(57)【要約】【課題】有機ＥＬ表示素子用カラーフィルタにおいて、バリア層を形成することなしに、有機ＥＬ表示素子がカラーフィルターからの水分による劣化のないカラーフィルタを提供することを課題とする。また、有機ＥＬ表示素子において有機ＥＬ層がカラーフィルターからの水分による劣化のない有機ＥＬ表示素子を提供することを課題とする。【解決手段】有機ＥＬ表示素子用カラーフィルタにおいて、３．０ｘ１０-6Ｐａの圧力にて、２５℃から２４０℃に加熱して、２４０℃にて３０分間保持したときに得られる水分量が３．５μｇ/ｃｍ2以下とすることにより、有機ＥＬ表示素子が該カラーフィルタからの水分による劣化のないカラーフィルタを提供することができる。また、前記カラーフィルタを用いることにより、有機ＥＬ層がカラーフィルターからの水分による劣化のない有機ＥＬ表示素子を提供することができる。【選択図】  図１
2010117479.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
有機ＥＬ表示素子用カラーフィルタであって、基板上に少なくともブラックマトリックス層と、カラー層と、オーバーコート層とを形成して構成されるカラーフィルタであって、該カラー層が少なくとも赤色，緑色，青色の３色から成り、また、該オーバーコート層が透明な材料から成り、該カラーフィルタが、３．０ｘ１０-6Ｐａの圧力にて、２５℃から２４０℃に加熱して、２４０℃にて３０分間保持したときに得られる水分量が３．５μｇ/ｃｍ2以下であることを特徴とする有機ＥＬ表示素子用カラーフィルタ。
【請求項２】
前記基板が、透明基板であることを特徴とする請求項1に記載のカラーフィルタ。
【請求項３】
前記カラー層が各色のカラーレジストをパターニングして形成されることを特徴とする請求項１または２に記載のカラーフィルタ。
【請求項４】
前記オーバーコート層が、有機性高分子から成ることを特徴とする請求項1〜３のいずれか１項に記載のカラーフィルタ。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１項に記載のカラーフィルタと、少なくとも有機ＥＬ層を基板上に形成した有機ＥＬ基板とを、前記カラー層の形成された面と前記有機ＥＬ層が形成された面とが対向して内側となるように貼り合わせてなる有機ＥＬ表示素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機ＥＬ表示素子用カラーフィルタ及び該カラーフィルタを用いた有機ＥＬ表示素子に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、パーソナルコンピュータの発達、携帯用パーソナルコンピュータの発達に伴い、液晶表示素子、有機ＥＬ表示素子の需要が増加する傾向にあり、現在まで、様々なカラーフィルタが考案されている。特に有機ＥＬ表示素子は自発光型の表示素子であり、薄型化、軽量化が容易なため今後の需要増加が予想される。
【０００３】
一般的に、有機ＥＬ表示素子用のカラーフィルタは、ブラックマトリクスを設けたガラス透明基板上に赤色（Ｒ），緑色（Ｇ），青色（Ｂ）の３原色がパターニングされたカラー画素層を形成した後、無色で透明のオーバーコート層などをその上に形成し、さらにオーバーコート層上に窒化珪素、または窒化珪素と酸化珪素混合物から成る無機膜を成膜する場合が多い。
【０００４】
有機ＥＬは、これに用いる発光材料が水分で劣化しやすい。これを改善するために、窒化珪素、酸化珪素などの無機化合物を、有機ＥＬへの水分の侵入を防ぐためのバリア層として用いる技術が示されている（特許文献１、特許文献２）。
【０００５】
このように、前記無機膜は、カラーフィルタを形成する樹脂層などからの水分による有機ＥＬ層の劣化を防止するために該水分を封止するためのバリア層として機能させるために配置される。
【０００６】
しかしながら、一方、前記バリア層の形成は、ＣＶＤ法やスパッタリング法にて行う必要があるため、専用の装置を必要とする。これらの成膜は、真空でかつ高温の環境で行う必要があるため、圧力の調整と装置内の加熱、冷却にかなりの時間を要する。従って生産性が低下し、製造コストがあがる要因となる。また、バリア層を形成する工程が増えるため、収率低下を招く要因が増すこととなり、これらが生産上の大きな課題となっている。
【特許文献１】特開2004-119119号公報
【特許文献２】特開2005-174726号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、以上の問題点を鑑みてなされたものであり、有機ＥＬ表示素子用カラーフィルタにおいて、バリア層を形成することなしに、有機ＥＬ表示素子がカラーフィルターからの水分によって劣化することのないような有機ＥＬ表示素子用のカラーフィルタを提供することを課題とする。
【０００８】
また、本発明は、有機ＥＬ表示素子において有機ＥＬ層がカラーフィルターからの水分によって劣化することのないような有機ＥＬ表示素子を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、前記目的を達成するために為されたものであって、請求項１記載の発明は、有機ＥＬ表示素子用カラーフィルタであって、基板上に少なくともブラックマトリックス層と、カラー層と、オーバーコート層とを形成して構成されるカラーフィルタであって、該カラー層が少なくとも赤色，緑色，青色の３色から成り、また、該オーバーコート層が
透明な材料から成り、該カラーフィルタが、３．０ｘ１０-6Ｐａの圧力にて、２５℃から２４０℃に加熱して、２４０℃にて３０分間保持したときに得られる水分量が３．５μｇ/ｃｍ2以下であることを特徴とする有機ＥＬ表示素子用カラーフィルタである。
【００１０】
請求項２記載の発明は、前記基板が、透明基板であることを特徴とする請求項1に記載のカラーフィルタである。
【００１１】
請求項３記載の発明は、前記カラー層が各色のカラーレジストをパターニングして形成されることを特徴とする請求項１または２に記載のカラーフィルタである。
【００１２】
請求項４記載の発明は、  前記オーバーコート層が、有機性高分子から成ることを特徴とする請求項1〜３のいずれか１項に記載のカラーフィルタである。
【００１３】
請求項５記載の発明は、請求項１〜４のいずれか１項に記載のカラーフィルタと、少なくとも有機ＥＬ層を基板上に形成した有機ＥＬ基板とを、前記カラー層の形成された面と前記有機ＥＬ層が形成された面とが対向して内側となるように貼り合わせてなる有機ＥＬ表示素子である。
【発明の効果】
【００１４】
請求項１に記載の本発明により、有機ＥＬ表示素子用カラーフィルタであって、基板上に少なくともブラックマトリックス層と、カラー層と、オーバーコート層とを形成して構成されるカラーフィルタであって、該カラーフィルタが、３．０ｘ１０-6Ｐａの圧力にて、２５℃から２４０℃に加熱して、２４０℃にて３０分間保持したときに得られる水分量が３．５μｇ/ｃｍ2以下であることを特徴とする有機ＥＬ表示素子用カラーフィルタを用いることにより、該カラーフィルタにバリア層を形成することなしに、有機ＥＬ表示素子がカラーフィルタからの水分によって劣化することのないような有機ＥＬ表示素子用のカラーフィルタを提供することができる。
【００１５】
請求項５に記載の本発明により、請求項１〜４のいずれか１項に記載のカラーフィルタをもちいることにより、有機ＥＬ表示素子において有機ＥＬ層がカラーフィルターからの水分によって劣化することのないような有機ＥＬ表示素子を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下に、本発明の実施の一形態を具体的に説明するが、本発明はこれに限定されるわけではない。
【００１７】
本発明におけるカラーフィルタの基板としては、透明な基板が望ましく、ソーダガラス、無アルカリガラス、ホウケイ酸ガラス、石英ガラスなどのガラス基板が用いることができる。
また、透明な有機系高分子フィルムに透明な無機膜を形成してバリア機能や、耐溶剤機能を付加した複合フィルム材料を用いてもよい。
【００１８】
前記有機系高分子フィルムとしては、ＰＥＴ，ＰＥＮ，環状ポリオレフィン、などを用いることができる。また、前記無機膜としては、窒化珪素、酸化珪素、窒化珪素と酸化珪素との混成物などを用いることができる。
【００１９】
次に、この基板上に、クロムなどから成る無機系ブラックマトリックスや、黒色顔料が分散された樹脂などからなる有機系ブラックマトリックスなどを形成する。
【００２０】
次に、カラーレジスト材料から成るカラー画素層を積層させる。カラー画素層としては
通常フォトリソグラフィー法により形成される染色膜、顔料分散膜などが用いられるが、耐熱性、耐光性などの点から顔料分散膜が好適に用いられる。
【００２１】
このようにして作製されたカラー画素上に、熱硬化性または光硬化性のアクリル系樹脂、またはポリイミド系樹脂組成物を塗布した後、熱硬化性の場合は焼成を行い、また光硬化性の場合は、紫外線照射により硬化させ、オーバーコート層を形成する。
【００２２】
以上のようにして形成したカラーフィルタを、２３０℃以上の温度にて１．５時間以上焼成する。このようにして、ＥＬ表示素子用カラーフィルタを作成することができる。
【００２３】
前記の本発明によるＥＬ表示素子用カラーフィルタを、３．０ｘ１０-6Ｐａの圧力にて２５０℃で３０分間加熱した際の水蒸気析出量は３．５μｇ/ｃｍ2以下となった。
【００２４】
次に、本発明による有機ＥＬ表示素子の一例を図１を用いて説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
【００２５】
図１に示すように、前記の手順にて作成した有機ＥＬ表示素子用カラーフィルタの配置された基板１１を、陽極である下部電極２１、有機ＥＬ層３１，３２，３３、陰極である上部電極２２が順に積層された有機ＥＬ層基板１２と端部を封止材４で隙間のないように貼り合せることにより、長期に渡り欠陥の発生、拡大のない有機ＥＬ表示素子を得ることができる。
【００２６】
前記図１のように、本発明の有機ＥＬ表示素子用カラーフィルタを組み込んだ、本発明の有機ＥＬ表示素子は、有機ＥＬ基板１２と対向するカラーフィルタ基板１１側から光を取り出すトップエミッション方式の有機ＥＬ表示素子に好適に適用できる。一般に  トップエミッション型の有機ＥＬ基板は、発光層である有機ＥＬ層が、基板にあらかじめ形成された光反射性の下部電極２１上に間接あるいは直接的に形成されていることが一般的である。
【００２７】
図２に基づいて、さらに本発明の有機ＥＬ表示素子の説明を行う。有機ＥＬ層の配置された基板１２には、必要に応じて、予め薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）７を形成し、駆動用基板として用いても良い。本発明の有機ＥＬ表示素子用カラーフィルタはパッシブマトリックス方式の有機ＥＬ表示素子、アクティブマトリックス方式の有機ＥＬ表示素子用としても適用可能である。パッシブマトリックス方式としてはストライプ状の電極を直交させるように対向させ、その交点を発光させる方式であるのに対し、アクティブマトリックス方式は画素毎にＴＦＴを形成した、いわゆるＴＦＴ基板を用いることにより、画素毎に独立して発光させる方式である。
【００２８】
図２において、陽極である下部電極２１は、光の反射機能をもつ電極とし、カラーフィルタ基板１２側への光の取り出し効率を向上させるために、クロム膜、またはクロム膜とＩＴＯ膜の積層膜を好適に用いることができる。パッシブマトリックス方式の有機ＥＬ表示素子の場合、下部電極２１はストライプ状に形成され、アクティブマトリックス方式の有機ＥＬ表示素子の場合には、各画素ごとにパターニングするのがよい。
【００２９】
本発明における有機ＥＬ層３１，３２，３３としては、発光物質を含む有機発光単層、あるいは多層で形成することができる。多層で形成する場合の構成例としては、正孔輸送層、電子輸送性有機発光層、電子輸送層からなる３層構成、さらには必要に応じて正孔（電子）注入機能と正孔（電子）輸送機能を分けたり、正孔（電子）の輸送をブロックする層などを挿入することにより、さらに多層形成することが好ましい。
【００３０】
正孔輸送材料の例としては、銅フタロシアニン（CuPｃ）、テトラ（ｔ−ブチル）銅フタロシアニン等の金属フタロシアニン類及び無金属フタロシアニン類、キナクリドン化合物、１，１−ビス（４−ジ−ｐ−トリルアミノフェニル）シクロヘキサン、Ｎ，Ｎ'−ジフェニル−Ｎ，Ｎ'−ビス（３−メチルフェニル）−１，１'−ビフェニル−４，４'−ジアミン、Ｎ，Ｎ'−ジ（１−ナフチル）−Ｎ，Ｎ'−ジフェニル−１，１'−ビフェニル−４，４'−ジアミン（α−NPD）等の芳香族アミン系低分子正孔注入輸送材料や、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリビニルカルバゾール、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）とポリスチレンスルホン酸との混合物などの高分子正孔輸送材料、ポリチオフェンオリゴマー材料、その他既存の正孔輸送材料の中から選ぶことができる。
【００３１】
有機発光材料としては、キノロン誘導体、フェノキサゾン誘導体、９，１０−ジアリールアントラセン誘導体、ピレン、コロネン、ペリレン、ルブレン、１，１，４，４−テトラフェニルブタジエン、トリス（８−キノリノール）アルミニウム錯体（Ａｌｑ３）、トリス（４−メチル−８−キノリノラート）アルミニウム錯体、ビス（８−キノリノラート）亜鉛錯体、トリス（４−メチル−５−トリフルオロメチル−８−キノリノラート）アルミニウム錯体、トリス（４−メチル−５−シアノ−８−キノリノラート）アルミニウム錯体、ビス（２−メチル−５−トリフルオロメチル−８−キノリノラート）［４−（４−シアノフェニル）フェノラート］アルミニウム錯体、ビス（２−メチル−５−シアノ−８−キノリノラート）［４−（４−シアノフェニル）フェノラート］アルミニウム錯体、トリス（８−キノリノラート）スカンジウム錯体、ビス〔８−（パラ−トシル）アミノキノリン〕亜鉛錯体及びカドミウム錯体、１，２，３，４−テトラフェニルシクロペンタジエン、ペンタフェニルシクロペンタジエン、ポリ−２，５−ジヘプチルオキシ−パラ−フェニレンビニレン、クマリン系蛍光体、ペリレン系蛍光体、ピラン系蛍光体、アンスロン系蛍光体、ポルフィリン系蛍光体、キナクリドン系蛍光体、Ｎ，Ｎ'−ジアルキル置換キナクリドン系蛍光体、ナフタルイミド系蛍光体、Ｎ，Ｎ'−ジアリール置換ピロロピロール系蛍光体等、Ｉｒ錯体等の燐光性発光体などの低分子系発光材料や、ポリフルオレン、ポリパラフェニレンビニレン、ポリチオフェン、ポリスピロなどの高分子材料や、これら高分子材料に前記低分子材料の分散または共重合した材料や、その他既存の発光材料を用いることができる。また、Ｒ（赤）３１、Ｇ（緑）３２、Ｂ（青）３３といった異なる発光色を有する発光材料を画素ごとにパターン形成することにより、フルカラーの有機ＥＬ表示素子とすることができる。
【００３２】
電子輸送材料の例としては、４，４‘−ビス（２，２'−ジフェニルビニル）ビフェニル、２−（４−ビフィニルイル）−５−（４−ｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ビス（１−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール、オキサジアゾール誘導体、Ａｌｑ３やビス（１０−ヒドロキシベンゾ［ｈ］キノリノラート）ベリリウム錯体（BeBq2）、トリアゾール化合物等を用いることができる。
【００３３】
有機ＥＬ層３１，３２，３３の形成方法としては、材料に応じて、真空蒸着法や、スピンコート法、スプレーコート法、ダイコート法といったコーティング法や、凸版印刷法、グラビア印刷法、オフセット印刷法、凹版オフセット印刷法、インクジェット印刷法などの印刷法を用いることができる。
【００３４】
陰極である上部電極２２は、発光の取り出し部を兼ねるので、透光性を持たせるために仕事関数が低いＬｉ，Ｃａを薄く設けた後に、ＩＴＯ（インジウムスズ複合酸化物）やインジウム亜鉛複合酸化物、亜鉛アルミニウム複合酸化物などの金属複合酸化物を積層してもよく、前記有機ＥＬ層３１，３２，３３に、仕事関数が低いＬｉ，Ｃａなどの金属を少量ドーピングして、ＩＴＯなどの金属酸化物を積層してもよい。
【００３５】
下部電極２１には、光反射性に優れた導電性材料を用いることができる。陽極として用
いる場合、ニッケル、銀、金、白金、ロジウム、クロム或いはこれらの合金があげられる。陰極として用いる場合、Ａｇ、Ａｌ、Ｉｎ、Ｍｇなど、あるいはこれらの合金があげられる。
【００３６】
カラーフィルタを形成した基板１１と有機ＥＬ層３１，３２，３３および電極２１，２２を形成した基板１２との貼り合せは封止材４を介して基板周囲に隙間が生じないように封止することにより行う。このとき、両基板間の雰囲気は有機ＥＬ層３１，３２，３３の劣化を防ぐため、乾燥窒素などの不活性ガスとする。
【００３７】
封止材４の材料としては、エポキシ樹脂、アクリル樹脂シリコーン樹脂などからなる光硬化型接着性樹脂、熱硬化型接着性樹脂、や、ポリエチレン、ポリプロピレンなどの酸変性物からなる熱可塑性接着性樹脂などを使用することができる。封止材４の形成方法としては、材料やパターンに応じて、スピンコート、スプレーコート、フレキソ、グラビア、マイクログラビア、凹版オフセットなどのコーティング法または印刷法や、インクジェット法、ラミネート法、転写法などを用いることができる。封止材４の厚みには特に制限はないが、なるべく薄い方が水分の透過量を少なくできるため、５〜５０μｍ程度が好ましい。
【実施例】
【００３８】
以下、実施例によって本発明を具体的に説明するが本発明はこれに限定されるものわけではない。
【００３９】
＜実施例１＞
図１にしめすように、基板１２として厚さ０．７ｍｍのガラスを用い、基板上に下部電極２１として、マスク蒸着法により、ストライプ状のクロム反射電極を２００ｎｍの厚みで形成した。第１正孔注入輸送層としてＣｕＰｃを１０ｎｍ真空蒸着し、第２正孔注入輸送層としてα-ＮＰＤを５０ｎｍの厚さで真空蒸着した。
【００４０】
次に、赤色に発光させたいα−ＮＰＤが蒸着されたストライプ上に、マスク蒸着法により赤色発光層３１として、Ａｌｑ３とフェノキサゾン誘導体であるナイルレッドを蒸着速度比１０００：１にて２５nm蒸着し、さらに有機電子注入輸送層としてＢｅＢｑ２を２５ｎｍ蒸着した。
【００４１】
次に、赤色発光層が形成されていないα−ＮＰＤ層が露出されたままのストライプパターンの内、緑色に発光させたいストライプ上に、マスク蒸着法により緑色有機発光層３２としてＡｌｑ３とキナクリドンを蒸着速度比２００：１で２５ｎｍ蒸着し、さらに有機電子注入輸送層としてＢｅＢｑ２を２５ｎｍ蒸着した。
【００４２】
次に、赤色発光層および緑色発光層が形成されておらず、α−ＮＰＤ層が露出されたままのストライプパターン上に、青色有機発光層３３として４，４'−ビス（２，２'−ジフェニルビニル）ビフェニルと、化学式（１）で表されるキノロン誘導体を蒸着速度比５０：１で共蒸着し、膜厚２５ｎｍとし、さらにその上に有機電子注入輸送層としてＡｌｑ３を２５ｎｍ蒸着した。
【００４３】
【化１】
2010117479.tif 000003
【００４４】
前記のように赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の各色発光層、および電子注入輸送層を形成した後、各ストライプ上に上部電極２２としてまず、Ca膜を厚み5ｎｍで蒸着した後、ＩＴＯをスパッタリング法により１４００Åの厚みで積層させた。Ca膜、およびＩ
ＴＯ膜はマスクを介して成膜することにより下部電極と直交するストライプ状とした。このようにして、Ｒ，Ｇ，Ｂ３色の発色が可能なマトリックス駆動型の有機ＥＬ表示素子を形成した。
【００４５】
続けて基板１１として厚さ０．７ｍｍのガラス基板上に、フォトリソグラフィー工程により、厚み１．２５μｍのブラックマトリクスパターンを形成した。その後、この基板にアクリル樹脂と顔料を混錬して成る赤色（Ｒ），緑色（Ｇ），青色（Ｂ）3色のカラーレジストにて、フォトリソグラフィー工程によりＲ，Ｇ，Ｂパタンを形成した。まず、赤色顔料分散レジストをスピンコートにより仕上がり膜厚保が１．８μｍとなるように塗布した。減圧乾燥後、着色層形成用のストライプ状フォトマスクを通して高圧水銀灯の光を１００ｍＪ／ｃｍ2照射し、アルカリ現像液にて４５秒現像して、ストライプ状の赤色画素を得た。その後、２３０℃で２０分焼成した。
【００４６】
次に、緑色顔料分散レジストも同様にスピンコートにより仕上がり膜厚が１．８μｍとなるように塗布した。減圧乾燥後、前述の赤色画素と隣接した位置にパターンが形成されるようにフォトマスクを通して露光し、現像することで緑色画素を得た。その後２３０℃で２０分焼成した。さらに、赤色、緑色と全く同様にして青色顔料分散レジストについても仕上がり膜厚が１．８μｍとなるように赤色、緑色画素と隣接した青色画素を得た。その後、２３０℃で２０分焼成した。以上のようにして、ガラス基板上に赤、緑、青３色のストライプ状の着色画素で構成される着色層が得られた。
【００４７】
続けて、アクリルモノマを含有する紫外線硬化性透明樹脂から構成されるオーバーコート材料（ＪＳＲ社製  商品名ＮＮ８１５）を上述の着色層上に仕上がり膜厚が１．５μmになるようにスピンコートし、減圧乾燥後、９０℃で９０秒加熱した。その後、高圧水銀灯を光源とする光を１００ｍＪ/ｃｍ2照射した。その後、アルカリ現像液にて３０秒間現像処理を行った後、２３０℃で４０分焼成した。このようにしてカラーフィルタ基板を得た。
【００４８】
続けて前記カラーフィルタが形成された基板１１を、２３０℃のオーブン中で１．５時間焼成した後、上部電極２２、有機ＥＬ層３１，３２，３３、下部電極２１の積層体がパターニングされた基板１２と図１に示すように間に５μｍの隙間を隔ててカラーフィルタの着色層とＥＬ層が向き合うように貼り合せ、有機ＥＬ表示素子を形成した。ここで、両ガラス基板の端部はカチオンＵＶ硬化型エポキシ樹脂（ナガセケムテックス製）を使用した。
【００４９】
このようにして得た有機ＥＬ表示素子の両電極間に電圧印加し、Ｒ，Ｇ，Ｂ各色を２００ｃｄ/ｍ2の輝度で点灯したところ、初期のダークスポットの発生数は０個であった。初期の欠陥は０であることを示す。
【００５０】
次に、前記有機ＥＬ表示素子に加速試験として、９５℃の環境で５０時間放置した後、再度２００ｃｄ/ｍ2の輝度で点灯したところダークスポットの発生数は０個であり、新たに発生したダークスポットはなかった。すなわち、新たな欠陥の発生はなかった。その後９５℃での加熱時間が累積１０００時間になるまで、５０時間毎に、２００ｃｄ/ｍ2の輝度で点灯したところ、新たなダークスポットの発生はなかった。
【００５１】
実施例１で２３０℃１．５時間の焼成処理を行ったのと同じカラーフィルタ基板を１９ｍｍｘ１９ｍサイズに切り出し、ＲＩＧＡＫＵ  ＴＰＤ−ＴｙｐｅＶにて３．０  ｘ  １０−6Ｐａの圧力で２４０℃で３０分間保持したときの脱水分量を測定したところ、検出された水分量は３．３６μｇ/ｃｍ2であった。
【００５２】
＜比較例１＞
カラーフィルタ形成後の基板１の加熱処理を行わない以外は実施例１と同様の方法にて有機ＥＬ表示素子を形成した。
【００５３】
このようにして得た有機ＥＬ表示素子を２００ｃｄ/ｍ2の輝度で点灯したところ、初期のダークスポットの発生数は０個であったが、９５℃で５０時間放置に点灯したところダークスポットが発生した。すなわち、新たに欠陥が発生した。その後、累積加熱時間が１０００時間になるまで５０時間毎に２００ｃｄ/ｍ2の輝度で点灯したところ、ダークスポットの発生数、面積に増大が見られた。
【００５４】
＜比較例１でのカラーフィルタ水分検出量＞
比較例１で使用したのと同じ、オーバーコート層の形成まで行ったカラーフィルタを、実施例２と同じように、１９ｍｍ  ｘ  １９ｍｍのサイズに切り出し、ＲＩＧＡＫＵ  ＴＰＤ−ＴｙｐｅＶにて３．０  ｘ  １０-6Pa以下の圧力で２４０℃で３０分間保持したときの脱水分量を測定したところ、検出された水分量は４．０９μｇ/ｃｍ2であった。
【００５５】
【表１】
2010117479.tif 000004
【００５６】
表１に  実施例１及び比較例１を含むカラーフィルタの水分検出量とダークスポット発生数との関係を示した。
【図面の簡単な説明】
【００５７】
【図１】本発明に係る有機ＥＬ表示素子の説明図である。
【図２】本発明に係る有機ＥＬ表示素子の他の説明図である。
【符号の説明】
【００５８】
１１・・・カラーフィルタ用基板
１２・・・有機EL用基板
２１・・・有機EL層用下部電極
２２・・・有機EL層用上部電極
３１・・・赤色発光有機EL層
３２・・・緑色発光有機EL層
３３・・・青色発光有機EL層
４・・・・封止材
５・・・・カラーフィルタ層
５１・・・赤色カラーフィルタ層
５２・・・緑色カラーフィルタ層
５３・・・青色カラーフィルタ層
６・・・・ブラックマトリックス層
７・・・・ＴＦＴ(Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ) 
【図１】
2010117479.tif 000005
【図２】
2010117479.tif 000006