(57)【要約】【課題】大口径のウエハーに対応可能な大型の処理槽であっても製作が容易であり、処理槽内に蓄えられる処理薬液による水圧にも耐え、薬液の量を削減できかつ効率よく薬液を大面積のウエハー表面に流れるような構造を有する石英ガラス製ウエハー処理槽及びその製造方法を提供する。【解決手段】半導体ウエハーを処理薬液に浸漬処理する為に使われる石英ガラス製ウエハー処理槽であって、上方及び前後方向に開口する半円筒形底壁及び該半円筒形底壁の相対向する一対の側端線から上方に延長する相対向する一対の側壁を設けてなる樋状部材と、該樋状部材の前端面に設けられた前壁と、該樋状部材の後端面に設けられた後壁と、を含む処理槽本体を有し、かつ前記半円筒形底壁の内面半径Ｒが前記処理対象ウエハーの半径ｒを超える大きさであると共に前記側壁の高さＨが前記半円筒形底壁の内面半径Ｒよりも大であるようにした。【選択図】図１
2010192679.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体ウエハーを処理薬液に浸漬処理する為に使われる石英ガラス製ウエハー処理槽であって、
上方及び前後方向に開口する半円筒形底壁及び該半円筒形底壁の相対向する一対の側端線から上方に延長する相対向する一対の側壁を設けてなる樋状部材と、
該樋状部材の前端面に設けられた前壁と、
該樋状部材の後端面に設けられた後壁と、を含む処理槽本体を有し、かつ
前記半円筒形底壁の内面半径Ｒが前記処理対象ウエハーの半径ｒを超える大きさであると共に前記側壁の高さＨが前記半円筒形底壁の内面半径Ｒよりも大であることを特徴とする石英ガラス製ウエハー処理槽。
【請求項２】
前記半円筒形底壁の内面半径Ｒが、処理対象ウエハー半径ｒの１．２倍以上２倍未満であり、かつ該底壁内面の最底部から該樋状部材の上端面高さまでの距離Ｍが該底壁内面の半径Ｒの２倍以上２．５倍未満であることを特徴とする請求項１記載の石英ガラス製ウエハー処理槽。
【請求項３】
前記処理槽本体内に処理薬液を供給する薬液供給手段と、該処理槽本体から廃液を排出する廃液手段とをさらに有し、前記薬液供給手段の吹き出し口が、前記底壁内面の最底部から該底壁内面の半径Ｒの１／３の高さ以内の底壁内面部分に設けられ、かつ前記廃液手段が、前記側壁上端部及びその近傍に設けられることを特徴とする請求項１又は２記載の石英ガラス製ウエハー処理槽。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１項記載の石英ガラス製ウエハー処理槽を製造する方法であって、
石英ガラス管の一部を軸方向に割断して割断スロットを形成する工程と、
割断された石英ガラス管の半円筒部を底壁とし割断スロット側の端縁部分を開放垂下させて一対の側壁とし側面Ｕ字型の樋状部材を形成する工程と、
該Ｕ字型樋状部材の軸方向の前端部及び後端部に前壁部材及び後壁部材をそれぞれ熔接して前壁及び後壁とし処理槽本体を形成する工程と、
を含むことを特徴とする石英ガラス製ウエハー処理槽の製造方法。
【請求項５】
前記割断された石英ガラス管の半円筒部を底壁とし割断スロット側の端縁部分を開放垂下させて一対の側壁とし側面Ｕ字型の樋状部材を形成する工程において、
該割断された石英ガラス管内部に耐熱棒状治具を挿入し、割断スロット側を下向きに該耐熱棒状治具で吊り下げた後に、加熱手段により外部から加熱し重力により該割断スロット側の端縁部分を開放垂下させて側面Ｕ字型の樋状部材を形成するようにしたことを特徴とする請求項４記載の石英ガラス製ウエハー処理槽の製造方法。
【請求項６】
前記加熱手段が、燃焼ガスと支燃ガスによるバーナー火炎加熱手段又は電気ヒーター加熱手段であることを特徴とする請求項５記載の石英ガラス製ウエハー処理槽の製造方法。
【請求項７】
前記燃焼ガスがプロパン又は水素であり、前記支燃ガスが酸素であることを特徴とする請求項６記載の石英ガラス製ウエハー処理槽の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、上部が開口された石英ガラス製ウエハー処理槽、さらに詳細にはシリコンウエハー等の半導体ウエハーに対する薬液による洗浄、エッチング等の表面処理を複数バッチにて行う際に使用される石英ガラス製ウエハー処理槽及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体製造工業では、例えば半導体ウエハーの洗浄やエッチング等の薬液処理槽として、化学的安定性と不純物の溶出を避けるために一般に石英ガラス製の処理槽が用いられている。
【０００３】
その場合、処理されるウエハーは上部開口部から、槽内の薬液に浸漬するがその際液体への侵入及び洗浄後の液切れを良好にするため、ウエハーを所定のキャリヤに垂直にそれぞれ平行に複数載置し、液内への浸漬と取り出しを行うのでウエハーを並べて載置したキャリヤの形状に合わせた、角形状の処理用槽とすることが常である。
【０００４】
図１５に示すように、このような角形形状の処理槽５０は、底壁５２及び４つの側壁５４ａ，５４ｂ，５４ｃ，５４ｄを形成する５枚の平板状石英ガラス板を方形状に熔接して角形容器を形成した処理槽本体５１を有するが、板同士を繋ぐ熔接箇所、即ち熔接ラインが８箇所の熔接ライン５６ａ〜５６ｈとして存在し、特に３００ｍｍを越える大型の容器の場合、熔接時の熱による板の歪みが、底部の４角の熔接ラインが集合する部位に集まりやすく、加工中に破損する危険があり、高い熔接技術を必要とした。
【０００５】
また、角槽の大型化により、槽内に蓄える液量も多くなり、液による水圧によって角槽の底部や側部の板同士の熔接部に亀裂が入る等の問題があり、あまり大口径のウエハーが処理出来る大型の容器の実現が困難である等の欠点があった。なお、５８，５８は側壁５４ａ，５４ｃの上端部分に設けられた廃液手段であり、６０，６０は底壁５２に設けられかつ多数の吹き出し口を具備する薬液供給手段である。さらに、この角形形状の処理槽５０においてウエハーＷの薬液Ｙによる処理を行う場合には、図１７に示したように、薬液Ｙの流れは渦状になったり、湾曲流となってしまい、また底部の角部に洗浄後の不純物やパーティクルが溜まったりする上に、これらの不純物やパーティクルが角部付近に発生する渦により、ウエハーＷに再付着するという問題もあった。
【０００６】
上記した角形形状の処理槽５０の欠点に鑑み、特許文献１〜３等が提案されている。特許文献１では、内容積１リットル以上の石英ガラス製大型容器において１枚の石英ガラス板を加熱により軟化させて底部の両側に丸みをもたせてチャンネル状に折り曲げたものの両端面にそれぞれガラス板を組み合わせ、それぞれ各端について連続して大型角槽をつくることにより、端面のところのみに熔接箇所が無く熔接部分が集中していないので、熔接が短時間になり、さらに熔接部の鬆（す）の発生等が抑制でき、角部に丸みがあるので槽自体の洗浄が容易であったり、機械的衝撃性にも優れているとされている。
【０００７】
しかしながら、特許文献１の技術では、高温でチャンネル状に板を正確に曲げなければ熔接部がかみ合わず、熔接が出来ない等の問題があっただけでなく、板曲げ部分に応力が集中したり、小さなＲを得ようとするとガラスが溜まって肉厚が大きくなったり、１辺５００ｍｍ以上の角槽には大型の平板が必要であり、このような平板は非常に不利であるといった、実用的な欠点があった。
【０００８】
これらの問題に対して、特許文献２及び特許文献３では角部にガラス管（円筒管）を縦割りにした曲板を角槽の角部に熔接することにより、高い寸法精度と加工時の応力集中、表面の凹凸や肉厚のばらつきが無く、機械的強度の大きな大型容器が提案されたが、縦割りにした管の両側を熔接することは、結果として熔接部を増やして加工時の難易度をあげるとともに、大型になる底部の平板部への水圧が増し、依然として使用時に破損するという重大な問題が残っていた。
【０００９】
また、上記した特許文献１〜３の従来技術においてはいずれも大口径ウエハーを槽内の薬液に完全に沈めるのに必要な液量が大量に必要なこと、及び薬液を効率よく大面積のウエハー表面に流れるようにするには、丸みがあっても角部等で槽内に渦が生じるなどの問題があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】実開昭５５−６６９２２号公報
【特許文献２】実開昭６２−１６１６２２号公報
【特許文献３】特開平２−１０２１４１等号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明は、従来技術の実情に鑑み、大口径のウエハーに対応可能な大型の処理槽であっても、製作が容易であり、かつ処理槽内に蓄えられる処理薬液による水圧にも耐えさらに、薬液の量を削減できかつ効率よく薬液を大面積のウエハー表面に流れるような構造を有する石英ガラス製ウエハー処理槽及びその製造方法を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記課題を解決するために、本発明の石英ガラス製ウエハー処理槽は、半導体ウエハーを処理薬液に浸漬処理する為に使われる石英ガラス製ウエハー処理槽であって、
上方及び前後方向に開口する半円筒形底壁及び該半円筒形底壁の相対向する一対の側端線から上方に延長する相対向する一対の側壁を設けてなる樋状部材と、
該樋状部材の前端面に設けられた前壁と、
該樋状部材の後端面に設けられた後壁と、を含む処理槽本体を有し、かつ
前記半円筒形底壁の内面半径Ｒが前記処理対象ウエハーの半径ｒを超える大きさであると共に前記側壁の高さＨが前記半円筒形底壁の内面半径Ｒよりも大であることを特徴とする。
【００１３】
前記半円筒形底壁の内面半径Ｒが、処理対象ウエハー半径ｒの１．２倍以上２倍未満であり、かつ該底壁内面から該樋状部材の上端面高さまでの距離Ｍが該底壁内面の半径Ｒの２倍以上２．５倍未満であることが好ましい。
【００１４】
前記処理槽本体内に処理薬液を供給する薬液供給手段と、該処理槽本体から廃液を排出する廃液手段とをさらに有し、前記薬液供給手段の吹き出し口が、前記底壁内面の最底部から該底壁内面の半径Ｒの１／３の高さ以内の底壁内面部分に設けられ、かつ前記廃液手段が、前記側壁上端部及びその近傍に設けられる構成とするのが好適であり、この構成によって、実際の処理時に優れた効果を発揮する。なお、前記薬液の吹き出し口が、前記底壁内面の最底部から該底壁内面の半径の１／３の高さを超えた底壁内面部分に設けられる場合には両側に設けられた吹き出し口から吹き出した薬液が衝突し、処理槽内に渦を作り、この渦により、洗浄されてウエハーから一旦は脱離した不純物やパーティクルが再びウエハーに接触し、再付着するなどの問題が生じる場合がある。
【００１５】
本発明の石英ガラス製ウエハー処理槽の製造方法は、上記した本発明の石英ガラス製ウエハー処理槽を製造する方法であって、
石英ガラス管の一部を軸方向に割断する工程と、
割断された石英ガラス管の半円筒部を底壁としてＵ字型に開き樋状部材を形成する工程と、
該Ｕ字型に開かれた石英ガラス管の軸方向の前端部及び後端部に前壁部材及び後壁部材をそれぞれ熔接し前壁及び後壁を形成する工程と、
を含むことを特徴とする。
【００１６】
前記割断された石英ガラス管の半円筒部を底壁としてＵ字型に開き樋状部材を形成する工程において、
該石英ガラス管内部にカーボン、アルミナ、ＳＩＣ等の耐熱材からなる棒状の治具を挿入し、割断された側を下向きに該棒状の治具でつり下げた後に、加熱手段により外部から加熱し重力によりＵ字型に開くように構成するのが好ましい。また、前記石英ガラス管を側面Ｕ字型に開放した後、該開放された側壁部に別体の側壁板を熔接することによって側壁１８を延長することもできる。
【００１７】
前記加熱手段が、燃焼ガスと支燃ガスによるバーナー火炎加熱手段又は電気ヒーター加熱手段であることが好適である。前記燃焼ガスとしてはプロパン又は水素を用い、前記支燃ガスとしては酸素を用いるのが好ましい。
【発明の効果】
【００１８】
本発明の石英ガラス製ウエハー処理槽は、上方及び前後方向に開口する半円筒形底壁及び該半円筒形底壁の相対向する一対の側端線から上方に延長する相対向する一対の側壁を設けてなる樋状部材と、該樋状部材の前端面に設けられた前壁と、該樋状部材の後端面に設けられた後壁と、を含む処理槽本体を有し、かつ前記半円筒形底壁の内面半径が前記処理対象ウエハーの半径を超える大きさを有するように構成されているので、熔接長さが小さく製作が容易で、使用される石英ガラスの重量も少なくなり安価に製作出来るだけでなく、処理槽内部の薬液の水圧を円筒部が均等に分散し大型の処理槽の大量の薬液であっても耐えうる優れた効果を発揮する。
【００１９】
また、本発明の石英ガラス製ウエハー処理槽の底壁はウエハーの径に沿った半円筒形状であるので、底壁の半円筒形状の半径をウエハーの半径の１．２〜２倍とすることにより、使用する薬液の量を削減できる。さらに、本発明の石英ガラス製ウエハー処理槽は、前記処理槽本体内に薬液を供給する薬液供給手段と、該処理槽本体から廃液を排出する廃液手段とをさらに有し、前記薬液供給手段の吹き出し口が、前記底壁内面の最底部から該底壁内面の半径の１／３の高さ以内の底壁内面部分に設けられ、かつ前記廃液手段が、前記側壁上端部及びその近傍に設けられる構成となっているので、薬液の壁面を通る流路が滑らかに変化するために、下方から上方へ整った薬液の流れを作り出せ、ひいてはウエハーの薬液処理の面内での均一性が向上する。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本発明の石英ガラス製ウエハー処理槽の一つの実施の形態を示す斜視説明図である。
【図２】図１の石英ガラス製ウエハー処理槽の処理槽本体を摘示する斜視説明図である。
【図３】薬液吹き出し口を処理槽本体の底壁内面の最底部から該底壁内面の半径の１／３の高さ以内の底壁内面部分に設けた場合における薬液の流れを示す側面的説明図である。
【図４】薬液吹き出し口を処理槽本体の底壁内面の最底部から該底壁内面の半径の１／３の高さを超えた底壁内面部分に設けた場合における薬液の流れを示す側面的説明図である。
【図５】処理槽本体とその内部に位置する処理ウエハーの位置関係を示す側面的説明図である。
【図６】本発明の石英ガラス製ウエハー処理槽の製造方法の工程順を示すフローチャートである。
【図７】本発明の石英ガラス製ウエハー処理槽の製造方法における第１手順を示す模式的説明図である。
【図８】本発明の石英ガラス製ウエハー処理槽の製造方法における第２手順を示す模式的説明図である。
【図９】本発明の石英ガラス製ウエハー処理槽の製造方法における第３手順を示す模式的説明図である。
【図１０】本発明の石英ガラス製ウエハー処理槽の製造方法における第４手順を示す模式的説明図である。
【図１１】本発明の石英ガラス製ウエハー処理槽の製造方法における第５手順を示す模式的説明図である。
【図１２】本発明の石英ガラス製ウエハー処理槽の製造方法における第６手順を示す模式的説明図である。
【図１３】本発明の石英ガラス製ウエハー処理槽の製造方法における第７手順を示す模式的説明図である。
【図１４】本発明の石英ガラス製ウエハー処理槽の製造方法における第８手順を示す模式的説明図である。
【図１５】従来の石英ガラス製ウエハー処理槽の一例を示す斜視説明図である。
【図１６】図１５の石英ガラス製ウエハー処理槽の処理槽本体とその内部に位置する処理ウエハーの位置関係を示す側面的説明図である。
【図１７】図１６に示した従来の処理槽本体における薬液の流れを示す側面的説明図である。
【図１８】石英ガラス製ウエハー処理槽における処理槽本体の他の例（側壁の高さＨが底壁内面の半径Ｒに満たない場合）を示す側面的説明図である。
【図１９】石英ガラス製ウエハー処理槽における処理槽本体の別の例（底壁内面の半径Ｒが処理ウエハーの半径ｒの２倍以上の場合）を示す側面的説明図である。
【図２０】薬液を投入した場合における処理槽の底壁の変形状態を示す説明図で、（ａ）は側壁を設置しない場合又は側壁の高さが低い場合の処理槽の底壁の変形状態を示し、（ｂ）は高い側壁を設置した本発明の処理槽の状態を示す。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
以下に、本発明の実施の形態を添付図面に基づいて説明するが、これらの実施の形態は本発明の好ましい態様を示すものであって、本発明は、これらの図示例に限定されるものではなく、本発明の技術思想から逸脱しない限り、種々の変形が可能なことはいうまでもない。
【００２２】
図１は本発明の石英ガラス製ウエハー処理槽を示す斜視説明図である。図２は本発明の石英ガラス製ウエハー処理槽における処理槽本体と支持脚の摘示斜視説明図である。図３は本発明の石英ガラス製ウエハー処理槽における薬液の流動状態の一例を示す説明図である。図４は本発明の石英ガラス製ウエハー処理槽における薬液の流動状態の他の例を示す説明図である。図５は本発明の石英ガラス製ウエハー処理槽における処理槽本体とその内部に位置する処理ウエハーの位置関係を示す側面的説明図である。なお、図１〜図５において、処理槽本体内に配置しているウエハーは公知のキャリヤを介して位置するものであるが、簡略化のためにキャリヤは省略して図示してある。また、その他の同様の図面においてもキャリヤは省略した状態で図示されている。
【００２３】
図１において、符号１０は本発明の石英ガラス製ウエハー処理槽である。該石英ガラス製ウエハー処理槽１０は、半導体ウエハーＷを処理薬液Ｙに浸漬処理する為に使われる。該石英ガラス製ウエハー処理槽１０は、図２に摘出して示した処理槽本体１２を有し、さらに該処理槽本体１２は樋状部材１４を含んでいる。該樋状部材１４は、処理対象ウエハーＷの半径ｒより大きな内面半径Ｒ（後述する半円筒形底壁１６の半円筒形内面の半径Ｒに一致する）を有しかつ上方及び前後方向に開口する半円筒形底壁１６と、該半円筒形底壁１６の相対向する一対の側端線Ｌ，Ｌから上方に延長する相対向する一対の側壁１８，１８とから構成されている。２０は該樋状部材１４の前端面に設けられた前壁であり、２２は該樋状部材１４の後端面に設けられた後壁である。上記処理槽本体１２は、図２によく示されるように、該樋状部材１４、前壁２０及び後壁２２から構成されている。なお、図１及び図２において、２４，２４は処理槽本体１２の半円筒形底壁１６の両側面下部に形成された支持脚である。なお、図３において、符号Ｈは上記側壁１８の高さである。
【００２４】
前記半円筒形底壁１６の半円筒形内面の半径Ｒが、処理対象ウエハーＷの半径ｒの１．２倍以上２倍未満であるのが好適である。また該底壁１６の内面の最底部１６ａから該樋状部材１４の上端面１４ａ高さまでの距離Ｍが該底壁内面の半径Ｒの２倍以上２．５倍未満であることが好ましい。なお、図３及び図５に示したように、底壁１６の内面の最底部１６ａから樋状部材１４の上端面１４ａ高さまでの距離Ｍ＝半円筒形底壁１６の半円筒形内面の半径Ｒ＋側壁の高さＨである。前記側壁１８の高さＨが前記半円筒形底壁１６の内面半径Ｒよりも大であることが必要である。例えば、図２０（ａ）に示した処理槽９０の場合には、半円筒形底壁９２に対して側壁を設けない場合又は設けても側壁の高さが低い構成であり、この場合には薬液Ｙを処理槽９０に入れると水圧と薬液Ｙの重量により半円筒形底壁９２が変形してしまい、最悪の場合には処理槽９０の中央部分が破損してしまうという事故が発生する。これに対して、本発明の処理層１０の場合には、図２０（ｂ）に示すように、前記半円筒形底壁１６に比較して高い側壁１８が存在することにより補強効果が発生し大量の薬液Ｙを入れても半円筒形底壁１６の変形が防止され破損しないという利点が存するものである。
【００２５】
２６は前記処理槽本体１２の内部に処理薬液Ｙを供給する薬液供給手段で、図１の図示例では多数の吹き出し口２８を穿設したパイプ状薬液供給手段２６が示されている。該薬液供給手段２６の吹き出し口２８は、前記底壁１６の内面の最底部１６ａから該底壁１６の内面の半径Ｒの１／３の高さ以内の底壁１６の内面部分に位置するように設けられている。つまり、該最底部１６ａから該薬液供給手段２６の吹き出し口２８までの高さｈは該最底部１６ａから該底壁１６の内面の半径Ｒの１／３の高さ（Ｒ×１／３）以内に位置している。
【００２６】
図１において、３０は該処理槽本体１２から廃液を排出する廃液手段である。該廃液手段３０は、図示例では前記側壁１８，１８の上端部に形成されて排出用凹部３０ａ及び該側壁１８に連設された廃液受け部３０ｂとから構成された構成例として示されている。このように廃液手段３０を構成することによって、実際の処理時に優れた排水効果を発揮する。
【００２７】
上記の構成において、図３に示したように、前記薬液の吹き出し口２８、２８が前記底壁１６の内面の最底部１６ａから該底壁１６の内面の半径Ｒの１／３の高さ以内に位置する時は、前記薬液の吹き出し口２８、２８の両方から吹き出した処理薬液Ｙがぶつからず、上方の廃液手段３０まで、均等に流れる。結果として、処理薬液Ｙの渦が最少に抑えられ、不純物やパーティクルの再付着も抑えられる。一方、図４に示したように、前記薬液の吹き出し口２８が前記底壁１６の内面の最底部１６ａから該底壁１６の内面の半径Ｒの１／３の高さを越えて位置する時は、処理薬液Ｙは処理槽本体１２内において渦流となってしまい不純物やパーティクルの再付着が発生する場合がある。
【００２８】
続いて、本発明の石英ガラス製ウエハー処理槽の製造方法を図６〜図１２によって説明する。図６は本発明の石英ガラス製ウエハー処理槽の製造方法の工程順を示すフローチャートである。図７〜図１２は本発明の石英ガラス製ウエハー処理槽の製造方法の工程を順次示す模式図である。
【００２９】
本発明の石英ガラス製ウエハー処理槽の製造方法は、上記した本発明の石英ガラス製ウエハー処理槽を製造する方法であって、石英ガラス管の一部を軸方向に割断する工程と、割断された石英ガラス管の半円筒部を底壁としてＵ字型に開き樋状部材を形成する工程と、該Ｕ字型に開かれた石英ガラス管の軸方向の前端部及び後端部に前壁部材及び後壁部材をそれぞれ熔接し前壁及び後壁を形成する工程と、を含むものであるが、各工程についてさらに詳細に説明する。
【００３０】
まず、石英ガラス管４０を用意する（図７及び図６のステップ１００）。その石英ガラス管を軸方向に割断して割断スロット４２を形成する（図８及び図６のステップ１０２）。該割断スロット４２が下向きになるように該割断した石英ガラス管４０を回動させる（図９及び図６のステップ１０４）。
【００３１】
耐熱棒状の治具４４を該割断した石英ガラス管４０の内部に挿入し該治具４４に石英ガラス管４０が吊り下がる状態とする（図１０及び図６のステップ１０６）。該吊り下げられた割断した石英ガラス管４０を外部から加熱手段４６によって加熱すると該石英ガラス管４０の割断スロット４２側の端縁部分４２ａ,４２ａが重力によって垂下して一対の側壁１８，１８となる（図１１及び図６のステップ１０８）。
【００３２】
この状態から該治具４４を引き抜いて放置冷却すれば両端がＵ字型に開放した状態で、石英ガラス管４０の半円筒形部分を底壁１６としこの底壁１６に連続して一対の側壁１８，１８が立設された形状の樋状部材１４が完成する（図１２及び図６のステップ１１０）。この樋状部材１４の軸方向の前端部及び後端部に熔接手段４７によって前壁部材２０及び後壁部材２２を熔接する（図１３及び図６のステップ１１２）。
【００３３】
これによって、樋状部材１４に前壁２０及び後壁２２が取付けられた処理槽本体１２が完成する（図１４及び図６のステップ１１４）。最後に吹き出し口２８を具備した薬液供給手段２６及び廃液手段３０を設けることによって石英ガラス製ウエハー処理槽１０が完成する（図１及び図６のステップ１１６）。
【００３４】
前記吊り下げられた割断した石英ガラス管４０を外部から加熱手段４６によって加熱すると該石英ガラス管４０の割断スロット４２側の端縁部分４２ａ,４２ａが重力によって垂下して一対の側壁１８，１８となる工程（図１１及び図６のステップ１０８）において、該石英ガラス管４０の内部にカーボン、アルミナ、ＳＩＣ等の耐熱材からなる棒状の治具４４を挿入し、割断スロット４２側を下向きに該棒状の治具４４で吊り下げた後に、外部から加熱手段４６によって加熱し重力により端縁部分４２ａ,４２ａをＵ字型に開くように構成するのが好ましい。また、前記石英ガラス管を側面Ｕ字型に開放した後、該開放された側壁部に別体の側壁板を熔接することによって側壁１８を延長することもできる。
【００３５】
前記加熱手段４６としては、燃焼ガスと支燃ガスによるバーナー火炎加熱手段又は電気ヒーター加熱手段を好適に用いることができる。前記燃焼ガスとしてはプロパン又は水素を用い、前記支燃ガスとしては酸素を用いるのが好ましい。ガスは、プロパン−酸素等でも良いが、火炎圧が強いと重力により真っ直ぐ下方に開かず、波打ったりすることがあり、柔らかな炎の酸素−水素火炎が好適である。
【００３６】
上記した加熱は、電気炉などの電気ヒーター加熱手段にて行っても良いが、その場合耐熱材の棒状治具の温度も上がるため、非酸化性の素材とするかカーボン等の場合は加熱雰囲気を減圧又は非酸化性ガス（窒素、アルゴン等）とする必要がある。石英ガラス管４０をＵ字型に形成した後は、必要な高さに切りそろえ、Ｕ字型の軸方向の両端開放部に、前壁部材２０及び後壁部材２２として当該開放部の形状に合致する外径Ｕ字形状の石英ガラス平板をバーナー等の熔接手段で熔接する。
【００３７】
図５に示した本発明における処理槽本体１２における必要な薬液量Ｖ２、図１６に示した従来の石英ガラス製ウエハー処理槽５０の処理槽本体５１における必要な薬液量Ｖ１、図１８に示した石英ガラス製ウエハー処理槽７０の処理槽本体７２における必要な薬液量Ｖ３及び図１９に示した石英ガラス製ウエハー処理槽８０の処理槽本体８２における必要な薬液量Ｖ４について各処理槽本体の形状と必要な薬液量との関係について図５、図１６、図１８及び図１９によって説明する。図５に示した本発明の処理槽本体１２においては、前記底壁１６の半円筒形内面の半径Ｒが処理対象ウエハーＷの半径ｒの１．２倍以上２倍未満であり、かつ底壁１６の内面の最底部１６ａから樋状部材１４の上端面１４ａ高さまでの距離Ｍ、即ち処理槽本体１２の深さＭが半円筒形底壁１６の半円筒形内面の半径Ｒの２倍以上２．５倍未満である。これらの処理槽本体の形状の相違により、図示例からも明らかなように各処理槽本体において必要とされる薬液量はＶ４＞Ｖ３＞Ｖ１＞Ｖ２となり、処理槽本体１２の必要な薬液量Ｖ２は最も少なくて済み、有利である。
【符号の説明】
【００３８】
１０：本発明の石英ガラス製ウエハー処理槽、１２：処理槽本体、１４：樋状部材、１４ａ：上端面、１６：半円筒形底壁、１６ａ：最底部、１８：側壁、２０：前壁、前壁部材、２２：後壁、後壁部材、２４：支持脚、２６：薬液供給手段、２８：吹き出し口、３０：廃液手段、３０ａ：排出用凹部、３０ｂ：廃液受け部、４０：石英ガラス管、４２：割断スロット、４２ａ：端縁部分、４４：治具、４６：加熱手段、４７：熔接手段、５０：従来の石英ガラス製ウエハー処理槽、５１：処理槽本体、５２：底壁、５４ａ，５４ｂ，５４ｃ，５４ｄ：側壁、５６ａ〜５６ｈ：熔接ライン、７０，８０、９０：石英ガラス製ウエハー処理槽、７２，８２、９２：処理槽本体、Ｈ：側壁の高さ、Ｌ：側端線、Ｍ：底壁内面の最底部から樋状部材の上端面高さまでの距離、Ｒ：底壁内面の半径、ｒ：ウエハー半径、Ｗ：ウエハー、Ｙ：薬液。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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