(57)【要約】【課題】露光工程前に異物検出を行い、基板に付着している異物を同定するシステムを提供する。【解決手段】基板上に付着する異物を同定するシステムであって、異物の特性と発生状況を示す異物発生状況集計データベースと異物の発生状況と該異物の分析結果による異物名の対比を示す異物分析情報管理データベースと異物検出装置とを有し、基板上の付着異物を基板を露光する前に前記異物検出装置によって得られた検出結果情報と前記異物発生状況集計データベースとを照合し、照合して得られた照合結果と前記異物分析情報管理データベースとを対比して推定異物情報を取得して異物を同定することを特徴とする異物同定システム。【選択図】図９
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に付着する異物を同定するシステムであって、異物の特性と発生状況を示す異物発生状況集計データベースと異物の発生状況と該異物の分析結果による異物名の対比を示す異物分析情報管理データベースと異物検出装置とを有し、基板上の付着異物を基板を露光する前に前記異物検出装置によって得られた検出結果情報と前記異物発生状況集計データベースとを照合し、照合して得られた照合結果と前記異物分析情報管理データベースとを対比して推定異物情報を取得して異物を同定することを特徴とする異物同定システム。
【請求項２】
前記取得した推定異物情報とライン停止条件とを比較して、ライン停止条件を満たした場合には警告情報を出力することを特徴とする請求項１記載の異物同定システム。
【請求項３】
前記ライン停止条件は異物の種類毎に設定され、前記異物発生情報集計データベースに予め登録されていることを特徴とする請求項１または２記載の異物同定システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板に配設された表示装置用のカラーフィルタを形成するための未露光の着色層に対して、プロキシミティ露光によって転写用マスクの絵柄を転写露光する前に、基板に付着している異物の検出を行い、異物を同定する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
図１はカラー液晶表示装置に用いられるカラーフィルタ基板の一例を断面で示したもので、カラーフィルタ基板１は、ガラス基板２上にブラックマトリックス（以下ＢＭ）３、着色画素（レッドＲ、グリーンＧ、ブルーＢ）（以下ＲＧＢ）４、透明電極５、フォトスペーサー（Ｐｈｏｔｏ  Ｓｐａｃｅｒ）／バーテイカルアライメント（Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）（以下ＰＳ／ＶＡ）６が順次形成されたものである。
【０００３】
カラー液晶表示装置の多くに用いられている上記構造のカラーフィルタ基板の製造方法は、フォトリソグラフィー法、印刷法、インクジェット法が知られているが、フォトリソグラフィー法が一般的に使われている。図２はフォトリソグラフィー法の工程を示す概略ブロック図である。カラーフィルタ基板は、先ずガラス基板上にＢＭを形成する工程、ガラス基板を洗浄する工程、着色フォトレジストを塗布及び予備乾燥する工程、着色フォトレジストを乾燥及び硬化するプリベーク工程、プロキシミティ露光する工程、現像する工程、着色フォトレジストを硬化させる工程、透明電極成膜工程、ＰＳ／ＶＡを形成する工程がこの順に行なわれ製造される。ガラス基板を洗浄する工程から、着色フォトレジストを硬化する工程間ではレッドＲ、グリーンＧ、ブルーＢの３色に対して着色レジストを変更して３回繰り返される。
【０００４】
以上のように、カラーフィルタ基板の製造工程には多くの工程があり、その途中でゴミや樹脂カス、異物の付着・混入、ピンホール、パターン欠け等による欠陥が生じている。
【０００５】
前記異物の付着は、カラーフィルタ基板への付着と転写用マスクへの付着があるが、カラーフィルタ基板へ付着した場合は、カラーフィルタ基板そのものが不良品となるだけではなく、カラーフィルタ基板に付着した異物が、プロキシミティ露光によって転写用マスクの絵柄を転写露光する際に前記転写用マスクに転移して、転写用マスクに付着してしまう。該転写用マスクで露光されたカラーフィルタ基板は、いわゆる連続して発生する同一欠陥のある不良品となってしまう。
【０００６】
また、前記プロキシミティ露光時のカラーフィルタ基板と転写用マスクの間の露光ギャップは、ほぼ接触状態に近い隙間をもって露光されるので、前記異物が露光ギャップ以上の大きさの金属異物である場合は、前記異物は露光機内で転写用マスクとカラーフィルタ基板の間に挟まれて、転写用マスクを破損してしまう原因となってしまう。
【０００７】
前記転写用マスクは高価なため１回の事故によるロス金額は大きなものとなっている。
【０００８】
上記問題を解決するために、カラーフィルタ基板製造工程において、露光工程前に検出装置にて異物検出を行い、転写用マスクへの異物付着による同一欠陥発生の防止、露光機内で転写用マスクと基板上の異物の接触による転写用マスク破損を予防する方法がとられている。
【０００９】
しかしながら異物については異物であることと、その大きさまでは判定できるが、異物の高さや、異物が金属異物である場合は金属名を、また有機物か無機物の場合にはその成
分名は何かを同定することは検出結果からは判断できていないため、例えば露光前に異物検出を行い、前記異物付着が認められた場合には、そのワークについては露光をしないで次の工程に搬送するか、あるいは、転写用マスクを介さないで全面露光して、次の現像工程で全面のレジストを除去してしまうといった方法がとられている（特許文献１）
しかしながら、上記方法では付着異物が検出される度にワークを露光しないで次の工程に搬送するか、あるいは転写用マスクを介さないで全面露光して、次の現像工程で全面のレジストを除去するために、製造効率を低下させるという欠点がある。
【００１０】
以下に先行技術文献を示す。
【特許文献１】特開平１１−１９１５２４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
そこで本発明は上記問題を解決するために、露光工程前に異物検出を行い、基板に付着している異物を同定するシステムを提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明の請求項１に係る発明は、基板上に付着する異物を同定するシステムであって、異物の特性と発生状況を示す異物発生状況集計データベースと異物の発生状況と該異物の分析結果による異物名の対比を示す異物分析情報管理データベースと異物検出装置とを有し、基板上の付着異物を基板を露光する前に前記異物検出装置によって得られた検出結果情報と前記異物発生状況集計データベースとを照合し、照合して得られた照合結果と前記異物分析情報管理データベースとを対比して推定異物情報を取得して異物を同定することを特徴とする異物同定システムである。
【００１３】
本発明の請求項２に係る発明は、前記取得した推定異物情報とライン停止条件とを比較して、ライン停止条件を満たした場合には警告情報を出力することを特徴とする請求項１記載の異物同定システムである。
【００１４】
本発明の請求項３に係る発明は，前記ライン停止条件は異物の種類毎に設定され、前記異物発生情報集計データベースに予め登録されていることを特徴とする請求項１または２記載の異物同定システムである。
【発明の効果】
【００１５】
本発明の異物同定システムによれば、転写用マスクの破損の原因となる異物が付着している基板を露光機へ投入することを防止できるため、転写用マスクの破損が回避され、更に異物による共通欠陥の発生を防げる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、図面を参照してこの発明に係わる異物同定システムの最良の形態を説明する。
【００１７】
図３は本発明の実施形態に係わる異物同定システムを用いてカラーフィルタ基板に付着している異物を同定する場合に用いられる概略構成装置と同定システムのフローを示す。カラーフィルタ用基板１０はレジスト塗布機１１でレジストが塗布され、レジストが塗布された基板１８は露光前異物検出装置１２で検査され、露光前異物検査された基板１９は露光機１３で露光される。露光された基板２０は次の工程に搬送される。露光前異物検出装置１２は異物発生状況集計データベース（以下、異物発生状況集計ＤＢ）１４、異物同定システム実行用パソコン１５と例えばＥｔｈｅｒｎｅｔ（登録商標）等で相互に通信できるように接続されている。異物同定システム実行用パソコン１５は異物発生状況集計ＤＢ１４及び異物分析情報管理データベース（以下、異物分析情報管理ＤＢ）１６と例えば
Ｅｔｈｅｒｎｅｔ（登録商標）等で相互に通信できるように接続されている。更に、異物分析情報管理ＤＢ１６は分析装置１７と例えばＥｔｈｅｒｎｅｔ（登録商標）等で相互に通信できるように接続されている。
【００１８】
異物検出は露光前に行われるが、使われる露光前異物検出装置１２について詳細に説明する。図４（ａ）は露光前異物検出装置１２の概略図を示す。カラーフィルタ基板１８（図３のレジスト塗布された後の基板１８）は搬送装置２３によって搬送されながら、正反射照明光源２１により照明され、ＣＣＤラインセンサカメラ２２によって撮像され、撮像画像は画像処理装置２４で処理される。露光前異物検出装置１２は、図示していないが透過用照明光源、反射照明光源とそれに対応したラインセンサカメラをも有しており、ラインセンサカメラで撮像した撮像画像を処理することによって異物の検出を行う。検出した異物の検出位置と大きさ及び濃度が求められる。検出位置は図４（ｂ）に示すようにカラーフィルタ基板１８の或る場所を基点２６として検出座標（Ｘ，Ｙ）で表わされる。大きさは異物を撮像したラインセンサカメラの受光素子の画素数と１画素あたりの異物の大きさから求められ、濃度は異物を撮像したラインセンサカメラから得られたアナログ値を例えば２５６段階のデジタル値に変換して求められる。露光前異物検出装置の全体の制御は制御パソコン２５によって制御される。
【００１９】
異物を同定するフローを図３を用いて説明する。
【００２０】
異物発生状況集計ＤＢ１４には過去の異物検出結果情報が蓄積されており、異物分析情報管理ＤＢ１６には過去の分析結果情報が次の手順で蓄積されている。
【００２１】
図３の露光前異物検出装置１２または図示していない他の異物検出装置で検出された異物は基板から剥がされて、オフラインの分析装置１７で分析され、分析結果による異物名と異物の発生状況は後で説明する手順で集計され異物分析情報管理１６に蓄積される（Ｓ１）。露光前異物検出装置１２で得られた検出結果情報は、後で説明する手順で集計され、集計された検出結果集計情報は異物発生状況集計ＤＢ１４に蓄積される（Ｓ２）。
【００２２】
露光前異物検出装置によって検出結果は、最新の検出結果情報として異物発生状況集計ＤＢ１４に蓄積され、異物同定システム実行用パソコン１５は前記最新の検出結果情報を取得する（Ｓ３）。取得した最新の検出結果情報を前記異物発生状況集計ＤＢに蓄積されている検出結果集計情報と照合し、照合した結果を基に前記異物分析情報管理ＤＢより推定異物情報を取得する（Ｓ４）。更に取得した推定異物情報と後で説明するライン停止条件と比較して、ライン停止条件を満たしている場合は、異物同定システム実行用パソコン１５のモニター上、及び検出装置に判定結果と判定理由を表示し、警告情報を出力してオペレータへ通知し（Ｓ５）、オペレータの判断により露光機置へ停止命令を出力し装置を停止させか、露光前で基板をラインアウト、もしくはマスクを介さず露光した後に現像装置でレジストを剥離し、基板は再利用される。
【００２３】
異物分析情報管理ＤＢ１６内での分析結果情報を集計する手順について詳細に説明する。
【００２４】
異物分析情報管理ＤＢ１６内の構成を図５で説明する。異物分析情報管理ＤＢ１６内には、分析結果登録テーブル３１、座標毎異物情報テーブル３２、エリア毎異物情報テーブル３３の３つのテーブルがある。
【００２５】
異物分析情報管理ＤＢ１６内の各テーブルの項目と説明を図６に示す。図６（ａ）の分析結果登録テーブルには、対象装置、異物検出座標（ＸとＹ）、異物検出モード（検出モードとは正反射照明検出系か透過照明検出系か反射照明検出系かの区別）、異物検出サイ
ズ、分析結果の異物名、分析結果の登録日時が含まれる。図６（ｂ）の座標毎異物情報テーブルには、対象装置、座標（ＸとＹ）条件、異物検出モード、異物検出サイズ、分析結果の異物名、指定期間内での分析結果数が含まれる。図６（ｃ）のエリア毎異物情報テーブルには、対象装置、エリア条件、異物検出モード、異物検出サイズ、分析結果の異物名、指定期間内での分析結果数が含まれる。
【００２６】
異物分析情報管理ＤＢ内のデータフローを図５を用いて説明する。先ず、図３の露光前異物検出装置１２または図示していない他の異物検出装置で検出された異物は基板から剥がされて、オフラインの分析装置１７で分析される。前記分析された分析結果情報３０を分析結果登録テーブル３１に登録する（Ｂ１）。次に、分析結果登録テーブル３１が更新された後、分析結果情報を検出装置、検出座標Ｘ、検出座標Ｙ、検出系、検出サイズの複数の条件（Ｘ座標条件＆Ｙ座標条件＆検出系条件＆検出サイズ条件）で一致した座標毎異物情報テーブル３２を更新する（Ｂ２）。
【００２７】
前記複数の条件例としては
（１）Ｘ座標固定＆Ｙ座標は一定範囲内＆検出系一致＆検出サイズ一致
（２）Ｘ座標は一定範囲内＆Ｙ座標固定＆検出系一致＆検出サイズ一致
（３）Ｘ座標固定＆Ｙ座標固定＆検出系一致＆検出サイズ一致
（４）Ｘ座標は一定範囲内＆Ｙ座標は一定範囲内＆検出系一致＆検出サイズ一致
等で、あらかじめ設定した条件すべてに対して集計をすることで、各条件毎に発生確率の高い異物の統計解析を行う。
【００２８】
前記座標毎異物情報テーブルは、どのような検出装置で、どのような座標に、どのように検出された、どのようなサイズの異物が多く発生しているのか、またその異物名は何かを示している。
【００２９】
次に、同様に分析結果登録テーブル３１が更新された後、分析結果情報を検出装置、検出エリア、検出系、検出サイズを複数の条件（各項目の条件の組合せ）毎に集計し、エリア毎異物情報テーブル３３を更新する（Ｂ３）。
【００３０】
前記複数の条件例としては、
（１）検出エリア固定＆検出系一致＆検出サイズ一致
（２）検出エリアが指定エリア（複数可）＆検出系一致＆検出サイズ一致
等で、各エリアの組合せでの発せ確率の高い異物の統計解析を行う。
【００３１】
前記エリア毎異物情報テーブルは、どのような検出装置で、どのようなエリアに、どのように検出された、どのようなサイズの欠陥が多く発生しているのか、またその異物名は何かを示している。
【００３２】
異物発生状況集計ＤＢ１４内の構成を図７で説明する。異物発生状況集計ＤＢ１４は、異物検出結果登録テーブル４１、座標毎異物検出情報テーブル４２、エリア毎異物検出情報テーブル４３、ライン停止条件テーブル４５の４テーブルから構成される。
【００３３】
異物発生状況集計ＤＢ１４内の各テーブルの項目と説明を図８に示す。図８（ａ）の異物検出結果登録テーブルには、対象装置、検査した基板の識別コード、異物の検出エリア、異物検出座標（ＸとＹ）、異物検出モード、異物検出サイズが含まれる。図８（ｂ）の座標毎異物検出情報テーブルには、対象装置、座標条件（ＸとＹ）、異物検出モード、異物検出サイズ、異物検出の集計結果、検出濃度条件（濃度とは検出した異物の撮像画像のアナログ値を例えば２５６段階のデジタル値に変換したもの）が含まれる。図８（ｃ）のエリア毎異物検出情報テーブルには対象装置、エリア条件、異物検出モード、異物検出サイズ、異物検出の集計結果が含まれる。図８（ｄ）のライン停止条件テーブルには、対象装置、異物検出モード、異物検出サイズ、推定異物名、ライン停止の条件が含まれる。
【００３４】
異物発生状況集計ＤＢ１４内のデータフローを図７を用いて説明する。先ず、図３の露光前異物検出装置１２から得られた検出結果情報４０を異物検出結果登録テーブル４１へ登録する（Ｋ１）。異物検出結果登録テーブル４１のデータが更新された後、異物検出結果登録テーブルの検出装置、検出座標Ｘ、検出座標Ｙ、検出系、検出サイズ、検出濃度の複数の条件（Ｘ座標条件＆Ｙ座標条件＆検出系条件＆検出サイズ条件＆検出濃度条件）で、一致した座標毎の異物検出情報テーブル４２を更新する（Ｋ２）。
【００３５】
前記複数の条件例として
（１）Ｘ座標固定＆Ｙ座標は一定範囲内＆検出系一致＆検出サイズ一致＆検出濃度は一定範囲内。
（２）Ｘ座標は一定範囲内＆Ｙ座標固定＆検出系一致＆検出サイズ一致＆検出濃度は一定範囲内。
（３）Ｘ座標固定＆Ｙ座標固定＆検出系一致＆検出サイズ一致＆検出濃度は一定範囲内。（４）Ｘ座標は一定範囲内＆Ｙ座標は一定範囲内＆検出系一致＆検出サイズ一致＆検出濃度は一定範囲内。
等であり、あらかじめ設定した条件すべてに対して集計をすることで、各条件毎に発生確率の高い異物の統計解析を行う。
【００３６】
前記座標毎異物検出情報テーブルは、どのような座標に、どのように検出された、どのようなサイズで、どのような濃度の欠陥が多く発生しているのかを示している。
【００３７】
次に、異物検出結果登録テーブル４１のデータが更新された後、異物検出結果登録テーブルを検出装置、検出エリア、検出系、検出サイズを複数の条件（各項目の条件の組合せ）毎に集計し、エリア毎異物検出情報テーブル４３を更新する（Ｋ３）。
【００３８】
前記複数の条件例としては、
（１）検出エリア固定＆検出系一致＆検出サイズ一致。
（２）検出エリアが指定エリア（複数可）＆検出系一致＆検出サイズ一致。
等であり、各エリアの組合せでの発生確率の高い異物の統計解析を行う。
【００３９】
前記エリア毎異物検出情報テーブルは、どのようなエリアに、どのように検出された、どのようなサイズの欠陥が多く発生しているのかを示している。
【００４０】
次に、異物分析情報管理ＤＢ１６から後で説明する異物同定処理を行なう。
【００４１】
異物の種類毎に予めライン停止条件４４が設定され、設定されたライン停止条件はライン停止条件テーブル４５に登録されている（Ｋ４）。
【００４２】
図９は異物同定処理のフローを示した図である。異物同定処理は以下のフローで行われる。先ず、露光前異物検出装置１２で異物検出を行い基板を払い出した後、基板の検出結果情報が最新の検出結果情報として異物検出結果登録テーブル４１へ登録される（Ｄ１）。異物同定システム実行用パソコン１５が異物検出結果登録テーブル４１の最新の検出結果情報から異物の検出座標（Ｘ，Ｙ）、検出系、検出サイズの情報を取得し（Ｄ２）、それを基に座標毎異物検出情報テーブル４２より、検出座標を含んだ条件の組合せで、検出系、検出サイズの発生確率が高い組合せを取得し、また、座標毎異物情報テーブルへの問い合わせ条件即ち、座標毎の異物検出情報テーブルを作成した時の、例えばＸ座標固定＆Ｙ座標は一定範囲内＆検出系一致＆検出サイズ一致＆検出濃度は一定範囲というような条件をここで決定する（Ｄ３）。更に最新の検出結果情報から異物の検出エリア、検出系、検出サイズの情報を取得し、それを基にエリア毎異物検出情報テーブル４３より、検出エリアを含む条件で集計された結果の中で取得した検出系、検出サイズの発生確率が高い組み合わせを取得し、また、エリア毎異物情報テーブルへの問い合わせ条件、即ち、エリア毎の異物検出情報テーブルを作成時の、例えば検出エリア固定＆検出系一致＆検出サイズ一致というような条件をここで決定する（Ｄ４）。（Ｄ３）で決定した問い合わせ条件で、座標毎異物情報テーブル３２へ発生率の高い異物情報を取得し（Ｄ５）、（Ｄ４）で決定した問い合わせ条件で、エリア毎異物情報テーブル３３へ発生率の高い異物情報を取得する（Ｄ６）。（Ｄ５）及び（Ｄ６）で取得したそれぞれの異物名を推定異物情報として該推定異物情報を基に、推定異物のライン停止条件を取得する（Ｄ７）。
【００４３】
前記推定異物情報は、１つの異物名が推定されるとは限らず、複数の異物名が推定される場合もある。従って、前記（Ｄ５）及び（Ｄ６）で取得した異物名が複数の場合には、複数の異物名に対応するライン停止条件を取得する。
【００４４】
ライン停止条件は、異物の種類によって異なるもので、例えば
（１）５枚連続で異常判定
（２）周辺（任意に設定した周辺のエリア）の異物数がＡ（Ａは任意の数）個以上ならば異常判定
（３）周辺座標（任意に設定した周辺の座標）にＢ（Ｂは任意の数）枚連続発生で異常判定の場合をライン停止条件とし、予め異物の種類毎にライン停止条件テーブル４５に登録されている。
【００４５】
ライン停止条件を取得後、推定異物情報と前記ライン停止条件とを比較して、ライン停止条件を満足している場合はライン停止と判断する。
【００４６】
ライン停止と判断された場合は、警報情報を出力する（Ｄ８）。警報情報出力と同時に、異物同定システム実行用パソコン１５のモニター上、及び検出装置に判定結果と判定理由を表示し、警告情報を出力によってオペレータの判断により露光機置へ停止命令を出力し装置を停止させか、露光前で基板をラインアウト、もしくはマスクを介さず露光した後に現像装置でレジストを剥離し、基板は再利用される。
【００４７】
以上のように、本発明による異物同定システムによれば、転写用マスクの破損の原因となる異物が付着している基板を露光機へ投入することを防止できるため、転写用マスクの破損が回避され、更に異物による共通欠陥の発生を防げる。
【図面の簡単な説明】
【００４８】
【図１】カラーフィルタ基板の一例を断面で示した図
【図２】フォトリソグラフィー法の工程を示す概略ブロック図
【図３】本発明の実施形態に係わる異物同定システムを用いてカラーフィルタ基板に付着        している異物を同定する場合に用いられる概略構成装置と同定システムのフロー        をを説明する図
【図４】（ａ）は露光機前検出装置の概略図       （ｂ）は検出座標（Ｘ，Ｙ）を示す図
【図５】本発明の実施形態に係わる異物分析情報管理ＤＢ内の構成を示す図
【図６】本発明の実施形態に係わる異物分析情報管理ＤＢ内の各テーブルの定義を示す図で       （ａ）は分析結果登録テーブル       （ｂ）は座標毎異物情報テーブル       （ｃ）はエリア毎異物情報テーブルを示す
【図７】本発明の実施形態に係わる異物発生状況集計ＤＢ内の構成を示す図
【図８】本発明の実施形態に係わる異物発生状況集計ＤＢ内の各テーブルの定義を示す図で       （ａ）は異物検出結果登録テーブル       （ｂ）は座標毎異物検出情報テーブル       （ｃ）はエリア毎異物検出情報テーブル       （ｄ）はライン停止条件テーブルを示す
【図９】本発明の実施形態に係わる異物同定処理のフローを示す図
【符号の説明】
【００４９】
１・・・カラーフィルタ基板
２・・・ガラス基板
３・・・ブラックマトリックス（ＢＭ）
４・・・着色画素（ＲＧＢ）
５・・・透明電極
６・・・フォトスペーサー／バーテイカルアライメント（ＰＳ／ＶＡ）
１０・・・カラーフィルタ用基板
１１・・・レジスト塗布機
１２・・・露光前異物検出装置
１３・・・露光機
１４・・・異物発生状況集計ＤＢ
１５・・・異物同定システム実行用パソコン
１６・・・異物分析情報管理ＤＢ
１７・・・分析装置
１８・・・レジスト塗布された基板
１９・・・露光前異物検査された基板
２０・・・露光された基板
２１・・・正反射照明光源
２２・・・ラインセンサカメラ
２３・・・搬送装置
２４・・・画像処理装置
２５・・・露光前異物検出装置用制御パソコン
２６・・・基点（カラーフィルタ基板の或る場所）
３０・・・分析結果情報
３１・・・分析結果登録テーブル
３２・・・座標毎異物情報テーブル
３３・・・エリア毎異物情報テーブル
４０・・・検出結果情報
４１・・・異物検出結果登録テーブル
４２・・・座標毎異物検出情報テーブル
４３・・・エリア毎異物検出情報テーブル
４４・・・ライン停止条件
４５・・・ライン停止条件テーブル
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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