(57)【要約】【課題】微小な凹凸が形成された転写層を有する転写シートの製造方法及びその転写シートを用いて製造された樹脂成形品を提供する。【解決手段】本発明の転写シート２０は、基体シート１の一部または全部の表面に微小な凹凸６が設けられ、その微小な凹凸６の凸部２上に金属薄膜層または金属酸化物層５などの転写層１０が形成されている。本発明の転写シート２０の製造方法は、基体シート１または離型層３の表面に、熱ナノインプリント法または室温ナノインプリント法でもってナノレベルからサブミクロンレベルの微小な凹凸６を形成した後、その微小な凹凸６上に転写層１０を設ける。【選択図】図１
2010042610.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基体シート表面に熱ナノインプリント法でもってナノレベルからサブミクロンレベルの微小な凹凸を形成した後、その微小な凹凸上に転写層を設ける、転写シートの製造方法。
【請求項２】
基体シート表面に離型層を設け、熱ナノインプリント法でもって前記離型層にナノレベルからサブミクロンレベルの微小な凹凸を形成した後、その微小な凹凸上に転写層を設ける、転写シートの製造方法。
【請求項３】
基体シート表面に室温ナノインプリント法でもってナノレベルからサブミクロンレベルの微小な凹凸を形成した後、その微小な凹凸上に転写層を設ける、転写シートの製造方法。
【請求項４】
基体シート表面に離型層を設け、室温ナノインプリント法でもって前記離型層にナノレベルからサブミクロンレベルの微小な凹凸を形成した後、その微小な凹凸上に転写層を設ける、転写シートの製造方法。
【請求項５】
基体シート表面に前記ナノインプリント法でもってナノレベルからサブミクロンレベルの微小な凹凸を形成し、電離放射線を照射した後、その微小な凹凸上に転写層を設ける、転写シートの製造方法。
【請求項６】
基体シート表面に離型層を設け、前記ナノインプリント法でもって前記離型層にナノレベルからサブミクロンレベルの微小な凹凸を形成し、電離放射線を照射した後、その微小な凹凸上に転写層を設ける、転写シートの製造方法。
【請求項７】
前記転写層の一部または全部が金属薄膜層または金属酸化物層からなる、請求項１〜請求項６のいずれかに記載の転写シートの製造方法。
【請求項８】
請求項１〜請求項７のいずれかに記載の転写シートを用いて、熱転写または成形同時転写法により、前記転写層が転写されて、表面に微小な凹凸が形成された樹脂成形品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、射出成形同時転写品の転写層表面に微小な凹凸を設ける技術に関し、その方法として、ナノインプリント法によるところに特徴がある。
【背景技術】
【０００２】
従来、射出成形同時転写品の転写層表面に微小な凹凸を設ける方法としては、離型層に数μｍ程度の粒子径の体質顔料（マット剤）を含有させ離型層表面を荒らした後、転写層を設ける方法があった。
【特許文献１】特開昭６２−１７４１８９
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかし、体質顔料（マット剤）を含有させて転写層表面に微小な凹凸を設ける場合は、粒子径の大きさのバラツキや配向の仕方によって、凹凸の大きさにバラつきが生じる問題があった。また、粒子径を小さくすると離型層中に体質顔料（マット剤）が埋もれてしまい、転写層表面の一部に凹凸が形成されないなどの問題があった。そのため、この方法では、凹凸の大きさがミクロンレベルでかつ多少バラツキがあっても構わないような艶消しなどの意匠にしか適用できない問題があった。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
そこで、本発明者らは以下に示すように、ナノインプリント法により微小な凹凸を形成することで、サブミクロンレベルからナノレベルの目視では確認できない微小な凹凸を射出成形同時転写品の転写層表面に微小な凹凸を設ける方法の発明をした。
【０００５】
すなわち、本発明は基体シート表面に熱ナノインプリント法でもってナノレベルからサブミクロンレベルの微小な凹凸を形成した後、その微小な凹凸上に転写層を設ける、転写シートの製造方法である。あるいは、基体シート表面に離型層を設け、熱ナノインプリント法でもって前記離型層にナノレベルからサブミクロンレベルの微小な凹凸を形成した後、その微小な凹凸上に転写層を設ける、転写シートの製造方法であってもよい。あるいは、基体シート表面に室温ナノインプリント法でもってナノレベルからサブミクロンレベルの微小な凹凸を形成した後、その微小な凹凸上に転写層を設ける、転写シートの製造方法であってもよい。あるいは、基体シート表面に離型層を設け、室温ナノインプリント法でもって前記離型層にナノレベルからサブミクロンレベルの微小な凹凸を形成した後、その微小な凹凸上に転写層を設ける、転写シートの製造方法であってもよい。
【０００６】
また、本発明は、基体シート表面に前記ナノインプリント法でもってナノレベルからサブミクロンレベルの微小な凹凸を形成し、電離放射線を照射した後、その微小な凹凸上に転写層を設ける、転写シートの製造方法である。また、本発明は、基体シート表面に離型層を設け、前記ナノインプリント法でもって前記離型層にナノレベルからサブミクロンレベルの微小な凹凸を形成し、電離放射線を照射した後、その微小な凹凸上に転写層を設ける、転写シートの製造方法であってもよい。
【０００７】
また、本発明は前記転写層の一部または全部が金属薄膜層または金属酸化物層からなる、転写シートの製造方法であってもよい。また、本発明は前記記載の転写シートを用いて熱転写または成形同時転写法により、表面に微小な凹凸のある転写層を設けた樹脂成形品であってもよい。
【発明の効果】
【０００８】
本発明の転写シートの製造方法は、熱ナノインプリント法または室温ナノインプリント法でもって基体シートの一部または全部の表面に微小な凹凸が設けられ、その微小な凹凸上に転写層が形成されていることを特徴とする。あるいは、基体シート上に離型層が形成され、熱ナノインプリント法または室温ナノインプリント法でもって該離型層の一部または全部の表面に微小な凹凸が設けられ、その微小な凹凸上に転写層が形成されていることを特徴とする。本発明により、サブミクロンレベルからナノレベルの目視では確認できない微小な凹凸が形成された転写層を得ることができる。したがって、例えば触感、反射防止、超撥水性、セキュリティホログラムなどの従来にない優れた性能の表面特性を有する樹脂成形品を得ることができる。
【０００９】
また本発明の転写シートの製造方法は、前記ナノインプリント法でもって基体シートまたは離型層の一部または全部の表面に微小な凹凸が設けた後、その微小な凹凸上に転写層を設ける前に、その微小な凹凸に対して電離放射線を照射することを特徴とする。したがって、耐摩耗性や耐薬品性に優れた微小な凹凸が形成されるため、たとえば転写層に極性の高い有機溶媒を用いても凹凸形状が維持できるという効果がある。
【００１０】
また本発明の転写シートの製造方法は、前記転写層の一部または全部が金属薄膜層からなるものである。すなわち、本発明は前記金属薄膜層の材質がＡｌ，Ｃｕ，Ｃｒ、Ｎｉ、Ａｕ、Ａｇなどである。したがって、腐食耐性のある金属材料を選択することができ、さらに厚みを厚くすることにより腐食の影響を少なくすることもできるため、高温高湿の環境下にさらされる可能性のある製品にも適用できる効果がある。さらに、元来導電性または電磁波シールド性の材質であるため、導電部分と絶縁部分または電磁波シールド部分と電波透過部分を同じ外観の意匠として得ることができる効果がある。
【００１１】
また本発明の転写シートは、前記転写層の一部または全部が金属酸化物層からなるものである。すなわち、本発明は前記金属酸化物層の材質が酸化スズ，酸化インジウム，インジウムスズ酸化物、酸化亜鉛、酸化マグネシウム、酸化ガリウム、酸化アルミニウムなどである。したがって、これらを部分的に形成された凹凸部上に形成することにより透明性のある導電膜を部分的に絶縁化することができ、エッチングなどの工程を経ることなく透明導電パターンを形成できる効果がある。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、図面を参照しながら本発明について詳細に説明する。図１は、その（１）がこの発明の第１の実施の形態による転写シートの概略構成を示した断面図であり、その（２）から（４）がその（１）で示した転写シートの製造方法を示した概略工程図である。図２は、その（１）がこの発明の第２の実施の形態による転写シートの概略構成を示した断面図であり、その（２）から（４）がその（１）で示した転写シートの製造方法を示した概略工程図である。図３は、図２で示した転写シートの他の製造方法を示した概略工程図である。図４は、図２で示した転写シートを用いた樹脂成形品の製造方法を示した概略工程図である。図５は、図１又は図２で示した転写シートを用いた樹脂成形品の他の製造方法を示した概略工程図である。
【００１３】
図１の（１）を参照して、本発明の転写シート２０は、基体シート１の一部または全部の表面に微小な凹凸６が設けられ、その微小な凹凸６の凸部２上に金属薄膜層または金属酸化物層５などの転写層１０が形成されている。あるいは、図２の（１）を参照して、基体シート１上に離型層３が形成され、該離型層３の一部または全部の表面に微小な凹凸６が設けられ、該微小な凹凸６の凸部２上に金属薄膜層または金属酸化物層５などの転写層１０が形成されている。
【００１４】
基体シート１としては、ポリカーボネート系樹脂、シクロオレフィン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、ポリエチレン系樹脂、アミド系樹脂、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂などの樹脂シート、グラシン紙、コート紙、セロハンなどのセルロース系シート、あるいは以上の各シートの複合体などを使用することができる。
【００１５】
離型層３の材質としては、ポリカーボネート系樹脂、シクロオレフィン系樹脂、塩素化ポリプロピレン系樹脂、ビニル系樹脂、アミド系樹脂、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、アセタール系樹脂、メラミン系樹脂、セルロース系樹脂、アルキド系樹脂などの樹脂が挙げられ、必要に応じて各種添加剤や適切な色の顔料または染料からなる着色剤を含有させてもよい。なお、離型層３と基体シート１の間には、絵柄層、アンカー層、離型層、剥離層などの層を形成してもよい。
【００１６】
離型層３の形成方法としては、オフセット印刷法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法などの通常の印刷法のほか、グラビアコート法、ロールコート法、コンマコート法、リップコート法などのコート法を採用することもできる。そして、基体シート１または離型層３の表面には、以下の微小な凹凸６が形成される。
【００１７】
ナノレベルからサブミクロンレベルの微小な凹凸６の例としては凸部２が０．０１μｍ２〜４μｍ２のサイズの島状パターンからなり、凹部９の巾が１０〜２０００ｎｍで、該凹部９のアスペクト比（すなわち、凹部９の巾に対する凹部９の深さ）が０．０１〜５のものが挙げられる。このような微小な凸部２上に金属薄膜層または金属酸化物層５を形成すると、金属薄膜層または金属酸化物層５が所望の形状、大きさの島状パターンで形成できるため、安定した絶縁性能・電波透過性能を得ることができる効果がある。
【００１８】
また、金属薄膜層または金属酸化物層の厚みに影響されず絶縁性能・電波透過性能を維持できるため、照光ディスプレイ窓部など遮光性が要求される意匠にも適用できる効果がある。さらに、前記微小な凹凸の凹部の巾を１０〜２０００ｎｍ、該凹部のアスペクト比が０．０１〜５であるようにすれば、目視では凹部の存在を確認できず、微小な凹凸のない平滑面の金属薄膜層または金属酸化物層と同様の外観を得ることができる効果がある。
【００１９】
なお、凸部２を０．０１μｍ２未満のサイズの島状パターンにすることは現状の技術水準では非常に困難であり、また実現できたとしても金属薄膜層５の金属光沢が低下する可能性がある。一方、４μｍ２以上のサイズの島状パターンにすれば、金属薄膜層または金属酸化物層５がそのサイズの導電パターンを形成することとなり、絶縁性や電波透過性が低下する。また、凹部９の巾が２０００ｎｍより大きくなると、目視で凹部９が形成されていることがわかるようになり外観上好ましくない。一方、凹部９の巾を１０ｎｍ未満にすることは現状の技術水準では非常に困難であり、また実現できたとしても金属薄膜層または金属酸化物層５を形成すればトンネル電流が流れる可能性がある。凹部９のアスペクト比が０．０１未満であれば、金属薄膜層または金属酸化物層５を微小な凹凸６の凸部２に設けることが困難となる。一方、上記の巾で凹部９のアスペクト比を５以上にすることは、現状の技術水準では非常に困難である。
【００２０】
このほか、微小な凹凸６の形状は、凹部９が島状構造に形成され、凸部２の巾が２０〜２０００ｎｍであり、該凸部２のアスペクト比が０．２〜２．５であるように形成し凹部９上に金属薄膜層または金属酸化物層５を形成して、金属薄膜層または金属酸化物層５を所望の形状、大きさの島状パターンで形成することもできる。なお、金属薄膜層または金属酸化物層５は島状構造の部分とその島と島の隙間の部分の両方に形成しても構わないが、絶縁性能等をより確実にするために島と島の隙間の部分に形成された金属薄膜層または金属酸化物層５を除去してもよい。
【００２１】
凸部が島状構造に形成された場合の除去の方法としては、島状構造の部分に形成された金属薄膜層または金属酸化物層５のみを汎用のグラビア印刷法などによってレジストで被覆保護した後、エッチング液に浸し島と島の隙間の部分に形成された金属薄膜層または金属酸化物層５をエッチング除去する方法がある。また、島状構造に形成された凸部または凹部をエッチングレジストで被覆して、それに対応する凹部または凸部をエッチング等で除去してもよい。
【００２２】
また、前記島状パターンと反対の格子状パターンに金属薄膜層５を形成することにより、Ａｌ，Ｃｕ，Ｃｒ、Ｎｉ、Ａｕ、Ａｇなどの材質であっても透明またはそれに近い透光性のある導電パターンからなる転写層１０を形成することもできる。そのほか、微小な凹凸を、凸部が０．１〜０．５μｍ２角サイズの正四角錐または直径が０．１〜０．５μｍ２Φサイズの円錐パターンにすれば、反射防止機能を付与することも可能である。
【００２３】
図１の（２）から（４）及び図２の（２）から（４）を参照して、ナノレベルからサブミクロンレベルの微小な凹凸６の形成方法はナノインプリント法による。本発明のナノインプリント法は、微小な凸部を設けたスタンパー１３を基体シート１または離型層３の表面に押し付け、基体シート１または離型層３の表面に微小な凹凸６を形成する加工方法である。本発明に用いるナノインプリント法としては、熱ナノインプリント法および室温ナノインプリント法があげられる。
【００２４】
熱ナノインプリント法は、切削加工、レーザー加工、電子線加工などで描いた母型の金型からニッケル電鋳からなるスタンパー１３を作製し、それを基体シート１または離型層３に載置し、高温高圧下で押し付け、冷却後スタンパー１３を基体シート１または離型層３から外して基体シート１または離型層３に微小な凹部６を形成する。押し付ける際の温度は基体シート１または離型層３の軟化点以上でかつ熱分解温度未満に設定し、圧力は一般的に数ＭＰａ〜数十ＭＰａに設定する。数秒から数分間押圧した後、急速冷却または自然冷却して基体シート１または離型層３の表面が軟化点以下になるまで放置する。なお、ロールによる熱ナノインプリント法では、高温高圧下での押し付け時間、冷却時間が少なくて済み、生産性が向上する。
【００２５】
室温ナノインプリント法は、熱ナノインプリント法の基体シート１または離型層３に対してゾルゲル系材料（たとえば、東レダウコーニングＨＳＱ）を用いることにより、高温にすることなく押し付けつけることにより、基体シート１または離型層３に微小な凹凸６を形成する方法である。押し付ける際の圧力は一般的に数ＭＰａ〜数十ＭＰａに設定する。冷却工程が不要となる長所がある。
【００２６】
上述のように微小な凹凸６を形成した後に、微小な凹凸６上に転写層１０を形成する。例えば、図１の（１）や図１の（２）で示したように、凸部２上に金属薄膜層または金属酸化物層５を形成し、その全面を覆うようにして接着層８を形成する。こうして、転写シート２０は製造される。
【００２７】
なお、図３の（１）から（３）を参照して、熱ナノインプリント法および室温ナノインプリント法とも、インプリントした後微小な凹凸６上に転写層１０を設ける前に電離放射線５０を照射してもよい。熱ナノインプリント法において高温高圧下で押し付けしなければならない場合には、寸法精度が低下したり押し付け時間や冷却時間が長くなり生産性が低下することがあり、室温ナノインプリント法において転写層形成に極性の高い有機溶媒を用いた場合には、微小な凹凸６の形状が該有機溶媒によって破壊されることがあるためである。
【００２８】
すなわち、室温ナノインプリントまたは低温での熱ナノインプリント法で基体シート１または離型層３に微細な凹凸６を形成することにより、冷却などの工程が短縮または不要になりスループットを改善し、また寸法精度も改善されるようにする。そして、微小な凹凸６上に電離放射線５０を照射して硬化重合反応を促進させ、基体シート１または離型層３の耐磨耗性や耐薬品性を向上させて極性の高い有機溶媒に耐え得るようにする。
【００２９】
上記のように電離放射線５０を照射することを前提にする場合には、基体シート１または離型層３は前述した材質よりも、スタンパー１３を押圧して微細な凹凸６を形成した時には硬化重合未反応の状態で、かつタックフリーの状態であり、電離放射線５０を照射することにより硬化重合反応が促進されるような材質を選定した方が好ましい。硬化重合未反応の状態でナノインプリントすることで微細な凹凸６が室温または低温で容易に形成でき、タックフリーの状態であるために取り扱いがしやすく、電離放射線５０を照射することにより硬化重合反応が促進されることで優れた耐磨耗性や耐薬品性が得られるからである。
【００３０】
そのような材質としては、例えば、（メタ)アクリル当量１００〜３００ｇ／ｅｑ、水酸基価２０〜５００、重量平均分子量５，０００〜５０，０００のポリマーと多官能イソシアネート、または融点４０℃以上で分子量５，０００〜１００，０００である活性エネルギー線硬化型樹脂と光開始重合剤の混合物、またはα、β―不飽和モノカルボン酸を付加反応させたグリシジル（メタ）アクリレート系重合体、などが挙げられる。
【００３１】
なお、硬化重合未反応の状態とは、全く硬化重合が起こっていないという意味ではなく、主たる硬化重合反応が起こっていないという意味であり、若干の硬化重合反応が起こっている場合も含む。また、タックフリーの状態とは最表面を１ｇ重／ｃｍ２の圧力でもって指で触っても、指に基体シート１または離型層３の材質が目視上つかない状態を指す。電離放射線５０の例としては、電波、可視光線、紫外線、赤外線、Ｘ線、ガンマ線、粒子線、電子線などがある。
【００３２】
なお、転写層１０は、金属薄膜層または金属酸化物層５以外に、剥離層、絵柄層、接着層、アンカー層を設けてもよい。アンカー層は、各層間の密着性を高めたりするための樹脂層であり、通常は、二液硬化性ウレタン樹脂、メラミン系やエポキシ系などの熱硬化性樹脂を用いる場合が多いが、剥離層と絵柄層との間に設ける場合には、剥離層との親和性のため前記絵柄層と同種のビニル系樹脂やアクリル系樹脂を用いる。アンカー層の形成方法としては、グラビアコート法、ロールコート法、コンマコート法などのコート法、グラビア印刷法やスクリーン印刷法などの印刷法がある。
【００３３】
接着層は、成形品７表面に上記の各層を接着するものである。接着層は、剥離層または絵柄層上の、接着させたい部分に形成する。すなわち、接着させたい部分が全面的なら、接着層を全面的に形成する。また、接着させたい部分が部分的なら、接着層を部分的に形成する。接着層としては、成形品７の素材に適した感熱性あるいは感圧性の樹脂を適宜使用する。たとえば、成形品７の材質がポリアクリル系樹脂の場合はポリアクリル系樹脂を用いるとよい。また、成形品７の材質がポリフェニレンオキシド・ポリスチレン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、スチレン共重合体系樹脂、ポリスチレン系ブレンド樹脂の場合は、これらの樹脂と親和性のあるポリアクリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリアミド系樹脂などを使用すればよい。さらに、成形品７の材質がポリプロピレン樹脂の場合は、塩素化ポリオレフィン樹脂、塩素化エチレン−酢酸ビニル共重合体樹脂、環化ゴム、クマロンインデン樹脂が使用可能である。接着層５の形成方法としては、グラビアコート法、ロールコート法、コンマコート法などのコート法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法などの印刷法がある。なお、剥離層や絵柄層が成形品７に対して充分接着性を有する場合には、接着層を設けなくてもよい。
【００３４】
なお、転写シート２０の構成は、上記した態様に限定されるものではなく、たとえば、成形品７の地模様や透明性を生かし、金属薄膜層または金属酸化物層の絵付けだけを目的とした転写シート２０を用いる場合には、絵柄層を省略してもよい。
【００３５】
以下、前記した層構成の転写シート２０を用い、樹脂成形品３０の製造方法について説明する。
図４の（１）及び（２）を参照して、まず、接着層側を下にして、樹脂部７０上に転写シート２０を配置する。次に、耐熱ゴム状弾性体８例えばシリコンラバーを備えたロール転写機、アップダウン転写機などの転写機を用い、温度８０〜２６０℃程度、圧力５０〜２００ｋｇ／ｍ２程度の条件に設定した耐熱ゴム状弾性体８を介して転写シート２０の基体シート１側から熱または／および圧力を加える。こうすることにより、接着層が樹脂部７０表面に接着する。次いで、冷却後に基体シート１を剥がすと、基体シート１と剥離層との境界面で剥離が起こり（基体シート１上に離型層を設けた場合は、基体シート１を剥がすと、離型層と剥離層との境界面で剥離が起こり）、樹脂成形品３０が得られる。
【００３６】
樹脂部７０は、透明、半透明、不透明のいずれでもよく、また、着色されていても着色されていなくてもよい。樹脂部７０の材質としては、ポリスチレン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ＡＢＳ樹脂、ＡＳ樹脂、ＡＮ樹脂などの汎用樹脂を挙げることができる。また、ポリフェニレンオキシド・ポリスチレン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアセタール系樹脂、アクリル系樹脂、ポリカーボネート変性ポリフェニレンエーテル樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂、超高分子量ポリエチレン樹脂などの汎用エンジニアリング樹脂やポリスルホン樹脂、ポリフェニレンサルファイド系樹脂、ポリフェニレンオキシド系樹脂、ポリアクリレート樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリイミド樹脂、液晶ポリエステル樹脂、ポリアリル系耐熱樹脂などのスーパーエンジニアリング樹脂を使用することもできる。さらに、ガラス繊維や無機フィラーなどの補強材を添加した複合樹脂も使用できる。
【００３７】
次に、上述した転写シート２０を用いた、射出成形と同時に転写層が転写される樹脂成形品３０の製造方法について説明する。
【００３８】
図５の（１）から（３）を参照して、まず、可動型３１と固定型３２とからなる成形用金型内に転写層１０を内側にして、つまり、光透過性材料から構成された基体シート１が固定型３２に接するように、転写シート２０を送り込む。この際、枚葉の転写シート２０を１枚づつ送り込んでもよいし、長尺の転写シート２０の必要部分を間欠的に送り込んでもよい。長尺の転写シート２０を使用する場合、位置決め機構を有する送り装置を使用して、転写シート２０の絵柄層と成形用金型との見当が一致するようにするとよい。また、転写シート２０を間欠的に送り込む際に、転写シート２０の位置をセンサーで検出した後に転写シート２０を可動型３１と固定型３２とで固定するようにすれば、常に同じ位置で転写シート２０を固定することができ、絵柄層の位置ずれが生じないので便利である。成形用金型を閉じた後、固定型３２に設けたゲートより溶融樹脂を金型内に射出充満させ、樹脂部７０を形成するのと同時にその表面に転写層１０を接着させる。樹脂部７０を冷却した後、成形用金型を開いて転写層１０が表面に形成された樹脂成形品３０を取り出す。このようにして、樹脂成形品３０は製造される。長尺の転写シート２０を使用する場合は、型開きと同時に基体シート１から転写層２０が剥離し、枚葉の転写シート２０であれば、金型から成形品を取り出して基体シート１を成形品から剥がすことにより、基体シート１から転写層２０が剥離する。
【実施例１】
【００３９】
基体シートとして厚さ３８μｍのポリエステル樹脂フィルムを用い、基体シート上に、アクリル樹脂系離型剤をグラビア印刷法にて１μｍの厚さに塗布し離型層を形成した後、離型層に微小な凹凸を形成した。微小な凹凸は、凸部が０．３μｍ２角サイズの正四角錐のピラミッド形状が整然と並んだパターンからなり、該凸部のアスペクト比が１．５でロールによる熱ナノインプリント法により形成した。押し付ける際の温度は１００℃、圧力は９ＭＰａに設定し、１ｍ／分の速度で押圧した後、自然冷却した。その上に剥離層としてＵＶ硬化型ハードコート材をリバースコート法にて全面ベタ厚さ６μｍで形成した。紫外線を照射して剥離層を架橋硬化し（紫外線照射条件は、１２０ｗ／ｃｍ、６灯、ランプ高さ１０ｃｍ、ベルトスピード１５ｍ／ｍｉｎとし）、該剥離層上に、絵柄層としてビニル系樹脂、接着層としてアクリル系インキをグラビア印刷法にて形成し転写材を得た。得られた剥離層はハードコート性と反射防止性を有する優れた保護膜であった。
【実施例２】
【００４０】
基体シートとして厚さ７５μｍのアクリル樹脂フィルムを用い、基体シート上に微小な凹凸を形成した。微小な凹凸は、凸部が２μｍ２のサイズの島状パターンからなり、凹部の巾が８００ｎｍで、該凹部のアスペクト比が１．５でロールによる熱ナノインプリント法により形成した。押し付ける際の温度は９０℃、圧力は５ＭＰａに設定し、１ｍ／分の速度で押圧した後、自然冷却した。形成された微小凸部上に材質がＡｌである金属薄膜層を真空蒸着法により形成した。得られた金属薄膜層は島状構造の絶縁性・電波透過性を有するものであった。その上に接着層としてアクリル系インキをグラビア印刷法にて転写材を得た。
【実施例３】
【００４１】
基体シートとして厚さ７５μｍのアクリル樹脂フィルムを用い、基体シート上に微小な凹凸を形成した。微小な凹凸は、凸部が２μｍ２のサイズの島状パターンからなり、凹部の巾が８００ｎｍで、該凹部のアスペクト比が１．５でロールによる熱ナノインプリント法により形成した。押し付ける際の温度は９０℃、圧力は５ＭＰａに設定し、１ｍ／分の速度で押圧した後、自然冷却した。形成された微小凹部上に材質がＡｌである金属薄膜層を真空蒸着法により形成した。得られた金属薄膜層は格子状構造の透光性・導電性を有する透明導電膜に匹敵するものであった。その上に接着層としてアクリル系インキをグラビア印刷法にて転写材を得た。
【実施例４】
【００４２】
基体シートとして厚さ３８μｍのポリエステル樹脂フィルムを用い、基体シート上に、アクリル樹脂系離型剤をグラビア印刷法にて１μｍの厚さに塗布し離型層を形成した後、離型層の一部に微小な凹凸を形成した。微小な凹凸は、凸部が２μｍ２のサイズの島状パターンからなり、凹部９の巾が８００ｎｍで、該凹部のアスペクト比が１．５でロールによる熱ナノインプリント法により形成した。押し付ける際の温度は１００℃、圧力は９ＭＰａに設定し、１ｍ／分の速度で押圧した後、自然冷却した。その離型層の一部の微小凸部上および微小な凹凸を形成しない離型層上に材質がスズインジウム酸化物である金属酸化物層をスパッタリング法により形成した。得られた金属酸化物層は微小な凹凸上では絶縁性を示し、微小な凹凸を形成しない離型層上では導電性を有する透明導電パターン膜になっていた。そして、その上に接着層としてアクリル系インキをグラビア印刷法にて転写材を得た。
【実施例５】
【００４３】
基体シートとして厚さ３８μｍのポリエステル樹脂フィルムを用い、基体シート上に（メタ)アクリル当量平均２００ｇ／ｅｑ、水酸基価平均２００、重量平均分子量５，０００〜５０，０００のポリマーと多官能イソシアネートからなる離型層を厚さ１μｍで全面に形成した後、離型層の全面に微小な凹凸を形成した。微小な凹凸は、凸部が０．３μｍ２角サイズの正四角錐のピラミッド形状が整然と並んだパターンからなり、該凸部のアスペクト比が１．７からなる。微小な凹凸は、圧力を８ＭＰａに設定し、１ｍ／分の速度でロールによる室温ナノインプリント法により形成した。その後、離型層全体に３００ＭＪ／ｃｍ２の強さの紫外線を照射し離型層を硬化させた。その離型層上に材質がスズインジウム酸化物である金属酸化物層をスパッタリング法により形成した。得られた金属酸化物層は透明導電性と反射防止機能とを兼ね備える優れた機能膜になる。そして、その上に接着層としてアクリル系インキをグラビア印刷法にて転写材を得た。
【実施例６】
【００４４】
融点６０℃で分子量１００００〜５００００であるウレタンアクリレート系樹脂とイソシアネ―ト系重合開始剤の混合物からなる厚さ３８μｍの基体シートの一部に微小な凹凸を形成した。微小な凹凸は、ピッチが１０〜７０μｍで深さが１〜３μｍ程度の不規則な多数の円錐状のピラミッド形状が整然と並んだパターンからなる。微小な凹凸は、押し付ける際の温度を４０℃、圧力を２５ＭＰａに設定し、１ｍ／分の速度でロールによる低温熱ナノインプリント法により形成した。その後、基体シート全体に５００ＭＪ／ｃｍ２の強さの紫外線を照射し基体シートを硬化させた。この一部の微小凸部上および微小な凹凸を形成しない基体シート上に着色インキにより絵柄層をグラビア印刷法により形成した。微小凸部上に形成された絵柄層はマット調の高級感のある意匠を呈し、微小な凹凸を形成しない基体シート上の絵柄層は高光沢の高級感のある意匠を呈する。そして、その上に接着層としてアクリル系インキをグラビア印刷法にて転写材を得た。
【００４５】
この実施例１から実施例６の転写材を用い成形同時転写法を利用して成形品の表面に転写した後、基体シートを剥がすことにより、成形同時転写品が得られた。成形条件は、樹脂温度２４０℃、金型温度５５℃、樹脂圧力約３００ｋｇ／ｃｍ２とした。成形品は、樹脂部の材質をアクリル樹脂とし、縦９５ｍｍ、横６５ｍｍ、立ち上がり４．５ｍｍ、コーナー部のＲ２．５ｍｍのトレー状に成形した。
【図面の簡単な説明】
【００４６】
【図１】その（１）がこの発明の第１の実施の形態による転写シートの概略構成を示した断面図であり、その（２）から（４）がその（１）で示した転写シートの製造方法を示した概略工程図である。
【図２】その（１）がこの発明の第２の実施の形態による転写シートの概略構成を示した断面図であり、その（２）から（４）がその（１）で示した転写シートの製造方法を示した概略工程図である。
【図３】図２で示した転写シートの他の製造方法を示した概略工程図である。
【図４】図２で示した転写シートを用いた樹脂成形品の製造方法を示した概略工程図である。
【図５】図１又は図２で示した転写シートを用いた樹脂成形品の他の製造方法を示した概略工程図である。
【符号の説明】
【００４７】
１    基体シート
２    凸部
３    離型層
５    金属薄膜層または金属酸化物層
６    微小な凹凸
８    接着層
９    凹部
１０  転写層
１３  スタンパー
２０  転写シート
３０  樹脂成形品
５０  電離放射線
７０  樹脂部
【図１】
2010042610.tif 000003
【図２】
2010042610.tif 000004
【図３】
2010042610.tif 000005
【図４】
2010042610.tif 000006
【図５】
2010042610.tif 000007