(57)【要約】【課題】薄い形状を維持したまま、見栄えが良く、適正な周波数選択特性を示す、電波吸収体用の周波数選択部材を提供することを目的とする。【解決手段】透明基材と、導電層と、該導電層の表面を被覆するために設けられる追加層と、がこの順に積層された電波吸収体用の周波数選択部材であって、前記導電層は、複数のセグメントにパターン化され、各セグメントの間には、空間が形成されており、前記追加層は、前記空間が残存するようにして前記導電層上に設置されており、実質的に平坦な露出表面を有することを特徴とする電波吸収体用の周波数選択部材。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材と、導電層と、該導電層の表面を被覆するために設けられる追加層と、がこの順に積層された電波吸収体用の周波数選択部材であって、
前記導電層は、複数のセグメントにパターン化され、各セグメントの間には、空間が形成されており、
前記追加層は、前記空間が残存するようにして前記導電層上に設置されており、実質的に平坦な露出表面を有することを特徴とする電波吸収体用の周波数選択部材。
【請求項２】
前記セグメント同士の間の空間の幅は、１０ｎｍ〜１００ｎｍの範囲であることを特徴とする請求項１に記載の電波吸収体用の周波数選択部材。
【請求項３】
前記透明基材は、レーザ光を実質的に透過し、
前記導電層は、前記レーザ光の少なくとも一部を吸収し、
前記追加層は、前記レーザ光を実質的に反射しまたは透過することを特徴とする請求項１または２に記載の電波吸収体用の周波数選択部材。
【請求項４】
前記導電層は、酸化スズ、酸化亜鉛、銀およびＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）からなる群から選定された、少なくとも一つの材料で構成されることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の電波吸収体用の周波数選択部材。
【請求項５】
前記透明基材は、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、ＰＣ（ポリカーボネート）、ＴＡＣ（トリアセチルセルロース）、ＰＥＮ（ポリエチレンナフタレート）およびＰＭＭＡ（ポリメタクリレート）からなる群から選定された、少なくとも一つの材料で構成されることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の電波吸収体用の周波数選択部材。
【請求項６】
前記レーザ光は、波長が約１０６４ｎｍのＮｄ：ＹＡＧレーザ光であり、
前記追加層は、窒化珪素（ＳｉＮ）、二酸化珪素（ＳｉＯ２）、炭化珪素（ＳｉＣ）、および酸窒化珪素（ＳｉＯＮ）からなる群から選定された、少なくとも一つの材料を含むことを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の電波吸収体用の周波数選択部材。
【請求項７】
前記レーザ光は、波長が約５３２ｎｍのＮｄ：ＹＡＧレーザ光（２倍波）であり、
前記追加層は、窒化アルミニウム（ＡｌＮ）、二酸化ハフニウム（ＨｆＯ２）、二フッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）、窒化珪素（ＳｉＮ）および二酸化珪素（ＳｉＯ２）からなる群から選定された、少なくとも一つの材料を含むことを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の電波吸収体用の周波数選択部材。
【請求項８】
表面に反射膜が設置された基板により構成される反射性部材と、
前記請求項１〜７に記載の周波数選択部材と、
を備える電波吸収体。
【請求項９】
（ａ）透明基材上に導電層を設置するステップと、
（ｂ）前記導電層上に追加層を設置するステップと、
（ｃ）（ｂ）のステップの後、前記導電層をパターン化するステップであって、前記透明基材を実質的に透過し、前記追加層を実質的に透過または反射し、前記導電層で少なくとも一部が吸収されるレーザ光を、前記基板の側から照射することにより、前記導電層が選択的にパターン化される、ステップと、
を有する電波吸収体用の周波数選択部材の製造方法。
【請求項１０】
前記導電層は、酸化スズ、酸化亜鉛、銀およびＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）からなる群から選定された、少なくとも一つの材料で構成されることを特徴とする請求項９に記載の電波吸収体用の周波数選択部材の製造方法。
【請求項１１】
前記透明基材は、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、ＰＣ（ポリカーボネート）、ＴＡＣ（トリアセチルセルロース）、ＰＥＮ（ポリエチレンナフタレート）およびＰＭＭＡ（ポリメタクリレート）からなる群から選定された、少なくとも一つの材料で構成されることを特徴とする請求項９または１０に記載の電波吸収体用の周波数選択部材の製造方法。
【請求項１２】
前記レーザ光は、波長が約１０６４ｎｍのＮｄ：ＹＡＧレーザ光であり、
前記追加層は、窒化珪素（ＳｉＮ）、二酸化珪素（ＳｉＯ２）、炭化珪素（ＳｉＣ）および酸窒化珪素（ＳｉＯＮ）からなる群から選定された、少なくとも一つの材料を含むことを特徴とする請求項９〜１１のいずれかに記載の電波吸収体用の周波数選択部材の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、周波数選択部材およびそのような周波数選択部材を製造する方法に関する。また、本発明は、そのような周波数選択部材を有する電波吸収体に関する。
【背景技術】
【０００２】
相互に近接して使用される電子機器からの電磁波の影響を防止する場合、不要電磁波を吸収する電波吸収体が使用される。
【０００３】
従来の電波吸収体は、例えば、透明基材にＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）のような透明導電層を設置することにより構成した吸収性部材と、透明基材に透明反射膜を設置して構成した反射性部材とを、スペーサ層を介して、所定の間隔を開けて平行に設置することにより構成される（特許文献１、２参照）。
【０００４】
このように構成された電波吸収体に、吸収性部材を介して不要電磁波が入射されると、入射された不要電磁波は、反射性部材で反射され、再度吸収性部材を通り、電波吸収体から放射されることになる。ここでスペーサ層により設けられた吸収性部材と反射性部材の間隔は、電波吸収体から放射される電磁波の位相が、入射電磁波の位相と丁度１８０゜だけ反転するように設定されている。従って、電波吸収体に入射される電磁波は、電波吸収体から放射される電磁波により打ち消され、結果的に不要電磁波を消失させることができる。
【特許文献１】特開平６−１２０６８９号公報
【特許文献２】特開２００８−２８０６２号公報
【特許文献３】特開２００８−４９５１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
従来の電波吸収体では、不要電磁波を適正に吸収（消失）させようとした場合、吸収性部材と反射性部材の間隔、すなわちスペーサ層の厚さを極めて大きくする必要がある（例えば、１ＧＨｚの電磁波を対象とした場合、１０ｃｍ程度）。これは、電波吸収体に入射される電磁波と、電波吸収体から放射される電磁波の位相を逆転させる場合、スペーサ層の厚さを波長λの１／４となるように設計する必要があるためである。このため、従来の電波吸収体では、スペーサ層の厚さに制約があり、電波吸収体の厚さをあまり薄くすることができないという問題がある。
【０００６】
一方最近では、吸収性部材と反射性部材の間に、周波数選択表面（ＦＳＳ：Ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ  Ｓｅｌｅｃｔｉｖｅ  Ｓｕｒｆａｃｅ）と呼ばれる層を設置することにより、両者の間隔を狭くする技術が開発されている。また、前述の透明導電層をパターン化することにより、吸収性部材そのものに、周波数選択層としての機能を発現させる技術が開発されている（例えば特許文献３）。
【０００７】
そのようなパターン化された透明導電層が設置された吸収性部材（以下、「周波数選択部材」と称する）は、図１（ａ）に示すように、例えばＰＥＴのような透明基材２０上に、スクリーン印刷、グラビア印刷等の技術により、ＩＴＯのような導電性酸化物３０Ｓのパターン３２を成膜することにより作製される。これにより得られる各導電性酸化物３０Ｓ間の線幅（すなわち図１の隙間３５の幅Ｗ）の最小値は、おおよそ５０μｍ程度である。なお、通常の場合、図１（ｂ）に示すように、パターン化された導電層３０の上には、さらに追加層４０が設置される。追加層４０は、パターン化された導電層３０の表面を外界から保護したり、あるいは入射電磁波の反射を防止する役割を有する。この追加層４０は、スパッタ法、蒸着法などの一般的な成膜技術により設置される。
【０００８】
しかしながら、パターン化された導電層３０上に追加層４０を設置しようとした場合、図１（ｂ）に示すように、導電性酸化物３０Ｓ同士の間の隙間３５の存在により、追加層４０の露出表面３９には、凹部３６が形成されてしまう。また追加層４０により、導電性酸化物３０Ｓ同士の間の隙間３５は、追加層４０を構成する材料で充填されてしまう。
【０００９】
このような形態の周波数選択部材１では、各部材（基板２０、導電層３０、追加層４０）が全て透明材料で構成されているにも関わらず、追加層４０の露出表面３９の凹凸により光の散乱が生じてしまい、周波数選択部材１の見栄えが悪くなるという問題がある。
【００１０】
またそのような周波数選択部材１を電波吸収体に適用した場合、隙間３５が追加層４０で充填され、空間が消失されているため、設計の際に予測した適正な周波数選択特性が得られず、電波吸収性能が低下してしまうという問題が生じ得る。
【００１１】
本発明は、このような背景に鑑みなされたものであり、本発明では、薄い形状を維持したまま、見栄えが良く、適正な周波数選択特性を示す周波数選択部材を提供することを目的とする。また、本発明では、そのような周波数選択部材を製造する方法、およびそのような周波数選択部材を備える電波吸収体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明では、
透明基材と、導電層と、該導電層の表面を被覆するために設けられる追加層と、がこの順に積層された電波吸収体用の周波数選択部材であって、
前記導電層は、複数のセグメントにパターン化され、各セグメントの間には、空間が形成されており、
前記追加層は、前記空間が残存するようにして前記導電層上に設置されており、実質的に平坦な露出表面を有することを特徴とする電波吸収体用の周波数選択部材が提供される。
【００１３】
ここで、本発明の周波数選択部材において、前記セグメント同士の間の空間の幅は、１０ｎｍ〜１００ｎｍの範囲であっても良い。
【００１４】
また、本発明の周波数選択部材において、前記透明基材は、レーザ光を実質的に透過し、
前記導電層は、前記レーザ光の少なくとも一部を吸収し、
前記追加層は、前記レーザ光を実質的に反射しまたは透過しても良い。
【００１５】
なお、本願において、「実質的に透過（する）」とは、ある特定の波長のレーザ光に対する、ある部材の透過率、反射率および吸収率（ここで透過率＋反射率＋吸収率＝１）のうち、透過率が最も大きい場合を意味する。また、「実質的に反射（する）」とは、ある特定の波長のレーザ光に対する、ある部材の透過率、反射率および吸収率（ここで透過率＋反射率＋吸収率＝１）のうち、反射率が最も大きい場合を意味する。
【００１６】
また、本発明の周波数選択部材において、前記導電層は、酸化スズ、酸化亜鉛、銀およびＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）からなる群から選定された、少なくとも一つの材料で構成されても良い。
【００１７】
また、本発明の周波数選択部材において、前記透明基材は、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、ＰＣ（ポリカーボネート）、ＴＡＣ（トリアセチルセルロース）、ＰＥＮ（ポリエチレンナフタレート）およびＰＭＭＡ（ポリメタクリレート）からなる群から選定された、少なくとも一つの材料で構成されても良い。
【００１８】
また、本発明の周波数選択部材において、前記レーザ光は、波長が約１０６４ｎｍのＮｄ：ＹＡＧレーザ光であり、
前記追加層は、窒化珪素（ＳｉＮ）、二酸化珪素（ＳｉＯ２）、炭化珪素（ＳｉＣ）および酸窒化珪素（ＳｉＯＮ）からなる群から選定された、少なくとも一つの材料を含んでも良い。
【００１９】
また、本発明の周波数選択部材において、前記レーザ光は、波長が約５３２ｎｍのＮｄ：ＹＡＧレーザ光（２倍波）であり、
前記追加層は、窒化アルミニウム（ＡｌＮ）、二酸化ハフニウム（ＨｆＯ２）、二フッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）、窒化珪素（ＳｉＮ）および二酸化珪素（ＳｉＯ２）からなる群から選定された、少なくとも一つの材料を含んでも良い。
【００２０】
また、本発明では、
表面に反射膜が設置された基板により構成される反射性部材と、
前述の特徴を有する周波数選択部材と、
を備える電波吸収体が提供される。
【００２１】
さらに、本発明では、
（ａ）透明基材上に導電層を設置するステップと、
（ｂ）前記導電層上に追加層を設置するステップと、
（ｃ）（ｂ）のステップの後、前記導電層をパターン化するステップであって、前記透明基材を実質的に透過し、前記追加層を実質的に透過または反射し、前記導電層で少なくとも一部が吸収されるレーザ光を、前記基板の側から照射することにより、前記導電層が選択的にパターン化される、ステップと、
を有する電波吸収体用の周波数選択部材の製造方法が提供される。
【００２２】
ここで、本発明の周波数選択部材の製造方法において、前記導電層は、酸化スズ、酸化亜鉛、銀およびＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）からなる群から選定された材料で構成されても良い。
【００２３】
また、本発明の周波数選択部材の製造方法において、前記透明基材は、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、ＰＣ（ポリカーボネート）、ＴＡＣ（トリアセチルセルロース）、ＰＥＮ（ポリエチレンナフタレート）およびＰＭＭＡ（ポリメタクリレート）からなる群から選定された、少なくとも一つの材料で構成されても良い。
【００２４】
また、本発明の周波数選択部材の製造方法において、前記レーザ光は、波長が約１０６４ｎｍのＮｄ：ＹＡＧレーザ光であり、
前記追加層は、窒化珪素（ＳｉＮ）、二酸化珪素（ＳｉＯ２）、炭化珪素（ＳｉＣ）および酸窒化珪素（ＳｉＯＮ）からなる群から選定された、少なくとも一つの材料を含んでも良い。
【発明の効果】
【００２５】
本発明では、薄い形状を維持したまま、見栄えが良く、適正な周波数選択特性を示す周波数選択部材を提供することができる。また、本発明では、そのような周波数選択部材を製造する方法、およびそのような周波数選択部材を備える電波吸収体を提供することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
以下図面により本発明の形態を説明する。
【００２７】
図２には、本発明による周波数選択部材の一例の模式的な断面図を示す。本発明による周波数選択部材１００は、透明基材１２０と、導電層１３０と、追加層１４０とをこの順に積層することにより構成される。
【００２８】
透明基材１２０は、導電層１３０および追加層１４０を支持する担体としての役割を有する。透明基材１２０は、例えば、透明プラスチック材料等の材料で構成される。透明プラスチック材料には、例えばＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、ＰＣ（ポリカーボネート）、ＴＡＣ（トリアセチルセルロース）、ＰＥＮ（ポリエチレンナフタレート）およびＰＭＭＡ（ポリメタクリレート）等が含まれる。
【００２９】
なお透明基材１２０は、後述するように、所定の波長λを有するレーザ光に対して、吸収率が十分に低く、そのようなレーザ光を実質的に透過させる材料であれば、いかなる材料を使用しても良い。図３に、各種透明材料について、吸収率の波長依存性を示したグラフを示す。例えば、前述のＰＥＴは、波長４００ｎｍ〜２０００ｎｍ（ただし波長１７００ｎｍを除く）にわたる広い範囲の光に対して、５％未満の極めて低い吸収率を有することがわかる。なお透明基材１２０の厚さは、特に限られないが、あまり厚くすると、電波吸収体に適用した際の全厚さが厚くなるので、１００ｎｍ〜１ｍｍ程度であることが好ましく、例えば５０μｍまたは１００μｍである。
【００３０】
導電層１３０は、特定の範囲の周波数の入射電磁波のみを透過させる、いわゆる「周波数選択」の役割を有する。図２に示すように、導電層１３０は、複数のセグメント１３０Ｓを有するようにパターン化されており、各セグメント１３０Ｓ同士の間には、空間１３５が形成されている。なお、上面から見た場合（図示されていない）、各セグメント１３０Ｓの形状は、特に限られず、各セグメント１３０Ｓは、正方形、長方形のような矩形状の他、円形、楕円形など各種形状を有していても良い。
【００３１】
導電層１３０の厚さは、特に限られないが、電波吸収体に使用される場合、一般には、５０ｎｍ〜１００ｎｍの範囲である。好ましくは、８０ｎｍ〜１００ｎｍの範囲である。一方、空間１３５の幅Ｗ１は、例えば、１０ｎｍ〜１００ｎｍの範囲である。ただし、この幅Ｗ１は、周波数選択部材１００が対象とする入射電磁波の周波数範囲に基づいて設定される。
【００３２】
導電層１３０は、透明金属酸化物で構成され、例えば、酸化スズ、酸化亜鉛、銀またはＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）等が用いられる。なお導電層１３０は、後述するように、所定の波長λを有するレーザ光に対して、大きな吸収率（吸収率１０％以上）を有する材料で構成される。例えば、図３に示すように、ＩＴＯは、９５０ｎｍ以上の波長の光に対して、大きな吸収率（吸収率１０％以上）を有する。
【００３３】
追加層１４０は、導電層１３０の表面を被覆するために設けられる透明な層である。追加層１４０を設置することにより、周波数選択部材１００の表面に、例えば、耐擦傷性、耐防汚性等の特性を付与することができる。また、追加層１４０によって、反射防止性が提供されても良い。
【００３４】
追加層１４０の厚さは、特に限られないが、例えば、５ｎｍ〜１ｍｍの範囲である。好ましくは、１０ｎｍ〜５μｍの範囲である。
【００３５】
追加層１４０は、後述するように、所定の波長λを有するレーザ光に対して、吸収率が十分に低く（吸収率５％以下）、そのようなレーザ光を実質的に透過し、または反射する材料で構成される。なお、追加層１４０の具体的な材質については後述する。
【００３６】
次に、このように構成された本発明による周波数選択部材１００の特徴を、従来の周波数選択部材と比較して説明する。
【００３７】
図１は、従来の周波数選択部材１の製造方法を概略的に示したものである。
【００３８】
従来のパターン化された透明導電層を有する周波数選択部材１は、図１（ａ）に示すように、例えばＰＥＴのような透明基材２０上に、スクリーン印刷、グラビア印刷等の技術により、ＩＴＯのような導電性酸化物３０Ｓのパターン３２を成膜することにより作製される。このような方法で形成されるパターン３２の線幅（すなわち図１の隙間３５の幅Ｗ）は、おおよそ５０μｍ程度であり、透明基材２０上には、比較的広い間隔で離間された導電性酸化物３０Ｓのパターン３２が形成されることになる。
【００３９】
次に、図１（ｂ）に示すように、パターン化された導電層３０の上に、スパッタ法などの物理蒸着、または熱ＣＶＤなどの化学蒸着のような一般的な成膜技術により、追加層４０が設置される。ここで、前述のように、導電層３０内には、比較的広い隙間３５が形成されているため、成膜の際に追加層４０を構成する材料は、この隙間３５内に容易に侵入することができる。従って、隙間３５は、この侵入材料によって、充填されてしまう。またこの影響により、最終的に得られる追加層４０の露出表面３９には、隙間３５のパターンに対応した凹部３６が形成されてしまうことになる。
【００４０】
このような形態の周波数選択部材１では、各部材（基板２０、導電層３０、追加層４０）が全て透明材料で構成されているにも関わらず、追加層４０の露出表面３９の凹凸により光の散乱が生じ、周波数選択部材１の見栄えが悪くなるという問題が生じる。またこのような周波数選択部材１を電波吸収体に適用した場合、隙間３５が追加層４０で充填され、導電性酸化物３０Ｓ間の空間が消失されているため、設計の際に予測した適正な周波数選択特性が得られず、電波吸収性能が低下してしまうという問題が生じ得る。
【００４１】
これに対して、本発明による周波数選択部材１００では、図２に示すように、導電性酸化物１３０Ｓ間に、空間１３５が残存しており、ここには、追加層１４０が充填されていない。また、追加層１４０の露出表面１３９は、追加層１４０を設置した直後の状態であっても、実質的に平坦な表面となっており、前述のような凹部は形成されていない。
【００４２】
従って、本発明による周波数選択部材１００では、追加層１４０の表面で光の散乱が生じ、見栄えが悪くなるという従来の問題を有意に抑制することができる。また、本発明による周波数選択部材１００を電波吸収体に設置した場合、設計の際に予測した通りの適正な周波数選択特性を得ることができるため、適正な電波吸収特性を得ることができる。
【００４３】
（本発明によるパターン化部材の製造方法）
次に、図４および図５を参照して、前述のような特徴を有する本発明による周波数選択部材の製造方法の一例について説明する。なお、以下に示す方法は、本発明による周波数選択部材の製作方法の一例にすぎず、本発明による周波数選択部材は、他の方法で製作しても良いことは、当業者には明らかであろう。
【００４４】
図４は、本発明による周波数選択部材の製造方法のフローチャートを示した図である。また、図５は、本発明による周波数選択部材の形成プロセスを概略的に示した図である。
【００４５】
図４に示すように、本発明による周波数選択部材の製造方法は、透明基材上に導電層を設置するステップ（ステップＳ１１０）と、前記導電層上に追加層を設置するステップ（ステップＳ１２０）と、レーザ光を用いて、前記導電層を選択的にパターン化するステップ（ステップＳ１３０）とを有する。以下、各ステップについて詳しく説明する。
【００４６】
（透明基材への導電層の設置）
まず、導電層１３０を設置するための透明基材１２０を準備する。透明基材１２０は、例えば、前述の透明プラスチック材料の中から選定される。透明基材１２０は、例えば、ＰＥＴである。透明基材１２０の厚さは、例えば１００μｍである。
【００４７】
導電層を設置する前に、透明基材１２０の表面は、洗浄されることが好ましい。表面洗浄は、例えば、イオンビームによる乾式洗浄により行われる。この場合、アルゴンガスに約３０％の酸素を混合して、１００Ｗの電力を投入する。これにより、イオンビームソースでイオン化されたアルゴンおよび酸素イオンが、透明基材１２０の表面に照射され、表面を乾式洗浄することができる。
【００４８】
次に、図５（ａ）に示すように、この透明基材１２０の洗浄された表面に、導電層１３０'が設置される。導電層１３０'は、いかなる方法で透明基材上に設置されても良い。導電層１３０'は、スパッタリング、イオンプレーティングなどの物理蒸着、または熱ＣＶＤ、プラズマＣＶＤ等の化学蒸着により、透明基材１２０上に設置される。なお、図５（ａ）に示すように、導電層１３０'は、透明基材１２０の表面全体を覆うように設置される。
【００４９】
導電層１３０'は、前述のような透明金属酸化物で構成される。導電層の厚さは、特に限られないが、例えば、５０ｎｍである。
【００５０】
（追加層の設置）
次に、図５（ｂ）に示すように、前述の導電層１３０'上に、追加層１４０が設置される。追加層は、いかなる方法で導電層１３０'上に設置されても良い。追加層１４０は、例えば、スパッタリング、イオンプレーティングなどの物理蒸着、または熱ＣＶＤ、プラズマＣＶＤ等の化学蒸着により、導電層１３０'上に設置される。なお、図５（ｂ）に示すように、追加層１４０は、導電層１３０'の表面全体を覆うように設置される。追加層１４０の厚さは、例えば１０ｎｍ程度である。
【００５１】
（導電層のパターン化処理）
次に、透明基材１２０と追加層１４０の間にある導電層１３０'が所望のパターンにパターン化される。本発明による方法では、このパターン化処理に、レーザ光１１０が利用されるという特徴を有する。本発明による方法では、レーザ光１１０は、図５（ｃ）に示すように、透明基材１２０の側から照射される。
【００５２】
ここで、透明基材１２０は、前述のように、レーザ光１１０を透過し、実質的にレーザ光を吸収しない材料で構成されている。また追加層１４０は、レーザ光１１０を実質的に透過または反射し、レーザ光を吸収しない材料で構成されている（吸収率５％以下）。従って本発明では、レーザ光１１０は、導電層１３０'のみに選択的に吸収されることになり、導電層１３０'のみを選択的に加工することができる。
【００５３】
図６には、そのようなレーザ光１１０の種類および波長λと、該波長λにおける吸収率の低い材料（すなわち、追加層１４０の候補材料）との組み合わせの一例を示す。例えば、波長が１０６４ｎｍ（基本波長）のＮｄ：ＹＡＧレーザ光を使用する場合、追加層１４０として、窒化珪素（ＳｉＮ）、二酸化珪素（ＳｉＯ２）、炭化珪素（ＳｉＣ）、および酸窒化珪素（ＳｉＯＮ）からなる群より選ばれた一種以上の材料を使用することができる。また、Ｎｄ：ＹＡＧレーザ光の２倍波（波長５３２ｎｍ）では、窒化アルミニウム（ＡｌＮ）、二酸化ハフニウム（ＨｆＯ２）、二フッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）、窒化珪素（ＳｉＮ）、二酸化珪素（ＳｉＯ２）およびこれらの混合物からなる群より選ばれた材料を使用することができる。Ｅｒ：ＹＡＧレーザ（基本周波数２９４０ｎｍ）およびＨｏ：ＹＡＧレーザ（基本周波数２１００ｎｍ）等の場合も同様に考えることができる。ただし、図６の組み合わせは、一例に過ぎず、図６の例以外にも、波長が４００ｎｍ〜２０００ｎｍの範囲のその他のレーザ光と、その波長λにおける吸収率の低い材料との組み合わせが多数存在することは、当業者には明らかであろう。
【００５４】
そのようなレーザ光と材料の組み合わせのいずれかを利用した場合、照射されたレーザ光１１０は、追加層１４０で吸収されず、導電層１３０'のみによって選択的に吸収されるようになる。
【００５５】
従ってこのようなレーザ光１１０と追加層１４０適正な組み合わせを利用することにより、レーザ光１１０の照射により、導電性膜１３０'のみを選択的にパターン処理することができる。
【００５６】
なお、透明基材１２０の側から照射されるレーザ光１１０の照射エネルギーは、使用されるレーザ光の種類、波長等によっても変化するが、例えば、波長λが１０６４ｎｍ（基本波長）のＮｄ：ＹＡＧレーザ光を使用する場合、照射フルエンスは、最大３０，０００ｍＪ／ｃｍ２程度であっても良い。また、波長λが５３２ｎｍ（２倍波）のＮｄ：ＹＡＧレーザ光を使用する場合、照射フルエンスは、最大７，０００ｍＪ／ｃｍ２程度であっても良い。また、パルス幅は、５ピコ〜１０００ナノ秒、パルス周期は、１０〜１０００マイクロ秒、走査速度は、１０〜５０００ｍｍ／分程度であっても良い。
【００５７】
以上のような工程を経て、図５（ｄ）に示すような、周波数選択部材１００を得ることができる。この周波数選択部材１００において、基板１２０と追加層１４０の間、より具体的には、導電層１３０の各セグメント１３０Ｓ同士の間には、適正な空間１３５が「形成されており、ここには、追加層１４０の材料が充填されていない。
【００５８】
本発明の方法により得られる周波数選択部材は、従来のような問題、すなわち周波数選択部材の表面（すなわち追加層１４０の露出表面１３９）に凹凸が生じたり、導電層１３０の隣接するセグメント１３０Ｓ同士の空間１３５が、別の材料で閉塞されたりするという問題を有意に抑制することができる。
【００５９】
また一般に、レーザ光による導電層１３０'のパターン化処理では、スクリーン印刷法等の従来の導電層設置技術に比べて、微細なパターン加工が可能となる。従って、本発明による方法では、隣接するセグメント１３０Ｓ同士の間隔（図２のＷ１）を、従来よりも微細に形成することができ、導電層１３０のパターン形成の自由度が有意に増大する。例えば、Ｗ１は、１０ｎｍ〜１００ｎｍの範囲にすることができる。Ｗ１は、例えば５０ｎｍである。
【００６０】
（電波吸収体）
このような本発明による周波数選択部材１００は、電波吸収体に適用することができる。図７には、そのような電波吸収体２００の一例の断面図を模式的に示す。なお、図７において、各部材の寸法、特に厚さは、誇張して示されており、実際の寸法とは必ずしも対応していない。
【００６１】
本発明による電波吸収体２００は、前述の特徴を有する周波数選択部材１００と、反射性部材２７０とを備える。また両者の間には、枠状のスペーサ２６０が介在され、これにより、枠状のスペーサ２６０の内部に空間部２６５が形成されている。
【００６２】
周波数選択部材１００は、前述のように、透明基材１２０と、パターン化された導電層１３０と、追加層１４０とを備える。また反射性部材２７０は、基板２９０と、該基板２９０上に設置された反射膜２８０とを有する。
【００６３】
反射膜２８０は、要求される抵抗値や透過率に応じて、様々な材料を使用することができる。反射膜２８０は、例えば、酸化物層と金属層とが交互に積層された多層構造であっても良い。酸化物層の膜厚は、例えば１０〜１００ｎｍの範囲である。その他の部分では、例えば４０〜１４０ｎｍの範囲である。一方、金属層の膜厚は、例えば５〜５０ｎｍの範囲である。
【００６４】
通常の場合、酸化物層は、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化チタン、酸化ニオブおよび酸化スズからなる群から選ばれた１種以上の金属酸化物で構成される。特に、酸化物層は、スズ、アルミニウム、クロム、チタン、ケイ素、ホウ素、マグネシウムおよびガリウムからなる群から選ばれる１種以上の元素を含有する酸化亜鉛で構成されることが好ましい。一方、金属層は、金、パラジウムおよびビスマスからなる群から選ばれる１種以上の他の金属を含有する銀合金からなる層が好ましい。
【００６５】
なお、図７において、周波数選択部材１００は、追加層１４０の側が外側となり、透明基材１２０の側が空間部２６５と接するようにして配置される。ただし、この周波数選択部材１００の配置の向きは、逆であっても良い。同様に図７において、反射性部材２７０は、反射膜２８０の側が、空間部２６５と接するように配置される。しかしながら、この配置の向きは、逆であっても良い。
【００６６】
次に、このように構成された電波吸収体２００の動作について説明する。
【００６７】
電波吸収体２００は、周波数選択部材１００を備えており、特定の範囲の周波数を有する不要電磁波のみが周波数選択部材１００を介して、選択的に電波吸収体２００内部に進入する。この不要電磁波２４０は、空間部２６５を通過して、反射性部材２７０の反射膜２８０の表面に到達する。不要電磁波２４０は、反射膜２８０の表面で反射され、今度は逆向きに、空間２６５内を進行する。その後、不要電磁波２４０は、再度周波数選択部材１００を通り、電波吸収体２００から放出される。空間部２６５の厚さＤ２は、電波吸収体２００から放射される電磁波の位相が、入射電磁波の位相と丁度１８０゜だけ反転するように設定されている。従って、電波吸収体２００に入射される電磁波は、電波吸収体から放射される電磁波により打ち消され、結果的に不要電磁波を消失させることができる。
【００６８】
ここで、本発明による電波吸収体では、周波数選択部材１００が従来のＦＳＳ層として機能するため、周波数選択部材１００と反射性部材２７０の間隔、すなわち空間部２６５の厚さＤ２を有意に薄くすることができる。空間部２６５の厚さＤ２は、１ＧＨｚの電磁波を対象とした場合、例えば２ｃｍ〜３ｃｍの範囲である。
【００６９】
ここで、本発明による電波吸収体では、前述のように、周波数選択部材１００の導電層１３０が、従来のものに比べて、適正にパターン化されている。すなわち空間１３５には、追加層１４０を構成する材料などからなる異物が充填されておらず、空間１３５は、適正に残存している。また、追加層１４０の露出表面は、実質的に平坦であり、表面の凹凸は、有意に抑制されている。
【００７０】
従って、本発明による電波吸収体では、全体的な厚さを十分に薄くしたまま、特定の周波数範囲に対して、適正な電波吸収特性を得ることができる。また、表面で光が乱反射することもなく、見栄えの良い電波吸収体を提供することが可能となる。
【００７１】
次に、図７に示したものとは異なる、別の電波吸収体について説明する。図８には、別の電波吸収体の断面を模式的に示す。なお、図８において、各部材の寸法、特に厚さは、誇張して示されており、実際の寸法とは必ずしも対応していない。
【００７２】
この電波吸収体３００は、基本的には、図７に示した電波吸収体２００と同様に構成され、反射性部材２７０と、周波数選択部材１０１とを有する。また、両者の間には、枠状のスペーサ２６０が介在され、これにより、枠状のスペーサ２６０の内部に空間部２６５が形成される。しかしながら、この電波吸収体３００では、周波数選択部材１０１は、前述の周波数選択部材１００には含まれていない、追加の部材を有する。
【００７３】
より具体的には、周波数選択部材１０１は、透明基材１２０と、パターン化された導電層１３０と、追加層１４０と、補強材３４０とがこの順に積層されて構成される。なお、補強材３４０と、追加層１４０の間には、粘着層３２０が配置されており、これにより、追加層１４０と補強材３４０とが接合される。
【００７４】
補強材３４０は、周波数選択部材１０１に強度を付与するために設けられる。従って、補強材３４０の厚さは、透明基材１２０よりも厚くなっており、厚さは、例えば、０．５ｍｍ〜１ｍｍ程度である。補強材３４０は、例えば、ポリカーボネートまたはＰＥＴ等で構成されても良い。
【００７５】
また、同様に、反射層側の基板２９０上には、補強材３５０が積層されている。補強材３５０と、基板２９０の間には、粘着層３３０が配置されており、これにより、基板２９０と補強材３５０とが接合される。
【００７６】
このような構成の電波吸収体３００では、補強材３４０および３５０により高い強度が得られるため、より耐久性の高い電波吸収体を提供することができる。
【産業上の利用可能性】
【００７７】
本発明は、電波吸収体等に利用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００７８】
【図１】従来の電波吸収体に使用される周波数選択部材の製造方法の一例を模式的に示した図である。
【図２】本発明による周波数選択部材の一例を模式的に示した断面図である。
【図３】各透明材料について、吸収率の波長依存性を示したグラフである。
【図４】本発明による周波数選択部材の製造方法のフローチャートである。
【図５】本発明による周波数選択部材の形成プロセスを概略的に示した図である。
【図６】レーザ光の種類および波長と、追加層の材料との組み合わせの一例を示した図である。
【図７】本発明による電波吸収体２００の一例を模式的に示した断面図である。
【図８】本発明による別の電波吸収体３００の一例を模式的に示した断面図である。
【符号の説明】
【００７９】
１  従来の周波数選択部材
２０  透明基材
３０  導電層
３０Ｓ  導電性酸化物
３２  導電性酸化物のパターン
３５  隙間
３６  凹部
３９  露出表面
４０  追加層
１００  本発明による周波数選択部材
１０１  本発明による別の周波数選択部材
１１０  レーザ光
１２０  透明基材
１３０  導電層（パターン処理後）
１３０'  導電層（パターン処理前）
１３０Ｓ  セグメント
１３５  空間
１３９  露出表面
１４０  追加層
２００  本発明による電波吸収体
２４０  不要電磁波
２６０  スペーサ
２６５  空間部
２７０  反射性部材
２８０  反射膜
２９０  基板
３００  別の電波吸収体
３２０  粘着層
３３０  粘着層
３４０  補強材
３５０  補強材。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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