(57)【要約】【課題】環境に優しく、耐酸性、および耐エッチング性が高く、剥離液またはエッチング液による変色が抑えられ、電極との反応が抑制されて電極を形成する導電性金属のマイグレーションによる変色が最大限に抑制される、プラズマディスプレイパネルを提供する。【解決手段】互いに対向配置された第１基板および第２基板と、前記第１基板の一面に配置された複数のアドレス電極と、前記第１基板上に前記アドレス電極を覆って形成された下部誘電体層と、前記第２基板の一面に前記アドレス電極と交差する方向に配置された複数の表示電極と、前記第１基板と前記第２基板との間の放電空間に配置された赤色蛍光体層、緑色蛍光体層、および青色蛍光体層と、を含み、前記下部誘電体層は、鉛含有率０．１質量％以下の無鉛マザーガラスと、ＣｏＯ、ＣｕＯ、ＭｎＯ２、Ｃｒ２Ｏ３、およびＦｅ２Ｏ３からなる群より選択される１以上の金属酸化物添加剤とを含むことを特徴とする、プラズマディスプレイパネルである。【選択図】図１
2010097921.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに対向配置された第１基板および第２基板と、
前記第１基板の一面に配置された複数のアドレス電極と、
前記第１基板上に前記アドレス電極を覆って形成された下部誘電体層と、
前記第２基板の一面に前記アドレス電極と交差する方向に配置された複数の表示電極と、
前記第１基板と前記第２基板との間の放電空間に配置された赤色蛍光体層、緑色蛍光体層、および青色蛍光体層と、を含み、
前記下部誘電体層は、鉛含有率０．１質量％以下の無鉛マザーガラスと、ＣｏＯ、ＣｕＯ、ＭｎＯ２、Ｃｒ２Ｏ３、およびＦｅ２Ｏ３からなる群より選択される１以上の金属酸化物添加剤とを含むことを特徴とする、プラズマディスプレイパネル。
【請求項２】
前記無鉛マザーガラスは、ＺｎＯ系無鉛マザーガラスまたはＢｉ２Ｏ３系無鉛マザーガラスである、請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項３】
前記下部誘電体層は、前記Ｂｉ２Ｏ３系無鉛マザーガラスを含み、前記Ｂｉ２Ｏ３系無鉛マザーガラス１００質量部に対して前記金属酸化物添加剤を０．０１〜１．５質量部含む、請求項２に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項４】
前記下部誘電体層は、前記ＺｎＯ系無鉛マザーガラスを含み、前記ＺｎＯ系無鉛マザーガラス１００質量部に対して前記金属酸化物添加剤を０．０１〜１．５質量部含む、請求項２に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項５】
前記下部誘電体層は、アルカリ金属酸化物をさらに含む、請求項１〜４のいずれか１項に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項６】
前記アルカリ金属酸化物は、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、およびＣｓからなる群より選択される１以上である、請求項５に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項７】
前記下部誘電体層は、前記ＺｎＯ系無鉛マザーガラス１００質量部に対して前記アルカリ金属酸化物を２〜７質量部含む、請求項５または６に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項８】
前記金属酸化物添加剤は、前記下部誘電体層の全質量に対して１．５質量％以下の量で含まれる、請求項１〜７のいずれか１項に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項９】
前記金属酸化物添加剤は、前記下部誘電体層の全質量に対して０．１〜１．１質量％の量で含まれる、請求項８に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１０】
前記下部誘電体層は、金属酸化物添加剤としてＣｕＯ、およびＣｏＯを１：０．１〜３（ＣｕＯ：ＣｏＯ）の質量比で含む、請求項１〜９のいずれか１項に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１１】
前記下部誘電体層は、金属酸化物添加剤としてＣｕＯ、ＣｏＯ、およびＭｎＯ２を１：０．１〜３：０．０５〜１（ＣｕＯ：ＣｏＯ：ＭｎＯ２）の質量比で含む、請求項１〜１０のいずれか１項に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１２】
前記金属酸化物添加剤の平均粒子径は０．５〜２．５μｍである、請求項１〜１１のいずれか１項に記載のプラズマディスプレイパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はプラズマディスプレイパネルに関し、より詳しくは酸化鉛（ＰｂＯ）を含んでいないため環境に優しく、耐酸性および耐エッチング性が高く、剥離液またはエッチング液によって変色されず、電極との反応が抑制されて電極を形成する導電性金属のマイグレーションによって変色されないプラズマディスプレイパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
一般にプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）は、気体放電で生成された紫外線で蛍光体を励起させて所定の映像を表示する表示装置であって、高解像度の大画面構成が可能な次世代薄形表示装置として脚光を浴びている。
【０００３】
一般のプラズマディスプレイパネルの構造は、背面基板上に一方向にアドレス電極が形成され、このアドレス電極を覆ように下部誘電体層が形成される。この下部誘電体層上に各アドレス電極の間に配置されるように帯状パターンの隔壁が形成されて、各々の隔壁の間に赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の蛍光体層が形成される。
【０００４】
そして、前面基板の一面にはアドレス電極と交差する方向に沿って一対の透明電極とバス電極で構成される表示電極が形成され、この表示電極を覆うように前面基板に上部誘電体層とＭｇＯ保護層が形成される。前記背面基板上のアドレス電極と前面基板上の表示電極が交差する地点が放電セルを構成する部分となる。
【０００５】
前記プラズマディスプレイパネルは、アドレス電極と表示電極との間にアドレス電圧（Ｖａ）を印加してアドレス放電を行って、再び一対の表示電極の間に維持電圧（Ｖｓ）を印加して維持放電させて駆動する。この時に発生する励起源が当該蛍光体を励起させて透明な前面基板を通過して可視光を放出しながらプラズマディスプレイパネルの画面を表示する。前記励起源としては、真空紫外線が主に利用される。前記蛍光体層は赤色、緑色、および青色蛍光体を使って形成され、各々の蛍光体はＸｅイオンの共鳴放射光（１４７ｎｍ真空紫外線）により可視光を発生する。
【０００６】
有害物質使用禁止指針（ＲｏＨＳ）施行を控えて、すべての電機電子製品は６大有害物質を用いることが禁じられる。そのため、プラズマディスプレイパネルにおいても現在まで使ってきた酸化鉛（ＰｂＯ）を用いる代わりに新たな材料を開発しなければならない。現在ＰｂＯを代替するために最も活発に研究され、適用できる材料としてはＢｉ２Ｏ３系およびＺｎＯ系の材料が挙げられる。なお、ＲｏＨＳ関連規制では、はんだの鉛（Ｐｂ）含有率を０．１質量％以下としており、ガラスに関する目安になる。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
下板の反射層として用いられる下部誘電体層は、隔壁の形成工法に応じて材料の組成が設計されなければならない。つまり、隔壁の形成工法が研磨材を利用したサンドブラスト法であれば隔壁のサンドブラスト法に適した下部誘電体材料を設計して使用しなければならず、隔壁の形成工法がエッチング法であればエッチング法に適した下部誘電体材料を設計して使用しなければならない。
【０００８】
しかしながら、Ｂｉ２Ｏ３系無鉛下部誘電体材料は耐エッチング性に優れているが、原材料の価格が非常に高いため、サンドブラスト法を使用する場合には下部誘電体材料としてＺｎＯ系無鉛下部誘電体材料を用いるのが望ましい。
【０００９】
前記ＺｎＯ系無鉛下部誘電体材料の場合、ＺｎＯ材料の特性上融点が高いため、焼結温度が高く、焼成されにくい問題点がある。このような問題を解決するために、融点が低いアルカリ金属酸化物を添加するが、前記アルカリ金属酸化物は電極との反応性が高くて、電極のマイグレーション（ｍｉｇｒａｔｉｏｎ）による黄変現象が生じる問題がある。
【００１０】
一方、エッチング法を使用する場合、ＺｎＯ系無鉛下部誘電体材料は材料自体が耐酸性が弱くて、エッチング液に非常に弱いため、隔壁エッチング時に下部誘電体層までエッチングされる問題がある。従って、エッチング法においては無鉛下誘電体材料としてＢｉ２Ｏ３系を用いるのが望ましい。ただし、前記Ｂｉ２Ｏ３系も剥離液またはエッチング液によって変色される問題がある。
【００１１】
そこで本発明の目的は、酸化鉛（ＰｂＯ）を含まずに環境に優しく、耐酸性、および耐エッチング性が高く、剥離液またはエッチング液による変色が抑えられ、電極との反応が抑制されて電極を形成する導電性金属のマイグレーションによる変色が最小限に抑制されるプラズマディスプレイパネルを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明は、互いに対向配置された第１基板および第２基板と、前記第１基板の一面に配置された複数のアドレス電極と、前記第１基板上に前記アドレス電極を覆って形成された下部誘電体層と、前記第２基板の一面に前記アドレス電極と交差する方向に配置された複数の表示電極と、前記第１基板と前記第２基板との間の放電空間に配置された赤色、緑色、および青色蛍光体層と、を含み、前記下部誘電体層は、鉛含有率０．１質量％以下の無鉛マザーガラスと、ＣｏＯ、ＣｕＯ、ＭｎＯ２、Ｃｒ２Ｏ３、およびＦｅ２Ｏ３からなる群より選択される１以上の金属酸化物添加剤を含む、プラズマディスプレイパネルである。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によるプラズマディスプレイパネルの下部誘電体層は酸化鉛（ＰｂＯ）を含んでいないため環境に優しい。また、前記下部誘電体層は、耐酸性、および耐エッチング性が高く、剥離液またはエッチング液による変色が抑えられる。また、前記下部誘電体層は、電極との反応が抑制されるため電極を形成する導電性金属のマイグレーションによる変色が抑制される。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明の一実施形態によるプラズマディスプレイパネルの分解斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、本発明をより詳細に説明する。
【００１６】
本発明のプラズマディスプレイパネルは、互いに対向配置された第１基板および第２基板と、前記第１基板の一面に配置された複数のアドレス電極と、前記第１基板上に前記アドレス電極を覆って形成された下部誘電体層と、前記第２基板の一面に前記アドレス電極と交差する方向に配置された複数の表示電極と、前記第１基板と前記第２基板との間の放電空間に配置された赤色蛍光体層、緑色蛍光体層、および青色蛍光体層と、を含む。前記下部誘電体層は、鉛含有率０．１質量％以下の無鉛マザーガラスと、ＣｏＯ、ＣｕＯ、ＭｎＯ２、Ｃｒ２Ｏ３、およびＦｅ２Ｏ３から群より選択される1以上の金属酸化物添加剤とを含む。
【００１７】
前記無鉛マザーガラスは、好ましくは、ＺｎＯ系無鉛マザーガラスまたはＢｉ２Ｏ３系無鉛マザーガラスである。すなわち、前記無鉛マザーガラスは、好ましくは、ＺｎＯ、Ｂｉ２Ｏ３またはこれらの組み合わせを含む無鉛マザーガラスである。ＺｎＯ系無鉛マザーガラスは、ＺｎＯを主成分として含み、Ｂｉ２Ｏ３系無鉛マザーガラスは、Ｂｉ２Ｏ３を主成分として含む。有害物質使用禁止指針（ＲｏＨＳ）の施行を控えて、プラズマディスプレイパネルでも現在まで用いられてきた酸化鉛（ＰｂＯ）を代替する材料が活発に研究されている。適用できる材料としてはＢｉ２Ｏ３系無鉛マザーガラスおよびＺｎＯ系無鉛マザーガラスが挙げられる。より具体的には、例えば、酸化亜鉛−酸化ケイ素系（ＺｎＯ−ＳｉＯ２）、酸化亜鉛−酸化ホウ素−酸化ケイ素系（ＺｎＯ−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２）、酸化亜鉛−酸化ホウ素−酸化ケイ素−酸化アルミニウム系（ＺｎＯ−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３）、酸化亜鉛−酸化ホウ素−酸化ケイ素−酸化アルミニウム−酸化バリウム系（ＺｎＯ−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３−ＢａＯ）、酸化ビスマス−酸化ケイ素系（Ｂｉ２Ｏ３−ＳｉＯ２）、酸化ビスマス−酸化ホウ素−酸化ケイ素系（Ｂｉ２Ｏ３−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２）、酸化ビスマス−酸化ホウ素−酸化ケイ素系（Ｂｉ２Ｏ３−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２）、酸化ビスマス−酸化ホウ素−酸化ケイ素−酸化アルミニウム系（Ｂｉ２Ｏ３−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３）、酸化ビスマス−酸化亜鉛−酸化ホウ素−酸化ケイ素系（Ｂｉ２Ｏ３−ＺｎＯ−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２）、酸化ビスマス−酸化亜鉛−酸化ホウ素−酸化ケイ素−酸化アルミニウム系（Ｂｉ２Ｏ３−ＺｎＯ−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３）、酸化ビスマス−酸化ホウ素−酸化ケイ素−酸化アルミニウム−酸化バリウム系（Ｂｉ２Ｏ３−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３−ＢａＯ）、酸化亜鉛−酸化ホウ素−酸化アルミニウム−酸化ケイ素−酸化燐系（ＺｎＯ−Ｂ２Ｏ３−Ａｌ２Ｏ３−ＳｉＯ２−Ｐ２Ｏ５）、および酸化亜鉛−酸化バリウム−酸化ホウ素−酸化ビスマス−酸化ケイ素−酸化アルミニウム−酸化燐系（ＺｎＯ−ＢａＯ−Ｂ２Ｏ３−Ｂｉ２Ｏ３−ＳｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３−Ｐ２Ｏ５）、などが挙げられる。２種類以上の材料を組み合わせて用いてもよい。
【００１８】
エッチング法を使用する場合、ＺｎＯ系無鉛マザーガラスは、材料自体の耐酸性が低く、エッチング液に非常に弱いため、隔壁エッチング時に下部誘電体層までエッチングされる場合がある。従って、エッチング法を用いる場合、下部誘電体材料としてＢｉ２Ｏ３系無鉛マザーガラスを用いることが好ましい。
【００１９】
隔壁をエッチング法を利用して形成する場合、フォトレジストの現像時にアルカリ洗浄液で現像した後、エッチング液でエッチングする際に、隔壁がエッチングされた後、前記エッチング液によって通常は下部誘電体層もエッチングされるが、本発明による下部誘電体層はＢｉ２Ｏ３系の耐エッチング性が強い材料を含むため、エッチングされない。ただし、この過程で硝酸エッチング液（ＨＮＯ３）によって下部誘電体層の表面に水酸基（ＯＨ）が吸着される。
【００２０】
この後、前記フォトレジスト層を除去するための剥離工程に進行する。この際、剥離液として強塩基（アルカリ）を用いる。前記剥離液は前記下部誘電体層の表面に吸着した水酸基と下部誘電体層との間で反応が進行する場合がある。これによって下部誘電体層の表面が変色し、非常に濃い黄色に変色される場合がある。前記現象は、銀（Ａｇ）電極のマイグレーション反応による下部誘電体層の黄変現象と同様、パネルのボディーカラーおよび品質を低下させうる。
【００２１】
上記のＣｏＯ、ＣｕＯ、ＭｎＯ２、Ｃｒ２Ｏ３、およびＦｅ２Ｏ３なる群から選択される１以上の金属酸化物添加剤は、隔壁をエッチング法で形成する場合にもＢｉ２Ｏ３系無鉛マザーガラスを含む下部誘電体層の黄変現象を抑制できる。
【００２２】
前記Ｂｉ２Ｏ３系無鉛マザーガラスは耐エッチング性に優れるが、原材料の価格が非常に高いため、サンドブラスト法を使用する場合にはＺｎＯ系無鉛マザーガラスを用いることが好ましい。
【００２３】
しかしながら、ＺｎＯは融点が高いため、前記ＺｎＯ系無鉛マザーガラスを含む材料は焼結温度が高く、焼成されにくい場合がある。
【００２４】
前記問題を解決するために、融点が低いアルカリ金属酸化物をさらに添加してもよい。前記アルカリ金属酸化物としては、例えば、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、およびＣｓなどのアルカリ金属の酸化物またはこれらの混合物が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００２５】
前記下部誘電体層はＺｎＯ系無鉛マザーガラス１００質量部に対して前記アルカリ金属酸化物を、好ましくは２〜７質量部、より好ましくは３〜６質量部含む。前記アルカリ金属酸化物の含有量が２質量部以上であれば、前記下部誘電体層の焼成温度を十分に低くすることができる。一方、前記アルカリ金属酸化物の含有量が７質量部以下であれば、下部誘電体層の光透過度が維持されうる。前記アルカリ金属酸化物は、これを添加せずに焼成可能であれば、含まなくてもよい。前記アルカリ金属酸化物のようにイオン化エネルギーが小さい成分は電極との反応性が高い。従って、電極を形成する導電性金属のマイグレーション（ｍｉｇｒａｔｉｏｎ）によって下部誘電体層の黄変現象が生じる可能性がある。前記導電性金属のマイグレーションは電極および下部誘電体層を黄色に変色させる視覚的な問題だけでなく、前記マイグレーションが持続する場合には電極どうしを短絡させる機能上の問題を招きうる。
【００２６】
前記問題を解決するために、本発明の下部誘電体層は、前記アルカリ金属酸化物のようにイオン化エネルギーが小さい成分との反応を抑制するための金属酸化物添加剤を含む。すなわち、ＣｏＯ、ＣｕＯ、ＭｎＯ２、Ｃｒ２Ｏ３、およびＦｅ２Ｏ３からなる群より選択される１以上の金属酸化物添加剤は、イオン化エネルギーが小さい成分と導電性金属との反応を抑制して、マイグレーションによる黄変と電極間の短絡を防止できる。
【００２７】
前記金属酸化物添加剤の含有量は、好ましくは、前記下部誘電体層の全質量に対して１．５質量％以下であり、より好ましくは０．１〜１．１質量％である。特に、前記下部誘電体層がＺｎＯ系無鉛マザーガラスを含む場合、前記下部誘電体層はＺｎＯ系無鉛マザーガラス１００質量部に対して前記金属酸化物添加剤を０．０１〜１．５質量部含むことが好ましい。また、前記下部誘電体層がＢｉ２Ｏ３系無鉛マザーガラスを含む場合、前記下部誘電体層はＢｉ２Ｏ３系無鉛マザーガラス１００質量部に対して前記金属酸化物添加剤を０．０１〜１．５質量部含むことが好ましい。前記金属酸化物添加剤の含有量が前記範囲である場合、エッチング液によってＢｉ２Ｏ３系マザーガラスの変色を防止できるだけでなく、ＺｎＯ系無鉛マザーガラスのアルカリ金属酸化物の添加による黄変現象を効果的に防止できるため好ましい。
【００２８】
特に、下部誘電体層に添加される場合、前記下部誘電体層に青色を持たせるＣｏＯ、または緑色を持たせるＣｕＯは下部誘電体層の反射度を向上させるため、プラズマディスプレイパネルの輝度向上にも有利である。この場合、前記ＣｕＯの含有量は前記下部誘電体層の全質量に対して０．０５〜０．５質量％であることが好ましい。
【００２９】
従って、前記下部誘電体層は、好ましくは金属酸化物添加剤として、ＣｕＯおよびＣｏＯを１：０．１〜３（ＣｕＯ：ＣｏＯ）の質量比で含む。前記下部誘電体層が前記ＣｕＯとＣｏＯを前記質量比で含む場合、反射率を向上させてパネルの発光効率をより高めうる。
【００３０】
一方、前記下部誘電体層は、金属酸化物添加剤として、ＣｕＯ、ＣｏＯ、およびＭｎＯ２を１：０．１〜３：０．０５〜１（ＣｕＯ：ＣｏＯ：ＭｎＯ２）の質量比で含むことが好ましい。前記下部誘電体層が前記ＣｕＯ、ＣｏＯ、およびＭｎＯ２を前記質量比で含む場合、パネルの発光効率の低下を最少化して、明室コントラスト比（ＣＲ）を改善できる。
【００３１】
前記金属酸化物添加剤の平均粒子径は０．５〜２．５μｍであることが好ましい。前記金属酸化物添加剤の平均粒子径が前記範囲である場合、ペースト製造時に加工性および下部誘電体層の粗度（ｒｏｕｇｈｎｅｓｓ）を向上させて隔壁層を堅固に形成できる。
【００３２】
以下、図面を参照して本発明の好ましい実施形態をより詳細に説明する。しかし、本発明は、以下の実施形態に制限されない。
【００３３】
図１は本発明の一実施形態によるプラズマディスプレイパネル１００を示した部分分解斜視図である。図１を参照すれば、本発明の一実施形態によるプラズマディスプレイパネル１００の構造は、第１基板３上に一方向（ｙ軸方向）に沿ってアドレス電極１３が形成され、このアドレス電極１３を覆って、第１基板３上に第１誘電体層（下部誘電体層）１５が形成される。前記第１誘電体層１５上に各アドレス電極１３の間に配置されるように隔壁５が形成されて、各々の隔壁５の間に複数の放電セル（７Ｒ、７Ｇ、７Ｂ）が形成される。前記放電セル（７Ｒ、７Ｇ、７Ｂ）内には赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の蛍光体層（８Ｒ、８Ｇ、８Ｂ）が形成される。
【００３４】
前記第１誘電体層１５は下部誘電体層であり、無鉛マザーガラス、好ましくはＺｎＯ、Ｂｉ２Ｏ３またはこれらの組み合わせを含む無鉛マザーガラスを含み、前記下部誘電体層の変色を防止するためにＣｏＯ、ＣｕＯ、ＭｎＯ２、Ｃｒ２Ｏ３、およびＦｅ２Ｏ３からなる群より選択される１以上の金属酸化物添加剤を含む。
【００３５】
前記第１誘電体層１５は、例えば、前記無鉛マザーガラスと前記金属酸化物添加剤とを高分子樹脂および有機溶媒と混合してペーストを調製し、前記ペーストを用いて通常の印刷法によって前記第１基板３上に形成できる。または、前記ペーストを用いてフィルムを作製し、これを前記第１基板３にラミネーティングすることによって形成できる。
【００３６】
前記高分子樹脂はバインダーとして機能する、下部誘電体層形成に用いられる高分子樹脂であればいずれも用いることができる。好ましくは、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、およびセルロース系樹脂などが用いられうる。中でも、エチルセルロース（ＥＣ）、ニトロセルロース（ＮＣ）が好ましい。２種類以上の高分子樹脂を組み合わせて用いてもよい。高分子樹脂の添加量は特に制限されず、公知の知見が参照されうる。
【００３７】
前記有機溶媒は下部誘電体層形成のために用いられる有機溶媒であればいずれも用いることができる。好ましくは、エタノール、トリメチルペンタンジオールモノイソブチレート（ＴＰＭ）、ブチルカルビトール（ＢＣ：ｂｕｔｙｌｃａｒｂｉｔｏｌ）、ブチルセロソルブ（ＢＣ：ｂｕｔｙｌｃｅｌｌｏｓｏｌｖｅ）、ブチルカルビトールアセテート（ＢＣＡ：ｂｕｔｙｌｃａｒｂｉｔｏｌａｃｅｔａｔｅ）、テルピネオール（ＴＰ）、トルエン、テクサノール（ｔｅｘａｎｏｌ）などが用いられうる。２種類以上の有機溶媒を組み合わせて用いてもよい。有機溶媒の添加量は特に制限されず、公知の知見が参照されうる。
【００３８】
また、無鉛マザーガラスを含むペーストの分散力を向上させるために、前記ペーストに分散剤を添加してもよい。分散剤を用いることによって、経時変化によるペースト固形分の沈殿を防止し、均一な粘度を確保して、無鉛ガラスの粉末粒子を効果的にコーティングすることができる。
【００３９】
前記分散剤としては、特に制限されないが、ポリエーテル変性ジメチルポリシロキサン系分散剤が好ましく用いられうる。例えば、ＢＹＫ−３０６、３０７、３０８、３１０、３３０、３３３、３４１、３４４等のＢｙｋ  Ｃｈｅｍｉｅ系分散剤（Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ（登録商標））などが用いられうる。前記分散剤は、２種類以上を組み合わせて用いてもよい。分散剤の添加量は特に制限されず、公知の知見が参照されうる。
【００４０】
前記隔壁５は放電空間を画する形状であればいずれの形状も可能で、多様なパターンの隔壁で形成される。例えば、前記隔壁５は帯状などのような開放型隔壁はもちろん、ワッフル、マトリックス、デルタなどのような閉鎖型隔壁で形成されてもよい。また、前記閉鎖型隔壁は放電空間の横断面が四角形、三角形、五角形などの多角形、または円形、楕円形などでもよい。
【００４１】
そして、第１基板３に対向する第２基板１の一面にはアドレス電極１３と交差する方向（ｘ軸方向）に沿って一対の透明電極（９ａ、１１ａ）とバス電極（９ｂ、１１ｂ）で構成される表示電極９、１１が形成され、この表示電極９、１１を覆って、第２基板１に第２誘電体層１７およびＭｇＯ保護層１９が形成される。
【００４２】
前記第１基板３上のアドレス電極１３と第２基板１上の表示電極９、１１とが交差する部分が放電セルを構成する部分となる。
【００４３】
前記プラズマディスプレイパネル１００はアドレス電極１３と表示電極９、１１との間にアドレス電圧（Ｖａ）を印加して、アドレス放電を行い、再び一対の表示電極９、１１の間に維持電圧（Ｖｓ）を印加して維持放電させて駆動する。この際、発生する励起源が当該蛍光体を励起させて、透明な第２基板１を通して可視光を放出し、プラズマディスプレイパネルの画面を表示する。前記励起源には真空紫外線が主に利用される。
【実施例】
【００４４】
以下、本発明の望ましい実施例および比較例を記載する。しかし、本発明は下記の実施例のみに限定されない。
【００４５】
（プラズマディスプレイパネルの製造）
（実施例１−１）
無鉛マザーガラスとして、Ｂｉ２Ｏ３系無鉛マザーガラスを７６．４ｇ、高分子樹脂としてエチルセルロースを２ｇ、有機溶媒としてブチルカルビトールアセテートおよびテルピネオールを１８ｇ（ブチルカルビトールアセテート１２．６ｇ、テルピネオール５．４ｇ）混合して、得られた混合物に、金属酸化物添加剤であるＣｕＯ（平均粒子径：０．５μｍ）を０．６ｇ、分散剤ＢＹＫ−３０６（ＢＹＫ社）３ｇを添加して混合して、下部誘電体層形成用組成物を製造した。ここで、前記Ｂｉ２Ｏ３系無鉛マザーガラスはＢｉ２Ｏ３６０質量％、Ｂ２Ｏ３１０質量％、ＳｉＯ２４質量％、Ａｌ２Ｏ３４質量％、ＢａＯ１０質量％、ＣｕＯ０．６質量％およびフィラー（ＴｉＯ２）成分１１．４質量％を含む。
【００４６】
前記下部誘電体層形成用組成物を、あらかじめ準備したアドレス電極が形成された第１基板上に塗布し、５６０℃で１５分間焼成して第１誘電体層（下部誘電体層）を形成した。
【００４７】
その後、通常のエッチング法を利用して、前記第１基板に一定の高さとパターンを有する隔壁を形成した。
【００４８】
また、ブチルカルビトールアセテートとテルピネオールを４：６の質量比に混合して調製した混合有機溶媒１００質量部に対して高分子樹脂であるエチルセルロース６質量部を混合して、ビヒクル（ｖｅｈｉｃｌｅ）を製造した。前記ビヒクル１００質量部に対して青色蛍光体であるＢａＭｇＡｌ１０Ｏ１７：Ｅｕを４０質量部を混合して蛍光体ペーストを調製した後、前記隔壁で区画された第１基板の放電セルの底面と隔壁の側面に前記青色蛍光体ペーストを塗布して青色蛍光体層を形成した。
【００４９】
赤色蛍光体の（Ｙ、Ｇｄ）ＢＯ３：Ｅｕおよび緑色蛍光体のＺｎＳｉＯ４：Ｍｎを利用して、青色蛍光体層と同じ方法で赤色および緑色蛍光体層を形成した。
【００５０】
前記蛍光体層が形成された第１基板を２００℃で乾燥して５００℃で焼成した。
【００５１】
また、表示電極が形成された第２基板上に第２誘電体層を形成し、前記第２誘電体層上に保護膜を形成した後、前記第１基板と前記第２基板とを組立、縫着、排気、放電気体注入およびエイジングして、プラズマディスプレイパネルを製造した。
【００５２】
（実施例１−２）
前記実施例１−１においてＣｕＯを０．４ｇ添加したことを除いては実施例１−１と同様に実施してプラズマディスプレイパネルを製造した。
【００５３】
（実施例１−３）
前記実施例１−１においてＣｕＯを０．８ｇ添加したことを除いては実施例１−１と同様に実施してプラズマディスプレイパネルを製造した。
【００５４】
（実施例１−４）
前記実施例１−１においてＣｕＯの代わりにＣｏＯを用いたことを除いては実施例１−１と同様に実施してプラズマディスプレイパネルを製造した。
【００５５】
（実施例１−５）
前記実施例１−４においてＣｏＯを０．４ｇ添加したことを除いては実施例１−４と同様に実施してプラズマディスプレイパネルを製造した。
【００５６】
（実施例１−６）
前記実施例１−４においてＣｏＯを０．２ｇ添加したことを除いては実施例１−４と同様に実施してプラズマディスプレイパネルを製造した。
【００５７】
（実施例１−７）
前記実施例１−１においてＣｕＯの代わりにＭｎＯ２を０．０５ｇ用いたことを除いては実施例１−１と同様に実施してプラズマディスプレイパネルを製造した。
【００５８】
（実施例１−８）
前記実施例１−７においてＭｎＯ２を０．１ｇ添加したことを除いては実施例１−７と同様に実施してプラズマディスプレイパネルを製造した。
【００５９】
（実施例１−９）
前記実施例１−７において前記ＭｎＯ２を０．２ｇ添加したことを除いては実施例１−７と同様に実施してプラズマディスプレイパネルを製造した。
【００６０】
（比較例１）
前記実施例１−１においてＣｕＯを用いなかったことを除いては実施例１−１と同様に実施してプラズマディスプレイパネルを製造した。
【００６１】
（実施例２−１）
無鉛マザーガラスとして、ＺｎＯ系無鉛マザーガラスを７５．４ｇ、高分子樹脂としてエチルセルロースを２ｇ、有機溶媒としてブチルカルビトールアセテートおよびテルピネオールを１９ｇ（ブチルカルビトールアセテート１３．３ｇ、テルピネオール５．７ｇ）混合して、得られた混合物にＣｕＯ（平均粒子径：０．５μｍ）を０．６ｇ、分散剤ＢＹＫ−３０６（ＢＹＫ社）３ｇを添加混合して、下部誘電体層形成用組成物を製造した。ここで、前記ＺｎＯ系無鉛マザーガラスはＺｎＯ５０質量％、Ｂ２Ｏ３２０質量％、ＳｉＯ２３質量％、Ａｌ２Ｏ３３．４質量％、ＢａＯ１１質量％、ＣｕＯ０．６質量％、およびフィラー（ＴｉＯ２）成分１２質量％を含む。
【００６２】
前記下部誘電体層形成用組成物をあらかじめ準備したアドレス電極が形成された第１基板上に塗布し、５６５℃で１５分間焼成して第１誘電体層（下部誘電体層）を形成した。
【００６３】
その後、通常のサンドブラスト法を利用して、前記第１基板に一定の高さとパターンを有する隔壁を形成した。
【００６４】
また、ブチルカルビトールアセテートとテルピネオールを４：６の質量比に混合して製造した混合溶媒１００質量部に対してエチルセルロース６質量部を混合して、ビヒクル（ｖｅｈｉｃｌｅ）を製造した。前記ビヒクル１００質量部に対して青色蛍光体のＢａＭｇＡｌ１０Ｏ１７：Ｅｕを４０質量部で混合して蛍光体ペーストを製造した後、前記隔壁で区画した第１基板の放電セルの底面と隔壁の側面に前記青色蛍光体ペーストを塗布して青色蛍光体層を形成した。
【００６５】
赤色蛍光体の（Ｙ、Ｇｄ）ＢＯ３：Ｅｕおよび緑色蛍光体のＺｎＳｉＯ４：Ｍｎを利用して、青色蛍光体層と同じ方法で赤色および緑色蛍光体層を形成した。
【００６６】
前記蛍光体層が形成された第１基板を２００℃で乾燥して５００℃で焼成した。
【００６７】
また、表示電極が形成された第２基板上に第２誘電体層を形成し、前記第２誘電体層上に保護膜を形成して第２基板を準備した後、前記第１基板と第２基板を組立、縫着、排気、放電気体注入およびエイジングして、プラズマディスプレイパネルを製造した。
【００６８】
（実施例２−２）
前記実施例２−１においてＣｕＯを０．４ｇ添加したことを除いては実施例２−１と同様に実施してプラズマディスプレイパネルを製造した。
【００６９】
（実施例２−３）
前記実施例２−１においてＣｕＯを０．８ｇ添加したことを除いては実施例２−１と同様に実施してプラズマディスプレイパネルを製造した。
【００７０】
（実施例２−４）
前記実施例２−１においてＣｕＯの代わりにＣｏＯを用いたことを除いては実施例２−１と同様に実施してプラズマディスプレイパネルを製造した。
【００７１】
（実施例２−５）
前記実施例２−４においてＣｏＯを０．４ｇ添加したことを除いては実施例２−４と同様に実施してプラズマディスプレイパネルを製造した。
【００７２】
（実施例２−６）
前記実施例２−４においてＣｏＯを０．２ｇ添加したことを除いては実施例２−４と同様に実施してプラズマディスプレイパネルを製造した。
【００７３】
（実施例２−７）
前記実施例２−１においてＣｕＯの代わりにＭｎＯ２を０．０５ｇ用いたことを除いては実施例２−１と同様に実施してプラズマディスプレイパネルを製造した。
【００７４】
（実施例２−８）
前記実施例２−７においてＭｎＯ２を０．１ｇ添加したことを除いては実施例２−７と同様に実施してプラズマディスプレイパネルを製造した。
【００７５】
（実施例２−９）
前記実施例２−７においてＭｎＯ２を０．２ｇ添加したことを除いては実施例２−７と同様に実施してプラズマディスプレイパネルを製造した。
【００７６】
（比較例２）
前記実施例２−１においてＣｕＯを用いなかったことを除いては実施例２−１と同様に実施してプラズマディスプレイパネルを製造した。
【００７７】
（下部誘電体層の変色程度測定）
前記実施例１−１〜９、比較例１、実施例２−１〜９、および比較例２で製造されたプラズマディスプレイパネルに対してＣＩＥ  Ｌａｂシステムによる色座標を測定し、そのうちのｂ＊値を下記表１、および表２で整理した。前記ｂ＊値は黄色の色度を示す指数であり、高いほど変色が激しいことを示す。前記測定はＣＲ３２１（ＫＯＮＩＣＡＭＩＮＯＬＴＡ）装置を利用して行った。
【００７８】
【表１】
2010097921.tif 000003
【００７９】
【表２】
2010097921.tif 000004
【００８０】
前記表１および表２を参照すると、比較例１および２のプラズマディスプレイパネルはｂ＊値が、それぞれ実施例１−１〜９、および実施例２−１〜９のプラズマディスプレイパネルに比べて非常に大きいことが分かる。これは実施例１−１〜９、および実施例２−１〜９のプラズマディスプレイパネルが比較例１および２のプラズマディスプレイパネルに比べて変色がほとんど生じないことを意味する。
【符号の説明】
【００８１】
１、３    基板、
５    隔壁、
７    放電セル、
８    蛍光体層、
９、１１    表示電極、
１３    アドレス電極、
１５、１７    誘電体層、
１９    ＭｇＯ保護層、
１００    プラズマディスプレイパネル。
【図１】
2010097921.tif 000005