(57)【要約】【課題】ラジカル重合性不飽和結合を有するモノマーを重合させることで得られるポリマー鎖で化学修飾された酸化マグネシウム化を提供すること。【解決手段】酸化マグネシウムの表面に化学結合を介して導入されたラジカル重合開始基を有する化合物の該ラジカル重合開始基を起点として、ラジカル重合性不飽和結合を有するモノマーを重合させることで得られるポリマー鎖で化学修飾された酸化マグネシウム化合物。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
酸化マグネシウムの表面に化学結合を介して導入されたラジカル重合開始基を有する化合物の該ラジカル重合開始基を起点として、ラジカル重合性不飽和結合を有するモノマーを重合させることで得られるポリマー鎖で化学修飾された酸化マグネシウム化合物。
【請求項２】
請求項１に記載のラジカル重合開始基が、リビングラジカル重合開始基である請求項１に記載の酸化マグネシウム化合物。
【請求項３】
請求項１に記載のラジカル重合開始基が、原子移動ラジカル重合開始基である請求項１に記載の酸化マグネシウム化合物。
【請求項４】
請求項１に記載の化学結合が、酸化マグネシウムと
（ａ）リン酸基、カルボン酸基、酸ハライド基、酸無水物基、イソシアナート基、グリシジル基、クロロシラン基、アルコキシシリル基及びシラノール基からなる群から選ばれる少なくとも一種類の官能基
とを反応させることで形成されるものである請求項１〜３のいずれかに記載の酸化マグネシウム化合物。
【請求項５】
請求項１に記載の化学結合が、酸化マグネシウム（１）とアルコキシシリル基とを反応させることで形成されるものである請求項１〜３のいずれかに記載の酸化マグネシウム化合物。
【請求項６】
（ａ）リン酸基、カルボン酸基、酸ハライド基、酸無水物基、イソシアナート基、グリシジル基、クロロシラン基、アルコキシシリル基及びシラノール基からなる群から選ばれる少なくとも一種類の官能基
とラジカル重合開始基とを有する化合物と、
酸化マグネシウムとを反応させることにより得られる酸化マグネシウムの表面に化学結合を介してラジカル重合開始基が導入された化合物。
【請求項７】
（ａ）リン酸基、カルボン酸基、酸ハライド基、酸無水物基、イソシアナート基、グリシジル基、クロロシラン基、アルコキシシリル基及びシラノール基からなる群から選ばれる少なくとも一種類の官能基とラジカル重合開始基とを有する化合物と、酸化マグネシウムとを反応させ、酸化マグネシウムの表面に化学結合を介してラジカル重合開始基が導入された化合物を取得し、得られた化合物とラジカル重合性不飽和結合を有するモノマーを重合させることを特徴とする請求項１に記載の酸化マグネシウム化合物の製造方法。
【請求項８】
請求項１〜５のいずれかに記載の酸化マグネシウム化合物と樹脂とを含むことを特徴とする樹脂組成物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
酸化マグネシウムに高分子化合物が化学結合していることを特徴とするポリマー鎖で化学修飾された酸化マグネシウム化合物に関する。
【背景技術】
【０００２】
ポリマー−無機フィラーから成るポリマーコンポジットは、ポリマー単独に比べて、剛性や耐熱性などの特性を著しく改善できることが知られている。これらのポリマーコンポジットは、マトリックス樹脂へのフィラーの分散状態やその構造により特性は大きく影響される。
【０００３】
従来から、樹脂と無機フィラーとの混錬により複合化する方法が知られているが、マトリックス樹脂中へ無機フィラーを均一に分散させることが困難であった。そこで、無機フィラー表面を改質処理して、樹脂に対する分散性を向上させる試みがなされている。
無機フィラー表面の改質方法の一つに、ポリマーを無機フィラー表面へ結合させることにより、樹脂によるコーティングを施す方法がある。例えば、ビニル基やアクリレート基、メタクリレート基などのラジカル重合性不飽和結合を導入したフィラーをエチレンやスチレン、メタクリル酸メチルなどのモノマー共存下、ラジカル重合させて表面改質がなされている。しかしながら、この手法では、表面の改質を行うことはできるが、フィラーと結合していない遊離のポリマーが生成してしまうため、表面を高密度にポリマーで修飾することができず、改質の効果が必ずしも充分とはいえなかった。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【０００４】
【非特許文献１】Ｃｈｅｍ．Ｒｅｖ．２００６，１０６，３９３６.
【非特許文献２】Ｃｈｅｍ．Ｒｅｖ．２００１，１０１，３６６１.
【非特許文献３】Ａｕｓｔ．Ｊ．Ｃｈｅｍ．２００５，５８，３７９.
【非特許文献４】Ｃｈｅｍ．Ｒｅｖ．２００１，１０１，２９２１.
【非特許文献５】Ｃｈｅｍ．Ｒｅｖ．２００１，１０１，３６８９.
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、樹脂へ高充填しても良好な成形性を保有し、且つ機械強度に優れている、ポリマー鎖で化学修飾された酸化マグネシウム化合物を提供しようとするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者らは、酸化マグネシウム粒子にあらかじめ化学結合を介してラジカル重合開始基を導入し、該粒子とモノマーを反応させることで、ポリマー鎖で化学修飾された酸化マグネシウム化合物粒子が得られることを見出した。
【０００７】
すなわち、本発明は、
［１］：
酸化マグネシウム（以下、酸化マグネシウム（１）と略す場合もある。）の表面に化学結合を介して導入されたラジカル重合開始基を有する化合物の該ラジカル重合開始基を起点として、ラジカル重合性不飽和結合を有するモノマーを重合させることで得られる、ポリマー鎖で化学修飾された酸化マグネシウム化合物（Ａ）（以下、酸化マグネシウム化合物（Ａ）と略す場合もある。）。
［２］：
ラジカル重合開始基が、リビングラジカル重合開始基又は原子移動ラジカル重合開始基である酸化マグネシウム化合物（Ａ）。
［３］：
化学結合が、酸化マグネシウム（１）と
（ａ）リン酸基、カルボン酸基、酸ハライド基、酸無水物基、イソシアナート基、グリシジル基、クロロシラン基、アルコキシシリル基、シラノール基からなる群から選ばれる少なくとも一種類の官能基
とを反応させることで形成される酸化マグネシウム化合物（Ａ）。
［４］：
（ａ）リン酸基、カルボン酸基、酸ハライド基、酸無水物基、イソシアナート基、グリシジル基、クロロシラン基、アルコキシシリル基及びシラノール基からなる群から選ばれる少なくとも一種類の官能基
とラジカル重合開始基とを有する化合物と、
酸化マグネシウムとを反応させることにより得られる酸化マグネシウムの表面に化学結合を介してラジカル重合開始基が導入された化合物（以下、化合物（２）と略す場合もある。）。
［５］：
酸化マグネシウム（１）と
（ａ）リン酸基、カルボン酸基、酸ハライド基、酸無水物基、イソシアナート基、グリシジル基、クロロシラン基、アルコキシシリル基、シラノール基からなる群から選ばれる、少なくとも一種類の官能基、
及び
（ｂ）ラジカル重合開始基
を有する化合物とを反応させることにより得られる、酸化マグネシウム（１）の表面に化学結合を介してラジカル重合開始基が導入された化合物（２）を取得し、得られた化合物とラジカル重合性不飽和結合を有するモノマーを重合させることを特徴とする酸化マグネシウム化合物（Ａ）の製造方法；
［６］：
ポリマー鎖で化学修飾された酸化マグネシウム化合物（Ａ）と樹脂とを含むことを特徴とする樹脂組成物を提供するものである。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、樹脂へ高充填しても良好な成形性を保有し、且つ機械強度に優れている、ポリマー鎖で化学修飾された酸化マグネシウム化合物を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下、本発明を詳細に説明する。
まず、酸化マグネシウム化合物（Ａ）について説明する。
【００１０】
酸化マグネシウム（１）は、その結晶構造や大きさ、形状等は特に限定されない。
【００１１】
「ラジカル重合開始基」とは、光や熱、またはその他の電磁照射の条件下でラジカルを発生する官能基及び触媒等と反応してラジカルを発生する官能基であり、ラジカル重合の開始点となりうる官能基であれば、特に限定されない。例えば、アゾ基やパーオキシド基、非特許文献１に記載されているような、ヨウ素など、さらには、非特許文献２に記載されているような、Ｎｉｔｒｏｘｉｄｅ−Ｍｅｄｉａｔｅｄ  Ｐｏｌｙｍｅｒｉｚａｔｉｏｎ（ＮＭＰ）の開始基となるニトロキシド基、非特許文献３に記載されているような、Ｒｅｖｅｒｓｉｂｌｅ  Ａｄｄｉｔｉｏｎ−Ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ  Ｐｏｌｙｍｅｒｉｚａｔｉｏｎ（ＲＡＦＴ）の開始基となるチオカルボニルチオ基、非特許文献４及び５に記載されているようなＡｔｏｍ  Ｔｒａｎｓｆｅｒ  Ｒａｄｉｃａｌ  Ｐｏｌｙｍｅｒｉｚａｔｉｏｎ（ＡＴＲＰ：原子移動ラジカル重合）の開始基となる、α−ハロカルボニルオキシ基、α−ハロカルボニル基、ハロスルホニル基、ハロメチルアリール基などが挙げられ、生成するポリマー鎖の一次構造や鎖長を制御できるという観点から「リビングラジカル重合開始基」である、例えば、非特許文献１及び２、３、４、５に記載されている官能基が好ましく、さらに非特許文献４及び５に記載されているような「原子移動ラジカル重合開始基」である官能基がより好ましい。
【００１２】
「リビングラジカル重合開始基」としては、特に限定されるわけではないが、例えば、ヨウ素やニトロキシド基、チオカルボニルチオ基、α−ハロカルボニルオキシ基、α−ハロカルボニル基、ハロスルホニル基、ハロメチルアリール基などが挙げられる。
【００１３】
「原子移動ラジカル重合開始基」としては、特に限定されるわけではないが、例えば、α−ハロカルボニルオキシ基、α−ハロカルボニル基、ハロスルホニル基、ハロメチルアリール基などが挙げられる。
【００１４】
「化学結合を介して導入されたラジカル重合開始基」における「化学結合」は、特に限定されるわけではなく、例えば、酸化マグネシウム（１）と（ａ）リン酸基、カルボン酸基、酸ハライド基、酸無水物基、イソシアナート基、グリシジル基、クロロシラン基、アルコキシシリル基、シラノール基からなる群から選ばれる少なくとも一種類の官能基とを反応させることで形成される結合が挙げられ、好ましくは、酸化マグネシウム（１）とクロロシラン基、アルコキシシラン基、又はシラノール基とを反応させることで形成される結合が挙げられ、より好ましくは酸化マグネシウム（１）とアルコキシシラン基とを反応させることで形成される結合が挙げられる。
尚、酸化マグネシウム（１）と反応させる官能基は一種類であってもよいし、二種類以上であってもよい。
【００１５】
以下に、酸化マグネシウム（１）と（ａ）リン酸基、カルボン酸基、酸ハライド基、酸無水物基、イソシアナート基、グリシジル基、クロロシラン基、アルコキシシリル基、シラノール基からなる群から選ばれる少なくとも一種類の官能基とを反応させることで形成される結合の例を概念図を用いて表わすが、これらに限定されるわけではない。
ｉ）リン酸基の場合；
2010222520.tif 000002
（Ｙは、ラジカル重合開始基を有する置換基、Ｚ１は、ヒドロキシル基又は置換されていてもよいリン酸エステル基を表わす。）
ｉｉ）カルボン酸基、酸ハライド基、酸無水物基の場合；
2010222520.tif 000003
（Ｙは、ラジカル重合開始基を有する置換基を表わす。）
ｉｉｉ）イソシアナート基の場合；
2010222520.tif 000004
（Ｙは、ラジカル重合開始基を有する置換基を表わす。）
ｉｖ）クロロシラン基、アルコキシシリル基、シラノール基の場合；
2010222520.tif 000005
（Ｙは、ラジカル重合開始基を有する置換基を表し、Ｚ２及びＺ３は、同一又は相異なり、クロロ原子、アルコキシ基、ヒドロキシル基、アルキル基又は置換されていてもよいシロキシ基を表わす。）
【００１６】
「ラジカル重合性不飽和結合を有するモノマー」は、ラジカル重合により重合されるモノマーであれば、特に限定されないが、例えば、エチレン、プロピレン、イソブテン、へキセン、ブタジエン、スチレンなどの炭素−炭素二重結合を有する炭化水素やメタクリル酸メチル、アクリル酸ブチルなどの（メタ）アクリル酸エステル、Ｎ，Ｎ−ジメチルメタアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルメタクリドやＮ，Ｎ−ジメチルアクリルアミドなどの（メタ）アクリルアミド、アクリロニトリル、酢酸ビニル、４−ビニルピリジンなどが挙げられる。尚、これらのモノマーは一種類であってもよいし、二種類以上のものが重合されていてもよい。
【００１７】
「ポリマー鎖」は、重合開始基を起点として、モノマーが通常、１０個以上重合されたものであれば特に限定されない。
【００１８】
次に、（ａ）リン酸基、カルボン酸基、酸ハライド基、酸無水物基、イソシアナート基、グリシジル基、クロロシラン基、アルコキシシリル基、シラノール基からなる群から選ばれる少なくとも一種類の官能基、
及び
（ｂ）ラジカル重合開始基を有する化合物と
酸化マグネシウム（１）とを反応させることで、酸化マグネシウム（１）の表面に化学結合を介してラジカル重合開始基が導入された化合物（２）に関して述べる。
【００１９】
（ａ）リン酸基、カルボン酸基、酸ハライド基、酸無水物基、イソシアナート基、グリシジル基、クロロシラン基、アルコキシシリル基、シラノール基からなる群から選ばれる少なくとも一種類の官能基及び（ｂ）ラジカル重合開始基を有する化合物は特に限定されるわけではないが、具体的には、例えば、以下の化合物があげられ、アルコキシシリル基及びラジカル重合開始基を有する化合物が好ましい化合物として挙げられる。
【００２０】
４−クロロメチルフェニルホスホン酸、４−ブロモメチルフェニルホスホン酸、
２−クロロプロピオン酸、２−ブロモプロピオン酸、２−ヨードプロピオン酸、
２−クロロ−２−メチルプロピオン酸、２−ブロモ−２−メチルプロピオン酸、２−ヨード−２−メチルプロピオン酸、
【００２１】
２−クロロプロピオニルクロリド、２−クロロプロピオニルブロミド、２−ブロモプロピオニルクロリド、２−ブロモプロピオニルブロミド、
２−クロロ−２−メチル−プロピオニルクロリド、２−クロロ−２−メチル−プロピオニルブロミド、２−ブロモ−２−メチル−プロピオニルクロリド、２−ブロモ−２−メチル−プロピオニルブロミド、
【００２２】
トリクロロアセチルイソシアネート、
【００２３】
２−クロロ−２−メチルプロピオン酸｛６−（トリクロロシリル）ペンチル｝、２−ブロモ−２−メチルプロピオン酸｛６−（トリクロロシリル）へキシル｝、２−ヨード−２−メチルプロピオン酸｛６−（トリクロロシリル）ブチル｝、
【００２４】
２−クロロ−２−メチルプロピオン酸｛６−（トリメトキシシリル）へキシル｝、２−クロロ−２−メチルプロピオン酸｛６−（トリエトキシシリル）へキシル｝、２−クロロ−２−メチルプロピオン酸｛６−（トリエトキシシリル）ブチル｝、２−ブロモ−２−メチルプロピオン酸｛６−（トリメトキシシリル）へキシル｝、２−ブロモ−２−メチルプロピオン酸｛６−（トリエトキシシリル）へキシル｝、２−ブロモ−２−メチルプロピオン酸｛６−（トリエトキシシリル）ペンチル｝、２−ブロモ−２−メチルプロピオン酸｛６−（メチルジエトキシシリル）へキシル｝、２−ブロモ−２−メチルプロピオン酸｛６−（ジメチルエトキシシリル）へキシル｝、２−ヨード−２−メチルプロピオン酸｛６−（トリメトキシシリル）へキシル｝、２−ヨード−２−メチルプロピオン酸｛６−（トリエトキシシリル）へキシル｝、
４−｛２−（トリメトキシシリル）エチル｝ベンゼンスルホニルクロリド、４−｛２−（トリエトキシシリル）エチル｝ベンゼンスルホニルクロリド、４−｛２−（メチルジエトキシシリル）エチル｝ベンゼンスルホニルクロリド、４−｛２−（ジメチルエトキシシリル）エチル｝ベンゼンスルホニルクロリド、
１−（クロロメチル）−４−（トリメトキシシリル）ベンゼン、１−（クロロメチル）−４−（トリエトキシシリル）ベンゼン、１−（ブロモメチル）−４−（トリメトキシシリル）ベンゼン、１−（ブロモメチル）−４−（トリエトキシシリル）ベンゼン、
【００２５】
２−クロロ−２−メチルプロピオン酸｛６−（トリヒドロキシシリル）ペンチル｝、２−ブロモ−２−メチルプロピオン酸｛６−（トリヒドロキシシリル）へキシル｝、２−ヨード−２−メチルプロピオン酸｛６−（トリヒドロキシシリル）ブチル｝、２−ブロモプロピオン酸｛６−（トリヒドロキシシリル）へキシル｝
等が挙げられ、
【００２６】
２−クロロ−２−メチルプロピオン酸｛６−（トリメトキシシリル）へキシル｝、２−クロロ−２−メチルプロピオン酸｛６−（トリエトキシシリル）へキシル｝、２−クロロ−２−メチルプロピオン酸｛６−（トリエトキシシリル）ブチル｝、２−ブロモ−２−メチルプロピオン酸｛６−（トリメトキシシリル）へキシル｝、２−ブロモ−２−メチルプロピオン酸｛６−（トリエトキシシリル）へキシル｝、２−ブロモ−２−メチルプロピオン酸｛６−（トリエトキシシリル）ペンチル｝、２−ブロモ−２−メチルプロピオン酸｛６−（メチルジエトキシシリル）へキシル｝、２−ブロモ−２−メチルプロピオン酸｛６−（ジメチルエトキシシリル）へキシル｝、２−ヨード−２−メチルプロピオン酸｛６−（トリメトキシシリル）へキシル｝、２−ヨード−２−メチルプロピオン酸｛６−（トリエトキシシリル）へキシル｝、
４−｛２−（トリメトキシシリル）エチル｝ベンゼンスルホニルクロリド、４−｛２−（トリエトキシシリル）エチル｝ベンゼンスルホニルクロリド、４−｛２−（メチルジエトキシシリル）エチル｝ベンゼンスルホニルクロリド、４−｛２−（ジメチルエトキシシリル）エチル｝ベンゼンスルホニルクロリド、
１−（クロロメチル）−４−（トリメトキシシリル）ベンゼン、１−（クロロメチル）−４−（トリエトキシシリル）ベンゼン、１−（ブロモメチル）−４−（トリメトキシシリル）ベンゼン、１−（ブロモメチル）−４−（トリエトキシシリル）ベンゼン
等のアルコキシシリル基及びラジカル重合開始基を有する化合物が好ましい。
【００２７】
酸化マグネシウム（１）と上記に示した（ａ）リン酸基、カルボン酸基、酸ハライド基、酸無水物基、イソシアナート基、グリシジル基、クロロシラン基、アルコキシシリル基、シラノール基からなる群から選ばれる少なくとも一種類の官能基、及び（ｂ）ラジカル重合開始基を有する化合物との反応は、両者を接触させることにより実施される。
【００２８】
接触させる際は、無溶媒でもよいが、通常、溶媒中で、両者を混合することにより実施される。
溶媒としては、水、有機溶媒及び水と有機溶媒の混合溶媒が挙げられる。有機溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒；１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ｔｅｒｔ―ブチルメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル溶媒；メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール溶媒；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン等のアミド溶媒；ジメチルスルホキシド等のスルホキシド溶媒等が挙げられる。
【００２９】
接触温度は、通常、−７８〜２００℃である。
必要に応じて、適当な添加物（例えば、酢酸などの酸やアンモニア水などの塩基等）の存在下に接触させてもよい。
尚、上記に示した（ａ）リン酸基、カルボン酸基、酸ハライド基、酸無水物基、イソシアナート基、グリシジル基、クロロシラン基、アルコキシシリル基、シラノール基からなる群から選ばれる少なくとも一種類の官能基、及び（ｂ）ラジカル重合開始基を有する化合物の使用量は特に制限されない。
【００３０】
反応後、生成した酸化マグネシウム（１）の表面に化学結合を介してラジカル重合開始基が導入された化合物（２）は、例えば、濃縮やろ過、遠心分離することにより、取り出すことができる。取り出された化合物は、水や有機溶媒、水と有機溶媒の混合溶媒などで洗浄することでさらに精製してもよい。
【００３１】
次いで、（ａ）リン酸基、カルボン酸基、酸ハライド基、酸無水物基、イソシアナート基、グリシジル基、クロロシラン基、アルコキシシリル基、シラノール基からなる群から選ばれる少なくとも一種類の官能基及び
（ｂ）ラジカル重合開始基を有する化合物と
酸化マグネシウム（１）とを反応させることで得られる、酸化マグネシウム（１）の表面に化学結合を介してラジカル重合開始基が導入された化合物（２）
とラジカル重合性不飽和結合を有するモノマーをラジカル重合させる工程について述べる。
【００３２】
ラジカル重合としては、どのような重合方法であってもよいが、酸化マグネシウム表面に結合しているポリマー鎖の分子量が均一であることが好ましいことから、リビングラジカル重合が好ましく、非特許文献４及び５に記載されているような原子移動ラジカル重合がより好ましい。
従って、原子移動ラジカル重合により反応可能なモノマーであれば特に限定はなく、例えば、スチレン、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸ｔ−ブチル、メタクリル酸グリシジル、アクリル酸ブチル、アクリル酸ｔ−ブチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルメタアクリルアミド、メタクリロニトリル、アクリル酸メチル、ポリアクリル酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、アクリロニトリル、４−ビニルピリジン、酢酸ビニル等が挙げられる。
尚、これらのモノマーは一種類であってもよいし、二種類以上のものを用いてもよい。使用するモノマーの量は、特に限定されないが、化合物（２）に含まれる重合開始基に対して、通常、１０モル倍から１００００モル倍である。
【００３３】
原子移動ラジカル重合には通常、触媒が用いられ、触媒としては、特に限定されないが、例えば、２価の銅、１価の銅、０価の銅、２価のルテニウム、２価の鉄、又は２価のニッケルの錯体が挙げられ、銅の錯体が好ましい。尚、これらの錯体は一種類であってもよいし、二種類以上のものを用いてもよい。
【００３４】
銅の錯体は、塩化第二銅、臭化第二銅、塩化第一銅、臭化第一銅、又は銅粉などの銅化合物を用い、配位子を添加することにより得ることができる。
配位子としては、特に限定されないが、例えば、２，２−ビピリジル、その誘導体などのビピリジル系化合物、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’’, Ｎ’’−ペンタメチルジエチレントリアミン、トリス（ジメチルアミノエチル）アミンなどが挙げられる。使用する配位子の量は、特に限定されないが、好ましくは、銅化合物の総量に対して、０．３モル倍〜５モル倍である。
【００３５】
使用する銅化合物の総量は、化合物（２）に含まれる重合開始基に対して、通常０．０００１〜１００モル倍、好ましくは、０．００１〜５０モル倍である。
【００３６】
原子移動ラジカル重合は、無溶媒で行ってもよいし、溶媒を使用してもよい。溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒；１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ｔｅｒｔ―ブチルメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、アニソール、ジフェニルエーテル等のエーテル溶媒；メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール溶媒；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン等のアミド溶媒；ジメチルスルホキシド等のスルホキシド溶媒；アセトニトリル、ベンゾニトリルなどのニトリル溶媒；酢酸エチル等のエステル溶媒等が挙げられる。尚、これらの溶媒は一種類であってもよいし、二種類以上のものを用いてもよい。
【００３７】
化合物（２）とモノマーとを原子移動ラジカル重合させる温度は、通常−２０℃〜２００℃であり、好ましくは、０℃〜１５０℃である。
【００３８】
重合終了後、未反応のモノマーや溶媒の留去、重合反応の懸濁液のろ過、又は懸濁液の遠心分離により、ポリマー鎖で化学修飾された酸化マグネシウム化合物（Ａ）と未反応のモノマーや溶媒とを分離することができる。得られた酸化マグネシウム化合物（Ａ）は、適当な溶媒などで洗浄することでさらに精製してもよい。
【００３９】
さらに、酸化マグネシウム化合物（Ａ）と樹脂とを含むことを特徴とする樹脂組成物に関して述べる。
【００４０】
樹脂の種類は、特に限定されないが、酸化マグネシウム化合物（Ａ）におけるポリマー鎖と相溶するものが好ましく、例えば、ポリメタクリル酸メチルやポリスチレンが挙げられる。
【００４１】
酸化マグネシウム化合物（Ａ）と樹脂の割合は、特に限定されないが、通常、酸化マグネシウム化合物（Ａ）における酸化マグネシウムの重量（すなわち、化学修飾されたポリマー鎖の重量を除いた重量）と樹脂の重量の割合は、１：９９〜９９：１の範囲である。
【００４２】
酸化マグネシウム化合物（Ａ）と樹脂の混合方法に関しても、特に限定されるわけではないが、例えば、直接混合する方法や混錬する方法、さらには、一旦溶媒を使用して混合させた後、溶媒を留去する方法等が挙げられる。
【００４３】
尚、酸化マグネシウム化合物（Ａ）と樹脂とを含む樹脂組成物は、射出成形、ブロー成形、押出成形、インフレーション成形及びシート加工後の真空成形、圧縮成形などの方法を用いて成形加工することも可能である。
【実施例】
【００４４】
以下、実施例及び比較例を挙げて、本発明を具体的に説明するが、本発明は、下記実施例に限定されるものではない。
【００４５】
［実施例１］
[２−ブロモ−２−メチルプロピオン酸｛６−（トリエトキシシリル）へキシル｝の合成]
（Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，２００５，３８，２１３７．を参考にして合成した。）
冷却装置を取り付けた反応容器に、室温で、２−ブロモ−２−メチルプロピオン酸−５−ヘキセン５６．５ｇ、トルエン７００ｍＬを加えた。得られた溶液へトリエトキシシラン２０７ｍＬを滴下した。得られた混合物を３０℃まで加熱し、白金錯体（Ａｌｄｒｉｃｈ製；ｐｌａｔｉｎｕｍ（０）−１，３−ｄｉｖｉｎｙｌ−１，１，３，３−ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌｄｉｓｉｌｏｘａｎｅ  ｃｏｍｐｌｅｘ  ｓｏｌｕｔｉｏｎ，０．１０Ｍ  ｉｎ  ｘｙｌｅｎｅ）８５０μＬを加えた後、３時間攪拌し、さらに室温で一晩攪拌した。その後、３２℃で、反応溶液を濃縮し、さらに５５℃で、４時間、減圧乾燥して、２−ブロモ−２−メチルプロピオン酸｛６−（トリエトキシシリル）へキシル｝８９．７ｇを得た。尚、ガスクロマトグラフィー分析により得られた面積百分率値は、８９％であった。
【００４６】
［実施例２］
[酸化マグネシウムの表面に化学結合を介してラジカル重合開始基が導入された化合物（２）の合成；酸化マグネシウムと２−ブロモ−２−メチルプロピオン酸｛６−（トリエトキシシリル）ヘキシル｝との反応]
冷却装置を取り付けた反応容器に、室温で、酸化マグネシウム（Ａｌｄｒｉｃｈ製；比表面積４６．５ｍ２／ｇ）２５．００ｇ、２−ブロモ−２−メチルプロピオン酸｛６−（トリエトキシシリル）へキシル｝１３．７９ｇ、トルエン２３０ｍＬを加えた。得られた混合物を還流下、８時間攪拌した。その後、不溶部を遠心分離により回収し、テトラヒドロフラン２８０ｍＬで４回洗浄した。得られた固体を室温で、８時間、減圧乾燥して、酸化マグネシウムの表面に化学結合を介してラジカル重合開始基が導入された化合物（酸化マグネシウムと２−ブロモ−２−メチルプロピオン酸｛６−（トリエトキシシリル）ヘキシル｝とを反応させた化合物）２４．７２ｇを得た。
元素分析：Ｃ：１．５％、Ｂｒ：０．８％
【００４７】
［実施例３］
[酸化マグネシウムの表面に化学結合を介してラジカル重合開始基が導入された化合物（２）（酸化マグネシウムと２−ブロモ−２−メチルプロピオン酸｛６−（トリエトキシシリル）ヘキシル｝とを反応させた化合物）とメチルメタクリレートとの原子移動ラジカル重合]
冷却装置を取り付けた反応容器に、室温で、実施例２で合成した「酸化マグネシウムの表面に化学結合を介してラジカル重合開始基が導入された化合物；酸化マグネシウムと２−ブロモ−２−メチルプロピオン酸｛６−（トリエトキシシリル）ヘキシル｝とを反応させた化合物」１０．００ｇ、臭化銅（Ｉ）２８．７３ｍｇ、銅紛２６．２４ｍｇ、アニソール３２．８６ｍＬ、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’’, Ｎ’’−ペンタメチルジエチレントリアミンのアニソール溶液３．００２ｍＬ（０．４０ｍｏｌ／Ｌ）、メチルメタクリレート６４．２６ｍＬを加えて、室温で５分間攪拌し、さらに、９０℃で８時間攪拌した。その後、不溶部を遠心分離により回収し、テトラヒドロフラン２８０ｍＬで６回洗浄した。得られた固体を室温で、８時間、減圧乾燥して、ポリメチルメタクリレートで修飾された酸化マグネシウム２０．８０ｇを得た。
元素分析：Ｃ：３５．７％、Ｂｒ：０．２％
【００４８】
［ガラス転移温度の測定］
【００４９】
実施例３で得られた化合物とポリメチルメタクルレート（Ａｌｄｒｉｃｈ製；Ｍｗ〜１２０，０００）について、ＤＳＣ（ＴＡインスツルメンツ製；ＤＳＣ Ｑ２０００）を用いてガラス転移温度を測定した。（測定条件；昇温速度２０℃/分）
【００５０】
【表１】
2010222520.tif 000006
ポリメチルメタクリレートで修飾された酸化マグネシウムが、ポリメチルメタクリレート単独樹脂よりガラス転移温度が高くなり、耐熱性が向上していることが明らかである。
【００５１】
［実施例４］
実施例３により得られたポリメチルメタクリレートで修飾された酸化マグネシウム４.８５g、ポリメチルメタクルレート（Ａｌｄｒｉｃｈ製；Ｍｗ〜１２０，０００）１.６５ｇに添加し、小型混練機ミニラボ（ＴｈｅｒｍｏＨａａｋｅ製）を用いて、２００℃で２０分間(回転数５０ｒｐｍ)溶融混練した。混練後、押し出し機により造粒し、樹脂組成物を得た。得られた樹脂組成物について、プレス成形機（神藤金属工業所製；圧縮成形機  ＮＦ−３７）を用いて、温度２００℃(予熱５分間、昇圧(１５ＭＰａ)後３分間)でプレスした後、３０℃で５分間冷却することで約１００μｍ×１５０ｍｍ×１５０ｍｍのプレスシートを得た。
得られたプレスシートを用い、引張試験（オリエンテック社製；ＵＮＩＶＥＲＳＡＬ  ＴＥＳＴＩＮＧ  ＭＡＣＨＩＮＥ  ＳＴＡ−１２２５）を実施した。結果を表２に記載した。
【００５２】
［比較例１］
実施例３において、ポリメチルメタクリレートで修飾された酸化マグネシウムの代わりに、酸化マグネシウム（Ａｌｄｒｉｃｈ製；比表面積４６．５ｍ２／ｇ）１．９５g、ポリメチルメタクルレート（Ａｌｄｒｉｃｈ製；Ｍｗ〜１２０，０００）４．５５ｇを用いた以外は、実施例４と同様に実施したが、非常に脆くプレスシートが得られなかった。
【００５３】
[引張試験の実施]
[引張試験条件]
引張試験条件；荷重フルスケール：２０ｋｇｆ、試験速度：５.０ｍｍ／ｍｉｎ、初期試料長：４０ｍｍ、環境温度：２３℃、環境湿度：５０％ＲＨ
【００５４】
［引張試験結果］
【００５５】
【表２】
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