スルホ基、又はカルボキシル基等の置換基を有してもよい。
【００３８】
置換基を有してもよいアラルキル基のアラルキル基としては、例えば、ベンジル基、ｐ−クロロベンジル基、ｐ−メチルベンジル基、２−フェニルエチル基、２−フェニルプロピル基、３−フェニルプロピル基、ナフチルメチル基、又は２−ナフチルエチル基等が挙げられる。
【００３９】
該アラルキル基は、芳香環に水酸基、ハロゲン原子、アミノ基、アルキルアミノ基、アルコキシカルボニル基、アシル基、スルホ基、又はカルボキシル基等の置換基を有してもよい。
【００４０】
置換基を有してもよいアリ−ル基のアリ−ル基としては、単環又は２環のアリ−ル基が挙げられ、例えばフェニル基、ナフチル基、ビフェニル基等が挙げられる。
【００４１】
該アリ−ル基は、水酸基、ハロゲン原子、アミノ基、アルキルアミノ基、アルコキシカルボニル基、アシル基、スルホ基、又はカルボキシル基等の置換基を有してもよい。
【００４２】
置換基を有してもよいアリ−ルオキシ基のアリ−ルオキシ基としては、単環又は２環のアリ−ルオキシ基が挙げられ、例えばフェニルオキシ基、ナフチルオキシ基、ビフェニルオキシ基等が挙げられる。
【００４３】
該アリ−ル基は、水酸基、ハロゲン原子、アミノ基、アルキルアミノ基、アルコキシカルボニル基、アシル基、スルホ基、又はカルボキシル基等の置換基を有してもよい。
【００４４】
置換基を有してもよいアルコキシ基のアルコキシ基としては、例えば、炭素数１〜２０、好ましくは４〜８、より好ましくは４〜６の、直鎖、分岐、又は環状のアルコキシ基が挙げられる。炭素数が４以上であると有機溶剤に対する溶解性が良好であり、炭素数が８以下であると耐熱性が良好である。該アルキル基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロピルオキシ基、ｉｓｏ−プロピルオキシ基、ｎ−ブチルオキシ基、ｉｓｏ−ブチルオキシ基、ｓｅｃ−ブチルオキシ基、ｔ−ブチルオキシ基、３−メチル−ブチルオキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、ｉｓｏ−ペンチルオキシ基、ｎｅｏ−ペンチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、１，２−ジメチルプロピルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、１，３−ジメチルブチルオキシ基、１−ｉｓｏ−プロピルプロピルオキシ基、１，２−ジメチルブチルオキシ基、ｎ−ヘプチルオキシ基、１，４−ジメチルペンチルオキシ基、２−メチル−１−ｉｓｏ−プロピルプロピルオキシ基、１−エチル−３−メチルブチルオキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、２−エチルヘキシルオキシ基、３−メチル１−ｉｓｏ−プロピルブチルオキシ基、２−メチル−１−ｉｓｏ−プロピルオキシ基、１−ｔ−ブチル−２−メチルプロピルオキシ基、ｎ−ノニルオキシ基、３，５，５−トリメチルヘキシルオキシ基等が挙げられる。
【００４５】
該アルコキシ基は、水酸基、ハロゲン原子、アミノ基、アルキルアミノ基、アルコキシカルボニル基、アシル基、スルホ基、又はカルボキシル基等の置換基を有してもよい。
【００４６】
アシルオキシ基としては、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチリルオキシ基等のＣ２〜１０アルカノイルオキシ基；ベンゾイルオキシ基、ナフトイルオキシ基等のアリ−ロイルオキシ基が挙げられる。
【００４７】
Ｘ−で示される陰イオンとしては、例えば、塩素イオン、臭素イオン、ヨウ素イオン、過塩素酸イオン、過ヨウ素酸イオン、硝酸イオン、ベンゼンスルホン酸イオン、Ｐ−トルエンスルホン酸イオン、メチル硫酸イオン、エチル硫酸イオン、プロピル硫酸イオン、テトラフルオロホウ酸イオン、テトラフェニルホウ酸イオン、ヘキサフルオリン酸イオン、ベンゼンスルフィン酸イオン、酢酸イオン、トリフルオロ酢酸イオン、プロピオン酢酸イオン、安息香酸イオン、シュウ酸イオン、コハク酸イオン、マロン酸イオン、オレイン酸イオン、ステアリン酸イオン、クエン酸イオン、一水素二リン酸イオン、二水素一リン酸イオン、ペンタクロロスズ酸イオン、クロロスルホン酸イオン、フルオロスルホン酸イオン、トリフルオロメタンスルホン酸イオン、ヘキサフルオロヒ酸イオン、ヘキサフルオロアンチモン酸イオン、モリブデン酸イオン、タングステン酸イオン、チタン酸イオン、ジルコン酸イオン、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド酸イオン、ナフチルスルホン酸イオン等が挙げられる。
【００４８】
これらの陰イオンのうち、過塩素酸イオン、ヨウ素イオン、テトラフルオロホウ酸イオン、ヘキサフルオロリン酸イオン、ヘキサフルオロアンチモン酸イオン、トリフルオロメタンスルホン酸イオン、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド酸イオン等が好ましく、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド酸イオンが溶解性及び熱安定性に最も優れるため好ましい。
【００４９】
好ましい陰イオンと置換基との組み合わせは、陰イオンは、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド酸イオン、置換基は、アルキル基、より好ましくはｎ−ブチル基である。
ジイモニウム系色素としては、１０００ｎｍ付近のモル吸光係数εが約０．８×１０４〜１．０×１０６であることが好ましい。また、９８％以上の純度を有するジイモニウム系色素、又は１６０℃以上の融点を有するジイモニウム系色素を使用することが好ましい。
【００５０】
フタロシアニン系色素としては、一般式（ＩＩ）：
【化３】
2010098073.tif 000005
で表される部分構造を有する化合物であり、８００〜１０００ｎｍに最大吸収波長を有するものが挙げられる。例えば、特開２００１−１３３６２３号公報に記載される含フッ素フタロシアニン系色素、特許第３９４９６０３号に記載されているフタロシアニン色素等が挙げられる。具体的には、日本触媒社製、イ−エクスカラ−ＩＲ−１０、イ−エクスカラ−ＩＲ−１０Ａ、イ−エクスカラ−ＩＲ−１４、イ−エクスカラ−ＩＲ−１２、イ−エクスカラ−ＩＲ−９１０、イ−エクスカラ−ＩＲ−９０６、イ−エクスカラ−ＩＲ−ＨＡ−1、などを使用することができる。
【００５１】
フタロシアニン系色素の中心金属Ｍとしては特に制限されるものではなく、無金属（水素）、鉄、銅、亜鉛、バナジウム、チタン、インジウム及びスズ等の金属、当該金属の、塩化物、臭化物、ヨウ化物等の金属ハロゲン化合物、酸化バナジウム、酸化チタニル及酸化銅等の金属酸化物、酢酸塩等の有機酸金属、ならびにアセチルアセトナ−ト等の錯体化合物及びカルボニル鉄等の金属カルボニル等が挙げられる。これらのうち、好ましくは金属、金属酸化物及び金属ハロゲン化物である。さらに好ましくは酸化バナジウムである。
【００５２】
上記フタロシアニン系色素としては、Ｐｃをフタロシアニン核、Ｐｈをフェニル基とした場合に、フタロシアニン［ＣｕＰｃ（２，５−Ｃ１２ＰｈＯ）８｛２，６−（ＣＨ３）２ＰｈＯ｝４（ＰｈＣＨ２ＮＨ）４］（λｍａｘ８０７ｎｍ）、Ｐｃ（２，５−Ｃｌ２ＰｈＯ）８（２，６−Ｂｒ２−４−ＣＨ３ＰｈＯ）４｛Ｐｈ（ＣＨ３）ＣＨＮＨ｝３Ｆ（λｍａｘ８３５ｎｍ）、ＶＯＰｃ（２，５−Ｃｌ２ＰｈＯ）８（２，６−Ｂｒ２−４−ＣＨ３ＰｈＯ）４｛ＰｈＣＨ２ＮＨ｝３Ｆ（λｍａｘ８４０ｎｍ）、ＶＯＰｃ（２，５−Ｃｌ２ＰｈＯ）８（２，６−（ＣＨ３）２ＰｈＯ）４｛Ｐｈ（ＣＨ３）ＣＨＮＨ｝３Ｆ（λｍａｘ８３４ｎｍ）、ＶＯＰｃ（２，６−Ｃｌ２ＰｈＯ）８（２，６−（ＣＨ３）２ＰｈＯ）４｛Ｐｈ（ＣＨ３）ＣＨＮＨ｝３Ｆ（λｍａｘ８３５ｎｍ）、ＶＯＰｃ（４−ＣＮＰｈＯ）８（２，６−Ｂｒ２−４−ＣＨ３ＰｈＯ）４｛Ｐｈ（ＣＨ３）ＣＨＮＨ｝３Ｆ（λｍａｘ８３６ｎｍ）、ＶＯＰｃ（４−ＣＮＰｈＯ）８（２，６−（ＣＨ３）２ＰｈＯ）４｛Ｐｈ（ＣＨ３）ＣＨＮＨ｝３Ｆ（λｍａｘ８３４ｎｍ）等がある。また、８５０〜１０００ｎｍに最大吸収波長を有するものには、［ＶＯＰｃ（２，５−Ｃｌ２ＰｈＯ）８｛２，６−（ＣＨ３）２ＰｈＯ｝４（ＰｈＣＨ２ＮＨ）４］（λｍａｘ８７０ｎｍ）、［ＶＯＰｃ（ＰｈＳ）８｛２，６−（ＣＨ３）２ＰｈＯ｝４（ＰｈＣＨ２ＮＨ）４］（λｍａｘ９１２ｎｍ）、ＶＯＰｃ（２，５−Ｃｌ２ＰｈＯ）４（２，６−（ＣＨ３）２ＰｈＯ）４｛（Ｃ２Ｈ５）２ＮＣＨ２ＣＨ２ＮＨ｝４（λｍａｘ８９３ｎｍ）等がある。
【００５３】
本発明に使用されるネオンカット色素について説明する。プラズマディスプレイは、６００ｎｍ付近を中心とするいわゆるネオンオレンジ光を発光し、赤色にオレンジ色が混ざり鮮やかな赤色が得られない欠点がある。ネオンカット色素を含有させることにより、上記の問題が解決できる。
【００５４】
ネオンカット色素とは、５５０ｎｍ以上６２０ｎｍ以下の波長域に最大吸収を有する色素であり、具体的には、シアニン系、スクアリリウム系、インド−ル化合物系、アゾメチン系、キサンテン系、オキソノ−ル系、アゾ系、フタロシアニン系、キノン系、アズレニウム系、ピリリウム系、クロコニウム系、ジチオ−ル金属錯体系、ピロメテン系、ポルフィリン系等が挙げられる。これらの色素は、単独または２種以上を混合して使用することができるが、本発明においては、シアニン系色素、スクアリリウム系色素、ポリフィリン系（テトラアゾポリフィリン化合物）、インド−ル化合物系色素を用いることが好適である。
【００５５】
具体例としては、山田化学工業株式会社、ＴＡＰ−２（テトラアゾポリフィリン化合物）、ＡＤＥＫＡ株式会社、アデカア−クルズ  ＴＹ−１００（シアニン系）、アデカア−クルズ  ＴＹ−１０２（シアニン系）、アデカア−クルズ  ＴＹ−１７１（シアニン系）が挙げられ、山田化学工業株式会社、ＴＡＰ−２（テトラアゾポリフィリン化合物）、が好ましい。また、エオシンＹ（６００ｎｍ）、フロキシンＢ（５４０ｎｍ）［赤色１０４号］、ロ−ズベンガル（５５０ｎｍ）［赤色１０５号］色素でも良い。
【００５６】
ネオンカット色素の含有量は、得られた波長選択吸収フィルタが５５０ｎｍ以上６２０ｎｍ以下の波長領域にシャ−プな吸収を有し、且つ、最大の吸収波長での透過率が４０％以下になるように調整するのが好ましい。前記アクリル系粘着剤（Ａ）１００重量部に対して、０．００１重量部以上であり、好ましくは０．００５〜１重量部であり、より好ましくは０．０１〜１重量部である。
【００５７】
本発明の粘着剤層には、さらに硬化剤を含んでいてもよい。硬化剤としては、例えば、イソシアネ−ト系硬化剤、エポキシ系硬化剤、金属キレ−ト硬化剤等が挙げられる。中でも、イソシアネ−ト系硬化剤が好ましい。硬化剤の含有量は、前記アクリル系粘着剤１００重量部に対して、０．００１〜１０重量部であり、好ましくは０．０１〜５重量部である。特に、イソシアネ−ト系硬化剤と金属キレ−ト硬化剤を併用する場合、イソシアネ−ト系硬化剤と金属キレ−ト硬化剤との含有比（質量比）は、１００：１〜１：１程度、好ましくは５０：１〜２：１程度であればよい。
【００５８】
イソシアネ−ト系硬化剤としては、例えば、トリレンジイソシアネ−ト、キシリレンジイソシアネ−ト、水添キシリレンジイソシアネ−ト、クロルフェニレンジイソシアネ−ト、ヘキサメチレンジイソシアネ−ト、テトラメチレンジイソシアネ−ト、イソホロンジイソシアネ−ト、ジフェニルメタンジイソシアネ−ト、水添されたジフェニルメタンジイソシアネ−ト、テトラメチルキシリレンジイソシアネ−ト、ナフタレンジイソシアネ−ト、トリフェニルメタントリイソシアネ−ト、ポリメチレンポリフェニルイソシアネ−トなどの分子中に２個以上のイソシアネ−ト基を有するポリイソシアネ−ト化合物；それらをトリメチロ−ルプロパン、ペンタエリスリト−ル等の多価アルコ−ルと付加反応させた化合物；これらポリイソシアネ−ト化合物のビュレット型化合物やイソシアヌレ−ト化合物；これらポリイソシアネ−ト化合物と公知のポリエ−テルポリオ−ルやポリエステルポリオ−ル、アクリルポリオ−ル、ポリブタジエンポリオ−ル、ポリイソプレンポリオ−ル等と付加反応させたウレタンプレポリマ−型の分子内に２個以上のイソシアネ−ト基を有する化合物等が挙げられる。
【００５９】
中でも、トリレンジイソシアネ−ト、キシリレンジイソシアネ−ト、ヘキサメチレンジイソシアネ−ト、テトラメチレンジイソシアネ−トとトリメチロ−ルプロパンとを付加反応させた化合物が、反応性が良好であることから好適に使用される。
【００６０】
このようなイソシアネ−ト系硬化剤はアクリル系粘着剤１００重量部に対して０．１〜１０重量部、好ましくは０．１〜５重量部使用される。
【００６１】
アクリル系粘着剤が、カルボキシル基を有する場合は、硬化剤としてエポキシ系化合物も利用できる。エポキシ系化合物としては、例えば、ビスフェノ−ルＡエピクロルヒドリン型のエポキシ系樹脂、エチレングリシジルエ−テル、ポリエチレングリコ−ルジグリシジルエ−テル、グリセリンジグリシジルエ−テル、グリセリントリグリシジルエ−テル、１，６−ヘキサンジオ−ルグリシジルエ−テル、トリメチロ−ルプロパントリグリシジルエ−テル、ジグリシジルアニリン、ジアミングリシジルアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ'，Ｎ'−テトラグリシジル−ｍ−キシリレンジアミン、１，３−ビス（Ｎ，Ｎ'−ジアミングリシジルアミノメチル）シクロヘキサン等の分子中に２個以上のエポキシ基を有する化合物が挙げられる。
【００６２】
中でも、Ｎ，Ｎ，Ｎ'，Ｎ'−テトラグリシジル−ｍ−キシリレンジアミンが、カルボキシル基との反応性に優れるため好適に使用される。
【００６３】
このようなエポキシ系硬化剤はアクリル系粘着剤１００重量部（固形分）に対して０．００１〜２重量部、好ましくは０．０１〜０．５重量部使用される。
【００６４】
金属キレ−ト硬化剤としては、例えば、アルミニウム、鉄、銅、亜鉛、スズ、チタン、ニッケル、アンチモン、マグネシウム、バナジウム、クロム、ジルコニウム等の多価金属にアセチルアセトン、アセト酢酸エチル等が配位した化合物等が挙げられる。
【００６５】
中でも、アルミニウムにアセチルアセトン、アセト酢酸エチルが配意した化合物がジイモニウム系色素の劣化を抑制する作用があることから好適に使用される。
【００６６】
このような金属キレ−ト硬化剤はアクリル系粘着剤（固形分）１００重量部に対して０．０１〜１重量部、好ましくは０．０５〜０．５重量部使用される。
【００６７】
粘着剤と硬化剤の反応を制御するため、有機金属系、アミン系、またはそれらの混合物が触媒として用いられる。触媒の代表的な例として、有機金属系ではジラウリル酸ジブチル錫、オクチル酸第一錫等が、またアミン系ではトリエチルアミン、トリエチレンジアミン等の３級アミンやアミン塩が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００６８】
上記粘着剤層には、さらに、本発明の効果を損なわない範囲で、最大吸収波長が３００〜８００ｎｍの範囲にある色調補正色素、レベリング剤、帯電防止剤、熱安定剤、酸化防止剤、分散剤、難燃剤、滑剤、可塑剤を含有していてもよい。
【００６９】
上記のアクリル系粘着剤、ジイモニウム系化合物を含む近赤外カット色素、ネオンカット色素、紫外線吸収剤、必要に応じ硬化剤は、公知の方法により混合分散して近赤外線吸収性粘着剤組成物を得る。混合分散方法については特に限定しないが、ディゾルバ−、ハイスピ−ドミキサ−、ホモミキサ−、サンドミル、アトライタ−、ホモジナイザ−、ボ−ルミル等の分散機を使用することが好ましい。
【００７０】
本発明の電磁波シ−ルド材は、例えば近赤外線吸収性粘着剤組成物を有機溶剤に溶解または分散せしめた液（以下、塗工液という。）を、剥離性の基材、または支持フィルム上に塗工し、乾燥させることにより形成できる。
【００７１】
前記有機溶剤としては、トルエン、キシレン等の芳香族系、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド系、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセトン等のケトン系、メタノ−ル、エタノ−ル、ｉ−プロピルアルコ−ル等のアルコ−ル系、ヘキサン等の炭化水素系、テトラヒドロフラン等が挙げられる。
【００７２】
上記の近赤外線吸収性粘着剤組成物を基材上に塗工する方法としては、ドクタ−ブレ−ド、バ−コ−タ−、グラビア−コ−タ−、コンマコ−タ−、リバ−スコ−タ−、スプレ−法等の公知の塗工方法が挙げられる。
【００７３】
基材としては、フィルム状又はシ−ト状のプラスチックフィルムやガラス板が挙げられる。透明性、コスト、取り扱いやすさという点で、プラスチックフィルムが好ましい。具体的には、ポリエステル系、アクリル系、トリアセチルセルロ−ス系、ポリエチレン系、ポリプロピレン系、ポリオレフィン系、ポリシクロオレフィン系が挙げられるが、ポリエステルフィルムが好ましい。
【００７４】
塗工液を、離型性を付与した基材上に塗布する。粘着層の厚みについては特に限定しないが、５μｍ〜５０μｍ、好ましくは１０μｍ〜４０μｍ、より好ましくは２０μｍ〜３０μｍが良い。それらを更に、離型性付与した基材を気泡の発生しない状態で貼り合わせる。
【００７５】
このように、剥離性の基材または支持フィルム上に、本発明における近赤外線吸収層を設けた後、該近赤外線吸収層上に、さらに、離型フィルムを貼付しておくことが、作業性の点で好ましい。離型フィルムとしては、上述した剥離性の基材と同様のものが使用できる。
【００７６】
紫外線吸収剤は、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤である。粘着剤との相溶性の良いものがよく、具体例としては、シプロ化成株式会社製ＳＥＥＳＯＲＢ１００、ＳＥＥＳＯＲＢ１０６、ＳＥＥＳＯＲＢ１０７等が挙げられる。上記紫外線吸収剤と電磁波シ−ルドメッシュ層との相乗作用により、上記色素の光劣化を抑制している。基材層（ＰＥＴフィルム）８の他方の面に、反射防止層１０が設けられている。粘着剤層１１の上に、図示しない保護膜を形成すると電磁波シ−ルド材７という製品が完成する。
【００７７】
電磁波シ−ルドメッシュ層は、プラズマディスプレイから出る電磁波を遮断するものであれば特に限定はなく、それらの作製方法も特に制限を受けない。例えば、電磁波シ−ルド材を、透明な導電フィルムで形成する場合、透明性樹脂基材（プラスチックフィルム）に金属、金属酸化物、金属塩等の薄膜を蒸着したものが用いられる。導電フィルムの面抵抗が低いほど、電磁波の吸収能は高いが、逆に蒸着層が厚くなると可視光透過率は低下する。また、スクリ−ン印刷等で導電性の塗料をメッシュ状に印刷したものや、透明性樹脂基材（プラスチックフィルム）に導電性金属を張り合わせこれをエッチング等により導電性金属をメッシュ状に形成したものも使用できる。
【００７８】
さらに、透明性樹脂基材の導電性薄膜又は導電性メッシュ状物が形成される面と反対面に、反射防止層を形成してもよい。
【００７９】
反射防止層は、表面反射を防ぎ、可視光線透過率を上げると同時にギラツキを防止するものであり、公知のものを採用することができる。その形成方法は、任意の加工方法選択することができ特に制限はない。外光を乱反射させることにより視感反射率を低減させる方法、例えばプラスチックフィルムの片面に二酸化ケイ素、アクリル、メラミン等の微粒子を塗料化してコ−ティングすることにより光の乱反射が生じる反射防止膜を形成する方法、またはＰＥＴ等のプラスチックフィルムの片面に硬化膜を形成し、その上にフッ化マグネシウム層を蒸着法により反射防止層を形成する方法、もしくはプラスチックフィルムの片面または両面に薄膜の屈折率層を形成し薄膜の表面反射光と界面における屈折反射光との光の干渉により反射率を低減する方法等が一般的である。
【００８０】
本発明の電磁波シ−ルド材は、酸化物セラミックス、非酸化物セラミックス及び金属からなる群から選ばれる少なくとも１種を主成分として含有する透明多孔質層を備えた透明性樹脂基材の該透明多孔質層面に、粒子状酸化銀、三級脂肪酸銀及び溶媒を含む導電性ペ−ストを幾何学パタ−ンにスクリ−ン印刷し、さらに印刷後の基材を加熱処理（焼成）して該透明多孔質層面に幾何学パタ−ンの導電部を形成して製造される。
【００８１】
図２は、電磁波シ−ルド材７をプラズマディスプレイパネルに取り付けた場合の斜視図である。粘着剤層１１の側をプラズマディスプレイパネル１の表示部２に貼り付けて、電磁波シ−ルド材７を取り付ける。プラズマディスプレイパネル１から出た有害な電磁波は、電磁波シ−ルドメッシュ層９に捕らえられ、図示しない接続用パッド、導電性ガスケット、ア−スを通って、大地に逃がされる。
【００８２】
粘着剤層１１に、近赤外カット色素とネオンカット色素を含めているので、近赤外線吸収フィルム及び色味補正用フィルムを別途用意する必要がなくなり、部品点数が少なくなる。本実施例の特徴として、粘着剤層１１に、近赤外カット色素とネオンカット色素を含ませることに加えて、紫外線吸収剤をも含ませているので、近赤外カット色素とネオンカット色素の光劣化を抑制することができる。また、上記紫外線吸収剤と電磁波シ−ルドメッシュ層を組み合わせることにより、紫外線吸収剤の添加量を少なくすることができることがわかった。紫外線吸収剤の添加量を少なくすることにより、ヘイズは高くならず、析出も生じない。
【００８３】
（実施例と比較例）
【００８４】
アクリル系粘着剤ＰＸ４−ＩＲ−ＰＴ−０７６（日本触媒製  固形分濃度３７．５％）
１００重量部に対して、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド酸のジインモニウム塩（日本カ−リット製１０８５Ｆ、２５℃における酢酸エチル１ｇに対する溶解度が３０ｍｇ）０．８５重量部、テトラアゾポリフィリン化合物（山田化学工業製ＴＡＰ−２）を0.０７５重量部、イソシアネ−ト系硬化剤（日本ポリウレタン工業製Ｌ−５５Ｅ）０．１９重量部、硬化促進剤（東京化成工業製ジラウリン酸ジブチルすず）０．０１９重量部を添加して粘着剤組成物を調製した。それにメチルエチルケトン（ＭＥＫ）を添加して、ホモジナイザ−に投入して１００００ｒｐｍ、１０分間攪拌をし、固形分濃度１０％の粘着組成物Ａを得た。
【００８５】
粘着組成物Ａの固形分濃度に対して、紫外線吸収剤（シプロ化成製ＳＥＥＳＯＲＢ１０６）を０％、０．５％、１％、２％、３％、５％、１０％、１５％を添加し、溶解させ、８種類の粘着組成物Ｂを得た。
【００８６】
調製した粘着剤組成物Ｂを剥離性基材Ｓ−７１（帝人株式会社製）上に、乾燥後の厚みが20μｍになるようにバ−コ−タ−を用いて塗布し、９０℃の乾燥機で２分間乾燥した。乾燥後、粘着剤層側に剥離性基材Ａ−３１（帝人株式会社製）を貼り合わせ、２３℃で７日間熟成させ、近赤外線吸収性粘着シ−ト（トランスファ−シ−ト）を得た。
【００８７】
電磁波シ−ルド材と、近赤外線吸収性粘着シ−トとをラミネ−ト機により貼り合わせさらにガラスに張り合わせた。具体的には、近赤外線吸収性粘着シ−トの剥離性基材Ａ−３１（帝人株式会社製）を剥離して、電磁波シ−ルド材の電磁波シ−ルドメッシュが形成されている面と貼り合わせ、近赤外線吸収性粘着シ−トの剥離性基材Ｓ−７１（帝人株式会社製）を剥離して、アルカリガラス（厚み２８ｍｍ）と貼り合わせた。
【００８８】
表１に、実施例として、メッシュ層／近赤外カット色素+ネオンカット色素+粘着剤/ガラスの場合の粘着剤の固形分に対する紫外線吸収剤の添加量（％）（重量％）と、紫外線照射前後での色味差ΔＥａｂとの関係を示す。比較例としてのＰＥＴ／近赤外カット色素+ネオンカット色素+粘着剤/ガラス（メッシュなし）の場合の粘着剤の固形分に対する紫外線吸収剤の添加量（％）（重量％）と、紫外線照射前後での色味差ΔＥａｂとの関係も併記する。初期での色素の析出の有無、耐久性評価前後での色味差ΔＥａ、及び８５０ｎｍと９５０ｎｍの透過率も併記する。
【表１】
2010098073.tif 000006
【００８９】
ここで紫外線吸収剤の添加量は粘着剤の固形分濃度に対するものである。ここで紫外線照射条件は、紫外線オ−トフェ−ドメ−タ−Ｕ４８ＡＵ（スガ試験機株式会社製）を用いて試験条件６３℃４３％×２４ｈ、照射強度設定５５０Ｗ／ｍ2とした。この条件は比較例においても同じであった。
【００９０】
ΔＥａｂが１．５以下のものが合格である。表１及び表２から明らかなように、メッシュありの場合には、紫外線吸収剤の添加量が１％あると合格基準に達するが、メッシュがない場合には、５％まで添加しないと合格基準に達しなかった。これにより、上記紫外線吸収剤と電磁波シ−ルドメッシュ層を組み合わせることにより、紫外線吸収剤の添加量を少なくできることがわかった。ΔＥａｂが１．５以下のものでは、近赤外域でのスペクトルの透過率変化は５％以下であった。
【００９１】
「８５０ｎｍ及び９５０ｎｍの透過率」は、分光光度計（日本分光  Ｖ６７０）を用いて、３００ｎｍ〜１６００ｎｍの透過率を測定し８５０ｎｍ及び９５０ｎｍの各透過率を測定した。各環境下での透過率が１０％以下を合格基準とした。
【００９２】
紫外線吸収剤の添加量を増やしていくと、環境試験（６０℃９０％１０００ｈ）において、透過率の上昇が見られた。これは紫外線吸収剤を多量に添加することにより、水分を吸湿し、色素への劣化をもたらしたものと推定する。
（実施の形態２）
【００９３】
図３は、実施の形態２に係る電磁波シ−ルド材を取り付けたプラズマディスプレイパネルの概念図である。図３を参照して、プラズマディスプレイパネル１の表示部の前面側に、フィルタ１３が配置されている。
【００９４】
フィルタ１３は、ガラス基材層１４と、反射防止フィルム１５と、メッシュフィルム１６を含む。反射防止フィルム１５は、ＰＥＴフィルムに反射防止膜１５ａがコ−ティングされてなる。メッシュフィルム１６は、ＰＥＴフィルムに導電性メッシュ１６ａが形成されてなる。ガラス基材層１４と反射防止フィルム１５とメッシュフィルム１６は、それぞれ粘着剤層１８ａ、１８ｂで貼り合わされる。導電性メッシュ１６ａは、例えば銀ペーストを用いてスクリ−ン印刷により、格子状に形成される。導電性ガスケット1９に接続される、格子と一体的に形成された接続用パッド1６ｂもスクリ−ン印刷により、導電性メッシュ１６ａと同時に形成される。
【００９５】
フィルタ１３は、導電性ガスケット１９と接続用パッド１６ｂが接触するように、プラズマディスプレイパネル１の前面に押圧して、粘着剤層１８ａ固定される。本実施例の特徴は、粘着剤層１８ｃ中に、近赤外カット色素とネオンカット色素を含ませることに加えて、紫外線吸収剤をも含ませていることである。これにより、近赤外カット色素とネオンカット色素の光劣化を抑制することができる。そして、紫外線吸収剤と導電性メッシュ１６ａの相乗作用が生じるので、紫外線吸収剤の添加量を少なくすることができ、ヘイズは高くならず、析出も生じない。紫外線吸収剤の添加量（％）は、実施の形態１の場合と同様であった。
【００９６】
プラズマディスプレイパネル１から出た、有害な電磁波は、導電性メッシュ１６ａに捕らえられ、接続用パッド１６ｂ、導電性ガスケット１９、ア−スを通って、大地に逃がされる。
【００９７】
なお、上記実施の形態では、電磁波シ−ルドメッシュ層を、銀ペ−ストを用いてスクリ−ン印刷により形成した場合を例示したが、この発明はこれに限られるものでなく、銅箔を格子状にエッチングして形成する場合にも適用できる。
【００９８】
なお、紫外線吸収剤を粘着剤層１８ｃ中に添加せず、電磁波シ−ルドメッシュ１６ａと接触しない粘着剤層１８ａ、１８ｂに添加して、１５a側から光を照射し、光劣化試験を試みた結果、電磁波シ−ルドメッシュ１６ａと接触しない粘着剤層１８ａ、１８ｂでは、紫外線吸収剤の添加量を少なくする効果は弱かった。
【００９９】
また、上記実施の形態では、粘着剤層が、電磁波シ−ルドメッシュ層に接触し、かつこれを被覆するように設けられている場合を例示したが、メッシュ層を被覆せず、基材の電磁波シ−ルドメッシュ層が形成される側と反対の側に設けられている場合であっても、相当の効果を奏する。
今回開示された実施例はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
【産業上の利用可能性】
【０１００】
本発明によれば、紫外線吸収剤と電磁波シ−ルドメッシュ層の相乗作用効果により、紫外線吸収剤の添加量を少なくすることができる。
【図面の簡単な説明】
【０１０１】
【図１】本発明の実施の形態１に係る電磁波シ−ルド材の断面図である。
【図２】電磁波シ−ルド材をプラズマディスプレイパネルに取り付けた場合の斜視図である。
【図３】実施の形態２に係る電磁波シ−ルド材を取り付けたプラズマディスプレイパネルの概念図である。
【図４】種々の機能フィルムが設けられた従来のプラズマディスプレイパネルの分解斜視図である。
【図５】（Ａ）  先行技術に係る電磁波シ−ルド材の平面図である。  （Ｂ）  図５（Ａ）におけるＢ−Ｂ線に沿う断面図である。
【符号の説明】
【０１０２】
１      プラズマディスプレイパネル
２      表示部
３      電磁波シ−ルドフィルム
４      近赤外線吸収フィルム
５      色味補正用フィルム
６      反射防止フィルム
７      電磁波シ−ルド材
８      透明性樹脂基材
９      電磁波シ−ルドメッシュ層
１０    反射防止層
１１    粘着剤層
１３    フィルタ
１４    ガラス基材層
１５    反射防止フィルム
１５ａ  反射防止膜
１６    メッシュフィルム
１６ａ  導電性メッシュ
１６ｂ  接続用パッド
１８ａ，ｂ，ｃ  粘着剤層
１９    導電性ガスケット
【図１】
2010098073.tif 000007
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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