(57)【要約】【課題】例えば、ＯＤＦ法において、高いコントラストで画像を表示できる液晶装置を製造する。【解決手段】光学特性検出装置（７４０）によって検出された部分構造体（１ａ）の光学特性に基づいて、第１配向膜（２１６）及び第２配向膜（２２２）の夫々のラビング軸相互のズレを補正するように、上側基板（２２０）及び下側基板（２１０）の一方の基板の基板面の中心点（Ｃ）を通る回転軸を中心にして当該一方の基板を回転させる。このような回転操作は、上側基板（２２０）及び下側基板（２１０）の一方の基板を回転可能な回転機構を備えた回転装置（７５０）によって実行される。【選択図】図１２
2010085899.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１基板、及び前記第１基板上に形成された第１配向膜を有する下側基板上の複数のパネル形成領域の夫々に枠状に接着剤を塗布する第１工程と、
前記第１工程の後に、前記複数のパネル形成領域の夫々に真空中で液晶を滴下する第２工程と、
第２基板、及び前記第２基板の一方の面側に形成された第２配向膜を有する上側基板を、前記第２配向膜が前記下側基板に臨むように、前記下側基板上に配置する第３工程と、
前記下側基板及び前記上側基板、並びに、前記下側基板及び前記上側基板に挟持された液晶層からなる積層構造体のうち前記パネル形成領域を占める部分である部分構造体の光学特性を特定する第４工程と、
前記特定された光学特性に基づいて、前記第１配向膜及び前記第２配向膜の夫々のラビング軸相互のズレを補正するように、前記上側基板及び前記下側基板の一方の基板の基板面の中心点を通る回転軸を中心にして前記一方の基板を回転させる第５工程と
を備えたことを特徴とする液晶装置の製造方法。
【請求項２】
第１基板、及び前記第１基板上に形成された第１配向膜を有する下側基板上の複数のパネル形成領域の夫々に枠状に接着剤を塗布する塗布手段と、
前記第１工程の後に、前記複数のパネル形成領域の夫々に真空中で液晶を滴下する滴下手段と、
第２基板、及び前記第２基板の一方の面側に形成された第２配向膜を有する上側基板を、前記第２配向膜が前記下側基板に臨むように、前記下側基板上に配置する配置手段と、
前記下側基板及び前記上側基板、並びに、前記下側基板及び前記上側基板に挟持された液晶層からなる積層構造体のうち前記パネル形成領域を占める部分である部分構造体の光学特性を特定する特定手段と、
前記特定された光学特性に基づいて、前記第１配向膜及び前記第２配向膜の夫々のラビング軸相互のズレを補正するように、前記上側基板及び前記下側基板の一方の基板の基板面の中心点を通る回転軸を中心にして前記一方の基板を回転させる回転手段と
を備えたことを特徴とする液晶装置の製造装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば、ＯＤＦ（One Drop Filling）法を用いて液晶装置を製造する液晶装置の製造方法、及び、そのような液晶装置の製造方法を実行可能な液晶装置の製造装置の技術分野に関する。
【背景技術】
【０００２】
この種の液晶装置の製造方法では、トランジスタ及び画素電極が形成された基板上に配向膜が形成された大型の第１基板に液晶を滴下した後、接着剤を介して、第１基板及びこれに対向するように配置された大型の第２基板を真空下で貼り合わせることによって、製造すべき液晶装置より大きいサイズを有する貼り合わせ基板を形成する液晶滴下貼り合わせ方式（ＯＤＦ法）が用いられる場合がある。ＯＤＦ法によれば、接着剤を介して一対の大型基板を貼り合せた後、当該貼り合わせ基板を複数の部分に分離（多面取り）し、当該大型基板より小さいサイズを有する複数の液晶装置を並行して製造することが可能である（例えば、特許文献１参照。）。
【０００３】
また、液晶装置を製造する際には、液晶層を挟持する一対の基板の夫々に設けられた配向膜は、所定の方向に沿ってラビング処理されている。一対の基板の夫々に設けられた配向膜の夫々のラビング方向、言い換えればラビング軸は、ツイストモード、或いは垂直モード等の液晶の配向モードに応じて各ラビング軸が所定の角度をなすように設定されている。
【０００４】
【特許文献１】特開２００３−２３３０５３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、液晶層を挟持する一対の基板の夫々に設けられた配向膜を所定の方向に沿ってラビングしたとしても、必ず所定の方向にラビングされるわけでなく、ラビング軸が狙いの方向からずれて設定されてしまう場合がある。加えて、仮に、一対の基板の夫々に形成された配向膜の夫々についてラビング軸が液晶の配向モードに応じて各々所定の方向に設定されたとしても、一対の基板を貼り合わせる際に、基板の貼り合わせ精度が不十分なことに起因してこれら配向膜の夫々のラビング軸がなす角度が、液晶の配向モードに応じてこれら配向膜の夫々のラビング軸がなすべき角度からずれてしまう場合もある。このようなラビング軸相互の角度ずれは、液晶装置が表示する画像のコントラストを低下させる一因となる。
【０００６】
よって、本発明は上記問題点等に鑑みてなされたものであり、例えば、高いコントラストで画像を表示できる液晶装置を製造可能な液晶装置の製造方法、及びそのような液晶装置の製造方法を実行可能な液晶装置の製造装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明に係る液晶装置の製造方法は上記課題を解決するために、第１基板、及び前記第１基板上に形成された第１配向膜を有する下側基板上の複数のパネル形成領域の夫々に枠状に接着剤を塗布する第１工程と、前記第１工程の後に、前記複数のパネル形成領域の夫々に真空中で液晶を滴下する第２工程と、第２基板、及び前記第２基板の一方の面側に形成された第２配向膜を有する上側基板を、前記第２配向膜が前記下側基板に臨むように、前記下側基板上に配置する第３工程と、前記下側基板及び前記上側基板、並びに、前記下側基板及び前記上側基板に挟持された液晶層からなる積層構造体のうち前記パネル形成領域を占める部分である部分構造体の光学特性を特定する第４工程と、前記特定された光学特性に基づいて、前記第１配向膜及び前記第２配向膜の夫々のラビング軸相互のズレを補正するように、前記上側基板及び前記下側基板の一方の基板の基板面の中心点を通る回転軸を中心にして前記一方の基板を回転させる第５工程とを備える。
【０００８】
本発明に係る液晶装置の製造方法によれば、第１工程では、第１基板は最終的に形成される液晶装置のサイズを大きい大型基板である。「パネル形成領域」とは、続く第２工程乃至第５工程を含む一連の工程を経て製造されるパネル状の液晶装置が形成される領域である。第１配向膜は、例えば、ポリイミド等の有機物で構成された有機膜であり、液晶の配向モードに応じたラビング軸が形成されるようにラビング処理されている。
【０００９】
第２工程では、例えば、気密性を維持可能なチャンバ内を真空状態に維持し、当チャンバ内で液晶を滴下する。
【００１０】
第３工程では、第２基板も、第１基板と同様に、最終的に形成される液晶装置のサイズを大きい大型基板である。第２配向膜は、第１配向膜と同様に、例えば、ポリイミド等の有機物で構成された有機膜であり、液晶の配向モードに応じたラビング軸が形成されるようにラビング処理されている。ここで、下側基板上に上側基板が配置された段階で、接着剤は未硬化状態である。したがって、複数のパネル形成領域の夫々で上側基板及び下側基板間に液晶層が挟持された状態で、上側基板及び下側基板が接着剤によって相互に完全に固着されていない。
【００１１】
第４工程では、前記下側基板及び前記上側基板、並びに、前記下側基板及び前記上側基板に挟持された液晶層からなる積層構造体のうち前記パネル形成領域を占める部分である部分構造体の光学特性を特定する。より具体的には、積層構造体は、上側基板及び下側基板が接着剤を介して相互に完全に固着されていないだけであるため、部分構造体の光透過率等の光学特性は測定可能である。部分構造体は、最終的に積層構造体を複数のパネル形成領域毎に相互に分離することによって並行して製造される複数の液晶装置の一つとなるべき部分である。第４工程では、例えば、積層構造体の両面の夫々の側に偏光板を配置し、一方の偏光板の側から当該一方の偏光板を介してレーザ光等の検査光を部分構造体に入射させ、部分構造体を透過した透過光を、他方の偏光板を介して検出する。加えて、部分構造体を透過した透過光を検出する際には、積層構造体の両面の夫々の側に配置された２枚の偏光板の各々を回転させ、部分構造体の消光比が最も高くなる際の偏光板の回転角を特定する。このようにして特定された回転角によれば、第１配向膜及び第２配向膜の夫々のラビング軸がなす角度が、ラビング軸が互いになす角度であり、且つ配向モードに応じて設定される理想的な角度からどの程度ずれているかを示すズレ角度を特定することが可能である。
【００１２】
第５工程では、前記特定された光学特性に基づいて、前記第１配向膜及び前記第２配向膜の夫々のラビング軸相互のズレを補正するように、前記上側基板及び前記下側基板の一方の基板の基板面の中心点を通る回転軸を中心にして前記一方の基板を回転させる。ここで、「ラビング軸相互のズレ」とは、第１配向膜及び第２配向膜の夫々のラビング軸がなす角度が、ラビング軸が互いになす角度であり、且つ配向モードによって特定される理想的な角度からどの程度ずれているかを示すズレ角度をいう。
【００１３】
その後、接着剤を硬化させることによって上側基板及び下側基板を相互に固着させたのち、複数の部分構造体を相互に分離することによって、複数の液晶装置を並行して製造する。
【００１４】
したがって、本発明に係る液晶装置の製造方法によれば、第１配向膜及び第２配向膜の夫々のラビング軸がなす角度を、液晶の配向モードに応じて設定される理想的な角度に補正することが可能であり、例えば、ＯＤＦ法を用いて製造される液晶装置が画像を表示する際のコントラストを高めることが可能である。
【００１５】
本発明に係る液晶装置の製造装置は上記課題を解決するために、第１基板、及び前記第１基板上に形成された第１配向膜を有する下側基板上の複数のパネル形成領域の夫々に枠状に接着剤を塗布する塗布手段と、前記第１工程の後に、前記複数のパネル形成領域の夫々に真空中で液晶を滴下する滴下手段と、第２基板、及び前記第２基板の一方の面側に形成された第２配向膜を有する上側基板を、前記第２配向膜が前記下側基板に臨むように、前記下側基板上に配置する配置手段と、前記下側基板及び前記上側基板、並びに、前記下側基板及び前記上側基板に挟持された液晶層からなる積層構造体のうち前記パネル形成領域を占める部分である部分構造体の光学特性を特定する特定手段と、前記特定された光学特性に基づいて、前記第１配向膜及び前記第２配向膜の夫々のラビング軸相互のズレを補正するように、前記上側基板及び前記下側基板の一方の基板の基板面の中心点を通る回転軸を中心にして前記一方の基板を回転させる回転手段とを備える。
【００１６】
本発明に係る液晶装置の製造装置によれば、上述の液晶装置の製造方法と同様に、コントラストの高い画像を各々表示可能な複数の液晶装置を並行して製造可能である。
【００１７】
本発明のこのような作用及び他の利得は次に説明する実施形態から明らかにされる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下、図面を参照しながら、本発明に係る液晶装置の製造方法及び液晶装置の製造装置の各実施形態を説明する。
【００１９】
＜１：液晶装置＞
図１乃至図３を参照しながら、本実施形態に係る液晶装置の構成を説明する。図１は、本実施形態に係る液晶装置を対向基板側から見た平面図であり、図２は、図１のＩＩ−ＩＩ´断面図である。図３は、本実施形態に係る液晶装置の画像表示領域１０ａにおける回路構成を示した回路図である。
【００２０】
図１及び図２において、液晶装置１は、ＴＦＴアレイ基板１０、対向基板２０、シール部５２、及び複数の端子１０２を備えている。
【００２１】
液晶装置１では、平面形状が各々矩形状であり、且つ相互に重なるＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０が互いに向い合うように対向配置されている。ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間に液晶からなる液晶層５０が封入されている。ＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０は、画像表示領域１０ａの周囲に位置する領域の一部であるシール領域に設けられたシール部５２により相互に接着されている。液晶層５０は、液晶パネル１の駆動時において、画像信号に応じて画像のコントラスト及び液晶装置１における光の透過率が可変となるように構成されている。
【００２２】
ＴＦＴアレイ基板１０は、画素スイッチング用ＴＦＴ等の各種素子、及び配線がガラス基板等の透明な基板本体に形成されてなる。ＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０の夫々は、シール部５２によって一対の大型基板を相互に貼り合せた後、一対の大型基板からなる貼り合せ基板を、形成すべき液晶装置１のサイズに対応する基板部分毎に分離することによって形成されている。ＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０の夫々における液晶層５０に臨む面には配向膜が形成されており、画像信号に応じて各画素部における液晶の配向状態が制御される。
【００２３】
シール部５２は、平面的に見て、ＴＦＴアレイ基板１０上の画像表示領域１０ａを囲むように枠状に形成されている。シール部５２は、液晶装置１の製造時に、両基板を貼り合わせるためにＴＦＴアレイ基板１０上に塗布された接着材を硬化させることによって形成されており、例えば、エポキシ樹脂等の高分子材料で構成されている。シール部５２中には、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間隔（基板間ギャップ）を所定値とするためのグラスファイバ或いはガラスビーズ等のギャップ材が散布されていてもよい。
【００２４】
図１において、シール部５２は、液晶装置１の製造プロセスにおいて、例えば、印刷、或いは一筆書き（即ち、ディスペンサーを用いた塗布方法）で接着材を塗布した後、当該塗布された接着材を硬化させることによって形成されている。より具体的には、例えば、シール部５２の外形は、複数の液晶装置１が相互に分離される前、即ち、相互に貼り合わせられる一対の大型基板を液晶装置１毎に分離する前に、例えば、一対の大型基板の一方の大型基板における各液晶装置１となるべき基板部分に対応する領域毎に接着材を枠状に描画することによって形成されている。
【００２５】
このように枠状に形成された未硬化のシール部５２で囲まれた領域、即ち液晶パネル１の完成後に画像表示領域１０ａとなる領域に液晶が滴下された後、一対の大型基板間に液晶を封止するようにこれら一対の大型基板が未硬化のシール部５２を介して相互に貼り合わせられ、熱処理によってシール部５２を硬化させ、液晶装置１となるべき複数の基板部分間の各々に液晶が封止される。即ち、液晶装置１は、後述するように、液晶滴下貼り合わせ方式（ＯＤＦ法）を応用して製造されている。液晶装置１は、液晶が封止された後、相互に貼り合わせられた一対の大型基板を液晶装置１毎に分離（ブレイク）することによって形成される。
【００２６】
シール部５２が配置されたシール領域の内側に並行して、画像表示領域１０ａの額縁領域を規定する遮光性の額縁遮光膜５３が、対向基板２０側に設けられている。但し、このような額縁遮光膜５３の一部又は全部は、対向基板２０上において、電極より上層側に配置されて形成されてもよいし、ＴＦＴアレイ基板１０側に内蔵遮光膜として形成されてもよい。
【００２７】
複数の端子１０２は、ＴＦＴアレイ基板１０の基板面を規定する４辺のうち１辺に沿って延び、且つ画像表示領域１０ａの外側に延びる領域においてシール部５２に重ならないように形成されており、画像表示領域１０ａを構成する画素部と、ＦＰＣ（Flexible Printed Circuit）、或いは該ＦＰＣに搭載されたＩＣ等の外部回路とを相互に電気的に接続する。
【００２８】
液晶装置１は、画像表示領域１０ａの周辺に位置する領域のうち、シール部５２が配置されたシール領域の外側に位置する領域に形成され、且つ画像信号を画素部に供給するデータ線駆動回路１０１と、シール部５２の内側の領域に形成され、且つ各画素部の動作をスイッチング制御する走査信号を供給する走査線駆動回路１０２とを備えている。但し、データ線駆動回路１０１が、シール部５２が配置されたシール領域の内側に位置する領域に形成されてもよく、データ線駆動回路１０１の一部が、シール部５２が配置されたシール領域に形成されてもよい。さらに、走査線駆動回路１０２についても同様にシール領域の外側に位置する領域に形成されてもよく、一部がシール領域に形成されてもよい。
【００２９】
図２において、ＴＦＴアレイ基板１０上には、画素スイッチング用のＴＦＴ（Thin Film Transistor）や走査線、データ線等の配線が形成された後の画素電極９ａ上に、配向膜１６が形成されている。他方、詳細な構成については省略するが、液晶装置１において、対向基板２０に形成された対向電極２１が、画素電極９ａと対向するように配置されており、その上（図中下側）に配向膜２２が形成されている。これら配向膜１６及び２２の夫々のラビング軸が互いになす角は、後述する本実施形態に係る液晶装置の製造方法によって、液晶層５０に含まれる液晶分子の配向モードに応じて設定されるべき角に設定されている。
【００３０】
尚、ＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０としては、ガラス基板、石英、プラスチック基板、或いはシリコン基板等の各種基板を使用可能である。尚、画像表示領域１０ａを構成し、且つマトリクス状に配列された複数の画素部の夫々において光が透過する領域は、画像表示領域１０ａに格子状に形成された、所謂ブラックマトリクスと称される遮光膜２３によって規定されている。
【００３１】
次に、図３を参照しながら、液晶パネル１の画像表示領域１０ａにおける回路構成を説明する。
【００３２】
図３において、液晶装置１の画像表示領域１０ａを構成するマトリクス状に形成された複数の画素部７２の夫々は、画素電極９ａ、ＴＦＴ３０、及び液晶素子５０ａを備えている。ＴＦＴ３０は、画素電極９ａに電気的に接続されており、液晶パネル１の動作時に画素電極９ａをスイッチング制御し、当該制御に応じて液晶素子５０ａを駆動する。画像信号が供給されるデータ線６ａは、ＴＦＴ３０のソースに電気的に接続されている。データ線６ａに書き込む画像信号Ｓ１、Ｓ２、・・・、Ｓｎは、この順に線順次に供給しても構わないし、相隣接する複数のデータ線６ａ同士に対して、グループ毎に供給するようにしてもよい。
【００３３】
ＴＦＴ３０のゲートに走査線３ａが電気的に接続されており、液晶パネル１は、所定のタイミングで、走査線３ａにパルス的に走査信号Ｇ１、Ｇ２、・・・、Ｇｍを、この順に線順次で印加するように構成されている。画素電極９ａは、ＴＦＴ３０のドレインに電気的に接続されており、スイッチング素子であるＴＦＴ３０を一定期間だけそのスイッチを閉じることにより、データ線６ａから供給される画像信号Ｓ１、Ｓ２、・・・、Ｓｎが所定のタイミングで書き込まれる。画素電極９ａを介して液晶に書き込まれた所定レベルの画像信号Ｓ１、Ｓ２、・・・、Ｓｎは、対向基板に形成された対向電極との間で一定期間保持される。
【００３４】
液晶層５０に含まれる液晶は、印加される電圧レベルにより分子集合の配向や秩序が変化することにより、光を変調し、階調表示を可能とする。ノーマリーホワイトモードであれば、各画素部の単位で印加された電圧に応じて入射光及び反射光に対する透過率が減少し、ノーマリーブラックモードであれば、各画素部の単位で印加された電圧に応じて入射光及び反射光に対する透過率が増加され、全体として液晶パネル１からは画像信号に応じたコントラストをもつ光が出射される。保持容量７０は、画像信号がリークすることを防ぐために、画素電極９ａ及び対向電極２１間に形成される液晶素子と並列に付加されている。
【００３５】
＜２：液晶装置の製造装置＞
次に、図４を参照しながら、後述する液晶装置の製造方法を実行可能な液晶装置の製造装置の構成を説明する。図４は、本実施形態に係る液晶装置の製造装置の主要な構成を示したブロック図である。
【００３６】
図４において、製造装置７００は、本発明の「塗布手段」、「滴下手段」、「配置手段」、「特定手段」、「回転手段」の夫々の一例である塗布装置７１０、液晶滴下装置７２０、搬送装置７３０、光学特性検出装置７４０、回転装置７５０、及びこれら各装置の動作を制御する制御装置７６０を備えて構成されている。尚、これら装置の動作については、後述する液晶装置の製造方法と共に詳細に説明する。
【００３７】
＜３：液晶装置の製造方法＞
次に、図５乃至図１３を参照しながら、本実施形態に係る液晶装置の製造方法を説明する。図５乃至図７は、本実施形態に係る液晶装置の製造方法の一部の工程を示した工程平面図（その１、２、及び３）である。図８は、図５のＶＩＩＩ−ＶＩＩＩ´断面図である。図９は、図６のＩＸ−ＩＸ´断面図である。図１０は、図７のＸ−Ｘ´断面図である。図１１は、本実施形態に係る液晶装置の製造方法の一部の工程を模式的に示した模式的な工程図である。図１２は、本実施形態に係る液晶装置の製造方法の一部の工程を示した工程平面図（その４）である。なお、第１基板２１０ａ、下側基板２１０、第２基板２２０ａ、上側基板２２０、積層構造体２３０は、実際には矩形であるが、工程平面図を示す図５乃至図７及び図１２においては、実際の基板の一部を抜き出した図として描いてある。
【００３８】
図５及び図８に示すように、第１基板２１０ａと、第１基板２１０ａ上に形成された第１配向膜２１６を有する下側基板２１０上の複数のパネル形成領域Ｒの夫々に枠状に接着剤５２ａを塗布する。図中Ｘ方向及びＹ方向に延び、相互に交差する分離線２５０Ｘ及び２５０Ｙは、その交差に応じてパネル形成領域Ｒを規定しており、後の工程で複数の液晶装置１を相互に分離する際には、これら分離線で液晶装置１が相互に分離される。第１配向膜２１６は、例えば、ポリイミド等の有機物で構成された有機膜であり、最終的に製造される液晶装置１における液晶の配向モードに応じたラビング軸が形成されるようにラビング処理されている。接着剤５２ａは、未硬化状態のシール部５２である。接着剤５２ａは、塗布装置７１０によって真空中で塗布される。
【００３９】
次に、図６及び図９に示すように、複数のパネル形成領域Ｒの夫々に真空中で液晶を滴下し、液晶層５０を形成する。液晶の滴下は、気密性を維持可能なチャンバを有する液晶滴下装置７２０が実行する。より具体的には、液晶滴下装置７２０は、下側基板２１０がチャンバに搬送された状態で当該チャンバ内を真空状態に維持し、枠状に塗布された接着材５２ａの内側の領域の夫々に液晶を滴下する。
【００４０】
次に、図７及び図１０に示すように、大型の第２基板２２０ａと、第２基板２２０ａの一方の面側に形成された第２配向膜２２２を有する上側基板２２０を、第２配向膜２２２が下側基板２１０に臨むように、下側基板２１０上に配置し、積層構造体２３０を形成する。第２基板２２０も、第１基板２１０と同様に、最終的に形成される液晶装置１のサイズより大きい大型基板である。第２配向膜２２２は、第１配向膜２１６と同様に、例えば、ポリイミド等の有機物で構成された有機膜であり、液晶の配向モードに応じたラビング軸が形成されるようにラビング処理されている。ここで、下側基板２１０上に上側基板２２０が配置された段階で、接着剤５２ａは未硬化状態である。したがって、複数のパネル形成領域Ｒの夫々で上側基板２２０及び下側基板２１０間に液晶層５０が挟持された状態で、上側基板２２０及び下側基板２１０が接着剤５２ａによって相互に完全に固着されていない。
【００４１】
尚、上側基板２２０を下側基板２１０上に配置する際には、搬送装置７３０が、ステージに載置された下側基板２１０上に上側基板２２０を搬送し、これら基板相互の位置合わせを行った後、下側基板２１０上に上側基板２２０を配置する。また、積層構造体２３０のうちパネル形成領域Ｒを占める部分が、最終的に液晶装置１になる部分構造体１ａである。
【００４２】
次に、図１１に示すように、下側基板２１０及び上側基板２２０、並びに、下側基板２１０及び上側基板２２０に挟持された液晶層５０からなる積層構造体２３０のうちパネル形成領域Ｒを占める部分である部分構造体１ａの光学特性を特定する。
【００４３】
より具体的には、光学特性検出装置７４０は、積層構造体２３０の両面の夫々の側に偏光板２５０及び２６０を配置し、一方の偏光板２５０の側に配置された光源５００から当該一方の偏光板２５０を介してレーザ光等の検査光Ｌ１を部分構造体１ａに入射させ、部分構造体１ａを透過した透過光Ｌ２を、他方の偏光板２６０を介して光検出器６００で検出する。ここで、積層構造体２３０は、上側基板２２０及び下側基板２１０が接着剤５２ａを介して相互に完全に固着されていないだけであるため、部分構造体１ａの光透過率等の光学特性は測定可能である。
【００４４】
光学特性検出装置７４０は、部分構造体１ａを透過した透過光Ｌ２を検出する際には、積層構造体２３０の両面の夫々の側に配置された２枚の偏光板２５０及び２６０の各々を回転させ、部分構造体１ａの消光比が最も高くなる際の偏光板２５０及び２６０の回転角を特定する。このようにして特定された回転角によれば、第１配向膜２１６及び第２配向膜２２２の夫々のラビング軸がなす角度が、ラビング軸が互いになす角度であり、且つ配向モードに応じて設定される理想的な角度からどの程度ずれているかを示すズレ角度を特定することが可能である。
【００４５】
次に、図１２に示すように、光学特性検出装置７４０によって検出された部分構造体１ａの光学特性に基づいて、第１配向膜２１６及び第２配向膜２２２の夫々のラビング軸相互のズレを補正するように、上側基板２２０及び下側基板２１０の一方の基板の基板面の中心点Ｃを通る回転軸を中心にして当該一方の基板を回転させる。このような回転操作は、上側基板２２０及び下側基板２１０の一方の基板を回転可能な回転機構を備えた回転装置７５０によって実行される。この際、回転装置７５０は、光学特性検出装置７４０からフィードバックされた光学特性データに基づいて回転操作を実行する。
【００４６】
ここで、図１３を参照しながら、ズレ角を補正する前後の夫々における配向膜２１６及び配向膜２２２の夫々のラビング軸が相互になす角度を説明する。図１３は、ズレ角を補正する前後の夫々における配向膜２１６及び配向膜２２２の夫々のラビング軸が相互になす角度を概念的に示した概念図である。尚、本実施形態では、配向膜２１６及び２２２の夫々のラビング軸が相互になす角の理想的な設計値の一例として、１８０°を挙げる。
【００４７】
図１３（ａ）に示すように、下側基板２１０上に上側基板２２０を配置しただけでは、これら基板相互の位置合わせの精度が十分でないこと、或いは配向膜２１６及び２２２の夫々に行われたラビング処理のラビング方向のズレに起因して、配向膜２１６のラビング軸Ａ１と、配向膜２２２のラビング軸Ａ２とがなす角度が、１８０°から角度θだけずれてしまう。
【００４８】
図１３（ｂ）に示すように、部分構造体１ａの光学特性に基づいて、上側基板２２０及び下側基板２１０の一方の基板を回転させることによって、ラビング軸Ａ１及びＡ２がなす角のズレ角度θを補正し、これらラビング軸Ａ１及びＡ２がなす角の角度を１８０°に補正できる。
【００４９】
したがって、本実施形態に係る液晶装置の製造方法によれば、ズレ角度を補正した後、接着剤５２ａを硬化させることによって上側基板２２０及び下側基板２１０を相互に固着させ、複数の部分構造体１ａを相互に分離することによって形成された液晶装置１の２つのラビング軸がなす角度を、液晶の配向モードに応じて設定される理想的な角度に補正しておくことが可能であり、ＯＤＦ法を用いて製造される液晶装置が画像を表示する際のコントラストを高めることが可能である。
【図面の簡単な説明】
【００５０】
【図１】本実施形態に係る液晶装置の構成を示した平面図である。
【図２】図１のＩＩ−ＩＩ´断面図である。
【図３】本実施形態に係る液晶装置の画像表示領域における回路構成を示した回路図である。
【図４】本実施形態に係る液晶装置の製造装置の主要な構成を示したブロック図である。
【図５】本実施形態に係る液晶装置の製造方法の一部の工程を示した工程平面図（その１）である。
【図６】本実施形態に係る液晶装置の製造方法の一部の工程を示した工程平面図（その２）である。
【図７】本実施形態に係る液晶装置の製造方法の一部の工程を示した工程平面図（その３）である。
【図８】図５のＶＩＩＩ−ＶＩＩＩ´断面図である。
【図９】図６のＩＸ−ＩＸ´断面図である。
【図１０】図７のＸ−Ｘ´断面図である。
【図１１】本実施形態に係る液晶装置の製造方法の一部の工程を模式的に示した模式的な工程図である。
【図１２】本実施形態に係る液晶装置の製造方法の一部の工程を示した工程平面図（その４）である。
【図１３】ズレ角を補正する前後の夫々における２つの配向膜の夫々のラビング軸が相互になす角度を概念的に示した概念図である。
【符号の説明】
【００５１】
１・・・液晶装置、１ａ・・・部分構造体、１０・・・ＴＦＴアレイ基板、２０・・・対向基板、５０・・・液晶層、２１０・・・下側基板、２２０・・・上側基板、２３０・・・積層構造体、７００・・・製造装置、７１０・・・塗布装置、７２０・・・液晶滴下装置、７３０・・・搬送装置、７４０・・・光学特性検出装置、７５０・・・回転装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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