(57)【要約】【課題】複数のノズルから連続噴射するスプレーを遮蔽板で制御してオフセット印刷機のインキキーセッティングに対応した適正量の有効湿し水スプレーをダンプニングローラに連続的に供給する。【解決手段】スプレーパターン周縁の一部がほぼ直線部３ａをなし、該直線部の両端を基点として繋がり下部が半円弧形または多角形のスプレーパターン周縁３ｂを持った底面のスプレーパターンを形成する複数の充錐型スプレーノズル４に対峙してダンプニングローラＲとスプレーノズル４の間においてダンプニングローラの長手方向に対してスプレー遮蔽板６１を配し、ダンプニングローラの回転方向に対するスプレー上下幅Ｗを規定する。スプレー遮蔽板は一つまたは分割された遮蔽板からなり、それぞれの遮蔽板はスプレーノズルまたは印刷機のインキキーに対応して移動可能である。【選択図】図１
2010143029.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
オフセット印刷機と組み合わせるために、ダンプニングローラの長手方向に沿って開口を持ったスプレーユニットと、
前記スプレーユニットのハウジング内の長手方向に横一列に配備され、前記ダンプニングローラに向けて湿し水をスプレーする複数のスプレーノズルと、
前記複数のスプレーノズルに対峙して前記ダンプニングローラと前記スプレーノズルの間において前記ダンプニングローラの長手方向に対して配備された少なくとも一つのスプレー遮蔽板を有し、該スプレー遮蔽板が前記ダンプニングローラの回転方向に対するスプレー上下幅を規定するスプレー遮蔽手段と、を備えていることを特徴とするスプレーダンプナー装置。
【請求項２】
前記スプレー遮蔽手段が前記ダンプニングローラ長手方向に対して一つまたは複数に分割された遮蔽板で構成されていることを特徴とする請求項１に記載のプレダンプナー装置。
【請求項３】
前記複数のスプレーノズルはスプレーパターン周縁の一部がほぼ直線部を形成し、該直線部の両端を基点として、おおむね半円弧状の周縁を持った底面が規定されたスプレーパターンを形成する充半円弧錐スプレーノズルであることを特徴とする請求項1に記載のスプレーダンプナー装置。
【請求項４】
前記複数のスプレーノズルはスプレーパターン周縁の一部がほぼ直線部を形成し、該直線部の両端を基点として、少なくとも正方形、長方形、台形、三角形を含む多角形の周縁を持った底面が規定されたスプレーパターンを形成する充角錘スプレーノズルであることを特徴とする請求項1に記載のスプレーダンプナー装置。
【請求項５】
前記複数のスプレーノズルはスプレーパターンのほぼ直線部がダンプニングローラ長手方向に対してほぼ横一線に揃って噴射するように配備されていることを特徴とする請求項３または４に記載のスプレーダンプナー装置。
【請求項６】
前記スプレー遮蔽板の一部または全体が有効スプレー交叉位置よりスプレーノズル側に配備されたことを特徴とする請求項１または２に記載のスプレーダンプナー装置。
【請求項７】
前記分割されたスプレー遮蔽板が前記スプレーノズルまたはオフセット印刷機のインキキーに対応して設けられていることを特徴とする請求項２に記載のスプレーダンプナー装置。
【請求項８】
遮蔽板移動機構を備え、該遮蔽板移動機構により前記スプレー遮蔽板を移動させてスプレーユニットの長手方向ほぼ全幅または一部の有効スプレーのダンプニングローラ回転方向上下幅を変えることを特徴とする請求項１，２または７に記載のスプレーダンプナー装置。
【請求項９】
前記遮蔽板移動機構を制御する電気信号を発する制御回路を印刷機および/または印刷機周辺機器の制御装置に配することを特徴とする請求項８に記載のスプレーダンプナー装置。
【請求項１０】
前記スプレーノズルから噴射するスプレーが一流体または二流体からなる湿し水スプレーであることを特徴とする請求項１に記載のスプレーダンプナー装置。
【請求項１１】
前記スプレーユニットのハウジング内面、内部構造物表面または前記プレーノズルのスプレーパターン形成部および/または該形成部周辺に超親水物質を配する事を特徴とする請求項１に記載のスプレーダンプナー装置。
【請求項１２】
前記スプレーユニットのハウジング内面、内部構造物表面または前記プレーノズルのスプレーパターン形成部および/または該形成部周辺に光触媒からなる超親水物質を配する事を特徴とする請求項１に記載のスプレーダンプナー装置。
【請求項１３】
前記スプレーユニットハウジング内に可視光線または紫外線光源を配備することを特徴とする請求項１２に記載のスプレーダンプナー装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はオフセット印刷機における湿し水を供給するスプレーダンプナー装置に関し、特にノズルから連続噴射する湿し水スプレーを遮蔽板で制御してダンプニングローラに適正量の有効スプレーを供給するスプレーダンプナー装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来のオフセット印刷機用スプレーダンプナーはスプレーユニットハウジング内の複数のスプレーノズル、スプレープラグ、ダンパー、ソレノイド等から成るスプレーノズル組からミリセカンド単位の瞬間的短時間で断続的に湿し水の噴射を繰り返し行いノズルのサイズ、噴射の圧力および頻度などの条件により決まる水量でダンプニングローラ上に散布する水量を調節し管理している。断続的に所定の水量を供給するためには有効なスプレーパターンの形成上扇形または均等扇形スプレーノズルを使用することが不可欠となっている。また、所定の時間内に所定の水量をダンプニングローラ上に供給する場合には一般的に所定の水圧の基にそれぞれのスプレーノズルから噴射する湿し水の噴射時間を予め決めた一定時間とし且つ、所定の時間内における噴射頻度を調節することでダンプニングローラに供給する水量を調節する方法がとられている。所定の噴射時間において噴射頻度が高いほどダンプニングローラ上及びダンプニングローラから刷版に湿し水を多く供給できる。一方、噴射頻度が少ない場合は湿し水の供給は少なく、噴射頻度の多少を調節することでダンプニングローラに対する湿し水の供給量を調節している。
【０００３】
印刷機の運転スピード、インキの使用量に合わせてダンプニングローラ上にスプレーする水量を調節して適正に管理することでインキと水のバランスが最善に保たれ最善の印刷紙面が得られ、インキ、湿し水、損紙等資材の使用量が低減し、印刷立ち上がり時間短縮、稼働率向上の効果をもたらす。
しかし、例えば一秒間に３０回にも及ぶミリセカンド単位の断続噴射を継続的に行っても、高速輪転印刷機においては印刷紙の走行スピードが一秒間に十数メートルに達するため、断続的なスプレーの噴射ではダンプニングローラ上の湿し水の水量は噴射した瞬間から次の噴射までの間に暫減し、次に噴射した瞬間にまた元の水量に戻り、また暫減するという現象を繰り返すため版胴上のインキと水のバランスが常に変化すると言う問題を抱えている。対策として噴射時間または噴射休止時間あるいはその双方を短縮し噴射頻度を極端に高めてダンプニングローラ上の水量増減の振幅を極力抑えると言う方法もとられているがスプレーの噴射と噴射の間の湿し水の増減という基本的な問題の解決に至っていない。
【０００４】
上記スプレーノズル組は印刷機械の稼働時間に伴って月単位の比較的短期間に数億回を超える莫大な回数の噴射動作を繰り返す為にプラグまたはダンパーの磨耗、ヘタリ、変形、スプリングの疲労、ソレノイドの経時不具合等々でスプレーパターンの形状および精度の維持が難しく突発的な印刷不良、損紙の発生、印刷作業の中断等々大きな問題に発展するリスクを避けられない。
【０００５】
さらに従来のスプレーダンプナーの限界として湿し水供給量の調節がスプレーユニット内に配備した複数のスプレーノズルのノズル毎のスプレー噴射量調節だけの範囲に限定されておりオフセット印刷機のインク壷のインクキーがセグメント単位で調節できることに対しスプレーダンプナーでは湿し水供給がインキセグメント毎に対応できず特に緻密な印刷品質を要求される商業印刷においては省エネルギー、省資源、環境保護面で効果の大きいスプレーダンプナーの使用が困難であった。
【０００６】
上記問題の解決策としては引用文献１あるいは引用文献２に開示されている様にノズルから連続的に噴射されるスプレーをスプレーノズル（スプレーヘッド）とダンプニングローラの中間でローラ長手方向に対して上下で垂直に遮蔽してダンプニングローラに達するスプレーの水量を管理する手段が提案されている。これら手段では遮蔽したスプレーが飛び散り、特に遮蔽手段上方で遮蔽されたスプレーが無秩序に下方に滴り落ちてスプレーパターンを乱して目的とする適正なパターンで適量の湿し水をダンプニングローラに供給出来ないという決定的な欠点をもっていた。
【０００７】
また、引用文献３は二流体スプレーと扁平フード開口部を持つものである。引用文献４は連続式スプレーのパターンを変化させる方法としては複数のスプレーノズルから噴出したスプレーが開口部を持つ遮蔽板を通してダンプニングローラ上に横軸方向に互いに干渉させぬ範囲で与え、さらに遮蔽板開口部をシャッターで横幅変化を与えあるいは横軸方向に周期的に往復して平均化した湿し水供給するものである。
【０００８】
さらに、従来にない少なくともスプレーパターン上部の縁が直線的で該上部の縁両端を基点として半円弧形または多角形状の周縁をもつ底面が規定されたスプレーパターンを形成するスプレーノズルを使用すること、またインクキーのセグメント毎のインク量調整に対応するスプレーダンプナーは従来に無かった。
【０００９】
【特許文献１】特開昭５９−１５９３４５
【特許文献２】特開平５−１９３０９０
【特許文献３】特開昭５８−３１８５４
【特許文献４】英国特許１４５２８３１
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明の目的はノズルから連続噴射する湿し水スプレーをオフセット印刷機のインキキーセッティングに見合った適正量の有効スプレーを容易にダンプニングローラに供給することができるスプレーダンプナー装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記の目的を達成するため、請求項１の発明に係るスプレーダンプナー装置はオフセット印刷機と組み合わせるために、ダンプニングローラの長手方向に沿って開口を持ったスプレーユニットと、スプレーユニットのハウジング内の長手方向に横一列に配備されダンプニングローラに向けて湿し水をスプレーする複数のスプレーノズルと、複数のスプレーノズルに対峙してダンプニングローラとスプレーノズルの間においてダンプニングローラの長手方向に対して配備された少なくとも一つのスプレー遮蔽板を有し、該スプレー遮蔽板がダンプニングローラの回転方向に対するスプレー上下幅を規定するスプレー遮蔽手段とを備えていることを特徴としている。
【００１２】
請求項１に関連する他の発明は次の構成を特徴とする。
（１）スプレー遮蔽板がダンプニングローラ長手方向に対して一つまたは複数に分割された遮蔽板で構成する。
（２）複数のスプレーノズルはスプレーパターン周縁の一部がほぼ直線部を形成し、該直線部の両端を基点として、おおむね半円弧または多角形状の周縁を持った底面が規定されたスプレーパターンを形成する充錐スプレーノズルである。
（３）複数のスプレーノズルはスプレーパターンのほぼ直線部がダンプニングローラ長手方向に対してほぼ横一線に揃って噴射するように配備されている。
（４）スプレーパターンのほぼ直線部を下方に位置し底面を上方に位置してスプレーノズルを配備した時はスプレー遮蔽板の一部または全体を有効スプレー交叉位置よりスプレーノズル側に配備する。
（５）分割スプレー遮蔽板はスプレーノズルまたはオフセット印刷機のインキキーに対応して設ける。
（６）遮蔽板移動機構はスプレー遮蔽板を移動させてスプレーユニットの長手方向ほぼ全幅または一部の有効スプレーのダンプニングローラ回転方向上下幅を変える。
（７）遮蔽板移動機構を制御する電気信号を発する制御回路を印刷機および/または印刷機周辺機器の制御装置に配する。
（８）スプレーノズルから噴射するスプレーは一流体または二流体からなる湿し水スプレーである。
（９）スプレーユニットのハウジング内面、内部構造物表面またはプレーノズルのスプレーパターン形成部および/または該形成部周辺に超親水物質を配する。
（１０）超親水物質は光触媒が好ましい。この場合はスプレーユニットハウジング内に可視光線または紫外線光源を配備する。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、複数のスプレーノズルから連続噴射する湿し水スプレーを少なくとも一つのスプレー遮蔽板の移動によりオフセット印刷機のインキキーセッティングに見合った適正量の有効スプレーを容易にダンプニングローラに供給することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
本発明は従来型の充円錐または均等扇形ノズルに依存せずスプレーパターン周縁の一部がほぼ直線部をなし、該直線部の両端を基点として半円弧形または多角形の周縁を持った底面を形成し、各ノズルのスプレーパターンのほぼ直線部をダンプニングローラ長手方向に向かってほぼ横一線に揃え、半円弧形または多角形の周縁側のスプレーの所定量を遮断することで実現した。
本発明における充半円弧錘または充多角錘ノズルとはスプレーパターンの上縁がほぼ直線で、半円弧または多角形を形成する底辺および底面を持ち底面外の一点を結ぶ三角形を側視形とする立体のスプレーを形成し、上記底面の全面にわたって平均してほぼ均等なサイズの水滴をスプレー供給するノズルである。充錘ノズルは充半円弧錘および充多角錘ノズルの総称である。さらに充半円弧錘、充多角錘または充錘スプレーとは充半円弧錘、充多角錘または充錘スプレーノズルから噴射形成されるスプレーを意味する。
本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。
【実施例１】
【００１５】
図１は本発明に係るスプレーダンプナー装置を側方から見た模式図、図２は図１を上側から見たダンプニングローラ長手方向に配置された複数のスプレーノズルから噴射されたスプレーの左右分布模式図である。図３Ａ（１）は側方から見た充錘スプレーのスプレーパターンを示し、図３Ａ（２）は上方から見た充錘スプレーのスプレーパターンを示し、遮蔽されない状態でノズルから噴射されたスプレーパターン上部の縁がほぼ直線部をなし、該直線部の両端を基点としておおむね半円弧状のスプレーパターン下部を規定する半円弧形（Ａ）の底面を持ったスプレーパターンの説明図である。また、図３Ｂ（１）は側方から見た多角形（Ｂ）のスプレーパターン、図３Ｂ（２）は上方から見たスプレーパターンを示す。
【００１６】
本実施形態のスプレーパターンはほぼ直線の一辺側（Ａ１またはＢ１）をスプレーパターン上部の縁として半円弧形または多角形側（Ａ２またはＢ２）をスプレーパターン下部として規定するスプレーノズル４が配備される。
【００１７】
ダンプニングローラ長手方向に形成するスプレーパターンを説明する。図３Ｌは半円弧状スプレーパターンを示す。
図２に示すように、複数のスプレーノズル４はダンプニングローラ長手方向に横一列にほぼ直線に配置され、ノズル口の形状によって異なるスプレーパターンＳＰを規定している。図３Ａに示すように、スプレーパターンＳＰの上縁Ａ１はほぼ直線部３ａであって、この直線部３ａは複数のスプレーノズル４の形成するスプレーパターンＳＰがダンプニングローラ長手方向に対してほぼ横一線に揃っており、スプレーパターンＳＰの上縁Ａ１を成す直線部３ａの両端を基点としておおむね半円弧状のスプレーパターン周縁３ｂを持った底面Ａ２が規定されている。各スプレーノズル４の上下位置を調整することで、各スプレーパターンＳＰの上縁Ａ１をほぼ直線に揃えることができる。図４は図３Ａの半円弧状スプレーパターンＳＰを示す。
【００１８】
異なる形のスプレーパターンについて説明する。変形例１は半円弧状のスプレーパターン下部Ｃ２を直線Ｃ1の両端から直角にカットされた直線部分Ｃ３を持つスプレーパターン（図３Ｃ）である。変形例２は多角形状のスプレーパターン下部Ｄ２を直線Ｄ１の両端から直角にカットされた直線部分Ｄ３を持つスプレーパターン（図３Ｄ）である。変形例３は円弧状のスプレーパターン下部Ｅ２を直線Ｅ１の両端から該直線Ｅ１に対して下方に鋭角にカットされた直線部分Ｅ３を持つスプレーパターン（図３Ｅ）である。具体例４は直線Ｆ１に対して下方に鈍角にカットされた直線部分Ｆ３を持つスプレーパターン（図３Ｆ）である。変形例５は円弧状のスプレーパターン下部Ｇ２を直線Ｇ１の両端から所定の曲率で形成されたアール部分Ｇ３を持つスプレーパターン（図３Ｇ）である。変形例６は多角形状のスプレーパターン下部Ｈ２を直線Ｈ１の両端から所定の曲率で形成されたアール部分Ｈ３を持つスプレーパターン（図３Ｈ）である。変形例７は正方形状のスプレーパターン下部Ｉ２を有するスプレーパターン（図３Ｉ）である。変形例８は長方形状のスプレーパターン下部Ｊ２を有するスプレーパターン（図３Ｊ）である。変形例９は正方形および長方形状のスプレーパターン下部Ｋ２の二つ隅にアール部分を持つスプレーパターン（図３Ｊ）である。
【００１９】
スプレーダンプナー装置はオフセット印刷機と組み合わせるために、ダンプニングローラＲの長手方向Ｌに沿って開口を持ったスプレーユニット１と、このスプレーユニット１のハウジング２内の長手方向に横一列に配備され水つけローラＲに向けて湿し水をスプレーする複数のスプレーノズル４と、複数のスプレーノズル４からスプレーされた湿し水のダンプニングローラＲの回転方向に対する有効スプレー上下幅Ｗを規定するスプレー遮蔽手段６とを備えている。ここで、スプレーとは一流体または二流体からなる湿し水スプレーである。ダンプニングローラとはダンプニングローラトレーンまたはインキローラトレーンの中で湿し水スプレーを噴射する対象となるローラである。
【００２０】
スプレー遮蔽手段６は複数のスプレーノズル４に対峙してハウジング２内の長手方向に配備され、スプレー遮蔽板６１によって有効スプレー上下幅Ｗが規定される。スプレー遮蔽板６１は複数のスプレーノズル４の配列方向に直角を成すハウジング内面を形成する一方の壁２ｂに設けられている。
【００２１】
スプレー遮蔽板６１はスプレーノズル４に対して前後方向（図１の矢印ａ方向）に移動可能に設けられている。遮蔽板移動機構２０はアクチュエータ２１により回転される送りネジ軸２２に、スプレー遮蔽板６１が螺合されている。送りネジ軸２２の正逆回転によりスプレー遮蔽板６１をスプレーノズル４に対して前後方向に移動させ、スプレー遮蔽板６１がスプレーノズル４から噴射するスプレーを遮蔽するスプレー遮蔽板の先端６ａの位置を変えてスプレーユニット１の長手方向ほぼ全幅または一部の有効スプレー上下幅Ｗを変える。
【００２２】
本装置には遮蔽板移動機構２０のアクチュエータ２１を制御する電気信号を発する制御回路が印刷機および/または印刷機周辺機器の制御装置に設けられる。有効スプレーとはインキキーセッティングに対して最適の湿し水量をダンプニングローラに供給するスプレーの上下左右幅を規定、調節したスプレーパターンを意味する。
【００２３】
図５は本発明の第２の実施形態であるスプレーダンプナー装置を側方から見た模式図である。本装置はスプレーユニット１の開口がダンプニングローラＲに対してほぼ水平になるよう設置される。スプレー遮蔽板６１は横方向の有効スプレー側となる上下方向に移動可能に配備されており、制御回路からの指令により遮蔽板移動機構３０が作動し、移動される。スプレー遮蔽板６１をダンプニングローラＲに近づけることで、有効スプレー上下幅Ｗの調整がし易くなる。噴射されるスプレーの水量が多くスプレー遮蔽板６１だけでは処理しきれない場合はスプレー遮蔽板６１とノズル４との間に第２のスプレー遮蔽板６１ａが配置される。第２のスプレー遮蔽板６１ａはスプレー遮蔽板６１の手前で余剰スプレー３ｅを遮蔽するが、有効スプレーの上下幅Ｗまたは左右調整には関係ないので第２のスプレー遮蔽板６１ａはなくても良い。
【００２４】
図６は本発明の第３の実施形態であるスプレーダンプナー装置を側方から見た模式図である。本装置はスプレー遮蔽板６１をハウジング２の横方向を囲う一方の壁部２４に形成するものである。壁部２４はその一端側をハウジング２に軸支２５され、ダンプニングローラＲに近い他端側が有効スプレーの方向に折り曲げられてスプレー遮蔽板６１を形成している。遮蔽板移動機構３０はモータ３１とネジ軸３２からなり、このネジ軸３２が壁部２４の軸支２５側に連係されている。スプレー遮蔽板６１は制御回路の指令によりモータ３１を回転し、ネジ軸３２の正逆回転により壁部２４を図示の矢印方向に作動させ、スプレー幅Ｗを調節する。
【００２５】
図７は複数の板部材が組み合わされて構成される分割スプレー遮蔽板６１ｎの側面図である。
スプレー遮蔽手段６は複数のスプレーノズル４またはインキキー毎に対応して構成された分割スプレー遮蔽板６１ｎをハウジング２内の横方向（ダンプニングローラ長手方向）に配置されている。分割スプレー遮蔽板６１ｎは複数のスプレーノズルまたはインキキーの配置間隔に等しい幅を持っており、横一列に並んだスプレーノズル４に対して直角またはスプレーノズル４に対して斜め前方に折り曲げた形状に設けられている。
【００２６】
ダンプニングローラ回転方向に対するスプレー上下幅Ｗをダンプニングローラ長手方向に亘って変える機構について説明する。図８は図７のＢ−Ｂ矢視図である。
スプレー遮蔽板６１ｎはスプレーユニットハウジングの長手方向において複数の分割スプレー遮蔽板６１−１，６２−２，・・で構成される。各分割スプレー遮蔽板はスプレーノズル方向に前後移動可能に設けられており、ブラケット６０がスプレーノズル４側に延びている。ブラケット６０にはアクチュエータ２１によって回転される送りネジ軸２２が螺合されている。
【００２７】
アクチュエータ２１は制御回路によって正逆転が制御される。それぞれの分割スプレー遮蔽板６１ｎはスプレーノズル４に対して矢印方向に移動してスプレーユニット１の長手方向ほぼ全幅または一部の有効スプレーのダンプニングローラ回転方向に対する上下幅が変えられる。
【００２８】
図９は分割スプレー遮蔽板の変形例を示す側面図、図１０は図９のＣ−Ｃ断面図、図１１は分割スプレー遮蔽板の平面図である。本例は図５に示す実施の形態であるスプレー遮蔽板を分割した構成である。
スプレー遮蔽板６１ｎは受皿２３内に配された複数の分割スプレー遮蔽板６１−１，６１−２，・・・で構成されている。それぞれの分割スプレー遮蔽板は個別のアクチュエータ３０で回転される送りネジ軸３３によって矢印で示す上下方向に移動する。ここで、それぞれの分割スプレー遮蔽板のアクチュエータ３０は遮蔽板移動機構を構成する。
【００２９】
インキキーおよびスプレー遮蔽板によるインキおよび湿し水量の設定／調節はそれぞれ独立して或いは連動して、また手動或いは自動操作が可能である。
オフセット印刷機におけるインキキーの設定／調節とは版胴に供給するインキ量の設定／調節である。またオフセット印刷におけるスプレーダンプナー方式の湿し水量の設定／調節とは版胴に供給される湿し水の量の設定/調節である。
【００３０】
印刷機のインキ壷には版の全幅をある幅のセグメントに分割し、その分割されたセグメント毎にインキの供給量を調整するためのインキキーのメカニズムを備えている。インキキーは紙面の印刷状態によってオペレータが手動、あるいは外部信号（画像情報）から自動で設定或いは補正される。
一般的にスプレーダンプナーは版の全幅をスプレーノズル毎のセグメントに分けてノズル単位のセグメントで湿し水の供給量を制御しているが、本発明ではスプレーノズル単位だけでなく、インキキーと同じ数の分割スプレー遮蔽板のセグメント数にも対応させて設定／調節を可能としている。
【００３１】
印刷に先立って、印刷の画像データより、インキキー設定データ、遮蔽板設定データ、および紙面データが印刷機制御装置にインプットされ、このデータに基づいて印刷機がセットされ運転を開始する。クローズドループカラーシステムを装備した印刷機においては、この印刷の結果は印刷機上に設置された紙面データ検知センサで検知され、補正が必要な場合は補正信号が出力される。補正信号による出力はオペレータが作業内容や作業マニュアルに基づいて制御方式を選択し、湿し水優先か、インク優先かを予め設定する。
【００３２】
湿し水優先或いはインク優先のいずれかの補正でも、予め画像データに基づいて設定された標準値に対して、補正できる数値のリミット（上限値、下限値）を定め、このリミットの中で補正できない場合は湿す水からインクに、またはその逆に移行する。この補正は適切な条件を設定することによりいずれかを優先させるという選択をせずに、両者を平行して制御することも可能である。
【００３３】
インキキーの操作によるインキ量の補正は版胴に達するまでの途中に介在するインクローラの本数が多く、またインキの粘度があるため補正の結果が印刷紙面に反映されるまでに時間がかかるが、一方、湿し水量の補正の結果は速やかに反映される。本発明によれば、自動制御装置の中にインキキー、スプレー遮蔽板の補正方法を自由に組み合わせることで、印刷現場の状況に迅速且つ適切な対応が可能になる。
【００３４】
インキキー毎のインキ量調整に対応する分割スプレー遮蔽板の設定について説明する。図１２はインキキー毎のインキ量と分割スプレー遮蔽板毎の設定位置の関係を示す説明図である。本例ではスプレー遮蔽板を分割スプレー遮蔽板で構成したもので説明する。
【００３５】
版胴に供給されるインクキー毎のインキ量が決定されると（図１２（１））、このインクキー毎のインキ量に対応した分割スプレー遮蔽板を有効スプレー域に移動させる（図１２（２））。分割スプレー遮蔽板で規定されたインキ供給パターンに対応してダンプニングローラに供給される湿し水パターンが決まる（図１２（３））。
【００３６】
インキキー毎に決定されたインキ量に対してスプレーユニット側がスプレーノズル毎にしか対応できない場合の分割スプレー遮蔽板の設定について説明する。図１３（１）に示す例ではインキキー毎に設定されたインキ量、図１３（１）に対して、スプレー側は図１３（２）のごとくどちらかと言えば大まかな設定となり、スプレーノズル毎の単位でインキ量の多いインキキーセグメントに合わせるか、少ないセグメントのインキ量に合わせるか、どちらかに近い平均値とするかのいずれか所定の湿し水量を供給することになる。その場合は図１１（３）に示されたような湿し水スプレーパタ−ンとなる。
【００３７】
図１４は本発明の第４の実施形態であるスプレーダンプナー装置を側面から見た模式図である。本装置はスプレーユニット1の開口がダンプニングローラＲに対してほぼ水平になるよう設置される。複数の充錘スプレーノズルは、図１５に示すスプレーパターンＳＰを形成するように配備される。スプレーパターンＳＰはスプレーパターン上部のほぼ直線をなす縁を下辺として上部がほぼ直線をなす縁の両端を基点とした半円弧形または多角形のスプレーパターンの底面を形成する。
【００３８】
この実施の形態は有効スプレー幅３ｃと３ｄのスプレー交叉位置３よりスプレーノズル４側にスプレー遮蔽手段６を配置しなければ有効スプレーパターンを乱すのみならずスプレーをインキキー対応させることは困難となる。本例のスプレー遮蔽板７はスプレーユニットハウジング２の上部２aに取り付けられている。遮蔽板移動機構２０aはアクチュエータ２１aによりスプレー遮蔽板（７）と螺合した送りネジ軸２２aを回転させスプレー遮蔽板７を前後に移動し、スプレーを上方から遮蔽し有効スプレー上下幅（Ｗ）を調節する。
【００３９】
本実施形態においては有効スプレーパターンを乱すことの無いようにスプレー遮蔽板７の前方エッジ７aをスプレーノズル噴射孔方向に傾斜させて該前方エッジをスプレー交叉位置３（図２参照）に対してスプレーノズル４側に配備し、遮蔽した余剰スプレー３ｅの水流をスプレー交叉位置３に対してスプレーノズル側の有効スプレー域外に水流ガイドで誘導して排水処理をする。スプレー遮蔽板７は複数のスプレーノズル４に対して有効スプレーの上下幅（Ｗ）を調節するが、印刷機のインキキーに対応して有効スプレーの上下幅（Ｗ）を調節するためにはスプレー遮蔽板７とダンプニングローラＲの間にインキキー対応の分割スプレー遮蔽板を新たに設ける。
【００４０】
スプレーユニット内壁、内部構造物、スプレーノズルのスプレーパターン形成部または該形成部周辺に光触媒を配することで印刷工場内に浮遊するインキミスト、紙粉、塵埃等が各部に付着堆積することを防ぎ、有効スプレーパターンの乱れを防ぎ、該スプレーユニットのメンテナンス作業を無くすか大幅に減少させる。この場合はスプレーユニットの内部に、例えば図１６に示すようにスプレーユニット２の上部天井位置に光源２４を配備することが好ましい。光触媒は光源によって活性効果を更に促進する。
【図面の簡単な説明】
【００４１】
【図１】本発明に係るスプレーダンプナー装置を側方から見た模式図である。
【図２】図１のＡ−Ａ矢視図である。
【図３Ａ】ほぼ直線の一辺を持つスプレーの説明図で、（１）は側方から見た充錘スプレーのスプレーパターン、（２）は上方から見た充錘スプレーのスプレーパターンを示す図である。
【図３Ｂ】多角形のスプレーパターンで、（１）は側方から見たスプレーパターン、（２）は上方から見たスプレーパターンを示す図である。
【図３Ｃ】変形例１のスプレーパターン図である。
【図３Ｄ】変形例２のスプレーパターン図である。
【図３Ｅ】変形例３のスプレーパターン図である。
【図３Ｆ】変形例４のスプレーパターン図である。
【図３Ｇ】変形例５のスプレーパターン図である。
【図３Ｈ】変形例６のスプレーパターン図である。
【図３Ｉ】変形例７のスプレーパターン図である。
【図３Ｊ】変形例８のスプレーパターン図である。
【図３Ｋ】変形例９のスプレーパターン図である。
【図４】図３Ａの半円弧状スプレーパターンＳＰを示す図である。
【図５】本発明の第２の実施形態であるスプレーダンプナー装置を側方から見た模式図である。
【図６】本発明の第３の実施形態であるスプレーダンプナー装置を側方から見た模式図である。
【図７】複数の板部材が組み合わされて構成される分割スプレー遮蔽板の側面図である。
【図８】図７のＢ−Ｂ矢視図である。
【図９】分割スプレー遮蔽板の変形例を示す側面図である。
【図１０】図９のＣ−Ｃ断面図である。
【図１１】分割スプレー遮蔽板の平面図である。
【図１２】インキキー毎のインキ量と分割スプレー遮蔽板毎の設定位置の関係を示す説明図である。
【図１３】分割スプレー遮蔽板の設定の変形例を示す。
【図１４】本発明の第４の実施形態であるスプレーダンプナー装置を側面から見た模式図である。
【図１５】第４の実施形態のスプレーパターンＳＰを示す図である。
【図１６】スプレーユニットの内部に光触媒と光源を配した実施の形態の説明図である。
【符号の説明】
【００４２】
１    スプレーユニット
２    ハウジング
３    横方向有効スプレー交叉位置
３ａ  有効スプレー直線部
３ｂ  有効スプレー下限部
３ｃ，３ｄ  横方向有効スプレー
３ｅ  余剰スプレー
４    スプレーノズル
６    スプレー遮蔽板（スプレー遮蔽手段）
６１ｎ  分割スプレー遮蔽板
２０  遮蔽板移動機構
２１  アクチュエータ
２３  受皿
２２  送りネジ軸
２４  光源
Ｒ    ダンプニングローラ
Ｗ    有効スプレー上下幅
【図１】
2010143029.tif 000003
【図２】
2010143029.tif 000004
【図３Ａ】
2010143029.tif 000005
【図３Ｂ】
2010143029.tif 000006
【図３Ｃ】
2010143029.tif 000007
【図３Ｄ】
2010143029.tif 000008
【図３Ｅ】
2010143029.tif 000009
【図３Ｆ】
2010143029.tif 000010
【図３Ｇ】
2010143029.tif 000011
【図３Ｈ】
2010143029.tif 000012
【図３Ｉ】
2010143029.tif 000013
【図３Ｊ】
2010143029.tif 000014
【図３Ｋ】
2010143029.tif 000015
【図４】
2010143029.tif 000016
【図５】
2010143029.tif 000017
【図６】
2010143029.tif 000018
【図７】
2010143029.tif 000019
【図８】
2010143029.tif 000020
【図９】
2010143029.tif 000021
【図１０】
2010143029.tif 000022
【図１１】
2010143029.tif 000023
【図１２】
2010143029.tif 000024
【図１３】
2010143029.tif 000025
【図１４】
2010143029.tif 000026
【図１５】
2010143029.tif 000027
【図１６】
2010143029.tif 000028
【手続補正書】
【提出日】平成21年6月1日(2009.6.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
オフセット印刷機と組み合わせるために、ダンプニングローラの長手方向に沿って開口を持ったスプレーユニットと、
前記スプレーユニットのハウジング内の長手方向に横一列に配備され、前記ダンプニングローラに向けて湿し水をスプレーする複数のスプレーノズルと、
前記複数のスプレーノズルに対峙して前記ダンプニングローラと前記スプレーノズルの間において前記ダンプニングローラの長手方向に対して配備された少なくとも一つのスプレー遮蔽板を有し、該スプレー遮蔽板が前記ダンプニングローラの回転方向に対するスプレー上下幅を規定するスプレー遮蔽手段と、を備えていることを特徴とするスプレーダンプナー装置。
【請求項２】
前記スプレー遮蔽手段が前記ダンプニングローラ長手方向に対して一つまたは複数に分割された遮蔽板で構成されていることを特徴とする請求項１に記載のプレダンプナー装置。
【請求項３】
前記複数のスプレーノズルはスプレーパターン周縁の一部がほぼ直線部を形成し、該直線部の両端を基点として、おおむね円弧状の周縁を持った底面が規定されたスプレーパターンを形成する充円弧錐スプレーノズルであることを特徴とする請求項1に記載のスプレーダンプナー装置。
【請求項４】
前記複数のスプレーノズルはスプレーパターン周縁の一部がほぼ直線部を形成し、該直線部の両端を基点として、少なくとも正方形、長方形、台形、三角形を含む多角形の周縁を持った底面が規定されたスプレーパターンを形成する充角錘スプレーノズルであることを特徴とする請求項1に記載のスプレーダンプナー装置。
【請求項５】
前記複数のスプレーノズルはスプレーパターンのほぼ直線部がダンプニングローラ長手方向に対してほぼ横一線に揃って噴射するように配備されていることを特徴とする請求項３または４に記載のスプレーダンプナー装置。
【請求項６】
前記スプレー遮蔽板の一部または全体が有効スプレー交叉位置よりスプレーノズル側に配備されたことを特徴とする請求項１または２に記載のスプレーダンプナー装置。
【請求項７】
前記分割されたスプレー遮蔽板が前記スプレーノズルまたはオフセット印刷機のインキキーに対応して設けられていることを特徴とする請求項２に記載のスプレーダンプナー装置。
【請求項８】
遮蔽板移動機構を備え、該遮蔽板移動機構により前記スプレー遮蔽板を移動させてスプレーユニットの長手方向ほぼ全幅または一部の有効スプレーのダンプニングローラ回転方向上下幅を変えることを特徴とする請求項１，２または７に記載のスプレーダンプナー装置。
【請求項９】
前記遮蔽板移動機構を制御する電気信号を発する制御回路を印刷機および/または印刷機周辺機器の制御装置に配することを特徴とする請求項８に記載のスプレーダンプナー装置。
【請求項１０】
前記スプレーノズルから噴射するスプレーが一流体または二流体からなる湿し水スプレーであることを特徴とする請求項１に記載のスプレーダンプナー装置。
【請求項１１】
前記スプレーユニットのハウジング内面、内部構造物表面または前記プレーノズルのスプレーパターン形成部および/または該形成部周辺に超親水物質を配する事を特徴とする請求項１に記載のスプレーダンプナー装置。
【請求項１２】
前記スプレーユニットのハウジング内面、内部構造物表面または前記プレーノズルのスプレーパターン形成部および/または該形成部周辺に光触媒からなる超親水物質を配する事を特徴とする請求項１に記載のスプレーダンプナー装置。
【請求項１３】
前記スプレーユニットハウジング内に可視光線または紫外線光源を配備することを特徴とする請求項１２に記載のスプレーダンプナー装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
さらに、従来にない少なくともスプレーパターン上部の縁が直線的で該上部の縁両端を基点として円弧形または多角形状の周縁をもつ底面が規定されたスプレーパターンを形成するスプレーノズルを使用すること、またインクキーのセグメント毎のインク量調整に対応するスプレーダンプナーは従来に無かった。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
請求項１に関連する他の発明は次の構成を特徴とする。
（１）スプレー遮蔽板がダンプニングローラ長手方向に対して一つまたは複数に分割された遮蔽板で構成する。
（２）複数のスプレーノズルはスプレーパターン周縁の一部がほぼ直線部を形成し、該直線部の両端を基点として、おおむね円弧または多角形状の周縁を持った底面が規定されたスプレーパターンを形成する充錐スプレーノズルである。
（３）複数のスプレーノズルはスプレーパターンのほぼ直線部がダンプニングローラ長手方向に対してほぼ横一線に揃って噴射するように配備されている。
（４）スプレーパターンのほぼ直線部を下方に位置し底面を上方に位置してスプレーノズルを配備した時はスプレー遮蔽板の一部または全体を有効スプレー交叉位置よりスプレーノズル側に配備する。
（５）分割スプレー遮蔽板はスプレーノズルまたはオフセット印刷機のインキキーに対応して設ける。
（６）遮蔽板移動機構はスプレー遮蔽板を移動させてスプレーユニットの長手方向ほぼ全幅または一部の有効スプレーのダンプニングローラ回転方向上下幅を変える。
（７）遮蔽板移動機構を制御する電気信号を発する制御回路を印刷機および/または印刷機周辺機器の制御装置に配する。
（８）スプレーノズルから噴射するスプレーは一流体または二流体からなる湿し水スプレーである。
（９）スプレーユニットのハウジング内面、内部構造物表面またはプレーノズルのスプレーパターン形成部および/または該形成部周辺に超親水物質を配する。
（１０）超親水物質は光触媒が好ましい。この場合はスプレーユニットハウジング内に可視光線または紫外線光源を配備する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
本発明は従来型の充円錐または均等扇形ノズルに依存せずスプレーパターン周縁の一部がほぼ直線部をなし、該直線部の両端を基点として円弧形または多角形の周縁を持った底面を形成し、各ノズルのスプレーパターンのほぼ直線部をダンプニングローラ長手方向に向かってほぼ横一線に揃え、円弧形または多角形の周縁側のスプレーの所定量を遮断することで実現した。
本発明における充円弧錘または充多角錘ノズルとはスプレーパターンの上縁がほぼ直線で、円弧または多角形を形成する底辺および底面を持ち底面外の一点を結ぶ三角形を側視形とする立体のスプレーを形成し、上記底面の全面にわたって平均してほぼ均等なサイズの水滴をスプレー供給するノズルである。充錘ノズルは充円弧錘および充多角錘ノズルの総称である。さらに充円弧錘、充多角錘または充錘スプレーとは充円弧錘、充多角錘または充錘スプレーノズルから噴射形成されるスプレーを意味する。
本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
図１は本発明に係るスプレーダンプナー装置を側方から見た模式図、図２は図１を上側から見たダンプニングローラ長手方向に配置された複数のスプレーノズルから噴射されたスプレーの左右分布模式図である。図３Ａ（１）は側方から見た充錘スプレーのスプレーパターンを示し、図３Ａ（２）は上方から見た充錘スプレーのスプレーパターンを示し、遮蔽されない状態でノズルから噴射されたスプレーパターン上部の縁がほぼ直線部をなし、該直線部の両端を基点としておおむね円弧状のスプレーパターン下部を規定する円弧形（Ａ）の底面を持ったスプレーパターンの説明図である。また、図３Ｂ（１）は側方から見た多角形（Ｂ）のスプレーパターン、図３Ｂ（２）は上方から見たスプレーパターンを示す。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
本実施形態のスプレーパターンはほぼ直線の一辺側（Ａ１またはＢ１）をスプレーパターン上部の縁として円弧形または多角形側（Ａ２またはＢ２）をスプレーパターン下部として規定するスプレーノズル４が配備される。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
ダンプニングローラ長手方向に形成するスプレーパターンを説明する。図３Ｌは円弧状スプレーパターンを示す。
図２に示すように、複数のスプレーノズル４はダンプニングローラ長手方向に横一列にほぼ直線に配置され、ノズル口の形状によって異なるスプレーパターンＳＰを規定している。図３Ａに示すように、スプレーパターンＳＰの上縁Ａ１はほぼ直線部３ａであって、この直線部３ａは複数のスプレーノズル４の形成するスプレーパターンＳＰがダンプニングローラ長手方向に対してほぼ横一線に揃っており、スプレーパターンＳＰの上縁Ａ１を成す直線部３ａの両端を基点としておおむね円弧状のスプレーパターン周縁３ｂを持った底面Ａ２が規定されている。各スプレーノズル４の上下位置を調整することで、各スプレーパターンＳＰの上縁Ａ１をほぼ直線に揃えることができる。図４は図３Ａの円弧状スプレーパターンＳＰを示す。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
異なる形のスプレーパターンについて説明する。変形例１は円弧状のスプレーパターン下部Ｃ２を直線Ｃ1の両端から直角にカットされた直線部分Ｃ３を持つスプレーパターン（図３Ｃ）である。変形例２は多角形状のスプレーパターン下部Ｄ２を直線Ｄ１の両端から直角にカットされた直線部分Ｄ３を持つスプレーパターン（図３Ｄ）である。変形例３は円弧状のスプレーパターン下部Ｅ２を直線Ｅ１の両端から該直線Ｅ１に対して下方に鋭角にカットされた直線部分Ｅ３を持つスプレーパターン（図３Ｅ）である。具体例４は直線Ｆ１に対して下方に鈍角にカットされた直線部分Ｆ３を持つスプレーパターン（図３Ｆ）である。変形例５は円弧状のスプレーパターン下部Ｇ２を直線Ｇ１の両端から所定の曲率で形成されたアール部分Ｇ３を持つスプレーパターン（図３Ｇ）である。変形例６は多角形状のスプレーパターン下部Ｈ２を直線Ｈ１の両端から所定の曲率で形成されたアール部分Ｈ３を持つスプレーパターン（図３Ｈ）である。変形例７は正方形状のスプレーパターン下部Ｉ２を有するスプレーパターン（図３Ｉ）である。変形例８は長方形状のスプレーパターン下部Ｊ２を有するスプレーパターン（図３Ｊ）である。変形例９は正方形および長方形状のスプレーパターン下部Ｋ２の二つ隅にアール部分を持つスプレーパターン（図３Ｊ）である。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
図１４は本発明の第４の実施形態であるスプレーダンプナー装置を側面から見た模式図である。本装置はスプレーユニット1の開口がダンプニングローラＲに対してほぼ水平になるよう設置される。複数の充錘スプレーノズルは、図１５に示すスプレーパターンＳＰを形成するように配備される。スプレーパターンＳＰはスプレーパターン上部のほぼ直線をなす縁を下辺として上部がほぼ直線をなす縁の両端を基点とした円弧形または多角形のスプレーパターンの底面を形成する。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
【図１】本発明に係るスプレーダンプナー装置を側方から見た模式図である。
【図２】図１のＡ−Ａ矢視図である。
【図３Ａ】ほぼ直線の一辺を持つスプレーの説明図で、（１）は側方から見た充錘スプレーのスプレーパターン、（２）は上方から見た充錘スプレーのスプレーパターンを示す図である。
【図３Ｂ】多角形のスプレーパターンで、（１）は側方から見たスプレーパターン、（２）は上方から見たスプレーパターンを示す図である。
【図３Ｃ】変形例１のスプレーパターン図である。
【図３Ｄ】変形例２のスプレーパターン図である。
【図３Ｅ】変形例３のスプレーパターン図である。
【図３Ｆ】変形例４のスプレーパターン図である。
【図３Ｇ】変形例５のスプレーパターン図である。
【図３Ｈ】変形例６のスプレーパターン図である。
【図３Ｉ】変形例７のスプレーパターン図である。
【図３Ｊ】変形例８のスプレーパターン図である。
【図３Ｋ】変形例９のスプレーパターン図である。
【図４】図３Ａの円弧状スプレーパターンＳＰを示す図である。
【図５】本発明の第２の実施形態であるスプレーダンプナー装置を側方から見た模式図である。
【図６】本発明の第３の実施形態であるスプレーダンプナー装置を側方から見た模式図である。
【図７】複数の板部材が組み合わされて構成される分割スプレー遮蔽板の側面図である。
【図８】図７のＢ−Ｂ矢視図である。
【図９】分割スプレー遮蔽板の変形例を示す側面図である。
【図１０】図９のＣ−Ｃ断面図である。
【図１１】分割スプレー遮蔽板の平面図である。
【図１２】インキキー毎のインキ量と分割スプレー遮蔽板毎の設定位置の関係を示す説明図である。
【図１３】分割スプレー遮蔽板の設定の変形例を示す。
【図１４】本発明の第４の実施形態であるスプレーダンプナー装置を側面から見た模式図である。
【図１５】第４の実施形態のスプレーパターンＳＰを示す図である。
【図１６】スプレーユニットの内部に光触媒と光源を配した実施の形態の説明図である。