(57)【要約】【課題】イオン注入装置の排気装置で生成する生成物を簡便に迅速に除去する。【解決手段】排気装置２００は、第１の真空ポンプ（２０４）と、第１の真空ポンプの排気ガスを排出する排気ライン２１９と、排気ライン２１９を真空にする第２の真空ポンプ（２１８）とを含む。生成物除去装置１００は、排気ライン２１９から分岐して、第１の真空ポンプから排出されるガスを第２の真空ポンプに移動させるバイパスライン１１３と、排気ライン２１９中のバイパスライン１１３との分岐点よりも第１の真空ポンプに近い側（２０４ａ）に配置されてガス中の生成物を付着するとともに、バイパスライン１１３に移動可能に設けられた生成物付着治具１０２と、バイパスライン１１３の生成物付着治具１０２が移動される箇所を排気ライン２１９から遮断する遮断手段（１０４、１０６）と、を含む。【選択図】図３
2010080159.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の真空ポンプと、前記第１の真空ポンプに接続され、前記第１の真空ポンプの排気ガスを排出する排気ラインと、前記排気ラインに接続され、前記排気ラインを真空にする第２の真空ポンプと、を含む排気装置から生成物を除去する生成物除去装置であって、
前記排気ラインから分岐するとともに、前記第２の真空ポンプに接続されて真空にされるバイパスラインと、
前記排気ライン中の前記バイパスラインとの分岐点よりも前記第１の真空ポンプに近い側に配置されて前記ガス中の生成物を付着するとともに、前記バイパスラインに移動可能に設けられた生成物付着治具と、
前記バイパスラインの前記生成物付着治具が移動される箇所を前記排気ラインから遮断する遮断手段と、
を含む生成物除去装置。
【請求項２】
請求項１に記載の生成物除去装置において、
前記バイパスラインは、前記第２の真空ポンプに近い側で、前記排気ラインに再接続するように構成され、
前記遮断手段は、前記分岐点に設けられ、前記排気ラインと前記バイパスラインとの間を解放および遮断する第１のバルブと、前記バイパスラインの前記排気ラインとの再接続点よりも前記第２の真空ポンプから遠い箇所に設けられ、前記排気ラインと前記バイパスラインとの間を解放および遮断する第２のバルブと、とを含む生成物除去装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の生成物除去装置において、
前記バイパスラインを大気に解放および大気から遮断する第３のバルブをさらに含む生成物除去装置。
【請求項４】
請求項１から３いずれかに記載の生成物除去装置において、
前記バイパスラインは、前記分岐点に設けられ、前記生成物付着治具を収容可能に設けられたチャンバと、当該チャンバと前記排気ラインとを前記第２の真空ポンプに近い側で再接続するバイパス管と、を含む生成物除去装置。
【請求項５】
請求項１から４いずれかに記載の生成物除去装置において、
前記排気ライン中の前記生成物付着治具が配置される箇所と、前記バイパスラインの前記生成物付着治具が移動される箇所との間で移動可能に設けられたシャフトをさらに含み、
前記生成物付着治具は、前記シャフトと係合可能に構成され、
前記シャフトを前記生成物付着治に係合させて前記シャフトを移動させることにより前記生成物付着治具を前記排気ラインと前記バイパスラインとの間で移動させる生成物除去装置。
【請求項６】
請求項１から５いずれかに記載の生成物除去装置において、
前記第１の真空ポンプは、油拡散ポンプで、前記第２の真空ポンプは、ロータリポンプである生成物除去装置。
【請求項７】
第１の真空ポンプと、
前記第１の真空ポンプに接続され、前記第１の真空ポンプの排気ガスを排出する排気ラインと、
前記排気ラインに接続され、前記排気ラインを真空にする第２の真空ポンプと、
前記請求項１から６いずれかに記載の生成物除去装置と、
を含む排気装置。
【請求項８】
不純物イオンを発生させ、被処理基板に当該不純物イオンを注入するイオン注入装置であって、
前記不純物イオンを発生させるイオン発生源が設けられたイオンソース室と、
請求項７に記載の排気装置であって、前記イオンソース室の排気ガスを排出する排気装置と、
を含むイオン注入装置。
【請求項９】
請求項１から６いずれかに記載の生成物除去装置を用いて、
前記第１の真空ポンプおよび前記第２の真空ポンプを稼働させて前記排気ラインおよび前記バイパスライン内を真空とする工程と、
前記排気ラインから前記生成物付着治具を前記バイパスラインに移動させる工程と、
前記排気ラインを真空にしたまま、前記遮断手段により前記バイパスラインの前記生成物付着治具が移動される箇所を前記排気ラインから遮断する工程と、
前記バイパスラインを大気に解放する工程と、
前記バイパスラインから前記生成物付着治具を取り出す工程と、
を含む生成物除去方法。
【請求項１０】
請求項９に記載の生成物除去方法において、
前記排気ラインを真空にしたままで、かつ前記遮断手段により前記バイパスラインの前記生成物付着治具が移動される箇所を前記排気ラインから遮断した状態で、前記バイパスラインに前記生成物付着治具を導入する工程と、
前記バイパスラインを大気から遮断する工程と、
前記バイパスライン内を真空とする工程と、
前記遮断手段により前記バイパスラインの前記生成物付着治具が移動される箇所と前記排気ラインとの間を解放する工程と、
前記生成物付着治具を前記バイパスラインから前記排気ラインに移動させる工程と、
を含む生成物除去方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、生成物除去装置、排気装置、イオン注入装置、および生成物除去方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体基板にヒ素等の不純物イオンを注入する際には、イオン注入装置が用いられる。イオン注入装置でイオンを発生させるイオンソース室の排気装置として、油拡散ポンプとロータリポンプ２１８との組み合わせが用いられることがある。
【０００３】
図８は、イオン注入装置の排気装置３００の一例を示す模式図である。排気装置３００は、油拡散ポンプ２０４とロータリポンプ２１８とを含む。油拡散ポンプ２０４は排気管２０４ａを有しており、排気管２０４ａおよび排気管２２０を介してロータリポンプ２１８と連通されている。油拡散ポンプ２０４とロータリポンプ２１８との間にはバルブ２２２が設けられている。バルブ２２２を開くことにより、油拡散ポンプ２０４とロータリポンプ２１８とが連通し、バルブ２２２を閉じることにより、油拡散ポンプ２０４とロータリポンプ２１８とが遮断される。ここで、排気管２０４ａは、先端が上方向に延在するＬ字形状を有する。また、排気管２０４ａには、バッフル（不図示）が設けられた構成とすることができる。
【０００４】
このような構成の排気装置３００において、排気管２０４ａは冷却されており、排気ガスに含まれるヒ素等の不純物イオンの凝固温度（ヒ素の場合３２０℃程度）より温度が低くなる。そのため、排気管２０４ａに不純物イオンの固体等の生成物が蓄積していき、排気能力が低下するという問題があった。
【０００５】
特許文献１（特開平９−２１９１７２号公報）には、固体ヒ素ないしアルシン等の気体状ヒ素化合物をソース物質として被処理基板にヒ素を注入するイオン注入装置のイオンソース室の排気系にターボ分子ポンプとドライポンプを用いる排気装置が記載されている。当該排気装置において、ターボ分子ポンプとドライポンプの間に冷却トラップを設けることにより、排気中のヒ素を固体として捕捉し、さらにはドライポンプおよびその大気排出管に不活性ガスを導入し、固体状ヒ素の付着を軽減する構成となっている。
【０００６】
特許文献２（特開平１０−３１７１４７号公報）には、主排気ラインと、主排気ラインに設けられたドラッグポンプおよびドライポンプと、主排気ラインからドラッグポンプをバイパスするバイパスラインと、バイパスラインに設けられたトラップと、バイパスラインのトラップに至るまでの部分を加熱する加熱装置と、主排気ライン側とバイパスライン側とで排気経路を切り換える切り換えバルブとを有する排気系が記載されている。
【特許文献１】特開平９−２１９１７２号公報
【特許文献２】特開平１０−３１７１４７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかし、従来、以下に説明するように、蓄積した生成物を除去する際に時間がかかるという問題があった。
【０００８】
図８を参照して説明すると、このような生成物は、とくに、排気管２０４ａのコーナ部に蓄積する。そのため、排気管２０４ａに生成物が蓄積した場合、生成物の除去を行わなければならない。除去を行う際には、まず油拡散ポンプ２０４を停止して冷却を行い、次いでロータリポンプ２１８を停止する。つづいて、油拡散ポンプ２０４および排気管２２０を大気解放して、排気管２２０等の配管を取り外し、排気管２０４ａから生成物を除去する。その後、装置を再稼働させるために、排気管２２０等の配管を取り付け、油拡散ポンプ２０４および排気管２２０の排気を行い排気完了後、油拡散ポンプ２０４のヒータを入れる。そのため、装置の立ち下げ、立ち上げに多大な時間を要していた。
【０００９】
特許文献１や特許文献２に記載の技術では、生成物等の蓄積を低減させたり、生成物等がバイパスライン側で生成されるようにしている。しかし、生成物を除去する際に時間がかかるという問題は解消されていない。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明によれば、
第１の真空ポンプと、前記第１の真空ポンプに接続され、前記第１の真空ポンプの排気ガスを排出する排気ラインと、前記排気ラインに接続され、前記排気ラインを真空にする第２の真空ポンプと、を含む排気装置から生成物を除去する生成物除去装置であって、
前記排気ラインから分岐して、前記第１の真空ポンプから排出されるガスを前記第２の真空ポンプに移動させるバイパスラインと、
前記排気ライン中の前記バイパスラインとの分岐点よりも前記第１の真空ポンプに近い側に配置されて前記ガス中の生成物を付着するとともに、前記バイパスラインに移動可能に設けられた生成物付着治具と、
前記バイパスラインの前記生成物付着治具が移動される箇所を前記排気ラインから遮断する遮断手段と、
を含む生成物除去装置が提供される。
【００１１】
また、本発明によれば、
第１の真空ポンプと、
前記第１の真空ポンプに接続され、前記第１の真空ポンプの排気ガスを排出する排気ラインと、
前記排気ラインに接続され、前記排気ラインを真空にする第２の真空ポンプと、
上記の生成物除去装置と、
を含む排気装置が提供される。
【００１２】
また、本発明によれば、
不純物イオンを発生させ、被処理基板に当該不純物イオンを注入するイオン注入装置であって、
前記不純物イオンを発生させるイオン発生源が設けられたイオンソース室と、
上記排気装置であって、前記イオンソース室の排気ガスを排出する排気装置と、
を含むイオン注入装置が提供される。
【００１３】
さらに、本発明によれば、
上記生成物除去装置を用いて、
前記第１の真空ポンプおよび前記第２の真空ポンプを稼働させて前記排気ラインおよび前記バイパスライン内を真空とする工程と、
前記排気ラインから前記生成物付着治具を前記バイパスラインに移動させる工程と、
前記排気ラインを真空にしたまま、前記遮断手段により前記バイパスラインの前記生成物付着治具が移動される箇所を前記排気ラインから遮断する工程と、
前記バイパスラインを大気に解放する工程と、
前記バイパスラインから前記生成物付着治具を取り出す工程と、
を含む生成物除去方法が提供される。
【００１４】
上記の構成によれば、第１の真空ポンプと第２の真空ポンプとを停止することなく、排気ラインを真空に保ったままで、排気ライン内の生成物が付着された生成物付着治具を排気ラインからバイパスラインに取り出すことができる。次いで、手動バルブ等の遮断状態により、バイパスラインの生成物付着治具が移動された箇所を排気ラインから遮断して、バイパスラインのみを大気に解放することができる。これにより、バイパスラインから生成物付着治具を取り出し、生成物の除去等を行うことができる。この間、排気ライン内は真空に保てるので、第１の真空ポンプと第２の真空ポンプとを停止する必要がなく、ポンプの立ち下げ、立ち上げに要していた時間を削減することができる。
【００１５】
なお、以上の構成要素の任意の組合せ、本発明の表現を方法、装置などの間で変換したものもまた、本発明の態様として有効である。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、イオン注入装置の排気装置で生成する生成物を簡便に迅速に除去することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下、本発明の実施の形態について、図面を用いて説明する。尚、すべての図面において、同様な構成要素には同様の符号を付し、適宜説明を省略する。
【００１８】
図１は、本実施の形態におけるイオン注入装置の構成を示す模式図である。図２は、図１の一点破線で示した箇所を詳細に示すブロック図である。本実施の形態において、生成物除去装置１００が設けられている点で、従来のイオン注入装置と異なる。
【００１９】
イオン注入装置２５０は、たとえば固体ソース金属ヒ素等を使用し、被処理基板のシリコン基板にヒ素等の不純物イオンを注入する。図１に示すように、イオン注入装置２５０は、イオン発生源２０２が設けられたイオンソース室と、油拡散ポンプ２０４（第１の真空ポンプ）と、ビームライン２０６と、処理室２０８と、ウェハ立替部２１０とを含む。イオン発生源２０２は、不純物イオンを発生させる。処理室２０８には、被処理基板が配置される。イオン発生源２０２で発生された不純物イオンはビームライン２０６を通って処理室２０８に配置された被処理基板に注入される。ウェハ立替部２１０では、被処理基板の位置あわせ等が行われる。
【００２０】
図２に示すように、イオン注入装置２５０は、さらに、クライオポンプ２１２、クライオポンプ２１４、ロータリポンプ２１６、ロータリポンプ２１８（第２の真空ポンプ）、排気ライン２１９、バルブ２２２（FOREバルブ（エアーバルブ））、および生成物除去装置１００を含む。油拡散ポンプ２０４とロータリポンプ２１８とにより、イオン発生源２０２が設けられたイオンソース室の排気系である排気装置２００が構成される。生成物除去装置１００は、排気装置２００に蓄積される生成物を除去する。
【００２１】
排気ライン２１９は、油拡散ポンプ２０４に接続され、油拡散ポンプ２０４の排気ガスを排出する。排気ライン２１９は、ロータリポンプ２１８にも接続され、ロータリポンプ２１８により真空にされる。排気ライン２１９中の排気ガスは、ロータリポンプ２１８により外部に放出される。
【００２２】
生成物除去装置１００は、油拡散ポンプ２０４とロータリポンプ２１８との間に設けられる。生成物除去装置１００は、排気ライン２１９から分岐するとともに、ロータリポンプ２１８に接続されて真空にされるバイパスライン１１３を含む。
【００２３】
図３および図４は、生成物除去装置１００の構成を詳細に示す図である。図３および図４は、同じ構成を示すが、図４においては、油拡散ポンプ２０４を模式的に示している。
【００２４】
図３に示すように、油拡散ポンプ２０４は、排気管２０４ａを含む。排気管２０４ａは、先端が上方向に延在するＬ字形状を有する構成とすることができる。また、排気管２０４ａには、バッフル（不図示）が設けられた構成とすることができる。排気装置２００は、さらに、排気管２０４ａとロータリポンプ２１８とを接続する排気管２２０を含む。本実施の形態において、排気管２０４ａと排気管２２０とにより排気ライン２１９が構成される。
【００２５】
生成物除去装置１００は、生成物付着治具１０２、チャンバ１１０、キャップ１１０ａ、バイパス管１１４、バルブ１０４（第１のバルブ、手動バルブ）、バルブ１０６（第２のバルブ、ラフ引きバルブ）、バルブ１０８（第３のバルブ、ベントバルブ）、および引上げシャフト１１２（シャフト）をさらに含む。本実施の形態において、チャンバ１１０とバイパス管１１４とによりバイパスライン１１３が構成される。チャンバ１１０は、排気管２０４ａに接続して設けられる。バイパス管１１４は、チャンバ１１０に接続して設けられる。また、チャンバ１１０の上部には、キャップ１１０ａが設けられている。チャンバ１１０は、キャップ１１０ａにより密封される。キャップ１１０ａには、引上げシャフト１１２が貫通されており、引上げシャフト１１２はチャンバ１１０内を上下に移動する。キャップ１１０ａは、たとえばゴム等の弾性材料により構成することができる。
【００２６】
生成物付着治具１０２は、排気ライン２１９を移動するガス中の生成物を付着する。生成物付着治具１０２は、排気ライン２１９中のバイパスライン１１３の分岐点よりも油拡散ポンプ２０４に近い側に配置される。本実施の形態において、生成物付着治具１０２は、排気管２０４ａ内に配置される。また、生成物付着治具１０２は、バイパスライン１１３に移動可能に設けられる。本実施の形態において、生成物付着治具１０２は、バイパスライン１１３のチャンバ１１０に移動可能に構成される。つまり、チャンバ１１０は、生成物付着治具１０２を収容できる大きさに形成される。生成物除去装置１００がイオン注入装置２５０の排気装置２００に用いられる場合、生成物１２０は、粘土状の軟い物質となる。図７は、生成物付着治具１０２の構成の一例を示す拡大図である。生成物付着治具１０２は、中心軸１３０と、中心軸１３０に取り付けられた複数のトラップ１３２と、引上げシャフト１１２と係合する係合部１３４とを含む。トラップ１３２は、板状とすることができる。また、生成物１２０を効率よく付着するように、トラップ１３２は、違いに距離を隔てて互い違いの方向に設けられる。係合部１３４は、引上げシャフト１１２をライナーとすることができる。
【００２７】
図３では、生成物付着治具１０２に生成物１２０が付着する前の状態、図４では、生成物付着治具１０２に生成物１２０が付着した後の状態をそれぞれ示す。引上げシャフト１１２は、チャンバ１１０と排気管２０４ａとの間で移動可能に設けられている。生成物付着治具１０２は、引上げシャフト１１２と係合可能に構成される。引上げシャフト１１２を生成物付着治具１０２の係合部１３４であるライナーに引っ掛けて引上げシャフト１１２を上下に移動させることにより、生成物付着治具１０２が排気管２０４ａとチャンバ１１０との間を移動する。
【００２８】
バルブ１０４は、排気管２０４ａとチャンバ１１０との間に設けられ、排気管２０４ａとチャンバ１１０との間を解放および遮蔽する。バルブ１０６は、バイパス管１１４に設けられ、バイパス管１１４と排気管２２０との間を解放および遮蔽する。本実施の形態において、遮断手段は、バルブ１０４とバルブ１０６とにより構成される。つまり、バルブ１０４およびバルブ１０６により、バイパスライン１１３において、生成物付着治具１０２が移動される箇所であるチャンバ１１０が排気ライン２１９から遮断される。
【００２９】
バルブ１０８は、バイパス管１１４において、バルブ１０６よりもチャンバ１１０側に設けられる。バルブ１０８は、チャンバ１１０を大気に解放および大気から遮断する。
【００３０】
バルブ２２２は、排気管２２０のバイパス管１１４との再接続点よりも、排気管２０４ａ側に設けられる。バルブ２２２は、油拡散ポンプ２０４とロータリポンプ２１８との間に設けられ、油拡散ポンプ２０４とロータリポンプ２１８との間を解放および遮蔽する。
【００３１】
図５および図６は、排気管２０４ａから生成物付着治具１０２を取り出し、再び排気管２０４ａに生成物付着治具１０２をセットする手順を示す図である。
本実施の形態において、油拡散ポンプ２０４およびロータリポンプ２１８の稼働時には、バルブ２２２が解放されており、バルブ１０８は閉められている。バルブ１０４およびバルブ１０６も閉じられている。このような状態で、油拡散ポンプ２０４およびロータリポンプ２１８を稼働させ、油拡散ポンプ２０４から排出されるガスをロータリポンプ２１８に移動させると、生成物付着治具１０２に生成物１２０が付着してくる（図５（ａ））。このとき、排気管２０４ａおよび排気管２２０は真空となっている。
【００３２】
生成物付着治具１０２に生成物１２０がある程度付着した場合、以下の手順で生成物付着治具１０２を取り出す。まず、バルブ２２２を閉める。次いで、バルブ１０６を開ける。これにより、チャンバ１１０およびバイパス管１１４内が真空となる。つづいて、バルブ１０４を開ける。その後、引上げシャフト１１２を下方に移動させ、引上げシャフト１１２に生成物付着治具１０２のライナーを引っ掛ける（図５（ｂ））。
【００３３】
つづいて、引上げシャフト１１２を上方に移動させる。これにより、生成物付着治具１０２がチャンバ１１０内に移動する。次いで、バルブ１０４およびバルブ１０６を順に閉める（図５（ｃ））。
【００３４】
その後、バルブ２２２を開ける。次いで、バルブ１０８を開ける。これにより、チャンバ１１０が大気に解放される。そして、チャンバ１１０からキャップ１１０ａを取り、引上げシャフト１１２および生成物付着治具１０２を取り出す（図６（ａ））。つづいて、生成物付着治具１０２を清掃して生成物１２０を除去する。次いで、再度引上げシャフト１１２に生成物付着治具１０２を取付けて、チャンバ１１０内に導入し、チャンバ１１０にキャップ１１０ａを取り付ける。なお、ここでは、生成物付着治具１０２を清掃済の他の生成物付着治具１０２に取り替えてもよい。
【００３５】
つづいて、バルブ１０８を閉める。次いで、バルブ２２２も閉める。その後、バルブ１０６を開ける。これにより、チャンバ１１０およびバイパス管１１４が真空になる。つづいて、バルブ１０４を開ける（図６（ｂ））。次いで、引上げシャフト１１２を下方に移動させ、排気管２０４ａに生成物付着治具１０２をセットする（図６（ｃ））。
【００３６】
この後、引上げシャフト１１２を生成物付着治具１０２のライナーから外して、引上げシャフト１１２を上方に移動させる。次いで、バルブ１０４を閉じる。つづいて、バルブ１０６も閉め、その後バルブ２２２を開ける。これにより、図５（ａ）に示した状態に戻り、生成物付着治具１０２に生成物１２０が付着するまで、油拡散ポンプ２０４およびロータリポンプ２１８を稼働させる。
【００３７】
本実施の形態における生成物除去装置１００によれば、真空ポンプ間の排気ライン２１９に生成物付着治具１０２を配置するとともに、排気ライン２１９にバイパスライン１１３を設け、生成物付着治具１０２をバイパスライン１１３に移動させて、排気ライン２１９排気管を真空に保ったままバイパスライン１１３だけを大気に解放して生成物付着治具１０２を外部に取り出せるようにした。排気管２０４ａおよび排気管２２０の真空状態を保ったままで排気管２０４ａから生成物付着治具１０２を取り出せるので、生成物を除去するために、油拡散ポンプ２０４やロータリポンプ２１８の稼働を止める必要がない。そのため、生成物を除去する際の時間を大幅に短縮することができる。
【００３８】
とくに、排気管２０４ａが油拡散ポンプ２０４と一体型で形成されている場合、排気管２０４ａに付着した生成物を除去するのは困難である。また、排気管２０４ａがＬ字形状を有している場合、排気管２０４ａのコーナ部に生成物が付着しやすい。本実施の形態においては、生成物が最も蓄積しやすい排気管２０４ａに生成物付着治具１０２を配置している。これにより、生成物が生成物付着治具１０２に付着するようにすることができる。さらに、排気管２０４ａからそのまままっすぐ鉛直方向に延在するチャンバ１１０を排気管２０４ａの先端に取り付け、生成物付着治具１０２がチャンバ１１０に移動可能となるようにしている。さらに、排気管２０４ａおよび排気管２２０を真空状態にしたまま、チャンバ１１０のみを大気に解放可能な構成とした。これにより、油拡散ポンプ２０４およびロータリポンプ２１８を稼働させたままで、生成物付着治具１０２を排気管２０４ａから取り外して、清掃後、再び排気管２０４ａに戻せるようにした。
【００３９】
これにより、生成物を除去する際に従来必要だった、油拡散ポンプ２０４のヒータの停止、冷却、立ち上げ時のヒータの温度上昇待ちの時間が不要となった。そのため、迅速かつ簡易に排気装置２００から生成物を除去することができる。たとえば、従来、生成物を除去するために、油拡散ポンプ２０４の立ち下げ、立ち上げに約２．５時間かかっていたが、本実施の形態における生成物除去装置１００を用いることにより、１５分程度で行えるようになった。これにより、排気装置２００の稼動率向上が可能になる。
【００４０】
以上、図面を参照して本発明の実施形態について述べたが、これらは本発明の例示であり、上記以外の様々な構成を採用することもできる。
【００４１】
以上の実施の形態では、排気管２０４ａが油拡散ポンプ２０４と一体に構成された例を示したが、本発明の生成物除去装置１００は、排気管２０４ａが、油拡散ポンプ２０４に取り付けられたような構成に適用することもできる。
【図面の簡単な説明】
【００４２】
【図１】本発明の実施の形態におけるイオン注入装置の構成を示す模式図である。
【図２】図１の一点破線で示した箇所を詳細に示すブロック図である。
【図３】本発明の実施の形態における生成物除去装置の構成を詳細に示す図である。
【図４】本発明の実施の形態における生成物除去装置の構成を詳細に示す図である。
【図５】排気管から生成物付着治具を取り出し、再び排気管に生成物付着治具をセットする手順を示す図である。
【図６】排気管から生成物付着治具を取り出し、再び排気管に生成物付着治具をセットする手順を示す図である。
【図７】生成物付着治具の構成の一例を示す拡大図である。
【図８】従来の排気装置の構成を示す図である。
【符号の説明】
【００４３】
１００ 生成物除去装置
１０２ 生成物付着治具
１０４ バルブ
１０６ バルブ
１０８ バルブ
１１０ チャンバ
１１０ａ キャップ
１１２ シャフト
１１３ バイパスライン
１１４ バイパス管
１２０ 生成物
１３０ 中心軸
１３２ トラップ
１３４ 係合部
２００ 排気装置
２０２ イオン発生源
２０４ 油拡散ポンプ
２０４ａ 排気管
２０６ ビームライン
２０８ 処理室
２１０ ウェハ立替部
２１２ クライオポンプ
２１４ クライオポンプ
２１６ ロータリポンプ
２１８ ロータリポンプ
２１９ 排気ライン
２２０ 排気管
２２２ バルブ
２５０ イオン注入装置
３００ 排気装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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