(57)【要約】【課題】液晶表示装置に外力が加わっても導電膜と共通電極がショートする現象を防止でき、液晶表示装置の表示特性を向上できる上部基板を有する液晶装置を提供する。【解決手段】画像を表示する表示部と前記表示部を駆動するために駆動信号を提供する駆動部とを備え、前記駆動部は相互に異なる層に配置される第１導電パターン及び第２導電パターンを電気的に接続するための導電膜を具備している、下部基板、共通電極と前記共通電極上に具備され前記共通電極と前記導電膜を互いに絶縁する絶縁部材とからなる上部基板、及び、前記下部基板と前記上部基板との間に介在する液晶層、を含むことを特徴とする。【選択図】図２０
2010170156.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像を表示する表示部と前記表示部を駆動するために駆動信号を提供する駆動部とを備え、前記駆動部は相互に異なる層に配置される第１導電パターン及び第２導電パターンを電気的に接続するための導電膜を具備している、下部基板、
共通電極と前記共通電極上に具備され前記共通電極と前記導電膜を互いに絶縁する絶縁部材とからなる上部基板、及び、
前記下部基板と前記上部基板との間に介在する液晶層、
を含むことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
前記絶縁部材は、前記液晶層より低い誘電率を有することを特徴とする請求項１記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記下部基板と前記上部基板との間に介在し、前記下部基板と前記上部基板を離隔するセルギャップ保持部材をさらに含むことを特徴する請求項１または２に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記絶縁部材及び前記セルギャップ保持部材は、感光性アクリル系樹脂からなることを特徴とする請求項３記載の液晶表示装置。
【請求項５】
前記下部基板は前記第２導電パターンと前記導電膜との間に配置された感光性有機絶縁膜をさらに含み、前記感光性有機絶縁膜は、前記第１導電パターンを露出させる第１コンタクトホール及び前記第２導電パターンを露出させる第２コンタクトホールを具備することを特徴とする請求項１ないし４のいずれかに記載の液晶表示装置。
【請求項６】
前記導電膜は、前記第１コンタクトホール及び前記第２コンタクトホールを通じて、前記第１導電パターン及び前記第２導電パターンとそれぞれの接続されており、これにより前記第１導電パターンと前記第２導電パターンを電気的に接続することを特徴とする請求項５記載の液晶表示装置。
【請求項７】
前記導電膜は透明であることを特徴とする請求項１記載の液晶表示装置。
【請求項８】
前記導電膜は前記表示部の画素電極と同一の物質からなることを特徴とする請求項７記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置に関し、より詳細には、表示特性を向上させることができる上部基板を有する液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
図１は、一般の液晶表示装置を示す面図であり、図２は、図１に示されたゲート駆動部の出力波形図である。但し、図２に示されたグラフでは、ｘ軸は時間を示し、ｙ軸は電圧を示している。
図１に示すように、汎用の液晶表示装置４０は、アレイ基板１０と、カラーフィルタ基板２０すなわち上部基板２０と、カラーフィルタ基板２０とアレイ基板１０との間に介在された液晶層３０とで構成される。液晶表示装置４０は、外部からの信号によってカラーフィルタ基板２０及びアレイ基板１０との間に形成された電界によって、液晶層３０の配列角を変化させることにより画像を表示する。
【０００３】
アレイ基板１０は、表示領域ＤＡと表示領域ＤＡに隣接する周辺領域ＰＡで構成される。表示領域ＤＡは、画像を表示するため表示部が位置しており、周辺領域には表示部を駆動するため駆動部が位置する。
表示領域ＤＡには、多数の画素がマトリックス形態に配置される。多数の画素それぞれは、ゲートライン、データライン、ゲートライン及びデータライに接続された薄膜トランジスタ（以下、ＴＦＴと称する）１１、及びＴＦＴ１１に結合された画素電極１２で構成される。
周辺領域ＰＡには、ゲートラインに駆動電圧を印加するためゲート駆動回路１６がＴＦＴ工程によって形成される。このように、ゲート駆動回路１６をアレイ基板１０上に集積させることによって、液晶装置４０の組立て工程数、体積及びサイズを節減できる。
【０００４】
一方、カラーフィルタ基板２０には、液晶層３０を間に置いて画素電極２０と向き合う共通電極２４が具備される。表示領域ＤＡに対応して、共通電極２４上には液晶表示装置４０のセルギャップを保持させるためのセルギャップ保持部材２５が具備される。
共通電極２４は、ゲート駆動回路１６とも液晶層３０を間に置いて向かい合っている。
【０００５】
上記したように、共通電極２４がゲート駆動回路１６と液晶層３０を間に置いて向かい合うため、ゲート駆動回路１６と共通電極２４との間には、寄生キャパシタンスＣが生成されてしまう。
図２において、実線は正常波形Ａ１を表し、点線は上記した寄生キャパシタンスＣによって歪曲された波形Ａ２を表したものである。図２に示されたように、歪曲された波形Ａ２での最高電圧は、正常波形Ａ１での最高電圧より約５Ｖ以上低く現れた。
【０００６】
このように、寄生キャパシタンスＣは、ゲート駆動回路１６から出力された信号を歪曲または遅延させ、それによって液晶装置４０の表示特性を低下させてしまう。
また、液晶装置４０の周辺領域ＰＡに外力が加われると、共通電極２４とゲート駆動回路１６がショートされて、駆動回路１６の誤動作を誘発させる。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
従って、本発明の目的は、液晶表示装置に外力が加わっても導電膜と共通電極がショートする現象を防止でき、液晶表示装置の表示特性を向上できる上部基板を有する液晶装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上述した本発明の目的を達成するため、本発明による液晶表示装置は、下部基板、上部基板、及び下部基板と上部基板との間に介在する液晶層を含む。下部基板は画像を表示する表示部及び表示部を駆動するために駆動信号を提供する駆動部で構成され、駆動部は第１導電パターンと、第１導電パターンと異なる層に配置される第２導電パターンと、これらを電気的に接続するための導電膜を具備する。上部基板は共通電極及び共通電極上に具備され共通電極と導電膜を互いに絶縁させる絶縁部材で構成される。
【発明の効果】
【０００９】
このような構成を有する本発明に係る液晶表示装置によると、下部基板の駆動部は、上部基板の共通電極との間に絶縁部材を介在し、液晶表示装置に外力が加わっても導電膜と共通電極がショートする現象を防止できる。
【００１０】
また、絶縁部材の誘電率が液晶層の誘電率よりも低い場合には、駆動部と共通電極との間の寄生キャパシタンスの生成を抑制できて信号歪みを低減できる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】従来の一般的な液晶表示装置を示した断面図である。
【図２】図１に示されたゲート駆動部の出力波形図である。
【図３】本発明の実施例１による透過型液晶表示装置を示した断面図である。
【図４】図３に示されたアレイ基板の平面図である。
【図５】図３に示されたカラーフィルタ基板の平面図である。
【図６】図３に示されたカラーフィルタ基板の製造過程を示した図面である。
【図７】図３に示されたカラーフィルタ基板の製造過程を示した図面である。
【図８】図３に示されたカラーフィルタ基板の製造過程を示した図面である。
【図９】図３に示されたカラーフィルタ基板の製造過程を示した図面である。
【図１０】本発明の実施例２による半透過型液晶表示装置を示した断面図である。
【図１１】図１０に示された表示領域を示した断面図である。
【図１２】本発明の実施例３の半透過型液晶表示装置の表示領域を示した断面図である。
【図１３】本発明の実施例４による液晶表示装置の平面図である。
【図１４】図１３に示された液晶表示装置の断面図である。
【図１５】図１４に示されたカラーフィルタ基板の製造過程を示した図面である。
【図１６】本発明の実施例５による透過型液晶表示装置を示した断面図である。
【図１７】図１６に示されたアレイ基板を示した図である。
【図１８】本発明の実施例６による透過型液晶表示装置を示した断面図である。
【図１９】本発明の実施例７による半透過形液晶表示装置を示した断図面である。
【図２０】本発明の実施例８による半透過形液晶表示装置を示した断図面である。
【図２１】図２０に示したゲート駆動回路の各ステージの構成を示した図である。
【図２２】図２０に示したカラーフィルタ基板の平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、添付した図面を参照して、本発明の望ましい実施例をより詳細に説明する。
［実施例１］
図３は、本発明の実施例１による透過形液晶表示装置を具体的に示す断面図である。図４は、図３に図示されたアレイ基板の平面図、図５は、図３に図示されたカラーフィルタ基板の平面図である。
図３及び図４を参照すると、本発明の実施例１による透過形液晶表示装置４００は、アレイ基板１５０、アレイ基板１５０と向き合うカラーフィルタ基板２５０、及びアレイ基板１５０とカラーフィルタ基板２５０との間に介在された液晶層３００からなる。
【００１３】
アレイ基板１５０は、画像を表示する表示領域ＤＡ、及び表示領域ＤＡに隣接する周辺領域ＰＡを含む。表示領域ＤＡには、画像を表示するための表示部が位置し、周辺領域には表示部を駆動するための駆動部が位置する。
表示領域ＤＡには、多数の画素がマトリックス形態に具備される。多数の画素それぞれは、第１方向に延長されたデータラインＤＬと第１方向と直交する第２方向に延長されたゲートラインＧＬとに接続されたＴＦＴ１１０、及びＴＦＴ１１０に結合され透明性導電物質からなる画素電極１２０を含む。具体的には、ＴＦＴ１１０は、ゲート電極がゲートラインＧＬに接続され、ソース電極がデータラインＤＬに接続され、ドレイン電極が画素電極１２０に接続された構成を有する。
【００１４】
図３に示されたように、ＴＦＴ１１０のドレイン電極のみを画素電極１２０に接続させるために、ＴＦＴ１１０及び画素電極１２０との間には絶縁膜１３０が介在される。絶縁膜１３０には、ドレイン電極を露出させるためのコンタクトホール（不図示）が具備される。従って、画素電極１２０は、コンタクトホールを通してドレイン電極と電気的に接続される。ここで、画素電極は、１２０インジウム錫酸化物またはインジウム亜鉛酸化物からなる。
【００１５】
アレイ基板１５０では、ＴＦＴ１１０、データラインＤＬ及びゲートラインＧＬが具備された領域が非有効ディスプレイ領域で、画素電極１２０が具備された領域は有効ディスプレイ領域である。
周辺領域ＰＡに対応して、アレイ基板１５０には、ゲート駆動回路１６０及びデータ駆動回路１６１それぞれが具備される。ゲート駆動回路１６０は、ゲートラインＧＬの一端に接続されてゲートラインＧＬにゲート駆動信号を提供する。ゲート駆動回路１６０は、表示領域ＤＡ具備されるＴＦＴ１１０と同一な工程を通して形成され、アレイ基板１５０上に形成される。データ駆動回路１６１は、データラインＤＬの一端に接続されて、データラインＤＬに画像信号を提供する。データ駆動回路１６１は、チップ形態であり、アレイ基板１５０が完成された後に該アレイ基板１５０上に組立てられる。
【００１６】
一方、カラーフィルタ基板２５０は、遮光膜２１０、カラーフィルタ２２０、平担化膜２３０及び共通電極２４０を含む。
遮光膜２１０は、アレイ基板１５０の非有効ディスプレイ領域に対応して具備され、ＴＦＴ１１０、データラインＤＬ及びゲートラインＧＬが透過形液晶表示装置４００の画面に投影されることを防止する。または、遮光膜２１０は、ゲートライン駆動回路１６０が形成された領域に対応するように具備されて、ゲート駆動回路１６０が透過形液晶表示装置４００の画面に投影されることを防止する。
図３に示されたように、カラーフィルタ２２０は、アレイ基板２５０の有効ディスプレイ領域に対応して具備され、Ｒ、Ｇ、Ｂ色画素からなったカラーフィルタ２２０を含む。Ｒ、Ｇ、Ｂ色画素それぞれは、アレイ基板１５０に具備された多数の画素それぞれに対応する。または、Ｒ、Ｇ、Ｂ色画素それぞれは、遮光膜２１０と重なる。
【００１７】
平担化膜２３０は、カラーフィルタ２２０及び遮光膜２１０上に配置され、遮光膜２１０とカラーフィルタ２２０との間で発生される段差を減少させる。平担化膜２３０上には、透明性導電物質でからなる共通電極２４０が均一な厚さで積層される。
一方、共通電極２４０まで形成されたカラーフィルタ基板２５０上には、絶縁部材２５２及びセルギャップ保持部材２５１がそれぞれ具備される。絶縁部材２５２は、ゲート駆動回路１６０と向き合う共通電極２４０上に具備され、セルギャップ保持部材２５１は、表示領域ＰＡ内に共通電極２４０上に具備される。
【００１８】
絶縁部材２５２は、ゲート駆動回路１６０と向き合う共通電極２４０を全体的にカバーして、ゲート駆動回路１６０と共通電極２４０とを電気的に絶縁させる。また、絶縁部材２５２は、液晶層３００より小さい誘電率を有する感光性有機絶縁膜からなり、これにより、ゲート駆動回路１６０と共通電極２４０との間で生成され寄生キャパシタンスを減少させる。従って、絶縁部材２５２は、ゲート駆動回路１６０が誤動作を起こさないように機能することができる。
一方、セルギャップ保持部材２５１は、アレイ基板１５０とカラーフィルタ基板２５０とに間に介在されることによって、透過形液晶装置４００のセルギャップを所定の大きさに保持させる。セルギャップ保持部材２５１は、絶縁部材２５２と同一の感光性有機絶縁膜からなる。
【００１９】
図３及び図５に示されたように、セルギャップ保持部材２５１は、透過形液晶表示装置４００の開口率（有効ディスプレイ面積／全体面積）に影響を及ぼさないようにするために、表示領域ＤＡのうち、非有効ディスプレイ領域と対応するように形成される。また、セルギャップ保持部材２５１は、データラインＤＬが延長される第１方向に延長され、ストライプ形状を有する。
そしてアレイ基板１５０とカラーフィルタ基板２５０が結合部材（以下、シーラント）３５０によって結合されると、共通電極２４０と画素電極１２０が向き合う。次いで、アレイ基板１５０とカラーフィルタ基板２５０との間には、液晶層３００が介在される。これによって、透過形液晶表示装置基板４００が完成される。
【００２０】
このような構造を有する透過形液晶表示装置４００は、カラーフィルタ基板２５０上に絶縁部材２５２を具備することによって、共通電極２４０とゲート駆動回路１６０が外力によってショートされる現象を防止することができ、また、寄生キャパシタンスを減少させることができる。
例えば、ゲート駆動回路１６０と共通電極２４０との間に液晶層３００が介在された既存装置での寄生キャパシタンスが１．０３ｐＦである場合、ゲート駆動回路１６０と共通電極２４０との間に絶縁部材２５２が介在された場合の寄生キャパシタンスは、既存装置よりも約６６．６７％減少され、０．３４ｐＦとなった。即ち、寄生キャパシタンスは、誘電率に比例するので、液晶層３００より低い誘電率を有する絶縁部材２５２がゲート駆動回路１６０と共通電極２４０との間に介在されることによって、寄生キャパシタンスの生成が減少される。
図３において、ＴＦＴ１１０と画素電極１２０との間の絶縁膜１３０は、無機または有機絶縁膜からなることができる。
【００２１】
図６〜図９は、図３に示されたカラーフィルタの製造過程を示す図面である。
図６を参照すると、カラーフィルタ基板２５０には、酸化クロムＣｒＯ２または有機ブラックメトリックス（Ｂｌａｃｋ  ｍａｔｒｉｃ：以下、ＢＭと称する）層に積層され、酸化クロムまたは有機ＢＭをパターニングして表示領域ＤＡの非有効ディスプレイ領域及び周辺領域ＰＡにそれぞれ対応する遮光膜２１０が形成される。
遮光膜２１０が形成されたカラーフィルタ基板２５０上には、赤い顔料や染料が含まれた第１フォトレジスト（不図示）を積層した後、第１フォトレジストをパターニングしてＲ色画素を形成する。以後、カラーフィルタ基板２５０上に緑色の顔料または染料が含まれた第２フォトレジスト（不図示）を塗布した後、第２フォトレジストをパターニングしてＧ色画素を形成する。その後、カラーフィルタ基板上に青い顔料や染料が含まれた第３フォトレジスト（不図示）を塗布した後、第３フォトレジストをパターニングしてＢ色画素を形成する。これによって、カラーフィルタ基板２５０上にはＲ、Ｇ、Ｂ色画素が順次的に形成されてカラーフィルタ２２０が完成される。
Ｒ、Ｇ、Ｂ色画素それぞれは、表示領域ＤＡ中、有効ディスプレイ領域に対応して具備され、遮光膜２１０とオーバーラップされる。
【００２２】
次に、図７を参照すると、遮光膜２１０及びカラーフィルタ２２０が形成されたカラーフィルタ基板２５０上には、感光性アクリル樹脂またはポリイミド樹脂からなる平坦化膜２３０及び共通電極２４０が順次的に形成される。平坦化膜２３０は、遮光膜２１０とカラーフィルタ２２０との間で発生される段差を減少させるために所定の厚さを有して積層される。従って、平坦化膜２３０は、共通電極２４０を、互いに段差を有する遮光膜２１０及びカラーフィルタ２２０から影響を受けないで、フラットの表面構造とすることができる。
共通電極２４０は、ＩＴＯまたはＩＺＯからなり、平坦化膜２３０上に均一な厚さに積層される。
【００２３】
図８及び図９を参照すると、共通電極２４０が形成されたカラーフィルタ基板２５０上には、アクリル系樹脂からなる感光膜２６０が所定の厚さで形成される。感光膜２６０の厚さは、透過形液晶表示装置４００のセルギャップを決定する。
感光膜２６０上には、セルギャップ保持部材２５１及び絶縁部材２５２に対応するパターンが形成されたマスク２６５が配置される。マスク２６５には、セルギャップ保持部材２５１及び絶縁部材２５２が形成される第１領域を除いた第２領域に対応して、開口部２６５ａが形成される。次に、有機絶縁膜２６０上に、マスク２６５が具備された状態で露光工程を実施する。これにより、表示領域ＤＡに形成された感光膜２６０が、第２領域においてフルに露光される。
以後、露光された感光膜２６０を現象液と反応させる。これにより表示領域ＤＡにセルギャップ保持部材２５１が形成され、周辺領域ＰＡに絶縁部材２５２が形成させる。
【００２４】
［実施例２］
図１０は、本発明の実施例２による半透過型液晶表示装置を示す断図面であり、図１１は、図１０に示された表示領域を具体的に示した断図面である。但し、図１０及び図１１は、図３に示された構成要素と同一な構成要素に関しては、同一な参照符号を付し、それについての説明は省略する。
図１０及び図１１を参照すると、本発明の実施例２による半透過型液晶表示装置５００は、アレイ基板１５０、アレイ基板１５０と向き合うカラーフィルタ基板２５０、及びアレイ基板１５０とカラーフィルタ基板２５０との間に介在された液晶層３００で構成されている。
アレイ基板１５０は、画像を表示する表示領域ＤＡ及び表示領域ＤＡに隣接する周辺領域ＰＡで構成される。
【００２５】
図１１に示されたように、表示領域ＤＡには、ＴＦＴ１１０及びＴＦＴ１１０に接続される透明電極１７０及び反射電極１９０からなる画素電極が備えられる。表示領域ＤＡには、ゲート電極１１１、ソース電極１１２及びドレイン電極１１３で構成されたＴＦＴ１１０が形成される。そして、ＴＦＴ１１０のドレイン電極１１３にＩＴＯからなる透明電極１７０を接続することによって、透明電極１７０は、ＴＦＴ１１０のドレイン電極１１３から信号の印加を受ける。
ＴＦＴ１１０及び透明電極１７０が形成されたアレイ基板１５０上には、感光性アクリル樹脂からなる有機絶縁膜１８０が所定の厚さで積層される。有機絶縁膜１８０は、ドレイン電極１１３と透明電極１７０が接触する部分をカバーする。また有機絶縁膜１８０には、透明電極１７０の一部分を露出させるための開口窓１８１が形成される。開口窓１８１は、ＴＦＴ及び透明電極１７０が接触する部分を除外した領域に形成される。また、有機絶縁膜１８０の表面には、多数の凹凸１８５が形成され、それによって、有機絶縁膜１８０上に積層される反射電極１９０の反射効率を向上させる。
【００２６】
次に、有機絶縁膜１８０上に、反射率が優れたアルミニウム、銀、及びクロムＣｒからなる反射電極１９０が均一な厚さで形成される。このとき、反射電極１９０は、開口窓１８１を通して透明電極１７０と電気的に接続される。従って、反射電極１９０は、ＴＦＴ１１０のドレイン電極１１３に印加された信号を、透明電極１７０を通して印加される。
反射電極１９０は、開口窓１８１によって露出された透明電極１７０と電気的に接触されるので、反射電極１９０を透明電極１７０またはドレイン電極１１３と電気的に接続させるためのコンタクトホールを形成しなくてもよいので、反射電極１９０の反射効率が向上する。また反射電極１９０が有機絶縁膜１８０の上面だけではなく、側面及び透明電極１７０の上面にまで延長して形成されるので、反射電極１９０の反射効率がさらに向上する。
反射電極１９０は、半透過型液晶表示装置５００の全面から入射される第１光Ｌ１を反射するための反射領域ＲＡを形成する。一方、開口窓１８１によって露出された透過電極１７０は、半透過型液晶表示装置５００の後面から入射される第２光Ｌ２を透過するための透過領域ＴＡを形成する。
【００２７】
透過領域ＴＡでの偏光特性によって光損失を防止するために、有機絶縁膜１８０に形成された開口窓１８１を利用して、半透過型液晶表示装置５００は、透過領域ＴＡで第１セルギャップＤ１を有し、反射領域ＲＡで第１セルギャップＤ１より２倍大きい第２セルギャップＤ２を有する。即ち、半透過型液晶表示装置５００は、透過領域ＴＡと反射領域ＲＡが互いに違うセルギャップを有する２重セルギャップ構造を有する。
一方、液晶層３００は、カラーフィルタ基板２５０に接する第１液晶（不図示）とアレイ基板１５０に隣接する第２液晶（不図示）に区分される。ここで、第１及び第２液晶の配列方向、即ち、第１及び第２液晶の長軸方向が成す角は、液晶層３００の捩じれ角として定義される。
捩じれ角が増加することによって、半透過型液晶表示装置５００の透過率が減少する。従って、半透過型液晶表示装置５００は、透過領域ＴＡの第１セルギャップＤ１が反射領域ＲＡの第２セルギャップＤ２の２倍の２重セルギャップ構造を有することによって、偏光特性による光損失を防止する。また、液晶層３００を捩じれ角が０°となるように水平配向することによって、透過領域ＴＡの透過率を向上させる。
【００２８】
［実施例３］
図１２は本発明の第３実施例による半透過型液晶表示装置の表示領域を具体的に示した断面図である。
図１２に示すように、本発明の実施例３によると、アレイ基板の１５０の表示領域ＤＡには、ＴＦＴ１１０、透明電極１７０及び反射電極１９０からなる画素電極、無機絶縁膜及び有機絶縁膜１８０が具備される。
アレイ基板１５０には、ゲート電極１１１、ソース電極１１２及びドレイン電極１１３からなるＴＦＴ１１０が形成される。そして、第１基板１５０上には、ＴＦＴ１１０を保護するための無機絶縁膜１７５が具備される。無機絶縁膜１７５は、シリコンナイトライドＳｉＮｘやクロムオキサイドＣｒ２０３のような透明無機物からなる。無機絶縁膜１７５には、ドレイン電極１１３を露出させるためのコンタクトホール１７５ａが形成されている。
【００２９】
次に、無機絶縁膜１７５上には透明電極１７０が形成されて、透明電極１７０は、コンタクトホール１７５ａを通してドレイン電極１１３と電気的に接続される。従って、透明電極１７０は、ＴＦＴ１１０のドレイン電極１１３に印加される信号を受ける。
ＴＦＴ１１０無機絶縁膜１７５及び透明電極１７０が形成されたアレイ基板１５０上には、感光性アクリル樹脂からなる有機絶縁膜１８０が所定の厚さで積層される。また、有機絶縁膜１８０には、透明電極１７０の一部分を露出させるための開口窓１８１が形成される。開口窓１８１はＴＦＴ１１０及び透明電極１７０が接触される部分を除外した残り領域に形成されて、反射電極１９０の反射効率を向上させる。
次に、有機絶縁膜１８０上には、反射電極１９０が均一した厚さで形成される。反射電極１９０は、開口窓１８１を通して透明電極１７０と電気的に接続され、これにより、反射電極１９０には、ＴＦＴ１１０のドレイン電極１１３に印加された信号が透明電極１７０を通して印加される。
【００３０】
図１０を参照すると、アレイ基板１５０の周辺領域ＰＡには、ゲート駆動回路液晶１６０が形成される。ゲート駆動回路１６０は、ゲートラインＧＬの一端に接続されて、ゲートラインＧＬにゲート駆動信号を提供する。ゲート駆動回路１６０は、表示領域ＤＡに具備されるＴＦＴと同一な工程を通じて形成される。
カラーフィルタ基板２５０は、遮光膜２１０、Ｒ、Ｇ、Ｂ色画素からなるカラーフィルタ２２０、平担化膜２３０、透明性導電物質からなる共通電極２４０、絶縁部材２５２及びセルギャップ保持部材２５１を具備する。
共通電極２４０が形成されたカラーフィルタ基板２５０上には、絶縁部材２５２及びセルギャップ２５１がそれぞれ形成される。絶縁部材２５２は、ゲート駆動回路１６０と向かい合う共通電極２４０上に具備され、セルギャップ保持部材２５１は、表示領域ＰＡ内の共通電極２４０上に具備される。
【００３１】
絶縁部材２５２は、ゲート駆動回路１６０と向かい合う共通電極２４０を全体的にカバーすることによって、共通電極２４０とゲート駆動回路１６０を電気的に絶縁させる。即ち、絶縁部材２５２は、液晶層３００より小さい誘電率を有する感光性有機絶縁膜からなることによって、ゲート駆動回路１６０は共通電極２４０がショートされる現象を防止する。また、ゲート駆動回路１６０と共通電極２４０との間で生成される寄生キャパシタンスを減少させる。
一方、セルギャップ保持部材２５１は、アレイ基板１５０とカラーフィルタ基板２５０との間に介在されることによって、透過形液晶表示装置４００のセルギャップを所定の大きさで保持する。セルギャップ保持部材２５１は、絶縁部材２５２と同一の感光性有機絶縁膜からなる。
【００３２】
［実施例４］
図１３は、本発明の実施例４による液晶表示装置の表面図であり、図１４は、図１３に示された液晶表示装置の断面図である。但し、図１３及び図１４では、図３に示された構造要素と同一な構造要素については、同一参照符号を付し、それについての具体的な説明は省略する。
図１３及び図１４を参照すると、カラーフィルタ基板２５０は、遮光膜２１０、カラーフィルタ２２０、平板化膜２３０及び共通電極２４０を含む。
カラーフィルタ２２０は、光によって所定の色に発現されるＲ、Ｇ、Ｂ色画素からなる。遮光膜２１０は、表示領域ＤＡでＲ、Ｇ、Ｂ色画素それぞれの周辺をくるむように形成され、周辺領域ＰＡで、アレイ基板に具備されたゲート駆動回路１６０と向かい合う。
平坦化膜２３０は、遮光膜２１０とカラーフィルタ２２０の間の段差を除く膜であり、カラーフィルタ基板２５０の表面をフラット化させる。共通電極２４０は、平坦膜２３０上に均一な厚さで積層される。
【００３３】
また、共通電極２４０上には、セルギャップ保持部材２５１及び絶縁部材２５３が形成される。セルギャップ保持部材２５１は、表示領域ＤＡ内に形成されて、カラーフィルタ基板２５０とアレイ基板１５０を所定の間隔で離隔させる。絶縁部材２５３は、周辺領域ＰＡで共通電極２４０とゲート駆動回路１６０の第１領域Ｂ１との間に介在される。
このとき、絶縁部材２５３は、液晶層３００より小さい誘電率を有する物質からなる。例えば、セルギャップ保持部材２５１及び絶縁部材２５３は、アクリル系樹脂またはポリイミド樹脂のような有機絶縁膜からなる。
アレイ基板１５０とカラーフィルタ基板２５０は、結合部材（以下シーラント）３５０によって堅固に結合される。シーラント３５０は、周辺領域ＰＡに形成され、ゲート駆動回路１６０の第１領域Ｂ１を除外した第２領域Ｂ２をカバーする。このとき、シーラント３５０は、液晶層３００より小さい誘電率を有する物質からなる。
【００３４】
その後、アレイ基板１５０とカラーフィルタ基板２５０との間に、表示領域ＤＡに対応する液晶層３００が介在される。シーラント３５０が形成されたゲート駆動回路１６０の第２領域Ｂ２に対応しては、液晶層３００が形成されない。
または、絶縁部材２５３が形成されたゲート駆動回路１６０の第１領域Ｂ１では、液晶層３００が形成されないか、第１領域Ｂ１では、絶縁部材２５３とゲート駆動回路１６０の離隔距離が表示領域ＤＡの離隔距離以下の厚さで、形成される
従って、絶縁部材２５３及びシーラント３５０は、共通電極２４０とゲート駆動回路１６０を電気的に絶縁しながら、共通電極２４０とゲート駆動回路１６０との間に生成される寄生キャパシタンスを減少させる。
即ち、キャパシタンスが誘電率に比例するという理論によると、液晶層３００より小さい誘電率を有する絶縁部材２５３とシーラント３５０によって、寄生キャパシタンスが減少する。これによって、ゲート駆動回路１６０の誤動作を防止することができる。
【００３５】
図１５は、図１４に図示されたカラーフィルタ基板の製造過程を示した図面である。
図１５を参照すると、共通電極２４０までが形成されたカラーフィルタ基板２５０上には、アクリル系樹脂またはポリイミド樹脂からなる感光膜（不図示）が所定の厚さで形成される。
感光膜上には、セルギャップ保持部材２５１及び絶縁部材２５３に対応するパターンが形成されたマスク２６６が形成される。感光膜がポジティブ感光性物質である場合、マスク２６６にはセルギャップ保持部材２５１及び絶縁部材２５３が形成される領域を除いた残り領域に対応して、開口部２６６ａが形成される。
感光膜がネガティブ感光性物質である場合、マスク２６６の開口部２６６ａの位置は、図１５とは反対になる。
【００３６】
次いで、感光膜上にマスク２６６を積層した状態で、感光膜を露光する。露光された感光膜を現象液と反応させると、表示領域ＤＡにはセルギャップ保持部材２５１が形成され、周辺領域ＰＡには絶縁部材２５３が形成される。絶縁部材２５３は、周辺領域ＰＡでゲート駆動回路１６０（図１３に示される）の第１領域Ｂ１と対応する。これによって、カラーフィルタ基板２５０が完成される。
図１３及び図１４を参照すると、完成されたカラーフィルタ基板２５０は、周辺領域ＰＡにシーラント３５０を介在した状態で、アレイ基板１５０と向かい合う。従って、カラーフィルタ基板２５０とアレイ基板１５０は、シーラント３５０によって結合される。
シーラント３５０は、絶縁部材２５３が形成されない周辺領域ＰＡに形成されて、ゲート駆動回路１６０の第２領域Ｂ２と対応する。
このように、絶縁部材２５３及びシーラント２５１は、共通電極２４０とゲート駆動回路１６０を電気的に絶縁させながら、共通電極２４０とゲート駆動回路１６０との間で生成される寄生キャパシタンスを減少させる。
【００３７】
［実施例５］
図１６は、本発明の実施例５による透過形液晶表示装置を示した断面図であり、図１７は、図１６に図示されたアレイ基板を具体的に示した平面図である。
図１６及び図１７を参照すると、本発明の実施例５による透過形液晶表示装置６００は、アレイ基板１５０、アレイ基板１５０と向かい合うカラーフィルタ基板２５０、アレイ基板１５０とカラーフィルタ基板２５０との間に介在される液晶層３００、及び、アレイ基板１５０とカラーフィルタ基板２５０を結合させるための結合部材（以下、シーラント３５０）を含む。
アレイ基板１５０は、画像を表示する表示領域ＤＡ及び表示領域ＤＡに隣接する周辺領域ＰＡで構成される。
【００３８】
表示領域ＤＡには、多数の画素がマトリックス形態に形成される。多数の画素それぞれは、第１方向に延長されたデータラインＤＬと第１方向と直交する第２方向に延長されたゲートラインＧＬに接続されたＴＦＴ１１０及びＴＦＴ１１０に結合され、透明性導電物質からなる画素電極１２０を含む。ＴＦＴ１１０は、ゲート電極がゲートラインＧＬに接続され、ソース電極がデータラインＤＬに接続され、ドレイン電極が画素電極１２０に接続された構成を有する。
周辺領域ＰＡは、表示領域ＤＡに画像を具現化するための駆動回路１６０を配置するための駆動領域ＤＲＡ及びシーラント３５０が配置され、表示領域ＤＡを囲んだシールライン領域ＳＬＡを具備する。
【００３９】
駆動領域ＤＲＡに対応して、アレイ基板１５０には、ゲート駆動回路１６０及びデータ駆動回路１６１がそれぞれ形成される。ゲート駆動回路１６０は、シールライン領域ＳＬＡに対応して配置される接続配線１６５を通して、表示領域ＤＡに配置されるゲートラインＧＬの一端に接続される。これにより、ゲート駆動回路１６０は、ゲートラインＧＬにゲート駆動信号を提供する。ゲート駆動回路１６０は、表示領域ＤＡに具備されるＴＦＴ１１０と同一工程を通してアレイ基板１５０上に形成される。
データ駆動回路１６１は、データラインＤＬの一端に接続され、データラインＤＬを介して画像信号を提供する。データ駆動回路１６１は、チップ形態で具備されて、アレイ基板１５０を完成させた後に、アレイ基板１５０上に組立てられる。
【００４０】
カラーフィルタ基板２５０は、遮光膜２１０、カラーフィルタ２２０、平坦化膜２３０及び共通電極２４０を含む。カラーフィルタ基板２５０には、遮光膜２１０及びカラーフィルタ２２０が形成され、カラーフィルタ２２０及び遮光膜２１０上には、平坦化膜２３０が具備される。平坦化膜２３０上には、透明性導電物質からなる共通電極２４０が均一な厚さで積層される。
カラーフィルタ基板２５０とアレイ基板１５０との間に、セルギャップ保持部材２５１が介在される。セルギャップ保持部材２５１は、共通電極２４０上に具備されて、アレイ基板１５０とカラーフィルタ基板２５０との間を離隔させる。
【００４１】
シーラント３５０は、シールライン領域ＳＬＡにおいて、アレイ基板１５０とカラーフィルタ基板２５０を結合させる。アレイ基板１５０とカラーフィルタ基板２５０がそれぞれ完成すると、アレイ基板１５０とカラーフィルタ基板２５０は、シーラント３５０によって堅固に結合される。アレイ基板１５０とカラーフィルタ基板２５０が結合されると、共通電極２４０は、表示領域ＤＡにおいて画素電極１２０と互いに向かい合うだけではなく、周辺領域ＰＡにおいてゲート駆動回路１６０と互い向かい合う。
シールライン領域ＳＬＡが表示領域ＤＡと駆動領域ＤＲＡとの間に具備されるので、ゲート駆動回路１６０は、シーラント３５０によって封入されなく大気状態に露出される。従って、駆動領域ＤＲＡに対応して形成される共通電極２４０とゲート駆動回路１６０との間には、液晶３００が介在されない。
【００４２】
共通電極２４０とゲート駆動回路１６０との間に発生される寄生キャパシタンスは、２つの間に介在された誘電体や誘電率に比例する。共通電極２４０とゲート駆動回路１６０との間には、液晶３００より顕著に低い誘電率を有する大気が介在されることによって、共通電極２４０とゲート駆動回路１６０との間に生成される寄生キャパシタンスを減少させることができる。
図示しなかったが、ゲート駆動回路１６０上には、ゲート駆動回路１６０が大気状態に露出されることによって異物に汚染されることを防止するための、異物防止膜が形成される。
【００４３】
［実施例６］
図１８は、本発明の実施例６による透過形液晶表示装置を示す断図面である。図１８では、図１６に示された構造要素と同一な構成要素については同一な参照符号を付し、それについての説明は省略する。
図１８を参照すると、本発明の実施例６による透過形液晶表示装置７００のアレイ基板１５０は、多数の画素がマトリックス形態に具備される表示領域ＤＡ、及び表示領域ＤＡの周辺に位置する周辺領域ＰＡに構成される。周辺領域ＰＡは、ゲート駆動回路１６０が形成される駆動領域ＤＲＡ、及び表示領域ＤＡと駆動領域ＤＲＡとの間に形成されシーラント３５０が配置されるシールライン領域で区分される。
一方、カラーフィルタ基板２５０は、表示領域ＤＡ及びシーラント領域ＳＬＡに対応するように形成される。従って、カラーフィルタ基板２５０上には、共通電極２４０が全体的に形成されるものの、共通電極２４０はゲート駆動回路１６０とは互いに向かい合わない。
従って、アレイ基板１５０とカラーフィルタ基板２５０が結合した後にも、ゲート駆動回路１６０は共通電極２４０と向かい合わないので、共通電極２４０とゲート駆動回路１６０との間で寄生キャパシタンスが生成されることを防止することができる。
【００４４】
［実施例７］
図１９は、本発明の実施例７による半透過型液晶表示装置を示した断図面である。
図１９を参照すると、本発明の実施例７による半透過型液晶装置９００のアレイ基板１５０は、画像を表示するための表示領域ＤＡ、表示領域ＤＡの周辺で表示領域ＤＡを駆動するための駆動領域ＤＲＡ、及び表示領域ＤＡと駆動領域ＤＲＡとの間に具備されシーラント３５０が配置されるシールライン領域ＳＬＡで構成される。
アレイ基板１５０の表示領域ＤＡには、ＴＦＴ１１０、有機絶縁膜１８０、ＴＦＴ１１０に接続される透明電極１７０及び反射電極１９０が形成される。第１基板１５０上にＴＦＴ１１０が形成されると、ＴＦＴ１１０上に有機絶縁膜１８０が所定の厚さで積層される。有機絶縁膜１８０は、ドレイン電極１１３と透明電極１７０が接触される部分をカバーし、透過電極１７０の一部分を露出させるための開口窓１８１を具備する。開口窓１８１は、ＴＦＴ１１０及び透過電極１７０が接触される部分を除外した領域に形成される。また、有機絶縁膜１８０の表面には、多数の凹凸１８５が具備され、以後に有機絶縁膜１８０上に積層される反射電極１９０の効率を向上させる。
【００４５】
次に、有機絶縁膜１８０上には反射電極１９０が均一な厚さに形成される。このとき、反射電極１９０は、開口窓１８１を通して透明電極１７０と電気的に接続される。
アレイ基板１５０の駆動領域ＤＲＡには、ＴＦＴ１１０と同一な工程によって形成されたゲート駆動回路１６０が具備される。ゲート駆動回路１６０は、シールライン領域ＳＬＡに配置される接続配線１６５を通して表示領域ＤＡと電気的に接続される。図示されたように、ゲート駆動回路１６０は、表示領域ＤＡに形成された有機絶縁膜１８０によって全体的にカバーされる。従って、ゲートと駆動回路１６０が大気状態に露出されないように保護する。
シールライン領域ＳＬＡに対応する有機絶縁膜１８０が除去されることによって、シーラント３５０とアレイ基盤１５０との結合力を向上できる。シールライン領域ＳＬＡに対応する有機絶縁膜１８０を除去する工程は、表示領域ＤＡに開口窓１８１を形成する工程と同一条件及び時間で行われるので、工程及びマスクが追加されない。
カラーフィルタ基板２５０は、表示領域ＤＡ及びシールラインＳＬＡに対応するように形成される。アレイ基板１５０とカラーフィルタ基板２５０が結合された後にも、ゲート駆動回路１６０はカラーフィルタ基板２５０上の共通電極２４０と互いに向かい合わない。従って、共通電極２４０とゲート駆動回路１６０との間で寄生キャパシタンスが生成されることを防止できる。
【００４６】
［実施例８］
図２０は、本発明の実施例８による半透過型液晶表示装置を具体的に示した断面図である。
図２０を参照すると、本発明の実施例８による半透過型液晶表示装置８００のアレイ基板１５０は、画像を表示する表示領域ＤＡ、表示領域ＤＡに駆動信号を提供して表示領域ＤＡを駆動するためのゲート駆動領域ＧＤＡ及びデーダ駆動領域（未図示）で構成される。
表示領域ＤＡには、多数の画素がマトリックス形態で具備される。多数の画素それぞれは、第１方向に延長されたデータラインＤＬと第１方向と直交する第２方向に延長されたゲートラインＧＬに接続されたＴＦＴ１１０、透明電極１７０及び反射電極１９０を含む。ＴＦＴ１１０には、ＩＴＯまたはＩＺＯからなる透明電極１７０及び透明電極１７０上に形成された反射電極１９０が、電気的に接続される。
【００４７】
ＴＦＴ１１０と透明電極１７０との間には、有機絶縁膜１３０が介在される。有機絶縁膜１３０には、ＴＦＴ１１０のドレイン電極を露出させるためのコンタクトホール１３１が形成される。従って、透明電極１７０は、コンタクトホール１３１を通じてドレイン電極と電気的に接続される。
ゲート駆動領域ＧＤＡには、ゲート駆動回路が、表示領域ＤＡに具備されるＴＦＴ１１０と同一工程条件及び時間で形成される。ゲート駆動回路は、ゲートラインＧＬの一端に接続されてゲートラインＧＬにゲート駆動信号を出力する。一方、データ駆動領域には、チップ形態で具備されるデータ駆動回路がボンディング工程によって付着される。従って、ゲートラインＧＬにゲート駆動信号が出力されると、データ駆動回路は、データラインＤＬに画像信号を出力する。
【００４８】
図２０に示されたように、ゲート駆動領域ＧＤＡには、ＴＦＴ１１０のゲート電極１１１と同時にパターニングされる第１導電パターン１１４が形成される。また、ゲート駆動領域ＧＤＡには、ソース及びドレイン電極１１２、１１３と同時にパターニングされる第２導電パターン１１５が形成される。第１導電パターン１１４と第２導電パターン１１５は、ゲート絶縁膜１１６によって互いに電気的に絶縁される。
第２導電パターン１１５及びゲート絶縁膜１１６上には、有機絶縁膜１３０が具備される。有機絶縁膜１３０は、表示領域ＤＡからゲート駆動領域ＧＤＡまで延長されて形成される。ゲート駆動領域ＧＤＡに形成された有機絶縁膜１３０には、第一導電パターン１１４を露出させるための第１コンタクトホール１４１及び第２導電パターン１１５を露出させるための第２コンタクトホール１４３が形成される。
また、ゲート端子絶縁膜１１６には、第１コンタクトホール１４１に対応する位置に、第１導電パターン１１４を露出させるための第３コンタクトホールが形成される。
【００４９】
第１コンタクトホール１４１及び第３コンタクトホールによって露出される第１導電パターン１１４、第２コンタクトホール１４３によって露出される第２導電パターン１１５、及び有機絶縁膜１３０上には、導電膜１４０が形成される。導電膜１４０は、第１及び第２導電パターン１１４、１１５と電気的にそれぞれ接続され、第１導電パターン１１４と第２導電パターン１１５を電気的に接続させる。
導電膜１４０は、ＩＴＯまたはＩＺＯからなり、透明電極１７０と同時にパターニングされ、アルミニウムまたはアルミニウム合金からなって、反射電極１９０と同時にパターニングされることもできる。
【００５０】
図２１は、図２０に図示されたゲート駆動回路を具体的に示した図面である。
図２０及び図２１を参照すると、ゲート駆動回路は、多数のステージが従属的に接続された一つのシフトレジスタからなる。各ステージの出力端子は、表示領域に形成されるゲートラインＧＬに接続される。
各ステージは、第１〜第７ＮＭＯＳトランジスタＮＴ１、ＮＴ２、ＮＴ３、ＮＴ４、ＮＴ５、ＮＴ６、ＮＴ７及びキャパシタＣで構成される。第１〜第７ＮＭＯＳトランジスタＮＴ１〜ＮＴ７及びキャパシタＣは、互いに有機的に結合される。具体的には、各ステージは、第１〜第７ＮＭＯＳトランジスタ（ＮＴ１〜ＮＴ７）を構成するゲート電極及びゲート電極から延長された第１配線からなる第１導電パターン１１４を含む。また、各ステージは、第１〜第７ＮＭＯＳトランジスタ（ＮＴ１〜ＮＴ７）のソース及びドレイン電極１１５ａ、１１５ｂ、これら電極から延長された第２配線からなった第２導電パターン１１５を含む。
第１及び第２導電パターン１１４、１１５は、ゲート絶縁膜１１６を間において互いに絶縁されるだけではなく、第２導電パターン１１５上には有機絶縁膜１３０が形成されるので、各ステージは、第１導電パターン１１４と第２導電パターン１１５を電気的に接続する導電膜１４０を必要とする。
【００５１】
各ステージは、第１ＮＭＯＳトランジスタＮＴ１のゲート電極と第３ＮＭＯＳトランジスタＮＴ３のソース電極を接続させるための第１コンタクト領域ＣＯＮ１、第２ＮＭＯＳトランジスタＮＴ２のゲート電極と第７ＮＭＯＳトランジスタＮＴ７のドレイン電極を接続させるための第２コンタクト領域ＣＯＮ２、第７ＮＭＯＳトランジスタＮＴ７のゲート電極と第３ＮＭＯＳトランジスタＮＴ３のソース電極を接続させるための第３コンタクト領域ＣＯＮ３、第２ＮＭＯＳトランジスタＮＴ２のゲート電極と第６ＮＭＯＳトランジスタＮＴ６のソース電極を接続させるための第４コンタクト領域ＣＯＮ４、及び第６ＮＭＯＳトランジスタＮＴ６のゲート電極と第６ＮＭＯＳトランジスタＮＴ６のドレイン電極を接続させるための第５コンタクト領域ＣＯＮ５を含む。導電膜１４０は、第１及び第５コンタクト領域ＣＯＮ１〜ＣＯＮ５に対応するように形成される。
【００５２】
具体的には、第３コンタクト領域ＣＯＮ３において、第７ＮＭＯＳトランジスタＮＴ７のゲート電極は、第３ＮＭＯＳトランジスタＮＴ３のソース電極と電気的に接続される。ソース及びドレイン電極上に具備される有機絶縁膜１３０には、第７ＮＭＯＳトランジスタＮＴ７のゲート電極を露出させるための第１コンタクトホール１４１が形成され、第３ＮＭＯＳトランジスタＮＴ３のソース電極を露出させるための第２コンタクトホールが形成される。導電膜１４０は、第１及び第２コンタクトホール１４１、１４３を通して第３ＮＭＯＳトランジスタＮＴ３のソース電極にそれぞれ接続される。従って、導電膜１４０は、第７ＮＭＯＳトランジスタＮＴ７のゲート電極と第３ＮＭＯＳトランジスタＮＴ３のソース電極を電気的に接続させる。
【００５３】
図２２は、図２０に図示されたカラーフィルタ基板の平面図である。
図２０及び図２２を参照すると、カラーフィルタ基板２５０は、遮光膜２１０、カラーフィルタ２２０、平坦化膜２３０、共通電極２４０、セルギャップ保持部材２５１、及び絶縁部材２７０を含む。
カラーフィルタ基板２５０上に遮光膜２１０及びカラーフィルタ２２０が形成されると、カラーフィルタ２２０及び遮光膜２１０上には、遮光膜２１０とカラーフィルタ２２０との間で発生される段差を減少させるための平坦化膜２３０が形成される。そして、平坦化膜２３０上に、透明性導電物質であるＩＴＯまたはＩＺＯからなった共通電極２４０が均一な厚さで積層される。
共通電極２４０上には、セルギャップ保持部材２５１及び絶縁部材２７０がそれぞれ具備される。セルギャップ保持部材２５１は、表示領域ＤＡ内に具備されて、アレイ基板１５０とカラーフィルタ基板２５０との間を所定の間隔だけ離隔させる。
【００５４】
一方、絶縁部材２７０は、導電膜１４０が形成された第１〜第５コンタクト領域ＣＯＮ１〜ＣＯＮ５に対応するように形成される。即ち、絶縁部材２７０は、第１〜第５コンタクト領域ＣＯＮ１〜ＣＯＮ５に形成された導電膜１４０とカラーフィルタ基板２５０上に具備された共通電極２４０との間に介在されて、導電膜１４０と共通電極２４０を電気的に絶縁させる。
従って、絶縁部材２７０は、液晶表示装置８００に外力が加わっても、導電膜１４０と共通電極２４０がショートされる現象を防止することができる。また絶縁部材２７０は、液晶層３００より低い誘電率を有することによって、導電膜１４０と共通電極２４０との間に生成される寄生キャパシタンスを減少させることができる。
絶縁部材２７０は、セルギャップ保持部材２５１と同一な物質であるので、セルギャップ保持部材２５１と同時にパターニングされる。
【００５５】
図２０に示されたように、第２コンタクト領域ＣＯＮ２の第１幅Ｗ１は、絶縁部材２７０の第２幅Ｗ２より小さい。具体的に第１幅Ｗ１は第２幅Ｗ２より約０．１μｍぐらい小さい。第２幅Ｗ２が第１幅Ｗ１より大きいことは、絶縁部材２７０が形成された領域の面積より第２コンタクト領域ＣＯＮ２の面積が大きいことを意味する。
このように、絶縁無部材２７０が形成された領域の面積が第２コンタクト領域ＣＯＮ２の面積より大きいので、導電膜１４０が共通電極２４０と向かい合わないように完全にカバーできる。これにより、導電膜１４０と共通電極２４０との間の寄生キャパシタンスの生成を抑制させる。
【００５６】
上述した本発明による上部基板及びこれを有する液晶表示装置においては、下部基板の駆動部と上部基板の共通電極との間に液晶層より低い誘電率を有する絶縁膜及び空気層を介在している。従って、駆動部と共通電極の間に寄生キャパシタンスが生成されるのを抑制することができるので、ゲート駆動回路の誤動作が防止でき、これによって液晶表示装置の表示特性を向上させることができる。
また、ゲート駆動回路と共通電極が電気的にショートされる現象が防止でき、よって液晶表示装置の表示特性を向上させることができる。
【符号の説明】
【００５７】
１００  ＴＦＴ
１１０  ＴＦＴ
１１１  ゲート電極
１１２  ソース電極
１１３  ドレイン電極
１１４  第１導電パターン
１１５  第２導電パターン
１１５ａ  ドレイン電極
１１６  ゲート絶縁膜
１３０  有機絶縁膜
１４０  導電膜
１４１  第１コンタクトホール
１４３  第２コンタクトホール
１５０  アレイ基板
１６０  ゲート駆動回路
１６１  データ駆動回路
１７０  透明電極
１７５ａ  コンタクトホール
１８０  有機絶縁膜
１８１  開口窓
１８５  凹凸
１９０  反射電極
２１０  遮光膜
２２０  カラーフィルタ
２３０  平担化膜
２４０  共通電極
２５０  カラーフィルタ基板
２５１  セルギャップ保持部材
２５２  絶縁部材
２６０  感光膜
２６６ａ  開口窓
３００  液晶層
３５０  シーラント
４００  透過形液晶表示装置
ＤＬ  データライン
ＧＬ  ゲートライン
Ｄ１  第１セルギャップ
Ｄ２  第２セルギャップ
Ｌ１  第１光
Ｌ２  第２光
ＲＡ  反射領域
ＴＡ  透過領域
Ｂ１  第１領域
Ｂ２  第２領域
ＳＬＡ  シールライン領域
【図１】
2010170156.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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