(57)【要約】【課題】密封材を完全に硬化させて表示特性の向上した液晶表示装置及びその製造方法を提供する。【解決手段】薄膜トランジスタが形成されている第１基板と、前記第１基板と所定間隔離隔して上部に配置されており、ブラックマトリックスが形成されている第２基板と、前記第１基板及び第２基板間に形成されている密封材と、前記第１基板、第２基板及び前記密封材によって囲まれた空間を充填している液晶層を含み、前記第１基板に形成されている金属パターンは、前記密封材及び前記ブラックマトリックスと重なる部分に配置されている光透過手段を有する。【選択図】  図８ａ
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
薄膜トランジスタが形成されている第１基板と、
前記第１基板と所定間隔離隔して上部に配置されており、ブラックマトリックスが形成されている第２基板と、
前記第１基板及び第２基板間に形成されている密封材と、
前記第１基板、第２基板及び前記密封材によって囲まれた空間を充填している液晶層を含み、
前記第１基板に形成されている金属パターンは、前記密封材及び前記ブラックマトリックスと重なる部分に配置されている光透過手段を有する液晶表示装置。
【請求項２】
前記光透過手段は開口部である請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記開口部は複数個の長いスリット形状である請求項２に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記開口部は複数個の格子形状である請求項２に記載の液晶表示装置。
【請求項５】
前記光透過手段は透明導電膜である請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項６】
前記光透過手段は、前記密封材及び前記ブラックマトリックスと重なる部分に配置されている金属パターンの２０％以上を占める、請求項２または５に記載の液晶表示装置。
【請求項７】
前記金属パターンは、前記密封材及び前記ブラックマトリックスと重なっている維持電極連結部である、請求項１、２または５のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項８】
前記金属パターンは、前記密封材及び前記ブラックマトリックスと重なっている共通電極短絡部である、請求項１、２または５のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項９】
前記金属パターンは、ソース印刷回路基板とゲート印刷回路基板との間で信号を伝達するコネクターであって、前記コネクターが前記密封材及び前記ブラックマトリックスと重なっている、請求項１、２または５のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項１０】
前記金属パターンは、ゲート印刷回路基板の信号線及びゲート駆動回路間の信号線であって、前記信号線が前記密封材及び前記ブラックマトリックスと重なっている、請求項１、２または５のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項１１】
前記金属パターンは、ソース駆動回路部のソース駆動回路の間の信号線であって、前記信号線が前記密封材及び前記ブラックマトリックスと重なっている、請求項１、２または５のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項１２】
薄膜トランジスタが形成されている第１基板と、
前記第１基板と所定間隔離隔して上部に配置されており、ブラックマトリックスが形成されている第２基板と、
前記第１基板及び第２基板間に形成されている密封材と、
前記第１基板、第２基板及び前記密封材によって囲まれた空間を充填している液晶層とを含み、
前記第１基板の金属パターンにおいて、前記密封材及び前記ブラックマトリックスと重なっている重畳部には光透過手段を有し、前記金属パターンにおいて、ソース印刷回路基板からゲート印刷回路基板に信号を伝達するコネクター、ゲート印刷回路基板の信号線及びゲート駆動回路間の信号線、ソース駆動回路部のソース駆動回路の間の信号線は、前記密封材の外部に位置している液晶表示装置。
【請求項１３】
薄膜トランジスタが形成されている第１基板と、
前記第１基板と所定間隔離隔して上部に配置されており、ブラックマトリックスが形成されている第２基板と、
前記第１基板及び第２基板間に形成されている密封材と、
前記第１基板、第２基板及び前記密封材によって囲まれた空間を充填している液晶層とを含み、
前記第１基板の金属パターンにおいて、前記密封材及び前記ブラックマトリックスと重なる重畳部には光透過手段を有し、前記第１基板の金属パターンにおいて、共通電極短絡部は前記密封材の外部に位置している液晶表示装置。
【請求項１４】
第１基板に光透過手段を有する金属パターンを形成する段階と、
第２基板にブラックマトリックスを形成する段階と、
前記金属パターンの光透過手段と重複する密封材を形成する段階と、
前記密封材の内部に液晶を塗布する段階と、
前記液晶が塗布された第１基板と第２基板を張り合わせるアセンブリー段階と、
前記互いに張り合わせられた第１基板及び第２基板間の密封材を硬化して、前記第１基板と第２基板を結合する硬化段階を含む液晶表示装置の製造方法。
【請求項１５】
前記密封材は前記ブラックマトリックスと一部が重なる請求項１４に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項１６】
前記硬化段階は、前記第１基板の底面に反射板を位置させて露光することによって前記密封材を硬化する請求項１５に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項１７】
前記硬化段階は、前記第１及び第２基板の外側でそれぞれ露光することによって前記密封材を硬化する請求項１５に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項１８】
前記硬化段階は、前記第１基板の底面が上を向けるようにして光を前記第１基板の底面に直接露光することによって前記密封材を硬化する請求項１５に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項１９】
薄膜トランジスタが形成されている第１基板と、
前記第１基板と所定間隔離隔して上部に配置されており、ブラックマトリックスが形成されている第２基板と、
前記第１基板及び第２基板間に形成されている密封材と、
前記第１基板、第２基板及び前記密封材によって囲まれた空間を充填している液晶層を含み、
第１基板に形成されて前記密封材及び前記ブラックマトリックスと重なる部分に位置している導電層は、信号伝達方向に沿って形成されている開口部を有している液晶表示装置。
【請求項２０】
前記信号伝達方向は導電層の長さ方向である請求項１９に記載の液晶表示装置。
【請求項２１】
前記開口部が形成されている導電層を互いに連結する連結部が形成されている請求項２０に記載の液晶表示装置。
【請求項２２】
前記開口部の間隔は導電層の間隔と同一であるか、導電層の間隔より大きく形成されている請求項２１に記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は液晶表示装置及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、液晶表示装置は画素電極と薄膜トランジスタなどが形成されている第１基板と、共通電極と色フィルターなどが形成されている第２基板との間に液晶物質を注入して、共通電極と画素電極に互いに異なる電位を印加することによって電界を形成して、液晶分子の配列を変更させ、これによって光の透過率を調節することによって画像を表現する装置である。
【０００３】
液晶表示装置を製造するための従来の液晶注入方法は、二つの基板に液晶物質の液晶分子を配向するための配向膜を塗布して配向処理を実施した後、液晶注入口を有する密封材を周囲に印刷する。次に、２つの基板を位置合わせした後、ホットプレス工程によって２つの基板を結合して、液晶注入口を通じて２つの基板の間に液晶物質を注入し、液晶注入口を封止して液晶セルを作製する。しかし、最近は液晶滴下注入方法が使用されている。これは、密封材を使用して所定の閉郭状枠組のアクティブ領域に液晶を滴下した後、真空状態でアセンブリーして密封材を硬化する方法である。
【０００４】
しかし、このような液晶滴下注入方法は、液晶が封入された状態で密封材を硬化する方法であるので、液晶の物性変形を防止するために常温硬化をしなければならない。従って、ここでは紫外光（Ｕｌｔｒａ  ｖｉｏｌｅｔ）硬化用密封材を使用する。そして、紫外光が密封材に届くようにするために密封材の上部または下部に光を遮断する遮断膜がないことが好ましい。ところが、色フィルター基板のブラックマトリックスが密封材の上で紫外光を一部遮断し、薄膜トランジスタ基板の金属パターンが紫外光の反射光を一部遮断することによって密封材の硬化を妨げる。その結果、密封材の未硬化による液晶表示装置の品質不良を生じさせて、表示特性の低下を招く。
【０００５】
一方、光硬化性物質からなる密封材を確実に硬化するためには、光が密封材に直接照射されなければならない。そのために、従来は、第２基板の周辺部に形成されるブラックマトリックスの幅を減少させる構造を採用していた。このようなブラックマトリックスは、第１基板の非有効ディスプレイ領域を通過して映像情報を含まない光を遮断することによって、液晶表示装置の表示品質を向上させる役目をする。従って、ブラックマトリックスの幅が減少すれば、液晶表示装置の周辺領域から漏れる光によって光漏れ現象が発生する。この光漏れ現象によって液晶表示装置の表示品質が低下する問題がある。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、前記問題を解決するためのもので、密封材を完全に硬化させて表示特性の向上した液晶表示装置及びその製造方法提供にその目的がある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
前記目的を達成するために本発明の参考例としての液晶表示装置は、第１電極が形成された第１基板と、前記第１基板と対向して第２電極が形成された第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間に介在した液晶層とを備えており、映像を表示する表示領域及び前記表示領域の周辺に形成された周辺領域から構成される液晶表示パネルと、前記液晶表示パネルの一面に配置されて前記液晶表示パネルに偏光された光を提供する偏光板と、前記一面に配置されて前記周辺領域に入射する光を遮断する第１遮光部材と、前記偏光板と前記第１遮光部材に対応して配置されて、前記偏光板と前記第１遮光部材との間の投光領域に対応して遮光領域を備える第２遮光部材とを含む。
【０００８】
光を発生するランプ及び前記光の光学特性を向上させるための複数のシートを備え、前記偏光板の下部に配置されて前記液晶表示パネルに光を提供するためのバックライトユニットをさらに含む。そして、前記第２遮光部材は前記複数のシートのいずれか一つに一体で形成されている。
【０００９】
前記複数のシートは、光を拡散するための拡散シートと、拡散した光を集光する一つ以上のプリズムシート、及び前記一つ以上のプリズムシート上に配置されて前記一つ以上のプリズムシートを保護する保護シートから構成される。そして前記第２光遮断部材は前記保護シートに一体で形成される。さらに、前記保護シートは前記遮光領域に対応するエッジ領域では黒色で、他の領域では透明な色であることが好ましい。また、前記遮光領域の幅は前記投光領域の幅より大きいことが好ましい。
【００１０】
そして、前記第１及び第２基板間に介在して、前記第１及び第２基板を結合させる光硬化性物質からなる結合部材をさらに含む。前記第２基板は、Ｒ、Ｇ、Ｂ色画素からなる色フィルター及び前記色画素の間に形成されたブラックマトリックスを備え、前記ブラックマトリックスは前記第２基板を通過した光が前記結合部材に照射するように前記結合部材とオーバーラップする。また、前記第１遮光部材は接着性があって、黒色を有する遮光テープであることが好ましい。
【００１１】
また、前記目的を達成するために本発明の参考例としての液晶表示装置は、第１電極が形成された第１基板と、前記第１基板と対向して第２電極が形成された第２基板、及び前記第１基板と前記第２基板との間に介在した液晶層を備えており、映像を表示する表示領域及び前記表示領域の周辺に形成された周辺領域から構成される液晶表示パネルと、前記液晶表示パネルの一面の前記表示領域及び周辺領域に配置されて前記液晶表示パネルに偏光された光を提供する偏光板と、前記偏光板に対応して配置されて、ランプから発生した光の光学特性を向上させて前記液晶表示パネルに提供するための複数のシートを含み、前記複数のシートのいずれか一つは前記周辺領域に入射する光を遮断する遮光領域を備える。
【００１２】
前記複数のシートは、前記光を拡散する拡散シートと、拡散した光を集光する一つ以上のプリズムシート及び前記一つ以上のプリズムシート上に配置されて前記一つ以上のプリズムシートを保護する保護シートから構成される。前記保護シートは、前記遮光領域に対応するエッジ領域では黒色であることが好ましい。
【００１３】
また、前記第１及び第２基板間に介在して前記第１及び第２基板を結合する、光硬化性物質からなる結合部材をさらに含む。前記第２基板は、Ｒ、Ｇ、Ｂ色画素からなる色フィルター及び前記色画素の間に形成されたブラックマトリックスを備えており、前記ブラックマトリックスは前記第２基板を通過した光が前記結合部材に照射するように前記結合部材とオーバーラップする。そして、前記遮光領域は前記ブラックマトリックスとオーバーラップする。
【００１４】
前記目的を達成するために本発明の一参考例による液晶表示装置は、薄膜トランジスタが形成されている第１基板と、前記第１基板と所定間隔離隔して上部に配置されていて、ブラックマトリックスが形成されている第２基板と、前記第１基板及び第２基板間に形成されている密封材と、前記第１基板、第２基板及び前記密封材によって囲まれた空間を充填している液晶層とを含み、前記第１基板に形成されている金属パターンは、前記密封材及び前記ブラックマトリックスと重なる部分に配置されている光透過手段を有する。そして、前記光透過手段は開口部であり、前記開口部は複数個の長いスリット形状であるか、複数個の格子形状であることが好ましい。また、前記光透過手段は透明導電膜であることが好ましく、前記密封材及び前記ブラックマトリックスと重なる部分に配置されている金属パターンの２０％以上を占めることが好ましい。
【００１５】
前記金属パターンは、前記密封材及び前記ブラックマトリックスと重なっている維持電極連結部であり得る。また、前記金属パターンは前記密封材及び前記ブラックマトリックスと重なっている共通電極短絡部であり得る。また、前記金属パターンはソース印刷回路基板とゲート印刷回路基板との間で信号を伝達するコネクターであって、前記コネクターが前記密封材及び前記ブラックマトリックスと重なっている。また、前記金属パターンはゲート印刷回路基板の信号線及びゲート駆動回路間の信号線であって、前記信号線が前記密封材及び前記ブラックマトリックスと重なっている。そして、前記金属パターンはソース駆動回路部のソース駆動回路の間の信号線であって、前記信号線が前記密封材及び前記ブラックマトリックスと重なっている。
【００１６】
前記目的を達成するために本発明の別の参考例による液晶表示装置は、薄膜トランジスタが形成されている第１基板と、前記第１基板と所定間隔離隔して上部に配置されていて、ブラックマトリックスが形成されている第２基板と、前記第１基板及び第２基板の間に形成されている密封材と、前記第１基板、第２基板及び前記密封材によって囲まれた空間を満たしている液晶層を含み、前記第１基板の金属パターンにおいて、前記密封材及び前記ブラックマトリックスと重なる重畳部には光透過手段を有し、前記金属パターンにおいてソース印刷回路基板からゲート印刷回路基板へ信号を伝達するコネクター、ゲート印刷回路基板の信号線及びゲート駆動回路間の信号線、ソース駆動回路部のソース駆動回路の間の信号線は、前記密封材の外部に位置している。
【００１７】
前記目的を達成するために本発明の液晶表示装置は、薄膜トランジスタが形成されている第１基板と、前記第１基板と所定間隔離隔して上部に配置されていて、ブラックマトリックスが形成されている第２基板と、前記第１基板及び第２基板の間に形成されている密封材、前記第１基板、第２基板及び前記密封材によって囲まれた空間を満たしている液晶層を含み、前記第１基板の金属パターンにおいて、前記密封材及び前記ブラックマトリックスと重なる重畳部には光透過手段を有し、前記第１基板の金属パターンにおいて、共通電極短絡部は前記密封材の外部に位置している。
【００１８】
前記目的を達成するために本発明の液晶表示装置の製造方法は、第１基板に光透過手段を有する金属パターンを形成する段階と、第２基板にブラックマトリックスを形成する段階と、前記金属パターンの光透過手段と重なる密封材を形成する段階と、前記密封材の内部に液晶を塗布する段階と、前記液晶が塗布された第１基板と第２基板を張り合わせるアセンブリー段階、前記互いに張り合わせられた第１基板と第２基板との間の密封材を硬化させて前記第１基板と第２基板を結合させる硬化段階を含む。なお、前記密封材は前記ブラックマトリックスの一部と重なっており、前記硬化段階では前記第１基板の底面に反射板を位置させて露光することによって前記密封材を硬化する。
【００１９】
そして、前記硬化段階では、前記第１及び第２基板の外側でそれぞれ露光して、前記第１基板の底面が上を向けるようにして光を前記第１基板の底面に直接露光することによって密封材を硬化する。
【００２０】
前記目的を達成するために本発明の液晶表示装置は、薄膜トランジスタが形成されている第１基板と、前記第１基板と所定間隔離隔して上に配置されていて、ブラックマトリックスが形成されている第２基板と、前記第１基板及び第２基板との間に形成されている密封材と、前記第１基板、第２基板及び前記密封材によって囲まれた空間を充填している液晶層を含み、第１基板に形成されて、前記密封材及び前記ブラックマトリックスと重なる部分に位置している導電層は、信号伝達方向に沿って形成されている開口部を有することが好ましい。
【００２１】
また、前記信号伝達方向は導電層の長さ方向であり、前記開口部が形成されている導電層を互いに連結する連結部が形成されていることが好ましい。また、前記開口部の間隔は導電層の間隔と同一であるか、導電層の間隔より大きく形成することが好ましい。
【発明の効果】
【００２２】
本発明による液晶表示装置は、液晶表示パネルの一面に張り付けられた偏光板の周辺に遮光テープが付着され、保護シートには偏光板と遮光テープとの間の投光領域に対応して遮光領域が形成される。従って、工程上の誤差によって偏光板と遮光テープとの間に形成され得る投光領域に入射する光を遮断することによって、液晶表示装置の周辺部から光が漏れる光漏れ現象を防止できて、液晶表示装置の表示品質を向上できる。
【００２３】
また、本発明による液晶表示装置及びその製造方法は、第１基板の金属パターンが紫外光の反射光を遮断しないように、金属パターンに開口部や透明導電膜を形成することによって密封材の未硬化を防止する。また、紫外光を反射板を利用して傾斜露光したり、上部及び第１基板の両側で紫外光を露光することによって密封材の未硬化を防止する。また、開口部を信号伝達方向と平行に形成することによって、開口部形成による抵抗の増加を最少化できるという長所がある。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】本発明の第１参考例による液晶表示装置を具体的に示した分解斜視図である。
【図２】図１に示された液晶表示装置の結合断面図である。
【図３】図１に示されたディスプレイユニットと保護シートを具体的に示した斜視図である。
【図４】図１に示された液晶表示パネルの製造工程を示したフローチャートである。
【図５ａ】図４に示された液晶表示パネルの製造工程の工程図である。
【図５ｂ】図４に示された液晶表示パネルの製造工程の工程図である。
【図５ｃ】図４に示された液晶表示パネルの製造工程の工程図である。
【図５ｄ】図４に示された液晶表示パネルの製造工程の工程図である。
【図６】図２に示された液晶表示装置の一部分を拡大したものである。
【図７】本発明の第２参考例による液晶表示装置を示した断面図である。
【図８ａ】本発明の第１実施例による液晶表示装置を示した断面図である。
【図８ｂ】図８ａに示された金属パターンに形成された開口部の形状を示したものである。
【図９ａ】本発明の第１実施例による液晶表示装置に形成された金属パターンのモンブラン構造の概略的な配置図である。
【図９ｂ】本発明の第１実施例による液晶表示装置に形成された金属パターンのモンブラン構造の概略的な配置図である。
【図９ｃ】本発明の第１実施例による液晶表示装置に形成された金属パターンのモンブラン構造の概略的な配置図である。
【図１０】本発明の第１実施例による液晶表示装置に形成された金属パターンのモンブラン構造がブラックマトリックスの外部に配置されていることを概略的に示すものである。
【図１１】本発明の第１実施例による液晶表示装置に形成された金属パターンにおける維持電極配線の概略的な配置図である。
【図１２】本発明の第１実施例による液晶表示装置の製造方法を順番に示すものであって、金属パターンに開口部が形成されることを示す説明図である。
【図１３】密封材を形成して液晶を注入することを示す説明図である。
【図１４ａ】密封材の第１の硬化方法を示す説明図である。
【図１４ｂ】密封材の第２の硬化方法を示す説明図である。
【図１４ｃ】密封材の第３の硬化方法を示す説明図である。
【図１５】本発明の第２実施例による液晶表示装置の金属パターンに形成された開口部の形状を示す説明図である。
【図１６】本発明の第２実施例による液晶表示装置の金属パターンに透明導電膜が形成されていること示す説明図である。
【図１７】本発明の第３実施例による液晶表示装置の導電層に形成された開口部の形状を示す説明図である。
【図１８】従来の開口部が形成されない導電層の概略図である。
【図１９】開口部が信号伝達方向に垂直に形成されている導電層の概略図である。
【図２０】本発明の第３実施例による液晶表示装置に形成された導電層のモンブラン構造がブラックマトリックスと重なったり、ブラックマトリックスの外部に配置されていること概略的に示す説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
以下、添付した図面を参照して本発明の好ましい実施例を詳細に説明する。図１は、本発明の第1参考例による液晶表示装置を具体的に示す分解斜視図であり、図２は、図１に示された液晶表示装置の結合断面図である。
【００２６】
図１及び図２を参照すれば、本発明の第１参考例による液晶表示装置３００は、映像を表示するディスプレイユニット５０と、ディスプレイユニット５０に光を供給するためのバックライトユニット３４０及びディスプレイユニット５０とバックライトユニット３４０を受納するための受納容器３３０、３５０とを含む。前記ディスプレイユニット５０は、映像を表示する液晶表示パネル４０と、液晶表示パネル４０を駆動するための駆動印刷回路基板を備える。液晶表示パネル４０は、薄膜トランジスタ表示板１００と、薄膜トランジスタ表示板１００と対向する色フィルター表示板２００、及び薄膜トランジスタ表示板１００と色フィルター表示板２００との間に介された液晶層（図示せず）から構成される。
【００２７】
薄膜トランジスタ表示板１００は、第１ガラス基板上に第１方向に延びたデータ線（図示せず）と、第１方向と直交する第２方向に延びたゲート線（図示せず）と、データ線及びゲート線に連結された薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）（図示せず）及びＴＦＴに連結された画素電極（図示せず）から構成される単位画素がマトリックス状に複数形成されている基板である。一方、色フィルター表示板２００は、第２ガラス基板上にＲ（Ｒｅｄ）、Ｇ（Ｇｒｅｅｎ）、Ｂ（Ｂｌｕｅ）色画素からなる色フィルター（図示せず）、色画素の間に形成されたブラックマトリックス（図示せず）及び色フィルターとブラックマトリックス上に備わる共通電極（図示せず）が形成されている基板である。
【００２８】
薄膜トランジスタ表示板１００と色フィルター表示板２００は、画素電極と共通電極が対向するように結合される。次に、薄膜トランジスタ表示板１００と色フィルター表示板２００との間には液晶層が介在される。これで液晶表示パネル４０が完成する。
【００２９】
駆動印刷回路基板は、データ線に提供される映像信号を発生するデータ印刷回路基板５５０及びゲート線に提供される駆動信号を発生するゲート印刷回路基板４５０を備える。データ印刷回路基板５５０はデータ側テープキャリアパッケージ（Ｔａｐｅ  Ｃａｒｒｉｅｒ  Ｐａｃｋａｇｅ；ＴＣＰ）５０２を通じてデータ線と電気的に連結されており、ゲート印刷回路基板４５０はゲート側ＴＣＰ４０２を通じてゲート線と電気的に連結される。具体的に、データ側ＴＣＰ５０２の一端部はデータ印刷回路基板５５０と結合されて、他の端部はデータ線のパッド部が配置される薄膜トランジスタ表示板１００のデータ部に付着される。また、ゲート側ＴＣＰ４０２の一端部はゲート印刷回路基板４５０と結合されて、他の端部はゲート線のパッド部が配置される薄膜トランジスタ表示板１００のゲート部に付着される。
【００３０】
ディスプレイユニット５０は、液晶表示パネル４０の両側面にそれぞれ張り付けられる第１偏光板１２及び第２偏光板２２を備える。具体的に、第１偏光板１２は薄膜トランジスタ表示板１００の一側面の第１領域に、第２偏光板２２は色フィルター表示板２００の一側面に張り付けられる。第１偏光板１２は、バックライトユニット３４０から発生して液晶表示パネル４０に提供される入射光を偏光して液晶表示パネル４０に提供し、第２偏光板２２は、液晶表示パネル４０から射出する射出光を偏光する。ここで、第１偏光板１２の偏光軸と第２偏光板２２の偏光軸とは互いに直交する。
【００３１】
一方、薄膜トランジスタ表示板１００の一側面の第２領域には遮光テープ５１が付着される。遮光テープ５１は、黒色であって薄膜トランジスタ表示板１００の第２領域に入射する光を遮断する。遮光テープ５１は、第１偏光板１２の枠組みを囲みながら薄膜トランジスタ表示板１００の一側面上に配置される。具体的に、第１偏光板１２と同一層に形成されて、遮光テープ５１と第１偏光板１２との間には互いにオーバーラップする領域が存在しない。
【００３２】
遮光テープ５１は、第２領域に全て含まれるように配置されなければならないが、工程上の誤差によって遮光テープ５１と第１偏光板１２との間には第２領域に入射する光を透過させる第３領域（ＴＡ）が形成される（図６参照）。従って、第３領域（ＴＡ）に入射する光を遮断するためにバックライトユニット３４０が提示される。バックライトユニット３４０は、光を発生するランプユニット３４１と、光を液晶表示パネル４０側にガイドするための導光板３４４を備える。ランプユニット３４１は、光を発生するランプ３４２及び光を導光板３４４側に反射するためのランプ反射板３４３を含む。
【００３３】
導光板３４４は、光を射出する射出面と、射出面と対向して光を射出面側に反射する反射面及び射出面と反射面を連結する四つの側面で構成される。四つの側面のうち一側面にはランプユニット３４１が配置され、導光板３４４は一側面を通じて光の提供を受ける。入射した光は射出面を通じて直ちに射出されたり、反射面を通じて反射されてから射出される。導光板３４４の下部には、反射面から漏れる光を反射するための反射板３４５が配置されてバックライトユニット３４０の光効率を向上する。また、導光板３４４の上部には射出面から射出された光の光学特性を向上するための複数の光学シート３４６が配置される。
【００３４】
具体的に、複数の光学シート３４６は拡散シート３４７とプリズムシート３４８及び保護シート３４９で構成される。拡散シート３４７は、射出面から射出した光が均一な輝度分布になるように拡散させて液晶表示装置４００の視野角を拡張させる。プリズムシート３４８は、拡散シート３４７によって拡散した光を集光して液晶表示装置４００の正面輝度を増加させる。一般に、プリズムシート３４８は二つのシートで構成されるが、各プリズムシート３４８には互いに直交する方向に延長されたプリズムが形成される。一方、保護シート３４９はプリズムシート３４８の上部に備えられて、プリズムシート３４８に形成されたプリズム形状が外部衝撃によって変形することを防止する。
【００３５】
図３は、図１に示されたディスプレイユニット及び保護シートを具体的に示す斜視図である。図１〜図３及び図６に示すように、保護シート３４９のエッジ領域には黒色で印刷処理された遮光領域（ＤＡ）が形成されている。具体的に、遮光領域（ＤＡ）は第３領域（ＴＡ）に対応するように形成される。遮光領域（ＤＡ）の第１幅（ｗ１）は第３領域（ＴＡ）の第２幅（ｗ２）より広いのが好ましい。従って、遮光領域（ＤＡ）は第３領域（ＴＡ）に向かって垂直に入射される垂直光だけでなく、所定の角度に傾斜して入射される傾斜光も全て遮断する。これによって、液晶表示装置４００の表示領域（Ｄｓ）と周辺領域（Ｓｒ）境界部で光漏れ現象が生ずることを防止できる。
【００３６】
さらに、図１及び図２に示すように、受納容器はディスプレイユニット５０及びバックライトユニット３４０を受納するためのモールドフレーム３３０及びトップシャシー３５０を含む。具体的に、モールドフレーム３３０には底面及び底面から延長された側壁によって受納空間が形成され、受納空間には反射板３４５、ランプユニット３４１、導光板３４４及び複数の光学シート３４６が順次に受納される。モールドフレーム３３０の側壁の上端には段が形成されて、そこにはディスプレイユニット５０が形成される。データ及びゲート印刷回路基板５５０、４５０はデータ側及びゲート側ＴＣＰ５０２、４０２によってモールドフレーム３３０の背面に配置される。
【００３７】
このように、ディスプレイユニット５０及びバックライトユニット３４０がモールドフレーム３３０に受納されれば、トップシャシー３５０はモールドフレーム３３０と対向して結合する。これで、液晶表示装置４００が完成する。
【００３８】
図４は、図１に示された液晶表示パネルの製造工程を示したフローチャートであり、図５ａ〜図５ｄは、図４に示された液晶表示パネルの製造工程の工程図である。図４及び図５ａに示すように、ＴＦＴ基板７００には一連の製造工程によってＴＦＴ（図示せず）及び画素電極（図示せず）を含む複数のＴＦＴ領域７１０を形成する。また、Ｃ/Ｆ基板６００には一連の製造工程によって複数のＣ/Ｆ領域６１０を形成する（Ｓ５１０）。
【００３９】
次に、図４及び図５ｂに示すように、ＴＦＴ基板７００の実のライン領域に密封材３１０を形成する（Ｓ５２０）。実のライン領域はＴＦＴ基板７００の各ＴＦＴ領域７１０の周辺領域である。密封材３１０はＴＦＴ基板７００とＣ/Ｆ（Ｃｏｌｏｒ  Ｆｉｌｔｅｒ）基板６００が結合された後もＴＦＴ基板 ７００とＣ/Ｆ基板６００を所定間隔離隔させる。
【００４０】
次に、図４及び図５ｃに示すように、密封材３１０によって区画されたＴＦＴ領域７１０に液晶３を滴下する（Ｓ５３０）。その後、ＴＦＴ基板７００とＣ/Ｆ基板６００が互いに対向して結合すれば、密封材３１０を露光して密封材３１０を完全に硬化させる。以降、密封材３１０が硬化されながら、ＴＦＴ基板７００とＣ/Ｆ基板６００が合着されて液晶セルが形成された組立基板８００が完成する。
【００４１】
このように液晶３を滴下する方式では、ＴＦＴ基板７００とＣ/Ｆ基板６００の間に液晶３を介した状態で密封材３１０を露光する。ここで、熱硬化性密封材を使用すれば熱によって液晶３が変形する。従って、液晶３を滴下する方式では光硬化性密封材が用いられる。
【００４２】
ＴＦＴ基板７００とＣ/Ｆ基板６００が結合すれば、Ｃ/Ｆ基板６００上で光を照射して密封材３１０を硬化させる。ここで、密封材３１０を完全に硬化させるためには光に充分に露出されなければならない。しかし、Ｃ/Ｆ基板６００のＣ/Ｆ領域６１０にはブラックマトリックス２２０が形成されていて、それによって光が遮断されることが生ずる。従って、ブラックマトリックス２２０はできるだけ密封材３１０と重なる部分が少なくなるように形成する。
【００４３】
次に、図４に示されているように、組立基板８００を液晶セル単位でカッティングして液晶表示パネル４０を完成する。
【００４４】
図６は、図２に示された液晶表示装置の一部分を拡大したものである。図６に示すように、液晶表示パネル４０は薄膜トランジスタ表示板１００、色フィルター表示板２００、薄膜トランジスタ表示板１００と色フィルター表示板２００との間に介在する液晶層３、及び薄膜トランジスタ表示板１００と色フィルター表示板２００を結合させる密封材３１０で構成される。液晶表示パネル４０は、映像が表示される表示領域（Ｄｓ）及び表示領域（Ｄｓ）の周辺に形成される周辺領域（Ｓｒ）に分けられる。
【００４５】
薄膜トランジスタ表示板１００は、第１ガラス基板１１１ａ上にＴＦＴ１１１ｂ及びＴＦＴ１１１ｂに連結された画素電極１１１ｃからなる単位画素がマトリックス状に複数形成されている基板である。一方、色フィルター表示板２００は第２ガラス基板１１３ａ上にＲ（Ｒｅｄ）、Ｇ（Ｇｒｅｅｎ）、Ｂ（Ｂｌｕｅ）色画素からなる色フィルター１１３ｂ、色画素の間に形成されたブラックマトリックス２２０及び色フィルター１１３ｂとブラックマトリックス２２０上に具備される共通電極１１３ｄが形成されている基板である。
【００４６】
一方、薄膜トランジスタ表示板１００の一側面には第１偏光板１２が張り付けられて、色フィルター表示板２００の一側面には第２偏光板２２が張り付けられる。具体的に、第１偏光板１２は表示領域（Ｄｓ）に配置されて、第１偏光板１２の一部は周辺領域（Ｓｒ）まで延びる。つまり、第１偏光板１２は表示領域（Ｄｓ）及び周辺領域（Ｓｒ）の一部分を含む第１領域に配置される。なお、薄膜トランジスタ表示板１００の一側面には遮光テープ５１が付着される。具体的に、遮光テープ５１は周辺領域（Ｓｒ）内に配置されて周辺領域（Ｓｒ）に入射する光を遮断する。ブラックマトリックス２２０は、密封材３１０を完全に硬化させるために密封材３１０の一部分のみをカバーする。従って、遮光テープ５１は、密封材３１０を通過して映像情報を含まない光が液晶表示装置４００の表示面に漏れることを防止するために周辺領域（Ｓｒ）に提供される光を予め遮断する。
【００４７】
ここで、遮光テープ５１の厚さは第１偏光板１２の厚さと同一であることが好ましい。遮光テープ５１が第１偏光板１２より薄かったり厚かったりすると、遮光テープ５１及び第１偏光板１２の下部に配置されるバックライトユニット３４０の複数の光学シート３４０にシート凹が生じて、液晶表示装置４００の表示品質及び組立品質が低下させる。また、第１偏光板１２と遮光テープ５１をオーバーラップさせて配置してもこのような問題が生ずるため、第１偏光板１２と遮光テープ５１を重ねないことが好ましい。
【００４８】
一方、ブラックマトリックス２２０と遮光テープ５１はバックライトユニット３４０側から観察すれば重なっている。このような構造を有することによって、遮光テープ５１は薄膜トランジスタ表示板１００の一側面に垂直状態で入射する垂直光だけでなく、一側面から所定角度に傾斜して入射する傾斜光も遮断できる。ここで、遮光テープ５１が配置される領域を第２領域と定義する。
【００４９】
工程上の誤差によって遮光テープ５１と第１偏光板１２との間には第３領域（ＴＡ）が形成される。第３領域（ＴＡ）を通過した光は液晶表示装置４００の表示面に漏れることがある。従って、第３領域（ＴＡ）に入射される光を遮断するために、保護シート３４９のエッジ領域には光を遮断するための遮光領域（ＤＡ）が形成されて、この遮光領域（ＤＡ）は保護シート３４９のエッジ領域を黒色で印刷処理して形成される。また、遮光領域（ＤＡ）の第１幅（ｗ１）は第３領域（ＴＡ）の第２幅（ｗ２）より広く形成されて、第３領域（ＴＡ）に垂直に入射される垂直光及び所定角度に傾斜して入射される傾斜光を遮断する。これで、液晶表示装置４００の表示面に光が漏れる光漏れ現象を防止することができる。
【００５０】
図１〜図６では、保護シート３４９に遮光領域（ＤＡ）が形成された構造のみを示しているが、遮光領域（ＤＡ）はプリズムシート３４８または拡散シート３４９にも形成できる。
【００５１】
図７は、本発明の第２参考例による液晶表示装置を示した断面図である。図７を参照すれば、本発明の第２実施例による液晶表示装置４００は、薄膜トランジスタ表示板１００と、色フィルター表示板２００と、薄膜トランジスタ表示板１００と色フィルター表示板２００との間に介在する液晶層３、及び薄膜トランジスタ表示板１００と色フィルター表示板２００を結合させる密封材３１０で構成される液晶表示パネル４０とを含む。液晶表示パネル４０は、映像が表示される表示領域（Ｄｓ）及び表示領域（Ｄｓ）の周辺に形成される周辺領域（Ｓｒ）に分けられる。
【００５２】
薄膜トランジスタ表示板１００は、第１ガラス基板１１０上にＴＦＴ６０及びＴＦＴ６０に連結された画素電極１９０からなる単位画素が、マトリックス状に多数形成された基板である。一方、色フィルター表示板２００は、第２ガラス基板２１０上にＲ（Ｒｅｄ）、Ｇ（Ｇｒｅｅｎ）、Ｂ（Ｂｌｕｅ）色画素からなる色フィルター２３０、色画素の間に形成されたブラックマトリックス２２０及び色フィルター２３０とブラックマトリックス２２０上に具備される共通電極２７０が形成された基板である。一方、薄膜トランジスタ表示板１００の一側面には、第１偏光板１２が張り付けられて、色フィルター表示板２００の一側面には第２偏光板２２が張り付けられている。具体的に、第１偏光板１２は表示領域（Ｄｓ）のみでなく、周辺領域（Ｓｒ）まで含むように薄膜トランジスタ表示板１００の一側面に張り付けられる。
【００５３】
液晶表示装置４００は液晶表示パネル４０の後面に配置され、光を発生して液晶表示パネル４０に提供するためのバックライトユニット３４０をさらに含む。バックライトユニット３４０は、光を発生するランプユニット３４１、光を液晶表示パネル４０側にガイドするための導光板３４４、導光板の下部に備えられる反射板３４５及び導光板の上部に設置される複数の光学シート３４６を備えている。
【００５４】
複数の光学シート３４６は、拡散シート３４７とプリズムシート３４８及び保護シート３４９で構成される。拡散シート３４７は、射出面から射出した光が均一な輝度分布を有するように拡散して、液晶表示装置４００の視野角を拡張させる。プリズムシート３４８は、拡散シート３４７によって拡散した光を集光して液晶表示装置４００の正面輝度を増加させる。
【００５５】
一方、保護シート３４９はプリズムシート３４８の上部に備えられて、プリズム形状が外部衝撃によって変形することを防止する。また、周辺領域（Ｓｒ）に対応する保護シート３４９のエッジ領域は、黒色で印刷処理されて液晶表示パネル４０の周辺領域（Ｓｒ）に入射される光を遮断する遮光領域（ＤＡ）が形成される。
【００５６】
遮光領域（ＤＡ）は、保護シート３４９と一体に形成されるため、第１偏光板１２と別途遮光テープ５１を薄膜トランジスタ表示板１００の一側面に付着する時より工程上の誤差が少ない。従って、映像情報を含まない光が周辺領域（Ｓｒ）と表示領域（Ｄｓ）の境界部で漏れて発生する光漏れ現象を減少させることができる。
【００５７】
図７では、保護シート３４９に遮光領域（ＤＡ）が形成された構造のみを示しているが、遮光領域（ＤＡ）はプリズムシート３４７または拡散シート３４８にも形成できる。
【００５８】
次に、図８ａには本発明の第１実施例による液晶表示装置の概略的断面図が示されている。図８ａのように、本発明の第１実施例による液晶表示装置は第１及び第２基板１１０、２１０と、その間に注入されている液晶層３を含む。
【００５９】
第２基板２１０には、マトリックス状に形成されて画素領域を区画するブラックマトリックス２２０が形成されている。そして、第２基板２１０と所定間隔離隔して下部に第１基板１１０が配置されており、第１基板１１０には薄膜トランジスタを含んだ金属パターン５５が形成されている。第２及び第１基板２１０、１１０間の周縁には密封材３１０が形成されている。密封材３１０は第２及び第１基板２１０、１１０の間に注入されている液晶層３を密封して、第２及び第１基板２１０、１１０を互いに張り合わせる役割をする。
【００６０】
第１基板１１０に形成されている薄膜トランジスタや多数の配線は金属パターン５５で形成されており、このような金属パターン５５の一部は密封材３１０及びブラックマトリックス２２０と重なっている。このように金属パターン５５及びブラックマトリックス２２０と重なった密封材３１０には、液晶表示装置の製造工程で密封材３１０を硬化するために照射した紫外光が遮断される。この時この紫外光による密封材３１０の硬化は不完全なものである。これを防止するために、金属パターン５５は密封材３１０及びブラックマトリックス２２０と重なる重畳部（Ａ）に光透過手段５７を有しており、このような光透過手段５７は金属パターン５５に形成された開口部５７１とすることもできる。液晶表示装置の製造工程で開口部５７１を通じて紫外光線が通過することによって密封材３１０の完全な硬化が行われる。
【００６１】
図８ａ及び図８ｂに示されるように、金属パターン５５に形成された開口部５７１は複数個の長いスリット状で構成されていて、このような複数個の長いスリット状の光透過手段５７は、第１基板の金属パターン５５の２０％以上を占めることが好ましい。これは金属パターン５５の２０％以上の面積に紫外光が通過できるように光透過手段５７が形成されることで、密封材３１０の好ましい硬化が可能になるためである。
【００６２】
一方、金属パターン５５は、第２及び第１基板２１０、１１０の周縁に沿って４面全部に形成されることが好ましい。これは金属パターン５５が形成されている部分と金属パターン５５が形成されていない部分との間に、第２及び第１基板２１０、１１０の間の間隔であるセルギャップ（ｄ）の差が生ずることがあるためである。従って、光透過手段５７が形成された金属パターン５５が第２及び第１基板２１０、１１０の周縁に沿って４面全部に形成すれば、紫外光による密封材３１０の硬化が完全なものになり、セルギャップ（ｄ）を均一に維持できる。
【００６３】
しかし、第１基板１１０の金属パターン５５に開口部５７１のような光透過手段５７が形成される場合は、金属パターン５５の抵抗が増加する。これを防止するために金属パターン５５を低抵抗物質で形成したり、金属パターン５５の厚さを厚く形成することが好ましい。
【００６４】
このように第１基板に形成されて密封材３１０及びブラックマトリックス２２０と重なる金属パターン５５としてはいろんなものがある。以下、これを詳細に説明する。
【００６５】
図９ａ〜図９ｃには、本発明の第１実施例による液晶表示装置の金属パターンの概略的な配置図が示されている。図９ａ〜図９ｃに示すように、本発明の第１実施例による液晶表示装置は、電気的な信号の印加を受けて光線透過の要否を決定する液晶が具備された薄膜トランジスタ表示板１００を備えている。薄膜トランジスタ表示板１００には、画面を表示するための画像信号を伝達するデータ配線１７０と、液晶パネルの薄膜トランジスタのゲート素子を駆動するためのゲート信号を伝達するゲート配線１２０が形成されている。これらのデータ配線１７０及びゲート配線１２０を経て画像信号が液晶パネルの薄膜トランジスタに印加されて、薄膜トランジスタ表示板１００の液晶は電気的な信号を受けることになる。これでバックライトアセンブリーからの光線を調整して画面を構成する。
【００６６】
このような液晶表示装置において、薄膜トランジスタ表示板１００と印刷回路基板４５０、５５０との間に存在するソース及びゲート駆動回路部４０１、５０１を、薄膜トランジスタ表示板１００及び印刷回路基板４５０、５５０と連結する方法としては、ＣＯＧ（Ｃｈｉｐ-Ｏｎ  Ｇｌａｓｓ）実装方式とＴＡＢ（Ｔａｐｅ  Ａｕｔｏｍａｔｅｄ  Ｂｏｎｄｉｎｇ）実装方式に大きく分けられる。ＣＯＧ実装方式によれば、薄膜トランジスタ表示板１００に半導体パッケージ形態の駆動回路を直接実装して、薄膜トランジスタ表示板１００に電気的信号を伝達するものである。そして、ＴＡＢ実装方法によれば、駆動回路が搭載されたテープキャリアパッケージを使用して印刷回路基板４５０、５５０と薄膜トランジスタ表示板１００を直接連結するものである。テープキャリアパッケージの一端は薄膜トランジスタ表示板１００に接続し、他の端は印刷回路基板４５０、５５０に接続する。この時、テープキャリアパッケージの入力配線と印刷回路基板の出力パッドはろう付けまたは異方性導電フィルムを利用して接続する。また、テープキャリアパッケージをそのまま適用する代わりに屈曲柔軟性の高い軟性印刷回路基板（ＦＰＣ）が用いられる。
【００６７】
このような液晶表示装置は画面が大きくなるにつれて重量及び体積が増加するので、大画面を実現しながら画面以外の部分の占める面積と体積を減らすために薄膜トランジスタ表示板１００の外部に形成される多数の配線を液晶パネルの内部に形成することによって、液晶表示装置の大きさを小さくするモンブラン構造が導入されている。
【００６８】
モンブラン構造の例として、第一に、図９ａのように、ソース印刷回路基板５５０からゲート印刷回路基板４５０に信号を伝達するコネクター４７０を直接薄膜トランジスタ表示板１００内に位置させることによって、液晶表示装置の大きさを小さくする第１のモンブラン構造がある。第二に、図９ｂのように、ゲート印刷回路基板４５０を除去して、ゲート印刷回路基板４５０の信号線４０３及び複数個のゲート駆動回路４１０が直接薄膜トランジスタ表示板１００内に位置させ、ゲート駆動回路４１０間の信号線４０３を直接薄膜トランジスタ表示板１００内に位置させることによって液晶表示装置の大きさを小さくする第２のモンブラン構造がある。第三に、図９ｃのように、ソース駆動回路部５０１のそれぞれのソース駆動回路５１０の間の信号線５０３が直接薄膜トランジスタ表示板１００内に位置することによって液晶表示装置の大きさを小さくする第３のモンブラン構造がある。
【００６９】
つまり、図８ａ及び図９ａに示すように、第１基板の金属パターン５５にはソース印刷回路基板５５０からゲート印刷回路基板４５０に信号を伝達するコネクター４７０が薄膜トランジスタ表示板１００に直接形成されている第１のモンブラン構造がある。コネクター４７０は、密封材３１０及びブラックマトリックス２２０と重なっている重畳部（Ａ）に形成されている。
【００７０】
さらに、図８ａ及び図９ｂに示すように、第１基板の金属パターン５５には、ゲート印刷回路基板４５０の信号線４０３及び複数個のゲート駆動回路４１０が直接薄膜トランジスタ表示板１００内に位置し、ゲート駆動回路４１０間の信号線４０３を直接薄膜トランジスタ表示板１００内に位置させることによって液晶表示装置の大きさを小さくする第２のモンブラン構造がある。この時、ゲート印刷回路基板４５０の信号線４０３やゲート駆動回路４１０間の信号線４０３は、密封材３１０及びブラックマトリックス２２０と重なっている重畳部（Ａ）に形成されている。
【００７１】
そして、図８ａ及び図９ｃに示すように、第１基板の金属パターン５５には、ソース駆動回路部５０１のソース駆動回路５１０の間の信号線５０３が薄膜トランジスタ表示板１００に直接形成されている第３のモンブラン構造がある。この時、ソース駆動回路５１０の間の信号線５０３が密封材３１０及びブラックマトリックス２２０と重なっている重畳部（Ａ）に形成されている。
【００７２】
このように、コネクター４７０、ゲート印刷回路基板４５０の信号線４０３、ゲート駆動回路４１０間の信号線４０３、ソース駆動回路部５０１のソース駆動回路５１０の間の信号線５０３は、密封材３１０及びブラックマトリックス２２０と重なり得る。この場合、液晶表示装置の製造工程中の硬化段階において、第２基板２１０ではブラックマトリックス２２０により紫外光が遮断され、第１基板１１０ではコネクター４７０、ゲート印刷回路基板４５０の信号線４０３、ゲート駆動回路４１０間の信号線４０３、ソース駆動回路部５０１のソース駆動回路５１０の間の信号線５０３によって紫外光が遮断されて、密封材３１０に紫外光が照射されない。従って、コネクター４７０、ゲート印刷回路基板４５０の信号線４０３、ゲート駆動回路４１０間の信号線４０３、ソース駆動回路部５０１のソース駆動回路５１０の間の信号線５０３のうち、ブラックマトリックス２２０及び密封材３１０と重なる重畳部（Ａ）には開口部５７１を形成することによって、紫外光が透過して密封材３１０が完全に硬化できるようにする。
【００７３】
一方、図１０には、本発明の第１実施例による液晶表示装置の一部配置図が示されており、前記のモンブラン構造の金属パターンが密封材３１０の外部に形成されているものを示している。図１０のように、薄膜トランジスタ表示板１００に形成された第１モンブラン構造乃至第３モンブラン構造の金属パターン５５は、密封材３１０の外部に位置できる。この場合は、コネクター４７０、ゲート印刷回路基板４５０の信号線４０３、ゲート駆動回路４１０間の信号線４０３、ソース駆動回路部５０１のソース駆動回路５１０の間の信号線５０３が密封材３１０と重ならないため、第１基板１１０における紫外光線を遮断する金属パターン５５が減ることによって密封材３１０の完全な硬化が可能になる。一方、第１基板１１０に形成された金属パターン５５には維持電極配線もある。
【００７４】
図１１には、薄膜トランジスタ表示板１００の第１基板１１０に形成された維持電極配線の概略的な配置図が示されている。つまり、左側端部に形成されたゲートパッド１２５に連結されたゲート線１２１の間に、ゲート線１２１と平行に維持電極線１３１が形成されている。そして、このような維持電極線１３１は薄膜トランジスタ表示板１００の左右に形成された維持電極連結橋９１と連結される。このような維持電極連結橋９１は上段左右に形成された維持パッド１３５に連結されている。従って、薄膜トランジスタ表示板１００の左右側の周縁部分で維持電極連結橋９１は密封材３１０と重なる。この場合、第２基板２１０ではブラックマトリックス２２０により紫外光が遮断され、第１基板１１０では維持電極連結橋９１によって紫外光が遮断されて、密封材３１０に紫外光が照射されない。従って、維持電極連結橋９１において、ブラックマトリックス２２０及び密封材３１０と重なる重畳部（Ａ）には開口部５７１を形成して、紫外光を透過させて密封材３１０を完全に硬化できるようにする。
【００７５】
そして、第１基板１１０に形成された金属パターン５５には共通電極短絡部がある。これは第２基板２１０に形成されている共通電極との連結のために第１基板１１０に形成されている配線であり、共通電極短絡部も密封材３１０と重なり得る。この場合、第２基板２１０ではブラックマトリックス２２０により紫外光が遮断され、第１基板１１０では共通電極短絡部によって紫外光が遮断されて、密封材３１０に紫外光が照射されない。従って、共通電極短絡部において、ブラックマトリックス２２０及び密封材３１０と重なる重畳部（Ａ）に開口部５７１を形成して、紫外光を透過させて密封材３１０を完全に硬化できるようにする。
【００７６】
一方、第１基板１１０に形成されている金属パターン５５における共通電極短絡部は、ブラックマトリックス２２０の外部に位置することもできる。この場合、共通電極短絡部が密封材３１０と重ならないため、第１基板１１０で紫外光線を遮断する金属パターン５５が減ることによって密封材３１０を完全に硬化させることが可能になる。
【００７７】
図１２〜図１４ａには、本発明の第１実施例による液晶表示装置の製造方法が示されている。図１２のように、まず、第２基板２１０にマトリックス状のブラックマトリックス２２０を形成する。そして、ブラックマトリックス２２０により区画される画素領域に色フィルターを塗布する。次に、第１基板１１０に光透過手段５７を有する金属パターン５５を形成する。このような光透過手段５７は金属パターン５５に形成された開口部である。
【００７８】
図１３に示されるように、金属パターン５５の光透過手段５７と重なる密封材３１０を形成する。このような密封材３１０はブラックマトリックス２２０と一部が重なるように形成する。次に、密封材３１０の内部に液晶３を塗布して、液晶３が塗布された第１基板１１０と第２基板２１０を張り合わせる。
【００７９】
図１４ａ〜図１４ｃに示されるように、互いに張り合わせられた第２基板２１０と第１基板１１０との間の密封材３１０を硬化して、第２基板２１０と第１基板１１０を結合させる硬化段階を実施する。図１４ａのように、第１の硬化方法は、第１基板１１０の底面に形成された反射板５９を利用して露光することで密封材３１０を硬化する方法である。つまり、ブラックマトリックス２２０により遮断されない密封材３１０の上部には、密封材３１０の上部で紫外光を直接露光し、ブラックマトリックス２２０により遮断されない密封材３１０の重畳部（Ａ）には、反射板５９を利用して紫外光を露光する。この場合、反射板５９によって反射された紫外光は、金属パターン５５の光透過手段５７を通過して密封材３１０に照射される。これで密封材３１０が完全に硬化される。
【００８０】
また、図１４ｂのように、第２の硬化方法は、第２及び第１基板２１０、１１０の外側で各々露光することによって密封材３１０を硬化する方法である。つまり、ブラックマトリックス２２０により遮断されない密封材３１０の上部には、密封材３１０の上部で紫外光を直接露光し、ブラックマトリックス２２０により遮断されない密封材３１０の重畳部（Ａ）には、第１基板１１０の底面で紫外光を露光する。この場合、第１基板１１０の底面で照射された紫外光は金属パターン５５の光透過手段５７を通過して密封材３１０に照射される。これで密封材３１０が完全に硬化される。
【００８１】
また、図１４ｃのように、第３の硬化方法は、第１基板１１０の底面が上を向けるようにして紫外光を第１基板１１０の底面に直接露光することによって密封材３１０を硬化する方法である。
【００８２】
図１５に、本発明の第２実施例による液晶表示装置の金属パターンに形成された開口部の形状が示されている。前記示されたものと同じ符号を付したものは同じものを示す。図１５に示すように、金属パターン５５に形成された開口部５７１は複数個の格子形状とすることができる。また、不定形の開口形状にすることもできる。
【００８３】
図１６に、本発明の第２実施例による液晶表示装置の金属パターンに透明導電膜が形成された様子が示されている。前記示されたものと同じ符号を付したものは同じものを示す。図１６に示すように、金属パターン５５が密封材３１０及びブラックマトリックス２２０と重なる重畳部（Ａ）に形成された光透過手段５７は、透明導電膜５７２からも形成できる。
【００８４】
図１７には、本発明の第３実施例による液晶表示装置の導電層に形成された開口部の形状が示されている。前記示したものと同じ符号を付したものは同じものを示す。図８ａ及び図１７に示すように、本発明の第３実施例による液晶表示装置は、上部及び下部基板２１０、１１０とその間に注入されている液晶層３を含む。上部基板２１０にはマトリックス状に形成されて画素領域を区画するブラックマトリックス２２０が形成されている。そして、上部基板２１０と所定間隔離隔された下部に下部基板１１０が配置されており、下部基板１１０には薄膜トランジスタを含む導電層５５が金属パターンを示している。上部及び下部基板２１０、１１０の間の周縁には密封材３１０が形成されている。密封材３１０は、両基板２１０、１１０の間に注入されている液晶層３を密封して、両基板２１０、１１０を互いに結合する役目をする。
【００８５】
下部基板１１０に形成されている薄膜トランジスタや多数の配線を構成する導電層５５の一部は、密封材３１０及びブラックマトリックス２２０と重なっている。このように、導電層５５及びブラックマトリックス２２０と重なる密封材３１０によって、液晶表示装置の製造工程において密封材３１０を硬化するために照射された紫外光が遮断される。この場合は、紫外光による密封材３１０の硬化が不完全なものである。これを防止するために、導電層５５は密封材３１０及びブラックマトリックス２２０と重なる重畳部（Ａ）に開口部５７を有する。従って、液晶表示装置の製造工程において開口部５７１を通じて紫外光線が通過されることで密封材３１０の完全な硬化が行われる。
【００８６】
しかし、下部基板１１０の導電層５５に開口部５７１が形成された場合には導電層５５の抵抗が増加する。従って、このような導電層５５の抵抗の増加を最少限にしながら密封材３１０を完全に硬化させるために、図１７のように、開口部５７１を長いスリット状に形成する。つまり、開口部５７１は信号伝達方向である導電層５５の長さ方向に沿って形成されている。そして、開口部の間隔は導電層の間隔と同一であるか、導電層のそれより大きく形成することが好ましい。こうすることで、紫外光が充分に透過されて密封材を硬化できるためである。
【００８７】
ここで、導電層５５は、複数個の長いスリット状の開口部５７１によって複数個の細長い配線形状となっている。信号伝達方向に沿って形成されている開口部５７１を有する導電層５５は、図１８のように開口部５７１が形成されていない従来の導電層５５よりは抵抗が大きいが、図１９のように開口部５７１が信号伝達方向に垂直に形成されている導電層５５よりは小さい。つまり、導電層５５の抵抗は電流が伝達される方向に垂直な単位面積に反比例するので、図１９のように、開口部５７１が信号伝達方向に垂直に形成されている導電層５５では両端部の二つの細い配線の単位面積のみが抵抗に係わり、導電層５５の総抵抗は非常に大きくなる。
【００８８】
例えば、信号伝達方向に沿って形成されている開口部５７１を有する導電層５５において、開口部５７１の間隔が導電層５５の間隔と同一な場合は、従来の開口部を有していない導電層５５に比して電流が伝達される単位面積が１/２に減少するため、導電層５５の抵抗は約２倍に増加する。しかし、開口部５７１が信号伝達方向に垂直に形成されている導電層５５では、両端部の二つの細い配線の単位面積が導電層５５の総単位面積の１/１０であるとすれば、従来の開口部を有していない導電層５５に比べて導電層５５の抵抗は約１０倍に増加する。
【００８９】
従って、導電層５５に信号伝達方向に沿って開口部５７１を形成すれば、抵抗の増加を最少化して、開口部５７１を通じて密封材を完全に硬化させることもできる。そして、開口部５７１が形成されている導電層５５を互いに連結する連結部５５ａが導電層５５を構成する物質と同一の物質で形成されることが好ましい。これは、複数個の長い配線形状の導電層のうち長い配線の一つが切れても隣接した配線を通じて信号伝達ができるようにすることで、隣接配線が補助配線としての役目をするようにして、長い配線の短絡による抵抗の増加を防止するためである。一方、導電層５５に開口部５７１が形成されて導電層５５の抵抗が増加することを防止するために導電層５５を低抵抗物質で形成したり、導電層５５の厚さを厚く形成することも可能である。
【００９０】
なお、図２０は、本発明の第３実施例による液晶表示装置の一部を示す配置図であり、前述したモンブラン構造の導電層５５が密封材３１０と重なっていたり、密封材３１０の外部に形成されていることを示している。図２０のように、モンブラン構造の導電層５５は、密封材３１０及びブラックマトリックス２２０と重なる重畳部に開口部５７１を有する。この場合、コネクター４７０、ゲート印刷回路基板４５０の信号線４０３、ゲート駆動回路４１０間の信号線４０３、ソース駆動回路部５０１のソース駆動回路５１０の間の信号線５０３が密封材と重なっており、従って、液晶表示装置の製造工程で開口部５７１を通じて紫外光線が通過することによって密封材３１０の完全な硬化が行われる。
【００９１】
一方、薄膜トランジスタ表示板１００に形成された第１のモンブラン構造〜第３のモンブラン構造の導電層５５は密封材３１０の外部に位置できる。この場合は、コネクター４７０、ゲート印刷回路基板４５０の信号線４０３、ゲート駆動回路４１０間の信号線４０３、ソース駆動回路部５０１のソース駆動回路５１０の間の信号線５０３が密封材３１０と重ならないため、下部基板１１０で紫外光線を遮断する導電層５５が減ることによって密封材３１０の完全な硬化が可能になる。
【００９２】
前記図面と発明の詳細な説明は単に本発明の例示的なものであり、本技術分野の通常の知識を有する者であればこれによる様々な変形及び均等な他の実施例が可能であることが理解できるであろう。よって、本発明の真の技術的保護範囲は添付された特許請求の範囲の技術的思想によって決まらなければならない。
【符号の説明】
【００９３】
３    液晶
１２    第１偏光板
５１    遮光テープ
５７    光透過手段
１１０    第１基板
２１０    第２基板
２２０    ブラックマトリックス
３１０    密封材
３４９    保護シート
５７１    開口部
５７２    透明導電膜
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５ａ】
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【図５ｂ】
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【図５ｃ】
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【図５ｄ】
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【図６】
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【図７】
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【図８ａ】
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【図８ｂ】
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【図９ａ】
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【図９ｂ】
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【図９ｃ】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４ａ】
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【図１４ｂ】
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【図１４ｃ】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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