(57)【要約】      （修正有）【課題】接着剤層中に微小気泡が混入し難く、ヘイズの上昇を抑制することができる電磁波遮蔽シート、及び当該電磁波遮蔽シートの製造方法を提供する。【解決手段】透明基材１０の一方の面に、透明接着剤層１１を介して、アルミニウムパターン層１２が設けられ、且つ、当該アルミニウムパターン層の透明基材側の面１２ａのＪＩＳ  Ｚ８７２２に準拠して測定した全光線反射率（ＲＳＣＩ）に対する拡散光線反射率（ＲＳＣＥ）の比（ＲＳＣＥ／ＲＳＣＩ）が０．４以下であることを特徴とする電磁波遮蔽シートである。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材の一方の面に、透明接着剤層を介して、アルミニウムパターン層が設けられ、且つ、当該アルミニウムパターン層の透明基材側の面のＪＩＳ  Ｚ８７２２に準拠して測定した全光線反射率（ＲＳＣＩ）に対する拡散光線反射率（ＲＳＣＥ）の比（ＲＳＣＥ／ＲＳＣＩ）が０．４以下である電磁波遮蔽シート。
【請求項２】
前記透明接着剤層が、ポリオール及びイソシアネート系化合物から成る２液硬化型ウレタン樹脂系接着剤から形成される、請求項１に記載の電磁波遮蔽シート。
【請求項３】
前記アルミニウムパターン層の少なくとも前記透明基材側とは反対側の面のアルミニウムの酸化皮膜の厚みが０〜１３Åである、請求項１又は２に記載の電磁波遮蔽シート。
【請求項４】
透明基材の一方の面に、アルミニウムパターン層を備えた電磁波遮蔽シートの製造方法であって、
（ｉ）吸着水分量が５．０ｇ／ｍ２以下、及びＪＩＳ  Ｚ８７２２に準拠して測定した全光線反射率（ＲＳＣＩ）に対する拡散光線反射率（ＲＳＣＥ）の比（ＲＳＣＥ／ＲＳＣＩ）が０．４以下の面を有するアルミニウムの薄膜を用意する工程、
（ｉｉ）透明基材の一方の面に、透明接着剤層を介して、前記アルミニウムの薄膜を、その吸着水分量が５．０ｇ／ｍ２以下、及びＲＳＣＥ／ＲＳＣＩが０．４以下の面を前記透明基材と向き合わせて積層する工程、及び
（ｉｉｉ）前記アルミニウムの薄膜を所定のパターン形状にエッチングする工程を含むことを特徴とする電磁波遮蔽シートの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＰＤＰ（プラズマディスプレイパネル）などのディスプレイから発生する電磁波を遮蔽（シールド）する電磁波遮蔽シート、及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、電気電子機器の機能高度化と増加利用に伴い、電磁気的なノイズ妨害（Ｅｌｅｃｔｒｏ  Ｍａｇｎｅｔｉｃ  Ｉｎｔｅｒｆｅｒｅｎｃｅ；ＥＭＩ）が増え、陰極線管（ＣＲＴという）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰという）などのディスプレイでも電磁波が発生する。この電磁波をシールドするために、ディスプレイ前面に配置する電磁波遮蔽シートが知られている。このような用途に用いる電磁波遮蔽シートでは、電磁波シールド性能と共に光透過性も要求される。そこで、基材に樹脂フィルムやガラス板等の透明基材を用い、この透明基材上に、銅などの金属から成る導電性パターン層を形成することにより、光透過性を付与した電磁波遮蔽シートが知られている（特許文献１）。尚、当該パターンとしては、通常、メッシュ（導電性メッシュ層）が用いられる。
【０００３】
上記導電性パターン層は、透明基材上に積層した金属箔をエッチング加工することにより、メッシュ状に形成される。このようにエッチング加工で得られるメッシュ状の金属箔は、単独で取り扱うことが困難であるため、通常、透明基材上に未加工の金属箔を接着剤層を介して積層した積層体をつくり、当該積層体上の金属箔に対して、パターン状のエッチングが行われている。また、当該透明基材と当該金属箔との密着性を高めるために、当該接着剤層には、ポリエステル樹脂（代表的にはポリエステルポリオール）とイソシアネート系化合物を配合した接着剤が用いられる。加えて、金属箔の接着剤層側の面を粗面化して、接着剤との投錨効果による接着力強化を図ることも常用されている（特許文献２）。
【０００４】
【特許文献１】特許３９９８９７５号公報
【特許文献２】特許３３８８６８２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上記の用途に用いる金属箔表面には、投錨効果により接着力を強化する為の微小な凹凸があるため、上記接着剤を用いて、透明基材上に金属箔をドライラミネートする際、両者間の空気が抜け切らず、当該金属箔表面と当該接着剤表面との間に微小気泡が発生する。
また、上記金属箔表面に吸着した水分量が多いと、上記接着剤層を介して、透明基材上に金属箔をドライラミネートした後、当該接着剤を４０〜５０℃で３日間加熱（養生）させる際に、当該金属箔表面に吸着した水分が加熱されることによって気化して微小気泡が発生する。
上記のように発生した微小気泡は、硬化後の接着剤層中に混入する。そのため、このようにして得られた電磁波遮蔽シートをディスプレイ前面に配置すると、接着剤層中に混入した微小気泡によって画像光が散乱し、ヘイズ（曇価）が上がるという問題があった。
【０００６】
本発明は上記問題点を解消するためになされたものであり、接着剤層中に微小気泡が混入し難く、ヘイズの上昇を抑制することができる電磁波遮蔽シート、及び当該電磁波遮蔽シートの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決すべく、今般、本願発明者らが原因究明の為、各種金属箔を比較検討した。その結果、金属箔の中でも、従来当該用途に専ら多用されていた銅箔は、上記２種類の気泡のうちドライラミネート後に発生する気泡発生が、他の金属箔に比べて多発することを発見した。又、高導電率で且つ腐蝕加工し易い金属の中で、アルミニウム箔は銅箔に比べて、同雰囲気中に於ける吸着水分量が少ないことが判明した。しかもアルミニウム箔は銅箔に比べ、接着面側を平滑面化しても接着強度を確保し易いことも見出した。本発明は、かかる知見に基づく、すなわち、本発明に係る電磁波遮蔽シートは、透明基材の一方の面に、透明接着剤層を介して、アルミニウムパターン層が設けられ、且つ、当該アルミニウムパターン層の透明基材側の面のＪＩＳ  Ｚ８７２２に準拠して測定した全光線反射率（ＲＳＣＩ）に対する拡散光線反射率（ＲＳＣＥ）の比（ＲＳＣＥ／ＲＳＣＩ）が０．４以下であることを特徴とする。
【０００８】
本発明の電磁波遮蔽シートは、金属表面の吸着水分量の少ないアルミニウムの薄膜を用い、且つ当該アルミニウムの薄膜からなるアルミニウムパターン層の透明基材側の面を、全光線反射率（ＲＳＣＩ）に対する拡散光線反射率（ＲＳＣＥ）の比（ＲＳＣＥ／ＲＳＣＩ）が上記特定の範囲となる光散乱性の低い面（鏡面）とすることにより、上記透明接着剤層中に微小気泡が混入し難くなり、ヘイズの上昇を抑制することができる。
【０００９】
本発明に係る電磁波遮蔽シートにおいては、前記透明接着剤層が、ポリオール及びイソシアネート系化合物から成る２液硬化型ウレタン樹脂系接着剤から形成されるため、金属表面の吸着水分量の少ないアルミニウムの薄膜からなるアルミニウムパターン層が適している。
【００１０】
本発明に係る電磁波遮蔽シートにおいては、前記アルミニウムパターン層の少なくとも前記透明基材側とは反対側の面のアルミニウムの酸化皮膜の厚みを０〜１３Åとすることにより、アルミニウムパターンをケミカルエッチングで形成する際に安定したエッチングが可能でエッチング品質が改善する為に、ライン輪郭部のギザ（ｚｉｇｚａｇ状のこと。ラインの輪郭に凹凸があって直線性が悪くギザギザしている形態をこのように呼称する。）や断線となる不良が解消してパターン精度が向上し、ひいては、電磁波遮蔽性（表面抵抗値）のバラツキやヘイズの上昇を抑制することができる。
【００１１】
本発明に係る電磁波遮蔽シートの製造方法は、透明基材の一方の面に、アルミニウムパターン層を備えた電磁波遮蔽シートの製造方法であって、
（ｉ）吸着水分量が５．０ｇ／ｍ２以下、及びＪＩＳ  Ｚ８７２２に準拠して測定した全光線反射率（ＲＳＣＩ）に対する拡散光線反射率（ＲＳＣＥ）の比（ＲＳＣＥ／ＲＳＣＩ）が０．４以下の面を有するアルミニウムの薄膜を用意する工程、（ｉｉ）透明基材の一方の面に、透明接着剤層を介して、前記アルミニウムの薄膜を、その吸着水分量が５．０ｇ／ｍ２以下、及びＲＳＣＥ／ＲＳＣＩが０．４以下の面を前記透明基材と向き合わせて積層する工程、及び（ｉｉｉ）前記アルミニウムの薄膜を所定のパターン形状にエッチングする工程を含むことを特徴とする。
【００１２】
本発明に係る電磁波遮蔽シートの製造方法によれば、吸着水分量が特定の範囲のアルミニウムの薄膜を用い、透明基材の一方の面に、透明接着剤層を介して、当該アルミニウムの薄膜の全光線反射率（ＲＳＣＩ）に対する拡散光線反射率（ＲＳＣＥ）の比（ＲＳＣＥ／ＲＳＣＩ）が特定の範囲となる光散乱性の低い面（鏡面）を、当該透明基材と向き合わせて積層することにより、上記透明接着剤層中に微小気泡が混入し難くなり、ヘイズの上昇を抑制することが可能な電磁波遮蔽シートを提供することができる。
【発明の効果】
【００１３】
本発明の電磁波遮蔽シートによれば、金属表面の吸着水分量の少ないアルミニウムの薄膜を用い、且つ当該アルミニウムの薄膜からなるアルミニウムパターン層の透明基材側の面を、全光線反射率（ＲＳＣＩ）に対する拡散光線反射率（ＲＳＣＥ）の比（ＲＳＣＥ／ＲＳＣＩ）が特定の範囲となる光散乱性の低い面（鏡面）とすることにより、透明接着剤層中に微小気泡が混入し難くなり、ヘイズの上昇を抑制することができる。
また、本発明の電磁波遮蔽シートの製造方法によれば、吸着水分量が特定の範囲のアルミニウムの薄膜を用い、透明基材の一方の面に、透明接着剤層を介して、当該アルミニウムの薄膜の全光線反射率（ＲＳＣＩ）に対する拡散光線反射率（ＲＳＣＥ）の比（ＲＳＣＥ／ＲＳＣＩ）が特定の範囲となる光散乱性の低い面（鏡面）を、当該透明基材と向き合わせて積層することにより、上記透明接着剤層中に微小気泡が混入し難くなり、ヘイズの上昇を抑制することが可能な電磁波遮蔽シートを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
本発明は、電磁波遮蔽シート、及びその製造方法を含むものである。以下、それぞれについて詳述する。
尚、本発明において、「上面」とは、アルミニウムパターン層の透明基材側とは反対側の面を言い、「下面」とは「上面」とは逆向きとなる面を言う。また、「鏡面」とは、金属薄膜（アルミニウム薄膜）において、全光線反射率（ＲＳＣＩ）に対する拡散光線反射率（ＲＳＣＥ）の比（ＲＳＣＥ／ＲＳＣＩ）が０．４以下となる光散乱性の低い面のことを言い、「粗面」とは、当該ＲＳＣＥ／ＲＳＣＩが０．４超過、特に、０．６以上となる光散乱性の高い面のことを言う。
【００１５】
Ｉ．電磁波遮蔽シート
本発明に係る電磁波遮蔽シートは、透明基材の一方の面に、透明接着剤層を介して、アルミニウムパターン層が設けられ、且つ、当該アルミニウムパターン層の透明基材側の面のＪＩＳ  Ｚ８７２２に準拠して測定した全光線反射率（ＲＳＣＩ）に対する拡散光線反射率（ＲＳＣＥ）の比（ＲＳＣＥ／ＲＳＣＩ）が０．４以下、好ましくは０．３以下であることを特徴とする。
【００１６】
一般に、透明基材と金属薄膜の密着性を高めるために、接着剤として、ポリエステル樹脂（代表的にはポリエステルポリオール）とイソシアネート系化合物を配合した接着剤が用いられる。そのため、上記金属薄膜表面に吸着した水分量が多いと、上記接着剤を介して、透明基材上に金属箔をドライラミネートした後、当該接着剤を４０〜５０℃で３日間加熱（養生）させる際に、当該金属薄膜表面に吸着した水分が加熱されることによって微小気泡が発生し、接着剤層中に当該微小気泡が混入するという問題があった。
本発明者らの分析結果から、金属薄膜として一般に用いられている銅箔表面の吸着水分量は１０．０ｍｇ／ｍ２であるのに対して、アルミニウム箔表面の吸着水分量は３．０ｍｇ／ｍ２であり、アルミニウム箔表面の吸着水分量は銅箔表面の吸収水分量の１／３程度と少ないことが明らかとなった。
従って、本発明においては、金属表面の吸着水分量の少ないアルミニウムの薄膜を用いてアルミニウムパターン層を形成することにより、透明接着剤層中への微小気泡の混入を抑制することができる。
尚、金属薄膜表面の吸着水分量の測定は、カールフィッシャー法により測定した値である。
【００１７】
全光線反射率（ＲＳＣＩ）に対する拡散光線反射率（ＲＳＣＥ）の比（ＲＳＣＥ／ＲＳＣＩ）は、金属薄膜（アルミニウムの薄膜）の表面形状が光を散乱しやすいかどうかを表す指標である。従って、（ＲＳＣＥ／ＲＳＣＩ）の値が小さいほど、金属薄膜（アルミニウムの薄膜）の表面は、凹凸が少なく平滑となる。
本発明においては、透明基材の一方の面に、透明接着剤層を介して、アルミニウムの薄膜の全光線反射率（ＲＳＣＩ）に対する拡散光線反射率（ＲＳＣＥ）の比（ＲＳＣＥ／ＲＳＣＩ）が上記特定の範囲となる光散乱性の低い面（鏡面）、即ち、平滑な面を、当該透明基材と向き合わせて積層するため、当該アルミニウム薄膜と当該透明接着剤層との間の気泡の噛み込みが抑制され、当該透明接着剤層中に微小気泡を混入し難くすることができる。
従って、本発明の電磁波遮蔽シートによれば、上記透明接着剤層中への微小気泡の混入を抑えることができるため、ヘイズの上昇を抑制することができる。
尚、本発明においては、上記接着剤層中に存在する微小気泡は、３個／ｃｍ２以下であることが好ましい。
【００１８】
本発明におけるアルミニウムパターン層の透明基材側の面のＪＩＳ  Ｚ８７２２に準拠して測定した全光線反射率（ＲＳＣＩ）は、ＪＩＳ  Ｚ８７２２に準拠して、分光測色計（例えば、コニカミノルタセンシング株式会社製、ＣＭ−３６００ｄ）を反射モードに設定し、光源は標準の光Ｄ６５、視野２°を用いて、検出器を、反射光のうち拡散反射光と鏡面反射光の両方を総合した全反射光の（積分）強度を測定するようなＳＣＩ（Ｓｐｅｃｕｌａｒ  Ｃｏｍｐｏｎｅｎｔ  Ｉｎｃｌｕｄｅ）モードに設定して、Ｙ値（３刺激値ＸＹＺのＹ）を測定したものである。また、アルミニウムパターン層の透明基材側の面のＪＩＳ  Ｚ８７２２に準拠して測定した拡散光線反射率（ＲＳＣＥ）は、同様に分光測色計を用いて、光源及び視野は上記と同じにして、検出器を、反射光のうち拡散反射光のみの（積分）強度を測定するようなＳＣＥ（Ｓｐｅｃｕｌａｒ  Ｃｏｍｐｏｎｅｎｔ  Ｅｘｃｌｕｄｅ）モードに設定して、Ｙ値（３刺激値ＸＹＺのＹ）を測定したものである。ここで、３刺激値ＸＹＺとは、ＪＩＳ  Ｚ８７２２で規定され、理想的な環境に置かれた試料を標準光源で照明し、当該試料での反射光の分光分析結果を演算することにより決定される値のことである。
【００１９】
〔層構成〕
図１は本発明による電磁波遮蔽シートについて、基本的な形態を例示する断面図である。なお、図１及び図２に示す断面図において、説明の容易化のために、厚み方向（図の上下方向）の縮尺を面方向（図の左右方向）の縮尺よりも大幅に拡大誇張し、尚且つ当該電磁波遮蔽シートの厚み方向の縮尺をプラズマディスプレイパネルの厚み方向の縮尺よりも大幅に拡大して図示してある図１に示す電磁波遮蔽シート１は、本発明に係る電磁波遮蔽シートの好適な実施形態のうちの第一の実施形態であり、透明基材１０の一方の面に、透明接着剤層１１を介して、アルミニウムパターン層１２が設けられている。当該アルミニウムパターン層１２は、透明基材１０側の面が光散乱性の低い鏡面１２ａ、当該透明基材１０側とは反対側の面が粗面１２ｂとなっている。
図２は、本発明に係る電磁波遮蔽シート１の好適な実施形態のうちの第二の実施形態であり、透明基材１０の一方の面に、透明接着剤層１１を介して、アルミニウムパターン層１２が設けられている。当該アルミニウムパターン層１２は、透明基材１０側の面が光散乱性の低い鏡面１２ａ、当該基材１０側とは反対側の面が粗面１２ｂとなっており、当該鏡面１２ａ及び当該粗面１２ｂの表面にはアルミニウムの酸化被膜１３が形成されている。
本発明に係る電磁波遮蔽シート１は、プラズマディスプレイパネル２０の前面に配置されれば、図１及び図２において図示していないが、粘着剤層を利用してプラズマディスプレイパネルに直接貼り付けられるものであっても、別途光学機能等を有していても良い他の板状透明基材に貼り付けた上で、プラズマディスプレイの前面に配置されても良い。
以下、本発明の電磁波遮蔽シートについて、透明基材から順に説明する。
【００２０】
（１）透明基材
本発明で用いる透明基材は、電磁波遮蔽シートを構成する一部の層であり、透明接着剤層を介してアルミニウムパターン層を積層するための基材となる層である。また、必要に応じて紫外線吸収機能を付加させてもよい。従って、透明基材としては、機械的強度、光透過性と共に、適宜紫外線吸収能を有すれば、その他、耐熱性等の性能を適宜勘案したものを用途に応じて選択すればよい。このような、透明基材の具体例としては、樹脂等の有機材料或は硝子等の無機材料からなるシート（乃至フィルム。以下同様。）又は板が挙げられる。透明基材の透明性は高いほどよいが、好ましくは可視光域３８０〜７８０ｎｍにおける光線透過率が７０％以上、より好ましくは８０％以上となる光透過性が良い。なお、光透過率の測定は、分光光度計（例えば、（株）島津製作所製  ＵＶ−３１００ＰＣ）を用い、室温、大気中で測定した値を用いることができる。
また、上記透明基材のＪＩＳ  Ｋ７１０５−１９８１に準拠したヘイズ値は、通常は１０％以下とするが、２．０％以下の範囲内であることが好ましく、更に１．０％以下の範囲内であることが好ましい。当該透明基材のヘイズ値を上記範囲内とすることで、本発明による効果と合わせて、本電磁波遮蔽シートのヘイズを低く抑えることができる。
【００２１】
透明基材の材料として用いる樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、テレフタル酸−イソフタル酸−エチレングリコール共重合体、テレフタル酸−シクロヘキサンジメタノール−エチレングリコール共重合体などのポリエステル系樹脂、ナイロン６などのポリアミド系樹脂、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、シクロオレフィン重合体などのポリオレフィン系樹脂、ポリメチルメタクリレートなどのアクリル樹脂、ポリスチレン、スチレン−アクリロニトリル共重合体などのスチレン系樹脂、トリアセチルセルロースなどのセルロース系樹脂、イミド系樹脂、ポリカーボネート樹脂等が挙げられる。
【００２２】
なお、これらの樹脂は、単独、又は複数種類の混合樹脂（ポリマーアロイを含む）として用いられ、透明樹脂基材の層構成は、単層、又は２層以上の積層体として用いられる。また、樹脂フィルムの場合、１軸延伸や２軸延伸した延伸フィルムが機械的強度の点でより好ましい。また、これら樹脂中には、必要に応じて適宜、充填剤、可塑剤、帯電防止剤などの添加剤を加えても良い。又、硝子としては、ソーダ硝子、カリ硝子、硼珪酸硝子、石英硝子等が挙げられる。通常、硝子の場合は、厚みの有る板状で用いられる。
【００２３】
透明基材の厚さは、基本的には用途に応じ選定すればよく、特に制限はないが、通常は１２〜５０００μｍ、好ましくはフィルムの場合は５０〜５００μｍ、より好ましくは５０〜２００μｍ、板の場合は５００〜３０００μｍである。このような厚み範囲ならば、機械的強度が十分で、反り、弛み、破断などを防ぎ、連続帯状で供給して加工する事も容易である。
なお、本発明では、透明基材としては、特に、可撓性の有る樹脂フィルム或は板から成るものが、製造加工適性が良好で、重量、価格も低減できる点で好ましい。特に、これら樹脂から成る基材を透明樹脂基材と称呼する。
【００２４】
透明樹脂基材の形態としては樹脂板よりは透明樹脂フィルムが好ましい。当該樹脂フィルムのなかでも特に、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂フィルムが、透明性、耐熱性、コスト等の点で好ましく、より好ましくは２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムが最適である。
【００２５】
また、樹脂フィルム等の透明基材は、適宜その表面に、コロナ放電処理、プラズマ処理、オゾン処理、フレーム処理、プライマー処理、予熱処理、除塵埃処理、蒸着処理、アルカリ処理、などの公知の易接着処理を行ってもよい。
【００２６】
（２）アルミニウムパターン層
アルミニウムパターン層はアルミニウムの薄膜で形成したパターン層であり、当該層自体は不透明だが、開口部など当該層の非形成部を設けたパターンとすることによって、電磁波遮蔽性能と光透過性とを両立させた層である。
本発明においては、アルミニウムパターン層の透明基材側の面が、ＪＩＳ  Ｚ８７２２に準拠して測定した全光線反射率（ＲＳＣＩ）に対する拡散光線反射率（ＲＳＣＥ）の比（ＲＳＣＥ／ＲＳＣＩ）が０．４以下、好ましくは０．３以下の光散乱性の低い鏡面となる。全光線反射率（ＲＳＣＩ）に対する拡散光線反射率（ＲＳＣＥ）の比（ＲＳＣＥ／ＲＳＣＩ）を上記特定の反射特性を有するように最適化することで、当該透明接着剤層中への微小気泡の混入を抑えることができるため、ヘイズの上昇を抑制することができる。
なお、アルミニウムパターン層を形成する金属薄膜の圧延ロール表面の研磨度を上げることにより、当該アルミニウムパターン層の鏡面を上記特定の反射特性とすることができる。
【００２７】
アルミニウムパターン層のアルミニウムは、アルミニウムを主成分とし、アルミニウム純金属の他にアルミニウム合金でもよくこれらを纏めて本発明ではアルミニウムというが、アルミニウムの純度が低いと導電性が低下するので、純度は電磁波遮蔽性能の点では高い方が好ましく、純度が９９．０％以上のアルミニウムが好ましい。このような純度が９９．０％以上のアルミニウムを利用したアルミニウムパターン層は、ＪＩＳ  Ｈ４１６０（アルミニウム及びアルミニウム合金はく）、ＪＩＳ  Ｈ４１７０（高純度アルミニウムはく）で規定されるアルミニウム箔に準じた箔を利用することで形成できる。
【００２８】
なお、アルミニウムパターン層はアルミニウムの薄膜から形成するのではなく、透明基材上にアルミニウムを気相成長法、例えば真空蒸着法で形成したアルミニウム蒸着膜から形成したものを利用しても良い。
【００２９】
アルミニウムパターン層の厚みは、電磁波遮蔽性能、加工適性、機械的強度などの点から適宜選択すればよく、具体的には１〜１００μｍ、好ましくは５〜２０μｍ、より好ましくは８〜１５μｍである。厚みが薄いと電磁波遮蔽性能、機械的強度などが低下し、厚みが厚いと加工適性が低下する。
【００３０】
アルミニウムパターン層の平面視のパターンの形状は、例えばメッシュ形状、ストライプ形状などの電磁波遮蔽性能と光透過性とを両立させた公知のパターンである。なかでもメッシュ形状、それも正方格子形状が代表的であり、この他、格子形状で言えば例えば長方形格子、菱形格子、六角格子、三角格子などがある。メッシュはこれら形状からなる複数の開口部を有し、開口部間は開口部を区画するライン部（線部又は線条部）となる。ライン部は通常幅均一でライン状のものであり、また通常は開口部及び開口部間は、全て各々同一形状で同一サイズとなる。
【００３１】
なお、上記パターンは、ディスプレイ用途では、電磁波遮蔽シートの画像表示に影響しない四辺周辺部には、接地用導通の為に開口部を設けないメッシュ非形成の接地領域、或いは、在っても占有面積比率が小さい接地領域を、開口部を有する内部の画像表示領域の周囲に有することがある。
【００３２】
パターンのライン部のライン幅は例えば５〜５０μｍ、好ましくは５〜３０μｍであり、ラインの繰り返し周期であるライン間隔（ピッチ）は例えば１００〜５００μｍである。
【００３３】
（パターン形成）
アルミニウムパターン層のパターンを形成するには、透明基材上にアルミニウム箔などパターン形成前のアルミニウム層を積層した後、ケミカルエッチングによって形成できる。ケミカルエッチング時のレジストパターンのパターン形成はフォトリソグラフィー法（パターン露光法）、印刷法などの公知のパターン形成法を適宜選択すればよい。なかでも、フォトリソグラフィー法は印刷法に比べて、電磁波遮蔽シートに要求されるライン幅やその均一性など高精度のパターンを安定的に形成できる点で好ましい方法である。
尚、アルミニウムパターン層をケミカルエッチングする際のエッチング液としては、公知のエッチング液を適宜選択使用すれば良い。例えば、塩化第二鉄を含む酸性のエッチング液である。
【００３４】
［アルミニウムの酸化皮膜］
金属パターン層の材料としてアルミニウムの薄膜を用いた場合、アルミニウム自体が活性が高く、表面にアルミニウムの酸化皮膜が存在し、これが耐腐食膜となってケミカルエッチングを阻害する。また、エッチング液に接触した領域の酸化皮膜が一部除去されると、除去された部分がまだ除去されていない部分に対して急速にエッチングが進んでしまい、均一な安定したエッチングが困難となる。その結果、金属パターンのライン部の輪郭に、ギザや断線が発生し、ラインのパターン精度が低下する。
これに対して、本発明のアルミニウムパターン層は、少なくとも前記透明基材側とは反対側の面に形成されたアルミニウムの酸化皮膜の厚みが０〜１３Åの範囲内であることが好ましい。上記特定の範囲内のアルミニウムの酸化皮膜が形成されていることにより、アルミニウムパターン層をケミカルエッチングで形成する際に安定したエッチングが可能でエッチング品質が改善する為、ライン輪郭部のギザや断線となる不良が解消してパターン精度が向上し、ひいては、電磁波遮蔽性（表面抵抗値）のバラツキやヘイズの上昇を抑制することができる。尚、１Å＝０．１ｎｍである。
アルミニウムの酸化皮膜はアルミニウム酸化物を含む層であり、アルミニウムパターン層をアルミニウム箔を利用して形成する場合、アルミニウムの酸化皮膜は箔の上面及び下面の表裏両面に存在するが、本発明ではケミカルエッチングでパターン形成する際に、エッチングされる側、つまり上面側について、その厚みを規定する。アルミニウムパターン層の少なくとも上面のアルミニウムの酸化皮膜の厚みについて、その上限を１３Å、好ましく１２Å、より好ましくは１０Å、更に好ましくは８Åとする。
少なくとも上面のアルミニウムの酸化皮膜の厚みについて、その上限を上記のようにすることで、当該酸化皮膜がたとえ存在したままでも、安定したケミカルエッチングが可能となり、パターン精度不良を回避できる。
【００３５】
ところで、普通に製造されるアルミニウム箔は圧延法で製造され、アルミニウム塊の圧延工程、焼鈍工程を経る箔製造工程、その後の空気中保管など、常温（２０℃、５０％ＲＨ前後）で製造保管することによって、活性なアルミニウムは表面に不可逆的にアルミニウムの酸化皮膜が形成されるが、本発明の様に薄い酸化皮膜とはならずに、より厚みの厚い１５Å以上、通常２０〜１００Å程度の酸化皮膜となる。
【００３６】
また、アルミニウムパターン層上面のアルミニウムの酸化皮膜の厚みの下限は、ケミカルエッチングを阻害しない観点からは、０（零）Å、つまり酸化皮膜が存在しなくても良い。
ただ、アルミニウムの酸化皮膜は、不動態膜と言われており、アルミニウム箔を加工、搬送、保管する過程中に於いて、アルミニウム箔の内部に（不用意な、望まれない）酸化乃至は腐食が進行することを防止する機能を有するので、この点では２〜３Å程度の緻密なアルミニウム不動態膜としての酸化皮膜を形成しておいてもよい。
【００３７】
なお、上面にアルミニウムの酸化皮膜が存在しないアルミニウムパターン層は、真空中、不活性気体中でパターン形成前のアルミニウム層を透明基材上に形成し、酸化皮膜生成前にアルミニウム層の上面を樹脂被覆し酸化反応を遮断するなどすれば可能である。その後、ケミカルエッチングで所定のパターンを形成すれば、上面にアルミニウムの酸化皮膜が存在しないアルミニウムパターン層となる。
【００３８】
アルミニウムの酸化皮膜の厚みを上記のような薄い所定の厚みにするには、各種あるが、アルミニウムパターン層にアルミニウム箔を利用する場合、アルミニウム箔は圧延法によって作られ、その後、焼鈍して製造されているが、圧延条件や焼鈍条件を調整することで、目的とする厚みに調整できる。
【００３９】
例えば、圧延後のアルミニウム箔の表面に付着している圧延油を焼鈍時に除去する際に、表面が酸化しないように、焼鈍雰囲気のガス組成を制御したり（酸素濃度を低めにする）、アルミニウム箔表面のアルミニウムの酸化皮膜を薬品で除去したりする、といった方法などがある。焼鈍しないという方法もあるが、圧延油は、フォトリソグラフィー法に悪影響を及ぼすため好ましくない。
【００４０】
なお、アルミニウムの酸化皮膜の厚みは、ハンターホール法、蛍光Ｘ線分析法の一種であるＸ線光電子分光法（ＸＰＳ）で測定する。
【００４１】
アルミニウムの酸化皮膜は、その箔製造工程からして、箔の表裏両面、つまり上面及び下面の両面に通常形成されている。このうち、アルミニウムパターン層のパターン形成のためのケミカルエッチングに影響するのは上面の酸化皮膜であるので、本発明では少なくともこの上面のアルミニウムの酸化皮膜について特定の厚み（薄さ）を規定する。尚、下面のアルミニウムの酸化皮膜については、通常は、上面のアルミニウム酸化皮膜に比べてケミカルエッチング時のメッシュ形状ギザ発生への寄与は無視出来る為、パターン精度の点からは特に規定する必要はない。但し、当該膜厚が厚すぎると、開口部に残留したアルミニウム酸化皮膜によるメッシュ形状への悪影響も起こり得るし、また、開口部の透明性を低下させることも有り得る。この為、下面のアルミニウム酸化皮膜は、好ましくは、可視光線の最小波長３８０ｎｍ未満、更に好ましくは２００ｎｍ以下とすることが推奨される。例えば、下面のアルミニウム酸化皮膜の膜厚も上面と同様に０〜１３Åとする。尚、本発明の１形態として、ケミカルエッチング前の下面のアルミニウム酸化皮膜の膜厚、及びケミカルエッチングの加工条件を調整することにより、パターン開口部に可視光線の最小波長３８０ｎｍ未満（例えば３〜１３Å）の膜厚の透明なアルミニウム酸化皮膜を残留させ、ケミカルエッチング時に開口部に露出する透明接着剤層又は透明基材を腐食液による着色から保護することも出来る。
ただ、下面のアルミニウムの酸化皮膜も上面の酸化皮膜と同程度の厚みで存在するとすれば、下面のアルミニウムの酸化皮膜の厚みについても、上記した上面のアルミニウムの酸化皮膜の厚みと同じ規定をすることができる。
【００４２】
［黒化処理層］
なお、アルミニウムパターン層はその表面に黒化処理層を形成してもよい。
黒化処理層は、アルミニウムパターン層やその表面の酸化皮膜による光反射を抑制することで、外光吸収、画像のコントラスト向上を図る層である。黒化処理層は外光吸収、画像のコントラスト向上が必要な場合に設ける。黒化処理層はアルミニウムパターン層の表面、表面に酸化皮膜がある場合はその皮膜表面に設けて、その光反射率を低下させる層である。
【００４３】
ここで表面は上面、下面、側面などの面をいう。黒化処理して黒化処理層を形成する表面としては、上面のみ、上面と両側側面、下面のみ、上面と両側側面と下面の全ての表面など、要求に応じた面とすれば良いのは公知の黒化処理と同じである。このうち、透明接着剤層存在下で透明接着剤に接する面が下面である。また、電磁波遮蔽シートをその上面側を観察者側にして使用するには、少なくとも上面については黒化処理層を形成するのが好ましく、更に好ましくは両側側面、後述画像表示素子側となる下面についても黒化処理層を形成するのがよい。
【００４４】
黒化処理層としては、電磁波遮蔽シートにおいて、公知のものを適宜採用すれば良い。例えば、黒化処理層としては、金属などの無機材料、黒色樹脂などの有機材料などを使用できる。無機材料としては、例えば金属乃至は合金、金属酸化物、金属硫化物などの金属化合物であり、めっき法など公知の黒化処理にて形成することができる。また、黒色樹脂としては例えば黒色の着色剤を樹脂中に含有させた層として形成できる。
【００４５】
尚、一般に、外光反射防止に寄与する程度に黒化処理された表面は粗面となるため、本発明においては、アルミニウムパターン層表面に黒化処理を施さないことが好ましい。
【００４６】
（３）透明接着剤層
透明接着剤層は、アルミニウムパターン層を透明基材に固定するための層であり、例えば、アルミニウムパターン層をアルミニウム箔から形成する場合に、アルミニウム箔を透明基材に接着固定するために使用される。なお、透明接着剤層は、アルミニウムパターン層をアルミニウム蒸着で透明基材上に直接積層したアルミニウム層から形成する場合では省略できる。
【００４７】
透明接着剤層としては、アルミニウムパターン層の開口部による光透過性を阻害しないように、透明な接着剤であればよく、公知の透明な接着剤を適宜使用すればよい。例えば、ウレタン樹脂系接着剤、アクリル樹脂系接着剤、エポキシ樹脂系接着剤、ゴム系接着剤などである。なかでも、ウレタン樹脂系接着剤、例えば２液硬化型ウレタン樹脂系接着剤は、接着力などの点で好ましい。２液硬化型ウレタン樹脂系接着剤としては、ポリオールを主剤とし、これに硬化剤としてポリイソシアネート化合物を用いた接着剤を使用できる。ポリオールは、例えば、アクリルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリウレタンポリオール、ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリウレタンポリオールなどである。また、ポリイソシアネート化合物は、例えば、トリレンジイソシアネート系、キシリレンジイソシアネート系、ヘキサメチレンジイソシアネート系などである。ポリオール、ポリイソシアネートは、各々複数種使用してもよい。
【００４８】
透明接着剤層は、透明な接着剤をアルミニウム箔、透明基材のいずれか又は両方に公知の形成法によって施した後、これらを接着剤を介する様に積層することで形成できる。当該形成法は、塗工法、印刷法などである。
【００４９】
ＩＩ．電磁波遮蔽シートの製造方法
本発明に係る電磁波遮蔽シートの製造方法は、透明基材の一方の面に、アルミニウムパターン層を備えた電磁波遮蔽シートの製造方法であって、
（ｉ）吸着水分量が５．０ｇ／ｍ２以下、及びＪＩＳ  Ｚ８７２２に準拠して測定した全光線反射率（ＲＳＣＩ）に対する拡散光線反射率（ＲＳＣＥ）の比（ＲＳＣＥ／ＲＳＣＩ）が０．４以下の面を有するアルミニウムの薄膜を用意する工程、
（ｉｉ）透明基材の一方の面に、透明接着剤層を介して、前記アルミニウムの薄膜を、その吸着水分量が５．０ｇ／ｍ２以下、及びＲＳＣＥ／ＲＳＣＩが０．４以下の面を前記透明基材と向き合わせて積層する工程、及び
（ｉｉｉ）前記アルミニウムの薄膜を所定のパターン形状にエッチングする工程を含むことを特徴とする。
【００５０】
本発明の電磁波遮蔽シートの製造方法によれば、吸着水分量が特定の範囲のアルミニウムの薄膜を用い、透明基材の一方の面に、透明接着剤層を介して、当該アルミニウムの薄膜の全光線反射率（ＲＳＣＩ）に対する拡散光線反射率（ＲＳＣＥ）の比（ＲＳＣＥ／ＲＳＣＩ）が特定の範囲となる光散乱性の低い面（鏡面）を、当該透明基材と向き合わせて積層することにより、上記透明接着剤層中に微小気泡が混入し難くなり、ヘイズの上昇を抑制することが可能な電磁波遮蔽シートを提供することができる。
【００５１】
以下、各工程についてそれぞれ説明する。
（ｉ）吸着水分量が５．０ｇ／ｍ２以下、及びＪＩＳ  Ｚ８７２２に準拠して測定した全光線反射率（ＲＳＣＩ）に対する拡散光線反射率（ＲＳＣＥ）の比（ＲＳＣＥ／ＲＳＣＩ）が０．４以下の面を有するアルミニウムの薄膜を用意する工程
本工程においては、アルミニウムの薄膜を用意する。
本発明で用いるアルミニウムの薄膜は、表面吸着水分量が、５．０ｇ／ｍ２以下、好ましくは３．０ｇ／ｍ２以下であり、且つ、ＪＩＳ  Ｚ８７２２に準拠して測定した全光線反射率（ＲＳＣＩ）に対する拡散光線反射率（ＲＳＣＥ）の比（ＲＳＣＥ／ＲＳＣＩ）が０．４以下、好ましくは０．３以下の光散乱性の低い鏡面を有する。全光線反射率（ＲＳＣＩ）に対する拡散光線反射率（ＲＳＣＥ）の比（ＲＳＣＥ／ＲＳＣＩ）を上記特定の反射特性を有するように最適化することにより、後述する透明基材の一方の面に、透明接着剤層を介して、当該アルミニウムの薄膜の鏡面を透明基材に向き合わせて積層する工程において、当該透明基材上に当該アルミニウムの薄膜をドライラミネートする際、当該アルミニウムの薄膜と当該透明接着剤層との間の気泡の噛み込みが抑制される。また、表面吸着水分量が、上記特定の範囲のアルミニウムの薄膜を用いることにより、上記ドライラミネート後の養生工程において、当該アルミニウムの薄膜表面に吸着した水分が加熱されることにより、発生する微小気泡の数を抑制することができる。従って、上記のアルミニウムの薄膜を用いることにより、硬化後の透明接着剤層中に微小気泡を混入し難くすることができ、ヘイズの上昇を抑制することができる。
尚、アルミニウムの薄膜は、上記「（２）アルミニウムパターン層」の項で説明したものを用いることができる。
【００５２】
（ｉｉ）透明基材の一方の面に、透明接着剤層を介して、前記アルミニウムの薄膜を、その吸着水分量が５．０ｇ／ｍ２以下、及びＲＳＣＥ／ＲＳＣＩが０．４以下の面を前記透明基材と向き合わせて積層する工程
本工程においては、先ず透明基材を用意し、この透明基材の一方の面に、透明接着剤をコーティングして、透明接着剤層を形成する。
上記透明基材は、上記「（１）透明基材」の項で説明したものを用いることができる。
また、層形成法としては、公知の層形成法、例えば、ロールコート、コンマコート、グラビアコート、ダイコート等の塗工法、或いは、任意形状での部分形成が容易なスクリーン印刷、グラビア印刷等の印刷法を適宜採用することが出来る。
尚、アルミニウムの薄膜側に透明接着剤層を形成したり、或は透明基材側とアルミニウムの薄膜側の両方の面に透明接着剤層を形成することも出来る。
次に、上記透明基材の透明接着剤層の表面に、アルミニウムの薄膜を光散乱性の低い鏡面側を向けて積層する。
【００５３】
（ｉｉｉ）前記アルミニウムの薄膜を所定のパターン形状にエッチングする工程
本工程においては、透明基材上に積層されたアルミニウムの薄膜面へ、レジスト層を所定のパターン状に設け、レジスト層で覆われていない部分のアルミニウムの薄膜をエッチング（腐蝕）により除去した後に、レジスト層を除去するエッチング加工法で、アルミニウムパターン層とする。エッチング加工法の中でも、所謂フォトリソグラフィー法を採用する事が、微細加工精度の点から好ましい。
【００５４】
以下、フォトリソグラフィー法について説明する。
まず、マスキングを行う。例えば、アルミニウムの薄膜側の最表面へ感光性レジストを塗布し、乾燥した後に、所定のパターンを有するフォトマスクにて密着露光し、温水現像し、硬膜処理などを施し、ベーキングすることにより、所望のパターンのレジスト層を形成する。尚、感光性レジストのネガ型、ポジ型の何れも使用可能である。感光性レジストがネガ型の場合は、フォトマスクのパターンはライン部が透明なものを用いる。また、感光性レジストがポジ型の場合は、フォトマスクのパターンは開口部が透明なものを用いる。また、露光パターンとしては、電磁波遮蔽シートとして所望のパターンであり、当該パターンとしてメッシュ形状を採用する場合は、最低限メッシュ状領域のパターンから構成される。一般的にはメッシュパターン周辺（周縁）部に額縁状の接地用領域を設けることが多い。
【００５５】
上記感光性レジストの塗布は、巻取り加工では、帯状の積層体を連続又は間歇で搬送させながら、アルミニウムの薄膜面へ、カゼイン、ＰＶＡ、ゼラチンなどから成るレジストをディッピング（浸漬）、カーテンコート、掛け流しなどの方法で行う。また、レジストは塗布ではなく、ドライフィルムレジストを用いてもよく、作業性が向上できる。
【００５６】
マスキング後にエッチングを行う。当該エッチングに用いるエッチング液としては、エッチングを連続して行う本発明には循環使用が容易にできる塩化第二鉄、又は塩化第二銅の水溶液が好ましい。また、当該エッチングは、帯状で連続する鋼材、特に厚さ２０〜８０μｍの薄板をエッチングするカラーＴＶのブラウン管用のシャドウマスクを製造する設備、工程と基本的に同様である。透明基材としてガラスを用いる場合の枚葉加工もより古くから行われている。エッチング後は、水洗、アルカリ液によるレジスト剥離、洗浄を行ってから乾燥すればよい。
【００５７】
このようにして得られた電磁波遮蔽シートのＪＩＳ  Ｋ  ７１０５：１９８１に準拠して測定したヘイズ値は、１０％以下とすることができ、更に５％以下とすることができる。
【００５８】
（ｉｖ）その他の工程
本発明は、上述した各工程以外に、必要な工程を適宜有していてもよい。例えば、透明基材が積層されていないアルミニウムパターン層の外面に、黒化処理を行ってもよい。黒化処理としては、アルミニウムの薄膜の表面を粗化するか、全可視光スペクトルに亘って光吸収性を付与するか、或いは両者を併用するか、何れかの公知の各種黒化処理法により行う。黒化処理は、アルミニウムの薄膜と透明基材とを透明接着剤層で積層する前のアルミニウムの薄膜に対し実施しても良いが、一般に、外光反射防止に寄与する程度に黒化処理された表面は粗面となるため、本発明においては、接着剤側を向く面には事前に黒化処理を施さない方が好ましい。もちろん、黒化面の表面が本発明の反射率比（ＲＳＣＥ／ＲＳＣＩ）の規定範囲に入る場合は使用可能である。
【００５９】
また、透明樹脂をアルミニウムパターン層が構成する凹凸面に塗工して、当該凹凸面を平坦化する平坦化処理を行ってもよい。当該アルミニウムパターン層が構成する表面凹凸（線状部が凸、開口部が凹）は光の散乱性を有し、又当該アルミニウムパターン層上に、接着剤層を介して、被着体を積層する場合に、開口部の凹部内に噛み込まれた気泡により光散乱性が発現する。アルミニウムパターン層上に流動性の有る透明樹脂を塗工して、アルミニウムパターン層の表面凹凸を埋めてアルミニウムパターン層側の表面を平坦化することにより、アルミニウムパターン層自身による光の散乱を低下させることが出来る。又、当該アルミニウムパターン層側で、接着剤層を介して、被着体と積層する場合に開口部内に気泡が残留して光散乱性が発現することを防止することも出来る。斯かる目的で形成する透明樹脂層を平坦化層、当該平坦化層を形成する処理を平坦化処理と呼称する。この様な平坦化処理は、透明基材上に積層したアルミニウムパターン層による凹凸表面に対して、透明樹脂を含む透明液状組成物を塗布し、開口部（凹部）を充填し塗膜の当該表面を実質上平坦面とすることにより行う。当該液状組成物としては、透明な樹脂を含むものであれば特に限定は無く、公知の樹脂を適宜採用すれば良い。例えば、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電離放射線硬化性樹脂等である。例えば、熱可塑性樹脂としては、アクリル系樹脂、ポリエステル樹脂、熱可塑性ウレタン樹脂、酢酸ビニル系樹脂等であり、熱硬化性樹脂としては、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、硬化性アクリル樹脂等であり、電離放射線硬化性樹脂としては紫外線や電子線で硬化するアクリレート系樹脂のプレポリマー、単量体等である。なかでも、アルミニウムパターン層による凹凸を埋め易い点では、無溶剤或いは無溶剤に近い状態で、且つ低粘度流体の状態で塗工形成できる、電離放射線硬化性樹脂は好ましい樹脂である。
【００６０】
また、当該被着体としては、フィルタ用の基板、画像表示装置、下記の如き各種の機能性層が、適宜選択出来る。
本発明の電磁波遮蔽シートは、単品で画像表示装置全面に設置することも可能ではあるが、通常は、フィルタ基板と積層して電磁波遮蔽フィルタ板として構成したり、或は各種の機能性層と積層して複合（多機能）フィルタとした上で、画像表示装置全面に設置することも出来る。
フィルタ基板としては、前記に於いて、電磁波遮蔽シートの透明基材として列挙した板形態の基材と同様のものの中から適宜選択すれば良い。
機能性層としては、光学フィルタ層、硬質塗膜（ハードコート）層、帯電防止層、防汚層、耐衝撃層等を適宜１以上選択して積層する。光学フィルタ層としては、紫外線吸収、近赤外線吸収、ネオン光吸収、反射防止、防眩、着色等の機能を有するフィルタ層が挙げられる。これら、機能性層は、必要に応じ、適宜、透明基材と積層したり、２種以上の機能を１層に付与したりしても良い。これら機能層は、公知の各種構成のものから適宜選択する。
【００６１】
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。
【実施例】
【００６２】
以下、実施例を挙げて、本発明を更に具体的に説明する。これらの記載により本発明を制限するものではない。尚、実施例中、部は特に特定しない限り重量部を表す。
【００６３】
（実施例１）
先ず、アルミニウムの薄膜として、厚さ１２μｍの連続帯状の圧延アルミニウム箔を用意した。当該アルミニウム箔の表面吸着水分量は２．５ｍｇ／ｍ２、酸化皮膜の厚さは両面とも８Åであった。また、当該アルミニウム箔は、鏡面と粗面を有し、当該鏡面の全光線反射率（ＲＳＣＩ）に対する拡散光線反射率（ＲＳＣＥ）の比（ＲＳＣＥ／ＲＳＣＩ）は、０．３であった。
尚、当該アルミニウム箔の表面吸着水分量は、カールフィッシャー法によって測定した。当該アルミニウム箔の酸化皮膜の厚さは、Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）によって測定した。また、当該アルミニウム箔の鏡面のＪＩＳ  Ｚ８７２２に準拠して測定した全光線反射率（％）は、分光測色計（例えば、コニカミノルタセンシング株式会社製、ＣＭ−３６００ｄ）を反射モードに設定し、光源は標準の光Ｄ６５、視野２°を用いて、検出器を、反射光のうち、拡散反射光と鏡面反射光の両方を総合した全反射光の（積分）強度を測定するようなＳＣＩモードに設定して、Ｙ値（３刺激値ＸＹＺのＹ）を測定した。また、当該鏡面のＪＩＳ  Ｚ８７２２による拡散光線反射率（％）は、同様に分光測色計を用いて、光源及び視野は同じくして、鏡面反射光を光トラップで吸収遮断することによって、検出器が反射光のうち拡散反射光のみの（積分）強度を測定するようなＳＣＥモードに設定して、Ｙ値（３刺激値ＸＹＺのＹ）を測定した。
【００６４】
また、透明基材として、片面にポリエステル樹脂系プライマー層が形成された、厚さ１００μｍで連続帯状の無着色透明な２軸延伸ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（Ａ４３００：商品名、東洋紡績株式会社製）を用意した。
次に、上記ＰＥＴフィルムのプライマー層が形成された面に、乾燥時の厚さが７μｍとなるように透明接着剤（主剤が平均分子量３万のポリエステルポリウレタンポリオール１２質量部、及び硬化剤がキシリレンジイソシアネート系プレポリマー１質量部から成る２液硬化型ウレタン樹脂系接着剤）をコーティングして、透明接着剤層を形成した。
【００６５】
次に、上記ＰＥＴフィルムの片面のプライマー層上に、上記透明接着剤層を介して、上記アルミニウム箔の鏡面側がＰＥＴフィルム側を向く様にドライラミネートして積層し、連続帯状の積層体を得た。ドライラミネートした後、５０℃、３日間養生して、当該接着剤を硬化せしめた。
【００６６】
次に、上記連続帯状の積層体に対して、そのアルミニウムの薄膜をフォトリソグラフィー法を利用したエッチングにより開口部及びライン部とから成るアルミニウムパターン（メッシュ）層、当該アルミニウムパターン（メッシュ）層の４周を囲繞する外縁部に額縁状のメッシュ非形成の幅１５ｍｍの接地用領域を形成した。
エッチングは、具体的には、カラーＴＶシャドウマスク用の製造ラインを利用して、上記積層体に対して、レジスト形成、マスキングからエッチングまでを一貫して行った。すなわち、上記積層体のアルミニウム箔面全面に感光性のネガ型エッチングレジストを塗布後、所望のメッシュパターンのマスクを密着露光し、現像、硬膜処理、ベーキングして、メッシュのライン部に相当する領域上にはレジスト層が残留し、開口部に相当する領域上にはレジスト層が無い様なパターンにレジスト層を加工した後、塩化第二鉄水溶液で、レジスト層非形成領域のアルミニウム箔を、エッチング除去してメッシュ状の開口部を形成し、次いで、水洗、レジスト剥離、洗浄、乾燥を順次行った。
【００６７】
メッシュ状領域のメッシュ形状は、その開口部が正方形で、非開口部となる線状部分のライン幅は２０μｍ、そのライン間隔は３００μｍ、ライン部の高さは１２μｍ、長方形の枚葉シートに切断した場合に、当該ライン部と当該長方形の長辺とが構成する劣角として定義されるバイアス角度は４９度であった。このようにして、幅寸法６０５ｍｍの電磁波遮蔽シートを得て、ロール状に巻き取った。
【００６８】
上記ロール状の電磁波遮蔽シートを巻き出し、連続的に黒化処理装置に供給し、当該電磁波遮蔽シートのアルミニウムパターン層の上面に対して黒化処理層を形成し、ロール状に巻き取った。
【００６９】
得られたアルミニウムパターン層のパターン精度は、メッシュのライン幅のバラツキが４．５μｍであり、面ムラは外観上問題がなかった。
【００７０】
（実施例２）
前記実施例１において、アルミニウムの薄膜として、全光線反射率（ＲＳＣＩ）に対する拡散光線反射率（ＲＳＣＥ）の比（ＲＳＣＥ／ＲＳＣＩ）が０．２である鏡面を有するアルミニウム箔を用い、当該面を透明基材と向き合わせて積層した以外は、前記実施例１と同様にして電磁波遮蔽シートを得た。
【００７１】
得られたアルミニウムパターン層のパターン精度は、メッシュのライン幅のバラツキが４．５μｍであり、面ムラは外観上問題がなかった。
【００７２】
（実施例３）
前記実施例１において、アルミニウム箔の酸化皮膜の厚さを１５Åとした以外は、前記実施例１と同様にして電磁波遮蔽シートを得た。
【００７３】
得られたアルミニウムパターン層のパターン精度は、メッシュのラインに一部断線が発生し（ライン幅のバラツキ２０μｍ以上）、外観も目視で面ムラが目立ったが、画像表示装置全面フィルタとしての実用上は許容可能な範囲と判断した。
【００７４】
（比較例１）
前記実施例１において、アルミニウムの薄膜として、全光線反射率（ＲＳＣＩ）に対する拡散光線反射率（ＲＳＣＥ）の比（ＲＳＣＥ／ＲＳＣＩ）が０．８である面を有するアルミニウム箔を用い、当該面を透明基材と向き合わせて積層した以外は、前記実施例１と同様にして電磁波遮蔽シートを得た。
【００７５】
得られたアルミニウムパターン層のパターン精度は、メッシュのライン幅のバラツキが５．０μｍであり、面ムラは外観上問題がなかった。
【００７６】
（比較例２）
前記実施例１において、アルミニウム箔を銅箔に変更し、当該銅箔の鏡面を、透明基材と向き合わせて積層した以外は、前記実施例１と同様にして電磁波遮蔽シートを得た。
尚、当該銅箔の表面吸着水分量は、１０．０ｍｇ／ｍ２であった。また、当該銅箔の鏡面の全光線反射率（ＲＳＣＩ）に対する拡散光線反射率（ＲＳＣＥ）の比（ＲＳＣＥ／ＲＳＣＩ）は、１．０であった。
【００７７】
（評価結果）
上記の実施例及び比較例に対して、エッチング処理後の電磁波遮蔽シートのヘイズ値をＪＩＳ  Ｋ  ７１０５：１９８１「プラスチックの光学的特性試験方法」に準じて測定した。また、３００μｍ角を単位面積として、大きさ１０μｍ以上の微小気泡の数を光学顕微鏡によって観察した。その結果を表１に記載する。
【００７８】
【表１】
2010080825.tif 000003
【図面の簡単な説明】
【００７９】
【図１】本発明に係る電磁波遮蔽シートの一例の断面模式図である。
【図２】本発明に係る電磁波遮蔽シートの一例の断面模式図である。
【符号の説明】
【００８０】
１  電磁波遮蔽シート
１０  透明基材
１１  透明接着剤層
１２  アルミニウムパターン（メッシュ）層
１２ａ  鏡面
１２ｂ  粗面
１３  酸化被膜
２０  プラズマディスプレイパネル
【図１】
2010080825.tif 000004
【図２】
2010080825.tif 000005