(57)【要約】【課題】反応装置における反応剤の混合の均一性を高める。【解決手段】反応装置の第１流路構造体１ａは、基板４と、その基板４の一方の面を覆った状態でその面に接合されている第１封止部材６と、基板４の他方の面を覆った状態でその面に接合されている第２封止部材８とを有し、基板４の一方の面には、第１導入路１０を構成する第１導入溝１８と第２導入路１２を構成する第２導入溝２０とが形成されている一方、基板４の他方の面には、反応路１６を構成する反応溝２４が形成されており、さらに、合流路１４を構成する合流孔２２が基板４の一方の面から他方の面へ貫通しており、合流孔２２は、第１導入溝１８と第２導入溝２０の共通の終点でかつ反応溝２４の始点であり、第１導入溝１８の下流側端部と第２導入溝２０の下流側端部とは、基板４の一方の面において互いに異なる方向から合流孔２２に合流している。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１反応剤と第２反応剤を流通させながらそれらを反応させる反応装置であって、
前記第１反応剤が導入される第１導入路と、前記第２反応剤が導入される第２導入路と、前記第１導入路の下流側と前記第２導入路の下流側に繋がり、前記第１導入路を通じて流れる前記第１反応剤と前記第２導入路を通じて流れる前記第２反応剤とを合流させるための合流路と、この合流路の下流側に繋がり、その合流路において合流された両反応剤を流通させながら互いに反応させるための反応路とを有する反応剤流通路を内部に持つ流路構造体を備え、
前記流路構造体は、基板と、その基板の一方の面を覆った状態でその面に接合されている第１封止部材と、前記基板の他方の面を覆った状態でその面に接合されている第２封止部材とを有し、
前記基板の一方の面には、前記第１導入路を構成する第１導入溝と前記第２導入路を構成する第２導入溝とが形成されている一方、前記基板の他方の面には、前記反応路を構成する反応溝が形成されており、さらに、前記合流路を構成する合流孔が前記基板の前記一方の面から前記他方の面へ貫通しており、
前記合流孔は、前記第１導入溝と前記第２導入溝の共通の終点でかつ前記反応溝の始点であり、
前記第１導入溝の下流側端部と前記第２導入溝の下流側端部とは、前記基板の前記一方の面において互いに異なる方向から前記合流孔に合流している、反応装置。
【請求項２】
請求項１に記載の反応装置において、
前記第１導入溝の下流側端部と前記第２導入溝の下流側端部とは、同一直線上に位置し、前記合流孔に対して互いに反対側から合流する、反応装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の反応装置において、
前記反応剤流通路は、前記流路構造体の内部に複数設けられており、
前記各反応剤流通路の前記第１導入路を構成する複数の前記第１導入溝は、前記基板の一方の面に平行かつ並列に形成され、
前記各反応剤流通路の前記第２導入路を構成する複数の前記第２導入溝は、前記基板の一方の面側に平行かつ並列に形成され、
前記各反応剤流通路の前記反応路を構成する複数の前記反応溝は、前記基板の他方の面側に平行かつ並列に形成されている、反応装置。
【請求項４】
請求項３に記載の反応装置において、
前記各反応剤流通路は、第３反応剤が導入される第３導入路をそれぞれ有し、
前記各反応剤流通路の前記第３導入路を構成する複数の第３導入溝が、前記基板の他方の面に平行かつ並列に形成されているとともに、その各第３導入溝の下流側端部は、対応する前記各合流孔に繋がっている、反応装置。
【請求項５】
請求項１〜３のいずれか１項に記載の反応装置を製造するための方法であって、
前記基板の一方の面を第１の深さまでエッチングして少なくとも前記第１導入溝の下流側端部を形成する第１導入溝形成工程と、
前記基板の一方の面を前記第１の深さよりも大きい第２の深さまでエッチングして少なくとも前記第２導入溝の下流側端部を形成する第２導入溝形成工程と、
前記基板の他方の面を当該基板の板厚と前記第２の深さとの差よりも大きく、かつ、当該基板の板厚と前記第１の深さとの差よりも小さい第３の深さまでエッチングして少なくとも前記反応溝の上流側端部を形成する反応溝形成工程と、
前記第２導入溝形成工程と同時に行われ、前記基板の前記一方の面のうち前記合流孔の形成領域を前記第２の深さまでエッチングする合流孔形成第１工程と、
前記反応溝形成工程と同時に行われ、前記基板の前記他方の面のうち前記合流孔の形成領域を前記第３の深さまでエッチングする合流孔形成第２工程とを備え、
前記合流孔形成第１工程で前記第２の深さまでエッチングした部分と前記合流孔形成第２工程で前記第３の深さまでエッチングした部分とが繋がって前記合流孔が貫通する、反応装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、反応装置及び反応装置の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、第１反応剤と第２反応剤とを接触させた状態で流通させながらそれら両反応剤を互いに反応させることにより所望の反応生成物を製造することが行われている。このような生成物の製造には、例えば下記特許文献１に開示された反応装置が用いられる。
【０００３】
図１２には、この特許文献１に開示された反応装置の一例が示されている。図１２に示す反応装置は、反応剤を流通させる反応剤流通路が内部に設けられた流路構造体１０２を備えている。流路構造体１０２内の反応剤流通路は、第１反応剤が導入される第１導入路１０４と、第２反応剤が導入される第２導入路１０６と、それら各導入路１０４，１０６を通じて流れる両反応剤を合流させる合流路１０８と、その合流路１０８において合流された両反応剤を流通させながら互いに反応させるための反応路１１０とによって構成されている。
【０００４】
そして、流路構造体１０２は、基板１１２と、その基板１１２を挟み込んで一体化された一対の封止板１１４，１１６とからなる。基板１１２の一方の面には、第１導入路１０４を構成する第１導入溝１１８と、反応路１１０を構成する反応溝１２０とが直線的に並ぶように形成されており、基板１１２の他方の面には、第２導入路１０６を構成する第２導入溝１２２が第１導入溝１１８と平行に延びるように形成されている。また、合流路１０８を構成する合流孔１２４が、両導入溝１１８，１２２の下流側端部と反応溝１２０の上流側端部との間でそれら各溝１１８，１２２，１２０を繋ぐように基板４の一方の面から他方の面へ貫通している。これら各溝１１８，１２２，１２０及び合流孔１２４のそれぞれの開口部が対応する封止板１１４，１１６で覆われることによって、第１導入路１０４、第２導入路１０６、合流路１０８及び反応路１１０が形成されている。そして、この反応装置では、第１導入溝１１８の底面と反応溝１２０の底面とが面一に形成されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００８−１６８１７３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、上記の従来の構成では、基板４の一方の面に第１導入溝１１８と反応溝１２０とが直線的に並ぶように形成されているとともにそれら第１導入溝１１８と反応溝１２０の両方の底面が面一に形成されていることに起因して、第１反応剤が直線的に円滑に流れる一方、第１導入溝１１８及び反応溝１２０が形成された面と反対側の面である基板１１２の他方の面に第２導入溝１２２が形成されていることに起因して、前記直線的に流れる第１反応剤に第２反応剤が途中から合流するため、第１反応剤に対する第２反応剤の十分な混入が比較的難しくなり、両反応剤の混合の均一性を高めることが難しくなる。
【０００７】
この発明は、上記の課題を解決するためになされたものであり、その目的は、反応装置における反応剤の混合の均一性を高めることである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的を達成するために、この発明の反応装置は、第１反応剤と第２反応剤を流通させながらそれらを反応させる反応装置であって、前記第１反応剤が導入される第１導入路と、前記第２反応剤が導入される第２導入路と、前記第１導入路の下流側と前記第２導入路の下流側に繋がり、前記第１導入路を通じて流れる前記第１反応剤と前記第２導入路を通じて流れる前記第２反応剤とを合流させるための合流路と、この合流路の下流側に繋がり、その合流路において合流された両反応剤を流通させながら互いに反応させるための反応路とを有する反応剤流通路を内部に持つ流路構造体を備え、前記流路構造体は、基板と、その基板の一方の面を覆った状態でその面に接合されている第１封止部材と、前記基板の他方の面を覆った状態でその面に接合されている第２封止部材とを有し、前記基板の一方の面には、前記第１導入路を構成する第１導入溝と前記第２導入路を構成する第２導入溝とが形成されている一方、前記基板の他方の面には、前記反応路を構成する反応溝が形成されており、さらに、前記合流路を構成する合流孔が前記基板の前記一方の面から前記他方の面へ貫通しており、前記合流孔は、前記第１導入溝と前記第２導入溝の共通の終点でかつ前記反応溝の始点であり、前記第１導入溝の下流側端部と前記第２導入溝の下流側端部とは、前記基板の前記一方の面において互いに異なる方向から前記合流孔に合流している。
【０００９】
この反応装置では、流路構造体を構成する基板の同じ面に第１導入溝と第２導入溝が形成されていて、その面において第１導入溝の下流側端部と第２導入溝の下流側端部とが互いに異なる方向から合流孔に合流しているとともに、その合流孔を始点として基板の他方の面に反応溝が形成されているので、基板の一方の面に底面が面一となるように第１導入溝と反応溝とが形成されるとともに、それらの溝に対して基板の他方の面に形成された第２導入溝が合流孔を介して合流している従来の構成に比べて、第１反応剤と第２反応剤との均一性の高い混合が可能となる。すなわち、この反応装置では、基板の一方の面に形成された第１導入溝と第２導入溝のそれぞれの下流側端部が互いに異なる方向から合流孔に合流しているとともに、その合流孔を始点として基板の他方の面に反応溝が延びていることに起因して、第１反応剤と第２反応剤とが互いに衝突するように合流しながら、基板の他方の面側へ抜けて反応路に流れるため、両反応剤が互いにほぼ対等な条件で混合される。このため、この反応装置では、基板の一方の面に底面が面一に形成された第１導入溝と反応溝とを直線的に円滑に流れる第１反応剤に対して基板の他方の面に形成された第２反応溝から第２反応剤が混入する従来の混合形態に比べて、両反応剤が混ざり合いやすく、その結果、両反応剤の混合の均一性を高めることができる。
【００１０】
上記反応装置において、前記第１導入溝の下流側端部と前記第２導入溝の下流側端部とは、同一直線上に位置し、前記合流孔に対して互いに反対側から合流することが好ましい。
【００１１】
このように構成すれば、第１反応剤と第２反応剤とを合流路に互いに反対側から流入させることができるため、合流路において両反応剤が互いに正面から衝突して混合される。これにより、両反応剤がより混ざり合いやすくなり、その結果、両反応剤の混合の均一性をより高めることができる。
【００１２】
上記反応装置において、前記反応剤流通路は、前記流路構造体の内部に複数設けられており、前記各反応剤流通路の前記第１導入路を構成する複数の前記第１導入溝は、前記基板の一方の面に平行かつ並列に形成され、前記各反応剤流通路の前記第２導入路を構成する複数の前記第２導入溝は、前記基板の一方の面側に平行かつ並列に形成され、前記各反応剤流通路の前記反応路を構成する複数の前記反応溝は、前記基板の他方の面側に平行かつ並列に形成されていることが好ましい。
【００１３】
第１反応剤と第２反応剤とを互いに衝突させるように合流させて反応路へ流すための構成としては、例えば、基板の一方面において第１導入溝と第２導入溝とが１８０°未満の角度で交差するように合流してもよいが、その場合には必要面積が増大し、このことに起因して、反応装置において生成物の生産性の向上のために多数の反応剤流通路を集積しようとした場合にあまり大きな集積効果が得られない。これに対して、上記構成では、基板の一方の面側に多数の反応剤流通路の各第１導入路が平行かつ並列に設けられるとともに多数の反応剤流通路の各第２導入路が平行かつ並列に設けられ、さらに、基板の他方の面側に多数の反応剤流通路の各反応路が平行かつ並列に設けられるので、基板の一方の面側において各第１導入路をより集積して配置できるとともに各第２導入路をより集積して配置でき、さらに、基板の他方の面側において各反応路をより集積して配置できる。その結果、反応装置において反応剤流通路の良好な集積化を図ることができる。従って、この構成では、反応剤の混合の均一性を高めつつ、反応剤流通路の良好な集積効果を得ることができる。
【００１４】
この場合において、前記各反応剤流通路は、第３反応剤が導入される第３導入路をそれぞれ有し、前記各反応剤流通路の前記第３導入路を構成する複数の第３導入溝が、前記基板の他方の面に平行かつ並列に形成されているとともに、その各第３導入溝の下流側端部は、対応する前記各合流孔に繋がっていてもよい。
【００１５】
この構成によれば、第１反応剤と第２反応剤に加えて第３反応剤をさらに混合して反応生成物を製造することができる。そして、上記のように基板の一方の面に各第１導入溝が平行かつ並列に形成されているとともに各第２導入溝が平行かつ並列に形成されている場合には、この基板の一方の面においてそれら各導入溝との干渉を避けながら、各導入溝が合流する各合流孔に対して各第３導入溝をそれぞれ同方向から合流させることは困難である。しかしながら、この構成では、各第３導入溝が基板の他方の面に形成されているので、それら各第３導入溝を平行かつ並列に配置し、各合流孔に対して同方向から容易に合流させることができる。このことに起因して、各反応剤流通路において第３反応剤を第１反応剤及び第２反応剤に対して同方向から合流させることができ、その結果、各反応剤流通路における第１反応剤及び第２反応剤への第３反応剤の合流形態を均一化することができる。
【００１６】
また、本発明の反応装置の製造方法は、上記反応装置を製造するための方法であって、前記基板の一方の面を第１の深さまでエッチングして少なくとも前記第１導入溝の下流側端部を形成する第１導入溝形成工程と、前記基板の一方の面を前記第１の深さよりも大きい第２の深さまでエッチングして少なくとも前記第２導入溝の下流側端部を形成する第２導入溝形成工程と、前記基板の他方の面を当該基板の板厚と前記第２の深さとの差よりも大きく、かつ、当該基板の板厚と前記第１の深さとの差よりも小さい第３の深さまでエッチングして少なくとも前記反応溝の上流側端部を形成する反応溝形成工程と、前記第２導入溝形成工程と同時に行われ、前記基板の前記一方の面のうち前記合流孔の形成領域を前記第２の深さまでエッチングする合流孔形成第１工程と、前記反応溝形成工程と同時に行われ、前記基板の前記他方の面のうち前記合流孔の形成領域を前記第３の深さまでエッチングする合流孔形成第２工程とを備え、前記合流孔形成第１工程で前記第２の深さまでエッチングした部分と前記合流孔形成第２工程で前記第３の深さまでエッチングした部分とが繋がって前記合流孔が貫通する。
【００１７】
この反応装置の製造方法では、第２導入溝接続部形成工程と同時に基板の一方の面のうち合流孔の形成領域を第２の深さまでエッチングするとともに、反応溝接続部形成工程と同時に基板の他方の面のうち合流孔の形成領域を第３の深さまでエッチングすることにより、基板の一方の面から第２の深さまでエッチングした部分と基板の他方の面から第３の深さまでエッチングした部分とが繋がって合流孔が貫通するため、第２導入溝接続部形成工程のエッチングと反応溝接続部形成工程のエッチングとを利用して合流孔を形成することができる。このため、この反応装置の製造方法では、合流孔を形成するための専用のエッチング工程やレーザー加工等により合流孔を形成する工程等を別途行う必要がなく、反応装置の製造工程を簡素化することができる。
【発明の効果】
【００１８】
以上説明したように、本発明によれば、反応装置における反応剤の混合の均一性を高めることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明の一実施形態による反応装置の斜視図である。
【図２】図１に示した反応装置の流路装置を構成する第１流路構造体の分解斜視図である。
【図３】第１流路構造体における第１導入路のグループと、第２導入路のグループと、合流路のグループと、反応路のグループとの位置関係を概略的に示した図である。
【図４】第１流路構造体を構成する基板の一方の面の平面図である。
【図５】第１流路構造体を構成する基板の他方の面の平面図である。
【図６】第１流路構造体の合流路近傍の部分の第１導入路及び第２導入路に沿った断面図である。
【図７】図６中のＶＩＩ−ＶＩＩ線に沿った第１流路構造体の部分的な断面図である。
【図８】図６中のＶＩＩＩ−ＶＩＩＩ線に沿った第１流路構造体の部分的な断面図である。
【図９】図６中のＩＸ−ＩＸ線に沿った第１流路構造体の部分的な断面図である。
【図１０】本発明の一実施形態の変形例による第１流路構造体における第１導入路のグループと、第２導入路のグループと、第３導入路のグループと、合流路のグループと、反応路のグループとの位置関係を概略的に示した図である。
【図１１】図１０に示した変形例による第１流路構造体を構成する基板の他方の面の平面図である。
【図１２】従来の一例による反応装置の流路構造体の流路に沿った断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
以下、本発明の実施形態を図面を参照して説明する。
【００２１】
図１は、本発明の一実施形態による反応装置の斜視図である。図２は、図１に示した反応装置の流路装置Ｓを構成する第１流路構造体１ａの分解斜視図である。図３は、第１流路構造体１ａにおける第１導入路１０のグループと、第２導入路１２のグループと、合流路１４のグループと、反応路１６のグループとの位置関係を概略的に示した図である。図４は、第１流路構造体１ａを構成する基板４の一方の面の平面図であり、図５は、その基板４の他方の面の平面図である。図６は、第１流路構造体１ａの合流路１４近傍の部分の第１導入路１０及び第２導入路１２に沿った断面図である。図７は、図６中のＶＩＩ−ＶＩＩ線に沿った第１流路構造体１ａの部分的な断面図であり、図８は、図６中のＶＩＩＩ−ＶＩＩＩ線に沿った第１流路構造体１ａの部分的な断面図であり、図９は、図６中のＩＸ−ＩＸ線に沿った第１流路構造体１ａの部分的な断面図である。まず、図１〜図９を参照して、本発明の一実施形態による反応装置の構成について説明する。
【００２２】
本実施形態による反応装置は、図１に示すような流路装置Ｓを備えている。この流路装置Ｓは、反応剤を流通させる複数の反応剤流通路２を内部に持つ第１流路構造体１ａと、熱媒を流通させる複数の熱媒流路３０を内部に持つ第２流路構造体１ｂとが交互にそれぞれ複数積層されることによって構成されている。なお、これら２つの流路構造体１ａ，１ｂのうち第１流路構造体１ａが、本発明の流路構造体の概念に含まれるものである。
【００２３】
そして、本実施形態による反応装置は、一般的にマイクロリアクタと呼ばれるものであり、この反応装置は、第１流路構造体１ａ内に設けられた複数の微小な反応剤流通路２に第１反応剤と第２反応剤を流通させながらそれらを反応させることにより所望の反応生成物を製造する。
【００２４】
具体的には、第１流路構造体１ａは、図２に示すように、基板４と、第１封止部材６と、第２封止部材８とによって構成されており、これら基板４、第１封止部材６及び第２封止部材８は、それぞれ矩形状の平板からなる。第１封止部材６は、基板４の一方の面を覆った状態でその面に接合されており、第２封止部材８は、基板４の他方の面を覆った状態でその面に接合されている。すなわち、第１封止部材６と第２封止部材８との間に基板４が挟み込まれた状態でこれら封止部材６，８及び基板４が一体化されることによって第１流路構造体１ａが構成されている。
【００２５】
そして、第１流路構造体１ａの内部に設けられた各反応剤流通路２は、第１反応剤が導入される第１導入路１０と、第２反応剤が導入される第２導入路１２と、第１導入路１０の下流側と第２導入路１２の下流側に繋がり、第１導入路１０を通じて流れる第１反応剤と第２導入路１２を通じて流れる第２反応剤とを合流させるための合流路１４と、この合流路１４の下流側に繋がり、その合流路１４において合流された両反応剤を流通させながら互いに反応させるための反応路１６（図６参照）とによって構成されている。
【００２６】
第１流路構造体１ａにおいて、各反応剤流通路２の第１導入路１０からなるグループと、各反応剤流通路２の第２導入路１２からなるグループと、各反応剤流通路２の合流路１４からなるグループと、各反応剤流通路２の反応路１６からなるグループとは、図３に示すような位置関係でそれぞれ配置されている。
【００２７】
第１導入路１０のグループは、第１流路構造体１ａの長手方向の一方端部近傍に配置されており、基板４の一方の面側に設けられている。各第１導入路１０は、第１流路構造体１ａの幅方向の一方端部に導入口１０ａを有しており、その導入口１０ａから第１流路構造体１ａの幅方向の中心へ向かって当該幅方向に直線的に延びている。本実施形態の反応装置は、第１反応剤供給部５０ａ（図１参照）を備えており、この第１反応剤供給部５０ａが各第１導入路１０の導入口１０ａに接続されている。これにより、第１反応剤供給部５０ａから第１反応剤が各第１導入路１０に配分されて導入される。
【００２８】
また、各第１導入路１０は、第１流路構造体１ａの長手方向に等間隔で配置されているとともに、互いに平行かつ並列に配置されている。各第１導入路１０は、図７に示すように第１反応剤の流通方向（長手方向）と直交する断面において半円状の断面形状を有しているとともに、その全長に亘って幅及び相当直径が一定となっている。そして、各第１導入路１０は、それぞれ等しい流路長及び等しい相当直径を有している。これにより、各第１導入路１０の圧力損失が均等となっている。各第１導入路１０の圧力損失が均等化されていることに起因して、第１反応剤供給部５０ａから各第１導入路１０に配分されて流れる第１反応剤の流量が均一化される。
【００２９】
第２導入路１２のグループは、第１流路構造体１ａのうち前記第１導入路１０のグループと同じ側の端部近傍に配置されているとともに、その第１導入路１０のグループと同じ基板４の一方の面側に設けられている。各第２導入路１２は、第１流路構造体１ａの幅方向の他方端部、すなわち前記第１導入路１０の導入口１０ａと反対側に位置する端部に導入口１２ａを有しており、その導入口１２ａから第１流路構造体１ａの幅方向の中心へ向かって当該幅方向に直線的に延びている。各反応剤流通路２を構成する第１導入路１０と第２導入路１２とは、同一直線上に位置している。本実施形態の反応装置は、第２反応剤供給部５０ｂ（図１参照）を備えており、この第２反応剤供給部５０ｂが各第２導入路１２の導入口１２ａに接続されている。これにより、第２反応剤供給部５０ｂから第２反応剤が各第２導入路１２に配分されて導入される。
【００３０】
また、各第２導入路１２は、第１流路構造体１ａの長手方向に等間隔で配置されているとともに、互いに平行かつ並列に配置されている。各第２導入路１２は、図９に示すように第２反応剤の流通方向（長手方向）と直交する断面において半円状の断面形状を有しているとともに、その全長に亘って幅及び相当直径が一定となっている。この第２導入路１２の相当直径は、前記第１導入路１０の相当直径よりも大きい。そして、各第２導入路１２は、それぞれ等しい流路長及び等しい相当直径を有している。これにより、各第２導入路１２の圧力損失が均等となっている。各第２導入路１２の圧力損失が均等化されていることに起因して、第２反応剤供給部５０ｂから各第２導入路１２に配分されて流れる第２反応剤の流量が均一化される。
【００３１】
合流路１４のグループは、前記第１導入路１０のグループと前記第２導入路１２のグループとの間に配置されている。各合流路１４は、対応する第１導入路１０の下流側端部と対応する第２導入路１２の下流側端部とに繋がっているとともに、それら両導入路１０，１２と同方向に直線的に延びている。すなわち、この合流路１４には、対応する第１導入路１０の下流側端部と対応する第２導入路１２の下流側端部とが互いに反対側から合流している。これにより、第１導入路１０を通じて流れる第１反応剤と第２導入路１２を通じて流れる第２反応剤とが合流路１４に互いに反対側から流入し、それら両反応剤が互いに正面から衝突して混合される。各合流路１４は、図８に示すように、その長手方向に直交する断面において２つの半円が円弧の頂点近傍で互いに結合したような断面形状を有するとともに、前記第１導入路１０の相当直径及び前記第２導入路１２の相当直径よりも大きい相当直径を有する。
【００３２】
反応路１６のグループは、第１流路構造体１ａにおいて基板４の他方の面側、すなわち前記第１導入路１０のグループ及び前記第２導入路１２のグループと反対の面側に設けられている。各反応路１６は、対応する合流路１４を始点として、前記第１導入路１０の導入口１０ａが設けられた第１流路構造体１ａの幅方向の一方端部側へ向かって直線的に延び、その後、屈曲して第１流路構造体１ａの幅方向の他方端部側へ向かって直線的に延び、その後、同様に繰り返し屈曲しながら、第１流路構造体１ａの幅方向に往復するように延びて、第１流路構造体１ａの長手方向の他方端部近傍で前記第２導入路１２の導入口１２ａと同じ側に流出口１６ａを有している。各反応路１６は、並列配置されており、それら各反応路１６の流路長は等しくなっている。各反応路１６は、図７に示すように反応剤の流通方向と直交する断面において半円状の断面形状を有しており、その全長に亘って幅及び相当直径が一定となっている。そして、各反応路１６は、それぞれ等しい流路長及び等しい相当直径を有している。これにより、各反応路１６の圧力損失が均等となっている。各反応路１６では、合流路１４において合流された第１反応剤と第２反応剤とが流通しながら互いに反応し、それによって反応生成物が生成される。
【００３３】
そして、本実施形態では、基板４に前記各第１導入路１０を構成する各第１導入溝１８と、前記各第２導入路１２を構成する各第２導入溝２０と、前記各合流路１４を構成する各合流孔２２と、前記各反応路１６を構成する各反応溝２４とがそれぞれ形成されており、その各溝１８，２０，２４の開口部及び各合流孔２２の開口部を封止部材６，８が単に覆うだけで第１流路構造体１ａ内の各反応剤流通路２が形成されている。
【００３４】
具体的には、基板４の一方の面に複数の第１導入溝１８（図４参照）が平行かつ並列に形成されており、この基板４の一方の面に設けられた各第１導入溝１８の開口部が前記第１封止部材６によって封止されることにより前記各第１導入路１０が形成されている。各第１導入溝１８は、後述する合流孔２２に繋がる下流側端部１８ａを有しており、この下流側端部１８ａは、深さｄ１（図６参照）を有する。この深さｄ１は、本発明の第１の深さの概念に含まれるものであり、各第１導入溝１８は、その全長に亘って均一の深さｄ１となっている。第１導入溝１８は、第１反応剤の流通方向と直交する断面において半円状の断面形状を有する。
【００３５】
また、基板４の一方の面に複数の第２導入溝２０（図４参照）が平行かつ並列に形成されており、この基板４の一方の面に設けられた各第２導入溝２０の開口部が前記第１封止部材６によって封止されることにより前記各第２導入路１２が形成されている。各第２導入溝２０は、後述する合流孔２２に繋がる下流側端部２０ａを有しており、この下流側端部２０ａは、対応する第１導入溝１８の下流側端部１８ａと同一直線上に位置している。下流側端部２０ａは、深さｄ２（図６参照）を有する。この深さｄ２は、本発明の第２の深さの概念に含まれるものであり、前記第１導入溝１８の深さｄ１よりも大きく、後述する反応溝２４の深さｄ３と等しい深さになっている。そして、この深さｄ２と後述する深さｄ３は、それらの和が基板４の板厚よりも大きくなるような深さに設定されている。なお、各第２導入溝２０は、その全長に亘って均一の深さｄ２となっている。また、第２導入溝２０は、第２反応剤の流通方向と直交する断面において半円状の断面形状を有する。
【００３６】
前記各合流路１４は、基板４に設けられた各合流孔２２の両開口部が封止されることによって形成されている。基板４には、複数の合流孔２２が並列に形成されている。各合流孔２２は、前記各第１導入溝１８及び前記各第２導入溝２０のうち互いに対応するものの間で基板４の一方の面から他方の面へ貫通している。この合流孔２２は、第１導入溝１８と第２導入溝２０との共通の終点でかつ後述する反応溝２４の始点となっている。この合流孔２２には、第１導入溝１８の下流側端部１８ａと第２導入溝２０の下流側端部２０ａとが互いに反対側から合流している。そして、基板４の一方の面に設けられた当該各合流孔２２の開口部が前記第１封止部材６によって封止されるとともに基板４の他方の面に設けられた当該各合流孔２２の開口部が前記第２封止部材８によって封止されることにより各合流路１４が形成されている。また、各合流孔２２は、前記合流路１４の断面形状に対応して、その長手方向に直交する断面において２つの半円が円弧の頂点近傍で互いに結合された断面形状を有する。
【００３７】
また、基板４の他方の面に複数の反応溝２４（図５参照）が平行かつ並列に形成されており、この基板４の他方の面に設けられた各反応溝２４の開口部が前記第２封止部材８によって封止されることにより前記各反応路１６が形成されている。また、各反応溝２４は、前記合流孔２２に繋がる上流側端部２４ａを有しており、この上流側端部２４ａは、深さｄ３（図６参照）を有する。この深さｄ３は、本発明の第３の深さの概念に含まれるものであり、この深さｄ３は、基板４の板厚と第２導入溝２０の深さｄ２との差よりも大きく、かつ、基板４の板厚と第１導入溝１８の深さｄ１との差よりも小さい深さに設定されている。なお、各反応溝２４は、その全長に亘って均一の深さｄ３となっている。また、反応溝２４は、その長手方向と直交する断面において半円状の断面形状を有する。
【００３８】
第２流路構造体１ｂは、上記したように熱媒を流通させる複数の熱媒流路３０を内部に持つものである。複数の熱媒流路３０は、第２流路構造体１ｂ内において並列配置されている。各熱媒流路３０は、流路装置Ｓにおいて前記第１導入路１０のグループ及び前記第２導入路１２のグループが配設された側に近い長手方向の端面に導入口を有し、その導入口から第２流路構造体１ｂの長手方向に延び、前記各反応路１６と対応する位置に配置されている。
【００３９】
この第２流路構造体１ｂは、熱媒流路基板２６と、封止部材２８とによって構成されている。これら熱媒流路基板２６及び封止部材２８は、前記第１流路構造体１ａを構成する基板４、第１封止部材６、第２封止部材８と同形の矩形状の平板であり、封止部材２８は、第２封止部材８と兼用されている。また、封止部材２８は、熱媒流路基板２６の表面を覆った状態でその表面に接合されている。そして、各熱媒流路３０は、熱媒流路基板２６の表面に形成された溝部３２の開口部が封止部材２８により封止されることによって形成されている。
【００４０】
そして、各熱媒流路３０の導入口には、熱媒供給部５０ｃ（図１参照）が接続されており、この熱媒供給部５０ｃから熱媒が各熱媒流路３０に配分されて導入される。これにより、各熱媒流路３０を流れる熱媒と前記第１流路構造体１ａの各反応路１６を流れる第１反応剤及び第２反応剤との熱交換が行われ、各反応路１６における第１反応剤と第２反応剤との反応が促進される。
【００４１】
次に、本実施形態の反応装置の製造方法について説明する。
【００４２】
本実施形態の反応装置の製造方法では、第１流路構造体１ａの内部に複数の反応剤流通路２を設けるとともに、その各反応剤流通路２が前記第１導入路１０、前記第２導入路１２、前記合流路１４及び前記反応路１６からなるように第１流路構造体１ａを形成する。
【００４３】
具体的には、基板４の一方の面に複数の前記第１導入溝１８と、複数の前記第２導入溝２０と、複数の前記合流孔２２のうち当該基板４の一方の面から所定の深さの部分２２ａ（図８参照）とをそれぞれフォトエッチングによって形成するとともに、基板４の他方の面に複数の前記反応溝２４と、複数の前記合流孔２２のうち当該基板４の他方の面から所定の深さの部分２２ｂ（図８参照）とをそれぞれフォトエッチングによって形成する。
【００４４】
この際、まず、基板４の両面の整面及び清浄化を行い、その後、その基板４の両面にそれぞれフォトレジストを塗布する。そして、基板４の一方の面では、フォトマスクを介して各第１導入溝１８、各第２導入溝２０及び各合流孔２２のそれぞれの形成領域以外の領域に露光を行い、基板４の他方の面では、別のフォトマスクを介して各反応溝２４及び各合流孔２２のそれぞれの形成領域以外の領域に露光を行う。その後、未露光のフォトレジストを基板４の両面から除去し、各第１導入溝１８、各第２導入溝２０、各反応溝２４及び各合流孔２２のそれぞれの形成領域を露出させる。
【００４５】
次に、基板４の一方の面のうち第１導入溝１８の形成領域上のみをマスキングテープ等の被覆材によって覆い、その後、基板４の両面にエッチング液を吹きかけてその両面のエッチングを同時に行う。この際、前記被覆材によって覆われた各第１導入溝１８の形成領域はエッチングされず、露出している各第２導入溝２０の形成領域、各反応溝２４の形成領域及び各合流孔２２の形成領域のみがエッチングされる。そして、各第２導入溝２０の形成領域及び各合流孔２２の形成領域を基板４の一方の面から前記深さｄ２（＝前記深さｄ３）と前記深さｄ１との差に相当する深さまでエッチングするとともに、各反応溝２４の形成領域及び各合流孔２２の形成領域を基板４の他方の面から同様の深さまでエッチングすると、エッチングを一旦中止する。
【００４６】
この後、前記被覆材を除去して各第１導入溝１８の形成領域を露出させ、その後、エッチングを再開する。この再開したエッチング工程において、各第１導入溝１８の形成領域、各第２導入溝２０の形成領域及び各合流孔２２の形成領域を基板４の一方の面側から前記深さｄ１の分だけエッチングするのと同時に、各反応溝２４の形成領域及び各合流孔２２の形成領域を基板４の他方の面側から同様の深さだけエッチングする。これにより、基板４の一方の面から深さｄ１の各第１導入溝１８が形成されるとともに、各第２導入溝２０の形成領域及び各反応溝２４の形成領域は、（ｄ２−ｄ１）＋ｄ１＝ｄ２の深さまでそれぞれエッチングされ、それによって基板４の一方の面から深さｄ２の各第２導入溝２０と基板４の他方の面から深さｄ２＝ｄ３の各反応溝２４とが形成される。また、各合流孔２２の形成領域は、基板４の一方の面側から第２導入溝２０と同じ深さｄ２までエッチングされるとともに、基板４の他方の面側から反応溝２４と同じ深さｄ３までエッチングされる。これにより、その基板４の一方の面から深さｄ２までエッチングした部分２２ａと基板４の他方の面から深さｄ３までエッチングした部分２２ｂとが繋がって各合流孔２２が貫通する。すなわち、各合流孔２２は、各第２導入溝２０を形成するためのエッチングと各反応溝２４を形成するためのエッチングとを利用して形成される。この後、基板４の洗浄及びレジスト膜の除去を行う。
【００４７】
また、別の工程において、第２流路構造体１ｂを構成する熱媒流路基板２６に複数の前記溝部３２を形成する。具体的には、熱媒流路基板２６の一方の面に、上記と同様なフォトエッチングにより複数の前記溝部３２を形成する。
【００４８】
最後に、上記のようにエッチング加工を行った基板４及び熱媒流路基板２６と、第１封止部材６と、第２封止部材８（封止部材２８）とを図１のように積層し、それらを拡散接合により一体化することによって流路装置Ｓを作製する。
【００４９】
そして、このように作製した流路装置Ｓに対して第１反応剤供給部５０ａ、第２反応剤供給部５０ｂ、熱媒供給部５０ｃ等の他の構成部材を取り付けて本実施形態による反応装置を作製する。
【００５０】
次に、本実施形態による反応装置を用いた反応方法について説明する。
【００５１】
この反応方法では、まず、第１反応剤供給部５０ａから第１反応剤を各反応剤流通路２の第１導入路１０に導入するとともに、第２反応剤供給部５０ｂから第２反応剤を各反応剤流通路２の第２導入路１２に導入する。第１反応剤は、各第１導入路１０の圧力損失が均等化されていることに起因して、各第１導入路１０に均一の流量で配分されて流れる。また、第２反応剤は、各第２導入路１２の圧力損失が均等化されていることに起因して、各第２導入路１２に均一の流量で配分されて流れる。
【００５２】
そして、第１導入路１０を通過した第１反応剤と、第２導入路１２を通過した第２反応剤とは、互いに反対側から合流路１４に流れ込み、その合流路１４において互いに正面から衝突するように合流する。これにより、両反応剤は、均一に混合される。そして、この両反応剤は、基板４の他方の面側に抜けて反応路１６へ流入するとともに、その反応路１６内を下流側へ流れながら互いに反応し、それによって所定の反応生成物が生成される。
【００５３】
以上説明したように、本実施形態では、第１流路構造体１ａを構成する基板４の同じ面に第１導入溝１８と第２導入溝２０とが形成されていて、その面において第１導入溝１８の下流側端部１８ａと第２導入溝２０の下流側端部２０ａとが互いに反対側から合流孔２２に合流しているとともに、その合流孔２２を始点として基板４の他方の面に反応溝２４が形成されているので、基板の一方の面に底面が面一となるように第１導入溝と反応溝とが形成されるとともに、それらの溝に対して基板の他方の面に形成された第２導入溝が合流孔を介して合流している従来の構成に比べて、第１反応剤と第２反応剤との均一性の高い混合が可能となる。すなわち、本実施形態では、基板４の一方の面に形成された第１導入溝１８と第２導入溝２０のそれぞれの下流側端部が互いに反対側から合流孔２２に合流しているとともに、その合流孔２２を始点として基板４の他方の面に反応溝２４が延びていることに起因して、第１反応剤と第２反応剤とが互いに正面から衝突するように合流しながら、基板４の他方の面側へ抜けて反応路１６に流れるため、両反応剤が互いにほぼ対等な条件で混合される。このため、本実施形態では、基板の一方の面に底面が面一に形成された第１導入溝と反応溝とを直線的に円滑に流れる第１反応剤に対して基板の他方の面に形成された第２反応溝から第２反応剤が混入する従来の混合形態に比べて、両反応剤が混ざり合いやすく、その結果、両反応剤の混合の均一性を高めることができる。
【００５４】
また、本実施形態では、基板４の一方の面に複数の第１導入溝１８が平行かつ並列に形成されているとともに複数の第２導入溝２０が平行かつ並列に形成されており、さらに、基板４の他方の面に複数の反応溝２４が平行かつ並列に形成されているので、反応剤流通路２の良好な集積効果を得ることができる。例えば、基板の一方の面において第１導入溝と第２導入溝とが１８０°未満の角度で交差するように合流している場合には、必要面積が増大し、その結果、反応剤流通路の集積化を図ろうとしても、あまり大きな集積効果が得られない。これに対して、本実施形態では、基板４の一方の面側に多数の反応剤流通路２の各第１導入路１０が平行かつ並列に設けられるとともに多数の反応剤流通路２の各第２導入路１２が平行かつ並列に設けられ、さらに、基板４の他方の面側に多数の反応剤流通路２の各反応路１６が平行かつ並列に設けられるので、基板４の一方の面側において各第１導入路１０をより集積して配置できるとともに各第２導入路１２をより集積して配置でき、さらに、基板４の他方の面側において各反応路１６をより集積して配置できる。その結果、反応装置において反応剤流通路２の良好な集積化を図ることができる。従って、本実施形態では、反応剤の混合の均一性を高めつつ、反応剤流通路２の良好な集積効果を得ることができる。
【００５５】
また、本実施形態では、第２導入溝２０の形成と同時に基板４の一方の面のうち合流孔２２の形成領域を深さｄ２までエッチングするとともに、反応溝２４の形成と同時に基板４の他方の面のうち合流孔２２の形成領域を深さｄ３までエッチングすることにより、基板４の一方の面から深さｄ２までエッチングした部分２２ａと基板４の他方の面から深さｄ３までエッチングした部分２２ｂとが繋がって合流孔２２が貫通するため、第２導入溝２０を形成するエッチングと反応溝２４を形成するエッチングとを利用して合流孔２２を形成することができる。このため、合流孔２２を形成するための専用のエッチング工程やレーザー加工等により合流孔２２を形成する工程等を別途行う必要がなく、反応装置の製造工程を簡素化することができる。
【００５６】
なお、今回開示された実施形態は、すべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は、上記した実施形態の説明ではなく特許請求の範囲によって示され、さらに特許請求の範囲と均一の意味及び範囲内でのすべての変更が含まれる。
【００５７】
例えば、図１０に示す上記実施形態の変形例のように、上記構成の第１流路構造体１ａに複数の第３導入路４０がさらに設けられていてもよい。
【００５８】
具体的には、この変形例では、各反応剤流通路２が、前記第１導入路１０、前記第２導入路１２、前記合流路１４及び前記反応路１６に加えて、第３反応剤が導入される第３導入路４０をそれぞれ有している。各反応剤流通路２の第３導入路４０からなるグループは、第１流路構造体１ａにおいて基板４の前記他方の面側、すなわち前記反応路１６のグループと同じ面側に設けられている。そして、第３導入路４０のグループは、第１流路構造体１ａのうち前記第１導入路１０のグループ及び前記第２導入路１２のグループと同じ側の端部近傍に配置されている。各第３導入路４０は、第１流路構造体１ａの長手方向の前記一方端部に導入口４０ａを有しており、その導入口４０ａから第１流路構造体１ａの長手方向に直線的に延びた後、９０°屈曲して第１流路構造体１ａの幅方向に直線的に延び、対応する合流路１４に繋がっている。各第３導入路４０の導入口４０ａには、図略の第３反応剤供給部が接続されており、その第３反応剤供給部から第３反応剤が各第３導入路４０に配分されて導入される。
【００５９】
そして、各第３導入路４０は、それぞれ流路長が異なっている。具体的には、各第３導入路４０は、等間隔で配置されているとともに平行かつ並列に配置されており、各第３導入路４０が屈曲した箇所でその屈曲箇所の外寄りに配置された第３導入路４０ほど、内寄りに配置された第３導入路４０よりも流路長が大きくなっている。各第３導入路４０では、流路長に応じて各部の相当直径が適切に設定されることによって、当該各第３導入路４０それぞれの全体の圧力損失が等しい値に設定されている。
【００６０】
すなわち、各第３導入路４０は、その下流側端部が第３反応剤の流通方向と直交する断面において半円状の断面形状を有しているとともに、図１１に示すように幅の大きさを変えることにより相当直径の異なる各部分を含んでいる。流路長の大きい第３導入路４０ほど、流路長の小さい第３導入路４０に比べて圧力損失は大きくなるが、第３導入路４０の各部の相当直径が適宜設定されることによって、その流路長の差に起因する圧力損失の差をなくし、各第３導入路４０の圧力損失が均等化されている。具体的には、第３導入路４０のうち相当直径の小さい部分は、圧力損失が大きくなる一方、相当直径の大きい部分は、圧力損失が小さくなるので、各第３導入路４０のうち流路長の大きいものほど相当直径の大きい部分、すなわち幅の大きい部分を増やすとともに相当直径の小さい部分、すなわち幅の小さい部分を減らすことによって各第３導入路４０の全体の圧力損失が均等化されている。そして、各第３導入路４０の圧力損失が均等化されていることに起因して、前記第３反応剤供給部から各第３導入路４０に配分されて流れる第３反応剤の流量が均一化される。
【００６１】
そして、基板４の前記他方の面、すなわち前記反応溝２４が形成された面と同じ面に複数の第３導入溝４２（図１１参照）が平行かつ並列に形成されており、この基板４の一方の面に設けられた各第３導入溝４２の開口部が前記第２封止部材８によって封止されることにより各第３導入路４０が形成されている。各第３導入溝４２は、その全長に亘って均一の深さとなっている。また、各第３導入溝４２は、前記合流孔２２に繋がる下流側端部４２ａを有しており、この下流側端部４２ａは、対応する合流孔２２に反応溝２４の上流側端部２４ａと反対側から合流している。下流側端部４２ａは、第３反応剤の流通方向と直交する断面において半円状の断面形状を有する。第３導入溝４２のうち第３導入路４０の相当直径が異なる各部分に対応する部分は、深さは一定で、幅を変えて形成されている。
【００６２】
この変形例の構成によれば、前記第１反応剤と前記第２反応剤に加えて第３反応剤をさらに混合して反応生成物を製造することができる。ところで、上記構成のように基板４の一方の面に各第１導入溝１８が平行かつ並列に形成されているとともに各第２導入溝２０が平行かつ並列に形成されている場合には、この基板４の一方の面においてそれら各導入溝１８，２０との干渉を避けながら、各導入溝１８，２０が合流する各合流孔２２に対して各第３導入溝をそれぞれ同方向から合流させることは困難である。しかしながら、この変形例の構成では、各第３導入溝４２が基板４の他方の面に形成されているので、それら各第３導入溝４２を平行かつ並列に配置し、各合流孔２２に対して同方向から容易に合流させることができる。このことに起因して、各反応剤流通路２において第３反応剤を第１反応剤及び第２反応剤に対して同方向から合流させることができ、その結果、各反応剤流通路２における第１反応剤及び第２反応剤への第３反応剤の合流形態を均一化することができる。
【００６３】
また、基板４の一方の面内における第１導入溝１８及び第２導入溝２０の形状及び／又は配置は、上記実施形態で示したものに限定されない。
【００６４】
例えば、第１導入溝１８と第２導入溝２０は同一直線上に配置されていなくてもよく、互いに斜めに異なる方向から合流孔２２に合流していてもよい。また、第１導入溝１８の下流側端部１８ａと第２導入溝２０の下流側端部２０ａのみが合流孔２２に対して互いに反対側もしくは互いに異なる方向から合流していればよく、第１導入溝１８の下流側端部１８ａ以外の部分と第２導入溝２０の下流側端部２０ａ以外の部分はそれぞれどのような方向に延びていてもよい。
【００６５】
また、合流路１４（合流孔２２）及び反応路１６（反応溝２４）は、上記実施形態以外の形状及び／又は配置で設けられていてもよい。
【００６６】
また、各第１導入路１０（各第１導入溝１８）がそれぞれ異なる方向に延びていてもよく、各第２導入路１２（各第２導入溝２０）がそれぞれ異なる方向に延びていてもよい。また、各反応路１６（各反応溝２４）がそれぞれ異なる方向に延びていてもよい。
【００６７】
また、反応装置は、上記のように積層された複数の第１流路構造体１ａ及び複数の第２流路構造体１ｂを必ずしも備えている必要はなく、単一の第１流路構造体１ａのみを備えていてもよい。
【００６８】
また、第１流路構造体１ａ内に単一の反応剤流通路２のみが設けられていてもよい。
【００６９】
また、前記第１導入溝１８、前記第２導入溝２０、前記第３導入溝４２及び前記反応溝２４の各溝において前記半円状の断面形状を有する部分は、その底面の部分に基板４に平行な直線部を有するとともにその直線部の両側に円弧状の部分がそれぞれ繋がった形状の断面形状を有していてもよい。
【００７０】
また、上記実施形態では、第２導入溝２０の深さｄ２と反応溝２４の深さｄ３とが等しい場合を例にとって説明したが、第２反応溝２０の深さｄ２と反応溝２４の深さｄ３との和が基板４の板厚よりも大きければ、それら深さｄ２と深さｄ３とは異なっていてもよい。
【００７１】
例えば、深さｄ２が深さｄ３よりも大きい場合には、以下のようなエッチング工程によって基板４に第１導入溝１８、第２導入溝２０、反応溝２４及び合流孔２２を形成する。
【００７２】
すなわち、上記実施形態と同様に基板４の両面のうち各第１導入溝１８、各第２導入溝２０、各反応溝２４及び各合流孔２２のそれぞれの形成領域以外の領域が露光されたフォトレジストで覆われた状態にする。
【００７３】
次に、基板４の一方の面の第１導入溝１８の形成領域上及び基板４の他方の面の反応溝２４の形成領域上をマスキングテープ等の被覆材によってそれぞれ覆い、その後、基板４の両面のエッチングを同時に行う。この際、露出している各第２導入溝２０の形成領域及び各合流孔２２の形成領域を基板４の一方の面から前記深さｄ２と前記深さｄ３との差に相当する深さ（ｄ２−ｄ３）までエッチングするとともに、各合流孔２２の形成領域を基板４の他方の面から同様の深さまでエッチングし、その後、反応溝２４の形成領域上を覆う被覆材を除去する。
【００７４】
この後、各第２導入溝２０の形成領域及び各合流孔２２の形成領域を前記深さｄ３と前記深さｄ１との差に相当する深さ（ｄ３−ｄ１）の分だけ基板４の一方の面側からエッチングするのと同時に、各反応溝２４の形成領域及び各合流孔２２の形成領域を同様の深さだけ基板４の他方の面側からエッチングする。この後、第１導入溝１８の形成領域上を覆う被覆材を除去する。
【００７５】
その後、各第１導入溝１８の形成領域、各第２導入溝２０の形成領域及び各合流孔２２の形成領域を前記深さｄ１の分だけ基板４の一方の面側からエッチングするのと同時に、各反応溝２４の形成領域及び各合流孔２２の形成領域を同様の深さの分だけ基板４の他方の面側からエッチングする。これにより、基板４の一方の面から深さｄ１の各第１導入溝１８が形成されるとともに、各第２導入溝２０の形成領域は、基板４の一方の面から（ｄ２−ｄ３）＋（ｄ３−ｄ１）＋ｄ１＝ｄ２の深さまでエッチングされて、基板４の一方の面から深さｄ２の各第２導入溝２０が形成される。また、各反応溝２４の形成領域は、基板４の他方の面から（ｄ３−ｄ１）＋ｄ１＝ｄ３の深さまでエッチングされて、基板４の他方の面から深さｄ３の各反応溝２４が形成される。また、各合流孔２２の形成領域は、基板４の一方の面側から第２導入溝２０と同じ深さｄ２までエッチングされるとともに、基板４の他方の面側から反応溝２４と同じ深さｄ３までエッチングされる。これにより、その基板４の一方の面から深さｄ２までエッチングした部分と基板４の他方の面から深さｄ３までエッチングした部分とが繋がって各合流孔２２が貫通する。すなわち、この構成においても、各合流孔２２は、各第２導入溝２０を形成するためのエッチングと各反応溝２４を形成するためのエッチングとを利用して形成される。
【００７６】
また、上記実施形態では、基板４の両面を同時にエッチング加工する場合を示したが、基板４の一方の面と他方の面とをそれぞれ別々にエッチング加工してもよい。
【００７７】
また、基板４をエッチング加工する工程では、基板４の一方の面を深さｄ１までエッチングして第１導入溝１８のうち少なくとも下流側端部１８ａを形成すればよく、また、基板４の一方の面を深さｄ２までエッチングして第２導入溝２０のうち少なくとも下流側端部２０ａを形成すればよい。また、この工程において、基板４の他方の面を深さｄ３までエッチングして反応溝２４のうち少なくとも上流側端部２４ａを形成すればよい。すなわち、第１導入溝１８のうち下流側端部１８ａ以外の部分は、深さｄ１と異なる深さに形成してもよく、第２導入溝２０のうち下流側端部２０ａ以外の部分は、深さｄ２と異なる深さに形成してもよく、さらに、反応溝２４のうち上流側端部２４ａ以外の部分は、深さｄ３と異なる深さに形成してもよい。そして、この場合には、第２導入溝２０のうち下流側端部２０ａを形成するエッチングと、反応溝２４のうち上流側端部２４ａを形成するエッチングとを利用して合流孔２２を形成すればよい。
【符号の説明】
【００７８】
１ａ  第１流路構造体（流路構造体）
２  反応剤流通路
４  基板
６  第１封止部材
８  第２封止部材
１０  第１導入路
１２  第２導入路
１４  合流路
１６  反応路
１８  第１導入溝
１８ａ  下流側端部
２０  第２導入溝
２０ａ  下流側端部
２２  合流孔
２４  反応溝
４０  第３導入路
４２  第３導入溝
４２ａ  下流側端部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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