(57)【要約】【課題】本発明の目的はリワーク性に優れた光学補償フィルム、光学補償フィルムの製造方法、及び該光学補償フィルムを用いた液晶表示装置を提供することにある。【解決手段】透明基材フィルムの上に棒状垂直配向液晶層を有する光学補償フィルムにおいて、該棒状垂直配向液晶層の表面がＪＩＳ  Ｂ０６７１：２００２で規定される構造表面のパラメータＭｒ１（％）の値が２０％〜３５％の範囲内であることを特徴とする光学補償フィルム。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材フィルムの上に棒状垂直配向液晶層を有する光学補償フィルムにおいて、該棒状垂直配向液晶層の表面がＪＩＳ  Ｂ０６７１：２００２で規定される構造表面のパラメータＭｒ１（％）の値が２０％〜３５％の範囲内であることを特徴とする光学補償フィルム。
【請求項２】
請求項１に記載の光学補償フィルムの製造方法であって、前記棒状垂直配向液晶層を透明基材フィルム上に塗設し熱風乾燥により乾燥する工程において、該棒状垂直配向液晶層の膜面温度が４０℃以下で、かつ該膜面直上での風速が０．１ｍ／ｓ〜１．０ｍ／ｓで初期乾燥を行うことを特徴とする光学補償フィルムの製造方法。
【請求項３】
請求項１に記載の光学補償フィルムの棒状垂直配向液晶層側を、粘着層を介して液晶セルに貼合したことを特徴とする液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は光学補償フィルム、及び光学補償フィルムの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置（以下、ＬＣＤと略す）に用いる偏光板には通常保護フィルムや視野角を拡大する為の光学補償フィルムが貼合されているが、該偏光板はＬＣＤのキーデバイスであり品質のバラツキ防止やＬＣＤ組立の効率化などを目的に、アクリル系粘着剤等からなる粘着剤層を予め付設した状態で、該保護フィルム、または光学補償フィルム面を液晶セルに貼り合わせる（貼合）方法が採られている。
【０００３】
その場合、液晶セルへの貼合時に汚染物や気泡等の異物が混入するとその部分が視認障害となるため、貼合ミスとして偏光板が液晶セルより剥離、除去され、その液晶セルは再利用（リワーク）される。
【０００４】
しかしながら従来の液晶セルのリワーク方法では、液晶セルより偏光板を剥離する際に液晶セルのギャップを変化させたり、ガラス基板に破断等の損傷を与えたりと、液晶セルを再利用できない頻度が高いという問題点があった。
【０００５】
偏光板を液晶セルから容易に剥離できるように液晶セルと偏光板の貼合力を調整するために、特許文献１、２のように粘着剤層の粘着剤の粘着力を調整する方法が考えられるが、この方法では、本来必要とする液晶セルと偏光板の貼合力を犠牲にしてまで粘着力を低下させることができないため、調整の程度にはおのずと限界がある。
【０００６】
また、特許文献３では、液晶セルを損傷しないように偏光板を容易に裂けるようにしたり、特許文献４では、偏光板に所定の間隔で複数条の切れ目を入れ、その切れ目間の幅を単位に偏光板を部分的に剥離できるようにして、液晶セルに大きな剥離力が作用することを防止する提案もある。
【０００７】
しかしながら、最近の偏光板は薄膜化がすすみ偏光板の残骸が液晶セルに残ることが多々あり、その除去に多大な労力を要し、また偏光板に切れ目を入れる作業に多労力、多時間を要して結局リワークの作業効率に乏しく実用的でないなどの問題もあった。
【特許文献１】特開２０００−１０９７７１号公報
【特許文献２】特開２００７−１０１６７８号公報
【特許文献３】特開２００１−１９４５２８号公報
【特許文献４】特開２００３−４９４６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
従って本発明の目的はリワーク性に優れた光学補償フィルム、光学補償フィルムの製造方法、及び該光学補償フィルムを用いた液晶表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の上記課題は以下の構成により達成される。
【００１０】
１．透明基材フィルムの上に棒状垂直配向液晶層を有する光学補償フィルムにおいて、該棒状垂直配向液晶層の表面がＪＩＳ  Ｂ０６７１：２００２で規定される構造表面のパラメータＭｒ１（％）の値が２０％〜３５％の範囲内であることを特徴とする光学補償フィルム。
【００１１】
２．前記１に記載の光学補償フィルムの製造方法であって、前記棒状垂直配向液晶層を透明基材フィルム上に塗設し熱風乾燥により乾燥する工程において、該棒状垂直配向液晶層の膜面温度が４０℃以下で、かつ該膜面直上での風速が０．１ｍ／ｓ〜１．０ｍ／ｓで初期乾燥を行うことを特徴とする光学補償フィルムの製造方法。
【００１２】
３．前記１に記載の光学補償フィルムの棒状垂直配向液晶層側を、粘着層を介して液晶セルに貼合したことを特徴とする液晶表示装置。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によればリワーク性に優れた光学補償フィルム、光学補償フィルムの製造方法、及び該光学補償フィルムを用いた液晶表示装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下本発明を実施するための最良の形態について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００１５】
本発明の光学補償フィルムは、透明基材フィルムの上に棒状垂直配向液晶層（以下、単に液晶層という場合もある）を有する光学補償フィルムにおいて、該棒状垂直配向液晶層の表面がＪＩＳ  Ｂ０６７１：２００２で規定される構造表面のパラメータＭｒ１（％）の値が２０％〜３５％の範囲内であることを特徴とする。
【００１６】
即ち、図１で示すように光学補償フィルムが粘着層を介して液晶セルに貼合されている場合、従来はリワーク時に光学補償フィルムと粘着層間で剥離し易く、液晶セル上に粘着剤が残骸として残り作業に支障をきたすことが多かった。
【００１７】
本発明では、光学補償フィルムの基材上に設けられた棒状垂直配向液晶層に突出した凹凸部を所定の範囲に存在するように作製することで、該凹凸部が粘着層中にアンカー効果によって強固に接着され、リワーク時には液晶セルと粘着層の間で剥離することを可能にするものである。従って剥離による粘着剤の残骸が生じず、リワーク性が飛躍的に向上する。
【００１８】
以下、本発明を詳細に説明する。
【００１９】
＜表面形状＞
本発明の光学補償フィルムは、透明基材フィルムの上に棒状垂直配向液晶層を有し、かつ該棒状垂直配向液晶層の表面がＪＩＳ  Ｂ０６７１：２００２で規定される構造表面のパラメータＭｒ１（％）の値が２０％〜３５％の範囲内にある。表面凹凸部の粗さは、光干渉式の表面粗さ測定器で測定することが好ましく、例えばＷＹＫＯ社製ＮＴ３３００等を用いて測定することができる。ＷＹＫＯ社製ＮＴ３３００を用いた場合、例えば測定する試料を２３℃、相対湿度４８％の条件下で２４時間放置した後に、２３℃、相対湿度４８％の条件下で、対物レンズ５０倍、イメージズーム１．０倍で１２０μｍ×９０μｍの領域の表面を測定することによって求めることができる。
【００２０】
表面の粗さの尺度としては、例えば算術平均粗さＲａが一般的であるが、Ｒａは２次元粗さ測定を行い、その平均値を算術平均粗さとするものであるので、表面の突起の大きさのバラツキには何ら影響されないパラメータである。
【００２１】
一方、構造表面のパラメータＭｒ１（％）はコア部の負荷長さ率と呼ばれるものであり、平均的な突起に対し、突出した大きな突起が多いほど大きい値を示す。
【００２２】
図２に線形負荷曲線による高さ測定（ＪＩＳ  Ｂ０６７１：２００２）の評価方法を示す。
【００２３】
図２において、下記記号は以下に示す通りである。
【００２４】
Ｒｋ  コア部のレベル差：コア部の上側レベルと下側レベルの差
Ｒｐｋ  突出山部高さ：コア部の上にある突出山部の平均高さ
Ｒｖｋ  突出谷部深さ：コア部の下にある突出谷部の平均深さ
Ｍｒ１  コア部の負荷長さ率：突出山部とコア部の分離線と負荷曲線の交点の負荷長さ率
Ｍｒ２  コア部の負荷長さ率：突出谷部とコア部の分離線と負荷曲線の交点の負荷長さ率
従って、Ｍｒ１（％）が大きければ大きいほど平均的な突起に対し突出した大きな突起が多く、不均一な凹凸の表面であることが分かる。
【００２５】
図３にＭｒ１（％）の値の大小による表面形状の違いを模式図で示した。
【００２６】
液晶層表面のＭｒ１（％）を２０％〜３５％の範囲内にする方法は、特に限定されるものではなく、例えば予め金型を作製し液晶層が半硬化状態の時に押圧して金型の凹凸部を転写する方法、粒子を液晶層に添加し、その粒径の程度によって表面に凹凸部をつける方法、レーザー等を用いてエッチングする方法、インクジェット法などにより表面に凹凸部を印刷する方法などが挙げられるが、本発明では請求項２に示すように、光学補償フィルムの製造時に、前記棒状垂直配向液晶層を透明基材フィルム上に塗設し熱風乾燥により乾燥する工程において、該棒状垂直配向液晶層の膜面温度が４０℃以下で、かつ該膜面直上での風速が０．１ｍ／ｓ〜１．０ｍ／ｓで初期乾燥を行うことで再現よく凹凸部を作製することが可能である。本発明でいう初期乾燥とは、乾燥開始直後から、平滑であった液晶層表面のＭｒ１（％）の値が２０％〜３５％の範囲内に変化するまでの乾燥過程をいう。従って材料、装置、生産条件等の因子で種々変化する為、初期乾燥に要する時間等は一連の生産条件の中で適宜決定されるものである。
【００２７】
Ｍｒ１（％）が２０％未満である場合は、本発明のリワーク性の向上が小さく、３５％を超える場合においては、突出した大きな突起が起因となり、クラックの発生や液晶層が白濁したりすることがある。Ｍｒ１のより好ましい範囲は２５％〜３５％以下の範囲である。
【００２８】
〈棒状垂直配向液晶層〉
本発明の光学補償フィルムは、前記透明基材フィルム上に、棒状垂直配向液晶層（フィルムの厚み方向に配向する液晶分子を塗工し固定化した層）を有していることが特徴である。
【００２９】
本発明の棒状垂直配向液晶層は、棒状液晶材料もしくは棒状液晶の溶液を、本発明の透明基材フィルム上に塗布し、乾燥と熱処理、または冷却処理（いずれも配向処理ともいう）を行い紫外線硬化もしくは熱重合などで液晶配向の固定化を行い、垂直方向に配向した液晶層とすることが好ましい。
【００３０】
ここで垂直方向に配向するとは、棒状液晶分子がフィルム面に対して７０〜９０°（垂直方向を９０°とする）の範囲内に配向していることをいう。棒状液晶は、斜め配向しても、配向角を徐々に変化していてもよい。好ましくは８０〜９０°の範囲である。
【００３１】
本発明の光学補償フィルムは面内方向の位相差値Ｒｏが０〜１０ｎｍ、厚み方向の位相差値Ｒｔが−１００〜−５００ｎｍの範囲にある垂直方向に配向した棒状液晶層を有することが好ましい。更に上記Ｒｏは０〜５ｎｍの範囲がより好ましい。
【００３２】
ここでＲｔは下記式で定義される。
【００３３】
Ｒｔ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ
（式中、ｎｘは、光学補償フィルム面内の遅相軸方向の屈折率（面内の最大屈折率）であり、ｎｙは、光学補償フィルム面内の遅相軸に垂直な方向の屈折率であり、ｎｚは光学補償フィルムの厚み方向の屈折率であり、ｄは光学補償フィルムの厚み（ｎｍ）である。）
位相差値の測定には自動複屈折計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測器（株）製）等を用いることができる。
【００３４】
棒状垂直配向液晶層のＲｔは、透明基材フィルムのＲｔを相殺するような設定にして、光学補償フィルムの視角特性をよくする意図があり、従って、透明基材フィルムのＲｔに応じて垂直配向液晶層の塗工条件（液晶分子の種類、塗工液中の液晶分子濃度、乾燥後の膜厚など）を適切に選択することが重要である。例えば、透明基材フィルムのＲｔが互いに異なるものを用いて、同一液晶分子、同一塗布液条件で棒状垂直配向液晶層を形成する場合は、光学補償フィルムとしていずれも優れた視角特性を与えるには、透明基材フィルムのＲｔの値に応じて、垂直配向液晶層の厚みを変えることで目的は達成できる。
【００３５】
棒状液晶を配向させて棒状垂直配向液晶層を形成する際には、いわゆる液晶材料が垂直方向に配列するような垂直配向剤を塗布した配向膜を用い、液晶材料を垂直配向したのち固定する方法をとることができる。
【００３６】
液晶材料自身が空気界面で垂直方向に配向する場合には、その配向規制力が空気界面と反対の界面まで及び、該配向膜は特に必要ではなく、構成が簡素化できる観点からもその方が好ましい。
【００３７】
液晶材料を垂直に配向する具体的な方法としては、特開２００５−１４８４７３号公報などに記載されている（メタ）アクリル系ブロックポリマーを含有するブロックポリマー組成物の架橋体からなる配向膜等を用いる方法、同２００５−２６５８８９号公報に記載されている垂直配向膜を使用する方法、空気界面垂直配向剤を使用する方法等公知の方法を使用することができる。
【００３８】
棒状垂直配向液晶層を上記範囲とするためには、棒状垂直配向液晶層の配向、膜厚制御、紫外線硬化時の温度、チルト角制御、および支持体と空気界面でのプレチルト角の制御を行うことが好ましい。
【００３９】
前記液晶層は、所定の温度で液晶相となり得る液晶材料が、所定の液晶規則性を有して硬化することにより形成されたものである。液晶相を示す温度の上限は、例えば透明基材フィルムとしてセルロースエステルフィルムを用いる場合などは、セルロースエステルフィルムがダメージを受けない温度であれば特に限定されるものはない。
【００４０】
具体的には、プロセス温度のコントロールの容易性と寸法精度維持の観点から１２０℃以下が好ましく、より好ましくは１００℃以下の温度で液晶相となる液晶材料が好適に用いられる。一方、液晶相を示す温度の下限は、偏光板として用いる際に、液晶材料が配向状態を保持し得る温度であるといえる。
【００４１】
本発明の棒状垂直配向液晶層に用いられる液晶材料としては、重合性液晶材料を用いることが好ましい。重合性液晶材料は、所定の活性放射線を照射することにより重合させて用いることができ、重合させた状態では垂直の配向状態は固定化される。
【００４２】
重合性液晶材料としては、重合性液晶モノマー、重合性液晶オリゴマー、もしくは重合性液晶ポリマーのいずれかを用いることができ、相互に混合して用いることもできる。
【００４３】
重合性液晶材料としては、上記のうちでも、配向に際しての感度が高く垂直に配向させることが容易であることから重合性液晶モノマーが好適に用いられる。
【００４４】
具体的な重合性液晶モノマーとしては、下記の一般式（ＭＶ１）で表される棒状液晶性化合物（Ｉ）、および下記の一般式（ＭＶ２）で表される棒状液晶性化合物（II）を挙げることができる。化合物（Ｉ）としては、一般式（ＭＶ１）に包含される化合物の２種以上を混合して使用することもでき、同様に、化合物（II）としては、一般式（ＭＶ２）に包含される化合物の２種以上を混合して使用することもできる。また、化合物（Ｉ）を１種以上と化合物（II）を１種以上を混合して使用することもできる。
【００４５】
【化１】
2010085573.tif 000002
【００４６】
【化２】
2010085573.tif 000003
【００４７】
化合物（Ｉ）を表す一般式（ＭＶ１）において、Ｒ１およびＲ２はそれぞれ水素またはメチル基を示すが、液晶相を示す温度範囲の広さからＲ１およびＲ２は共に水素であることが好ましい。Ｘは水素、塩素、臭素、ヨウ素、炭素数１〜４のアルキル基、メトキシ基、シアノ基、もしくはニトロ基のいずれであっても差し支えないが、塩素またはメチル基であることが好ましい。また、化合物（Ｉ）の分子鎖両端の（メタ）アクリロイロキシ基と、芳香環とのスペーサーであるアルキレン基の鎖長を示すａおよびｂは、それぞれ個別に２〜１２の範囲で任意の整数を取り得るが、４〜１０の範囲であることが好ましく、６〜９の範囲であることがさらに好ましい。
【００４８】
化合物（Ｉ）は任意の方法で合成することができる。例えば、Ｘがメチル基である化合物（Ｉ）は、１当量のメチルヒドロキノンと２当量の４−（ｍ−（メタ）アクリロイロキシアルコキシ）安息香酸とのエステル化反応により得ることができる。エステル化反応は、上記安息香酸を酸クロリドやスルホン酸無水物などで活性化し、これとメチルヒドロキノンとを反応させるのが通例である。また、ＤＣＣ（ジシクロヘキシルカルボジイミド）等の縮合剤を用いて、カルボン酸単位とメチルヒドロキノンを直接反応させることもできる。これ以外の方法としては、１当量のメチルヒドロキノンと、２当量の４−（ｍ−ベンジルオキシアルコキシ）安息香酸とのエステル化反応をまず行い、次いで得られたエステルを水素添加反応等により脱ベンジル化した後、分子末端をアクリロイル化する方法によっても、化合物（Ｉ）を合成することができる。メチルヒドロキノンと４−（ｍ−ベンジルオキシアルコキシ）安息香酸とのエステル化反応を行うに際しては、メチルヒドロキノンをジアセテートに導入した後、上記の安息香酸と溶融状態で反応させ、直接エステル体を得ることも可能である。一般式（ＭＶ１）のＸがメチル基でない場合の化合物（Ｉ）も、対応する置換基を有するヒドロキノンを、メチルヒドロキノンの代わりに用いて上と同様の反応を行うことにより得ることができる。
【００４９】
化合物（II）を表す一般式（ＭＶ２）において、Ｒ３は水素またはメチル基を示すが、液晶相を示す温度範囲の広さからＲ３は水素であることが好ましい。アルキレン基の鎖長を示すｃに関して言えば、この値が２〜１２である化合物（II）は液晶性を示さない。しかしながら、液晶性を持つ化合物（Ｉ）との相溶性を考慮すると、ｃは４〜１０の範囲であることが好ましく、６〜９の範囲であることがより好ましい。化合物（II）も任意の方法で合成可能であり、例えば、１当量の４−シアノフェノールと１当量の４−（ｎ−（メタ）アクリロイロキシアルコキシ）安息香酸とのエステル化反応により化合物（II）を合成することができる。このエステル化反応は化合物（Ｉ）を合成する場合と同様に、上記安息香酸を酸クロリドやスルホン酸無水物などで活性化し、これと４−シアノフェノールとを反応させるのが一般的である。また、ＤＣＣ（ジシクロヘキシルカルボジイミド）等の縮合剤を用いて上記安息香酸と４−シアノフェノールを反応させてもよい。
【００５０】
以上の他、本発明においては、重合性液晶オリゴマーや重合性液晶ポリマー等を用いることが可能である。このような重合性液晶オリゴマーや重合性液晶ポリマーとしては、従来提案されているものを適宜選択して用いることが可能である。
【００５１】
例えば、重合性棒状液晶性化合物としては、Ｍａｋｒｏｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．，１９０巻、２２５５頁（１９８９年）、Ａｄｖａｎｃｅｄ  Ｍａｔｅｒｉａｌｓ  ５巻、１０７頁（１９９３年）、米国特許第４６８３３２７号明細書、同５６２２６４８号明細書、同５７７０１０７号明細書、国際公開ＷＯ９５／２２５８６号公報、同９５／２４４５５号公報、同９７／００６００号公報、同９８／２３５８０号公報、同９８／５２９０５号公報、特開平１−２７２５５１号公報、同６−１６６１６号公報、同７−１１０４６９号公報、同１１−８００８１号公報、特開２００１−３２８９７３号公報、特開２００４−２４０１８８号公報、特開２００５−９９２３６号公報、特開２００５−９９２３７号公報、特開２００５−１２１８２７号公報、特開２００２−３００４２号公報などに記載の化合物を用いることができる。
【００５２】
本発明における棒状垂直配向液晶層の膜厚は０．１μｍ〜２０μｍの範囲内であることが好ましく、０．２〜１０μｍの範囲内であることがより好ましい。
【００５３】
面内の位相差値を有する透明基材フィルム上に設けられた棒状垂直配向液晶層中の液晶の配向レベルを直接検証することは非常に困難だが、一つの目安として、アゾベンゼン系液晶を上記棒状垂直配向液晶に対し１質量％〜２質量％程度混ぜて塗工し固定化した試料を作製し、この試料が実際のアゾベンゼン系液晶を含まない試料と同じ液晶分子の配向を示しているものとして、分光光度計で５５０ｎｍ〜６５０ｎｍ付近の吸光度を測定することで大まかな配向程度を伺い知ることはできる。即ち、吸光度がかなり低い値であれば、ほぼ完全に液晶分子は垂直に配向して固定化されていると判断できる。逆に、吸光度が比較的高い場合は、本来垂直に配向すべき液晶分子が必ずしも垂直に配向しておらず、隙間を埋めるアゾベンゼン系液晶の光吸収面積が広くなっていると解釈できる。
【００５４】
〈棒状垂直配向液晶層の製造方法〉
本発明の棒状垂直配向液晶層を作製するためには、
第一工程：少なくとも液晶と溶媒を含む液晶組成物塗布液を支持体上に塗布乾燥し液晶層を塗設する工程、
第二工程：該液晶層を、液晶層を形成する液晶の（等方相−液晶相相転移温度Ｂ）以上の温度に加熱処理し、液晶層中の残留溶媒量を該加熱処理前の固形分（１００質量％とする）に対し０．０１〜５質量％にするとともに、該液晶を等方相の状態にする工程、好ましくは（等方相−液晶相相転移温度Ｂ）〜（Ｂ＋３０℃）の温度範囲に加熱処理する、
第三工程：該液晶層を、液晶層を形成する液晶の（液晶相−固体相相転移温度Ａ）以下に冷却する工程、好ましくは（液晶相−固体相相転移温度Ａ）〜（Ａ−１５℃）の温度範囲まで冷却処理する、また液晶層を過冷却の状態まで冷却処理させるに要する時間が好ましくは２０秒以内、より好ましくは０．１〜１０秒以内とする、
第四工程：好ましくは冷却された状態のまま紫外線等の活性線により液晶の配向状態を固定化する工程、
とを有する工程により配向ムラや配向欠陥の発生を抑制した液晶層が製造されることが好ましい。
【００５５】
（液晶相−固体相相転移温度Ａ）：液晶性物質に対し、市販の示差走査熱量計（例えば、示差走査熱量計ＤＳＣ−２０（セイコー電子工業社製））を用いて、示差走査熱量測定法により求めることができ、固体相から加熱して吸熱反応を示す温度（℃）とする。
【００５６】
（等方相−液晶相相転移温度Ｂ）：液晶層を支持体上に設けた学補償フィルムを、方位、傾斜角度を問わずに測定して得たリターデーション値から、支持体のリターデーション値を差し引いた時、｜Ｒｏ｜が０．５ｎｍ以下、｜Ｒｔ｜が１０ｎｍ以下の状態になる温度（℃）を言う。リターデーション値の測定には、自動複屈折計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）製）を用い２３℃、５５％ＲＨの環境下で測定することができる。
【００５７】
ここで、更に上記用語を定義する。
【００５８】
１）等方相の状態・・・液晶層を支持体上に設けた光学補償フィルムを、方位、傾斜角度を問わずに測定して得たリターデーション値から支持体のリターデーション値を差し引いた時に、｜Ｒｏ｜が０．５ｎｍ以下、｜Ｒｔ｜が１０ｎｍ以下の状態を言う。
【００５９】
２）液晶相の状態・・・液晶が流動性を示し、かつ複屈折性を持つ状態であり、本発明では、液晶層を支持体上に設けた光学補償フィルムを、方位、傾斜角度を問わずに測定して得たリターデーション値から支持体のリターデーション値を差し引いた時に、｜Ｒｏ｜が０．０１ｎｍ以上、｜Ｒｔ｜が１０ｎｍ以上の状態を言う。
【００６０】
３）過冷却の状態・・・液晶性物質が（液晶相−固体相相転移温度Ａ）を過ぎて冷却されても固体化（結晶化）せず、上記液晶相の状態を保持する状態
上記残留溶媒量は、ヘッドスペース法を用いて下記方法で測定できる。
【００６１】
（残留溶媒量の測定）
支持体フィルムに液晶塗布液を塗布したサンプルを、不活性ガスで大気圧に満たされた閉鎖系に置き所定の加熱処理を行う。次いで揮発した気体をガスクロマトグラフィー（島津製作所社製  ＧＣ−ＭＳ）で定性、定量を行って揮発した溶媒量からサンプルの残留溶媒を算出する。
【００６２】
具体的には、重合性液晶材料は、必要に応じて光重合開始剤、増感剤等を配合して液晶層形成用組成物を調製して用い、基材上に塗工し、液晶層形成用層を形成する。
【００６３】
本発明においては、光配向層を設け、液晶組成物としては溶媒を加えて、その他の成分を溶解した塗工用組成物を用いて基材上に塗工し、溶媒を除去することにより液晶の配向を固定した層を形成することが好ましい。これは、他の方法と比較して工程上簡便である。
【００６４】
溶媒としては、上述した重合性液晶材料等を溶解することが可能な溶媒であり、かつ透明樹脂フィルムの性状を低下させない溶媒であれば特に限定されるものではなく、具体的には、ベンゼン、トルエン、キシレン、ｎ−ブチルベンゼン、ジエチルベンゼン、テトラリン等の炭化水素類；メトキシベンゼン、１，２−ジメトキシベンゼン、ジエチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、もしくは２，４−ペンタンジオン等のケトン類；酢酸エチル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、もしくはγ−ブチロラクトン等のエステル類；２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ジメチルホルムアミド、もしくはジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒；クロロホルム、ジクロロメタン、四塩化炭素、ジクロロエタン、テトラクロロエタン、トリトリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、クロロベンゼン、もしくはオルソジクロロベンゼン等のハロゲン系溶媒；ｔ−ブチルアルコール、ジアセトンアルコール、グリセリン、モノアセチン、エチレングリコール、トリエチレングリコール、ヘキシレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチルセルソルブ、もしくはブチルセルソルブ等のアルコール類；フェノール、パラクロロフェノール等のフェノール類等の１種または２種以上が使用可能である。これらの中では沸点１２０℃以上の溶媒が好ましく使用される。
【００６５】
単一種の溶媒を使用しただけでは、重合性液晶材料等の溶解性が不充分であったり、上述したように基材が侵食される場合がある。しかし２種以上の溶媒を混合使用することにより、この不都合を回避することができる。
【００６６】
上記した溶媒のなかにあって、単独溶媒として好ましいものは、炭化水素系溶媒とグリコールモノエーテルアセテート系溶媒であり、混合溶媒として好ましいのは、エーテル類またはケトン類と、グリコール類との混合系である。
【００６７】
溶液の濃度は、重合性液晶材料等の溶解性や製造しようとする液晶層の膜厚に依存するため一概には規定できないが、通常は１質量％〜６０質量％が好ましく、より好ましくは３質量％〜４０質量％の範囲で調整される。
【００６８】
本発明に用いられる液晶層形成用組成物には、本発明の目的を損なわない範囲内で、上記以外の化合物を添加することができる。
【００６９】
添加できる化合物としては、例えば、多価アルコールと１塩基酸または多塩基酸を縮合して得られるポリエステルプレポリマーに、（メタ）アクリル酸を反応させて得られるポリエステル（メタ）アクリレート；ポリオール基と２個のイソシアネート基を持つ化合物を互いに反応させた後、その反応生成物に（メタ）アクリル酸を反応させて得られるポリウレタン（メタ）アクリレート；ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、ポリカルボン酸ポリグリシジルエステル、ポリオールポリグリシジルエーテル、脂肪族もしくは脂環式エポキシ樹脂、アミンエポキシ樹脂、トリフェノールメタン型エポキシ樹脂、ジヒドロキシベンゼン型エポキシ樹脂等のエポキシ樹脂と、（メタ）アクリル酸を反応させて得られるエポキシ（メタ）アクリレート等の光重合性化合物、またはアクリル基もしくはメタクリル基を有する光重合性の液晶性化合物等が挙げられる。
【００７０】
本発明の液晶層形成用組成物に対するこれら化合物の添加量は、本発明の目的が損なわれない範囲で選択され、一般的には、本発明の液晶層形成用組成物の４０質量％以下であることが好ましく、より好ましくは２０質量％以下である。
【００７１】
本発明においては、重合性液晶材料に加え、必要に応じて光重合開始剤を使用する。電子線照射により重合性液晶材料を重合させる際には、光重合開始剤が不要な場合があるが、一般的に用いられている例えば紫外線（ＵＶ）照射による硬化の場合においては、通常光重合開始剤が重合促進のために用いられる。
【００７２】
光重合開始剤としては、ベンジル（ビベンゾイルとも言う）、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、４−ベンゾイル−４′−メチルジフェニルサルファイド、ベンジルメチルケタール、ジメチルアミノメチルベンゾエート、２−ｎ−ブトキシエチル−４−ジメチルアミノベンゾエート、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、３，３′−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノン、メチロベンゾイルフォーメート、２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン、１−（４−ドデシルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジイソプロピルチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、もしくは１−クロロ−４−プロポキシチオキサントン等を挙げることができる。
【００７３】
光重合開始剤の添加量としては、一般的には０．０１質量％〜２０質量％が好ましく、より好ましくは０．１質量％〜１０質量％であり、もっと好ましくは０．５質量％〜５質量％の範囲で、本発明の重合性液晶材料に添加することができる。
【００７４】
これらの化合物の添加により、本発明における液晶材料の硬化性が向上し、得られる液晶層の機械強度が増大し、またその安定性が改善される。
【００７５】
また、溶剤を配合した液晶層形成用組成物には、塗工を容易にするために界面活性剤等を加えることができる。
【００７６】
添加可能な界面活性剤を例示すると、イミダゾリン、第四級アンモニウム塩、アルキルアミンオキサイド、ポリアミン誘導体等の陽イオン系界面活性剤；ポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレン縮合物、第一級あるいは第二級アルコールエトキシレート、アルキルフェノールエトキシレート、ポリエチレングリコールおよびそのエステル、ラウリル硫酸ナトリウム、ラウリル硫酸アンモニウム、ラウリル硫酸アミン類、アルキル置換芳香族スルホン酸塩、アルキルリン酸塩、脂肪族あるいは芳香族スルホン酸ホルマリン縮合物等の陰イオン系界面活性剤；ラウリルアミドプロピルベタイン、ラウリルアミノ酢酸ベタイン等の両性系界面活性剤；ポリエチレングリコール脂肪酸エステル類、ポリオキシエチレンアルキルアミン等の非イオン系界面活性剤；パーフルオロアルキルスルホン酸塩、パーフルオロアルキルカルボン酸塩、パーフルオロアルキルエチレンオキシド付加物、パーフルオロアルキルトリメチルアンモニウム塩、パーフルオロアルキル基・親水性基含有オリゴマー、パーフルオロアルキル・親油基含有オリゴマーパーフルオロアルキル基含有ウレタン等のフッ素系界面活性剤などが挙げられる。
【００７７】
界面活性剤の添加量は、界面活性剤の種類、液晶材料の種類、溶媒の種類、さらには溶液を塗工する配向膜の種類にもよるが、通常は溶液に含まれる重合性液晶材料の１０ｐｐｍ〜１０質量％が好ましく、より好ましくは１００ｐｐｍ〜５質量％であり、もっと好ましくは０．１〜１質量％の範囲である。
【００７８】
液晶層形成用組成物を塗工する方法としては、スピンコート法、ロールコート法、プリント法、浸漬引き上げ法、ダイコート法、キャスティング法、バーコート法、ブレードコート法、スプレーコート法、グラビアコート法、リバースコート法、もしくは押し出しコート法等が挙げられる。
【００７９】
本発明では、上記第二工程において、液晶層形成用組成物を塗工した後、乾燥の初期段階において、前記棒状垂直配向液晶層の膜面温度を４０℃以下に設定し、かつ該膜面直上での風速が０．１ｍ／ｓ〜１．０ｍ／ｓで熱風乾燥を行うことにより、液晶層表面がＪＩＳ  Ｂ０６７１：２００２で規定される構造表面のパラメータＭｒ１（％）の値を２０％〜３５％の範囲内にすることができる。これは、従来用いられてきた乾燥初期より５０〜１２０℃といった高温乾燥に液晶層の膜面を曝すのではなく、乾燥初期に従来よりも低い膜面温度でかつ膜面直上での風速が０．１ｍ／ｓ〜１．０ｍ／ｓの範囲で熱風乾燥することにより、液晶層の乾燥速度を意図的に遅延し、その為に液晶層表面に乾燥ムラを生じやすくし、液晶層表面が凹凸状の粗さを有する現象を発生させるものである。
【００８０】
上記乾燥は通常乾燥ゾーン、乾燥室と呼ばれるフィルムをロールに交互に通して搬送する乾燥装置で行われるが、本発明では初期乾燥ゾーンを設置し、任意の温度、風速で初期乾燥ができる工程を導入することが好ましい。乾燥装置は一台でもよく、または数台設けて連続的または断続的に行ってもよい。
【００８１】
乾燥の手段はフィルムの少なくとも液晶層形成用組成物を塗工した面に熱風を送風機等を介して吹かせることで行われる。風速は０．１ｍ／ｓ〜１．０ｍ／ｓの範囲が好ましく、より好ましくは０．１ｍ／ｓ〜０．３ｍ／ｓの範囲にすると再現性よく構造表面のパラメータＭｒ１（％）の値を２０％〜３５％の範囲内にすることができる。乾燥用の風は常に一定の風速として吹き付ける方式でも良いが、風速を細かく（１０〜１０００回／１分間）変動させてもよい。風速の変動は振動を伴うためフィルムをローラに押し当てた状態で行うことが好ましい。また、風を吹き出すスリットを使用することも好ましく、この場合は、例えばＳＵＳ製スリット（５ｍｍ幅）を２０本程度搬送方向に並べ、フィルム膜面から４０ｃｍ程度の距離から吹かせることが好ましい。
【００８２】
乾燥温度は前記棒状垂直配向液晶層の膜面温度が４０℃以下に設定されることが好ましく、より好ましくは２０〜４０℃の範囲、更に好ましくは、２５〜３５℃の範囲である。２０℃未満での乾燥では乾燥時間が長時間に及び生産性上制約がある。尚、膜面温度は市販の非接触式温度計により測定することができる。
【００８３】
上記初期乾燥時間は、材料、装置、生産条件等の因子で種々変化する為、初期乾燥に要する時間等は一連の生産条件の中で適宜決定されるものであるが、例えば膜面温度４０℃で乾燥する場合は、３秒〜１５秒の範囲であることが好ましく、より好ましくは５秒〜１０秒の範囲である。
【００８４】
上記初期乾燥に要する時間において、上記乾燥温度と風速を維持することが好ましく、これによってＭｒ１（％）の値を制御することが可能である。より好ましくは２５〜３５℃の初期乾燥温度の範囲で、０．１ｍ／ｓ〜０．３ｍ／ｓの風速が５秒〜１０秒間維持されることが好ましい。
【００８５】
上記初期乾燥によって、液晶層表面の構造表面のパラメータＭｒ１（％）の値が２０％〜３５％の範囲内に入れば、その後の乾燥は乾燥温度を４０℃以上に上昇させて行ってもよく、乾燥時間の短縮化の為に通常通り５０〜１２０℃の範囲で行うことが好ましい。温度は乾燥ゾーンを分けて徐々に昇温、または降温してもよい。
【００８６】
液晶層中の残留溶媒量は、最終的な液晶の配向性を高める上では、できるだけ少量の残留である方が効果が高くなる為、０．０１〜２質量％であることより好ましい。従って乾燥条件及び、乾燥の終点は残留溶媒がこの値の範囲に入ることで設定が可能である。
【００８７】
第三工程の冷却工程は、フィルムの両面に乾燥した冷風を吹かせ露点制御を行いながら冷却する方法や、所定の温度に制御可能な冷却ロールにより冷却処理することが好ましい。特に、急激な冷却が必要であれば冷却ロールを用いることが好ましい。また、冷却工程でも液晶層中の残留溶媒量を該加熱処理前の溶媒量（１００質量％）に対し０．０１〜５質量％の範囲の溶媒量を維持することが好ましく、０．０１〜２質量％であることがより好ましい。
【００８８】
冷却ロールには特に制限はないが、高剛性の金属ロールで内部に温度制御可能な熱媒体または冷媒体が流れるような構造を備えるロールであり、大きさは限定されないが、フィルムを冷却するのに十分な大きさであればよく、通常冷却ロールの直径は１００ｍｍから１ｍ程度である。
【００８９】
冷却ロールの表面材質は、炭素鋼、ステンレス、アルミニウム、チタンなどが挙げられる。更に表面の硬度をあげたり、樹脂との剥離性を改良するため、ハードクロムメッキや、ニッケルメッキ、非晶質クロムメッキなどや、セラミック溶射等の表面処理を施すことが好ましい。
【００９０】
冷却ロール表面の表面粗さは、Ｒａで０．１μｍ以下とすることが好ましく、更に０．０５μｍ以下とすることが好ましい。ロール表面が平滑であるほど、得られるフィルムの表面に傷等が発生するのを防止できる。もちろん表面加工した表面は更に研磨し上述した表面粗さとすることが好ましい。
【００９１】
棒状垂直配向液晶層のリターデーションを調整するためには、棒状液晶の配向、液晶層の膜厚制御、紫外線硬化時の温度、チルト角制御、及び支持体と空気界面でのプレチルト角の制御等を行うことが好ましい。
【００９２】
第四工程である重合性液晶材料を硬化させる工程では、重合性液晶材料を硬化させるためのエネルギーが与えられ、熱エネルギーでもよいが、通常は、重合を起こさせる能力がある活性線の照射によって行う。
【００９３】
必要であれば重合性液晶材料と共に重合開始剤を用いてもよい。
【００９４】
活性線としては、重合性液晶材料を重合させることが可能な活性線であれば特に限定されるものではないが、通常は装置の容易性等の観点から紫外光または可視光線が使用され、波長が１５０〜５００ｎｍの光が好ましく、より好ましくは２５０〜４５０ｎｍであり、より好ましくは３００〜４００ｎｍの波長の紫外線である。
【００９５】
本発明においては、紫外線（ＵＶ）を活性線として照射し、紫外線で重合開始剤からラジカルを発生させ、ラジカル重合を行わせる方法が好ましい。活性線としてＵＶを用いる方法は、既に確立された技術であることから、用いる重合開始剤を含めて、本発明への応用が容易である。
【００９６】
この紫外線を照射するための光源としては、低圧水銀ランプ（殺菌ランプ、蛍光ケミカルランプ、ブラックライト）、高圧放電ランプ（高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ）、もしくはショートアーク放電ランプ（超高圧水銀ランプ、キセノンランプ、水銀キセノンランプ）等を挙げることができる。
【００９７】
なかでもメタルハライドランプ、キセノンランプ、高圧水銀ランプ灯等の使用が推奨される。照射強度は、液晶の配向を固定した層の形成に用いられる重合性液晶材料の組成や光重合開始剤の多寡によって適宜に調整すればよい。
【００９８】
活性線の照射による配向固定化工程は、上述した液晶層形成用層を形成する工程における処理温度、すなわち重合性液晶材料が液晶相となる温度条件で行ってもよく、また液晶相となる温度より低い温度で行ってもよい。
【００９９】
電子線照射により重合性液晶材料を重合させる際には、重合開始剤が不要な場合があるが、一般的に用いられている例えば紫外線（ＵＶ）照射による硬化の場合においては、通常光重合開始剤が重合促進のために用いられる。
【０１００】
以下、本発明の各要素について詳細に説明する。
【０１０１】
＜透明基材フィルム＞
本発明で用いる透明基材フィルムは製造が容易であること、光学的に透明であることが好まし、可堯性、加工性等の観点から樹脂フィルムであることが好ましい。例えば、トリアセチルセルロースフィルム、セルロースアセテートプロピオネートオネートフィルム、セルロースジアセテートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム等のセルロースエステル系フィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリアリレート系フィルム、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンも含む）系フィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム、ノルボルネン樹脂系フィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、シクロオレフィンポリマーフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルムまたはアクリルフィルム等を挙げることができるが、これらに限定されるわけではない。これらの内、セルロースエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ノルボルネン樹脂系フィルム、ポリエステル系フィルムが好ましく、本発明においては、特にセルロースエステル系フィルムが、製造上、コスト面、等方性、接着性、及び本発明の目的効果が好適に得られることから好ましい。
【０１０２】
（セルロースエステル系フィルム）
セルロースエステル系フィルム（以下、セルロースエステルフィルムともいう）について説明する。
【０１０３】
セルロースエステル樹脂（以下セルロースエステルともいう）は、セルロースの低級脂肪酸エステルであることが好ましい。セルロースの低級脂肪酸エステルにおける低級脂肪酸とは炭素原子数が６以下の脂肪酸を意味し、例えば、セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート等や、特開平１０−４５８０４号、同０８−２３１７６１号、米国特許第２，３１９，０５２号等に記載されているようなセルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート等の混合脂肪酸エステルを用いることができる。上記記載の中でも、特に好ましく用いられるセルロースの低級脂肪酸エステルはセルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネートである。これらのセルロースエステルは単独或いは混合して用いることができる。
【０１０４】
セルローストリアセテートの場合には、平均酢化度（結合酢酸量）５４．０〜６２．５％のものが好ましく用いられ、更に好ましいのは、平均酢化度が５８．０〜６２．５％のセルローストリアセテートである。平均酢化度が小さいと寸法変化が大きく、また偏光板の偏光度が低下する。平均酢化度が大きいと溶剤に対する溶解度が低下し生産性が下がる。
【０１０５】
本発明で好ましいセルロースエステルは、アシル基の総置換度（Ｔ）が２．００〜２．９９、アセチル基置換度（ａｃ）が０．１０〜１．８９であって、アセチル基以外の部分が、３〜７の炭素数で構成されるアシル基で置換されており、その置換度（ｒ）が１．１０〜２．８９であるセルロースエステル樹脂（Ｂ）である。特にアセチル基以外の部分が、プロピオニル基又はブチリル基であることが好ましく、プロピオニル基であることがより好ましい。
【０１０６】
これらは公知の方法で合成することができる。アシル基の置換度の測定方法はＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９６に準じて測定することができる。
【０１０７】
セルロースエステルの分子量は数平均分子量（Ｍｎ）で６００００〜３０００００のものが好ましく、７００００〜２０００００のものが更に好ましく、１０００００〜２０００００のものが特に好ましい。本発明で用いられるセルロースエステルは重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ）比が４．０以下であることが好ましく、更に好ましくは１．４〜２．３である。
【０１０８】
セルロースエステルの平均分子量及び分子量分布は、高速液体クロマトグラフィーを用い測定できるので、これを用いて数平均分子量（Ｍｎ）、重量平均分子量（Ｍｗ）を算出し、その比を計算することができる。
【０１０９】
測定条件は以下の通りである。
【０１１０】
溶媒：メチレンクロライド
カラム：Ｓｈｏｄｅｘ  Ｋ８０６，Ｋ８０５，Ｋ８０３Ｇ（昭和電工（株）製を３本接続して使用した）
カラム温度：２５℃
試料濃度：０．１質量％
検出器：ＲＩ  Ｍｏｄｅｌ  ５０４（ＧＬサイエンス社製）
ポンプ：Ｌ６０００（日立製作所（株）製）
流量：１．０ｍｌ／ｍｉｎ
校正曲線：標準ポリスチレンＳＴＫ  ｓｔａｎｄａｒｄ  ポリスチレン（東ソー（株）製）
Ｍｗ＝１００００００〜５００迄の１３サンプルによる校正曲線を使用した。１３サンプルは、ほぼ等間隔に用いることが好ましい。
【０１１１】
セルロースエステルは綿花リンター、木材パルプ、ケナフ等を原料として合成されたセルロースエステルを単独或いは混合して用いることができる。特に綿花リンター（以下、単にリンターとすることがある）から合成されたセルロースエステルを単独或いは混合して用いることが好ましい。
【０１１２】
（粒子）
本発明の透明基材フィルム中に粒子を含有することも好ましい。
【０１１３】
粒子としては、無機化合物の粒子または有機化合物の粒子が挙げられる。粒子としては、例えば、二酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、カオリン、タルク、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム、リン酸カルシウム等の無機粒子や、ポリメタアクリル酸メチルアクリレート樹脂粉末、アクリルスチレン系樹脂粉末、ポリメチルメタクリレート樹脂粉末、シリコン系樹脂粉末、ポリスチレン系樹脂粉末、ポリカーボネート樹脂粉末、ベンゾグアナミン系樹脂粉末、メラミン系樹脂粉末、ポリオレフィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、あるいはポリ弗化エチレン系樹脂粉末等の有機粒子を挙げることができるが、特にこれらに限定されない。
【０１１４】
中でも、二酸化ケイ素がフィルムのヘイズを低くできるので好ましい。二酸化ケイ素のような粒子は有機物により表面処理されている場合が多いが、このようなものはフィルムのヘイズを低下できるため好ましい。表面処理で好ましい有機物としては、ハロシラン類、アルコキシシラン類、シラザン、シロキサンなどが挙げられる。
【０１１５】
本発明に用いられる粒子の１次粒径は０．２〜１０μｍであることが好ましい。粒子の１次粒径は透過型電子顕微鏡で観察し、その投影面積に等しい円を仮定した時の直径で表したものである。例えばシリカ粒子の１次粒径の場合、シリカ粒子を超薄切片法により調製した試料を、透過型電子顕微鏡（日立製Ｈ−７１００ＦＡ型）による観察を行い、シリカ粒子の１次粒径をデータ数Ｎ＝１０００で求めた平均１次粒径をいう。
【０１１６】
このような粒径の粒子としては、例えば日本触媒社製のシーホスターＫＥ−Ｐ３０、１００、１５０等が挙げられる。また、二酸化珪素の具体例としては、アエロジル２００Ｖ、アエロジルＲ９７２Ｖ、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００（以上日本アエロジル株式会社製）等の商品名を有する市販品が好ましく使用できる。
【０１１７】
粒子の樹脂フィルム中の含有量は樹脂に対して０．００５〜５質量％が好ましい。上記範囲にあると、良好な滑り性と良好な透明性が確保でき好ましい。
【０１１８】
前記粒子は、樹脂フィルムを作製する組成物（ドープ）の調製時に樹脂や他の添加剤と共に有機溶媒中に含有させて分散させてもよく、また、単独で該有機溶媒中に分散させてもよい。粒子の分散方法としては、前もって有機溶媒に浸してから高剪断力を有する分散機（高圧分散装置）で細分散させておくのが好ましい。
【０１１９】
また、ドープ調製の場合は、多量の有機溶媒に粒子を分散しておき、樹脂溶液と合流させ、インラインミキサーで混合してドープにすることも好ましい。この場合、粒子分散液に他の添加剤である紫外線吸収剤を加え紫外線吸収剤液としてもよい。
【０１２０】
更に本発明では、樹脂と粒子を加熱溶融、混練して加熱溶融物（ペレット）を調製し、ついで該加熱溶融物を有機溶媒中に溶解して樹脂溶液とし、該樹脂溶液を用いて溶液流延法によりフィルム状に製膜することが、均一な粒子分布をもつ光学フィルムを得る上で好ましい方法である。
【０１２１】
ペレット化は公知の方法で行うことができ、例えば、粒子と共に乾燥樹脂や可塑剤、その他添加剤をフィーダーで押出し機に供給し１軸や２軸の押出し機を用いて混錬し、ダイからストランド状に押出しし、水冷または空冷し、カッティングしてペレット化することができる。
【０１２２】
粒子、乾燥樹脂、可塑剤、その他添加剤は、押出し機に供給する前に混合しておいてもよいし、それぞれ個別のフィーダーで供給してもよい。粒子や酸化防止剤等少量の添加剤は、均一に混合するため、事前に混合しておくことが好ましい。
【０１２３】
押出し機は、剪断力を抑え、樹脂が劣化（分子量低下、着色、ゲル生成等）しないようにペレット化可能でなるべく低温で加工することが好ましい。例えば、２軸押出し機の場合、深溝タイプのスクリューを用いて、同方向に回転させることが好ましい。混錬の均一性から、噛み合いタイプが好ましい。
【０１２４】
（アクリル樹脂）
また、樹脂フィルムは、リワーク時の機械的強度や光学性能を調整する上で重量平均分子量（Ｍｗ）８００００以上のアクリル樹脂（Ａ）を含有し、セルロースエステル樹脂・アクリル樹脂フィルムすることが好ましい。
【０１２５】
アクリル樹脂（Ａ）としては、メタクリル樹脂も含まれる。樹脂としては特に制限されるものではないが、メチルメタクリレート単位５０〜９９質量％、及びこれと共重合可能な他の単量体単位１〜５０質量％からなるものが好ましい。
【０１２６】
共重合可能な他の単量体としては、アルキル数の炭素数が２〜１８のアルキルメタクリレート、アルキル数の炭素数が１〜１８のアルキルアクリレート、アクリル酸、メタクリル酸等のα，β−不飽和酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸等の不飽和基含有二価カルボン酸、スチレン、α−メチルスチレン、核置換スチレン等の芳香族ビニル化合物、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のα，β−不飽和ニトリル、無水マレイン酸、マレイミド、Ｎ−置換マレイミド、グルタル酸無水物等が挙げられ、これらは単独で、或いは２種以上を併用して用いることができる。
【０１２７】
これらの中でも、共重合体の耐熱分解性や流動性の観点から、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−プロピルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、ｓ−ブチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート等が好ましく、メチルアクリレートやｎ−ブチルアクリレートが特に好ましく用いられる。
【０１２８】
アクリル樹脂（Ａ）は、粒子の分散性以外にも、フィルムとしての機械的強度、フィルムを生産する際の流動性の点から重量平均分子量（Ｍｗ）が８００００〜１００００００であることが好ましい。重量平均分子量（Ｍｗ）は上記の高速液体クロマトグラフィーを用い測定できる。
【０１２９】
アクリル樹脂（Ａ）の製造方法としては、特に制限は無く、懸濁重合、乳化重合、塊状重合、或いは溶液重合等の公知の方法のいずれを用いても良い。ここで、重合開始剤としては、通常のパーオキサイド系及びアゾ系のものを用いることができ、また、レドックス系とすることもできる。重合温度については、懸濁または乳化重合では３０〜１００℃、塊状または溶液重合では８０〜１６０℃で実施しうる。更に、生成共重合体の還元粘度を制御するために、アルキルメルカプタン等を連鎖移動剤として用いて重合を実施することもできる。この分子量とすることで、耐熱性と脆性の両立を図ることができる。アクリル樹脂としては、市販のものも使用することができる。例えば、デルペット６０Ｎ、８０Ｎ（旭化成ケミカルズ（株）製）、ダイヤナールＢＲ５２、ＢＲ８０，ＢＲ８３，ＢＲ８５，ＢＲ８８（三菱レイヨン（株）製）、ＫＴ７５（電気化学工業（株）製）等が挙げられる。
【０１３０】
セルロースエステル樹脂・アクリル樹脂フィルムは、ＪＩＳ−Ｋ７１２７−１９９９に準拠した測定において、少なくとも一方向の破断伸度が、１０％以上であることが好ましく、より好ましくは２０％以上である。破断伸度の上限は特に限定されるものではないが、現実的には２５０％程度である。破断伸度を大きくするには異物や発泡に起因するフィルム中の欠点を抑制することが有効である。セルロースエステル樹脂・アクリル樹脂フィルムの厚みは、２０μｍ以上であることが好ましい。より好ましくは３０μｍ以上である。厚みの上限は特に限定される物ではないが、溶液製膜法でフィルム化する場合は、塗布性、発泡、溶媒乾燥などの観点から、上限は２５０μｍ程度である。なお、フィルムの厚みは用途により適宜選定することができる。
【０１３１】
セルロースエステル樹脂とアクリル樹脂からなるフィルムは、加工性及び耐熱性の両立の点から、アクリル樹脂とセルロースエステル樹脂を９５：５〜３０：７０の質量比で含有することが好ましく、またセルロースエステル樹脂のアシル基の総置換度（Ｔ）が２．００〜３．００、アセチル基置換度（ａｃ）が０〜１．８９、アセチル基以外のアシル基の炭素数が３〜７であり、重量平均分子量（Ｍｗ）が７５０００〜２８００００であることが好ましい。また、アクリル樹脂とセルロースエステル樹脂の総質量は、セルロースエステル樹脂・アクリル樹脂フィルムの５５〜１００質量％であり、好ましくは６０〜９９質量％である。
【０１３２】
セルロースエステル樹脂・アクリル樹脂フィルムは、その他のアクリル樹脂を含有して構成されていても良い。
【０１３３】
セルロースエステルフィルムやセルロースエステル樹脂・アクリル樹脂フィルムは、溶液流延法で製造されたものでも、溶融流延法で製造されたものでもよいが、少なくとも幅手方向に延伸されたものが好ましく、特に溶液流延工程で剥離残溶量が３〜４０質量％である時に幅手方向に１．０１〜１．５倍に延伸されたものであることが好ましい。より好ましくは幅手方向と長手方向に２軸延伸することであり、剥離残溶量が３〜４０質量％である時に幅手方向及び長手方向に、各々１．０１〜１．５倍に延伸されることが望ましい。このときの延伸倍率としては特に好ましくは、１．０３〜１．４５倍である。
【０１３４】
また、これら樹脂フィルムの長さは１００ｍ〜５０００ｍ、幅は１．２ｍ以上が好ましく、更に好ましくは１．４〜４ｍである。樹脂フィルムの長さ及び幅を前記範囲とすることで、取り扱い性や生産性に優れる。
【０１３５】
樹脂フィルムは、光透過率が９０％以上、より好ましくは９３％以上の透明支持体であることが好ましい。
【０１３６】
（可塑剤）
セルロースエステルフィルムやセルロースエステル樹脂・アクリル樹脂フィルムには、下記のような可塑剤を含有することが好ましい。可塑剤としては、例えば、リン酸エステル系可塑剤、フタル酸エステル系可塑剤、トリメリット酸エステル系可塑剤、ピロメリット酸系可塑剤、グリコレート系可塑剤、クエン酸エステル系可塑剤、ポリエステル系可塑剤、多価アルコールエステル系可塑剤等を好ましく用いることができる。
【０１３７】
リン酸エステル系可塑剤では、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェート等、フタル酸エステル系可塑剤では、ジエチルフタレート、ジメトキシエチルフタレート、ジメチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ−２−エチルヘキシルフタレート、ブチルベンジルフタレート、ジフェニルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート等、トリメリット酸系可塑剤では、トリブチルトリメリテート、トリフェニルトリメリテート、トリエチルトリメリテート等、ピロメリット酸エステル系可塑剤では、テトラブチルピロメリテート、テトラフェニルピロメリテート、テトラエチルピロメリテート等、グリコレート系可塑剤では、トリアセチン、トリブチリン、エチルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート等、クエン酸エステル系可塑剤では、トリエチルシトレート、トリ−ｎ−ブチルシトレート、アセチルトリエチルシトレート、アセチルトリ−ｎ−ブチルシトレート、アセチルトリ−ｎ−（２−エチルヘキシル）シトレート等を好ましく用いることができる。その他のカルボン酸エステルの例には、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル、種々のトリメリット酸エステルが含まれる。
【０１３８】
ポリエステル系可塑剤として脂肪族二塩基酸、脂環式二塩基酸、芳香族二塩基酸等の二塩基酸とグリコールの共重合ポリマーを用いることができる。脂肪族二塩基酸としては特に限定されないが、アジピン酸、セバシン酸、フタル酸、テレフタル酸、１，４−シクロヘキシルジカルボン酸等を用いることができる。グリコールとしては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、１，３−プロピレングリコール、１，２−プロピレングリコール、１，４−ブチレングリコール、１，３−ブチレングリコール、１，２−ブチレングリコール等を用いることができる。これらの二塩基酸及びグリコールはそれぞれ単独で用いてもよいし、２種以上混合して用いてもよい。
【０１３９】
多価アルコールエステル系可塑剤は２価以上の脂肪族多価アルコールとモノカルボン酸のエステルよりなる。好ましい多価アルコールの例としては、例えば以下のようなものを挙げることができるが、本発明はこれらに限定されるものではない。アドニトール、アラビトール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、ジブチレングリコール、１，２，４−ブタントリオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ヘキサントリオール、２−ｎ−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオール、ガラクチトール、マンニトール、３−メチルペンタン−１，３，５−トリオール、ピナコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、キシリトール、等を上げることができる。特に、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、キシリトール、であることが好ましい。多価アルコールエステルに用いられるモノカルボン酸としては特に制限はなく公知の脂肪族モノカルボン酸、脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸などを用いることができる。脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸を用いると透湿性、保留性を向上させる点で好ましい。好ましいモノカルボン酸の例としては以下のようなものを上げることができるが、本発明はこれに限定されるものではない。脂肪族モノカルボン酸としては炭素数１〜３２の直鎖または側鎖を持った脂肪酸を好ましく用いることができる。炭素数１〜２０であることが更に好ましく、炭素数１〜１０であることが特に好ましい。酢酸を含有させるとセルロースエステルとの相溶性が増すため好ましく、酢酸と他のモノカルボン酸を混合して用いることも好ましい。好ましい脂肪族モノカルボン酸としては酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、２−エチル−ヘキサンカルボン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸などの飽和脂肪酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸などの不飽和脂肪酸などを上げることができる。好ましい脂環族モノカルボン酸の例としては、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸、またはそれらの誘導体を上げることができる。好ましい芳香族モノカルボン酸の例としては、安息香酸、トルイル酸などの安息香酸のベンゼン環にアルキル基を導入したもの、ビフェニルカルボン酸、ナフタリンカルボン酸、テトラリンカルボン酸などのベンゼン環を２個以上もつ芳香族モノカルボン酸、またはそれらの誘導体を上げることができる。特に安息香酸であることが好ましい。多価アルコールエステルの分子量は特に制限はないが、分子量３００〜１５００の範囲であることが好ましく、３５０〜７５０の範囲であることが更に好ましい。保留性向上の点では大きい方が好ましく、透湿性、セルロースエステルとの相溶性の点では小さい方が好ましい。
【０１４０】
多価アルコールエステルに用いられるカルボン酸は一種類でもよいし、２種以上の混合であってもよい。また、多価アルコール中のＯＨ基はカルボン酸で全てエステル化してもよいし、一部をＯＨ基のままで残してもよい。これらの可塑剤は単独または併用するのが好ましい。これらの可塑剤の使用量は、フィルム性能、加工性等の点で、セルロースエステルに対して１〜２０質量％が好ましく、特に好ましくは、３〜１３質量％である。
【０１４１】
（紫外線吸収剤）
セルロースエステルフィルムやセルロースエステル樹脂・アクリル樹脂フィルムには紫外線吸収剤を含有させても良い。次に紫外線吸収剤について説明する。
【０１４２】
紫外線吸収剤としては、波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れ、且つ良好な液晶表示性の観点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ないものが好ましく用いられる。具体例としては、例えばオキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、トリアジン系化合物、ニッケル錯塩系化合物等が挙げられるが、これらに限定されない。
【０１４３】
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては以下の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されない。
【０１４４】
ＵＶ−１：２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール
ＵＶ−２：２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール
ＵＶ−３：２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール
ＵＶ−４：２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール
ＵＶ−５：２−（２′−ヒドロキシ−３′−（３″，４″，５″，６″−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール
ＵＶ−６：２，２−メチレンビス（４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール）
ＵＶ−７：２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール
ＵＶ−８：２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（直鎖及び側鎖ドデシル）−４−メチルフェノール（ＴＩＮＵＶＩＮ１７１、チバ・ジャパン社製）
ＵＶ−９：オクチル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネートと２−エチルヘキシル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネートの混合物（ＴＩＮＵＶＩＮ１０９、チバ・ジャパン社製）
また、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては以下の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されない。
【０１４５】
ＵＶ−１０：２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン
ＵＶ−１１：２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン
ＵＶ−１２：２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホベンゾフェノン
ＵＶ−１３：ビス（２−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−ベンゾイルフェニルメタン）
上記紫外線吸収剤としては、透明性が高く、偏光板や液晶の劣化を防ぐ効果に優れたベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤やベンゾフェノン系紫外線吸収剤が好ましく、不要な着色がより少ないベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤が特に好ましく用いられる。
【０１４６】
また、特願平１１−２９５２０９号に記載されている分配係数が９．２以上の紫外線吸収剤を用いることができ、特に分配係数が１０．１以上の紫外線吸収剤が基材フィルムの面品質を良好に維持できる点から好ましい。
【０１４７】
また、特開平６−１４８４３０号の一般式（１）または一般式（２）、特願２０００−１５６０３９号の一般式（３）、（６）、（７）記載の高分子紫外線吸収剤（または紫外線吸収性ポリマー）も好ましく用いられる。高分子紫外線吸収剤としては、ＰＵＶＡ−３０Ｍ（大塚化学（株）製）等が市販されている。
【０１４８】
（有機溶媒）
ドープには、製膜性や生産性の点から、有機溶媒を含有することが好ましい。有機溶媒としては、セルロースエステル、その他の添加剤を同時に溶解するものであれば制限なく用いることができる。例えば、塩化メチレン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル、アセトン、テトラヒドロフラン、１，３−ジオキソラン、１，４−ジオキサン、シクロヘキサノン、ギ酸エチル、２，２，２−トリフルオロエタノール、２，２，３，３−ヘキサフルオロ−１−プロパノール、１，３−ジフルオロ−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−メチル−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−プロパノール、２，２，３，３，３−ペンタフルオロ−１−プロパノール、ニトロエタン等を挙げることができる。これら有機溶媒の中でも塩化メチレン、酢酸メチル、酢酸エチル、アセトンが好ましく用いられる。
【０１４９】
ドープには、上記有機溶媒の他に、１〜４０質量％の炭素原子数１〜４のアルコールを含有させることが好ましい。ドープ中のアルコールの比率が高くなるとウェブがゲル化し、金属支持体からの剥離が容易になり、また、アルコールの割合が少ない時は非塩素系有機溶媒系でのセルロースエステルの溶解を促進する役割もある。炭素原子数１〜４のアルコールとしては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノールを挙げることができる。これらの内ドープの安定性、沸点も比較的低く、乾燥性もよく、且つ毒性がないこと等からエタノールが好ましい。
【０１５０】
ドープ中のセルロースエステルの濃度は１５〜４０質量％、ドープ粘度は１００〜５００ポアズ（Ｐ）の範囲に調整されることが良好なフィルム面品質を得る上で好ましい。
【０１５１】
（溶液流延法）
溶液流延法によるフィルム製造では、樹脂、例えばセルロースエステル樹脂やアクリル樹脂、及び添加剤を溶剤に溶解させてドープを調製する工程、ドープをベルト状もしくはドラム状の金属支持体上に流延する工程、流延したドープをウェブとして乾燥する工程、金属支持体から剥離する工程、延伸または幅保持する工程、更に乾燥する工程、仕上がったフィルムを巻き取る工程により行われる。
【０１５２】
上記ドープを調製する工程では、樹脂と粒子を加熱溶融、混練して加熱溶融物（ペレット）を予め調製し、該加熱溶融物を有機溶媒に溶解してドープを調製することが、特に好ましい。
【０１５３】
ドープ中の樹脂濃度は高い方が金属支持体に流延した後の乾燥負荷が低減できて好ましいが、樹脂の濃度が高過ぎると濾過時の負荷が増えて、濾過精度が悪くなる。これらを両立する濃度としては、１０〜３５質量％が好ましく、更に好ましくは、１５〜２５質量％である。
【０１５４】
流延（キャスト）工程における金属支持体は、表面を鏡面仕上げしたものが粗さＲａ値を低減できることから好ましく、金属支持体としては、ステンレススティールベルト若しくは鋳物で表面をメッキ仕上げしたドラムが好ましく用いられる。キャストの幅は１〜４ｍとすることができる。流延工程の金属支持体の表面温度は−５０℃〜溶剤が沸騰して発泡しない温度以下に設定される。温度が高い方がウェブの乾燥速度が速くできるので好ましいが、余り高過ぎるとウェブが発泡したり、平面性が劣化する場合がある。好ましい支持体温度としては０〜１００℃で適宜決定され、５〜３０℃が更に好ましい。または、冷却することによってウェブをゲル化させて残留溶媒を多く含んだ状態でドラムから剥離することも好ましい方法である。金属支持体の温度を制御する方法は特に制限されないが、温風または冷風を吹きかける方法や、温水を金属支持体の裏側に接触させる方法がある。温水を用いる方が熱の伝達が効率的に行われるため、金属支持体の温度が一定になるまでの時間が短く好ましい。温風を用いる場合は溶媒の蒸発潜熱によるウェブの温度低下を考慮して、溶媒の沸点以上の温風を使用しつつ、発泡も防ぎながら目的の温度よりも高い温度の風を使う場合がある。特に、流延から剥離するまでの間で支持体の温度及び乾燥風の温度を変更し、効率的に乾燥を行うことが好ましい。
【０１５５】
樹脂フィルムが良好な平面性を示すためには、金属支持体からウェブを剥離する際の残留溶媒量は１０〜１５０質量％が好ましく、更に好ましくは２０〜４０質量％または６０〜１３０質量％であり、特に好ましくは、２０〜３０質量％または７０〜１２０質量％である。
【０１５６】
残留溶媒量は下記式で定義される。
【０１５７】
残留溶媒量（質量％）＝｛（Ｍ−Ｎ）／Ｎ｝×１００
尚、Ｍはウェブまたはフィルムを製造中または製造後の任意の時点で採取した試料の質量で、ＮはＭを１１５℃で１時間の加熱後の質量である。
【０１５８】
また、樹脂フィルムの乾燥工程においては、ウェブを金属支持体より剥離し、更に乾燥し、残留溶媒量を１質量％以下にすることが好ましく、更に好ましくは０．１質量％以下であり、特に好ましくは０〜０．０１質量％以下である。
【０１５９】
樹脂フィルム乾燥工程では一般にロール乾燥方式（上下に配置した多数のロールをウェブを交互に通し乾燥させる方式）やテンター方式でウェブを搬送させながら乾燥する方式が採られる。
【０１６０】
（溶融製膜法）
樹脂フィルムは、溶融製膜法によって製膜することもできる。溶融製膜法は、樹脂、及び可塑剤などの添加剤を含む組成物を、流動性を示す温度まで加熱溶融し、その後、流動性の樹脂を含む溶融物を流延することをいう。
【０１６１】
加熱溶融する成形法は、更に詳細には、溶融押出成形法、プレス成形法、インフレーション法、射出成形法、ブロー成形法、延伸成形法などに分類できる。これらの中で、機械的強度及び表面精度などに優れるセ樹脂フィルムを得るためには、溶融押出し法が優れている。
【０１６２】
溶融押出しに用いる複数の原材料は、通常予め混錬してペレット化しておくことが好ましい。
【０１６３】
上記ペレットを１軸や２軸タイプの押出し機を用いて、押出す際の溶融温度を２００〜３００℃程度とし、リーフディスクタイプのフィルターなどで濾過し異物を除去した後、Ｔダイからフィルム状に流延し、冷却ロール上で固化させる。
【０１６４】
供給ホッパーから押出し機へ導入する際は真空下または減圧下や不活性ガス雰囲気下にして酸化分解等を防止することが好ましい。
【０１６５】
押出し流量は、ギヤポンプを導入するなどして安定に行うことが好ましい。また、異物の除去に用いるフィルターは、ステンレス繊維焼結フィルターが好ましく用いられる。
【０１６６】
ステンレス繊維焼結フィルターは、ステンレス繊維体を複雑に絡み合った状態を作り出した上で圧縮し接触箇所を焼結し一体化したもので、その繊維の太さと圧縮量により密度を変え、濾過精度を調整できる。
【０１６７】
可塑剤や粒子などの添加剤は、予め樹脂と混合しておいてもよいし、押出し機の途中で練り込んでもよい。均一に添加するために、スタチックミキサーなどの混合装置を用いることが好ましい。
【０１６８】
冷却ロールと弾性タッチロールでフィルムをニップする際のタッチロール側のフィルム温度はフィルムのＴｇ以上Ｔｇ＋１１０℃以下にすることが好ましい。このような目的で使用する弾性体表面を有するロールは、公知のロールが使用できる。
【０１６９】
弾性タッチロールは挟圧回転体ともいう。弾性タッチロールとしては、登録特許３１９４９０４号、登録特許３４２２７９８号、特開２００２−３６３３２号、特開２００２−３６３３３号などで開示されているタッチロールを好ましく用いることができる。これらは市販されているものを用いることもできる。
【０１７０】
冷却ロールからフィルムを剥離する際は、張力を制御してフィルムの変形を防止することが好ましい。
【０１７１】
また、上記のようにして得られたフィルムは、冷却ロールに接する工程を通過後、前記延伸操作により延伸することが好ましい。
【０１７２】
延伸する方法は、公知のロール延伸機やテンターなどを好ましく用いることができる。延伸温度は、通常フィルムを構成する樹脂のＴｇ〜Ｔｇ＋６０℃の温度範囲で行われることが好ましい。巻き取る前に、製品となる幅に端部をスリットして裁ち落とし、巻き中の貼り付きやすり傷防止のために、ナール加工（エンボッシング加工）を両端に施してもよい。ナール加工の方法は凸凹のパターンを側面に有する金属リングを加熱や加圧により加工することができる。尚、フィルム両端部のクリップの把持部分は通常、フィルムが変形しており製品として使用できないので切除されて、再利用される。
【０１７３】
＜他の用いられる樹脂＞
本発明ではセルロースエステル系樹脂以外に、ポリカーボネート系樹脂、アクリル系樹脂、オレフィン系樹脂、シクロオレフィン系樹脂、及びポリエステル系樹脂から選ばれる少なくとも１種の樹脂を用いることが好ましい。
【０１７４】
下記樹脂を用いた樹脂フィルムは、セルロースエステルフィルムと同様に溶液流延法で製造されたフィルムであっても溶融流延法で製造されたフィルムでもよい。
【０１７５】
（オレフィン系樹脂）
オレフィン系樹脂は、特に、ポリプロピレンやポリエチレン樹脂が好適に用いられるが、これらに限定されるものではない。また、これらの樹脂には、相溶性のある２種類以上の樹脂が用いられてもよい。具体例として、特開２００７−３１６６０３号公報等に記載の化合物を挙げることができる。
【０１７６】
（シクロオレフィン系樹脂）
シクロオレフィン系樹脂について説明する。本発明に用いられるシクロオレフィン系樹脂は脂環式構造を含有する重合体樹脂からなるものである。好ましいシクロオレフィン樹脂は、環状オレフィンを重合又は共重合した樹脂である。環状オレフィンとしては、ノルボルネン、ジシクロペンタジエン、テトラシクロドデセン、エチルテトラシクロドデセン、エチリデンテトラシクロドデセン、テトラシクロ〔７．４．０．１１０，１３．０２，７〕トリデカ−２，４，６，１１−テトラエンなどの多環構造の不飽和炭化水素及びその誘導体；シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘキセン、３，４−ジメチルシクロペンテン、３−メチルシクロヘキセン、２−（２−メチルブチル）−１−シクロヘキセン、シクロオクテン、３ａ，５，６，７ａ−テトラヒドロ−４，７−メタノ−１Ｈ−インデン、シクロヘプテン、シクロペンタジエン、シクロヘキサジエンなどの単環構造の不飽和炭化水素及びその誘導体等が挙げられる。これら環状オレフィンには置換基として極性基を有していてもよい。極性基としては、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アルコキシル基、エポキシ基、グリシジル基、オキシカルボニル基、カルボニル基、アミノ基、エステル基、カルボン酸無水物基などが挙げられ、特に、エステル基、カルボキシル基又はカルボン酸無水物基が好適である。
【０１７７】
好ましいシクロオレフィン樹脂は、環状オレフィン以外の単量体を付加共重合したものであってもよい。付加共重合可能な単量体としては、エチレン、プロピレン、１−ブテン、１−ペンテンなどのエチレン又はα−オレフィン；１，４−ヘキサジエン、４−メチル−１，４−ヘキサジエン、５−メチル−１，４−ヘキサジエン、１，７−オクタジエンなどのジエン等が挙げられる。
【０１７８】
環状オレフィンは、付加重合反応或いはメタセシス開環重合反応によって得られる。重合は触媒の存在下で行われる。付加重合用触媒として、例えば、バナジウム化合物と有機アルミニウム化合物とからなる重合触媒などが挙げられる。開環重合用触媒として、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウム、イリジウム、白金などの金属のハロゲン化物、硝酸塩又はアセチルアセトン化合物と、還元剤とからなる重合触媒；或いは、チタン、バナジウム、ジルコニウム、タングステン、モリブデンなどの金属のハロゲン化物又はアセチルアセトン化合物と、有機アルミニウム化合物とからなる重合触媒などが挙げられる。重合温度、圧力等は特に限定されないが、通常−５０℃〜１００℃の重合温度、０〜４９０Ｎ／ｃｍ２の重合圧力で重合させる。
【０１７９】
シクロオレフィン系樹脂は、環状オレフィンを重合又は共重合させた後、水素添加反応させて、分子中の不飽和結合を飽和結合に変えたものであることが好ましい。水素添加反応は、公知の水素化触媒の存在下で、水素を吹き込んで行う。水素化触媒としては、酢酸コバルト／トリエチルアルミニウム、ニッケルアセチルアセトナート／トリイソブチルアルミニウム、チタノセンジクロリド／ｎ−ブチルリチウム、ジルコノセンジクロリド／ｓｅｃ−ブチルリチウム、テトラブトキシチタネート／ジメチルマグネシウムの如き遷移金属化合物／アルキル金属化合物の組み合わせからなる均一系触媒；ニッケル、パラジウム、白金などの不均一系金属触媒；ニッケル／シリカ、ニッケル／けい藻土、ニッケル／アルミナ、パラジウム／カーボン、パラジウム／シリカ、パラジウム／けい藻土、パラジウム／アルミナの如き金属触媒を担体に担持してなる不均一系固体担持触媒などが挙げられる。
【０１８０】
或いは、シクロオレフィン系樹脂として、下記のノルボルネン系樹脂も挙げられる。ノルボルネン系樹脂は、ノルボルネン骨格を繰り返し単位として有していることが好ましく、その具体例としては、例えば特開昭６２−２５２４０６号公報、特開昭６２−２５２４０７号公報、特開平２−１３３４１３号公報、特開昭６３−１４５３２４号公報、特開昭６３−２６４６２６号公報、特開平１−２４０５１７号公報、特公昭５７−８８１５号公報、特開平５−２１０８号公報、特開平５−３９４０３号公報、特開平５−４３６６３号公報、特開平５−４３８３４号公報、特開平５−７０６５５号公報、特開平５−２７９５５４号公報、特開平６−２０６９８５号公報、特開平７−６２０２８号公報、特開平８−１７６４１１号公報、特開平９−２４１４８４号公報、特開２００１−２７７４３０号公報、特開２００３−１３９９５０号公報、特開２００３−１４９０１号公報、特開２００３−１６１８３２号公報、特開２００３−１９５２６８号公報、特開２００３−２１１５８８号公報、特開２００３−２１１５８９号公報、特開２００３−２６８１８７号公報、特開２００４−１３３２０９号公報、特開２００４−３０９９７９号公報、特開２００５−１２１８１３号公報、特開２００５−１６４６３２号公報、特開２００６−７２３０９号公報、特開２００６−１７８１９１号公報、特開２００６−２１５３３３号公報、特開２００６−２６８０６５号公報、特開２００６−２９９１９９号公報等に記載されたものが挙げられるが、これらに限定されるものではない。又、これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。具体的には、日本ゼオン（株）製ゼオネックス、ゼオノア、ＪＳＲ（株）製アートン、三井化学（株）製アペル（ＡＰＬ８００８Ｔ、ＡＰＬ６５０９Ｔ、ＡＰＬ６０１３Ｔ、ＡＰＬ５０１４ＤＰ、ＡＰＬ６０１５Ｔ）などが好ましく用いられる。
【０１８１】
シクロオレフィン系樹脂の分子量は、使用目的に応じて適宜選択されるが、シクロヘキサン溶液（重合体樹脂が溶解しない場合はトルエン溶液）のゲル・パーミエーション・クロマトグラフ法で測定したポリイソプレン又はポリスチレン換算の重量平均分子量で、通常、５０００〜５０００００、好ましくは８０００〜２０００００、より好ましくは１００００〜１０００００の範囲である時に、成形体の機械的強度、及び成形加工性とが高度にバランスされて好適である。
【０１８２】
（ポリカーボネート系樹脂）
ポリカーボネート系樹脂に付き説明する。ポリカーボネート系樹脂としては種々があり、化学的性質及び物性の点から芳香族ポリカーボネートが好ましく、特にビスフェノールＡ系ポリカーボネートが好ましい。その中でも更に好ましくはビスフェノールＡにベンゼン環、シクロヘキサン環、叉は脂肪族炭化水素基などを導入したビスフェノールＡ誘導体を用いたものが挙げられるが、特に中央炭素に対して非対称にこれらの基が導入された誘導体を用いて得られた、単位分子内の異方性を減少させた構造のポリカーボネートが好ましい。例えばビスフェノールＡの中央炭素の２個のメチル基をベンゼン環に置き換えたもの、ビスフェノールＡのそれぞれのベンゼン環の一の水素をメチル基やフェニル基などで中央炭素に対し非対称に置換したものを用いて得られるポリカーボネート樹脂が好ましい。具体的には、４，４′−ジヒドロキシジフェニルアルカン又はこれらのハロゲン置換体からホスゲン法又はエステル交換法によって得られるものであり、例えば４，４′−ジヒドロキシジフェニルメタン、４，４′−ジヒドロキシジフェニルエタン、４，４′−ジヒドロキシジフェニルブタン等を挙げることができる。又、この他にも例えば、特開２００６−２１５４６５号公報、特開２００６−９１８３６号公報、特開２００５−１２１８１３号公報、特開２００３−１６７１２１号公報等に記載されているポリカーボネート系樹脂が挙げられる。
【０１８３】
（ポリエステル系樹脂）
ポリエステル系樹脂に使用されるモノマーとしては、一般的なジカルボン酸又はその誘導体とジアルコールが用いられるが、特にそれらのモノマー末端のカルボン酸基やスルホン酸基の含有量が少ない方が、荷電性が高く良好なトナーを製造することができる。
【０１８４】
ジカルボン酸及びその誘導体の具体例としては、芳香族ジカルボン酸として、フタル酸、テレフタル酸、イソフタル酸、無水フタル酸、テレフタル酸ジクロライド、テレフタル酸ジブロマイド、テレフタル酸ジエチル、テレフタル酸ジメチル、テレフタル酸ジプロピル、テレフタル酸ジブチル、イソフタル酸ジクロライド、イソフタル酸ジブロマイド、イソフタル酸ジエチル、イソフタル酸ジメチル、イソフタル酸ジプロピル、イソフタル酸ジブチル、ナフタレンジカルボン酸、ナフタル酸無水物、ナフタレンジカルボン酸ジクロライド、ナフタレンジカルボン酸ジブロマイド、ナフタレンジカルボン酸ジメチル、ナフタレンジカルボン酸ジエチル、ナフタレンジカルボン酸ジプロピル、ナフタレンジカルボン酸ジブチル、ジフェニルジカルボン酸、ジフェン酸無水物、ジフェニルジカルボン酸ジクロライド、ジフェニルジカルボン酸ジブロマイド、ジフェニルジカルボン酸ジメチル、ジフェニルジカルボン酸ジエチル、ジフェニルジカルボン酸ジプロピル、ジフェニルジカルボン酸ジブチル等、脂肪族ジカルボン酸として、コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン酸、フマル酸、マレイン酸、イタコン酸、メサコン酸、シトラコン酸、シクロヘキサンジカルボン酸、シクロヘキセンジカルボン酸、ダイマー酸等が挙げられるがこれらに特に限定されない。
【０１８５】
ジアルコールの具体例としては、脂肪族ジアルコールとして、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ブタンジオール、ペンタンジオール、ヘキサンジオール、メチルペンタンジオール、ノナンジオール、エチルブチルプロパンジオール、ジメチルプロパンジオール、シクロヘキサンジオール、シクロヘキサンジメタノール、トリシクロデカンジメタノール、ネオペンチルグリコール、ブチルエチルヘキサンジオール、ビス（４−ヒドロキシシクロヘキシル）プロパン、ジメチロールヘプタン、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールエステル等、芳香族ジアルコールとして、キシレングリコール、フェニレングリコール、フェニレングリコールのエチレンオキサイド付加物、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加物、ビスフェノールＡのプロピレンオキサイド付加物、ビスフェノールＡＰ、ビスフェノールＣ、ビスフェノールＥ、ビスフェノールＦ、ビスフェノールＳ、ビスフェノールＺ及びそれらのエチレンオキサイド、プロピレンオキサイド付加物等が挙げられるがこれらに限定されない。
【０１８６】
これらのモノマーの他に多価カルボン酸や多価アルコールを添加して用いてもよい。
【０１８７】
多価カルボン酸としてはコハク酸、アジピン酸、セバシン酸、アゼライン酸、オクチルコハク酸、ベンゼントリカルボン酸、シクロヘキサントリカルボン酸、トリメリット酸、ピロメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸、トリメシン酸及びこれらの酸無水物、ハロゲン化物、低級アルキルエステル等が挙げられる。
【０１８８】
多価アルコールとしてはポリエチレングリコール、グリセリン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール等が挙げられるがこれらに限定されない。
【０１８９】
又、本発明で使用されるポリエステル系樹脂は、ポリエステルポリオールとして両末端を水酸基とし、有機ジイソシアネート化合物と反応させることによりウレタン変性させさせたものも用いることができる。
【０１９０】
使用される有機ジイソシアネート化合物としては、ヘキサメチレンジイソシアネート、テトラメチレンジイソシアネート、ジメトキシビフェニレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ジイソシアネートメチルシクロヘキサン、ジイソシアネートジシクロヘキサン、ジイソシアネートシクロヘキシルメタン、イソホロンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、フェニレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、フェニレンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネート、ジメチルビフェニレンジイソシアネート、ジイソシアネートジフェニルエーテル等が挙げられるがこれらに限定されない。
【０１９１】
ポリエステルポリオールとしては、ポリカルボン酸とポリオールとして前述の化合物を使用し、ポリオールとポリカルボン酸の比率は水酸基（ＯＨ）とカルボキシル基（ＣＯＯＨ）の当量比（ＯＨ）／（ＣＯＯＨ）として、通常２／１〜１／１が好ましく、１．５／１〜１／１がより好ましく、１．２／１〜１．０２／１が更に好ましい。
【０１９２】
本発明で使用されるポリエステル系樹脂の合成法は特に限定されるものではなく、例えば常法に従いポリエステル縮重合反応によって得ることができる。
【０１９３】
ポリエステル系樹脂の重量平均分子量は、耐熱保管性及び粉体流動特性、溶融粘性の観点からゲルパーミッションクロマトグラフィーによるポリスチレン換算値として、２×１０２〜３×１０４の範囲に極大値を有し、好ましい分子量の極大値は３×１０３〜３×１０４である。
【０１９４】
＜中間層＞
本発明においては、支持体と液晶層の間に液晶の垂直配向を補助したり、支持体からの溶出物をブロックするような中間層を設けることが好ましい。
【０１９５】
中間層は、透明樹脂で構成される。透明樹脂は、飽和炭化水素鎖またはポリエーテル鎖を主鎖として有するバインダーポリマーであることが好ましく、飽和炭化水素鎖を主鎖として有するバインダーポリマーであることが更に好ましい。
【０１９６】
特に好ましくは、紫外線や電子線のような活性線照射により架橋反応等を経て硬化する樹脂、或いは架橋剤と反応部位を有する樹脂との混合組成物である。
【０１９７】
硬化性樹脂としては、例えば、紫外線硬化型ウレタンアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂、または紫外線硬化型エポキシ樹脂等の紫外線硬化型アクリレート系樹脂が好ましく用いられる。
【０１９８】
紫外線硬化型ウレタンアクリレート系樹脂は、一般にポリエステルポリオールにイソシアネートモノマー、またはプレポリマーを反応させて得られた生成物を更に２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート（以下アクリレートにはメタクリレートを包含するものとしてアクリレートのみを表示する）、２−ヒドロキシプロピルアクリレート等の水酸基を有するアクリレート系のモノマーを反応させることによって容易に得ることができる。
【０１９９】
例えば、特開昭５９−１５１１１０号号公報に記載のものを用いることができる。例えば、紫光ＵＶ−７５１０Ｂ（日本合成化学（株）製）、ユニディック１７−８０６（大日本インキ（株）製）１００部とコロネートＬ（日本ポリウレタン（株）製）１部との混合物等が好ましく用いられる。
【０２００】
紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂としては、一般にポリエステルポリオールに２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシアクリレート系のモノマーを反応させると容易に形成されるものを挙げることができ、特開昭５９−１５１１１２号公報に記載のものを用いることができる。
【０２０１】
紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂の具体例としては、エポキシアクリレートをオリゴマーとし、これに反応性希釈剤、光重合開始剤を添加し、反応させて生成するものを挙げることができ、特開平１−１０５７３８号公報に記載のものを用いることができる。
【０２０２】
紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂の具体例としては、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等を挙げることができる。
【０２０３】
これら硬化性樹脂の光重合開始剤としては、具体的には、ベンゾイン及びその誘導体、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、α−アミロキシムエステル、チオキサントン等及びこれらの誘導体を挙げることができる。光増感剤と共に使用してもよい。
【０２０４】
また、エポキシアクリレート系の光重合開始剤の使用の際、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン等の増感剤を用いることができる。
【０２０５】
硬化性樹脂組成物に用いられる光重合開始剤また光増感剤は該組成物１００質量部に対して０．１〜２５質量部であり、好ましくは１〜１５質量部である。
【０２０６】
アクリレート系樹脂としては、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、ベンジルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ジビニルベンゼン、１，４−シクロヘキサンジアクリレート、１，４−シクロヘキシルジメチルアジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリルエステル等を挙げることができる。
【０２０７】
これらの市販品としては、アデカオプトマーＫＲ・ＢＹシリーズ：ＫＲ−４００、ＫＲ−４１０、ＫＲ−５５０、ＫＲ−５６６、ＫＲ−５６７、ＢＹ−３２０Ｂ（旭電化（株）製）；コーエイハードＡ−１０１−ＫＫ、Ａ−１０１−ＷＳ、Ｃ−３０２、Ｃ−４０１−Ｎ、Ｃ−５０１、Ｍ−１０１、Ｍ−１０２、Ｔ−１０２、Ｄ−１０２、ＮＳ−１０１、ＦＴ−１０２Ｑ８、ＭＡＧ−１−Ｐ２０、ＡＧ−１０６、Ｍ−１０１−Ｃ（広栄化学（株）製）；セイカビームＰＨＣ２２１０（Ｓ）、ＰＨＣＸ−９（Ｋ−３）、ＰＨＣ２２１３、ＤＰ−１０、ＤＰ−２０、ＤＰ−３０、Ｐ１０００、Ｐ１１００、Ｐ１２００、Ｐ１３００、Ｐ１４００、Ｐ１５００、Ｐ１６００、ＳＣＲ９００（大日精化工業（株）製）；ＫＲＭ７０３３、ＫＲＭ７０３９、ＫＲＭ７１３０、ＫＲＭ７１３１、ＵＶＥＣＲＹＬ２９２０１、ＵＶＥＣＲＹＬ２９２０２（ダイセル・ユーシービー（株）製）；ＲＣ−５０１５、ＲＣ−５０１６、ＲＣ−５０２０、ＲＣ−５０３１、ＲＣ−５１００、ＲＣ−５１０２、ＲＣ−５１２０、ＲＣ−５１２２、ＲＣ−５１５２、ＲＣ−５１７１、ＲＣ−５１８０、ＲＣ−５１８１（大日本インキ化学工業（株）製）；オーレックスＮｏ．３４０クリヤ（中国塗料（株）製）；サンラッドＨ−６０１、ＲＣ−７５０、ＲＣ−７００、ＲＣ−６００、ＲＣ−５００、ＲＣ−６１１、ＲＣ−６１２（三洋化成工業（株）製）；ＳＰ−１５０９、ＳＰ−１５０７（昭和高分子（株）製）；ＲＣＣ−１５Ｃ（グレース・ジャパン（株）製）、アロニックスＭ−６１００、Ｍ−８０３０、Ｍ−８０６０（東亞合成（株）製）、ＮＫハードＢ−４２０、ＮＫエステルＡ−ＤＯＧ、ＮＫエステルＡ−ＩＢＤ−２Ｅ（新中村化学工業（株）製）等を適宜選択して利用できる。
【０２０８】
また、その他として、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジオキサングリコールアクリレート、エトキシ化アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等を挙げることができる。
【０２０９】
本発明の架橋剤と反応部位を有する樹脂の混合組成物としては、例えばポリビニルアルコールとグリオキザール、ゼラチンとグリオキザール等が挙げられる。
【０２１０】
また、中間層には、フッ素−アクリル共重合体樹脂を含有しても良い。フッ素−アクリル共重合体樹脂とは、フッ素単量体とアクリル単量体とからなる共重合体樹脂で、特にフッ素単量体セグメントとアクリル単量体セグメントとから成るブロック共重合体が好ましい。
【０２１１】
〈中間層の製造方法〉
中間層はグラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、インクジェット法等公知の方法を用いて、中間層を形成する塗布組成物を塗布し、支持体上に塗布後、加熱乾燥し、ＵＶ硬化処理することが好ましい。
【０２１２】
塗布量はウェット膜厚として０．１〜４０μｍが適当で、好ましくは、０．５〜３０μｍである。
【０２１３】
また、ドライ膜厚としては平均膜厚０．０１〜１μｍ、好ましくは０．０２〜０．７μｍである。
【０２１４】
上記ＵＶ硬化処理の光源としては、紫外線を発生する光源であれば制限なく使用できる。例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることができる。
【０２１５】
照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、活性線の照射量は、通常５〜５００ｍＪ／ｃｍ２、好ましくは５〜１５０ｍＪ／ｃｍ２である。
【０２１６】
また、活性線を照射する際には、フィルムの搬送方向に張力を付与しながら行うことが好ましく、更に好ましくは幅方向にも張力を付与しながら行うことである。付与する張力は３０〜３００Ｎ／ｍが好ましい。
【０２１７】
張力を付与する方法は特に限定されず、バックロール上で搬送方向に張力を付与してもよく、テンターにて幅方向、または２軸方向に張力を付与してもよい。これによって更に平面性優れたフィルムを得ることができる。
【０２１８】
中間層を形成する塗布組成物には溶媒が含まれていてもよい。塗布組成物に含有される有機溶媒としては、例えば、炭化水素類（トルエン、キシレン、）、アルコール類（メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノール）、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン）、エステル類（酢酸メチル、酢酸エチル、乳酸メチル）、グリコールエーテル類、その他の有機溶媒からも適宜選択し、またはこれらを混合し利用できる。
【０２１９】
有機溶媒としては、プロピレングリコールモノアルキルエーテル（アルキル基の炭素原子数として１〜４）またはプロピレングリコールモノアルキルエーテル酢酸エステル（アルキル基の炭素原子数として１〜４）等が好ましい。また、有機溶媒の含有量としては塗布組成物中、５〜８０質量％が好ましい。
【０２２０】
＜偏光板保護フィルム＞
本発明の光学補償フィルムは、偏光板保護フィルム用として用いることが好ましい。得られた光学フィルムをアルカリ処理し、ポリビニルアルコールフィルムを沃素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光子の両面に完全鹸化ポリビニルアルコール水溶液を用いて、偏光板保護フィルムを貼り合わせる方法があり、少なくとも片面に本発明の光学フィルムを偏光子に直接貼合することが好ましい。
【０２２１】
光学フィルムを偏光板保護フィルムとした場合、該保護フィルムの厚さは１０〜５００μｍが好ましい。特に２０μｍ以上、更に３５μｍ以上が好ましい。また、１５０μｍ以下、更に１２０μｍ以下が好ましい。特に好ましくは２５以上〜９０μｍが好ましい。上記領域よりも光学フィルムが厚いと偏光板加工後の偏光板が厚くなり過ぎ、ノート型パソコンやモバイル型電子機器に用いる液晶表示においては、特に薄型軽量の目的には適さない。一方、上記領域よりも薄いと、フィルムの透湿性が高くなり偏光子に対して湿度から保護する能力が低下してしまうために好ましくない。
【０２２２】
＜偏光板＞
本発明の光学フィルムを用いた偏光板について述べる。
【０２２３】
偏光板は一般的な方法で作製することができる。本発明の光学補償フィルムの裏面側をアルカリ鹸化処理し、処理した光学補償フィルムの裏面側を、ヨウ素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光子の少なくとも一方の面に、完全鹸化型ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせることが好ましい。もう一方の面に該光学フィルムを用いても、別の偏光板保護フィルムを用いてもよい。本発明の光学フィルムに対して、もう一方の面に用いられる偏光板保護フィルムは、特開２００３−１２８５９号記載のリターデーションＲｏが５９０ｎｍで０〜５ｎｍ、Ｒｔが−２０〜＋２０ｎｍの無配向フィルムも好ましく用いられる。
【０２２４】
本発明の光学補償フィルムと組み合わせて使用することによって、平面性に優れ、安定した視野角拡大効果を有する偏光板を得ることができる。
【０２２５】
裏面側に用いられる偏光板保護フィルムとしては、市販のセルロースエステルフィルムとして、ＫＣ８ＵＸ２ＭＷ、ＫＣ４ＵＸ、ＫＣ５ＵＸ、ＫＣ４ＵＹ、ＫＣ８ＵＹ、ＫＣ１２ＵＲ、ＫＣ４ＵＥＷ、ＫＣ８ＵＣＲ−３、ＫＣ８ＵＣＲ−４、ＫＣ８ＵＣＲ−５、ＫＣ４ＦＲ−１、ＫＣ４ＦＲ−２、ＫＣ８ＵＥ、ＫＣ４ＵＥ（コニカミノルタオプト（株）製）等が好ましく用いられる。
【０２２６】
偏光板の主たる構成要素である偏光子とは、一定方向の偏波面の光だけを通す素子であり、現在知られている代表的な偏光子は、ポリビニルアルコール系偏光フィルムで、これはポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を染色させたものと二色性染料を染色させたものがあるがこれのみに限定されるものではない。偏光子は、ポリビニルアルコール水溶液を製膜し、これを一軸延伸させて染色するか、染色した後一軸延伸してから、好ましくはホウ素化合物で耐久性処理を行ったものが用いられている。偏光子の膜厚は５〜３０μｍ、好ましくは８〜１５μｍの偏光子が好ましく用いられる。該偏光子の面上に、本発明の光学補償フィルムのケン化した面を貼り合わせて偏光板を形成する。好ましくは完全鹸化ポリビニルアルコール等を主成分とする水系の接着剤によって貼り合わせる。
【０２２７】
＜液晶表示装置＞
本発明の光学フィルムは、前記偏光板の光学補償フィルム側が液晶セルに粘着層を介して貼合され、反射型、透過型、半透過型ＬＣＤまたはＴＮ型、ＳＴＮ型、ＯＣＢ型、ＨＡＮ型、ＶＡ型（ＰＶＡ型、ＭＶＡ型）、ＩＰＳ型、ＯＣＢ型等の各種駆動方式の液晶表示装置で好ましく用いられる。
【０２２８】
粘着層に用いられる粘着剤としては、粘着層の少なくとも一部分において２５℃での貯蔵弾性率が１．０×１０４Ｐａ〜１．０×１０９Ｐａの範囲である粘着剤が用いられていることが好ましく、粘着剤を塗布し、貼り合わせた後に種々の化学反応により高分子量体または架橋構造を形成する硬化型粘着剤が好適に用いられる。具体例としては、例えば、ウレタン系粘着剤、エポキシ系粘着剤、水性高分子−イソシアネート系粘着剤、熱硬化型アクリル粘着剤等の硬化型粘着剤、湿気硬化ウレタン粘着剤、ポリエーテルメタクリレート型、エステル系メタクリレート型、酸化型ポリエーテルメタクリレート等の嫌気性粘着剤、シアノアクリレート系の瞬間粘着剤、アクリレートとペルオキシド系の２液型瞬間粘着剤等が挙げられる。
【０２２９】
粘着層の厚みは適宜調整されるが、１〜４０μｍの範囲であることが好ましく、より好ましくは１０〜３０μｍの範囲である。また、粘着剤層は本発明の光学補償フィルムとの接着力が強いほうが好ましく、その接着力は、ガラスに対する投錨力が１０〜１００Ｎ／２５ｍｍであることが好ましい。２０Ｎ／２５ｍｍ以上であることがさらに好ましく、３０Ｎ／２５ｍｍ以上であることが最も好ましい。
【実施例】
【０２３０】
以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０２３１】
《光学補償フィルム１の作製》
《透明基材フィルムの作製》
（二酸化珪素分散液）
アエロジル９７２Ｖ（日本アエロジル（株）製）                    １２質量部
（１次粒子の平均径１６ｎｍ、見かけ比重９０ｇ／リットル）
エタノール                                                      ８８質量部
以上をディゾルバーで３０分間撹拌混合し、二酸化珪素分散希釈液を作製した。
【０２３２】
（芳香族末端エステル１）
反応容器に、フタル酸８２０部（５モル）、１，２−プロピレングリコール６０８部（８モル）、安息香酸６１０部（５モル）及び触媒としてテトライソプロピルチタネート０．３０部を一括して仕込み窒素気流中で撹拌の下、還流凝縮器を付して過剰の１価アルコールを還流させながら、酸価が２以下になるまで１３０〜２５０℃で加熱を続け生成する水を連続的に除去した。次いで２００〜２３０℃で６．６５×１０３Ｐａ〜最終的に４×１０２Ｐａ以下の減圧下、留出分を除去し、この後濾過して次の性状を有する芳香族末端エステル１を得た。
【０２３３】
粘度（２５℃、ｍＰａ・ｓ）；１９８１５
酸価                      ；０．４
なお、酸価とは、試料１ｇ中に含まれる酸（分子末端に存在するカルボキシル基）を中和するために必要な水酸化カリウムのミリグラム数を言う。酸価及び水酸基価はＪＩＳ  Ｋ００７０に準拠して測定したものである。
【０２３４】
（ドープ液）
セルロースエステル（アセチル基置換度１．８０、プロピオニル基置換度０．７０、総アシル基置換度２．５０）                                        １００質量部
トリメチロールプロパントリベンゾエート                            ５質量部
上記芳香族末端エステル１                                          ５質量部
二酸化珪素分散液                                                １０質量部
メチレンクロライド                                            ４３０質量部
エタノール                                                      ４０質量部
上記ドープ組成物を密封容器に投入し、７０℃まで加熱し、撹拌しながら、セルロースエステルを完全に溶解しドープ液を得た。次に、ドープ液を濾過した後、３３℃に温度調整したドープ液を、ダイに送液して、ダイスリットからステンレスベルト上に幅２．５ｍで均一に流延した。ステンレスベルトの流延部は裏面から３７℃の温水で加熱した。流延後、金属支持体上のドープ膜（ステンレスベルトに流延以降はウェブという）に４４℃の温風を当てて乾燥させ、残留溶媒量が１２０質量％で剥離し、剥離の際の張力を掛けて１．０１倍の縦延伸倍率となるようにロールの周速差を利用して延伸し、次いで、残留溶媒量２４質量％、温度１３５℃にてテンターでウェブ端部を把持し、幅手方向に１．３０倍の延伸倍率となるように延伸した。延伸後、その幅を維持したまま数秒間保持した後、幅方向の張力を緩和させ、幅保持を開放した後に１２０℃で乾燥させた。以上のようにして作製した膜厚６０μｍ、幅２．５ｍ、長さ５０００ｍのセルロースエステルフィルムである透明基材フィルムをコアに巻き取った。
【０２３５】
このセルロースエステルフィルムのリターデーションは、Ｒｏは７０ｎｍ、Ｒｔは２００ｎｍ、Ｒｔ／Ｒｏは２．８６であった。
【０２３６】
尚、上記残留溶媒量は以下の方法で測定した。
【０２３７】
残留溶媒量（質量％）＝｛（Ｍ−Ｎ）／Ｎ｝×１００
ここで、Ｍはウェブの任意時点での質量で、下記のガスクロマトグラフィーにより測定した質量であり、Ｎは該Ｍを１１０℃で３時間乾燥させた時の質量である。測定は、ヒューレット・パッカード社製ガスクロマトグラフィー５８９０型ＳＥＲＩＳIIとヘッドスペースサンプラーＨＰ７６９４型を使用し、以下の測定条件で行った。
【０２３８】
ヘッドスペースサンプラー加熱条件：１２０℃、２０分
ＧＣ導入温度：１５０℃
昇温：４０℃、５分保持→１００℃（８℃／分）
カラム：Ｊ＆Ｗ社製ＤＢ−ＷＡＸ（内径０．３２ｍｍ、長さ３０ｍ）
《中間層の塗設》
透明フィルムと液晶層との間に、下記中間層を設けた。
【０２３９】
〈中間層用組成物の調製〉
紫光  ＵＶ−７６０５Ｂ（日本合成化学製）                        ２５質量部
光重合開始剤（１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニルケトン）（イルガキュア１８４、チバ・ジャパン製）                                      １．２５質量部
溶剤（ＰＧＭＥ／イソプロピルアルコール混合溶媒（質量比２０／８０））
７５質量部
〈中間層の塗設〉
上記作製した透明基材フィルム上に中間層組成物をスリットダイで塗布し、熱風の温度８０℃、乾燥時間３０秒で乾燥した。続いて酸素濃度１．５％雰囲気中で高圧水銀灯により５０ｍＪ／ｃｍ２の照射強度で紫外線照射し、乾燥膜厚で１μｍの中間層を設けた。塗設された中間層のゲル分率は約５０質量％であり、半硬化層であった。
【０２４０】
（ゲル分率）
半硬化中間層を約０．１ｇをとり、これを秤量して質量（Ｗ１）を測定した。次いで、これを微孔性テトラフルオロエチレン膜（膜質量Ｗ２）に包んで、約５０ｍｌの酢酸エチルに７日間浸漬したのち、可溶分を抽出した。これを乾燥し、全体の質量（Ｗ３）を測定した。これらの測定値から、下記式により半硬化中間層のゲル分率（質量％）を求めた。
【０２４１】
ゲル分率（質量％）＝｛（Ｗ３−Ｗ２）／Ｗ１｝×１００
《液晶層の塗設》
次いで、得られた中間層上に下記重合性液晶組成物を用いて、液晶層を設けた。
【０２４２】
〈重合性液晶組成物の調製及び塗設〉
ＵＣＬ−０１８（大日本インキ化学工業製）                        ２５質量部
溶媒（ＰＧＭＥＡ／プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）
７５質量部
からなる重合性液晶組成物を調製した。
【０２４３】
この重合性液晶材料の（液晶性材料の液晶相−固体相相転移温度Ａ）は２３℃であった。また、（液晶性材料の等方相−液晶相相転移温度Ｂ）は同様に７０℃であった。
【０２４４】
重合性液晶組成物溶液をダイコーターにより中間層上に５μｍの厚みで塗布した。
【０２４５】
次いで上記液晶層を塗布したフィルムを第１乾燥処理ゾーン（初期乾燥ゾーン）に移し、市販の非接触式温度計で測定した膜面温度が４０℃、膜面直上での風速が１．５ｍ／ｓになるように送風機より風を送り、その状態で７秒間加熱処理して液晶層中の残留溶媒量を液晶層の固形分１００質量％に対し、５質量％まで乾燥した。次いで第２乾燥ゾーンで乾燥温度を８０℃にして３０秒間乾燥させて残留溶媒量を更に０．１質量％以下まで低減した。
【０２４６】
加熱処理後のフィルムを、冷却ロールにより冷却時間１秒で液晶相として過冷却になる温度２０℃まで温度低下させた。
【０２４７】
次いで、液晶層を塗布したフィルムに酸素濃度０．２％、温度２０℃で２５０ｍＪ／ｍｍの紫外線を８０秒照射して、重合性液晶組成物を硬化させ、棒状垂直配向液晶層を有する光学補償フィルム１を得た。
【０２４８】
得られた液晶層を塗設した光学補償フィルムを、偏光顕微鏡を用いて評価したところ、クロスニコル偏光子の間に挟んだ場合に黒色に見え、クロスニコル偏光子の間で該光学補償フィルムを傾けた場合に白色に観察された。従って、前記液晶層は垂直配向していることが確認できた。
【０２４９】
この液晶層のリターデーションを測定したところ、Ｒｏは０．３ｎｍ、Ｒｔは−２８８ｎｍ、また液晶層が積層された本発明の光学補償フィルム１のＲｏは７０ｎｍ、Ｒｔは−８８ｎｍであった。
【０２５０】
《光学補償フィルム２〜１０の作製》
光学補償フィルム１の作製において、膜面温度、膜面直上での風速を表１に記載の条件にした以外は同様にして光学補償フィルム２〜１０を作製した。作製した光学補償フィルム２〜１０のリターデーションは光学補償フィルム１とほぼ同等であった。
【０２５１】
《評価方法》
得られた光学補償フィルム１〜１０について、以下の評価を実施し、結果を表１に示した。
【０２５２】
＜液晶層の残留溶媒量の測定＞
基材フィルムに液晶層組成物塗布液を塗布したサンプルを、不活性ガスで大気圧に満たされた閉鎖系に置き所定の加熱処理を行う。次いで揮発した気体をガスクロマトグラフィー（島津製作所社製  ＧＣ−ＭＳ）で定性、定量を行って揮発した溶媒量からサンプルの残留溶媒を算出した。
【０２５３】
＜構造表面のパラメータＭｒ１（％）＞
上記作製した各々のフィルム試料について、フィルム試料１枚を温度２３℃、湿度５０％±５％において、棒状垂直配向液晶相の表面をＷＹＫＯ社製ＮＴ３３００を用いて測定した。
【０２５４】
対物レンズ５０倍、イメージズーム１．０倍で１２０μｍ×９０μｍの領域の表面を測定し、ＪＩＳ  Ｂ０６７１：２００２によりＭｒ１を求めた。
【０２５５】
＜リワーク性＞
（偏光板の作製）
上記作製した光学補償フィルム１〜１０の原反試料を使って、下記に記載するアルカリケン化処理、偏光板の作製を行った。尚、アルカリケン化処理は棒状垂直配向液晶層を塗設した側とは反対の面に施した。
【０２５６】
〈アルカリケン化処理〉
ケン化工程    ２Ｍ−ＮａＯＨ    ５０℃    ９０秒
水洗工程      水                ３０℃    ４５秒
中和工程      １０質量％ＨＣｌ  ３０℃    ４５秒
水洗工程      水                ３０℃    ４５秒
ケン化処理後、水洗、中和、水洗の順に行い、次いで８０℃で乾燥を行った。
【０２５７】
（偏光子の作製）
厚さ１２０μｍの長尺ロールポリビニルアルコールフィルムを沃素１質量部、ホウ酸４質量部を含む水溶液１００質量部に浸漬し、５０℃で６倍に搬送方向に延伸して偏光子を作った。
【０２５８】
上記偏光子の片面に同様にケン化処理したコニカミノルタオプト（株）製ＫＣ４ＵＹ、その反対面側に前記アルカリケン化処理した光学補償フィルムを完全ケン化型ポリビニルアルコール５％水溶液を接着剤として、偏光子の透過軸と光学補償フィルムの面内遅相軸が平行になるように各々貼り合わせ、乾燥して偏光板１〜１０を作製した。
【０２５９】
（リワーク性）
作製した偏光板を２０ｃｍ×２０ｃｍの大きさの正方形に断裁し、アクリル系接着剤を用いて、光学補償フィルムの棒状垂直配向液晶層側を液晶セル用ガラス板（日本板硝子（株）製「Ｈコートガラス」）に貼付し、５０℃、５ｋｇ／ｃｍ２で２０分間オートクレーブ処理を行い貼り合わせた。
【０２６０】
次いで、貼り合わせた偏光板を角の部分から５Ｎの強さでガラス基板から剥がす。この作業を１種類のサンプルについて１００枚の偏光板で行い、リワーク後のガラス板表面の状態を目視と写真による解析で、粘着剤残りの面積を算出し、下記ように５段階に分けた。粘着剤残りの面積は、少ないほど優れる。
【０２６１】
◎：粘着剤残りの面積が２％未満。
【０２６２】
○：粘着剤残りの面積が２％以上１０％未満。
【０２６３】
△：粘着剤残りの面積が１０％以上２０％未満。
【０２６４】
×：粘着剤残りの面積が２０％以上。
【０２６５】
上記リワーク性評価は○レベル以上であることが、本発明の効果を得る上で好ましい。
【０２６６】
【表１】
2010085573.tif 000004
【０２６７】
表１より、本発明の光学補償フィルムはいずれもリワーク性に優れていることがわかる。尚、光学補償フィルム６（比較例）は液晶層が白濁しており光学フィルムとしては不適であった。
【図面の簡単な説明】
【０２６８】
【図１】光学補償フィルムが粘着層を介して液晶セルに貼合されている模式図である。
【図２】線形負荷曲線による高さ測定（ＪＩＳ  Ｂ０６７１：２００２）の評価方法を示す。
【図３】Ｍｒ１（％）の値の大小による表面形状の違いを示す模式図である。
【符号の説明】
【０２６９】
１  液晶セル
２  粘着層
３  棒状垂直配向液晶層
４  透明基材フィルム
【図１】
2010085573.tif 000005
【図２】
2010085573.tif 000006
【図３】
2010085573.tif 000007