(57)【要約】【課題】鮮鋭度が極大値となる対象が複数あっても、測定対象の合焦点位置を他と誤認せずに得る合焦点方式、基板エッジの座標測定方法及び測定用マークの距離測定方法を提供する。【解決手段】鮮鋭度の各極大値と、予め得らた測定対象の極大値とを対比し、得らた測定対象の極大値と合致した各極大値中の極大値の位置を合焦点位置とする。閾値を超えた鮮鋭度の検出数が予測数に満たない場合、閾値を任意のステップで下げ、或いは、最小閾値まで閾値を下げる。対象が基板エッジ２と面取りコーナー１であり、高い極大値Ｎｏ２の位置を基板エッジの合焦点位置とする。上記合焦点方式を用いた基板エッジの座標測定方法及び測定用マークの距離測定方法。【選択図】図３
2010078645.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を水平に載置する測定ステージと、該測定ステージ上方の垂直方向（Ｚ軸方向）に設けられた撮像部と、測定ステージ又は撮像部を水平方向（Ｘ軸／Ｙ軸方向）に移動させるＸ軸駆動部及びＹ軸駆動部と、撮像部又はフォーカスレンズを垂直方向に移動させるＺ軸駆動部を有する測定装置を用い、
１）測定ステージに載置された基板を移動させ、基板上の測定対象近傍の撮像を行い、
２）ａ）撮像部のカメラより出力された、鮮鋭度が極大値となる複数の対象の画像の鮮鋭度を検出し、予め設定した閾値を超えた鮮鋭度を選定し、
ｂ）選定された鮮鋭度の各極大値と、予め得られている測定対象の極大値とを対比し、
ｃ）得られている測定対象の極大値と合致した、各極大値中の極大値の位置を合焦点位置とすることを特徴とする合焦点方式。
【請求項２】
請求項１記載の合焦点方式において、予め設定した閾値を超えた鮮鋭度の検出数が予測した数に満たない場合、検出数が予測した数になるまで閾値を任意のステップで下げながら、或いは、予め設定した最小閾値まで閾値を下げて検出を自動で行うことを特徴とする合焦点方式。
【請求項３】
前記撮像部又はフォーカスレンズを垂直方向に移動させてオートフォーカスをする際に、垂直方向に移動させる距離のパラメータとして、鮮鋭度が極大値となる対象数が複数の場合と単数の場合の２通りを有することを特徴とする請求項１又請求項２記載の合焦点方式。
【請求項４】
前記撮像部又はフォーカスレンズを垂直方向に移動させてオートフォーカスをする際に、光軸移動量をパラメータとして有することを特徴とする請求項１又請求項２記載の合焦点方式。
【請求項５】
前記基板がガラス基板であり、鮮鋭度が極大値となる複数の対象がガラス基板の基板エッジと面取りコーナーであり、基板エッジ（測定対象）の予め得られている極大値が、面取りコーナーの予め得られている極大値より高いことからして、極大値中の高い極大値の位置を基板エッジ（測定対象）の合焦点位置とすることを特徴とする請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載の合焦点方式。
【請求項６】
請求項５記載の合焦点方式を用い、基板エッジのＸＹ座標を求めることを特徴とする基板エッジの座標測定方法。
【請求項７】
請求項６記載の基板エッジの座標測定方法により求めた基板エッジのＸＹ座標と、測定マーク用のＸＹ座標から、基板エッジと測定用マークの距離を求めることを特徴とする測定用マークの距離測定方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、合焦点方式に関するものであり、特に、鮮鋭度が極大値となる対象が複数あっても、測定対象の合焦点位置を他と誤認せずに得ることのできる合焦点方式、及び該合焦点方式を用いた基板エッジの座標測定方法、並びに測定用マークの距離測定方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置に用いられるカラーフィルタの製造方法としては、先ず、ガラス基板上にブラックマトリックスを形成し、次に、ブラックマトリックスが形成されたガラス基板上のブラックマトリックスのパターンに位置合わせして着色画素を形成し、更に透明導電膜を形成するといった方法が広く用いられている。
【０００３】
ブラックマトリックスは遮光性を有し、カラーフィルタの着色画素の位置を定め、大きさを均一なものとし、また、表示装置に用いられた際に、好ましくない光を遮蔽し、表示装置の画像をムラのない均一な、且つコントラストを向上させた画像にする機能を有している。このブラックマトリックスの形成は、例えば、黒色感光性樹脂を用いたフォトリソグラフィ法によって形成するといった方法がとられている。
【０００４】
また、着色画素は、例えば、赤色、緑色、青色のフィルタ機能を有するものであり、ブラックマトリックスが形成されたガラス基板上に、顔料などの色素を分散させたネガ型のフォトレジストの塗布膜を設け、この塗布膜への露光、現像によって着色画素を形成するといった方法がとられている。
また、透明導電膜の形成は、着色画素が形成されたガラス基板上に、例えば、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）を用いスパッタ法によって透明導電膜を形成するといった方法がとられている。
【０００５】
ガラス基板上のブラックマトリックスの位置を管理するために、ブラックマトリックスの形成時に測定用マークを形成し、測定用マークとガラス基板エッジ（基板エッジ）との距離を測定している。この距離の測定に際しては、例えば、次のような測定装置を使用し手動で測定している。
【０００６】
測定装置は、測定対象に対し水平方向（Ｘ軸／Ｙ軸方向）にステージ又はヘッド部が移動する機構と、測定対象に対し垂直方向（Ｚ軸（カメラの光軸方向）にヘッド部が移動する機構を有し、ヘッド部にはフォーカスレンズとカメラが取り付けられ、Ｚ軸方向にヘッド部を移動することで合焦点位置が得られるようになっている。また、この測定装置には、カメラからの信号を表示する画像出力部が備えられている。各ＸＹＺ軸には、リニアスケールが取り付けられており、移動量の測定が可能となっている。
【０００７】
従来の自動焦点調節（オートフォーカス）としては、カメラを光軸方向に移動又はフォーカスレンズを移動しながら撮像を行い、カメラから出力された画像の鮮鋭度を検出し、その鮮鋭度が極大値となる位置を合焦点位置とする方式（コントラスト方式）が多くを占めている。
鮮鋭度の評価には、画像信号にＢＰＦ（バンドパスフィルタ）を通して得られる高周波成分の強度、或いは微分により抽出される画像信号のボケ幅など鮮鋭度を示す信号を用いる。これは、通常の被写体を撮影した場合、ピントがボケている状態では小さく、ピントが合うにつれ大きくなり合焦点時に極大値をとる。
【０００８】
しかしながら、垂直方向に複数の構造物（鮮鋭度が極大値となる対象）が存在する場合、複数の極大値が得られるため、どの対象の極大値が合焦点位置となるかは対象や光源によりバラツキが発生するといった問題がある。特に、手動での測定は作業者の習熟度により誤認が発生し易い。
【０００９】
例えば、図１は、ガラス基板のエッジ近傍の一例を拡大して示す断面図である。図１に示すように、ガラス基板（３）のエッジ近傍には研削により面取り（４）が行われている。ガラス基板（３）上面側の基板エッジ（２）は、鋭角ではないが先鋭であり、また、面取りコーナー（１）は鈍角を呈しているが鮮鋭度が極大値となる対象である。このため、基板エッジ（２）を測定対象として単にオートフォーカスを行うと、基板エッジ（２）ではなく面取りコーナー（１）を検出する可能性が高いといった問題がある。
【特許文献１】特開２００７−１４００８７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明は、上記の問題を解決するためになされたものであり、その鮮鋭度が極大値となる位置を合焦点位置とする方式（コントラスト方式）において、鮮鋭度が極大値となる対象が複数あっても、測定対象の合焦点位置を他と誤認せずに得ることのできる合焦点方式を提供することを課題とするものである。
また、上記合焦点方式を用い、基板エッジのＸＹ座標を求める基板エッジの座標測定方法、及び測定用マークの基板エッジからのＸＹ距離を求める測定用マークの距離測定方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明は、基板を水平に載置する測定ステージと、該測定ステージ上方の垂直方向（Ｚ軸方向）に設けられた撮像部と、測定ステージ又は撮像部を水平方向（Ｘ軸／Ｙ軸方向）に移動させるＸ軸駆動部及びＹ軸駆動部と、撮像部又はフォーカスレンズを垂直方向に移動させるＺ軸駆動部を有する測定装置を用い、
１）測定ステージに載置された基板を移動させ、基板上の測定対象近傍の撮像を行い、
２）ａ）撮像部のカメラより出力された、鮮鋭度が極大値となる複数の対象の画像の鮮鋭度を検出し、予め設定した閾値を超えた鮮鋭度を選定し、
ｂ）選定された鮮鋭度の各極大値と、予め得られている測定対象の極大値とを対比し、
ｃ）得られている測定対象の極大値と合致した、各極大値中の極大値の位置を合焦点位置とすることを特徴とする合焦点方式である。
【００１２】
また、本発明は、請求項１記載の合焦点方式において、予め設定した閾値を超えた鮮鋭度の検出数が予測した数に満たない場合、検出数が予測した数になるまで閾値を任意のステップで下げながら、或いは、予め設定した最小閾値まで閾値を下げて検出を自動で行うことを特徴とする合焦点方式である。
【００１３】
また、本発明は、上記発明による合焦点方式において、前記撮像部又はフォーカスレンズを垂直方向に移動させてオートフォーカスをする際に、垂直方向に移動させる距離のパラメータとして、鮮鋭度が極大値となる対象数が複数の場合と単数の場合の２通りを有することを特徴とする合焦点方式である。
【００１４】
また、本発明は、上記発明による合焦点方式において、前記撮像部又はフォーカスレンズを垂直方向に移動させてオートフォーカスをする際に、光軸移動量をパラメータとして有することを特徴とする合焦点方式である。
【００１５】
また、本発明は、上記発明による合焦点方式において、前記基板がガラス基板であり、鮮鋭度が極大値となる複数の対象がガラス基板の基板エッジと面取りコーナーであり、基板エッジ（測定対象）の予め得られている極大値が、面取りコーナーの予め得られている極大値より高いことからして、極大値中の高い極大値の位置を基板エッジ（測定対象）の合焦点位置とすることを特徴とする合焦点方式である。
【００１６】
また、本発明は、請求項５記載の合焦点方式を用い、基板エッジのＸＹ座標を求めることを特徴とする基板エッジの座標測定方法である。
【００１７】
また、本発明は、請求項６記載の基板エッジの座標測定方法により求めた基板エッジのＸＹ座標と、測定用マークのＸＹ座標から、基板エッジと測定マーク用の距離を求めることを特徴とする測定用マークの距離測定方法である。
【発明の効果】
【００１８】
本発明は、１）測定ステージに載置された基板を移動させ、基板上の測定対象近傍の撮像を行い、２）ａ）撮像部のカメラより出力された、鮮鋭度が極大値となる複数の対象の画像の鮮鋭度を検出し、予め設定した閾値を超えた鮮鋭度を選定し、ｂ）選定された鮮鋭度の各極大値と、予め得られている測定対象の極大値とを対比し、ｃ）得られている測定対象の極大値と合致した、各極大値中の極大値の位置を合焦点位置とするので、鮮鋭度が極大値となる対象が複数あっても、測定対象の合焦点位置を他と誤認せずに得ることのできる合焦点方式となる。
【００１９】
また、本発明は、撮像部又はフォーカスレンズを垂直方向に移動させてオートフォーカスをする際に、垂直方向に移動させる距離のパラメータとして、鮮鋭度が極大値となる対象数が複数の場合と単数の場合の２通りを有し、或いは光軸移動量をパラメータとして有するので、オートフォーカスに要する時間を短縮することが可能となる。
【００２０】
また、本発明は、上記合焦点方式を用い、基板エッジのＸＹ座標を求めるので、基板エッジのＸＹ座標を正確に測定することができる基板エッジの座標測定方法となる。
また、本発明は、上記合焦点方式を用いて得られた測定用マークのＸＹ座標と、上記基板エッジの座標測定方法により求めた基板エッジのＸＹ座標とから基板エッジと測定マーク用の距離を求めるので、測定用マークの距離を正確に測定することができる測定用マークの距離測定方法となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
以下に、本発明の実施の形態に基づいて詳細に説明する。
図２は、本発明による合焦点方式において用いられる測定装置の一例の概略図である。図２に示すように、測定装置は、測定ステージ（１０）、測定ステージ上方の垂直方向（Ｚ軸方向）に設けられた撮像部（２０）、測定ステージ又は撮像部を水平方向（Ｘ軸／Ｙ軸方向）に移動させるＸ軸駆動部（３０Ｘ）及びＹ軸駆動部（３０Ｙ）、撮像部又はフォーカスレンズを垂直方向に移動させるＺ軸駆動部（３０Ｚ）、透過光源部（４０）、反射光源部（５０）、制御ユニット（６０）で構成されている。
【００２２】
図２に示す測定装置は、測定ステージ（１０）が水平方向に移動し、撮像部（２０）が垂直方向に移動する測定装置の例である。Ｘ軸駆動部（３０Ｘ）、Ｙ軸駆動部（３０Ｙ）、Ｚ軸駆動部（３０Ｚ）の各駆動部には、センサー（図示せず）が取り付けられており、移動量の測定が可能である。
測定ステージ（１０）は基板を水平に載置する。測定ステージ（１０）には、基板受け渡し機構及びメカアライメント機構が備えられている（図示せず）。
【００２３】
撮像部（２０）は、フォーカスレンズ（２１）、ハーフミラー（２２）、及びカメラ（２３）で構成され、Ｚ軸方向（光軸方向）にフォーカスレンズ（２１）又は撮像部（２０）を移動することによって、画像の合焦点位置が得られるようになっている。
透過光源部（４０）は、光源（４１）とレンズ（４２）で構成され、測定ステージ下方の垂直方向（Ｚ軸方向）に、その光軸を撮像部（２０）の光軸と合わせて設けられている。
【００２４】
反射光源部（５０）は、光源（５１）とレンズ（５２）で構成され、測定ステージ上方の水平方向に、その光軸をハーフミラー（２２）を介して撮像部（２０）の光軸と直角にして設けられている。  
制御ユニット（６０）は、記憶部（６１）、演算部（６２）、操作部（６３）、表示部（６４）で構成されている。記憶部（６１）は、ＨＤＤや磁気ディスクなどの記憶媒体、読み取り専用のＲＯＭ、一時記憶用のＲＡＭなどである。操作部（６３）は、キーボード、マウス、各種ボタン類である。表示部（６４）は、モニタ、表示ランプなどである。
【００２５】
測定ステージ（１０）、撮像部（２０）、Ｘ軸駆動部（３０Ｘ）、Ｙ軸駆動部（３０Ｙ）、Ｚ軸駆動部（３０Ｚ）、透過光源部（４０）、反射光源部（５０）は、制御ユニット（６０）に接続され、演算部（６２）からの信号で制御される。各制御は、演算部でのソフトウエア制御だはなく、別途専用のハードウエアでの制御を行ってもよい。
【００２６】
基板上の測定対象を測定位置に水平移動させ、フォーカスレンズ又は撮像部を光軸方向に移動しながら撮像を行い、画像の鮮鋭度を検出し、その鮮鋭度が極大値となる位置を合焦点位置とするコントラスト方式の測定装置である。
【００２７】
以下に、エッジ近傍に面取りが施されたガラス基板を例にして、本発明による合焦点方式、及び基板エッジの座標測定方法、並びに測定用マークの距離測定方法の説明を行う。図３は、面取りが施されたガラス基板の一例における、画像の鮮鋭度と光軸上の位置との関係を表すグラフである。図２に示す測定装置を用い、ガラス基板のエッジ近傍をオ−トフォーカスによって撮像した画像から得た鮮鋭度と光軸上の位置との関係を表したものである。
【００２８】
図３の横軸は、光軸方向（Ｚ軸方向）を表している。目盛りは、光軸方向の位置を示す指標である。この横軸は、図１中のＺ軸に相当する。また、図３の縦軸は、鮮鋭度を表している。目盛りは、鮮鋭度の高低を示す指標である。
図３にて、符号（Ｋ２）で示す曲線部は、図１におけるガラス基板（３）において、符号（Ｘ2 ）で示す位置の上方から、正常な基板エッジ（２）を撮像した際の、鮮鋭度と光軸上の位置との関係を表している。
【００２９】
曲線部（Ｋ２）が示すように、光軸方向の指標が、例えば、指標６近辺から増加するのに従い鮮鋭度は高くなり、指標７近辺で極大値（ピーク）になり、指標７以降は低くなっている。この極大値の光軸上の位置が正常な基板エッジ（２）の合焦点位置である。
【００３０】
また、図３にて、符号（Ｋ１）で示す曲線部は、図１におけるガラス基板（３）において、符号（Ｘ1 ）で示す位置の上方から、正常な面取りコーナー（１）を撮像した際の、鮮鋭度と光軸上の位置との関係を表している。
曲線部（Ｋ１）が示すように、光軸方向の指標が、例えば、指標２近辺から増加するのに従い鮮鋭度は高くなり、指標３．５近辺で極大値（ピーク）になり、指標３．５以降は低くなっている。この極大値の光軸上の位置が正常な面取りコーナー（１）の合焦点位置である。
【００３１】
図３は、図１における、符号（Ｘ2 ）で示す位置の正常な基板エッジ（２）の、鮮鋭度
と光軸上の位置との関係と、符号（Ｘ1 ）で示す位置の正常な面取りコーナー（１）の、鮮鋭度と光軸上の位置との関係を同一グラフ上に表したものである。
図３に示すように、基板エッジ（２）及び面取りコーナー（１）は、各々が光軸方向の異なる指標位置にて、鮮鋭度の極大値を有している。また、各々の鮮鋭度の極大値の値は異なり、基板エッジ（２）は指標３５程度、面取りコーナー（１）は指標３０程度である。
【００３２】
すなわち、基板エッジ（２）及び面取りコーナー（１）は、各々が固有の曲線部を有し、固有の鮮鋭度の極大値を、固有の光軸方向の指標位置に有し、光軸上の合焦点位置は異なることが示されている。
【００３３】
図３中、閾値は鮮鋭度１８程度に設定しているが、この閾値（Ｓ）は、検出された鮮鋭度を極大値となる対象（構造物）として扱うか否かの閾値である。
また、図３中、符号（Ｎｏ１）は、光軸方向の位置の指標０から極大値を順に数えて、指標０に近い鮮鋭度の極大値（曲線部（Ｋ１）の極大値）に与えた極大値番号である。同様に、符号（Ｎｏ２）は、曲線部（Ｋ１）の次に位置する鮮鋭度の極大値（曲線部（Ｋ２）の極大値）に与えた極大値番号である。
【００３４】
上記のように、エッジ近傍に面取りが施されたガラス基板の場合には、鮮鋭度が極大値となる複数の対象がガラス基板の基板エッジ（２）と面取りコーナー（１）であり、基板エッジ（測定対象）の予め得られている極大値（Ｎｏ２）の値（指標３５）が、面取りコーナー（１）の予め得られている極大値（Ｎｏ１）の値（指標３０）より高いことを利用することによって、基板エッジ（２）を面取りコーナー（１）と誤認することなく、極大値中の高い極大値の位置を基板エッジ（測定対象）の合焦点位置とすることができるものとなる。
【００３５】
また、本発明においては、予め設定した閾値を超えた鮮鋭度の検出数が予測した数に満たない場合、検出数が予測した数になるまで閾値を任意のステップで下げながら、或いは、予め設定した最小閾値まで閾値を下げて検出を自動で行うようにしている。
例えば、図１に示すガラス基板（３）の場合、鮮鋭度が極大値となる対象はガラス基板の基板エッジ（２）と面取りコーナー（１）の２対象である。予測される検出数は２であるが、実際に撮像部のカメラから出力された、鮮鋭度が極大値となる対象として扱える鮮鋭度の数が２に満たない場合には、検出数が予測した数になるまで閾値を任意のステップで下げながら、或いは、予め設定した最小閾値まで閾値を下げて検出を自動で行う。
【００３６】
これにより、例えば、ガラス基板の面取り工程でのバラツキにより、基板エッジ近傍の形状が異なり極大値が低くなった場合でも、面取りコーナー（１）の検出が可能となる。
【００３７】
また、撮像部又はフォーカスレンズを垂直方向に移動させてオートフォーカスをする際に、鮮鋭度が極大値となる対象が複数ない場合は、対象が複数ある場合に比べ垂直方向の光軸移動量は短い。
従って、予め、対象が複数でないと判っている場合は、垂直方向に移動させる距離のパラメータとして、鮮鋭度が極大値となる対象数が複数の場合と単数の場合の２通りを備えておき、単数の場合を選択することができる。或いは、光軸移動量をパラメータとして備えておくことができる。これにより、オートフォーカスに要する時間を短縮することが可能となる。
【００３８】
さて、本発明による合焦点方式を用いた、基板エッジの座標測定方法、及び測定用マークの距離測定方法は、下記の手順で行われる。
１）アライメント
２）測定用マークの座標取得
３）基板エッジの座標取得
４）測定用マークと基板エッジの距離演算
５）判定
尚、記憶部（６１）には、予め、測定用マークの座標、基板エッジの座標、測定用マークの画像テンプレート、各測定の閾値などが保存されている。以下に各項について説明を加える。
【００３９】
１）アライメント
測定の対象となるガラス基板を、基板受け渡し機構により測定装置内の測定ステージ（１０）に載置し、メカアライメント機構によりアライメントを行う。
【００４０】
２）測定用マークの座標取得
ａ）測定用マークを撮像部（２０）の光軸に移動し、オートフォーカスを行う。
測定用マークの近傍には複数の構造物（鮮鋭度が極大値となる対象）がないので、鮮鋭度が極大値となる対象数が単数の場合の光軸移動量でオートフォーカスを行う。
ｂ）オートフォーカス後、演算部（６２）は、撮像した画像の内に、記憶部（６１）に保存されている測定用マークの画像テンプレートと同等の画像が存在するか否かを確認する。
ｃ）同等の画像が存在すると確認された場合、測定用マークのＸＹ座標を記憶部（６１）に保存する。
図４は、測定用マークの座標取得の一例のフロー図である。
【００４１】
３）基板エッジの座標取得
ａ）基板エッジ（２）近傍を撮像部（２０）の光軸に移動し、オートフォーカスを行う。基板エッジの近傍には複数の構造物があるので、鮮鋭度が極大値となる対象数が複数の場合の光軸移動量でオートフォーカスを行う。
ｂ）基板エッジの近傍では、面取りコーナー（１）と基板エッジ（２）の各々の鮮鋭度の極大値が得られる（図１、図３参照）。
ｃ）ガラス基板の上面から下方に向かって極大値番号を与え、面取りコーナー（１）の極大値はＮｏ１、基板エッジ（２）の極大値はＮｏ２とする。
ｄ）基板エッジ（測定対象）の予め得られている極大値（Ｎｏ２）は、面取りコーナー（１）の予め得られている極大値（Ｎｏ１）よりも高いことは判明しており、また、基板エッジ（測定対象）の極大値は、ガラス基板の上面から下方に向かって２番目であるので、極大値（Ｎｏ２）の位置を測定対象の合焦点位置とし画像を得る。
ｅ）演算部（６２）は得られた画像に対しエッジ認識処理を行い、基板エッジのＸＹ座標を取得し、記憶部（６１）に保存する。
図５は、基板エッジの座標取得の一例のフロー図である。
【００４２】
４）測定用マークと基板エッジの距離演算
演算部（６２）は、測定用マークのＸＹ座標と、基板エッジのＸＹ座標の差から、測定用マークと基板エッジの距離を算出する。
【００４３】
５）判定
算出された距離について、設定された閾値に従い判定を行う。
【００４４】
上述した内容は、エッジ近傍に面取りが施されたガラス基板を例にして、本発明による合焦点方式、及び基板エッジの座標測定方法、並びに測定用マークの距離測定方法を説明したものである。
本発明による合焦点方式は又、ａ）撮像部のカメラより出力された、鮮鋭度が極大値となる複数の対象の画像の鮮鋭度を検出し、予め設定した閾値を超えた鮮鋭度を選定し、ｂ）
この選定された鮮鋭度の各極大値と、予め得られている測定対象の極大値とを対比し、ｃ）得られている測定対象の極大値と合致した、各極大値中の極大値の位置を測定対象の合焦点位置とするものである。
【００４５】
これにより、本発明による合焦点方式は、その鮮鋭度が極大値となる位置を合焦点位置とする方式（コントラスト方式）において、鮮鋭度が極大値となる対象が複数あっても、測定対象の合焦点位置を他と誤認せずに得ることのできる合焦点方式となる。
【図面の簡単な説明】
【００４６】
【図１】ガラス基板のエッジ近傍の一例を拡大して示す断面図である。
【図２】本発明による合焦点方式において用いられる測定装置の一例の概略図である。
【図３】面取りが施されたガラス基板の一例における、画像の鮮鋭度と光軸上の位置との関係を表すグラフである。
【図４】測定用マークの座標取得の一例のフロー図である。
【図５】基板エッジの座標取得の一例のフロー図である。
【符号の説明】
【００４７】
１・・・面取りコーナー
２・・・基板エッジ
３・・・ガラス基板
４・・・面取り
１０・・・測定ステージ
２０・・・撮像部
２１・・・フォーカスレンズ
２２・・・ハーフミラー
３０Ｘ、３０Ｙ、３０Ｚ・・・Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸駆動部
４０・・・透過光源部
４１、５１・・・光源
４２、５２・・・レンズ
５０・・・反射光源部
６０・・・制御ユニット
Ｎｏ１、Ｎｏ２・・・位置の指標０から極大値を順に数えて与えた極大値番号
Ｋ１・・・正常な面取りコーナーを撮像した際の、鮮鋭度と光軸上の位置との関係を表す曲線部
Ｋ２・・・正常な基板エッジを撮像した際の、鮮鋭度と光軸上の位置との関係を表す曲線部
【図１】
2010078645.tif 000003
【図２】
2010078645.tif 000004
【図３】
2010078645.tif 000005
【図４】
2010078645.tif 000006
【図５】
2010078645.tif 000007