(57)【要約】【課題】比較的簡易な構造でありながらも、投射光を適切に反射させるとともに外光の反射を防止することで、コントラストがより改善され画像品質が安定した投影を行い得るスクリーンの製造方法及びスクリーンを提供すること。【解決手段】第１成膜工程において、反射防止膜ＣＭが、多数の立体部２ａの全面に亘って膜の厚さを均一な状態に保って膜形成を行うことで、反射防止特性を高いものとする。また、第２成膜工程において、投射光ＰＬの入射の特性と外光ＯＬの入射の特性とを考慮して反射膜ＲＭを形成することで、効率的な投射光の反射を行うとともに、反射膜ＲＭにおける外光ＯＬの反射を抑制するものとする。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
スクリーン基板の前面側に２次元的に配置される複数の立体部を有するスクリーンの製造方法であって、
前記スクリーン基板のうち、少なくとも前記複数の立体部の表面の一部に対して第１膜となる第１成膜物質を付着させて成膜を行う第１成膜工程と、
前記スクリーン基板に対して所定の入射角度で反射膜となる第２成膜物質を入射させることにより、前記第１膜の少なくとも一部の領域上に当該反射膜の成膜を行う第２成膜工程と
を有するスクリーンの製造方法。
【請求項２】
前記第１成膜工程において、前記第１膜として、前記複数の立体部の全表面に反射防止膜を成膜する工程を含む、請求項１記載のスクリーンの製造方法。
【請求項３】
前記反射防止膜は、誘電体膜である、請求項２記載のスクリーンの製造方法。
【請求項４】
前記第１成膜工程において、前記第１膜として、前記反射膜の付着力補強用の下地膜を成膜する工程を含む、請求項１記載のスクリーンの製造方法。
【請求項５】
前記第２成膜工程において、前記第２成膜物質は、投射光の光源位置に対応する位置に配置された材料源から射出される、請求項１から請求項４までのいずれか一項記載のスクリーンの製造方法。
【請求項６】
前記第２成膜工程は、内部空間に円筒形状の内壁面を含むチャンバ内において、前記スクリーン基板を前記内壁面に沿って設置する設置工程と、前記チャンバ内において前記円筒形状の略中心軸上に配置された材料源から、前記第２成膜物質を射出させて前記反射膜の成膜を行う反射膜形成工程とを有する、請求項１から請求項５までのいずれか一項記載のスクリーンの製造方法。
【請求項７】
前記反射膜は、金属膜であり、当該金属膜を被覆する被覆膜となる第３成膜物質を入射させて成膜を行う第３成膜工程をさらに有する、請求項１から請求項６までのいずれか一項記載のスクリーンの製造方法。
【請求項８】
前記第３成膜工程における成膜は、前記第２成膜工程における成膜と同一の領域に対して行われる、請求項７記載のスクリーンの製造方法。
【請求項９】
前記第１及び前記第２成膜工程において、前記第１及び第２成膜物質の成膜方法は、真空蒸着法、イオンアシスト法、及びスパッタ法のいずれかである、請求項１から請求項８までのいずれか一項記載のスクリーンの製造方法。
【請求項１０】
スクリーン基板の前面側に２次元的に配置される複数の立体部を備えるスクリーンであって、
前記スクリーン基板のうち、少なくとも前記複数の立体部の表面の一部に形成される第１膜と、
前記第１膜が占める領域のうち、投射光の入射に対応する領域上に形成される反射膜と
を備えるスクリーン。
【請求項１１】
前記反射膜は、金属膜であり、当該金属膜を被覆する被覆膜をさらに備える、請求項１０記載のスクリーン。
【請求項１２】
前記被覆膜は、前記金属膜を保護する物質により形成される金属保護膜及び前記金属膜による反射の作用を促進する物質により形成される増反射膜のいずれかである、請求項１１記載のスクリーン。
【請求項１３】
前記被覆膜は、前記金属膜と同一の領域に形成される、請求項１１及び請求項１２のいずれか一項記載のスクリーン。
【請求項１４】
前記反射膜は、誘電体多層膜であり、当該誘電体多層膜の最表層は、スクリーン表面の一部として露出している、請求項１０記載のスクリーン。
【請求項１５】
前記第１膜は、前記複数の立体部の全表面に成膜される反射防止膜を含む、請求項１０から請求項１４までのいずれか一項記載のスクリーン。
【請求項１６】
前記第１膜は、前記反射膜の付着力補強用の下地膜を含む、請求項１０から請求項１４までのいずれか一項記載のスクリーン。
【請求項１７】
前記下地層は、物理成膜法によって形成される金属膜である、請求項１６記載のスクリーン。
【請求項１８】
前記下地層は、塗布法によって形成される樹脂膜である、請求項１６記載のスクリーン。
【請求項１９】
前記スクリーン基板は、光吸収作用を有する、請求項１０から請求項１８までのいずれか一項記載のスクリーン。
【請求項２０】
前記スクリーン基板は、黒塩化ビニルを含んで形成される、請求項１９記載のスクリーン。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、前方のプロジェクタ等の投影装置からの投射光を反射して投影画像を映し出すスクリーンの製造方法及びスクリーンに関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、投影画像を反射させる反射スクリーンとして、下方から斜め投射して正面側で観察可能にするものであって、スクリーン基板上に多数の凸状の単位形状部を２次元的に配置させ、各単位形状部の表面にプロジェクタ等の投影機からの投影位置に応じて部分的に投射光の反射面を形成することにより、上方からの外光を遮断するものが知られている（特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００６−２１５１６２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上方からの外光の影響に関しては、スクリーンの反射面以外の部分に例えば光透過性や光吸収性の素材を用いた場合であっても、入射光の一部は透過又は吸収されず反射されるため、スクリーン表面において外光の抑制を十分できるとは限らない。この場合、反射面以外の領域に入射した外光の一部が反射されて投影画像に影響を及ぼすことになる可能性がある。従って、上方からの外光をより効果的に防止するためには、スクリーン表面上の反射面以外の領域において、反射防止の処理がなされていることが望ましい。しかし、例えば反射防止膜を形成することで反射防止を行う場合、当該反射防止膜の形成は、反射面の形成に比べより精密な膜厚の制御を必要とし、また、反射防止膜を形成すべき当該領域の形状も複雑であるため、必ずしも容易でない。
また、スクリーン表面に耐久性等に関して良好な反射面を形成することは必ずしも容易でなく、特に様々なスクリーン基板上に剥離しにくい反射膜を形成することは容易でない。
【０００５】
そこで、本発明は、画質が良好で安定した投射を可能にするスクリーンの製造方法及びスクリーンを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決するため、本発明に係るスクリーンの製造方法は、（ａ）スクリーン基板の前面側に２次元的に配置される複数の立体部を有するスクリーンの製造方法であって、（ｂ）スクリーン基板のうち、少なくとも複数の立体部の表面の一部に対して第１膜となる第１成膜物質を付着させて成膜を行う第１成膜工程と、（ｃ）スクリーン基板に対して所定の入射角度で反射膜となる第２成膜物質を入射させることにより、第１膜の少なくとも一部の領域上に当該反射膜の成膜を行う第２成膜工程とを有する。
【０００７】
上記スクリーンの製造方法では、第１成膜工程において、複数の立体部の表面の少なくとも一部に対して例えば反射防止膜や下地膜となるべき第１膜を形成させ、第２成膜工程において、第１膜の少なくとも一部の領域上に反射膜を形成させている。このような第１膜を予め形成することにより、スクリーンの機能を高め、或いは反射膜の付着強度を高めることができる。
【０００８】
また、本発明の具体的な態様によれば、第１成膜工程において、第１膜として複数の立体部の全表面に反射防止膜を成膜する工程を含む。この場合、外光の反射を的確に防止する反射防止膜の形成ができ、また、各立体部において、投射光を適切に反射させる反射膜の形成も可能となる。従って、投射光のコントラストがより改善され画像品質が安定した投影を行い得るスクリーンを提供できる。
【０００９】
また、本発明の別の態様によれば、反射防止膜が誘電体膜である。この場合、第１成膜工程において、適切な膜厚に調整された誘電体膜を形成させることで、当該誘電体膜により生じる位相差を利用して外光等の不要成分の反射を確実に低減させることができる。
【００１０】
また、本発明の別の態様によれば、第１成膜工程において、第１膜として、反射膜の付着力補強用の下地膜を成膜する工程を含む。この場合、スクリーン基板に対する反射膜の付着強度を高めることができ、反射膜を所望の箇所に形成することができ、その耐久性を高めることができる。これにより、画質が良好で安定した投影を行い得るスクリーンを提供できる。
【００１１】
また、本発明の別の態様によれば、第２成膜工程において、第２成膜物質が、投射光の光源位置に対応する位置に配置された材料源から射出される。これにより、第２成膜物質をスクリーン基板に対して所定の入射角度で入射させることができ、反射防止膜の形成された立体部表面の所望の領域上に反射膜を形成させることができる。
【００１２】
また、本発明の別の態様によれば、第２成膜工程が、（ａ）内部空間に円筒形状の内壁面を含むチャンバ内において、スクリーン基板を内壁面に沿って設置する設置工程と、（ｂ）チャンバ内において円筒形状の略中心軸上に配置された材料源から、第２成膜物質を射出させて反射膜の成膜を行う反射膜形成工程とを有する。この場合、反射膜の形状が、外光の反射を避けるものとなり、かつ、投射光の反射効率をほとんど劣化させないものとなる。また、上記スクリーンの製造方法では、スクリーンを小さなチャンバ内に収めることができる。
【００１３】
また、本発明の別の態様によれば、反射膜が、金属膜であり、当該金属膜を被覆する被覆膜となる第３成膜物質を入射させて成膜を行う第３成膜工程をさらに有する。この場合、被覆膜により、例えば金属膜が剥がれたり酸化したりしないように保護することや金属膜の反射作用を補強することが可能となる。
【００１４】
また、本発明の別の態様によれば、第３成膜工程における成膜が、第２成膜工程における成膜と同一の領域に対して行われる。この場合、被覆膜を必要とする領域に無駄なく形成させることができる。また、例えば反射防止膜と被覆膜とが直接接しないため、両者の接着性が悪い場合も問題が生じない。
【００１５】
また、本発明の別の態様によれば、第１及び第２成膜工程において、第１及び第２成膜物質の成膜方法が、真空蒸着法、イオンアシスト法、及びスパッタ法のいずれかである。この場合、材料源から射出される成膜物質に高い指向性をもたせることができ、良好な反射特性を有する反射膜を所望の状態で形成させることができる。
【００１６】
上記課題を解決するため、本発明に係るスクリーンは、（ａ）スクリーン基板の前面側に２次元的に配置される複数の立体部を備えるスクリーンであって、（ｂ）スクリーン基板のうち、少なくとも前記複数の立体部の表面の一部に形成される第１膜と、（ｃ）第１膜が占める領域のうち、投射光の入射に対応する領域上に形成される反射膜とを備える。
【００１７】
上記スクリーンでは、少なくとも複数の立体部の表面の一部に対して第１膜を予め形成しており、スクリーンの機能を高め、或いは反射膜の付着強度を高めることができる。
【００１８】
また、本発明の具体的な態様によれば、反射膜は、金属膜であり、当該金属膜を被覆する被覆膜をさらに備える。この場合、被覆膜により、例えば金属膜が剥がれたり酸化したりしないように保護することや金属膜の反射作用を補強することが可能となる。
【００１９】
また、本発明の別の態様によれば、被覆膜は、金属膜を保護する物質により形成される金属保護膜及び金属膜による反射の作用を促進する物質により形成される増反射膜のいずれかである。この場合、被覆膜を金属保護膜とすれば金属膜が剥がれたり酸化したりしないように保護することが可能となり、被覆膜を増反射膜とすれば金属膜の反射作用を補強することが可能となる。
【００２０】
また、本発明の別の態様によれば、被覆膜が、金属膜と同一の領域に形成される。この場合、被覆膜を必要とする領域に無駄なく形成させることができる。また、例えば反射防止膜と被覆膜とが直接接しないため、両者の接着性が悪い場合も問題が生じない。
【００２１】
また、本発明の別の態様によれば、反射膜が、誘電体多層膜であり、当該誘電体多層膜の最表層が、スクリーン表面の一部として露出している。この場合、例えば被覆膜等を用いなくとも、反射膜は、十分な強度や反射特性を有するものにできる。
【００２２】
また、本発明の別の態様によれば、第１膜が、複数の立体部の全表面に成膜される反射防止膜を含む。なお、反射防止膜が、誘電体層を含む場合、適切な膜厚に調整された誘電体膜により生じる位相差を利用して外光等の不要成分の反射を確実に低減させることができる。
【００２３】
また、本発明の別の態様によれば、反射防止膜が、誘電体多層膜である。誘電体多層膜での多層構造による屈折率差を利用して反射防止の特性を高めることができる。
【００２４】
また、本発明の別の態様によれば、反射防止膜が、誘電体層と金属層とを含む複合膜である。この場合、例えば光吸収性の金属層の上に誘電体層を設けた複合膜を形成することで、当該金属層だけでは吸収しきれない外光成分を誘電体層によって処理することでより反射防止効果の高い反射防止膜とすることができる。
【００２５】
また、本発明の別の態様によれば、第１膜が、反射膜の付着力補強用の下地膜を含む。なお、下地膜は、物理成膜法又は物理蒸着法によって形成される金属膜、或いは塗布法によって形成される樹脂膜である。下地膜を金属膜とする場合、下地膜の耐久性や金属膜の付着強度を高めやすい。一方、下地膜を樹脂膜とする場合、下地膜の製造が簡易になる。
【００２６】
また、本発明の別の態様によれば、スクリーン基板が、光吸収作用を有する。この場合、スクリーン基板内に入射した外光等の不要成分を吸収することができる。なお、スクリーン基板が黒塩化ビニルを含んで形成される場合、反射防止膜を省略しても高いコントラストを確保することができ、スクリーン基板を安価で耐久性のあるものとできる。
【００２７】
また、本発明の別の態様によれば、スクリーン基板が、光吸収性部材としての黒塩化ビニルを含んで形成される。この場合、スクリーン基板自体に光吸収性を持たせることができ、反射防止膜を省略できるだけでなく、スクリーン基板を安価で耐久性のあるものとできる。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
【図１】第１実施形態に係るスクリーンを用いた投射システムを示す図である。
【図２】スクリーンの全体的な使用状態を説明するための模式図である。
【図３】スクリーンの一部を拡大した側断面図である。
【図４】（Ａ）〜（Ｃ）は、スクリーンの表面部の製造工程について説明するための側断面図である。
【図５】（Ａ）、（Ｂ）は、それぞれ反射防止膜の成膜を行うための製造装置の一例について説明するための側断面図である。
【図６】反射膜及び被覆膜の成膜を行うための製造装置の一例について説明するための斜視図である。
【図７】（Ａ）、（Ｂ）は、反射膜及び被覆膜の成膜を行うための製造装置の一例について説明するための平面図及び側断面図である。
【図８】スクリーンの変形例について説明するための側断面図である。
【図９】スクリーンの他の変形例について説明するための側断面図である。
【図１０】（Ａ）、（Ｂ）は、第２実施形態に係るスクリーンについて説明するための側断面図である。
【図１１】第２実施形態に係る反射防止膜の成膜の製造装置の側断面図である。
【図１２】第３実施形態に係るスクリーンを説明するための側断面図である。
【図１３】第４実施形態に係るスクリーンを説明するための側断面図である。
【図１４】（Ａ）〜（Ｃ）は、スクリーンの表面部の製造工程について説明するための側断面図である。
【図１５】第５実施形態に係るスクリーンを説明するための側断面図である。
【図１６】（Ａ）〜（Ｄ）は、スクリーンの表面部の製造工程について説明するための側断面図である。
【図１７】（Ａ）、（Ｂ）は、反射膜及び被覆膜の成膜を行うための製造装置の他の一例について説明するための正面図及び側断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２９】
〔第１実施形態〕
以下、本発明の第１実施形態に係るスクリーンについて図面を参照しつつ説明する。図１は、本実施形態に係るスクリーンを用いた投射システムの一例を示す図である。また、図２は、本実施形態のスクリーンの全体的な使用状態を説明する模式図である。
【００３０】
図１に示すように、投射システム１０００は、反射型のスクリーン１０と、画像投射装置であるプロジェクタ１００とを備える。スクリーン１０は、光透過性の樹脂により形成されるスクリーン基板１を備え、図２のように水平方向即ちｘ方向を長手方向とし、垂直方向即ちｙ方向を短手方向として設置される横長の長方形状を有する。なお、スクリーン１０の前面１０ａ即ちスクリーン基板１の前面側を加工して形成される表面には、詳しくは後述する不図示の微細構造が形成されている。また、図１に示すようにスクリーン１０の正面下方に配置されるプロジェクタ１００は、プロジェクタ本体５０と、投射レンズ本体２０と、反射ミラーＲＲとを備える。プロジェクタ１００を構成する各機構は、筐体ＳＣ内に収容されている。
【００３１】
以下、プロジェクタ１００によるスクリーン１０への画像投射について説明する。まず、プロジェクタ本体５０での制御により、画像光が形成され、投射レンズ本体２０から射出される。さらに、当該画像光は、反射ミラーＲＲでの反射により、プロジェクタ１００からの投射光ＰＬとしてスクリーン１０側に射出される。この際、プロジェクタ１００は、投射光ＰＬを下方からスクリーン１０の中心位置Ｏに対して入射角度αで投射する。スクリーン１０に投射された投射光ＰＬは、スクリーン１０の前面１０ａに形成される不図示の微細凹凸構造上の反射面で前方に反射されることで、中心位置Ｏを通る鉛直軸ＬＸを中心に左右対称な長方形状の画像として観察可能になる。なお、ここでは、スクリーン１０及びプロジェクタ１００の設置環境として、室内に天吊りされた照明装置２００により、上方からの外光ＯＬによる照明がなされている。
【００３２】
以下、図２を用いて図１のプロジェクタ１００から投射される投射光ＰＬとスクリーン１０との配置関係について説明する。図２に示す投射レンズＰＯは、図１の投射レンズ本体２０及び反射ミラーＲＲに対応するものであり、図２に示す投射光源点Ｓからの投射光ＰＬは、図１の投射光ＰＬと同一の投射角度でスクリーン１０に入射するものとなっている。より具体的に説明すると、投射光源点Ｓは、スクリーン１０に比較的近接した下方位置に設置され、投射光ＰＬのスクリーン１０の中心位置Ｏに入射する光束軸ＡＸが入射角度αとなっている。また、ここでは、投射光源点Ｓからスクリーン１０までの距離（即ち投射光源点Ｓからスクリーン１０の前面１０ａを含む平面に垂直に下ろして交差する点である交点Ｈまでの距離）が投射距離ｄとなっている。
【００３３】
図示のスクリーン１０のような所謂フロント投射型の場合、中心位置Ｏを基準として、上述した入射角度αや投射距離ｄによって定まる各位置での投射光ＰＬの入射角度に応じて、前面１０ａ上の微細凹凸構造の光学的な設計がなされることが望ましい。一方、スクリーン１０は、上方からの外光ＯＬについては前面１０ａで観察者のいる側に反射することのないように設計されていることが望ましい。
【００３４】
例えば、スクリーン１０において、上述したように光透過性物質によってスクリーン基板１を形成した場合であっても、空気中と透過性物質中とでの屈折率の差に伴い、光透過性物質の表面において外光ＯＬが部分的に反射される。従って、前面１０ａ上において、外光ＯＬが入射する箇所にはＡＲコートを施す等反射防止のための処理がなされていることが望ましい。本実施形態では、上記を踏まえて前面１０ａの表面に所定パターンで所定形状の微細凹凸構造を設けるだけでなく、当該微細凹凸構造上に反射防止のための処理を施したものとしている。
【００３５】
以下、図３を用いてスクリーン１０の前面１０ａに設けられている表面構造を中心として、スクリーン１０の構造全般について説明する。図３は、スクリーン１０の一部を拡大した側断面図である。下地となるスクリーン基板１は、透明ＰＥＴ等の光透過性物質により形成される本体部分である透明基板ＴＢと、透明基板ＴＢの裏面側に黒色インクを塗布することにより形成される光吸収面ＢＭとを有する。透明基板ＴＢの前面側には、凹凸面である多数の立体部２ａが形成されている。多数の立体部２ａは、それぞれ球面状の凹曲面を有しており、スクリーン基板１の前面側に２次元的に隙間なく形成されている。多数の立体部２ａ上の全表面には、第１膜として反射防止膜ＣＭが形成されている。また、以上のようにして各立体部２ａ上に形成された反射防止膜ＣＭが占める領域のうち、各立体部２ａの上方側即ち＋ｙ方向側の領域上には、下方からの投射光ＰＬを前方に反射させる反射面として機能する反射膜ＲＭが形成されている。さらに、反射膜ＲＭ上には、反射膜ＲＭを被覆する被覆膜ＩＭが形成されている。以上のように、スクリーン１０の前面１０ａに設けられている微細凹凸構造は、スクリーン基板１により前面側に形成される多数の立体部２ａ上に反射防止膜ＣＭ、反射膜ＲＭ及び被覆膜ＩＭによる三重の層を備える構造となっている。ここで、被覆膜ＩＭは、反射膜ＲＭと同一の領域に形成されており、過不足のない状態で反射膜ＲＭを覆っている。従って、被覆膜ＩＭは、反射防止膜ＣＭとは接触していない状態となっている。
【００３６】
反射防止膜ＣＭは、図３の一部拡大図に示すように第１層ＣＬ１と第２層ＣＬ２とによって構成される積層膜または誘電体多層膜である。下側の第１層ＣＬ１と上側の第２層ＣＬ２とは屈折率差の異なる物質により構成されている。反射防止膜ＣＭは、当該屈折率差を利用して光を干渉させることで反射防止の作用を生じさせている。なお、各層ＣＬ１、ＣＬ２の原材料として、例えば二酸化チタン（ＴｉＯ２）と二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）とを用いることで所望の屈折率差を生させることができる。
【００３７】
反射膜ＲＭは、後に詳述するが、例えばアルミニウムを蒸着すること等により形成される金属膜である。被覆膜ＩＭは、例えばＳｉＯ２を蒸着すること等により形成されており、反射膜ＲＭが剥がれることや酸化することを防ぐための金属保護膜として機能する。被覆膜ＩＭについては、上述のＳｉＯ２による単層膜に代えて、例えばＴｉＯ２とＳｉＯ２とによる多層膜構造やＴａ２Ｏ５（五酸化タンタル）とＳｉＯ２とによる多層膜構造により構成することで、反射膜ＲＭの反射作用を高める増反射膜として機能するものとしてもよい。
【００３８】
以上のように、多数の立体部２ａと、各立体部２ａ上にそれぞれ形成される反射防止膜ＣＭと、反射防止膜ＣＭ上の一部にそれぞれ形成される反射膜ＲＭとにより、前面１０ａに多数の表面部２が形成されている。多数の表面部２のうち、反射防止膜ＣＭによって、反射膜ＲＭ以外の領域に入射する外光ＯＬの反射が的確に防止されるものとなっている。また、反射膜ＲＭは、後述するように、投射光ＰＬを適切に反射するとともに、外光ＯＬは極力反射しない位置に形成されるものとなっている。なお、上述のように、多数の立体部２ａは、隙間なく形成されているので、前面１０ａのうち、少なくとも画像投影のなされる有効領域は、多数の表面部２で埋め尽くされて平坦な部分が存在しない状態となっている。この場合、平坦な部分が残らないので、光が正反射して観察者の目に入るホットスポットと呼ばれる現象を回避できる。
【００３９】
以下、各立体部２ａ上において反射膜ＲＭが形成される位置について説明する。上述のように、プロジェクタ等からの投射光ＰＬは、スクリーン１０の下方に位置する投射光源点Ｓ（図２参照）から射出されてスクリーン１０に対して放射状に拡がるように入射する。これに対応して、反射膜ＲＭは、各立体部２ａによって形成された凹面形状の上方側の部分即ち＋ｙ方向側の部分にのみ局所的に形成されている。つまり、反射膜ＲＭは、下方からの投射光ＰＬに対向して形成されており、投射光ＰＬを観察者のいる正面側へ適度に拡散させた状態で反射させるものとなっている。一方、反射膜ＲＭは、上方からの外光ＯＬについては、観察者のいる正面側へ反射させないものとなっている。以上のように、反射膜ＲＭは、前面１０ａにおいて、投射光ＰＬを適切に正面方向へ射出させることができ、かつ、外光ＯＬの反射を効率的に防ぐものとなっている。
【００４０】
以下、スクリーン１０の製造方法について説明する。まず、スクリーン１０のうち、スクリーン基板１の作製について簡単に説明する。スクリーン基板１は、例えば光透過性を有する透明のＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）等を原材料とするシート状の部材と光吸収性の黒色インクとを主たる原材料として形成される。具体的には、例えば当該シート状部材の表面に光透過性のＵＶ硬化樹脂を塗布した後、あるいは、当該シート状部材の表面を加熱して軟化させた後、多数の立体部２ａに対応する凹凸形状を有するガラス型で当該箇所をプレス加工する。これにより、スクリーン基板１の本体部分である透明基板ＴＢが形成される。さらに透明基板ＴＢの裏面側に光吸収作用のある黒色インクを薄く塗布することにより光吸収面ＢＭが形成され、スクリーン基板１が作製される。
【００４１】
次に、各立体部２ａ上にそれぞれ形成される表面部２の製造工程について説明する。図４（Ａ）〜４（Ｃ）は、スクリーン１０のうち、多数の表面部２の形成過程について説明するための側断面図である。まず、図４（Ａ）に示すように、多数の立体部２ａの全表面に略一定の膜厚で反射防止膜ＣＭが形成される（第１成膜工程）。次に、図４（Ｂ）に示すように、各立体部２ａ上の一部の領域に反射膜ＲＭが形成され（第２成膜工程）、さらに、図４（Ｃ）に示すように、反射膜ＲＭ上に被覆膜ＩＭが形成される（第３成膜工程）。以上の第１、第２及び第３成膜工程を経て多数の表面部２が形成されることにより、スクリーン１０が作製される。
【００４２】
以下、上記第１、第２及び第３成膜工程のうち、まず、第１成膜工程について説明する。図５（Ａ）は、第１成膜工程における反射防止膜ＣＭの成膜を行うための第１製造装置の一例について説明するための側断面図である。図５（Ａ）に示す第１製造装置３００は、例えば抵抗加熱により成膜材料を蒸発させて真空蒸着による成膜を行う真空蒸着装置である。第１製造装置３００は、材料源を含む蒸発源装置３２０と、真空容器であるチャンバ３３０と、チャンバ３３０内を真空の状態にするための排気系であり、例えばロータリポンプ等で構成される真空ポンプ３４０と、各部を統括して装置全体の制御を行う制御装置３５０とを備える。さらに、第１製造装置３００は、帯状のスクリーン基板１０１を搬送するための移動装置３６０を備える。移動装置３６０は、帯状のスクリーン基板１０１を送出する送出機構３６０ａと、スクリーン基板１０１を巻き取る巻取機構３６０ｂとを備える。なお、各機構３６０ａ、３６０ｂに取り付けられるモータ等は図示を省略している。蒸発源装置３２０は、図３に示す反射防止膜ＣＭを形成するための第１成膜物質のうち、第１層ＣＬ１を形成するための第１成分Ｅ１である二酸化チタン（ＴｉＯ２）を射出する第１射出装置３２０ａと、第１成膜物質のうち第２層ＣＬ２を形成するための第２成分Ｅ２である二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）を射出する第２射出装置３２０ｂとを備える。第１及び第２射出装置３２０ａ、３２０ｂは、それぞれボート上に第１及び第２成分Ｅ１、Ｅ２をマウントし、制御装置１５０から供給される電力を用いた抵抗加熱等により各成分Ｅ１、Ｅ２を加熱し蒸発させることで成膜を行う。なお、帯状のスクリーン基板１０１は、スクリーン基板１の複数枚分（例えば１００枚分）に相当する。つまり、スクリーン基板１０１を所定の大きさでカットしたものが１枚分のスクリーン基板１に相当する。
【００４３】
図５（Ａ）に示すように、移動装置３６０において、帯状のスクリーン基板１０１は、カセットテープのようにその両端部がそれぞれ各機構３６０ａ、３６０ｂに巻き付けられた状態となっている。各機構３６０ａ、３６０ｂが一方向に同期して回転動作することにより、移動装置３６０は、スクリーン基板１０１を矢印ＡＷ１の方向に一定速度で移動させるものとなっている。また、各射出装置３２０ａ、３２０ｂは、移動装置３６０によって搬送されるスクリーン基板１０１の前面側に対向して下方に配置されており、それぞれスクリーン基板１０１に対して第１成膜物質である各成分Ｅ１、Ｅ２を略垂直に入射させるものとなっている。また、各射出装置３２０ａ、３２０ｂは、スクリーン基板１０１の全面に亘って均一に成膜がなされるように、それぞれ図５（Ａ）中の紙面手前側から奥側にかけてライン状に配置されている。
【００４４】
以下、第１製造装置３００の動作について説明する。まず、真空ポンプ３４０の排気口３４０ａから排気がなされ、チャンバ３３０内部を所定値以下（例えば１０−３Ｐａ以下）の真空状態にする。次に、反射防止膜ＣＭの成膜のために各機構３６０ａ、３６０ｂを駆動させて、スクリーン基板１０１の処理対象部分を繰り出す。チャンバ３３０内で、送出機構３６０ａからスクリーン基板１０１の処理対象部分が繰り出されると、まず、スクリーン基板１０１の処理対象部分に対して、第１射出装置３２０ａから略垂直に射出された第１成分Ｅ１が入射する。これにより、スクリーン基板１０１の処理対象部分に第１層ＣＬ１が形成される。次いで、スクリーン基板１０１の処理対象部分に対して、第２射出装置３２０ｂから略垂直に射出された第２成分Ｅ２が入射する。これにより、スクリーン基板１０１の処理対象部分に第２層ＣＬ２が形成される。以上により、一対の層ＣＬ１、ＣＬ２からなる反射防止膜ＣＭが形成されたスクリーン基板１０１の処理対象部分は、巻取機構３６０ｂにより巻き取られる。なお、スクリーン基板１０１を所定のサイズでカットすることにより、反射防止膜ＣＭが施された状態のスクリーン基板１が切り出される。
【００４５】
以上のようにして、第１製造装置３００により、反射防止特性を有する均一な膜厚の反射防止膜ＣＭが成膜される。なお、第１製造装置３００では、一旦真空状態を形成すれば、真空を破ることなくスクリーン基板１０１を移動させることができるので、複数枚分のスクリーン基板１上に反射防止膜ＣＭを一括して形成することができる。
【００４６】
また、図５（Ｂ）に示す第１製造装置４００によっても上記と同様の成膜が可能である。第１製造装置４００は、第１製造装置３００の変形例である。この第１製造装置４００では、移動装置４６０を構成する各機構４６０ａ、４６０ｂが同期して双方向に回転動作することにより、スクリーン基板１０１が矢印ＡＷ２で示す方向に一定速度で往復移動可能となっている。また、蒸発源装置４２０の各射出装置４２０ａ、４２０ｂは、台座４２０ｃ上で矢印ＡＷ３の方向にスライド移動可能となっている。以上のような構成により、第１製造装置４００は、まず、スクリーン基板１０１を紙面右側に移動させるときは、射出口４２０ｄに第１射出装置４２０ａを対向配置させておくことで第１層ＣＬ１を成膜することができる。さらに、スクリーン基板１０１を紙面左側に移動させるときは、蒸発源装置４２０内の各射出装置４２０ａ、４２０ｂをスライドさせ、射出口４２０ｄに第２射出装置４２０ｂを対向配置させておくことで第２層ＣＬ２を成膜することができる。なお、図示の第１製造装置４００による成膜の場合、上記動作を繰り返すことで、さらに多層の構造を有する反射防止膜ＣＭを形成させてもよい。
【００４７】
次に、図６、図７（Ａ）及び７（Ｂ）を用いて第２及び第３成膜工程について説明する。図６、図７（Ａ）及び７（Ｂ）は、第２及び第３成膜工程における反射膜ＲＭ及び被覆膜ＩＭの成膜を行うための第２製造装置の一例について説明するための斜視図、平面図及び側断面図である。図６等に示す第２製造装置５００は、第１製造装置３００と同様に、例えば抵抗加熱により成膜材料を蒸発させて真空蒸着による成膜を行う真空蒸着装置であり、蒸発源装置１２０と、チャンバ１３０と、真空ポンプ１４０と、制御装置１５０とを備える。蒸発源装置１２０は、反射膜を形成するための第２成膜物質Ｗ２であるアルミニウムを射出する第１射出装置１２０ａと、被覆膜を形成するための第３成膜物質Ｗ３である二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）を射出する第２射出装置１２０ｂとを備える。蒸発源装置１２０は、円筒形状であり、中心軸ＯＸのまわりに回転可能な台座１２０ｄを備えている。蒸発源装置１２０は、台座１２０ｄに支持された第１及び第２射出装置１２０ａ、１２０ｂを回転移動させて、いずれか一方を中心軸ＣＸ上に設置させ、射出口１２０ｃから各成膜物質Ｗ２、Ｗ３を射出させることが可能なターレット式の構造となっている。
【００４８】
第２製造装置５００は、所定半径の円筒形状を有しており、チャンバ１３０により形成される内部空間ＩＳも円筒形状となっている。第１及び第２射出装置１２０ａ、１２０ｂは、蒸発源装置１２０内において、上述のように、いずれか一方が中心軸ＣＸ上に設置される。第１及び第２射出装置１２０ａ、１２０ｂは、それぞれボート上に第２及び第３成膜物質Ｗ２、Ｗ３をマウントし、制御装置１５０から供給される電力を用いた抵抗加熱等により各成膜物質Ｗ２、Ｗ３を加熱して蒸発させることで成膜を行う。なお、ここでは、第２成膜物質Ｗ２の一例としてアルミニウムを用い、第３成膜物質Ｗ３として二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）を用いている。チャンバ１３０は、内部空間ＩＳ中に、中心軸ＣＸ、半径Ｒの円筒形状部分の側面に相当する内壁面１３０ａを有する。半径Ｒと中心軸ＣＸ上の第１射出装置１２０ａまたは第２射出装置１２０ｂの位置とは、図１等のスクリーン１０の使用態様に応じて定められている。
【００４９】
図６等に示すように、スクリーン基板１は、この内壁面１３０ａに沿って設置される（設置工程）。より具体的に説明すると、まず、スクリーン基板１は、図６に示すように、内壁面１３０ａに沿って筒状に配置されており、スクリーン基板１の長手方向（スクリーン１０の長手方向に相当）が当該円筒形状の円周方向となっている。また、図７（Ａ）及び７（Ｂ）に示すように、スクリーン基板１は、ホルダＨＤにより内壁面１３０ａに沿ってスクリーン１０の使用態様に応じた高さ位置で固定されている。なお、ホルダＨＤは、図６に示すスクリーン基板１のうち有効領域ＶＤ外の周辺部分である余白部分ＭＰのみに接触している。余白部分ＭＰは、成膜処理の後、必要に応じてカットされる。
【００５０】
以下、第２製造装置５００の動作について説明する。まず、真空ポンプ１４０の排気口１４０ａから排気がなされ、チャンバ１３０内部を所定値以下（例えば１０−３Ｐａ以下）の真空状態にする。次に、蒸発源装置１２０を回転させることにより、第１射出装置１２０ａを中心軸ＣＸ上に設置する。第１射出装置１２０ａが中心軸ＣＸ上に設置されると、第２成膜物質Ｗ２が加熱されて、蒸発する。ここで、チャンバ１３０内は、所望の真空状態となっているため、第２成膜物質Ｗ２の射出軌道ＥＶは、図６等に矢印で示すように蒸発源装置１２０から放射状に射出するものとなり、第２成膜物質Ｗ２は、スクリーン基板１上に堆積する。これにより、図４（Ｂ）に示すように反射膜ＲＭが形成される（反射膜形成工程）。次に、蒸発源装置１２０を回転させて第２射出装置１２０ｂを中心軸ＣＸ上に設置することにより、同様にして、第３成膜物質Ｗ３を加熱し蒸発させて、図４（Ｃ）に示すように被覆膜ＩＭが形成される。以上により、スクリーン１０が製造される。なお、この場合、第１射出装置１２０ａと第２射出装置１２０ｂとは同一の位置から成膜物質Ｗ２、Ｗ３を射出するので、被覆膜ＩＭは、反射膜ＲＭと同一領域上に形成されるものとなる。また、被覆膜ＩＭとして、多層膜構造の増反射膜を形成する場合には、蒸発源装置１２０内に射出装置を３つあるいはそれ以上設け、これらの射出装置によって繰り返し成膜を行うことで多層膜構造を形成すればよい。
【００５１】
なお、第２製造装置５００では、図７（Ａ）に示すように平面視した際の第１射出装置１２０ａは、円筒形状の中心部に位置するのに対して、スクリーン基板１は、１つの円周上に位置するものとなっている。また、図７（Ｂ）に矢印で示されるように、第２成膜物質Ｗ２の射出軌道ＥＶはスクリーン基板１に対して対称なものとなっている。つまり、スクリーン基板１上において、長手方向（スクリーン１０の長手方向に相当）に垂直な断面における第２成膜物質Ｗ２の射出角度がどこにおいても一定に保たれた状態で成膜されるものとなる。これにより、図３等に示すような各立体部２ａの上方側の表面上にある反射膜ＲＭについて、その境界線を水平方向即ちｘ方向に沿うように形成させることができる。反射膜ＲＭは、このような形状を有するので、スクリーン１０上のどこにおいても略均等に上方からの外光ＯＬを入射させないようにすることで、外光ＯＬの反射を抑制するものとなっている。
【００５２】
一般に、プロジェクタ等からの投射光ＰＬは、点状の光源から射出され、放射状に拡がってスクリーン１０に入射する。これに対し、主に照明等による上方からの外光ＯＬは、線状または面状の光源からのものであり、スクリーン全体にある入射角度分布で平均的に入射する。従って、反射膜ＲＭの形状は、コントラストをさらに良くするために、以上のような投射光ＰＬと外光ＯＬとでスクリーン１０への入射状態の違いに対応したものであることが望ましい。第２製造装置５００によるスクリーン１０の製造では、反射膜ＲＭが上述のような形状で成膜されていることにより、外光ＯＬの反射を略均等に抑制できるものとすることができる。また、既述のように、チャンバ１３０内において、円筒形状の半径Ｒと中心軸ＣＸ上の各射出装置１２０ａ、１２０ｂの位置とは、図２等に示すスクリーン１０の使用態様に応じて正確に定められている。より具体的には、半径Ｒの値は、図２に示す投射光ＰＬの投射距離ｄと対応し、各射出装置１２０ａ、１２０ｂの位置は、投射光ＰＬの投射光源点Ｓに対応して調整されている。つまり、各成膜物質Ｗ２、Ｗ３のスクリーン基板１への入射角度は、投射光ＰＬのスクリーン１０への入射角度を考慮したものとなっている。以上により、多数の立体部２ａの表面に形成される反射膜ＲＭは、スクリーン１０の使用態様に対応したものとなっていることで、投影装置等からの投射光ＰＬの反射効率の劣化を防ぐべく考慮された形状にもなっている。また、チャンバ１３０を円筒形状にすることで、スクリーン１０を収める真空空間を比較的小さくすることができる。
【００５３】
以上のように、本実施形態に係るスクリーン１０は、まず、その製造のための第１成膜工程において、多数の立体部２ａの全面に亘って反射防止膜ＣＭの膜厚を均一な状態に保って膜形成を行うことができるので、反射防止特性が高いものとなる。反射防止膜ＣＭの成膜に関して、上記のほかの方法として、例えば、反射膜ＲＭを形成するために用いた斜方からの蒸着を利用して、反射防止膜ＣＭを反射膜ＲＭが形成されない部分にのみ蒸着させることも考えられるが、この場合、必ずしも膜の厚さを一定に保って形成させることが容易に可能となるとは言えない。
【００５４】
また、本実施形態では、第２成膜工程において、投射光ＰＬの入射の特性と外光ＯＬの入射の特性とを考慮して反射膜ＲＭを形成しているので、効率的な投射光の反射を行うとともに、反射膜ＲＭにおける外光ＯＬの反射を抑制するものにもなっている。さらに、第３成膜工程において、被覆膜ＩＭを形成させることで、反射膜ＲＭが剥がれることや酸化することを抑制し長寿命化を図る、あるいは反射特性の増進を図ることができる。
【００５５】
図８は、図３等に示すスクリーン１０の変形例である。図８に示すスクリーン１１０において、各表面部１０２は、凸曲面形状を有するものとなっている。なお、この場合、反射膜ＲＭ及び被覆膜ＩＭは、各立体部１０２ａ上において、下方側即ち−ｙ方向側に形成される。
【００５６】
また、スクリーン基板１について、透明部材ＴＢ及び光吸収面ＢＭに代えて、図９のように、光吸収性部材ＡＢを用いることでスクリーン２１０を作製してもよい。光吸収性部材ＡＢの原材料としては、例えば光吸収作用を有する黒色のＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）やポリ塩化ビニル等が考えられる。
【００５７】
また、反射膜ＲＭの形成において、成膜物質Ｗ２としてアルミニウムを用いているが、反射膜ＲＭを金属膜で形成する場合、アルミニウムの他にも、例えば銀等を用いることも可能である。
【００５８】
また、上記では第１射出装置１２０ａ（第２射出装置１２０ｂ）を中心軸ＣＸ上に設置して成膜を行うものとしているが、設置位置は、中心軸ＣＸ上だけでなくその近傍にあってもよく、また、各射出装置１２０ａ、１２０ｂを複数のボートで構成し、各射出装置１２０ａ、１２０ｂが中心軸ＣＸ上またはその近傍に配置されるようにしてもよい。
【００５９】
また、上記では、チャンバ１３０の内壁面１３０ａをスクリーン基板１の設置ための内壁面に用いているが、スクリーン基板１の設置ための内壁面をチャンバ１３０内に別途設けてもよい。
【００６０】
〔第２実施形態〕
図１０（Ａ）及び１０（Ｂ）は、第２実施形態に係るスクリーンについて説明する図である。本実施形態に係るスクリーンは、反射防止膜の構造を除いて第１実施形態に示したものと同様であるので、他の構造についての詳細な説明を省略する。
【００６１】
図１０（Ａ）に示すスクリーン３１０において、反射防止膜ＣＭは、第１〜第３層ＣＬ１、ＣＬ２、ＣＬ３の３層構造で形成されている。この場合、例えば、反射防止膜ＣＭのうち最下層である第１層ＣＬ１として、光吸収性を有する金属層を形成させ、第１層ＣＬ１上の第２及び第３層ＣＬ２、ＣＬ３として、当該金属層即ち第１層ＣＬ１上で反射される外光成分を処理するための誘電体層を形成させることができる。このように、反射防止膜ＣＭを金属層と誘電体層とを含む複合膜とすることで、より反射防止性の高いものとすることが可能となる。
【００６２】
また、本実施形態の他の例として、図１０（Ｂ）に示すスクリーン４１０のように、反射防止膜ＣＭを単層構造のものとすることも可能である。この場合、例えば反射防止膜ＣＭとなる第１層ＣＬ１の成膜物質として、例えばフッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）を用いることで、反射防止膜ＣＭに必要な反射防止性を持たせることができる。
【００６３】
以下、本実施形態に係るスクリーンの製造方法について説明する。図１１は、図１０（Ａ）に示すスクリーン３１０の製造のための成膜工程のうち、第１成膜工程を行うための第１製造装置について説明する図である。本実施形態に係る第１製造装置６００は、図５（Ａ）の第１製造装置３００等の変形例である。なお、本実施形態に係るスクリーンの製造方法は、第１成膜工程を除いて第１実施形態に示したものと同様であるので、第１成膜工程以外の成膜工程についての図示及び説明は省略する。
【００６４】
図１１に示す第１製造装置６００は、第１製造装置３００と同様に、例えば抵抗加熱により成膜材料を蒸発させて真空蒸着による成膜を行う真空蒸着装置であり、蒸発源装置６２０と、チャンバ３３０と、真空ポンプ３４０と、制御装置３５０と、帯状のスクリーン基板１０１を搬送するための移動装置３６０とを備える。移動装置３６０は、スクリーン基板１０１を送出する送出機構３６０ａと、スクリーン基板１０１を巻き取る巻取機構３６０ｂとを備え、各機構３６０ａ、３６０ｂによりスクリーン基板１０１を一方向（図中矢印ＡＷ１の方向）に一定速度で移動させる。また、以上のうち、特に、蒸発源装置６２０は、第１〜第３射出装置６２０ａ、６２０ｂ、６２０ｃの３つの射出装置を備えている。これら３つの射出装置６２０ａ、６２０ｂ、６２０ｃにより、図１０（Ａ）に示すスクリーン３１０の反射防止膜ＣＭを構成する各層ＣＬ１、ＣＬ２、ＣＬ３がそれぞれ形成される。なお、図１０（Ｂ）に示すスクリーン４１０の製造については、蒸発源装置６２０における射出装置を１つのみとすればよい。
【００６５】
〔第３実施形態〕
図１２は、第３実施形態に係るスクリーンを一部拡大した側断面図である。本実施形態に係るスクリーン５１０は、スクリーン１０等の変形例であり、スクリーン基板１と、反射防止膜ＣＭと、反射膜ＲＭとを備える。特に、反射膜ＲＭは、屈折率の異なる２種類の誘電体層ＭＬ１、ＭＬ２が交互に積層された誘電体多層膜構造となっている。誘電体層ＭＬ１、ＭＬ２は、例えばＴｉＯ２とＳｉＯ２とにより、または、Ｔａ２Ｏ５とＳｉＯ２とにより構成することができる。この場合、スクリーン１０等の場合と異なり、反射膜ＲＭ自体を十分丈夫なものとすることができるので、反射膜ＲＭ上に被覆膜を設けず、当該誘電体多層膜の最表層を、スクリーン５１０の表面の一部として露出させた状態とすることができる。なお、誘電体多層膜構造の作製については、例えば図６等に示す第２製造装置５００において、蒸発源装置１２０の第１及び第２射出装置１２０ａ、１２０ｂを用いて誘電体層ＭＬ１、ＭＬ２を形成させるための成膜物質を交互に繰り返して射出させればよい。
【００６６】
〔第４実施形態〕
図１３は、第４実施形態に係るスクリーンについて説明する図である。本実施形態に係るスクリーン８１０は、スクリーン基板１として黒色のポリ塩化ビニル等である光吸収性部材ＡＢを用いる点、及び反射防止膜ＣＭに代えて下地膜ＵＭを設ける点を除いて、第１実施形態のスクリーン１０と同様の構造を有する。
【００６７】
スクリーン基板１を構成する光吸収性部材ＡＢは、それ自体で外光ＯＬを吸収し、図３等に示す反射防止膜ＣＭの省略を可能にする。光吸収性部材ＡＢは、例えばポリ塩化ビニル樹脂に吸光材のカーボン等を添加してシート化したもの、即ち黒色ポリ塩化ビニルのシートである。下地膜ＵＭは、反射膜ＲＭと光吸収性部材ＡＢとの間に介在する第１膜であり、例えば反射膜ＲＭのスクリーン基板１に対する付着強度を高める役割を有する。特に、光吸収性部材ＡＢが軟質塩化ビニル等である場合、これに含まれる可塑剤等が揮発し、真空蒸着等よってスクリーン基板１上に形成された反射膜ＲＭが剥がれやすくなる。このため、スクリーン基板１を構成する光吸収性部材ＡＢの表面に可塑剤の揮発を抑制可能又はブロック可能な下地膜ＵＭを予め形成することで、スクリーン基板１に対する反射膜ＲＭの密着性を高め、反射膜ＲＭの状態を安定化させることができる。下地膜ＵＭは、Ｃｒ、ＮｉＣｒ等の金属膜とすることもできるが、アクリル系、フッ素系の樹脂その他の有機材料膜又は非金属膜とすることができる。
【００６８】
以下、本実施形態に係るスクリーン８１０の製造方法について説明する。図１４（Ａ）〜１４（Ｃ）は、図１３に示すスクリーン８１０のうち、主に多数の表面部２の形成過程について説明するための側断面図である。各表面部２は、下地膜ＵＭ、反射膜ＲＭ、及び被覆膜ＩＭを含んで構成される。まず、図１４（Ａ）に示すように、多数の立体部２ａの全表面に略一定の膜厚（例えば１０ｎｍ以下）で下地膜ＵＭが形成される（第１成膜工程）。下地膜ＵＭは、第１成膜物質をスクリーン基板１上に一様に入射させることによって、スクリーン基板１の表面全体を被覆するように一様に形成される。次に、図１４（Ｂ）に示すように、各立体部２ａにおける表面の一部領域に反射膜ＲＭが形成され（第２成膜工程）、さらに、図１４（Ｃ）に示すように、反射膜ＲＭ上に被覆膜ＩＭが形成される（第３成膜工程）。以上により、スクリーン基板１上に多数の表面部２が形成され、スクリーン８１０が完成する。なお、図面では省略しているが、立体部２ａの製造段階までについて簡単に説明すると、まず、光吸収性部材ＡＢとして例えば黒色ポリ塩化ビニル製のシートを準備する。そして、熱プレスによって黒色ポリ塩化ビニルのシートの表面に多数の立体部２ａを転写し、多数の立体部２ａを有するスクリーン基板１を得る。
【００６９】
第１成膜工程について説明すると、スクリーン基板１の全表面即ち多数の立体部２ａの表面に略一定の膜厚で下地膜ＵＭを形成する。下地膜ＵＭがＣｒ、ＮｉＣｒ等の金属膜である場合、下地膜ＵＭは、例えば図５（Ａ）に示す第１製造装置３００と同様の機構を有する真空蒸着型の成膜装置によって形成される。ただし、この場合の蒸発源装置３２０は、下地膜ＵＭを形成するための第１成膜物質（具体的にはＣｒ、ＮｉＣｒ等）を射出する単一の射出装置のみを備えるものとなる。このようにして形成した下地膜ＵＭの膜厚は、例えば５〜１０ｎｍ程度とする。一方、下地膜ＵＭがアクリル系樹脂、フッ素系樹脂その他の有機材料膜又は非金属膜である場合、下地膜ＵＭは、例えばディッピングを利用した湿式のコーティングによって形成される。なお、ディッピング用の溶液は、有機溶媒にアクリル等の膜主成分や各種添加剤を混合したものであり、スクリーン基板１をこの溶液に一定時間浸漬した後、スクリーン基板１を引き上げて乾燥させることで、スクリーン基板１即ち光吸収性部材ＡＢ上に、所望の膜厚を有し比較的強固に付着した下地膜ＵＭを形成することができる。このようにして形成した下地膜ＵＭの膜厚は、例えば１〜１０μｍ程度とする。
【００７０】
以上の第１成膜工程において、下地膜ＵＭをＣｒ、ＮｉＣｒ等の金属で形成する場合、真空蒸着法に限らず、例えばイオンアシスト法、スパッタ法等の物理成膜法又は物理蒸着法を用いることもできる。下地膜ＵＭをアクリル系樹脂、フッ素系樹脂その他の有機材料又は非金属で形成する場合、ディッピングのような塗布法に限らず、例えばスプレーその他の塗布法を用いることもできる。
【００７１】
なお、図１４（Ｂ）の第２成膜工程は、図４（Ｂ）の第２成膜工程に相当し、図１４（Ｃ）の第３成膜工程は、図４（Ｃ）の第３成膜工程に相当する。つまり、真空蒸着等によって立体部２ａ上の一部の領域に反射膜ＲＭ及び被覆膜ＩＭが順次形成される。
【００７２】
下地膜ＵＭ上に反射膜ＲＭを成膜する前には、下地膜ＵＭの表面活性化処理を行うこともできる。下地膜ＵＭの表面活性化処理としては、逆スパッタ処理、プラズマ放電処理、コロナ放電処理、ＲＦボンバード処理、大気圧プラズマ処理等を採用することができる。下地膜ＵＭに対して表面活性化処理を適宜施すことにより、反射膜ＲＭの付着力や耐久性を向上させることができる。
【００７３】
以上の説明では、反射膜ＲＭ上に被覆膜ＩＭを形成しているが、反射膜ＲＭが耐候性等に関して十分な強度を有する場合、被覆膜ＩＭを除去することもできる。
【００７４】
また、スクリーン基板１上に形成される立体部２ａの形状は、凹曲面に限らず、図８に示すように凸曲面とすることもできる。この場合、反射膜ＲＭや被覆膜ＩＭは、下方側即ち−ｙ方向側に形成される。
【００７５】
以上のように、本実施形態に係るスクリーン８１０によれば、その製造のための第１成膜工程において、第１膜として反射膜ＲＭの付着力補強用の下地膜ＵＭを成膜するので、スクリーン基板１に対する反射膜ＲＭの付着強度を高めることができ、反射膜ＲＭを意図通りの箇所に形成することができ、その耐久性を高めることができる。これにより、画像品質が良好で安定した投影を行い得るスクリーン８１０を提供できる。
【００７６】
〔第５実施形態〕
図１５は、第５実施形態に係るスクリーンについて説明する図である。また、図１６（Ａ）〜１６（Ｄ）は、図１５に示すスクリーン９１０のうち、主に多数の表面部２の形成過程について説明するための側断面図である。なお、本実施形態に係るスクリーン９１０は、下地膜ＵＭの形成範囲を除いて第４実施形態のスクリーン８１０と同様の構造を有する。
【００７７】
図示のスクリーン９１０の場合、第１膜としての下地膜ＵＭがスクリーン基板１上の全面に形成されておらず、下地膜ＵＭが多数の立体部２ａにおける表面の一部領域（図示の例では上方側即ち＋ｙ方向側）に形成されている。下地膜ＵＭは、第１成膜物質をスクリーン基板１上に適当な入射角で入射させることによって、スクリーン基板１を部分的に被覆するように非一様に形成される。このように、下地膜ＵＭを形成する領域と、下地膜ＵＭを形成しない領域とを設けることにより、反射膜のスクリーン基板１に対する付着強度が局所的に異なるものとなる。つまり、下地膜ＵＭ上に形成された反射膜ＲＭは、スクリーン基板１に比較的強固に付着して剥離が困難な状態となるが、光吸収性部材ＡＢ上に形成された反射膜（図１６（Ｂ）等に示す反射層ＲＬの一部）は、スクリーン基板１に比較的弱く付着して剥離が容易な状態となる。これを利用すれば、反射層ＲＬをスクリーン基板１上の全面に形成した場合であっても、下地膜ＵＭが形成されず露出した光吸収性部材ＡＢ上に形成された反射層ＲＬは、洗浄等によって局所的に除去され、残った反射膜ＲＭは、下方からの投射光ＰＬに対向して形成されたものとなる。つまり、下地膜ＵＭ上に形成されて残った反射膜ＲＭは、投射光ＰＬを観察者のいる正面側へ適度に拡散させた状態で反射させるものとなっている。なお、下地膜ＵＭ上に形成されて残った反射膜ＲＭは、上方からの外光ＯＬについては、これを観察者のいる正面側へ反射させないものとなっている。
【００７８】
以下、本実施形態に係るスクリーン９１０の製造方法について説明する。
【００７９】
図１６（Ａ）に示す第１成膜工程において、スクリーン基板１を構成する立体部２ａの表面の一部領域に略一定（例えば１０ｎｍ以下）の膜厚で下地膜ＵＭを形成する。下地膜ＵＭがＣｒ、ＮｉＣｒ等の金属膜である場合、下地膜ＵＭは、例えば図６等に示す第２製造装置５００と同様の機構を有する真空蒸着型の成膜装置によって形成される。ただし、この場合の蒸発源装置１２０は、下地膜ＵＭを形成するための第１成膜物質（具体的にはＣｒ、ＮｉＣｒ等）を射出する単一の射出装置のみを備えるものとなる。一方、下地膜ＵＭがアクリル系樹脂、フッ素系樹脂その他の有機材料膜又は非金属膜である場合、下地膜ＵＭは、例えばスプレーを利用した塗布法によって形成される。なお、スプレー用の溶液は、有機溶媒にアクリル等の膜主成分や各種添加剤を混合したものであり、スクリーン基板１即ち光吸収性部材ＡＢの表面に対してスプレーのノズルを傾斜させつつ走査するように移動させることで、立体部２ａの部分領域上に所望の膜厚を有し比較的強固に付着した下地膜ＵＭを形成することができる。
【００８０】
以上の第１成膜工程において、下地膜ＵＭをＣｒ、ＮｉＣｒ等の金属で形成する場合、真空蒸着法に限らず、例えばイオンアシスト法、スパッタ法等の物理成膜法又は物理蒸着法を用いることもできる。
【００８１】
図１６（Ｂ）の第２成膜工程は、図４（Ｂ）の第２成膜工程に類似するが、反射膜ＲＭに対応する反射層ＲＬの成膜方法が異なる。反射層ＲＬは、図３等に示す反射膜ＲＭと異なり、スクリーン基板１の全表面即ち多数の立体部２ａの表面を一様に覆うように形成される。反射層ＲＬは、例えば図５（Ａ）に示す第１製造装置３００と同様の機構を有する蒸着型の成膜装置によって形成される。ただし、この場合の蒸発源装置３２０は、反射層ＲＬを形成するための第２成膜物質（具体的にはＡｌ、Ａｇ等）を射出する単一の射出装置のみを備えるものとなる。
【００８２】
図１６（Ｃ）の第３成膜工程は、図４（Ｃ）の第３成膜工程に類似するが、被覆膜ＩＭに対応する被覆層ＩＬの成膜方法が異なる。被覆層ＩＬは、図３等に示す被覆膜ＩＭと異なり、スクリーン基板１の全表面即ち多数の立体部２ａの表面上の反射層ＲＬを一様に覆うように形成される。被覆層ＩＬは、例えば図５（Ａ）に示す第１製造装置３００と同様の機構を有する蒸着型の成膜装置によって形成される。この場合、蒸発源装置３２０は、被覆層ＩＬを形成するための第３成膜物質（具体的にはＳｉＯ２等）を射出する単一の射出装置のみを備えるものとなる。
【００８３】
なお、図１６（Ｂ）及び１６（Ｃ）の工程は、単一の第１製造装置３００で一括して行うこともできる。この場合、蒸発源装置３２０のうち、第１射出装置３２０ａによって第２成膜物質の成膜を行い、第２射出装置３２０ｂによって第３成膜物質の成膜を行うことになる。
【００８４】
図１６（Ｄ）の部分除去工程では、超音波洗浄等の手法を用いて、反射層ＲＬ及び被覆層ＩＬを部分的に除去する。既に説明したように、光吸収性部材ＡＢ上に形成された反射層ＲＬは、スクリーン基板１に比較的弱く付着して剥離が容易な状態となる。従って、露出した光吸収性部材ＡＢ上に形成された反射層ＲＬや被覆層ＩＬは、洗浄等によって局所的に除去され、下地膜ＵＭ上に形成された反射層ＲＬや被覆層ＩＬは、スクリーン基板１に比較的強固に付着して立体部２ａの部分領域上に残留する。このように残留した反射層ＲＬ及び被覆層ＩＬは、反射膜ＲＭ及び被覆膜ＩＭとしてそれぞれ機能する。
【００８５】
反射層ＲＬ及び被覆層ＩＬの部分除去工程は、超音波洗浄に限らず様々な手法を用いることができる。例えば、サンドブラスト、ブラシ等の機械的な機構によって反射層ＲＬ及び被覆層ＩＬの不要部分を除去すること、超音波洗浄等に際して剥離用の薬剤を併用すること等が可能である。
【００８６】
本実施形態のスクリーン９１０によれば、下地膜ＵＭによってスクリーン基板１に対する反射膜ＲＭの付着強度を高めることができ、反射膜ＲＭを意図通りの箇所に形成することができ、その耐久性を高めることができる。これにより、画像品質が良好で安定した投影を行い得るスクリーン９１０を提供できる。
【００８７】
以上、各実施形態について説明してきたが、上記各実施形態は、本発明は上記実施形態に限定されるものではない。
【００８８】
まず、上記第１〜第４実施形態では、いずれも第２及び第３成膜工程について、図６等に示す第２製造装置５００を用い、スクリーン基板１を円筒形状のチャンバ１３０に沿って固定させて成膜の処理を行うものとしているが、第２及び第３成膜工程の処理については、他の製造装置を用いて行うことも可能である。例えば、図１７（Ａ）、１７（Ｂ）に示す第２製造装置７００により、第２及び第３成膜工程の処理を行ってもよい。より具体的に説明すると、第２製造装置７００は、平面上に配置されたスクリーン基板１に対して所定の角度から成膜物質Ｗを射出させるための蒸発源装置７２０と、蒸発源装置７２０から斜めに入射する成膜物質Ｗを遮断する一対のマスクＳＴとを備える。第２製造装置７００では、図中矢印ＡＷの方向にスクリーン基板１を平行移動させながら蒸発源装置７２０から反射膜や被覆膜となるべき成膜物質Ｗを射出して成膜を行う。この場合、一対のマスクＳＴ間のスリットＳＬを通過する間のみ成膜物質Ｗがスクリーン基板１上に蒸着し、それ以外の角度のついた状態でスクリーン基板１に入射する成膜物質Ｗは、一対のマスクＳＴにより遮断されスクリーン基板１に付着しない。この結果、第２製造装置７００は、図６等の第２製造装置５００によって作製されるものと同様な状態の反射膜や被覆膜の成膜をすることができるものとなっている。
なお、第５実施形態における下地膜ＵＭも、図１７（Ａ）、１７（Ｂ）に示す第２製造装置７００によって製造することができる。
【００８９】
また、上記各実施形態では、いずれも反射防止膜ＣＭや反射膜ＲＭ等の成膜方法の一例として、真空蒸着法を用いているが、この他にも、例えばイオンアシスト法、スパッタ法等によって成膜を行うことも可能である。
【００９０】
また、上記各実施形態に示す成膜方法は、いずれもスクリーン前面に凹凸形状を有し、当該凹凸形状の一部の領域に反射膜を有する種々のスクリーンについて適応可能であり、例えば、スクリーン前面にプリズム状の面を有するものやシリンドリカル形状の凹凸形状もの等についても、上記と同様の反射防止膜ＣＭや反射膜ＲＭ等の成膜が可能である。
【００９１】
また、２次元的に配置される多数の立体部２ａの配置パターンは、任意であり、例えば、ｘｙ方向即ちスクリーン１０の縦横方向について格子状に配置することができる。また、例えば、図２の交点Ｈを中心とする同心円上に並べて配置することもできる。
【符号の説明】
【００９２】
１０…スクリーン、  １…スクリーン基板、  ２ａ…立体部、  ２…表面部、  ＣＭ…反射防止膜、  ＲＭ…反射膜、  ＩＭ…被覆膜、  １００…プロジェクタ、  ３００…第１製造装置、  ５００…第２製造装置、  １２０、３２０…蒸発源装置、  １２０ａ、１２０ｂ、３２０ａ、３２０ｂ…射出装置、  １３０、３３０…チャンバ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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