(57)【要約】【課題】ミストノズルとイオンノズルとの位置関係を好適とし、対象物により多くのイオンを到達させることができる美容装置を提供する。【解決手段】スチーム（温ミスト）の同時同量放出を行う２つのスチームノズル（温ミストノズル）２１，２２が備えられ、その２つのスチームノズル２１，２２間の中間位置上にイオンノズル２４が配置される。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
液体からミストを生成しその生成したミストをミストノズルから外部に向けて放出するミスト発生装置と、高電圧印加に基づき放電極にて放電を生じさせてイオンを生成しその生成したイオンをイオンノズルから外部に向けて放出するイオン発生装置とを備えてなる美容装置であって、
前記ミストノズルを複数備え、前記ミストの同時放出を行う２つのミストノズル間に前記イオンノズルが配置されていることを特徴とする美容装置。
【請求項２】
請求項１に記載の美容装置において、
前記イオンノズルは、前記ミストの同時同量放出を行う２つのミストノズル間の中間位置上に配置されていることを特徴とする美容装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の美容装置において、
前記イオン発生装置における前記放電極周りの空間と美容装置本体内の空間とが仕切られてなることを特徴とする美容装置。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１項に記載の美容装置において、
前記ミスト発生装置は、前記ミストノズルから温ミストとしてスチームを放出するものであって、
前記イオンノズルは、前記ミストノズルの上側に位置していることを特徴とする美容装置。
【請求項５】
請求項４に記載の美容装置において、
前記イオンノズルの開口部は、前記ミストノズルの開口部よりも後方側に位置していることを特徴とする美容装置。
【請求項６】
請求項４又は５に記載の美容装置において、
前記イオンノズルの開口部には、該開口部内への液体の浸入を抑制する凸部が設けられていることを特徴とする美容装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ミスト放出とイオン放出とを行う美容装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
この種の美容装置としては、例えば特許文献１にて示されているスチーム式美顔器が知られている。同美顔器は、顔表面に対してスチーム発生装置（ミスト発生装置）にて生成したスチーム（温ミスト）をスチームノズルから放出しつつ、イオン発生装置にて生成したマイナスイオンをイオンノズルから放出し、美容効果を得ようとするものである。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００４−２４８９７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、マイナスイオンの推進力はそれほど大きいものではないため、特許文献１にて示される美顔器のように、スチームノズル（温ミストノズル）の上側にイオンノズルを近接配置して流速の速いスチーム流にマイナスイオンを乗せて、対象物に多くのマイナスイオンを到達させる工夫がなされている。しかしながら、マイナスイオンの対象物への到達量の更なる増加が望まれており、この点での改良が検討されている。
【０００５】
本発明は、上記課題を解決するためになされたものであって、その目的は、ミストノズルとイオンノズルとの位置関係を好適とし、より多くのイオンを対象物に到達させることができる美容装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決するために、請求項１に記載の発明は、液体からミストを生成しその生成したミストをミストノズルから外部に向けて放出するミスト発生装置と、高電圧印加に基づき放電極にて放電を生じさせてイオンを生成しその生成したイオンをイオンノズルから外部に向けて放出するイオン発生装置とを備えてなる美容装置であって、前記ミストノズルを複数備え、前記ミストの同時放出を行う２つのミストノズル間に前記イオンノズルが配置されていることをその要旨とする。
【０００７】
この発明では、複数のミストノズルを備えることとし、ミストの同時放出を行う２つのミストノズル間にイオンノズルが配置される。つまり、対となるミストノズル間では、放出ミストの相互作用（重なり）によって単体のミスト流の最大流速より大となる流速の合成ミスト流が生成可能なため、この対となるミストノズル間にイオンノズルを配置することで、流速が増大した推進力の大きい合成ミスト流にイオンを乗せて、より多くのイオンを対象物に到達させることが可能となる。
【０００８】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の美容装置において、前記イオンノズルは、前記ミストの同時同量放出を行う２つのミストノズル間の中間位置上に配置されていることをその要旨とする。
【０００９】
この発明では、対となるミストノズルがミストの同時同量放出を行うものの場合、イオンノズルは、その２つのミストノズル間の中間位置上に配置される。これにより、２つのミストノズル間の中間位置上が合成ミスト流の流速が最大となるため、その中間位置上にて放出されるイオンをより多くより確実に対象物に到達させることが可能となる。
【００１０】
請求項３に記載の発明は、請求項１又は２に記載の美容装置において、前記イオン発生装置における前記放電極周りの空間と美容装置本体内の空間とが仕切られてなることをその要旨とする。
【００１１】
この発明では、イオン発生装置における放電極周りの空間と美容装置本体内の空間とが仕切られることから、美容装置本体内の加熱装置とシリコン素材を使用した部材とで生じる浮遊シリコンや本体内部に存在する埃等の異物がその本体側から放電極周りの空間に侵入することが防止され、経年劣化の進行を早める放電極への異物の付着が未然に防止される。
【００１２】
請求項４に記載の発明は、請求項１〜３のいずれか１項に記載の美容装置において、前記ミスト発生装置は、前記ミストノズルから温ミストとしてスチームを放出するものであって、前記イオンノズルは、前記ミストノズルの上側に位置していることをその要旨とする。
【００１３】
この発明では、ミスト発生装置はミストノズルからスチーム（温ミスト）を放出するものを含み、イオンノズルはスチームが放出されるミストノズルの上側に位置する。これにより、スチームは放出方向に加え上方に向かうため、イオンノズルから放出されるイオンをスチームに乗せ易い合理的な配置とされ、対象物へのイオンの到達量の増加に寄与できる。
【００１４】
請求項５に記載の発明は、請求項４に記載の美容装置において、前記イオンノズルの開口部は、前記ミストノズルの開口部よりも後方側に位置していることをその要旨とする。
この発明では、イオンノズルの開口部はスチームが放出されるミストノズルの開口部よりも後方側に位置するため、スチームのイオンノズル内への浸入が抑制される。これにより、イオンノズル内へのスチームの浸入によるイオン生成の妨げとなることが防止され、またそのスチーム及び結露により生じた液体等によるイオン発生装置の破損の誘発が防止される。
【００１５】
請求項６に記載の発明は、請求項４又は５に記載の美容装置において、前記イオンノズルの開口部には、該開口部内への液体の浸入を抑制する凸部が設けられていることをその要旨とする。
【００１６】
この発明では、イオンノズルの開口部には該開口部内への液体の浸入を抑制する凸部が設けられるため、スチームの結露にて生じる液体等のイオンノズル内への浸入が抑制される。これにより、イオンノズル内へのその液体等の浸入によるイオン生成の妨げとなることが防止され、またその液体等によるイオン発生装置の破損の誘発が防止される。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、ミストノズルとイオンノズルとの位置関係を好適とし、より多くのイオンを対象物に到達させることができる美容装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本実施形態における美顔器を示す斜視図である。
【図２】同美顔器を前後方向で切断し右側から見た断面図である。
【図３】同美顔器を左右方向で切断し背面側から見た断面図である。
【図４】同美顔器のマイナスイオン生成部部分の拡大断面図である。
【図５】同美顔器の機能の概略構成を示すブロック図である。
【図６】（ａ）〜（ｃ）は同美顔器のスチーム流とマイナスイオンの放出量とを説明するための説明図であり、（ｄ）は別態様のスチームノズルからのスチーム流を示す説明図である。
【図７】同美顔器のスチームノズル間距離とマイナスイオンの放出態様とを説明するための説明図である。
【図８】（ａ）〜（ｇ）は別態様におけるスチームノズルとイオンノズルとの位置関係を示す説明図である。
【図９】（ａ）（ｂ）は別態様におけるイオンノズル周りの構成を示す説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
以下、本発明を具体化した一実施形態を図面に従って説明する。
図１は、本実施形態のイオン発生装置を備える美容装置としての美顔器１０を示す。有底略円筒状の本体ケース１１には美顔器本体１２が収容されて固定され、その本体ケース１１の開口部と面一をなす美顔器本体１２の上面にはノズル部１３及びスイッチ部１４が設置されている。ノズル部１３及びスイッチ部１４を有する美顔器本体１２の上面は、本体ケース１１に対し開閉可能（傾動可能）に取り付けられたメインカバー１５にて露出・隠蔽が可能とされている。
【００２０】
ノズル部１３は、美顔器本体１２の上面中央に設けられており、スチーム（温ミスト）を放出する一対のスチームノズル（温ミストノズル）２１，２２、冷ミストを放出するミストノズル（冷ミストノズル）２３、及びマイナスイオンを放出するイオンノズル２４を有し、ミストノズル２３が左右方向中央位置に、スチームノズル２１，２２がその左右両側に、イオンノズル２４がミストノズル２３の上側にそれぞれ配置されている。スチームノズル２１，２２、ミストノズル２３、及びイオンノズル２４の各放出方向は前側斜め上方の同一方向に向くように設定され、美顔器１０の前側と使用者と対向するように使用した時のその使用者の顔表面に向けて放出方向が向くように設定されている。尚、ノズル部１３は傾動調整可能な構成となっており、各ノズル２１〜２４の放出角度の一体的な調整が可能である。また、このノズル部１３にもノズルカバー１６が開閉可能（傾動可能）に取り付けられ、その開閉にて各ノズル２１〜２４の露出・隠蔽が可能とされている。
【００２１】
また、ノズル部１３の手前右側には、スイッチ部１４として、それぞれ押しボタンスイッチにて構成される電源スイッチ２５、運転制御スイッチ２６、及びコース選択スイッチ２７が設けられている。電源スイッチ２５は、美顔器１０のオンオフ操作を行うものであり、運転制御スイッチ２６及びコース選択スイッチ２７は、その操作にて、スチームと冷ミストとを組み合わせて対象体に向けて放出するコースやスチームのみを放出するコースといった各種のコースの選択、及びその決定（動作開始）を行うものである。
【００２２】
また、ノズル部１３の左側には、美顔器本体１２の上面から凹設されてなるタンク収容部１７が設けられており、該タンク収容部１７内には、開口部と面一となるように給水タンク１８が着脱可能に収容されている。給水タンク１８は、使用者が美顔器１０から取り外しての給水が可能となっており、貯留した水からスチームや冷ミストのそれぞれの生成が行われる。
【００２３】
美顔器本体１２には、図２に示すように、スチーム生成部（温ミスト生成部）３１、ミスト生成部（冷ミスト生成部）３２、及びマイナスイオン生成部３３が備えられている。
スチーム生成部（温ミスト生成部）３１は、美顔器本体１２の前側に備えられており、スチーム（温ミスト）を生成する。スチーム生成部３１は、駆動電流の供給に基づいて発熱しその発熱の自己制御機能を有するＰＴＣ（Positive Temperature Coefficient）ヒータ３５，３６を前側と後側にそれぞれ備え、給水タンク１８から給水管路１９を介してＰＴＣヒータ３５，３６内側のボイラ室３７内に供給された水を沸騰させてスチームの生成を行っている。因みに、前側のＰＴＣヒータ３５の外側面には、給水タンク１８から延びる給水管路１９の一部が当接させて配置されており、ボイラ室３７への流入の前に温められ該ボイラ室３７内で効率良くスチームが生成されるようになっている。尚、給水管路１９は、排水管路３８（図５参照）を介して美顔器１０の排水口３８ａに接続されており、排水スイッチの操作によって制御される排水管路３８上の止水弁３９にて美顔器１０内の排水を行うことが可能となっている。
【００２４】
ボイラ室３７の上部には、図２及び図３に示すように、生成したスチームを一対のスチームノズル２１，２２まで案内させるためのスチーム案内管路４１が接続されている。スチーム案内管路４１は、途中に分岐部４２を有しその分岐部４２から各スチームノズル２１，２２に向けて等距離で二股に分かれ、ボイラ室３７にて生成したスチームを各スチームノズル２１，２２までそれぞれ案内する。そして、ボイラ室３７やスチーム案内管路４１内は高圧となるため、各スチームノズル２１，２２の放出孔からはある程度の勢いを以てスチームが放出されるようになっている。
【００２５】
また、スチーム案内管路４１の分岐部４２の若干手前位置には、放電電極４３ａを有するスチーム用放電部４３が備えられている。スチーム用放電部４３は、自身の放電により、該放電部４３を通過するスチームをより微細化するものである。また、このスチーム用放電部４３では、抗酸化作用があり肌に良いとされる金属（例えば白金）を用い、放電を利用してその金属微粒子を発生させることも行っており、スチームの微細化と金属微粒子の含有とが行われている。スチーム用放電部４３の下流側で分岐部４２の直前位置には、該放電部４３にて微細化したスチームを分岐部４２から先の各スチームノズル２１，２２に同量が分岐するように整流する整流部４４が備えられている（図３及び図５参照）。
【００２６】
ミスト生成部（冷ミスト生成部）３２は、前記スチーム生成部３１よりも後側に備えられており、ベンチュリー効果を用いて冷ミストを生成する。給水タンク１８から延びる給水管路１９内の水は前記スチーム生成として利用される他に冷ミストとしても利用され、その給水管路１９からの水の一部をミストノズル２３まで送水する送水管路５１が備えられている。送水管路５１の一部は、後側のＰＴＣヒータ３６の放熱面（垂直面）３６ａの平面方向に蛇行して該放熱面３６ａに当接させて配置されており、前記スチーム生成時の後側のＰＴＣヒータ３６の加熱で送水管路５１内の冷ミスト用の水の殺菌をも行われるようになっている。尚、送水管路５１のミストノズル２３の直前位置にはその管内にフィルタ５２が装着され、通過する水の除塵等が行われている。
【００２７】
また、ミスト生成部３２として、美顔器本体１２内には空気圧送路５３が設けられており、該空気圧送路５３内には電動モータを駆動源としたポンプ５４の動作により空気の圧送が行われる。この圧送空気はミストノズル２３の放出孔に向けて供給され、放出孔手前で送水管路５１内の水と合流させることでベンチュリー効果が生じ、圧送空気とともに送水管路５１内の水が吸い出されて冷ミストが生成されて放出されるようになっている。
【００２８】
マイナスイオン生成部３３は、図２及び図４に示すようにノズル部１３内に備えられており、コロナ放電を発生させてマイナスイオンを生成する。イオン生成部３３は、ノズル部１３のイオンノズル２４に形成される収容凹部２４ａに、ユニット化されたマイナスイオン放電部６１が収容保持されてなる。イオン放電部６１は、その収容凹部２４ａに収容保持されるべく所定形状をなす電極ホルダ６２に対して針電極６３が支持されるとともに、針電極６３の先端側においてその針電極６３の軸線上に円環状の中心が位置するように円環状の対向電極６４が支持されて構成されている。針電極６３及び対向電極６４にはそれぞれリード線６５がその針電極６３の先端よりも後方側にて接続されており、各リード線６５は、電極ホルダ６２の後部（針電極６３の先端よりも後方側）に一体に備えられる弾性装着部材６６にて弾性保持されて美顔器本体１２側に導出されて、美顔器本体１２の上面近傍の制御回路基板７１に接続されている。
【００２９】
そして、マイナスイオン生成時において、針電極６３に高電圧が印加されると、対向電極６４との電位差によって針電極６３の先端周囲にコロナ放電が発生し、マイナスイオンが発生する。発生したマイナスイオンは、針電極６３よりも低電位の対向電極６４に引き寄せられ、対向電極６４に付着しない分がイオンノズル２４の外部、即ち使用者の顔表面等に向けて放出されるようになっている。
【００３０】
因みに、このイオン生成部３３（イオン放電部６１）では、針電極６３周りの空間Ｘ２は外部への開放のみで、その針電極６３周りの空間Ｘ２と美顔器本体１２内の空間Ｘ１とが仕切られている。針電極６３周りの空間Ｘ２の仕切りは、電極ホルダ６２の後部に設けられる弾性装着部材６６が収容凹部２４ａの内周面に環状に密着（弾性装着部材６６は各リード線６５とも密着）することでなされている。ここで、美顔器本体１２内の空間Ｘ１に設けられるシリコン素材を使用した部材（例えば送水管路５１の一部等）がＰＴＣヒータ３５，３６といった熱源にて加熱されるとその空間Ｘ１内にシリコンが浮遊し、この浮遊シリコンが温められた美顔器本体１２内の空気に乗って針電極６３に付着することでコロナ放電を妨げマイナスイオンの発生量が減少してしまう事象が生じる。また、同空気に乗って美顔器本体１２内の埃も針電極６３に付着し易い。そこで、針電極６３周りの空間Ｘ２と美顔器本体１２内の空間Ｘ１とを仕切ることで、美顔器本体１２内で生じる浮遊シリコンや埃等の異物が針電極６３周りの空間Ｘ２への侵入が防止され、針電極６３への異物の付着が未然に防止されている。
【００３１】
制御回路基板７１は、電源コード７０（図１参照）にて外部から電源供給を受け、基板７１上に搭載される各種の回路部品よりなる制御回路７２の制御に基づいて、スチーム生成部３１、ミスト生成部３２、及びイオン生成部３３のそれぞれに動作電源を供給する。図５に示すように、制御回路７２は、電源スイッチ２５のオンオフ操作に基づいて美顔器１０の動作可能状態と及び停止状態との切り替えを行い、動作可能状態において運転制御スイッチ２６及びコース選択スイッチ２７の組み合わせ操作による各種使用コースの設定に基づいて、スチーム生成部３１（ＰＴＣヒータ３５，３６、スチーム用放電部４３等）と、ミスト生成部３２（ポンプ５４等）との動作を制御し、またイオン生成部３３（イオン放電部６１）を先の各生成部３１，３２の動作と合わせて動作させている。因みに、本実施形態の美顔器１０の各種使用コースには、スチームのみの放出コースと、スチーム・冷ミストの組み合わせ放出コース（所定時間毎のスチーム・冷ミストの交互の放出コース）とがあり、これらの放出と同時にマイナスイオンの放出が行われるようになっている。
【００３２】
ところで、この美顔器１０においては、左右方向に並ぶスチームノズル（温ミストノズル）２１，２２が２つ備えられており、各スチームノズル２１，２２から同時に略同量のスチームが平行に放出されるようになっている。このように対をなすスチームノズル２１，２２に対し、ミストノズル（冷ミストノズル）２３は各スチームノズル２１，２２の並ぶ直線上の中間位置に配置され、イオンノズル２４はミストノズル２３の若干上側（各スチームノズル２１，２２間の中間位置上）に配置されている。そして、ミストノズル２３からの冷ミスト放出時には、イオンノズル２４から放出されるマイナスイオンが推進力の大きい冷ミスト流に乗ってその多くが顔表面等の対象物に到達する。
【００３３】
また、各スチームノズル２１，２２からのスチーム放出時においても、イオンノズル２４からのマイナスイオンが推進力の大きいスチーム流に乗ってその多くが対象物に到達する。このとき、対をなすスチームノズル２１，２２とイオンノズル２４の配置関係から、マイナスイオンの放出方向上では左右の放出スチームの相互作用（重なり）にて生成される合成スチーム流が単体のスチーム流の最大流速よりも大きくなるため、スチーム放出時においては流速の増大した合成スチーム流に乗ってより多くのマイナスイオンが対象物に到達するようになっている。
【００３４】
ここで、図６（ａ）は、各スチームノズル２１，２２とイオンノズル２４との位置関係を放出方向に向いて（背面側から見て）描いた模式的な図であり（便宜上、スチームノズル２１，２２とイオンノズル２４とを横並び一列に図示）、図６（ｂ）は、各スチームノズル２１，２２間の中間位置Ｐ１からイオンノズル２４を左右方向にずらした場合の放出マイナスイオン数を測定したものであり、図６（ｃ）は、スチームの流速分布を示している。
【００３５】
図６（ａ）に示すように、本実施形態ではイオンノズル２４と各スチームノズル２１，２２と距離Ｌ１がそれぞれ等距離に設定され、イオンノズル２４がスチームノズル２１，２２間の中間位置Ｐ１上に配置されており、スチーム放出能力（スチーム生成部３１のスチーム生成能力、スチーム案内管路４１の内径、スチームノズル２１，２２の放出孔径等）や、スチームノズル２１，２２間距離等が好適な設定（図７を用いて後述）とされて、図６（ｃ）に示すように、マイナスイオンの放出方向上では、左右の放出スチームの相互作用（重なり）によって、単体のスチーム流の最大流速よりも大きく且つ流速分布のうちで最大となる合成スチーム流が生成される構成とされている。従って、図６（ｂ）に示すように、各スチームノズル２１，２２間の中間位置Ｐ１に配置したイオンノズル２４からは、より多くのマイナスイオンが流速の増大した推進力の大きい合成スチーム流に乗って対象物に放出されていることがわかる。本実施形態では、真の中間位置Ｐ１にはミストノズル２３が配置され、イオンノズル２４はその若干上側に位置しているが、このような効果が十分得られるものとなっている。
【００３６】
ここで、本実施形態の上記設定について、スチーム放出能力としてスチームノズル２１，２２の各放出孔径が約３．６［ｍｍ］、スチームノズル２１，２２の１個当たりのスチーム放出量が４〜８［ｍｌ／分］に設定され、スチームノズル２１，２２間距離（Ｌ１＋Ｌ１＝２Ｌ１）が７［ｃｍ］に設定されている。
【００３７】
図７に示すように、スチーム放出能力を同能力とした場合のスチームノズル２１，２２間距離を変更してマイナスイオンの放出量を測定してみると、スチームノズル２１，２２間距離を６［ｃｍ］に設定すると、イオンノズル２４の配置される中間位置Ｐ１から遠ざかるほどマイナスイオンの放出量の減少幅が大きいが、その中間位置Ｐ１上ではより多くのマイナスイオンが放出されるため好ましい。
【００３８】
スチームノズル２１，２２間距離を７［ｃｍ］とした本実施形態の設定では、中間位置Ｐ１上で多くのマイナスイオンの放出がなされるとともに、中間位置Ｐ１から遠ざかってもマイナスイオンの放出量の減少幅も小さく、広範囲に亘って安定したイオン放出がなされるためより好ましい。
【００３９】
スチームノズル２１，２２間距離を８［ｃｍ］に設定すると、中間位置Ｐ１から遠ざかるほどマイナスイオンの放出量の減少幅が大きいが、中間位置Ｐ１付近では比較的広範囲に安定してマイナスイオンが放出されるため好ましい。
【００４０】
スチームノズル２１，２２間距離を９［ｃｍ］に設定すると、中間位置Ｐ１から遠ざかるほどマイナスイオンの放出量の減少幅も大きく、中間位置Ｐ１付近においてもマイナスイオンの放出量が全体的に減少し、しかもその中間位置Ｐ１を挟んで二極化して中間位置Ｐ１上が大きく減少する。これは、スチームノズル２１，２２間の離間が大きく、中間位置Ｐ１上での各スチーム流の重なりが小さくなり、合成スチーム流の流速がさほど上がらないためと考えられる。
【００４１】
従って、上記のスチーム放出能力とした本実施形態のような場合、スチームノズル２１，２２間距離を８［ｃｍ］以下とするのが望ましく、その中でも本実施形態ではスチームノズル２１，２２間距離を７［ｃｍ］に設定している。
【００４２】
尚、前記図６（ｂ）にて示されるように、本実施形態の上記設定においては、イオンノズル２４を中間位置Ｐ１から各スチームノズル２１，２２までの距離Ｌ１に対して左右に約４５％の範囲Ｌｘ内でずらしても放出マイナスイオン数の増加が見られた。従って、イオンノズル２４がスチームノズル２１，２２間の中間位置Ｐ１からその範囲を目処に左右にずらして配置しても、上記の効果が得られると言える。
【００４３】
因みに、図６（ｃ）に示すように各スチームノズル２１，２２の放出方向を平行とする態様から、図６（ｄ）に示すように各スチームノズル２１，２２の放出方向がその先で互いに近接するように同角度θ１だけ傾ける態様とすれば、マイナスイオンの放出方向上の合流スチーム流の流速を大きくすることも可能である。
【００４４】
また本実施形態では図４に示すように、上記事項に加えて、イオンノズル２４がミストノズル（冷ミストノズル）２３の上側に位置、即ち該ミストノズル２３と同高さにあるスチームノズル２１，２２に対しても上側に位置している（図１参照）。つまり、スチームは放出方向に加え上方に向かうため、イオンノズル２４から放出されるマイナスイオンをスチームに乗せ易い合理的な配置とされ、対象物へのイオンの到達量の増加に寄与している。
【００４５】
また、イオンノズル２４の開口部２４ｂがミストノズル（冷ミストノズル）２３の開口部２３ａよりも距離Ｌ２だけ後方側に位置、即ち該ミストノズル２３と前後方向にも同位置にあるスチームノズル２１，２２の開口部２１ａ，２２ａよりも後方側に位置させることで（図１参照）、スチームのイオンノズル２４内への浸入の抑制が図られている。また、イオンノズル２４の開口部２４ｂには、該開口部２４ｂ内への水等の浸入を抑制すべく周囲から長さＬ３だけ突出する環状凸部２４ｃが設けられている。これらにより、スチーム及びスチームの結露にて生じる水等のイオンノズル２４内への浸入が抑制され、イオンノズル２４内へのスチームや水等の浸入によるイオン生成の妨げとなることが防止され、またそのスチームや水等によるイオン生成部３３（イオン放電部６１）の破損の誘発が防止されている。
【００４６】
次に、本実施形態の特徴的な作用効果を記載する。
（１）本実施形態では、スチーム（温ミスト）の同時同量放出を行う２つのスチームノズル（温ミストノズル）２１，２２が備えられており、その２つのスチームノズル２１，２２間の中間位置Ｐ１上にイオンノズル２４が配置されている。つまり、対となるスチームノズル２１，２２間では、放出スチームの相互作用（重なり）によって単体のスチーム流の最大流速より大となる流速の合成スチーム流が生成され、その中でも合成スチーム流の流速が最大となる中間位置Ｐ１上にイオンノズル２４が配置されているため、流速が増大した推進力の大きい合成スチーム流にマイナスイオンを乗せて、より多くのマイナスイオンを対象物により確実に到達させることができる。これにより、より高い美容効果を得ることが期待できる。
【００４７】
（２）本実施形態では、イオン生成部３３（イオン放電部６１）における針電極６３周りの空間Ｘ２と美顔器本体１２内の空間Ｘ１とが仕切り部材としても機能する弾性装着部材６６にて仕切られている。これにより、美顔器本体１２内の加熱装置（ヒータ３５，３６）とシリコン素材を使用した部材とで生じる浮遊シリコンや本体１２内部に存在する埃等の異物がその本体１２側から針電極６３周りの空間Ｘ２に侵入することを防止でき、経年劣化の進行を早める針電極６３への異物の付着を未然に防止できるため、イオン放出を長期に亘り良好に行うことができる。
【００４８】
（３）本実施形態では、イオンノズル２４は、ミストノズル（冷ミストノズル）２３の上側に位置、即ち該ミストノズル２３と同高さにあるスチームノズル２１，２２に対しても上側に位置している。これにより、スチームは放出方向に加え上方に向かうため、イオンノズル２４から放出されるマイナスイオンをスチームに乗せ易い合理的な配置とされ、対象物へのイオンの到達量の増加に寄与することができる。
【００４９】
（４）本実施形態では、イオンノズル２４の開口部２４ｂは、ミストノズル（冷ミストノズル）２３の開口部２３ａよりも後方側に位置、即ち該ミストノズル２３の開口部２３ａと前後方向にも同位置にあるスチームノズル２１，２２の開口部２１ａ，２２ａよりも後方側に位置している。そのため、スチームのイオンノズル２４内への浸入が抑制される。これにより、イオンノズル２４内へのスチームの浸入によるイオン生成の妨げとなることを防止でき、またそのスチーム及び結露により生じた水等によるイオン生成部３３（イオン放電部６１）の破損の誘発を防止することができる。
【００５０】
（５）本実施形態では、イオンノズル２４の開口部２４ｂには、該開口部２４ｂ内への液体の浸入を抑制する環状凸部２４ｃが設けられている。そのため、スチームの結露にて生じる水等の周囲からのイオンノズル２４内への浸入が抑制される。このことによっても、イオンノズル２４内へのその水等の浸入によるイオン生成の妨げとなることを防止でき、またその水等によるイオン生成部３３（イオン放電部６１）の破損の誘発を防止することができる。
【００５１】
尚、本発明の実施形態は、以下のように変更してもよい。
・上記実施形態の美顔器１０の構成を適宜変更してもよく、またイオン発生装置（イオン生成部３３）においてプラスイオンを生成する構成としてもよい。また、ヒータ３５，３６にて水（他の液体でも可）を沸騰させスチーム（温ミスト）を生成し、ベンチュリー効果を用いて冷ミストを生成する構成としたが、超音波振動にて液体をミスト化する装置や静電霧化装置を用いてミスト化する装置等を用い、温・冷ミストを生成してもよい。また、温ミストと冷ミストとの両者を放出させる構成としたが、いずれか一方のミストを放出する構成としてもよい。
【００５２】
また、例えば図８（ａ）〜（ｇ）に示すように、温又は冷ミストを放出するミストノズル１０１とイオンを放出するイオンノズル１０２それぞれの数や相互の位置関係を適宜変更してもよい。
【００５３】
図８（ａ）では、左右方向に並ぶ２つのミストノズル１０１間の中間位置から若干上側と下側にずらした位置にそれぞれイオンノズル１０２が配置される構成である。
図８（ｂ）では、左右方向に並ぶ２つのミストノズル１０１間の中間位置から若干左側と右側にずらした位置にそれぞれイオンノズル１０２が配置される構成である。
【００５４】
図８（ｃ）では、左右方向に２つが並び残りの１つが上側となるように正三角形の頂点位置にそれぞれミストノズル１０１が配置され、その三角形の中心位置（隣り合う２つのミストノズル１０１間の中間位置上の交点）に１つのイオンノズル１０２が配置される構成である。
【００５５】
図８（ｄ）では、図８（ｃ）の態様と同様に正三角形の頂点位置にそれぞれミストノズル１０１が配置され、隣り合う２つのミストノズル１０１間の中間位置のそれぞれにイオンノズル１０２が配置される構成である。
【００５６】
図８（ｅ）では、左右方向に並ぶ２つのミストノズル１０１間の中間位置に１つのイオンノズル１０２が配置される構成である。つまり、上記実施形態において、冷ミストを放出するミストノズル２３の位置にイオンノズル２４を配置する構成である。
【００５７】
図８（ｆ）では、左右方向に並ぶ２つのミストノズル１０１間の中間位置から若干上側にずらした位置に１つのイオンノズル１０２が配置される構成である。つまり、上記実施形態と略同様で、冷ミストを放出するミストノズル２３を省略した構成である。
【００５８】
図８（ｇ）では、左右方向に並ぶ２つのミストノズル１０１間の中間位置から若干下側にずらした位置に１つのイオンノズル１０２が配置される構成である。
これら図８（ａ）〜（ｇ）の各構成においても上記実施形態と同様に、複数のミストノズル１０１から放出されるミストの合成ミスト流に乗って、１つ又は複数のイオンノズル１０２から放出されるイオンが対象物に向けてより多く放出される。尚、上記に限定されず、これ以外でミストノズルとイオンノズルそれぞれの数や相互の位置関係を適宜変更してもよい。
【００５９】
また、図９（ａ）（ｂ）に示すように、２つのミストノズル１０１間に配置されるイオンノズル１０２の開口部の両側（各ミストノズル１０１との間）にそれぞれ凸部１０３を設け、図９（ａ）のように各凸部１０３の先端側が互いに近接するように傾ける凸部１０３として、また図９（ｂ）のように各凸部１０３の先端側が互いに離間するように傾ける凸部１０３として設けてもよい。
【００６０】
・上記実施形態では、イオン発生装置（イオン生成部３３）及びミスト発生装置（スチーム生成部３１、（冷）ミスト生成部３２）を搭載した美顔器１０に適用したが、空気清浄機等の他の美容装置に適用してもよい。
【符号の説明】
【００６１】
１０…美顔器（美容装置）、１２…美顔器本体（美容装置本体）、２１，２２…スチームノズル（（温）ミストノズル）、２１ａ，２２ａ…開口部、２４…イオンノズル、２４ｂ…開口部、２４ｃ…環状凸部（凸部）、３１…スチーム生成部（ミスト発生装置）、３３…イオン生成部（イオン発生装置）、６３…針電極（放電極）、１０１…ミストノズル、１０２…イオンノズル、１０３…凸部、Ｐ１…中間位置、Ｘ１，Ｘ２…空間。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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