(57)【要約】【課題】軸部材を嵌合する際に応力を緩和でき、かつ、生産効率を向上することができる機械部品、機械部品の製造方法、機械部品組立体および時計を提供する。【解決手段】電鋳により形成され、軸部材１２６ｆを嵌合可能な貫通孔１２６ｋを有する機械部品１２６ｇにおいて、貫通孔の内周面に山部１２６ｍが形成され、山部の頂部１２６ｎが軸部材に当接可能に構成されている。【選択図】図７
2010078147.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電鋳により形成され、軸部材を嵌合可能な貫通孔を有する機械部品において、
前記貫通孔の内周面に山部が形成され、
該山部の頂部が前記軸部材に当接可能に構成されていることを特徴とする機械部品。
【請求項２】
前記山部が、前記貫通孔の内周面に周方向に延びるように形成されていることを特徴とする請求項１に記載の機械部品。
【請求項３】
前記山部が、前記貫通孔の内周面に軸方向に延びるように形成されていることを特徴とする請求項１に記載の機械部品。
【請求項４】
前記貫通孔における前記軸部材が挿入される軸方向一端部側の内径が、軸方向中央部側の内径より拡径されていることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の機械部品。
【請求項５】
前記貫通孔における前記軸部材が挿入される軸方向一端部と反対の他端部側の内径が、軸方向中央部側の内径より拡径されていることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の機械部品。
【請求項６】
前記機械部品が前記軸部材を中心に回動可能に構成されていることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の機械部品。
【請求項７】
前記機械部品が歯車であることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の機械部品。
【請求項８】
複数層からなる基板を用いて、軸部材を嵌合可能な貫通孔を有する機械部品の製造方法であって、
前記基板の上層における前記貫通孔の形成領域に第一マスク材を形成する工程と、
該第一マスク材を用いて前記上層を所定深さまで等方性エッチングするエッチング工程と、
前記等方性エッチングにより形成された凹部の底面および側面に保護膜を形成する保護膜形成工程と、
前記凹部の底面に形成された前記保護膜を除去する保護膜除去工程と、
前記エッチング工程、前記保護膜形成工程および前記保護膜除去工程を繰り返して、前記基板の下層を露出させる工程と、
該下層の表面に電鋳物を形成する電鋳物形成工程と、
前記貫通孔の形成領域に残存する前記上層を含めて前記基板を除去する工程と、を有していることを特徴とする機械部品の製造方法。
【請求項９】
前記基板は、前記下層に埋め込み酸化膜層を備えたＳＯＩ基板であり、
前記電鋳物形成工程の前に、前記埋め込み酸化膜層の表面に金属層を形成する工程を有し、
前記電鋳物形成工程では、前記金属層を電極として前記電鋳物を形成することを特徴とする請求項８に記載の機械部品の製造方法。
【請求項１０】
前記基板は、前記下層に金属層を備え、
前記電鋳物形成工程では、前記金属層を電極として前記電鋳物を形成することを特徴とする請求項８に記載の機械部品の製造方法。
【請求項１１】
前記電鋳物形成工程の前に、前記金属層の表面における前記貫通孔を含む前記機械部品の形成領域以外の領域に、第二マスク材を形成する工程を有し、
前記電鋳物形成工程では、前記第二マスク材を用いて前記機械部品の形成領域に前記電鋳物を形成することを特徴とする請求項９または１０に記載の機械部品の製造方法。
【請求項１２】
電鋳により形成された機械部品と、
該機械部品に形成された貫通孔に挿通可能な軸部材と、を組み立てて形成される機械部品組立体において、
前記貫通孔の内周面および前記軸部材における前記貫通孔に対向する外周面の少なくともいずれか一方に山部が形成され、
該山部の頂部が対向する前記貫通孔の内周面または前記軸部材の外周面に当接可能に構成されていることを特徴とする機械部品組立体。
【請求項１３】
請求項１〜７のいずれかに記載の機械部品が時計の組立部品に用いられていることを特徴とする時計。
【請求項１４】
前記組立部品が、番車、がんぎ車およびアンクルの少なくともいずれか一つであることを特徴とする請求項１３に記載の時計。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、機械部品、機械部品の製造方法および時計に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来から、時計などの精密機械に用いられる歯車などの機械部品を軸部材に嵌合させて使用する方法が知られている。ここで、時計などの精密機械に用いられる歯車は外形が小さく、厚さも薄いため、歯車に軸部材を嵌合させる際の応力の影響が大きく、歯車が変形・破損してしまうことがある。そのため、このような歯車と軸部材との嵌合の際に生じる応力を緩和させるために、歯車に切欠きを形成したものが提案されている（例えば、特許文献１参照）。特許文献１の時計用部品は、電鋳によって製造された歯車の中心孔から４本の細長い切欠きが９０°おきに外方に向かって形成されている。この切欠きにより、歯車を軸部材に嵌合する際の応力を緩和して、歯車の反りや割れなどの変形を防止するというものである。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００６−６４５７５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、特許文献１の時計用部品は、歯車に形成した切欠きのために締め付け力が弱くなり、歯車と軸部材との間で滑り現象が生じる虞がある。そのために、特許文献１の時計用部品には、歯車の中心孔に軸部材と係合する突起を形成し、歯車の空転を防止している。しかしながら、歯車に軸部材を嵌合する際に歯車の中心孔に突起があるために、歯車の突起と軸部材の係合部とが一致するように嵌合する必要があり、位置合わせが困難なため生産効率が悪いという問題があった。
【０００５】
そこで、本発明は、上述の事情に鑑みてなされたものであり、軸部材を嵌合する際に応力を緩和でき、かつ、生産効率を向上することができる機械部品、機械部品の製造方法、機械部品組立体および時計を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記の課題を解決するために、本発明は以下の手段を提供する。
本発明に係る機械部品は、電鋳により形成され、軸部材を嵌合可能な貫通孔を有する機械部品において、前記貫通孔の内周面に山部が形成され、該山部の頂部が前記軸部材に当接可能に構成されていることを特徴としている。
また、前記山部が、前記貫通孔の内周面に周方向に延びるように形成されていることを特徴としている。
または、前記山部が、前記貫通孔の内周面に軸方向に延びるように形成されていることを特徴としている。
【０００７】
このように構成することで、機械部品に軸部材を嵌合すると、機械部品と軸部材とが線接触することとなり、頂部が変形して軸部材を保持するため応力が緩和される。すなわち、その応力は、機械部品の山部の部分で吸収されるため、機械部品全体には反りや割れなどの発生を抑制することができる。さらに、機械部品の貫通孔の形状は周方向または軸方向に一様であるため、機械部品に軸部材を嵌合する際に、位置合わせの必要がなくなり、生産効率を向上することができる。なお、機械部品は電鋳により形成されるため、十分な強度を有することができる。
【０００８】
また、前記貫通孔における前記軸部材が挿入される軸方向一端部側の内径が、軸方向中央部側の内径より拡径されていることを特徴としている。
【０００９】
このように構成することで、軸部材を機械部品の貫通孔に挿入する際に、軸部材を容易に貫通孔内に挿入することができる。
【００１０】
また、前記貫通孔における前記軸部材が挿入される軸方向一端部と反対の他端部側の内径が、軸方向中央部側の内径より拡径されていることを特徴としている。
【００１１】
このように構成することで、軸部材が機械部品の貫通孔に挿通された状態で、貫通孔の他端部側と軸部材との間に空間が形成されるため、その空間に軸部材を挿通させたときに発生する削り屑を溜めることができる。したがって、削り屑が機械部品の貫通孔から外部へ落下して、その削り屑が他の摺動部などに詰まって機能低下を引き起こすのを防止することができる。
【００１２】
また、前記機械部品が前記軸部材を中心に回動可能に構成されていることを特徴としている。
このように構成することで、機械部品と軸部材とが複数箇所で線接触しているため、機械部品が回動する際に滑りが生じることを抑制でき、確実に機械部品を回動させることが可能となる。
【００１３】
また、前記機械部品が歯車であることを特徴としている。
このように構成することで、歯車と軸部材とが複数箇所で線接触しているため、歯車が回動する際に滑りが生じることを抑制でき、歯車を精度良く回動させることが可能となる。
【００１４】
また、本発明に係る機械部品の製造方法は、複数層からなる基板を用いて、軸部材を嵌合可能な貫通孔を有する機械部品の製造方法であって、前記基板の上層における前記貫通孔の形成領域に第一マスク材を形成する工程と、該第一マスク材を用いて前記上層を所定深さまで等方性エッチングするエッチング工程と、前記等方性エッチングにより形成された凹部の底面および側面に保護膜を形成する保護膜形成工程と、前記凹部の底面に形成された前記保護膜を除去する保護膜除去工程と、前記エッチング工程、前記保護膜形成工程および前記保護膜除去工程を繰り返して、前記基板の下層を露出させる工程と、該下層の表面に電鋳物を形成する電鋳物形成工程と、前記貫通孔の形成領域に残存する前記上層を含めて前記基板を除去する工程と、を有していることを特徴としている。
【００１５】
このように半導体プロセスを利用することにより、精密機械加工を用いることなく低コストで山部を形成することができる。また、複数層からなる基板を用いることにより、下層の露出時点で上層のエッチングを停止することが可能になり、機械部品を精度良く製造することができる。このようにして製造された機械部品に軸部材を嵌合すると、機械部品と軸部材とが線接触することとなり、頂部が変形して軸部材を保持するため応力が緩和される。すなわち、その応力は、機械部品の山部の部分で吸収されるため、機械部品全体には反りや割れなどの発生を抑制することができる。さらに、機械部品の貫通孔の形状は周方向に一様であるため、機械部品に軸部材を嵌合する際に、位置合わせの必要がなくなり、生産効率を向上することができる。なお、機械部品は電鋳により形成されるため、十分な強度を有することができる。
【００１６】
また、前記基板は、前記下層に埋め込み酸化膜層を備えたＳＯＩ基板であり、前記電鋳物形成工程の前に、前記埋め込み酸化膜層の表面に金属層を形成する工程を有し、前記電鋳物形成工程では、前記金属層を電極として前記電鋳物を形成することを特徴としている。
このように一般的に流通しているＳＯＩ基板を用いることにより、製造コストを低く抑えることが可能となる。また、埋め込み酸化膜層の表面に金属層を形成することにより、金属層の一箇所に電源を接続するだけで全ての電鋳物の形成領域に電源が供給され、電鋳物を形成することができる。
【００１７】
また、前記基板は、前記下層に金属層を備え、前記電鋳物形成工程では、前記金属層を電極として前記電鋳物を形成することを特徴としている。
このように構成することで、基板の下層に形成された金属層を電極として利用することができるため、電極（金属層）を形成する工程を省略することができる。したがって、生産効率を向上することができる。
【００１８】
また、前記電鋳物形成工程の前に、前記金属層の表面における前記貫通孔を含む前記機械部品の形成領域以外の領域に、第二マスク材を形成する工程を有し、前記電鋳物形成工程では、前記第二マスク材を用いて前記機械部品の形成領域に前記電鋳物を形成することを特徴としている。
このように半導体プロセスを利用することにより、精密機械加工を用いることなく低コストで、寸法精度が確保された山部を有する機械部品を製造することができる。したがって、歩留まりを向上することができる。
【００１９】
また、本発明に係る機械部品組立体は、電鋳により形成された機械部品と、該機械部品に形成された貫通孔に挿通可能な軸部材と、を組み立てて形成される機械部品組立体であって、前記貫通孔の内周面および前記軸部材における前記貫通孔に対向する外周面の少なくともいずれか一方に山部が形成され、該山部の頂部が対向する前記貫通孔の内周面または前記軸部材の外周面に当接可能に構成されていることを特徴としている。
【００２０】
このように構成することで、例えば機械部品の貫通孔の内周面および軸部材の外周面の両方に山部を形成した場合には、より強固なアンカー効果を得ることができる。また、軸部材の外周面のみに山部を形成した場合には、電鋳により形成する機械部品の生産効率を向上させることができる。
【００２１】
また、本発明に係る時計は、上述した機械部品が時計の組立部品に用いられていることを特徴としている。
また、前記組立部品が、番車、がんぎ車およびアンクルの少なくともいずれか一つであることを特徴としている。
このように構成することで、貫通孔に形成された山部により軸部材を嵌合する際の応力を山部で吸収することができるため、時計の組立部品に反りや割れなどが生じるのを抑制することができる。したがって、番車、がんぎ車およびアンクルが正確に回動するために時計の精度を向上させることができる。また、生産効率を向上することができる組立部品を用いているため、時計の生産効率も向上することができる。
【発明の効果】
【００２２】
本発明に係る機械部品によれば、機械部品に軸部材を嵌合すると、機械部品と軸部材とが線接触することとなり、頂部が変形して軸部材を保持するため応力が緩和される。すなわち、その応力は、機械部品の山部の部分で吸収されるため、機械部品全体には反りや割れなどの発生を抑制することができる。さらに、機械部品の貫通孔の形状は周方向に一様であるため、機械部品に軸部材を嵌合する際に、位置合わせの必要がなくなり、生産効率を向上することができる。なお、機械部品は電鋳により形成されるため、十分な強度を有することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】本発明の実施形態における機械式時計のムーブメント表側の平面図である（一部の部品を省略し、受部材は仮想線で示している）。
【図２】本発明の実施形態における香箱からがんぎ車の部分を示す概略部分断面図である。
【図３】本発明の実施形態におけるがんぎ車からてんぷの部分を示す概略部分断面図である。
【図４】本発明の実施形態における三番車を示す上面図である。
【図５】図４のＡ−Ａ線に沿う断面図である。
【図６】本発明の実施形態における三番車を示す斜視図である。
【図７】図５のＢ部拡大図である。
【図８】本発明の第一実施形態における三番歯車の製造方法を示す説明図（１）である。
【図９】本発明の第一実施形態における三番歯車の製造方法を示す説明図（２）である。
【図１０】本発明の第一実施形態における三番歯車の製造方法を示す説明図（３）である。
【図１１】図１０の状態を示す平面図である。
【図１２】本発明の第一実施形態における三番歯車の製造方法を示す説明図（４）である。
【図１３】本発明の第一実施形態における三番歯車の貫通孔の製造方法を示す説明図（１）である。
【図１４】本発明の第一実施形態における三番歯車の貫通孔の製造方法を示す説明図（２）である。
【図１５】本発明の第一実施形態における三番歯車の貫通孔の製造方法を示す説明図（３）である。
【図１６】本発明の第一実施形態における三番歯車の貫通孔の製造方法を示す説明図（４）である。
【図１７】本発明の第一実施形態における三番歯車の貫通孔の製造方法を示す説明図（５）である。
【図１８】本発明の第一実施形態における三番歯車の貫通孔の製造方法を示す説明図（６）である。
【図１９】本発明の第一実施形態における三番歯車の貫通孔の製造方法を示す説明図（７）である。
【図２０】本発明の第一実施形態における三番歯車の製造方法を示す説明図（５）である。
【図２１】図２０の状態を示す平面図である。
【図２２】本発明の第一実施形態における三番歯車の製造方法を示す説明図（６）である。
【図２３】図２２の状態を示す平面図である。
【図２４】本発明の第一実施形態における三番歯車の製造方法を示す説明図（７）である。
【図２５】本発明の第一実施形態における三番歯車の製造方法を示す説明図（８）である。
【図２６】図２５の状態を示す平面図である。
【図２７】本発明の第一実施形態における三番歯車の製造方法を示す説明図（９）である。
【図２８】本発明の第一実施形態における三番歯車の製造方法を示す説明図（１０）である。
【図２９】本発明の第一実施形態における三番歯車の製造方法を示す説明図（１１）である。
【図３０】本発明の第一実施形態における電鋳工程を示す説明図（１）である。
【図３１】本発明の第一実施形態における電鋳工程を示す説明図（２）である。
【図３２】本発明の実施形態における三番歯車の製造に用いる基板の別の態様を示す断面図である。
【図３３】本発明の実施形態における三番歯車の製造に用いる基板のさらに別の態様を示す断面図である。
【図３４】本発明の第二実施形態における三番車の部分拡大図（第一実施形態の図７に相当）である。
【図３５】本発明の第二実施形態における三番歯車の製造方法を示す説明図（１）である。
【図３６】本発明の第二実施形態における三番歯車の製造方法を示す説明図（２）である。
【図３７】本発明の第二実施形態における三番歯車の製造方法を示す説明図（３）である。
【図３８】図３７の状態を示す平面図である。
【図３９】本発明の第二実施形態における三番歯車の製造方法を示す説明図（４）である。
【図４０】本発明の第二実施形態における三番歯車の貫通孔の製造方法を示す説明図（１）である。
【図４１】本発明の第二実施形態における三番歯車の貫通孔の製造方法を示す説明図（２）である。
【図４２】本発明の第二実施形態における三番歯車の貫通孔の製造方法を示す説明図（３）である。
【図４３】本発明の第二実施形態における三番歯車の貫通孔の製造方法を示す説明図（４）である。
【図４４】本発明の第二実施形態における三番歯車の貫通孔の製造方法を示す説明図（５）である。
【図４５】本発明の第二実施形態における三番歯車の貫通孔の製造方法を示す説明図（６）である。
【図４６】本発明の第二実施形態における三番歯車の貫通孔の製造方法を示す説明図（７）である。
【図４７】本発明の第二実施形態における三番歯車の製造方法を示す説明図（５）である。
【図４８】図４７の状態を示す平面図である。
【図４９】本発明の第二実施形態における三番歯車の製造方法を示す説明図（６）である。
【図５０】本発明の第二実施形態における三番歯車の製造方法を示す説明図（７）である。
【図５１】本発明の第二実施形態における三番歯車の製造方法を示す説明図（８）である。
【図５２】図５１の状態を示す平面図である。
【図５３】本発明の第二実施形態における三番歯車の製造方法を示す説明図（９）である。
【図５４】本発明の第二実施形態における三番歯車の製造方法を示す説明図（１０）である。
【図５５】図５４の状態を示す平面図である。
【図５６】本発明の第二実施形態における三番歯車の製造方法を示す説明図（１１）である。
【図５７】本発明の第二実施形態における三番歯車の製造方法を示す説明図（１２）である。
【図５８】本発明の第二実施形態における三番歯車の製造方法を示す説明図（１３）である。
【図５９】本発明の実施形態における三番歯車の別の態様を示す断面図（１）である。
【図６０】本発明の実施形態における三番歯車の別の態様を示す断面図（２）である。
【図６１】本発明の実施形態における三番歯車の別の態様を示す断面図（３）である。
【図６２】本発明の実施形態における三番歯車の別の態様を示す断面図（４）である。
【図６３】本発明の実施形態における三番歯車の別の態様を示す断面図（５）である。
【図６４】本発明の実施形態における三番歯車の別の態様を示す断面図（６）である。
【図６５】本発明の実施形態における三番歯車の別の態様を示す断面図（７）である。
【図６６】本発明の実施形態における三番歯車の別の態様を示す断面図（８）である。
【図６７】図６４の三番歯車に三番かなが取り付けられた状態を示す断面図である。
【図６８】本発明の実施形態における三番歯車の別の態様を示す断面図（９）である。
【図６９】本発明の実施形態における三番歯車の別の態様を示す断面図（１０）である。
【図７０】本発明の実施形態における三番歯車の別の態様を示す断面図（１１）である。
【図７１】本発明の実施形態における三番歯車の別の態様を示す断面図（１２）である。
【図７２】本発明の実施形態における三番歯車の別の態様を示す断面図（１３）である。
【図７３】本発明の実施形態における三番歯車の別の態様を示す断面図（１４）である。
【図７４】本発明の実施形態における三番歯車の別の態様を示す断面図（１５）である。
【図７５】本発明の実施形態における三番歯車の別の態様を示す断面図（１６）である。
【図７６】本発明の実施形態における三番歯車の別の態様を示す断面図（１７）である。
【図７７】本発明の実施形態における三番歯車の貫通孔の別の態様を示す平面図である。
【図７８】図７７の貫通孔の形状を表した部分斜視図である。
【図７９】本発明の実施形態における三番歯車（電鋳物）の製造方法の別の態様を説明する断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
（第一実施形態）
次に、本発明に係る機械部品の第一実施形態を図１〜図３３に基づいて説明する。なお、本実施形態では、機械部品が機械式時計に用いられる歯車（番車）の場合について説明する。
（機械式時計）
図１〜図３に示すように、機械式時計のムーブメント１００は、ムーブメント１００の基板を構成する地板１０２を有している。地板１０２の巻真案内穴１０２ａには、巻真１１０が回転可能に組み込まれている。文字板１０４（図２参照）はムーブメント１００に取り付けられる。一般に、地板１０２の両側のうち、文字板１０４が配される側をムーブメント１００の裏側と称し、文字板１０４が配される側の反対側をムーブメント１００の表側と称する。ムーブメント１００の表側に組み込まれる輪列を表輪列と称し、ムーブメント１００の裏側に組み込まれる輪列を裏輪列と称する。
【００２５】
おしどり１９０、かんぬき１９２、かんぬきばね１９４、裏押さえ１９６を含む切換装置により、巻真１１０の軸線方向の位置が決められている。きち車１１２は巻真１１０の案内軸部に回転可能に設けられている。巻真１１０が、回転軸線方向に沿ってムーブメント１００の内側に一番近い方の第１の巻真位置（０段目）にある状態で巻真１１０を回転させると、つづみ車の回転を介してきち車１１２が回転する。丸穴車１１４は、きち車１１２の回転により回転する。また、角穴車１１６は、丸穴車１１４の回転により回転する。角穴車１１６が回転することにより、香箱車１２０に収容されたぜんまい１２２（図２参照）を巻き上げる。
【００２６】
二番車１２４は、香箱車１２０の回転により回転する。がんぎ車１３０は、四番車１２８、三番車１２６、二番車１２４の回転を介して回転する。香箱車１２０、二番車１２４、三番車１２６、四番車１２８は表輪列を構成する。
【００２７】
表輪列の回転を制御するための脱進・調速装置は、てんぷ１４０と、がんぎ車１３０と、アンクル１４２とを含む。てんぷ１４０は、てん真１４０ａと、ひげぜんまい１４０ｃとを含む。二番車１２４の回転に基づいて、筒かな１５０が同時に回転する。筒かな１５０に取り付けられた分針１５２が「分」を表示する。筒かな１５０には、二番車１２４に対するスリップ機構が設けられている。筒かな１５０の回転に基づいて、日の裏車の回転を介して、筒車１５４が回転する。筒車１５４に取り付けられた時針１５６が「時」を表示する。
【００２８】
ひげぜんまい１４０ｃは、複数の巻き数をもったうずまき状（螺旋状）の形態の薄板ばねである。ひげぜんまい１４０ｃの内端部は、てん真１４０ａに固定されたひげ玉１４０ｄに固定され、ひげぜんまい１４０ｃの外端部は、てんぷ受１６６に固定されたひげ持受１７０に取り付けたひげ持１７０ａを介してねじ締めにより固定されている。緩急針１６８は、てんぷ受１６６に回転可能に取り付けられている。また、てんぷ１４０は、地板１０２およびてんぷ受１６６に対して回転可能に支持されている。
【００２９】
香箱車１２０は、香箱歯車１２０ｄと、香箱真１２０ｆと、ぜんまい１２２とを備えている。香箱真１２０ｆは、上軸部１２０ａと、下軸部１２０ｂとを含む。香箱真１２０ｆは、炭素鋼などの金属で形成されている。香箱歯車１２０ｄは黄銅などの金属で形成されている。
【００３０】
二番車１２４は、上軸部１２４ａと、下軸部１２４ｂと、かな部１２４ｃと、歯車部１２４ｄと、そろばん玉部１２４ｈとを含む。二番車１２４のかな部１２４ｃは香箱歯車１２０ｄと噛み合うように構成されている。上軸部１２４ａ、下軸部１２４ｂおよびそろばん玉部１２４ｈは、炭素鋼などの金属で形成されている。歯車部１２４ｄはニッケルなどの金属で形成されている。
【００３１】
三番車１２６は、上軸部１２６ａと、下軸部１２６ｂと、かな部１２６ｃと、歯車部１２６ｄとを含む。三番車１２６のかな部１２６ｃは歯車部１２４ｄと噛み合うように構成されている。
【００３２】
四番車１２８は、上軸部１２８ａと、下軸部１２８ｂと、かな部１２８ｃと、歯車部１２８ｄとを含む。四番車１２８のかな部１２８ｃは歯車部１２６ｄと噛み合うように構成されている。上軸部１２８ａと、下軸部１２８ｂは、炭素鋼などの金属で形成されている。歯車部１２８ｄはニッケルなどの金属で形成されている。
【００３３】
がんぎ車１３０は、上軸部１３０ａと、下軸部１３０ｂと、かな部１３０ｃと、歯車部１３０ｄとを含む。がんぎ車１３０のかな部１３０ｃは歯車部１２８ｄと噛み合うように構成されている。アンクル１４２は、アンクル体１４２ｄと、アンクル真１４２ｆとを備えている。アンクル真１４２ｆは、上軸部１４２ａと、下軸部１４２ｂとを含む。
【００３４】
香箱車１２０は、地板１０２および香箱受１６０に対して回転可能に支持されている。すなわち、香箱真１２０ｆの上軸部１２０ａは、香箱受１６０に対して回転可能に支持される。香箱真１２０ｆの下軸部１２０ｂは、地板１０２に対して、回転可能に支持される。二番車１２４、三番車１２６、四番車１２８、がんぎ車１３０は、地板１０２および輪列受１６２に対して回転可能に支持されている。すなわち、二番車１２４の上軸部１２４ａ、三番車１２６の上軸部１２６ａ、四番車１２８の上軸部１２８ａ、がんぎ車１３０の上軸部１３０ａは、輪列受１６２に対して回転可能に支持される。また、二番車１２４の下軸部１２４ｂ、三番車１２６の下軸部１２６ｂ、四番車１２８の下軸部１２８ｂ、がんぎ車１３０の下軸部１３０ｂは、地板１０２に対して、回転可能に支持される。
【００３５】
アンクル１４２は、地板１０２およびアンクル受１６４に対して回転可能に支持されている。すなわち、アンクル１４２の上軸部１４２ａは、アンクル受１６４に対して回転可能に支持される。アンクル１４２の下軸部１４２ｂは、地板１０２に対して、回転可能に支持される。
【００３６】
香箱真１２０ｆの上軸部１２０ａを回転可能に支持する香箱受１６０の軸受部と、二番車１２４の上軸部１２４ａを回転可能に支持する輪列受１６２の軸受部と、三番車１２６の上軸部１２６ａを回転可能に支持する輪列受１６２の軸受部と、四番車１２８の上軸部１２８ａを回転可能に支持する輪列受１６２の軸受部と、がんぎ車１３０の上軸部１３０ａを回転可能に支持する輪列受１６２の軸受部と、アンクル１４２の上軸部１４２ａを回転可能に支持するアンクル受１６４の軸受部には、潤滑油が注油される。また、香箱真１２０ｆの下軸部１２０ｂを回転可能に支持する地板１０２の軸受部と、二番車１２４の下軸部１２４ｂを回転可能に支持する地板１０２の軸受部と、三番車１２６の下軸部１２６ｂを回転可能に支持する地板１０２の軸受部と、四番車１２８の下軸部１２８ｂを回転可能に支持する地板１０２の軸受部と、がんぎ車１３０の下軸部１３０ｂを回転可能に支持する地板１０２の軸受部と、アンクル１４２の下軸部１４２ｂを回転可能に支持する地板１０２の軸受部には、潤滑油が注油される。この潤滑油は、精密機械用油であるのが好ましく、いわゆる時計油であるのが特に好ましい。
【００３７】
地板１０２のそれぞれの軸受部、香箱受１６０の軸受部、輪列受１６２のそれぞれの軸受部には、潤滑油の保持性能を高めるために、円錐状、円筒状、または円錐台状の油溜め部を設けるのが好ましい。油溜め部を設けると、潤滑油の表面張力により油が拡散するのを効果的に阻止することができる。地板１０２、香箱受１６０、輪列受１６２、アンクル受１６４は、黄銅などの金属で形成してもよいし、ポリカーボネートなどの樹脂で形成してもよい。
【００３８】
（番車の構造）
次に、本実施形態の番車の構造について説明する。なお、番車の構造は略同一であるため、三番車１２６を用いて説明する。
図４〜図６に示すように、三番車１２６は、三番かな１２６ｆと、三番歯車１２６ｇとを備えている。三番歯車１２６ｇの厚さＴ０は、例えば、１０μｍ以上１０ｍｍ以下である。三番かな１２６ｆは、上軸部１２６ａと、下軸部１２６ｂと、かな部１２６ｃとを備えている。三番歯車１２６ｇは、中心支持部１２６ｈと、あみだ部１２６ｊ（本実施形態では、５本）と、歯車部１２６ｄとを備えている。三番かな１２６ｆは、炭素鋼などの金属で形成されている。三番歯車１２６ｇはニッケルなどの金属で形成されている。そして、三番車１２６は、三番歯車１２６ｇの中心に形成された貫通孔１２６ｋに三番かな１２６ｆを挿通して固定されている。
【００３９】
ここで、図７に示すように、三番歯車１２６ｇの貫通孔１２６ｋの周面の形状は、三番かな１２６ｆの軸方向に沿って山部１２６ｍが複数形成され、山部１２６ｍの頂部１２６ｎが三番かな１２６ｆに当接されて固定されている。また、一つの山部１２６ｍの軸方向の幅Ｔ１は、例えば、１μｍ以上１０ｍｍ以下である。山部１２６ｍの断面形状は、ほぼ円弧でその半径Ｒ１はＴ１のおよそ半分である。山部１２６ｍの数は１以上１００００以下である。
【００４０】
（番車の製造方法）
次に、本実施形態の番車（三番歯車１２６ｇ）の製造方法について説明する。
図８〜図３３は三番歯車１２６ｇの製造方法を説明する図である。
図８は、三番歯車１２６ｇを形成するための基板１０である。基板１０は、支持層１０ａと活性層１０ｂの間にＢＯＸ層１０ｃが挟まれたＳＯＩ（Ｓｉｌｉｃｏｎ  Ｏｎ  Ｉｎｓｕｌａｔｅｒ）基板であり、支持層１０ａと活性層１０ｂはＳｉ、ＢＯＸ層１０ｃはＳｉＯ２で形成されている。支持層１０ａの厚さは、後の工程で破損あるいは変形が起こらないよう、１００μｍ以上１ｍｍ以下とする。活性層１０ｂの厚さは、製造する三番歯車１２６ｇの厚さＴ０以上とする。ＢＯＸ層１０ｃの厚さは、１μｍ以上１ｍｍ以下とする。なお、ＳＯＩ基板の他に、支持層１０ａのＳｉと活性層１０ｂのＳｉの間に金属材料を挟んだ基板や、支持層１０ａに金属材料を用い、その上に活性層１０ｂのＳｉがある基板でも三番歯車１２６ｇを製造することが可能である。この製造方法については後述する。
【００４１】
図９は、フォトレジスト１１を塗布した図である。活性層１０ｂ上にフォトレジスト１１を堆積する。フォトレジスト１１は、ネガ型でもポジ型でもよいが、ネガ型の場合を用いて説明する。フォトレジスト１１の厚さは１μｍ以上１ｍｍ以下で形成する。
【００４２】
図１０は、フォトレジスト１１を露光・現像した図である。三番歯車１２６ｇの貫通孔１２６ｋのパターンが形成されたフォトマスク（不図示）を用いて、フォトレジスト１１に紫外線やＸ線等の露光光を照射し、三番歯車１２６ｇの貫通孔１２６ｋにあたる部分のフォトレジスト１１を硬化させる。そして、未硬化のフォトレジスト１１部分を除去し、エッチングパターンが完成する。図１１は、図１０の平面図である。図１１に示すように、一枚の基板１０で複数の三番歯車１２６ｇを形成するように構成されている（本実施形態では、１５個）。
【００４３】
図１２は、活性層１０ｂをエッチングした図である。フォトレジスト１１の部分を残して、活性層１０ｂのＳｉをＢＯＸ層１０ｃの表面までエッチングする。ここで、本実施形態では、活性層１０ｂに貫通孔１２６ｋの軸方向に沿って形成される断面略半円形状の山部１２６ｍに相当する谷部１５が複数連なるように形成されている。
【００４４】
ここで、活性層１０ｂに谷部１５を連続形成しながらエッチングする方法を図１３〜図１９を用いて説明する。
図１３は、図１０の状態を示す部分拡大図である。図１３では貫通孔１２６ｋに対応した位置のフォトレジスト１１を２箇所表示している。
【００４５】
図１４は、一回目のＳｉエッチング工程を説明する図である。一回のＳｉエッチング工程で削るＳｉの厚みはＴ１とする。ここで、隣接するフォトレジスト１１間には凹部１４が形成される。また、フォトレジスト１１の無い、Ｓｉ面の露出している部分がエッチングされるが、等方性エッチングを行うことで、フォトレジスト１１の下にある活性層１０ｂの側面１７も部分的にエッチングされ、谷部１５が形成される。エッチングする厚みＴ１を制御することで、三番歯車１２６ｇの貫通孔１２６ｋに対応する側面１７の谷部１５の半径Ｒ１を任意の大きさにできる。このようにして一回の等方性エッチングにより一つの山部１２６ｍに相当する一つの谷部１５が形成される。
【００４６】
図１５は、保護膜を形成した図である。二回目のエッチングでフォトレジスト１１の下にある活性層１０ｂが図１４の状態以上に削られないよう、一回目のエッチング面（凹部１４）に保護膜１９を形成する。保護膜１９は、例えばフッ化炭素などで形成されている。保護膜１９は、Ｃ４Ｆ８ガスなどを用いてＣＶＤ法によりＳｉの表面に膜を形成する。
【００４７】
図１６は、凹部１４の底面２１の保護膜１９のみを除去した図である。凹部１４の側面（側面１７）の保護膜１９を残し、底面２１の保護膜１９のみを除去して活性層１０ｂ（Ｓｉ面）を露出させる。このように底面２１の保護膜１９のみを除去するには、例えばＳＦ６ガスを用いてエッチングを行うと、イオンが底面２１の保護膜１９に対して鉛直方向から衝突し、そのイオン衝撃により底面２１の保護膜１９のみが除去される。
【００４８】
図１７は、二回目のＳｉエッチング工程を説明する図である。図１４と同様に、Ｓｉの等方性エッチングを行う。すると、保護膜１９が形成されていない底面２１のＳｉが等方エッチングされる。この後、図１５〜図１７の工程を所定回数行う。
【００４９】
図１８は、Ｓｉエッチング、保護膜形成、底面の保護膜除去をＢＯＸ層（ＳｉＯ２面）１０ｃに到達するまで繰り返し行った図である。図１４のＳｉエッチング工程、図１５の保護膜形成工程、図１６の保護膜除去工程を、基板１０のＢＯＸ層１０ｃに達するまで繰り返し行う（本実施形態では、６回繰り返している）。すると、活性層１０ｂの側面１７には谷部１５が複数（６個）形成される。
【００５０】
図１９は、保護膜１９を全て除去した図である。保護膜１９は、酸素プラズマアッシングによって除去する。活性層１０ｂの側面１７に形成された保護膜１９を除去する。図１９は、図１２と同じ状態である。
【００５１】
図２０は、フォトレジスト１１を除去した図である。エッチングあるいは物理的な力等によってフォトレジスト１１を除去する。この工程は、後の工程に差し支えなければ省略してもよい。図２１は、図２０の平面図である。
【００５２】
図２２は、電極を形成した図である。基板１０（ＢＯＸ層１０ｃ）上に電極２３を蒸着等によって形成する。電極２３は、Ｃｒ、Ａｕ、Ｃｕ、Ｔｉ等で形成される。電極２３の厚さは、１０ｎｍ以上１０μｍ以下とする。図２３は、図２２の平面図である。
【００５３】
図２４は、フォトレジスト２５を塗布した図である。電極２３の上にフォトレジスト２５を堆積する。フォトレジスト２５は、ネガ型でもポジ型でもよいが、ネガ型の場合を用いて説明する。フォトレジスト２５の厚みは、三番歯車１２６ｇの厚みＴ０より厚く形成する。
【００５４】
図２５は、フォトレジスト２５を露光・現像した図である。三番歯車１２６ｇ全体のパターンが形成されたフォトマスク（不図示）を用いて、フォトレジスト２５に紫外線やＸ線等の露光光を照射し、三番歯車１２６ｇの電鋳に使用する部分以外のフォトレジスト２５を硬化させる。三番歯車１２６ｇの貫通孔１２６ｋのパターンはなくてもよい。未硬化のフォトレジスト２７部分を除去し、電鋳型３１が完成する。図２６は、図２５の平面図である。
【００５５】
図２７は、電鋳工程を説明する図である。電極２３上に電鋳物３３を厚みがＴ０以上になるよう堆積させる。電鋳する材料は、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｃｏ、Ａｕ等の金属や、Ｎｉ−Ｗ、Ｎｉ−Ｂ等の合金、あるいはＮｉ−Ａｌ２Ｏ３、Ｎｉ−ＳｉＣ等の複合物であればよい。なお、電鋳工程は図３０、図３１に示すように、電鋳液４１の中に電極２３が形成された電鋳型３１を冶具４２に取り付けた状態で浸し、陽極４３と電極２３との間に電源４４を配し、電圧を印加することにより電極２３の表面に金属（電鋳物３３）が析出する。
【００５６】
図２８は、研削・研磨工程を説明する図である。研削によって電鋳物３３の高さが三番歯車１２６ｇの厚みＴ０になるように電鋳物３３及びフォトレジスト２５を削る。さらに研磨を行い、電鋳物３３の表面を鏡面に仕上げる。
【００５７】
図２９は、電鋳物３３（三番歯車１２６ｇ）を取出した図である。基板１０、フォトレジスト２５、電極２３をエッチングあるいは物理的な力等によって除去し、電鋳物３３（三番歯車１２６ｇ）を取り出す。なお、支持層１０ａおよび活性層１０ｂのＳｉは、エッチング液に浸して溶かして除去してもよい。
【００５８】
このようにして製造された三番歯車１２６ｇは、貫通孔１２６ｋに軸方向に沿って山部１２６ｍを複数有している。
このように構成することで、三番歯車１２６ｇの貫通孔１２６ｋに三番かな１２６ｆを嵌合すると、山部１２６ｍの頂部１２６ｎと三番かな１２６ｆの外周面とが線接触することとなり、応力が緩和される。また、その応力は、三番歯車１２６ｇの山部１２６ｍの部分で抑制されるため、三番歯車１２６ｇ全体に反りや割れなどが生じるのを抑制することができる。さらに、三番歯車１２６ｇの貫通孔１２６ｋの形状には向きの依存性がないため、三番歯車１２６ｇに三番かな１２６ｆを嵌合する際に、位置合わせの必要がなくなり、生産効率を向上することができる。なお、三番歯車１２６ｇは電鋳により形成されるため、十分な強度を有している。
【００５９】
また、三番歯車１２６ｇと三番かな１２６ｆとが複数箇所で線接触しているため、三番歯車１２６ｇが回動する際に滑りが生じることを抑制でき、確実に三番歯車１２６ｇを回動させることが可能となる。
【００６０】
また、上述した製造方法により三番歯車１２６ｇを製造することにより、貫通孔１２６ｋの周面に複数の山部１２６ｍを有する三番歯車１２６ｇを電鋳により容易に形成することができる。
【００６１】
次に、番車（三番歯車１２６ｇ）の別の製造方法について説明する。
図３２は、三番歯車１２６ｇを製造する際に用いる基板の断面図である。図３２に示すように、基板５０は、支持層５０ａのＳｉと活性層５０ｂのＳｉの間に金属層５０ｃが形成された基板である。金属層５０ｃは、Ｃｒ、Ａｕ、Ｃｕ、Ｔｉ等で構成されている。支持層５０ａのＳｉの厚みは、上述の場合と同様、１００μｍ以上１ｍｍ以下とする。活性層５０ｂのＳｉの厚みは、製造する三番歯車１２６ｇの厚みＴ０以上とする。金属層５０ｃの厚みは、１μｍ以上１ｍｍ以下とする。
【００６２】
このような基板５０を用いることにより、上述の図１２の工程を終了した時点で、金属層５０ｃが露出するため、後の電鋳工程の際に電極として利用することができる。また、上述の図２２の電極形成工程が不要となるため、生産効率を向上することができる。
【００６３】
なお、図３３に示すように、支持層５５ａに金属材料を用い、その上に活性層５５ｂのＳｉがある基板５５でも同様の工程で三番歯車１２６ｇの製造が可能である。金属材料は、Ｃｒ、Ａｕ、Ｃｕ、Ｔｉ等で構成されている。支持層５５ａの厚みは、１００μｍ以上１ｍｍ以下とし、活性層５５ｂのＳｉの厚みは、製造する三番歯車１２６ｇの厚みＴ０以上とする。このような基板５５を用いても上述と同様、生産効率を向上することができる。
【００６４】
そして、上述した製造方法を用いて時計の組立部品である二番車１２４、四番車１２８、がんぎ車１３０およびアンクル１４２を製造することにより、機械式時計の組立部品に反りや割れなどが生じるのを抑制することができる。したがって、番車１２４，１２６，１２８、がんぎ車１３０およびアンクル１４２が正確に回動するために機械式時計の精度を向上させることができる。また、生産効率を向上することができる組立部品を用いているため、機械式時計の生産効率も向上することができる。
【００６５】
（第二実施形態）
次に、本発明に係る機械部品の第二実施形態を図３４〜図５８に基づいて説明する。なお、本実施形態は、第一実施形態と歯車（三番歯車）の貫通孔の形状が異なるのみであり、その他の部分については第一実施形態と略同一であるため、同一箇所には同一符号を付して詳細な説明は省略する。また、本実施形態における三番歯車の符号を２２６ｇとし、三番かなの符号を２２６ｆとする。
【００６６】
図３４に示すように、三番歯車２２６ｇの貫通孔２２６ｋの周面の形状は、三番かな２２６ｆの軸方向に沿って山部２２６ｍが複数形成され、山部２２６ｍの頂部２２６ｎが三番かな２２６ｆに当接されて固定されている。また、一つの山部２２６ｍの軸方向の幅Ｔ１は、例えば、１μｍ以上１０ｍｍ以下である。山部２２６ｍの断面形状は、ほぼ円弧でその半径Ｒ１はＴ１のおよそ半分であり、第一実施形態と軸方向を中心に１８０°回転したような形状に形成されている。つまり、断面円弧状の頂点が径方向外側に位置し、円弧部の周縁が頂部２２６ｎになるように構成されている。また、山部２２６ｍの数は１以上１００００以下である。
【００６７】
（番車の製造方法）
次に、本実施形態の番車（三番歯車２２６ｇ）の製造方法について説明する。
図３５〜図５８は三番歯車２２６ｇの製造方法を説明する図である。
図３５は、三番歯車２２６ｇを形成するための基板１０である。基板１０は、支持層１０ａと活性層１０ｂの間にＢＯＸ層１０ｃが挟まれたＳＯＩ（Ｓｉｌｉｃｏｎ  Ｏｎ  Ｉｎｓｕｌａｔｅｒ）基板であり、支持層１０ａと活性層１０ｂはＳｉ、ＢＯＸ層１０ｃはＳｉＯ２で形成されている。支持層１０ａの厚さは、後の工程で破損あるいは変形が起こらないよう、１００μｍ以上１ｍｍ以下とする。活性層１０ｂの厚さは、製造する三番歯車２２６ｇの厚さＴ０以上とする。ＢＯＸ層１０ｃの厚さは、１μｍ以上１ｍｍ以下とする。なお、ＳＯＩ基板の他に、支持層１０ａのＳｉと活性層１０ｂのＳｉの間に金属材料を挟んだ基板や、支持層１０ａに金属材料を用い、その上に活性層１０ｂのＳｉがある基板でも三番歯車２２６ｇを製造することが可能である。
【００６８】
図３６は、フォトレジスト１１を塗布した図である。活性層１０ｂ上にフォトレジスト１１を堆積する。フォトレジスト１１は、ネガ型でもポジ型でもよいが、ネガ型の場合を用いて説明する。フォトレジスト１１の厚さは１μｍ以上１ｍｍ以下で形成する。
【００６９】
図３７は、フォトレジスト１１を露光・現像した図である。三番歯車２２６ｇの貫通孔２２６ｋのパターンが形成されたフォトマスク（不図示）を用いて、フォトレジスト１１に紫外線やＸ線等の露光光を照射し、三番歯車２２６ｇの貫通孔２２６ｋにあたる部分以外のフォトレジスト１１を硬化させる。そして、未硬化のフォトレジスト１１部分を除去し、エッチングパターンが完成する。図３８は、図３７の平面図である。図３８に示すように、一枚の基板１０で複数の三番歯車２２６ｇを形成するように構成されている（本実施形態では、１５個）。
【００７０】
図３９は、活性層１０ｂをエッチングした図である。フォトレジスト１１の部分を残して、活性層１０ｂのＳｉをＢＯＸ層１０ｃの表面までエッチングする。ここで、本実施形態では、活性層１０ｂに貫通孔２２６ｋの軸方向に沿って形成される断面略半円形状の山部２２６ｍに相当する谷部１１５が軸方向に複数連なるように形成されている。
【００７１】
ここで、活性層１０ｂに谷部１１５を連続形成しながらエッチングする方法を図４０〜図４６を用いて説明する。
図４０は、図３７の状態を示す部分拡大図である。図４０ではフォトレジスト１１に形成された貫通孔（貫通孔２２６ｋに対応）を１箇所だけ表示している。
【００７２】
図４１は、一回目のＳｉエッチング工程を説明する図である。一回のＳｉエッチング工程で削るＳｉの厚みはＴ１とする。ここで、フォトレジスト１１に形成された貫通孔部分には凹部１１４が形成される。また、フォトレジスト１１の無い、Ｓｉ面の露出している部分がエッチングされるが、等方性エッチングを行うことで、フォトレジスト１１の下にある活性層１０ｂの側面１７も部分的にエッチングされ、谷部１１５が形成される。エッチングする厚みＴ１を制御することで、三番歯車２２６ｇの貫通孔２２６ｋに対応する側面１７の谷部１５の半径Ｒ１を任意の大きさにできる。このようにして一回の等方性エッチングにより一つの山部２２６ｍに相当する一つの谷部１１５が形成される。なお、厚みＴ１を制御するには、エッチング時間を調整することにより行えばよい。
【００７３】
図４２は、保護膜を形成した図である。二回目のエッチングでフォトレジスト１１の下にある活性層１０ｂが図４１の状態以上に削られないよう、一回目のエッチング面（凹部１１４）に保護膜１９を形成する。保護膜１９は、例えばフッ化炭素などで形成されている。保護膜１９は、Ｃ４Ｆ８ガスなどを用いてＣＶＤ法によりＳｉの表面に膜を形成する。
【００７４】
図４３は、凹部１１４の底面２１の保護膜１９のみを除去した図である。凹部１１４の側面（側面１７）の保護膜１９を残し、底面２１の保護膜１９のみを除去して活性層１０ｂ（Ｓｉ面）を露出させる。このように底面２１の保護膜１９のみを除去するには、例えばＳＦ６ガスを用いてエッチングを行うと、イオンが底面２１の保護膜１９に対して鉛直方向から衝突し、そのイオン衝撃により底面２１の保護膜１９のみが除去される。
【００７５】
図４４は、二回目のＳｉエッチング工程を説明する図である。図４１と同様に、Ｓｉの等方性エッチングを行う。すると、保護膜１９が形成されていない底面２１のＳｉが等方エッチングされる。この後、図４２〜図４４の工程を所定回数行う。
【００７６】
図４５は、Ｓｉエッチング、保護膜形成、底面の保護膜除去をＢＯＸ層（ＳｉＯ２面）１０ｃに到達するまで繰り返し行った図である。図４１のＳｉエッチング工程、図４２の保護膜形成工程、図４３の保護膜除去工程を、基板１０のＢＯＸ層１０ｃに達するまで繰り返し行う（本実施形態では、６回繰り返している）。すると、活性層１０ｂの側面１７には谷部１１５を軸方向に複数（６個）有する貫通孔２１０が形成される。
【００７７】
図４６は、保護膜１９を全て除去した図である。保護膜１９は、酸素プラズマアッシングによって除去する。活性層１０ｂの側面１７に形成された保護膜１９を除去する。図４６は、図３９と同じ状態である。
【００７８】
図４７は、フォトレジスト１１を除去した図である。エッチングあるいは物理的な力等によってフォトレジスト１１を除去する。この工程は、後の工程に差し支えなければ省略してもよい。図４８は、図４７の平面図である。
【００７９】
図４９は、活性層１０ｂに形成された貫通孔２１０に樹脂材料２１１を充填した図である。樹脂材料２１１は、貫通孔２１０の谷部１１５にも充填した状態で硬化させる。
【００８０】
図５０は、活性層１０ｂを除去した図である。活性層１０ｂは、例えばエッチング液に浸すことにより溶かして除去させる。
【００８１】
図５１は、電極を形成した図である。基板１０（ＢＯＸ層１０ｃ）上に電極２３を蒸着等によって形成する。電極２３は、Ｃｒ、Ａｕ、Ｃｕ、Ｔｉ等で形成される。電極２３の厚さは、１０ｎｍ以上１０μｍ以下とする。図５２は、図５１の平面図である。
【００８２】
図５３は、フォトレジスト２５を塗布した図である。電極２３の上にフォトレジスト２５を堆積する。フォトレジスト２５は、ネガ型でもポジ型でもよいが、ネガ型の場合を用いて説明する。フォトレジスト２５の厚みは、三番歯車２２６ｇの厚みＴ０より厚く形成する。
【００８３】
図５４は、フォトレジスト２５を露光・現像した図である。三番歯車２２６ｇ全体のパターンが形成されたフォトマスク（不図示）を用いて、フォトレジスト２５に紫外線やＸ線等の露光光を照射し、三番歯車２２６ｇの電鋳に使用する部分以外のフォトレジスト２５を硬化させる。三番歯車２２６ｇの貫通孔２２６ｋのパターンはなくてもよい。未硬化のフォトレジスト２７部分を除去し、電鋳型１３１が完成する。図５５は、図５４の平面図である。
【００８４】
図５６は、電鋳工程を説明する図である。電極２３上に電鋳物３３を厚みがＴ０以上になるよう堆積させる。電鋳する材料は、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｃｏ、Ａｕ等の金属や、Ｎｉ−Ｗ、Ｎｉ−Ｂ等の合金、あるいはＮｉ−Ａｌ２Ｏ３、Ｎｉ−ＳｉＣ等の複合物であればよい。なお、電鋳工程は第一実施形態の図３０、図３１に示すように、電鋳液４１の中に電極２３が形成された電鋳型１３１を冶具４２に取り付けた状態で浸し、陽極４３と電極２３との間に電源４４を配し、電圧を印加することにより電極２３の表面に金属（電鋳物１３３）が析出する。
【００８５】
図５７は、研削・研磨工程を説明する図である。研削によって電鋳物１３３の高さが三番歯車２２６ｇの厚みＴ０になるように電鋳物３３及びフォトレジスト２５を削る。さらに研磨を行い、電鋳物１３３の表面を鏡面に仕上げる。
【００８６】
図５８は、電鋳物１３３（三番歯車２２６ｇ）を取出した図である。基板１０、フォトレジスト２５、電極２３および樹脂材料２１１をエッチングあるいは物理的な力等によって除去し、電鋳物１３３（三番歯車２２６ｇ）を取り出す。なお、支持層１０ａのＳｉは、エッチング液に浸して溶かして除去してもよい。
【００８７】
このようにして製造された三番歯車２２６ｇは、貫通孔２２６ｋに軸方向に沿って山部２２６ｍを複数有している。
このように構成することで、三番歯車２２６ｇの貫通孔２２６ｋに三番かな２２６ｆを嵌合すると、山部２２６ｍの頂部２２６ｎと三番かな２２６ｆの外周面とが線接触することとなり、応力が緩和される。また、本実施形態の山部２２６ｍの頂部２２６ｎは尖っているため、三番かな２２６ｆとの噛み合いを強くすることができ、三番かな２２６ｆが空転するのを確実に防止することができる。さらに、その応力は、三番歯車２２６ｇの山部２２６ｍの部分で抑制されるため、三番歯車２２６ｇ全体に反りや割れなどが生じるのを抑制することができる。そして、三番歯車２２６ｇの貫通孔２２６ｋの形状には向きの依存性がないため、三番歯車２２６ｇに三番かな２２６ｆを嵌合する際に、位置合わせの必要がなくなり、生産効率を向上することができる。なお、三番歯車２２６ｇは電鋳により形成されるため、十分な強度を有している。
【００８８】
また、三番歯車２２６ｇと三番かな２２６ｆとが複数箇所で線接触しているため、三番歯車２２６ｇが回動する際に滑りが生じることを抑制でき、確実に三番歯車２２６ｇを回動させることが可能となる。
【００８９】
さらに、上述した製造方法により三番歯車２２６ｇを製造することにより、貫通孔２２６ｋの周面に複数の山部２２６ｍを有する三番歯車２２６ｇを電鋳により容易に形成することができる。
【００９０】
尚、本発明は、上述した実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において、上述した実施形態に種々の変更を加えたものを含む。すなわち、実施形態で挙げた具体的な形状や構成等は一例にすぎず、適宜変更が可能である。
【００９１】
例えば、本実施形態では、歯車の貫通孔の周面に略均一な大きさの山部を軸方向に沿って複数形成した場合の説明をしたが、図５９〜図６２に示すように、貫通孔３２６ｋにおける軸部材（三番かな）が挿入される軸方向一端部３２６ｑ側の内径を拡径してもよい。このように構成することで、軸部材を歯車３２６ｇの貫通孔３２６ｋに挿入する際に、軸部材を容易に貫通孔３２６ｋ内に挿入することができる。なお、山部の大きさは第一実施形態の図１４において実施したＳｉエッチングの１回当たりのエッチング時間を増減させることによって調整することができる。
【００９２】
また、図６３〜図６６に示すように、貫通孔４２６ｋにおける軸部材が挿入される軸方向一端部と反対の他端部４２６ｒ側の内径を拡径してもよい。このように構成することで、図６７に示すように、軸部材４２６ｆが歯車４２６ｇの貫通孔４２６ｋに挿通された状態で、貫通孔４２６ｋの他端部４２６ｒ側と軸部材４２６ｆとの間に空間Ｇが形成されるため、その空間Ｇに軸部材４２６ｆを挿通させたときに発生する削り屑を溜めることができる。したがって、削り屑が歯車４２６ｇの貫通孔４２６ｋから外部へ落下して、その削り屑が他の摺動部などに詰まって機能低下を引き起こすのを防止することができる。
【００９３】
また、図６８〜図７０に示すように、貫通孔５２６ｋにおける軸方向一端部５２６ｑおよび他端部５２６ｒの両方の内径を拡径してもよい。
【００９４】
また、図７１〜図７３に示すように、貫通孔６２６ｋの周面に形成する山部６２６ｍを螺旋状に形成したり、貫通孔６２６ｋの周面に斜めに延びるような山部６２６ｍを形成したりしてもよい。
【００９５】
さらに、本実施形態では、歯車とかなとが嵌合する歯車の貫通孔の内周面のみに山部を形成した場合の説明をしたが、図７４、図７５に示すように、軸部材７２６ｆの外周面にも山部を形成してもよい。また、図７６に示すように、歯車８２６ｇの貫通孔８２６ｋの内周面には山部を形成せずに、軸部材（三番かな）８２６ｆの外周面のみに山部を形成してもよい。なお、軸部材の外周面に山部を形成する場合は、切削加工などの機械加工にて山部を形成すればよい。
【００９６】
また、図７７、図７８に示すように、歯車９２６ｇの貫通孔９２６ｋの形状を突起９２６ｐが周方向に略等間隔に複数形成されたような形状にし、軸方向に山部９２６ｍを複数形成するような構成にしてもよい。このように構成すると、歯車９２６ｇとかなとが点接触するようになり、かなの保持力を向上することができる。
【００９７】
また、本実施形態では、歯車とかなとが嵌合する歯車の貫通孔の内周面のみに山部を形成した場合の説明をしたが、歯車部の外周面にも同様の山部を形成してもよい。歯車部の外周面に山部を形成することにより、一般的に塗布される潤滑油を長期間確保することができ、隣接するかなとの摺動性を長期間保持させることができる。
【００９８】
さらに、例えば、第１実施形態で電鋳物３３が形成された後に、図７９に示すように、コーティング膜９９でめっきをしてもよい。コーティング膜９９の材料としては、Ｎｉ，Ｃｒ，Ｒｈ，Ａｕなどの金属や、Ｎｉ−Ｗ，Ｎｉ−Ｃｏなどの合金、あるいはＮｉ−Ａｌ２Ｏ３，Ｎｉ−ＰＴＦＥなどの複合物を採用することができる。コーティング膜９９の厚みは、１００ｎｍ〜１００μｍ程度とする。また、めっきは無電解・電解のどちらでもよく、イオンプレーティングやスパッタなどの手法で金属膜やセラミックス膜などを形成してもよい。このように電鋳物３３にコーティング膜９９をめっきすることにより、電鋳物３３（歯車）の耐食性、耐摩耗性、装飾性などの機能を向上させることができる。
【００９９】
また、本実施形態では、歯車の貫通孔の内周面に周方向に沿うように山部を形成した場合の説明をしたが、上記実施形態で説明した手法を用いれば、軸方向に延びる山部を製造することができるのは勿論のことである。
【符号の説明】
【０１００】
１０…基板  １０ａ…支持層（下層）  １０ｂ…活性層（上層）  １０ｃ…ＢＯＸ層（下層、埋め込み酸化膜層）  １１…フォトレジスト（第一マスク材）  １４…凹部  １７…側面  １９…保護膜  ２１…底面  ２３…電極（金属層）  ２５…フォトレジスト（第二マスク材）  ３３…電鋳物  ５０…基板  ５０ｃ…金属層  ５５…基板  ５５ｃ…金属層  １２４…二番車（番車）  １２６…三番車（番車）  １２６ｆ…三番かな（軸部材）  １２６ｇ…三番歯車（機械部品）  １２６ｋ…貫通孔  １２６ｍ…山部  １２６ｎ…頂部  １２８…四番車（番車）  １３０…がんぎ車  １４２…アンクル
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
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【図３１】
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【図３２】
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【図３３】
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【図３４】
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【図３５】
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【図３６】
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【図３７】
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【図３８】
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【図３９】
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【図４０】
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【図４１】
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【図４２】
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【図４３】
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【図４４】
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【図４５】
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【図４６】
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【図４７】
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【図４８】
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【図４９】
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【図５０】
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【図５１】
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【図５２】
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【図５３】
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【図５４】
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【図５５】
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【図５６】
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【図５７】
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【図５８】
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【図５９】
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【図６０】
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【図６１】
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【図６２】
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【図６３】
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【図６４】
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【図６５】
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【図６６】
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【図６７】
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【図６８】
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【図６９】
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【図７０】
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【図７１】
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【図７２】
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【図７３】
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【図７４】
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【図７５】
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【図７６】
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【図７７】
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【図７８】
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【図７９】
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