(57)【要約】【課題】気泡の残存がなく、他の光学フィルタとの接着性も良好で、かつ生産効率に優れる電磁波遮蔽フィルタを提供する。【解決手段】透明基材と、その透明基材上に設けられた金属メッシュ層と、メッシュパターンの凹凸を埋めるように金属メッシュ層上に設けられた粘着剤層と、を備えた電磁波遮蔽フィルタであって、前記金属メッシュ層の厚みをＨ、前記粘着剤層の最厚部分の厚みをＴとした場合に、Ｔ≧Ｈを満たすように粘着剤層が設けられていることを特徴とする。【選択図】図１
2010080693.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材と、その透明基材上に設けられた金属メッシュ層と、メッシュパターンの凹凸を埋めるように金属メッシュ層上に設けられた粘着剤層と、を備えた電磁波遮蔽フィルタであって、
前記金属メッシュ層の厚みをＨ、前記粘着剤層の最厚部分の厚みをＴとした場合に、Ｔ≧Ｈを満たすように粘着剤層が設けられていることを特徴とする、電磁波遮蔽フィルタ。
【請求項２】
前記金属メッシュの少なくとも一方の面上に、厚み０〜１３Åの金属酸化被膜が形成されてなる、請求項１に記載の電磁波遮蔽フィルタ。
【請求項３】
前記金属がアルミニウムであり、前記金属酸化物が酸化アルミニウムである、請求項１または２に記載の電磁波遮蔽フィルタ。
【請求項４】
前記透明基材と前記金属メッシュ層とが、接着剤層を介して積層されている、請求項１〜３のいずれか一項に記載の電磁波遮蔽フィルタ。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか一項に記載の電磁波遮蔽フィルタと、光学フィルタとを積層した多機能フィルタ。
【請求項６】
請求項１〜４のいずれか一項に記載の電磁波遮蔽フィルタ、または請求項５記載の多機能フィルタを、前面に配置した画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、画像表示装置（ディスプレイ）に使用される電磁波遮蔽フィルタ、およびそれを用いた画像表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
プラズマディスプレイ等の画像表示装置は、発光にプラズマ放電を利用するため、３０ＭＨｚ〜１ＧＨｚ帯域の不要な電磁波が外部に漏洩して他の機器（例えば、遠隔制御機器、情報処理装置等）に影響を与えるおそれがある。そのため、画像表示装置に用いられる表示パネルの前面側（観察者側）に、画像光の透過性は維持した上で、漏洩する電磁波を遮蔽（シールド）するためのフィルム状の電磁波遮蔽フィルタを設けるのが一般的である。例えば、プラズマディスプレイパネル用の電磁波遮蔽フィルタにおいて、電磁波遮蔽性能と光透過性とを両立させた金属パターンとしてはメッシュ状のパターンが多く用いられている。金属パターン（ＥＭＩメッシュ）は、透明基材に金属箔を透明接着剤で貼り合せた後、フォトリソグラフィー法により金属箔をメッシュ状にケミカルエッチングして作ることができる（特許文献１、特許文献２）。
【０００３】
上記した金属パターンからなる電磁波遮蔽フィルタは、他の光学フィルタと組み合わされて、画像表示装置の前面に貼り合わされるのが一般的である。そして、通常、金属メッシュと他の光学フィルタとは、粘着剤等を介して積層される。しかしながら、金属メッシュの表面は凹凸状の形態を有しているため、その表面上に粘着剤を塗布する際に、凹部に気泡が混入する場合がある。この気泡は、画像光を散乱して、画像に曇りを生じ、又画像の明暗コントラストの低下、画像端部の輪郭の不鮮明化等の画質低下をもたらす。そのため、粘着剤層を形成した後にオートククレーブ等の別工程を追加して、その工程中で加熱および加圧処理をして気泡を除去する必要があった。その結果、電磁波遮蔽部材を連続的に生産することができず、生産効率の改善が求められていた。
【０００４】
また、金属メッシュ材料として、上記の特許文献１および２には、種々の導電性金属材料が使用できることが開示されており、特に特許文献２においては、銅の他、アルミニウム等の高伝導率の金属も例示されている。アルミニウムは銅等と比較して安価な金属材料であり、金属メッシュ材料として、銅からアルミニウムへの代替が希求されている。
【０００５】
しかしながら、実際には、アルミニウムからなる金属メッシュを用いた電磁波遮蔽フィルタは実用化されていない。その理由は、メッシュパターンの線幅および厚みの寸法は１００μｍ程度以上である場合には問題とならないが、高品質の画像表示装置用にメッシュパターンを微細化した場合、とりわけ線幅および厚み寸法を１０〜２０μｍ程度以下にした場合に、以下のような問題が顕在化するためである。
【０００６】
すなわち、（ａ）アルミニウム自体の活性が高く、表面にアルミニウムの酸化皮膜が存在し、これが耐腐食膜となってケミカルエッチングを阻害する。（ｂ）エッチング液に接触した領域の酸化皮膜が一部除去されると、除去された部分がまだ除去されていない部分に対して急速にエッチングが進んでしまい、均一な安定したエッチングが困難である。（ｃ）上記（ａ）および（ｂ）の結果として、金属パターンのライン部の輪郭に、ギザ（ｚｉｇｚａｇ状のこと。ラインの輪郭に凹凸があって直線性が悪くギザギザしている形態をこのように呼称する。）や断線が発生し、ラインのパターン精度が、銅箔の場合に比べてアルミニウムは劣る。
【０００７】
そのため、アルミニウムを用いると、銅と比べて画像表示装置で要求される微細なパターン（例えばライン幅１０〜２０μｍ、パターンの厚み１０〜２０μｍ程度）が得られない。そして、ギザは光透過性を実現する開口部の面積率のムラとなって表示画面の面ムラに繋がり、断線は電磁波遮蔽性能の低下に繋がる。
【０００８】
【特許文献１】特開２００３−３１８５９６号公報
【特許文献２】特許第３３８８６８２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明者らは、今般、金属メッシュ層の厚みと粘着剤層との厚みとの関係に着目し、各層を所定の厚みとするこのより、気泡の残存がなく、他の光学フィルタとの接着性も良好で、かつ生産効率に優れる電磁波遮蔽フィルタを実現できる、との知見を得た。本発明はかかる知見によるものである。
【００１０】
したがって、本発明の目的は、気泡の残存がなく、他の光学フィルタとの接着性も良好で、かつ生産効率に優れる電磁波遮蔽フィルタを提供することである。
【００１１】
また、本発明の別の目的は、金属パターンの材質を銅から安価なアルミニウムに代えると生じる、ケミカルエッチングで形成したアルミニウムパターンのパターン精度不良を解消して、アルミニウムを用いた安価でしかも実用可能な電磁波遮蔽フィルタを提供することである。
【００１２】
さらに本発明の別の目的は、上記電磁波遮蔽フィルタを用いた多機能フィルタ、これらフィルタを用いた画像表示装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明による電磁波遮蔽フィルタは、透明基材と、その透明基材上に設けられた金属メッシュ層と、メッシュパターンの凹凸を埋めるように金属メッシュ層上に設けられた粘着剤層と、を備えた電磁波遮蔽フィルタであって、
前記金属メッシュ層の厚みをＨ、前記粘着剤層の最厚部分の厚みをＴとした場合に、Ｔ≧Ｈを満たすように粘着剤層が設けられていることを特徴とするものである。
【００１４】
また、本発明の好ましい態様においては、前記金属メッシュの少なくとも一方の面上に、厚み０〜１３Åの金属酸化被膜が形成されてなる。
【００１５】
さらに、本発明の好ましい態様においては、前記金属がアルミニウムであり、前記金属酸化物が酸化アルミニウムである。
【００１６】
また、本発明の態様においては、前記透明基材と前記金属メッシュ層とが、接着剤層を介して積層されていることが好ましい。
【００１７】
本発明の別の態様として、電磁波遮蔽フィルタと、光学フィルタとを積層した多機能フィルタや、上記電磁波遮蔽フィルタ、または上記多機能フィルタを、前面に配置した画像表示装置も提供される。
【発明の効果】
【００１８】
本発明の電磁波遮蔽フィルタによれば、金属メッシュ層の厚みと粘着剤層の最厚部分の厚みとがＴ≧Ｈの関係を満たすように、すなわち、粘着剤層の最厚部分の厚みが、金属メッシュ層の厚みよりも厚くなるように、粘着剤層が設けられているため、金属メッシュ層上に粘着剤層を設ける際に気泡が混入しても、粘着剤層により、気泡が溶解または分解するため、気泡が残存することがない。その結果、オートクレーブ等で加熱・加圧処理して残留気泡を除去する必要がなくなるため、電磁波遮蔽フィルタを長尺状のフィルムまたはシート形態で連続的に製造でき、生産効率が飛躍的に向上する。
【００１９】
また、粘着剤層の厚みを上記の範囲とすることにより、粘着剤層を介して他の光学フィルタと貼り合わせて多機能フィルタとした場合に、耐衝撃吸収性能が向上するため、いわゆる直貼りの多機能フィルムを実現できる。したがって、製造コストを低減することができる。
【００２０】
さらに、少なくとも上面側のアルミニウムの酸化皮膜の厚みを薄く規定することで、アルミニウムパターンをケミカルエッチングで形成する際に安定したエッチングが可能でエッチング品質が改善する為に、ライン輪郭部のギザや断線となる不良が解消してパターン精度が向上し、ひいては、電磁波遮蔽性（表面抵抗値）のバラツキやヘーズ（曇価）の上昇を避けられる。この結果、銅よりも安価なアルミニウムを利用して、材料的に安価な電磁波遮蔽フィルタを実用化できる。また、製造面でも、アルミニウムの酸化皮膜はそのままでケミカルエッチングできるのでその除去工程が不要で、製造工程の複雑化やコストアップを避けられる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
以下、本発明の実施形態を、図面を参照しながら説明する。
【００２２】
図１は、本発明による電磁波遮蔽フィルタの層構成を示す断面概略図である。金属メッシュ層２はその上面および下面の表面に金属酸化皮膜３を有しており、金属メッシュ層２は、その下面側の酸化皮膜３の下面で透明接着剤層４を介して透明基材１に接着固定され積層されている。透明接着剤層４は金属メッシュ層２の開口部も含めて透明基材１の全面に形成されている。そして、金属メッシュパターンの凹凸を埋めるように、金属メッシュ層２上に粘着剤層７が設けられている。この粘着剤層は、金属メッシュ層の厚みＨと、粘着剤層の最厚部分の厚みＴとの関係が、Ｔ≧Ｈを満たすようにもうけられている。なお、本発明において、「上面」とは、透明基材に対して金属メッシュ層が形成された側と同じ向きとなる面（図面では上方を向く面でもある）を言い、「下面」とは「上面」と逆向きの面（図面では下方を向く面でもある）を言うものとする。
【００２３】
このように、金属メッシュ層２の厚み（Ｈ）よりも十分に厚く（Ｔ）粘着剤層を設けることにより、金属メッシュ層２の凹部に流入する粘着剤の量を増大できる。その結果、粘着剤層を形成する際に気泡が凹部に混入したとしても、気泡を溶解および／または分解することができる。その結果、オートクレーブ等で加熱・加圧処理して残留気泡を除去する必要がなくなるため、電磁波遮蔽フィルタを長尺状のフィルムまたはシート形態で連続的に製造でき、生産効率が飛躍的に向上する。また、粘着剤層の厚みＴを金属メッシュ層の厚みＨよりも大きくすることにより、電磁波遮蔽フィルタに他の光学フィルタを貼着した多機能フィルタの耐衝撃性が向上する。そのため、多機能フィルタを画像表示装置の前面に組み込む場合であっても、別途衝撃吸収フィルム等を介在させる必要がなくなり、コストの低減が図られる。なお、本明細書中、「電磁波」とは、その周波数が３０ＭＨｚ〜１ＧＨｚの範囲を中心とするＫＨｚ〜ＧＨｚ帯近辺の電磁波を意味し、赤外線、可視光線、紫外線、Ｘ線等は含まれないものとする。
本発明による電磁波遮蔽フィルタの構成につき、以下、詳細に説明する。
【００２４】
＜透明基材＞
透明基材１は、可視領域での透明性（光透過性）、耐熱性、機械的強度等の要求物性を考慮して、公知の材料および厚みを適宜選択すればよく、ガラス、セラミックス等の透明無機物の板、または樹脂板など板状体の剛直物でも良い。ただし、生産性に優れるロール・トゥ・ロールでの連続加工適性を考慮すると、フレキシブルな樹脂フィルム（またはシート）が好ましい。なお、ロール・トゥ・ロールとは、巻取（ロール）から巻き出して供給し、適宜加工を施し、その後、巻取に巻き取って保管する加工方式をいう。
【００２５】
樹脂フィルム、樹脂板の樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、エチレングリコール−１，４シクロヘキサンジメタノール−テレフタール酸共重合体、エチレングリコール−テレフタール酸−イソフタール酸共重合体などのポリエステル系樹脂、ポリメチルメタクリレートなどのアクリル系樹脂、シクロオレフィン重合体などのポリオレフィン系樹脂、トリアセチルセルロースなどのセルロース系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリイミド系樹脂等である。なかでも、ポリエチレンテレフタレートはその２軸延伸フィルムが耐熱性、機械的強度、光透過性、コスト等の点で好ましい透明基材である。また、透明無機物としては、ソーダ硝子、カリ硝子、硼珪酸硝子、鉛硝子などの硝子、石英、あるいはＰＬＺＴ等のセラミックス等が挙げられる。
【００２６】
透明基材の厚みは基本的には特に制限はなく用途等に応じ適宜選択し、フレキシブルな樹脂フィルムを利用する場合、例えば１２〜５００μｍ、好ましくは２５〜２００μｍ程度である。樹脂や透明無機物の板を用いる場合、その厚みは、例えば、５００〜５０００μｍ程度である。
【００２７】
なお、透明基材の樹脂中には、必要に応じて適宜、紫外線吸収剤、着色剤、充填剤、可塑剤、帯電防止剤などの公知の添加剤を添加できる。また、透明基材は、その表面に、コロナ放電処理、プライマー処理などの公知の易接着処理を行ったものでも良い。
【００２８】
＜金属メッシュ層＞
金属メッシュ層は、金属箔がメッシュパターン状に形成されたものであり、金属自体は光を透過させないが、メッシュの開口部を設けたパターンとすることにより、電磁波遮蔽性能と光透過性とを両立させた層である。そして、本発明においては、この金属メッシュ層の表面（図１中の金属メッシュ層の上面）に、厚み０〜１３Åの金属酸化皮膜３を有する。なお、１Å＝０．１ｎｍである。この金属酸化被膜は、金属メッシュを構成する金属の酸化物からなることが好ましい。金属メッシュを構成する金属としては、特に制限されるものではなく、通常の金属メッシュ材料として用いられている材料、例えば、銅、鉄、ニッケル、クロム、アルミニウム等の金属を使用できる。金属としてアルミニウムを用いると、上記したように、金属メッシュパターンの線幅および厚みを１０〜２０μｍ程度以下とした場合に生じる固有の問題、すなわち、アルミニウム箔をケミカルエッチングでアルミニウムパターンとする際の不安定なエッチングと、それによって発生するパターン精度不良の問題がある。まず、その問題について、図２および３を用いて説明する。
【００２９】
図２（ａ）はエッチングによる腐食が進行する前の状態を示し、図２（ｂ）はエッチングによる腐食が進行中の状態を示す。図２（ａ）および図２（ｂ）では、エッチング液５１でレジストパターン５２の非形成部の領域において露出しているアルミニウム箔５４をエッチングする様子を示す。
図２（ａ）および図２（ｂ）の場合、アルミニウム層５３の上面および下面の都合表裏両面にアルミニウムの酸化皮膜３を有する状態のアルミニウム箔５４は、透明基材１の片面に、透明接着剤層４で接着固定され積層されて、これがアルミニウム箔積層体５５となっている。
【００３０】
そして、図２（ｂ）のように、エッチングが進行すると、レジストパターン５２の非形成部でエッチング液５１に接触するアルミニウム箔５４の露出部分の酸化皮膜３は、露出部の全面で均一にエッチングが進行せず、部分的にエッチングが先行し、この腐食先行部分５６からアルミニウム層５３のエッチングがなされて行く。この結果、エッチングが完了した状態では、図３の平面図にて概念的に示すように、アルミニウムパターン２のラインには、ギザや断線などのパターン精度不良が多発する。
【００３１】
以下、金属メッシュ層材料として、アルミニウムを使用した場合を一例に、電磁波遮蔽フィルタを構成する金属メッシュ層を説明する。
【００３２】
金属メッシュ層であるアルミニウムパターンには、アルミニウムを主成分とし、アルミニウム純金属の他にアルミニウム合金でもよく、これらを纏めて本発明ではアルミニウムというが、アルミニウムの純度が低いと導電性が低下するので、純度は電磁波遮蔽性能の点では高い方が好ましく、純度が９９．０％以上のアルミニウムが好ましい。このような純度が９９．０％以上のアルミニウムを利用したアルミニウムパターンは、ＪＩＳ  Ｈ４１６０（アルミニウムおよびアルミニウム合金はく）、ＪＩＳ  Ｈ４１７０（高純度アルミニウムはく）で規定されるアルミニウム箔に準じた箔を利用することで形成できる。
【００３３】
なお、アルミニウムパターンはアルミニウム箔から形成するのではなく、透明基材上にアルミニウムを気相成長法、例えば真空蒸着法で形成したアルミニウム蒸着膜から形成したものを利用しても良い。
【００３４】
アルミニウムパターンの厚みは、電磁波遮蔽性能、加工適性、機械的強度などの点から適宜選択すればよく、具体的には１〜１００μｍ、好ましくは５〜２０μｍ、より好ましくは８〜１５μｍである。厚みが薄いと電磁波遮蔽性能、機械的強度などが低下し、厚みが厚いと加工適性が低下する。
【００３５】
アルミニウムパターンの平面視のパターンの形状は、例えばメッシュ（網目ないし格子）形状、ストライプ（縞ないし平行線群）形状、またはストライプ（螺旋）形状などの電磁波遮蔽性能と光透過性とを両立させた公知のパターンである。なかでもメッシュ形状、それも正方格子形状が代表的であり、この他、格子形状で言えば例えば長方形格子、菱形格子、六角格子、三角格子などがある。メッシュはこれら形状からなる複数の開口部を有し、開口部間は開口部を区画するライン部（線部または線条部）となる。ライン部は通常幅均一でライン状のものであり、また通常は開口部および開口部間は、全て各々同一形状で同一サイズとなる。
【００３６】
なお、上記パターンは、ディスプレイ用途では、電磁波遮蔽フィルタの画像表示に影響しない四辺周辺部には、接地用導通の為に開口部を設けないベタパターンか、在っても占有面積比率が小さい接地領域を、開口部を有する内部の画像表示領域の周囲に有することがある。
【００３７】
パターンのライン部のライン幅は例えば５〜５０μｍ、本発明の効果がより際立つ点では、上限は３０μｍ、特に２０μｍである。また、ライン幅の下限値は、重荷電磁波遮蔽性および機械的強度の観点で適宜調整できるが、好ましくは１０μｍ以上である。ラインの繰り返し周期であるライン間隔（ピッチ）は例えば１００〜５００μｍである。また、開口率（メッシュパターン形成領域の全面積に対する開口部の面積比）は５０〜９５％とする。
【００３８】
アルミニウムパターンのパターンを形成するには、透明基材上にアルミニウム箔などパターン形成前のアルミニウム層を積層した後、ケミカルエッチングによって形成できる。ケミカルエッチング時のレジストパターンのパターン形成はフォトリソグラフィー法（パターン露光法）、印刷法などの公知のパターン形成法を適宜選択すればよい。なかでも、フォトリソグラフィー法は印刷法に比べて、電磁波遮蔽フィルタに要求されるライン幅やその均一性など高精度のパターンを安定的に形成できる点で好ましい方法である。
【００３９】
アルミニウムパターンをケミカルエッチングする際のエッチング液としては、公知のエッチング液を適宜選択使用すれば良い。例えば、塩化第二鉄を含む酸性のエッチング液である。エッチングは、アルミニウム層の上面のレジストパターン非形成部に於けるアルミニウムの酸化皮膜も含めて行われる。エッチングの前処理として、上面のアルミニウムの酸化皮膜の除去は特に必要ない。そして、レジストパターン形成部に対応した、上面や下面のアルミニウムの酸化皮膜３は、アルミニウムパターン２の上面や下面の酸化皮膜３となって残る。
【００４０】
＜アルミニウムの酸化皮膜＞
アルミニウムの酸化皮膜はアルミニウム酸化物を含む層であり、アルミニウムパターンをアルミニウム箔を利用して形成する場合、アルミニウムの酸化皮膜は箔の上面および下面の表裏両面に存在するが、本発明ではケミカルエッチングでパターン形成する際に、エッチングされる側、つまり上面側について、その厚みを規定する。アルミニウムパターンの少なくとも上面のアルミニウムの酸化皮膜の厚みについて、その上限を１３Å、好ましく１２Å、より好ましくは１０Å、更に好ましくは８Åとする。少なくとも上面のアルミニウムの酸化皮膜の厚みについて、その上限を上記のようにすることで、該酸化皮膜がたとえ存在したままでも、安定したケミカルエッチングが可能となり、アルミニウム層を用いた場合に生じる、ライン部輪郭のギザや断線を防止することができ、銅を安価なアルミニウムに変更したが故のパターン精度不良を回避できる。
【００４１】
ところで、普通に製造されるアルミニウム箔は圧延法で製造され、アルミニウム塊の圧延工程、焼鈍工程を経る箔製造工程、その後の空気中保管など、常温（２０℃、５０％ＲＨ前後）で製造保管することによって、活性なアルミニウムは表面に不可逆的にアルミニウムの酸化皮膜が形成されるが、本発明の様に薄い酸化皮膜とはならずに、より厚みの厚い１５Å以上、通常２０〜１００Å程度の酸化皮膜となる。
【００４２】
また、アルミニウムパターン上面のアルミニウムの酸化皮膜の厚みの下限は、ケミカルエッチングを阻害しない観点からは、０（零）Å、つまり酸化皮膜が存在しなくても良い。ただし、アルミニウムの酸化皮膜は、不動態膜と言われており、アルミニウム箔を加工、搬送、保管する過程中において、アルミニウム箔の内部に（不用意な、望まれない）酸化または腐食が進行することを防止する機能を有するので、この点では２〜３Å程度の、緻密なアルミニウム不動態膜としての酸化皮膜を形成しておいてもよい。
【００４３】
なお、上面にアルミニウムの酸化皮膜が存在しないアルミニウムパターンは、真空中、不活性気体中でパターン形成前のアルミニウム層を透明基材上に形成し、酸化皮膜生成前にアルミニウム層の上面を樹脂被覆し酸化反応を遮断するなどすれば可能である。その後、ケミカルエッチングで所定のパターンを形成すれば、上面にアルミニウムの酸化皮膜が存在しないアルミニウムパターンとなる。
【００４４】
アルミニウムの酸化皮膜の厚みを上記のような薄い所定の厚みにするには、各種あるが、アルミニウムパターンにアルミニウム箔を利用する場合、アルミニウム箔は圧延法によって作られ、その後、焼鈍して製造されているが、圧延条件や焼鈍条件を調整することで、目的とする厚みに調整できる。
【００４５】
例えば、圧延後のアルミニウム箔の表面に付着している圧延油を焼鈍時に除去する際に、表面が酸化しないように、焼鈍雰囲気のガス組成を制御したり（酸素濃度を低めにする）、アルミニウム箔表面のアルミニウムの酸化皮膜を薬品で除去したりする、といった方法などがある。焼鈍しないという方法もあるが、圧延油は、フォトリソグラフィー法に悪影響を及ぼすため好ましくない。
【００４６】
アルミニウムの酸化皮膜の厚みは、ハンターホール法、蛍光Ｘ線分析法の一種であるＸ線光電子分光法（ＸＰＳ）により測定することができる。
【００４７】
アルミニウムの酸化皮膜は、その箔製造工程からして、箔の表裏両面、つまり上面および下面の両面に通常形成されている。このうち、アルミニウムパターンのパターン形成のためのケミカルエッチングに影響するのは上面の酸化皮膜であるので、本発明では少なくともこの上面のアルミニウムの酸化皮膜について特定の厚み（薄さ）を規定する。なお、下面のアルミニウムの酸化皮膜については、通常は、上面のアルミニウム酸化皮膜に比べてケミカルエッチング時のメッシュ形状ギザ発生への寄与は無視出来る為、パターン精度の点からは特に規定する必要はない。但し、該膜厚が厚すぎると、開口部に残留したアルミニウム酸化皮膜によるメッシュ形状への悪影響も起こり得るし、又開口部の透明性を低下させることも有り得る。この為、下面のアルミニウム酸化皮膜は、好ましくは、可視光線の最小波長３８０ｎｍ未満、更に好ましくは２００ｎｍ以下とすることが推奨される。例えば、下面のアルミニウム酸化皮膜の膜厚も上面と同様に０〜１３Åとする。なお、本発明の１形態として、ケミカルエッチング前の下面のアルミニウム酸化皮膜の膜厚、およびケミカルエッチングの加工条件を調整することにより、パターン開口部に可視光線の最小波長３８０ｎｍ未満（例えば３〜１３Å）の膜厚の透明なアルミニウム酸化皮膜を残留させ、ケミカルエッチング時に開口部に露出する透明接着剤層または透明基材を腐食液による着色から保護することも出来る。
【００４８】
ただ、下面のアルミニウムの酸化皮膜も上面の酸化皮膜と同程度の厚みで存在するとすれば、下面のアルミニウムの酸化皮膜の厚みについても、上記した上面のアルミニウムの酸化皮膜の厚みと同じ規定をすることができる。
【００４９】
＜黒化処理層＞
アルミニウムパターンはその表面に黒化処理層を形成してもよい。黒化処理層は、アルミニウムパターンやその表面の酸化皮膜による光反射を抑制することで、外光吸収、画像のコントラスト向上を図る層である。黒化処理層は外光吸収、画像のコントラスト向上が必要な場合に設ける。黒化処理層はアルミニウムパターンの表面、表面に酸化皮膜がある場合はその皮膜表面に設けて、その光反射率を低下させる層である。
【００５０】
ここで表面は上面、下面、側面などの面をいう。黒化処理して黒化処理層を形成する表面としては、上面のみ、上面と両側側面、下面のみ、上面と両側側面と下面の全ての表面など、要求に応じた面とすれば良いのは公知の黒化処理と同じである。このうち、透明接着剤層存在下で透明接着剤に接する面が下面である。また、電磁波遮蔽フィルタをその上面側を観察者側にして使用するには、少なくとも上面については黒化処理層を形成するのが好ましく、更に好ましくは両側側面、後述画像表示素子側となる下面についても黒化処理層を形成するのがよい。
【００５１】
黒化処理層としては、電磁波遮蔽フィルタにおいて、公知のものを適宜採用すれば良い。例えば、黒化処理層としては、金属などの無機材料、黒色樹脂などの有機材料などを使用できる。無機材料としては、例えば金属または合金、金属酸化物、金属硫化物などの金属化合物であり、めっき法など公知の黒化処理にて形成することができる。また、黒色樹脂としては例えば黒色の着色剤を樹脂中に含有させた層として形成できる。
【００５２】
＜粘着剤層＞
粘着剤層７は、電磁波遮蔽フィルタを他の光学部材と貼り合わせる機能を有する他、導電パターン層の凹凸を埋めて平坦化させる機能、耐衝撃（衝撃吸収）機能も合わせもつ。粘着剤層の厚さは、層の最厚部分、すなわち図１の開口部分が４０μｍ以上となるように形成される。粘着剤層を構成する粘着剤としては、アクリル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、熱可塑性ポリエステル樹脂、ゴム等が使用できる。その他、熱硬化性樹脂や電離放射線硬化性樹脂を使用することもできる。
【００５３】
また、粘着剤層には、表示装置の発光色を色調補正するため、または近赤外線等を吸収するため、近赤外線吸收剤、紫外線吸收剤、ネオン光吸收剤、各種着色色素、帯電防止剤等を含有させることができる。
【００５４】
粘着剤層の形成方法は、流動性のある粘着剤を、導電パターン層の凹凸を充填するように直接塗工する。あるいは、別途、離型基材上に予め粘着剤層を塗工形成した転写シートを用意し、導電パターン層上に転写シートの粘着剤層面を接着し、その後に離型基材を剥離する転写法を採用して粘着剤層を形成してもよい。なお、流動性とは、Ｎｅｗｔｏｎ粘性には限らず、ダイラタンシーあるいはティキソトロピーの非Ｎｅｗｔｏｎ粘性であってもよい。粘度についても導電パターン層の凹凸を充填し得るに足る粘度であればよく、塗工または転写（粘着剤層を転写で形成する場合）時の加工条件や凹凸の程度に応じて適宜調整する。
【００５５】
粘着剤の塗工法としては、ロールコート、グラビアロールコート、バーコート、カーテンフローコート、ダイコート、コンマコート、スプレーコート等を好適に採用できる。
【００５６】
また、粘着剤層を形成する際、導電パターン層に形成した粘着剤層がその時点において流動性を有する場合は、その状態のままで、また粘着剤層がその時点において流動性がほとんどない場合は、粘着剤層を加熱し、軟化または溶融等の方法により流動化させる。次いで、流動性の粘着剤層を導電パターン層の凹凸内に充填させ、凹凸内の空気と置換させる。なお、この過程の間、粘着剤層の導電パターン側とは反対側面は、転写法の場合であれば転写シートの剥離基材の平坦面と、直接塗工法の場合であれば別途用意した鏡面板等の平坦面と、接触、加圧し、粘着剤層の変形を規制する。
【００５７】
転写シートに用いられる離型基材としては、特に制限されるものではないが、適度な強度と応力に対する寸法安定性（弾性率）、耐熱性（特に転写時に過熱する場合）、および表面平滑性の高いものを選択することが好ましい。また、転写層との剥離性（離型性ともいう）を確保する為に、転写層側に離型層を形成することが好ましい。例えば、厚さ２０〜１００μｍ程度の樹脂シート、または坪量２０〜１００ｇ／ｍ２の紙が用いられる。樹脂シートとしては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル樹脂シートや、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン等のポリオレフィン樹脂シートが挙げられる。紙としては上質紙、パーチメント紙、グラシン紙、硫酸紙等で地合のできるだけ均一なものが用いられる。
【００５８】
離型層は、離型基材自体では転写層との剥離性が不足する場合に形成される。離型層は、基材シートとの密着性が高く、かつ転写層との剥離性の高い材料を選定する。剥離層の材料としては、メラミン樹脂、シリコン樹脂、ポリオレフィン樹脂等が用いられる。必要に応じて、これにワックス、フッ素樹脂等からなる離型剤を添加する。離型層の厚さは、通常、０．１〜５μｍ程度である。
【００５９】
＜透明接着剤層＞
透明接着剤層４は、アルミニウムパターンを透明基材に固定するための層であり、例えば、アルミニウムパターンをアルミニウム箔から形成する場合に、アルミニウム箔を透明基材に接着固定するために使用される。なお、透明接着剤層は、アルミニウムパターンをアルミニウム蒸着で透明基材上に直接積層したアルミニウム層から形成する場合では省略できる。
【００６０】
透明接着剤層としては、アルミニウムパターンの開口部による光透過性を阻害しないように、透明な接着剤であればよく、公知の透明な接着剤を適宜使用すればよい。例えば、ウレタン系接着剤、アクリル系接着剤、エポキシ系接着剤、ゴム系接着剤などである。なかでも、ウレタン系接着剤、例えば２液硬化型ウレタン系接着剤は、接着力などの点で好ましい。２液硬化型ウレタン系接着剤としては、ポリオールを主剤とし、これに硬化剤としてポリイソシアネート化合物を用いた接着剤を使用できる。ポリオールは、例えば、アクリルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリウレタンポリオール、ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリウレタンポリオールなどである。また、ポリイソシアネート化合物は、例えば、トリレンジイソシアネート系、キシリレンジイソシアネート系、ヘキサメチレンジイソシアネート系などである。ポリオール、ポリイソシアネートは、各々複数種使用してもよい。
【００６１】
透明接着剤層は、透明な接着剤をアルミニウム箔、透明基材のいずれかまたは両方に公知の形成法によって施した後、これらを接着剤を介する様に積層することで形成できる。形成法は、上記した塗工法や印刷法などを挙げることができる。
【００６２】
＜多機能フィルタ＞
図４は、多機能フィルタの一形態を示す断面図を示したものである。多機能フィルタ２０は、上記した電磁波遮蔽フィルタに更に光学フィルタを積層し、電磁波遮蔽機能と共に光学フィルタ機能を備えたフィルタである。図４はこのような、多機能フィルタ２０の一形態を示す断面図であり、電磁波遮蔽フィルタ１０の片面に光学フィルタ５が直接積層された構成のフィルタである。
【００６３】
積層面は電磁波遮蔽フィルタ１０の何れかの片面の他、両面でもよいが、積層面が片面の場合、粘着剤層の上面側の面に設けることにより、いわゆる直貼りの多機能フィルタとすることができる。この場合、上記したように粘着剤層が所定の厚みを有しているため、耐衝撃性も併せもつことができる。
【００６４】
電磁波遮蔽フィルタに更に光学フィルタを積層した多機能フィルタとすることによって、電磁波遮蔽機能と共に光学フィルタ機能も備えた多機能化がなされ、透明基材の共通化、フィルタの薄型化が可能となり、ひいては低コスト化も可能となる。
【００６５】
＜光学フィルタ＞
光学フィルタ５としては、光学フィルタ機能を有する公知の光学フィルタを適宜選択すればよい。光学フィルタ機能としては、例えば、近赤外線を吸収する近赤外線吸収機能、紫外線を吸収する紫外線吸収機能、プラズマディスプレイのネオン光を吸収するネオン光吸収機能、表示画像を好みの色調に補正する色補正機能などの特定光透過機能、反射防止機能（防眩、反射防止、防眩および反射防止のいずれか）、あるいは特開２００７−２７２１６１号公報に記載の外光反射防止によるコントラスト向上機能を有する薄膜微小ルーバなどである。
【００６６】
光学フィルタ５は、上記した、近赤外線吸収機能、反射防止機能、コントラスト向上機能などの各種光学フィルタ機能のうち１機能または２機能以上を備える。
【００６７】
これら各種の光学フィルタ機能は、例えば、近赤外線吸収機能、ネオン光吸収機能、色補正機能などは、これら機能に応じた色素（近赤外線吸収色素、ネオン光吸収色素、色補正色素）を用い、紫外線吸収機能は紫外線吸収剤を用いるなど、公知の材料・方法で実現できる。例えば、これら材料を樹脂中に分散させた樹脂層を光学フィルタ層として、公知の塗工法、押出法などで形成することができる。また、樹脂層は単層または多層構成によって、複数機能を兼用することができる。
【００６８】
また、反射防止機能なども含めて光学フィルタ機能を担う光学フィルタ層は、適宜透明基材に積層して光学フィルタとすることもある。なお、ここでの透明基材としては、前述電磁波遮蔽フィルタの透明基材で列記した材料を使用できる。
【００６９】
＜その他の層＞
上記した電磁波遮蔽フィルタ、多機能フィルタには、更にその他の層、例えば、アルミニウムパターンの上面側の凹凸を平坦化する平坦化樹脂層、表面を保護する表面保護層、ハードコート層、汚染防止機能層、帯電防止機能層、粘着剤層などの、これらのフィルタにおいて公知の層を積層することができる。これらの層は、兼用することができる。
【００７０】
＜画像表示装置＞
本発明の画像表示装置は、上記した電磁波遮蔽フィルタまたは多機能フィルタを前面に配置した画像表示装置であり、より具体的には上記した電磁波遮蔽フィルタまたは多機能フィルタを画像表示素子の観察者側に配置した表示装置である。なお、前面とは画像表示装置の観察者側面である。また、配置は公知の形態によればよい。
【００７１】
このような画像表示装置とすることによって、その低コスト化が可能となり、画像表示装置の普及促進を図れる。
【００７２】
画像表示素子としては、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰともいう）、陰極線管（ＣＲＴともいう）、液晶表示素子（ＬＣＤともいう）、電界発光素子（ＥＬともいう）などで、電磁波が発生する表示素子である。例えば、ＰＤＰでは、３０ＭＨｚ〜１ＧＨｚの帯域の不要な電磁波が発生する。
【００７３】
電磁波遮蔽フィルタまたは多機能フィルタを、画像表示素子の観察者側に配置する配置形態には、大別して、電磁波遮蔽フィルタまたは多機能フィルタを画像表示素子の観察者側の面に空間を介さず、但し通常は接着剤層を介して、直接積層して配置する形態〔図５（ａ）〕と、電磁波遮蔽フィルタまたは多機能フィルタを空間を介して画像表示素子の観察者側に配置する形態〔図５（ｂ）〕とがある。
【００７４】
図５（ａ）に示す直接積層して配置する形態の画像表示装置４０は、電磁波遮蔽フィルタ１０または多機能フィルタ２０を、画像表示素子３０の観察者側の面に空隙を空けずに直接に積層した表示装置となっている。電磁波遮蔽フィルタ１０または多機能フィルタ２０を画像表示素子３０の観察者側の面に直貼りすることによって得ることができる。その際、必要に応じて透明な接着剤を介して積層する。接着剤（含む粘着剤）は電磁波遮蔽フィルタ１０または多機能フィルタ２０の一部として備えられた接着剤層、または積層時にこれらの間に適用したものなど公知のもので良い。透明な接着剤には、上記した透明接着剤層で列記した接着剤などを使用できる。
【００７５】
一方、図５（ｂ）に示す空間を介して配置する形態の画像表示装置４０の場合は、一旦、電磁波遮蔽フィルタ１０または多機能フィルタ２０を透明基板６の面に直接積層した板状積層体２１としたものを、画像表示素子２０の観察者側に空間を空けて配置したものである。
【００７６】
なお、図５（ｂ）の様に、電磁波遮蔽フィルタ１０または多機能フィルタ２０を空間を空けて配置する形態では、これら電磁波遮蔽フィルタ１０または多機能フィルタ２０が剛直な板状体ではなくシートまたはフィルム状でフレキシブルで形状維持ができないときに、透明基板６と積層した板状積層体２１とすることで、形状維持ができるようになる点で好適である。また、板状積層体２１において、図５（ｂ）に例示の形態では、電磁波遮蔽フィルタ１０または多機能フィルタ２０は透明基板６に対して観察者側の面に積層してあるが、この逆に、画像表示素子側の面に積層したものでもよい。
【００７７】
＜透明基板＞
電磁波遮蔽フィルタ１０または多機能フィルタ２０と、画像表示素子３０との間に介在する透明基板６としては、形状維持可能な板状体、例えば、ガラス、セラミックスなどの無機板、樹脂板などが使用できる。樹脂板の樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル系樹脂、ポリメチルメタクリレートなどのアクリル系樹脂、シクロオレフィン重合体などのポリオレフィン系樹脂、トリアセチルセルロースなどのセルロース系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリイミド系樹脂等である。透明基板の樹脂中には、必要に応じて適宜、紫外線吸収剤、着色剤、充填剤、可塑剤、帯電防止剤などの公知の添加剤を添加できる。
【００７８】
本発明による電磁波遮蔽フィルタは、画像表示装置の前面フィルタとして好適に用いられるが、その他の用途にも適用できることは言うまでもない。例えば、住宅、事務所、店舗、病院、学校等の建築物の窓、電子レンジ等の各種家電製品の窓、車両、船舶、航空機等の乗り物の窓等の光透過性が要求される部位の電磁波遮蔽用途にも使用できる。
【実施例】
【００７９】
本発明による電磁波遮蔽フィルタを、実施例によりさらに詳細に説明するが、本発明がこれら実施例により限定されるものではない。
【００８０】
製造例１
先ず、アルミニウムパターンとする金属箔として、厚み１２μｍの連続帯状の圧延アルミニウム箔を用意した。このアルミニウム箔の表面の酸化皮膜の厚みを測定したところ、上面下面とも８Åであった。また、透明基材として、片面にポリエステル樹脂系プライマー層が形成された、連続帯状の無着色透明な厚み１００μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムを用意した。
【００８１】
次いで、上記透明基材のプライマー層面と、上記アルミニウム箔の光沢面とを、透明な２液硬化型ウレタン樹脂系接着剤（主剤として平均分子量３万のポリエステルポリウレタンポリオール１２質量部に対して、硬化剤としてキシリレンジイソシアネート系プレポリマー１質量部を含む）でドライラミネートした後、５０℃で３日間養生して、アルミニウム箔と透明基材間に厚み７μｍの透明接着剤層を有する連続帯状のアルミニウム箔積層シートを得た。
【００８２】
次いで、上記アルミニウム箔積層シートのアルミニウム箔に対して、フォトリソグラフィー法を利用したケミカルエッチング処理を行い、開口部およびライン部とから成るメッシュ状領域、およびメッシュ状領域を囲繞する外縁部に額縁状の開口部非形成の接地用領域を有するアルミニウムパターンを形成した。
【００８３】
上記エッチングは、具体的には、カラーＴＶシャドウマスク用の製造ラインを利用して、連続帯状の上記積層シートに対して、マスキングからエッチングまでを一貫して行った。すなわち、上記積層シートのアルミニウム箔面全面に感光性のエッチングレジストを塗布後、所望のメッシュパターンを密着露光し、現像、硬膜処理、ベーキングして、メッシュの開口部に相当する領域上にレジスト層が非形成となったレジストパターンを形成した後、レジスト層非形成部のアルミニウム箔を、塩化第二鉄を含む酸性水溶液のエッチング液でエッチングして除去して、メッシュ状の開口部を有したアルミニウムパターンを形成し、次いで、水洗、レジスト剥離、洗浄、乾燥を順次行った。
【００８４】
メッシュ状領域（画像表示領域）のメッシュの形状は、その開口部が正方形で非開口部となる線状のライン部のライン幅は２０μｍ、そのライン間隔（ピッチ）は３００μｍ、ライン部の高さは１２μｍ、長方形の枚葉シートに切断した場合に、ライン部と長方形の長辺とが構成する劣角として定義されるバイアス角度は４９度であった。
【００８５】
このようにして、幅寸法６０５ｍｍの電磁波遮蔽フィルタの中間体を得て、ロール状に巻き取った。得られたロール状の、電磁波遮蔽フィルタの中間体を、ロール・トウ・ロールで連続的に黒化処理装置に供給し、中間体のアルミニウムパターン面に対してニッケル化合物の黒化処理層を形成した。
【００８６】
続いて、黒化処理層を形成したアルミニウムメッシュ面上に、メッシュパターンの凹凸を埋めるように、粘着剤層を設けた。先ず、ＰＥＴフィルムからなる離型フィルム上に形成された厚み２５μｍ、４０μｍ、５０μｍの粘着剤層（巴川製紙所製、品名：TD06A）を、それぞれ一定のギャップで固定されたゴムロールと金属ロールの間に通し、上記で得られたアルミニウムメッシュのパターン層上に押し付けて貼り合わせることにより、電磁波遮蔽フィルタを得た。
【００８７】
＜粘着剤層の充填度の評価＞
得られた電磁波遮蔽フィルタについて、粘着剤層の埋め込み評価を行った。蛍光灯の光を電磁波遮蔽フィルタを介して観察し、電磁波遮蔽フィルタの透明度を目視により評価した。また、Ａ４サイズの電磁波遮蔽フィルタのメッシュパターンの任意の縦横各３列を顕微鏡（倍率１００倍）により観察した。
結果は、下記表１に示される通りであった。
【００８８】
【表１】
2010080693.tif 000003
【００８９】
表１に示されるように、目視評価において、Ｔ≧Ｈを満たさない、粘着剤層の厚みが１０μｍの電磁波遮蔽フィルタは、白濁して透過光がぼやけるように見えたのに対し、厚さ５０μｍの粘着剤層を用いた電磁波遮蔽フィルタは、その全面が透明であった（総合評価において、この状態を○と表記）。また、顕微鏡観察の結果、気泡の存在は確認できず、一様に接着剤が充填されていた（総合評価において、この状態を○と表記）。
【００９０】
また、厚さ２５、４０μｍの粘着剤層を用いた電磁波遮蔽フィルタは、目視評価において、一部白濁部分があり（この状態を△と表記）、顕微鏡観察においては、メッシュパターンの格子に沿って、粘着剤未充填部とみられる気泡が散見されたが、いずれも実用上許容できる範囲と判断された（この状態を△と表記）。
【００９１】
一方、厚さ１０μｍの粘着剤層を用いた電磁波遮蔽フィルタは、目視評価において、全面に白濁が認められ（この状態を×と表記）、また、顕微鏡観察においても全面に気泡が分布し、かつライン部に沿って粘着剤の未充填部が連続して分布しており（この状態を×と表記）、実用上許容不可と判断した。
【００９２】
製造例２
製造例１の、粘着剤層の厚みを５０μｍにした電磁波遮蔽フィルタについて、アルミニウム箔の表面酸化皮膜の厚みが１５Åのものを使用した以外は同様にして電磁波遮蔽フィルタを得た。
製造例１の電磁波遮蔽フィルタのアルミニウムパターンのパターン精度は、メッシュのライン幅のバラツキは４．５μｍであり、面ムラは外観上問題はなく、また、表面抵抗値のバラツキもほとんどなかった。これに対し、製造例２の電磁波遮蔽フィルタは、メッシュのラインに断線が多発し（ライン幅のバラツキ２０μｍ以上）、外観的にも目視で面ムラが目立ち、また表面抵抗値が大きくばらついた。
【図面の簡単な説明】
【００９３】
【図１】本発明による電磁波遮蔽フィルタの一形態を示す断面図。
【図２】アルミニウムパターンをエッチング時にパターン精度不良が生じる原因を説明した断面図。
【図３】アルミニウムパターンのパターン精度不良を概念的に説明する平面図。
【図４】本発明による多機能フィルタの一形態を示す断面図。
【図５】本発明による画像表示装置の形態例を示す断面図。
【符号の説明】
【００９４】
１  透明基材
２  アルミニウムパターン
３  酸化皮膜
４  透明接着剤層
５  光学フィルタ
６  透明基板
７  粘着剤層
１０  電磁波遮蔽フィルタ
２０  多機能フィルタ
２１  板状積層体
３０  画像表示素子
４０  画像表示装置
５１  エッチング液
５２  レジストパターン
５３  アルミニウム層
５４  アルミニウム箔
５５  アルミニウム箔積層体（シート）
５６  腐食先行部分
【図１】
2010080693.tif 000004
【図２】
2010080693.tif 000005
【図３】
2010080693.tif 000006
【図４】
2010080693.tif 000007
【図５】
2010080693.tif 000008