(57)【要約】      （修正有）【課題】より高分子の加工安定性を向上させる組成物を提供する。【解決手段】一般式（１）で示されるビスフェノールモノエステル、2010077444.tif 000007および式（１）に類するビスフェノールジエステルを含み、該モノエステル体およびジエステル体の合計量１００重量部あたりのビスフェノールジエステル体の含有量が０．００１〜５重量部であることを特徴とする組成物。但し該組成物はポリマーを含まない。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（１）
2010077444.tif 000005
（式中、Ｒ1は水素原子、炭素数１〜５のアルキル基またはフェニル基を示し、Ｒ2、Ｒ3はそれぞれ独立に炭素数１〜９のアルキル基を示し、Ｒ4、Ｒ5はそれぞれ独立に水素原子またはメチル基を示す。）
で示されるビスフェノールモノエステルおよび一般式（２）
2010077444.tif 000006
（式中、Ｒ6は水素原子、炭素数１〜５のアルキル基またはフェニル基を示し、Ｒ7、Ｒ8はそれぞれ独立に炭素数１〜９のアルキル基を示し、Ｒ9、Ｒ10はそれぞれ独立に水素原子またはメチル基を示す。）
で示されるビスフェノールジエステルを含み、
一般式（１）で示されるビスフェノールモノエステルの含有量および一般式（２）で示されるビスフェノールジエステルの含有量の合計量１００重量部あたりの一般式（２）で示されるビスフェノールジエステルの含有量が０．００１〜５重量部であることを特徴とする組成物。但し該組成物はポリマーを含まない。
【請求項２】
一般式（１）で示されるビスフェノールモノエステルが２−ｔ−ブチル−６−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェニル  アクリレートであり、一般式（２）で示されるビスフェノールジエステルが２，２’−メチレンビス（６−ｔ−ブチル−４−メチル−フェノール）ジアクリレートである請求項１記載の組成物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、加熱されても容易には架橋せず、加工安定性に優れた高分子組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
ポリマーの中でもスチレン−ブタジエンブロック共重合体などのようにジエンを単量体単位とする重合体などは高分子鎖中に炭素−炭素二重結合を有するため、成形加工時や溶融混練時の加熱により架橋し易く、成形加工時の流動性が低下し易いという問題があった。流動性の低下は、成形不良の発生などの加工安定性の低下の原因ともなる。さらにスチレン−ブタジエンブロック共重合体では、その弾性、粘着性、耐衝撃性などが低下するという問題もあった。
【０００３】
かかる加工安定性の低下が抑制されたものとして、例えばポリマーに一般式（１）
2010077444.tif 000002
（式中、Ｒ1は水素原子、炭素数１〜５のアルキル基またはフェニル基を示し、Ｒ2、Ｒ3はそれぞれ独立に炭素数１〜９のアルキル基を示し、Ｒ4、Ｒ5はそれぞれ独立に水素原子またはメチル基を示す。）
で示されるビスフェノールモノエステル（以下、「化合物（１）」と称する。）が含有された高分子組成物が知られている（米国特許第４５２５５１４号公報など）。かかる高分子組成物は、加熱によるポリマーの架橋が抑制されていて加工安定性に優れており、加工成形時における成形不良の発生などが少ないものである。
しかし、より加工安定性が向上された高分子組成物の開発が望まれていた。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
そこで、本発明者は、加工安定性がより向上された高分子組成物を開発するべく鋭意検討した結果、化合物（１）と共に特定のビスフェノールジエステルをポリマーに含有させることにより、加熱時におけるポリマーの架橋をより有効に防止し得て加工安定性が向上することを見出し、本発明に至った。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
すなわち、本発明は、ポリマーに上記化合物（１）および一般式（２）
2010077444.tif 000003
（式中、Ｒ6は水素原子、炭素数１〜５のアルキル基またはフェニル基を示し、Ｒ7、Ｒ8はそれぞれ独立に炭素数１〜９のアルキル基を示し、Ｒ9、Ｒ10はそれぞれ独立に水素原子またはメチル基を示す。）
で示されるビスフェノールジエステルが含有されてなり、
一般式（１）で示されるビスフェノールモノエステルの含有量および一般式（２）で示されるビスフェノールジエステルの含有量の合計量１００重量部あたりの一般式（２）で示されるビスフェノールジエステルの含有量が０．００１重量部以上５重量部以下であることを特徴とする高分子組成物を提供するものである。
【発明の効果】
【０００６】
本発明の高分子組成物は、加熱されても架橋し難く加工安定性に優れており、流動性の低下による成形不良などが生じにくい。
【発明を実施するための形態】
【０００７】
本発明の高分子組成物を構成するポリマーとしては、例えば高分子鎖中に炭素−炭素二重結合を有する重合体が挙げられる。かかるポリマーとしては、例えば単量体単位としてブタジエンなどのジエン単位を単量体単位とする重合体などが挙げられ、具体的にはスチレン−ブタジエンブロック共重合体（ＳＢＳ）、ブタジエンゴム（ＢＲ）、スチレン・ブタジエンゴム（ＳＢＲ）、耐衝撃ポリスチレン（ＨＩ−ＰＳ）などのブタジエン系ポリマーなどが挙げられる。これらは乳化重合、溶液重合、塊状重合、懸濁重合などの通常の重合方法で製造することができる。
【０００８】
化合物（１）において、置換基Ｒ1は水素原子、炭素数１〜５のアルキル基またはフェニル基である。水素原子、炭素数１〜５のアルキル基が好ましく、さらには水素原子、メチル基が好ましい。
置換基Ｒ2は炭素数１〜９のアルキル基であるが、好ましくは炭素数４〜８のアルキル基であり、さらに好ましくはｔ−ブチル基、ｔ−アミル基、ｔ−オクチル基などの一般式（３）
2010077444.tif 000004
（式中、ｉ、j、ｋはそれぞれ独立に１〜５の整数を示し、ｉ＋ｊ＋ｋは３〜７である。）
で示される炭素数４〜８のアルキル基である。
置換基Ｒ3は炭素数１〜９のアルキル基であるが、好ましくは炭素数１〜６のアルキル基であり、さらに好ましくはメチル基、エチル基、ｔ−ブチル基、ｔ−アミル基である。置換基Ｒ2とＲ3とは互いに同一であってもよいし、異なっていてもよい。
置換基Ｒ4およびＲ5はそれぞれ独立には水素原子またはメチル基である。置換基Ｒ4とＲ5とは互いに同一であってもよいし、異なっていてもよい。
【０００９】
かかる化合物（１）としては、例えば２−ｔ−ブチル−６−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェニル  アクリレート、２−ｔ−ブチル−６−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−エチルベンジル）−４−エチルフェニル  アクリレート、２，４−ジ−ｔ−ブチル−６−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−ベンジル）フェニル  アクリレート、２−ｔ−ブチル−６−[１−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）エチル]−４−メチルフェニル  アクリレート、２−ｔ−ブチル−６−[１−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−エチルフェニル）エチル]−４−エチルフェニル  アクリレート、２，４−ジ−ｔ−ブチル−６−[１−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）エチル]フェニル  アクリレート、２，４−ジ−ｔ−アミル−６−[１−（３，５−ジ−ｔ−アミル−２−ヒドロキシフェニル）エチル]フェニル  アクリレート、２−ｔ−ブチル−６−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェニル  メタクリレート、２−ｔ−ブチル−６−[１−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）エチル]−４−メチルフェニル  メタクリレート、２，４−ジ−ｔ−ブチル−６−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−ベンジル）フェニル  メタクリレート、２−ｔ−ブチル−６−[１−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−エチルフェニル）エチル]−４−エチルフェニル  メタクリレート、２−ｔ−ブチル−６−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−エチルベンジル）−４−エチルフェニル  メタクリレート、２，４−ジ−ｔ−ブチル−６−[１−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）エチル]フェニル  メタクリレート、２，４−ジ−ｔ−アミル−６−[１−（３，５−ジ−ｔ−アミル−２−ヒドロキシフェニル）エチル]フェニル  メタクリレートなどが挙げられる。
【００１０】
化合物（１）は、それぞれ単独または２種以上を混合して用いられる。化合物（１）は、公知の方法で製造することができる（特開昭５９−１４４７３３号公報、特開昭６３−５０５３号公報、米国特許第３９８４３７２号公報、特開平４−２６４０５１号公報など）。
【００１１】
化合物（２）は、一般式（２）で示される化合物であるが、ここで置換基Ｒ6は水素原子、炭素数１〜５のアルキル基またはフェニル基である。水素原子、炭素数１〜５のアルキル基が好ましく、さらには水素原子、メチル基が好ましい。
置換基Ｒ7は炭素数１〜９のアルキル基であるが、好ましくは炭素数４〜８のアルキル基であり、さらに好ましくはｔ−ブチル基、ｔ−アミル基、ｔ−オクチル基などのの前記一般式（３）で示される炭素数４〜８のアルキル基である。置換基Ｒ8は炭素数１〜９のアルキル基であるが、好ましくは炭素数１〜６のアルキル基であり、さらに好ましくはメチル基、エチル基、ｔ−ブチル基、ｔ−アミル基である。置換基Ｒ7とＲ8とは互いに同一であってもよいし、異なっていてもよい。
置換基Ｒ9およびＲ10はそれぞれ独立には水素原子またはメチル基である。置換基Ｒ9とＲ10とは互いに同一であってもよいし、異なっていてもよい。
【００１２】
化合物（２）としては、例えば２，２’−メチレンビス（６−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ジアクリレート、２，２’−メチレンビス（６−ｔ−ブチル−４−エチルフェニル）ジアクリレート、２，２’−メチレンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ジアクリレート、２，２’−エチリデンビス（６−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ジアクリレート、２，２’−エチリデンビス（６−ｔ−ブチル−４−エチルフェニル）ジアクリレート、２，２’−エチリデンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ジアクリレート、２，２’−エチリデンビス（４，６−ジ−ｔ−アミルフェニル）ジアクリレート、２，２’−メチレンビス（６−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ジメタクリレート、２，２，２’−メチレンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ジメタクリレート、２，２’−メチレンビス（６−ｔ−ブチル−４−エチルフェニル）ジメタクリレート、２，２’−エチリデンビス（６−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ジメタクリレート、２，２’−エチリデンビス（６−ｔ−ブチル−４−エチルフェニル）ジメタクリレート、２，２’−エチリデンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ジメタクリレート、２，２’−エチリデンビス（４，６−ジ−ｔ−アミルフェニル）ジメタクリレートなどが挙げられる。
【００１３】
化合物（２）は、それぞれ単独または２種以上を混合して用いられる。化合物（２）は、公知の方法で製造することができる（特開昭６１−２７９４３号公報など）。
【００１４】
化合物（１）の置換基Ｒ1と化合物（２）の置換基Ｒ6とは、互いに同一であってもよいし、異なっていてもよい。置換基Ｒ2と置換基Ｒ7とは互いに同一であってもよいし、異なっていてもよい。置換基Ｒ3と置換基Ｒ8とは互いに同一であってもよいし、異なっていてもよい。置換基Ｒ4と置換基Ｒ9とは互いに同一であってもよいし、異なっていてもよい。置換基Ｒ5と置換基Ｒ10とは互いに同一であってもよいし、異なっていてもよい。
【００１５】
本発明の高分子組成物における化合物（１）および化合物（２）の合計量１００重量部あたりの化合物（２）の含有量は０．００１重量部程度以上５重量程度以下であって、化合物（１）の含有量は９９．９９９重量部程度以上９５重量部程度以下である。化合物（２）の含有量が５重量部を超え化合物（１）の含有量が９５重量部未満であると得られる高分子組成物の加工安定性が却って低下する傾向にあり、化合物（２）の含有量が１．５重量部程度以下であり化合物（１）の含有量が９８．５重量部程度以上であることが好ましい。また、化合物（２）の含有量が０．００１重量部未満で化合物（１）の含有量が９９．９９９重量部を超えると化合物（２）を用いることによる加工安定性の向上が不十分となる傾向にあり、化合物（２）の含有量が０．００８重量部程度以上であり化合物（１）の含有量が９９．９９２重量部程度以下であることが好ましく、化合物（２）の含有量が０．１５重量部程度以上であり化合物（１）の含有量が９９．８５重量部程度以下であることがさらに好ましい。
【００１６】
また、本発明の高分子組成物におけるポリマー１００重量部あたりの化合物（１）および化合物（２）の含有量の合計量は通常、０．０１〜２重量部程度、好ましくは０．０５〜１重量部程度である。含有量の合計が０．０１重量部未満であると加工安定性の向上が十分とはならない場合があり、２重量部を超えても加工安定性の向上が大きくならず、経済的に不利である。
【００１７】
本発明の高分子組成物は、添加剤、例えばフェノール系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、ヒドロキシルアミンなどの安定剤、９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスホフェナンスレン−１０−オキシドなどの着色改良剤、過酸化物スカベンジャーなどを含有していてもよい。また、その他の樹脂用添加剤、例えば滑剤、可塑剤、難燃剤、造核剤、金属不活性化剤、帯電防止剤、顔料、充填剤、顔料、アンチブロッキング剤、界面活性剤、加工助剤、発泡剤、乳化剤、光沢剤、ステアリン酸カルシウム、ハイドロタルサイト等の中和剤などを含有していてもよい。
【００１８】
ここで、フェノール系酸化防止剤としては、例えば２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール、２，４，６−トリ−ｔ−ブチルフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール、２−ｔ−ブチル−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−エチルフェノール、２，６−ジ−ｔ−  ブチル−４−ｎ−ブチルフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−イソブチルフェノール、２，６−ジシクロペンチル−４−メチルフェノール、２−（α−メチルシクロヘキシル）−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジオクダデシル−４−メチルフェノール、２，４，６−トリシクロヘキシルフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メトキシメチルフェノール、２，６−ジ−ノニル−４−メチルフェノール、２，４−ジメチル−６−（１’−メチルウンデシル−１’−イル）フェノール、２，４−ジメチル−６−（１’−メチルヘプタデシル−１’−イル）フェノール、２，４−ジメチル−６−（１’−メチルトリデシル−１’−イル）フェノールおよびそれらの混合物などのアルキル化モノフェノール、
【００１９】
２，４−ジオクチルチオメチル−６−ｔ−ブチルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−メチルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−  エチルフェノール、２，６−ジドデシルチオメチル−４−ノニルフェノールおよびそれらの混合物などのアルキルチオメチルフェノール、
【００２０】
２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メトキシフェノール、２，５−ジ−ｔ−ブチルヒドロキノン、２，５−ジ−ｔ−アミルヒドロキノン、２，６−ジフェニル−４−オクタデシルオキシフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチルヒドロキノン、２，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル  ステアレート、ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）  アジペートおよびそれらの混合物などのヒドロキノン及びアルキル化ヒドロキノン、
【００２１】
α−トコフェロール、β−トコフェロール、γ−トコフェロール、δ−トコフェロールおよびそれらの混合物などのトコフェロール、
【００２２】
２，２’−チオビス（６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−チオビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−チオビス（４−オクチルフェノール）、４，４’−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−  チオビス（２−メチル−６−ｔ−  ブチルフェノール）、４，４’−チオビス（３，６−ジ−ｔ−アミルフェノール）、４，４’−（２，６−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）ジスルフィドなどヒドロキシル化チオジフェニルエーテル
【００２３】
２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス［４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキシル）フェノール）］、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−シクロヘキシルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ノニルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−エチリデンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−エチリデンビス（４−イソブチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス［６−（α−メチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、２，２’−メチレンビス［６−（α，α−ジメチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、４，４’−メチレンビス（６−ｔ−ブチル−２−メチルフェノール）、４，４’−メチレンビス（２，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス（５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、２，６−ビス（３−ｔ−ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェノール、１，１，３−トリス（５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、１，１−ビス（５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−３−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、エチレングリコール  ビス［３，３−ビス−３’−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）ブチレート］、ビス（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ジシクロペンタジエン、ビス［２−（３’−ｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルベンジル）−６−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル］テレフタレート、１，１−ビス（３，５−ジメチル−２−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−４−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、１，１，５，５−テトラ（５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ペンタンおよびそれらの混合物などアルキリデンビスフェノールおよびその誘導体、
【００２４】
３，５，３’，５’−テトラ−ｔ−ブチル−４，４’−ジヒドロキシジベンジルエーテル、オクタデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルベンジルメルカプトアセテート、トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）アミン、ビス（４−ｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）ジチオテレフタレート、ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）スルフィド、イソオクチル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルメルカプトアセテートおよびそれらの混合物などＯ−ベンジル誘導体、Ｎ−ベンジル誘導体、Ｓ−ベンジル誘導体、
【００２５】
ジオクタデシル−２，２−ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシベンジル）マロネート、ジオクタデシル−２−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）マロネート、ジドデシルメルカプトエチル−２，２−ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート、ビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル］−２，２−ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネートおよびそれらの混合物などのヒドロキシベンジル化マロネート誘導体、
【００２６】
１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、１，４−ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，３，５，６−テトラメチルベンゼン、２，４，６−トリス（３，５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）フェノールおよびそれらの混合物など芳香族ヒドロキシベンジル誘導体、
【００２７】
２，４−ビス（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２−ｎ−オクチルチオ−４，６−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２−ｎ−オクチルチオ−４，６−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルフェノキシ）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−フェノキシ）−１，３，５−トリアジン、トリス（４−ｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシアヌレート、トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルエチル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピル）−１，３，５−トリアジン、トリス（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、トリス［２−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシシンナモイルオキシ）エチル］イソシアヌレートおよびそれらの混合物などのトリアジン誘導体、
【００２８】
ジメチル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジエチル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル−５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルベンジルホスホネート、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホン酸モノエステルのカルシウム塩およびそれらの混合物
などのベンジルホスホネート誘導体、
【００２９】
４−ヒドロキシラウリル酸アニリド、４−ヒドロキシステアリン酸アニリド、オクチル−Ｎ−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）カルバネートおよびそれらの混合物などのアシルアミノフェノール誘導体、
【００３０】
β−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸と
メタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、エチレングリコール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、ネオペンチルグリコール、ジエチレングリコール、チオエチレングリコール、スピログリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリスリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２，２，２］オクタンおよびそれらの混合物などの一価または多価アルコールとのエステル、
【００３１】
β−（５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロピオン酸とメタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、エチレングリコール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、ネオペンチルグリコール、ジエチレングリコール、チオエチレングリコール、スピログリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリスリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２，２，２］オクタンおよびそれらの混合物などの一価または多価アルコールとのエステル、
【００３２】
β−（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸と
メタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、エチレングリコール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、ネオペンチルグリコール、ジエチレングリコール、チオエチレングリコール、スピログリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリスリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２，２，２］オクタンおよびそれらの混合物などの一価または多価アルコールとのエステル、
【００３３】
３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル酢酸と
メタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、エチレングリコール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、ネオペンチルグリコール、ジエチレングリコール、チオエチレングリコール、スピログリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリスリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２，２，２］オクタンおよびそれらの混合物などの一価または多価アルコールとのエステル、
【００３４】
Ｎ，Ｎ’−ビス［３−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）プロピオニル］ヒドラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス［３−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）プロピオニル］ヘキサメチレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス［３−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）プロピオニル］トリメチレンジアミンおよびそれらの混合物などのβ−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のアミドなどが挙げられる。
【００３５】
イオウ系酸化防止剤としては、例えばジラウリル  ３，３’−チオジプロピオネート、トリデシル  ３，３’−チオジプロピオネート、ジミリスチル  ３，３’−チオジプロピオネート、ジステアリル  ３，３’−チオジプロピオネート、ラウリル  ステアリル  ３，３’−チオジプロピオネート、ネオペンタンテトライルテトラキス（３−ラウリルチオプロピオネート）などが挙げられる。
【００３６】
リン系酸化防止剤としては、例えばトリフェニルホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、トリラウリルホスファイト、トリオクタデシルホスファイト、ジステアリル  ペンタエリスリトール  ジホスファイト、ジイソデシル  ペンタエリスリトール  ジホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトール  ジホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔ−ブチル−６−メチルフェニル）ペンタエリスリトール  ジホスファイト、ビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトール  ジホスファイト、ビス（２，４，６−トリ−ｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトール  ジホスファイト、トリステアリルソルビトールトリホスファイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−４，４’−ジフェニレンジホスホナイト、２，２’−メチレンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）２−エチルヘキシル  ホスファイト、２，２’−エチリデンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）  フルオロ  ホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔ−ブチル−６−メチルフェニル）  エチル  ホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔ−ブチル−６−メチルフェニル）  メチル  ホスファイト、２−（２，４，６−トリ−ｔ−ブチルフェニル）−５−エチル−５−ブチル−１，３，２−オキサホスホリナン、２，２’，２’’−ニトリロ［トリエチル−トリス（３，３’，５，５’−テトラ−ｔ−ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル）  ホスファイトおよびそれらの混合物などが挙げられる。
【００３７】
紫外線吸収剤としては、例えばフェニル  サリシレート、４−ｔ−ブチルフェニル  サリシレート、２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル  ３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシベンゾエート、４−ｔ−オクチルフェニル  サリシレート、ビス（４−ｔ−ブチルベンゾイル）レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、ヘシサデシル    ３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシベンゾエート、オクタデシル  ３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシベンゾエート、２−メチル−４，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル  ３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシベンゾエートおよびそれらの混合物などのサリシレート誘導体、
【００３８】
２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、ビス（５−ベンゾイル−４−ヒドロキシ−２−メトキシフェニル）メタン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノンおよびそれらの混合物などの２−ヒドロキシベンゾフェノン誘導体、
【００３９】
２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（５’−ｔ−ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−ｓ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−４’−オクチルオキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ−ｔ−アミル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−［２’−ヒドロキシ−３’，５’−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［（３’−ｔ−ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）−５’−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル］−５−クロロベンゾトリアゾール、２−［３’−ｔ−ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェニル］−５−クロロベンゾトリアゾール、２−［３’−ｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル］−５−クロロベンゾトリアゾール、２−［３’−ｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル］ベンゾトリアゾール、２−［３’−ｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル］ベンゾトリアゾール、２−［３’−ｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル］フェニル］ベンゾトリアゾール、２−［２−ヒドロキシ−３−（３，４，５，６−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５−メチルフェニル］ベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−ドデシル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾールおよび２−［３’−ｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−イソオクチルオキシカルボニルエチル）フェニル］ベンゾトリアゾールの混合物、２，２’−メチレンビス［６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール、２，２’−メチレンビス［４−ｔ−ブチル−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール］、ポリ（３〜１１）（エチレングリコール）と２−［３’−ｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル］ベンゾトリアゾールとの縮合物、ポリ（３〜１１）（エチレングリコール）とメチル  ３−［３−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル］プロピオネートとの縮合物、２−エチルヘキシル  ３−［３−ｔ−ブチル−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−ヒドロキシフェニル］プロピオネート、オクチル  ３−［３−ｔ−ブチル−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−ヒドロキシフェニル］プロピオネート、メチル  ３−［３−ｔ−ブチル−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−ヒドロキシフェニル］プロピオネート、３−［３−ｔ−ブチル−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−ヒドロキシフェニル］プロピオン酸およびそれらの混合物などの２−（２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾールなどが挙げられる。
【００４０】
光安定剤としては、例えばビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）  セバケート、ビス（（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）  スクシネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）  セバケート、ビス（Ｎ−オクトキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）  セバケート、ビス（Ｎ−ベンジルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（Ｎ−シクロヘキシルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ブチルマロネート、ビス（１−アクロイル−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）  ２，２−ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ブチルマロネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルデカンジオエート、２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル  メタクリレート、４−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］−１−［２−（３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ）エチル］−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、２−メチル−２−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）アミノ−Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）プロピオンアミド、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、テトラキス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）  １，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸と１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジノールおよび１−トリデカノールとの混合エステル化物、
【００４１】
１，２，３，４−ブタンテトラボン酸と２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジノールおよび１−トリデカノールとの混合エステル化物、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸と１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジノールおよび３、９−ビス（２−ヒドロキシ−１，１−ジメチルエチル）−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５・５］ウンデカンとの混合エステル化物、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸と２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジノールおよび３，９−ビス（２−ヒドロキシ−１，１−ジメチルエチル）−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５・５］ウンデカンとの混合エステル化物、ジメチルサクシネートと１−（２−ヒドロキシエチル）−４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンとの重縮合物、ポリ［（６−モルホリノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイル）（（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ）ヘキサメチレン（（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ）］、ポリ［（６−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）イミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイル（（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ）ヘキサメチレン（（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ）］、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと１，２−ジブロモエタンとの重縮合物、Ｎ，Ｎ’，４，７−テトラキス［４，６−ビス（Ｎ−ブチル−Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）アミノ）−１，３，５−トリアジン−２−イル］−４，７−ジアザデカン−１，１０ジアミン、Ｎ，Ｎ’，４−トリス［４，６−ビス（Ｎ−ブチル−Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）アミノ）−１，３，５−トリアジン−２−イル］−４，７−ジアザデカン−１，１０−ジアミン、Ｎ，Ｎ’，４，７−テトラキス［４，６−ビス（Ｎ−ブチル−Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）アミノ）−１，３，５−トリアジン−２−イル］−４，７−ジアザデカン−１，１０−ジアミン、Ｎ，Ｎ’，４−トリス［４，６−ビス（Ｎ−ブチル−Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）アミノ）−１，３，５−トリアジン−２−イル］−４，７−ジアザデカン−１，１０−ジアミンおよびそれらの混合物などのヒンダードアミン系光安定剤、
【００４２】
エチル  α−シアノ−β，β−ジフェニルアクリレート、イソオクチル  α−シアノ−β，β−ジフェニルアクリレート、メチル  α−カルボメトキシシンナメート、メチルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシシンナメート、ブチル  α−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシシンナメート、メチル  α−カルボメトキシ−ｐ−メトキシシンナメートおよびＮ−（β−カルボメトキシ−β−シアノビニル）−２−メチルインドリンおよびそれらの混合物などのアクリレート系光安定剤、
【００４３】
２，２’−チオビス−［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール］のニッケル錯体、ニッケルジブチルジチオカルバメート、モノアルキルエステルのニッケル塩、ケトキシムのニッケル錯体およびそれらの混合物などのニッケル系光安定剤、
【００４４】
４，４’−ジオクチルオキシオキサニリド、２，２’−ジエトキシオキサニリド、２，２’−ジオクチルオキシ−５，５’−ジ−ｔ−ブチルアニリド、２，２’−ジドデシルオキシ−５，５’−ジ−ｔ−ブチルアニリド、２−エトキシ−２’−エチルオキサニリド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−ジメチルアミノプロピル）オキサミド、２−エトキシ−５−ｔ−ブチル−２’−エトキシアニリド、２−エトキシ−５，４’−ジ−ｔ−ブチル−２’−エチルオキサニリドおよびそれらの混合物などのオキサミド系光安定剤、
【００４５】
２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［２，４−ジヒドロキシフェニル−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル］−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−プロピルオキシフェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（４−メチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ブチルオキシプロポキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−オクチルオキシプロポキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジンおよびそれらの混合物などの２−（２−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリアジン系光安定剤などが挙げられる。
【００４６】
安定剤としては上記の他に、例えばＮ，Ｎ−ジベンジルヒドロキシアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルヒドロキシアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクチルヒドロキシアミン、Ｎ，Ｎ−ジラウリルヒドロキシアミン、Ｎ，Ｎ−ジテトラデシルヒドロキシアミン、Ｎ，Ｎ−ジヘキサデシルヒドロキシアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクタデシルヒドロキシアミン、Ｎ−ヘキサデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシアミン、Ｎ−ヘプタデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシアミンおよびそれらの混合物などのヒドロキシルアミンなども挙げられる。
【００４７】
滑剤としては、例えばパラフィン、ワックス等の脂肪族炭化水素、炭素数８〜２２の高級脂肪族酸、炭素数８〜２２の高級脂肪族酸の金属（Ａｌ、Ｃａ、Ｍｇ、Ｚｎ）塩、炭素数８〜２２の脂肪族アルコール、ポリグリコール、炭素数４〜２２の高級脂肪酸と炭素数４〜１８の脂肪族１価アルコールとのエステル、炭素数８〜２２の高級脂肪族アマイド、シリコーン油、ロジン誘導体などが挙げられる。
【００４８】
これらの添加剤のうち好ましく用いられるものは、フェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤、紫外線吸収剤、ヒンダードアミン系光安定剤である。
【００４９】
特に好ましいフェノール系酸化防止剤としては、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール、２，４，６−トリ−ｔ−ブチルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−メチルフェノール、２，２’−チオビス（６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス［４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキシル）フェノール）］、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−シクロヘキシルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−エチリデンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−メチレンビス（６−ｔ−ブチル−２−メチルフェノール）、４，４’−メチレンビス（２，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス（５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、１，１，３−トリス（５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、エチレングリコール  ビス［３，３−ビス−３’−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）ブチレート］、
【００５０】
２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−フェノキシ）−１，３，５−トリアジン、トリス（４−ｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシアヌレート、ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、トリス［２−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシシンナモイルオキシ）エチル］イソシアヌレート、ジエチル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジ−ｎ−オクタデシル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホン酸モノエステルのカルシウム塩、ｎ−オクタデシル  ３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネ−ト、ネオペンタンテトライルテトラキス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシシンナメート）、チオジエチレンビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシシンナメート）、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、３，６−ジオキサオクタメチレンビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシシンナメート）、ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシシンナメート）、トリエチレングリコール  ビス（５−ｔ−チル−４−ヒドロキシ−３−メチルシンナメート）、３，９−ビス［２−（３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ）−１，１−ジメチルエチル］−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５・５］ウンデカン、Ｎ，Ｎ’−ビス［３−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）プロピオニル］ヒドラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス［３−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）プロピオニル］ヘキサメチレンジアミンなどが挙げられ、これらはそれぞれ単独または２種以上を使用し得る。
【００５１】
特に好ましいリン系酸化防止剤としては、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、ジステアリル  ペンタエリスリトール  ジホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトール  ジホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔ−ブチル−６−メチルフェニル）ペンタエリスリトール  ジホスファイト、ビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトール  ジホスファイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−４，４’−ジフェニレンジホスホナイト、２，２’−メチレンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）  ２−エチルヘキシルホスファイト、２，２’−エチリデンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）  フルオロ  ホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔ−ブチル−６−メチルフェニル）  エチルホスファイト、２−（２，４，６−トリ−ｔ−ブチルフェニル）−５−エチル−５−ブチル−１，３，２−オキサホスホリナン、２，２’，２’’−ニトリロ［トリエチル−トリス（３，３’，５，５’−テトラ−ｔ−ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル）  ホスファイトなどが挙げられ、これらはそれぞれ単独または２種以上を使用し得る。
【００５２】
好ましい紫外線吸収剤としては、例えばフェニル  サリシレート、４−ｔ−ブチルフェニル  サリシレート、２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル  ３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシベンゾエート、４−ｔ−オクチルフェニル  サリシレート、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、ビス（５−ベンゾイル−４−ヒドロキシ−２−メトキシフェニル）メタン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（５’−ｔ−ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−ｓ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−４’−オクチルオキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ−ｔ−アミル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−［２’−ヒドロキシ−３’，５’−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾールなどが挙げられ、これらはそれぞれ単独または２種以上を使用し得る。
【００５３】
好ましい光安定剤としては、例えばビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）  セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）  セバケート、ビス（Ｎ−オクトキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）  セバケート、ビス（Ｎ−ベンジルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）  セバケート、ビス（Ｎ−シクロヘキシルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）  セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）  ２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ブチルマロネート、ビス（１−アクロイル−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）  ２，２−ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ブチルマロネート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）  スクシネート、２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル  メタクリレート、４−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］−１−［２−（３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ）エチル］−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、２−メチル−２−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）アミノ−Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）プロピオンアミド、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）  １，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、
【００５４】
テトラキス（１，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）  １，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸と１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジノールおよび１−トリデカノールとの混合エステル化物、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸と２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジノールおよび１−トリデカノールとの混合エステル化物、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸と１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジノールおよび３，９−ビス（２−ヒドロキシ−１，１−ジメチルエチル）−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５・５］ウンデカンとの混合エステル化物、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸と２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジノールおよび３，９−ビス（２−ヒドロキシ−１，１−ジメチルエチル）−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５・５］ウンデカンとの混合エステル化物、ジメチル  サクシネートと１−（２−ヒドロキシエチル）−４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンとの重縮合物、ポリ［（６−モルホリノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイル）（（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ）ヘキサメチレン（（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ）］、ポリ［（６−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイル）（（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ）ヘキサメチレン（（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ）］などが挙げられ、これらはそれぞれ単独または２種以上を使用し得る。
【００５５】
本発明の高分子組成物は、例えば化合物（１）および化合物（２）をポリマーに配合する方法により製造することができる。
配合方法は化合物（１）および化合物（２）をポリマーに均一に配合できるのであれば、特に限定されるものではなく、例えばポリマーを製造する工程において重合反応途中または重合反応終了直後の反応混合物に化合物（１）および化合物（２）を添加すればよい。化合物（１）および化合物（２）は溶媒に溶解された溶液として添加されてもよいし、均一に分散し易いように粉末状に粉砕された分散剤として添加されてもよいし、加熱されて溶融状態で添加されてもよい。他の添加剤を用いる場合に、該添加剤は溶液に溶解されていてもよい。
【００５６】
また、ポリマーを溶融混練しながら化合物（１）および化合物（２）を添加し、さらに溶融混練してもよい。ポリマーの溶融混練は、例えばミキシングロール、バンバリーミキサー、ロール、各種ニーダー、一軸押出機、二軸押出機などの混練機を用いて行われる。溶融混練後、得られた高分子組成物は、冷却されることなく溶融状態のまま成形加工に供されてもよいし、冷却された後再度加熱されて成形加工に供されてもよい。
【００５７】
化合物（１）および化合物（２）を添加する順序は特に限定されるものではなく、化合物（１）を添加した後に化合物（２）を添加してもよいし、化合物（２）を添加した後に化合物（１）を添加してもよいし、化合物（１）と化合物（２）をと同時的に添加してもよい。他の添加剤を用いる場合には、化合物（１）や化合物（２）と同時に該添加剤を添加してもよいし、化合物（１）または化合物（２）を添加する前や添加した後に該添加剤を添加してもよい。
【００５８】
本発明の高分子組成物における化合物（２）の含有量はポリマー１００重量部あたり通常０．００００００１重量部程度〜０．１重量部程度となり比較的少ないので、目的とする高分子組成物の量や化合物（２）の含有量よっては化合物（２）を正確に秤量して添加することが困難となる場合もあるが、化合物（１）および化合物（２）からなる組成物を予め調製しておき、該組成物を小分けしてポリマーに添加することとすれば、目的とする高分子組成物の量とは無関係に化合物（２）を秤量して組成物を調整することができるので、化合物（２）の秤量を正確なものとすることが容易となり、好ましい。
【００５９】
化合物（１）および化合物（２）からなる組成物における化合物（１）の含有量および化合物（２）の含有量の合計量１００重量部あたりの化合物（２）の含有量は、目的とする高分子組成物と同様に０．００１重量部程度以上５重量部程度以下であって、０．００８重量部程度以上、さらには０．１５重量部程度以上であることが好ましく１．５重量部程度以下であることが好ましい。また、化合物（１）の含有量は９９．９９９重量部程度以上９５重量部程度以下であって、９９．９９２重量部程度以下、さらには９９．８５重量部程度以下であることが好ましく、９８．５重量部程度以上であることが好ましい。
【００６０】
化合物（１）および化合物（２）からなる組成物を調製するには、例えば化合物（１）の粉末とおよび化合物（２）の粉末とを混合すればよく、ヘンシェルミキサー（スーパーミキサー）、ボールミキサー、ぺブルミル、タンブルミキサー、チェンジカンミキサーなどのミキサーを用いて混合してもよい。また、他の添加剤を用いる場合には、該添加物とともに化合物（１）および化合物（２）を混合して組成物を得てもよい。
【００６１】
化合物（１）および化合物（２）からなる組成物は、例えば化合物（１）が溶解された溶液に化合物（２）を加え、次いで晶析する方法によっても調製することができ、組成物は化合物（１）および化合物（２）を含有する固形物として得られる。他の添加剤を用いる場合には、化合物（２）とともに該添加剤を溶液に加えてもよい。
かかる組成物を用いることにより、化合物（１）および化合物（２）を同時的にポリマーに添加することができる。
【００６２】
かくしてポリマーに化合物（１）および化合物（２）を含有させることにより、ポリマーを安定化させることができ、ポリマーの加工安定性をより向上することができる。化合物（１）の使用量および化合物（２）の使用量の合計量１００重量部あたりの化合物（２）の使用量は０．００１重量部程度以上５重量部程度以下であって、０．００８重量部程度以上、さらには０．１５重量部程度以上であることが好ましく１．５重量部程度以下であることが好ましい。また、化合物（１）の使用量は９９．９９９重量部程度以上９５重量部程度以下であって、９９．９９２重量部程度以下、さらには９９．８５重量部程度以下であることが好ましく、９８．５重量部程度以上であることが好ましい。
【実施例】
【００６３】
以下、実施例を示して本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
【００６４】
実施例１〜３、比較例１〜３
表１に示す使用量の２−ｔ−ブチル−６−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェニル  アクリレート（化−１）および２，２’−メチレンビス（６−ｔ−ブチル−４−メチル−フェノール）ジアクリレート（化−２）を乳鉢で混合して安定剤組成物（１００重量部）を得た。
得られた安定剤組成物（０．５重量部）とスチレン−ブタジエンブロック共重合体（ＳＢＳ）（１００重量部）とを３０ｍｍφ単軸押出機を用いて２００℃で溶融混練して高分子組成物のペレットを得た。
この高分子組成物のペレットをメルトフローレート測定機（宝工業社製、Ｌ２０３型）の加熱炉を用いて２６０℃に加熱し溶融状態とし、同温度で３０分間保持した。次いで、直ちに荷重２１６０ｇの条件でメルトフローレート（ＭＦＲ）を測定した。測定結果を表１に示す。
【００６５】
［表１］
────────────────────
化−１      化−２    ＭＦＲ  
の使用量    の使用量           
（重量部）  （重量部）  (g/分)  
────────────────────
実施例１   99.99       0.01     ６．５  
実施例２   99.5        0.5      ６．９  
実施例３   98          2        ６．７  
比較例１   ０          ０       ４．４  
比較例２   80         20        ５．８  
比較例３   100        ０        ６．３  
────────────────────
ＳＢＳ  １００重量部に対して（化−１）および（化−２）の合計量が０．５重量部となるように添加した。
【００６６】
実施例１〜３で得られた高分子組成物は、２６０℃で３０分間保持しても比較的高いＭＦＲを維持するので、成形加工時における流動性の低下が少ない。