(57)【要約】【課題】脱硝装置内に供給される排ガスの流れに塩化水素を効率的に拡散することができる排ガス処理装置及び排ガス処理システムを提供する。【解決手段】ボイラからの排ガス中の窒素酸化物を除去すると共に、排ガス中に塩化水素を噴霧して水銀を酸化する脱硝触媒層を少なくとも一つ以上有する排ガス処理装置であって、排ガスの煙道１９内に配設されると共に該煙道１９のガス流れ方向と直交して挿入された噴霧用パイプヘッダ５１と、前記噴霧用パイプヘッダ５１に設けられ、少なくとも４ヶの噴霧ノズル５２−１〜５２−４からガス流れ方向に縦渦流５３を形成してなる。【選択図】図１−１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ボイラからの排ガス中の窒素酸化物を除去すると共に、排ガス中に塩化水素を噴霧して水銀を酸化する脱硝触媒層を少なくとも一つ以上有する排ガス処理装置であって、
ガス拡散促進手段を用いて、ガス旋回流を発生しつつ塩化水素を煙道内に供給してなることを特徴とする排ガス処理装置。
【請求項２】
請求項１において、
前記ガス拡散促進手段が煙道内に配設されると共に、該煙道のガス流れ方向と直交して挿入された噴霧用パイプヘッダと、
前記噴霧用パイプヘッダに設けられ、少なくとも３ヶ以上の噴霧ノズルからガス流れ方向に縦渦流を形成してなることを特徴とする排ガス処理装置。
【請求項３】
請求項１において、
前記ガス拡散促進手段が煙道内に配設されると共に、該煙道のガス流れ方向と直交して挿入された噴霧用パイプヘッダと、
前記噴霧用パイプヘッダに設けられた複数の噴霧ノズルを相対向させつつ、ガス流れ方向に縦渦流を形成してなることを特徴とする排ガス処理装置。
【請求項４】
請求項１において、
前記ガス拡散促進手段が煙道内に配設されると共に、該煙道のガス流れ方向と直交して挿入された噴霧用パイプヘッダと、
前記噴霧用パイプヘッダに設けられた噴霧ノズルの開口側に旋回拡散板を設け、ガス流れ方向に縦渦流を形成してなることを特徴とする排ガス処理装置。
【請求項５】
請求項１において、
前記ガス拡散促進手段が煙道内に配設されると共に、該煙道のガス流れ方向と直交して挿入された噴霧用パイプヘッダと、
前記噴霧用パイプヘッダに設けられた噴霧ノズルの開口側に旋回羽根を設け、ガス流れ方向に縦渦流を形成してなることを特徴とする排ガス処理装置。
【請求項６】
前記ボイラと、
前記ボイラの下流側の排ガス煙道に排出された排ガスに塩素化剤を注入する塩素化剤供給部と、
請求項１乃至５の何れか一つの排ガス処理装置と、
脱硝後の排ガス中の硫黄酸化物を除去する脱硫装置と、
脱硫後のガスを外部に排出する煙突とを有することを特徴とする排ガス処理システム。
【請求項７】
請求項６において、
前記ボイラの下流側の排ガス煙道に排出された排ガスにアンモニアを投入するアンモニア供給部が設けられてなることを特徴とする排ガス処理システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、燃焼装置から排出される排ガスの処理を行う排ガス処理装置及び排ガス処理システムに関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば火力発電所等の燃焼装置である石炭焚ボイラから排出される排ガスには毒性の高い水銀が含まれるため、従来から排ガス中の水銀を除去するためのシステムが種々検討されてきた。
【０００３】
通常、石炭焚ボイラには排ガス中の硫黄分を除去するための湿式の脱硫装置が設けられている。このようなボイラに排ガス処理装置として脱硫装置が付設されてなる排煙処理設備においては、排ガス中の塩素（Ｃｌ）分が多くなると、水に可溶な２価の金属水銀（Ｈｇ）の割合が多くなり、前記脱硫装置で水銀が捕集しやすくなることが、広く知られている。
【０００４】
そのため、近年、ＮＯｘを還元する脱硝装置、および、アルカリ吸収液を硫黄酸化物（ＳＯｘ）吸収剤とする湿式脱硫装置と組み合わせて、この金属水銀を処理する方法や装置について様々な考案がなされてきた。
【０００５】
排ガス中の金属水銀を処理する方法としては、活性炭やセレンフィルター等の吸着剤による除去方法が知られているが、特殊な吸着除去手段が必要であり、発電所排ガス等の大容量排ガスの処理には適していない。
【０００６】
そこで、大容量排ガス中の金属水銀を処理する方法として、煙道中、高温の脱硝装置の前流工程で塩素化剤をガス噴霧し、脱硝触媒上で水銀を酸化（塩素化）させ、水溶性の塩化水銀にした後、後流の湿式脱硫装置で吸収させる方法が提案されている（例えば、特許文献１及び特許文献２、参照）。また、排ガス煙道にガス噴霧する装置および技術は脱硝装置のＮＨ3噴霧、塩素化剤のガス噴霧で実用化されている。
【０００７】
石炭焚きボイラの排ガス処理装置の概略図を図５に示す。図５に示すように、従来の排ガス処理システム１００は、燃料Ｆとして石炭を供給する石炭焚ボイラ１１からの排ガス１２中の窒素酸化物（ＮＯｘ）を除去すると共に、排ガス１２中に塩酸（ＨＣｌ）を噴霧して水銀（Ｈｇ）を酸化する脱硝装置１３と、窒素酸化物（ＮＯｘ）除去後の排ガス１２中の熱を回収する空気予熱器１４と、熱回収後の排ガス１２中の煤塵を除去する電気集塵器１５と、除塵後の排ガス１２中の硫黄酸化物（ＳＯｘ）、水銀（Ｈｇ）を除去する脱硫装置１６と、脱硫後の排ガス１２を浄化ガス１７として外部に排出する煙突１８とを具備するものである。
【０００８】
また、脱硝装置１３の前流の排ガス煙道１９には、塩酸（ＨＣｌ）の注入箇所が設けられており、塩酸（液体ＨＣｌ）供給部２０に貯蔵された塩酸（液体）は、塩化水素噴霧部２１で気化して塩化水素（ＨＣｌ）噴霧ノズル２１ａを介して塩化水素として排ガス１２に噴霧されている。
【０００９】
また、脱硝装置１３の前流の排ガス煙道１９には、アンモニア（ＮＨ3）の注入箇所が設けられており、ＮＨ3供給部２３から供給されるアンモニアはアンモニア噴霧ノズル２３ａにより排ガス１２に噴霧し、窒素酸化物（ＮＯｘ）の還元を行うようにしている。
なお、図５中、符号２５は酸化還元電位測定制御装置（ＯＲＰコントローラ）、２６は空気を各々図示する。
【００１０】
ここで、石炭焚ボイラ１１から排ガス１２は、脱硝装置１３に供給され、その後空気予熱器１４で熱交換により空気２７を加熱した後、電気集塵器１５に供給され、更に、脱硫装置１６に供給された後、浄化ガス１７として大気に排出される。
【００１１】
また、塩素化剤による装置への腐食破損等の影響を抑え信頼性を向上させるため、湿式脱硫後の排ガスについて水銀濃度を水銀モニターで測定し、脱硫後の水銀濃度に基づいて塩素化剤の供給量を調整するようにしている（例えば、特許文献２、参照）。
【００１２】
このように、従来においては、排ガス１２中に塩化水素とアンモニアとを供給することで、排ガス１２中のＮＯｘ（窒素酸化物）を除去すると共に、排ガス１２中の水銀（Ｈｇ）を酸化するようにしている。
【００１３】
即ち、ＮＨ3はＮＯｘの還元脱硝用に用い、ＮＨ3供給部２９から供給されるＮＨ3をアンモニア（ＮＨ3）噴霧ノズル２９ａを介して排ガス１２中に噴霧し、脱硝触媒層１３で、下記式のように還元反応によりＮＯｘを窒素（Ｎ2）に置換し、脱硝するようにしている。
４ＮＯ  ＋  ４ＮＨ3  ＋  Ｏ2  →  ４Ｎ2  ＋  ６Ｈ2Ｏ・・・（１）
ＮＯ  ＋  ＮＯ2  ＋  ２ＮＨ3  →  ２Ｎ2  ＋  ３Ｈ2Ｏ・・・（２）
【００１４】
また、塩化水素は水銀酸化用に用いており、塩素化剤として用いられる塩化水素はＨＣｌ供給部２０から塩化水素（ＨＣｌ）噴霧部２１に供給され、ここで塩酸は気化され、塩化水素（ＨＣｌ）として塩化水素噴霧ノズル２１ａにより排ガス１２中に噴霧することで、脱硝触媒層１３において、下記式のように脱硝触媒上で溶解度の低いＨｇを酸化(塩素化)し、水溶性の高い塩化水銀（ＨｇＣｌ2）に変換させ、後流側に設けられる脱硫装置１６で排ガス１２中に含有するＨｇを除去するようにしている。
Ｈｇ  ＋  ２ＨＣｌ  ＋  １／２Ｏ2  →  ＨｇＣｌ2  ＋  Ｈ2Ｏ・・・（３）
【００１５】
また、燃料として石炭又は重油を使用した場合、燃料中にはＣｌが含まれるため燃焼ガスにはＣｌ分が含まれるが、燃料の種類によりＣｌ分の含有量は異なり、排ガス中のＣｌ濃度を制御するのは困難であるため、排ガス処理装置１０の前流に必要量以上のＨＣｌ等を添加し、確実にＨｇを除去するようにするのが好ましい。
【００１６】
また、脱硝触媒層１３は、格子状に配列して四角形状の通路を有するハニカム形状のものに脱硝触媒を担持したものを用いており、その通路の断面形状は例えば三角形状や四角形状など多角形状からなる通路としている。
【００１７】
【特許文献１】特開平１０−２３０１３７号公報
【特許文献２】特開２００１−１９８４３４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１８】
ところで、従来の脱硝装置１３に供給される排ガス１２の気流は、煙道内において、入口気流条件にバラツキ（偏流）があることを考慮して、塩化水素の濃度を均一化するために、数多くの投入ノズルを設置する必要があり、この結果イニシャルコスト、及びメンテナンスコストが膨大となるという問題がある。
【００１９】
このため、煙道内に塩化水素を効率的に噴霧すると共に、そのノズルの設置個数を低減することが切望されている。
【００２０】
本発明は、前記問題に鑑み、脱硝装置内に供給される排ガスの流れに塩化水素を効率的に拡散することができる排ガス処理装置及び排ガス処理システムを提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００２１】
上述した課題を解決するための本発明の第１の発明は、ボイラからの排ガス中の窒素酸化物を除去すると共に、排ガス中に塩化水素を噴霧して水銀を酸化する脱硝触媒層を少なくとも一つ以上有する排ガス処理装置であって、ガス拡散促進手段を用いて、ガス旋回流を発生しつつ塩化水素を煙道内に供給してなることを特徴とする排ガス処理装置にある。
【００２２】
第２の発明は、第１の発明において、前記ガス拡散促進手段が煙道内に配設されると共に、該煙道のガス流れ方向と直交して挿入された噴霧用パイプヘッダと、前記噴霧用パイプヘッダに設けられ、少なくとも３ヶ以上の噴霧ノズルからガス流れ方向に縦渦流を形成してなることを特徴とする排ガス処理装置にある。
【００２３】
第３の発明は、第１の発明において、前記ガス拡散促進手段が煙道内に配設されると共に、該煙道のガス流れ方向と直交して挿入された噴霧用パイプヘッダと、前記噴霧用パイプヘッダに設けられた複数の噴霧ノズルを相対向させつつ、ガス流れ方向に縦渦流を形成してなることを特徴とする排ガス処理装置にある。
【００２４】
第４の発明は、第１の発明において、前記ガス拡散促進手段が煙道内に配設されると共に、該煙道のガス流れ方向と直交して挿入された噴霧用パイプヘッダと、前記噴霧用パイプヘッダに設けられた噴霧ノズルの開口側に旋回拡散板を設け、ガス流れ方向に縦渦流を形成してなることを特徴とする排ガス処理装置にある。
【００２５】
第５の発明は、第１の発明において、前記ガス拡散促進手段が煙道内に配設されると共に、該煙道のガス流れ方向と直交して挿入された噴霧用パイプヘッダと、前記噴霧用パイプヘッダに設けられた噴霧ノズルの開口側に旋回羽根を設け、ガス流れ方向に縦渦流を形成してなることを特徴とする排ガス処理装置にある。
【００２６】
第６の発明は、前記ボイラと、前記ボイラの下流側の排ガス煙道に排出された排ガスに塩素化剤を注入する塩素化剤供給部と、第乃至５の何れか一つの排ガス処理装置と、脱硝後の排ガス中の硫黄酸化物を除去する脱硫装置と、脱硫後のガスを外部に排出する煙突とを有することを特徴とする排ガス処理システムにある。
【００２７】
第７の発明は、第６の発明において、前記ボイラの下流側の排ガス煙道に排出された排ガスにアンモニアを投入するアンモニア供給部が設けられてなることを特徴とする排ガス処理システムにある。
【発明の効果】
【００２８】
本発明によれば、ガス拡散促進手段を用いて、ガス旋回流を発生しつつ塩化水素を煙道内に供給してなるので、塩化水素の拡散が急激に促進される。この結果、ノズルの個数を削減し、ノズル間隔を広げても触媒位置での濃度均一性を確保することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２９】
以下、この発明につき図面を参照しつつ詳細に説明する。なお、この実施例によりこの発明が限定されるものではない。また、下記実施例における構成要素には、当業者が容易に想定できるもの、あるいは実質的に同一のものが含まれる。
【実施例１】
【００３０】
本発明による実施例に係る排ガス処理装置について、図面を参照して説明する。
図１−１は、実施例に係る排ガス処理装置の煙道内の噴霧ノズルを示す概略図であり、図１−２は、そのＡ−Ａ矢示図である。なお、排ガス処理システムの構成は図５と同様であるので、その説明は省略する。
図１−１及び図１−２に示すように、本実施例に係る排ガス処理装置は、ボイラからの排ガス１２中の窒素酸化物を除去すると共に、排ガス１２中に塩化水素を噴霧して水銀を酸化する脱硝触媒層を少なくとも一つ以上有する排ガス処理装置であって、ガス拡散促進手段を用いて、ガス旋回流を発生しつつ塩化水素を煙道内に供給してなるものである。
【００３１】
本実施例では、前記ガス拡散促進手段としては、図１−１に示すように、前記ガス拡散促進手段は、煙道１９内に配設されると共に該煙道１９のガス流れ方向と直交して挿入された噴霧用パイプヘッダ５１と、前記噴霧用パイプヘッダ５１に設けられ、少なくとも３ヶ以上（本実施例では４ヶ）の噴霧ノズル５２−１〜５２−４からガス流れ方向に縦渦流を形成してなるものである。すなわち、本実施例では４ヶのノズルの噴出方向を所定の角度に調整し、複数の噴霧ノズル５２−１〜５２−４で旋回流を発生できるようにしている。
【００３２】
本実施例によれば、複数の噴霧ノズル５２−１〜５２−４を一つの単位として、これらの各噴霧ノズル５２−１〜５２−４からの噴流の運動量により縦渦流５３を形成するようにしている。
前記縦渦は、図１−２に示すように、排ガス１２のガス流れ方向に回転軸を持つ縦渦流５３であり、この縦渦の遠心力により、塩化水素は半径方向に拡げられることと  なる。この結果、下流域では、縦渦が崩壊し、拡散が急激に促進されることとなる。図１−２中、符号５４は塩化水素拡散幅を図示する。
【００３３】
本実施例により、塩化水素の拡散が大幅に促進されるため、従来よりもノズルの個数を削減し、ノズル間隔を広げても触媒位置での濃度均一性を確保できる。
【００３４】
煙道１９内に配置する噴霧ノズルは、適切な組み合わせで、それぞれ旋回流を発生できるようにすればよく、個数も３ヶ以上の組み合わせから縦渦流を形成するようにすればよい。
【実施例２】
【００３５】
本発明による実施例に係る排ガス処理装置について、図面を参照して説明する。
図２−１は、実施例に係る排ガス処理装置の煙道内の噴霧ノズルを示す概略図であり、図２−２は、そのＢ−Ｂ矢示図である。図２−３は噴霧ノズルの対向状態を示す概略図である。なお、排ガス処理システムの構成は図５と同様であるので、その説明は省略する。
【００３６】
図２−１、図２−２及び図２−３に示すように、本実施例では、前記ガス拡散促進手段は、煙道１９内に配設されると共に、該煙道１９のガス流れ方向と直交して挿入された噴霧用パイプヘッダ５１と、前記噴霧用パイプヘッダ５１に設けられた複数の噴霧ノズル５２を相対向させつつ、噴流どうしを衝突させるものである。
【００３７】
本実施例では、図２−３に示すように、噴霧ノズル５２−１，５２−２は相対向することで、２つの噴流を衝突させるようにしている。
そして、噴流同士の衝突により、ガスの拡散が小さい噴流のコア部分が早期に解消させて、拡散を促進するようにしている。
【００３８】
ここで、噴霧ノズ５２−１，５２−２との対向角度は、ノズル同士が直接対向（α＝０度）とする以外に、ガス流れ方向に所定角度αをもって対向するようにしてもよい。但し、α＝３０度以上であると、塩化水素の噴出流が合体してしまうので、好ましくない。
【００３９】
これにより、塩化水素の拡散が促進されるため、噴霧ノズルの個数を削減し、ノズル間隔を広げても触媒位置での濃度均一性を確保できることとなる。
【実施例３】
【００４０】
本発明による実施例に係る排ガス処理装置について、図面を参照して説明する。
図３−１は、実施例に係る排ガス処理装置の煙道内の噴霧ノズルを示す概略図であり、図３−２は、そのＣ−Ｃ矢示図、図３−３は旋回拡散板の斜視図である。なお、排ガス処理システムの構成は図５と同様であるので、その説明は省略する。
【００４１】
図３−１乃至図３−３に示すように、本実施例では、前記ガス拡散促進手段は、煙道１９内に配設されると共に、該煙道１９のガス流れ方向と直交して挿入された噴霧用パイプヘッダ５１と、前記噴霧用パイプヘッダ５１に設けられた噴霧ノズル５２の開口側に旋回拡散板５５を設け、ガス流れ方向に縦渦流を形成してなるものである。
【００４２】
本実施例では、図３−３に示すように、噴霧ノズル５２の開口側に波形の旋回拡散板５５を付加し、塩化水素の噴流軸に縦渦を発生させるようにしている。
【００４３】
また、図３−４に示すように、旋回拡散板の形状は、波形のみでなく、矩形の互い違い形状の旋回拡散板５６としてもよい。
【００４４】
本実施例によれば、噴霧ノズル５２からの噴流は旋回拡散板５５によって発生する縦渦に巻き込まれることとなる。
この縦渦の遠心力により、塩化水素は半径方向に拡げられることとなる。この結果、下流域では、縦渦が崩壊し、拡散が急激に促進されることとなる。
【００４５】
本実施例により、拡散促進されるため、噴霧ノズル５２の個数を削減し、ノズル間隔を広げても触媒位置での濃度均一性を確保できることとなる。
【実施例４】
【００４６】
本発明による実施例に係る排ガス処理装置について、図面を参照して説明する。
図４−１は、実施例に係る排ガス処理装置の煙道内の噴霧ノズルを示す概略図であり、図４−２は、そのＤ−Ｄ矢示図、図４−３は旋回拡散板の斜視図、図４−４はその側面図である。なお、排ガス処理システムの構成は図５と同様であるので、その説明は省略する。
【００４７】
図４−１乃至図４−４に示すように、本実施例では、前記ガス拡散促進手段は、煙道１９内に配設されると共に、該煙道１９のガス流れ方向と直交して挿入された噴霧用パイプヘッダ５１と、前記噴霧用パイプヘッダ５１に設けられた噴霧ノズル５２の開口側に旋回羽根５７を設け、ガス流れ方向に縦渦流を形成してなるものである。
【００４８】
本実施例では、噴霧ノズル出口に旋回羽根５７を設置し、そこに排ガスが流れてくるので、塩化水素の噴流を旋回させることとなる。
【００４９】
本実施例によれば、ノズルからの噴流は旋回し縦渦が発生するので、縦渦の遠心力により、塩化水素は半径方向に拡げられることとなる。
そして、下流域では、縦渦が崩壊し、拡散が急激に促進されることとなる。
【００５０】
本実施例により、拡散促進されるため、ノズルの個数を削減し、ノズル間隔を広げても触媒位置での濃度均一性を確保できることとなる。
【００５１】
ここで、本実施例に係る排ガス処理装置においては、還元脱硝用に脱硝触媒層１３で用いる脱硝触媒として、Ｖ、Ｗ、Ｍｏ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｃｕ等の金属酸化物又は硫酸塩あるいは、Ｐｔ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒなどの貴金属、又はこれらの混合物を担体であるチタニア、シリカ、ジルコニア及びこれらの複合酸化物、又はゼオライトに担持したものを用いることができる。
【００５２】
また、本実施例において、用いるＨＣｌについて、特に濃度の制限はないが、例えば濃塩酸から５％程度の希塩酸を用いることができる。また、本実施例において、使用する塩素化剤として塩化水素（ＨＣｌ）を用いて説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、塩素化剤としては、排ガス中のＨｇが脱硝触媒の存在下で反応してＨｇＣｌ及び／又はＨｇＣｌ2の塩化水銀を生成するものであればよく、塩化アンモニウム、塩素、次亜塩素酸、次亜塩素酸アンモニウム、亜塩素酸、亜塩素酸アンモニウム、塩素酸、塩素酸アンモニウム、過塩素酸、過塩素酸アンモニウム、その他上記酸のアミン塩類、その他の塩類などが例示される。
【００５３】
また、排ガス１２中に添加する塩素化剤の量は、水難溶性の水銀に対して化学量論量かそれよりも過剰であればよい。排ガス１２中のＨｇを効率よく除去すると共に、後流側で排出される排水中の塩素濃度を考慮して、排ガス煙道１９内における排ガス１２の塩素化剤の濃度としては、排ガス１２に対して１０００ｐｐｍ以下となるよう噴霧するようにすればよい。
【００５４】
また、排ガス煙道１９内における排ガス１２へのＨＣｌの添加位置は、ＮＨ3の添加位置よりも上流側としているが、ＮＨ3の添加位置よりも下流側としてもよい。
【００５５】
また、本実施例において、ボイラ１１から排出される排ガス１２にＨＣｌとＮＨ3の両方を添加しているが、排ガス煙道１９内における排ガス１２にＮＨ3を添加しなくてもよい。排ガス処理装置１０の脱硝触媒層１３では、排ガス１２中のＮＯｘ（窒素酸化物）を除去すると共に、排ガス１２中のＨｇを酸化し、後流側に設けられる脱硫装置（図示しない）でＨｇを除去するものであるため、排ガス煙道１９内で排ガス１２にＮＨ3を添加しなくても、脱硝触媒層１３の脱硝触媒の存在下でＨＣｌによりＨｇを塩化物に転換し、脱硫装置（図示しない）でＨｇを除去できる効果には変わりないからである。
このアンモニアの噴霧の際にも実施例１乃至４に係るノズルを適用して旋回流を形成するようにしてもよい。
【００５６】
このように、本実施例に係る排ガス処理装置１０によれば、ボイラ１１からの排ガス１２中のＮＯｘ（窒素酸化物）を除去すると共に、排ガス１２中にＨＣｌを噴霧してＨｇを酸化する脱硝触媒層１３を有する排ガス処理装置において、ガス拡散促進手段を用いて、ガス旋回流を発生しつつ塩化水素を煙道内に供給してなるので、塩化水素の拡散が急激に促進される。この結果、ノズルの個数を削減し、ノズル間隔を広げても触媒位置での濃度均一性を確保することができる。
【００５７】
また、本実施例では、石炭や重油などの硫黄、水銀等を含む化石燃料を燃焼する火力発電所のボイラから排出される排ガスを用いて説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、ＮＯｘ濃度が低く、二酸化炭素、酸素、ＳＯｘ、煤塵、あるいは水分を含む排ガス、硫黄、水銀等を含む燃料を燃焼する工場などから排出されるボイラ排ガス、金属工場、石油精製工場、石油化学工場等から排出される加熱炉排ガス等にも適用できる。
【産業上の利用可能性】
【００５８】
以上のように、本発明に係る排ガス処理装置は、ガス拡散促進手段を用いて、ガス旋回流を発生しつつ塩化水素を煙道内に供給してなるので、塩化水素の拡散が急激に促進され、ノズルの個数を削減し、ノズル間隔を広げても触媒位置での濃度均一性を確保することができるので、火力発電所等の水銀を含有する石炭や重油などの化石燃料を燃焼する装置から排出される排ガスの処理に用いるのに適している。
【図面の簡単な説明】
【００５９】
【図１−１】実施例１に係る排ガス処理装置の煙道内の噴霧ノズルを示す概略図である。
【図１−２】図１−１のＡ−Ａ矢示図である。
【図２−１】実施例２に係る排ガス処理装置の煙道内の噴霧ノズルを示す概略図である。
【図２−２】図２−１のＢ−Ｂ矢示図である。
【図２−３】噴霧ノズルの対向状態を示す概略図である。
【図３−１】実施例３に係る排ガス処理装置の煙道内の噴霧ノズルを示す概略図である。
【図３−２】図３−１のＣ−Ｃ矢示図である。
【図３−３】旋回拡散板の設置状態を示す概略図である。
【図３−４】他の旋回拡散板の設置状態を示す斜視図である。
【図４−１】実施例４に係る排ガス処理装置の煙道内の噴霧ノズルを示す概略図である。
【図４−２】図４−１のＤ−Ｄ矢示図である。
【図４−３】旋回羽根の設置状態を示す斜視概略図である。
【図４−４】旋回羽根の設置状態を示す側面概略図である。
【図５】石炭焚きボイラの排ガス処理装置の概略図である。
【符号の説明】
【００６０】
５１  噴霧用パイプヘッダ
５２（５２−１〜５２−４）  噴霧ノズル
５３  縦渦流
５４  塩化水素拡散幅
【図１−１】
2010042356.tif 000003
【図１−２】
2010042356.tif 000004
【図２−１】
2010042356.tif 000005
【図２−２】
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【図２−３】
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【図３−１】
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【図３−２】
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【図３−３】
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【図３−４】
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【図４−１】
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【図４−２】
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【図４−３】
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【図４−４】
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【図５】
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