(57)【要約】【課題】導電性メッシュを有する導電層上に機能層を塗工するときに起こる課題、即ち、導電性メッシュの脱落、再付着によって引き起こされる機能層の異物欠点を改良する。【解決手段】基材上に、導電性メッシュを有する導電層、及び保護フィルムをこの順に有する積層体の前記保護フィルムを剥離した後、前記導電層上に機能性表面層を塗工するディスプレイ用フィルターの製造方法であって、前記機能性表面層を塗工する前でかつ前記積層体の導電層側の面が接触する最後の搬送ローラを通過後に、前記保護フィルムを剥離することを特徴とする、ディスプレイ用フィルターの製造方法。【選択図】図１
2010054910.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材上に、導電性メッシュを有する導電層、及び保護フィルムをこの順に有する積層体の前記保護フィルムを剥離した後、前記導電層上に機能性表面層を塗工するディスプレイ用フィルターの製造方法であって、
前記機能性表面層を塗工する前で、かつ前記積層体の基材に対して導電層側の面が接触する最後の搬送ローラを通過後に、前記保護フィルムを剥離することを特徴とする、ディスプレイ用フィルターの製造方法。
【請求項２】
前記機能性表面層が、反射防止機能、防眩機能、ハードコート機能、及び防汚機能の中から選ばれる少なくとも１つの機能を有する、請求項１に記載のディスプレイ用フィルターの製造方法。
【請求項３】
前記機能性表面層が、スロットダイコーターで塗工される、請求項１または２に記載のディスプレイ用フィルターの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ディスプレイ用フィルターの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイ（以下、ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（以下、ＰＤＰ）などのディスプレイは、明瞭なフルカラー表示が可能な表示装置である。ディスプレイには、通常、外光の反射の防止、ディスプレイから発生する電磁波の遮蔽、ディスプレイの保護などを目的とした前面フィルター（以降、単にフィルターと称す）がディスプレイの視認側に配置される。特にＰＤＰはその構造や動作原理上、強度な電磁波が発生するため、人体や他の機器に与える影響が懸念され、日本ではＶＣＣＩ（情報処理装置等電波障害自主規制協議会）、米国ではＦＣＣ（米国連邦通信委員会）等の基準値内に抑えることが規格化されている。
【０００３】
一方、プラズマディスプレイの低価格化に伴って、フィルターも年々低価格化しており、コストダウンの要求も厳しくなっている。一般的なフィルターは、プラスチックフィルム等の基材上に、ハードコート層、反射防止層、防眩層等の機能層を有する光学機能性フィルムと、プラスチックフィルム等の基材上に導電層（電磁波遮蔽層）が形成された電磁波遮蔽フィルムとを接着層を介して積層して形成されるが、この２枚の基材からなるフィルターに対して、１枚のみの基材で構成することによって低価格化が可能となる。
【０００４】
１枚のみの基材からなるフィルターの１つの構成として、基材上に形成された導電性メッシュからなる導電層を被覆するようにハードコート層や反射防止層等の機能層を配置する態様が挙げられる。導電性メッシュは、スパッタや真空蒸着で形成された金属薄膜に比べて、低抵抗の導電層を比較的低コストで得られるということから好ましく用いられている。また、上記構成の１枚基材フィルターの製造において、生産効率の観点から導電性メッシュ上に機能層を直接塗工形成することが好ましい。
【０００５】
導電性メッシュからなる導電層を硬化性皮膜で被覆したフィルターが知られている。例えば、導電性メッシュ上にハードコート、防眩性層あるいは反射防止層等の硬化層が直接に配置された透明導電性ハードコートフィルム及びディスプレイ用光学フィルターが特許文献１及び２に記載されており、また、導電性メッシュを硬化塗膜で被覆した電磁波遮蔽部材が特許文献３に記載されている。
【０００６】
一方、導電層（電磁波遮蔽層）の保護のために導電層上に保護フィルムを積層することが知られている（例えば特許文献４）。
【特許文献１】特開２００７−１４０２８２号公報
【特許文献２】特開２００７−２４３１５８号公報
【特許文献３】特開２００６−２１０５７２号公報
【特許文献４】特開２００３−１８８５７６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
上述した、導電性メッシュを有する導電層上に硬化性皮膜等の機能層を塗工する場合、長尺状基材の長手方向に導電層が連続的もしくは断続的に設けられた長尺積層体を用いて、機能層を連続的に塗工することが生産効率を高める上で好ましい。長尺積層体を用いた機能層の塗工工程では、通常、ロール状の長尺積層体を巻き出した後、搬送ローラで長尺積層体を機能層の塗工装置まで搬送することが行なわれる。この搬送ローラは、長尺積層体の張力を制御するという観点から、通常、長尺積層体を支持するように、長尺積層体の両面にそれぞれ接触する搬送ローラが適当な間隔で適宜配置される。
上記の導電層が設けられた長尺積層体の搬送過程において、導電層側に接触する搬送ローラによって、導電層を構成する導電性メッシュの一部が脱落し、また再付着して、導電層上に塗工される機能層の異物欠点を引き起こす原因となることが新たに判明した。
上述の特許文献１〜３には、上記の課題及び導電層上に保護フィルムを積層することは記載されていない。また特許文献４は、導電層上に保護フィルムを積層するという発明であるが、上記の課題及び導電層上に機能層を塗工することは記載されていない。
従って、本発明の目的は、導電性メッシュを有する導電層上に機能層を塗工するときに起こる課題、即ち、導電性メッシュの脱落、再付着によって引き起こされる機能層の異物欠点を改良することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の上記目的は、以下の発明によって基本的に達成された。
１）基材上に、導電性メッシュを有する導電層、及び保護フィルムをこの順に有する積層体の前記保護フィルムを剥離した後、前記導電層上に機能性表面層を塗工するディスプレイ用フィルターの製造方法であって、
前記機能性表面層を塗工する前で、かつ前記積層体の基材に対して導電層側の面が接触する最後の搬送ローラを通過後に、前記保護フィルムを剥離することを特徴とする、ディスプレイ用フィルターの製造方法。
２）前記機能性表面層が、反射防止機能、防眩機能、ハードコート機能、及び防汚機能の中から選ばれる少なくとも１つの機能を有する、前記１）に記載のディスプレイ用フィルターの製造方法。
３）前記機能性表面層が、スロットダイコーターで塗工される、前記１）または２）に記載のディスプレイ用フィルターの製造方法。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、導電性メッシュを有する導電層に機能性表面層を塗工形成するディスプレイ用フィルターの製造方法において、導電性メッシュの脱落、再付着に起因する機能性表面層の異物欠陥の発生が解消される。また、本発明によれば、導電層上に機能性表面層を連続塗工することによって、生産効率が大幅に向上し、さらに加えて、ディスプレイ用フィルターを１枚のみの基材で構成することが可能となり、ディスプレイ用フィルターの低価格化が図られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
本発明のディスプレイ用フィルターの製造方法は、基材上に設けられた導電性メッシュを有する導電層上に機能性表面層を塗工するに際し、基材上に、導電層、及び保護フィルムをこの順に有する積層体を用い、機能性表面層の塗工工程において、この積層体が機能性表面層の塗布に至るまでの搬送過程の中で、積層体の基材に対して導電層側の面が接触する最後の搬送ローラを通過後に保護フィルムを剥離することを特徴とする。
【００１１】
即ち、本発明は、導電層上に機能性表面層を塗工する工程において、導電層上に保護フィルムが積層された状態で機能性表面層の塗工装置近傍まで搬送し、塗工装置に最も近い位置に設置された、積層体の基材に対して導電層側の面と接触する搬送ローラを通過後で、かつ機能性表面層の塗布装置に到達するまでに、保護フィルムを剥離する。
【００１２】
本発明において、基材上に導電層と保護フィルムが積層された積層体は、長尺状の基材の長手方向に導電層が連続的もしくは断続的に設けられ、更に導電層上に保護フィルムが積層された長尺積層体である。ここで、長尺積層体の長手方向の長さは、３０〜３０００ｍの範囲が適当であり、５０〜２０００ｍの範囲が好ましい。長尺積層体の幅方向の長さは、４２インチサイズのディスプレイ用フィルターの短辺側の長さ以上であることが好ましく、従って６００ｍｍ以上が好ましい。長尺積層体の幅方向長さの上限は、導電性メッシュを有する導電層の製造設備や機能性表面層の塗工装置の許容幅を考慮し、２０００ｍｍ程度が適当である。
【００１３】
上記の長尺積層体は、ロール状態で機能性表面層の塗工工程に供給され、ロール状長尺積層体の巻き出し、搬送ローラによる長尺積層体の搬送、保護フィルムの剥離工程を経て、長尺積層体の導電層上に機能性表面層が連続塗布される。
【００１４】
以下、本発明に係るディスプレイ用フィルターの製造方法について、その実施態様を図面を用いて説明する。なお、ここに示す態様は、本発明の一例であり、本発明を限定するものではない。
【００１５】
図１は、本発明のディスプレイ用フィルターの製造工程における機能性表面層の塗工工程周辺の模式図である。
【００１６】
ロール状長尺積層体の巻き出し部（図示せず）で巻き出された長尺積層体１０は、その裏面（導電層を有する側の面とは反対面）に接触して支持する搬送ローラ２０、同じく表面（導電層と保護フィルムを有する側の面）に接触して支持する搬送ローラ２１を経て機能性表面層の塗布装置３０に供給されて導電層上に塗布される。ここで、長尺積層体１０は、基材上に導電層と保護フィルムが順に積層されたものである。
搬送ローラ２１は、ロール状長尺積層体が巻き出されてから塗布装置３０に到達する搬送工程の中で、長尺積層体１０の保護フィルムが接触する最後の搬送ローラである。
【００１７】
従って、長尺積層体１０が、搬送ローラ２１を通過後で塗布装置３０に到達するまでに、保護フィルムが剥離される。この実施態様では、長尺積層体１０が搬送ローラ２１を通過直後に保護フィルム１１が剥離されている。剥離された保護フィルム１１は、巻き取り部２２でロール状に巻き取られる。
【００１８】
保護フィルム１１が剥離された長尺積層体１００は、塗布装置３０で導電層上に機能性表面層が塗布され、乾燥、必要に応じて硬化された後、巻き取られる。図１には、乾燥工程、硬化工程、巻き取り工程は図示していない。
【００１９】
この態様において、機能性表面層の塗布装置としてスロットダイコーターを用いたが、他の塗布装置、例えば、マイクログラビアコーター、ディップコーター、スピンコーター、リーバースコーター、ロッドコーター、バーコーター、スプレーコーター、ロールコーター等の公知の塗布装置を用いることができる。
【００２０】
本発明における機能性表面層の塗布装置としては、導電層に非接触で機能性表面層を塗工することができる塗布装置が、塗工時の導電性メッシュの削れ・脱落を軽減するという観点から好ましく、従って、非接触の塗工装置であるスロットダイコーターが好ましい。
【００２１】
また、図１では、ロール状長尺積層体が巻き出されてから塗布装置３０に到達する搬送工程の中で、長尺積層体の裏面側の搬送ローラと表面側の搬送ローラをそれぞれ１本ずつ図示しているが、搬送ローラの設置数、設置個所、及び搬送ローラのロール径は、使用する搬送工程に応じて適宜設定される。
【００２２】
以下に本発明のディスプレイ用フィルターを構成する各材料、及び形成方法を説明する。
本発明にかかる機能性表面層は、本発明のディスプレイ用フィルターをディスプレイに装着したときに視認側（観賞側）の最表面となる層である。
本発明にかかる機能性表面層は、反射防止機能、防眩機能、ハードコート機能、及び防汚機能の中から選ばれる少なくとも１つの機能を有することが好ましい。特に、機能性表面層が、ハードコート機能を少なくとも含むことが好ましい。上記機能性表面層は単一層であっても複数層で構成されていてもよく、また複数の機能を併せ持った層であってもよい。
【００２３】
以下に機能性表面層を構成する反射防止機能、防眩機能、ハードコート機能、防汚機能を有する層について具体的に説明する。
【００２４】
反射防止機能を有する層（反射防止層）は、ディスプレイの画像表示に影響を与える蛍光灯などの外光の反射や映り込みを防止するものである。反射防止層は、表面の視感反射率が５％以下であることが好ましく、４％以下がより好ましく、特に３％以下であることが好ましい。ここで視感反射率は、分光光度計等を使用して可視領域波長（３８０〜７８０ｎｍ）の反射率を測定し、ＣＩＥ１９３１システムに準じて計算された視感反射率（Ｙ）である。
【００２５】
このような反射防止層としては、高屈折率層と低屈折率層とを低屈折率層が視認側になるように２層以上積層したものを用いることができる。高屈折率層の屈折率は１．５〜１．７５の範囲が好ましく、特に１．５５〜１．７０の範囲が好ましい。低屈折率層の屈折率は１．２５〜１．４９の範囲が好ましく、特に１．３〜１．４５の範囲が好ましい。
【００２６】
高屈折率層を形成する材料としては、ウレタン（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレートなどを重合硬化させたもの、あるいはシリコーン系、メラミン系、エポキシ系の架橋性樹脂原料を架橋硬化させたもの等の有機系材料、酸化インジウムを主成分としこれに二酸化チタンなどを少量含ませたもの、あるいはＡｌ2 Ｏ3 、ＭｇＯ、ＴｉＯ2 等の無機系材料が挙げられる。これらの中でも、有機系材料が好ましく用いられる。以下に本発明の高屈折率層の好ましい態様を説明する。
【００２７】
本発明において、高屈折率層は、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、メラミン系樹脂、有機シリケート化合物、シリコーン系樹脂、含リン系樹脂、含スルフィド樹脂、含ハロゲン樹脂などの樹脂成分を単体または混合系で用いることが出来るが、特に、硬度と耐久性などの点から、シリコーン系樹脂やアクリル系樹脂を用いるのが好ましい。さらに、硬化性、可撓性および生産性の点から、活性エネルギー線硬化型のアクリル系樹脂、または熱硬化型のアクリル系樹脂が好ましい。特に、（メタ）アクリレート系樹脂は、活性エネルギー線照射によって容易にラジカル重合が起こり、形成される膜の耐溶剤性や硬度が向上するので好ましい。
【００２８】
かかる（メタ）アクリレート系樹脂として、例えばペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、グリセロールトリ（メタ）アクリレート、エチレン変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス−（２−ヒドロキシエチル）−イソシアヌル酸エステルトリ（メタ）アクリレート等の３官能（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の４官能以上の（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００２９】
高屈折率層には、更にカルボキシル基、リン酸基、スルホン酸基等の酸性官能基を有する（メタ）アクリレート化合物（モノマー）を使用することができる。具体的には、酸性官能基含有モノマーとしては、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルコハク酸、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルフタル酸などの不飽和カルボン酸、モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）アシッドホスフェート、ジフェニル−２−（メタ）アクリロイルオキシエチルホスフェート等のリン酸（メタ）アクリル酸エステル、２−スルホエステル（メタ）アクリレート等が挙げられる。その他、アミド結合、ウレタン結合、エーテル結合などの極性を持った結合を有する（メタ）アクリレート化合物を使用することができる。
【００３０】
高屈折率層には、塗布した樹脂成分の硬化を進めるために開始剤を含有させてもよい。該開始剤としては、塗布した樹脂成分を、ラジカル反応、アニオン反応、カチオン反応等による重合および／または架橋反応を開始あるいは促進せしめるものであり、従来から公知の各種光重合開始剤が使用可能である。
【００３１】
かかる光重合開始剤としては、具体的には、ソジウムメチルジチオカーバメイトサルファイド、ジフェニルモノサルファイド、ジベンゾチアゾイルモノサルファイド及びジサルファイド等のサルファイド類や、チオキサントン、２−エチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン等のチオキサントン誘導体や、ヒドラゾン、アゾビスイソブチロニトリル等のアゾ化合物や、ベンゼンジアゾニウム塩等のジアゾ化合物や、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾフェノン、ジメチルアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンジルアントラキノン、ｔ−ブチルアントラキノン、２−メチルアントラキノン、２−エチルアントラキノン、２−アミノアントラキノン、２−クロロアントラキノン等の芳香族カルボニル化合物や、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸メチル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル、Ｄ−ジメチルアミノ安息香酸ブチル、ｐ−ジエチルアミノ安息香酸イソプロピル等のジアルキルアミノ安息香酸エステルや、ベンゾイルパーオキサイド、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド等の過酸化物や、９−フェニルアクリジン、９−ｐ−メトキシフェニルアクリジン、９−アセチルアミノアクリジン、ベンズアクリジン等のアクリジン誘導体や、９，１０−ジメチルベンズフェナジン、９−メチルベンズフェナジン、１０−メトキシベンズフェナジン等のフェナジン誘導体や、６，４’，４”−トリメトキシ−２、３−ジフェニルキノキサリン等のキノキサリン誘導体や、２，４，５−トリフェニルイミダゾイル二量体、２−ニトロフルオレン、２，４，６−トリフェニルピリリウム四弗化ホウ素塩、２，４，６−トリス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、３，３’−カルボニルビスクマリン、チオミヒラーケトン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシド、オリゴ（２−ヒドロキシ−２−メチル−１−（４−（１−メチルビニル）フェニル）プロパノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン等が挙げられる。
【００３２】
また、高屈折率層には、上記開始剤の酸素阻害による感度の低下を防止するために、光重合開始剤にアミン化合物を共存させてもよい。このようなアミン化合物としては、例えば、脂肪族アミン化合物や、芳香族アミン化合物等の不揮発性のものであれば、特に限定されないが、例えば、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン等が好ましい。
【００３３】
また、高屈折率層には、屈折率を高めるために金属酸化物微粒子を含有させることが好ましい。また、金属酸化物微粒子を含有させることによって帯電防止効果も得られる。金属酸化物微粒子としては、屈折率が１．６以上のものが好ましく用いられる。係る金属酸化物微粒子としては、例えば、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化アンチモン、酸化セリウム、酸化鉄、アンチモン酸亜鉛、酸化錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、アンチモンドープ酸化錫（ＡＴＯ）、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、フッ素ドープ酸化錫等が挙げられ、これらの金属酸化物微粒子は単独で用いても良いし、複数併用しても良い。また、金属酸化物粒子の屈折率の上限は、価格および入手の容易さなどから３以下が好ましい。さらに好ましい範囲としては、１．７以上２．８以下である。
【００３４】
金属酸化物微粒子の平均一次粒子径としては、２００ｎｍ以下が好ましく、更に好ましい金属酸化物微粒子の平均一次粒子径は、３〜１５０ｎｍの範囲である。なお、本発明の平均一次粒子径とは、金属酸化物微粒子が単独で存在した場合の粒子径を示し、最も頻度の高い粒子径を示すものをいう。金属酸化物微粒子の平均一次粒子径は、動的光散乱法を用いて測定することができる。具体的には、日機装株式会社製「ナノトラック」を用いて測定することができる。
【００３５】
高屈折率層中の金属酸化物粒子の含有量は、樹脂成分１００質量％に対して、５〜９０質量％の範囲が好ましい。
更に、高屈折率層には、重合禁止剤、硬化触媒、酸化防止剤、分散剤等の各種添加剤を含有することができる。
【００３６】
高屈折率層の厚みは、０．０５〜１０μｍの範囲が好ましく、０．０８〜５μｍの範囲がより好ましい。
【００３７】
反射防止層を構成する低屈折率層は、含フッ素ポリマー、（メタ）アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル、含フッ素シリコーン等の有機系材料、ＭｇＦ2 、ＣａＦ2 、ＳｉＯ2 等の無機系材料で構成することができる。以下に低屈折率層の好ましい態様を例示する。
【００３８】
低屈折率層の１つの好ましい態様として、ＭｇＦ2やＳｉＯ2等の薄膜を真空蒸着法やスパッタリング、プラズマＣＶＤ法等の気相法により形成する方法、或いはＳｉＯ2ゾルを含むゾル液からＳｉＯ2ゲル膜を形成する方法等が挙げられる。
【００３９】
低屈折率層の他の好ましい態様として、シリカ系微粒子と結合してなるシロキサンポリマーを主成分とする構成を採用することができる。なお、ここで言う「結合」とは、シリカ系微粒子のシリカ成分とマトリックスのシロキサンポリマーが反応して均質化している状態を意味する。シリカ系微粒子と結合してなるシロキサンポリマーは、該シリカ系微粒子の存在下、多官能性シラン化合物を溶剤中、酸触媒により、公知の加水分解反応によって、一旦シラノール化合物を形成し、公知の縮合反応を利用することによって得ることができる。
【００４０】
かかる多官能性シラン化合物としては、多官能性フッ素含有シラン化合物を含むことが低屈折率化、防汚性の点から好ましく、トリフルオロメチルメトキシシラン、トリフルオロメチルエトキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリエトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリエトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリエトキシシランなどの３官能性フッ素含有シラン化合物、ヘプタデカフルオロデシルメチルジメトキシシランなどの２官能性フッ素含有シラン化合物などが挙げられ、いずれも好適に用いられるが、表面硬度の観点から、トリフルオロメチルメトキシシラン、トリフルオロメチルエトキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリエトキシシランが、より好ましい。
【００４１】
多官能性シラン化合物として多官能性フッ素非含有シラン化合物を用いることができる。かかる多官能性フッ素非含有シラン化合物としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、オクタデシルトリメトキシシラン、オクタデシルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−（Ｎ，Ｎ−ジグリシジル）アミノプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシシプロピルトリメトキシシランなどの３官能性シラン化合物、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、メチルフェニルジメトキシシラン、メチルビニルジメトキシシラン、メチルビニルジエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、３−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、３−クロロプロピルメチルジエトキシシラン、シクロヘキシルメチルジメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルジメトキシシラン、オクタデシルメチルジメトキシシランなどの２官能性シラン化合物、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシランなどの４官能性シラン化合物などが挙げられ、いずれも好適に用いられるが、表面硬度の観点からビニルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシランが、より好ましい。
【００４２】
また、上述のシリカ系微粒子としては、平均粒子径１ｎｍ〜２００ｎｍのシリカ系微粒子であることが好ましく、特に好ましくは、平均粒子径１ｎｍ〜７０ｎｍである。平均粒子径が１ｎｍを下回ると、マトリックス材料との結合が不十分となり、硬度が低下することがある。一方、平均粒子径が２００ｎｍを越えると、粒子を多く導入して生じる粒子間の空隙の発生が少なくなり、低屈折率化の効果が十分発現しないことがある。さらに、かかるシリカ系微粒子の中でも、内部に空洞を有する構造のものが、屈折率を低下させるために、特に好ましく使用される。
【００４３】
かかる内部に空洞を有するシリカ系微粒子とは、外殻によって包囲された空洞部を有するシリカ系微粒子、多数の空洞部を有する多孔質のシリカ系微粒子等が挙げられ、いずれも好適に用いられる。このような例としては例えば、特許第３２７２１１１号公報に開示されている方法によって製造でき、微粒子内部の空洞の占める体積、すなわち微粒子の空隙率としては、５％以上が好ましく、３０％以上がさらに好ましい。空隙率は、例えば、水銀ポロシメーター（商品名：ボアサイザー９３２０−ＰＣ２、（株）島津製作所製）を用いて測定することができる。また、該微粒子自体の屈折率は、１．２０〜１．４０であるのが好ましく、１．２０〜１．３５であるのがより好ましい。このようなシリカ系微粒子としては、例えば特開２００１−２３３６１１号公報に開示されているものや、特許第３２７２１１１号公報等の一般に市販されているものを挙げることができる。
【００４４】
低屈折率層の厚みは、０．０１〜０．４μｍの範囲が好ましく、０．０２〜０．２μｍの範囲がより好ましい。
【００４５】
防眩機能を有する層（防眩層）は、画像のギラツキを防止するものであり、表面に微小な凹凸を有する膜が好ましく用いられる。防眩層としては、例えば、熱硬化型樹脂または光硬化型樹脂に、平均粒子径が１〜１０μｍ程度の粒子を分散させて支持体上に塗布および硬化させたもの、あるいは、熱硬化型樹脂または光硬化型樹脂を表面に塗布し、所望の表面状態を有する型を押し付けて凹凸を形成した後に硬化させたものなどが用いられる。防眩層は、ヘイズ値（ＪＩＳ Ｋ ７１３６；２０００年）が０．５〜２０％であることが好ましい。また、防眩層表面の中心線平均粗さＲａ値は、１００〜１０００ｎｍの範囲が好ましく、特に２００〜７００ｎｍの範囲が好ましい。ここで中心線平均粗さＲａ値は、ＪＩＳ  Ｂ０６０１−１９８２の方法に基づき、表面粗さ測定器ＳＥ―３４００（（株）小坂研究所製）を用いて測定することができる。
【００４６】
本発明の機能層として、反射防止機能と防眩機能を併せ持つ層を用いることは好ましい態様の１つである。
【００４７】
ハードコート機能を有する層（ハードコート層）は、傷防止のために設けられる。ハードコート層は硬度が高いことが好ましく、ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−４（１９９９年）で定義される鉛筆硬度が、Ｈ以上が好ましく、２Ｈ以上がより好ましい。上限は９Ｈ程度である。
【００４８】
ハードコート層は、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、有機シリケート化合物、シリコーン系樹脂などで構成することができる。特に、硬度と耐久性などの点で、シリコーン系樹脂やアクリル系樹脂が好ましい。さらに、硬化性、可撓性および生産性の点で、活性エネルギー線硬化型のアクリル系樹脂、または熱硬化型のアクリル系樹脂からなるものが好ましい。
【００４９】
活性エネルギー線硬化型のアクリル系樹脂または熱硬化型のアクリル系樹脂とは、重合硬化成分として多官能アクリレート、アクリルオリゴマーあるいは反応性希釈剤を含む組成物である。その他に必要に応じて光開始剤、光増感剤、熱重合開始剤あるいは改質剤等を含有しているものを用いてもよい。
【００５０】
アクリルオリゴマーとは、アクリル系樹脂骨格に反応性のアクリル基が結合されたものを始めとして、ポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエーテルアクリレートなどであり、また、メラミンやイソシアヌール酸などの剛直な骨格にアクリル基を結合したものなども用いることができる。
【００５１】
また、反応性希釈剤とは、塗布剤の媒体として塗布工程での溶剤の機能を担うと共に、それ自体が一官能性あるいは多官能性のアクリルオリゴマーと反応する基を有し、塗膜の共重合成分となるものである。
【００５２】
また、市販されている多官能アクリル系硬化塗料としては、三菱レイヨン株式会社；（商品名“ダイヤビーム（登録商標）”シリーズなど）、長瀬産業株式会社；（商品名“デナコール（登録商標）”シリーズなど）、新中村株式会社；（商品名“ＮＫエステル”シリーズなど）、大日本インキ化学工業株式会社；（商品名“ＵＮＩＤＩＣ（登録商標）”シリーズなど）、東亜合成化学工業株式会社；（商品名“アロニックス（登録商標）”シリーズなど）、日本油脂株式会社；（商品名“ブレンマー（登録商標）”シリーズなど）、日本化薬株式会社；（商品名“ＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）”シリーズなど）、共栄社化学株式会社；（商品名“ライトエステル”シリーズ、“ライトアクリレート”シリーズなど）などの製品を利用することができる。
【００５３】
ハードコート層形成組成物を構成するアクリル化合物の代表的なものを例示すると、１分子中に３個以上、より好ましくは４個以上、さらに好ましくは５個以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する単量体およびプレポリマーの少なくとも１種と、１分子中に１〜２個のエチレン性不飽和二重結合を有する単量体の少なくとも１種とからなる混合物を主たる構成成分とし、活性エネルギー線硬化または熱硬化によって得られるハードコート層が、硬度、耐摩耗性および可撓性に優れている点で好ましく用いられる。（メタ）アクリロイルオキシ基が多すぎる場合には、単量体は高粘度となり取り扱いし難くなり、また、高分子量とならざるを得なくなって塗布液として用いることが困難となるので、１分子中の（メタ）アクリロイルオキシ基は好ましくは１０個以下である。
【００５４】
１分子中に３個以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する単量体およびプレポリマーとしては、１分子中に３個以上のアルコール性水酸基を有する多価アルコールの該水酸基が、３個以上の（メタ）アクリル酸のエステル化物となっている化合物などを挙げることができる。具体的な例としては、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ペンタエリスリトールトリアクリレートトルエンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ペンタエリスリトールトリアクリレートイソホロンジイソシアネートウレタンプレポリマーなどを用いることができる。これらの単量体およびプレポリマーは、１種または２種以上を混合して使用することができる。特にこれらの内、少なくともひとつの水酸基を有する多官能アクリレート化合物は、後述するイソシアネートとの併用により、ハードコート層と隣接層との接着性を向上させることができるので特に好ましい。
【００５５】
これらの１分子中に３個以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する単量体およびプレポリマーの使用割合は、ハードコート層形成組成物総量に対して２０〜９０質量％が好ましく、より好ましくは３０〜８０質量％、最も好ましくは３０〜７０質量％である。
【００５６】
上記１分子中に３個以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する単量体およびプレポリマーの使用割合が、ハードコート層形成組成物総量に対して２０質量％未満の場合には、十分な耐摩耗性を有する硬化被膜を得るという点で不十分な場合がある。また、上記１分子中に３個以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する単量体およびプレポリマーの使用割合が、ハードコート層形成組成物総量に対して９０質量％を超える場合は、硬化による収縮が大きく、硬化被膜に歪が残ったり、被膜の可撓性が低下したり、硬化被膜側に大きくカールするなどの不都合を招く場合がある。
【００５７】
また、これらの内、少なくともひとつの水酸基を有する多官能アクリレート化合物の使用割合は、ハードコート層形成組成物総量に対して１０〜８０質量％が好ましく、より好ましくは２０〜７０質量％、最も好ましくは３０〜６０質量％である。少なくともひとつの水酸基を有する多官能アクリレート化合物の使用割合が、ハードコート層形成組成物総量に対して１０質量％未満の場合には、ハードコート層とその隣接層との接着性を向上させる効果が小さい場合がある。少なくともひとつの水酸基を有する多官能アクリレート化合物の使用割合が、ハードコート層形成組成物総量に対して８０質量％を超える場合は、ハードコート層内の架橋密度が低下して、ハードコート層の硬度が低下する傾向がある。
次に、１分子中に１〜２個のエチレン性不飽和二重結合を有する単量体としては、ラジカル重合性のある通常の単量体ならば特に限定されずに使用することができる。
【００５８】
また、分子内に２個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物としては、下記（ａ）〜（ｆ）の（メタ）アクリレート等を用いることができる。
【００５９】
すなわち、（ａ）炭素数２〜１２のアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類：エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレートなど；
（ｂ）ポリオキシアルキレングリコールの（メタ）アクリレート酸ジエステル類：ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレートなど；
（ｃ）多価アルコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類：ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレートなど；
（ｄ）ビスフェノールＡあるいはビスフェノールＡの水素化物のエチレンオキシドおよびプロピレンオキシド付加物の（メタ）アクリル酸ジエステル類：２，２’−ビス（４−アクリロキシエトキシフェニル）プロパン、２，２’−ビス（４−アクリロキシプロポキシフェニル）プロパンなど；
（ｅ）ジイソシアネート化合物と２個以上のアルコール性水酸基含有化合物を予め反応させて得られる末端イソシアネート基含有化合物に、さらにアルコール性水酸基含有（メタ）アクリレートを反応させて得られる分子内に２個の（メタ）アクリロイルオキシ基を有するウレタン（メタ）アクリレート類など、および；
（ｆ）分子内に２個以上のエポキシ基を有する化合物にアクリル酸またはメタクリル酸を反応させて得られる分子内に２個の（メタ）アクリロイルオキシ基を有するエポキシ（メタ）アクリレート類など。
【００６０】
分子内に１個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−およびｉ−プロピル（メタ）アクリレート、ｎ−、ｓｅｃ−、およびｔ−ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、メトキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、Ｎ−ヒドロキシエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニル−３−メチルピロリドン、Ｎ−ビニル−５−メチルピロリドンなどを用いることができる。これらの単量体は、１種または２種以上混合して使用してもよい。
【００６１】
これらの１分子中に１〜２個のエチレン性不飽和二重結合を有する単量体の使用割合は、ハードコート層形成組成物総量に対して１０〜５０質量％が好ましく、より好ましくは２０〜４０質量％である。１分子中に１〜２個のエチレン性不飽和二重結合を有する単量体の使用割合が、ハードコート層形成組成物総量に対して５０質量％を超える場合には、十分な耐摩耗性を有する硬化被膜が得られにくくなる場合がある。また、１分子中に１〜２個のエチレン性不飽和二重結合を有する単量体の使用割合が、ハードコート層形成組成物総量に対して１０質量％未満の場合には、被膜の可撓性が低下したり、基材フィルム上に設けた積層膜との接着性が低下する場合がある。
【００６２】
本発明において、ハードコート形成組成物を硬化させる方法としては、例えば、活性エネルギー線として紫外線を照射する方法や高温加熱法等を用いることができる。これらの方法を用いる場合には、前記ハードコート層形成組成物に、光重合開始剤または熱重合開始剤等を加えることが望ましい。
【００６３】
光重合開始剤の具体的な例としては、アセトフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、ｐ−ジメチルアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノプロピオフェノン、ベンゾフェノン、２−クロロベンゾフェノン、４，４’−ジクロロベンゾフェノン、４，４’−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、メチルベンゾイルフォルメート、ｐ−イソプロピル−α−ヒドロキシイソブチルフェノン、α−ヒドロキシイソブチルフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンなどのカルボニル化合物、テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド、チオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−メチルチオキサントンなどの硫黄化合物などを用いることができる。これらの光重合開始剤は単独で使用してもよいし、２種以上組み合せて用いてもよい。また、熱重合開始剤としては、ベンゾイルパーオキサイドまたはジ−ｔ−ブチルパーオキサイドなどのパーオキサイド化合物などを用いることができる。
【００６４】
光重合開始剤または熱重合開始剤の使用量は、ハードコート層形成組成物総量に対して０．０１〜１０質量％が適当である。電子線またはガンマ線を硬化手段とする場合には、必ずしも重合開始剤を添加する必要はない。また２２０℃以上の高温で熱硬化させる場合には、熱重合開始剤の添加は必ずしも必要ではない。
【００６５】
本発明におけるハードコート層形成組成物は、ポリイソシアネート化合物を含有していることが好ましい。ポリイソシアネート化合物としては、例えば、２，４−および／または２，６−トリレンジイソシアネート、４，４'−ジフェニルメタンジイソシアネート（ＭＤＩ）、ポリメリックＭＤＩ、１，５−ナフチレンジイソシアネート、トリジンジイソシアネート、１，６−ヘキサメチレンジイソシアネート（ＨＤＩ）、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート（ＸＤＩ）、水添ＸＤＩ、水添ＭＤＩ、リジンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート、トリス（イソシアネートフェニル）チオフォスフェート等の少なくとも２量体以上のものが挙げられる。これらポリイソシアネート化合物は、単独または２種以上を混合して使用することができる。
【００６６】
これらのポリイソシアネート化合物および／またはその誘導体は、前記したハードコート層形成組成物に混合されて塗布される。上記ポリイソシアネート化合物および／またはその誘導体の配合量は、接着性、表面硬度、耐湿熱性および虹彩模様低減の点で、ハードコート層形成組成物総量に対し、好ましくは０．５〜５０質量％、より好ましくは１〜３０質量％、さらに好ましくは３〜２０質量％である。上記ポリイソシアネート化合物および／またはその誘導体の配合量が、ハードコート層形成組成物総量に対して０．５質量％未満の場合には、接着性向上効果が不足したり、虹彩模様の低減が不十分な場合があり、またポリイソシアネート化合物および／またはその誘導体の配合量が、ハードコート層形成組成物総量に対して５０質量％を超えると、表面硬度が低下する場合がある。
【００６７】
上記ポリイソシアネートを添加したハードコート層形成組成物は、その硬化効率を高める目的で有機金属系触媒を含有させることも好ましい。
【００６８】
有機金属系触媒は、特に限定されるものではなく、有機錫化合物、有機アルミニウム化合物、有機４Ａ族元素（チタン、ジルコニウムまたはハフニウム）化合物などが挙げられるが、安全性を考慮した場合、非錫系金属触媒である有機ジルコニウム化合物、有機アルミニウム化合物、および、有機チタン化合物から選ばれたものが好ましく適用される。有機錫化合物としては、テトラブチル錫、テトラオクチル錫、ジブチル錫ジクロライド、ジブチル錫ジラウリレートなどのジブチル錫脂肪酸塩、ジオクチル錫ジラウリレートなどのジオクチル錫脂肪酸塩が例示できる。
【００６９】
有機ジルコニウム化合物、有機アルミニウム化合物、有機ハフニウム化合物、有機チタン化合物としては、これらの金属のオルトエステルとβ−ケトエステル（βジケトン）の反応生成物が例示され、具体的にはジルコニウムテトラ−ｎ−プロポキシド、ジルコニウムテトライソプロポキシド、ジルコニウムテトラ−ｎ−ブトキシド、チタンテトラ−ｎ−プロポキシド、チタンテトライソプロポキシド、チタンテトラ−ｎ−ブトキシド、アルミニウムテトラ−ｎ−プロポキシド、アルミニウムテトライソプロポキシド、アルミニウムテトラ−ｎ−ブトキシドなどの金属オルトエステルと、アセチルアセトン、メチルアセテート、エチルアセトアセテート、ｎ−プロピルアセトアセテート、イソプロピルアセトアセテート、ｔ−ブチルアセトアセテートなどのβケトエステル（βジケトン）との反応生成物を挙げることができる。金属オルトエステルとβジケトエステル（βジケトン）の混合モル比率は４：１〜１：４程度が好ましく、より好ましくは２：１〜１：４である。４：１より金属オルトエステルが多い場合は触媒の反応性が高すぎてポットライフが短くなりやすく、１：４よりβジケトエステルが多い場合は触媒活性が低下するため好ましい態様では無い。上記有機金属系触媒の配合量は、ハードコート形成組成物総量に対して０．００１〜１０質量％が好ましく、より好ましくは０．０１〜５質量％、さらに好ましくは０．０１〜２質量％である。上記有機金属系触媒の配合量が、ハードコート形成組成物総量に対して０．００１質量％より少ない場合には触媒添加効果が低く、１０質量％より多くすることは経済的見地から好ましくない。
【００７０】
上記したハードコート層形成組成物の好ましい態様としては、ハードコート層形成組成物総量に対して、少なくともひとつの水酸基を有する多官能アクリレート化合物１０〜８０質量％、イソシアネート化合物１〜３０質量％および必要に応じて有機金属系触媒０．００１から１０質量％の範囲とするのが望ましい。さらに必要に応じて１〜２個のエチレン性不飽和結合を有する単量体を０質量％以上５０質量％以下添加しても良い。
【００７１】
本発明において、ハードコート層中には、本発明の効果が損なわれない範囲で、さらに各種の添加剤を必要に応じて配合することができる。例えば、酸化防止剤、光安定剤、紫外線吸収剤などの安定剤、界面活性剤、レベリング剤および帯電防止剤などを用いることができる。
【００７２】
シリコーン系レベリング剤としては、ポリジメチルシロキサンを基本骨格とし、ポリオキシアルキレン基が付加されたものが好ましく、ジメチルポリシロキサン−ポリオキシアルキレン共重合体（例えば東レダウコーニング（株）製ＳＨ１９０）が好適である。
またハードコート層上にさらに積層膜を設ける場合には、接着性を阻害しないアクリル系レベリング剤を適用するのが好ましい。このようなレベリング剤としては「ＡＲＵＦＯＮ−ＵＰ１０００シリーズ、ＵＨ２０００シリーズ、ＵＣ３０００シリーズ（商品名）：東亜合成化学（株）製）などを好ましく用いることができる。レベリング剤の添加量はハードコート形成組成物総量に対して、０．０１〜５質量％の範囲とするのが望ましい。
【００７３】
本発明で用いられる活性エネルギー線としては、紫外線、電子線および放射線（α線、β線、γ線など）などアクリル系のビニル基を重合させる電磁波が挙げられ、実用的には、紫外線が簡便であり好ましい。紫外線源としては、紫外線蛍光灯、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノン灯、炭素アーク灯などを用いることができる。また、活性線を照射するときに、低酸素濃度下で照射を行なうと、効率よく硬化させることができる。またさらに、電子線方式は、装置が高価で不活性気体下での操作が必要ではあるが、塗布層中に光重合開始剤や光増感剤などを含有させなくてもよい点で有利である。
【００７４】
本発明で用いられる熱硬化に必要な熱としては、スチームヒーター、電気ヒーター、赤外線ヒーターあるいは遠赤外線ヒーターなどを用いて温度を少なくとも１４０℃以上に加温された空気、不活性ガスを、スリットノズルを用いて基材、塗膜に吹きあてることにより与えられる熱が挙げられ、中でも２００℃以上に加温された空気による熱が好ましく、さらに好ましくは２００℃以上に加温された窒素による熱であることが、硬化速度が早いので好ましい。
【００７５】
ハードコート層の厚さは、０．５〜２０μｍが好ましく、より好ましくは１〜１５μｍであり、特に２〜１０μｍが好ましい。ハードコート層の厚さが０．５μｍ未満の場合には十分硬化していても薄すぎるために、表面硬度が十分でなく、傷が付きやすくなる傾向にある。一方、ハードコート層の厚さが２０μｍを超える場合には、折り曲げなどの応力により、硬化膜にクラックが入りやすくなる傾向にある。
【００７６】
ハードコート層には、前述した反射防止層を構成する高屈折率層としての機能を付与することができる。ハードコート層の高屈折率化は、ハードコート層形成用樹脂組成物中に、前述した金属酸化物微粒子を添加することにより、あるいは高屈折率成分の分子や原子を含んだ樹脂を用いることにより図られる。
【００７７】
上記の屈折率を向上させる樹脂に含まれる分子及び原子としては、Ｆ以外のハロゲン原子、Ｓ、Ｎ、Ｐの原子、芳香族環等が挙げられる。
【００７８】
防汚機能を有する（防汚層）は、ディスプレイ用フィルターに、人が指で触ることによって油脂性物質が付着するのを防止したり、大気中のごみや埃が付着するのを防止したり、あるいはこれらの付着物が付着しても除去しやすくするための層である。かかる防汚層としては、例えば、フッ素系コート剤、シリコーン系コート剤、シリコン・フッ素系コート剤等が用いられる。防汚層の厚さは、１〜１０ｎｍの範囲が好ましい。
【００７９】
前述したように本発明の機能性表面層は単一層であっても、複数層であってもよい。複数構成の機能性表面層としては、ａ）ハードコート層／高屈折率層／低屈折率層、ｂ）高屈折率ハードコート層／低屈折率層、ｃ）ハードコート層／防眩層、ｄ）ハードコート層／防眩性反射防止層、等が例示される。尚、上記ａ）〜ｄ）の構成において、右側に記載の層が視認側に配置される。
【００８０】
また、機能性表面層が単一層の場合は、複数の機能を併せ持つのが好ましい。かかる単一層の例としては、ｅ）反射防止性ハードコート層（反射防止機能とハードコート機能を有する単一層）、ｆ）防眩性ハードコート層（防眩機能とハードコート機能を有する単一層、ｇ）防眩性反射防止ハードコート層（防眩機能と反射防止機能とハードコート機能を有する単一層）、ｈ）防眩性反射防止層（防眩機能と反射防止機能を有する単一層）、等が例示される。
【００８１】
防汚層は、上記した複数構成あるいは単一構成の表面に、これらの層の機能を阻害しない程度に、薄膜（１〜１０ｎｍ）で形成することができる。
【００８２】
本発明において、機能性表面層の厚み（乾燥厚み）は、１〜２０μｍの範囲が好ましく、２〜１５μｍの範囲がより好ましく、特に３〜１０μｍの範囲が好ましい。機能性表面層が複数層で構成されている場合は、複数層の合計の厚みが機能性表面層の厚みとなる。
【００８３】
本発明における導電層は、ディスプレイから発生する電磁波を遮蔽するための層であり、導電性メッシュを有する。導電層の面抵抗値は、低い方が好ましく、１０Ω／□以下が好ましく、５Ω／□以下がより好ましく、特に３Ω／□以下が好ましい。面抵抗の下限値は特に限定されないが０．０１Ω／□程度である。導電層の面抵抗値は、４端子法により測定することができる。
【００８４】
導電性メッシュは、スパッタ法や真空蒸着法等によって形成された金属薄膜あるいは導電性フィラーと樹脂バインダーからなる導電層に比べて、低い面抵抗値が得られるという利点がある。特に、導電性フィラーと樹脂バインダーからなる導電層では本発明が所望する面抵抗値が得られず、またスパッタ法や真空蒸着法等によって金属薄膜を形成するためには大がかりな装置が必要であり、高い生産性が得られないという問題がある。
【００８５】
また導電層は、導電層を被覆する機能性表面層との密着性（接着力）の観点からも、導電性メッシュが好ましい。本発明においては、導電層上に機能性表面層が塗工形成されるが、スパッタ法や真空蒸着法等によって形成された金属薄膜の上に組成の異なる機能性表面層を塗工形成した場合、密着性が不十分となり機能性表面層が剥離することがある。
【００８６】
これに対して導電性メッシュは、上記した１０Ω／□以下の面抵抗値が容易に得られ、また導電性メッシュの開口部を通して機能性表面層層と基材（例えばプラスチックフィルム）とが接するので、機能性表面層と基材との密着性も十分に確保することができる。導電性メッシュの場合は、ディスプレイ用フィルターの透過率を低下させないために７０％以上の開口率になるように設計するのが好ましく（ここで、導電性メッシュの開口率とは、導電性メッシュの投影面積における開口部分が占める面積割合を意味する）、従って導電性メッシュからなる導電層の上に塗工される機能性表面層と導電層との接触面積はわずかであり、上記のような密着性の問題は生じない。
【００８７】
一方、機能性表面層の塗工性の観点から、導電性メッシュの厚みは小さい方が好ましく、本発明においては、導電性メッシュの厚みは８μｍ以下が好ましく、６μｍ以下がより好ましい。導電性メッシュの厚みが８μｍを超えて大きくなると、導電層表面の凹凸が大きくなり平滑性が低下するので、機能性表面層の塗布性が悪化する傾向となる。また導電性メッシュの厚みの下限は電磁波遮蔽性能の観点から０．２μｍ以上が好ましく、０．３μｍ以上がより好ましい。
【００８８】
導電性メッシュの線幅及び線間隔（ピッチ）は、開口率が７０％以上となるように設計されるが、線幅としては５〜４０μｍが好ましく、線間隔は１００〜５００μｍの範囲が好ましい。
【００８９】
また、導電性メッシュからなる導電層は、基材上に接着層を介さずに形成するのが好ましい。ここで接着層は、粘着材あるいは接着材で構成される層を意味する。導電層と基材との間に接着層が存在すると導電層面の平滑性が更に低下し、機能性表面層の塗布性を悪化させる。また更に、基材上に接着層を介さずに直接に導電性メッシュを形成することによって、塗工形成された機能層の大部分は基材と接触するので、機能層として上述したような樹脂を含む機能性表面層を用いることによって、基材と機能性表面層との密着性が向上する。基材と機能性表面層との密着性を向上させるために、易接着層（プライマー層、下引き層）を有する基材を用いるのが好ましい。
【００９０】
上記観点から本発明の導電層に好適な導電性メッシュの形成方法として、１）金属薄膜をエッチング加工する方法、２）印刷パターン上にメッキする方法、３）感光性銀塩を用いる方法、４）印刷パターン上に金属膜積層後に現像する方法、及び５）金属薄膜をレーザーアブレーションする方法が挙げられる。以下にそれぞれの方法を詳細に説明する。
【００９１】
１）金属薄膜をエッチング加工する方法は、基材上に粘着材あるいは接着材からなる接着層を介さずに金属薄膜を形成し、この金属薄膜をフォトリソグラフ法あるいはスクリーン印刷法等を利用してエッチングレジストパターンを作製した後、金属薄膜をエッチングする方法である。金属薄膜の形成は、金属（例えば銀、金、パラジウム、銅、インジウム、スズ、あるいは銀とそれ以外の金属の合金など）をスパッタリング、イオンプレーティング、真空蒸着、あるいはメッキ等の公知の方法を用いて行うことができる。
【００９２】
上記フォトリソグラフ法は、金属薄膜に紫外線等の照射により感光する感光層を設け、この感光層にフォトマスク等を用いて像様露光し、現像してレジスト像を形成し、次に、金属薄膜をエッチングして導電性メッシュを形成し、最後にレジストを剥離する方法である。 
【００９３】
上記スクリーン印刷法は、金属薄膜表面にエッチングレジストインクをパターン印刷し、硬化させた後エッチング処理により導電性メッシュを形成し、この後レジストを剥離する方法である。
【００９４】
エッチングする方法としては、ケミカルエッチング法等がある。ケミカルエッチングとは、エッチングレジストで保護された導体部分以外の不要導体をエッチング液で溶解し、除去する方法である。エッチング液としては、塩化第二鉄水溶液、塩化第二銅水溶液、アルカリエッチング液等がある。
【００９５】
２）印刷パターン上にメッキする方法は、基材に触媒インク等でメッシュパターンを印刷し、これに金属メッキを施す方法である。この１つの方法として、パラジウムコロイド含有ペーストからなる触媒インクを用いてメッシュパターンに印刷し、これを無電解銅メッキ液中に浸漬して無電解銅メッキを施し、続いて電解銅メッキを施し、さらにＮｉ−Ｓｎ合金の電解メッキを施して導電性メッシュパターンを形成する方法がある。
【００９６】
３）感光性銀塩を用いる方法は、ハロゲン化銀などの銀塩乳剤層を基材にコーティングし、フォトマスク露光あるいはレーザー露光の後、現像処理して銀のメッシュを形成する方法である。形成された銀メッシュは更に銅、ニッケル等の金属でメッキするのが好ましい。この方法は、ＷＯ２００４／７８１０、特開２００４−２２１５６４号、特開２００６−１２９３５号公報等に記載されており、参照することができる。
【００９７】
４）印刷パターン上に金属膜形成後に現像する方法は、基材上に剥離可能な樹脂でメッシュパターンとは逆パターンの印刷を施し、その印刷パターン上に金属薄膜を上記１）と同様の方法で形成した後、現像して樹脂とその上の金属膜を剥離して金属のメッシュパターンを形成する方法である。剥離可能な樹脂として、水、有機溶剤あるいはアルカリに可溶な樹脂やレジストを用いることができる。この方法は、特開２００１−１８５８３４号、特開２００１−３３２８８９号、特開２００３−２４３８８１号、特開２００６−１４０３４６号、特開２００６−１５６６４２号公報等に記載されており、参照することができる。
【００９８】
５）金属薄膜をレーザーアブレーションする方法は、上記１）と同様の方法で基材上に形成された金属薄膜をレーザーアブレーション方式で金属メッシュを作製する方法である。
【００９９】
レーザーアブレーションとは、レーザー光を吸収する固体表面へエネルギー密度の高いレーザー光を照射した場合、照射された部分の分子間の結合が切断され、蒸発することにより、照射された部分の固体表面が削られる現象である。この現象を利用することで固体表面を加工することが出来る。レーザー光は直進性、集光性が高い為、アブレーションに用いるレーザー光の波長の約3倍程度の微細な面積を選択的に加工することが可能であり、レーザーアブレーション法により高い加工精度を得ることが出来る。
【０１００】
かかるアブレーションに用いるレーザーは金属が吸収する波長のあらゆるレーザーを用いることが出来る。例えばガスレーザー、半導体レーザー、エキシマレーザー、または半導体レーザーを励起光源に用いた固体レーザーを用いることが出来る。また、これら固体レーザーと非線形光学結晶を組み合わせることにより得られる第二高調波光源（ＳＨＧ）、第三高調波光源（ＴＨＧ）、第四高調波光源（ＦＨＧ）を用いることが出来る。
【０１０１】
かかる固体レーザーの中でも、基材を加工しないという観点から、波長が２５４ｎｍから５３３ｎｍの紫外線レーザーを用いることが好ましい。中でも好ましくはＮｄ：ＹＡＧ（ネオジウム：イットリウム・アルミニウム・ガーネット） などの固体レーザーのＳＨＧ（波長５３３ｎｍ）、さらに好ましくはＮｄ：ＹＡＧ などの固体レーザーのＴＨＧ（波長３５５ｎｍ）の紫外線レーザーを用いることが好ましい。
【０１０２】
かかるレーザーの発振方式としてはあらゆる方式のレーザーを用いることが出来るが，加工精度の点からパルスレーザーを用い，さらに望ましくはパルス幅がｎｓ以下のＱスイッチ方式のパルスレーザーを用いることが好ましい。
【０１０３】
金属薄膜の上（視認側）に更に０．０１〜０．１μｍの金属酸化物層を形成した後に、金属薄膜と金属酸化物層とをレーザーアブレーションするのが好ましい。金属酸化物としては銅、アルミニウム、ニッケル、鉄、金、銀、ステンレス、クロム、チタン、すずなどの金属酸化物を用いることができるが、価格や膜の安定性などの点から銅酸化物が好ましい。金属酸化物の形成方法は、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレート法、化学蒸着法、無電解および電解めっき法等を用いることができる。
【０１０４】
上述した方法によって形成された導電性メッシュを有する導電層は、その厚みを６μｍ以下にすることが可能であり、機能性表面層を導電層上に直接に塗工形成することが可能となる。
【０１０５】
上記の導電性メッシュの形成方法の中でも、１）金属薄膜をエッチング加工する方法、２）印刷パターン上にメッキする方法、及び３）感光性銀塩を用いる方法が好ましく、特に１）及び２）の方法が好ましい。上記の１）、２）及び３）の方法で得られた導電性メッシュはヘイズ値が比較的低く、特に上記１）及び２）の方法で得られた導電性メッシュはヘイズ値が低いので好ましい。
【０１０６】
本発明に用いることができる導電性メッシュのメッシュパターンとしては、格子状パターン、５角形以上の多角形からなるパターン、円形パターン、あるいはこれらの複合パターンが挙げられ、更にランダムパターンも好ましく用いられる。
【０１０７】
本発明において、導電性メッシュは黒化処理するのが好ましい。黒化処理は、酸化処理、硫化処理、金属酸化物の蒸着、あるいは黒色印刷により行うことができる。例えば、特開平１０−４１６８２号、特開２０００−９４８４号、特開２０００−２２３８８６号、特開２００５−３１７７０３号公報等に記載の方法を用いることができる。
【０１０８】
また、ディスプレイ用フィルターを連続生産ラインで効率よく製造するためには、導電性メッシュは連続メッシュであることが好ましい。連続メッシュとは、例えば、長尺ロール状の基材に導電性メッシュを形成するときに、基材の長尺方向に導電性メッシュが連続的に途切れることなく形成された状態を言う。このような連続メッシュは、機能性表面層を塗工するのに好適である。
【０１０９】
本発明にかかるディスプレイ用フィルターは、１枚のみの基材で構成されることが好ましい。かかる基材としては、プラスチックフィルムが好ましく用いられる。かかるプラスチックフィルムを構成する樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル樹脂、トリアセチルセルロース等のセルロース樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブチレン等のポリオレｆフィン樹脂、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、アートン樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリスルフォン樹脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂、ポリエーテルスルフォン樹脂等が挙げられる。これらの中でも、ポリエステル樹脂、ポリオレフィン樹脂及びセルロース樹脂が好ましく、特にポリエステル樹脂が好ましく用いられる。プラスチックフィルムの厚みとしては、５０〜３００μｍの範囲が適当であるが、コストの観点及び前面フィルターの剛性を確保するという観点から９０〜２５０μｍの範囲が特に好ましい。本発明に用いられるプラスチックフィルムは、機能性表面層、導電層あるいは後述する近赤外線遮蔽層等との密着性（接着強度）を強化するための易接着層（プライマー層、下引き層）を設けておくのが好ましい。
【０１１０】
本発明で使用される保護フィルムは、導電層の表面に密着積層させ、当該積層体の次の工程までの保管や搬送時に、積層体表面を機械的衝撃や湿気等から保護するものである。
保護フィルムは、機能性表面層を塗布する直前に、積層体から剥離されることから、剥離強度が強すぎても弱すぎても好ましくない。保護フィルムの剥離強度が強すぎる場合は、剥離のために大きな力を要する上、剥離の際に、導電層が基材から剥離することがあり、逆に保護フィルムの剥離強度が弱すぎる場合は、取扱い中や不用意な接触、または搬送ローラに対してフィルムの接する角度が大きい場合保護フィルムが剥離することがある。保護フィルムの具体的な剥離強度は、０．０５Ｎ／２５ｍｍ幅〜１Ｎ／２５ｍｍ幅であることが好ましく、より好ましくは０．１Ｎ／２５ｍｍ幅〜０．５Ｎ／２５ｍｍ幅である。
保護フィルムとしては、基材フィルムとなる例えばポリエチレン（ＰＥ）と粘着剤層に相当するエチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）を共押出しした、いわゆる二層タイプ（自己粘着性保護フィルム）と称されるものと、保護フィルムの基材の表面に粘着剤の溶液を塗布等して設けた、いわゆる粘着剤タイプの保護フィルムがある。
また、粘着剤タイプの保護フィルムを構成する粘着剤としては、アクリル酸エステル系、ゴム系、もしくはシリコーン系のものを使用することができる。
また、粘着剤タイプの保護フィルムの基材としては、ポリオレフィン系樹脂であるポリエチレン樹脂やポリプロピレン樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂等のポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、もしくはアクリル樹脂等の樹脂フィルムを用いることが好ましい。
【０１１１】
本発明のディスプレイ用フィルターには、近赤外線遮蔽機能、色調調整機能、あるいは可視光透過率調整機能などの機能を有する他の機能層を設けることも好ましい。
【０１１２】
近赤外線遮蔽機能を有する近赤外線遮蔽層は、波長８００〜１１００ｎｍの範囲における光線透過率の最大値が１５％以下となるように調整するのが好ましい。近赤外線遮蔽機能は、基材や機能性表面層層、あるいは後述する接着層に近赤外線吸収剤を混錬、分散することによって付与してもよいし、近赤外線遮蔽層を新たに設けてもよい。近赤外線遮蔽機能は、近赤外線吸収剤を用いることによって付与することができる。本発明においては、近赤外線吸収剤を樹脂バインダー中に分散もしくは溶解した塗料を塗布乾燥して形成した近赤外線遮蔽層を用いること、あるいは機能性表面層や接着層に上記近赤外線吸収剤を含有させる態様が好ましく用いられる。近赤外線吸収剤としては、フタロシアニン系化合物、アントラキノン系化合物、ジチオール系化合物、ジイモニウム系化合物等の有機系近赤外線吸収剤、あるいは酸化チタン、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化錫、硫化亜鉛、セシウム含有酸化タングステン等の無機系近赤外線吸収剤を用いることができる。
【０１１３】
上記した近赤外線遮蔽層を新たに設ける場合は、基材と導電層との間、もしくは基材に対して導電層とは反対面に、基材に塗工形成して設けることができる。
【０１１４】
近赤外線遮蔽機能を基材より視認側に付与する場合は、耐光性に優れる無機系近赤外線吸収剤を用いるのが好ましい。
【０１１５】
色調調整機能を有する色調調整層は、ディスプレイから発光される特定波長の光を吸収して色純度や白色度を向上させるための機能である。特に赤色発光の色純度を低下させるオレンジ光を遮蔽するのが好ましく、波長５８０〜６２０ｎｍの範囲に吸収極大を有する色素を含有させるのが好ましい。更に、白色度を向上させるために波長４８０〜５００ｎｍに吸収極大を有する色素を含有させるのが好ましい。色調調整機能は、上記した波長の光を吸収する色素を含有する層を新たに設けてもよいし、上述の近赤外線遮蔽層、機能性表面層あるいは接着層に色素を含有させてもよい。
【０１１６】
可視光透過率調整機能は、可視光の透過率を調整するための機能であり、染料や顔料を含有させて調整することができる。可視光透過率調整機能は、基材、近赤外線遮蔽層、機能性表面層、あるいは接着層に付与してもよいし、新たに透過率調整層を設けてもよい。
【０１１７】
上述した色調調整機能を有する層及び可視光透過率調整機能を有する層をそれぞれ新たに設ける場合、これらの層は基材と導電層との間、もしくは基材に対して導電層とは反対面に設けることができる。
【０１１８】
本発明のディスプレイ用フィルターは、ディスプレイに直接、あるいはガラス板、アクリル板、ポリカーボネート板等の公知の高剛性基板を介して装着することができる。ディスプレイ用フィルターには、ディスプレイあるいは高剛性基板に貼り付けるための接着層を設けるのが好ましい。
【０１１９】
接着層には、前述したように近赤外線遮蔽機能、色調調整機能、あるいは可視光透過率調整機能を付与することができる。また、接着層に、ディスプレイを衝撃から保護するための衝撃緩和機能を付与することは好ましい態様である。接着層に衝撃緩和機能を付与するには、接着層の厚みを１００μｍ以上にすることが好ましく、３００μｍ以上がより好ましい。上限の厚みは、接着層のコーティング適性を考慮して３０００μｍ以下が好ましい。
【０１２０】
接着層には、公知の接着材あるいは粘着材を用いることができる。粘着材としては、アクリル、シリコン、ウレタン、ポリビニルブチラール、エチレン−酢酸ビニルなどが挙げられる。接着材としては、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、テトラヒドロキシフェニルメタン型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、レゾルシン型エポキシ樹脂、ポリオレフィン型エポキシ樹脂などのエポキシ樹脂、天然ゴム、ポリイソプレン、ポリ−１、２−ブタジエン、ポリイソブテン、ポリブテン、ポリ−２−ヘプチル−１、３−ブタジエン、ポリ−１、３−ブタジエンなどの（ジ）エン類、ポリオキシエチレン、ポリオキシプロピレン、ポリビニルエチルエーテル、ポリビニルヘキシルエーテルなどのポリエーテル類、ポリビニルアセテート 、ポリビニルプロピオネートなどのポリエステル類、ポリウレタン、エチルセルロース、ポリ塩化ビニル、ポリアクリロニトリル、ポリメタクリロニトリル、ポリスルフォン、フェノキシ樹脂などが挙げられる。
【０１２１】
本発明にかかるディスプレイ用フィルターは、１枚のみの基材からなる１枚基材フィルターであることが好ましい。かかる１枚基材フィルターの好ましい構成例のいくつかを例示するが、本発明はこれらに限定されない。
【０１２２】
１）接着層／近赤外線遮蔽層／基材／導電層／機能性表面層
２）接着層／基材／近赤外線遮蔽層／導電層／機能性表面層
３）接着層（近赤外線遮蔽機能を有する）／基材／導電層／機能性表面層
４）接着層／基材／導電層／機能性表面層（近赤外線遮蔽機能を有する）
上記１）、２）の近赤外線遮蔽層は色調調整機能及び／または可視光透過率調整機能を有してもよく、また、同様に３）の接着層、及び４）の機能性表面層は色調調整機能及び／または可視光透過率調整機能を有してもよい。
【実施例】
【０１２３】
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。
（評価方法）
（１）異物の確認
各々のディスプレイ用フィルターから切り出した１０００ｍｍ×１０００ｍｍの大きさの試験片について、目視にて判定を行い、１ｍ２当たりの異物数を算出した。
また、（株）キーエンス製デジタルマイクロスコープ（ＶＨＸ−２００）を用いて、倍率３００倍で表面観察を行い、判定した異物の垂直方向から観察したときの大きさを観測した。
（２）導電性メッシュの脱落の確認
（株）キーエンス製デジタルマイクロスコープ（ＶＨＸ−２００）を用いて、倍率３００倍で表面観察を行い、導電性メッシュの脱落の状態を観察し、以下の基準で評価した。
◎；・・・・・・・全く脱落が見られない。
○；・・・・・・・表面の削れがやや見られる。
×；・・・・・・・メッシュの脱落、削れが見られる。
（実施例１）
以下のようにして基材上に導電層を形成した。
【０１２４】
＜導電層の形成＞
厚み１００μｍのＰＥＴフィルム（東レ（株）製  ルミラー（登録商標））に、パラジウムコロイド含有ペーストを線幅２０μｍ、線ピッチ３０μｍの格子状メッシュパターンを有するスクリーンを用いて印刷し、これを無電解銅メッキ液中に浸漬して、無電解銅メッキを施し、続いて電解銅メッキを施し、さらにＮｉ−Ｓｎ合金の電解メッキを施して、厚みが６μｍのメッシュ状の導電層を形成した。
【０１２５】
＜保護フィルムの積層＞
ＰＥＴフィルムの導電層が形成されている側に、ポリエチレン系フィルムにアクリル系粘着剤層が積層され、総厚みが６３μｍの保護フィルム（日東電工（株）製、品番；ＨＲ６０３０）をラミネーターを用いて貼り合せを行ない、ＰＥＴフィルム／導電層／保護フィルムの構成のロール状の積層体とした。保護フィルム／導電層間の剥離強度は０．２１Ｎ／２５ｍｍであった。
【０１２６】
＜ハードコート層塗工液＞
シリコーンアクリレート剤                                         ８０質量部
（東レダウコーニング（株）製「ＡＹ−４２ １５０」；不揮発分濃度３６％）
ウレタンアクリレート                                             ５５質量部
（新中村化学（株）製の「ＮＫオリゴ  Ｕ−４ＨＡ」）
ウレタンアクリレート                                             ５５質量部                                    
（根上工業（株）の「アートンレジン  ＵＮ−３３２０ＨＡ」）
フッ化アクリレート                                               １０質量部
（２，２，３，３−テトラフルオロプロピルアクリレート；大阪有機化学工業（株）製の「ビスコート４Ｆ」）
光重合開始剤                                                      ４質量部
（チバ・スペシャリティ・ケミカル社製「イルガキュア１８４」)
メチルエチルケトン                                              ４１質量部
イソプロピルアルコール                                          ４１質量部  
を混合撹拌してハードコート剤を調製した。上記塗工液の不揮発分濃度は６０質量％である。その後、ハードコート剤を孔径１μｍのポリプロピレン製カプセルフィルター（アドバンテック東洋（株）社製）にて濾過を行った。
【０１２７】
＜ハードコート層の塗工＞
図１に示す塗工工程に従って、上記のハードコート層を塗工した。先ず、上記により作成した積層体の保護フィルムを搬送ローラ２１にて剥離を行った後、塗工装置３０のスロットダイコーターで導電層上に、上記のハードコート塗工液を、乾燥・硬化後の膜厚みが１０μｍになるように塗工し、１００℃で乾燥後、高圧水銀ＵＶランプ(１２０Ｗ/ｃｍ)の紫外線を積算光量４５０ｍＷ／ｃｍ２にて照射して硬化させ、導電層上にハードコート層を連続塗工形成し、ディスプレイ用フィルターを連続製造した。
（実施例２）
図１の塗工装置３０をマイクログラビアコーターに変更した以外は、実施例１と同様にしてディスプレイ用フィルターを連続製造した。
（比較例１）
実施例１と同様にしてディスプレイ用フィルターを連続製造した。但し、保護フィルムの剥離を、積層体の巻き出し直後（図１の搬送ローラ２０の前）に実施した。
（比較例２）
図１の塗工装置３０をマイクログラビアコーターに変更した以外は、比較例１と同様にしてディスプレイ用フィルターを連続製造した。
（実施例３）
以下の導電層に変更する以外は、実施例１と同様にしてディスプレイ用フィルターを連続製造した。  
＜導電層の形成＞
厚み１００μｍのＰＥＴフィルム（東レ（株）製  ルミラー（登録商標））に、スパッタリング法によりニッケル層（厚み０．０２μｍ）を形成し、更にその上に、厚みが２．５μｍの銅層を真空蒸着法により形成した。次いで、この銅層の表面にアルカリ現像型高感度ポジ型レジストフィルムを積層し、波長４０５ｎｍ半導体レーザーを用いて露光し、炭酸ナトリウムを１質量％含有する現像液を用いて現像処理を行った。次いで、塩化第２鉄溶液によりエッチング処理を行った後、３質量％水酸化ナトリウム水溶液で処理してレジスト層を剥離して、線幅１０μｍ、線ピッチ２５０μｍ、厚みが２．５μｍの導電性メッシュからなる導電層を形成した。次いで、酸化処理剤（メルテックス（株）製  エンプレート  ＭＢ―４３８Ａ／Ｂ／純水＝８／１３／７９の割合で調整）を用いて、導電性メッシュを黒化処理した。
【０１２８】
【表１】
2010054910.tif 000003
【０１２９】
表１の結果から明らかなように、本発明の実施例は異物数が少なく、異物も小さい事が分かる。また、導電層の脱落も少ない事が分かる。
これに対して、保護フィルムを最後の搬送ローラ２１の前で剥離した比較例１、２は異物数が多く、異物も大きい事が分かる。
この結果から、本発明は、導電層上に保護フィルムを積層し、塗工直前で保護フィルム剥離する事で、異物欠陥も少なく導電メッシュの脱落が無いディスプレイ用フィルターを製造できることが分かる。
【図面の簡単な説明】
【０１３０】
【図１】本発明のディスプレイ用フィルターの製造工程における機能性表面層の塗工工程周辺の模式図。
【符号の説明】
【０１３１】
１０  長尺積層体
１１  保護フィルム
２０  長尺積層体の裏面側（導電層とは反対面）と接触する搬送ローラ
２１  長尺積層体の表面側（導電層側の面）と接触する搬送ローラ
２２  剥離された保護フィルムの巻き取り部
３０  塗布装置
１００  長尺積層体１０から保護フィルムは剥離された長尺積層体
【図１】
2010054910.tif 000004