(57)【要約】【課題】ウェーハ外周部、特に円周方向の異方性の影響を排除しつつ、ＰＣＲにおける生産性及び生産コストの悪化を抑制し、かつ高平坦度化を達成する。【解決手段】先ず複数枚のウェーハを各ウェーハの周面を揃えて直接又は間接的に重ね合わせ、積層体の最外層のウェーハにおける外周部を除く両主面に保護層を形成する。次いで積層体に酸エッチング液を接触させ、積層体の各ウェーハの外周部のみを酸エッチングする。次に積層体の少なくとも外周部に保護膜を形成する。次に保護膜を形成した積層体から、最外層の両主面に存在する保護層を分離するとともに、外周部に保護膜が存在した状態で各ウェーハを分離する。次に分離した外周部に保護膜が存在した状態の各ウェーハにアルカリエッチング液を接触させ、各ウェーハの表裏面のみをアルカリエッチングする。更に、アルカリエッチング後の各ウェーハの外周部に存在する保護膜を除去する。【選択図】図１
2010161190.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数枚のシリコンウェーハを各ウェーハの周面を揃えて直接又は間接的に重ね合わせて積層体を形成する工程と、
前記積層体の最外層のウェーハにおける外周部を除く両主面に保護層を形成する工程と、
前記保護層の存在する状態の積層体の少なくとも各ウェーハの外周部に酸エッチング液を接触させ、積層体の各ウェーハの外周部のみを酸エッチングする工程と、
前記酸エッチング後の積層体の少なくとも外周部に保護膜を形成する工程と、
前記保護膜を形成した積層体から、最外層の両主面に存在する保護層を分離するとともに、外周部に保護膜が存在した状態で各ウェーハを分離する工程と、
前記分離した外周部に保護膜が存在した状態の各ウェーハの少なくとも表裏面にアルカリエッチング液を接触させ、前記各ウェーハの表裏面のみをアルカリエッチングする工程と、
前記アルカリエッチング後の各ウェーハの外周部に存在する保護膜を除去する工程と
を含むことを特徴とするシリコンウェーハの製造方法。
【請求項２】
積層体の最外層の両主面に樹脂フィルムを貼り合わせることにより保護層を形成する請求項１記載のシリコンウェーハの製造方法。
【請求項３】
酸エッチング後の積層体を樹脂液に浸漬することにより前記積層体の少なくとも外周部に保護膜を形成する請求項１又は２記載のシリコンウェーハの製造方法。
【請求項４】
各ウェーハの外周部が露出するように樹脂フィルムを介して複数枚のシリコンウェーハを重ね合わせて積層体を形成する請求項１ないし３いずれか１項に記載のシリコンウェーハの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、高平坦度のシリコンウェーハの製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
一般に、半導体シリコンウェーハの製造工程は、育成されたシリコン単結晶インゴットをスライスして得られたウェーハを、面取り、ラッピング、エッチング、面取り鏡面研磨（Polishing Corner Rounding；ＰＣＲ）、ポリッシング及び洗浄する各工程から構成され、高精度の平坦度を有するウェーハとして生産される（例えば、特許文献１参照。）。しかし、近年のデバイスの高集積化並びに微細化に伴い、基板であるシリコンウェーハへの高平坦度の要求はますます高まっている。このような要求に対しては、研磨を施す前、即ち、ラッピングやエッチングの段階からの平坦度向上が必要と考えられる。
【０００３】
一般に、シリコンウェーハ加工のエッチングでは、混酸液又はアルカリ液を用いたウェットエッチングが行われ、従来は混酸液を用いた酸エッチングが主に行われていたが、現在は研磨を施す前の段階での高平坦度を達成するため、アルカリ液を用いたアルカリエッチングや、アルカリ液を用いたアルカリエッチングと混酸液を用いた酸洗浄の組み合わせに移行してきている。アルカリエッチングによる利点は酸エッチングに比べて高平坦度を達成できることであるが、欠点は歪み除去の選択性による表裏面粗さの悪化、又は外周部への結晶異方性の顕在化が生じることである。
【０００４】
このようなアルカリエッチングにおける欠点を解消する方策として、歪み除去選択性による表裏面粗さの悪化に対しては、エッチング前における低歪み化、エッチング後の表面研削、或いはポリッシングでの研磨量増加によって対応するのが有効であり、外周部への結晶異方性の顕在化に対しては、エッチング後のＰＣＲにおける研磨量の増加によって対応するのが一般的である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開平０６−８４８５６号公報（請求項３、図２）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ここで、ウェーハ外周部の品質に着目して考えた場合、ＰＣＲで研磨量を増加することによって、ウェーハ外周部のアルカリエッチングによる結晶方位に起因した異方性（選択性）をある程度は改善することが可能ではあるが、この方法では、ウェーハの寸法形状、特に円周方向での寸法精度を維持することが難しいという問題点があった。
【０００７】
また、ＰＣＲでの研磨量の増加は、この工程での生産性の低下に繋がり、ひいては生産コスト面での悪化をもたらしていた。
【０００８】
本発明の目的は、ウェーハ外周部、特に円周方向の異方性の影響を排除しつつ、ＰＣＲにおける生産性及び生産コストの悪化を抑制し、かつ高平坦度化を達成し得る、シリコンウェーハの製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の第１の観点は、複数枚のシリコンウェーハを各ウェーハの周面を揃えて直接又は間接的に重ね合わせて積層体を形成する工程と、積層体の最外層のウェーハにおける外周部を除く両主面に保護層を形成する工程と、保護層の存在する状態の積層体の少なくとも各ウェーハの外周部に酸エッチング液を接触させ、積層体の各ウェーハの外周部のみを酸エッチングする工程と、酸エッチング後の積層体の少なくとも外周部に保護膜を形成する工程と、保護膜を形成した積層体から、最外層の両主面に存在する保護層を分離するとともに、外周部に保護膜が存在した状態で各ウェーハを分離する工程と、分離した外周部に保護膜が存在した状態の各ウェーハの少なくとも表裏面にアルカリエッチング液を接触させ、各ウェーハの表裏面のみをアルカリエッチングする工程と、アルカリエッチング後の各ウェーハの外周部に存在する保護膜を除去する工程とを含むことを特徴とするシリコンウェーハの製造方法である。
【００１０】
本発明の第２の観点は、第１の観点に基づく発明であって、更に積層体の最外層の両主面に樹脂フィルムを貼り合わせることにより保護層を形成するシリコンウェーハの製造方法である。
【００１１】
本発明の第３の観点は、第１又は第２の観点に基づく発明であって、更に酸エッチング後の積層体を樹脂液に浸漬することにより積層体の少なくとも外周部に保護膜を形成するシリコンウェーハの製造方法である。
【００１２】
本発明の第４の観点は、第１ないし第３の観点に基づく発明であって、更に各ウェーハの外周部が露出するように樹脂フィルムを介して複数枚のシリコンウェーハを重ね合わせて積層体を形成するシリコンウェーハの製造方法である。
【発明の効果】
【００１３】
本発明のシリコンウェーハの製造方法は、アルカリエッチングによる、ウェーハ外周部、特に円周方向の異方性の影響を排除しつつ、ＰＣＲにおける生産性及び生産コストの悪化を抑制し、かつ高平坦度化を達成することができるという利点がある。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明の第１の実施の形態を示す図。
【図２】本発明の第２の実施の形態を示す図。
【図３】本発明の第３の実施の形態を示す図。
【図４】本発明の第４の実施の形態を示す図。
【図５】実施例１で得られたウェーハ外周部のエッジプロファイルを示す図。
【図６】比較例１で得られたウェーハ外周部のエッジプロファイルを示す図。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
次に、本発明を実施するための形態を図面に基づいて説明する。
【００１６】
本発明の各工程に供されるシリコンウェーハは、シリコン単結晶インゴットをスライスして得られたウェーハに、少なくとも面取り及びラッピングが施されたシリコンウェーハである。ウェーハは直径が２００ｍｍ以下が好ましい。このうち、直径が１５０〜２００ｍｍのものが特に好ましい。
【００１７】
先ず、図１（ａ）に示すように、複数枚のシリコンウェーハ１０を各ウェーハの周面を揃えて直接重ね合わせて積層体１１を形成する。図１では簡略化しているが、重ね合わせるウェーハ１０の枚数は、直径が２００ｍｍのウェーハであれば１０〜４００枚が処理効率の面から好ましい。このうち、積層体１１の取扱いの容易さなどを考慮すると、５０〜１００枚が特に好ましい。重ね合わされた各ウェーハは最外層のウェーハの両主面を除いて表裏面同士が密着しているため、最外層のウェーハの両主面と外周部が露出した状態となる。
【００１８】
次いで、図１（ｂ）に示すように、積層体１１の最外層のウェーハにおける外周部１０ａを除く両主面に保護層１２を形成する。この保護層１２の形成によって、積層体１１を構成するウェーハ１０では、外周部１０ａのみが露出した状態となる。最外層の両主面に保護層１２を形成することによって、後に続く酸エッチング工程において、最外層の両主面とエッチング液との接触を防ぐ。保護層１２は樹脂フィルムを貼り合わせることによって形成することが好ましい。樹脂フィルムは耐酸性を示す材質が選択される。具体的には、ＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）やＰＦＡ（テトラフロオロエチレン−パーフルオロ）が挙げられる。その厚さは０．１〜２．０ｍｍが好適である。
【００１９】
次に、図１（ｃ）に示すように、保護層１２の存在する状態の積層体１１の少なくとも各ウェーハの外周部１０ａに酸エッチング液を接触させ、積層体１１の各ウェーハの外周部１０ａのみを酸エッチングする。この工程では、酸エッチング液が貯留された酸エッチング槽に積層体１１を浸漬することが、作業が簡便となるため好ましい。積層体１１を酸エッチング液に浸漬しても、積層体１１の最外層の両主面が保護層１２により保護されているため、露出している各ウェーハ１０の外周部１０ａのみが酸エッチングされる。酸エッチング液によって各ウェーハ１０の外周部１０ａをエッチングするため、アルカリエッチングの欠点とされる、各ウェーハ外周部への結晶異方性の顕在化が生じることがない。使用する酸エッチング液は一般的にシリコンウェーハの製造で使用されるＨＦ／ＨＮＯ3混合液又はＨＦ／ＨＮＯ3／ＣＨ3ＣＯＯＨ混合液が好ましい。この酸エッチング工程を終えた後は、積層体１１を水洗して、残留する酸エッチング液を洗い流し、次工程へと送られる。
【００２０】
次に、図１（ｄ）に示すように、酸エッチング後の積層体１１の少なくとも外周部に保護膜１３を形成する。この工程では、溶媒に樹脂が溶解した樹脂液が貯留された樹脂液槽に酸エッチング後の積層体を浸漬し、積層体を樹脂液槽から引き上げた後、樹脂液が付着した積層体から溶媒を除去することで、積層体１１の全面に樹脂からなる保護膜１３を形成することが好ましい。樹脂液を構成する樹脂としては後に続く工程でウェーハをアルカリエッチング液と接触させることを考慮すると耐アルカリ性のＰＶＣ（塩化ビニル樹脂）やＰＭＭＡ（アクリル樹脂）が好ましい。また、溶媒としては揮発性のアルコール又は有機溶剤が挙げられる。保護膜１３の厚さは０．１〜１．０ｍｍが好適である。
【００２１】
次に、図１（ｅ）に示すように、保護膜１３を形成した積層体１１から、最外層の両主面に存在する保護層１２を分離するとともに、外周部１０ａに保護膜１３が存在した状態で各ウェーハ１０を分離する。この工程では、高圧水を利用した分離方法や機械的手法を利用した分離方法などを用いることができる。
【００２２】
高圧水を利用した分離方法では、保護膜１３を形成した積層体１１に対して高圧水をウェーハ表面と水平方向でかつ分離しようとするウェーハ１０，１０間に位置する保護膜１３に向けて噴射することで、先ず、分離しようとするウェーハ間の外周部１０ａに存在する保護膜１３を切断し、続いて、噴射圧によりウェーハ１０，１０間の結合を切断することで、図１（ｅ）に示すようにウェーハ１０が外周部１０ａに保護膜１３が存在した状態で剥離される。同様に保護層１２と最外層ウェーハ１０との間に位置する保護膜１３に向かって高圧水を噴射することで、積層体１１から保護層１２が分離される。
【００２３】
また、機械的手法を利用した分離方法では、例えば、スクレイパー等を用いて、保護膜１３を形成した積層体１１に対してスクレイパーをウェーハ表面と水平方向でかつ分離しようとするウェーハ１０，１０間に位置する保護膜１３に差し込んで、分離しようとするウェーハ間の外周部１０ａに存在する保護膜１３を切断し、続いて、ウェーハ１０，１０間の結合を切断することで、図１（ｅ）に示すようにウェーハ１０が外周部１０ａに保護膜１３が存在した状態で剥離される。
【００２４】
上記方法を用いることにより、積層体１１から外周部１０ａに保護膜１３が存在した状態で各ウェーハ１０が１枚ずつ分離される。なお、図１（ｅ）に示す分離工程で分離された最外層の保護層１２は廃棄処分される。
【００２５】
次に、図１（ｆ）に示すように、分離した外周部１０ａに保護膜１３が存在した状態の各ウェーハ１０の少なくとも表裏面１０ｂ、１０ｃにアルカリエッチング液を接触させ、各ウェーハの表裏面１０ｂ、１０ｃのみをアルカリエッチングする。
【００２６】
この工程では、アルカリエッチング液が貯留されたアルカリエッチング槽に各ウェーハ１０を浸漬することが、作業が簡便となるため好ましい。ウェーハ１０をアルカリエッチング液に浸漬しても、ウェーハ１０の外周部１０ａが保護膜１３により保護されているため、露出しているウェーハの表裏面１０ｂ、１０ｃのみがアルカリエッチングされる。アルカリエッチング液により各ウェーハ１０の表裏面１０ｂ、１０ｃをエッチングするため、アルカリエッチングの利点である高平坦度を達成することができる。またウェーハ１０の外周部１０ａが保護膜１３により保護されているため、アルカリエッチングの欠点とされる、ウェーハ外周部１０ａへの結晶異方性の顕在化が生じることがない。
【００２７】
このアルカリエッチング工程では、外周部に保護膜が存在した状態のウェーハを１枚ずつエッチング槽に浸漬することで行っても良いが、作業効率の面から、ウェーハカセットに外周部に保護膜が存在した状態のウェーハを複数枚収納して保持し、アルカリエッチング液が貯留されたアルカリエッチング槽に複数枚のウェーハを保持したウェーハカセットごと浸漬する方法を用いることがより好ましい。この場合に使用するウェーハカセットは、起立した状態で底となるウェーハの外周部の部分を保持して複数枚のウェーハを垂直にかつ各ウェーハの間隔を空けて保持するように構成され、２５枚や５０枚を単位としてウェーハを保持することができるものが市販されている。使用するアルカリエッチング液は一般的にシリコンウェーハの製造で使用されるＫＯＨ水溶液又はＮａＯＨ水溶液が好ましい。このアルカリエッチング工程を終えた後は、各ウェーハ１０を水洗して、残留するアルカリエッチング液を洗い流し、次工程へと送られる。
【００２８】
更に、図１（ｇ）に示すように、アルカリエッチング後の各ウェーハ１０の外周部１０ａに存在する保護膜１３を除去する。保護膜１３の除去は、保護膜の材質に応じて、従来より知られている手法を用いることができる。
【００２９】
以上の工程を経ることで、複数枚のウェーハの表裏面及び外周部がエッチングされる。
【００３０】
保護膜を除去したウェーハは、続いて、ＰＣＲ、鏡面研磨がそれぞれ施され、洗浄、検査を経て、製品化される。
【００３１】
このように、本発明のシリコンウェーハの製造方法では、ウェーハの表裏面を保護層および他のウェーハにより被覆した状態でウェーハ外周部を酸エッチングすることで、アルカリエッチングの欠点である、ウェーハ外周部、特に円周方向の異方性の影響を排除するため、従来アルカリエッチング後に施すＰＣＲの研磨量の増加を抑制することができ、ＰＣＲにおける生産性が向上し、ひいては生産コストを低減することができる。また外周部のエッチングが酸エッチングであるため、寸法形状、特に円周方向での寸法精度を維持することが容易となる。更に、表裏面に対しては、各ウェーハの外周部を保護膜により被覆した状態でアルカリエッチングするため、高平坦度化を達成することができる。
【００３２】
本発明の第２の実施の形態を図２に基づいて説明する。図２において、図１と同一符号は同一構成要素を示す。この実施の形態では、次の点が第１の実施の形態と相違する。即ち、図２（ａ）に示すように、積層体１１を形成する工程において、各ウェーハ１０をそれぞれ直接重ね合わせるのではなく、各ウェーハ１０を間接的に重ね合わせるものである。
【００３３】
間接的に重ね合わせる方法としては、各ウェーハ１０の外周部１０ａが露出するようにスペーサとして樹脂フィルム１４を介して複数枚のシリコンウェーハ１０を重ね合わせて積層体１１を形成することが好ましい。樹脂フィルム１４を介して各ウェーハ１０を間接的に重ね合わせることで、各ウェーハ１０を直接重ね合わせて積層体１１を形成したときに比べて、積層体１１からの各ウェーハ１０の分離が容易となる、分離する際の各ウェーハの表裏面に傷が付き難いといった効果を有する。
【００３４】
積層体１１を形成した状態で、最外層の両主面を除いた各ウェーハ１０の表裏面が覆われ、かつウェーハ外周部は露出する必要があることから、樹脂フィルム１４はウェーハの表裏面におけるウェーハ外周部を除く主面と同形同大の形状のものが使用される。樹脂フィルム１４は、積層体を酸エッチング液と接触させることを考慮すると、耐酸性樹脂フィルムが好ましい。使用する樹脂フィルム１４は積み重ねるウェーハの枚数が増加すると、それに相応して増加するので、フィルムはその厚さが薄いものを使用した方が積層体に占める質量が小さくなるため好ましいが、各ウェーハ表裏面に対する被覆性や耐久性の面などを考慮すると、１００〜５００μｍの厚さが好ましい。なお、図２（ｅ）に示す分離工程で分離された樹脂フィルム１４は最外層の保護層１２とともに廃棄処分される。上記以外の構成は第１の実施の形態と同様である。
【００３５】
本発明の第３の実施の形態を図３に基づいて説明する。図３において、図１と同一符号は同一構成要素を示す。この実施の形態では、次の点が第１の実施の形態と相違する。即ち、図３（ｂ）に示すように、積層体１１の最外層のウェーハ１０における外周部１０ａを除く両主面に形成する保護層として、前述した第１及び第２の実施の形態で使用した樹脂シートに代えて、ダミーウェーハ１５を用いるものである。
【００３６】
ダミーウェーハ１５は、処理対象となるウェーハと同形同大のウェーハを使用することが、その取扱い性の容易さから、また最外層のウェーハ１０の外周部１０ａを除いた両主面のみが覆われるため好ましい。
【００３７】
処理対象となるウェーハの枚数を単純に２枚増やすことのみで、実質的に積層体１１の最外層の両主面にダミーウェーハ１５からなる保護層が形成されることとなるため、前述した第１の実施の形態に比べて、１工程短縮されたのと同様の効果が得られ、その分、生産コストを低減することができる。
【００３８】
なお、図３（ｅ）に示す分離工程で分離されたダミーウェーハ１５は、保護膜１３を取り除いて清浄とした後に、別の積層体の最外層の両主面に形成するダミーウェーハとして再利用しても良いし、他の用途に使用しても、廃棄処分しても良い。上記以外の構成は第１の実施の形態と同様である。
【００３９】
本発明の第４の実施の形態を図４に基づいて説明する。図４において、図１と同一符号は同一構成要素を示す。この実施の形態では、次の２点が第１の実施の形態と相違する。即ち、先ず第１に、図４（ａ）に示すように、前述した第２の実施の形態と同様に、積層体１１を形成する工程において、各ウェーハ１０をそれぞれ直接重ね合わせるのではなく、各ウェーハ１０を間接的に重ね合わせるものである。そして第２に、図４（ｂ）に示すように、前述した第３の実施の形態と同様に、積層体１１の最外層のウェーハ１０における外周部１０ａを除く両主面に形成する保護層として、ダミーウェーハ１５を用いるものである。上記以外の構成は第１の実施の形態と同様である。
【実施例】
【００４０】
次に本発明の実施例を比較例とともに詳しく説明する。
【００４１】
＜実施例１＞
先ず、直径が２００ｍｍのノッチ付きシリコンウェーハを１０枚用意した。このウェーハはスライスされた後、面取り及びラッピングが施されたものである。
【００４２】
次いで、１０枚のシリコンウェーハを各ウェーハの周面を揃えて直接重ね合わせて積層体を形成した。次に、積層体の最外層のウェーハにおける外周部を除く両主面に厚さ５００μｍのＰＴＦＥフィルムを貼り合わせて保護層を形成した。次に、酸エッチング液としてＨＦ／ＨＮＯ3／ＣＨ3ＣＯＯＨ混合液を用意し、この酸エッチング液が貯留された酸エッチング槽に保護層の存在する状態の積層体を浸漬して、積層体の各ウェーハの外周部のみを酸エッチングした。
【００４３】
次に、トルエン系溶媒に塩化ビニル系樹脂が溶解した樹脂液を用意し、この樹脂液が貯留された樹脂液槽に酸エッチング後の積層体を浸漬し、積層体を樹脂液槽から引き上げた後、樹脂液が付着した積層体から溶媒を除去することで、積層体の全面に樹脂からなる保護膜を形成した。次に、スクレイパーを用い、保護膜を形成した積層体から、最外層の両主面に存在する保護層を分離するとともに、外周部に保護膜が存在した状態で各ウェーハを１枚ずつ分離した。
【００４４】
次に、アルカリエッチング液としてＮａＯＨ水溶液を用意し、また、複数枚のウェーハを保持可能なウェーハカセットを用意した。ウェーハカセットに外周部に保護膜が存在した状態のウェーハを１０枚収納して保持し、このアルカリエッチング液が貯留されたアルカリエッチング槽にウェーハ１０枚を保持したウェーハカセットを浸漬して、各ウェーハの表裏面をアルカリエッチングした。最後に、アルカリエッチング後の各ウェーハの外周部に存在する保護膜を除去し、サンプルＮｏ．１〜サンプルＮｏ．１０のウェーハとした。
【００４５】
＜比較例１＞
実施例１と同様に、直径が２００ｍｍのノッチ付きシリコンウェーハを１０枚用意した。このウェーハはスライスされた後、面取り及びラッピングが施されたものである。
【００４６】
このうちの２枚のウェーハをＮａＯＨ水溶液が貯留されたエッチング槽に浸漬し、その取り代が５μｍとなるようにウェーハ全面にアルカリエッチングを施して、比較Ｎｏ．１及び比較Ｎｏ．２のウェーハとした。また、残りの８枚のウェーハに対しては、ＮａＯＨ水溶液が貯留されたエッチング槽に各ウェーハを浸漬し、その取り代が１０μｍ、１５μｍ、２０μｍ及び２５μｍとなるように各２枚ずつウェーハ全面にアルカリエッチングを施して、比較Ｎｏ．３〜比較Ｎｏ．１０のウェーハとした。
【００４７】
＜比較試験１＞
実施例１及び比較例１でそれぞれ得られたウェーハに対して、エッジプロファイラーを用いて、ウェーハ外周部のＲ形状を光学的に測定した。ノッチ位置を０度としたとき、円周方向に４５度、９０度、１３５度、１８０度、２２５度、２７０度、３１５度及び３５５度と、ほぼ４５度間隔における測定結果を図５及び図６にそれぞれ示す。なお、図５に示す結果は、１０枚のウェーハをそれぞれ各２枚ずつに分け、この２枚ずつの測定結果の平均値を示し、図６に示す結果は、同じエッチング取り代の測定結果の平均値を示したものである。
【００４８】
ウェーハ表裏面については、図示しないが、実施例１で得られたサンプルＮｏ．１〜Ｎｏ．１０及び比較例１で得られた比較Ｎｏ．１〜比較Ｎｏ．１０では、ともに表裏面が高平坦化されていることを確認した。
【００４９】
次に、ウェーハ外周部については、図６から明らかなように、ほぼ４５度の間隔で外周部のＲの形状が変動しており、結晶方位が＜０１１＞にあたるノッチ位置（０度）、９０度、１８０度、２７０度及び３５５度では外周部の先端が尖った形状となり、結晶方位が＜０１０＞にあたる、４５度、１３５度、２２５度及び３１５度では外周部の先端が扁平な形状をとっており、アルカリエッチングによって円周方向に結晶異方性の影響が見られることがこの結果から確認できた。また、比較Ｎｏ．１〜比較Ｎｏ．１０をみると、アルカリエッチングによる取り代が大きくなるにつれて、結晶異方性がより顕在化している傾向が見られた。
【００５０】
これに対して図５では、どの角度の測定位置でもほとんど変動がなく、本発明の方法によって、従来のアルカリエッチングを行うことによるウェーハ外周部における円周方向の結晶異方性の影響が排除されることが確認された。
【００５１】
なお、積層体を形成する際に各ウェーハ間に樹脂フィルムを介して重ね合わせる方法、保護層としてダミーウェーハを用いる方法、これらを組み合わせた方法も行い、上記比較試験１と同様にエッジプロファイラーを用いて、ウェーハ外周部のＲ形状を光学的に測定したが、比較例１のような円周方向の結晶異方性は見られず、実施例１とほぼ同様の傾向となることが確認された。
【符号の説明】
【００５２】
１０  シリコンウェーハ
１１  積層体
１２  保護層
１３  保護膜
【図１】
2010161190.tif 000003
【図２】
2010161190.tif 000004
【図３】
2010161190.tif 000005
【図４】
2010161190.tif 000006
【図５】
2010161190.tif 000007
【図６】
2010161190.tif 000008