(57)【要約】【課題】低周波領域において良好な吸音効果が得られるとともに、高い平均吸音率を達成でき、かつ温度変化に対する安定性も良好な吸音体を提供する。【解決手段】開口部２ａを有する枠体２と、開口部２ａを覆う吸音材３とを有し、枠体２の厚みＴ２が５〜２０ｍｍ、開口部２ａの内径Ｄが７０〜１６０ｍｍ、吸音材３の厚みＴ１が０．５〜３ｍｍ、吸音材３の比重Ｇが０．９〜１．６、吸音材３の貯蔵弾性率Ｅ’が１×１０８〜１×１０９Ｐａであり、吸音材３は高分子材料（Ｘ）を用いて形成されており、高分子材料（Ｘ）は８０℃以上の融点または８０℃以上のガラス転移点を有し、かつ高分子材料（Ｘ）は、２０Ｈｚにおけるｔａｎδのピーク温度が１５℃以下で、かつ２０Ｈｚ、１５℃におけるｔａｎδが０．２以上である高分子材料（Ａ）、および２０Ｈｚ、１５℃におけるｔａｎδが０．０８未満である高分子材料（Ｂ）を含むことを特徴とする吸音体。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
開口部を有する枠体と、該開口部を覆う吸音材とを有し、
前記枠体の厚みＴ２が５〜２０ｍｍ、前記開口部の内径Ｄが７０〜１６０ｍｍ、前記吸音材の厚みＴ１が０．５〜３ｍｍ、前記吸音材の比重Ｇが０．９〜１．６、前記吸音材の貯蔵弾性率Ｅ’が１×１０８〜１×１０９Ｐａであり、前記吸音材は高分子材料（Ｘ）を用いて形成されており、該高分子材料（Ｘ）は８０℃以上の融点または８０℃以上のガラス転移点を有し、かつ該高分子材料（Ｘ）は、２０Ｈｚにおけるｔａｎδのピーク温度が１５℃以下で、かつ２０Ｈｚ、１５℃におけるｔａｎδが０．２以上である高分子材料（Ａ）、および２０Ｈｚ、１５℃におけるｔａｎδが０．０８未満である高分子材料（Ｂ）を含むことを特徴とする吸音体。
【請求項２】
前記吸音材に含まれる高分子材料の全体を１００質量％とするとき、前記高分子材料（Ａ）の含有量が５〜７５質量％、前記高分子材料（Ｂ）の含有量が２５〜９５質量％であることを特徴とする請求項１記載の吸音体。
【請求項３】
前記吸音材の２０Ｈｚ、１５℃におけるｔａｎδが０．０７以上であることを特徴とする請求項１または２に記載の吸音体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は吸音体に関する。
【背景技術】
【０００２】
騒音は振動とともに身近な問題であり、吸音体への要求は依然として高い。また、用途や目的に応じて要求特性も多岐にわたり、最近では、低周波領域での吸音性能が高い材料が望まれている。
従来の吸音材料として、例えば、グラスウール、ロックウールのように繊維を綿状またはボード状に成型した材料や、ポリウレタンフォームのように高分子材料を発泡させた材料などの多孔質材料が知られている。これらの多孔質材料に音波が入射すると、音波が材料内の隙間の空気を振動させるため、空気自身の粘性および周囲との摩擦によって、振動エネルギーの一部が熱エネルギーに変換、散逸されて吸音効果が得られる。
【０００３】
特に、５００Ｈｚ以下の低周波領域における良好な吸音効果が得られる吸音体として、本発明者等は先に、枠体に設けられた開口部を、特定の貯蔵弾性率を有する吸音材で覆った構成を有する吸音体を提案している（特許文献１）。
【特許文献１】特開２００８−９６８２６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
吸音特性は、例えば周波数を横軸、吸音率を縦軸とするグラフで表わされ、低周波領域において吸音効果を得るためには、吸音率がピークとなる周波数（ピーク周波数）が低く、吸音率のピーク値が高いことが好ましい。
また吸音体の設置場所によっては、ピーク形状がブロードで良好な吸音が生じる周波数の範囲が広いことが要求される。その指標として、ピーク周波数が５００Hz以下である場合には、例えばピーク周波数±５０Ｈｚの範囲における吸音率の平均を表わす平均吸音率を用いることができる。吸音率のピーク値が同じである場合、該平均吸音率がより高い方が、ピーク形状がよりブロードであることを示す。
また、温度変化によって吸音材の物性が変動することによってピーク周波数が大きく変動する場合もあるため、設置場所によっては温度変化に対する安定性も要求される。
【０００５】
本発明は前記事情に鑑みてなされたもので、低周波領域において良好な吸音効果が得られるとともに、高い平均吸音率を達成でき、かつ温度変化に対する安定性も良好な吸音体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
［１］本発明の吸音体は、開口部を有する枠体と、該開口部を覆う吸音材とを有し、
前記枠体の厚みＴ２が５〜２０ｍｍ、前記開口部の内径Ｄが７０〜１６０ｍｍ、前記吸音材の厚みＴ１が０．５〜３ｍｍ、前記吸音材の比重Ｇが０．９〜１．６、前記吸音材の貯蔵弾性率Ｅ’が１×１０８〜１×１０９Ｐａであり、前記吸音材は高分子材料（Ｘ）を用いて形成されており、該高分子材料（Ｘ）は８０℃以上の融点または８０℃以上のガラス転移点を有し、かつ該高分子材料（Ｘ）は、２０Ｈｚにおけるｔａｎδのピーク温度が１５℃以下で、かつ２０Ｈｚ、１５℃におけるｔａｎδが０．２以上である高分子材料（Ａ）、および２０Ｈｚ、１５℃におけるｔａｎδが０．０８未満である高分子材料（Ｂ）を含むことを特徴とする。
【０００７】
［２］前記［１］において、前記吸音材に含まれる高分子材料の全体を１００質量％とするとき、前記高分子材料（Ａ）の含有量が５〜７５質量％、前記高分子材料（Ｂ）の含有量が２５〜９５質量％であることが好ましい。
［３］前記吸音材の２０Ｈｚ、１５℃におけるｔａｎδが０．０７以上であることが好ましい。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、低周波領域において良好な吸音効果が得られるとともに、高い平均吸音率を達成でき、かつ温度変化に対する安定性も良好な吸音体が得られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
本発明における貯蔵弾性率（Ｅ’）の値は  ＪＩＳ  Ｋ７２４４−４（引張振動）に準処する測定方法により、サンプルサイズを長さ４０ｍｍ、幅１０ｍｍ、厚さ１ｍｍとし、測定条件をスパン間距離２０ｍｍ、歪振幅６μｍ、測定周波数２０Ｈｚとして得られる値（単位：Ｐａ）である。測定温度は、特に断りがない限り２５℃である。
ｔａｎδ（損失正接）は、貯蔵弾性率（Ｅ’）に対する損失弾性率（Ｅ”）の比（Ｅ”／Ｅ’）の絶対値で表される値である。
本発明における吸音材および高分子材料のｔａｎδ（損失正接）は、特に断りがない限り２０Ｈｚ、１５℃における値である。貯蔵弾性率（Ｅ’）およびｔａｎδの測定周波数は、一般的に測定可能な範囲（０．２〜５０Hz）の中で、実際の吸音周波数により近いという理由で２０Ｈｚを採用した（なお、５０Hzではデータのばらつきが多い為、２０Hzとした。）。また低周波領域（２５０〜４００Ｈｚ程度）における常温（２５℃）での粘弾性特性は、マスターカーブに基づいて推測すると、２０Ｈｚにおける１５℃での粘弾性特性と類似するため、ｔａｎδの測定温度は１５℃を採用した。
本発明における高分子材料（Ａ）のｔａｎδのピーク値およびピーク温度は、測定周波数２０Ｈｚ、測定温度−３０〜３０℃で、温度を変化させながらｔａｎδを測定したときに得られるピーク値および該ピーク値を示す温度（ピーク温度）である。
貯蔵弾性率（Ｅ’）およびｔａｎδ（損失正接）は材質によって決まる値である。
尚、貯蔵弾性率（Ｅ’）およびｔａｎδ（損失正接）の測定は、エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社製、粘弾性スペクトロメータＥＸＳＴＡＲ６０００  ＤＭＳ、形式名ＤＭＳ６１００を使用した。
【００１０】
本明細書における吸音率は「垂直入射吸音率」の意味であり、ＪＩＳ  Ａ  １４０５−２に準処する方法で、直径１００ｍｍのインピーダンス管内にサンプルをセットして測定される値である。サンプル直径は１００ｍｍ弱とし、スペーサーを介して、インピーダンス管内に固定する。背後空気層厚（すなわち、枠体の厚さＴ２）の変更は、サンプルの背後にある剛体（ピストン）の位置を調整することによって行うことができる。またサンプル径（すなわち、枠体の開口部の内径Ｄ）の変更は、スペーサーの内径を調整することによって行うことができる。
入射周波数を変化させながら吸音率を測定し、吸音率が最も高くなるときの周波数をピーク周波数という。
また、本発明の吸音体による吸音は膜振動型吸音であるため、共振する周波数での吸音となる。そこで、良好な吸音が生じる周波数の範囲の広さの指標となる値として、ピーク周波数±５０Ｈｚの範囲における吸音率の平均をとり、平均吸音率と定義する。
【００１１】
本発明における高分子材料の融点は、ＪＩＳ  Ｋ  ７１２１に準処する示差走査熱量側定（ＤＳＣ）法により、加熱速度１０℃／分、測定開始温度−５０℃、測定終了温度２００℃の条件で測定して得られる値である。
また高分子材料のガラス転移点（以下、Ｔｇということもある。）はＪＩＳ  Ｋ ７２４４−３（引張振動）に準拠する測定方法により、測定周波数２０Ｈｚ、測定温度−５０℃〜２００℃の範囲を２℃／分で温度を上昇させながらｔａｎδ（損失正接）を測定したときに得られるピーク値を示す温度から求めた値である。
高分子材料がガラス転移点を２つ以上有する場合、少なくとも１つのガラス転移点が８０℃以上であれば、「８０℃以上のガラス転移点を有する」とする。
【００１２】
図１は本発明の吸音体の一実施形態を示したもので、図１（ａ）は平面図、（ｂ）は（ａ）中のＢ−Ｂ線に沿う断面図である。図中符号１は吸音体、２は枠体、３は吸音材、４は吸音体が取り付けられている施工面を示している。枠体２はその表面と裏面とを連通する貫通孔を有し、表面および裏面においてそれぞれ開口部２ａが形成されている。枠体２の表面側の端面２ｂは平坦面である。吸音材３は開口部２ａを覆うように、表面側の端面２ｂ上に積層、固定されている。
枠体２の裏面側の端面２ｃも平坦面である。裏面側の端面２ｃは施工面４に接着固定されている。すなわち裏面側の開口部２ａは施工面４によって閉じられており、吸音材３と施工面４との間に背後空気層５が形成されている。
【００１３】
本実施形態の枠体２は、外形形状が円形で、同心円状の貫通孔を有する。枠体２は表面側に開口部２ａを有し、該開口部２ａに連続して背後空気層５が形成される構成であればよく、外形形状は任意とすることができる。本実施形態において枠体２自身は、吸音性能を有していてもよく、有していなくてもよい。枠体２の材質は特に制限されないが、軽量化の点からは樹脂などの比重の低い材料が好ましい。
枠体２の厚さＴ２によって吸音材３の施工面４側に形成される背後空気層５の厚さが決まる。本発明において枠体２の厚さＴ２は５〜２０ｍｍであり、好ましくは６〜１５ｍｍである。５ｍｍ以上であると吸音材の良好な一次振動が得られやすい。２０ｍｍ以下であると、小型化、軽量化を実現しやすい。
枠体２の厚さが開口部２ａにおいて不均一である場合は、Ｔ２として平均値を用いる。
【００１４】
枠体２の表面側における開口部２ａの形状（表面側の端面２ｂにおける開口の形状）は円形に限らず、多角形など任意の形状とすることができる。
本発明において開口部２ａの内径Ｄは７０〜１６０mmであり、好ましくは８０〜１３５ｍｍ、より好ましくは９０〜１１０ｍｍである。７０ｍｍ以上であるとピーク周波数が低くなり易く、１６０ｍｍ以下であると小型化の点で好ましい。開口部２ａが小さい方が一定の面積内に設けることができる開口部２ａの数が多くなり、該一定の面積における吸音性能が向上する。
本発明において開口部２ａが円形でない場合、開口部２ａの内径Ｄの値は、該開口部２ａの面積と同面積の円の直径の値を用いるものとする。
開口部２ａが正方形である場合、１辺の長さは６２〜１４２ｍｍが好ましく、７０〜１２０ｍｍがより好ましく、８０〜９７ｍｍがさらに好ましい。
【００１５】
吸音材３は、その材質によって、比重Ｇ、貯蔵弾性率Ｅ’およびｔａｎδが変わる。
本発明において吸音材３の比重Ｇは０．９〜１．６であり、１．０〜１．４が好ましい。比重Ｇが０．９以上であると、低周波領域における良好な吸音効果が得られやすい。１．６以下であると軽量化の点で好ましい。
本発明において吸音材３の貯蔵弾性率Ｅ’は１×１０８〜１×１０９Ｐａであり、１×１０８〜５×１０８が好ましい。
貯蔵弾性率Ｅ’が１×１０８Ｐａ以上であると、吸音材の良好な一次振動が得られやすく、低周波領域における良好な吸音効果が得られやすい。１×１０９Ｐａ以下であるとピーク周波数が低くなりやすい。
本発明において吸音材３のｔａｎδは０．０７以上であることが好ましい。０．０７以上であると平均吸音率が顕著に向上する。ｔａｎδの上限は特に限定されないが、他のパラメータの好ましい範囲を満たすためには０．３以下が好ましい。
【００１６】
［高分子材料（Ｘ）］
吸音材３は高分子材料（Ｘ）を用いて形成される。好ましくは高分子材料（Ｘ）とフィラーを用いて形成される。例えば吸音材３は、高分子材料（Ｘ）とフィラーの混合物からなる。高分子材料（Ｘ）は２種以上の高分子材料の組み合わせであってもよい。
高分子材料（Ｘ）は、８０℃以上の融点または８０℃以上のガラス転移点を有する。
８０℃未満は、吸音体の通常の使用温度を想定している。使用温度範囲よりも高い温度の融点またはガラス転移点を有する高分子材料は、使用温度範囲において結晶構造またはガラス状物質を有しており、耐熱性に優れる。使用温度において結晶構造およびガラス状物質のいずれも有していない材料からなる吸音材は、自重による変形が起き易く、この変形により、吸音特性が大幅に変化する（主に高周波数側に大きくシフトする）恐れがあるため好ましくない。
【００１７】
高分子材料（Ｘ）は、２０Ｈｚにおけるｔａｎδのピーク温度が１５℃以下で、かつ２０Ｈｚ、１５℃におけるｔａｎδが０．２以上である高分子材料（Ａ）と、２０Ｈｚ、１５℃におけるｔａｎδが０．０８未満である高分子材料（Ｂ）を含む。
ここで、本発明における高分子材料は、目的とする高分子化合物のみからなる材料が好ましいが、市販品から入手する場合は、目的とする高分子化合物を主成分とし、その他に添加剤を含む組成物であってもよい。組成物である場合には、その組成物の状態での物性値および分子構造を、高分子材料の物性値および分子構造とみなす。
高分子材料（Ｘ）を調製する際の配合は、得られる吸音材３のｔａｎδが０．０７以上となるようにするのが好ましい。
【００１８】
［高分子材料（Ａ）］
高分子材料（Ａ）の２０Ｈｚにおけるｔａｎδのピーク温度は１５℃以下であり、好ましくは−３０℃〜１５℃である。高分子材料（Ａ）の２０Ｈｚ、１５℃におけるｔａｎδは０．２以上であり、好ましくは０．４〜１．５である。
このようにｔａｎδのピーク温度が低く、２０Ｈｚ、１５℃におけるｔａｎδが高い高分子材料（Ａ）を用いることにより、常温付近での温度安定性が良好となり、かつ高い平均吸音率が得られる。
高分子材料（Ａ）としては、スチレンイソプレンスチレンブロック共重合体またはその水添物（以下、総称してＳＩＳという）が好ましい。ＳＩＳは、各種グレードのものが市販されており、その中から２０Ｈｚにおけるｔａｎδのピーク温度が１５℃以下で、かつ２０Ｈｚ、１５℃におけるｔａｎδの値が０．２以上であるものを選択して使用できる。例えば、ハイブラー５１２５、ハイブラー７１２５、ハイブラー７３１１（いずれも製品名、クラレ社製）等を用いることができる。高分子材料（Ａ）は１種でもよく、２種以上を併用してもよい。
【００１９】
［高分子材料（Ｂ）］
高分子材料（Ｂ）はｔａｎδが０．０８未満の高分子材料である。高分子材料（Ｂ）の具体例としては、ＬＬＤＰＥ（直鎖状低密度ポリエチレン）、ＨＤＰＥ（高密度ポリエチレン）、ＬＤＰＥ（低密度ポリエチレン）等のＰＥ（ポリエチレン）；ＰＰ（ポリプロピレン）、ＰＳ（ポリスチレン）、ＰＣ（ポリカーボネート）、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、ポリ乳酸、ＥＢＲ（エチレンブテン共重合体）、ＥＯＲ（エチレン、オクテン共重合体）等のエチレン−αオレフィン共重合体等が挙げられる。
高分子材料（Ｂ）は１種でもよく、２種以上でもよい。
【００２０】
高分子材料（Ｘ）が８０℃以上の融点または８０℃以上のガラス転移点を有するために、高分子材料（Ｂ）の少なくとも一部は、８０℃以上の融点または８０℃以上のガラス転移点を有するものが好ましい。
例えば、結晶性高分子であって融点が８０℃以上であるもの（ＬＬＤＰＥ、ＨＤＰＥ、ＬＤＰＥ、ＰＰ）、や非結晶性高分子であってガラス転移温度（Ｔｇ）が８０℃以上であるもの（ＰＳ、ＰＣ、ＰＥＴ、ポリ乳酸等）を用いることが好ましい。
なお、例えば塩化ビニル樹脂（ＰＶＣ）はガラス転移温度が８０℃よりも高いが、市販の軟質ＰＶＣは可塑剤が含まれているためガラス転移温度が８０℃よりも低い。
【００２１】
吸音材３に含まれる高分子材料（Ｘ）の全体を１００質量％とするとき、高分子材料（Ａ）の含有量が５〜７５質量％、高分子材料（Ｂ）の含有量が２５〜９５質量％であることが好ましい。この範囲であると、良好な温度安定性と高い平均吸音率が得られやすい。
該含有量のより好ましい範囲は、高分子材料（Ａ）が５〜５０質量％、高分子材料（Ｂ）が５０〜９５質量％であり、さらに好ましくは高分子材料（Ａ）が７〜４０質量％、高分子材料（Ｂ）が６０〜９３質量％である。
【００２２】
［フィラー］
フィラーとして、無機フィラーおよび／または有機フィラーを用いることができる。
無機フィラーの例としては、マイカ、タルク、炭酸カルシウム、水酸化マグネシウム、硫酸バリウム等が挙げられる。
無機フィラーを配合する場合、その配合量は特に限定されず、吸音材の比重Ｇ、貯蔵弾性率Ｅ’、およびｔａｎδの良好な範囲が得られる範囲であればよい。機械強度の点からは、吸音材３の構成材料中８０質量％以下が好ましく、６０質量％以下がより好ましい。
有機フィラーの例としては、３，３’，３’’，５，５’，５’’−ヘキサ−ｔｅｒｔ−ブチル−ａ，ａ’，ａ’’−（メシチレン−２，４，６−トリイル）トリ−ｐ−クレゾール（例えば、製品名：アデカスタブ  ＡＯ−３３０、ＡＤＥＫＡ社製）、トリス（２，４ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）フォスファイト（例えば、製品名：Ｉｒｇ１６８、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）が好ましい。
有機フィラーを配合する場合、その配合量は特に限定されず、吸音材の比重Ｇ、貯蔵弾性率Ｅ’、およびｔａｎδの良好な範囲が得られる範囲であればよい。機械強度の点からは、吸音材３の構成材料中５０質量％以下が好ましく、３０質量％以下がより好ましい。
【００２３】
本発明において吸音材３の厚さＴ１は、０．５〜３ｍｍであり、好ましくは０．６〜２ｍｍである。０．５ｍｍ以上であると吸音材の良好な一次振動が得られやすい。３ｍｍ以下であると軽量化の点で好ましい。
吸音材３の厚さが不均一である場合は、Ｔ１として平均値を用いる。
【００２４】
枠体２に吸音材３を固定する手段としては、接着剤、両面テープ等の接着手段を用いてもよく、圧着、溶融圧着により固定してもよい。
【００２５】
さらに吸音材３の表面上（枠体２側とは反対側）に、他の吸音層（図示せず）を積層してもよい。かかる他の吸音層の材質は特に制限されず、従来の吸音材として公知の材料を適宜使用できる。例えば、吸音材３により吸音効果が得られる周波数領域よりも、高周波数領域において吸音効果を奏する吸音層を吸音材３上に積層して設けることにより、吸音体１全体として、吸音効果が得られる周波数領域をより広くすることができる。かかる他の吸音層の材質としては、例えば、発泡樹脂、フェルト、繊維材料、グラスウール、ロックウール、木粉セメント等が挙げられる。特に発泡樹脂、フェルト、繊維材料、グラスウールが好ましい。
【００２６】
吸音体１によれば、小型かつ軽量であり、吸音率のピーク周波数が５００Ｈｚ以下、好ましくは４５０Ｈｚ以下であり、該ピーク周波数における吸音率（ピーク値）が０．５以上であり、平均吸音率が０．４以上、好ましくは０．４５以上であるような、低周波領域における高度な吸音効果が得られるとともに、温度変化に対する安定性も良好な吸音体が得られる。
【００２７】
なお、本発明の吸音体は、開口部を有する枠体と、該開口部を覆う吸音材を備えた構成であればよく、図１に示す形態に限らず、各種の構成とすることができる。例えば図２に示すように、板状の枠体２２に複数の開口部２２ａが設けられており、該枠体２２の一面上に、該複数の開口部２２ａを一括的に覆うように吸音材２３が積層、固定された構成を有する吸音体２１であってもよい。図２は吸音体２１を枠体２２側から見た斜視図である。
このように、枠体２２に複数の開口部２２ａが設けられている場合、該複数の開口部２２ａの形状および大きさは均一でもよく、異なっていてもよい。
また該複数の開口部２２ａの配置は任意であるが、隣り合う開口部２２ａどうしの距離ｄが小さいほど吸音体２１における吸音の効率が高くなる。
このような構成の吸音体２１においても、同様に、小型かつ軽量で、低周波領域における高度な吸音効果を有するとともに、平均吸音率が高く、温度変化に対する安定性も良好な吸音体が得られる。
【実施例】
【００２８】
以下に実施例を用いて本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
（例１〜５）
表１に示す配合の膜材料（高分子材料とフィラーの混合物）を用いて膜状の吸音材３を作製した。
例１〜３は実施例、例４は高分子材料（Ａ）の代わりにピーク温度が高いＳＩＳを用いた比較例、例５は高分子材料（Ａ）を含有しない比較例である。例１〜４において、吸音材に含まれる高分子材料（Ｘ）の全体、すなわち高分子材料（Ａ）と高分子材料（Ｂ）の合計を１００質量％とするとき、高分子材料（Ａ）の含有量は１４．３質量％、高分子材料（Ｂ）の含有量の合計は８５．７質量％である。高分子材料（Ｘ）の融点を上述の方法で測定した。ＤＳＣ装置としてはティー・エイ・インスツルメント・ジャパン社製、DSC Ｑ１０００を用いた。
吸音材３の厚みＴ１は表１に示す値とした。吸音材３を構成する材料の比重を表１に示す。得られた吸音材について、０℃、２５℃および３０℃における貯蔵弾性率Ｅ’（２０Ｈｚ）、および吸音特性を上述した測定方法により測定した。枠体の厚み（Ｔ２）１０ｍｍ、開口部の内径（Ｄ）９０ｍｍとした。表１に測定結果を示す。貯蔵弾性率Ｅ’の欄において、「３Ｅ＋０８」は「３×１０８」を表わす。
表中貯蔵弾性率Ｅ’についての「０℃／３０℃」の欄は３０℃における貯蔵弾性率Ｅ’を１としたときの、０℃における貯蔵弾性率Ｅ’の相対値である。
【００２９】
使用した材料は以下の通りである。
［高分子材料（Ａ）］
・ＳＩＳ（１）：ハイブラー５１２５（製品名、クラレ社製）。ｔａｎδピーク温度：３℃、ｔａｎδ（２０Ｈｚ、１５℃）：０．７６。
・ＳＩＳ（２）：ハイブラー７１２５（製品名、クラレ社製）。ｔａｎδピーク温度：７℃、ｔａｎδ（２０Ｈｚ、１５℃）：１．１０。
・ＳＩＳ（３）：ハイブラー７３１１（製品名、クラレ社製）。ｔａｎδピーク温度：−５℃、ｔａｎδ（２０Ｈｚ、１５℃）：０．４２。
［比較の高分子材料］
・ＳＩＳ（４）：ハイブラー５１２７（製品名、クラレ社製）。ｔａｎδピーク温度：２８℃、ｔａｎδ（２０Ｈｚ、１５℃）：０．３６。
［高分子材料（Ｂ）］
・ＰＰ：日ＢＣ８（製品名、日本ポリプロ社製）。ｔａｎδ（１５℃、２０Ｈｚ）０．０３、融点１６４℃。
・ＥＢＲ：ＥＮＲ７２７０（製品名、ダウケミカル日本社製）。ｔａｎδ（１５℃、２０Ｈｚ）０．０７。
・ＬＬＤＰＥ：ＵＦ２４０（製品名、日本ポリエチレン社製）。ｔａｎδ（１５℃、２０Ｈｚ）０．０３、融点１２４℃。
［フィラー］
硫酸バリウム：硫酸バリウムＢＡ（製品名、堺化学社製）、比重４．５。
【００３０】
【表１】
2010097144.tif 000003
【００３１】
表１に示されるように、例１〜５のピーク周波数はいずれも４００Ｈｚ以下であり、低周波領域に吸音効果がある。高分子材料（Ａ）と高分子材料（Ｂ）を用いた例１〜３は、平均吸音率が０．４４以上と高く、ピーク形状がブロードで良好な吸音が生じる周波数の範囲が広いことがわかる。
これに対して高分子材料（Ａ）に代えて、ｔａｎδのピーク温度が２８℃と高いＳＩＳ（４）を用いた例４は、０℃における貯蔵弾性率Ｅ’が、３０℃における貯蔵弾性率Ｅ’の２．６倍の値を示した。吸音体の構造が同じであれば、該貯蔵弾性率Ｅ’によって吸音周波数が決まるため、２．６倍も変動すると、吸音周波数が大きく変動してしまう。
例５は、高分子材料（Ａ）を用いていないため、貯蔵弾性率Ｅ’の「０℃／３０℃」は小さいが、平均吸音率が低い。
【図面の簡単な説明】
【００３２】
【図１】本発明の吸音体の一実施形態を示すもので（ａ）は平面図、（ｂ）は（ａ）中のＢ−Ｂ線に沿う断面図である。
【図２】本発明の吸音体の他の実施形態を示す斜視図である。
【符号の説明】
【００３３】
１、２１…吸音体、
２、２２…枠体、
２ａ、２２ａ…開口部、
３、２３…吸音材、
５…背後空気層。
【図１】
2010097144.tif 000004
【図２】
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