(57)【要約】【課題】ローラ外周面に付着した塗布液を掻き取るスクレーパがローラの長手方向に亘って自律的に接触することができる予備塗布装置及び、それを備える塗布装置を提供する。【解決手段】予備塗布装置は、ローラの外周面にスクレーパを当接させることによりローラの外周面に付着した塗布液を掻き取るローラ表面掻取装置を備えており、このローラ表面掻取装置が、スクレーパがローラの軸方向に沿ってローラの外周面に当接するようにスクレーパの姿勢変化を許容するスクレーパ姿勢自律調整手段を有する構成とする。【選択図】図４
2010155226.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
塗布ユニットのスリットノズルから吐出される塗布液を付着させるローラを備え、このローラの外周面に前記スリットノズルから塗布液を吐出させた状態で前記ローラを軸心回りに回転させることにより、塗布ユニットを初期化する予備塗布装置であって、
前記ローラの外周面にスクレーパを当接させることにより前記ローラの外周面に付着した塗布液を掻き取るローラ表面掻取装置を備えており、このローラ表面掻取装置は、スクレーパがローラの軸方向に沿ってローラの外周面に当接するようにスクレーパの姿勢変化を許容するスクレーパ姿勢自律調整手段を有していることを特徴とする予備塗布装置
【請求項２】
前記スクレーパ姿勢自律調整手段は、前記ローラ表面掻取装置がスクレーパを取付けるスクレーパホルダを有しており、このスクレーパホルダが前記ローラの軸方向と平行な軸周りに回動可能に設けられていることにより、スクレーパの姿勢がローラの軸方向と平行な軸周りに自律調整されることを特徴とする請求項１に記載の予備塗布装置。
【請求項３】
前記スクレーパ姿勢自律調整手段は、前記ローラ表面掻取装置がスクレーパを取付けるスクレーパホルダを有しており、前記スクレーパは、その長手方向中心位置において前記ローラの軸方向と直交する軸周りに回動可能に取付けられていることにより、スクレーパの姿勢がローラの軸方向と直交する軸周りに自律調整されることを特徴とする請求項１又は２に記載の予備塗布装置。
【請求項４】
前記ローラ表面掻取装置は、スクレーパをローラの外周面に押圧させる付勢手段を有していることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の予備塗布装置。
【請求項５】
前記請求項１〜４のいずれかに記載の予備塗布装置と、基板を載置するステージと、このステージに載置された基板に対して相対的に移動しつつ塗布液を吐出する塗布ユニットと、を備えることを特徴とする塗布装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板上に塗布膜を形成する塗布ユニットを初期化する予備塗布装置及び、その予備塗布装置を備える塗布装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶や有機ＥＬなどのパネル製造工程の中で基板表面にレジスト等の塗布液を塗布し薄膜を基板上に形成する過程において、基板サイズが１ｍ角を越えるいわゆる第５世代（Ｇ５）以上の基板の場合はスリットノズル方式の塗布装置により塗布が行われている。これらパネルの製造は連続体ではないカットシート状の基板を使用しているため、塗布はシート毎の間欠動作になっている。そのため、スリットノズルは新たな基板に対し塗布を行う毎に、口金先端部（吐出部）の初期化を行い、新たな塗布液ビードを基板に形成する必要がある。
【０００３】
この初期化方法としては、口金先端部を高分子材料、たとえばシリコンゴムで成型した弾性体ブレードで拭取り、口金清掃と空気に一定時間触れた塗り残し液の除去を行うブレード方式と、ローラなどの表面に塗布を行い、余分な塗布液を除去する予備塗布方式に大別できる。ブレード方式は装置を小型化でき、同時に口金洗浄を行えるという利点があるが、予備塗布方式にも実際の塗布に近い状態で塗布液を吐出できるという利点がある。両方式ともに、以前から開発が行われており、予備塗布方式については、たとえば下記のような技術が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００１−３１０１４７号公報
【特許文献２】特開２００４−１６７４７６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、予備塗布装置は継続的に使用するものであるから、その塗布表面は基板と同じく清浄に保つ必要があるが、これらの先行技術にはそれぞれ問題がある。すなわち特開２００１−３１０１４７に開示されている予備塗布装置においては、ローラの清掃は溶剤による洗浄のみであり、物理的清掃を伴わないので洗浄後の残存液を完全に除去できずローラを清浄に保てない可能性が高い。一方、特開２００４−１６７４７６において開示されている予備塗布装置は、現在製造ラインで実用に供されている装置の基本構成であり、溶剤による洗浄とスクレーパによる掻取を併用しており、より洗浄性の高い構成となっている。
【０００６】
ところで、近年パネル製造効率化のため基板サイズを拡大する傾向が続いており、基板サイズ拡大によりスリットノズルで塗布すべき塗布巾が拡大している。その結果長尺化したローラ及びスクレーパの真直度の維持が困難になり、加えて長尺スクレーパにおいては先端部うねりが生じ易くなっている。これに対し、スクレーパがローラに対し固定的に取り付けられていると、ローラの長手方向に渡り接触状態を最良に保つべく調整を行うことは非常な困難があり、仮に調整が出来たとしても多大な時間を要することになる。さらに、スクレーパはローラに対して接触しているのであるから、その掻取用エッジが磨耗することは避けられず、必然的に定期交換を必要とする部材となる。この場合においても、固定的取り付けでは交換の度に前記の煩雑な調整が必要であり、停機時間が限られている製造ラインにおいて運用上極めて深刻な問題となっている。
【０００７】
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、スクレーパがローラの長手方向に亘って自律的に接触することができる予備塗布装置及び、それを備える塗布装置を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するために本発明の予備塗布装置は、塗布ユニットのスリットノズルから吐出される塗布液を付着させるローラを備え、このローラの外周面に前記スリットノズルから塗布液を吐出させた状態で前記ローラを軸心回りに回転させることにより、塗布ユニットを初期化する予備塗布装置であって、前記ローラの外周面にスクレーパを当接させることにより前記ローラの外周面に付着した塗布液を掻き取るローラ表面掻取装置を備えており、このローラ表面掻取装置は、スクレーパがローラの軸方向に沿ってローラの外周面に当接するようにスクレーパの姿勢変化を許容するスクレーパ姿勢自律調整手段を有していることを特徴としている。
【０００９】
上記予備塗布装置によれば、スクレーパがローラに対して姿勢変化を許容するスクレーパ姿勢自律調整手段が設けられているため、スクレーパをローラ表面掻取装置に取付けた状態であっても、そのスクレーパの姿勢を自律的に変化させることができ、スクレーパがローラに対して所定の自由度を持って接触することができる。したがって、スクレーパがローラに対して固定されている従来に比べて、スクレーパやローラ自体の真直度に影響されずスクレーパをその長手方向に亘ってローラに接触させることができる。
【００１０】
具体的には、前記スクレーパ姿勢自律調整手段は、前記ローラ表面掻取装置がスクレーパを取付けるスクレーパホルダを有しており、このスクレーパホルダが前記ローラの軸方向と平行な軸周りに回動可能に設けられていることにより、スクレーパの姿勢がローラの軸方向と平行な軸周りに自律調整される構成とすることができる。
【００１１】
この構成によれば、スクレーパの姿勢をローラの軸方向と平行な軸周りに自律的に変化させることができるため、スクレーパのエッジを長手方向に亘って所定の自由度を持ってローラに接触させることができる。したがって、ローラの真直度不足、触れ、円筒度の不足が生じた場合であっても、その自由度で吸収し良好な掻き取りを実現することができる。
【００１２】
また、前記スクレーパ姿勢自律調整手段は、前記ローラ表面掻取装置がスクレーパを取付けるスクレーパホルダを有しており、前記スクレーパは、その長手方向中心位置において前記ローラの軸方向と直交する軸周りに回動可能に取付けられていることにより、スクレーパの姿勢がローラの軸方向と直交する軸周りに自律調整される構成とすることができる。
【００１３】
この構成によれば、スクレーパの姿勢をローラの軸方向と直交する軸周りに自律的に変化させることができるため、スクレーパのエッジを長手方向に亘って所定の自由度を持ってローラに接触させることができる。これにより、ローラの軸方向とスクレーパの延びる方向とがミスアライメントなどにより、平行度が崩れた場合であっても、その自由度で吸収し良好な掻き取りを実現することができる。
【００１４】
また、前記ローラ表面掻取装置は、スクレーパをローラの外周面に押圧させる付勢手段を有している構成が好ましい。
【００１５】
この構成によれば、付勢手段によりスクレーパがローラの外周面に押圧されるため、スクレーパのエッジを長手方向に亘ってローラに接触させることができる。
【００１６】
また、上記課題を解決するために本発明の塗布装置は、上記のいずれかの形態の予備塗布装置と、基板を載置するステージと、このステージに載置された基板に対して相対的に移動しつつ塗布液を吐出する塗布ユニットとを備えることを特徴としている。
【００１７】
上記塗布装置によれば、予備塗布装置により塗布ユニットの初期化を安定して行うことができるため、塗布ムラの発生した不良基板が生産されるのを抑えることができる。
【発明の効果】
【００１８】
本発明の予備塗布装置及びそれを備える塗布装置によれば、スクレーパがローラの長手方向に亘って自律的に接触することができ、これにより、塗布ユニットの初期化を安定して行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明の実施形態に係る塗布装置を概略的に示す正面図である。
【図２】上記塗布装置における塗布ユニットの脚部付近を示す概略図である。
【図３】本発明の実施形態に係る予備塗布装置を概略的に示す図である。
【図４】ローラ表面掻取装置を示す概略図であり、（ａ）は正面図、（ｂ）は斜視図、（ｃ）は側面図である。
【図５】ローラ表面に対しスクレーパの接触状態を概略的に示す図であり、（ａ）はローラ外周面に対しエッジが立っている状態を示す図であり、（ｂ）はエッジが接触点の接線と一致した状態であり、（ｃ）はエッジが接触点から離れ、腹当り状態を示す図である。
【図６】スクレーパの他の実施形態を示す概略図である。
【図７】ローラ表面掻取装置の他の実施形態を示す概略図である。
【図８】塗布装置の動作を示すフローチャートである。
【図９】予備塗布装置の動作を示すフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
本発明に係る実施の形態を図面を用いて説明する。具体的には、予備塗布装置及びそれを用いた塗布装置について説明する。
【００２１】
図１は、本発明の一実施形態における塗布装置１を概略的に示す図であり、図２は塗布ユニット３０の要部を概略的に示す図である。
【００２２】
図１、図２に示すように、塗布装置１は、基板１０上に薬液やレジスト液等の塗布液を塗布して塗布膜を形成するものであり、基台２０と、基板１０を載置するためのステージ２１と、このステージ２１に対し特定方向に移動可能に構成される塗布ユニット３０とを備えており、さらにこの塗布ユニット３０を初期化する予備塗布装置２（図１において左側）を備えている。
【００２３】
なお、以下の説明では、塗布ユニット３０が移動する方向をＸ軸方向、これと水平面上で直交する方向をＹ軸方向、Ｘ軸およびＹ軸方向の双方に直交する方向をＺ軸方向として説明を進めることとする。
【００２４】
前記ステージ２１は、搬入された基板１０をその表面に載置して保持するものである。このステージ２１には、その表面に開口する複数の吸引孔（不図示）が形成されており、これらの吸引孔と真空ポンプ（不図示）とが連通して接続されている。そして、ステージ２１の表面に基板１０が載置された状態で真空ポンプを作動させると、吸引孔に吸引力が発生し基板１０がステージ２１の表面に吸引されて基板１０を吸着保持できるようになっている。また、ステージ２１には、基板１０を昇降動作させる基板昇降機構が設けられている。すなわち、ステージ２１の表面には複数のピン孔（不図示）が形成されており、このピン孔にはＺ軸方向に昇降動作可能なリフトピン（不図示）が埋設されている。そして、ステージ２１の表面に基板１０を載置した状態でリフトピンを上昇させることにより、リフトピンの先端部分が基板１０に当接し、複数のリフトピンの先端部分で基板１０を所定の高さ位置に保持できるようになっている。これにより、基板１０との接触部分を極力抑えて保持することができ、基板１０を損傷させることなくスムーズに交換できるようになっている。
【００２５】
また、塗布ユニット３０は、基板１０上に塗布液を塗布するものである。この塗布ユニット３０は、基台２０に取付けられた脚部３１（図２参照）とＹ軸方向に延びる口金部３４とを有しており、基台２０上をＹ軸方向に跨いだ状態でＸ軸方向に移動可能に取り付けられている。具体的には、基台２０のＹ軸方向両端部分にはそれぞれＸ軸方向に延びるレール２２が設置されており、脚部３１がこのレール２２にスライド自在に取り付けられている。そして、脚部３１にはリニアモータ３３の可動子が取り付けられており、リニアモータ３３を駆動制御することにより、塗布ユニット３０がＸ軸方向に移動し、任意の位置で停止できるようになっている。
【００２６】
本実施形態では、予備塗布を行う予備塗布位置、本塗布を行う本塗布開始位置に移動し、それぞれの位置で精度よく停止できるようになっている。ここで、予備塗布位置とは、塗布ユニット３０を初期化するために予備塗布を行う位置であり、後述する塗布ユニット３０のスリットノズル３４ａの位置が、ローラ４の軸心位置とＸ軸方向において一致する位置（図１における位置Ａ）である。また、本塗布位置とは、Ｘ軸方向において基板１０上に塗布を開始する位置（図１における位置Ｂ）のことである。
【００２７】
塗布ユニット３０の脚部３１には、図２に示すように、塗布液を塗布する口金部３４が取り付けられている。具体的には、この脚部３１にはＺ軸方向に延びるレール３７と、このレール３７に沿ってスライドするスライダ３５が設けられており、これらのスライダ３５と口金部３４とが連結されている。そして、スライダ３５にはサーボモータ（不図示）により駆動されるボールねじ機構が取り付けられており、このサーボモータを駆動制御することにより、スライダ３５がＺ軸方向に移動するとともに、任意の位置で停止できるようになっている。すなわち、口金部３４が、ステージ２１に保持された基板１０に対して接離可能に支持されている。
【００２８】
口金部３４は、塗布液を塗布して基板１０上に塗布膜を形成するものである。この口金部３４は、一方向に延びる形状を有する柱状部材であり、塗布ユニット３０の走行方向（Ｘ軸方向）とほぼ直交するように設けられている。この口金部３４には、長手方向に延びるスリットノズル３４ａが形成されており、口金部３４に供給された塗布液がスリットノズル３４ａから長手方向に亘って一様に吐出されるようになっている。したがって、このスリットノズル３４ａから塗布液を吐出させた状態で塗布ユニット３０をＸ軸方向に走行させることにより、スリットノズル３４ａの長手方向に亘って基板１０上に一定厚さの塗布膜が形成されるようになっている。
【００２９】
塗布装置１のＸ軸方向端部（図１の左側）には予備塗布装置２が設けられている。この予備塗布装置２は、塗布ユニット３０を初期化するものであり、一軸方向に延びる円筒形状のローラ４とこのローラ４を洗浄するローラ洗浄機５とを備えている。ここで、図３は、予備塗布装置２を概略的に示す図である。
【００３０】
ローラ４は、円筒形状を有しており、その外周面４１の長手方向寸法がスリットノズル３４ａの長手方向寸法より大きい寸法に形成されている。そして、このローラ４は、洗浄液の廃液を受けるケース部２４内に配置されており、塗布ユニット３０の進行方向（Ｘ軸方向）に対して直交する方向（Ｙ軸方向）に延びるように配置されている。また、ケース部２４には後述する開口部２６ａが形成されており、その開口部２６ａからローラ外周面４１の一部がその長手方向に亘って臨めるようになっている。したがって、塗布ユニット３０が予備塗布位置（位置Ａ）で停止すると、塗布ユニット３０のスリットノズル３４ａの長手方向とローラ外周面４１の長手方向とが互いに一致してスリットノズル３４ａとローラ外周面４１とが互いに対向するようになっている。
【００３１】
また、ローラ４は軸心回りに回転可能に設けられている。具体的には、ローラ４には図示しないモータが接続されており、このモータを駆動させることによりローラ４が軸心回り（図３の矢印方向）に回転できるようになっている。これにより、塗布ユニット３０から吐出された塗布液をローラ外周面４１に付着させ、この状態でローラ４を回転させると、外周面４１に付着した塗布液がローラ４の回転に従って引き込まれることにより、スリットノズル３４ａの長手方向に亘って所定量の塗布液が除去されて塗布ユニット３０が初期化されるようになっている。
【００３２】
また、ケース部２４は、ローラ４で除去された塗布液や洗浄液の廃液を受けるものであり、ローラ４等を収容するケース部本体２５とこのケース部本体２５を上方から覆う天壁部２６とを有している。このケース部２４は、基台２０のＸ軸方向端部側（図１において左側）に配置されており、その上端の一部が基台２０から突出するように埋設されている。
【００３３】
ケース部本体２５には、Ｘ軸方向ほぼ中央部分にローラ４が取付けられており、このローラ４を洗浄するローラ洗浄機５が設けられている。そして、ケース部本体２５の底部には、排出口２５ａが設けられており、この排出口２５ａと廃液回収装置とが配管で連結されている。これにより、ケース部本体２５内の廃液がこの排出口２５ａを通じて廃液回収装置に排出されるようになっている。また、ケース部本体２５の側面部には、ガス吸引口２５ｂが設けられている。これにより、後述のガスノズル７０からローラ４に対して供給されたガスが吸引され、このガス吸引口２５ｂを通じてガス吸引口２５ｂと接続されるガス回収装置に回収されるようになっている。
【００３４】
天壁部２６には、上述のようにローラ４の一部を露出させる開口部２６ａが形成されている。具体的には、ローラ外周面４１の形状に合わせて形成されており、ほぼ長方形に開口して形成されている。この開口部２６ａからは図３に示すようにローラ外周面４１の一部が天壁部２６よりも上方に露出するようになっている。これにより、塗布ユニット３０のスリットノズル３４ａ位置が予備塗布位置（位置Ａ）に位置した状態でスリットノズル３４ａから塗布液を吐出することにより、ローラ外周面４１に塗布液を付着させることができるようになっている。
【００３５】
また、開口部２６ａには、ゴム等の弾性部材で形成されたシール部材２６ｂがローラ外周面４１の長手方向に亘って取付けられている。すなわち、この開口部２６ａのシール部材２６ｂはローラ外周面４１に極力接近する位置まで延伸した状態で取付けられており、ケース部２４内に塵埃等が侵入するのを抑えることができるようになっている。
【００３６】
また、ローラ洗浄機５は、洗浄液供給器５０、ローラ表面掻取装置６０、ガスノズル７０を有しており、ローラ外周面４１付近にローラ４の回転方向に沿ってこの順に取付けられている。
【００３７】
この洗浄液供給器５０は、ローラ外周面４１に洗浄液を供給するものであり、洗浄液貯留部５１と洗浄液吐出部５２とを有している（図４ａ参照）。この洗浄液貯留部５１は、ローラ４の軸心方向寸法よりも大きい寸法の長尺円筒状に形成されており、その内部には、ローラ外周面４１に付着した塗布液を軟化させる洗浄液が貯留できるようになっている。そして、ケース部２４内ではローラ４の軸心方向と洗浄液貯留部５１の延びる方向とが平行となるように設置されており、洗浄液貯留部５１とローラ外周面４１とが長手方向に亘って対向する状態で設置されている。
【００３８】
また、洗浄液貯留部５１には、ローラ外周面４１と対向する側に洗浄液を吐出する洗浄液吐出部５２が形成されている。この洗浄液吐出部５２は、複数の小穴が長手方向に所定間隔で配列されて形成されており、洗浄液貯留部５１に貯留された洗浄液が、この洗浄液吐出部５２を通じてローラ外周面４１に吐出されるようになっている。これにより、洗浄液貯留部５１内の洗浄液が加圧されると、複数の洗浄液吐出部５２から洗浄液が吐出され、洗浄液貯留部５１と対向するローラ外周面４１の長手方向に亘って洗浄液が一様に塗布されるようになっている。
【００３９】
また、ローラ表面掻取装置６０は、ローラ外周面４１上に付着した塗布液を掻き取るものである。図４ａ〜図４ｃに示すように、このローラ表面掻取装置６０は主要な構成要素として、スクレーパ６１、スクレーパホルダー６２より構成されており、このスクレーパホルダー６２には、錘６３が取付けられている。詳細に記述すると、スクレーパホルダ６２はケース部２４に対し、ホルダ取付軸部６４により回動自在に取り付けられている。ホルダ取付軸部６４はケース部２４内部両側面に各１個取り付けられ、スクレーパホルダ６２の長手方向とローラ４の長手方向とがほぼ平行をなすように取付けられている。すなわち、それぞれのホルダ取付軸部６４の中心を結ぶ仮想中心軸１６４はローラ４の中心軸と概略平行になるように構成されている。そして、スクレーパホルダ６２は、仮想中心軸１６４回りに所定の自由度で回動することにより、スクレーパ６１がローラ４に対して接離自在に構成されている。これにより、スクレーパ６１の姿勢がローラ４の中心軸方向と平行な軸周りに所定の自由度で変化することができる。したがって、スクレーパ６１の姿勢がローラ４の中心軸方向と平行な軸周りに回動し、スクレーパ６１とローラ外周面４１との間に長手方向に亘って隙間が形成されるのを抑制するように、スクレーパ６１がその長手方向に亘ってローラ外周面４１に自律的に当接することができる。
【００４０】
スクレーパ６１はスクレーパ本体１６１とサポート部材１６２から構成されている。スクレーパ本体１６１は、ローラ外周面４１と接触する端部にエッジ６１ａが形成されており、このエッジ６１ａによりローラ外周面４１に残る塗布液と洗浄液及びその混合液を掻き取るものである。また、スクレーパ本体１６１は弾性を有する部材であることが好ましい。これは、ロール４およびスクレーパ本体１６１のエッジ６１ａには形状誤差が避けられないため、スクレーパ本体１６１の弾性によりこの誤差を吸収し、エッジ６１ａを確実にローラ外周面４１のエッジ６１ａ接触全長に亘り接触させる必要があるためである。そのため、スクレーパ本体１６１の材質は弾性を有する高分子材料であって、とりわけ溶剤に対し耐性を有する材料が好ましい。ただし、金属薄板材料またはフィルム材料などで端面にエッジ６１ａを有し、材質が弾性を有するものも同様に利用可能である。
【００４１】
スクレーパ本体１６１はサポート部材１６２に固定されている。固定方法としては、接着剤によるものまたは溶接あるいは溶着など各種方法が利用可能である。さらには、図６に示す様に２枚のサポート部材１６２ａおよび１６２ｂにより挟み込んで固定することも出来る。また、サポート部材１６２は、その長手方向中心位置に開孔部が形成されており、この開口部と、スクレーパホルダ６２の長手方向中心位置に形成された孔部とを一致させた状態で、軸部材６５を嵌め込むことにより、スクレーパ６１が軸部材６５回りに回動自在となるように構成されている。これにより、スクレーパ６１が軸部材６５周りに所定の自由度で回動することができ、スクレーパ６１のエッジ６１ａの長手方向がローラ４の中心軸に対して所定の角度を有する状態でスクレーパ６１が取付けられた場合であっても、スクレーパ６１が軸部材６５周りに回動することにより、スクレーパ６１のエッジ６１ａが長手方向に亘ってローラ外周面４１に自律的に当接されるようになっている。
【００４２】
また、錘６３は、本発明の付勢手段であり、図４ａに示す様に、ローラ表面掻取装置６０のスクレーパ６１がローラ外周面４１に付勢するようにスクレーパホルダ６２に取付けられている。本実施形態では、図４ａ、図４ｂに示すように、ホルダ取付軸部６４よりもローラ４側の下方位置に取付けられている。これにより、スクレーパホルダ６２にホルダ取付軸部６４を中心とする重力モーメントが作用し、スクレーパ６１はローラ外周面４１側に付勢されてスクレーパ６１がローラ外周面４１に押圧されるようになっている。したがって、スクレーパ６１は、ホルダ取付軸部６４の周りに所定の自由度で回動することにより、スクレーパ６１のエッジ６１ａとローラ外周面４１との間に隙間が形成されるのを抑制するように、スクレーパ６１のエッジ６１ａが長手方向に亘ってローラ外周面４１に自律的に当接されるようになっている。
【００４３】
この錘６３は、矩形に成型されたシート状金属材料を重ね合わせたものであり、本実施形態では、中心と両サイドの３箇所に分かれて設置されている。また、ローラ表面掻取装置６０をローラ外周面４１に付勢する手段としては、図７に示すようにバネを用いることも可能である。図７の例においては、バネは長手方向の両端部に各１個の引っ張りバネ６６を使用し、一端をスクレーパホルダ６２に、他端を調節ねじ６７に取り付けることによりローラ表面掻取装置６０をローラ外周面４１に付勢する方向にバネ力が作用する様に配置されている。左右の荷重バランスは図７に示すように引っ張りバネ６６の固定長を調節ねじ６７を回転し繰り出し長を調節することにより可能である。実施例以外に同様の効果を有する調整機構は全て同様のものと見なすことが出来る。また、荷重に細かい調整が不要な場合は、バネの引っ掛け位置を変更することにより荷重を変更することが可能である。これらの方法により、各設置位置のスクレーパ６１に掛かる荷重の調整および長手方向のバランス調整を可能にしている。さらに、スクレーパホルダ６２、錘６３、ホルダ取付軸部６４、軸部材６５、引っ張りバネ６６、サポート部材１６２は溶剤等に対して耐食性のある金属材料、たとえばステンレス材で構成することが好ましい。ただし、使用する溶剤に応じて金属表面にメッキ等の表面処理を施したものも使用することは可能である。
【００４４】
次に、本発明に係るローラ表面掻取装置６０の動作につき詳細説明する。
【００４５】
ローラ表面掻取装置６０は仮想中心軸１６４まわりに回動自在の構成されていて、錘６３はローラ表面掻取装置６０をローラ外周面４１に付勢するように作用するのであるから、自由状態でスクレーパ６１のエッジ６１ａがローラ外周面４１に接触する。ここで、仮想中心軸１６４が機械工作/組立精度の限界によりローラ４の中心軸と平行が取れていない場合、仮にスクレーパ６１がスクレーパホルダ６２に固定されいればエッジ６１ａは片当り状態になる。本発明ではスクレーパ６１は軸部材６５回りに回動自在に構成されているので、ローラ外周面４１に対し付勢された状態では、スクレーパ６１は片当りしても軸部材６５回りに容易に回動しローラ外周面４１に対し均一に接触することになる。
【００４６】
次にローラ外周面４１に対するスクレーパ６１のエッジ６１ａの接触状態であるが、基本的にスクレーパ６１に掛かる錘６３の荷重に応じて図５ａ〜図５ｃに様に３つの場合が考えられる。図５ａは荷重が比較的少ない状態で、ローラ外周面４１に対しエッジ６１ａが立っている状態である。図５ｂはさらに荷重を増やした状態で、エッジ６１ａが接触点の接線と一致した状態である。図５ｃはさらに荷重を増やし、エッジ６１ａが接触点から離れ、いわゆる腹当り状態となったものである。一般的に、スクレーパによる掻取は図５ａから図５ｂの状態で行われることが好ましい。図５ｃの状態では、被掻取物がスクレーパにもぐりこんでしまい、掻取不良になる。スクレーパの好ましい接触状態を実現する錘６３の設定はスクレーパ本体１６１の材料に依存しているので、選択したスクレーパ本体１６１の材料に応じて設定することが好ましい。
【００４７】
また、本実施形態では、上述のローラ表面掻取装置６０がローラ４の回転方向に沿って１カ所設けられている。仮に洗浄性が悪く１回の掻取で塗布液が除去されない可能性が有る場合、接触位置が異なる下流側にさらの別のローラ表面掻取装置（図示せず）を設けることより、残留した塗布液が掻き取られるように構成することも可能である。これにより、ローラ外周面４１に付着した塗布液がローラ外周面４１に残留するのを抑制できるようになっている。
【００４８】
ローラ４とスクレーパ６１は機械的に接触しているのであるから、塗布液および溶剤が潤滑材の役割を果たすとはいえ時間の経過とともにどちらかまたは双方が磨耗する。ローラ４は装置に組み込まれ、交換が困難な為、通常はローラ外周面４１を例えば超硬合金の様な高硬度材料で被覆し磨耗を防止する構造となっている。従ってスクレーパ６１が磨耗することにより定期交換でその機能を維持することになる。実施例ではスクレーパ６１は軸部材６５を外すことにより容易に交換できる。交換後のローラ外周面４１への接触調整は上記機構により不要である。
【００４９】
ガスノズル７０は、ローラ外周面４１にガスを噴出することにより、ローラ外周面４１に残存している洗浄液を除去・乾燥させるものである。本実施形態では、ガスノズル７０がローラ外周面４１に向かって延びており、このガスノズル７０から窒素ガスが噴出される。そして、洗浄液供給器５０により洗浄液が塗布され、ローラ表面掻取装置６０により塗布液や洗浄液が掻き取られた後、ローラ外周面４１に窒素ガスが吹き付けられることにより、ローラ外周面４１が乾燥されるようになっている。なお、本実施形態では窒素ガスを噴出させるように構成されているが、ＣＤＡ（クリーンドライエア）等も使用することができる。
【００５０】
次に、この予備塗布装置２を含む塗布装置１の動作について、図８、図９に示すフローチャートを参照しながら説明する。
【００５１】
まず、基板１０上に塗布液を塗布する本塗布工程を行う前に予備塗布工程、すなわち、塗布ユニット３０の初期化が行われる（ステップＳ１）。この予備塗布工程は、図９に示すフローチャートのステップＳ１１〜Ｓ１４に従って行われる。まず、塗布ユニット３０の位置決め（予備塗布時）が行われる（ステップＳ１１）。具体的には、リニアモータを駆動させることにより塗布ユニット３０を移動させ、塗布ユニット３０が予備塗布位置（位置Ａ）に位置させたところで停止させる。そして、サーボモータを駆動させることにより口金部３４を下降させ、口金部３４のスリットノズル３４ａとローラ外周面４１との距離が所定値になる位置で停止させる。
【００５２】
次に、予備塗布装置２を稼働させる（ステップＳ１２）。すなわち、洗浄液供給器５０から洗浄液を吐出させるとともに、ガスノズル７０から窒素ガスを噴出させた状態で、ローラ４を回転させる。具体的には、洗浄液貯留部５１の洗浄液吐出部５２から洗浄液が吐出されることにより、ローラ外周面４１の長手方向に亘って一様に洗浄液が塗布される。これにより、回転するローラ４のローラ外周面４１全体が洗浄され、予備塗布を行える状態になる。
【００５３】
次に、予備塗布が行われる（ステップＳ１３）。すなわち、塗布ユニット３０から所定量の塗布液を回転しているローラ外周面４１に吐出させる。これにより、塗布ユニット３０のスリットノズル３４ａとローラ外周面４１とが塗布液で連結された状態となるとともに、この状態からローラ４が回転していることにより、ローラ外周面４１に一定厚さの塗布膜をローラ４の回転方向に亘って形成される。そして、所定量の塗布液を吐出した後、口金部３４を上昇させる。これにより、スリットノズル３４ａとローラ４との間に形成された塗布膜が断ち切られ、塗布ユニット３０の初期化が完了する。
【００５４】
また、ローラ外周面４１に付着した塗布液は、ローラ洗浄機５によって洗浄される。具体的には、塗布液が付着しているローラ外周面４１に洗浄液供給機５０からの洗浄液が塗布されることにより、塗布液が軟化し剥がれやすい状態となる。そして、まず、ローラ表面掻取装置６０のスクレーパ６１によりローラ外周面４１に付着した塗布液が掻き取られる。その後、ガスノズル７０から噴出されるガスにより乾燥処理が行われ、清掃されたローラ外周面４１が形成される。その後、予備塗布装置は停止する（ステップＳ１４）。
【００５５】
また、この塗布ユニット３０の初期化と同時に、ステップＳ２において基板１０の搬入が行われる。具体的には、ステージ２１の表面から複数のリフトピンが突出した状態で待機されており、図示しないロボットハンドにより、リフトピンの先端部分に基板１０が載置される。そして、リフトピンの先端部分に基板１０が載置された状態から、リフトピンを下降させて、基板１０をステージ２１の表面に載置される。
【００５６】
次に、ステップＳ３により、基板１０がステージ２１上に保持される。具体的には、真空ポンプを駆動させることにより、吸引孔に急速に吸引力を発生させる。すなわち、吸引孔内の大気が真空ポンプにより急速に吸引されることにより、吸引孔に吸引力が発生し、瞬時に基板１０がステージ２１上に吸着されて保持される。
【００５７】
次に、ステップＳ４により、塗布ユニット３０が本塗布位置に位置決めされる。具体的には、ステップＳ１３による予備塗布が完了した後、リニアモータを駆動させることにより塗布ユニット３０を本塗布位置（位置Ｂ）まで移動させる。そして、サーボモータを駆動させることにより口金部３４を下降させ、口金部３４のスリットノズル３４ａと基板１０表面との距離が所定値になる位置で停止させる。
【００５８】
次に、ステップＳ５において、塗布動作が行われる。すなわち、塗布ユニット３０を特定の方向（Ｘ軸方向）に走行させつつ、塗布液を吐出させることにより、基板１０の表面に塗布膜を形成させる。
【００５９】
次に、ステップＳ６において、基板１０の取出しが行われる。すなわち、Ｓ５における塗布動作により基板１０表面に塗布膜が形成された後、真空ポンプを停止させて、吸引孔における圧力を大気圧に戻す。そして、リフトピンを上昇させることにより、リフトピンの先端部分で基板１０を保持させ、図示しないロボットハンドに基板１０の受け渡しが行われ、ステージ２１の表面から基板１０が排出される。
【００６０】
このような予備塗布装置２及びこれを備えた塗布装置１によれば、スクレーパ６１がその全長に渡り最適な状態でローラ外周面４１に接触しているため、ローラ外周面４１に付着した塗布液を安定して除去することができ、塗布ユニットの初期化を安定して行うことができる。
【００６１】
また、上記実施形態では、ローラ表面掻取装置が単数である場合について説明したが、複数のローラ表面掻取装置を使用した場合については、互いに異なる材質のスクレーパを用いたものであってもよい。異なる材質を用いることにより、それぞれのスクレーパにおいて、ローラ外周面４１への接触状態（圧接状態）が異なる状態となるため、ローラ外周面４１に付着した塗布液の付着状態に幅広く対応することが可能である。
【符号の説明】
【００６２】
１  塗布装置
２  予備塗布装置
４  ローラ
１０  基板
３０  塗布ユニット
４１  ローラ外周面
６０  ローラ表面掻取装置
６１  スクレーパ
６２  スクレーパホルダ
６４  取付軸部
６５  軸部材
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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