(57)【要約】【課題】機能層の薄膜ムラによる表示ムラを生じることのない、有機ＥＬ素子の発光効率に優れた高品質の有機ＥＬ表示装置を得ることが可能な有機ＥＬ表示装置の製造方法を提供する。【解決手段】陽極１１と陰極１２の間に有機発光層３０を形成する工程を有する有機ＥＬ表示装置１の製造方法において、有機発光層３０を形成する工程は、陽極１１側に、第１の溶媒にホスト材料を溶解してなる第１の液状材料を塗布法を用いて配置し、第１の液状材料を乾燥してホスト層３１を形成するホスト層形成工程と、ホスト層３１上に、第２の溶媒にゲスト材料を溶解してなる第２の液状材料を液滴吐出法を用いて配置し、ホスト層３１の陰極１２側の表層部を再溶解させて表層部のホスト材料中にゲスト材料を分散させた後乾燥して、ホスト材料中にゲスト材料が分散されてなるホスト−ゲスト層３２を形成するホスト−ゲスト層形成工程と、を備えることを特徴とする。【選択図】図１
2010192137.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
陽極と陰極の間に有機発光層を形成する工程を有する有機ＥＬ表示装置の製造方法において、
前記有機発光層を形成する工程は、前記陽極側に、第１の溶媒にホスト材料を溶解してなる第１の液状材料を塗布法を用いて配置し、前記第１の液状材料を乾燥してホスト層を形成するホスト層形成工程と、
前記ホスト層上に、第２の溶媒にゲスト材料を溶解してなる第２の液状材料を液滴吐出法を用いて配置し、前記ホスト層の前記陰極側の表層部を再溶解させて前記表層部のホスト材料中に前記ゲスト材料を分散させた後乾燥して、ホスト材料中にゲスト材料が分散されてなるホスト−ゲスト層を形成するホスト−ゲスト層形成工程と、を備えることを特徴とする有機ＥＬ表示装置の製造方法。
【請求項２】
前記第２の溶媒は、沸点が１６０℃以下であることを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬ表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機ＥＬ表示装置の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、発光素子の一種として、陽極と陰極との二つの電極で機能層を挟持してなり、陽極から正孔を、陰極から電子を、それぞれ機能層に注入し、この機能層内の発光層中で正孔と電界とを再結合させることにより励起して発光する有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏ-Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｔ）素子がある。すなわち、有機ＥＬ素子は、発光層中で正孔と電子とを再結合させることで励起子を生成し、励起状態から基底状態に戻るためにエネルギーを放出させ、放出したエネルギーの一部を光として取り出すことにより、発光させている。
【０００３】
このような有機ＥＬ素子を多数備えて構成される有機ＥＬ表示装置は、次世代ディスプレイとして数多くのメーカーで研究・開発がなされている。現在では、携帯電話への搭載など、小型ディスプレイ分野において量産が可能なところまで技術が確立されている。しかしながら、ディスプレイ分野においては、現在でも小型・大型を問わず液晶表示装置が主流である。有機ＥＬ表示装置がこれに代わるには、例えば長寿命化や発光特性の向上など、いくつかの課題を解決しなければならない。
【０００４】
このような問題点を解決するための技術が各種検討されており、例えば特許文献１では、陽極と陰極との二つの電極間に、機能層製膜時の液相よりも臨界表面張力の小さい隔壁層を形成している。これにより、画素間における漏電を防止して発光効率を向上させるとともに、鮮明なカラー画像を提供することを可能にしている。
【０００５】
特許文献２では、ホスト材料を溶解した溶媒中にゲスト材料を分散させた混合溶液を湿式法で成膜し、ホスト材料の均一な非晶質薄膜中にゲスト材料分子の凝集した微粒子が散在した発光層を形成している。このような欠陥のないホスト−ゲスト材料系の均質な膜を形成することにより、絶縁破壊などの不良を防止する技術を開示している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開平１１−８７０６２号公報
【特許文献２】特開２００３−５９６６６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、特許文献１の技術では、一対の電極間に隔壁層を形成し、その開口部に塗布法を用いて機能層が形成されるので、隔壁層表面の濡れ性や、隔壁層と機能層の形成材料の違いから、機能層の薄膜ムラを引き起こし、これを表示装置として用いた場合には、表示ムラを生じる原因となってしまう惧れがある。また、特許文献２の技術では、塗布法によるホスト−ゲスト材料系の均質な膜形成を狙った手法が開示されているが、実際に発光を効率よく行わせるためには、発光層への安定したキャリア注入・輸送が必要であり、発光層へのキャリア注入・輸送の安定化という点で不十分である。一方、従来の技術では、ＲＧＢの３色の発光層を塗り分ける場合、一般にインクジェット法を用いるが、このインクジェット法によって成膜されると膜の均一性が損なわれる可能性がある。
【０００８】
本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであって、機能層の薄膜ムラによる表示ムラを生じることのない、有機ＥＬ素子の発光効率に優れた高品質の有機ＥＬ表示装置を得ることが可能な有機ＥＬ表示装置の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記の課題を解決するため、本発明の有機ＥＬ表示装置の製造方法は、陽極と陰極の間に有機発光層を形成する工程を有する有機ＥＬ表示装置の製造方法において、前記有機発光層を形成する工程は、前記陽極側に、第１の溶媒にホスト材料を溶解してなる第１の液状材料を塗布法を用いて配置し、前記第１の液状材料を乾燥してホスト層を形成するホスト層形成工程と、前記ホスト層上に、第２の溶媒にゲスト材料を溶解してなる第２の液状材料を液滴吐出法を用いて配置し、前記ホスト層の前記陰極側の表層部を再溶解させて前記表層部のホスト材料中に前記ゲスト材料を分散させた後乾燥して、ホスト材料中にゲスト材料が分散されてなるホスト−ゲスト層を形成するホスト−ゲスト層形成工程と、を備えることを特徴とする。
この製造方法によれば、塗布法を用いることによりホスト層をベタ状に形成することができる。本発明の構造は隔壁層が形成されていないので、例えば、スピンコート法、スクリーン印刷法などの塗布法を用いることにより、ホスト層を素子基板上の全面にベタ状に形成することができる。また、一般に蒸着よりも塗布法を用いた方が溶解性に優れる材料をホスト層として形成することで、ホスト層の表層部を再溶解させてホスト材料中にゲスト材料を分散させる際に好適である。また、液滴吐出法を用いることによりホスト層上に配置する第２の液状材料の量を所望の量にすることが容易にできる。したがって、ホスト層の再溶解を設定した厚さにとどめることができる。そして、従来技術のように有機発光層を区画する隔壁層を形成しないので、有機発光層が素子基板上の陽極側にベタ状に形成される。よって、特許文献１のように、隔壁層表面の濡れ性や、隔壁層と機能層の形成材料の違いから、機能層の薄膜ムラによる表示ムラが引き起こされることがない。また、陽極側上に、ホスト層とホスト−ゲスト層とがこの順に積層された構造となる。このため、ホスト−ゲスト層の陽極側にホスト層が介在するので、ホスト層が実質的に正孔輸送層として機能するとともに、ホスト層とホスト−ゲスト層との間で同じホスト材料が混ざっている状態となり、電荷の受け渡しがスムーズになる。また、ホスト層の表層部にゲスト材料をそれぞれ所定の着弾精度で配置することができるので、ＲＧＢの３色の発光層を塗り分ける場合、ホスト−ゲスト層が混じり合って隣り合う各色の画素が混色することがない。したがって、機能層の薄膜ムラによる表示ムラを生じることのない、有機ＥＬ素子の発光効率に優れた、高品質かつ高精彩な有機ＥＬ表示装置が提供できる。
【００１０】
本製造方法においては、前記第２の溶媒は、沸点が１６０℃以下であることが望ましい。
この製造方法によれば、ホスト層の表層部に着弾された第２の液状材料は、先に形成したホスト層の再溶解を、ホスト層の表層部のみに限定的に起こさせ、そして第２の溶媒が気化される。これにより、ホスト層の表層部のみにゲストがドーピングされた発光層を形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の有機ＥＬ表示装置の概略構成を示した断面図である。
【図２】電極と機能層との関係を模式的に示す図である。
【図３】本発明に係る有機ＥＬ表示装置の製造工程を示す図である。
【図４】図３に続く、有機ＥＬ表示装置の製造工程を示す図である。
【図５】図４に続く、有機ＥＬ表示装置の製造工程を示す図である。
【図６】ホスト−ゲスト層形成工程における他の製造例を示す図である。
【図７】電子機器の一例である薄型大画面テレビの概略構成図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、図面を参照して、本発明の実施の形態について説明する。かかる実施の形態は、本発明の一態様を示すものであり、この発明を限定するものではなく、本発明の技術的思想の範囲内で任意に変更可能である。また、以下の図面においては、各構成をわかりやすくするために、実際の構造と各構造における縮尺や数等が異なっている。
【００１３】
図１及び図２は本発明に係る有機ＥＬ表示装置の構成を示す概略図である。図１は、有機ＥＬ表示装置１の概略構成を示す断面図である。図２は、電極と機能層との関係を模式的に示す図である。なお、有機ＥＬ表示装置１の各構成部材における有機ＥＬ素子９側を内側と呼び、その反対側を外側と呼ぶことにする。
【００１４】
図１に示すように、有機ＥＬ表示装置１は、ガラス等からなる透明な素子基板１０と、複数の有機ＥＬ素子９と、これら複数の有機ＥＬ素子９及び接着層５１を介して素子基板１０と対向配置された封止基板２０と、を備えている。有機ＥＬ素子９は、素子基板１０上に形成され、陽極１１と、機能層４０と、陰極１２と、を有して構成されている。また、有機ＥＬ素子９は、ＲＧＢの三つの有機材料を使い塗り分けて三種の有機発光素子、例えば、赤色光を発生する有機発光素子、緑色光を発生する有機発光素子、青色光を発生する有機発光素子を有している。
【００１５】
図２に示すように、機能層４０は、陽極１１側から順に、正孔注入・輸送層４１、発光層（有機発光層）３０、ホールブロック層４２、電子輸送層４３を積層したもので、電子輸送層４３上に陰極１２が設けられたことにより、陽極１１と陰極１２との間に配設され、挟持されたものとなっている。
【００１６】
また、図１に示すように、有機ＥＬ表示装置１は、機能層４０内の発光層３０から素子基板１０側（下側）に発した光が、素子基板１０を透過して、素子基板１０の外側（観察者側）に出射されるようになっている。また、有機ＥＬ表示装置１は、発光層３０から素子基板１０と反対の側に発した光も、陰極１２に反射されて素子基板１０を透過して、素子基板１０の外側（観察者側）に出射されるようになっている。すなわち、有機ＥＬ表示装置１は、いわゆるボトムエミッション型となっている。そのため、封止基板２０の材料としては、透明基板及び不透明基板のいずれを用いることもできる。
【００１７】
素子基板１０上には、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）等の画素スイッチング素子及び各種の配線を含む回路層が設けられている（図示略）。この回路層上に、画素スイッチング素子と接続された陽極１１と、陽極１１上に設けられた機能層４０と、機能層４０上に設けられた陰極１２とからなる有機ＥＬ素子９が形成されている。
【００１８】
陽極１１は、素子基板１０上に複数形成され、それぞれ所定の寸法で離間して配置されている。具体的には、陽極１１は、隣り合う陽極１１間の距離Ｌａ（以下、陽極間ピッチという。）が２０μｍ以上となるように配置されている。なお、本実施形態では、陽極間ピッチが２０μｍとなっている。陽極１０の形成材料としては、仕事関数が５ｅＶ以上の正孔注入効果の高い材料が好適に用いられる。このような正孔注入効果の高い材料としては、例えばＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ：インジウム錫酸化物）等の金属酸化物を挙げることができる。本実施形態ではＩＴＯを用いる。
【００１９】
正孔注入・輸送層４１は、複数の陽極１１の素子基板１０上で露出する部位全体を覆って形成されている。具体的には、素子基板１０上に配置された複数の陽極１１の凹凸が正孔注入・輸送層４１で覆われ平坦化されている。つまり、正孔注入・輸送層４１は、素子基板１０と陽極１１とでなされる凹凸を十分な厚さで覆い、その上面が平坦化されて形成されている。正孔注入・輸送層４１の形成材料は、例えば３，４−ポリエチレンジオキシチオフェン−ポリスチレンスルフォン酸（ＰＥＤＯＴ−ＰＳＳ）の分散液を用いることができる。この正孔注入・輸送層４１は、その内部において正孔を輸送する機能を有するとともに、正孔を発光層３０側に注入・輸送する機能をも有している。
【００２０】
発光層３０は、正孔注入・輸送層４１上に形成されたホスト層３１と、このホスト層３１上に形成されたホスト−ゲスト層３２との積層構造になっている。ホスト層３１は、ホスト材料からなるものである。ホスト材料としては、例えばＣＢＰ、ＢＡｌｑ（Bis-(2-methyl-8-quinolinolate)-4-(phenylphenolate)aluminium）、ｍＣＰ、ＣＤＢＰ、ＤＣＢ、Ｐ０６、ＳｉｍＣＰ、ＵＧＨ３を用いることができる。本実施形態ではＣＢＰを用いる。
【００２１】
ホスト−ゲスト層３２は、ホスト材料中にゲスト材料が分散されてなるものである。ゲスト材料としては、蛍光材料と燐光材料とがある。蛍光材料としては、例えばアメリカンダイソース社製のＡＤＳ１０９ＧＥ、ＡＤＳ１１１ＲＥ、ＡＤＳ１３６ＢＥを用いることができる。また、燐光材料としては、例えばＩｒ（ｐｐｙ）３、ｐｐｙ２Ｉｒ（ａｃａｃ）、ｂｔ２Ｉｒ（ａｃａｃ）、ｂｔｐ２Ｉｒ（ａｃａｃ）、ＦＩｒｐｉｃ、Ｉｒ（ｐｍｂ）３、ＦＩｒＮ４、Ｆｉｒｔａｚ、（Ｆ２ＭｅＯｐｐｙ）２Ｉｒ（ａｃａｃ）を用いることができる。本実施形態ではＩｒ（ｐｐｙ）３を用いる。
【００２２】
このホスト−ゲスト層３２は、後述するようにホスト材料からなるホスト層３１の表層部にゲスト材料が配置されたことにより、ホスト材料中にゲスト材料が均一に分散させられて形成されたものである。このようなホスト層３１とホスト−ゲスト層３２とが積層されて構成された発光層３０は、その厚さＨａ（以下、発光層厚さ（ホスト層厚さ）という。）が３０〜５０ｎｍ程度になるように形成されている。このうちホスト−ゲスト層３２は、その厚さＨｂ（以下、ホスト−ゲスト層厚さという。）が２〜３ｎｍ程度になるように形成されている。このように、ホスト−ゲスト層３２は、発光層３０の表層部のみ、つまり陰極１２側のみに形成されており、ホスト−ゲスト層厚さＨｂが十分に薄くなっている。このため、正孔注入・輸送層４１とホスト−ゲスト層３２との間にホスト層３１が介在するので、電荷の受け渡しがスムーズになる。
【００２３】
本実施形態では、正孔注入・輸送層４１とホスト−ゲスト層３２との間には、むしろホスト層３１だけの層があった方がよい。すなわち、正孔注入・輸送層４１とホスト−ゲスト層３２との間にホスト層３１が介在する方が、ホスト層３１が実質的に正孔輸送層として機能するようになるとともに、ホスト層３１とホスト−ゲスト層３２との間で同じホスト材料が混ざっている状態となり、電荷の受け渡しがスムーズになるので好適である。
【００２４】
また、ホスト−ゲスト層３２は、素子基板１０上の複数の陽極１１と対向する位置に複数形成されている。これら複数のホスト−ゲスト層３２は、隣り合うホスト−ゲスト層３２間の距離Ｌｂ（以下、ホスト−ゲスト層間ピッチという。）が所定の寸法を有するように配置されている。これにより、ＲＧＢの３色の発光層３０を塗り分ける場合、複数の各色のホスト−ゲスト層３２Ｒ，３２Ｇ，３２Ｂがそれぞれホスト−ゲスト層間ピッチＬｂを有して配置されるので、隣り合う画素が混じり合うことがない。なお、ホスト−ゲスト層間ピッチＬｂは、陽極間ピッチＬａと同様の長さ２０μｍになっている。
【００２５】
ホールブロック層４２は、発光層３０を覆って形成されている。ホールブロック層４２の形成材料は、例えばＢＡｌｑを用いることができる。このホールブロック層４２は、ホスト−ゲスト層３２中のゲスト材料が＋（正）にチャージされ、陰極１２側へ移動するのを抑制するものである。
【００２６】
電子輸送層４３は、ホールブロック層４２を覆って形成されている。電子輸送層４３の形成材料は、例えばＡｌｑ３を用いることができる。この電子輸送層４３は、陰極１２から注入された電子を発光層３０側に輸送するものである。
【００２７】
陰極１２は、電子輸送層４３を覆って形成されている。陰極１２は、例えばフッ化リチウム（ＬｉＦ）とアルミニウム（Ａｌ）とが、電子輸送層４３上にこの順に積層されて構成されたものである。このような積層構造の電極とされたことにより、特にＡｌは反射層としても機能するものとなっている。また、この陰極１２上には、接着層５１を介して封止基板２０が貼り合わされ固定されている。
【００２８】
（有機ＥＬ表示装置の製造方法）
次に、本実施形態における有機ＥＬ表示装置１の製造方法の一例を説明する。図３〜図５は、有機ＥＬ表示装置１の製造プロセスを順を追って示す工程図である。
【００２９】
図３（ａ）に示すように、素子基板１０の全面を覆うように陽極１１となる透明導電膜を、ＩＴＯによって形成する。次に、この透明導電膜をパターニングすることにより、複数の陽極１１を形成する。なお、後述するように、ＲＧＢの３色の発光層３０をインクジェット法で塗り分ける場合は、インクジェット装置のノズルから吐出される液状材料の着弾精度を踏まえて、複数の陽極１１がそれぞれ所定の陽極間ピッチＬａを有して設計されるのが望ましい。
【００３０】
次に、図３（ｂ）に示すように、素子基板１０上の複数の陽極１１の露出する部位全面を覆って、上述した正孔注入・輸送層４１の形成材料をスピンコート法やスクリーン印刷法などの塗布法を用いて配置する。その後、熱処理（乾燥処理）を行うことにより、正孔注入・輸送層４１を形成する。
【００３１】
ところで、この正孔注入・輸送層４１の形成工程では、素子基板１０上に従来技術のような隔壁層が形成されていないことから、インクジェット法などの液滴吐出法を用いて正孔注入・輸送層４１の形成材料を選択的に配置する必要がない。つまり、本実施形態では、隔壁層が形成されていないので、正孔注入・輸送層４１の形成材料をスピンコート法やスクリーン印刷法などの塗布法を用いて、素子基板１０上の複数の陽極１１の露出する部位全面を覆ってベタ状に配置することができる。
【００３２】
次に、図３（ｃ）に示すように、正孔注入・輸送層４１上に、ホスト材料からなるホスト層３１を形成する。ホスト層３１の形成材料としては、第１の溶媒にホスト材料を溶解してなる第１の液状材料を用いる。そして、この第１の液状材料をスピンコート法やスクリーン印刷法などの塗布法を用いて、正孔注入・輸送層４１上にベタ状に配置する。その後、乾燥することによりホスト層３１を形成する。なお、後述するように、第２の液状材料３３をインクジェット法を用いて配置しホスト層３１の再溶解を設定した厚さにとどめ、ホスト−ゲスト層３２の厚さを設定した厚さに調整するように、ホスト層３１が所定の寸法のホスト層厚さＨａを有して設計されるのが望ましい。具体的には、ホスト層厚さＨａは、３０〜５０ｎｍ程度に設定されるのがよい。
【００３３】
ここで、第１の溶媒としては、沸点が比較的低い溶媒（以下、低沸点溶媒という。）が用いられる。この低沸点溶媒としては、例えばトルエン（沸点；１１０.６℃）、キシレン（沸点；１３８〜１４４℃）、クロロホルム（沸点；６２℃）、シクロヘキサノン（沸点；１５５.６５℃）などの、沸点が６０〜１６０℃程度のものが挙げられる。本実施形態では、ホスト材料としてＣＢＰを用いているので、この組み合わせとして第１の溶媒は、トルエン、キシレン、クロロホルム、シクロヘキサノンのいずれを用いることもできる。
【００３４】
次に、図４（ａ）に示すように、ホスト層３１上に第２の液状材料３３を配置し、ホスト層３１の表層部を再溶解させる。第２の液状材料３３は、ＲＧＢの３色の発光層３０に対応する各色の第２の液状材料、例えば赤色光の第２の液状材料３３Ｒと、緑色光の第２の液状材料３３Ｇと、青色光の第２の液状材料３３Ｂと、を有している。つまり、ＲＧＢの３色の発光層３０を塗り分けるように、複数の各色の第２の液状材料３３Ｒ，３３Ｇ，３３Ｂを配置する。このとき、複数の各色の第２の液状材料３３Ｒ，３３Ｇ，３３Ｂを、陽極１１にほぼ重なる位置に配置する。
【００３５】
第２の液状材料３３としては、第２の溶媒にゲスト材料を溶解してなるものを用いる。また、第２の溶媒としては、沸点が１６０℃以下の低沸点溶媒を用いる。本実施形態では、ゲスト材料としてＩｒ（ｐｐｙ）３を用いているので、この組み合わせとして第２の溶媒は、シクロヘキサノンを用いる。
【００３６】
そして、この第２の液状材料３３をインクジェット法などの液滴吐出法を用いてホスト層３１上に配置することにより、ホスト層３１の表層部を再溶解させる。すなわち、第２の液状材料３３中の第２の溶媒は、低沸点溶媒を用いているので、ホスト層３１の表層部は第２の液状材料３３がホスト層３１上に着弾すると直ぐに第２の溶媒によって再溶解する。言い換えると、この第２の溶媒はホスト層３１の下側（正孔注入・輸送層４１側）にまで浸透することなく、比較的早く気化する。すると、再溶解したホスト層３１の表層部は、第２の溶媒中にてホスト材料にゲスト材料が分散し、これらホスト材料とゲスト材料とが均一に混ざり合う。そして、この状態で乾燥することにより、図４（ｂ）に示すように、先に形成したホスト層３１の表層部のみに、ホスト材料中にゲスト材料が分散してなるホスト−ゲスト層３２が選択的に形成される。
【００３７】
なお、本製造方法において、第２の溶媒としては、第１の溶媒と同様の極性を有するもの（非極性溶媒）が用いられるのが望ましい。これにより、第２の液状材料３３中の第２の溶媒は、第１の溶媒と同様の極性を有しているので、乾燥して硬化したホスト層３１の表層部は、第２の溶媒によって容易に再溶解する。
【００３８】
また、第２の液状材料３３をインクジェット法などの液滴吐出法を用いて配置するので、吐出量を予め設定した所望の量にすることができる。したがって、ホスト層３１の再溶解を設定した厚さにとどめ、乾燥後に得られるホスト−ゲスト層３２の厚さＨｂ調整することができる。つまり、ホスト−ゲスト層厚さＨｂを、２〜３ｎｍ程度に調整することができる。また、ＲＧＢの３色の発光層を塗り分ける場合、ホスト層３１の表層部にゲスト材料をそれぞれ所定の着弾精度で配置することができる。これにより、乾燥後に得られるホスト−ゲスト層３２の間の距離Ｌｂを調整することができる。つまり、ホスト−ゲスト層間ピッチＬｂを陽極間ピッチＬａとほぼ同じ長さになるように調整することができる。
【００３９】
これにより、正孔注入・輸送層４１上に形成されたホスト層３１と、このホスト層３１上に形成されたホスト−ゲスト層３２との積層構造を有する発光層３０が形成される。
【００４０】
次に、図４（ｃ）に示すように、発光層３０上に、ホールブロック層４２の形成材料を蒸着を用いて配置することによりホールブロック層４２を形成する。なお、ホールブロック層４２の形成材料については、第１の溶媒及び第２の溶媒と異なる極性のものを用い、発光層３０を再溶解しないようにするのが好ましい。
【００４１】
次に、図５（ａ）に示すように、ホールブロック層４２上に、電子輸送層４３の形成材料を蒸着を用いて配置することにより電子輸送層４３を形成する。
【００４２】
次に、図５（ｂ）に示すように、電子輸送層４３上に、陰極１２の形成材料を蒸着を用いて配置することにより陰極１２を形成する。具体的には、電子輸送層４３上に、ＬｉＦとＡｌとをこの順に蒸着を用いて積層し、陰極１２を形成する。
【００４３】
そして、図５（ｃ）に示すように、陰極１２上に接着層５１を形成する。さらに、この接着層５１によって封止基板２０を接着し、封止を行う。以上の工程により、本実施形態の有機ＥＬ表示装置１が得られる。
【００４４】
本実施形態の有機ＥＬ表示装置１の製造方法によれば、塗布法を用いることによりホスト層３１をベタ状に形成することができる。本発明の構造は隔壁層が形成されていないので、例えば、スピンコート法、スクリーン印刷法などの塗布法を用いることにより、ホスト層３１を素子基板１０上の全面にベタ状に形成することができる。また、一般に蒸着よりも塗布法を用いた方が溶解性に優れる材料をホスト層３１として形成することで、ホスト層３１の表層部を再溶解させてホスト材料中にゲスト材料を分散させる際に好適である。また、液滴吐出法を用いることによりホスト層３１上に配置する第２の液状材料３３の量を所望の量にすることが容易にできる。したがって、ホスト層３１の再溶解を設定した厚さにとどめることができる。そして、従来技術のように発光層３０を区画する隔壁層を形成しないので、発光層３０が素子基板１０上の陽極１１側にベタ状に形成される。よって、特許文献１のように、隔壁層表面の濡れ性や、隔壁層と機能層の形成材料の違いから、機能層の薄膜ムラによる表示ムラが引き起こされることがない。また、陽極１１側上に、ホスト層３１とホスト−ゲスト層３２とがこの順に積層された構造となる。このため、ホスト−ゲスト層３２の陽極１１側にホスト層３１が介在するので、ホスト層３１が実質的に正孔輸送層として機能するとともに、ホスト層３１とホスト−ゲスト層３２との間で同じホスト材料が混ざっている状態となり、電荷の受け渡しがスムーズになる。また、ホスト層３１の表層部にゲスト材料をそれぞれ所定の着弾精度で配置することができるので、ＲＧＢの３色の発光層３０を塗り分ける場合、ホスト−ゲスト層３２が混じり合って隣り合う各色の画素が混色することがない。したがって、機能層４０の薄膜ムラによる表示ムラを生じることのない、有機ＥＬ素子９の発光効率に優れた、高品質かつ高精彩な有機ＥＬ表示装置１が提供できる。
【００４５】
また、本製造方法によれば、第２の溶媒は、沸点が１６０℃以下なので、ホスト層３１の表層部に着弾された第２の液状材料３３は、先に形成したホスト層３１の再溶解を、ホスト層３１の表層部のみに限定的に起こさせ、そして第２の溶媒が気化される。これにより、ホスト層３１の表層部のみにゲストがドーピングされた発光層３０を形成することができる。
【００４６】
なお、本実施形態では、陰極１２は、ＬｉＦとＡｌとが積層された構成となっているが、これに限らない。例えば、陰極１２についても陽極１１と同様に透明な材料を用いれば、発光した光を陰極１２側から出射させることができる。このような透明な材料としては、ＩＴＯ、Ｐｔ、Ｉｒ、Ｎｉ、Ｐｄを用いることができる。このとき、封止基板２０は、ガラス等からなる透明な基板を用いる。
【００４７】
なお、本製造方法では、複数のホスト−ゲスト層３２は、ホスト−ゲスト層間ピッチＬｂが陽極間ピッチＬａと同様の長さ２０μｍになるように配置されているが、これに限らない。一例として、本製造方法のホスト−ゲスト層形成工程における他の製造方法の例について説明する。図６は、ホスト−ゲスト層形成工程における他の製造例を示す図である。本製造方法の例は、ホスト−ゲスト層間ピッチＬｂを有していない点で上記実施形態の製造方法と異なる。本図は、図４（ａ）に対応した、有機ＥＬ表示装置１の製造工程を示した図となっている。図４（ａ）と同様の要素には同一の記号を付し、詳細な説明を省略する。
【００４８】
図６に示すように、本製造方法の例では、ホスト−ゲスト層形成工程においてホスト層３１上に第２の液状材料３３を配置する際に、ＲＧＢの３色の発光層３０に対応する各色の第２の液状材料３３が、陽極間ピッチＬａに対応する領域内で一部重なるように配置されている。具体的には、赤色光の第２の液状材料３３Ｒと、緑色光の第２の液状材料３３Ｇとが、陽極間ピッチＬａに対応する領域内で一部重なるように配置されている。また、緑色光の第２の液状材料３３Ｇと、青色光の第２の液状材料３３Ｂとが、陽極間ピッチＬａに対応する領域内で一部重なるように配置されている。
【００４９】
このように、ＲＧＢの３色の発光層３０に対応する各色の第２の液状材料３３が、陽極間ピッチＬａに対応する領域内で一部重なるように配置されても、陽極間ピッチＬａが十分に確保されているので、ＲＧＢの３色の発光層をインクジェット法で塗り分ける場合、それぞれの色の画素が混じり合うことがない。すなわち、陽極１１は、インクジェット装置のノズルから吐出される液状材料の着弾精度を踏まえて、陽極間ピッチＬａが２０μｍ以上となるように配置されてさえいればよい。
【００５０】
（電子機器）
図７は、本発明に係る電子機器の一例である薄型大画面テレビ１３００の斜視図である。薄型大画面テレビ１３００は、テレビ本体（筐体）１３０２と、スピーカーなどの音声出力部１３０４と、上述した本発明の有機ＥＬ表示装置１を用いた表示部１３０６とを備えている。これにより、表示ムラを生じることのない、発光効率に優れた高品質の薄型大画面テレビ１３００を提供することができる。
【００５１】
上記実施形態の有機ＥＬ表示装置は、上記薄型大画面テレビに限らず、携帯電話、電子ブック、プロジェクタ、パーソナルコンピュータ、ディジタルスチルカメラ、テレビジョン受像機、ビューファインダ型あるいはモニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた機器等々の画像表示手段として好適に用いることができる。かかる構成とすることで、表示ムラを生じることのない、発光効率に優れた高品質の表示部を備えた電子機器を提供できる。
【符号の説明】
【００５２】
１…有機ＥＬ表示装置、１１…陽極、１２…陰極、３０…発光層（有機発光層）、３１…ホスト層、３２…ホスト−ゲスト層、３３…第２の液状材料
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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