(57)【要約】【課題】電気光学装置が形成される基板の基板面における膜厚の面内分布のばらつきを抑制する。【解決手段】電気光学装置の製造装置（１）は、蒸着源（１４）と、基板（１００）を保持する基板保持手段（１２１）、開口（１２２ａ）が開けられたスリット（１２２）及び基板をスリットに対して一の方向に沿って移動可能な第１駆動手段（１２３）を有する基板ユニット（１２）と、蒸着源及び基板ユニットを設置するための空間（１１ａ）を規定すると共に、空間を真空に維持可能な真空槽（１１）と、基板ユニットを一の方向に交わる他の方向に沿って移動可能な第２駆動手段（１３）と、基板上に蒸発物質を蒸着する際に、基板をスリットに対して、一の方向に沿って相対的に移動させるように第１駆動手段を制御する第１制御と、基板ユニットを他の方向に沿って移動させるように第２駆動手段を制御する第２制御とを実施する制御手段（１５）とを備える。【選択図】図１
2010085558.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
蒸着源と、
基板を保持する基板保持手段、前記基板の前記蒸着源に対向する側に配置され、前記蒸
着源から蒸発される蒸発物質が通過する開口が開けられたスリット、及び前記基板を前記
スリットに対して、一の方向に沿って相対的に移動可能な第１駆動手段を有する基板ユニ
ットと、
前記蒸着源及び前記基板ユニットを設置するための空間を規定すると共に、前記空間を
真空に維持可能な真空槽と、
前記基板ユニットを前記一の方向に交わる他の方向に沿って移動可能な第２駆動手段と
、
前記基板上に前記蒸発される蒸発物質を蒸着する際に、前記基板を前記スリットに対し
て、前記一の方向に沿って相対的に移動させるように前記第１駆動手段を制御する第１制
御と、前記基板ユニットを前記他の方向に沿って移動させるように前記第２駆動手段を制
御する第２制御とを実施する制御手段と
を備えることを特徴とする電気光学装置の製造装置。
【請求項２】
前記基板上に前記蒸発される蒸発物質を蒸着する際に、前記制御手段は、前記第１制御
及び前記第２制御を独立して実施することを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置の
製造装置。
【請求項３】
前記他の方向は、当該製造装置上で平面的に見て、前記蒸着源を中心とする円周の接線
方向であることを特徴とする請求項１又は２に記載の電気光学装置の製造装置。
【請求項４】
蒸着源と、基板を保持する基板保持手段、前記基板の前記蒸着源に対向する側に配置さ
れ、前記蒸着源から蒸発される蒸発物質が通過する開口が開けられたスリット、及び前記
基板を前記スリットに対して、一の方向に沿って相対的に移動可能な第１駆動手段を有す
る基板ユニットと、前記蒸着源及び前記基板ユニットを設置するための空間を規定すると
共に、前記空間を真空に維持可能な真空槽と、前記基板ユニットを前記一の方向に交わる
他の方向に沿って移動可能な第２駆動手段とを備える電気光学装置の製造装置を用いた電
気光学装置の製造方法であって、
前記基板を前記スリットに対して、前記一の方向に沿って相対的に移動させるように前
記第１駆動手段を制御する第１制御工程と、
前記基板ユニットを前記他の方向に沿って移動させるように前記第２駆動手段を制御す
る第２制御工程と
を備えることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば液晶装置等の電気光学装置の製造装置及び該製造装置を用いた電気光
学装置の製造方法に関し、特に、電気光学装置を構成する基板上に無機配向膜を形成可能
な電気光学装置の製造装置及び該製造装置を用いた電気光学装置の製造方法の技術分野に
関する。
【背景技術】
【０００２】
この種の装置として、例えば、真空装置内の下部に開口窓を有する反応槽が配置され、
該反応槽内に蒸発源、及び酸素を主成分としたガスを噴出させるガス噴出口が設けられた
装置が提案されている。ここでは特に、蒸発源内にＳｉとＣとを充填した後に、反応槽内
でＳｉとＣとを酸素と反応させ、反応槽の開口窓からＳｉ−Ｃｘ−Ｏｙ（０．０２＜ｘ＜
０．０４、１≦ｙ≦２）の蒸気流を放出させる技術が開示されている（特許文献１参照）
。
【０００３】
また、この種の装置では、電気光学装置が形成される基板の大口径化に対応して、基板
上に生成される膜の厚さのばらつきを抑制することが図られる。例えば、特許文献２では
、真空槽内に、蒸着源、蒸着される基板を保持する基板保持機構、及びスリット開口を有
するスリット機構を備える液晶配向膜用真空蒸着装置が提案されている。ここでは特に、
基板上に粒子を堆積させる際に（即ち、蒸着させる際に）、基板がスリット開口に対し、
一の方向に移動されることが開示されている。
【０００４】
或いは、特許文献３では、真空槽内に、蒸着源、蒸着材料が通過するための複数の開口
が放射状に設けられたスリット、及び蒸着源の鉛直線を中心として基板を円周上に配列し
て保持する基板保持手段を備える液晶配向膜用真空蒸着装置が提案されている。ここでは
特に、前記鉛直線を中心として、基板とスリットとが相対的に回転可能であることが開示
されている。
【０００５】
【特許文献１】特開平３−１６４７１２号公報
【特許文献２】特開２００６−３３０４１１号公報
【特許文献３】特開２００６−３３０６５６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、上述の背景技術によれば、基板の基板面に沿う一の方向の膜厚分布のば
らつきを抑制することは可能であるが、該一の方向に交わる他の方向の膜厚分布にばらつ
きが生じる可能性があるという技術的問題点がある。
【０００７】
本発明は、例えば上記問題点に鑑みてなされたものであり、基板の基板面における膜厚
の面内分布のばらつきを抑制することが可能な電気光学装置の製造装置及び電気光学装置
の製造方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の電気光学装置の製造装置は、上記課題を解決するために、蒸着源と、基板を保
持する基板保持手段、前記基板の前記蒸着源に対向する側に配置され、前記蒸着源から蒸
発される蒸発物質が通過する開口が開けられたスリット、及び前記基板を前記スリットに
対して、一の方向に沿って相対的に移動可能な第１駆動手段を有する基板ユニットと、前
記蒸着源及び前記基板ユニットを設置するための空間を規定すると共に、前記空間を真空
に維持可能な真空槽と、前記基板ユニットを前記一の方向に交わる他の方向に沿って移動
可能な第２駆動手段と、前記基板上に前記蒸発される蒸発物質を蒸着する際に、前記基板
を前記スリットに対して、前記一の方向に沿って相対的に移動させるように前記第１駆動
手段を制御する第１制御と、前記基板ユニットを前記他の方向に沿って移動させるように
前記第２駆動手段を制御する第２制御とを実施する制御手段とを備える。
【０００９】
本発明の電気光学装置の製造装置によれば、真空槽に、蒸着源と基板ユニットとが設置
されている。ここに、本発明に係る「真空槽」とは、蒸着源及び基板ユニットを設置する
ための空間を規定すると共に、該空間を真空に維持することが可能に構成された、例えば
チャンバ等の箱体を表す概念である。係る概念が担保されている限りにおいて、その形状
及び材質等は限定されない。但し、構成材料としては、機械的、物理的及び化学的な安定
性に鑑みて金属材料、鉄鋼材料、ガラス材料、陶器又は陶磁器材料等が好ましい。
【００１０】
本発明に係る「真空」とは、大気圧より低い圧力の気体で満たされている空間の状態を
包括する概念である。望ましくは、蒸発物質が基板上に蒸着される際の膜質に大気雰囲気
中に含まれる酸素や窒素等の不純物が影響しない程度に大気圧から減圧された空間の状態
を指す。
【００１１】
「真空に維持」とは、例えばロータリーポンプ、メカニカルブースターポンプ、油拡散
ポンプ又はターボ分子ポンプを含む排気系によって真空槽から排気される気体の量と、真
空槽における気体の漏れ量（即ち、リーク量）とが相殺する結果として、一定或いは一定
とみなし得る程度に安定した真空度に到達している状態を含む概念である。
【００１２】
本発明に係る「蒸着源」とは、例えば抵抗加熱、電磁加熱等によって加熱することによ
って蒸発させることが可能な物質を包括する概念である。係る概念が担保されている限り
において、その材質、形状及びその他の物理特性は何ら限定されない。蒸着源は、例えば
ＳｉＯやＳｉＯ２等の無機材料であってよい。また、本発明に係る電気光学装置の一例と
しての液晶装置における無機配向膜材料として使用可能な無機材料であってよい。
【００１３】
基板ユニットは、基板を保持する基板保持手段と、該基板の蒸着源に対向する側に配置
され、蒸着源から蒸発される蒸発物質が通過する開口が開けられたスリットと、基板をス
リットに対して、一の方向に沿って相対的に移動可能な第１駆動手段とを有している。
【００１４】
ここで、「基板をスリットに対して、一の方向に沿って相対的に移動」とは、基板とス
リットとの相対的な位置関係が、一の方向に沿って変化することを意味する。第１駆動手
段は、例えば、基板を（典型的には、基板を保持する基板保持手段を）、一の方向に沿っ
て移動するように構成されている。
【００１５】
蒸着源から蒸発される蒸発物質を基板上に蒸着する際には、第１駆動手段によって、基
板がスリットに対して、一の方向に沿って相対的に移動されることによって、基板上の所
定の範囲に、蒸発物質が堆積し、蒸着膜が生成されることとなる。尚、スリットに開けら
れている開口は、典型的には、一の方向に交わる他の方向に延びている。
【００１６】
第２駆動手段は、基板ユニットを一の方向に交わる他の方向に沿って移動可能である。
ここで、「他の方向」とは、典型的には、一の方向に延びる直線と他の方向に延びる直線
とが互いになす角が９０度に近づくような方向を意味する。具体的には例えば、「他の方
向」は、当該製造装置上で平面的に見て、蒸着源を中心とする円周の接線方向である。
【００１７】
例えばメモリ、プロセッサ等を備えて構成される制御手段は、基板上に蒸発される蒸発
物質を蒸着する際に、スリットを基板に対して、一の方向に沿って相対的に移動させるよ
うに第１駆動手段を制御する第１制御と、基板ユニットを他の方向に沿って移動させるよ
うに第２駆動手段を制御する第２制御とを実施する。
【００１８】
本願発明者の研究によれば、電気光学装置を効率良く製造するために、ウェハ（即ち、
基板）の大口径化が図られる。しかしながら、蒸着源から基板を見込む立体角を小さくし
て、基板上に生成される蒸着膜の膜厚のばらつきを抑制するためには、蒸着源及び基板間
の距離を長くしなければならない（即ち、製造装置を大型化しなければならない）。この
問題に対して、基板と蒸着源との間に、蒸発物質が通過する開口を有するスリットを備え
る技術が提案されているが、生成される蒸着膜の膜厚のばらつきを抑制することが十分に
はできないことが判明している。
【００１９】
しかるに本発明では、基板上に蒸発される蒸発物質を蒸着する際に、制御手段によって
、基板を、該基板の蒸着源に対向する側に配置され、開口が開けられたスリットに対して
、一の方向に沿って相対的に移動させるように第１駆動手段を制御する第１制御が実施さ
れる。更に、制御手段によって、基板ユニットを他の方向に沿って移動させるように第２
駆動手段を制御する第２制御が実施される。
【００２０】
このため、一の方向に沿って切った断面において、基板に入射する蒸発物質の基板に対
する入射角度を一定又は一定とみなし得る程度にすることができる。加えて、基板ユニッ
トを他の方向に沿って移動させるように第２駆動手段を制御することによって、他の方向
に広がりを持って（即ち、角度分布を持って）基板に入射する蒸発物質の基板に対する入
射角度を平均化することができる。具体的には、基板ユニットが他の方向に沿って往復移
動することにより、基板ユニットの位置によって、基板上のある一点に入射する蒸発物質
の基板に対する入射角度が変化することとなる。そして、他の方向に沿った直線又は曲線
上の複数の位置において、蒸発物質が基板上に堆積されることによって、蒸発物質の基板
に対する入射角度を平均化することができる。
【００２１】
この結果、基板上に堆積された蒸発物質（即ち、カラム）が、所定の方向に成長するこ
ととなる。従って、基板の口径を大口径化したとしても、製造装置を大型化することなく
、基板の基板面における膜厚の面内分布のばらつきを抑制することができる。加えて、蒸
発源及び基板間の距離を比較的短くすることができるので、例えば蒸発させる材料の量を
抑制することができ、実用上非常に有利である。
【００２２】
本発明の電気光学装置の製造装置の一態様では、前記基板上に前記蒸発される蒸発物質
を蒸着する際に、前記制御手段は、前記第１制御及び前記第２制御を独立して実施する。
【００２３】
この態様によれば、基板面における膜厚の面内分布のばらつきを確実に抑制することが
できる。ここで、「第１制御及び第２制御を独立して実施」とは、例えば、ある位置にお
いて第１制御が実施された後に（典型的には、基板がスリットに対して相対的に往復移動
された後に）、第２制御によって、基板ユニットが他の方向に沿って所定距離だけ移動さ
れる等、第１制御及び第２制御の各々が別の機会に実施されることを意味する。
【００２４】
尚、第２制御が実施されている際は、基板ユニット上で平面的に見て、基板とスリット
に開けられた開口とは相互に重ならないような配置となっていることが望ましい。
【００２５】
本発明の電気光学装置の製造装置の他の態様では、前記他の方向は、当該製造装置上で
平面的に見て、前記蒸着源を中心とする円周の接線方向である。
【００２６】
この態様によれば、比較的容易にして、基板上のある一点に入射する蒸発物質の基板に
対する入射角度を変化させることができる。
【００２７】
本発明の電気光学装置の製造方法は、上記課題を解決するために、蒸着源と、基板を保
持する基板保持手段、前記基板の前記蒸着源に対向する側に配置され、前記蒸着源から蒸
発される蒸発物質が通過する開口が開けられたスリット、及び前記基板を前記スリットに
対して、一の方向に沿って相対的に移動可能な第１駆動手段を有する基板ユニットと、前
記蒸着源及び前記基板ユニットを設置するための空間を規定すると共に、前記空間を真空
に維持可能な真空槽と、前記基板ユニットを前記一の方向に交わる他の方向に沿って移動
可能な第２駆動手段とを備える電気光学装置の製造装置を用いた電気光学装置の製造方法
であって、前記基板を前記スリットに対して、前記一の方向に沿って相対的に移動させる
ように前記第１駆動手段を制御する第１制御工程と、前記基板ユニットを前記他の方向に
沿って移動させるように前記第２駆動手段を制御する第２制御工程とを備える。
【００２８】
本発明の電気光学装置の製造方法によれば、高品質な画像表示を行うことが可能な、投
射型表示装置、テレビ、携帯電話、電子手帳、ワードプロセッサ、ビューファインダ型又
はモニタ直視型のビデオテープレコーダ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末
、タッチパネル等の各種電子機器に使用可能な、例えば液晶装置等の電気光学装置の製造
工程において、例えば無機配向膜等の蒸着膜を、基板面の全域又は比較的広い範囲に、膜
厚の面内分布のばらつきを抑制して形成することが可能となる。
【００２９】
本発明の作用及び他の利得は次に説明する実施するための最良の形態から明らかにされ
る。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３０】
以下、図面を参照しながら、本発明に係る電気光学装置の製造装置及び電気光学装置の
製造方法の各実施形態を説明する。尚、本実施形態では、電気光学装置の製造装置の一例
として、真空蒸着装置を挙げる。
【００３１】
先ず、本実施形態に係る真空蒸着装置の全体構成について、図１を参照して説明する。
図１は、本実施形態に係る真空蒸着装置の全体構成を示すブロック図である。
【００３２】
図１において、真空蒸着装置１は、チャンバ１１、基板ユニット１２、平行移動機構１
３、蒸着源１４及び制御部１５を備えて構成されている。ここに、本実施形態に係る「チ
ャンバ１１」、「平行移動機構１３」及び「制御部１５」は、夫々、本発明に係る「真空
槽」、「第２駆動手段」及び「制御手段」の一例である。
【００３３】
チャンバ１１は、基板ユニット１２及び蒸着源１４を設置するための空間１１ａを規定
する。チャンバ１１は、ここでは図示しない、例えばロータリーポンプ等の排気系に接続
されており、空間１１ａ内の気体が排気系により排気されることによって、空間１１ａが
真空に維持されている。
【００３４】
基板ユニット１２は、基板１００を保持する基板保持部材１２１、基板１００の蒸着源
１４に対向する側に配置され蒸着源から蒸発される蒸発物質が通過する開口１２２ａが開
けられたスリット１２２、及び基板保持部材１２１を移動可能なアクチュエータ１２３を
備えて構成されている。ここに、本実施形態に係る「基板保持部材１２１」及び「アクチ
ュエータ１２３」は、夫々、本発明に係る「基板保持手段」及び「第１駆動手段」の一例
である。
【００３５】
平行移動機構１３は、車輪１３１、基板ユニット１２を支持する支持部材１３２、及び
レール１３３を備えて構成されている。平行移動機構１３は、車輪１３１がレール１３３
に沿って移動することによって、基板ユニット１２を移動させることが可能である。並行
移動機構１３の支持部材１３２は、基板ユニット１２を支持すると共に、基板１００の法
線と鉛直線Ｏとが互いになす角（即ち、蒸発物質の基板１００に対する入射角）を調整可
能である。尚、レール１３３は、図１の法線方向（即ち、図面奥から手前側に向かう方向
）に沿って延びている。
【００３６】
蒸着源１４は、例えばＳｉＯやＳｉＯ２等の無機材料を保持するルツボ１４１、及び電
子銃１４２を備えて構成されている。動作時には、電子銃１４２から出射される電子ビー
ムによって、ルツボ１４１内の無機材料を加熱し、該無機材料を蒸発させる。
【００３７】
制御部１５は、基板１００上に蒸着膜を成膜する際に、電子銃１４２を制御する。更に
、基板保持部材１２１を移動させるようにアクチュエータ１２３を制御すると共に、基板
ユニット１２を、レール１３３に沿って移動させるように平行移動機構１３を制御する。
【００３８】
次に、基板１００上に蒸着膜を成膜する際における、基板１００（即ち、基板保持部材
１２１）及び基板ユニット１２の移動について、図２及び図３を参照して説明する。ここ
に、図２は、本実施形態に係る基板の移動を示す概念図であり、図３は、本実施形態に係
る基板ユニットの移動を示す概念図である。尚、図３は、真空蒸着装置１の上から見た平
面図の一部を拡大して示している。
【００３９】
図２中に矢印ａ１で示すように、基板１００は、スリット１２２に対してＺ軸方向に沿
って往復移動される。尚、本実施形態に係る「Ｚ軸方向」は、本発明に係る「一の方向」
の一例である。また、図２に示すように、スリット１２２の開口１２２ａは、Ｚ軸方向に
交わる方向である、本発明に係る「他の方向」の一例としてのＸ軸方向（即ち、レール１
３３が延びる方向（図３参照））に延びている。
【００４０】
他方、図３中に矢印ａ２で示すように、基板ユニット１２は、レール１３３に沿って往
復移動される。ここで、基板ユニット１２が往復移動する距離ｄ（図３において、基板ユ
ニット１２を最も左に振った場合の位置（図中の破線）と、基板ユニット１２を最も右に
振った場合の位置（図中の一点鎖線）との間の距離）は、基板１００の直径相当の距離で
ある。尚、「基板１００の直径相当」の距離は、基板１００の直径と同じ距離に限らず、
基板１００の直径の、例えば１．５倍や２倍等の距離であってよい。即ち、実践上、基板
１００の直径（言い換えれば、口径）にふさわしい距離であればよい。
【００４１】
次に、上記の真空蒸着装置１を用いて、本発明に係る電気光学装置の一例としての液晶
装置の製造方法について、図４を参照して説明する。ここに、図４は、本実施形態に係る
液晶装置の製造方法の工程の一部を示す工程図である。尚、図中の矢印は、蒸着源１４か
ら飛来する蒸発物質を示している。
【００４２】
基板１００上に、例えば、画素スイッチング素子としてのＴＦＴ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ
Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）、及び走査線やデータ線等の配線の上に画素電極が形成された
後に、或いは、格子状又はストライプ状の遮光膜の上に対向電極が形成された後に、真空
蒸着装置１の基板保持部材１２１に、各種素子が形成された基板１００が固定される。
【００４３】
次に、チャンバ１１内の気体が排気系により排気され、所定の真空度に到達した後に、
制御部１５は、電子ビームを出射するように電子銃１４２を制御する。この電子銃１４２
の制御と相前後して、制御部１５は、基板保持部材１２１を往復移動するようにアクチュ
エータ１２３を制御すると共に、基板ユニット１２を往復移動するように平行移動機構１
３を制御する。この結果、例えば画素電極或いは対向電極の上に、無機配向膜１１０が形
成される。
【００４４】
ここで、本願発明者の研究によれば、基板ユニット１２をレール１３３に沿って移動さ
せ、レール１３３上の複数の位置において、基板１００がスリット１２２に対してＺ軸方
向（図２参照）に沿って往復移動されることによって、無機配向膜１１０を構成するカラ
ムの成長方向のばらつきを抑制することができることが判明している。このため、図５に
示すように、形成された無機配向膜１１０におけるカラムの方位分布は、均一又は均一と
みなし得る程度になる。この結果、無機配向膜１１０の膜厚の面内分布のばらつきを抑制
することができる。ここに、図５は、本実施形態に係る無機配向膜におけるカラムの方位
分布の概念を示す概念図である。尚、図中の矢印は、カラムの方位を示している。
【００４５】
より具体的に、例えば、蒸着源１４と基板ユニット１２の中心との間の距離が１５０ｃ
ｍ（センチメートル）、基板１００の直径が３０ｃｍ、図３における距離ｄが９０ｃｍ（
即ち、左右各々に４５ｃｍ）である場合に、基板１００上に無機配向膜１１０を形成する
工程について説明する。先ず、制御部１５は、電子ビームを出射するように電子銃１４２
を制御する。電子銃１４２の制御と相前後して、制御部１５は、例えば基板ユニット１２
の位置が最も左に振った位置（図３中の破線の位置）になるように平行移動機構１３を制
御する。続いて、制御部１５は、基板１００をスリット１２２に対してＺ軸方向に沿って
往復移動するようにアクチュエータ１２３を制御する。
【００４６】
次に、制御部１５は、基板ユニット１２の位置が、例えば１５ｃｍ右側にずれるように
平行移動機構１３を制御する。この際、基板ユニット１２上で平面的に見て、基板１００
とスリット１２２に開けられた開口１２２ａとは相互に重ならないような配置となってい
ることが望ましい。尚、基板１００と開口１２２ａとが重なるような配置となっていたと
しても、本願発明の効果が得られることが、本願発明者の研究により判明している。
【００４７】
続いて、制御部１５は、基板１００をスリット１２２に対してＺ軸方向に沿って往復移
動するようにアクチュエータ１２３を制御する。制御部１５は、同様の制御を、基板ユニ
ット１２の位置が最も右に振った位置（図３中の一点鎖線の位置）になるまで実施する。
尚、本例では、基板１００がスリット１２２に対してＺ軸方向に沿って７回往復移動され
ることによって、所定の膜厚の無気配向膜１１０が形成されるような蒸着レートに調整さ
れている。
【００４８】
（比較例）
次に、本実施形態に係る液晶装置の製造方法の比較例について、図６を参照して説明す
る。ここに、図６は、図５と同趣旨の、本実施形態の比較例に係る無機配向膜におけるカ
ラムの方位分布の概念を示す概念図である。
【００４９】
比較例では、基板ユニット１２を移動させずに（即ち、基板ユニット１２が、レール１
３３上の一か所に固定された状態で）、基板１００上に無機配向膜１１０が形成される。
尚、基板保持部１２１は、本実施形態と同様に、往復移動される。
【００５０】
図６に示すように、図中の上下方向においては、形成された無機配向膜１１０における
カラムの方位分布は均一又は均一とみなし得る程度になるが、図中の左右方向においては
、カラムの方位にばらつきが生じている。この結果、無機配向膜１１０の膜厚の面内分布
にばらつきが生じることとなる。
【００５１】
尚、本実施形態では、基板ユニット１２がレール１３３に沿って移動する構成となって
いるが、例えば、基板ユニットが、真空蒸着装置上で平面的に見て、蒸着源を中心としな
い（言い換えれば、基板ユニットが移動する円周の中心と蒸着源とがずれている）円周上
に沿って移動する構成であってもよい。
【００５２】
本発明は、上述した実施形態に限られるものではなく、請求の範囲及び明細書全体から
読み取れる発明の要旨或いは思想に反しない範囲で適宜変更可能であり、そのような変更
を伴う電気光学装置の製造装置及び電気光学装置の製造方法もまた本発明の技術的範囲に
含まれるものである。
【図面の簡単な説明】
【００５３】
【図１】本発明の実施形態に係る真空蒸着装置の全体構成を示すブロック図である。
【図２】本発明の実施形態に係る基板の移動を示す概念図である。
【図３】本発明の実施形態に係る基板ユニットの移動を示す概念図である。
【図４】本発明の実施形態に係る液晶装置の製造方法の工程の一部を示す工程図である。
【図５】本発明の実施形態に係る無機配向膜におけるカラムの方位分布の概念を示す概念図である。
【図６】本発明の実施形態の比較例に係る無機配向膜におけるカラムの方位分布の概念を示す概念図である。
【符号の説明】
【００５４】
１…真空蒸着装置、１１…チャンバ、１２…基板ユニット、１３…平行移動機構、１４
…蒸着源、１５…制御部、１００…基板、１１０…無機配向膜、１２１…基板保持部材、
１２２…スリット、１２３…アクチュエータ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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