(57)【要約】【課題】本発明は、リソグラフィ装置において露光における不正確さをもたらす基板の厚さの変化を修正するために、個々に制御可能な部材の位置またはマイクロレンズ・アレーを使用して、そのアレーと基板との間隔距離を制御できるように改良されたリソグラフィ装置を提供する。【解決手段】本発明によるリソグラフィ装置は、パターン形成された放射ビームを基板のターゲット箇所に投影するようになされ、また個々のレンズが放射ビームの異なる部分を伝達するように一平面内に配列されたレンズ・アレーと、前記基板の一部と前記レンズ・アレーの一部との間隔距離を測定するようになされた測定装置と、前記測定装置による測定に基づいてレンズ・アレーの全体の位置および傾きを調整するようになされた駆動システムとを含むことを特徴とする。【選択図】図２
2010068002.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
個々に制御可能な部材のアレーと、
基板を支持し移動させる基板テーブルと、
個々に制御可能な部材のアレーからのパターン形成された放射ビームを基板のターゲット箇所に投影するようになされ、個々のレンズが放射ビームの異なる部分を伝達するように一平面内に配列されたレンズ・アレーを含む投影系と、
前記基板の一部と前記レンズ・アレーの一部との間隔距離を測定するようになされた測定装置と、
前記測定装置による測定に基づいてレンズ・アレーの全体の位置と傾きとの少なくとも一方を調整するようになされた駆動システムとを含み、
前記測定装置は、前記基盤が露光されている間に前記レンズ・アレーと前記基板との間隔距離を同時に測定する浮動状態で測定し、
前記測定装置は、基板の移動方向において前記レンズ・アレーの上流に位置するリソグラフィ装置。
【請求項２】
複数の測定装置があり、各測定装置は前記基板の異なる部分と前記レンズ・アレーの異なる部分との間隔距離を測定する請求項１に記載されたリソグラフィ装置。
【請求項３】
三つの測定装置がある請求項２に記載されたリソグラフィ装置。
【請求項４】
前記駆動システムが前記レンズ・アレーを調整して前記基板上の複数点の位置を調整する請求項１に記載されたリソグラフィ装置。
【請求項５】
複数の測定装置および複数の駆動装置があり、各測定装置は対応する駆動装置を有する請求項４に記載されたリソグラフィ装置。
【請求項６】
複数の測定装置および複数の駆動装置があり、各測定装置からのデータは対応する駆動装置の制御に使用される請求項１に記載されたリソグラフィ装置。
【請求項７】
前記測定装置が、前記放射ビームで露光される位置にあるときに前記基板と前記レンズ・アレーとの間隔距離を測定するように構成されている請求項１に記載されたリソグラフィ装置。
【請求項８】
前記基板と前記レンズ・アレーとの間隔距離に関するデータを保存するようになされた保存部材をさらに含む請求項１に記載されたリソグラフィ装置。
【請求項９】
前記測定装置が無接触距離センサーである請求項１に記載されたリソグラフィ装置。
【請求項１０】
前記駆動システムが三つの自由度を有する請求項１に記載されたリソグラフィ装置。
【請求項１１】
前記駆動システムが前記測定装置の測定値に基づいて前記レンズ・アレーを曲げる請求項１に記載されたリソグラフィ装置。
【請求項１２】
前記測定装置が前記レンズ・アレーに固定され、前記レンズ・アレーと一緒に移動する請求項１に記載されたリソグラフィ装置。
【請求項１３】
前記測定装置が前記レンズ・アレーから独立している請求項１に記載されたリソグラフィ装置。
【請求項１４】
基板を準備し、
個々に制御可能な部材のアレーによりパターン形成された放射ビームを提供し、
各レンズが放射ビームの異なる部分を伝達するように一平面内に配列されているレンズ・アレーを少なくとも含む投影系を使用して基板のターゲット箇所に前記パターン形成された放射ビームを投影し、
基板の移動方向において前記レンズ・アレーの上流に位置する測定装置を使用して、前記基板が露光されている間に前記基板と前記レンズ・アレーとの間隔距離を同時に測定する浮動状態で測定し、
前記測定した距離に基づいて前記レンズ・アレーの位置および（または）傾きを調整することを含むデバイス製造方法。
【請求項１５】
前記基板と前記レンズ・アレーとの間隔距離の前記検出、および前記レンズ・アレーの位置および（または）傾きの前記調整が基板に対して同時に行われる請求項１４に記載されたデバイス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はリソグラフィ装置およびデバイス製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
リソグラフィ装置は、基板のターゲット箇所に所望パターンを付与する機械である。リソグラフィ装置は、例えば集積回路（ＩＣ）、フラット・パネル表示器、および微細構造を有する他のデバイスの製造に使用できる。従来のリソグラフィ装置においては、ＩＣ（または他のデバイス）の個々の層に対応する回路パターンを形成するためにマスクや焦点板と別称されるパターン形成手段を使用することができ、またこのパターンは、放射光感応物質（レジスト）の層を有する基板（例えばシリコン・ウェーハまたはガラス・プレート）上のターゲット箇所（例えば、一つまたは幾つかのダイよりなる部分を含む）上に像形成されることができる。マスクの代わりに、パターン形成手段は回路パターンを形成するように作用する個々に制御可能な部材の配列すなわちアレーを含むことができる。これはマスク無しリソグラフィ装置として知られている。レンズ・アレーを投影ビームの伝達方向に対して直角に配置して、各レンズが投影ビームの特有の部分を基板へ伝達して結像するようになすことができる。これはマイクロ・レンズ・アレー（ＭＬＡ）として知られている。
【０００３】
一般に、一つの基板は連続して露光されるターゲット箇所の隣接されたネットワークを含む。既知のリソグラフィ装置は、一回の行程で一つのターゲット箇所に全パターンを露光することで個々のターゲット箇所が照射されるいわゆるステッパと、投影ビームを通してパターンを所定の方向（「走査」方向）へ走査すると同時に、その方向と実質的に平行または非平行な方向へ基板を同期して走査し、これにより個々のターゲット箇所が照射されるいわゆるスキャナとを含む。
【０００４】
上述したようにリソグラフィ装置はフラット・パネル表示器またはマイクロ電気機械システムを像形成するために使用できる。基板の厚さの変化は基板の露光における不正確さをもたらす。この状態を修正するために、個々に制御可能な部材の位置またはマイクロレンズ・アレーの位置を変化させなければならない。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
したがって、基板とマイクロレンズ・アレーとの間隔距離を制御するために改良された装置を提供することが望ましい。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の一つの概念によれば、
放射ビームを調整するようになされた照射系と、
パターン形成された放射ビームを形成するために放射ビームの横断面にパターンを与えることができる個々に制御可能な部材のアレーと、
基板を支持する基板テーブルと、
パターン形成された放射ビームを基板のターゲット箇所に投影するようになされ、個々のレンズが放射ビームの異なる部分を伝達するように一平面内に配列されたレンズ・アレーを含む投影系と、
前記基板の一部および前記レンズ・アレーの一部の間隔距離を測定するようになされた測定装置と、
前記測定装置による測定に基づいてレンズ・アレーの全体の位置および傾きを調整するようになされた駆動システムとを含むリソグラフィ装置が提供される。
【０００７】
本発明の他の概念によれば、
基板を準備し、
照射系を使用して放射ビームを形成し、
前記放射ビームの横断面にパターンを与えるために個々に制御可能な部材のアレーを使用し、
各レンズが放射ビームの異なる部分を伝達するように一平面内に配列されているレンズ・アレーを少なくとも含む投影系を使用して基板のターゲット箇所に前記パターン形成された放射ビームを投影し、
前記基板および前記レンズ・アレーの間隔距離を測定し、
前記測定した距離に基づいて前記レンズ・アレーの位置および（または）傾きを調整することを含むデバイス製造方法が提供される。
【０００８】
本明細書で使用する「個々に調整可能な部材のアレー」という用語は、基板のターゲット箇所に所望のパターンを形成できるように、入射した放射ビームにパターン形成した横断面を与えるために使用できるあらゆる手段を称するものと広く解釈されるべきである。「光バルブ」および「空間光変調器」（ＳＬＭ）という用語もまたこれに関して使用できる。そのようなパターン形成手段の例には、次のものが含まれる。
【０００９】
プログラム可能ミラー・アレー。これはマトリックス−アドレス指定可能な表面を含み、この表面は粘弾性制御層および反射面を有する。そのような装置の基本原理は、（例えば）反射面のアドレス指定された面積部分が入射光を回折光として反射する一方、アドレス指定されない面積部分が未回折光として反射することである。適当な空間フィルタを使用して、前記未回折光は反射ビームから除外され、回折光だけが残されて基板に到達するようになされる。このようにして、ビームはマトリックス−アドレス指定可能な表面のアドレス指定したパターンに従ってパターン形成される。この代替例として、フィルタが回折光を除外し、未回折光を残して基板に到達するようになすことができることは認識されるであろう。回折光学ＭＥＭＳ装置アレーも同じように使用できる。各々の回折光学ＭＥＭＳ装置は複数の反射リボンを含み、反射リボンは互いに変形可能で、入射光を回折光として反射する回折格子を形成することができる。プログラム可能ミラー・アレーの他の代替例は小さなミラーのマトリックス構造を使用するもので、各ミラーは、例えば局所的電界とされる適当な駆動手段を作用させることで軸線のまわりに個々に傾動されることができる。再び述べるが、ミラーはマトリックス−アドレス指定可能で、アドレス指定したミラーが入射する放射ビームを未アドレス指定ミラーとは異なる方向へ反射する。このようにして、反射されたビームはマトリックス−アドレス指定可能なミラーのアドレス指定パターンに従ってパターン形成される。必要なマトリックス−アドレス指定は適当な電子手段を使用して遂行できる。上述した状況のいずれにおいても、個々に制御可能な部材のアレーは一つ以上のプログラム可能ミラー・アレーを含むことができる。ミラー・アレーのここで言及した以上の情報は、例えば米国特許第５２９６８９１号および同第５５２３１９３号、およびＰＣＴ特許出願ＷＯ９８／３８５９７およびＷＯ９８／３３０９６から集めることができ、それらの記載内容の全てが本明細書に援用される。
【００１０】
プログラム可能ＬＣＤアレー。その構造の例は米国特許第５２２９８７２号に与えられており、その記載内容の全てが本明細書に援用される。
【００１１】
例えば、造作の予備的な偏倚、造作の光学的近似修正、位相変化技術、および複数回露光技術が使用される場合、個々に制御可能な部材のアレー上に「表示された」パターンは基板の層または基板上に最終的に伝達されるパターンとは実質的に異なることを認識しなければならない。同様に、基板上に最終的に形成されたパターンは、個々に制御可能な部材のアレー上にいずれかの瞬時に形成されたパターンと同じではない。これは、基板の各部に形成される最終的なパターンは所定の時間にわたって、または所定の露光回数にわたって作り上げられるのであり、その間、個々に制御可能な部材のアレー上のパターンおよび（または）基板の相対的な位置が変化する。
【００１２】
ここではＩＣ製造におけるリソグラフィ装置の使用を特別に言及するが、本明細書に記載するリソグラフィ装置は一体光学システム、磁気定義域メモリのガイドおよび検出パターン、フラット・パネル表示装置、薄膜磁気ヘッドなどの他の応用例があることも理解しなければならない。このような代替応用例に関して、本明細書で使用する「ウェーハ」や「ダイ」という用語は、それぞれさらに一般的な用語である「基板」や「ターゲット箇所」と同意語とみなせることを当業者は認識するであろう。本明細書で引用する基板は、露光前または露光後に例えばトラック（典型的に基板にレジスト層を付与し、また露光したレジストを現像するツール）、または冶金ツールや検査ツールにて処理することができる。適当であるならば、本明細書の開示内容はそれらの基板処理ツールや他の基板処理ツールに適用することができる。さらに、基板は、例えば複層ＩＣを製造するために一回以上処理することができ、したがって本明細書で使用する基板という用語は、既に複数回処理して得た層を含む基板も示すことができる。
【００１３】
本明細書で使用する「放射光」および「ビーム」という用語は、紫外（ＵＶ）線（例えば，４０８，３５５，３６５，２４８，１９３，１５７または１２６ｎｍの波長を有する）、および極紫外（ＥＵＶ）線（例えば、５〜２０ｎｍの範囲内の波長を有する）、ならびにイオンビームや電子ビームのような粒子ビームを含む全ての種類の電磁放射線を包含する。
【００１４】
本明細書で使用する「投影系」という用語は、例えば使用される露光用放射光に、あるいは他の浸漬用液体の使用または真空圧の使用のような他の要因に対して適当であるように、屈折式光学系、反射式光学系、および屈折反射式光学系を含む各種形式の投影系を包含するものと広く解釈されねばならない。本明細書で使用する「レンズ」という用語はさらに一般的な用語である「投影系」と同意語とみなすことができる。
【００１５】
照射系もまた、放射投影ビームの方向決め、成形または制御を行う屈折式、反射式および屈折反射式光学系の要素を含む各種形式の光学要素を包含し、それらの要素は以下に、集合体または単体で「レンズ」とも称される。
【００１６】
リソグラフィ装置は二つ（デュアル・ステージ）以上の基板テーブルを有する形式とされることができる。そのような「多段」機械においては、付加されるテーブルは平行状態で使用されるか、または一つ以上のテーブルが露光に使用されている間に他の一つ以上のテーブルが準備作業を実行するようになされ得る。
【００１７】
リソグラフィ装置はまた、比較的大きな屈折率を有する液体、例えば水の中に基板が浸漬されて、投影系の最終要素と基板との間隙をその液体が充満するような形式とすることもできる。浸漬用液体はリソグラフィ装置の他の空間、例えば個々に制御可能な部材のアレーと投影系の最初の要素との間に与えることもできる。浸漬技術は投影系の開口数および焦点深度を増大するために良く知られている。
【００１８】
本発明の実施例が添付の概略図を参照して単なる例を挙げて説明される。図面では、同じ符号は同じ部分を示している。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明の実施例によるリソグラフィ装置を示す。
【図２】本発明の一実施例を示す。
【図３】上方から見た図２の構造を示す。
【図４】代替実施例を示す。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
図１は本発明の特定の実施例によるリソグラフィ投影装置を模式的に示している。この装置は、
放射光（例えば、ＵＶ放射光）の投影ビームＰＢを与えるための照射系（照射装置）ＩＬと、
投影ビームにパターンを付与するための個々に制御可能な部材のアレーＰＰＭ（例えば、プログラム可能ミラー・アレー）であって、一般にその位置は部材ＰＬに対して固定されるが、これに替えて部材ＰＬに対して正確に位置決めするための位置決め手段に連結されることのできる個々に制御可能な部材のアレーＰＰＭと、
基板（例えば、レジストを被覆したガラスまたはウェーハ）Ｗを支持するための、また部材ＰＬに対して基板を正確に位置決めするための位置決め手段ＰＷに連結された基板テーブル（例えば、ウェーハ・テーブル）ＷＴと、
個々に制御可能な部材のアレーＰＰＭにより投影ビームＰＢに与えられたパターンを基板Ｗのターゲット箇所Ｃ（例えば、一つ以上のダイを含む）に結像させる投影系（「レンズ」）ＰＬであって、個々に制御可能な部材のアレーを基板に結像させるか、その替わりに二次光源となって個々に制御可能な部材のアレーにおける部材がシャッターとして作用するようになされる投影系（「レンズ」）ＰＬとを含む。
【００２１】
本明細書に記載するように、この装置は反射式（すなわち、個々に制御可能な部材の反射式アレーを有する）の装置である。しかしながら、一般に、例えば透過式（すなわち、個々に制御可能な部材の透過式アレーを有する）の装置とすることもできる。
【００２２】
照射装置ＩＬは放射光源ＳＯから放射ビームを受入れる。例えば放射光源が励起レーザーである場合には、この光源およびリソグラフィ装置を完全に分離することができる。その場合、光源はリソグラフィ装置の一部を形成するものと考えるのではなく、放射ビームは光源ＳＯから、例えば適当な方向決めミラーおよび（または）ビーム拡張機を含むビーム導入システムＢＤによって照射装置ＩＬへ送られる。他の例では、例えば光源が水銀ランプであるときは、光源は装置に一体の部分となされる。光源ＳＯおよび照射装置ＩＬは、必要ならばビーム導入システムＢＤと一緒にして放射系と称することができる。
【００２３】
照射装置ＩＬは、ビームの角度的な強度分布を調整する調整手段ＡＭを含むことができる。一般に、照射装置の瞳面における強度分布の半径方向の少なくとも外側範囲および（または）内側範囲（一般にそれぞれσ−アウターおよびσ−インナーと称される）は調整することができる。さらに、照射装置ＩＬは積分装置ＩＮおよびコンデンサーＣＯのような他のさまざまな構成部材を一般に含む。照射装置は、横断面に所望の均一性および強度分布を有する投影ビームＰＢと称される調整された放射ビームを与える。
【００２４】
ビームＰＢはその後に個々に制御可能な部材のアレーＰＰＭに当たる。個々に制御可能な部材のアレーＰＰＭで反射されたビームＰＢは投影系ＰＬを通過し、この投影系が基板Ｗのターゲット箇所Ｃ上にビームＰＢを結像させる。位置決め装置ＰＷ（および位置測定手段、例えば、干渉式測定手段ＩＦ）によって、例えば異なるターゲット箇所ＣをビームＰＢ内に位置決めするように基板テーブルＷＴは正確に移動されることができる。使用される場合には、個々に制御可能な部材のアレー用の位置決め手段が、例えば走査時にビームＰＢの光路に対して個々に制御可能な部材のアレーＰＰＭの位置を正確に位置決めするために使用できる。一般に、物品テーブルＷＴの動きは、図１に明瞭に示されていない長ストローク用モジュール（粗い位置決め）および短ストローク用モジュール（微細な位置決め）によって行われる。同様なシステムが個々に制御可能な部材のアレーの位置決めのために使用できる。投影ビームが代替的／付加的に移動可能とされる一方、物品テーブルおよび（または）個々に制御可能な部材のアレーが固定位置を有して、要求される相対移動を与えることができることは認識されるであろう。他の代替例として、これはフラット・パネル表示器の製造に特に適用でき、基板テーブルおよび投影系の位置が固定され、基板が基板テーブルに対して移動するように構成できる。例えば、基板テーブルはそれを横断して実質的に一定速度で基板を走査するシステムを備えることができる。
【００２５】
本発明によるリソグラフィ装置は基板上のレジストを露光するものとして本明細書で説明されるが、本発明はその使用法に限定されることなく、この装置はレジストの無いリソグラフィに使用するためのパターン形成された投影ビームを投影するために使用することができる。
【００２６】
図示装置は四つの好ましいモードで使用できる。
【００２７】
１．ステップ・モード。個々に制御可能な部材のアレーがパターン全体を投影ビームに与え、これが一回の行程でターゲット箇所Ｃ上に投影される（すなわち、一回の静止露光）。その後基板テーブルＷＴはＸ方向および（または）Ｙ方向へ移動されて、別のターゲット箇所Ｃが露光できるようになされる。ステップ・モードでは、露光フィールドの最大寸法が一回の静止露光で像形成されるターゲット箇所Ｃの寸法を制限する。
【００２８】
２．走査モード。個々に制御可能な部材のアレーは速度ｖで所定の方向（いわゆる「走査方向」、例えばＹ方向）に移動可能とされ、これにより投影ビームＰＢは個々に制御可能な部材のアレー上を走査するようになされる。これと同時に、基板テーブルＷＴはその同じ方向または反対方向へ速度Ｖ＝Ｍｖ（ＭはレンズＰＬの倍率）で移動される。走査モードでは、露光フィールドの最大寸法が一回の動的露光でのターゲット箇所の幅（非走査方向）を制限するのに対して、走査移動の長さはターゲット箇所の高さ（走査方向）を決定する。
【００２９】
３．パルス・モード。個々に制御可能な部材のアレーは基本的に静止状態に保持され、パルス放射源を使用してパターン全体が基板のターゲット箇所Ｃに投影される。基板テーブルＷＴは基本的に一定速度で移動され、投影ビームＰＢは基板Ｗを横断するラインを走査するようになされる。個々に制御可能な部材のアレーのパターンは、要求に応じて放射系のパルス間隔内でアップデートされ、パルスは基板の要求された位置で連続するターゲット箇所Ｃが露光されるようにタイミングをとられる。この結果、投影ビームは基板Ｗを横断して走査し、基板のストリップ完全なパターンを露光することができる。この処理は基板が次々とライン状に完全に露光され終わるまで繰り返される。
【００３０】
４．連続走査モード。実質的に一定した放射源が使用されること、および投影ビームが基板を走査して露光する間に個々に制御可能な部材のアレー上のパターンがアップデートされること以外は、パルス・モードと基本的に同じである。
【００３１】
上述した使用モードの組合せおよび（または）変形例、またはまったく異なる使用モードも使用することができる。
【００３２】
投影系は、例えば二次光源を形成するために、および基板上にマイクロスポットを結像させるために、マイクロレンズ・アレー（ＭＬＡとして知られている）またはフレネル・レンズ・アレーのような収束（結像）用部材のアレーも含むことができる。個々に制御可能な部材の各々はＭＬＡに対応するレンズを有するか、個々に制御可能な部材のうちの幾つかからのパターン形成されたビームの部分はＭＬＡの一つのレンズによって基板上に投影される。これに替えて、個々に制御可能な部材のうちの一つからのパターン形成されたビームはマイクロレンズ・アレーＭＬＡの複数のレンズに投影されることができる。
【００３３】
図２はレンズ・アレーＭＬＡに隣接する検出要素１１を示している。検出要素１１はＭＬＡと基板Ｗとの間隔距離を検出する。検出要素１１は基板Ｗが支障なく自由に移動できるように、無接触の間隔を隔てられるセンサーであることが好ましい。この測定装置１１は、例えば、容量式、光学式、音響式、または空気圧式とされることができる。検出要素１１からのデータは制御装置１３へ送られ、この制御装置がアクチュエータ１２を制御する。この例では、各々の検出要素１１は対応する制御装置１３およびアクチュエータ装置１２を有する。
【００３４】
図３は、この例において、三つの測定装置１１、制御装置１３およびアクチュエータ１２があることを示している。これは、マイクロレンズ・アレーＭＬＡを調整する良好な機能を可能にする。特に、これは三つの自由度を与える。アクチュエータ１２および測定装置１１は直線状よりも三角形状に配置されるべきである。しかしながら、どのような個数の測定装置１１およびアクチュエータ１２も使用できる。アクチュエータ１２は三方向、すなわちｘ，Ｒｘ，Ｒｙ方向に駆動することができる。それらはまたｘ，ｙ，Ｒｚの方向に駆動されることもできる。
【００３５】
測定装置１１によって制御されたデータは複数のアクチュエータを制御するのに使用できる。多数の検出器が基板の表面のマップを形成するために使用でき、またこのマップに従動するようにアクチュエータを使用できる。アクチュエータは基板を傾けまたは基板を曲げて、マップ形成された表面に最良に適合させるように使用される。
【００３６】
この例において、基板Ｗの測定は「浮動状態」で行われる。したがって測定装置１１は、基板が処理される、例えば露光されている間にマイクロレンズ・アレーＭＬＡと基板Ｗとの間隔距離を同時に測定する。露光される基板Ｗの表面には凹凸があり、不均一な厚さおよび表面を生じる。測定装置１１はマイクロレンズ・アレーＭＬＡと基板Ｗの表面との間隔距離を特定な点において測定する。このデータは制御装置１３へ送られ、この間隔距離が所定のレベル未満であればアクチュエータ１２がマイクロレンズ・アレーＭＬＡと基板Ｗとの間隔距離を増大させる。他の測定装置１１からのデータと関連させて基板Ｗの傾きを検出することが可能であり、基板Ｗの傾きが検出されたならば、アクチュエータ１２がマイクロレンズ・アレーＭＬＡの傾きを変化させるために使用できる。マイクロレンズ・アレーＭＬＡの位置および（または）傾きの変化は、それが軽く操作しやすいことから、基板Ｗの位置および（または）傾きを変化させるよりも簡単に行える。１μｍよりも良い精度がこの方法で達成される。
【００３７】
測定が上述したように「浮動状態」で行われるならば、基板のどのような移動および（または）傾きも補償され、さらに正確な露光が行われるようになされる。したがって、基板Ｗを保持する基板テーブルは、「浮動状態」での測定が不完全さを補償できるので、それほど高度な仕様内容で製造される必要はない。この測定および駆動システムは実施が簡単勝つ安価に行える。
【００３８】
図３に最も良く見られるように、測定装置１１はマイクロレンズ・アレーＭＬＡの周囲に配置される。したがって、基板が走査されるとき、基板上の特定点からの走査データはそれがターゲット箇所Ｃの部分であるときにのみ使用される。したがって、一つのデータ収集およびデータ使用の間の時間遅れは小さい。
【００３９】
基板の縁が露光されるとき、少なくとも一つのセンサーは基板の直ぐ上に位置しない。その測定装置１１からのデータは使用してはならず、フィードバック・ループはスイッチをオフにされる。対応するアクチュエータ１２で使用するデータは、例えば外挿するか、フィードフォワードによって得られる。
【００４０】
上述の例は「浮動状態」での測定を示したが、この測定は基板Ｗのいずれの処理の前に行うこともできる。例えば、全ての測定装置１１はマイクロレンズ・アレーＭＬＡと基板Ｗとの間隔距離を測定して、基板のマップを形成することができる。その後、このデータは制御装置１３に保存され、基板が処理されるときに使用されるようになされる。制御装置１３は他の理由でマイクロレンズ・アレーＭＬＡの高さも変化させる。
【００４１】
マイクロレンズ・アレーは投影系ＰＬの一部を形成するとして説明したが、投影系ＰＬから分離することも同様に十分にできる。
【００４２】
検出要素１１は、フィードバック・システムで動作して測定距離をできるだけ所定値に近づけて保持するＭＬＡに固定される（すなわち、ＭＬＡと一緒に上下移動する）か、ＭＬＡから独立されて基板に対する距離を測定することができ、集めた情報はフィードフォワード法により制御装置１３（したがって、アクチュエータ１２）へ送られる。
【００４３】
図４は代替実施例を示しており、これにおいては検出要素１１（単数または複数）はＭＬＡから分離されている。特に、それらは基板が移動する方向のＭＬＡの上流に位置する。検出要素１１（単数または複数）からのデータはアクチュエータ１２を制御する制御装置１３へ送られる。
【００４４】
本発明は個々に制御可能な部材の一つのアレーに関連して説明されたが、個々に制御可能な部材の複数のアレーとされることができる。同様に、個々に制御可能な部材の複数のアレーとされることができる。同様に、マイクロレンズの複数のアレーとされることができる。
【００４５】
本発明の特別な実施例が上述で説明されたが、本発明は記載した以外の方法で実施できることは認識されるであろう。この記載は本発明を限定することを意図していない。
【符号の説明】
【００４６】
ＡＭ  調整手段
ＢＤ  ビーム導入システム
Ｃ  ターゲット箇所
ＣＯ  コンデンサー
ＩＦ  位置センサー
ＩＬ  照射系すなわち照射装置
ＩＮ  積分装置
ＭＬＡ  マイクロレンズ・アレー
ＭＴ  マスク・テーブル
ＰＢ  投影射ビーム
ＰＬ  投影系
ＰＷ  位置決め手段
ＳＯ  放射光源
Ｗ  基板
ＷＴ  物品テーブル
１１  検出要素
１２  アクチュエータ
１３  制御装置
【図１】
2010068002.tif 000003
【図２】
2010068002.tif 000004
【図３】
2010068002.tif 000005
【図４】
2010068002.tif 000006
【外国語明細書】
2010068002000001.pdf