(57)【要約】【課題】蛍石に代表されるハロゲン化物を使用しない転炉型溶銑脱燐処理において、高能率で低燐濃度の溶銑を製造することと、転炉炉内の地金、スラグの付着量を低減することを両立する溶銑の脱燐方法を提供する。【解決手段】転炉に収容された溶銑に酸素ガスを１２分間以内供給し、蛍石に代表されるハロゲン化物を用いることなく、溶銑を脱燐処理する。この際、粒径が１５０μｍ以下の粉状の生石灰５ｋｇ／溶銑トン以上を、酸素ガスとともに、テーパーノズルを中心ノズルを除いて４以上１２以下備える上吹きランスを介して、溶銑の表面に吹き付けて脱燐を行う。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
転炉に収容された溶銑に酸素ガスを供給し、蛍石に代表されるハロゲン化物を用いることなく、該酸素ガスの供給時間を１２分間以内として脱燐処理する方法であって、
スロートから最先端のランス出口に向かうにつれてその中心軸に垂直な面の断面積が徐々に減少する内面形状を有するノズルを、中心ノズルを除いて４以上１２以下備える上吹きランスを介して、粒径が１５０μｍ以下の粉状の生石灰５ｋｇ／溶銑トン以上を、前記酸素ガスとともに、前記溶銑の表面に吹き付けることを特徴とする溶銑の脱燐方法。
【請求項２】
転炉に投入するＣａＯ量のうち３０質量％以上を、前記酸素ガスの供給時間の後半５０％の期間に、前記粉体状生石灰として吹き付けることを特徴とする、請求項１に記載の溶銑脱燐方法。
【請求項３】
脱燐処理後のスラグ中ＣａＯとＳｉＯ２の質量濃度比で定義される塩基度を２．２〜２．７とし、かつＴ．Ｆｅ濃度を４質量％以上とすることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の溶銑の脱燐方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、溶銑の脱燐方法に関し、具体的には、溶銑予備処理として行なわれる脱燐処理時に、蛍石に代表されるハロゲン化物を用いることなしに、スロートから最先端のランス出口に向かうにつれてその中心軸に垂直な面の断面積が徐々に減少する内面形状を有するノズル（以降、「テーパーノズル」という）を備える上吹きランスを用いて、粉状の生石灰を酸素ガスとともに溶銑の表面に吹き付ける溶銑の脱燐方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
転炉を用い、炭素および燐を同時に精錬していた従来の製鋼精錬方法に対し、最近では、燐を溶銑段階で事前に除去する予備脱燐処理が行なわれており、特に転炉を用いた溶銑予備脱燐が多く行われている。
【０００３】
この転炉型溶銑脱燐において、蛍石に代表されるハロゲン化物を用いることなく脱燐処理後の溶銑中燐濃度を安定して低下するには、スラグ中酸化鉄濃度を高めることが有効である。スラグ中酸化鉄濃度が高まることにより、スラグ・メタル界面の酸素活量が上昇して燐の酸化反応が進行するとともにスラグの融点が低下して流動性が増加するためにスラグ中の燐の移動速度が速くなり、これらによって脱燐速度が増加する。
【０００４】
スラグ中酸化鉄濃度を高めるために、特許文献１には、転炉設備で溶銑を脱燐処理する際に、下端部に鉛直下向き方向及び鉛直斜め下向き方向のノズル孔を備えるとともに、下端部から離れた位置の側面部に転炉の内壁面に向かって開口するノズル孔を備える特殊な構造の上吹きランスを用い、内壁面に向かって開口するノズル孔から酸素ガスを供給して内壁面に付着した地金またはスラグを溶解して酸化鉄を生成させ、この酸化鉄をスラグへ供給しながら、鉛直下向き方向及び鉛直斜め下向き方向のノズル孔から溶銑の表面に酸素ガスを供給する方法に係る発明が開示されている。
【０００５】
しかし、この発明では、投入した副原料のＣａＯがまだ完全に溶融せず、固体のＣａＯと溶融してＳｉＯ２と化合物を生成した低塩基度のスラグが混在している脱燐処理の初期から酸化鉄濃度が急速に上昇して、地金の溶解により生成した液相の酸化鉄と溶銑中の炭素との反応が急激に進行してＣＯガスが発生し、流動性の悪い低塩基度スラグを泡立たせ炉外へ流出させるスロッピングが発生し、操業を阻害する可能性がある。
【０００６】
また、この発明では、内壁面の地金に直接酸素を吹き付けて酸化鉄とするために地金の溶解が速く、数チャージの処理で転炉内壁面の地金が完全に溶解してしまうこともある。地金が存在しない状態でこのランスを使用すると、酸化鉄生成量は多くないために脱燐反応は促進されないばかりか、転炉耐火物に直接酸素が供給されるための耐火物の溶損を急速に進行させることとなる。このため、この特殊な構造のランスを使用した脱燐処理を長期間連続的に行うことが難しい。
【０００７】
なお、この特殊な構造のランスの機能を用いて地金溶解用の酸素流量を調節することは可能であるとしても、その機能を適切に使いこなすことは現実には容易ではないと考えられる。
【０００８】
本発明者らは、先に特許文献２により、蛍石を用いることなく転炉型反応容器内で溶銑脱燐処理を行うために、テーパーノズルを介して粉状の生石灰を溶銑に吹き溶ける脱燐方法に係る発明を開示した。
【０００９】
この発明は、粒径１ｍｍを越す生石灰を含む粉状の生石灰を用い、そのような粉状の生石灰を用いることに伴う脱燐能率の低下を防止しながら、溶銑及びスラグを吹き散らす現象であって転炉内上部の地金付着の主な原因となるスピッティングの発生量を抑制することを目的とする。
【００１０】
この発明は、高能率の脱燐処理とスピッティングの発生量の抑制とを両立させるものであるが、この発明を提案した当時には高能率かつ安定的に低燐濃度の溶銑を製造するという要請が、現在ほど強くはなかった。このため、特許文献２には、脱燐処理の時間や脱燐処理の目標に関する開示はないし、生石灰粉の使用タイミングも特に開示されていない。
【特許文献１】特開２００２−２８５２１５号公報
【特許文献２】特許第４０６９８３７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
近年の環境問題の高まりから、蛍石に代表されるハロゲン化物を用いることはできるだけ避けなければならず、また、製品の高い清浄度が要求されているため、製品中燐濃度の低下も達成しなくてはならない。また、連続して高能率で、かつ安定した操業を維持するため、高能率と脱燐処理用転炉炉内の地金およびスラグ付着量の低減とを両立させる必要もある。
【００１２】
本発明の目的は、蛍石に代表されるハロゲン化物を使用しない転炉型溶銑脱燐処理において、高能率で低燐濃度の溶銑を製造することと、転炉炉内の地金、スラグの付着量を低減することを両立できる溶銑の脱燐方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明は、転炉に収容された溶銑に酸素ガスを供給し、蛍石に代表されるハロゲン化物を用いることなく、この酸素ガスの供給時間を１２分間以内として脱燐処理する方法であって、スロートから最先端のランス出口に向かうにつれてその中心軸に垂直な面の断面積が徐々に減少する内面形状を有するノズルを、中心ノズルを除いて４以上１２以下備える上吹きランスを介して、粒径が１５０μｍ以下の粉状の生石灰５ｋｇ／溶銑トン以上を、酸素ガスとともに、溶銑の表面に吹き付けることを特徴とする溶銑の脱燐方法である。
【００１４】
この本発明に係る溶銑の脱燐方法では、転炉に投入するＣａＯ量のうち３０質量％以上を、前記酸素ガスの供給時間の後半５０％の期間に、前記粉体状生石灰として吹き付けることが望ましい。
【００１５】
これらの本発明に係る溶銑の脱燐方法では、脱燐処理後のスラグ中ＣａＯとＳｉＯ２の質量濃度比で定義される塩基度を２．２〜２．７とし、かつＴ．Ｆｅ濃度を４質量％以上とすることが望ましい。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、蛍石に代表されるハロゲン化物を使用しない転炉型溶銑脱燐処理において、高能率で低燐濃度の溶銑を製造することと、転炉炉内の地金、スラグ付着量を低減することを両立することができ、これにより、蛍石に代表されるハロゲン化物を使用しない転炉型溶銑脱燐処理において低燐溶銑を得ることができる操業を、高能率、安定かつ継続的に行うことが可能になるので、脱燐炉の操業能率を大幅に向上することができるようになる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下、本発明に係る溶銑の脱燐方法を実施するための最良の形態を、添付図面を参照しながら説明する。なお、以降の説明では、特に断りがない限り「％」は「質量％」を意味するものとする。
【００１８】
はじめに、本発明の原理を簡単に説明する。本発明者らは、前述した従来の技術が有する課題を解決するため、最適な処理条件について鋭意検討を行った結果、以下に説明する内容の知見を得た。
【００１９】
まず、溶銑の脱燐処理では、特許文献２に記載された発明、すなわち粉状の生石灰を、テーパーノズルを介して溶銑の表面に吹き溶けて脱燐することが有利である。また、脱燐処理後の溶銑中燐濃度を高能率で低下するには、粉状の生石灰の粒径は細かいほうが望ましい。本発明では、脱燐処理中における酸素ガスの供給時間１２分間以内でその脱燐処理による溶銑の脱燐率８０％以上を得られるようにするため、粉状の生石灰の粒径は１５０μｍ以下とするとともに、粉状の生石灰の供給量は５ｋｇ／溶銑トン以上とする。
【００２０】
ここで、本発明は一般的な溶銑を脱燐処理して低燐溶銑を得ることを目的にしているので、脱燐処理後のスラグ中ＣａＯとＳｉＯ２の質量濃度比で定義される塩基度の範囲は、一般的な１．５以上３．５以下である。したがって、粉状の生石灰の供給量の上限も、この処理後のスラグの塩基度の上限によって、自ずと規定されていることになる。
【００２１】
この条件下にあっても、特許文献２により開示したように、テーパーノズルを備える上吹きランスを用い、粒径が１５０μｍ以下の粉状の生石灰を酸素ガスとともに溶銑の表面に吹き付けることにより溶銑を脱燐すると、炉内付着地金を生成する原因となる溶銑及びスラグのスピッティングを低減することができる。
【００２２】
また、脱燐反応を促進するためには、粒径が１５０μｍ以下の粉状の生石灰を精錬用の上吹き酸素ガスとともに溶銑の表面へ吹付ける脱燐方法を用いる場合においても、スラグ中の酸化鉄濃度を高めることにより、燐の酸化反応を促進するとともにスラグの融点を下げて流動性を高めてスラグおよびメタル間反応を促進することが、有効である。
【００２３】
酸化鉄濃度を高めるために、転炉内壁に付着した地金やスラグを酸化させて溶かし、溶融した酸化鉄をスラグに供給して脱燐すれば、脱燐反応も効率的に進み、脱燐処理で発生するスピッティングによる転炉内壁付着地金の成長も一層進行し難くなるため、連続的に安定して低燐溶銑を得ることができる。
【００２４】
また、付着地金の溶解を脱燐処理の初期から急速に進行させずに脱燐処理の中期以降に徐々に進行させれば、より安定してスラグ中酸化鉄濃度を高めることができる。転炉型脱燐処理においては、通常、上吹きランスから溶銑へ酸素を吹き付ける前に、温度調整のためのミルスケールや鉄鉱石等の酸化鉄を添加する。さらに、粒径が１５０μｍ以下の粉状の生石灰を酸素ガスとともに溶銑の表面に吹き付けて行う溶銑の脱燐方法では、生石灰は連続して添加されるので、別に塊状の生石灰や取鍋スラグなどのＣａＯ源を使用する場合であっても、脱燐処理の初期に新たに生成する溶融状態のスラグの塩基度は、比較的に低い状態で推移すると考えられる。
【００２５】
これらの影響により、脱燐処理の初期にはスラグ中の溶融部分の酸化鉄濃度が高い状態で推移する期間があると考えられる。脱燐処理がある程度進行して炉内温度が上昇するとともに、塊状ＣａＯ源等を使用した場合にはそれらが溶解する。また、塊状ＣａＯ源を使用しない場合であっても溶銑中の炭素によってスラグ中酸化鉄の還元反応が進む。その結果、溶解が進んだＣａＯ源や連続的に供給される粉状の生石灰による希釈効果と、酸化鉄が還元される効果とが相俟って、溶融スラグ中の酸化鉄濃度は低下する。
【００２６】
この溶融スラグ中の酸化鉄濃度が減少する段階で、転炉内壁面に付着した地金、スラグを溶解させて酸化鉄を溶銑上のスラグへ供給し、スラグ中の酸化鉄濃度を再度上昇させれば、スラグ中酸化鉄濃度の一時的な上昇に起因するスロッピングの発生を回避しながら、スラグの脱燐能力を維持しつつ効率的に脱燐処理を行うことが可能になる。
【００２７】
さらに、スラグ中の酸化鉄の生成を調整する本実施の形態においては、この段階に到る前にＣａＯ源を多量に供給してもその溶融滓化が遅れがちになるだけであるため、上吹きする粉状の生石灰の一部を、この付着地金の溶解時期まで残しておくほうが、脱燐処理全体としての脱燐効率が向上すると考えられる。
【００２８】
本実施の形態では、この脱燐処理の途中からの内壁面の付着地金の溶解を達成するため、脱燐処理で生成するＣＯガスの二次燃焼を利用する。
まず、ＣＯガスの二次燃焼を促進するランスノズルを用いて脱燐処理を行う。脱燐処理が進行するにつれてＣＯガスの酸化、つまり二次燃焼反応が進み、転炉の炉口付近の温度が徐々に上昇し、内壁面に付着した地金、スラグが溶解し始め、溶融した酸化鉄が溶銑上のスラグへ供給されるためにスラグ中酸化鉄濃度が上昇する。
【００２９】
酸素上吹き用のランスノズルには、二次燃焼を促進させるために、多孔のランスノズルを用いる。また、上吹き酸素と溶銑の反応による単位時間あたりの酸化鉄生成量を増加するため、酸素と溶銑との反応面積（火点）が、ラバールノズルと比較して広範囲になるテーパーノズルを用いることも、二次燃焼の促進に有利に作用する。
【００３０】
また、この付着地金溶解法は、地金に直接酸素を吹き付ける方法とは異なり、地金の急速な溶解を伴わないため、スラグ中酸化鉄濃度の急上昇によるスロッピングの発生も回避することができる。
【００３１】
このような観点から、本実施の形態では、転炉に投入するＣａＯ量のうち３０％以上を、酸素ガスの供給時間のうちの後半５０％の期間に、粉状の生石灰として吹き付けることが望ましい。
【００３２】
次に、本発明を実施するための最良の形態を、添付図面を参照しながら説明する。溶銑予備脱燐処理の反応容器には、上底吹き機能を有する転炉を用いる。上吹きランスには、ランスの上部において酸素ラインと、脱燐材として使用する粉体状の生石灰を溶銑に吹き付けるためのラインとが合流するものを用いることが望ましい。粉体状の生石灰の吹き付けに使用するキャリアガスは、酸素ガス、エアー、窒素ガス、二酸化炭素ガスさらにはアルゴンの何れを用いても構わないが、安全上の観点から窒素ガスを用いることが望ましい。
【００３３】
この上吹きランスのノズルには、ランス軸の中心に設けられる中心ノズルを除き、スロートから最先端のランス出口に向かうにつれてその中心軸に垂直な面の断面積が徐々に減少する内面形状を有するテーパーノズルを用いる。このテーパーノズルの設置数は４以上であれば構わないが、二次燃焼率をより高くするという観点からは８以上であることが望ましい。ただし、ランス先端の強度や耐久性から実際上は１２程度が限界である。
【００３４】
また、このテーパーノズルのスロートから出口までの内壁面の、中心軸に対する傾き角θは、特許文献２により開示したように１°以上１２°以下の範囲であることが、スピッティングを防止するためには望ましいので、この範囲で製作可能な傾き角θとすればよい。
【００３５】
なお、上吹きランスの中心ノズルは設けなくともよい。中心ノズルを設ける場合には、中心ノズルはストレート型であってもよいし、または先細りのテーパー型であってもよい。
【００３６】
本実施の形態では、この上底吹き機能を有する転炉を用い、事前に脱硫処理や脱珪処理を行われた溶銑、あるいは事前の予備処理を行われていない溶銑に対して、脱燐処理を行う。
【００３７】
まず、冷却材として使用する鉄スクラップを転炉へ装入する。この配合率は、主原料全体の３０％以下であれば脱燐処理に支障を生じない。また、鉄スクラップと合わせて脱燐材として用いる副原料を投入しても構わない。
【００３８】
その後、前述の溶銑を転炉へ装入する。この溶銑の温度は１２５０℃以上１４００℃以下であり、また主な成分は、Ｃ：４．０％以上５．０％以下、Ｓｉ：０．０１％以上１．００％以下、Ｍｎ：０．１％以上０．５％以下、Ｓ：０．１％以下、Ｐ：０．０５％以上０．２０％以下程度である。
【００３９】
溶銑、鉄スクラップを装入する前後で、必要に応じて脱燐用副原料の生石灰等を炉内に投入する。副原料には蛍石に代表されるハロゲン化物等は用いない。
その後、テーパーノズルを、中心ノズルを除いて４以上１２以下備える上吹きランスより酸素を溶銑へ吹き付け始め、それと同時に、又はやや遅れて、粉状の生石灰の吹き付けも開始して脱燐処理を行う。脱燐処理時の底吹き用ガスは、窒素ガス、二酸化炭素ガスまたはアルゴンガスの何れを用いても構わないが、コスト面から窒素ガスを用いることが望ましい。
【００４０】
脱燐処理を開始した時以降、上吹きランスの４以上のテーパーノズルによりＣＯガスの二次燃焼が促進され、炉内上部の温度が上昇する。この温度上昇により、脱燐処理の中期以降において、転炉内壁面に付着した地金（脱燐処理時のスピッティングにより炉内壁面に付着したもの）が溶解し、酸化鉄となって溶銑上のスラグに供給され、スラグの酸化鉄濃度（Ｔ．Ｆｅ）が上昇し、スラグの脱燐能力が高まる。この脱燐能が高いスラグを用いた脱燐処理が行われることとなるため、低燐溶銑を安定して製造することが可能になる。
【００４１】
また、脱燐処理中に炉内壁面の地金を溶解するため、付着地金量の増加も抑制される。
このようにして、本実施の形態によれば、蛍石に代表されるハロゲン化物を使用しない転炉型溶銑脱燐処理において、高能率で低燐濃度の溶銑を製造することと、転炉炉内の地金、スラグ付着量を低減することを両立することができる。このため、蛍石に代表されるハロゲン化物を使用しない転炉型溶銑脱燐処理において低燐溶銑を得ることができる操業を、高能率、安定かつ継続的に行うことができるので、脱燐炉の操業能率を大幅に向上することができるようになる。
【実施例１】
【００４２】
本発明を、実施例を参照しながら、より具体的に説明する。
脱燐処理前の溶銑成分が、［Ｃ］＝４．４〜４．９５％、［Ｓｉ］：０．１４〜０．３７％、［Ｐ］：０．０８０〜０．１２０％であるとともに、脱燐処理前温度が１２９６〜１４１４℃である溶銑２５０〜２７０トン、スクラップ２３〜２９トンを、上底吹き転炉（容量３００ｔ）に装入し、底吹きガスとして、窒素を溶銑質量トンあたり０．２７Ｎｍ３／ｍｉｎで吹き込みながら、図１に先端形状を示すラバールノズル６孔ランス１と、図１に示す先端形状と図２に示す縦断面形状を有するテーパーノズル８孔ランス２とを用い、上吹き酸素を溶銑質量トンあたり１．２５Ｎｍ３／ｍｉｎ．として吹き付けた。
【００４３】
また、副原料として、上吹き酸素の供給開始直前に取鍋スラグ（ＣａＯ含有率：４０〜５０％）を３ｋｇ／溶銑トン投入した他、塊状生石灰（粒径１０〜２５ｍｍ、ＣａＯ含有率：９２％、残：ＣＯ２等）を上吹き酸素の供給開始前後に５〜１５ｋｇ／溶銑トン投入し、さらに、粉状の生石灰（粒径≦１５０μｍ、ＣａＯ含有率：９２％、残：ＣＯ２等）を５〜１５ｋｇ／溶銑トン上吹きした。
【００４４】
粉状の生石灰は３００〜４５０ｋｇ／ｍｉｎ．の速度で溶銑へ吹き付けた。転炉での脱燐処理１回について、その全ＣａＯの投入時期は、上吹き酸素の供給時間中の前半５０％の期間に５０〜８０％とするとともにその後半５０％の期間に２０〜５０％とした。
【００４５】
脱燐処理中のランス１、２先端と湯面表面との距離は、粉状の生石灰の吹き付け中は３．２〜３．４ｍとするとともに吹き付け完了の前や後では３．５〜３．７ｍとした。
脱燐処理の終了後に、溶銑を溶銑鍋へ移した後、炉内に残されたスラグを採取し、そのサンプルを用いて塩基度と全鉄量Ｔ．Ｆｅとの分析を行った。溶銑中の燐濃度は溶銑鍋へ移した後に溶銑鍋内から採取したメタルサンプルを分析して、求めた。
【００４６】
表１に脱燐処理の操業条件を示した。
【００４７】
【表１】
2010121158.tif 000003
【００４８】
表２には、本発明例であるテーパーノズル８孔ランス２を用いた脱燐処理と、比較例であるラバールノズル６孔ランス１の脱燐処理それぞれの処理条件および結果をまとめて示す。なお、表２の調査における全ＣａＯの投入時期は、本発明例、比較例ともに、上吹きランスからの酸素供給時間の前半５０％に５０〜８０％、後半５０％に２０〜５０％とした。
【００４９】
【表２】
2010121158.tif 000004
【００５０】
図３は、脱燐処理中の二次燃焼率｛二次燃焼率＝排ガスＣＯ２（％）／（排ガスＣＯ（％）＋排ガスＣＯ２（％））｝の推移を、経時的に示すグラフである。
【００５１】
なお、二次燃焼率の計算に用いた排ガス成分の値は、二次燃焼後に排ガスフード内で排ガスをサンプリングし、それを分析して得た数値である。この排ガスフード内でのガスサンプリングでは、上吹きランスの先端から供給される酸素ガスによる二次燃焼と炉口から炉内乃至フード内に侵入する大気による二次燃焼との区別ができない。ここで、本発明のように、炉内上部から炉口にかけての二次燃焼による付着地金の溶解を目的とする場合にも、上吹きランスの先端から供給される酸素ガスの影響は大きいのは勿論であるが、炉口からの大気による燃焼も影響するので、今回は転炉内圧力を０〜３ｍｍＨ２Ｏの共通条件下で、両方を区別せずに二次燃焼全体としての地金溶解への影響を調査した。
【００５２】
図３にグラフで示すように、テーパーノズル８孔ランス２を用いた本発明例は、ラバールノズル６孔ランス１を用いる比較例よりも、脱燐処理中の二次燃焼率が上昇することがわかる。
【００５３】
図４は、テーパーノズル８孔ランス２を用いた本発明例、およびラバールノズル６孔ランス１を用いる比較例それぞれについて、脱燐処理後スラグ中Ｔ．Ｆｅ濃度とスラグ塩基度との関係を示すグラフであり、図５は、脱燐処理後［Ｐ］とスラグ塩基度との関係を示すグラフである。
【００５４】
図４、５のグラフに示すように、同じスラグ塩基度で比較すると、本発明例は、比較例よりも、スラグ中Ｔ．Ｆｅ濃度がより高くなり、脱燐処理後［Ｐ］もより低い値が得られることが分かった。
【００５５】
特に、テーパーノズル２を備える上吹きランスを用い、Ｔ．Ｆｅ％を高め、処理終了時の塩基度を２．２〜２．７、かつＴ．Ｆｅ％を４％以上とすることによって、１２分間以内の酸素供給時間であっても、脱燐処理後［Ｐ］≦０．０２０％（脱燐率≧８０％）を安定して得ることができることがわかった。
【００５６】
ここで、処理後スラグのＴ．Ｆｅ％の実績としては１０％程度まで得られたが、実操業上はこの程度の濃度までで十分である。これ以上にＴ．Ｆｅ％を高めてもスラグと溶銑との非平衡度がますます高まるので、脱燐向上効果が薄れてくるからである。また、処理後のスラグフォーミングが増加するので、脱燐処理後の脱燐溶銑を転炉から出湯することに支障をきたす場合もあるからである。
【００５７】
なお、テーパーノズル２を用いた本試験では、１２分間以下で所定の脱燐処理を行っても、スピッティングやスロッピングが問題になることはなく、しかも炉内および炉口の地金付着量も安定していて、特別な地金除去処理は不要であった。
【００５８】
これに対し、ラバールノズル１を用いた比較試験では、炉内および炉口の地金付着が徐々に増加して、時々地金除去作業が必要になった。
【図面の簡単な説明】
【００５９】
【図１】比較例のラバールノズル６孔ランスと、本発明例のテーパーノズル８孔ランスそれぞれの先端形状を示す説明図である。
【図２】本発明例のテーパーノズル８孔ランスの縦断面形状を示す説明図である。
【図３】脱燐処理中の二次燃焼率の推移を、経時的に示すグラフである。
【図４】テーパーノズル８孔ランスを用いた本発明例、およびラバールノズル６孔ランスを用いる比較例それぞれについて、脱燐処理後スラグ中Ｔ．Ｆｅ濃度とスラグ塩基度との関係を示すグラフである。
【図５】脱燐処理後［Ｐ］とスラグ塩基度との関係を示すグラフである。
【符号の説明】
【００６０】
１  比較例のラバールノズル６孔ランス
２  本発明例のテーパーノズル８孔ランス
【図１】
2010121158.tif 000005
【図２】
2010121158.tif 000006
【図３】
2010121158.tif 000007
【図４】
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【図５】
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