(57)【要約】【課題】ムラがなく、配向性が良好な光学補償シートを生産性よく製造する光学補償シートの製造法と、該製造方法により製造された光学補償シートを提供すること。【解決手段】本発明の光学補償シートの製造方法は、支持体上に、構造の異なる２種以上の液晶性化合物を含む液晶組成物を塗工する塗工工程と、前記液晶組成物が塗工された支持体に対して熱処理を行う熱処理工程とを含み、前記熱処理工程は液晶組成物のネマチック−等方相転移温度Ｔｉｓｏ以上の温度であるＴ１で少なくとも２０秒保持する第一の熱処理工程と、前記第一の熱処理工程の後にＴｉｓｏ未満の温度であるＴ２で熱処理を行う第二の熱処理工程とを含むことを特徴とする。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体上に、構造の異なる２種以上の液晶性化合物を含む液晶組成物を塗工する塗工工程と、前記液晶組成物が塗工された支持体に対して熱処理を行う熱処理工程とを含み、
前記熱処理工程は液晶組成物のネマチック−等方相転移温度Ｔｉｓｏ以上の温度であるＴ１で少なくとも２０秒保持する第一の熱処理工程と、前記第一の熱処理工程の後にＴｉｓｏ未満の温度であるＴ２で熱処理を行う第二の熱処理工程とを含むことを特徴とする光学補償シートの製造方法。
【請求項２】
構造の異なる２種以上の液晶化合物のネマチック−等方相転移温度がそれぞれ異なる温度である請求項１に記載の光学補償シートの製造方法。
【請求項３】
ネマチック-等方相転移温度が異なる液晶化合物を２種含み、一の液晶化合物のネマチック−等方相転移温度をＴｘとし、他方の液晶化合物ネマチック−等方相転移温度をＴｙとしたとき、ＴｘとＴｙとの差が少なくとも１０℃である請求項２に記載の光学補償シートの製造方法。
【請求項４】
熱処理工程は、第二の熱処理工程において、温度Ｔ２で少なくとも２０秒保持した後に、さらに、Ｔ２未満の温度であるＴ３で熱処理を行う第三の熱処理工程を含む請求項１から３のいずれかに記載の光学補償シートの製造方法。
【請求項５】
第三の熱処理工程において、温度Ｔ３で少なくとも１０秒保持する請求項４に記載の光学補償シートの製造方法。
【請求項６】
第一の熱処理工程において、温度Ｔ１で少なくとも６０秒保持する請求項１から５のいずれかに記載の光学補償シートの製造方法。
【請求項７】
構造の異なる２種以上の液晶化合物のうち、少なくとも１つはディスコティック液晶化合物である請求項１から６のいずれかに記載の光学補償シートの製造方法。
【請求項８】
請求項１から７のいずれかの方法で製造されることを特徴とする光学補償シート。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学補償シートの製造方法及び該製造方法により製造された光学補償シートに関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置（ＬＣＤ）は、ＣＲＴ（Ｃａｔｈｏｄｅ  Ｒａｙ  Ｔｕｂｅ）と比較して、薄型、軽量、低消費電力との大きな利点を有する。液晶表示装置は、液晶セルおよび液晶セルの両側に配置された一対の偏光板からなる。液晶セルは、液晶化合物を封入するための二枚の基板および棒状液晶性分子に電圧を加えるための電極層からなる。  封入した液晶化合物を配向させるため、二枚の基板には配向膜が設けられる。一般的に、液晶セルに表示される画像の着色を除去するため、液晶セルと偏光板との間に光学補償シート（位相差板）を設けることが多い。
【０００３】
こうした光学補償シートの製造方法としては、生産性が良好であるため、液晶化合物を含有する塗布組成物を塗工後、これを加熱する塗布法が適している。
しかしながら、塗布法においては、風や振動といった外乱によって、塗布膜のムラが生じやすく、膜厚が均一で平坦化されたフィルムを得ることが難しいという問題がある。
【０００４】
そのため、ムラをレベリングにより軽減する方法として、塗布液中に界面活性剤を添加したり、塗布液の粘度を下げたりする方法が一般的に知られている。
しかしながら、こうした方法では、製造される光学補償シートにスジ等が入りやすく、満足な光学補償シートを提供することができないという問題がある。
【０００５】
ところで、近時、ネマチック液晶モノマーを液晶相温度にてハイブリッド配向させ、ハイブリッド配向したネマチック液晶モノマーを重合させて固定化することを方法が知られている（特許文献１参照）。
こうした方法によると、溶媒除去後も加熱により液晶相、等方相の状態をとることができ、特に等方相では液晶がランダムに動き回る状態であるため粘度を低くでき、レベリングによりムラが改善されやすい。
この点に関し、本発明者らによって、塗布・乾燥を行い、溶媒を除去した後、液晶化合物のネマチック−等方相転移温度（Ｔｉｓｏ）以上の温度に保持させることで、ムラを劇的に良化させることが分かった。
【０００６】
しかしながら、液晶化合物のネマチック−等方相転移温度（Ｔｉｓｏ）以上の温度の状態においては、液晶化合物を配向させることに寄与しないため、ムラを改善し、配向性が良好な光学補償シートを得ようとすると、Ｔｉｓｏ未満の温度で配向させる時間と、Ｔｉｓｏ以上に保持する時間とが必要となり、生産性が悪化するため、現実的な方法ではなかった。この際、生産性向上のため、Ｔｉｓｏ以上に保持する時間とＴｉｓｏ未満で保持する時間を合せた配向時間を、従来のＴｉｓｏ未満だけで配向させていた時間と同等とすると、配向欠陥が生じるという問題があった。
【０００７】
【特許文献１】特開２００７−２０６２４１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、従来における前記問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、ムラがなく、配向性が良好な光学補償シートを生産性よく製造する光学補償シートの製造法と、該製造方法により製造された光学補償シートを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者らは、前記目的を達成すべく鋭意研究を重ねた結果、支持体に塗工する液晶組成物において、構造の異なる液晶化合物を２種以上併用することで、Ｔｉｓｏ以上の温度で保持した後に、Ｔｉｓｏ未満の温度で配向させると、配向時間を劇的に短縮させることが可能であり、生産性を落とさずにムラを抑制することができることを見出し、本発明の完成に至った。
【００１０】
本発明は、本発明者らによる前記知見に基づくものであり、前記課題を解決するための手段としては以下の通りである。即ち、
＜１＞  支持体上に、構造の異なる２種以上の液晶性化合物を含む液晶組成物を塗工する塗工工程と、前記液晶組成物が塗工された支持体に対して熱処理を行う熱処理工程とを含み、前記熱処理工程は液晶組成物のネマチック−等方相転移温度Ｔｉｓｏ以上の温度であるＴ１で少なくとも２０秒保持する第一の熱処理工程と、前記第一の熱処理工程の後にＴｉｓｏ未満の温度であるＴ２で熱処理を行う第二の熱処理工程とを含むことを特徴とする光学補償シートの製造方法である。
＜２＞  構造の異なる２種以上の液晶化合物のネマチック−等方相転移温度がそれぞれ異なる温度である前記＜１＞に記載の光学補償シートの製造方法。
＜３＞  ネマチック-等方相転移温度が異なる液晶化合物を２種含み、一の液晶化合物のネマチック−等方相転移温度をＴｘとし、他方の液晶化合物ネマチック−等方相転移温度をＴｙとしたとき、ＴｘとＴｙとの差が少なくとも１０℃である前記＜２＞に記載の光学補償シートの製造方法である。
＜４＞  熱処理工程は、第二の熱処理工程において、温度Ｔ２で少なくとも２０秒保持した後に、さらに、Ｔ２未満の温度であるＴ３で熱処理を行う第三の熱処理工程を含む前記＜１＞から＜３＞のいずれかに記載の光学補償シートの製造方法である。
＜５＞  第三の熱処理工程において、温度Ｔ３で少なくとも１０秒保持する前記＜４＞に記載の光学補償シートの製造方法である。
＜６＞  第一の熱処理工程において、温度Ｔ１で少なくとも６０秒保持する前記＜１＞から＜５＞のいずれかに記載の光学補償シートの製造方法である。
＜７＞  構造の異なる２種以上の液晶化合物のうち、少なくとも１つはディスコティック液晶化合物である前記＜１＞から＜６＞のいずれかに記載の光学補償シートの製造方法である。
＜８＞  前記＜１＞から＜７＞のいずれかの方法で製造されることを特徴とする光学補償シートである。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、従来における前記問題を解決し、前記目的を達成することができ、ムラがなく、配向性が良好な光学補償シートを生産性よく製造する光学補償シートの製造法と、該製造方法により製造された光学補償シートを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
（光学補償シートの製造方法）
本発明の光学補償シートの製造方法は、塗工工程と、熱処理工程を含むことを特徴とする。
前記光学補償シートの製造方法としては、前記塗工工程と、熱処理工程を含むものであれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、公知の他の工程を含むように構成することもできる。
【００１３】
＜塗工工程＞
前記塗工工程は、支持体上に、構造の異なる２種以上の液晶性化合物を含む液晶組成物を塗工する工程である。
【００１４】
−液晶組成物−
前記液晶組成物としては、構造の異なる２種以上の液晶性化合物を含むものであれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、溶媒と、他の添加物とを含む組成とすることができる。
【００１５】
前記構造の異なる２種以上の液晶化合物としては、ネマチック−等方相転移温度がそれぞれ異なる液晶化合物であることが好ましい。
ネマチック−等方相転移温度がそれぞれ異なる温度であると、（１）ネマチック相だけで配向させるのに比べて、一旦等方相に温度上昇させた後にネマチック相に降温させることによって配向に要する時間を劇的に短縮できることが分かった。
なお、ネマチック−等方相転移温度とは、（２）液晶がネマチック相から等方相、または等方相からネマチック相に転移する温度である。
【００１６】
前記ネマチック−等方相転移温度が異なる場合の温度差としては、一の液晶化合物のネマチック−等方相転移温度をＴｘとし、他方の液晶化合物ネマチック−等方相転移温度をＴｘとしたとき、ＴｘとＴｙとの差が少なくとも１０℃であることが好ましい。
【００１７】
前記液晶化合物の種類としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、棒状液晶化合物であっても、ディスコティック液晶化合物であってもよいが、ディスコティック液晶化合物が好ましい。
【００１８】
−棒状液晶化合物−
前記棒状液晶化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類及びアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。
なお、棒状液晶化合物には、金属錯体も含まれる。また、棒状液晶化合物を繰り返し単位中に含む液晶ポリマーも用いることができる。言い換えると、棒状液晶化合物は、（液晶）ポリマーと結合していてもよい。
棒状液晶化合物については、季刊化学総説第２２巻「液晶の化学（１９９４）日本化学会編」の第４章、第７章、及び第１１章、及び液晶デバイスハンドブック日本学術振興会第１４２委員会編の第３章に記載がある。
【００１９】
前記棒状液晶化合物の複屈折率としては、０．００１〜０．７の範囲にあることが好ましい。
前記棒状液晶化合物は、その配向状態を固定するために、重合性基を有することが好ましい。
前記重合性基は、不飽和重合性基又はエポキシ基が好ましく、不飽和重合性基が更に好ましく、エチレン性不飽和重合性基が特に好ましい。
【００２０】
−ディスコティック液晶化合物−
前記ディスコティック液晶化合物としては、特に制限はなく目的に応じて適宜選択することができ、例えば、高分子液晶でも低分子液晶でもよく、さらに、低分子液晶が架橋され液晶性を示さなくなったものも含まれる。
【００２１】
こうしたディスコティック液晶化合物としては、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．７１巻、１１１頁（１９８１年）に記載されているベンゼン誘導体、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．１２２巻、１４１頁（１９８５年）、Ｐｈｙｓｉｃｓ  Ｌｅｔｔ，Ａ，７８巻、８２頁（１９９０）に記載されているトルキセン誘導体、Ｂ．Ｋｏｈｎｅらの研究報告、Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．９６巻、７０頁（１９８４年）に記載されたシクロヘキサン誘導体およびＪ．Ｍ．Ｌｅｈｎらの研究報告、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．，１７９４頁（１９８５年）、Ｊ．Ｚｈａｎｇらの研究報告、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１１６巻、２６５５頁（１９９４年）に記載されているアザクラウン系やフェニルアセチレン系マクロサイクルが挙げられる。
【００２２】
また、前記ディスコティック液晶化合物としては、分子中心の母核に対して、直鎖のアルキル基、アルコキシ基または置換ベンゾイルオキシ基が母核の側鎖として放射線状に置換した構造の、液晶性を示す化合物も含まれ、中でも、三置換ベンゼン骨格またはトリフェニレン骨格の液晶化合物を含むことが好ましい。また、分子または分子の集合体が、回転対称性を有し、一定の配向を付与できる化合物であることが好ましい。
【００２３】
前記ディスコティック液晶化合物を重合により固定するためには、ディスコティック液晶化合物の円盤状コアに、置換基として重合性基を結合させる必要がある。ただし、円盤状コアに重合性基を直結させると、重合反応において配向状態を保つことが困難になる。そこで、円盤状コアと重合性基との間に、連結基を導入する。
前記重合性基を有するディスコティック液晶化合物としては、下記式（ＤＩ）で表わされる化合物であることが好ましい。
一般式（ＤＩ）
【００２４】
【化１】
2010085455.tif 000002
【００２５】
一般式（ＤＩ）中、Ｙ11、Ｙ12およびＹ13は、それぞれ独立にメチンまたは窒素原子を表す。
【００２６】
Ｙ11、Ｙ12およびＹ13がメチンの場合、メチンの水素原子は置換基によって置換されていてもよい。ここで、メチンとは、メタンから水素原子を３個除いて得られる原子団をいう。
メチンの炭素原子が有していてもよい置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ハロゲン原子およびシアノ基を好ましい例として挙げることができる。
これらの置換基の中では、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、ハロゲン原子およびシアノ基が好ましく、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数２〜１２アルコキシカルボニル基、炭素数２〜１２アシルオキシ基、ハロゲン原子およびシアノ基がより好ましい。
Ｙ11、Ｙ12およびＹ13としては、いずれもメチンであることが好ましく、メチンは無置換であることがより好ましい。
【００２７】
一般式（ＤＩ）中、Ｌ1、Ｌ2およびＬ3は、それぞれ独立に単結合または二価の連結基を表す。
Ｌ1、Ｌ2およびＬ3が二価の連結基の場合、それぞれ独立に、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＮＲ７−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、二価の環状基およびこれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。前記Ｒ７は炭素原子数１〜７のアルキル基または水素原子であり、炭素原子数１〜４のアルキル基または水素原子が好ましく、メチル基、エチル基または水素原子であることがより好ましく、水素原子であることが特に好ましい。
【００２８】
Ｌ1、Ｌ2およびＬ3における二価の環状基としては、少なくとも１種類の環状構造を有する二価の連結基（以下、環状基と呼ぶことがある）が挙げられる。
前記環状基としては５員環、６員環、または７員環であることが好ましく、５員環または６員環であることがより好ましく、６員環であることが特に好ましい。
前記環状基に含まれる環としては、縮合環であってもよい。ただし、縮合環よりも単環であることが好ましい。また、環状基に含まれる環は、芳香族環、脂肪族環、および複素環のいずれでもよい。
前記芳香族環としては、ベンゼン環およびナフタレン環が好ましい。
前記脂肪族環としては、シクロヘキサン環が好ましい。
前記複素環としては、ピリジン環およびピリミジン環が好ましい。
これらの環を含む環状基としては、芳香族環および複素環が好ましい。なお、２価の環状基としては、環状構造のみ（但し、置換基を含む）からなる２価の連結基であることが好ましい（以下、同じ）。
【００２９】
Ｌ1、Ｌ2およびＬ3で表される二価の環状基のうち、ベンゼン環を有する環状基としては、１，４−フェニレン基が好ましい。
ナフタレン環を有する環状基としては、ナフタレン−１，５−ジイル基およびナフタレン−２，６−ジイル基が好ましい。
シクロヘキサン環を有する環状基としては１，４−シクロへキシレン基であることが好ましい。
ピリジン環を有する環状基としては、ピリジン−２，５−ジイル基が好ましい。
ピリミジン環を有する環状基としては、ピリミジン−２，５−ジイル基が好ましい。
【００３０】
Ｌ1、Ｌ2およびＬ3で表される二価の環状基は、置換基を有していてもよい。
置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜１６のアルキル基、炭素原子数２〜１６のアルケニル基、炭素原子数が２〜１６アルキニル基、炭素原子数１〜１６のハロゲン置換アルキル基、炭素原子数１〜１６のアルコキシ基、炭素原子数２〜１６のアシル基、炭素原子数１〜１６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜１６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜１６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜１６のアルキル基で置換されたカルバモイル基および炭素原子数２〜１６のアシルアミノ基が挙げられる。
【００３１】
Ｌ1、Ｌ2およびＬ3としては、単結合、＊−Ｏ−ＣＯ−、＊−ＣＯ−Ｏ−、＊−ＣＨ＝ＣＨ−、＊−Ｃ≡Ｃ−、＊−二価の環状基−、＊−Ｏ−ＣＯ−二価の環状基−、＊−ＣＯ−Ｏ−二価の環状基−、＊−ＣＨ＝ＣＨ−二価の環状基−、＊−Ｃ≡Ｃ−二価の環状基−、＊−二価の環状基−Ｏ−ＣＯ−、＊−二価の環状基−ＣＯ−Ｏ−、＊−二価の環状基−ＣＨ＝ＣＨ−および＊−二価の環状基−Ｃ≡Ｃ−が好ましい。
中でも、単結合、＊−ＣＨ＝ＣＨ−、＊−Ｃ≡Ｃ−、＊−二価の環状基−Ｏ−ＣＯ−、＊−ＣＨ＝ＣＨ−二価の環状基−および＊−Ｃ≡Ｃ−二価の環状基−がより好ましく、単結合が特に好ましい。
ここで、＊は一般式（ＤＩ）中のＹ11、Ｙ12およびＹ13を含む６員環側に結合する位置を表す。
【００３２】
Ｈ1、Ｈ2およびＨ3は、それぞれ独立に下記一般式（ＤＩ−Ａ）または下記一般式（ＤＩ−Ｂ）を表す。
一般式（ＤＩ−Ａ）
【００３３】
【化２】
2010085455.tif 000003
【００３４】
一般式（ＤＩ−Ａ）中、ＹＡ1およびＹＡ2は、それぞれ独立にメチンまたは窒素原子を表す。
前記ＹＡ1およびＹＡ2としては、少なくとも一方が窒素原子であることが好ましく、両方が、窒素原子であることがより好ましい。
前記一般式（ＤＩ−Ａ）中のＸＡとしては、酸素原子、硫黄原子、メチレンまたはイミノを表し、酸素原子が好ましい。
前記一般式（ＤＩ−Ａ）中の＊は、前記一般式（ＤＩ）におけるＬ1〜Ｌ3側と結合する位置を表し、前記一般式（ＤＩ−Ａ）中の＊＊は、前記一般式（ＤＩ）におけるＲ1〜Ｒ3側と結合する位置を表す。
ここで、イミノは、−ＮＨ−で表されるものをいう。
一般式（ＤＩ−Ｂ）
【００３５】
【化３】
2010085455.tif 000004
【００３６】
一般式（ＤＩ−Ｂ）中、ＹＢ1およびＹＢ2は、それぞれ独立にメチンまたは窒素原子を表す。
前記ＹＢ1およびＹＢ2としては、少なくとも一方が窒素原子であることが好ましく、両方が、窒素原子であることがより好ましい。
前記一般式（ＤＩ−Ｂ）中のＸＢは、酸素原子、硫黄原子、メチレンまたはイミノを表し、酸素原子が好ましい。
前記一般式（ＤＩ−Ｂ）中の＊は、前記一般式（ＤＩ）におけるＬ1〜Ｌ3側と結合する位置を表し、前記一般式（ＤＩ−Ｂ）中の＊＊は、前記一般式（ＤＩ）におけるＲ1〜Ｒ3側と結合する位置を表す。
【００３７】
前記Ｒ1、Ｒ2およびＲ3は、それぞれ独立に下記一般式（ＤＩ−Ｒ）を表す。
【００３８】
一般式（ＤＩ−Ｒ）
＊−（−Ｌ21−Ｑ2）n1−Ｌ22−Ｌ23−Ｑ1
【００３９】
一般式（ＤＩ−Ｒ）中、＊は一般式（ＤＩ）におけるＨ1〜Ｈ3側と結合する位置を表す。
【００４０】
Ｌ21は単結合または二価の連結基である。Ｌ21が二価の連結基の場合、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＮＲ７−、−ＣＨ＝ＣＨ−および−Ｃ≡Ｃ−ならびにこれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。
前記Ｒ７は炭素原子数１〜７のアルキル基または水素原子であり、炭素原子数１〜４のアルキル基または水素原子であることが好ましく、メチル基、エチル基または水素原子であることがより好ましく、水素原子であることが特に好ましい。
【００４１】
Ｌ21は単結合、ならびに、＊＊＊−Ｏ−ＣＯ−、＊＊＊−ＣＯ−Ｏ−、＊＊＊−ＣＨ＝ＣＨ−および＊＊＊−Ｃ≡Ｃ−（ここで、＊＊＊は一般式（ＤＩ−Ｒ）中の＊側を表す）のいずれかが好ましく、単結合がより好ましい。
【００４２】
Ｑ2は少なくとも１種類の環状構造を有する二価の基（環状基）を表す。
このような環状基としては、５員環、６員環、または７員環を有する環状基が好ましく、５員環または６員環を有する環状基がより好ましく、６員環を有する環状基が特に好ましい。
前記環状基に含まれる環状構造としては、縮合環であってもよい。ただし、縮合環よりも単環であることがより好ましい。
また、環状基に含まれる環としては、芳香族環、脂肪族環、および複素環のいずれでもよい。
前記芳香族環としては、ベンゼン環およびナフタレン環が好ましい。
前記脂肪族環としては、シクロヘキサン環が好ましい。
前記複素環としては、ピリジン環およびピリミジン環が好ましい。
【００４３】
前記Ｑ2のうち、ベンゼン環を有する環状基としては、１，４−フェニレン基が好ましい。
ナフタレン環を有する環状基としては、ナフタレン−１，５−ジイル基およびナフタレン−２，６−ジイル基が好ましい。
シクロヘキサン環を有する環状基としては、１，４−シクロへキシレン基であることが好ましい。
ピリジン環を有する環状基としては、ピリジン−２，５−ジイル基が好ましい。
ピリミジン環を有する環状基としては、ピリミジン−２，５−ジイル基が好ましい。  これらの中でも、１，４−フェニレン基および１，４−シクロへキシレン基がより好ましい。
【００４４】
前記Ｑ2は、置換基を有していてもよい。
置換基の例としては、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜１６のアルキル基、炭素原子数２〜１６のアルケニル基、炭素原子数２〜１６のアルキニル基、炭素原子数１〜１６のハロゲンで置換されたアルキル基、炭素原子数１〜１６のアルコキシ基、炭素原子数２〜１６のアシル基、炭素原子数１〜１６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜１６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜１６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜１６のアルキル置換カルバモイル基および炭素原子数２〜１６のアシルアミノ基が含まれる。
これらの中でも、ハロゲン原子、シアノ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲンで置換されたアルキル基が好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数１〜４のアルキル基、炭素原子数１〜４のハロゲンで置換されたアルキル基が好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数が１〜３のアルキル基、トリフルオロメチル基がより好ましい。
【００４５】
ｎ１は、０〜４の整数を表す。ｎ１としては、１〜３の整数が好ましく、１もしくは２がさらに好ましい。
【００４６】
Ｌ22は、＊＊−Ｏ−、＊＊−Ｏ−ＣＯ−、＊＊−ＣＯ−Ｏ−、＊＊−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、＊＊−Ｓ−、＊−Ｎ（Ｒ）−、＊＊−ＣＨ2−、＊＊−ＣＨ＝ＣＨ−または＊＊−Ｃ≡Ｃ−を表し、＊＊はＱ2側と結合する位置を表す。
前記Ｌ22としては、＊＊−Ｏ−、＊＊−Ｏ−ＣＯ−、＊＊−ＣＯ−Ｏ−、＊＊−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、＊＊−ＣＨ2−、＊＊−ＣＨ＝ＣＨ−、＊＊−Ｃ≡Ｃ−が好ましく、＊＊−Ｏ−、＊＊−Ｏ−ＣＯ−、＊＊−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、＊＊−ＣＨ2−がより好ましい。
Ｒは、炭素数１〜５のアルキル基を表す。
【００４７】
Ｌ23は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＮＨ−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−お
よび−Ｃ≡Ｃ−ならびにこれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表す。ここで、−ＮＨ−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−の水素原子は、置換基で置換されていてもよい。
このような置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲンで置換されたアルキル基、炭素原子数１〜６のアルコキシ基、炭素原子数２〜６のアシル基、炭素原子数１〜６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜６のアルキルで置換されたカルバモイル基および炭素原子数２〜６のアシルアミノ基が好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数１〜６のアルキル基がより好ましい。
【００４８】
前記Ｌ23としては、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−および−Ｃ≡Ｃ−ならびにこれらの組み合わせからなる群より選ばれることが好ましい。
また、前記Ｌ23としては、炭素原子を１〜２０個含有することが好ましく、炭素原子を２〜１４個を含有することがより好ましい。
さらに、前記Ｌ23としては、−ＣＨ2−を１〜１６個含有することが好ましく、−ＣＨ2−を２〜１２個含有することがより好ましい。
【００４９】
Ｑ1は重合性基または水素原子を表す。
前記Ｑ1としては、位相差の大きさが熱により変化しないように、重合性基であることが好ましい。
重合反応としては、付加重合（開環重合を含む）または縮合重合であることが好ましい。すなわち、重合性基は、付加重合反応または縮合重合反応が可能な官能基であることが好ましい。以下に重合性基の例を示す。
【００５０】
【化４】
2010085455.tif 000005
【００５１】
さらに、前記重合性基としては、付加重合反応が可能な官能基であることがより好ましく、中でも、重合性エチレン性不飽和基または開環重合性基がより好ましい。
【００５２】
前記重合性エチレン性不飽和基としては、下記の式（Ｍ−１）〜（Ｍ−６）が挙げられる。
【００５３】
【化５】
2010085455.tif 000006
【００５４】
式（Ｍ−３）、（Ｍ−４）中、Ｒは水素原子またはアルキル基を表し、水素原子またはメチル基が好ましい。
前記式（Ｍ−１）〜（Ｍ−６）の中、（Ｍ−１）または（Ｍ−２）が好ましく、（Ｍ−１）がより好ましい。
【００５５】
前記開環重合性基としては、環状エーテル基が好ましく、エポキシ基またはオキセタニル基がより好ましく、エポキシ基が最も好ましい。
【００５６】
また、前記液晶性化合物としては、下記一般式（ＤII）で表される液晶性化合物が特に好ましい。
一般式（ＤII）
【００５７】
【化６】
2010085455.tif 000007
【００５８】
一般式（ＤII）中、Ｙ31、Ｙ32およびＹ33は、それぞれ独立にメチンまたは窒素原子を表し、一般式（ＤＩ）中の、Ｙ11、Ｙ12およびＹ13と同義であり、好ましい範囲も同義である。
【００５９】
一般式（ＤII）中、Ｒ31、Ｒ32およびＲ33は、それぞれ独立に下記一般式（ＤII−Ｒ）を表す。
一般式（ＤII−Ｒ）
【００６０】
【化７】
2010085455.tif 000008
【００６１】
一般式（ＤII−Ｒ）中、Ａ31およびＡ32は、それぞれ独立にメチンまたは窒素原子を表し、少なくとも一方が窒素原子であることが好ましく、両方が窒素原子であることがより好ましい。
前記一般式（ＤII−Ｒ）中のＸ3としては、酸素原子、硫黄原子、メチレンまたはイミノを表し、酸素原子が好ましい。
【００６２】
Ｑ31は、６員環状構造を有する二価の連結基（以下、６員環環状基と呼ぶことがある）を表す。６員環は、縮合環であってもよい。ただし、縮合環よりも単環であることが好ましい。
また、６員環環状基に含まれる環としては、芳香族環、脂肪族環、および複素環のいずれでもよい。
前記芳香族環としては、ベンゼン環およびナフタレン環が好ましい。
前記脂肪族環としては、シクロヘキサン環が好ましい。
前記複素環としては、ピリジン環およびピリミジン環が好ましい。
【００６３】
前記Ｑ31のうち、ベンゼン環を有する６員環環状基としては、１，４−フェニレン基、および１，３−フェニレン基が好ましい。
ナフタレン環を有する環状構造としては、ナフタレン−１，５−ジイル基およびナフタレン−２，６−ジイル基が好ましい。
シクロヘキサン環を有する環状構造としては１，４−シクロへキシレン基であることが好ましい。
ピリジン環を有する環状構造としてはピリジン−２，５−ジイル基が好ましい。
ピリミジン環を有する環状構造としては、ピリミジン−２，５−ジイル基が好ましい。  これらの中でも、１，４−フェニレン基および１，３−フェニレン基がより好ましい。
【００６４】
前記Ｑ31の環状構造としては、置換基を有していてもよい。
前記置換基としては、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜１６のアルキル基、炭素原子数２〜１６のアルケニル基、炭素原子数２〜１６のアルキニル基、炭素原子数１〜１６のハロゲン原子で置換されたアルキル基、炭素原子数１〜１６のアルコキシ基、炭素原子数２〜１６のアシル基、炭素原子数１〜１６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜１６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜１６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜１６のアルキル置換カルバモイル基および炭素原子数２〜１６のアシルアミノ基が挙げられる。
６員環環状基の置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲン原子で置換されたアルキル基が好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数１〜４のアルキル基、炭素原子数１〜４のハロゲン原子で置換されたアルキル基がより好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数１〜３のアルキル基、トリフルオロメチル基が特に好ましい。
【００６５】
ｎ３は、１〜３の整数を表し、１もしくは２が好ましい。
【００６６】
Ｌ31は、＊−Ｏ−、＊−Ｏ−ＣＯ−、＊−ＣＯ−Ｏ−、＊−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、＊−Ｓ−、＊−Ｎ（Ｒ）−、＊−ＣＨ2−、＊−ＣＨ＝ＣＨ−または＊−Ｃ≡Ｃ−を表し（Ｒは、炭素数１〜５のアルキル基を表す。）、＊はＱ31側と結合する位置を表し、具体的には、一般式（ＤＩ−Ｒ）中のＬ22と同義であり、好ましい範囲も同義である。
【００６７】
Ｌ32は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＮＨ−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−お
よび−Ｃ≡Ｃ−ならびにこれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表し、具体的には、一般式（ＤＩ−Ｒ）中のＬ23と同義であり、好ましい範囲も同義である。
【００６８】
一般式（ＤII−Ｒ）中のＱ32は、重合性基または水素原子を表す。具体的には、一般式（ＤＩ−Ｒ）中のＱ１と同義であり、好ましい範囲も同義である。
【００６９】
以下に、一般式（ＤＩ）ないし（ＤII）で表される液晶性化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。特許文献９（特開平１１−３１６３７８号公報）にはさまざまなディスコティック液晶化合物が挙げられており、以下に示される液晶化合物と合わせて使用することができる。
【００７０】
【化８】
2010085455.tif 000009
なお、これらＤ−１０等を含む液晶化合物としては、特開２００７−２２２０号公報においても記載されている。
【００７１】
【化９】
2010085455.tif 000010
【００７２】
【化１０】
2010085455.tif 000011
【００７３】
【化１１】
2010085455.tif 000012
【００７４】
【化１２】
2010085455.tif 000013
【００７５】
【化１３】
2010085455.tif 000014
【００７６】
【化１４】
2010085455.tif 000015
なお、これらＤ−１１２等を含む液晶化合物としては、特開２００６−７６９９２号公報においても記載されている。
【００７７】
【化１５】
2010085455.tif 000016
【００７８】
【化１６】
2010085455.tif 000017
【００７９】
【化１７】
2010085455.tif 000018
【００８０】
【化１８】
2010085455.tif 000019
【００８１】
【化１９】
2010085455.tif 000020
【００８２】
【化２０】
2010085455.tif 000021
【００８３】
【化２１】
2010085455.tif 000022
【００８４】
【化２２】
2010085455.tif 000023
【００８５】
【化２３】
2010085455.tif 000024
【００８６】
【化２４】
2010085455.tif 000025
【００８７】
【化２５】
2010085455.tif 000026
【００８８】
【化２６】
2010085455.tif 000027
【００８９】
【化２７】
2010085455.tif 000028
【００９０】
【化２８】
2010085455.tif 000029
【００９１】
【化２９】
2010085455.tif 000030
【００９２】
【化３０】
2010085455.tif 000031
【００９３】
【化３１】
2010085455.tif 000032
【００９４】
【化３２】
2010085455.tif 000033
【００９５】
【化３３】
2010085455.tif 000034
【００９６】
【化３４】
2010085455.tif 000035
【００９７】
【化３５】
2010085455.tif 000036
【００９８】
【化３６】
2010085455.tif 000037
【００９９】
【化３７】
2010085455.tif 000038
【０１００】
【化３８】
2010085455.tif 000039
【０１０１】
【化３９】
2010085455.tif 000040
【０１０２】
【化４０】
2010085455.tif 000041
【０１０３】
【化４１】
2010085455.tif 000042
【０１０４】
【化４２】
2010085455.tif 000043
【０１０５】
【化４３】
2010085455.tif 000044
【０１０６】
【化４４】
2010085455.tif 000045
【０１０７】
【化４５】
2010085455.tif 000046
【０１０８】
【化４６】
2010085455.tif 000047
【０１０９】
【化４７】
2010085455.tif 000048
【０１１０】
【化４８】
2010085455.tif 000049
【０１１１】
【化４９】
2010085455.tif 000050
【０１１２】
【化５０】
2010085455.tif 000051
【０１１３】
【化５１】
2010085455.tif 000052
【０１１４】
【化５２】
2010085455.tif 000053
【０１１５】
【化５３】
2010085455.tif 000054
【０１１６】
【化５４】
2010085455.tif 000055
【０１１７】
前記液晶性化合物としては、良好なモノドメイン性を示す液晶相を発現することが望ましい。
モノドメイン性を良好なものとすることにより、得られる構造がポリドメインとなり、ドメイン同士の境界に配向欠陥が生じ、光を散乱するようになるのを効果的に防ぐことができる。さらに、良好なモノドメイン性を示すと、より高い光透過率を有するため好ましい。
【０１１８】
前記液晶性化合物が発現する液晶相としては、カラムナー相およびディスコティックネマチック相（ＮＤ相）が挙げられる。中でも、良好なモノドメイン性を示し、かつ、ハイブリッド配向が可能なディスコティックネマチック相（ＮＤ相）が好ましい。
【０１１９】
−溶媒−
前記液晶組成物の調製に使用する溶媒としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、有機溶媒が好ましい。
前記有機溶媒としては、アミド（例、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例、ピリジン）、炭化水素（例、ベンゼン、ヘキサン）、アルキルハライド（例、クロロホルム、ジクロロメタン、テトラクロロエタン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸ブチル）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン）、エーテル（例、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）が挙げられ、中でも、アルキルハライドおよびケトンが好ましい。
これらは、１種単独で用いてもよく、２種類以上を併用してもよい。
【０１２０】
−他の添加剤−
一般に、ディスコティック液晶性化合物の物理的な対称軸の平均方向は、一般にディスコティック液晶性化合物あるいは配向膜の材料を選択することにより、またはラビング処理方法を選択することにより、調整することができる。また、表面側（空気側）のディスコティック液晶性化合物の物理的な対称軸方向は、一般にディスコティック液晶性化合物あるいはディスコティック液晶性化合物と共に使用する添加剤の種類を選択することにより調整することができる。
ディスコティック液晶性化合物と共に使用する添加剤の例としては、可塑剤、界面活性剤、重合性モノマー、ポリマーおよび低分子化合物などを挙げることができる。長軸の配向方向の変化の程度も、前記と同様に、液晶性化合物と添加剤との選択により調整できる。
【０１２１】
本発明の液晶性化合物と共に使用する可塑剤、重合性モノマーは、本発明の液晶性化合物と相溶性を有し、ディスコティック液晶性化合物の傾斜角の変化を与えられるか、あるいは配向を阻害しないものが採用される。
【０１２２】
前記界面活性剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、特開２００１−３３０７２５号公報に記載の界面活性剤を用いることができる。中でも、フッ素系化合物が好ましい。中でも、下記構造式からなるフルオロ脂肪族基含有ポリマーが好ましい。
【化５５】
2010085455.tif 000056
ただし、式中、ｎとｍとは、共重合体の質量比を示す(ｎ＋ｍ＝１００)。
前記ｎとしては、２０〜５０が好ましい。
【０１２３】
（支持体）
前記支持体としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ポリマーフィルムが挙げられる。
【０１２４】
前記ポリマーフィルムを形成するポリマーとしては、セルロース系ポリマーが好ましく、セルロースエステルがより好ましく、セルロースの低級脂肪酸エステルが特に好ましい。
前記低級脂肪酸としては、炭素原子数が６以下の脂肪酸が挙げられ、中でも、炭素原子数が２〜４のセルロースアシレートが好ましく、セルロースアセテートが特に好ましい。また、セルロースアセテートプロピオネートやセルロースアセテートブチレートのような混合脂肪酸エステルを用いてもよい。
【０１２５】
前記支持体のＲｔｈレタデーション値としては、１００〜３００ｎｍの範囲であることが好ましく、１５０〜２００ｎｍであることがさらに好ましい。また光学異方性層２のＲｅレタデーション値は、３０〜６０ｎｍであることが好ましく、３５〜５０ｎｍであることがさらに好ましい。
【０１２６】
前記セルロースアセテートのレタデーションを調整するためには、延伸のような外力を与える方法が一般的である。レタデーション上昇剤を、光学異方性を調節するために添加してもよい。
前記レタデーション上昇剤としては、芳香族環を少なくとも二つ有する芳香族化合物が好ましい。芳香族化合物は、ポリマー１００質量部に対して、０．０１〜２０質量部の範囲で使用することが好ましい。また、前記芳香族化合物としては、１種単独で用いてもよく、二種類以上の芳香族化合物を併用してもよい。
芳香族化合物の芳香族環には、芳香族炭化水素環に加えて、芳香族性ヘテロ環を含むことが好ましい。
【０１２７】
前記レタデーション上昇剤としては、欧州特許出願公開第０９１１６５６号明細書、特開２０００−１１１９１４号、同２０００−２７５４３４号の各公報に記載がある。
【０１２８】
ポリマーフィルムの添加剤の例には、紫外線防止剤、剥離剤、帯電防止剤、劣化防止剤（例、酸化防止剤、過酸化物分解剤、ラジカル禁止剤、金属不活性化剤、酸捕獲剤、アミン）、赤外吸収剤が含まれる。
ポリマーフィルムが多層から形成される場合、各層における添加剤の種類や添加量が異なってもよい。添加剤については、発明協会公開技報公技番号２００１−１７４５号の１６頁〜２２頁に記載がある。添加剤の使用量は、一般に、ポリマーフィルムの０．００１〜２５質量％の範囲である。
【０１２９】
セルロースアセテートフィルムは、ソルベントキャスト法により製造することが好ましい。ソルベントキャスト法では、ポリマー材料を有機溶媒に溶解した溶液（ドープ）を用いてフィルムを製造する。
【０１３０】
一般的な方法でセルロースアセテート溶液を調製できる。一般的な方法とは、０℃以上の温度（常温または高温）で、処理することを意味する。
溶液の調製は、通常のソルベントキャスト法におけるドープの調製方法および装置を用いて実施することができる。なお、一般的な方法の場合は、有機溶媒としてハロゲン化炭化水素（特にメチレンクロリド）を用いることが好ましい。セルロースアセテートの量は、得られる溶液中に１０〜４０質量％含まれるように調整する。セルロースアセテートの量は、１０〜３０質量％であることがさらに好ましい。有機溶媒（主溶媒）中には、後述する任意の添加剤を添加しておいてもよい。溶液は、常温（０〜４０℃）でセルロースアセテートと有機溶媒とを攪拌することにより調製することができる。高濃度の溶液は、加圧および加熱条件下で攪拌してもよい。具体的には、セルロースアセテートと有機溶媒とを加圧容器に入れて密閉し、加圧下で溶媒の常温における沸点以上、かつ溶媒が沸騰しない範囲の温度に加熱しながら攪拌する。加熱温度は、通常は４０℃以上であり、好ましくは６０〜２００℃であり、さらに好ましくは８０〜１１０℃である。
【０１３１】
−塗布方法−
前記液晶組成物の塗布としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法等が挙げられる。
【０１３２】
塗布膜の厚さとしては、０．１〜２０μｍであることが好ましく、０．３〜１０μｍであることがより好ましく、０．５〜５μｍであることが特に好ましい。
【０１３３】
（配向膜）
前記支持体上には、配向膜が形成される。
前記配向膜の形成方法としては、有機化合物（好ましくはポリマー）のラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成、あるいはラングミュア・ブロジェット法（ＬＢ膜）による有機化合物（例、ω−トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライド、ステアリル酸メチル）の累積のような手段で設けることができる。さらに、電場の付与、磁場の付与あるいは光照射により、配向機能が生じる配向膜も知られている。
【０１３４】
前記配向膜は、ポリマーのラビング処理により形成することが好ましい。配向膜に使用するポリマーは、原則として、液晶性分子を配向させる機能のある分子構造を有する。
前記配向膜に用いるポリマーとしては、前記液晶化合物を配向させる機能に加えて、配向状態を固定する機能を有することが好ましい。例えば、架橋性官能基（例、二重結合）を有する側鎖をポリマーの主鎖に結合させるか、あるいは、液晶性分子を配向させる機能を有する架橋性官能基をポリマーの側鎖に導入することが好ましい。
前記配向膜に使用されるポリマーとしては、それ自体架橋可能であるか、あるいは架橋剤の使用により架橋可能になることが好ましい。
前記架橋可能なポリマーとしては、特開平８−３３８９１３号公報の段落番号００２２に記載がある。
前記架橋可能なポリマーの例としては、ポリメタクリレート、ポリスチレン、ポリオレフィン、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、ポリエステル、ポリイミド、ポリ酢酸ビニル、カルボキシメチルセルロース、ポリカーボネートおよびこれらの共重合体が含まれる。シランカップリング剤をポリマーとして用いることもできる。
中でも、水溶性ポリマー（例、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、カルボキシメチルセルロース、ゼラチン、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール）が好ましく、ゼラチン、ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコールがより好ましく、ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコールが特に好ましい。
また、これらは、１種単独で用いてもよいが、重合度が異なるポリビニルアルコールまたは変性ポリビニルアルコールを２種類以上併用することがより好ましい。
【０１３５】
前記ポリビニルアルコールの鹸化度としては、７０〜１００％が好ましく、８０〜１００％がより好ましい。
前記ポリビニルアルコールの重合度としては、１００〜５，０００であることが好ましい。
液晶性分子を配向させる機能を有する側鎖は、一般に疎水性基を官能基として有する。  具体的な官能基の種類は、液晶性分子の種類および必要とする配向状態に応じて決定する。
前記変性ポリビニルアルコールの変性基は、共重合変性、連鎖移動変性またはブロック重合変性により導入できる。
前記変性基の例としては、親水性基（例、カルボン酸基、スルホン酸基、ホスホン酸基、アミノ、アンモニオ、アミド、チオール）、炭素原子数１０〜１００の炭化水素基、フッ素原子置換の炭化水素基、アルキルチオ基、重合性基（例、不飽和重合性基、エポキシ基、アジリニジル基）、アルコキシシリル基（トリアルコキシシリル、ジアルコキシシリル、モノアルコキシシリル）が挙げられる。
変性ポリビニルアルコールは、特開２０００−１５５２１６号、同２００２−６２４２６号の各公報に記載がある。
【０１３６】
架橋性官能基を有する側鎖を配向膜ポリマーの主鎖に結合させるか、あるいは、液晶性分子を配向させる機能を有する側鎖に架橋性官能基を導入すると、配向膜のポリマーと偏光板等に含まれる多官能モノマーとを共重合させることができる。その結果、多官能モノマーと多官能モノマーとの間だけではなく、配向膜ポリマーと配向膜ポリマーとの間、そして多官能モノマーと配向膜ポリマーとの間も共有結合で強固に結合される。従って、架橋性官能基を配向膜ポリマーに導入することで、光学補償シートの強度を著しく改善することができる。
配向膜ポリマーの架橋性官能基は、多官能モノマーと同様に、重合性基が好ましい架橋性官能基は、特開２０００−１５５２１６号公報の段落番号００８０〜０１００に記載がある。
【０１３７】
前記配向膜は、前記ポリマーおよび架橋剤を含む塗布液を、支持体上に塗布した後、加熱乾燥し（架橋させ）、ラビング処理することにより形成できる。架橋反応は、光学異方性層２上に塗布した後に行なう。ポリビニルアルコールのような水溶性ポリマーを配向膜形成材料として用いる場合には、塗布液は消泡作用のある有機溶媒（例、メタノール）と水の混合溶媒とすることが好ましい。水とメタノールの混合溶媒の場合、溶媒全体に対してメタノールが１質量％以上含まれることが好ましく、９質量％以上含まれることがさらに好ましい。有機溶媒を加えることで、泡の発生が抑えられ、表面の欠陥が著しく減少する。
【０１３８】
前記配向膜の塗布方法は、スピンコーティング法、ディップコーティング法、カーテンコーティング法、エクストルージョンコーティング法、ロッドコーティング法またはロールコーティング法が好ましい。特にロッドコーティング法が好ましい。
【０１３９】
＜熱処理工程＞
前記熱処理工程としては、第一の熱処理工程と、第二の熱処理工程を含み、必要に応じて第三の熱処理工程を含む。
【０１４０】
−第一の熱処理工程−
前記第一の熱処理工程では、前記液晶組成物のネマチック−等方相転移温度Ｔｉｓｏ以上の温度であるＴ１による第一の熱処理を行う。
前記Ｔ１が前記液晶組成物のネマチック−等方相転移温度Ｔｉｓｏ以上の温度であると、ムラと配向欠陥がない光学補償シートを生産性よく製造することが可能となる。
前記Ｔ１としては、前記Ｔｉｓｏ以上の温度であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、前記Ｔ１の上限としては、液晶組成物の熱重合温度以下であることが好ましい。熱重合温度以上の温度であると、加熱処理中に重合反応により固定化されてしまうため好ましくない。
【０１４１】
前記Ｔ１の温度による熱処理状態を保持する保持時間としては、少なくとも２０秒であり、３０秒以上が好ましく、６０秒以上がより好ましい。
前記保持時間が２０秒以上であると、ムラと配向欠陥を抑制することができる。
前記保持時間の上限としては、大きくとも１２０秒であることが好ましい。
前記保持時間が１２０秒を超えると、生産性が低下する。
【０１４２】
前記第一の熱処理工程における熱処理手段としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、恒温槽、加熱ロール等が挙げられる。
【０１４３】
−第二の熱処理工程−
前記第二の熱処理工程では、前記Ｔｉｓｏ未満の温度であるＴ２での熱処理を行う。
【０１４４】
前記Ｔ２としては、Ｔｉｓｏ未満の温度であればよく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、室温とすることもできるが、前記Ｔｉｓｏよりも１℃以上低い温度であることが好ましい。
前記Ｔ２が、前記Ｔｉｓｏとの差が１℃未満であると、温度の振れがあった時に液晶化合物の配向を阻害する可能性がある。
【０１４５】
前記Ｔ２の温度による熱処理状態を保持する保持時間の下限としては、少なくとも２０秒であることが好ましい。
前記保持時間が２０秒以上であると、配向欠陥を特に抑制することができる。
前記保持時間の上限としては、１２０秒以下であることが好ましい。
前記保持時間が１２０秒を超えると、生産性が低下する。
【０１４６】
前記第二の熱処理工程における熱処理手段としては、前記Ｔ２の温度による熱処理ができるものであれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、恒温層、加熱ロール等が挙げられる。
【０１４７】
−第三の熱処理工程−
さらに、第二の熱処理工程に次いで、第三の熱処理工程における熱処理を行うこともできる。
前記第三の熱処理工程としては、前記Ｔ２未満の温度であるＴ３による熱処理を行うことが好ましい。
【０１４８】
前記Ｔ３としては、Ｔ２未満の温度であればよく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、室温とすることもできるが、ネマチック相をとる温度であることが好ましい。カラムナー相、クリスタル相温度となると配向を乱す可能性があり好ましくない。
【０１４９】
前記Ｔ3の温度による熱処理状態を保持する保持時間の下限としては、少なくとも１０秒であることが好ましい。
前記保持時間が１０秒以上であると、所望の配向状態に制御することができる。
前記保持時間の上限としては、６０秒以下であることが好ましい。
前記保持時間が６０秒を超えると、生産性が低下する。
【０１５０】
前記第三の熱処理手段としては、前記Ｔ３の温度による熱処理ができるものであれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、恒温層、加熱ロール等が挙げられる。
【０１５１】
＜他の工程＞
配向させた状態のディスコティック液晶化合物としては、該配向状態を維持して固定することができる。
前記固定化としては、重合反応により実施することが好ましい。
前記重合反応としては、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる光重合反応とが含まれる。光重合反応が好ましい。
前記光重合開始剤の例としては、α−カルボニル化合物（米国特許第２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許第２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許第２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許第３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許第３５４９３６７号明細書記載）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許第４２３９８５０号明細書記載）およびオキサジアゾール化合物（米国特許第４２１２９７０号明細書記載）が含まれる。
【０１５２】
前記光重合開始剤の使用量としては、塗布液の固形分の０．０１〜２０質量％が好ましく、０．５〜５質量％がより好ましい。
液晶性分子の重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましい。
照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ2〜５０Ｊ／ｃｍ2が好ましく、２０〜５，０００ｍＪ／ｃｍ2がさらに好ましく、１００〜８００ｍＪ／ｃｍ2が最も好ましい。光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を実施してもよい。
【０１５３】
（光学補償シート）
本発明の光学補償シートとしては、前記光学補償シートの製造方法により製造されるものであれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
【実施例】
【０１５４】
以下に、実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、割合、操作などは本発明の精神から逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に制限されるものではない。
【０１５５】
（実施例１）
＜セルロースアセテート溶液の調製＞
下記表１に示す組成物をミキシングタンクに投入し、３０℃に加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。
【０１５６】
【表１】
2010085455.tif 000057
【０１５７】
【化５６】
2010085455.tif 000058
【０１５８】
＜セルロースアセテートフィルムＳ−１の作製＞
得られた内層用ドープおよび外層用ドープを、三層共流延ダイを用いて、０℃に冷却したドラム上に流延した。
残留溶剤量が７０質量％のフィルムをドラムから剥ぎ取り、両端をピンテンターにて固定して搬送方向のドロー比を１１０％として搬送しながら８０℃で乾燥させ、残留溶剤量が１０％となったところで、１１０℃で乾燥させた。
その後、１４０℃の温度で３０分乾燥し、残留溶剤が０．３質量％のセルロースアセテートフィルム（外層：３μｍ、内層：７４μｍ、外層：３μｍ）を作製した。作製したセルロースアセテートフィルムＳ−１について、光学特性を測定した。
【０１５９】
得られたセルロースアセテートの幅は１，３４０ｍｍであり、厚さは８０μｍであった。Ｒｅは６ｎｍで、Ｒｔｈは９０ｎｍであった。
【０１６０】
＜配向膜の作製＞
鹸化処理をしたセルロースアセテートフィルムＳ−１を支持体として、この上に、下記表２に示す組成の配向膜塗布液を＃１６のワイヤーバーコーターで２８ｍＬ／ｍ２塗布した。６０℃の温風で６０秒、更に９０℃の温風で１５０秒乾燥し、配向膜を作製した。乾燥後の配向膜の厚みは、１．１μｍであった。
【０１６１】
【表２】
2010085455.tif 000059
【０１６２】
−変性ポリビニルアルコール−
【化５７】
2010085455.tif 000060
【０１６３】
［配向処理］
配向膜を塗設した支持体Ｓ−１を、４５０ｒｐｍで回転させたラビングロール装置に載せ、その搬送方向に対して平行に配向するよう、該支持体Ｓ−１上の配向膜設置表面にラビング処理を施した。
【０１６４】
＜光学異方性層の塗設＞
この支持体Ｓ−１のラビング処理面に、下記表３に示した組成の塗布液を＃２．５のワイヤーバーで塗布した。該塗布液中に含まれるディスコティック液晶化合物のうち、ディスコティック液晶化合物１は、等方相転移温度が低い方のディスコティック液晶化合物を示し、ディスコティック液晶化合物２は、等方相転移温度が高い方のディスコティック液晶化合物を示す。
ディスコティック液晶化合物１とディスコティック液晶化合物２とを含むディスコティック液晶化合物組成物のネマチック−等方相転移温度（Ｔｉｓｏ）は、１１８℃である。
【０１６５】
【表３】
2010085455.tif 000061
なお、表３中のディスコティック液晶化合物１：Ｄ−１１２（等方相転移温度１４７℃）は、特開２００６−７６９９２号公報において、Ｄ−１１２として記載されたディスコティック液晶化合物と同一のディスコティック液晶化合物である。
また、表３中のディスコティック液晶化合物２：化４４（等方相転移温度２１５℃）は、特開２００１−１６６１４４号公報の化４４として記載されたディスコティック液晶化合物と同一のディスコティック液晶化合物である。
【０１６６】
−フルオロ脂肪族基含有ポリマー−
また、表３中に示されたフルオロ脂肪族基含有ポリマーを示す。
【化５８】
2010085455.tif 000062
なお、フルオロ脂肪族基含有ポリマーの具体的な化合物としては、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート（Ｐ−１）を用いた。
【０１６７】
前記表３の組成からなる塗布液を塗布して形成された塗布膜に対し、加熱領域１において１４０℃の温度で６０秒間加熱し、次いで、加熱領域２において１００℃の温度で２０秒加熱し、次いで、加熱領域３において８０℃の温度で１０秒加熱し、前記ディスコティック液晶化合物組成物を配向させた。
【０１６８】
次に、８０℃で１６０Ｗ／ｃｍ高圧水銀灯を用いて、１分間紫外線照射し架橋反応を進行させて、ディスコティック液晶化合物を重合させた。
その後、室温まで放冷し、実施例１に係る光学補償シートを作製した。
なお、得られた光学異方性層の、波長６３３ｎｍの光を用いて測定したＲｅレターデーション値は４２ｎｍであった。膜厚は０.８μｍであった。
【０１６９】
こうした光学補償シートの作製の過程を図１を用いて説明する。図１は、光学補償シート製造装置１００の概略を示す図であり、光学補償シート製造装置１００は、シート基端側に配設される送り出し機１０１と、該送り出し機１０１により、送り出された配向膜を有するシート１０７に対して、液晶化合物を含む塗布液を塗布する塗布機１０２と、該塗布液が塗布された配向膜を有するシート１０７に対して加熱処理を行う加熱処理装置１０３と、該加熱処理された配向膜を有するシート１０７に対して加熱しながら紫外線を照射し、光学補償シート１１０を作製する紫外線照射装置１０４と、シート先端側に配設され、該作製された光学補償シート１１０を巻取る巻き取り機１０６とで構成される。
さらに、加熱処理装置１０３は、３つの加熱部（恒温層）１０８を有し、それぞれが該加熱部１０８、１０８、１０８を含んで形成される加熱領域１０３−１、１０３−２、１０３−３とを備える。
また、紫外線照射装置１０４は、加熱処理装置１０３により加熱処理された配向膜を有するシート１０７に対して熱を加える加熱部１０９と、高圧水銀灯(不図示)で紫外線を照射する紫外線照射部１０５とを有して構成される。
【０１７０】
前記光学補償シート製造装置１００において、前記送り出し機１０１−巻き取り機１０６間を搬送される配向膜を有するシート１０７は、まず、塗布機１０２によって液晶化合物を塗布される。次に、液晶化合物を塗布された状態で、加熱領域１０３−１、１０３−２、１０３−３において加熱され、該液晶化合物が配向膜に配向するように加熱処理される。そして、紫外線照射部１０５により照射された紫外線により、前記液晶化合物が重合され、その後の放冷を通じて、光学補償シート１１０として形成されることとなる。
【０１７１】
（実施例２）
加熱領域１における滞在時間を、６０秒に変えて３０秒としたこと以外は、実施例１と同様にして、実施例２に係る光学補償シートを作製した。
なお、実施例２に係る光学補償シートの光学異方性層における、波長６３３ｎｍの光を用いて測定したＲｅレターデーション値は４２ｎｍであった。膜厚は０．８μｍであった。
【０１７２】
（実施例３）
加熱領域１における滞在時間を、６０秒に変えて２０秒としたこと以外は、実施例１と同様にして、実施例３に係る光学補償シートを作製した。
なお、実施例３に係る光学補償シートの光学異方性層における、波長６３３ｎｍの光を用いて測定したＲｅレターデーション値は４２ｎｍであった。膜厚は０．８μｍであった。
【０１７３】
（実施例４）
ディスコティック液晶化合物１として、Ｄ１１２に代えてＤ−３０４を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、実施例４に係る光学補償シートを作製した。
なお、Ｄ−３０４（等方相転移温度１９７℃）は、特開２００６−７６９９２号公報において、Ｄ−３０４として記載されたディスコティック液晶化合物と同一のディスコティック液晶化合物である。
このときのディスコティック液晶化合物１とディスコティック液晶化合物２とを含むディスコティック液晶化合物組成物のネマチック−等方相転移温度（Ｔｉｓｏ）は、１２０℃である。
また、実施例４に係る光学補償シートの光学異方性層における、波長６３３ｎｍの光を用いて測定したＲｅレターデーション値は４２ｎｍであった。膜厚は０．８μｍであった。
【０１７４】
（実施例５）
ディスコティック液晶化合物１として、Ｄ１１２に代えてＤ−２２７を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、実施例５に係る光学補償シートを作製した。
なお、Ｄ−２２７（等方相転移温度１４４℃）は、特開２００７−２２２０号公報において、Ｄ−２２７として記載されたディスコティック液晶化合物と同一の液晶化合物である。
このときのディスコティック液晶化合物１とディスコティック液晶化合物２とを含むディスコティック液晶化合物組成物のネマチック−等方相転移温度（Ｔｉｓｏ）は、１１５℃である。
また、実施例５に係る光学補償シートの光学異方性層における、波長６３３ｎｍの光を用いて測定したＲｅレターデーション値は４２ｎｍであった。膜厚は０．８μｍであった。
【０１７５】
（実施例６）
支持体Ｓ−１のラビング処理面に塗布を行う塗布液の組成において、ディスコティック液晶化合物１の添加量を９０質量部に変えて８０質量部とし、ディスコティック液晶化合物２の添加量を１０質量部に変えて２０質量部としたこと以外は、実施例５と同様にして、実施例６に係る光学補償シートを作製した。
このときのディスコティック液晶化合物１とディスコティック液晶化合物２とを含むディスコティック液晶化合物組成物のネマチック−等方相転移温度（Ｔｉｓｏ）は、１０５℃である。
なお、実施例６に係る光学補償シートの光学異方性層における、波長６３３ｎｍの光を用いて測定したＲｅレターデーション値は４２ｎｍであった。膜厚は０．８μｍであった。
【０１７６】
（実施例７）
支持体Ｓ−１のラビング処理面に塗布を行う塗布液の組成において、ディスコティック液晶化合物１の添加量を９０質量部に変えて２０質量部とし、ディスコティック液晶化合物２の添加量を１０質量部に変えて８０質量部としたこと以外は、実施例５と同様にして、実施例７に係る光学補償シートを作製した。
このときのディスコティック液晶化合物１とディスコティック液晶化合物２とを含むディスコティック液晶化合物組成物のネマチック−等方相転移温度（Ｔｉｓｏ）は、１１５℃である。
なお、実施例７に係る光学補償シートの光学異方性層における、波長６３３ｎｍの光を用いて測定したＲｅレターデーション値は４２ｎｍであった。膜厚は０．８μｍであった。
【０１７７】
（実施例８）
支持体Ｓ−１のラビング処理面に塗布を行う塗布液の組成において、ディスコティック液晶化合物１の添加量を９０質量部に変えて１０質量部とし、ディスコティック液晶化合物２の添加量を１０質量部に変えて９０質量部としたこと以外は、実施例５と同様にして、実施例８に係る光学補償シートを作製した。
このときのディスコティック液晶化合物１とディスコティック液晶化合物２とを含むディスコティック液晶化合物組成物のネマチック−等方相転移温度（Ｔｉｓｏ）は、１２０℃である。
なお、実施例８に係る光学補償シートの光学異方性層における、波長６３３ｎｍの光を用いて測定したＲｅレターデーション値は４２ｎｍであった。膜厚は０．８μｍであった。
【０１７８】
（実施例９）
ディスコティック液晶化合物１として、Ｄ１１２に代えてＤ−１０を用い、加熱領域２における加熱温度を１００℃に変えて８０℃としたこと以外は、実施例１と同様にして、実施例９に係る光学補償シートを作製した。
なお、Ｄ−１０（等方相転移温度１００℃）は、特開２００７−２２２０号公報において、Ｄ−１０として記載されたディスコティック液晶化合物と同一のディスコティック液晶化合物である。
このときのディスコティック液晶化合物１とディスコティック液晶化合物２とを含むディスコティック液晶化合物組成物のネマチック−等方相転移温度（Ｔｉｓｏ）は、９０℃である。
また、実施例９に係る光学補償シートの光学異方性層における、波長６３３ｎｍの光を用いて測定したＲｅレターデーション値は４２ｎｍであった。膜厚は０．８μｍであった。
【０１７９】
（実施例１０）
ディスコティック液晶化合物１として、Ｄ１１２に代えてＤ−２８６を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、実施例１０に係る光学補償シートを作製した。
なお、Ｄ−２８６（等方相転移温度１００℃）は、特開２００７−２２２０号公報において、Ｄ−２８６として記載されたディスコティック液晶化合物と同一のディスコティック液晶化合物である。
このときのディスコティック液晶化合物１とディスコティック液晶化合物２とを含むディスコティック液晶化合物組成物のネマチック−等方相転移温度（Ｔｉｓｏ）は、１１５℃である。
また、実施例１０に係る光学補償シートの光学異方性層における、波長６３３ｎｍの光を用いて測定したＲｅレターデーション値は４２ｎｍであった。膜厚は０．８μｍであった。
【０１８０】
（実施例１１）
ディスコティック液晶化合物２として、化４４に代えてＤ−２２７を用いたこと以外は、実施例１０と同様にして、実施例１１に係る光学補償シートを作製した。
このときのディスコティック液晶化合物１とディスコティック液晶化合物２とを含むディスコティック液晶化合物組成物のネマチック−等方相転移温度（Ｔｉｓｏ）は、１０８℃である。
また、実施例１１に係る光学補償シートの光学異方性層における、波長６３３ｎｍの光を用いて測定したＲｅレターデーション値は４２ｎｍであった。膜厚は０．８μｍであった。
【０１８１】
（比較例１）
ディスコティック液晶化合物１として、Ｄ１１２（９０質量部）に代えて化４４（１００質量部）を用いること、ディスコティック液晶化合物２を用いないこと、加熱領域１における加熱温度を１４０℃に変えて１６０℃としたこと以外は、実施例１と同様にして、比較例１における光学補償シートを作製した。
このときのディスコティック液晶化合物１を含むディスコティック液晶化合物組成物のネマチック−等方相転移温度（Ｔｉｓｏ）は、１４５℃である。
また、比較例１に係る光学補償シートの光学異方性層における、波長６３３ｎｍの光を用いて測定したＲｅレターデーション値は４２ｎｍであった。膜厚は０．８μｍであった。
【０１８２】
（比較例２）
ディスコティック液晶化合物１として、Ｄ１１２（９０質量部）に代えて化４４（１００質量部）を用いること、ディスコティック液晶化合物２を用いないこと、加熱領域１における加熱温度を１４０℃に変えて１６０℃としたこと、加熱領域２における滞在時間を２０秒から１５０秒に変えたこと以外は、実施例１と同様にして、比較例２における光学補償シートを作製した。
このときのディスコティック液晶化合物１を含むディスコティック液晶化合物組成物のネマチック−等方相転移温度（Ｔｉｓｏ）は、１４５℃である。
また、比較例２に係る光学補償シートの光学異方性層における、波長６３３ｎｍの光を用いて測定したＲｅレターデーション値は４２ｎｍであった。膜厚は０．８μｍであった。
【０１８３】
（比較例３）
ディスコティック液晶化合物１の添加量を９０質量部に変えて１００質量部とし、ディスコティック液晶化合物２を用いないこと、加熱領域１における滞在時間を６０秒から９０秒に変えたこと以外は、実施例１と同様にして、比較例３における光学補償シートを作製した。
このときのディスコティック液晶化合物１を含むディスコティック液晶化合物組成物のネマチック−等方相転移温度（Ｔｉｓｏ）は、１２５℃である。
また、比較例３に係る光学補償シートの光学異方性層における、波長６３３ｎｍの光を用いて測定したＲｅレターデーション値は４２ｎｍであった。膜厚は０．８μｍであった。
【０１８４】
（比較例４）
加熱領域１における加熱温度を１４０℃に変えて１００℃としたこと以外は、実施例１と同様にして、比較例４における光学補償シートを作製した。
なお、比較例４に係る光学補償シートの光学異方性層における、波長６３３ｎｍの光を用いて測定したＲｅレターデーション値は４２ｎｍであった。膜厚は０．８μｍであった。
【０１８５】
（比較例５）
加熱領域１における滞在時間を２０秒に変えて１０秒としたこと以外は、実施例１と同様にして、比較例５における光学補償シートを作製した。
なお、比較例５に係る光学補償シートの光学異方性層における、波長６３３ｎｍの光を用いて測定したＲｅレターデーション値は４２ｎｍであった。膜厚は０．８μｍであった。
【０１８６】
（測定方法）
＜ネマチック-等方相転移温度＞
配向膜付きガラス上に液晶組成物を塗工し、昇温しながら偏光顕微鏡によるテクスチャー観察によってネマチック相から等方相に転移する温度ＴＮＩを測定した。次に等方相から冷却していきネマチック相に転移する温度ＴＩＮを測定した。ＴＮＩとＴＩＮの平均値を液晶組成物のネマチック-等方相転移温度Ｔｉｓｏとした。
重合開始剤等の添加剤を含まない液晶化合物単独のネマチック−等方相転移温度の場合はガラス上に液晶化合物を乗せ、液晶組成物の場合と同様にしてネマチック-等方相転移温度Ｔｉｓｏを測定した。
尚、ネマチック-等方相転移温度Ｔｉｓｏが高く、測定中に重合してしまうものについては、液晶性化合物に対して０．５重量％以下の重合禁止剤（２，２，６，６−テトラメチルペピリジン  １−オキシル  フリーラジカル）を添加して測定した（Ｄ−１０以外の各液晶単独の相転移温度（Ｔｘ、Ｔｙ）測定、比較例１，２の液晶組成物のＴｉｓｏ測定）。
【０１８７】
（評価方法）
＜ムラレベル＞
シャーカステン上に２枚の偏光板をクロスニコルに配置し、光学補償シートを２枚の偏光板の間で消光位に配置して、斜め方向から観察したときのムラの見え方を評価した。
◎：ムラを全く視認できない。
○：ムラが薄く存在するが気にならないレベル。
×：ムラが明らかに視認でき、気になるレベル。
【０１８８】
＜配向欠陥＞
偏光顕微鏡（ニコン社製）にて、クロスニコル下で消光位に配置して配向欠陥を観察する。配向欠陥は、５０μｍ径以上の輝点として観察される。１０箇所観察して平均し、１ｃｍ２内において、前記５０μｍ径以上の輝点が２個以上存在する場合を×、１個以上２個未満存在する場合を△、１個未満存在する場合を○とする。
【０１８９】
（評価）
前記実施例１〜１１、及び比較例１〜５について、得られた光学補償シートのムラレベルと、配向欠陥を評価した結果を表４に示す。
【０１９０】
【表４】
2010085455.tif 000063
【０１９１】
前記表４から理解されるように、実施例１〜１１では、ムラの抑制と配向欠陥の抑制をそれぞれ達成できている。
また、比較例２では、ムラの抑制と配向欠陥の抑制をそれぞれ達成できている。
しかしながら、比較例２においては、比較例１との比較からも理解されるように、加熱領域２の滞在時間を大幅に増加させ、全加熱時間を大幅に増加させた例（２２０秒）に係る。
実施例１〜１１では、このような全加熱時間よりも、短い時間（５０秒〜９０秒）で光学補償シートを作製することができ、生産性が極めて良好である。
【図面の簡単な説明】
【０１９２】
【図１】図１は、実施例に係る光学補償シートの作製装置の概要を示す図である。
【符号の説明】
【０１９３】
１００  光学補償シート作製装置
１０１  送り出し機
１０２  塗布機
１０３  加熱処理装置
１０４  紫外線照射装置
１０５  紫外線照射部
１０６  巻き取り機
１０７  配向膜を有するシート
１０８、１０９  加熱部
１１０  光学補償シート
【図１】
2010085455.tif 000064