(57)【要約】      （修正有）【課題】レイアウトパターンを選択的に修正する方法を提供する。【解決手段】まず少なくとも第一グループと第二グループを含む第一レイアウトパターンを設ける。当該第一グループと第二グループはそれぞれ複数のメンバーを含む。次に、第一グループと第二グループのすべてのメンバーに対してそれぞれシミュレーションプロセスと修正プロセスを実行し、修正された第一グループと修正された第二グループを取得する。その後、修正された第一グループと修正された第二グループが目標を達成するかを検証する。後に、目標を達成した修正された第一グループと目標を達成した修正された第二グループを含むレイアウトパターンを出力する。【選択図】図１
2010085470.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レイアウトパターンを選択的に修正する方法であって、
少なくとも第一グループと第二グループを含む第一レイアウトパターンを設け、当該第一グループと第二グループはそれぞれ複数のメンバーを含む、段階と、
前記第一グループの前記メンバーに対してそれぞれシミュレーションプロセスと第一グループ修正プロセスを実行し、修正された第一グループを取得する段階と、
前記第二グループの前記メンバーに対してそれぞれシミュレーションプロセスと第二グループ修正プロセスを実行し、修正された第二グループを取得する段階と、
前記修正された第一グループと前記修正された第二グループが両方とも目標を達成するまで、前記修正された第一グループと前記修正された第二グループを検証する段階と、
共に目標を達成した前記修正された第一グループと前記修正された第二グループを含む第二レイアウトパターンを出力する段階とを含む、方法。
【請求項２】
前記第一グループと前記第二グループはそれぞれ少なくとも１つの幾何図形の第一エッジと第二エッジである、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記第一エッジは前記第二エッジと垂直である、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記第一グループと前記第二グループはそれぞれ第一コントラスト強度と第二コントラスト強度を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記第一レイアウトパターンは少なくとも１つの形状を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記第一レイアウトパターンは、コンタクトホールパターンとビアホールパターンからなる群から選ばれる、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記第一グループと前記第二グループが両方とも目標を達成したかを検証する段階を更に含む、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
パラメータを利用して、前記第一グループと前記第二グループが両方とも目標を達成したかを検証する、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記パラメータは露光強度を含む、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記シミュレーションプロセスでは補正方向と補正ウェイトを評価する、請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
前記第一グループ修正プロセスでは前記補正ウェイトのダンピングを定める、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記第二グループ修正プロセスでは前記補正ウェイトのダンピングを定める、請求項１０に記載の方法。
【請求項１３】
前記第一グループ修正プロセスは前記第一グループのすべてのメンバーに対して行われる、請求項１に記載の方法。
【請求項１４】
前記第一グループ修正プロセスは前記第二グループのすべてのメンバーに対して行われるのではない、請求項１に記載の方法。
【請求項１５】
前記第二グループ修正プロセスは前記第二グループのすべてのメンバーに対して行われる、請求項１に記載の方法。
【請求項１６】
前記修正された第一グループと前記修正された第二グループが両方とも目標を達成するまで、前記修正された第一グループと前記修正された第二グループを検証する段階は更に、
前記第一グループのすべてのメンバーに対してそれぞれ前記シミュレーションプロセスを実行し、第一グループデータを取得する段階と、
前記第一グループデータに基づいて前記修正された第一グループに対して、前記第一グループのすべてのメンバーが目標を達成するまで前記第一グループ修正プロセスを実行し、前記修正された第一グループを取得する段階と、
前記第二グループのすべてのメンバーに対してそれぞれ前記シミュレーションプロセスを実行し、第二グループデータを取得する段階と、
前記第二グループデータに基づいて前記修正された第二グループに対して、前記第二グループのすべてのメンバーが目標を達成するまで前記第二グループ修正プロセスを実行し、前記修正された第二グループを取得する段階とを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１７】
予備レイアウトパターンに対して光近接効果補正を実行して前記第一レイアウトパターンを取得する段階を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１８】
前記第一グループと前記第二グループに対して優先順位選択プロセスを実行し、第一グループと第二グループを取得する段階を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１９】
前記優先順位選択プロセスは動作修正の感度に基づいて行われる、請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
前記第一グループは高感度グループで、前記第二グループは低感度グループである、請求項１に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はレイアウトパターンを修正する方法に関し、特にレイアウトパターンを選択的に修正する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体製造プロセスでは、フォトリソグラフィーやエッチングなどの基幹技術がよく利用される。フォトリソグラフィー技術は通常、エッチングや注入等の工程のために、半導体ウェハーの表面に複雑な集積回路パターンを転写する工程を含む。このパターンは、前後の工程によるパターンに合致するような精細な集積回路を形成するために非常に精密でなければならない。
【０００３】
フォトリソグラフィー工程では、レチクル上のパターンをウェハー表面に転写するとき、偏差により半導体デバイスの性能に影響することがしばしばである。このような偏差は通常、転写対象のパターンの特性、ウェハーのトポロジー、光源、及び種々のプロセスパラメータに関係する。
【０００４】
転写後のイメージ品質を改善するために、光近接効果、プロセスルール、及びリソグラフィールールによる偏差を検証、補正、補償する方法が数多く存在している。その一部は光近接効果補正（ＯＰＣ）、プロセスルールチェック（ＰＲＣ）、及びリソグラフィールールチェック（ＬＲＣ）と呼ばれる。市販のＯＰＣソフトウェアは、レイアウトパターンのピッチ、ブリッジ、限界寸法の均一性などの問題を検査するのが一般である。このようなソフトウェアは理論イメージを利用してレチクル上の標準レイアウトパターンを補正し、ウェハー上に正確な露光イメージパターンを作成する。この方法はレイアウトパターンの問題を検査するのみならず、理論イメージを利用してレチクル上のレイアウトパターンを補正する。補正されたイメージパターンが利用可能なものであれば、これを出力してレチクルの製作に用いて、ウェハー上に正確なイメージパターンを作成する。
【０００５】
まとめて言えば、前記検証、補正、補償方法には、既に基準として確立された操作プロセスが存在している。例えば、ＯＰＣでレチクル上のレイアウトパターンを検証する従来のプロセスでは、まずレイアウトパターンを入力し、後にこのレイアウトパターンに対してブーリアン前処理（Ｂｏｏｌｅａｎ  ｐｒｅｔｒｅａｔｍｅｎｔ）を施し、予備レイアウトパターンを取得する。その後、ＯＰＣを実行して任意の特定パターンを補正し、更にＰＲＣとＬＲＣを別個に実行してから、エラースクリーニング及びチェックを実行する。それによって取得したパターンが正確で利用可能なものであれば、これを出力する。さもなければパターン補正を再び実行し、エラーが検出されなくなったらパターンを出力する。
【０００６】
したがって、半導体製造プロセスでは、ＯＰＣモデルでレイアウトパターンを補正して利用可能なレイアウトパターンを取得し、パターン転写を精密化する工程は、重要な操作プロセスである。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は目的のひとつは、レイアウトパターンを選択的に修正する方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明による方法では、少なくとも第一グループと第二グループを含む第一レイアウトパターンを設ける。当該第一グループと第二グループはそれぞれ複数のメンバーを含む。次に、第一グループと第二グループのすべてのメンバーに対してそれぞれシミュレーションプロセスと修正プロセスを実行し、第一グループと第二グループのすべてのメンバーに最終的に目標を達成させる。第一グループと第二グループに対してシミュレーションプロセスと修正プロセスを区別的に実行するこのようなレイアウトパターンの選択的修正は、従来のＯＰＣ法の正確性と速度を向上させ、利用可能なレイアウトパターンを取得することができる。
【０００９】
本発明によるレイアウトパターンを選択的に修正する方法では、まず少なくとも第一グループと第二グループを含む第一レイアウトパターンを設ける。当該第一グループと第二グループはそれぞれ複数のメンバーを含む。次に、第一グループのメンバーに対してそれぞれシミュレーションプロセスと第一グループ修正プロセスを実行し、修正された第一グループを取得する。更に、第二グループのメンバーに対してそれぞれシミュレーションプロセスと第二グループ修正プロセスを実行し、修正された第二グループを取得する。その後、修正された第一グループと修正された第二グループが両方とも目標を達成するまで、修正された第一グループと修正された第二グループを検証する。後に、共に目標を達成した修正された第一グループと修正された第二グループを含む第二レイアウトパターンを出力する。必要に応じて、第一グループと第二グループが両方とも目標を達成したかどうかを事前に検証しうる。或いは、両方とも目標を達成していない第一グループと第二グループに対して優先順位選択プロセスを実行し、優先グループと劣後グループを取得する。
【００１０】
本発明による方法では、実際の修正プロセスまたは優先順位選択プロセスを行う前に、複数のグループを第一グループと第二グループに分類するので、第一グループと第二グループのすべてのメンバーに対してシミュレーションプロセスと修正プロセスをそれぞれ実行するときに、第一グループと第二グループ／優先グループと劣後グループのすべてのメンバーに対して独立したシミュレーションプロセスと修正プロセスを区別的に実行することができる。そうすると、属性の異なる第一グループと第二グループのすべてのメンバーに対してより好適なシミュレーションプロセスと修正プロセスが行われることができるので、第一グループと第二グループのすべてのメンバーはそれぞれいち早く目標を達成することができる。このようなレイアウトパターンの選択的修正は、従来のＯＰＣ法の正確性と速度を向上させ、利用可能なレイアウトパターンを取得することができる。
【００１１】
本発明の前述及び他の目的は、様々な図面に示す好適な実施例の以下の詳細な説明を読むことにより当業者には明らかとなろう。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
本発明はレイアウトパターンを選択的に修正する方法に関する。実際の修正プロセスを行う前に、複数の異なるグループを第一グループと第二グループに分類するか、または、必要に応じて優先順位選択プロセスを先に実行する。後に、第一グループと第二グループのすべてのメンバーに対して独立したシミュレーションと修正プロセスをそれぞれ実行する。本発明による方法では、優先順位選択プロセスは複数のグループを優先グループと劣後グループに分け、優先グループと劣後グループのすべてのメンバーができるだけ速く目標を達成するようにさせる。このようなレイアウトパターンの選択的修正は、従来のＯＰＣ法で利用可能なレイアウトパターンを取得するときの正確性と速度を向上させることができる。
【００１３】
図１は本発明によるレイアウトパターンを選択的に修正する方法の主なフローを示すフローチャートである。本発明によるレイアウトパターンの選択的修正方法１００は以下の段階を含む。
ステップ１１０：第一レイアウトパターンを設ける。
ステップ１２０：必要に応じて第一グループと第二グループが目標を達成したかを検証する。
ステップ１３０：必要に応じて目標を達成していない第一グループと第二グループに対して優先順位選択プロセスを実行し、第一グループと第二グループを取得する。
ステップ１４０：第一グループのすべてのメンバーに対してそれぞれシミュレーションプロセスと第一グループ修正プロセスを実行し、修正された第一グループを取得する。
ステップ１５０：第二グループのすべてのメンバーに対してそれぞれシミュレーションプロセスと第二グループ修正プロセスを実行し、修正された第二グループを取得する。
ステップ１６０：修正された第一グループと修正された第二グループを、両方とも目標を達成するまで繰り返して検証する。
ステップ１７０：目標を達成した修正された第一グループと、目標を達成した修正された第二グループを含んだ第二レイアウトパターンを出力する。
【００１４】
前述のステップ１１０の第一レイアウトパターンは転写対象のパターン、例えばコンタクトホールパターン、ビアホールパターン、ドープ領域、ポリシリコンゲート、またはＳＲＡＭ（スタティックランダムアクセスメモリ）などのレイアウトパターンである。或いは、第一レイアウトパターンは従来のＯＰＣ法が施された予備レイアウトパターンでもありうる。この第一レイアウトパターンは少なくとも属性の異なる第一グループと第二グループを含む。第一グループと第二グループはそれぞれ複数のメンバーを含む。
【００１５】
以下に所与のレイアウトパターンのグループとメンバーの関係を示す望ましい実施例を説明する。図２を参照する。図２は、複数のグループとそれに属するメンバーを含む所与のレイアウトパターンを示している。例えば、レイアウトパターンは複数のテンプレート２１０／２１１を含む。各テンプレート２１０、２１１は、複数の形状２２０、２２１、２２２、２２３、２２４、２２５、２２６を含む。各形状２２０、２２１、２２２、２２３、２２４、２２５、２２６は、少なくとも１つのエッジを含む。例えば、形状２２１は少なくとも代表的なエッジ２３１、２３２、２３３、２３４を含む。望ましくは、個々のエッジ２３１、２３２、２３３、２３４は互いに垂直か、１３５度角を挟む。ＯＰＣモデルの操作では、各エッジは必要に応じて複数のセグメント２４１、２４２、２４３、２４４に分けることができる。各セグメント２４１、２４２、２４３、２４４は、本発明による選択的ＯＰＣモデルの最小操作ユニットとみなす。
【００１６】
図３に示すように、互いに垂直なエッジ２３１、２３２は属性の異なるグループとみなし、互いに平行なエッジ２３１、２３２は属性が同じグループとみなすことができる。したがって、エッジ２３１、２３２は別々のグループ、すなわち第一グループ２６１と第二グループ２６２に分けられる。そのため、エッジ２３１、２３３に属するセグメント２４１、２４３はメンバー２７１、２７３とみなされ、エッジ２３２、２３４に属するセグメント２４２、２４４はメンバー２７２、２７４とみなされる。
【００１７】
言い換えれば、第一レイアウトパターン２００は、第一グループ２６１及び第二グループ２６２を含む。第一グループ２６１はメンバー２７１、２７３を含み、第二グループ２６２はメンバー２７２、２７４を含む。一方、レイアウトパターン２００では、エッジ２３１、２３２のいずれかと平行なエッジはいずれも同じグループに分けられる。
【００１８】
レチクル上のパターンをウェハー表面に転写するリソグラフィー工程では、光源またはパターンの特性などのプロセスパラメータにより偏差が発生する。例えば、ＱＵＡＳＡＲ照射などの非対称光源を、レチクル上の標準パターンをウェハー表面に転写する工程に利用した場合、同じ形状の中で相互に垂直な各エッジ２３２／２３１は同じＱＵＡＳＡＲ照射に対して異なる反応をし、異なる感度と結果が生じる。例えば、異なる露光強度、すなわち第一強度と第二強度が生じるか、または異なるコントラスト、すなわち第一コントラストと第二コントラストが生じうる。図４に示すように、その一方は照射に対して感度がよく、他方は感度が悪い（すなわち照射に対して鈍感である）。したがって、感度属性の異なるエッジ３１２／３１３に対してシミュレーションプロセスと修正プロセスを独立して実行し、異なるシミュレーション基準と修正基準を区別することができる。例えば、感度のよいグループは少し修正を加えれば明確な結果が得られ、感度の悪いグループは同様の結果を得るためにはより大幅の修正が必要である。
【００１９】
次にステップ１２０において、本発明による方法はまず必要に応じて第一レイアウトパターン２００の第一グループ２６１と第二グループ２６２が両方とも目標を達成したかを検証する。「目標を達成する」とはＯＰＣ基準によって異なりうる。例えば、「目標を達成する」とは、グループが限界寸法エラーの許容範囲内にあることを意味することが可能である。限界寸法エラーの概念は図３に示すとおりである。図３では、コンタクトホールパターンとされる円形パターンを例示している。コンタクトホールパターンは望ましくは大きさ８４ｎｍ×８４ｎｍである。しかし、ＯＰＣシミュレーションの実行後、パターンの寸法は８９ｎｍ×７６ｎｍと評価される。長い辺の絶対値｜７６−８４｜＝８＞短い辺の絶対値｜８９−８４｜＝５のため、大きい値の８ｎｍを基準として、グループが限界寸法エラーの許容範囲内にあるかどうかを判断する。
【００２０】
また、第一レイアウトパターンの第一グループと第二グループが目標を達成するかどうかを検証するためには、他のパラメータを利用することもできる。図４では、レイアウトパターンにおける複数の形状の露光強度を示している。レイアウトパターン３０１は、複数の形状３１１、３１２、３１３、及び３１４を有する。コントラスト強度＝（強度最大値−強度最小値）／（強度最大値＋強度最小値）とし、形状３１２と３１３の間の第一コントラスト強度を０．５４７６とし、形状３１３と３１４の間の第二コントラスト強度を０．３１２２とすれば、両強度にかかるパラメータ（すなわち強度差）が特定範囲内（例えば１×１０−４）に収まることを「目標達成」の判断基準とすることができる。この場合、第一コントラスト強度と第二コントラスト強度の差は０．２３５４で、特定範囲内にないことが明らかである。
【００２１】
第一レイアウトパターンの第一グループと第二グループが両方とも目標を達成すれば、第一レイアウトパターンの第一グループと第二グループのすべてのメンバーが所定要求に合致しているため、第一レイアウトパターンを直接に出力することができる。
【００２２】
しかし、ほとんどの場合では、第一レイアウトパターンの第一グループと第二グループは両方とも目標を達成することができない。この場合、本発明による方法は必要に応じてステップ１３０に進み、両方とも目標を達成していない第一グループと第二グループに対して優先順位選択プロセスを実行し、優先グループと劣後グループに分ける。
【００２３】
注意すべきは、第一グループと第二グループの感度属性はこの段階までは判明していないので、第一グループと第二グループに対して優先順位選択プロセスを先に実行し、優先グループと劣後グループに分けることができる。
【００２４】
先に述べたように、ＱＵＡＳＡＲ照射を利用してレチクル上の標準パターンをウェハーの表面に転写する場合では、エッジ２３２／２３１のＱＵＡＳＡＲ照射に対する感度を優先順位選択の基準とすることができる。エッジ２３１、２３２がＱＵＡＳＡＲ照射に対する相対位置に基づいてエッジを「敏感」と「鈍感」に分け、必要に応じて感度のよい（敏感）ものを優先グループとし、感度の悪い（鈍感）ものを劣後グループとすることができる。
【００２５】
例えば、図４では、第一コントラスト強度０．５４７６は第二コントラスト強度０．３１２２より高いので、第一コントラスト強度０．５４７６を優先グループとし、第二コントラスト強度０．３１２２を劣後グループとする。
【００２６】
優先グループと劣後グループを決めた後、本方法はステップ１４０に進み、優先グループのすべてのメンバーに対してそれぞれシミュレーションプロセスと優先グループ修正プロセスを実行し、修正された優先グループを取得する。優先グループは優先順位選択プロセスで選別されたものであるため、優先グループのすべてのメンバーは同一の特定の属性を有するはずである。したがって、修正プロセスの前に優先グループのすべてのメンバーに対してシミュレーションプロセスを行えば、同様の条件ではより安定したシミュレーション結果が得られる。
【００２７】
ステップ１２０／１３０を実行しなかった場合、本方法はステップ１４０に進み、第一グループのすべてのメンバーに対してそれぞれシミュレーションプロセスと第一グループ修正プロセスを実行し、修正された第一グループを取得する。第一グループは優先順位選択プロセスで選別されたものであるため、第一グループのすべてのメンバーは同一の特定の属性を有するはずである。したがって、修正プロセスの前に第一グループのすべてのメンバーに対してシミュレーションプロセスを行えば、同様の条件ではより安定したシミュレーション結果が得られる。
【００２８】
例えば、図２に示すように、エッジ２３２／２３１は互いに垂直である。優先順位選択プロセスを経てエッジ２３１を「敏感」とし、エッジ２３２を「鈍感」とすれば、前述の「分類原則」によると、感度のよいエッジ２３１は優先グループとされ、感度の悪いエッジ２３２は劣後グループとされる。シミュレーションプロセスと優先グループ修正プロセスは、第一グループ２６１の「すべて」のメンバー２７１、２７３（すなわちエッジ２３１）に対して実行される。一般に、シミュレーションプロセスは優先グループ修正プロセスの前に行われる。
【００２９】
シミュレーションプロセスでは、各メンバー（すなわちメンバー２７１、２７３）の「調整方向」と「補正ウェイト」がシミュレートされる。「調整方向」はメンバーの「境界」（ａｍｂｉｔ）により外向き（ｏｕｔｗａｒｄ）か内向き（ｉｎｗａｒｄ）と決められる。外向き調整とは面積を増やすことで、内向き調整とは面積を減らすことである。図５を参照する。図５は形状２２１のメンバー２７１の調整方向を示す。例えば、メンバー２７１について、＋Ｙと−Ｙなど２つの方向のみ可能である。＋Ｙ方向への移動は形状２２１の面積を大きくするので外向き調整とされ、−Ｙ方向への移動は形状２２１の面積を小さくするので内向き調整とされる。
【００３０】
各メンバーの調整方向が決まれば、本方法は次の段階に進んで、各メンバーの「補正ウェイト」を評価する。「補正ウェイト」とは、決められた調整方向にかかる移動量である。移動量は各形状のメンバーの変化程度と、修正された幾何形状の輪郭（アウトライン）の変化程度に関係する。注意すべきは、感度のよいグループは少し修正を加えれば幾何輪郭が著しく変化し、感度の悪いグループは同様の幾何輪郭変化を得るためにはより大幅の修正が必要である。ここで、図５に示す形状２２１のメンバー２７１のシミュレーション後の「補正ウェイト」を「Ａ」とする。
【００３１】
各メンバーの「調整方向」と「補正ウェイト」を決めた後、本方法は次の段階に進み、優先グループ修正プロセスを行う。優先グループ修正プロセスでは、各メンバーの実際の「調整方向」と「補正ウェイト」は、シミュレーションにより提案された各メンバーの「調整方向」と「補正ウェイト」に基づいて決められる。
【００３２】
シミュレーションにより各メンバーの「調整方向」と「補正ウェイト」が提案されているにもかかわらず、必要に応じて各メンバーの「補正ウェイト」は必ずしも「補正スケール」に一致する必要がない。本発明では、「補正ウェイト」から割引した値を「補正スケール」とすることができる。これは、補正ウェイトのダンピングと呼ばれる。例えば、パターンとＯＰＣモデルによってダンピング値を補正ウェイトの０〜１、例として補正ウェイトの９０％、７０％、５０％、３０％とすることができる。例えば、図５に示す形状２２１のメンバー２７１の「補正スケール」は「７０％Ａ」である。
【００３３】
優先グループ修正プロセスの実行後、修正された優先グループが得られ、第一レイアウトパターンの本来の輪郭はそれによって変わる。通常の場合、優先グループ修正プロセスでは優先グループのメンバーのみが修正される。異なるグループ間の干渉を避けるために、劣後グループのメンバーはいずれも修正しないことが望ましい。
【００３４】
優先グループのすべてのメンバーに対するシミュレーションプロセスと優先グループ修正プロセスが完成し、修正された優先グループが得られた後、本方法はステップ１５０に進み、劣後グループのすべてのメンバーに対してそれぞれシミュレーションプロセスと劣後グループ修正プロセスを実行し、修正された劣後グループを取得する。劣後グループも優先順位選択プロセスで選別されたものであるため、劣後グループのすべてのメンバーは同一の特定の属性を有するはずである。したがって、修正プロセスの前に劣後グループのすべてのメンバーに対してシミュレーションプロセスを行えば、同様の条件ではより安定したシミュレーション結果が得られる。
【００３５】
ステップ１２０／１３０を実行しなかった場合、本方法はステップ１５０に進み、第二グループのすべてのメンバーに対してそれぞれシミュレーションプロセスと第二グループ修正プロセスを実行し、修正された第二グループを取得する。第二グループも優先順位選択プロセスで選別されたものであるため、第二グループのすべてのメンバーは同一の特定の属性を有するはずである。したがって、修正プロセスの前に第二グループのすべてのメンバーに対してシミュレーションプロセスを行えば、同様の条件ではより安定したシミュレーション結果が得られる。
【００３６】
例えば、図２に示すように、エッジ２３１、２３２は互いに垂直である。優先順位選択プロセスを経てエッジ２３１を「敏感」とし、エッジ２３２を「鈍感」とすれば、前述の「分類原則」によると、感度のよい（敏感）エッジ２３１は優先グループとされ、感度の悪い（鈍感）エッジ２３２は劣後グループとされる。シミュレーションプロセスと劣後グループ修正プロセスは、第二グループ２６２（すなわち劣後グループ）の「すべて」のメンバー２７２、２７４（エッジ２３２）に対して実行される。一般に、シミュレーションプロセスは優先グループ修正プロセスの前に行われる。或いは、図３に示すような簡単な形状では、各辺をそれぞれ１つのメンバーとすることができる。シミュレーションプロセスと修正プロセスはまず第一グループ２６１と第二グループ２６２のいずれかに対して実行される。望ましくは、優先順位選択プロセスを実行して優先グループを取得し、それに対して対応するシミュレーションプロセスと修正プロセスを実行してから、劣後グループに対して対応するシミュレーションプロセスと修正プロセスを実行する。
【００３７】
シミュレーションプロセスでは、各メンバー（すなわちメンバー２７２、２７４）の「調整方向」と「補正ウェイト」がシミュレートされる。方向調整の詳しい動作については図５を参照する。
【００３８】
各メンバーの調整方向が決まれば、本方法は次の段階に進んで、各メンバーの「補正ウェイト」を評価する。図５を参照する。本発明では、「補正ウェイト」から割引した値を「補正スケール」とすることができる。これは、補正ウェイトのダンピングと呼ばれる。例えば、パターンとＯＰＣモデルによってダンピング値を補正ウェイトの０〜１、例として補正ウェイトの９０％、７０％、５０％、３０％とすることができる。
【００３９】
劣後グループ修正プロセスの実行後、修正された劣後グループが得られ、第一レイアウトパターンの本来の輪郭はそれにより、修正された優先グループに次いで再び変わる。通常の場合、劣後グループ修正プロセスでは劣後グループのメンバーのみが修正される。異なるグループ間の干渉を避けるために、優先グループのメンバーはいずれも修正されないことが望ましい。
【００４０】
ステップ１２０／１３０を実行する場合、優先グループと劣後グループのすべてのメンバーに対してシミュレーションプロセスと修正プロセスを行い、修正された優先グループと修正された劣後グループを取得してから、第一レイアウトパターンの修正された優先グループと修正された劣後グループを再び検証して目標を達成したかどうかを判断する。すなわち、本発明はステップ１６０に進み、修正された優先グループと修正された劣後グループが両方とも目標を達成するまでそれらを繰り返して検証する。第一レイアウトパターンの修正された優先グループと修正された劣後グループが両方とも目標を達成すれば、修正された第一レイアウトパターンの優先グループと劣後グループのすべてのメンバーが所定要求に合致しているため、修正された第一レイアウトパターンを直接に出力することができる。
【００４１】
ステップ１２０／１３０を実行しなかった場合、第一グループと第二グループのすべてのメンバーに対してシミュレーションプロセスと修正プロセスを行い、修正された第一グループと修正された第二グループを取得した後に、第一レイアウトパターンの修正された第一グループと修正された第二グループを再び検証して目標を達成したかどうかを判断する。すなわち、本発明はステップ１６０に進み、修正された第一グループと修正された第二グループが両方とも目標を達成するまでそれらを繰り返して検証する。第一レイアウトパターンの修正された第一グループと修正された第二グループが両方とも目標を達成すれば、修正された第一レイアウトパターンの第一グループと第二グループのすべてのメンバーが所定要求に合致しているため、修正された第一レイアウトパターンを直接に出力することができる。
【００４２】
しかし、ほとんどの場合では、第一レイアウトパターンの第一グループと第二グループに対して１回のシミュレーションプロセスと１回の修正プロセスを実行し、修正された第一グループと修正された第二グループを取得したにもかかわらず、修正された第一レイアウトパターンの第一グループと第二グループは両方とも目標を達成することができない。したがって、図６Ａに示すように、ステップ１６０は以下のステップを含みうる。
ステップ１６１：修正された第一グループのすべてのメンバーに対してそれぞれシミュレーションプロセスを再び実行し、第一グループデータを取得する。
ステップ１６２：前述の第一グループデータに基づいて、修正された第一グループに対して第一グループ修正プロセスを再び実行し、修正された第一グループを取得する。
ステップ１６３：修正された第一グループのメンバーが目標を達成したかどうかを検証する。
ステップ１６４：修正された第二グループのすべてのメンバーに対してそれぞれシミュレーションプロセスを再び実行し、第二グループデータを取得する。
ステップ１６５：前述の第二グループデータに基づいて、修正された第二グループに対して第二グループ修正プロセスを再び実行し、修正された第二グループを取得する。
ステップ１６６：修正された第二グループのメンバーが目標を達成したかどうかを検証する。
【００４３】
言い換えれば、ステップ１６１／１６４では、修正された第一グループと修正された第二グループのすべてのメンバーに対してそれぞれシミュレーションプロセスを再び実行する。望ましくは、修正された第一グループと修正された第二グループのすべてのメンバーに対してそれぞれ独立したシミュレーションプロセスを再び実行し、対応するデータを取得する。その後、ステップ１６２／１６５では、前記データに基づいて第一グループ修正プロセスと第二グループ修正プロセスを順次実行する。望ましくは、ステップ１６３／１６６に示すように修正された第一グループと修正された第二グループのすべてのメンバーが目標を達成するまで、第一グループ修正プロセスと第二グループ修正プロセスをそれぞれ独立して実行する。
【００４４】
第一グループと第二グループに対してプロセスを個別に実行すれば、ステップ１６０は更に図６Ｂに示す以下のステップを含むものとみなすことができる。
ステップ１６１'：修正された第一グループのすべてのメンバーに対してそれぞれシミュレーションプロセスと第一グループ修正プロセスを実行し、修正された第一グループを再び取得する。
ステップ１６２'：修正された第二グループのすべてのメンバーに対してそれぞれシミュレーションプロセスと第二グループ修正プロセスを実行し、修正された第二グループを再び取得する。
【００４５】
すなわち、ステップ１６０は通常、修正された第一グループと修正された第二グループが両方とも目標を達成するまで１回以上繰り返される。例えば、図４に示すレイアウトパターンの形状露光強度を例に挙げれば、ステップ１６０による複数回の修正を経た後、形状３１２と３１３の間の第一コントラスト強度は０．４２９１７となり、形状３１３と３１４の間の第二コントラスト強度０．３１２２は０．４２９１１となる。第一コントラスト強度と第二コントラスト強度の差が６×１０−５で、例えば、特定範囲１×１０−４内に収まるので、第一コントラスト強度と第二コントラスト強度は両方とも目標を達成するとみなされる。
【００４６】
ステップ１６１'と１６２'は必要に応じて、第一グループと第二グループが両方とも目標を達成するまで必要なだけ繰り返される。したがって、第一グループと第二グループにかかるシミュレーションプロセスと修正プロセスは、修正された第一グループと修正された第二グループが両方とも最終的に目標を達成するまで複数回実行される。その結果は利用可能な第二修正パターンと呼ばれる。そのため、本来の第一レイアウトパターンは利用可能な第二レイアウトパターンになる。その後、本方法はステップ１７０に進み、目標に達成した第一修正グループと第二修正グループを含んだ第二レイアウトパターンを出力する。その結果、所要の利用可能なレイアウトパターンが得られる。
【００４７】
当業者は、発明の教示内容を維持しつつ装置及び方法の多数の修正及び変更をなしうることを容易に理解するであろう。
【図面の簡単な説明】
【００４８】
【図１】本発明によるレイアウトパターンを選択的に修正する方法の主なフローを示すフローチャートである。
【図２】複数のグループとそれに属するメンバーを含む所与のレイアウトパターンを示す説明図である。
【図３】コンタクトホールパターンとされる円形パターンを例示する説明図である。
【図４】レイアウトパターンにおける複数の形状の露光強度を示す説明図である。
【図５】１つの形状の所与のメンバーの調整方向を示す説明図である。
【図６Ａ】ステップ１６０を更に説明するための説明図である。
【図６Ｂ】ステップ１６０を更に説明するための説明図である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６Ａ】
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【図６Ｂ】
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