(57)【要約】【課題】気相成長チェンバーに使用する気体噴射モジュールの提供。【解決手段】気体噴射モジュールは、気体進入管路に設けた気相成長チェンバーに用いるものであり、それは最低一つの気体分布体と一つの気体噴射体を備える。前記気体分布体は第一軸方向に沿って最低一つの拡散室を備え、並びにそれぞれが気体進入管路と拡散室に連結する複数の気体進入孔を備える。前記気体噴射体は、第二軸方向に沿って最低一つの噴射管路を備え、拡散室と噴射管路を連結する為の気体流入通路を備え、並びに噴射管路と気相成長チェンバーを連結する為の気体流出通路を備える。前記気体分布体と前記気体噴射体を結合することにより、拡散室は気体流入通路と噴射管路により繋がり、且つ第一軸方向と第二軸方向の相互間は非平行となる。【選択図】図６
2010126810.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
気体進入管路に設けた気相成長チェンバーに用いる気体噴射モジュールは、
第一軸方向に沿って最低一つの拡散室を備え、並びにそれぞれが気体進入管路と拡散室に連結する気体進入孔を備える最低一つの気体分布体と、
気体分布体の下方に位置し、第二軸方向に沿って最低一つの噴射管路を備え、拡散室と噴射管路を連結する為の気体流入通路を備え、並びに噴射管路と気相成長チェンバーを連結する為の気体流出通路を備える気体噴射体とにより構成され、
前記気体分布体と前記気体噴射体を結合することにより、拡散室は気体流入通路と噴射管路により繋がり、且つ第一軸方向と第二軸方向の相互間は非平行であることを特徴とする気体噴射モジュール。
【請求項２】
請求項１記載の気体噴射モジュールにおいて、前記気体分布体は拡散室の周囲に密封部品を入れる為の凹溝を繞設することを特徴とする気体噴射モジュール。
【請求項３】
請求項１記載の気体噴射モジュールにおいて、前記気体噴射体には最低一つの冷却通路を設け、冷却通路の方向は噴射管路に平行であり、しかも冷却通路と噴射管路は間隔を開けて設置することを特徴とする気体噴射モジュール。
【請求項４】
請求項３記載の気体噴射モジュールにおいて、前記気体噴射モジュールには気体噴射体両側にそれぞれ設置し気体噴射体と連結する二つの冷却側面板を更に備え、前記冷却側面板にはそれぞれが冷却通路と繋がる冷却水流路を設け、二つの冷却側面板の冷却水流路はそれぞれが冷却水を流入及び流出させることを特徴とする気体噴射モジュール。
【請求項５】
請求項１記載の気体噴射モジュールにおいて、前記気体流出通路は円柱形状で直径は0.1〜2ミリメートル間であることを特徴とする気体噴射モジュール。
【請求項６】
請求項１記載の気体噴射モジュールにおいて、気体分布体には相互に平行である第一拡散室と第二拡散室を設け、気体噴射体には相互に平行である第一噴射管路と第二噴射管路を設け、第一拡散室は第一噴射管路とだけ繋がり、第二拡散室は第二噴射管路とだけ繋がっており、前記気体噴射体には第一拡散室と第一噴射管路を連結する為の第一気体流入通路、及び第二拡散室と第二噴射管路を連結する為の第二気体流入通路を設け、しかも第一気体流入通路と第二気体流入通路は交差配置させることを特徴とする気体噴射モジュール。
【請求項７】
請求項６記載の気体噴射モジュールにおいて、前記気体分布体は第一拡散室の周囲に密封部品を入れる為の凹溝を繞設、また前記気体分布体は第二拡散室の周囲に密封部品を入れる為の凹溝を繞設することを特徴とする気体噴射モジュール。
【請求項８】
請求項６記載の気体噴射モジュールにおいて、前記気体噴射体に備える複数の第一気体流入通路は第一拡散室と繋がり、また前記気体噴射体に備える複数の第二気体流入通路は第二拡散室と繋がることを特徴とする気体噴射モジュール。
【請求項９】
請求項４記載の気体噴射モジュールにおいて、前記冷却通路の方向は第二軸方向に平行することを特徴とする気体噴射モジュール。
【請求項１０】
請求項９記載の気体噴射モジュールにおいて、前記冷却通路は長孔であることを特徴とする気体噴射モジュール。
【請求項１１】
請求項６記載の気体噴射モジュールにおいて、前記噴射管路は複数の平行する長孔であることを特徴とする気体噴射モジュール。
【請求項１２】
請求項６記載の気体噴射モジュールにおいて、前記気体噴射体上方の両端に二組の気体分布体を設置し、二組の気体分布体中間には更に一組の気体分布体を設けることを特徴とする気体噴射モジュール。
【請求項１３】
請求項１記載の気体噴射モジュールにおいて、前記気体分布体には一つ以上の気体進入孔を設けることを特徴とする気体噴射モジュール。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は気体噴射モジュールに係り、特に気相成長チェンバーに使用する気体噴射モジュールに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
膜メッキ製造工程の進歩に伴い、化学気相成長（ＣＶＤ）の膜メッキ工程において気体を均等にチェンバー中に噴射する為の気体噴射モジュール（shower module）が重要な役割を担っている。
一般の気体噴射モジュールの設計方式は図１に示す通りであり、チェンバー１０の中に積載台１１を設ける。前記積載台１１は加工したい基板１２を載せて加熱する為のものであり、前記チェンバー１０は基板１２に対応する箇所に気体進入管路１００を備え、前記気体進入管路１００と気体噴射モジュール１３は相互連結する。気体噴射モジュール１３は一般には金属平板もしくは円形板上に多数の対称孔を設けたものであり、その目的は気体（未図示）を気体進入管路１００からチェンバー１０に流入させた後、気体噴射モジュール１３によってチェンバー１０内に均等に噴射して基板１２上に付着させる。
【０００３】
しかし、前記設計を実施する場合の均等性は通常良好でない。この欠点を改善する為に、図２に示す通り、気体進入管路１００と気体噴射モジュール１３の間に緩衝エリア１４を増加する方式では、最初に進入した気体を緩衝エリア１４を経て安定させた後、更に気体噴射モジュール１３によって均等に噴射させている。
【０００４】
前記方式は低流量の状況下にあるものだが、膜メッキ工程において一旦、高流量気体を使用する場合は、単純に一層の緩衝エリア１４と気体噴射モジュール１３を使うのでは足りず、気体進入面積が固定している故に流量速度が早く気体速度もまた速くなり、気体噴射モジュール１３は中間部分の気体速度が速く両側速度が遅い状況を引き起こす。これは図３に示す通りである。よって、気体は基板１２中間の位置に溜まり、気体の不均等性を引き起こす。
【０００５】
特許文献１で開示した気体分布体モジュールは、モジュール設計において先ず予め先駆気体を混合しなければならず、よって先駆気体を予め混合できない製造工程には使用できず、しかも複雑な管路配置を使用しており、よって製造が困難で高コストとなる。
特許文献２で開示した気体を反応室に輸送する方法及び気体輸送に用いる噴射ヘッドは、モジュール設計において気体混合後の均等性は良好であるが、構造が複雑で製造コストは高い。
特許文献３は一種の分離式の気体噴射ヘッドを開示しており、モジュール設計において、気体分布の均等性は良好で先駆気体は予め混合しないが、前記気体噴射ヘッドの複雑配置は製造を困難にし、且つコスト高である。
前述欠点の他、図４を参照すると公知技術の気体噴射モジュールは全て円形であり、大型基板の膜メッキに応用する場合、制限を受けることになる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】米国特許第６９２１４３７号明細書
【特許文献２】米国特許第６４７８８７２号明細書
【特許文献３】米国特許出願公開第２００７／０１６３４４０号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明の提供する気体噴射モジュールは、気体進入管路に設けた気相成長チェンバーに用いるものであり、最低一つの気体分布体を備え、前記気体分布体は、第一軸方向に沿って最低一つの拡散室を備えており、並びにそれぞれが気体進入管路と拡散室に連結する一つもしくは複数の気体進入孔を備える。また気体噴射モジュールは気体噴射体を備え、前記気体噴射体は、第二軸方向に沿った最低一つの噴射管路、拡散室と噴射管路を連結する為の気体流入通路、並びに噴射管路と気相成長チェンバーを連結する為の気体流出通路を備える。気体分布体と気体噴射体を相互結合することにより、拡散室は気体流入通路と噴射管路により繋がり、且つ第一軸方向と第二軸方向の相互間は非平行となる。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
請求項１の発明は、気体進入管路に設けた気相成長チェンバーに用いる気体噴射モジュールは、
第一軸方向に沿って最低一つの拡散室を備え、並びにそれぞれが気体進入管路と拡散室に連結する気体進入孔を備える最低一つの気体分布体と、
気体分布体の下方に位置し、第二軸方向に沿って最低一つの噴射管路を備え、拡散室と噴射管路を連結する為の気体流入通路を備え、並びに噴射管路と気相成長チェンバーを連結する為の気体流出通路を備える気体噴射体とにより構成され、
前記気体分布体と前記気体噴射体を結合することにより、拡散室は気体流入通路と噴射管路により繋がり、且つ第一軸方向と第二軸方向の相互間は非平行であることを特徴とする気体噴射モジュールとしている。
請求項２の発明は、請求項１記載の気体噴射モジュールにおいて、前記気体分布体は拡散室の周囲に密封部品を入れる為の凹溝を繞設することを特徴とする気体噴射モジュールとしている。
請求項３の発明は、請求項１記載の気体噴射モジュールにおいて、前記気体噴射体には最低一つの冷却通路を設け、冷却通路の方向は噴射管路に平行であり、しかも冷却通路と噴射管路は間隔を開けて設置することを特徴とする気体噴射モジュールとしている。
請求項４の発明は、請求項３記載の気体噴射モジュールにおいて、前記気体噴射モジュールには気体噴射体両側にそれぞれ設置し気体噴射体と連結する二つの冷却側面板を更に備え、前記冷却側面板にはそれぞれが冷却通路と繋がる冷却水流路を設け、二つの冷却側面板の冷却水流路はそれぞれが冷却水を流入及び流出させることを特徴とする気体噴射モジュールとしている。
請求項５の発明は、請求項１記載の気体噴射モジュールにおいて、前記気体流出通路は円柱形状で直径は0.1〜2ミリメートル間であることを特徴とする気体噴射モジュールとしている。
請求項６の発明は、請求項１記載の気体噴射モジュールにおいて、気体分布体には相互に平行である第一拡散室と第二拡散室を設け、気体噴射体には相互に平行である第一噴射管路と第二噴射管路を設け、第一拡散室は第一噴射管路とだけ繋がり、第二拡散室は第二噴射管路とだけ繋がっており、前記気体噴射体には第一拡散室と第一噴射管路を連結する為の第一気体流入通路、及び第二拡散室と第二噴射管路を連結する為の第二気体流入通路を設け、しかも第一気体流入通路と第二気体流入通路は交差配置させることを特徴とする気体噴射モジュールとしている。
請求項７の発明は、請求項６記載の気体噴射モジュールにおいて、前記気体分布体は第一拡散室の周囲に密封部品を入れる為の凹溝を繞設、また前記気体分布体は第二拡散室の周囲に密封部品を入れる為の凹溝を繞設することを特徴とする気体噴射モジュールとしている。
請求項８の発明は、請求項６記載の気体噴射モジュールにおいて、前記気体噴射体に備える複数の第一気体流入通路は第一拡散室と繋がり、また前記気体噴射体に備える複数の第二気体流入通路は第二拡散室と繋がることを特徴とする気体噴射モジュールとしている。
請求項９の発明は、請求項４記載の気体噴射モジュールにおいて、前記冷却通路の方向は第二軸方向に平行することを特徴とする気体噴射モジュールとしている。
請求項１０の発明は、請求項９記載の気体噴射モジュールにおいて、前記冷却通路は長孔であることを特徴とする気体噴射モジュールとしている。
請求項１１の発明は、請求項６記載の気体噴射モジュールにおいて、前記噴射管路は複数の平行する長孔であることを特徴とする気体噴射モジュールとしている。
請求項１２の発明は、請求項６記載の気体噴射モジュールにおいて、前記気体噴射体上方の両端に二組の気体分布体を設置し、二組の気体分布体中間には更に一組の気体分布体を設けることを特徴とする気体噴射モジュールとしている。
請求項１３の発明は、請求項１記載の気体噴射モジュールにおいて、前記気体分布体には一つ以上の気体進入孔を設けることを特徴とする気体噴射モジュールとしている。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の気体噴射モジュールは、気体を噴射面全体に均等に混合し均等に分布、加工製造コストが低く、組み立てが簡単であり、また、気体分布体を交換するだけで同一の気相成長チェンバー中で先駆気体を予め混合するか予め混合しないで噴射することが可能で、異なる製造工程に応用できることを特徴とする。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】公知の気体噴射システムの側面断面図である。
【図２】公知の気体噴射システムに関するもう一つの実施例の側面断面図である。
【図３】図２の気体噴射システムを使用した場合の気流速度図である。
【図４】公知の気体噴射システムの噴射ヘッド図である。
【図５】本発明の気体噴射モジュールを気相成長室に応用した場合の側面断面図である。
【図６】本発明の気体噴射モジュールに関する気体分布体と気体噴射体の組み合わせ状態を示す立体図である。
【図７】本発明の気体噴射モジュール組み立て状態の上面図である。
【図８】本発明の気体噴射モジュール組み立て状態の下面図である。
【図９】本発明の気体噴射モジュールに関する冷却側面板取り外し後の立体図である。
【図１０】図７のＣＣ’線から見た側面図である。
【図１１】図７のＡＡ’線から見た断面図である。
【図１２】図７のＤＤ’線から見た側面図である。
【図１３】図７のＢＢ’線から見た断面図である。
【図１４】気体分布体の立体図である。
【図１５】気体分布体の立体図である。
【図１６】気体分布体の平面図である。
【図１７】気体分布体に関するもう一つの実施例の平面図である。
【図１８】気体噴射体の平面図である。
【図１９】気体噴射体の平面透視図である。
【図２０】気体分布体と気体噴射体の組み合わせ時の平面透視図である。
【図２１】図２０の局部拡大図である。
【図２２】被加工物が気相成長チェンバー中においてＸ方向に受けた気体圧力分布図である。
【図２３】被加工物が気相成長チェンバー中においてＹ方向に受けた気体圧力分布図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
本発明の気体噴射モジュールは気体を予め混合する工程と混合できない工程とに応用することのできるものである。
【００１２】
図５に本発明の気体噴射モジュールを気相成長室に応用した場合の側面断面図を示す。チェンバー２０内には積載台２１を設け、積載台２１の一方側には加工したい基板２２を載せて加熱し、積載台２１のもう一方側には昇降メカニズム２１０を連結する。昇降メカニズム２１０は積載台２１の高度を調節するものである。チェンバー２０は四角形溝３１及び上蓋３２により構成される。基板２２上方には気体分布体２３及び気体噴射体２４を設け、気体分布体２３上方にはそれぞれ第一気体進入孔２３０ａと第二気体進入孔２３０ｂを設ける。第一気体進入孔２３０ａは気体進入管路２００と繋がり、第二気体進入孔２３０ｂは気体進入管路２０１と繋がる。気体進入管路２００及び気体進入管路２０１は管路を使用して上蓋３２に設ける気体進入孔と繋がり、更にそれぞれが第一気体と第二気体を導引する（即ち気体進入管路２００及び気体進入管路２０１には二種の異なる気体が通過する）。気体分布体２３は更に気体噴射体（shower）２４を連結する。
【００１３】
図６に本発明の気体噴射モジュールに関する気体分布体と気体噴射体の組み合わせ状態を示す立体図を、図７、図８に本発明の気体噴射モジュール組み立て状態の上面図及び下面図を示す。これらの図面において気体噴射モジュールは二つの気体分布体２３と一つの気体噴射体２４を組み合わせて構成されており、各気体分布体２３上には気体進入孔２３０ａと気体進入孔２３０ｂを備える。気体進入孔２３０ａと気体進入孔２３０ｂは気体分布体２３と気相成長チェンバー中の気体進入管路２００及び気体進入管路２０１を連結する為のものである。気体噴射体２４の両側には更にそれぞれ、気体噴射体２４と連結する二つの冷却側面板（cooling block）２５を備え、各冷却側面板２５中には冷却水流路２５０（一つは冷却水流入路、もう一つは冷却水流出路）を設ける。気体噴射体２４内には若干の噴射管路２４２及び冷却通路２５１を設ける（図９参照）。冷却通路２５１の両側はそれぞれ二つの冷却側面板２５内の冷却水流路２５０と連結しており、これにより冷却水は二つの冷却側面板２５の冷却水流路２５０から進入及び排出される（即ち冷却水の流動経路は冷却水流路２５０→冷却通路２５１→冷却水流路２５０）。気体分布体２３中の拡散室２３１の周囲は複数のネジｎで気体噴射体２４と結合しており、その間にはゴムパッドを設けて気密状態を達成している。冷却側面板２５中の冷却通路２５１の周囲は複数のネジｎと気体噴射体２４が相互結合することにより（ネジｎと螺着孔２４１を結合固定）、その間にはゴムパッドを設けて気密状態を達成する。
【００１４】
図１０は図７のＣＣ’線から見た側面図である。図中の気体噴射体２４は二つの気体分布体２３を結合し、気体噴射体２４の両側にはそれぞれ二つの冷却側面板２５を結合し、冷却側面板２５はそれぞれ両端に冷却水流路２５０を開設し、冷却水流路２５０は長孔であり、それぞれ冷却水の流入及び流出動作をさせる為のものである。
【００１５】
図１１は図７のＡＡ’線から見た断面図であり、図は冷却側面板２５を含まない。図１１において気体分布体２３は二つの異なる気体を通す気体進入孔２３０ａと気体進入孔２３０ｂを貫設し、これにより気体進入管路（未図示）と二つの拡散室２３１を繋ぐ。拡散室２３１は通過する二つの異なる先駆気体（即ち第一気体、第二気体）を緩衝させ拡散させる為のものであり、気体噴射体２４には噴射管路２４２を設け、並びに気体流入通路２４３によって拡散室２３１と噴射管路２４２を結合し、同時に気体流出通路２４０の設置によって噴射管路２４２中の気体を気相成長チェンバーに噴射する（未図示）。
【００１６】
図１２は図７のＤＤ’線から見た側面図である。気体噴射体２４は冷却側面板２５に遮られて未図示である。気体噴射体２４の螺着孔２４１には複数のネジｎを螺着して冷却側面板２５を気体噴射体２４上に固定する。
【００１７】
図１３は図７のＢＢ’線から見た断面図である。図に示す通り、気体を均等分布させる為に噴射管路２４２の分布は密→粗→密の方式を採っているが、噴射管路２４２を等間隔分布にすることも可能である。噴射管路２４２は間隔を空けて拡散室２３１と繋がっている（即ち同一気体とだけ繋がる）。また、若干の冷却通路２５１は気体噴射体２４中に設置し噴射管路２４２と平行を成している。
【００１８】
図１４及び図１５は本発明に使用する気体分布体の立体図であり、それはそれぞれ二つの異なる視角から示したものである。気体分布体２３は拡散室として用いる空間（即ち拡散室２３１）を備える。先駆気体の漏出を防止し密封効果を達成する為に、拡散室２３１の周囲には密封部品（例えばＯ型リング等、未図示）を入れる為の凹溝２３２を繞設する。組立時、気体分布体２３に設ける拡散室２３１の面は下向き（図１４参照）にし気体噴射体２４と緊密結合させる。
【００１９】
図１６は気体分布体の平面図、図１７は気体分布体に関するもう一つの実施例の平面図である。図１６において気体分布体２３には二つの相互に独立する拡散室２３１を設け、拡散室２３１にはそれぞれ気体進入孔２３０ａと気体進入孔２３０ｂを備え、それぞれに凹溝２３２を繞設する。よって、予め混合できない二種の先駆気体を備える噴射工程に応用が可能となる。図１７の気体分布体２３は単一の拡散室２３１を設け、並びに凹溝２３２を繞設したものである。拡散室２３１には気体進入孔２３０ａ及び気体進入孔２３０ｂを備え、よって、予め混合する必要のある二種の先駆気体を備える噴射工程に応用が可能となる。
【００２０】
図１８は気体噴射体の平面図である。気体噴射体２４と気体分布体２３を連結した一方側には気体流入通路２４３を設け、しかも気体流入通路２４３は気体噴射体２４中に設けた噴射管路（未図示、後述詳細）に対応させる。気体流入通路２４３の位置は要望に応じて均等設置もしくは交差設置が可能である（本実施例図では交差設置を採用する）。
【００２１】
図１９は気体噴射体の平面透視図である。図中の噴射管路２４２の実際における製作方式は次の通りである。即ち、気体噴射体２４（一般には金属体）中に必要な噴射管路２４２（本実施例では噴射管路２４２ａと噴射管路２４２ｂは一組の噴射管路２４２である）を設け、並びにそれぞれを噴射管路２４２上にて穴を開ける方式で気体流入通路２４３と気体流出通路２４０を設け（気体流入通路２４３と気体流出通路２４０はそれぞれ気体噴射体２４の二つの相対側面に設ける）、その後、噴射管路２４２の両端を密閉する。また、気体噴射体２４中には冷却水を通過させる為の若干の冷却通路２５１を設けてある故、気体噴射体２４自身が温度過度上昇の為に噴射する気体によりメッキされて気体流出通路２４０を塞いでしまうのを防ぐ作用がある。また、気体噴射体２４の両側には二つの冷却側面板２５を連結し、各冷却側面板２５中には冷却水流路２５０を設け、冷却通路２５１の両端はそれぞれが進入及び排出をする二つの冷却水流路２５０に繋がっており、冷却水は気体噴射体２４に絶え間なく流れ温度を降下させる。
【００２２】
図２０は気体分布体と気体噴射体の組み合わせ時の平面透視図で、図２１は図２０の局部拡大図である。図に示す通り、噴射管路２４２ａと噴射管路２４２ｂは一組の噴射管路２４２を構成し、拡散室２３１ａと拡散室２３１ｂはそれぞれ予め混合できない二種の先駆気体にそれぞれ繋がっている。図からわかる通り、気体分布体２３と気体噴射体２４を結合した後、気体流入通路２４３ａと気体流入通路２４３ｂの交差配置設計（即ち噴射管路２４２ａは拡散室２３１ａ中に噴射する先駆気体に用いる故、気体流入通路２４３ａは拡散室２３１ａと第一噴射管路２４２ａを繋ぐ。また噴射管路２４２ｂは拡散室２３１ｂ中に噴射する別の先駆気体に用いる故、気体流入通路２４３ｂは拡散室２３１ｂと第二噴射管路２４２ｂを繋ぐ）により、異なる気体を均等に混合することが可能となる。並びに気体は先ずＸ方向に気体分布体２３の拡散室２３１内に進入し、更にＹ方向に気体噴射体２４の噴射管路２４２内に進入する故、異なる気体は噴射平面全体に均等に分布される。また、二種の先駆気体は気体分布体２３と気体噴射体２４中でぶつかることがない為、気体噴射体２４が均等に噴射した後に初めてぶつかって反応を起こす。本実施例では二組の気体分布体２３を使ったが、気体噴射体２４上方に一組だけを設置するか三組以上の気体分布体２３を設置することも可能である。
【００２３】
図２２と図２３は被加工物が気相成長チェンバー中においてＸ方向及びＹ方向に受けた気体圧力分布図である。図に示す通り、Ｘ方向及びＹ方向に受けた最大圧力と最小圧力の比率は約1.02前後、誤差は約2.3％であり、本発明の気相成長チェンバーが気体を被加工物上に非常に均等に分布することを示している。
【００２４】
本発明の実施例において拡散室の延伸する軸方向と噴射管路の延伸する軸方向とは相互に垂直で直角に交わっているが（Ｘ方向とＹ方向）、これは例を示しただけであり、使用者は需要に応じて設計を変化させることが可能であり、重要な点は、拡散室の延伸する軸方向と噴射管路の延伸する軸方向の相互間は平行しないことにある。同時に気体分布体２３の気体進入孔２３０ａ及び気体進入孔２３０ｂの数量は一つに限定されず、本発明の実施例は一つであるが、二つ以上を採用することも可能である。図５を例にとると、上蓋３２に一つのジョイント部品を取り付けて気体を一つの管路に通すが、二つ以上の管路を結合することも可能であり、同じ気体を気体分布体２３上の二つ以上の気体進入孔に導引し、更にそれぞれを拡散室２３１内に流入する。拡散室の数量は先駆気体が予め混合できるかどうか及び使用者の需要に応じて設計する（即ち、二つの気体進入孔を単一の拡散室に対応させることが可能であり、二つの気体進入孔を二つの拡散室に対応させることも可能であり、このように類推すると三つ以上の先駆気体の使用も可能である）。
【００２５】
また、気体が気体流入通路から噴射管路に直接流入した後、気体流出通路より不均等に噴出されるのを防止する為に、気体流入通路と気体流出通路を非相対的に設置し気体流出通路の直径を0.1〜2ミリメートル間に設定するのが良好である。
【００２６】
本発明の実施例において気体噴射体中の冷却通路は線形を成し噴射管路に平行に配置されているが、噴射管路に非平行に配置することも可能である。（即ち、冷却通路と噴射管路を上下方式に配置すると平行でなくなる。但しこの状態での気体噴射体は比較的厚みがありコストが高く体積が大きく重い他、実際の生産要求には不利である）。
【００２７】
上述した通り本発明の気体噴射モジュールは気体を噴射面全体に均等に混合し均等に分布、加工製造コストが低く（一般加工に通常使われるフライスやドリルが必要なだけである）、組み立てが簡単である長所を持つ。また、気体分布体を交換するだけで同一の気相成長チェンバー中で先駆気体を予め混合するか予め混合しないで噴射することが可能で、異なる製造工程に応用でき、公知技術と比較し顕著な進歩性が見られ、特許許可を得て関連産業に従事する者に利用してもらうことにより産業発展を促進できるものである。
【符号の説明】
【００２８】
１０  チェンバー
１１  積載台
１２  基板
１３  気体噴射モジュール
１４  緩衝エリア
２０  チェンバー
２１  積載台
２２  基板
２３  気体分布体
２４  気体噴射体
２５  冷却側面板
３１  四角形溝
３２  上蓋
１００  気体進入管路
２００  気体進入管路
２０１  気体進入管路
２１０  昇降メカニズム
２３０ａ  気体進入孔
２３０ｂ  気体進入孔
２３１  拡散室
２３１ａ  拡散室
２３１ｂ  拡散室
２３２  凹溝
２４０  気体流出通路
２４１  螺着孔
２４２  噴射管路
２４２ａ  噴射管路
２４２ｂ  噴射管路
２４３  気体流入通路
２４３ａ  気体流入通路
２４３ｂ  気体流入通路
２５０  冷却水流路
２５１  冷却通路
ｎ        ネジ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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