(57)【要約】【課題】吐出された液滴がリガメントを引かず、付着した際に良好に濡れ広がる有機ＥＬ素子用インクジェットインクを提供すること。【解決手段】水と、界面活性剤と、水性高分子材料とを含み、静的表面張力が４０ｍＮ／ｍ以下であり、かつ最大泡圧法により測定される１００Ｈｚでの動的表面張力が５５ｍＮ／ｍ以上である、有機ＥＬ素子用インクジェットインク。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
水と、界面活性剤と、水性高分子材料とを含み、
静的表面張力が４０ｍＮ／ｍ以下であり、かつ最大泡圧法により測定される１００Ｈｚでの動的表面張力が５５ｍＮ／ｍ以上である、有機エレクトロルミネッセンス素子用インクジェットインク。
【請求項２】
前記界面活性剤が直鎖状ポリエーテルアルコールを含む請求項１記載の有機エレクトロルミネッセンス素子用インクジェットインク。
【請求項３】
前記直鎖状ポリエーテルアルコールの分子量が１００〜８００である、請求項１又は２記載の有機エレクトロルミネッセンス素子用インクジェットインク。
【請求項４】
前記直鎖状ポリエーテルアルコールが、式
［化１］
Ｒ１−（Ｏ−Ｒ２）ｎ−ＯＨ
（式中、Ｒ１は置換基を有していてもよいアルキル基であり、Ｒ２は置換基を有していてもよいアルキレン基であり、ｎは自然数である。Ｒ２が複数存在する場合、各々のＲ２は同一であっても相異なっていてもよい。）
に示される構造である請求項２又は３記載の有機エレクトロルミネッセンス素子用インクジェットインク。
【請求項５】
前記Ｒ１は炭素数４〜２０の直鎖状アルキル基であり、Ｒ２は炭素数１〜１０の直鎖状アルキレン基であり、ｎは１〜１２の整数である請求項４記載の有機エレクトロルミネッセンス素子用インクジェットインク。
【請求項６】
前記界面活性剤がペンタエチレングリコールモノドデシルエーテルである、請求項１記載の有機エレクトロルミネッセンス素子用インクジェットインク。
【請求項７】
前記界面活性剤の含有量が有機エレクトロルミネッセンス素子用インクジェットインクの全量１００重量部に対して０．００１〜１０重量部である請求項１記載の有機エレクトロルミネッセンス素子用インクジェットインク。
【請求項８】
前記水性高分子材料が水性導電性高分子である、請求項１〜７のいずれか記載の有機エレクトロルミネッセンス素子用インクジェットインク。
【請求項９】
一対の電極と、該電極間に設けられる有機層とを備える有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法であって、
請求項１〜８のいずれか記載の有機エレクトロルミネッセンス素子用インクジェットインクを用いて、インクジェット法によって前記有機層を形成する工程を含む、有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機エレクトロルミネッセンス素子用インクジェットインクおよび該インクを用いた有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機エレクトロルミネッセンス素子（以下、有機ＥＬ素子という場合がある。）は、一対の電極と、該電極間に設けられる１または複数の有機層とを含んで構成される。有機ＥＬ素子は、有機層として少なくとも発光層を備え、電圧を印加することによって、一対の電極から注入される正孔と電子とが発光層で再結合することによって発光する。
【０００３】
工程の簡易さの観点から、有機層を塗布法によって形成することが検討されている。その１つとして、有機層を構成する有機化合物や溶媒等を含むインクをノズルから液滴として吐出し、所定の位置に付着させるインクジェットプリント法がある（例えば特許文献１参照）。
【０００４】
従来のインクジェットプリント法に用いられるインクジェット用インクは、付着したインクの液滴が濡れ広がりにくかったり、ノズルから吐出する際に液滴が球形にならず、ノズルの開口から液滴が尾を引くことがあるという問題がある（以下、リガメントを引くという場合がある）。
【０００５】
液滴の濡れ広がり性が悪い場合は、インクが所望の面積に広がり難いために、塗布して形成した膜の厚さが不均一になりやすい。また、液滴がリガメントを引く場合は、液滴の直進性の悪化や、液滴先端部が所望の位置に着弾する一方で液滴の尾の部分（リガメント部）が塗布を行う所定の枠の外にはみだす現象等が生じ、高精度にインクを塗布することが困難になる。
【０００６】
特許文献２には、カラーフィルター用インクジェットインクの濡れ広がり性を向上させる技術が記載されている。このインクは、バインダー成分、顔料、及び溶剤からなり、更に表面張力が低いアルカン系溶剤を含むことを特徴としている。この特徴により、インクの粘度及び表面張力が適切に低下して、インク自体の濡れ広がり性が向上している。
【０００７】
特許文献３には、カラーフィルター用インクジェットインクのインク付着精度を向上させる技術が記載されている。このインクは、遅い蒸発速度と高い表面張力を有する溶剤を複数種類組み合わせて含むことを特徴としている。この特徴により、インクは表面張力が高くなり、インクジェット法によって形成される液滴は球に近い形状になる。
【０００８】
このように、インクの濡れ広がり性か、または吐出される液滴の形状か、いずれかを改良する技術は存在している。しかし、両性能を両立して、吐出された液滴がリガメントを引かず、付着した際に良好に濡れ広がるインクジェット用インクはこれまでに存在しない。尚、特許文献２及び３に記載の技術は溶剤型インクに関する技術であり、水性インクの特性については記載されていない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開平１０−１２３７７号公報
【特許文献２】特開２００６−２８４７５２
【特許文献３】特開２００８−７０８６４
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明は、吐出された液滴がリガメントを引かず、付着した際に良好に濡れ広がる水性有機ＥＬ素子用インクジェットインクを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
即ち、本発明は、水と、界面活性剤と、水性高分子材料とを含み、
静的表面張力が４０ｍＮ／ｍ以下であり、かつ最大泡圧法により測定される１００Ｈｚでの動的表面張力が５５ｍＮ／ｍ以上である、有機ＥＬ素子用インクジェットインクを提供する。
【００１２】
ある一形態においては、前記界面活性剤が直鎖状ポリエーテルアルコールを含む。
【００１３】
ある一形態においては、前記直鎖状ポリエーテルアルコールの分子量が２５０〜６００である。
【００１４】
ある一形態においては、前記直鎖状ポリエーテルアルコールが、式
［化１］
Ｒ１−（Ｏ−Ｒ２）ｎ−ＯＨ
（式中、Ｒ１は置換基を有していてもよいアルキル基であり、Ｒ２は置換基を有していてもよいアルキレン基であり、ｎは自然数である。Ｒ２が複数存在する場合、各々のＲ２は同一であっても相異なっていてもよい。）
に示される構造である。
【００１５】
ある一形態においては、前記Ｒ１は炭素数４〜２０の直鎖状アルキル基であり、Ｒ２は炭素数１〜１０の直鎖状アルキレン基であり、ｎは１〜１２の整数である。
【００１６】
ある一形態においては、前記界面活性剤がペンタエチレングリコールモノドデシルエーテルである。
【００１７】
ある一形態においては、前記界面活性剤の含有量が有機ＥＬ素子用インクジェットインクの全量１００重量部に対して０．００１〜１０重量部である。
【００１８】
ある一形態においては、前記水性高分子材料が水性導電性高分子である。
【００１９】
また、本発明は、一対の電極と、該電極間に設けられる有機層とを備える有機ＥＬ素子の製造方法であって、
前記有機ＥＬ素子用インクジェットインクを用いて、インクジェット法によって前記有機層を形成する工程を含む、有機ＥＬ素子の製造方法を提供する。
【発明の効果】
【００２０】
本発明の有機ＥＬ素子用インクジェットインクは、液滴がリガメントを引かないために高い精度で所望の位置にインクを付着させることができる。また、液滴が付着した箇所に良好に濡れ広がるため、インクを塗布して形成した膜の厚さが均一になる。そのため、本発明の有機ＥＬ素子用インクジェットインクは工業的に極めて有用である。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】インク１〜３の動的表面張力を示すグラフである。
【図２】インク１が滴下している形状を示す写真である。
【図３】インク２が滴下している形状を示す写真である。
【図４】インク３が滴下している形状を示す写真である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
有機ＥＬ素子用インクジェットインク
本発明の有機ＥＬ素子用インクジェットインクは水性インクである。水性インクとは溶媒の主成分として水を含有するインクをいう。主成分とは少なくとも約５０重量％を占める成分をいう。有機ＥＬ素子用インクジェットインクの全量を１００重量部とすると、水が占める割合は、通常５０重量部〜９９．９８９重量部であり、好ましくは６０重量部〜９９．９重量部である。
【００２３】
本発明の有機ＥＬ素子用インクジェットインクは静的表面張力が４０ｍＮ／ｍ以下と小さいので、ノズルから吐出されたインクが着弾したときに、着弾面において濡れ広がりやすい。仮にインクの静的表面張力が大きいと、着弾面においてインクが濡れ広がりにくく、また特に後述するように隔壁で囲まれた画素領域にインクを滴下する場合、インクが隔壁で弾かれ易いので、隔壁に接する周縁部の膜厚が薄くなる。
【００２４】
これに対し、静的表面張力の小さいインクを用いることによって、インクの濡れ広がりをよくするとともに、隔壁での弾きを防ぐことができ、したがって、乾燥したときに均一な膜厚の有機膜を形成することができる。なお静的表面張力は、測定対象となる液が静止またはそれに準ずる状態で測定された際の表面張力のことであり、本明細書では、静的表面張力は、ペンダントドロップ法によって測定された値である。好ましくは、本発明の有機ＥＬ素子用インクジェットインクは、静的表面張力が２０〜４５ｍＮ／ｍであり、より好ましくは２５〜４０ｍＮ／ｍである。
【００２５】
また、本発明の有機ＥＬ素子用インクジェットインクの動的表面張力は、最大泡圧法により測定される１００Ｈｚでの値が５５ｍＮ／ｍ以上と高い。例えばインクジェット装置では、ノズルに設けられたピエゾ素子に電圧を印加し、ピエゾ素子を所定の振動数で振動させることによって、インクを滴下している。このように所定の周期でインクを滴下するインクジェット装置では、吐出される際のインクの状態はインクの動的表面張力に大きく依存する。
【００２６】
有機ＥＬ素子用インクジェットインクの動的表面張力が低いと、前述したように吐出される液滴がリガメントを引くために、ノズルを移動しながらインクを滴下していると、インクを所期の位置に高精度に付着させることが難しくなる。これに対し、有機ＥＬ素子用インクジェットインクの動的表面張力を高めることによってリガメントの発生を抑制すると、球状の液滴としてインクを滴下することができるので、所期の位置に高精度にインクを着弾させることができる。
【００２７】
静的表面張力の小さいインクでは、動的表面張力も小さいのが通常であるが、本発明の有機ＥＬ素子用インクジェットインクは、特定の界面活性剤等を用いることによって、静的表面張力および動的表面張力の関係を所定の値に調整して製造することができ、これによって、所定の位置に均一な膜厚の有機膜を形成することができる。本明細書では、動的表面張力は、最大泡圧法によって測定された値であり、単に動的表面張力と記述する際には泡吐出周波数100Hzの時の表面張力をさすものとする。最大泡圧法による動的表面張力は、例えば、ＬＡＵＤＡ社製動的表面張力測定装置「Bubble Pressure Tensiometer MPT2」によって測定できる。好ましくは、本発明の有機ＥＬ素子用インクジェットインクは、動的表面張力が５０〜８０ｍＮ／ｍであり、より好ましくは５５〜７５ｍＮ／ｍである。
【００２８】
かかる界面活性剤の中でも、例えば、ノニオン性界面活性剤が好ましく、具体的にはポリエーテルアルコール類が例示される。ノニオン性界面活性剤の分子形状は直鎖状であることが好ましい。界面活性剤のより好ましい具体例には、ポリエーテルモノオール及びポリエーテルジオールが挙げられる。また、界面活性剤の分子量は１００〜８００、好ましくは２００〜７００、より好ましくは２５０〜６００である。
【００２９】
界面活性剤の分子量が１００未満であると、動的表面張力の値が小さくなりやすくなり、８００を超えると、静的表面張力の値と１００Ｈｚにおける動的表面張力の値との差が小さい場合がある。
【００３０】
特に好ましい界面活性剤は、式
【００３１】
［化２］
Ｒ１−（Ｏ−Ｒ２）ｎ−ＯＨ
【００３２】
（式中において、Ｒ１は置換基を有していてもよいアルキル基であり、Ｒ２は置換基を有していてもよいアルキレン基であり、ｎは自然数である。Ｒ２が複数存在する場合、各々のＲ２は同一であっても相異なっていてもよい。）
に示される構造のポリエーテルモノオールである。
【００３３】
アルキル基Ｒ１の炭素数は、１〜２０であることが好ましく、４〜１６であることが更に好ましい。アルキル基は直鎖状であるとインクの表面張力の調整を行い易く、好ましい。またアルキル基の有する置換基としては、アルコキシ基などを挙げることができる。アルキレン基Ｒ２の炭素数は、１〜１０であることが好ましく、２〜６であることが更に好ましい。
【００３４】
ｎは、１〜１２、好ましくは３〜１０の整数である。ｎが１２を超えると、周波数を増加させても動的表面張力が大きくならない場合がある。界面活性剤の特に好ましい具体例は、ペンタエチレングリコールモノドデシルエーテルである。
【００３５】
また有機ＥＬ素子用インクジェットインクの全量を１００重量部とすると、界面活性剤が占める割合は、通常０．００１重量部〜１０重量部であり、好ましくは０．０１重量部〜５重量部である。界面活性剤の量が０．００１重量部未満であると、表面張力に影響を及ぼさない場合があり、１０重量部を超えると、静的表面張力の値と１００Ｈｚにおける動的表面張力の値との差が小さい場合がある。
【００３６】
本発明で用いる界面活性剤は、親水性疎水性パラメータ（ＨＬＢ値）が２〜２５であることが好ましく、より好ましくは３〜１８である。界面活性剤のＨＬＢ値が２未満である場合又は２５を超える場合は、界面活性剤が界面よりパルク側に存在し、界面活性を示さないことがある。
【００３７】
水性高分子材料とは水溶性高分子又は水分散性高分子をいう。水性高分子材料は以下において説明する正孔輸送層、正孔注入層、発光層、電子輸送層などとなる材料であればよい。かかる水性高分子材料の例は水性導電性高分子である。具体的には、ポリアニリン、ポリピロール、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）及びポリ（４−スチレンスルホン酸）等が例示される。
【００３８】
水性高分子材料としては、特に水性高分子材料として、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）とポリ（４−スチレンスルホン酸）との混合物（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）を用いた場合に、所定の位置に均一な膜厚の有機膜を形成することができるので、ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳからなる有機膜を形成する際に用いるインクジェット用インクとして好適である。
【００３９】
なお本明細書において、水性高分子材料とは、ポリスチレン換算の数平均分子量が８００以上の材料を表し、好ましくは８００〜１００００００、より好ましくは１０００〜５０００００である。水性高分子材料の数平均分子量が１００００００を超えると、リガメントが長くなり、インクジェット装置から吐出した際の直進性が悪くなる。
【００４０】
また有機ＥＬ素子用インクジェットインクの全量を１００重量部とすると、水性高分子材料が占める割合は、通常０．０１重量部〜２０重量部であり、好ましくは０．１重量部〜１０重量部である。水性高分子材料の量が０．０１重量部未満であると、塗布して形成した膜の膜厚が所望の値にならない場合があり、１０重量部を超えると、インクの粘度が著しく高くなる場合やリガメントを引きやすくなる場合等、インクジェットインクに適さなくなることがある。
【００４１】
また有機ＥＬ素子用インクジェットインクは、水、界面活性剤および水性高分子材料以外のものを含んでいてもよく、例えばグリセリン、エチレングリコールなどの多価アルコールを含んでいてもよい。
【００４２】
有機ＥＬ素子用インクジェットインクの静的表面張力および動的表面張力は、組成物の混合割合および界面活性剤の種類を適宜選択することによって調整することができる。特に表面張力は、界面活性剤の種類を適宜選択することによって調整可能である。例えば界面活性剤を加える場合、周波数が大きくなるほど表面張力の大きさが増加する傾向にあるが、用いる界面活性剤の分子量が大きい場合、周波数を増加させても表面張力がさほど大きくならないことがある。所定の分子量の界面活性剤を用いることによって、静的表面張力が小さくかつ動的表面張力の大きい有機ＥＬ素子用インクジェットインクを実現することができる。
【００４３】
具体的には、界面活性剤として、式
【００４４】
［化３］
ＣａＨ２ａ＋１（ＯＣ２Ｈ４）ｎＯＨ
（式中、ａ及びｎは自然数を表す。）
【００４５】
で示される構造のポリエーテルモノオールを用いる場合、ｎが大きい界面活性剤ほど、泡吐出周波数を高周波数にしても表面張力の増加分は小さくなる。上記式中のｎは、１〜１２、好ましくは３〜１０の整数である。
【００４６】
本発明の有機ＥＬ素子用インクジェットインクは、上述した各成分を適量混合することによって製造される。成分を混合する順序は特に限定されず、均一な混合が実現されるように行えばよい。例えば、まず、溶媒に界面活性剤を混合し、この混合物に水性高分子材料を混合し、更にその他の成分を混合して均一化する。
【００４７】
有機ＥＬ素子の製造方法
次に有機ＥＬ素子用インクジェットインクを用いて有機ＥＬ素子を製造する方法について説明する。有機ＥＬ素子、一対の電極と、該電極間に設けられる有機層とを備える。本発明では、この有機層を上記有機ＥＬ素子用インクジェットインクを用いて、インクジェットプリント法によって形成する。
【００４８】
有機ＥＬ素子は、通常基板上に設けられる。例えば表示装置用のパネルでは、基板上において格子状に形成された隔壁に囲まれる画素領域にそれぞれ形成される。
【００４９】
具体的にはアクティブマトリクス型の表示装置では、基板上において行列状に離散的に陽極が配置され、基板の厚み方向の一方から見て、各陽極の表面が露出するように格子状の隔壁が設けられる。この隔壁は例えば感光性樹脂を用いてフォトリソグラフィによって形成される。隔壁に囲まれた領域が画素領域に相当する。
【００５０】
前述した有機ＥＬ素子用インクジェットインクの水性高分子材料として、正孔輸送層、正孔注入層、発光層、電子輸送層などとなる材料を用い、インクジェット装置を用いて、各画素領域に有機ＥＬ素子用インクジェットインクを滴下する。次に焼成または放置することにより溶媒を乾燥させることで各画素領域に有機層を形成することができる。これによって、正孔輸送層、正孔注入層、発光層、電子輸送層などを画素領域内において膜厚が均一となるように形成することができる。なおインクの滴下および乾燥を繰返すことで、正孔輸送層、正孔注入層、発光層、電子輸送層などからなる積層体を形成することができる。さらに、陰極を形成することで、それぞれが画素として機能する有機ＥＬ素子を形成することができる。
【００５１】
なお、本発明の有機ＥＬ素子用インクジェットインクはアクティブマトリクス型の基板に限らずに、パッシブマトリクス型の基板であっても好適に用いることができ、また、陽極よりも陰極を基板寄りに配置する構成の有機ＥＬ素子にも好適に用いることができる。またストライプ状に配置された隔壁間に有機ＥＬ素子を形成する際にも、本発明の有機ＥＬ素子用インクジェットインクは好適に用いることができる。
【００５２】
有機ＥＬ素子の一般的構成
次に有機ＥＬ素子の構成についてさらに詳細に説明する。本実施の形態の有機ＥＬ素子は、陽極と、陰極と、陽極および陰極の間に配置される発光層とを必須の構成要件として有し、陽極と発光層との間、及び／又は発光層と陰極との間に、発光層とは異なる他の層を有していてもよい。また陽極と陰極との間には、一層の発光層に限らずに、複数の発光層が配置されてもよい。
【００５３】
陰極と発光層との間に設けられる層としては、電子注入層、電子輸送層、正孔ブロック層などを挙げることができる。陰極と発光層との間に、一層のみが設けられる場合には、該層を電子注入層という。また陰極と発光層との間に電子注入層と電子輸送層との両方の層が設けられる場合、陰極に接する層を電子注入層といい、この電子注入層を除く層を電子輸送層という。
【００５４】
電子注入層は、陰極からの電子注入効率を改善する機能を有する層である。電子輸送層は、陰極、電子注入層または陰極により近い電子輸送層からの電子注入を改善する機能を有する層である。正孔ブロック層は、正孔の輸送を堰き止める機能を有する層である。なお電子注入層、及び／又は電子輸送層が正孔の輸送を堰き止める機能を有する場合には、これらの層が正孔ブロック層を兼ねることがある。
【００５５】
正孔ブロック層が正孔の輸送を堰き止める機能を有することは、例えばホール電流のみを流す素子を作製し、その電流値の減少で堰き止める効果を確認することが可能である。
【００５６】
陽極と発光層との間に設けられる層としては、正孔注入層、正孔輸送層、電子ブロック層などを挙げることができる。陽極と発光層との間に、一層のみが設けられる場合には、該層を正孔注入層という。陽極と発光層との間に、正孔注入層と正孔輸送層との両方の層が設けられる場合、陽極に接する層を正孔注入層といい、この正孔注入層を除く層を正孔輸送層という。
【００５７】
正孔注入層は、陽極からの正孔注入効率を改善する機能を有する層である。正孔輸送層は、陽極、正孔注入層または陽極により近い正孔輸送層からの正孔注入を改善する機能を有する層である。電子ブロック層は、電子の輸送を堰き止める機能を有する層である。なお正孔注入層、及び／又は正孔輸送層が電子の輸送を堰き止める機能を有する場合には、これらの層が電子ブロック層を兼ねることがある。
【００５８】
電子ブロック層が電子の輸送を堰き止める機能を有することは、例えば、電子電流のみを流す素子を作製し、その電流値の減少で堰き止める効果を確認することが可能である。
【００５９】
なお、電子注入層および正孔注入層を総称して電荷注入層と言う場合があり、電子輸送層および正孔輸送層を総称して電荷輸送層と言う場合がある。
【００６０】
本実施の形態の有機ＥＬ素子のとりうる層構成の一例を以下に示す。
ａ）陽極／発光層／陰極
ｂ）陽極／正孔注入層／発光層／陰極
ｃ）陽極／正孔注入層／発光層／電子注入層／陰極
ｅ）陽極／正孔注入層／発光層／電子輸送層／陰極
ｆ）陽極／正孔注入層／発光層／電子輸送層／電子注入層／陰極
ｄ）陽極／正孔輸送層／発光層／陰極
ｅ）陽極／正孔輸送層／発光層／電子注入層／陰極
ｆ）陽極／正孔輸送層／発光層／電子輸送層／陰極
ｇ）陽極／正孔輸送層／発光層／電子輸送層／電子注入層／陰極
ｈ）陽極／正孔注入層／正孔輸送層／発光層／陰極
ｉ）陽極／正孔注入層／正孔輸送層／発光層／電子注入層／陰極
ｊ）陽極／正孔注入層／正孔輸送層／発光層／電子輸送層／陰極
ｋ）陽極／正孔注入層／正孔輸送層／発光層／電子輸送層／電子注入層／陰極
ｌ）陽極／発光層／電子注入層／陰極
ｍ）陽極／発光層／電子輸送層／陰極
ｎ）陽極／発光層／電子輸送層／電子注入層／陰極
（ここで、記号「／」は、記号「／」を挟む各層が隣接して積層されていることを示す。以下同じ。）
本実施の形態の有機ＥＬ素子は、２層以上の発光層を有していてもよく、２層の発光層を有する有機ＥＬ素子としては、上記ａ）〜ｎ）の層構成のうちのいずれか１つにおいて、陽極と陰極とに挟持された積層体を「繰り返し単位Ａ」とすると、以下のｏ）に示す層構成を挙げることができる。
ｏ）陽極／（繰り返し単位Ａ）／電荷注入層／（繰り返し単位Ａ）／陰極
また、３層以上の発光層を有する有機ＥＬ素子としては、「（繰り返し単位Ａ）／電荷注入層」を「繰り返し単位Ｂ」とすると、以下のｐ）に示す層構成を挙げることができる。
ｐ）陽極／（繰り返し単位Ｂ）ｘ／（繰り返し単位Ａ）／陰極
なお記号「ｘ」は、２以上の整数を表し、（繰り返し単位Ｂ）ｘは、繰り返し単位Ｂがｘ段積層された積層体を表す。
【００６１】
ここで、電荷注入層とは電界を印加することにより、正孔と電子を発生する層である。電荷発生層としては、例えば酸化バナジウム、インジウムスズ酸化物（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ：略称ＩＴＯ）、酸化モリブデンなどから成る薄膜を挙げることができる。
【００６２】
本実施の形態の有機ＥＬ素子は、発光層からの光を外に取出すために、通常、発光層を基準にして光が取出される側に配置される全ての層を透明なものとしている。一例として基板／陽極／電荷注入層／正孔輸送層／発光層／電子輸送層／電荷注入層／陰極／封止部材という層構成を有する有機ＥＬ素子について説明すると、発光層からの光を基板側から取出す所謂ボトムエミッション型の有機ＥＬ素子の場合には、基板、陽極、電荷注入層及び正孔輸送層の全てを透明なものとし、発光層からの光を封止部材側から取出す所謂トップエミッション型の有機ＥＬ素子の場合には、電子輸送層、電荷注入層、陰極及び封止部材の全てを透明なものとする。また一例として基板／陰極／電荷注入層／電子輸送層／発光層／正孔輸送層／電荷注入層／陽極／封止部材という構成を有する有機ＥＬ素子について説明すると、ボトムエミッション型の素子の場合には、基板、陰極、電荷注入層および電子輸送層の全てを透明なものとし、トップエミッション型の有機ＥＬ素子の場合には、正孔輸送層、電荷注入層、陰極および封止部材の全てを透明なものとする。ここで透明の程度としては、光の取出される側の有機ＥＬ素子の最表面と、発光層との間の可視光透過率が４０％以上のものが好ましい。紫外領域または赤外領域の発光が求められる有機ＥＬ素子の場合には、当該領域において４０％以上の光透過率を示すものが好ましい。
【００６３】
本実施の形態の有機ＥＬ素子は、さらに電極との密着性向上や電極からの電荷注入性の改善のために、電極に隣接して膜厚２ｎｍ以下の絶縁層を設けてもよい。また界面での密着性向上や混合の防止などのために、前述した各層間に薄いバッファー層を挿入してもよい。
【００６４】
積層する層の順序、層数、および各層の厚さについては、発光効率や素子寿命を勘案して適宜設定することができる。
【００６５】
有機ＥＬ素子の具体的構成
次に、有機ＥＬ素子を構成する各層の材料および形成方法について、より具体的に説明する。
【００６６】
＜基板＞
基板は、有機ＥＬ素子を製造する工程において変化しないものが好適に用いられ、例えばガラス、プラスチック、およびシリコン基板、並びにこれらを積層したものなどが用いられる。前記基板としては、市販のものが使用可能であり、また公知の方法により製造することができる。
【００６７】
＜陽極＞
陽極は、陽極を通して発光層からの光を取出す構成の有機ＥＬ素子の場合、透明又は半透明の電極が用いられる。透明電極または半透明電極としては、電気伝導度の高い金属酸化物、金属硫化物および金属などの薄膜を用いることができ、光透過率の高いものが好適に用いられる。具体的には、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化スズ、ＩＴＯ、インジウム亜鉛酸化物（Ｉｎｄｉｕｍ Ｚｉｎｃ Ｏｘｉｄｅ：略称ＩＺＯ）、金、白金、銀、および銅などから成る薄膜が用いられ、これらの中でもＩＴＯ、ＩＺＯ、または酸化スズから成る薄膜が好適に用いられる。陽極の作製方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、メッキ法などを挙げることができる。また、該陽極として、ポリアニリンもしくはその誘導体、ポリチオフェンもしくはその誘導体などの有機の透明導電膜を用いてもよい。
【００６８】
陽極には、光を反射する材料を用いてもよく、該材料としては、仕事関数３．０ｅＶ以上の金属、金属酸化物、金属硫化物が好ましい。
【００６９】
陽極の膜厚は、光の透過性と電気伝導度とを考慮して、適宜選択することができ、例えば１０ｎｍ〜１０μｍであり、好ましくは２０ｎｍ〜１μｍであり、さらに好ましくは５０ｎｍ〜５００ｎｍである。
【００７０】
＜正孔注入層＞
正孔注入層を構成する正孔注入材料としては、酸化バナジウム、酸化モリブデン、酸化ルテニウム、および酸化アルミニウムなどの酸化物や、フェニルアミン系化合物、スターバースト型アミン系化合物、フタロシアニン系化合物、アモルファスカーボン、ポリアニリン、およびポリチオフェン誘導体などを挙げることができる。
【００７１】
正孔注入層の成膜方法としては、例えば正孔注入材料を含む溶液からの成膜を挙げることができる。溶液からの成膜に用いられる溶媒としては、正孔注入材料を溶解させるものであれば特に制限はなく、クロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエタンなどの塩素系溶媒、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素系溶媒、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル、エチルセルソルブアセテートなどのエステル系溶媒、および水を挙げることができる。なお、前述した有機ＥＬ素子用インクジェットインクにおける水性高分子材料として正孔注入層となる材料を用いる場合には、前述した有機ＥＬ素子用インクジェットインクにおける水性高分子材料以外の溶液を溶媒として用いる。
【００７２】
溶液からの成膜方法としては、スピンコート法、キャスティング法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイアーバーコート法、ディップコート法、スプレーコート法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、インクジェットプリント法などの塗布法を挙げることができる。なお本発明の有機ＥＬ素子用インクジェットインクを用いる場合には、インクジェットプリント法が用いられる。具体的には、水性高分子材料としてＰＥＤＯＴ／ＰＳＳを用いた有機ＥＬ素子用インクジェットインクを、インクジェット装置を用いて塗布することにより、正孔注入層を形成することができる。
【００７３】
正孔注入層の膜厚は、用いる材料によって最適値が異なり、駆動電圧と発光効率が適度な値となるように適宜設定され、少なくともピンホールが発生しないような厚さが必要であり、あまり厚いと、素子の駆動電圧が高くなるので好ましくない。従って正孔注入層の膜厚は、例えば１ｎｍ〜１μｍであり、好ましくは２ｎｍ〜５００ｎｍであり、さらに好ましくは５ｎｍ〜２００ｎｍである。
【００７４】
＜正孔輸送層＞
正孔輸送層を構成する正孔輸送材料としては、ポリビニルカルバゾール若しくはその誘導体、ポリシラン若しくはその誘導体、側鎖若しくは主鎖に芳香族アミンを有するポリシロキサン誘導体、ピラゾリン誘導体、アリールアミン誘導体、スチルベン誘導体、トリフェニルジアミン誘導体、ポリアニリン若しくはその誘導体、ポリチオフェン若しくはその誘導体、ポリアリールアミン若しくはその誘導体、ポリピロール若しくはその誘導体、ポリ（ｐ−フェニレンビニレン）若しくはその誘導体、又はポリ（２，５−チエニレンビニレン）若しくはその誘導体などを挙げることができる。
【００７５】
これらの中で正孔輸送材料としては、ポリビニルカルバゾール若しくはその誘導体、ポリシラン若しくはその誘導体、側鎖若しくは主鎖に芳香族アミン化合物基を有するポリシロキサン誘導体、ポリアニリン若しくはその誘導体、ポリチオフェン若しくはその誘導体、ポリアリールアミン若しくはその誘導体、ポリ（ｐ−フェニレンビニレン）若しくはその誘導体、又はポリ（２，５−チエニレンビニレン）若しくはその誘導体などの高分子正孔輸送材料が好ましく、さらに好ましくはポリビニルカルバゾール若しくはその誘導体、ポリシラン若しくはその誘導体、側鎖若しくは主鎖に芳香族アミンを有するポリシロキサン誘導体である。低分子の正孔輸送材料の場合には、高分子バインダーに分散させて用いることが好ましい。
【００７６】
正孔輸送層の成膜方法としては、特に制限はないが、低分子の正孔輸送材料では、高分子バインダーと正孔輸送材料とを含む混合液からの成膜を挙げることができ、高分子の正孔輸送材料では、正孔輸送材料を含む溶液からの成膜を挙げることができる。
【００７７】
溶液からの成膜に用いられる溶媒としては、正孔輸送材料を溶解させるものであれば特に制限はなく、クロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエタンなどの塩素系溶媒、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素系溶媒、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル、エチルセルソルブアセテートなどのエステル系溶媒などを挙げることができる。なお、前述した有機ＥＬ素子用インクジェットインクにおける水性高分子材料として正孔輸送層となる材料を用いる場合には、前述した有機ＥＬ素子用インクジェットインクにおける水性高分子材料以外の溶液を溶媒として用いる。
【００７８】
溶液からの成膜方法としては、前述した正孔中注入層の成膜法と同様の塗布法を挙げることができる。
【００７９】
混合する高分子バインダーとしては、電荷輸送を極度に阻害しないものが好ましく、また可視光に対する吸収の弱いものが好適に用いられ、例えばポリカーボネート、ポリアクリレート、ポリメチルアクリレート、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリシロキサンなどを挙げることができる。
【００８０】
正孔輸送層の膜厚としては、用いる材料によって最適値が異なり、駆動電圧と発光効率が適度な値となるように適宜設定され、少なくともピンホールが発生しないような厚さが必要であり、あまり厚いと、素子の駆動電圧が高くなり好ましくない。従って、該正孔輸送層の膜厚は、例えば１ｎｍ〜１μｍであり、好ましくは２ｎｍ〜５００ｎｍであり、さらに好ましくは５ｎｍ〜２００ｎｍである。
【００８１】
＜発光層＞
発光層は、通常、主として蛍光及び／又はりん光を発光する有機物、または該有機物とこれを補助するドーパントとから形成される。ドーパントは、例えば発光効率の向上や、発光波長を変化させるために加えられる。なお、有機物は、低分子化合物でも高分子化合物でもよく、発光層は、ポリスチレン換算の数平均分子量が、１０３〜１０８である高分子化合物を含むことが好ましい。発光層を構成する発光材料としては、例えば以下の色素系材料、金属錯体系材料、高分子系材料、ドーパント材料を挙げることができる。
【００８２】
（色素系材料）
色素系材料としては、例えば、シクロペンダミン誘導体、テトラフェニルブタジエン誘導体化合物、トリフェニルアミン誘導体、オキサジアゾール誘導体、ピラゾロキノリン誘導体、ジスチリルベンゼン誘導体、ジスチリルアリーレン誘導体、ピロール誘導体、チオフェン環化合物、ピリジン環化合物、ペリノン誘導体、ペリレン誘導体、オリゴチオフェン誘導体、トリフマニルアミン誘導体、オキサジアゾールダイマー、ピラゾリンダイマー、キナクリドン誘導体、クマリン誘導体などを挙げることができる。
【００８３】
（金属錯体系材料）
金属錯体系材料としては、例えば中心金属に、Ａｌ、Ｚｎ、Ｂｅなど、またはＴｂ、Ｅｕ、Ｄｙなどの希土類金属を有し、配位子にオキサジアゾール、チアジアゾール、フェニルピリジン、フェニルベンゾイミダゾール、キノリン構造などを有する金属錯体を挙げることができ、例えばイリジウム錯体、白金錯体などの三重項励起状態からの発光を有する金属錯体、アルミキノリノール錯体、ベンゾキノリノールベリリウム錯体、ベンゾオキサゾリル亜鉛錯体、ベンゾチアゾール亜鉛錯体、アゾメチル亜鉛錯体、ポルフィリン亜鉛錯体、ユーロピウム錯体などを挙げることができる。
【００８４】
（高分子系材料）
高分子系材料としては、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリパラフェニレン誘導体、ポリシラン誘導体、ポリアセチレン誘導体、ポリフルオレン誘導体、ポリビニルカルバゾール誘導体、上記色素系材料や金属錯体系発光材料を高分子化したものなどを挙げることができる。
【００８５】
上記発光性材料のうち、青色に発光する材料としては、ジスチリルアリーレン誘導体、オキサジアゾール誘導体、およびそれらの重合体、ポリビニルカルバゾール誘導体、ポリパラフェニレン誘導体、ポリフルオレン誘導体などを挙げることができる。なかでも高分子材料のポリビニルカルバゾール誘導体、ポリパラフェニレン誘導体やポリフルオレン誘導体などが好ましい。
【００８６】
また、緑色に発光する材料としては、キナクリドン誘導体、クマリン誘導体、およびそれらの重合体、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリフルオレン誘導体などを挙げることができる。なかでも高分子材料のポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリフルオレン誘導体などが好ましい。
【００８７】
また、赤色に発光する材料としては、クマリン誘導体、チオフェン環化合物、およびそれらの重合体、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリフルオレン誘導体などを挙げることができる。なかでも高分子材料のポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリフルオレン誘導体などが好ましい。
【００８８】
（ドーパント材料）
ドーパント材料としては、例えばペリレン誘導体、クマリン誘導体、ルブレン誘導体、キナクリドン誘導体、スクアリウム誘導体、ポルフィリン誘導体、スチリル系色素、テトラセン誘導体、ピラゾロン誘導体、デカシクレン、フェノキサゾンなどを挙げることができる。なお、このような発光層の厚さは、通常約２ｎｍ〜２００ｎｍである。
【００８９】
＜発光層の成膜方法＞
発光層の成膜方法としては、発光材料を含む溶液を塗布する方法、真空蒸着法、転写法などを用いることができる。溶液からの成膜に用いる溶媒としては、前述の溶液から正孔輸送層を成膜する際に用いられる溶媒と同様の溶媒を挙げることができる。
【００９０】
発光材料を含む溶液を塗布する方法としては、スピンコート法、キャスティング法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイアーバーコート法、ディップコート法、スリットコート法、キャピラリーコート法、スプレーコート法およびノズルコート法などのコート法、並びにグラビア印刷法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、反転印刷法、インクジェットプリント法などの塗布法を挙げることができる。パターン形成や多色の塗分けが容易であるという点で、グラビア印刷法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、反転印刷法、インクジェットプリント法などの印刷法が好ましい。また、昇華性を示す低分子化合物の場合には、真空蒸着法を用いることができる。さらには、レーザーによる転写や熱転写により、所望のところのみに発光層を形成する方法も用いることができる。なお水性高分子材料として発光材料を用いる本発明の有機ＥＬ素子用インクジェットインクを塗布液として用いる場合には、インクジェットプリント法が用いられる。
【００９１】
＜電子輸送層＞
電子輸送層を構成する電子輸送材料としては、公知のものを使用でき、オキサジアゾール誘導体、アントラキノジメタン若しくはその誘導体、ベンゾキノン若しくはその誘導体、ナフトキノン若しくはその誘導体、アントラキノン若しくはその誘導体、テトラシアノアンスラキノジメタン若しくはその誘導体、フルオレノン誘導体、ジフェニルジシアノエチレン若しくはその誘導体、ジフェノキノン誘導体、又は８−ヒドロキシキノリン若しくはその誘導体の金属錯体、ポリキノリン若しくはその誘導体、ポリキノキサリン若しくはその誘導体、ポリフルオレン若しくはその誘導体などを挙げることができる。
【００９２】
これらのうち、電子輸送材料としては、オキサジアゾール誘導体、ベンゾキノン若しくはその誘導体、アントラキノン若しくはその誘導体、又は８−ヒドロキシキノリン若しくはその誘導体の金属錯体、ポリキノリン若しくはその誘導体、ポリキノキサリン若しくはその誘導体、ポリフルオレン若しくはその誘導体が好ましく、２−（４−ビフェニリル）−５−（４−ｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール、ベンゾキノン、アントラキノン、トリス（８−キノリノール）アルミニウム、ポリキノリンがさらに好ましい。
【００９３】
電子輸送層の成膜法としては特に制限はないが、低分子の電子輸送材料では、粉末からの真空蒸着法、または溶液若しくは溶融状態からの成膜を挙げることができ、高分子の電子輸送材料では溶液または溶融状態からの成膜を挙げることができる。なお溶液または溶融状態からの成膜する場合には、高分子バインダーを併用してもよい。溶液から電子輸送層を成膜する方法としては、前述の溶液から正孔輸送層を成膜する方法と同様の成膜法を挙げることができる。なお水性高分子材料として電子輸送材料を用いた本発明の有機ＥＬ素子用インクジェットインクを塗布液として用いる場合には、インクジェットプリント法が用いられる。
【００９４】
電子輸送層の膜厚は、用いる材料によって最適値が異なり、駆動電圧と発光効率が適度な値となるように適宜設定され、少なくともピンホールが発しないような厚さが必要であり、あまり厚いと、素子の駆動電圧が高くなり好ましくない。従って該電子輸送層の膜厚としては、例えば１ｎｍ〜１μｍであり、好ましくは２ｎｍ〜５００ｎｍであり、さらに好ましくは５ｎｍ〜２００ｎｍである。
【００９５】
＜電子注入層＞
電子注入層を構成する材料としては、発光層の種類に応じて最適な材料が適宜選択され、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アルカリ金属およびアルカリ土類金属のうちの１種類以上含む合金、アルカリ金属若しくはアルカリ土類金属の酸化物、ハロゲン化物、炭酸化物、またはこれらの物質の混合物などを挙げることができる。アルカリ金属、アルカリ金属の酸化物、ハロゲン化物、および炭酸化物の例としては、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム、酸化リチウム、フッ化リチウム、酸化ナトリウム、フッ化ナトリウム、酸化カリウム、フッ化カリウム、酸化ルビジウム、フッ化ルビジウム、酸化セシウム、フッ化セシウム、炭酸リチウムなどを挙げることができる。また、アルカリ土類金属、アルカリ土類金属の酸化物、ハロゲン化物、炭酸化物の例としては、マグネシウム、カルシウム、バリウム、ストロンチウム、酸化マグネシウム、フッ化マグネシウム、酸化カルシウム、フッ化カルシウム、酸化バリウム、フッ化バリウム、酸化ストロンチウム、フッ化ストロンチウム、炭酸マグネシウムなどを挙げることができる。電子注入層は、２層以上を積層した積層体で構成されてもよく、例えばＬｉＦ／Ｃａなどを挙げることができる。電子注入層は、蒸着法、スパッタリング法、印刷法などにより形成される。電子注入層の膜厚としては、１ｎｍ〜１μｍ程度が好ましい。
【００９６】
＜陰極＞
陰極の材料としては、仕事関数の小さく、発光層への電子注入が容易で、電気伝導度の高い材料が好ましい。また陽極側から光を取出す有機ＥＬ素子では、発光層からの光を陰極で陽極側に反射するために、陰極の材料としては可視光反射率の高い材料が好ましい。陰極には、例えばアルカリ金属、アルカリ土類金属、遷移金属およびＩＩＩ−Ｂ族金属などを用いることができる。陰極の材料としては、例えばリチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム、ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、アルミニウム、スカンジウム、バナジウム、亜鉛、イットリウム、インジウム、セリウム、サマリウム、ユーロピウム、テルビウム、イッテルビウムなどの金属、前記金属のうちの２種以上の合金、前記金属のうちの１種以上と、金、銀、白金、銅、マンガン、チタン、コバルト、ニッケル、タングステン、錫のうちの１種以上との合金、またはグラファイト若しくはグラファイト層間化合物などが用いられる。合金の例としては、マグネシウム−銀合金、マグネシウム−インジウム合金、マグネシウム−アルミニウム合金、インジウム−銀合金、リチウム−アルミニウム合金、リチウム−マグネシウム合金、リチウム−インジウム合金、カルシウム−アルミニウム合金などを挙げることができる。また、陰極としては導電性金属酸化物および導電性有機物などから成る透明導電性電極を用いることができる。具体的には、導電性金属酸化物として酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化スズ、ＩＴＯ、およびＩＺＯを挙げることができ、導電性有機物としてポリアニリンもしくはその誘導体、ポリチオフェンもしくはその誘導体などを挙げることができる。なお、陰極は、２層以上を積層した積層体で構成されていてもよい。なお、電子注入層が陰極として用いられる場合もある。
【００９７】
陰極の膜厚は、電気伝導度や耐久性を考慮して適宜設定され、例えば１０ｎｍ〜１０μｍであり、好ましくは２０ｎｍ〜１μｍであり、さらに好ましくは５０ｎｍ〜５００ｎｍである。
【００９８】
陰極の作製方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、また金属薄膜を熱圧着するラミネート法などを挙げることができる。
【００９９】
＜絶縁層＞
絶縁層の材料としては、金属フッ化物、金属酸化物、有機絶縁材料などを挙げることができる。膜厚２ｎｍ以下の絶縁層を設けた有機ＥＬ素子としては、陰極に隣接して膜厚２ｎｍ以下の絶縁層を設けたもの、陽極に隣接して膜厚２ｎｍ以下の絶縁層を設けたものを挙げることができる。
【０１００】
以上説明した有機ＥＬ素子は、曲面状や平面状の照明装置、例えばスキャナの光源として用いられる面状光源、および表示装置に好適に用いることができる。
【０１０１】
有機ＥＬ素子を備える表示装置としては、セグメント表示装置、ドットマトリックス表示装置などを挙げることができる。ドットマトリックス表示装置には、アクティブマトリックス表示装置およびパッシブマトリックス表示装置などがある。有機ＥＬ素子は、アクティブマトリックス表示装置、パッシブマトリックス表示装置において、各画素を構成する発光素子として用いられる。また有機ＥＬ素子は、セグメント表示装置において、各セグメントを構成する発光素子として用いられ、液晶表示装置において、バックライトとして用いられる。
【０１０２】
水と、界面活性剤と、水性高分子材料とを含み、静的表面張力が４０ｍＮ／ｍ以下であり、かつ最大泡圧法により測定される１００Ｈｚでの動的表面張力が５５ｍＮ／ｍ以上である、インクジェットインクは、有機トランジスタ、有機太陽電池の製造にも好適に用いることができる。
【実施例】
【０１０３】
調製例１
ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ水溶液（商品名：Clevious P VP CH8000、H.C. Stark社製）とグリセリンとを７０：３０の重量比で混合し、インク１を調整した。
【０１０４】
実施例１
ペンタエチレングリコールドデシルエーテルと水とを５：９５の重量比で混合し、ＰＥＧＤＥ水溶液を調製した。次いで、ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ水溶液（商品名：Clevious P VP CH8000、H.C. Stark社製）とグリセリンとＰＥＧＤＥ水溶液とを７０：２９：１の重量比で混合し、インク２を調整した。
【０１０５】
調製例２
ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ水溶液（商品名：Clevious P VP CH8000、H.C. Stark社製）とＰＥＧＤＥ水溶液とグリセリンとアセチレン基を有する界面活性剤を含むサーフィノール溶液（商品名：サーフィノール１０４ＰＡ、日信化学工業社製、サーフィノール１０４とイソプロパノールとを５０：５０の重量比で混合した溶液）とを７０：２９：１の重量比で混合し、インク３を調整した。
【０１０６】
静的表面張力の測定
接触角測定装置（商品名：OCA30、data physics社製）を用い、ペンダントドロップ法により、インク１〜３の静的表面張力を測定した。インク１の静的表面張力は69.6ｍＮ／ｍであり、インク２の静的表面張力は31.4ｍＮ／ｍであり、インク３の静的表面張力は32.1ｍＮ／ｍであった。
【０１０７】
動的表面張力の測定
泡吐出周波数を変化させながら、インク１〜３の動的表面張力を動的表面張力測定装置（商品名：Bubble Pressure Tensiometer MPT2、ＬＡＵＤＡ社製）を用いて測定した。結果を図１に示す。インク２は、静的表面張力が４０ｍＮ／ｍ以下であり、図１に示すように、１００Ｈｚでの動的表面張力が５５ｍＮ／ｍ以上であった。
【０１０８】
実施例２
次に、インクジェット装置（Dimatix社製、Model DMP-2831）を用いてインク２をノズルから滴下し、備え付けのカメラで液滴を観察した。インク滴下時、ピエゾ素子には２５ボルトの電圧を印加し、周波数は１０００Ｈｚであった。図３は、インク２の滴下の様子を示す。また、インク２を基板上に吐出したところ、インク２は濡れ広がった。
【０１０９】
比較例１
インク２にかえてインク１を用いた以外は、実施例２と同様の方法でインクを滴下した。図２は、インク１の滴下の様子を示す。また、インク１を基板上に吐出したところ、インク１は濡れ広がらなかった。
【０１１０】
比較例２
インク２にかえてインク３を用いた以外は、実施例２と同様の方法でインクを滴下した。図４は、インク３の滴下の様子を示す。
【０１１１】
図２〜４では、上方が鉛直方向上方を表し、下方が鉛直方向下方を表しており、上方の左右にそれぞれノズルが映されており、この２本のノズルから下方に向けてインクが吐出される状態を表している。図２、図３では、液滴が正常に滴下されているところ、図４では、リガメントを引いている。このように動的表面張力が大きいインク１、２では、所期の液滴を滴下するのに適しているが、動的表面張力の小さいインク３では、リガメントを引いてしまい、所期の液滴を滴下することができない。なお、インク１は、リガメントを引いていないが、静的表面張力が大きいので、着弾面において濡れ広がらないが、静的表面張力の小さいインク２は、着弾面において濡れ広がる。
【０１１２】
実施例３
ガラス基板上に陽極であるＩＴＯ電極のパターンを形成し、その上にパンク材料をパターニングしてパンクを形成する。基板を洗浄後、基板の表面にＯ２プラズマ処理を行い、続けてＣＦ４プラズマ処理を行う。パンクで囲まれた領域内にインクジェト装置（Dimatix社製、Model DMP-2831）を用いてインク２をノズルから滴下し、正孔注入層を形成する。正孔注入層上に発光材料と溶媒とを含む溶液を塗布し、発光層を形成する。発光層上にバリウムを蒸着し、その上にアルミニウムを蒸着する。その後、ガラス封止を行なうことで、有機ＥＬ素子を製造することができる。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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