(57)【要約】【課題】簡便な手法により、高発光効率および優れた動画特性の表示装置を得ることができる表示装置の製造方法を提供する。【解決手段】この表示装置の製造方法は、励起光照射によりラジカルを発生する自己整合層を形成する自己整合層形成工程と、自己整合層の所定領域に対して励起光を照射する照射工程と、照射工程後、自己整合層上に、ラジカル重合反応性を有し、少なくとも発光層１５を含む１層以上の有機層を順次形成する有機層形成工程と、有機層のうち、非反応領域を除去する除去工程とを有する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
励起光照射によりラジカルを発生する自己整合層を形成する自己整合層形成工程と、
上記自己整合層の所望領域に対して励起光を照射する照射工程と、
上記照射工程後、上記自己整合層上に、ラジカル重合反応性を有する少なくとも発光層を含む１層以上の有機層を順次形成する有機層形成工程と、
上記有機層の非反応領域を除去する除去工程と
を有する表示装置の製造方法。
【請求項２】
上記自己整合層で生じたラジカルによって、上記有機層が連鎖的にラジカル重合する請求項１記載の表示装置の製造方法。
【請求項３】
上記有機層形成工程において、上記有機層として、正孔輸送層、発光層および電子輸送層をこの順で形成する請求項１記載の表示装置の製造方法。
【請求項４】
上記励起光は、紫外線、電子線、イオンまたは放射線である請求項１記載の表示装置の製造方法。
【請求項５】
上記有機層は、少なくとも１つ以上のラジカル反応性の官能基が導入された有機材料で構成される請求項１記載の表示装置の製造方法。
【請求項６】
上記発光層は、少なくとも１つ以上のホスト材料およびゲスト材料より構成される請求項１記載の表示装置の製造方法。
【請求項７】
上記ホスト材料および上記ゲスト材料の両方が、ラジカル重合反応性を有する請求項６記載の表示装置の製造方法。
【請求項８】
上記ゲスト材料は、少なくとも１つ以上の蛍光性材料または燐光性材料で構成される請求項６記載の表示装置の製造方法。
【請求項９】
励起光照射によりラジカルを発生する一の有機層を形成する一の有機層形成工程と、
上記一の有機層の所望領域に対して励起光を照射する照射工程と、
上記照射工程後、上記一の有機層上に、ラジカル重合反応性を有する少なくとも発光層を含む１層以上の他の有機層を形成する他の有機層形成工程と
上記他の有機層の非反応領域を除去する除去工程と
を有する表示装置の製造方法。
【請求項１０】
上記一の有機層は、正孔輸送層である請求項９記載の表示装置の製造方法。
【請求項１１】
上記発光層は、少なくとも１つ以上のホスト材料およびゲスト材料より構成される請求項９記載の表示装置の製造方法。
【請求項１２】
上記ホスト材料および上記ゲスト材料は、ラジカル重合反応性を有する請求項９記載の表示装置の製造方法。
【請求項１３】
励起光照射によりラジカルを発生する自己整合層を形成する自己整合層形成工程と、
酸素雰囲気下で上記自己整合層の所望領域に対して励起光を照射する不活性化工程と、
上記不活性化工程後、上記自己整合層の全面に励起光を照射する照射工程と、
上記照射工程後、上記自己整合層上に、ラジカル重合反応性を有する少なくとも発光層を含む１層以上の有機層を順次形成する有機層形成工程と、
上記有機層の非反応領域を除去する除去工程と
を有する表示装置の製造方法。
【請求項１４】
上記有機層形成工程において、上記有機層として、正孔輸送層、発光層および電子輸送層をこの順で形成する請求項１３記載の表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、表示装置の製造方法に関する。さらに詳しくは、例えば、大画面の有機ＥＬディスプレイに好適な表示装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶ディスプレイに代わる表示装置として、有機ＥＬ素子を用いた有機ＥＬディスプレイが注目されている。有機ＥＬディスプレイは、有機材料に電流を流すことで材料自らが発光する自発光型ディスプレイで、バックライトが不要であることに加え、優れた色再現性や高コントラスト、動画に適した応答性、広視野角などの優れた特徴を有している。
【０００３】
このような優れた特徴を有する有機ＥＬディスプレイは、フラットパネルディスプレイとして理想的な特性を有しており、２ｍｍ以下の厚みで、１インチから４０インチサイズの高画質および高視認性のディスプレイを実現することができる。
【０００４】
しかしながら、液晶ディスプレイとの競合も相まって、大面積基板への展開、消費電力の低減、信頼性の向上、コストの低減などの課題がある。特に、大面積基板への展開が非常に重要な課題となっている。この際に問題となるのが、フルカラー化のための光の三原色（ＲＧＢ）を発光するＲＧＢ画素を形成する方法である。
【０００５】
ＲＧＢ画素を形成する方法としては、（１）ＲＧＢの発光層を平面的に配置する塗り分け法、（２）青色発光を蛍光変化する色変換法、（３）白色発光をカラフィルターで三原色に分けるカラーフィルター法などが提案されている。
【０００６】
（２）の色変換法や（３）のカラーフィルター法では、色純度が悪いことや輝度の低下を招くなどの問題があるため、最先端のディスプレイデバイスの性能を満足できない。（１）の塗り分け法を用いた場合には、発光画素のミクロ化に加えて、複数種の発光層を高精度に塗り分けて基板上に製膜する塗分け技術が必要となる。
【０００７】
複数種の発光層を塗り分ける技術としては、例えば、特許文献１に記載されているように、マスクの開口に１色目の有機ＥＬ素子を形成した後、別の開口にて２色目の有機ＥＬ素子を設けるように、マスクを変更する方法が提案されている。この方法は単純ではあるが、多色エリア分け有機ＥＬ素子の作製には極めて有効である。
【０００８】
【特許文献１】特許第２７３４４６４号公報
【０００９】
また、特許文献２では、特許文献１に記載されている方法を発展させ、周期的に微小開口を設けたマスクを１色の発光層を形成するごとに画素ピッチ分だけ移動し、２色、３色目の発光層を製膜する方法が提案されている。この方法では、発光層の相互の間に有機層が存在しない場合に、絶縁層は、陰極と透明電極の短絡を防ぐとともに、画素の形状を定める重要な役割を有する。
【００１０】
【特許文献２】特開平８−２２７２７６号公報
【００１１】
さらに、インクジェットのヘッドから有機材料の溶液やＲＧＢの色素をＩＴＯ（Indium Tin Oxide）電極に落としていくことで、ＲＧＢを塗り分けるインクジェット法も、有機材料のロスがなく、有機材料の利用効率を高めることができるので有効である。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
しかしながら、特許文献１および特許文献２で提案されているマスクによる蒸着塗り分けでは、大型マスクに密着させることが困難な上、マスク上に堆積する有機物を除去する必要があるなど、量産面で課題がある。
【００１３】
また、インクジェット法を用いた塗り分けでは、インクジェットでＲＧＢを形成する場合には、バンクと呼ばれる土手構造を作製し、その中にインクジェットでインクを滴下する必要があり、さらに、ＩＴＯ電極上を親水性にし、バンクを疎水性にするための表面処理を行う必要がある。
【００１４】
このように、従来の塗り分け技術は、特性の問題やそのプロセスの煩雑さから、実用的な技術とはいい難い。
【００１５】
したがって、この発明の目的は、簡便な手法により、高発光効率および優れた動画特性の表示装置を得ることができる表示装置の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
上述した課題を解決するために、第１の発明は、
励起光照射によりラジカルを発生する自己整合層を形成する自己整合層形成工程と、
自己整合層の所望領域に対して励起光を照射する照射工程と、
照射工程後、自己整合層上に、ラジカル重合反応性を有し、少なくとも発光層を含む１層以上の有機層を順次形成する有機層形成工程と、
有機層の非反応領域を除去する除去工程と
を有する表示装置の製造方法である。
【００１７】
第１の発明では、励起光照射によりラジカルを発生する自己整合層を形成する自己整合層形成工程と、自己整合層の所望領域に対して励起光を照射する照射工程と、照射工程後、自己整合層上に、ラジカル重合反応性を有する少なくとも発光層を含む１層以上の有機層を順次形成する有機層形成工程と、有機層の非反応領域を除去する除去工程とによって、簡便な手法により、高発光効率および優れた動画特性を得ることができる。
【００１８】
第２の発明は、
励起光照射によりラジカルを発生する一の有機層を形成する一の有機層形成工程と、
一の有機層の所望領域に対して励起光を照射する照射工程と、
照射工程後、一の有機層上に、ラジカル重合反応性を有する少なくとも発光層を含む１層以上の他の有機層を形成する他の有機層形成工程と
他の有機層の非反応領域を除去する除去工程と
を有する表示装置の製造方法である。
【００１９】
第２の発明では、励起光照射によりラジカルを発生する一の有機層を形成する一の有機層形成工程と、一の有機層の所望領域に対して励起光を照射する照射工程と、照射工程後、一の有機層上に、ラジカル重合反応性を有する少なくとも発光層を含む１層以上の他の有機層を形成する他の有機層形成工程と、他の有機層の非反応領域を除去する除去工程とによって、簡便な手法により高発光効率および優れた動画特性の表示装置を得ることができる。
【００２０】
第３の発明は、
励起光照射によりラジカルを発生する自己整合層を形成する自己整合層形成工程と、
酸素雰囲気下で自己整合層の所望領域に対して励起光を照射する不活性化工程と、
不活性化工程後、自己整合層の全面に励起光を照射する照射工程と、
照射工程後、自己整合層上に、ラジカル重合反応性を有する少なくとも発光層を含む１層以上の有機層を順次形成する有機層形成工程と、
有機層の非反応領域を除去する除去工程と
を有する表示装置の製造方法である。
【００２１】
第３の発明では、励起光照射によりラジカルを発生する自己整合層を形成する自己整合層形成工程と、酸素雰囲気下で自己整合層の所望領域に対して励起光を照射する不活性化工程と、不活性化工程後、自己整合層の全面に励起光を照射する照射工程と、照射工程後、自己整合層上に、ラジカル重合反応性を有する少なくとも発光層を含む１層以上の有機層を順次形成する有機層形成工程と、有機層のうち、非反応領域を除去する除去工程とにより、簡便な手法により、高発光効率および優れた動画特性の表示装置を得ることができる。
【発明の効果】
【００２２】
この発明によると、簡便な手法により、高発光効率および優れた動画特性の表示装置を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
以下、この発明の実施の形態について図面を参照して説明する。以下に説明する実施の形態は、この発明の具体的な例であり、技術的に好ましい種々の限定が付されているが、この発明の範囲は、以下の説明において、特にこの発明を限定する旨の記載がない限り、実施の形態に限定されないものとする。なお、説明は、以下の順序で行う。
１．表示装置の構成例
２．第１の実施の形態（表示装置の製造方法の第１の例）
３．第２の実施の形態（表示装置の製造方法の第２の例）
４．第３の実施の形態（表示装置の製造方法の第３の例）
５．実施例
６．他の実施の形態（変形例）
【００２４】
１．表示装置の構成例
まず、この発明の第１〜３の実施の形態による表示装置の製造方法が適用される表示装置の構成例について説明する。図１は、この発明の第１〜３の実施の形態による表示装置の製造方法が適用される表示装置の構成例を示す断面図である。
【００２５】
この表示装置は、発光した光を基板１０側から取り出す構成のいわゆるボトムエミッション型であり、基板１０上に設けられた第１電極１１と、第２電極１９との間に、第１電極１１側から正孔注入層１２と、正孔輸送層１３と、発光層１５と正孔ブロッキング層１６と電子輸送層１７と電子注入層１８とがこの順で挟まれた構造を有する。
【００２６】
基板１０は、可視領域に吸収の無い透明基板で構成されており、例えば、ソーダライム基板などのガラス基板やプラスチック基板などを用いることができる。
【００２７】
第１電極（アノード）１１は、可視領域に吸収が無く導電性の高い透明電極である。第１電極１１は、発光層１５に正孔を注入する電極であり、所定の位置で電圧−電流が印加できるように必要に応じてパターン化されている。第１電極１１の材料としては、例えば、ＩＴＯ、ＩＺＯ（Indium Zinc Oxide）などの酸化物などを用いることができる。
【００２８】
正孔注入層１２および電子注入層１８は、第１電極１１および第２電極１９から電子および正孔をスムーズに受け入れるために設けられたものである。正孔輸送層１３および電子輸送層１７は、電子および正孔を発光層１５にスムーズに移動させるために設けられたものである。正孔ブロッキング層１６は、発光特性を劣化する正孔の侵入を抑制するために設けられたものである。正孔注入層１２、正孔輸送層１３、正孔ブロッキング層１６および電子輸送層１７には、それぞれの機能に適した材料を用いることができる。
【００２９】
カラー発光を行うために、赤色を発光する赤色発光層１５Ｒと、緑色を発光する緑色発光層１５Ｇと、青色を発光する青色発光層１５Ｂと、が複数配設されている。赤色発光層１５Ｒには、赤の波長の光を発光するのに適した有機材料を用いることができ、緑色発光層１５Ｇには、緑の波長の光を発光するのに適した有機材料を用いることができ、青色発光層１５Ｂには、青の波長の光を発光するのに適した有機材料を用いることができる。
【００３０】
第２電極（カソード）１９は、発光層１５に電子を注入する電極である。第２電極１９は、基板１０の配線と電気的に接続している。第２電極１９の材料としては、例えば、アルミニウム（Ａｌ）、ＭｇＡｇ合金などを用いることできる。
【００３１】
表示装置では、第１電極１１と第２電極１９との間に、電源２０を通じて必要な電圧−電流を印加すると、第１電極１１から正孔が第２電極１９から電子が発光層１５に注入され、発光層１５で正孔と電子が再結合することにより発光する。
【００３２】
なお、表示装置の構成例では、第１電極１１／正孔注入層１２／正孔輸送層１３／発光層１５／正孔ブロッキング層１６／電子輸送層１７／電子注入層１８／第２電極１９の構造を有するものについて説明したが、表示装置の構造はこれに限定されるものではない。
【００３３】
２．第１の実施の形態
この発明の第１の実施の形態による表示装置の製造方法について、図２〜図３を参照しながら説明する。この発明の第１の実施の形態による表示装置の製造方法の説明では、第１電極１１／正孔輸送層１３／発光層１５／電子輸送層１７／電子注入層１８／第２電極１９の構造を有する表示装置を製造する例について説明する。なお、図１と共通する部位に対しては同一の番号を付し、詳細な説明を省略する。
【００３４】
［赤色発光層１５Ｒのパターニング］
図２（ａ）に示すように、基板１０上に第１電極１１と自己整合層２０とをこの順で形成する。第１電極１１は、必要に応じて塩化水素などの無機酸によって、フォトリソグラフィー法などにより形成されたマスクを用いてパターン加工されたものであってもよい。第１電極１１の形成は、例えば、真空蒸着法などで行う。
【００３５】
自己整合層２０は、下層である第１電極１１の表面と化学結合し、分子間の引力相互作用により高い配向性をもって形成される、いわゆる自己組織化単分子層（膜）（Self-Assembled Monolayer:ＳＡＭ膜）である。自己整合層２０を構成する材料には、アゾ基などのラジカル発生官能基が末端に導入されており、可視光線、紫外線、電子線、イオンまたは放射線などの励起光を照射することにより、励起されラジカルを発生する。
【００３６】
自己整合層２０を構成する材料の選択は、下層に位置する基材の表面性質、所謂表面官能基の種別に依存するところが大きい。例えば、基材が金等の金属材料には末端構造に、結合性官能基としてチオール基（ＳＨ基）やチタン基（Ｔｉ基）を含有する化合物が好適である。さらに、ラジカルを発生させる末端の構造についても、上層に形成するラジカル反応性等に大きく依存する。例えば、末端は、アゾ基を含有する構造が好適である。アゾ結合は、光吸収により窒素とラジカルとに分解する。発生したラジカルは、上層のラジカル連鎖反応に寄与する。
【００３７】
例えば、自己整合層２０の下層に位置する第１電極１１を構成する材料がＩＴＯである場合には、自己整合層２０は、下層と結合する結合性官能基として、ＩＴＯと化学反応可能なトリエトキシ基などの官能基を有し、さらに、ラジカル発生可能なアゾ基が末端に導入された材料で構成されている。
【００３８】
自己整合層２０は、例えば、下層の表面と結合性が良好な官能基を末端構造に有する表面処理剤で処理した後、ラジカル発生可能なラジカル発生官能基を反応させてラジカル発生機能を付与することによって、形成する。表面処理剤としては、例えば、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミプロピル−トリメトキシシラン、ｎ（ジメトキシメチルシリルプロピル）−エチレンジアミンなどのアミノ基を有するシランカップリング剤、イソプロピルトリ（Ｎ−アミドエチル・アミノエチル）チタネート、ジイソプロポキシ・ビス（トリエタノールアミネート）チタン、チタンジイソプロポキシビス（トリエタノールアミネート）などのアミノ基を有するチタンカップリング剤などを用いることができる。
【００３９】
図２（ｂ）に示すように、マスクを用いて、自己整合層２０の所望の領域２０ａに、可視光線を照射する。可視光線が照射された自己整合層２０の領域２０ａでは、自己整合層２０の表面のラジカル発生官能基が分解してラジカルが発生する。
【００４０】
図２（ｃ）に示すように、さらに、例えば真空蒸着法などにより、自己整合層２０上に正孔輸送層１３と、赤色発光層１５Ｒと、電子輸送層１７とをこの順で形成する。正孔輸送層１３、赤色発光層１５Ｒおよび電子輸送層１７は、例えばビニル基、アクリル酸基、メタクリル酸基などのラジカル重合反応性の官能基を構造に有する化合物で構成されている。赤色発光層１５Ｒを構成する発光材料は、例えば、ホールと電子とが再結合性を有する有機材料であるホスト材料と、励起分子が失活する際に光を放出する有機材料であるゲスト材料とから構成される。ゲスト材料は、例えば、ホスト材料上で生じるホールと電子との再結合により、ホスト材料が励起状態になり、その励起エネルギーがゲスト材料に移動して励起され発光する。また、例えば、ゲスト材料は、電子とホールがゲスト材料上で再結合することにより、励起され発光する。発光材料のうち、ホスト材料がラジカル反応性の官能基を有する材料であればよいが、さらにゲスト材料にラジカル反応性の官能基を有する材料を用いれば、ホスト材料と共重合体を形成するため、後工程で非重合領域を除去する際のゲスト材料の溶出を低減できるので好ましい。なお、この発光材料に関する説明は、後述の緑色発光層および青色発光層を構成する発光材料に関してもあてはまるものである。
【００４１】
反応領域Ｒは、自己整合層２０の領域２０ａおよび領域２０ａ上に形成された正孔輸送層１３、赤色発光層１５Ｒおよび電子輸送層１７の領域である。反応領域Ｒは、領域２０ａにおいて発生したラジカルによって、正孔輸送層１３と、赤色発光層１５Ｒと、電子輸送層１７とで連鎖的にラジカル重合が進行して高分子化する。よって、後述するが、反応領域Ｒ以外の非反応領域を選択的に除去することが可能となる。
【００４２】
図２（ｄ）に示すように、反応領域Ｒ以外の非反応領域をアセトン等の有機溶媒など薬剤を用いて除去することによって、所望の領域に赤色発光層１５Ｒを形成することができる。
【００４３】
［緑色発光層１５Ｇのパターニング］
図２（ｅ）に示すように、マスクを用いて、自己整合層２０の所望の領域２０ｂに可視光線を照射する。自己整合層２０の可視光線が照射された領域２０ｂでは、自己整合層２０の表面のラジカル発生官能基が分解してラジカルが発生する。
【００４４】
図３（ｆ）に示すように、例えば真空蒸着法などで正孔輸送層１３と、緑色発光層１５Ｇと、電子輸送層１７とを、自己整合層２０および反応領域Ｒ上にこの順で形成する。反応領域Ｇは、自己整合層２０の領域２０ｂおよび領域２０ｂ上に形成された正孔輸送層１３、緑色発光層１５Ｇおよび電子輸送層１７の領域である。反応領域Ｇは、領域２０ｂにおいて発生したラジカルによって、正孔輸送層１３と、赤色発光層１５Ｇと、電子輸送層１７とで連鎖的にラジカル重合が進行して高分子化する。よって、後述するが、反応領域Ｇおよび反応領域Ｒ以外を選択的に除去することが可能となる。
【００４５】
図３（ｇ）に示すように、反応領域Ｇおよび反応領域Ｒ以外の非反応領域を、アセトン等の有機溶媒などの薬剤を用いて選択的に除去することで所望の領域に緑色発光層１５Ｇを形成することができる。
【００４６】
［青色発光層１５Ｂのパターンニング］
図３（ｈ）に示すように、マスクを用いて、自己整合層２０の所望の領域２０ｃに可視光線を照射する。
【００４７】
図３（ｉ）に示すように、自己整合層２０、反応領域Ｒおよび反応領域Ｇ上に、正孔輸送層１３と、青色発光層１５Ｂと、電子輸送層１７とをこの順で形成した後、薬剤を用いて、反応領域Ｂ、反応領域Ｒおよび反応領域Ｇ以外の非反応領域を除去することで所望の領域に青色発光層１５Ｂを形成することができる。
【００４８】
［電子注入層１８、第２電極１９の形成］
図３（ｊ）に示すように、自己整合層２０、反応領域Ｒ、反応領域Ｇおよび反応領域Ｂ上に、電子注入層１８と第２電極１９とをこの順に、例えば、真空蒸着法などにより形成する。以上により、表示装置を製造することができる。
【００４９】
この発明の第１の実施の形態による表示装置の製造方法では、具体的な材料として、例えば、以下の材料を適宜選択して用いることができる。また、必要に応じて下記材料にラジカル重合反応性を有する官能基を適宜導入することでラジカル反応性を付与して用いる。
【００５０】
蛍光性色素としては、例えば、クマリン系色素、ピラン系色素、シアニン系色素、クロコニウム系色素などの蛍光性化合物を用いることができる。
【００５１】
また、例えば、アントラセン類、ピレン類、ペリレン類などの多環芳香族炭化水素を用いることができる。
【００５２】
さらに、例えば、オキサゾール、チアゾール、イミダゾール、オキサジアゾール、チアジアゾール、ロフィン、クマリン、ナイルレッド、４Ｈ−ピラニリデンプロパンジニトリル誘導体、ポリチオフェン、ポリビニルカルバゾールなどのヘテロ芳香族化合物を用いることができる。
【００５３】
さらに、例えば、シアニン、オキソノール、アズレニウム、ピリリウムなどのポリメチン系化合物を用いることができる。
【００５４】
さらに、例えば、ジアミノスチルベン誘導体、ポリフェニレンビニレン、アゾメチン、アゾベンゼンなどのスチルベン系化合物を用いることができる。
【００５５】
さらに、例えば、キノリン類、ナフタレン類、８−キノリノール、Ａｌ３＋錯体、ベリリウム錯体などのキレート金属錯体を用いることができる。
【００５６】
さらに、例えば、キノリノール、２−ヒドロキシフェニルベンゾオキサゾール、２−（２−ピリジル）フェノール、２−（３−オキサジアゾリル）フェノール誘導体、２−ヒドロキシベンジリデンアニリン誘導体（アゾメチン化合物）などの亜鉛錯体を用いることができる。
【００５７】
さらに、例えば、キレートランタノイド錯体、例えば、フルオレセレン、ローダミンＢなどのキサンテン系色素を用いることができる。
【００５８】
さらに、例えば、キナクリドン、ジケトピロロピロール誘導体、銅フタロシアニンなどの有機顔料等の関連色素を用いることができる。また、無機有機複合系、ポリシラン、スピロ化合物、スクワリリウム色素、フルオレセイン等を用いることができる。
【００５９】
燐光性色素としては、以下の緑色材料、青色材料、赤色材料などを用いることができる。
【００６０】
緑色材料としては、トリス（２−フェニルピリジン）イリジウム（ＩＩＩ）（Ｉｒ（ｐｐｙ）３）、ビス（２−フェニルピリジン）（アセチルアセトネート）イリジウム（ＩＩ）、トリス［２−（ｐ−トリル）ピリジン］イリジウム（ＩＩＩ）（Ｉｒ（ｍｐｐｙ）３）などを用いることができる。
【００６１】
青色材料としては、ビス（３，５−ジフルオロ−２−（２−ピリジイル）フェニル）−（２−カルボキシピリジイル）イリジウム（ＩＩＩ）（ＦｉｒＰｉｃ）、ビス（４８，６８−ジフルオロフェニルピリジネート）テトラキス（１−ピラゾリル）ボレートイリジウム（ＩＩＩ）（ＦＩｒ６）などを用いることができる。
【００６２】
赤色材料としては、トリス（１−フェニルイソキノリン）イリジウム（ＩＩＩ）（Ｉｒ（ｐｉｑ）３）、ビス（１−フェニルイソキノリン）（アセチルアセトネート）イリジウム（ＩＩＩ）（Ｉｒ（ｐｉｑ）２（ａｃａｃ））、ビス［１−（９，９−ジメチル−９Ｈ−フルオレン−２−イル）−イソキノリン］（アセチルアセトネート）イリジウム（ＩＩＩ）（Ｉｒ（ｆｌｉｑ）２（ａｃａｃ））、ビス［３−（９，９−ジメチル−９Ｈ−フルオレン−２−イル）イソキノリン］（アセチルアセトネート）イリジウム（ＩＩＩ）（Ｉｒ（ｆｌｑ）２（ａｃａｃ））、トリス（２−フェニルキノリン）イリジウム（ＩＩＩ）（Ｉｒ（２−ｐｈｑ）３）、ビス（２−フェニルキノリン）（アセチルアセトネート）イリジウム（ＩＩＩ）（Ｉｒ（２−ｐｈｑ）２（ａｃａｃ））などを用いることできる。
【００６３】
正孔輸送性材料としては、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−［１，１’−ビフェニル］−４，４’−ジアミン（ＴＰＤ）、４，４’，４’’−トリス［３−メチルフェニル（フェニル）アミノ］トリフェニルアミン（ｍ−ＭＴＤＡＴＡ）、４，４’，４’’−トリス［１−ナフチル（フェニル）アミノ］トリフェニルアミン（１−ＴＮＡＴＡ）、４，４’，４’’−トリス［２−ナフチル（フェニル）アミノ］トリスフェニルアミン（２−ＴＮＡＴＡ）、４，４’，４’’−トリス［ビフェニル−４−イル−（３−メチルフェニル）アミノ］トリフェニルアミン（ｐ−ＰＭＴＤＡＴＡ）、４，４’，４’’−トリス［９，９−ジメチル−２−フルオレニル（フェニル）アミノ］トリフェニルアミン（ＴＦＡＴＡ）、４，４’，４’’−トリ（Ｎ−カルバゾリル）トリフェニルアミン（ＴＣＴＡ）、１，３，５−トリス［Ｎ−（４−ジフェニルアミノフェニル）フェニルアミノ］ベンゼン（ｐ−ＤＰＡ−ＴＤＡＢ）、１，３，５−トリス｛４−［メチルフェニル（フェニル）アミノ］フェニル｝ベンゼン（ＭＴＤＡＰＢ）、Ｎ，Ｎ’’−ジ（ビフェニル−４−イル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−［１，１’−ビフェニル］−４，４’−ジアミン（ｐ−ＢＰＤ）、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（９，９−ジメチル−２−フルオレニル）−［１，１’−ビフェニル］−４，４’−ジアミン（ＦＦＤ）などを用いることができる。
【００６４】
電子輸送性材料としては、Ａｌｑ３（トリス（８−キノリノレート）アルミニウム（ＩＩＩ））、オキサジアゾール誘導体等、１，３，５−トリス［５−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジゾール−２−イル］ベンゼン（ＴＰＯＢ）、５，５’−ビス（ジメシチルボリル）−２，２’−ビチオフェン（ＢＭＢ−２Ｔ）、５，５’−ビス（ジメシチルボリル）−２，２’：５’，２’’−ターチオフェン（ＢＭＢ−３Ｔ）などを用いることができる。
【００６５】
発光性アモルファス分子材料としては、トリ（ｏ−ターフェニル−４−イル）アミン（ｏ−ＴＴＡ）、トリ（ｐ−ターフェニル−４−イル）アミン（ｐ−ＴＴＡ）など、オリゴチオフェン誘導体としては、２，５−ビス｛４−［ビス（４−メチルフェニル）アミノ］フェニル｝トリオフェン（ＢＭＡ−１Ｔ）、５，５’−ビス｛４−［ビス（４−メチルフェニル）アミノ］フェニル｝−２，２’−ビチオフェン（ＢＭＡ−２Ｔ）、５，５’−ビス｛４−［ビス（４−メチルフェニル）アミノ］フェニル｝−２，２’：５’，２’’−ターチオフェン（ＢＭＡ−３Ｔ）、５，５’’’’−ビス｛４−［ビス（４−メチルフェニル）アミノ］フェニル｝−２，２’：５’２’’：５’’，２’’’−クオーターチオフェン（ＢＭＡ−４Ｔ）などを用いることができる。
【００６６】
この発明の第１の実施の形態による表示装置の製造方法では、簡便な方法で高発光効率および優れた動画特性の表示装置を得ることができる。この発明の第１の実施の形態による表示装置の製造方法では、各層間において化学結合が形成されるため、各層の界面の密着性を、ファンデルワールス力によるものより向上することができる。これにより、膜剥がれの抑制、薬液浸透の抑制、下地とセルフアラインの成長による寸法精度の向上という効果を得ることができる。また、各層間における化学結合の形成によって、例えば各層の界面での電気的接触の不良によるリーク電流の抑制、界面準位の不整合の抑制、ショットキーバリア性の抑制など、電気的な特性を著しく向上することができる。
【００６７】
自己整合層２０は、基材表面に形成される。自己整合層２０は、基材と上層に形成する材料との直接反応が期待できない場合に、基材と上層材料との反応を付与することができる基材と上層との間の中間層として形成される。この発明の第１の実施の形態による表示装置の製造方法では、このような自己整合層２０の性質を効果的に利用している。すなわち、ラジカル発生官能基を有する自己整合層２０を形成し、励起光照射により活性化された所望の領域２０ａ〜ｃのみに上層材料との反応が生じるようにし、これにより、選択的な製膜を可能としている。
【００６８】
自己整合層２０を構成する材料は、その分子構造に、下層に位置する基材と反応が期待できる官能基と上層に形成する材料と反応が期待できる官能基を合わせ持つ構造を有することによって、上述の一連の反応が可能となる。すなわち、基材との直接反応には、例えば脱水素反応や脱水反応などの反応により、自己整合層２０を構成する材料は固定化される。励起光が照射された領域では、末端のラジカル発生官能基がラジカルを発生させ、このラジカルによって上層材料は連鎖的にラジカル重合する。
【００６９】
３．第２の実施の形態
この発明の第２の実施の形態による表示装置の製造方法について、図４〜図５を参照しながら説明する。この発明の第２の実施の形態による表示装置の製造方法の説明では、第１電極１１／正孔輸送層３０／発光層１５／電子輸送層１７／電子注入層１８／第２電極１９の構造を有する表示装置を製造する例について説明する。なお、図１と共通する部位に対しては同一の番号を付し、詳細な説明を省略する。
【００７０】
［赤色発光層１５Ｒのパターニング］
図４（ａ）に示すように、基板１０上に第１電極１１と正孔輸送層３０とをこの順で形成する。第１電極１１は、必要に応じて塩化水素などの無機酸によって、フォトリソグラフィー法などにより形成されたマスクを用いてパターン加工されたものであってもよい。第１電極１１、正孔輸送層３０の形成は、例えば、真空蒸着法などで行うことができる。この発明の第２の実施の形態による表示装置の製造方法では、正孔輸送層３０は、励起光を照射することによってラジカルを発生するラジカル発生官能基が導入された材料で構成されている。
【００７１】
図４（ｂ）に示すように、マスクを用いて、正孔輸送層３０の所望の領域３０ａに、可視光線を照射する。可視光線が照射された領域３０ａでは、正孔輸送層３０の表面のラジカル発生官能基が分解してラジカルが発生する
【００７２】
図４（ｃ）に示すように、さらに、例えば真空蒸着法などにより、正孔輸送層３０上に、赤色発光層１５Ｒを形成する。反応領域Ｒは、正孔輸送層３０の領域３０ａおよび領域３０ａ上に形成された赤色発光層１５Ｒの領域である。反応領域Ｒは、領域３０ａにおいて発生したラジカルによって、正孔輸送層３０で連鎖的にラジカル重合が進行して高分子化する。よって、後述するが、反応領域Ｒ以外を選択的に除去することが可能となる。
【００７３】
図４（ｄ）に示すように、反応領域Ｒ以外の非反応領域を、アセトン等の有機溶媒などの薬剤を用いて除去することで所望の領域に赤色発光層１５Ｒを形成できる。
【００７４】
［緑色発光層１５Ｇのパターニング］
図４（ｅ）に示すように、マスクを用いて、正孔輸送層３０の所望の領域３０ｂに可視光線を照射する。正孔輸送層３０の可視光線が照射された領域３０ｂでは、正孔輸送層３０の表面のラジカル発生官能基が分解してラジカルが発生する。
【００７５】
図５（ｆ）に示すように、例えば真空蒸着法などで緑色発光層１５Ｇを、正孔輸送層３０および反応領域Ｒ上に形成する。反応領域Ｇは、正孔輸送層３０の領域３０ｂおよび領域３０ｂ上に形成された緑色発光層１５Ｇの領域である。反応領域Ｇは、領域３０ｂにおいて発生したラジカルによって、正孔輸送層３０とで連鎖的にラジカル重合が進行して高分子化する。よって、後述するが、反応領域Ｇおよび反応領域Ｒ以外を選択的に除去することが可能となる。
【００７６】
図５（ｇ）に示すように、反応領域Ｇおよび反応領域Ｒ以外の非反応領域を、アセトン等の有機溶媒などの薬剤を用いて、選択的に除去することで所望の領域に緑色発光層１５Ｇを形成することができる。
【００７７】
［青色発光層１５Ｂのパターンニング］
図５（ｈ）に示すように、マスクを用いて、正孔輸送層３０の所望の領域３０ｃに可視光線を照射する。
【００７８】
図５（ｉ）に示すように、正孔輸送層３０、反応領域Ｒおよび反応領域Ｇ上に、青色発光層１５Ｂを形成した後、薬剤を用いて、反応領域Ｂ、反応領域Ｒおよび反応領域Ｇ以外の非反応領域を除去することで所望の領域に青色発光層１５Ｂを形成する。そして、さらに、電子輸送層１７を、正孔輸送層３０、反応領域Ｒ、反応領域Ｇおよび反応領域Ｂ上に、例えば真空蒸着法などによりこの順で形成する。
【００７９】
［電子注入層１８、第２電極１９の形成］
図５（ｊ）に示すように、電子輸送層１７上に電子注入層１８と第２電極１９とをこの順に、例えば真空蒸着法などにより形成する。以上により、表示装置を製造することができる。
【００８０】
この発明の第２の実施の形態による表示装置の製造方法では、簡便な方法で高発光効率および優れた動画特性の表示装置を得ることができる。また、この発明の第２の実施の形態による表示装置の製造方法では、第１の実施の形態で説明したものと同様の材料を適宜選択して用いることができる。この発明の第２の実施の形態による表示装置の製造方法では、各層間において化学結合が形成されるため、各層の界面の密着性を、ファンデルワールス力によるものより向上することができる。これにより、膜剥がれの抑制、薬液浸透の抑制、下地とセルフアラインの成長による寸法精度の向上という効果を得ることができる。また、各層間における化学結合の形成によって、例えば各層の界面での電気的接触の不良によるリーク電流の抑制、界面準位の不整合の抑制、ショットキーバリア性の抑制など、電気的な特性を著しく向上することができる。
【００８１】
４．第３の実施の形態
この発明の第３の実施の形態による表示装置の製造方法について、図６〜図７を参照しながら説明する。この発明の第３の実施の形態による表示装置の製造方法の説明では、第１電極１１／正孔輸送層１３／発光層１５／電子輸送層１７／電子注入層１８／第２電極１９の構造を有する表示装置を製造する例について説明する。なお、図１と共通する部位に対しては同一の番号を付し、詳細な説明を省略する。
【００８２】
［赤色発光層１５Ｒのパターニング］
図６（ａ）に示すように、基板１０上に第１電極１１と自己整合層４０とをこの順で形成する。第１電極１１は、必要に応じて塩化水素などの無機酸によって、フォトリソグラフィー法などにより形成されたマスクを用いてパターン加工されたものであってもよい。第１電極１１の形成は、例えば、真空蒸着法などで行う。自己整合層４０については、第１の実施の形態で説明した自己整合層２０と同様であるので、詳細な説明を省略する。
【００８３】
図６（ｂ）に示すように、マスクを用いて、酸素含有雰囲気下で発光層が不要な領域４０’に可視光線を照射する。自己整合層４０の領域４０’では、表面のラジカル発生官能基が分解して発生したラジカルが酸素ラジカルで捕捉され、次工程においてラジカル発生機能が一旦失活する。
【００８４】
図６（ｃ）に示すように、自己整合層４０の全面に可視光線を照射する。自己整合層４０の領域４０ａは、図６（ｂ）に示す工程でマスクで覆われた領域であり、ラジカル発生機能が失活していない領域である。領域４０ａでは、可視光線を照射することによってラジカル発生官能基が分解しラジカルが発生する。自己整合層４０の領域４０’では、ラジカル発生機能が失活しているので、可視光線が照射されても、ラジカルが発生しない。
【００８５】
図６（ｄ）に示すように、さらに、例えば真空蒸着法などにより、自己整合層４０上に正孔輸送層１３と、赤色発光層１５Ｒと、電子輸送層１７とをこの順で形成する。反応領域Ｒは、自己整合層４０の領域４０ａおよび領域４０ａ上に形成された正孔輸送層１３、赤色発光層１５Ｒおよび電子輸送層１７の領域である。反応領域Ｒは、領域４０ａにおいて発生したラジカルによって、正孔輸送層１３と、赤色発光層１５Ｒと、電子輸送層１７とで連鎖的にラジカル重合が進行して高分子化する。よって、後述するが、反応領域Ｒ以外を選択的に除去することが可能となる。
【００８６】
図６（ｅ）に示すように、反応領域Ｒ以外の非反応領域を、アセトン等の有機溶媒などの薬剤を用いて選択的に除去することで、所望の領域に赤色発光層１５Ｒを形成できる。
【００８７】
［緑色発光層１５Ｇのパターンニング］
図７（ｆ）に示すように、上述した図６（ｂ）〜図６（ｃ）に示す工程を順次行い、上層に緑色発光層１５Ｇを形成する所望の領域４０ｂにおいて、ラジカルが発生するようにする。
【００８８】
図７（ｇ）に示すように、自己整合層４０および領域Ｒ上に、正孔輸送層１３と、緑色発光層１５Ｇと電子輸送層１７とを、例えば真空蒸着法などでこの順に形成する。反応領域Ｇは、自己整合層４０の領域４０ｂおよび領域４０ｂ上に形成された正孔輸送層１３、緑色発光層１５Ｇおよび電子輸送層１７の領域である。反応領域Ｇは、領域４０ｂにおいて発生したラジカルによって、正孔輸送層１３と、緑色発光層１５Ｇと、電子輸送層１７とで連鎖的にラジカル重合が進行して高分子化する。よって、後述するが、反応領域Ｇおよび反応領域Ｒ以外の領域を選択的に除去することが可能となる。
【００８９】
図７（ｈ）に示すように、反応領域Ｇ以外の非反応領域を、アセトン等の有機溶媒などの薬剤を用いて除去することで所望の領域に緑色発光層１５Ｇを形成することができる。
【００９０】
［青色発光層１５Ｂのパターニング］
図７（ｉ）に示すように、上述した図６（ｂ）〜図６（ｃ）に示す工程を順次行い、上層に青色発光層１５Ｂを形成する所望の領域４０ｃにおいて、ラジカルが発生するようにする。
【００９１】
図７（ｊ）に示すように、自己整合層４０、反応領域Ｒおよび反応領域Ｇ上に、正孔輸送層１３と、青色発光層１５Ｂと、電子輸送層１７とを、例えば真空蒸着法によりこの順で形成した後、薬剤を用いて、反応領域Ｂ、反応領域Ｒおよび反応領域Ｇ以外の非反応領域を選択的に除去することで所望の領域に青色発光層１５Ｂを形成することができる。
【００９２】
［電子注入層１８、第２電極１９の形成］
図７（ｋ）に示すように、自己整合層４０、および反応領域Ｒ、反応領域Ｇおよび反応領域Ｂ上に、電子注入層１８と第２電極１９とをこの順で、例えば真空蒸着法などにより形成する。以上により、表示装置を製造することができる。
【００９３】
この発明の第３の実施の形態による表示装置の製造方法では、簡便な方法で高発光効率および優れた動画特性の表示装置を得ることができる。また、この発明の第３の実施の形態による表示装置の製造方法では、第１の実施の形態で説明したものと同様の材料を適宜選択して用いることができる。この発明の第３の実施の形態による表示装置の製造方法では、各層間において化学結合が形成されるため、各層の界面の密着性を、ファンデルワールス力によるものより向上することができる。これにより、膜剥がれの抑制、薬液浸透の抑制、下地とセルフアラインの成長による寸法精度の向上という効果を得ることができる。また、各層間における化学結合の形成によって、例えば各層の界面での電気的接触の不良によるリーク電流の抑制、界面準位の不整合の抑制、ショットキーバリア性の抑制など、電気的な特性を著しく向上することができる。
【実施例】
【００９４】
５．実施例
さらに、この発明の具体的な実施例について図面を参照して説明する。ただし、この発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。
【００９５】
＜実施例１＞
実施例１では、特に、自己整合膜（層）として、基材として選択した透明電極であるＩＴＯ膜（層）と化学反応可能なトリエトキシ基を有し、ラジカル発生可能なアゾ構造を有する材料を選択した。実施例１では、正孔輸送材料、発光材料および電子輸送材料としてラジカル反応性を付与した材料を用いた。実施例１では、ホスト材料としてアクリルカルバゾール、ゲスト材料としてＩｒ系色素を用いた。以下、図８〜図９を参照しながら、実施例１について説明する。
【００９６】
図８（ａ）に示すように、ソーダライムガラス基板１１０上に電圧−電流を印加する可視領域に吸収の無い導電層としてＩＴＯ層１１１を定法のスパッタ法により１００ｎｍ形成した。なお、実施例１では、ＩＴＯ層１１１のパターン化は行わなかった。
【００９７】
次に、ＩＴＯ層１１１上に自己整合層１２０を以下の手順で形成した。
３−アミノプロピルトリエトキシシランを用いて脱水縮合反応によりＩＴＯ層１１１上に固定した。無水コハク酸および４−ジメチルアミノピリジンを処理した。その後、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩およびペンタフルオロフェノールを反応させ、最後にラジカル発生可能なアゾ結合を有する２，２−アゾビス−２−アミジノプロパン二塩酸塩（Ｄｕｐｏｎｔ社製  商品名：ＶＡＺＯ  ５６）を反応させた。
【００９８】
その後、図８（ｂ）に示すように、マスクを用いて、自己整合層１２０の所望の領域１２０ａに可視光線を照射することによって、領域１２０ａにおいて、ラジカルが発生するようにした。
【００９９】
図８（ｃ）に示すように、真空蒸着法により以下の条件で、正孔輸送層１１３、赤色発光層１１５Ｒおよび電子輸送層１１７を、この順で自己整合層１２０上に形成した。
【０１００】
（正孔輸送層１１３形成条件）
原料：アクリル変性  Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−［１，１’−ビフェニル］−４，４’−ジアミン（ａｃｒｙｌ−ＴＰＤ）
蒸着条件  蒸着源温度／蒸着圧力＝２００℃／１ｅ−５ｔｏｒｒ
【０１０１】
（赤色発光層１１５Ｒ形成条件）
原料：ホスト材料：カルバゾールアクリレート
ゲスト材料：トリス（１−フェニルイソキノリン）イリジウム（III）
開始剤材料：ベンゾフェノン
蒸着条件  蒸着源温度／蒸着圧力＝２００℃／１ｅ−５ｔｏｒｒ
【０１０２】
（電子輸送層１１７形成条件）
原料：アクリル酸変性キノリノールアルミ錯体（トリス（８−キノリノレート）アルミニウム（III）（Ａｌｑ３））
蒸着条件  蒸着源温度／蒸着圧力＝２００℃／１ｅ−５ｔｏｒｒ
【０１０３】
図８（ｄ）に示すように、薬剤を用いて、反応領域Ｒ以外の非反応領域を選択的に除去することで、所望の領域に赤色発光層１１５Ｒを形成した。
【０１０４】
図８（ｅ）に示すように、マスクを用いて、緑色発光層１１５Ｇを形成する所望の領域１２０ｂに可視光線を照射することによって、領域１２０ｂにおいて、ラジカルが発生するようにした。
【０１０５】
図９（ｆ）に示すように、自己整合層１２０上に、真空蒸着法により以下の形成条件で、正孔輸送層１１３、緑色発光層１１５Ｇおよび電子輸送層１１７をこの順で形成した。
【０１０６】
（正孔輸送層１１３形成条件）
原料：アクリル変性  Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−［１，１’−ビフェニル］−４，４’−ジアミン（ａｃｒｙｌ−ＴＰＤ）
蒸着条件  蒸着源温度／蒸着圧力＝２００℃／１ｅ−５ｔｏｒｒ
【０１０７】
（緑色発光層１１５Ｇ形成条件）
原料：ホスト材料：カルバゾールアクリレート
ゲスト材料：トリス（２−フェニルピリジン）イリジウム（III）
開始剤材料：ベンゾフェノン
蒸着条件：蒸着源温度／蒸着圧力＝２００℃／１ｅ−５ｔｏｒｒ
【０１０８】
（電子輸送層１１７形成条件）
原料：アクリル酸変性キノリノールアルミ錯体（トリス（８−キノリノレート）アルミニウム（III）（Ａｌｑ３））
蒸着条件：蒸着源温度／蒸着圧力＝２００℃／１ｅ−５ｔｏｒｒ
【０１０９】
その後、図９（ｇ）に示すように、薬剤を用いて、反応領域Ｇおよび反応領域Ｒ以外の非反応領域を選択的に除去することで所望の領域に緑色発光層１１５Ｇを形成した。
【０１１０】
図９（ｈ）に示すように、マスクを用いて、自己整合層１２０の所望の領域１２０ｃに可視光線を照射することによって、領域１２０ｃにおいて、ラジカルが発生するようにした。
【０１１１】
図９（ｉ）に示すように、自己整合層１２０、および反応領域Ｒおよび反応領域Ｇ上に、真空蒸着法により以下の条件で、正孔輸送層１１３と、青色発光層１１５Ｂと、電子輸送層１１７とをこの順で形成した後、薬剤を用いて、反応領域Ｂ、反応領域Ｒおよび反応領域Ｇ以外の非反応領域を、選択的に除去することで所望の領域に青色発光層１１５Ｂを形成した。
【０１１２】
（正孔輸送層１１３形成条件）
原料：アクリル変性  Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−［１，１’−ビフェニル］−４，４’−ジアミン（ａｃｒｙｌ−ＴＰＤ）
蒸着条件：蒸着源温度／蒸着圧力＝２００℃／１ｅ−５ｔｏｒｒ
【０１１３】
（青色発光層１１５Ｂ形成条件）
原料：ホスト材料：カルバゾールアクリレート
ゲスト材料：ビス（３，５−ジフルオロ−２−（２−ピリジイル）フェニル−（２−カルボキシピリジイル）イリジウム（III）
開始剤材料：ベンゾフェノン
蒸着条件：蒸着温度／蒸着圧力＝１８０℃／１ｅ−５ｔｏｒｒ
【０１１４】
（電子輸送層１１７形成条件）
原料：アクリル酸変性キノリノールアルミ錯体（トリス（８−キノリノレート）アルミニウム（III）（Ａｌｑ３））
蒸着条件：蒸着源温度／蒸着圧力＝２００℃／１ｅ−５ｔｏｒｒ
【０１１５】
更に、図９（ｉ）に示したように、自己整合層１２０、反応領域Ｒ、反応領域Ｇおよび反応領域Ｂ上に電子注入層１１８および上部電極１１９をこの順で、真空蒸着法により以下の条件で形成した。以上により実施例１のデバイスを作製した。
【０１１６】
（電子注入層形成条件）
原料：ＬｉＦ
蒸着条件：蒸着源温度／蒸着圧力＝３００℃／１ｅ−５ｔｏｒｒ
【０１１７】
（上部電極１１９形成条件）
原料：Ａｌ
蒸着条件：蒸着源温度／蒸着圧力＝２００℃／１ｅ−５ｔｏｒｒ
【０１１８】
＜実施例２＞
実施例２では、特に、ラジカル発生機能を付与した正孔輸送材料を用いて正孔輸送層を形成する工程と該正孔輸送層に励起光を照射する工程を含み、発光層を自己整合的に形成する。実施例２では、さらに、ラジカル反応性を付与したゲスト材料を用いることで、励起光照射時に発生するラジカルにより。ゲスト材料にもラジカル重合反応やホスト材料との共重合反応が進行する。よって、次工程での薬剤による非重合領域除去工程でのゲスト材料の溶解および流出を効果的に抑制することができると考えられる。以下、図１０〜図１１を参照しながら、実施例２について説明する。
【０１１９】
図１０（ａ）に示すように可視領域に吸収の無い基板、例えばソーダライムガラス基板２１０上に電圧−電流を印加する可視領域に吸収の無い導電層としてＩＴＯ層２１１を定法のスパッタ法により１００ｎｍ形成した。なお、実施例２では、ＩＴＯ層２１１のパターン化は行わなかった。
【０１２０】
次に、ラジカル発生機能を付与した正孔輸送層２３０を、真空蒸着法により以下の条件でＩＴＯ層２１１上に形成した。
【０１２１】
（正孔輸送層２３０形成条件）
原料：アクリル変性  Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−［１，１’−ビフェニル］−４，４’−ジアミン（ａｃｒｙｌ−ＴＰＤ）：ＡＩＢＮ（２，２−アゾビスイソブチロニトリル）付加物
蒸着条件：蒸着源温度／蒸着圧力＝２００℃／１ｅ−５ｔｏｒｒ
【０１２２】
その後、図１０（ｂ）に示すように、マスクを用いて、正孔輸送層２３０の所望の領域２３０ａに可視光線を照射することによって、領域２３０ａにおいてラジカルが発生するようにした。
【０１２３】
図１０（ｃ）に示すように、正孔輸送層２３０上に赤色発光層２１５Ｒを、真空蒸着法により以下の条件で形成した。
【０１２４】
（赤色発光層２１５Ｒ形成条件）
原料：ホスト材料：カルバゾールアクリレート
ゲスト材料：アクリル変性  ビス（１−フェニルイソキノリン）（アセチルアセトネート）イリジウム（III）
蒸着条件：蒸着源温度／蒸着圧力＝２００℃／１ｅ−５ｔｏｒｒ
【０１２５】
その後、図１０（ｄ）に示すように、反応領域Ｒ以外の非反応領域を薬剤を用いて選択的に除去することで所望の領域に、赤色発光層２１５Ｒを形成した。
【０１２６】
図１０（ｅ）に示すように、マスクを用いて、正孔輸送層２３０の所望の領域２３０ｂに可視光線を照射することによって、領域２３０ｂにおいてラジカルが発生するようにした。
【０１２７】
図１１（ｆ）に示すように、正孔輸送層２３０および反応領域Ｒ上に、緑色発光層２１５Ｇを真空蒸着法により以下の条件で形成した。
【０１２８】
（緑色発光層２１５Ｇ形成条件）
原料：ホスト材料：カルバゾールアクリレート
ゲスト材料：アクリル変性  ビス（２−フェニルピリジン）（４−ビニルフェニルピリジン）イリジウム（III）
蒸着条件：蒸着源温度／蒸着圧力＝２００℃／１ｅ−５ｔｏｒｒ
【０１２９】
緑色発光性２１５Ｇは、基板全面に渡って堆積したが、上述ラジカル発生機能を付与した正孔輸送材料の表面のみ重合反応を進行させることで、重合した緑色発光層２１５Ｇを反応領域Ｇのみに形成した。
【０１３０】
その後、図１１（ｇ）に示すように、薬剤を用いて、反応領域Ｇおよび反応領域Ｒ以外の非反応領域を選択に除去することで所望の領域に緑色発光層２１７を形成した。
【０１３１】
図１１（ｈ）に示すように、マスクを用いて、正孔輸送層２３０の所望の領域２３０ｃに可視光線を照射することによって、領域２３０ｃにおいてラジカルが発生するようにした。
【０１３２】
図１１（ｉ）に示すように、正孔輸送層２３０、反応領域Ｒおよび反応領域Ｇ上に、青色発光層２１５Ｂを真空蒸着法により以下の条件で形成した後、薬剤を用いて、反応領域Ｂ、反応領域Ｒおよび反応領域Ｇ以外の非反応領域を選択的に除去することで所望の領域に青色発光層２１５Ｂを形成した。そして、さらに、電子輸送層２１７を、正孔輸送層２３０、反応領域Ｒ、反応領域Ｇおよび反応領域Ｂ上に、真空蒸着法により以下の形成条件で形成した。
【０１３３】
（青色発光層２１５Ｂ形成条件）
原料：ホスト材料：カルバゾールアクリレート
ゲスト材料：ビス（４８，６８−ジフルオロフェニルピリジネート）テトラキス（１−ピラゾリル）ボレートイリジウム（III）（ＦＩｒ６）
蒸着条件：蒸着温度／蒸着圧力＝１８０℃／１ｅ−５ｔｏｒｒ
【０１３４】
（電子輸送層２１７形成条件）
原料：キノリノールアルミ錯体（トリス（８−キノリノレート）アルミニウム（Ａｌｑ３）
蒸着条件：蒸着源温度／蒸着圧力＝２００℃／１ｅ−５ｔｏｒｒ
【０１３５】
図１１（ｉ）に示すように、電子輸送層２１７上に電子注入層２１８と上部電極２１９とを真空蒸着法により以下の条件で形成した。以上により実施例２のデバイスを作製した。
【０１３６】
（電子注入層２１８形成条件）
原料：ＬｉＦ
蒸着条件：蒸着源温度／蒸着圧力＝３００℃／１ｅ−５ｔｏｒｒ
【０１３７】
（上部電極２１９形成条件）
原料：Ａｌ
蒸着条件：蒸着源温度／蒸着圧力＝２００℃／１ｅ−５ｔｏｒｒ
【０１３８】
＜実施例３＞
実施例３では、自己整合膜として、基材として選択した透明電極であるＩＴＯ膜と化学反応可能なトリエトキシ基を有し、ラジカル発生可能なアゾ構造を有する材料を選択した。実施例３は、特に、ラジカル発生機能を付与した自己整合層を形成する工程と酸素含有雰囲気にて自己整合層に励起光を照射することで無能力化する工程とその後自己整合層に励起光を照射することで活性化する工程、および正孔輸送層、発光層及び電子輸送層を自己整合的に形成する工程を含むことを特徴とする。実施例３では、正孔輸送材料、発光材料および電子輸送材料としてラジカル反応性を付与した材料を用いた。ホスト材料としてアクリルカルバゾール、ゲスト材料としてＩｒ系色素を用いた。以下、図１２〜図１３を参照しながら実施例３について説明する。
【０１３９】
図１２（ａ）に示すように、可視領域に吸収の無い基板であるソーダライムガラス基板３１０上に、電圧−電流を印加する可視領域に吸収の無い導電層としてＩＴＯ層３１１を定法のスパッタ法により１００ｎｍ形成した。なお、実施例３では、ＩＴＯ層３１１のパターン化は行わなかった。
【０１４０】
次に、ＩＴＯ層３１１上に自己整合層３４０を以下の手順で形成した。
３−アミノプロピルトリエトキシシランを用いて脱水縮合反応によりＩＴＯ電極上に固定した。無水コハク酸および４−ジメチルアミノピリジンを処理した。その後、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩およびペンタフルオロフェノールを反応させ、最後にラジカル発生可能なアゾ結合を有する２，２−アゾビス−２−アミジノプロパン二塩酸塩（Ｄｕｐｏｎｔ社製  商品名：ＶＡＺＯ  ５６）を反応させた。
【０１４１】
その後、図１２（ｂ）に示すように、マスクを用いて、酸素含有雰囲気下で発光層が不要の領域３４０’に可視光線を照射することによって、領域３４０’においてラジカル発生機能が一旦失活するようにした。
【０１４２】
図１２（ｃ）に示すように、自己整合層３４０の全面に可視光線を照射することによって、ラジカル発生機能が失活していない領域３４０ａにおいてラジカルが発生するようにした。
【０１４３】
図１２（ｄ）に示すように、自己整合層３４０上に真空蒸着法により以下の形成条件で、正孔輸送層３１３、赤色発光層３１５Ｒおよび電子輸送層３１７をこの順で形成した。
【０１４４】
（正孔輸送層３１３形成条件）
原料：Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−［１，１’−ビフェニル］−４，４−ジアミン  アクリル変性（ａｃｒｙｌ−ＴＰＤ）
蒸着条件：蒸着源温度／蒸着圧力＝２００℃／１ｅ−５ｔｏｒｒ
【０１４５】
（赤色発光層３１５Ｒ形成条件）
原料：ホスト材料：カルバゾールアクリレート
ゲスト材料：トリス（１−フェニルイソキノリン）イリジウム(III)
開始剤材料：ベンゾフェノン
蒸着条件：蒸着源温度／蒸着圧力＝２００℃／１ｅ−５ｔｏｒｒ
【０１４６】
（電子輸送層３１７形成条件）
原料：アクリル酸変性  キノリノールアルミ錯体；（トリス（８−キノリノレート）アルミニウム（III）（Ａｌｑ３）
蒸着条件：蒸着源温度／蒸着圧力＝２００℃／１ｅ−５ｔｏｒｒ
【０１４７】
図１２（ｅ）に示すように、反応領域Ｒ以外の非反応領域を薬剤を用いて選択的に除去することで、所望の領域に赤色発光層３１５Ｒを形成した。
【０１４８】
図１３（ｆ）に示すように、上述した図１２（ｂ）〜図１２（ｃ）に示す工程を順次行うことによって、所望の領域３４０ｂにおいてラジカルが発生するようにした。
【０１４９】
図１３（ｇ）に示すように、自己整合層３４０および反応領域Ｇ上に、真空蒸着法により以下の形成条件で、正孔輸送層３１３、緑色発光層３１５Ｇおよび電子輸送層３１７をこの順で形成した。
【０１５０】
（正孔輸送層３１３形成条件）
原料：Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−［１，１’−ビフェニル］−４，４−ジアミン  アクリル変性（ａｃｒｙｌ−ＴＰＤ）
蒸着条件：蒸着源温度／蒸着圧力＝２００℃／１ｅ−５ｔｏｒｒ
【０１５１】
（緑色発光層３１５Ｇ形成条件）
原料：ホスト材料：カルバゾールアクリレート
ゲスト材料：トリス（２−フェニルピリジン）イリジウム(III)
開始剤材料：ベンゾフェノン
蒸着条件：蒸着源温度／蒸着圧力＝２００℃／１ｅ−５ｔｏｒｒ
【０１５２】
（電子輸送層３１７形成条件）
原料：アクリル酸変性  キノリノールアルミ錯体；（トリス（８−キノリノレート）アルミニウム（III）（Ａｌｑ３）
蒸着条件：蒸着源温度／蒸着圧力＝２００℃／１ｅ−５ｔｏｒｒ
【０１５３】
その後、図１３（ｈ）に示すように、薬剤を用いて、反応領域Ｇおよび反応領域Ｒ以外の非反応領域を選択的に除去することで所望の領域に緑色発光層３１５Ｇを形成した。
【０１５４】
図１３（ｉ）に示すように、上述した図１２（ｂ）〜図１２（ｃ）に示す工程を順次行い、上層に青色発光層３１５Ｂを形成する所望の領域３４０ｃにおいて、ラジカルが発生するようにした。
【０１５５】
図１３（ｊ）に示すように、自己整合層３４０、反応領域Ｒ、反応領域Ｇおよび反応領域Ｂ上に、真空蒸着法により以外の条件で、正孔輸送層３１３と、青色発光層３１５Ｂと、電子輸送層３１７とをこの順で形成した後、薬剤を用いて、反応領域Ｂ、反応領域Ｒおよび反応領域Ｇ以外の非反応領域を除去することで、所望の領域に青色発光層３１５Ｂを形成した。
【０１５６】
（正孔輸送層３１３形成条件）
原料：Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−［１，１’−ビフェニル］−４，４−ジアミン  アクリル変性（ａｃｒｙｌ−ＴＰＤ）
蒸着条件：蒸着源温度／蒸着圧力＝２００℃／１ｅ−５ｔｏｒｒ
【０１５７】
（青色発光層３１５Ｂ形成条件）
原料：ホスト材料：カルバゾールアクリレート
ゲスト材料：アクリル酸変性  ビス（４８，６８−ジフルオロフェニルピリジネート）テトラキス（１−ピラゾリル）ボレートイリジウム（ＩＩＩ）（ＦＩｒ６）
開始剤材料：ベンゾフェノン
蒸着条件：蒸着温度／蒸着圧力＝１９０℃／１ｅ−５ｔｏｒｒ
【０１５８】
（電子輸送層３１７形成条件）
原料：アクリル酸変性  キノリノールアルミ錯体；（トリス（８−キノリノレート）アルミニウム（III）（Ａｌｑ３）
蒸着条件：蒸着源温度／蒸着圧力＝２００℃／１ｅ−５ｔｏｒｒ
【０１５９】
更に、図１３（ｋ）に示すように、自己整合層３４０、反応領域Ｒ、反応領域Ｇおよび反応領域Ｂ上に、真空蒸着法により以下の形成条件で、電子注入層３１８および上部電極３１９をこの順で形成した。以上により実施例３のデバイスを作製した。
【０１６０】
（電子注入層３１８形成条件）
原料：ＬｉＦ
蒸着条件：蒸着源温度／蒸着圧力＝３００℃／１ｅ−５ｔｏｒｒ
【０１６１】
（上部電極３１９形成条件）
原料：Ａｌ
蒸着条件：蒸着源温度／蒸着圧力＝２００℃／１ｅ−５ｔｏｒｒ
【０１６２】
６．他の実施の形態
以上この発明の実施形態および実施例について説明したが、この発明は、上述したこの発明の実施形態および実施例に限定されるものでは無く、この発明の要旨を逸脱しない範囲内で様々な変形や応用が可能である。
【０１６３】
例えば、正孔輸送層、発光層、電子輸送層の非反応領域の除去には薬剤を用いた現像処理により行ったが、基板加熱により未重合領域を除去することも可能である。
【０１６４】
例えば、発光層の発光色は、赤色、青色、緑色に限定されるものではない。また、異なる３色の発光層を形成する表示装置の製造方法について、説明したが、１色または２色の発光層や、４色以上の発光層を有する表示装置の製造方法にも適用可能である。
【０１６５】
また、例えば、上述の実施形態および実施例で挙げた数値、構造、材料などは、あくまで例に過ぎず、必要に応じて、これと異なる数値、構造、材料などを用いてもよい。
【図面の簡単な説明】
【０１６６】
【図１】この発明の第１〜第３の実施形態による表示装置の製造方法が適用される表示装置の構成例を示す断面図である。
【図２】この発明の第１の実施の形態による表示装置の製造方法を説明するための工程図である。
【図３】この発明の第１の実施の形態による表示装置の製造方法を説明するための工程図である。
【図４】この発明の第２の実施の形態による表示装置の製造方法を説明するための工程図である。
【図５】この発明の第２の実施の形態による表示装置の製造方法を説明するための工程図である。
【図６】この発明の第３の実施の形態による表示装置の製造方法を説明するための工程図である。
【図７】この発明の第３の実施の形態による表示装置の製造方法を説明するための工程図である。
【図８】実施例１を説明するための工程図である。
【図９】実施例１を説明するための工程図である。
【図１０】実施例２を説明するための工程図である。
【図１１】実施例２を説明するための工程図である。
【図１２】実施例３を説明するための工程図である。
【図１３】実施例３を説明するための工程図である。
【符号の説明】
【０１６７】
１０・・・基板
１１・・・第１電極
１２・・・正孔注入層
１３・・・正孔輸送層
１５・・・発光層
１５Ｇ・・・緑色発光層
１５Ｒ・・・赤色発光層
１５Ｂ・・・青色発光層
１６・・・正孔ブロッキング層
１７・・・電子輸送層
１８・・・電子注入層
１９・・・第２電極
２０・・・電源
【図１】
2010097886.tif 000003
【図２】
2010097886.tif 000004
【図３】
2010097886.tif 000005
【図４】
2010097886.tif 000006
【図５】
2010097886.tif 000007
【図６】
2010097886.tif 000008
【図７】
2010097886.tif 000009
【図８】
2010097886.tif 000010
【図９】
2010097886.tif 000011
【図１０】
2010097886.tif 000012
【図１１】
2010097886.tif 000013
【図１２】
2010097886.tif 000014
【図１３】
2010097886.tif 000015