(57)【要約】【課題】黒表示時の斜め方向の色味変化が少ない液晶表示装置の提供。【解決手段】円盤状液晶化合物を含有する液晶組成物からなる少なくとも１層のセル内光学補償層を液晶セルの内側に有する液晶表示装置であって、前記セル内光学補償層の波長５５０ｎｍの面内レターデーションＲｅ（５５０）が０〜１０ｎｍであり、同波長の厚さ方向のレターデーションＲｔｈ（５５０）が２００〜４００ｎｍであり、及び前記セル内光学補償層のＲｔｈ（４５０）と波長５５０ｎｍの厚さ方向レターデーションＲｔｈ（５５０）が、下記式（１）：  （１）    １．０５≦Ｒｔｈ（４５０）／Ｒｔｈ（５５０）≦１．１５を満たすことを特徴とする液晶表示装置である。【選択図】図１
2010085533.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも一方に電極を有する対向配置された一対の基板と、該一対の基板間に挟持された液晶材料とを有する液晶セル；前記液晶セルの外側に配置された少なくとも１枚の偏光膜；及び前記液晶セルの内側に配置された円盤状液晶化合物を含有する液晶組成物からなる少なくとも１層のセル内光学補償層；を少なくとも有する液晶表示装置であって、
前記セル内光学補償層の波長５５０ｎｍの面内レターデーションＲｅ（５５０）が０〜１０ｎｍであり、同波長の厚さ方向のレターデーションＲｔｈ（５５０）が２００〜４５０ｎｍであり、及び前記セル内光学補償層の波長４５０ｎｍの厚さ方向レターデーションＲｔｈ（４５０）と波長５５０ｎｍの厚さ方向レターデーションＲｔｈ（５５０）が、下記式（１）：
（１）    １．０５≦Ｒｔｈ（４５０）／Ｒｔｈ（５５０）≦１．１５
を満たすことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
前記セル内光学補償層が、前記液晶組成物をホメオトロピック配向状態に固定して形成された層であることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記円盤状液晶性化合物が、下記一般式（Ｉ）で表される化合物であることを特徴とする請求項１又は２に記載の液晶表示装置。
【化１】
2010085533.tif 000021
［式中、Ｙ11、Ｙ12及びＹ13は、それぞれ独立に置換されていてもよいメチン又は窒素原子を表し；
Ｌ1、Ｌ2及びＬ3は、それぞれ独立に単結合又は二価の連結基を表し；
Ｈ1、Ｈ2及びＨ3は、それぞれ独立に一般式（Ｉ−Ａ）：
【化２】
2010085533.tif 000022
（一般式（Ｉ−Ａ）中、
ＹＡ1及びＹＡ2は、それぞれ独立にメチン又は窒素原子を表し；
ＸＡは、酸素原子、硫黄原子、メチレン又はイミノを表し；
＊は上記一般式（Ｉ）におけるＬ1〜Ｌ3側と結合する位置を表し；
＊＊は上記一般式（Ｉ）におけるＲ1〜Ｒ3側と結合する位置を表す。）
又は一般式（Ｉ−Ｂ）：
【化３】
2010085533.tif 000023
（一般式（Ｉ−Ｂ）中、
ＹＢ1及びＹＢ2は、それぞれ独立にメチン又は窒素原子を表し；
ＸＢは、酸素原子、硫黄原子、メチレン又はイミノを表し；
＊は上記一般式（Ｉ）におけるＬ1〜Ｌ3側と結合する位置を表し；
＊＊は上記一般式（Ｉ）におけるＲ1〜Ｒ3側と結合する位置を表す。）を表し；
Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は、それぞれ独立に下記一般式（Ｉ−Ｒ）：
一般式（Ｉ−Ｒ）
−（−Ｌ21−Ｑ2）n1−Ｌ22−Ｌ23−Ｑ1
（一般式（Ｉ−Ｒ）中、は一般式（Ｉ）におけるＨ1〜Ｈ3側と結合する位置を表し；
Ｌ21は単結合又は二価の連結基を表し；
Ｑ2は少なくとも１種類の環状構造を有する二価の基を表し；
ｎ1は、０〜４の整数を表し、Ｌ22は、＊＊−Ｏ−、＊＊−Ｏ−ＣＯ−、＊＊−ＣＯ−Ｏ−、＊＊−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、＊＊−Ｓ−、＊−Ｎ（Ｒ）−、＊＊−ＣＨ2−、＊＊−ＣＨ＝ＣＨ−又は＊＊−Ｃ≡Ｃ−を表し、ここで、＊＊はＱ2側と結合する位置を表し；
Ｌ22は、＊＊−Ｏ−、＊＊−Ｏ−ＣＯ−、＊＊−ＣＯ−Ｏ−、＊＊−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、＊＊−Ｓ−、＊−Ｎ（Ｒ101）−、＊＊−ＣＨ2−、＊＊−ＣＨ＝ＣＨ−又は＊＊−Ｃ≡Ｃ−を表し、Ｒ101は、炭素数１〜５のアルキル基を表し、＊＊はＱ2側と結合する位置を表し；
Ｌ23は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＮＨ−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−及びＣ≡Ｃ−ならびにこれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表し；
Ｑ1は重合性基又は水素原子を表す）
を表す。］
【請求項４】
Ｙ11、Ｙ12及びＹ13がそれぞれ、無置換のメチンであることを特徴とする請求項３に記載の液晶表示装置。
【請求項５】
Ｌ1、Ｌ2及びＬ3が同一であり、Ｈ1、Ｈ2及びＨ3が同一であり、且つＲ1、Ｒ2及びＲ3が同一であることを特徴とする請求項３又は４に記載の液晶表示装置。
【請求項６】
前記液晶組成物が、重合性組成物であることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項７】
前記液晶セルの各ピクセルが互いに異なる色相の複数のサブピクセルからなり、１のピクセルに対応する前記セル内光学補償層の領域内のＲｔｈが、サブピクセルの色相に応じて異なっていることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項８】
前記液晶セル内に、赤色（Ｒ）層、緑色（Ｇ）層、及び青色（Ｂ）層を含むカラーフィルタを有し、前記セル内光学補償膜のＲ層に対応する領域ｒ、Ｇ層に対応する領域ｇ、及びＢ層に対応する領域ｂのそれぞれのＲｔｈr、Ｒｔｈgが、及びＲｔｈbが、Ｒｔｈb＜Ｒｔｈg＜Ｒｔｈrを満足することを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項９】
前記液晶セル内に、赤色（Ｒ）層、緑色（Ｇ）層、及び青色（Ｂ）層を含むカラーフィルタを有し、前記セル内光学補償膜のＲ層に対応する領域ｒ、Ｇ層に対応する領域ｇ、及びＢ層に対応する領域ｂのそれぞれの厚みｄｒ、ｄｇ及びｄｂが、ｄｂ＜ｄｇ＜ｄｒを満足することを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項１０】
前記液晶セルと前記偏光膜との間に、波長５５０ｎｍにおける厚さ方向のレターデーションＲｔｈ（５５０）が３０ｎｍ以上であるポリマーフィルムを有することを特徴とする請求項１〜９のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項１１】
前記ポリマーフィルムが、セルロースアシレート系フィルムであることを特徴とする請求項１０に記載の液晶表示装置。
【請求項１２】
前記液晶セルと前記偏光膜との間に、第２の光学補償層を有し、該第２の光学補償層が、高分子延伸フィルムからなることを特徴とする請求項１〜１１のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項１３】
前記液晶セルがＶＡモード液晶セルであり、前記第２の光学補償層が、波長５５０ｎｍの面内レターデーションＲｅ（５５０）及び同波長の厚さ方向のレターデーションＲｔｈ（５５０）が下記式（３）及び下記式（４）：
（３）  ７０ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦２１０ｎｍ
（４）  −０．６≦Ｒｔｈ（５５０）／Ｒｅ（５５０）≦−０．４
を満たすことを特徴とする請求項１〜１２のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項１４】
前記第２の光学補償層が、セルロースアシレートフィルム、ノルボルネン系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリエステル系フィルム及びポリサルフォン系フィルムのいずれかであることを特徴とする請求項１２又は１３に記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は光学補償層を液晶セル内に有する、いわゆるインセルタイプの液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）方式、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ  Ｂｅｎｄ）方式、及びＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ  Ａｌｉｇｎｅｄ）方式といった広視野角の液晶方式が提案され、近年の液晶テレビの需要増に伴い、そのシェアを拡大している。各方式とも、表示品位について改善が図られているが、斜めから観察した際に生じる色ずれの問題は未だ解決されていない。
このような色ずれの問題を解決させるために、ＶＡ方式の液晶表示装置では、主に負のＣプレート補償フィルム及び正のＡプレート補償フィルムを用いた光学補償方式が開示されている。例えば、特許文献１には負のＣプレート補償フィルムを使用した一般的なＶＡ方式の液晶装置が開示されている。
しかしながら、負のＣプレート補償フィルムを使用した一般的なＶＡ方式の液晶表示装置では、黒表示状態の補償が完全になされないため、視野角によっては光漏れが生じるという問題があった。
【０００３】
これに対し、特許文献２には、負のＣプレート補償フィルム及び正又は負のＡプレート補償フィルムの両方を含み、更にＣプレート及びＡプレートの波長分散性を規定した一般的なＶＡ方式の液晶表示装置が開示されている。
【０００４】
一方、位相差制御層をＬＣＤを構成する基板の液晶層側に直接配置することにより、粘着材による界面反射をキャンセルさせて高コントラストな表示を可能にする液晶表示装置も提案されている（例えば、特許文献３）。
また、白表示時の斜め方向の色再現性が向上され、視野角コントラストが改善、画面周辺部の表示ムラが低減されたＶＡモード液晶表示装置として、セル内光学補償膜が複数の平均配向方向を１画素中に有するＶＡモード液晶表示装置が提案されている（例えば、特許文献４）。
また、特許文献５には、所定の光学特性を有する光学異方性層を有するＩＰＳモード液晶表示装置が開示され、及び該光学異方性層を液晶セル内に配置することにより、視野角特性が改善されることについての記載がある。
【特許文献１】米国特許第４，８８９，４１２号公報
【特許文献２】国際公開ＷＯ２００４／０６８２２５  Ａ１パンフレット
【特許文献３】特開２００４−２４０１０２号公報
【特許文献４】特開２００６−２７６８４９号公報
【特許文献５】特開２００７−２２５９１２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献２に記載の補償方法を用いることで、黒表示時の光漏れは更に改善されるが、未だ十分ではない。
本発明の課題は、液晶セルが広い波長範囲にわたって正確に光学補償され、黒表示時の斜め方向の色味変化が少ない液晶表示装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者らは、鋭意検討の結果、所定の光学特性を有する光学補償層をセル内に設けることで、黒表示時の斜め方向に生じるカラーシフトが大きく軽減されることを見出した。
表示装置がカラー化されている場合（例えば、赤色、緑色及び青色の三色の表示領域からなる画素を有する場合）には、画素の各色の表示領域を通過する各色の光の波長に起因して光の偏光状態にばらつきが生じてしまうため、光学補償が不完全となり、赤色、緑色及び青色のうち２色の漏れ光が発生するためである。特にＶＡ方式の液晶表示装置ではセルのレターデーションに対する光学補償の問題と、吸収軸が直交に配置された上下２枚の偏光板を斜め方向から観測した時に垂直からずれることに伴う光漏れに対する光学補償の問題があり複雑である。可視光域の全範囲の光に対して理想的な光学補償を達成するためには、上記２つの補償すべき要素を考慮した上でＲ光、Ｇ光、及びＢ光の各波長の光それぞれに対して、必要な位相差で補償する必要がある。例えば、Ｒ光、Ｇ光、及びＢ光のそれぞれに対して光学補償に最適な位相差を示す様に、位相差層をパターニングする技術を採用すること；が提案されている。また、ＶＡ方式の液晶表示装置を負のＣプレートと正のＡプレートで光学補償する場合、負のＣプレートの波長分散は急波長分散であることが望ましいとされている。これらの技術により、黒表示時の光漏れを大幅に軽減することができるが、光漏れを完全になくすことはできなかった。
本発明者が鋭意検討した結果、特定の光学特性を有する低波長分散の光学補償層をセル内に設けることで、黒表示時の斜め方向に生じるカラーシフトが大きく軽減されることを見出し本発明の完成に至った。
【０００７】
本発明の課題を解決する手段は以下の通りである。
［１］  少なくとも一方に電極を有する対向配置された一対の基板と、該一対の基板間に挟持された液晶材料とを有する液晶セル；前記液晶セルの外側に配置された少なくとも１枚の偏光膜；及び前記液晶セルの内側に配置された円盤状液晶化合物を含有する液晶組成物からなる少なくとも１層のセル内光学補償層；を少なくとも有する液晶表示装置であって、
前記セル内光学補償層の波長５５０ｎｍの面内レターデーションＲｅ（５５０）が０〜１０ｎｍであり、同波長の厚さ方向のレターデーションＲｔｈ（５５０）が２００〜４５０ｎｍであり、及び前記セル内光学補償層の波長４５０ｎｍの厚さ方向レターデーションＲｔｈ（４５０）と波長５５０ｎｍの厚さ方向レターデーションＲｔｈ（５５０）が、下記式（１）：
（１）    １．０５≦Ｒｔｈ（４５０）／Ｒｔｈ（５５０）≦１．１５
を満たすことを特徴とする液晶表示装置。
［２］  前記セル内光学補償層が、前記液晶組成物をホメオトロピック配向状態に固定して形成された層であることを特徴とする［１］の液晶表示装置。
【０００８】
［３］  前記円盤状液晶性化合物が、下記一般式（Ｉ）で表される化合物であることを特徴とする［１］又は［２］の液晶表示装置。
【化１】
2010085533.tif 000003
［式中、Ｙ11、Ｙ12及びＹ13は、それぞれ独立に置換されていてもよいメチン又は窒素原子を表し；
Ｌ1、Ｌ2及びＬ3は、それぞれ独立に単結合又は二価の連結基を表し；
Ｈ1、Ｈ2及びＨ3は、それぞれ独立に一般式（Ｉ−Ａ）：
【０００９】
【化２】
2010085533.tif 000004
（一般式（Ｉ−Ａ）中、
ＹＡ1及びＹＡ2は、それぞれ独立にメチン又は窒素原子を表し；
ＸＡは、酸素原子、硫黄原子、メチレン又はイミノを表し；
＊は上記一般式（Ｉ）におけるＬ1〜Ｌ3側と結合する位置を表し；
＊＊は上記一般式（Ｉ）におけるＲ1〜Ｒ3側と結合する位置を表す。）
又は一般式（Ｉ−Ｂ）：
【００１０】
【化３】
2010085533.tif 000005
（一般式（Ｉ−Ｂ）中、
ＹＢ1及びＹＢ2は、それぞれ独立にメチン又は窒素原子を表し；
ＸＢは、酸素原子、硫黄原子、メチレン又はイミノを表し；
＊は上記一般式（Ｉ）におけるＬ1〜Ｌ3側と結合する位置を表し；
＊＊は上記一般式（Ｉ）におけるＲ1〜Ｒ3側と結合する位置を表す。）を表し；
Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は、それぞれ独立に下記一般式（Ｉ−Ｒ）：
【００１１】
一般式（Ｉ−Ｒ）
−（−Ｌ21−Ｑ2）n1−Ｌ22−Ｌ23−Ｑ1
（一般式（Ｉ−Ｒ）中、は一般式（Ｉ）におけるＨ1〜Ｈ3側と結合する位置を表し；
Ｌ21は単結合又は二価の連結基を表し；
Ｑ2は少なくとも１種類の環状構造を有する二価の基を表し；
ｎ1は、０〜４の整数を表し、Ｌ22は、＊＊−Ｏ−、＊＊−Ｏ−ＣＯ−、＊＊−ＣＯ−Ｏ−、＊＊−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、＊＊−Ｓ−、＊−Ｎ（Ｒ）−、＊＊−ＣＨ2−、＊＊−ＣＨ＝ＣＨ−又は＊＊−Ｃ≡Ｃ−を表し、ここで、＊＊はＱ2側と結合する位置を表し；
Ｌ22は、＊＊−Ｏ−、＊＊−Ｏ−ＣＯ−、＊＊−ＣＯ−Ｏ−、＊＊−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、＊＊−Ｓ−、＊−Ｎ（Ｒ101）−、＊＊−ＣＨ2−、＊＊−ＣＨ＝ＣＨ−又は＊＊−Ｃ≡Ｃ−を表し、Ｒ101は、炭素数１〜５のアルキル基を表し、＊＊はＱ2側と結合する位置を表し；
Ｌ23は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＮＨ−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−及びＣ≡Ｃ−ならびにこれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表し；
Ｑ1は重合性基又は水素原子を表す）
を表す。］
【００１２】
［４］  Ｙ11、Ｙ12及びＹ13がそれぞれ、無置換のメチンであることを特徴とする［３］の液晶表示装置。
［５］  Ｌ1、Ｌ2及びＬ3が同一であり、Ｈ1、Ｈ2及びＨ3が同一であり、且つＲ1、Ｒ2及びＲ3が同一であることを特徴とする［３］又は［４］の液晶表示装置。
［６］  前記液晶組成物が、重合性組成物であることを特徴とする［１］〜［５］のいずれかの液晶表示装置。
［７］  前記液晶セルの各ピクセルが互いに異なる色相の複数のサブピクセルからなり、１のピクセルに対応する前記セル内光学補償層の領域内のＲｔｈが、サブピクセルの色相に応じて異なっていることを特徴とする［１］〜［６］のいずれかの液晶表示装置。
［８］  前記液晶セル内に、赤色（Ｒ）層、緑色（Ｇ）層、及び青色（Ｂ）層を含むカラーフィルタを有し、前記セル内光学補償膜のＲ層に対応する領域ｒ、Ｇ層に対応する領域ｇ、及びＢ層に対応する領域ｂのそれぞれのＲｔｈr、Ｒｔｈgが、及びＲｔｈbが、Ｒｔｈb＜Ｒｔｈg＜Ｒｔｈrを満足することを特徴とする［１］〜［７］のいずれかの液晶表示装置。
［９］  前記液晶セル内に、赤色（Ｒ）層、緑色（Ｇ）層、及び青色（Ｂ）層を含むカラーフィルタを有し、前記セル内光学補償膜のＲ層に対応する領域ｒ、Ｇ層に対応する領域ｇ、及びＢ層に対応する領域ｂのそれぞれの厚みｄｒ、ｄｇ及びｄｂが、ｄｂ＜ｄｇ＜ｄｒを満足することを特徴とする［１］〜［８］のいずれかの液晶表示装置。
［１０］  前記液晶セルと前記偏光膜との間に、波長５５０ｎｍにおける厚さ方向のレターデーションＲｔｈ（５５０）が３０ｎｍ以上であるポリマーフィルムを有することを特徴とする［１］〜［９］のいずれかの液晶表示装置。
［１１］  前記ポリマーフィルムが、セルロースアシレート系フィルムであることを特徴とする［１０］の液晶表示装置。
［１２］  前記液晶セルと前記偏光膜との間に、第２の光学補償層を有し、該第２の光学補償層が、高分子延伸フィルムからなることを特徴とする［１］〜［１１］のいずれかの液晶表示装置。
［１３］  前記液晶セルがＶＡモード液晶セルであり、前記第２の光学補償層が、波長５５０ｎｍの面内レターデーションＲｅ（５５０）及び同波長の厚さ方向のレターデーションＲｔｈ（５５０）が下記式（３）及び下記式（４）：
（３）  ７０ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦２１０ｎｍ
（４）  −０．６≦Ｒｔｈ（５５０）／Ｒｅ（５５０）≦−０．４
を満たすことを特徴とする［１］〜［１２］のいずれかの液晶表示装置。
［１４］  前記第２の光学補償層が、セルロースアシレートフィルム、ノルボルネン系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリエステル系フィルム及びポリサルフォン系フィルムのいずれかであることを特徴とする［１２］又は［１３］の液晶表示装置。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、液晶セルのΔｎｄが広い波長範囲にわたって正確に光学補償され、黒表示時に斜め方向におけるカラーシフトが少ない液晶表示装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、本発明について詳細に説明する。なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
また、本明細書において、光学特性等を示す数値や数値範囲については、液晶表示装置やそれに用いられる部材について一般的に許容される誤差を含む数値又は数値範囲であると解釈されるものとする。角度については、「４５゜」、「平行」あるいは「直交」とは、厳密な角度±５゜未満の範囲内であることを意味する。厳密な角度との誤差は、４゜未満であることが好ましく、３゜未満であることがより好ましい。また、角度について、「＋」は時計周り方向を意味し、「−」は反時計周り方向を意味するものとする。また、「遅相軸」は、屈折率が最大となる方向を意味する。また、「可視光領域」とは、３８０〜７８０ｎｍのことをいう。更に屈折率の測定波長は特別な記述がない限り、可視光域のλ＝５５０ｎｍでの値である。
【００１５】
また、本明細書において「偏光板」とは、特に断らない限り、長尺の偏光板及び液晶装置に組み込まれる大きさに裁断された（本明細書において、「裁断」には「打ち抜き」及び「切り出し」等も含むものとする）偏光板の両者を含む意味で用いられる。また、本明細書では、「偏光膜」及び「偏光板」を区別して用いるが、「偏光板」は「偏光膜」の少なくとも片面に該偏光膜を保護する透明保護膜を有する積層体を意味するものとする。
【００１６】
本明細書において、Ｒｅ（λ）、Ｒｔｈ（λ）は、各々、波長λにおける面内のレターデーション（ｎｍ）、及び厚さ方向のレターデーション（ｎｍ）を表す。Ｒｅ（λ）は、ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲ（王子計測機器（株）製）において、波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。測定波長λｎｍの選択にあたっては、波長選択フィルターをマニュアルで交換するか、または測定値をプログラム等で変換して測定するができる。
測定されるフィルムが１軸又は２軸の屈折率楕円体で表されるものである場合には、以下の方法によりＲｔｈ（λ）は算出される。
Ｒｔｈ（λ）は前記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）のフィルム法線方向に対して法線方向から片側５０度まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて全部で６点測定し、その測定されたレターデーション値と、平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値とを基にＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。上記において、法線方向から面内の遅相軸を回転軸として、ある傾斜角度にレターデーションの値がゼロとなる方向をもつフィルムの場合には、その傾斜角度より大きい傾斜角度でのレターデーション値は、その符号を負に変更した後、ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。
なお、遅相軸を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合には、フィルム面内の任意の方向を回転軸とする）、任意の傾斜した２方向からレターデーション値を測定し、その値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基に、以下の数式（Ｉ）及び式（ＩＩ）よりＲｔｈを算出することもできる。
【００１７】
【数１】
2010085533.tif 000006
式中、Ｒｅ（θ）は法線方向から角度θ傾斜した方向におけるレターデーション値をあらわす。
また、ｎｘは、面内における遅相軸方向の屈折率を表し、ｎｙは面内においてｎｘに直交する方向の屈折率を表し、ｎｚはｎｘ及びｎｙに直交する方向の屈折率を表し、ｄは膜厚を表す。
【００１８】
測定されるフィルムが１軸や２軸の屈折率楕円体で表現できないもの、いわゆる光学軸（ｏｐｔｉｃ  ａｘｉｓ）がないフィルムの場合には、以下の方法により、Ｒｔｈ（λ）は算出される。
Ｒｔｈ（λ）は、前記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して−５０度から＋５０度まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて１１点測定し、その測定されたレターデーション値と、平均屈折率の仮定値、及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出される。
上記の測定において、平均屈折率の仮定値は、ポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ  ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、各種光学補償フィルムのカタログの値を使用することができる。
また、平均屈折率の値が既知でないものについては、アッベ屈折計で測定することができる。主な光学補償フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：
セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。
これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲは、ｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出する。この算出されたｎｘ，ｎｙ，ｎｚよりＮｚ＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）が更に算出される。
【００１９】
本発明は、所定の光学特性を満足する光学補償層を液晶セル内に有する液晶表示装置に関する。本発明の特徴の一つは、Ｒｅが０〜１０ｎｍで、及びＲｔｈが２００〜４５０ｎｍであり、及びＲｔｈについて低波長分散性の光学補償層を液晶セル内に有することである。前記Ｒｅ及びＲｔｈを満足する光学補償層は、負のＣ−プレートの代替として液晶表示装置の光学補償に寄与する。一方、液晶表示装置がＶＡモードの液晶セルを有し、前記光学補償層に隣接する場合、黒表示において、液晶セルは近似的に正のＣ−プレートと見なすことができる。液晶セルと光学補償層を通過することによる偏光の変換は、近似的にポアンカレ球上では、両者を同一の軸とした所定の軸に対する回転として表されるので、液晶表示装置に斜め入射した光のＲ光、Ｇ光及びＢ光成分のいずれについても、セルと光学補償層を通過後の偏光状態を等しい状態とするためには、Ｒｔｈ（セルとセル内外の光学補償層の符号を考慮した特定の波長で測定したＲｔｈの和）／λが等しくなるようにＲｔｈを調整することが必要である。
特定の材料で形成された光学補償層のＲｔｈは、層の厚みに比例するので、例えば、前記セル内光学補償層としてパターニングできれば、Ｒ、Ｇ、及びＢ域のそれぞれ、特定の波長で測定した光学補償層のＲｔｈを調整し、Ｒｔｈの和を最適化することが可能である。
しかし、液晶セルに用いられるカラーフィルタのＲ層、Ｇ層、及びＢ層の透過帯域には幅があり、それぞれの中心波長以外の波長も透過する。従って、厚みの調節によって、Ｒ層、Ｇ層及びＢ層の透過帯域の中心波長においてＲｔｈ／λが等しくなるようにしても、セル内光学補償層のＲｔｈが急勾配の波長分散性を示すと、透過帯域の端の波長においては、理想値からずれてしまい、これが光漏れ及びカラーシフトの原因となっていることが本発明者らの検討で明らかとなった。
【００２０】
一方、ＶＡ方式の液晶表示装置の主要な補償方式である、負のＣプレートと正のＡプレートを用いた補償方式では、負のＣプレートが急勾配の波長分散を示すことが望ましいとされている。従って、ＶＡモード液晶セル内に、急勾配の波長分散の負のＣプレートをパターン化して形成する態様が考えられる。しかしながら、この態様では、理想的な波長分散に近づけるに必要な急勾配の波長分散の材料が得難く、光学補償作用には限界があった。本発明では、負のＣプレートを用いた補償方式においても、所定の補償方式を用いることで、最適波長分散を低波長分散にできることを見出し本発明の完成に至った。
また、このような補償方式ではパターン化する光学補償層に高いＲｔｈが要求され、光学補償層の厚みが厚くなりムラが生じ易いとの問題があるが、特定の液晶化合物を用いて光学補償層を形成することで、このムラを軽減できることを見出した。
【００２１】
本発明では、Ｒｅ及びＲｔｈが前記所定の範囲であり、且つＲｔｈが低波長分散性である光学補償層をセル内に配置することで、従来の、光学補償層を液晶セル内に有する、いわゆるインセルタイプの液晶表示装置の光学補償を、より理想に近づけている。特に、黒表示時の斜め方向における光漏れ及び色味付きが従来のインセルタイプの液晶表示装置と比較して、さらに軽減されている。
【００２２】
本発明の液晶表示装置において、液晶セル外であって、偏光膜との間に、Ｒｔｈがある程度の値である位相差層が存在すると、セル内光学補償層に要求されるＲｔｈを軽減でき、例えば、セル内光学補償層の厚みを薄くすることができるので好ましい。偏光膜と液晶セルとの間に、通常配置される偏光膜保護膜として、Ｒｔｈがある程度の（具体的にはＲｔｈが３０ｎｍ以上の）ポリマーフィルムを利用すると、上記した通り、セル内光学補償層のＲｔｈ負担分を軽減でき、その結果、セル内光学補償層の厚みを薄くできるので好ましい。偏光板保護膜に用いるポリマーフィルムについては、その材料は特に限定されないが、特に、光学補償の観点では、Ｒｔｈが逆波長分散性を示すポリマーフィルムが好ましく、例えば、セルロースアシレート系フィルムは、これらの条件を満足するので好ましい。
【００２３】
以下、本発明の液晶表示装置に用いられる種々の部材について、セル内光学補償層を中心に説明する。
本発明では、液晶セル内に、円盤状液晶化合物を含有する液晶組成物からなる少なくとも１層のセル内光学補償層を配置する。前記セル内光学補償層は、Ｒｅ（５５０）が０〜１０ｎｍであり、同波長の厚さ方向のレターデーションＲｔｈ（５５０）が２００〜４５０ｎｍであり、その光学補償能は、いわゆる負のＣ−プレートと類似する。また、前記セル内光学補償層のＲｔｈは、低波長分散性であり、具体的には、Ｒｔｈ（４５０）と波長５５０ｎｍの厚さ方向レターデーションＲｔｈ（５５０）は、下記式（１）を満足する。
（１）    １．０５≦Ｒｔｈ（４５０）／Ｒｔｈ（５５０）≦１．１５
Ｒｔｈ（４５０）／Ｒｔｈ（５５０）は、より好ましくは、１.０５〜１．１２であり、さらに好ましくは、１．０６〜１．１１である。
【００２４】
また、前記セル内光学補償層のＲｅ（５５０）及びＲｔｈ（５５０）の好ましい範囲は、液晶セルのモードに応じて変動するが、ＶＡモード液晶セルの態様では、Ｒｅ（５５０）は０〜１０ｎｍ程度であるのが好ましく、０〜５ｎｍ程度であるのがより好ましい。また、ＶＡモード液晶セルであって、前記セル内光学補償層のみで、光学補償に必要なＲｔｈを負担する態様では、前記セル内光学補償層のＲｔｈ（５５０）は、２００〜４５０ｎｍであり、２５０〜４００ｎｍ程度であるのが好ましい。
【００２５】
Ｒｅ（５５０）及びＲｔｈ（５５０）が前記範囲である光学補償層は、円盤状液晶化合物を含有する液晶組成物をホメオトロピック配向状態に固定することで形成することができる。なお、「ホメオトロピック配向」とは、液晶分子のダイレクタが層面に対して垂直となっている配向状態をいい、円盤状液晶分子については、円盤面を層面に対して平行にして積み重なって配向している状態をいう。円盤状液晶化合物の種類については特に制限はないが、Ｒｔｈについて低波長分散性で、上記式（１）を満足する光学補償層の形成には、使用する円盤状液晶化合物の複屈折Δｎも低波長分散性であるのが好ましい。また、低波長分散性に加え、複屈折Δｎの絶対値が大きい化合物は、所望のＲｔｈを実現するのに必要な膜厚を小さくすることができ、より好ましい。例えば、前記特性を満足する化合物の例には、下記一般式（ＤＩ）で表される化合物が挙げられる。下記一般式（ＤＩ）表される化合物の中でも、ディスコティックネマチック相を示す化合物が好ましい。
【００２６】
【化４】
2010085533.tif 000007
［式中、Ｙ11、Ｙ12及びＹ13は、それぞれ独立に置換されていてもよいメチン又は窒素原子を表し；
Ｌ1、Ｌ2及びＬ3は、それぞれ独立に単結合又は二価の連結基を表し；
Ｈ1、Ｈ2及びＨ3は、それぞれ独立に一般式（Ｉ−Ａ）：
【化５】
2010085533.tif 000008
【００２７】
（一般式（Ｉ−Ａ）中、
ＹＡ1及びＹＡ2は、それぞれ独立にメチン又は窒素原子を表し；
ＸＡは、酸素原子、硫黄原子、メチレン又はイミノを表し；
＊は上記一般式（Ｉ）におけるＬ1〜Ｌ3側と結合する位置を表し；
＊＊は上記一般式（Ｉ）におけるＲ1〜Ｒ3側と結合する位置を表す。）
【００２８】
又は一般式（Ｉ−Ｂ）：
【化６】
2010085533.tif 000009
【００２９】
（一般式（Ｉ−Ｂ）中、
ＹＢ1及びＹＢ2は、それぞれ独立にメチン又は窒素原子を表し；
ＸＢは、酸素原子、硫黄原子、メチレン又はイミノを表し；
＊は上記一般式（Ｉ）におけるＬ1〜Ｌ3側と結合する位置を表し；
＊＊は上記一般式（Ｉ）におけるＲ1〜Ｒ3側と結合する位置を表す。）を表し；
Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は、それぞれ独立に下記一般式（Ｉ−Ｒ）：
【００３０】
一般式（Ｉ−Ｒ）
−（−Ｌ21−Ｑ2）n1−Ｌ22−Ｌ23−Ｑ1
（一般式（Ｉ−Ｒ）中、は一般式（Ｉ）におけるＨ1〜Ｈ3側と結合する位置を表し；
Ｌ21は単結合又は二価の連結基を表し；
Ｑ2は少なくとも１種類の環状構造を有する二価の基を表し；
ｎ1は、０〜４の整数を表し、Ｌ22は、＊＊−Ｏ−、＊＊−Ｏ−ＣＯ−、＊＊−ＣＯ−Ｏ−、＊＊−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、＊＊−Ｓ−、＊−Ｎ（Ｒ）−、＊＊−ＣＨ2−、＊＊−ＣＨ＝ＣＨ−又は＊＊−Ｃ≡Ｃ−を表し、ここで、＊＊はＱ2側と結合する位置を表し；
Ｌ22は、＊＊−Ｏ−、＊＊−Ｏ−ＣＯ−、＊＊−ＣＯ−Ｏ−、＊＊−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、＊＊−Ｓ−、＊−Ｎ（Ｒ101）−、＊＊−ＣＨ2−、＊＊−ＣＨ＝ＣＨ−又は＊＊−Ｃ≡Ｃ−を表し、Ｒ101は、炭素数１〜５のアルキル基を表し、＊＊はＱ2側と結合する位置を表し；
Ｌ23は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＮＨ−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−及びＣ≡Ｃ−ならびにこれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表し；
Ｑ1は重合性基又は水素原子を表す）
を表す。］
【００３１】
前記式（ＤＩ）で表される円盤状液晶化合物の詳細については、特開２００６−７６９９２号公報、及び特開２００７−２２２０号公報に記載があり、参照することができる。また、前記式（ＤＩ）で表される円盤状液晶化合物の好ましい例には、特開２００６−７６９９２号公報明細書中の段落番号［００５２］に記載の化合物、及び特開２００７−２２２０号公報の段落番号［００４０］〜［００６３］に記載の化合物が好ましい。
【００３２】
また、前記円盤状液晶化合物の好ましい例には、特開２００５−３０１２０６号公報に記載の化合物も含まれる。
【００３３】
前記式（ＤＩ）とともに、他の円盤状（ディスコティック）液晶化合物を用いることも好ましい。ディスコティック液晶化合物は、様々な文献（Ｃ．  Ｄｅｓｔｒａｄｅ  ｅｔ  ａｌ．，  Ｍｏｌ．  Ｃｒｙｓｒ．  Ｌｉｑ．  Ｃｒｙｓｔ．，  ｖｏｌ．  ７１，  ｐａｇｅ  １１１  （１９８１）  ；日本化学会編、季刊化学総説、Ｎｏ．２２、液晶の化学、第５章、第１０章第２節（１９９４）；Ｂ．  Ｋｏｈｎｅ  ｅｔ  ａｌ．，  Ａｎｇｅｗ．  Ｃｈｅｍ．  Ｓｏｃ．  Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍ．，  ｐａｇｅ  １７９４  （１９８５）；Ｊ．  Ｚｈａｎｇ  ｅｔ  ａｌ．，  Ｊ．  Ａｍ．Ｃｈｅｍ．  Ｓｏｃ．，  ｖｏｌ．  １１６，  ｐａｇｅ  ２６５５（１９９４））に記載されているものを広く採用することができる。
【００３４】
これらのディスコティック液晶性化合物は、重合により固定可能なように、重合性基を有することが好ましい。例えば、ディスコティック液晶性化合物の円盤状コアに、置換基として重合性基を結合させた構造が考えられる。また、円盤状コアと重合性基との間に連結基を有する構造がより好ましい。連結基を有する構造を採用すると、重合反応において配向状態を保つことがより容易になる。併用する重合性基を有するディスコティック液晶性化合物は、下記一般式（ＶＩ）で表わされる化合物が好ましい。
一般式（ＶＩ）    Ｄ（−Ｌ−Ｐ）n
（一般式（ＶＩ）中、Ｄは円盤状コアであり、Ｌは二価の連結基であり、Ｐは重合性基であり、ｎは２〜１２の整数である。）
【００３５】
前記式（ＶＩ）中の円盤状コア（Ｄ）、二価の連結基（Ｌ）及び重合性基（Ｐ）は、例えば、特開２００１−４８３７号公報に記載の（Ｄ１）〜（Ｄ１５）、（Ｌ１）〜（Ｌ２５）、（Ｐ１）〜（Ｐ１８）をそれぞれ、用いることができる。
【００３６】
なお、ディスコティック液晶化合物の重合については、例えば、特開平８−２７２８４号公報に記載の方法を採用できる。
【００３７】
前記セル内光学補償層は、配向状態に固定可能であるように、重合性組成物から形成されることが好ましく、特に光学的に負の屈折率異方性を持ち、かつ重合性基を有する円盤状液晶化合物を含む液晶組成物から形成されることが好ましい。液晶組成物中には、所望により、重合開始剤、重合モノマー等の重合に寄与する添加剤や、液晶化合物の配向促進に寄与する添加剤を添加することができる。
【００３８】
本発明では、一対の液晶セル用基板のうち、少なくとも一方の基板として、その表面上に、所定の光学特性を有する、液晶組成物からなるセル内光学補償層が形成された基板を用いる。前記セル内光学補償層と前記基板との間には、前記液晶性組成物の配向を制御する配向膜が配置されていてもよい。また、前記セル内光学補償層の上には、液晶セルを駆動するための透明電極層、及び液晶セル内の液晶性分子の配向を制御する配向層が形成されていてもよい。
【００３９】
前記基板は、その表面上にカラーフィルターを有していてもよい。カラーフィルターは、一般的には、微細領域にパターニングされた、互いに色相が異なる複数の着色層（例えば、赤（Ｒ）層、緑（Ｇ）層及び青（Ｂ）層）からなる。カラーフィルターの上、又は下に前記セル内光学補償層を形成する場合は、前記セル内光学補償層の、厚み方向のレターデーション値Ｒｔｈが、その上又は下に位置するカラーフィルターの各着色層の色相に応じて異なっている、より具体的には、色相に応じて最適化されていることが好ましい。
なお、カラーフィルターは、前記セル内光学補償層が形成された基板の対向基板上に形成されていてもよく、かかる場合も、前記セル内光学補償層のＲｔｈが、対向基板に形成されたカラーフィルターの対応する位置に配置された着色層の色相に応じて、異なっている、より具体的には最適化されているのが好ましい。
【００４０】
例えば、赤色、緑色、青色の着色層からなるカラーフィルターの上又は下に、セル内光学補償層を形成する場合は、Ｒ（赤）層、Ｇ（緑）層、及びＢ（青）層のそれぞれ対応する位置に配置されたセル内光学補償層の厚み方向のレターデーション、Ｒｔｈr、Ｒｔｈg、及びＲｔｈbが、Ｒｔｈb＜Ｒｔｈrを満たすことが好ましく、Ｒｔｈb＜Ｒｔｈg＜Ｒｔｈrを満たすことがより好ましい。
【００４１】
前記セル内光学補償層は、基板上に直接、塗布等により形成してもよいし、仮の支持体上にセル内光学補償層を設けた後、基板上に転写してもよい。また、カラーフィルターの着色層のパターニングに合わせて、微細領域にパターニングすることも本発明の好ましい態様である。セル内光学補償層のパターニングの方法としては、フォトリソグラフィー法を用いる方法やインクジェットなどを用いる方法が挙げられる。マイクロカラーフィルターのパターニングを転写型のカラーフィルターを用いて行う方法も広く用いられている（例えば『カラーフィルターの製膜技術とケミカル』シーエムシーｐ６９〜ｐ７９：佐藤守正著：１９９８年）。この方法を用いて第１の光学異方性を積層したカラーフィルターを作製し、カラーフィルターのパターンに合わせてセル内光学補償層とカラーフィルターを同時にパターニングすることもできる。
【００４２】
特開２００４−１９１８３２号公報に重合性液晶分子を含有した紫外線硬化性組成物で位相差膜を形成し、各色の微細領域単位で紫外線の照射量を変え、硬化液晶分子量をコントロールし、その後、有機溶剤で未硬化の液晶分子を洗浄除去し、乾燥後更に紫外線照射を行い最終硬化することによって、各色の画素領域毎にレターデーション量を変える方法が開示されているが、本発明でもこのような方法を用いてセル内光学補償層を形成することができる。
【００４３】
また、カラーフィルター形成時に、セル内光学補償層を形成する際に利用する配向膜、特に垂直配向膜、を同時に形成することもできる。例えば、カラーフィルターを転写材料を用いて形成する場合は、垂直配向膜を積層した転写型カラーフィルターを作製し、カラーフィルターと同時に垂直配向膜を基板上に転写することもできる。
フォトリソグラフィー法と塗布を組み合わせた方法でカラーフィルターを形成する場合、カラーフィルター形成用の塗布液に垂直配向剤を含有させることによりカラーフィルターに垂直配向膜の機能を持たせることもできる。また、セル内光学補償層に、カラーフィルターとしての機能を持たせて、セル内光学補償層の１層のみで、双方の機能を満足する層とすることもできる。
【００４４】
円盤状液晶分子を均一にホメオトロピック配向させるには、基板側の垂直配向膜の機能に加え、空気界面側にも配向規制力を有することが好ましい。空気界面側のみに特定の配向規制力をもたせるには、円盤状液晶分子と相互作用する側鎖を共重合させたフッ素系ポリマーを塗布液に添加することが有効である。このようなフッ素系ポリマーを添加することで、空気界面を被覆して新たな界面を形成し、円盤状液晶分子をホメオトロピック配向させることができる。特に、配向性の観点からナフタレン環を有するフッ素系ポリマーが好ましい。
【００４５】
図１に、本発明の液晶表示装置の一例の構成を示す模式図を示す。図１に示す液晶表示装置は、偏光板ＰＬ１及びＰＬ２と、その間に液晶セルＬＣを有する。液晶セルＬＣの詳細な構造は示さないが、液晶セルＬＣは、少なくとも一方に電極を有する対向配置された一対の基板と、該一対の基板間に挟持された液晶材料とを有する。一対の基板のうち一方は、内面にセル内光学補償層を有する基板である。
【００４６】
偏光板ＰＬ１及びＰＬ２は、偏光子１２及び１４と、その内側面に保護膜１６及び１８と、その外側面に保護膜２０及び２２とを、それぞれ有する。偏光子１２及び１４は、それぞれの吸収軸を互いに直交させて配置されている。液晶セルＬＣは、垂直モードであり、電極に駆動電圧が供与されていない状態では、液晶層は垂直配向し、黒表示状態になる。液晶セルＬＣ内に配置されているセル内光学補償層（不図示）は、Ｒｅ（５５０）が０〜１０ｎｍ、同波長の厚さ方向のレターデーションＲｔｈ（５５０）が２００〜４００ｎｍの光学特性により、黒表示時の斜め方向に生じる光漏れ及びカラーシフトの軽減に寄与する。保護膜１６及び１８の少なくとも一方が、Ｒｔｈがある程度ある位相差膜であると、セル内光学補償層に要求されるＲｔｈの負担を軽減することができ、その結果、セル内光学補償層の厚みを薄くすることが可能になる。この観点では、保護膜１６及び１８の少なくとも一方は、Ｒｔｈが３０ｎｍ以上であるのが好ましい。
以下、この態様において、保護膜１６又は１８として利用されるのに好ましいポリマーフィルムについて説明する。
【００４７】
［ポリマーフィルム］
本発明において、偏光板保護膜（図１中では保護膜１６又は１８）として用いられるポリマーフィルムは、下記式（１１）を満足するのが好ましく、下記式（１１）〜（１３）の全てを満たすことが好ましい。
３０ｎｍ≦Ｒｔｈ（５５０）≦２５０ｎｍ              ・・・式（１１）
Ｒｔｈ（４５０）／Ｒｔｈ（５５０）≦１．０６        ・・・式（１２）
０≦Ｒｅ（５５０）≦１０ｎｍ                        ・・・式（１３）
式（１１）においてＲｔｈ（５５０）は３０ｎｍ以上であることが好ましく、６０ｎｍ以上であることがより好ましく、８０ｎｍ以上であることが特に好ましい。ポリマーフィルムの厚み方向のレターデーションが大きいと、セル内光学補償層の膜厚を薄くすることができ、塗布ムラの問題が生じ難い。Ｒｔｈ（５５０）の上限値については特に制限はないが、一般的にはポリマーフィルムのＲｔｈの上限値は２５０ｎｍ程度である。
【００４８】
式（１２）において［Ｒｔｈ（４５０）／Ｒｔｈ（５５０）］は１．０５以下であることが好ましく、１．０３以下であることが好ましく、１．００以下であることが特に好ましい。また、［Ｒｔｈ（４５０）／Ｒｔｈ（５５０）］は、０．７０以上であるのが好ましい。
【００４９】
式（１３）においてＲｅ（５５０）は０〜５ｎｍであることが好ましい。
【００５０】
前記ポリマーフィルムの材料については特に制限はなく、上記光学特性を満足する、様々な材料からなるポリマーフィルムを使用できる。中でも、原材料が安価であること及び偏光板加工適性の点から、セルロースアシレート系フィルムが好ましい。なお、本明細書において、「セルロースアシレート系フィルム」とは、フィルムを構成しているポリマー組成物のうち主成分、具体的には、フィルム総質量に対してセルロースアシレートが、例えば、７０質量％以上、好ましくは、８０質量％以上含まれていることを示す。本明細書において以下「主として含む」、「主成分」とは同様の意味を表すものとする。
【００５１】
セルロースアシレートは、セルロースの水酸基の一部又は全部がアシル基で置換されたものである。セルロースアシレートの置換度とは、セルロースの構成単位（（β）１，４−グリコシド結合しているグルコース）に存在している、３つの水酸基がアシル化されている割合を意味する。置換度（アシル化度）は、セルロースの構成単位質量当りの結合脂肪酸量を測定して算出することができる。測定方法は、「ＡＳＴＭ  Ｄ８１７−９１」に準じて実施する。
【００５２】
前記ポリマーフィルムの原料に使用するセルロースアシレートは、アシル置換度が２．９０〜３．００であるセルロースアシレートが好ましい。前記アシル置換度は２．９３〜２．９７がさらに好ましい。
【００５３】
前記ポリマーフィルムの原料に使用する、他の好ましいセルロースアシレートは、総アシル置換度が２．７０〜３．００の混合脂肪酸エステルである。さらに好ましくは総アシル置換度が２．８０〜３．００であり、かつ炭素原子数が３〜４のアシル基を有する混合脂肪酸エステルである。前記混合脂肪酸エステルのアシル置換度は２．８５〜２．９７がさらに好ましい。また炭素原子数が３〜４のアシル基の置換度は０．１〜２．０が好ましく、０．３〜１．５がさらに好ましい。
【００５４】
本発明で用いられるセルロースアシレートは、３５０〜８００の質量平均重合度を有することが好ましく、３７０〜６００の質量平均重合度を有することがさらに好ましい。また本発明で用いられるセルロースアシレートは、７０，０００〜２３０，０００の数平均分子量を有することが好ましく、７５，０００〜２３０，０００の数平均分子量を有することがさらに好ましく、７８，０００〜１２０，０００の数平均分子量を有することが最も好ましい。
【００５５】
本発明で用いられるセルロースアシレートは、アシル化剤として酸無水物や酸塩化物を用いて合成できる。前記アシル化剤が酸無水物である場合は、反応溶媒として有機酸（例えば、酢酸）や塩化メチレンが使用される。また、触媒として、硫酸のようなプロトン性触媒を用いることができる。アシル化剤が酸塩化物である場合は、触媒として塩基性化合物を用いることができる。工業的に最も一般的な合成方法では、セルロースをアセチル基及び他のアシル基に対応する有機酸（酢酸、プロピオン酸、酪酸）又はそれらの酸無水物（無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸）を含む混合有機酸成分でエステル化してセルロースエステルを合成する。
【００５６】
この方法においては、綿花リンターや木材パルプのようなセルロースは、酢酸のような有機酸で活性化処理した後、硫酸触媒の存在下で、上記のような有機酸成分の混合液を用いてエステル化する場合が多い。有機酸無水物成分は、一般にセルロース中に存在する水酸基の量に対して過剰量で使用する。このエステル化処理では、エステル化反応に加えてセルロース主鎖（（β）１，４−グリコシド結合）の加水分解反応（解重合反応）が進行する。主鎖の加水分解反応が進むとセルロースエステルの重合度が低下し、製造するセルロースエステルフィルムの物性が低下する。そのため、反応温度のような反応条件は、得られるセルロースエステルの重合度や分子量を考慮して決定することが好ましい。
【００５７】
市販のセルロースアシレートフィルム（例えば、ＴＤ８０ＵＦ  富士フイルム（株）製）そのもの又は、それを加熱延伸して、上記式（１１）〜（１３）を満足するセルロースアシレートフィルムを作製することができる。また、酢化度５５．０〜６２．５％程度のセルロースアシレートの溶液に、１，３，５−トリアジン環化合物等のレターデーション上昇剤を添加して調製したドープを、ドラム上等に流延し、上記式（１１）〜（１３）を満足するセルロースアシレートフィルムを作製することもできる。後述の方法に利用可能な溶液流延方法の諸条件、レターデーション上昇剤、セルロースアシレート原料については、特開２００１−１６６１４４号公報等に詳細な記載があり、前記ポリマーフィルムの作製に利用することができる。
【００５８】
［負のＡプレート］
また、ＶＡモード液晶表示装置の態様では、セル内光学補償膜は、負のＡプレートと組み合わせて、光学補償に利用するのがより好ましい。例えば、図１に示すＶＡモード液晶表示装置の態様では、保護膜１６又は１８として、負のＡプレートとしての性能を満足するポリマーフィルムを用いることができる。また、保護膜１６又は１８と、液晶セルＬＣとの間に、別途、負のＡプレートを配置しても勿論よい。
セル内光学補償膜と組み合わせて用いる負のＡプレートは、下記式（３）及び（４）を満足していることが好ましく、
（３）  ７０ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦２１０ｎｍ
（４）  −０．６≦Ｒｔｈ（５５０）／Ｒｅ（５５０）≦−０．４
下記式（３）’及び（４）’を満足していることがさらに好ましい。
（３）’１００ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦１８０ｎｍ
（４）’  −０．５７≦Ｒｔｈ（５５０）／Ｒｅ（５５０）≦−０．４３
下記式（３）”及び（４）”を満足していることがさらに好ましい。
（３）”１２０ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦１６０ｎｍ
（４）”  −０．５５≦Ｒｔｈ（５５０）／Ｒｅ（５５０）≦−０．４５
【００５９】
以下、本発明において、セル内光学補償層と組合せて使用可能な負のＡプレートについて、以下に詳細に説明する。
負のＡプレートとは、一般的には、面内遅相軸を有し、波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈ／Ｒｅが約−０．５である性質を有する位相差フィルムをいう。本発明では、「負のＡプレート」については、必ずしもＲｔｈ／Ｒｅが−０．５であることを要求するものではなく、上記式（３）及び（４）を満足するものはいずれも含むものとする。
【００６０】
負のＡプレートとしては、ポリマーフィルムを用いることができ、例えば、セルロースアシレートフィルム、ノルボルネン系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリエステル系フィルム及びポリサルフォン系フィルムのいずれを用いてもよい。
【００６１】
負のＡプレートとしては、例えば、固有複屈折値が負である材料を含有する一層又は二層以上からなるフィルムを延伸することで作製することができる。
前記負のＡプレートとして、実質的に溶剤を含まない溶融製膜法、及び溶剤を含む溶液流延法等、いずれの製膜法で製造されたポリマーフィルムを利用してもよい。前記フィルムが多層フィルムである場合は、溶融共押し出し法又は共流延法などを利用して製造することができる。前記フィルムの成形工程の後、連続して前記延伸・収縮処理を実施してもよい。例えば、溶液流延法によって製膜されたフィルムを用いる場合は、溶液流延法の乾燥工程の途中において実施する、湿式延伸の代替として、上記延伸・収縮処理を実施してもよい。また、溶融押し出し法により製膜されたフィルム、又は溶液製膜法により作製された乾燥後のフィルムに、連続的に上記延伸・収縮処理を施してもよい。また、勿論、一旦ロール状等に巻き取った後に、別途、上記延伸・収縮処理を実施することもできる。
【００６２】
前記負のＡプレートの一例としては、固有複屈折値が負である材料を含む一層又は二層以上からなる層を有するフィルムが挙げられる。
材料の固有複屈折値Δｎ0は、式［１］により算出される値である。
Δｎ0＝（２π／９）（Ｎｄ／Ｍ）｛（ｎa＋２）2／ｎa｝（α1−α2）・・・［１］
但し、πは円周率、Ｎはアボガドロ数、ｄは密度、Ｍは分子量、ｎaは平均屈折率、α1は高分子の分子鎖軸方向の分極率、α2は高分子の分子鎖軸と垂直な方向の分極率である。
固有複屈折値が負である材料としては、ポリマー材料が好ましく、前記フィルムは負の固有複屈折のポリマー材料を主成分（固形分で５０質量％以上のことをいうものとする）として含む一層又は二層以上からなっているのが好ましい。
【００６３】
前記固有複屈折値が負であるポリマーの例には、ビニル芳香族系重合体が含まれる。ビニル芳香族系重合体としては、例えば、ポリスチレン、スチレン、又は、α−メチルスチレン、ｏ−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ｐ−クロロスチレン、ｐ−ニトロスチレン、ｐ−アミノスチレン、ｐ−カルボキシスチレン、ｐ−フェニルスチレンなどのビニル芳香族単量体と、エチレン、プロピレン、ブタジエン、イソプレン、（メタ）アクリロニトリル、α−クロロアクリロニトリル、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸、無水マレイン酸、酢酸ビニルなどのその他の単量体との共重合体などを挙げることができる。これらの中でも、ポリスチレン又はスチレンと無水マレイン酸との共重合体が好ましい。なお、負の固有複屈折性が損なわれない程度に、他のモノマーとの共重合として、ガラス転移温度や光弾性などの物性をコントロールして他の機能を付加してもよい。
【００６４】
また、前記固有複屈折値が負であるポリマーの他の例には、フルオレン骨格を有するポリカーボネートが含まれる。フルオレン骨格は延伸操作等により高分子主鎖に対して垂直に配向するため、大きな負の分極率を示す。
フルオレン骨格を有するポリカーボネートの好ましい例としては、下記式（Ｉ）で表される繰り返し単位を含有するポリマーが挙げられる。
【００６５】
【化７】
2010085533.tif 000010
ここで、Ｒ1〜Ｒ8は、互いに独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜６の炭化水素基及び炭素数１〜６の炭化水素−Ｏ−基よりなる群から選ばれる基であり、そしてＸは、下記式（１）−１：
【００６６】
【化８】
2010085533.tif 000011
で表わされる基であり、Ｒ30及びＲ31は、互いに独立に、ハロゲン原子又は炭素数１〜３のアルキル基であり、そしてｎ及びｍは互いに独立に、０〜４の整数である。
上記式（Ｉ）で表される繰返し単位を全繰返し単位の５０〜９５モル％含有するものが好ましく、より好ましくは６０〜９５モル％、さらに好ましくは７０〜９０モル％である。
【００６７】
これらのフルオレン骨格を有するポリカーボネートは、高いガラス転移点温度を示し、ハンドリングや延伸成形性等の点で優れた物性を有する。
【００６８】
より好ましいポリカーボネートの例は、上記式（Ｉ）で表される繰り返し単位と、下記式（ＩＩ）で表される繰返し単位を含むポリマーである。
【００６９】
【化９】
2010085533.tif 000012
上記式（ＩＩ）中、Ｒ9〜Ｒ16は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子及び炭素数１〜２２の炭化水素基よりなる群から選ばれる少なくとも一種の基であり、Ｙは下記式群のそれぞれで表わされる基：
【００７０】
【化１０】
2010085533.tif 000013
よりなる群から選ばれる少なくとも一種の基である。ここで、Ｙ中のＲ17〜Ｒ19、Ｒ21及びＲ22は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、又はアルキル基、アリール基の如き炭素数１〜２２の炭化水素基であり、Ｒ20及びＲ23はアルキル基、アリール基の如き炭素数１〜２０の炭化水素基であり、また、Ａｒ1〜Ａｒ3は、それぞれ独立に、フェニル基の如き炭素数６〜１０のアリール基である。
【００７１】
［偏光板］
本発明には、上記式（１１）を満足するポリマーフィルムを保護膜として有する偏光板を用いるのが好ましい。また、負のＡプレートとして機能するポリマーフィルムを保護膜として有する偏光板を用いるのも好ましい。
これらの保護膜として機能するポリマーフィルム等は、偏光膜の表面に接着剤を介して貼り合せられているのが好ましい。より具体的には、ポリマーフィルムの表面と偏光膜の表面とを接着剤を介して貼り合せるのが好ましい。貼り合わせは、接着剤を用いて行なうのが好ましい。接着剤については特に制限されないが、ＰＶＡ系樹脂（アセトアセチル基、スルホン酸基、カルボキシル基、オキシアルキレン基等の変性ＰＶＡを含む）やホウ素化合物水溶液等を用いることができ、中でもＰＶＡ系樹脂が好ましい。
接着剤層厚みは乾燥後に０．０１〜１０μｍが好ましく、０．０５〜５μｍがより好ましい。
【００７２】
貼り合せは、保護膜として用いるポリマーフィルムを乾燥工程中、両端を保持した状態で行なってもよいし、乾燥後に、両端保持部から解除した後に、行なってもよい。貼り合せた後に耳きりをするのが好ましく、前者では、偏光膜と貼り合せた後両端を耳きりする、後者では、偏光膜と貼り合せる前に、両端を耳きりするのが好ましい。耳きりの方法としては、刃物などのカッターで切る方法、レーザーを用いる方法など、一般的な技術を用いることができる。
【００７３】
貼り合わせた後に、接着剤を乾燥させるため、及び偏光性能を良化させるために、加熱することが好ましい。加熱の条件としては、接着剤により異なるが、水系の場合は、３０℃以上が好ましく、４０〜１００℃がより好ましく、５０〜９０℃が更に好ましい。これらの工程は一貫のラインで製造されることが、性能上及び生産効率上更に好ましい。
【００７４】
ポリマーフィルムの貼合せ面に表面処理を行い、接着性を向上させてもよい。
表面処理としては、例えばグロー放電処理、紫外線照射処理、コロナ処理、火炎処理、酸又はアルカリ処理を用いることができる。
ここでいうグロー放電処理とは、１０-3〜２０Ｔｏｒｒの低圧ガス下でおこる低温プラズマでもよく、更にまた大気圧下でのプラズマ処理も好ましい。
プラズマ励起性気体とは、上記のような条件においてプラズマ励起される気体をいい、アルゴン、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノン、窒素、二酸化炭素、テトラフルオロメタンの様なフロン類及びそれらの混合物などが挙げられる。
これらについては、発明協会公開技報公技番号２００１−１７４５号（２００１年３月１５日発行、発明協会）ｐ．３０−３２に詳細に記載されている。
なお、近年注目されている大気圧でのプラズマ処理は、例えば１０〜１，０００ｋｅＶ下で２０〜５００ｋＧｙの照射エネルギーが用いられ、より好ましくは３０〜５００ｋｅＶ下で２０〜３００ｋＧｙの照射エネルギーが用いられる。
【００７５】
前記偏光膜としては、例えば、ポリビニルアルコールフィルム等からなる偏光膜をヨウ素にて染色し、延伸を行ったものを用いることができる。延伸後、揮発分率を低下させる乾燥工程を実施してもよい。乾燥は、保護膜として用いるポリマーフィルムを貼り合わせた後、加熱工程を実施して行なうのも好ましい。
【００７６】
偏光膜と負のＡプレート等の本位相差フィルムとの間に、他のポリマーフィルムが、偏光膜保護フィルムとして存在する場合は、該フィルムは実質的に等方的であることが好ましく、具体的には、面内レターデーションＲｅが０〜１０ｎｍであることが好ましく、０〜７ｎｍであることがより好ましく、０〜５ｎｍであることがさらに好ましい。また、厚み方向のレターデーションＲｔｈは−２５〜２５ｎｍであることが好ましく、−１５〜１５ｎｍであることがより好ましく、−１０〜１０ｎｍであることが特に好ましい。
また、等方的なフィルム上に前記負のＡプレート等の位相差フィルムを貼合する場合、等方的な粘着剤を用いることが好ましい。前記等方性のフィルムは、セルロースアシレートフィルムであることが好ましい。
【００７７】
本発明に用いる偏光板は、偏光膜の双方の表面上に保護膜を有しているのが好ましく、液晶セル側に配置される保護膜は、Ｒｔｈが３０ｎｍ程度以上であるポリマーフィルムであるのが好ましく、該ポリマーフィルムは、セルロースアシレートフィルムであるのが好ましい。
【００７８】
本発明に用いる偏光板の一態様は、偏光膜、保護膜、及び負のＡプレートをこの順に有する偏光板である。
【００７９】
前記偏光板の光学的性質及び耐久性（短期、長期での保存性）は、市販のスーパーハイコントラスト品（例えば、株式会社サンリッツ社製ＨＬＣ２−５６１８等）と同等以上の性能を有することが好ましい。
具体的には、可視光透過率が４２．５％以上で、偏光度｛（Ｔｐ−Ｔｃ）／（Ｔｐ＋Ｔｃ）｝1/2≧０．９９９５（但し、Ｔｐは平行透過率、Ｔｃは直交透過率）であり、６０℃、湿度９０％ＲＨ雰囲気下に５００時間及び８０℃、ドライ雰囲気下に５００時間放置した場合のその前後における光透過率の変化率が、絶対値に基づいて３％以下が好ましく、１％以下がより好ましい。また、偏光度の変化率は、絶対値に基づいて１％以下が好ましく、０．１％以下であることがより好ましい。
【００８０】
本発明に用いる偏光板は、偏光板の少なくとも一方の側の保護膜の表面（視認側となる表面）に、ハードコート層、防眩層又は反射防止層の少なくとも一層を設けられたものであるのが好ましい。
すなわち、偏光板の液晶表示装置への使用時において、液晶セルと反対側に配置される保護膜には、反射防止層などの機能性膜を設けることが好ましく、かかる機能性膜としては、ハードコート層、防眩層又は反射防止層の少なくとも一層を設けるのが好ましい。
なお、各層はそれぞれ別個の層として設ける必要はなく、例えば、反射防止層やハードコート層に防眩性の機能を持たせることにより、反射防止層及び防眩層の二層を設ける代わりに、防眩性反射防止層として機能させてもよい。
【００８１】
・  反射防止層
本発明では、偏光板の保護膜上に、少なくとも光散乱層と低屈折率層がこの順で積層されてなる反射防止層、又は保護膜上に中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層がこの順で積層した反射防止層が好適に設けられる。以下にそれらの好ましい例を記載する。なお前者の構成では、一般的に鏡面反射率は１％以上となり、Ｌｏｗ  Ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ（ＬＲ）フィルムと呼ばれる。後者の構成では、鏡面反射率０．５％以下を実現するものが可能となり、Ａｎｔｉ  Ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ（ＡＲ）フィルムと呼ばれる。
【００８２】
・  ＬＲフィルム
偏光板の保護膜上に、光散乱層と低屈折率層を設けた反射防止層（ＬＲフィルム）の好ましい例について述べる。
光散乱層には、マット粒子が分散されているのが好ましく、光散乱層のマット粒子以外の部分の素材の屈折率は、１．５０〜２．００の範囲にあることが好ましく、低屈折率層の屈折率は、１．２０〜１．４９の範囲にあることが好ましい。
本発明において、光散乱層は、防眩性とハードコート性を兼ね備えており、一層でもよいし、複数層、例えば二層〜四層で構成されていてもよい。
【００８３】
反射防止層は、その表面凹凸形状として、中心線平均粗さＲａが０．０８〜０．４０μｍ、１０点平均粗さＲｚがＲａの１０倍以下、平均凹凸間距離Ｓｍが１〜１００μｍ、凹凸最深部からの凸部高さの標準偏差が０．５μｍ以下、中心線を基準とした平均凹凸間距離Ｓｍの標準偏差が２０μｍ以下、傾斜角０〜５゜の面が１０％以上となるように設計することで、十分な防眩性と目視での均一なマット感が達成されるので好ましい。
【００８４】
また、Ｃ光源下での反射光の色味がａ＊値−２〜２、ｂ＊値−３〜３、３８０〜７８０ｎｍの範囲内での反射率の、最小値と最大値の比０．５〜０．９９であることで、反射光の色味がニュートラルとなるので好ましい。
更にＣ光源下での透過光のｂ＊値が０〜３とすることで、表示装置に適用した際の白表示の黄色味が低減されるので好ましい。
更にまた、面光源上と反射防止層の間に１２０μｍ×４０μｍの格子を挿入して、フィルム上で輝度分布を測定した際の輝度分布の標準偏差が２０以下であると、高精細パネルに本発明の偏光板を適用したときのギラツキが低減されるので好ましい。
【００８５】
本発明で用いることができる反射防止層は、その光学特性として、鏡面反射率２．５％以下、透過率９０％以上、６０゜光沢度７０％以下とすることで、外光の反射を抑制でき、視認性が向上するため好ましい。特に、鏡面反射率は１％以下がより好ましく、０．５％以下であることが更に好ましい。
また、ヘイズ２０〜５０％、内部ヘイズ／全ヘイズ値の比が０．３〜１、光散乱層までのヘイズ値から低屈折率層を形成後のヘイズ値の低下が１５％以内、くし幅０．５ｍｍにおける透過像鮮明度２０〜５０％、垂直透過光／垂直から２゜傾斜方向の透過率比が１．５〜５．０とすることで、高精細ＬＣＤパネル上でのギラツキ防止、文字等のボケの低減が達成されるので好ましい。
【００８６】
・  低屈折率層
本発明で用いることができる低屈折率層の屈折率は、１．２０〜１．４９が好ましく、１．３０〜１．４４がより好ましい。更に、低屈折率層は下記数式（Ｃ）を満たすことが低反射率化の点で好ましい。
（ｍ／４）λ×０．７＜ｎLｄL＜（ｍ／４）λ×１．３・・・・数式（Ｃ）
上記数式（Ｃ）中、ｍは正の奇数であり、ｎLは低屈折率層の屈折率であり、そして、ｄLは低屈折率層の膜厚（ｎｍ）である。また、λは波長であり、５００〜５５０ｎｍの範囲の値である。
【００８７】
［液晶表示装置］
本発明の液晶表示装置は、反射型、半透過型、透過型液晶表示装置等のいずれであってもよい。液晶表示装置は一般的に、偏光板、液晶セル、及び必要に応じて位相差フィルム、反射層、光拡散層、バックライト、フロントライト、光制御フィルム、導光板、プリズムシート、カラーフィルター等の部材から構成されるが、本発明においては。液晶セル内に所定の光学特性を示す光学補償層が配置されていることを必須とする点を除いて特に制限はない。液晶セルの基板としては、液晶層を構成する液晶性を示す材料を特定の配向方向に配向させるものであれば特に制限はない。具体的には、基板自体が液晶を配向させる性質を有していている透明基板、基板自体は配向能に欠けるが、液晶を配向させる性質を有する配向膜等をこれに設けた透明基板等がいずれも使用できる。また、液晶セルの内部に配置される電極層は、公知のものが使用できる。通常、液晶層が接する透明基板の面上に設けることができ、配向膜を有する基板を使用する場合は、基板と配向膜との間に設けることができる。前記液晶層を形成する液晶性を示す材料としては、特に制限されず、各種の液晶セルを構成し得る通常の各種低分子液晶性化合物、高分子液晶性化合物及びこれらの混合物が挙げられる。また、これらに液晶性を損なわない範囲で色素やカイラル剤、非液晶性化合物等を添加することもできる。
【００８８】
前記液晶セルは、前記電極基板及び液晶層の他に、後述する各種の方式の液晶セルとするのに必要な各種の構成要素を備えていてもよい。前記液晶セルの方式としては、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）方式、ＳＴＮ（ＳｕｐｅｒＴｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）方式、ＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ  Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）方式、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）方式、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）方式、ＭＶＡ（Ｍｕｌｔｉｄｏｍａｉｎ  Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）方式、ＰＶＡ（Ｐａｔｔｅｒｎｅｄ  Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）方式、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ  Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）方式、ＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ  Ａｌｉｇｎｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）方式、ＡＳＭ（Ａｘｉａｌｌｙ  Ｓｙｍｍｅｔｒｉｃ  Ａｌｉｇｎｅｄ  Ｍｉｃｒｏｃｅｌｌ）方式、ハーフトーングレイスケール方式、ドメイン分割方式、あるいは強誘電性液晶、反強誘電性液晶を利用した表示方式等の各種の方式が挙げられる。中でも、ＶＡ、ＭＶＡ及びＰＶＡモードが好ましい。また、液晶セルの駆動方式も特に制限はなく、ＳＴＮ−ＬＣＤ等に用いられるパッシブマトリクス方式、並びにＴＦＴ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）電極、ＴＦＤ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｄｉｏｄｅ）電極等の能動電極を用いるアクティブマトリクス方式、プラズマアドレス方式等のいずれの駆動方式であってもよい。カラーフィルターを使用しないフィールドシーケンシャル方式であってもよい。
【実施例】
【００８９】
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、物質量とその割合、操作等は本発明の趣旨から逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下の具体例に制限されるものではない。
［ＶＡモード液晶表示装置の作製と評価］
１．液晶表示装置Ｌ１の作製
＜液晶セル基板（ＬＣＳ１）の作製＞
３０×４０ｍｍの大きさの電極付ガラス基板でテストセルを作製し、光学特性の測定を行った。
具体的には、まず、厚さ０．７ｍｍの無アルカリガラス基板（ＮＨテクノグラス社製ＮＡ３５）に、ブラックマトリクス用樹脂組成物を用いてブラックマトリクスを既知の手法を用いて形成し、Ｒ（赤色）、Ｇ（緑色）、及びＢ（青色）の着色膜からなるカラーフィルターを形成した。
【００９０】
下記の組成のディスコティック液晶性化合物を含む塗布液（Ｓ１）を調製した。上記作製した液晶セル基板（ＬＣＳ１）上に、上記した通り、特開２００４−１９１８３２号公報に記載の方法により、Ｒ層、Ｇ層、及びＢ層それぞれで膜厚が異なるセル内光学補償膜を作製した。具体的には、以下の通りである。
塗布液（Ｓ１）を液晶セル基板（ＬＣＳ１）上にスピンコートし、該基板を１２０℃で９０秒間加熱し、溶媒を除去するとともにディスコティック液晶化合物をホメオトロピック配向させた。続いて、フォトマスクを介して紫外線を５００ｍＪ／ｃｍ2照射し、Ｒ層に対応する部分のみ硬化させた。その後、メチルエチルケトンに３分間浸漬して未露光部分を除去し、さらに純水で１分間洗浄した後、１００℃のホットプレート上で１０分間加熱して完全に乾燥させた。
Ｇ層及びＢ層に対応する部分についても同様に塗布、硬化させ、パターニングを行った。このとき、スピンコートの回転数を変えて、それぞれの領域で膜厚が異なるようにした。
【００９１】
――――――――――――――――――――――――――――――――――――
ディスコティック液晶化合物を含む塗布液（Ｓ１）の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――――
特開２００７−２２２０号公報明細書中の段落番号［００４１］に
記載のディスコティック液晶性化合物Ｄ−２７            １００質量部
光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製）  ３質量部
増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）        １質量部
下記フッ素系ポリマーＡ                              ０．４質量部
メチルエチルケトン                                  ２１２質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――――
【００９２】
【化１１】
2010085533.tif 000014
【００９３】
＜セル内光学補償膜のＲｅ及びＲｔｈの算出＞
セル内光学補償膜のＲｅ及びＲｔｈは、まず、レーザー式膜厚計でＲ層、Ｇ層、及びＢ層各領域の膜厚を測定し、予め作製しておいた膜厚と、Ｒｅ及びＲｔｈの対応表を用いて算出することにより得ることができる。膜厚とＲｅ及びＲｔｈの対応表は、具体的には、セル内光学補償膜に使用したのと同一の塗布液をガラス基板上にスピンコートし、膜厚が異なる光学補償膜を１０点以上作製して、該光学補償膜の波長５５０ｎｍにおけるＲｅ及びＲｔｈをＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）製）にて測定することで作成した。
作製されたセル内光学補償層の膜厚をレーザー式膜厚計にて測定したところ、Ｒ層、Ｇ層、及びＢ層のそれぞれの上に形成されたセル内光学補償層の厚みｄｒ、ｄｇ及びｄｂは、ｄｒ＝３．７μｍ、ｄｇ＝３．４μｍ、及びｄｂ＝３．２μｍであった。
また、前記方法により算出した、Ｒｅ（５５０）はＲ、Ｇ、及びＢ全てが、０ｎｍであった。また、Ｒｔｈ（４５０）／Ｒｔｈ（５５０）は１．０６であった。また、セル内光学補償層のＲ層に対応する領域の厚み方向レターデーションＲｔｈr（５５０）は、３９８ｎｍであり、Ｇ層に対応する領域の厚み方向レターデーションＲｔｈg（５５０）は、３７０ｎｍであり、Ｂ層に対応する領域の厚み方向レターデーションＲｔｈb（５５０）は、３４０ｎｍであり、各領域の厚み方向のレターデーションは、対応する着色層に応じて異なっていた。
【００９４】
＜液晶セル（ＬＣＣ１）の作製＞
上記作製した光学補償層付ガラス基板を３０×４０ｍｍに切断、家庭用中性洗剤を５０ｍＬの水で希釈した溶液に３０秒間浸し、自然乾燥させた。また、別に洗浄したガラス基板を３０×４０ｍｍに切断、液晶材料用配向膜（「ＪＡＬＳ−２０２１−Ｒ１」、ＪＳＲ社製）を基板に塗布、ラビング処理をした。この２枚の基板を光学補償層とラビング面が内側になるように組み立てた。この様にして、セル内光学補償層をもつセルを作製した。具体的には、基板間のセルギャップを３．６μｍとし、負の誘電率異方性を有する液晶材料（「ＭＬＣ６６０８」、メルク社製）を基板間に滴下注入して封入し、基板間に液晶層が垂直配向するようにして、液晶セル（ＬＣＣ１）を作製した。液晶層のレターデーション（即ち、記液晶層の厚さｄ（μｍ）と屈折率異方性Δｎとの積Δｎ・ｄ）は３００ｎｍとした。
【００９５】
＜負のＡプレート（Ａ１）の作製＞
固有複屈折値が負である材料としては、フルオレン骨格を有する共重合ポリカーボネートを用いた。
ポリカーボネートの重合は公知のホスゲンを用いた界面重縮合法によって行われた。攪拌機、温度計及び還流冷却器を備えた反応槽に水酸化ナトリウム水溶液及びイオン交換水を仕込み、これに下記構造を有するモノマー［Ａ］と［Ｂ］を８６対１４のモル比で溶解させ、少量のハイドロサルファイトを加えた。次にこれに塩化メチレンを加え、２０℃でホスゲンを約６０分かけて吹き込んだ。さらに、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノールを加えて乳化させた後、トリエチルアミンを加えて３０℃で約３時間攪拌して反応を終了させた。反応終了後有機相分取し、塩化メチレンを蒸発させてポリカーボネート共重合体を得た。得られた共重合体の組成比は仕込み量比とほぼ同様であった。また、ガラス転移温度は２３５℃だった。この共重合体の、ウベローデ粘度管を用いてメチレンクロライド中２０℃で求めた極限粘度は０．８であった。
【００９６】
【化１２】
2010085533.tif 000015
【００９７】
この共重合体をメチレンクロライドに溶解させ、固形分濃度１８質量％のドープ溶液を作製した。このドープ溶液からキャストフィルムを作製し、厚さが７５μｍの長尺の未延伸フィルム１０３を得た。この未延伸フィルム中の残留溶媒量は０．９質量％であった。
上記で得た長尺の未延伸フィルム１０３を、連続した長尺フィルムをテンタークリップの長手方向の間隔が把持、搬送している間に狭くなる構造のテンターを用いて幅方向に延伸する工程を持っている延伸装置（市金工業社製  商品名「ＦＩＴＺ」）に送り出し、フィルム温度を２４５℃に設定して３０秒後加熱ゾーンを通過した後に延伸を開始、フィルム長手方向に０．８５倍に緩和収縮（収縮率１５％）させ、テンタークリップにより幅方向を１．４５倍延伸し（延伸率４５％）、延伸後の膜厚６２μｍの位相差フィルムを得た。
得られた位相差フィルムの波長５５０ｎｍにおけるＲｅ及びＲｔｈを、先に述べた方法に従い、ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）製）にて測定した。面内レターデーションＲｅ（５５０）は１３６ｎｍ、厚さ方向レターデーションＲｔｈ（５５０）は−６８ｎｍであり、面内遅相軸は長手方向に平行な方向であり、そのばらつきは±０．０５°であり、残留揮発成分含有量は０．０１質量％以下であった。即ち、作製した位相差フィルムは、面内遅相軸が長手方向に平行である、負のＡプレートであった。
【００９８】
（セルロースアセテートフィルム（Ｔ０）の作製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液Ａを調製した。
セルロースアセテート溶液Ａの組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
アセチル置換度２．９４のセルロースアセテート      １００．０質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）                    ４０２．０質量部
メタノール（第２溶媒）                              ６０．０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
【００９９】
平均粒径１６ｎｍのシリカ粒子（ＡＥＲＯＳＩＬ  Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製）を２０質量部、メタノール８０質量部を３０分間よく攪拌混合してシリカ粒子分散液とした。この分散液を下記の組成物とともに分散機に投入し、さらに３０分以上攪拌して各成分を溶解し、マット剤溶液を調製した。
マット剤溶液組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
平均粒径１６ｎｍのシリカ粒子分散液            １０．０質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）                ７６．３質量部
メタノール（第２溶媒）                          ３．４質量部
セルロースアセテート溶液Ａ                    １０．３質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
【０１００】
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。
添加剤溶液組成
――――――――――――――――――――――――――――――
下記の光学的異方性低下剤                ４９．３質量部
下記の波長分散調整剤                      ４．９質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）          ５８．４質量部
メタノール（第２溶媒）                    ８．７質量部
セルロースアセテート溶液Ａ              １２．８質量部
――――――――――――――――――――――――――――――
【０１０１】
【化１３】
2010085533.tif 000016
【０１０２】
【化１４】
2010085533.tif 000017
【０１０３】
上記セルロースアセテート溶液Ａを９４．６質量部、マット剤溶液を１．３質量部、添加剤溶液４．１質量部それぞれを濾過後に混合し、バンド流延機を用いて流延した。上記組成で光学的異方性を低下する化合物及び波長分散調整剤のセルロースアセテートに対する質量比はそれぞれ１２％、１．２％であった。残留溶剤量３０％でフィルムをバンドから剥離し、１４０℃で４０分間乾燥させ、厚さ８０μｍの長尺状のセルロースアセテートフィルムＴ０を製造した。得られたフィルムの面内レターデーション（Ｒｅ）は１ｎｍ（遅相軸はフィルム長手方向と垂直な方向）、厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）は−１ｎｍであった。
【０１０４】
＜偏光板（Ｐ０）の作製＞
ヨウ素水溶液中で連続して染色した厚さ８０μｍのロール状ポリビニルアルコールフィルムを搬送方向に５倍延伸し、乾燥して長尺の偏光膜を得た。この偏光膜の一方の面に鹸化処理した上記のセルロースアセテートフィルムＴ０を、他方の面に鹸化処理した市販のセルロースアセテートフィルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士フイルム（株）製）を、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて連続して貼り合わせ、偏光板Ｐ０を作製した。鹸化処理後のＴＤ８０ＵＦの光学特性を測定すると、Ｒｅ＝５ｎｍ、Ｒｔｈは４４ｎｍであった。
【０１０５】
＜液晶表示装置（Ｌ１）の作製＞
上記液晶セル（ＬＣＣ１）の視認側に、前記負のＡプレート（Ａ１）、偏光板（Ｐ０）をこの順番に粘着剤を介して貼り付けた。このとき、負のＡプレート（Ａ１）の遅相軸が偏光板（Ｐ０）の吸収軸と平行になるようにした。また、バックライト側に偏光板（Ｐ０）を粘着剤を介して貼り付けた。このとき、視認者側、バックライト側ともに、偏光板（Ｐ０）に含まれるセルロースアセテートフィルム（Ｔ０）がガラス基板側にくるように貼り合せた。以上のようにして、ＶＡモードの液晶表示装置（Ｌ１）を作製した。視認者側偏光板の吸収軸とバックライト側偏光板の吸収軸とは直交するように配置した。
【０１０６】
２．  液晶表示装置Ｌ２の作製
＜塗布液（Ｓ２）の調製＞
上記塗布液（Ｓ１）の調製において、ディスコティック液晶性化合物Ｄ−２７を、特開２００７−２２２０号公報明細書中の段落番号［００４１］に記載のＤ−１０に変更し、塗布液（Ｓ２）を調製した。
液晶表示装置（Ｌ１）の作製において、セル内光学補償層の塗布液（Ｓ１）を、塗布液（Ｓ２）に変更した以外は、液晶表示装置（Ｌ１）と同様にして、液晶表示装置（Ｌ２）を作製した。
作製されたセル内光学補償層の膜厚をレーザー式膜厚計にて測定したところ、Ｒ層、Ｇ層、及びＢ層のそれぞれの上に形成されたセル内光学補償層の厚みｄｒ、ｄｇ及びｄｂは、ｄｒ＝３．７μｍ、ｄｇ＝３．４μｍ、及びｄｂ＝３．２μｍであった。
また、前記方法により算出した、Ｒｅ（５５０）はＲ、Ｇ、及びＢの全てが、０ｎｍであった。また、Ｒｔｈ（４５０）／Ｒｔｈ（５５０）は１．０６であった。また、セル内光学補償層のＲ層に対応する領域の厚み方向レターデーションＲｔｈr（５５０）は、３９８ｎｍであり、Ｇ層に対応する領域の厚み方向レターデーションＲｔｈg（５５０）は、３７０ｎｍであり、Ｂ層に対応する領域の厚み方向レターデーションＲｔｈb（５５０）は、３４０ｎｍであり、各領域の厚み方向のレターデーションは、対応する着色層に応じて異なっていた。
【０１０７】
３．  液晶表示装置Ｌ３の作製
＜塗布液（Ｓ３）の調製＞
上記塗布液（Ｓ１）の調製において、ディスコティック液晶性化合物Ｄ−２７を、特開２００７−２２２０号公報明細書中の段落番号［００４１］に記載のＤ−２４に変更し、塗布液（Ｓ３）を調製した。
液晶表示装置（Ｌ１）の作製において、セル内光学補償層の塗布液（Ｓ１）を、塗布液（Ｓ３）に変更した以外は、液晶表示装置（Ｌ１）と同様にして、液晶表示装置（Ｌ３）を作製した。
作製されたセル内光学補償層の膜厚をレーザー式膜厚計にて測定したところ、Ｒ層、Ｇ層、及びＢ層のそれぞれの上に形成されたセル内光学補償層の厚みｄｒ、ｄｇ及びｄｂは、ｄｒ＝３．７μｍ、ｄｇ＝３．４μｍ、及びｄｂ＝３．２μｍであった。
また、前記方法により算出した、Ｒｅ（５５０）はＲ、Ｇ、及びＢ全てが、０ｎｍであった。また、Ｒｔｈ（４５０）／Ｒｔｈ（５５０）は１．０６であった。また、セル内光学補償層のＲ層に対応する領域の厚み方向レターデーションＲｔｈr（５５０）は、３９８ｎｍであり、Ｇ層に対応する領域の厚み方向レターデーションＲｔｈg（５５０）は、３７０ｎｍであり、Ｂ層に対応する領域の厚み方向レターデーションＲｔｈb（５５０）は、３４０ｎｍであり、各領域の厚み方向のレターデーションは、対応する着色層に応じて異なっていた。
【０１０８】
４．  液晶表示装置Ｌ４の作製
＜液晶セル（ＬＣＣ４）の作製＞
塗布液を下記の組成のディスコティック液晶性化合物を含む塗布液（Ｓ４）とした以外は、液晶セル（ＬＣＣ１）と同様にして液晶セル（ＬＣＣ４）を作製した。
【０１０９】
――――――――――――――――――――――――――――――――――――
ディスコティック液晶化合物を含む塗布液（Ｓ４）の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――――
下記のディスコティック液晶性化合物（ＤＩＩ）          ９１質量部
エチレンオキサイド変成トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）                    ９質量部
光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製）  ３質量部
増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）        １質量部
上記のフッ素系ポリマーＡ                            ０．４質量部
メチルエチルケトン                                  ２１２質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０１１０】
【化１５】
2010085533.tif 000018
【０１１１】
なお、セル内光学補償層のＲｅ（５５０）はＲ、Ｇ、Ｂ全て０ｎｍであり、Ｒｔｈ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は１．１６  であった。各着色層上に形成されたセル内光学補償層の厚みｄｒ、ｄｇ、及びｄｂは、ｄｒ＝５．３μｍ、ｄｇ＝４．９μｍ、ｄｂ＝４．３μｍであった。
また、セル内光学補償層のＲ層に対応する領域の厚み方向レターデーションＲｔｈr（５５０）は、４０６ｎｍであり、Ｇ層に対応する領域の厚み方向レターデーションＲｔｈg（５５０）は、３７０ｎｍであり、Ｂ層に対応する領域の厚み方向レターデーションＲｔｈb（５５０）は、３２４ｎｍであり、各領域の厚み方向のレターデーションは、対応する着色層に応じて異なっていた。
【０１１２】
＜液晶表示装置（Ｌ４）の作製＞
上記液晶セル（ＬＣＣ４）の視認側に、前記負のＡプレート（Ａ１）、偏光板（Ｐ０）を粘着剤を介して貼り付けた。このとき、負のＡプレート（Ａ１）の遅相軸が偏光板（Ｐ０）の吸収軸と平行になるようにした。また、バックライト側に偏光板（Ｐ０）を粘着剤を介して貼り付けた。このとき、視認者側、バックライト側ともに、偏光板（Ｐ０）に含まれるセルロースアセテートフィルム（Ｔ０）がガラス基板側にくるように貼り合せた。以上のようにして、ＶＡモードの液晶表示装置（Ｌ４）を作製した。視認者側偏光板の吸収軸とバックライト側偏光板の吸収軸とは直交するように配置した。
【０１１３】
５．液晶表示装置Ｌ５の作製
＜液晶セル基板（ＬＣＳ５）の作製＞
セル内光学異方性層の厚みを変えた以外は液晶セル基板（ＬＣＳ１）と同様にして、液晶セル基板（ＬＣＳ５）を作製した。各着色層上に形成されたセル内光学補償層の厚みｄｒ、ｄｇ、及びｄｂは、ｄｒ＝３．２μｍ、ｄｇ＝３．０μｍ、ｄｂ＝２．８μｍであった。
また、このセル内光学補償層のＲｅ（５５０）はＲ、Ｇ、Ｂ全て０ｎｍであった。また、Ｒｔｈ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は１．０９であった。また、セル内光学補償層のＲ層に対応する領域の厚み方向レターデーションＲｔｈr（５５０）は、３５１ｎｍであり、Ｇ層に対応する領域の厚み方向レターデーションＲｔｈg（５５０）は、３２６ｎｍであり、Ｂ層に対応する領域の厚み方向レターデーションＲｔｈb（５５０）は、３０４ｎｍであり、各領域の厚み方向のレターデーションは、対応する着色層に応じて異なっていた。
【０１１４】
＜液晶セル（ＬＣＣ５）の作製＞
液晶セル基板（ＬＣＳ５）上に塗布液（Ｓ１）を塗布し、液晶セル（ＬＣＣ１）と同様にして液晶セル（ＬＣＣ５）を作製した。
【０１１５】
＜延伸フィルムの作製＞
ノルボルネン系重合体からなる、厚さ１００μｍの光学的に等方フィルム（日本ゼオン社製、商品名「ゼオノアフィルムＺＦ１４」）をテンター延伸機を使用して延伸温度１３８℃、縦延伸倍率１．２倍、横延伸倍率１．２倍で同時２軸延伸を行った。
延伸フィルムの片面を高周波発信機（春日電機社製  高周波電源ＡＧＩ−０２４）を用いて、出力０．８ｋＷでコロナ処理して、フィルムの表面張力を０．０７２Ｎ／ｍにして、厚み７０μｍの位相差フィルムＦ１を得た。
得られた位相差フィルムＦ１はＲｅ＝５ｎｍ、Ｒｔｈは４５ｎｍであった。
【０１１６】
＜偏光板（Ｐ１）の作製＞
延伸したポリビニルアルコールフィルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を作製し、接着剤を用いて、該偏光膜の一方の面に、上記で作成した位相差フィルムＦ１を貼り付けた。
また、市販のセルローストリアシレートフィルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士フイルム（株）製）に鹸化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、前記偏光膜の他方の面にロールｔｏロールで貼り付け、７０℃で１０分以上乾燥して、偏光板（Ｐ１）を作製した。
【０１１７】
＜液晶表示装置（Ｌ５）の作製＞
液晶セル（ＬＣＣ５）の視認側に、前記負のＡプレート（Ａ１）、偏光板（Ｐ０）をこの順番に粘着剤を介して貼り付けた。このとき、負のＡプレート（Ａ１）の遅相軸が偏光板（Ｐ０）の吸収軸と平行になるようにした。また、偏光板（Ｐ０）に含まれるセルロースアセテートフィルム（Ｔ０）がガラス基板側にくるように貼り合せた。また、液晶セル（ＬＣＣ５）のバックライト側に偏光板（Ｐ１）を粘着剤を介して貼り付けた。このとき、偏光板（Ｐ１）に含まれるノルボルネン系フィルムがガラス基板側にくるように貼り合せた。以上のようにして、ＶＡモードの液晶表示装置（Ｌ５）を作製した。視認者側偏光板の吸収軸とバックライト側偏光板の吸収軸とは直交するように配置した。
【０１１８】
６．  液晶表示装置Ｌ６の作製
＜液晶セル基板（ＬＣＳ６）の作製＞
セル内光学異方性層の厚みを変えた以外は液晶セル基板（ＬＣＳ１）と同様にして、液晶セル基板（ＬＣＳ６）を作製した。
各着色層上に形成されたセル内光学補償層の厚みｄｒ、ｄｇ、及びｄｂは、ｄｒ＝３．２μｍ、ｄｇ＝３．０μｍ、ｄｂ＝２．９μｍであった。
また、このセル内光学補償層のＲｅ（５５０）はＲ、Ｇ、Ｂ全て０ｎｍであった。また、Ｒｔｈ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は１．０９であった。また、セル内光学補償層のＲ層に対応する領域の厚み方向レターデーションＲｔｈr（５５０）は、３４９ｎｍであり、Ｇ層に対応する領域の厚み方向レターデーションＲｔｈg（５５０）は、３２６ｎｍであり、Ｂ層に対応する領域の厚み方向レターデーションＲｔｈb（５５０）は、３１０ｎｍであり、各領域の厚み方向のレターデーションは、対応する着色層に応じて異なっていた。
【０１１９】
＜液晶セル（ＬＣＣ６）の作製＞
液晶セル基板（ＬＣＳ６）上に塗布液（Ｓ１）を塗布し、液晶セル（ＬＣＣ１）と同様にして液晶セル（ＬＣＣ６）を作製した。
【０１２０】
（偏光板（Ｐ２）の作製）
延伸したポリビニルアルコールフィルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を作製し、接着剤を用いて、該偏光膜の両面に、市販のセルローストリアシレートフィルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士フイルム（株）製）に鹸化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、ロールｔｏロールで貼り付け、７０℃で１０分以上乾燥して、偏光板（Ｐ２）を作製した。
＜液晶表示装置（Ｌ６）の作製＞
液晶セル（ＬＣＣ６）の視認側に、前記負のＡプレート（Ａ１）、偏光板（Ｐ０）をこの順番に粘着剤を介して貼り付けた。このとき、負のＡプレート（Ａ１）の遅相軸が偏光板（Ｐ０）の吸収軸と平行になるようにした。また、偏光板（Ｐ０）に含まれるセルロースアセテートフィルム（Ｔ０）がガラス基板側にくるように貼り合せた。また、液晶セル（ＬＣＣ６）のバックライト側に偏光板（Ｐ２）を粘着剤を介して貼り付けた。以上のようにして、ＶＡモードの液晶表示装置（Ｌ６）を作製した。視認者側偏光板の吸収軸とバックライト側偏光板の吸収軸とは直交するように配置した。
【０１２１】
７．  液晶表示装置Ｌ７の作製
液晶表示装置（Ｌ６）の作製において、塗布液（Ｓ１）を塗布液（Ｓ２）に変更した以外は液晶表示装置（Ｌ６）と同様にして、液晶表示装置（Ｌ７）を作製した。
各着色層上に形成されたセル内光学補償層の厚みｄｒ、ｄｇ、及びｄｂは、ｄｒ＝３．２μｍ、ｄｇ＝３．０μｍ、ｄｂ＝２．９μｍであった。
また、このセル内光学補償層のＲｅ（５５０）はＲ、Ｇ、Ｂ全て０ｎｍであった。また、Ｒｔｈ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は１．０９であった。また、セル内光学補償層のＲ層に対応する領域の厚み方向レターデーションＲｔｈr（５５０）は、３４９ｎｍであり、Ｇ層に対応する領域の厚み方向レターデーションＲｔｈg（５５０）は、３２６ｎｍであり、Ｂ層に対応する領域の厚み方向レターデーションＲｔｈb（５５０）は、３１０ｎｍであり、各領域の厚み方向のレターデーションは、対応する着色層に応じて異なっていた。
【０１２２】
８．  液晶表示装置Ｌ８の作製
液晶表示装置（Ｌ６）の作製において、塗布液（Ｓ１）を塗布液（Ｓ３）に変更した以外は液晶表示装置（Ｌ６）と同様にして、液晶表示装置（Ｌ８）を作製した。
各着色層上に形成されたセル内光学補償層の厚みｄｒ、ｄｇ、及びｄｂは、ｄｒ＝３．２μｍ、ｄｇ＝３．０μｍ、ｄｂ＝２．９μｍであった。
また、このセル内光学補償層のＲｅ（５５０）はＲ、Ｇ、Ｂ全て０ｎｍであった。また、Ｒｔｈ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は１．０９であった。また、セル内光学補償層のＲ層に対応する領域の厚み方向レターデーションＲｔｈr（５５０）は、３４９ｎｍであり、Ｇ層に対応する領域の厚み方向レターデーションＲｔｈg（５５０）は、３２６ｎｍであり、Ｂ層に対応する領域の厚み方向レターデーションＲｔｈb（５５０）は、３１０ｎｍであり、各領域の厚み方向のレターデーションは、対応する着色層に応じて異なっていた。
【０１２３】
９．  液晶表示装置Ｌ９の作製
＜液晶セル基板（ＬＣＳ０）の作製＞
カラーフィルターの各着色層の厚みが全て同一となるように液晶セル基板（ＬＣＳ０）を作製した。具体的には、まず、厚さ０．７ｍｍの無アルカリガラス基板（ＮＨテクノグラス社製ＮＡ３５）４０に、ブラックマトリクス用樹脂組成物を用いてブラックマトリクス３５を既知の手法を用いて形成し、Ｒ（赤色）、Ｇ（緑色）、及びＢ（青色）の着色膜からなるカラーフィルターを形成した。
【０１２４】
＜液晶セル（ＬＣＣ０）の作製＞
セル内光学補償膜を作製する工程を省略し、他は液晶セル（ＬＣＣ１）と同様にして、液晶セル（ＬＣＣ０）を作製した。
＜位相差フィルム（Ｆ０）の作製＞
市販のセルロースアシレートフィルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士フイルム（株）製）を温度６０℃の誘電式加熱ロールを通過させ、フィルム表面温度を４０℃に昇温した後に、下記の組成のアルカリ溶液Ａをバーコーターにより、１４ｍＬ／ｍ2塗布し、１１０℃に加熱したスチーム式遠赤外線ヒーター（（株）ノリタケカンパニー製）の下に１０秒間滞留させた後、同じくバーコーターを用いて純水を３ｍＬ／ｍ2塗布した。このときのフィルム温度は４０℃であった。次いでファウンテンコーターによる水洗とエアナイフによる水切りを３回繰り返して後に、７０℃の乾燥ゾーンに２秒滞留させて乾燥した。
【０１２５】
――――――――――――――――――――――――――――――――――
＜アルカリ溶液Ａ組成＞
――――――――――――――――――――――――――――――――――
水酸化カリウム                                        ４．７質量部
水                                                  １５．７質量部
イソプロパノール                                    ６４．８質量部
プロピレングリコール                                １４．９質量部
Ｃ16Ｈ33Ｏ（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）10Ｈ（界面活性剤）          １．０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０１２６】
上記作製した長尺状のセルロースアシレートフィルムの鹸化処理を施した面に、下記の組成の配向膜塗布液を＃１４のワイヤーバーで連続的に塗布した。６０℃の温風で６０秒、さらに１００℃の温風で１２０秒乾燥し、配向膜を形成した。
――――――――――――――――――――――――――
配向膜塗布液の組成
――――――――――――――――――――――――――
下記の変性ポリビニルアルコール      １０質量部
水                                ３７１質量部
メタノール                        １１９質量部
グルタルアルデヒド                ０．５質量部
――――――――――――――――――――――――――
【０１２７】
【化１６】
2010085533.tif 000019
【０１２８】
前記塗布液（Ｓ４）を調製し、上記作製した配向膜上にワイヤーバーで連続的に塗布した。フィルムの搬送速度は２０ｍ／ｍｉｎとした。室温から８０℃に連続的に加温する工程で溶媒を乾燥させ、その後、１２０℃の乾燥ゾーンで９０秒間加熱し、ディスコティック液晶性化合物を配向させた。続いて、フィルムの温度を９０℃に保持して、高圧水銀灯を用いてＵＶ光を５００ｍＪ／ｃｍ2照射し、液晶化合物の配向を固定化し、光学異方性層を形成し、位相差フィルム（Ｆ０）を作製した。
【０１２９】
作製した位相差フィルム（Ｆ０）を自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）を用いて光学特性を測定した。波長５５０ｎｍで測定したＲｅ（５５０）は２ｎｍであり、Ｒｔｈ（５５０）は３７０ｎｍであった。また、Ｒｔｈ（４５０）／Ｒｔｈ（５５０）は０．９２であった。
【０１３０】
（偏光板（Ｐ３）の作製）
位相差フィルム（Ｆ０）のセルロースアシレートフィルム側に鹸化処理を行い、延伸したポリビニルアルコールフィルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を作製し、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の一方の面に、鹸化処理を行った位相差フィルム（Ｆ０）をロールｔｏロールで貼り付けた。
また、市販のセルローストリアシレートフィルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士フイルム（株）製）に鹸化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、前記偏光膜の他方の面にロールｔｏロールで貼り付け、７０℃で１０分以上乾燥して、偏光板（Ｐ３）を作製した。
【０１３１】
＜液晶表示装置（Ｌ９）の作製＞
液晶セル（ＬＣＣ０）の視認側に、前記負のＡプレート（Ａ１）、偏光板（Ｐ０）をこの順番に粘着剤を介して貼り付けた。このとき、負のＡプレート（Ａ１）の遅相軸が偏光板（Ｐ０）の吸収軸と平行になるようにした。また、偏光板（Ｐ０）に含まれるセルロースアセテートフィルム（Ｔ０）がガラス基板側にくるように貼り合せた。また、液晶セル（ＬＣＣ０）のバックライト側に偏光板（Ｐ３）を粘着剤を介して貼り付けた。このとき、偏光板（Ｐ３）に含まれる位相差フィルム（Ｆ０）がガラス基板側にくるように貼り合せた。以上のようにして、ＶＡモードの液晶表示装置（Ｌ９）を作製した。視認者側偏光板の吸収軸とバックライト側偏光板の吸収軸とは直交するように配置した。
【０１３２】
＜光学特性の測定＞
上記液晶表示装置（Ｌ１）〜（Ｌ９）を、輝度計（例えばＴＯＰＣＯＮ社製のＢＭ−５）を用いて直径１０ｍｍの測定エリアで測定した。方位角４５°、極角６０°の視野角での色差Δｕ’ｖ’を測定し、下記の基準に基づいて評価した。
【０１３３】
（色味評価）
◎：特定の色味が見えない。○：特定の色味が僅かに見える。
△：特定の色味が少し見える。
×：特定の色味がはっきり見える。
【０１３４】
【表１】
2010085533.tif 000020
【０１３５】
上記の結果から以下のことが明らかである。
Ｒｅ（５５０）が０〜１０ｎｍであり、及びＲｔｈ（５５０）が２００〜４５０ｎｍであり、及びＲｔｈ（４５０）／Ｒｔｈ（５５０）の値が１．０５〜１．１５である光学補償層をセル内に有する本発明の実施例である、液晶表示装置Ｌ１〜Ｌ３及びＬ５〜Ｌ８はいずれも、Ｒｔｈ（４５０）／Ｒｔｈ（５５０）が前記式（１）を満足しないセル内光学補償層を有する液晶表示装置Ｌ４と比較して、黒表示時の斜め方向に生じるカラーシフトを小さくすることができた。特に、逆波長分散のセルロースアシレート系フィルムを偏光板保護フィルムとしたＬ６〜Ｌ８では、波長分散のフラットなノルボルネン系フィルムを用いたＬ５に比べ、さらに黒表示時の斜め方向カラーシフトを低減することができた。
【図面の簡単な説明】
【０１３６】
【図１】本発明に利用される液晶セル基板の一例の断面模式図である。
【符号の説明】
【０１３７】
１２、１４  偏光子
１６、１８、２０、２２  保護膜
ＬＣ  液晶セル
ＰＬ１  偏光板
ＰＬ２  偏光板
【図１】
2010085533.tif 000024