(57)【要約】【課題】反射面の形成のために複雑な制御を行う必要がなく、比較的簡易に形成できる構造を有し、投射光を適切に反射させるとともに外光の反射を抑えることができるスクリーン及びスクリーンの製造方法を提供すること。【解決手段】スクリーン１０は、第１成膜工程において、反射膜ＲＭが、多数の立体部２ａの全面に亘って形成されるので、比較的簡単に製造できながらも反射特性が高いものとなる。また、第２成膜工程において、投射光ＰＬの入射と外光ＯＬの入射とを考慮して光吸収膜ＡＭを形成しているので、効率的な投射光ＰＬの反射を行うとともに、反射膜ＲＭにおける外光ＯＬの反射を抑制するものにもなっている。光吸収膜ＡＭの形成では、膜厚を均一にする必要も真空を引く必要もないので、簡易な装置で成膜が行える。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
スクリーン基板の前面側に２次元的に配置される複数の立体部と、
前記スクリーン基板のうち、少なくとも前記複数の立体部の表面に入射する投射光に対応する領域上に形成される反射膜と、
前記複数の立体部の表面に入射する外光に対応する領域上に形成される光吸収膜と
を備え、
前記光吸収膜の少なくとも一部は、前記反射膜の表面側に前記反射膜の一部に重畳して形成されている、スクリーン。
【請求項２】
前記反射膜は、前記スクリーン基板のうち、前記複数の立体部の全表面に形成され、前記光吸収膜は、当該反射膜の表面側に形成され前記反射膜を部分的に覆う、請求項１記載のスクリーン。
【請求項３】
前記光吸収膜は、少なくとも可視光波長を吸収する黒色顔料を含む、請求項１及び請求項２のいずれか一項記載のスクリーン。
【請求項４】
前記反射膜は、金属膜であり、当該金属膜と前記光吸収膜との間に形成され当該金属膜を被覆する被覆膜をさらに備える、請求項１から請求項３までのいずれか一項記載のスクリーン。
【請求項５】
前記被覆膜は、前記金属膜を保護する物質により形成される金属保護膜及び前記金属膜による反射の作用を促進する物質により形成される増反射膜のいずれかである、請求項４記載のスクリーン。
【請求項６】
前記被覆膜は、前記金属膜と同一の領域に形成される、請求項４及び請求項５のいずれか一項記載のスクリーン。
【請求項７】
前記金属膜は、アルミニウム及び銀のいずれかである、請求項４から請求項６までのいずれか一項記載のスクリーン。
【請求項８】
前記反射膜は、誘電体多層膜である、請求項１から請求項７までのいずれか一項記載のスクリーン。
【請求項９】
前記反射膜と前記スクリーン基板との間に形成される付着力補強用の下地膜をさらに備える、請求項１から請求項８までのいずれか一項記載のスクリーン。
【請求項１０】
スクリーン基板の前面側に２次元的に配置される複数の立体部を有するスクリーンの製造方法であって、
前記スクリーン基板のうち、少なくとも前記複数の立体部の表面に入射する投射光に対応する領域上に対して、反射膜となる第１成膜物質を入射させて成膜を行う第１成膜工程と、
前記スクリーン基板に対して所定の入射角度で光吸収膜となる第２成膜物質を入射させることにより、前記反射膜の表面側に前記反射膜の一部に重畳させるとともに前記反射膜の残りの部分を露出させるように当該光吸収膜の成膜を行う第２成膜工程と
を有するスクリーンの製造方法。
【請求項１１】
前記第２成膜工程において、投射光の入射方向とは異なる入射方向から前記第２成膜物質を入射させて塗布することにより、前記光吸収膜を前記複数の立体部の表面に入射する外光に対応する領域上に形成させる、請求項１０記載のスクリーンの製造方法。
【請求項１２】
前記第２成膜工程において、前記第２成膜物質は、投射光の入射方向と反対側の方向から塗布される、請求項１１記載のスクリーンの製造方法。
【請求項１３】
前記第１成膜工程において、前記反射膜は、前記スクリーン基板のうち、前記複数の立体部の全表面に成膜され、前記第２成膜工程において、前記光吸収膜は、当該反射膜の表面上に成膜される、請求項１０から請求項１２までのいずれか一項記載のスクリーンの製造方法。
【請求項１４】
前記第２成膜工程において、少なくとも可視光波長を吸収する黒色顔料を含む前記第２成膜物質を塗布する、請求項１０から請求項１２までのいずれか一項記載のスクリーンの製造方法。
【請求項１５】
前記反射膜は、金属膜であり、前記第１成膜工程による当該金属膜の成膜後、前記第２成膜工程による前記光吸収膜の成膜前に、当該金属膜を被覆する被覆膜となる第３成膜物質を入射させて成膜を行う被覆膜形成工程をさらに有する、請求項１０から請求項１４までのいずれか一項記載のスクリーンの製造方法。
【請求項１６】
前記第１成膜工程による前記反射膜の成膜前に、前記スクリーン基板のうち、少なくとも前記反射膜に対応する領域上に対して下地膜となる第４成膜物質を入射させて成膜を行う下地膜形成工程をさらに備える、請求項１０から請求項１５までのいずれか一項記載のスクリーン。
【請求項１７】
前記第１成膜工程において、前記第１成膜物質の成膜方法は、真空蒸着法、イオンアシスト法、スパッタ法のいずれかである、請求項１０から請求項１６までのいずれか一項記載のスクリーンの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、前方のプロジェクタ等の投影装置からの投射光を反射して投影画像を映し出すスクリーン及びスクリーンの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、投影画像を反射させる反射スクリーンとして、下方からの斜め投射に対して正面側で観察可能にするものであって、スクリーン基板上に多数の凸状の単位形状部を２次元的に配置させるものが知られている（特許文献１参照）。このスクリーンでは、各単位形状部の表面にプロジェクタ等の投影機からの投影位置に応じて部分的に投射光の反射面を形成しており、反射面の形成されていない領域に入射する上方からの外光を遮断することができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００６−２１５１６２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、下方からの斜め投射に応じて、スクリーン基板上の所望の位置に反射面を部分的に設けるには、当該反射面となる膜の形成において、スクリーン基板に対して斜方から成膜物質を射出させるといった高度な制御が必要となる。また、反射面に所望の反射特性をもたせるために、反射面となる一層以上の膜の厚さを精密に調整するといった制御が必要となる可能性もある。
【０００５】
また、当該反射面以外の部分から入射する外光等の不要な成分を処理するために、スクリーン基板の素材として、光透過性や光吸収性を有するものを用いる必要がある。例えば、スクリーン基板に光透過性の素材を用いる場合、スクリーン基板を透過した光を観察者側に戻ることのないように吸収させるため、さらに裏面全体に黒塗りを行う等の処理が必要となる。
【０００６】
そこで、本発明は、反射面の形成のために複雑な制御を行う必要がなく、比較的簡易に形成できる構造を有し、投射光を適切に反射させるとともに外光の反射を抑えることができるスクリーン及びスクリーンの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するため、本発明に係るスクリーンは、（ａ）スクリーン基板の前面側に２次元的に配置される複数の立体部と、（ｂ）スクリーン基板のうち、少なくとも複数の立体部の表面に入射する投射光に対応する領域上に形成される反射膜と、（ｃ）複数の立体部の表面に入射する外光に対応する領域上に形成される光吸収膜とを備え、（ｄ）光吸収膜の少なくとも一部が、反射膜の表面側に反射膜の一部に重畳して形成されている。ここで、複数の立体部表面に入射する投射光に対応する領域は、各立体部の部分領域となっている。
【０００８】
上記スクリーンでは、反射膜が少なくとも投射光に対応する領域上に形成されることで、投射光を適切に反射させることができ、かつ、光吸収膜が外光に対応する領域上に形成されるので不要な成分である外光の反射を抑制することができる。これにより、コントラストがより改善され、画像品質が安定した投影を行い得るものとなる。この際、特に、光吸収膜の少なくとも一部が、反射膜の表面側に反射膜の一部に重畳して形成されているので、反射膜と光吸収膜との境界は、簡易な塗布等により形成可能な光吸収膜の外縁によって画定される。よって、当該スクリーンについて、反射面の形成のために複雑な制御を行う必要がなく、比較的簡易に形成できる構造とすることができる。また、スクリーン基板として遮光性を考慮することなく種々の素材を用いることが可能である。
【０００９】
また、本発明の具体的な態様によれば、（ａ）反射膜が、スクリーン基板のうち、複数の立体部の全表面に形成され、（ｂ）光吸収膜が、当該反射膜の表面側に形成され反射膜を部分的に覆う。この場合、比較的簡易に均一な膜厚で反射膜を効率的に形成させることが可能となる。また、当該反射膜の表面側において、光吸収膜の形成されていない部分は、反射膜の露出した状態となることで、投射光を反射する反射面として機能する。
【００１０】
また、本発明の別の態様によれば、光吸収膜が、少なくとも可視光波長を吸収する黒色顔料を含む。この場合、光吸収膜中の黒色顔料により外光中の可視光成分を吸収するので、当該成分が観察者のいる側に目障りな外光が反射されて投影画像に影響を及ぼすことを抑制できる。
【００１１】
また、本発明の別の態様によれば、反射膜が、金属膜であり、当該金属膜と光吸収膜との間に形成され当該金属膜を被覆する被覆膜をさらに備える。この場合、被覆膜により、例えば金属膜が剥がれたり酸化したりしないように保護することや、金属膜の反射作用を補強することが可能となる。
【００１２】
また、本発明の別の態様によれば、被覆膜が、金属膜を保護する物質により形成される金属保護膜及び金属膜による反射の作用を促進する物質により形成される増反射膜のいずれかである。この場合、被覆膜を金属保護膜とすれば金属膜が剥がれたり酸化したりしないように保護することが可能となり、被覆膜を増反射膜とすれば金属膜の反射作用を補強することが可能となる。
【００１３】
また、本発明の別の態様によれば、被覆膜が、金属膜と同一の領域に形成される。この場合、被覆膜を必要とする領域に無駄なく形成させることができる。
【００１４】
また、本発明の別の態様によれば、金属膜が、アルミニウム及び銀のいずれかである。この場合、種々の方法で反射特性のよい反射膜を形成することができる。
【００１５】
また、本発明の別の態様によれば、反射膜が、誘電体多層膜である。この場合、反射膜に十分な強度を持たせることができ、例えば被覆膜等を用いず、反射面として機能する部分を露出させることが可能である。
【００１６】
また、本発明の別の態様によれば、反射膜とスクリーン基板との間に形成される付着力補強用の下地膜をさらに備える。この場合、スクリーン基板に対する反射膜の付着強度を高めることができ、反射膜を意図通りの箇所に形成することができ、その耐久性を高めることができる。
【００１７】
上記課題を解決するため、本発明に係るスクリーンの製造方法は、（ａ）スクリーン基板の前面側に２次元的に配置される複数の立体部を有するスクリーンの製造方法であって、（ｂ）スクリーン基板のうち、少なくとも複数の立体部の表面に入射する投射光に対応する領域上に対して、反射膜となる第１成膜物質を入射させて成膜を行う第１成膜工程と、（ｃ）スクリーン基板に対して所定の入射角度で光吸収膜となる第２成膜物質を入射させることにより、反射膜の表面側に反射膜の一部に重畳させるとともに反射膜の残りの部分を露出させるように当該光吸収膜の成膜を行う第２成膜工程とを有する。
【００１８】
上記スクリーンの製造方法では、第１成膜工程において、投射光に対応する領域上に対して反射膜を形成させ、第２成膜工程において、反射膜の表面側に反射膜の一部に重畳させるとともに反射膜の残りの部分を露出させるように光吸収膜を形成させている。この場合、スクリーンの製造において、反射膜と光吸収膜との境界は、簡易な塗布等により形成可能な光吸収膜の外縁によって画定される。よって、反射面の形成のために複雑な制御を行う必要がない。また、製造されるスクリーンは、比較的簡易に形成できる構造でありながらも、投射光を適切に反射させるとともに外光の反射を抑えることができ、コントラストがより改善され、画像品質が安定した投影を行い得るものとなる。また、スクリーンの製造において、スクリーン基板として種々の素材を用いることが可能である。
【００１９】
また、本発明の具体的な態様によれば、第２成膜工程において、投射光の入射方向とは異なる入射方向から第２成膜物質を入射させて塗布することにより、光吸収膜を複数の立体部の表面に入射する外光に対応する領域上に形成させる。これにより、第２成膜物質により形成される光吸収膜が投射光の反射を妨げること回避しつつ、外光に対応する適切な領域に光吸収膜を形成させることができるとともに、反射面の領域と光吸収を行う領域とを画定することができる。
【００２０】
また、本発明の別の態様によれば、第２成膜工程において、第２成膜物質が、投射光の入射方向と反対側の方向から塗布される。ここで、投射光の入射方向と反対側の方向を規定するために、まず、スクリーン表面を巨視的に平面であると捉えた仮想的な平面をスクリーン面と呼ぶものとする。さらに、このスクリーン面に垂直な平面であり、かつ、ある方向からスクリーン面に入射する投射光の光路をスクリーン面へ正射影した線分にも垂直であって、当該投射光のスクリーン平面上の入射点を含む平面を境界面と呼ぶものとする。この場合において、投射光の入射方向と反対側の方向とは、当該境界面を境として分けた２つの領域のうち、当該投射光を含まない領域側から当該境界面側に向かう方向であって、当該投射光をスクリーン面へ正射影した成分とは逆方向の成分を含む方向を言う。一般に、室内におけるプロジェクタ等の画像投射において、室内の天井等に設置された照明により、スクリーンの上方側から外光が入射する。これに対して、例えば室内の床側にプロジェクタ等を設置することにより、スクリーンの下方側から投射光が入射するようにする。このような場合に、第２成膜物質が、投射光の入射方向と反対側の方向即ち上方から塗布されていることで、当該スクリーンは、下方から入射する投射光を効率よく反射するとともに、上方から即ち投射光とは反対側から入射する外光を効率よく吸収することができる。
【００２１】
また、本発明の別の態様によれば、（ａ）第１成膜工程において、反射膜が、スクリーン基板のうち、複数の立体部の全表面に成膜され、（ｂ）第２成膜工程において、光吸収膜が、当該反射膜の表面上に成膜される。この場合、比較的簡易に均一な膜厚で反射膜を形成することが可能となる。また、当該反射膜の表面側において、光吸収膜の形成されていない部分が反射膜の露出した状態となり、このような露出部分は、投射光を反射する反射面として機能する。
【００２２】
また、本発明の別の態様によれば、第２成膜工程において、少なくとも可視光波長を吸収する黒色顔料を含む第２成膜物質を塗布する。この場合、第２成膜物質から形成される光吸収膜は、黒色顔料により外光中の可視光成分を吸収し、当該成分が観察者のいる側に反射されて投影画像に影響を及ぼすことを抑制できる。また、塗布により成膜を行うので、比較的簡易に光吸収膜を形成することができる。
【００２３】
また、本発明の別の態様によれば、反射膜が、金属膜であり、第１成膜工程による当該金属膜の成膜後、第２成膜工程による前記光吸収膜の成膜前に、当該金属膜を被覆する被覆膜となる第３成膜物質を入射させて成膜を行う被覆膜形成工程をさらに有する。
【００２４】
また、本発明の別の態様によれば、第１成膜工程による反射膜の成膜前に、スクリーン基板のうち、少なくとも反射膜に対応する領域上に対して下地膜となる第４成膜物質を入射させて成膜を行う下地膜形成工程をさらに備える。この場合、下地膜によってスクリーン基板に対する反射膜の付着強度を高めることができ、反射膜を意図通りの箇所に形成することができ、その耐久性を高めることができる。
【００２５】
また、本発明の別の態様によれば、第１成膜工程において、第１成膜物質の成膜方法が、真空蒸着法、イオンアシスト法、スパッタ法のいずれかである。この場合、良好な反射特性を有する反射膜を効率よく所望の状態で形成させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】第１実施形態に係るスクリーンを用いた投射システムを示す図である。
【図２】スクリーンの全体的な使用状態を説明するための模式図である。
【図３】スクリーンの構造について説明するための側断面図である。
【図４】（Ａ）〜（Ｃ）は、スクリーンの表面部の製造工程について説明するための側断面図である。
【図５】（Ａ）、（Ｂ）は、それぞれ反射膜及び被覆膜の成膜を行うための製造装置の一例について説明する側断面図である。
【図６】（Ａ）、（Ｂ）は、それぞれ光吸収膜の成膜を行うための製造装置の一例について説明するための模式的な図である。
【図７】スクリーンの変形例について説明するための側断面図である。
【図８】第２実施形態に係るスクリーンを説明するための側断面図である。
【図９】第３実施形態に係るスクリーンを説明するための側断面図である。
【図１０】反射膜及び被覆膜の成膜を行うための製造装置の側断面図である。
【図１１】第４実施形態に係るスクリーンを説明するための側断面図である。
【図１２】（Ａ）〜（Ｃ）は、スクリーンの表面部の製造工程について説明するための側断面図である。
【図１３】第５実施形態に係るスクリーンを説明するための側断面図である。
【図１４】（Ａ）〜（Ｄ）は、スクリーンの表面部の製造工程について説明するための側断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２７】
〔第１実施形態〕
以下、本発明の第１実施形態に係るスクリーンについて図面を参照しつつ説明する。図１は、本実施形態に係るスクリーンを用いた投射システムの一例を示す図である。また、図２は、本実施形態のスクリーンの全体的な使用状態を説明する模式図である。
【００２８】
図１に示すように、投射システム１０００は、反射型のスクリーン１０と、画像投射装置であるプロジェクタ１００とを備える。スクリーン１０は、樹脂により形成されるスクリーン基板１を備え、図２のように水平方向即ちｘ方向を長手方向とし、垂直方向即ちｙ方向を短手方向として設置される横長の長方形状を有する。なお、スクリーン１０の前面１０ａ即ちスクリーン基板１の前面側を加工して形成される表面には、詳しくは後述する不図示の微細構造が形成されている。また、図１に示すようにスクリーン１０の正面下方に配置されるプロジェクタ１００は、プロジェクタ本体５０と、投射レンズ本体２０と、反射ミラーＲＲとを備える。プロジェクタ１００を構成する各機構は、筐体ＳＣ内に収容されている。
【００２９】
以下、プロジェクタ１００によるスクリーン１０への画像投射について説明する。まず、プロジェクタ本体５０での制御により、画像光が形成され、投射レンズ本体２０から射出される。さらに、当該画像光は、反射ミラーＲＲでの反射により、プロジェクタ１００からの投射光ＰＬとしてスクリーン１０側に射出される。この際、プロジェクタ１００は、投射光ＰＬを下方からスクリーン１０の中心位置Ｏに対して入射角度αで投射する。スクリーン１０全体に投射された投射光ＰＬは、スクリーン１０の前面１０ａに形成される不図示の微細凹凸構造上の反射面で前方に反射されることで、中心位置Ｏを通る鉛直軸ＬＸを中心に左右対称な長方形状の画像として観察可能になる。なお、ここでは、スクリーン１０及びプロジェクタ１００の設置環境として、室内に天吊りされた照明装置２００により、上方からの外光ＯＬによる照明がなされている。このように、室内での投影においては、一般に、主に照明等による上方からの外光ＯＬがスクリーン１０への投影画像にとって不要な光として存在し、この外光ＯＬの影響を避けるため、投射光ＰＬは、外光ＯＬとは反対側の下方から投射するようにしている。
【００３０】
以下、図２を用いて図１のプロジェクタ１００から投射される投射光ＰＬとスクリーン１０との配置関係について説明する。図２に示す投射レンズＰＯは、図１の投射レンズ本体２０及び反射ミラーＲＲに対応するものであり、図２に示す投射光源点Ｓからの投射光ＰＬは、図１の投射光ＰＬと同一の投射角度でスクリーン１０に入射するものとなっている。より具体的に説明すると、投射光源点Ｓは、スクリーン１０に比較的近接した下方位置に設置され、投射光ＰＬのスクリーン１０の中心位置Ｏに入射する光束軸ＡＸが入射角度αとなっている。また、ここでは、投射光源点Ｓからスクリーン１０までの距離（即ち投射光源点Ｓからスクリーン１０の前面１０ａを含む平面に垂直に下ろして交差する点である交点Ｈまでの距離）が投射距離ｄとなっている。
【００３１】
図示のスクリーン１０のような所謂フロント投射型の場合、中心位置Ｏを基準として、上述した入射角度αや投射距離ｄによって定まる各位置での投射光ＰＬの入射角度に応じて、前面１０ａ上の微細凹凸構造の光学的な設計がなされることが望ましい。さらに、スクリーン１０は、上方からの外光ＯＬについては前面１０ａで観察者のいる側に反射することのないように設計されていることが望ましい。本実施形態では、上記を踏まえて前面１０ａの表面に所定パターンで所定形状の微細凹凸構造を設けた上に、投射光ＰＬを反射するための処理と外光ＯＬを吸収するための処理とを施したものとしている。
【００３２】
以下、図３を用いてスクリーン１０の前面１０ａに設けられている表面構造を中心として、スクリーン１０の構造全般について説明する。図３は、スクリーン１０の一部を拡大した側断面図である。下地となるスクリーン基板１は、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）等の物質により形成される本体部分である樹脂基板ＴＢを有し、樹脂基板ＴＢの前面側には、凹凸面である多数の立体部２ａが形成されている。多数の立体部２ａは、それぞれ球面状の凹曲面を有しており、スクリーン基板１の前面側に２次元的に隙間なく形成されている。多数の立体部２ａ上の全表面には、反射膜ＲＭが形成されている。さらに、反射膜ＲＭ上には、反射膜ＲＭを被覆する被覆膜ＩＭが形成されている。なお、被覆膜ＩＭは、反射膜ＲＭと同一の領域に形成されており、過不足のない状態で反射膜ＲＭを覆っている。また、以上のようにして各立体部２ａ上に形成された反射膜ＲＭ及び被覆膜ＩＭが占める領域のうち、各立体部２ａの下方側即ち−ｙ方向側の領域上には、上方からの外光ＯＬを吸収する光吸収膜ＡＭが形成されている。つまり、光吸収膜ＡＭは、反射膜ＲＭ及び被覆膜ＩＭの表面側において、反射膜ＲＭを部分的に覆うように形成されている。以上のように、スクリーン１０の前面１０ａに設けられている微細凹凸構造は、スクリーン基板１により前面側に形成される多数の立体部２ａ上に反射膜ＲＭ、被覆膜ＩＭ及び光吸収膜ＡＭによる三重の層を備える構造となっている。ここで、反射膜ＲＭのうち、光吸収膜ＡＭが上方に形成されていない領域は、反射膜ＲＭ及び被覆膜ＩＭによる二重膜構造部分が露出した状態となり、投射光ＰＬのための反射面ＲＳとして機能する。
【００３３】
反射膜ＲＭは、後に詳述するが、例えばアルミニウムを蒸着すること等により形成される金属膜である。被覆膜ＩＭは、例えばＳｉＯ２（二酸化ケイ素）を蒸着すること等により形成されており、反射膜ＲＭが剥がれることや酸化することを防ぐための金属保護膜として機能する。
【００３４】
光吸収膜ＡＭは、少なくとも可視光波長を吸収する黒色顔料を含み、ニトロセルロースや合成樹脂であるアクリル、有機溶剤等を膜形成成分とする塗料を塗布することにより形成されており、画像投影には不要である外光ＯＬについて、少なくとも可視光領域の成分が観察者側に反射されることを抑制する。
【００３５】
以上のように、多数の立体部２ａと、各立体部２ａ上にそれぞれ形成される反射膜ＲＭ及び被覆膜ＩＭと、各立体部２ａにおいて反射膜ＲＭ及び被覆膜ＩＭ上の一部にそれぞれ形成される光吸収膜ＡＭとにより、前面１０ａに多数の表面部２が形成されている。これら多数の表面部２のうち、光吸収膜ＡＭによって、反射膜ＲＭ以外の領域に入射する外光ＯＬの反射が的確に防止されるものとなっている。また、反射膜ＲＭ及び被覆膜ＩＭによって構成される反射面ＲＳは、後述するように、投射光ＰＬを適切に反射するとともに、外光ＯＬは極力反射しない位置に形成されるものとなっている。なお、上述のように、多数の立体部２ａは、隙間なく形成されているので、前面１０ａのうち、少なくとも画像投影のなされる有効領域は、多数の表面部２で埋め尽くされて平坦な部分が存在しない状態となっている。この場合、平坦な部分が残らないので、光が正反射して観察者の目に入るホットスポットと呼ばれる現象を回避できる。
【００３６】
以下、各立体部２ａ上において反射面ＲＳが露出する位置について説明する。上述のように、プロジェクタ等からの投射光ＰＬは、スクリーン１０の下方に位置する投射光源点Ｓ（図２参照）から射出されてスクリーン１０に対して放射状に拡がるように入射する。これに対応して、反射面ＲＳは、光吸収膜ＡＭがマスクとなって、各立体部２ａによって形成された凹面形状の上方側の部分即ち＋ｙ方向側の部分にのみ局所的に露出するように設けられている。つまり、反射面ＲＳは、下方からの投射光ＰＬに対向して露出して形成されており、投射光ＰＬを観察者のいる正面側へ適度に拡散させた状態で反射させるものとなっている。一方、反射面ＲＳは、光吸収膜ＡＭにより、上方からの外光ＯＬが入射する領域ではできるだけ露出しないものとなっている。つまり、光吸収膜ＡＭが反射膜ＲＭの一部を覆って反射面ＲＳとして機能させないことにより、外光ＯＬが観察者のいる正面側へ反射しないようになっている。以上のように、反射面ＲＳは、前面１０ａにおいて、投射光ＰＬを適切に正面方向へ射出させることができ、かつ、光吸収膜ＡＭは、外光ＯＬの反射を効率的に防ぐものとなっている。
【００３７】
以下、スクリーン１０の製造方法について説明する。まず、スクリーン１０のうち、スクリーン基板１の作製について簡単に説明する。スクリーン基板１は、例えばＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）等を原材料とするシート状の部材を主たる原材料として形成される。具体的には、例えば当該シート状部材の表面にＵＶ硬化樹脂を塗布した後、あるいは、当該シート状部材の表面を加熱して軟化させた後、多数の立体部２ａに対応する凹凸形状を有するガラス型等で当該箇所をプレス加工する。これにより、スクリーン基板１が作製される。
【００３８】
次に、各立体部２ａ上にそれぞれ形成される表面部２の製造工程について説明する。図４（Ａ）〜４（Ｃ）は、スクリーン１０のうち、多数の表面部２の形成過程について説明するための側断面図である。まず、図４（Ａ）に示すように、多数の立体部２ａの全表面に略一定の膜厚で反射膜ＲＭが形成され（第１成膜工程）、さらに、図４（Ｂ）に示すように、反射膜ＲＭ上に被覆膜ＩＭが形成される（被覆膜形成工程）。さらに、図４（Ｃ）に示すように、各立体部２ａ上の一部の領域に光吸収膜ＡＭが形成される（第２成膜工程）。以上の第１成膜工程、被覆膜形成工程及び第２成膜工程を経て多数の表面部２が形成されることにより、スクリーン１０が作製される。
【００３９】
以下、上記第１成膜工程、被覆膜形成工程及び第２成膜工程のうち、まず、第１成膜工程及び被覆膜形成工程について説明する。図５（Ａ）は、第１成膜工程及び被覆膜形成工程として反射膜ＲＭ及び被覆膜ＩＭの成膜を一括して行うための第１製造装置の一例について説明するための側断面図である。図５（Ａ）に示す第１製造装置３００は、例えば抵抗加熱により成膜材料を蒸発させて真空蒸着による成膜を行う真空蒸着装置である。第１製造装置３００は、材料源を含む蒸発源装置３２０と、真空容器であるチャンバ３３０と、チャンバ３３０内を真空の状態にするための排気系であり、例えばロータリポンプ等で構成される真空ポンプ３４０と、各部を統括して装置全体の制御を行う制御装置３５０とを備える。さらに、第１製造装置３００は、帯状のスクリーン基板１０１を搬送するための移動装置３６０を備える。移動装置３６０は、帯状のスクリーン基板１０１を送出する送出機構３６０ａと、スクリーン基板１０１を巻き取る巻取機構３６０ｂとを備える。なお、各機構３６０ａ、３６０ｂに取り付けられるモータ等は図示を省略している。蒸発源装置３２０は、図３に示す反射膜ＲＭを形成するための第１成膜物質Ｅ１であるアルミニウムを射出する第１射出装置３２０ａと、被覆膜ＩＭを形成するための第３成膜物質Ｅ２である二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）を射出する第２射出装置３２０ｂとを備える。第１及び第２射出装置３２０ａ、３２０ｂは、それぞれボート上に第１及び第３成膜物質Ｅ１、Ｅ２をマウントし、制御装置３５０から供給される電力を用いた抵抗加熱等により各成膜物質Ｅ１、Ｅ２を加熱し蒸発させることで成膜を行う。なお、帯状のスクリーン基板１０１は、スクリーン基板１の複数枚分（例えば１００枚分）に相当する。つまり、スクリーン基板１０１を所定の大きさでカットしたものが１枚分のスクリーン基板１に相当する。
【００４０】
図５（Ａ）に示すように、移動装置３６０において、帯状のスクリーン基板１０１は、カセットテープのようにその両端部がそれぞれ各機構３６０ａ、３６０ｂに巻き付けられた状態となっている。各機構３６０ａ、３６０ｂが一方向に同期して回転動作することにより、移動装置３６０は、スクリーン基板１０１を矢印ＡＷ１の方向に一定速度で移動させるものとなっている。また、各射出装置３２０ａ、３２０ｂは、移動装置３６０によって搬送されるスクリーン基板１０１の前面側に対向して下方に配置されており、それぞれスクリーン基板１０１に対して第１成膜物質Ｅ１と第３成膜物質Ｅ２とを略垂直に入射させるものとなっている。また、各射出装置３２０ａ、３２０ｂは、スクリーン基板１０１の全面に亘って均一に成膜がなされるように、それぞれ図５（Ａ）中の紙面手前側から奥側にかけてライン状に配置されている。
【００４１】
以下、第１製造装置３００の動作について説明する。まず、真空ポンプ３４０の排気口３４０ａから排気がなされ、チャンバ３３０内部を所定値以下（例えば１０−３Ｐａ以下）の真空状態にする。次に、反射膜ＲＭ及び被覆膜ＩＭの成膜のために各機構３６０ａ、３６０ｂを駆動させて、スクリーン基板１０１の処理対象部分を繰り出す。チャンバ３３０内で、送出機構３６０ａからスクリーン基板１０１の処理対象部分が繰り出されると、まず、スクリーン基板１０１の処理対象部分に対して、第１射出装置３２０ａから略垂直に射出された第１成膜物質Ｅ１が入射する。これにより、スクリーン基板１０１の処理対象部分に反射膜ＲＭが形成される。次いで、スクリーン基板１０１の処理対象部分に対して、第２射出装置３２０ｂから略垂直に射出された第３成膜物質Ｅ２が入射する。これにより、スクリーン基板１０１の処理対象部分に被覆膜ＩＭが形成される。以上により、反射膜ＲＭ及び被覆膜ＩＭが形成されたスクリーン基板１０１の処理対象部分は、巻取機構３６０ｂにより巻き取られる。
【００４２】
以上のようにして、第１製造装置３００により、スクリーン基板１０１上に反射特性を有する均一な膜厚の反射膜ＲＭ及び被覆膜ＩＭが一様に成膜される。なお、第１製造装置３００では、一旦真空状態を形成すれば、真空を破ることなくスクリーン基板１０１を移動させることができるので、複数枚分のスクリーン基板１上に反射膜ＲＭ及び被覆膜ＩＭを一括して形成することができる。
【００４３】
また、図５（Ｂ）に示す第１製造装置４００によっても上記と同様の成膜が可能である。この第１製造装置４００は、第１製造装置３００の変形例である。第１製造装置４００では、移動装置４６０を構成する各機構４６０ａ、４６０ｂが同期して双方向に回転動作することにより、スクリーン基板１０１が矢印ＡＷ２で示す方向に一定速度で往復移動可能となっている。また、蒸発源装置４２０の各射出装置４２０ａ、４２０ｂは、台座４２０ｃ上で矢印ＡＷ３の方向にスライド移動可能となっている。以上のような構成により、第１製造装置４００は、まず、スクリーン基板１０１を紙面左側に移動させるときは、射出口４２０ｄに第１射出装置４２０ａを対向配置させておくことで反射膜ＲＭを成膜することができる。さらに、スクリーン基板１０１を紙面右側に移動させるときは、蒸発源装置４２０内の各射出装置４２０ａ、４２０ｂをスライドさせ、射出口４２０ｄに第２射出装置４２０ｂを対向配置させておくことで被覆膜ＩＭを成膜することができる。
【００４４】
次に、第２成膜工程について説明する。図６（Ａ）は、第２成膜工程として、光吸収膜ＡＭの成膜を行う第２製造装置の一例について説明するための模式的な図である。図６（Ａ）に示す第２製造装置７００は、斜方から第２成膜物質である黒色塗料ＢＰを塗布することにより光吸収膜ＡＭを形成する成膜装置であり、第１成膜工程を経たスクリーン基板１０１を支持する台座ＰＤと、台座ＰＤを種々の方向に移動させる駆動装置ＤＲと、黒色塗料ＢＰを射出する射出装置であるスプレーＳＰと、黒色塗料ＢＰの射出方向を正確に調整する遮蔽板ＳＴとを備える。なお、第２製造装置７００は、第１製造装置３００と異なり、真空蒸着等を伴わず大気圧下で動作する比較的簡易な装置である。
【００４５】
スクリーン基板１０１は、支持台である台座ＰＤに支持され、駆動装置ＤＲにより台座ＰＤとともに図中矢印方向等に沿って同一平面（ｘｙ平面に平行な面）上で種々の方向に移動することができる。スプレーＳＰは、台座ＰＤに支持されたスクリーン基板１０１に光吸収膜ＡＭとなる第２成膜物質である黒色塗料ＢＰを射出する。スプレーＳＰからスクリーン基板１０１への黒色塗料ＢＰの入射角度θは、例えば不図示の外光ＯＬの主な入射角度を想定して定められている。従って、黒色塗料ＢＰは、スクリーン基板１０１に外光ＯＬに対応する斜方から入射して塗布されるものとなっている。一方、図３等に示すように、スクリーン１０の前面１０ａには、多数の立体部２ａによる凹凸面が形成されている。このため、黒色塗料ＢＰを成膜物質とする光吸収膜ＡＭが反射膜ＲＭ及び被覆膜ＩＭの表面側の一部に重畳するように形成されるとともに、当該表面側において光吸収膜ＡＭの形成されない残りの部分が露出した状態となることで、反射面ＲＳが必要箇所に露出した状態で形成される。なお、遮蔽板ＳＴは、スクリーン基板１０１を覆うように形成されており、スプレーＳＰ付近に開口ＯＰが設けられている。
【００４６】
以下、図６（Ａ）の第２製造装置７００の動作について詳しく説明する。まず、台座ＰＤに支持されたスクリーン基板１０１に対して、入射角度θでスプレーＳＰから黒色塗料ＢＰが噴射される。この際、遮蔽板ＳＴにより、黒色塗料ＢＰの一部が遮蔽される。つまり、黒色塗料ＢＰのうち、遮蔽板ＳＴの開口ＯＰを通過したもののみがスクリーン基板１０１上に塗布される。この遮蔽板ＳＴの制限により、黒色塗料ＢＰのうちプレーＳＰから拡がるように噴射される成分が取り除かれるので、スクリーン基板１０１上に向かう黒色塗料ＢＰの成分は、入射角度及び入射方向が略一様な指向性を持った状態となる。これにより、スクリーン基板１０１上に光吸収膜が成膜される領域とされない領域との境界を比較的明瞭にすることができる。既述のように、黒色塗料ＢＰの成膜されない領域は、図３等のように反射膜ＲＭ及び被覆膜ＩＭが露出し、反射面ＲＳとなる。また、スプレーＳＰによる黒色塗料ＢＰの塗布に伴い、スクリーン基板１０１は、台座ＰＤとともに、２次元的に移動する。つまり、相対的にスプレーＳＰ及び遮蔽板ＳＴがスクリーン基板１０１上の全面を走査するようにスプレーＳＰを２次元的に移動させることができる。この結果、スクリーン基板１０１の全体について図３等に示すような光吸収膜ＡＭの成膜を行うことができる。以上のように、図３等に示す多数の立体部２ａによる凹凸面上に斜方から黒色塗料ＢＰを噴射させることで、光吸収膜ＡＭは、各立体部２ａの領域上において部分的に成膜され、これにより、反射膜ＲＭ及び被覆膜ＩＭによる投射光ＰＬの反射領域と、光吸収膜ＡＭによる外光ＯＬの光吸収領域とが画定される。なお、光吸収膜ＡＭが施された状態のスクリーン基板１０１を所定のサイズでカットすることにより、１枚分のスクリーン１０が切り出される。
【００４７】
以上において、光吸収膜ＡＭの成膜のための黒色塗料ＢＰの入射方向Ａ１は、破線で示す想定される投射光ＰＬの入射方向とは反対側の方向となっている。以下、黒色塗料ＢＰの入射方向Ａ１と投射光ＰＬの入射方向との関係について具体的に説明する。まず、スクリーン表面を巨視的に捉え微細凹凸構造を無視して平面であると仮定した仮想的な平面をスクリーン面ＶＳとする。これは、例えば、図２のスクリーン１０において、前面１０ａを平面として考えたものと同様である。さらに、このスクリーン面ＶＳに垂直な平面で、かつ、投射光ＰＬの光路をスクリーン面ＶＳへ正射影した線分（即ち図６（Ａ）中の＋ｙ方向）にも垂直な平面を境界面ＵＳとする。特に、図６（Ａ）では、境界面ＵＳは、黒色塗料ＢＰのスクリーン面ＶＳ上での入射点ＩＰを含むものとしている。ここで、入射点ＩＰとは、黒色塗料ＢＰが主方向である入射方向Ａ１からスクリーン面ＶＳ上に到達する点であり、図中の想定される投射光ＰＬについても、この入射点ＩＰをその入射点としているものとする。以上に規定する境界面ＵＳを基準として、投射光ＰＬの入射方向と黒色塗料ＢＰの入射方向Ａ１との関係を考える。この場合、黒色塗料ＢＰの入射方向Ａ１は、当該境界面ＵＳを境として分けた２つの領域Ｄ１、Ｄ２のうち、投射光ＰＬを含まない領域Ｄ１側（即ち図６（Ａ）中の紙面＋ｙ側）から境界面ＵＳ側に向かう方向（−ｙ方向）の成分を有するものとなっている。つまり、入射方向Ａ１は、投射光ＰＬの方向成分のうちスクリーン面ＶＳへ正射影した方向成分（＋ｙ方向）とは逆方向の成分を有している。このため、図３等に示すように、形成される光吸収膜ＡＭは、一般に投射光ＰＬとは反対側から入射する外光ＯＬを効率よく吸収することができるものとなっている。また、光吸収膜ＡＭが成膜されない領域として残ることにより形成される反射面ＲＳは、下方から入射する投射光ＰＬを効率よく反射させるものとなっている。
【００４８】
図６（Ｂ）に示す第２製造装置８００は、図６（Ａ）の第２製造装置７００の変形例である。この第２製造装置８００には、スプレーＳＰの先端部分に拡散を防止する狭窄用のノズルＮＺが設けられており、ノズルＮＺの先端から黒色塗料ＢＰの噴射がなされるものとなっている。これにより、黒色塗料ＢＰは、スプレーＳＰからの噴射時にあまり拡散せず指向性をもった状態とすることができるので、第２製造装置７００とは異なり、遮蔽板を設ける必要がない。また、この場合、駆動装置ＤＲによりスプレーＳＰを例えば図中矢印の方向等を含むｘｙ平面に平行に２次元的に移動させることで、スプレーＳＰをスクリーン基板１０１上の全面を走査させて、図６（Ａ）の第２製造装置７００による塗布の場合と同様に、図３等に示す光吸収膜ＡＭの成膜を行うことができる。
【００４９】
以上のように、本実施形態に係るスクリーン１０は、まず、第１成膜工程において、反射膜ＲＭが、多数の立体部２ａの全面に亘って膜の厚さを均一な状態に保って膜形成されるので、比較的簡単に製造でき高い反射特性を有するものとなる。
【００５０】
また、本実施形態では、第２成膜工程において、投射光ＰＬの入射の特性と外光ＯＬの入射の特性とを考慮して光吸収膜ＡＭを形成しているので、効率的な投射光ＰＬの反射を行うとともに、反射膜ＲＭにおける外光ＯＬの反射を抑制するものにもなっている。この場合、必要な領域に光吸収膜ＡＭが形成されればよく、光吸収膜ＡＭの膜厚を均一にする必要がない。従って、例えば第２製造装置７００の動作上、光吸収膜ＡＭの成膜における精密な膜厚制御が不要である。また、黒色塗料ＢＰの塗布により光吸収膜ＡＭを成膜するので真空状態を形成する必要もない。従って、第２成膜工程は、簡易な装置で行える。第２成膜工程において、光吸収膜ＡＭを適切に画定して形成することで、スクリーン１０は、投射光ＰＬを適切に反射させるとともに外光ＰＬの反射を抑えられ、コントラストがより改善され、画像品質が安定した投影を行い得るものとなる。
【００５１】
さらに、被覆膜形成工程において、被覆膜ＩＭを形成させることで、反射膜ＲＭが剥がれることや酸化することを抑制し長寿命化を図ることができる。
【００５２】
なお、第１成膜工程及び被覆膜形成工程における反射膜ＲＭ及び被覆膜ＩＭの成膜に関して、上記のほかの方法による成膜を用いてもよく、少なくとも反射膜ＲＳが露出する領域に反射膜ＲＭ及び被覆膜ＩＭが形成されていれば、反射膜ＲＭ等が多数の立体部２ａの全面に亘ってなされないものであってもよい。このような方法としては、例えば、反射膜ＲＭ等の形成において、斜方から成膜物質を蒸着させて、スクリーン基板１の表面のうち、反射面ＲＳとなるべき領域をカバーするように局所的に蒸着させることが考えられる。ただし、反射膜ＲＭ等を例えば誘電体多層膜によって構成する場合、膜の厚さを一定に保つための精密な制御が必要となる。なお、上述のように反射膜ＲＭ等を多数の立体部２ａの全面に亘って形成させず、スクリーン基板１の下地面が一部露出する場合においても、例えば、第２成膜工程において、反射膜ＲＭ等の外縁付近において、光吸収膜ＡＭの一部を、スクリーン基板１の下地面を覆い、かつ、反射膜ＲＭ等に重畳するように成膜させることで、スクリーン基板１の下地面が露出せず、かつ、反射面ＲＳの領域と光吸収膜ＡＭの領域との境界が画定するようにできる。
【００５３】
図７は、図３等に示すスクリーン１０の変形例である。図７に示すスクリーン１１０において、各表面部１０２は、凸曲面形状を有するものとなっている。なお、この場合、光吸収膜ＡＭは、各立体部１０２ａ上において、上方側即ち＋ｙ方向側の部分領域上に形成される。
【００５４】
また、本実施形態のスクリーン基板１については、スクリーンシートとしての十分な強度を有するものであればよく、種々の素材が適用可能であり、例えば光吸収性部材を用いてもよい。光吸収性部材の原材料としては、光吸収作用を有する黒色のＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）やポリ塩化ビニル等が考えられる。また、透明のＰＥＴ等の使用も可能である。
【００５５】
また、本実施形態のスクリーン基板１における反射膜ＲＭの形成において、成膜物質としてアルミニウムを用いているが、反射膜ＲＭを金属膜で形成する場合、アルミニウムの他にも、例えば銀等を用いることも可能である。
【００５６】
〔第２実施形態〕
図８は、第２実施形態に係るスクリーンを一部拡大した側断面図である。本実施形態に係るスクリーン２１０は、第１実施形態のスクリーン１０等の変形例であり、スクリーン基板１と、反射膜ＲＭと、光吸収膜ＡＭとを備える。特に、反射膜ＲＭは、屈折率の異なる２種類の誘電体層ＣＬ１、ＣＬ２が交互に積層された誘電体多層膜構造となっている。誘電体層ＣＬ１、ＣＬ２は、例えばＴｉＯ２（酸化チタン）とＳｉＯ２とにより、または、Ｔａ２Ｏ５（五酸化タンタル）とＳｉＯ２とにより構成することができる。この場合、反射膜ＲＭ自体を十分丈夫なものとすることができるので、図３に示すスクリーン１０等の場合と異なり、反射膜ＲＭ上に被覆膜を設けず、当該誘電体多層膜の最表層を、スクリーン２１０の表面の一部として露出させた状態とすることができる。
【００５７】
なお、当該誘電体多層膜構造の作製については、例えば図５（Ｂ）に示す第１製造装置４００において、蒸発源装置４２０の第１及び第２射出装置４２０ａ、４２０ｂを用いて誘電体層ＣＬ１、ＣＬ２を形成させるための成膜物質を交互に繰り返して射出させればよい。つまり、第１及び第２射出装置４２０ａ、４２０ｂのそれぞれのボート上に誘電体層ＣＬ１、ＣＬ２を形成させるための成膜物質をマウントし、各成膜物質を加熱し蒸発させることで成膜を行う。より具体的に説明すると、まず、スクリーン基板１０１を紙面左側に移動させるときは、蒸発源装置４２０内の各射出装置４２０ａ、４２０ｂをスライドさせ、射出口４２０ｄに第１射出装置４２０ａを対向配置させておくことで反射膜ＲＭを構成する誘電体層ＣＬ１を成膜することができる。さらに、スクリーン基板１０１を紙面右側に移動させるときは、蒸発源装置４２０内の各射出装置４２０ａ、４２０ｂをスライドさせ、射出口４２０ｄに第２射出装置４２０ｂを対向配置させておくことで反射膜ＲＭを構成する誘電体層ＣＬ２を成膜することができる。以下、蒸発源装置４２０の第１及び第２射出装置４２０ａ、４２０ｂを交互に用いて誘電体層ＣＬ１、ＣＬ２を形成させるための成膜を繰り返せばよい。
【００５８】
〔第３実施形態〕
図９は、第３実施形態に係るスクリーンについて説明する図である。本実施形態に係るスクリーンは、被覆膜の構造を除いて第１実施形態に示したものと同様であるので、他の構造についての詳細な説明を省略する。図９に示すスクリーン３１０において、被覆膜ＩＭは、屈折率の異なる２種類の誘電体層ＭＬ１、ＭＬ２が交互に積層された誘電体多層膜構造となっている。つまり、本実施形態の被覆膜ＩＭは、ＳｉＯ２による単層膜に代えて、例えばＴｉＯ２及びＳｉＯ２、または、Ｔａ２Ｏ５及びＳｉＯ２により誘電体層ＭＬ１、ＭＬ２を構成することで、反射膜ＲＭの反射作用を高める増反射膜として機能するものとなっている。
【００５９】
以下、本実施形態に係るスクリーンの製造方法について説明する。図１０は、図９に示すスクリーン３１０の製造のための成膜工程のうち、第１成膜工程を行う第１製造装置の一例について説明する図である。本実施形態に係る第１製造装置５００は、図５（Ｂ）の第１製造装置４００の変形例である。なお、本実施形態に係るスクリーンの製造方法は、第１成膜工程を除いて第１実施形態に示したものと同様であるので、第１成膜工程以外の成膜工程についての図示及び説明は省略する。
【００６０】
図１０に示す第１製造装置５００は、第１製造装置４００と同様に、例えば抵抗加熱により成膜材料を蒸発させて真空蒸着による成膜を行う真空蒸着装置であり、蒸発源装置５２０と、チャンバ３３０と、真空ポンプ３４０と、制御装置３５０と、帯状のスクリーン基板１０１を搬送するための移動装置５６０とを備える。移動装置５６０は、スクリーン基板１０１を送出する送出機構５６０ａと、スクリーン基板１０１を巻き取る巻取機構５６０ｂとを備え、各機構５６０ａ、５６０ｂは、同期して双方向に回転動作することにより、スクリーン基板１０１が矢印ＡＷ４で示す方向に一定速度で往復移動可能となっている。また、以上のうち、特に、蒸発源装置５２０は、第１〜第３射出装置５２０ａ、５２０ｂ、５２０ｃの３つの射出装置を備えている。これら３つの射出装置５２０ａ、５２０ｂ、５２０ｃは、台座５２０ｄ上で矢印ＡＷ５に示すように双方向にスライド移動可能となっている。以上のような構成により、第１製造装置５００は、まず、最初にスクリーン基板１０１を紙面左側に移動させるときは、射出口５２０ｅに第１射出装置５２０ａを対向配置させておくことで反射膜ＲＭを成膜することができる。次に、スクリーン基板１０１を紙面右側に移動させるときは、蒸発源装置５２０内の各射出装置５２０ａ、５２０ｂ、５２０ｃをスライドさせ、射出口５２０ｅに第２射出装置５２０ｂを対向配置させておくことで被覆膜ＩＭを構成する誘電体層ＭＬ１を成膜することができる。さらに、スクリーン基板１０１を紙面左側に移動させるときは、蒸発源装置５２０内の各射出装置５２０ａ、５２０ｂ、５２０ｃをスライドさせ、射出口５２０ｅに第３射出装置５２０ｃを対向配置させておくことで被覆膜ＩＭを構成する誘電体層ＭＬ２を成膜することができる。以下、蒸発源装置５２０の第２及び第３射出装置５２０ｂ、５２０ｃを交互に用いて誘電体層ＭＬ１、ＭＬ２を形成させるための成膜を繰り返せばよい。なお、当該成膜については、各層の成膜をスクリーン基板１０１全体について一斉に行うのではなく、部分的に繰り返すものであってもよい。例えば、スクリーン基板１０１のうちスクリーン１枚分に相当する領域ごとに当該成膜の動作をするものであってもよい。
【００６１】
〔第４実施形態〕
図１１は、第４実施形態に係るスクリーンについて説明する図である。本実施形態に係るスクリーン９１０は、反射膜ＲＭのために下地膜ＵＭを設ける点、及び被覆膜ＩＭを省略した点を除いて、第１実施形態のスクリーン１０と同様の構造を有する。
【００６２】
スクリーン基板１は、例えばポリ塩化ビニル等を含むシートで形成されている。下地膜ＵＭは、反射膜ＲＭとスクリーン基板との間に介在する膜であり、例えば反射膜ＲＭのスクリーン基板１に対する付着強度を高める役割を有する。特に、スクリーン基板１が軟質塩化ビニル等で形成される場合、これに含まれる可塑剤等が揮発し、真空蒸着等よってスクリーン基板１上に形成された反射膜ＲＭが剥がれやすくなる。このため、スクリーン基板１を構成するポリ塩化ビニルシートの表面に可塑剤の揮発を抑制可能又はブロック可能な下地膜ＵＭを予め形成することで、スクリーン基板１に対する反射膜ＲＭの密着性を高め、反射膜ＲＭの状態を安定化させることができる。下地膜ＵＭは、Ｃｒ、ＮｉＣｒ等の金属膜とすることもできるが、アクリル系、フッ素系の樹脂その他の有機材料膜又は非金属膜とすることができる。
【００６３】
以下、本実施形態に係るスクリーン９１０の製造方法について説明する。図１２（Ａ）〜１２（Ｃ）は、図１１に示すスクリーン９１０のうち、主に多数の表面部２の形成過程について説明するための側断面図である。各表面部２は、下地膜ＵＭ、反射膜ＲＭ及び光吸収膜ＡＭを含んで構成される。
【００６４】
まず、図１２（Ａ）に示すように、多数の立体部２ａの全表面に略一定の膜厚（例えば１０ｎｍ以下）で下地膜ＵＭが形成される（下地膜形成工程）。下地膜ＵＭは、第４成膜物質をスクリーン基板１の表面側に一様に入射させることによって、各立体部２ａにおける表面全体を被覆するように一様に形成される。次に、図１２（Ｂ）に示すように、第１成膜物質をスクリーン基板１の表面側に一様に入射させることによって、各立体部２ａにおける表面全体を被覆するように下地膜ＵＭ上に一様に反射膜ＲＭが形成される（第１成膜工程）。さらに、図１２（Ｃ）に示すように、第２成膜物質をスクリーン基板１の表面側に局所的に入射させることによって、各立体部２ａの一部領域の表面を被覆するように光吸収膜ＡＭが形成される（第２成膜工程）。以上により、スクリーン基板１上に多数の表面部２が形成され、スクリーン９１０が完成する。なお、図面では省略しているが、立体部２ａの製造段階までについて簡単に説明すると、まず、スクリーン基板１の素材として例えばポリ塩化ビニル製のシートを準備する。このポリ塩化ビニル製のシートは、グラスファイバ等によって強度を高めたものとすることもできる。このポリ塩化ビニルのシートの表面に熱プレスによって多数の立体部２ａを転写し、多数の立体部２ａを有するスクリーン基板１を得る。
【００６５】
下地膜形成工程について説明すると、スクリーン基板１の全表面即ち多数の立体部２ａの表面に略一定の膜厚で下地膜ＵＭを形成する。下地膜ＵＭがＣｒ、ＮｉＣｒ等の金属膜である場合、下地膜ＵＭは、例えば図５（Ａ）に示す第１製造装置３００と同様の機構を有する真空蒸着型の成膜装置によって形成される。ただし、この場合、蒸発源装置３２０のうち、第１射出装置３２０ａによって、図１２（Ａ）に相当するＣｒ等の第４成膜物質の成膜を行い、第２射出装置３２０ｂによって、図１２（Ｂ）に相当するＡｌ等の第１成膜物質の成膜を行うことになる。このようにして形成した下地膜ＵＭの膜厚は、例えば５〜１０ｎｍ程度とする。一方、下地膜ＵＭがアクリル系樹脂、フッ素系樹脂その他の有機材料膜又は非金属膜である場合、下地膜ＵＭは、例えばディッピングを利用した湿式のコーティングによって形成される。なお、ディッピング用の溶液は、有機溶媒にアクリル等の膜主成分や各種添加剤を混合したものであり、スクリーン基板１をこの溶液に一定時間浸漬した後、スクリーン基板１を引き上げて乾燥させることで、スクリーン基板１上に、所望の膜厚を有し比較的強固に付着した下地膜ＵＭを形成することができる。このようにして形成した下地膜ＵＭの膜厚は、例えば１〜１０μｍ程度とする。
【００６６】
以上の下地形成工程において、下地膜ＵＭをＣｒ、ＮｉＣｒ等の金属で形成する場合、真空蒸着法に限らず、例えばイオンアシスト法、スパッタ法等の物理成膜法又は物理蒸着法を用いることもできる。下地膜ＵＭをアクリル系樹脂、フッ素系樹脂その他の有機材料又は非金属で形成する場合、ディッピングのような塗布法に限らず、例えばスプレーその他の塗布法を用いることもできる。
【００６７】
なお、図１２（Ｂ）の第１成膜工程は、図４（Ａ）の第１成膜工程に相当し、図１２（Ｃ）の第２成膜工程は、図４（Ｃ）の第２成膜工程に相当する。つまり、真空蒸着等によって立体部２ａ上の全領域に下地膜ＵＭを覆うように反射膜ＲＭが形成され、次に、反射膜ＲＭ上の一部の領域に光吸収膜ＡＭが形成される。これにより、反射膜ＲＭによる投射光ＰＬの反射領域即ち反射面ＲＳと、光吸収膜ＡＭによる外光ＯＬの光吸収領域とが画定される。
【００６８】
下地膜ＵＭ上に反射膜ＲＭを成膜する前には、下地膜ＵＭの表面活性化処理を行うこともできる。下地膜ＵＭの表面活性化処理としては、逆スパッタ処理、プラズマ放電処理、コロナ放電処理、ＲＦボンバード処理、大気圧プラズマ処理等を採用することができる。下地膜ＵＭに対して表面活性化処理を適宜施すことにより、反射膜ＲＭの付着力や耐久性を向上させることができる。
【００６９】
反射膜ＲＭは、図８に示す第２実施形態のスクリーン２１０と同様に、２種類の誘電体層ＣＬ１、ＣＬ２を交互に積層した誘電体多層膜構造とすることもできる。
【００７０】
また、スクリーン基板１上に形成される立体部２ａの形状は、凹曲面に限らず、図７に示すように凸曲面とすることもできる。この場合、反射膜ＲＭや被覆膜ＩＭは、下方側即ち−ｙ方向側に形成される。
【００７１】
以上のように、本実施形態に係るスクリーン９１０によれば、第１成膜工程による反射膜ＲＭの成膜前に、スクリーン基板１上に対して第４成膜物質を入射させて下地膜ＵＭを形成するので、下地膜ＵＭによってスクリーン基板１に対する反射膜ＲＭの付着強度を高めることができる。これにより、反射膜ＲＭを意図通りの箇所に形成することができ、その耐久性を高めることができる。なお、本実施形態においては、反射膜ＲＭが、多数の立体部２ａの全面に亘って膜の厚さが均一な状態に保たれて形成されるので、比較的簡単に製造でき高い反射特性を有するものとなる。また、本実施形態では、簡易な装置で行える第２成膜工程において、反射膜ＲＭ上に光吸収膜ＡＭを形成しているので、効率的な投射光ＰＬの反射を行うとともに、反射膜ＲＭにおける外光ＯＬの反射を抑制するものにもなっている。つまり、簡易な手法でコントラストがより改善され、画像品質が安定した投影を行い得るスクリーン９１０を提供することができる。
【００７２】
〔第５実施形態〕
図１３は、第５実施形態に係るスクリーンについて説明する図である。また、図１４（Ａ）〜１４（Ｄ）は、図１３に示すスクリーン１０１０のうち、主に多数の表面部２の形成過程について説明するための側断面図である。なお、本実施形態に係るスクリーン１０１０は、反射膜ＲＭと光吸収膜ＡＭとの間に被覆膜ＩＭを介在させる点を除いて第４実施形態のスクリーン９１０と同様の構造を有する。つまり、図１４（Ａ）に示す下地膜形成工程で、多数の立体部２ａの全表面に下地膜ＵＭが形成され、図１４（Ｂ）に示す第１成膜工程で、下地膜ＵＭ上に一様に反射膜ＲＭが形成され、図１４（Ｃ）に示す被覆膜形成工程で、反射膜ＲＭ上に一様に被覆膜ＩＭが形成され、図１４（Ｄ）に示す第２成膜工程で、各立体部２ａの一部領域の表面を被覆するように光吸収膜ＡＭが形成される。
【００７３】
図１４（Ｃ）に示す被覆膜形成工程で形成される被覆膜ＩＭは、反射膜ＲＭの表面を一様に覆っており、反射膜ＲＭが酸化等によって劣化することを防ぐための金属保護膜として機能する。従って、反射膜ＲＭが劣化しにくい場合、第４実施形態のように、被覆膜ＩＭを省略した構造とすることができる。一方、反射膜ＲＭが劣化しやすい場合、本実施形態のように、被覆膜ＩＭを設けた構造とすることができる。
【００７４】
図示のスクリーン１０１０の場合、反射膜ＲＭ上の全領域に被覆膜ＩＭが形成され、被覆膜ＩＭ上の一部の領域に光吸収膜ＡＭが形成される。つまり、反射膜ＲＭを形成するための第１成膜工程と、光吸収膜ＡＭを形成するための第２成膜工程との間に、スクリーン基板１上に対して第３成膜物質を入射させて被覆膜ＩＭを形成する被覆膜形成工程を設けている。
【００７５】
各表面部２を構成する下地膜ＵＭ、反射膜ＲＭ、被覆膜ＩＭ及び光吸収膜ＡＭは、例えば図１０に示す第１製造装置５００と同様の機構を有する蒸着型の成膜装置によって形成される。この場合、蒸発源装置５２０は、第１射出装置５２０ａによって、下地膜ＵＭを形成するための第４成膜物質（具体的にはＣｒ、ＮｉＣｒ等）を射出させ、第２射出装置５２０ｂによって、反射膜ＲＭを形成するための第１成膜物質（具体的にはＡｌ、Ａｇ等）を射出させ、第３射出装置５２０ｃによって、被覆膜ＩＭを形成するための第３成膜物質（具体的にはＳｉＯ２等）を射出させる。
【００７６】
なお、被覆膜ＩＭは、図９に示す第３実施形態のスクリーン３１０と同様に、増反射膜、即ち２種類の誘電体層ＭＬ１、ＭＬ２を交互に積層した誘電体多層膜構造を有するものとすることもできる。
【００７７】
また、スクリーン基板１上に形成される立体部２ａの形状は、凹曲面に限らず、図８に示すように凸曲面とすることもできる。この場合、反射膜ＲＭや被覆膜ＩＭは、下方側即ち−ｙ方向側に形成される。
【００７８】
本実施形態のスクリーン１０１０によれば、第１成膜工程による反射膜ＲＭの成膜前に、スクリーン基板１上に対して第４成膜物質を入射させて下地膜ＵＭを形成するので、下地膜ＵＭによってスクリーン基板１に対する反射膜ＲＭの付着強度を高めることができる。これにより、反射膜ＲＭを意図通りの箇所に形成することができ、その耐久性を高めることができる。しかも、被覆膜形成工程において、被覆膜ＩＭを形成させることで反射膜ＲＭが酸化することを抑制し長寿命化を図ることができる。
【００７９】
以上、各実施形態について説明してきたが、上記各実施形態は、本発明は上記実施形態に限定されるものではない。
【００８０】
まず、上記各実施形態では、いずれも反射膜ＲＭ及び被覆膜ＩＭの成膜方法の一例として、真空蒸着法を用いているが、この他にも、例えばイオンアシスト法、スパッタ法等によって成膜を行うことも可能である。また、銀等の金属膜により反射膜ＲＭを構成する場合は、メッキ等によって成膜を行うことも考えられる。
【００８１】
また、上記各実施形態では、光吸収膜ＡＭをスプレー等によって塗布しているが、例えば真空蒸着型の成膜装置によって誘電体多層膜からなる光吸収膜ＡＭを形成することもできる。この光吸収膜ＡＭは、吸収型のＡＲコートとして機能し、例えば酸化チタン及び酸化ケイ素を交互に積層すること、五酸化タンタル及び酸化ケイ素を交互に積層すること等によって形成される。光吸収膜ＡＭを形成するための成膜装置は、真空容器中において、例えばスクリーン基板１への投射光の入射方向とは反対側の方向に複数の蒸着源を交互に配置するものとなる。これにより、光吸収膜ＡＭを照明等に対応するものとしてスクリーン基板１に対して傾いた方向から斜めに蒸着することができ、光吸収膜ＡＭを立体部２ａ上の適所に形成することができる。
【００８２】
また、上記各実施形態に示す成膜方法は、いずれもスクリーン前面に凹凸形状を有し、当該凹凸形状の一部の領域に反射膜を有する種々のスクリーンについて適応可能であり、例えば、スクリーン前面にプリズム状の面を有するものやシリンドリカル形状の凹凸形状もの等についても、上記と同様の反射膜ＲＭや光吸収膜ＡＭ等の成膜が可能である。
【符号の説明】
【００８３】
１０、１１０、２１０、３１０、９１０、１０１０…スクリーン、  １…スクリーン基板、  ２ａ…立体部、  ２…表面部、  ＲＭ…反射膜、  ＩＭ…被覆膜、  ＡＭ…光吸収膜、  ＲＳ…反射面、  １００…プロジェクタ、  ３００、４００、５００…第１製造装置、  ３２０…蒸発源装置、  ３２０ａ、３２０ｂ…射出装置、  ７００、８００…第２製造装置、  ＳＰ…スプレー
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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