(57)【要約】【課題】多数の凹状の部分をスクリーン前面に有しながらも、斜め投射される投射光を遮ることなく適切な状態で反射することのできるスクリーン及びスクリーンの製造方法を提供すること。【解決手段】  本スクリーン１０のためのスクリーン基板１の作製において、境界部分ＴＰに対応する部分を形成するための高さ調整工程を含んでいる。これにより、スクリーン１０は、前面１０ａの必要箇所に応じて境界部分ＴＰを有することになり、各立体部２ａ間の境界付近が投影画像の影となることを抑制できる。【選択図】図３
2010085883.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
スクリーン基板の前面側に２次元的に配置される球面状の凹面形状の複数の立体部を有するスクリーンであって、
前記複数の立体部のうち、少なくとも一部の隣接する立体部の境界部分は、当該隣接する立体部の凹面を延長して交差させることで形成される境界よりも低くなるように高さ調整されている、スクリーン。
【請求項２】
前記少なくとも一部の隣接する立体部の境界部分の高さｈは、当該凹面の曲率半径をＲ、前記立体部の底部を通る中心線から当該凹面を延長して交差させることで形成される境界までの距離をｄとして、以下の式
2010085883.tif 000010
を満たす、請求項１記載のスクリーン。
【請求項３】
前記境界部分の高さ調整量は、投射光の入射角度に対応している、請求項１及び請求項２のいずれか一項記載のスクリーン。
【請求項４】
前記スクリーン基板のうち、少なくとも前記複数の立体部の表面に入射する投射光に対応する領域上に形成される反射膜をさらに有する、請求項１から請求項３までのいずれか一項記載のスクリーン。
【請求項５】
スクリーン基板の前面側に２次元的に配置される球面状の凹面形状の複数の立体部を有するスクリーンの製造方法であって、
前記複数の立体部のうち、少なくとも一部の隣接する立体部の境界部分を当該隣接する立体部の凹面を延長して交差させることで形成される境界よりも低くするための高さ調整工程を有する、
スクリーンの製造方法。
【請求項６】
前記スクリーン基板を形成するための転写成形型を作製するスクリーン型作製工程と、
転写により前記転写成形型から前記スクリーン基板を形成するための前処理を行う転写前処理工程と
を備え、
前記高さ調整工程は、前記スクリーン型作製工程及び前記転写前処理工程のいずれかに含まれる、請求項５記載のスクリーンの製造方法。
【請求項７】
前記スクリーン型作製工程は、エッチング処理により前記複数の立体部の凹面形状に対応する形状を有する第１成形型を作製する第１成形型作製工程と、前記第１成形型を予備転写することにより前記スクリーン基板の転写のための第２成形型を前記転写成形型として作製する第２成形型作製工程とを含み、
前記高さ調整工程は、前記第１成形型作製工程及び前記第２成形型作製工程のいずれかに含まれる、請求項６記載のスクリーンの製造方法。
【請求項８】
前記第１成形型作製工程において、前記エッチング処理により形成される複数の球面状の凹形状のうち、隣接する凹形状間の境界の少なくとも一部を削ることにより、前記境界部分の高さ調整に対応した前記第１成形型を作製する、請求項７記載のスクリーンの製造方法。
【請求項９】
前記第２成形型作製工程において、前記第１成形型を予備転写して得られる予備転写型について、当該予備転写型上に形成される複数の球面状の凸形状のうち、隣接する凸形状間の溝の少なくとも一部を埋めることにより、前記境界部分の高さ調整に対応した前記第２成形型を作製する、請求項７記載のスクリーンの製造方法。
【請求項１０】
前記第２成形型作製工程において、粘性の調整された紫外線硬化樹脂により前記凸形状間の溝を埋めて硬化させる、請求項９記載のスクリーンの製造方法。
【請求項１１】
前記転写前処理工程において、前記転写成形型から前記スクリーン基板を剥離させるための離型剤を前記境界部分の高さ調整を行う領域に溜まるように塗布する、請求項６記載のスクリーンの製造方法。
【請求項１２】
前記転写前処理工程において、前記転写成形型の転写面の少なくとも一部にクロム膜被覆処理を施す、請求項６から請求項１１までのいずれか一項記載のスクリーンの製造方法。
【請求項１３】
前記転写前処理工程において、前記転写面のうち前記境界部分の高さ調整を行う領域以外の領域に対して前記クロム膜被覆処理を施し、前記境界部分の高さ調整を行う領域に対して離型剤を塗布する、請求項１２記載のスクリーンの製造方法。
【請求項１４】
前記高さ調整工程において、前記境界部分の高さを投射光の入射角度に対応して調整している、請求項５から請求項１３までのいずれか一項記載のスクリーンの製造方法。
【請求項１５】
前記スクリーン基板に入射する投射光の入射角度に対応する角度から成膜物質を射出して反射膜を成膜する反射膜形成工程をさらに有し、
前記高さ調整工程において、前記境界部分の高さは、前記成膜物質の射出角度に対応して調整されている、請求項５から請求項１４までのいずれか一項記載のスクリーンの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、前方のプロジェクタ等の投影装置からの投射光を反射して投影画像を映し出すスクリーン及びスクリーンの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、投影画像を反射させる反射スクリーンとして、下方からの斜め投射に対して正面側で観察可能にするものであって、スクリーン基板上に多数の凸状の単位形状部を２次元的に配置させるものが知られている（特許文献１参照）。このスクリーンでは、各単位形状部の表面にプロジェクタ等の投影機からの投影位置に応じて部分的に投射光の反射面を形成している。一方、スクリーンの表面に凹部を形成させるものも知られている（例えば特許文献２参照）。
【特許文献１】特開２００６−２１５１６２号公報
【特許文献２】特開平４−２９７６４０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、例えばエッチング処理等によって球面状の曲面を形成することで、スクリーン基板上に多数の凹状の単位形状部を形成させた場合、隣接する凹状の部分の境界が鋭く高く延びた角状となる。このような角状の部分は、プロジェクタ等による画像投影において、斜め投射される投射光を遮って、投影画像に影を形成させる等画像劣化の要因となる可能性が高い。また、スクリーンの作製において、例えば斜方から成膜物質を蒸着することで、スクリーン基板上に部分的に反射面を形成する場合に、当該角状の部分が成膜物質を遮り、反射面を形成すべき領域に成膜できなくなる可能性がある。
【０００４】
そこで、本発明は、多数の凹状の部分をスクリーン前面に有しながらも、斜め投射される投射光を遮ることなく適切な状態で反射することのできるスクリーン及びスクリーンの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記課題を解決するため、本発明に係るスクリーンは、（ａ）スクリーン基板の前面側に２次元的に配置される球面状の凹面形状の複数の立体部を有するスクリーンであって、（ｂ）複数の立体部のうち、少なくとも一部の隣接する立体部の境界部分が、当該隣接する立体部の凹面を延長して交差させることで形成される境界よりも低くなるように高さ調整されている。ここで、クリーン前面での凹凸による高さについて規定するために、まず、スクリーン表面を巨視的に平面であると捉えた仮想的な平面をスクリーン面と呼ぶものとする。このスクリーン面の法線方向について、スクリーンから観察者側に向かうほど高い位置であるものと規定する。つまり、スクリーン表面において球面状の凹面形状を有する各立体部については、各立体部の中心部分である凹面の底の部分（底部）が最も低い位置となり、立体部の周辺部分である隣接する他の立体部との境界部分が最も高い位置となる。
【０００６】
上記スクリーンでは、複数の立体部のうち、隣接する立体部の境界部分について、当該隣接する立体部の凹面を延長して交差させることで形成される境界よりも低くなるように高さ調整している部分を有する。これにより、多数の凹面形状の複数の立体部をスクリーン前面に有しながらも、境界部分によって斜め投射される投射光が遮られることを抑制し、立体部の凹面の適所に形成される反射面によって投射光を適切な状態で反射することができる。
【０００７】
また、本発明の具体的な態様によれば、少なくとも一部の隣接する立体部の境界部分の高さｈが、当該凹面の曲率半径をＲ、立体部の底部を通る中心線から当該凹面を延長して交差させることで形成される境界までの距離をｄとして、以下の式
2010085883.tif 000003
を満たす。ここで、立体部の底部を通る中心線とは、各立体部の最も低い位置である底部を通り、かつ、スクリーン面に対して垂直な線を言う。この場合、上式のように規定される当該境界の高さｈを基準として、これよりも境界部分の高さが低くなるように調整することにより、投射光を適切な状態で反射するようにできる。
【０００８】
また、本発明の別の態様によれば、境界部分の高さ調整量が、投射光の入射角度に対応している。この場合、スクリーン前面上の位置によって異なる投射光の入射角度に対応して、スクリーン前面上の位置に応じて境界部分の高さ調整量を変えることで、スクリーン前面上のどの位置においても投射光を適切な状態で反射することができる。
【０００９】
また、本発明の別の態様によれば、スクリーンが、スクリーン基板のうち、少なくとも複数の立体部の表面に入射する投射光に対応する領域上に形成される反射膜をさらに有する。この場合、当該反射膜で投射光を反射することにより明るい投影画像が形成される。
【００１０】
上記課題を解決するため、本発明に係るスクリーンの製造方法は、（ａ）スクリーン基板の前面側に２次元的に配置される球面状の凹面形状の複数の立体部を有するスクリーンの製造方法であって、（ｂ）複数の立体部のうち、少なくとも一部の隣接する立体部の境界部分を当該隣接する立体部の凹面を延長して交差させることで形成される境界よりも低くするための高さ調整工程を有する。
【００１１】
上記スクリーンの製造方法では、複数の立体部のうち、隣接する立体部の境界部分について、当該隣接する立体部の凹面を延長して交差させることで形成される境界よりも低くなるように高さ調整された部分を有するスクリーンが製造される。従って、多数の凹面形状の複数の立体部をスクリーン前面に有しながらも、斜め投射される投射光を遮ることを抑えつつ適切な状態で反射するスクリーンを製造することができる。
【００１２】
また、本発明の具体的な態様によれば、（ａ）スクリーンの製造方法が、（ａ１）スクリーン基板を形成するための転写成形型を作製するスクリーン型作製工程と、（ａ２）転写により転写成形型からスクリーン基板を形成するための前処理を行う転写前処理工程とを備え、（ｂ）高さ調整工程が、スクリーン型作製工程及び転写前処理工程のいずれかに含まれる。この場合、スクリーンの製造方法における各工程のうち、スクリーン型作製工程及び転写前処理工程のいずれかにおいて、境界部分の高さ調整がなされた複数の立体部の形成が可能な状態にできる。
【００１３】
また、本発明の別の態様によれば、（ａ）スクリーン型作製工程が、（ａ１）エッチング処理により複数の立体部の凹面形状に対応する形状を有する第１成形型を作製する第１成形型作製工程と、（ａ２）第１成形型を予備転写することによりスクリーン基板の転写のための第２成形型を転写成形型として作製する第２成形型作製工程とを含み、（ｂ）高さ調整工程が、第１成形型作製工程及び第２成形型作製工程のいずれかに含まれる。
【００１４】
また、本発明の別の態様によれば、第１成形型作製工程において、エッチング処理により形成される複数の球面状の凹形状のうち、隣接する凹形状間の境界の少なくとも一部を削ることにより、境界部分の高さ調整に対応した第１成形型を作製する。この場合、当該凹形状間の境界を削る量を調整することにより、境界部分の高さ調整がなされる。
【００１５】
また、本発明の別の態様によれば、第２成形型作製工程において、第１成形型を予備転写して得られる予備転写型について、当該予備転写型上に形成される複数の球面状の凸形状のうち、隣接する凸形状間の溝の少なくとも一部を埋めることにより、境界部分の高さ調整に対応した第２成形型を作製する。この場合、当該凸形状間の溝を埋める量を調整することにより、境界部分の高さ調整がなされる。
【００１６】
また、本発明の別の態様によれば、第２成形型作製工程において、粘性の調整された紫外線硬化樹脂により凸形状間の溝を埋めて硬化させる。この場合、例えば紫外線硬化樹脂の粘性を十分低くするように調整して、紫外線硬化樹脂が凸形状による斜面部分の途中で留まることなく凸形状間の溝に確実に入り込むようにできる。
【００１７】
また、本発明の別の態様によれば、転写前処理工程において、転写成形型からスクリーン基板を剥離させるための離型剤を境界部分の高さ調整を行う領域に溜まるように塗布する。この場合、離型剤を用いることで、例えば転写成形型の凸形状間の溝部分とスクリーン基板の材料との間に隙間を形成させ、これにより立体部の境界部分の高さを調整することができる。
【００１８】
また、本発明の別の態様によれば、転写前処理工程において、転写成形型の転写面の少なくとも一部にクロム膜被覆処理を施す。この場合、クロム膜被覆処理の施された転写面上において、転写成形型の表面形状が正確に転写される。
【００１９】
また、本発明の別の態様によれば、転写前処理工程において、転写面のうち境界部分の高さ調整を行う領域以外の領域に対してクロム膜被覆処理を施し、境界部分の高さ調整を行う領域に対して離型剤を塗布する。この場合、立体部の境界部分の高さ調整をしない部分については転写成形型の表面形状が正確に転写され、立体部の境界部分の高さ調整をする部分については離型剤により表面形状が所望の状態に形成される。
【００２０】
また、本発明の別の態様によれば、高さ調整工程において、境界部分の高さを投射光の入射角度に対応して調整している。
【００２１】
また、本発明の別の態様によれば、スクリーンの製造方法が、（ａ）スクリーン基板に入射する投射光の入射角度に対応する角度から成膜物質を射出して反射膜を成膜する反射膜形成工程をさらに有し、（ｂ）高さ調整工程において、境界部分の高さが、成膜物質の射出角度に対応して調整されている。この場合、投射光の入射角度に対応して斜方から成膜物質を射出して反射膜を成膜する際に、境界部分によって成膜物質が遮られ、反射膜を必要とする領域に欠陥のある成膜がなされる事態を回避できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
〔第１実施形態〕
以下、本発明の第１実施形態に係るスクリーンについて図面を参照しつつ説明する。図１は、本実施形態に係るスクリーンを用いた投射システムの一例を示す図である。また、図２は、本実施形態のスクリーンの全体的な使用状態を説明する模式図である。
【００２３】
図１に示すように、投射システム１０００は、反射型のスクリーン１０と、画像投射装置であるプロジェクタ１００とを備える。スクリーン１０は、光透過性の樹脂により形成されるスクリーン基板１を備え、図２のように水平方向即ちｘ方向を長手方向とし、垂直方向即ちｙ方向を短手方向として設置される横長の長方形状を有する。なお、スクリーン１０の前面１０ａ即ちスクリーン基板１の前面側を加工して形成される表面には、詳しくは後述する不図示の微細構造が形成されている。また、図１に示すようにスクリーン１０の正面下方に配置されるプロジェクタ１００は、プロジェクタ本体５０と、投射レンズ本体２０と、反射ミラーＲＲとを備える。プロジェクタ１００を構成する各機構は、筐体ＳＣ内に収容されている。
【００２４】
以下、プロジェクタ１００によるスクリーン１０への画像投射について説明する。まず、プロジェクタ本体５０での制御により、画像光が形成され、投射レンズ本体２０から射出される。さらに、当該画像光は、反射ミラーＲＲでの反射により、プロジェクタ１００からの投射光ＰＬとしてスクリーン１０側に射出される。この際、プロジェクタ１００は、投射光ＰＬを下方からスクリーン１０の中心位置Ｏに対して入射角度αで投射する。スクリーン１０全体に投射された投射光ＰＬは、スクリーン１０の前面１０ａに形成された不図示の微細凹凸構造上の反射面で前方に反射されることで、中心位置Ｏを通る鉛直軸ＬＸを中心に左右対称な長方形状の画像として観察可能になる。なお、ここでは、スクリーン１０及びプロジェクタ１００の設置環境として、室内に天吊りされた照明装置２００により、上方からの外光ＯＬによる照明がなされている。このように、室内での投影においては、一般に、主に照明等による上方からの外光ＯＬの影響を避けるため、投射光ＰＬは、外光ＯＬとは反対側の下方から投射するようにしている。
【００２５】
以下、図２を用いて図１のプロジェクタ１００から投射される投射光ＰＬとスクリーン１０との配置関係について説明する。図２に示す投射レンズＰＯは、図１の投射レンズ本体２０及び反射ミラーＲＲに対応するものであり、図２に示す投射光源点Ｓからの投射光ＰＬは、図１の投射光ＰＬと同一の投射角度でスクリーン１０に入射するものとなっている。より具体的に説明すると、投射光源点Ｓは、スクリーン１０に比較的近接した下方位置に設置され、投射光ＰＬのスクリーン１０の中心位置Ｏに入射する光束軸ＡＸが入射角度αとなっている。また、ここでは、投射光源点Ｓからスクリーン１０までの距離（即ちスクリーン１０の前面１０ａを含む平面に垂直で投射光源点Ｓを通る直線がスクリーン１０の前面１０ａを含む平面と交差する点である交点Ｈまでの距離）が投射距離ｄ１となっている。
【００２６】
以上のような画像投影において、特に、スクリーン１０に対して近接して投影を行う場合即ち投射距離ｄ１が小さい場合、投射光ＰＬのうち、図１のスクリーン１０の上方側の領域（例えば領域ＵＡ）側に入射する投射光ＰＬの入射角度（例えば入射角度α１）と、下方側の領域（例えば領域ＤＡ）側に入射する投射光ＰＬの入射角度（例えば入射角度α２）との差が非常に大きくなる。また、図２に示すように、スクリーン１０の上方側の領域のうち、周辺の領域（例えば領域ＣＡ）側ほど投射光ＰＬの入射角度が大きくなる。つまり、図中スクリーン１０の上方周辺側の領域ＣＡと下方中央側の領域ＤＡとでは、投射光ＰＬの入射角度が大きく異なるものとなっている。このため、図示のスクリーン１０のような所謂フロント投射型の場合、中心位置Ｏを基準として、上述した入射角度αや投射距離ｄ１によって定まる各位置での投射光ＰＬの入射角度に応じて、前面１０ａ上の微細凹凸構造の光学的な設計がなされることが望ましい。特に、前面１０ａのいずれの位置においても投射光ＰＬを遮ることなく確実に観察者のいる側に適切な状態で反射させるように設計されていることが望ましい。本実施形態では、上記を踏まえて前面１０ａの表面に所定パターンで所定形状の微細凹凸構造を設ける上で、投射光ＰＬを的確に反射するための処理を施したものとしている。
【００２７】
以下、スクリーン１０の前面１０ａに設けられている表面構造を中心として、スクリーン１０の構造全般について説明する。図３（Ａ）及び３（Ｂ）は、スクリーン１０の一部を拡大した側断面図である。ここで、図３（Ａ）は、例えば図２の領域ＣＡ等の投射光の入射角度の大きな領域に対応する図であり、図３（Ｂ）は、例えば図２の領域ＤＡ等の投射光の入射角度の小さな領域に対応する図である。図からも明らかなように、各領域に投射される投射光ＰＬ１、ＰＬ２の入射角度θ１、θ２は、互いに大きく異なるものとなっている。
【００２８】
図３（Ａ）及び３（Ｂ）に共通して、スクリーン１０は、下地となるスクリーン基板１と、下方からの投射光ＰＬを前方に反射させる反射面ＲＳとを備える。スクリーン基板１は、透明ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）等の光透過性物質により形成される本体部分である透明基板ＴＢと、透明基板ＴＢの裏面側に黒色インクを塗布することにより形成される光吸収面ＢＭとを有する。透明基板ＴＢの前面側には、多数の立体部２ａが形成されている。多数の立体部２ａは、それぞれ球面状の凹曲面を有しており、スクリーン基板１の前面側に２次元的に略隙間なく形成されている。各立体部２ａ上のうち、各立体部２ａの上方側即ち＋ｙ方向側の領域上には、反射面ＲＳが形成されている。なお、反射面ＲＳは、例えばアルミニウムを蒸着すること等により得られる金属膜によって形成される。以上のように、スクリーン１０の前面１０ａに設けられている微細凹凸構造は、スクリーン基板１の前面側に形成される多数の立体部２ａ上に反射面ＲＳを備える構造となっている。実際の各立体部２ａの径は、好ましくは０．０５ｍｍ〜０．４ｍｍ程度のものとなっており、スクリーン１０のサイズによっては、前面１０ａ上に億単位の個数の立体部２ａが形成されている。
【００２９】
ここで、図３（Ａ）及び３（Ｂ）のうち、スクリーン１０の上部周辺側の領域について示す図３（Ａ）では、隣接する立体部２ａの境界付近に平坦な面である境界部分ＴＰが形成されている。これに対して、下部中央側の領域について示す図３（Ｂ）では、隣接する立体部２ａの境界として隣接する立体部２ａの凹面を延長して交差することによって形成される角状の尖ったピークＰＫが形成されている。図３（Ａ）の境界部分ＴＰは、後述するように、ピークＰＫとなるべき部分についてスクリーン基板１の作製段階でピークＰＫを除去するような処理がなされることにより形成されたものである。
【００３０】
図４（Ａ）及び４（Ｂ）は、図３（Ａ）及び３（Ｂ）でのスクリーン基板１の形状の違いについて比較して説明するために、それぞれに対応する領域における透明基板ＴＢについて取り出した模式図である。各立体部２ａは、点ＣＴを基点とするエッチング処理により形成される型からの転写により、点ＣＴを中心する半径Ｒの球面によって形成されている。多数の立体部２ａは、略同一の間隔で隙間のないように２次元的に配列されている。図４（Ａ）において、エッチング処理により形成される転写面をそのまま用いた場合、図中破線で示すように、隣接する立体部２ａの境界は、立体部２ａの凹面を延長して交差することで形成される角状の尖ったピークＰＫを有する形状となる。これに対して、図４（Ａ）では、このピークＰＫの部分が切り取られ、平坦な境界部分ＴＰが形成されている。一方、図４（Ｂ）では、ピークＰＫの部分が切り取られることなくそのまま残っている。つまり、図４（Ａ）の立体部２ａは、ピークＰＫが切り取られている分、図４（Ｂ）の立体部２ａよりも高低差の小さいものとなっている。
【００３１】
以下、各立体部２ａの高低差について説明するために、図４（Ａ）及び４（Ｂ）を用いてスクリーン前面での凹凸の高さについて規定する。このため、まず、スクリーン表面を巨視的に捉え微細凹凸構造を無視して平面であると仮定した仮想的な平面をスクリーン面ＶＳについて定める。これは、例えば、図２のスクリーン１０において、前面１０ａを平面として考えたものと同様であり、図４（Ａ）では、一例として各立体部２ａの中心部分であり凹面の底の点となる底部ＢＰを含む面をスクリーン面ＶＳとする。この場合、底部ＢＰと点ＣＴとを結ぶ直線である中心線ＣＬは、スクリーン面ＶＳに垂直となる。ここで、このスクリーン面ＶＳの法線方向について、スクリーンから観察者側に向かうほど高い位置にあるものと規定することで、スクリーン前面での凹凸の高さについて規定する。つまり、図中における紙面上方向即ち＋ｚ方向ほど高い位置にあるものとなる。図示のように隣接する２つの立体部２ａ間にピークが形成される場合、各立体部２ａにおいて、中心部分である底部ＢＰが最も低い位置となり、各立体部２ａの周辺部分であり、２つの立体部２ａ間に位置する境界部分ＴＰが最も高い位置となる。同様に、図４（Ｂ）においても、底部ＢＰが最も低い位置となり、ピークＰＫが最も高い位置となる。なお、ここでは、底部ＢＰの位置を高さ０とする。以上のように規定した場合、境界部分ＴＰの高さｈ及びピークＰＫの高さｈ´が、それぞれにおける各立体部２ａの高さとなる。より具体的には、当該凹面の曲率半径Ｒ、各立体部２ａの底部ＢＰを通りスクリーン面ＶＳに垂直な中心線ＣＬ（即ち底部ＢＰと点ＣＴとを結んだ直線）から当該凹面を延長して交差させることで形成されるピークＰＫまでの距離をｄとすると、ピークＰＫの高さｈ´は、
2010085883.tif 000004
と表される。一方、境界部分ＴＰの高さｈとピークＰＫの高さｈ´との関係は、
2010085883.tif 000005
である。従って、境界部分ＴＰの高さｈは、以下の式
2010085883.tif 000006
を満たすものとなっている。つまり、境界部分ＴＰは、隣接する立体部２ａの凹面を延長して交差させることで形成される境界であるピークＰＫよりも低くなっている。
【００３２】
以上のように、各立体部２ａについて高さｈ、ｈ´の調整がなされている。より具体的には、スクリーン１０の前面１０ａのうち、比較的入射角度の大きな投射光ＰＬ１に対する領域と比較的入射角度の小さな投射光ＰＬ２に対する領域とにおける立体部２ａの高さｈとｈ´とには上記した調整を行うか否かによる差がある。この高低の差は、投射光ＰＬ１の入射角度θ１と投射光ＰＬ２の入射角度θ２との差が大きくなるのに応じて大きくなっている。これにより、各立体部２ａによって形成される凹凸が投影画像を劣化させる要因となることを回避している。また、後述するように、反射面ＲＳを斜方から成膜物質を射出して成膜することにより形成する場合にも、当該成膜の際に立体部２ａ間の境界付近において成膜物質が遮られることなく良好な反射面ＲＳの形成が可能となる。
【００３３】
図５は、投射光の入射角度の違いとピークＰＫが与える影響との関係について説明するための模式図である。以下、図５を用いてピークＰＫが画像に与える影響について説明することで、図３（Ａ）と図３（Ｂ）とで形状に差異を生じさせている理由について説明する。なお、図５において、形成領域Ｇ１及び形成領域Ｇ２は、それぞれ画像投影のために図３（Ａ）及び３（Ｂ）に示す反射面ＲＳを必ず形成させなければならない必須領域を示している。一般に形成領域Ｇ１及び形成領域Ｇ２は、投射光ＰＬの入射角度が小さくなる程広くなる。これに伴って、図３（Ａ）及び３（Ｂ）においても、図３（Ｂ）の反射面ＲＳの面積のほうが大きくなっている。
【００３４】
ここで、ピークＰＫは、既述のように、一対の隣接する立体部２ａの球面状の凹面が交差することにより形成されるものである。この場合、当該凹面が球面状であることから、ピークＰＫは、比較的急峻な勾配の形状を有することが多い。このため、スクリーン１０に入射する投射光ＰＬの入射角度が大きく傾くと、ピークＰＫに対応する影の先端部分は、遠くまで延びてピークＰＫから離れた位置に形成されるものとなる。以下、投射光ＰＬの入射角度の違いからピークＰＫが画像投射に与える影響の違いについて説明する。まず、入射角度の大きな投射光ＰＬ１が仮想的なピークＰＫを通過する場合は、図５に示すようにピークＰＫに対応する点Ｐ１がピークＰＫから大きく離れたところに形成される。このため、点Ｐ１が形成領域Ｇ１上に含まれてしまう。つまり、形成領域Ｇ１に到達すべき投射光ＰＬ１が仮想的なピークＰＫによって遮られ、ピークＰＫに対応する点Ｐ１が反射面ＲＳ上の影として形成されてしまう。これに対して、入射角度の小さな投射光ＰＬ２がピークＰＫを通過する場合は、図５に示すようにピークＰＫに対応する点Ｐ２がピークＰＫのすぐ近くに形成される。このため、点Ｐ２が形成領域Ｇ２上に含まれることはない。または、ピークＰＫに対応する点Ｐ２が存在しない。つまり、いずれにしても、形成領域Ｇ２に到達すべき投射光ＰＬ２がピークＰＫによって遮られることはなく、反射面ＲＳ上に影が形成されてしまうことはない。従って、本実施形態のスクリーン１０では、スクリーン前面の領域のうち、比較的投射光ＰＬの入射角度が大きく、ピークＰＫの存在によって反射面ＲＳに向かう投射光成分が遮られる可能性のある領域について、ピークＰＫを予め取り除く処理が施されている。これにより、スクリーン１０は、スクリーン表面上のどの位置においても投射光ＰＬを適切な状態で反射することができるものとなっている。なお、投射光ＰＬを適切な状態で反射するため、ピークＰＫを予め取り除く処理を行うにあたって、境界部分ＴＰの高さの調整量は、投射光ＰＬの入射角度に対応させている。
【００３５】
以下、スクリーン１０の製造方法の一例について説明する。まず、図６（Ａ）〜６（Ｆ）を用いてスクリーン基板１の本体部分である透明基板ＴＢの作製について説明する。このうち、図６（Ａ）〜６（Ｄ）は、転写成形型を作製するスクリーン型作製工程について説明する模式図であり、図６（Ｅ）及び６（Ｆ）は、転写成形型から透明基板ＴＢを作製する工程を説明する模式図である。まず、図６（Ａ）に示すように、エッチング処理によって、図３等のスクリーン１０の多数の立体部２ａの凹面形状に対応する多数の凹形状２ａａを有する第１成形型１０ａａ（図６（Ｃ）参照）となるべきガラス型ＧＡを作製する。ガラス型ＧＡの製造方法については、例えば、まず、ガラス型ＧＡとなるべき平板状のガラス板の表面にマスクを施す。次に、当該マスク上に立体部２ａの配列パターンに対応するように多数の開口を設ける。最後に、例えばガラス板をエッチング液中に浸漬してマスクの多数の開口を介してガラス板の等方エッチングを行うことにより球面状の多数の凹形状２ａａを有するガラス型ＧＡが作製される。ガラス型ＧＡは、以上のようにして作製されるため、隙間なく多数の凹形状２ａａに覆われた表面形状を有し、かつ、これらの凹形状２ａａは、図３（Ａ）等の多数の立体部２ａの配列パターンに対応するものとなっている。ただし、多数の凹形状２ａａ間には、多数のピークＰＫａが形成されている。次に、図６（Ｂ）に示すように、これらのピークＰＫａのうち必要な箇所に、図３（Ａ）等に示す境界部分ＴＰに対応する部分を形成するために、例えば研磨機ＧＲを図中往復矢印の方向等に動かすことによりピークＰＫａの一部を研磨する。これにより、図６（Ｃ）に示すように、ピークＰＫａのうち境界部分ＴＰの高さ調整に対応した箇所が除去されることで、第１成形型１０ａａが得られる。つまり、第１成形型１０ａａは、上記研磨動作により、境界部分ＴＰの高さ調整に対応した部分ＴＰａを有するものとして作製される（高さ調整工程及び第１成形型作製工程）。第１成形型１０ａａにおいて、研磨処理のなされた部分がスクリーン１０のうち図３（Ａ）等に示すような上方側・周辺側の領域に対応し、研磨処理のなされなかった部分が図３（Ｂ）等に示すような下方側・中央側の領域に対応する。次に、図６（Ｃ）に示すように、第１成形型１０ａａを用いて紫外線硬化性樹脂等により第１の転写（予備転写）をすることで第２成形型１０ａｂを作製する。これにより、図６（Ｄ）に示すような多数の球面状の凸形状２ａｂを有する第２成形型１０ａｂが転写成形型として作製される（第２成形型作製工程）。以上のようにして形成された第２成形型１０ａｂから第２の転写（本転写）をすることによりスクリーン基板１の本体部分である透明基板ＴＢが作製される。より具体的に説明すると、まず、第２成形型１０ａｂの表面上を例えばクロム膜で被覆する処理を行う、あるいは離型剤を第２成形型１０ａｂの表面上に塗布する等、転写後に第２成形型１０ａｂと透明基板ＴＢとを剥離させやすくするための前処理を行う（転写前処理工程）。次に、図６（Ｅ）に示すように透明基板ＴＢの材料となる紫外線硬化樹脂ＵＰを第２成形型１０ａｂの表面上に一様に塗布し、さらにその上にスクリーン基板の主たる材料である透明ＰＥＴ等の光透過性物質によって構成される主基板部材ＳＳを載せ、プレスによる成形を行う。その後、さらにＵＶ光を全体に照射することで紫外線硬化樹脂ＵＰを固化する。これにより、第２成形型１０ａｂ上で紫外線硬化樹脂ＵＰと主基板部材ＳＳとが一体化し、これを第２成形型１０ａｂから剥離する。図６（Ｆ）のように、剥離して取り出されたものが、スクリーン基板１の本体部分である透明基板ＴＢとなる。なお、上述のようにして形成された透明基板ＴＢについて、図３（Ａ）等のように、透明基板ＴＢの裏面側に黒色インクを塗布することにより光吸収面ＢＭを形成し、さらに、全面側に形成されている多数の立体部２ａの所定の領域に反射面ＲＳを形成させることで、スクリーン１０が作製される。
【００３６】
以上のように、本スクリーン１０のためのスクリーン基板１の作製において、図３（Ａ）等に示す境界部分ＴＰに対応する部分を形成するための高さ調整工程を含んでいる。スクリーン１０は、前面１０ａの必要箇所に応じて境界部分ＴＰを有することにより、各立体部２ａ間の境界付近が投影画像の影となることを抑制できる。
【００３７】
図７、図８（Ａ）及び８（Ｂ）は、反射面ＲＳを形成するための成膜装置の一例についての斜視図、平面図及び側断面図である。図７等に示す成膜装置３００は、例えば抵抗加熱により成膜材料を蒸発させて真空蒸着による成膜を行う真空蒸着装置であり、蒸発源装置１２０と、チャンバ１３０と、真空ポンプ１４０と、制御装置１５０とを備える。図８（Ｂ）に示すように、蒸発源装置１２０は、反射面ＲＳとなるべき反射膜を形成するための成膜物質Ｗ１であるアルミニウムを射出する材料射出装置１２０ａを備える。
【００３８】
成膜装置３００は、所定半径の円筒形状を有しており、チャンバ１３０により形成される内部空間ＩＳも円筒形状となっている。材料射出装置１２０ａは、ボート上に成膜物質Ｗ１をマウントし、制御装置１５０から供給される電力を用いた抵抗加熱等により成膜物質Ｗ１を加熱して蒸発させることで成膜を行う。チャンバ１３０は、内部空間ＩＳ中に、中心軸ＣＸ、半径Ｒの円筒形状部分の側面に相当する内壁面１３０ａを有する。半径Ｒの値と中心軸ＣＸ上の材料射出装置１２０ａの位置とは、いずれも図１等のスクリーン１０の使用態様に応じて定められている。
【００３９】
図７等に示すように、スクリーン基板１は、この内壁面１３０ａに沿って設置される。より具体的に説明すると、まず、スクリーン基板１は、図７に示すように、内壁面１３０ａに沿って筒状に配置されており、スクリーン基板１の長手方向（スクリーン１０の長手方向に相当）が当該円筒形状の円周方向となっている。また、図８（Ａ）及び８（Ｂ）に示すように、スクリーン基板１は、ホルダＨＤにより内壁面１３０ａに沿ってスクリーン１０の使用態様に応じた高さ位置で固定されている。
【００４０】
以下、成膜装置３００の動作について説明する。まず、真空ポンプ１４０の排気口１４０ａから排気がなされ、チャンバ１３０内部を所定値以下（例えば１０−３Ｐａ以下）の真空状態にする。次に、成膜物質Ｗ１が加熱されて、蒸発する。ここで、チャンバ１３０内は、所望の真空状態となっているため、成膜物質Ｗ１の射出軌道ＥＶは、図７等に矢印で示すように蒸発源装置１２０から放射状に射出するものとなり、スクリーン基板１上に堆積する。以上により、金属膜による反射膜の成膜がなされ（反射膜形成工程）、当該反射膜が図３（Ａ）等に示すように反射面ＲＳとして機能する。以上により、各立体部２ａの適所に反射面ＲＳを有するスクリーン１０が製造される。
【００４１】
なお、成膜装置３００では、図８（Ａ）に示すように平面視した際の蒸発源装置１２０は、円筒形状の中心部に位置するのに対して、スクリーン基板１は、１つの円周上に位置するものとなっている。また、図８（Ｂ）に矢印で示されるように、成膜物質Ｗ１の射出軌道ＥＶはスクリーン基板１に対して対称なものとなっている。つまり、スクリーン基板１上において、長手方向（スクリーン１０の長手方向に相当）に垂直な断面における成膜物質Ｗ１の射出角度がどこにおいても一定に保たれた状態で成膜されるものとなる。これにより、図３（Ａ）等に示すような各立体部２ａの上方側の表面上に反射面ＲＳを形成させることになり、外光ＯＬをスクリーン１０の正面に反射させないようにするとともに、投射光ＰＬをスクリーン１０の正面に確実に反射させるようになっている。
【００４２】
以上のように、斜方から成膜物質Ｗ１を射出して成膜を行う場合においても、図３（Ａ）に示す境界部分ＴＰは、既述のように、通常形成される境界のピークＰＫよりも低くなっているので、反射膜の形成を阻害することない。従って、各立体部２ａの必要な部分に反射膜を漏れなく形成させ良好な反射面ＲＳが形成される。
【００４３】
図９（Ａ）及び９（Ｂ）は、各立体部２ａの配列パターンの一例を示す図であり、スクリーン１０を正面から拡大した図である。図９（Ａ）は、図３（Ａ）に対応するものであり、図９（Ｂ）は、図３（Ｂ）に対応するものである。つまり、図９（Ａ）は、スクリーン１０のうち、例えば図２の領域ＣＡ等の入射角度の比較的大きい投射光ＰＬ１が入射し、これに応じた境界部分ＴＰを有するものについての図である。一方、図９（Ｂ）は、スクリーン１０のうち、例えば図２の領域ＤＡ等の入射角度の比較的小さい投射光ＰＬ２が入射し、ピークＰＫを有するものについての図である。なお、図１０は、図９（Ａ）及び９（Ｂ）を比較する上での参考図であり、スクリーン１０のうち、図１の領域ＵＡ等の上方中央側の領域について示す図である。
【００４４】
スクリーン１０において、多数の立体部２ａの２次元的配列パターンについては、種々のパターンを採用することができ、例えばｘ方向及びｙ方向について均等な間隔で格子状に配列すること等も考えられる。種々考えられるパターンの一例として、図９（Ａ）及び９（Ｂ）における立体部２ａの２次元的配列パターンは、後に詳述する所謂１／２千鳥型の配列であって、さらに、フレネル状に配列された同心円の円弧上に各立体部２ａを並べるようにして配列されるものである。つまり、ここでは、図１１に示すように、交点Ｈを中心とする等間隔の同心円ＣＣ上に沿って立体部２ａを配列している。この場合、図９（Ａ）及び９（Ｂ）に示すスクリーン１０に入射する投射光ＰＬ１、ＰＬ２は、いずれも各立体部２ａが並ぶ方向に沿った曲線（母線）の接線に対して垂直な状態となっている。これにより、例えば図１１の領域ＣＡ等のようなスクリーン１０の上方周辺側に対応する図９（Ａ）においては、投射光ＰＬ１が斜め方向から入射するのに対応して立体部２ａの並ぶ方向もｘｙ方向から傾いた方向となっている。一方、図１１の領域ＤＡや領域ＵＡ等のようなスクリーン１０の中央側に対応する図９（Ｂ）や図１０においては、投射光ＰＬ２（ＰＬ）が正面方向から入射するのに対応して立体部２ａの並ぶ方向もｘｙ方向に沿った状態となっている。
【００４５】
スクリーン１０は、図９（Ａ）及び９（Ｂ）において破線で示す設計上の仮想的な円ＣＦに対応して球面状の立体部２ａが形成されており、円ＣＦを重なり合うように配列することで、略隙間がないものとなっている。ここでは、多数の立体部２ａの配列を所謂１／２千鳥型の配列としている。つまり、図９（Ｂ）を用いて説明すると、２次元配列される多数の円ＣＦは、ｘ方向については、等間隔で直線上に並ぶように列を形成する一方、ｙ方向については、ｘ方向に周期的に並ぶ各列が１／２周期分ずつずれるように並んでいる。なお、図９（Ａ）においても、多数の立体部２ａは、円弧状に沿って斜めの方向について同様に１／２千鳥型の配列となっている。以上において、図９（Ａ）に示すように、スクリーン１０のうち、入射角度の比較的大きな投射光ＰＬ１が入射する領域では、隣接する３つの立体部２ａ間に形成される境界部分ＴＰであって、図９（Ａ）中のスクリーン１０の表面において最も高い部分となる境界部分ＴＰが平坦状に形成されている。これにより、境界部分ＴＰ及びその周辺の形状に従って形成される影ＳＡは、面投射光ＰＬ１を反射する反射面が形成される形成領域Ｇ１内に重なることがないようになっている。これに対して、図９（Ｂ）に示すように、入射角度の比較的大きな投射光ＰＬ１が入射する領域では、隣接する３つの立体部２ａ間に形成されるピークＰＫであって、図９（Ｂ）中のスクリーン１０の表面において最も高い部分となるピークＰＫをそのままの形状で残していても、影ＳＡが投射光ＰＬ２を反射面の形成領域Ｇ２内に重なることがない。なお、図１０に示すように、スクリーン１０の中央側であっても、上方側に位置するため投射光ＰＬの入射角度が大きくなり、形成領域Ｇ１内に影ＳＡが重なる場合には、図９（Ａ）に示す場合と同様に境界部分ＴＰを形成させてもよい。
【００４６】
ここで、図９（Ａ）及び９（Ｂ）に示す場合における境界部分ＴＰの高さｈとピークＰＫの高さｈ´は、図４（Ａ）等の場合と同様に規定すると、以下のようになる。図１２（Ａ）及び１２（Ｂ）は、図９（Ｂ）等に示す各立体部２ａの点ＣＴとピークＰＫや境界部分ＴＰとの位置関係を模式的に示すものである。この場合、図１２（Ａ）に示すように隣接する３つの立体部２ａの凹面を延長すると、３つの点ＣＴから等しい距離にあるところで交差し、これによりピークＰＫが形成されるものとなっている。従って、ピークＰＫは、図１２において、３つの立体部２ａの点ＣＴを繋ぐことで形成される三角形ＴＲの外心（三角形ＴＲの外接円ＯＣの中心）に位置する。よって、この場合、図１２（Ｂ）に示すように、当該凹面の曲率半径をＲ、点ＣＴと底部ＢＰとを結んでできる中心線ＣＬからピークＰＫまでの距離をｄ´とする（即ち三角形ＴＲの外接円ＯＣの半径をｄ´とする）と、ピークＰＫの高さｈ´は、
2010085883.tif 000007
と表される。境界部分ＴＰの高さｈとピークＰＫの高さｈ´との関係は、
2010085883.tif 000008
であるから、境界部分ＴＰの高さｈは、以下の式
2010085883.tif 000009
を満たすものとなっている。以上のように３つ（或いはそれ以上の数）の隣接する立体部２ａによってピークＰＫが形成される場合にも、同様にピークの高さを規定することができ、スクリーンの表面における凹凸形状を、当該ピークよりも低くした形状とすることができる。
【００４７】
以上第１実施形態について説明したが、本実施形態は上記に限られるものではない。例えば、上記では、多数の立体部２ａの配列を、所謂１／２千鳥型の配列としているが、これ以外の配列であっても構わない。また、スクリーン１０上での立体部２ａの２次元的な配列についても、上記したようなフレネル状に配列された同心円の円弧上に各立体部２ａを並べる場合のほかに、例えば各立体部２ａを直線上に並べるようにして配列することも可能である。なお、上記の例では１／２千鳥型の配列であるため、三角形ＴＲは二等辺三角形となるが、三角形ＴＲがこれ以外の形状となる場合にも同様に考察できる。
【００４８】
また、上記では、ピークＰＫを取り除く処理を行う領域と行わない領域との２つの領域を用いて説明しているが、ピークＰＫを取り除いて境界部分ＴＰを形成するにあたって、例えば境界部分ＴＰの高さを投射光ＰＬの入射角度に応じて段階的に調整することも可能である。例えば、図９（Ａ）と図１０とにおいては、いずれもピークＰＫが取り除かれ境界部分ＴＰが形成されているが、図９（Ａ）に示す領域中の境界部分ＴＰと図１０に示す領域中の境界部分ＴＰとでは、高さの調整量が異なっていてもよい。
【００４９】
〔第２実施形態〕
図１３（Ａ）〜１３（Ｆ）は、第２実施形態に係るスクリーンの製造方法について説明する図である。本実施形態に係るスクリーンの製造方法は、第１実施形態に係るスクリーンの製造方法の変形例である。図１３（Ａ）に示すガラス型ＧＡは、図６（Ａ）のものと同様であるので説明を省略する。また、透明基板ＴＢの作製後の製造工程等第１実施形態と同様の工程についても、図示や説明を省略する。
【００５０】
図１３（Ａ）に示すガラス型ＧＡを本実施形態では、図１３（Ｂ）に示すように、ガラス型ＧＡを第１成形型１１０ａａとし（第１成形型作製工程）、第１成形型１１０ａａを用いて紫外線硬化性樹脂等により第１の転写（予備転写）を行うことで予備転写型１１０ａｃを作製する。予備転写型１１０ａｃは、第１成形型１１０ａａの凹形状２ａａに対応する凸形状２ａｂを有しており、図１３（Ｃ）に示すように、多数の凸形状２ａｂ間には、多数の溝部ＰＫｂが形成されている。次に、図１３（Ｃ）のように、これらの溝部ＰＫｂのうち必要な箇所に、図３（Ａ）等に示す境界部分ＴＰに対応する部分を形成するために、該当する一部の溝部ＰＫｂにディスペンサーＳＰ１で低粘性の紫外線硬化樹脂ＵＰ１を注入して溝部ＰＫｂを埋める。なお、紫外線硬化樹脂ＵＰ１は、凸形状２ａｂの途中に留まることなく確実に溝部ＰＫｂを埋めるように十分低い粘度に調整されている。また、ディスペンサーＳＰ１を用いる方法に代えて、多数の凸形状２ａｂが形成されている一面に紫外線硬化樹脂ＵＰ１を塗布してもよい。この場合、紫外線硬化樹脂ＵＰ１が自重により垂れることで凸形状２ａｂの途中に留まらずに溝部ＰＫｂに落ち込むように、紫外線硬化樹脂ＵＰ１の粘度を調整しておけばよい。以上のようにして、紫外線硬化樹脂ＵＰ１で溝部ＰＫｂを埋めた後、図１３（Ｄ）に示すように、全体にＵＶ光を照射することで、溝部ＰＫｂのうちの所定箇所が埋められた第２成形型１１０ａｂが形成される。つまり、第２成形型１１０ａｂは、上記のようにして溝部ＰＫｂを埋めたことにより、境界部分ＴＰの高さ調整に対応した部分ＴＰｂを有する転写成形型として作製される（高さ調整工程及び第２成形型作製工程）。以上のようにして形成された第２成形型１１０ａｂから、図１３（Ｅ）及び１３（Ｆ）に示すように、第２の転写（本転写）を第１実施形態の場合と同様に行うことによりスクリーン基板１の本体部分である透明基板ＴＢが作製される。
【００５１】
〔第３実施形態〕
図１４（Ａ）〜１４（Ｃ）は、第３実施形態に係るスクリーンの製造方法について説明する図である。本実施形態に係るスクリーンの製造方法は、第１及び第２実施形態に係るスクリーンの製造方法の変形例である。図１４（Ａ）に示す予備転写型２１０ａｃを作製する工程までは第２実施形態の予備転写型１１０ａｃを作製する工程と同様であるので説明を省略する。本実施形態では、予備転写型２１０ａｃを第２成形型２１０ａｂとして用いる（第２成形型作製工程）。第２成形型２１０ａの有する多数の凸形状２ａｂ間には、多数の溝部ＰＫｂが形成されており、図１４（Ａ）のように、これらの溝部ＰＫｂのうち必要な箇所に、図３（Ａ）等に示す境界部分ＴＰに対応する部分を形成するために、該当する溝部ＰＫｂ及びその周辺にディスペンサーＳＰ１で離型剤ＤＰ１を注入して溝部ＰＫｂを埋めつつ、溝部ＰＫｂの周辺全体に離型剤ＤＰ１が塗布される（転写前処理工程）。ここで、一般に離型剤は、第２成形型２１０ａと透明基板ＴＢとを剥離しやすくするために用いるものであるが、紫外線硬化樹脂との親和性が良好でない場合には、図１４（Ｂ）のように、小さな隙間である溝部ＰＫｂに気泡ＢＢを形成する。ここでは、離型剤ＤＰ１を積極的に溝部ＰＫｂに注入することで、溝部ＰＫｂに気泡ＢＢを作り、これにより第２成形型２１０ａと透明基板ＴＢとの間に隙間を形成させている。この結果、図１４（Ｃ）に示すように、第２の転写（本転写）を第１実施形態等の場合と同様に行うことにより剥離して取り出された透明基板ＴＢは、気泡ＢＢにより形成された凹面状の境界部分ＴＰを有するものとなる。
【００５２】
以上、各実施形態について説明してきたが、本発明は上記実施形態に限定されるものではない。
【００５３】
まず、スクリーンの製造方法において、第２の転写（本転写）により透明基板を転写する前の転写前処理工程では、剥離のために離型剤やクロム膜被膜処理を行っているが、離型剤とクロム膜被膜処理とを複合させることも可能である。例えば、第３実施形態において、転写面のうち境界部分の高さ調整を行う領域である境界部分ＴＰを形成させる領域には、溝部ＰＫｂに気泡ＢＢを発生させるために離型剤を塗布し、それ以外の領域にはクロム膜被膜処理を行う、といったことが可能である。
【００５４】
また、上記各実施形態では、いずれも第２成形型の形成において紫外線硬化樹脂を用いた樹脂型により形成しているが、電気鋳造法によって型を形成することも可能である。
【００５５】
また、反射面ＲＳの形成において、成膜物質Ｗ１としてアルミニウムを用いているが、アルミニウムの他にも、例えば銀や誘電体多層膜等を用いることも可能である。また、反射面ＲＳを金属膜で形成する場合、金属膜の上にさらに保護膜を形成させることも可能である。
【００５６】
また、上記各実施形態では、いずれも反射面ＲＳの形成のための反射膜の成膜方法の一例として、真空蒸着法を用いているが、この他にも、例えばイオンアシスト法、スパッタ法等種々の方法によって成膜を行うことも可能である。
【図面の簡単な説明】
【００５７】
【図１】第１実施形態に係るスクリーンを用いた投射システムを示す図である。
【図２】スクリーンの全体的な使用状態を説明するための模式図である。
【図３】（Ａ）、（Ｂ）は、スクリーンの一部を拡大した側断面図である。
【図４】（Ａ）、（Ｂ）は、スクリーン基板の形状の違いについて比較して説明するための模式図である。
【図５】投射光の入射角度と境界のピークの影響との関係を説明する図である。
【図６】（Ａ）〜（Ｆ）は、スクリーンの製造工程のうち透明基板を作製する工程について説明するための模式図である。
【図７】反射膜の成膜を行うための製造装置の一例を説明する斜視図である。
【図８】（Ａ）、（Ｂ）は、反射膜の成膜を行うための製造装置の一例について説明する平面図及び側断面図である。
【図９】（Ａ）、（Ｂ）は、立体部の配列パターンの一例を示すためのスクリーンの正面図である。
【図１０】立体部の配列パターンの他の例を示すスクリーンの正面図である。
【図１１】スクリーン全体の一例を模式的に示す正面図である。
【図１２】（Ａ）、（Ｂ）は、立体部の形状を模式的に示す平面図及び側面図である。
【図１３】（Ａ）〜（Ｆ）は、第２実施形態に係るスクリーンの製造方法について説明するための模式図である。
【図１４】（Ａ）〜（Ｃ）は、第３実施形態に係るスクリーンの製造方法について説明するための模式図である。
【符号の説明】
【００５８】
１０…スクリーン、  １…スクリーン基板、  ＴＢ…透明基板、  ２ａ…立体部、  ＴＰ…境界部分、  ＰＫ…ピーク、  ＲＳ…反射面、  １０ａａ、１１０ａａ…第１成形型、  １０ａｂ、１１０ａｂ、２１０ａｂ…第２成形型、  １００…プロジェクタ
【図１】
2010085883.tif 000011
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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