(57)【要約】【課題】基板搬送用のローラが温度上昇したときにこのローラの回転軸が変形するのを防止することができる基板処理装置を提供する。【解決手段】基板処理装置は、基板Ｋを挟持して搬送する下ローラ２１，第１上ローラ２２及び第２上ローラ２３と、各ローラ２１，２２，２３を回転自在に保持するローラ保持機構３０と、搬送される基板Ｋの上面に向けて流体を吐出する流体吐出機構と、流体吐出機構に流体を供給する流体供給機構とを備える。ローラ保持機構３０は、基板Ｋの両外側で一定間隔を隔てて対向する、下ローラ２１の一端を回転自在に保持する第１架台３３及び下ローラ２１の他端を回転自在に且つ軸線方向に変位可能に保持する第２架台３４と、第１架台３３に支持され、第１上ローラ２２を回転自在に保持する第１保持部材５０と、第２架台３４に支持され、第２上ローラ２３を回転自在に保持する第２保持部材５１とを備える。【選択図】図４
2010222063.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を搬送しながらその上面に流体を供給してこの基板を処理する装置であって、
前記基板の搬送方向と垂直な回転軸をそれぞれ有し、前記基板の下方にその搬送方向に沿って並設されてこの基板を支持する複数の下ローラと、前記下ローラの回転軸と平行な回転軸を有し、少なくとも１つの前記下ローラの上方に配置されて、前記基板の幅方向の一端部を押さえる第１上ローラ及び前記基板の幅方向の他端部を押さえる第２上ローラと、少なくとも１つの前記下ローラの回転軸を駆動して回転させる回転駆動機構とを備え、前記下ローラ及び各上ローラにより前記基板を挟持して搬送する基板搬送手段と、
前記各ローラを回転自在に保持するローラ保持手段と、
前記基板搬送手段によって搬送される基板の上方に配置され、その上面に向けて流体を吐出する流体吐出手段と、
前記流体吐出手段に流体を供給する流体供給手段と、
前記流体吐出手段を支持する支持手段とを備えた基板処理装置において、
前記ローラ保持手段は、前記基板の両外側で一定間隔を隔てて対向して前記基板の搬送方向に細長く形成された平板状の第１架台及び第２架台であって、前記下ローラの回転軸の一端部を回転自在に保持する第１架台及び前記下ローラの回転軸の他端部を回転自在に且つ軸線方向に変位可能に保持する第２架台と、前記第１架台に支持され、前記第１上ローラの回転軸を回転自在に保持する第１保持部材と、前記第２架台に支持され、前記第２上ローラの回転軸を回転自在に保持する第２保持部材とを備え、
前記第１架台及び第２架台は、その上部が切り欠かれて形成されるＵ字状の第１嵌入部をそれぞれ有し、この第１嵌入部に前記第１保持部材及び第２保持部材が着脱可能に嵌め込まれるように構成され、
前記各第１嵌入部の両側壁、及び各保持部材の外面の、前記第１嵌入部の両側壁に対応する部分には、その一方に凹溝が、他方に突起が上下方向に沿うように且つ互いに嵌合可能に形成され、
前記各保持部材は、前記凹溝及び突起が嵌合して前記第１嵌入部に嵌め込まれるとともに、前記凹溝及び突起が嵌合した状態で上下方向に移動可能に構成されてなることを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
前記各上ローラは、それぞれ１つのローラ本体を備え、
前記下ローラは、その回転軸の軸線方向に複数のローラ本体を備えるとともに、これらのローラ本体の内、両端に位置するローラ本体が前記各上ローラのローラ本体と上下に対向するように構成され、
少なくとも、前記第２上ローラのローラ本体及び前記下ローラの、第２上ローラに対応したローラ本体は、その一方の外周面が半円形に形成され、他方の外周面が一定幅を有する平坦面に形成されてなることを特徴とする請求項１記載の基板処理装置。
【請求項３】
前記下ローラ及び各上ローラの上下のローラ間隔が前記基板の厚みより小さく設定されている場合において、
前記突起の先端と凹溝との間、及び、前記突起の付け根と凹溝の開口部との間には、隙間がそれぞれ形成されるとともに、前記各保持部材と第１嵌入部との間には、前記凹溝の下部側又は下方で前記隙間と前記第１嵌入部外の空間とを連通させる連通部がそれぞれ形成されてなることを特徴とする請求項１又は２記載の基板処理装置。
【請求項４】
前記各保持部材は、予め設定された荷重で前記基板を押さえるための錘をそれぞれ備えてなることを特徴とする請求項１乃至３記載のいずれかの基板処理装置。
【請求項５】
前記第１保持部材の錘は、前記第１保持部材及び第１上ローラ全体の重量により５Ｎ〜３５Ｎの荷重で前記基板の一端部を押さえることが可能な重さであり、前記第２保持部材の錘は、前記第２保持部材及び第２上ローラ全体の重量により５Ｎ〜３５Ｎの荷重で前記基板の他端部を押さえることが可能な重さであることを特徴とする請求項４記載の基板処理装置。
【請求項６】
前記下ローラの回転軸の一端部には、この一端部を回転自在に支持する第１軸受が設けられるとともに、前記下ローラの回転軸の他端部には、この他端部を回転自在に支持する第２軸受が設けられ、
前記第１架台の第１嵌入部には、その下側に、前記第１軸受が着脱可能に嵌め込まれる部分が形成されるとともに、上側には、前記第１保持部材が着脱可能に嵌め込まれる部分が形成され、
前記第２架台の第１嵌入部には、その下側に、前記第２軸受が着脱可能に且つ軸線方向に移動可能に嵌め込まれる部分が形成されるとともに、上側には、前記第２保持部材が着脱可能に嵌め込まれる部分が形成され、
前記第１嵌入部の、少なくとも前記各保持部材が嵌め込まれる部分には、前記凹溝又は突起が形成され、
前記第１軸受又は第１架台には、この第１軸受の軸線方向における移動を規制する規制部材が設けられてなることを特徴とする請求項１乃至５記載のいずれかの基板処理装置。
【請求項７】
前記各架台の第１嵌入部の、前記各軸受が嵌め込まれる部分と、前記各保持部材が嵌め込まれる部分との間には、前記各保持部材の下端に当接して前記各上ローラの高さ位置を位置決めするためのスペーサがそれぞれ設けられてなることを特徴とする請求項６記載の基板処理装置。
【請求項８】
前記流体吐出手段は、前記基板の搬送方向と交差する方向においてこの基板の全幅に渡るように細長く形成され、
前記支持手段は、前記流体吐出手段の長手方向の一端部を支持する第１支持部材と、前記流体吐出手段の長手方向の他端部を支持する第２支持部材とを備え、
前記第１架台及び第２架台は、その上部が切り欠かれて形成されるＵ字状の第２嵌入部をそれぞれ有し、この第２嵌入部に前記第１支持部材及び第２支持部材が着脱可能に嵌め込まれるように構成されてなることを特徴とする請求項１乃至７記載のいずれかの基板処理装置。
【請求項９】
前記各架台の第２嵌入部の少なくとも一方には、前記第１支持部材又は第２支持部材が前記流体吐出手段の長手方向に変位可能に嵌め込まれてなることを特徴とする請求項８記載の基板処理装置。
【請求項１０】
前記下ローラの回転軸の一端部には、この一端部を回転自在に支持する第１軸受が設けられるとともに、前記下ローラの回転軸の他端部には、この他端部を回転自在に支持する第２軸受が設けられ、
前記第１架台の第２嵌入部には、その下側に、前記第１軸受が着脱可能に嵌め込まれる部分が形成されるとともに、上側には、前記第１保持部材が着脱可能に嵌め込まれる部分が形成され、
前記第２架台の第２嵌入部には、その下側に、前記第２軸受が着脱可能に且つ軸線方向に移動可能に嵌め込まれる部分が形成されるとともに、上側には、前記第２保持部材が着脱可能に嵌め込まれる部分が形成され、
前記第１軸受又は第１架台には、この第１軸受の軸線方向における移動を規制する規制部材が設けられてなることを特徴とする請求項８又は９記載の基板処理装置。
【請求項１１】
前記各架台の第１嵌入部と第２嵌入部は、同一形状に形成されてなることを特徴とする請求項８乃至１０記載のいずれかの基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板を搬送しながらその上面に流体を供給してこの基板を処理する基板処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
基板の製造工程には、例えば、現像液やエッチング液、レジスト剥離液を塗布する工程があり、これらの工程では、例えば、処理チャンバ内で基板を所定の搬送方向に搬送しながらその上面に現像液やエッチング液、レジスト剥離液を供給している。
【０００３】
そして、このような工程で用いられる基板搬送装置として、従来、例えば、特開平２−１４４３１２号公報に開示された搬送ローラ装置が知られている。この搬送ローラ装置は、基板の下側に配置されてこの基板を支持する下ローラと、基板の上側に配置されてこの基板を押さえる上ローラと、下ローラ及び上ローラを互いに異なる方向に回転させる回転駆動機構と、下ローラ及び上ローラを回転自在に支持する架台とを備える。
【０００４】
前記下ローラ及び上ローラは、互いに平行な回転軸をそれぞれ有しており、下ローラの回転軸の一端には、駆動源により回転駆動される駆動ギアが固設され、他端には第１伝達ギアが固設される。一方、上ローラの回転軸の一端には、下ローラの第１伝達ギアと噛合する第２伝達ギアが固設される。駆動源により駆動ギアが回転せしめられると、下ローラが回転するとともに、各伝達ギアにより回転力が上ローラに伝達されてこの上ローラが回転し、これにより、基板が所定の搬送方向に搬送される。
【０００５】
前記架台は、基板の搬送方向と垂直な方向に間隔を隔てて対峙する、各ローラの回転軸の一端部を支持する部材と各ローラの回転軸の他端部を支持する部材とを備えている。これらの部材には、その上部が切り欠かれて形成されるＵ字状の嵌入部がそれぞれ形成されており、この嵌入部には、下ローラ及び上ローラの各回転軸の両端に設けられたスリーブがそれぞれ嵌め込まれるようになっている。尚、各スリーブの、回転軸の中央よりの端部にはフランジ部がそれぞれ形成されており、これらのフランジ部が架台の各部材の対峙面と係合することで各ローラが架台に対してそれぞれ位置決めされる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開平２−１４４３１２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ところで、前記現像液やエッチング液、レジスト剥離液といった処理液は、基板処理が効率的に行われるように一定温度に加熱されている。このため、基板上に供給される処理液が下ローラや上ローラに接触して下ローラや上ローラが加熱され、また、当該処理液により処理チャンバ内の雰囲気温度が上昇せしめられて、この温度上昇した雰囲気により下ローラや上ローラが加熱される。
【０００８】
ところが、上記従来の搬送ローラ装置では、各スリーブのフランジ部と架台の各部材の対峙面とが係合しているので、下ローラや上ローラが加熱されて温度上昇しても各ローラの回転軸が伸長することができない。このため、下ローラや上ローラの温度が上昇すると、これらの回転軸が変形して撓み、基板を所定方向にまっすぐに搬送することができないという問題や、回転軸の撓みにより基板に作用する力によって基板が割れるという問題を生じていた。
【０００９】
尚、近年、処理対象の基板が大型化しており、これに伴い、下ローラや上ローラの回転軸が非常に長くなっている。したがって、下ローラや上ローラの回転軸が熱変位したときにその伸長量も大きく、上記のような問題がより顕著に現れる。また、下ローラや上ローラなどは、通常、耐薬品性に優れた塩化ビニル樹脂から構成されており、このような場合、塩化ビニル樹脂の線膨張係数が金属材料などと比べて大きいことから、熱膨張時の伸長量は極めて大きなものとなる。
【００１０】
本発明は、以上の実情に鑑みなされたものであって、基板搬送用のローラが温度上昇したときにこのローラの回転軸が変形するのを防止することができる基板処理装置の提供をその目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記目的を達成するための本発明は、
基板を搬送しながらその上面に流体を供給してこの基板を処理する装置であって、
前記基板の搬送方向と垂直な回転軸をそれぞれ有し、前記基板の下方にその搬送方向に沿って並設されてこの基板を支持する複数の下ローラと、前記下ローラの回転軸と平行な回転軸を有し、少なくとも１つの前記下ローラの上方に配置されて、前記基板の幅方向の一端部を押さえる第１上ローラ及び前記基板の幅方向の他端部を押さえる第２上ローラと、少なくとも１つの前記下ローラの回転軸を駆動して回転させる回転駆動機構とを備え、前記下ローラ及び各上ローラにより前記基板を挟持して搬送する基板搬送手段と、
前記各ローラを回転自在に保持するローラ保持手段と、
前記基板搬送手段によって搬送される基板の上方に配置され、その上面に向けて流体を吐出する流体吐出手段と、
前記流体吐出手段に流体を供給する流体供給手段と、
前記流体吐出手段を支持する支持手段とを備えた基板処理装置において、
前記ローラ保持手段は、前記基板の両外側で一定間隔を隔てて対向して前記基板の搬送方向に細長く形成された平板状の第１架台及び第２架台であって、前記下ローラの回転軸の一端部を回転自在に保持する第１架台及び前記下ローラの回転軸の他端部を回転自在に且つ軸線方向に変位可能に保持する第２架台と、前記第１架台に支持され、前記第１上ローラの回転軸を回転自在に保持する第１保持部材と、前記第２架台に支持され、前記第２上ローラの回転軸を回転自在に保持する第２保持部材とを備え、
前記第１架台及び第２架台は、その上部が切り欠かれて形成されるＵ字状の第１嵌入部をそれぞれ有し、この第１嵌入部に前記第１保持部材及び第２保持部材が着脱可能に嵌め込まれるように構成され、
前記各第１嵌入部の両側壁、及び各保持部材の外面の、前記第１嵌入部の両側壁に対応する部分には、その一方に凹溝が、他方に突起が上下方向に沿うように且つ互いに嵌合可能に形成され、
前記各保持部材は、前記凹溝及び突起が嵌合して前記第１嵌入部に嵌め込まれるとともに、前記凹溝及び突起が嵌合した状態で上下方向に移動可能に構成されてなることを特徴とする基板処理装置に係る。
【００１２】
この発明によれば、下ローラの少なくとも１つが回転駆動機構により駆動されて回転し、処理対象の基板が下ローラ及び各上ローラにより挟持されつつ所定の搬送方向に沿って搬送される。その際、流体供給手段から流体吐出手段に供給され、この流体吐出手段から吐出される流体によって前記搬送される基板に所定の処理が施される。
【００１３】
そして、流体吐出手段から吐出される流体が所定温度に加熱されている場合には、基板処理を行うと、吐出された流体によって下ローラや上ローラが加熱されるが、本発明では、下ローラの回転軸の他端部をその軸線方向に変位可能に第２架台により支持しているので、下ローラの回転軸が温度上昇してもこの温度上昇による回転軸の伸長が許容される。また、上ローラを、基板の一端部を押さえる第１上ローラ及び基板の他端部を押さえる第２上ローラから構成し、第１上ローラを第１架台に支持される第１保持部材により、第２上ローラを第２架台に支持される第２保持部材によりそれぞれ保持しているので、各上ローラの回転軸が温度上昇してもこの温度上昇による回転軸の伸長が規制されない。
【００１４】
したがって、本発明では、各ローラが温度上昇したときにこれらの回転軸が伸長可能であるので、回転軸が変形して撓むのを防止することができる。これにより、基板を所定方向にまっすぐに搬送することができない、基板が割れるといった基板搬送上の問題が生じるのを防止することができる。
【００１５】
また、メンテナンス時などにおいて各上ローラを取り外す際には、各保持部材を第１嵌入部から取り出すだけで良く、当該作業が容易である。一方、各上ローラを取り付ける際には、凹溝及び突起が嵌合するように各保持部材を第１嵌入部に嵌め込むだけで良く、当該作業が容易であり、しかも、凹溝及び突起の嵌合により高い取付精度で取り付けることができる。
【００１６】
尚、前記各上ローラは、それぞれ１つのローラ本体を備え、前記下ローラは、その回転軸の軸線方向に複数のローラ本体を備えるとともに、これらのローラ本体の内、両端に位置するローラ本体が前記各上ローラのローラ本体と上下に対向するように構成され、少なくとも、前記第２上ローラのローラ本体及び前記下ローラの、第２上ローラに対応したローラ本体は、その一方の外周面が半円形に形成され、他方の外周面が一定幅を有する平坦面に形成されていても良い。
【００１７】
通常、各ローラのローラ本体の外周面は半円形に形成されている。この場合、下ローラ及び上ローラにより基板を挟持して搬送すると、次のような問題を生じる。即ち、各ローラの昇温によりその回転軸が伸長し、下ローラのローラ本体の位置と各上ローラのローラ本体の位置とが回転軸の軸線方向にずれると、基板に剪断方向の力が作用することになるため、このような剪断方向の力によって、基板が破損するという問題や、基板が蛇行して搬送されるといった問題を生じるのである。
【００１８】
尚、下ローラの回転軸は、その他端部が軸線方向に変位可能に第２架台により支持されているので、第１上ローラのローラ本体と、下ローラの、第１上ローラに対応したローラ本体とはさほど位置ずれせず、この位置ずれを考慮しなくても良い場合がある。
【００１９】
そこで、上述のように、少なくとも、第２上ローラのローラ本体及び下ローラの、第２上ローラに対応したローラ本体について、その一方の外周面を半円形とし、他方の外周面を一定幅の平坦面とすれば、ローラの回転軸が伸長して、第２上ローラのローラ本体の位置と、下ローラの、第２上ローラに対応したローラ本体の位置とが回転軸の軸線方向にずれても、外周面が平坦面のローラ本体によって、外周面が半円形のローラ本体により基板に作用する力を受けることができる。これにより、基板に剪断方向の力が作用して、基板が破損するという問題や、基板が蛇行して搬送されるといった問題が生じるのを防止することができる。
【００２０】
また、前記下ローラ及び各上ローラの上下のローラ間隔が前記基板の厚みより小さく設定されている場合において、前記突起の先端と凹溝との間、及び、前記突起の付け根と凹溝の開口部との間には、隙間がそれぞれ形成されるとともに、前記各保持部材と第１嵌入部との間には、前記凹溝の下部側又は下方で前記隙間と前記第１嵌入部外の空間とを連通させる連通部がそれぞれ形成されていても良い。
【００２１】
流体吐出手段から処理液を吐出させる場合、その態様によっては、吐出された処理液が各保持部材や各架台にかかって凹溝と突起との間に入り込み、この入り込んだ処理液が外部に流出せずに結晶化して、生成された結晶が凹溝の内面や突起の外面に固着する。一方、基板が下ローラ及び各上ローラの間を通過する際には、各保持部材及び各上ローラが凹溝及び突起により案内されつつ上方に移動する。そして、処理液が結晶化して固着しているときには、凹溝と突起が相対移動し難くなって各保持部材が上方に移動し難くなるので、基板が下ローラ及び各上ローラの間を通過する際に各保持部材の一方又は両方が上昇せず、基板に力が作用して、基板が割れる原因や欠ける原因となる。
【００２２】
そこで、上述のように、突起の先端と凹溝との間、及び、突起の付け根と凹溝の開口部との間には隙間を形成し、保持部材と第１嵌入部との間には、凹溝の下部側又は下方で前記隙間と第１嵌入部外の空間とを連通させる連通部を形成すれば、凹溝と突起との間に流入した液体を隙間及び連通部を介して第１嵌入部外に効果的に流出させることができる。これにより、流体吐出手段から吐出された処理液が結晶化して凹溝の内面や突起の外面に固着するのを防止することができる。したがって、基板が下ローラ及び各上ローラの間を通過する際に各保持部材を確実に上昇させることができるので、基板が割れる、基板が欠けるといった問題が生じるのを防止することができる。
【００２３】
また、前記各保持部材は、予め設定された荷重で前記基板を押さえるための錘をそれぞれ備えていても良い。第１保持部材及び第１上ローラ全体の重量や、第２保持部材及び第２上ローラ全体の重量によって加えることが可能な荷重よりも高い荷重を基板に加える場合、ばねを用いることも可能であるが、このばねは、通常、金属から構成され、耐薬品性に劣っていることから被覆する必要がある。したがって、錘で基板に掛かる荷重を調整すれば、錘を被覆するにしても、ばねに比べて容易であるし、また、各保持部材に錘収容用の収容穴を形成してこの収容穴内に収容すれば、簡単に錘を設けることができる。このとき、収容穴の形成位置を、例えば、各保持部材の基板側とは反対側の側面など、流体吐出手段から吐出される流体の影響を受け難い位置にすれば、錘を特に被覆することなく設けることも可能である。
【００２４】
また、前記第１保持部材の錘は、前記第１保持部材及び第１上ローラ全体の重量により５Ｎ〜３５Ｎの荷重で前記基板の一端部を押さえることが可能な重さであり、前記第２保持部材の錘は、前記第２保持部材及び第２上ローラ全体の重量により５Ｎ〜３５Ｎの荷重で前記基板の他端部を押さえることが可能な重さであることが好ましい。
【００２５】
基板を押さえるのに必要な荷重を設定するに当たっては、例えば、流体吐出手段から吐出される流体の種類、流体吐出手段から吐出される流体が薬液である場合にその薬液の種類（例えば、界面活性剤が含まれているかどうかなど）、基板サイズ、基板の表面状態（例えば、表面粗さやぬれ性など）、流体吐出手段から吐出された流体が基板に当たったときの打力に基づく反力（基板を押し戻す力）などを考慮する必要がある。ここで、流体の種類を考慮する必要があるのは、吐出される流体がエア，純水又は薬液であるとすると、エア，純水及び薬液の順にローラが滑って空転し易くなるからであり、また、反力を考慮する必要があるのは、例えば、エアを吐出して行う液切りを行う場合で、エアの吐出方向が基板搬送方向に対して逆方向且つ斜め下方向に設定されているときには、特に反力が大きくなるからである。そして、このような観点から前記錘を上記のようなものとすれば、何ら不都合を生じることなく、基板を確実に搬送することができる。尚、基板を押さえ付ける力が５Ｎより小さい場合には、上ローラや下ローラが空転して確実な基板搬送に支障を生じ、基板を押さえ付ける力が３５Ｎより大きい場合には、基板が割れるといった不都合を生じる。
【００２６】
また、前記下ローラの回転軸の一端部には、この一端部を回転自在に支持する第１軸受が設けられるとともに、前記下ローラの回転軸の他端部には、この他端部を回転自在に支持する第２軸受が設けられ、前記第１架台の第１嵌入部には、その下側に、前記第１軸受が着脱可能に嵌め込まれる部分が形成されるとともに、上側には、前記第１保持部材が着脱可能に嵌め込まれる部分が形成され、前記第２架台の第１嵌入部には、その下側に、前記第２軸受が着脱可能に且つ軸線方向に移動可能に嵌め込まれる部分が形成されるとともに、上側には、前記第２保持部材が着脱可能に嵌め込まれる部分が形成され、前記第１嵌入部の、少なくとも前記各保持部材が嵌め込まれる部分には、前記凹溝又は突起が形成され、前記第１軸受又は第１架台には、この第１軸受の軸線方向における移動を規制する規制部材が設けられていても良い。
【００２７】
このようにすれば、下ローラについても第１嵌入部に対して着脱可能であるので、メンテナンス時などにおいて、各保持部材及び各上ローラと同様、下ローラを容易に着脱することができる。また、一旦取り外した下ローラを高精度に各架台に取り付けることができる。
【００２８】
また、前記各架台の第１嵌入部の、前記各軸受が嵌め込まれる部分と、前記各保持部材が嵌め込まれる部分との間には、前記各保持部材の下端に当接して前記各上ローラの高さ位置を位置決めするためのスペーサがそれぞれ設けられていても良い。
【００２９】
このようにすれば、各保持部材を第１嵌入部に嵌め込んだときに、スペーサにより各保持部材の下方への移動が規制され、各保持部材を所定の高さ位置に設置することができるので、各保持部材の取り付けをより簡単にすることができるだけでなく、各保持部材の再取付後においても、下ローラ及び各上ローラの上下のローラ間隔を高精度なものとすることができる。
【００３０】
また、前記流体吐出手段は、前記基板の搬送方向と交差する方向においてこの基板の全幅に渡るように細長く形成され、前記支持手段は、前記流体吐出手段の長手方向の一端部を支持する第１支持部材と、前記流体吐出手段の長手方向の他端部を支持する第２支持部材とを備え、前記第１架台及び第２架台は、その上部が切り欠かれて形成されるＵ字状の第２嵌入部をそれぞれ有し、この第２嵌入部に前記第１支持部材及び第２支持部材が着脱可能に嵌め込まれるように構成されていても良い。
【００３１】
流体吐出手段と基板との間の間隔は、処理内容に応じて最適な間隔が設定されており、この間隔が変わると、基板処理の条件が変わって最適な基板処理を行うことができなくなる。したがって、メンテナンス時などにおいて、一旦取り外した流体吐出手段を設置する際には前記間隔が最適な間隔となるように調整しなければならず、当該調整作業が煩わしい。また、流体吐出手段の基板搬送方向における位置も、流体吐出手段から吐出された流体が下ローラによって支持されている部分にほぼ当たるように設定されており、この位置が変わって前記吐出された流体が下ローラにより支持されていない部分に当たると、前記吐出された流体が基板に当たったときの打力により、処理内容によっては処理ムラが生じるといった問題を生じる。したがって、前記間隔と同様、流体吐出手段の基板搬送方向における位置についても、流体吐出手段を再設置する際には所定位置に配置されるように調整しなければならず、当該調整作業が煩わしい。
【００３２】
そこで、上述のように、各支持部材により流体吐出手段の長手方向の両端部を支持し、各支持部材を第２嵌入部に嵌め込むようにすれば、各支持部材を第２嵌入部に嵌め込むだけで、流体吐出手段と基板との間の間隔、及び流体吐出手段の基板搬送方向における位置が所定の間隔及び位置となるように流体吐出手段を配置することができ、流体吐出手段を各架台に精度良く取り付けることができる。また、流体吐出手段を簡単に着脱することができる。
【００３３】
また、前記各架台の第２嵌入部の少なくとも一方には、前記第１支持部材又は第２支持部材が前記流体吐出手段の長手方向に変位可能に嵌め込まれていても良い。
【００３４】
流体供給手段から流体吐出手段に供給される流体が所定温度に加熱されている場合、供給された流体によって流体吐出手段が加熱され、熱膨張する。このとき、流体吐出手段の熱膨張が規制されていると、当該流体吐出手段が変形して、流体吐出手段と基板との間の間隔が一定でなくなり、また、流体吐出手段の流体吐出口の形状が変化する。そして、流体吐出手段と基板との間の間隔が一定でなくなると、処理条件が不均一になるという問題を生じ、流体吐出口の形状が変化すると、この流体吐出口から吐出される流体の流量が不均一になって基板処理を均一に行うことができないという問題を生じる。尚、基板の大型化に伴い、流体吐出手段の長手方向の長さが長くなっているため、流体吐出手段が温度上昇したときに長手方向の伸長量は大きく、このような問題がより顕著に現れる。また、耐薬品性を考慮して流体吐出手段が塩化ビニル樹脂から構成されているような場合には、塩化ビニル樹脂の線膨張係数が大きいことから熱膨張時の伸長量は極めて大きい。
【００３５】
そこで、上述のように、各支持部材の少なくとも一方を流体吐出手段の長手方向に変位可能に第２嵌入部に嵌め込むようにすれば、流体吐出手段が温度上昇してもその長手方向に伸長可能であるので、流体吐出手段が変形して、当該流体吐出手段と基板との間の間隔が一定でなくなることや、当該流体吐出手段の流体吐出口の形状が変化するのを防止することができる。これにより、流体吐出手段と基板との間の間隔が一定でなくなって基板処理条件が不均一になり、或いは、流体吐出口の形状が変化して、この流体吐出口から吐出される流体の流量が不均一になり、均一な基板処理を実施することができないといった問題が生じるのを防止することができる。
【００３６】
また、前記第２嵌入部についても、前記第１嵌入部と同様、下ローラ及び各保持部材が嵌め込まれるように構成されていても良い。
【００３７】
また、前記各架台の第１嵌入部と第２嵌入部は、同一形状に形成されていても良い。このようにすれば、第１嵌入部と第２嵌入部を区別して形成する必要がないので、製造の容易化を図ることができる。
【００３８】
尚、前記基板処理としては、例えば、エアを吐出して行う液切り処理、エアを吐出して行う乾燥処理、現像液を吐出して行う現像処理、エッチング液を吐出して行うエッチング処理、レジスト剥離液を吐出して行うレジスト剥離処理、洗浄液を吐出して行う洗浄処理などを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。また、このような処理の対象となる基板としては、例えば、シリコン基板やガラス基板などを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
【発明の効果】
【００３９】
以上のように、本発明に係る基板処理装置によれば、基板搬送用のローラが温度上昇したときにこのローラの回転軸が変形するのを防止し、基板搬送上の問題が生じるのを防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【００４０】
【図１】本発明の一実施形態に係る基板処理装置の概略構成を示した断面図である。
【図２】図１における矢示Ａ−Ａ方向の断面図である。
【図３】図１における矢示Ｂ−Ｂ方向の断面図である。
【図４】本実施形態に係る下ローラ，第１上ローラ及び第２上ローラの保持構造を説明するための断面図である。
【図５】図４における矢示Ｃ−Ｃ方向の断面図である。
【図６】図４における矢示Ｄ−Ｄ方向の断面図である。
【図７】図５における矢示Ｅ−Ｅ方向の断面図である。
【図８】図７におけるＦ部の詳細図である。
【図９】各架台の嵌入部に各保持部材，スペーサ，下ローラ及び各支持部材が嵌め込まれる前の状態を示した説明図である。
【図１０】図３における矢示Ｇ−Ｇ方向の断面図である。
【図１１】下ローラが軸線方向に伸長した状態を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００４１】
以下、本発明の具体的な実施形態について、添付図面に基づき説明する。
【００４２】
図１乃至図３に示すように、本例の基板処理装置１は、一定内容積を有する処理チャンバ１０と、処理チャンバ１０内に水平に配置された複数の下ローラ２１，第１上ローラ２２及び第２上ローラ２３により基板Ｋを水平な搬送方向に搬送する基板搬送機構２０と、処理チャンバ１０内に配設され、各ローラ２１，２２，２３を回転自在に保持するローラ保持機構３０と、基板搬送機構２０によって搬送される基板Ｋの上面に向けて処理液を吐出する処理液吐出機構７０と、処理液吐出機構７０に処理液を供給する処理液供給機構７５と、処理チャンバ１０内に設けられ、処理液吐出機構７０を支持する支持機構８０と、処理チャンバ１０を支持するフレーム（図示せず）とを備えて構成される。
【００４３】
前記基板搬送機構２０は、図１乃至図４に示すように、前記下ローラ２１，第１上ローラ２２及び第２上ローラ２３の他、これらのローラ２１，２２，２３を駆動して回転させる回転駆動部２５を備えており、下ローラ２１，第１上ローラ２２及び第２上ローラ２３が基板搬送方向に所定間隔で配設されている。尚、下ローラ２１は、各上ローラ２２，２３よりも短い間隔で設けられている。また、各上ローラ２２，２３の配置間隔について、ここで詳述しないが、後述する、基板Ｋを押さえるのに必要な荷重を設定するときの考え方と同様の考え方で設定することができる。
【００４４】
前記下ローラ２１は、基板Ｋの下側に配置されるもので、基板搬送方向と垂直な水平方向に設けられる回転軸２１ａと、回転軸２１ａの軸線方向に所定間隔で設けられ、基板Ｋを支持する複数のローラ本体２１ｂと、複数のローラ本体２１ｂの内、両端に位置するローラ本体２１ｂの外周部にそれぞれ設けられた、断面が矩形でゴム製のリング部材２１ｃとから構成される。
【００４５】
前記第１上ローラ２２及び第２上ローラ２３は、基板Ｋの上側に同軸に配置され、それぞれ同じ構成を備えており、下ローラ２１の回転軸２１ａの上方にこれと平行に配置される回転軸２２ａ，２３ａと、回転軸２２ａ，２３ａの一端に設けられ、基板Ｋを押さえる１つのローラ本体２２ｂ，２３ｂと、ローラ本体２２ｂ，２３ｂの外周部に設けられる、断面が円形でゴム製のリング部材２２ｃ，２３ｃとから構成される。
【００４６】
前記各ローラ本体２２ｂ，２３ｂは、下ローラ２１の、前記両端に位置するローラ本体２１ｂの真上に配置されており、これらのローラ本体２１ｂ，２２ｂ，２３ｂにより基板Ｋが挟持される。また、各ローラ本体２２ｂ，２３ｂ及びローラ本体２１ｂの上下のローラ間隔は、基板Ｋの厚みよりも小さく設定されている。尚、前記各リング部材２１ｃ，２２ｃ，２３ｃは、グリップ力を高めて確実に基板Ｋを搬送するために設けられている。
【００４７】
前記回転駆動部２５は、下ローラ２１の両端にそれぞれ固設された第１伝達ギア２６と、各上ローラ２２，２３の他端に固設され、第１伝達ギア２６とそれぞれ噛合する第２伝達ギア２７と、下ローラ２１の、回転軸２１ａの一端側に固設された第１伝達ギア２６と噛合する駆動ギア２８ａを有し、この駆動ギア２８ａを回転させることで、各伝達ギア２６，２７を介して各回転軸２１ａ，２２ａ，２３ａ（下ローラ２１及び各上ローラ２２，２３）を回転させる駆動機構２８とから構成される。
【００４８】
前記ローラ保持機構３０は、図２乃至図９に示すように、前記基板搬送機構２０によって搬送される基板Ｋの両外側で前記処理チャンバ１０の底面に配設された第１ベース３１及び第２ベース３２と、これらのベース３１，３２上に配設され、前記下ローラ２１の回転軸２１ａの端部をそれぞれ支持する第１架台３３及び第２架台３４と、第１架台３３に支持され、前記第１上ローラ２２の回転軸２２ａの他端を回転自在に保持する第１保持部材５０と、第２架台３４に支持され、前記第２上ローラ２３の回転軸２３ａの他端を回転自在に保持する第２保持部材５１とを備える。
【００４９】
前記各架台３３，３４は、基板搬送方向にそれぞれ細長く形成された平板状の部材から構成され、基板Ｋを間に挟んで対向している。また、各架台３３，３４には、その上部が切り欠かれて形成されるＵ字状の嵌入部３５，３６が長手方向に複数形成されており、これらの嵌入部３５，３６は、その下部側が下ローラ２１の回転軸２１ａの嵌め込み部分（下ローラ嵌込部）３５ａ，３６ａと、上部側が各保持部材５０，５１の嵌め込み部分（上ローラ嵌込部）３５ｂ，３６ｂと、下ローラ嵌込部３５ａ，３６ａと上ローラ嵌込部３５ｂ，３６ｂとの間がスペーサ３７，３８の嵌め込み部分（スペーサ嵌込部）３５ｃ，３６ｃとなっている。尚、前記上ローラ嵌込部３５ｂ，３６ｂは、後述するように、スリットノズル体７１を支持する各支持部材８１，８２の嵌め込み部分としても機能するようになっている。
【００５０】
前記下ローラ２１の回転軸２１ａには、その一端部にこの一端部を回転自在に支持する第１軸受３９が設けられるとともに、他端部には、この他端部を回転自在に支持する第２軸受４０が設けられており、前記第１軸受３９が前記第１架台３３の下ローラ嵌込部３５ａに着脱可能に嵌め込まれ、前記第２軸受４０が前記第２架台３４の下ローラ嵌込部３６ａに着脱可能に且つ軸線方向に移動可能に嵌め込まれている。前記下ローラ嵌込部３５ａに嵌め込まれた第１軸受３９は、この第１軸受３９を挟持するように第１架台３３の両側面にねじ込まれる複数の固定ボルト（規制部材）４１によって、当該第１軸受３９の軸線方向における移動が規制されている。
【００５１】
前記各スペーサ嵌込部３５ｃ，３６ｃは、前記各嵌入部３５，３６の両側壁に、各架台３３，３４の両側面に開口するように形成された貫通溝４２，４３から構成されており、これらの貫通溝４２，４３内に平板状のスペーサ３７，３８が水平に嵌め込まれるようになっている。スペーサ３７，３８には、その長手方向の一端から横方向に突出した突出部３７ａ，３８ａが形成されており、この突出部３７ａ，３８ａが、各架台３３，３４の基板Ｋ側の側面にねじ込まれる固定ボルト４４，４５によって各架台３３，３４に固定されている。
【００５２】
前記各上ローラ嵌込部３５ｂ，３６ｂは、その両側壁間の間隔が下ローラ嵌込部３５ａ，３６ａの両側壁間の間隔よりも広く形成され、また、両側壁には、凹溝４６，４７が上下方向に沿うように形成されている。
【００５３】
前記各保持部材５０，５１は、それぞれ直方体ブロック状の部材から構成され、長手方向が上下方向となるように設けられる。また、各保持部材５０，５１は、前記各上ローラ２２，２３の回転軸２２ａ，２３ａの他端を回転自在に支持する軸受５２，５３と、基板Ｋ側の面からその反対側の面に貫通し、内部に軸受５２，５３が設けられる保持穴５０ａ，５１ａと、所定の荷重で基板Ｋを押さえるための錘５４，５５と、上部に形成され、錘５４，５５が収容される収容穴５０ｂ，５１ｂと、下部側の側面で前記各嵌入部３５，３６の両側壁と対向する部分に形成され、この両側壁に当接する凸部５０ｃ，５１ｃと、凸部５０ｃ，５１ｃに上下方向に沿うように形成され、前記凹溝４６，４７と嵌合可能な突起５０ｄ，５１ｄとを備えている。
【００５４】
また、各保持部材５０，５１は、凹溝４６，４７及び突起５０ｄ，５１ｄが嵌合することで、前記各上ローラ嵌込部３５ｂ，３６ｂに着脱可能に嵌め込まれるとともに、凹溝４６，４７及び突起５０ｄ，５１ｄが嵌合した状態で上下方向に移動可能となっている。各上ローラ嵌込部３５ｂ，３６ｂに嵌め込まれた各保持部材５０，５１は、その下面がスペーサ３７，３８の上面に当接し、これによって、当該各保持部材５０，５１の高さ位置が位置決めされ、各ローラ本体２２ｂ，２３ｂ及びローラ本体２１ｂの上下のローラ間隔が所定間隔に設定される。
【００５５】
前記突起５０ｄ，５１ｄは、その突出量が前記凹溝４６，４７の深さより低く、また、その先端面の両角部が面取りされており、これによって、突起５０ｄ，５１ｄの先端部と凹溝４６，４７との間に隙間５６，５７が形成されている。また、凹溝４６，４７の開口角部が面取りされており、これによって、突起５０ｄ，５１ｄの付け根と凹溝４６，４７の開口部との間に隙間５８，５９が形成されるようになっている。前記各保持部材５０，５１の下端近傍の側面には前記凸部５０ｃ，５１ｃが設けられておらず、これによって、当該側面と前記各嵌入部３５，３６の両側壁との間には、前記隙間５６，５７，５８，５９と各嵌入部３５，３６の外部とを連通させる隙間（連通部）６０，６１が形成されている。
【００５６】
前記錘５４は、第１保持部材５０及び第１上ローラ２２の全体重量により５Ｎ〜３５Ｎの荷重で基板Ｋを押さえることが可能な重さに設定され、前記錘５５は、第２保持部材５１及び第２上ローラ２３の全体重量により５Ｎ〜３５Ｎの荷重で基板Ｋを押さえることが可能な重さに設定される。
【００５７】
尚、前記下ローラ２１の回転軸２１ａは、その軸線方向の中間部についても保持することが好ましく、本例では、例えば、前記処理チャンバ１０の底面に配設された複数の中間部保持部材６５により回転自在に且つ軸線方向に変位可能に保持されている。また、前記各架台３３，３４の、基板Ｋ側の側面と反対側の側面には、取付板６７が設けられており、この取付板６７が前記処理チャンバ１０の側壁に設けられた支持部材６８に接続されている。
【００５８】
前記処理液吐出機構７０は、図１，図３及び図１０に示すように、各ローラ２１，２２，２３によって搬送される基板Ｋの上方且つ下ローラ２１の真上に配置されるスリットノズル体７１及び複数のスプレーノズル体７２とから構成されており、スリットノズル体７１がスプレーノズル体７２より基板搬送方向上流側に配置される。
【００５９】
前記スリットノズル体７１は、基板搬送方向と垂直な方向における基板Ｋの全幅に渡るように、基板Ｋの上面と平行且つ基板搬送方向と垂直な方向に細長く形成される。また、スリットノズル体７１は、中空部７１ａと、下面に開口し、中空部７１ａに接続したスリット状の吐出穴７１ｂとを備え、前記処理液供給機構７５から中空部７１ａ内に供給される処理液を吐出穴７１ｂから下方の基板Ｋに向けて真下に吐出する。
【００６０】
前記スプレーノズル体７２は、前記スリットノズル体７１より上方に配置され、基板搬送方向にも、基板搬送方向と垂直な方向にも並設されており、前記処理液供給機構７５から供給される処理液を下方の基板Ｋに向けて吐出する。
【００６１】
前記処理液供給機構７５は、前記スリットノズル体７１に処理液を供給するための第１供給管７６と、第１供給管７６とスリットノズル体７１の中空部７１ａとを接続する複数の接続管７７と、前記各スプレーノズル体７２に処理液を供給するための複数の第２供給管７８と、これらの供給管７６，７８に処理液を供給する処理液供給部７９とを備える。
【００６２】
前記第１供給管７６は、その一部が前記処理チャンバ１０内でスリットノズル体７１の上方に基板搬送方向と垂直に設けられる。前記接続管７７は、第１供給管７６の軸線方向に一定間隔で設けられる。前記各第２供給管７８は、これらの一部が前記処理チャンバ１０内で基板搬送方向と垂直に設けられ、基板搬送方向に一定間隔を隔てて平行に配置される。また、これらの第２供給管７８の下部には、その軸線方向に一定間隔で前記スプレーノズル体７２が固設されている。
【００６３】
前記支持機構８０は、図３，図５，図６，図９及び図１０に示すように、前記スリットノズル体７１を支持するもので、このスリットノズル体７１の長手方向の一端部を支持する第１支持部材８１と、長手方向の他端部を支持する第２支持部材８２とから構成されている。
【００６４】
前記各支持部材８１，８２は、それぞれ矩形平板状の部材から構成され、長手方向が上下方向となるように設けられる。また、各支持部材８１，８２は、それぞれ取付部材８３，８４を介してスリットノズル体７１の長手方向の端部を支持しており、前記各上ローラ嵌込部３５ｂ，３６ｂに着脱可能に嵌め込まれるようになっている。尚、各支持部材８１，８２は、各上ローラ嵌込部３５ｂ，３６ｂに嵌め込まれた状態において、外面が前記各嵌入部３５，３６の両側壁と当接しているが、スリットノズル体７１の長手方向には移動可能となっている。
【００６５】
また、各支持部材８１，８２の、スリットノズル体７１の長手方向と垂直な両側面には、その上部に、横方向に張り出した張出部８１ａ，８２ａが形成され、これらの張出部８１ａ，８２ａには、下端が突出して各架台３３，３４の上面に当接する高さ調整ボルト８５，８６が上側からそれぞれねじ込まれている。各上ローラ嵌込部３５ｂ，３６ｂに嵌め込まれた各支持部材８１，８２は、各高さ調整ボルト８５，８６の下端が各架台３３，３４の上面に当接することで、高さ位置が位置決めされ、これにより、スリットノズル体７１と基板Ｋとの間の間隔が所定間隔に設定される。
【００６６】
尚、前記スリットノズル体７１は、その長手方向の中間部についても支持することが好ましく、本例では、例えば、上端が処理チャンバ１０の天井面に接続した複数の第３支持部材８７の下端部によって支持されている。また、この第３支持部材８７は、その中間部で前記第１供給管７６を支持している。
【００６７】
以上のように構成された本例の基板処理装置１によれば、回転駆動部２５により下ローラ２１及び各上ローラ２２，２３が駆動されて回転し、基板Ｋが処理チャンバ１０内を所定の搬送方向に沿って搬送される。その際、基板Ｋが下ローラ２１及び各上ローラ２２，２３の間を通過するときには、各保持部材５０，５１及び各上ローラ２２，２３が凹溝４６，４７及び突起５０ｄ，５１ｄにより案内されつつ上方に移動し、各保持部材５０，５１及び各上ローラ２２，２３の重量で基板Ｋが押さえられる。
【００６８】
ここで、各上ローラ２２，２３が基板Ｋを押さえ付ける荷重をそれぞれ５Ｎ〜３５Ｎとすることが可能な錘５４，５５を各保持部材５０，５１に設けているので、押さえ付ける力が小さ過ぎ、上ローラ２２，２３や下ローラ２１が空転して確実な基板搬送に支障を生じることもないし、逆に、押さえ付ける力が大き過ぎ、基板Ｋが割れるといった不都合を生じることもない。したがって、何ら不都合を生じることなく、確実に基板Ｋを搬送することができる。
【００６９】
尚、基板Ｋを押さえるのに必要な荷重を設定するに当たっては、例えば、スリットノズル体７１及び各スプレーノズル体７２から吐出される流体の種類、スリットノズル体７１及び各スプレーノズル体７２から吐出される流体が薬液である場合にその薬液の種類（例えば、界面活性剤が含まれているかどうかなど）、基板サイズ、基板Ｋの表面状態（例えば、表面粗さやぬれ性など）、スリットノズル体７１及び各スプレーノズル体７２から吐出された流体が基板Ｋに当たったときの打力に基づく反力（基板Ｋを押し戻す力）などに応じて設定すれば良い。また、吐出される流体を考慮する必要があるのは、吐出される流体がエア，純水又は薬液であるとすると、エア，純水及び薬液の順にローラが滑って空転し易くなるからであり、また、反力を考慮する必要があるのは、例えば、エアを吐出して行う液切りを行う場合で、エアの吐出方向が基板搬送方向に対して逆方向且つ斜め下方向に設定されているときには、特に反力が大きくなるからである。
【００７０】
また、第１保持部材５０及び第１上ローラ２２の全体重量や、第２保持部材５１及び第２上ローラ２３の全体重量によって加えることが可能な荷重よりも高い荷重を基板Ｋに加えるには、ばねを用いることも可能であるが、このばねは、通常、金属から構成され、耐薬品性に劣っていることから被覆する必要がある。したがって、錘５４，５５で基板Ｋに掛かる荷重を調整すれば、錘５４，５５を被覆するにしても、ばねに比べて容易であるし、また、各保持部材５０，５１に錘収容用の収容穴５０ｂ，５１ｂを形成してこの収容穴５０ｂ，５１ｂ内に収容すれば、簡単に錘５４，５５を設けることができる。このとき、本例のように、収容穴５０ｂ，５１ｂの形成位置を、例えば、各保持部材５０，５１の、基板Ｋ側とは反対側の側面など、スリットノズル体７１及び各スプレーノズル体７２から吐出される処理液の影響を受け難い位置にすれば、錘５４，５５を特に被覆することなく設けることも可能である。
【００７１】
そして、このようにして搬送される基板Ｋの上面には、処理液供給部７９から第１供給管７６及び接続管７７を介してスリットノズル体７１に、処理液供給部７９から第２供給管７８を介して各スプレーノズル体７２にそれぞれ供給される処理液が、これらスリットノズル体７１及び各スプレーノズル体７２から吐出され、これにより、基板Ｋに所定の処理が施される。
【００７２】
各スプレーノズル体７２から吐出された処理液は、各保持部材５０，５１や各架台３３，３４にかかって凹溝４６，４７と突起５０ｄ，５１ｄとの間に入り込むが、本例では、前記突起５０ｄ，５１ｄの先端部と凹溝４６，４７との間に隙間５６，５７を、突起５０ｄ，５１ｄの付け根と凹溝４６，４７の開口部との間に隙間５８，５９を、各保持部材５０，５１の下端近傍の側面と各嵌入部３５，３６の両側壁との間に前記隙間５６，５７，５８，５９と各嵌入部３５，３６の外部とを連通させる隙間６０，６１を形成しているので、凹溝４６，４７と突起５０ｄ，５１ｄとの間に流入した処理液を、これらの隙間５６，５７，５８，５９，６０，６１を介して嵌入部３５，３６の外部に効果的に流出させることができ、吐出された処理液が結晶化して凹溝４６，４７の内面や突起５０ｄ，５１ｄの外面に固着するのを防止することができる。これにより、基板Ｋが下ローラ２１及び各上ローラ２２，２３の間を通過するときに各保持部材５０，５１を確実に上昇させることができ、基板が割れる、基板が欠けるといった問題が生じるのを防止することができる。
【００７３】
また、下ローラ２１の他端部を支持する第２軸受４０が第２架台３４の下ローラ嵌込部３６ａに軸線方向に移動可能に嵌め込まれているので、スリットノズル体７１及び各スプレーノズル体７２から吐出された処理液や、当該処理液により昇温せしめられた処理チャンバ１０内の雰囲気によって下ローラ２１が加熱され、温度上昇しても、この温度上昇による回転軸２１ａの伸長が許容される。一方、各上ローラ２２，２３については、第１上ローラ２２を保持する第１保持部材５０が第１架台３３により、第２上ローラ２３を保持する第２保持部材５１が第２架台３４によりそれぞれ支持されているので、各上ローラ２２，２３が温度上昇してもこの温度上昇による回転軸２２ａ，２３ａの伸長が規制されない。
【００７４】
したがって、各ローラ２１，２２，２３が温度上昇したときにこれらの回転軸２１ａ，２２ａ，２３ａが伸長可能であるので、回転軸２１ａ，２２ａ，２３ａが変形して撓むのを防止することができる。これにより、基板Ｋを所定の搬送方向にまっすぐに搬送することができないという問題を生じるのを防止することができ、また、基板Ｋが割れるのを防止することができる。
【００７５】
また、このように、下ローラ２１の回転軸２１ａが伸長すると、図１１に示すように、下ローラ２１のローラ本体２１ｂの位置と各上ローラ２２，２３のローラ本体２２ｂ，２３ｂの位置とが回転軸２１ａ，２２ａ，２３ａの軸線方向にずれる。このとき、各ローラ２１，２２，２３のローラ本体２１ｂ，２２ｂ，２３ｂの外周面が半円形に形成されていると、基板Ｋに剪断方向の力が作用して、基板Ｋが破損する、リング部材２１ｃ，２２ｃ，２３ｃが損傷する、基板Ｋが蛇行して搬送されるといった問題を生じる。尚、図１１において、符号α，βは、軸線方向の位置ずれ量をそれぞれ示している。
【００７６】
このため、下ローラ２１の、各上ローラ２２，２３に対応したローラ本体２１ｂの外周部に、断面が矩形のリング部材２１ｃを設けて、ローラ本体２１ｂの外周面を一定幅の平坦面としている。したがって、上記のような位置ずれが生じても、前記リング部材２１ｃによって、各上ローラ２２，２３のローラ本体２２ｂ，２３ｂにより基板Ｋに作用する力を受けることができる。これにより、基板Ｋに剪断方向の力が作用して、基板Ｋが破損するという問題や、リング部材２１ｃ，２２ｃ，２３ｃが損傷するという問題、基板Ｋが蛇行して搬送されるという問題が生じるのを防止することができる。
【００７７】
また、スリットノズル体７１の長手方向の両端部を支持する第１支持部材８１及び第２支持部材８２が、下ローラ嵌込部３５ａ，３６ａにスリットノズル体７１の長手方向に移動可能に嵌め込まれているので、処理液供給部７９からスリットノズル体７１に供給される処理液により当該スリットノズル体７１が加熱され、熱膨張しても、スリットノズル体７１はその長手方向に伸長することができる。
【００７８】
したがって、スリットノズル体７１の熱膨張が規制されていることにより当該スリットノズル体７１が変形して、スリットノズル体７１と基板Ｋとの間の間隔が一定でなくなることや、スリットノズル体７１の吐出穴７１ｂの形状が変化するのを防止することができる。これにより、スリットノズル体７１と基板Ｋとの間の間隔が一定でなくなって基板処理条件が不均一になり、或いは、吐出穴７１ｂの形状が変化して、この吐出穴７１ｂから吐出される処理液の流量が不均一になり、均一な基板処理を実施することができなくなるのを防止することができる。
【００７９】
また、メンテナンス時などにおいて各上ローラ２２，２３を取り外す際には、各保持部材５０，５１を各上ローラ嵌込部３５ｂ，３６ｂから取り出すだけで良く、当該作業が容易である。一方、各上ローラ２２，２３を取り付ける際には、凹溝４６，４７及び突起５０ｄ，５１ｄが嵌合するように各保持部材５０，５１を各上ローラ嵌込部３５ｂ，３６ｂに嵌め込むだけで良く、当該作業が容易であり、しかも、凹溝４６，４７及び突起５０ｄ，５１ｄの嵌合により高精度に取り付けることができる。また、下ローラ２１についても、各上ローラ２２，２３と同様、下ローラ嵌込部３５ａ，３６ａに着脱可能に嵌め込むようにしているので、上記と同様の効果を得ることができる。
【００８０】
また、各保持部材５０，５１を各上ローラ嵌込部３５ｂ，３６ｂに嵌め込む際には、スペーサ３７，３８により、各上ローラ嵌込部３５ｂ，３６ｂに嵌め込まれた各保持部材５０，５１の下方への移動を規制して、各保持部材５０，５１を所定の高さ位置に位置決めすることができる。これにより、各保持部材５０，５１の取り付けをより簡単にすることができるだけでなく、各保持部材５０，５１の再取付後においても、下ローラ２１及び各上ローラ２２，２３の上下のローラ間隔を高精度なものとすることができる。
【００８１】
また、スリットノズル体７１と基板Ｋとの間の間隔は、処理内容に応じて最適な間隔が設定されており、この間隔が変わると、基板処理の条件が変わって最適な基板処理を行うことができなくなるので、スリットノズル体７１を再設置する際には前記間隔が最適な間隔となるように調整する必要があり、また、スリットノズル体７１の基板搬送方向における位置も、スリットノズル体７１から吐出された処理液が下ローラ２１によって支持されている部分にほぼ当たるように設定されており、この位置が変わって前記吐出された処理液が下ローラ２１により支持されていない部分に当たると、前記吐出された処理液が基板Ｋに当たったときの打力により、処理内容によっては処理ムラが生じるので、スリットノズル体７１を再設置する際には前記位置が前記設定された位置となるように調整する必要があるが、本例では、スリットノズル体７１の両端部を支持する各支持部材８１，８２を各上ローラ嵌込部３５ｂ，３６ｂに嵌め込むことや、各支持部材８１，８２を各上ローラ嵌込部３５ｂ，３６ｂから取り出すことで、スリットノズル体７１を着脱することができるので、当該着脱作業が容易であり、また、スリットノズル体７１を精度良く各架台３３，３４に取り付けることができる。
【００８２】
また、各上ローラ嵌込部３５ｂ，３６ｂに各保持部材５０，５１と各支持部材８１，８２の両方を嵌め込むことができるので、保持部材５０，５１用の嵌込部と支持部材８１，８２用の嵌込部とをそれぞれ形成する必要がなく、製造の容易化を図ることができる。
【００８３】
以上、本発明の一実施形態について説明したが、本発明の採り得る具体的な態様は、何らこれに限定されるものではない。
【００８４】
例えば、スリットノズル体７１から吐出される処理液の吐出方向は真下でなくても良く、また、スリットノズル体７１の長手方向は基板搬送方向に垂直でなくても良い。また、搬送される基板Ｋは水平でなくても良い。
【００８５】
また、前記基板処理は、何ら限定されるものではなく、例えば、エアを吐出して行う液切り処理、エアを吐出して行う乾燥処理、現像液を吐出して行う現像処理、エッチング液を吐出して行うエッチング処理、レジスト剥離液を吐出して行うレジスト剥離処理、洗浄液を吐出して行う洗浄処理などを挙げることができる。また、このような処理の対象となる基板Ｋについても、何ら限定されるものではなく、例えば、シリコン基板やガラス基板などを挙げることができる。
【符号の説明】
【００８６】
１    基板処理装置
２１  下ローラ
２２，２３  上ローラ
２５  回転駆動部
３３，３４  架台
３５，３６  嵌入部
４６，４７  凹溝
５０，５１  保持部材
５０ｄ，５１ｄ  突起
７１  スリットノズル体
７２  スプレーノズル体
８１，８２  支持部材
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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