(57)【要約】      （修正有）【課題】塗布膜に含有される添加物の蒸発や昇華を抑制しつつ、塗布膜に含有される溶媒を迅速に乾燥することができる。【解決手段】高分子塗布液を支持体に塗布した塗布膜の乾燥装置において、塗布膜温度が第１添加物の融点未満になるように熱風乾燥装置２８の乾燥条件をフィードバック制御する第１制御手段４７と、乾燥点に到達した直後に、第１溶媒よりも分子体積の小さな第２溶媒の蒸気含有熱風を用いて塗布膜を乾燥する蒸気乾燥装置２９と、蒸気乾燥装置２９における塗布膜温度を測定する第２温度センサ５１と、第２温度センサ５１の測定結果に基づいて、塗布膜温度が前記第１添加物の融点未満になるように蒸気乾燥装置２９の乾燥条件をフィードバック制御する第２制御手段５３と、を備える。【選択図】図２
2010155203.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
高分子樹脂材料を少なくとも１種類の溶媒に溶解した高分子溶液中に少なくとも１種類の添加物を含有させた高分子塗布液を支持体に塗布した塗布膜の乾燥方法において、
前記溶媒のうちの最もモル体積の大きな溶媒を第１溶媒とし、前記添加物のうちの最も融点の低い添加物を第１添加物としたときに、
前記塗布膜を前記第１添加物の融点未満の塗布膜温度で乾燥点まで熱風乾燥する熱風乾燥工程と、
前記乾燥点に到達した直後に、前記第１溶媒よりもモル体積の小さな第２溶媒の蒸気含有熱風を用いて前記塗布膜を前記第１添加物の融点未満の塗布膜温度で乾燥する蒸気乾燥工程と、を備えたことを特徴とする塗布膜の乾燥方法。
【請求項２】
前記蒸気乾燥工程では、Ｔｄ：前記乾燥点における塗布膜温度［℃］、Ｃ：第２溶媒の溶媒蒸気量［ｇ／ｍ３］、ＰＴd：塗布膜温度Ｔｄにおける第２溶媒の 飽和蒸気量［Ｐａ］、Ｒ：気体定数、Ｍ：第２溶媒の分子量、Ｔｍ：前記第１添加物の融点としたときに、式１及び式２を満たすことを特徴とする請求項１に記載の塗布膜の乾燥方法。
０．２５≦Ｃ×Ｒ（２７３．１５＋Ｔｄ）／（ＰＴｄ×Ｍ）＜１．０…式１、
Ｔｍ＞Ｔｄ…式２
【請求項３】
前記塗布膜は平版印刷版の画像形成層であって、前記添加物は画像形成層の感度向上のための添加物であることを特徴とする請求項１又は２に記載の塗布膜の乾燥方法。
【請求項４】
高分子樹脂材料を少なくとも１種類の溶媒に溶解した高分子溶液中に少なくとも１種類の添加物を含有させた高分子塗布液を支持体に塗布した塗布膜の乾燥装置において、
前記塗布膜を乾燥点まで熱風乾燥する熱風乾燥装置と、
前記熱風乾燥装置における塗布膜温度を測定する第１温度センサと、前記第１温度センサの測定結果に基づいて、前記溶媒のうちの最もモル体積の大きな溶媒を第１溶媒とし、前記添加物のうちの最も融点の低い添加物を第１添加物としたときに、前記塗布膜温度が前記第１添加物の融点未満になるように前記熱風乾燥装置の乾燥条件をフィードバック制御する第１制御手段と、
前記乾燥点に到達した直後に、前記第１溶媒よりもモル体積の小さな第２溶媒の蒸気含有熱風を用いて前記塗布膜を乾燥する蒸気乾燥装置と、
前記蒸気乾燥装置における塗布膜温度を測定する第２温度センサと、
前記第２温度センサの測定結果に基づいて、前記塗布膜温度が前記第１添加物の融点未満になるように前記蒸気乾燥装置の乾燥条件をフィードバック制御する第２制御手段と、を備えたことを特徴とする塗布膜の乾燥装置。
【請求項５】
前記第２制御手段は、Ｔｄ：前記乾燥点における塗布膜温度［℃］、Ｃ：第２溶媒の溶媒蒸気量［ｇ／ｍ３］、ＰＴｄ：塗布膜温度Ｔｄにおける第２溶媒の飽和蒸気量［Ｐａ］、Ｒ：気体定数、Ｍ：第２溶媒の分子量、Ｔｍ：前記第１添加物の融点としたときに、式１及び式２を満たすように前記蒸気乾燥装置をフィードバック制御することを特徴とする請求項４に記載の塗布膜の乾燥装置。
０．２５≦Ｃ×Ｒ（２７３．１５＋Ｔｄ）／（ＰＴｄ×Ｍ）＜１．０…式１、
Ｔｍ＞Ｔｄ…式２
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は比較的低分子の添加物が含有された塗布膜の乾燥方法及び装置に係り、特に平版印刷版を製造する際の画像形成層の乾燥技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
平版印刷版は、支持体ウエブやベースフィルム、バライタ紙などの帯状体を一定方向に走行させつつ、感光層形成液や感熱層形成液等の塗布液を塗布して塗布膜を形成し、これを乾燥させた後、必要に応じて所定の寸法に裁断することにより製造される。
【０００３】
かかる製造工程においては、塗布膜中に溶媒（有機溶剤等）の不純物が含まれていると塗布膜の性能に悪影響を及ぼすため、乾燥工程において溶媒を十分に乾燥除去する必要がある。従来、塗布膜中の溶媒の乾燥には、塗布膜を熱風乾燥する一般的な乾燥技術が用いられている（例えば特許文献１）。
【０００４】
しかし、溶媒が高沸点溶媒である場合、それらを乾燥除去するためには長時間かつ高温熱風が必要であるが、長時間にわたる高温加熱は塗布膜の品質劣化や熱分解を引き起こす可能性がある。この問題を解決するための方法として、低沸点溶媒蒸気による蒸気含有熱風を使った乾燥方式が提案されている（例えば特許文献２）。この方式では、蒸気含有熱風を使用することにより、通常の熱風乾燥方式よりも低温かつ迅速に塗布膜中の高沸点溶媒を除去できる。
【特許文献１】特開２００４−２０５７２０号公報
【特許文献２】国際公開番号２００７／１３６００５号
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献２の乾燥方法は、その乾燥除去能力の強さゆえに、例えば平版印刷版の画像形成層のように塗布膜中に比較的低分子の添加物が存在する場合、添加物も蒸発あるいは昇華してしまい、画像形成層の性能低下や、除去された添加物が製造工程の壁面等で再凝縮し工程汚染を引き起こす等の問題が発生する。
【０００６】
したがって、不純物である溶媒だけが短時間で迅速に乾燥除去され、必要な添加物は塗布膜内に留めておくことのできる塗布膜の乾燥方法や装置が要望されている。しかし、従来の特許文献１及び２による乾燥では、溶媒の迅速な乾燥と、添加物を蒸発（又は昇華）防止とを両立させることはできない。
【０００７】
本発明はこのような事情に鑑みて成されたもので、塗布膜に含有される添加物の蒸発や昇華を抑制しつつ、塗布膜に含有される溶媒を迅速に乾燥することができる塗布膜の乾燥方法及び装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者は、上記課題について鋭意研究した結果、次の知見を得た。
【０００９】
（１）乾燥時における塗布膜の到達温度が添加物の融点以上になると、溶媒だけでなく添加物も多量に蒸発あるいは昇華して除去されてしまう。
【００１０】
（２）しかし、熱風乾燥のような通常の乾燥方式で、塗布膜の到達温度を添加物の融点未満まで下げた低温乾燥条件で乾燥を行うと、溶媒、特に高沸点溶媒を除去するのに長時間を必要とし、生産性が著しく低下する。
【００１１】
（３）一方、単純に低沸点溶媒蒸気による蒸気含有熱風を使用するだけでは、高い乾燥能力を維持しつつ到達温度を制御できない。
【００１２】
（４）そこで、溶媒の迅速な乾燥と、添加物の蒸発（又は昇華）防止とを両立させるには、乾燥時の添加物の状態を固体状態に維持し、且つ乾燥点以降において乾燥能力の大きな蒸気含有熱風を使用することが重要になる。これは、添加物の固体状態での蒸気圧と液体状態での蒸気圧とは大きな差があること、及び乾燥点以降の塗布膜中の固形分濃度が大きな高粘度状態では、乾燥能力の大きな蒸気含有熱風でも添加物が蒸発や昇華されにくいことが考察される。
【００１３】
ここで、乾燥点とは、塗布膜を布で触れて布に塗工液が付着しない状態、表面光沢度が変化しない状態、又は、固形分濃度が６０％以上好ましくは７０％〜８０％の状態の乾燥状態を言う。
【００１４】
本発明は以上の知見に基づいてなされたものである。
【００１５】
請求項１に記載の発明は前記目的を達成するために、高分子樹脂材料を少なくとも１種類の溶媒に溶解した高分子溶液中に少なくとも１種類の添加物を含有させた高分子塗布液を支持体に塗布した塗布膜の乾燥方法において、前記溶媒のうちの最もモル体積の大きな溶媒を第１溶媒とし、前記添加物のうちの最も融点の低い添加物を第１添加物としたときに、前記塗布膜を前記第１添加物の融点未満の塗布膜温度で乾燥点まで乾燥する熱風乾燥工程と、前記乾燥点に到達した直後に、前記第１溶媒よりもモル体積の小さな第２溶媒の蒸気含有熱風を用いて前記塗布膜を前記第１添加物の融点未満の塗布膜温度で乾燥する蒸気乾燥工程と、を備えたことを特徴とする塗布膜の乾燥方法を提供する。
【００１６】
ここで、添加物とは、常温（２０℃）で固体のもの又はその溶液を指し、その物質の融点が常温を下回る液体のものは含まない。そして、第１添加物とは、複数の添加物を使用したときに、その中で最も融点の低い添加物を第１添加物という。したがって、１つの添加物を使用した場合には、その添加物が第１添加物となる。
【００１７】
請求項１の発明によれば、熱風乾燥工程で塗布膜の乾燥点まで通常の熱風乾燥をした直後に、蒸気乾燥工程で塗布膜中に含有される第１溶媒よりもモル体積の小さな第２溶媒の蒸気含有熱風を用いて塗布膜を乾燥することにより、短時間で溶媒を乾燥除去することができる。
【００１８】
また、第１及び蒸気乾燥工程では、塗布膜温度を添加物のうちの最も融点の低い融点温度未満で乾燥すると共に、乾燥点以後、即ち塗布膜の固形分濃度が大きくなって粘度が上昇した以後に蒸気含有熱風を用いるので、添加物の蒸発や昇華を極力抑制することができる。
【００１９】
これにより、塗布膜に含有される添加物の蒸発や昇華を抑制しつつ、塗布膜に含有される溶媒を迅速に乾燥することができる。したがって、高温乾燥における添加物の蒸発や昇華を気にすることが不要となると共に、添加物の使用量を少なくできるのでコストダウンにつながる。
【００２０】
尚、一般的に、モル体積は分子体積と相関関係があることから、モル体積を分子体積で表現することも可能である。
【００２１】
請求項２は請求項１において、前記蒸気乾燥工程では、Ｔｄ：前記乾燥点における塗布膜温度［℃］、Ｃ：第２溶媒の溶媒蒸気量［ｇ／ｍ３］、ＰＴｄ：塗布膜温度Ｔｄにおける第２溶媒の飽和蒸気量［Ｐａ］、Ｒ：気体定数、Ｍ：第２溶媒の分子量、Ｔｍ：前記第１添加物の融点としたときに、式１及び式２を満たすことを特徴とする。
【００２２】
０．２５≦Ｃ×Ｒ（２７３．１５＋Ｔｄ）／（ＰＴｄ×Ｍ）＜１．０…式１、
Ｔｍ＞Ｔｄ…式２
請求項２は、蒸気乾燥工程での好適な乾燥条件を、乾燥に関与するパラメータ同士の関係式で示したものである。即ち、蒸気乾燥工程において式１及び式２を満たす乾燥条件で乾燥することで、塗布膜に含有される添加物の蒸発や昇華を抑制しつつ、塗布膜に含有される溶媒を迅速に乾燥する操作を一層効果的に行うことができる。
【００２３】
請求項３は請求項１又は２において、前記塗布膜は平版印刷版の画像形成層であって、前記添加物は画像形成層の感度向上のための添加物であることを特徴とする。
【００２４】
塗布膜が平版印刷版の画像形成層であって、添加物が画像形成層の感度向上のための使用する比較的低分子の添加物である場合において、本発明は特に有効だからである。
【００２５】
請求項４に記載の発明は前記目的を達成するために、高分子樹脂材料を少なくとも１種類の溶媒に溶解した高分子溶液中に少なくとも１種類の添加物を含有させた高分子塗布液を支持体に塗布した塗布膜の乾燥装置において、前記塗布膜を乾燥点まで乾燥する熱風乾燥装置と、前記熱風乾燥装置における塗布膜温度を測定する第１温度センサと、前記第１温度センサの測定結果に基づいて、前記溶媒のうちの最もモル体積の大きな溶媒を第１溶媒とし、前記添加物のうちの最も融点の低い添加物を第１添加物としたときに、前記塗布膜温度が前記第１添加物の融点未満になるように前記熱風乾燥装置の乾燥条件をフィードバック制御する第１制御手段と、前記乾燥点に到達した直後に、前記第１溶媒よりもモル体積の小さな第２溶媒の蒸気含有熱風を用いて前記塗布膜を乾燥する蒸気乾燥装置と、前記蒸気乾燥装置における塗布膜温度を測定する第２温度センサと、前記第２温度センサの測定結果に基づいて、前記塗布膜温度が前記第１添加物の融点未満になるように前記蒸気乾燥装置の乾燥条件をフィードバック制御する第２制御手段と、を備えたことを特徴とする塗布膜の乾燥装置を提供する。
【００２６】
ここで、乾燥点の意味は上記と同様である。また、塗布膜温度を測定する第１及び第２温度センサとしては、非接触の放射型温度計や熱画像装置を好適に使用できる。
【００２７】
請求項４は、本発明を装置発明として構成したものであり、熱風乾燥装置での乾燥点までの乾燥において、第１制御手段は、第１温度センサの測定結果に基づいて、溶媒のうちの最もモル体積の大きな溶媒を第１溶媒とし、添加物のうちの最も融点の低い添加物を第１添加物としたときに、塗布膜温度が第１添加物の融点未満になるように熱風乾燥装置の乾燥条件をフィードバック制御するようにした。また、蒸気乾燥装置の蒸気含有熱風での乾燥において、第２制御手段は、第２温度センサの測定結果に基づいて、前記塗布膜温度が前記第１添加物の融点未満になるように前記蒸気乾燥装置の乾燥条件をフィードバック制御するようにした。
【００２８】
これにより、塗布膜に含有される添加物の蒸発や昇華を抑制しつつ、塗布膜に含有される溶媒を迅速に乾燥することができる。
【００２９】
請求項５は請求項４において、前記第２制御手段は、Ｔｄ：前記乾燥点における塗布膜温度［℃］、Ｃ：第２溶媒の溶媒蒸気量［ｇ／ｍ３］、ＰＴｄ：塗布膜温度Ｔｄにおける第２溶媒の飽和蒸気量［Ｐａ］、Ｒ：気体定数、Ｍ：第２溶媒の分子量、Ｔｍ：前記第１添加物の融点としたときに、式１及び式２を満たすように前記蒸気乾燥装置をフィードバック制御することを特徴とする。
【００３０】
０．２５≦Ｃ×Ｒ（２７３．１５＋Ｔｄ）／（ＰＴｄ×Ｍ）＜１．０…式１、
Ｔｍ＞Ｔｄ…式２
請求項５は、蒸気乾燥装置での好適な乾燥条件を、乾燥に関与するパラメータ同士の関係式で示したものである。第２制御手段の中に式１及び式２を演算する演算器を搭載して、式１及び式２を満たすように、パラメータの少なくとも１つを制御するようにすればよい。
【発明の効果】
【００３１】
本発明の塗布膜の乾燥方法及び装置によれば、塗布膜に含有される添加物の蒸発や昇華を抑制しつつ、塗布膜に含有される溶媒を迅速に乾燥することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３２】
以下、添付図面に従って本発明に係る塗布膜の乾燥方法及び装置の好ましい実施の形態について説明する。
【００３３】
なお、以下の実施形態は、本発明を平版印刷版の製造ラインに適用した例で説明する。しかし、本発明は平版印刷版の技術分野に限定されるものではなく、溶媒、特にモル体積の大きな蒸発しにくい溶媒と、蒸発や昇華し易い比較的低分子の添加物を含有する塗布膜の乾燥を行う各種技術分野に適用可能である。
【００３４】
図１は、本発明の塗布膜の乾燥装置を、平版印刷版の製造装置１０のラインに組み込んだ図であり、同図の矢印Ａは帯状の支持体１６（例えばアルミニウム板）の搬送方向を示している。
【００３５】
図１に示すように、平版印刷版の製造装置１０は、主として、送り出し装置１２、表面処理部１４、塗布部１８、乾燥部２０、巻き取り装置２６で構成されている。送り出し装置１２には、ロール状に巻回された帯状の支持体１６が装着され、この支持体１６が送り出し装置１２から送り出される。送り出された支持体１６は、ガイドローラ２７にガイドされながら、表面処理部１４、塗布部１８、乾燥部２０に順に送られ、各種の処理が施された後、巻き取り装置２６によって巻き取られる。
【００３６】
なお、図１の構成は、平版印刷版の製造装置の一例であり、これに限定するものではない。たとえば塗布部１８の前段に下塗り塗布液を塗布する塗布部を設けてもよい。
【００３７】
次に、各工程部について説明する。
【００３８】
表面処理部１４は、塗布前の支持体１６に必要な各種の前処理を行う装置である。前処理としては、支持体１６と画像形成層との密着性を良好にし、且つ非画像部に保水性を与えるための脱脂処理や粗面化処理（砂目立て処理等）、支持体１６の耐摩耗性、耐薬品性、保水性を向上させるために表面に酸化被膜を形成させる陽極酸化処理、陽極酸化被膜の被膜強度、親水性、画像形成層との密着性を向上させるシリケート処理等がある。
【００３９】
塗布部１８は、画像形成層塗布液を支持体１６の表面に塗布する装置である。塗布方法としては、例えばスライドビード塗布方法、カーテン塗布方法、バー塗布方法、回転塗布方法、スプレー塗布方法、ディップ塗布方法、エアーナイフ塗布方法、ブレード塗布方法、ロール塗布方法等が使用され、中でもスライドビード塗布方法、カーテン塗布方法、バー塗布方法等が好ましく使用される。なお、図１ではバー塗布として図示している。
【００４０】
乾燥部２０は、支持体１６に形成された塗布膜（画像形成層）を乾燥させる装置である。塗布膜には、高分子樹脂材料を少なくとも１種類の溶媒に溶解した高分子溶液中に少なくとも１種類の添加物が含有されており、添加物の蒸発や昇華を抑制しつつ、塗布膜に含有される溶媒を迅速に乾燥することが平版印刷版原版の品質上、重要となる。ここで、塗布膜に含有される溶媒のうち最もモル体積の大きな溶媒を第１溶媒と称し、添加物のうちの最も融点の低い添加物を第１添加物と称することにする。
【００４１】
第１溶媒としては、モル体積で６０ｃｍ３／ｍｏｌ〜１６０ｃｍ３／ｍｏｌの範囲のものを好適に使用することができる。また、第１溶媒の沸点は１５０℃以上であることが好ましい。なお、第１溶媒の具体的化合物については後述する。
【００４２】
また、第１添加物としては、例えば、塗布膜（画像形成層）の感度を向上させる目的で添加する、環状酸無水物類、フェノール類、有機酸類を挙げることができるが、第１添加物の具体的化合物については後述する。
【００４３】
乾燥部２０は、熱風乾燥装置２８、蒸気乾燥装置２９、冷却部３０で構成される。これらの熱風乾燥装置２８、蒸気乾燥装置２９、冷却部３０はそれぞれトンネル式のボックス形状になっており、支持体１６がその内部を通過するように構成される。支持体１６は、まず、熱風乾燥装置２８で熱風が吹き付けられて乾燥点まで乾燥される。そして、蒸気乾燥装置２９において、第２溶媒を含む蒸気含有熱風が支持体１６に吹き付けられた後、冷却部３０で冷風が吹き付けられて冷却される。これにより、乾燥された塗布膜（画像形成層）が支持体１６上に形成される。
【００４４】
ところで、乾燥部２０の熱風乾燥装置２８は、図２に示すように、支持体１６の搬送方向に沿って形成されたボックス４０を備える。ボックス４０は、両端にスリット状の開口４０Ａ、４０Ｂを備え、この開口４０Ａ、４０Ｂを介して支持体１６がボックス４０内に搬入・搬出される。
【００４５】
ボックス４０内には、支持体１６の上方にチャンバ４２が設けられ、このチャンバ４２に乾燥空気を加熱器４３で加熱した熱風が給気される。チャンバ４２の下面には、多数のノズル４４が設けられており、このノズル４４から支持体１６の上面（塗布膜面）に熱風が吹き付けられる。
【００４６】
ボックス４０の下部には排気部４６が設けられ、排気部４６から排気が行われることによって、ボックス４０内に熱風のダウンフローが形成される。
【００４７】
また、支持体１６の塗布膜面側には、非接触の第１温度センサ４５が少なくとも１つ配設され、塗布膜温度（塗布膜面の温度）が測定される。図２では、ボックス４０の入口側、中央、出口側に合計３個の第１温度センサ４５を配置した例で示してある。第１温度センサ４５で測定された塗布膜温度は、第１制御手段４７に出力され、塗布膜温度がモニタリングされると共に、第１制御手段４７は塗布膜温度が塗布膜に含有される第１添加物（添加物のうちで最も融点の低い添加物）の融点Ｔｍ未満になるように加熱器を調整し、ノズル４４から吹き出す熱風温度をフィードバック制御する。第１温度センサ４５としては、非接触の放射型温度計や熱画像装置を好適に使用できる。
【００４８】
なお、２個の第１温度センサ４５をボックス４０の入口と出口に配置して、それぞれの第１温度センサ４５からの測定値に基づいてノズル４４から吹き出す熱風温度を独立して制御することが好ましい。例えば、入口側に配置した第１温度センサ４５の測定値に基づいて塗布膜面の温度と熱風温度との差による乾燥効率の制御に使用し、出口側に配置した第１温度センサ４５の測定値に基づいて塗布膜面の最高温度を監視して添加物の蒸発や昇華の防止を制御する。
【００４９】
この熱風乾燥装置２８では、塗布膜を第１添加物の融点Ｔｍ未満の塗布膜温度で乾燥点（布で触れて布に塗工液が付着しない状態、表面光沢度が変化しない状態、又は、固形分濃度が６０％以上好ましくは７０％〜８０％の状態）まで塗布膜の乾燥が実施される。乾燥された支持体１６は、ガイドローラ２７にガイドされて上下が反転した後、次の蒸気乾燥装置２９に送られる。
【００５０】
図３は蒸気乾燥装置２９に溶媒蒸気を給排気する蒸気給排気機構を示しており、蒸気乾燥装置２９には塗布膜に含有される前述の第１溶媒のモル体積よりも小さなモル体積の第２溶媒が給排気される。また、図４は蒸気乾燥装置２９の内部構成を示しており、図５は、図４の５−５線に沿う断面図である。
【００５１】
これらの図に示す蒸気乾燥装置２９は、支持体１６に塗布された塗布膜中の溶媒のうち、熱風乾燥装置２８で除去しきれなかった主としてモル体積の最も大きな第１溶媒を蒸発乾燥させる装置である。
【００５２】
第２溶媒としては、モル体積で１０ｃｍ３／ｍｏｌ〜９０ｃｍ３／ｍｏｌの範囲のものを好適に使用することができ、常温（約２０℃）で液体であることが好ましい。第２溶媒の沸点は３０℃〜１３０℃の範囲が好ましい。また、第１溶媒と第２溶媒とのモル体積の差は、４０ｃｍ３／ｍｏｌ以上あることが好ましい。なお、第２溶媒の具体的化合物については後述する。
【００５３】
第２溶媒として有機溶媒を使用する場合には、使用濃度が爆発範囲に入らない濃度とし、且つ、防爆対策を実施することが望ましい。
【００５４】
図４に示すように蒸気乾燥装置２９は、中空状のボックス５０を備え、このボックス５０の対向する側面にスリット状の開口５０Ａ、５０Ｂが形成される。支持体１６は、開口５０Ａからボックス５０内に入り、開口５０Ｂを介してボックス５０の外部に搬送される。ボックス５０の材質としては、例えばＳＵＳ（３０４、３０６、３１６等）や鉄（ＳＥＣＣ等）が好ましく、その内側にグラスウール、ロックウール、ＡＬＫ２４等の断熱材を設けてもよい。
【００５５】
ボックス５０の内部には、支持体１６の下側に蒸気含有熱風の供給部５２が設けられる。供給部５２は、中空状の箱型に形成されており、その内部には、図３に示す蒸気給排気機構によって、第１溶媒よりもモル体積の小さな第２溶媒の蒸気含有熱風が給気される。
【００５６】
蒸気給排気機構は、図３に示すように、タンク６２、ブロア６４、熱交換器６６、６８、７０を備え、タンク６２には第２溶媒が貯留される。タンク６２に貯留された第２溶媒は、熱交換器６６によって加熱されて蒸気となり、熱交換器６８で温度調節された後、ブロア６４から送気されて熱交換器７０で加温されたエアと混合され、供給部５２に給気される。
【００５７】
また、支持体１６の塗布膜面側（下面側）面には、非接触の第２温度センサ５１が少なくとも１つ配設され、塗布膜温度（塗布膜面の温度）が測定される。図３及び図４では、ボックス５０の中央位置に１個の第２温度センサ５１を配置した例で示してある。第２温度センサ５１で測定された塗布膜温度は、第２制御手段５３に出力され、塗布膜温度がモニタリングされると共に、第２制御手段５３は塗布膜温度が塗布膜に含有される第１添加物（添加物のうちで最も融点の低い添加物）の融点Ｔｍ未満になるように熱交換器６８、７０を調整し、供給部５２に給気する蒸気含有熱風の温度をフィードバック制御する。第２温度センサ５１としては、第１温度センサ４５と同様に、非接触の放射型温度計や熱画像装置を好適に使用できる。
【００５８】
なお、蒸気乾燥装置２９の場合も熱風乾燥装置２８の場合と同様に、２個の第２温度センサ５１をボックス５０の入口と出口に配置して、それぞれの第２温度センサ５１からの測定値に基づいて供給部５２からボックス５０に吹き出す蒸気を独立して制御することが好ましい。例えば、入口側に配置した第２温度センサ５１の測定値に基づいて塗布膜面の温度と蒸気温度との差による乾燥効率の制御に使用し、出口側に配置した第２温度センサ５１の測定値に基づいて塗布膜面の最高温度を監視して添加物の蒸発や昇華の防止を制御する。
【００５９】
また、図４に示すように、供給部５２の内部には整流板５６が設けられ、この整流板５６によって第２溶媒の蒸気含有熱風が均一に送気される。供給部５２の上部には、ノズル５４が設けられ、このノズル５４から支持体１６の下面（即ち塗布面）に向けて蒸気含有熱風が吹き付けられる。ノズル５４は、蒸気含有熱風を支持体１６の幅方向に均一に吹き付けられるようになっており、例えば、幅方向のスリットを有し、このスリットから蒸気含有熱風が吹き出される。また、ノズル５４は、支持体１６の搬送方向に複数設けられており、支持体１６の搬送方向に所定の範囲で蒸気含有熱風が吹き付けられる。
【００６０】
また、図５に示すように、供給部５２の幅Ｗは、支持体１６の幅よりも大きく形成されており、支持体１６の幅方向の全体に蒸気含有熱風が吹き付けられる。なお、供給部５２の幅Ｗは、蒸気雰囲気が形成されるゾーンの長さ（具体的には後述する遮風板６０Ａ、６０Ｂの間隔Ｌよりも大きく設定されることが好ましく、その比Ｗ／Ｌは１以上が好ましく、２以上がより好ましい。これは、Ｗ／Ｌが大きいほど、Ｌを小さくして装置を小型化できる反面、第１溶媒の残留分布が幅方向に発生しやすくなり、特にＷ／Ｌが１以上の場合には残留分布が生じるが、本実施の形態ではこれを防止できる。
【００６１】
上記の如く構成された供給部５２のノズル５４から蒸気含有熱風が吹き出されることによって、ボックス５０内に第２溶媒の溶媒蒸気雰囲気が形成される。これにより、支持体１６の塗布膜中の第１溶媒の乾燥が迅速に行われる。
【００６２】
図４に示すように、支持体１６の搬送方向に対して供給部５２の上流側と下流側には、排気部５８Ａ、５８Ｂが設けられる。この排気部５８Ａ、５８Ｂは、供給部５２と同様に支持体１６の下側に設けられており、支持体１６の下面近傍から下方にエアを吸引するようになっている。図５に示すように、排気部５８Ａ、５８Ｂは、支持体１６よりも広い幅で形成されており、好ましくは供給部５２と同じ幅Ｗで形成される。また、排気部５８Ａ、５８Ｂは、図３に示すように蒸留塔７２に接続されており、排気部５８Ａ、５８Ｂからの排気エアが蒸留塔７２に送気される。蒸留塔７２に送気された排気エアは、第２溶媒と溶剤とが分離され、分離された第２溶媒がタンク６２に戻される一方で、溶剤が回収される。なお、排気部５８Ａ、５８Ｂから排気されるエアの風量は、供給部５２から吹き出される第２溶媒の溶媒蒸気含有熱風の風量よりも大きくなるように設定される。これにより、供給部５２から吹き出された蒸気含有熱風がボックス５０の外部に流出することを防止できる。
【００６３】
図４に示すように、排気部５８Ａと供給部５２との間には遮風板６０Ａが設けられ、排気部５８Ｂと供給部５２との間には遮風板６０Ｂが設けられる。遮風板６０Ａ、６０Ｂは、支持体１６の下方に垂直に設けられており、支持体１６の下面に所定の隙間量Ｓを持って配置される。供給部５２と排気部５８Ａ、５８Ｂは、この隙間のみで連通され、供給部５２から吹き出された蒸気含有熱風は隙間を通って排気部５８Ａ、５８Ｂから排気される。なお、図４には、遮風板６０Ａ、６０Ｂをボックス５０に一体的に設けた例を記載したが、これに限定するものではなく、遮風板６０Ａ、６０Ｂをボックス５０と別部材として着脱自在に取り付けてもよい。その場合、遮風板６０Ａ、６０Ｂが上下方向にスライド自在となるようにボックス５０に取り付けて、その高さ位置（即ち隙間量Ｓ）を調節できるように構成するとよい。
【００６４】
このように支持体１６の搬送方向に対して供給部５２の両側に排気部５８Ａ、５８Ｂを設け、さらに供給部５２と排気部５８Ａ、５８Ｂとの間に遮風板６０Ａ、６０Ｂを設けることによって、供給部５２から吹き出された蒸気含有熱風は、遮風板６０Ａ、６０Ｂと支持体１６との隙間を通って排気部５８Ａ、５８Ｂに流れるので、支持体１６の下面では、蒸気含有熱風が略均等に接するようになる。これにより、支持体１６の膜中の第１溶媒を幅方向に均等に乾燥させることができ、従来では均一な乾燥が困難であった「Ｗ／Ｌ≧１」の範囲であっても、第１溶媒の残留分布の発生を防止することができる。
【００６５】
上記した、熱風乾燥装置２８で塗布膜の乾燥点まで通常の熱風乾燥をした直後に、蒸気乾燥装置２９で塗布膜中に含有される第１溶媒よりもモル体積の小さな第２溶媒の蒸気含有熱風を用いて塗布膜を乾燥することにより、短時間で溶媒を乾燥除去することができる。また、熱風乾燥装置２８及び蒸気乾燥装置２９では、塗布膜温度を添加物のうちの最も融点の低い第１点か物の融点Ｔｍ未満で乾燥すると共に、乾燥点以後、即ち塗布膜の固形分濃度が大きくなって粘度が上昇した以後に蒸気含有熱風を用いるので、添加物の蒸発や昇華を極力抑制することができる。これにより、塗布膜に含有される添加物の蒸発や昇華を抑制しつつ、塗布膜に含有される溶媒を迅速に乾燥することができる。
【００６６】
ここで、蒸気乾燥装置２９における好適な乾燥条件を、乾燥に関与するパラメータ同士の関係式を用いて説明する。
【００６７】
蒸気乾燥装置２９では、Ｔｄ：乾燥点における塗布膜温度［℃］、Ｃ：水蒸気量［ｇ／ｍ３］、ＰＴｄ：塗布膜温度Ｔｄにおける第２溶媒の飽和蒸気量［Ｐａ］、Ｒ：気体定数、Ｍ：第２溶媒の分子量（本実施の形態では水なので１８）、Ｔｍ：第１添加物の融点としたときに、
０．２５≦Ｃ×Ｒ（２７３．１５＋Ｔｄ）／（ＰＴｄ×Ｍ）＜１．０…式１、
Ｔｍ＞Ｔｄ…式２
の乾燥条件で乾燥処理が行われる。この乾燥条件において、「Ｃ×Ｒ（２７３．１５＋Ｔｄ）／（ＰＴｄ×Ｍ）」は、飽和蒸気圧に対する蒸気圧の比（以下、相対蒸気圧比と称する）を意味する。例えば、第２溶媒が水の場合には、（式１）は、相対蒸気圧比が１．０以上（１００％以上）、１．８以下（１８０％以下）であることを意味している。
【００６８】
このような乾燥条件で乾燥処理を行った場合、第２溶媒の蒸気含有熱風が塗布膜の表面に吹き付けられることによって、第２溶媒が塗布膜の表面に微小液滴の状態で結露する。この結露によって発生した凝縮熱によって、微小液滴の発生箇所の塗膜が部分的に加熱されて軟化し、さらに、この軟化状態の塗膜を第２溶媒の液滴が押し退ける。そして、蒸気含有熱風ゾーンを通過する際に、第２溶媒の微小な液滴が、塗布膜の持つ熱によって瞬時に蒸発する。このような乾燥過程を経ることにより、モル体積の大きな第１溶媒を確実に乾燥除去することができる。
【００６９】
次に、本発明における第１溶媒、第２溶媒、及び第１添加物について具体的に説明する。
【００７０】
〔第１溶媒〕
本実施の形態において、塗布膜に含有される溶媒のうちモル体積が最も大きい第１溶媒は、モル体積が６０ｃｍ３／ｍｏｌ〜１６０ｃｍ３／ｍｏｌの範囲のものが好ましい。また、沸点が１５０℃以上の高沸点溶媒が好ましい。このような大きなモル体積の溶媒として、以下のものが挙げられるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００７１】
第１溶媒の具体例としては、例えば、γ-ブチルラクトン（モル体積７６ｃｍ３／ｍｏｌ、沸点２０４℃）、１，３-ジメチル-2-イミダゾリジノン（モル体積１０９ｃｍ３／ｍｏｌ、沸点２２５．５℃）、N，N-ジメチルホルムアミド(モル体積７７ｃｍ３／ｍｏｌ、沸点１５３℃)、テトラメチル尿酸(沸点１７５℃-１７７℃)、ニトロベンゼン（モル体積１０３ｃｍ３／ｍｏｌ、沸点２１１.３℃)、N-メチルピロリドン（モル体積９６ｃｍ３／ｍｏｌ、沸点２０２℃)、N，N-ジメチルアセトアミド（モル体積９３ｃｍ３／ｍｏｌ、沸点１６６℃)、ジメチルスルホキシド（モル体積７１ｃｍ３／ｍｏｌ、沸点１８９℃)、などが挙げられる。
【００７２】
〔第２溶媒〕
本実施の形態において、蒸気乾燥装置２９で蒸気含有熱風に使用する第２溶媒は、第１溶媒よりもモル体積の小さいモル体積をもつ溶媒であり、モル体積が１０ｃｍ３／ｍｏｌ〜９０ｃｍ３／ｍｏｌの範囲のものが好ましい。沸点は３０℃以上１３０℃以下のものが好ましい。このような第２溶媒としては、以下のものが挙げられるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００７３】
第２溶媒の具体例としては、例えば、水（モル体積１８ｃｍ３／ｍｏｌ、沸点１００℃)、メタノール（モル体積４０ｃｍ３／ｍｏｌ、沸点６４．５℃−６４．６５℃)、エタノール（モル体積５８ｃｍ３／ｍｏｌ、沸点７８．３２℃)、ｎ−プロパノール（モル体積７５ｃｍ３／ｍｏｌ、沸点９７．１５℃)、イソプロパノール（モル体積７７ｃｍ３／ｍｏｌ、沸点８２．３℃)、エチルエーテル（モル体積８３ｃｍ３／ｍｏｌ、沸点３４．６℃)、酢酸メチル（モル体積８０ｃｍ３／ｍｏｌ、沸点５７．８℃)、アセトン（モル体積７３ｃｍ３／ｍｏｌ、５６．２℃)、メチルエチルケトン（モル体積９０ｃｍ３／ｍｏｌ、沸点７９．５９℃)などを好ましく使用できる。  
【００７４】
また、沸点のみを示すが、第２溶媒としては、ｎ−ブタノール（１１７．７℃）、イソブタノール（１０７．９℃）、イソプロピルエーテル  （６８．２７℃）、メチル−ｎ−プロピルケトン（１０３．３℃）、メチルイソブチルケトン（１１５．９℃）、ジエチルケトン（１０２．２℃）、酢酸エチル（７７．１℃）、酢酸−ｎ−プロピル（１０１．６℃）、酢酸−ｎ−ブチル（１２６．５℃）、ｎ−ヘキサン（６５．７４２℃）、シクロヘキサン（８０．７３８℃）等も使用することができる。
【００７５】
［第１添加物］  
画像形成層の感度を向上させる目的で、比較的低分子の添加物である、例えば分子環状酸無水物類、フェノール類、有機酸類が添加される。本発明では、添加物とは、常温で固体のものを指し、液体のものは含まない。そして、第１添加物とは、複数の添加物を使用したときに、その中で最も融点を低い添加物を第１添加物という。したがって、１つの添加物を使用した場合には、その添加物が第１添加物となる。
【００７６】
分子環状酸無水物としては米国特許第４，１１５，１２８号明細書に記載されている無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、３，６−エンドオキシ−Δ４−テトラヒドロ無水フタル酸、テトラクロル無水フタル酸、無水マレイン酸、クロル無水マレイン酸、α−フェニル無水マレイン酸、無水コハク酸、無水ピロメリット酸などが使用できる。
【００７７】
フェノール類としては、ビスフェノールＡ、ｐ−ニトロフェノール、ｐ−エトキシフェノール、２，４，４’−トリヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン、４−ヒドロキシベンゾフェノン、４，４’，４”−トリヒドロキシトリフェニルメタン、４，４’，３”，４”−テトラヒドロキシ−３，５，３’，５’−テトラメチルトリフェニルメタンなどが挙げられる。
【００７８】
有機酸類としては、特開昭６０−８８９４２号公報、特開平２−９６７５５号公報などに記載されている、スルホン酸類、スルフィン酸類、アルキル硫酸類、ホスホン酸類、リン酸エステル類及びカルボン酸類などがあり、具体的には、ｐ−トルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルフィン酸、エチル硫酸、フェニルホスホン酸、フェニルホスフィン酸、リン酸フェニル、リン酸ジフェニル、安息香酸、イソフタル酸、アジピン酸、ｐ−トルイル酸、３，４−ジメトキシ安息香酸、フタル酸、テレフタル酸、４−シクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸、エルカ酸、ラウリン酸、ｎ−ウンデカン酸、アスコルビン酸などが挙げられる。
【００７９】
上記の環状酸無水物、フェノール類及び有機酸類を画像形成層に添加する場合、画像形成層中に占める割合は、０．０５〜２０質量％が好ましく、より好ましくは０．１〜１５質量％、特に好ましくは０．１〜１０質量％である。
【００８０】
［その他の好ましい態様］
また、本実施形態の平版印刷版（原版）の製造に使用される支持体の材質及び表面処理、画像形成層（特にポジ型画像形成層）の材料と形成、支持体と画像形成層との間の下塗層の材料と形成、バックコート層の材料と形成、及び製版方法については、特開２００７−２４５４７８号公報に記載される内容を好ましく使用することができる。
【実施例】
【００８１】
次に本発明の乾燥方法を適用した実施例と、本発明を適用しない比較例とにおいて、第１溶媒の乾燥結果、第１添加物の除去抑制結果、及び乾燥時間について対比した試験結果について以下に説明する。
【００８２】
（支持体）
帯状のアルミニウム板（巾１３００ｍｍ、厚み０．２４ｍｍ）を使用した。
【００８３】
（塗布膜）
・塗布液は、ポリアクリル酸メチル/第１溶媒のガンマブチロラクトン（γ-ＢＬ） /メチルエチルケトン（ＭＥＫ）で構成した。即ち、高分子材料であるポリアクリル酸メチルを、高沸点溶媒であるγ-ＢＬ（第１溶媒）と低沸点溶媒であるＭＥＫとの混合溶媒に溶解して塗布液を調製した。γ-ＢＬとＭＥＫとの質量比率は１:２とした。塗布液中の固形分量５質量％である。
・塗布膜に含有される添加物として無水フタル酸（融点Ｔｍ：１３１℃）を使用し、０．５質量％になるように塗布液に添加した。これにより、塗布膜に含有される無水フタル酸の乾燥前の支持体ｍ２当たりの初期含有量は８６ｍｇ／ｍ２になる。
【００８４】
（塗布条件）
・バー塗布装置を使用すると共に、ラインスピード（塗布速度）を６０ｍ／分に設定し、上記塗布液を支持体に塗布量２０ｃｃ／ｍ２になるように塗布した。
【００８５】
（乾燥条件）
・熱風乾燥装置…乾燥ゾーン長さ３０ｍとし、図６に示す表のように、塗布膜を乾燥する乾燥空気の熱風を温度１００〜１８０℃の範囲で変化させた。乾燥熱風の水分含量は１０ｇ／ｍ３であり、熱風の風量は３００Ｎｍ３／分である。
・蒸気乾燥装置…乾燥ゾーン長さ１ｍとし、塗布膜を乾燥する蒸気含有熱風の第２溶媒として水を使用すると共に、蒸気含有熱風の風量を６Ｎｍ３／分とした。そして、蒸気含有熱風の温度を実施例、比較例ともに１２０℃に設定し、溶媒蒸気量を図６に示すように１５０〜４００ｇ／ｍ３の範囲で変化させた。
【００８６】
（乾燥試験方法）
図６の表に示すように、実施例１〜３については、バー塗布装置により支持体上に塗布液を塗布した後、熱風乾燥装置において第１添加物の融点未満である乾燥点の膜温度（９０〜１２６℃）で塗布膜を３０秒間乾燥した。なお、図６の表には、乾燥点の膜温度で記載し、乾燥開始から乾燥点までの３０秒間の途中温度は記載していないが、熱風により徐々に膜温度が上昇するので、乾燥点で示す膜温度以上になることはない。
【００８７】
この熱風乾燥で塗布膜を乾燥点まで到達させ、その直後に連続して水蒸気含有熱風を使った蒸気乾燥装置において第１添加物の融点未満である温度１２０℃、及び蒸気量（３４０〜４００ｇ／ｍ３）にて塗布膜を１秒間乾燥させた。
【００８８】
また、比較例１については、バー塗布装置により支持体上に塗布液を塗布した後、熱風乾燥装置において第１添加物の融点（１３１℃）と同じ膜温度１３１℃（乾燥点）で塗布膜を３０秒間乾燥した。この熱風乾燥で塗布膜を乾燥点まで到達させ、その直後に連続して水蒸気含有熱風を使った蒸気乾燥装置において第１添加物の融点未満である温度１２０℃、及び蒸気量（３８０ｇ／ｍ３）にて塗布膜を１秒間乾燥させた。
【００８９】
即ち、実施例１〜３及び比較例１は、ともに熱風乾燥装置と蒸気乾燥装置との乾燥時間は同じ３０秒と１秒に設定する一方、熱風乾燥条件と蒸気含有熱風の乾燥条件を変えることにより、実施例１〜３及び比較例１ともに第１溶媒であるγ-ＢＬの残留量が略同じ１５ｍｇ／ｍ２になるようにサンプルを作成した。そして、実施例１〜３及び比較例１で作成したサンプルの塗布膜中に残存している無水フタル酸（添加物）の含有量を測定した。
【００９０】
比較例２は、比較例１よりも熱風乾燥装置における膜温度を高くして１５１℃（乾燥点）にすると共に、蒸気乾燥装置において温度１２０℃及び蒸気量２９０ｇ／ｍ３にて塗布膜を１秒間乾燥させた。
【００９１】
比較例３は、比較例２よりも熱風乾燥装置における膜温度を更に高くして１６２℃（乾燥点）にすると共に、蒸気乾燥装置は使用しなかった。
【００９２】
比較例４は、第１添加物の融点未満である膜温度１０７℃（乾燥点）の熱風乾燥のみでγ-ＢＬの残留量が実施例１〜３と略同じ１５ｍｇ／ｍ２になるようにサンプルを作成したときに、乾燥時間がどの程度長くなるかを調べた。
（塗布膜中の無水フタル酸の測定方法）
塗布した支持体から乾燥後の塗布膜をテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）で抽出し、得られたＴＨＦ抽出液を高速液体クロマトグラフィ（ＨＰＬＣ）で分析した。そして、得られたピークと検量線を用いて添加物の量を算出した。
【００９３】
（残留γ-ＢＬ量の測定方法）
乾燥後の塗布膜のサンプルを、直径１０ｍｍの大きさで支持体ごと３枚切り抜き、バイヤル瓶に入れて密閉した。このバイヤル瓶をガスクロマトグラフィ（ＧＣ３９０Ｂ、ジーエルサイエンス社）と接続したヘッドスペーサー（Tekmar 7000HT、ジーエルサイエンス社）に投入した。ヘッドスペーサーでのバイヤル瓶の加熱条件は１８０℃、５分間で行った。ガスクロマトグラフィの運転条件は、パックドカラム（Silicone DC-550、ジーエルサイエンス社）使用、オーブン温度１８０℃、ＦＩＤ温度１８０℃で行った。バイヤル瓶内で蒸発した残留溶媒蒸気がヘッドスペーサーから自動でガスクロマトグラフィに投入され、得られたピーク面積とγ-ＢＬの検量線から塗布膜中に残留していた溶媒の濃度を算出した。
【００９４】
［試験結果］
図６の表から分かるように、本発明の乾燥条件を満たす実施例１〜３は、熱風乾燥と蒸気乾燥とを合計した３１秒の短時間乾燥で、無水フタル酸を乾燥前の初期含有量（８６ｍｇ／ｍ２）と殆ど変わらない７８〜８５ｍｇ／ｍ２残存させつつ、γ-ＢＬの残存量を約１５〜１６ｍｇ／ｍ２まで低減することができた。
【００９５】
これに対して、本発明の乾燥条件を満たさない比較例１は、３１秒の短時間乾燥によりγ-ＢＬの残存量を約１４ｍｇ／ｍ２まで低減できたものの、無水フタル酸の残存量も５０ｍｇ／ｍ２まで減少してしまった。
【００９６】
比較例２のように、熱風乾燥における膜温度を比較例１よりも更に高くすると、無水フタル酸の残存量は更に低下し、２９ｍｇ／ｍ２になった。
【００９７】
比較例３のように、無水フタル酸の融点よりも膜温度が３１℃高い熱風乾燥条件のみで乾燥した場合には、γ-ＢＬの残存量を約１５ｍｇ／ｍ２まで低減できたものの、無水フタル酸の残存量も３０ｍｇ／ｍ２まで大幅に減少してしまった。
【００９８】
比較例１〜３は、無水フタル酸の残存量が顕著に少なくなった結果、最終的に製造した平版印刷版の感光性能が悪くなってしまった。
【００９９】
また、比較例４のように、無水フタル酸の融点未満である膜温度１０７℃で熱風乾燥のみをおこなった場合には、γ-ＢＬと無水フタル酸の残存量に関しては本発明と同等の効果が得られるものの、乾燥時間が１２０秒と本発明の４倍かかってしまった。したがって、比較例４では生産効率が顕著に低下してしまうことが実証された。
【０１００】
上記実施例から分かるように、本発明の塗布膜の乾燥方法及び装置は、塗布膜に含有される添加物の蒸発や昇華を抑制しつつ、塗布膜に含有される溶媒を迅速に乾燥することができる。
【図面の簡単な説明】
【０１０１】
【図１】本実施形態の平版印刷版の製造ラインの基本構成を示す図
【図２】熱風乾燥装置の構成を説明する説明図
【図３】蒸気乾燥装置の蒸気給排気機構を説明する説明図
【図４】蒸気乾燥装置の構成を説明する説明図
【図５】図４の５−５線に沿う断面図
【図６】本発明の実施例及び比較例を示す表図
【符号の説明】
【０１０２】
１０…平版印刷版の製造装置、１６…支持体、１８…塗布部、２０…乾燥部、２８…熱風乾燥装置、２９…蒸気乾燥装置、３０…冷却部、４０…ボックス、４２…チャンバ、４３…加熱器、４４…ノズル、４５…第１温度センサ、４６…排気部、４７…第１制御手段、５０…ボックス、５１…第２温度センサ、５２…供給部、５３…第２制御手段、５４…ノズル、５６…整流板、５８Ａ、５８Ｂ…排気部、６０Ａ、６０Ｂ…遮風板、６２…タンク、６４…ブロア、６６、６８、７０…熱交換器、７２…蒸留塔
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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