(57)【要約】【課題】光導波路の表面（導波光の進行方向に平行な方向の表面）に露出した２種のクラッド部の境界に起こりやすいクラックの発生を防ぎ、フレキシブル性能を確保しつつ、高精度の実装と端部の４５°面加工等が容易であり、且つ、屈曲耐久性が高い高分子光導波路を提供する。【解決手段】複数のコア部１４，１５と、前記複数のコア部のうち少なくとも光が伝搬するコア部１４を前記光が伝播する方向に沿って包囲するクラッド部と、を有し、少なくとも一方の端部における前記複数のコア部の間に位置するクラッド部として、前記コア部よりも曲げ弾性率が高い第１のクラッド部１６を有し、前記複数のコア部にまたがって位置するクラッド部として、前記第１のクラッド部よりも曲げ弾性率が低い第２のクラッド部１２，１７，１８が設けられていることを特徴とする高分子光導波路１０。【選択図】図１
2010078670.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光の伝播方向に延伸する複数のコア部と、前記複数のコア部のうち少なくとも光が伝搬するコア部を前記光が伝播する方向に沿って包囲する前記コア部よりも屈折率の低いクラッド部と、を有し、
少なくとも一方の端部における前記複数のコア部の間に位置するクラッド部として、前記コア部よりも曲げ弾性率が高い第１のクラッド部を有し、前記複数のコア部にまたがって位置するクラッド部として、前記第１のクラッド部よりも曲げ弾性率が低い第２のクラッド部が設けられていることを特徴とする高分子光導波路。
【請求項２】
コア層と前記コア層よりも屈折率が低いクラッド層が積層された高分子フィルムを、前記コア層側から厚さ方向にダイシングソーで切削して溝部を形成することにより、複数のコア部を形成する工程と、
少なくとも一方の端部における前記複数のコア部の間に位置するクラッド部として、前記コア部よりも曲げ弾性率が高い第１のクラッド部を形成する工程と、
前記複数のコア部にまたがって位置するクラッド部として、前記第１のクラッド部よりも曲げ弾性率が低い第２のクラッド部を形成する工程と、を有することを特徴とする高分子光導波路の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、高分子光導波路及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
情報機器内及び機器間の信号伝送を光によって行う光インターコネクションにおいては屈曲性に富む高分子光導波路が使用される。例えば、ノート型パソコンや折り畳み型携帯電話のヒンジに代表される稼働部に、光による信号伝送を適用する目的で、電気配線に用いられるフレキシブルプリント基板のような、ねじれや折り曲げに対する追従性を有するフレキシブルタイプの高分子光導波路が提案されている（特許文献１参照）。
このフレキシブルタイプの高分子光導波路（フレキシブル光導波路）は、光が伝播されるコアと、コアの周囲に設けられるクラッドが、共にゲル状材などの曲げ弾性率が低い材料で作製されており、全体的に柔軟性を有している。
【０００３】
しかし、高分子光導波路全体に高い柔軟性を持たせた場合、実装工程のピックアップやボンディング等の外力により、容易に変形を起こしてしまう。このため、発光素子や受光素子と光結合させる際に光導波路の形状が保持されず、十分な精度で実装することが困難となる。また、柔軟性を有することで、ダイシングソーによる４５°マイクロミラー面を作製する工程においても、高い精度で平坦な面を形成することが困難となる。
【０００４】
光導波路の柔軟性と実装精度の両立を実現する為、クラッド部を軟質のクラッド材料と硬質のクラッド材料によって構成し、軟質クラッド部の光の伝播方向側の少なくとも一端部に、軟質クラッド部よりも高い曲げ弾性率を有する硬質クラッド部を設けた高分子光導波路が開示されている（特許文献２参照）。この光導波路は、曲げ弾性率の異なる２種の材料によってクラッド部を構成することにより、曲げや捻りに追従する柔軟性と高い実装精度の両立が可能となる。
【特許文献１】特開２００３−２０７６５９号公報
【特許文献２】特開２００７−３３８３０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本案件は、光導波路の表面（導波光の進行方向に平行な方向の表面）に露出した２種のクラッド部の境界に起こりやすいクラックの発生を防ぎ、フレキシブル性能を確保しつつ、高精度の実装と端部の４５°面加工等が容易であり、且つ、屈曲耐久性が高い高分子光導波路を提供することを主な目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
請求項１の発明は、光の伝播方向に延伸する複数のコア部と、前記複数のコア部のうち少なくとも光が伝搬するコア部を前記光が伝播する方向に沿って包囲する前記コア部よりも屈折率の低いクラッド部と、を有し、少なくとも一方の端部における前記複数のコア部の間に位置するクラッド部として、前記コア部よりも曲げ弾性率が高い第１のクラッド部を有し、前記複数のコア部にまたがって位置するクラッド部として、前記第１のクラッド部よりも曲げ弾性率が低い第２のクラッド部が設けられていることを特徴とする高分子光導波路である。
請求項２の発明は、コア層と前記コア層よりも屈折率が低いクラッド層が積層された高分子フィルムを、前記コア層側から厚さ方向にダイシングソーで切削して溝部を形成することにより、複数のコア部を形成する工程と、少なくとも一方の端部における前記複数のコア部の間に位置するクラッド部として、前記コア部よりも曲げ弾性率が高い第１のクラッド部を形成する工程と、前記複数のコア部にまたがって位置するクラッド部として、前記第１のクラッド部よりも曲げ弾性率が低い第２のクラッド部を形成する工程と、を有することを特徴とする高分子光導波路の製造方法である。
【発明の効果】
【０００７】
請求項１に係る発明によれば、本構成を有しない場合に比べ、光導波路の表面に露出した２種のクラッド部の境界に起こりやすいクラックの発生を防ぎ、フレキシブル性能を確保しつつ、高精度の実装と端部の４５°面加工等が容易であり、且つ、屈曲耐久性を持った高分子光導波路が得られる。
請求項２に係る発明によれば、本構成を有しない場合に比べ、光導波路の表面（導波光の進行方向に平行な方向の表面）に露出した２種のクラッド部の境界に起こりやすいクラックの発生を防ぎ、フレキシブル性能を確保しつつ、高精度の実装と端部の４５°面加工等が容易であり、且つ、屈曲耐久性を持った高分子光導波路を、簡便な工程と高い材料効率で製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
以下、本発明の実施形態について添付図面を参照しつつ説明する。なお、実質的に同一の機能及び作用を有する部材には、適宜全図面を通じて同じ符合を付与し又は符号を省略し、重複する説明は適宜省略する。
【０００９】
＜光導波路＞
図１は、第１実施形態の高分子光導波路の構造を示す概略図である。図２（Ａ）は、図１におけるＡ−Ａ線の断面を示し、図２（Ｂ）は、図１におけるＢ−Ｂ線の断面の一部を示している。この光導波路１０は、光が伝播する複数のコア部１４と、光が伝播する方向に沿ってコア部１４をそれぞれ包囲し、コア部１４より屈折率の小さいクラッド部１２，１６，１７，１８と、を有する埋め込み型の高分子光導波路である。
【００１０】
クラッド部は、曲げ弾性率によって区別される硬質のクラッド部（第１のクラッド部、以下「硬質クラッド（部）」と呼ぶ）１６と軟質のクラッド部（第２のクラッド部、以下「軟質クラッド（部）」と呼ぶ）１２，１７，１８から構成されている。光導波路１０の長手方向（光の伝播方向）の各端部におけるコア部１４，１５の間に位置し、コア部同士に挟まれた部分にはコア部１４よりも曲げ弾性率が高い硬質クラッド部１６が設けられ、複数のコア部１４，１５にまたがって位置するクラッド部、すなわち、複数のコア部１４，１５に接する面（図１における、コア部１４，１５及び硬質クラッド部１６の上下の面）や、導波路１０の端部以外の位置に該当するコア部１４，１５にはさまれたクラッド部には、硬質クラッド部１６よりも曲げ弾性率が低い軟質クラッド部１２，１７，１８が設けられている。なお、本願明細書における「複数のコア部１４，１５にまたがって位置するクラッド部」とは、製法によらず、端部に設けられた硬質クラッド部１６以外のクラッド部１２，１７，１８を意味する。
また、光導波路１０の両側面には、光が伝搬するコア１４と同種の樹脂で形成され、光導波路１０の使用時には光を伝搬させるコア（導波路コア）１４としては使用しないダミーコア１５が露出している。ダミーコア１５は、後述するようにコア層とクラッド層の積層体をダイシングソーで削ってコア形状を形成する際に残存するものであり、導波路側面に露出していても構わない。
【００１１】
なお、本願明細書における「複数のコア」とは、導波路コア１４のほかに上記のようなダミーコア１５も含む意である。また、「上下の面」とはコア１４，１５が並列している方向と光の伝搬方向の両方に対して平行となる面であり、「側面」とは複数のコア１４，１５が並列している方向に対して垂直となる面であり、「端面」とは光が出入りする面をそれぞれ指している。
そして、硬質クラッド部１６が設けられる光導波路１０の「端部」とは、端面から中心部に向けて一定の長さの部分であり、硬質クラッド部１６が設けられる長さは目的に応じて選択すればよい。光導波路１６の長さや幅にもよるが、通常は、端面から１ｍｍ以上２０ｍｍ以下の長さの部分のコア部１４，１５の間に硬質クラッド１６を設ければ、高精度の実装と端部の４５°面加工等が確実に容易な高分子光導波路となる。ただし、本実施形態に係る光導波路１０の端部は、本実施形態の目的を達成できる硬さを有していれば良く、コアとコアの間のすべてのクラッドが硬質のクラッドである必要はない。すなわち、端部における一部のコア部の間に硬質クラッドが設けられていれば、フレキシブル性能を確保しつつ、高精度の実装と端部の４５°面加工等が容易となる。
【００１２】
このように光導波路１０の少なくとも一方の端部において硬質クラッド１６がコア１４の両側面に配置されていることで、硬質クラッド１６が設けられている部分では、実装作業や端面形状加工における外力によりコア部１４が変形することが抑制されるとともに、硬質クラッド部１６がコア部１４の側面に接し、上下の面には設けられていないため、柔軟性低下の原因となる光導波路１０の総厚の増加が抑制される。一方、コア部１４と硬質クラッド部１６の上下の面は軟質クラッド部１２，１８でそれぞれ一体的に覆われ、光導波路１０の両主面には異種材料の界面（硬質クラッド１６と軟質クラッド１７との境界）が存在しない為、光導波路１０の破断の原因となるクラックの発生が抑制される。
【００１３】
コア部１４および軟質クラッド部１２，１７，１８は、光導波路１０の用途で要求される柔軟性を実現する曲げ弾性率を有する材料を選定して形成する必要がある。後述する光導波路１０の外形寸法にも依るが、コア部１４および軟質クラッド部１２，１７，１８をそれぞれ構成する材料の曲げ弾性率は、５０ＭＰａ以上１５００ＭＰａ以下、より好ましくは２００ＭＰａ以上１０００ＭＰａ以下である。尚、曲げ弾性率は、ＡＳＴＭ  Ｄ７９０に従って測定される値である。
コア部１４および軟質クラッド部１２，１７，１８をそれぞれ上記範囲の曲げ弾性率を有することで、光導波路１０は、硬質クラッド部１６が設けられている部分以外では柔軟性を発揮するとともに、過剰な変形やたわみによる他部品との接触による破損不良が抑制される。
一方、硬質クラッド部１６は、コア変形を抑制する補強材としての機能を付与する為、曲げ弾性率は好ましくは１．５ＧＰａ以上、より好ましくは２ＧＰａ以上である。
【００１４】
コア用およびクラッド用の各材料は、光導波路１０の使用波長に対して透明であり、コア１４とクラッド１２，１６，１７，１８との間に所望の屈折率差を設定できるものであれば、特に制限されるものではない。例えば脂環式オレフィン樹脂、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリイミド系樹脂等を使用する。
なお、光導波路１０としての光学特性を発揮させるため、各クラッド１２，１６，１７，１８は、コア１４よりも屈折率が低い材料で構成する必要があり、特に光導波路コア１４との屈折率差を確保するため、比屈折率差は０．５％以上、望ましくは１％以上である。また、各クラッド１２，１６，１７，１８の屈折率差は小さい方が望ましく、その差は０．０５以内、望ましくは０．００１以内、更に望ましくは差がないことが光の閉じ込めの点からみて望ましい。
【００１５】
本実施形態に係る光導波路１０の外形寸法は特に限定されず、材質、用途等に応じて適宜設定すればよいが、例えば、フレキシブルな光導波路１０とするには、光導波路１０の厚みは５０μｍ以上５００μｍ以下であることが望ましく、より望ましくは７０μｍ以上３００μｍ以下である。一方、光導波路１０の幅は、０．５ｍｍ以上１０ｍｍ以下であることが望ましく、より望ましくは、１ｍｍ以上５ｍｍ以下である。光導波路１０の厚さ及び幅を上記範囲とすることで、光導波路１０としての柔軟性及び強度を確保し易い。
【００１６】
一方、硬質クラッド１６の断面寸法は、高さ方向はコア側面全体と接するに十分な高さとし、幅は２０μｍ以上、より好ましくは４０μｍ以上である。上記値とすることで、コアの両側面に設けられている硬質クラッド１６の断面積の総和がマルチモード用光導波路１０のコア径と同程度以上の断面積を確保し易くなり、コア１４の変形の抑制に有効な強度となる。
【００１７】
このような構成を有する光導波路１０は、コア部１４及び軟質クラッド部１７が高い柔軟性を有しても、端部においてコア部１４の両側面が、硬質クラッド部１６を構成する弾性率が高い樹脂と接しているため、硬質クラッド部１６が設けられている部分では外力による変形が抑制される。また、硬質クラッド部１６はコア１４と同様に光導波路１０の内部に埋設され、光導波路１０の両主面は軟質クラッド部１７によって覆われているため継ぎ目の無い状態となる。そのため、光導波路１０の破断故障の要因となる、材料間の接合力不足に起因するクラックの発生が効果的に防止される。
【００１８】
光導波路１０の総厚の増加は曲げ応力の増加となり、屈曲耐久性の低下要因となるが、硬質クラッド部１６は、コア部１４の側面で接し、上下方向には存在しない為、光導波路１０内の硬質クラッド部１６による補強構造の存在が光導波路１０の総厚を増加させることは無い。すなわち、光導波路１０の内部に埋設され、コア部１４の側面に接している硬質クラッド部１６は、光導波路１０の屈曲耐久性を低下させることは無く、外力によるコア１４の変形を抑制する機能を果たす。
【００１９】
なお、コアの変形要因となる外力とは、主に、光導波路を、受発光素子、マイクロレンズ・アレイ、パッケージ等と接合する実装工程で加わる外力や、ダイシングソーによる切削等の光導波路の形状そのものを加工する工程で加えられる外力のことである。受発光素子等の光部品と光導波路の接続は許容誤差が±５μｍ程度の極めて高精度の位置合わせが必要であり、実装作業におけるピックアップや設置および圧力印加等の様々な工程で光導波路に加えられる外力による接合部のコアの変形は、光導波路モジュールの製造不良の原因となる。
【００２０】
例えば、ダイシングソーによる光導波路加工の代表的な例として、信号光の進行方向を９０°変更する為の４５°傾斜面がある。光の進行方向を変更する際の過剰損失の発生を抑制する為には、４５°傾斜面の平坦性と平滑性が要求される。コアが外力によって容易に変形する柔軟性を持つ場合には、高速回転するダイシングブレードがコアを変形させながら通過する為、平坦性および平滑性が得られ難く、高性能な光導波路の製造が困難となる。
しかし、本実施形態に係る光導波路１０は、端部付近をダイシングソーによって切断して４５°傾斜面に加工しても、その端部付近におけるコア部１４の両側面には硬質クラッド部１６が設けられているため、平坦性および平滑性が得られ易く、高精度な４５°傾斜面を有する光導波路が得られる。
【００２１】
＜光導波路の製造方法＞
本実施形態の光導波路を製造する方法は特に限定されるものではないが、直線状のコアを有する光導波路であれば、例えば図３及び図４に示すような製造工程によって、容易にかつ高精度に製造される。
まず、図３（Ａ）に示すように、クラッド層１２Ａとコア層１４Ａが積層された２層構造の高分子フィルム１０Ａを用意する。例えば、ガラス、シリコンなどの平坦な支持基板（図示ぜず）上に、下部クラッド用高分子層１２Ａとコア用高分子層１４Ａを順次積層する。各層１２Ａ，１４Ａを積層する方法は、各層１２Ａ，１４Ａの間で剥離が生じないように一体的に積層されれば特に限定されず、例えば、ラミネート法、スピンコート等の公知の方法が採用される。
【００２２】
高分子フィルム１０Ａに対し、コア層１４Ａ側から切削して溝部を形成することによりコア部１４を形成する。例えば、図３（Ｂ）に示すように、高分子フィルム１０Ａの長手方向に沿って、ダイシングソーによってコア層１４Ａ側から厚さ方向に所定の深さで切削して少なくともコア層１４Ａを除去する。コア部１４を確実に形成するため、コア層１４Ａと下部クラッド層１２Ａの一部を切削して除去してもよい。
このようなダイシングソーによる切削を、高分子フィルム１０Ａの幅方向に所定の間隔で複数回行うことで、高分子フィルム１０Ａの長手方向に沿って、互いに平行な複数の切削溝２０が所定の間隔で形成される。なお、切削溝２０の幅、数、及び間隔は、図３（Ｂ）に示したものに限定されず、用途等に応じて適宜設定すればよい。例えば、コア層１４Ａの残存する部分がコア部１４又はダミーコア部１５となるため、切削する間隔及び数は、形成すべきコア形状、コア１４の幅、数、間隔等に応じて設定すればよい。例えば、図５に示すように、コア部１４の間隔がより大きくなるように切削溝を形成してもよい。
【００２３】
次に、光導波路の補強を要する部分に相当する切削溝に硬質のクラッド部１６を形成する。例えば、図３（Ｃ）に示すように、板状のシリコーンゴム２２を、硬質のクラッドで補強する部分を覆うように高分子フィルム１０Ａの上面に密着させる。シリコーンゴム板２２は、紫外光に対する透過性があり、高分子フィルム１０Ａの上面に密着し、コア部１４にダメージを与えないものであれば特に限定はなく、例えば、透明な室温硬化（ＲＴＶ）シリコーンゴムを板状に成形したものが使用される。
【００２４】
次いで、図４（Ａ）に示すように、シリコーンゴム板２２を密着させた側の端部に紫外線硬化型の硬質クラッド部用樹脂液１６Ａを滴下する。端部に滴下された硬質クラッド部用樹脂液１６Ａは、切削溝２０とシリコーンゴム板２２によってつくられた空間に毛細管現象によって注入される。切削溝２０の幅、硬質クラッド用樹脂液１６Ａの粘度、充填時間等を制御することで硬質クラッド部１６の長さを調整することが可能である。
【００２５】
硬質クラッド部用樹脂液１６Ａが切削溝２０の所望の長さに充填された後、紫外線照射によって樹脂液１６Ａを硬化させる。硬化後、シリコーンゴム板２２を高分子フィルム１０Ａから剥離することで、図４（Ｂ）に示すように、各切削溝２０の端部における所定の長さに硬質クラッド部１６が形成された高分子フィルム１０Ａが得られる。図４（Ｂ）に示す高分子フィルム１０Ａでは、両端部においてシリコーンゴム板２２を用いて切削溝２０に硬質クラッド部１６が形成されている。なお、一方の端部のみ４５°傾斜面に加工する場合など、用途によっては一方の端部にのみ硬質クラッド部１６を形成してもよい。
【００２６】
最後に、高分子フィルム１０Ａの切削溝２０の残りの部分と、コア部１４及び硬質クラッド部１６の上面に軟質クラッド部１７，１８（埋め込みクラッド部１７と上部クラッド部１８）を形成する。例えば、高分子フィルム１０Ａの上面に液状の軟質クラッド用樹脂をスピンコートによって塗布した後、硬化させる。これにより、図４（Ｃ）に示すように、硬質クラッド部１６が既に埋め込まれている部分以外の溝部２０と、コア部１４及び硬質クラッド部１６の上面にそれぞれ軟質クラッド部１７，１８が一体的に形成された光導波路１０が得られる。
【００２７】
なお、本実施形態に係る高分子光導波路１０の製造方法の他の例として、例えば本出願人等が先に提案した特開２００４−２９５０７号公報、特開２００４−８６１４４号公報、及び特開２００４−１０９９２７号公報などに開示されている高分子光導波路の製造方法を適用することが挙げられる。これらの高分子光導波路の製造方法によれば、マイクロモールド法と称する鋳型を用いて高分子光導波路を製造することで、極めて簡便に低コストで光導波路を量産することが可能である。また、簡便な製法であるにもかかわらず、光導波損失が小さい光導波路が安定して製造される。更には、従来では作製が困難であったフレキシブルなプラスチック基材上にも光導波路を作製することが可能である。
これらの製造方法を適用して本実施形態に係る高分子光導波路を製造する場合も、少なくとも一方の端部における埋め込みクラッド部１６を硬質のクラッド材料で形成し、他のクラッド部は軟質のクラッド材料で形成すればよい。
【実施例】
【００２８】
以下、実施例について説明するが、本発明は下記の実施例に何ら限定されるものではない。
＜実施例＞
コア用樹脂として屈折率が１．６０、硬化後の曲げ弾性率が５００ＭＰａのエポキシ系紫外線硬化樹脂を、また、軟質クラッド用樹脂として屈折率が１．５５、硬化後の曲げ弾性率が３００ＭＰａのエポキシ系紫外線硬化樹脂を、さらに、硬質クラッド用樹脂として屈折率が１．５５、粘度６４０ｍＰａ・ｓ、硬化後の曲げ弾性率が２．１ＧＰａであるエポキシ系紫外線硬化型樹脂をそれぞれ用意した。
【００２９】
一辺の長さが１２０ｍｍ、厚さが３ｍｍのホウ珪酸ガラス基板上に、軟質クラッド用樹脂（厚さ２０μｍ）、コア用樹脂（厚さ４０μｍ）の順でスピンコートし、各層ごとに硬化させることで２層高分子フィルムを得た。
【００３０】
次に、厚さ１００μｍのブレードを取り付けたダイシングソーを用いて、２層高分子フィルムの最下面より１０±５μｍのブレード高さで、幅４０μｍのコア部が５００μｍピッチで整列するように切削した。
【００３１】
次に、熱硬化性液状ジメチルシロキサンゴム（東レ・ダウコーニング社製：ＳＹＬＧＡＲＤ１８４）を板状（１５０ｍｍ×３０ｍｍ×７ｍｍ）に成形した２枚のシリコーンゴム板を、それぞれ２層高分子フィルムのコア層上に密着させた。このとき、各シリコーンゴム板の端部の位置が、高分子フィルムの長手方向の各端部の位置とそれぞれ一致するようにした。
【００３２】
次に、高分子フィルムの端面に露出した切削溝に硬質クラッド用樹脂を塗布しておよそ１０分間放置し、端面から１０ｍｍ以上充填されたことを確認した後、紫外線照射によって硬質クラッド用樹脂を硬化させた。硬化後、シリコーンゴム板を高分子フィルムから剥離した。
【００３３】
次に、高分子フィルムの上面（コア層上面）を覆うように軟質クラッド用樹脂を塗布し、１０Ｐａの雰囲気で真空脱泡した後にスピンコートし、次いで紫外線照射によって硬化させた。これにより、埋め込み型の導波路構造が形成された。
【００３４】
最後に、ダイシングソーを用いて、長さ１１０ｍｍ、幅０．９ｍｍ、厚さ７０μｍに成形し、ホウ珪酸ガラス基板から剥離して、長手方向の両端において硬質クラッド部がコア部側面と接する高分子光導波路フィルムを作製した。
【００３５】
次に、中央に幅５μｍの十字型アライメントマークが形成された長さ５ｍｍ、幅５ｍｍのシリコン基板を用意し、作製した高分子光導波路フィルムの実装精度確認を行った。無負荷状態での実装精度が±１μｍであるダイボンダを用い、画像認識によるパッシブアライメントにて高分子光導波路フィルムをシリコン基板上に実装した。ボンディング荷重は１．０Ｎとし、シリコン基板上に予め塗布しておいた紫外線硬化樹脂を紫外線照射により硬化させ、高分子光導波路フィルムをシリコン基板上に接着した。
上記の実装精度確認を５回行ったところ、コアの理想的な実装位置からのずれは５μｍ以内であった。また、高分子光導波路フィルムの接合面の端部のコアの位置、及びコア間距離は、実装前後で変化はみられなかった。
【００３６】
次に、４５°角度付きＳｉ用のブレードを備えたダイシングソーを用いて、この高分子光導波路フィルムの両端を、光軸に対し４５°の角度で切断し、４５°ミラー面を持ったコアを露出させた。
４５°ミラー面のコア形状は平坦であり、共焦点顕微鏡により測定した中心線平均粗さ（Ｒａ）は７０ｎｍ以下であった。シングルモード用光ファイバを介して波長８５０ｎｍのＶＣＳＥＬ光を導入して導波路の損失を評価したところ、４５°ミラー面における過剰損失は０．９ｄＢであった。
このように、高分子光導波路フィルムの両端に硬質クラッド部を設けることで、精度の良い４５°ミラー面を形成することができる。
【００３７】
＜比較例＞
硬質クラッド部を形成しない他は上記実施例と同様にして、長さ１１０ｍｍ、幅０．９ｍｍ、厚さ７０μｍの高分子光導波路フィルムを作製した。
実施例と同様の実装精度確認実験を行ったところ、５回の試行のうち２回で１０μｍ以上の位置ずれが発生し、実装精度は不安定であった。
また、実施例と同様のブレードを使用して４５°ミラー面の形成を試みたところ、加工面は理想的な形状から逸脱して中央部がえぐれた形状に変形しており、共焦点顕微鏡により測定した中心線平均粗さ（Ｒａ）は最良値で６００ｎｍ以上であった。
【００３８】
本発明は、上記実施形態及び実施例に限定されず、適宜変更を加えてもよい。例えば、光導波路内のコア部の数、コア部間の距離等は限定されず、要求に応じて形成すればよい。また、光導波路の厚さ方向に複数のコアが積層されている構造の光導波路としてもよい。
また、例えば、光導波路の側面にはダミーコアではなく、クラッドが露出していてもよい。
【００３９】
また、シングルコアの光導波路であってもよい。例えば、図６に示す光導波路は、光が伝搬する１本のコア１４の左右にクラッド１６，１７を介してダミーコア１５が形成されている。このようなシングルコアの光導波路であっても、少なくとも一方の端部では、図７（Ａ）に示すようにコア部１４，１５の間に硬質クラッド１６を有し、硬質クラッド部１６が設けられている端部以外では、図７（Ｂ）に示すように各コア部１４，１５にまたがって位置する軟質クラッド１２，１８，１７が設けられていればよい。
【図面の簡単な説明】
【００４０】
【図１】第１実施形態に係る高分子光導波路を概略的に示す斜視図である。
【図２】第１実施形態に係る高分子光導波路を概略的に示す図である。（Ａ）図１におけるＡ−Ａ線の断面図  （Ｂ）図１におけるＢ−Ｂ線の一部断面図
【図３】第１実施形態に係る光導波路を製造する前半の工程を示す図である。
【図４】第１実施形態に係る光導波路を製造する後半の工程を示す図である。
【図５】高分子光導波路の他の例の端面を示す図である。
【図６】シングルコアの高分子光導波路を概略的に示す斜視図である。
【図７】図６に示す高分子光導波路の断面を示す概略図である。（Ａ）図６のＡ面における断面図  （Ｂ）図６のＢ面における断面図
【符号の説明】
【００４１】
１０  高分子光導波路
１０Ａ  高分子フィルム
１２，１７，１８  軟質クラッド部（第２のクラッド部）
１４  コア部
１５  ダミーコア部
１６  硬質クラッド部（第１のクラッド部）
２０  切削溝
２２  シリコーンゴム板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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