(57)【要約】【課題】高さの異なる複数の柱状スペーサを備え、面押し強度の向上と真空気泡の抑制効果を達成でき、両柱状スペーサの高さの差が小さくても容易に製造できる液晶表示装置を提供すること。【解決手段】本発明の液晶表示装置１０Ａは、液晶層１１を挟持して対向配置された第１基板１２及び第２基板１３と、前記第２基板１３に設けられたカラーフィルタ（ＣＦ）層３２が形成されたＣＦ層形成領域及び前記ＣＦ層３２が形成されていないＣＦ層非形成領域と、前記ＣＦ層形成領域及び前記ＣＦ層非形成領域に跨って形成された透明樹脂層３４と、前記ＣＦ層形成領域に配置され前記第１基板１２及び第２基板１３の双方に接する第１スペーサ１４Ａと、前記ＣＦ層非形成領域に配置され前記第１基板１２及び第２基板１３の一方のみに接する第２スペーサ１４Ｂとを備えた。【選択図】図２
2010054552.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶層を挟持して対向配置された第１基板及び第２基板と、前記第２基板に設けられた
カラーフィルタ層が形成されたカラーフィルタ層形成領域及び前記カラーフィルタ層が形
成されていないカラーフィルタ層非形成領域と、前記カラーフィルタ層形成領域及び前記
カラーフィルタ層非形成領域に跨って、前記カラーフィルタ形成領域及び前記カラーフィ
ルタ非形成領域を被覆するように形成された透明樹脂層と、前記カラーフィルタ層形成領
域に配置され前記第１基板及び第２基板の双方に接する第１スペーサと、前記カラーフィ
ルタ層非形成領域に配置され前記第１基板及び第２基板の一方のみに接する第２スペーサ
とを備えたことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
前記第１及び第２スペーサは前記第２基板に形成されていることを特徴とする請求項１
に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記第１及び第２スペーサの高さは同じであることを特徴とする請求項１又は２に記載
の液晶表示装置。
【請求項４】
前記第２基板には複数の画素を区画する遮光手段を備え、前記第１及び第２スペーサの
少なくとも一方が前記複数の画素を区画する遮光手段と平面視で重なっていることを特徴
とする請求項１〜３にいずれかに記載の液晶表示装置
【請求項５】
前記第２基板には前記第１基板に設けられているスイッチング素子と平面視で重なる遮
光手段を備え、前記第１及び第２スペーサの少なくとも一方が前記スイッチング素子と平
面視で重なる遮光手段と平面視で重なっていることを特徴とする請求項１〜４のいずれか
に記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は液晶層の厚みを保持する柱状スペーサを有する液晶表示装置に関する。詳しく
は、本発明はアレイ基板及びカラーフィルタ基板の双方に接する複数の第１スペーサとア
レイ基板及びカラーフィルタ基板の一方のみに接する複数の第２スペーサとを備えた液晶
表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置はＣＲＴ（陰極線管）と比較して軽量、薄型、低消費電力という特徴があ
り、多くの電子機器に使用されている。液晶表示装置は、アレイ基板及びカラーフィルタ
基板に挟持された液晶層の液晶分子の向きを電界により変えて、光の透過量を変化させ画
像を表示させるものである。液晶層の厚み（セルギャップ）を一定にするために、従来、
球状スペーサと呼ばれるガラス、シリカ又は合成樹脂等の透明球状体粒子（ビーズ）を表
示領域に散布していた。この球状スペーサは透明な粒子であることから、表示画素内に液
晶と一諸に球状スペーサが存在していると、黒色表示時に球状スペーサを介して光が漏れ
るという問題があった。また、アレイ基板及びカラーフィルタ基板間に球状スペーサが存
在することによって、球状スペーサ近傍の液晶分子の配列が乱れ、この部分で光漏れを生
じ、コントラストが低下するという問題があった。
【０００３】
これらの問題点を解決するために、アレイ基板及びカラーフィルタ基板のいずれかに柱
状スペーサ（フォトスペーサ）を形成すようになってきた。また、近年、液晶表示装置に
対する強度アップの要求が高まっている。それに従って液晶表示装置のパネルを面押しし
た後に短時間で元のセルギャップに回復し、色むらやドメインの発生を抑えるような設計
が求められている。
【０００４】
セルギャップの保持に柱状スペーサを用いる液晶表示装置において、柱状スペーサの設
計（配置、面積密度、スペーサの圧縮特性等）はアレイ基板と対向基板とのセルギャップ
、セルの面押し強度などに大きな影響を与える。液晶表示装置の面押し強度を高めるには
柱状スペーサの面積密度（パネル面積に対する柱状スペーサの面積比）を高めることが有
効である。しかしこの方法を用いると真空気泡が発生しやすくなるという問題があった。
例えば、−２０℃というような低温の環境下では、液晶表示装置を構成する部材はすべて
収縮しようとする状態にある。液晶表示装置を構成する部材の中では液晶の収縮率が最も
大きいため、液晶表示装置はセルギャップを小さくする方向に収縮する状態にある。この
とき、外部から衝撃力を与えられてセルギャップが収縮しようとする変化量に対して柱状
スペーサの密度が高過ぎて柱状スペーサの変形が追従できなくなると、液晶層の内部に負
圧が生じ、その結果として液晶層の内部に真空気泡（低温気泡）が発生する。
【０００５】
このような問題点を解決する方法として、下記特許文献１に開示されているように、液
晶表示パネル内で高さや断面積が異なる柱状スペーサを混在させることによって、面押し
強度の増大と真空気泡の発生抑制を両立させるという技術が知られていた。異なる高さの
柱状スペーサを混在させるという手法はセルギャップを２段階にするという解決方法であ
る。すなわち液晶表示パネルに対して垂直方向の外力が加わっていない場合に第１のセル
ギャップを保持するために必要な高さを持つ第１の柱状スペーサと、外力が加わった場合
に第１のセルギャップを保持する柱状スペーサが収縮できる量を越えることによって挫屈
してしまうのを防止するための第２のセルギャップを有する構造である。このとき第１の
柱状スペーサが外力によって第２のセルギャップまで押し込まれるまでは、第１のセルギ
ャップを保持する第１の柱状スペーサのみがセルギャップの変化に追従すればよいので、
単純に第１のセルギャップを保持する柱状スペーサの数を増やした場合と比較して真空気
泡発生に対するマージンを広く持てる。しかも、外力を取り除くと元の状態に戻り易くな
る他、第２の柱状スペーサが変形し始めると、耐圧強度が増加するという利点も存在する
。
【特許文献１】特許第３９２５１４２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、近年の高精細化の進展、液晶表示装置の高応答速度の要求、液晶表示装
置の表示画質の向上等の要求から、セルギャップをより小さくすることが要求されている
。ところが、セルギャップを小さくすると、柱状スペーサが短くなるために弾性の限界ま
での変形量が少なくなる。そのために、上述のような第１のスペーサ及び第２のスペーサ
を備えている液晶表示装置の場合、第２の柱状スペーサが変形し始めるまでの間隙の許容
寸法が小さくなってきたため、製造し難いという問題があった。
【０００７】
一方、カラーフィルタ基板には透明基板の表面に遮光部材（ブラックマトリクス）及び
カラーフィルタ層が形成されており、遮光部材の表面にもカラーフィルタ層が形成されて
いる。しかも、透明基板の表面からの高さ（厚さ）は、遮光部材上のカラーフィルタ層の
部分もカラーフィルタ層のみの部分も、カラーフィルタ層形成材料のレベリング性のため
、ほぼ同じである。そこで、遮光部材の表面のカラーフィルタ層を除去すれば、その分だ
け透明基板の表面からの高さに差異を形成できるので、一応この高さの差異を第１柱状ス
ペーサ及び第２柱状スペーサの透明基板の表面からの高さの差として利用することができ
る。
【０００８】
しかしながら、このような方法による柱状スペーサの高さのコントロールは、完全にカ
ラーフィルタ層の膜厚に頼るので、第１柱状スペーサ及び第２柱状スペーサを所望の高さ
にすることが困難である。すなわち、通常のカラーフィルタ層形成材料であるレジストは
ネガ型レジストのため、露光量によって膜厚を制御することが困難である。しかも、露光
量で膜厚に差をつけるためには異なる露光量をレジストに露光する必要があるので、フォ
トマスクによるショット数を増やしたり、多階調マスクを使用する必要があるため、製造
工程が複雑となる。また、カラーフィルタ層の高演色化が求められる現在においては、カ
ラーフィルタ層が厚膜化することでカラーフィルタ層形成材料によって形成される段差が
大きくなりすぎてしまう。
【０００９】
本発明は上記の従来技術の問題点に鑑みてなされたものであって、本発明の目的は、第
１柱状スペーサ及び第２柱状スペーサを備えている液晶表示装置において、液晶表示装置
の面押し強度の向上効果と真空気泡の抑制効果を達成することができ、第２柱状スペーサ
が変形し始めるまでの間隙の許容寸法０．１μｍ〜０．３μｍ程度と小さくなっても、容
易に製造することができる液晶表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記目的を達成するために、本発明の液晶表示装置は、液晶層を挟持して対向配置され
た第１基板及び第２基板と、前記第２基板に設けられたカラーフィルタ層が形成されたカ
ラーフィルタ層形成領域及び前記カラーフィルタ層が形成されていないカラーフィルタ層
非形成領域と、前記カラーフィルタ層形成領域及び前記カラーフィルタ層非形成領域に跨
って形成された透明樹脂層と、前記カラーフィルタ層形成領域に配置され前記第１基板及
び第２基板の双方に接する第１スペーサと、前記カラーフィルタ層非形成領域に配置され
前記第１基板及び第２基板の一方のみに接する第２スペーサとを備えたことを特徴とする
。
【００１１】
本発明の液晶表示装置の第２基板には、カラーフィルタ層が形成されたカラーフィルタ
層形成領域及びカラーフィルタ層が形成されていないカラーフィルタ層非形成領域とが存
在する。しかも、カラーフィルタ層形成領域及びカラーフィルタ層非形成領域とも、透明
樹脂層で被覆されている。この透明樹脂層は、透明樹脂形成材料をカラーフィルタ層形成
領域及びカラーフィルタ層非形成領域に塗布して硬化させることによって形成される。そ
のとき、透明樹脂形成材料は硬化前にレベリングされるので、カラーフィルタ層非形成領
域の透明樹脂層の厚さはカラーフィルタ層形成領域の透明樹脂層の厚さよりも厚くなる。
【００１２】
このように構成することで、第１スペーサはカラーフィルタ層の存在により第１基板及
び第２基板の双方に接し、第２スペーサはカラーフィルタ層の不存在により第１基板また
は第２基板の一方に接する。そのため、いずれかの基板の外面に押圧力が作用すると、ま
ず、双方の基板に接した第１スペーサが弾性変形して圧縮されて基板間隔が徐々に小さく
なっていく。そして、いずれか一方の基板のみに接していた第２スペーサと基板との間に
間隙が無くなって双方の基板に接すると、これらの第１及び第２スペーサによって双方の
基板の液晶層側に基板の外面への押圧力に対する反力が作用する。すなわち、所定値より
も小さい外力に対しては初期状態で双方の基板に接している第１スペーサのみによって反
力を発生させ、所定値以上の外力に対しては初期状態で一方の基板のみに接していた第２
スペーサによっても補助的に反力を発生させることができる。また、透明樹脂層を設ける
ことによりカラーフィルタ層形成領域とカラーフィルタ層非形成領域の基板間隔が調整さ
れているので、双方の基板に接する第１スペーサの高さと、一方の基板のみに接する第２
スペーサの高さとを異ならせる必要がない。したがって、柱状スペーサの製造を容易にす
ることができる。
【００１３】
加えて、本発明の液晶表示装置においては、カラーフィルタ層形成領域の透明樹脂層の
厚さとカラーフィルタ層非形成領域の透明樹脂層の厚さの差を０．１μｍ〜０．３μｍ程
度という小さい範囲で所望の値となるようにコントロールすることができる。従って、本
発明の液晶表示装置においては、カラーフィルタ層形成領域の第１スペーサが第１基板及
び第２基板の双方と接触するようにしたとき、第１基板又は第２基板のカラーフィルタ層
非形成領域に配置された第２スペーサと他の基板との間の間隔を容易に許容寸法差内に収
めることができる。そのため、本発明の液晶表示装置によれば、液晶表示装置の面押し強
度の向上効果と真空気泡の抑制効果を達成することができ、更に、ＯＤＦ方による基板封
着時に液晶滴下のマージンを向上させる効果も生じる。
【００１４】
また、本発明の液晶表示装置においては、前記第１スペーサ及び第２スペーサは前記第
２基板に形成されていることが好ましい。
【００１５】
本発明の液晶表示装置によれば、第２柱状スペーサを正確に第２基板のカラーフィルタ
層非形成領域の位置にあわせた状態で形成することができるため、アレイ基板とカラーフ
ィルタ基板とを貼り合わせた際にも正確な基板間距離を確保することができるようになる
。
【００１６】
また、本発明の液晶表示装置においては、前記第１スペーサ及び第２スペーサの高さは
同じであることが好ましい。
【００１７】
本発明の液晶表示装置によれば、第１スペーサ及び第２スペーサの高さを同じにするこ
とで、従来よりもセルギャップが小さい場合に、高さの異なる柱状スペーサを形成する場
合と比較して、柱状スペーサの製造を容易にすることができる。
【００１８】
また、本発明の液晶表示装置においては、前記第２基板には複数の画素を区画する遮光
手段を備え、前記第１及び第２スペーサの少なくとも一方が前記複数の画素を区画する遮
光手段と平面視で重なっていることが好ましい。
【００１９】
更に、本発明の液晶表示装置においては、前記第２基板には前記第１基板に設けられて
いるスイッチング素子と平面視で重なる遮光手段を備え、前記第１及び第２スペーサの少
なくとも一方が前記スイッチング素子と平面視で重なる遮光手段と平面視で重なっている
ことが好ましい。
【００２０】
第２基板には、通常複数の画素を区画する遮光手段及び第１基板に形成されている部分
を遮光するための遮光手段が形成されている。本発明の液晶表示装置によれば、このよう
な既存の遮光手段を利用することによって、第１及び第２スペーサによって開口率が低下
することを防止することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
以下、図面を参照して本発明の最良の実施形態を説明する。但し、以下に示す実施形態
は、本発明の技術思想を具体化するための液晶表示装置の一例を説明したものであって、
本発明をこの液晶表示装置に特定することを意図するものではなく、特許請求の範囲に含
まれるその他の実施形態にも等しく適応し得るものである。なお、この明細書における説
明のために用いられた各図面においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大き
さとするため、各層や各部材毎に縮尺を異ならせて表示しており、必ずしも実際の寸法に
比例して表示されているものではない。
【００２２】
図１は実施形態に係る液晶表示装置のサブ画素のアレイ基板を示す模式平面図である。
図２は図１のII−II線の断面図である。図３は図１のIII−III線の断面図である。図４は
比較例の図２に対応する部分の断面図である。
【００２３】
図２、図３に示すように、実施形態に係る液晶表示装置１０は、液晶層１１がアレイ基
板１２とカラーフィルタ基板１３によって挟持されている。液晶層１１の厚みは第１スペ
ーサ１４Ａ（図２参照）によって均一にされている。アレイ基板１２の背面には第１偏光
板１５が形成され、カラーフィルタ基板１３の前面には第２偏光板１６が形成されている
。アレイ基板１２の背面側からバックライト１７により光が照射されている。
【００２４】
まず、アレイ基板１２の構成について説明する。アレイ基板１２は、ガラスや石英、プ
ラスチック等の透明基板からなる第１基板本体１８を有している。そして、第１基板本体
１８上に走査線１９が形成されている。走査線１９を覆って窒化ケイ素又は酸化ケイ素等
からなる第１絶縁膜（ゲート絶縁膜）２０が形成されている。第１絶縁膜２０上に、例え
ばアモルファスシリコンからなる半導体層２１が形成されており、この半導体層２１に一
部乗り上げるようにしてソース電極Ｓと、ドレイン電極Ｄとが形成されている。半導体層
２１は、第１絶縁膜２０を介して走査線１９の分岐部分と対向配置されており、この走査
線１９の分岐部分がＴＦＴのゲート電極Ｇを構成するようになっている。これらの半導体
層２１、ソース電極Ｓ、ドレイン電極Ｄ及びゲート電極ＧでＴＦＴを構成する。ソース電
極Ｓは信号線２２から分岐している。また、信号線２２とドレイン電極Ｄを覆って窒化ケ
イ素又は酸化ケイ素等からなる第２絶縁膜（パッシベーション膜）２３が形成されている
。
【００２５】
第２絶縁膜２３を覆って、層間膜２４が形成されており、層間膜２４を覆って、透明導
電性材料からなる下電極２５が形成されている。層間膜２４と第２絶縁膜２３を貫通して
ドレイン電極Ｄに達するコンタクトホール２６が形成されており、このコンタクトホール
２６を介して下電極２５とドレイン電極Ｄとが電気的に接続されている。そのため、下電
極２５は画素電極として作動する
【００２６】
下電極２５を覆って窒化ケイ素又は酸化ケイ素等からなる第３絶縁膜２７が形成されて
いる。第３絶縁膜２７の表面には透明導電性材料からなる上電極２８が形成されている。
第３絶縁膜２７、上電極２８を覆って例えばポリイミドからなる配向膜（図示せず）が形
成されている。この配向膜には走査線１９方向のラビング処理が施されている。このラビ
ング処理の方向は図１におけるＸ軸方向であり、上電極２８のスリット２９の延在方向に
対して約５°傾いている。上電極２８は、全サブ画素に亘って形成されており、液晶表示
装置１０の周縁部でコモン配線に電気的に接続されている。そのため、上電極２８は共通
電極として作動する。また、上電極２８は、サブ画素毎に複数本のスリット２９によって
形成された帯状電極部分３０を備えている。スリット２９は、例えば幅が約４μｍで長さ
が約５０μｍの長円形状であり、Ｘ軸方向に対して時計回転方向に５°傾いた領域及び反
時計回転方向に５°傾いた領域の２つの領域が存在している。
【００２７】
上電極２８は全サブ画素に跨って形成され、複数本のスリット２９によって形成された
帯状電極部分３０を備えている。スリット２９はＸ軸方向に対して例えば時計方向に５度
、反時計方向に５度傾いた２種類が形成されている。即ち、マルチドメインであり、液晶
分子が一方向にねじれるために視角方向によって色が変化する現象を低減する。スリット
２９は上電極２８を露光、エッチングすることによって形成されている。
【００２８】
次にカラーフィルタ基板１３について説明する。カラーフィルタ基板１３は、ガラスや
石英、プラスチック等の透明絶縁性材料からなる第２基板本体３１を有しており、第２基
板本体３１には、サブ画素毎に異なる色の光（たとえは、Ｒ、Ｇ、Ｂあるいは無色）を透
過するＣＦ（カラーフィルタ）層３２と遮光材のＢＭ（遮光部材）３３が形成されている
。ＢＭ３３は、走査線１９、信号線２２及びＴＦＴと平面視で重なる領域に形成されてい
る。また、ＣＦ層３２は、第１スペーサ１４Ａが形成される箇所には形成されているが、
第２スペーサ１４Ｂが形成される箇所には形成されていない。そして、ＣＦ層形成領域及
びＣＦ層非形成領域共に透明樹脂層３４で被覆されている。
【００２９】
液晶表示装置１０は、液晶層１１の厚みを一定にするための複数の第１スペーサ１４Ａ
と複数の第２スペーサ１４Ｂを所定の面積密度だけ備えている。図２に示すごとく、第１
スペーサ１４ＡはＢＭ３３の表面のＣＦ層３２が存在する領域の透明樹脂層３４の表面に
形成されていると共に、アレイ基板１２と接触している。それに対し、第２スペーサ１４
Ｂは、ＢＭ３３の表面のＣＦ層非被覆領域の透明樹脂層３４の表面に形成されており、ア
レイ基板１２とは離間している。第１スペーサ１４Ａの高さＬ１と第２スペーサ１４Ｂの
高さＬ２は同じである。したがって、第１スペーサ１４Ａが形成されている透明樹脂層３
４の面と第２スペーサ１４Ｂが形成されている透明樹脂層３４の面の段差Ｌ３と、第２ス
ペーサ１４Ｂとアレイ基板１２の隙間Ｌ４とは同じである。
【００３０】
このように、透明樹脂層３４がＣＦ層形成領域とＣＦ層非被覆領域とで厚さが相違する
ことの理由は次のとおりである。透明樹脂層３４は、透明樹脂形成材料をＣＦ層形成領域
及びＣＦ層非形成領域に塗布して硬化させることによって形成される。そのとき、透明樹
脂形成材料は硬化前にレベリングされるので、ＣＦ層非形成領域の透明樹脂層３４の厚さ
はＣＦ層形成領域の透明樹脂層３４の厚さよりも厚くなる。そのため、ＣＦ層形成領域の
透明樹脂層３４の厚さとＣＦ層非形成領域の透明樹脂層３４の厚さの差Ｌ３（＝Ｌ４）を
０．１μｍ〜０．３μｍ程度という小さい範囲で所望の値となるようにコントロールする
ことができるようになる。
【００３１】
このように、液晶表示装置１０は、アレイ基板１２とカラーフィルタ基板１３の双方に
接触している複数の第１スペーサ１４Ａと、カラーフィルタ基板１３と接触しているがア
レイ基板１２とはＬ４の隙間がある複数の第２スペーサ１４Ｂを備えている。外力が加わ
って第１スペーサ１４Ａが弾性変形して第２スペーサ１４Ｂがアレイ基板１２と当接する
までは、外力に対して第１スペーサ１４Ａの変形が容易に追従するために、低温衝撃時の
気泡が発生し難くなる。また、第２スペーサ１４Ｂがアレイ基板１２と当接するまでは第
２スペーサ１４Ｂは変形しないので、カラーフィルタ基板１３の面がずれる方向の外力が
加わった時には、第１スペーサ１４Ａの接触面積が小さいので、容易に変形が元の状態に
復帰する。そして、それ以上に大きな垂直方向の外力があったときには、第２スペーサ１
４Ｂも変形するので、第１スペーサ１４Ａが弾性限界を超えて塑性変形になるまでの耐圧
値を向上させることができる。
【００３２】
近年、液晶表示装置の応答速度の向上等、液晶表示装置の表示特性向上の要求から、セ
ルギャップを小さくすることが要求されている。例えば、第１スペーサ１４Ａの高さＬ１
を例えば６μｍから３μｍに小さくすることが要求されると、第１スペーサ１４Ａの塑性
変形防止のために、第２スペーサ１４Ｂとアレイ基板１２の隙間Ｌ４の隙間を例えば０．
４μｍから０．２μｍにしなければならなくなる。この場合、第１スペーサ１４Ａの高さ
Ｌ１と第２スペーサ１４Ｂの高さＬ２は同じであるので、第１スペーサ１４Ａが形成され
ている透明樹脂層３４の面と第２スペーサ１４Ｂが形成されている透明樹脂層３４の面の
段差Ｌ３を０．２μｍになるように透明樹脂層３４を形成すればよい。
【００３３】
もし、比較例の液晶表示装置５０の図２に対応する断面図である図４に示すように、透
明樹脂層３４を形成しなかったときは、ＢＭ３３とＣＦ層３２の段差Ｌ５を０．２μｍに
することは困難である。なお、図４に示した比較例の液晶表示装置５０は、図２に示した
実施形態の液晶表示装置１０とは透明樹脂層が形成されていない点でのみ構成が相違する
ので、図２に示したものと同一の構成部分には同一の参照符号を付与してその詳細な説明
は省略する。すなわち、一般的な液晶表示装置のＢＭ３３とＣＦ層３２の段差Ｌ５は０．
５μｍ程度であり、ＣＦ層形成用の色材のレジストはネガ型レジストのため、露光量によ
って膜厚を制御することは難しい。そこで、本発明の液晶表示装置では上述のように透明
樹脂層３４を形成することにより、０．２μｍ程度の微小な膜厚の制御を容易に行うこと
ができるようになる。
【００３４】
第１スペーサ１４Ａの高さＬ１と第２スペーサ１４Ｂの高さＬ２を同じとすると、両者
ともにフォトリソグラフィー法により同時に作製できるため、第１及び第２スペーサの製
造が容易となる。また、第１スペーサ１４Ａと第２スペーサ１４Ｂはカラーフィルタ基板
１３に形成されているので、第１基板と第２基板を張り合わせるときに、第２スペーサが
所定の位置からずれることがないので、位置合わせが容易となる。
【００３５】
図示しないが、透明樹脂層３４を覆うようにして例えばポリイミドからなる配向膜が形
成されている。この配向膜は、アレイ基板１２の配向膜のラビング処理の方向とは逆向き
のＸ軸方向にラビング処理されている。初期状態ではラビング方向に沿って平行配向して
いる液晶分子が、上電極２８と下電極２５との間への電圧印加によって、上記電界の方向
に回転する。この初期配向状態と電圧印加時の配向状態との差異に基づいて各サブ画素の
明暗表示が行われる。なお、図示しないが、液晶層１１はアレイ基板１２とカラーフィル
タ基板１３の間に設けられたシール材で形成されている密封エリア内に封止されている。
また、上記実施形態の液晶表示装置１０では、第１スペーサ１４Ａ及び第２スペーサ１４
Ｂがともにカラーフィルタ基板１３に形成されている例を示したが、少なくとも第１スペ
ーサをアレイ基板１２に形成してもよく、更には両者共にアレイ基板１２に形成してもよ
い。
【００３６】
更に、上記実施形態の液晶表示装置１０はＦＦＳモードの液晶表示装置の例を示したが
、本発明は、これに限らず、ＩＰＳ（In-Plane Switching）モード等の横電界方式の液晶
表示装置や、ＴＮ（Twisted Nematic）モード、ＶＡ（Vertical Alignment）モード、Ｍ
ＶＡ（Multi-domain Vertical Alignment）モード、更には、高速応答性に優れるＯＣＢ
（Optically Compensated Bend）モード等の縦電界方式の液晶表示装置に対して適用可能
である。
【図面の簡単な説明】
【００３７】
【図１】実施形態に係る液晶表示装置のサブ画素のアレイ基板を示す模式平面図である。
【図２】図１のII−II線の断面図である。
【図３】図１のIII−III線の断面図である。
【図４】比較例の図２に対応する部分の断面図である。
【００３８】
１０：液晶表示装置  １１：液晶層  １２：アレイ基板  １３：カラーフィルタ基板  
１４Ａ：第１スペーサ  １４Ｂ：第２スペーサ  １５：第１偏光板  １６：第２偏光板  
１７：バックライト  １８：第１基板本体  １９：走査線  ２０：第１絶縁膜  ２１：半
導体層  ２２：信号線（ソース線）  ２３：第２絶縁膜（パッシベーション膜）  ２４：
層間膜  ２５：下電極  ２６：コンタクトホール  ２７：第３絶縁膜  ２８：上電極  ２
９：スリット  ３０：帯状電極部分  ３１：第２基板本体  ３２：カラーフィルタ（ＣＦ
）層  ３３：ブラックマトリクス  ３４：透明樹脂層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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