(57)【要約】    【課題】  基板の一方の面に反射防止膜を他方の面に微細凹凸構造体を外観的品位を低下させることなく、適切に形成することができ、広い波長域にわたり反射率が低く光学系に用いたときフレアやゴースト等の有害光の発生が少ない光学素子を得る。    【解決手段】  基板の光入出射面のうち一方の面に複数の薄膜より成る反射防止膜が設けられており、他方の面に平均ピッチが使用波長以下の微細凹凸構造体が設けられており、可視域を含む使用波長領域において反射防止機能を有する光学素子であって、該反射防止膜の複数の薄膜のうち、最外層は無機酸化物より成り、該無機酸化物の材料の屈折率をｎ、厚さをｄとするとき      ５（ｎｍ）＜ｎ・ｄ＜５０（ｎｍ）なる条件を満足する。【選択図】    図１
2010066681.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の光入出射面のうち一方の面に複数の薄膜より成る反射防止膜が設けられており、他方の面に平均ピッチが使用波長以下の微細凹凸構造体が設けられており、可視域を含む使用波長領域において反射防止機能を有する光学素子であって、
該反射防止膜の複数の薄膜のうち、最外層は無機酸化物より成り、該無機酸化物の屈折率をｎ、厚さをｄとするとき
５（ｎｍ）＜ｎ・ｄ＜５０（ｎｍ）
なる条件を満足することを特徴とする光学素子。
【請求項２】
最外層から２番目の層はフッ化化合物からなる無機系薄膜であることを特徴とする請求項１の光学素子。
【請求項３】
前記無機酸化物の屈折率ｎは
１．３８＜ｎ＜２．０
なる条件を満足することを特徴とする請求項２の光学素子。
【請求項４】
前記無機酸化物は、ＳｉＯ２、ＳｉＯ、Ａｌ２Ｏ３、ＺｎＯ２のいずれか１つを含むことを特徴とする請求項２又は３の光学素子。
【請求項５】
基板の光入出射面のうち一方の面に複数の薄膜より成る反射防止膜が設けられており、他方の面に平均ピッチが使用波長以下の微細凹凸構造体が設けられており、可視域を含む使用波長領域において反射防止機能を有する光学素子であって、
該反射防止膜の複数の薄膜のうち、最外層は有機系薄膜であり、最外層から２番目の層はフッ化化合物からなる無機系薄膜であることを特徴とする光学素子。
【請求項６】
前記有機系薄膜はフッ素含有有機化合物から成ることを特徴とする請求項５の光学素子。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれか１項の光学素子を有することを特徴とする光学系。
【請求項８】
前記光学系は、撮像光学系であることを特徴とする請求項７の光学系。
【請求項９】
請求項７又は８の光学系を有していることを特徴とする光学装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は光学素子及びそれを有する光学系に関し、例えば銀塩フィルム用カメラ、デジタルスチルカメラ、ビデオカメラ、ＴＶカメラ、観察系等の光学機器の光学系に用いられる光学素子として好適なものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、写真カメラ、テレビカメラ、ビデオカメラ、ビデオプロジェクター等の光学系に用いられている光学素子の光入出射面には、表面反射による透過光の損失を低減させるために反射防止膜が設けられている。
【０００３】
例えば可視光に対する反射防止膜として、誘電体多層膜が知られている（特許文献１、２）。
【０００４】
この多層膜は、透光性の基板表面に、例えば真空蒸着やスパッタリング法等により金属酸化物等の誘電体薄膜を成膜して形成されている。
【０００５】
また、レンズに用いる反射防止構造として、可視光の波長以下のピッチを有する微細凹凸構造体が知られている（特許文献３）。
【０００６】
特許文献３では、次の各ステップ
（イ）ガラス基板を洗浄
（ロ）Ａｌ２Ｏ３ゾル塗布液をディップコート法で塗布，乾燥
（ハ）５００℃１０分間焼成
（ニ）約１００℃の熱水中に約０．５乃至２時間程度浸漬
（ホ）約１００℃１０分間の乾燥
（ヘ）４００℃１０分程度の焼成
により、花弁状透明アルミナ膜（微細凹凸構造体）をガラス基板上に形成している。
【０００７】
特許文献３では分光透過性に優れ、優れた反射低減性を示す微細凹凸構造体を開示している。
【特許文献１】特開平１０−２６８１０３号公報
【特許文献２】特開２００６−３５６２号公報
【特許文献３】特開平０９−２０２６４９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
誘電体薄膜を積層した反射防止膜では、各膜の屈折率及び膜厚を制御し、表面・界面で発生する反射光を干渉させることで反射率の低減を図っている。
【０００９】
一方、微細凹凸構造体をレンズ面に形成する方法は、反射防止膜を形成することが難しいプラスチックレンズにおいて多く用いられている。微細凹凸構造体を用いると比較的広い波長範囲で入射角度特性の良い反射防止特性を得ることが容易となる。
【００１０】
特許文献３では、微細凹凸構造体を約１００℃の熱水中に約０．５乃至２時間程度浸漬して花弁状のアルミナ膜を基板（ガラス基板）上に形成している。基板上に微細凹凸構造体を形成した光学素子において、透過光量を上げると共に不要光によるゴーストやフレアを回避するためには基板の両面に反射防止構造体を形成することが必要となる。
【００１１】
その場合、一方の面に反射防止機能を有する微細凹凸構造体を形成し、もう一方の面に誘電体薄膜からなる反射防止膜を形成する場合、形成手順としては膜強度の強い、誘電体反射防止膜を基板に先に形成する。
【００１２】
基板に誘電体反射防止膜を先に形成し、微細凹凸構造体を後に形成する場合、微細凹凸形状の花弁状膜を形成するための温水浸漬工程において、先に形成された誘電体反射防止膜も温水浸漬されることになる。
【００１３】
一般的に誘電体反射防止膜では反射を最も低減させるため、基板の最外層に低屈折率材のＭｇＦ２膜を形成している。
【００１４】
しかし、ＭｇＦ２膜は水に溶けやすいという性質がある。温水浸漬処理によりＭｇＦ２膜が溶け出し、所望の膜厚が保てず反射防止特性を劣化させてしまうばかりでなく、膜にムラが生じ、外観的品位を低下させることがある。
【００１５】
このように基板の一方の面に反射防止膜を形成し、他方の面に反射防止用の微細凹凸構造体を形成する光学素子は反射防止膜を精度良く形成することが製造上大変困難であった。
【００１６】
本発明は、基板の一方の面に反射防止膜を他方の面に微細凹凸構造体を外観的品位を低下させることなく、適切に形成することができ、広い波長域にわたり反射率が低くすることができる光学素子を提供することを目的とする。又、光学系に用いたときフレアやゴースト等の有害光の発生を少なくすることができる光学素子及びそれを有する光学系の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
本発明の光学素子は、基板の光入出射面のうち一方の面に複数の薄膜より成る反射防止膜が設けられており、他方の面に平均ピッチが使用波長以下の微細凹凸構造体が設けられており、可視域を含む使用波長領域において反射防止機能を有する光学素子であって、
該反射防止膜の複数の薄膜のうち、最外層は無機酸化物より成り、該無機酸化物の材料の屈折率をｎ、厚さをｄとするとき
５（ｎｍ）＜ｎ・ｄ＜５０（ｎｍ）
なる条件を満足することを特徴としている。
【００１８】
この他、本発明の光学素子は、基板の光入出射面のうち一方の面に複数の薄膜より成る反射防止膜が設けられており、他方の面に平均ピッチが使用波長以下の微細凹凸構造体が設けられており、可視域を含む使用波長領域において反射防止機能を有する光学素子であって、
該反射防止膜の複数の薄膜のうち、最外層は有機系薄膜であり、最外層から２番目の層はフッ化化合物からなる無機系薄膜であることを特徴としている。
【発明の効果】
【００１９】
本発明によれば、基板の一方の面に反射防止膜を他方の面に微細凹凸構造体を外観的品位を低下させることなく、適切に形成することができ、広い波長域にわたり反射率が低く光学系に用いたときフレアやゴースト等の有害光の発生が少ない光学素子が得られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下に、本発明の好ましい実施の形態を、添付の図面に基づいて詳細に説明する。
【００２１】
本発明の光学素子は、基板の光入出射面の両方の面に反射防止構造体を具備している。基板の一方の面Ａには無機系薄膜からなる誘電体多層膜（反射防止膜）、他の面Ｂには使用波長（波長４００ｎｍ〜波長７００ｎｍ）以下のピッチより成る微細凹凸構造体（反射防止構造体）を形成している。面Ａの無機系薄膜からなる誘電体多層膜は、真空蒸着法により形成した。誘電体多層膜の形成方法としては、これに限定されるものではなく、例えばスパッタ法を用いてもよい。
【００２２】
面Ｂの微細凹凸構造体の形成方法としては、例えば次の方法を用いている。はじめに基板となるガラスを純水リンス，アルコールで洗浄する。その後、真空チャック式の回転ステージに載せ酸化アルミニウムを含有する塗布液を適量滴下し、約３０００ｒｐｍで３０秒間程度回転させ、１００℃以上の温度のオーブンで３０分間以上かけて焼成した。
【００２３】
ここでは、スピン塗工条件３０００ｒｐｍで３０秒間程度としたが，本発明はこれに限定するものではなく、所望の膜厚を得るために塗工条件を変えても構わない。また、塗工方法はスピンコート法に限らず、ディップコート法、スプレーコート法などを用いても良い。
【００２４】
次に酸化アルミニウム塗工済み基板１１を温水処理槽を用いて、６０℃以上１００℃以下の温水中に５分乃至２４時間浸漬し、引き上げた後、乾燥させた。完成した基板上には花弁状透明アルミナ膜が形成され、優れた透過率特性と優れた反射防止特性を有した。ここでは、温水処理温６０℃以上１００℃以下、温水処理時間を５分乃至２４時間としたが、これに限定されるものではない。     
【００２５】
次に本発明の光学素子の構成上の特徴について説明する。
【００２６】
本発明の光学素子は、基板の光入出射面のうち一方の面Ａに複数の薄膜より成る反射防止膜が設けられており、他方の面Ｂに平均ピッチが使用波長以下の微細凹凸構造体（反射防止構造体）が設けられている。
【００２７】
そして可視域を含む使用波長領域（例えば波長４００ｎｍ〜７００ｎｍ）において反射防止機能を有する。
【００２８】
反射防止膜の複数の薄膜のうち、最外層は、無機酸化物より成り、その材料の屈折率をｎ、厚さをｄとする。このとき
５（ｎｍ）＜ｎ・ｄ＜５０（ｎｍ）
なる条件を満足する。また最外層から２番目の層はフッ化化合物からなる無機系薄膜からなっている。
【００２９】
ここで無機酸化物は、ＳｉＯ２、Ｓｉｏ、Ａｌ２Ｏ３、ＺｎＯ２のいずれか１つを含んでいる。
【００３０】
最外層の無機化合物は屈折率ｎは
１．３８＜ｎ＜２．０
なる条件を満足する。
【００３１】
この他、本発明の光学素子は一方の面Ａに形成する反射防止膜の複数の薄膜のうち最外層はフッ素含有有機化合物より成る有機系薄膜から成っている。最外層から２番目の層はフッ化化合物からなる無機系薄膜から成っている。
【実施例１】
【００３２】
図１は、本発明の実施例１の光学素子の要部断面図である。
【００３３】
図１において１は光学素子である。
【００３４】
図１に示す光学素子１を構成する基板１１上の一方の面Ａに反射防止膜２０１が形成されている。他方の面Ｂには微細凹凸構造体２０２が形成されている。
【００３５】
ここで基板１１は平行平板レンズ、プリズム、フィルター等の光学部材である。
【００３６】
反射防止膜２０１は誘電体反射防止膜より成っている。１２は無機系薄膜であり、ＭｇＦ２（フッ化化合物）より成っている。
【００３７】
１３は無機酸化物のＳｉＯ２より成っている。反射防止膜２０１の反射防止機能のある波長域、即ち使用波長は波長４００ｎｍから波長７００ｎｍの波長領域（可視領域）である。
【００３８】
基板１１はｄ線（波長５８７．６ｎｍ）での屈折率が１．８０６のガラス基板（透明基板）を使用した。ガラス基板１１は、洗浄後、真空蒸着法にてｄ線（波長５８７．６ｎｍ）での屈折率１．３８のＭｇＦ２（無機酸化物）を光学膜厚１００ｎｍ成膜した。
【００３９】
ここで光学膜厚ｔとは厚さをｄ、材料の屈折率をｎとするとき
ｔ＝ｎ・ｄ
である。
【００４０】
続けてｄ線（波長５８７．６ｎｍ）での屈折率１．４６のＳｉＯ２を光学膜厚２０ｎｍ成膜した。
【００４１】
図２はこのようにして形成した反射防止膜２０１を分光反射率計で測定した分光反射率の図である。
【００４２】
図２に示すように本実施例の反射防止膜２０１は波長５００ｎｍでの反射率が０．１％以下、波長４００ｎｍ〜波長７００ｎｍの波長範囲（使用波長領域）において反射率が２％以下の低反射率特性を有している。
【００４３】
基板１１の一方の面Ａに反射防止膜２０１を形成する。その後基板１１の他方の面Ｂに次のような工程で、ピッチが使用波長以下の微細凹凸形状（凹凸部）（円柱、角柱、円錐形状の多角錐形状等を含む）を複数持つ微細凹凸構造体２０２を形成した。
【００４４】
ここで、ピッチとは凹凸構造の間隔（周期）に相当している。
【００４５】
一方の面Ａに反射防止膜２０１の形成されている基板１１を純水リンス，アルコールで洗浄後、他方の面Ｂを上向きに真空チャック式の回転ステージに載せ酸化アルミニウムを含有する塗布液を適量滴下した。そして３０００ｒｐｍで３０秒間回転させ、３００℃の温度のオーブンで１２０分間かけて焼成した。
【００４６】
次に酸化アルミニウム塗工済み基板１１を、８０℃の温水中に３０分浸漬した後、乾燥させた。
【００４７】
他方の面Ｂに形成された微細凹凸構造体２０２を有する反射防止構造体は優れた反射防止特性を有した。
【００４８】
基板１１の一方の面Ａに反射防止膜２０１を形成し、他方の面Ｂに微細凹凸構造体２０２が形成された状態で再び一方の面Ａの反射防止膜２０１を評価、観察したところ、膜ムラもなく反射防止特性も温水処理前と変わらない良好な特性であることを確認した。
【実施例２】
【００４９】
図３は、本発明の実施例２による、光学素子の要部断面図である。図３において２は光学素子である。
【００５０】
図３に示す光学素子２の基板２１の一方の面Ａに反射防止膜３０１が形成されている。他方の面Ｂには、微細凹凸構造体３０２が形成されている。
【００５１】
反射防止膜３０１は７層構成（基板２１から層２２〜層２８）の誘電体反射防止膜より成っている。層２２，２４，２６はＴｉＯ２より成っている。層２３，２５はＳｉＯ２より成っている。
【００５２】
層２７はＭｇＦ２、層２８はＳｉＯより成っている。反射防止膜３０１の使用波長は波長４００ｎｍから波長７００ｎｍの波長領域とした。基板２１にはｄ線（波長５８７．６ｎｍ）での屈折率が１．５２のガラス基板を使用した。
【００５３】
ガラス基板２１は、洗浄後、真空蒸着法にて層２２としてｄ線（波長５８７．６ｎｍ）での屈折率２．３２のＴｉＯ２を光学膜厚３３．６ｎｍで成膜した。
【００５４】
続けて層２３としてｄ線（波長５８７．６ｎｍ）での屈折率１．４６のＳｉＯ２を光学膜厚４２．２ｎｍで成膜した。
【００５５】
続けて層２４としてｄ線（波長５８７．６ｎｍ）での屈折率２．３２のＴｉＯ２を光学膜厚１５８．５ｎｍで成膜した。
【００５６】
続けて層２５としてｄ線（波長５８７．６ｎｍ）での屈折率１．４６のＳｉＯ２を光学膜厚２１．３ｎｍで成膜した。
【００５７】
続けて層２６としてｄ線（波長５８７．６ｎｍ）での屈折率２．３２のＴｉＯ２を光学膜厚５６．５ｎｍで成膜した。
【００５８】
続けて層２７としてｄ線（波長５８７．６ｎｍ）での屈折率１．３８のＭｇＦ２を光学膜厚１１９．６ｎｍで成膜した。
【００５９】
続けて層２８としてｄ線（波長５８７．６ｎｍ）での屈折率１．５５のＳｉＯを光学膜厚１０．１ｎｍで成膜した。
【００６０】
図４はこのようにして形成した反射防止膜３０１を分光反射率計で測定した分光反射率の図である。図４に示すように波長４００ｎｍ〜波長７００ｎｍの波長範囲において０．６％以下の低反射率特性を有している。
【００６１】
基板２１の一方の面Ａに反射防止膜３０１を形成した後に、他方の面Ｂには実施例１と同様な方法により、使用波長以下のピッチの微細凹凸構造体を形成した。
【００６２】
本実施例における微細凹凸構造体を有する反射防止構造体は優れた反射防止特性を示した。基板２１の一方の面Ａに反射防止膜３０１、他方の面Ｂに微細凹凸構造体３０２が形成された状態で再び一方の面Ａの反射防止膜３０１を評価，観察したところ、膜ムラもなく反射防止特性も温水処理前と変わらない良好な特性であることを確認した。
【実施例３】
【００６３】
図５は本発明の実施例３の光学素子の要部断面図である。図５において３は光学素子であり、本実施例では屈折力のあるレンズより成っている。
【００６４】
図５に示す、光学素子３のレンズ（基板）３１のレンズ面（一方の面）Ａに反射防止膜４０１が形成されている。レンズ３１のレンズ面（他方の面）Ｂに微細構造体４０２が形成されている。
【００６５】
反射防止膜４０１は４層構成の誘電体多層膜より成っている。反射防止膜４０１の使用波長は波長４００ｎｍから波長７００ｎｍの波長領域とした。
【００６６】
基板としてのレンズ３１にはｄ線（波長５８７．６ｎｍ）での屈折率が１．７２のガラスを使用した。
【００６７】
レンズ３１は、洗浄後、真空蒸着法にて第１層としてｄ線（波長５８７．６ｎｍ）での屈折率１．６３のＡｌ２Ｏ３を光学膜厚２５０．３ｎｍ成膜した。
【００６８】
続けて第２層としてｄ線（波長５８７．６ｎｍ）での屈折率２．１０のＴａ２Ｏ５を光学膜厚２５２．３ｎｍ成膜した。
【００６９】
続けて第３層としてｄ線（波長５８７．６ｎｍ）での屈折率１．３８のＭｇＦ２を光学膜厚９６．２ｎｍ成膜した。
【００７０】
続けて第４層としてｄ線（波長５８７．６ｎｍ）での屈折率１．９５のＺｒＯ２を光学膜厚１５．４ｎｍ成膜した。
【００７１】
図６は形成終了した反射防止膜４０１を分光反射率計で測定した分光反射率の図である。図６に示すように波長４００ｎｍで２．０％以下，波長４１０〜波長７００ｎｍの波長範囲において１．０％以下の低反射率特性を有している。レンズ３１の一方の面Ａに反射防止膜４０１を形成された基板レンズ３１の他方の面Ｂには実施例１と同様な方法により、使用波長以下のピッチの微細凹凸構造体を形成した。
【００７２】
本実施例における微細凹凸構造を有する反射防止構造体は優れた反射防止特性を有した。レンズ３１の一方の面Ａに反射防止膜、他方の面Ｂに微細凹凸構造体が形成された状態で再び一方の面Ａの反射防止膜４０１を評価，観察したところ、膜ムラもなく反射防止特性も温水処理前と変わらない良好な特性であることを確認した。
【実施例４】
【００７３】
図７は本発明の実施例４の光学素子の要部断面図である。図７において４は光学素子である。
【００７４】
図７に示す光学素子４の基板４１の一方の面Ａに反射防止膜５０１が形成されている。他方の面Ｂには微細凹凸構造体５０２が形成されている。
【００７５】
反射防止膜５０１は２層より構成されている。１層目として無機系薄膜４２のフッ化化合物として、ｄ線の屈折率１．３８で光学系膜厚が１１３ｎｍのＭｇＦ２膜を成膜する。
【００７６】
そして、この無機系薄膜４２上に２層目の有機系薄膜４３として、ｄ線の屈折率が１．３６で光学的膜厚は１０ｎｍのフッ素含有有機化合物を成膜する。これにより２層構造から成る多層の反射防止膜５０１を形成した。
【００７７】
無機系薄膜４２であるＭｇＦ２は、真空蒸着方法において成膜温度を２００℃以上で成膜し、有機系薄膜４３のフッ素含有有機化合物は１００℃以下の低温条件で成膜した。
【００７８】
図８は本実施例に係る反射防止膜の分光反射特性の図である。波長４００〜波長７００ｎｍの範囲で分光反射率が２．０％以下で、波長５００ｎｍの波長帯域において１．３％以下と良好な反射防止機能が得られている。
【００７９】
なお、本実施例においては、最も反射の少ない波長帯域を波長５００ｎｍ程度としているが、上述のように光学的膜厚を変化させることにより、最小反射率の波長域を変えることができる。
【００８０】
更に、反射防止膜である多層膜４１は２層構造に限定されることはなく、２種以上の材料を２層以上に積層することによっても得られる。
【００８１】
基板４１の一方の面Ａに反射防止膜５０１の形成されている基板４１を純水リンス，アルコールで洗浄後、他方の面Ｂを上むきに真空チャック式の回転ステージに載せ酸化アルミニウムを含有する塗布液を適量滴下した。そして３５００ｒｐｍで６０秒間回転させ、２５０℃の温度のオーブンで１２０分間かけて焼成した。
【００８２】
次に酸化アルミニウム塗工済み基板４１を、８５℃の温水中に４５分浸漬した後、乾燥させた。他方の面Ｂに形成された微細凹凸構造体５０２を有する反射防止構造体は優れた反射防止特性を有した。
【００８３】
基板４１の一方の面Ａに反射防止膜、他方の面Ｂに微細凹凸構造体５０２を形成した状態で再び一方の面Ａの反射防止膜５０１を評価，観察したところ、膜ムラもなく反射防止特性も温水処理前と変わらない良好な特性であることを確認した。
【００８４】
以上のように、各実施例によれば、光学部材（基板）の一方の面に膜ムラのない、外観的に良好な高性能な反射防止膜を有し、他方の面に使用波長以下の微細凹凸構造を有する反射防止構造体を具備し、良好なる反射防止機能を有した光学素子を得ることができる。
【００８５】
このような光学素子をビデオカメラ、プロジェクター、観察系等の光学機器を構成する光学系に用いれば、透過光量が高く、フレアやゴーストなどの有害光の発生を抑制した高品位な画像が得られる。
【００８６】
[比較例１]
以下に本発明の光学素子に対する比較例１の光学素子について説明する。
【００８７】
図９は本発明の実施例１の光学素子との比較を行うための比較例１の光学素子の概略構成図である。
【００８８】
図９において、５１は基板、６０２は基板５１の一方の面Ａに形成した無機系薄膜より成る反射防止膜である。
【００８９】
６０１は基板５１の他方の面に形成した微細凹凸構造体である。
【００９０】
基板５１にはｄ線（波長５８７．６ｎｍ）での屈折率が１．８０６のガラス基板を使用した。ガラス基板５１は、洗浄後、一方の面Ａに真空蒸着法にてｄ線（波長５８７．６ｎｍ）での屈折率１．３８のＭｇＦ２を光学膜厚１２５ｎｍ成膜し、単層の反射防止膜６０２を形成した。
【００９１】
図１０は形成した反射防止膜６０２を分光反射率計で測定した分光反射率の図である。図１０に示すように波長５００ｎｍでの反射率が０．１％以下，波長４００ｎｍ〜波長７００ｎｍの波長範囲において２％以下の低反射率特性を有している。
【００９２】
基板５１の一方の面Ａに反射防止膜６０２を形成した後に基板５１の他方の面Ｂに実施例１と同様な方法により、微細凹凸構造体を形成した。出来上がった微細凹凸構造体を有する反射防止構造体は優れた反射防止特性を有した。
【００９３】
基板５１の一方の面Ａに反射防止膜６０２、他方の面Ｂに微細凹凸構造体６０１が形成された状態で再び一方の面Ａの反射防止膜６０２を評価，観察した。
【００９４】
その結果、反射特性が図１０の点線に示すように大きく変化し、反射防止性能が大きく劣化し、膜にムラが存在していた。
【００９５】
図１１に本発明の反射防止性を有する光学素子を光学系に応用した例を示す。
【００９６】
図１１は本発明の反射防止性を有する光学素子をカメラの結像光学系（撮影光学系）に用いた模式図である。図１１において７０６は撮影レンズ部であり、内部に絞り７０８と前述した本発明の光学素子７０１を有している。
【００９７】
図１１において７０１は本発明に係る光学素子である。結像面７０７はフィルムまたはＣＣＤである。光学素子７０１はレンズ面の反射を抑制し、フレア光の発生を低減させている。
【００９８】
尚、図１１では反射防止性を有する光学素子７０１を撮影レンズ部７０６の最終レンズに設けているが、これに限定するものではなく、他のレンズに使用してもよく、あるいは複数枚使用しても良い。
【００９９】
また本実施例では、カメラの撮影レンズの場合を示したが、これに限定するものではない。例えばビデオカメラの撮影レンズ（撮像光学系）、事務機のイメージスキャナーやデジタル複写機のリーダーレンズなど広い波長域で使用される結像光学系に本発明の光学素子を使用しても、前述の実施例と同様の反射防止効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【０１００】
【図１】本発明の実施例１に係る光学素子の概略構成図
【図２】実施例１の光学素子の分光反射率特性図
【図３】本発明の実施例２に係る光学素子の概略構成図
【図４】実施例２の光学素子の分光反射率特性図
【図５】本発明の実施例３に係る光学素子の概略構成図
【図６】実施例３の光学素子の分光反射率特性図
【図７】本発明の実施例４に係る光学素子の概略構成図
【図８】実施例４の光学素子の分光反射率特性図
【図９】比較例１の光学素子の概略構成を示す図
【図１０】比較例１の光学素子の分光反射率特性図
【図１１】本発明の光学素子を有する光学系の要部概略図
【符号の説明】
【０１０１】
１１，２１，４１，５１    基板
１２  無機系薄膜
１３  無機系薄膜
２２，２３，２４，２５，２６，２７，２８，  無機系薄膜
３１  基板レンズ
４３  有機系薄膜
５２  無機系薄膜
１１１，１１２，１１３，１１４，１１５  空気
２０１，３０１，４０１，５０１  反射防止膜
２０２，３０２，４０２，５０２，６０１  微細凹凸構造体
【図２】
2010066681.tif 000003
【図３】
2010066681.tif 000004
【図４】
2010066681.tif 000005
【図６】
2010066681.tif 000006
【図７】
2010066681.tif 000007
【図８】
2010066681.tif 000008
【図１０】
2010066681.tif 000009
【図１１】
2010066681.tif 000010
【図１】
2010066681.tif 000011
【図５】
2010066681.tif 000012
【図９】
2010066681.tif 000013