(57)【要約】      （修正有）【課題】感光体の表面に金属石鹸を供給し均一な保護層を形成すると共に、該保護層を容易に除去することを可能とし、画像流れや濃度低下の発生しない画像形成装置を提供する。【解決手段】保護剤を供給する手段が、保護剤ブロック９及び、該保護剤ブロック並びに感光体の表面に接しながら回転する保護剤塗布ブラシ８を有するものであり、該保護剤ブロックが、金属石鹸と熱可塑性の微粒子を有し、かつ、該保護剤ブロックが、該熱可塑性の微粒子の軟化点をＡ（℃）、製造時に経由する最高温度Ｚ（℃）とした時、Ｚが（Ａ−２０）以上（Ａ＋５）以下である条件で製造されていること。【選択図】図１
2010078662.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも、静電潜像を担持する感光体、感光体を帯電する手段、帯電した感光体に静電潜像を形成する手段、該静電潜像を現像剤により現像して感光体上にトナー画像を形成する手段及び感光体上のトナー画像を転写材に転写する手段、並びに該感光体の表面に保護剤を供給する手段を備える画像形成装置であって、
該保護剤を供給する手段が、保護剤ブロック及び、該保護剤ブロック並びに感光体の表面に接しながら回転する保護剤塗布ブラシを有し、
該保護剤ブロックが、金属石鹸と熱可塑性の微粒子を有し、かつ、該熱可塑性の微粒子の軟化点をＡ（℃）、保護剤ブロックの製造時に経由する最高温度Ｚ（℃）とした時、Ｚが（Ａ−２０）以上（Ａ＋５）以下である
ことを特徴とする画像形成装置。
【請求項２】
前記金属石鹸の融点Ｂ（℃）が（Ａ＋５）以下であり、かつ前記保護剤ブロックの製造時に経由する最高温度ＺがＢ以上である請求項１に記載の画像形成装置。
【請求項３】
前記金属石鹸は、Ｂが（Ａ−２０）以上（Ａ＋５）以下のものであり、前記保護剤ブロックが、前記熱可塑性の微粒子の存在下にＢ以上（Ａ＋５＋Ｂ）／２以下の温度で金属石鹸を融解させて製造されている請求項１又は２に記載の画像形成装置。
【請求項４】
前記金属石鹸の真比重Ｘ（ｇ／ｃｍ3）と前記熱可塑性の微粒子の真比重Ｙ（ｇ／ｃｍ3）の関係が、下記式を満足する請求項１乃至３のいずれか１項に記載の画像形成装置。
（Ｘ−０．３０）≦Ｙ≦（Ｘ＋０．３０）
【請求項５】
前記熱可塑性の微粒子の平均粒径が２０ｎｍ以上４００ｎｍ以下である請求項１乃至４のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【請求項６】
前記熱可塑性の微粒子が、前記金属石鹸１００質量部に対して、５０質量部以上１００質量部以下配されている請求項１乃至５のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【請求項７】
前記保護剤塗布ブラシの、前記保護剤ブロックに対する侵入量をＣ（ｍｍ）、前記感光体に対する侵入量をＤ（ｍｍ）としたとき、Ｃ及びＤが下記式を満足する請求項１乃至６のいずれか１項に記載の画像形成装置。
０．３≦Ｃ≦１．０
５．０≦Ｄ／Ｃ≦１０．０
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子写真法、静電記録法、静電印刷法等を用いた複写機、プリンター、ファクシミリ等の画像形成装置、特に感光体の表面に保護剤を供給する構成を有する画像形成装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
一般的な電子写真法としては、感光体を帯電させる工程を有している。その帯電方式として、例えば、スコロトロン等によるコロナ帯電方式、感光体に接触させたローラ等による接触帯電方式、感光体と帯電部材を僅かなギャップを設けて設置し近接放電により帯電させる近接帯電方式などがある。
【０００３】
これらの帯電方式では、程度の差はあるものの、帯電時に生じるオゾンにより空気中の窒素と反応して窒素酸化物（ＮＯｘ）を発生する。更にこれらの窒素酸化物が空気中の水分と反応して硝酸の如き放電生成物になって静電荷潜像担持体の表面に付着する。
【０００４】
感光体（静電潜像担持体）が従来の一般的な有機感光体では、画像形成時に感光体の表面層ごと上記放電生成物を削り取ってしまうため顕著な画像不良は発生しない。
【０００５】
一方、近年複写機やプリンターに求められる高耐久性のために、感光体も削れに対して強いアモルファスシリコンや高硬度の表面層を持った有機感光体が用いられるようになっている。この場合上記放電生成物は感光体の表面から取り除くのが難しく、高湿環境下で画像流れが発生するなどの不具合が生じやすい。
【０００６】
これに対して、感光体の表面にステアリン酸亜鉛等の保護剤を塗布し、放電生成物が感光体に付着するのを防ぐ保護層を設ける画像形成装置（特許文献１）が、また、均し部材を設けて潤滑剤層を均一化する潤滑剤塗布装置（特許文献２）が提案されている。
【０００７】
しかし、感光体の表面に形成された保護層あるいは潤滑剤層もそのまま連続して放電生成物が付着しつづけると、層自身が劣化し、保護層あるいは潤滑剤層としての機能が低下してくる。さらに保護剤を供給した場合、保護剤は保護層を形成できず脱離して、例えば帯電ローラに付着して帯電を阻害したり、現像部において現像剤に混入して現像性を悪化させ画像濃度低下を引き起こしたりする。
【０００８】
これに対して、感光体の表面の潤滑剤を除去する手段を設けた画像形成装置が提案されている（特許文献３）。また、無機又は有機微粒子が含まれる潤滑剤を感光体に供給する画像形成装置（特許文献４）や、無機化合物研磨剤が添加された潤滑剤を用いる画像形成装置（特許文献５）も提案されている。
【０００９】
しかしながら、特許文献１又は２に記載の従来の潤滑剤又は保護剤の塗布方法では、感光体の表面にミクロレベルで均一な潤滑剤又は保護剤の層を作ることは難しい。それは潤滑剤又は保護剤として用いるステアリン酸亜鉛等の金属石鹸を、ブラシにより削りつつ感光体の表面へ供給しているためである。この場合、金属石鹸の粒子はかなり大きいものであり、均一な塗布は難しい。またこれら金属石鹸の粒子を均一に均す部材としてブレードやローラを用いているが、これは金属石鹸の粒子を感光体の周方向へ均す効果はあるものの、長手方向に均一に均す効果が小さいことも原因となっている。
【００１０】
さらに、これらの傾向は、感光体表層のすべり性が大きい場合、例えば感光体表層を研磨シートでマット化した場合などに顕著である。これは金属石鹸と感光体の表面の摩擦がより小さくなるため、均すために働く力が加わり難いためと考えられる。
【００１１】
一方、特許文献３に提案された感光体の表面に形成された保護層を除去する方法は、トナーを感光体上に供給して潤滑剤を除去するものであり、前記保護層のように強く付着したものには効果が小さいほか、トナーの消費量が増大するなどの問題もある。
【００１２】
さらに特許文献４及び５に開示された技術を追試したところ、潤滑剤（保護層）の除去効果はあったが、十分な効果は得られなかった。
【００１３】
以上のように、特許文献１乃至５において、耐磨耗性に優れ、特に表面のすべり性が良好な感光体を用いた場合などは、感光体の表面に金属石鹸を供給し、保護層を形成する方法では、放電生成物の付着による画像流れを十分防ぐことが難しい。
【００１４】
また、保護層を形成できず脱離した保護剤は、上記した様に、例えば、帯電ローラ表面に付着して帯電を阻害したり、現像部において現像剤に混入し現像性を悪化させ画像濃度低下を引き起こしたりする。
【００１５】
なお、特許文献６には、樹脂粒子の金属石鹸被覆方法が示されている。
【特許文献１】特開２００４−３４１４８０号公報
【特許文献２】特開２００５−２２７６７６号公報
【特許文献３】特開２００６−２５９０３１号公報
【特許文献４】特開２００６−０５８７４８号公報
【特許文献５】特開２００４−０５３８９２号公報
【特許文献６】特開２０００−３２７７９１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１６】
したがって、本発明の目的は、感光体の表面に金属石鹸を供給し、均一な保護層を形成すると共に、該保護層を容易に除去することが可能である、画像流れや濃度低下の発生しない画像形成装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
本発明者は、上記課題を解決するためには、保護剤粒子を小さくするためには、保護剤ブロックの検討が必要であると考え、鋭意検討した結果、特定の製造法で製造した金属石鹸成分と微粒子を有する保護剤ブロックが有用であること見出した。そして、さらに検討して、ついに本発明に至った。
【００１８】
すなわち、本発明に係る画像形成装置は、少なくとも、静電潜像を担持する感光体、感光体を帯電する帯電手段、帯電した感光体に静電潜像を形成する手段、該静電潜像を現像剤により現像して感光体上にトナー画像を形成する現像手段及び感光体上のトナー画像を転写材に転写する転写手段、並びに該感光体の表面に保護剤を供給するを備える画像形成装置であって、該保護剤を供給する手段が、保護剤ブロック及び、該保護剤ブロック並びに該感光体の表面に接しながら回転する保護剤塗布ブラシを有するものであり、該保護剤ブロックが、金属石鹸成分と微粒子を有し、かつ、該熱可塑性の微粒子の軟化点をＡ（℃）、該保護剤ブロックの製造時に経由する最高温度をＺ（℃）とした時、Ｚが（Ａ−２０）以上（Ａ＋５）以下であることを特徴とする。
【００１９】
上記において、前記金属石鹸の融点Ｂ（℃）が、（Ａ＋５）以下であり、かつ前記保護剤ブロックの製造時に経由する最高温度Ｚが、Ｂ以上であることが好ましい。
【００２０】
また、前記金属石鹸が、Ｂが（Ａ−２０）以上（Ａ＋５）以下のものであり、前記保護剤ブロックが、前記熱可塑性の微粒子の存在下にＢ以上（Ａ＋５＋Ｂ）／２以下の温度で金属石鹸を融解させて製造されていることが好ましい。
【００２１】
さらに、前記金属石鹸の真比重Ｘ（ｇ／ｃｍ3）と前記熱可塑性の微粒子の真比重Ｙ（ｇ／ｃｍ3）の関係が、（Ｘ−０．３０）≦Ｙ≦（Ｘ＋０．３０）を満足することが好ましい。
【００２２】
そして、前記熱可塑性の微粒子の平均粒径が２０ｎｍ以上４００ｎｍ以下であることが好ましい。
【００２３】
なお、前記熱可塑性の微粒子が、前記金属石鹸１００部質量部に対して、５０質量部以上１００質量部以下はいされていることが好ましい。
【００２４】
前記保護剤塗布ブラシの、前記保護剤ブロックに対する侵入量をＣ（ｍｍ）、前記感光体に対する侵入量をＤ（ｍｍ）としたとき、０．３≦Ｃ≦１．０、かつ、５．０≦Ｄ／Ｃ≦１０．０であることが好ましい。
【発明の効果】
【００２５】
本発明によれば、耐磨耗性に優れ、特に表面のすべり性が良好な感光体を高湿環境下で用いた場合であっても、画像流れの発生しない良好な画像が得られる画像形成装置を提供できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
以下に本発明を詳細に説明する。
【００２７】
まず、本発明の画像形成装置について説明する。
【００２８】
本発明の画像形成装置の一例の断面図を図１に示す。図１において、1は静電潜像担持体である感光体であり、該感光体１は図示しない駆動装置で矢印の方向に回転駆動されている。感光体１としては特に限定されず、電子写真法に用いられる一般的なものはすべて使用できるが、本発明では耐磨耗性に優れた感光体においてより顕著な効果が見られるため、アモルファスシリコンや高硬度の表面層を持った有機感光体であることが好ましい。
【００２９】
感光体１の表面は、帯電手段によって所定の電位に帯電される。図１においては、スコロトロン帯電器２によるコロナ帯電方式を示している。なお、帯電手段としては、接触帯電方式や近接帯電方式を用いることもできる。
【００３０】
以上のようにして帯電された感光体１の表面には露光装置３によって所望の静電潜像が形成され、感光体１上に形成された静電潜像は、現像装置４により現像され、トナー画像とされる。
【００３１】
現像方式は一成分現像方式及び二成分現像方式のいずれでもよく、また接触現像でも非接触現像でも構わない。
【００３２】
現像装置４は、トナー担持体としての現像スリーブ４ａを備えている。現像スリーブ４ａは、その外周面の一部を現像装置４の外部に露呈させて、回転可能になっている。二成分現像剤あるいは一成分磁性トナー系現像剤用現像装置では、現像スリーブ４ａ内には非回転に固定されたマグネットローラ（図示せず）が挿設されている。現像スリーブ４ａに対向して、トナーコーティングブレード４ｂが設けられている。現像装置４には、現像剤５が収容されている。
【００３３】
現像スリーブ４ａは、感光体１と接触又は、最近接距離（Ｓ−Ｄｇａｐ）を保持して感光体１に対向配設されている。Ｓ−Ｄｇａｐは一成分現像方式では０．２μｍ乃至１．０μｍ、二成分現像方式では０．３μｍ乃至２．０μｍ程度の範囲に設定される。この感光体１と現像スリーブ４ａとの対向部が現像部である。
【００３４】
現像スリーブ４ａには、所定の現像バイアスが印加される。現像スリーブ４ａに印加される現像バイアス電圧は、直流電圧（Ｖｄｃ）と交流電圧（Ｖａｃ）とを重畳した振動電圧であることが好ましい。
【００３５】
現像スリーブ４ａ上に整層された薄層を形成する現像剤は、現像部に搬送されると、現像バイアスによる電界によって、感光体１に形成された静電潜像に対応して感光体１の表面に選択的に付着する。このようにして感光体１に形成された静電潜像はトナー画像として現像される。
【００３６】
感光体１に形成されたトナー画像はコロナ帯電器７からなる転写装置によって転写材６に転写される。また転写装置としては図５に示す転写ローラ１６からなる転写装置を用いることもできる。
【００３７】
また、転写工程の下流には、感光体１の表面並びに保護剤ブロック９に当接するように保護剤塗布ブラシ８が配置され、感光体1への当接部において感光体１の表面に保護剤微粒子を供給している。
【００３８】
一方、転写の工程で感光体１上に残留したトナーはクリーニングブレード１０によって感光体１から除去される。その後、感光体１は次の画像形成に供される。
【００３９】
かかる画像形成装置において、上記したように感光体１の帯電に際し、放電生成物が生じ、感光体１の表面に付着する。本発明では、それを防ぐために、保護剤を塗布するために、保護剤ブロック９及び保護剤塗布ブラシ８からなる保護剤塗布装置を設ける。保護剤塗布装置の設置場所は、転写手段と帯電手段の間において、装置構成に応じて適宜決めることが可能であり、本図では、クリーニングブレード１０を備えたクリーニング装置内に設けてある。
【００４０】
なお、図２に帯電手段として接触帯電方式である例を断面図で示してある。感光体１に帯電ローラ１２が自重又はバネの如き適当な加圧手段で圧接している。帯電ローラ１２は芯金１２ａ上に樹脂、ゴムあるいは発泡体の抵抗層１２ｂが形成されている。また、抵抗層１２ｂはカーボンブラック、金属酸化物の如き導電性物質やイオン導電性の材料で抵抗調整がされている。なお、十分な帯電性と耐リーク性を得るために、抵抗層１２ｂの導電性は１０4Ω乃至１０7Ωであることが好ましい。また、抵抗層１２ｂは単層であっても多層であっても構わない。
【００４１】
帯電ローラ１２は感光体１と独立した駆動を持たず、感光体１に従動させてもよく、また駆動を持たせて感光体１に対して相対速度を持たせるようにしてもよい。
【００４２】
芯金１２ａには電源１５から直流電圧又は交流電圧を重畳した直流電圧が印加され、感光体１を所定の電位に帯電する。
【００４３】
また、図３に帯電手段として近接帯電方式とした例を断面図で示してある。感光体１に近接帯電ローラ１３が非接触で近接して設置されている。近接帯電ローラ１３の表面と感光体１の表面の最近接距離ｄは通常０．５ｍｍ以下とされている。
【００４４】
近接帯電ローラ１３は芯金１３ａ上に抵抗層１３ｂが形成されたものであり、該抵抗層は単層であっても多層であってもよい。また、抵抗層１３ｂは樹脂、ゴムあるいは発泡体を用いることができるが、最近接距離ｄの精度が必要であることから、樹脂製であることが好ましい。また、抵抗層１３ｂは、カーボンブラック、金属酸化物等の導電性物質、又はイオン導電性の材料を用いて抵抗調整がされている。なお、十分な帯電性と耐リーク性を得るために、抵抗層の導電性は１０2Ω乃至１０7Ωであることが好ましい。
【００４５】
近接帯電ローラ１３はギア等で感光体１から駆動を取る、あるいは独立した駆動を設けて回転させてもよく、また、近接帯電ローラ１３の端部に不導体でできた補助輪を設け、該補助輪を感光体１に当接させて従動させてもよい。
【００４６】
芯金１３ａには電源１５から直流電圧又は交流電圧を重畳した直流電圧が印加され、感光体１との間での微小放電により、感光体１を所定の電位に帯電する。
【００４７】
図４は、近接帯電方式の別の例を断面図で示したものである。感光体１に帯電ブレード１４が非接触で近接して設置されている。帯電ブレード１４の表面と感光体１の表面の最近接距離ｄは、通常０．５ｍｍ以下に設定されている。
【００４８】
帯電ブレード１４は、通常、支持部材に樹脂あるいはゴムからなる導電性ブレード部材が貼着されているものである。帯電ブレード１４はカーボンブラックや金属酸化物等の導電性物質やイオン導電性の材料で抵抗調整されており、十分な帯電性と耐リーク性から１０2Ω乃至１07Ωであることが好ましい。
【００４９】
帯電ブレード１４には電源１５から直流電圧又は交流電圧を重畳した直流電圧が印加され、感光体１を所定の電位に帯電する。
【００５０】
本発明の画像形成装置としては、図６に模式図で示すように中間転写体を用いることもできる。図６において、中間転写体１７は主に１次転写ローラ１７ａ及び中間転写ベルト１７ｂにより構成される。トナー画像のトナーに対して逆極性のバイアスを１次転写ローラに印加してトナー画像を中間転写ベルト１７ｂに転写する。さらに中間転写ベルト１７ｂ上に転写されたトナー画像を、２次転写ローラ１８にトナー画像のトナーに対して逆極性のバイアスを印加することにより、転写材６に転写する。
【００５１】
また、図７、８に示すような、現像工程とクリーニング工程が同時に行われる、すなわち現像同時回収工程を有する画像形成装置であってもよい。なお、現像同時回収工程とは、感光体１上の転写残留トナーを適切な帯電量に制御し、現像装置４に移動させる（回収する）ことにより行われる。転写残留トナーをクリーニングするための別個のクリーニング装置、例えばブレード、やファーブラシを装備したクリーニング機構が不要である。いわゆる、クリーナーレスとなっている。
【００５２】
転写残留トナーは、転写工程で印加されるトナーの帯電と逆極性のバイアスの影響で、トナー本来の帯電極性とは逆の極性に帯電しているものがある。転写残留トナーの帯電が感光体の帯電工程で良好に除電されるためには、全てのトナーが本来の極性で均一な帯電になっていることが好ましく、再帯電部材１１によって正規極性かつ均一帯電にされる。なお、再帯電部材１１は、バイアスが印加されていることが好ましく、それにより感光体１上の転写残留トナーが均一な正規極性の帯電とされる。
【００５３】
再帯電部材１１の好ましい例には、適度の導電性を有するブラシ繊維を有するブラシ部材である。再帯電部材１１は固定されたブラシであってもよく、ロータリーブラシやレシプロ機構（例えば、感光体長手方向に往復するレシプロ機構）を備えたブラシでもよい。レシプロ機構を備えたブラシを用いることにより、ブラシの汚れ方が均一になり、また転写残留トナーをより均一に均すことができる。また再帯電部材１１はローラタイプのものも使用できる。
【００５４】
また、再帯電工程を、再帯電手段による再帯電工程、及び補助再帯電手段による補助再帯電工程のように段階的に行ってもよい。補助再帯電工程は、再帯電工程の前に行われる。補助再帯電工程によって、転写残留トナーを場所的にも電気的にも均一化することが好ましい。例えば、負帯電性トナーにおいては、補助再帯電手段には正電圧（例えば、＋２５０ＶＤＣ程度）が、再帯電手段（転写残留トナー帯電手段）には負電圧（例えば、−７５０ＶＤＣ程度）が印加される。
【００５５】
また、再帯電手段は後記する保護剤塗布ブラシ８と共用してもよい。
【００５６】
帯電された転写残留トナーは、スコロトロン帯電器２（帯電ローラ１２、近接帯電ローラ１３、帯電ブレード１４）によって除電される。除電された転写残留トナーは、現像装置４によって感光体１の表面から現像装置４に効率よく回収される。
【００５７】
本発明は、感光体１の表面に保護剤を供給する保護剤供給手段を備えた画像形成装置である。保護剤供給手段は、保護剤ブロック９及び、保護剤ブロック９並びに感光体１の表面に接しながら回転する保護剤塗布ブラシ８を有する。
【００５８】
前述したように感光体の表面に保護剤を供給する技術についてはさまざまな方法が開示されている。しかしながら、保護剤をブロック状に成型し、ブラシ等で削りながら感光体上に供給する方法においては、感光体上に均一に保護剤の層を作るのが難しい。これは感光体上に供給される保護剤粒子がかなり大きいためである。ブラシのブラシ繊維径を細くすることでブロックから削り取った保護剤粒子は小さくなるが、ブラシ繊維径を細くすることには限界がある。これはそもそもブラシ繊維径を細くすることには製造上の限界があること、さらにブラシ繊維径を細くすると保護剤ブロックを削る作用が弱くなり、本来の機能を果たさないためである。
【００５９】
本発明者は、かかる現状では、ブラシではなく、保護剤ブロックを検討することで解決できると考え、鋭意検討した。その結果、従来の保護剤である金属石鹸と共に熱可塑性の微粒子を併用することが望ましく、かつ、その製造に際し、熱可塑性の微粒子の性質、特に軟化点が重要な解決要因であることを見出した。すなわち、該微粒子の軟化点Ａ（℃）とした時、製造時に経由する最高温度Ｚ（℃）を（Ａ−２０）以上（Ａ＋５）以下とすることで望ましい保護剤ブロックを製造できることを見出した。この保護剤ブロックを用いた画像形成装置では、後記するように保護剤塗布ブラシの侵入量の調整は必要であるが、感光体上に均一に保護剤の層が形成されるので、感光体の帯電に際して発生する放電生成物が感光体に付着せず、画像流れが効果的に防止できる。
【００６０】
以下に、現像剤ブロック及びその製造方法について説明する。
【００６１】
保護剤ブロックは金属石鹸成分と微粒子を有し、該微粒子が熱可塑性を有している。そして、この保護剤ブロックの製造時の熱履歴として、Ｚが（Ａ−２０）以上（Ａ＋５）以下、好ましくは（Ａ−１５）以上Ａ以下であることである。
【００６２】
本発明で使用する熱可塑性の微粒子として、保護剤として感光体上に微粉末として層形成できるものであれば特に限定されず、種々の熱可塑性樹脂のものが使用できる。その熱可塑性樹脂の例として、以下のものを挙げることができる。ポリスチレン；ポリ−ｐ−クロルスチレン、ポリビニルトルエンの如きスチレン置換体の重合体；スチレン−ｐ−クロルスチレン共重合体、スチレン−ビニルトルエン共重合体、スチレン−ビニルナフタリン共重合体、スチレン−アクリル酸エステル共重合体、スチレン−メタクリル酸エステル共重合体、スチレン−α−クロルメタクリル酸メチル共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ビニルメチルエ−テル共重合体、スチレン−ビニルエチルエーテル共重合体、スチレン−ビニルメチルケトン共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−イソプレン共重合体、スチレン−アクリロニトリル−インデン共重合体の如きスチレン系共重合体；ポリ塩化ビニル、フェノール樹脂、天然変性フェノール樹脂、天然樹脂変性マレイン酸樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリ酢酸ビニル、シリコーン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン、ポリアミド樹脂、フラン樹脂、エポキシ樹脂、キシレン樹脂、ポリビニルブチラール、テルペン樹脂、クマロンインデン樹脂、石油系樹脂など。なお、熱可塑性樹脂の微粒子の軟化点Ａを調節するために、これらの樹脂は適宜架橋させて用いることもできる。さらに、該軟化点Ａは、後記するように、保護剤ブロック製造に際し使用する金属石鹸成分の融点Ｂ（℃）との関係がＢ≦（Ａ＋５）であることが好ましいので、該融点Ｂの好ましい範囲を考慮して、微粒子の軟化点Ａを設定することが好ましい。
【００６３】
なお、本発明における熱可塑性の微粒子の軟化点Ａは、ＪＩＳ  Ｋ７２１０−１９９９に示される測定方法に則る、降下式フローテスタ（株式会社島津製作所製）を用い、下記により作成したＳ字曲線より決定される。
【００６４】
降下式フローテスタのシリンジに試料１ｃｍ3を取り、プランジャーに１９６０Ｎ／ｍ2（２０ｋｇ／ｃｍ2）の荷重を与え、直径１ｍｍ、長さ１ｍｍのノズルより、昇温速度６℃／ｍｉｎで押し出す。このときのプランジャー降下量（流れ値）と温度の関係をグラフに描き、得られたＳ字曲線の高さをｈとするとき、ｈ／２に対する温度（樹脂の半分が流出した温度）を求め、これを当該熱可塑性の微粒子の軟化点Ａとする。
【００６５】
また、熱可塑性の微粒子の平均粒径は、２０ｎｍ以上４００ｎｍ以下であることが好ましく、３０ｎｍ以上２００ｎｍ以下がさらに好ましい。熱可塑性の微粒子の大きさが最終的に感光体の表面に供給される保護剤の粒子のサイズを決める。熱可塑性の微粒子の平均粒径が大きすぎる場合は感光体の表面に供給される保護剤の粒子が大きくなる。また、熱可塑性の微粒子の平均粒径が小さすぎる場合、保護剤ブロックを保護剤塗布ブラシで削る際に熱可塑性の微粒子の単位では削り取られにくくなり、結果として保護剤の粒子が大きくなる。したがって、いずれの場合も、均一な保護層を形成する効果が出にくくなる。
【００６６】
なお、熱可塑性の微粒子の平均粒径については、電子顕微鏡にて５万倍の倍率で撮影した写真から、一次粒子の最長径をａ、最短径をｂとしたとき、（ａ＋ｂ）／２を当該粒子の粒径とし、その１００個の粒子についての粒径を平均したものを平均粒径とする。
【００６７】
次に、金属石鹸成分としては、感光体の保護剤として従来から使用されている、種々金属の高級脂肪酸塩が本発明でも支障なく使用できる。なお、画像形成装置内に用いた場合に受ける熱に対する安定性から、金属石鹸の融点Ｂが９０℃以上であるものが好ましい。また、保護剤ブロックを製造するに際し、少なくとも一部が溶融する必要があるので、あまり高温であると作業性が悪くなるので、２００℃以下であることが好ましい。具体的には、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸アルミニウム、ステアリン酸ストロンチウム、ラウリン酸亜鉛、ラウリン酸カルシウム、リシノール酸亜鉛などが使用できる。
【００６８】
なお、金属石鹸の融点Ｂは、示差熱分析測定装置（ＤＳＣ測定装置）を用い、ＡＳＴＭ  Ｄ３４１８に準拠して測定したものである。該ＤＳＣ測定装置としては、パーキンエルマー社製の示差走査熱量測定装置「ＤＳＣ−７」（商品名）やセイコーインスツルメンツ株式会社製の示差走査熱量計「ＤＳＣ−ＴＡ」（商品名）が使用できる。また、具体的な条件は下記のとおりである。さらに、下記温度曲線において、昇温ＩＩで測定される吸熱ピーク温度を当該試料の融点Ｂとする。
試料    ：０．５ｍｇ乃至２ｍｇ、好ましくは１ｍｇ。
測定法  ：試料をアルミパン中に入れ、リファレンスとして空のアルミパンを用いる。
温度曲線：昇温Ｉ（２０℃乃至１８０℃、昇温速度１０℃／ｍｉｎ）；
降温Ｉ（１８０℃乃至１０℃、降温速度１０℃／ｍｉｎ）；
昇温ＩＩ（１０℃乃至１８０℃、昇温速度１０℃／ｍｉｎ）。
【００６９】
本発明において、保護剤ブロック中の熱可塑性の微粒子と金属石鹸成分の配合割合は、熱可塑性の微粒子が、金属石鹸１００質量部に対して、５０質量部以上１００質量部以下配されていることが好ましく、７０質量部以上９０質量部以下がさらに好ましい。上記した様に、感光体の表面に供給される保護剤の粒子は熱可塑性の微粒子単位で削り取られることが好ましい。そして、この削り取られ方は保護剤ブロック中の熱可塑性の微粒子の量に依存するからである。すなわち、熱可塑性の微粒子の量が少なすぎると、熱可塑性の微粒子を含まない粗大の保護剤粒子が増え、一方、量が多すぎると、金属石鹸の含有量が相対的に少なくなり、保護層の形成が不十分になる可能性がある。
【００７０】
本発明では、保護剤ブロックの製造に際して、経由する最高温度Ｚ（℃）が特に重要である。すなわち、保護剤ブロックの製造時に、金属石鹸に熱可塑性の微粒子を分散し、最高温度Ｚを（Ａ−２０）以上（Ａ＋５）以下にすると、熱可塑性の微粒子の表層が軟化して、周りの金属石鹸を取り込んだ状態になると推測される。この状態の保護剤ブロック（金属石鹸ブロック）をブラシで削ると、削り取られた保護剤の粒子はほぼ熱可塑性の微粒子単位の粒子となる。従って、該保護剤の粒子は、粒径が小さく、かつ金属石鹸成分を保持しており、感光体上に良好な保護層を形成できる。
【００７１】
なお、熱可塑性の微粒子は、Ａ以下で徐々に表面の軟化が始まっており、（Ａ−２０）においても、熱可塑性の微粒子の表層が軟化して周りの金属石鹸を取り込んだ状態になると推測される。
【００７２】
さらに本発明の保護剤ブロックをブラシで削り取った保護剤の粒子は、感光体上に均一な保護層を形成する一方、従来の保護剤ブロックを用いて保護層を形成した場合と比較して、感光体の表面から除去しやすい。これは熱可塑性の微粒子自身は感光体の表面への密着性が低いためで、金属石鹸のみの保護層に比べて感光体の表面への付着力が小さいためと考えられる。
【００７３】
従来の保護剤ブロックでは、仮に感光体の表面に保護層を形成しても、放電生成物が付着した保護層が長期にわたり感光体上に存在し、その状態の感光体の表面にさらに保護剤の粒子を供給すると、保護剤の粒子は保護層を形成できず脱離する。従って、例えば、帯電ローラ表面に付着して帯電を阻害したり、現像部において現像剤に混入し現像性を悪化させ、画像濃度低下を引き起こしたりすることがあった。
【００７４】
これに対して、本発明の保護剤ブロックを用いた場合、感光体の表面に容易に均一な保護層を形成することが可能で、放電生成物の感光体の表面への付着を防ぐと共に、放電生成物が付着した保護層を容易に剥離、除去できる。そのため、長期にわたり現像性悪化に対する防止効果を維持することができる。
【００７５】
製造時に経由する最高温度Ｚが（Ａ−２０）に達していないと、熱可塑性の微粒子は何の変化もせず、製造される保護剤ブロックは単に金属石鹸と熱可塑性の微粒子の混合物の塊となっている。このような保護剤ブロックをブラシで削り取られるものは、金属石鹸の粗大粒子と熱可塑性の微粒子そのものであり、感光体上に良好な保護層を形成できないため好ましくない。なお、この場合、ブラシによって保護剤ブロックから削り取られた熱可塑性の微粒子は、クリーニングブレードに堆積し、トナーのクリーニングを良好にする効果が認められたが、本発明の目的である画像流れの改善には効果がなかった。
【００７６】
一方、該最高温度Ｚが（Ａ＋５）を越えた場合、熱可塑性の微粒子自体が融解して粒子形状を保てなくなり、熱可塑性の微粒子を用いる効果が出ないため好ましくない。
【００７７】
さらに、本発明の好ましい形態は、金属石鹸の融点Ｂが（Ａ＋５）以下であり、保護剤ブロックの製造時の最高温度Ｚが、Ｂ以上（Ａ＋５）以下であることである（なお、Ｂが（Ａ−２０）以下では当然、Ｚは（Ａ−２０）乃至（Ａ＋５）の温度範囲とする）。
【００７８】
この場合、熱可塑性の微粒子の表面が軟化した状態にあり、融解した金属石鹸が、表層が軟化した熱可塑性の微粒子の周りを取り囲んだ状態になると推測される。これをそのまま冷却すると、熱可塑性の微粒子の表面にはより多くの金属石鹸を取り込むので好ましい。
【００７９】
より好ましくは、金属石鹸の融点Ｂは（Ａ−２０）乃至（Ａ＋５）の範囲であり、かつ熱可塑性の微粒子の存在下にＢ以上（Ａ＋５＋Ｂ）／２以下の温度範囲にて金属石鹸を融解させて保護剤ブロックを製造することである。この条件では、保護剤ブロック製造時に金属石鹸と熱可塑性の微粒子の混合物を昇温する際、まず、熱可塑性の微粒子が（Ａ−２０）以上で表面が軟化した状態になり、かつ、金属石鹸が溶解しない状態が存在したのち、金属石鹸が融解するので好ましい結果となる。逆に、先に金属石鹸が融解し、熱可塑性の微粒子の表面が軟化していない場合、融解状態の金属石鹸が熱可塑性の微粒子の表面で弾かれてしまい、うまく馴染まず、熱可塑性の微粒子が金属石鹸を保持できないことがあるので好ましくない。また、金属石鹸の融点Ｂと熱可塑性の微粒子に加える上限温度の（Ａ＋５）の中間温度（Ａ＋５＋Ｂ）／２以下の温度で金属石鹸成分を融解させることで、熱可塑性の微粒子の表面を軟化させつつ、金属石鹸の熱劣化を防止することができる。
【００８０】
さらに好ましくは、（Ａ−１５）≦Ｂ≦Ａ、かつ、Ｂ≦Ｚ≦（Ａ＋Ｂ）／２で保護剤ブロックを製造することである。
【００８１】
なお、本発明において、微粒子として無機微粒子や熱硬化性樹脂の微粒子を用いるのは、これら微粒子は熱によって表面が軟化しないため、金属石鹸を取り込んだ層が形成されないので好ましくない。これらの微粒子を用いて製造された保護剤ブロックをブラシで削り取らせた場合、微粒子は表面を金属石鹸で覆われることなく、金属石鹸と別々に削り取られるため、本発明の目的である画像流れの改善には効果がなかった。
【００８２】
また、特許文献６に従って予め金属石鹸を被覆した樹脂粒子を得、得られた被覆樹脂粒子をブロック状に固めて、保護剤ブロックとしたものを検討したが、本発明と同等の効果は確認できなかった。これは、金属石鹸を被覆する時の温度が樹脂粒子が軟化する温度以下であり、金属石鹸と樹脂粒子表面の密着力が弱くて、ブラシで削ると金属石鹸の被膜がはげ落ちたためと考えられる。
【００８３】
ところで金属石鹸を融解したのち冷却する場合、冷却速度が速いと保護剤（金属石鹸）ブロックにクラックが入る問題があることが知られている。そのため冷却は徐々にする必要がある。しかしながら、本発明において徐々に冷却を行うと金属石鹸が固化する前に熱可塑性の微粒子が沈降してしまい、保護剤ブロック内で熱可塑性の微粒子の分散が不均一になってしまう。
【００８４】
そこで本発明において、金属石鹸成分の真比重Ｘ（ｇ／ｃｍ3）と熱可塑性の微粒子の真比重Ｙ（ｇ／ｃｍ3）の関係が、下記式を満足させることが好ましい。
（Ｘ−０．３０）≦Ｙ≦（Ｘ＋０．３０）
【００８５】
金属石鹸成分と熱可塑性の微粒子の真比重の関係を上記式の範囲にすることで、保護剤ブロック製造時の熱可塑性の微粒子の沈降を防ぎ、熱可塑性の微粒子の分散を良好にすることができる。
【００８６】
なお金属石鹸及び熱可塑性の微粒子の真比重は、ヘリウムによるガス置換式の測定法で行った。測定器は乾式自動密度計「アキュピック１３３０」（商品名、株式会社島津製作所製）を用いた。測定法は、ステンレス製の内径１８．５ｍｍ、長さ３９．５ｍｍ、容量１０ｃｍ3のセルに、測定試料を４ｇ入れ、次いで、試料セル中の試料の容積をヘリウムの圧力変化によって測定する。得られた容積と試料の重さから当該試料の真比重を算出する。
【００８７】
本発明の画像形成装置では、保護剤を供給する手段が、保護剤ブロック及び、該保護剤ブロック並びに感光体の表面に接しながら回転する保護剤塗布ブラシを有するものである。
【００８８】
該保護剤塗布ブラシは、保護剤ブロックを削り取る、削り取った保護剤粒子を感光体の表面に供給して保護層を形成する、さらには感光体の表面で放電生成物が付着した保護層を除去する等の作用を有する。
【００８９】
保護剤ブロックを削り取る作用は、保護剤塗布ブラシの保護剤ブロックに侵入量Ｃ（ｍｍ）に左右される。そして、０．３≦Ｃ≦１．０であることが好ましい。なお。保護剤塗布ブラシの保護剤ブロックに侵入量は、保護剤ブロックを背面（保護剤塗布ブラシの当接する面とは逆の面）から押すことにより達成される。
【００９０】
また、削り取った保護剤粒子を感光体の表面に供給して保護層を形成する作用、さらには感光体の表面で放電生成物が付着した保護層を除去する作用は、保護剤塗布ブラシが感光体に侵入量Ｄ（ｍｍ）に左右される。しかし、本発明では、これら３つの作用を同一のブラシで行うために、侵入量Ｄのみではなく、ＣとＤの比率を設定することが有効であり、５．０≦Ｄ／Ｃ≦１０．０であることが好ましい。なお、侵入量とは、ブラシの先端部分が保護剤ブロック又は感光体の内側に無抵抗で侵入したと仮定した場合の、その侵入の長さを意味する。
【００９１】
また、保護剤塗布ブラシに用いるブラシ繊維の長さについては、毛倒れを低減する観点から３ｍｍ以上１５ｍｍ以下が好ましく、ブラシ繊維の径については、保護剤ブロックから削り取られる保護剤粒子を小さくできる観点から５μｍ以上３０μｍ以下が好ましい。さらに、ブラシ繊維のヤング率については保護剤ブロックの掻き取り性、感光体の表面への保護剤粒子のコート性、及び感光体の表面からの放電生成物が付着した保護剤粒子の除去性能の観点から１．０ｋＮ／ｍｍ2以上３．０ｋＮ／ｍｍ2以下が好ましい。なお、ブラシ繊維の材質については、上記特性を満たすブラシ繊維を製造しやすいという観点からレーヨン、ナイロン、ポリエステル、アクリルが適当である。
【００９２】
保護剤粒子を感光体の表面に供給して保護層を形成する作用及び感光体の表面で放電生成物が付着した保護層を除去する作用を効果的に行うために、保護剤塗布ブラシは感光体の回転方向に対して逆方向に回転させることが好ましい。そうすることによって、保護剤塗布ブラシが、放電生成物が付着した保護層を除去した後に、保護剤粒子を感光体の表面に供給して保護層を形成できるからである。
【００９３】
なお、保護剤塗布ブラシを導電性とし、適切な電圧をかけることにより、上記した様に、転写残留トナーの再帯電及び感光体表面上への分散の均一化を計ることができる。
【実施例】
【００９４】
以下、実施例及び比較例を挙げて本発明をさらに詳細に説明する。なお、以下において、特に断りのない限り、「部」及び「％」とあるのは質量基準である。
【００９５】
＜製造例１：保護剤ブロックＡの製造＞
ステアリン酸Ｚｎ（融点１２３℃、真比重１．１２）１００部と平均粒径９０ｎｍのＰＭＭＡ（ポリメチルメタクリレート）粒子（軟化点１３５℃、真比重１．２３）８０部をヘンシェルミキサーＦＭ１０Ｂ型（三井三池化工機株式会社製）で分散混合した。なお、分散混合条件は、回転数：２２回／ｓ、時間：２分とした。これを１２７℃まで加熱して金属石鹸成分を融解し、内寸１０×６×３００ｍｍ、１２７℃に加熱した型に投入した後、１０℃／時間で２５℃まで冷却して固化し、型から取り出して、保護剤ブロックＡを得た。
【００９６】
＜製造例２：保護剤ブロックＢの製造＞
リシノール酸Ｚｎ（融点９２℃、真比重１．１１）１００部と平均粒径９０ｎｍのＰＭＭＡ粒子（軟化点１１０℃、真比重１．２１）８０部をヘンシェルミキサーＦＭ１０Ｂ型（回転数：２２回／ｓ、時間：２分）で分散混合した。これを９８℃まで加熱して金属石鹸成分を融解し、内寸１０×６×３００ｍｍ、９８℃に加熱した型に投入した後、１０℃／時間で２５℃まで冷却して固化し、型から取り出して、保護剤ブロックＢを得た。
【００９７】
＜製造例３：保護剤ブロックＣの製造＞
ステアリン酸Ｃａ（融点１５５℃、真比重１．１２）１００部と平均粒径９０ｎｍのＰＳＡ（スチレンアクリル共重合体）粒子（軟化点１６５℃、真比重１．１８）８０部をヘンシェルミキサーＦＭ１０Ｂ型（回転数：２２回／ｓ、時間：２分）で分散混合した。これを１５７℃まで加熱して金属石鹸成分を融解し、内寸１０×６×３００ｍｍ、１５７℃に加熱した型に投入した後、１０℃／時間で２５℃まで冷却し、型から取り出して、保護剤ブロックＣを得た。
【００９８】
＜製造例４：保護剤ブロックＤの製造＞
ラウリン酸Ｃａ（融点１８５℃、真比重１．０６）１００部と平均粒径９０ｎｍのＰＳＡ粒子（軟化点１９７℃、真比重１．１８）８０部をヘンシェルミキサーＦＭ１０Ｂ型（回転数：２２回／ｓ、時間：２分）で分散混合した。これを１８６℃まで加熱して金属石鹸成分を融解し、内寸１０×６×３００ｍｍ、１８６℃に加熱した型に投入した後、１０℃／時間で２５℃まで冷却して固化し、型から取り出して、保護剤ブロックＤを得た。
【００９９】
＜製造例５：保護剤ブロックＥの製造＞
リシノール酸Ｃａ（融点８２℃、真比重１．１１）１００部と平均粒径９０ｎｍのＰＭＭＡ粒子（軟化点１００℃、真比重１．１９）８０部をヘンシェルミキサーＦＭ１０Ｂ型（回転数：２２回／ｓ、時間：２分）で分散混合した。これを８８℃まで加熱して金属石鹸成分を融解し、内寸１０×６×３００ｍｍ、８８℃に加熱した型に投入した後、１０℃／時間で２５℃まで冷却して固化し、型から取り出して、保護剤ブロックＥを得た。
【０１００】
＜製造例６：保護剤ブロックＦの製造＞
ステアリン酸Ｌｉ融点２２０℃、真比重１．１４）１００部にと平均粒径９０ｎｍのＰＳＡ粒子（軟化点２４０℃、真比重１．２２）８０部をヘンシェルミキサーＦＭ１０Ｂ型（回転数：２２回／ｓ、時間：２分）で分散混合した。これを２２８℃まで加熱して金属石鹸成分を融解し、内寸１０×６×３００ｍｍ、２２８℃に加熱した型に投入した後、１０℃／時間で２５℃まで冷却して固化し、型から取り出して、保護剤ブロックＦを得た。
【０１０１】
＜製造例７：保護剤ブロックＧの製造＞
融解する温度及び型の加熱温度を共に１３１℃とした以外は製造例１と同様にして保護剤ブロックＧを得た。
【０１０２】
＜製造例８：保護剤ブロックＨの製造＞
融解する温度及び型の加熱温度をともに１３４℃とした以外は製造例１と同様にして保護剤ブロックＨを得た。
【０１０３】
＜製造例９：保護剤ブロックＩの製造＞
融解する温度及び型の加熱温度をともに１３９℃とした以外は製造例１と同様にして保護剤ブロックＩを得た。これを保護剤ブロックＩとする。
【０１０４】
＜製造例１０：保護剤ブロックＪの製造＞
ステアリン酸Ｚｎ（融点１２３℃、真比重１．１２）１００部と平均粒径９０ｎｍのＰＭＭＡ粒子（軟化点１３５℃、真比重１．２３）８０部をヘンシェルミキサーＦＭ１０Ｂ型（回転数：２２回／ｓ、時間：２分）で分散混合した。これを内寸１０×６×３００ｍｍの型に投入した後、１２．５ＭＰａの圧力で２分成型した。さらに加圧を解除し、１１８℃まで加熱した後、１０℃／時間で２５℃まで冷却して固化し、型から取り出して、保護剤ブロックＪを得た。
【０１０５】
＜製造例１１乃至１４：保護剤ブロックＫ乃至Ｎの製造＞
ＰＭＭＡ粒子の量をそれぞれ６０部、４０部、９５部又は１１０部にした以外は製造例７と同様にして、それぞれ保護剤ブロックＫ乃至Ｎを得た。
【０１０６】
＜製造例１５：保護剤ブロックＯの製造＞
ＰＭＭＡ粒子の平均粒径を４０ｎｍとした以外は製造例７と同様にして保護剤ブロックＯを得た。
【０１０７】
＜製造例１６乃至２０：保護剤ブロックＰ乃至Ｔの製造＞
ＰＭＭＡ粒子の平均粒径をそれぞれ２５ｎｍ、１５ｎｍ、１８０ｎｍ、３００ｎｍ又は４２０ｎｍとした以外は製造例１２と同様にして、それぞれ保護剤ブロックＰ乃至Ｔを得た。
【０１０８】
＜製造例２１：保護剤ブロックＵの製造＞
ステアリン酸Ｍｇ（融点１４５℃、真比重１．１３）１００部と平均粒径４５０ｎｍのＰＳＡの架橋中空粒子（軟化点１５０℃、真比重０．９１）４０部をヘンシェルミキサーＦＭ１０Ｂ型で分散混合した。なお、分散混合の条件は回転数：２２回／ｓ、時間：２分であった。これを１５０℃で融解し、内寸１０×６×３００ｍｍ、１５０℃に加熱した型に投入した後、１０℃／時間で２５℃まで冷却して固化し、型から取り出して、保護剤ブロックＵを得た。
【０１０９】
＜製造例２２：保護剤ブロックＶの製造＞
ＰＳＡの架橋中空粒子として、真比重が０．７８のものを用いた以外は製造例２１と同様にして保護剤ブロックＶを得た。
【０１１０】
＜製造例２３：保護剤ブロックＷの製造（比較製造例１）＞
ステアリン酸Ｃａ（融点１５５℃、真比重１．１２）１００部と平均粒径９０ｎｍのＰＭＭＡ粒子（軟化点１３５℃、真比重１．２３）８０部をヘンシェルミキサーＦＭ１０Ｂ型（回転数：２２回／ｓ、時間：２分）で分散混合した。これを１６０℃まで加熱して金属石鹸成分を融解し、内寸１０×６×３００ｍｍ、１６０℃に加熱した型に投入した後、１０℃／時間で２５℃まで冷却して固化し、型から取り出して、保護剤ブロックＷを得た。
【０１１１】
＜製造例２４：保護剤ブロックＸの製造（比較製造例２）＞
ステアリン酸Ｃａ（融点１５５℃、真比重１．１２）１００部と平均粒径９０ｎｍのＰＭＭＡ粒子（軟化点１３５℃、真比重１．２３）８０部をヘンシェルミキサーＦＭ１０Ｂ型（回転数：２２回／ｓ、時間：２分）で分散混合した。これを内寸１０×６×３００ｍｍの型に投入した後、１２．５ＭＰａの圧力で２分成型した。さらに加圧を解除し１５０℃まで加熱した後、１０℃／時間で２５℃まで冷却し、型から取り出して、保護剤ブロックＸを得た。
【０１１２】
＜製造例２５：保護剤ブロックＹの製造（比較製造例３）＞
リシノール酸Ｚｎ（融点９２℃、真比重１．１１）１００部と平均粒径９０ｎｍのＰＭＭＡ粒子（軟化点１３５℃、真比重１．２３）８０部をヘンシェルミキサーＦＭ１０Ｂ型（回転数：２２回／ｓ、時間：２分）で分散混合した。これを１００℃まで加熱して金属石鹸成分を融解し、内寸１０×６×３００ｍｍ、１００℃に加熱した型に投入した後、１０℃／時間で２５℃まで冷却して固化し、型から取り出して、保護剤ブロックＹを得た。
【０１１３】
＜製造例２６：保護剤ブロックＺの製造（比較製造例４）＞
リシノール酸Ｚｎ融点９２℃、真比重１．１１）１００部と平均粒径９０ｎｍのＰＭＭＡ粒子（軟化点１３５℃、真比重１．２３）８０部をヘンシェルミキサーＦＭ１０Ｂ型（回転数：２２回／ｓ、時間：２分）で分散混合した。これを内寸１０×６×３００ｍｍの型に投入した後、１２．５ＭＰａの圧力で２分成型した。さらに加圧を解除し８５℃まで加熱した後、１０℃／時間で２５℃まで冷却し、型から取り出して、保護剤ブロックＺを得た。
【０１１４】
上記製造例で得た保護剤ブロックについて、組成及び製造時の最高温度について、表１にまとめた。
【０１１５】
【表１】
2010078662.tif 000003
【０１１６】
＜製造例２７：現像剤の製造＞
（トナーａの調製）
高速攪拌装置クレアミックス（商品名、エムテクニック株式会社製）を備えた２Ｌ用４つ口フラスコを用意した。このフラスコ中に、イオン交換水６３０部と０．１ｍｏｌ／ＬのＮａ3ＰＯ4水溶液４８５部を添加し、攪拌装置の回転数を１４，０００ｒｐｍにし、６５℃に加温した。ここに、１．０ｍｏｌ／ＬのＣａＣｌ2水溶液６５部を徐々に添加し、更に１０％塩酸を滴下して、微小な難水溶性分散剤Ｃａ3（ＰＯ4）2を含むｐＨ＝５．８の水系分散媒体を調製した。
【０１１７】
下記成分をアトライターにて５時間分散して、混合物を調製した。
・スチレン単量体                                                １７０部
・ｎ−ブチルアクリレート単量体                                    ３０部
・カーボンブラック                                                ２０部
・３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルサリチル酸のアルミニウム化合物    ２．０部
【０１１８】
次いで、この混合物に下記の成分を加えて、更に２時間分散して、単量体混合物を調製した。
・飽和ポリエステル樹脂（注１）                                １２部
・エステルワックス（組成：ベヘン酸ベヘニル，分子量６５００）  ２０部
（注１：プロピレンオキサイド変性ビスフェノールＡとテレフタル酸の重縮合物（酸価１０．０ｍｇＫＯＨ／ｇ、ピーク分子量１３，７００、重量平均分子量１９５００））
【０１１９】
次に、単量体混合物に重合開始剤２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）５部を添加して、重合性単量体組成物を調製した後、前記水系分散媒体中に投入し、内温７０℃の窒素雰囲気下、１７，０００ｒｐｍで１５分間造粒した。その後、攪拌機をプロペラ攪拌機に交換し、５０ｒｐｍで攪拌しながら７０℃に保ちつつ５時間重合し、更に内温を８０℃に昇温させ５時間重合した。重合終了後、スラリーを冷却し、希塩酸を添加して分散剤を除去した。更に水洗し、乾燥及び分級を行い、重量平均粒径Ｄ４＝５．９μｍのトナー粒子を得た。
【０１２０】
得られたトナー粒子１００部に疎水化処理シリカ微粉体（平均粒径約２０ｎｍのシリカ微粉体に対してヘキサメチルジシラザン７％で表面処理した）１．２０部をヘンシェルミキサーＦＭ１０Ｂ型（回転数：６６回／秒、時間：３分間）で外添して、トナーａを得た。
【０１２１】
（キャリアａの調製）
・フェノール                                                      ５０部
・３７ｗｔ％のホルマリン水溶液                                    ８０部
・水                                                              ５０部
・表面処理マグネタイト微粒子（５０％粒径０．２１μｍ）（注２）  ２８０部
・表面処理α−Ｆｅ2Ｏ3微粒子（５０％粒径０．３５μｍ）（注３）  １２０部
・２５ｗｔ％のアンモニア水                                        １５部
（注２、３：エポキシ基含有シラン系カップリング剤で表面処理したもの）
上記材料を四ツ口フラスコに入れ、撹拌混合しながら６０分間で８５℃まで昇温し、その温度で保持し、１２０分間反応して、硬化した。その後２８℃まで冷却し、水５００部を添加した後、上澄み液を除去し、沈殿物を水洗し、風乾した。次いで、これを減圧下（６６５Ｐａ＝５ｍｍＨｇ）１８０℃で２４時間乾燥して、フェノール樹脂をバインダー樹脂とする磁性キャリアコアを得た。
【０１２２】
得られた磁性キャリアコアの表面にγ−アミノプロピルトリメトキシシランの５ｗｔ％メタノール溶液を塗布処理した。次いで、磁性キャリアコアを７０℃で撹拌しているところへ、シリコーン樹脂「ＳＲ２４１１」（商品名、東レダウコーニング株式会社製）をシリコーン樹脂固形分１０ｗｔ％になるようトルエンで希釈したものを減圧下でシリコーン樹脂分が０．５ｗｔ％になるように添加した。その後、窒素ガス雰囲気下で２時間撹拌しつつ、トルエンを揮発させ、さらに、窒素ガス雰囲気下で１４０℃、２時間熱処理を行った。凝集をほぐした後、目開き７５μｍメッシュで篩って粗粒を除去し、平均粒径４８μｍのキャリアａを得た。
【０１２３】
（現像剤ａの調製）
得られたキャリアａ１００部と前記トナーａ８部を、ナウターミキサーにて混合し、現像剤ａを得た。
【０１２４】
＜製造例２８：感光体の製造＞
直径３０ｍｍ×３５７．５ｍｍのアルミニウムシリンダーを支持体とし、それに、以下の材料より構成される塗料を支持体上に浸漬コーティング法で塗布し、１４０℃で３０分熱硬化して、膜厚が１８μｍの導電層を形成した。
・導電性顔料：硫酸バリウム（ＳｎＯ2コート処理品）                １０部
・抵抗調節用顔料：酸化チタン                                        ２部
・バインダー樹脂：フェノール樹脂                                    ６部
・レベリング材：シリコーンオイル                            ０．００１部
・溶剤：メタノール／メトキシプロパノール（０．２／０．８）混合溶剤  ５部
【０１２５】
次に、この上にＮ−メトキシメチル化ナイロン３部及び共重合ナイロン３部をメタノール６５部及びｎブタノール３０部の混合溶媒に溶解した溶液を浸漬コーティング法で塗布して、膜厚が０．７μｍの中間層を形成した。
【０１２６】
ヒドロキシガリウムフタロシアニン４部、ポリビニルブチラール「エスレックＢＸ−１」（商品名、積水化学株式会社製）２部及びシクロヘキサノン８０部を、直径１ｍｍガラスビーズを用いたサンドミル装置で４時間分散した。その後、この分散液に酢酸エチル８０部を加えて、電荷発生層用分散液を調製した。これを中間層の上に浸漬コーティング法で塗布して、膜厚が０．２μｍの電荷発生層を形成した。
【０１２７】
下記構造式のスチリル化合物７部及びポリカーボネート樹脂「ユーピロンＺ８００」（商品名、三菱エンジニアリングプラスチックス株式会社製）１０部をモノクロロベンゼン１０５部とジクロロメタン３５部の混合溶媒中に溶解して、電荷輸送層用塗料を調整した。この電荷輸送層用塗料を前記電荷発生層上に浸漬法で塗布して、電荷輸送層を形成した。このときの電荷輸送層の膜厚は１０μｍであった。
【０１２８】
【化１】
2010078662.tif 000004
【０１２９】
下記構造式の正孔輸送性化合物４５部をｎ−プロピルアルコール５５部に溶解し、表面保護層用塗料を調整した。この塗料を用いて、前記電荷輸送層上に保護層を塗布したのち、加速電圧１４０ＫＶ、線量１８０ｋＧｙの条件で電子線を照射し、膜厚５μｍの保護層を形成した。該感光体のユニバーサル硬さＨＵは２１０Ｎ／ｍｍ2であった。
【０１３０】
【化２】
2010078662.tif 000005
【０１３１】
さらに、感光体の表面のすべり性を向上させるため、感光体の表面を研磨シートを用い、マット化して、た。感光体ａを得た。なお、感光体の表面のＲｚｊｉｓ、ＲＳｍはそれぞれ０．４２μｍ、２０μｍであった。研磨シートとして、富士写真フィルム株式会社製の研磨しオート「ＡＸ−３０００」（商品名、研磨砥粒：アルミナ（平均粒径：５μｍ）、基材：ポリエステルフィルム（厚さ：７５μｍ））研磨シートを用いた。また、研磨条件は、送りスピード：１５０ｍｍ／ｓｅｃ、感光体回転数：１５ｒｐｍ、押し当て圧：７．５Ｎ／ｍ2、シート及び感光体の回転方向：同方向、研磨時間：３００ｓｅｃであった。
【０１３２】
前記ユニバーサル硬さＨＵは、２５℃湿度５０％の環境下で圧子に連続的に荷重をかけ、荷重下での押し込み深さを直読して連続的に硬さを求められる微小硬さ測定装置「フィシャースコープＨ１００Ｖ」（商品名、Ｆｉｓｃｈｅｒ社製）を用いて測定した。なお、圧子は対面角１３６°のビッカース四角錐ダイヤモンド圧子を使用した。また、荷重の条件は、最終荷重６ｍＮまで段階的に（各点０．１ｓの保持時間で２７３点）測定した。
【０１３３】
ＨＵは、６ｍＮで押し込んだ時の同荷重下での押し込み深さｈ（ｍｍ）から下記数式によって規定される。
【０１３４】
【数１】
2010078662.tif 000006
【０１３５】
上記のＨＵを達成するために、感光体の表層は、少なくとも重合或いは架橋し、硬化した化合物で形成されている。なお、硬化手段は、熱や可視光、紫外線等の光、更に放射線を用いることで達成ができる。製造例では、電子線照射によった
【０１３６】
また、感光体の表面の表面粗さ（１０点平均面粗さＲｚｊｉｓ（ＪＩＳ  Ｂ０６０１−２００１））は、に従う接触式面粗さ測定機「サーフコーダＳＥ３５００」（商品名、株式会社小坂研究所製）を用いて、以下のように測定した。
検出器：Ｒ２μｍ、０．７ｍＮのダイヤモンド針
フィルタ：２ＲＣ
基準長さ：０．８ｍｍ
評価長さ：２．５ｍｍ
送り速さ：０．１ｍｍ
【０１３７】
また、表面の凹凸の平均間隔ＲＳｍ（ＪＩＳ  Ｂ０６０１−２００１）は同様の条件で測定し、以下の式から得られる算術平均値である。
【０１３８】
【数２】
2010078662.tif 000007
【０１３９】
まず、以下の実施例で、上記で作成した保護剤ブロックを用いる、本発明の効果を実証するために用いた画像形成装置について説明する。図８は、該装置の模式断面図である。なお、本装置は、感光体上の静電潜像を現像すると共に感光体上の転写残留トナーを現像スリーブで回収するクリーニングレスタイプのものである。
【０１４０】
感光体１は矢印の方向に周速２００ｍｍ／ｓで回転駆動され、その表面は帯電ローラ１２により接触帯電方式で帯電される。
【０１４１】
帯電ローラ１２はバネ加圧手段により感光体に対して総圧１３．３Ｎで加圧設置されており、感光体１に対して従動で回転する。帯電ローラ１２は直径６ｍｍの芯金１２ａ上にカーボンブラック含有量３８質量％のＮＢＲの抵抗層１２ｂを形成した、外径１６ｍｍのローラで、抵抗は１．２×１０6Ωである。
【０１４２】
芯金１２ａには電源１５から周波数１８００Ｈｚの交流電圧を重畳した−５７０Ｖの直流電圧が印加されており、感光体１を６００Ｖに帯電させる。なお交流電圧のピーク間電圧は、温度２５℃／湿度６０％ＲＨ環境では１６５０Ｖ、温度２５℃／湿度３％ＲＨ環境では２３００Ｖ、温度３０℃／湿度９０％ＲＨ環境では１５５０Ｖとした。
【０１４３】
露光装置３は、波長７８０ｎｍ、４．７ｍＷのレーザー光を発生し、感光体の表面の光量で０．２９μＪ／ｃｍ2となるように光学系が調整されている。
【０１４４】
現像装置４は二成分接触現像方式である。現像スリーブ４ａは直径２０ｍｍのアルミ製で図８の矢印の方向へ周速３１０ｍｍ／ｓで回転する（いわゆるカウンター現像）。現像スリーブ４ａと感光体１の最近接距離（Ｓ−Ｄｇａｐ）は０．５μｍに設定してある。
【０１４５】
現像スリーブ４ａには、周波数８０００Ｈｚ、ピーク間電圧１８００Ｖの矩形波の交流電圧に、−３００Ｖの直流電圧を重畳した現像バイアスが印加される。
【０１４６】
転写ローラ１６は外径２０ｍｍのスポンジローラで、抵抗が８×１０8Ωの導電性フィラー分散ＥＰＤＭ発泡ゴムからなり、感光体１に当接され従動で回転する。
【０１４７】
図８の画像形成装置は、現像同時クリーニング工程を有し、保護剤塗布ブラシ８にバイアスを印加することで、転写工程でトナー本来の帯電極性と逆の極性に帯電したトナーを正規極性に帯電する。
【０１４８】
保護剤塗布ブラシ８は、ブラシ繊維として抵抗が２×１０5Ωｃｍ、繊維太さが７μｍ、ヤング率が１．６ｋＮ／ｍｍ2のレーヨン製を用い、繊維密度１２０本／ｍｍ2、ブラシ繊維長さ７ｍｍの外径２０ｍｍのブラシローラである。また、保護剤塗布ブラシ８には−７５０の直流バイアスを印加する。
【０１４９】
保護剤塗布ブラシ８は感光体１及び保護剤ブロック９に当接するように配置され、感光体当接部において感光体１と逆方向に回転するように、図示していない駆動措置により７０ｍｍ／ｓの周速で回転する。なお、保護剤塗布ブラシ８は、保護剤塗布ブラシの感光体への侵入量を変化させられるように、感光体１に対する位置を調整可能に構成されている。また、保護剤ブロック９は、保護剤塗布ブラシ８の保護剤ブロック９への侵入量を変化させられるように、保護剤塗布ブラシ８に対する位置を調整可能に構成されている。
【０１５０】
転写材６上に形成されたトナー画像は、外径４０ｍｍ、長さ３４０ｍｍのシリコンローラ（ゴム厚２．５ｍｍ）を総圧７５０Ｎで対向させて、周速２００ｍｍ／ｓで駆動する。そして、シリコンローラ表面の温度を１７０℃に温調した定着器（不図示）で転写材上に定着させる。
【０１５１】
前記画像形成装置において、感光体として上記製造例２７で作詞した感光体ａを、現像剤として上記製造例２８で得た現像剤ａ、を用いる。
【０１５２】
また、以下の実施例において行った各評価モードについて説明する。
【０１５３】
［評価モード１］
温度２５℃／湿度６０％ＲＨ環境、温度２５℃／湿度３％ＲＨ環境又は温度３０℃／湿度９０％ＲＨの環境において、印字比率６％の文字チャートで２万５千枚のＡ４連続プリントを行い、１００枚目後と２万５千枚出力後にベタ黒画像をサンプル出力した。
【０１５４】
評価モード１の１００枚目から３枚のサンプルのベタ黒部の画像濃度ＡＶを反射濃度計「ＲＤ９１８」（マクベス社製）で測定し（各９点平均）、さらに３枚の平均（Ｄ１００ＡＶ）を求める。同様に２万５千枚目から３枚についてもＡＶの平均（Ｄ２５０００ＡＶ）を求める。そして、それらの差（Ｄ１００ＡＶ−Ｄ２５０００ＡＶ）を求め、下記基準でランク付けした。なお、ランク３〜５が許容範囲である。
ランク５：濃度差０．０５未満。
ランク４：濃度差０．０５以上０．１未満。
ランク３：濃度差０．１以上０．１５未満。
ランク２：濃度差０．１５以上０．２０未満。
ランク１：濃度差０．２０以上。
【０１５５】
［評価モード２］
評価モード１において、２万５千枚のＡ４連続プリントが終了した現像器から現像剤をサンプリングし、界面活性剤を添加した水に投入して超音波分散をかけ、トナーとキャリアを乖離させた後、マグネットでキャリアを分離する。残りの水分散液から水を飛ばしてトナーを固形化させ、理学電機工業株式会社製の蛍光Ｘ線分析装置「ＲＩＸ３０００」（商品名）を用いてトナー中の金属石鹸の含有量を測定した。金属石鹸成分の脂肪酸金属塩の金属元素を測定元素とし、ターゲットにＲｈを用いて、電圧・電流は５０ｋＶ・５０ｍＡとした。
【０１５６】
現像剤中の金属石鹸の含有量が多いほど現像性が悪化し、許容範囲は０．２０ｗｔ％以下である。
【０１５７】
［評価モード３］
温度３０℃／湿度９０％ＲＨの環境において、印字比率６％の文字チャートで１万枚のＡ４連続プリントを行う。連続プリント終了後２４時間放置した後、１０μｍ×１０μｍのドットを１ドット１スペースで画像形成したハーフトーン画像をサンプリング出力する。該サンプリング画像のドット５０個を倍率５０倍の光学顕微鏡を用いて観察し、ドットの再現性を評価する。画像流れが発生している場合は、ドットが１０μｍ×１０μｍにならず、画像流れが悪くなっているものほどドット面積が小さい。各サンプリング画像でドット面積の平均値を求める。ドット面積は最大値１００μｍ2であり、７０μｍ2以上を許容範囲とする。
【０１５８】
（実施例１）
保護剤ブロック９として製造例1で得た保護剤ブロックＡを用い、保護剤塗布ブラシの保護剤ブロックに対する侵入量Ｃを０．５ｍｍとし、保護剤塗布ブラシの感光体に対する侵入量Ｄとの比Ｄ／Ｃを８．０とした。この状態で上記評価モード１乃至３を行い、その結果を表２に示した。
【０１５９】
（実施例２乃至２２）
保護剤ブロックとして、製造例２乃至２２で得た保護剤ブロックＢ乃至保護剤ブロックＶをそれぞれ用いる以外は実施例１と同様にして、評価し、得られた結果を表２に示した。
【０１６０】
（実施例２３、２４）
保護剤塗布ブラシのブラシ繊維長さを１０ｍｍに変え、比Ｄ／Ｃは変えずに、保護剤塗布ブラシの保護剤ブロックに対する侵入量Ｃを０．２ｍｍ又は１．１ｍｍとした以外は実施例１と同様にして、評価し、得られた結果を表２に示した。
【０１６１】
（実施例２５、２６）
保護剤塗布ブラシの保護剤ブロックに対する侵入量Ｃは変えずに、比Ｄ／Ｃを４．８又は１０．３とした以外は実施例１と同様にして、評価し、得られた結果を表２に示した。
【０１６２】
（比較例１乃至４）
保護剤ブロックとして、本発明の範囲外である製造例２３乃至２６で得た保護剤ブロックＷ乃至保護剤ブロックＺをそれぞれ用いる以外は実施例１と同様にして、評価し、得られた結果を表２に示した。
【０１６３】
（比較例５）
保護剤ブロックを用いなで、保護剤塗布ブラシの感光体への侵入量を実施例１と同じにして、実施例１と同様の評価をし、得られた結果を表２に示した。
【０１６４】
【表２】
2010078662.tif 000008
【０１６５】
表２から以下のことが分かる。
（１）熱可塑性微粒子の軟化点Ａ、金属石鹸の融点Ｂ、及び保護剤ブロック製造時の最高温度Ｚの関係は画像濃度及び画像流れに相関が見られた。そして、（Ａ−２０）≦Ｚ≦（Ａ＋５）の関係を満たすもの、特には、Ｂ≦（Ａ＋５）かつＢ≦Ｚのもの、さらには（Ａ−２０）≦Ｂ≦（Ａ＋５）かつＢ≦Ｚ≦（Ａ＋５＋Ｂ）／２の関係を満たすものが良好である（実施例１乃至１０、比較例１〜４）。
（２）金属石鹸と熱可塑性の微粒子の配合割合が変わると、画像濃度にやや差が見られ、所定の配合量範囲が良好である（実施例１１乃至１４）。
（３）熱可塑性の微粒子の粒径は、画像濃度に影響し、特に所定の粒径範囲にあるものが良好である（実施例１５乃至２０）。
（４）熱可塑性の微粒子の比重は、画像流れにやや影響がでる（実施例２１、２２）。
（５）保護剤塗布ブラシの感光体及び保護剤ブロックへの侵入量は、画像流れ及び画像濃度に影響する（実施例２３乃至２６）。
【図面の簡単な説明】
【０１６６】
【図１】本発明の画像形成装置の一例の断面図である。
【図２】接触帯電方式の一例の断面図である。
【図３】近接帯電方式の一例の断面図である。
【図４】近接帯電方式の別の例の断面図である。
【図５】転写ローラの一例を示した図である。
【図６】中間転写体の一例を示した図である。
【図７】本発明の画像形成装置の別の一例の断面図である。
【図８】本発明の画像形成装置の別の一例の断面図である。
【符号の説明】
【０１６７】
１        感光体（静電潜像担持体）
２        スコロトロン帯電器
３        露光装置
４        現像装置
４ａ      現像スリーブ
４ｂ      トナーコーティングブレード
５        現像剤
６        転写材
７        コロナ帯電器
８        保護剤塗布ブラシ
９        保護剤ブロック
１０      クリーニングブレード
１１      再帯電部材
１２      帯電ローラ
１２ａ    芯金
１２ｂ    抵抗層
１３      近接帯電ローラ
１３ａ    芯金
１３ｂ    抵抗層
１４      帯電ブレード
１５      電源
１６      転写ローラ
１７      中間転写体
１７ａ    一次転写ローラ
１７ｂ    中間転写ベルト
１８      二次転写ローラ
【図１】
2010078662.tif 000009
【図２】
2010078662.tif 000010
【図３】
2010078662.tif 000011
【図４】
2010078662.tif 000012
【図５】
2010078662.tif 000013
【図６】
2010078662.tif 000014
【図７】
2010078662.tif 000015
【図８】
2010078662.tif 000016