(57)【要約】【課題】静電容量を向上させることができる電解コンデンサ用電極箔の製造方法を提供する。【解決手段】エッチングされたアルミニウム箔表面に陽極酸化皮膜を形成する電解コンデンサ用電極箔の製造方法において、水和皮膜形成工程と、Ｌ−アスパラギン酸水溶液浸漬工程と、陽極酸化皮膜形成工程を設けたことを特徴とし、上記Ｌ−アスパラギン酸水溶液の濃度が０．１〜５．０ｇ／Ｌ、浸漬時間が１分以上であることを特徴とする電解コンデンサ用電極箔の製造方法である。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
エッチングされたアルミニウム箔表面に陽極酸化皮膜を形成する電解コンデンサ用電極箔の製造方法において、
水和皮膜形成工程に続いて、Ｌ−アスパラギン酸水溶液浸漬工程を行った後、陽極酸化皮膜形成工程を行うことを特徴とする電解コンデンサ用電極箔の製造方法。
【請求項２】
上記Ｌ−アスパラギン酸水溶液の濃度が０．１〜５．０ｇ／Ｌ、浸漬時間が１分以上であることを特徴とする請求項１に記載の電解コンデンサ用電極箔の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は電解コンデンサ用電極箔の製造方法に関するものであり、特に、中高圧の陽極用アルミニウム箔の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、電解コンデンサ用陽極箔は、エッチングにより表面積を拡大したアルミニウム箔を陽極酸化し、形成されるアルミニウム酸化皮膜を誘電体として用いる。
陽極酸化（化成）皮膜を形成する工程では、エッチングされたアルミニウム箔に水和処理を施した後、ホウ酸、リン酸、アジピン酸等の水溶液中で所定の電圧まで陽極酸化（化成）を行う。
この酸化皮膜にはボイド等の欠陥が多数存在しており、これを除去するために熱処理、リン酸（塩）水溶液浸漬等の減極処理、および再化成処理が数回行われる。
【０００３】
また、より高い静電容量を得るため、エッチングされたアルミニウム箔に水和処理を施した後、リン酸またはリン酸塩水溶液に浸漬し、続いて少なくともカルボン酸またはその塩を含有するホウ酸水溶液中に上記アルミニウム箔を浸漬して陽極酸化する方法もある（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平５−７４６６３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
近年要望の強い電解コンデンサの小形化に応えるために、電解コンデンサ用電極箔の静電容量を増大させることが求められている。
このためには、上記特許文献１の方法はたいへん効果的であるが、カルボン酸またはその塩を含有するホウ酸化成液を使用するため、化成液中の溶質の種類が多くなり、液管理および廃液処理が困難であるという問題がある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、上記課題を解決するもので、浸漬工程と化成工程とを別々に行うことにより、液管理の容易な製造条件で、静電容量が高い電解コンデンサ用電極箔の製造方法を提供するものである。
すなわち、エッチングされたアルミニウム箔表面に陽極酸化皮膜を形成する電解コンデンサ用電極箔の製造方法において、水和皮膜形成工程に続いて、Ｌ−アスパラギン酸水溶液浸漬工程を行った後、陽極酸化皮膜形成工程を行うことを特徴とする電解コンデンサ用電極箔の製造方法である。
【０００７】
また、上記Ｌ−アスパラギン酸水溶液の濃度が０．１〜５．０ｇ／Ｌ、浸漬時間が１分以上であることを特徴とする電解コンデンサ用電極箔の製造方法である。
【０００８】
なお、水和処理皮膜は、液温８０℃以上、処理時間３分以上の条件で形成することが望ましい。
【発明の効果】
【０００９】
本発明では、所定電圧まで陽極酸化を行う前に、エッチング箔に水和処理を施した後、Ｌ−アスパラギン酸水溶液に浸漬する工程を設けたことにより、水和処理、Ｌ−アスパラギン酸水溶液への浸漬処理を行わない場合と比べ、高い静電容量を得ることができる。
【００１０】
エッチングされたアルミニウム箔を水和処理した後、陽極酸化を行うと、陽極酸化皮膜中に溶質が取り込まれる。例えば、ホウ酸水溶液中で陽極酸化した場合には、その皮膜中にホウ酸が取り込まれる。しかしながら、陽極酸化皮膜中にホウ酸が存在することにより、陽極酸化皮膜の結晶性は抑制される。
これに対し、本発明は、エッチングされたアルミニウム箔を所望電圧まで陽極酸化する前に、水和処理工程、Ｌ−アスパラギン酸水溶液への浸漬工程を設けているため、水和皮膜とＬ−アスパラギン酸との間に結合が形成される。そのため、陽極酸化工程において溶質が皮膜中へ取り込まれにくくなり、陽極酸化皮膜の結晶性が高まると考えられる。その結果、静電容量が高い電解コンデンサ用電極箔を製造することができる。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、本発明の実施例について説明する。
【００１２】
［実施例１〜６、１８］Ｌ−アスパラギン酸水溶液濃度の比較
エッチングされたアルミニウム箔を表１に示すように、９０℃の純水に１０分間浸漬し水和皮膜を形成した後、濃度０．０５、０．１、０．５、１．０、３．０、５．０、７．０g／Ｌに設定した、９０℃のＬ−アスパラギン酸水溶液に１０分間浸漬した。
このアルミニウム箔を比抵抗９００Ω・ｃｍ、ｐＨ４．２に調整したホウ酸アンモニウム水溶液中にて、液温８５℃±２℃で、５００Ｖまで化成電圧を上昇させ、同電圧を３０分保持して化成を行った。
そして、５５０℃、５分の熱処理、および３．０ｗｔ％リン酸水溶液への６５℃５分の浸漬による減極処理、および上記ホウ酸アンモニウム水溶液中での修復化成を数回行い、電極箔試料を作製し、静電容量を測定した（比抵抗３０Ω・ｃｍの五ホウ酸アンモニウム水溶液中、液温３０℃で測定）。その結果を表１に示す。
【００１３】
［実施例７〜１１、１８］Ｌ−アスパラギン酸水溶液浸漬時間の比較
エッチングされたアルミニウム箔を、濃度１．０g／Ｌ、９０℃のＬ−アスパラギン酸水溶液に０．５、１、５、１０、２０、３０分間浸漬した以外は、上記実施例１〜６と同じ条件で、電極箔試料を作製し、静電容量を測定した。その結果を表１に示す。
【００１４】
［実施例１２〜１４、１８］Ｌ−アスパラギン酸水溶液温度の比較
エッチングされたアルミニウム箔を、２５、５０、７０、９０℃に設定した、濃度１．０g／ＬのＬ−アスパラギン酸水溶液に１０分間浸漬した以外は、上記実施例１〜６と同じ条件で、電極箔試料を作製し、静電容量を測定した。その結果を表１に示す。
【００１５】
［実施例１５〜２０］水和処理時間の比較
エッチングされたアルミニウム箔の水和処理時間を２、３、５、１０、２０、３０分間とし、９０℃に設定した、濃度１．０g／ＬのＬ−アスパラギン酸水溶液に１０分間浸漬した以外は、上記実施例１〜６と同じ条件で、電極箔試料を作製し、静電容量を測定した。その結果を表１に示す。
【００１６】
［実施例２１〜２３、１８］水和処理温度の比較
エッチングされたアルミニウム箔の水和処理温度を７０、８０、９０、９５℃とし、濃度１．０g／ＬのＬ−アスパラギン酸水溶液に１０分間浸漬した以外は、上記実施例１〜６と同じ条件で、電極箔試料を作製し、静電容量を測定した。その結果を表１に示す。
【００１７】
（比較例１〜３）
また、比較例として、上記の水和処理、Ｌ−アスパラギン酸水溶液への浸漬処理のいずれかまたは両者を行わなかったものについても、上記実施例と同様に化成、減極処理、修復化成を行い、電極箔試料を作製し、静電容量を測定した（測定方法は上記と同様）。その結果を表１に示す。
【００１８】
【表１】
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【００１９】
表１から明らかなように、実施例１〜２３では、比較例１〜３に比べて高い静電容量が得られており、その中でも、Ｌ−アスパラギン酸水溶液の濃度を０．１〜５．０ｇ／Ｌとした場合が特に優れている。また、Ｌ−アスパラギン酸水溶液への浸漬時間は、静電容量と生産工数面との兼ね合いから１〜２０分とするのが好適である。  そして、水和処理条件は液温８０℃以上、時間３分以上が適している。
なお、本発明は、実施例に限定されることなく、公知の陽極酸化溶液や陽極酸化方法に適用することができる。