(57)【要約】【課題】Ｓ／Ｎ比の良好なテラヘルツ光のスペクトル測定を可能とする【解決手段】テラヘルツ分光装置１は、テラヘルツ光を照射する光照射部２と、照射されたテラヘルツ光を用いて干渉光を生成し、この干渉光を試料ＳＰに照射する干渉光生成部３と、試料ＳＰを透過した干渉光を検出する検出部４とを備える。光照射部２は、テラヘルツ光の波長が変更可能に構成される。干渉光生成部３は、ビームスプリッタ４１と固定鏡４２と移動鏡４３を有し、ビームスプリッタ４１と、固定鏡４２及び移動鏡４３それぞれとの間の距離が変更可能に構成される。そして、テラヘルツ光の波長又は固定鏡４２の位置が変更される毎に、ビームスプリッタ４１と移動鏡４３との間の距離が所定範囲の間で変化するように移動鏡４３の位置を移動させながらテラヘルツ光を照射して、干渉光を検出部４で検出することによりインターフェログラムを測定する。【選択図】図１
2010117255.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
予め設定された波長を有するテラヘルツ光をパルスで照射するテラヘルツ光照射手段と、
ビームスプリッタと第１反射鏡と第２反射鏡を有し、前記テラヘルツ光照射手段が照射するテラヘルツ光の波長と前記第１反射鏡の位置とが固定されている状態において、前記ビームスプリッタと前記第２反射鏡との間の距離が予め設定された所定範囲の間で変化するように前記第２反射鏡の位置を移動させ、前記テラヘルツ光照射手段により照射されたテラヘルツ光を前記ビームスプリッタで２つに分岐した後に、この分岐された２つのテラヘルツ光のそれぞれを前記第１反射鏡および前記第２反射鏡で前記ビームスプリッタに向けて反射させることにより、前記第１反射鏡および前記第２反射鏡で反射されたテラヘルツ光が干渉した干渉光を生成し、この干渉光を測定対象試料に向けて照射する干渉手段と、
前記テラヘルツ光照射手段が照射するテラヘルツ光の波長を設定する波長設定手段と、
前記ビームスプリッタと前記第１反射鏡との間の距離が変化するように、前記第１反射鏡の位置を移動させる第１反射鏡移動手段と、
前記干渉手段により生成された干渉光のうち、前記測定対象試料を透過した干渉光を検出する検出手段と、
前記検出手段による検出結果に基づいて、前記テラヘルツ光照射手段が照射するテラヘルツ光の波長、及び前記第１反射鏡の位置の少なくとも１つが互いに異なる複数のインターフェログラムを作成するインターフェログラム作成手段と、
前記インターフェログラム作成手段により作成された前記複数のインターフェログラムの光強度を、前記干渉光の光路差をＸ軸、インターフェログラムの光強度をＹ軸とした２軸により定義される２次元平面内で加算した１次元インターフェログラムを作成する１次元インターフェログラム作成手段と、
前記干渉光の光路差を変数として、前記１次元インターフェログラム作成手段により作成された前記１次元インターフェログラムを１次元フーリエ変換する１次元フーリエ変換手段と
を備えることを特徴とする分光装置。
【請求項２】
予め設定された波長を有するテラヘルツ光をパルスで照射するテラヘルツ光照射手段と、
ビームスプリッタと第１反射鏡と第２反射鏡を有し、前記テラヘルツ光照射手段が照射するテラヘルツ光の波長と前記第１反射鏡の位置とが固定されている状態において、前記ビームスプリッタと前記第２反射鏡との間の距離が予め設定された所定範囲の間で変化するように前記第２反射鏡の位置を移動させ、前記テラヘルツ光照射手段により照射されたテラヘルツ光を前記ビームスプリッタで２つに分岐した後に、この分岐された２つのテラヘルツ光のそれぞれを前記第１反射鏡および前記第２反射鏡で前記ビームスプリッタに向けて反射させることにより、前記第１反射鏡および前記第２反射鏡で反射されたテラヘルツ光が干渉した干渉光を生成し、この干渉光を測定対象試料に向けて照射する干渉手段と、
前記テラヘルツ光照射手段が照射するテラヘルツ光の波長を設定する波長設定手段と、
前記ビームスプリッタと前記第１反射鏡との間の距離が変化するように、前記第１反射鏡の位置を移動させる第１反射鏡移動手段と、
前記干渉手段により生成された干渉光のうち、前記測定対象試料を透過した干渉光を検出する検出手段と、
前記検出手段による検出結果に基づいて、前記テラヘルツ光照射手段が照射するテラヘルツ光の波長、及び前記第１反射鏡の位置の少なくとも１つが互いに異なる複数のインターフェログラムを作成するインターフェログラム作成手段と、
前記インターフェログラム作成手段により作成された前記複数のインターフェログラムの光強度を、前記干渉光の光路差をＸ軸、前記第１反射鏡の位置をＹ軸、インターフェログラムの光強度をＺ軸とした３軸により定義される３次元空間内で加算した２次元データを作成する２次元データ作成手段と、
前記干渉光の光路差と前記第１反射鏡の位置を変数として、前記２次元データ作成手段により作成された前記２次元データを２次元フーリエ変換する２次元フーリエ変換手段と
を備えることを特徴とする分光装置。
【請求項３】
前記干渉手段により照射されたテラヘルツ光が前記測定対象試料に当る位置が変化するように、前記測定対象試料の位置を移動させる試料移動手段を備える
ことを特徴とする請求項１または請求項２に記載の分光装置。
【請求項４】
予め設定された波長を有するテラヘルツ光をパルスで照射するテラヘルツ光照射手段と、
ビームスプリッタと第１反射鏡と第２反射鏡を有し、前記テラヘルツ光照射手段が照射するテラヘルツ光の波長と前記第１反射鏡の位置とが固定されている状態において、前記ビームスプリッタと前記第２反射鏡との間の距離が予め設定された所定範囲の間で変化するように前記第２反射鏡の位置を移動させ、前記テラヘルツ光照射手段により照射されたテラヘルツ光を前記ビームスプリッタで２つに分岐した後に、この分岐された２つのテラヘルツ光のそれぞれを前記第１反射鏡および前記第２反射鏡で前記ビームスプリッタに向けて反射させることにより、前記第１反射鏡および前記第２反射鏡で反射されたテラヘルツ光が干渉した干渉光を生成し、この干渉光を測定対象試料に向けて照射する干渉手段とを用いる分光方法であって、
前記テラヘルツ光照射手段が照射するテラヘルツ光の波長を設定する波長設定手順と、
前記ビームスプリッタと前記第１反射鏡との間の距離が変化するように、前記第１反射鏡の位置を移動させる第１反射鏡移動手順と、
前記干渉手段により生成された干渉光のうち、前記測定対象試料を透過した干渉光を検出する検出手順と、
前記検出手順による検出結果に基づいて、前記テラヘルツ光照射手段が照射するテラヘルツ光の波長、及び前記第１反射鏡の位置の少なくとも１つが互いに異なる複数のインターフェログラムを作成するインターフェログラム作成手順と、
前記インターフェログラム作成手順により作成された前記複数のインターフェログラムの光強度を、前記干渉光の光路差をＸ軸、インターフェログラムの光強度をＹ軸とした２軸により定義される２次元平面内で加算した１次元インターフェログラムを作成する１次元インターフェログラム作成手順と、
前記干渉光の光路差を変数として、前記１次元インターフェログラム作成手順により作成された前記１次元インターフェログラムを１次元フーリエ変換する１次元フーリエ変換手順と
を備えることを特徴とする分光方法。
【請求項５】
予め設定された波長を有するテラヘルツ光をパルスで照射するテラヘルツ光照射手段と、
ビームスプリッタと第１反射鏡と第２反射鏡を有し、前記テラヘルツ光照射手段が照射するテラヘルツ光の波長と前記第１反射鏡の位置とが固定されている状態において、前記ビームスプリッタと前記第２反射鏡との間の距離が予め設定された所定範囲の間で変化するように前記第２反射鏡の位置を移動させ、前記テラヘルツ光照射手段により照射されたテラヘルツ光を前記ビームスプリッタで２つに分岐した後に、この分岐された２つのテラヘルツ光のそれぞれを前記第１反射鏡および前記第２反射鏡で前記ビームスプリッタに向けて反射させることにより、前記第１反射鏡および前記第２反射鏡で反射されたテラヘルツ光が干渉した干渉光を生成し、この干渉光を測定対象試料に向けて照射する干渉手段とを用いる分光方法であって、
前記テラヘルツ光照射手段が照射するテラヘルツ光の波長を設定する波長設定手順と、
前記ビームスプリッタと前記第１反射鏡との間の距離が変化するように、前記第１反射鏡の位置を移動させる第１反射鏡移動手順と、
前記干渉手段により生成された干渉光のうち、前記測定対象試料を透過した干渉光を検出する検出手順と、
前記検出手順による検出結果に基づいて、前記テラヘルツ光照射手段が照射するテラヘルツ光の波長、及び前記第１反射鏡の位置の少なくとも１つが互いに異なる複数のインターフェログラムを作成するインターフェログラム作成手順と、
前記インターフェログラム作成手順により作成された前記複数のインターフェログラムの光強度を、前記干渉光の光路差をＸ軸、前記第１反射鏡の位置をＹ軸、インターフェログラムの光強度をＺ軸とした３軸により定義される３次元空間内で加算した２次元データを作成する２次元データ作成手順と、
前記干渉光の光路差と前記第１反射鏡の位置を変数として、前記２次元データ作成手段により作成された前記２次元データを２次元フーリエ変換する２次元フーリエ変換手順と
を備えることを特徴とする分光方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、テラヘルツ光を用いた分光装置、及び分光方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、テラヘルツ光を用いた分光装置として、白色パルス光を測定対象試料に照射し、測定対象試料から反射または透過したパルス光を検出した後にフーリエ変換を行うことによりスペクトルを測定するものが知られている（例えば、特許文献１を参照）。
【特許文献１】特開２００４−１０１５１０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかし、特許文献１に記載の技術では、白色パルス光を用いているために、光出力が比較的低い。このため、スペクトル測定のために十分な光量を得ることができず、Ｓ／Ｎ比の良好なスペクトル測定を行うことができないという問題があった。
【０００４】
一方、テラヘルツ領域の単色光を用い、波長をスキャンしてスペクトルを測定する手法が提案されている。この手法では、高出力レーザ由来の単色光を用いているために光源の出力が高く、Ｓ／Ｎ比の良好なスペクトル測定を行うことができる。
【０００５】
ところで、フーリエ変換を用いた分光装置では、マイケルソン干渉計がよく利用されている。このマイケルソン干渉計は、ビームスプリッタと固定鏡と移動鏡とから構成されている。そしてマイケルソン干渉計は、照射されたテラヘルツ光をビームスプリッタで２つに分岐した後に、この分岐された２つのテラヘルツ光のそれぞれを固定鏡および移動鏡でビームスプリッタに向けて反射させることにより、固定鏡および移動鏡で反射されたテラヘルツ光が干渉した干渉光を生成し、この干渉光を測定対象試料に向けて照射する。そして、測定対象試料を透過した干渉光を検出することにより、インターフェログラムを作成する。
【０００６】
しかし、高出力レーザ由来のテラヘルツ光照射装置は原理的にパルス光しか照射することができないため、上記のインターフェログラムに、パルス光の発光間隔に応じて特性が変化するノイズ（以下、パルス起因ノイズともいう）が重畳され、Ｓ／Ｎ比の良好なスペクトル測定を行うことができないという問題があった。
【０００７】
本発明は、こうした問題に鑑みなされたものであり、パルス起因ノイズを低減して、Ｓ／Ｎ比の良好なスペクトル測定を可能とする技術を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的を達成するためになされた請求項１に記載の分光装置では、テラヘルツ光照射手段が、予め設定された波長を有するテラヘルツ光をパルスで照射し、干渉手段が、テラヘルツ光照射手段が照射するテラヘルツ光の波長と第１反射鏡の位置とが固定されている状態において、ビームスプリッタと第２反射鏡との間の距離が予め設定された所定範囲の間で変化するように第２反射鏡の位置を移動させ、テラヘルツ光照射手段により照射されたテラヘルツ光をビームスプリッタで２つに分岐した後に、この分岐された２つのテラヘルツ光のそれぞれを第１反射鏡および第２反射鏡でビームスプリッタに向けて反射させることにより、第１反射鏡および第２反射鏡で反射されたテラヘルツ光が干渉した干渉光を生成し、この干渉光を測定対象試料に向けて照射する。そして検出手段が、干渉手段により生成された干渉光のうち、測定対象試料を透過した干渉光を検出する。
【０００９】
また、波長設定手段が、テラヘルツ光照射手段が照射するテラヘルツ光の波長を設定するとともに、第１反射鏡移動手段が、ビームスプリッタと第１反射鏡との間の距離が変化するように、第１反射鏡の位置を移動させる。
【００１０】
これによりインターフェログラム作成手段が、検出手段による検出結果に基づいて、テラヘルツ光照射手段が照射するテラヘルツ光の波長、及び第１反射鏡の位置の少なくとも１つが互いに異なる複数のインターフェログラムを作成する。
【００１１】
ここで、インターフェログラムとは、第１反射鏡で反射されたテラヘルツ光と第２反射鏡で反射されたテラヘルツ光との光路差と、干渉光の強度との関係を示すデータをいう。
【００１２】
なお、テラヘルツ光照射手段はテラヘルツ光をパルスで照射するため、これら複数のインターフェログラムには、パルス光の発光間隔に応じて特性が変化するノイズ（パルス起因ノイズ）が重畳される。
【００１３】
そして１次元インターフェログラム作成手段が、インターフェログラム作成手段により作成された複数のインターフェログラムの光強度を、干渉光の光路差をＸ軸、インターフェログラムの光強度をＹ軸とした２軸により定義される２次元平面内で加算した１次元インターフェログラムを作成する。さらに１次元フーリエ変換手段が、干渉光の光路差を変数として、１次元インターフェログラム作成手段により作成された１次元インターフェログラムを１次元フーリエ変換する。
【００１４】
このため、上記の１次元インターフェログラムは、まず、テラヘルツ光照射手段が照射するテラヘルツ光の波長が同一であり、第１反射鏡の位置が異なる全てのインターフェログラムの光強度が加算されたものとなる。すなわち、第１反射鏡の位置が互いに異なるインターフェログラム同士で光強度が加算されることで、或る１つのインターフェログラムにおける正値のパルス起因ノイズと、他の１つのインターフェログラムにおける負値のパルス起因ノイズとが相殺されるため、上記の１次元インターフェログラムにおいてパルス起因ノイズを低減することができる。
【００１５】
さらに、上記の１次元インターフェログラムは、テラヘルツ光照射手段が照射するテラヘルツ光の波長が異なる全てのインターフェログラムの光強度が加算されたものとなる。したがって、干渉光の光路差を変数として、上記の１次元インターフェログラムを１次元フーリエ変換することにより、波長または周波数毎の光強度を表すスペクトルを得ることができる。
【００１６】
以上より、請求項１に記載の分光装置によれば、パルス光の発光間隔に応じて特性が変化するノイズを低減して、Ｓ／Ｎ比の良好なスペクトルを測定することができる。
【００１７】
また請求項２に記載の分光装置では、２次元データ作成手段が、インターフェログラム作成手段により作成された複数のインターフェログラムの光強度を、干渉光の光路差をＸ軸、第１反射鏡の位置をＹ軸、インターフェログラムの光強度をＺ軸とした３軸により定義される３次元空間内で加算した２次元データを作成する。さらに２次元フーリエ変換手段が、干渉光の光路差と第１反射鏡の位置を変数として、２次元データ作成手段により作成された２次元データを２次元フーリエ変換する。
【００１８】
このため、上記の２次元データは、第１反射鏡の位置が異なる全てのインターフェログラムの光強度の情報を含んだものとなる。これにより、２次元フーリエ変換手段が２次元データを２次元フーリエ変換する際に、或る１つのインターフェログラムにおける正値のパルス起因ノイズと、他の１つのインターフェログラムにおける負値のパルス起因ノイズとが相殺されるため、２次元フーリエ変換により得られたスペクトルへのパルス起因ノイズの影響を低減することができる。
【００１９】
また、上記の２次元データは、テラヘルツ光照射手段が照射するテラヘルツ光の波長が異なる全てのインターフェログラムの光強度が加算されたものとなる。したがって、干渉光の光路差を変数として、上記の２次元データを２次元フーリエ変換することにより、波長または周波数毎の光強度を表すスペクトルを得ることができる。
【００２０】
以上より、請求項２に記載の分光装置によれば、パルス光の発光間隔に応じて特性が変化するノイズを低減して、Ｓ／Ｎ比の良好なスペクトルを測定することができる。
【００２１】
さらに、２次元フーリエ変換手段は２次元データを２次元フーリエ変換するため、実数部スペクトルと虚数部スペクトルを得ることができる。実数部スペクトルは、請求項１に記載の分光装置により得られるスペクトルと同じである。一方、虚数部スペクトルは、請求項１に記載の分光装置では測定することができないスペクトルであり、この虚数部スペクトルにより、測定対象試料の誘電率の情報を得ることができる。
【００２２】
また、請求項１または請求項２に記載の分光装置では、試料移動手段が、干渉手段により照射されたテラヘルツ光が測定対象試料に当る位置が変化するように、測定対象試料の位置を移動させることができる。
【００２３】
このため、請求項３に記載の分光装置によれば、干渉手段が照射するテラヘルツ光の照射方向を変更することなく簡便に、測定対象試料における複数の箇所のスペクトルを得ることができる。
【００２４】
また請求項４に記載の分光方法では、検出手順において、干渉手段により生成された干渉光のうち、測定対象試料を透過した干渉光を検出する。また、波長設定手順において、テラヘルツ光照射手段が照射するテラヘルツ光の波長を設定するとともに、第１反射鏡移動手順において、ビームスプリッタと第１反射鏡との間の距離が変化するように、第１反射鏡の位置を移動させる。
【００２５】
これによりインターフェログラム作成手順において、検出手順による検出結果に基づいて、テラヘルツ光照射手段が照射するテラヘルツ光の波長、及び第１反射鏡の位置の少なくとも１つが互いに異なる複数のインターフェログラムを作成する。
【００２６】
そして１次元インターフェログラム作成手順において、インターフェログラム作成手順により作成された複数のインターフェログラムの光強度を、干渉光の光路差をＸ軸、インターフェログラムの光強度をＹ軸とした２軸により定義される２次元平面内で加算した１次元インターフェログラムを作成する。さらに１次元フーリエ変換手順において、干渉光の光路差を変数として、１次元インターフェログラム作成手順により作成された１次元インターフェログラムを１次元フーリエ変換する。
【００２７】
この分光方法は、請求項１に記載の分光装置にて実行される方法であり、当該方法を実行することで、請求項１に記載の分光装置と同様の効果を得ることができる。
【００２８】
また請求項５に記載の分光方法では、２次元データ作成手順において、インターフェログラム作成手順により作成された複数のインターフェログラムの光強度を、干渉光の光路差をＸ軸、第１反射鏡の位置をＹ軸、インターフェログラムの光強度をＺ軸とした３軸により定義される３次元空間内で加算した２次元データを作成する。さらに２次元フーリエ変換手順において、干渉光の光路差と第１反射鏡の位置を変数として、２次元データ作成手順により作成された２次元データを２次元フーリエ変換する。
【００２９】
この分光方法は、請求項２に記載の分光装置にて実行される方法であり、当該方法を実行することで、請求項２に記載の分光装置と同様の効果を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３０】
（第１実施形態）
以下に本発明の第１実施形態について図面とともに説明する。
【００３１】
図１は本発明が適用された第１実施形態のテラヘルツ分光装置１の構成を示すブロック図である。
【００３２】
テラヘルツ分光装置１は、図１に示すように、テラヘルツ光を照射するテラヘルツ光照射部２と、テラヘルツ光照射部２から照射されたテラヘルツ光を用いて干渉光を生成し、この干渉光を試料ＳＰに向けて照射する干渉光生成部３と、試料ＳＰを透過した干渉光を検出する検出部４と、検出部４から検出信号を入力するとともにテラヘルツ光照射部２及び干渉光生成部３を制御するシステム制御部５とを備える。
【００３３】
テラヘルツ光照射部２は、テラヘルツ光を発生するテラヘルツ光発生部１０と、テラヘルツ光発生部１０で発生したテラヘルツ光が干渉光生成部３に向けて照射されるようにテラヘルツ光の照射方向を調整する照射方向調整部２０と、テラヘルツ光発生部１０と照射方向調整部２０を制御する制御部３０とを備える。そしてテラヘルツ光照射部２は、図２に示すように、テラヘルツ光をパルスで照射する。本実施形態では、テラヘルツ光のパルス幅は１５ｎｓ、パルス間隔は１００ｍｓである。
【００３４】
これらのうちテラヘルツ光発生部１０は、図１に示すように、Ｎｄ：ＹＡＧレーザ照射部１１と、Ｃｒ：Ｆｏｒｓｔｅｒｉｔｅレーザ照射部１２，１３と、減衰器１４，１５と、ビームコンバイナ１６と、ＧａＰ結晶１７とを備える。
【００３５】
そしてＮｄ：ＹＡＧレーザ照射部１１は、２つのＮｄ：ＹＡＧレーザ（波長１０６４ｎｍ）をそれぞれＣｒ：Ｆｏｒｓｔｅｒｉｔｅレーザ照射部１２とＣｒ：Ｆｏｒｓｔｅｒｉｔｅレーザ照射部１３に向けて照射する。
【００３６】
またＣｒ：Ｆｏｒｓｔｅｒｉｔｅレーザ照射部１２，１３は、Ｃｒを含有するＦｏｒｓｔｅｒｉｔｅ（Ｍｇ2ＳｉＯ4）の結晶（不図示。以下、Ｃｒ：Ｆｏｒｓｔｅｒｉｔｅ結晶という）を備える。このＣｒ：Ｆｏｒｓｔｅｒｉｔｅ結晶にＮｄ：ＹＡＧレーザ（波長１０６４ｎｍ）が入射すると、Ｆｏｒｓｔｅｒｉｔｅ中に含まれるＣｒイオンにより、入射したレーザ光より長い波長のレーザ光が発生する。なお、Ｆｏｒｓｔｅｒｉｔｅ中に含まれるＣｒの価数および電子状態に応じて、発生させるレーザ光の波長を変えることができる。本実施形態では、Ｃｒ：Ｆｏｒｓｔｅｒｉｔｅレーザ照射部１２は、波長が１２１０ｎｍのレーザ光を発生させる。
【００３７】
さらにＣｒ：Ｆｏｒｓｔｅｒｉｔｅレーザ照射部１３は、波長制御部３１（後述）からの制御（矢印Ｙ１を参照）によりＣｒ：Ｆｏｒｓｔｅｒｉｔｅレーザ照射部１３が備えるＣｒ：Ｆｏｒｓｔｅｒｉｔｅ結晶の向きを変えることができる機構（不図示。以下、Ｃｒ：Ｆ結晶移動機構という）を有する。これによりＣｒ：Ｆｏｒｓｔｅｒｉｔｅレーザ照射部１３は、波長制御部３１（後述）からの制御により、Ｃｒ：Ｆｏｒｓｔｅｒｉｔｅ結晶に対するＮｄ：ＹＡＧレーザの入射角度を変化させ、この入射角度に応じた波長のレーザ光を発生させる。本実施形態では、Ｃｒ：Ｆｏｒｓｔｅｒｉｔｅレーザ照射部１３は、１２１０〜１２５０ｎｍのレーザ光を発生させる。
【００３８】
また減衰器１４，１５はそれぞれ、Ｃｒ：Ｆｏｒｓｔｅｒｉｔｅレーザ照射部１２，１３から照射されたレーザ光の光強度を減衰させる。なお、Ｃｒ：Ｆｏｒｓｔｅｒｉｔｅレーザ照射部１２，１３で発生したレーザ光の光強度は等しくない。このため、ビームコンバイナ１６に入射する２つのレーザ光の光強度が等しくなるように、減衰器１４，１５によるレーザ光の減衰量が設定されている。
【００３９】
またビームコンバイナ１６は、減衰器１４からのレーザ光と減衰器１５からのレーザ光を合成して照射する。このビームコンバイナ１６は、ハーフミラー１６ａで構成されている。すなわち、減衰器１４からのレーザ光をハーフミラー１６ａで透過し、減衰器１５からのレーザ光をハーフミラー１６ａで反射することにより、２つのレーザ光を合成する。
【００４０】
なおビームコンバイナ１６は、ステージ制御部３２（後述）からの制御（矢印Ｙ２を参照）によりビームコンバイナ１６の向きを変えることができる機構（不図示。以下、ビームコンバイナ移動機構という）を備える。これによりビームコンバイナ１６は、ビームコンバイナ１６の向きに応じて、減衰器１５からのレーザ光がハーフミラー１６ａで反射した際の反射光の進行方向を変えることができる。一方、減衰器１４からのレーザ光はハーフミラー１６ａを透過するため、ビームコンバイナ１６の向きが変わっても、減衰器１４からのレーザ光の進行方向は変わらない。したがってビームコンバイナ１６は、ステージ制御部３２からの制御によりビームコンバイナ１６の向きを変化させ（矢印Ｙ１２を参照）、ビームコンバイナ１６の向きに応じて２つのレーザ光がそれぞれ異なる方向に向かって照射されるように、２つのレーザ光を合成する。
【００４１】
そしてＧａＰ結晶１７は、ビームコンバイナ１６で合成されたレーザ光が照射される位置に配置される。このＧａＰ結晶１７は、入射方向が異なる２つのレーザ光が入射することで、この２つのレーザ光の周波数差の格子振動ラマン効果により単色のテラヘルツ光を発生させる。なおＧａＰ結晶１７は、ＧａＰ結晶１７へ入射するレーザ光の入射角度に応じて、発生させるテラヘルツ光の周波数が変化する特性を有する。そしてＧａＰ結晶１７は、ステージ制御部３２（後述）からの制御（矢印Ｙ３を参照）によりＧａＰ結晶１７の向きを変えることができる機構（不図示。以下、ＧａＰ結晶移動機構という）を備える。このためＧａＰ結晶１７は、ステージ制御部３２からの制御によりＧａＰ結晶１７の向きを変化させ（矢印Ｙ１３を参照）、ＧａＰ結晶１７へ入射するレーザ光の入射角度を変化させることにより、発生させるテラヘルツ光の周波数を変化させることができる。本実施形態では、テラヘルツ光照射部２は、周波数範囲が例えば０．６〜６ＴＨｚのテラヘルツ光を照射する。
【００４２】
さらに照射方向調整部２０は、放物面反射鏡２１と、平面反射鏡２２とを備える。
【００４３】
これらのうち放物面反射鏡２１は、ＧａＰ結晶１７の向きに応じた様々な照射方向でＧａＰ結晶１７から照射されるテラヘルツ光（テラヘルツ光ＴＩＬ１，２を参照）を反射させて平行にする（テラヘルツ光ＴＲＬ１，２を参照）。
【００４４】
また平面反射鏡２２は、ステージ制御部３２（後述）からの制御により（矢印Ｙ４を参照）、平面反射鏡２２の位置を変える（矢印Ｙ１４を参照）ことができる機構（不図示。以下、反射鏡移動機構という）を備える。このため平面反射鏡２２は、ＧａＰ結晶１７の向きに応じて平面反射鏡２２の位置を変えることにより（実線および破線で描かれた平面反射鏡２２を参照）、放物面反射鏡２１で反射されたテラヘルツ光をさらに反射して干渉光生成部３へ導く。
【００４５】
さらに制御部３０は、前述のＣｒ：Ｆ結晶移動機構を制御する波長制御部３１と、前述のビームコンバイナ移動機構、ＧａＰ結晶移動機構および反射鏡移動機構を制御するステージ制御部３２とを備える。なお波長制御部３１及びステージ制御部３２は、システム制御部５により制御される。
【００４６】
また干渉光生成部３は、ビームスプリッタ４１と、固定鏡４２と、移動鏡４３とを備える。
【００４７】
これらのうちビームスプリッタ４１は、テラヘルツ光照射部２から照射されたテラヘルツ光を導入して、固定鏡４２に向かって進むテラヘルツ光と、移動鏡４３に向かって進むテラヘルツ光とに分割する。
【００４８】
そして固定鏡４２及び移動鏡４３はそれぞれ、ビームスプリッタ４１から照射されるテラヘルツ光をビームスプリッタ４１に向けて反射する。
【００４９】
さらにビームスプリッタ４１は、固定鏡４２及び移動鏡４３で反射されたテラヘルツ光を導入し、この導入された２つのテラヘルツ光が合成された干渉光を生成する。そしてビームスプリッタ４１は、この生成された干渉光を試料ＳＰに向けて照射する。
【００５０】
なお固定鏡４２は、システム制御部５からの制御により（矢印Ｙ５を参照）、ビームスプリッタ４１と固定鏡４２との間でテラヘルツ光が進む方向に沿って固定鏡４２の位置を変える（矢印Ｙ１５を参照）ことができる機構（不図示。以下、固定鏡移動機構という）を備える。また移動鏡４３は、システム制御部５からの制御により（矢印Ｙ６を参照）、ビームスプリッタ４１と移動鏡４３との間でテラヘルツ光が進む方向に沿って移動鏡４３の位置を変える（矢印Ｙ１６を参照）ことができる機構（不図示。以下、移動鏡移動機構という）を備える。
【００５１】
そしてシステム制御部５は、試料ＳＰを透過したテラヘルツ光のスペクトルを測定するテラヘルツ分光処理を実行する。
【００５２】
ここで、システム制御部５が実行するテラヘルツ分光処理の手順を、図３を用いて説明する。図３はテラヘルツ分光処理を示すフローチャートである。
【００５３】
このテラヘルツ分光処理は、テラヘルツ分光装置１に設けられた分光処理開始用操作キー（不図示）の操作が行われたときに開始される処理である。
【００５４】
このテラヘルツ分光処理が実行されると、システム制御部５は、まずＳ１０にて、テラヘルツ光照射部２から照射されるテラヘルツ光の波長を指示するための設定波長指示変数Ｐを波長初期値Ｘｉに設定する。なお、波長初期値Ｘｉは、テラヘルツ分光処理で用いるテラヘルツ光の波長の最小値に相当する値である。例えば本実施形態では、波長初期値Ｘｉは０．６ＴＨｚに相当する値である。
【００５５】
そしてＳ２０にて、設定波長指示変数Ｐが示す値に対応する波長のテラヘルツ光がテラヘルツ光照射部２から照射されるように、Ｃｒ：Ｆ結晶移動機構、ビームコンバイナ移動機構、ＧａＰ結晶移動機構および反射鏡移動機構を制御する。これにより、図４（ａ）に示すように、設定波長指示変数Ｐが示す値に対応する波長でピークを示す単色光がテラヘルツ光照射部２から照射される。
【００５６】
さらにＳ３０にて、固定鏡４２の位置を指示するための固定鏡位置指示変数Ｑを固定鏡位置初期値Ｙｉに設定する。そしてＳ４０にて、固定鏡位置指示変数Ｑが示す値に対応する位置に固定鏡４２が配置されるように固定鏡移動機構を制御する。
【００５７】
その後Ｓ５０にて、移動鏡移動機構を制御して予め設定された移動鏡移動範囲内で移動鏡４３を移動させながら、テラヘルツ光照射部２からテラヘルツ光を照射し、試料ＳＰを透過した干渉光を検出部４で検出する。これにより、固定鏡位置指示変数Ｑが示す値に対応する位置に固定鏡４２が配置され、且つ、設定波長指示変数Ｐに対応する波長のテラヘルツ光を照射したときのインターフェログラム（図４（ｂ）を参照）を測定する。
【００５８】
そしてＳ６０にて、Ｓ５０で測定したインターフェログラムのデータをシステム制御部５内に記憶する。
【００５９】
その後Ｓ７０にて、固定鏡位置指示変数Ｑが示す値が予め設定された固定鏡位置最大値Ｙｍ以上であるか否かを判断する。
【００６０】
ここで、固定鏡位置指示変数Ｑが示す値が固定鏡位置最大値Ｙｍ未満である場合には（Ｓ７０：ＮＯ）、Ｓ８０にて、固定鏡位置指示変数Ｑに固定鏡位置加算値Ｙｄを加算し、その後Ｓ４０に移行して上述の処理を繰り返す。なお固定鏡位置加算値Ｙｄは、本実施形態では、（｜固定鏡位置最大値Ｙｍ−固定鏡位置初期値Ｙｉ｜÷固定鏡位置加算値Ｙｄ）≒１０となる値に設定されている。つまり、同一の設定波長指示変数Ｐにおいて、固定鏡４２を約１０回移動させてインターフェログラムを測定する。また本実施形態では、｜固定鏡位置最大値Ｙｍ−固定鏡位置初期値Ｙｉ｜が上記の移動鏡移動範囲と略等しくなるように、固定鏡位置最大値Ｙｍ及び固定鏡位置初期値Ｙｉの値が設定されている。
【００６１】
一方、固定鏡位置指示変数Ｑが示す値が固定鏡位置最大値Ｙｍ以上である場合には（Ｓ７０：ＹＥＳ）、Ｓ９０にて、設定波長指示変数Ｐが同一である全てのインターフェログラムを統合する。具体的には、現在設定されている設定波長指示変数Ｐの値が同じで、固定鏡位置指示変数Ｑが固定鏡位置初期値Ｙｉから固定鏡位置最大値Ｙｍまでの複数のインターフェログラムの光強度を、干渉光の光路差をＸ軸、インターフェログラムの光強度をＹ軸とした２軸により定義される２次元平面内で加算した１次元データを作成し、システム制御部５内に記憶する。
【００６２】
すなわち、この１次元データは、照射されたテラヘルツ光の波長が同一で、固定鏡位置が固定鏡位置初期値Ｙｉから固定鏡位置最大値Ｙｍに対応する位置の複数のインターフェログラムの光強度が加算されたインターフェログラム（以下、同一波長統合インターフェログラムという）となる。
【００６３】
その後Ｓ１００にて、設定波長指示変数Ｐが示す値が予め設定された波長最大値Ｘｍ以上であるか否かを判断する。なお、波長最大値Ｘｍは、テラヘルツ分光処理で用いるテラヘルツ光の波長の最大値に相当する値である。例えば本実施形態では、波長最大値Ｘｍは６ＴＨｚに相当する値である。
【００６４】
ここで、設定波長指示変数Ｐが示す値が波長最大値Ｘｍ未満である場合には（Ｓ１００：ＮＯ）、Ｓ１１０にて、設定波長指示変数Ｐに波長加算値Ｘｄを加算し、その後Ｓ２０に移行して上述の処理を繰り返す。なお、波長加算値Ｘｄは、テラヘルツ分光処理で用いるテラヘルツ光の波長の測定間隔に相当する値である。例えば本実施形態では、波長加算値Ｘｄは０．１ＴＨｚに相当する値である。
【００６５】
一方、設定波長指示変数Ｐが示す値が波長最大値Ｘｍ以上である場合には（Ｓ１００：ＹＥＳ）、Ｓ１２０にて、Ｓ９０の処理で作成された全ての波長の同一波長統合インターフェログラムを統合する。具体的には、設定波長指示変数Ｐが波長初期値Ｘｉから波長最大値Ｘｍまでの複数の同一波長統合インターフェログラムの光強度を、干渉光の光路差をＸ軸、インターフェログラムの光強度をＹ軸とした２軸により定義される２次元平面内で加算した１次元データを作成し、システム制御部５内に記憶する。
【００６６】
すなわち、この１次元データは、照射されたテラヘルツ光の波長が波長初期値Ｘｉから波長最大値Ｘｍに対応する値の複数の同一波長統合インターフェログラムの光強度が加算されたインターフェログラム（以下、全波長統合インターフェログラムという）となる。
【００６７】
その後Ｓ１３０にて、Ｓ１２０で作成された全波長統合インターフェログラムを、光路差を変数として１次元フーリエ変換し、その結果をシステム制御部５内に記憶する。これにより、図４（ｃ）に示すように、テラヘルツ光照射部２から照射されたテラヘルツ光の全波長にわたるスペクトルが得られる。そしてＳ１３０の処理が終了すると、テラヘルツ分光処理を終了する。
【００６８】
このように構成されたテラヘルツ分光装置１では、テラヘルツ光照射部２が、予め設定された波長を有するテラヘルツ光をパルスで照射し、干渉光生成部３が、テラヘルツ光照射部２が照射するテラヘルツ光の波長と固定鏡４２の位置とが固定されている状態において、ビームスプリッタ４１と移動鏡４３との間の距離が予め設定された移動鏡移動範囲の間で変化するように移動鏡４３の位置を移動させ、テラヘルツ光照射部２により照射されたテラヘルツ光をビームスプリッタ４１で２つに分岐した後に、この分岐された２つのテラヘルツ光のそれぞれを固定鏡４２および移動鏡４３でビームスプリッタ４１に向けて反射させることにより、固定鏡４２および移動鏡４３で反射されたテラヘルツ光が干渉した干渉光を生成し、この干渉光を試料ＳＰに向けて照射する。そして検出部４が、干渉光生成部３により生成された干渉光のうち、試料ＳＰを透過した干渉光を検出する。
【００６９】
また、テラヘルツ光照射部２が照射するテラヘルツ光の波長を設定する（Ｓ２０）とともに、ビームスプリッタ４１と固定鏡４２との間の距離が変化するように、固定鏡４２の位置を移動させる（Ｓ４０）。
【００７０】
これにより、検出部４による検出結果に基づいて、テラヘルツ光照射部２が照射するテラヘルツ光の波長、及び固定鏡４２の位置の少なくとも１つが互いに異なる複数のインターフェログラムが作成される（Ｓ５０）。
【００７１】
なお、テラヘルツ光照射部２はテラヘルツ光をパルスで照射するため、これら複数のインターフェログラムには、パルス光の発光間隔に応じて特性が変化するノイズ（以下、パルス起因ノイズという）が重畳される。
【００７２】
そして、作成された複数のインターフェログラムの光強度を、干渉光の光路差をＸ軸、インターフェログラムの光強度をＹ軸とした２軸により定義される２次元平面内で加算した１次元データを作成する（Ｓ９０，Ｓ１２０）。さらに、干渉光の光路差を変数として、作成された１次元データを１次元フーリエ変換する（Ｓ１３０）。
【００７３】
このため、上記の１次元データは、まず、テラヘルツ光照射部２が照射するテラヘルツ光の波長が同一であり、固定鏡４２の位置が異なる全てのインターフェログラムの光強度が加算されたものとなる。すなわち、固定鏡４２の位置が互いに異なるインターフェログラム同士で光強度が加算されることで、或る１つのインターフェログラムにおける正値のパルス起因ノイズと、他の１つのインターフェログラムにおける負値のパルス起因ノイズとが相殺されるため、上記の１次元データにおいてパルス起因ノイズを低減することができる。
【００７４】
さらに、上記の１次元データは、テラヘルツ光照射部２が照射するテラヘルツ光の波長が異なる全てのインターフェログラムの光強度が加算されたものとなる。したがって、干渉光の光路差を変数として、上記の１次元データを１次元フーリエ変換することにより、波長または周波数毎の光強度を表すスペクトルを得ることができる。
【００７５】
以上より、テラヘルツ分光装置１によれば、パルス光の発光間隔に応じて特性が変化するノイズを低減して、Ｓ／Ｎ比の良好なスペクトルを測定することができる。
【００７６】
以上説明した実施形態において、テラヘルツ光照射部２は本発明におけるテラヘルツ光照射手段、固定鏡４２は本発明における第１反射鏡、移動鏡４３は本発明における第２反射鏡、試料ＳＰは本発明における測定対象試料、干渉光生成部３は本発明における干渉手段、Ｓ２０の処理は本発明における波長設定手段および波長設定手順、Ｓ４０の処理は本発明における第１反射鏡移動手段および第１反射鏡移動手順、検出部４は本発明における検出手段および検出手順、Ｓ５０の処理は本発明におけるインターフェログラム作成手段およびインターフェログラム作成手順、Ｓ９０及びＳ１２０の処理は本発明における１次元インターフェログラム作成手段および１次元インターフェログラム作成手順、Ｓ１３０の処理は本発明における１次元フーリエ変換手段および１次元フーリエ変換手順、１次元データは本発明における１次元インターフェログラムである。
【００７７】
（第２実施形態）
以下に本発明の第２実施形態について図面とともに説明する。尚、第２実施形態では、第１実施形態と異なる部分のみを説明する。
【００７８】
第２実施形態のテラヘルツ分光装置１は、テラヘルツ分光処理の一部が変更された点以外は第１実施形態と同じである。
【００７９】
ここで、第２実施形態のテラヘルツ分光処理の手順を、図５を用いて説明する。図５は第２実施形態のテラヘルツ分光処理を示すフローチャートである。
【００８０】
第２実施形態のテラヘルツ分光処理は、図５に示すように、Ｓ９０，Ｓ１２０，Ｓ１３０の処理が省略された点と、Ｓ１２５，Ｓ１３５の処理が追加された点以外は第１実施形態と同じである。
【００８１】
すなわち、Ｓ７０にて、固定鏡位置指示変数Ｑが示す値が固定鏡位置最大値Ｙｍ以上である場合には（Ｓ７０：ＹＥＳ）、Ｓ１００に移行する。
【００８２】
またＳ１００にて、設定波長指示変数Ｐが示す値が波長最大値Ｘｍ以上である場合には（Ｓ１００：ＹＥＳ）、Ｓ１２５にて、Ｓ５０で測定された全てのインターフェログラムを統合する。具体的には、設定波長指示変数Ｐが波長初期値Ｘｉから波長最大値Ｘｍであり、固定鏡位置指示変数Ｑが固定鏡位置初期値Ｙｉから固定鏡位置最大値Ｙｍまでの複数のインターフェログラムの光強度を、干渉光の光路差をＸ軸、固定鏡４２の位置をＹ軸、インターフェログラムの光強度をＺ軸とした３軸により定義される３次元空間内で加算した２次元データを作成し、システム制御部５内に記憶する。
【００８３】
すなわち、この２次元データは、照射されたテラヘルツ光の波長が波長初期値Ｘｉから波長最大値Ｘｍに対応する値であり、固定鏡位置が固定鏡位置初期値Ｙｉから固定鏡位置最大値Ｙｍに対応する位置の複数のインターフェログラムの光強度が加算されたインターフェログラム（以下、２次元統合インターフェログラムという）となる。
【００８４】
その後Ｓ１３５にて、Ｓ１２５で作成された２次元統合インターフェログラムを、光路差と固定鏡４２の位置を変数として２次元フーリエ変換し、その結果をシステム制御部５内に記憶する。これにより、図６に示すように、テラヘルツ光照射部２から照射されたテラヘルツ光の全波長にわたる実数部スペクトルＲＳと虚数部スペクトルＩＳが得られる。そしてＳ１３０の処理が終了すると、テラヘルツ分光処理を終了する。
【００８５】
このように構成されたテラヘルツ分光装置１では、作成された複数のインターフェログラムの光強度を、干渉光の光路差をＸ軸、固定鏡４２の位置をＹ軸、インターフェログラムの光強度をＺ軸とした３軸により定義される３次元空間内で加算した２次元データを作成する（Ｓ１２５）。さらに、干渉光の光路差と固定鏡４２の位置を変数として、作成された２次元データを２次元フーリエ変換する（Ｓ１３５）。
【００８６】
このため、上記の２次元データは、固定鏡４２の位置が異なる全てのインターフェログラムの光強度の情報を含んだものとなる。これにより、２次元データを２次元フーリエ変換する際に、或る１つのインターフェログラムにおける正値のパルス起因ノイズと、他の１つのインターフェログラムにおける負値のパルス起因ノイズとが相殺されるため、２次元フーリエ変換により得られたスペクトルへのパルス起因ノイズの影響を低減することができる。
【００８７】
また、上記の２次元データは、テラヘルツ光照射部２が照射するテラヘルツ光の波長が異なる全てのインターフェログラムの光強度が加算されたものとなる。したがって、干渉光の光路差を変数として、上記の２次元データを２次元フーリエ変換することにより、波長または周波数毎の光強度を表すスペクトルを得ることができる。
【００８８】
以上より、テラヘルツ分光装置１によれば、パルス光の発光間隔に応じて特性が変化するノイズを低減して、Ｓ／Ｎ比の良好なスペクトルを測定することができる。
【００８９】
さらに、２次元データを２次元フーリエ変換するため、実数部スペクトルＲＳと虚数部スペクトルＩＳを得ることができる。実数部スペクトルＲＳは、第１実施形態のテラヘルツ分光装置１により得られるスペクトルと同じである。一方、虚数部スペクトルＩＳは、第１実施形態のテラヘルツ分光装置１では測定することができないスペクトルであり、この虚数部スペクトルＩＳにより、試料ＳＰの誘電率の情報を得ることができる。
【００９０】
以上説明した実施形態において、Ｓ１２５の処理は本発明における２次元データ作成手段および２次元データ作成手順、Ｓ１３５の処理は本発明における２次元フーリエ変換手段および２次元フーリエ変換手順である。
【００９１】
（第３実施形態）
以下に本発明の第３実施形態について図面とともに説明する。尚、第３実施形態では、第１実施形態と異なる部分のみを説明する。
【００９２】
第３実施形態のテラヘルツ分光装置１は、テラヘルツ分光装置１の構成の一部が変更された点以外は第１実施形態と同じである。
【００９３】
図７は第３実施形態のテラヘルツ分光装置１の構成を示すブロック図、図８はＸＹステージ７の構成を示す平面図である。
【００９４】
第３実施形態のテラヘルツ分光装置１は、図７に示すように、２次元平面上で試料ＳＰを移動させるＸＹステージ７を設けた点が第１実施形態と異なる。
【００９５】
ＸＹステージ７は、図８に示すように、試料ＳＰを載せる板形状の載置板５１と、システム制御部５からの制御（図７の矢印Ｙ７を参照）により載置板５１を図中の上下方向Ｙ２１に移動させるための上下移動機構（不図示）と、システム制御部５からの制御（図７の矢印Ｙ７を参照）により載置板５１を図中の左右方向Ｙ２２に移動させるための左右移動機構（不図示）と、上下移動機構の駆動源となるステッピングモータ５２と、左右移動機構の駆動源となるステッピングモータ５３とを備える。
【００９６】
また載置板５１には、その一面から他面に貫通する貫通孔５６が形成される。さらに載置板５１には、その一面において、貫通孔５６の周囲を囲むように凹部５７が形成される。
【００９７】
すなわち試料ＳＰは、載置板５１の一面上において凹部５７内で貫通孔５６を覆うように載置される。このため、載置板５１の一面側から試料ＳＰに向かって照射されたテラヘルツ光は、試料ＳＰを透過した後に貫通孔５６を通過し、載置板５１の他面側に抜ける。これにより検出部４は、試料ＳＰを透過した干渉光を検出することができる。
【００９８】
このように構成されたテラヘルツ分光装置１では、ＸＹステージ７が、上下方向Ｙ２１と左右方向Ｙ２２に沿って載置板５１を移動させることにより、干渉光生成部３により照射されたテラヘルツ光が試料ＳＰに当る位置が変化するように、試料ＳＰの位置を移動させる。
【００９９】
このため、テラヘルツ分光装置１によれば、干渉光生成部３が照射するテラヘルツ光の照射方向を変更することなく簡便に、試料ＳＰにおける複数の箇所のスペクトルを得ることができる。これにより、例えば、板形状の試料（以下、板形状試料という）をＸＹステージ７に載せて板形状試料の位置を移動させることにより、板形状試料の面上における多くの箇所のスペクトルを得ることができる。そして、この多数のスペクトルのデータを再構成することにより、テラヘルツ光の波長（周波数）毎に、板形状試料の面内におけるテラヘルツ光の強度分布を示す２次元画像を得ることができる。
【０１００】
以上説明した実施形態において、ＸＹステージは本発明における試料移動手段である。
【０１０１】
以上、本発明の一実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の技術的範囲に属する限り種々の形態を採ることができる。
【図面の簡単な説明】
【０１０２】
【図１】第１実施形態のテラヘルツ分光装置１の構成を示すブロック図である。
【図２】テラヘルツ光のパルス幅、パルス間隔を示す図である。
【図３】第１実施形態のテラヘルツ分光処理を示すフローチャートである。
【図４】第１実施形態のテラヘルツ分光装置１による測定を説明するための図である。
【図５】第２実施形態のテラヘルツ分光処理を示すフローチャートである。
【図６】第２実施形態のテラヘルツ分光装置１による測定を説明するための図である。
【図７】第３実施形態のテラヘルツ分光装置１の構成を示すブロック図である。
【図８】ＸＹステージ７の構成を示す平面図である。
【符号の説明】
【０１０３】
１…テラヘルツ分光装置、２…テラヘルツ光照射部、３…干渉光生成部、４…検出部、５…システム制御部、７…ＸＹステージ、１０…テラヘルツ光発生部、１１…ＹＡＧレーザ照射部、１２，１３…Ｆｏｒｓｔｅｒｉｔｅレーザ照射部、１４，１５…減衰器、１６…ビームコンバイナ、１７…ＧａＰ結晶、２０…照射方向調整部、２１…放物面反射鏡、２２…平面反射鏡、３０…制御部、３１…波長制御部、３２…ステージ制御部、４１…ビームスプリッタ、４２…固定鏡、４３…移動鏡
【図２】
2010117255.tif 000003
【図３】
2010117255.tif 000004
【図５】
2010117255.tif 000005
【図６】
2010117255.tif 000006
【図１】
2010117255.tif 000007
【図４】
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【図７】
2010117255.tif 000009
【図８】
2010117255.tif 000010