(57)【要約】【課題】  材料（塗布液）の使用効率と均一な膜の両立を図る反射色分布の均一なシールド膜の簡便な製造方法の提供及びそのシールド膜の製造方法を用いたフラットパネルディスプレイの提供。【解決する手段】透明基板上に順次形成される透明導電性微粒子層と酸化ケイ素を主成分とするバインダーマトリックスからなる透明オーバーコート層とから構成される透明２層膜を備えるシールド膜の製造方法において、その透明導電性微粒子層は、透明導電性微粒子を含む透明導電性微粒子層形成用塗布液を透明基板上にスリットコート法を用いて形成し、透明オーバーコート層は、透明オーバーコート層形成用塗布液を透明導電性微粒子層上にスピンコート法を用いて形成するシールド膜の製造方法。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板上に順次形成される透明導電性微粒子層と、酸化ケイ素を主成分とするバインダーマトリックスからなる透明オーバーコート層とから構成される透明２層膜を備えるシールド膜の製造方法において、
前記透明導電性微粒子層は、透明導電性微粒子を含む透明導電性微粒子層形成用塗布液を前記透明基板上にスリットコート法を用いて形成し、
前記透明オーバーコート層は、透明オーバーコート層形成用塗布液を前記透明導電性微粒子層上にスピンコート法を用いて形成することを特徴とするシールド膜の製造方法。
【請求項２】
前記透明導電性微粒子が、錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）であることを特徴とする請求項１記載のシールド膜の製造方法。
【請求項３】
フラットパネルディスプレイの前面板の外側の面にシールド膜を形成するフラットパネルディスプレイの製造方法において、
前記シールド膜の形成が、請求項１又は２記載のシールド膜の製造方法を用いて形成されることを特徴とするフラットパネルディスプレイの製造方法。
【請求項４】
透明基板上に、
透明導電性微粒子を含む透明導電性微粒子層形成用塗布液をスリットコート法を用いて形成される透明導電性微粒子層と、
酸化ケイ素を主成分とするバインダーを含む透明オーバーコート層形成用塗布液を前記透明導電性微粒子層上にスピンコート法を用いて形成される透明オーバーコート層とから構成されることを特徴とするシールド膜。
【請求項５】
前記透明導電性微粒子が、錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）であることを特徴とする請求項４記載のシールド膜。
【請求項６】
フラットパネルディスプレイの前面板の外側の面に形成されるシールド膜が、請求項５記載のシールド膜であることを特徴とするフラットパネルディスプレイ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示素子やプラズマディスプレイ等のフラットパネルディスプレイパネルに使用されるシールド用透明導電膜であるシールド膜及びその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶表示素子やプラズマディスプレイパネル等のＦＰＤ（Ｆｌａｔ  ＰａｎｅｌＤｉｓｐｌａｙ）は薄型テレビ受像機として注目されているが、ＦＰＤには動作確保や帯電防止の観点からシールド膜を形成することが行われる。
例えば、液晶表示素子、特にＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｃｈｉｎｇ）方式の液晶表示素子は外部電界の影響で動作が不安定になりやすく、誤動作を防ぐために液晶素子表面の前面板の外側に透明で導電性を持つシールド膜を形成することが行われている。ここにフラットパネルディスプレイの前面板とは、フラットパネルディスプレイの映像が表示される側の基板である。すなわち、シールド膜はフラットパネルディスプレイの映像が表示される側の基板の外側に設けられる。
【０００３】
さらに、シールド膜は帯電防止能も備えており、静電気による表面への埃の付着を防止することもできる。シールド膜の電気的特性の改善やシールド膜の表面強度向上の観点から、多層化も行われている。
このシールド膜は、表面抵抗値等の電気的特性に加えて目視上の均一性（反射色の均一性）が求められるが、反射色の分布は膜厚分布に依存している。
【０００４】
その一方、ＦＰＤ市場では、需要増加は激しく、ＦＰＤの大型化と価格低下が進んでいる。そのため、上述した特性を満足した安価な大面積のシールド膜を製造する方法が求められている。
【０００５】
ところで、シールド膜の形成方法は大きく２種類に分けられる。一つはスパッタリング等を用いる乾式形成法で、他方はシールド膜となる液体を塗布する塗布形成法である。
この乾式形成法では真空容器を備えた大がかりな設備が必要で、特に大面積のシールド膜を安価に製造するには不利である。また、材料の使用効率も悪く、例えば、スパッタリング法では放電により金属や金属酸化物のターゲットから放出された材料を基材上に堆積してシールド膜を形成するが、一般的なターゲットの使用効率は１０〜３０％程度である。
【０００６】
一方、塗布形成法は、スピンコート法、インクジェット法、スリットコート法などがあり、乾式法のような大がかりな設備が不要で近年注目されている。
以下に、主な塗布形成方法を簡単に説明する。
スピンコート法は、回転させた基板上に塗布液を過剰に滴下し、遠心力で塗布液を塗り広げることによって基板上に均一な塗布膜を得る方法で、装置が比較的単純で安価であり、塗布膜の均一性もよいので一般的によく使われる。
【０００７】
特許文献１にスピンコート法を用いて透明基板に透明導電層と透明コート層とが順次形成された透明導電基材が提案され、透明導電層が導電性微粒子と酸化ケイ素のバインダーマトリックスを主成分とし、透明コート層が酸化ケイ素のバインダーマトリックスを主成分とする技術が開示されている。
また、特許文献２にも、透明基板上に透明導電膜、オーバーコート膜のそれぞれが、スピンコート法を用いて形成された２層構造膜の具体的な塗布形成方法が開示されている。
【０００８】
インクジェット法は、インクジェットノズルから微小な塗布液の液滴を打ち出し、基板上に付着させることで塗布膜を形成する方法で、必要な場所にのみ塗布液を塗布することができ、塗布液の使用効率が高い方法である。
【０００９】
スリットコート法は、スリットダイに設けられた狭いスリットを通して塗布液を必要な量だけ基板上に供給し、基板をスリットダイに対して相対的に移動させることにより塗布膜を得る方法で、装置はやや複雑であるが、スリット間隔の調整で大面積の比較的均一な膜厚分布の塗布膜を効率よく形成することができる。また、供給された塗布液はすべて塗布膜となるため塗布液の使用効率が高く、資源の有効利用という点で好ましい。製造上は特に高価な塗布液を塗布する場合に有利である。
【００１０】
以上のようにシールド膜を形成する場合、塗布液の使用効率から考えて透明導電性微粒子層、透明オーバーコート層ともにインクジェット法またはスリットコート法で形成することが望ましい。また、透明導電性微粒子層形成用塗布液は高価な透明導電性微粒子を含んでおり、安価なバインダー成分を主成分とする透明オーバーコート層形成用塗布液に比べるとおよそ１０倍程度も高価であり、コスト面では、透明導電性微粒子層の形成には特にインクジェット法またはスリットコート法が望ましく、特にシールド膜のようなベタ膜を形成する場合はスリットコート法が特に望ましいといえる。
このスリットコート法では塗布液の使用量が、スピンコート法の１／１０〜１／１００となり、効率良くシールド膜を得ることができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１１】
【特許文献１】特開２００２−４２５５７号公報
【特許文献２】特開２００５−１６６３５０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
開示されているスピンコート法は、比較的簡単に膜厚分布の均一な膜を得ることができるが、材料（塗布液）の使用効率が悪く、材料コストが大きい問題を抱えている。例えば、２００×２３０ｍｍの面積に膜厚０．１５μｍの塗膜を形成する場合、塗布条件や塗布液の組成にもよるが、実際に膜形成に必要な塗布液の１０〜１００倍もの塗布液を基板に過剰に滴下することが必要になる。
【００１３】
一方、インクジェット法は、塗布液の液滴を制御するため装置が複雑で高価であり、インクジェットノズル径が小さく、塗布液の粘度等に大きな制限を受け、シールド膜のように均一で大面積の膜を効率よく形成するためには、スループットを上げるためインクジェットノズルの数を増やすことが必要となり、さらに装置は高価になる。
【００１４】
スリットコート法では、材料（塗布液）の使用効率は高いが、膜厚分布をコントロールし、均一な膜を作成するためには複雑な操作や微調整が必要であり、装置コストや工数（塗工コスト）がかかるという課題を抱えている。例えば、その塗工幅が広くなる場合、塗工幅方向で均一な膜厚分布を得るためにはスリット間隔の微調整が必要となり、５００ｍｍ程度の塗工幅では５０ｍｍごとに専用の調整機構で微調整をしなければならず、工数が増えて塗工コストのアップにつながる。例えば２００ｍｍの塗工幅で微調整をしない場合、中央部に比べて端部の膜厚は２０％程度薄くなることがある。
【００１５】
このため、透明導電性微粒子層、透明オーバーコート層の両者をスリットコート法で塗布形成したシールド膜では、スリット幅方向（スリットコート方向と直角方向）で反射色にムラが出るという問題が発生することがある。このことは、ＦＰＤのシールド膜に用いられた場合、反射色のムラは外観上の不良となってしまう。
【００１６】
このように現在、知られている塗布形成方法では、材料（塗布液）の使用効率と均一な膜の両立が図られた塗布形成方法はなく、材料（塗布液）の使用効率と均一な膜の両立が図れる塗布形成方法が求められていた。
そこで本発明では、このような状況に鑑み、材料（塗布液）の使用効率と均一な膜の両立を図る反射色分布の均一なシールド膜を簡便に作製する方法を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
本発明の第１の発明は、透明基板上に順次形成される透明導電性微粒子層と酸化ケイ素を主成分とするバインダーマトリックスからなる透明オーバーコート層とから構成される透明２層膜を備えるシールド膜の製造方法において、その透明導電性微粒子層は、透明導電性微粒子を含む透明導電性微粒子層形成用塗布液を透明基板上にスリットコート法を用いて形成し、透明オーバーコート層は、透明オーバーコート層形成用塗布液を透明導電性微粒子層上にスピンコート法を用いて形成することを特徴とするシールド膜の製造方法である。
【００１８】
本発明の第２の発明は、第１の発明に記載のシールド膜の製造方法における透明導電性微粒子が、錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）であることを特徴とするシールド膜の製造方法である。
【００１９】
本発明の第３の発明は、フラットパネルディスプレイの前面板の外側の面にシールド膜を形成するフラットパネルディスプレイの製造方法において、そのシールド膜の形成が、第１又は第２の発明に記載のシールド膜の製造方法を用いて形成されることを特徴とするフラットパネルディスプレイの製造方法である。
【００２０】
本発明の第４の発明は、透明基板と、透明導電性微粒子を含む透明導電性微粒子層形成用塗布液を透明基板上にスリットコート法を用いて形成される透明導電性微粒子層と、酸化ケイ素を主成分とするバインダーを含む透明オーバーコート層形成用塗布液を透明導電性微粒子層上にスピンコート法を用いて形成される透明オーバーコート層とから構成されることを特徴とするシールド膜である。
【００２１】
本発明の第５の発明は、第４の発明に記載のシールド膜における透明導電性微粒子が、錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）であることを特徴とするシールド膜である。
【００２２】
本発明の第６の発明は、フラットパネルディスプレイの前面板の外側の面に形成されるシールド膜が、錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）を含む透明導電性微粒子層形成用塗布液を透明基板上にスリットコート法を用いて形成される透明導電性微粒子層と、酸化ケイ素を主成分とするバインダーを含む透明オーバーコート層形成用塗布液を透明導電性微粒子層上にスピンコート法を用いて形成される透明オーバーコート層とから構成されることを特徴とするシールド膜であることを特徴とするフラットパネルディスプレイである。
【発明の効果】
【００２３】
透明基板上に、錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）を含む透明導電性微粒子層形成用塗布液を、スリットコート法を用いて塗布して透明導電性微粒子層を形成し、該透明導電性微粒子層上に、酸化ケイ素を主成分とするバインダーを含む透明オーバーコート層形成用塗布液を、スピンコート法を用いて塗布して透明オーバーコート層を形成することを特徴とする本発明のシールド膜及びシールド膜の製造方法によれば、材料の使用効率に優れ、反射色分布の均一なシールド膜を容易に作製することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】実施例１で得られた２層シールド膜の外観写真である。
【図２】比較例１で得られた２層シールド膜の外観写真である。
【図３】実施例１で得られた２層シールド膜の可視光領域の分光反射率のグラフである。
【図４】比較例１で得られた２層シールド膜の可視光領域の分光反射率のグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
本発明に係るシールド膜は、透明導電性微粒子層と酸化ケイ素を主成分とするバインダーマトリックスからなる透明オーバーコート層の透明２層膜で構成されるもので、透明基板上に形成される。
このシールド膜を形成する透明基板には、ガラス、プラスチック、セラミックなどを用いることができる。例えば、液晶表示素子であればカラーフィルターが形成されたガラス基板（前面板）のガラス面（外側）、すなわちカラーフィルターの形成されていない面を研磨し新たに作られたガラス面でもよい。
【００２６】
シールド膜の下層となる透明導電性微粒子層は、透明導電性微粒子同士の接触により膜全体に導電性を発現させる。さらに、この透明導電性微粒子層に酸化ケイ素を主成分とするバインダーを含む透明オーバーコート層形成用塗布液をオーバーコートすることでバインダー成分の一部が下層の透明導電性微粒子層にしみ込み酸化ケイ素を主成分とするバインダーマトリックスとなって、導電性微粒子同士の接触を維持した状態で導電性微粒子同士および基板を結着し、膜を強固にする。また、透明オーバーコート層は酸化ケイ素を主成分とするバインダーマトリックスで構成され、透明導電性微粒子層を保護し、表面強度を増す機能もある。
【００２７】
このような透明導電性微粒子層の形成は、透明導電性微粒子を含む透明導電性微粒子層形成用塗布液を基板に塗布し、乾燥させることで作製する。
この透明導電性微粒子層を形成する塗布液としては、透明導電性微粒子を溶媒に分散させた透明導電性微粒子層形成用塗布液を用い、この透明導電性微粒子層形成用塗布液は、ビーズミル（湿式媒体分散機）をはじめ公知の分散方法で透明導電性微粒子を溶媒中に分散させることで製造できる。また、塗布液の安定性や塗布性を上げるために分散剤、界面活性剤、レベリング剤等を含んでいてもよい。上記溶媒としてはアルコール類、ケトン類、炭化水素類、アミド類、アルキルエーテル類、グリコールエーテル類、スルホキシド類を適宜用いると良い。
【００２８】
この透明導電性微粒子層を構成する透明導電性微粒子には、ＩＴＯ（錫ドープ酸化インジウム）、ＡＴＯ（アンチモンドープ酸化錫）などを使用するが、より導電性の高いＩＴＯが好ましい。
【００２９】
透明オーバーコート層の形成は、透明オーバーコート層形成用塗布液を透明基板上に形成された透明導電性微粒子層上に塗布し、１００〜３００℃に加熱して硬化させて透明２層膜のシールド膜を作製する。
【００３０】
透明オーバーコート層を形成する透明オーバーコート層形成用塗布液としては透明導電性微粒子層にしみ込んで透明導電性微粒子を結着させることができれば良く、微粒子層へのしみ込みを調整するための界面活性剤や微粒子とバインダーマトリックスの結着力を増すようなチオール系の添加剤を含んでいても良い。
１００〜３００℃の加熱による硬化によって酸化ケイ素を主成分とするバインダーマトリックスが形成され、強固なオーバーコート層の形成が可能となる。
【００３１】
酸化ケイ素を主成分とするバインダーには、メチルシリケートやエチルシリケートを加水分解させて溶媒に溶解したものが好ましく、一部を予め重合させたものを用いてもよい。用いる溶媒としては、用いる基板や成膜条件を考慮して、適宜選定することができる。
例えば、水、メタノール（ＭＡ）、エタノール（ＥＡ）、１−プロパノール（ＮＰＡ）、イソプロパノール（ＩＰＡ）、ブタノール、ペンタノール、ベンジルアルコール、ジアセトンアルコール（ＤＡＡ）等のアルコール系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルプロピルケトン、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、シクロヘキサノン、イソホロン等のケトン系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、ギ酸アミル、酢酸イソアミル、プロピオン酸ブチル、酪酸イソプロピル、酪酸エチル、酪酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、オキシ酢酸メチル、オキシ酢酸エチル、オキシ酢酸ブチル、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、３−オキシプロピオン酸メチル、３−オキシプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、２−オキシプロピオン酸メチル、２−オキシプロピオン酸エチル、２−オキシプロピオン酸プロピル、２−メトキシプロピオン酸メチル、２−メトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシプロピオン酸プロピル、２−エトキシプロピオン酸メチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、２−オキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−オキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、２−メトキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−エトキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、２−オキソブタン酸メチル、２−オキソブタン酸エチル等のエステル系溶媒、エチレングリコールモノメチルエーテル（ＭＣＳ）、エチレングリコールモノエチルエーテル（ＥＣＳ）、エチレングリコールイソプロピルエーテル（ＩＰＣ）、エチレングリコールモノブチルエーテル（ＢＣＳ）、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールメチルエーテル（ＰＧＭ）、プロピレングリコールエチルエーテル（ＰＥ）、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート（ＰＧＭ−ＡＣ）、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート（ＰＥ−ＡＣ）、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル等のグリコール誘導体、トルエン、キシレン、メシチレン、ドデシルベンゼン等のベンゼン誘導体、ホルムアミド（ＦＡ）、Ｎ−メチルホルムアミド、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルフォキシド(ＤＭＳＯ)、Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）、γ−ブチロラクトン、エチ��ングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ペンタメチレングリコール、１、３−オクチレングリコール、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、クロロホルム、ミネラルスピリッツ、ターピネオール等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００３２】
以下に、透明２層膜からなるシールド膜の塗布形成方法について説明する。
塗布形成方法は、主にスピンコート法、インクジェット法、スリットコート法などが用いられ、それぞれ長所と短所を持ち合わせているが、本発明の透明２層膜からなるシールド膜の製造方法は、スピンコート法とスリットコート法の長所を生かし、それぞれの短所を補った製造方法で、透明導電性微粒子層を透明導電性微粒子を含む透明導電性微粒子層形成用塗布液をスリットコート法で塗布形成し、さらに該透明導電微粒子層上に透明オーバーコート層形成用塗布液をスピンコート法で塗布して透明オーバーコート層を形成する方法である。なお、スリットコート法とスピンコート法の順序を逆にした場合には本発明の効果は発揮できない。
【００３３】
シールド膜の場合、膜の導電性を決めるのは下層の透明導電性微粒子層の膜厚であり、用途により適宜決められる。ある程度以上の膜厚があれば導電性が確保できるので分布はあまり問われない。
一方、外観（反射色）は透明２層膜の光の干渉によって生じるため透明導電性微粒子層と透明オーバーコート層から構成される透明２層膜の膜厚（透明導電性微粒子層の膜厚＋透明オーバーコート層の膜厚）分布が所定の範囲内に制御されることが要求される。より望ましくは、透明導電性微粒子層の膜厚が薄くなるほど、透明２層膜の膜厚を幾分薄くなるように制御すると良い。
【００３４】
すなわち、基板上に順次形成された透明導電性微粒子層と酸化ケイ素を主成分とするバインダーマトリックスからなる透明オーバーコート層とで構成された透明２層膜の外観（反射色）は、透明２層膜の膜厚分布に大きく依存する。
透明導電性微粒子層の膜厚が一定で、透明オーバーコート層における膜厚の異なる透明２層膜の可視光領域（４００〜８００ｎｍ）での分光反射率を測定すると、透明オーバーコート層の膜厚が薄くなるに従って反射率のピークおよびボトム（谷）は短波長側にシフトする。よって、透明２層膜の膜厚が変わると透明２層膜の反射色が変わる。また透明２層膜の膜厚分布が大きくなると透明２層膜の反射色に分布が生じ、外観が不均一となる。
【００３５】
上記構成の透明２層膜では透明オーバーコート層形成用塗布液のバインダー成分の一部が下層の透明導電性微粒子間の空隙部分にしみ込むため、仮に下層に膜厚分布がある場合でも、オーバーコート形成用塗布液を均一に塗布できれば、上記バインダー成分のしみ込みによって上層の透明オーバーコート層の膜厚が自動的に制御されるため、透明２層膜の膜厚分布の悪化を生じにくくなる。
【００３６】
そこで、このような透明２層膜の膜厚に著しい分布が生じない塗布形成方法を求めると、先ずスリットコート法ではスリット間隔の微調整によってオーバーコート層の膜厚分布を調整し透明２層膜を均一にすることは可能であると思われるが、塗工コストは高くなり、安価に２層シールド膜を得ることはできない。
【００３７】
一方、スピンコート法によるオーバーコート層の形成では、下層にバインダー成分がしみ込みながら余分な塗布液を遠心力で振切るため、一定量の塗布液を塗布するスリットコート法に比べると透明オーバーコート層形成用塗布液の均一な塗布が可能で有り、透明２層膜の膜厚分布は生じにくい。
すなわち透明導電性微粒子層の厚い部分では、より多くの透明オーバーコート層形成用塗布液が下層にしみ込み、オーバーコート層の膜厚が薄めに調整されるため、透明２層膜の膜厚分布を均一にする効果がある。
【００３８】
したがって、この構成の２層シールド膜では、透明導電性微粒子層については透明導電性微粒子層形成用塗布液をスリットコート法で塗布して形成し、さらに透明オーバーコート層については、透明オーバーコート層形成用塗布液をスピンコート法で塗布して形成することで良好な膜厚分布を示すシールド膜が得られる。
【００３９】
透明導電性微粒子層の形成にスリットコート法を用いることは、透明導電性微粒子を含む高価な透明導電性微粒子層形成用塗布液の使用量を劇的に減らすことができ、形成した透明導電性微粒子層に膜厚分布があったとしても、透明導電性微粒子層に対して比較的安価な透明オーバーコート層形成用塗布液をスピンコート法で塗布することで、複雑な調整をすることなく均一な透明オーバーコート層を形成することができる。このため外観の均一な（反射色の分布のない）２層シールド膜を安価に製造することができる。
【００４０】
フラットパネルディスプレイには、液晶表示素子やプラズマディスプレイパネル等がある。特にＩＰＳ方式の液晶表示素子にはシールド膜が必要とされるが、本発明のシールド膜の製造方法を用いることで、従来からの乾式法の大がかりな設備を必要とせずに、大画面のフラットパネルディスプレイの前面板の外側に目視上の均一性（反射色の均一性）を実現し、かつ安価なシールド膜を備えたフラットディスプレイパネルを得ることができる。
【実施例】
【００４１】
以下、本発明の実施例を具体的に説明する。また、本文中の「％」は、透過率とヘイズ値の「％」を除いて「重量％」を示し、また「部」は「重量部」を示している。
【実施例１】
【００４２】
平均粒径が約３０ｎｍの粒状のＩＴＯ微粒子（ＳＵＦＰ−ＨＸ：住友金属鉱山製）をジルコアルミネート系の分散剤を用いてＮ−メチルピロリドンとジアセトンアルコールの混合溶媒に分散させた分散液（ＩＴＯ濃度２７％）を、さらにプロピレングリコールモノメチルエーテルで希釈して最終的にＩＴＯ濃度が３％の透明導電性微粒子層形成用塗布液を作製した。
【００４３】
スリットコーター（卓ダイ２００：伊藤忠産機製、スリット間隔３０μｍ）を用いて、作製した透明導電性微粒子層形成用塗布液をガラス基板（２２０×３００×３ｍｍ）にギャップ５０μｍ、塗工速度４０ｍｍ／ｓ、Ｗｅｔ膜厚１４μｍの条件で、塗工幅２００ｍｍ×長さ２３０ｍｍの範囲にスリットコートした。スリット間隔の微調整は行わなかった。
塗布液の使用量は０．６４ｃｃである。塗布後にオーブンで４０℃×５分の乾燥を行い、ガラス基板上にＩＴＯ微粒子から成る透明導電性微粒子層を得た。
【００４４】
次に、メチルシリケート５１（コルコート社製、商品名）１９．６部、エタノール５７．８部、１％硝酸水溶液７．９部、純水１４．７部を用いて酸化ケイ素固形分（シリカ分）が１０％のオーバーコート原液を調整し、このオーバーコート原液１５部をジアセトンアルコール１０部、プロピレングリコールモノメチルエーテル２０部、変性アルコール５５部で希釈して最終的にシリカ分が１．５％の透明オーバーコート層形成用塗布液を作製した。
【００４５】
透明導電性微粒子層を形成したガラス基板をスピンコーター（アサヒ理化製作所製）にセットし、この透明オーバーコート層形成用塗布液を透明導電性微粒子層に滴下し、スピンコートした。スピンコート条件はドース１５０ｒｐｍ×１０秒、振切り２５０ｒｐｍ×６０秒とし、バッフルプレート等での気流の制御は行わなかった。塗布液の使用量は１０ｃｃである。
塗布後にオーブンで１２０℃×３０分の熱処理をしてガラス基板上に形成された均一な透明２層膜を得た。
【００４６】
図１に作製したシールド膜の外観写真、表１にその膜厚評価結果を示す。
膜厚は、得られた透明２層膜断面の透過電子線顕微鏡（ＴＥＭ）観察を行い、観察されたＴＥＭ像の透明導電性微粒子層および透明オーバーコート層を測長して求めた。透明導電性微粒子層の塗工幅方向の膜厚は、中央部が１１８ｎｍ、端部が８５ｎｍ、中央部と端部の中間の中間部が１０３ｎｍで、端部から中央部にかけて膜厚が厚くなる分布となっていた。
【００４７】
図１に見られるように全面で紫色の干渉色が見られ、外観の均一な膜が得られていることがわかる。下層である透明導電性微粒子層に膜厚分布があるにもかかわらず、透明オーバーコート層の膜厚が調整されることで透明２層膜の膜厚の分布が小さいため反射色が一定となっている。
【００４８】
分光反射率の測定を分光測定器（日立製作所製Ｕ−４０００）を用いて入射角１２°における正反射を測定して行った。図３に可視光領域（４００〜８００ｎｍ）での分光反射率の測定結果を示す。なお、この分光反射率の測定は、ガラス基板の透明２層膜が形成されていない面に黒色テープを貼り付けて、ガラス裏面反射をカットして行っている。
【００４９】
図３から明らかなように、反射率のピークは中央部（実線）、中間部（点線）、端部（破線）ともに４００ｎｍ付近にあり、反射率のボトム（谷）も、いずれも５９０ｎｍ付近にあって、反射色が均一であることが分光反射率測定からも確認できた。また、この分光反射率から求めた色指数（ＣＩＥ  １９７６ Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系、視野角１０°、光源Ｄ６５）を比較例１と併せて表３に示す。
【００５０】
また、シールド膜の膜特性は、透過率が９２．４〜９２．９％、ヘイズ値が０．７〜０．８％、表面抵抗が４００ｋ〜５８０ｋΩ/□（キロオーム・パー・スクエア）であった。なお、上記の透過率、ヘイズ値は、ガラス基板込みの値である。
【００５１】
シールド膜の表面抵抗は、三菱化学（株）製の表面抵抗計ロレスタＭＰ（ＭＰＣ−Ｔ３５０）を用いて測定した。シールド膜の透過率とヘイズ値は日本電色工業（株）社製のヘイズメーター（ＮＤＨ５０００）を用い、ＪＩＳ  Ｋ７１３６（ヘイズ値）、ＪＩＳ Ｋ７３６１−１（透過率）に基づいて測定した。
【００５２】
（比較例１）
実施例１と同様にしてガラス基板上にＩＴＯ微粒子から成る透明導電性微粒子層を作製し、次に実施例１と同じオーバーコート原液２０部をジアセトンアルコール１０部、プロピレングリコールモノメチルエーテル２０部、変性アルコール５０部で希釈して最終的にシリカ分が２％のスリットコート用透明オーバーコート層形成用塗布液を準備した。次にスリットコーター（卓ダイ２００：伊藤忠産機製、スリット間隔３０μｍ）を用いて透明導電性微粒子層上にさらにスリットコート用透明オーバーコート層形成用塗布液を塗工幅２００ｍｍ×長さ２３０ｍｍの範囲にスリットコートした。スリットコート条件は、ギャップ５０μｍ、塗工速度４０ｍｍ／ｓ、Ｗｅｔ膜厚１０μｍで行った。スリット間隔の微調整は行わなかった。塗布液の使用量は０．４６ｃｃである。
塗布後にオーブンで１２０℃×３０分の熱処理をしてガラス基板上に形成された透明２層膜からなるシールド膜を作製した。
【００５３】
図２に作製したシールド膜の外観写真、表２にその膜厚評価結果を示す。
中央部で紫色、端部では黄色の干渉色が見られ、外観の不均一な膜となっているのが判る。
下層である透明導電性微粒子層に膜厚分布があることは実施例１と同様であるが、端部のオーバーコート層膜厚は中央部に比べて薄くなっており、透明２層膜の膜厚の分布が著しく悪化している。
【００５４】
可視光領域の分光反射率を図４に示す。端部（破線）の反射率のピークが大きくずれており、反射色が不均一であることがわかる。端部の反射率のボトム（谷）は４９０ｎｍで、中間部（点線）の５７０ｎｍ、中央部（実線）の６１０ｎｍに比べて大きくずれていた。また実施例１と同様に分光反射率から求めた色指数を表３に示した。特に端部のｂ＊値が大きくずれており、端部の色調が異なることがわかる。
【００５５】
シールド膜の膜特性は、透過率が９２．４〜９２．９％、ヘイズ値が０．６〜０．８％、表面抵抗が４２０ｋ〜６２０ｋΩ/□（キロオーム・パー・スクエア）であった。
【００５６】
【表１】
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【００５７】
【表２】
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【００５８】
【表３】
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【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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