(57)【要約】【課題】電子機器から放出される不要電磁波の低減、及び電子機器に生じる電磁障害の抑制が可能で、低温―速硬化性であり、臭気を発生させることなく、さらに、腐食が生じることない磁性シート組成物、磁性シート、及び磁性シートの製造方法の提供。【解決手段】本発明の磁性シート組成物は、アルミニウムキレート系潜在性硬化剤と、下記式（Ａ）で表されるシラノール化合物乃至アルコキシシラン化合物と、エポキシ樹脂と、アクリル樹脂と、磁性粉とを含有することを特徴とする。【化１０】  （Ａｒ）ｍＳｉ（ＯＲ）ｎ      式（Ａ）（式中、ｍは２及び３のいずれかであり、ｍとｎとの和は４である。Ａｒは置換されてもよいアリール基であり、Ｒは水素原子及びメチル基のいずれかである。ｎが複数である場合、Ｒは同一でも異なっていてもよい。）【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
アルミニウムキレート系潜在性硬化剤と、下記式（Ａ）で表されるシラノール化合物乃至アルコキシシラン化合物と、エポキシ樹脂と、アクリル樹脂と、磁性粉とを含有することを特徴とする磁性シート組成物。
（化９）
（Ａｒ）ｍＳｉ（ＯＲ）ｎ      式（Ａ）
（式中、ｍは２及び３のいずれかであり、ｍとｎとの和は４である。Ａｒは置換されてもよいアリール基であり、Ｒは水素原子及びメチル基のいずれかである。ｎが複数である場合、Ｒは同一でも異なっていてもよい。）
【請求項２】
Ａｒが、フェニル基である請求項１に記載の磁性シート組成物。
【請求項３】
シラノール化合物乃至アルコキシシラン化合物が、トリフェニルシラノール、ジフェニルシランジオール、及びジフェニルジメトキシシランのいずれかである請求項１から２のいずれかに記載の磁性シート組成物。
【請求項４】
アルミニウムキレート系潜在性硬化剤が、多官能イソシアネート化合物を界面重合させると同時にジビニルベンゼンをラジカル重合させて得た多孔性樹脂にアルミニウムキレート剤を保持してなるアルミニウム潜在性硬化剤である請求項１から３のいずれかに記載の磁性シート組成物。
【請求項５】
エポキシ樹脂及びアクリル樹脂の合計量１０６．１質量部に対し、磁性粉が５００質量部〜１，２５０質量部であり、アルミニウムキレート系潜在性硬化剤及びシラノール化合物乃至アルコキシシラン化合物の合計量が２質量部〜１５質量部である請求項１から４のいずれかに記載の磁性シート組成物。
【請求項６】
アルミニウムキレート系潜在性硬化剤及びシラノール化合物乃至アルコキシシラン化合物の合計量が６．９質量部〜１５質量部である請求項１から５のいずれかに記載の磁性シート組成物。
【請求項７】
アルミニウムキレート系潜在性硬化剤とシラノール化合物乃至アルコキシシラン化合物との質量比（アルミニウムキレート系潜在性硬化剤／シラノール化合物乃至アルコキシシラン化合物）が、１．０以下である請求項１から６のいずれかに記載の磁性シート組成物。
【請求項８】
請求項１から７のいずれかに記載の磁性シート組成物からなる磁性層を有することを特徴とする磁性シート。
【請求項９】
請求項１から７のいずれかに記載の磁性シート組成物を、成形して磁性層を形成する磁性層形成工程と、
前記磁性層の厚み方向における少なくとも一方の面に、凹凸形成層及び転写材を、前記磁性層側からこの順に積層配置した後、加熱プレスすることにより、前記転写材の表面形状を、前記凹凸形成層及び前記磁性層の表面に転写すると共に、前記凹凸形成層と前記磁性層とを接合する形状転写工程と、
を含むことを特徴とする磁性シートの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子機器から放出される不要電磁波の低減、及び電子機器に生じる電磁障害の抑制が可能な磁性シートの材料としての磁性シート組成物、磁性シート、及び磁性シートの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
磁性シートの使用される用途としては、ノイズ抑制用途あるいは、ＲＦＩＤ用途が挙げられる。ノイズ抑制用途としては、パソコンや携帯電話に代表される電子機器の小型化、高周波数化の急速な進展に伴い、これらの電子機器において、外部からの電磁波によるノイズ干渉及び電子機器内部で発生するノイズ同士の干渉を抑制するために、種々のノイズ対策が行われており、例えば、ノイズ発信源又は受信源近傍に、磁性シート（ノイズ抑制シート）を設置することが行われている。
【０００３】
前記磁性シートは、Ｆｅ−Ｓｉ−Ａｌ等の合金（磁性粉）、エポキシ樹脂、アクリル樹脂と、揮発性溶剤とを含む磁性塗料（磁性シート組成物）をＰＥＴや剥離処理されたＰＥＴなどの絶縁性支持体（基材）の表面に塗布し、加熱プレスにより硬化させてシート状に成形したものであり、前記磁性粉が、ノイズを抑制する、所謂ノイズ抑制体としての機能を有する。前記磁性シートのノイズ抑制効果は透磁率の虚数部であるμ’’が大きい方が好ましい。
【０００４】
一方、ＲＦＩＤ用途としては、近年、ＲＦＩＤ（Radio  Frequency  Identification）と称されるＩＣタグ機能を有する携帯情報端末機に代表されるように、電磁誘導方式によるコイルアンテナを用いる無線通信が普及している。例えば、携帯情報端末機では、その小型化により、送受信用のアンテナ素子の近傍には、例えば、金属筐体、金属部品などの種々の導電体（金属）が配置されている。この場合、前記アンテナ素子近傍の金属の存在により、通信に用いることができる磁界が大きく減衰し、電磁誘導方式におけるＲＦＩＤ通信距離が短くなったり、共振周波数がシフトすることにより無線周波数を送受信することが困難になることがある。そこで、このような電磁障害を抑制するため、前記アンテナ素子と前記導電体との間に、磁性シートを配置することが行われている。ＲＦＩＤとしての機能としては、透磁率の実数部であるμ’が大きく、虚数部であるμ’’の小さい方が好ましい。
【０００５】
前記磁性シートの材料としての磁性シート組成物には、一般的に熱硬化性有機樹脂を硬化させる硬化剤（架橋剤）を添加することが行われている。このように、磁性シート組成物に硬化剤を含有させることによって磁性シートを硬化しているが、特に、磁性シートにおける高分子材料が吸湿しやすい場合には、温度や湿度の環境変化によって磁性シートの厚みが変化してしまうという問題がある。ここで、磁性シートの硬化を十分に進行させるために、硬化温度を高く硬化時間を長くすると、冷却時間が長くなるため水を浪費すると共に生産性が劣るという問題が発生する。この問題に対応するために、硬化温度を高くして、硬化時間を短くすると、絶縁性支持体の耐熱性の点で問題がある。
従来の硬化剤としては、スルホニウム系カチオン硬化剤が多用されているが、このスルホニウム系カチオン硬化剤には、毒性を有するアンチモンが含有されていることから、環境に悪影響を及ぼすという問題がある。さらに、このアンチモン型のスルホニウム系カチオン硬化剤は、カウンターアニオンが、結合力が弱いＳｂ−Ｆ結合を有することから、Ｆ−１イオンが遊離し易い。よって、アンチモン型のカチオン硬化剤を含有する磁性シートを配線周りに用いた場合には、遊離したＦ−１イオンが水と反応してフッ酸を生成し、配線腐食が多発するという問題があった。また、硬化反応後、磁性シートに不快臭が残り、この不快臭を取り除くためには熱処理が必要であった。
また、イミダゾール系硬化剤を用いた磁性シートは、硬化温度が高いので、プレス時間が長く、生産性が劣るという問題があるとともに、腐食が発生しやすいという問題があった。
また、例えば、特許文献１には、光硬化性カチオン硬化剤を含有した磁性バインダーの光硬化について記載され、磁性フィラーが表面から厚み方向に沿って変化する濃度分布を有する電磁波吸収シートが開示されている。この電磁波吸収シートの硬化はドラム式装置を用いて行われるものである。
上記のような事情に鑑みて、以下に示すような、アルミキレートを用いたカチオン硬化システムが検討されている。
ルイス酸であるアルミニウムキレート（下記式（１））の空配座に、シラノールの酸素の孤立電子対が配位することにより複合体（下記式（２））が形成される。続けて、複合体（下記式（２））とモノマーであるエポキサイドが相互作用することにより、カチオン重合活性種（下記式（３））が形成され、このカチオン重合活性種（下記式（３））及びエポキサイド間でカチオン重合反応が進行することにより、ポリエチレンオキサイド（エポキシ樹脂）（下記式（４））が得られる。
【化１】
2010077405.tif 000002
しかし、前記カチオン重合反応の反応速度は非常に速く、アルミニウムキレート（上記式（１））を、例えば、１液型の接着剤やフィルムに用いた場合、室温においても硬化反応が進行してしまい、要求されるフィルムライフを得ることができず（フィルムを使用する時に硬化してしまっている）、アルミニウムキレート（上記式（１））の潜在性化が必要であった。斯かる潜在化の必要に対し、アルミニウムキレートをカプセル化し、潜在性硬化剤として使用することが特許文献２に開示されている。このアルミニウムキレートのカプセル化によって、硬化剤の潜在性化を成し遂げることができ、硬化剤にフィルムライフの安定化や耐溶剤性を付与することができたものの、反応性が低下することとなり、硬化不良等が発生するという問題があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００７−９５８２９号公報
【特許文献２】特開２００６−７００５１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、従来における前記問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、電子機器から放出される不要電磁波の低減、及び電子機器に生じる電磁障害の抑制が可能で、低温―速硬化性であり、臭気を発生させることなく、さらに、腐食が生じることない磁性シートの材料としての磁性シート組成物、磁性シート、及び磁性シートの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者は、前記課題に鑑み、鋭意検討を行った結果、以下の知見を得た。即ち、アルミニウムキレート系潜在性硬化剤と、下記式（Ａ）で表されるシラノール化合物乃至アルコキシシラン化合物と、エポキシ樹脂と、アクリル樹脂と、磁性粉とを含有する磁性シート組成物を用いると、低温―速硬化性であり、臭気を発生させることなく、さらに、腐食が生じることない磁性シートを作製できることを見出し、本発明を完成するに至った。
（化２）
（Ａｒ）ｍＳｉ（ＯＲ）ｎ      式（Ａ）
（式中、ｍは２及び３のいずれかであり、ｍとｎとの和は４である。Ａｒは置換されてもよいアリール基であり、Ｒは水素原子及びメチル基のいずれかである。ｎが複数である場合、Ｒは同一でも異なっていてもよい。）
【０００９】
本発明は、本発明者の前記知見に基づくものであり、前記課題を解決するための手段としては、以下の通りである。即ち、
＜１＞  アルミニウムキレート系潜在性硬化剤と、下記式（Ａ）で表されるシラノール化合物乃至アルコキシシラン化合物と、エポキシ樹脂と、アクリル樹脂と、磁性粉とを含有することを特徴とする磁性シート組成物である。
（化３）
（Ａｒ）ｍＳｉ（ＯＲ）ｎ      式（Ａ）
（式中、ｍは２及び３のいずれかであり、ｍとｎとの和は４である。Ａｒは置換されてもよいアリール基であり、Ｒは水素原子及びメチル基のいずれかである。ｎが複数である場合、Ｒは同一でも異なっていてもよい。）
＜２＞  Ａｒが、フェニル基である前記＜１＞に記載の磁性シート組成物である。
＜３＞  シラノール化合物乃至アルコキシシラン化合物が、トリフェニルシラノール、ジフェニルシランジオール、及びジフェニルジメトキシシランのいずれかである前記＜１＞から＜２＞のいずれかに記載の磁性シート組成物である。
＜４＞  アルミニウムキレート系潜在性硬化剤が、多官能イソシアネート化合物を界面重合させると同時にジビニルベンゼンをラジカル重合させて得た多孔性樹脂にアルミニウムキレート剤を保持してなるアルミニウム潜在性硬化剤である前記＜１＞から＜３＞のいずれかに記載の磁性シート組成物である。
＜５＞  エポキシ樹脂及びアクリル樹脂の合計量１０６．１質量部に対し、磁性粉が５００質量部〜１，２５０質量部であり、アルミニウムキレート系潜在性硬化剤及びシラノール化合物乃至アルコキシシラン化合物の合計量が２質量部〜１５質量部である前記＜１＞から＜４＞のいずれかに記載の磁性シート組成物である。
＜６＞  アルミニウムキレート系潜在性硬化剤及びシラノール化合物乃至アルコキシシラン化合物の合計量が６．９質量部〜１０質量部である前記＜１＞から＜５＞のいずれかに記載の磁性シート組成物である。
＜７＞  アルミニウムキレート系潜在性硬化剤とシラノール化合物乃至アルコキシシラン化合物との質量比（アルミニウムキレート系潜在性硬化剤／シラノール化合物乃至アルコキシシラン化合物）が、１．０以下である前記＜１＞から＜６＞のいずれかに記載の磁性シート組成物である。
＜８＞  前記＜１＞から＜７＞のいずれかに記載の磁性シート組成物からなる磁性層を有することを特徴とする磁性シートである。
＜９＞  前記＜１＞から＜７＞のいずれかに記載の磁性シート組成物を、成形して磁性層を形成する磁性層形成工程と、前記磁性層の厚み方向における少なくとも一方の面に、凹凸形成層及び転写材を、前記磁性層側からこの順に積層配置した後、加熱プレスすることにより、前記転写材の表面形状を、前記凹凸形成層及び前記磁性層の表面に転写すると共に、前記凹凸形成層と前記磁性層とを接合する形状転写工程と、を含むことを特徴とする磁性シートの製造方法である。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によると、従来における前記諸問題を解決でき、電子機器から放出される不要電磁波の低減、及び電子機器に生じる電磁障害の抑制が可能で、低温―速硬化性であり、臭気を発生させることなく、さらに、腐食が生じることない磁性シートの材料としての磁性シート組成物、磁性シート、及び磁性シートの製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】図１は、本発明の磁性シートの製造方法の一例を示す工程図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
（磁性シート組成物）
本発明の磁性シート組成物は、アルミニウムキレート系潜在性硬化剤と、下記式（Ａ）で表されるシラノール化合物乃至アルコキシシラン化合物と、エポキシ樹脂と、アクリル樹脂と、磁性粉とを少なくとも含有してなり、更に必要に応じて適宜選択した、その他の成分を含有してなる。
（化４）
（Ａｒ）ｍＳｉ（ＯＲ）ｎ      式（Ａ）
（式中、ｍは２及び３のいずれかであり、ｍとｎとの和は４である。Ａｒは置換されてもよいアリール基であり、Ｒは水素原子及びメチル基のいずれかである。ｎが複数である場合、Ｒは同一でも異なっていてもよい。）
【００１３】
−アルミニウムキレート系潜在性硬化剤−
前記アルミニウムキレート系潜在性硬化剤としては、種々の公知の手法、例えば、マイクロカプセル化法にて、アルミニウムキレート系硬化剤を潜在化したものが挙げられる。中でも、多官能イソシアネート化合物を界面重合させて得た多孔性樹脂にアルミニウムキレート剤を保持させたものが好ましい。より具体的には、アルミニウムキレート系硬化剤のコアの周囲を多孔性樹脂のシェルで被覆した単純な構造のマイクロカプセルではなく、多孔性樹脂マトリックス中に存在する微細な多数の孔にアルミニウムキレート剤が保持された構造のものが挙げられる。以下、このアルミニウムキレート系潜在性硬化剤について説明する。
【００１４】
前記アルミニウムキレート系潜在性硬化剤は、界面重合法を利用して製造されるため、その形状は球状であり、その粒子径は、硬化性及び分散性の点から、０．５μｍ〜１００μｍであることが好ましく、また、孔の大きさは、硬化性及び潜在性の点から、５ｎｍ〜１５０ｎｍであることが好ましい。
【００１５】
また、前記アルミニウムキレート系潜在性硬化剤は、使用する多孔性樹脂の架橋度が小さすぎるとその潜在性が低下し、大きすぎるとその熱応答性が低下する傾向があるので、使用目的に応じて、架橋度が調整された多孔性樹脂を使用することが好ましい。ここで、多孔性樹脂の架橋度は、微少圧縮試験により計測することができる。
【００１６】
前記アルミニウムキレート系潜在性硬化剤は、その界面重合時に使用する有機溶剤を実質的に含有していないこと、具体的には、１ｐｐｍ以下であることが、硬化安定性の点で好ましい。
【００１７】
また、前記アルミニウムキレート系潜在性硬化剤における多孔性樹脂とアルミニウムキレート剤との含有量は、アルミニウムキレート剤含量が少なすぎると熱応答性が低下し、多すぎると潜在性が低下するので、多孔性樹脂１００質量部に対するアルミニウムキレート剤の含有量が、１０質量部〜２００質量部であることが好ましく、１０質量部〜１５０質量部であることがより好ましい。
【００１８】
前記アルミニウムキレート系潜在性硬化剤において、アルミニウムキレート剤としては、下記式（５）に表される、３つのβ―ケトエノラート陰イオンがアルミニウムに配位した錯体化合物が挙げられる。
【００１９】
【化５】
2010077405.tif 000003
【００２０】
ここで、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立的にアルキル基又はアルコキシル基である。アルキル基としては、メチル基、エチル基等が挙げられる。アルコキシル基としては、メトキシ基、エトキシ基、オレイルオキシ基等が挙げられる。
【００２１】
前記式（５）で表されるアルミニウムキレート剤の具体例としては、アルミニウムトリス（アセチルアセトネート）、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）、アルミニウムモノアセチルアセトネートビス（エチルアセトアセテート）、アルミニウムモノアセチルアセトネートビスオレイルアセトアセテート、エチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルキルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート等が挙げられる。
【００２２】
前記多官能イソシアネート化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、一分子中に２個以上のイソシアネート基を有する化合物が好ましく、３個のイソシアネート基を有する化合物がより好ましい。このような３官能イソシアネート化合物としては、トリメチロールプロパン１モルにジイソシアネート化合物３モルを反応させた式（６）のＴＭＰアダクト体、ジイソシアネート化合物３モルを自己縮合させた式（７）のイソシアヌレート体、ジイソシアネート化合物３モルのうちの２モルから得られるジイソシアネートウレアに残りの１モルのジイソシアネートが縮合した式（８）のビュウレット体などが挙げられる。
【００２３】
【化６】
2010077405.tif 000004
【００２４】
上記（６）〜（８）において、置換基Ｒは、ジイソシアネート化合物のイソシアネート基を除いた部分である。このようなジイソシアネート化合物の具体例としては、トルエン２，４―ジイソシアネート、トルエン２，６―ジイソシアネート、ｍ―キシリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ヘキサヒドロ―ｍ―キシリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、メチレンジフェニル―４，４’―ジイソシアネート等が挙げられる。
【００２５】
このような多官能イソシアネート化合物を界面重合させて得られる多孔性樹脂は、界面重合の間にイソシアネート基の一部が加水分解を受けてアミノ基となり、そのアミノ基とイソシアネート基とが反応して尿素結合を生成してポリマー化するものであり、多孔性ポリウレアである。このような多孔性樹脂とその孔に保持されたアルミ二ウムキレート剤とからなるアルミニウムキレート系潜在性硬化剤は、硬化のために加熱されると、明確な理由は不明であるが、保持されているアルミニウムキレート剤が、潜在性硬化剤と併存している式（Ａ）で表されるシラノール化合物乃至アルコキシシラン化合物や熱硬化型樹脂と接触できるようになり、硬化反応を進行させることができる。
【００２６】
なお、多官能イソシアネート化合物を界面重合させる際に、ジビニルベンゼン等のラジカル重合性モノマーとラジカル重合開始剤とを共存させて共重合させ、マイクロカプセル壁の機械的性質を改善してもよい。これにより、エポキシ樹脂の硬化時の熱応答速度を増大させることができる。
【００２７】
なお、アルミニウムキレート系潜在性硬化剤の構造上、その表面にもアルミニウムキレート剤が存在することになると思われるが、界面重合の際に系内に存在する水により不活性化し、アルミニウムキレート剤は多孔性樹脂の内部で保持されたものだけが活性を保持していることになり、結果的に得られる硬化剤は潜在性を獲得できたものと考えられる。
【００２８】
アルミニウムキレート系潜在性硬化剤は、アルミニウムキレート剤と多官能イソシアネート化合物とを揮発性有機溶剤に溶解させ、得られた溶液を、分散剤を含有する水相に投入し、加熱撹拌することにより界面重合させることを特徴とする製造方法により製造することができる。
【００２９】
この製造方法においては、まず、アルミニウムキレート剤と多官能イソシアネート化合物とを揮発性有機溶剤に溶解させ、界面重合における油相となる溶液を調製する。ここで、揮発性有機溶剤を使用する理由は以下の通りである。即ち、通常の界面重合怯で使用するような沸点が３００℃を超える高沸点浴剤を用いた場合、界面重合の間に有機溶剤が揮発しないために、イソシアネート―水との接触確率が増大せず、それらの間での界面重合の進行度合いが不十分となるからである。そのため、界面重合させても良好な保形性の重合物が得られ難く、また、得られた場合でも重合物に高沸点溶剤が取り込まれたままとなり、磁性シート組成物に配合した場合に、高沸点溶剤が磁性シート組成物の硬化物の物性に悪影響を与えるからである。このため、この製造方法においては、油相を調製する際に使用する有機溶剤として、揮発性のものを使用する。
【００３０】
このような揮発性有機溶剤としては、アルミニウムキレート剤と多官能イソシアネート化合物との良溶媒（それぞれの溶解度が好ましくは０．１ｇ／ｍｌ（有機溶剤）以上）であって、水に対しては実質的に溶解せず（水の溶解度が０．５ｇ／ｍｌ（有機溶剤）以下）、大気圧下での沸点が１００℃以下のものが好ましい。このような揮発性有機溶剤の具体例としては、アルコール類、酢酸エステル類、ケトン類等が挙げられる。中でも、高極性、低沸点、貧水溶性の点で、酢酸エチルが好ましい。
【００３１】
揮発性有機溶剤の使用量は、アルミニウムキレート剤と多官能イソシアネート化合物の合計量１００質量部に対し、少なすぎると潜在性が低下し、多すぎると熱応答性が低下するので、１００質量部〜５００質量部であることが好ましい。
【００３２】
なお、揮発性有機溶剤の使用量範囲内において、揮発性有機溶剤の使用量を比較的多く使用すること等により、油相となる溶液の粘度を下げることができるが、粘度を下げると撹拌効率が向上するため、反応系における油相滴をより微細化かつ均一化することが可能になり、結果的に得られる潜在性硬化剤粒子径をサプミクロン〜数ミクロン程度の大きさに制御しつつ、粒度分布を単分散とすることが可能となる。油相となる溶液の粘度は１ｍＰａ・ｓ〜２５ｍＰａ・ｓに設定することが好ましい。
【００３３】
また、多官能イソシアネート化合物を乳化分散する際にＰＶＡを用いた場合、ＰＶＡの水酸基と多官能イソシアネート化合物が反応してしまうため、副生成物が異物として潜在性硬化剤粒子の周囲を付着してしまったり、および粒子形状そのものが異形化してしまったりする。この現象を防ぐためには、多官能イソシアネート化合物と水との反応性を促進すること、あるいは多官能イソシアネート化合物とＰＶＡとの反応性を抑制することが挙げられる。
【００３４】
多官能イソシアネート化合物と水との反応性を促進するためには、アルミニウムキレート剤の配合量を多官能イソシアネート化合物の重量で好ましくは１／２以下、より好ましくは１／３以下とする。これにより、多官能イソシアネート化合物と水とが接触する確率が高くなり、ＰＶＡが油相滴表面に接触する前に多官能イソシアネート化合物と水とが反応し易くなる。
【００３５】
また、多官能イソシアネート化合物とＰＶＡとの反応性を抑制するためには、油相中のアルミニウムキレート剤の配合量を増大させることが挙げられる。具体的には、アルミニウムキレート剤の配合量を多官能イソシアネート化合物の重量で好ましくは等倍以上、より好ましくは、１．０倍〜２．０倍とする。これにより、油相滴表面におけるイソシアネート濃度が低下する。さらに、多官能イソシアネート化合物は、水酸基よりも加水分解により形成されるアミンとの反応（界面重合）速度が大きいため、多官能イソシアネート化合物とＰＶＡとの反応確率を低下させることができる。
【００３６】
アルミニウムキレート剤と多官能イソシアネート化合物とを揮発性有機溶剤に溶解させる際には、大気圧下、室温で混合撹拌するだけでもよいが、必要に応じ、加熱してもよい。
【００３７】
次に、この製造方法においては、アルミニウムキレート剤と多官能イソシアネート化合
物が揮発性有機溶剤に溶解した油相溶液を、分散剤を含有する水相に投入し、加熱撹拌す
ることにより界面重合させる。ここで、分散剤としては、ポリビニルアルコール、カルボ
キシメチルセルロース、ゼラチン等の通常の界面重合法において使用されるものを使用す
ることができる。分散剤の使用量は、通常、水相の０．１質量％〜１０．０質量％である。
【００３８】
油相溶液の水相に対する配合量は、油相溶液が少なすぎると多分散化し、多すぎると微
細化により凝集が生ずるので、水相１００質量部に対し、５質量部〜５０質量部であることが好ましい。
【００３９】
界面重合における乳化条件としては、油相の大きさが好ましくは０．５μｍ〜１００μｍとなるような撹拌条件（撹拌装置ホモジナイザー；撹拌速度８，０００ｒｐｍ以上）で、通常、大気圧下、温度３０℃〜８０℃、撹拌時間２時間〜１２時間、加熱撹絆する条件を挙げることができる。
【００４０】
界面重合終了後に、重合体微粒子を濾別し、自然乾燥することにより本発明で使用できるアルミニウムキレート系潜在性硬化剤を得ることができる。ここで、多官能イソシアネ一ト化合物の種類や使用量、アルミニウムキレート剤の種類や使用量、界面重合条件を変化させることにより、アルミニウムキレート系潜在性硬化剤の硬化特性をコントロールすることができる。例えば、重合温度を低くすると硬化温度を低下させることができ、反対に、重合温度を高くすると硬化温度を上昇させることができる。
【００４１】
本発明の磁性シート組成物におけるアルミニウムキレート系潜在性硬化剤の含有量は、少なすぎると十分に硬化せず、多すぎるとその組成物の硬化物の樹脂特性（例えば、可撓性）が低下するので、アルミニウムキレート系潜在性硬化剤の含有量は、磁性シート組成物１００質量部に対し、１質量部〜７０質量部がであることが好ましく、１質量部〜５０質量部であることがより好ましい。
【００４２】
なお、アルミニウムキレート系潜在性硬化剤が、多官能イソシアネート化合物を界面重合させて得た多孔性樹脂に、又は多官能イソシアネート化合物を界面重合させると同時にジビニルベンゼンをラジカル重合させて得た多孔性樹脂にアルミニウムキレート剤を保持してなるアルミニウムキレート系潜在性硬化剤である場合、低温速硬化性の向上のために、後述する式（Ａ）で表されるシラノール化合物乃至アルコキシシラン化合物を含浸させてもよい。含浸の方法としては、そのような多孔性樹脂に保持されたアルミニウムキレート系硬化剤からなるアルミニウムキレート系潜在性硬化剤を、有機溶媒（例えば、エタノール）中に分散させ、その分散液に式（Ａ）で表されるシラノール化合物乃至アルコキシシラン化合物（例えば、トリフェニルシラノール）及び必要に応じてアルミニウムキレート系硬化剤（例えば、モノアセチルアセトネートビス（エチルアセトアセテート）のイソプロパノール溶液）を投入し、室温〜５０℃程度の温度で数時間〜一晩撹拌を続ける方法を挙げることができる。
【００４３】
−シラノール化合物乃至アルコキシシラン化合物−
前記シラノール化合物乃至アルコキシシラン化合物は、トリアルコキシ基を有している従来のシランカップリング剤とは異なり、以下の式（Ａ）の化学構造を有する。
【００４４】
（化７）
（Ａｒ）ｍＳｉ（ＯＲ）ｎ      式（Ａ）
【００４５】
式中、Ｒは水素原子及びメチル基のいずれかであり（ｎが複数である場合、Ｒは同一でも異なっていてもよい。）、ｍは２又は３であり、但しｍとｎとの和は４である。従って、式（Ａ）で表されるシラノール化合物乃至アルコキシシラン化合物は、１つ又は２つのＯＲ（水酸基又はメトキシ基）を有する化合物となる。“Ａｒ”は、置換されてもよいアリール基であるが、アリ一ル基としては、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基、アズレニル基、フロオレニル基、チエニル基、フリル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ピリジル基等が挙げられる。中でも、入手容易性、入手コストの観点からフェニル基が好ましい。ｍ個のＡｒは、いずれも同一でもよく異なっていてもよいが、入手容易性の点から同一であることが好ましい。
【００４６】
これらのアリール基は、１〜３個の置換基を有することができ、例えば、クロロ、ブロモ等のハロゲン；トリフルオロメチル；ニトロ；スルホ；カルポキシル、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル等のアルコキシカルボニル；ホルミル等の電子吸引基、メチル、エチル、プロピルなどのアルキル；メトキシ、エトキシ等のアルコキシ；ヒドロキシ；アミノ；モノメチルアミノ等のモノアルキルアミノ；ジメチルアミノ等のジアルキルアミノ等の電子供与基などが挙げられる。なお、置換基として電子吸引基を使用することによりシラノールの水酸基の酸度を上げることができ、逆に、電子供与基を使用することにより酸度を下げることができるので、硬化活性のコントロールが可能となる。ここで、ｍ個のＡｒ毎に、置換基が異なっていてもよいが、ｍ個のＡｒについて入手容易性の点から置換基は同一であることが好ましい。また、一部のＡｒだけに置換基があり、他のＡｒに置換基が無くてもよい。
【００４７】
式（Ａ）で表されるシラノール化合物乃至アルコキシシラン化合物の中でも、トリフェニルシラノール、ジフェニルシラノール、ジフェニルジメトキシシランが好ましく、トリフェニルシラノールがより好ましい。
【００４８】
本発明の磁性シート組成物において、シラノール化合物乃至アルコキシシラン化合物とエポキシ樹脂との合計に対する当該シラノール化合物乃至アルコキシシラン化合物の含有割合は、少なすぎると硬化不足となり、多すぎると樹脂特性（可撓性等）が低下するので、５質量％〜３０質量％が好ましく、５質量％〜２０質量％がより好ましい。
【００４９】
また、エポキシ樹脂及びアクリル樹脂の合計量１０６．１質量部に対し、アルミニウムキレート系潜在性硬化剤及びシラノール化合物乃至アルコキシシラン化合物の合計量が２質量部〜１５質量部であることが好ましく、６．９質量部〜１５質量部であることがより好ましい。
さらに、アルミニウムキレート系潜在性硬化剤とシラノール化合物乃至アルコキシシラン化合物との質量比（アルミニウムキレート系潜在性硬化剤／シラノール化合物乃至アルコキシシラン化合物）が、１．０以下であることが好ましい。
【００５０】
−エポキシ樹脂−
前記エポキシ樹脂は、成膜成分として使用されているものである。このようなエポキシ樹脂としては、液状でも固体状でもよく、エポキシ当量が通常１００〜４，０００程度であって、分子中に２以上のエポキシ基を有するものが好ましい。例えば、グリシジルエーテル型エポキシ樹脂、脂環型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、エステル型エポキシ樹脂等を挙げることができる。中でも、樹脂特性の点からビスフェノールＡ型エポキシ樹脂を好ましく使用できる。また、これらのエポキシ樹脂にはモノマーやオリゴマーも含まれる。
【００５１】
−アクリル樹脂−
前記アクリル樹脂は、エポキシ基を有しているのが好ましい。この場合、該エポキシ基と前記アルミニウムキレート系潜在性硬化剤とが反応することにより、信頼性が向上する。また、前記アクリル樹脂は、更に水酸基を有しているのが好ましい。該水酸基を有することにより、接着性を向上させることができる。
前記アクリル樹脂の重量平均分子量としては、塗布性に優れる点で、１０，０００〜８５０，０００が好ましい。
前記重量平均分子量が、１０，０００未満であると、前記磁性シート組成物の粘度が小さくなり、重量の大きな磁性粉を塗布するのが困難となることがあり、８５０，０００を超えると、前記磁性シート組成物の粘度が大きくなり、塗布し難くなることがある。
また、前記アクリル樹脂のガラス転移温度としては、信頼性の点で、−５℃〜＋１５℃が好ましい。
前記ガラス転移温度が、−５℃未満であると、高温あるいは高温高湿環境下での信頼性が悪くなることがあり、＋１５℃を超えると、前記磁性シートが硬くなる傾向がある。
【００５２】
本発明の磁性シート組成物は、樹脂成分として、エポキシ樹脂及びアクリル樹脂の他に、発熱ピークをシャープにするために、オキセタン化合物を併用することもできる。オキセタン化合物としては、３―エチル―３―ヒドロキシメチルオキセタン、１，４―ビス｛［（３―エチル―３―オキセタニル）メトキシ]メチル｝ベンゼン、４，４´―ビス［（３―エチル―３―オキセタニル）メトキシメチル］ビフェニル、１，４―ベンゼンジカルボン酸ビス［（３―エチル―３―オキセタニル）］メチルエステル、３―エチル―３―（フェノキシメチル）オキセタン、３―エチル―３―（２―エチルヘキシロキシメチル）オキセタン、ジ［１―エチル（３―オキセタニル）］メチルエーテル、３―エチル―３―｛［３―（トリエトキシシリル）プロポキシ］メチル｝オキセタン、オキセタニルシルセスキオキサン、フェノールノボラックオキセタン等が好ましい。オキセタン化合物を使用する場合、その使用量は、エポキシ樹脂１００質量部に対し、１０質量部〜１００質量部が好ましく、２０質量部〜７０質量部がより好ましい。
【００５３】
−磁性粉−
前記磁性粉としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、その形状としては、例えば、扁平形状、塊状、繊維状、球状、不定形状などが挙げられる。これらの中でも、前記磁性粉を所定の方向に容易に配向させることができ、高透磁率化を図ることができる点で、扁平形状が好ましい。
前記磁性粉としては、例えば、軟磁性金属、フェライト、純鉄粒子などが挙げられる。
前記軟磁性金属としては、例えば、磁性ステンレス（Ｆｅ−Ｃｒ−Ａｌ−Ｓｉ合金）、センダスト（Ｆｅ−Ｓｉ−Ａｌ合金）、パーマロイ（Ｆｅ−Ｎｉ合金）、ケイ素銅（Ｆｅ−Ｃｕ−Ｓｉ合金）、Ｆｅ−Ｓｉ合金、Ｆｅ−Ｓｉ−Ｂ（−Ｃｕ−Ｎｂ）合金、Ｆｅ−Ｎｉ−Ｃｒ−Ｓｉ合金、Ｆｅ−Ｓｉ−Ｃｒ合金、Ｆｅ−Ｓｉ−Ａｌ−Ｎｉ−Ｃｒ合金などが挙げられる。
前記フェライトとしては、例えば、Ｍｎ−Ｚｎフェライト、Ｎｉ−Ｚｎフェライト、Ｍｎ−Ｍｇフェライト、Ｍｎフェライト、Ｃｕ−Ｚｎフェライト、Ｃｕ−Ｍｇ−Ｚｎフェライト等のソフトフェライト、永久磁石材料であるハードフェライトなどが挙げられる。
前記磁性粉は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００５４】
前記磁性粉の含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、前記エポキシ樹脂及びアクリル樹脂の合計量１０６．１質量部に対して、前記磁性粉が、５００質量部〜１，２５０質量部であるのが好ましい。なお、磁性シート中に含まれる磁性粉は６０ｗｔ％〜９５ｗｔ％であることが好ましい。
【００５５】
前記磁性粉の含有量が、前記エポキシ樹脂及びアクリル樹脂の合計量１０６．１質量部に対して、５００質量部未満であると、優れた磁気特性が得られないことがあり、前記エポキシ樹脂及びアクリル樹脂の合計量１０６．１質量部に対して、１，２５０質量部を超えると、前記磁性粉を前記エポキシ樹脂及びアクリル樹脂で繋ぎとめておくのが困難となり、高温高湿環境下にて、前記磁性シートの厚み変化が大きくなったり、脆くなり、前記磁性シートの端面だけでなく表面からも前記磁性粉が落ちる（粉落ちする）ことがある。
【００５６】
−その他の成分−
前記その他の成分としては、本発明の効果を害しない限り特に制限はなく、公知の各種添加剤の中から目的に応じて適宜選択することができ、前記磁性シート組成物の塗布性の向上（粘度の調整）を目的とした場合には、溶剤を添加することができ、該溶剤としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、乳酸エチル、エチルグリコールアセテート等のエステル類；ジエチレングリコールジメチルエーテル、２−エトキシエタノール、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素化合物；メチレンクロライド、エチレンクロライド、四塩化炭素、クロロフォルム、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素化合物；などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。その他、必要に応じて、分散剤、安定剤、潤滑剤、シランカップリング剤、チタネート系カップリング剤、シリカ、マイカなどの充填剤、可塑剤、老化防止剤、顔料、帯電防止剤、難燃剤等、各種添加剤を添加してもよい。
【００５７】
−−難燃剤−−
前記難燃剤を添加することにより、前記磁性シートの難燃性を向上させることができる。
前記難燃剤として、例えば、カルボン酸アミドを含むメラミンシアヌレートが挙げられる。
従来の難燃剤としては、ハロゲン系化合物が主に用いられているが、燃焼すると有害物質を生成し、環境への負荷が大きいという問題がある。また、ハロゲンフリーの難燃剤としては、例えば、何ら表面処理がされていないメラミンシアヌレートが知られているが、該メラミンシアヌレートは、樹脂成分との親和性が悪く、樹脂成分中に分散し難いため、硬い磁性シートを得ることを意図する場合において、成形（プレス）直後の磁性シートの機械的強度を低下させる（軟化する）という問題がある。また、機械的強度が大幅に低下してしまうため、前記メラミンシアヌレートの添加量を増大させることは困難であり、充分な難燃性を得ることができない。更に、磁性シートの表面から、磁性粉が脱落する所謂「粉落ち」が生じ易い。
【００５８】
ここで、前記メラミンシアヌレートは、メラミン・イソシアヌレート酸付加物であり、メラミンと、イソシアヌレートとが、下記反応式に示すように、付加反応を繰り返すことにより、オリゴマー付加物として形成されたものである。
【００５９】
【化８】
2010077405.tif 000005
【００６０】
前記メラミンシアヌレートは、メラミン骨格による剛直性を有し、また、前記付加反応により、水酸基（ＯＨ）が発生するため、該水酸基による極性を有することにより、難燃性を発現すると考えられる。しかし、前記水酸基は、分子間で水素結合を形成することが多く、この水酸基による水素結合が、イソシアヌレートの凝集の発生の原因となると推認される。従って、この水素結合を、遮断すること、即ち、一部の水酸基が保護されたメラミンシアヌレートを用いることにより、凝集の発生を抑制し、樹脂成分中への分散性が改善されると考えられる。
そこで、前記難燃剤として、カルボン酸アミドを含むメラミンシアヌレート（脂肪酸を用いて表面処理されたメラミンシアヌレート）を用いたところ、メラミンシアヌレート（表面処理されていないもの）に比して、より高い難燃性が発現され、また、磁性シート表面からの粉落ちが生じ難く、しかも、樹脂成分として、例えば、アクリルゴムを用いた場合に、プレス時の樹脂成分の硬化を促進させ、高温高湿環境下での厚み変化が抑制された表面平滑性が良好な磁性シートが得られることが判った。
【００６１】
−−−カルボン酸アミドを含むメラミンシアヌレート−−−
前記カルボン酸アミドを含むメラミンシアヌレートにおける、該カルボン酸アミドの存在は、例えば、熱分解ガスクロマトグラフィー（Ｐｙ−ＧＣ−ＭＳ）を用いて確認することができる。
【００６２】
前記カルボン酸アミドを含むメラミンシアヌレートの個数平均粒径としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１μｍ以下が好ましい。
前記個数平均粒径が、１μｍを超えると、前記磁性粉が密に配向するのを阻害し、磁性シートの磁気特性を低下させることがあり、高温あるいは高温高湿環境下での厚み変化が大きくなることがある。
前記個数平均粒径は、例えば、レーザー回折を用いて測定した粒度分布より測定することができる。
【００６３】
前記カルボン酸アミドを含むメラミンシアヌレートは、市販品であってもよいし、適宜作製したものであってもよい。
前記市販品としては、例えば、ＭＣ−５Ｆ（堺化学工業製）などが挙げられる。
前記カルボン酸アミドを含むメラミンシアヌレートの作製方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、脂肪酸を用いてメラミンシアヌレートを表面処理する方法が好適に挙げられる。
【００６４】
前記表面処理の方法としては、特に制限はなく、公知の方法の中から適宜選択することができ、例えば、前記メラミンシアヌレートと前記脂肪酸とを混合攪拌する方法が挙げられる。
なお、前記脂肪酸を用いて前記メラミンシアヌレートを表面処理すると、下記式（１）に示すように、前記メラミンシアヌレート中のアミノ基と、前記脂肪酸とが反応して、アミド化合物に変換されると考えられる。このため、前記熱分解ガスクロマトグラフィー（Ｐｙ−ＧＣ−ＭＳ）を用いて分析すると、前記カルボン酸アミドの存在を確認することができる。
−ＮＨ２＋Ｒ−ＣＯＯＨ→Ｒ−ＣＯＮＨ−・・・式（１）
【００６５】
前記脂肪酸としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ラウリン酸、イソステアリン酸、ステアリン酸、パルミチン酸、オレイン酸、リノレン酸などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。これらの中でも、疎水性が高く、分散性が良好な点で、ラウリン酸が好ましい。
【００６６】
前記カルボン酸アミドを含むメラミンシアヌレートの含有量としては、、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、エポキシ樹脂及びアクリル樹脂の合計量１０６．１質量部に対して３５質量部〜１５０質量部である。
【００６７】
−−−赤リン−−−
前記難燃剤は、前記カルボン酸アミドを含むメラミンシアヌレートに加えて、更に赤リンを含んでいるのが好ましい。この場合、前記磁性シートの難燃性を、更に向上させることができる点で、有利である。
前記赤リンとしては、特に制限はなく、市販品であってもよいし、適宜合成したものであってもよいが、耐湿性に優れ、混合時に自然発火せず、安全性が良好である点で、その表面が、コーティングされているのが好ましい。
前記表面がコーティングされた赤リンとしては、例えば、赤リンの表面を、水酸化アルミニウムを用いて表面処理したものが挙げられる。
【００６８】
前記赤リンの含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、エポキシ樹脂及びアクリル樹脂の合計量１０６．１質量部に対して６質量部〜２０質量部であるのが好ましい。
前記含有量が、６質量部未満であると、難燃性向上効果が得られないことがあり、２０質量部を超えると、前記樹脂成分に対する前記磁性粉と前記難燃剤との合計量が大きくなり、前記樹脂成分により前記磁性粉及び前記難燃剤を繋ぎとめておくのが困難となるほか、前記磁性シート中の前記磁性粉の含有比率が低下し、透磁率が低下することがある。
【００６９】
−−シランカップリング剤−−
前記シランカップリング剤は、特開２００２―２１２５３７号公報の段落０００７〜００１０に記載されているように、アルミニウムキレート剤と共働して熱硬化性樹脂（例えば、熱硬化性エポキシ樹脂）のカチオン重合を開始させる機能を有する。従って、このような、シランカップリング剤を少量併用することにより、エポキシ樹脂の硬化を促進するという効果が得られる。このようなシランカップリング剤としては、分子中に１〜３の低級アルコキシ基を有するものであり、分子中に熱硬化性樹脂の官能基に対して反応性を有する基、例えば、ビニル基、スチリル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、エポキシ基、アミノ基、メルカプト基等を有していてもよい。なお、アミノ基やメルカプト基を有するカップリング剤は、本発明の潜在性硬化剤がカチオン型硬化剤であるため、アミノ基やメルカプト基が発生カチオン種を実質的に捕捉しない場合に使用することができる。
【００７０】
このようなシランカップリング剤の具体例としては、ビニルトリス（β―メトキシエトキシ）シラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、γ―スチリルトリメトキシシラン、γ―メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ―アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、β―（３，４―エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ―グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ―グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、Ｎ―β―（アミノエチル）―γ―アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ―β―（アミノエチル）―γ―アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ―アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ―フェニル―γ―アミノプロピルトリメトキシシラン、γ―メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ―クロロプロピルトリメトキシシラン等を挙げることができる。
【００７１】
シランカップリング剤を少量併用する場合、その含有量は、少なすぎると添加効果が望めず、多すぎるとシランカップリング剤から発生するシラノレートアニオンによる重合停止反応の影響が生じてくるので、アルミニウムキレート系潜在性硬化剤１００質量部に対し１質量部〜３００質量部、好ましくは１質量部〜１００質量部である。
【００７２】
本発明の磁性シート組成物は、アルミニウムキレート系潜在性硬化剤、式（Ａ）で表されるシラノール化合物乃至アルコキシシラン化合物、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、磁性粉、更に必要に応じて添加剤を常怯に従って均一に混合撹拌することにより製造することができる。また、アルミニウムキレート系潜在性硬化剤と式（Ａ）で表されるシラノール化合物乃至アルコキシシラン化合物とを別々に混合せずに、アルミニウムキレート系潜在性硬化剤に式（Ａ）で表されるシラノール化合物乃至アルコキシシラン化合物を含浸させておいたものを使用してもよい。含浸の方法としては、式（Ａ）で表されるシラノール化合物乃至アルコキシシラン化合物のアルコール（エタノール、プロパノール等）溶液に、アルミニウムキレート系潜在性硬化剤を数時間程度分散混合する方法が挙げられる。混合後は、液中から引き上げ乾燥すればよい。
【００７３】
前記その他の成分の含有量としては、特に制限はなく、前記アルミニウムキレート系潜在性硬化剤、前記シラノール化合物乃至アルコキシシラン化合物、前記エポキシ樹脂、前記アクリル樹脂、及び前記磁性粉の含有量に応じて適宜決定することができる。
【００７４】
このようにして得られた本発明の磁性シート組成物は、硬化剤としてアルミニウムキレート系潜在性硬化剤を使用しているので、一剤型であるにも関わらず、保存安定性に優れている。また、アルミニウムキレート系潜在性硬化剤で十分に硬化させることができなかったエポキシ樹脂を含有しているにも関わらず、高立体障害性の特定のシラノールを含有しているので、磁性シート組成物を低温速硬化でカチオン重合させることができる（シラノールは非常に不安定な物質であり、トリメチルシラノール等は空気中の水分で簡単にカップリングし、硬化活性が失活するが、嵩高いフェニル基が存在しているので、シラノレートアニオンのエポキシへの付加反応を抑制することで、副反応の進行を抑えられカップリング反応を回避できる）。
また、アルミニウムキレート系潜在性硬化剤と、磁性粉（例えば、アルミニウム合金）との配合時における混合性がよく、塗布を良好に行うことができる。
【００７５】
（磁性シート）
【００７６】
本発明の磁性シートは、本発明の磁性シート組成物からなる磁性層を有してなり、更に必要に応じて適宜選択した、その他の層を有してなる。
【００７７】
−磁性層−
前記磁性層は、電子機器から放出される不要電磁波の低減、及び電子機器内の不要電磁波の干渉によって生じる、電磁障害を抑制する機能を有する。
【００７８】
前記磁性層の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、高い透磁率が得られる点で、厚いのが好ましく、２５μｍ〜５００μｍが好ましい。
前記厚みが、２５μｍ未満であると、透磁率が低くなり、５００μｍを超えると、狭小部位に適さず、近年における電子機器の小型化の技術動向に沿わなくなるほか、前記厚みの透磁率への影響が小さくなってしまうことがある。なお、前記厚みは、７０μｍ以下になると、透磁率が急激に低くなる傾向がある。
【００７９】
−その他の層−
前記その他の層としては、本発明の効果を害しない限り特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、凹凸形成層等が挙げられる。
【００８０】
−−凹凸形成層−−
前記凹凸形成層は、本発明の前記磁性シートの使用時に、例えば、電子機器内にて、前記磁性シートを、これと接触する部材から剥離する機能を有する。
【００８１】
前記凹凸形成層としては、その構造、厚み、材質（材料）については、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
前記構造としては、単層構造であってもよいし、積層構造であってもよい。
前記厚みとしては、２μｍ〜１００μｍが好ましい。
前記厚みが、２μｍ未満であると、作業性が悪くなることがあり、１００μｍを超えると、加熱プレス時に、熱が前記磁性層に伝わり難く、信頼性が低下することがある。
前記材質としては、合成樹脂が挙げられ、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）が好適に挙げられる。
【００８２】
前記凹凸形成層は、市販品であってもよいし、適宜作製したものであってもよいが、前記市販品としては、例えば、マット処理ＰＥＴ（「ルミラーＸ４４−＃２５」；東レ（株）製）、マット処理ＰＥＴ（「ルミラー４４−＃３８」；東レ（株）製）、剥離処理されていないＰＥＴ（「エンブレッド」；ユニチカ（株）製）、ノンシリコーン剥離処理ＰＥＴ（「「フルオロージュＲＬ」；三菱樹脂製）、シリコーン剥離処理ＰＥＴ（「２５ＧＳ」；リンテック（株）製）などが挙げられる。前記凹凸形成層には文字が印刷されたものを用いてもよい。文字の印刷面は前記磁性層と接する面でもよいし、前記磁性層と接しない面（反対の面）でもよい。
【００８３】
−使用−
本発明の前記磁性シートの使用方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記磁性シートを、所望の大きさに裁断し、これを電子機器のノイズ源に、前記磁性層側が近接するように配設することができる。
【００８４】
−用途−
本発明の前記磁性シートは、電磁ノイズ抑制体、電波吸収体、磁気シールド材、ＲＦＩＤ（Ｒａｄｉｏ  Ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ  Ｉｄｅｎｔｉｆｉｃａｔｉｏｎ）等のＩＣタグ機能を有する電子機器、非接触ＩＣカードなどに好適に使用することができ、特に、ＲＦＩＤ機能付携帯電話に好適に使用することができる。
【００８５】
本発明の磁性シートは、低温短時間プレスにより製造することができ、タクトタイムの短縮が図れる。また、従来のカチオン硬化剤には、スルホニウム塩が用いられ、硬化後、スルホニウム塩特有の匂いがあったが、アルミニウムキレート系潜在性硬化剤は無臭であり、磁性シート製造時の作業環境が向上したと共に、臭気に敏感な部位（例えば、車載用途等）にも使用することができる。
【００８６】
本発明の前記磁性シートは、従来の磁性シートと異なり、粘着層を有していなくてもよい。粘着層を有さないと、電子機器内での高温での使用の際に生じる、粘着剤の漏れによる前記電子機器の故障の発生を防止することができる。また、従来の磁性シートに比して、前記粘着層の厚みの分だけ、磁性層の厚みを大きく設けることができるため、比重が大きく、透磁率が高い。
【００８７】
本発明の前記磁性シートの製造方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、以下の本発明の磁性シートの製造方法により好適に製造することができる。
【００８８】
（磁性シートの製造方法）
本発明の磁性シートの製造方法は、磁性層形成工程と、形状転写工程とを少なくとも含み、更に必要に応じて適宜選択した、その他の工程を含む。
【００８９】
＜磁性層形成工程＞
前記磁性層形成工程は、アルミニウムキレート系潜在性硬化剤と、下記式（Ａ）で表されるシラノール化合物乃至アルコキシシラン化合物と、エポキシ樹脂と、アクリル樹脂と、磁性粉とを少なくとも含有してなる磁性シート組成物を、成形して磁性層を形成する工程である。
（化９）
（Ａｒ）ｍＳｉ（ＯＲ）ｎ      式（Ａ）
（式中、ｍは２及び３のいずれかであり、ｍとｎとの和は４である。Ａｒは置換されてもよいアリール基であり、Ｒは水素原子及びメチル基のいずれかである。ｎが複数である場合、Ｒは同一でも異なっていてもよい。）
なお、前記アルミニウムキレート系潜在性硬化剤、前記式（Ａ）で表されるシラノール化合物乃至アルコキシシラン化合物、前記エポキシ樹脂、前記アクリル樹脂、前記磁性粉及び前記その他の成分の詳細については、上述した通りであるが、前記エポキシ樹脂及び前記アクリル樹脂としては、後述する加熱プレス前は、未硬化状態であるのが好ましい。ここで、加熱プレス前に硬化が進んでいると、前記磁性層の圧縮が充分に行われず、透磁率を大きくすることができない。また、硬化している磁性層を圧縮すると、歪が残り、室温、高温乃至高温高湿環境下にて、繰返し暴露された際に、厚みが厚くなる方向に変化したり、磁気特性が低下したりする。これに対し、前記加熱プレス前の前記エポキシ樹脂及び前記アクリル樹脂が未硬化状態であると、これらの不具合の発生が抑制される。
【００９０】
前記磁性シート組成物の調製は、前記エポキシ樹脂及び前記アクリル樹脂に前記磁性粉、前記アルミニウムキレート系潜在性硬化剤、前記式（Ａ）で表されるシラノール化合物乃至アルコキシシラン化合物を添加し、混合することにより行うことができる。
前記磁性シート組成物の成形は、例えば、基材上に前記磁性シート組成物を塗布し、乾燥することにより行うことができる。
前記基材としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、形成した前記磁性層を容易に剥離可能な点で、剥離処理が施されたポリエステルフィルム（剥離ＰＥＴ）などが好適に挙げられる。
また、前記基材としては、マットＰＥＴ、剥離処理されていないＰＥＴ、ノンシリコーン剥離処理ＰＥＴ（磁性層が形成される面が剥離処理されていない）、シリコーン剥離処理ＰＥＴ（磁性層が形成される面が剥離処理されていない）を用いてもよい。
以上の工程により、前記磁性シート組成物が成形されて前記磁性層が形成される。
【００９１】
＜形状転写工程＞
前記形状転写工程は、前記磁性層の厚み方向における一方の面に、凹凸形成層及び転写材を、前記磁性層側からこの順に積層配置した後、加熱プレスすることにより、前記転写材の表面形状を、前記凹凸形成層及び前記磁性層の表面に転写すると共に、前記凹凸形成層と前記磁性層とを接合する工程である。
【００９２】
−凹凸形成層−
前記凹凸形成層としては、その構造、厚み、材質（材料）については、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、これらの詳細については、上述した通りである。
【００９３】
前記凹凸形成層の表面状態としては、特に制限はなく、その厚み方向における一方の面に、表面処理が施されていてもよいし、何ら表面処理が施されていなくてもよいが、マット処理、シリコーン樹脂を用いない剥離処理、などが施されているのが好ましい。これらの場合、何ら表面処理が施されていないものに比して、滑り性が向上する。また、これらの表面処理の場合、前記シリコーン樹脂を用いないので、高温乃至高温高湿環境下にて、シリコーンオリゴマーがブリードアウトすることがなく、電子機器内部での使用に好適である。
前記マット処理としては、前記凹凸形成層の表面を粗面化することができる限り特に制限はなく、目的に応じて選択することができ、例えば、サンドマット処理、ケミカルマット処理、表面エンボス加工処理などが挙げられる。これらの処理により、前記凹凸形成層の表面に凹凸が形成され、滑り性を向上する。
【００９４】
−転写材−
前記転写材としては、その構造、厚み、材質（材料）については、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、表面に凹凸を有しており、通気性が良好であるのが好ましい。この場合、前記転写材の表面の凹凸が、前記凹凸形成層に転写されると、該凹凸形成層の表面に前記凹凸が形成され、滑り性が向上する。
【００９５】
前記構造としては、単層構造であってもよいし、積層構造であってもよい。
前記厚みとしては、２５μｍ〜２００μｍが好ましい。
前記厚みが、２５μｍ未満であると、滑り性が向上した磁性シートを得ることができないことがあり、２００μｍを超えると、前記加熱プレス時に、熱が前記磁性層に伝わり難く、信頼性が低下することがある。
前記材質としては、例えば、紙、合成繊維、天然繊維などが挙げられる。
【００９６】
前記転写材は、市販品であってもよいし、適宜作製したものであってもよいが、前記市販品としては、例えば、上質紙（「ＯＫプリンス上質７０」；王子製紙（株）製）、クッション紙（「ＴＦ１９０」；東洋ファイバー（株）製）、ナイロンメッシュ（「Ｎ−ＮＯ．１１０Ｓ」；東京スクリーン（株）製）、綿布（「かなきん３号」；日本規格協会製）、粘着材用原紙（「ＳＯ原紙１８Ｇ」；大福製紙（株）製）、両面剥離紙（「１００ＧＶＷ（高平滑面）」；王子製紙（株）製）、両面剥離紙（「１００ＧＶＷ（低平滑面）」；王子製紙（株）製）、などが挙げられる。
【００９７】
−積層配置−
前記積層配置の方法としては、前記磁性層の厚み方向における一方の面に、前記凹凸形成層及び前記転写材を、前記磁性層側からこの順に積層する限り特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、前記磁性層の厚み方向における他方の面に、剥離層及び前記転写材を、前記磁性層側からこの順に更に積層するのが好ましい。前記剥離層を介することにより、後述する加熱プレスの際に、前記磁性層の他方の面を保護して、前記転写材との密着を防止し、前記加熱プレス後に、前記転写材を、前記剥離層と共に前記磁性層から容易に剥離することができる。また、前記転写材の表面形状が、前記剥離層側に位置する前記磁性層の表面にも転写されるが、このとき、前記磁性層における前記樹脂組成物中に存在する気泡が抜け易く、得られる磁性シートの信頼性が向上する。前記剥離層側の転写材を用いない場合は、磁性シートの透磁率を向上させることができる。
【００９８】
前記剥離層としては、前記加熱プレスの際に、前記磁性層の厚み方向における他方の面と、前記転写材との密着を防止する機能を有する限り特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、前記加熱プレス後に、前記磁性層から容易に剥離することができる点で、表面に剥離処理が施されたポリエステルフィルム（剥離ＰＥＴ）が好ましい。
【００９９】
−加熱プレス−
前記加熱プレスの方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、図１に示すように、前記磁性層、前記凹凸形成層及び前記転写材を積層体として、これらを両側からラミネーターやプレスで挟みこんで加熱及び加圧することにより行うことができる。
前記加熱プレスにより、前記凹凸形成層及び前記磁性層の表面に、前記転写材の表面形状（凹凸形状）が転写されると共に、粘着剤等を使用しなくても、前記凹凸形成層と前記磁性層とが、直接接合される。
【０１００】
前記加熱プレスの条件としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、プレス温度としては、例えば、８０℃〜１９０℃が好ましく、プレス圧力としては、例えば、５ＭＰａ〜２０ＭＰａが好ましく、プレス保持時間としては、例えば、１分間〜２０分間が好ましい。
【０１０１】
以上の工程により、前記転写材の表面形状が、前記凹凸形成層及び前記磁性層の表面に転写されると共に、前記凹凸形成層と前記磁性層とが接合される。その結果、前記磁性層と前記凹凸形成層とを有してなる磁性シートが得られる。
このようにして得られた磁性シートは、前記凹凸形成層の表面に、前記転写材の表面形状（表面の凹凸）が転写されて、粗面化されているので、滑り性に優れる。
【０１０２】
本発明の前記磁性シートの製造方法によると、前記加熱プレスにより前記転写材の表面形状が、前記凹凸形成層及び前記磁性層の表面に転写されるので、前記凹凸形成層の表面が粗面化されて、滑り性を向上させることができる。
また、前記加熱プレスにより、前記凹凸形成層と前記磁性層とが直接接合されるので、粘着層が不要であり、簡易かつ低コストで効率よく磁性シートを製造することができる。
【０１０３】
以下、本発明の実施例について説明するが、本発明は下記実施例に何ら限定されるものではない。
【０１０４】
（実施例１）
−アルミニウムキレート系潜在性硬化剤（１）の作製−
蒸留水８００質量部と、界面活性剤（ニューレックスＲ−Ｔ、日本油脂（株））０．０５質量部と、分散剤としてポリビニルアルコール（ＰＶＡ−２０５、（株）クラレ）４質量部とを、温度計を備えた３リットルの界面重合容器に入れ、均一に混合した。この混合液に、更に、アルミニウムモノアセチルアセトネートビス（エチルアセトアセテート）の２４％イソプロパノール溶液（アルミキレートＤ、川研ファインケミカル（株））１００質量部と、メチレンジフェニル−４，４´−ジイソシアネート（３モル）のトリメチロールプロパン（１モル）付加物（Ｄ−１０９、三井武田ケミカル（株））７０質量部と、ジビニルベンゼン（メルク社）３０質量部と、ラジカル重合開始剤（パーロイルＬ、日本油脂社）０．３０質量部とを、酢酸エチル１００質量部に溶解した抽相溶液を投入し、ホモジナイザー（１０，０００ｒｐｍ／５分）で乳化混合後、８０℃で６時間界面重合させた。
【０１０５】
反応終了後、重合反応液を室温まで放冷し、界面重合粒子を濾過により濾別し、自然乾燥することにより粒径２μｍ程度の球状のアルミニウムキレート系潜在性硬化剤（１）を１００質量部得た。
【０１０６】
−磁性シートの作製−
まず、溶剤としてのトルエン２７０質量部及び酢酸エチル１２０質量部に、アクリル樹脂（「ＳＧ８０Ｈ−３」；ナガセケムテックス（株）製、数平均分子量１５０，０００、重量平均分子量３５０，０００）８３質量部、クレゾールノボラック型多官能エポキシ樹脂（「エピコート１０３１Ｓ」；ジャパンエポキシレジン（株）製）２３．１質量部、作製されたアルミニウムキレート系潜在性硬化剤（１）６．２１質量部、シラノール化合物としてのトリフェニルシラノール（ＴＰＳ）（東京化成工業（株）製）０．６９質量部を溶解させて樹脂組成物を調製した。これに、前記磁性粉としての扁平磁性粉末（「ＪＥＭ−Ｓ」；三菱マテリアル（株）製）５５０質量部を添加し、これらを混合して磁性シート組成物を調製した。
【０１０７】
次に、得られた磁性シート組成物を、前記基材（凹凸形成層）としての、剥離処理が表面に施されたポリエステルフィルム（剥離ＰＥＴ）（「３８ＧＳ」；リンテック製、厚み３８μｍ）上に、バーコーターにより、厚みが１００μｍ〜２００μｍとなるように塗布した（剥離処理されている面に磁性シート組成物を塗布した）。
次いで、室温で１０分間乾燥させ、さらに６０℃で１０分間乾燥し、剥離処理されている面に磁性シート組成物からなる層（磁性層）が形成された剥離ＰＥＴを２５０ｍｍ×２５０ｍｍに裁断し、剥離処理されている面に２５０ｍｍ×２５０ｍｍの磁性層が形成された剥離ＰＥＴを３枚得た。
次に、得られた磁性シート組成物を、前記基材（凹凸形成層）としての、剥離処理が表面に施されたポリエステルフィルム（剥離ＰＥＴ）（「３８ＧＳ」；リンテック製、厚み３８μｍ）上に、バーコーターにより、厚みが１００μｍ〜２００μｍとなるように塗布した（剥離処理されていない面に磁性シート組成物を塗布した）。
次いで、室温で１０分間乾燥させ、さらに６０℃で１０分間乾燥し、剥離処理されていない面に磁性シート組成物からなる層（磁性層）が形成された剥離ＰＥＴを２５０ｍｍ×２５０ｍｍに裁断し、剥離処理されていない面に２５０ｍｍ×２５０ｍｍの磁性層が形成された剥離ＰＥＴを１枚得た。
次に、剥離処理されている面に２５０ｍｍ×２５０ｍｍの磁性層が形成された剥離ＰＥＴ２枚について、剥離ＰＥＴを磁性層から剥離して、２５０ｍｍ×２５０ｍｍの磁性層を２枚得た。次に、剥離処理されている面に２５０ｍｍ×２５０ｍｍの磁性層が形成された剥離ＰＥＴの磁性層側に、２５０ｍｍ×２５０ｍｍに裁断された磁性層を２枚重ねて、更に、剥離処理されていない面に２５０ｍｍ×２５０ｍｍの磁性層が形成された剥離ＰＥＴを１枚重ね（磁性層と磁性層が向き合うように）、両面を剥離ＰＥＴで挟持され、且つ磁性層が４枚積層された剥離ＰＥＴを得た。
次いで、４枚積層された磁性層を挟持するように配置された剥離ＰＥＴの両面に、それぞれ前記緩衝材として、上質紙（「ＯＫプリンス上質７０」；王子製紙（株）製、厚み１００μｍ、ベック平滑度６．２秒／ｍＬ）を積層した。そして、真空プレス（北川精機（株）製）を用いて、プレス保持温度１７０℃、プレス保持時間（プレス保持温度で保持した時間）５分間、プレス時間（９０℃からプレス保持温度まで到達した後９０℃まで下がってくるまでの時間）３８分間、プレス圧力９ＭＰａの条件で、前記緩衝材を介してプレス板により加熱プレスし、剥離ＰＥＴ（剥離処理されている面に磁性層が形成される剥離ＰＥＴ）１枚を４枚積層された磁性層から剥離して、磁性シートを得た。
【０１０８】
（実施例２〜２４）
−磁性シートの作製−
実施例１において、前記アルミニウムキレート系潜在性硬化剤（１）の配合量、前記トリフェニルシラノール（ＴＰＳ）の配合量、前記プレス保持温度、前記プレス保持時間、及び前記プレス時間の少なくともいずれかを、表１〜４に示すように変えた以外は、実施例１と同様にして、磁性シートを作製した。
【０１０９】
（実施例２５）
−磁性シートの作製−
実施例１７において、前記シラノール化合物としてのトリフェニルシラノール（ＴＰＳ）（東京化成工業（株）製）を、前記アルコキシシラン化合物としてのジフェニルジメトキシシラン（ＫＢＭ−２０２ＳＳ）（信越化学工業（株）製）に代えた以外は、実施例１７と同様にして、磁性シートを作製した。
【０１１０】
（実施例２６）
−磁性シートの作製−
実施例１７において、前記シラノール化合物としてのトリフェニルシラノール（ＴＰＳ）（東京化成工業（株）製）を、ジフェニルシランジオール（ＤＰＳＤ）（東京化成工業（株）製）に代えた以外は、実施例１７と同様にして、磁性シートを作製した。
【０１１１】
（実施例２７〜３１）
−磁性シートの作製−
実施例１７において、前記磁性粉としての扁平磁性粉末（「ＪＥＭ−Ｓ」；三菱マテリアル（株）製）を扁平磁性粉末（「ＥＭＳ１０」；三菱マテリアル（株）製）に代え、さらに、その扁平磁性粉末（「ＥＭＳ１０」；三菱マテリアル（株）製）の配合量を表５に示すように変えた以外は、実施例１７と同様にして、磁性シートを作製した。
【０１１２】
（実施例３２）
−磁性シートの作製−
実施例１において、前記アルミニウムキレート系潜在性硬化剤（１）の配合量、前記トリフェニルシラノール（ＴＰＳ）の配合量を、表９に示すように変えた以外は、実施例１と同様にして、磁性シートを作製した。
【０１１３】
（実施例３３）
−磁性シートの作製−
実施例２７において、赤燐及びカルボン酸アミドを含むメラミンシアヌレートを、表９に示す量添加した以外は、実施例２７と同様にして、磁性シートを作製した。
【０１１４】
（実施例３４）
−磁性シートの作製−
実施例３３において、前記磁性粉としての扁平磁性粉末（「ＥＭＳ１０」；三菱マテリアル（株）製）を扁平磁性粉末（「ＪＥＭ−Ｓ」；三菱マテリアル（株）製）に代え、さらに、その扁平磁性粉末（「ＪＥＭ−Ｓ」；三菱マテリアル（株）製）の配合量を表９に示すように変えた以外は、実施例３３と同様にして、磁性シートを作製した。
【０１１５】
（参考例１〜７）
−磁性シートの作製−
実施例１において、前記アルミニウムキレート系潜在性硬化剤（１）の配合量、前記トリフェニルシラノール（ＴＰＳ）の配合量、前記プレス保持温度、前記プレス保持時間、及び前記プレス時間の少なくともいずれかを、表６に示すように変えた以外は、実施例１と同様にして、磁性シートを作製した。
【０１１６】
（比較例１）
−磁性シートの作製−
実施例１０において、作製されたアルミニウムキレート系潜在性硬化剤（１）３．４５質量部及びシラノール化合物としてのトリフェニルシラノール（ＴＰＳ）（東京化成工業（株）製）３．４５質量部を、スルホニウム系（アンチモン系）カチオン硬化剤（サンエイドＳＩ−１００Ｌ；三新化学工業（株）製）６．９質量部に代えた以外は、実施例１０と同様にして、磁性シートを作製した。
【０１１７】
（比較例２）
−磁性シートの作製−
比較例１において、スルホニウム系（アンチモン系）カチオン硬化剤（サンエイドＳＩ−１００Ｌ；三新化学工業（株）製）を、スルホニウム系（アンチモン系）カチオン硬化剤（サンエイドＳＩ−１５０；三新化学工業（株）製）に代えた以外は、比較例１と同様にして、磁性シートを作製した。
【０１１８】
（比較例３）
−磁性シートの作製−
比較例１において、スルホニウム系（アンチモン系）カチオン硬化剤（サンエイドＳＩ−１００Ｌ；三新化学工業（株）製）６．９質量部を、イミダゾール系硬化剤（「ノバキュアＨＸ３７４８」；旭化成ケミカルズ（株）製）１．０質量部に代えた以外は、比較例１と同様にして、磁性シートを作製した。
【０１１９】
（比較例４〜８）
−磁性シートの作製−
比較例３において、イミダゾール系硬化剤（「ノバキュアＨＸ３７４８」；旭化成ケミカルズ（株）製）の配合量、前記プレス保持温度、前記プレス保持時間、及び前記プレス時間の少なくともいずれかを、表７〜８に示すように変えた以外は、比較例３と同様にして、磁性シートを作製した。
【０１２０】
（比較例９）
−磁性シートの作製−
実施例１７において、前記シラノール化合物としてのトリフェニルシラノール（ＴＰＳ）（東京化成工業（株）製）を、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン（Ａ１８７）（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン社製）に代えた以外は、実施例１７と同様にして、磁性シートを作製した。
【０１２１】
（比較例１０）
−磁性シートの作製−
実施例１７において、前記シラノール化合物としてのトリフェニルシラノール（ＴＰＳ）（東京化成工業（株）製）を、フェニルトリメトキシシラン（ＫＢＭ−１０３）（信越化学工業（株）製）に代えた以外は、実施例１７と同様にして、磁性シートを作製した。
【０１２２】
（比較例１１）
−磁性シートの作製−
実施例１において、作製されたアルミニウムキレート系潜在性硬化剤（１）及びシラノール化合物としてのトリフェニルシラノール（ＴＰＳ）（東京化成工業（株）製）を添加しないこと以外は、実施例１と同様にして、磁性シートを作製した。
【０１２３】
得られた磁性シートについて、下記の評価を行った。
〔透磁率〕
まず、外径７．０５ｍｍ、内径２．９４５ｍｍに抜き加工したリング状サンプル（磁性層サンプル）を作製し、これに導線を５ターン巻き、端子に半田付けした。ここで、前記端子の根元から前記リング状サンプル（磁性層サンプル）の下までの長さを２０ｍｍとした。そして、インピーダンスアナライザー（「４２９４Ａ」；アジレントテクノロジー社製）を用いて、１ＭＨｚにおけるインダクタンスと抵抗値とを測定し、透磁率（磁性層の透磁率）に換算した。
なお、μ’は、複素透磁率の実数部を表す。
μ’の特性は、磁性シートの使用目的によって異なり、例えば、ＲＦＩＤデバイスの通信改善の場合には、２０ＭＨｚ以下の周波数で、高μ’かつ低μ’’（複素透磁率の虚数部）であるのが好ましい。
なお、本発明の磁性シートは、ＫＨｚ〜ＧＨｚ帯において使用可能な磁性シートである。
【０１２４】
〔信頼性試験〕
−厚み変化−
まず、磁性シートにおける磁性層の厚み（ＰＥＴを含まない厚み）を測定した。次いで、磁性シートをオーブンに入れ、８５℃／６０％の条件で９６時間加熱し、オーブンから取り出した後の磁性シートにおける磁性層の厚み（ＰＥＴを含まない厚み）を測定し、加熱前後の磁性シートにおける磁性層の厚み（ＰＥＴを含まない厚み）変化率を測定した。
【０１２５】
〔不快臭〕
得られた磁性シートについて、不快臭の有無について判定した。
【０１２６】
〔腐食試験〕
実施例２０及び比較例６から得られた磁性シートサンプル（ＰＥＴ付き）約０．２ｇを、それぞれ、５０ｍＬの水道水が入ったデスカップに投入し、これを８５℃／８５％に設定されたオーブンに３０時間放置し、磁性シートサンプル（ＰＥＴ付き）を取り出して目視で評価した。
【０１２７】
【表１】
2010077405.tif 000006
【０１２８】
【表２】
2010077405.tif 000007
【０１２９】
【表３】
2010077405.tif 000008
【０１３０】
【表４】
2010077405.tif 000009
【０１３１】
【表５】
2010077405.tif 000010
【０１３２】
【表６】
2010077405.tif 000011
【０１３３】
【表７】
2010077405.tif 000012
【０１３４】
【表８】
2010077405.tif 000013
【０１３５】
【表９】
2010077405.tif 000014
【０１３６】
表１〜表９の結果より、アルミニウムキレート系潜在性硬化剤及び上記式（Ａ）で表されるシラノール化合物乃至アルコキシシラン化合物を用いて作製した実施例１〜３１の磁性シートは、低温―速硬化性であり、臭気を発生させることなく、さらに、腐食が生じることないことが判った。
磁性シートの作製条件において、実施例１７、２５、２６及び比較例９〜１０の組合せについて注目したところ、上記式（Ａ）で表されるシラノール化合物乃至アルコキシシラン化合物を用いた実施例の信頼性試験における厚み変化率が、上記式（Ａ）で表されるシラノール化合物乃至アルコキシシラン化合物を用いていない比較例の厚み変化率よりも小さくなっていることから判る。
なお、イミダゾール系硬化剤（ノバキュア）を用いた比較例６では、低い信頼性試験前後の厚み変化（０．７９％）が得られているが、腐食が発生するという問題があり、また、スルホニウム系（アンチモン系）カチオン硬化剤を用いた比較例１及び２では、低い信頼性試験前後の厚み変化（０．３９％、０．８０％）が得られているが、硬化後の磁性シートに不快臭が残るので、熱処理して不快臭を取り除く必要があるという問題がある。
また、硬化剤としてイミダゾール系硬化剤（ノバキュア）を用いた場合、低い信頼性試験前後の厚み変化を得るためには、比較例６に示すように、プレス保持温度１７０℃、プレス保持時間１０分間、プレス時間４３分間が必要であるが、アルミニウムキレート系潜在性硬化剤及び上記式（Ａ）で表されるシラノール化合物乃至アルコキシシラン化合物を用いた場合は、実施例２４に示すように、プレス保持温度１５０℃、プレス保持時間５分間、プレス時間２０分間のプレス条件であっても、低い信頼性試験前後の厚み変化を得ることができることが判った。
なお、参考例１〜７は、プレス温度が低く、プレス時間が短いため、硬化不良が起こり、信頼性試験が不良であった。
【産業上の利用可能性】
【０１３７】
本発明の磁性シートは、例えば、電磁ノイズ抑制体、電波吸収体、磁気シールド材、ＲＦＩＤ等のＩＣタグ機能を有する電子機器、非接触ＩＣカードなどに好適に使用することができ、特に、ＲＦＩＤ機能付携帯電話に好適に使用することができる。
【符号の説明】
【０１３８】
１０      磁性層
２０      凹凸形成層
２２      剥離層
３０      転写材
４０      積層体
５０      プレス板
【図１】
2010077405.tif 000015