(57)【要約】      （修正有）【課題】広範な製造条件に対応でき光学素子の製造効率を向上できる光学素子の製造装置及び製造方法を提供すること。【解決手段】ガラスＧＰをプレスして光学素子を製造する製造装置１０は、上型５１ｂ及び下型５３ｂを有する成形型５０ｂを加熱する加熱ステージ２１、押圧する押圧ステージ２５、及び冷却する冷却ステージ２７を有するチャンバ２０と、成形型５０ｂを加熱ステージ２１、押圧ステージ２５、及び冷却ステージ２７への各々と順次移動及び停止させる搬送装置と、を備える。加熱ステージ２１及び冷却ステージ２７の少なくとも一方は、複数個設けられており、製造装置１０は、成形型５０が停止する停止ステージを選択する選択部を更に備える。【選択図】図１
2010155746.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラスをプレスして光学素子を製造する製造装置であって、
上型及び下型を有する成形型を加熱する加熱ステージ、押圧する押圧ステージ、及び冷却する冷却ステージを有するチャンバと、
前記成形型を前記加熱ステージ、前記押圧ステージ、及び前記冷却ステージへの各々と順次移動及び停止させる搬送手段と、を備え、
前記加熱ステージ及び前記冷却ステージの少なくとも一方は、複数個設けられており、
前記製造装置は、前記成形型が停止する停止ステージを選択する選択手段を更に備える製造装置。
【請求項２】
前記成形型の数を、前記停止ステージの数に基づいて決定する決定手段を更に備える請求項１記載の製造装置。
【請求項３】
前記チャンバは、前記加熱ステージ、前記押圧ステージ、及び前記冷却ステージを含む１以上の内部空間と、この内部空間に非酸化処理を施す処理手段と、を更に有する請求項１又は２記載の製造装置。
【請求項４】
前記処理手段は、前記内部空間を不活性ガスで充填する手段、又は前記内部空間を脱気する手段を有する請求項３記載の製造装置。
【請求項５】
前記搬送手段は、前記成形型を移動及び停止させるための搬送部材を複数有し、複数の搬送部材の駆動源が少なくとも一部共通化されている請求項１から４いずれかに記載の製造装置。
【請求項６】
前記選択手段は、前記押圧ステージに停止する時間、加熱温度、圧力、ガラスの比熱、サイズ、及び変形量からなる群より選ばれる１以上に基づいて、前記停止ステージを選択する請求項１から５いずれか記載の製造装置。
【請求項７】
請求項１から６いずれか記載の製造装置と、この製造装置で製造される光学素子から光学機器を製造する製造装置と、を備える光学機器製造システム。
【請求項８】
ガラスをプレスして光学素子を製造する製造方法であって、
上型及び下型を有する成形型を、加熱ステージ、押圧ステージ、及び冷却ステージの各々と順次移動及び停止させて、前記成形型内のガラスを加熱、押圧、及び冷却する工程を有し、
前記加熱ステージ及び前記冷却ステージの少なくとも一方は、複数個設けられており、
前記製造方法は、前記成形型が停止する停止ステージを選択する選択工程を更に有する製造方法。
【請求項９】
前記成形型の数を、前記停止ステージの数に基づいて決定する工程を更に有する請求項８記載の製造方法。
【請求項１０】
前記加熱ステージ、前記押圧ステージ、及び前記冷却ステージを含む１以上の内部空間を設け、この内部空間に非酸化処理を施す工程を更に有する請求項８又は９記載の製造方法。
【請求項１１】
前記非酸化処理は、内部空間を不活性ガスで充填し、又は前記内部空間を脱気することで行い、前記内部空間の酸素濃度を１００ｐｐｍ以下にする請求項１０記載の製造方法。
【請求項１２】
複数の搬送部材を用い、その少なくとも一部を、共通の駆動源を用いて駆動させる請求項８から１１いずれか記載の製造方法。
【請求項１３】
前記選択は、前記押圧ステージに停止する時間、加熱温度、圧力、ガラスの比熱、サイズ、及び変形量からなる群より選ばれる１以上に基づいて行う請求項８から１２いずれか記載の製造方法。
【請求項１４】
前記停止ステージの数（Ｎ）より２個（Ｎ＋２）又は３個（Ｎ＋３）多い数の成形型を用いる請求項８から１３いずれか記載の製造方法。
【請求項１５】
請求項８から１４いずれか記載の製造方法で製造される光学素子を用いる光学機器の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学素子の製造装置及び製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、光学素子、例えばデジタルカメラ等のレンズには、所定の形状に成形された光学レンズが用いられる。この光学レンズを高精度かつ大量に製造するため、例えば、以下のような方法が知られている。即ち、まず、溶融ガラスを用いて、光学レンズの形状に近似した形状のガラス塊（以降、プリフォームと呼ぶ）を形成し、その後、このプリフォームを成形型でプレス成形して熱間加工する。
【０００３】
この方法によれば、溶融ガラスからプリフォームを経て光学レンズを成形するため、板状のガラスから切断、加工、プレス、研削、及び研磨等の多段階の工程を経て光学レンズを製造する方法に比べ、リードタイムを短縮できるとともに、加工不良による歩留まりの低下を抑えることができ、結果としてコストを大幅に削減できる、といった利点がある。
【０００４】
図５は従来例に係る成形装置９００の平面図である。図５に示されるように、成形装置９００はチャンバ９２０を備え、このチャンバ９２０は、加熱ステージ９２１ａ〜９２１ｅ、押圧ステージ９２５、及び冷却ステージ９２７ａ〜９２７ｅを有する。
【０００５】
成形型９５０を構成する下型９５１の成形面９５２にプリフォームＧＰが供給され、上型９５３が被せられると、成形型９５０は加熱ステージ９２１ａ〜９２１ｅ、押圧ステージ９２５、及び冷却ステージ９２７ａ〜９２７ｅへと順次搬送される。これにより、成形型９５０内のプリフォームＧＰが、加熱ステージ９２１ａ〜９２１ｅにおいて加熱して軟化した後、押圧ステージ９２５で押圧されて変形し、その後、冷却ステージ９２７ａ〜９２７ｅで徐冷されることで、高品質な光学素子ＯＤが作製される。
【特許文献１】特開２０００−３２７３４６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところで、プリフォームの量及び組成、変形量等によって、加熱、押圧、及び冷却に必要な時間は大きく変動する。例えば、プリフォームの量が大きくなるにつれ、熱容量が増すため、加熱及び冷却に必要な時間が増す。しかし、この時間増にあわせて、一つの加熱ステージ及び冷却ステージでの成形型の停止時間を長くすると、単位時間あたりの成形型の流通数、つまり光学素子ＯＤの製造量が低減してしまう。
【０００７】
そこで、従来、各製造条件において必要な加熱、押圧、及び冷却の時間にあわせて、適切な数の加熱ステージ、冷却ステージを有する装置を個別に採用している。例えば、加熱及び冷却に必要な時間が長い場合には、加熱ステージ及び冷却ステージの数が多い装置を用い、逆に加熱及び冷却に必要な時間が短い場合には、加熱ステージ及び冷却ステージの数が多い装置を用いている。
【０００８】
しかし、製造条件は潜在的には無数に存在するところ、上記方法では、製造条件ごとに装置を用意しなければならず、設備投資が嵩むことを避け難い。
【０００９】
本発明は、以上の実情に鑑みてなされたものであり、広範な製造条件に対応でき光学素子の製造効率を向上できる光学素子の製造装置及び製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者らは、各製造時に、複数のステージを備える製造装置において成形型が停止するステージを選択することで、広範な製造条件に対応できることを見出し、本発明を完成するに至った。具体的には、本発明は以下のようなものを提供する。
【００１１】
（１）  ガラスをプレスして光学素子を製造する製造装置であって、
上型及び下型を有する成形型を加熱する加熱ステージ、押圧する押圧ステージ、及び冷却する冷却ステージを有するチャンバと、
前記成形型を前記加熱ステージ、前記押圧ステージ、及び前記冷却ステージへの各々と順次移動及び停止させる搬送手段と、を備え、
前記加熱ステージ及び前記冷却ステージの少なくとも一方は、複数個設けられており、
前記製造装置は、前記成形型が停止する停止ステージを選択する選択手段を更に備える製造装置。
【００１２】
（２）  前記成形型の数を、前記停止ステージの数に基づいて決定する決定手段を更に備える（１）記載の製造装置。
【００１３】
（３）  前記チャンバは、前記加熱ステージ、前記押圧ステージ、及び前記冷却ステージを含む１以上の内部空間と、この内部空間に非酸化処理を施す処理手段と、を更に有する（１）又は（２）記載の製造装置。
【００１４】
（４）  前記処理手段は、前記内部空間を不活性ガスで充填する手段、又は前記内部空間を脱気する手段を有する（３）記載の製造装置。
【００１５】
（５）  前記搬送手段は、前記成形型を移動及び停止させるための搬送部材を複数有し、複数の搬送部材の駆動源が少なくとも一部共通化されている（１）から（４）いずれかに記載の製造装置。
【００１６】
（６）  前記選択手段は、前記押圧ステージに停止する時間、加熱温度、圧力、ガラスの比熱、サイズ、及び変形量からなる群より選ばれる１以上に基づいて、前記停止ステージを選択する（１）から（５）いずれか記載の製造装置。
【００１７】
（７）  （１）から（６）いずれか記載の製造装置と、この製造装置で製造される光学素子から光学機器を製造する製造装置と、を備える光学機器製造システム。
【００１８】
（８）  ガラスをプレスして光学素子を製造する製造方法であって、
上型及び下型を有する成形型を、加熱ステージ、押圧ステージ、及び冷却ステージの各々と順次移動及び停止させて、前記成形型内のガラスを加熱、押圧、及び冷却する工程を有し、
前記加熱ステージ及び前記冷却ステージの少なくとも一方は、複数個設けられており、
前記製造方法は、前記成形型が停止する停止ステージを選択する選択工程を更に有する製造方法。
【００１９】
（９）  前記成形型の数を、前記停止ステージの数に基づいて決定する工程を更に有する（８）記載の製造方法。
【００２０】
（１０）  前記加熱ステージ、前記押圧ステージ、及び前記冷却ステージを含む１以上の内部空間を設け、この内部空間に非酸化処理を施す工程を更に有する（８）又は（９）記載の製造方法。
【００２１】
（１１）  前記非酸化処理は、内部空間を不活性ガスで充填し、又は前記内部空間を脱気することで行い、前記内部空間の酸素濃度を１００ｐｐｍ以下にする（１０）記載の製造方法。
【００２２】
（１２）  複数の搬送部材を用い、その少なくとも一部を、共通の駆動源を用いて駆動させる（８）から（１１）いずれか記載の製造方法。
【００２３】
（１３）  前記選択は、前記押圧ステージに停止する時間、加熱温度、圧力、ガラスの比熱、サイズ、及び変形量からなる群より選ばれる１以上に基づいて行う（８）から（１２）いずれか記載の製造方法。
【００２４】
（１４）  前記停止ステージの数（Ｎ）より２個（Ｎ＋２）又は３個（Ｎ＋３）多い数の成形型を用いる（８）から（１３）いずれか記載の製造方法。
【００２５】
（１５）  （８）から（１４）いずれか記載の製造方法で製造される光学素子を用いる光学機器の製造方法。
【発明の効果】
【００２６】
本発明によれば、複数のステージを備える製造装置において成形型が停止するステージを選択することで、各製造条件に対応して、加熱、押圧、及び冷却に必要な全時間を確保しつつ、一つのステージに停止する時間を適切な範囲に制限できる。これにより、広範な製造条件に対応でき光学素子の製造効率を向上できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２７】
以下、本発明の実施形態について、図面を参照しながら説明する。なお、第１実施形態以外の各実施形態の説明において、第１実施形態と共通するものについては、同一符号を付し、その説明を省略する。
【００２８】
＜第１実施形態＞
図１は本発明の第１実施形態に係る光学素子の製造装置１０の断面図であり、図２は図１の製造装置１０の平面図である。製造装置１０はチャンバ２０、図示しない選択手段としての選択部、及び搬送手段としての搬送装置３０を備える。各構成要素の詳細を以下説明する。
【００２９】
チャンバ２０は、成形型５０の搬送方向（図１における右方向）に沿って順に、加熱ステージ２１、押圧ステージ２５、及び冷却ステージ２７を有する。供給位置４１に位置する成形型５０ａについて、成形型５０ａの下型５１ａ上にプリフォームＧＰが供給され、その後、上型５３ａが被せられる。かかる成形型５０ａは導入位置４３に搬送され、適宜のタイミングで導入扉２２が開くと、チャンバ２０内に導入される。
【００３０】
このようにチャンバ２０は、加熱、冷却、押圧時の温度を安定化したり、ホコリ等の侵入を防いだりするために、加熱ステージ２１、押圧ステージ２５、及び冷却ステージ２７を含む内部空間を有し、この内部空間が外部空間に対して遮断されていることが好ましい。内部空間は、図１に示されるような一体であってもよいし、これに限られず、複数に分割されていてもよい。
【００３１】
特に精密プレス成形を行う場合、成形型５０や、成形型５０に形成された保護膜の酸化を防ぐために、チャンバ２０は、非酸化処理を施す処理手段（図示せず）を更に備えることが好ましい。処理手段は、チャンバ２０の内部空間に窒素等の不活性ガスを充填する手段、又は内部空間を脱気する手段を有することが好ましい。また、これらの手段により、内部空間の酸素濃度を好ましくは１００ｐｐｍ以下、より好ましくは８０ｐｐｍ以下、最も好ましくは５０ｐｐｍ以下にする。
【００３２】
本発明では、加熱ステージ２１及び冷却ステージ２７の少なくとも一方が複数個設けられている。本実施形態では、加熱ステージ２１及び冷却ステージ２７の双方が、複数個、具体的には５個ずつ設けられている。そして本実施形態では、ステージ２１ａ〜２１ｅ、２５、及び２７ａ〜２７ｅの各々に対応して搬送装置３０の接触部３１１ａ〜３１１ｋが設けられており、これら接触部３１１ａ〜３１１ｋが、連結部３１３ａ〜３１３ｋを介した駆動源３３ａ〜３３ｋの駆動力で、搬送方向（図２における左方向）への移動及び停止を繰り返すことにより、成形型５０ａはステージ２１ａ〜２１ｅ、２５、及び２７ａ〜２７ｅの各々に順次移動し停止することができる。
【００３３】
ここで、ステージ２１ａ〜２１ｅ、２５、及び２７ａ〜２７ｅの下方には、加熱用下ヒータ２１１ａ〜２１１ｅ、押圧用下ヒータ２５１、冷却用下ヒータ２７１ａ〜２７１ｅが設けられており、加熱用下ヒータ２１１ａ〜２１１ｅ、押圧用下ヒータ２５１、冷却用下ヒータ２７１ａ〜２７１ｅの各々が所定の出力で熱を放出する。
【００３４】
また、ステージ２１ａ〜２１ｅ、２５、及び２７ａ〜２７ｅの上方には、加熱用上ヒータ２１３ａ〜２１３ｅ、押圧用上ヒータ２１５、冷却用上ヒータ２１７ａ〜２１７ｅが設けられており、加熱用上ヒータ２１３ａ〜２１３ｅ、押圧用上ヒータ２１５、冷却用上ヒータ２１７ａ〜２１７ｅの各々が所定の出力で熱を放出する。また、加熱用上ヒータ２１３ａ〜２１３ｅ、押圧用上ヒータ２１５、冷却用上ヒータ２１７ａ〜２１７ｅの各々は上下動可能であり、これにより成形型の上型に接触及び離間する。
【００３５】
加熱ステージ２１では、加熱用上ヒータ２１３ａ〜２１３ｅが成形型の上型に当接し、加熱用下ヒータ２１１ａ〜２１１ｅとともに成形型を加熱することで、プリフォームＧＰを間接的に加熱（昇温）する。加熱用下ヒータ２１１ａ〜２１１ｅ、及び加熱用上ヒータ２１３ａ〜２１３ｅの出力は、プリフォームＧＰの組成や量等に応じて調節される。また、昇温過程にあるプリフォームＧＰを強く押圧しないよう、加熱用上ヒータ２１３ａ〜２１３ｅによる上型の押下げ距離は調節されている。
【００３６】
押圧ステージ２５では、押圧用上ヒータ２１５が成形型の上型を更に押し下げ、上型及び下型によってプリフォームＧＰをプレスする。ここで、作製するべき光学素子ＯＤの寸法等に応じてプリフォームＧＰの変形量が変動するため、この変形量に基づいて上型の押下げ距離が調節される。つまり、変形量が大きくなるにつれ、押下げ距離は長くなる。
【００３７】
冷却ステージ２７では、冷却用上ヒータ２１５ａ〜２１５ｅが成形型の上型に当接し、冷却用下ヒータ２７１ａ〜２７１ｅとともに成形型を弱く加熱することで、プリフォームＧＰを徐々に冷却（降温）する。
【００３８】
プリフォームＧＰを冷却された成形型は、適宜のタイミングで導出扉２３が開くと、チャンバ２０外の導出位置４５に搬送される。その後、図２に示されるように成形型５０ｇは回収位置４７に搬送され、上型５３ｇが外されて、光学素子ＯＤが回収される。光学素子ＯＤの回収が終わった成形型は循環路４０を通って供給位置４１へと搬送され、再利用されることが好ましい。この場合、回収位置４７から供給位置４１への搬送の途中で、成形型表面の清浄化等のメンテナンス工程を適宜行うことができる。
【００３９】
本発明では、選択部が、複数のステージ２１ａ〜２１ｅ、２５、及び２７ａ〜２７ｅの中から、成形型が停止する停止ステージを選択し、この選択結果に基づいて搬送装置３０を制御する。これにより、各製造条件に対応して、加熱、押圧、及び冷却に必要な全時間を確保しつつ、一つのステージに停止する時間を適切な範囲に制限できる。
【００４０】
本実施形態では、図１及び２に示されるように、選択部が加熱ステージ２１ｄ、２１ｅ、押圧ステージ２５、並びに冷却ステージ２７ａ、２７ｂを選択し、他のステージを選択しない。これにより、チャンバ２０内に導入された成形型は、加熱ステージ２１ａ〜２１ｃを通過して、加熱ステージ２１ｄ、２１ｅ、押圧ステージ２５、並びに冷却ステージ２７ａ、２７ｂに停止し、その後、冷却ステージ２７ｃ〜２７ｅを通過してチャンバ２０外へと導出される。
【００４１】
ただし、選択される停止ステージの数や位置は、これに限定されず、適宜であってよい。「選択」には、全ステージの一部を選択する態様のみならず、全ステージを選択する態様も包含される。また、本実施形態では、加熱ステージ及び冷却ステージの選択数が等しい（各２個）が、これに限られず異なっていてもよい。
【００４２】
停止ステージの選択は、特に限定されないが、押圧ステージ２５に停止する時間、加熱温度、圧力、プリフォームＧＰの比熱、サイズ、変形量からなる群より選ばれる１以上に基づいて行うことが好ましい。例えば、プリフォームＧＰが急激な温度上昇により破損しやすい材料からなる場合には、加熱ステージ２１ａ〜２１ｅから比較的多くの停止ステージを選択して昇温速度を低くすることが好ましく、プリフォームＧＰが急激な温度降下により歪が生じやすい材料からなる場合には、加熱ステージより多数の冷却ステージを停止ステージとして選択してもよい。他方、ガラス量が大きい、もしくは加熱ステージの温度が低い等の場合、加熱及び冷却の所要時間が長くなる。この場合には、停止ステージを多く選択することで、停止ステージあたりの停止時間が適切な範囲に短縮し、結果的に単位時間あたりの成形型の流通数、つまり光学素子ＯＤの製造量を増加できる。
【００４３】
また、停止ステージの選択は、特に限定されないが、押圧ステージ２５に停止する時間に基づくことも好ましい。例えば、ガラス変形量が大きい等の理由で、押圧ステージ２５に停止する時間が長く必要となる場合、停止ステージを少なく選択することで、加熱ステージ及び冷却ステージでの停止時間が押圧ステージ２５での停止時間に近づくため、煩雑な制御を行うことなく、チャンバ２０内での成形型の流通速度の一定化を図ることができる。
【００４４】
ところで、成形型は一般に、プレス時の変形、成形面精度、耐酸化性等を考慮し、タングステンカーバイト等の超硬材料で構成され、更に表面にはガラスと金型との分離性を向上するための離型膜が形成されているため高価である。このため、成形型の使用数増は、光学素子ＯＤの製造コストを増加させる要因になる。そこで、製造装置１０は、成形型の数を停止ステージ数に基づいて決定する決定手段（図示せず）を更に備えることが好ましい。これにより、製造効率を維持しつつ、成形型の使用数を低減し、光学素子ＯＤの製造コストを削減できる。特に、停止ステージの数（Ｎ）より２個（Ｎ＋２）又は３個（Ｎ＋３）多い数の成形型を用いることが好ましく、本実施形態のように、Ｎ＋２個の成形型５０ａ〜５０ｇを用いることがより好ましい。これにより、更に光学素子ＯＤの製造コストを削減できる。
【００４５】
このように、製造装置１０は、広範な製造条件に対応できるため、各製造装置を個別に用意してきた従来に比べ、設備投資の削減に大きく寄与できる。また、製造装置１０は、一つのステージに停止する時間が適切な範囲に制限されることで、単位時間あたりの成形型の流通数が増加するため、光学素子ＯＤの製造効率を向上できる。
【００４６】
本発明は、以上の製造装置１０と、この製造装置１０で製造される光学素子ＯＤから光学機器を製造する製造装置と、を備える光学機器製造システムも包含する。また、本発明は、製造装置１０によって製造された光学素子ＯＤを用いて光学機器を製造する製造方法も包含する。かかる製造システム又は製造方法で製造される光学機器は、効率良く製造された光学素子を素材としているため、安価に製造できる。
【００４７】
＜第２実施形態＞
図３は、本発明の第２実施形態に係る光学素子の製造装置１０Ａの平面図である。本実施形態は、成形型を任意のステージに直接導入でき、また任意のステージから直接導出できる点で、第１実施形態と異なる。
【００４８】
即ち、４０Ａには、加熱ステージ２１ｂ〜２１ｅへと延出する近導入路４４１〜４４７、冷却ステージ２７ａ〜２７ｄから延出する近導出路４６１〜４６７が設けられており、チャンバ２０Ａには、近導入路４４１〜４４７に対応して近導入扉２４１〜２４７が、近導出路４６１〜４６７に対応して近導出扉２６１〜２６７が設けられている。
【００４９】
成形型を近導出扉２６１〜２６７からチャンバ２０Ａ外へと導出できるよう、接触部３１１ａＡ〜３１１ｋＡは、搬送方向（図３における左方向）に角度をなす面のみならず、近導出扉２６１〜２６７に面する方向（図３における下方向）にも角度をなす面も有する。なお、接触部３１１ａＡ〜３１１ｋＡの形状は、これに限定されず、例えば部分円弧（Ｃ字状）であってもよい。また、接触部３１１ａＡ〜３１１ｋＡの形状は第１実施形態と同様にし、連結部３１３ａ〜３１３ｋが回転することで、接触部３１１ａＡ〜３１１ｋＡが成形型を押し出す方向を変更できるようにしてもよい。
【００５０】
近導入路４４１〜４４７及び近導出路４６１〜４６７の近傍には、それぞれ近供給位置４２１〜４２７、近回収位置４８１〜４８７が設けられていて、各位置でプリフォームＧＰの供給、及び光学素子ＯＤの回収が行われる。
【００５１】
これにより、プリフォームＧＰが供給された成形型は、選択部によって選択された停止ステージのうち最も導入扉２２側の停止ステージへと直接導入され、光学素子ＯＤが作製された成形型は最も導出扉２３側の停止ステージから直接導出されることができる。具体的に本実施形態では、近供給位置４２５でプリフォームＧＰが供給された成形型５０ａが近回収路４４５を通じて、近回収位置２４５から加熱ステージ２１ｄへと搬送される。その後、ステージ２１ｅ、２５、２７ａ、２７ｂで停止した後、２６３から４６３を通って４８３へと搬送され、光学素子ＯＤを回収されている。
【００５２】
＜第３実施形態＞
図４は、本発明の第３実施形態に係る光学素子の製造装置１０Ｂの平面図である。本実施形態は、搬送装置３０Ｃの駆動源３３Ｃが共通化されている点で、第２実施形態と異なる。
【００５３】
即ち、連結部３１３ａ〜３１３ｋは、共通の駆動源３３Ｃに連結されており、この駆動源３３Ｃによって、成形型５０ａ〜５０ｇが互いに同様の動きで搬送される。これにより、製造装置１０Ｂやその制御を簡素化することができる。
【００５４】
本実施形態では、停止ステージとして、加熱ステージ２１ｂ、２１ｄ、押圧ステージ２５、及び冷却ステージ２７ｂ、２７ｄが選択されている。これにより、停止ステージ同士の間隔が略等しいため、共通の駆動源３３Ｃによる単純な駆動方式で、成形型５０ａ〜５０ｇを停止ステージに停止することができる。
【００５５】
なお、本実施形態では、駆動源３３Ｃ全体を共通化したが、これに限られず、駆動源の少なくとも一部が共通化されていればよい。例えば、加熱ステージ２１ａ〜２１ｅに対応する連結部３１３ａＢ〜３１３ｅＢが連結される駆動源を共通化し、冷却ステージ２７ａ〜２７ｅに対応する連結部３１３ｇＢ〜３１３ｋＢが連結される駆動源を共通化し、これら２つの駆動源は別体としてもよい。
【００５６】
本発明は前記実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良等は本発明に含まれるものである。
【図面の簡単な説明】
【００５７】
【図１】本発明の第１実施形態に係る光学素子の製造装置の断面図である。
【図２】図１の製造装置の平面図である。
【図３】本発明の第２実施形態に係る光学素子の製造装置の平面図である。
【図４】本発明の第３実施形態に係る光学素子の製造装置の平面図である。
【図５】従来例に係る光学素子の製造装置の平面図である。
【符号の説明】
【００５８】
１０  光学素子の製造装置
２０  チャンバ
２１  加熱ステージ
２５  押圧ステージ
２７  冷却ステージ
３０  搬送装置（搬送手段）
３１  搬送部材
３１１  接触部
３１３  連結部
３３  駆動源
５０  成形型
５１  下型
５２  成形面
５３  上型
５５  胴型
ＧＰ  プリフォーム
ＯＤ  光学素子
【図１】
2010155746.tif 000003
【図２】
2010155746.tif 000004
【図３】
2010155746.tif 000005
【図４】
2010155746.tif 000006
【図５】
2010155746.tif 000007