(57)【要約】【課題】斜め方向のコントラストが高く、且つ黒表示時の斜め方向のカラーシフトが小さい、ＴＮモード液晶セル及びＴＮモード液晶表示装置の提供。【解決手段】一対の基板と、該一対の基板の間に配置される液晶層と、該一対の基板の少なくとも一方の内面上に配置された、互いに異なる色相の複数の着色層からなるカラーフィルタ層と、前記カラーフィルタ層を有する基板又は他方の基板の内面であって、前記カラーフィルタ層の着色層に対応する領域に配置された位相差層とを有し、前記位相差層が、配向状態に固定された円盤状液晶化合物を含有するとともに、その光学特性が、対応する着色層の色相に応じて、領域間で互いに異なることを特徴とするＴＮモード液晶セル、及び該液晶セルを有するＴＮモード液晶表示装置である。【選択図】図１
2010085690.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の基板と、
該一対の基板の間に配置される液晶層と、
該一対の基板の少なくとも一方の内面上に配置された、互いに異なる色相の複数の着色層からなるカラーフィルタ層と、
前記カラーフィルタ層を有する基板又は他方の基板の内面であって、前記カラーフィルタ層の着色層に対応する領域に配置された位相差層と、を有し、
前記位相差層が、配向状態に固定された円盤状液晶化合物を含有するとともに、その光学特性が、対応する着色層の色相に応じて、領域間で互いに異なることを特徴とするＴＮモード液晶セル。
【請求項２】
前記カラーフィルタ層の複数の着色層のうち、少なくとも２つの互いに異なる色相の着色層の厚みが互いに異なることを特徴とする請求項１に記載のＴＮモード液晶セル。
【請求項３】
前記カラーフィルタ層が、赤色（Ｒ）層、緑色（Ｇ）層、及び青色（Ｂ）層を含み、少なくともＢ層の厚みが、Ｒ層及びＧ層の厚みより大きく、そのことによって、Ｂ層に対応する前記液晶層の領域の厚みが、Ｒ層及びＧ層に対応する前記液晶層の領域より小さいことを特徴とする請求項２に記載のＴＮモード液晶セル。
【請求項４】
前記位相差層の厚みが、対応する着色層の色相に応じて、該位相差層の複数の領域間で異なり、そのことによって、前記位相差層の面内レターデーションＲｅが、対応する着色層の色相に応じて、複数の領域間で互いに異なることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載のＴＮモード液晶セル。
【請求項５】
前記カラーフィルタ層が、赤色（Ｒ）層、緑色（Ｇ）層、及び青色（Ｂ）層を含み、前記位相差層のＢ層に対応する領域の厚みが、Ｒ層及びＧ層に対応する領域の厚みより小さいことを特徴とする請求項４に記載のＴＮモード液晶セル。
【請求項６】
前記一対の基板の双方の内面のそれぞれに、前記位相差層を有することを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載のＴＮモード液晶セル。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか１項に記載の液晶セルを有することを特徴とするＴＮモード液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学補償能を有する位相差層をセル内に有する、いわゆるインセルタイプの、ＴＮモード液晶セル及びＴＮモード液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、ＴＮモード液晶表示装置は実用化され、パーソナルコンピューター（ＰＣ）用の液晶表示装置として広く利用されている。通常、ＴＮモード液晶表示装置には、液晶セルと一対の基板のそれぞれとの間に、液晶セルの複屈折を補償する作用のある位相差層が配置され、広視野角化を達成している。
液晶表示装置については、より表示性能を改善すること等を目的として、種々の特性の位相差層を液晶セル内に配置する、いわゆるインセル方式が、ＶＡモード液晶表示装置（例えば、特許文献１及び２）、及び半透過半反射型液晶表示装置（例えば、特許文献３）について提案されている。
【特許文献１】特開２００６−７８６４７号公報
【特許文献２】特開２００７−１９３０９０号公報
【特許文献３】特開２００７−１０１６４５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
近年、液晶表示装置は、ＰＣ用のディスプレイとしてのみならず、ＴＶ用としても利用されている。大型ＴＶは、複数の観察者が種々の方向から観察することから、ＰＣ用のディスプレイと比較して、より広視野角特性であることが求められる。ＴＮモード液晶表示装置についても、ＴＶ用ディスプレイとしての特性を満足するためには、表示性能をさらに改善する必要があり、特に、斜め方向のコントラストの向上、及び黒表示時の斜め方向のカラーシフトの軽減が必要とされている。
【０００４】
本発明は、斜め方向のコントラストが高く、且つ黒表示時の斜め方向のカラーシフトが小さい、ＴＮモード液晶セル及びＴＮモード液晶表示装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
前記課題を解決するための手段は、以下の通りである。
［１］  一対の基板と、
該一対の基板の間に配置される液晶層と、
該一対の基板の少なくとも一方の内面上に配置された、互いに異なる色相の複数の着色層からなるカラーフィルタ層と、
前記カラーフィルタ層を有する基板又は他方の基板の内面であって、前記カラーフィルタ層の着色層に対応する領域に配置された位相差層と、を有し、
前記位相差層が、配向状態に固定された円盤状液晶化合物を含有するとともに、その光学特性が、対応する着色層の色相に応じて、領域間で互いに異なることを特徴とするＴＮモード液晶セル。
［２］  前記カラーフィルタ層の複数の着色層のうち、少なくとも２つの互いに異なる色相の着色層の厚みが互いに異なることを特徴とする［１］のＴＮモード液晶セル。
［３］  前記カラーフィルタ層が、赤色（Ｒ）層、緑色（Ｇ）層、及び青色（Ｂ）層を含み、少なくともＢ層の厚みが、Ｒ層及びＧ層の厚みより大きく、そのことによって、Ｂ層に対応する前記液晶層の領域の厚みが、Ｒ層及びＧ層に対応する前記液晶層の領域より小さいことを特徴とする［２］のＴＮモード液晶セル。
［４］  前記位相差層の厚みが、対応する着色層の色相に応じて、該位相差層の複数の領域間で異なり、そのことによって、前記位相差層の面内レターデーションＲｅが、対応する着色層の色相に応じて、複数の領域間で互いに異なることを特徴とする［１］〜［３］のいずれかのＴＮモード液晶セル。
［５］  前記カラーフィルタ層が、赤色（Ｒ）層、緑色（Ｇ）層、及び青色（Ｂ）層を含み、前記位相差層のＢ層に対応する領域の厚みが、Ｒ層及びＧ層に対応する領域の厚みより小さいことを特徴とする［４］のＴＮモード液晶セル。
［６］  前記一対の基板の双方の内面のそれぞれに、前記位相差層を有することを特徴とする［１］〜［５］のいずれかのＴＮモード液晶セル。
［７］  ［１］〜［６］のいずれかの液晶セルを有することを特徴とするＴＮモード液晶表示装置。
【発明の効果】
【０００６】
本発明によれば、斜め方向のコントラストが高く、且つ黒表示時の斜め方向のカラーシフトが小さい、ＴＮモード液晶セル及びＴＮモード液晶表示装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００７】
以下、本発明について詳細に説明する。なお、本明細書において、数値が物性値、特性値等を表す場合に、「（数値１）〜（数値２）」という記載は「（数値１）以上（数値２）以下」の意味を表す。
本発明は、光学補償のための位相差層を液晶セル内に有する、いわゆるインセル方式のＴＮモード液晶セルに関する。本発明の液晶セルは、液晶セルの少なくとも一方の基板の内面に、配向状態に固定された円盤状液晶化合物を含有する位相差層を有する。当該位相差層は、その光学特性が、カラーフィルタ層の着色層の色相に応じて、領域ごとに互いに異なっている。ここで、位相差層の光学特性とは、面内レターデーションＲｅ及び厚み方向のレターデーションＲｔｈをいい、測定方法については後述する。
本発明では、円盤状液晶化合物を利用して作製した位相差層を、液晶セル内に配置し、しかも、カラーフィルタ層の各着色層の色相に応じて、領域間で光学特性を異ならせているので、ＴＮモード液晶セルの光学補償をより正確に行うことができる。その結果、斜め方向のコントラストを向上させることができ、及び黒表示時の斜め方向のカラーシフトを軽減することができる。
【０００８】
カラーフィルタ層として、赤色（Ｒ）層、緑色（Ｇ）層、及び青色（Ｂ）層を含むカラーフィルタ層を有する態様では、セル内に配置される位相差層の少なくともＢ層に対応する領域の厚みを薄くするのが好ましく、即ち、位相差層のＢ層に対応する位相差層の領域の面内レターデーションＲｅ及び／又は厚み方向レターデーションＲｔｈを、Ｒ層及びＧ層に対応する位相差層の領域のＲｅ及び／又はＲｔｈよりも小さくすることが好ましい。より好ましくは、Ｂ層に対応する位相差層の領域、Ｇ層に対応する位相差層の領域、及びＲ層に対応する位相差層の領域の順に、厚みが厚くなるように、位相差層を形成するのが好ましい。位相差層は、一様な層であっても、又はＲ層、Ｇ層、及びＢ層のそれぞれに対応する領域にのみ形成されている、微小な領域に分離された複数の層の集合体であってもよい。
【０００９】
本発明は、上記した通り、インセル方式のＴＮモード液晶セルに関するが、さらに、マルチギャップ方式と組み合わせた態様については、より高い効果が期待できる。ここでマルチギャップ方式の液晶セルとは、セルギャップ、即ち液晶層の厚みが、カラーフィルタ層の着色層の色相に応じて、領域間で互いに異なる液晶セルをいう。カラーフィルタの各着色層の厚みを、色相に応じて異ならせることで、マルチギャップの液晶層とすることができる。例えば、カラーフィルタ層として、赤色（Ｒ）層、緑色（Ｇ）層、及び青色（Ｂ）層を含むカラーフィルタ層を有する態様では、少なくともＢ層の厚みが、Ｒ層及びＧ層の厚みより大きく、そのことによって、Ｂ層に対応する前記液晶層の領域の厚みが、Ｒ層及びＧ層に対応する前記液晶層の領域より小さい態様が好ましい。より好ましくは、Ｂ層に対応する液晶層の領域、Ｇ層に対応する液晶層の領域、及びＲ層に対応する液晶層の領域の順に、液晶層の厚みが厚くなっている態様である。
【００１０】
従来、ＴＮモード液晶セルの光学補償には、２枚の位相差フィルムが用いられ、一対の基板と液晶セルとの間に１枚ずつ配置されるのが一般的である。本発明の液晶セルは、セル内に、前記位相差層を一層のみ有していてもよいし、セル内に二つの位相差層を有していてもよい。後者の態様では、二つの位相差層は、一対のセル基板のそれぞれの内面上に一層ずつ配置される。また、後者の態様では、２つの位相差層の双方が、カラーフィルタの着色層の色相に応じて、複数の領域間で光学特性が異なっているのが好ましいが、一方はこの特徴を有し、他方は光学特性が一様であっても勿論よい。
【００１１】
図１に、本発明の液晶セルに利用可能な液晶セル基板の一例の断面模式図を示す。図中の各層の大きさや厚みの相対的な関係は、実際の各層の大きさや厚みの相対的関係と必ずしも一致していない。他の図においても同様である。
図１に示す液晶セル用基板は、ガラス等からなる基板１の表面上に、ブラックマトリックスとなる遮光層２、遮光層２によってそれぞれ隔てられたＲ（赤）層３Ｒ、Ｇ（緑）層３Ｇ、及びＢ（青）層３Ｂ（以下、各着色層を「マイクロカラーフィルタ」という場合がある）からなるカラーフィルタ３、セル内位相差層４、及びＩＴＯ等からなる透明電極層５を有する。
【００１２】
図１に示す基板では、形成された着色層、Ｒ層３Ｒ、Ｇ層３Ｇ、及びＢ層３Ｂの膜厚が互いに異なり、したがって、それぞれの着色層上に形成されたセル内位相差層４の３Ｒ、３Ｇ及び３Ｂに対応する領域４ｒ、４ｇ及び４ｒの膜厚も互いに異なる。その結果、着色層の色相に対応して、セル内位相差層の膜厚を変えることができ、セル内位相差層のレターデーション値を各色毎に最適化することができる。Ｒ層、Ｇ層及びＢ層に対応する位置に配置されるセル内位相差層４のそれぞれの厚みｄｒ、ｄｇ及びｄｂが、ｄｂ＜ｄｒで且つｄｂ＜ｄｇを満たすことが好ましく、ｄｂ＜ｄｇ＜ｄｒを満たすことがより好ましい。
【００１３】
図１に示す液晶セル用基板は、例えば、表面が均一な基板１の表面に、色相に応じて互いに異なる厚みの複数の着色層からなるカラーフィルタ３を形成し、その後、塗布または転写などにより、セル内位相差層４を表面が均一になるように形成することによって、作製することができる。基板、カラーフィルタ、セル内位相差層がこの順で形成される構成においてはカラーフィルタの厚みを各色（赤色、緑色、青色）毎に変えて、セル内位相差層の光学特性を最適化する方法が好ましい。
【００１４】
各色（赤色、緑色、青色）の着色層、Ｒ（赤）層３Ｒ、Ｇ（緑）層３Ｇ、及びＢ（青）層３Ｂのそれぞれの厚みｄ（ＣＦＲ）、ｄ（ＣＦＧ）、ｄ（ＣＦＢ）が、ｄ（ＣＦＲ）＜ｄ（ＣＦＢ）且つｄ（ＣＦＧ）＜ｄ（ＣＦＢ）を満たすことが好ましく、ｄ（ＣＦＲ）＜ｄ（ＣＦＧ）＜ｄ（ＣＦＢ）を満たすことがより好ましい。
【００１５】
基板１は、所望とされる機能等に応じて、単層構造とすることもできるし、複数層構造とすることもできる。基板１を単層構造とする場合、この基板１はガラス等の無機材料や樹脂等の有機材料により形成することができる。基板１を複数層構造とする場合、その構造は、所望される液晶セル用基板の機能等に応じて適宜選定可能であり、この場合でも、セル内光学補償層４の下地となる層は、ガラス等の無機材料や樹脂等の有機材料により形成するのが好ましい。基板１は、光学的に等方性のものであることが好ましいが、必要に応じて、局所的に遮光領域等を設けることもできる。基板１の光透過率は、所望される液晶セル用基板の機能等に応じて適宜選定可能である。
【００１６】
基板１上に形成されているセル内位相差層４は、円盤状液晶化合物を含有する液晶性組成物からなる層である。円盤状液晶分子をハイブリッド配向させて、その状態に固定して形成された層であるのが好ましい。
【００１７】
カラーフィルタ３は、赤色のマイクロカラーフィルタ３Ｒ、緑色のマイクロカラーフィルタ３Ｇ、及び青色のマイクロカラーフィルタ３Ｂを所定のパターンで配置した原色系のものである。各色のマイクロカラーフィルタ３Ｒ、３Ｇ、３Ｂの配置形態については特に制限はなく、ストライプ型、モザイク型、トライアングル型と称される種々の配置形態のいずれであってもよい。また、原色系のカラーフィルタに代えて、補色系のカラーフィルタを用いることも可能である。
【００１８】
カラーフィルタ３は、例えば、各色のマイクロカラーフィルタ３Ｒ、３Ｇ、３Ｂ毎に、その材料となるカラーレジンの塗膜を、例えばフォトリソグラフィー法で所定の形状にパターニングすることによって、又は各色のマイクロカラーフィルタ３Ｒ、３Ｇ、３Ｂ毎に、その材料となるカラーフィルタ用インキを所定形状に塗布することによって、形成することができる。
【００１９】
遮光層２は、表示用液晶パネルにおける画素間からの光漏れ（漏れ光）や、アクティブマトリクス駆動方式の表示用液晶パネルにおけるアクティブ素子の光劣化等を防止するためのものであり、表示用液晶パネルにおいて個々の画素を平面視上画定する。各色の着色層３Ｒ、３Ｇ、３Ｂは、それぞれ、遮光層２により画定される所定の画素を平面視上覆うようにして配置される。
【００２０】
この遮光層２は、例えば、金属クロム薄膜やタングステン薄膜等、遮光性又は光吸収性を有する金属薄膜を所定形状にパターニングすることにより、形成することができる。黒色樹脂等の有機材料を所定形状に印刷することにより遮光層２を形成することも可能である。なお、カラーフィルタ３として単色のカラーフィルタを用いることも可能であり、この場合には遮光層２を省略することもできる。
【００２１】
なお、図１に示す様に、カラーフィルタ層３の各着色層の厚みによって形成される凹凸が、位相差層４により、平坦化されていると、液晶層中の液晶分子の配向を乱れさせないので好ましい。
【００２２】
なお、図１では、セル内位相差層４をカラーフィルタ３の上に配置する例を示したが、セル内位相差層４は、基板１の内面とカラーフィルタ３との間に配置されていても、同様の効果が得られる。
【００２３】
図１では、カラーフィルタが配置されている基板と同一の基板にセル内位相差層を配置した基板の例を示したが、本発明に利用可能なセル基板は上記態様に限定されるものではない。例えば、図２に示す、カラーフィルタが配置されていない基板側にセル内位相差層を有する基板を利用してもよい。なお、図１と同一の機能層には同一の符号を付している。
図２の液晶セル用基板は、ガラス等からなる基板１’の表面であって、他方の基板表面に配置されたカラーフィルタのＢ層に対応する領域に平坦化層６ｂ、及び同カラーフィルタのＧ層に対応する領域に平坦化層６ｇを有する。この基板１’の表面に位相差層４’を塗布または転写等により形成すると、Ｂ層に対応する位相差層の領域４ｂ’の厚みｄｂ’及びＧ層に対応する位相差層の領域４ｇ’の厚みｄｇ’は、平坦化層６ｂ及び６ｇそれぞれの存在により、その厚みが薄くなり、Ｒ層、Ｇ層及びＢ層に対応する位置に配置されるセル内位相差層４’のそれぞれの厚みｄｒ’、ｄｇ’及びｄｂ’が、ｄｂ’＜ｄｇ’＜ｄｒ’を満たす。但し、上記した通り、ｄｂ’＜ｄｇ’及びｄｂ’＜ｄｒ’を満足していれば（即ち、他方の基板表面に配置されたカラーフィルタのＢ層に対応する領域に平坦化層６ｂのみが存在し、平坦化層６ｇは存在してなくても）、本発明の効果が得られる。
【００２４】
図１に示す液晶セル用基板を、図２に示す液晶セル用基板と組み合わせると、本発明の効果がより高くなるので好ましい。例えば、図３に示す通り、表示面側液晶セル用基板Ｓ１として、図１に示すセル基板を用い、及びバックライト側液晶セル基板Ｓ２として、図３に示すセル基板を用い、その間にネマチック液晶材料からなる液晶層８を配置したＴＮモード液晶セルは、本発明のＴＮモード液晶セルの好ましい一態様である。図３に示した通り、液晶層８に接触する面に、配向層７を配置し、液晶層を捩れ配向させるのが好ましい。配向層７としては、ＴＮモード液晶セルに従来から利用されている、種々の配向膜を利用することができる。
【００２５】
また、図１に示す液晶セル用基板を、カラーフィルタ３のＢ層に対応する領域に平坦化層、及びカラーフィルタ３のＧ層に対応する領域に平坦化層（但し、Ｂ層に対応する領域に平坦化層よりも厚みが薄い）を有する基板と、組み合わせて液晶セルを製造すると、平坦化層の存在により、マルチギャップの液晶セルとなり、セル内位相差層による効果のみならず、マルチギャップによる光学補償の最適化効果も得られるので好ましい。
【００２６】
また、図２に示す液晶セル用基板を、Ｒ層、Ｇ層、及びＢ層の順に、厚みが厚くなっているカラーフィルタ層を有する基板と組み合わせることによっても、各着色層の厚みの違いにより、マルチギャップの液晶セルとなり、セル内位相差層による効果のみならず、マルチギャップによる光学補償の最適化効果も得られるので好ましい。
【００２７】
なお、図１及び図２では、透明電極層は一様に厚さとしたが、透明電極層などカラーフィルタ層以外の機能層の厚みについて、領域間で差を持たせることで、セル内位相差層の位相差層の厚みを領域間で異なる厚みとすることができるし、また液晶層の厚みについても領域間で異なる厚み、即ち、マルチギャップ構造にすることができる。
【００２８】
セル内に配置される位相差層の厚みについては特に制限はない。従来のセル外に配置される液晶組成物からなる位相差層と同様の厚みであってもよい。セル内に配置される位相差層の厚みは、好ましくは０．１〜２０μｍ程度であり、より好ましくは０．１〜１０μｍ程度である。少なくとも１色（好ましくはＢ層）に対応する位相差層の領域の厚みをかえることで、本発明の効果を得るためには、当該層の対応する領域の厚みと、他の着色層に対応する領域の厚みとを１〜５５０ｎｍ異ならせるのが好ましく、５０〜５００ｎｍ異ならせるのがより好ましい。
また、面内レターデーションＲｅとしては、Ｂ層に対応する領域の位相差層のＲｅが、Ｇ層及びＲ層に対応する領域の位相差層のＲｅと比較して、０．１〜１６．２ｎｍ程度小さくなるのが好ましく、１．６〜１５．６ｎｍ程度小さくなるのがより好ましい。
【００２９】
また、図１及び図２では、セル内に配置される位相差層の厚みを領域間で変化させることで、光学補償作用を最適化した態様を示したが、厚みを変化させずに、カラーフィルタの着色層の色相に応じて、位相差層の領域間で光学特性が互いに異なっている態様も、本発明に含まれる。本発明では、セル内位相差層は、配向状態に固定された円盤状液晶化合物を含有するが、位相差層の領域間で、固定されている配向状態に差をもたせてもよい。より具体的には、チルト角が互いに異なる配向状態に円盤状液晶化合物を固定して、各領域を形成し、位相差層の領域間の光学特性に差を持たせることができる。
【００３０】
セル内位相差層は、円盤状液晶化合物（「ディスコティック液晶化合物」という場合がある）を含有する組成物から形成することができる。円盤状液晶化合物については、様々な文献（Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅ  ｅｔ  ａｌ．，Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｒ．Ｌｉｑ．Ｃｒｙｓｔ．，ｖｏｌ．７１，ｐａｇｅ１１１（１９８１）；日本化学会編、季刊化学総説、Ｎｏ．２２、液晶の化学、第５章、第１０章第２節（１９９４）；Ｂ．Ｋｏｈｎｅ  ｅｔ  ａｌ．，Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍ．，ｐａｇｅ１７９４（１９８５）；Ｊ．Ｚｈａｎｇ  ｅｔ  ａｌ．，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，ｖｏｌ．１１６，ｐａｇｅ２６５５（１９９４））に記載されている。ディスコティック液晶化合物の重合については、特開平８−２７２８４号公報に記載がある。
ディスコティック液晶化合物を重合により固定するためには、ディスコティック液晶化合物の円盤状コアに、置換基として重合性基を結合させる必要がある。ただし、円盤状コアに重合性基を直結させると、重合反応において配向状態を保つことが困難になる。そこで、円盤状コアと重合性基との間に、連結基を導入する。従って、重合性基を有するディスコティック液晶化合物は、下記式（Ａ）で表わされる化合物であることが好ましい。
【００３１】
（Ａ）  Ｄ（−Ｌ−Ｐ）n
式中、Ｄは円盤状コアであり；Ｌは二価の連結基であり；Ｐは重合性基であり；そして、ｎは４〜１２の整数である。
円盤状コア（Ｄ）の例を以下に示す。以下の各例において、ＬＰ（又はＰＬ）は、二価の連結基（Ｌ）と重合性基（Ｐ）との組み合わせを意味する。
【００３２】
【化１】
2010085690.tif 000003
【００３３】
【化２】
2010085690.tif 000004
【００３４】
【化３】
2010085690.tif 000005
【００３５】
【化４】
2010085690.tif 000006
【００３６】
【化５】
2010085690.tif 000007
【００３７】
【化６】
2010085690.tif 000008
【００３８】
【化７】
2010085690.tif 000009
【００３９】
【化８】
2010085690.tif 000010
【００４０】
【化９】
2010085690.tif 000011
【００４１】
前記位相差層の作製に用いられるディスコティック液晶化合物としては、特開２００６−７６９９２号公報明細書中の段落番号［００５２］、特開２００７−２２２０号公報明細書中の段落番号［００４０］〜［００６３］に記載の化合物が好ましく、例えば、下記一般式（Ｄ１６）で表される化合物が好ましい。これらのディスコティック液晶化合物は、高い複屈折性を示すので好ましい。下記一般式（Ｄ１６）表される化合物の中でも、特に、ディスコティックネマチック相を示す化合物が好ましい。
【００４２】
【化１０】
2010085690.tif 000012
【００４３】
また、前記ディスコティック液晶化合物の好ましい例には、特開２００５−３０１２０６号公報に記載の化合物も含まれる。
【００４４】
また、特開２００７−１０２２０５号公報に記載されているような液晶化合物は、液晶セル中の液晶化合物の複屈折波長分散により近い複屈折波長分散を有するため、好ましく用いることができる。特に好ましい骨格を以下に示す。
【００４５】
【化１１】
2010085690.tif 000013
【００４６】
式（Ａ）中、二価の連結基（Ｌ）は、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−Ｏ−、−Ｓ−及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。二価の連結基（Ｌ）は、アルキレン基、アリーレン基、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−Ｏ−及び−Ｓ−からなる群より選ばれる二価の基を少なくとも二つ組み合わせた二価の連結基であることがさらに好ましい。二価の連結基（Ｌ）は、アルキレン基、アリーレン基、−ＣＯ−及び−Ｏ−からなる群より選ばれる二価の基を少なくとも二つ組み合わせた二価の連結基であることが最も好ましい。アルキレン基の炭素原子数は、１〜１２であることが好ましい。アルケニレン基の炭素原子数は、２〜１２であることが好ましい。アリーレン基の炭素原子数は、６〜１０であることが好ましい。
二価の連結基（Ｌ）の例を以下に示す。左側が円盤状コア（Ｄ）に結合し、右側が重合性基（Ｐ）に結合する。ＡＬはアルキレン基又はアルケニレン基、ＡＲはアリーレン基を意味する。なお、アルキレン基、アルケニレン基及びアリーレン基は、置換基（例、アルキル基）を有していてもよい。
【００４７】
Ｌ１：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−
Ｌ２：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−
Ｌ３：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−
Ｌ４：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ５：−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−
Ｌ６：−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−
Ｌ７：−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ８：−ＣＯ−ＮＨ−ＡＬ−
Ｌ９：−ＮＨ−ＡＬ−Ｏ−
Ｌ１０：−ＮＨ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ１１：−Ｏ−ＡＬ−
Ｌ１２：−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−
Ｌ１３：−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ１４：−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−ＮＨ−ＡＬ−
Ｌ１５：−Ｏ−ＡＬ−Ｓ−ＡＬ−
Ｌ１６：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−ＣＯ−
Ｌ１７：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ１８：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ１９：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ２０：−Ｓ−ＡＬ−
Ｌ２１：−Ｓ−ＡＬ−Ｏ−
Ｌ２２：−Ｓ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ２３：−Ｓ−ＡＬ−Ｓ−ＡＬ−
Ｌ２４：−Ｓ−ＡＲ−ＡＬ−
【００４８】
式（Ａ）中の重合性基（Ｐ）は、重合反応の種類に応じて決定する。重合性基（Ｐ）の例を以下に示す。
【００４９】
【化１２】
2010085690.tif 000014
【００５０】
【化１３】
2010085690.tif 000015
【００５１】
【化１４】
2010085690.tif 000016
【００５２】
【化１５】
2010085690.tif 000017
【００５３】
【化１６】
2010085690.tif 000018
【００５４】
【化１７】
2010085690.tif 000019
【００５５】
重合性基（Ｐ）は、不飽和重合性基（Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３、Ｐ７、Ｐ８、Ｐ１５、Ｐ１６、Ｐ１７）又はエポキシ基（Ｐ６、Ｐ１８）であることが好ましく、不飽和重合性基であることがさらに好ましく、エチレン性不飽和重合性基（Ｐ１、Ｐ７、Ｐ８、Ｐ１５、Ｐ１６、Ｐ１７）であることが最も好ましい。
式（Ａ）中、ｎは４〜１２の整数である。具体的な数字は、円盤状コア（Ｄ）の種類に応じて決定される。なお、複数のＬとＰの組み合わせは、異なっていてもよいが、同一であることが好ましい。
【００５６】
前記液晶組成物中、液晶化合物は組成物の全量（溶媒を含む場合は固形分）に対し、５０質量％〜９９．９質量％であるのが好ましく、７０質量％〜９９．９質量％がより好ましく、８０質量％〜９９．５質量％がよりさらに好ましい。
【００５７】
上記の液晶化合物と共に、液晶性組成物中には、可塑剤、界面活性剤、重合性モノマー等を併用して、塗工膜の均一性、膜の強度、液晶化合物の配向性等を向上させることができる。これらの素材は液晶化合物と相溶性を有し、配向を阻害しないことが好ましい。
重合性モノマーとしては、ラジカル重合性もしくはカチオン重合性の化合物が挙げられる。好ましくは、多官能性ラジカル重合性モノマーであり、上記の重合性基含有の液晶化合物と共重合性のものが好ましい。例えば、特開２００２−２９６４２３号公報明細書中の段落番号［００１８］〜［００２０］記載のものが挙げられる。上記化合物の添加量は、円盤状液晶性分子に対して一般に１〜５０質量％の範囲にあり、５〜３０質量％の範囲にあることが好ましい。
【００５８】
液晶化合物とともに使用するポリマーは、塗布液を増粘できることが好ましい。ポリマーの例としては、セルロースエステルを挙げることができる。セルロースエステルの好ましい例としては、特開２０００−１５５２１６号公報明細書中の段落番号［０１７８］記載のものが挙げられる。液晶化合物の配向を阻害しないように、上記ポリマーの添加量は、液晶性分子に対して０．１〜１０質量％であることが好ましく、０．１〜８質量％であることがより好ましい。
【００５９】
界面活性剤としては、従来公知の化合物が挙げられるが、フッ素系化合物が好ましい。具体的には、例えば、特開２００１−３３０７２５号公報明細書中の段落番号［００２８］〜［００５６］記載の化合物、特開２００５−０６２６７３号公報の段落番号［００６９］〜［０１２６］記載の化合物が挙げられる。特に好ましい例として、特開２００５−２９２３５１号公報明細書中の段落番号［００５４］から［０１０９］に記載のフルオロ脂肪族基含有ポリマーが挙げられる。
【００６０】
位相差層は、上記成分を含む液晶性組成物を、配向膜の表面（好ましくは、ラビング処理面）上に塗布し、液晶相−固相転移温度以下で配向させ、その後、ＵＶ照射によって、重合反応を進行させて、液晶化合物をその配向状態に固定することにより形成することができる。液晶組成物の塗布は、公知の方法（例、バーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法）により実施できる。液晶相−固相転移温度としては７０℃〜３００℃が好ましく、特に７０℃〜１７０℃が好ましい。液晶化合物の重合反応としては、光重合反応が行われる。液晶化合物の重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましく、照射エネルギーは、２０〜５０００ｍＪ／ｃｍ2であることが好ましく、１００〜８００ｍＪ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を実施してもよく、加熱条件に特に制限はないが、液晶化合物の配向度を低下させないために、１２０℃程度以下であることがより好ましい。
【００６１】
円盤状液晶化合物の分子をハイブリッド配向状態に固定するのが好ましい。なお、ハイブリッド配向とは、層の厚み方向で液晶分子のダイレクタの方向が連続的に変化する配向状態をいう。また、セル内に配置される位相差層が、斜め方向のコントラストの向上及び黒表示時の斜め方向のカラーシフトの軽減に寄与するためには、位相差層のＲｅ（５５０）は０〜７０ｎｍ程度であり、Ｒｔｈ（５５０）は、３０〜３００ｎｍ程度であるのが好ましい。
【００６２】
前記位相差層は、転写材料を利用して形成することもできる。例えば、上記方法により、仮支持体上に、所望の厚み及び所望の光学特性の位相差層を形成し、基板表面、例えば、カラーフィルタ層上に位相差層を転写することで、形成することができる。転写材料が感光性樹脂層を含んでいると、微細な領域に分割された、位相差層を形成できる。また、インクジェット法、及び印刷法などを利用することによっても、微細な領域に分割された、位相差層を形成できる。詳細については、特開２００７−１９３０９０号公報に記載の方法を参照することができる。
【００６３】
また、本発明では、図２中に示したような、位相差層の厚みの小さい領域には、平坦化層を形成して、厚みの大きい領域との厚みの差を軽減して、位相差層全体として平坦化するのが好ましい。当該平坦化層の形成には、リソグラフィー材料を用いることができる。中でも、フォトレジスト材料が、取り扱い性が良好であるので好ましい。好ましいフォトレジスト材料としては、次のようなものが例示できる。
使用するフォトレジスト材料は、必要とされる膜厚や加工適性に従って、適宜選択することができる。例えば、東京応化工業社の半導体材料用には、ｇ線用フォトレジストとして、ＯＦＰＲシリーズ（標準レジスト）ＴＳＭＲシリーズ（サブミクロン対応レジスト）、 ｉ線用フォトレジストとしてＴＳＣＲシリーズ（ハーフミクロン対応高・中反射基板用染料レジスト）、ＴＨＭＲ−ｉＰ／ｉＮシリーズ（ハーフミクロン対応レジスト）、ＴＤＭＲ−ＡＲシリーズ（サブハーフミクロン対応レジスト）、ＴＳＱＲ−ｉＱシリーズ（サブハーフミクロン対応レジスト）、ＫｒＦエキシマレーザー用フォトレジストとしてＴＤＵＲ−Ｐ／Ｎシリーズ（クォーターミクロン対応レジスト）、電子ビーム用フォトレジストとしてＯＥＢＲシリーズがある。またフラットパネルディスプレイ用電子材料用フォトレジストとしてＴＦＲシリーズ（ＴＦＴ用高感度ポジタイプ）、ＣＦＰＲシリーズ（ＬＣＤ／ＰＤＰカラーフィルタ作成用顔料分散型ネガタイプ）、ＰＭＥＲ−Ｐシリーズ（ＳＴＮ用ポジタイプ）、ＴＬＣＲ（ＳＴＮ用ポジタイプ）、オーディルＢＦシリーズ（ＰＤＰリブ加工用ドライフィルムレジスト）、オーディルＦＩシリーズ（ＰＤＰ電極形成用ドライフィルムレジスト）がある。またプリント配線板用／ケミカルミーリング用電子材料フォトレジストには、オーディルシリーズ（ドライフィルムレジスト）、ＯＰＳＲ（フォトソルダーレジスト）、ＯＰレジスト（プリント配線板用ネガタイプ）、ＴＳＧＲレジスト（炭酸ナトリウム現像タイププリント配線板用ネガタイプ）、ＰＭＥＲ（アルカリ現像ネガタイプ／ポジタイプ）、ＢＭＲ（耐メッキネガタイプ）、ＴＰＲ（ＰＶＣ系ネガタイプ）、ＥＰＰＲ（耐薬品性ネガタイプ）等があり、もちろんこれらに制限されるものではない。
【００６４】
フォトレジスト材料により上記平坦化層を形成する方法の一例は、以下の通りである。まず、フォトレジスト材料を基板表面に塗布する。塗布方法については特に制限はなく、均一に薄く形成できる方法であればよい。例えば、ウェットコーティング法では、スピンコート法、グラビアコート法、（キス）リバースコート法、コンマコート法、リップコート法、毛細管（ＣＡＰ）コート法、ナイフコート法、ディップコート法、カーテンコート法、掛け流し法等が、またドライコーティング法では、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の方法や、熱化学気相成長（熱ＣＶＤ）法やプラズマＣＶＤ法等を利用することができる。
【００６５】
次に、塗布後、必要に応じてプリベーキング、露光を行い、必要に応じて、硬膜処理、及び／又はベーキングを行ってもよい。
露光は、紫外線（ＵＶ-Ａ、ＵＶ-Ｂ及びＵＶ-Ｃを含むＵＶ）、可視光線、ガンマー線、Ｘ線、電子線などの電離放射線を、全面に照射すればよく、取扱い性やコスト面から紫外線（ＵＶ）がより好ましい。
【００６６】
より具体的には、フォトレジストを基板上の表面へ塗布し、乾燥した後に、所定のパターン版にてマスキングして、密着露光し、水又は現像液などで現像し、必要に応じて、硬膜処理やベーキング処理をする。
転写材料を利用して、位相差層をセル基板上に配置する態様では、フォトレジスト材料からなる層を、転写材料中に形成し、位相差層とともに基板上に転写し、その後、露光及び現像により、所望の位置に所望の厚みの平坦化層を形成することができる。
【００６７】
マスク版のパターンは、例えばメッシュ状、ストライプ状、又は所望のパターンなどである。メッシュ状は、ライン部で囲まれた複数の開口部又は凹部からなり、開口部又は凹部の形状（メッシュパターン）は特に限定されず、例えば、正３角形等の３角形、正方形、長方形、菱形、台形などの４角形、６角形、等の多角形、円形、楕円形などが適用できる。これらの開口部の複数を、組み合わせてメッシュとする。ストライプ状は、ライン部と、該ライン部間の開口部又は凹部からなっており、該ストライプ状はアドレス電極などを設ける場合に好適である。また、所望のパターンは、用いられるアプリケーションの電極の取り出し方等により決まるので、単純な幾何学模様ではなく、複雑な形状を有するパターンも多く、特に限定されるものではない。開口部とはフォトレジスト層を除去したもので、凹部とはフォトレジスト層の厚さ方向の全部を除去したものである。通常、ライン幅、及びライン間隔（ラインピッチ）は、その凹部の中に入れるものによって異なるので、μｍ〜ｃｍオーダーまであり、特に限定されるものではない。
【００６８】
ＵＶ照射に用いるＵＶ照射装置（ＵＶランプともいう）としては、化学反応用ケミカルランプ、低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、可視光ハロゲンランプ等が使用される。ＵＶの照射量としては、２００〜６００ｎｍの波長の積算エネルギーが０．０１〜１０Ｊ／ｃｍ2となる程度とすることが好ましい。また、ＵＶの照射雰囲気としては、空気中でもよいし、窒素やアルゴン等の不活性ガス雰囲気下でもよい。
紫外線の波長は２００〜４００ｎｍ程度で、保護層の材料に応じて、波長を選択すればよい。その照射量は、組成物の材質や量と、ＵＶランプの出力と、加工速度に応じて照射すれば良い。
【００６９】
前記平坦層の厚みは、セル内に形成する位相差層の厚みに従い設定すればよく、ｎｍ〜μｍのオーダーが好ましい。
【００７０】
本発明は、本発明の液晶セルを有するＴＮモード液晶表示装置にも関する。本発明のＴＮモード液晶表示装置は、内部に少なくとも一の位相差層を有するＴＮモード液晶セルを有する。
図４に、本発明のＴＮモード液晶表示装置の一例の構成を示す模式図を示す。図４に示す液晶表示装置は、偏光板ＰＬ１及びＰＬ２と、その間に液晶セルＬＣを有する。液晶セルＬＣの詳細な構造は示さないが、液晶セルＬＣは、一対の基板のうち一方は、内面にセル内位相差層を有する、例えば、図３に例示した液晶セルＬＣである。偏光板ＰＬ１及びＰＬ２は、偏光子１２及び１４と、その内側面に保護膜１６及び１８と、その外側面に保護膜２０及び２２とを、それぞれ有する。偏光子１２及び１４は、それぞれの吸収軸を互いに直交させて配置されている。液晶セルＬＣは、ＴＮモードであり、電極に駆動電圧が供与されていない状態では、液晶層は約９０°ねじれ配向し、明表示状態になり、電極に駆動電圧が供与されている状態では、液晶層のねじれ配向が解消し、液晶分子は長軸方向を電界の方向に一致させて配向し、暗表示状態になる。液晶セルＬＣ内に配置されているセル内位相差層は、斜め方向のコントラストの向上、及び黒表示時のカラーシフトの軽減に寄与する。
【００７１】
本明細書において、Ｒｅ（λ）及びＲｔｈ（λ）は各々、波長λｎｍにおける面内のレターデーション及び厚さ方向のレターデーションを表す。ＲｅはＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）製）を利用して、波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。Ｒｔｈは前記Ｒｅ、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨにより判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して＋４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値、及び面内の遅相軸を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して−４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値の計３つの方向で測定したレターデーション値と、平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値とに基づいて、ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨが算出する。
ここで平均屈折率の仮定値はポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨはｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出する。この算出されたｎｘ、ｎｙ、ｎｚよりＮｚ＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）が更に算出される。なお、特に測定波長について言及されていない場合は、測定波長は５５０ｎｍとする。
【実施例】
【００７２】
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、物質量とその割合、操作等は本発明の趣旨から逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下の具体例に制限されるものではない。
【００７３】
１．  基板（１）の作製
１．−１  熱可塑性樹脂層用塗布液ＣＵ−１の調製
下記の組成物を調製し、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、配向層用塗布液ＣＵ−１として用いた。
・熱可塑性樹脂層用塗布液組成（質量％）
メチルメタクリレート／２−エチルヘキシルアクリレート／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体（共重合組成比（モル比）＝５５／３０／１０／５、重量平均分子量＝１０万、Ｔｇ≒７０℃）                                            ５．８９
スチレン／アクリル酸共重合体（共重合組成比（モル比）＝６５／３５、重量平均分子量＝１万、Ｔｇ≒１００℃）                                          １３．７４
ＢＰＥ−５００（新中村化学工業（株）製）                            ９．２０
メガファックＦ−７８０−Ｆ（大日本インキ化学工業（株）社製）        ０．５５
メタノール                                                        １１．２２
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート                    ６．４３
メチルエチルケトン                                                ５２．９７
【００７４】
１．−２  配向層用塗布液ＡＬ−１の調製
下記の組成物を調製し配向層用塗布液ＡＬ−１として用いた。
配向膜塗布液ＡＬ−１の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――
下記の変性ポリビニルアルコール                                ４０質量部
水                                                          ７２８質量部
メタノール                                                  ２２８質量部
グルタルアルデヒド（架橋剤）                                    ２質量部
クエン酸エステル（ＡＳ３、三共化学（株））                ０．６９質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――
【００７５】
【化１８】
2010085690.tif 000020
【００７６】
１．−３  位相差層形成用液晶組成物ＬＣ−２の調製
下記の組成の位相差層形成用液晶組成物の塗布液ＬＣ−２を調製した。
・位相差層形成用液晶組成物ＬＣ−２（質量％）
下記のディスコティック液晶化合物（１）                            ４１．０１
エチレンオキサイド変成トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）                                ４．０６
セルロースアセテートブチレート
（ＣＡＢ５５１−０．２、イーストマンケミカル社製）                  ０．３３
セルロースアセテートブチレート
（ＣＡＢ５３１−１、イーストマンケミカル社製）                      ０．１１
下記に示すフルオロ脂肪族基含有ポリマーＡ                            ０．２３
下記に示すフルオロ脂肪族基含有ポリマーＢ                            ０．０３
光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバ・ジャパン社製）            １．３５
増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）                    ０．４５
メチルエチルケトン                                              １３１．５０
【００７７】
【化１９】
2010085690.tif 000021
【００７８】
【化２０】
2010085690.tif 000022
【００７９】
【化２１】
2010085690.tif 000023
【００８０】
１．−４  感光性樹脂層用塗布液の調製
以下に感光性樹脂層用塗布液の作製方法を説明する。表１にそれぞれの感光性樹脂層用塗布液の組成を示す。
【００８１】
【表１】
2010085690.tif 000024
【００８２】
表１中の組成物は以下の通り。
・Ｋ顔料分散物組成（質量％）
カーボンブラック（デグッサ社製、Ｓｐｅｃｉａｌ  Ｂｌａｃｋ  ２５０）  １３．１
５−［３−オキソ−２−［４−［３，５-ビス（３−ジエチルアミノプロピルアミノカルボニル）フェニル］アミノカルボニル］フェニルアゾ］−ブチロイルアミノベンズイミダゾロン                                                                ０．６５
ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７２／２８モル比のランダム共重合物
（重量平均分子量３．７万）                                            ６．７２
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート                    ７９．５３
【００８３】
・Ｒ顔料分散物−１組成（質量％）
Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド２５４                                        ８．０
５−［３−オキソ−２−［４−［３，５-ビス（３−ジエチルアミノプロピルアミノカルボニル）フェニル］アミノカルボニル］フェニルアゾ］−ブチロイルアミノベンズイミダゾロン                                                                  ０．８
ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７２／２８モル比のランダム共重合物、（重量平均分子量３．７万）                                                    ８．０
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート                      ８３．２
【００８４】
・Ｒ顔料分散物−２組成（質量％）
Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１７７                                    １８．０
ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７２／２８モル比のランダム共重合物、
（重量平均分子量３．７万）                                          １２．０
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート                    ７０．０
【００８５】
・Ｇ顔料分散物組成（質量％）
Ｃ．Ｉ．ピグメント・グリーン３６                                    １８．０
ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７２／２８モル比のランダム共重合物、
（重量平均分子量３．７万）                                          １２．０
シクロヘキサノン                                                    ３５．０
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート                    ３５．０
【００８６】
・バインダ１組成（質量％）
ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７８／２２モル比のランダム共重合物
（重量平均分子量４万）                                              ２７．０
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート                    ７３．０
【００８７】
・バインダ２組成（質量％）
ベンジルメタクリレート／メタクリル酸／メチルメタクリレート＝
３８／２５／３７モル比のランダム共重合物（重量平均分子量３万）      ２７．０
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート                    ７３．０
【００８８】
・バインダ３組成（質量％）
ベンジルメタクリレート／メタクリル酸／メチルメタクリレート＝
３６／２２／４２モル比のランダム共重合物（重量平均分子量３万）      ２７．０
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート                    ７３．０
【００８９】
・ＤＰＨＡ溶液組成（質量％）
ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ（日本化薬（株）製）                        ７６．０
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート                    ２４．０
【００９０】
１．−５  感光性樹脂層用塗布液ＰＰ−Ｋ１の調製
感光性樹脂層用塗布液ＰＰ−Ｋ１は、まず表１に記載の量のＫ顔料分散物１、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートをはかり取り、温度２４℃（±２℃）で混合して１５０ｒｐｍ１０分間攪拌し、次いで、表１に記載の量のメチルエチルケトン、バインダ１、ハイドロキノンモノメチルエーテル、ＤＰＨＡ溶液、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−［４−（Ｎ，Ｎ−ジエトキシカルボニルメチル）−３−ブロモフェニル］−ｓ−トリアジン、メガファックＦ−１７６ＰＦ界面活性剤１をはかり取り、温度２５℃（±２℃）でこの順に添加して、温度４０℃（±２℃）で１５０ｒｐｍ３０分間攪拌することによって得られた。
【００９１】
１．−６  感光性樹脂層用塗布液ＰＰ−Ｒ１の調製
感光性樹脂層用塗布液ＰＰ−Ｒ１は、まず表１に記載の量のＲ顔料分散物１、Ｒ顔料分散物２、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートをはかり取り、温度２４℃（±２℃）で混合して１５０ｒｐｍで１０分間攪拌し、次いで、表１に記載の量のメチルエチルケトン、バインダ２、ＤＰＨＡ溶液、２−トリクロロメチル−５−（ｐ−スチリルスチリル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−［４−（Ｎ，Ｎ−ジエトキシカルボニルメチル）−３−ブロモフェニル］−ｓ−トリアジン、フェノチアジンをはかり取り、温度２４℃（±２℃）でこの順に添加して１５０ｒｐｍ１０分間攪拌し、次いで、表１に記載の量のＥＤ１５２をはかり取り、温度２４℃（±２℃）で混合して１５０ｒｐｍ２０分間攪拌し、更に、表１に記載の量のメガファックＦ−１７６ＰＦ界面活性剤１をはかり取り、温度２４℃（±２℃）で添加して３０ｒｐｍ３０分間攪拌し、ナイロンメッシュ＃２００で濾過することによって得られた。
【００９２】
１．−７  感光性樹脂層用塗布液ＰＰ−Ｇ１の調製
感光性樹脂層用塗布液ＰＰ−Ｇ１は、まず表１に記載の量のＧ顔料分散物、ＣＦエローＥＸ３３９３、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートをはかり取り、温度２４℃（±２℃）で混合して１５０ｒｐｍ１０分間攪拌し、次いで、表１に記載の量のメチルエチルケトン、シクロヘキサノン、バインダ１、ＤＰＨＡ溶液、２−トリクロロメチル−５−（ｐ−スチリルスチリル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−［４−（Ｎ，Ｎ−ジエトキシカルボニルメチル）−３−ブロモフェニル］−ｓ−トリアジン、フェノチアジンをはかり取り、温度２４℃（±２℃）でこの順に添加して１５０ｒｐｍ３０分間攪拌し、更に、表１に記載の量のメガファックＦ−１７６ＰＦ界面活性剤１をはかり取り、温度２４℃（±２℃）で添加して３０ｒｐｍ５分間攪拌し、ナイロンメッシュ＃２００で濾過することによって得られた。
【００９３】
１．−８  感光性樹脂層用塗布液ＰＰ−Ｂ１の調製
感光性樹脂層用塗布液ＰＰ−Ｂ１は、まず表１に記載の量のＣＦブルーＥＸ３３５７、ＣＦブルーＥＸ３３８３、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートをはかり取り、温度２４℃（±２℃）で混合して１５０ｒｐｍ１０分間攪拌し、次いで、表１に記載の量のメチルエチルケトン、バインダ３、ＤＰＨＡ溶液、２−トリクロロメチル−５−（ｐ−スチリルスチリル）−１，３，４−オキサジアゾール、フェノチアジンをはかり取り、温度２５℃（±２℃）でこの順に添加して、温度４０℃（±２℃）で１５０ｒｐｍ３０分間攪拌し、更に、表１に記載の量のメガファックＦ−１７６ＰＦ界面活性剤１をはかり取り、温度２４℃（±２℃）で添加して３０ｒｐｍ５分間攪拌し、ナイロンメッシュ＃２００で濾過することによって得られた。
【００９４】
１．−９  偏光ＵＶ照射装置ＰＯＬＵＶ−１
ＵＶ光源として３５０〜４００ｎｍに強い発光スペクトルを有するＤ−Ｂｕｌｂを搭載したマイクロウェーブ発光方式の紫外線照射装置（Ｌｉｇｈｔ Ｈａｍｍｅｒ １０、２４０Ｗ／ｃｍ、Ｆｕｓｉｏｎ ＵＶ Ｓｙｓｔｅｍｓ社製）を用い、照射面から３ｃｍ離れた位置に、ワイヤグリッド偏光フィルタ（ＰｒｏＦｌｕｘ ＰＰＬ０２（高透過率タイプ）、Ｍｏｘｔｅｋ社製）を設置して偏光ＵＶ照射装置を作製した。この装置の最大照度は４００ｍＷ／ｃｍ2であった。
【００９５】
１．−１０  遮光性隔壁の作製のための転写材料の作製
表２の各物質を窒素ガス置換した攪拌式オートクレーブ中に入れ、重合温度５０℃、重合圧力５ａｔｍ（ブタジエンによる圧）、重合時間２０時間で、乳化重合等を行い、残存単量体（単量体の約５％）を蒸留して除去し、乾燥固形分４９％のラテックスを得た。
【００９６】
【表２】
2010085690.tif 000025
【００９７】
下記の組成の塗布液を２軸延伸、配向結晶化された７５ｕｍ厚のポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム上に、１ｍ2あたり２０ｍＬの割合で塗布し、１２０℃で１０分間乾燥して、仮支持体Ａを得た。
・  仮支持体Ａ形成用塗布液組成
上記ラテックス                                                    １００質量部
２，４−ジクロロ−６−ヒドロキシ−１，３，５−トリアジンＮａ塩  ０．１４質量部
水                                                              ２５００質量部
【００９８】
仮支持体Ａの上に、感光性樹脂組成物ＰＰ−Ｋ１を塗布、乾燥させて厚さ２．３μｍの黒色感光性樹脂層を形成し、その上に７５μｍ厚のＰＥＴフィルムを１１０℃でラミネートして仮支持体Ｂとし、遮光性隔壁の作製のための転写材料Ｋ−１を作製した。
【００９９】
１．−１１  ＲＧＢ用感光性樹脂転写材料の作製
厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム仮支持体の上に、スリット状ノズルを用いて、熱可塑性樹脂層用塗布液ＣＵ−１を塗布、乾燥させた。熱可塑性樹脂層の膜厚は１４．６μｍであった。次に、仮支持体を２．０Ｎの水酸化カリウム溶液（２５℃）に２分間浸漬した後、硫酸で中和し、純水で水洗、乾燥した（鹸化処理）。このフィルムの表面エネルギーを接触角法により求めたところ、６２ｍＮ／ｍであった。
この仮支持体上に、配向層用塗布液ＡＬ−１を＃１４のワイヤーバーコーターで２４ｍＬ／ｍ2塗布し、１００℃の温風で１２０秒乾燥して、配向層を形成した。
続いて、形成した配向層をラビング処理した。位相差層用塗布液ＬＣ−２を、＃３．２のワイヤーバーを１，１７１回転でフィルムの搬送方向と同じ方向に回転させて、３０ｍ／分で搬送されている上記ポリエチレンテレフタレートフィルムの配向膜のラビング処理面に連続的に塗布した。
その後、室温から１００℃に連続的に加温して、溶媒を乾燥させ、１３５℃の乾燥ゾーンで、当該塗布層にあたる膜面風速がフィルム搬送方向に平行に１．５ｍ／ｓｅｃとなるようにし、約１２０秒間加熱し、ディスコティック液晶化合物を配向させた。
次に、高圧水銀灯（紫外線ランプ：出力１６０Ｗ／ｃｍ、発光長１．６ｍ）により、照度６００ｍＷの紫外線を４秒間照射し、架橋反応を進行させ、ディスコティック液晶化合物をその配向状態に固定した。その後、室温まで放冷し、厚さ１．３７μｍの位相差層を形成した。最後に、感光性樹脂組成物ＰＰ−Ｂ１を塗布乾燥させ、Ｂ用感光性樹脂転写材料Ｂ−１を作製した。
Ｇ、Ｒについても、ＬＣ−２中のメチルエチルケトンの量を１０２．００質量部へ変更することにより厚さを１．６４μｍに調整した以外は同様にして、それぞれＧ用、Ｒ用感光性樹脂転写材料Ｇ−１、Ｒ−１を形成した。
【０１００】
１．−１２  位相差測定
偏光板をクロスニコル配置とし、仮持体上に形成された位相差層のムラを観察したところ、正面、および法線から６０°まで傾けた方向から見ても、ムラは検出されなかった。
また、Ｒ用感光性転写材料Ｒ−１、Ｇ用感光性転写材料Ｇ−１及びＢ用感光性転写材料Ｂ−１それぞれの位相差層のレターデーションを測定しところ、以下の通りであった。Ｇ用感光性転写材料の位相差層のＲｅ（５５０）：５１．１ｎｍ
Ｒ用感光性転写材料の位相差層のＲｅ（６３０）：４７．６ｎｍ
Ｂ用感光性転写材料の位相差層のＲｅ（４５０）：５０．８ｎｍ
【０１０１】
１．−１３  カラーフィルタの作製
・ブラック（Ｋ）画像の形成
支持体となる無アルカリガラス基板を、２５℃に調整したガラス洗浄剤液をシャワーにより２０秒間吹き付けながらナイロン毛を有する回転ブラシで洗浄し、純水シャワー洗浄後、シランカップリング液（Ｎ−β（アミノエチル）γ-アミノプロピルトリメトキシシラン０．３％水溶液、商品名：ＫＢＭ６０３、信越化学）をシャワーにより２０秒間吹き付け、純水シャワー洗浄した。この基板を基板予備加熱装置で１００℃で２分間加熱した。
前記感光性樹脂転写材料Ｋ−１の仮支持体Ａを剥離後、ラミネータ（（株）日立インダストリイズ製（ＬａｍｉｃII型））を用い、前記１００℃で２分間加熱した基板に、ゴムローラー温度１３０℃、線圧１００Ｎ／ｃｍ、搬送速度２．２ｍ／分でラミネートした。
仮支持体Ｂを剥離後、超高圧水銀灯を有するプロキシミティー型露光機（日立電子エンジニアリング株式会社製）で、基板とマスク（画像パターンを有す石英露光マスク）を垂直に立てた状態で、露光マスク面と該感光性樹脂層の間の距離を２００μｍに設定し、露光量７０ｍＪ／ｃｍ2でパターン露光した。
次に、トリエタノールアミン系現像液（２．５％のトリエタノールアミン含有、ノニオン界面活性剤含有、ポリプロピレン系消泡剤含有、商品名：Ｔ−ＰＤ１、富士フイルム（株）製）にて３０℃５０秒、フラットノズル圧力０．０４ＭＰａでシャワー現像し熱可塑性樹脂層と酸素遮断膜を除去した。
引き続き炭酸Ｎａ系現像液（０．０６ｍｏｌ／Ｌの炭酸水素ナトリウム、同濃度の炭酸ナトリウム、１％のジブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム、アニオン界面活性剤、消泡剤、安定剤含有、商品名：Ｔ−ＣＤ１、富士フイルム（株）製）を用い、コーン型ノズル圧力０．１５ＭＰａでシャワー現像し感光性樹脂層を現像しパターニング画素を得た。
引き続き洗浄剤（燐酸塩・珪酸塩・ノニオン界面活性剤・消泡剤・安定剤含有、商品名「Ｔ−ＳＤ１（富士フイルム（株）製）」を用い、コーン型ノズル圧力０．０２ＭＰａでシャワーとナイロン毛を有す回転ブラシにより残渣除去を行い、ブラック（Ｋ）の画像を得た。その後更に、該基板に対して該樹脂層の側から超高圧水銀灯で５００ｍＪ／ｃｍ2の光でポスト露光後、２２０℃で１５分間熱処理した。
このＫの画像を形成した基板を再び、前記のようにブラシで洗浄し、純水シャワー洗浄後、シランカップリング液は使用せずに、基板予備加熱装置により１００℃で２分間加熱した。
【０１０２】
・レッド（Ｒ）画素の形成
前記感光性樹脂転写材料Ｒ−１の保護フィルムを剥離後、ラミネータ（（株）日立インダストリイズ製（ＬａｍｉｃII型））を用い、前記ブラック（Ｋ）画像を形成した後に１００℃で２分間加熱した基板に、ゴムローラー温度１３０℃、線圧１００Ｎ／ｃｍ、搬送速度１．４ｍ／分でラミネートした。
仮支持体を剥離後、超高圧水銀灯を有するプロキシミティー型露光機（日立電子エンジニアリング株式会社製）で、露光マスク面と該感光性樹脂層の間の距離を４０μｍに設定し、露光量を５００ｍＪ／ｃｍ2〜１０００ｍＪ／ｃｍ2の範囲で変えて露光し、形成される着色層と光学異方性層パターンが階段状に積層されるサンプルを作製した。
次に、トリエタノールアミン系現像液（２．５％のトリエタノールアミン含有、ノニオン界面活性剤含有、ポリプロピレン系消泡剤含有、商品名：Ｔ−ＰＤ１、富士フイルム（株）製）にて３０℃５０秒、フラットノズル圧力０．０４ＭＰａでシャワー現像し熱可塑性樹脂層と酸素遮断膜を除去した。
続いて炭酸Ｎａ系現像液（０．０６ｍｏｌ／Ｌの炭酸水素ナトリウム、同濃度の炭酸ナトリウム、１％のジブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム、アニオン界面活性剤、消泡剤、安定剤含有、商品名：Ｔ−ＣＤ１、富士フイルム（株）製）と２−プロパノールの混合液（混合比４：１）を用いてコーン型ノズル圧力０．１５ＭＰａでシャワー現像しつつ、回転ブラシで表面の現像残渣を取り除いた。この工程で光学異方性層と感光性樹脂層を現像し、光学異方性層パターンの端面が着色層（Ｒ部分）の端面の内側にあるパターニング画素を得た。
引き続き洗浄剤（燐酸塩・珪酸塩・ノニオン界面活性剤・消泡剤・安定剤含有、商品名「Ｔ−ＳＤ１（富士フイルム（株）製）」を用い、コーン型ノズル圧力０．０２ＭＰａでシャワーとナイロン毛を有す回転ブラシにより残渣除去を行った。現像後、大気雰囲気で１２０分間、電機炉中でベークを行った。ベーク温度は２００℃〜２５０℃の水準で実施した。
【０１０３】
・グリーン（Ｇ）画素の形成
前記感光性樹脂転写材料Ｇ−１を用い、前記レッド（Ｒ）画素を形成した基板上に、前記感光性樹脂転写材料Ｒ−１と同様の工程で、グリーン（Ｇ）の画素を得た。
【０１０４】
・ブルー（Ｂ）画素の形成
前記感光性樹脂転写材料Ｂ−１を用い、前記レッド（Ｒ）画素とグリーン（Ｇ）画素を形成した基板上に、同様の工程で、ブルー（Ｂ）の画素を得た。このＲ、Ｇ及びＢの画素を形成した基板を再び、前記のようにブラシで洗浄し、純水シャワー洗浄後、基板加熱装置により１００℃２分加熱し、目的のカラーフィルタを作製した。
【０１０５】
１．−１４  透明電極の形成
作製したカラーフィルタ上に透明電極膜をＩＴＯのスパッタリングにより形成した。
【０１０６】
１．−１５  配向層の形成
更にその上に配向層を設けた。配向材はＪＳＲ製ポリイミドＪＡＬＳ２０４を使用し、ロールコート法で画素電極が配置されている領域に選択的に塗布した。塗布後、８０℃の雰囲気で１５分プリベークを行い、さらに２００℃で６０分焼成を行った。その結果、膜厚で約０．５μｍの配向層を得た。
【０１０７】
上記のようにして、カラーフィルタ層と位相差層とを有する基板（１）を作製した。
【０１０８】
２．基板（２）の作製
２．−１  熱可塑性樹脂層用塗布液ＣＵ−１の調製
下記の組成物を調製し、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、塗布液ＣＵ−１として用いた。
─────────────────────────────────―――
熱可塑性樹脂層用塗布液ＣＵ−１の組成
─────────────────────────────────―――
メチルメタクリレート／２−エチルヘキシルアクリレート／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体                                            ５．８９質量部
（共重合組成比（モル比）＝５５／３０／１０／５、重量平均分子量＝１０万、Ｔｇ≒７０℃）
スチレン／アクリル酸共重合体（共重合組成比（モル比）＝６５／３５、重量平均分子量＝１万、Ｔｇ≒１００℃）                                    １３．７４質量部
ＢＰＥ−５００（新中村化学工業（株）製）                      ９．２０質量部
メガファックＦ−７８０−Ｆ（大日本インキ化学工業（株）社製）  ０．５５質量部
メタノール                                                  １１．２２質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート              ６．４３質量部
メチルエチルケトン                                          ５２．９７質量部
─────────────────────────────────―――
【０１０９】
２．−２  配向層用塗布液ＡＬ−１の調製
下記の組成物を調製し配向層用塗布液ＡＬ−１として用いた。
配向膜塗布液ＡＬ−１の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――
下記の変性ポリビニルアルコール                                ４０質量部
水                                                          ７２８質量部
メタノール                                                  ２２８質量部
グルタルアルデヒド（架橋剤）                                    ２質量部
クエン酸エステル（ＡＳ３、三共化学（株））                ０．６９質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０１１０】
【化２２】
2010085690.tif 000026
【０１１１】
２．−３  位相差層形成用液晶組成物ＬＣ−２の調製
下記の組成の位相差層形成用液晶組成物の塗布液ＬＣ−２を調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――
下記のディスコティック液晶化合物（１）                      ４１．０１質量部
エチレンオキサイド変成トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）                          ４．０６質量部
セルロースアセテートブチレート
（ＣＡＢ５５１−０．２、イーストマンケミカル社製）            ０．３３質量部
セルロースアセテートブチレート
（ＣＡＢ５３１−１、イーストマンケミカル社製）                ０．１１質量部
下記に示すフルオロ脂肪族基含有ポリマーＡ                      ０．２３質量部
下記に示すフルオロ脂肪族基含有ポリマーＢ                      ０．０３質量部
光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバ・ジャパン社製）      １．３５質量部
増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）              ０．４５質量部
メチルエチルケトン                                        １１７．００質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０１１２】
【化２３】
2010085690.tif 000027
【０１１３】
【化２４】
2010085690.tif 000028
【０１１４】
【化２５】
2010085690.tif 000029
【０１１５】
２．−４  Ｂ用感光性樹脂転写材料の作製
厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム仮支持体の上に、スリット状ノズルを用いて、熱可塑性樹脂層用塗布液ＣＵ−１を塗布、乾燥して熱可塑性樹脂層を形成した。その膜厚は１４．６μｍであった。
次に、仮支持体を２．０Ｎの水酸化カリウム溶液（２５℃）に２分間浸漬した後、硫酸で中和し、純水で水洗、乾燥した（鹸化処理）。このフィルムの表面エネルギーを接触角法により求めたところ、６２ｍＮ／ｍであった。
この仮支持体上に、配向層用塗布液ＡＬ−１を＃１４のワイヤーバーコーターで２４ｍＬ／ｍ2塗布し、１００℃の温風で１２０秒間乾燥し、配向層を形成した。
続いて、形成した配向層をラビング処理した。その後、位相差層用塗布液ＬＣ−２を、＃３．２のワイヤーバーを１，１７１回転でフィルムの搬送方向と同じ方向に回転させて、３０ｍ／分で搬送されている上記ポリエチレンテレフタレートフィルムの配向膜ラビング処理面に連続的に塗布した。
その後、室温から１００℃に連続的に加温して、溶媒を乾燥させ、１３５℃の乾燥ゾーンで、当該塗布層にあたる膜面風速がフィルム搬送方向に平行に１．５ｍ／ｓｅｃとなるようにし、約１２０秒間加熱し、塗布層中のディスコティック液晶化合物を配向させた。
次に、高圧水銀灯（紫外線ランプ：出力１６０Ｗ／ｃｍ、発光長１．６ｍ）により、照度６００ｍＷの紫外線を４秒間照射し、架橋反応を進行させ、ディスコティック液晶化合物をその配向状態に固定した。その後、室温まで放冷し、厚さ１．４８μｍの位相差層を形成した。
最後に、フォトレジスト材料である東京応化製レジスト溶液（ＣＦＰＲ  ＣＬ−０１６Ｓ）をスピンコーティングし、１２０℃で３０分間ベークにより、厚さ０．２６μｍの均一なレジスト膜を得た。この様にして、Ｂ用感光性樹脂転写材料Ｂ−１を作製した。
【０１１６】
２．−５  Ｒ用及びＧ用感光性樹脂転写材料の作製
厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム仮支持体の上に、スリット状ノズルを用いて、熱可塑性樹脂層用塗布液ＣＵ−１を塗布、乾燥して、熱可塑性樹脂層を形成した。この層の膜厚は１４．６μｍであった。
次に、仮支持体を２．０Ｎの水酸化カリウム溶液（２５℃）に２分間浸漬した後、硫酸で中和し、純水で水洗、乾燥した（鹸化処理）。このフィルムの表面エネルギーを接触角法により求めたところ、６２ｍＮ／ｍであった。
この仮支持体上に、配向層用塗布液ＡＬ−１を＃１４のワイヤーバーコーターで２４ｍＬ／ｍ2塗布し、１００℃の温風で１２０秒乾燥して、配向層を形成した。
続いて、形成した配向層をラビング処理した。メチルエチルケトンの量を１０２．００質量部へと変更して調製した位相差層用塗布液ＬＣ−２を、＃３．２のワイヤーバーを１，１７１回転でフィルムの搬送方向と同じ方向に回転させて、３０ｍ／分で搬送されている上記ポリエチレンテレフタレートフィルムの配向膜のラビング処理面に連続的に塗布した。
その後、室温から１００℃に連続的に加温して、溶媒を乾燥させ、１３５℃の乾燥ゾーンで、当該塗布層にあたる膜面風速がフィルム搬送方向に平行に１．５ｍ／ｓｅｃとなるようにし、約１２０秒間加熱し、ディスコティック液晶化合物を配向させた。
次に、高圧水銀灯（紫外線ランプ：出力１６０Ｗ／ｃｍ、発光長１．６ｍ）により、照度６００ｍＷの紫外線を４秒間照射し、架橋反応を進行させ、ディスコティック液晶化合物をその配向状態に固定した。その後、室温まで放冷し、厚さ１．６４μｍの位相差層を形成した。
最後に、フォトレジスト材料である東京応化製レジスト溶液（ＣＦＰＲ  ＣＬ−０１６Ｓ）をスピンコーティングし、１２０℃で３０分間ベークにより、厚さ０．１０μｍの均一なレジスト膜を得た。この様にして、Ｒ用感光性樹脂転写材料Ｒ−１を作製した。
Ｇ用感光性樹脂転写材料Ｇ−１は、Ｒ用感光性樹脂転写材料Ｒ−１と同様にして作製した。Ｇ用感光性樹脂転写材料Ｇ−１中の位相差層の厚みも、１．６４μｍであった。
【０１１７】
２．−６  位相差測定
偏光板をクロスニコル配置とし、仮持体上に形成された位相差層のムラを観察したところ、正面、および法線から６０°まで傾けた方向から見ても、ムラは検出されなかった。
また、Ｒ用感光性転写材料Ｒ−１、Ｇ用感光性転写材料Ｇ−１及びＢ用感光性転写材料Ｂ−１それぞれの位相差層のレターデーションを測定しところ、以下の通りであった。Ｇ用感光性転写材料の位相差層のＲｅ（５５０）：５１．１ｎｍ
Ｒ用感光性転写材料の位相差層のＲｅ（６３０）：４７．６ｎｍ
Ｂ用感光性転写材料の位相差層のＲｅ（４５０）：５４．８ｎｍ
測定光を波長５５０ｎｍに統一すると以下の通りであった。
Ｇ用感光性転写材料の位相差層のＲｅ（５５０）：５１．１ｎｍ
Ｒ用感光性転写材料の位相差層のＲｅ（５５０）：５１．１ｎｍ
Ｂ用感光性転写材料の位相差層のＲｅ（５５０）：４６．２ｎｍ
【０１１８】
２．−７  レッド（Ｒ）用位相差層の形成
無アルカリガラス基板を、２５℃に調整したガラス洗浄剤液をシャワーにより２０秒間吹き付けながらナイロン毛を有する回転ブラシで洗浄し、純水シャワー洗浄後、シランカップリング液（Ｎ−β（アミノエチル）γ-アミノプロピルトリメトキシシラン０．３％水溶液、商品名：ＫＢＭ６０３、信越化学）をシャワーにより２０秒間吹き付け、純水シャワー洗浄した。この基板を基板予備加熱装置で１００℃２分加熱した。
作製した感光性樹脂転写材料Ｒ−１を、ラミネータ（（株）日立インダストリイズ製（ＬａｍｉｃII型））を用い、前記１００℃で２分間加熱した基板に、ゴムローラー温度１３０℃、線圧１００Ｎ／ｃｍ、搬送速度１．４ｍ／分でラミネートした。
仮支持体を剥離後、パターニングマスクを使用し、紫外線露光時間を調整し照射、その後、現像液（東京応化製 Ｎ−Ａ３Ｋ）に１分間室温にて浸漬させフォトレジスト層のパターニング（フォトリソグラフィー法という、パターン形状は幅０．０９４ｍｍ、ピッチ０．２８２ｍｍの、基板の底辺に対して垂直なストライプとした）を行った。平坦層と位相差層の積層体が、カラーフィルタのＲ層に対応する領域にのみ形成された。
次に、トリエタノールアミン系現像液（２．５％のトリエタノールアミン含有、ノニオン界面活性剤含有、ポリプロピレン系消泡剤含有、商品名：Ｔ−ＰＤ１、富士フイルム（株）製）にて３０℃５０秒、フラットノズル圧力０．０４ＭＰａでシャワー現像し熱可塑性樹脂層を除去した。
引き続き洗浄剤（燐酸塩・珪酸塩・ノニオン界面活性剤・消泡剤・安定剤含有、商品名「Ｔ−ＳＤ１（富士フイルム（株）製）」を用い、コーン型ノズル圧力０．０２ＭＰａでシャワーとナイロン毛を有す回転ブラシにより残渣除去を行った。現像後、大気雰囲気で１２０分間、電機炉中でベークを行った。ベーク温度は２００℃〜２５０℃の水準で実施した。
【０１１９】
２．−８  グリーン（Ｇ）用位相差層の形成
作製した感光性樹脂転写材料Ｇ−１を用い、レッド（Ｒ）用位相差層を形成した基板上に、感光性樹脂転写材料Ｒ−１と同様の工程で、グリーン（Ｇ）用位相差層を形成した。
【０１２０】
２．−９  ブルー（Ｂ）用位相差層の形成
前記感光性樹脂転写材料Ｂ−１を用い、前記レッド（Ｒ）用位相差層とグリーン（Ｇ）用位相差層を形成した基板上に、前記レッド（Ｒ）用位相差層の形成と同様の工程で、ブルー（Ｂ）用位相差層を形成した。このＲ用、Ｇ用及びＢ用の位相差層を形成した基板を再び、前記のようにブラシで洗浄し、純水シャワー洗浄後、基板加熱装置により１００℃２分加熱し、目的の基板を作製した。
【０１２１】
２．−１０  透明電極の形成
上で作製した基板上に透明電極膜をＩＴＯのスパッタリングにより形成した。
この透明導電膜で形成した共通電極の上に、配向層を有したものを準備した。
２．−１１  対向側配向層の形成
透明導電層の上にはポリイミド配向層を形成した。配向材はＪＳＲ製ポリイミドＪＡＬＳ２０４を使用し、ロールコート法で画素電極が配置されている領域に選択的に塗布した。塗布後、８０℃の雰囲気で１５分プリベークを行い、さらに２００℃で６０分焼成を行った。その結果、膜厚で約０．５μｍの配向層を得た。
【０１２２】
この様にして、平坦化層と位相差層とを有する基板（２）を作製した。
【０１２３】
３．  液晶セルの作製
基板（３）として、ＲＧＢカラーフィルタ層と、透明導電膜で形成した共通電極と、その上に、配向層が形成されたものを準備した。当該配向層に、ラビング処理を行った。
基板（４）として、透明導電膜で形成した共通電極の上に、配向層が形成されたものを準備した。当該配向層に、ラビング処理を行った。
基板（５）として、ＲＧＢ用感光性樹脂転写材料の作製で使用するＬＣ−２中のメチルエチルケトンの量をＲ用Ｇ用に対しては、１０２．００質量部、Ｂ用に対しては、１１７．００質量部とした以外は、基板（１）と同様に作製した。Ｒ用感光性転写材料Ｒ−１、Ｇ用感光性転写材料Ｇ−１及びＢ用感光性転写材料Ｂ−１それぞれの位相差層のレターデーションを測定しところ、以下の通りであった。
Ｇ用感光性転写材料の位相差層のＲｅ（５５０）：５１．１ｎｍ
Ｒ用感光性転写材料の位相差層のＲｅ（６３０）：４７．６ｎｍ
Ｂ用感光性転写材料の位相差層のＲｅ（４５０）：５４．８ｎｍ
４．１μｍのスペーサを介して、二枚の基板（基板（１）、基板（３）又は基板（５）と、基板（２）又は（４）と）を配向膜が向かい合うように重ねた。配向膜のラビング方向が直交するように、基板の向きを調節した。基板の間隙に、棒状液晶性分子（ＺＬ４７９２、メルク社製）を注入し、液晶層を形成した。液晶性分子のΔｎは０．０９６９であった。
基板の周囲にシールパターンを形成する。スペーサ粒子を１質量％含有したエポキシ樹脂（日産化学製ストラクトボンドＸＮ−２１Ｓ）をシールディスペンサ装置で表示領域を囲む所定の領域に液晶の注入口に相当する部分を開いた形で印刷した。これを８０℃で３０分仮焼きした。
【０１２４】
この様にして、表示面側液晶セル基板として基板（１）、及びバックライト側液晶セル基板として基板（４）を使用した液晶セル１（実施例１）、表示面側液晶セル基板として基板（５）、及びバックライト側液晶セル基板として基板（２）を使用した液晶セル２（実施例２）、並びに表示面側液晶セル基板として基板（３）、及びバックライト側液晶セル基板として基板（４）を使用した液晶セル３（比較例）をそれぞれ作製した。
【０１２５】
４．  ＴＮモード液晶表示装置の作製と評価
４．−１  偏光板１の作製
（セルロースアセテートフィルムの作製：ＴＡＣ−１）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら撹拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。
・セルロースアセテート溶液組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――
酢化度６０．７〜６１．１％のセルロースアセテート    １００質量部
トリフェニルフォスフェート（可塑剤）                ７．８質量部
ビフェニルジフェニルフォスフェート（可塑剤）        ３．９質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）                      ３３６質量部
メタノール（第２溶媒）                                ２９質量部
１−ブタノール（第３溶媒）                            １１質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０１２６】
別のミキシングタンクに、下記のレターデーション上昇剤１を１６質量部、メチレンクロライド９２質量部およびメタノール８質量部を投入し、加熱しながら撹拌して、レターデーション上昇剤溶液を調製した。セルロースアセテート溶液４８７．７質量部にレターデーション上昇剤溶液３１質量部を混合し、充分に撹拌してドープを調製した。
【０１２７】
【化２６】
2010085690.tif 000030
【０１２８】
得られたドープを、バンド延伸機を用いて流延した。バンド上での膜面温度が４０℃となってから、７０℃の温風で１分乾燥し、バンドからフィルムを剥離し、１４０℃の乾燥風で１０分乾燥し、残留溶剤量が０．３質量％のセルロースアセテートフィルム（ＴＡＣ−１）（厚さ：８０μｍ）を作製した。作製したセルロースアセテートフィルム（ＴＡＣ−１）の光学特性はＲｅ＝４ｎｍ、Ｒｔｈ＝９７ｎｍであった（波長５５０ｎｍにて測定）。
【０１２９】
作製したＴＡＣ−１を２．０Ｎの水酸化カリウム溶液（２５℃）に２分間浸漬した後、硫酸で中和し、純水で水洗、乾燥した。このフィルムの表面エネルギーを接触角法により求めたところ、６２ｍＮ／ｍであった。
【０１３０】
厚さ８０μｍのポリビニルアルコール（ＰＶＡ）フィルムを、ヨウ素濃度０．０５質量％のヨウ素水溶液中に３０℃で６０秒浸漬して染色し、次いでホウ酸濃度４質量％濃度のホウ酸水溶液中に６０秒浸漬している間に元の長さの５倍に縦延伸した後、５０℃で４分間乾燥させて、厚さ２０μｍの偏光膜を得た。
市販のセルロースアセテートフィルムを１．５モル／Ｌで５５℃の水酸化ナトリウム水溶液中に浸漬した後、水で十分に水酸化ナトリウムを洗い流した。その後、０．００５モル／Ｌで３５℃の希硫酸水溶液に１分間浸漬した後、水に浸漬し希硫酸水溶液を十分に洗い流した。最後に試料を１２０℃で十分に乾燥させた。
前記のように作製したＴＡＣ−１と、鹸化処理を行った市販のセルロースアセテートフィルムとで、偏光膜を挟み、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて貼り合せて偏光板１を得た。市販のセルロースアセテートフィルムとしてはフジタックＴＦ８０ＵＬ（富士フイルム（株）製）を用いた。このとき、偏光膜及び偏光膜両側の保護膜はロール形態で作製されているため各ロールフィルムの長手方向が平行となっており連続的に貼り合わされる。従って光学補償フィルムのロール長手方向と偏光子吸収軸とは平行な方向となった。
【０１３１】
４．−２  偏光板２の作製
偏光板１の作製で使用した鹸化処理済みのＴＡＣ−１上に、下記の組成の塗布液を＃１４のワイヤーバーコーターで２４ｍＬ／ｍ2塗布し、１００℃の温風で１２０秒乾燥した。次に、ＴＡＣ−１の長手方向を０度とし、０度方向に、形成した膜にラビング処理を実施した。
・  配向膜塗布液組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――
下記の変性ポリビニルアルコール                          ４０質量部
水                                                    ７２８質量部
メタノール                                            ２２８質量部
グルタルアルデヒド（架橋剤）                              ２質量部
クエン酸エステル（ＡＳ３、三共化学（株））          ０．６９質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０１３２】
【化２７】
2010085690.tif 000031
【０１３３】
・  光学異方性層形成用液晶組成物の調製
下記の組成の光学異方性層形成用液晶組成物の塗布液を調整した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――
下記のディスコティック液晶化合物（１）                        ４１．０１質量部
エチレンオキサイド変成トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）                            ４．０６質量部
セルロースアセテートブチレート
（ＣＡＢ５５１−０．２、イーストマンケミカル社製）              ０．３３質量部
セルロースアセテートブチレート
（ＣＡＢ５３１−１、イーストマンケミカル社製）                  ０．１１質量部
下記に示すフルオロ脂肪族基含有ポリマーＡ                        ０．２３質量部
下記に示すフルオロ脂肪族基含有ポリマーＢ                        ０．０３質量部
光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバ・ジャパン社製）        １．３５質量部
増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）                ０．４５質量部
メチルエチルケトン                                          １０２．００質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０１３４】
【化２８】
2010085690.tif 000032
【０１３５】
【化２９】
2010085690.tif 000033
【０１３６】
・  光学異方性層の形成
光学異方性層形成用液晶組成物を、＃３．２のワイヤーバーを１，１７１回転でフィルムの搬送方向と同じ方向に回転させて、３０ｍ／分で搬送されている上記ロールフィルムの配向膜面に連続的に塗布した。
その後、室温から１００℃に連続的に加温する工程で、溶媒を乾燥させ、その後、１３５℃の乾燥ゾーンで、ディスコティック液晶性化合物層にあたる膜面風速がフィルム搬送方向に平行に１．５ｍ／ｓｅｃとなるようにし、約１２０秒間加熱し、ディスコティック液晶性化合物を配向させた。
次に、高圧水銀灯（紫外線ランプ：出力１６０Ｗ／ｃｍ、発光長１．６ｍ）により、照度６００ｍＷの紫外線を４秒間照射し、架橋反応を進行させ、ディスコティック液晶性化合物をその配向に固定した。その後、室温まで放冷し、円筒状に巻き取ってロール状の形態にして、光学補償フィルムを作製した。
【０１３７】
・  偏光板２の作製
厚さ８０μｍのポリビニルアルコール（ＰＶＡ）フィルムを、ヨウ素濃度０．０５質量％のヨウ素水溶液中に３０℃で６０秒浸漬して染色し、次いでホウ酸濃度４質量％濃度のホウ酸水溶液中に６０秒浸漬している間に元の長さの５倍に縦延伸した後、５０℃で４分間乾燥させて、厚さ２０μｍの偏光膜を得た。
市販のセルロースアセテートフィルムを１．５モル／Ｌで５５℃の水酸化ナトリウム水溶液中に浸漬した後、水で十分に水酸化ナトリウムを洗い流した。その後、０．００５モル／Ｌで３５℃の希硫酸水溶液に１分間浸漬した後、水に浸漬し希硫酸水溶液を十分に洗い流した。最後に試料を１２０℃で十分に乾燥させた。
前記のように作製した光学補償フィルムと、鹸化処理を行った市販のセルロースアセテートフィルムと組み合わせて、前記の偏光膜を挟んで、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて貼り合せて偏光板２を得た。ここで、光学補償フィルムは、液晶化合物層を、外側にして貼合した。また市販のセルロースアセテートフィルムとしてはフジタックＴＦ８０ＵＬ（富士フイルム（株）製）を用いた。このとき、偏光膜及び偏光膜両側の保護膜はロール形態で作製されているため各ロールフィルムの長手方向が平行となっており連続的に貼り合わされる。従って光学補償フィルムのロール長手方向と偏光子吸収軸とは平行な方向となった。
【０１３８】
４．−３  ＴＮモード液晶表示装置１（実施例１）の作製
以上のように作製したＴＮモード液晶セル１のＣＦ側（表示面側）の液晶セル基板の外側表面に、偏光板１を、ＴＡＣ−１を基板と対面させて貼り付けた。バックライト側の基板外側には、偏光板２を、液晶化合物層の表面を基板と対面させて貼り付けた。この様にして、ＴＮモード液晶表示装置１を作製した。偏光板１及び２の吸収軸と、その添付基板に施したラビングの方向とを、それぞれ直交させて配置した。
【０１３９】
４．−４  ＴＮモード液晶表示装置２（実施例２）の作製
以上のように作製したＴＮモード液晶セル２のＣＦ側（表示面側）の液晶セル基板の外側表面、及びバックライト側の基板外側に、偏光板１を、ＴＡＣ−１を基板と対面させて貼り付けた。この様にして、ＴＮモード液晶表示装置２を作製した。双方の偏光板１の吸収軸と、その添付基板に施したラビングの方向とを、それぞれ直交させて配置した。
【０１４０】
４．−５  ＴＮモード液晶表示装置３（比較例）の作製
以上のように作製したＴＮモード液晶セル３のＣＦ側（表示面側）の液晶セル基板の外側表面、及びバックライト側の基板外側に、偏光板２を、液晶化合物層の表面を基板と対面させて貼り付けた。この様にして、ＴＮモード液晶表示装置３を作製した。偏光板２の吸収軸と、その添付基板に施したラビングの方向とを、それぞれ直交させて配置した。
【０１４１】
４．−６  評価
作製したＴＮモード液晶表示装置１〜３のそれぞれについて、斜め方向（方位角９０°且つ極角５０°の方向）のコントラスト、及び黒表示時の表示面に対する法線方向と斜め方向（方位角９０°且つ極角５０°の方向）とのカラーシフト値（Δｕ’ｖ’）をそれぞれ測定した。結果を下記表に示す。
【０１４２】
【表３】
2010085690.tif 000034
【図面の簡単な説明】
【０１４３】
【図１】本発明に使用可能な液晶セル基板の一例の断面模式図である。
【図２】本発明に使用可能な液晶セル基板の一例の断面模式図である。
【図３】本発明のＴＮモード液晶セルの一例の断面模式図である。
【図４】本発明のＴＮモード液晶表示装置の一例の断面模式図である。
【符号の説明】
【０１４４】
１  基板
２  遮光層（ブラックマトリックス）
３、３’  着色層（カラーフィルタ層）
３Ｒ、３’Ｒ  赤色層
３Ｇ、３’Ｇ  緑色層
３Ｂ、３’Ｂ  青色層
４、４’  セル内光学補償層
４ｒ、４’ｒ  赤色層に対応するセル内光学補償層の領域
４ｇ、４’ｇ  緑色層に対応するセル内光学補償層の領域
４ｂ、４’ｂ  青色層に対応するセル内光学補償層の領域
５  透明電極層
６ｂ、６ｇ  平坦化層
７  配向層
８  液晶層
１２、１４  偏光子
１６、１８、２０、２２  保護膜
ＬＣ  液晶セル
ＰＬ１  偏光板
ＰＬ２  偏光板
Ｓ１  表示面側液晶セル用基板
Ｓ２  バックライト側液晶セル用基板
【図１】
2010085690.tif 000035
【図２】
2010085690.tif 000036
【図３】
2010085690.tif 000037
【図４】
2010085690.tif 000038