(57)【要約】      （修正有）【課題】放射線に対する透明性が高く、感度、解像度等のレジストとしての基本物性に優れる。【解決手段】アルカリ不溶性またはアルカリ難溶性であって、下記式（１）で表される酸解離性基を有する繰り返し単位と、下記式（２）で表されるラクトン構造を有する繰り返し単位との２成分のみからなる共重合体である酸の作用によりアルカリ易溶性となる樹脂成分と、放射線により酸を発生する酸発生成分とを含有するポジ型レジスト組成物。2010190993.tif 000012【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
アルカリ不溶性またはアルカリ難溶性であって、酸の作用によりアルカリ易溶性となる樹脂成分と、放射線により酸を発生する酸発生成分とを含有するポジ型レジスト組成物であって、前記樹脂成分が下記式（１）で表される酸解離性基を有する繰り返し単位と、下記式（２）で表されるラクトン構造を有する繰り返し単位との２成分のみからなる共重合体であることを特徴とするポジ型レジスト組成物。
【化７】
2010190993.tif 000010
（式（１）および式（２）において、Ｒ1はそれぞれ同一でも異なっていてもよく、水素原子、炭素数１〜１０の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、または、炭素数１〜４のフルオロアルキル基を表し、式（１）において、Ｒ2は炭素数１〜１０の直鎖状または分岐状のアルキル基を表し、ｎは１〜９の整数、ｍは０〜２の整数を表す。）
【請求項２】
前記式（１）で表される酸解離性基を有する繰り返し単位は、共重合体を構成する全繰り返し単位に対して、３０〜７０モル％含有することを特徴とする請求項１記載のポジ型レジスト組成物。
【請求項３】
前記放射線により酸を発生する酸発生成分がスルホニウム塩化合物であることを特徴とする請求項１または請求項２記載のポジ型レジスト組成物。
【請求項４】
前記スルホニウム塩化合物が、下記式（３）で表されることを特徴とする請求項３記載のポジ型レジスト組成物。
【化８】
2010190993.tif 000011
（式（３）において、Ｒ3は水素原子、フッ素原子、水酸基、炭素原子数１〜１０の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素数１〜１０の直鎖状もしくは分岐状のアルコキシル基、または、炭素数２〜１１の直鎖状もしくは分岐状のアルコキシカルボニル基を表し、Ｒ4は相互に独立に炭素数１〜１０の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、または、２個のＲ4が互いに結合して炭素数２〜１０の２価の基を形成しており、該２価の基は置換されていてもよく、ｋは０〜２の整数を表し、
Ｘ−で表されるアニオンにおいて、Ｒ5は水素原子、フッ素原子、または置換されていてもよい炭素数１〜１２の炭化水素基を表し、ｐは１〜１０の整数であり、Ｒ6は相互に独立に炭素数１〜１０の直鎖状もしくは分岐状のフッ素原子を含有するアルキル基を表すか、または、２個のＲ6が互いに結合して炭素数２〜１０の２価のフッ素原子を含有する基を形成しており、該２価の基は置換されていてもよい。）
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ポジ型レジスト組成物に関する。更に詳しくは、ＫｒＦエキシマレーザー、ＡｒＦエキシマレーザーに代表される遠紫外線、シンクロトロン放射線等のＸ線、電子線等の荷電粒子線の如き各種の放射線を使用する微細加工に有用な化学増幅型レジストとして好適に使用することができるポジ型レジスト組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
集積回路素子の製造に代表される微細加工の分野においては、より高い集積度を得るために、最近では０．２０μｍ以下のレベルでの微細加工が可能なリソグラフィー技術が必要とされている。しかし、従来のリソグラフィープロセスでは、一般に放射線としてｉ線等の近紫外線が用いられているが、この近紫外線では、サブクオーターミクロンレベルの微細加工が極めて困難であると言われている。そこで、０．２０μｍ以下のレベルでの微細加工を可能とするために、より波長の短い放射線の利用が検討されている。
このような短波長の放射線としては、例えば、水銀灯の輝線スペクトル、エキシマレーザーに代表される遠紫外線、Ｘ線、電子線等を挙げることができるが、これらのうち、特にＫｒＦエキシマレーザー（波長２４８ｎｍ）或いはＡｒＦエキシマレーザー（波長１９３ｎｍ）が注目されている。
【０００３】
このようなエキシマレーザーによる照射に適したレジストとして、酸解離性官能基を有する樹脂成分と、放射線の照射（以下、「露光」という。）により酸を発生する酸発生成分（以下、「酸発生剤」ともいう。）と、による化学増幅効果を利用したレジスト（以下、「化学増幅型レジスト」という。）が数多く提案されている。
この化学増幅型レジストとしては、例えば、カルボン酸のｔ−ブチルエステル基またはフェノールのｔ−ブチルカーボナート基を有する重合体と酸発生剤とを含有するレジストが提案されている（特許文献１参照）。このレジスト組成物は、露光により発生した酸の作用により、重合体中に存在するｔ−ブトキシカルボニル基或いはｔ−ブチルカーボナート基が解離して、該重合体がカルボキシル基或いはフェノール性水酸基からなる酸性基を有するようになり、その結果、レジスト被膜の露光領域がアルカリ現像液に易溶性となる現象を利用したものである。
【０００４】
ところで、従前の化学増幅型レジストでは、フェノール系樹脂をベースにするものがあるが、このような樹脂の場合、放射線として遠紫外線を使用すると、樹脂中の芳香族環に起因して遠紫外線が吸収されるため、露光された遠紫外線がレジスト被膜の下層部まで十分に到達できないという欠点がある。そのため、露光量がレジスト被膜の上層部では多く、下層部では少なくなり、現像後のレジストパターンのパターンプロファイルが上部で細く、下部にいくほど太い台形状になってしまい、十分な解像度が得られないなどの問題があった。その上、現像後のパターンプロファイルが台形状となった場合、次の工程、即ちエッチングやイオンの打ち込み等を行う際に、所望の寸法精度が達成できず、問題となっていた。しかも、パターンプロファイル上部の辺と側壁とがほぼ直角になる矩形状でないと、ドライエッチングによるレジストの消失速度が速くなってしまい、エッチング条件の制御が困難になるという問題もあった。
【０００５】
一方、レジストのパターンプロファイルは、レジスト被膜の放射線透過率を高めることにより改善することができる。例えば、ポリメチルメタクリレートに代表される（メタ）アクリレート系樹脂は、遠紫外線に対しても透明性が高く、放射線透過率の観点から非常に好ましい樹脂であり、例えばメタクリレート系樹脂を使用した化学増幅型レジストが提案されている（特許文献２参照）。
しかしながら、この組成物は、微細加工性能の点では優れているものの、芳香族環をもたないため、ドライエッチング耐性が低いという欠点があり、この場合も高精度のエッチング加工を行うことが困難であり、放射線に対する透明性とドライエッチング耐性とを兼ね備えたものとは言えない。
【０００６】
また、化学増幅型レジストについて、放射線に対する透明性を損なわないで、ドライエッチング耐性を改善する方策の一つとして、レジスト中の樹脂成分に、芳香族環に代えて脂肪族環を導入する方法が知られており、例えば脂肪族環を有する（メタ）アクリレート系樹脂を使用した化学増幅型レジストが提案されている（特許文献３参照）。
このレジストでは、樹脂成分が有する酸解離性官能基として、例えば、テトラヒドロピラニル基等のアセタール系官能基などの従来の酸により比較的解離し易い官能基や、例えば、ｔ−ブチルエステル基、ｔ−ブチルカーボネート基等のｔ−ブチル系官能基などの酸により比較的解離し難い官能基が用いられている。
しかしながら、前者の比較的解離し易い酸解離性官能基を有する樹脂成分の場合、レジストの基本物性、特に感度やパターンプロファイルは良好であるが、組成物としての保存安定性に難点がある。また、後者の比較的解離し難い酸解離性官能基を有する樹脂成分では、逆に保存安定性は良好であるが、レジストの基本物性、特に感度やパターンプロファイルが損なわれるという欠点がある。更に、このレジスト中の樹脂成分には脂肪族環が導入されているため、樹脂自体の疎水性が非常に高くなり、基板に対する接着が不十分になるという問題があった。
【０００７】
また、樹脂自体の現像液への親和性、ならびに、基板に対する接着性を向上させるために、樹脂中に官能基を導入する提案がなされており、例えば、ラクトン骨格を有する（メタ）アクリレートモノマーと酸解離性官能基を有する（メタ）アクリレートモノマーとを共重合した樹脂を使用した化学増幅型レジストが提案されている（特許文献４、特許文献５参照）。しかしながら、近年における集積回路素子の微細化を反映して、解像度、パターンプロファイルのより厳密な制御が求められているが、これに対して充分に満足できていない問題があった。
【０００８】
更に、化学増幅型レジストにおいては、酸発生剤がレジストとしての機能に大きな影響を及ぼすことが知られており、今日では、露光による酸発生の量子収率が高く、高感度である等の理由から、オニウム塩化合物が化学増幅レジストの酸発生剤として広く使用されている。このオニウム塩化合物としては、例えば、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリフェニルスルホニウムナフタレンスルホネート、シクロヘキシルメチル（２−オキソシクロヘキシル）スルホニウムトリフルオロメタンスルホネート等が使用されている。
しかし、これらの従来のオニウム塩化合物は、一般に感度の点で満足できず、また感度が比較的高い場合でも、解像度、パターンプロファイル等を総合したレジスト性能の点で未だ十分とは言えない。
このような状況の下、集積回路素子における微細化の進行に対応しうる技術開発の観点から、遠紫外線に代表される短波長の放射線に適応可能で、放射線に対する透明性が高く、かつ感度、解像度、パターンプロファイル等のレジストとしての基本物性に優れる化学増幅型レジストが強く求められている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開昭５９−４５４３９号公報
【特許文献２】特開平４−２２６４６１号公報
【特許文献３】特開平７−２３４５１１号公報
【特許文献４】特開平２０００−２６４４６号公報
【特許文献５】特開平２００５−６８４１８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明は上記課題に対処するためになされたもので、放射線に対する透明性が高く、感度、解像度等のレジストとしての基本物性に優れたポジ型レジスト組成物の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明のポジ型レジスト組成物は、アルカリ不溶性またはアルカリ難溶性であって、酸の作用によりアルカリ易溶性となる樹脂成分と、放射線により酸を発生する酸発生成分とを含有し、上記樹脂成分が下記式（１）で表される酸解離性基を有する繰り返し単位と、下記式（２）で表されるラクトン構造を有する繰り返し単位との２成分のみからなる共重合体であることを特徴とする。
【化１】
2010190993.tif 000002
式（１）および式（２）において、Ｒ1はそれぞれ同一でも異なっていてもよく、水素原子、炭素数１〜１０の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、または、炭素数１〜４のフルオロアルキル基を表し、式（１）において、Ｒ2は炭素数１〜１０の直鎖状または分岐状のアルキル基を表し、ｎは１〜９の整数、ｍは０〜２の整数を表す。
また、本発明のポジ型レジスト組成物において、上記式（１）で表される酸解離性基を有する繰り返し単位は、共重合体を構成する全繰り返し単位に対して、３０〜７０モル％含有することを特徴とする。
【００１２】
また、本発明のポジ型レジスト組成物において、上記放射線により酸を発生する酸発生成分がスルホニウム塩化合物であることを特徴とする。特に、上記スルホニウム塩化合物が、下記式（３）で表されることを特徴とする。
【化２】
2010190993.tif 000003
式（３）において、ｋは０〜２の整数であり、Ｒ3は水素原子、フッ素原子、水酸基、炭素原子数１〜１０の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素数１〜１０の直鎖状もしくは分岐状のアルコキシル基、または、炭素数２〜１１の直鎖状もしくは分岐状のアルコキシカルボニル基を表し、Ｒ4は相互に独立に炭素数１〜１０の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、または、２個のＲ4が互いに結合して炭素数２〜１０の２価の基を形成しており、該２価の基は置換されていてもよい。
Ｘ−で表されるアニオンにおいて、Ｒ5は水素原子、フッ素原子、または置換されていてもよい炭素数１〜１２の炭化水素基を表し、ｐは１〜１０の整数であり、Ｒ6は相互に独立に炭素数１〜１０の直鎖状もしくは分岐状のフッ素原子を含有するアルキル基を表すか、または、２個のＲ6が互いに結合して炭素数２〜１０の２価のフッ素原子を含有する基を形成しており、該２価の基は置換されていてもよい。
【発明の効果】
【００１３】
本発明のポジ型レジスト組成物は、上記式（１）および式（２）で表される繰り返し単位のみからなる共重合体を樹脂成分とするので、活性放射線、特に、ＡｒＦエキシマレーザー（波長１９３ｎｍ）に代表される遠紫外線に感応する化学増幅型レジストとして、放射線に対する透明性、解像度、感度等が高いといったレジストとしての基本的性能を有しているだけでなく、第一に、パターン形状が良好であり、特にホールパターンにおいては、円形性が極めて良好であり、今後微細化が進むと予想される半導体デバイスの製造に極めて好適に使用することができる。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、本発明を詳細に説明する。なお本明細書において、「（メタ）アクリル」とは、アクリルおよびメタクリルを意味する。また、「（メタ）アクリレート」とは、アクリレートおよびメタクリレートを意味する。
本発明のポジ型レジスト組成物は、アルカリ不溶性またはアルカリ難溶性であって、酸の作用によりアルカリ易溶性となる樹脂成分（Ａ）と、放射線により酸を発生する酸発生成分（Ｂ）と、その他の成分（Ｃ）とを溶剤（Ｄ）に溶解して得られる。
【００１５】
［１］樹脂成分（Ａ）
樹脂成分（Ａ）は、アルカリ不溶性またはアルカリ難溶性の樹脂であって、酸の作用によりアルカリ可溶性となる樹脂である。ここでいう「アルカリ不溶性またはアルカリ難溶性」とは、樹脂成分（Ａ）を含有するレジスト組成物から形成されたレジスト被膜からレジストパターンを形成する際に採用されるアルカリ現像条件下で、当該レジスト被膜の代わりに樹脂成分（Ａ）のみを用いた被膜を現像した場合に、当該被膜の初期膜厚の５０％以上が現像後に残存する性質を意味する。
【００１６】
樹脂成分（Ａ）は、上記式（１）で表される繰り返し単位（以下、「繰り返し単位（１）」という。）と上記式（２）で表される繰り返し単位（以下、「繰り返し単位（２）」という。）との２成分のみからなる共重合体である。
式（１）および式（２）において、Ｒ1はそれぞれ同一でも異なっていてもよく、水素原子、炭素数１〜１０の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、または、炭素数１〜４のフルオロアルキル基を表す。
炭素数１〜１０の直鎖状もしく分岐状のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、２−メチルプロピル基、１−メチルプロピル基、ｔ−ブチル基等を挙げることができる。
また、炭素数１〜４のフルオロアルキル基としては、例えば、トリフルオロメチル基、パーフルオロエチル基、パーフルオロブチル基等を挙げることができる。
式（１）において、Ｒ2は炭素数１〜１０の直鎖状または分岐状のアルキル基を表す。
炭素数１〜１０の直鎖状または分岐状のアルキル基としては、Ｒ1の例示として挙げたアルキル基を挙げることができる。
式（１）におけるｎは１〜９の整数、好ましくは１〜７の整数、より好ましくは２または３であり、式（２）におけるｍは０〜２の整数、好ましくは０または１である。
【００１７】
繰り返し単位（１）および繰り返し単位（２）は、単量体としての（メタ）アクリル酸誘導体を重合することで生成する。
繰り返し単位（１）を与える具体的な単量体としては、例えば、下式の単量体（１−１）〜（１−１２）等を挙げることができる。
【化３】
2010190993.tif 000004
【００１８】
繰り返し単位（２）を与える具体的な単量体としては、例えば、下式の単量体（２−１）〜（２−４）等を挙げることができる。
【化４】
2010190993.tif 000005
【００１９】
本発明に使用できる樹脂成分としての共重合体は、繰り返し単位（１）および繰り返し単位（２）のみで構成される。共重合体を構成する全繰り返し単位に対して、繰り返し単位（１）は３０〜７０モル％含有する。繰り返し単位（１）が３０モル％未満では解像度の劣化ならびに現像液への溶解性が低下する傾向にあり、７０モル％をこえるとレジストとしての現像性が低下する傾向がある。
【００２０】
本発明に使用できる樹脂成分（Ａ）は、例えば、各繰り返し単位に対応する単量体の混合物を、ヒドロパーオキシド類、ジアルキルパーオキシド類、ジアシルパーオキシド類、アゾ化合物等のラジカル重合開始剤を使用し、必要に応じて連鎖移動剤の存在下、適当な溶媒中で重合することにより調製することができる。
重合に使用される溶媒としては、例えば、ｎ−ペンタン、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、ｎ−オクタン、ｎ−ノナン、ｎ−デカン等のアルカン類；シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン、デカリン、ノルボルナン等のシクロアルカン類；ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、クメン等の芳香族炭化水素類；クロロブタン類、ブロモヘキサン類、ジクロロエタン類、ヘキサメチレンジブロミド、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類；酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸ｉ−ブチル、プロピオン酸メチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等の飽和カルボン酸エステル類；γ−ブチロラクトン等のアルキルラクトン類；テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン類、ジエトキシエタン類等のエーエル類；２−ブタノン、２−ヘプタノン、メチルイソブチルケトン等のアルキルケトン類；シクロヘキサノン等のシクロアルキルケトン類；２−プロパノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール類等を挙げることができる。これらの溶媒は、単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００２１】
重合における反応温度は、通常４０〜１２０℃、好ましくは５０〜１００℃である。また、重合における反応時間は、通常１〜４８時間、好ましくは１〜２４時間である。
【００２２】
また、樹脂成分（Ａ）は、ハロゲン、金属等の不純物が少ないものであることが好ましく、更に、残留モノマーやオリゴマー成分が既定値以下、例えば、ＨＰＬＣで０．１質量％以下等であることが好ましい。それにより、レジストとしての感度、解像度、プロセス安定性、パターン形状等を更に改善することができるとともに、液中異物や感度等の経時変化が無いレジストを提供することができる。
樹脂成分（Ａ）の精製法としては、例えば、以下の方法が挙げられる。
金属等の不純物を除去する方法としては、ゼータ電位フィルターを用いて樹脂溶液中の金属を吸着させる方法や、蓚酸やスルホン酸等の酸性水溶液で樹脂溶液を洗浄することで金属をキレート状態にして除去する方法等が挙げられる。
残留モノマーやオリゴマー成分を規定値以下に除去する方法としては、水洗や適切な溶媒を組み合わせることにより残留モノマーやオリゴマー成分を除去する液々抽出法、特定の分子量以下のもののみを抽出除去する限外濾過等の溶液状態での精製方法や、樹脂溶液を貧溶媒へ滴下することで樹脂を貧溶媒中に凝固させることにより残留モノマー等を除去する再沈澱法や、濾別した樹脂スラリー貧溶媒で洗浄する等の固体状態での精製方法がある。尚、これらの方法は組み合わせて用いることができる。
また、上記再沈澱法に用いられる貧溶媒は、精製する樹脂の物性等により適宜選択される。
【００２３】
［２］酸発生成分（Ｂ）
酸発生成分（Ｂ）は、露光により酸を発生するものであり、光酸発生剤として機能する。この酸発生剤は、露光により発生した酸によって、レジスト組成物に含有される樹脂成分（Ａ）中に存在する酸解離性基を解離させて、すなわち保護基を脱離させて、樹脂成分（Ａ）をアルカリアルカリ可溶性とする。そして、その結果、レジスト被膜の露光部がアルカリ現像液に易溶性となり、これによりポジ型のレジストパターンが形成される。
【００２４】
酸発生成分（Ｂ）としては、スルホニウム塩化合物が挙げられ、特に上記式（３）で表されるスルホニウム塩化合物が好ましい。
式（３）のＲ3として表される炭素原子数１〜１０の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、２−メチルプロピル基、１−メチルプロピル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ネオペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基等を挙げることができる。これらのアルキル基のうち、メチル基、エチル基、ｎ−ブチル基、ｔ−ブチル基等が好ましい。
また、式（３）のＲ3として表される炭素数１〜１０の直鎖状もしくは分岐状のアルコキシル基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、２−メチルプロポキシ基、１−メチルプロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、ｎ−ヘプチルオキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、２−エチルヘキシルオキシ基、ｎ−ノニルオキシ基、ｎ−デシルオキシ基等を挙げることができる。これらのアルコキシル基のうち、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基等が好ましい。
また、式（３）のＲ3として表される炭素数２〜１１の直鎖状もしくは分岐状のアルコキシカルボニル基としては、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基、ｉ−プロポキシカルボニル基、ｎ−ブトキシカルボニル基、２−メチルプロポキシカルボニル基、１−メチルプロポキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基、ｎ−ペンチルオキシカルボニル基、ネオペンチルオキシカルボニル基、ｎ−ヘキシルオキシカルボニル基、ｎ−ヘプチルオキシカルボニル基、ｎ−オクチルオキシカルボニル基、２−エチルヘキシルオキシカルボニル基、ｎ−ノニルオキシカルボニル基、ｎ−デシルオキシカルボニル基等を挙げることができる。これらのアルコキシカルボニル基のうち、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−ブトキシカルボニル基等が好ましい。
【００２５】
式（３）のＲ4として表される炭素数１〜１０の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、２−メチルプロピル基、１−メチルプロピル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ネオペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基等を挙げることができる。
また、式（３）の２個のＲ4が互いに結合して形成される炭素数２〜１０の２価の基としては、式（３）中の硫黄原子とともに５員または６員の環、特に好ましくは５員の環であるテトラヒドロチオフェン環を形成する基が好ましい。また、上記２価の基に対する置換基としては、例えば、ヒドロキシル基、カルボキシル基、シアノ基、ニトロ基、アルコキシル基、アルコキアルキル基、アルコキシカルボニル基、アルコキシカルボニルオキシ基等を挙げることができる。
式（３）におけるＲ4としては、メチル基、エチル基、フェニル基、４−メトキシフェニル基、１−ナフチル基、２個のＲ4が互いに結合して硫黄原子とともにテトラヒドロチオフェン環構造を形成する２価の基が好ましい。
【００２６】
上記式（３）の好ましいカチオン部位としては、１−ナフチルジメチルスルホニウムカチオン、１−ナフチルジエチルスルホニウムカチオン、１−（４−ヒドロキシナフタレン−１−イル）ジメチルスルホニウムカチオン、１−（４−メチルナフタレン−１−イル）ジメチルスルホニウムカチオン、１−（４−メチルナフタレン−１−イル）ジエチルスルホニウムカチオン、１−（４−シアノナフタレン−１−イル）ジメチルスルホニウムカチオン、１−（４−シアノナフタレン−１−イル）ジエチルスルホニウムカチオン、１−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）テトラヒドロチオフェニウムカチオン、１−（４−メトキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウムカチオン、１−（４−エトキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウムカチオン、１−（４−ｎ−プロポキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウムカチオン、１−（４−ｎ−ブトキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウムカチオン、２−（７−メトキシナフタレン−２−イル）テトラヒドロチオフェニウムカチオン、２−（７−エトキシナフタレン−２−イル）テトラヒドロチオフェニウムカチオン、２−（７−ｎ−プロポキシナフタレン−２−イル）テトラヒドロチオフェニウムカチオン、２−（７−ｎ−ブトキシナフタレン−２−イル）テトラヒドロチオフェニウムカチオン等を挙げることができる。
【００２７】
式（３）のＸ−で表されるアニオンにおいて、Ｒ5で表される炭素数１〜１２の炭化水素基としては、炭素数１〜１２のアルキル基、シクロアルキル基、有橋脂環式炭化水素基が好ましい。具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、２−メチルプロピル基、１−メチルプロピル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ネオペンチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、ノルボルニル基、ノルボニルメチル基、ヒドロキシノルボルニル基、アダマンチル基等を挙げることができる。ｐは１〜１０の整数である。
また、Ｒ6で表される炭素数１〜１０の直鎖状もしくは分岐状のフッ素原子を含有するアルキル基としては、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、ノナフルオロブチル基、ドデカフルオロペンチル基、パーフルオロオクチル基等を挙げることができる。
また、２個のＲ6が互いに結合して形成される炭素数２〜１０の２価のフッ素原子を含有する基としては、テトラフルオロエチレン基、ヘキサフルオロプロピレン基、オクタフルオロブチレン基、デカフルオロペンチレン基、ウンデカフルオロヘキシレン基等を挙げることができる。
【００２８】
Ｘ−で表される好ましいアニオンとしては、トリフルオロメタンスルホネートアニオン、パーフルオロ−ｎ−ブタンスルホネートアニオン、パーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネートアニオン、２−（ビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネートアニオン、２−（ビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−イル）−１，１−ジフルオロエタンスルホネートアニオン、１−アダマンチルスルホネートアニオンおよび下記式（３−１）〜（３−７）で表されるアニオン等を挙げることができる。
【化５】
2010190993.tif 000006
【００２９】
酸発生成分（Ｂ）は上記に例示されたカチオンおよびアニオンの組合せにより与えられるが、その組合せは特に限定されるものでなく、本発明において、酸発生成分（Ｂ）は、単独でもまたは２種以上を混合しても使用することができる。
【００３０】
また、本発明における酸発生成分（Ｂ）は、上記酸発生成分（Ｂ）以外の他の酸発生成分を併用することができる。他の酸発生成分としては、例えば、オニウム塩化合物、ハロゲン含有化合物、ジアゾケトン化合物、スルホン化合物、スルホン酸化合物等を挙げることができる。これらの他の酸発生剤としては、例えば、下記のものを挙げることができる。
オニウム塩化合物としては、例えば、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、ホスホニウム塩、ジアゾニウム塩、ピリジニウム塩等を挙げることができる。オニウム塩化合物の具体例としては、ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、ジフェニルヨードニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、ジフェニルヨードニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、ジフェニルヨードニウム２−ビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−イル−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウム２−ビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−イル−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、シクロヘキシル・２−オキソシクロヘキシル・メチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、ジシクロヘキシル・２−オキソシクロヘキシルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、２−オキソシクロヘキシルジメチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート等を挙げることができる。
【００３１】
ハロゲン含有化合物としては、例えば、ハロアルキル基含有炭化水素化合物、ハロアルキル基含有複素環式化合物等を挙げることができる。ハロゲン含有化合物の具体例としては、フェニルビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、４−メトキシフェニルビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、１−ナフチルビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン等の（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン誘導体や、１，１−ビス（４−クロロフェニル）−２，２，２−トリクロロエタン等を挙げることができる。
【００３２】
ジアゾケトン化合物としては、例えば、１，３−ジケト−２−ジアゾ化合物、ジアゾベンゾキノン化合物、ジアゾナフトキノン化合物等を挙げることができる。ジアゾケトンの具体例としては、１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホニルクロリド、１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホニルクロリド、２，３，４，４'−テトラヒドロキシベンゾフェノンの１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステルまたは１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、１，１，１−トリス（４−ヒドロキシフェニル）エタンの１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステルまたは１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル等を挙げることができる。
【００３３】
スルホン化合物としては、例えば、β−ケトスルホン、β−スルホニルスルホンや、これらの化合物のα−ジアゾ化合物等を挙げることができる。スルホン化合物の具体例としては、４−トリスフェナシルスルホン、メシチルフェナシルスルホン、ビス（フェニルスルホニル）メタン等を挙げることができる。
スルホン酸化合物として、例えば、アルキルスルホン酸エステル、アルキルスルホン酸イミド、ハロアルキルスルホン酸エステル、アリールスルホン酸エステル、イミノスルホネート等を挙げることができる。スルホン酸化合物の具体例としては、ベンゾイントシレート、ピロガロールのトリス（トリフルオロメタンスルホネート）、ニトロベンジル−９，１０−ジエトキシアントラセン−２−スルホネート、トリフルオロメタンスルホニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボジイミド、ノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボジイミド、パーフルオロ−ｎ−オクタンスルホニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボジイミド、２−ビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−イル−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボジイミド、Ｎ−（トリフルオロメタンスルホニルオキシ）スクシンイミド、Ｎ−（ノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホニルオキシ）スクシンイミド、Ｎ−（パーフルオロ−ｎ−オクタンスルホニルオキシ）スクシンイミド、Ｎ−（２−ビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−イル−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホニルオキシ）スクシンイミド、１，８−ナフタレンジカルボン酸イミドトリフルオロメタンスルホネート、１，８−ナフタレンジカルボン酸イミドノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、１，８−ナフタレンジカルボン酸イミドパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート等を挙げることができる。
上記酸発生成分は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
【００３４】
本発明のレジスト組成物において、酸発生成分（Ｂ）と他の酸発生成分の合計使用量は、レジストとしての感度および現像性を確保する観点から、樹脂成分（Ａ）１００質量部に対して、０．１〜２０質量部であることが好ましく、０．５〜１０質量部であることが更に好ましい。この場合、合計使用量が０．１質量部未満では、感度および現像性が低下する傾向があり、一方２０質量部をこえると、放射線に対する透明性が低下して、矩形のレジストパターンが得られ難くなる傾向がある。また、他の酸発生成分の使用割合は、酸発生成分（Ｂ）と他の酸発生成分との合計に対して、８０質量％以下であることが好ましく、６０質量％以下であることが更に好ましい。
【００３５】
［３］添加剤（Ｃ）
本発明のレジスト組成物には、本発明の効果を損なわない限り、必要に応じて、酸拡散制御剤、脂環族添加剤、界面活性剤、増感剤等の各種添加剤を配合することができる。
【００３６】
酸拡散制御剤
酸拡散制御剤は、露光により酸発生成分から生じる酸のレジスト被膜中における拡散現象を制御し、非露光領域における好ましくない化学反応を抑制する作用を有する成分である。
このような酸拡散制御剤を配合することにより、得られるレジスト組成物の貯蔵安定性を向上させることができる。更に、レジストとしての解像度をより向上させることができるとともに、露光から露光後の加熱処理までの引き置き時間（ＰＥＤ）の変動によるレジストパターンの線幅変化を抑えることができ、プロセス安定性に極めて優れた組成物を得ることができる。
【００３７】
酸拡散制御剤としては、例えば、３級アミン化合物、アミド基含有化合物、４級アンモニウムヒドロキシド化合物及び他の含窒素複素環化合物等の窒素含有化合物を挙げることができる。
３級アミン化合物としては、例えば、トリエチルアミン、トリ−ｎ−プロピルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、トリ−ｎ−ペンチルアミン、トリ−ｎ−ヘキシルアミン、トリ−ｎ−ヘプチルアミン、トリ−ｎ−オクチルアミン、シクロヘキシルジメチルアミン、ジシクロヘキシルメチルアミン、トリシクロヘキシルアミン等のトリ（シクロ）アルキルアミン類；アニリン、Ｎ−メチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、２−メチルアニリン、３−メチルアニリン、４−メチルアニリン、４−ニトロアニリン、２，６−ジメチルアニリン、２，６−ジイソプロピルアニリン等の芳香族アミン類；トリエタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジ（ヒドロキシエチル）アニリンなどのアルカノールアミン類；Ｎ，Ｎ，Ｎ'，Ｎ'−テトラメチルエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ'，Ｎ'−テトラキス（２−ヒドロキシプロピル）エチレンジアミン、１，３−ビス［１−（４−アミノフェニル）−１−メチルエチル］ベンゼンテトラメチレンジアミン、ビス（２−ジメチルアミノエチル）エーテル、ビス（２−ジエチルアミノエチル）エーテル等を挙げることができる。
【００３８】
アミド基含有化合物としては、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニルジ−ｎ−オクチルアミン、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニルジ−ｎ−ノニルアミン、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニルジ−ｎ−デシルアミン、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニルジシクロヘキシルアミン、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−１−アダマンチルアミン、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−２−アダマンチルアミン、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−Ｎ−メチル−１−アダマンチルアミン、（Ｓ）−（−）−１−（ｔ−ブトキシカルボニル）−２−ピロリジンメタノール、（Ｒ）−（＋）−１−（ｔ−ブトキシカルボニル）−２−ピロリジンメタノール、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−４−ヒドロキシピペリジン、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニルピロリジン、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニルピペラジン、Ｎ，Ｎ−ジ−ｔ−ブトキシカルボニル−１−アダマンチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジ−ｔ−ブトキシカルボニル−Ｎ−メチル−１−アダマンチルアミン、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−４，４'−ジアミノジフェニルメタン、Ｎ，Ｎ'−ジ−ｔ−ブトキシカルボニルヘキサメチレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ'Ｎ'−テトラ−ｔ−ブトキシカルボニルヘキサメチレンジアミン、Ｎ，Ｎ'−ジ−ｔ−ブトキシカルボニル−１，７−ジアミノヘプタン、Ｎ，Ｎ'−ジ−ｔ−ブトキシカルボニル−１，８−ジアミノオクタン、Ｎ，Ｎ'−ジ−ｔ−ブトキシカルボニル−１，９−ジアミノノナン、Ｎ，Ｎ'−ジ−ｔ−ブトキシカルボニル−１，１０−ジアミノデカン、Ｎ，Ｎ'−ジ−ｔ−ブトキシカルボニル−１，１２−ジアミノドデカン、Ｎ，Ｎ'−ジ−ｔ−ブトキシカルボニル−４，４'−ジアミノジフェニルメタン、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニルベンズイミダゾール、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−２−メチルベンズイミダゾール、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−２−フェニルベンズイミダゾール等のＮ−ｔ−ブトキシカルボニル基含有アミノ化合物等を挙げることができる。
【００３９】
４級アンモニウムヒドロキシド化合物としては、例えば、テトラ−ｎ−プロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムヒドロキシド等を挙げることができる。
他の含窒素複素環化合物としては、例えば、；ピリジン、２−メチルピリジン、４−メチルピリジン、２−エチルピリジン、４−エチルピリジン、２−フェニルピリジン、４−フェニルピリジン、２−メチル−４−フェニルピリジン、ニコチン、ニコチン酸、ニコチン酸アミド、キノリン、４−ヒドロキシキノリン、８−オキシキノリン、アクリジン等のピリジン類；ピペラジン、１−（２−ヒドロキシエチル）ピペラジン等のピペラジン類のほか、ピラジン、ピラゾール、ピリダジン、キノザリン、プリン、ピロリジン、ピペリジン、３−ピペリジノ−１，２−プロパンジオール、モルホリン、４−メチルモルホリン、１，４−ジメチルピペラジン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン、イミダゾール、４−メチルイミダゾール、１−ベンジル−２−メチルイミダゾール、４−メチル−２−フェニルイミダゾール、ベンズイミダゾール、２−フェニルベンズイミダゾール、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニルベンズイミダゾール、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−２−メチルベンズイミダゾール、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−２−フェニルベンズイミダゾール等を挙げることができる。
これらの窒素含有化合物は、単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００４０】
酸拡散制御剤の配合量は、レジストとしての高い感度を確保する観点から、樹脂成分（Ａ）１００質量部に対して、通常、１０質量部以下、好ましくは５質量部以下である。この配合量が、１０質量部をこえる場合、レジストとしての感度が著しく低下するおそれがある。なお、酸拡散制御剤の配合量が、０．００１質量部未満の場合、プロセス条件によっては、レジストとしてのパターン形状や寸法忠実度が低下するおそれがある。
【００４１】
脂環族添加剤
脂環族添加剤は、ドライエッチング耐性、パターン形状、基板との接着性等を更に改善する作用を示す成分である。
このような脂環族添加剤としては、例えば、１−アダマンタンカルボン酸、２−アダマンタノン、１−アダマンタンカルボン酸ｔ−ブチル、１−アダマンタンカルボン酸ｔ−ブトキシカルボニルメチル、１−アダマンタンカルボン酸α−ブチロラクトンエステル、１，３−アダマンタンジカルボン酸ジ−ｔ−ブチル、１−アダマンタン酢酸ｔ−ブチル、１−アダマンタン酢酸ｔ−ブトキシカルボニルメチル、１，３−アダマンタンジ酢酸ジ−ｔ−ブチル、２，５−ジメチル−２，５−ジ（アダマンチルカルボニルオキシ）ヘキサン等のアダマンタン誘導体類；アジピン酸ジメチル、アジピン酸ジエチル、アジピン酸ジプロピル、アジピン酸ジｎ−ブチル、アジピン酸ジｔ−ブチル等のアルキルカルボン酸エステル類や、５−〔２−ヒドロキシ−２，２−ビス（トリフルオロメチル）エチル〕テトラシクロ［６．２．１．１3,6．０2,7］ドデカン等を挙げることができる。その他の化合物としてはデオキシコール酸ｔ−ブトキシカルボニルメチルエステル、リコール酸ｔ−ブトキシカルボニルメチルエステル等を挙げることができる。
これらの脂環族添加剤は、単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００４２】
界面活性剤
界面活性剤は、塗布性、ストリエーション、現像性等を改良する作用を示す成分である。
このような界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンｎ−オクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンｎ−ノニルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート等のノニオン系界面活性剤のほか、以下商品名で、ＫＰ３４１（信越化学工業株式会社製）、ポリフローＮｏ．７５、同Ｎｏ．９５（共栄社化学株式会社製）、エフトップＥＦ３０１、同ＥＦ３０３、同ＥＦ３５２（トーケムプロダクツ株式会社製）、メガファックスＦ１７１、同Ｆ１７３（大日本インキ化学工業株式会社製）、フロラードＦＣ４３０、同ＦＣ４３１（住友スリーエム株式会社製）、アサヒガードＡＧ７１０、サーフロンＳ−３８２、同ＳＣ−１０１、同ＳＣ−１０２、同ＳＣ−１０３、同ＳＣ−１０４、同ＳＣ−１０５、同ＳＣ−１０６（旭硝子株式会社製）等を挙げることができる。
これらの界面活性剤は、単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００４３】
増感剤
増感剤は、放射線のエネルギーを吸収して、そのエネルギーを酸発生成分（Ｂ）に伝達し、それにより酸の生成量を増加する作用を示すもので、レジスト組成物のみかけの感度を向上させる効果を有する。
このような増感剤としては、例えば、カルバゾール類、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ナフタレン類、フェノール類、ビアセチル、エオシン、ローズベンガル、ピレン類、アントラセン類、フェノチアジン類等を挙げることができる。
これらの増感剤は、単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００４４】
更に、本発明のレジスト組成物には、前述の添加剤以外にも、必要に応じて、アルカリ可溶性樹脂、酸解離性の保護基を有する低分子のアルカリ溶解性制御剤、ハレーション防止剤、保存安定化剤、消泡剤等を配合することができる。また、染料あるいは顔料を配合することにより、露光部の潜像を可視化させて、露光時のハレーションの影響を緩和でき、接着助剤を配合することにより、基板との接着性を改善することができる。
【００４５】
［４］溶剤（Ｄ）
本発明のレジスト組成物は、その使用に際して、全固形分濃度が、通常１〜５０質量％、好ましくは１〜２５質量％となるように、樹脂成分（Ａ）、酸発生成分（Ｂ）、添加剤（Ｃ）とを溶剤（Ｄ）に溶解したのち、例えば、孔径０．２μｍ程度のフィルターで濾過することによって、組成物溶液として調製される。
【００４６】
溶剤（Ｄ）としては、例えば、２−ブタノン、２−ペンタノン、３−メチル−２−ブタノン、２−ヘキサノン、４−メチル−２−ペンタノン、３−メチル−２−ペンタノン、３，３−ジメチル−２−ブタノン、２−ヘプタノン、２−オクタノン等の直鎖状もしくは分岐状のケトン類；シクロペンタノン、３−メチルシクロペンタノン、シクロヘキサノン、２−メチルシクロヘキサノン、２，６−ジメチルシクロヘキサノン、イソホロン等の環状のケトン類；プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノ−ｉ−プロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノ−ｉ−ブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノ−ｓｅｃ−ブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノ−ｔ−ブチルエーテルアセテート等のプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類；２−ヒドロキシプロピオン酸メチル、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、２−ヒドロキシプロピオン酸ｎ−プロピル、２−ヒドロキシプロピオン酸ｉ−プロピル、２−ヒドロキシプロピオン酸ｎ−ブチル、２−ヒドロキシプロピオン酸ｉ−ブチル、２−ヒドロキシプロピオン酸ｓｅｃ−ブチル、２−ヒドロキシプロピオン酸ｔ−ブチル等の２−ヒドロキシプロピオン酸アルキル類；３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル等の３−アルコキシプロピオン酸アルキル類のほか、
【００４７】
ｎ−プロピルアルコール、ｉ−プロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、ｔ−ブチルアルコール、シクロヘキサノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジ−ｎ−プロピルエーテル、ジエチレングリコールジ−ｎ−ブチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、トルエン、キシレン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、２−ヒドロキシ−３−メチル酪酸メチル、３−メトキシブチルアセテート、３−メチル−３−メトキシブチルアセテート、３−メチル−３−メトキシブチルプロピオネート、３−メチル−３−メトキシブチルブチレート、酢酸エチル、酢酸ｎ−プロピル、酢酸ｎ−ブチル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ベンジルエチルエーテル、ジ−ｎ−ヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、カプロン酸、カプリル酸、１−オクタノール、１−ノナノール、ベンジルアルコール、酢酸ベンジル、安息香酸エチル、しゅう酸ジエチル、マレイン酸ジエチル、γ−ブチロラクトン、炭酸エチレン、炭酸プロピレン等を挙げることができる。
【００４８】
これらのなかでも、直鎖状もしくは分岐状のケトン類、環状のケトン類、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、２−ヒドロキシプロピオン酸アルキル類、３−アルコキシプロピオン酸アルキル類、γ−ブチロラクトン等が好ましい。
これらの溶剤（Ｃ）は、単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００４９】
レジストパターンの形成方法
本発明のレジスト組成物は、化学増幅型レジストとして有用である。この化学増幅型レジストにおいては、露光により酸発生剤から発生した酸の作用によって、樹脂成分（Ａ）中の酸解離性基が解離して、カルボキシル基を生じ、その結果、レジストの露光部のアルカリ現像液に対する溶解性が高くなり、該露光部がアルカリ現像液によって溶解、除去され、ポジ型のレジストパターンが得られる。
【００５０】
本発明のレジスト組成物からレジストパターンを形成する際には、まず、レジスト溶液を、回転塗布、流延塗布、ロール塗布等の適宜の塗布手段によって、例えば、シリコンウェハ、アルミニウムで被覆されたウェハ等の基板上に塗布することにより、レジスト被膜を形成し、場合により予め加熱処理（以下、「ＰＢ」という。）を行なったのち、所定のレジストパターンが形成されるように、このレジスト被膜を露光する。その際に使用される放射線としては、使用される酸発生剤の種類に応じて、可視光線、紫外線、遠紫外線、Ｘ線および荷電粒子線等から適宜選定されて使用されるが、ＡｒＦエキシマレーザー（波長１９３ｎｍ）あるいはＫｒＦエキシマレーザー（波長２４８ｎｍ）で代表される遠紫外線が好ましく、特にＡｒＦエキシマレーザー（波長１９３ｎｍ）が好ましい。
【００５１】
また、露光量等の露光条件は、レジスト組成物の配合組成や添加剤の種類等に応じて適宜選定される。本発明のレジスト組成物を用いる場合には、露光後に加熱処理（ＰＥＢ）を行なうことが好ましい。このＰＥＢを行なう場合には、樹脂成分中の酸解離性基の解離反応を円滑に進行させることができる。ＰＥＢの加熱条件は、レジスト組成物の配合組成によって適宜調整されるが、通常３０〜２００℃、好ましくは５０〜１７０℃である。
【００５２】
また、レジストパターンを形成する際には、本発明のレジスト組成物の潜在能力を最大限に引き出すため、例えば、特公平６−１２４５２号公報（特開昭５９−９３４４８号公報）等に開示されているように、使用される基板上に有機系あるいは無機系の反射防止膜を形成しておくこともできる。また、環境雰囲気中に含まれる塩基性不純物等の影響を防止するため、例えば、特開平５−１８８５９８号公報等に開示されているように、レジスト被膜上に保護膜を設けることもできる。更に、液浸露光においてレジスト被膜からの酸発生剤等の流出を防止するため、例えば特開２００５−３５２３８４号公報等に開示されているように、レジスト被膜上に液浸用保護膜を設けることもできる。なお、これらの技術は併用することができる。
【００５３】
次いで、露光されたレジスト被膜を現像することにより、所定のレジストパターンが形成される。この現像に使用される現像液としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、けい酸ナトリウム、メタけい酸ナトリウム、アンモニア水、エチルアミン、ｎ−プロピルアミン、ジエチルアミン、ジ−ｎ−プロピルアミン、トリエチルアミン、メチルジエチルアミン、エチルジメチルアミン、トリエタノールアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、ピロール、ピペリジン、コリン、１，８−ジアザビシクロ−［５．４．０］−７−ウンデセン、１，５−ジアザビシクロ−［４．３．０］−５−ノネン等のアルカリ性化合物の少なくとも１種を溶解したアルカリ性水溶液が好ましい。
上記アルカリ性水溶液の濃度は、通常１０質量％以下である。アルカリ性水溶液の濃度が１０質量％をこえると、非露光部も現像液に溶解するおそれがあり好ましくない。
【００５４】
また、上記アルカリ性水溶液からなる現像液には、有機溶媒を添加することもできる。
有機溶媒としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルｉ−ブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、３−メチルシクロペンタノン、２，６−ジメチルシクロヘキサノン等のケトン類；メチルアルコール、エチルアルコール、ｎ−プロピルアルコール、ｉ−プロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、ｔ−ブチルアルコール、シクロペンタノール、シクロヘキサノール、１，４−ヘキサンジオール、１，４−ヘキサンジメチロール等のアルコール類；テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類；酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸ｉ−アミル等のエステル類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類や、フェノール、アセトニルアセトン、ジメチルホルムアミド等を挙げることができる。
これらの有機溶媒は、単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
この有機溶媒の使用量は、アルカリ性水溶液に対して、１００容量％以下が好ましい。有機溶媒の使用量が１００容量％をこえる場合、現像性が低下して、露光部の現像残りが多くなるおそれがある。
また、上記アルカリ性水溶液からなる現像液には、界面活性剤等を適量添加することもできる。
なお、アルカリ性水溶液からなる現像液で現像したのちは、一般に、水で洗浄して乾燥する。
【実施例】
【００５５】
以下、実施例を挙げて、本発明の実施の形態を更に具体的に説明する。但し、本発明は、この実施例に何ら制約されるものではない。なお、実施例の記載における「部」および「％」は、特記しない限り質量基準である。樹脂成分合成に用いた単量体を以下に示す。  なお、重量平均分子量（以下、Ｍｗと略称する）は東ソー（株）製ＧＰＣカラム（Ｇ２０００ＨＸＬ  ２本、Ｇ３０００ＨＸＬ  １本、Ｇ４０００ＨＸＬ  １本）を用い、流量１．０ミリリットル／分、溶出溶媒テトラヒドロフラン、カラム温度４０℃の分析条件で、単分散ポリスチレンを標準とするゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定した。
【化６】
2010190993.tif 000007
【００５６】
樹脂成分（Ａ）の合成
合成例１
単量体（Ｍ１−１）４３．１ｇ（５０モル％）、単量体（Ｍ２−１）５６．９ｇ（５０モル％）を２−ブタノン２００ｇに溶解し、更にアゾビスイソブチロニトリル４．２１ｇ（５モル％）を投入したモノマー溶液を準備し、１００ｇの２−ブタノンを投入した三口フラスコを１０分間窒素パージした後、反応釜を攪拌しながら８０℃に加熱し、事前に準備した上記モノマー溶液を滴下漏斗を用いて３時間かけて滴下した。滴下開始を重合開始時間とし、重合反応を６時間実施した。重合終了後、重合溶液を冷却することにより４０℃以下に冷却し、２０００ｇのメタノールへ投入し、析出した白色粉末を濾別する。濾別された白色粉末を８００ｇのメタノールにてスラリー状で洗浄を２回行なった。その後、濾別し、６０℃にて１２時間乾燥し、白色粉末の共重合体を得た（７５ｇ、収率７５％）。この共重合体はＭｗが８０００であり、13Ｃ-ＮＭＲ分析の結果、単量体（Ｍ１−１）由来の繰り返し単位：単量体（Ｍ２−１）由来の繰り返し単位の含有比率が４６：５４（モル％）の共重合体であった。この共重合体を樹脂（Ａ−１）とする。
【００５７】
合成例２
単量体（Ｍ１−２）４５．１ｇ（５０モル％）、単量体（Ｍ２−１）５４．９ｇ（５０モル％）を２−ブタノン２００ｇに溶解し、更にアゾビスイソブチロニトリル４．０６ｇ（５モル％）を投入したモノマー溶液を準備し、１００ｇの２−ブタノンを投入した三口フラスコを１０分間窒素パージした後、反応釜を攪拌しながら８０℃に加熱し、事前に準備した上記モノマー溶液を滴下漏斗を用いて３時間かけて滴下した。滴下開始を重合開始時間とし、重合反応を６時間実施した。重合終了後、重合溶液を冷却することにより４０℃以下に冷却し、２０００ｇのメタノールへ投入し、析出した白色粉末を濾別する。濾別された白色粉末を８００ｇのメタノールにてスラリー状で洗浄を２回行なった。その後、濾別し、６０℃にて１２時間乾燥し、白色粉末の共重合体を得た（７７ｇ、収率７７％）。この共重合体はＭｗが６７００であり、13Ｃ-ＮＭＲ分析の結果、単量体（Ｍ１−２）由来の繰り返し単位：単量体（Ｍ２−１）由来の繰り返し単位の含有比率が４７：５３（モル％）の共重合体であった。この共重合体を樹脂（Ａ−２）とする。
【００５８】
合成例３
単量体（Ｍ１−１）５８．４ｇ（６５モル％）、単量体（Ｍ２−１）４１．６ｇ（３５モル％）を２−ブタノン２００ｇに溶解し、更にアゾビスイソブチロニトリル４．３９ｇ（５モル％）を投入したモノマー溶液を準備し、１００ｇの２−ブタノンを投入した三口フラスコを１０分間窒素パージした後、反応釜を攪拌しながら８０℃に加熱し、事前に準備した上記モノマー溶液を滴下漏斗を用いて３時間かけて滴下した。滴下開始を重合開始時間とし、重合反応を６時間実施した。重合終了後、重合溶液を冷却することにより４０℃以下に冷却し、２０００ｇのメタノールへ投入し、析出した白色粉末を濾別する。濾別された白色粉末を８００ｇのメタノールにてスラリー状で洗浄を２回行なった。その後、濾別し、６０℃にて１２時間乾燥し、白色粉末の共重合体を得た（７２ｇ、収率７２％）。この共重合体はＭｗが７２００であり、13Ｃ-ＮＭＲ分析の結果、単量体（Ｍ１−１）由来の繰り返し単位：単量体（Ｍ２−１）由来の繰り返し単位の含有比率が６２：３８（モル％）の共重合体であった。この共重合体を樹脂（Ａ−３）とする。
【００５９】
合成例４
単量体（Ｍ１−２）４０．２ｇ（４５モル％）、単量体（Ｍ２−１）５９．８ｇ（５５モル％）を２−ブタノン２００ｇに溶解し、更にアゾビスイソブチロニトリル４．０２ｇ（５モル％）を投入したモノマー溶液を準備し、１００ｇの２−ブタノンを投入した三口フラスコを１０分間窒素パージした後、反応釜を攪拌しながら８０℃に加熱し、事前に準備した上記モノマー溶液を滴下漏斗を用いて３時間かけて滴下した。滴下開始を重合開始時間とし、重合反応を６時間実施した。重合終了後、重合溶液を冷却することにより４０℃以下に冷却し、２０００ｇのメタノールへ投入し、析出した白色粉末を濾別する。濾別された白色粉末を８００ｇのメタノールにてスラリー状で洗浄を２回行なった。その後、濾別し、６０℃にて１２時間乾燥し、白色粉末の共重合体を得た（７７ｇ、収率７７％）。この共重合体はＭｗが８１００であり、13Ｃ-ＮＭＲ分析の結果、単量体（Ｍ１−２）由来の繰り返し単位：単量体（Ｍ２−１）由来の繰り返し単位の含有比率が４２：５８（モル％）の共重合体であった。この共重合体を樹脂（Ａ−４）とする。
【００６０】
合成例５
単量体（Ｍ１−２）３１．６ｇ（３６モル％）、単量体（Ｍ２−１）６８．４ｇ（６４モル％）を２−ブタノン２００ｇに溶解し、更にアゾビスイソブチロニトリル３．９５ｇ（５モル％）を投入したモノマー溶液を準備し、１００ｇの２−ブタノンを投入した三口フラスコを１０分間窒素パージした後、反応釜を攪拌しながら８０℃に加熱し、事前に準備した上記モノマー溶液を滴下漏斗を用いて３時間かけて滴下した。滴下開始を重合開始時間とし、重合反応を６時間実施した。重合終了後、重合溶液を冷却することにより４０℃以下に冷却し、２０００ｇのメタノールへ投入し、析出した白色粉末を濾別する。濾別された白色粉末を８００ｇのメタノールにてスラリー状で洗浄を２回行なった。その後、濾別し、６０℃にて１２時間乾燥し、白色粉末の共重合体を得た（７８ｇ、収率７８％）。この共重合体はＭｗが８３００であり、13Ｃ-ＮＭＲ分析の結果、単量体（Ｍ１−２）由来の繰り返し単位：単量体（Ｍ２−１）由来の繰り返し単位の含有比率が３３：６７（モル％）の共重合体であった。この共重合体を樹脂（Ａ−５）とする。
【００６１】
合成例６
単量体（Ｍ１−１）２１．５ｇ（２５モル％）、単量体（Ｍ１−５）２１．５ｇ（２５モル％）、単量体（Ｍ２−１）５６．９ｇ（５０モル％）を２−ブタノン２００ｇに溶解し、更にアゾビスイソブチロニトリル４．２１ｇ（５モル％）を投入したモノマー溶液を準備し、１００ｇの２−ブタノンを投入した三口フラスコを１０分間窒素パージした後、反応釜を攪拌しながら８０℃に加熱し、事前に準備した上記モノマー溶液を滴下漏斗を用いて３時間かけて滴下した。滴下開始を重合開始時間とし、重合反応を６時間実施した。重合終了後、重合溶液を冷却することにより４０℃以下に冷却し、２０００ｇのメタノールへ投入し、析出した白色粉末を濾別する。濾別された白色粉末を８００ｇのメタノールにてスラリー状で洗浄を２回行なった。その後、濾別し、６０℃にて１２時間乾燥し、白色粉末の共重合体を得た（７５ｇ、収率７５％）。この共重合体はＭｗが７８００であり、13Ｃ-ＮＭＲ分析の結果、単量体（Ｍ１−１）由来の繰り返し単位：単量体（Ｍ１−５）由来の繰り返し単位：単量体（Ｍ２−１）由来の繰り返し単位の含有比率が２４：２３：５３（モル％）の共重合体であった。この共重合体を樹脂（Ａ−６）とする。
【００６２】
合成例７
単量体（Ｍ１−３）４６．９ｇ（５０モル％）、単量体（Ｍ２−１）５３．１ｇ（５０モル％）を２−ブタノン２００ｇに溶解し、更にアゾビスイソブチロニトリル３．９２ｇ（５モル％）を投入したモノマー溶液を準備し、１００ｇの２−ブタノンを投入した三口フラスコを１０分間窒素パージした後、反応釜を攪拌しながら８０℃に加熱し、事前に準備した上記モノマー溶液を滴下漏斗を用いて３時間かけて滴下した。滴下開始を重合開始時間とし、重合反応を６時間実施した。重合終了後、重合溶液を冷却することにより４０℃以下に冷却し、２０００ｇのメタノールへ投入し、析出した白色粉末を濾別する。濾別された白色粉末を８００ｇのメタノールにてスラリー状で洗浄を２回行なった。その後、濾別し、６０℃にて１２時間乾燥し、白色粉末の共重合体を得た（７７ｇ、収率７７％）。この共重合体はＭｗが７８００であり、13Ｃ-ＮＭＲ分析の結果、単量体（Ｍ１−３）由来の繰り返し単位：単量体（Ｍ２−１）由来の繰り返し単位の含有比率が４７：５３（モル％）の共重合体であった。この共重合体を樹脂（Ａ−７）とする。
【００６３】
合成例８
単量体（Ｍ１−４）４４．９ｇ（４８モル％）、単量体（Ｍ２−１）５５．１ｇ（５２モル％）を２−ブタノン２００ｇに溶解し、更にアゾビスイソブチロニトリル３．９１ｇ（５モル％）を投入したモノマー溶液を準備し、１００ｇの２−ブタノンを投入した三口フラスコを１０分間窒素パージした後、反応釜を攪拌しながら８０℃に加熱し、事前に準備した上記モノマー溶液を滴下漏斗を用いて３時間かけて滴下した。滴下開始を重合開始時間とし、重合反応を６時間実施した。重合終了後、重合溶液を冷却することにより４０℃以下に冷却し、２０００ｇのメタノールへ投入し、析出した白色粉末を濾別する。濾別された白色粉末を８００ｇのメタノールにてスラリー状で洗浄を２回行なった。その後、濾別し、６０℃にて１２時間乾燥し、白色粉末の共重合体を得た（７５ｇ、収率７５％）。この共重合体はＭｗが８２００であり、13Ｃ-ＮＭＲ分析の結果、単量体（Ｍ１−４）由来の繰り返し単位：単量体（Ｍ２−１）由来の繰り返し単位の含有比率が４５：５５（モル％）の共重合体であった。この共重合体を樹脂（Ａ−８）とする。
【００６４】
合成例９
単量体（Ｍ１−１）４１．６ｇ（５０モル％）、単量体（Ｍ２−２）５８．４ｇ（５０モル％）を２−ブタノン２００ｇに溶解し、更にアゾビスイソブチロニトリル４．０６ｇ（５モル％）を投入したモノマー溶液を準備し、１００ｇの２−ブタノンを投入した三口フラスコを１０分間窒素パージした後、反応釜を攪拌しながら８０℃に加熱し、事前に準備した上記モノマー溶液を滴下漏斗を用いて３時間かけて滴下した。滴下開始を重合開始時間とし、重合反応を６時間実施した。重合終了後、重合溶液を冷却することにより４０℃以下に冷却し、２０００ｇのメタノールへ投入し、析出した白色粉末を濾別する。濾別された白色粉末を８００ｇのメタノールにてスラリー状で洗浄を２回行なった。その後、濾別し、６０℃にて１２時間乾燥し、白色粉末の共重合体を得た（７９ｇ、収率７９％）。この共重合体はＭｗが７４００であり、13Ｃ-ＮＭＲ分析の結果、単量体（Ｍ１−１）由来の繰り返し単位：単量体（Ｍ２−２）由来の繰り返し単位の含有比率が４９：５１（モル％）の共重合体であった。この共重合体を樹脂（Ａ−９）とする。
【００６５】
合成例１０
単量体（Ｍ３−１）５１．３ｇ（５０モル％）、単量体（Ｍ２−１）４９．７ｇ（５０モル％）を２−ブタノン２００ｇに溶解し、更にアゾビスイソブチロニトリル５．０４ｇ（５モル％）を投入したモノマー溶液を準備し、１００ｇの２−ブタノンを投入した三口フラスコを１０分間窒素パージした後、反応釜を攪拌しながら８０℃に加熱し、事前に準備した上記モノマー溶液を滴下漏斗を用いて３時間かけて滴下した。滴下開始を重合開始時間とし、重合反応を６時間実施した。重合終了後、重合溶液を冷却することにより４０℃以下に冷却し、２０００ｇのメタノールへ投入し、析出した白色粉末を濾別する。濾別された白色粉末を８００ｇのメタノールにてスラリー状で洗浄を２回行なった。その後、濾別し、６０℃にて１２時間乾燥し、白色粉末の共重合体を得た（７３ｇ、収率７３％）。この共重合体はＭｗが６１００であり、13Ｃ-ＮＭＲ分析の結果、単量体（Ｍ３−１）由来の繰り返し単位：単量体（Ｍ２−１）由来の繰り返し単位の含有比率が４８：５２（モル％）の共重合体であった。この共重合体を樹脂（Ｒ−１）とする。
【００６６】
合成例１１
単量体（Ｍ１−２）３５．４ｇ（４０モル％）、単量体（Ｍ２−１）５３．９ｇ（５０モル％）、単量体（Ｍ３−２）１０．７ｇ（１０モル％）を２−ブタノン２００ｇに溶解し、更に２，２'−アゾビス（２−メチルプロピオネート）５．５９ｇ（５モル％）を投入したモノマー溶液を準備し、１００ｇの２−ブタノンを投入した三口フラスコを１０分間窒素パージした後、反応釜を攪拌しながら８０℃に加熱し、事前に準備した上記モノマー溶液を滴下漏斗を用いて３時間かけて滴下した。滴下開始を重合開始時間とし、重合反応を６時間実施した。重合終了後、重合溶液を冷却することにより４０℃以下に冷却し、２０００ｇのメタノールへ投入し、析出した白色粉末を濾別する。濾別された白色粉末を８００ｇのメタノールにてスラリー状で洗浄を２回行なった。その後、濾別し、６０℃にて１２時間乾燥し、白色粉末の共重合体を得た（７６ｇ、収率７６％）。この共重合体はＭｗが７２００であり、13Ｃ-ＮＭＲ分析の結果、単量体（Ｍ１−２）由来の繰り返し単位：単量体（Ｍ２−１）由来の繰り返し単位：単量体（Ｍ３−２）由来の繰り返し単位の含有比率が３９：９：５２（モル％）の共重合体であった。この共重合体を樹脂（Ｒ−２）とする。
【００６７】
実施例１〜１５、および比較例１〜３
合成例１〜１１で得られた樹脂を樹脂成分（Ａ）として、表１に示す種類の酸発生成分（Ｂ）および酸拡散制御剤（Ｃ）を溶剤（Ｄ）中に、表１の括弧内に示す割合で溶解させた。その後、この混合溶液を孔径０．２μｍのメンブランフィルターで濾過することにより、実施例１〜１５、および比較例１〜３の各レジスト組成物を調製した。
用いた酸発生成分（Ｂ）、酸拡散制御剤（Ｃ）、溶剤（Ｄ）を以下に示す。
酸発生剤（Ｂ）
Ｂ−１：４−ｎ−ブトキシ−１−ナフチルテトラヒドロチオフェニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート
Ｂ−２：４−ｎ−ブトキシ−１−ナフチルテトラヒドロチオフェニウム２−ビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−イル１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート
Ｂ−３：４−ｎ−ブトキシ−１−ナフチルテトラヒドロチオフェニウム２−ビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−イル１，１−ジフルオロエタンスルホネート
Ｂ−４：トリフェニルチオフェニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート
酸拡散制御剤（Ｃ）
Ｃ−１：フェニルベンズイミダゾール
Ｃ−２：Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−４−ヒドロキシピペリジン
溶剤（Ｄ）
Ｄ−１：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
Ｄ−２：シクロヘキサノン
【００６８】
【表１】
2010190993.tif 000008
【００６９】
実施例１〜１５、および比較例１〜３で得られたレジスト組成物を用いて、感度、解像度の性能評価を行なった。
感度は、ＡｒＦ光源にて露光を行なう場合、ウェハ表面に膜厚７７ｎｍの日産化学社製ＡＲＣ２９の塗膜を形成したシリコンウェハを用い、各レジスト溶液を、基板上にスピンコートにより塗布し、ホットプレート上にて表２に示す露光前加熱を行なって形成した膜厚０．１８μｍのレジスト被膜に、ニコン製ＡｒＦエキシマレーザー露光装置（開口数０．７８）を用い、マスクパターン（６％ハーフトーンマスクを使用）を介して露光した。その後、表２に示す露光後加熱を行なったのち、２．３８重量％のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液により、２５℃で３０秒間現像し、水洗後、乾燥して、ポジ型のレジストパターンを形成した。このとき、マスクにおいて直径０．１６μｍ、かつ、ホール中心間距離が０．２４μｍのホールパターンが直径０．１２μｍのサイズになるような露光量を最適露光量とし、この最適露光量を感度とした。
また、解像度は、最適露光量で解像される最小のレジストパターンの寸法（直径）を解像度とした。結果を表２に示す。
【００７０】
【表２】
2010190993.tif 000009
【産業上の利用可能性】
【００７１】
本発明のポジ型レジスト組成物は、ＡｒＦエキシマレーザーに対する透明性、解像度、感度等が高く、パターン形状が良好であり、特にホールパターンにおいては、円形性が極めて良好であるので、今後微細化が進むと予想される半導体デバイスの製造に極めて好適に使用することができる。