(57)【要約】【課題】目標圧力及び目標温度を設定するだけで，高圧容器内へのガスの供給を適切な時点で自動停止させることのできる熱間等方圧加圧装置を提供すること。【解決手段】本発明に係る熱間等方圧加圧装置は，加圧手段によるガスの供給を停止した後（Ｓ８），加熱手段による加熱によって高圧容器の加熱領域の温度が予め設定された目標温度に到達したときに（Ｓ９〜Ｓ１２），高圧容器内が予め設定された目標圧力となるように，加圧手段によるガスの供給を停止させるときの圧力及び温度に関する条件を目標圧力及び目標温度に基づいて予め設定する（Ｓ４）。そして，少なくとも加圧手段によるガスの供給を開始させた後（Ｓ５），検出圧力及び検出温度が，ステップＳ４で設定された停止条件を充足したことを条件に（Ｓ７のＹｅｓ側），加圧手段によるガスの供給を自動停止させる（Ｓ８）。【選択図】図２
2010117076.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
高圧容器内にガスを供給する加圧手段と，前記高圧容器内を加熱する加熱手段と，前記加熱手段によって加熱される加熱領域と前記加熱領域から前記高圧容器の内壁までの非加熱領域とを断熱する断熱手段と，前記高圧容器内の圧力を検出する圧力検出手段と，前記高圧容器の加熱領域の温度を検出する加熱領域温度検出手段とを備えてなり，前記加圧手段及び前記加熱手段によって前記高圧容器内を昇圧することにより前記高圧容器内の処理品を等方的に加圧する熱間等方圧加圧装置であって，
前記加圧手段によるガスの供給を停止した後，前記加熱手段による加熱によって前記高圧容器の加熱領域の温度が予め設定された目標温度に到達したときに，前記高圧容器内が予め設定された目標圧力となるように，前記加圧手段によるガスの供給を停止させるときの圧力及び温度に関する条件を前記目標圧力及び前記目標温度に基づいて予め設定する停止条件設定手段と，
少なくとも前記加圧手段によるガスの供給を開始させた後，前記圧力検出手段による検出圧力及び前記加熱領域温度検出手段による検出温度が，前記停止条件設定手段によって設定された停止条件を充足したことを条件に，前記加圧手段によるガスの供給を停止させ，前記加熱手段による加熱を前記加熱領域温度検出手段による検出温度が前記目標温度に到達するまで実行させる加圧加熱制御手段と，
を備えてなることを特徴とする熱間等方圧加圧装置。
【請求項２】
前記停止条件設定手段が，
現在の前記高圧容器内全体の平均温度を推定する現在平均温度推定手段と，前記高圧容器の加熱領域が前記目標温度に到達したときの前記高圧容器内全体の平均温度を推定する目標平均温度推定手段とを有してなり，
前記圧力検出手段によって検出される現在の前記高圧容器内の圧力をＰ１，前記目標圧力をＰ２，現在の前記高圧容器内全体の平均温度をＴ１ａｖｅ，前記高圧容器の加熱領域が前記目標温度に到達したときの前記高圧容器内全体の平均温度をＴ２ａｖｅとし，温度の単位をケルビン〔ｋ〕としたとき，（Ｐ１／Ｔ１ａｖｅ）＝（Ｐ２／Ｔ２ａｖｅ）の関係が成立することを前記停止条件として設定するものである請求項１に記載の熱間等方圧加圧装置。
【請求項３】
前記現在平均温度推定手段が，
現在の前記高圧容器の非加熱領域の平均温度を推定する現在非加熱領域温度推定手段を含んでなり，
現在の前記高圧容器の加熱領域の温度をＴ１１，現在の前記高圧容器の非加熱領域の平均温度をＴ１２，前記高圧容器内全体の容積をＶｖ，前記加熱領域の容積をＶｈ，前記非加熱領域の容積をＶｏとしたとき，下記の（１）式に従って現在の前記高圧容器内全体の平均温度Ｔ１ａｖｅを算出するものである請求項２に記載の熱間等方圧加圧装置。
T1ave=[(T11・Vh)＋(T12・Vo)]／Vv      …（１）
【請求項４】
前記現在非加熱領域温度推定手段が，予め設定された前記加熱領域及び前記非加熱領域の温度の関係と前記加熱領域温度検出手段による検出温度とに基づいて前記非加熱領域の平均温度を推定するものである請求項３に記載の熱間等方圧加圧装置。
【請求項５】
前記目標平均温度推定手段が，
前記高圧容器の加熱領域が前記目標温度に到達したときの前記高圧容器の非加熱領域の平均温度を推定する目標非加熱領域温度推定手段を含んでなり，
前記目標温度をＴ２１，前記高圧容器の加熱領域が前記目標温度に到達したときの前記高圧容器の非加熱領域の平均温度をＴ２２，前記高圧容器内全体の容積をＶｖ，前記加熱領域の容積をＶｈ，前記非加熱領域の容積をＶｏとしたとき，下記の（２）式に従って前記高圧容器の加熱領域が前記目標温度に到達したときの前記高圧容器内全体の平均温度Ｔ２ａｖｅを算出するものである請求項２〜４のいずれかに記載の熱間等方圧加圧装置。
T2ave=[(T21・Vh)＋(T22・Vo)]／Vv      …（２）
【請求項６】
前記目標非加熱領域温度推定手段が，予め設定された前記加熱領域及び前記非加熱領域の温度の関係と前記目標温度とに基づいて，前記高圧容器の加熱領域が前記目標温度に到達したときの前記非加熱領域の平均温度を推定するものである請求項５に記載の熱間等方圧加圧装置。
【請求項７】
前記圧力検出手段によって検出される現在の前記高圧容器内の圧力をＰ１，前記加熱領域温度検出手段によって検出される現在の前記加熱領域の温度をＴ１，前記目標圧力をＰ２，前記目標温度をＴ２とし，温度の単位をケルビン〔ｋ〕としたとき，
前記停止条件設定手段は，（Ｐ１／Ｔ１）＝（Ｐ２／Ｔ２）が成立することを前記停止条件として設定するものである請求項１に記載の熱間等方圧加圧装置。
【請求項８】
前記加圧加熱制御手段が，前記加圧手段によるガスの供給のみを開始させ，前記停止条件の充足を条件に前記加圧手段によるガスの供給を停止させた後，前記加熱手段による加熱を開始させ，該加熱手段による加熱を前記加熱領域温度検出手段による検出温度が前記目標温度に到達するまで継続させるものである請求項１〜７のいずれかに記載の熱間等方圧加圧装置。
【請求項９】
前記加圧加熱制御手段が，前記加熱手段による加熱を開始させた後又は開始と同時に，前記加圧手段によるガスの供給を開始させ，前記加圧手段によるガスの供給は前記停止条件を充足したことを条件に停止させ，前記加熱手段による加熱は前記加熱領域温度検出手段による検出温度が前記目標温度に到達するまで継続させるものである請求項１〜７のいずれかに記載の熱間等方圧加圧装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は，加工の対象となる処理品が収容される高圧容器内に高温高圧を加えてその処理品を加工処理する熱間等方圧加圧装置（ＨＩＰ装置）に関し，特に，高圧容器内に充填するガス量を制御するための技術に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来から，数１００〜２０００［℃］の高温と数１０〜２００［ＭＰａ］の等方的な圧力とを加えて処理品を加工処理するための熱間等方圧加圧装置（以下「ＨＩＰ装置」という）が知られている（例えば，特許文献１，２参照）。
このＨＩＰ装置は，処理品を載置する高圧容器内にアルゴンなどのガスを供給するガス圧縮機や，その高圧容器内を加熱する加熱ヒータを有している。そして，ＨＩＰ装置では，ガス圧縮機による強制的なガス供給と，加熱ヒータによる加熱で生じるガスの熱膨張とによって，高圧容器内を予め設定された目標圧力及び目標温度に到達させる。
このとき，ＨＩＰ装置における運転手法としては，ガス圧縮機及び加熱ヒータの運転手順によって昇圧先行方式，昇温先行方式，昇圧昇温同時方式の３パターンが考えられる。
具体的に，昇圧先行方式では，まずガス圧縮機によって高圧容器内に所定量のガスを供給し，その後，加熱ヒータによる高圧容器内の加熱を開始してガスを膨張させることにより，高圧容器内を予め設定された目標圧力及び目標温度に到達させる。
一方，昇温先行方式では，まず加熱ヒータによる高圧容器内の加熱を開始し，その後でガス圧縮機によるガスの供給が開始される。そして，ガス圧縮機によるガスの供給は所定量の供給が終了した時点で停止され，加熱ヒータによる加熱だけが，高圧容器内を予め設定された目標圧力及び目標温度に到達させるまで継続される。
また，昇圧昇温同時方式では，ガス圧縮機によるガスの供給と加熱ヒータによる加熱とを同時に開始させ，ガス圧縮機によるガスの供給は所定量の供給が終了した時点で停止され，加熱ヒータによる加熱だけが，高圧容器内を予め設定された目標圧力及び目標温度に到達させるまで継続される。
【特許文献１】特開平８−１７８７５３号公報
【特許文献２】特開２００４−８５１３４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら，ガス圧縮機によって高圧容器内に供給されたガスの量が不足していれば，その後，加熱ヒータによる加熱によって高圧容器内が目標温度に到達しても該高圧容器内の圧力を目標圧力に到達させることができないという問題が生じる。この場合には，その時点で高圧容器内にガスを補充する必要が生じる。例えば，このようにガスの供給を複数回行わなければならない構成では，そのガス供給を行うためのガスバルブの作動回数増加が該ガスバルブの寿命短縮の原因になるという問題がある。
また，逆にガス圧縮機によって高圧容器内に供給されたガスの量に余分があれば，加熱ヒータによる加熱によって高圧容器内が目標温度に到達するまでの間に，その熱膨張によって該高圧容器内の圧力が目標圧力を超えるため，該高圧容器内からガスを排出する必要が生じる。例えば，このように高圧容器内に一度供給したガスを放出する場合には，その放出する分のガスを高圧容器内に供給するために要した時間やエネルギーが無駄になるという問題がある。
そのため，加熱ヒータによる加熱が終了したときに高圧容器内の圧力を目標圧力にすることができるように，ガス圧縮機によるガスの供給を停止させるタイミングを適切に見極める必要があるが，ユーザが，温度センサや圧力センサなどの検出結果に基づいてその適切なタイミングを計る手間は非常に煩雑である。特に，前述した昇温先行方式や昇圧昇温同時方式などで運転を行う場合には，高圧容器内の圧力及び温度が同時に変化することになるため，ガス圧縮機によるガス供給の適切な停止タイミングの判断が困難である。
従って，本発明は前記事情に鑑みてなされたものであり，その目的とするところは，目標圧力及び目標温度を設定するだけで，高圧容器内へのガスの供給を適切な時点で自動停止させることのできる熱間等方圧加圧装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
前記目的を達成するために本発明は，高圧容器内にガスを供給する加圧手段と，前記高圧容器内を加熱する加熱手段と，前記加熱手段によって加熱される加熱領域と前記加熱領域から前記高圧容器の内壁までの非加熱領域とを断熱する断熱手段と，前記高圧容器内の圧力を検出する圧力検出手段と，前記高圧容器の加熱領域の温度を検出する加熱領域温度検出手段とを備えてなり，前記加圧手段及び前記加熱手段によって前記高圧容器内を昇圧することにより前記高圧容器内の処理品を等方的に加圧する熱間等方圧加圧装置に適用されるものである。
そして，本発明に係る熱間等方圧加圧装置は，前記加圧手段によるガスの供給を停止した後，前記加熱手段による加熱によって前記高圧容器の加熱領域の温度が予め設定された目標温度に到達したときに，前記高圧容器内が予め設定された目標圧力となるように，前記加圧手段によるガスの供給を停止させるときの圧力及び温度に関する条件を前記目標圧力及び前記目標温度に基づいて予め設定する停止条件設定手段を備えている。
また，少なくとも前記加圧手段によるガスの供給を開始させた後，前記圧力検出手段による検出圧力及び前記加熱領域温度検出手段による検出温度が，前記停止条件設定手段によって設定された停止条件を充足したことを条件に，前記加圧手段によるガスの供給を停止させ，前記加熱手段による加熱を前記加熱領域温度検出手段による検出温度が前記目標温度に到達するまで実行させる加圧加熱制御手段を備えている。
即ち，本発明に係る熱間等方圧加圧装置では，前記目標圧力及び前記目標温度を設定するだけで，前記加圧手段によるガスの供給を適切な時点で停止させることができる。
これにより，ユーザが前記圧力検出手段や前記加熱領域温度検出手段による検出結果を見て前記加圧手段によるガス供給を停止させるタイミングを計る必要がないため，ユーザの手間を著しく軽減することができる。
【０００５】
より具体的に，前記停止条件設定手段は，現在の前記高圧容器内全体の平均温度を推定する現在平均温度推定手段と，前記高圧容器の加熱領域が前記目標温度に到達したときの前記高圧容器内全体の平均温度を推定する目標平均温度推定手段とを有するものであることが考えられる。この場合，前記停止条件設定手段は，前記圧力検出手段によって検出される現在の前記高圧容器内の圧力をＰ１，前記目標圧力をＰ２，現在の前記高圧容器内全体の平均温度をＴ１ａｖｅ，前記高圧容器の加熱領域が前記目標温度に到達したときの前記高圧容器内全体の平均温度をＴ２ａｖｅとし，温度の単位をケルビン〔ｋ〕としたとき，（Ｐ１／Ｔ１ａｖｅ）＝（Ｐ２／Ｔ２ａｖｅ）の関係が成立することを前記停止条件として設定することが考えられる。
このように，前記高圧容器内全体の平均温度に基づいて前記停止条件を設定することにより，前記高圧容器の加熱領域だけの温度に基づいて前記停止条件を設定する場合に比べて，前記高圧容器の加熱領域の温度が前記目標温度に到達したときに前記高圧容器内を高い精度で度前記目標圧力に一致させることができる。
【０００６】
ここで，前記現在平均温度推定手段は，現在の前記高圧容器の非加熱領域の平均温度を推定する現在非加熱領域温度推定手段を含んでなることが考えられる。この場合，前記現在平均温度推定手段は，現在の前記高圧容器の加熱領域の温度をＴ１１，現在の前記高圧容器の非加熱領域の平均温度をＴ１２，前記高圧容器内全体の容積をＶｖ，前記加熱領域の容積をＶｈ，前記非加熱領域の容積をＶｏとしたとき，下記の（１）式に従って現在の前記高圧容器内全体の平均温度Ｔ１ａｖｅを算出することが可能である。
T1ave=[(T11・Vh)＋(T12・Vo)]／Vv      …（１）
このとき，前記現在非加熱領域温度推定手段は，予め設定された前記加熱領域及び前記非加熱領域の温度の関係と前記加熱領域温度検出手段による検出温度とに基づいて前記非加熱領域の平均温度を推定するものであることも考えられる。これにより，前記非加熱領域に温度検出手段を設けることなく，現在の前記高圧容器内全体の平均温度Ｔ１ａｖｅを推定することができる。
【０００７】
また，前記目標平均温度推定手段は，前記高圧容器の加熱領域が前記目標温度に到達したときの前記高圧容器の非加熱領域の平均温度を推定する目標非加熱領域温度推定手段を含んでなることが考えられる。この場合，前記目標温度推定手段は，前記目標温度をＴ２１，前記高圧容器の加熱領域が前記目標温度に到達したときの前記高圧容器の非加熱領域の平均温度をＴ２２，前記高圧容器内全体の容積をＶｖ，前記加熱領域の容積をＶｈ，前記非加熱領域の容積をＶｏとしたとき，下記の（２）式に従って前記高圧容器の加熱領域が前記目標温度に到達したときの前記高圧容器内全体の平均温度Ｔ２ａｖｅを算出することが可能である。
T2ave=[(T21・Vh)＋(T22・Vo)]／Vv      …（２）
このとき，前記目標非加熱領域温度推定手段は，予め設定された前記加熱領域及び前記非加熱領域の温度の関係と前記目標温度とに基づいて，前記高圧容器の加熱領域が前記目標温度に到達したときの前記非加熱領域の平均温度を推定するものであることも考えられる。これにより，前記非加熱領域に温度検出手段を設けることなく，前記高圧容器内全体の平均温度Ｔ１ａｖｅを推定することができる。
【０００８】
ところで，前記のように前記高圧容器内全体の平均温度を基準にする場合に比べれば精度が劣るが，前記停止条件設定手段が，前記圧力検出手段によって検出される現在の前記高圧容器内の圧力をＰ１，前記加熱領域温度検出手段によって検出される現在の前記加熱領域の温度をＴ１，前記目標圧力をＰ２，前記目標温度をＴ２とし，温度の単位をケルビン〔ｋ〕としたとき，（Ｐ１／Ｔ１）＝（Ｐ２／Ｔ２）が成立することを前記停止条件として設定することも考えられる。
また，前記加圧加熱制御手段は，前記加圧手段によるガスの供給のみを開始させ，前記停止条件の充足を条件に前記加圧手段によるガスの供給を停止させた後，前記加熱手段による加熱を開始させ，該加熱手段による加熱を前記加熱領域温度検出手段による検出温度が前記目標温度に到達するまで継続させるものであることが考えられる。
さらに，前記加圧加熱制御手段が，前記加熱手段による加熱を開始させた後又は開始と同時に，前記加圧手段によるガスの供給を開始させ，前記加圧手段によるガスの供給は前記停止条件を充足したことを条件に停止させ，前記加熱手段による加熱は前記加熱領域温度検出手段による検出温度が前記目標温度に到達するまで継続させるものである場合にも本発明を適用し得る。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば，前記目標圧力及び前記目標温度を設定するだけで，前記加圧手段によるガスの供給を適切な時点で停止させることができるため，ユーザが前記圧力検出手段や前記加熱領域温度検出手段による検出結果を見て前記加圧手段によるガス供給を停止させるタイミングを計る必要がなく，ユーザの手間を著しく軽減することができる。
また，前記高圧容器内全体の平均温度に基づいて前記停止条件を設定する場合には，前記高圧容器の加熱領域だけの温度に基づいて前記停止条件を設定する場合に比べて，前記高圧容器の加熱領域の温度が前記目標温度に到達したときに前記高圧容器内を高い精度で前記目標圧力に一致させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下添付図面を参照しながら，本発明の実施の形態について説明し，本発明の理解に供する。なお，以下の実施の形態は，本発明を具体化した一例であって，本発明の技術的範囲を限定する性格のものではない。
ここに，図１は本発明の実施の形態に係る熱間等方圧加圧装置Ｘの概略構成を示す模式断面図，図２は前記熱間等方圧加圧装置Ｘにおいて実行される熱間等方圧加圧処理の手順の一例を示すフローチャートである。
まず，図１を用いて，本発明の実施の形態に係る熱間等方圧加圧装置Ｘ（以下「ＨＩＰ装置Ｘ」という）の概略構成について説明する。
図１に示すように，前記ＨＩＰ装置Ｘは，高圧容器１，加熱ヒータ２（加熱手段の一例），ガス圧縮機３（加圧手段の一例），加圧加熱制御装置４，操作表示部５，圧力計６（圧力検出手段の一例），温度計７（加熱領域温度検出手段の一例）などを有して概略構成されている。
【００１１】
前記高圧容器１は，上蓋１ａ，底蓋１ｂ，円筒側面１ｃを有する円筒状の密閉容器であって内部にはアルゴンなどのガスが充填される。前記底蓋１ｂの上面には，加工処理の対象となる処理品を載置する載置台１１が設けられている。前記底蓋１ｂは，前記載置台１１に処理品を載置するために着脱される。
ここで，前記載置台１１は，前記加熱ヒータ２と前記高圧容器１の底蓋１ｂとを熱的に仕切っている。また，前記高圧容器１には，前記加熱ヒータ２と前記高圧容器１の上蓋１ａ，円筒側面１ｃ（内壁）とを熱的に仕切るように，倒立配置された有底円筒状の断熱部材からなる断熱構造体１２が設けられている。即ち，前記断熱構造体１２は，前記加熱ヒータ２によって加熱される加熱領域Ｒ１と，前記加熱領域Ｒ１から前記高圧容器１の内壁までの非加熱領域Ｒ２を断熱する断熱手段の一例である。これにより，前記高圧容器１は，耐熱温度が低くても，前記加熱ヒータ２による高温加熱から保護される。ここに，前記非加熱領域Ｒ２とは，前記高圧容器１内における前記加熱領域Ｒ１を除く領域であって，前記断熱構造体１２の外側から前記高圧容器１の円筒側面１ｃまでの間の空間だけでなく，前記断熱構造体１２や前記載置台１１の配置領域をも含む領域をいう。
【００１２】
前記加熱ヒータ２は，前記載置台１１の上方に配置され，前記高圧容器１内の前記加熱領域Ｒ１を加熱する加熱手段の一例である。前記ＨＩＰ装置Ｘでは，前記加圧加熱制御装置４が前記加熱ヒータ２によってガスを加熱してそのガスを熱膨張させることにより前記加圧容器１内が昇圧される。
前記ガス圧縮機３は，前記高圧容器１の上蓋１ａに挿通されたガス供給管から前記高圧容器１内にアルゴンや窒素などのガスを供給することにより該高圧容器１内を加圧する加圧手段の一例である。前記ＨＩＰ装置Ｘでは，前記加圧加熱制御装置４が前記ガス圧縮機３によって前記加圧容器１内にガスを強制的に充填させることにより前記加圧容器１内が昇圧される。
このように，前記ＨＩＰ装置Ｘでは，前記加圧加熱制御装置４が前記ガス圧縮機３及び前記加熱ヒータ２を制御して前記高圧容器１内を昇圧させることにより，前記高圧容器１内の処理品を等方的に加圧する加工処理が実行される。
【００１３】
前記加圧加熱制御装置４は，ＣＰＵ（中央演算処理装置），ＲＡＭ，ＲＯＭなどの制御機器を有しており，前記ＣＰＵによって，前記ＲＯＭに予め記憶された制御プログラムが前記ＲＡＭ上に展開されて実行されることにより，当該ＨＩＰ装置Ｘ全体を統括的に制御する。
具体的に，前記加圧加熱制御装置４は，後述の熱間等方圧加圧処理（図２のフローチャート参照）を実行して前記ガス圧縮機３及び前記加熱ヒータ２を制御することにより，前記高圧容器１内を予め設定される目標圧力及び目標温度に到達させる。ここに，前記熱間等方圧加圧処理を実行するときの前記加圧加熱制御装置４が加圧加熱制御手段に相当する。なお，本実施の形態では，一つの前記加圧加熱制御装置４が，前記ガス圧縮機３及び前記加熱ヒータ２を共に制御する構成を例に挙げて説明しているが，前記ガス圧縮機３及び前記加熱ヒータ２を個別に制御する加圧制御装置及び加熱制御装置が設けられ，該加圧制御装置及び加熱制御装置によって後述の熱間等方圧加圧処理（図２のフローチャート参照）が実行されることも他の実施例として考えられる。この場合，その加圧制御装置及び加熱制御装置が加圧加熱制御手段に相当する。
ここで，前記目標圧力及び前記目標温度は，ユーザによる前記操作表示部５への操作入力によって予め設定される。前記操作表示部５は，ユーザ操作に応じて各種の情報を前記加圧加熱制御装置４に入力するキーボードやマウスなどのユーザインターフェースと，前記加圧加熱制御装置４によって制御されることにより各種の情報を表示する液晶パネルなどの表示部とを有している。
【００１４】
また，前記ＨＩＰ装置Ｘには，後述の熱間等方圧加圧処理（図２のフローチャート参照）における判断指標に用いられる前記高圧容器１内の圧力及び温度を測定する圧力計６及び温度計７が設けられている。
前記圧力計６は，前記高圧容器１からガスを放出する際に用いられるガス放出管に配置されており，該高圧容器１内のガス圧力を検出し，前記加圧加熱制御装置４に入力する。なお，前記圧力計６は，前記高圧容器１内の圧力を測定し得るものであればよく，その配置位置などは限定されない。
前記温度計７は，前記高圧容器１の前記加熱領域Ｒ１に設けられた熱電対などの温度センサであって，該加熱領域Ｒ１内のガス温度を検出し，前記加圧加熱制御装置４に入力する。前記温度計７の位置は，例えば図１に示すように前記高圧容器１における加熱領域Ｒ１の高さ（Ｈｈ）の中央近傍である。なお，前記温度計７は，前記加熱領域Ｒ１の温度を測定し得るものであればよく，その配置位置や検出手法などは限定されない。例えば熱電対に限られず，測定した光を温度に変換する構成（例えば，前記特許文献１参照）を採用してもよい。なお，前記加熱ヒータ２によって加熱される加熱領域Ｒ１における温度は略均一であると考えられるため，以下では前記温度計７によって検出される温度を前記加熱領域Ｒ１の温度（後述のＴ１１）として用いるが，もちろん前記加熱領域Ｒ１内の複数箇所に温度計７を配置してその複数箇所の温度を検出し，その平均温度を前記加熱領域Ｒ１の温度（後述のＴ１１）として用いてもよい。また，一つの前記温度計７の検出温度から前記加熱領域Ｒ１の平均温度を推定して用いてもよい。
【００１５】
以下，図２のフローチャートに従って，前記ＨＩＰ装置Ｘにおいて前記加圧加熱制御装置４によって実行される熱間等方圧加圧処理の一例について説明する。なお，図中のＳ１，Ｓ２，…は処理手順（ステップ）の番号を表している。また，ここでは，いわゆる昇圧先行方式で運転が行われる場合を例に挙げて説明する。
まずステップＳ１では，前記加圧加熱制御装置４は，当該ＨＩＰ装置Ｘにおける加工処理の実行要求を待ち受ける（Ｓ１のＮｏ側）。具体的に，前記加圧加熱制御装置４は，ユーザによる前記操作表示部５に対する実行要求操作の有無を判断する。ここで，当該熱間等方圧加圧処理の実行要求がなされたと判断すると（Ｓ１のＹｅｓ側），処理はステップＳ２に移行する。
ステップＳ２では，前記加圧加熱制御装置４は，前記操作表示部５に対して，目標圧力及び目標温度を設定するための設定画面を表示させ，ステップＳ３において前記操作表示部５からの目標圧力及び目標温度の入力を待ち受ける（Ｓ３のＮｏ側）。これにより，ユーザは，前記操作表示部５の設定画面に従って目標圧力及び目標温度を設定するための操作入力を行う。
そして，前記加圧加熱制御装置４は，前記ステップＳ３において，目標圧力及び目標温度が設定されたと判断すると（Ｓ３のＹｅｓ側），処理をステップＳ４に移行させる。
【００１６】
ステップＳ４では，前記加圧加熱制御装置４は，後述のステップＳ５において開始される前記ガス圧縮機３によるガスの供給を停止（Ｓ８）した後，前記加熱ヒータ２による加熱（Ｓ９）によって前記高圧容器１の加熱領域Ｒ１の温度が前記ステップＳ３で設定された目標温度に到達したときに（Ｓ１１のＹｅｓ側），前記高圧容器１内が前記ステップＳ３で設定された目標圧力となるように，前記ガス圧縮機３によるガスの供給を停止させるときの圧力及び温度に関する条件（以下，「停止条件」という）を，前記ステップＳ３で設定された目標圧力及び目標温度に基づいて設定する。
即ち，前記停止条件は，前記ガス圧縮機３によるガスの供給を停止してから前記加熱ヒータ２による加熱によって前記目標圧力及び前記目標温度を達成するまでの間に，前記高圧容器１内に供給されたガスを抜き出す必要や，前記高圧容器１内にガスを補充する必要がないように，前記高圧容器１内へのガスの充填量を定めるための条件である。ここに，係る停止条件の設定処理を実行するときの前記加圧加熱制御装置４が停止条件設定手段に相当する。
【００１７】
ここで，前記ステップＳ４において前記加圧加熱制御装置４が実行する停止条件の設定処理の具体例について説明する。
本実施の形態では，前記加圧加熱制御装置４に設けられたＲＯＭなどの記憶メモリに，前記停止条件を設定するための関係式として下記の（３）〜（５）式が予め記憶されているものとする。
ここで，現在の前記高圧容器１の加熱領域Ｒ１の温度をＴ１１，現在の前記高圧容器１の非加熱領域Ｒ２の平均温度をＴ１２，現在の前記高圧容器１内全体の平均温度をＴ１ａｖｅ，前記目標温度をＴ２１，前記高圧容器１の加熱領域Ｒ１が前記目標温度Ｔ２１に到達したときの前記高圧容器１の非加熱領域Ｒ２の平均温度をＴ２２，前記高圧容器１の加熱領域Ｒ１が前記目標温度Ｔ２１に到達したときの前記高圧容器１全体の平均温度をＴ２ａｖｅとする。ここに，これらの温度の単位はケルビン［ｋ］であるとする。また，前記圧力計６によって検出される現在の前記高圧容器１内の圧力をＰ１［ｋｇｆ／ｃｍ２］，前記目標圧力をＰ２［ｋｇｆ／ｃｍ２］とする。さらに，前記高圧容器１内全体の容積をＶｖ，前記加熱領域Ｒ１の容積をＶｈ，前記非加熱領域Ｒ２の容積をＶｏとする。
P1／T1ave=P2／T2ave      …（３）
T1ave=[(T11・Vh)＋(T12・Vo)]／Vv      …（４）
T2ave=[(T21・Vh)＋(T22・Vo)]／Vv      …（５）
そして，前記加圧加熱制御装置４は，前記ＲＯＭから前記（３）式の関係を読み出し，前記ステップＳ３で設定された目標圧力及び目標温度を代入したときに，該（３）式が成立することを停止条件として設定する。このとき，前記加圧加熱制御装置４は，前記平均温度Ｔ１ａｖｅ，前記平均温度Ｔ２ａｖｅを，前記（４）式，前記（５）式に従って算出する。
ここに，前記（４）式に従って，現在の前記高圧容器１全体の平均温度Ｔ１ａｖｅを算出するときの前記加圧加熱制御装置４が現在平均温度推定手段に相当する。また，前記（５）式に従って，前記高圧容器１の加熱領域Ｒ１が前記目標温度Ｔ２１に到達したときの前記高圧容器１内全体の平均温度Ｔ２ａｖｅを算出するときの前記加圧加熱制御装置４が目標平均温度推定手段に相当する。
【００１８】
また，前記（３）〜（５）式は，個別に記憶されたものではなく下記（６）式のように一つの関係式として記憶されたものであってもよい。
【数１】
2010117076.tif 000003
なお，前記（３）式はボイルシャルルの法則に基づいており，温度の単位が［℃］である場合には，前記（３）式又は（６）式を下記（７）式又は（８）式とすればよい。
P1／(T1ave＋273)=P2／(T2ave＋273)      …（７）
【数２】
2010117076.tif 000004
例えば，前記目標圧力Ｐ２が２，０００［ｋｇｆ／ｃｍ2］，前記平均温度Ｔ２ａｖｅが７５０［℃］である場合には，前記（７）式に基づいて，現在の圧力Ｐ１＝｛２０００／（７５０＋２７３）｝・（Ｔ１ａｖｅ＋２７３）が成立することが前記停止条件として設定される。
【００１９】
ここに，前記容積Ｖｖ，Ｖｈ，Ｖｏは，図１に示すように前記高圧容器１内の高さをＨｖ，半径をＤｖとし，加熱領域Ｒ１の高さをＨｈ，半径をＤｈとしたとき，以下の（７）式〜（９）式で算出し得る。
Ｖｖ＝（Ｄｖ2／４）・π・Ｈｖ      …（７）
Ｖｈ＝（Ｄｈ2／４）・π・Ｈｈ      …（８）
Vo＝Vv−Vh      …（９）
なお，前記容積Ｖｖ，Ｖｈ，Ｖｏは，前記加圧加熱制御装置４に設けられたＲＯＭ等に予め記憶されていることが考えられる。また，前記容積Ｖｖ，Ｖｈ，Ｖｏは，前記ステップＳ２における前記目標圧力や前記目標温度の設定時に，前記加圧容器１の各寸法が入力されることによって設定されてもよい。ここでは，前記非加熱領域Ｒ２の容積Ｖｈについて，前記断熱構造体１２及び前記載置台１１などの体積は無視するものとするが，もちろんこれらの体積や空孔率（断熱構造体１２がポーラス構造（多孔質体）である場合）を考慮して厳密に前記非加熱領域Ｒ２の容積Ｖｈを算出しておいてもよい。
【００２０】
ところで，前記加圧加熱制御装置４が，現在の前記高圧容器１の非加熱領域Ｒ２の平均温度Ｔ１２や，前記高圧容器１の加熱領域Ｒ１が前記目標温度Ｔ２１に到達したときの前記高圧容器１の非加熱領域Ｒ２の平均温度Ｔ２２を推定するための手法は多様に存在する。また，前記平均温度Ｔ１２や前記平均温度Ｔ２２を推定し得る手法であれば，ここで説明するものに限られず採用すればよい。
まず，前記平均温度Ｔ１２は，前記温度計７によって検出された現在の前記加熱領域Ｒ１の温度Ｔ１１に基づいて算出することが可能である。具体的には，予め実験によって得られた実績データやシミュレーションによって得られた推測データなどによって前記加熱領域Ｒ１と前記非加熱領域Ｒ２との温度の関係を定めておき，その関係に従って前記温度Ｔ１１から前記平均温度Ｔ１２を推定することが考えられる。
例えば，前記高圧容器１の非加熱領域Ｒ２にも温度計（以下「非加熱領域温度計」という）を設けておき，前記加圧加熱制御装置４が，その非加熱領域温度計の検出温度に基づいて前記非加熱領域Ｒ２の平均温度Ｔ１２を推定することが考えられる。より具体的には，前記非加熱領域温度計を前記円筒側面１ｃにおける前記温度計７と同等の高さ（加熱領域Ｒ１の高さＨｈの中央部）の位置に配置しておき，該非加熱領域温度計の検出温度と前記温度計７による前記加熱領域Ｒ１の検出温度との合計温度の１／１．５〜１／３程度が前記平均温度Ｔ１２であると推定することが考えられる。なお，前記合計温度と前記平均温度Ｔ１２との関係は，前記高圧容器１の構造や該高圧容器１内に配置される各構成要素の構造，或いは予め実験によって得られた実績データやシミュレーションによって得られた推測データなどに基づいて適宜設定しておけばよい。また，前記非加熱領域温度計を前記非加熱領域Ｒ２の複数箇所に配置しておき，その複数の非加熱領域温度計の平均温度を算出し，その平均温度を用いて前記非加熱領域Ｒ２の平均温度Ｔ１２を推定することも考えられる。
さらに，前記非加熱領域温度計を配置せずに，単純に前記加熱領域Ｒ１の検出温度の１／１．５〜１／３程度を前記非加熱領域Ｒ２の平均温度Ｔ１２とする旨を設定しておくことにより，該平均温度Ｔ１２を推定することも考えられる。
ここに，これらのような手法によって，現在の前記高圧容器１の非加熱領域Ｒ２の平均温度Ｔ１２を推定するときの前記加圧加熱制御装置４が現在非加熱領域温度推定手段に相当する。
【００２１】
他方，前記平均温度Ｔ２２は，前記目標温度Ｔ２１に基づいて算出することが可能である。具体的には，予め実験によって得られた実績データやシミュレーションによって得られた推測データなどによって前記加熱領域Ｒ１と前記非加熱領域Ｒ２との温度の関係を定めておき，その関係に従って前記目標温度Ｔ２１から前記平均温度Ｔ２２を推定することも考えられる。
例えば，前記円筒側面１ｃにおける前記温度計７と同等の高さ（加熱領域Ｒ１の高さＨｈの中央部）の位置の温度（以下「側面温度」という）と前記温度計７による前記加熱領域Ｒ１の検出温度との関係を予め設定しておくことが考えられる。そして，その温度関係と前記目標温度Ｔ２１とに基づいて前記側面温度を推定し，前記目標温度Ｔ２１と前記側面温度との合計温度の１／１．５〜１／３程度が前記平均温度Ｔ２２であると推定することが考えられる。なお，前記側面温度と前記温度計７による前記加熱領域Ｒ１の検出温度との関係や，前記合計温度と前記平均温度Ｔ２２との関係は，前記高圧容器１の構造や該高圧容器１内に配置される各構成要素の構造，或いは予め実験によって得られた実績データやシミュレーションによって得られた推測データなどに基づいて適宜設定しておけばよい。
さらに，前記側面温度を推定することなく，単純に前記目標温度Ｔ２１の１／１．５〜１／３程度を前記平均温度Ｔ２２とする旨を設定しておくことにより，該平均温度Ｔ２２を推定することも考えられる。
ここに，このような手法によって，前記高圧容器１の加熱領域Ｒ１が前記目標温度Ｔ２１に到達したときの前記高圧容器１の非加熱領域Ｒ２の平均温度Ｔ２２を推定するときの前記加圧加熱制御装置４が目標非加熱領域温度推定手段に相当する。
【００２２】
そして，前記ステップＳ４において前記停止条件が設定されると，続くステップＳ５では，前記加圧加熱制御装置４は，前記ガス圧縮機３による前記高圧容器１内へのガスの供給を開始させる。これにより，前記高圧容器１内は，強制的にガスが充填されることにより昇圧される。
その後，ステップＳ６では，前記加圧加熱制御装置４は，前記圧力計６及び前記温度計７によって，現在の前記高圧容器１内の圧力及び前記加熱領域Ｒ１の温度を検出する。
続いて，ステップＳ７では，前記加圧加熱制御装置４は，前記ステップＳ６で検出された検出圧力及び検出温度の関係が，前記ステップＳ４で設定された停止条件を充足するか否かを判断する。即ち，前記（３）式（或いは前記（６）式）が成立するか否かを判断する。
ここで，前記加圧加熱制御装置４は，前記ステップＳ６で検出された検出圧力及び検出温度が前記停止条件を充足したと判断することを条件に（Ｓ７のＹｅｓ側），処理をステップＳ８に移行する。一方，充足していないと判断した場合には（Ｓ７のＮｏ側），処理を前記ステップＳ６に戻す。これにより，前記ＨＩＰ装置Ｘでは，前記高圧容器１内の圧力及び温度の関係が前記停止条件を充足するまで，前記ガス圧縮機３によるガス供給が継続される。
【００２３】
前記停止条件が充足されると，続いてステップＳ８では，前記加圧加熱制御装置４は，前記ガス圧縮機３によるガスの供給を停止させる。これにより，前記高圧容器１内には，前記加熱領域Ｒ１の温度が前記目標温度に到達したときに，同時に前記高圧容器１内の圧力を前記目標圧力にするために必要な量のガスが充填されたことになる。
次に，ステップＳ９では，前記加圧加熱制御装置４は，前記加熱ヒータ２による加熱を開始させる。これにより，前記高圧容器１内の温度が上昇すると共に，前記高圧容器１内の圧力もガスの温度上昇による熱膨張によって上昇することになる。このとき，前記高圧容器１内の温度及び圧力は，概ねボイルシャルルの法則に従って変化する。なお，前記高圧容器１内が高圧になると，該高圧容器１内の温度及び圧力の変化態様とボイルシャルルの法則とにズレが生じることも考えられるが，そのズレは圧力の上昇率が低下する方向にずれる。そこで，前記ステップＳ８で前記ガス圧縮機３によるガスの供給が停止された後も，前記加圧加熱制御装置４が，必要に応じて前記ガス圧縮機３によるガスの供給を行うことによりそのズレを補正することも他の実施例として考えられる。このとき，前記加圧加熱制御装置４は前記高圧容器１内のガス量を増加させる方向に補正制御するだけであるため，前記ステップＳ８で前記ガス圧縮機３によるガスの供給を停止した後で前記高圧容器１からガスを排出する必要は生じない。
【００２４】
そして，ステップＳ１０〜Ｓ１１では，前記加圧加熱制御装置４は，前記温度計７によって前記加熱領域Ｒ１の温度を検出し（Ｓ１０），その検出された現在の前記加熱領域Ｒ１の温度が前記目標温度に到達したか否かを判断する（Ｓ１１）。
ここで，前記目標温度に到達したと判断されると（Ｓ１１のＹｅｓ側），処理はステップＳ１２に移行する。一方，到達していないと判断された場合には（Ｓ１１のＮｏ側），処理は前記ステップＳ１０に戻される。
ステップＳ１２では，前記加圧加熱制御装置４は，前記加熱ヒータ２による加熱を停止させ，当該熱間等方圧加圧処理を終了する。
このようにして前記加熱ヒータ２の加熱が自動的に停止されると，前記高圧容器１内では，前記加熱領域Ｒ１において前記目標温度と共に前記目標圧力も実現される。従って，前記ガス圧縮機３によるガス供給を停止してから前記加熱ヒータ２による加熱によって前記加熱領域Ｒ１の温度が前記目標温度に到達するまでの間に，前記高圧容器１からのガスの放出や前記ガス圧縮機３によるガスの補充を行う必要がない。
以上説明したように，前記ＨＩＰ装置Ｘでは，目標圧力及び目標温度を設定するだけで，前記高圧容器１内へのガスの供給を適切な時点で自動停止させることができる。これにより，前記ＨＩＰ装置Ｘを操作するユーザの手間が著しく軽減される。
【００２５】
ところで，本実施の形態では，前記ＨＩＰ装置Ｘにおいて，いわゆる昇圧先行方式で運転が行われる場合を例に挙げて説明した。具体的に，前記ＨＩＰ装置Ｘでは，まず前記ガス圧縮機３によるガスの供給のみを開始させ，前記停止条件の充足を条件に前記ガス圧縮機３によるガスの供給を停止させた後，前記加熱ヒータ２による加熱を開始させ，該加熱ヒータ２による加熱を前記温度計７による検出温度が前記目標温度に到達するまで継続させている。即ち，前記ガス圧縮機３によるガス供給が停止されるまでの間は前記加熱ヒータ２による加熱が行われない。
そのため，予め前記ステップＳ４において，現在の前記高圧容器１内の平均温度（Ｐ１ａｖｅ）が一定であるものとして，前記高圧容器１へのガス供給を停止させるべき圧力（Ｐ１）の値を算出することも可能である。
例えば，前記ステップＳ４が実行されるときの前記高圧容器１内の平均温度（Ｔ１ａｖｅ）が仮に５０［℃］であり，前記目標圧力（Ｐ２）が２，０００［ｋｇｆ／ｃｍ2］，前記平均温度（Ｔ２ａｖｅ）が７５０［℃］である場合には，現在の圧力（Ｐ１）が｛２０００／（７５０＋２７３）｝・（５０＋２７３）に到達することを停止条件として設定すればよい。これにより，前記ガス圧縮機３によるガス供給が停止された後，前記加熱ヒータ２による加熱によって前記目標温度に到達したとき，前記高圧容器１内において目標圧力及び目標温度を実現することができる。
【００２６】
さらに，本実施の形態では，前記ステップＳ４における停止条件の設定時や，前記ステップＳ７における停止条件の充足の判断時において，前記温度計７によって検出される現在の温度を用いる場合を説明したが，これに限られない。
例えば，前記ＨＩＰ装置Ｘによる加工処理の開始時の温度が概ね同じとなるような運用を行う場合には，予め定められた所定温度を前記ＲＯＭに現在の加熱領域Ｒ１の温度として記憶させておき，前記加圧加熱制御装置４が，前記ステップＳ４における前記停止条件の設定時や，前記ステップＳ７における前記停止条件の充足の判断時において，そのＲＯＭに記憶された前記所定温度を現在の加熱領域Ｒ１の温度として読み出す構成も考えられる。係る所定温度は，前記加熱領域Ｒ１の温度として，或いは前記高圧容器１内全体の平均温度として用いればよい。このとき，前記所定値を読み出すときの前記加圧加熱制御装置４が加熱領域温度検出手段或いは現在平均温度推定手段に相当する。
この手法によれば，前記加圧加熱制御装置４によって実行される，前記温度計７により前記加熱領域Ｒ１の温度検出を行うための処理や，該検出温度に基づいて前記高圧容器１内全体の平均温度を算出するための処理などを省略することができる。
【００２７】
一方，本発明は，前記昇圧先行方式に限られず，昇温先行方式や昇圧昇温同時方式などのように前記高圧容器１内の圧力及び温度が同時に変化する場合にも適用可能である。なお，前記昇温先行方式は，前記加熱ヒータ２による加熱を開始させた後，前記ガス圧縮機３によるガスの供給を開始させ，前記ガス圧縮機３によるガスの供給は前記停止条件を充足したことを条件に停止させ，前記加熱ヒータ２による加熱は前記温度計７による検出温度が前記目標温度に到達するまで継続させるものである。また，前記昇圧昇温同時方式は，前記加熱ヒータ２による加熱及び前記ガス圧縮機３によるガスの供給を同時に開始させ，前記ガス圧縮機３によるガスの供給は前記停止条件を充足したことを条件に停止させ，前記加熱ヒータ２による加熱は前記温度計７による検出温度が前記目標温度に到達するまで継続させるものである。
これらの方式で運転を行う場合には，前記ガス圧縮機３によるガス供給が行われている間に，前記加熱ヒータ２による加熱によって前記高圧容器１内の平均温度が変化する。そのため，予め前記ステップＳ４において前記高圧容器１へのガス供給を停止させるべき圧力の値を特定することはできない。
従って，前記昇温先行方式や前記昇圧昇温同時方式などで運転する場合には，前記加圧加熱制御装置４は，前記ガス圧縮機３によるガス供給及び前記加熱ヒータ２による加熱を実行させつつ，前記ステップＳ４で用いられた前記（３）式（或いは（６）式）で表される停止条件が充足されたか否かを随時判断し，その停止条件が充足された時点で前記ガス圧縮機３によるガス供給を先に停止させる。これにより，前記昇温先行方式や昇圧昇温同時方式などで運転する場合にも，前記停止条件に従って前記ガス圧縮機３によるガス供給を適切なタイミングで自動停止させることができる。
【実施例１】
【００２８】
以下，本実施例１，２では，前記加圧加熱制御装置４によって実行される熱間等方圧加圧処理（図２のフローチャート参照）における停止条件の設定処理（ステップＳ４）の他の例について説明する。なお，前記実施の形態で説明した前記ＨＩＰ装置Ｘと同様の構成要素には同じ符号を付して本実施例１，２の説明のために用いる。
前記実施の形態では，前記高圧容器１内における前記加熱領域Ｒ１及び前記非加熱領域Ｒ２の温度分布が異なることを考慮して，前記高圧容器１内全体の平均温度に基づいて前記停止条件を設定していた。
一方，前記実施の形態に係る構成に比べれば精度は劣るが，簡易的に前記停止条件を設定するためには，前記高圧容器１内における前記非加熱領域Ｒ２の影響を無視して，前記加熱領域Ｒ１だけを考慮してボイルシャルルの法則を適用した関係式に基づいて停止条件を設定することが考えられる。
具体的に，前記加圧加熱制御装置４が，以下の（１０）式が成立することを停止条件として設定し（Ｓ４），該停止条件が充足されることを条件（Ｓ７のＹｅｓ側）に前記ガス圧縮機３によるガス供給を停止させる（Ｓ８）ことが考えられる。ここに，現在の前記高圧容器１内の圧力をＰ１，現在の前記加熱領域Ｒ１の温度をＴ１，目標圧力をＰ２，目標温度をＴ２とする。また，これらの温度の単位はケルビン［ｋ］である。
(P1／T1)=(P2／T2)      …（１０）
なお，温度の単位が［℃］である場合には，下記（１１）式とすればよい。
P1／(T1+273)=P2／(T2+273)      …（１１）
これにより，前記実施の形態に係る手法に比べて，前記加熱領域Ｒ１の温度が目標温度Ｔ２に到達したときの前記高圧容器１内の圧力の前記目標圧力Ｐ２との一致度は低くなるが，なるべく前記ガス圧縮機３によるガスの補充や前記高圧容器１からのガスの放出などを必要としないように，前記ガス圧縮機３によるガス供給を自動的に停止させることができる。
【実施例２】
【００２９】
本実施例２では，前記加圧加熱制御装置４が，予め実験によって得られた実績データやシミュレーションによって得られた推測データなどに基づいて停止条件を設定する場合について説明する。
ここに，図３は前記熱間等方圧加圧処理における停止条件の設定処理の他の例を説明するためのグラフを示している。図３のグラフにおける横軸ｔは加熱領域Ｒ１の温度，縦軸ｐは高圧容器１内の圧力を示している。
図３に示すように，前記ＨＩＰ装置Ｘにおいて，任意の温度ｔ１，圧力ｐ１の点Ａ１から前記加熱ヒータ２による加熱のみを開始した後，温度ｔ２に到達した点Ａ２の圧力がｐ２であるという実績データ（或いは推測データ）が得られたとする。
このとき，前記加圧加熱制御装置４は，前記点Ａ１と前記点Ａ２との間を結んだ直線Ｌ１を延長して圧力ｐが０になる点Ａ０を導出し，その点Ａ０の座標を前記加圧加熱制御装置４のＲＯＭなどに記憶させておく。なお，前記点Ａ０のときの温度ｔ０は，前記ＨＩＰ装置Ｘの構造や前記ＨＩＰ装置Ｘの稼働環境などによって異なる。
そして，前記加圧加熱制御装置４は，前記ステップＳ４において，前記点Ａ０の座標と前記ステップＳ３で設定された目標圧力及び目標温度とに基づいて停止条件を設定する。
【００３０】
例えば，図３に示すように，目標圧力及び目標温度が圧力ｐ３，温度ｔ３の点Ｂ２に設定されると，前記加圧加熱制御装置４は，その点Ｂ２から前記点Ａ０までの直線Ｌ２を想定し，前記圧力計６及び前記温度計７による検出結果が前記直線Ｌ２上に乗ることを停止条件として設定する。
これにより，例えば昇圧先行方式によって温度ｔ１の点Ｂ０から前記点Ｂ２を目標とする運転を行う場合には，前記ガス圧縮機３によるガス供給によって前記高圧容器１内が昇圧され，前記直線Ｌ２上の圧力ｐ４の点Ｂ１に達した時点で，前記ガス圧縮機３によるガス供給が停止される。そして，その後は前記加熱ヒータ２による加熱が開始されることによって，前記直線Ｌ２に沿って圧力及び温度が前記点Ｂ２に到達する。
一方，昇圧昇温同時方式によって温度ｔ１の点Ｂ０から前記点Ｂ２を目標とする運転を行う場合には，前記ガス圧縮機３によるガス供給及び前記加熱ヒータ２による加熱が同時に行われ，図３に示す曲線Ｌ３のように，圧力及び温度が共に上昇する。そして，圧力及び温度が，前記曲線Ｌ３と前記直線Ｌ２との交点Ｃ１に到達した時点で，前記ガス圧縮機３によるガス供給が停止される。その後，前記加熱ヒータ２による加熱だけが継続されることによって，前記直線Ｌ２に沿って圧力及び温度が前記点Ｂ２に到達する。同様に，昇圧昇温同時方式によって温度ｔ４の点Ｄ０から前記点Ｂ２を目標とする運転を行う場合にも，圧力及び温度が曲線Ｌ４に沿って上昇し，前記直線Ｌ２との交点Ｄ１に到達した時点で，前記ガス圧縮機３によるガス供給が停止される。その後，前記加熱ヒータ２による加熱だけが継続されることによって，前記直線Ｌ２に沿って圧力及び温度が前記点Ｂ２に到達する。
【図面の簡単な説明】
【００３１】
【図１】本発明の実施の形態に係る熱間等方圧加圧装置Ｘの概略構成を示す模式断面図。
【図２】本発明の実施の形態に係る熱間等方圧加圧装置Ｘにおいて実行される熱間等方圧加圧処理の手順の一例を示すフローチャート。
【図３】熱間等方圧加圧処理における停止条件の設定処理の他の例を説明するためのグラフ。
【符号の説明】
【００３２】
１…高圧容器
１ａ…上蓋
１ｂ…底蓋
１ｃ…円筒側面
２…加熱ヒータ（加熱手段の一例）
３…ガス圧縮機（加圧手段の一例）
４…加圧加熱制御装置
５…操作表示部
６…圧力計（圧力検出手段の一例）
７…温度計（加熱領域温度検出手段の一例）
１１…載置台
１２…断熱構造体（断熱手段の一例）
Ｓ１，Ｓ２，…，…処理手順（ステップ）番号
【図１】
2010117076.tif 000005
【図２】
2010117076.tif 000006
【図３】
2010117076.tif 000007