(57)【要約】【課題】硬化する表面層により帯電ローラと感光体のスリップによる感光体の傷を抑制することができる電子写真感光体の製造方法を提供する。【解決手段】導電性支持体上に導電層、電荷発生層及び第一の電荷輸送層を含む複数の層を順次形成し、かつ前記複数の層上に表面層として第二の電荷輸送層を形成する電子写真感光体の製造方法において、複数の層が形成された導電性支持体に、電子線の照射でポリマーを生成する正孔輸送性化合物を含んだ表面層用塗布液を塗布して塗布膜を生成させる工程と、塗布膜に電子線を照射する電子線照射工程と、塗布膜に酸素暴露を行う酸素暴露工程と、加熱によって塗布膜を硬化させて前記表面層を形成する加熱工程とを備え、電子線照射工程の酸素濃度が３０ｐｐｍ以下であり、酸素暴露工程の酸素濃度が１００ｐｐｍ乃至１００００ｐｐｍであり、加熱工程の酸素濃度が３０ｐｐｍ以下であること。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
導電性支持体上に導電層、電荷発生層及び第一の電荷輸送層を含む複数の層を順次形成し、かつ前記複数の層上に表面層として第二の電荷輸送層を形成する電子写真感光体の製造方法において、
前記複数の層が形成された前記導電性支持体に、電子線の照射でポリマーを生成する正孔輸送性化合物を含んだ表面層用塗布液を塗布して塗布膜を生成させる工程と、
該塗布膜に電子線を照射する電子線照射工程と、
該塗布膜に酸素暴露を行う酸素暴露工程と、
加熱によって該塗布膜を硬化させて前記表面層を形成する加熱工程と、
を備え、
前記電子線照射工程の酸素濃度が３０ｐｐｍ以下であり、
前記酸素暴露工程の酸素濃度が１００ｐｐｍ乃至１００００ｐｐｍであり、
前記加熱工程の酸素濃度が３０ｐｐｍ以下であることを特徴とする電子写真感光体の製造方法。
【請求項２】
前記正孔輸送性化合物は、二重結合を有する置換基を少なくとも１つ以上備えるトリアリールアミンであることを特徴とする請求項１に記載の電子写真感光体の製造方法。
【請求項３】
前記電子線照射工程は、酸素濃度が３０ｐｐｍ以下の雰囲気で、加速電圧７０ｋＶ、線量１５ｋＧｙの条件で電子線を前記塗布膜に照射することを特徴とする請求項１又は２に記載の電子写真感光体の製造方法。
【請求項４】
前記酸素暴露工程は、酸素濃度が１００ｐｐｍ乃至１００００ｐｐｍの雰囲気で、前記塗布膜を有する前記導電性支持体を６００秒放置することを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の電子写真感光体の製造方法。
【請求項５】
前記加熱工程は、酸素濃度３０ｐｐｍの雰囲気で感光体の温度が１２０℃になる条件で９０秒間加熱処理を行うことを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の電子写真感光体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子線を照射した後、良好に硬化して電子写真特性と膜物性に優れた表面層を得ることができる電子写真感光体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
電子線、紫外線等の活性エネルギー線硬化技術は、速硬化性であり、生産性が高く、エネルギーコストが低いという利点を有しており、塗料、接着剤等の用途に広く利用されている。
【０００３】
特許文献１には、電子線または紫外線の照射により発生したラジカルによる重合反応によってポリマーが形成され硬化が進行する技術が記載されている。
【０００４】
また、感光体上のトナー等が帯電ローラに付着することによる帯電性能の低下が別途問題となる。特許文献２では、帯電ローラと感光体とを、空隙保持部材によって、それぞれの端部のみを接触させ、感光体の画像形成に係る部分と帯電ローラとを所定の空隙をもって配置する技術が記載されている。
【特許文献１】特開２００１−０７９４８１号公報
【特許文献２】特開２００６−３５０２５０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかし、特許文献１等に開示されているように、一般に工業的に利用されている活性エネルギー線硬化はラジカル重合系であり、電子線または紫外線の照射により発生したラジカルによる重合反応によってポリマーが形成され硬化が進行する。この場合、照射雰囲気下に酸素が存在していると、硬化物中の成長ラジカルと活性エネルギー線によって発生した酸素ラジカルとの反応により、ラジカル重合が阻害される。特にその影響が大きい電子線硬化においては、それを防ぐために、窒素等の不活性ガスを用いて、酸素濃度を極力下げて電子線を照射している。
【０００６】
一方、電子写真装置では特許文献２等に開示されているように、「感光体上のトナー等が帯電ローラに付着することによる帯電性能の低下」という問題がある。これを解決するために帯電ローラの表面は高離型性を有するようになってきた。しかし、帯電ローラの表面が高離型になると、帯電ローラと感光体との摩擦が低下し、感光体の回転開始時や停止時に帯電ローラと感光体がスリップし、感光体に傷がつきやすくなり、感光体の寿命を低下させるといった問題が発生することがあった。
【０００７】
良好に硬化して膜物性に優れた表面層により耐傷性、耐削れ性を得るとともに、帯電ローラとの摩擦力を最適にし帯電ローラと感光体のスリップによる感光体の傷を抑制することができる電子写真感光体の製造方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
すなわち、本発明は、導電性支持体上に導電層、電荷発生層及び第一の電荷輸送層を含む複数の層を順次形成し、かつ前記複数の層上に表面層として第二の電荷輸送層を形成する電子写真感光体の製造方法において、前記複数の層が形成された前記導電性支持体に、電子線の照射でポリマーを生成する正孔輸送性化合物を含んだ表面層用塗布液を塗布して塗布膜を生成させる工程と、該塗布膜に電子線を照射する電子線照射工程と、該塗布膜に酸素暴露を行う酸素暴露工程と、加熱によって該塗布膜を硬化させて前記表面層を形成する加熱工程と、を備え、前記電子線照射工程の酸素濃度が３０ｐｐｍ以下であり、前記酸素暴露工程の酸素濃度が１００ｐｐｍ乃至１００００ｐｐｍであり、前記加熱工程の酸素濃度が３０ｐｐｍ以下であることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００９】
本発明では、電子線照射工程の酸素濃度を３０ｐｐｍ以下とし、酸素暴露工程の酸素濃度を１００ｐｐｍ乃至１００００ｐｐｍとし、加熱工程の酸素濃度を３０ｐｐｍ以下としている。これにより、帯電、感度、残留電位等の電子写真特性が良好で、かつ、膜物性に優れた表面層により耐傷性、耐削れ性を得ることができる。そして、帯電ローラとの摩擦力を最適にし帯電ローラと感光体のスリップによる感光体の傷を抑制することができる電子写真感光体の製造方法を提供することが可能になった。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下、本発明を詳細に説明する。
【００１１】
＜電子写真感光体について＞
本発明の電子写真感光体の構成について説明する。まず、図１は、電子写真感光体の層構成の一例を示す図である。
【００１２】
図１に示すように、本発明に係る電子写真感光体は、導電性支持体１１上に、導電層１２、下引き層１３、電荷発生層１４、電荷輸送層１５及び表面層として第二の電荷輸送層１６の、複数の層を有する。
【００１３】
電子写真感光体の支持体としては、導電性を示すものであれば、特に制限なく使用することができる。例えばアルミニウム、銅、クロム、ニッケル、亜鉛及びステンレス等の金属や合金をドラム状に成形したもの等が使用できる。
【００１４】
導電性支持体の表面は、レーザー光等の散乱による干渉縞の防止等を目的として、切削処理、粗面化処理、アルマイト処理等を施してもよい。
【００１５】
導電性支持体と、後述の中間層又は感光層（電荷発生層、電荷輸送層）との間には、レーザー光等の散乱による干渉縞の防止や、導電性支持体の傷の被覆を目的とした導電層を設けてもよい。
【００１６】
導電層は、カーボンブラック、導電性顔料や抵抗調節顔料を結着樹脂に分散及び／又は溶解させた導電層用塗布液を用いて形成されてもよい。導電層用塗布液には、加熱又は放射線照射により硬化重合する化合物を添加してもよい。導電性顔料や抵抗調節顔料を分散させた導電層は、その表面が粗面化される傾向にある。
【００１７】
導電層の膜厚は、０．２μｍ以上４０μｍ以下であることが好ましく、さらには１μｍ以上３５μｍ以下であることがより好ましく、さらには５μｍ以上３０μｍ以下であることがより一層好ましい。
【００１８】
導電層に用いられる結着樹脂としては、例えば、スチレン、酢酸ビニル、塩化ビニル、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、フッ化ビニリデン、トリフルオロエチレン等のビニル化合物の重合体又は共重合体が挙げられる。また、ポリビニルアルコール、ポリビニルアセタール、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリスルホン、ポリフェニレンオキサイド、ポリウレタン、セルロース樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ケイ素樹脂及びエポキシ樹脂等が挙げられる。
【００１９】
導電性顔料及び抵抗調節顔料としては、例えば、アルミニウム、亜鉛、銅、クロム、ニッケル、銀、ステンレス等の金属（合金）の粒子や、これらをプラスチックの粒子の表面に蒸着したもの等が挙げられる。また、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化スズ、酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化ビスマス、スズをドープした酸化インジウム、アンチモンやタンタルをドープした酸化スズ等の金属酸化物の粒子でもよい。これらは、単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。２種以上を組み合わせて用いる場合は、単に混合するだけでもよいし、固溶体や融着の形にしてもよい。
【００２０】
導電性支持体又は導電層と感光層（電荷発生層、電荷輸送層）との間には、バリア機能や接着機能を有する中間層を設けてもよい。中間層は、感光層の接着性改良、塗工性改良、導電性支持体からの電荷注入性改良、感光層の電気的破壊に対する保護等のために形成される。
【００２１】
中間層の材料としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリ−Ｎ−ビニルイミダゾール、ポリエチレンオキシド、エチルセルロース等が挙げられる。また、エチレン−アクリル酸共重合体、カゼイン、ポリアミド、Ｎ−メトキシメチル化６ナイロン、共重合ナイロン、にかわ及びゼラチン等が挙げられる。中間層は、これらの材料を溶剤に溶解させることによって得られる中間層用塗布液を塗布し、これを乾燥させることによって形成することができる。
【００２２】
中間層の膜厚は０．０５μｍ以上７μｍ以下であることが好ましく、さらには０．１μｍ以上２μｍ以下であることがより好ましい。膜厚は渦電流方式で測定した。
【００２３】
次に下引き層の上に感光層を形成する。
【００２４】
電荷発生層と電荷輸送層とを機能分離し積層させた積層型感光層を形成する場合には、下引き層上に電荷発生層、電荷輸送層の順で積層する。
【００２５】
ここで、電荷発生層に用いる電荷発生物質としては、セレン−テルル、ピリリウム、チアピリリウム系染料、また各種の中心金属及び結晶系が挙げられる。より具体的には、例えばα、β、γ、ε及びＸ型等の結晶型を有するフタロシアニン化合物、アントアントロン顔料、ジベンズピレンキノン顔料、ピラントロン顔料、トリスアゾ顔料、ジスアゾ顔料、モノアゾ顔料である。また、インジゴ顔料、キナクリドン顔料、非対称キノシアニン顔料、キノシアニン及び特開昭５４−１４３６４５号公報に記載のアモルファスシリコーン等も挙げられる。
【００２６】
この積層型感光体の場合、上記電荷発生物質を０．３〜４倍量の結着樹脂及び溶剤とともにホモジナイザー、超音波分散、ボールミル、振動ボールミル、サンドミル、アトライター及びロールミル等の方法を用いて分散させる。この分散液を下引き層上に塗布し乾燥させることにより電荷発生層を形成させる。
【００２７】
又は上記電荷発生物質の単独組成からなる膜を蒸着法等を用いることにより下引き層上に形成させる。電荷発生層の膜厚は５μｍ以下であることが好ましく、特に０．１〜２μｍの範囲であることが好ましい。
【００２８】
上記結着樹脂としては、スチレン、酢酸ビニル、塩化ビニル、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、フッ化ビニリデン、トリフルオロエチレン、等のビニル化合物の重合体及び共重合体を用いることができる。又は、ポリビニルアルコール、ポリビニルアセタール、ポリビニルブチラール、ポリカーボネート、ポリエステルでもよい。更には、ポリスルホン、ポリフェニレンオキサイド、ポリウレタン、セルロース樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ケイ素樹脂、エポキシ樹脂等でもよい。
【００２９】
本発明において表面層は、連鎖重合性官能基を有する正孔輸送性化合物を重合あるいは架橋させることにより形成することができる。表面層は、電荷発生層上に電荷輸送層として形成されているか、又は電荷発生層上に電荷輸送物質と結着樹脂からなる電荷輸送層を形成させた後にその上に第二の電荷輸送層として形成されている。いずれの場合も、正孔輸送性化合物を含有する溶液を塗布して、該正孔輸送性化合物を重合あるいは架橋し、膜を硬化させることにより表面層を形成することができる。
【００３０】
溶液を塗布する方法としては、例えば浸漬コーティング法、スプレイコーティング法、カーテンコーティング法及びスピンコーティング法等の塗布法を用いて行うことができる。中でも効率性／生産性の点から、浸漬コーティング法が好ましい。
【００３１】
次に、表面層を熱や可視光、紫外線等の光、更に放射線等を用いて硬化させるが、中でも放射線を用いるのがより好ましい。これにより非常に高純度な三次元マトリックスの表面層を作製することができ、良好な電子写真特性を示す感光体を得ることができるからである。
【００３２】
上記放射線とは電子線又はγ線等である。電子線を照射する場合には、スキャニング型、エレクトロカーテン型、ブロードビーム型、パルス型及びラミナー型等の加速器を用いて行うことができる。
【００３３】
電気特性及び機械的劣化に対する耐久性を向上させた本発明の感光体を得る上で、電子線の照射条件を考慮することは重要である。例えば、本発明において、加速電圧は２５０ｋＶ以下であると好ましく、より好ましくは１５０ｋＶ以下である。また照射線量は１×１０３Ｇｙ〜１ＭＧｙの範囲であると好ましく、より好ましくは５×１０４Ｇｙ以下の範囲である。加速電圧が上記を越えると電気特性の劣化が起こる。また、照射線量が上記範囲よりも少ない場合には表面層の硬化が不十分となり、また照射線量が多い場合には電気特性の劣化が起こる。
【００３４】
一方、電子線照射時の雰囲気の酸素濃度も重要である。酸素があると電子線照射によって発生したラジカルが失活してしまい、硬化が促進されないためである。電子写真感光体の表面層として必要な硬化率を得るには酸素濃度３０ｐｐｍ以下の窒素雰囲気で電子線照射を行うことが望ましい。より好ましくは２０ｐｐｍ以下、更に好ましくは１０ｐｐｍ以下が望ましい。
【００３５】
次に、酸素暴露工程として数秒から数分程度、１００ｐｐｍ乃至１００００ｐｐｍの酸素濃度で酸素暴露を行う。このときの酸素濃度が低いと本件の効果（接触角の低下）が発現せず、また、酸素濃度が高すぎると最終的に得られた表面層の硬度が低くなってしまう。
【００３６】
次に、表面層をより硬化させるために、電子線照射後ラジカルが完全に失活する前に熱を加えるとよい。加熱温度は、感光体の温度が室温〜２５０℃となるように調整すればよい。より好ましくは５０℃〜１５０℃である。温度が上記範囲よりも高い場合には、電子写真感光体の材料に劣化が生じるからである。加熱する時間は、その温度にもよるが、おおよそ数秒から数十分程度であるとよい。
【００３７】
上記正孔輸送性化合物を第一の電荷輸送層として用いた場合の膜厚は１〜５０μｍが好ましく、特には２〜３０μｍが好ましい。また、上記正孔輸送性化合物を電荷発生層／第一の電荷輸送層上に第二の電荷輸送層として用いた場合、その下層に当たる第一の電荷輸送層は以下のようにして形成する。
【００３８】
適当な電荷輸送物質を適当な結着樹脂（上述した電荷発生層の箇所で説明したのと同様な樹脂が適用できる）とともに溶剤に分散／溶解し、該溶液を上述の公知の方法を用いて電荷発生層上に塗布し乾燥させることにより第一の電荷輸送層を形成する。
【００３９】
ここで、適当な電荷輸送物質とは、例えばポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリスチリルアントラセン等の複素環や縮合多環芳香族を有する高分子化合物である。又は、ピラゾリン、イミダゾール、オキサゾール、トリアゾール、カルバゾール等の複素環化合物でもよい。更には、トリフェニルメタン等のトリアリールアルカン誘導体、トリフェニルアミン等のトリアリールアミン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、Ｎ−フェニルカルバゾール誘導体、スチルベン誘導体、ヒドラゾン誘導体等の低分子化合物等でもよい。
【００４０】
この場合の電荷輸送物質と結着樹脂の比率は、両者の全重量を１００とした場合に電荷輸送物質の重量は２０〜１００であると好ましく、より好ましくは３０〜１００である。電荷輸送物質の量がそれ以下であると、電荷輸送能が低下し、感度低下及び残留電位の上昇等の問題が生ずる。第一の電荷輸送層が形成された積層型感光体における電荷輸送層の膜厚は１〜５０μｍが好ましく、より好ましくは３〜３０μｍである。
【００４１】
また、この時の第二の電荷輸送層の膜厚は０．５〜１０μｍが好ましく、より好ましくは１〜８μｍである。
【００４２】
次に、電子写真特性の更なる改善を目的として大気中で加熱する工程を経ることが望ましい。加熱温度は５０℃から２００℃が良く、更に１００℃から１５０℃がより好ましい。加熱時間は５分から３０分が良く、さらに８分から１５分がより好ましい。また、この大気中の加熱工程は行っても行わなくても良い。
【００４３】
次にクリーニング性改善等のために表面処理を行う工程を経ることが望ましい。表面処理の方法は、ガラスビーズ等によるブラスト処理、フィルム状研磨材を用いた表面層の研磨、化学エッチング、凹凸のついたスタンパを用いて電子写真感光体の表面を圧縮成型加工する等、いずれの方法であっても良い。また、この工程は行っても行わなくても良い。
【００４４】
＜電子線の照射線量測定方法＞
Far West Technology社製ラジオクロミック線量計（ＦＷＴ−６０）を用い、照射線量を測定した。
【００４５】
＜評価１：膜表面特性評価＞
膜表面特性として、水に対する接触角を測定した。評価機は協和界面科学製、固液界面解析システム  型式：DropMaster700にて、下記のパラメータで市販の蒸留水を用いて測定した。
【００４６】
（測定パラメータ）
測定方法：標準
測定までの待ち時間：１０００ｍｓｅｃ
制御：自動液適正性／自動着滴動作
曲率補正：なし
解析手法：液滴法
解析方法：θ／２法
【００４７】
＜評価２：電子写真特性評価＞
評価機はキヤノン製デジタル複写機ｉＲ２８７０を用い、暗部電位、明部電位と残留電位を測定した。
【００４８】
図２は、本評価機すなわち本発明に係る電子写真装置の概略図である。この図２において、１は像担持体としての円筒状の電子写真感光体であり、軸１ａを中心に矢印方向に所定の周速度で回転駆動される。電子写真感光体１はその回転過程で、帯電手段２によりその周面に正又は負の所定電位の均一帯電を受け、次いで像露光手段Ｌにより光像露光（スリット露光・レーザービーム走査露光等）を受ける。これにより感光体周面に露光像に対応した静電潜像が順次形成されていく。
【００４９】
形成された静電潜像は、次いで現像手段３が備える現像スリーブ３−１でトナー現像される。そのトナー現像像が、転写手段４により不図示の給紙部から電子写真感光体１と転写手段４との間に電子写真感光体１の回転と同期取りされて給送された転写材７の面に順次転写されていく。像転写を受けた転写材７は感光体面から分離された後、像定着手段８へ導入され、像定着を受けて複写物（コピー）として機外へプリントアウトされる。像転写後の転写残りトナーはクリーニング手段５にて除去され、感光体１は前露光手段６により除電露光がされ、除電処理される。
【００５０】
プロセススピードは１３７ｍｍ／ｓｅｃである。本評価機のプロセスを簡単に説明する。まず直接帯電方式で一次帯電を行う。帯電が均一になるよう印加電圧は直流（−６００V）に交流（１３００Ｈｚ、１．６ＫＶｐ−ｐ、正弦波）を重畳させる。次にレーザー露光により潜像形成を行い、ジャンピング現像で磁性一成分現像剤を用いて現像し、次いで転写ローラを用いて像を転写紙に転写する。転写紙は定着器に送られて像が定着される。次のプロセスのためにクリーニングブレードで残留現像剤を除去し、最後に前露光で電子写真感光体表面を除電する。
【００５１】
感光体表面２３℃、雰囲気湿度５０％ＲＨのときの暗部電位を−６００Ｖに合わせたときのベタ黒出力時の現像器位置の明部電位と残留電位を測定した。電位測定はＴＲＥＫ社製  表面電位計Model344と電位プローブ Model 6000B-８を用いて行った。
【００５２】
＜評価３：耐久特性評価＞
評価２と同じ評価機で、1枚間欠モードで耐久試験をＡ４サイズの紙で１０万枚行い、感光体の削れ量の測定と傷の状態を観察した。膜厚はフィッシャー社製  フィッシャースコープＭＭＳマルチ測定システムにて、渦電流方式のプローブＥＡＷ３．３を用いて測定した。感光体の初期膜厚と耐久後膜厚を測定し、その差分を耐久枚数で割った値を削れ量とした。単位はμｍ／１万枚とする。傷は上記評価機にて出力したベタ白とベタ黒画像で判断した。判断基準は下記のとおりで、表１には下記の「○」「△」「×」の評価基準が記載してある。
【００５３】
○：ベタ白とベタ黒画像の両方に感光体表面の傷による画像欠陥が無い
△：ベタ白には感光体表面の傷による画像欠陥がないが、ベタ黒には感光体表面の傷による画像欠陥が若干あり、実使用上問題となる可能性がある
×：ベタ白とベタ黒画像の両方に感光体表面の傷による画像欠陥があり、実使用上問題がある
以下、本発明を実施例にしたがってより詳細に説明する。ただし、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００５４】
［実施例１］
実施例１に用いる電子写真感光体を以下の通りに作製した。まず、長さ３７０ｍｍ、外径３０ｍｍ、肉厚０．７ｍｍのアルミニウムシリンダー（ＪＩＳ  Ａ３００３アルミニウムの合金）を切削加工により作製し、導電性支持体とした。このシリンダーを洗剤（商品名：ケミコールＣＴ、常盤化学（株）製）を含む純水中で超音波洗浄を行い、続いて洗剤を洗い流す工程を経た後、更に純水中で超音波洗浄を行って脱脂処理した。
【００５５】
次に、導電性粒子としての酸素欠損型ＳｎＯ２を被覆したＴｉＯ２粒子（粉体抵抗率１２０Ω・ｃｍ、ＳｎＯ２の被覆率（質量比率）は４０％）５１．２部を用意。これに結着樹脂としてのフェノール樹脂（商品名：プライオーフェンＪ−３２５、大日本インキ化学工業（株）製、樹脂固形分６０％）４２．６部、溶剤としてのメトキシプロパノール３５部を、添加。更に、これらを直径１ｍｍのガラスビーズを用いたサンドミルで３時間分散して、分散液を調整した。
【００５６】
この分散液における酸素欠損型ＳｎＯ２を被覆したＴｉＯ２粒子の平均粒径は０．３５μｍであった（堀場製作所製ＣＡＰＡ（登録商標）７００でＴＨＦを分散媒に用い、回転数５０００ｒｐｍで遠心沈降法で測定）。
【００５７】
この分散液に、表面粗し付与材としてのシリコーン樹脂粒子（商品名：トスパール（登録商標）１２０、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製、平均粒径２μｍ）３．９部を添加。更に、レベリング剤としてのシリコーンオイル（商品名：ＳＨ２８ＰＡ、東レ・ダウコーニング・シリコーン（株）製）０．００１部を添加して攪拌し、導電層用塗布液を調整した。
【００５８】
このようにして調合した分散液を、前記アルミニウムシリンダー上に浸漬法によって塗布し、１５０℃に調整された熱風乾燥機中で４８分間加熱乾燥、硬化することにより膜厚１５μｍの導電層を形成した。
【００５９】
次に、共重合ナイロン樹脂（商品名：アミランＣＭ８０００、東レ（株）製）１０質量部及びメトキシメチル化ナイロン樹脂（商品名：トレジンＥＦ３０Ｔ、帝国化学産業（株）製）３０質量部をメタノール５００質量部及びブタノール２５０質量部の混合液に溶解。この溶液を、前記導電層の上に浸漬塗布し、１００℃に調整された熱風乾燥機中に２２分間投入し加熱乾燥して、膜厚み０．４５μｍの下引き層を形成した。
【００６０】
次に、ＣｕＫa特性Ｘ線回折におけるブラッグ角２θ±０．２°の７．４°及び２８．２°に強いピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料４質量部、ポリビニルブチラール樹脂（商品名：エスレックＢＸ−１、積水化学工業（株）製）２質量部を用意。これらにシクロヘキサノン９０質量部を添加した混合溶液を直径１ｍｍガラスビーズを用いてサンドミルで１０時間分散させた後、酢酸エチル１１０質量部を加えて電荷発生層用塗工液を調製した。この塗工液を上記の下引き層上に浸漬塗布し、８０℃に調整された熱風乾燥機中に２２分間投入し加熱乾燥して、膜厚０．１８μｍの電荷発生層を形成した。
【００６１】
下記構造式（１１）で示されるトリアリールアミン系化合物３５質量部及びビスフェノールＺ型ポリカーボネート樹脂（商品名：ユピゼータＺ４００、三菱瓦斯化学（株）製）５０質量部を、モノクロロベンゼン３２０質量部及びジメトキシメタン５０質量部に溶解。こうして調製した電荷輸送層用塗工液を、上記電荷発生層上に浸漬塗布し、９０℃に調整された熱風乾燥機中に４０分間投入し加熱乾燥して、膜厚１８μｍの第一の電荷輸送層を形成した。
【００６２】
【化１】
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【００６３】
次いで、下記構造式（１２）で示され、重合性官能基を有することで電子線の照射でポリマーを生成する正孔輸送性化合物２７質量部、分散剤としてフッ素原子含有樹脂（商品名：ＧＦ−３００、東亞合成（株）製）０．４５質量部を用意。これらを、１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフルオロシクロペンタン（商品名：ゼオローラＨ、日本ゼオン（株）製）３５質量部と１−プロパノール３５質量部に溶解。これに、潤滑剤として四フッ化エチレン樹脂粉体（商品名：ルブロンＬ−２、ダイキン工業（株）製）３質量部を添加。更に、高圧分散機（商品名：マイクロフルイダイザーＭ−１１０ＥＨ、米Ｍｉｃｒｏｆｌｕｉｄｉｃｓ社製）で５８８０Ｎ／ｃｍ２（６００ｋｇｆ／ｃｍ２）の圧力で３回の処理を施し均一に分散させた。これを１０μｍのＰＴＦＥメンブレンフィルターで加圧ろ過を行い潤滑剤分散液を調製した。
【００６４】
【化２】
2010066670.tif 000003
【００６５】
その後、前記式（１２）で示される正孔輸送性化合物２７質量部を潤滑剤分散液に加え、ＰＴＦＥ製の５μｍメンブレンフィルターで加圧ろ過を行い、電子写真感光体の表面層である第二の電荷輸送層を生成させる表面層用塗布液を調整した。
【００６６】
前記式（１２）で示される正孔輸送性化合物は、二重結合を有する置換基を少なくとも１つ以上備えるトリアリールアミンである。
【００６７】
更に浸漬塗布法により、第一の電荷輸送層を設けた導電性支持体に表面層用塗布液を塗布し、硬化後には第二の電荷輸送層となる塗布膜を生成させた。
【００６８】
その後、電子線照射工程として加速電圧７０ｋＶ、線量１５ｋＧｙの条件で電子線を照射した。このときの酸素濃度は３０ｐｐｍであった。次に、酸素暴露工程として酸素濃度１００ｐｐｍの雰囲気で６００秒放置して酸素暴露を行った。引き続き、加熱工程として酸素濃度３０ｐｐｍの雰囲気で感光体の温度が１２０℃になる条件で９０秒間加熱処理を行った。更に、感光体を大気中で１００℃に調整された熱風乾燥機中で１０分間加熱処理を行って、膜厚５μｍの硬化型表面層を形成した。
【００６９】
この感光体を用いて膜表面特性、電子写真特性、耐久特性を評価した。いずれの特性も良好であった。結果を表１に示す。
【００７０】
［実施例２］
酸素暴露工程の酸素濃度を１０００ｐｐｍとした以外は、実施例１と同じ感光体を作成した。この感光体を用いて膜表面特性、電子写真特性、耐久特性を評価した。いずれの特性も良好であった。結果を表１に示す。
【００７１】
［実施例３］
酸素暴露工程の酸素濃度を５０００ｐｐｍとした以外は、実施例１と同じ感光体を作成した。この感光体を用いて膜表面特性、電子写真特性、耐久特性を評価した。いずれの特性も良好であった。結果を表１に示す。
【００７２】
［実施例４］
酸素暴露工程の酸素濃度を１００００ｐｐｍとした以外は、実施例１と同じ感光体を作成した。この感光体を用いて膜表面特性、電子写真特性、耐久特性を評価した。いずれの特性も良好であった。結果を表１に示す。
【００７３】
［比較例１］
酸素暴露工程の酸素濃度を３０ｐｐｍとした以外は、実施例１と同じ感光体を作成した。この感光体を用いて膜表面特性、電子写真特性、耐久特性を評価した。電子写真特性と削れは良好であったが、接触角低下が起こらずスリップによる傷が発生した。結果を表１に示す。
【００７４】
［比較例２］
加熱工程の酸素濃度を１００ｐｐｍとした以外は、実施例１と同じ感光体を作成した。この感光体を用いて膜表面特性、電子写真特性、耐久特性を評価した。削れは良好であったが若干明部電位と残留電位が高く、また、接触角の低下が起こらず傷が悪化した。結果を表１に示す。
【００７５】
［比較例３］
電子線照射工程の酸素濃度を１００ｐｐｍとした以外は、実施例１と同じ感光体を作成した。この感光体を用いて膜表面特性、電子写真特性、耐久特性を評価した。電子写真特性は良好であったが、表面層の硬度が低下したため削れが増大し、接触角の低下が発生せず傷が悪化した。結果を表１に示す。
【００７６】
［比較例４］
酸素暴露工程の酸素濃度を１２０００ｐｐｍとした以外は、実施例１と同じ感光体を作成した。この感光体を用いて膜表面特性、電子写真特性、耐久特性を評価した。接触角の低下は発生したが、表面層の硬度が低下し削れ／傷の増加が発生した。結果を表１に示す。
【００７７】
【表１】
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【００７８】
実施例１乃至４と比較例１、４からわかるように、酸素暴露工程の酸素濃度は１００ｐｐｍから１００００ｐｐｍで接触角が低下し、電位特性／傷／削れが良好な範囲であった。比較例２から加熱工程の酸素濃度が高いと傷が増加することがわかる。以上のことから、電子線照射工程と酸素暴露工程と加熱工程が順次あり、各工程の酸素濃度は、電子線照射工程は低いほうが良く、酸素暴露工程は１００ｐｐｍから１００００ｐｐｍが最適であることがわかった。また、加熱工程は低いことが本件の効果（接触角の低下）が発現し、弊害（電位特性／耐摩耗性／耐傷性）が少ない範囲であることがわかった。
【図面の簡単な説明】
【００７９】
【図１】本発明に係る電子写真感光体の層構成の一例を示す図である。
【図２】本発明に係る電子写真装置の概略図である。
【符号の説明】
【００８０】
１  電子写真感光体
１ａ  軸
２  帯電手段
３  現像手段
３−１  現像スリーブ
４  転写手段
５  クリーニング手段
６  前露光手段
７  転写材
８  像定着手段
Ｌ  像露光手段
１１  導電性支持体
１２  導電層
１３  下引き層
１４  電荷発生層
１５  電荷輸送層
１６  第二の電荷輸送層
【図１】
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【図２】
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