(57)【要約】【課題】  ススの成長を阻害せずに給気圧を上げ、気泡発生を抑止して生産性を向上させる。【解決手段】  ガラス母材の製造方法は、反応容器２１と、反応容器２１に設けられクリーンエアを供給する給気口２３及び反応容器内のクリーンエアを排出する排気口２５と、給気口２３及び排気口２５に挟まれる反応容器内の空間２７に挿入されるターゲット２９と、給気口２３とターゲット２９の間に配設され生成するガラス微粒子をターゲット２９に堆積させるバーナ３１とを備え、給気口２３から供給される気流をターゲット２９に直接当てないように迂回させて、ターゲット２９を基にガラス微粒子堆積体Ｇを成長させる。その製造装置１００は、給気口２３から供給される気流をターゲット２９に直接当てないように迂回させて排気口へ導く遮蔽板３７を装備する。【選択図】  図１
2010042940.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
反応容器と、該反応容器に設けられクリーンエアを供給する給気口及び前記反応容器内のクリーンエアを排出する排気口と、前記反応容器内の空間に挿入されるターゲットと、生成するガラス微粒子を該ターゲット上に堆積させるバーナと、を備え、
前記給気口から供給されるクリーンエアの気流を前記ターゲットに直接当てないように迂回させて前記排気口へ導く遮蔽板を装備したことを特徴とするガラス母材の製造装置。
【請求項２】
前記給気口と前記ターゲットを通る直線に交差し、徐々に離間する一対の前記遮蔽板が前記バーナを挟んで配設されたことを特徴とする請求項１記載のガラス母材の製造装置。
【請求項３】
前記一対の遮蔽板のそれぞれに、反応容器上部への気流を抑止する補助遮蔽板が設けられたことを特徴とする請求項２記載のガラス母材の製造装置。
【請求項４】
前記一対の遮蔽板の間から気流が進入しないように、前記一対の遮蔽板の間を前記バーナが挿通する箇所を除いて塞ぐ、若しくは前記給気口の開口する後壁に接続された気流進入阻止板が前記一対の遮蔽板のそれぞれに設けられることを特徴とする請求項２又は請求項３記載のガラス母材の製造装置。
【請求項５】
前記遮蔽板が、着脱自在に前記反応容器に取り付けられたことを特徴とする請求項１〜請求項４のいずれか１項記載のガラス母材の製造装置。
【請求項６】
前記遮蔽板が、モニタ用レーザ光を透過させる光透過手段を備えることを特徴とする請求項１〜請求項５のいずれか１項記載のガラス母材の製造装置。
【請求項７】
反応容器と、該反応容器に設けられクリーンエアを供給する給気口及び前記反応容器内のクリーンエアを排出する排気口と、前記反応容器内の空間に挿入されるターゲットと、生成するガラス微粒子を該ターゲット上に堆積させるバーナと、を備え、
前記反応容器内の給気圧を大気圧に対し１３０Ｐａ以上高くし、前記給気口から供給されるクリーンエアの気流を前記ターゲットに直接当てないように迂回させて、前記ターゲットを基にガラス微粒子堆積体を成長させることを特徴とするガラス母材の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ターゲットの表面にガラス微粒子（スス）を層状に堆積させてガラス微粒子堆積体の製造（スス付け）を行うガラス母材の製造装置及び製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
光ファイバプリフォーム等のガラス製品の製造では、反応容器内のターゲットに対向させてガラス微粒子合成用バーナを配置し、回転するターゲットの表面にガラス微粒子を層状に堆積させてガラス微粒子堆積体を得る。このようなガラス製品を製造する装置には、スス付けを行う際に余剰となったススを排気するための排気口と給気口が反応容器に設置されている。反応容器の給気口から導入したクリーンエアを排気口から排出させることで、反応容器内の気流を安定させつつ、ターゲットに付着しなかったガラス微粒子あるいは未反応のガスを排気口から排出させる。
【０００３】
例えば、特許文献１に開示される図４に示すガラス微粒子堆積装置は、クリーンエアを供給する給気口１１ａ及び内部のクリーンエアを排出する排気口１１ｂを有する反応容器１１と、反応容器１１内にてガラス微粒子を生成するバーナ１２と、バーナ１２により生成されるガラス微粒子を堆積させる種棒１３とを備え、反応容器１１のそれぞれの内壁面に沿うクリーンエアの流れがお互いに干渉しないように、排気口１１ｂへの通路を反応容器１１の内壁面に対して滑らかに形成し、給気口１１ａからクリーンエアを供給すると共に反応容器内での気体の流れが層流となるように排気口１１ｂから強制排気する。このガラス微粒子堆積装置によれば、反応容器内において、気流の乱れ、流れの淀み等を防止して、ガラス微粒子等の内壁面への付着防止が期待できた。
【特許文献１】特開２０００−１０９３２７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、堆積体Ｇの表面に堆積しなかったガラス微粒子（余剰スス）１４は、反応容器１１内の特定個所１５に付着し（特に反応容器内が高温であることに起因する上昇流のため、反応容器上部１５へ付着）、厚く堆積すると、剥がれ落ちることがある。剥がれ落ちた余剰スス１４が堆積中のスス体に付着すると、その部分に余剰スス１４が余分に堆積して密度差が生じるため、気泡が発生する。このため、余剰ススは可能な限り減らすことが望ましい。余剰ススを効率よく排気するためには排気圧を上げることが効果的であるが、排気圧のみを上げると反応容器外から外気を巻き込み、ダストによる気泡発生が問題となる。そのため排気圧を上げるときは同時に給気圧も上げて反応容器の内圧を一定にし、ダストの巻き込みが起こらないようにしている。
しかしながら、給気圧を上げると、気体の流速が速められるため、気流が火炎を不安定にしたり、火炎が不安定になることにより、堆積効率が落ち、ススの成長を阻害してしまうという新たな問題の発生を招請した。すなわち、不安定な気流によりバーナ火炎に揺らぎが生じ、堆積径の変動、母材屈折率分布のバラツキにより特性低下を招く虞があった。
本発明は上記状況に鑑みてなされたもので、ススの成長を阻害せずに給気圧を上げることのできるガラス母材の製造方法及び製造装置を提供し、もって、気泡発生を抑止して生産性の向上を図ることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明に係る上記目的は、下記構成により達成される。
（１）  反応容器と、該反応容器に設けられクリーンエアを供給する給気口及び前記反応容器内のクリーンエアを排出する排気口と、前記反応容器内の空間に挿入されるターゲットと、生成するガラス微粒子を該ターゲット上に堆積させるバーナと、を備え、
前記給気口から供給されるクリーンエアの気流を前記ターゲットに直接当てないように迂回させて前記排気口へ導く遮蔽板を装備したことを特徴とするガラス母材の製造装置。
【０００６】
このガラス母材の製造装置によれば、給気口から吹き出されるクリーンエアが遮蔽板によって遮られ、ターゲットやバーナ火炎に直接当たらなくなる。これにより、給気圧を上げても、バーナ火炎の揺らぎや、ススの成長阻害が発生しなくなる。また、給気圧を高め、クリーンエアの流速を速めることができるので、スス体形成に関与しなかった余剰ススなどの浮遊ダスト類が速やかに排出可能となる。
【０００７】
（２）  前記給気口と前記ターゲットを通る直線に交差し、徐々に離間する一対の前記遮蔽板が前記バーナを挟んで配設されたことを特徴とする（１）記載のガラス母材の製造装置。
【０００８】
このガラス母材の製造装置によれば、給気口とターゲットを通る直線に交差するように遮蔽板が配置されることで、給気口から吹き出されるクリーンエアが遮蔽板によって遮られ、ターゲットやバーナ火炎に直接当たらなくなり、スス体形成に関与しなかった余剰ススなどの浮遊ダスト類は迂回気流によって速やかに排気口へ搬送される。一方、遮蔽板に遮られる領域では供給口からの気流が直接ターゲットやバーナ火炎に当たることがないので、スス体形成に関与するススはかく乱されず、堆積に有効に関与可能となる。
【０００９】
（３）  前記一対の遮蔽板のそれぞれに、反応容器上部への気流を抑止する補助遮蔽板が設けられたことを特徴とする（２）記載のガラス母材の製造装置。
【００１０】
このガラス母材の製造装置によれば、特に反応容器内が高温であることに起因する上昇流により上方へ搬送されるガラス微粒子（余剰スス）が補助遮蔽板によって遮られ、反応容器上部に余剰ススが付着しなくなる。これにより、反応容器上部に付着した余剰ススが厚く堆積して、剥がれ落ちることによる堆積中のスス体への付着が生じ難くなる。
【００１１】
（４）  前記一対の遮蔽板の間から気流が進入しないように、前記一対の遮蔽板の間を前記バーナが挿通する箇所を除いて塞ぐ、若しくは前記給気口の開口する後壁に接続された気流進入阻止板が前記一対の遮蔽板のそれぞれに設けられることを特徴とする（２）又は（３）記載のガラス母材の製造装置。
【００１２】
このガラス母材の製造装置によれば、後壁と遮蔽板との間から、一対の遮蔽板の間に気流や余剰ススが進入しなくなる。つまり、スス体形成に関与する気流の乱れや汚染が防止され、火炎の揺らぎやススの成長阻害が発生しなくなる。
【００１３】
（５）  前記遮蔽板が、着脱自在に前記反応容器に取り付けられたことを特徴とする（１）〜（４）のいずれか１つのガラス母材の製造装置。
【００１４】
このガラス母材の製造装置によれば、遮蔽板に余剰ススが付着した場合に、遮蔽板ごと取り外して余剰ススの除去が可能となり、反応容器を汚染することのない余剰ススの簡単速やかな除去処理が可能となる。
【００１５】
（６）  前記遮蔽板が、モニタ用レーザ光を透過させる光透過手段を備えることを特徴とする（１）〜（５）のいずれか１つのガラス母材の製造装置。
【００１６】
このようなガラス微粒子を堆積させる装置においては、モニタ用レーザ光をスス体先端に照射してスス体先端位置を検出し、スス体の引き上げ速度を制御する場合がある。その際、遮蔽板で遮られレーザ光が透過できないと、このような引き上げ速度の制御をすることができなくなってしまうが、遮蔽板に光透過手段を備えることにより、給気口から吹き出されるクリーンエアを遮蔽板によって遮り、ターゲットやバーナ火炎に直接当たらないようにしつつ、モニタ用レーザ光の照射が可能となる。
【００１７】
（７）  反応容器と、該反応容器に設けられクリーンエアを供給する給気口及び前記反応容器内のクリーンエアを排出する排気口と、前記反応容器内の空間に挿入されるターゲットと、生成するガラス微粒子を該ターゲット上に堆積させるバーナと、を備え、
前記反応容器内の給気圧を大気圧に対し１３０Ｐａ以上高くし、前記給気口から供給されるクリーンエアの気流を前記ターゲットに直接当てないように迂回させて、前記ターゲットを基にガラス微粒子堆積体を成長させることを特徴とするガラス母材の製造方法。
【００１８】
このガラス母材の製造方法によれば、流速の速いクリーンエアが直接火炎に当たることによるバーナ火炎の揺らぎや、ススの成長阻害が抑制され、気泡の発生、堆積径の変動、母材屈折率分布のバラツキが防止される。
【発明の効果】
【００１９】
本発明に係るガラス母材の製造装置によれば、給気口から供給されるクリーンエアの気流をターゲットに直接当てないように迂回させて排気口へ導く遮蔽板を装備するので、給気口から吹き出されるクリーンエアがターゲットや火炎に直接当たり、バーナ火炎が揺らいでススの成長が阻害されるということがない。また、ススの成長を阻害せずに給気圧を上げることができるので、効率よく排気することにより、余剰ススの堆積量を減らすことができ、気泡の発生、堆積径の変動、母材屈折率分布のバラツキを防止できる。
【００２０】
本発明に係るガラス母材の製造方法によれば、給気口から供給されるクリーンエアの気流をターゲットに直接当てないように迂回させて、ガラス微粒子堆積体を成長させるので、流速の速いクリーエアがターゲットや火炎に直接当たり、バーナ火炎が揺らいでススの成長が阻害されるということがない。また、ススの成長を阻害せずに給気圧を上げることができるので、効率よく排気することにより、余剰ススの堆積量を減らすことができ、気泡の発生、堆積径の変動、母材屈折率分布のバラツキを防止できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
以下、本発明に係るガラス母材の製造方法及び製造装置の好適な実施の形態を図面を参照して説明する。
図１は本発明に係る製造装置の概略構成を表す平面図、図２は図１に示した製造装置の側面図である。
本実施の形態によるガラス母材の製造装置１００は、反応容器２１と、この反応容器２１に設けられクリーンエアを供給する給気口２３及び反応容器２１内のクリーンエアを排出する排気口２５と、給気口２３及び排気口２５に挟まれる反応容器２１内の空間２７に挿入されるターゲット２９と、給気口２３とターゲット２９の間に配設され生成するガラス微粒子をターゲット２９に堆積させるバーナ３１と、後に詳述する遮蔽板３７と、を備える。
【００２２】
反応容器２１の上部には不図示のチャックが設けられ、チャックは光ファイバのコア部にあたるコアガラス若しくはコアガラスと一部クラッドを含んだ出発ロッド３３を垂直に保持し、出発ロッド３３の中心軸を回転軸として回転させる。
【００２３】
バーナ３１は、出発ロッド３３の中心軸に向けて配置され、原料ガスである四塩化ケイ素（ＳｉＣｌ4）、燃料ガスである水素ガス（Ｈ2）、助燃料ガスである酸素ガス（Ｏ2）及び不活性ガス（ＡｒまたはＮ2）を用いて加水分解反応若しくは熱酸化反応によりガラス微粒子を生成し、出発ロッド３３上に多孔質スートＧを堆積させる。バーナ３１は例えば４層以上の同心円状の多重管バーナとして構成される。なお、本実施の形態では出発ロッドの周りにガラス微粒子を径方向に堆積させていくジャケット付けの場合を例に説明しているが、本発明は、ガラス微粒子を出発ロッドの軸方向に堆積させていく場合、更にバーナを複数本用いたコア付けの場合にも適用可能である。
【００２４】
給気口２３にはクリーンエアジェネレータ（不図示）が接続され、クリーンエアジェネレータは、反応容器２１内にクリーンエアを供給する。排気口２５には排気ライン（不図示）が接続され、排気ラインは反応容器２１の内壁へのスス付着を防ぐために、給気口２３にて供給されるクリーンエアを効率よく排気できるようになされている。
【００２５】
反応容器２１内の空間２７には遮蔽板３７が装備され、遮蔽板３７は給気口２３から供給される気流をターゲット２９に直接当てないように迂回させて排気口２５へ導く。本実施の形態において、遮蔽板３７は、バーナ３１の中心とターゲット２９の中心軸とを通る軸線３９に対し対称に、バーナ３１の背後に一対の遮蔽板３７ａ，３７ｂが配設される。また、遮蔽板３７は、給気口２３ａ，２３ｂの外側とバーナ火炎の広がる範囲の外側を通る直線４１に交差し排気口２５に向かって徐々に離間しバーナ３１を挟んで配設される。
【００２６】
遮蔽板３７ａ，３７ｂが上記する位置関係にて給気口２３ａ，２３ｂとターゲット２９の間に配置されることで、給気口２３ａ，２３ｂの何れの部分から吹き出されたクリーンエアもバーナ火炎には直接当たらないこととなる。図２に示すように、給気口２３ａ，２３ｂが上下方向に所定長さで開口される場合には、遮蔽板３７ａ，３７ｂもそれと同等若しくはそれ以上の長さに設定される。
【００２７】
給気口２３ａ，２３ｂから供給されるクリーンエアは、最終的には排気口２５にて吸引されて排出されることから、反応容器２１の空間２７内には、遮蔽板３７ａ，３７ｂに沿って一端は広がり、ターゲット２９の外側を左右から回り込むようにして排気口２５の直前で合流する一対の迂回流４３ａ，４３ｂを形成する。つまり、ターゲット２９の外周近傍には、給気口２３ａ，２３ｂからの気流が直接当たらないスス付着促進域４５が形成される。これにより、流速の速い気流にかく乱されない効率の良いスス付けが実現するようになっている。
【００２８】
遮蔽板３７ａ，３７ｂは、挟角θ及び幅Ｌを適宜に設定することで、スス付着促進域４５の形成領域を任意に設定することが可能となる。また、この挟角θ及び幅Ｌを適宜調整することで、余剰ススの排気効率とスス付け効率の相関が調整可能となる。
【００２９】
なお、図例では、遮蔽板３７ａ，３７ｂが平面板であるが、実際には曲面板にて形成することが好ましい。例えば迂回流４３ａ，４３ｂに沿う曲面形状とすることで、給気口２３ａ，２３ｂからの吐出気体が衝突することによる渦発生を最小にし、流れのエネルギ損失を抑止して、スムースな空間内気流を形成し、その結果、安定したスス付着促進域４５の形成を可能とする。
遮蔽板３７ａ，３７ｂとしては、錆びにくく、耐熱性を有する材質のものが選択され、例えば石英やＮｉなどが用いられる。
【００３０】
また、遮蔽板３７ａ，３７ｂは、反応容器２１に対し着脱自在に取り付けられることが好ましい。これにより、遮蔽板３７ａ，３７ｂに余剰ススが付着した場合に、遮蔽板３７ａ，３７ｂごと取り外して余剰ススの除去が可能となり、反応容器２１を汚染することのない簡単速やかな余剰スス除去処理が可能となる。
【００３１】
次に、上記のように構成された製造装置による光ファイバ用ガラス母材の製造方法を説明する。
上記の構成を有する製造装置１００を用いた光ファイバ用ガラス母材の製造方法では、給気口２３ａ，２３ｂから供給される気流をターゲット２９に直接当てないように迂回させ、迂回流４３ａ，４３ｂの内側に、ターゲット２９を包囲するスス付着促進域４５を形成して、ターゲット２９を基にガラス微粒子堆積体Ｇを成長させて行く。
【００３２】
これにより、流速の速いクリーンエアが直接当たることによるバーナ火炎３５の揺らぎや、ススの成長阻害が抑制され、気泡の発生、堆積径の変動、母材屈折率分布のバラツキが防止される。また、給気口２３ａ，２３ｂから吹き出されるクリーンエアが遮蔽板３７ａ，３７ｂによって遮られるので、給気圧を上げても、バーナ火炎３５の揺らぎや、ススの成長阻害が発生しなくなる。そして、排気圧、給気圧を高め、クリーンエアの流速を速めることができるので、スス体形成に関与しなかった余剰ススなどの浮遊ダスト類が速やかに排出可能となる。
【００３３】
さらに、上記の実施の形態による構成では、給気口２３ａ，２３ｂの外側とバーナ火炎の広がる範囲の外側を通る直線４１に交差するように遮蔽板３７ａ，３７ｂが配置されることで、スス体形成に関与しなかったススなどの浮遊ダスト類が迂回流４３ａ，４３ｂによって速やかに排気口２５へ搬送される一方、遮蔽板３７ａ，３７ｂに遮られる領域では、スス体形成に関与するススが迂回流４３ａ，４３ｂから離れてかく乱されず、スス付着促進域４５にて効率的に堆積される。
【００３４】
次に、本発明に係る製造装置の他の実施の形態を説明する。
図３は他の実施の形態による製造装置の側面図である。なお、図１，図２に示した部材と同一の部材には同一の符号を付し、重複する説明は省略するものとする。
この実施の形態による製造装置は、一対の遮蔽板３７ａ，３７ｂのそれぞれに、反応容器上部２１ａへの気流を抑止する補助遮蔽板５１ａ，５１ｂが設けられている。補助遮蔽板５１ａ，５１ｂは、遮蔽板３７ａ，３７ｂのそれぞれの上縁を水平方向外側へ折り曲げた板片とすることができる。補助遮蔽板５１ａ，５１ｂは、反応容器上部２１ａへの気流ができないようにして、側面を迂回するような気流５５ａ，５５ｂを作り、反応容器上部２１ａへのスス付着が増加しないようにし、給排気量を増大させることが可能となる。
【００３５】
特に反応容器２１内が高温であることに起因する上昇流により上方へ搬送されようとするガラス微粒子（余剰スス）が補助遮蔽板５１ａ，５１ｂによって遮られ、反応容器上部２１ａに余剰ススが付着しなくなる。これにより、反応容器上部２１ａに付着した余剰ススが厚く堆積し、剥がれ落ちることによる堆積中のスス体への付着が発生しなくなる。
【００３６】
また、図例のように、一対の遮蔽板３７ａ，３７ｂのそれぞれには、給気口２３ａ，２３ｂの開口する後壁５７に接続された気流進入阻止板５９の設けられることが好ましい。これにより、後壁５７と遮蔽板３７ａ，３７ｂとの間から、一対の遮蔽板３７ａ，３７ｂの間に気流や余剰ススが進入しなくなる。つまり、スス体形成に関与する気流の乱れや汚染が防止され、火炎の揺らぎやススの成長阻害が発生しなくなる。
【００３７】
さらに、遮蔽板３７ａ，３７ｂは、モニタ用レーザ光６１を透過させる光透過手段６３を備えることが好ましい。光透過手段６３としては、光が透過できるように遮蔽板３７ａ，３７ｂに孔を開けたり、石英ガラスなどの光透過性を有する材質を使用する、などとすることができる。
【００３８】
遮蔽板３７ａ，３７ｂに光透過手段６３を設けることで、給気口２３ａ，２３ｂから吹き出されるクリーンエアを遮蔽板３７ａ，３７ｂによって遮り、ターゲット２９やバーナ火炎３５に直接当たらなくしつつ、遮蔽板３７ａ，３７ｂによって遮られることとなるターゲット給気口側に位置するバーナ吹き付け部分６５へのモニタ用レーザ光６１の照射が可能となる。
【００３９】
以上のように、上記した各実施の形態による光ファイバ用ガラス母材の製造装置１００によれば、給気口２３ａ，２３ｂから供給されるクリーンエアの気流をターゲット２９に直接当てないように迂回させて排気口２５へ導く遮蔽板３７ａ，３７ｂを装備するので、給気口２３ａ，２３ｂから吹き出されるクリーンエアが直接当たり、バーナ火炎３５が揺らいでススの成長が阻害されるということがない。この結果、ススの成長を阻害せずに給気圧を上げることができるので、効率よく排気することにより、余剰ススの堆積量を減らすことができ、気泡の発生、堆積径の変動、母材屈折率分布のバラツキを防止できる。なお、本実施の形態では、給気口２３ａ，２３ｂが２つの場合を例示したが、１つの場合であっても良い。
【００４０】
また、光ファイバ用ガラス母材の製造方法によれば、給気口２３ａ，２３ｂから供給されるクリーンエアの気流をターゲット２９に直接当てないように迂回させて、ガラス微粒子堆積体Ｇを成長させるので、流速の速いクリーンエアが直接当たり、バーナ火炎３５が揺らいでススの成長が阻害されるということがない。この結果、ススの成長を阻害せずに給気圧を上げることができるので、効率よく排気することにより、余剰ススの堆積量を減らすことができ、気泡の発生、堆積径の変動、母材屈折率分布のバラツキを防止できる。
【実施例】
【００４１】
スス付け中の給気口からの気流がバーナ火炎に当たると、バーナ火炎が乱れ、堆積効率が低下すると考えられる。そこで気流がバーナやススに直接当たらないよう、気流を制御できるように反応容器（マッフル）内に、図３に示す構成の遮蔽板を設置して光ファイバ用ガラス母材を製造した。
ガラス原料ガスとしてＳｉＣｌ４ガス、水素ガス、酸素ガス、シールガスとしてアルゴンガスをバーナに供給し、ターゲットに向けて酸水素火炎を噴出させ、ガラス微粒子を生成させた。円棒状石英ガラスからなるターゲットを用い、その表面に経時的にガラス微粒子を堆積させ、石英多孔質母材を製造した。
この母材製造中での給気圧と排気圧、ススの成長速度の関係を調査した。すなわち、反応容器における排気口及び給気口の圧力、ガラス微粒子堆積体の成長速度を測定し、従来の構成（遮蔽板を備えない構成）、及び従来の構成で圧力をアップしたときの成長速度の比較結果を表１に示した。また、反応容器内の余剰ススの厚みと、気泡発生率を、発明の構成と従来の構成で測定し、その比較結果を表２に示した。
【００４２】
【表１】
2010042940.tif 000003
【００４３】
【表２】
2010042940.tif 000004
【００４４】
表１に示すように、遮蔽板を設置することで、給気圧を大気圧に対し従来の６０Ｐａ高い状態から１３０Ｐａ高い状態に上げながら、ススの成長を阻害することなく、従来と同一の成長速度の割合（従来を１００％とした時の成長速度の割合）１００％を確保できることが分かった。なお、従来構成のまま給気圧を大気圧に対し１３０Ｐａ高い状態に上げると成長速度が６０％に低下した。
また、表２に示すように、遮蔽板を設置することにより、給気圧を上げることができ、余剰ススを排気できたので、反応容器内の余剰スス厚み（１回のスス付けで反応容器上部に堆積される堆積厚）が従来構成の場合の５ｍｍから１ｍｍに減少し、気泡発生率（気泡が発生したススの発生割合：１箇所でも気泡があれば気泡発生とする。気泡の大きさは目視で確認できる程度とする。）も従来構成の場合の５０％から２０％に減少することが知見でき、給気圧を高めながら高品質な光ファイバ用ガラス母材の製造できることが確認された。
【図面の簡単な説明】
【００４５】
【図１】本発明に係る製造装置の概略構成を表す平面図である。
【図２】図１に示した製造装置の側面図である。
【図３】他の実施の形態による製造装置の側面図である。
【図４】従来の製造装置の平面図である。
【図５】従来の製造装置の側面図である。
【符号の説明】
【００４６】
２１  反応容器
２１ａ  反応容器上部
２３  給気口
２５  排気口
２７  反応容器内の空間
２９  ターゲット
３１  バーナ
３７  遮蔽板
３７ａ，３７ｂ  一対の遮蔽板
３９  バーナの中心とターゲットの中心軸とを通る軸線
４１  給気口の外側とバーナ火炎の外側を通る直線
５１  補助遮蔽板
５７  後壁
５９  気流進入阻止板
６１  モニタ用レーザ光
６３  光透過手段
１００  ガラス母材の製造装置
Ｇ  ガラス微粒子堆積体
【図１】
2010042940.tif 000005
【図２】
2010042940.tif 000006
【図３】
2010042940.tif 000007
【図４】
2010042940.tif 000008
【図５】
2010042940.tif 000009