(57)【要約】【課題】塗工により膜の厚み方向に大きな位相差を有し、その位相差の波長依存性が小さく、伸度等の機械特性に優れた塗工膜からなる光学補償膜を提供する。【解決手段】マレイミド系樹脂と可塑剤からなる塗工膜であって、塗工膜の面内で直交する任意の２軸をｘ軸、ｙ軸とし、面外方向をｚ軸とし、ｘ軸方向の屈折率をｎｘ、ｙ軸方向の屈折率をｎｙ、ｚ軸方向の屈折率をｎｚとした際の３次元屈折率関係がｎｘ≒ｎｙ＞ｎｚであることを特徴とする光学補償膜。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
マレイミド系樹脂と可塑剤からなる塗工膜であって、塗工膜の面内で直交する任意の２軸をｘ軸、ｙ軸とし、面外方向をｚ軸とし、ｘ軸方向の屈折率をｎｘ、ｙ軸方向の屈折率をｎｙ、ｚ軸方向の屈折率をｎｚとした際の３次元屈折率関係がｎｘ≒ｎｙ＞ｎｚであることを特徴とする光学補償膜。
【請求項２】
下記一般式（１）で示されるＮ−置換マレイミド残基単位よりなるマレイミド系樹脂からなることを特徴とする請求項１に記載の光学補償膜。
【化１】
2010097115.tif 000003
（ここで、Ｒ１は、炭素数１〜１８の直鎖状アルキル基，分岐状アルキル基，環状アルキル基、ハロゲン基、エーテル基、エステル基、アミド基を示す。）
【請求項３】
測定波長５８９ｎｍの光で測定した際の下記式（２）で示される面外位相差量（Ｒｔｈ）が３０〜２０００ｎｍの範囲内にあることを特徴とする請求項１又は２に記載の光学補償膜。
Ｒｔｈ＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ）×ｄ                  （２）
（ここで、ｄは光学補償膜の膜厚（ｎｍ）を示す。）
【請求項４】
塗工膜を４０度傾斜させ測定波長４５０ｎｍの光で測定した位相差量（Ｒ４５０）と測定波長５８９ｎｍの光で測定した位相差量（Ｒ５８９）の比で示される位相差量の波長依存性（Ｒ４５０／Ｒ５８９）が、１．１以下であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の光学補償膜。
【請求項５】
塗工膜が未延伸膜であることを特徴する請求項１〜４のいずれかに記載の光学補償膜。
【請求項６】
液晶表示素子用光学補償膜であることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の光学補償膜。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれかに記載の光学補償膜とセルロース系樹脂製フィルムとの積層体であることを特徴とする光学補償フィルム。
【請求項８】
液晶表示素子用光学補償膜フィルムであることを特徴とする請求項７に記載の光学補償フィルム。
【請求項９】
基材上にマレイミド系樹脂と可塑剤からなる溶液を塗工し乾燥することを特徴とする光学補償膜の製造方法。
【請求項１０】
マレイミド系樹脂溶液が、上記一般式（１）で示されるマレイミド残基単位よりなるマレイミド系樹脂の溶液であることを特徴とする請求項９に記載の光学補償膜の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、波長依存性等の光学特性及び伸度等の機械特性に優れた光学補償膜、特に塗工後未延伸の状態でも光学補償機能を有する液晶表示素子用の光学補償膜及びその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイは、マルチメディア社会における最も重要な表示デバイスとして、携帯電話からコンピューター用モニター、ノートパソコン、テレビまで幅広く使用されている。液晶ディスプレイには表示特性向上のため多くの光学フィルムが用いられている。
【０００３】
特に光学補償フィルムは、正面や斜めから見た場合のコントラスト向上、色調の補償などに大きな役割を果たしている。従来の光学補償フィルムとしては、ポリカーボネートや環状ポリオレフィン、セルロース系樹脂の延伸フィルムが用いられている。しかしながらこれらのフィルムには延伸工程が必要となること、延伸工程での位相差の均一性を求めることが困難となる、等の課題がある。また、特に大面積のフィルムにおいては、延伸により発現する位相差の制御を行うことがよりいっそう困難となる。
【０００４】
この延伸による課題を解決する方法として、塗工（コーティング）により未延伸での光学補償機能を発現させる光学補償膜の検討がなされている。
【０００５】
アクロン大学のハリス及びチェンは、剛直棒状のポリイミド、ポリエステル、ポリアミド、ポリ（アミド−イミド）、ポリ（エステル−イミド）よりなる光学補償膜を提案しており（例えば特許文献１，２参照。）、これらの材料は、自発的な分子配向性を有していることから塗工により延伸工程を経ることなく位相差を発現するという特徴がある。
【０００６】
更に、ポリイミドの塗工性（溶剤への溶解性）を向上したポリイミドからなる光学補償膜（例えば特許文献３参照。）、ディスコティック液晶化合物を偏光板の保護フィルムに塗工した偏光板（例えば特許文献４参照。）、等が提案されている。
【０００７】
また、フェニルマレイミド−イソブテン共重合体からなる延伸フィルム（例えば特許文献５参照。）が提案されている。
【０００８】
【特許文献１】米国特許第５３４４９１６号公報
【特許文献２】特表平１０−５０８０４８号公報
【特許文献３】特開２００５−０７０７４５号公報
【特許文献４】特許第２５６５６４４号公報
【特許文献５】特開２００４−２６９８４２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかし、特許文献１〜３において提案された方法で用いられるポリマーは、芳香族ポリマーであることから位相差の波長依存性が大きく、液晶表示素子の光学補償膜として用いた場合に色ずれなど画質低下の課題を有するものであった。
【００１０】
また、特許文献４に提案されているディスコティック液晶化合物を用いる方法は、液晶化合物を均一に配向させることが必要となり塗工プロセスが煩雑化する、配向ムラが大きい等の課題を有するばかりか、該液晶化合物も芳香族化合物が主体となることから位相差の波長依存性が大きいという品質上の課題も有するものであった。
【００１１】
特許文献５で得られる延伸フィルムは、塗工するだけでは位相差は発現しない（ｎｘ＝ｎｙ＝ｎｚ）。
【００１２】
そこで、本発明は、光学特性に優れた光学補償膜を提供することを目的とするものであり、さらに詳しくは、塗工した際に光学補償機能を発現すると共に、その位相差の波長依存性の小さく、伸度等の光学特性に優れた光学補償膜を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明者らは、上記課題に鑑み鋭意検討した結果、特定の樹脂と可塑剤からなる塗工膜が光学補償機能を有する膜、特に液晶表示素子用の光学補償に好適な塗工型光学補償膜となることを見出し、本発明を完成させるに至った。
【００１４】
即ち、本発明は、マレイミド系樹脂と可塑剤からなる塗工膜であって、塗工膜の面内で直交する任意の２軸をｘ軸、ｙ軸とし、面外方向をｚ軸とし、ｘ軸方向の屈折率をｎｘ、ｙ軸方向の屈折率をｎｙ、ｚ軸方向の屈折率をｎｚとした際の３次元屈折率関係がｎｘ≒ｎｙ＞ｎｚであることを特徴とする光学補償膜に関するものである。
【００１５】
以下、本発明の光学補償膜について詳細に説明する。
【００１６】
本発明の光学補償膜は、マレイミド系樹脂と可塑剤からなる塗工膜であって、塗工膜の面内で直交する任意の２軸をｘ軸、ｙ軸とし、面外方向をｚ軸とし、ｘ軸方向の屈折率をｎｘ、ｙ軸方向の屈折率をｎｙ（ｎｘ、ｎｙが異なる場合、最も小さい屈折率をｎｘとする）、ｚ軸方向の屈折率をｎｚとした際の３次元屈折率関係がｎｘ≒ｎｙ＞ｎｚであることを特徴とする光学補償膜である。
【００１７】
本発明の光学補償膜に用いるマレイミド系樹脂としては、例えばＮ−置換マレイミド重合体樹脂、Ｎ−置換マレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂等が挙げられ、該マレイミド系樹脂を構成するＮ−置換マレイミド残基単位としては、例えば下記一般式（１）で示されるＮ−置換マレイミド残基単位を挙げることができる。
【００１８】
【化１】
2010097115.tif 000002
（ここで、Ｒ１は、炭素数１〜１８の直鎖状アルキル基，分岐状アルキル基，環状アルキル基、ハロゲン基、エーテル基、エステル基、アミド基を示す。）
一般式（１）で示されるＮ−置換マレイミド残基単位におけるＲ１は、炭素数１〜１８の直鎖状アルキル基，分岐状アルキル基，環状アルキル基、ハロゲン基、エーテル基、エステル基、アミド基であり、炭素数１〜１８の直鎖状アルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、クロロエチル基、メトキシエチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ラウリル基等が挙げられ、炭素数１〜１８の分岐状アルキル基としては、例えばイソプロピル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基等が挙げられ、炭素数１〜１８の環状アルキル基としては、例えばシクロヘキシル基等が挙げられ、ハロゲン基としては、例えば塩素、臭素、フッ素、ヨウ素等が挙げられる。これらの１種又は２種以上が挙げられ、特に位相差量が大きく、溶剤への溶解性、機械的強度に優れる光学補償膜となることから、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基が好ましい。
【００１９】
該Ｎ−置換マレイミド残基単位の具体的例示としては、例えばＮ−メチルマレイミド残基単位、Ｎ−エチルマレイミド残基単位、Ｎ−クロロエチルマレイミド残基単位、Ｎ−メトキシエチルマレイミド残基単位、Ｎ−ｎ−プロピルマレイミド残基単位、Ｎ−イソプロピルマレイミド残基単位、Ｎ−ｎ−ブチルマレイミド残基単位、Ｎ−イソブチルマレイミド残基単位、Ｎ−ｓ−ブチルマレイミド残基単位、Ｎ−ｔ−ブチルマレイミド残基単位、Ｎ−ｎ−ヘキシルマレイミド残基単位、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド残基単位、Ｎ−ｎ−オクチルマレイミド残基単位、Ｎ−ｎ−ラウリルマレイミド残基単位等の１種又は２種以上が挙げられ、特に位相差量が大きく、溶剤への溶解性、機械的強度に優れる光学補償膜となることから、Ｎ−ｎ−ブチルマレイミド残基単位、Ｎ−イソブチルマレイミド残基単位、Ｎ−ｓ−ブチルマレイミド残基単位、Ｎ−ｔ−ブチルマレイミド残基単位、Ｎ−ｎ−ヘキシルマレイミド残基単位、Ｎ−ｎ−オクチルマレイミド残基単位が好ましい。
【００２０】
該Ｎ−置換マレイミド重合体樹脂としては、例えばＮ−メチルマレイミド重合体樹脂、Ｎ−エチルマレイミド重合体樹脂、Ｎ−クロロエチルマレイミド重合体樹脂、Ｎ−メトキシエチルマレイミド重合体樹脂、Ｎ−ｎ−プロピルマレイミド重合体樹脂、Ｎ−イソプロピルマレイミド重合体樹脂、Ｎ−ｎ−ブチルマレイミド重合体樹脂、Ｎ−イソブチルマレイミド重合体樹脂、Ｎ−ｓ−ブチルマレイミド重合体樹脂、Ｎ−ｔ−ブチルマレイミド重合体樹脂、Ｎ−ｎ−ヘキシルマレイミド重合体樹脂、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド重合体樹脂、Ｎ−ｎ−オクチルマレイミド重合体樹脂、Ｎ−ｎ−ラウリルマレイミド重合体樹脂等を挙げることができる。
【００２１】
該Ｎ−置換マレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂としては、例えばＮ−メチルマレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂、Ｎ−エチルマレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂、Ｎ−クロロエチルマレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂、Ｎ−メトキシエチルマレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂、Ｎ−ｎ−プロピルマレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂、Ｎ−イソプロピルマレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂、Ｎ−ｎ−ブチルマレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂、Ｎ−イソブチルマレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂、Ｎ−ｓ−ブチルマレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂、Ｎ−ｔ−ブチルマレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂、Ｎ−ｎ−ヘキシルマレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂、Ｎ−ｎ−オクチルマレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂、Ｎ−ｎ−ラウリルマレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂等を挙げることができる。
【００２２】
その中でも、特に製膜時の成膜性に優れ、光学補償機能、耐熱性に優れた光学補償膜となることからＮ−ｎ−ブチルマレイミド重合体樹脂、Ｎ−ｎ−ヘキシルマレイミド重合体樹脂、Ｎ−ｎ−オクチルマレイミド重合体樹脂、Ｎ−ｎ−オクチルマレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂であることが好ましい。
【００２３】
また、本発明の光学補償膜を構成するマレイミド系樹脂は、本発明の目的を逸脱しない限りにおいてＮ−置換マレイミド残基単位、無水マレイン酸残基単位以外の残基単位を含有するものであってもよく、該残基単位としては、例えばスチレン残基単位、α−メチルスチレン残基単位等のスチレン類残基単位；アクリル酸残基単位；アクリル酸メチル残基単位、アクリル酸エチル残基単位、アクリル酸ブチル残基単位等のアクリル酸エステル残基単位；メタクリル酸残基単位；メタクリル酸メチル残基単位、メタクリル酸エチル残基単位、メタクリル酸ブチル残基単位等のメタクリル酸エステル残基単位；酢酸ビニル残基、プロピオン酸ビニル残基等のビニルエステル類残基；アクリロニトリル残基；メタクリロニトリル残基等の１種又は２種以上を挙げることができる。
【００２４】
また、該マレイミド系樹脂としては、ゲル・パーミエイション・クロマトグラフィー（以下、ＧＰＣと記す。）により測定した溶出曲線より得られる標準ポリスチレン換算の数平均分子量（Ｍｎ）が１×１０３以上のものであることが好ましく、特に機械特性に優れ、製膜時の成形加工性に優れた光学補償膜となることから２×１０４以上２×１０５以下であることが好ましい。
【００２５】
本発明の光学補償膜を構成するマレイミド系樹脂の製造方法としては、該マレイミド系樹脂が得られる限りにおいて如何なる方法により製造してもよく、例えばＮ−置換マレイミド類、無水マレイン酸、場合によってはＮ−置換マレイミド類と共重合可能な単量体を併用しラジカル重合あるいはラジカル共重合を行うことにより製造することができる。この際のＮ−置換マレイミド類としては、例えばＮ−メチルマレイミド、Ｎ−エチルマレイミド、Ｎ−クロロエチルマレイミド、Ｎ−メトキシエチルマレイミド、Ｎ−ｎ−プロピルマレイミド、Ｎ−イソプロピルマレイミド、Ｎ−ｎ−ブチルマレイミド、Ｎ−イソブチルマレイミド、Ｎ−ｓ−ブチルマレイミド、Ｎ−ｔ−ブチルマレイミド、Ｎ−ｎ−ヘキシルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−ｎ−オクチルマレイミド、Ｎ−ｎ−ラウリルマレイミド等の１種又は２種以上が挙げられ、共重合可能な単量体としては、例えばスチレン、α−メチルスチレン等のスチレン類；アクリル酸；アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル等のアクリル酸エステル類；メタクリル酸；メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル等のメタクリル酸エステル類；酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ピバリン酸ビニル、ラウリン酸ビニル、ステアリン酸ビニル等のビニルエステル類；アクリロニトリル；メタクリロニトリル等の１種又は２種以上を挙げることができる。
【００２６】
また、ラジカル重合法としては、公知の重合方法で行うことが可能であり、例えば塊状重合法、溶液重合法、懸濁重合法、沈殿重合法、乳化重合法等のいずれもが採用可能である。
【００２７】
ラジカル重合法を行う際の重合開始剤としては、例えばベンゾイルパーオキサイド、ラウリルパーオキサイド、オクタノイルパーオキサイド、アセチルパーオキサイド、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、ｔ−ブチルクミルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ｔ−ブチルパーオキシアセテート、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート等の有機過酸化物；２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス（２−ブチロニトリル）、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、ジメチル−２，２’−アゾビスイソブチレート、１，１’−アゾビス（シクロヘキサン−１−カルボニトリル）等のアゾ系開始剤が挙げられる。
【００２８】
そして、溶液重合法、懸濁重合法、沈殿重合法、乳化重合法において使用可能な溶媒として特に制限はなく、例えばベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族溶媒；メタノール、エタノール、プロピルアルコール、ブチルアルコール等のアルコール系溶媒；シクロヘキサン；ジオキサン；テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）；アセトン；メチルエチルケトン；ジメチルホルムアミド；酢酸イソプロピル；水；Ｎ−メチルピロリドン等が挙げられ、これらの混合溶媒も挙げられる。
【００２９】
また、ラジカル重合を行う際の重合温度は、重合開始剤の分解温度に応じて適宜設定することができ、一般的には４０〜１５０℃の範囲で行うことが好ましい。
【００３０】
本発明の光学補償膜に用いる可塑剤としては、特に制限はなく、例えばジメチルフタレート、ジエチルフタレート、ジブチルフタレート、ジヘキシルフタレート、ジノルマルオクチルフタレート、２−エチルヘキシルフタレート、ジイソオクチルフタレート、ジカプリルフタレート、ジノニルフタレート、ジイソノニルフタレート、ジデシルフタレート、ジイソデシルフタレート、ジウンデシルフタレート、ジラウリルフタレート、ジトリデシルフタレート、ジベンジルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート、ブチルベンジルフタレート、オクチルデシルフタレート、ブチルオクチルフタレート、オクチルベンジルフタレート、ノルマルヘキシルノルマルデシルフタレート、ノルマルオクチルノルマルデシルフタレート、ジ−２−エチルヘキシルイソフタレート、ジ−２−エチルヘキシルテレフタレート等のフタル酸エステル系可塑剤；トリクレジルホスフェート、トリ（２−エチルヘキシルホスフェート）、トリキシレニルホスフェート、ビスフェノールＡビス（ジフェニルホスフェート）、トリフェニルホスフェート、２−エチルヘキシルジフェニルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、トリメチルホスフェート、トリエチルホスフェート、トリブチルホスフェート、トリス（ブトキシエチル）ホスフェート等のリン酸エステル系可塑剤；ジ−２−エチルヘキシルアジペート、ジイソデシルアジペート、ノルマルオクチル−ノルマルデシルアジペート、ノルマルヘプチル−ノルマルノニルアジペート、ジイソオクチルアジペート、ジイソノルマルオクチルアジペート、ジノルマルオクチルアジペート、ジデシルアジペート等のアジピン酸エステル系可塑剤；ジブチルセバケート、ジ−２−エチルヘキシルセバケート、ジイソオクチルセバケート、ブチルベンジルセバケート等のセバチン酸エステル系可塑剤；ジ−２−エチルヘキシルアゼレート、ジヘキシルアゼレート、ジイソオクチルアゼレート等のアゼライン酸エステル系可塑剤；クエン酸トリエチル、アセチルクエン酸トリエチル、クエン酸トリブチル、アセチルクエン酸トリブチル、アセチルクエン酸トリ（２−エチルヘキシル）等のクエン酸エステル系可塑剤；メチルフタリルエチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート等のグリコール酸エステル系可塑剤；トリブチルトリメリテート、トリ−ノルマルヘキシルトリメリテート、トリ（２−エチルヘキシル）トリメリテート、トリ−ノルマルオクチルトリメリテート、トリ−イソクチルトリメリテート、トリ−イソデシルトリメリテート等のトリメリット酸エステル系可塑剤；トリ（２−エチルヘキシル）ピロメリテート、テトラブチルピロメリテート、テトラ−ノルマルヘキシルピロメリテート、テトラ（２−エチルヘキシル）ピロメリテート、テトラ−ノルマルオクチルピロメリテート、テトラ−イソクチルピロメリテート、テトラ−イソデシルピロメリテート等のピロメリット酸エステル系可塑剤；メチルアセチルリシノレート、ブチルアセチルリシノレート等のリシリノール酸エステル系可塑剤；ポリプロピレンアジペート、ポリプロピレンセバケートおよびこれらの変型ポリエステル等のポリエステル系可塑剤；エポキシ化大豆油、エポキシブチルステアレート、エポキシ（２−エチルヘキシル）ステアレート、エポキシ化あまに油、２−エチルヘキシルエポキシトーレート等のエポキシ系可塑剤；グリセリルトリアセテート、２−エチルヘキシルアセテート等の酢酸エステル系可塑剤などが挙げられ、これらの中でもマレイミド系樹脂との相溶性、得られる光学補償膜の耐熱性及び表面性等から、リン酸エステル系可塑剤、トリメリット酸エステル系可塑剤、ピロメリット酸エステル系可塑剤を用いることが好ましく、さらにマレイミド系樹脂との相溶性の観点から特にリン酸エステル系可塑剤が好ましく、特にトリクレジルホスフェート、トリ（２−エチルヘキシル）ホスフェート、トリキシレニルホスフェート、ビスフェノールＡビス（ジフェニルホスフェート）、トリブチルトリメリテート、トリ（２−エチルヘキシル）トリメリテート、トリ（２−エチルヘキシル）ピロメリテートが好ましい。これらは必要に応じて１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００３１】
本発明の光学補償膜におけるマレイミド系樹脂と可塑剤の配合割合は、フィルム伸度等の機械特性に優れた光学補償膜が得られることからマレイミド系樹脂１００重量部に対して可塑剤が０．１〜４０重量部が好ましく、さらに１〜２０重量部が好ましく、特に３〜１０重量部が好ましい。
【００３２】
また、マレイミド系樹脂と可塑剤の配合方法としては、特に制限はなく、例えばマレイミド系樹脂を可溶な溶媒に溶解した溶液に可塑剤を添加することにより行なうことができる。その際のマレイミド系樹脂の可溶な溶媒としては、特に制限はなく、例えば芳香族溶媒としてベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、キュメン、クロロベンゼン等；非芳香族溶媒としてアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソプロピルケトン、ジイソブチルケトン等のケトン系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル等のエステル系溶媒、テトラヒドロフラン、ジオキサン、１，３−ジオキソラン等のエーテル系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒の中でも、芳香族溶媒と非芳香族溶媒の混合物が好ましく、特にトルエンとメチルエチルケトンの混合物が好ましい。
【００３３】
本発明の光学補償膜は、該マレイミド系樹脂と可塑剤からなる塗工膜であり、特に光学補償膜として用いる際の光学補償機能に優れたものである。そして高分子よりなるフィルムを光学補償フィルムとして用いる場合、一般的にフィルムの３次元屈折率の制御をフィルムの延伸などにより行うが、該延伸工程には製造工程や品質の管理が複雑になったりする等の課題を有する。それに反し、本発明の光学補償膜は、マレイミド系樹脂と可塑剤からなる塗工膜であって、塗工膜の面内で直交する任意の２軸をｘ軸、ｙ軸とし、面外方向をｚ軸とし、ｘ軸方向の屈折率をｎｘ、ｙ軸方向の屈折率をｎｙ（ｎｘ、ｎｙが異なる場合、最も小さい屈折率をｎｘとする）、ｚ軸方向の屈折率をｎｚとした際の３次元屈折率関係がｎｘ≒ｎｙ＞ｎｚであることを特徴とする光学補償膜であり、未延伸で膜の厚み方向の屈折率が小さくなるという特異な挙動を示すことを見出している。
【００３４】
また、本発明の光学補償膜の面外位相差量（Ｒｔｈ）は、該マレイミド系樹脂と可塑剤からなる塗工膜の厚みにより容易に制御することが可能であり、位相差フィルムとしての適応が期待できる光学補償膜となることから、測定波長５８９ｎｍの光で測定した際の下記式（２）で示される面外位相差量（Ｒｔｈ）が３０〜２０００ｎｍの範囲にあることが好ましく、さらに液晶表示素子の視野角改善効果に優れた光学補償膜となることから５０〜１０００ｎｍが好ましく、特に８０〜５００ｎｍが好ましい。
Ｒｔｈ＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ）×ｄ                  （２）
（ここで、ｄは光学補償膜の膜厚（ｎｍ）を示す。）
本発明の光学補償膜は、液晶表示素子に用いた際に色ずれの小さい液晶表示素子となることから位相差量の波長依存性が小さいものであることが好ましく、特に塗工膜を４０度傾斜させ測定波長４５０ｎｍの光で測定した位相差量（Ｒ４５０）と測定波長５８９ｎｍの光で測定した位相差量（Ｒ５８９）の比で示される位相差量の波長依存性（Ｒ４５０／Ｒ５８９）が１．１以下が好ましく、特に１．０８以下であること好ましい。
【００３５】
本発明の光学補償膜は、液晶表示素子に用いた際に画質の特性が良好なものとなることから、ＪＩＳ  Ｋ  ７３６１−１（１９９７年版）を準拠し測定した光学補償膜の光線透過率が８５％以上であることが好ましく、特に９０％以上であることが好ましい。また、ＪＩＳ  Ｋ  ７１３６（２０００年版）を準拠し測定した光学補償膜のヘーズ（曇り度）が２％以下であることが好ましく、特に１％以下であることが好ましい。
【００３６】
本発明の光学補償膜が、伸度等の機械的特性に優れたものであり、具体的には最大点伸度が３〜２５％であることが好ましく、特に５〜２０％であることが好ましい。また、最大点応力が３０〜２００ＭＰａであることが好ましく、特に４０〜１６０ＭＰａであることが好ましい。
【００３７】
本発明の光学補償膜は、液晶表示素子に用いた際の品質の安定性から耐熱性が高いものであることが好ましく、ガラス転移温度が１００℃以上であるものが好ましく、特に１２０℃以上であるものが好ましく、更に１３５℃以上であるものが好ましい。
【００３８】
本発明の光学補償膜は、マレイミド系樹脂と可塑剤からなる塗工膜からなることを特徴とし、好ましい製造方法として、ガラス基板；トリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）などのフィルム；等の基材にマレイミド系樹脂と可塑剤からなる溶液を塗工し乾燥することにより製造する方法が挙げられ、マレイミド系樹脂としては特に前記一般式（１）で示されるマレイミド系残基単位よりなるマレイミド系樹脂であることが好ましい。塗工方法は、マレイミド系樹脂と可塑剤を溶媒に溶解した溶液をガラス基板、あるいはフィルム上に塗工後、加熱等により溶媒を除去する方法である。その際の塗工方法としては、例えばドクターブレード法、バーコーター法、グラビアコーター法、スロットダイコーター法、リップコーター法、コンマコーター法等が用いられる。工業的には薄膜塗工はグラビアコーター法、厚膜塗工はコンマコーター法が一般的である。使用する溶剤については特に制限はなく、例えばトルエン、キシレン、クロロベンゼン、ニトロベンゼン等の芳香族系溶剤；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤；ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、メチル−ｔ−ブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶剤；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸−ｎ−プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等の酢酸エステル系溶剤；四塩化炭素、クロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエタン、トリクロロエタン等の塩素系溶剤；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド系溶剤；Ｎ−メチルピロリドン等が挙げられ、これらは２種類以上組み合わせて用いることが出来る。溶液塗工においては、より容易に高い透明性を有し、且つ厚み精度、表面平滑性に優れた光学補償膜が得られることから、溶液粘度１０〜１００００ｃｐｓとすることが好ましく、特に１０〜５０００ｃｐｓをすることが好ましい。
【００３９】
この際のマレイミド系樹脂と可塑剤からなる膜の塗工厚は、塗工膜の厚み方向の位相差量により決められ、その中でも優れた表面平滑性、視野角改良効果を有する光学補償膜が得られることから、乾燥後１〜２００μｍが好ましく、さらに好ましくは５〜１００μｍ、特に好ましくは１０〜５０μｍである。
【００４０】
本発明の光学補償膜は、基材から剥離し用いることもできるし、基材との積層体としても用いることもできる。
【００４１】
本発明の光学補償膜は、偏光板と積層して用いることもできる。
【００４２】
また、本発明の光学補償膜は熱安定性を高めるために酸化防止剤が配合されていても良い。該酸化防止剤としては、例えばヒンダードフェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、その他酸化防止剤が挙げられ、これら酸化防止剤はそれぞれ単独又は併用して用いても良い。そして、相乗的に酸化防止作用が向上することからヒンダードフェノール系酸化防止剤とリン系酸化防止剤を併用して用いることが好ましく、その際には例えばヒンダードフェノール系酸化防止剤１００重量部に対してリン系酸化防止剤を１００〜５００重量部で混合して使用することが特に好ましい。また、酸化防止剤の添加量としては、本発明の光学補償膜を構成するマレイミド系樹脂１００重量部に対して０．０１〜１０重量部が好ましく、特に０．５〜１重量部の範囲であることが好ましい。
【００４３】
さらに、紫外線吸収剤として、例えばベンゾトリアゾール、ベンゾフェノン、トリアジン、ベンゾエートなどの紫外線吸収剤を必要に応じて配合していてもよい。
【００４４】
本発明の光学補償膜は、発明の主旨を越えない範囲で、その他ポリマー、界面活性剤、高分子電解質、導電性錯体、無機フィラー、顔料、染料、帯電防止剤、アンチブロッキング剤、滑剤等が配合されたものであってもよい。
【発明の効果】
【００４５】
本発明の光学補償膜は、塗工するだけで光学補償機能を発現するマレイミド系樹脂と可塑剤からなるものであり、その光学補償機能の制御も容易であることから液晶表示素子、特にＶＡ−モードの液晶テレビのコントラストや視角特性の改良に有効な光学補償膜として有用なものである。
【実施例】
【００４６】
以下に本発明を実施例により詳細に説明するが、本発明はこれら実施例によりなんら制限されるものではない。
【００４７】
〜数平均分子量（Ｍｎ）及び重量平均分子量（Ｍｗ）の測定〜
ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー（ＧＰＣ）（東ソー株式会社製、商品名ＨＬＣ−８０２Ａ）を用い、ジメチルホルムアミドを溶剤とし標準ポリスチレン換算値として求めた。
【００４８】
〜ガラス転移温度の測定〜
示差走査型熱量計（セイコー電子工業（株）製、商品名ＤＳＣ２０００）を用い、１０℃／ｍｉｎ．の昇温速度にて測定した。
【００４９】
〜光線透過率の測定〜
透明性の一評価として、ＪＩＳ  Ｋ  ７３６１−１（１９９７年版）に準拠して光線透過率の測定を行った。
【００５０】
〜ヘーズの測定〜
透明性の一評価として、ＪＩＳ  Ｋ  ７１３６（２０００年版）に準拠してヘーズの測定を行った。
【００５１】
〜屈折率の測定〜
ＪＩＳ  Ｋ  ７１４２（１９８１年版）に準拠してアッベ屈折率計（アタゴ製）を用いて測定した。
【００５２】
〜３次元屈折率の計算〜
試料傾斜型自動複屈折計（王子計測機器（株）製、商品名ＫＯＢＲＡ−ＷＲ）を用いて仰角を変えて測定波長５８９ｎｍの光で３次元屈折率を測定した。さらに、３次元屈折率より面外位相差量（Ｒｔｈ）を算出した。
【００５３】
位相差量の波長依存性（Ｒ４５０／Ｒ５８９）は、塗工膜を４０度傾斜させ測定波長４５０ｎｍの光で測定した位相差量（Ｒ４５０）と測定波長５８９ｎｍの光で測定した位相差量（Ｒ５８９）の比で示した。
【００５４】
〜フィルム強度の測定〜
１０ｍｍ×１００ｍｍ（ＳＳＫ１８７４−１）に打ち抜いた試験片を、テンシロン型引張試験器（株式会社オリエンテック製、商品名ＵＴＭ−２．５Ｔ）にて速度５ｍｍ／ｍｉｎで引張り、最大点伸度及び最大点応力を求めた。
【００５５】
合成例１（Ｎ−ｎ−ブチルマレイミド重合体樹脂の製造例）
ガラス封管中に、Ｎ−ｎ−ブチルマレイミド３２．４ｇ、重合開始剤としてジメチル−２，２’−アゾビスイソブチレート０．０５４ｇを仕込み、窒素置換後、重合温度６０℃、重合時間５時間の条件にてラジカル重合反応を行なった。反応後、クロロホルムを加えポリマー溶液とした後に、過剰のメタノールと混合することにより重合体を析出させた。得られた重合体を濾過後、メタノールで十分洗浄し８０℃にて乾燥し２０ｇのＮ−ｎ−ブチルマレイミド重合体樹脂を得た。得られたＮ−ｎ−ブチルマレイミド重合体樹脂の数平均分子量は１２００００であった。
【００５６】
合成例２（Ｎ−ｎ−ヘキシルマレイミド重合体樹脂の製造例）
ガラス封管中に、Ｎ−ｎ−ヘキシルマレイミド４０ｇ、重合開始剤として、ジメチル−２，２’−アゾビスイソブチレート０．０５ｇを仕込み、窒素置換後、重合温度６０℃、重合時間５時間の条件にてラジカル重合反応を行なった。反応後、クロロホルムを加えポリマー溶液とした後に、過剰のメタノールと混合することにより重合体を析出させた。得られた重合体を濾過後、メタノールで十分洗浄し８０℃にて乾燥し３２ｇのＮ−ｎ−ヘキシルマレイミド重合体樹脂を得た。得られたＮ−ｎ−ヘキシルマレイミド重合体樹脂の数平均分子量は１６００００であった。
【００５７】
合成例３（Ｎ−ｎ−オクチルマレイミド重合体樹脂の製造例）
ガラス封管中に、Ｎ−ｎ−オクチルマレイミド２８ｇ、重合開始剤として、ジメチル−２，２’−アゾビスイソブチレート０．０３２ｇを仕込み、窒素置換後、重合温度６０℃、重合時間５時間の条件にてラジカル重合反応を行なった。反応後、クロロホルムを加えポリマー溶液とした後に、過剰のメタノールと混合することにより重合体を析出させた。得られた重合体を濾過後、メタノールで十分洗浄し８０℃にて乾燥し１５ｇのＮ−ｎ−オクチルマレイミド重合体樹脂を得た。得られたＮ−ｎ−オクチルマレイミド重合体樹脂の数平均分子量は２７００００であった。
【００５８】
合成例４（Ｎ−ｎ−オクチルマレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂の製造例１）
ガラス封管中に、Ｎ−ｎ−オクチルマレイミド２６ｇ、無水マレイン酸２．４ｇ、重合開始剤として、ジメチル−２，２’−アゾビスイソブチレート０．０３６ｇを仕込み、窒素置換後、重合温度６０℃、重合時間５時間の条件にてラジカル重合反応を行なった。反応後、クロロホルムを加えポリマー溶液とした後に、過剰のメタノールと混合することにより重合体を析出させた。得られた重合体を濾過後、メタノールで十分洗浄し８０℃にて乾燥し１９ｇのＮ−ｎ−オクチルマレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂を得た。得られたＮ−ｎ−オクチルマレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂は、無水マレイン酸残基を２０重量％含有するものであり、数平均分子量は１２００００であった。
【００５９】
合成例５（Ｎ−ｎ−オクチルマレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂の製造例２）
ガラス封管中に、Ｎ−ｎ−オクチルマレイミド２６ｇ、無水マレイン酸４．８ｇ、重合開始剤として、ジメチル−２，２’−アゾビスイソブチレート０．０４ｇを仕込み、窒素置換後、重合温度６０℃、重合時間５時間の条件にてラジカル重合反応を行なった。反応後、クロロホルムを加えポリマー溶液とした後に、過剰のメタノールと混合することにより重合体を析出させた。得られた重合体を濾過後、メタノールで十分洗浄し８０℃にて乾燥し１８ｇのＮ−ｎ−オクチルマレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂を得た。得られたＮ−ｎ−オクチルマレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂は、無水マレイン酸残基単位を４０重量％含有するものであり、数平均分子量は１４００００であった。
【００６０】
実施例１
合成例１で得られたＮ−ｎ−ブチルマレイミド重合体樹脂をトルエン５０重量％とエチルメチルケトン５０重量％からなる溶剤に溶解し１２％溶液とし、さらにＮ−ｎ−ブチルマレイミド重合体樹脂１００重量部に対し、可塑剤としてトリクレジルホスフェート５重量部を添加した後、コーターにより厚み８０μｍのトリアセチルセルロース製フィルム（以下、ＴＡＣフィルムと記す。）上に塗工し、室温で２４時間乾燥し幅５０ｍｍ、厚み２０μｍの塗工膜とＴＡＣフィルムとの積層体を得た。
【００６１】
得られた積層体のガラス転移温度は１７８℃、光線透過率９１．７％、ヘーズ０．６％であり、３次元屈折率はｎｘ＝１．４９３７４、ｎｙ＝１．４９３７４、ｎｚ＝１．４９２１８、Ｒｔｈは１５５．８ｎｍ、位相差量の波長依存性を示すＲ４５０／Ｒ５８９は１．０６であった。また、得られた積層体の最大点伸度は１５．３％、最大点応力は１１２ＭＰａであった。
【００６２】
これらの結果、得られた積層体は、ｎｘ＝ｎｙ＞ｎｚであり、波長依存性が小さいことから光学補償膜としての機能を有するものであり、さらに伸度に優れたものであった。
【００６３】
実施例２
トリクレジルホスフェートの添加量を１０重量部とした以外は、実施例１と同様の方法により幅５０ｍｍ、厚み２０μｍの塗工膜とＴＡＣフィルムとの積層体を得た。
【００６４】
得られた積層体のガラス転移温度は１７７℃、光線透過率９１．８％、ヘーズ０．７％であり、３次元屈折率はｎｘ＝１．４９３５９、ｎｙ＝１．４９３６０、ｎｚ＝１．４９２００、Ｒｔｈは１５９．５ｎｍ、位相差量の波長依存性を示すＲ４５０／Ｒ５８９は１．０６であった。また、得られた積層体の最大点伸度は１４．８％、最大点応力は１１７ＭＰａであった。
【００６５】
これらの結果、得られた積層体は、ｎｘ≒ｎｙ＞ｎｚであり、波長依存性が小さいことから光学補償膜としての機能を有するものであり、さらに伸度に優れたものであった。
【００６６】
実施例３
可塑剤をトリ（２−エチルヘキシル）ホスフェートに変更した以外は、実施例１と同様の方法により幅５０ｍｍ、厚み２０μｍの塗工膜とＴＡＣフィルムとの積層体を得た。
【００６７】
得られた積層体のガラス転移温度は１７９℃、光線透過率９２．３％、ヘーズ０．６％であり、３次元屈折率はｎｘ＝１．４９３４１、ｎｙ＝１．４９３４１、ｎｚ＝１．４９１８９、Ｒｔｈは１５２．０ｎｍ、位相差量の波長依存性を示すＲ４５０／Ｒ５８９は１．０６であった。また、得られた積層体の最大点伸度は１５．１％、最大点応力は１１７ＭＰａであった。
【００６８】
これらの結果、得られた積層体は、ｎｘ＝ｎｙ＞ｎｚであり、波長依存性が小さいことから光学補償膜としての機能を有するものであり、さらに伸度に優れたものであった。
【００６９】
実施例４
可塑剤をトリキシレニルホスフェートに変更した以外は、実施例１と同様の方法により幅５０ｍｍ、厚み２０μｍの塗工膜とＴＡＣフィルムとの積層体を得た。
【００７０】
得られた積層体のガラス転移温度は１７８℃、光線透過率９２．５％、ヘーズ０．７％であり、３次元屈折率はｎｘ＝１．４９３４０、ｎｙ＝１．４９３４０、ｎｚ＝１．４９１８２、Ｒｔｈは１５７．９ｎｍ、位相差量の波長依存性を示すＲ４５０／Ｒ５８９は１．０６であった。また、得られた積層体の最大点伸度は１４．５％、最大点応力は１２１ＭＰａであった。
【００７１】
これらの結果、得られた積層体は、ｎｘ＝ｎｙ＞ｎｚであり、波長依存性が小さいことから光学補償膜としての機能を有するものであり、さらに伸度に優れたものであった。
【００７２】
実施例５
可塑剤をビスフェノールＡビス（ジフェニルホスフェート）に変更した以外は、実施例１と同様の方法により幅５０ｍｍ、厚み２０μｍの塗工膜とＴＡＣフィルムとの積層体を得た。
【００７３】
得られた積層体のガラス転移温度は１８０℃、光線透過率９２．１％、ヘーズ０．７％であり、３次元屈折率はｎｘ＝１．４９３８３、ｎｙ＝１．４９３８３、ｎｚ＝１．４９２２９、Ｒｔｈは１５３．５ｎｍ、位相差量の波長依存性を示すＲ４５０／Ｒ５８９は１．０６であった。また、得られた積層体の最大点伸度は１５．２％、最大点応力は１１６ＭＰａであった。
【００７４】
これらの結果、得られた積層体は、ｎｘ＝ｎｙ＞ｎｚであり、波長依存性が小さいことから光学補償膜としての機能を有するものであり、さらに伸度に優れたものであった。
【００７５】
実施例６
可塑剤をトリブチルトリメリテートに変更した以外は、実施例１と同様の方法により幅５０ｍｍ、厚み２０μｍの塗工膜とＴＡＣフィルムとの積層体を得た。
【００７６】
得られた積層体のガラス転移温度は１７９℃、光線透過率９１．６％、ヘーズ０．６％であり、３次元屈折率はｎｘ＝１．４９４１３、ｎｙ＝１．４９４１３、ｎｚ＝１．４９２５７、Ｒｔｈは１５６．２ｎｍ、位相差量の波長依存性を示すＲ４５０／Ｒ５８９は１．０５であった。また、得られた積層体の最大点伸度は１４．５％、最大点応力は１１３ＭＰａであった。
【００７７】
これらの結果、得られた積層体は、ｎｘ＝ｎｙ＞ｎｚであり、波長依存性が小さいことから光学補償膜としての機能を有するものであり、さらに伸度に優れたものであった。
【００７８】
実施例７
可塑剤をトリ（２−エチルヘキシル）トリメリテートに変更した以外は、実施例１と同様の方法により幅５０ｍｍ、厚み２０μｍの塗工膜とＴＡＣフィルムとの積層体を得た。
【００７９】
得られた積層体のガラス転移温度は１７８℃、光線透過率９１．９％、ヘーズ０．６％であり、３次元屈折率はｎｘ＝１．４９３０６、ｎｙ＝１．４９３０６、ｎｚ＝１．４９１５１、Ｒｔｈは１５４．８ｎｍ、位相差量の波長依存性を示すＲ４５０／Ｒ５８９は１．０６であった。また、得られた積層体の最大点伸度は１５．３％、最大点応力は１２０ＭＰａであった。
【００８０】
これらの結果、得られた積層体は、ｎｘ＝ｎｙ＞ｎｚであり、波長依存性が小さいことから光学補償膜としての機能を有するものであり、さらに伸度に優れたものであった。
【００８１】
実施例８
可塑剤をトリ（２−エチルヘキシル）ピロメリテートに変更した以外は、実施例１と同様の方法により幅５０ｍｍ、厚み２０μｍの塗工膜とＴＡＣフィルムとの積層体を得た。
【００８２】
得られた積層体のガラス転移温度は１８１℃、光線透過率９１．６％、ヘーズ０．６％であり、３次元屈折率はｎｘ＝１．４９４２１、ｎｙ＝１．４９４２１、ｎｚ＝１．４９２６５、Ｒｔｈは１５６．０ｎｍ、位相差量の波長依存性を示すＲ４５０／Ｒ５８９は１．０６であった。また、得られた積層体の最大点伸度は１５．０％、最大点応力は１１０ＭＰａであった。
【００８３】
これらの結果、得られた積層体は、ｎｘ＝ｎｙ＞ｎｚであり、波長依存性が小さいことから光学補償膜としての機能を有するものであり、さらに伸度に優れたものであった。
【００８４】
実施例９
合成例２で得られたＮ−ｎ−ヘキシルマレイミド重合体樹脂をトルエン５０重量％とエチルメチルケトン５０重量％からなる溶剤に溶解し１５％溶液とし、さらにＮ−ｎ−ヘキシルマレイミド重合体樹脂１００重量部に対し、可塑剤としてトリクレジルホスフェート５重量部を添加した後、コーターにより厚み８０μｍのＴＡＣフィルム上に塗工し、室温で２４時間乾燥し幅５０ｍｍ、厚み２０μｍの塗工膜とＴＡＣフィルムとの積層体を得た。
【００８５】
得られた積層体のガラス転移温度は１７８℃、光線透過率９１．８％、ヘーズ０．７％であり、３次元屈折率はｎｘ＝１．４９５５２、ｎｙ＝１．４９５５２、ｎｚ＝１．４９４４１、Ｒｔｈは１１０．８ｎｍ、位相差量の波長依存性を示すＲ４５０／Ｒ５８９は１．０６であった。また、得られた積層体の最大点伸度は１６．３％、最大点応力は１１０ＭＰａであった。
【００８６】
これらの結果、得られた積層体は、ｎｘ＝ｎｙ＞ｎｚであり、波長依存性が小さいことから光学補償膜としての機能を有するものであり、さらに伸度に優れたものであった。
【００８７】
実施例１０
合成例３で得られたＮ−ｎ−オクチルマレイミド重合体樹脂をトルエン５０重量％とエチルメチルケトン５０重量％からなる溶剤に溶解し１６％溶液とし、さらにＮ−ｎ−オクチルマレイミド重合体樹脂１００重量部に対し、可塑剤としてトリクレジルホスフェート５重量部を添加した後、コーターにより厚み８０μｍのＴＡＣフィルム上に塗工し、室温で２４時間乾燥し幅５０ｍｍ、厚み２０μｍの塗工膜とＴＡＣフィルムとの積層体を得た。
【００８８】
得られた積層体のガラス転移温度は１７７℃、光線透過率９２．８％、ヘーズ０．９％であり、３次元屈折率はｎｘ＝１．４９３３０、ｎｙ＝１．４９３３０、ｎｚ＝１．４９２４９、Ｒｔｈは８１．１ｎｍ、位相差量の波長依存性を示すＲ４５０／Ｒ５８９は１．０５であった。また、得られた積層体の最大点伸度は１４．９％、最大点応力は１１８ＭＰａであった。
【００８９】
これらの結果、得られた積層体は、ｎｘ＝ｎｙ＞ｎｚであり、波長依存性が小さいことから光学補償膜としての機能を有するものであり、さらに伸度に優れたものであった。
【００９０】
実施例１１
合成例４で得られたＮ−ｎ−オクチルマレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂をトルエン５０重量％とエチルメチルケトン５０重量％からなる溶剤に溶解し１６％溶液とし、さらにＮ−ｎ−オクチルマレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂１００重量部に対し、可塑剤としてトリクレジルホスフェート５重量部を添加した後、コーターにより厚み８０μｍのＴＡＣフィルム上に塗工し、室温で２４時間乾燥し幅５０ｍｍ、厚み２０μｍの塗工膜とＴＡＣフィルムとの積層体を得た。
【００９１】
得られた積層体のガラス転移温度は１７８℃、光線透過率９２．２％、ヘーズ０．８％であり、３次元屈折率はｎｘ＝１．４９２４５、ｎｙ＝１．４９２４５、ｎｚ＝１．４９１５６、Ｒｔｈは８９．５ｎｍ、位相差量の波長依存性を示すＲ４５０／Ｒ５８９は１．０５であった。また、得られた積層体の最大点伸度は１４．７％、最大点応力は１１１ＭＰａであった。
【００９２】
これらの結果、得られた積層体は、ｎｘ＝ｎｙ＞ｎｚであり、波長依存性が小さいことから光学補償膜としての機能を有するものであり、さらに伸度に優れたものであった。
【００９３】
実施例１２
合成例５で得られたＮ−ｎ−オクチルマレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂をトルエン５０重量％とエチルメチルケトン５０重量％からなる溶剤に溶解し１６％溶液とし、さらにＮ−ｎ−オクチルマレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂１００重量部に対し、可塑剤としてトリクレジルホスフェート５重量部を添加した後、コーターにより厚み８０μｍのＴＡＣフィルム上に塗工し、室温で２４時間乾燥し幅５０ｍｍ、厚み２０μｍの塗工膜とＴＡＣフィルムとの積層体を得た。
【００９４】
得られた積層体のガラス転移温度は１７９℃、光線透過率９２．０％、ヘーズ０．９％であり、３次元屈折率はｎｘ＝１．４９２４９、ｎｙ＝１．４９２４９、ｎｚ＝１．４９１５９、Ｒｔｈは９０．４ｎｍ、位相差量の波長依存性を示すＲ４５０／Ｒ５８９は１．０５であった。また、得られた積層体の最大点伸度は１５．４％、最大点応力は１１４ＭＰａであった。
【００９５】
これらの結果、得られた積層体は、ｎｘ＝ｎｙ＞ｎｚであり、波長依存性が小さいことから光学補償膜としての機能を有するものであり、さらに伸度に優れたものであった。
【００９６】
比較例１
１リットルオートクレーブ中に重合溶媒としてトルエン４００ｍｌ、重合開始剤としてパーブチルネオデカノエート０．００１モル、Ｎ−（２，６−ジエチルフェニル）マレイミド０．４２モル、イソブテン４．０５モルを仕込み、重合温度６０℃、重合時間５時間で重合反応を行い、Ｎ−（２，６−ジエチルフェニル）マレイミド−イソブテン交互共重合体を得た。得られたＮ−（２，６−ジエチルフェニル）マレイミド−イソブテン交互共重合体は、重量平均分子量（Ｍｗ）＝１７０，０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝２．６を有するものであった。
【００９７】
得られたＮ−（２，６−ジエチルフェニル）マレイミド−イソブテン交互共重合体２０重量％と塩化メチレン８０重量％からなる溶液を調整し、さらにＮ−（２，６−ジエチルフェニル）マレイミド−イソブテン交互共重合体１００重量部に対し、可塑剤としてトリクレジルホスフェート５重量部を添加した溶液をＰＥＴフィルム上に塗工し、溶液から塩化メチレンが揮発・固化した後に形成されるＮ−（２，６−ジエチルフェニル）マレイミド−イソブテン交互共重合体フィルムを剥離した。剥離後のフィルムを更に１００℃にて４時間、１２０℃から１６０℃にかけて１０℃間隔にてそれぞれ１時間乾燥し、その後、真空乾燥機にて１８０℃で４時間乾燥して約１００μｍの厚さを有するフィルムを得た。（得られたフィルムの３次元屈折率はｎｘ＝１．５４００、ｎｙ＝１．５４００、ｎｚ＝１．５４００でｎｘ＝ｎｙ＝ｎｚ）。また、得られたフィルムのガラス転移温度は１３５℃、最大点伸度は８．８％、最大点応力は１３２ＭＰａであった。
【００９８】
該フィルムから５ｃｍ×５ｃｍの小片を切り出し、二軸延伸装置（柴山科学機械製）を用いて、温度２２０℃、延伸速度１５ｍｍ／ｍｉｎ．の条件にて自由幅一軸延伸を施し＋５０％延伸することにより、延伸フィルムを得た。得られた延伸フィルムの３次元屈折率はｎｘ＝１．５３９１６、ｎｙ＝１．５４０５０、ｎｚ＝１．５４０５０、Ｒｔｈは−６７．０ｎｍでｎｘ＜ｎｙ＝ｎｚであった。
【００９９】
よって、塗工だけでは光学補償機能を有する光学補償膜が得られない。