(57)【要約】【課題】片方の主表面のみを磁気記録面として用い、しかも磁気ヘッドの浮上安定性が得られる平坦度を実現できる磁気ディスク用基板を提供すること。【解決手段】本発明の磁気ディスク用基板は、二つの主表面を有する円環状の磁気ディスク用基板であって、一方の主表面に形成する磁気記録層を含む積層膜が形成された際の膜応力により生じる前記磁気ディスク用基板の反りを相殺する反り量で他方の主表面側に反っていることを特徴とする。例えば、磁気ディスク用基板は、主表面の中心を通り、前記主表面に対して垂直な軸に対して等方的な形状を有し、前記軸方向を高さとしたときの前記主表面の前記高さの半径方向における変動量が、前記主表面の内周端から外周端にかけて単調増加している形状を有する。【選択図】図１
2010080025.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
二つの主表面を有する円環状の磁気ディスク用基板であって、一方の主表面に形成する磁気記録層を含む積層膜が形成された際の膜応力により生じる前記磁気ディスク用基板の反りを相殺する反り量で他方の主表面側に反っていることを特徴とする磁気ディスク用基板。
【請求項２】
前記磁気ディスク用基板は、前記主表面の中心を通り、前記主表面に対して垂直な軸に対して等方的な形状を有し、前記軸方向を高さとしたときの前記主表面の前記高さの半径方向における変動量が、前記主表面の内周端から外周端にかけて単調増加している形状を有することを特徴とする請求項１記載の磁気ディスク用基板。
【請求項３】
前記主表面の高さは、前記円環状の前記内周端で最も高く、前記外周端で最も低いことを特徴とする請求項２記載の磁気ディスク用基板。
【請求項４】
前記主表面において、最も高い位置と最も低い位置との間の差が０．１μｍ以上１０μｍ以下であることを特徴とする請求項２又は請求項３記載の磁気ディスク用基板。
【請求項５】
前記差は、前記積層膜を形成した際の主表面の平坦度を考慮して決定されることを特徴とする請求項４記載の磁気ディスク用基板。
【請求項６】
前記反り量は、予め、磁気ディスク用基板の片側のみに情報を記録するための磁気記録層を形成した場合に生じる反り量であることを特徴とする請求項１から請求項５のいずれかに記載の磁気ディスク用基板。
【請求項７】
前記磁気ディスク用基板がガラス基板であることを特徴とする請求項１から請求項６のいずれかに記載の磁気ディスク用基板。
【請求項８】
請求項１から請求項７のいずれかに記載の磁気ディスク用基板と、前記磁気ディスク用基板の一方の主表面上に形成された磁気記録層を含む積層膜と、を具備することを特徴とする磁気ディスク。
【請求項９】
主表面の平坦度が０．１μｍ以上３．０μｍ以下であることを特徴とする請求項８記載の磁気ディスク。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気ディスク用基板及び磁気ディスクに関する。
【背景技術】
【０００２】
ハードディスクドライブ装置（ＨＤＤ装置）に搭載される磁気記録媒体として磁気ディスクがある。磁気ディスクは、アルミニウム−マグネシウム合金などで構成された金属板上にＮｉＰ膜を被着した基板、ガラス基板、セラミックス基板上に磁気記録層や保護層を積層したりして作製される。従来では、磁気ディスク用の基板としてアルミニウム合金基板が広く用いられていたが、近年の磁気ディスクの小型化、薄板化、高密度記録化に伴って、アルミニウム合金基板に比べて表面の平坦度や薄板での強度に優れたガラス基板が用いられるようになってきている。
【０００３】
このような磁気ディスク用基板は、形状加工工程及び第１ラッピング工程（第１研削工程）；端部形状工程（穴部を形成するコアリング工程、端部（外周端部及び内周端部）に面取り面を形成するチャンファリング工程（面取り面形成工程））；端面研磨工程（外周端部及び内周端部）；第２ラッピング工程（第２研削工程）；主表面研磨工程（第１及び第２研磨工程）；化学強化工程などの工程を経て製造される。
【０００４】
磁気ディスクの記録密度は年々増加しており、片面で１６０ＧＢの磁気ディスクも開発されている。現在、磁気ディスクは、両面合わせて必要とする記録密度を満足しているが、このように記録密度が増加していくと、記録密度をあまり必要としない電子機器では、片面だけで必要とする記録密度を満足することになる。このように片面で必要とする記録密度を満足すると、ＨＤＤ装置側でも１枚の磁気ディスクに対して磁気ヘッドを１本とすることができ、薄型化を実現することができ、コスト的にも有利となる。したがって、片面のみに磁気記録層を設けた磁気ディスクはこれからニーズが高まることが予想される（例えば、特許文献１）。
【特許文献１】特開２００１−３５１２２９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上記のような片面のみに磁気記録層を設けた磁気ディスクは、片方の主表面のみに成膜がなされるので、膜応力のために、磁気ディスク自体が反ってしまうことが考えられる。このため、磁気ディスクとして所望となる平坦度が得られず、ＨＤＤ装置における磁気ヘッドの浮上安定性（追従性）が得られなくなることが考えられる。
【０００６】
本発明はかかる点に鑑みてなされたものであり、片方の主表面のみを磁気記録面として用い、しかも磁気ヘッドの浮上安定性が得られる平坦度を実現できる磁気ディスク用基板及びそれを用いた磁気ディスクを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の磁気ディスク用基板は、二つの主表面を有する円環状の磁気ディスク用基板であって、一方の主表面に形成する磁気記録層を含む積層膜が形成された際の膜応力により生じる前記磁気ディスク用基板の反りを相殺する反り量で他方の主表面側に反っていることを特徴とする。
【０００８】
この構成によれば、磁気ディスク用基板の凸形状を有する磁気記録面に少なくとも磁気記録層を含む積層膜が成膜したときに、その膜応力により反る。磁気ディスク用基板が持つ反り量は、積層膜が形成された際の膜応力により生じる磁気ディスク用基板の反りを相殺する反り量であるので、凸形状を有する磁気記録面に成膜することにより、磁気ディスク用基板が変形して全体として平坦となる。これにより、片方の主表面のみを磁気記録面として用い、しかも磁気ヘッドの浮上安定性が得られる平坦度を実現することができる。
【０００９】
本発明の磁気ディスク用基板においては、前記磁気ディスク用基板は、前記主表面の中心を通り、前記主表面に対して垂直な軸に対して等方的な形状を有し、前記軸方向を高さとしたときの前記主表面の前記高さの半径方向における変動量が、前記主表面の内周端から外周端にかけて単調増加している形状を有することが好ましい。
【００１０】
本発明の磁気ディスク用基板においては、前記主表面の高さは、前記円環状の前記内周端で最も高く、前記外周端で最も低いことが好ましい。
【００１１】
本発明の磁気ディスク用基板においては、前記主表面において、最も高い位置と最も低い位置との間の差が０．１μｍ以上１０μｍ以下であることが好ましい。この場合において、前記差は、前記積層膜を形成した際の主表面の平坦度を考慮して決定されることが好ましい。
【００１２】
本発明の磁気ディスク用基板においては、前記反り量は、予め、磁気ディスク用基板の片側のみに情報を記録するための磁気記録層を形成した場合に生じる反り量であることが好ましい。
【００１３】
本発明の磁気ディスク用基板においては、前記磁気ディスク用基板がガラス基板であることが好ましい。
【００１４】
本発明の磁気ディスクは、上記磁気ディスク用基板と、前記磁気ディスク用基板上の一方の主表面上に形成された磁気記録層を含む積層膜と、を具備することを特徴とする。
【００１５】
本発明の磁気ディスクにおいては、主表面の平坦度が０．１μｍ以上３．０μｍ以下であることが好ましい。
【発明の効果】
【００１６】
本発明の磁気ディスク用基板は、二つの主表面を有する円環状の磁気ディスク用基板であって、一方の主表面に形成する磁気記録層を含む積層膜が形成された際の膜応力により生じる前記磁気ディスク用基板の反りを相殺する反り量で他方の主表面側に反っているので、片方の主表面のみを磁気記録面として用い、しかも磁気ヘッドの浮上安定性が得られる平坦度を実現することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
片面のみに磁気記録層を設けた磁気ディスクは、片方の主表面のみに成膜がなされるので、膜応力のために、磁気ディスク自体が反ってしまうことが考えられる。本発明者は、このような膜応力による磁気ディスクの変形に着目し、成膜による磁気ディスクの変形で磁気ディスクが平坦となるような形状を予め持つ磁気ディスク用基板とすることにより、片方の主表面のみを磁気記録面として用いる磁気ディスクであっても、磁気ヘッドの浮上安定性が得られる平坦度を実現することができることを見出し本発明をするに至った。
【００１８】
すなわち、本発明の骨子は、一方の主表面に形成する磁気記録層を含む積層膜が形成された際の膜応力により生じる前記磁気ディスク用基板の反りを相殺する反り量で他方の主表面側に反っている磁気ディスク用基板により、片方の主表面のみを磁気記録面として用い、しかも磁気ヘッドの浮上安定性が得られる平坦度を実現することである。
【００１９】
ここで、一方の主表面に形成する磁気記録層を含む積層膜が形成された際の膜応力は、積層膜の構成、各層の厚さ、各層を構成する材料、成膜方法などにより異なる。このため、主表面に形成する磁気記録層を含む積層膜が形成された際の膜応力については、磁気ディスクの製造方法における製造工程からこれらの条件を確定し、その条件から求める。また、この膜応力による反りを相殺する反り量は、予め、磁気ディスク用基板の片側のみに情報を記録するための磁気記録層を形成した場合に生じる反り量であり、磁気ディスク用基板の他方の主表面に実際に所定の反り量を付与し、その磁気ディスク用基板の一方の主表面に、前述のようにして確定した条件で実際に積層膜を成膜し、その状態で平坦度を求め、この平坦度が所定の範囲、すなわち主表面の平坦度が０．１μｍ以上３．０μｍ以下になるようにして求める。
【００２０】
このようにして、一方の主表面に形成する磁気記録層を含む積層膜が形成された際の膜応力により生じる磁気ディスク用基板の反りを相殺する反り量で他方の主表面側に反った形状（反り形状）を特定する。このような形状としては、例えば、図１に示すように、主表面の中心を通り、前記主表面に垂直な軸に対して等方的な形状を有し、前記軸方向を高さとしたときの前記主表面の前記高さの半径方向における変動量が、前記主表面の内周端から外周端にかけて単調増加している形状が挙げられる。なお、前記反り形状は、図１に示す形状に限定されず、一方の主表面に形成する磁気記録層を含む積層膜が形成された際の膜応力により生じる磁気ディスク用基板の反りを相殺する反り量で他方の主表面側に反った形状であれば、図１に示す形状以外の形状であっても良い。
【００２１】
以下、本発明の実施の形態について添付図面を参照して詳細に説明する。図１は、本実施の形態に係る磁気ディスク用ガラス基板（以下、ガラス基板と呼ぶ。）の構造を説明するための図である。図１（ａ）はガラス基板の斜視図であり、図１（ｂ）は平面図であり、図１（ｃ）は、図１（ｂ）のＩｃ−Ｉｃ線に沿う断面図である。なお、ここでは、上記反り形状が図１に示す形状である場合について説明する。
【００２２】
図１（ａ）〜（ｃ）に示すように、本実施の形態に係るガラス基板は、円盤状のガラス基板の中心に円形状の穴（以下、「円穴」という）１１を形成した円環状の形状をしている。ガラス基板の主表面１２は、内周端１３から外周端１４にかけて一様に傾斜しており、ガラス基板の中心を通る軸に対して等方的な形状をしている。つまり、ガラス基板の中心を通る軸を中心にして任意の角度の回転について回転対称である。
【００２３】
よって、Ｉｃ−Ｉｃ線に沿う断面図である図１（ｃ）において、主表面１２の切り口は、一定の傾きをもった直線であり、左右対称である。さらに、ガラス基板の中心をとおり垂直な面における断面は、どこにおいても図１（ｃ）と同じ形状になる。
【００２４】
また、上記軸の方向を高さとした場合の主表面１２の最も高い位置と最も低い位置との差（図１（ｃ）におけるｈ）は、０．１μｍ以上１０μｍ以下であることが好ましい。この差は、磁気記録面に直接又は他の層を介して磁気記録層を形成した際の主表面の平坦度を考慮して決定されることが好ましい。例えば、この差については、磁気記録面に成膜する膜の構成、材質、各膜厚などにより予め膜応力を測定しておき、その膜応力に応じて決定する。
【００２５】
なお、このようなガラス基板の形状は、後述する表面精密研磨工程（最終研磨工程）を化学強化工程の後に行って、２つの主表面の圧縮応力値の差をつけることにより、実現することができる。この他に、トワイマン効果を用い、Ａ面（磁気記録層を形成する面）／Ｂ面（磁気記録層を形成しない面）の加工残留応力に差を生じさせて基板平坦度を変化させることによっても実現することができる。具体的には、Ａ面／Ｂ面の面粗度に差を生じさせる方法や、片面研磨法により上記形状を作り出すことができる。
【００２６】
このような形状の磁気ディスク用基板においては、磁気記録面に少なくとも磁気記録層を含む積層膜が成膜したときに、磁気ディスクが変形して平坦となる。これにより、片方の主表面のみを磁気記録面として用い、しかも磁気ヘッドの浮上安定性が得られる平坦度を実現することができる。
【００２７】
なお、上記の実施の形態では、図１（ｃ）において主表面１２が直線になる例について説明しているが、本発明はこれに限定されず、主表面の高さの半径方向における変動量が、主表面の内周端から外周端にかけて単調増加していれば良く、例えば、所定の曲率半径をもった曲線であっても良い。また、いずれの面を磁気記録面とするかは、磁気記録層などの膜の成膜により磁気ディスクが変形する向きに応じて適宜選択することができる。
【００２８】
磁気ディスク用基板の材料としては、アルミノシリケートガラス、ソーダライムガラス、ボロシリケートガラス、アルミニウム−マグネシウム合金などを用いることができる。特に、化学強化を施すことができ、また主表面の平坦性及び基板強度において優れた磁気ディスク用基板を提供することができるという点で、アルミノシリケートガラスを好ましく用いることができる。
【００２９】
磁気ディスク用基板の製造工程は、素材加工工程及び第１ラッピング工程；端部形状工程（穴部を形成するコアリング工程、端部（外周端部及び／又は内周端部）に面取り面を形成するチャンファリング工程（面取り面形成工程））；端面研磨工程（外周端部及び内周端部）；第２ラッピング工程；主表面研磨工程（第１研磨工程）；化学強化工程；主表面研磨工程（最終研磨工程）などの工程を含む。
【００３０】
以下に、磁気ディスク用基板の製造工程の各工程について説明する。
（１）素材加工工程及び第１ラッピング工程
まず、素材加工工程においては、板状ガラスの表面をラッピング（研削）加工してガラス母材とし、このガラス母材を切断してガラスディスクを切り出す。板状ガラスとしては、様々な板状ガラスを用いることができる。この板状ガラスは、例えば、溶融ガラスを材料として、プレス法やフロート法、ダウンドロー法、リドロー法、フュージョン法など、公知の製造方法を用いて製造することができる。これらの方法うち、プレス法を用いれば、板状ガラスを廉価に製造することができる。
【００３１】
第１ラッピング工程においては、板状ガラスのＡ面（磁気記録面）及びＢ面（磁気記録面と反対側の面）の両主表面をラッピング加工し、ディスク状のガラス基材とする。このラッピング加工は、遊星歯車機構を利用した両面ラッピング装置により、アルミナ系遊離砥粒を用いて行うことができる。具体的には、板状ガラスの両面に上下からラップ定盤を押圧させ、遊離砥粒を含む研削液を板状ガラスの主表面上に供給し、これらを相対的に移動させてラッピング加工を行う。このラッピング加工により、平坦な主表面を有するガラス基板を得ることができる。
【００３２】
（２）端部形状工程（穴部を形成するコアリング工程、端部（外周端部及び内周端部）に面取り面を形成するチャンファリング工程（面取り面形成工程））
コアリング工程においては、例えば、円筒状のダイヤモンドドリルを用いて、このガラス基板の中心部に内孔を形成し、円環状のガラス基板とする。チャンファリング工程においては、内周端面及び外周端面をダイヤモンド砥石によって研削し、所定の面取り加工を施す。
【００３３】
（３）第２ラッピング工程
第２ラッピング工程においては、得られたガラス基板の両主表面について、第１ラッピング工程と同様に、第２ラッピング加工を行う。この第２ラッピング工程を行うことにより、前工程である切り出し工程や端面研磨工程において主表面に形成された微細な凹凸形状を予め除去しておくことができ、後続の主表面に対する研磨工程を短時間で完了させることができるようになる。
【００３４】
（４）端面研磨工程
端面研磨工程においては、ガラス基板の外周端面及び内周端面について、ブラシ研磨方法により、鏡面研磨を行う。このとき、研磨砥粒としては、例えば、酸化セリウム砥粒を含むスラリー（遊離砥粒）を用いることができる。この端面研磨工程により、ガラス基板の端面は、ナトリウムやカリウムの析出の発生を防止できる鏡面状態になる。
【００３５】
（５）主表面研磨工程（第１研磨工程）
主表面研磨工程として、まず第１研磨工程を施す。第１研磨工程は、前述のラッピング工程で両主表面に残留したキズや歪みの除去を主たる目的とする工程である。この第１研磨工程においては、遊星歯車機構を有する両面研磨装置により、硬質樹脂ポリッシャを用いて、両主表面の研磨を行う。研磨剤としては、酸化セリウム砥粒を用いることができる。
第１研磨工程を終えたガラス基板は、洗剤、純水、ＩＰＡ等で洗浄する。
【００３６】
（６）化学強化工程
化学強化工程においては、前述のラッピング工程及び研磨工程を終えたガラス基板に化学強化を施す。化学強化に用いる化学強化液としては、例えば、硝酸カリウム（６０％）と硝酸ナトリウム（４０％）の混合溶液などを用いることができる。化学強化においては、化学強化液を３００℃〜４００℃に加熱し、洗浄済みのガラス基板を２００℃〜３００℃に予熱し、化学強化溶液中に３時間〜４時間浸漬することによって行う。この浸漬の際には、ガラス基板の両表面全体が化学強化されるようにするため、複数のガラス基板が端面で保持されるように、ホルダに収納した状態で行うことが好ましい。
【００３７】
このように、化学強化溶液に浸漬処理することによって、ガラス基板の表層のリチウムイオン及びナトリウムイオンが、化学強化溶液中の相対的にイオン半径の大きなナトリウムイオン及びカリウムイオンにそれぞれ置換され、ガラス基板が強化される。
化学強化されたガラス基板は、酸で洗浄した後に、洗剤、純水、ＩＰＡ等で洗浄する。
【００３８】
（７）主表面研磨工程（最終研磨工程）
次に、最終研磨工程として、第２研磨工程を施す。第２研磨工程は、両主表面を鏡面状に仕上げることを目的とする工程である。第２研磨工程においては、遊星歯車機構を有する両面研磨装置により、軟質発泡樹脂ポリッシャを用いて、両主表面の鏡面研磨を行う。スラリーとしては、第１研磨工程で用いた酸化セリウム砥粒よりも微細なコロイダルシリカ砥粒（平均粒径５ｎｍ〜８０ｎｍ）を用いることがきる。このとき、ガラス基板の両表面１２の除去厚（取りしろ）をそれぞれ変える。これにより、両主表面での圧縮応力量が異なり、図１に示す形状が実現される。
【００３９】
（８）磁気ディスク製造工程（記録層等形成工程）
上述した工程を経て得られたガラス基板の片面に、例えば、付着層、軟磁性層、非磁性下地層、垂直磁気記録層、保護層、及び潤滑層を順次成膜することにより、垂直磁気記録ディスクを製造する。付着層を構成する材料としては、Ｃｒ合金などを挙げることができる。軟磁性層を構成する材料としては、ＣｏＴａＺｒ基合金などを挙げることができる。非磁性下地層としては、グラニュラー非磁性層などを挙げることができる。垂直磁気記録層としては、グラニュラー非磁性層などを挙げることができる。保護層を構成する材料としては、水素化カーボンなどを挙げることができる。潤滑層を構成する材料としては、フッ素樹脂などを挙げることができる。例えば、これらの記録層等は、より具体的には、インライン型スパッタリング装置を用いて、ガラス基板の上に、ＣｒＴｉの付着層、ＣｏＴａＺｒ／Ｒｕ／ＣｏＴａＺｒの軟磁性層、ＣｏＣｒＳｉＯ２の非磁性グラニュラー下地層、ＣｏＣｒＰｔ−ＳｉＯ２・ＴｉＯ２のグラニュラー磁性層、水素化カーボン保護膜を順次成膜し、さらに、ディップ法によりパーフルオロポリエーテル潤滑層を成膜する。
【００４０】
次に、本発明の効果を明確にするために行った実施例について説明する。なお、ここでは、磁気ディスク用基板としてガラス基板を用いた場合について説明する。
【００４１】
（実施例）
まず、溶融させたアルミノシリケートガラスを上型、下型、胴型を用いたダイレクトプレスによりディスク形状に成型し、アモルファスの板状ガラス素材（ブランクス）を得た。この時点でブランクスの直径は６６ｍｍである。次に、このブランクスの両主表面を第１ラッピング加工して後、円筒状のコアドリルを用いて、このガラス基板の中心部に穴部を形成し円環状のガラス基板に加工（コアリング）を実施、そして端部（外周端部及び内周端部）に面取り面を形成するチャンファリング工程（面取り面形成工程））を施し、その後第２ラッピング加工を行った。
【００４２】
次いで、ガラス基板の外周端部について、ブラシ研磨方法により、鏡面研磨を行った。このとき、研磨砥粒としては、酸化セリウム砥粒を含むスラリー（遊離砥粒）を用いた。
【００４３】
そして、鏡面研磨工程を終えたガラス基板を水洗浄した。これにより、ガラス基板の直径は６５ｍｍとなり、２．５インチ型磁気ディスクに用いる基板とすることができた。
【００４４】
次いで、主表面研磨工程として、ガラス基板の両主表面に対して第１研磨工程を施した。第１研磨工程においては、研磨装置として、両面研磨機を使用した。この研磨装置における研磨パッドとしては、軟質スウェードパッドを用いた。また、研磨剤としては、セリウム研磨剤を用いた。また、研磨条件としては、加工面圧を１３０ｇ／ｃｍ２とし、加工回転数を２２ｒｐｍとした。これにより、ガラス基板の算術平均粗さＲａは約１．５ｎｍとなった。
【００４５】
次いで、上述した第１研磨工程を終えたガラス基板に、化学強化を施した。化学強化は、硝酸カリウム（６０％）と硝酸ナトリウム（４０％）を混合した化学強化溶液を用意し、この化学強化溶液を３８０°Ｃに加熱し、その中に洗浄済みのガラス基板を約４時間浸漬することによって行った。そして、この化学強化を終えたガラス基板に対して、酸洗浄、アルカリ洗浄、及び純水洗浄を順次行った。
【００４６】
次いで、化学強化後のガラス基板に対して第２研磨処理を施した。第２研磨工程においては、研磨装置として、両面研磨機を使用した。この研磨装置における研磨パッドとしては、軟質スウェードパッド（アスカーＣ硬度：５４、圧縮変形量：４７６μｍ以上、密度：０．５３ｇ／ｃｍ３以下）を用いた。また、研磨剤としては、平均粒径２０ｎｍのコロイダルシリカ研磨剤を用いた。また、研磨条件としては、加工面圧を６０ｇ／ｃｍ２とし、加工回転数を２０ｒｐｍとした。このとき、ガラス基板の両表面の除去厚（取りしろ）を、Ａ面１．０μｍとし、Ｂ面０．５μｍとした。これにより、両主表面で圧縮応力量が異なり、図１に示すような形状のガラス基板が得られた。なお、ガラス基板の形状は、その中心を通り、主表面に対して垂直な軸に対して等方的な形状をしており、Ａ面において、表面の高さは内周端付近が最も高く、外周端に近くなるにつれて低くなっており、外周端付近で最も低くなっていることを確認した。つまり、ガラス基板は一方の面に撓んでおり、表面の高さの変動量は、内周端から外周端にかけて単調増加になっていた。また、このガラス基板の主表面において、最も高い位置と最も低い位置との間の差は３．５０μｍであり、この差は、磁気記録面に磁気記録層を含む積層膜を形成した際の主表面の平坦度を考慮して決定した。
【００４７】
この第２研磨工程を終えたガラス基板を、アルカリ溶液に浸漬して、超音波を印加して１２０秒洗浄し、アルカリ洗浄液を用いてスクラブ洗浄を行い、極微量に希釈した酸及び前記アルカリ洗浄液で洗浄を行った後に、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）の蒸気乾燥を行った。このようにして磁気ディスク用ガラス基板を作製した。
【００４８】
なお、上述した製造工程における各工程の条件は、積層膜の構成、各層の厚さ、各層を構成する材料、成膜方法などから膜応力を特定し、平坦度が０．１μｍ以上３．０μｍ以下となるように、その膜応力による反りを相殺する反り量を求め、その反り量を実現するようにして決定した。
【００４９】
このガラス基板のＡ面上に、付着層、軟磁性層、非磁性下地層、垂直磁気記録層、保護層及び潤滑層を順次積層して磁気ディスクを作製した。このとき、これらの膜の応力により変形し、平坦な磁気ディスクとなった。
【００５０】
（平坦度測定）
上記のように作製したガラス基板を用いて製造した磁気ディスクと、比較例として化学強化処理後に研磨処理を行わないガラス基板を用いて製造した磁気ディスク（実施例・比較例ともに、片面のみに垂直磁気記録層を形成した磁気ディスク）について主表面の平坦度を測定した。なお、ここで平坦度とは、ガラス基板の主表面１２の最も高い部位と最も低い部位との上下方向の距離（高低差）である。ここでは、平坦度の値として、平坦度測定装置（ＫＬＡ―ＴＥＮＣＯＲ社製Ｏｐｔｉｆｌａｔ）によって測定した値を用いた。測定の結果、本実施例に係るガラス基板を用いて製造した磁気ディスクの平坦度は０．５μｍであり、比較例の磁気ディスクの平坦度は４．２７μｍであった。そして、実施例にかかるガラス基板を用いて製造した磁気ディスクは、比較例に比べて、磁気ヘッドの浮上安定性が良好であった。
【００５１】
本発明は上記実施の形態に限定されず、適宜変更して実施することができる。例えば、上記実施の形態では、磁気ディスク用基板として、ガラス基板を用いる例を示したが、それには限定されず、例えばアルミニウム−マグネシウム合金などで構成された金属板等でも良い。また、上記実施の形態における材料、サイズ、処理手順、検査方法などは一例であり、本発明の効果を発揮する範囲内において種々変更して実施することが可能である。その他、本発明の目的の範囲を逸脱しない限りにおいて適宜変更して実施することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【００５２】
【図１】本実施の形態に係る磁気ディスク用ガラス基板の構造を説明するための図であり、（ａ）はガラス基板の斜視図であり、（ｂ）は平面図であり、（ｃ）は、（ｂ）のＩｃ−Ｉｃ線に沿う断面図である。
【符号の説明】
【００５３】
１１  円穴
１２  主表面
１３  内周端
１４  外周端
【図１】
2010080025.tif 000003