(57)【要約】      （修正有）【課題】窓部を有する場合であっても表示領域内の輝度むらを低減させることのできる表示装置の提供。【解決手段】非表示領域の周囲で迂回させるドレイン迂回配線及びゲート迂回配線とを備え、ドレイン迂回配線とゲート迂回配線とのうち少なくとも一方の配線幅は、該ドレイン迂回配線と該ゲート迂回配線とが交差する交差部における配線幅と非交差部における配線幅とが異なる配線幅で形成され、ドレイン線の非交差部における配線幅をａ１、ドレイン線の交差部における配線幅をｂ１、ドレイン迂回配線の非交差部における配線幅をｃ１、ドレイン迂回配線の交差部における配線幅をｄ１、ゲート線の非交差部における配線幅をａ２、ゲート線の交差部における配線幅をｂ２、ゲート迂回配線の非交差部における配線幅をｃ２、ゲート迂回配線の交差部における配線幅をｄ２とした場合、｜ａ１−ｃ１｜＞｜ｂ１−ｄ１｜又は／及び｜ａ２−ｃ２｜＞｜ｂ２−ｄ２｜の表示装置。【選択図】図１
2010054871.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に、複数本のドレイン線と、前記ドレイン線と交差する複数本のゲート線とを備え、前記ドレイン線と前記ゲート線とに囲まれた領域を画素の領域とする表示装置であって、
前記画素の集合体である表示領域内の一部に前記ドレイン線及び前記ゲート線並びに前記画素が形成されない非表示領域と、
前記非表示領域で分断されたドレイン線及びゲート線を、前記非表示領域の周囲で迂回させるドレイン迂回配線及びゲート迂回配線と
を備え、
前記ドレイン迂回配線と前記ゲート迂回配線とのうち少なくとも一方の配線幅は、該ドレイン迂回配線と該ゲート迂回配線とが交差する交差部における配線幅と非交差部における配線幅とが異なる配線幅で形成されると共に、
前記ドレイン線の非交差部における配線幅をａ１、前記ドレイン線の交差部における配線幅をｂ１、前記ドレイン迂回配線の非交差部における配線幅をｃ１、前記ドレイン迂回配線の交差部における配線幅をｄ１、前記ゲート線の非交差部における配線幅をａ２、前記ゲート線の交差部における配線幅をｂ２、前記ゲート迂回配線の非交差部における配線幅をｃ２、前記ゲート迂回配線の交差部における配線幅をｄ２とした場合、
｜ａ１−ｃ１｜＞｜ｂ１−ｄ１｜  又は／及び  ｜ａ２−ｃ２｜＞｜ｂ２−ｄ２｜
を満たすことを特徴とする表示装置。
【請求項２】
基板上に、複数本のドレイン線と、前記ドレイン線と交差する複数本のゲート線とを備え、前記ドレイン線と前記ゲート線とに囲まれた領域を画素領域とする表示装置であって、
前記画素の集合体である表示領域内の一部に前記ゲート線及び前記ドレイン線並びに前記画素が形成されない非表示領域と、前記非表示領域で分断されたドレイン線及びゲート線を該非表示領域の周囲で迂回させるドレイン迂回配線及びゲート迂回配線とを備え、
前記ドレイン迂回配線と前記ゲート迂回配線とが交差する交差部でのそれぞれの配線幅が該交差部以外の配線幅よりも広く形成されていることを特徴とする表示装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の表示装置において、
前記ドレイン迂回配線と前記ゲート迂回配線とのうち一方の迂回配線が、前記交差部が複数並んで配置される領域において屈曲して形成され、他方の迂回配線が、前記交差部が複数並んで配置される前記領域において屈曲せずに形成され、
前記一方の迂回配線上で隣接する交差部が、前記他方の迂回配線の延在方向にずれて配置されている
ことを特徴とする表示装置。
【請求項４】
請求項３に記載の表示装置において、
前記一方の迂回配線は、前記交差部が複数並んで配置される前記領域において、一方向に伸びる階段状に屈曲する
ことを特徴とする表示装置。
【請求項５】
請求項３に記載の表示装置において、
前記一方の迂回配線は、前記交差部が複数並んで配置される前記領域において、蛇行しながら屈曲する
ことを特徴とする表示装置。
【請求項６】
基板上に、複数本のドレイン線と、前記ドレイン線と交差する複数本のゲート線とを備え、前記ドレイン線と前記ゲート線とに囲まれた領域を画素領域とする表示装置であって、
前記画素の集合体である表示領域内の一部に前記ゲート線及び前記ドレイン線並びに前記画素が形成されない非表示領域と、前記非表示領域で分断されたドレイン線及びゲート線を該非表示領域の周囲で迂回させるドレイン迂回配線及びゲート迂回配線とを備え、
前記ドレイン迂回配線の配線幅は、前記ドレイン線の配線幅よりも狭く、
前記ゲート迂回配線の配線幅は、前記ゲート線の配線幅よりも狭く、
前記ドレイン線と前記ゲート線とが交差する交差部でのそれぞれの配線幅が該交差部以外の配線幅よりも狭く形成されていることを特徴とする表示装置。
【請求項７】
請求項１乃至６の内の何れかに記載の表示装置において、
前記表示装置は、前記基板と液晶を介して対向配置される他の基板を有する液晶表示装置であり、
前記非表示領域は前記基板と前記他の基板との間に形成されるシール材で囲まれた窓部を構成する
ことを特徴とする表示装置。
【請求項８】
請求項１乃至７の内の何れかに記載の表示装置において、
前記基板は、前記非表示領域に対応する位置に開口を有する
ことを特徴とする表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は表示装置に係わり、アクティブ・マトリックス型であって表示部にたとえば窓部等の非表示領域を有する表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
アクティブ・マトリックス型の表示装置は、たとえば図８（ａ）に示すように、ｘ方向に延在しｙ方向に並設された複数のゲート線ＧＬとｙ方向に延在しｘ方向に並設された複数のドレイン線ＤＬとで囲まれた領域に、少なくとも、ゲート線ＧＬからの走査信号によってオンされる薄膜トランジスタと、このオンされた薄膜トランジスタを介してドレイン線ＤＬからの映像信号が供給される画素電極を備えて画素を構成している。
【０００３】
これにより、各画素を独立に制御でき、これら画素によって画像を表示することができる。このときの画像表示は、対向配置される２枚の基板で挟持される液晶に画素電極と対向電極との間の電界を印可し、この電界で液晶分子の配列を制御し外光の透過量を制御する構成となっている。なお、２枚の基板の固定及び液晶の封止は第１シール材ＳＬ１と第２シール材ＳＬ２とでなされる構成となっている。
【０００４】
そして、このような構成からなる表示装置において、画素の集合からなる表示領域ＡＲの一部に開口（貫通孔）からなる窓部（非表示領域）ＷＤを形成し、たとえば、該表示装置の背面側を目視できるように構成したものが知られている。
【０００５】
このような表示装置は、主としてパチンコあるいはスロットマシン等のアミューズメント機器に適用させて用いられ、該機器の興味を増加できるようになっている。このような表示装置としては、たとえば特許文献１に開示がなされている。特許文献１には、前記窓部に相当する孔の周囲を迂回させ画素の領域（画素領域）にも及んで形成される迂回用の配線によって、分断された各信号線の電気的な接続を図る技術が開示されている。
【０００６】
しかしながら、迂回用の配線を画素の領域に形成した構成では、前記画素の構成が配線によって複雑化してしまうということや、迂回用の配線と各画素の電極との間の寄生容量等による表示品質の低下等が懸念されている。
【０００７】
このために、従来の表示装置では、図８（ａ）に示すように窓部（非表示領域）ＷＤで分断されたドレイン線ＤＬ及びゲート線ＧＬは、当該窓部ＷＤの周囲に設けた迂回配線（ドレイン迂回配線ＪＤＬ及びゲート迂回配線ＪＧＬ）を介して、窓部ＷＤの反対側のそれぞれ対応するドレイン線ＤＬ及びゲート線ＧＬに接続されている。
【特許文献１】特開2005-46352号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
開口された窓部ＷＤを有する表示装置では、窓部ＷＤで分断されたドレイン線ＤＬ及びゲート線ＧＬと同数の迂回配線が窓部ＷＤの周囲に形成され、この迂回配線の形成領域には画素が配置されていない構成となっている。このため、従来の表示装置では、画素の配置されていない領域の面積を少なくするために、画素領域内の配線よりも細い配線を用いて迂回配線を形成している。
【０００９】
従って、図８（ｂ）（ｃ）に示すように、表示領域におけるドレイン線ＤＬとゲート線ＧＬとの交差部の面積と、非表示領域の周辺部に形成されるドレイン迂回配線ＪＤＬとゲート迂回配線ＪＧＬとの交差部における面積とを比較した場合、表示領域の交差部の面積の方が非表示領域周辺に形成される迂回配線の交差部の面積よりも大きな面積である。一方、ドレイン線とゲート線は絶縁膜を介して交差部で交差する構成となっているので、各交差部毎にドレイン線とゲート線との間には各信号線の交差に伴う寄生容量（以下、交差部容量と記す）が生じている。
【００１０】
しかしながら、前述するように、窓部ＷＤで分断されたために迂回配線で接続されるドレイン線ＤＬ及びゲート線ＧＬでは、分断されないドレイン線ＤＬとゲート線ＧＬに比較して迂回配線を使用することに伴う交差部における交差部容量の減少が生じるため、実効電圧が分断されないドレイン線ＤＬ及びゲート線ＧＬとは異なってしまうという問題が生じる。これにより、表示領域ＡＲ内に面内実効電圧差が生じてしまうという問題があった。また、面内実効電圧差の発生に伴い表示領域内ＡＲ内に輝度差が生じ、表示むらが発生してしまうという問題があった。
【００１１】
本発明の目的は、窓部ＷＤの形成に伴い迂回配線を使用した場合であっても、表示領域内の面内実効電圧差を低減させることのできる表示装置を提供することにある。
【００１２】
本発明の他の目的は、窓部ＷＤの形成に伴い迂回配線を使用した場合であっても、表示領域内の輝度むらを低減させることのできる表示装置を提供することにある。
【００１３】
図７はノーマリホワイトの液晶表示装置ＰＮＬで、画面の輝度差が顕著に表示むらとして表示される中間調画像を表示させた場合を説明するための図である。図７から明らかなように、ドレイン線ＤＬ又はゲート線ＧＬが窓部ＷＤで分断され、迂回配線によって接続されている箇所であるＡ〜Ｄで示す領域では、交差部容量が小さいので、実効電圧が所望の電圧より高くなってしまい、所望の輝度が得られずに暗く表示され、ドレイン線ＤＬ又はゲート線ＧＬが分断されないａ〜ｄで示す領域では所望の輝度が得られるので、本来の中間調の輝度での表示が可能となる。なお、ノーマリブラックの液晶表示装置を使用した場合には、前述した明部と暗部が逆となり、Ａ〜Ｄで示す領域が所望の輝度より明るく表示され、ａ〜ｄで示す領域が所望の輝度で表示される。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
前記課題を解決すべく、本願発明は、例えば、下記のように構成される。
【００１５】
（１）本発明の表示装置は、基板上に、複数本のドレイン線と、前記ドレイン線と交差する複数本のゲート線とを備え、前記ドレイン線と前記ゲート線とに囲まれた領域を画素の領域とする表示装置であって、前記画素の集合体である表示領域内の一部に前記ドレイン線及び前記ゲート線並びに前記画素が形成されない非表示領域と、前記非表示領域で分断されたドレイン線及びゲート線を、前記非表示領域の周囲で迂回させるドレイン迂回配線及びゲート迂回配線とを備え、前記ドレイン迂回配線と前記ゲート迂回配線とのうち少なくとも一方の配線幅は、該ドレイン迂回配線と該ゲート迂回配線とが交差する交差部における配線幅と非交差部における配線幅とが異なる配線幅で形成されると共に、前記ドレイン線の非交差部における配線幅をａ１、前記ドレイン線の交差部における配線幅をｂ１、前記ドレイン迂回配線の非交差部における配線幅をｃ１、前記ドレイン迂回配線の交差部における配線幅をｄ１、前記ゲート線の非交差部における配線幅をａ２、前記ゲート線の交差部における配線幅をｂ２、前記ゲート迂回配線の非交差部における配線幅をｃ２、前記ゲート迂回配線の交差部における配線幅をｄ２とした場合、｜ａ１−ｃ１｜＞｜ｂ１−ｄ１｜  又は／及び  ｜ａ２−ｃ２｜＞｜ｂ２−ｄ２｜を満たすものである。
【００１６】
（２）本発明の表示装置は、基板上に、複数本のドレイン線と、前記ドレイン線と交差する複数本のゲート線とを備え、前記ドレイン線と前記ゲート線とに囲まれた領域を画素領域とする表示装置であって、前記画素の集合体である表示領域内の一部に前記ゲート線及び前記ドレイン線並びに前記画素が形成されない非表示領域と、前記非表示領域で分断されたドレイン線及びゲート線を該非表示領域の周囲で迂回させるドレイン迂回配線及びゲート迂回配線とを備え、前記ドレイン迂回配線と前記ゲート迂回配線とが交差する交差部でのそれぞれの配線幅が該交差部以外の配線幅よりも広く形成されている。
【００１７】
（３）前述する（１）又は（２）の表示装置において、前記ドレイン迂回配線と前記ゲート迂回配線とのうち一方の迂回配線が、前記交差部が複数並んで配置される領域において屈曲して形成され、他方の迂回配線が、前記交差部が複数並んで配置される前記領域において屈曲せずに形成され、
前記一方の迂回配線上で隣接する交差部が、前記他方の迂回配線の延在方向にずれて配置されている。
【００１８】
（４）前述する（３）の表示装置において、前記一方の迂回配線は、前記交差部が複数並んで配置される前記領域において、一方向に伸びる階段状に屈曲するものである。
【００１９】
（５）前述する（３）の表示装置において、前記一方の迂回配線は、前記交差部が複数並んで配置される前記領域において、蛇行しながら屈曲するものである。
【００２０】
（６）本発明の表示装置は、基板上に、複数本のドレイン線と、前記ドレイン線と交差する複数本のゲート線とを備え、前記ドレイン線と前記ゲート線とに囲まれた領域を画素領域とする表示装置であって、前記画素の集合体である表示領域内の一部に前記ゲート線及び前記ドレイン線並びに前記画素が形成されない非表示領域と、前記非表示領域で分断されたドレイン線及びゲート線を該非表示領域の周囲で迂回させるドレイン迂回配線及びゲート迂回配線とを備え、前記ドレイン迂回配線の配線幅は、前記ドレイン線の配線幅よりも狭く、前記ゲート迂回配線の配線幅は、前記ゲート線の配線幅よりも狭く、前記ドレイン線と前記ゲート線とが交差する交差部でのそれぞれの配線幅が該交差部以外の配線幅よりも狭く形成されているものである。
【００２１】
（７）前述する（１）乃至（６）の内の何れかの表示装置において、前記表示装置は、前記基板と液晶を介して対向配置される他の基板を有する液晶表示装置であり、前記非表示領域は前記基板と前記他の基板との間に形成されるシール材で囲まれた窓部を構成するものである。
【００２２】
（８）前述する（１）乃至（７）の内の何れかの表示装置において、前記基板は、前記非表示領域に対応する位置に開口を有するものである。
【発明の効果】
【００２３】
本発明の表示装置では、表示領域と非表示領域とにおける交差部容量の差を小さくすることが出来るので、窓部ＷＤの形成に伴い迂回配線を使用した場合であっても、表示領域内の面内実効電圧差を低減させることができる。
【００２４】
その結果、窓部ＷＤの形成に伴い迂回配線を使用した場合であっても、表示領域内の輝度むらを低減させることができる。
【００２５】
本発明のその他の効果については、明細書全体の記載から明らかにされる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
以下、本発明が適用された実施形態の例について、図面を用いて説明する。ただし、以下の説明において、同一構成要素には同一符号を付し繰り返しの説明は省略する。
【００２７】
（実施形態１）
〈全体の構成〉
図２は本発明を適用した表示装置として液晶表示装置の場合を一例として示すものであり、実施形態１の液晶表示装置の概略構成を説明するための図である。
【００２８】
図２から明らかなように、実施形態１の液晶表示装置は画素の集合からなる液晶表示領域ＡＲの一部に開口（貫通孔）からなる窓部（非表示領域）ＷＤが形成され、たとえば当該表示装置の背面側を目視できるような構成となっている。
【００２９】
また、実施形態１の液晶表示装置は画素電極等が形成される第１基板ＳＵＢ１と、この第１基板ＳＵＢ１に対向して配置される第２基板ＳＵＢ２と、第１基板ＳＵＢ１と第２基板ＳＵＢ２とで挟持される図示しない液晶層とで構成されている。このとき、第１基板ＳＵＢ１と第２基板ＳＵＢ２との固定及び２枚の基板ＳＵＢ１、ＳＵＢ２で挟持される液晶の封止は、第２基板ＳＵＢ２の周辺部に環状に塗布された第１シール材ＳＬ１及び液晶表示装置の中央部に環状に塗布された第２シール材ＳＬ２とで固定され、液晶も封止される構成となっている。
【００３０】
すなわち、実施形態１の液晶表示装置では、液晶は第１シール材ＳＬ１と第２シール材ＳＬ２との間の領域に封入され、この領域が実施形態１の液晶表示装置の液晶表示領域ＡＲを形成している。しかしながら、液晶が封入されている領域内であっても、画素が構成されず表示に係わらない領域が窓部（非表示領域）ＷＤの周囲（外周部）に形成されている。この窓部ＷＤの周辺の領域では、迂回配線であるドレイン迂回配線ＪＤＬとゲート迂回配線ＪＧＬとが第２シール材ＳＬ２を含めた領域に形成されている。特に、窓部ＷＤの外周部の表示に寄与しない領域を狭くしたいとの要望に基づき、配線幅の細い迂回配線（ドレイン迂回配線ＪＤＬ及びゲート迂回配線ＪＧＬ）が密に形成されており、この構成により窓部ＷＤの狭額縁化に貢献する構成となっている。
【００３１】
ただし、実施形態１の液晶表示装置では後述するように、ドレイン迂回配線ＪＤＬとゲート迂回配線ＪＧＬとが交差する交差部ではドレイン迂回配線ＪＤＬとゲート迂回配線ＪＧＬの配線幅が交差部以外の配線幅よりも太く形成された構成となっている。
【００３２】
一方、第２シール材ＳＬ２で囲まれた領域は液晶が封入されない領域となっており、特に実施形態１では第１基板ＳＵＢ１及び第２基板ＳＵＢ２の窓部ＷＤに対応する位置は孔が形成され開口された構成となっている。なお、窓部ＷＤに孔を設ける必要はなく、例えば窓部ＷＤに電極等を形成することなく第１基板ＳＵＢ１及び第２基板ＳＵＢ２の透光性を利用して、窓部ＷＤの背面に設けた表示を前面側から目視する構成でもよい。
【００３３】
第１基板ＳＵＢ１の液晶側の面であって表示領域ＡＲ内には、図中ｘ方向に延在しｙ方向に並設されるゲート線ＧＬが形成されている。また、図中ｙ方向に延在しｘ方向に並設されるドレイン線ＤＬが形成されている。
【００３４】
前述するように、ドレイン線ＤＬは前記窓部ＷＤの箇所において形成されることはなく、該窓部ＷＤの図中上下において該窓部ＷＤによって物理的に分断された一対のドレイン線を有することになる。これら分断された一対のドレイン線ＤＬは、窓部ＷＤの周囲に形成されるドレイン迂回配線ＪＤＬによって電気的に接続されている。
【００３５】
同様に、ゲート線ＧＬも窓部ＷＤの箇所において形成されることはなく、該窓部ＷＤの図中左右において該窓部ＷＤによって物理的に分断された一対のゲート線ＧＬを有することになる。これら分断された一対のゲート線ＧＬも窓部ＷＤの周囲に形成されるゲート迂回配線ＪＧＬにより互いに電気的に接続されている。
【００３６】
ドレイン線ＤＬとゲート線ＧＬとで囲まれる矩形状の領域は画素が形成される領域を構成し、これにより、各画素は表示領域ＡＲ内においてマトリックス状に配置されるようになる。ただし、窓部ＷＤには画素及び配線等は形成されていない。
【００３７】
各画素は、たとえば図中丸印Ａの部分において、その拡大図Ａ’に示すように、ゲート線ＧＬからの走査信号によってオンされる薄膜トランジスタＴＦＴと、このオンされた薄膜トランジスタＴＦＴを介してドレイン線ＤＬからの映像信号が供給される画素電極ＰＸと、コモン線ＣＬに接続され映像信号の電位に対して基準となる電位を有する基準信号が供給される対向電極ＣＴとを備えている。
【００３８】
また、各ゲート線ＧＬはたとえばその右端において、第１シール材ＳＬ１を越えて延在され、対応する半導体装置ＳＣＮ（Ｖ）の一の出力端子に接続されている。さらには、各ドレイン線ＤＬは、たとえばその上端において、第１シール材ＳＬ１を越えて延在され、対応する半導体装置ＳＣＮ（Ｈ）の一の出力端子に接続されている。
【００３９】
なお、前述した液晶表示装置は、走査信号駆動回路および映像信号駆動回路をそれぞれ半導体チップからなる半導体装置ＳＣＮ（Ｖ）、ＳＣＮ（Ｈ）で構成し、第１基板ＳＵＢ１面に搭載させて構成したものである。しかし、たとえばテープキャリア方式やＣＯＦ（Chip On Film）方式で形成した半導体装置の一辺を第１基板ＳＵＢ１に接続させるようにしてもよい。 また、第１基板ＳＵＢ１上に回路を一体的に作り込んでもよい。
【００４０】
〈画素の構成及び交差部の構成〉
図３（ａ）は、液晶表示装置の第１基板ＳＵＢ１側において、マトリックス状に配置された各画素のうちの一つの画素の一実施例を示した平面図である。
【００４１】
まず、第１基板ＳＵＢ１の液晶側の面（表面）には、ゲート線ＧＬおよびコモン線ＣＬが比較的大きな距離を有して平行に形成されている。
【００４２】
ゲート線ＧＬとコモン線ＣＬの間の領域には、たとえばＩＴＯ（Indium-Tin-Oxide）の透明導電材料からなる対向電極ＣＴが形成されている。対向電極ＣＴは、そのコモン線ＣＬ側の辺部において該コモン線ＣＬに重畳されて形成され、これにより、コモン線ＣＬと電気的に接続されて形成されている。
【００４３】
そして、図３（ａ）のａ−ａ線での断面図である図３（ｂ）に示すように、第１基板ＳＵＢ１の表面には、ゲート線ＧＬ、コモン線ＣＬ、および対向電極ＣＴをも被うようにして絶縁膜ＧＩが形成されている。この絶縁膜ＧＩは、後述の薄膜トランジスタＴＦＴの形成領域において該薄膜トランジスタＴＦＴのゲート絶縁膜として機能するもので、それに応じて膜厚等が設定されるようになっている。
【００４４】
絶縁膜ＧＩの上面であって、ゲート線ＧＬの一部と重畳する個所において、たとえばアモルファスシリコンからなる非晶質の半導体層ＡＳが形成されている。この半導体層ＡＳは薄膜トランジスタＴＦＴの半導体層となるものである。
【００４５】
なお、この半導体層ＡＳは、たとえば、薄膜トランジスタＴＦＴの形成領域の他に、ＡＳ’（以下、アモルファスシリコン層と記す）で示すように、ドレイン信号線ＤＬの下層、該ドレイン信号線ＤＬと薄膜トランジスタＴＦＴのドレイン電極ＤＴとを電気的に接続する接続部ＪＣの下層、および、薄膜トランジスタＴＦＴのソース電極ＳＴの該薄膜トランジスタＴＦＴの形成領域を超えて延在する部分（パッド部ＰＤを含む）の下層にも形成され、たとえばドレイン線ＤＬにおいて段差を少なく構成できるようにしている。
【００４６】
そして、図中ｙ方向に伸張してドレイン線ＤＬが形成され、このドレイン線ＤＬはその一部において薄膜トランジスタＴＦＴ側に延在する延在部を有し、この延在部（接続部ＪＣ）は半導体層ＡＳ上に形成された薄膜トランジスタＴＦＴのドレイン電極ＤＴに接続されている。また、図中ｙ方向に伸張して形成されるドレイン線ＤＬは薄膜トランジスタＴＦＴの近傍の領域において、絶縁膜ＧＩ及びアモルファスシリコン層ＡＳ’を介してゲート線ＧＬと交差する構成となっている。
【００４７】
また、ドレイン線ＤＬおよびドレイン電極ＤＴの形成の際に同時に形成されるソース電極ＳＴが、半導体層ＡＳ上にてドレイン電極ＤＴと対向し、かつ、半導体層ＡＳ上から画素領域側に若干延在された延在部を有して形成されている。この延在部は後に説明する画素電極ＰＸと接続されるパッド部ＰＤに至るようにして構成されている。
【００４８】
ドレイン電極ＤＴは、ソース電極ＳＴの先端部を囲むようにして形成されたたとえばＵ字状のパターンとして形成されている。これにより、薄膜トランジスタＴＦＴのチャネル幅を大きく構成するようにできる。
【００４９】
なお、半導体層ＡＳは、それを絶縁膜ＧＩ上に形成する際に、たとえば、半導体層ＡＳの表面に高濃度の不純物がドープされて形成され、たとえば、ドレイン電極ＤＴおよびソース電極ＳＴをパターニングして形成した後に、該ドレイン電極ＤＴおよびソース電極ＳＴ上のフォトレジスト膜をマスクとしてドレイン電極ＤＴおよびソース電極ＳＴの形成領域以外の領域に形成された高濃度の不純物層をエッチングするようにしている。半導体層ＡＳとドレイン電極ＤＴおよびソース電極ＳＴのそれぞれの間に高濃度の不純物層を残存させ、この不純物層をオーミックコンタクト層として形成するためである。
【００５０】
このようにすることにより、薄膜トランジスタＴＦＴは、ゲート線ＧＬをゲート電極としたいわゆる逆スタガ構造のＭＩＳ（Metal Insulator Semiconductor）構造のトランジスタが構成されることになる。
【００５１】
なお、ＭＩＳ構造のトランジスタは、そのバイアスの印加によってドレイン電極ＤＴとソース電極ＳＴが入れ替わるように駆動するが、この明細書の説明にあっては、便宜上、ドレイン線ＤＬと接続される側をドレイン電極ＤＴ、画素電極ＰＸと接続される側をソース電極ＳＴと称している。
【００５２】
第１基板ＳＵＢ１の表面には、薄膜トランジスタＴＦＴをも被って絶縁膜からなる保護膜ＰＡＳが形成されている。この保護膜ＰＡＳは、薄膜トランジスタＴＦＴを液晶との直接の接触を回避させるために設けられるようになっている。また、この保護膜ＰＡＳは、対向電極ＣＴと後述の画素電極ＰＸとの間にも介在しており、絶縁膜ＧＩとともに、対向電極ＣＴと画素電極ＰＸの間に設けられた容量素子の誘電体膜としても機能するようになっている。
【００５３】
保護膜ＰＡＳの上面には、画素電極ＰＸが形成されている。この画素電極ＰＸは、たとえばＩＴＯ（Indium-Tin-Oxide）等の透明導電膜からなり、対向電極ＣＴと広い面積にわたって重畳して形成されている。
【００５４】
そして、画素電極ＰＸは、多数のスリットがスリットの長手方向と交叉する方向に並設されて形成され、これによって両端が互いに接続された多数の線状の電極からなる電極群を有するようにして形成されている。
【００５５】
なお、画素電極ＰＸの各電極は、図３（ａ）に示すように、画素の領域をたとえば図中上下に２分割させ、その一方の領域にはたとえばゲート線ＧＬの走行方向に対して＋４５°方向に延在するように形成され、他方の領域には−４５°方向に延在するようにして形成されている。いわゆるマルチドメイン方式を採用するもので、１画素内における画素電極ＰＸに設けたスリットの方向（画素電極ＰＸの電極群の方向）が単一である場合、観る方向により色つきが生じる不都合を解消した構成となっている。
【００５６】
このように形成された画素電極ＰＸは、薄膜トランジスタＴＦＴ側の辺部において、保護膜ＰＡＳに形成された図示しないスルーホールを通して薄膜トランジスタＴＦＴのソース電極ＳＴのパッド部ＰＤに電気的に接続されるようになっている。また、第１基板ＳＵＢ１の表面には画素電極ＰＸも被って配向膜ＯＲＩ１が形成されている。
【００５７】
このように、各画素電極ＰＸは縦長すなわちドレイン線ＤＬの延在方向であるｙ軸方向に細長く形成され、各画素も縦長の構成となっている。
【００５８】
一方、図３（ｃ）に示すように、窓部ＷＤの周辺領域に形成される迂回配線は第１基板ＳＵＢ１の液晶側の面にゲート迂回配線ＪＧＬが形成され、その上層には該ゲート迂回配線ＪＧＬを被うようにして絶縁膜ＧＩが形成されている。
【００５９】
絶縁膜ＧＩの上面であって、ゲート迂回配線ＪＧＬの一部と重畳する個所においては、表示領域ＡＲと同様にアモルファスシリコン層ＡＳ’が形成されている。窓部ＷＤの周辺領域のアモルファスシリコン層ＡＳ’においても、ドレイン迂回配線ＪＤＬにおいて段差を少なく構成できるようにしている。そして、窓部ＷＤの周辺領域の表示に寄与しない無効領域を小さくするために、ドレイン迂回配線ＪＤＬはこのアモルファスシリコン層ＡＳ’の上層に表示領域ＡＲ内のドレイン線ＤＬ幅より配線幅が細く形成されている。同様に、ゲート迂回配線ＪＧＬも表示領域ＡＲ内のゲート線ＧＬよりも配線幅が細く形成されている。
【００６０】
また、各ゲート迂回配線ＪＧＬはゲート線ＧＬと同じ工程で形成されている。従って、ゲート迂回配線ＪＧＬとゲート線ＧＬとは同層に形成されると共に同一材料で形成され、その膜厚も同じである。同様に、各ドレイン迂回配線ＪＤＬもドレイン線ＤＬと同じ工程で形成され、その材料及び膜厚も同じであり同層に形成されている。
【００６１】
〈ドレイン迂回配線、ゲート迂回配線の詳細構成〉
図１は、液晶表示装置において、第１シール材ＳＬ１と第２シール材ＳＬ２で囲まれた領域におけるドレイン線ＤＬ、ゲート線ＧＬ、ドレイン迂回配線ＪＤＬ、ゲート迂回配線ＪＧＬのみを取り出して描いた平面図である。
【００６２】
ゲート線ＧＬは、第１シール材ＳＬ１内の領域において、図中ｘ方向に延在しｙ方向に並設されて形成されているが、第２シール材ＳＬ２で囲まれた窓部ＷＤの箇所においては形成されていない。このため、該窓部ＷＤの図中左右に位置づけられる一対のゲート線ＧＬは、該窓部ＷＤによって物理的に分断された形態をとっている。
【００６３】
そして、第２シール材ＳＬ２の形成領域を含む窓部ＷＤの外周領域において、窓部ＷＤに対して図中左側のゲート線ＧＬと図中右側のゲート線ＧＬとの電気的接続を図るゲート迂回配線ＪＧＬが形成されている。
【００６４】
ここで、表示領域ＡＲは、各画素がマトリックス状に配置された領域をいう。すなわち、ドレイン迂回配線ＪＤＬ及びゲート迂回配線ＪＧＬは、画素が形成されていない領域に形成されるようになっている。すなわち、第２シール材ＳＬ２の外周部分の上部及び下部において、複数のゲート迂回配線ＪＧＬが図中ｘ方向に延在しｙ方向に並設されて形成されている。ゲート迂回配線ＪＧＬは、窓部ＷＤによって分断されたゲート線ＧＬと少なくとも同数の本数で形成されている。ただし、本実施形態においては分断されたゲート線ＧＬを上下２つのグループに分け、上側のグループの各ゲート線ＧＬに対応するゲート迂回配線ＪＧＬは窓部ＷＤの上側に形成し、下側のグループの各ゲート線ＧＬに対応するゲート迂回配線ＪＧＬは窓部ＷＤの下側に形成する構成となっている。このとき、これら各ゲート迂回配線ＪＧＬは、前述するようにゲート線ＧＬと同じ工程で形成されるので、ゲート迂回配線ＪＧＬとゲート線ＧＬは同層であり、同一の材料で形成されその膜厚も同じ構成である。なお、ゲート迂回配線ＪＧＬとゲート線ＧＬを別の層に形成し、コンタクトホールを介して、ゲート線ＧＬとゲート迂回配線ＪＧＬとを接続する構成とした場合であっても、本願発明は適用可能である。
【００６５】
これらゲート迂回配線ＪＧＬの内で上側のグループに属するゲート迂回配線ＪＧＬは、図１に示すように、右端側において下側方向に屈曲され、図中窓部ＷＤの右側の領域において図中ｙ方向に延在し、その延在部において分断された一方のゲート線ＧＬと接続されている。また、これらゲート迂回配線ＪＧＬは、左端側において下側方向に屈曲され、図中窓部ＷＤの左側の領域において図中ｙ方向に延在し、その延在部において分断された他方のゲート線ＧＬと接続されている。同様に、ゲート迂回配線ＪＧＬの内で下側のグループに属するゲート迂回配線ＪＧＬは、右端側において上側方向に屈曲され、図中窓部ＷＤの右側の領域において図中ｙ方向に延在し、その延在部において分断された一方のゲート線ＧＬと接続されている。また、これらゲート迂回配線ＪＧＬは、左端側において上側方向に屈曲され、図中窓部ＷＤの左側の領域において図中ｙ方向に延在し、その延在部において分断された他方のゲート線ＧＬと接続されている。
【００６６】
同様に、ドレイン線ＤＬも、表示領域ＡＲにおいて、図中ｙ方向に延在しｘ方向に並設されて形成されているが、窓部ＷＤの箇所においては形成されておらず、窓部ＷＤの図中上下に位置づけられる一対のドレイン線ＤＬが、窓部ＷＤによって物理的に分断された形態をとっている。
【００６７】
そして、窓部ＷＤの周辺の領域において、窓部ＷＤに対して図中上側のドレイン線ＤＬと図中下側のドレイン線ＤＬとの電気的接続を図るドレイン迂回配線ＪＤＬが形成されている。図中の窓部ＷＤの左側及び右側の領域において、複数のドレイン迂回配線ＪＤＬが図中ｙ方向に延在しｘ方向に並設されて形成されている。このドレイン迂回配線ＪＤＬは、窓部ＷＤによって分断されたドレイン線ＤＬと少なくとも同数の本数で形成されている。また、これら各ドレイン迂回配線ＪＤＬは、ドレイン線ＤＬと同じ工程で形成されるので、ドレイン迂回配線ＪＤＬとドレイン線ＤＬは同層であり、同一の材料で形成され、その膜厚も同じ構成である。
【００６８】
また、右側のグループに属するドレイン迂回配線ＪＤＬは、図中上端側において屈曲され、図中の窓部ＷＤの上側において図中ｘ方向に延在し、その延在部において分断された一方のドレイン線ＤＬと接続されている。また、これらドレイン迂回配線ＪＤＬは、その図中下端側において屈曲され、図中の窓部ＷＤの下側において図中ｘ方向に延在し、その延在部において分断された他方のドレイン線ＤＬと接続されている。同様にして、左側のグループに属するドレイン迂回配線ＪＤＬも分断されたドレイン線ＤＬを接続する構成となっている。
【００６９】
このとき、実施形態１の液晶表示装置では、ドレイン迂回配線ＪＤＬとゲート迂回配線ＪＧＬとの交差部分では、図中丸印Ａの部分の拡大図Ａ’に示すように、ドレイン迂回配線ＪＤＬとゲート迂回配線ＪＧＬの交差部の配線幅が交差部以外の配線幅よりも太く形成される構成となっている。なお、実施形態１では交差部におけるドレイン迂回配線ＪＤＬとゲート迂回配線ＪＧＬのいずれもが交差部以外の配線幅よりも太い構成としたが、これに限定されることはなく、ドレイン迂回配線ＪＤＬとゲート迂回配線ＪＧＬの少なくとも一方の配線幅が交差部以外の配線幅よりも太い構成でよい。
【００７０】
また、実施形態１の液晶表示装置は、表示領域ＡＲ内のドレイン線ＤＬとゲート線ＧＬとの交差部における交差面積と、ドレイン迂回配線ＪＤＬとゲート迂回配線ＪＧＬとの交差部における交差面積とが等しくなるように、ドレイン迂回配線ＪＤＬとゲート迂回配線ＪＧＬとの交差部の配線幅が形成されている。例えば、ドレイン線ＤＬの交差部以外の配線幅をａ１、ドレイン線ＤＬの交差部の配線幅をｂ１、ドレイン迂回配線ＪＤＬの交差部以外の配線幅をｃ１、当該ドレイン迂回配線ＪＤＬの交差部の配線幅をｄ１、ゲート線ＧＬの交差部以外の配線幅をａ２、ゲート線ＧＬの交差部の配線幅をｂ２、ゲート迂回配線ＪＧＬの交差部以外の配線幅をｃ２、当該ゲート迂回配線ＪＧＬの交差部の配線幅をｄ２とした場合、ａ１＝ｂ１＝ｄ１かつａ２＝ｂ２＝ｄ２を満たす配線幅で形成しており、交差部のドレイン線ＤＬとゲート線ＧＬ及びドレイン迂回配線ＪＤＬとゲート迂回配線ＪＧＬがそれぞれ直交しているので、表示領域ＡＲにおける信号線の交差部容量と窓部ＷＤの周辺の迂回配線の交差部容量を同じ容量にすることができる。
【００７１】
ただし、本願発明はこれに限定されず、両者の交差部容量を完全に同じにしなくても、目立たない程度に近づけることができれば、実用上は問題がない。
【００７２】
例えば、ドレイン迂回配線ＪＤＬの交差部以外の配線幅ｃ１よりも当該ドレイン迂回配線ＪＤＬの交差部の配線幅ｄ１が太い場合には、その交差部容量を従来よりも表示領域ＡＲの交差部容量に近づけることができる。すなわち、表示領域ＡＲにおける交差部容量と非表示領域ＮＡＲにおける交差部容量との差を小さくすることが出来る。
【００７３】
同様に、ゲート迂回配線ＪＧＬの交差部以外の配線幅ｃ２よりも当該ゲート迂回配線ＪＧＬの交差部の配線幅ｄ２が太い場合にも、その交差部容量は従来よりも表示領域ＡＲの交差部容量に近い容量、すなわち表示領域ＡＲにおける交差部容量と非表示領域ＮＡＲにおける交差部容量との差を小さくすることが出来る。
【００７４】
このように、ドレイン線ＤＬとドレイン迂回配線ＪＤＬとの交差部における配線幅の差の絶対値と交差部以外の配線幅の差の絶対値とを比較した時に、交差部における配線幅の差の絶対値が交差部以外の配線幅の差の絶対値よりも小さい（下記の数１を満たす）場合には、交差部容量は従来よりも表示領域ＡＲの交差部容量に近い容量であり、表示領域ＡＲにおける信号線の交差部容量と迂回配線の交差部容量との差を小さくすることが出来る。
【００７５】
（数１）
｜ａ１−ｃ１｜＞｜ｂ１−ｄ１｜      ・・・・（式１）
同様に、ゲート線ＧＬとゲート迂回配線ＪＧＬとの交差部における配線幅の差の絶対値と交差部以外の配線幅の差の絶対値とを比較した時に、交差部における配線幅の差の絶対値が交差部以外の配線幅の差の絶対値よりも小さい（下記の数２を満たす）場合には、交差部容量は従来よりも表示領域ＡＲの交差部容量に近い容量であり、表示領域ＡＲにおける信号線の交差部容量と迂回配線の交差部容量との差を小さくすることが出来る。
【００７６】
（数２）
｜ａ２−ｃ２｜＞｜ｂ２−ｄ２｜      ・・・・（式２）
ここで、前述の式１と式２とを共に満たす場合は、ドレイン迂回配線ＪＤＬ及びゲート迂回配線ＪＧＬのいずれの交差部の配線幅も交差部以外の配線幅よりも太くなるように迂回配線が形成されているので、表示領域ＡＲにおける信号線の交差部容量と迂回配線の交差部容量との差をさらに小さくすることが出来る。
【００７７】
その結果、窓部ＷＤの形成に伴う迂回配線（ドレイン迂回配線ＪＤＬとゲート迂回配線ＪＧＬ）を使用した場合であっても、表示領域ＡＲ内の面内実効電圧差を低減させることができ、表示領域ＡＲ内の輝度むらを低減させることができる。
【００７８】
また、図中丸印Ａの部分の拡大図Ａ’及び丸印Ｂの部分の拡大図Ｂ’に示すように、ドレイン線ＤＬとゲート線ＧＬ、ドレイン迂回配線ＪＤＬとゲート迂回配線ＪＧＬがそれぞれ直交する場合に対して、それぞれの配線が直交しないで傾斜して交差するように、ドレイン線ＤＬとゲート線ＧＬ、ドレイン迂回配線ＪＤＬとゲート迂回配線ＪＧＬがそれぞれ形成される場合には、同一配線幅であっても傾斜角によって交差領域の面積が変化する。従って、このような液晶表示装置の場合には、配線幅のみではなく交差領域における配線の傾斜角度も考慮し、ドレイン迂回配線ＪＤＬとゲート迂回配線ＪＧＬの交差領域における配線幅とその傾斜角度を考慮して配線幅を決定する構成としてもよい。この場合も前述の直交の場合と同様に、窓部ＷＤの形成に伴う迂回配線（ドレイン迂回配線ＪＤＬとゲート迂回配線ＪＧＬ）を使用した場合であっても、表示領域ＡＲ内の面内実効電圧差を低減させることができるので、表示領域ＡＲ内の輝度むらを低減させることができる。
【００７９】
（実施形態２）
図４は本発明を適用した表示装置である実施形態２の液晶表示装置の概略構成を説明するための図であり、図５は図４のＡ部の拡大図である。ただし、図４（ａ）は実施形態２の液晶表示装置のドレイン線ＤＬ、ゲート線ＧＬ、ドレイン迂回配線ＪＤＬ、ゲート迂回配線ＪＧＬのみを取り出して描いた平面図であり、図４（ｂ）はドレイン迂回配線ＪＤＬ及びゲート迂回配線ＪＧＬの交差部の一例を説明するための図である。尚、図４（ｂ）、図５では、アモルファスシリコン層ＡＳ’も図示している。
【００８０】
図４に示す液晶表示装置は、窓部ＷＤの周辺領域に形成されるドレイン迂回配線ＪＤＬ及びゲート迂回配線ＪＧＬの構成を除く他の構成は実施形態１の液晶表示装置と同じ構成である。従って、以下の説明では、ドレイン迂回配線ＪＤＬ及びゲート迂回配線ＪＧＬの構成について詳細に説明する。
【００８１】
実施形態２の液晶表示装置も実施形態１の液晶表示装置と同様に、窓部ＷＤの中心よりも上側に位置し、当該窓部ＷＤにより図中左右に分断されたゲート線ＧＬは窓部ＷＤの上側の領域に形成されるゲート迂回配線ＪＧＬにより電気的に接続されている。また、窓部ＷＤの中心よりも下側に位置し、当該窓部ＷＤにより図中左右に分断されたゲート線ＧＬは窓部ＷＤの下側の領域に形成されるゲート迂回配線ＪＧＬにより電気的に接続されている。
【００８２】
また、窓部ＷＤ部の中心よりも右側に位置し、当該窓部ＷＤにより図中上下に分断されたドレイン線ＤＬは窓部ＷＤの右側に形成されるドレイン迂回配線ＪＤＬにより電気的に接続されている。また、窓部ＷＤの中心よりも左側に位置し、当該窓部ＷＤにより図中上下に分断されたドレイン線ＤＬは窓部ＷＤの左側に形成されるドレイン迂回配線ＪＤＬにより電気的に接続されている。
【００８３】
このとき、実施形態２の液晶表示装置においても、ドレイン迂回配線ＪＤＬとゲート迂回配線ＪＧＬとの交差部における交差部容量と、表示領域ＡＲ内のドレイン線ＤＬとゲート線ＧＬとの交差部における交差部容量との差を小さくするために、ドレイン迂回配線ＪＤＬとゲート迂回配線ＪＧＬとの交差部においては、配線幅を表示領域ＡＲの配線幅と同じ幅としている（ただし、実施形態１で説明したとおり、近くなっていれば同じでなくてもよい）。
【００８４】
ここで、図５（ａ）に示すように、実施形態２の液晶表示装置では、ドレイン迂回配線ＪＤＬとゲート迂回配線ＪＧＬとの交差部が階段状に並ぶように、ゲート迂回配線ＪＧＬを屈曲させる構成となっている。ただし、屈曲させる配線はゲート迂回配線ＪＧＬに限定されるものではなく、ドレイン迂回配線ＪＤＬ又はゲート迂回配線ＪＧＬとドレイン迂回配線ＪＤＬとの両方でもよい。特に、本実施形態２の液晶表示装置では、前述するように画素が縦長（ｙ軸方向に長い）の構成となっており、ゲート線ＧＬの方がドレイン線ＤＬよりも窓部ＷＤで分断される配線数が少なくて済むので、ゲート迂回配線ＪＧＬを屈曲させる構成としている。こうすることで、ゲート迂回配線ＪＧＬよりも配線数の多いドレイン迂回配線ＪＤＬの間隔を狭くすることができるので、より効果が大きい。
【００８５】
以下、図４及び図５に基づいて実施形態２の液晶表示装置の詳細な構成を説明する。
【００８６】
通常、窓部ＷＤの周辺に形成される迂回配線の占める領域は窓部ＷＤに配置される構造体と画面表示との一体感を持たせるために、その面積を狭くすることが求められている。従って、ドレイン迂回配線ＪＤＬやゲート迂回配線ＪＧＬの配線幅及び隣接するアモルファスシリコン層ＡＳ’の間隔を最小ルールで形成したい。しかしながら、交差部での断線を防止し液晶表示装置の信頼性を向上させるためには、ドレイン迂回配線ＪＤＬとゲート迂回配線ＪＧＬとが交差するその交差部にアモルファスシリコン層ＡＳ’などの半導体層を形成することが望ましい。
【００８７】
このために、図４（ｂ）に交差部の一例を示すように、ゲート迂回配線ＪＧＬにドレイン迂回配線ＪＤＬが交差する場合、隣接するアモルファスシリコン層ＡＳ’を最小ルールの間隔Ｌ３で形成した場合であっても隣接して並設されるドレイン迂回配線ＪＤＬは最小ルールでの間隔Ｌ３よりも大きい間隔Ｌ４になっている。
【００８８】
これに対して、実施形態２の液晶表示装置では、図５（ａ）に示すように並設して配置されるゲート迂回配線ＪＧＬを一方向（例えば斜め上方）に伸びる階段状に屈曲させる構成となっている。この場合、ドレイン迂回配線ＪＤＬとゲート迂回配線ＪＧＬとの交差部は階段状にずれて配設されることとなるので、１本のゲート迂回配線ＪＧＬ上で隣接するアモルファスシリコン層ＡＳ’は斜め方向にずれて形成される構成となる。従って、アモルファスシリコン層ＡＳ’を島状に間隔Ｌ１（最小ルールの間隔Ｌ３と同じ）で形成したとき、ドレイン迂回配線ＪＤＬを図４（ｂ）に示す間隔Ｌ４よりも小さい間隔Ｌ２で形成することができる。
【００８９】
以下、図５（ａ）に示す構成について、詳細に説明する。
【００９０】
本実施形態２の液晶表示装置は実施形態１の液晶表示装置と同様に、窓部ＷＤの中心位置を基準にしており、該中心位置よりも図中上側に形成されるゲート線ＧＬに接続されるゲート迂回配線ＪＧＬは窓部ＷＤの上側を迂回して他方のゲート線ＧＬに電気的に接続される構成となっている。また、窓部ＷＤの中心位置よりも図中下側に形成されるゲート線ＧＬに接続されるゲート迂回配線ＪＧＬは、窓部ＷＤの下側を迂回して他方のゲート線ＧＬに電気的に接続される構成となっている。
【００９１】
このとき、実施形態２ではゲート迂回配線ＪＧＬの迂回方向に応じて、ゲート迂回配線ＪＧＬの屈曲方向を調整している。従って、窓部ＷＤの中心位置よりも上方に位置するゲート迂回配線ＪＧＬは図４（ａ）の丸印Ａの位置から明らかなように、図中斜め上方を屈曲方向として形成する構成となっている。
【００９２】
すなわち、窓部ＷＤの左上部の迂回配線では、アモルファスシリコン層ＡＳ’を介してドレイン迂回配線ＪＤＬと交差したあと、ゲート迂回配線ＪＧＬの非交差部の一部を、ドレイン迂回配線ＪＤＬの延在方向と平行な方向、かつ上方（図の上方向の意味）に向かうように屈曲させる。次に、上方に向けて屈曲させたゲート迂回配線ＪＧＬを再びドレイン迂回配線ＪＤＬと直交する方向に屈曲させる。この屈曲により、該屈曲されたゲート迂回配線ＪＧＬが次のドレイン迂回配線ＪＤＬとアモルファスシリコン層ＡＳ’を介して、ドレイン迂回配線ＪＤＬと交差する構成となっている。以降、ゲート迂回配線ＪＧＬの上方への屈曲と、ドレイン迂回配線ＪＤＬに向かう方向への屈曲とを繰り返すようにゲート迂回配線ＪＧＬを形成する（一方向（図の右上方向）に伸びる階段状に屈曲するように形成する）ことにより、ドレイン迂回配線ＪＤＬとゲート迂回配線ＪＧＬとの交差部を階段状にずれて配設される構成としている。
【００９３】
また、同様にして、窓部ＷＤの左下部の迂回配線では、アモルファスシリコン層ＡＳ’を介してドレイン迂回配線ＪＤＬと交差したあと、ゲート迂回配線ＪＧＬの非交差部の一部を、ドレイン迂回配線ＪＤＬの延在方向と平行な方向、かつ下方（図の下方向の意味）に向かうように屈曲させる。次に、下方に向けて屈曲させたゲート迂回配線ＪＧＬを再びドレイン迂回配線ＪＤＬと直交する方向に屈曲させる。この屈曲により、該屈曲されたゲート迂回配線ＪＧＬが次のドレイン迂回配線ＪＤＬとアモルファスシリコン層ＡＳ’を介して、ドレイン迂回配線ＪＤＬと交差する構成となっている。以降、ゲート迂回配線ＪＧＬの下方への屈曲と、ドレイン迂回配線ＪＤＬに向かう方向への屈曲とを繰り返すようにゲート迂回配線ＪＧＬを形成する（一方向（図の右下方向）に伸びる階段状に屈曲するように形成する）ことにより、ドレイン迂回配線ＪＤＬとゲート迂回配線ＪＧＬとの交差部を階段状にずれて配設される構成としている。
【００９４】
なお、窓部ＷＤの右側領域の迂回配線についても、ゲート迂回配線ＪＧＬの屈曲方向が左右逆になるのみで、上下方向は前述と同じ構成となるので、詳細な説明は省略する。
【００９５】
このように、実施形態２では、ゲート迂回配線ＪＧＬを一方向に伸びる階段状に屈曲させて形成しているので、ドレイン迂回配線ＪＤＬとゲート迂回配線ＪＧＬとの交差部は階段状にずれて配設されることとなり、隣接するアモルファスシリコン層ＡＳ’は斜め方向にずれて形成される構成となる。
【００９６】
従って、最小ルールを適用した場合、隣接するアモルファスシリコン層ＡＳ’の間隔Ｌ１が図４（ｂ）の間隔Ｌ３と同じであっても、水平方向すなわちｘ軸方向の間隔Ｌ２は図４（ｂ）の間隔Ｌ４よりも小さく（狭く）できる。その結果、このアモルファスシリコン層ＡＳ’の上層に形成されるドレイン迂回配線の間隔Ｌ２も小さくできるので、窓部ＷＤの周辺に占める迂回配線のためのｘ軸方向すなわち左右方向の領域を小さくできる。
【００９７】
同様に、窓部ＷＤの上下方向の領域の場合であっても、ドレイン迂回配線ＪＤＬを屈曲してアモルファスシリコン層ＡＳ’を階段状にずれて配置させる構成とすることにより、窓部ＷＤの周辺に占める領域内で上下方向の領域を小さく（狭く）できる。尚、この場合はゲート迂回配線ＪＧＬは交差部が並ぶ領域では屈曲させない。
【００９８】
以上の説明では迂回配線の屈曲方向を一定方向とすることにより、交差部を階段状にずれて配置させる構成としたが、これに限定されことはなく、例えば図５（ｂ）に示すように隣接する交差部が交互に上下方向に並ぶような構成（蛇行して並ぶ構成）でもよい。
【００９９】
以下、図５（ｂ）に基づいてその構成を詳細に説明する。
【０１００】
図５（ｂ）に示すようにゲート迂回配線ＪＧＬを蛇行させて屈曲させる構成の場合でも、１本のゲート迂回配線ＪＧＬ上のドレイン迂回配線ＪＤＬとゲート迂回配線ＪＧＬとの交差部は蛇行してずれて配設されることとなるので、隣接するアモルファスシリコン層ＡＳ’は斜め方向にずれて形成される構成となる。
【０１０１】
ここで、図５（ｂ）では、ゲート迂回配線ＪＧＬを蛇行させる例を示しているが、これに限定されず、ドレイン迂回配線ＪＤＬを蛇行させる構成としてもよい。
【０１０２】
以上説明したように、実施形態２の液晶表示装置では、ドレイン迂回配線ＪＤＬとゲート迂回配線ＪＧＬとが交差する交差部でのそれぞれの配線幅は、実施形態１の液晶表示装置と同様に、表示領域ＡＲ内のドレイン線ＤＬとゲート線ＧＬとの交差部における交差面積と、ドレイン迂回配線ＪＤＬとゲート迂回配線ＪＧＬとの交差部における交差面積とが等しくなるように、ドレイン迂回配線ＪＤＬとゲート迂回配線ＪＧＬとが交差する交差部でのそれぞれの配線幅が交差部以外の配線幅よりも広く形成し、その配線幅がそれぞれ表示領域ＡＲ内の対応するドレイン線ＤＬ又はゲート線ＧＬと同じ配線幅とする構成となっているので、表示領域ＡＲにおける信号線の交差部容量と窓部ＷＤの周辺の迂回配線の交差部容量を同じ容量にすることができる。
【０１０３】
その結果、窓部ＷＤの形成に伴う迂回配線（ドレイン迂回配線ＪＤＬとゲート迂回配線ＪＧＬ）を使用した場合であっても、表示領域ＡＲ内の面内実効電圧差を低減させることができ、表示領域ＡＲ内の輝度むらを低減させることができる。
【０１０４】
前記構成に加えて、実施形態２の液晶表示装置では、迂回配線の屈曲方向を一定方向とする、又は迂回配線の屈曲方向を蛇行させることにより、交差部をずれて配置させる構成としている。従って、前述する効果に加えて、迂回配線の交差部の配線幅を交差部以外の広く形成する、さらには迂回配線の交差部にアモルファスシリコン層ＡＳ’を島状に形成することに伴う迂回配線の間隔が大きくなってしまうことを防止することができる。
【０１０５】
なお、ドレイン線ＤＬやゲート線ＧＬ、ドレイン迂回配線ＪＤＬとゲート迂回配線ＪＧＬが直交しないで傾斜して交差するように形成される場合には、同一配線幅であっても傾斜角によって交差領域の面積が変化する。従って、このような場合には、配線幅のみではなく交差領域における配線の傾斜角度も考慮し、ドレイン迂回配線ＪＤＬとゲート迂回配線ＪＧＬの交差領域における配線幅とその傾斜角度を考慮して配線幅を決定する構成としてもよい。
【０１０６】
また、本発明は、両者の交差部容量を同じにするものに限定されず、輝度むらが目立たない程度に両者の交差部容量を近づけるものであってもよい。よって、実施形態２の場合も、実施形態１の式１及び／又は式２を満たすものであればよい。
【０１０７】
（実施形態３）
図６は本発明を適用した表示装置である実施形態３の液晶表示装置の概略構成を説明するための図であり、実施形態３の液晶表示装置における第１シール材ＳＬ１と第２シール材ＳＬ２で囲まれた領域の概略構成を説明するための図である。
【０１０８】
実施形態３の液晶表示装置では、表示領域内ＡＲに形成されるドレイン線ＤＬとゲート線ＧＬとの交差部では図６中丸印Ａの部分における拡大図Ａ’に示すように、ドレイン線ＤＬとゲート線ＧＬの交差部の配線幅が交差部以外の配線幅よりも狭く形成される構成となっている。なお、実施形態３では交差領域におけるドレイン線ＤＬとゲート線ＧＬのいずれもが交差部以外の配線幅よりも狭い構成としたが、これに限定されることはなく、ドレイン線ＤＬとゲート線ＧＬの少なくとも一方の配線幅が交差部以外の配線幅よりも狭い構成でもよい。
【０１０９】
このとき、図６中丸印Ｂの部分の拡大図Ｂ’に示すように、窓部ＷＤの周辺領域に形成されるドレイン迂回配線ＪＤＬとゲート迂回配線ＪＧＬとの交差部における配線幅はドレイン線ＤＬとゲート線ＧＬの非交差部よりも細い配線幅であり、それぞれの迂回配線において交差部と交差部以外の配線幅が同じ配線幅で形成される構成となっている。
【０１１０】
すなわち、実施形態３の液晶表示装置は、表示領域ＡＲ内のドレイン線ＤＬとゲート線ＧＬとの交差部における交差面積と、窓部ＷＤの周辺におけるドレイン迂回配線ＪＤＬとゲート迂回配線ＪＧＬとの交差部における交差面積とが等しくなるように、ドレイン線ＤＬとゲート線ＧＬとの交差部における配線幅を狭く形成している。例えば、ドレイン線ＤＬの交差領域以外の配線幅をａ１、ドレイン線ＤＬの交差領域の配線幅をｂ１、ドレイン迂回配線ＪＤＬの交差領域以外の配線幅をｃ１、当該ドレイン迂回配線ＪＤＬの交差領域の配線幅をｄ１、ゲート線ＧＬの交差領域以外の配線幅をａ２、ゲート線ＧＬの交差領域の配線幅をｂ２、ゲート迂回配線ＪＧＬの交差領域以外の配線幅をｃ２、当該ゲート迂回配線ＪＧＬの交差領域の配線幅をｄ２とした場合、ｂ１＝ｃ１＝ｄ１かつｂ２＝ｃ２＝ｄ２を満たす配線幅で形成しており、交差領域のドレイン線ＤＬとゲート線ＧＬ及びドレイン迂回配線ＪＤＬとゲート迂回配線ＪＧＬがそれぞれ直交しているので、表示領域ＡＲにおける信号線の交差に伴う交差部容量と窓部ＷＤの周辺における迂回配線の交差に伴う交差部容量を同じ容量にすることができる。
【０１１１】
その結果、窓部ＷＤの形成に伴う迂回配線（ドレイン迂回配線ＪＤＬとゲート迂回配線ＪＧＬ）を使用した場合であっても、表示領域ＡＲ内の面内実効電圧差を低減させることができ、表示領域ＡＲ内の輝度むらを低減させることができる。
【０１１２】
また、拡大図Ａ’，Ｂ’に示すように、ドレイン線ＤＬとゲート線ＧＬ、ドレイン迂回配線ＪＤＬとゲート迂回配線ＪＧＬがそれぞれ直交する場合に対して、それぞれの配線が直交しないで傾斜して交差するようにドレイン線ＤＬやゲート線ＧＬ、ドレイン迂回配線ＪＤＬとゲート迂回配線ＪＧＬがそれぞれ形成される場合には、同一配線幅であっても傾斜角によって交差領域の面積が変化する。従って、このような液晶表示装置の場合には、配線幅のみではなく交差領域における配線の傾斜角度も考慮し、ドレイン迂回配線ＪＤＬとゲート迂回配線ＪＧＬの交差領域における配線幅とその傾斜角度を考慮して配線幅を決定する構成としてもよい。この場合も前述の直交の場合と同様に、窓部ＷＤの形成に伴う迂回配線（ドレイン迂回配線ＪＤＬとゲート迂回配線ＪＧＬ）を使用した場合であっても、表示領域ＡＲ内の面内実効電圧差を低減させることができるので、表示領域ＡＲ内の輝度むらを低減させることができる。
【０１１３】
また、本発明は、両者の交差部容量を同じにするものに限定されず、輝度むらが目立たない程度に両者の交差部容量を近づけるものであってもよい。よって、実施形態３は実施形態１の変形例であり、実施形態３の場合も、実施形態１の式１及び／又は式２を満たすものであればよい。
【０１１４】
また、実施形態１と実施形態３を組み合わせ、本願発明を適用した表示装置として、実施形態１の液晶表示装置のように窓部ＷＤの周辺に形成されるドレイン迂回配線ＪＤＬとゲート迂回配線ＪＧＬとの交差部において、それぞれの迂回配線の配線幅を交差部以外の配線幅よりも広い構成とすると共に、実施形態３の液晶表示装置のように表示領域ＡＲ内のドレイン線ＤＬとゲート線ＧＬとの交差部において、それぞれの信号線の配線幅を交差部以外の配線幅よりも狭い構成とし、迂回配線の交差部の面積と表示領域ＡＲ内の信号線の交差部の面積とが同じまたは近い面積となるように、それぞれの交差部の配線幅を変化させる構成としてもよい。
【０１１５】
尚、本発明は、液晶表示装置に限定されず、有機ＥＬ表示装置などの他の形式の表示装置にも適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【０１１６】
【図１】本発明の実施形態１の表示装置を説明するための図である。
【図２】本発明の実施形態１の液晶表示装置の概略構成を説明するための図である。
【図３】本発明の実施形態１の液晶表示装置の画素の一実施例を示した平面図である。
【図４】本発明を適用した表示装置である実施形態２の液晶表示装置の概略構成を説明するための図である。
【図５】図４のＡ部の拡大図である。
【図６】本発明を適用した表示装置である実施形態３の液晶表示装置の概略構成を説明するための図である。
【図７】従来の液晶表示装置に中間調画像を表示させた場合を説明するための図である。
【図８】従来の液晶表示装置の概略構成を説明するための図である。
【符号の説明】
【０１１７】
ＧＬ・・・ゲート線、ＤＬ・・・ドレイン線、ＣＬ・・・コモン線、ＡＲ・・・表示領域
ＰＸ・・・画素電極、ＣＴ・・・対向電極、ＷＤ・・・窓部、ＰＤ・・・パッド部
ＪＣ・・・接続部、ＴＦＴ・・・薄膜トランジスタ、Ｌ１〜Ｌ４・・・間隔
ＳＵＢ１，ＳＵＢ２・・・第１基板、第２基板、ＧＩ・・・絶縁膜、ＰＡＳ・・・保護膜
ＳＴ・・・ソース電極、ＤＴ・・・ドレイン電極、ＡＳ・・・半導体層
ＯＲＩ１・・・配向膜、ａ−Ｓｉ・・・アモルファスシリコン
ＳＬ１・・・第１シール材、ＳＬ２・・・第２シール材
ＪＤＬ・・・ドレイン迂回配線、ＪＧＬ・・・ゲート迂回配線
ＳＣＮ（Ｈ）・・・半導体装置、ＳＣＮ（Ｖ）・・・半導体装置
ＡＳ’・・・アモルファスシリコン層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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