(57)【要約】      （修正有）【課題】ナノインプリント用モールド表面に形成した離型剤の塗布状態を微視的に検査する方法であって、微細な凹凸パターンの凹部パターン底面を含め、モールド表面が離型作用を受けるに十分な量の離型剤で均一に被覆されているか否かを迅速かつ簡便に知ることができる検査方法およびパターン形成方法を提供する。【解決手段】表面に凹凸パターンを有し、前記凹凸パターン上に離型剤が塗布形成されたナノインプリント用モールドの離型剤の塗布状態の検査方法であって、走査型プローブ顕微鏡のカンチレバーを用いて、前記離型剤が塗布形成された凹凸パターンの測定領域において、前記カンチレバーの探針先端と前記離型剤が塗布形成された凹凸パターンとの間に働くフォースカーブから前記探針と前記凹凸パターン表面の離型剤との間の付着力を計測し、前記付着力より前記離型剤の塗布状態を評価することを特徴とする。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面に凹凸パターンを有し、前記凹凸パターン上に離型剤が塗布形成されたナノインプリント用モールドの離型剤の塗布状態の検査方法であって、
走査型プローブ顕微鏡のカンチレバーを用いて、前記離型剤が塗布形成された凹凸パターンの測定領域において、前記カンチレバーの探針先端と前記離型剤が塗布形成された凹凸パターンとの間に働くフォースカーブから前記探針と前記凹凸パターン表面の離型剤との間の付着力を計測し、
前記付着力より前記離型剤の塗布状態を評価することを特徴とするナノインプリント用モールドの離型剤の塗布状態の検査方法。
【請求項２】
表面に凹凸パターンを有し、前記凹凸パターン上に離型剤が塗布形成されたナノインプリント用モールドの離型剤の塗布状態の検査方法であって、
走査型プローブ顕微鏡のカンチレバーを用いて、前記離型剤が塗布形成された凹凸パターンの測定領域において、前記カンチレバーの探針先端と前記離型剤が塗布形成された凹凸パターンとの間に働くフォースカーブから前記探針と前記凹凸パターン表面の離型剤との間の付着力および摩擦力を計測し、
前記付着力および摩擦力より前記離型剤の塗布状態を評価することを特徴とするナノインプリント用モールドの離型剤の塗布状態の検査方法。
【請求項３】
前記探針の径が前記凹凸パターンの凹部寸法より小さく、前記探針が前記凹部の底面まで届く形状を有し、前記凹凸パターンの凹部寸法が数１０ナノメートルオーダであることを特徴とする請求項１または請求項２に記載のナノインプリント用モールドの離型剤の塗布状態の検査方法。
【請求項４】
表面に凹凸パターンを有し、前記凹凸パターン上に離型剤が塗布形成されたナノインプリント用モールドを被転写体に押し付けることで前記凹凸パターンを前記被転写体に転写するパターン形成方法であって、
前記凹凸パターンを転写する前に、請求項１または請求項２に記載の検査方法により、前記ナノインプリント用モールド表面の離型剤の塗布状態を評価する検査工程を有することを特徴とするパターン形成方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ナノインプリントに用いるモールドの凹凸パターン表面に塗布された離型剤の塗布状態を評価するナノインプリント用モールドの離型剤塗布状態の検査方法およびナノインプリント用モールド表面の離型剤の塗布状態を評価する検査工程を有するパターン形成方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、特に半導体デバイスについては、微細化の一層の進展により高速動作、低消費電力動作が求められ、また、システムＬＳＩという名で呼ばれる機能の統合化などの高い技術が求められている。このような中、半導体デバイスのパターンを作製する要となるリソグラフィ技術は、パターンの微細化が進むにつれ、露光装置などが極めて高価になってきており、また、それに用いるマスク価格も高価になっている。
【０００３】
これに対して、１９９５年Ｐｒｉｎｃｅｔｏｎ大学のＣｈｏｕらによって提案されたナノインプリント法は装置価格や使用材料などが安価でありながら、１０ｎｍ程度の高解像度を有する微細パターン形成技術として注目されている（非特許文献１、特許文献１参照）。
【０００４】
ナノインプリント法は、予め表面にナノメートルサイズの凹凸パターンを形成したモールド（テンプレート、スタンパ、金型とも呼ばれる)を、被加工材表面に塗布形成された樹脂に押し付けて力学的に変形させて微細パターンを精密に転写し、パターン形成された樹脂をレジストマスクとして被加工材を加工する技術である。一度モールドを作製すれば、ナノ構造が簡単に繰り返して成型できるため高いスループットが得られて経済的であるとともに、有害な廃棄物が少ないナノ加工技術であるため、近年、半導体デバイスに限らず、さまざまな分野への応用が期待されている。
【０００５】
このようなナノインプリント法には、熱可塑性樹脂を用いて熱により凹凸パターンを転写する熱ナノインプリント法や、光硬化性樹脂を用いて光により凹凸パターンを転写する光ナノインプリント法（例えば、特許文献２参照）などが知られている。
【０００６】
ナノインプリント法で用いられるモールドには、パターン寸法の安定性、耐薬品性、加工特性などが求められる。光ナノインプリント法の場合を例に取ると、一般的には石英ガラスが用いられている。しかし、石英ガラスなどによるモールドはパターン転写材料である樹脂との離型性が低く、転写パターンを形成した樹脂からモールドを剥離する際に樹脂がモールド側に密着してしまうため、樹脂の凹凸パターンに欠けを生じ、パターン精度が低下しやすいという問題があった。このため、離型性を向上させる方法として、モールドの凹凸パターン表面にフッ素樹脂などの離型剤の薄膜を塗布形成する方法が提案されている。
【０００７】
しかし、モールドを連続使用してインプリントする場合、塗布された離型剤が凹凸パターン表面から徐々に失われ、その結果、転写時に樹脂がモールドに付着し、正確なパターン転写ができなくなるという問題があった。もしも離型剤の塗布状態が良好でない場合には、離形剤の再塗布が必要となる。
【０００８】
このため、離型剤がモールドの表面を十分に被覆しているかどうかという離型剤の塗布状態の情報を得ることは、インプリントされる製品の品質・歩留・生産性を左右する上で極めて重要である。モールド表面に存在する離型剤の塗布状態を評価する検査方法としては、いくつかの方法が提案されている。一般的には表面分析による方法、あるいは離型剤塗布表面の接触角を測定する方法がある。また、離型剤に蛍光物質などの標識となる物質を含有させて、所定の検出方法で離型剤濃度を測定する方法がある（特許文献３、特許文献４参照）。
【非特許文献１】Ｓ．Ｙ．Ｃｈｏｕ  ｅｔ．ａｌ．，Ｓｃｉｅｎｃｅ，ｖｏｌ．２７２，ｐ．８５−８７，Ａｐｒｉｌ，１９９６
【特許文献１】特表２００４−５０４７１８号公報
【特許文献２】特開２００２−９３７４８号公報
【特許文献３】特開２００７−６９２１７号公報
【特許文献４】特開２００７−２９６８２３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、表面分析による方法は、一般に使用する表面分析装置が大型で高価であり、測定分析に多大の時間を必要とし、通常の製造工程で使用するには適しないという問題があった。接触角を測定する方法は、水の蒸気圧の関係で、ミクロンメータ以下の水滴を作ることができず、ミクロンメータ以下のナノインプリントのパターン領域では接触角の計測ができないという問題があった。標識となる物質を用いて離型剤濃度を測定する方法は、例えば、可視光照射による発光強度測定では、可視光の波長がパターン寸法よりも大きくなり、測定対象とする数１０ｎｍオーダのパターンに対して分解能が無いという問題があり、紫外線やさらに短波長の放射線照射では離型剤や標識となる物質自体が化学反応を起こして変質してしまう危険性があった。また、パターンが微細なのでパターン寸法（ＣＤ：Critical Design）を制御するためにも離型剤の厚さはせいぜい数ｎｍ程度にとどまり、数ｎｍの厚さの離型剤では発光強度が弱くなり、発光検出感度が低下してしまうという問題があった。
【００１０】
そこで、本発明は、上記の問題点に鑑みてなされたものである。すなわち、本発明の目的は、ナノインプリント用モールド表面に形成した離型剤の塗布状態を微視的に検査する方法であって、微細な凹凸パターンの凹部底面を含め、モールド表面が離型作用を受けるに十分な量の離型剤で均一に被覆されているか否かを迅速かつ簡便に知ることができる検査方法および離型剤の塗布状態を評価する検査工程を有するパターン形成方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記の課題を解決するために、請求項１の発明に係るナノインプリント用モールドの離型剤の塗布状態の検査方法は、表面に凹凸パターンを有し、前記凹凸パターン上に離型剤が塗布形成されたナノインプリント用モールドの離型剤の塗布状態の検査方法であって、走査型プローブ顕微鏡のカンチレバーを用いて、前記離型剤が塗布形成された凹凸パターンの測定領域において、前記カンチレバーの探針先端と前記離型剤が塗布形成された凹凸パターンとの間に働くフォースカーブから前記探針と前記凹凸パターン表面の離型剤との間の付着力を計測し、前記付着力より前記離型剤の塗布状態を評価することを特徴とするものである。
【００１２】
請求項２の発明に係るナノインプリント用モールドの離型剤の塗布状態の検査方法は、表面に凹凸パターンを有し、前記凹凸パターン上に離型剤が塗布形成されたナノインプリント用モールドの離型剤の塗布状態の検査方法であって、走査型プローブ顕微鏡のカンチレバーを用いて、前記離型剤が塗布形成された凹凸パターンの測定領域において、前記カンチレバーの探針先端と前記離型剤が塗布形成された凹凸パターンとの間に働くフォースカーブから前記探針と前記凹凸パターン表面の離型剤との間の付着力および摩擦力を計測し、前記付着力および摩擦力より前記離型剤の塗布状態を評価することを特徴とするものである。
【００１３】
請求項３の発明に係るナノインプリント用モールドの離型剤の塗布状態の検査方法は、請求項１または請求項２に記載のナノインプリント用モールドの離型剤の塗布状態の検査方法において、前記探針の径が前記凹凸パターンの凹部寸法より小さく、前記探針が前記凹部の底面まで届く形状を有し、前記凹凸パターンの凹部寸法が数１０ナノメートルオーダであることを特徴とするものである。
【００１４】
請求項４の発明に係るパターン形成方法は、表面に凹凸パターンを有し、前記凹凸パターン上に離型剤が塗布形成されたナノインプリント用モールドを被転写体に押し付けることで前記凹凸パターンを前記被転写体に転写するパターン形成方法であって、前記凹凸パターンを転写する前に、請求項１または請求項２に記載の検査方法により、前記ナノインプリント用モールド表面の離型剤の塗布状態を評価する検査工程を有することを特徴とするものである。
【発明の効果】
【００１５】
本発明のナノインプリント用モールドの離型剤の塗布状態の検査方法によれば、微細な先端径の探針を搭載した走査型プローブ顕微鏡を用いたフォースカーブによる付着力の計測により、数１０ナノメートルオーダの凹凸パターンを有するナノインプリント用モールド表面に形成した離型剤の塗布状態を、微視的に検査することが可能となる。さらに、パターン寸法より小さい径の探針を用い、付着力の計測をすることにより、凹部パターンの底面まで、離型剤の微視的付着力の強度や塗布の均一性などの塗布状態を定量的に評価し検査することが可能となる。本発明の検査方法によれば、モールド表面に塗布された離型剤の寿命のモニタリングができ、工程管理が容易になり、ナノインプリントにおける転写品質が向上するという効果を奏する。また、転写樹脂残りや異物が付着したモールドを洗浄し、離型剤を再塗布した場合の塗布状態を定量的に評価し検査することが可能となる。
【００１６】
本発明のパターン形成方法によれば、凹凸パターンを転写する前に、ナノインプリント用モールド表面の離型剤の塗布状態を評価する上記の検査方法を用いる工程を有することにより、離型剤の塗布状態を管理し、インプリントされる製品の品質・歩留・生産性を向上させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下、図面に基づいて、本発明の最良の実施形態について詳細に説明する。
【００１８】
本発明では、走査型プローブ顕微鏡のカンチレバーを用いて付着力を計測することにより、従来の検査方法では測定ができなかった微細なパターン領域に設けられた離型剤の塗布状態を検査するものである。
図１は、本発明の付着力の測定の原理を示す説明用模式図である。
【００１９】
（フォースカーブと付着力）
図１に示すように、試料表面とカンチレバー構造を有する微小な探針とを徐々に近づけていき（図１のＡからＢ）、探針と試料間の距離が数ｎｍ〜数十ｎｍまで近づくと、両者の間にファンデルワールス力などの表面間力が働き、はじめに引力が作用し、次に斥力が作用する。さらに押し上げて、カンチレバーが上へたわんだ後（図１のＣ）、反対に離していくと、吸着力が作用して下へのたわみが発生する（図１のＤ）。そのたわみによる力が吸着力を超えたとき（図１のＥ）、カンチレバーは水平な位置に戻る（図１のＦ）。
【００２０】
カンチレバーのたわみは、カンチレバーの背面に当てられたレーザ光の反射角の変化により光センサーで検出され、カンチレバーの振れ量が測定される。試料と探針間の距離の制御（Ｚ方向）はピエゾスキャナーにより行われる。カンチレバーの振れ量とカンチレバーのバネ定数から、フックの法則Ｆ＝ｋｘ（ｋはカンチレバーのバネ定数〔Ｎ／ｍ〕、ｘはカンチレバーの振れ量〔ｍ〕）により付着力Ｆが得られる。図１では、横軸に試料と探針間の距離（Distance）、縦軸に表面間に働く力（Force：Ｆ）をとり、カンチレバーの振れは、フォースカーブ（フォースディスタンスカーブとも呼ばれる）として図１にプロットされている（図１の実線）。そのフォースカーブから、付着力（Adhesive force）を読み取ることができる。
【００２１】
上記のように、走査型プローブ顕微鏡は、所定のバネ定数を有する弾性体からなる１００μｍ〜２０００μｍ長のカンチレバーの自由端部に鋭く尖った探針を設けており、この探針を試料に近づけて、探針先端と試料表面の原子間にファンデルワールス力などの引力を作用させ、これにより生じるカンチレバーの変位から試料の局所的な形状や物性を測定する装置である。
【００２２】
本発明において、付着力の測定に用いる走査型プローブ顕微鏡としては、片持ち梁の一端に探針を設けたカンチレバーと称するプローブで試料表面を走査し、試料表面のパターンの寸法や形状を計測する顕微鏡が用いられ、原子間力顕微鏡（Atomic Force Microsccope；以後、ＡＦＭと記す）が最も好ましい。以下の説明では、ＡＦＭを用いた場合を例にして、本発明の検査方法およびパターン形成方法について述べる。
【００２３】
本発明で用いるカンチレバーの探針の材質、形状としては、従来用いられている材質、形状の探針が適用できる。すなわち、探針の材質としては、シリコン、窒化シリコン、酸化シリコン、炭化シリコンなどが用いられる。また、上記の材料表面にメチル基などを修飾したものも用いることができる。さらに上記の材料表面に導電性を付与するために、一例として金、チタンなどの金属、あるいはカーボンなどを被覆したものが用いられる。探針の形状としては、ピラミッド型の四角錐、円錐などの先端を尖鋭化させた形状が用いられ、例えば四角錐の場合、先端部の頂角は７０度前後、曲率半径は約数１０ｎｍ程度である。さらに本発明において、図２に示すように、石英製モールド２１などの微細な凹凸パターンの凹部底面などに塗布形成された離型剤２２の塗布状態を計測する場合には、探針２３が高密度カーボンなどで作製され、径が数ｎｍで凹部パターン寸法（ＣＤ）より小さく、長さが数１００ｎｍの細長い探針を用いることにより計測することができる。
【００２４】
次に、カンチレバーの探針とモールドとの間に働く付着力についてさらに説明する。図３は、微細な凹凸パターンを有する石英製モールドの表面に、離型剤の一例として市販されているフッ素含有シラン化合物であるオプツールＤＳＸ（ダイキン工業社製）を塗布形成し、カンチレバーの探針先端と離型剤を塗布したモールドとの間に働く付着力を測定するフォースカーブを示す図である。図３の横軸はモールドと探針間の距離（ｎｍ）、縦軸はモールドと探針との間に働く力（ｎＮ）を示す。図３におけるフォースカーブにおいて、点線が探針をモールドに接近させる状態（Approach）、実線が探針をモールドから離す状態（Retract）を示し、矢印で示される値が離型剤を塗布したモールドにおける付着力である。
【００２５】
一方、比較のために、図４に、表面に離型剤を塗布していない石英製モールドにおけるカンチレバーの探針先端とモールドとの間に働く付着力を測定するフォースカーブを示す。図４におけるフォースカーブにおいて、図３と同様に、点線が探針をモールドに接近させる状態（Approach）、実線がモールドから離す状態（Retract）を示し、矢印で示される値が離型剤を塗布したモールドにおける付着力である。図３の離型剤を塗布した場合に比べ、図４に示す離型剤を塗布していない場合の付着力は約５倍程度の高い値を示している。付着力がより高いということは、モールドを用いてインプリントしたときに、樹脂がモールドに密着してしまい、樹脂の凹凸パターンに欠けなどの不良を生じ易いことを示している。
【００２６】
（離型剤の塗布方法）
本発明において、離型剤としては、樹脂の離型性を高めるために表面エネルギーの小さい疎水性のフッ素樹脂など、従来公知の離型剤が適用できる。
次に、離型剤の塗布方法による付着力の相違について説明する。本発明における離型剤の塗布方法としては、従来公知の方法が用いられ、離型剤を所定の溶媒に溶解して離型剤溶液とし、その溶液中にモールドを浸漬した後に乾燥して離型剤をモールド表面に形成する方法、離型剤溶液をスピンコート法でモールド上に塗布形成する方法、密閉した容器中にモールドを静置し、気相状態にした離型剤をモールド上に成膜する気相成長法などが用いられる。本発明においては、上記のいずれの方法も用いることができ、モールド上に離型剤の薄膜を形成する上記の各方法をまとめて離型剤塗布方法と称する。
【００２７】
図５は、石英モールド表面に離型剤オプツールＤＳＸを、スピンコート法で塗布形成した場合（図５（ｂ））と気相成長法（図５（ｃ））で塗布形成した場合、および比較として離型剤を設けていない石英モールドの場合（図５（ａ））における付着力の上限値・下限値、ばらつき（ドット）、平均値（ｘ方向の長い直線）を示す図である。図４に示されるように、離型剤を設けていない石英モールド（図５（ａ））の付着力が平均値で１５ｎＮを超えているのに対し、離型剤を塗布形成したモールド（図５（ｂ）、図５（ｃ））の付着力はいずれも５ｎＮ以下と低い値を示す。
【００２８】
さらに、離型剤をスピンコート法で塗布形成した場合（図５（ｂ））に比べ、気相成長法（図５（ｃ））で塗布形成した場合の付着力は前者の１／２程度（２．５ｎＮ）と低下しており、離型層形成方法の違いによる微小な差異を計測できることが分かる。
【００２９】
（摩擦力）
本発明のナノインプリント用モールドの離型剤の塗布状態の検査方法においては、カンチレバーの探針先端と離型剤が塗布形成された凹凸パターンとの間に働く付着力に加えて摩擦力をも計測し、付着力と摩擦力より離型剤の塗布状態を評価するのも好ましい形態である。
【００３０】
図６は、離型剤６２を塗布形成したナノインプリント用モールドの６１を基板６３上の被転写材料の樹脂６４に押し圧した後、引き離したときに働く力を説明するための部分断面模式図である。このとき、樹脂とモールドの間には付着力Ｐと摩擦力Ｑが働く。摩擦力を求めることにより、モールドの凹凸パターンの凹部側面の情報を間接的に得ることができ、また、離型層の均一性を評価することができる。付着力に加えて摩擦力を計測することによって、付着力だけの場合よりも広い情報を得ることができる。
【００３１】
図７は、離型剤を塗布形成したモールド表面に働く摩擦力を示す説明図である。摩擦力の起源は、付着力、すなわち分子間力と雰囲気物質の凝縮力の和にあるものと考えられ、両者に相関があることを示すものである。図８は、石英モールド表面に離型剤を塗布形成したときの離型剤の付着力（白丸）および摩擦力（黒丸）を示す図であり、縦軸右に付着力（ｎＮ）、縦軸左に摩擦力（ｍＶ）を示す。図８は、石英モールド表面に離型剤オプツールＤＳＸを、スピンコート法で塗布形成した場合と気相成長法で塗布形成した場合、および比較として離型剤を設けていない石英モールドのみの場合における付着力、摩擦力を示す図である。図８に示されるように、離型剤を設けていない石英モールドの摩擦力は平均値で約２０ｍＶであるのに対し、離型剤を塗布形成したモールドの摩擦力はいずれも４ｍＶ以下である。また、付着力と摩擦力は相関があることが分かる。
【００３２】
上記のように、走査型プローブ顕微鏡のカンチレバーの探針先端は極めて小さいので、数１０ナノメータの微小領域で計測したフォースカーブから付着力、あるいは付着力と摩擦力を求めることにより、微小領域における離型剤塗布状態を評価し検査することが可能となり、所定の付着力あるいは付着力と摩擦力を設定することにより、モールドの離型剤塗布状態を管理することが可能となる。
以下、実施例により、本発明を詳細に説明する。
【実施例】
【００３３】
（実施例１）
試料として、ハーフピッチ２μｍのライン／スペースの凹凸パターンが一主面上に形成された石英ガラス製のナノインプリント用モールドを用いた。このモールドのパターン側全面に気相成長法で離型剤（オプツールＤＳＸ：ダイキン工業社製）を成膜し、モールド表面に離型剤を塗布形成した。
【００３４】
次に、走査型プローブ顕微鏡としてＡＦＭ（ＳＰＡ４００／ＳＰＩ４０００：エスアイアイ・ナノテクノロジー社製）を用い、カンチレバーには材質が窒化シリコンで先端の曲率半径１０ｎｍの探針を使用して、離型剤を塗布形成した凹凸パターンの凸部と凹部について、カンチレバーの探針と離型剤の間に働く付着力を計測した。ナノインプリント前の付着力は凸部と凹部の両者でほとんど差異はなく、平均１．２ｎＮであった。
【００３５】
次に、モールドの凹凸パターン上に気相法で塗布形成した離型剤の耐久性を評価するために、図９に示されるように、インプリント回数と付着力の関係を求めた。UVナノインプリントの手法を用い、UV硬化樹脂としてPAK-01（東洋合成社製）を使用した。転写領域は、半径約２ｃｍの円である。図９に示すように、インプリント回数が２０回まではインプリント回数に応じて付着力は増加し、２０回で１．５ｎＮとなり、２０回を超えて１００回までは、付着力は２０回までのときに比べて緩やかに増加する傾向を示した。
ＵＶナノインプリント回数が２０回および１００回の時の、付着力の面内分布を評価した結果を図１０に示す。中心付近の変化に比べて、周辺部分の付着力が低下していることが分かる。このように、離型性の劣化について、その位置依存性を評価することができた。
【００３６】
（実施例２）
本実施例では、実施例１と同様にＡＦＭを用い、実施例１で求めた付着力に加えて摩擦力も計測し、付着力と摩擦力より離型剤の塗布状態を評価した。図１１は、インプリント回数と摩擦力の関係を示す。
【００３７】
図１１に示すように、インプリント回数が２０回まではインプリント回数に応じて摩擦力は増加し、２０回を超えて１００回まで、緩やかに増加する傾向を示した。
【００３８】
図１２に、ＡＦＭを用い、摩擦力を計測した結果と比較のための形状像を示す。凸部と凹部の両者でほとんど差異はなく、凸部と凹部に同等に離型層が形成されていることが分かる。
【図面の簡単な説明】
【００３９】
【図１】本発明の付着力の測定の原理を示す説明用模式図である。
【図２】カンチレバーの探針により微細な凹凸パターンの凹部底面を計測する場合を示す断面模式図である。
【図３】カンチレバーの探針先端と離型剤を塗布したモールドとの間に働くフォースカーブを示す図である。
【図４】離型剤を塗布していない石英製モールドにおけるカンチレバーの探針先端とモールドとの間に働くフォースカーブを示す図である。
【図５】モールドの表面状態および離型剤の塗布方法と付着力の関係を示す図である。
【図６】離型剤を塗布形成したモールドを樹脂に押し圧した後、引き離したときに働く力を説明するための部分断面模式図である。
【図７】離型剤を塗布形成したモールド表面に働く付着力と摩擦力を示す説明図である。
【図８】石英モールド表面に離型剤を塗布形成したときの離型剤の付着力および摩擦力を示す図である。
【図９】インプリント回数と離型剤を塗布したモールドの付着力の関係を示す図である。
【図１０】ＵＶナノインプリントにおいて繰り返し転写後の付着力の位置依存性を示す図である。
【図１１】インプリント回数と離型剤を塗布したモールドの摩擦力の関係を示す図である。
【図１２】ＡＦＭを用い摩擦力を計測したＡＦＭ摩擦力像と比較のためのＡＦＭ形状像を示す図である。
【符号の説明】
【００４０】
２１  石英製モールド
２２  離型剤
２３  カンチレバーの探針
６１  石英製モールド
６２  離型剤
６３  基板
６４  樹脂
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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