(57)【要約】【課題】磁気ディスク表面の耐久性に対する厳しい要求に対応できるような磁気ディスク表面の耐久性を簡便に、正確に評価することが可能な磁気ディスクの耐久性評価方法を提供する。【解決手段】ＤＦＨ素子を備えた磁気ヘッドを装着した磁気ディスク装置に磁気ディスクを搭載し、上記磁気ヘッドのＤＦＨ素子を突き出した状態で磁気ディスク表面のある半径の位置で定点浮上させ、磁気ディスク表面の膜が破断するポイントを検出することにより、磁気ディスク表面の膜の耐久性を評価する。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
ダイナミックフライングハイト素子を備えた磁気ヘッドを装着した磁気ディスク装置に磁気ディスクを搭載し、前記磁気ヘッドのダイナミックフライングハイト素子を突き出した状態で磁気ディスク表面のある半径の位置で定点浮上させ、磁気ディスク表面の膜が破断するポイントを検出することにより、磁気ディスク表面の膜の耐久性を評価することを特徴とする磁気ディスクの耐久性評価方法。
【請求項２】
磁気ディスク表面に形成された炭素系保護膜の耐久性を評価することを特徴とする請求項１に記載の磁気ディスクの耐久性評価方法。
【請求項３】
測定時に磁気ディスクに加わる荷重は、１ｇｆ〜３０ｇｆの範囲内であることを特徴とする請求項１又は２に記載の磁気ディスクの耐久性評価方法。
【請求項４】
測定時の磁気ディスク装置内の気圧は、２００Ｔｏｒｒ以下の範囲内であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一に記載の磁気ディスクの耐久性評価方法。
【請求項５】
測定時の磁気ディスクの回転数は、３０００〜８０００ｒｐｍの範囲内であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一に記載の磁気ディスクの耐久性評価方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ハードディスクドライブ（HDD）などの磁気ディスク装置に搭載される磁気ディスクの保護膜等の耐久性評価方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年の情報処理の大容量化に伴い、各種の情報記録技術が開発されている。特に磁気記録技術を用いたＨＤＤ（ハードディスクドライブ）の面記録密度は年率１００％程度の割合で増加し続けている。最近では、ＨＤＤ等に用いられる２．５インチ径磁気ディスクにして、１枚当り１６０Ｇバイトを超える情報記録容量が求められるようになってきており、このような所要に応えるためには１平方インチ当り２５０Ｇビットを超える情報記録密度を実現することが求められる。ＨＤＤ等に用いられる磁気ディスクにおいて高記録密度を達成するためには、情報信号の記録を担う磁気記録層を構成する磁性結晶粒子を微細化すると共に、その層厚を低減していく必要があった。ところが、従来より商業化されている面内磁気記録方式（長手磁気記録方式、水平磁気記録方式とも呼称される）の磁気ディスクの場合、磁性結晶粒子の微細化が進展した結果、超常磁性現象により記録信号の熱的安定性が損なわれ、記録信号が消失してしまう、熱揺らぎ現象が発生するようになり、磁気ディスクの高記録密度化への阻害要因となっていた。
【０００３】
この阻害要因を解決するために、近年、垂直磁気記録方式用の磁気記録媒体が提案されている。垂直磁気記録方式の場合では、面内磁気記録方式の場合とは異なり、磁気記録層の磁化容易軸は基板面に対して垂直方向に配向するよう調整されている。垂直磁気記録方式は面内磁気記録方式に比べて、熱揺らぎ現象を抑制することができるので、高記録密度化に対して好適である。このような垂直磁気記録媒体としては、特開2002-74648号公報（特許文献１）に記載されたような、基板上に軟磁性体からなる軟磁性下地層と、硬磁性体からなる垂直磁気記録層を備える、いわゆる二層型垂直磁気記録ディスクが知られている。
【０００４】
【特許文献１】特開２００２−７４６４８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、磁気ディスクの出荷までの工程は、ディスク基板製造工程、成膜工程、検査工程という順次一連の製造工程を経て完成し梱包され市場に出荷される。この検査工程には、通常、グライド検査工程と信号品質検査工程などが含まれる。この検査工程を経ることにより、安定した品質を備える磁気ディスク製品が市場に供給される。そして、上記グライド検査工程の前には、通常、磁気ディスク上に存在するコンタミネーションや汚れ等を除去するためのテープバーニッシュまたはヘッドバーニッシュとよばれる工程がある。従来の面内磁気記録方式用の磁気ディスクでは、このバーニッシュによって磁気ディスク表面上に存在していたコンタミネーションや汚れ等を問題なく除去可能であったが、垂直磁気記録方式用の磁気ディスクの場合、保護膜の物理的耐久性が弱く、バーニッシュ工程によって磁気ディスク表面上に傷（スクラッチ）等を付けてしまう場合があることが判明した。そして、磁気ディスク表面上に傷等を発生させてしまうと、例えばグライド検査工程で異常信号が発生して正確な検査ができなくなるという問題を生じる。このため、製造される磁気ディスクに高度の品質保証を付与することが困難になる場合があった。
したがって、磁気ディスク表面の例えば炭素系保護膜等の耐久性を簡便に評価できる方法が有用である。
【０００６】
また最近、ハードディスクドライブ（ＨＤＤ）では２５０Gbit／inch２以上の情報記録密度が要求されるようになってきた。これは一つに、HDDが従来のコンピュータ用記憶装置としてのニーズに加えて、携帯電話やナビゲーションシステム、デジタルカメラ等に搭載されるようになってきたことと関係がある。
これらの新規用途の場合、HDDを搭載する筐体スペースがコンピュータに比べて著しく小さいので、HDDを小型化する必要がある。このためには、HDDに搭載する磁気ディスクの径を小径化する必要がある。例えば、コンピュータ用途では３．５インチ型や２．５インチ型の磁気ディスクを用いることが出来たが、上記新規用途の場合では、これよりも小径の、例えば０．８インチ型〜１．８インチ型などの小径磁気ディスクが用いられる。このように磁気ディスクを小径化した場合であっても一定以上の情報容量を格納させる必要があるので、勢い、情報記録密度の向上に拍車がかかることになる。
【０００７】
また、限られたディスク面積を有効に利用するために、従来のCSS（Contact Start andStop）方式に代えてLUL（Load Unload：ロードアンロード）方式のHDDが用いられるようになってきた。LUL方式では、ＨＤＤの停止時には、磁気ヘッドを磁気ディスクの外に位置するランプと呼ばれる傾斜台に退避させておき、起動動作時には磁気ディスクが回転開始した後に、磁気ヘッドをランプから磁気ディスク上に滑動させ、浮上飛行させて記録再生を行なう。停止動作時には磁気ヘッドを磁気ディスク外のランプに退避させたのち、磁気ディスクの回転を停止する。この一連の動作はLUL動作と呼ばれる。LUL方式HDD用の磁気ディスクでは、CSS方式のような磁気ヘッドとの接触摺動用領域（CSS領域）を設ける必要がなく、記録再生領域を拡大させることができ、高情報容量化にとって好ましいからである。
【０００８】
このような状況の下で情報記録密度を向上させるためには、磁気ヘッドの浮上量を低減させることにより、スペーシングロスを限りなく低減する必要がある。１平方インチ当り２５０ギガビット以上の情報記録密度を達成するためには、磁気ヘッドの浮上量は１０ｎｍ以下にする必要がある。LUL方式ではCSS方式と異なり、磁気ディスク面上にＣＳＳ用の凸凹形状を設ける必要が無く、磁気ディスク面上を極めて平滑化することが可能となる。よってLUL方式用磁気ディスクでは、CSS方式に比べて磁気ヘッド浮上量を一段と低下させることができるので、記録信号の高S/N比化を図ることができ、磁気ディスク装置の高記録容量化に資することができるという利点もある。
【０００９】
最近のLUL方式の導入に伴う、磁気ヘッド浮上量の一段の低下により、10nm以下の極低浮上量においても、磁気ディスクが安定して動作することが求められるようになってきた。とりわけ上述したように、近年、磁気ディスクは面内磁気記録方式から垂直磁気記録方式に移行しており、磁気ディスクの大容量化、それに伴うフライングハイトの低下が強く要求されている。
しかし、磁気ヘッドの浮上はＨＤＤの使用環境温度の変化等により変化する。そこで、ＨＤＤの温度を検出し、例えば低温環境では、磁気ヘッドの周囲に配置したヒータコイルを駆動して磁気ヘッドを熱膨張させることによりスライダの浮上変化を補正する、ダイナミックフライングハイト（Dynamic Flying Height：以下、ＤＦＨと略称する）と呼ばれる浮上制御を採用するＤＦＨヘッドが知られている。このようなＤＦＨヘッドは、２５０Gbit／inch２以上の高情報記録密度を達成するのに有効である。このようなＤＦＨヘッドを採用した場合、磁気ディスク表面の耐久性がより重要となる。
【００１０】
現状では、磁気ディスク表面の耐久性に対する厳しい要求があるにもかかわらず、それを簡易に評価する有効な手段はほとんど知られていない。もちろん、現状でも、ディスク表面に対して一定の荷重（例えば３０ｇｆ）をかけ、ディスク回転数を一定（例えば１２０ｒｐｍ）にして磁気ディスク表面の膜が破断するまでの時間によって耐久性を評価するピンオンテストは行われていたが、本発明者の検討によると、従来のピンオンテストによる評価方法では、磁気ディスク表面の耐久性を必ずしも正確に評価できない場合があることを突き止めた。
【００１１】
以上の事情から、製造した磁気ディスク表面の例えば保護膜等の耐久性を簡便に、しかも正確に評価することができればその有用性は極めて高いことは明らかである。
本発明は以上の課題に鑑みなされたものであって、その目的とするところは、磁気ディスク表面の耐久性を簡便に評価することができる評価方法、とりわけ磁気ディスク表面の耐久性に対する厳しい要求に対応できるような磁気ディスク表面の耐久性を正確に評価することが可能な磁気ディスクの耐久性評価方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明者は上記課題を解決すべく鋭意検討の結果、本発明を完成した。
すなわち、本発明は以下の構成を有する発明である。
（発明の構成１）
ＤＦＨ素子を備えた磁気ヘッドを装着した磁気ディスク装置に磁気ディスクを搭載し、前記磁気ヘッドのＤＦＨ素子を突き出した状態で磁気ディスク表面のある半径の位置で定点浮上させ、磁気ディスク表面の膜が破断するポイントを検出することにより、磁気ディスク表面の膜の耐久性を評価することを特徴とする磁気ディスクの耐久性評価方法。
【００１３】
（発明の構成２）
磁気ディスク表面に形成された炭素系保護膜の耐久性を評価することを特徴とする構成１に記載の磁気ディスクの耐久性評価方法。
（発明の構成３）
測定時に磁気ディスクに加わる荷重は、１ｇｆ〜３０ｇｆの範囲内であることを特徴とする構成１又は２に記載の磁気ディスクの耐久性評価方法。
【００１４】
（発明の構成４）
測定時の磁気ディスク装置内の気圧は、２００Ｔｏｒｒ以下の範囲内であることを特徴とする構成１乃至３のいずれか一に記載の磁気ディスクの耐久性評価方法。
（発明の構成５）
測定時の磁気ディスクの回転数は、３０００〜８０００ｒｐｍの範囲内であることを特徴とする構成１乃至４のいずれか一に記載の磁気ディスクの耐久性評価方法。
【００１５】
本発明は、構成１にあるように、ＤＦＨ素子を備えた磁気ヘッドを装着した磁気ディスク装置に磁気ディスクを搭載し、前記磁気ヘッドのＤＦＨ素子を突き出した状態で磁気ディスク表面のある半径の位置で定点浮上させ、磁気ディスク表面の膜が破断するポイントを検出することにより、磁気ディスク表面の膜の耐久性を評価する磁気ディスクの耐久性評価方法である。
本発明では、ＤＦＨ素子を備えた磁気ヘッドを装着した磁気ディスク装置に磁気ディスクを搭載して、耐久性評価測定を行う。この磁気ディスク装置は、測定対象の磁気ディスクが実際に搭載される装置、或いはそれと同じ構造のものである。
【００１６】
測定を行う磁気ディスク表面上の半径位置は、ディスクのサイズによっても異なるので、特に制約されないが、例えば、６５ｍｍ（外径）サイズのディスクの場合、ディスク中心から約２０ｍｍ〜３０ｍｍ、特に好ましくは２０ｍｍ〜２５ｍｍの半径位置が適当である。
【００１７】
また、測定時の磁気ディスクの回転数は、磁気ディスクを搭載する磁気ディスク装置の実際の使用時の回転数と対応させるのが好ましく、近年の高速回転化に合せて、例えば３０００〜８０００ｒｐｍの範囲内とすることが好適である。
【００１８】
測定時に磁気ディスクに加わる荷重は、例えば１ｇｆ〜３０ｇｆの比較的低荷重の範囲内であることが好ましい。
【００１９】
また、測定時の磁気ディスク装置内の気圧は、２００Ｔｏｒｒ以下の真空状態に近い低い気圧の範囲内であることが好ましい。
なお、以上の測定時の磁気ディスクの回転数、磁気ディスクに加わる荷重については、その磁気ディスクを実際に搭載する磁気ディスク装置における使用時の値と一致させることが好適である。
【００２０】
なお、磁気ディスク表面の膜が破断するポイントを検出する方法としては、例えば磁気ヘッドのサスペンション又はその付近にヘッド出力を検出するアコースティックエミッション（ＡＥ）センサーを取り付けておき、このセンサーの出力をモニターすることにより検出することが可能である。
【００２１】
本発明による耐久性評価方法は、特に磁気ディスク表面の耐久性を左右し、最近耐久性の要求が厳しくなりつつある磁気ディスク表面に形成された炭素系保護膜の耐久性を評価するのに好適である。
【００２２】
本発明による耐久性評価方法によれば、磁気ディスク表面の耐久性を簡便に評価することができる。とりわけ磁気ディスク表面の耐久性に対する最近の一層厳しくなりつつある要求に対応できるように、磁気ディスク表面の耐久性に関して正確な評価を行うことが可能である。
【００２３】
本発明による耐久性評価を行う磁気ディスクは、磁気ディスク用基板の上に少なくとも磁性層、保護層等を形成して製造される。
磁気ディスク用基板としては、ガラス基板が好ましい。ガラス基板を構成するガラスは、アモルファスのアルミノシリケートガラスとすることが好ましい。このようなガラス基板は表面を鏡面研磨することにより平滑な鏡面に仕上げることができる。このようなアルミノシリケートガラスとしては、ＳｉＯ2が５８重量％以上７５重量％以下、Ａｌ2Ｏ3が５重量％以上２３重量％以下、Ｌｉ2Ｏが３重量％以上１０重量％以下、Ｎａ2Ｏが４重量％以上１３重量％以下を主成分として含有するアルミノシリケートガラス（ただし、リン酸化物を含まないアルミノシリケートガラス）を用いることができる。例えば、ＳｉＯ2 が６２重量％以上７５重量％以下、Ａｌ2Ｏ3が５重量％以上１５重量％以下、Ｌｉ2 Ｏが４重量％以上１０重量％以下、Ｎａ2 Ｏが４重量％以上１２重量％以下、ＺｒＯ2が５．５重量％以上１５重量％以下を主成分として含有するとともに、Ｎａ2Ｏ／ＺｒＯ2 の重量比が０．５以上２．０以下、Ａｌ2Ｏ3 ／ＺｒＯ2 の重量比が０．４以上２．５以下であるリン酸化物を含まないアモルファスのアルミノシリケートガラスとすることができる。
【００２４】
磁気ディスク用ガラス基板は、少なくともガラス基板の鏡面研磨処理と洗浄処理により、ガラス基板の表面は、最大粗さＲｍａｘが６ｎｍ以下である鏡面とされることが好ましい。このような鏡面状態は、鏡面研磨処理と洗浄処理をこの順で行うことにより実現することができる。
【００２５】
なお、洗浄処理工程の後に、化学強化処理を施してもよい。化学強化処理の方法としては、例えば、ガラス転移点の温度を超えない温度領域、例えば摂氏３００度以上４００度以下の温度で、イオン交換を行う低温型イオン交換法などが好ましい。
【００２６】
磁気ディスク用基板上に形成する磁性層の材料としては、異方性磁界の大きな六方晶系であるＣｏＰｔ系強磁性合金を用いることができる。磁性層の形成方法としてはスパッタリング法、例えばＤＣマグネトロンスパッタリング法によりガラス基板の上に磁性層を成膜する方法を用いることができる。またガラス基板と磁性層との間に、下地層を介挿することにより磁性層の磁性グレインの配向方向や磁性グレインの大きさを制御することができる。例えば，Ｃｒ系合金など立方晶系下地層を用いることにより、例えば磁性層の磁化容易方向を磁気ディスク面に沿って配向させることができる。この場合、面内磁気記録方式の磁気ディスクが製造される。また、例えば、ＲｕやＴｉを含む六方晶系下地層を用いることにより、例えば磁性層の磁化容易方向を磁気ディスク面の法線に沿って配向させることができる。この場合、垂直磁気記録方式の磁気ディスクが製造される。下地層は磁性層同様にスパッタリング法により形成することができる。
【００２７】
また、磁性層の上には、保護層を形成する。保護層としてはアモルファスの水素化炭素系保護層が好適である。例えばプラズマＣＶＤ法により保護層を形成することができる。保護層の膜厚としては、３５オングストロームから８０オングストロームが好ましい。本発明は、特に磁気ディスクの炭素系保護層の耐久性評価に好適である。
【００２８】
また、保護層の上にさらに潤滑層を形成しても良い。潤滑層としては、パーフルオロポリエーテル化合物の主鎖の末端に官能基を有する潤滑剤、とりわけ極性官能基として水酸基を末端に備えるパーフルオロポリエーテル化合物を主成分とすることが好ましい。潤滑層の膜厚は５オングストロームから１５オングストロームとすることが好ましい。潤滑層はディップ法により塗布形成することができる。
【発明の効果】
【００２９】
本発明によれば、磁気ディスク表面の耐久性を簡便に評価することができる評価方法、とりわけ磁気ディスク表面の耐久性に対する厳しい要求に対応できるような磁気ディスク表面の耐久性を正確に評価することが可能となる磁気ディスクの耐久性評価方法を提供することができる。
また、本発明の磁気ディスクの耐久性評価方法を適用することにより、磁気ディスク表面の耐久性に対する厳しい要求に対応できるような磁気ディスクを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３０】
以下、実施例により本発明の実施の形態を具体的に説明する。
本実施例では、まず、溶融ガラスから上型、下型、胴型を用いたダイレクトプレスにより直径６６ｍｍφ、厚さ１．５ｍｍの円盤状のアルミノシリケートガラスからなるガラス基板を得、これに粗ラッピング工程（粗研削工程）、形状加工工程、精ラッピング工程（精研削工程）、端面鏡面加工工程、第１研磨工程、第２研磨工程を順次施すとともに、次いで化学強化を施すことにより、磁気ディスク用ガラス基板を製造した。このガラス基板は、主表面、端面ともに鏡面研磨加工されている。
【００３１】
上記化学強化及びその後の洗浄を終えたガラス基板表面の目視検査及び精密検査を実施した結果、ガラス基板表面に付着物による突起や、傷等の欠陥は発見されなかった。また、上記工程を経て得られたガラス基板の主表面の表面粗さを原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）にて測定したところ、Ｒｍａｘ＝２．１３ｎｍ、Ｒａ＝０．２０ｎｍと超平滑な表面を持つ磁気ディスク用ガラス基板を得た。また、ガラス基板の外径は65ｍｍ、内径は20mm、板厚は0.635mmであった。
【００３２】
次に、得られた磁気ディスク用ガラス基板１上に枚葉式スパッタリング装置を用いて、Ｔｉ系の付着層、Ｆｅ系の軟磁性層、ＮｉＷの第１下地層、Ｒｕの第２下地層、ＣｏＣｒＰｔ磁性層を順次成膜し、次いでプラズマＣＶＤ法により炭素系保護層を形成した。この磁気ディスクは垂直磁気記録方式用の磁気ディスクである。
【００３３】
上記保護層は、ダイヤモンドライク炭素保護層とし、プラズマＣＶＤ法により主表面上の膜厚が４５Åとなるように形成した。
以上のようにして作製した磁気ディスクを、以下、磁気ディスク１とする。
また、主表面上の保護層膜厚を３０Åとなるように形成したこと以外は、上記と同様にして作製した磁気ディスクを、以下、磁気ディスク２とする。
【００３４】
以上の磁気ディスク１、磁気ディスク２について、本発明の方法に従って磁気ディスク表面の炭素保護層の耐久性評価を行った。
すなわち、ＤＦＨ素子を備えた磁気ヘッドを装着した磁気ディスク装置に磁気ディスクを搭載し、上記磁気ヘッドのＤＦＨ素子を突き出した状態で磁気ディスク表面のある半径の位置で定点浮上させ、磁気ディスク表面の膜が破断するポイントを検出する。なお、この磁気ディスク装置は、上記磁気ディスク１，２が実際に搭載される磁気ディスク装置と同じ構造、方式のものである。
測定時の装置内の気圧は１００Ｔｏｒｒとし、磁気ヘッドのサスペンションの荷重は、５ｇｆに設定した。また、ディスク回転数は５４００ｒｐｍとした。
【００３５】
以上の条件にて、磁気ディスク表面のディスク半径が２２ｍｍの位置で上記ヘッドを定点浮上させて、炭素保護層が破断するポイントをモニターした。炭素保護層が破断するポイントのモニターは、ヘッドサスペンションに取り付けたＡＥセンサーにて検出した。
【００３６】
その結果、炭素保護層の成膜時に異なる成膜条件（膜厚）によって作製された磁気ディスク１と磁気ディスク２とでは、結果が異なることが判明した。つまり、磁気ディスク１では、パス回数が５９４００回まで炭素保護層は破断せず、磁気ディスク２では、２７０００回で炭素保護層が破断しており、磁気ディスク１よりも早い段階で破断していることが判明した。したがって、以下にも説明するように、この評価結果から、磁気ディスク１表面の耐久性は良好であると判断することができる。
【００３７】
上記磁気ディスク１と同じロットの磁気ディスクについて通常のグライド検査を行った結果、検査の歩留りは９０％以上となっており安定していることがわかった。さらに、以上の評価結果を確認するために、磁気ディスク１の表面状態を光学式表面分析装置（Candela OSA6100）にて観察したところ、耐久性評価で良好な結果であった磁気ディスク１の炭素保護層表面にはスクラッチ等はほとんど確認されなかった。また、耐久性評価で良好な結果であった磁気ディスク１を、耐久性評価に用いたＤＦＨ素子を備えた磁気ヘッドを装着したロードアンロード方式の磁気ディスク装置に搭載し、磁気ヘッド浮上時の浮上量を１０ｎｍとし、磁気ディスク装置内の環境を７０℃、８０％ＲＨの高温高湿環境下で、ヘッドのロード・アンロード動作を繰り返し行った結果、磁気ディスク１は、６０万回のロードアンロード動作に耐久し、高い信頼性が得られた。
【００３８】
一方、上記磁気ディスク２と同じロットの磁気ディスクについて通常のグライド検査を行った結果、検査の歩留りは７０％台と低いことがわかった。さらに、磁気ディスク２の表面状態を光学式表面分析装置（Candela OSA6100）にて観察したところ、耐久性評価で早い段階で破断してしまった磁気ディスク２の炭素保護層表面にはスクラッチ等の発生が確認された。また、磁気ディスク２を、上記と同様にロードアンロード方式の磁気ディスク装置に搭載し、磁気ヘッド浮上時の浮上量を１０ｎｍとし、磁気ディスク装置内の環境を７０℃、８０％ＲＨの高温高湿環境下で、ヘッドのロード・アンロード動作を繰り返し行った結果、磁気ディスク３は、６０万回未満でヘッドクラッシュにより故障してしまう。
【００３９】
なお、本発明の評価方法に対する参考例として、ディスク表面に対して一定の荷重（３０ｇｆ）をかけ、ディスク回転数を一定（１２０ｒｐｍ）にして磁気ディスク表面の膜が破断するまでの時間によって耐久性を評価する現状行われているピンオンテストにより、上記磁気ディスク１と磁気ディスク２の評価を行った結果、いずれに関しても、ピンオンテストの合格基準である４分まで耐久し、良好と判断された。従って、現状のピンオンテストによる評価では、磁気ディスク１と磁気ディスク２との判別は困難である。
【００４０】
以上説明したように、本発明による磁気ディスクの耐久性評価方法によれば、上述の磁気ディスク表面観察やＬＵＬ試験の結果とも対応し、磁気ディスク表面の耐久性を簡便に、しかも正確に評価することができ、とりわけ最近の磁気ディスク表面の耐久性に対する厳しい要求に対応できるような耐久性評価を行うことが可能である。