(57)【要約】【課題】上，下リップを鋼板板幅方向に移動可能に支持することで上，下リップのみの交換を可能にしてワイピングノズルの交換時間の短縮により生産性の向上が図れるガスワイピング装置を提供する。【解決手段】溶融めっき浴１０から出て上方に向けて走行するストリップＳの表，裏面にワイピングノズル１２からガスを吹き付けてめっき付着量を制御するガスワイピング装置１１において、ワイピングノズル１２は上リップ１６と下リップ１７とに分割形成されると共に、それぞれ独立して鋼板板幅方向に移動可能に支持されて交換可能になっている。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
溶融めっき浴から出て上方に向けて走行する鋼板の表，裏面にワイピングノズルからガスを吹き付けてめっき付着量を制御するガスワイピング装置において、
前記ワイピングノズルは上リップと下リップとに分割形成されると共に、それぞれ独立して鋼板板幅方向に移動可能に支持されて交換可能になっていることを特徴とするガスワイピング装置。
【請求項２】
前記上リップと下リップとは、ワイピングガスのガス供給流路を有したガス供給ベースを上下から挟むようにして支持される一方、前記ガス供給ベースの上，下両部に設けたリップ押えにより鋼板板幅方向の任意の位置に固定可能になっていることを特徴とする請求項１に記載のガスワイピング装置。
【請求項３】
前記リップ押えは、外部の加圧流体供給源から加圧流体が供給される静圧パッドであることを特徴とする請求項１又は２に記載のガスワイピング装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、製鉄プロセスライン、特に、亜鉛等の溶融金属めっきラインにおける溶融金属めっき設備に用いられるガスワイピング装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
この種溶融金属めっきラインにおいては、一般に、焼鈍等の前処理を連続的に施し高温に保持したストリップ（被めっき鋼板）を、溶融金属ポット（溶融めっき浴）中のシンクロールに通板して上方へ走行させ、その走行下でめっき付着量（溶融金属厚さ，膜厚）を制御した後、所定の冷却パターンで常温まで冷却する方法が行われている。
【０００３】
そして、前記走行下では、ストリップの表面に付着した溶融亜鉛の余剰分が、例えば溶融めっき浴上方に対向設置した一対のワイピングノズル（ガスワイピング装置）から吹き付けられるガスによってワイピングされることによって、所要のめっき付着量に制御されるようになっている。
【０００４】
例えば、従来のガスワイピング装置は、図３及び図４に示すように、ノズルヘッダー１００の内部からガス供給流路１０１を通ってワイピングノズル１０２に供給されたガスは、当該ワイピングノズル１０２の上リップ１０３と下リップ１０４との対向面間で画成されるノズルスリット１０５より図示しないストリップの板幅方向に一様に吹き出すようになっている。
【０００５】
そして、上リップ１０３と下リップ１０４とが複数本の鉛直方向固定ボルト１０６で両者間が一体化される（図４の（ａ）参照）と共に、複数本の水平方向固定ボルト１０７で両者がノズルヘッダー１００側に一体化される（図４の（ｂ）参照）構造となっていた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開平１１−２１７６６１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ところで、上述したようなガスワイピング装置では、ストリップとの接触によるワイピングノズル１０２の傷や、スプラッシュによる溶融金属のワイピングノズル１０２への付着（汚れ）があると、めっき後のストリップ表面の品質欠陥（めっきムラ，筋模様等）が発生するため、ワイピングノズル１０２の交換が必要となる。
【０００８】
しかしながら、従来のガスワイピング装置にあっては、交換の際に、上リップ１０３と下リップ１０４とをそれぞれボルト１０６，１０７を外して分解しなければならないので、ラインを停止してワイピングノズル全体を交換するため、ワイピングノズルの交換作業に多大の時間を要し、生産性が低下するという問題点があった。
【０００９】
そこで、本発明の目的は、上，下リップを鋼板板幅方向に移動可能に支持することで上，下リップのみの交換を可能にしてワイピングノズルの交換時間の短縮により生産性の向上が図れるガスワイピング装置を提供することを目的とする。
【００１０】
尚、特許文献１には、下ノズル本体（下リップに相当する）にノズル孔調整片を着脱可能に装着し、操業を停止することなくノズル孔調整片を交換してノズル孔形状を最適形状に変更するめっき厚調整用ガス噴射ノズル装置が開示されている。
【００１１】
ところが、特許文献１では、ノズル孔調整片の交換の際には楔片の挿脱を必要とし、ノズル孔調整片を鋼板板幅方向に移動することで交換可能にしたものではないと共に、上ノズル本体（上リップに相当する）は下ノズル本体とボルトで結合されているので、上述した従来技術と同様の問題点を有している。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
前記目的を達成するための本発明に係るガスワイピング装置は、
溶融めっき浴から出て上方に向けて走行する鋼板の表，裏面にワイピングノズルからガスを吹き付けてめっき付着量を制御するガスワイピング装置において、
前記ワイピングノズルは上リップと下リップとに分割形成されると共に、それぞれ独立して鋼板板幅方向に移動可能に支持されて交換可能になっていることを特徴とする。
【００１３】
また、
前記上リップと下リップとは、ワイピングガスのガス供給流路を有したガス供給ベースを上下から挟むようにして支持される一方、前記ガス供給ベースの上，下両部に設けたリップ押えにより鋼板板幅方向の任意の位置に固定可能になっていることを特徴とする。
【００１４】
また、
前記リップ押えは、外部の加圧流体供給源から加圧流体が供給される静圧パッドであることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１５】
前記構成の本発明に係るガスワイピング装置によれば、上，下リップを鋼板板幅方向に移動することで、リップ毎、簡単に交換することができ、ワイピングノズルの交換時間の短縮により生産性の向上が図れる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明の実施例１を示す亜鉛等の溶融金属めっきラインにおける溶融金属めっき設備に用いられるガスワイピング装置の概略構成側面図である。
【図２】ワイピングノズルの作用状態を示す正面図である。
【図３】従来のガスワイピング装置の要部正面図である。
【図４】同じくガスワイピング装置の断面図であり、同図（ａ）は図３のＤ−Ｄ矢視断面図で同図（ｂ）は図３のＥ−Ｅ矢視断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、本発明に係るガスワイピング装置を実施例により図面を用いて詳細に説明する。
【実施例】
【００１８】
図１は本発明の一実施例を示す亜鉛等の溶融金属めっきラインにおける溶融金属めっき設備に用いられるガスワイピング装置の概略構成側面図、図２はワイピングノズルの作用状態を示す正面図である。
【００１９】
図１に示すように、溶融金属ポット（溶融めっき浴）１０から出て上方に向けて走行するストリップ（被めっき鋼板）Ｓの表，裏面に対向して一対のガスワイピング装置１１が設けられ、これらのガスワイピング装置１１のワイピングノズル１２からストリップＳの表面にガスを吹き付けて（図１中矢印参照）めっき付着量（溶融金属厚さ，膜厚）を制御し得るようになっている。尚、図１中にはストリップＳの表，裏面の一方側のガスワイピング装置１１を示し、他方側のガスワイピング装置１１はストリップＳを中心に対称に配置される一方側のガスワイピング装置１１と同じ構成のものであるので図示は省略する。
【００２０】
具体的には、前記ガスワイピング装置１１において、ノズルヘッダー１３の内部からマニホールド１４のガス供給流路１５を通ってワイピングノズル１２に供給されたガスは、当該ワイピングノズル１２の上リップ１６と下リップ１７との対向面１６ａ，１７ａ間で形成されるノズルスリット１８よりストリップＳの板幅方向に一様に吹き出すようになっている。
【００２１】
また、前記ワイピングノズル１２は、マニホールド１４の接合フランジ部１９にＴ字状のスライドベース（ガス供給ベース）２０が横向きにボルト結合され、そのガス供給流路２１が接合フランジ部１９のガス供給流路２２を介して前記マニホールド１４のガス供給流路１５に連通している。尚、スライドベース２０のガス供給流路２１は集合流路部２１ａと多孔流路部２１ｂとからなる。
【００２２】
そして、前記スライドベース２０の水平な凸状部２０ａに、該凸状部２０ａを上下方向から挟むようにして上述した上リップ１６と下リップ１７が装着されている。
【００２３】
具体的には、上リップ１６と下リップ１７の根元部が上，下摺動ライナ２３Ａ，２３Ｂを介して前記凸状部２０ａの上，下面にそれぞれ凹凸状態で係合され、スライドベース２０の上部及び下部に嵌着された上，下静圧パッド（リップ押え）２４Ａ，２４Ｂのエアー圧により、上リップ１６と下リップ１７は凸状部２０ａの上，下面におけるストリップ板幅方向の任意の位置にそれぞれ押付け固定されている。
【００２４】
そして、これらの上，下静圧パッド２４Ａ，２４Ｂのエアー圧解放（又は減圧）下で、上リップ１６と下リップ１７は凸状部２０ａの上，下面上をそれぞれ前記上，下摺動ライナ２３Ａ，２３Ｂを介してストリップＳの板幅方向にスライド可能になっている。
【００２５】
前記上，下摺動ライナ２３Ａ，２３Ｂは上リップ１６及び下リップ１７の内面にボルト２６Ａ，２６Ｂでそれぞれ結合される。尚、図中２０ｂ，２０ｃは上，下静圧パッド２４Ａ，２４Ｂへそれぞれエアー圧を供給するエアー通路で、２４ａ，２４ｂは上，下静圧パッド２４Ａ，２４Ｂ自体のエアー通路であり、さらには、２５Ａ，２５Ｂは上，下静圧パッド２４Ａ，２４Ｂのエアー圧を封じ込めるシール部材である。
【００２６】
また、上，下摺動ライナ２３Ａ，２３Ｂにはオイルレスのものを用いるが、ＬＭガイド化を図っても良い。また、上，下静圧パッド２４Ａ，２４Ｂには、前記上リップ１６と下リップ１７の固定時に、当該上，下静圧パッド２４Ａ，２４Ｂ及びスライドベース２０のエアー通路２４ａ，２４ｂ，２０ｂ，２０ｃと図示しない外部配管を介してコンプレッサー等の加圧エアー供給源からのエアー圧が供給されるようになっているが、エアー圧に代えて他の流体圧が供給されても良いし、上，下静圧パッド２４Ａ，２４Ｂに代えて機械的な固定手段を用いても良い。
【００２７】
このように構成されるため、ワイピングノズル１２が図２に示す状態での稼働下で、例えばストリップＳとの衝突で上リップ１６に傷が付いたり、スプラッシュによる溶融金属が上リップ１６へ付着したりすると、めっき後のストリップ表面の品質欠陥（めっきムラ，筋模様等）が発生する虞があるため、上リップ１６の交換が必要となる。
【００２８】
この場合、本実施例では、上静圧パッド２４Ａのエアー圧解放（又は減圧）下で、上リップ１６をスライドベース２０における凸状部２０ａの上面上を上摺動ライナ２３Ａを介してストリップＳの板幅方向にスライドさせることで、上リップ１６のみを簡単に取り外すことができ、新しい上リップ１６との交換が行える。この新しい上リップ１６の取付けは上述した取外しの動作の逆の動作を行えば良いことは自明である。勿論、必要に応じて下リップ１７の交換も同様に行える。
【００２９】
このようにして本実施例によれば、上，下リップ１６，１７をストリップ板幅方向にスライドさせることで、リップ毎、簡単に交換することができ、ワイピングノズル１２の交換時間の短縮により生産性の向上が図れる。
【００３０】
また、本発明は上記実施例に限定されず、本発明の要旨を逸脱しない範囲で、上，下リップやスライドベース及びその凸状部の形状変更等各種変更が可能であることはいうまでもない。
【産業上の利用可能性】
【００３１】
本発明に係るガスワイピング装置は、製鉄プロセスラインに適用することができる。
【符号の説明】
【００３２】
１０  溶融金属ポット（溶融めっき浴）
１１  ガスワイピング装置
１２  ワイピングノズル
１３  ノズルヘッダー
１４  マニホールド
１５  ガス供給流路
１６  上リップ
１６ａ  対向面
１７  下リップ
１７ａ  対向面
１８  ノズルスリット
１９  接合フランジ部
２０  スライドベース（ガス供給ベース）
２０ａ  凸状部
２１  ガス供給流路
２１ｂ  多孔流路部
２２  ガス供給流路
２３Ａ  上摺動ライナ
２３Ｂ  下摺動ライナ
２４Ａ  上静圧パッド（リップ押え）
２４Ｂ  下静圧パッド（リップ押え）
Ｓ  ストリップ（被めっき鋼板）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
2010285668.tif 000006