(57)【要約】【課題】調理室の有効容積を削減することなく調理室内に過熱された水蒸気を供給することができる簡素な構成の加熱調理装置を提供すること。【解決手段】蒸気生成容器３１内には蒸発ヒータ４０が埋設されており、蒸発ヒータ４０は蒸気生成容器３１内に注入された水を加熱することに基いて水蒸気を生成する。この蒸気生成容器３１内には蒸発ヒータ４０より高所に位置して過熱ヒータ４１が埋設されており、過熱ヒータ４１は水蒸気を上昇途中で過熱し、過熱ヒータ４１が過熱した水蒸気は蒸気生成容器３１の蒸気口４２から調理室４内に放出される。この構成の場合、水蒸気を過熱ヒータ４１に供給するファン装置が不要になる。このため、構成が簡単化され、しかも、調理室４の有効容積がファン装置の影響で削減されることもなくなる。【選択図】図４
2010185657.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
調理物が収納される調理室と、
前記調理室内に水蒸気を供給する蒸気供給器とを備え、
前記蒸気供給器は、
空間状の蒸気生成室を有する容器と、
前記蒸気生成室内に水を注入する注水器と、
前記容器に設けられ、前記蒸気生成室内の水を加熱することに基いて前記蒸気生成室内で水蒸気を生成する蒸気生成用熱源と、
前記容器に前記蒸気生成用熱源より高所に位置して設けられ、前記蒸気生成室内で水蒸気を過熱する過熱用熱源と、
前記容器内で生成した水蒸気を前記調理室に吐出する複数の蒸気口と、
前記蒸気生成室の底面で生成された水蒸気を前記複数の蒸気口に流す蒸気通路を形成する複数のフィンと
を備えていることを特徴とする加熱調理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、調理室内に水蒸気を供給する蒸気供給器を備えた加熱調理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
上記加熱調理装置にはヒータが埋設された容器を調理室内に収納し、容器内に水を注入することに基いて水蒸気を生成する構成のものがある。この構成の場合、調理室内に別のヒータが収納されており、水蒸気を調理室内で別のヒータによって過熱している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００４−２１８９１７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上記加熱調理器の場合、水蒸気を調理室内で強制的に循環させることに基いて別のヒータに吹付ける必要がある。このため、水蒸気を強制的に循環させるファン装置が必要になるので、構成が複雑になる。しかも、ファン装置の設置スペースが必要になるので、調理室の有効容積が小さくなる。
【０００５】
本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、その目的は、調理室の有効容積を削減することなく調理室内に過熱された水蒸気を供給することができる簡素な構成の加熱調理装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の加熱調理装置は、調理物が収納される調理室と、前記調理室内に水蒸気を供給する蒸気供給器とを備え、前記蒸気供給器は、空間状の蒸気生成室を有する容器と、前記蒸気生成室内に水を注入する注水器と、前記容器に設けられ、前記蒸気生成室内の水を加熱することに基いて前記蒸気生成室内で水蒸気を生成する蒸気生成用熱源と、前記容器に前記蒸気生成用熱源より高所に位置して設けられ、前記蒸気生成室内で水蒸気を過熱する過熱用熱源と、前記容器内で生成した水蒸気を前記調理室に吐出する複数の蒸気口と、前記蒸気生成室の底面で生成された水蒸気を前記複数の蒸気口に流す蒸気通路を形成する複数のフィンとを備えているところに特徴を有する。
【発明の効果】
【０００７】
蒸気生成用熱源が蒸気生成室内で水を加熱することに基いて水蒸気を生成したときには水蒸気が蒸気生成室内を対流現象で上昇し、過熱用熱源が蒸気生成室内を上昇する水蒸気を蒸気生成室内で過熱する。即ち、水蒸気を対流現象で上昇させながら過熱用熱源によって過熱しているので、水蒸気を過熱用熱源に供給するファン装置が不要になる。このため、構成が簡単化され、しかも、調理室の有効容積がファン装置の影響で削減されることもなくなる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】実施例１を示す図（加熱調理装置の外観を扉の開放状態で示す図）
【図２】加熱調理装置の内部構成を前方から示す断面図
【図３】加熱調理装置の内部構成を側方から示す断面図
【図４】蒸気生成容器の内部構成を示す断面図（図５のＸ４線に沿う断面図）
【図５】蒸気生成容器の内部構成を示す断面図（ａは図４のＸ５ａ線に沿う断面図、ｂは図５のＸ５ｂ線に沿う断面図）
【図６】電気的構成を示すブロック図
【図７】ヒータスチーム調理用の調理プログラムの流れを示すフローチャート
【図８】ポンプモータの回転速度とヒータの使用状態との相関関係を示す図（制御装置の記録データを示す図）
【図９】スチーム調理用の調理プログラムの流れを示すフローチャート
【図１０】レンジスチーム調理用の調理プログラムの流れを示すフローチャート
【図１１】実施例２を示す図４相当図
【発明を実施するための形態】
【０００９】
＜実施例１＞
キャビネット１は、図１に示すように、前面が開口する矩形箱状をなすものであり、図２に示すように、外箱２および内箱３を組合わせることから構成されている。この内箱３の内部は前面が開口する空間状の調理室４として機能するものであり、調理室４内には前面を通して調理物が出入れされる。キャビネット１には、図１に示すように、扉５が装着されている。この扉５は下端部の水平な軸を中心に回動可能にされたものであり、調理室４の前面は扉５が垂直な閉鎖状態に回動操作されることに基いて閉鎖され、扉５が前方へ水平に倒れた開放状態に回動操作されることに基いて開放される。
【００１０】
調理室４の左側面および右側面には前後方向へ延びる上レール６が形成されており、両上レール６上には、図３に示すように、上調理皿７が着脱可能に載置される。調理室４の左側面および右側面には、図１に示すように、前後方向へ延びる下レール８が形成されており、両下レール８上には、図３に示すように、下調理皿９が着脱可能に載置される。これら上調理皿７および下調理皿９はヒータスチーム調理を行うときに使用されるものであり、ヒータスチーム調理時には調理室４内に上調理皿７および下調理皿９が上下２段に収納可能にされる。
【００１１】
内箱３の後面には、図３に示すように、ケーシング１０が固定されている。このケーシング１０の後面にはファンモータ１１が固定されており、ファンモータ１１の回転軸はケーシング１０の内部に挿入されている。このファンモータ１１の回転軸にはケーシング１０の内部に位置して遠心形のファン１２が固定されており、ファンモータ１１およびファン１２からファン装置１３が構成されている。
【００１２】
調理室４の後面には上吐出口１４および下吐出口１５が形成されている。これら上吐出口１４および下吐出口１５は複数の貫通孔の集合体を称するものであり、上吐出口１４は上調理皿７より高所に配置され、下吐出口１５は下調理皿９より低所に配置されている。調理室４の後面には吸入口１６が形成されている。この吸入口１６は複数の貫通孔の集合体を称するものであり、上調理皿７と下調理皿９との間の高さに配置されている。即ち、ファン装置１３が駆動したときには上吐出口１４から吐出された空気が上調理皿７の上方を前方へ流れて扉５に当り、下吐出口１５から吐出された空気が下調理皿９の下方を前方へ流れて扉５に当り、扉５に当った空気はいずれも上調理皿７と下調理皿９との間を通して吸入口１６からケーシング１０内に吸入される。
【００１３】
ケーシング１０の内部には環状の内ヒータ１７が固定されており、内ヒータ１７の上辺部は、図２に示すように、上吐出口１４の後方に配置され、内ヒータ１７の下辺部は下吐出口１５の後方に配置されている。ケーシング１０の内部には内ヒータ１７の外周部に位置して環状の外ヒータ１８が固定されている。この外ヒータ１８は内ヒータ１７に比べて定格出力が小さく設定されたものであり、外ヒータ１８の上辺部は上吐出口１４の後方に配置され、外ヒータ１８の下辺部は下吐出口１５の後方に配置されている。これら内ヒータ１７および外ヒータ１８はファン装置１３から吐出された空気を加熱することに基いて熱風化するものであり、内ヒータ１７および外ヒータ１８の駆動時には上吐出口１４から調理室４内に熱風が吐出され、下吐出口１５から調理室４内に熱風が吐出され、吸入口１６からケーシング１０内に吸入される。即ち、ファン装置１３と内ヒータ１７と外ヒータ１８は加熱器に相当するオーブン調理機構１９（図３参照）を構成するものであり、調理室４内に収納された調理物を熱風で加熱する。
【００１４】
調理室４の左側面には、図１に示すように、庫内温度センサ２０が固定されている。この庫内温度センサ２０は調理室４の内気温度を検出するものであり、サーミスタから構成されている。キャビネット１には、図２に示すように、機械室２１が形成されている。この機械室２１は外箱２と内箱３との間の空間部を称するものであり、機械室２１内には調理室４の右側に位置してマグネトロン２２が収納されている。このマグネトロン２２は調理室４内に収納された調理物をマイクロ波で加熱する加熱器に相当するものであり、マグネトロン２２の駆動時にはマグネトロン２２から励振口２３を通して調理室４内にマイクロ波が照射される。この励振口２３は、図１に示すように、調理室４の右側面に形成されたものであり、複数の貫通孔から構成されている。
【００１５】
キャビネット１には、図２に示すように、蒸気供給器に相当する蒸気生成ユニット３０が装着されている。この蒸気生成ユニット３０は調理室４内に水蒸気を供給するものであり、次のように構成されている。機械室２１内には調理室４の左側に位置して蒸気生成容器３１が固定されている。この蒸気生成容器３１は上レール６と下レール８との間の高さに配置されたものであり、図４に示すように、右側面が開口するケース３２とケース３２の右側面を閉鎖するカバー３３とを接合することから構成されている。これらケース３２およびカバー３３は同種の金属をダイカストすることから製造されたものであり、ケース３２とカバー３３との間には空間状の蒸気生成室３４が形成されている。
【００１６】
キャビネット１の底板には、図２に示すように、タンク３５が装着されている。このタンク３５は水を貯留するものであり、タンク３５の上半部は機械室２１内に収納され、タンク３５の下半部は機械室２１内から下方へ突出している。このタンク３５にはポンプ３６の吸水口が接続されている。このポンプ３６はポンプモータ３７（図６参照）を駆動源として動作することに基いてタンク３５内から水を汲出すものであり、機械室２１内に収納されている。このポンプ３６は注水器に相当するものであり、ポンプ３６の吐出口には、図２に示すように、ホース３８が接続されている。このホース３８は機械室２１内に収納されたものであり、図４に示すように、金属パイプ製の給水口３９に接続されている。この給水口３９は蒸気生成容器３１のケース３２に固定されたものであり、ポンプ３６の駆動時にはタンク３５内の水がホース３８から給水口３９を通して蒸気生成室３４内に注入され、蒸気生成室３４の底面上に落下する。
【００１７】
蒸気生成容器３１のケース３２内には蒸発用熱源に相当する蒸発ヒータ４０が埋設されている。この蒸発ヒータ４０は、図５の（ａ）に示すように、直管状のシーズヒータから構成されたものであり、ケース３２の下端部に配置されている。この蒸発ヒータ４０はケース３２を製造するダイカスト型内に蒸発ヒータ４０を収納した状態で溶融金属を注入することに基いてケース３２に一体化されたものであり、蒸発ヒータ４０の外周面はケース３２に密着している。この蒸発ヒータ４０は給水口３９から蒸気生成室３４の底面上に落下した水を蒸気生成室３４の底面を介して間接的に加熱することに基いて蒸気生成室３４内で水蒸気を生成するものであり、水蒸気は蒸気生成室３４内を上昇する。この蒸発ヒータ４０の両端部の電極はケース３２内から突出しており、蒸発ヒータ４０の両端部の電極には給電用のリード線６２が接続されている。
【００１８】
蒸気生成容器３１のケース３２内には、図５の（ａ）に示すように、過熱用熱源に相当する過熱ヒータ４１が埋設されている。この過熱ヒータ４１は直管状のシーズヒータから構成されたものであり、過熱ヒータ４１の定格出力は蒸発ヒータ４０に比べて大きく設定されている。この過熱ヒータ４１はケース３２の上端部に配置されたものであり、図４に示すように、蒸気生成室３４を挟んで蒸発ヒータ４０に対向配置されている。この過熱ヒータ４１はケース３２を製造するダイカスト型内に過熱ヒータ４１を収納した状態で溶融金属を注入することに基いてケース３２に一体化されたものであり、過熱ヒータ４１の外周面はケース３２に密着している。この過熱ヒータ４１は蒸発ヒータ４０に比べて高所に配置されたものであり、蒸気生成室３４内を上昇する水蒸気を蒸気生成室３４の壁面を介して間接的に過熱する。この過熱ヒータ４１の両端部の電極は、図５の（ａ）に示すように、ケース３２内から突出しており、過熱ヒータ４１の両端部の電極には給電用のリード線６２が接続されている。
【００１９】
蒸気生成容器３１のカバー３３には、図５の（ａ）に示すように、共通の水平線上に位置して３個の蒸気口４２が一体形成されている。これら各蒸気口４２は、図４に示すように、調理室４側へ突出する円筒状をなすものであり、蒸気生成室３４内を上昇する水蒸気は３個の蒸気口４２から蒸気生成室３４の外部に吐出される。調理室４の左側面には貫通孔状をなす３個の吹出口４３が形成されている。これら各吹出口４３は蒸気口４２の右方に対向配置されたものであり、各蒸気口４２から吐出された水蒸気は吹出口４３を通して上レール６と下レール８との間の高さに放出される。即ち、蒸気口４２は水蒸気を調理室４内に経路を介することなく直接的に供給するものであり、水蒸気が経路を通過するときの熱損失を解消する。
【００２０】
調理室４の左側面には、図４に示すように、蒸気ガイド４４が固定されており、蒸気ガイド４４には３個のガイド部４５が形成されている。これら各ガイド部４５は蒸気口４３の右方に対向配置されたものであり、左右方向に水平に延びる円筒状をなしている。これら各ガイド部４５は左方の蒸気口４３から放出される水蒸気の流通方向を案内するものであり、各蒸気口４３から放出された水蒸気はガイド部４５の内周面に案内されることに基いて上レール６と下レール８との間の高さを水平方向へ真直ぐに流れる。
【００２１】
蒸気生成室３４内には、図５の（ａ）に示すように、フィン群４６が収納されている。このフィン群４６は蒸気生成室３４内を上昇する水蒸気を上昇途中で過熱するものであり、３個のメイン上フィン４７と２個のメイン下フィン４８と２個のサブ上フィン４９と４個のサブ中フィン５０と２個のサブ下フィン５１と２個のサブエンドフィン５２から構成されている。これら３個のメイン上フィン４７〜２個のサブエンドフィン５２は、図４に示すように、いずれも蒸気生成室３４の左右方向の幅寸法と同一の高さ寸法を有するものである。これら３個のメイン上フィン４７〜２個のサブエンドフィン５２は蒸気生成室３４の底面で生成された水蒸気を迷路状に屈曲した経路で流すように配列されたものであり、次のように構成されている。
【００２２】
ケース３２には、図５の（ａ）に示すように、水平な３個のメイン上フィン４７および水平な２個のメイン下フィン４８が一体形成されている。各メイン上フィン４７は蒸気口４２の下方に配置されたものであり、各メイン下フィン４８は上方のメイン上フィン４７相互間に配置されたものであり、蒸気生成室３４内を上昇する水蒸気は蒸気口４２から放出される前に３個のメイン上フィン４７および２個のメイン下フィン４８のいずれかに高確度で当る。
【００２３】
ケース３２にはメイン上フィン４７相互間に位置して垂直なサブ上フィン４９が一体形成されている。これら各サブ上フィン４９は下方の両メイン上フィン４７とケース３２の天井面との隙間を夫々に狭小化するものであり、各サブ上フィン４９と下方の両メイン上フィン４７との間には幅狭な蒸気通路５３が夫々に形成されている。ケース３２には各メイン下フィン４８の上方に位置して垂直な２個のサブ中フィン５０が一体形成されている。これら各サブ中フィン５０は上方のメイン上フィン４７と下方のメイン下フィン４８との隙間を狭小化するものであり、各サブ中フィン５０と下方のメイン下フィン４８との間には幅狭な蒸気通路５４が形成され、各サブ中フィン５０と隣接するサブ中フィン５０との間には蒸気通路５４に比べて幅広な蒸気通路５５が形成されている。
【００２４】
ケース３２には各メイン下フィン４８の下方に位置して垂直なサブ下フィン５１が一体形成されている。これら両サブ下フィン５１は蒸気生成室３４の下端部を相互に連通する３個の過熱領域５６に分割するものであり、蒸気生成室３４の底面で生成された水蒸気は３個の過熱領域５６に分かれて上昇する。ケース３２には後方のメイン上フィン４７の後端部および前方のメイン上フィン４７の前端部に位置してサブエンドフィン５２が一体形成されており、後方のサブエンドフィン５２と蒸気生成室３４の後面との間には蒸気通路５７が形成され、前方のサブエンドフィン５２と蒸気生成室３４の前面との間にも蒸気通路５７が形成されている。
【００２５】
ケース３２にはセンサ装着部５８が一体形成されている。このセンサ装着部５８は、図５の（ｂ）に示すように、蒸気生成室３４内に突出するものであり、センサ装着部５８内には蒸気生成室３４の外部に位置して蒸気温度センサ５９が固定されている。この蒸気温度センサ５９はサーミスタからなるものであり、蒸気温度センサ５９の感温部はセンサ装着部５８に密着している。この蒸気温度センサ５９は蒸気生成室３４の室内温度をケース３２を介して検出するものであり、温度センサに相当する。キャビネット１の前面には扉５の下方に位置して操作パネル６０（図６参照）が固定されており、操作パネル６０には、図６に示すように、複数のスイッチ６１が前方から操作可能に装着されている。
【００２６】
機械室２１内には制御装置７０が収納されている。この制御装置７０はマイクロコンピュータを主体に構成されたものであり、ＣＰＵ７１とＲＯＭ７２とＲＡＭ７３を有している。この制御装置７０には庫内温度センサ２０および蒸気温度センサ５９が接続されており、制御装置７０は庫内温度センサ２０からの出力信号に基いて調理室４の庫内温度を検出し、蒸気温度センサ５９からの出力信号に基いて蒸気生成室３４の室内温度を検出する。この制御装置７０には複数のスイッチ６１が接続されており、制御装置７０は複数のスイッチ６１の操作内容に応じて調理内容を設定する。この制御装置７０は加熱制御手段および注水制御手段に相当するものである。
【００２７】
制御装置７０には駆動回路７４〜駆動回路８０が接続されている。これら駆動回路７４〜駆動回路８０にはファンモータ１１〜過熱ヒータ４１が接続されており、制御装置７０は駆動回路７４に駆動信号を出力することに基いてファンモータ１１を個別に駆動制御し、駆動回路７５に駆動信号を出力することに基いて内ヒータ１７を個別に駆動制御し、駆動回路７６に駆動信号を出力することに基いて外ヒータ１８を個別に駆動制御し、駆動回路７７に駆動信号を出力することに基いてマグネトロン２２を個別に駆動制御し、駆動回路７８に駆動信号を出力することに基いてポンプモータ３７を個別に駆動制御し、駆動回路７９に駆動信号を出力することに基いて蒸発ヒータ４０を個別に駆動制御し、駆動回路８０に駆動信号を出力することに基いて過熱ヒータ４１を個別に駆動制御する。
【００２８】
図７は制御装置７０のＲＯＭ７２に記録されたヒータスチーム調理用の調理プログラムを示すものであり、制御装置７０のＣＰＵ７１はスイッチ６１の操作内容に基いてヒータスチーム調理が選択されたことを検出したときにはＲＯＭ７２からヒータスチーム調理用の調理プログラムを検出し、調理プログラムの検出結果に基いて調理内容を制御する。以下、ヒータスチーム調理用の調理プログラムについて説明する。
【００２９】
ＣＰＵ７１はステップＳ１で内ヒータ１７を駆動開始し、ステップＳ２で外ヒータ１８を駆動開始する。これら内ヒータ１７および外ヒータ１８はＲＯＭ７２に予め決められたオンオフ比で制御されるものであり、ステップＳ１での内ヒータ１７のオン／オフ比およびステップＳ２での外ヒータ１８のオン／オフ比はいずれも出力が定格出力となる最大値に設定されている。
【００３０】
ＣＰＵ７１はステップＳ２で外ヒータ１８を駆動開始すると、ステップＳ３でファンモータ１１をオンすることに基いて調理室４内に熱風を循環させる。そして、ステップＳ４で庫内温度センサ２０からの出力信号に基いて調理室４の庫内温度を検出し、ステップＳ５で庫内温度の検出結果をＲＯＭ７２に予め記録された予熱温度（例えば１００°Ｃ）と比較する。ここで庫内温度の検出結果が予熱温度に到達したことを検出したときにはステップＳ６へ移行し、内ヒータ１７を駆動停止する。そして、ステップＳ７で外ヒータ１８を駆動停止し、ステップＳ８でファンモータ１１を駆動停止することに基いて熱風の循環動作を中断する。
【００３１】
ＣＰＵ７１はステップＳ８でファンモータ１１を駆動停止すると、ステップＳ９で蒸発ヒータ４０を駆動開始し、ステップＳ１０で過熱ヒータ４１を駆動開始する。これら蒸発ヒータ４０および過熱ヒータ４１はＲＯＭ７２に予め決められたオンオフ比で制御されるものであり、ステップＳ９での蒸発ヒータ４０のオン／オフ比およびステップＳ１０での過熱ヒータ４１のオン／オフ比はいずれも出力が定格出力となる最大値に設定されている。即ち、蒸発ヒータ４０および過熱ヒータ４１の最大出力での運転はファンモータ１１と内ヒータ１７と外ヒータ１８の３者が駆動停止した熱風循環動作の中断状態で行われる。
【００３２】
ＣＰＵ７１はステップＳ１０で過熱ヒータ４１を駆動開始すると、ステップＳ１１へ移行する。ここで蒸気温度センサ５９からの出力信号に基いて蒸気生成室３４の室温度を検出し、ステップＳ１２で室温度の検出結果をＲＯＭ７２に予め記録された蒸気生成温度（例えば１２０°Ｃ）と比較する。ここで室温度の検出結果が蒸気生成温度に到達したことを検出したときにはステップＳ１３へ移行し、蒸発ヒータ４０をオフする。このヒータスチーム調理ではオーブン調理機構１９が生成する熱風で蒸気生成容器３１が事前に加熱されているので、ステップＳ１２で蒸気生成室３４の室内温度が短時間で蒸気生成温度に到達する。即ち、蒸気生成室３４内が蒸気生成温度に到達した以後は過熱ヒータ４１のみが継続的に駆動され、過熱ヒータ４１の出力だけで蒸気生成室３４内が蒸気生成温度に維持される。この蒸気生成温度は注水開始温度に相当するものである。
【００３３】
制御装置７０のＲＯＭ７２には、図８に示すように、注水データが記録されている。この注水データはポンプモータ３７の回転速度が蒸発ヒータ４０および過熱ヒータ４１の双方の使用状態別に記録されたものであり、ＣＰＵ７１は図７のステップＳ１３からステップＳ１４へ移行したときには注水データから蒸発ヒータ４０および過熱ヒータ４１の双方の使用状態に応じた回転速度を検出する。この場合には過熱ヒータ４１が単独使用されているので、ポンプモータ３７の回転速度として中速度が検出される。これら蒸発ヒータ４０および過熱ヒータ４１の使用状態は運転状態に相当するものである。
【００３４】
ＣＰＵ７１は図７のステップＳ１４でポンプモータ３７の回転速度として中速度を検出すると、ステップＳ１５でポンプモータ３７を中速度で駆動開始する。このポンプモータ３７の回転速度は蒸気生成室３４の底面に落下した水が瞬時に蒸発する水量を蒸気生成室３４内に注入する値に設定されたものであり、ステップＳ１５では蒸気生成室３４内に中流量で水が注入され、中流量の水蒸気が生成される。
【００３５】
ＣＰＵ７１はステップＳ１５でポンプモータ３７を駆動開始すると、ステップＳ１６で内ヒータ１７を再駆動し、ステップＳ１７で外ヒータ１８を再駆動し、ステップＳ１８でファンモータ１１を再駆動することに基いて調理室４内に熱風を循環させる。これら内ヒータ１７の再駆動および外ヒータ１８の再駆動はＲＯＭ７２に予め決められたオンオフ比で行われるものであり、ステップＳ１６での内ヒータ１７のオン／オフ比およびステップＳ１７での外ヒータ１８のオン／オフ比はいずれも出力が定格出力を下回る低出力となる値に設定されている。即ち、内ヒータ１７および外ヒータ１８の調理用の通常運転は過熱ヒータ４１のみが駆動された状態で行われる。
【００３６】
ＣＰＵ７１はステップＳ１８でファンモータ１１を再駆動すると、ステップＳ１９の調理処理へ移行する。この調理処理は調理室４内に熱風を循環させながら水蒸気を供給するものであり、調理室４内には過熱ヒータ４１からの熱および熱風からの熱の双方で過熱された水蒸気が供給され、調理室４内に供給された水蒸気は熱風と共に循環することに基いて内ヒータ１７および外ヒータ１８によってさらに過熱される。この調理処理では内ヒータ１７および外ヒータ１８は庫内温度センサ２０の出力信号が調理温度に収束するようにオンオフ制御され、ポンプモータ３７は過熱ヒータ４１の単独使用に応じた一定の中速度に速度制御され、過熱ヒータ４１は蒸気温度センサ５９の出力信号が蒸気生成温度に収束するようにオンオフ制御される。
【００３７】
ＣＰＵ７１はステップＳ２０へ移行すると、調理終了条件の成立の有無を判断する。ここで調理終了条件が成立したことを検出したときにはステップＳ２１へ移行し、ファンモータ１１と内ヒータ１７と外ヒータ１８とポンプモータ３７と過熱ヒータ４１を駆動停止することに基いてヒータスチーム調理を終える。
【００３８】
ＣＰＵ７１はスイッチ６１の操作内容に基いてスチーム調理が選択されたことを検出したときにはＲＯＭ７２からスチーム調理用の調理プログラムを検出し、調理プログラムの検出結果に基いて調理内容を制御する。以下、スチーム調理用の調理プログラムについて説明する。
【００３９】
ＣＰＵ７１は図９のステップＳ２１へ移行すると、蒸発ヒータ４０を駆動開始する。そして、ステップＳ２２へ移行し、過熱ヒータ４１を駆動開始する。これら蒸発ヒータ４０および過熱ヒータ４１はＲＯＭ７２に予め決められたオンオフ比で制御されるものであり、蒸発ヒータ４０のオン／オフ比および過熱ヒータ４１のオン／オフ比はいずれも出力が定格出力となる最大値に設定されている。
【００４０】
ＣＰＵ７１はステップＳ２２で過熱ヒータ４１を駆動開始すると、ステップＳ２３で蒸気温度センサ５９からの出力信号に基いて蒸気生成室３４の室温度を検出し、ステップＳ２４で室温度の検出結果を蒸気生成温度（例えば１２０°Ｃ）と比較する。ここで室温度の検出結果が蒸気生成温度に到達したことを検出したときにはステップＳ２５へ移行し、図８の注水データからポンプモータ３７の回転速度を検出する。この場合には蒸発ヒータ４０および過熱ヒータ４１の双方が使用されているので、ポンプモータ３７の回転速度として高速度が検出される。
【００４１】
ＣＰＵ７１は図９のステップＳ２５でポンプモータ３７の回転速度を検出すると、ステップＳ２６でポンプモータ３７を高速度で駆動開始することに基いてタンク３５から蒸気生成室３４内に高流量の水を注入し、ステップＳ２７の調理処理へ移行する。この調理処理は調理室４内に水蒸気を供給することに基いて調理物を水蒸気で加熱するものであり、調理室４内には過熱ヒータ４１が過熱した高温度の水蒸気が供給される。この調理処理ではポンプモータ３７は蒸発ヒータ４０および過熱ヒータ４１の双使用に応じた一定の高速度に速度制御され、蒸発ヒータ４０および過熱ヒータ４１は蒸気温度センサ５９の出力信号が蒸気生成温度に収束するようにオンオフ制御される。
【００４２】
ＣＰＵ７１はステップＳ２８へ移行すると、調理終了条件の成立の有無を判断する。ここで調理終了条件が成立したことを検出したときにはステップＳ２９へ移行し、ポンプモータ３７と蒸発ヒータ４０と過熱ヒータ４１を駆動停止することに基いてスチーム調理を終える。
【００４３】
ＣＰＵ７１はスイッチ６１の操作内容に基いてレンジスチーム調理が選択されたことを検出したときにはＲＯＭ７２からレンジスチーム調理用の調理プログラムを検出し、調理プログラムの検出結果に基いて調理内容を制御する。以下、レンジスチーム調理用の調理プログラムについて説明する。
【００４４】
ＣＰＵ７１は図１０のステップＳ３１へ移行すると、蒸発ヒータ４０をＲＯＭ７２に予め決められたオンオフ比で駆動開始する。そして、ステップＳ３２で蒸気温度センサ５９からの出力信号に基いて蒸気生成室３２の室温度を検出し、ステップＳ３３で室温度の検出結果を蒸気生成温度（例えば１２０°Ｃ）と比較する。ここで室温度の検出結果が蒸気生成温度に到達したことを検出したときにはステップＳ３４へ移行し、図８の注水データからポンプモータ３７の回転速度を検出する。この場合には蒸発ヒータ４０が単独使用されているので、ポンプモータ３７の回転速度として低速度が検出される。
【００４５】
ＣＰＵ７１は図１０のステップＳ３４でポンプモータ３７の回転速度を検出すると、ステップＳ３５でポンプモータ３７を低速度で駆動開始することに基いてタンク３５から蒸気生成室３４内に低流量の水を注入する。そして、ステップＳ３６でマグネトロン２２を駆動開始し、ステップ３７の調理処理へ移行する。この調理処理は調理室４内にマイクロ波を照射しながら水蒸気を供給するものであり、調理室４内には蒸発ヒータ４０が生成した水蒸気が過熱されることなく供給され、調理室４内に供給された水蒸気はマイクロ波によって過熱される。この調理処理ではポンプモータ３７は蒸発ヒータ４０の単独使用に応じた一定の低速度に速度制御され、蒸発ヒータ４０は蒸気温度センサ５９の出力信号が蒸気生成温度に収束するようにオンオフ制御される。
【００４６】
ＣＰＵ７１はステップＳ３８へ移行すると、調理終了条件の成立の有無を判断する。ここで調理終了条件が成立したことを検出したときにはステップＳ３９へ移行し、マグネトロン２２とポンプモータ３７と蒸発ヒータ４０を駆動停止することに基いてレンジスチーム調理を終える。
【００４７】
上記実施例１によれば次の効果を奏する。
蒸発ヒータ４０を蒸気生成容器３１の低所に配置し、過熱ヒータ４１を蒸気生成容器３１の高所に配置し、スチーム調理時に蒸気ヒータ４０が生成した水蒸気を対流現象で上昇させながら過熱ヒータ４１によって過熱したので、水蒸気を過熱ヒータ４１に供給するファン装置が不要になる。このため、構成が簡単化され、しかも、調理室４の有効容積がファン装置の影響で削減されることもなくなる。
【００４８】
蒸発ヒータ４０および過熱ヒータ４１を蒸気生成容器３１のケース３２に鋳込んだ。このため、ケース３２の蒸発ヒータ４０に対する密着度および過熱ヒータ４１に対する密着度が夫々に高まるので、蒸発ヒータ４０および過熱ヒータ４１の夫々からケース３２に熱が効率的に伝わるようになる。従って、ヒータスチーム調理やスチーム調理やレンジスチーム調理を行うときに蒸気生成容器３１が短時間で蒸気生成温度に昇温するようになるので、調理室４に対する水蒸気の供給を短い待ち時間で開始することができる。
【００４９】
ポンプモータ３７を蒸発ヒータ４０および過熱ヒータ４１の双方の使用状態に応じて駆動制御することに基いて蒸気生成室３４に対する水の注入量を制御した。このため、蒸気生成室３４の蒸気生成能力に応じた必要量の水だけを蒸気生成室３４内に注入し、蒸気生成室３４内に注入された水を瞬時に気化することができるので、蒸気生成室３４内に水が溜まることを防止できる。
【００５０】
蒸気生成室３４の室温度が予め決められた蒸気生成温度に到達することに基いて蒸気生成室３４に対する注水動作を開始した。このため、蒸気生成室３４内に注入された水を瞬時に気化することができるので、蒸気生成室３４内に水が溜まることを防止できる。
【００５１】
蒸気生成室３４の壁面にフィン群４６を設けた。このため、水蒸気に対する蒸気生成室３４の接触面積が増えるので、ヒータスチーム調理やスチーム調理やレンジスチーム調理を行うときに水蒸気を高温度に過熱することができる。しかも、フィン群４６を蒸気生成室３４の底面で生成された水蒸気を迷路状に屈曲した経路で３個の蒸気口４２に流すように配列した。このため、水蒸気に対する蒸気生成室３４の接触時間が増えるので、この点からも水蒸気を高温度に過熱することができる。
【００５２】
蒸発ヒータ４０および過熱ヒータ４１を制御装置７０が個別に駆動制御する構成とした。このため、ヒータスチーム調理時には高出力の過熱ヒータ４１を単独使用することに基いて調理室４内に水蒸気を供給し、水蒸気を調理室４内で熱風によって過熱することができる。また、レンジスチーム調理時には低出力の蒸発ヒータ４０を単独使用することに基いて調理室４内に水蒸気を供給し、水蒸気を調理室４内でマイクロ波によって過熱することができる。また、スチーム調理時には蒸発ヒータ４０および過熱ヒータ４１の双方を使用することに基いて調理室４０内に過熱された水蒸気を供給することができるので、家庭内の限られた電力で調理物を水蒸気で調理することができる。
【００５３】
ヒータスチーム調理で調理処理を行うときには蒸発ヒータ４０をオフし、過熱ヒータ４１およびオーブン調理機構１９をオンし、蒸気生成容器３１を過熱ヒータ４１およびオーブン調理機構１９によって加熱した。このため、蒸発ヒータ４０を使用することなく水を水蒸気に変換して水蒸気を過熱することができるので、家庭内の限られた電力で高温度のヒータスチーム調理を行うことができる。
【００５４】
上記実施例１においては、過熱ヒータ４１を蒸気生成室３４の上方に配置したが、これに限定されるものではなく、例えば蒸気生成室３４の高さの範囲内に配置しても良く、要は蒸発ヒータ４０に比べて高所に配置すれば良い。図１１は過熱ヒータ４１を蒸気生成室３４の高さの範囲内に配置した実施例２を示している。
【００５５】
上記実施例１〜実施例２においては、ヒータスチーム調理で蒸気生成室３４内を蒸気生成温度に昇温させるときに蒸発ヒータ４０および過熱ヒータ４１の双方を使用したが、これに限定されるものではなく、例えば蒸発ヒータ４０および過熱ヒータ４１のいずれか一方を使用しても良い。
【００５６】
上記実施例１〜実施例２においては、蒸気生成容器３１に１個の蒸発ヒータ４０および１個の過熱ヒータ４１を設けたが、これに限定されるものではなく、例えば複数個の蒸発ヒータ４０を設けたり、複数個の過熱ヒータ４１を設けても良い。
【００５７】
上記実施例１〜実施例２においては、蒸気生成容器３１を調理室４の左側に配置したが、これに限定されるものではなく、例えば右側あるいは後側に配置しても良い。
上記実施例１〜実施例２においては、調理室４内の調理物を熱風で加熱するオーブン調理機構１９およびマイクロ波で加熱するマグネトロン２２の双方を設けたが、これに限定されるものではなく、例えばオーブン調理機構１９およびマグネトロン２２のいずれか一方だけを設けても良い。
【００５８】
上記実施例１〜実施例２においては、蒸発ヒータ４０および過熱ヒータ４１としてシーズヒータを用いたが、これに限定されるものではなく、例えばハニカムヒータを用いたり、プレートヒータを用いても良い。
【００５９】
上記実施例１〜実施例２においては、蒸発ヒータ４０および過熱ヒータ４１を蒸気生成容器３１内に埋設したが、これに限定されるものではなく、蒸気生成室３４内に収納しても良い。即ち、水を蒸発ヒータ４０によって直接的に加熱することに基いて水蒸気を生成し、水蒸気を過熱ヒータ４１によって直接的に過熱しても良い。
【００６０】
上記実施形態には、次の発明１〜５が記載されている。
（発明１）
調理物が収納される調理室と、前記調理室内に水蒸気を供給する蒸気供給器と、前記調理物を水蒸気とは異なる媒体で加熱する加熱器とを備え、前記蒸気供給器は、空間状の蒸気生成室を有する容器と、前記蒸気生成室内に水を注入する注水器と、前記容器に設けられ、前記蒸気生成室内の水を加熱することに基いて前記蒸気生成室内で水蒸気を生成する蒸気生成用熱源と、前記容器に前記蒸気生成用熱源より高所に位置して設けられ、前記蒸気生成室内で水蒸気を過熱する過熱用熱源とを備えていることを特徴とする加熱調理装置。
（発明２）
前記容器は、金属を鍛造することから構成され、前記蒸気生成用熱源および前記過熱用熱源は、前記容器に鋳込まれていることを特徴とする発明１記載の加熱調理装置。
（発明３）
前記注水器を前記蒸気生成用熱源および前記過熱用熱源の双方の運転状態に応じて駆動制御することに基いて前記蒸気生成室に対する水の注入量を制御する注水制御手段を備えたことを特徴とする発明１〜２のいずれかに記載の加熱調理装置。
（発明４）
前記蒸気生成室の室内温度を検出する温度センサを備え、前記注水制御手段は、前記温度センサの検出結果が予め決められた注水開始温度に到達することに基いて前記蒸気生成室に対する注水動作を開始する制御を行うことを特徴とする発明３記載の加熱調理装置。
（発明５）
前記蒸気生成室の壁面には、水蒸気を屈曲した経路で流すように配列された複数のフィンが設けられていることを特徴とする発明４記載の加熱調理装置。
【符号の説明】
【００６１】
４は調理室、１９はオーブン調理機構（加熱器）、２２はマグネトロン（加熱器）、３０は蒸気生成ユニット（蒸気供給器）、３１は蒸気生成容器（容器）、３４は蒸気生成室、３６はポンプ（注水器）、４０は蒸発ヒータ（蒸気生成用熱源）、４１は過熱ヒータ（過熱用熱源）、４２は蒸気口、４７はメイン上フィン（フィン）、４８はメイン下フィン（フィン）、４９はサブ上フィン（フィン）、５０はサブ中フィン（フィン）、５１はサブ下フィン（フィン）、５２はサブエンドフィン（フィン）、５３，５４，５５は蒸気通路、５９は蒸気温度センサ（温度センサ）、７０は制御装置（注水制御手段）を示している。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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