(57)【要約】【課題】  本発明の課題は、安全且つ簡便な方法にて、インジウム廃棄物を処理し、インジウム汚泥を回収することが可能な工業的に採用できる方法を提供することにある。【解決手段】  本発明の課題は、トリアルキルインジウムの後処理方法であって、トリアルキルインジウムを炭化水素溶媒に溶解させた後、酸素と接触させることを特徴とする、トリアルキルインジウムの処理方法によって解決される。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
トリアルキルインジウムの後処理方法であって、トリアルキルインジウムを炭化水素溶媒に溶解させた後、酸素と接触させることを特徴とする、トリアルキルインジウムの処理方法。
【請求項２】
請求項１記載の方法によって処理されて得られる溶液から炭化水素溶媒を除去することによるインジウム汚泥を回収するトリアルキルインジウムの処理方法。
【請求項３】
トリアルキルインジウムの後処理方法であって、トリアルキルインジウムを炭化水素溶媒に溶解させた後、酸素と接触させた後、得られた溶液から炭化水素溶媒を除去することによりインジウム汚泥を回収する請求項１記載のトリアルキルインジウムの処理方法。
【請求項４】
インジウム汚泥が酸化インジウム、水酸化インジウム又はそれらの混合物である請求項２又は３にいずれか記載のトリアルキルインジウムの処理方法。
【請求項５】
炭化水素溶媒が芳香族炭化水素類である請求項１乃至３にいずれか記載のトリアルキルインジウムの処理方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、トリアルキルインジウムの処理方法及び当該処理によって得られたインジウム汚泥を回収する方法に関する。トリアルキルインジウムは、高純度品においては半導体成膜として有用な化合物であり、その製造過程において副生するインジウム汚泥を回収することは、資源の有効利用ともなり得る。
【背景技術】
【０００２】
半導体成膜材料等として用途があるトリアルキルインジウムは有用な化合物であるが、空気中の空気や水分と爆発的に反応する化合物であることから、その製造や取り扱いについては十分な注意を払う必要がある。特に、高い性能を有する高純度トリアルキルインジウムは、その製造過程において生じるトリアルキルインジウムを含有する初留分や釜残（以下、インジウム廃棄物と称する）であったとしても、その処理方法（例えば、トリアルキルインジウムを分解して酸化インジウムとする、トリアルキルインジウムと水と接触させることにより水酸化インジウムとする等）には十分に注意が必要である。更に、副生するインジウム汚泥（酸化インジウムや水酸化インジウム等）を回収することで、環境上及び経済的なメリットがあると十分に考えられる。
従来、例えば、鉛とインジウムとを含有する溶液へ活性炭を添加し鉛を吸着させる工程と、当該溶液中へ、当該溶液中に残留する鉛を硫化するに足る量の硫化剤を添加し、当該残留する鉛を硫化物として除去する工程と、当該鉛の硫化物を除去した溶液からインジウムを採取する工程と、を有することを特徴とするインジウム含有溶液の処理方法が開示されていた（例えば、特許文献１参照）。
しかしながら、トリアルキルインジウム廃棄物の安全な処理方法及びインジウム汚泥の回収方法については、特段優れた技術はなく、現実的には廃棄業者が引き取って埋め立て処理をしているというのが現状である。
【非特許文献１】特開２００８−８８４９４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
本発明の課題は、即ち、安全且つ簡便な方法にて、インジウム廃棄物を処理し、インジウム汚泥を回収することが可能な工業的に採用できる方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明の課題は、トリアルキルインジウムの後処理方法であって、トリアルキルインジウムを炭化水素溶媒に溶解させた後、酸素と接触させることを特徴とする、トリアルキルインジウムの処理方法によって解決される。又、本発明は、当該処理溶液から炭化水素溶媒を除去することによるインジウム汚泥の回収方法によっても解決される。
【発明の効果】
【０００５】
本発明により、安全且つ簡便な方法にて、インジウム廃棄物を処理し、インジウム汚泥を回収することが可能な工業的に採用できる方法を提供することにある。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００６】
本発明において使用するトリアルキルインジウムとしては、例えば、トリメチルインジウム、トリエチルインジウム等が挙げられるが、これらの中に少量のハロゲン化物（例えば、ジアルキルハロゲノインジウムやトリハロゲノインジウム等）を含んでいても良い。
【０００７】
本発明で使用するトリアルキルインジウムを溶解させる炭化水素溶媒としては、トリアルキルインジウムと反応しない溶媒ならば特に限定されず、例えば、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン等の脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレン（各種異性体を含む）等の芳香族炭化水素類が使用されるが、好ましくは芳香族炭化水素類、更に好ましくはトルエン、キシレンが使用される。なお、これらの有機溶媒は単独又は二種以上を混合して使用しても良い。
【０００８】
前記有機溶媒の使用量は、トリアルキルインジウムを実質的に溶解させる量ならば特に制限されず、有機溶媒の種類により適宜決定する。
【０００９】
本発明ではトリアルキルインジウムと酸素とを接触させるが、その接触をさせる方法は特に限定されるものではなく、大気中に放置することによる方法が酸化分解反応をゆるやかに進めるために好適に採用されるが、酸素含有ガス（例えば、空気）をバブリングさせることによって酸化分解を促進させることもできる。
【００１０】
有機溶媒中のトリアルキルインジウムと酸素とを接触させることによってトリメチルインジウムがインジウム汚泥に変換されるが、当該酸化分解反応を促進するために水を加えても良い。その際の温度は特に制限されず、通常は室温で行うが、反応熱により溶液の温度上昇が確認される場合もある。
【００１１】
前記インジウム汚泥とは、酸化インジウム、水酸化インジウム又はそれらの混合物を示すが、水との接触が実質的にない場合には酸化インジウムが優先して生成し、水との接触がある場合には水酸化インジウムが優先して生成する。但し、完全な非水系で行うことや完全な無酸素系で行うことは困難であるので、酸化インジウムと水酸化インジウムの混合物となることはしばしばある。
【００１２】
なお、これらの後処理、回収等は、全て工場敷地内の安全な場所において行われ、人為的ミスが生じないルールやマニュアルも徹底していることにより、実施に際しては特段の問題はない。
【実施例】
【００１３】
次に、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明の範囲はこれらに限定されるものではない。
【００１４】
実施例１（トリメチルインジウムの後処理及びインジウム汚泥の回収）
トリメチルインジウムを主成分とする溶液を蒸留して高純度トリメチルインジウムを取得するに当たり、初留分８２ｇを初留受器に留出させた後、高純度トリメチルインジウムを含む主留分を留出させた。蒸留後、釜残としてトリメチルインジウムを含む溶液を９０ｇ得た。初留分及び釜残を併せたインジウム廃棄物１７２ｇを得た。これをキシレン１．２Ｌに溶解させた後、安全な場所において大気中に放置して空気と接触させ、含有するトリメチルインジウムをインジウム汚泥とし、キシレンを除去してインジウム汚泥を得た（当該汚泥は主として酸化インジウムを含有する）。得られたインジウム汚泥は大気中に暴露しても特段変化しなかった。
【００１５】
実施例２（トリメチルインジウムの後処理及びインジウム汚泥の回収）
トリメチルインジウムを主成分とする溶液を蒸留して高純度トリメチルインジウムを取得するに当たり、初留分６０ｇを初留受器に留出させた後、高純度トリメチルインジウムを含む主留を留出させた。蒸留後、釜残としてトリメチルインジウムを含む溶液を８０ｇ得た。初留分及び釜残を併せたインジウム廃棄物１４０ｇを得た。これをキシレン１．２Ｌに溶解させた後、水１５０ｍｌをゆるやかに加えて、含有するトリメチルインジウムをインジウム汚泥とし、有機溶媒を除去してインジウム汚泥を得た（当該汚泥は主として水酸化インジウムを含有する）。得られたインジウム汚泥は大気中に暴露しても特段変化しなかった。
【産業上の利用可能性】
【００１６】
本発明により、安全且つ簡便な方法にて、インジウム廃棄物を処理し、インジウム汚泥を回収することが可能な工業的に採用できる方法を提供することにある。