(57)【要約】【課題】純水等の前処理液を微生物の発生防止のために頻繁に交換することなく、前処理液中の微生物発生を抑制して、めっき欠けやめっき未着等のない良好なめっきを行うことができるようにする。【解決手段】被めっき物の表面に前処理液による前処理を行った後、めっきを行うめっき装置であって、前処理液中の溶存気体を脱気する脱気装置２８ａと、前処理液中の微生物の発生を抑える微生物処理装置３０ａとを有する。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
被めっき物の表面に前処理液による前処理を行った後、めっきを行うめっき装置であって、
前処理液中の溶存気体を脱気する脱気装置と、前処理液中の微生物の発生を抑える微生物処理装置とを有することを特徴とするめっき装置。
【請求項２】
前記微生物処理装置は、紫外線を照射することにより生じる光触媒反応を用いて前処理液中の微生物を分解する光触媒ＵＶ装置であることを特徴とする請求項１に記載のめっき装置。
【請求項３】
前処理を行う前処理槽内の前処理液を循環させる前処理液循環系を備え、前記前処理液循環系に、前記脱気装置と前記微生物処理装置とを有することを特徴とする請求項１または２に記載のめっき装置。
【請求項４】
前処理を行う前処理槽と前処理液循環タンクとの間で前処理液を循環させる第１前処理液循環系と、前記前処理液循環タンク内の前処理液を循環させる第２前処理液循環系とを備え、該第２前処理液循環系に、前記脱気装置と前記微生物処理装置とを有することを特徴とする請求項１または２に記載のめっき装置。
【請求項５】
前処理液中のパーティクルを除去するろ過フィルタを更に有し、前記脱気装置は、脱気膜を有する脱気膜モジュールと真空ポンプとを備えていることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載のめっき装置。
【請求項６】
前記ろ過フィルタは、前記脱気装置の上流側及び下流側の少なくとも一方に設けられていることを特徴とする請求項５に記載のめっき装置。
【請求項７】
めっき槽内のめっき液を循環させるめっき液循環系を備え、前記めっき液循環系に、めっき液中の溶存気体を脱気する脱気装置と、めっき液中の微生物の発生を抑える微生物処理装置とを有することを特徴とする請求項１乃至６のいずれか一項に記載のめっき装置。
【請求項８】
めっき槽とめっき液循環タンクとの間でめっき液を循環させる第１めっき液循環系と、めっき液循環タンク内のめっき液を循環させる第２めっき液循環系とを備え、前記第２めっき液循環系に、めっき液中の溶存気体を脱気する脱気装置と、めっき液中の微生物の発生を抑える微生物処理装置とを有することを特徴とする請求項１乃至６のいずれか一項に記載のめっき装置。
【請求項９】
被めっき物の表面に前処理液による前処理を行った後、めっきを行うめっき装置であって、前処理液中の溶存気体を脱気する脱気装置と、脱気装置の上流側及び下流側に設置されたろ過フィルタとを有することを特徴とするめっき装置。
【請求項１０】
前記ろ過フィルタは、前記脱気装置の上流側及び下流側に少なくともそれぞれ1段以上設けられていることを特徴とする請求項９に記載のめっき装置。
【請求項１１】
前記脱気装置の下流側に設置されるろ過フィルタの孔径は、上流側に設置されるろ過フィルタの孔径よりも小さいことを特徴とする請求項９または１０に記載のめっき装置。
【請求項１２】
溶在気体を脱気する脱気処理と、微生物の発生を抑える微生物処理とを施した前処理液で被めっき物の表面を前処理し、しかる後、被めっき物の表面にめっきを行うことを特徴とするめっき方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体ウェハ等の被めっき物（基板）の表面にめっきを行うめっき装置及びめっき方法に関し、特に半導体ウェハの表面に設けられた微細なトレンチやビアホール、レジスト開口部にめっき膜を形成したり、半導体ウェハの表面にパッケージの電極等と電気的に接続するバンプ（突起状電極）を形成したりするのに好適なめっき装置及びめっき方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、ＴＡＢ（Tape  Automated  Bonding）やフリップチップにおいては、配線が形成された半導体チップの表面の所定箇所（電極）に金、銅、はんだ、或いはニッケル、更にこれらを多層に積層した突起状接続電極（バンプ）を形成し、このバンプを介してパッケージの電極やＴＡＢ電極と電気的に接続することが広く行われている。このバンプ形成方法としては、電解めっき法、蒸着法、印刷法、ボールバンプ法といった種々の手法があるが、半導体チップのＩ／Ｏ数の増加、ピッチの微細化に伴い、微細化可能で性能が比較的安定している電解めっき法が多く用いられている。
【０００３】
例えば、電解めっきにあっては、被めっき物の表面を純水等の前処理液で濡らす前処理（プリウェット処理）を行った後に、被めっき物の表面にめっきを行うことが広く行われている。出願人は、めっきに先立って、溶在気体を脱気した前処理液を使用した被めっき物の前処理を行うことで、半導体ウェハ等の被めっき物の表面に設けられた微細なトレンチやビアホール、或いはレジスト開口部内に前処理液を確実に浸入させて、めっき欠けやめっき未着等を防止するようにしたものを提案している（特許文献１参照）。
【０００４】
また、めっき工程で使用される洗浄水中の細菌類による製品歩留まりの悪化等を防止するため、光触媒機能を利用して洗浄液中の細菌類を殺菌するようにしたものや（特許文献２参照）、めっき液に紫外線を照射することで、めっき液中に含まれる有機物を除去して無害化するようにしたもの（特許文献３参照）等が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特許第４０４３１９２号公報
【特許文献２】特開２００８−１８３５２号公報
【特許文献３】特開２００３−２７２８９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
例えば、純水を、プリウェット処理等の被めっき物の前処理を行う前処理液として使用し続けると、前処理液（純水）中に従属栄養細菌や酵母などの微生物が発生して前処理槽内に微生物が存在することになる。図１は、純水を室温で放置した場合の純水中の細菌（一般細菌、従属栄養細菌、カビ及び酵母）数を測定した結果における経過日数と生菌数（個／ｍｌ）の関係を示すグラフである。そして、微生物を含む純水を使用して、プリウェット処理等の被めっき物の前処理を行うと、被めっき物の表面に微生物が付着して、めっき欠けやめっき未着等のめっき不良を引き起こす原因となる。
【０００７】
このため、純水等の前処理液を頻繁に交換することで、前処理液中に微生物が発生することを防止するようにしているが、前処理液（純水）の交換が遅れると、微生物の発生に伴うめっき不良を引き起こす原因となり、前処理液（純水）の交換遅れをなくすため、前処理液（純水）の交換をより頻繁に行うと、装置稼働率の低下を招いてしまう。
【０００８】
本発明は上記事情に鑑みてなされたもので、純水等の前処理液を微生物の発生防止のために頻繁に交換することなく、前処理液中の微生物発生を抑制して、めっき欠けやめっき未着等のない良好なめっきを行うことができるようにしためっき装置及びめっき方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
請求項１に記載の発明は、被めっき物の表面に前処理液による前処理を行った後、めっきを行うめっき装置であって、前処理液中の溶存気体を脱気する脱気装置と、前処理液中の微生物の発生を抑える微生物処理装置とを有することを特徴とするめっき装置である。
【００１０】
これにより、前処理液中の溶存気体を脱気することで好気性の微生物の繁殖を抑えながら、前処理液中の微生物の発生を微生物処理装置で抑えることができる。しかも、微生物を分解して微生物の発生を抑えるようにした時に、微生物を分解する時に発生して前処理液中に混入する気体（二酸化炭素）を脱気装置で脱気することで、該気体のめっきに対する悪影響を防止することができる。
【００１１】
請求項２に記載の発明は、前記微生物処理装置は、紫外線を照射することにより生じる光触媒反応を用いて前処理液中の微生物を分解する光触媒ＵＶ装置であることを特徴とする請求項１に記載のめっき装置である。
【００１２】
このように、紫外線を照射することにより生じる光触媒反応によりＯＨラジカルを発生させて微生物を分解する光触媒ＵＶ装置を使用することで、被めっき物にダメージを与えることなく、前処理液中の微生物をほぼ完全に分解除去することができる。
【００１３】
請求項３に記載の発明は、前処理を行う前処理槽内の前処理液を循環させる前処理液循環系を備え、前記前処理液循環系に、前記脱気装置と前記微生物処理装置とを有することを特徴とする請求項１または２に記載のめっき装置である。
【００１４】
請求項４に記載の発明は、前処理を行う前処理槽と前処理液循環タンクとの間で前処理液を循環させる第１前処理液循環系と、前記前処理液循環タンク内の前処理液を循環させる第２前処理液循環系とを備え、該第２前処理液循環系に、前記脱気装置と前記微生物処理装置とを有することを特徴とする請求項１または２に記載のめっき装置である。
【００１５】
このように、前処理槽内の前処理液を循環させる第１前処理液循環系とは別に設けた、前処理液循環タンク内の前処理液を循環させる第２前処理液循環系に、脱気装置と微生物処理装置とを備えることで、前処理槽内への前処理液の供給流量に左右されることなく、前処理液の安定した脱気及び微生物の発生抑制を行うことができる。
【００１６】
請求項５に記載の発明は、前処理液中のパーティクル除去するろ過フィルタを更に有し、前記脱気装置は、脱気膜を有する脱気膜モジュールと真空ポンプとを備えていることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載のめっき装置である。
【００１７】
請求項６に記載の発明は、前記ろ過フィルタは、前記脱気装置の上流側及び下流側の少なくとも一方に設けられていることを特徴とする請求項５に記載のめっき装置である。
脱気装置の上流側と下流側の２箇所にろ過フィルタを設けた場合、下流側に設けられるろ過フィルタの方が、上流側に設けられるろ過フィルタよりもフィルタ孔径が細かいことが望ましい。
【００１８】
請求項７に記載の発明は、めっき槽内のめっき液を循環させるめっき液循環系を備え、前記めっき液循環系に、めっき液中の溶存気体を脱気する脱気装置と、めっき液中の微生物の発生を抑える微生物処理装置とを有することを特徴とする請求項１乃至６のいずれか一項に記載のめっき装置である。
【００１９】
これにより、被めっき物の前処理を行う前処理液のみならず、めっき液に対しても、微生物の発生を抑える微生物処理を行って、微生物の存在に起因するめっき不良の発生をより確実に防止することができる。
【００２０】
請求項８に記載の発明は、めっき槽内のめっき液循環タンクとの間でめっき液を循環させる第１めっき液循環系と、めっき液循環タンク内のめっき液を循環させる第２めっき液循環系とを備え、前記第２めっき液循環系に、めっき液中の溶存気体を脱気する脱気装置と、めっき液中の微生物の発生を抑える微生物処理装置とを有することを特徴とする請求項１乃至６のいずれか一項に記載のめっき装置である。
【００２１】
請求項９に記載の発明は、被めっき物の表面に前処理液による前処理を行った後、めっきを行うめっき装置であって、前処理液中の溶存気体を脱気する脱気装置と、脱気装置の上流側及び下流側に設置されたろ過フィルタとを有することを特徴とするめっき装置である。
【００２２】
脱気装置は、一般に数万本の細い樹脂製中空糸を備え、この中空糸内に脱気する流体を通すことで該流体の脱気を行うように構成されており、脱気装置も細菌発生の温床となる。このため、脱気装置の下流側にろ過フィルタを設置することで、脱気装置で発生した細菌類を前処理液から除去し、更に脱気装置の上流側にもろ過フィルタを設置することで、前処理液中の大きなゴミやパーティクル等を脱気装置の前でトラップし、脱気装置を構成する中空糸等の目詰まりを防止するとともに、脱気装置の下流側に設置されるろ過フィルタの目詰まりを遅延させることができる。
【００２３】
請求項１０に記載の発明は、前記ろ過フィルタは、前記脱気装置の上流側及び下流側に少なくともそれぞれ1段以上設けられていることを特徴とする請求項９に記載のめっき装置である。
このように、ろ過フィルタを脱気装置の上流側及び下流側に少なくともそれぞれ1段以上設けることで、細菌やカビ等の微生物をより確実に前処理液から除去することができる。
【００２４】
請求項１１に記載の発明は、前記脱気装置の下流側に設置されるろ過フィルタの孔径は、上流側に設置されるろ過フィルタの孔径よりも小さいことを特徴とする請求項９または１０に記載のめっき装置である。
【００２５】
酵母やカビの大きさは、一般に３μｍ〜１０μｍ程度で、細菌（バクテリア）の大きさは更に小さく１μｍ程度である。このため、脱気装置の上流側に設置されるろ過フィルタの孔径は、前処理液中の大きなゴミやパーティクル等を脱気装置の前でトラップするため３μｍ以上であることが好ましく、脱気装置の下流側に設置されるろ過フィルタの孔径は、細菌を除去できる１μｍ以下であることが好ましい。
【００２６】
請求項１２に記載の発明は、溶在気体を脱気する脱気処理と、微生物の発生を抑える微生物処理とを施した前処理液で被めっき物の表面を前処理し、しかる後、被めっき物の表面にめっきを行うことを特徴とするめっき方法である。
【発明の効果】
【００２７】
本発明によれば、純水等の前処理液を微生物の発生防止のために頻繁に交換することなく、従って、装置稼働率を低下させることなく、前処理液中の微生物発生を抑制して、めっき欠けやめっき未着等のない良好なめっきを行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
【図１】純水を室温で放置した場合の純水中の細菌（一般細菌、従属栄養細菌、カビ及び酵母）数を測定した結果における経過日数と生菌数（個／ｍｌ）の関係を示すグラフである。
【図２】本発明の実施形態のめっき装置を示す概要図である。
【図３】本発明の他の実施形態のめっき装置を示す概要図である。
【図４】本発明の更に他の実施形態のめっき装置を示す概要図である。
【図５】本発明の更に他の実施形態のめっき装置を示す概要図である。
【図６】本発明の更に他の実施形態のめっき装置を示す概要図である。
【図７】本発明の更に他の実施形態のめっき装置を示す概要図である。
【発明を実施するための形態】
【００２９】
以下、本発明の実施形態を図面を参照して説明する。なお、以下の実施形態では、被めっき物として半導体ウェハ等の基板を使用して、基板の表面（被めっき面）にめっきを行うようにしているが、基板以外にも適用できることは勿論である。また、下記の各実施形態において、同一部材または相当部材には同一符号を付して重複した説明を省略する。
【００３０】
図２は、本発明の実施形態のめっき装置の概要を示す。図２に示すように、このめっき装置は、純水等の前処理液１０を内部に保持する前処理槽１２と、めっき液１４を内部に保持するめっき槽１６と、半導体ウェハ等の基板（被めっき物）Ｗを着脱自在に保持して搬送し、基板Ｗを保持したまま、基板Ｗに対する前処理及びめっきを行う基板ホルダ１８とを有している。基板ホルダ１８は、基板Ｗの裏面及び外周端部をシールし、表面（被めっき面）を露出させて基板Ｗを保持する。
【００３１】
前処理槽１２には、前処理槽１２の周壁上端縁をオーバフローした前処理液１０を捕集するオーバフロー槽２０が備えられ、このオーバフロー槽２０と前処理槽１２は、オーバフロー槽２０内に貯まった前処理液１０を前処理槽１２に戻して循環させる前処理液循環系２２で結ばれている。この前処理液循環系２２には、オーバフロー槽２０側から順に、循環ポンプ２４ａ、ろ過フィルタ２６ａ、脱気装置２８ａ、微生物処理装置３０ａ及び流量計３２ａが設置されており、微生物処理装置３０ａと流量計３２ａとの間でドレン弁３４ａを介してドレン口に連通している。ろ過フィルタ２６ａから延びるエア抜きライン３６ａは、前処理槽１２の上方で開口している。
【００３２】
微生物処理装置３０ａは、前処理液中の微生物の発生を抑えるためのもので、この例では、微生物処理装置３０ａとして、紫外線を照射することにより生じる光触媒反応によりＯＨラジカルを発生させて微生物を分解する光触媒ＵＶ装置、具体的には、光触媒繊維モジュール「アクアソリューション」（宇部興産株式会社の商品名）を使用している。また、脱気膜を有する脱気膜モジュール３８ａと真空ポンプ４０ａを備えた脱気装置２８ａを使用して、前処理液循環系２２に沿って流れる前処理液１０中の溶存気体を除去するようにしている。このことは、以下の実施形態においても同様である。
【００３３】
このように、前処理液循環系２２に微生物処理装置３０ａと脱気装置２８ａを設けることで、微生物を殺菌するための過酸化水素等の化学薬品を使用することなく、前処理液中の溶存気体を脱気装置２８ａで脱気して好気性の微生物の繁殖を抑えながら、微生物処理装置３０ａで前処理液中の微生物の発生を抑えることができる。また、微生物処理装置３０ａとして、微生物を分解除去する光触媒ＵＶ装置、例えば、光触媒繊維モジュール「アクアソリューション」（宇部興産株式会社の商品名）を使用することで、微生物を分解する時に発生して前処理液中に混入するする気体（二酸化炭素）を脱気装置２８ａで脱気して、該気体のめっきに対する悪影響を防止し、しかも、光触媒ＵＶ装置は、光触媒繊維が接する箇所でしか効果がないため、前処理槽１２内に位置する基板Ｗにダメージを与えることなく、前処理液中の微生物をほぼ完全に分解除去することができる。
【００３４】
これにより、循環ポンプ２４ａの駆動に伴って、前処理槽１２をオーバフローしてオーバフロー槽２０内に貯まった前処理液１０は、ろ過フィルタ２６ａを通過してろ過され、脱気装置２８ａを通過して脱気された後、微生物処理装置３０ａを通過して前処理液中の微生物が除去され、しかる後、流量計３２ａを通り、前処理槽１２内に戻って循環するように構成されている。
【００３５】
この例では、脱気装置２８ａの上流側のみに、例えば孔径が３μｍ以上のろ過フィルタ２６ａを設けて、前処理液中のパーティクルをろ過フィルタ２６ａで除去するようにしているが、脱気装置２８ａの下流側、更には上流側と下流側の２カ所にろ過フィルタを設けるようにしてもよい。脱気装置の上流側と下流側の２箇所にろ過フィルタを設けた場合、脱気装置の下流側に設けられるろ過フィルタの方が、上流側に設けられるろ過フィルタよりもフィルタ孔径が細かいことが望ましい。このことは、以下同様である。
【００３６】
めっき槽１６内には、アノードホルダ（図示せず）で保持されたアノード４４がめっき液１４中に浸漬されて配置されている。そして、このアノード４４と対面する位置に基板ホルダ１８で保持した基板Ｗを配置し、アノード４４と基板Ｗとの間にめっき電源４６を介してめっき電圧を印加することで、基板Ｗの表面にめっきが行われる。
【００３７】
めっき槽１６には、めっき槽１６の周壁上端縁をオーバフローしためっき液１４を捕集するオーバフロー槽５０が備えられ、このオーバフロー槽５０とめっき槽１６は、オーバフロー槽５０内に貯まっためっき液１４をめっき槽１６に戻して循環させるめっき液循環系５２で結ばれている。このめっき液循環系５２には、前述の前処理液循環系２２とほぼ同様に、オーバフロー槽５０側から順に、循環ポンプ２４ｂ、ろ過フィルタ２６ｂ、脱気装置２８ｂ、微生物処理装置３０ｂ及び流量計３２ｂが設置されており、微生物処理装置３０ｂと流量計３２ｂとの間でドレン弁３４ｂを介してドレン口に連通している。ろ過フィルタ２６ｂから延びるエア抜きライン３６ｂは、めっき槽１６の上方で開口している。
【００３８】
これにより、循環ポンプ２４ｂの駆動に伴って、めっき槽１６をオーバフローしてオーバフロー槽５０内に貯まっためっき液１４は、ろ過フィルタ２６ｂを通過してろ過され、脱気装置２８ｂを通過して脱気された後、微生物処理装置３０ｂを通過してめっき液中の微生物が除去され、しかる後、流量計３２ｂを通り、めっき槽１６内に戻って循環するように構成されている。
【００３９】
このように、めっき液循環系５２に脱気装置２８ｂ及び微生物処理装置３０ｂを設けることで、めっき液に対しても、微生物の発生を抑える微生物処理を行って、微生物の存在に起因するめっき不良の発生をより確実に防止することができる。このめっき液循環系５２の脱気装置２８ｂ及び微生物処理装置３０ｂは、省略してもよい。
【００４０】
次に、このめっき装置の操作について説明する。まず、基板Ｗを保持した基板ホルダ１８を前処理槽１２の直上方まで移動させ、しかる後、下降させることで、基板Ｗを前処理槽１２内の前処理液１０に浸漬させ、これによって、基板Ｗの表面の純水等の前処理液１０によるポリウェット処理等の前処理を行う。このとき、前処理液循環系２２の循環ポンプ２４ａを駆動して、前処理槽１２内の前処理液１０を前処理液循環系２２を通して循環させることで、前処理液中の溶在気体を脱気装置２８ａで脱気し、前処理液中の微生物を微生物処理装置３０ａで除去する。そして、所定時間、基板Ｗの前処理（ポリウェット処理）を行った後、基板ホルダ１８を上昇させて、基板Ｗを前処理槽１２内の前処理液１０から引き上げる。
【００４１】
次に、基板Ｗを保持した基板ホルダ１８をめっき槽１６の直上方まで移動させ、しかる後、下降させることで、基板Ｗをめっき槽１６内のめっき液１４に浸漬させ、基板Ｗとアノード４４との間にめっき電源４６からめっき電圧を印加して、基板Ｗの表面にめっきを行う。このとき、めっき液循環系５２の循環ポンプ２４ｂを駆動して、めっき槽１６内のめっき液１４をめっき液循環系５２を通して循環させることで、めっき液中の溶在気体を脱気装置２８ｂで脱気し、めっき液中の微生物を微生物処理装置３０ｂで除去する。そして、所定時間めっき処理を行った後、基板ホルダ１８を上昇させ、基板Ｗをめっき槽１６内のめっき液１４から引き上げて、次工程に搬送する。
【００４２】
図２に示すめっき装置を使用して、前処理液としての純水中に発生する微生物（一般細菌、従属栄養細菌、カビ及び酵母）の数を検証した。その結果を表１の下段に「試験系：光触媒ＵＶ使用・循環」として示す。比較のため、純水をクリーンルーム内に放置した時に純水中に発生した微生物（一般細菌、従属栄養細菌、カビ及び酵母）の数を表１の上段に「試験系：クリーンルーム内放置」として示す。
【００４３】
【表１】
2010185117.tif 000003
【００４４】
この表１から、図２に示すめっき装置を使用することで、純水（前処理液）中の微生物のうち、特に従属栄養細菌と酵母についての増殖が抑えられことが判る。また、試験終了後、前処理槽の純水が浸漬している壁面をウェスで拭き取って、壁面に付着していた微生物の数を測定したが、微生物の数は少なく、一般的な過酸化水素洗浄と同等レベルであったことが確認されている。
【００４５】
図３は、本発明の第２実施形態のめっき装置の概要を示す。このめっき装置の図２に示すめっき装置と異なる点は、前処理液循環系２２のオーバフロー槽２０と循環ポンプ２４ａとの間に循環タンク５４ａを設け、ドレン弁５６ａを介在させたドレンパイプ５８ａで循環タンク５４ａと前処理槽１２とを繋いでいる点にある。更に、この例では、めっき液循環系５２のオーバフロー槽５０と循環ポンプ２４ｂとの間に循環タンク５４ｂを設け、ドレン弁５６ｂを介在させたドレンパイプ５８ｂで循環タンク５４ｂとめっき槽１６とを繋いでいる。
【００４６】
このように、前処理液循環系２２に循環タンク５４ａを設けることにより、前処理槽１２で発生したパーティクルが循環タンク５４ａ内にも分散するようにして、パーティクルの発生を抑えることができる。また、めっき液循環系５０にあっても同様に、めっき槽１６で発生したパーティクルが循環タンク５４ａ内にも分散するようにして、パーティクルの発生を抑えることができる。
【００４７】
図４は、本発明の第３実施形態のめっき装置の概要を示す。このめっき装置の図３に示すめっき装置と異なる点は、前処理槽１２内の前処理液１０を循環タンク５４ａを通して循環させる第１前処理液循環系６０と、循環タンク５４ａ内の前処理液１０を独立に循環させる第２前処理液循環系６２とを備え、この第２前処理液循環系６２に、上記前処理液循環系２２とほぼ同様に、循環タンク５４ａ側から順に、循環ポンプ２４ａ、ろ過フィルタ２６ａ、脱気装置２８ａ、微生物処理装置３０ａ及び流量計３２ａを設置した点にある。第１前処理液循環系６０には、循環ポンプ２４ｃ、ろ過フィルタ２６ｃ及び流量計３２ｃが設置されている。
【００４８】
更に、この例では、めっき槽１６内のめっき液１４を循環タンク５４ｂを通して循環させる第１めっき液循環系６４と、循環タンク５４ｂ内のめっき液１４を独立して循環させる第２前処理液循環系６６とを備え、この第２前処理液循環系６６に、上記めっき液循環系５２とほぼ同様に、循環タンク５４ｂ側から順に、循環ポンプ２４ｂ、ろ過フィルタ２６ｂ、脱気装置２８ｂ、微生物処理装置３０ｂ及び流量計３２ｂを設置している。第１めっき液循環系６４には、循環ポンプ２４ｄ、ろ過フィルタ２６ｄ及び流量計３２ｄが設置されている。
【００４９】
このように、処理槽１２内の前処理液１０を循環させる第１前処理液循環系６０とは別に、循環タンク５４ａ内の前処理液１０を独立して循環させる第２前処理液循環系６２を備え、この第２前処理液循環系６２に脱気装置２８ａ及び微生物処理装置３０ａを設置することで、前処理槽１２内への前処理液１０の供給流量に左右されることなく、前処理液１０の安定した脱気及び微生物の発生抑制を行うことができる。
【００５０】
同様に、めっき槽１６内のめっき液１４を循環させる第１めっき液循環系６４とは別に、循環タンク５４ｂ内のめっき液１４を独立して循環させる第２めっき液循環系６６を備え、この第２めっき液循環系６６に脱気装置２８ｂ及び微生物処理装置３０ｂを設置することで、めっき槽１６内へのめっき液１４の供給流量に左右されることなく、めっき液１４の安定した脱気及び微生物の発生抑制を行うことができる。
【００５１】
図５は、本発明の第４実施形態のめっき装置を示す。このめっき装置の図２に示すめっき装置と異なる点は、脱気装置２８ａの上流側に設置されるろ過フィルタ２６ａの他に、脱気装置２８ａの下流側にもろ過フィルタ７０ａを設置して前処理液循環系２２ａを構成し、更に、脱気装置２８ｂの上流側に設置されるろ過フィルタ２６ｂの他に、脱気装置２８ｂの下流側にもろ過フィルタ７０ｂを設置してめっき液循環系５２ａを構成している点にある。
【００５２】
図２に示すように、前処理液循環系２２の脱気装置２８ａは、数万本の細い樹脂製中空糸を有する脱気膜モジュール３８ａを備え、この中空糸内に脱気する流体（前処理液）を通すことで該流体の脱気を行うように構成されている。このため脱気装置２８ａも細菌発生の温床となる。このため、この例では、前処理液循環系２２ａにおいて、脱気装置２８ａの下流側にろ過フィルタ７０ａを設置することで脱気装置２８ａで発生した細菌類を前処理液から除去し、更に脱気装置２８ａの上流側にもろ過フィルタ２６ａを設置することで、前処理液中の大きなゴミやパーティクル等を脱気装置２８ａの前でトラップし、脱気装置２８ａを構成する中空糸等の目詰まりを防止するとともに、脱気装置２８ａの下流側に設置されるろ過フィルタ７０ａの目詰まりを遅延させるようにしている。
【００５３】
酵母やカビの大きさは、一般に３μｍ〜１０μｍ程度で、細菌（バクテリア）の大きさは更に小さく１μｍ程度である。このため、この例では、脱気装置２８ａの上流側に設置されるろ過フィルタ２６ａとして、孔径が３μｍ以上のものを使用して、前処理液中の大きなゴミやパーティクル等を脱気装置２８ａの前でトラップし、脱気装置２８ａの下流側に設置されるろ過フィルタ７０ａとして、孔径が１μｍ以下のものを使用して、このろ過フィル７０ａで細菌を除去するようにしている。
【００５４】
めっき液循環系５２ａにあってもほぼ同様に、脱気装置２８ｂの下流側に、例えば孔径が１μｍ以下のろ過フィルタ７０ｂを設置することで、脱気装置２８ｂで発生した細菌類をめっき液から除去するようにしている。
【００５５】
図６は、本発明の第５実施形態のめっき装置を示す。このめっき装置の図３に示すめっき装置と異なる点は、前述の図５に示すめっき装置とほぼ同様に、脱気装置２８ａの上流側に設置される、例えば孔径が３μｍ以上のろ過フィルタ２６ａの他に、脱気装置２８ａの下流側にも、例えば孔径が１μｍ以下のろ過フィルタ７０ａを設置して前処理液循環系２２ａを構成し、更に、脱気装置２８ｂの上流側に設置される、例えば孔径が３μｍ以上のろ過フィルタ２６ｂの他に、脱気装置２８ｂの下流側にも、例えば孔径が１μｍ以下のろ過フィルタ７０ｂを設置してめっき液循環系５２ａを構成している点にある。
【００５６】
図７は、本発明の第６実施形態のめっき装置を示す。このめっき装置の図４に示すめっき装置と異なる点は、脱気装置２８ａの上流側に設置される、例えば孔径が３μｍ以上のろ過フィルタ２６ａの他に、脱気装置２８ａの下流側にも、例えば孔径が１μｍ以下のろ過フィルタ７０ａを設置して第２前処理液循環系６２ａを構成し、更に、脱気装置２８ｂの上流側に設置される、例えば孔径が３μｍ以上のろ過フィルタ２６ｂの他に、脱気装置２８ｂの下流側にも、例えば孔径が１μｍ以下のろ過フィルタ７０ｂを設置して第２めっき液循環系６６ａを構成している点にある。
【００５７】
これまで本発明の実施形態について説明したが、本発明は上述の実施形態に限定されず、その技術思想の範囲内において、種々の異なる形態で実施されてよいことは勿論である。
【符号の説明】
【００５８】
１０  前処理液
１２  前処理槽
１４  めっき液
１６  めっき槽
１８  基板ホルダ
２０  オーバフロー槽
２２，２２ａ  前処理液循環系
２４ａ，２４ｂ，２４ｃ，２４ｄ  循環ポンプ
２６ａ，２６ｂ，２６ｃ，２６ｄ，７０ａ，７０ｂ  ろ過フィルタ
２８ａ，２８ｂ  脱気装置
３０ａ，３０ｂ  微生物処理装置（光触媒ＵＶ装置）
３８ａ  脱気膜モジュール
４０ａ  真空ポンプ
４４  アノード
４６  めっき電源
５０  オーバフロー槽
５２，５２ａ  めっき液循環系
５４ａ，５４ｂ  循環タンク
６０  第１前処理液循環系
６２，６２ａ  第２前処理液循環系
６４  第１めっき液循環系
６６，６６ａ  第２めっき液循環系
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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