(57)【要約】【課題】消費電力を増加させることなく、反射面の汚れを防止することのできる光学デバイス、光スキャナ及び画像形成装置を提供する。【解決手段】光学デバイス１は、光を反射する反射膜２１ｂを有する可動板１１と、可動板１１をＸ軸周りに回動可能に支持する弾性支持部１３とを備え、可動板１１は、Ｘ軸と水平に直交する方向における長さが反射膜２１ｂの長さより大きい薄膜２１ａを有する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
光を反射する反射膜を有する可動板と、
前記可動板を所定軸周りに回動可能に支持する支持部とを備え、
前記可動板は、前記所定軸と水平に直交する方向における長さが前記反射膜の長さより大きい薄膜を有する
ことを特徴とする光学デバイス。
【請求項２】
前記反射膜と前記薄膜とが１つの膜として可動板上に形成される
ことを特徴とする請求項１に記載の光学デバイス。
【請求項３】
前記可動板は、前記所定軸と水平に直交する方向における長さが前記反射膜の長さ以下である
ことを特徴とする請求項１又は２に記載の光学デバイス。
【請求項４】
請求項１乃至３の何れかに記載の光学デバイスを備える
ことを特徴とする光スキャナ。
【請求項５】
請求項４に記載の光スキャナを備える
ことを特徴とする画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明に係るいくつかの態様は、例えばＭＥＭＳ（Micro Electro Mechanical System）技術により作製され、可動板が弾性支持部を中心に往復運動する光学デバイス、光スキャナ及び画像形成装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
この種の光学デバイスは、例えば、一対の弾性支持部（トーションバー）でねじり回動可能に支持され、光を反射する反射膜を有する可動板を備えている。このような光学デバイスを備える装置の小型化・高機能化を図るためには、可動板を高速・大偏向角で駆動する必要がある。
【０００３】
しかし、可動板を高速・大偏向角で駆動すると、可動板、特に可動板の外周部に気流が生じ、埃、塵、水分、油分などが可動板の反射膜に吸い寄せられて付着してしまう。その結果、反射膜の反射率が低下するので、反射した光の輝度が低下するという問題があった。反射した光の輝度の低下を防止するために光源の光の輝度を増加すると、光源における消費電力が増加するという新たな問題が生じる。また、反射膜の反射率が低下すると、光学デバイスに吸収されるエネルギーが大きくなるので、反射せずに吸収された光のエネルギーによって光学デバイスの温度が変化してしまう。その結果、温度変化により光学デバイスの共振周波数が変化し、可動板の駆動制御が困難になるという問題もあった。
【０００４】
従来、これらの問題を解決するために、反射膜を有する可動板を反射膜側から光透過部材で覆い、反射膜の汚れを防止するようにしたものが知られている（例えば特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２００５−１７３４３５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、従来のものでは、光源と反射膜の間に、光透過部材として例えば透過ガラスを設ける必要があるとともに、透過ガラスに反射防止膜をコーティングする必要があるため、コストアップに繋がるという問題があった。また、透過ガラスに反射防止膜を設けても光源光を全て透過することはできないので、エネルギーロスが生じることにより、光源における消費電力の増加を招いていた。さらに、透過できずに反射された光は迷光となるおそれもあった。
【０００６】
本発明のいくつかの態様は前述の問題に鑑みてなされたものであり、消費電力を増加させることなく、反射膜の汚れを防止することのできる光学デバイス、光スキャナ及び画像形成装置を提供することを目的の１つとする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明に係る光学デバイスは、光を反射する反射膜を有する可動板と、前記可動板を所定軸周りに回動可能に支持する支持部とを備え、前記可動板は、前記所定軸と水平に直交する方向における長さが前記反射膜の長さより大きい薄膜を有する。
【０００８】
かかる構成によれば、所定軸と水平に直交する方向における薄膜の長さが反射膜の長さより大きい。ここで、慣性モーメントは、その物体の微小部分の質量と、その微小部分の回動軸からの距離の２乗との積の総和である。これにより、可動板を所定軸周りに回動させたときに、気流によって可動板に吸い寄せられる塵や埃などが、反射膜ではなく薄膜の反射膜より外側の部分に付着する。一方、同一質量であって、所定軸と水平に直交する方向における長さが反射膜の長さ以下の薄膜と比較すると、回動軸である所定軸からの距離が長くなるが、薄膜は質量が小さいことから、慣性モーメントはほとんど変わらない。これにより、消費電力を増加させることなく、反射膜の汚れを防止することができる。
【０００９】
好ましくは、前記反射膜と前記薄膜とが１つの膜として可動板上に形成される。
かかる構成によれば、反射膜と薄膜とが１つの膜として可動板上に形成されるので、当該膜が薄膜としての役割と反射膜としての役割とを兼ねる。これにより、消費電力を増加させることなく、反射膜の汚れを防止することができる光学デバイスを、より少ない工程で安価に実現することができる。
【００１０】
好ましくは、前記可動板は、前記所定軸と水平に直交する方向における長さが前記反射膜の長さ以下である。
【００１１】
かかる構成によれば、所定軸と水平に直交する方向における可動板の長さが反射膜の長さ以下であるので、同一質量であって、所定軸と水平に直交する方向における長さを反射膜の長さより大きくすることにより反射膜の汚れを防止する可動板と比較して、回動軸である所定軸からの距離が短くなることから、慣性モーメントを低減することができる。これにより、可動板の駆動トルクを低減することができ、共振周波数が同一であって、所定軸と水平に直交する方向における長さが反射膜の長さより大きい可動板と比較して、消費電力を低減することができる。
【００１２】
本発明に係る光スキャナは、前述した本発明に係る光学デバイスを備える。
かかる構成によれば、前述した本発明に係る光学デバイスを備えるので、反射面の汚れを防止することができる。これにより、反射面の反射率の低下を防止することができ、反射した光の輝度を維持できる優れた光学特性を有する光スキャナを実現することができる。
【００１３】
本発明に係る画像形成装置は、前述した本発明に係る光スキャナを備える。
かかる構成によれば、前述した本発明に係る光スキャナを備えるので、反射面で反射した光の輝度を維持できる。これにより、光源における消費電力の増大を抑制することができるとともに、優れた描画特性を有する画像形成装置を実現することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、本発明の一実施形態について図面を参照しながら説明する。
＜光学デバイス＞
（第１実施形態）
図１乃至図２４は、本発明に係る光学デバイスの第１実施形態を示すものであり、図１は、本発明に係る光学デバイスの第１実施形態における構成を説明する平面図である。図２は、図１のＩＩ−ＩＩ線における断面図である。
【００１５】
図１に示すように、光学デバイス１は、可動板１１と、支持枠１２と、支持枠１２に対して可動板１１をＸ軸周りに回動可能に支持する一対の弾性支持部１３とを備える。可動板１１、支持枠１２、及び弾性支持部１３は、例えばシリコン基板をエッチング加工することにより一体形成される。
【００１６】
図２に示すように、可動板１１の表面には、窒化シリコン（ＳｉＮ）や酸化シリコン（ＳｉＯ2）などからなる薄膜２１ａが形成されており、薄膜２１ａ上には入射した光を反射する反射膜２１ｂが形成されている。ミラー２は、可動板１１、薄膜２１ａ、及び反射膜２１ｂから構成される。
【００１７】
本実施形態では、ミラー２として平面形状が矩形のものを示したが、これに限定されず、光学デバイスのミラーとして求められる役割を果たす限り、円形、楕円形、多角形などの他の形状であってもよい。
【００１８】
可動板１１の裏面には、図示しない接着剤を介して磁石２２が接合されている。磁石２２は、可動板１１を平面視したときに、可動板１１の回動中心軸であるＸ軸に直交する方向に磁化されている。すなわち、磁石２２は、Ｘ軸を介して対向する互いに極性の異なる一対の磁極を有している。支持枠１２は、ホルダ５０に接合されており、ホルダ５０上には、可動板１１を駆動させるためのコイル５１が配置されている。
【００１９】
コイル５１には、図示しない電源から周期的に変化する交流電流が供給される。これにより、コイル５１は上方（可動板１１側）に向く磁界と、下方に向く磁界とを交互に発生させる。これにより、コイル５１に対し磁石２２の一対の磁極のうち一方の磁極が接近し他方の磁極が離間するようにして、弾性支持部１３を捩れ変形させながら、可動板１１がＸ軸回りに回動させられる。
【００２０】
本実施形態では、磁石２２とコイル５１間の電磁力を利用した駆動方式の振動ミラーを示したが、これに限定されず、光学デバイス１は、静電引力を利用した方式や、圧電素子を利用した方式を採用してもよい。例えば、静電引力を利用した方式の場合には、磁石２２は不要であり、コイル５１の代わりに可動板１１に対向する１つ又は複数の電極が設置される。そして、可動板１１と電極との間に周期的に変化する交流電圧を印加することにより、可動板１１と電極との間に静電引力を作用させ、弾性支持部１３を捩れ変形させながら、可動板１１をＸ軸周りに回動させるようにしてもよい。
【００２１】
図３は、図２に示した可動板の詳細な構成を説明する断面図である。図３に示すように、反射膜２１ｂのＸ軸と水平に直交する方向における長さ（以下、幅という）は、反射膜２１ｂが入射した光を反射するために必要な面積（以下、有効面積という）を確保するための幅Ｗに設定される。これに対し、薄膜２１ａの幅は、反射膜２１ｂの幅Ｗより、例えば片側で１００〜２００μｍ程度大きくなるように設定される。ここで、慣性モーメントは、その物体の微小部分の質量と、その微小部分の回動軸からの距離の２乗との積の総和である。これにより、可動板１１をＸ軸周りに回動させたときに、気流によって可動板１１に吸い寄せられる塵や埃などが、反射膜２１ｂではなく、薄膜２１ａの反射膜２１ｂより外側の部分に付着する。一方、同一質量であって、幅が反射膜の幅以下の薄膜と比較すると、回動軸であるＸ軸からの距離が長くなるが、薄膜は質量が小さいことから、慣性モーメントはほとんど変わらない。
【００２２】
また、可動板１１の幅は、反射膜２１ｂの幅Ｗと同一に設定される。本実施形態では、可動板１１の幅を反射膜２１ｂの幅Ｗと同一に設定したが、これに限定されず、反射膜２１ｂの幅Ｗより小さくてもよい。これにより、同一質量であって、幅を反射膜の幅より大きくすることにより反射膜の汚れを防止する可動板と比較して、回動軸であるＸ軸からの距離が短くなることから、慣性モーメントを低減することができる。
【００２３】
次に、図４乃至図２４を参照して本発明に係る光学デバイスの第１実施形態における製造方法について説明する。まず、シリコン基板を用いた製造方法について説明する。図４乃至図１９は、図１に示した光学デバイスの製造方法の一例を説明する断面図である。
【００２４】
図４に示すように、例えばシリコンからなる基板１０を用意する。そして、図５に示すように、熱酸化により、基板１０の両面に酸化シリコン（ＳｉＯ2）からなるマスク３１,３２を形成する。なお、マスク３１，３２は窒化シリコン（ＳｉＮ）であってもよい。
【００２５】
次に、図６に示すように、基板１０の表面側のマスク３１上にレジスト４１を形成する。レジストは、ポジ型であってもネガ型であってもよい。そして、続いて、図７に示すように、基板１０の裏面側のマスク３２上にレジスト４２を形成する。
【００２６】
次に、図８に示すように、基板１０の裏面側のレジスト４２を露光及び現像して、レジスト４２に所定の開口パターンＰ２を形成する。開口パターンＰ２は、例えば、可動板１１、支持枠１２、弾性支持部１３以外の領域を開口するパターンである。
【００２７】
次に、図９に示すように、レジスト４２をマスクとして裏面側のマスク３２をエッチングする。これにより、レジスト４２の開口パターンＰ２が、マスク３２に転写される。マスク３２のエッチングには、例えばバッファードフッ酸（ＢＨＦ）が用いられる。
【００２８】
次に、図１０に示すように、基板両面のレジスト４１，４２を除去する。レジスト４１，４２の除去には、硫酸洗浄又はアッシングが用いられる。
【００２９】
次に、図１１に示すように、基板１０の裏面側に再度、レジスト４３を形成する。さらに、図１２に示すように、基板１０の表面側に再度、レジスト４４を形成する。
【００３０】
次に、図１３に示すように、基板１０の表面側のレジスト４４を露光及び現像して、レジスト４４に所定の開口パターンＰ１を形成する。開口パターンＰ１は、例えば、薄膜２１ａ、支持枠１２、弾性支持部１３以外の領域を開口するパターンである。
【００３１】
次に、図１４に示すように、レジスト４４をマスクとして表面側のマスク３１をエッチングする。これにより、レジスト４４の開口パターンＰ１が、マスク３１に転写される。マスク３１のエッチングには、例えばバッファードフッ酸（ＢＨＦ）が用いられる。
【００３２】
次に、図１５に示すように、基板両面のレジスト４３，４４を除去する。レジスト４３，４４の除去には、硫酸洗浄又はアッシングが用いられる。
【００３３】
次に、図１６に示すように、マスク３１，３２を用いて、基板１０を裏面側からエッチングする。これにより、基板１０に貫通孔が形成されて、可動板１１、支持枠１２、弾性支持部１３、及び薄膜２１ａのパターンが形成される。基板１０のエッチングには、例えば、ドライエッチングを用いる。ドライエッチングは選択性を有するので、シリコンである基板１０がエッチングされ、酸化シリコン（ＳｉＯ2）などのマスク３１,３２は残る。
【００３４】
次に、図１７に示すように、一部のマスクを残してマスク３１，３２を除去することにより、残したマスクである薄膜２１ａが可動板１１の表面に形成される。薄膜２１ａの厚さは、例えば１μｍ以下程度である。
【００３５】
次に、図１８に示すように、薄膜２１ａの表面に金属膜を成膜し、薄膜２１ａ上に反射膜２１ｂを形成する。金属膜の成膜方法としては、真空蒸着、スパッタリング、金属箔の接合などが挙げられる。
【００３６】
次に、図１９に示すように、可動板１１の裏面に、図示しない接着剤を介して磁石２２を接合して固定する。
【００３７】
以降の工程は、特に図示しないが、このようにして一枚の基板１０から作製された可動板１１、支持枠１２、弾性支持部１３、薄膜２１ａ、及び反射膜２１ｂを含む構造体を、ホルダ５０に取り付けることにより、光学デバイス１が製造される。
【００３８】
次に、いわゆるＳＯＩ基板を用いた製造方法について説明する。図２０乃至図２４は、図１に示した光学デバイスの製造方法の変形例を説明する断面図である。
【００３９】
図２０に示すように、第１のシリコン層１００ａと酸化膜層１００ｂと第２のシリコン層１００ｃとが積層した基板１００を用意する。この基板は一般的にＳＯＩ基板と呼ばれる。
【００４０】
ＳＯＩ基板の第１のシリコン層１００ａ及び第２のシリコン層１００ｃに対し、マスク３１，３２及びレジスト４１，４２，４３，４４を形成してエッチングを施すことにより、図２１に示すように、前述の開口パターンＰ１を有するマスク３１を第１のシリコン層１００ａの表面側に形成するとともに、前述の開口パターンＰ２を有するマスク３２を第２のシリコン層１００ｃの裏面側に形成する。なお、開口パターンＰ１，Ｐ２の形成方法は、前述の図５〜図１５と同様であるため、図示及びその説明を省略する。
【００４１】
次に、図２２に示すように、マスク３１を用いて、第２のシリコン層１００ｃの表面側からエッチングする。第２のシリコン層１００ｃのエッチングには、例えば、ドライエッチングを用いる。ドライエッチングは選択性を有するので、第２のシリコン層１００ｃがエッチングされ、酸化膜層１００ｂ及び酸化シリコン（ＳｉＯ2）などのマスク３１は残る。
【００４２】
次に、図２３に示すように、マスク３２を用いて、第１のシリコン層１００ａの裏面側からエッチングする。第１のシリコン層１００ａのエッチングには、例えば、ドライエッチングを用いる。ドライエッチングは選択性を有するので、第１のシリコン層１００ａがエッチングされ、酸化膜層１００ｂ及び酸化シリコン（ＳｉＯ2）などのマスク３２は残る。
【００４３】
次に、図２４に示すように、例えばフッ酸又はバッファードフッ酸（ＢＨＦ）が用いてエッチングする。これにより、酸化膜層１００ｂに貫通孔が形成されて、可動板１１、支持枠１２、弾性支持部１３が形成されるとともに、可動板１１の表面に第２のシリコン層１００ｃからなる薄膜２１ａが形成される。これにより、薄膜２１ａの厚さはＳＯＩ基板１００のシリコン層の厚さと同一となる。ここで、ＳＯＩ基板の各層は高精度にその厚さを変更することが可能であるから、薄膜２１ａの厚さの制御が容易になる。
【００４４】
なお、薄膜２１ａの厚さは、例えば５μｍ程度である。また、エッチングにはフッ酸又はバッファードフッ酸（ＢＨＦ）が用いられるので、マスク３１，３２が酸化シリコン（ＳｉＯ2）からなる場合には、酸化膜層１００ｂとともにマスク３１，３２が除去される。
【００４５】
以降の光学デバイス１を製造する工程は、前述の図１８及び図１９と同様であるため、図示及びその説明を省略する。
【００４６】
本実施形態では、薄膜２１ａのパターン又は薄膜２１ａを形成した後に、薄膜２１ａに反射膜２１ｂを形成するようにしたが、これに限定されず、薄膜２１ａのパターン又は薄膜２１ａが形成される箇所の表面に、あらかじめ反射膜２１ｂを形成しておき、次いで薄膜２１ａを形成するようにしてもよい。かかる場合、反射膜２１ｂを保護するマスクとして、樹脂などのレジストを用いる。
【００４７】
このように、本実施形態における光学デバイス１によれば、薄膜２１ａの幅が反射膜２１ｂの幅より大きい。ここで、慣性モーメントは、その物体の微小部分の質量と、その微小部分の回動軸からの距離の２乗との積の総和である。これにより、可動板１１をＸ軸周りに回動させたときに、気流によって可動板１１に吸い寄せられる塵や埃などが、反射膜２１ｂではなく、薄膜２１ａの反射膜２１ｂより外側の部分に付着する。一方、同一質量であって、幅が反射膜の幅以下の薄膜と比較すると、回動軸であるＸ軸からの距離が長くなるが、薄膜２１ａは質量が小さいことから、慣性モーメントはほとんど変わらない。これにより、消費電力を増加させることなく、反射膜２１ｂの汚れを防止することができる。
【００４８】
また、本実施形態における光学デバイス１によれば、可動板１１の幅が反射膜２１ｂの幅以下であるので、同一質量であって、幅を反射膜の幅より大きくすることにより反射膜の汚れを防止する可動板と比較して、慣性モーメントを低減することができる。これにより、可動板１１の駆動トルクを低減することができ、共振周波数が同一であって、幅が反射膜の幅より大きい可動板と比較して、消費電力を低減することができる。
【００４９】
（第２実施形態）
図２５乃至図３０は、本発明に係る光学デバイスの第２実施形態を示すものであり、図２５は、本発明に係る光学デバイスの第２実施形態における可動板の詳細な構成を説明する断面図である。なお、前述した第１実施形態と同一構成部分は同一符号をもって表し、その説明を省略する。
【００５０】
第２実施形態と第１実施形態との相違点は、薄膜と反射膜とが含まれる一体膜を可動板上に形成するようにしたことである。
【００５１】
すなわち、図２５に示すように、可動板１１の表面には一体膜２１ｃが形成されている。一体膜２１ｃの表面側は、第１実施形態における反射膜２１ｂのように、光反射性を有しており、一体膜２１ｃの幅は、第１実施形態における薄膜２１ａのように、幅Ｗよりも大きく設定される。これにより、一体膜２１ｃが薄膜２１ａとしての役割と反射膜２１ｂとしての役割とを兼ねる。
【００５２】
また、可動板１１の幅は、反射膜２１ｂとして役割を担う一体膜２１ｃの幅より小さいが、幅Ｗと同一に設定される。これにより、第１実施形態と同様に、同一質量であって、幅を反射膜の幅より大きくすることにより反射膜の汚れを防止する可動板と比較して、回動軸であるＸ軸からの距離が短くなることから、慣性モーメントを低減することができる。
【００５３】
次に、図２６乃至図３０を参照して本発明に係る光学デバイスの第２実施形態における製造方法について説明する。図２６乃至図３０は、本発明に係る光学デバイスの第２実施形態における製造方法の一例を説明する断面図である。
【００５４】
まず、第１実施形態と同様に、例えばシリコンからなる基板１０を用意し、図２６に示すように、基板１０の表面の所定位置にアルミニウム（Ａｌ）からなるマスク３３を形成する。そして、図２７に示すように、熱酸化により、基板１０の表面側の残りの部分と裏面側とに酸化シリコン（ＳｉＯ2）からなるマスク３１,３２を形成する。なお、マスク３１，３２は窒化シリコン（ＳｉＮ）であってもよい。
【００５５】
次に、マスク３１，３２，３３が形成された基板１０に対し、レジスト４１，４２，４３，４４を形成してエッチングを施すことにより、図２８に示すように、前述の開口パターンＰ１を有するマスク３１，３３を基板１０の表面側に形成するとともに、前述の開口パターンＰ２を有するマスク３２を基板１０の裏面側に形成する。なお、開口パターンＰ１，Ｐ２の形成方法は、前述の図６〜図１５と同様であるため、図示及びその説明を省略する。
【００５６】
次に、図２９に示すように、マスク３１，３２,３３を用いて、基板１０を裏面側からエッチングする。これにより、基板１０に貫通孔が形成されて、可動板１１、支持枠１２、弾性支持部１３、及び一体膜２１ｃのパターンが形成される。基板１０のエッチングには、例えば、ドライエッチングを用いる。ドライエッチングは選択性を有するので、シリコンである基板１０がエッチングされ、酸化シリコン（ＳｉＯ2）などのマスク３１,３２とアルミニウム（Ａｌ）であるマスク３３とは残る。
【００５７】
次に、図３０に示すように、マスク３３を残してマスク３１，３２を除去することにより、残したマスク３３である一体膜２１ｃが可動板１１の表面に形成される。
【００５８】
以降の光学デバイス１を製造する工程は、前述の図１８及び図１９と同様であるため、図示及びその説明を省略する。
【００５９】
このように、本実施形態における光学デバイス１によれば、反射膜２１ｂと薄膜２１ａとが一体膜２１ｃとして可動板１１上に形成されるので、一体膜２１ｃが薄膜２１ａとしての役割と反射膜２１ｂとしての役割とを兼ねる。これにより、消費電力を増加させることなく、反射膜２１ｂの汚れを防止することができる光学デバイス１を、より少ない工程で安価に実現することができる。
【００６０】
（光スキャナ）
前述の光学デバイス１は、反射膜２１aを備えているため、例えば、レーザープリンタ、バーコードリーダー、走査型共焦点レーザー顕微鏡、イメージング用ディスプレイなどの画像形成装置に備える光スキャナに好適に適用することができる。なお、本発明に係る光スキャナは、前述した光学デバイス１と同様の構成であるため、その説明を省略する。
【００６１】
このように、本発明に係る光スキャナによれば、前述した本発明に係る光学デバイス１を備えるので、反射膜２１ｂの汚れを防止することができる。これにより、反射膜２１ｂの反射率の低下を防止することができ、反射した光の輝度を維持できる優れた光学特性を有する光スキャナを実現することができる。
【００６２】
（画像形成装置）
次に、図３１を参照して本発明に係る画像形成装置について説明する。図３１は、本発明に係る光スキャナを備える画像形成装置の一例を説明する概略図である。
【００６３】
図３１に示す画像形成装置（イメージングディスプレイ）１１９は、光スキャナである光学デバイス１と、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色の光源１９１、１９２、１９３と、クロスダイクロイックプリズム（Ｘプリズム）１９４と、ガルバノミラー１９５と、固定ミラー１９６と、スクリーン１９７とを備えている。
【００６４】
このような画像形成装置１１９にあっては、光源１９１、１９２、１９３からクロスダイクロイックプリズム１９４を介して光学デバイス１（反射膜２１ｂ）に各色の光が照射される。このとき、光源１９１からの赤色の光と、光源１９２からの緑色の光と、光源１９３からの青色の光とが、クロスダイクロイックプリズム１９４にて合成される。そして、反射膜２１ｂで反射した光（３色の合成光）は、ガルバノミラー１９５で反射した後に、固定ミラー１９６で反射し、スクリーン１９７上に照射される。
【００６５】
その際、光学デバイス１の動作（可動板１１のＸ軸周りの回動）により、反射膜２１ｂで反射した光は、スクリーン１９７の横方向に走査（主走査）される。一方、ガルバノミラー１９５の軸線Ｙ周りの回動により、反射膜２１ｂで反射した光は、スクリーン１９７の縦方向に走査（副走査）される。また、各色の光源１９１、１９２、１９３から出力される光の強度は、図示しないホストコンピュータから受けた画像情報に応じて変化する。
【００６６】
このように、本発明に係る画像形成装置１１９によれば、前述した本発明に係る光スキャナを備えるので、反射膜２１ｂで反射した光の輝度を維持できる。これにより、光源における消費電力の増大を抑制することができるとともに、優れた描画特性を有する画像形成装置１１９を実現することができる。
【００６７】
なお、本発明の構成は、前述の実施形態にのみ限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々変更を加えてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００６８】
【図１】本発明に係る光学デバイスの第１実施形態における構成を説明する平面図である。
【図２】図２は図１のＩＩ−ＩＩ線における断面図である。
【図３】図２に示した可動板の詳細な構成を説明する断面図である。
【図４】図１に示した光学デバイスの製造方法の一例を説明する断面図である。
【図５】図１に示した光学デバイスの製造方法の一例を説明する断面図である。
【図６】図１に示した光学デバイスの製造方法の一例を説明する断面図である。
【図７】図１に示した光学デバイスの製造方法の一例を説明する断面図である。
【図８】図１に示した光学デバイスの製造方法の一例を説明する断面図である。
【図９】図１に示した光学デバイスの製造方法の一例を説明する断面図である。
【図１０】図１に示した光学デバイスの製造方法の一例を説明する断面図である。
【図１１】図１に示した光学デバイスの製造方法の一例を説明する断面図である。
【図１２】図１に示した光学デバイスの製造方法の一例を説明する断面図である。
【図１３】図１に示した光学デバイスの製造方法の一例を説明する断面図である。
【図１４】図１に示した光学デバイスの製造方法の一例を説明する断面図である。
【図１５】図１に示した光学デバイスの製造方法の一例を説明する断面図である。
【図１６】図１に示した光学デバイスの製造方法の一例を説明する断面図である。
【図１７】図１に示した光学デバイスの製造方法の一例を説明する断面図である。
【図１８】図１に示した光学デバイスの製造方法の一例を説明する断面図である。
【図１９】図１に示した光学デバイスの製造方法の一例を説明する断面図である。
【図２０】図１に示した光学デバイスの製造方法の変形例を説明する断面図である。
【図２１】図１に示した光学デバイスの製造方法の変形例を説明する断面図である。
【図２２】図１に示した光学デバイスの製造方法の変形例を説明する断面図である。
【図２３】図１に示した光学デバイスの製造方法の変形例を説明する断面図である。
【図２４】図１に示した光学デバイスの製造方法の変形例を説明する断面図である。
【図２５】本発明に係る光学デバイスの第２実施形態における可動板の詳細な構成を説明する断面図である。
【図２６】本発明に係る光学デバイスの第２実施形態における製造方法の一例を説明する断面図である。
【図２７】本発明に係る光学デバイスの第２実施形態における製造方法の一例を説明する断面図である。
【図２８】本発明に係る光学デバイスの第２実施形態における製造方法の一例を説明する断面図である。
【図２９】本発明に係る光学デバイスの第２実施形態における製造方法の一例を説明する断面図である。
【図３０】本発明に係る光学デバイスの第２実施形態における製造方法の一例を説明する断面図である。
【図３１】本発明に係る光スキャナを備える画像形成装置の一例を示す概略図である。
【符号の説明】
【００６９】
１…光学デバイス、１１…可動板、１２…支持枠、１３…弾性支持部、２１ａ…薄膜、２１ｂ…反射膜、１１９…画像形成装置。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
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【図３１】
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