(57)【要約】【課題】露光用マスクを用いることなくシール材を選択的に露光する。【解決手段】光硬化性を有する矩形枠状のシール材７を介して互いに貼り合わされた一対の基板６１，６２を載置するステージ１０と、ステージ１０に載置された一対の基板６１，６２のシール材７に対して光を照射する照射部２０とを備え、照射部２０によって一対の基板６１，６２におけるシール材７に光を照射することにより、シール材７を硬化させて液晶表示パネルＰを製造する製造装置であって、照射部２０は、光源２１と、光源２１からの光を線状に出射するためのスリット２２ａが形成されたカバー部材２２とを有し、一対の基板６１，６２におけるシール材７の各辺７ａ，７ｂに対し、各辺７ａ，７ｂと同方向に延びる光を照射するように構成されている。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
光硬化性を有する矩形枠状のシール材を介して互いに貼り合わされた一対の基板を載置するステージと、
上記ステージに載置された一対の基板のシール材に対して光を照射する照射部とを備え、
上記照射部によって上記一対の基板におけるシール材に光を照射することにより、該シール材を硬化させて液晶表示パネルを製造する製造装置であって、
上記照射部は、光源と、該光源からの光を線状に出射するためのスリットが形成されたカバー部材とを有し、上記一対の基板におけるシール材の各辺に対し、該各辺と同方向に延びる光を照射するように構成されている
ことを特徴とする液晶表示パネルの製造装置。
【請求項２】
請求項１に記載の液晶表示パネルの製造装置において、
上記ステージの上記一対の基板が載置された載置面に平行な面内において、上記ステージと上記照射部とを相対的に移動させる相対移動手段と、
上記ステージに上記一対の基板が載置された状態において、上記照射部によって照射される線状の照射領域と上記シール材の一方向に延びる第１の辺とが重なるように上記ステージと上記照射部とを相対的に移動させて上記第１の辺に光を照射した後、上記第１の辺に直交する方向に延びる上記シール材の第２の辺と上記照射部の照射領域とが重なるように上記ステージと上記照射部とを相対的に移動させて上記第２の辺に光を照射するように、上記照射部の照射及び非照射、並びに相対移動手段を制御する制御部とを備えている
ことを特徴とする液晶表示パネルの製造装置。
【請求項３】
請求項２に記載の液晶表示パネルの製造装置において、
上記制御部は、上記照射部の照射領域と上記第１の辺とが重なるように上記ステージと上記照射部とを相対的に平行移動させて上記第１の辺に光を照射した後、上記ステージと上記照射部とを相対的に回転移動させると共に上記照射部の照射領域と上記第２の辺とが重なるように相対的に平行移動させて上記第２の辺に光を照射するように構成されている
ことを特徴とする液晶表示パネルの製造装置。
【請求項４】
請求項２に記載の液晶表示パネルの製造装置において、
上記照射部は、上記ステージに載置された一対の基板に対し、上記第１の辺と同方向に延びる線状の光を照射する第１照射部と、上記第２の辺と同方向に延びる線状の光を照射する第２照射部とを有し、
上記制御部は、上記第１照射部の照射領域と上記第１の辺とが重なるように上記ステージと上記第１照射部とを相対的に平行移動させて上記第１の辺に光を照射した後、上記第２照射部の照射領域と上記第２の辺とが重なるように上記ステージと上記第２照射部とを相対的に平行移動させて上記第２の辺に光を照射するように構成されている
ことを特徴とする液晶表示パネルの製造装置。
【請求項５】
請求項２に記載の液晶表示パネルの製造装置において、
上記照射部は、上記ステージに載置された一対の基板に対し、上記シール材の互いに同方向に延びる各辺に光を照射する複数の同方向照射部を有し、
上記制御部は、上記シール材の互いに同方向に延びる各辺と上記各同方向照射部の照射領域とが重なるように上記ステージと上記各同方向照射部とを相対的に移動させて上記シール材の互いに同方向に延びる各辺に光を照射するように構成されている
ことを特徴とする液晶表示パネルの製造装置。
【請求項６】
請求項２に記載の液晶表示パネルの製造装置において、
上記カバー部材には、上記線状光源からの光を上記スリット側に反射する反射板が設けられている
ことを特徴とする液晶表示パネルの製造装置。
【請求項７】
光硬化性を有する矩形枠状のシール材を介して互いに貼り合わされた一対の基板をステージに載置する載置工程と、
上記ステージに載置された一対の基板に対してシール材に光を照射して該シール材を硬化させる照射工程とを含む液晶表示パネルの製造方法であって、
上記照射工程では、光源と該光源からの光を線状に出射するためのスリットが形成されたカバー部材とを有する照射部により、上記シール材の各辺に対し、該各辺と同方向に延びる光を照射する
ことを特徴とする液晶表示パネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示パネルの製造装置及び製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来から、液晶表示パネルは、一対の基板が矩形枠状のシール材を介して互いに貼り合わされてシール材の内側に液晶層が封入されて構成されている。この液晶表示パネルの製造における液晶層を封入する方式として、一対の基板を互いに貼り合わせてシール材を硬化させた後に液晶材料を真空注入するいわゆる真空注入方式と、一対の基板を互いに貼り合わせる前にシール材を供給した基板に対して液晶材料を滴下するいわゆる滴下注入方式とが知られている。真空注入方式では熱硬化性を有するシール材が好まれて使用される一方、滴下注入方式では、シール材を硬化させる前に液晶材料を滴下するため、熱硬化性に加えて紫外線硬化性を有するシール材が好まれて使用されている。
【０００３】
紫外線硬化性を有するシール材に紫外線を照射する場合において、貼り合わされた一対の基板全体に紫外線を照射すると、それら一対の基板の対向面にそれぞれ設けられた配向膜の配向能力が低下したり、基板に形成された薄膜トランジスタ等の素子が損傷する等の虞があり、シール材が配置されている領域に選択的に紫外線を照射することが好ましい。このことから、シール材への紫外線の照射は、貼り合わされた一対の基板における照射が不要な領域への紫外線を遮光する露光用マスクを介して行われている（例えば、特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２００４−３１００６３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかし、異なるサイズの液晶表示パネルを製造する場合において、上述のように露光用マスクを用いてシール材を選択的に露光するには、各サイズ毎に遮光パターンを変えて複数種類の露光用マスクを用意する必要がある。この露光用マスクは高価であり、それに加えて露光用マスクを保管するカセットが必要となるため、コストが増大する。
【０００５】
また、異なるサイズの液晶表示パネルを作製する際にパターンが異なるシール材に合わせて露光パターンを変更するには、露光用マスクを取り替える必要がある。特に、大型の液晶表示パネルを作製する場合や、液晶表示パネル自体は小型であっても、生産性を向上させる観点から、液晶表示パネルを構成するセルを複数有する母パネルを作製し、その母パネルを各セル毎に分断して複数の液晶表示パネルを同時に作製する多面取りによる製造を行う場合には、作製するパネルが大きければ大きい程に露光用マスクもそのパネルのサイズに合わせて大きくなるため、露光用マスクが非常に重くなり、露光用マスクを取り替える際に比較的多くの人手が必要となる。これらのことから、露光パターンの変更を円滑に行い難い。
【０００６】
本発明は、斯かる諸点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、露光用マスクを用いることなくシール材を選択的に露光することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記の目的を達成するために、この発明では、互いに貼り合わされてステージに載置された一対の基板における矩形枠状のシール材に対して光を照射する照射部が、光源と、その光源からの光を線状に出射するためのスリットが形成されたカバー部材とを有し、一対の基板におけるシール材の各辺に対し、それら各辺と同方向に延びる線状の光を照射するようにした。
【０００８】
具体的に、本発明に係る液晶表示パネルの製造装置は、光硬化性を有する矩形枠状のシール材を介して互いに貼り合わされた一対の基板を載置するステージと、上記ステージに載置された一対の基板のシール材に対して光を照射する照射部とを備え、上記照射部によって上記一対の基板におけるシール材に光を照射することにより、該シール材を硬化させて液晶表示パネルを製造する製造装置であって、上記照射部は、光源と、該光源からの光を線状に出射するためのスリットが形成されたカバー部材とを有し、上記一対の基板におけるシール材の各辺に対し、該各辺と同方向に延びる光を照射するように構成されていることを特徴とする。
【０００９】
この構成によると、互いに貼り合わされてステージに載置された一対の基板における矩形枠状のシール材に対して光を照射する照射部が、光源と、その光源からの光を線状に出射するためのスリットが形成されたカバー部材とを有し、一対の基板におけるシール材の各辺に対し、それら各辺と同方向に延びる光を照射するように構成されている。そのことにより、貼り合わされた一対の基板における照射が不要な領域への光源からの光がカバー部材によって遮られてその照射が不要な領域に光が照射されることがなく、カバー部材のスリットから出射された光がシール材の各辺に線状に照射されるため、露光用マスクを用いることなくシール材を選択的に露光することが可能になる。
【００１０】
ところで、従来から用いられている露光用マスクは、メッシュ状に形成された金属製のメッシュ材や石英製の基板に対してシール材に重なる領域に開口を有する遮光パターンが設けられて構成され、その遮光パターンの開口部分において光源からの光を透過させるようになっている。この露光用マスクを用いてシール材を露光する場合には、遮光パターンの開口部分にもメッシュ材や基板が配置されていることにより、これらメッシュ材や基板に光が一部遮光されるため、この開口部分での光の透過率が低減してシール材への光の照射強度が低下する。
【００１１】
これに対して、本発明に係る液晶表示パネルの製造装置における照射部はカバー部材のスリットから他の部材に遮光されることなく一対の基板のシール材に光源からの光を直接に照射することが可能であるため、シール材の各辺に対する露光時間がそれぞれ短縮され、シール材の各辺に対して順に光の照射を行ったとしても、シール材全体に対する露光時間が長くなることが抑制される。
【００１２】
上記液晶表示パネルの製造装置は、さらに、上記ステージの上記一対の基板が載置された載置面に平行な面内において、上記ステージと上記照射部とを相対的に移動させる相対移動手段と、上記ステージに上記一対の基板が載置された状態において、上記照射部によって照射される線状の照射領域と上記シール材の一方向に延びる第１の辺とが重なるように上記ステージと上記照射部とを相対的に移動させて上記第１の辺に光を照射した後、上記第１の辺に直交する方向に延びる上記シール材の第２の辺と上記照射部の照射領域とが重なるように上記ステージと上記照射部とを相対的に移動させて上記第２の辺に光を照射するように、上記照射部の照射及び非照射、並びに相対移動手段を制御する制御部とを備えていてもよい。
【００１３】
この構成によると、照射部の照射及び非照射、並びにステージと照射部とを相対的に移動させる相対移動手段が制御部により制御されて、シール材の一方向に延びる第１の辺と照射部の照射領域とが重なるようにステージと照射部とが相対的に移動して第１の辺に光が照射された後、第１の辺に直交する方向に延びるシール材の第２の辺と上記照射部の照射領域とが重なるようにステージと照射部とが相対的に移動してシール材の第２の辺に光が照射される。そのことにより、貼り合わされた一対の基板におけるシール材の各辺（第１の辺及び第２の辺）が選択的に露光されるため、本発明の作用が具体的に奏される。それに加えて、シール材の各辺と照射部の照射領域とが重なるように相対移動手段が制御部によって制御されるため、パターンが異なるシール材を露光する場合であっても、露光パターンの変更を容易に行うことが可能になる。
【００１４】
これら相対移動手段及び制御部は、貼り合わされた一対の基板におけるシール材の各辺（第１の辺及び第２の辺）と照射部の照射領域とを重ねてそれら各辺に光を照射する構成を具体化するために以下の構成を採用していてもよい。
【００１５】
上記制御部は、上記照射部の照射領域と上記第１の辺とが重なるように上記ステージと上記照射部とを相対的に平行移動させて上記第１の辺に光を照射した後、上記ステージと上記照射部とを相対的に回転移動させると共に上記照射部の照射領域と上記第２の辺とが重なるように相対的に平行移動させて上記第２の辺に光を照射するように構成されていてもよい。
【００１６】
この構成によっても、照射部の照射及び非照射、並びに相対移動手段が制御部により制御されて、上記照射部の照射領域と第１の辺とが重なるようにステージと照射部とが相対的に平行移動して第１の辺に光が照射された後、ステージと上記照射部とが相対的に回転移動すると共に上記照射部の照射領域と第２の辺とが重なるように相対的に平行移動して上記第２の辺に光が照射されることにより、貼り合わされた一対の基板におけるシール材の各辺が選択的に露光されるため、本発明の作用が具体的に奏される。そして、シール材の各辺に照射部の照射領域が重なるように相対移動手段が制御部によって制御されるため、露光パターンの変更を容易に行うことが可能になる。
【００１７】
上記照射部は、上記ステージに載置された一対の基板に対し、上記第１の辺と同方向に延びる線状の光を照射する第１照射部と、上記第２の辺と同方向に延びる線状の光を照射する第２照射部とを有し、上記制御部は、上記第１照射部の照射領域と上記第１の辺とが重なるように上記ステージと上記第１照射部とを相対的に平行移動させて上記第１の辺に光を照射した後、上記第２照射部の照射領域と上記第２の辺とが重なるように上記ステージと上記第２照射部とを相対的に平行移動させて上記第２の辺に光を照射するように構成されていてもよい。
【００１８】
この構成によっても、第１照射部及び第２照射部の各照射及び非照射、並びに相対移動手段が制御部により制御されて、第１照射部の照射領域と第１の辺とが重なるようにステージと上記第１照射部とが相対的に平行移動して第１の辺に光が照射された後、第２照射部の照射領域と第２の辺とが重なるように上記ステージと上記第２照射部とが相対的に平行移動して上記第２の辺に光が照射されることにより、貼り合わされた一対の基板におけるシール材の各辺が選択的に露光されるため、本発明の作用が具体的に奏される。そして、シール材の各辺に第１照射部及び第２照射部の各照射領域がそれぞれ重なるように相対移動手段が制御部によって制御されるため、露光パターンの変更を容易に行うことが可能になる。
【００１９】
また、上記照射部は、上記ステージに載置された一対の基板に対し、上記シール材の互いに同方向に延びる各辺に光を照射する複数の同方向照射部を有し、上記制御部は、上記シール材の互いに同方向に延びる各辺と上記各同方向照射部の照射領域とが重なるように上記ステージと上記各同方向照射部とを相対的に移動させて上記シール材の互いに同方向に延びる各辺に光を照射するように構成されていることが好ましい。
【００２０】
この構成によると、複数の同方向照射部によってシール材の同方向に延びる各辺に光がそれぞれ照射されるため、１つの照射部によってシール材の同方向に延びる各辺に対して順に光を照射する場合に比べて、シール材の露光に要する時間が短縮される。
【００２１】
また、上記カバー部材には、上記線状光源からの光を上記スリット側に反射する反射板が設けられていることが好ましい。
【００２２】
この構成によると、カバー部材に線状光源からの光をスリット側に反射する反射板が設けられていることにより、光源から反射板側に放射された光がカバー部材のスリット側に反射されるため、照射部は光源からの光を効率良くスリットから出射することが可能になる。
【００２３】
また、本発明に係る液晶表示パネルの製造方法は、光硬化性を有する矩形枠状のシール材を介して互いに貼り合わされた一対の基板をステージに載置する載置工程と、上記ステージに載置された一対の基板に対してシール材に光を照射して該シール材を硬化させる照射工程とを含む液晶表示パネルの製造方法であって、上記照射工程では、光源と該光源からの光を線状に出射するためのスリットが形成されたカバー部材とを有する照射部により、上記シール材の各辺に対し、該各辺と同方向に延びる光を照射することを特徴とする。
【００２４】
この製造方法によると、照射工程において、光源とその光源からの光を線状に出射するためのスリットが形成されたカバー部材とを有する照射部により、シール材の各辺に対し、それら各辺と同方向に延びる光を照射する。そのことにより、貼り合わされた一対の基板における照射が不要な領域に光を照射することなくシール材の各辺に線状の光が照射されるため、露光用マスクを用いることなくシール材を露光することが可能になる。
【００２５】
そして、露光用マスクを用いてシール材を露光する場合には遮光パターンの開口部分での光の透過率が低減してシール材への光の照射強度が低下するのに対して、照射部はカバー部材のスリットから他の部材を介することなく一対の基板のシール材に光源からの光を直接に照射することが可能であるため、シール材の各辺に対する露光時間がそれぞれ短縮され、シール材の各辺に対して順に光の照射を行ったとしても、シール材全体に対する露光時間が長くなることが抑制される。
【発明の効果】
【００２６】
本発明によれば、互いに貼り合わされてステージに載置された一対の基板における矩形枠状のシール材に対して光を照射する照射部が、光源と、その光源からの光を線状に出射するためのスリットが形成されたカバー部材とを有し、一対の基板におけるシール材の各辺に対し、それら各辺と同方向に延びる光を照射するように構成されているので、露光用マスクを用いることなくシール材を露光できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２７】
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。尚、本発明は、以下の各実施形態に限定されるものではない。
【００２８】
《発明の実施形態１》
図１〜図１１は、本発明の実施形態１を示している。図１は、本実施形態の露光装置１を概略的に示す斜視図である。図２は、図１のII−II線に沿って露光装置１を概略的に示す断面図である。図３は、露光装置１を構成する照射部２０を下面側から概略的に示す平面図である。図４は、露光装置１を構成する制御部２８と他の各部１２，１３，１６，２４，２７，２９との関係を示すブロック図である。図５は、制御部２８における一対の基板のシール材への露光時の処理を示すフローチャート図である。図６は、液晶表示パネルＰを概略的に示す平面図である。
【００２９】
本実施形態に係る液晶表示パネルＰの製造装置は、紫外線硬化性を有する矩形枠状のシール材を介して互いに貼り合わされた一対の基板に対してシール材に紫外線を照射することにより、そのシール材を硬化させるために使用される露光装置１である。
【００３０】
この露光装置１を用いて製造する液晶表示パネルＰは、図６に示すように、複数のＴＦＴ（Thin Film Transistor）及び画素電極等を有するＴＦＴ基板５、及び複数のＣＦ（Color Filter）及び共通電極等を有するＣＦ基板６の一対の基板が矩形枠状のシール材７を介して互いに貼り合わせられた貼り合わせ基板８を有し、その貼り合わせ基板８におけるシール材７の内側に液晶層９が封入されて構成されている。
【００３１】
露光装置１は、図１に示すように、シール材を介して互いに貼り合わされた一対の基板（図１及び図２に一例として後述する一対の母基板６１，６２を２点鎖線で示す）を載置するステージ１０と、そのステージ１０に載置された一対の基板のシール材に対して紫外線を照射するための照射ユニット１５とを備えている。
【００３２】
ステージ１０は、矩形状等に形成され、載置された一対の基板を真空吸着によって吸着する吸着機構を有している。このステージ１０は、図２に示すように、ステージ支持部１１によって中央部が支持されている。このステージ支持部１１は、内蔵されたサーボモータの作動によりステージ１０を回転移動させるステージ回転機構部１２と、このステージ回転機構部１２上に設けられて内蔵されたサーボモータの作動によりステージ１０を昇降移動させるステージ昇降機構部１３と、このステージ昇降機構部１３とステージ１０の中央部とを連結する柱状の連結部１４とを有している。このように、ステージ１０は、ステージ回転機構部１２及びステージ昇降機構部１３によって回転移動及び昇降移動が可能になっている。
【００３３】
照射ユニット１５は、ステージ１０全体を挟むようにそのステージ１０の一方向（図中Ｘ軸方向）の両側に一対に設けられた平行移動機構部１６と、これら一対の平行移動機構部１６に複数取り付けられた一対の支持部材１８と、各一対の支持部材１８に両端部が支持されて一方向（図中Ｘ軸方向）に架設され、ステージ１０に載置された一対の基板のシール材に対して紫外線を照射する棒状の複数（図示する例では３つ）の照射部２０とを備えている。この照射ユニット１５は、ステージ１０に載置された一対の基板に対してシール材に紫外線の照射処理を実行する処理実行領域Ａと、この処理実行領域Ａにおける各照射部２０の架設方向に対して直交する方向（図中Ｙ軸方向）の外側に配置され、シール材の各辺に紫外線を照射する際に不要な照射部２０を退避させておくための退避領域Ｅとを有している。
【００３４】
一対の平行移動機構部１６は、各照射部２０の架設方向に対して直交する方向（図中Ｙ軸方向）に延びるように処理実行領域Ａ及び退避領域Ｅに亘って設けられている。各一対の支持部材１８は、ステージ１０の一対の基板が載置される載置面に平行な面内において、各照射部２０の架設方向に対して直交する方向（図中Ｙ軸方向）に平行移動が可能に各平行移動機構部１６に取り付けられ、これら各平行移動機構部１６に設けられたサーボモータ１７の作動により互いに同期して平行移動するように構成されている。これにより、各照射部２０は、処理実行領域Ａ及び退避領域Ｅにおいてステージ１０に対して平行移動が可能になっている。
【００３５】
ここで、図１には各平行移動機構部１６にサーボモータ１７を１つずつしか図示していないが、これら各平行移動機構部１６には複数のサーボモータが各照射部２０にそれぞれ対応して設けられており、各照射部２０は各サーボモータの作動により独立して平行移動が可能になっている。また、一対の平行移動機構部１６及びステージ回転機構部１２は、ステージ１０の載置面に平行な面内において、ステージ１０と各照射部２０とを相対的に移動させる本発明の相対移動手段を構成している。
【００３６】
各照射部２０は、処理実行領域Ａに配置された際にステージ１０全体を横断するように、且つステージ１０の載置面に平行な面内において互いに平行に間隔をあけて並ぶように架設されている。これら各照射部２０は、ステージ１０に載置された一対の基板に対し、シール材の互いに同方向に延びる各辺に紫外線を照射する本発明の同方向照射部を構成している。
【００３７】
各照射部２０は、図２に示すように、光源であるメタルハライドランプ等の線状の紫外線ランプ２１と、その紫外線ランプ２１からの紫外線を線状に出射するためのスリット２２ａが形成されたカバー部材２２とを有し、ステージ１０に載置された一対の基板の各辺に対し、それら各辺と同方向に延びる紫外線を照射するように構成されている。
【００３８】
紫外線ランプ２１は、ステージ１０の載置面に対して平行に配置されている。カバー部材２２は、紫外線ランプ２１の外周域を覆うように設けられ、図３に示すように、スリット２２ａが紫外線ランプ２１に沿って延びるように下部に形成されている。このカバー部材２２におけるスリット２２ａの両側には、そのスリット２２ａの位置を検出するための一対のアライメントマーク２６が設けられている。また、カバー部材２２の上部は、図２に示すように、紫外線ランプ２１からの紫外線をスリット２２ａ側に反射する外側に湾曲した反射板２５によって構成されている。
【００３９】
このカバー部材２２にはスリット２２ａを開閉するためのシャッター２３が設けられており、シャッター２３にはそのシャッター２３を開閉作動させるシャッター駆動部２４（図４に示す）が設けられている。各照射部２０は、このシャッター２３を開閉することにより、紫外線の照射及び非照射を切り替えるように構成されている。
【００４０】
さらに、露光装置１は、ステージ１０に載置された一対の基板の位置及び各照射部２０のスリット２２ａの位置をそれぞれ検出するための位置検出部２７（図４に示す）と、この位置検出部２７の検出結果に基づいてステージ回転機構部１２及び平行移動機構部１６の各作動を制御する制御部２８（図４に示す）とを備えている。尚、ステージ昇降機構部１３及び各照射部２０のシャッター駆動部２４の各作動もこの制御部２８によって制御される。
【００４１】
位置検出部２７は、ステージ１０に載置された一対の基板に設けられたアライメントマーク、及び各照射部２０のアライメントマーク２６をそれぞれ検出するカメラを有し、このカメラで検出した各アライメントマークの位置データを制御部２８に入力するように構成されている。
【００４２】
本実施形態の制御部２８は、ステージ１０に一対の基板が載置された状態において、所定の照射部２０によって照射される線状の照射領域とシール材の一方向に延びる各第１の辺とが重なるようにステージ１０に対して各照射部２０を平行移動させてそれら各第１の辺に紫外線を照射した後、各照射部２０に対してステージ１０を回転移動させ、第１の辺に直交する方向に延びるシール材の各第２の辺と所定の照射部の照射領域とが重なるようにステージ１０に対して各照射部２０を平行移動させてそれら各第２の辺に紫外線を照射するように、各照射部２０のシャッター駆動部２４、ステージ回転機構部１２及び各平行移動機構部１６を制御するように構成されている。
【００４３】
この制御部２８における一対の基板のシール材への露光時の処理を、図５のフローチャート図を参照しながら具体的に説明する。ここで、ステージ１０には、シール材の第１の辺と各照射部２０のスリット２２ａとが同方向に延びるように予め一対の基板が載置されている。
【００４４】
ステップＳ１では、作製する液晶表示パネルＰのサイズや後述する母パネルが有するセルの配列等の入力データがデータ入力部２９（図４に示す）から入力されると共に、位置検出部２７から一対の基板及び各照射部２０の各アライメントマークの位置データが入力される。次に、ステップＳ２に進む。
【００４５】
ステップＳ２では、入力データに基づいて一対の基板におけるシール材の各辺に紫外線を照射するために必要な照射部２０をそれぞれ決定すると共に、入力された一対の基板及び各照射部２０の各アライメントマークの位置データに基づいて一対の基板の位置データ及び各照射部２０のスリット２２ａの位置データを求める。続いて、ステップＳ３に進む。
【００４６】
ステップＳ３では、各照射部２０のスリット２２ａ及び一対の基板の各位置データと入力データとに基づき、決定した照射部２０の照射領域がシール材の第１の辺に重なるように、ステージ１０に対して各照射部２０を平行移動させて決定した照射部２０の照射領域と第１の辺とを位置合わせする。このとき、シール材の第１の辺への紫外線の照射に不要な照射部２０がある場合には、その不要な照射部２０を退避領域Ｅに移動して退避させる。次に、ステップＳ４に進む。
【００４７】
ステップＳ４では、照射部２０から出射された紫外線が所望の照射領域外に拡散することを抑制するために、ステージ１０を上昇させてそのステージ１０に載置された一対の基板にその照射部２０を十分に接近させる。続いて、ステップＳ５に進む。
【００４８】
ステップＳ５では、決定した照射部２０のシャッター２３を開けて所定時間に亘って第１の辺に紫外線を照射する。その後、決定した照射部２０のシャッター２３を閉めてステップＳ６に進む。
【００４９】
ステップＳ６では、紫外線が未照射である第１の辺が残っているか否かを入力データ（母基板のセルの配列等）に基づいて判断する。未照射の第１の辺が残っている場合には、ステップＳ７に進む。未照射の第１の辺が残っていない場合には、ステップＳ８に進む。
【００５０】
ステップＳ７では、決定した照射部２０の照射領域が未照射の第１の辺に重なるように、ステージ１０に対して決定した照射部２０を平行移動させてその決定した照射部２０と未照射の第１の辺とを位置合わせする。そして、ステップＳ５に戻る。
【００５１】
ステップＳ８では、ステージ１０を一旦下降させる。その後、ステップＳ９に進む。
【００５２】
ステップＳ９では、各照射部２０に対してステージ１０を９０°回転移動させ、決定した照射部２０の照射領域がシール材の第２の辺に重なるようにステージ１０に対して各照射部２０を平行移動させて決定した照射部２０と第２の辺とを位置合わせする。このとき、シール材の第２の辺への紫外線の照射に不要な照射部２０がある場合には、その不要な照射部２０を退避領域Ｅに移動して退避させる。次に、ステップＳ１０に進む。
【００５３】
ステップＳ１０では、ステージ１０を再び上昇させて一対の基板にその照射部２０を十分に接近させる。続いて、ステップＳ１１に進む。
【００５４】
ステップＳ１１では、決定した照射部２０のシャッター２３を開けて所定時間に亘って第２の辺に紫外線を照射する。その後、決定した照射部２０のシャッター２３を閉めてステップＳ１２に進む。
【００５５】
ステップＳ１２では、紫外線が未照射である第２の辺が残っているか否かを入力データ（母基板のセルの配列等）に基づいて判断する。未照射の第２の辺が残っている場合には、ステップＳ１３に進む。未照射の第２の辺が残っていない場合には、ステージ１０を下降させてシール材の露光処理を終了する。
【００５６】
ステップＳ１３では、決定した照射部２０の照射領域が未照射の第２の辺に重なるように、ステージ１０に対して決定した照射部２０を平行移動させてその決定した照射部２０と第２の辺とを位置合わせする。そして、ステップＳ１１に戻る。
【００５７】
このように、露光装置１は、制御部２８により、ステージ回転機構部１２及び各平行移動機構部１６を作動させてシール材の各辺（第１の辺及び第２の辺）に所定の照射部２０の照射領域を順に位置合わせし、ステージ昇降機構部１３を作動させて一対の基板と所定の照射部２０とを十分に接近させた状態において、その所定の照射部２０のシャッター駆動部２４を作動させて一対の基板におけるシール材の各辺に対してそれら各辺に同方向に延びる紫外線を順に照射してシール材を露光するように構成されている。
【００５８】
−製造方法−
次に、上記露光装置１を用いて液晶表示パネルＰを製造する方法について、図７〜図１１を参照しながら説明する。図７及び図８は、母パネル６０を概略的に示す図である。図９〜図１１は、母パネル６０の作製における各シール材７の露光方法を説明するための平面図である。尚、図９〜図１１では、各照射部２０のスリット２２ａを透過して実線で示している。
【００５９】
本実施形態では、液晶表示パネルＰを構成するセル６０ａを複数有する図７及び図８に示す母パネル６０を作製し、その母パネル６０を各セル６０ａ毎に分断して複数の液晶表示パネルＰを同時に作製する多面取りによる製造方法を例に挙げて説明する。
【００６０】
母パネル６０は、図７及び図８に示すように、シール材７の第１の辺７ａが延びる方向に並ぶ３つのセル６０ａを有している。尚、本実施形態では３つのセル６０ａを有する母パネル６０を作製する場合を例に挙げて説明するが、さらに多く（例えば数十個〜数百個程度）のセルを有する母パネルの作製や、単一の液晶表示パネルの製造にも適用することが可能である。
【００６１】
母パネル６０を作製する方法には、載置工程と、照射工程とが含まれる。
【００６２】
まず、大判のガラス基板に対して複数のＴＦＴ及び画素電極等をパターン形成して、ＴＦＴ基板５の構成を有する領域（以下、ＴＦＴ基板領域と称する）を複数有するＴＦＴ母基板６１（図８に示す）をＴＦＴ基板５の集合体として作製する。一方、他の大判のガラス基板に対して複数のＣＦ及び共通電極等をパターン形成して、ＣＦ基板６の構成を有する領域（以下、ＣＦ基板領域と称する）を複数有するＣＦ母基板６２（図８に示す）をＣＦ基板６の集合体として作製する。そして、それら各母基板６１，６２の表面に印刷法等によって大判の配向膜を形成する。
【００６３】
次に、ＣＦ母基板６１に対し、スクリーン印刷又はディスペンサ等により、エポシキ樹脂及びアクリル樹脂を含んで熱硬化性と共に紫外線硬化性を有する未硬化のシール材７を各ＣＦ基板領域の周縁に沿ってそれぞれ矩形枠状に供給した後、各シール材７の内側に液晶材料を滴下する。続いて、ＴＦＴ母基板６１とＣＦ母基板６２とを、図７及び図８に示すように、各ＴＦＴ基板領域及び各ＣＦ基板領域がシール材７を介して互いに重なり合うように貼り合わせる。
【００６４】
尚、本実施形態では、ＣＦ母基板５２にシール材７を供給するとしているが、ＴＦＴ母基板６１にシール材を供給するようにしてもよい。
【００６５】
次に行う載置工程では、貼り合わされた一対の母基板６１，６２を、シール材の第１の辺と各照射部２０のスリット２２ａとが同方向に延びるように搬送ロボットによってステージ１０に載置し、そのステージ１０に真空吸着させて保持させる。
【００６６】
続いて行う照射工程では、ステージ１０に載置された一対の母基板６１，６２の各シール材７に対して紫外線を照射してそれら各シール材７を仮硬化させる。この照射工程では、各照射部２０により、各シール材７の各辺７ａ，７ｂに対し、それら各辺７ａ，７ｂと同方向に延びる紫外線を照射する。
【００６７】
まず、データ入力部２９から入力データを制御部２８に入力すると共に、位置検出部２７から一対の基板及び各照射部２０の各アライメントマークの位置データが制御部２８に入力される（ステップＳ１）。
【００６８】
次に、制御部２８が一対の母基板６１，６２における各シール材７の各辺７ａ，７ｂに紫外線を照射するために必要な照射部２０をそれぞれ決定すると共に、一対の基板の位置データ及び各照射部２０のスリット２２ａの位置データを取得する（ステップＳ２）。本実施形態では、例えば各シール材７の第１の辺７ａに紫外線を照射するための照射部２０を２つ決定し、且つ各シール材７の第２の辺７ｂに紫外線を照射するための照射部２０を３つ（全て）決定する。
【００６９】
次に、図９に示すように、決定した各照射部２０の照射領域が各シール材７の一対の第１の辺７ａにそれぞれ重なるように、ステージ１０に対して各照射部２０を平行移動させて決定した各照射部２０の照射領域と各第１の辺７ａとをそれぞれ位置合わせする（ステップＳ３）。このとき、各第１の辺７ａに対する紫外線の照射に不要な照射部２０を、退避領域Ｅに移動して退避させる。続いて、ステージ１０を上昇させて一対の母基板６１，６２と決定した照射部２０とを十分に接近させる（ステップＳ４）。そして、各第１の辺７ａに重なった状態の各照射部２０のシャッター２３を開けて各第１の辺７ａに紫外線を照射し、各第１の辺７ａを所定時間に亘って露光した後、決定した各照射部２０のシャッター２３を閉める（ステップＳ５）。
【００７０】
次に、未照射の第１の辺７ａが残っていないと判断して（ステップＳ６）、ステージ１０を一旦下降させる（ステップＳ８）。その後、図１０に示すように、各照射部２０に対してステージ１０を９０°回転移動させ、各シール材７の一方の第２の辺（図中上側の辺）７ｂに各照射部２０の照射領域が重なるようにステージ１０に対して各照射部２０を平行移動させて各照射部２０の照射領域と各一方の第２の辺７ｂとをそれぞれ位置合わせする（ステップＳ９）。続いて、ステージ１０を再び上昇させて一対の母基板６１，６２に各照射部２０を十分に接近させる（ステップＳ１０）。そして、各照射部２０のシャッター２３を開けて各一方の第２の辺７ｂに紫外線を照射し、各一方の第２の辺７ｂを所定時間に亘って露光した後、各照射部２０のシャッター２３を閉める（ステップＳ１１）。
【００７１】
次に、未照射の第２の辺７ｂが残っていると判断し（ステップＳ１２）、図１１に示すように、各シール材７の他方の第２の辺（図中下側の辺）７ｂに各照射部２０の照射領域が重なるようにステージ１０に対して各照射部２０を平行移動させて各照射部２０の照射領域と各他方の第２の辺７ｂとをそれぞれ位置合わせする（ステップＳ１３）。そして、各照射部２０のシャッター２３を開けて各他方の第２の辺７ｂに紫外線を照射し、各他方の第２の辺７ａを所定時間に亘って露光した後、各照射部２０のシャッター２３を閉める（ステップ１１）。
【００７２】
次に、未照射の第２の辺７ｂが残っていないと判断して（ステップ１２）、ステージ１０を下降させて露光処理を終了する。このように、貼り合わされた一対の母基板６１，６２における各シール材７の各辺７ａ，７ｂに順に紫外線を照射することにより、各シール材７が仮硬化される。
【００７３】
その後、一対の母基板６１，６２を加熱する加熱処理を行うことにより、シール材７を本硬化させて母パネル６０が作製される。そして、この母パネル６０をレーザー又はカッターホイール等によって各セル６０ａ毎に分断することにより、複数の液晶表示パネルＰが製造される。
【００７４】
−実施形態１の効果−
したがって、この実施形態１によると、互いに貼り合わされてステージ１０に載置された一対の母基板６１，６２における矩形枠状の各シール材７に対して紫外線を照射する複数の照射部２０が、紫外線ランプ２１と、その紫外線ランプ２１からの紫外線を線状に出射するためのスリット２２ａが形成されたカバー部材２２とを有し、一対の母基板６１，６２におけるシール材７の各辺７ａ，７ｂに対し、それら各辺７ａ，７ｂと同方向に延びる紫外線を照射するように構成されている。そのことにより、貼り合わされた一対の母基板６１，６２における照射が不要な領域への紫外線ランプ２１からの紫外線がカバー部材２２によって遮られてその照射が不要な領域に紫外線が照射されることがなく、カバー部材２２のスリット２２ａから出射された紫外線がシール材７の各辺７ａ，７ｂに線状に照射されるため、露光用マスクを用いることなくシール材７を選択的に露光できる。
【００７５】
ところで、従来から用いられている露光用マスクは、メッシュ状に形成された金属製のメッシュ材や石英製の基板に対してシール材に重なる領域に開口を有する遮光パターンが設けられて構成され、その遮光パターンの開口部分において光源からの光を透過させるようになっている。この露光用マスクを用いてシール材を露光する場合には、遮光パターンの開口部分にもメッシュ材や基板が配置されていることにより、これらメッシュ材や基板に光が一部遮光されるため、この開口部分での光の透過率が低減してシール材への光の照射強度が低下する。
【００７６】
これに対して、本実施形態に係る露光装置の照射部２０はカバー部材２２のスリット２２ａから他の部材に遮光されることなく一対の母基板６１，６２の各シール材７に紫外線ランプ２１からの紫外線を直接に照射できるため、各シール材７の各辺７ａ，７ｂに対する露光時間をそれぞれ短縮でき、本実施形態の製造方法のように各シール材７の第１の辺７ａ及び第２の辺７ｂに対して順に紫外線の照射を行っても、各シール材７全体に対する露光時間が長くなることを抑制できる。
【００７７】
さらに、制御部２８は、所定の各照射部２０の照射領域と各シール材７の各第１の辺７ａとがそれぞれ重なるようにステージ１０に対して各照射部２０を平行移動させて各第１の辺７ａに紫外線を照射した後、各照射部２０に対してステージ１０を回転移動させ、所定の各照射部２０の照射領域と各シール材７の第２の辺７ｂとがそれぞれ重なるようにステージ１０に対して各照射部２０を平行移動させて各第２の辺７ｂに紫外線を照射するように構成されている。そのことにより、貼り合わされた一対の母基板６１，６２におけるシール材７の各辺７ａ，７ｂを選択的に露光できることに加えて、所定の各照射部２０の照射領域とシール材７の各辺７ａ，７ｂとが重なるようにステージ回転機構部１２及び各平行移動機構部１６が制御部２８によって制御されるため、露光パターンの変更を容易に行うことができる。
【００７８】
また、複数の照射部２０によってシール材７の同方向に延びる各辺７ａ，７ｂに紫外線がそれぞれ照射されるため、１つの照射部によって各シール材７の同方向に延びる各辺７ａ，７ｂに対して順に紫外線を照射する場合に比べて、各シール材７の露光に要する時間を短縮できる。
【００７９】
また、カバー部材２２に紫外線ランプ２１からの紫外線をスリット２２ａ側に反射する反射板２５が設けられていることにより、紫外線ランプ２１から反射板２５側に放射された紫外線がカバー部材２２のスリット２２ａ側に反射されるため、各照射部２０は紫外線ランプ２１からの紫外線をスリット２２ａから効率良く出射できる。
【００８０】
《発明の実施形態２》
図１２及び図１３は、本発明の実施形態２を示している。尚、以降の各実施形態では、図１〜図１１と同じ部分については同じ符号を付して、その詳細な説明を省略する。図１２は、本実施形態の露光装置２を概略的に示す斜視図である。図１３は、露光装置２を構成する制御部３７及び他の各部１６，２４，２７，２９，３１，３６の関係を示すブロック図である。
【００８１】
上記実施形態１では、ステージ１０が各照射部２０に対して回転移動するように、且つ各照射部２０がステージ１０に対して一方向に平行移動する構成を有する露光装置１の一例について説明したが、本実施形態の露光装置２は、各照射部２０がステージ１０に対して回転移動及び平行移動する構成を有する。
【００８２】
ステージ１０は、図１２に示すように、ステージ支持部３０によって中央部で支持されている。このステージ支持部３０は、内蔵されたサーボモータの作動により各照射部２０に対してステージ１０を昇降移動させるステージ昇降機構部３１と、このステージ昇降機構部３１とステージ１０とを連結する柱状の連結部３２とを有している。このように、ステージ１０は、ステージ昇降機構部３１によって昇降移動が可能になっている。
【００８３】
このステージ１０上には、その載置面に対向するようにユニット保持板３５が配置されている。このユニット保持板３５のステージ１０側（前面側）には上記実施形態１と同様の照射ユニット１５が保持されており、各照射部２０がステージ１０上でそのステージ１０に対して平行移動が可能に設けられている。
【００８４】
また、このユニット保持板３５の背面側には、内蔵されたサーボモータの作動によってステージ１０に対してユニット保持板３５を回転移動させる保持板回転機構部３６が取り付けられている。この保持板回転機構部３６は、図１３に示す制御部３７によって作動が制御される。このように、各照射部２０は、各平行移動機構部１６及び保持板回転機構部３６によりステージ１０に対して平行移動及び回転移動が可能になっている。これら各照射部２０は、上記実施形態１と同様に構成されている。
【００８５】
ここで、保持板回転機構部３６及び各平行移動機構部１６は、本発明の相対移動手段を構成している。
【００８６】
本実施形態の制御部３７は、ステージ１０に一対の基板が載置された状態において、所定の照射部２０の照射領域とシール材の各第１の辺とが重なるようにステージ１０に対して各照射部２０を平行移動させてそれら各第１の辺に紫外線を照射した後、ステージ１０に対して各照射部２０を回転移動させ、所定の照射部２０の照射領域とシール材の各第２の辺とが重なるようにステージ１０に対して各照射部２０を平行移動させてそれら各第２の辺に紫外線を照射するように、各照射部２０のシャッター駆動部２４、保持板回転機構部３６及び各平行移動機構部１６を制御するように構成されている。
【００８７】
この制御部３７における一対の基板のシール材への露光時の処理において、図５に示すステップＳ１〜Ｓ８及びステップＳ１０〜Ｓ１３については上記実施形態１と同様である。
【００８８】
そして、ステップＳ９では、ステージ１０に対してユニット保持板３５を９０°回転移動させ、決定した照射部２０の照射領域とシール材の第２の辺とが重なるようにステージ１０に対して各照射部２０を平行移動させる。このとき、上記実施形態１と同様に、シール材の第２の辺への紫外線の照射に不要な照射部２０がある場合には、その不要な照射部２０を退避領域Ｅに移動して退避させる。
【００８９】
このように、露光装置２は、制御部３７により、保持板回転機構部３６及び各平行移動機構部１６を作動させてシール材の各辺（第１の辺及び第２の辺）に所定の照射部２０の照射領域を順に位置合わせし、ステージ昇降機構部３１を作動させて一対の基板と所定の照射部２０とを十分に接近させた状態において、その所定の照射部２０のシャッター駆動部２４を作動させて一対の基板におけるシール材の各辺に対してそれら各辺に同方向に延びる紫外線を順に照射してシール材を露光するように構成されている。
【００９０】
−製造方法−
次に、上記露光装置２を用いて液晶表示パネルＰを製造する方法の照射工程について説明する。尚、本実施形態の液晶表示パネルＰの製造方法において照射工程以外については上記実施形態１と同様に行うものとする。また、本実施形態においても上記実施形態１と同様の母基板６０を作製する場合について説明する。
【００９１】
露光装置２を用いて液晶表示パネルＰを製造するには、照射工程において、決定した各照射部２０の照射領域が各シール材７の一対の第１の辺７ａにそれぞれ重なるようにステージ１０に対してそれら各照射部２０を平行移動させて、決定した各照射部２０の照射領域と各第１の辺７ａとをそれぞれ位置合わせする（ステップＳ３）。このとき、第１の辺７ａに対する紫外線の照射に不要な照射部２０は、上記実施形態１と同様に退避領域Ｅに移動して退避させる。続いて、ステージ１０を上昇させ（ステップＳ４）、そして各第１の辺７ａに重なった状態の各照射部２０のシャッター２３を開けて各第１の辺７ａに紫外線を照射し、各第１の辺７ａを所定時間に亘って露光した後、決定した各照射部２０のシャッター２３を閉める（ステップＳ５）。
【００９２】
次に、未照射の第１の辺７ａが残っていないと判断して（ステップＳ６）、ステージ１０を一旦下降させる（ステップＳ８）。その後、ステージ１０に対してユニット保持板３５を９０°回転移動させ、各照射部２０の照射領域が各シール材７の一方の第２の辺７ｂにそれぞれ重なるようにステージ１０に対して各照射部２０を平行移動させて、各照射部２０の照射領域と各一方の第２の辺７ｂとをそれぞれ位置合わせする（ステップＳ９）。続いて、ステージ１０を再び上昇させ（ステップＳ１０）、そして各照射部２０のシャッター２２ａを開けて各一方の第２の辺７ｂに紫外線を照射し、各一方の第２の辺７ｂを所定時間に亘って露光した後、各照射部２０のシャッター２３を閉める（ステップＳ１１）。
【００９３】
次に、未照射の第２の辺７ｂが残っていると判断して（ステップＳ１２）、各照射部２０の照射領域が各シール材７の他方の第２の辺７ｂにそれぞれ重なるようにステージ１０に対して各照射部２０を平行移動させて、各照射部２０の照射領域と各他方の第２の辺７ｂとをそれぞれ位置合わせする（ステップＳ１３）。続いて、各照射部２０のシャッター２３を開けて各他方の第２の辺７ｂに紫外線を照射し、各他方の第２の辺７ｂを所定時間に亘って露光した後、各照射部２０のシャッター２３を閉める（ステップＳ１１）。
【００９４】
その後、未照射の第２の辺７ｂが残っていないと判断して（ステップＳ１２）、ステージ１０を下降させて露光処理を終了する。
【００９５】
−実施形態２の効果−
したがって、この実施形態２によると、各照射部２０が上記実施形態１と同様に構成され、且つ、制御部３７は、所定の各照射部２０の照射領域と各シール材７の各第１の辺７ａとがそれぞれ重なるようにステージ１０に対して各照射部２０を平行移動させて各第１の辺７ａに紫外線を照射した後、ステージ１０に対して各照射部２０を回転移動させ、所定の各照射部２０の照射領域と各シール材７の第２の辺７ｂとが重なるようにステージ１０に対して各照射部２０を平行移動させて各第２の辺７ｂに紫外線を照射するように構成されている。そのことにより、貼り合わされた一対の母基板６１，６２におけるシール材７の各辺７ａ，７ｂを選択的に露光できることに加えて、シール材７の各辺７ａ，７ｂに所定の各照射部２０の照射領域が重なるように保持板回転機構部３６及び各平行移動機構部１６が制御部３７によって制御されるため、露光パターンの変更を容易に行うことができ、上記実施形態１と同様の効果を得ることができる。
【００９６】
《発明の実施形態３》
図１４〜図１６は、本発明の実施形態３を示している。図１４は、本実施形態の露光装置３を概略的に示す斜視図である。図１５は、露光装置３を構成する制御部５０と他の各部２４，２７，２９，３１，４１，４６との関係を示すブロック図である。図１６は、制御部５０における一対の基板のシール材への露光時の処理を示すフローチャート図である。
【００９７】
上記各実施形態では、ステージ１０と各照射部２０とを相対的に回転移動させてシール材の各辺に紫外線を照射する構成を有する露光装置１，２の一例について説明したが、本実施形態の露光装置３は、シール材の第１の辺及び第２の辺にそれぞれ対応する方向に延びる線状に紫外線を照射する各照射部４４，４９を備え、それら各照射部４４，４９をステージ１０に対して平行移動させてシール材の各辺に紫外線を照射する構成を有する。
【００９８】
ステージ１０は、図１４に示すように、上記実施形態２と同様にステージ昇降機構部３１を有するステージ支持部３０によって中央部で支持されて昇降移動が可能になっている。
【００９９】
そして、本実施形態の露光装置３は、ステージ１０に載置された一対の基板におけるシール材の第１の辺に紫外線を照射するための第１の照射ユニット４０と、そのシール材の第２の辺に紫外線を照射するための第２の照射ユニット４５を備えている。これら第１の照射ユニット４０及び第２の照射ユニット４５は、処理実行領域Ａ１，Ａ２及び退避領域Ｅ１，Ｅ２をそれぞれ有し、互いの処理実行領域Ａ１，Ａ２が重なり合うように配置されている。
【０１００】
第１の照射ユニット４０は、ステージ１０全体を挟むようにそのステージ１０の一方向（図中Ｘ軸方向）両側に一対に設けられた第１平行移動機構部４１と、これら一対の第１平行移動機構部４１に複数取り付けられた一対の支持部材４３と、各一対の支持部材４３に両端部が支持されて一方向（図中Ｘ軸方向）に架設され、ステージ１０に載置された一対の基板のシール材の第１の辺に紫外線を照射する棒状の複数（図示する例では３つ）の第１照射部４４とを備えている。この第１の照射ユニット４０は、処理実行領域Ａ１及び退避領域Ｅ１が各第１照射部４４の架設方向に対して直交する方向（図中Ｙ軸方向）に並んで配置されている。
【０１０１】
一対の第１平行移動機構部４１は、各第１照射部４４の架設方向に直交する方向（図中Ｙ軸方向）に延びるように処理実行領域Ａ１及び待避領域Ｅ１に亘って設けられている。そして、各一対の支持部材４３は、ステージ１０の載置面に平行な面内において各第１照射部４４の架設方向に対して直交する方向（図中Ｙ軸方向）に平行移動が可能に各第１平行移動機構部４１に取り付けられ、各第１平行移動機構部４１に設けられたサーボモータ４２の作動により互いに同期して平行移動するように構成されている。これにより、各第１照射部４４は、第１照射ユニット４０の処理実行領域Ａ１及び退避領域Ｅ１においてステージ１０に対して平行移動が可能になっている。これら各第１照射部４４は、上記実施形態１の照射部２０と同様の構成を有している。
【０１０２】
第２の照射ユニット４５は、ステージ１０全体を挟むようにそのステージ１０の各第１照射部４４の架設方向に対して直交する方向の両側で第１の照射ユニット４０上に一対に設けられた第２平行移動機構部４６と、これら一対の第２平行移動機構部４６に複数取り付けられた一対の支持部材４８と、各一対の支持部材４８に両端部が支持されて各第１照射部４４の架設方向に直交する方向（図中Ｙ軸方向）に架設され、ステージ１０に載置された一対の基板のシール材の第２の辺に紫外線を照射する棒状の複数（図示する例では３つ）の第２照射部４９とを備えている。この第２の照射ユニット４５は、処理実行領域Ａ２及び退避領域Ｅ２が各第１照射部４４の架設方向に並んで配置されている。
【０１０３】
一対の第２平行移動機構部４６は、各第１照射部４９の架設方向（図中Ｘ軸方向）に延びるように処理実行領域Ａ２及び待避領域Ｅ２に亘って設けられている。そして、各一対の支持部材４８は、ステージ１０の載置面に平行な面内において各第１照射部４９の架設方向（図中Ｘ軸方向）に平行移動が可能に各第２平行移動機構部４６に取り付けられ、各第２平行移動機構部４６に設けられたサーボモータ４７の作動により互いに同期して平行移動するように構成されている。これにより、各第２照射部４９は、第２の照射ユニット４５の処理実行領域Ａ２及び退避領域Ｅ２においてステージ１０に対して平行移動が可能になっている。これら各第２照射部４９も、上記実施形態１の照射部２０と同様の構成を有している。
【０１０４】
ここで、図１４には各第１平行移動機構部４１及び各第２平行移動機構部４６にサーボモータ４２，４７を１つずつしか図示していないが、これら各平行移動機構部４１，４６には複数のサーボモータが各第１照射部４４及び各第２照射部４９に対応して設けられており、これら各照射部４４，４９は各サーボモータの作動により独立して平行移動が可能になっている。また、各第１平行移動機構部４１及び各第２平行移動機構部４６は、本発明の相対移動手段を構成しており、図１５に示す制御部５０によって作動が制御される。
【０１０５】
本実施形態の制御部５０は、ステージ１０に一対の基板が載置された状態において、所定の第１照射部４４の照射領域とシール材の各第１の辺とが重なるようにステージ１０に対して各第１照射部４４を平行移動させてそれら各第１の辺に紫外線を照射した後、所定の第２照射部４９の照射領域とシール材の各第２の辺とが重なるようにステージ１０に対して各第２照射部４９を平行移動させてそれら各第２の辺に紫外線を照射するように、各照射部４４，４９のシャッター駆動部２４、及び各平行移動機構部４１，４６を制御するように構成されている。
【０１０６】
この制御部５０における一対の基板のシール材への露光時の処理を、図１６に示すフローチャート図を参照しながら具体的に説明する。ここで、ステージ１０には、シール材の第１の辺と各第１照射部４４のスリット２２ａとが同方向に延びるように予め一対の基板が載置されている。
【０１０７】
ステップＳ１では、上記実施形態１と同様に作製する液晶表示パネルＰのサイズや母パネルが有するセルの配列等の入力データが入力されると共に、位置検出部２７から一対の基板及び各照射部４４，４９の各アライメントマークの位置データが入力される。次に、ステップＳ２に進む。
【０１０８】
ステップＳ２では、入力データに基づいて一対の基板におけるシール材の各辺に紫外線を照射するために必要な第１照射部４４及び第２照射部４９をそれぞれ決定すると共に、入力された一対の基板及び各照射部４４，４９の各アライメントマークの位置データに基づいて一対の基板の位置データ及び各照射部４４，４９のスリット２２ａの位置データを取得する。その後、ステップＳ３に進む。
【０１０９】
ステップＳ３では、各第１照射部４４のスリット２２ａ及び一対の基板の各位置データと入力データとに基づき、決定した第１照射部４４の照射領域がシール材の第１の辺に重なるように、ステージ１０に対して各第１照射部４４を平行移動させて決定した第１照射部４４の照射領域と第１の辺とを位置合わせする。このとき、シール材の第１の辺への紫外線の照射に不要な第１照射部４４がある場合には、その不要な第１照射部４４を第１の照射ユニット４０の退避領域Ｅ１に移動して退避させる。次に、ステップＳ４に進む。
【０１１０】
ステップＳ４では、第１照射部４４から出射された紫外線が所望の照射領域外に拡散することを抑制するために、ステージ１０を上昇させてそのステージ１０に載置された一対の基板に決定した第１照射部４４を十分に接近させる。続いて、ステップＳ５に進む。
【０１１１】
ステップＳ５では、決定した第１照射部４４のシャッター２３を開けて所定時間に亘って第１の辺に紫外線を照射する。その後、ステップＳ６に進む。
【０１１２】
ステップＳ６では、上記実施形態１と同様に紫外線が未照射である第１の辺が残っているか否かを入力データ（母基板のセルの配列等）に基づいて判断する。未照射の第１の辺が残っている場合には、ステップＳ７に進む。未照射の第１の辺が残っていない場合には、ステップＳ８に進む。
【０１１３】
ステップＳ７では、決定した第１照射部４４の照射領域が未照射の第１の辺に重なるように、ステージ１０に対してその決定した第１照射部４４を平行移動させて決定した第１照射部４４の照射領域と未照射の第１の辺とを位置合わせする。そして、ステップＳ５に戻る。
【０１１４】
ステップＳ８では、第１照射部４４を全て第１の照射ユニット４０の退避領域Ｅ１に移動して退避させる。その後、ステップＳ９に進む。
【０１１５】
ステップＳ９では、決定した第２照射部４９の照射領域がシール材の第２の辺に重なるようにステージ１０に対して各第２照射部４９を平行移動させて決定した第２照射部４９の照射領域と第２の辺とを位置合わせする。このとき、シール材の第２の辺への紫外線の照射に不要な第２照射部４９がある場合には、その不要な第２照射部４９を第２の照射ユニット４５の退避領域Ｅ２に移動して退避させる。次に、ステップＳ１０に進む。
【０１１６】
ステップＳ１０では、ステージ１０をさらに上昇させて一対の基板にその決定した第２照射部４９を十分に接近させる。続いて、ステップＳ１１に進む。
【０１１７】
ステップＳ１１では、決定した第２照射部４９のシャッター２３を開けて所定時間に亘って第２の辺に紫外線を照射する。その後、ステップＳ１２に進む。
【０１１８】
ステップＳ１２では、上記実施形態１と同様に、紫外線が未照射である第２の辺が残っているか否かを入力データ（母基板のセルの配列等）に基づいて判断する。未照射の第２の辺が残っている場合には、ステップＳ１３に進む。未照射の第２の辺が残っていない場合には、ステージ１０を下降させてシール材の露光処理を終了する。
【０１１９】
ステップＳ１３では、決定した第２照射部４９の照射領域が未照射の第２の辺に重なるように、ステージ１０に対してその決定した第２照射部４９を平行移動させて決定した第２照射部４９の照射領域と未照射の第２の辺とを位置合わせする。そして、ステップＳ１１に戻る。
【０１２０】
このように、露光装置３は、制御部５０により、各平行移動機構部４１，４６を作動させてシール材の各辺（第１の辺及び第２の辺）に所定の照射部４４，４９の照射領域を順に位置合わせし、ステージ昇降機構部３１を作動させて一対の基板と所定の照射部４４，４９とを十分に接近させた状態において、その所定の照射部４４，４９のシャッター駆動部２４を作動させて一対の基板におけるシール材の各辺に対してそれら各辺に同方向に延びる紫外線を順に照射してシール材を露光するように構成されている。
【０１２１】
−製造方法−
次に、上記露光装置３を用いて液晶表示パネルＰを製造する方法の照射工程について説明する。尚、本実施形態の液晶表示パネルＰの製造方法において照射工程以外については上記実施形態１と同様に行うものとする。また、本実施形態においても上記実施形態１と同様の母基板６０を作製する場合について説明する。
【０１２２】
露光装置３を用いて液晶表示パネルＰを製造するには、照射工程において、まず、データ入力部２９から入力データを制御部５０に入力すると共に、位置検出部２７から一対の基板及び各照射部４４，４９の各アライメントマークの位置データが制御部５０に入力される（ステップＳ１）。
【０１２３】
次に、制御部５０が一対の母基板６１，６２における各シール材７の各辺７ａ，７ｂに紫外線を照射するために必要な第１照射部４４及び第２照射部４９をそれぞれ決定すると共に、一対の基板の位置データ及び各照射部４４，４９のスリット２２ａの位置データを取得する（ステップＳ２）。本実施形態では、例えば第１照射部４４を２つ決定し、且つ第２照射部４９を３つ（全て）決定する。
【０１２４】
次に、決定した各第１照射部４４の照射領域が各シール材７の一対の第１の辺７ａにそれぞれ重なるように、ステージ１０に対して各第１照射部４４を平行移動させて決定した各第１照射部４４の照射領域と各第１の辺７ａとをそれぞれ位置合わせする（ステップＳ３）。このとき、各第１の辺７ａに対する紫外線の照射に不要な第１照射部４４を、第１の照射ユニット４０の退避領域Ｅ１に移動して退避させる。次に、ステージ１０を上昇させて一対の母基板６１，６２と決定した第１照射部４４とを十分に接近させる（ステップＳ４）。続いて、各第１の辺７ａに重なった状態の各第１照射部４４のシャッター２３を開けて各第１の辺７ａに紫外線を照射し、各第１の辺７ａを所定時間に亘って露光した後、決定した各第１照射部４４のシャッター２３を閉める（ステップＳ５）。
【０１２５】
次に、未照射の第１の辺７ａが残っていないと判断して（ステップＳ６）、第１照射部４４を全て退避領域Ｅ１に移動して退避させる（ステップＳ８）。その後、各第２照射部４９の照射領域が各シール材７の一方の第２の辺７ｂにそれぞれ重なるようにステージ１０に対して各第２照射部４９を平行移動させて、各第２照射部４９の照射領域と各一方の第２の辺７ｂとをそれぞれ位置合わせする（ステップＳ９）。次に、ステージ１０をさらに上昇させて一対の母基板６１，６２に各第２照射部４９を十分に接近させる（ステップＳ１０）。続いて、各第２照射部４９のシャッター２２ａを開けて各一方の第２の辺７ｂに紫外線を照射し、各一方の第２の辺７ｂを所定時間に亘って露光した後、各第２照射部４９のシャッター２３を閉める（ステップＳ１１）。
【０１２６】
次に、未照射の第２の辺７ｂが残っていると判断して（ステップＳ１２）、各第２照射部４９の照射領域が各シール材７の他方の第２の辺７ｂに重なるようにステージ１０に対して各第２照射部４９を平行移動させて、各第２照射部４９の照射領域と各他方の第２の辺７ｂとをそれぞれ位置合わせする（ステップＳ１３）。続いて、各第２照射部４９のシャッター２３を開けて各他方の第２の辺７ｂに紫外線を照射し、各他方の第２の辺７ｂを所定時間に亘って露光した後、各第２照射部４９のシャッター２３を閉める。
【０１２７】
その後、未照射の第２の辺７ｂが残っていないと判断して（ステップＳ１２）、ステージ１０を下降させて露光処理を終了する。このように、貼り合わされた一対の母基板６１，６２における各シール材７の各辺７ａ，７ｂに順に紫外線を照射することにより、各シール材７が仮硬化される。
【０１２８】
−実施形態３の効果−
したがって、この実施形態３によると、各第１照射部４４及び各第２照射部４９が上記実施形態１と同様にそれぞれ構成され、且つ、制御部５０は、所定の第１照射部４４の照射領域と各シール材の第１の辺とがそれぞれ重なるようにステージ１０に対して各第１照射部４４を平行移動させて各第１の辺７ａに紫外線を照射した後、所定の第２照射部４９の照射領域と各シール材７の第２の辺７ｂとが重なるようにステージ１０に対して各第２照射部４９を平行移動させて各第２の辺に紫外線を照射するように構成されている。そのことにより、貼り合わされた一対の母基板６１，６２におけるシール材７の各辺７ａ，７ｂを選択的に露光できることに加えて、シール材７の各辺７ａ，７ｂに所定の第１照射部４４及び第２照射部４９の各照射領域が重なるように各第１平行移動機構部４１及び各第２平行移動機構部４６が制御部５０によって制御されるため、露光パターンの変更を容易に行うことができ、上記実施形態１と同様の効果を得ることができる。
【０１２９】
《発明の実施形態４》
図１７及び図１８は、本発明の実施形態４を示している。図１７は、本実施形態の露光装置４を概略的に示す斜視図である。図１８は、露光装置４を構成する制御部５５と他の各部２４，２７，２９，３１，４１，４６，５２との関係を示すブロック図である。
【０１３０】
上記実施形態３では、互いの処理実行領域Ａ１，Ａ２が重なり合うように第１の照射ユニット４０及び第２の照射ユニット４５が配置された露光装置３の一例について説明したが、本実施形態の露光装置４は、図１７に示すように、互いの処理実行領域Ａ１，Ａ２が一方向（図中Ｘ軸方向）に並ぶように第１の照射ユニット４０及び第２の照射ユニット４５が配置されている。
【０１３１】
ステージ１０は、図示は省略するが、上記実施形態２と同様にステージ昇降機構部を有するステージ支持部によって中央部で支持されて昇降移動が可能に構成されている。
【０１３２】
そして、本実施形態の露光装置４は、第１の照射ユニット４０及び第２の照射ユニット４５の各処理実行領域Ａ１，Ａ２を通って延びるように設けられたステージ移動機構部５２を有している。ステージ１０は、その載置面に平行な面内において各照射ユニット４０，４５の処理実行領域Ａ１，Ａ２間を平行移動が可能にステージ移動機構部５２に取り付けられ、このステージ移動機構部５２に設けられたサーボモータ５３の作動により平行移動するようになっている。ステージ移動機構部５２は、図１８に示す制御部５５によって作動が制御される。
【０１３３】
ここで、各照射ユニット４０，４５の各平行移動機構部４１，４６及びステージ移動機構部５２は、本発明の相対移動手段を構成している。
【０１３４】
本実施形態の制御部５５は、第１の照射ユニット４０の処理実行領域Ａ１に配置されたステージ１０に一対の基板を載置した状態において、所定の第１照射部４４の照射領域とシール材の各第１の辺とが重なるようにステージ１０に対して各第１照射部４４を平行移動させてそれら各第１の辺に紫外線を照射した後、ステージ１０を第２の照射ユニット４５の処理実行領域Ａ２に平行移動させ、所定の第２照射部４９の照射領域とシール材の各第２の辺とが重なるようにステージ１０に対して各第２照射部４９を平行移動させてそれら各第２の辺に紫外線を照射するように、各照射部４４，４９のシャッター駆動部２４、各平行移動機構部４１，４６及びステージ移動機構部５２を制御するように構成されている。
【０１３５】
この制御部５５における一対の基板のシール材への露光時の処理において、図１６に示すステップＳ１，Ｓ２、ステップＳ４〜Ｓ８及びステップＳ１０〜Ｓ１３については上記実施形態３と同様である。
【０１３６】
そして、ステップＳ３では、第１の照射ユニット４０の処理実行領域Ａ１に配置されたステージ１０に一対の基板を載置した状態において、各第１照射部４４のスリット２２ａ及び一対の基板の各位置データと入力データとに基づき、決定した第１照射部４４の照射領域がシール材の第１の辺に重なるように、ステージ１０に対して各第１照射部４４を平行移動させる。このとき、シール材の第１の辺への紫外線の照射に不要な第１照射部４４がある場合には、上記実施形態３と同様にその不要な第１照射部４４を第１の照射ユニット４０の退避領域Ｅ１に移動して退避させる。
【０１３７】
また、ステップＳ９では、第２の照射ユニット４５の処理実行領域Ａ２にステージ１０を平行移動させ、決定した第２照射部４９の照射領域がシール材の第２の辺に重なるようにステージ１０に対して各第２照射部４９を平行移動させる。このとき、シール材の第２の辺への紫外線の照射に不要な第２照射部４９がある場合には、上記実施形態３と同様にその不要な第２照射部４９を第２の照射ユニット４５の退避領域Ｅ２に移動して退避させる。
【０１３８】
このように、露光装置４は、制御部５５により、各平行移動機構部４１，４６及びステージ移動機構部５２を作動させてシール材の各辺（第１の辺及び第２の辺）に所定の照射部４４，４９の照射領域を順に位置合わせし、ステージ昇降機構部を作動させて一対の基板と所定の照射部４４，４９とを十分に接近させた状態において、その所定の照射部４４，４９のシャッター駆動部２４を作動させて一対の基板におけるシール材の各辺に対してそれら各辺に同方向に延びる紫外線を順に照射してシール材を露光するように構成されている。
【０１３９】
−製造方法−
次に、上記露光装置４を用いて液晶表示パネルＰを製造する方法の載置工程及び照射工程について説明する。尚、本実施形態の液晶表示パネルＰの製造方法において載置工程及び照射工程以外については上記実施形態１と同様に行うものとする。また、本実施形態においても上記実施形態１と同様の母基板６０を作製する場合について説明する。
【０１４０】
露光装置４を用いて液晶表示パネルＰを製造するには、載置工程において、互いに貼り合わせた一対の母基板６１，６２を、シール材７の第１の辺７ａと各第１照射部４４とが同方向に延びるように第１の照射ユニット４０の処理実行領域Ａ１に配置されたステージ１０に載置し、そのステージ１０に真空吸着させて保持させる。
【０１４１】
そして、照射工程において、決定した各第１照射部４４の照射領域が各シール材７の第１の辺７ａに重なるようにステージ１０に対してそれら各第１照射部４４を平行移動させて、決定した各第１照射部４４の照射領域と各第１の辺７ａとをそれぞれ位置合わせする（ステップＳ３）。このとき、第１の辺７ａに対する紫外線の照射に不要な第１照射部４４を、上記実施形態３と同様に第１の照射ユニット４０の退避領域Ｅ１に移動して退避させる。続いて、ステージ１０を上昇させ（ステップＳ４）、そして各シール材７の第１の辺７ａに重なった状態の各第１照射部４４のシャッター２３を開けて各第１の辺７ａに紫外線を照射し、各第１の辺７ａを所定時間に亘って露光した後、決定した各第１照射部２０のシャッター２３を閉める（ステップＳ５）。
【０１４２】
次に、未照射の第１の辺７ａが残っていないと判断して（ステップＳ６）、第１照射部４４を全て第１の照射ユニット４０の退避領域Ｅ１に退避させる（ステップＳ８）。次に、第２の照射ユニット４５の処理実行領域Ａ２にステージ１０を平行移動させ、各第２照射部４９の照射領域が各シール材７の一方の第２の辺７ｂにそれぞれ重なるようにステージ１０に対して各第２照射部４９を平行移動させて各第２照射部４９の照射領域と各一方の第２の辺７ｂとをそれぞれ位置合わせする（ステップＳ９）。続いて、ステージ１０を上昇させ（ステップ１０）、そして各第２照射部４９のシャッター２２ａを開けて各一方の第２の辺７ｂに紫外線を照射し、各一方の第２の辺７ｂを所定時間に亘って露光した後、各第２照射部４９のシャッター２３を閉める（ステップＳ１１）。
【０１４３】
次に、未照射の第２の辺７ｂが残っていると判断し（ステップＳ１２）、各第２照射部４９の照射領域が各シール材７の他方の第２の辺７ｂに重なるようにステージ１０に対して各第２照射部４９を平行移動させて、各第２照射部４９と各他方の第２の辺７ｂとをそれぞれ位置合わせする（ステップＳ１３）。続いて、各第２照射部４９のシャッター２３を開けて各他方の第２の辺７ｂに紫外線を照射し、各他方の第２の辺７ｂを所定時間に亘って露光した後、各第２照射部４９のシャッター２３を閉める（ステップＳ１１）。
【０１４４】
その後、未照射の第２の辺７ｂが残っていないと判断してステージ１０を下降させて露光処理を終了する。
【０１４５】
−実施形態４の効果−
したがって、この実施形態４によると、各第１照射部４４及び各第２照射部４９が上記実施形態１と同様にそれぞれ構成され、且つ、制御部５５は、第１の照射ユニット４０の処理実行領域Ａ１にステージ１０が配置された状態において、所定の第１照射部４４の照射領域と各シール材７の第１の辺７ａとがそれぞれ重なるようにステージ１０に対して各第１照射部４４を平行移動させて各第１の辺７ａに紫外線を照射した後、第２の照射ユニット４５の処理実行領域Ａ２にステージ１０を平行移動させ、所定の第２照射部４９の照射領域と各シール材７の第２の辺７ｂとが重なるようにステージ１０に対して各第２照射部４９を平行移動させて各第２の辺に紫外線を照射するように構成されている。そのことにより、貼り合わされた一対の母基板６１，６２におけるシール材７の各辺７ａ，７ｂを選択的に露光できることに加えて、シール材７の各辺７ａ，７ｂに所定の各照射部４４，４９の照射領域が重なるように各平行移動機構部４１，４６及びステージ移動機構部５２が制御部５５によって制御されるため、露光パターンの変更を容易に行うことができ、上記実施形態１と同様の効果を得ることができる。
【０１４６】
《その他の実施形態》
上記実施形態１では、一方の母基板に供給された各シール材の内側に液晶材料を滴下した後に一対の母基板６１，６２を互いに貼り合わせて母パネル６０を作製し、その母パネル６０を分断することで複数の液晶表示パネルＰを製造するいわゆる滴下注入方式による製造方法について説明したが、一部に注入口を構成する切れ目を有する矩形枠状の複数のシール材を介して一対の母基板を互いに貼り合わせて各シール材の内側に空隙を有する貼り合わせ母基板を作製し、その貼り合わせ母基板を分断して複数の貼り合わせ基板を作製した後、各貼り合わせ基板のシール材の内側に注入口から液晶材料を真空注入して複数の液晶表示パネルを製造するいわゆる真空注入方式による製造方法にも適用することが可能である。
【０１４７】
上記各実施形態では、矩形枠状のシール材７を介して一対の基板５，６が互いに貼り合わされた液晶表示パネルＰの製造する露光装置について説明したが、本発明はこれに限られず、線状に延びる複数の辺から構成された菱形や五角形等の多角形枠状のシール材を介して一対の基板が互いに貼り合わされた液晶表示パネルの製造にも適用することが可能である。
【産業上の利用可能性】
【０１４８】
以上説明したように、本発明は、液晶表示パネルの製造装置及び製造方法について有用であり、特に、露光用マスクを用いることなくシール材を選択的に露光することが要望される液晶表示パネルの製造装置及び製造方法に適している。
【図面の簡単な説明】
【０１４９】
【図１】実施形態１の露光装置を概略的に示す斜視図である。
【図２】図１のII−II線断面を概略的に示す図である。
【図３】照射部を底面側から概略的に示す平面図である。
【図４】実施形態１の露光装置１を構成する制御部と他の各部との関係を示すブロック図である。
【図５】実施形態１及び２の制御部における一対の基板のシール材への露光時の処理を示すフローチャート図である。
【図６】液晶表示パネルを概略的に示す平面図である。
【図７】母パネルを概略的に示す平面図である。
【図８】図７のVIII−VIII線断面を概略的に示す図である。
【図９】各シール材の一対の第１の辺に各照射部の照射領域を重ねた状態を概略的に示す平面図である。
【図１０】各シール材の一方の第２の辺に各照射部の照射領域を重ねた状態を概略的に示す平面図である。
【図１１】各シール材の他方の第２の辺に各照射部の照射領域を重ねた状態を概略的に示す平面図である。
【図１２】実施形態２の露光装置を概略的に示す斜視図である。
【図１３】実施形態２の露光装置を構成する制御部と他の各部との関係を示すブロック図である。
【図１４】実施形態３の露光装置を概略的に示す斜視図である。
【図１５】実施形態３の露光装置を構成する制御部と他の各部との関係を示すブロック図である。
【図１６】実施形態３及び４の制御部における一対の基板のシール材への露光時の処理を示すフローチャート図である。
【図１７】実施形態４の露光装置を概略的に示す斜視図である。
【図１８】実施形態４の露光装置を構成する制御部と他の各部との関係を示すブロック図である。
【符号の説明】
【０１５０】
Ｐ    液晶表示パネル
１，２，３，４    露光装置（液晶表示パネルの製造装置）
５    ＴＦＴ基板
６    ＣＦ基板
７    シール材
７ａ    第１の辺
７ｂ    第２の辺
１０    ステージ
２０    照射部
２１    紫外線ランプ（光源）
２２    カバー部材
２２ａ    スリット
１２    ステージ回転機構部
１６    平行移動機構部
２４    シャッター駆動部
２８，３７，５０，５５    制御部
３６    保持板回転機構部
４１    第１平行移動機構部
４４    第１照射部
４６    第２平行移動機構部
４９    第２照射部
６０    母パネル
６１    ＴＦＴ母基板
６２    ＣＦ母基板
【図１】
2010054608.tif 000003
【図２】
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【図３】
2010054608.tif 000005
【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
2010054608.tif 000009
【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
2010054608.tif 000013
【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
2010054608.tif 000018
【図１７】
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【図１８】
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