(57)【要約】【課題】  明室コントラストが改善されたＰＤＰを提供すること。【解決手段】  背面基板と、前記背面基板上に形成されたアドレス電極と、放電セルを区画する隔壁と、前記放電セルの内側に形成された蛍光体とを有する背面板と、前面基板と、前記前面基板上に形成された、走査電極と維持電極とからなる表示電極と、前記表示電極を覆う誘電体層と、前記誘電体層を放電から保護する保護膜と、前記隔壁の上側及び前記隔壁の近傍で前記保護膜を覆う遮光層とを有する前面板とを具備するプラズマディスプレイパネル。【選択図】    図４
2010170713.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
背面基板と、前記背面基板上に形成されたアドレス電極と、放電セルを区画する隔壁と、前記放電セルの内側に形成された蛍光体とを有する背面板と、
前面基板と、前記前面基板上に形成された、走査電極と維持電極とからなる表示電極と、前記表示電極を覆う誘電体層と、前記誘電体層を放電から保護する保護膜と、前記隔壁の上側及び前記隔壁の近傍で前記保護膜を覆う遮光層とを有する前面板とを、
具備するプラズマディスプレイパネル。    
【請求項２】
請求項１に記載のプラズマディスプレイパネルにおいて、
前記遮光層の表面又は前記遮光層と前記保護層の間に、前記前面板と前記背面板を組み立てるまでの間一時的に前記保護層を保護する一時保護膜が残存していることを、
特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項３】
請求項１又は２に記載のプラズマディスプレイパネルにおいて、
前記遮光膜が、ＣｕＯ、ＣｒＯ、及びＦｅＯからなる群から選ばれる何れかの金属酸化膜であることを、
特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項４】
請求項２に記載のプラズマディスプレイパネルにおいて、
前記一時保護膜が、ＳｉＮ、ＳｉＯ２、ＴｉＯ２、ＭｇＦ２、及びＣａＦ２からなる群から選ばれる何れかの絶縁膜であることを、
特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項５】
前面基板の上に、走査電極と維持電極からなる表示電極と、前記表示電極を覆う誘電体層と、前記誘電体層を放電から保護する保護膜と、前記保護膜の表面に可視光を遮る遮光膜を順次形成して、前面板を作製する第１の工程と、
背面基板の上に、アドレス電極と、放電セルを区画する隔壁と、前記放電セルの内側に蛍光体層とを順次形成して、背面板を作製する第２の工程と、
前記前面板と前記背面板を組み立てた後、前記走査電極と前記維持電極の間に交流電圧を印加して放電を起こして、前記遮光膜を除去する第３の工程を、
具備するプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項６】
請求項５に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法において、
前記第２の工程で、前記遮光層の表面又は前記遮光層と前記保護膜の間に、前記前面板と前記背面板を組み立てるまでの間一時的に前記保護層を保護する一時保護膜を形成することを、
特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイパネル及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
図１は、一般的なＰＤＰ２を分解した状態で、斜め上から見た拡大斜視図である。尚、図面が異なっても、対応する部分には同一の符号を付して、その説明を省略する。
【０００３】
図１に示すように、ＰＤＰ２は、一対の前面板４と背面板６を有している。前面板４と背面板６は、対向した状態で重ね合わされ、外周部が封止剤（図示せず）よって気密接着されている。
【０００４】
前面板４と背面板６の間に形成された空間には、ＮｅとＸｅを主成分とする放電ガスが封入され、約５００Ｔｏｒｒの圧力に保たれている。
【０００５】
前面板４は、ガラス製の前面基板８と、前面基板８の上に形成された複数の表示電極１０と、表示電極１０を覆う誘電体層１２と、誘電体層１２の上に形成された保護膜１４を備えている。
【０００６】
表示電極１０は、１テレビ走査線に相当する。表示電極１０は、１組のＸ電極（走査電極１６）及びＹ電極（維持電極１８）によって形成されている。そして、Ｘ電極（走査電極１６）及びＹ電極（維持電極１８）は、夫々、前面基板８の上に形成された透明電極２０と、この透明電極２０の上に形成されたバス電極２２からなっている。バス電極２２は、高導電率の金属によって形成され、帯状の透明電極２０の一辺に片寄って配置されている。
【０００７】
表示電極１０を覆う誘電体層１２は、低融点ガラスによって形成されている。誘電体層１２の上に形成された保護膜１４は、放電耐性に優れた材料、例えばＭｇＯで形成され、誘電体層１２を放電から保護する。
【０００８】
一方、背面板６は、ガラス製の背面基板２４と、背面基板２４の上に形成された複数のアドレス電極２６と、アドレス電極２６を覆う誘電体層２８と、誘電体層２８の上に格子状に形成された隔壁（リブ）３０を有している。この誘電体層２８は、低融点ガラスによって形成されている。
【０００９】
更に、背面板６は、隔壁３０の間に露出した誘電体層２８の表面と、隔壁３０の側壁とに形成された蛍光体３２を有している。蛍光体３２には、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）で発光する３種類の蛍光体が用いられる。これら３種類の蛍光体が、表示電極１０の延在方向に沿って、周期的に配置されている。
【００１０】
図１に示すように、アドレス電極２６と表示電極１０は立体交差（直交）している。そして、アドレス電極２６と表示電極１０の交差点を含む空間が、格子状の隔壁３０によって囲われている。この隔壁３０によって仕切られた空間により、放電セル３４が形成されている。
【００１１】
各放電セル３４で直交するアドレス電極２６と走査電極１６には、夫々、表示予定の画像情報に基づいて、書き込み信号パルス（データパルス）と書き込み走査パルス（走査パルス）が印加される。
【００１２】
両パルスが同時に印加された放電セルで書込み放電が発生し、保護膜１４に壁電荷が形成される。一旦壁電荷が形成されると、走査電極１６と維持電極１８に交互に印加される維持パルスによって、維持放電が継続的に発生する。
【００１３】
この維持放電によるプラズマ中で発生する紫外線が、蛍光体３２を励起し発光させる。このようにして点灯した複数の放電セルによって、ＰＤＰの表面に画像が表示される。
【００１４】
ところで、保護膜１４は、誘電体層１２を保護するだけでなく、二次電子を放出して放電が起きやすくする。従って、保護膜１４は、放電耐性が高く且つ二次電子放出係数が高い材料で形成することが好ましい。このような、材料としては、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ等がある。
【００１５】
しかし、これらの材料は、大気中の水分や炭酸化物と反応し、容易に劣化してしまう。このため、保護膜の形成後、前面板４と背面板６を気密接着するまでの間に、保護膜１４が劣化してしまうことがある。そこで、保護膜１４の表面を、ＳｉＮ、ＳｉＯ２、ＴｉＯ２、ＭｇＦ２、ＣａＦ２等の一時保護膜で保護する技術が開発されている（特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１６】
【特許文献１】第３０７３４５１号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１７】
ＰＤＰと並ぶ大型及び薄型の画像表示装置（例えば、テレビジョン）としては、ＬＣＤ（Liquid Crystal Display）がある。ＰＤＰには、ＬＣＤと比較すると、周囲が明るい場合のコントラスト、すなわち明室コントラストが低いという問題がある。
【００１８】
そこで、本発明の目的は、明室コントラストが改善されたＰＤＰ及びその製造方法を提供することである。
【００１９】
尚、隔壁としては、透明なものや黒く着色されたものも存在する。しかし、たとえ隔壁が透明であっても、外光は隔壁を透過して、隔壁側面に形成された蛍光体によって反射される。また、隔壁が黒く着色されていても、隔壁の上に食み出した蛍光体によって、外光は反射される。
【課題を解決するための手段】
【００２０】
上記の目的を達成するために、本発明の第１の側面は、背面基板と、前記背面基板上に形成されたアドレス電極と、放電セルを区画する隔壁と、前記放電セルの内側に形成された蛍光体とを有する背面板と、前面基板と、前記前面基板上に形成された、査電極と維持電極とからなる表示電極と、前記表示電極を覆う誘電体層と、前記誘電体層を放電から保護する保護膜と、前記隔壁の上側及び前記隔壁の近傍で前記保護膜を覆う遮光層とを有する前面板とを具備するプラズマディスプレイパネルである。 
【００２１】
本発明の第２の側面は、前面基板の上に、走査電極と維持電極からなる表示電極と、前記表示電極を覆う誘電体層と、前記誘電体層を放電から保護する保護膜と、前記保護膜の表面に可視光を遮る遮光膜を順次形成して、前面板を作製する第１の工程と、背面基板の上に、アドレス電極と、放電セルを区画する隔壁と、前記放電セルの内側に蛍光体層とを順次形成して、背面板を作製する第２の工程と、前記前面板と前記背面板を組み立てた後、前記走査電極と前記維持電極の間に交流電圧を印加して放電を起こして、前記遮光膜を除去する第３の工程を具備するプラズマディスプレイパネルの製造方法である。
【発明の効果】
【００２２】
本発明によれば、明室コントラストが改善されたＰＤＰを提供することができうる。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】従来のＰＤＰを分解した状態で、斜め上から見た拡大斜視図である。
【図２】実施例１のＰＤＰの平面図である。
【図３】図２で四角によって囲われた領域Ａの拡大平面図である。
【図４】図３のIV-IV線における、実施例１のＰＤＰの断面図である。
【図５】図３のV-V線における、実施例１のＰＤＰの断面図である。
【図６】実施例１のＰＤＰの製造工程を説明する、図３のIV-IV線における断面図である（その１）。
【図７】実施例１のＰＤＰの製造工程を説明する、図３のIV-IV線における断面図である（その２）。
【図８】実施例１のＰＤＰの製造工程を説明する、図３のIV-IV線における断面図である（その３）。
【図９】実施例１のＰＤＰの製造工程を説明する、図３のIV-IV線における断面図である（その４）。
【図１０】図３のIV-IV線における、実施例２のＰＤＰの断面図である。
【図１１】図３のV-V線における、実施例２のＰＤＰの断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
以下、図面にしたがって本発明の実施の形態について説明する。但し、本発明の技術的範囲はこれらの実施の形態に限定されず、特許請求の範囲に記載された事項とその均等物まで及ぶものである。
【００２５】
ＰＤＰの低い明室コントラストは、白色の蛍光体や隔壁が、外光を反射することに起因している。
【００２６】
そこで、本実施の形態のＰＤＰでは、隔壁の上側及び隔壁の近傍（又は、周囲）で、保護膜の表面が、可視光を遮る遮光層によって覆われている。この遮光層が、隔壁による外光の反射を防止して、ＰＤＰの明室コントラストを改善する。尚、「上側」とは、基板（前面基板又は背面基板）とは反対側の方向を意味する。
【００２７】
ところで、隔壁は、その近傍（又は、周囲）に存在する放電ガスを冷却して、プラズマの接近を妨げる。このため、隔壁の近傍には、プラズマは拡がってこない。従って、隔壁の側壁及び近傍に形成された蛍光体は、発光しないか、或いは微弱にしか発光しない。
【００２８】
本ＰＤＰでは、このように発光体としての機能が低い蛍光体の上側（隔壁の近傍）も、遮光層によって覆われている。従って、発光体としての機能が低い蛍光体による外光の反射も、本ＰＤＰによれば、防止することもできる。このため、明室コントラストが、更に改善される。
【００２９】
以上のように、本ＰＤＰでは、発光に寄与しない領域（又は、発光への寄与が小さい領域）による外光の反射が防止されている。由って、本ＰＤＰによれば、明室コントラストを改善することができる。
【００３０】
上述した遮光層は、保護膜の表面全体に遮光膜を一様に形成し、その後走査電極と維持電極の間に交流電圧を印加して放電を起こせば、容易に形成することができる。
【００３１】
放電が起きるとプラズマが生成されて、遮光膜がプラズマに曝される。プラズマに曝されると、遮光膜はスパッタされ除去される。このため、プラズマが拡がらない隔壁近傍と隔壁の上側を残して、遮光膜が除去される。その結果、隔壁の上側及び隔壁の近傍で保護膜を覆う遮光層が、形成される。
【００３２】
なお、走査電極と維持電極の間に交流電圧を印加するためには、例えば、走査電極及び維持電極に交互に維持パルス（電圧パルス）を印加すればよい。
【実施例１】
【００３３】
以下図面に従って、本実施例のＰＤＰの構成、動作、及び製造方法を説明する。
【００３４】
（１）構  成
図２は、本実施例のＰＤＰ３６の平面図である。
【００３５】
図２に示すように、本ＰＤＰ３６は、前面板４と背面板６を具備している。
【００３６】
前面板４には、水平方向に延在する走査電極１６と同じく水平方向に延在する維持電極１８からなる複数の表示電極が形成されている。
【００３７】
走査電極１６には、画像データを書き込むための電圧パルス（書き込み走査パルス）が、上から順番に印加される。すなわち、走査電極１６には、矢印３８の指し示す方向（走査方向）に向かって、順番に書き込み走査パルスが印加される。
【００３８】
一方、背面板６には、走査電極１６及び維持電極１８に直交（立体交差）する複数のアドレス電極２６が形成されている。このアドレス電極２６と、走査電極１６及び維持電極１８が交差する位置には、放電セル３４が形成されている。放電セル３４は、個別に放電するＰＤＰの最少単位領域である。
【００３９】
図３は、図２で四角によって囲われた領域Ａを拡大した拡大平面図である。但し、図３は、ＰＤＰ３６を９０°回転した状態で描かれている。図４は、図３のIV-IV線における断面図である。図５は、図２のV-V線における断面図である。
【００４０】
図３乃至図５に示すように、前面板４は、ガラス製の前面基板８と、前面基板８の上に形成された複数の表示電極１０と、表示電極１０を覆う誘電体層１２と、誘電体層１２の上に形成された保護膜１４を備えている。更に、前面板４は、後述する背面板６を形成する隔壁３０の上側及び隔壁３０の近傍(又は、周囲)で保護膜１４を覆う遮光層４０を備えている。
【００４１】
表示電極１０は、１テレビ走査線に相当する。表示電極１０は、１組のＸ電極（走査電極１６）及びＹ電極（維持電極１８）によって形成されている。そして、Ｘ電極（走査電極１６）及びＹ電極（維持電極１８）は、夫々、前面基板８の上に形成された透明電極２０と、この透明電極２０の上に形成されたバス電極２２からなっている。バス電極２２は、高導電率の金属によって形成され、帯状の透明電極２０の一辺に片寄って配置されている。
【００４２】
表示電極１０を覆う誘電体層１２は、低融点ガラスによって形成されている。誘電体層１２の上に形成された保護膜１４は、放電耐性に優れた材料、例えばＭｇＯで形成され、誘電体層１２を放電から保護する。
【００４３】
遮光層４０は、隔壁３０の上側の領域と隔壁３０を囲む幅十数μｍの領域とからなる保護膜１４の表面に、形成されている。この遮光層４０は、厚さ０.１μｍのＣｕＯ膜によって形成されている。ＣｕＯは黒色なので、外光を吸収して遮断する。従って、遮光層４０を設けることによって、明室コントラストが改善される。尚、遮光層４０の厚さとしては、０.０５〜０.３μｍが好ましい。
【００４４】
背面板６は、図４及び５に示すように、ガラス製の背面基板２４と、背面基板２４の上に形成された複数のアドレス電極２６と、アドレス電極２６を覆う誘電体層２８と、誘電体層２８の上に格子状に形成された隔壁３０を有している（図３には、遮光層４０を透視して見た隔壁３０が、破線によって示されている。）。誘電体層２８は、低融点ガラスによって形成されている。
【００４５】
更に、背面板６は、隔壁３０の間に露出した誘電体層２８の表面と、隔壁３０の側壁とに形成された蛍光体３２を有している。蛍光体３２には、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）で発光する３種類の蛍光体が用いられている。これら３種類の蛍光体が、表示電極１０（走査電極１６及び維持電極１８）の延在方向に沿って、周期的に配置されている。
【００４６】
図２に示すように、アドレス電極２６と表示電極１０（走査電極１６及び維持電極１８）は立体交差（直交）している。そして、アドレス電極２６と表示電極１０の交差点を含む空間が、格子状の隔壁３０によって囲われている。この隔壁３０によって仕切られた空間により、発光の最小単位となる放電セル３４が形成される。
【００４７】
以上のように、本ＰＤＰ３６は、背面基板２４と、背面基板２４の上に形成されたアドレス電極２６と、放電セル３４を区画する隔壁３０と、放電セル３４の内側に形成された蛍光体３２とを有する背面板６を具備している（図４及び５参照）。
【００４８】
また、本ＰＤＰ３６は、前面基板８と、前面基板８の上に形成された、走査電極１６と維持電極１８とからなる表示電極１０と、表示電極１０を覆う誘電体１２と、誘電体層１２を放電から保護する保護膜１４と、隔壁３０の上側及び隔壁３０の近傍（又は、周囲）で保護膜１４を覆う遮光層４０とを有する前面板４を具備している（図４及び５参照）。
【００４９】
（２）動  作
次に、ＰＤＰ３６の動作を説明する。
【００５０】
まず、各放電セル３４で直交するアドレス電極２６と走査電極１６に、夫々、表示予定の画像情報に基づいて、書き込み信号パルス（データパルス）と書き込み走査パルス（走査パルス）が印加される。
【００５１】
すると、両パルスが同時に印加された放電セル３４で書込み放電が発生し、保護膜１４に壁電荷が形成される。一旦壁電荷が形成されると、走査電極１６と維持電極１８に交互に印加される維持パルスによって、維持放電が継続的に発生する。
【００５２】
この維持放電によってプラズマが発生し、紫外線を生成する。この紫外線が、蛍光体３２を励起し発光させる。但し、隔壁３０は、その近傍に存在する放電ガスは冷却して、プラズマの接近を妨げる。このため、隔壁３０の近傍（又は、周囲）には、プラズマは拡がらない。従って、隔壁の側壁及び近傍（又は、周囲）に形成された蛍光体は、発光しないか、或いは微弱にしか発光しない。
【００５３】
以上にように維持放電によって蛍光体が発光して放電セルが点灯し、ＰＤＰ３６の表面に画像が表示される。この時、隔壁３０の側壁及び近傍に形成された蛍光体及び隔壁３０の頂上に向かって入射する外光が、遮光層４０によって吸収される。このため、発光体として殆ど機能しないこれらの領域では、外光が反射されなくなる。その結果、本ＰＤＰ３６の明室コントラストが、改善される。
【００５４】
（３）製造方法
図６乃至９は、本ＰＤＰ３６の製造工程を説明する、図３のIV-IV線における断面図である。
【００５５】
（ａ）前面板製造工程（図６参照）
まず、ガラスからなる前面基板８の表面に、スパッタリングにより透明導電膜を形成し、フォトリソグラフィにより帯状の透明電極２０に加工する。透明導電膜の材料は、例えば、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）である。この透明電極２０の上に、スパッタリングより金属導電膜を形成する。金属導電膜は、例えば、Ｃｒ−Ｃｕ−Ｃｒの三層金属膜である。
【００５６】
次に、この金属導電膜を、フォトリソグラフィにより加工して、帯状の透明電極２０の上辺又は下辺に片寄った位置に、バス電極２２を形成する。このバス電極２２と上記透明電極２０が一体となって、走査電極１６及び維持電極１８を形成する。
【００５７】
次に、この走査電極１６及び維持電極１８からなる表示電極１０の上に、誘電体層１２を形成する。誘電体層１２の材料は、低融点ガラスである。
【００５８】
次に、ＰＤＰ３６の放電特性を改善し且つ誘電体層１２を保護するため、誘電体層１２の上に保護膜１４を形成する。保護膜１４の材料は、２次電子放出効率が高く、且つ放電によってスパッタされにくい酸化マグネシウム（ＭｇＯ）である。保護膜１４は、真空中で蒸着法によって形成する。
【００５９】
更に、保護膜１４の上に、厚さ０.１μｍのＣｕＯ膜４４を、蒸着法によって形成する。原料は、ＣｕＯである。尚、ＣｕＯ膜４４は、ＣｕＯをターゲットとするスパッタ法によって形成してもよい。
【００６０】
このように、本工程では、前面基板８の上に、走査電極１６と維持電極１８からなる表示電極１０と、表示電極１０を覆う誘電体層１２と、誘電体層１２を放電から保護する保護膜１４と、保護膜１４の表面に可視光（外光）を吸収して遮る遮光膜４２を順次形成する。
【００６１】
（ｂ）背面板製造工程（図７参照）
まず、ガラスからなる背面基板２４の表面に、スパッタリングにより金属導電膜を形成し、フォトリソグラフィによりアドレス電極２６を形成する。金属導電膜としては、Ｃｒ−Ｃｕ−Ｃｒ三層金属膜を用いる。
【００６２】
次に、アドレス電極２６の上に誘電体層２８を形成する。誘電体層２８の材料は、低融点ガラスである。
【００６３】
次に、誘電体層２８の全面に隔壁用の材料層を形成し、サンドブラスト加工により隔壁３０を形成する。隔壁３０の材料は、低融点ガラスである。そして、隔壁３０中に蛍光体ペースト（蛍光体３２）を、スクリーン印刷によって塗布する。
【００６４】
このように、本工程では、背面基板２４の上に、アドレス電極２６と、放電セル３４を区画する隔壁３０と、放電セル３４の内側に蛍光体３２を順次形成する。
【００６５】
（ｃ）パネル組立て排気工程（図８参照）
以上のようにして形成した前面板４と背面板６とを、アドレス電極２６と表示電極１０とが交差するように対向させて、重ね合わせる。この状態で昇温し、両パネルの外周部に塗布した封止材（図示せず）を溶かして、前面板４と背面板６を接着する。同時に排気のためのチップ管（図示せず）を、背面板６に接着する。
【００６６】
次に、このチップ管を通してパネルの内部を排気し、その後、ＮｅとＸｅを主成分とする放電ガスを、パネル内部に形成された放電空間に充填する。充填圧力は、５００Ｔｏｒｒである。
【００６７】
次に、チップ管を封じて、放電ガスをパネル内部に封止する。
【００６８】
以上のように、本工程では、前面板４と背面板６を組み立てる。
【００６９】
（ｄ）遮光膜除去工程（図９参照）
次に、走査電極１６と維持電極１８に交流電圧を印加して、両電極間にプラズマ４６（面放電）を発生させ、走査電極１６と維持電極１８の間のＣｕＯ膜４４（遮光膜）をプラズマエッチングにより除去する。この時、ＣｕＯ膜４４（遮光膜）は、走査電極１６と維持電極１８の下側で除去される。但し、走査電極１６と維持電極１８の下側であっても、プラズマ４６が広がっていかない隔壁３０の近傍では、ＣｕＯ膜４４（遮光膜）は除去されない。
【００７０】
このプラズマエッチングの結果、隔壁３０の上側及び隔壁３０の近傍（又は、周囲）で保護膜１４を覆う遮光層４０が形成される。
【００７１】
このように、本工程では、走査電極１６と維持電極１８の間に数百Ｖの交流電圧を印加して放電を起こして、遮光膜を除去する。
【００７２】
以上の工程により、本ＰＤＰ３６が完成する。
【実施例２】
【００７３】
本実施例のＰＤＰ４８の平面図及び拡大平面図は、実施例１の平面図（図２）及び拡大平面図（図３）と同じである。従って、図２及び図３を参照して、本ＰＤＰ４８を説明する。
【００７４】
図１０は、図３のIV-IV線における本ＰＤＰ４８の断面図である。図１１は、図３のV-V線における本ＰＤＰ４８の断面図である。
【００７５】
本ＰＤＰ４８は、実施例１のＰＤＰ３６において、遮光層４０の表面に、ＳｉＮからなる一時保護膜５０が形成されているＰＤＰである（図１０及び１１参照）。一時保護膜５０は、前面板４と背面板６を組み立てるまでの間、一時的に保護層１４を保護するための保護膜である。
【００７６】
本ＰＤＰ４８を製造するためには、実施例１で説明したＰＤＰ３６の製造方法において、ＣｕＯ膜４４（遮光膜）の形成後、その上に連続的に一時保護膜５０を形成すればよい。
【００７７】
一時保護膜（ＳｉＮ膜）５０は、ＳｉＨ４とＮＨ３を原料ガスとする化学気相成長法によって形成する。又は、一時保護膜５０は、ＳｉＮをターゲットとするスパッタ法によって形成することもできる。
【００７８】
本実施例では、保護膜１４の形成後、その上に連続的に一時保護膜５０を形成するので、保護膜１４の表面に変質層が形成されず、保護膜５０の放電特性を良好にすることができる。
【００７９】
尚、ＳｉＮの代わりに、ＳｉＯ２、ＴｉＯ２、ＭｇＦ２、及びＣａＦ２の何れかで、一時保護膜５０を形成してもよい。
【００８０】
図１０及び１１に示した例では、遮光層４０の上に一時保護膜５０が形成されている。
【００８１】
このようにすると、遮光層４０と一時保護膜５０からなる２層構造をプラズマエッチングする際、その終了時点を的確に把握することができる。これは、保護膜１４に接している黒色の遮光層４０が除去されると、前面板４が透明になるからである。
【００８２】
但し、遮光層４０と保護膜１４の間に、一時保護膜５０を形成してもよい。保護膜１４を外気から保護する機能は、一時保護膜５０を、保護膜１４の上に直接形成しても十分に発揮されるからである。
【００８３】
（変形例）
実施例１及び２では、保護膜１４は、ＭｇＯで形成されている。しかし、保護膜１４は、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ、ＳｒＣｕＯ等で形成してもよい。
【００８４】
また、実施例１及び２では、遮光層４０は、ＳｉＮで形成されている。しかし、遮光層４０を、ＦｅＯやＣｒＯなどの金属酸化物や、Ｔｉ粒子、Ｚｒ粒子、Ａｌ粒子等をベースとする黒色顔料で形成しても良い。
【００８５】
また、遮光層４０を、Ｃｕ２Ｏ、Ｆｅ３Ｏ４、Ｆｅ２Ｏ３、Ｃｒ２Ｏ３等で形成しても良い。但し、これらの材料は黒色ではない。
【００８６】
また、実施例１及び２のＰＤＰは、格子状の隔壁を有する、所謂ボックス構造のＰＤＰである。しかし、隔壁３０は、必ずしも格子状である必要はない。例えば、表示電極に沿って延在するリッジ状の隔壁を用いて、本ＰＤＰを形成してもよい。
【符号の説明】
【００８７】
２・・・従来のＰＤＰ      ４・・・前面板      ６・・・背面板
８・・・前面基板      １０・・・表示電極      １２・・・誘電体層
１４・・・保護膜      １６・・・走査電極      １８・・・維持電極
２０・・・透明電極      ２２・・・バス電極
２４・・・背面基板      ２６・・・アドレス電極
２８・・・誘電体層      ３０・・・隔壁      ３２・・・蛍光体
３４・・・放電セル      ３６・・・実施例１のＰＤＰ
３８・・・矢印（走査方向）      ４０・・・遮光層
４２・・・（走査電極と維持電極の間に形成された）遮光膜
４４・・・ＣｕＯ膜      ４６・・・プラズマ
４８・・・実施例２のＰＤＰ      ５０・・・一時保護膜
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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