(57)【要約】      （修正有）【課題】作業性に優れたペデスタルの固定構造及びペデスタルの固定方法を提供する。【解決手段】床部に設けられる固定用部材にペデスタルを固定するペデスタルの固定構造であって、前記ペデスタルは、前記固定用部材のうち当該ペデスタルとの対向部分とは異なる部分を用いて固定されている。例えば、対抗する部分とは固定用部材の上部であり、その固定部材の側部を用いて固定されている場合と、固定部材の底部を用いて固定されている場合とがある。【選択図】図４
2010180614.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
床部に設けられる固定用部材にペデスタルを固定するペデスタルの固定構造であって、
前記ペデスタルは、前記固定用部材のうち当該ペデスタルとの対向部分とは異なる部分を用いて固定されているペデスタルの固定構造。
【請求項２】
前記対向部分は、前記固定用部材の上部であり、
前記ペデスタルは、前記固定用部材の側部を用いて固定されている請求項１に記載のペデスタルの固定構造。
【請求項３】
前記固定用部材の側部には、前記ペデスタルを固定する第１部材が設けられている請求項２に記載のペデスタルの固定構造。
【請求項４】
前記ペデスタルには、前記第１部材に固定される第２部材が設けられている請求項３に記載のペデスタルの固定構造。
【請求項５】
前記対向部分は、前記固定用部材の上部であり、
前記ペデスタルは、前記固定用部材の底部を用いて固定されている請求項１から請求項４のうちいずれか一項に記載のペデスタルの固定構造。
【請求項６】
前記ペデスタルは、接着剤を介して前記固定用部材に固定されている請求項１から請求項５のうちいずれか一項に記載のペデスタルの固定構造。
【請求項７】
前記ペデスタルは、前記固定用部材の複数箇所において固定されている請求項１から請求項６のうちいずれか一項に記載のペデスタルの固定構造。
【請求項８】
前記ペデスタルの平面視中央部側は、前記ペデスタルの平面視外周部側に比べて、固定される箇所が多い請求項７に記載のペデスタルの固定構造。
【請求項９】
前記固定用部材は、複数設けられており、
前記ペデスタルは、複数の前記固定用部材に固定されている請求項１から請求項８のうちいずれか一項に記載のペデスタルの固定構造。
【請求項１０】
前記ペデスタルは、板状部材を介して前記固定用部材に固定されている請求項１から請求項９のうちいずれか一項に記載のペデスタルの固定構造。
【請求項１１】
前記ペデスタルは、前記固定用部材との間の距離を調節する調節機構を有する請求項１から請求項１０のうちいずれか一項に記載のペデスタルの固定構造。
【請求項１２】
前記ペデスタルは、露光装置のベース部材である請求項１から請求項１１のうちいずれか一項に記載のペデスタルの固定構造。
【請求項１３】
床部に設けられる固定用部材にペデスタルを固定するペデスタルの固定方法であって、
前記固定用部材のうち前記ペデスタルとの対向部分とは異なる部分を用いて当該ペデスタルを固定するペデスタルの固定方法。
【請求項１４】
前記対向部分は、前記固定用部材の上部であり、
前記ペデスタルは、前記固定用部材の側部を用いて固定されている請求項１３に記載のペデスタルの固定方法。
【請求項１５】
前記固定用部材の側部には、前記ペデスタルを固定する第１部材が設けられている請求項１４に記載のペデスタルの固定方法。
【請求項１６】
接着剤を用いて前記固定用部材に前記第１部材を固定する工程と、
前記第１部材に前記ペデスタルを接続する工程と、を有する請求項１５に記載のペデスタルの固定方法。
【請求項１７】
前記ペデスタルには、前記第１部材に固定される第２部材が設けられている請求項１６に記載のペデスタルの固定方法。
【請求項１８】
前記対向部分は、前記固定用部材の上部であり、
前記ペデスタルは、前記固定用部材の底部を用いて固定されている請求項１３から請求項１７のうちいずれか一項に記載のペデスタルの固定方法。
【請求項１９】
前記ペデスタルは、接着剤を介して前記固定用部材に固定されている請求項１３から請求項１８のうちいずれか一項に記載のペデスタルの固定方法。
【請求項２０】
前記ペデスタルは、前記固定用部材の複数箇所において固定されている請求項１３から請求項１９のうちいずれか一項に記載のペデスタルの固定方法。
【請求項２１】
前記ペデスタルの平面視中央部側は、前記ペデスタルの平面視外周部側に比べて、固定される箇所が多い請求項２０に記載のペデスタルの固定方法。
【請求項２２】
前記固定用部材は、複数設けられており、
前記ペデスタルは、複数の前記固定用部材に固定されている請求項１３から請求項２１のうちいずれか一項に記載のペデスタルの固定方法。
【請求項２３】
前記ペデスタルは、板状部材を介して前記固定用部材に固定されている請求項１３から請求項２２のうちいずれか一項に記載のペデスタルの固定方法。
【請求項２４】
前記ペデスタルは、前記固定用部材との間の距離を調節する調節機構を有する請求項１３から請求項２３のうちいずれか一項に記載のペデスタルの固定方法。
【請求項２５】
前記ペデスタルは、露光装置のベース部材である請求項１３から請求項２４のうちいずれか一項に記載のペデスタルの固定方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ペデスタルの固定構造及びペデスタルの固定方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
露光装置などの大型の装置を工場に設置する場合、当該装置のベース部分（ペデスタル）は工場の床部に固定される。特に露光装置のように精密な位置制御を行う装置の場合、固定構造に高い動剛性が求められる上、地震などの揺れに対して強固であることが求められる。
【０００３】
工場の床部には、例えば根太などの建屋構造物が設けられている。根太は例えばコンクリートなどによって構成される柱状構造物であり、例えば床面に沿って延在するように形成されている。一般的には、ペデスタルは根太の上面に対向するように固定される。固定構造の一例として、根太の上面に例えば接着剤や固定用金具等を配置し、これらを介して根太とペデスタルとを固定する構成が知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００８−９８３１１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上記構成においては、ペデスタルを撤去する際、根太の上面に当該接着剤や金具等の跡が残ってしまう場合がある。根太の上面は、例えば露光装置を撤去した後、他の装置を固定する場合にも用いられる場合がある。接着剤や金具等が残ってしまうと、他の装置を設置する際に障害物となってしまうため、残留した接着剤及び金具等を除去する作業が必要となる。残留の程度によっては、根太自体を設置し直す作業が必要となる場合もあり、作業性の面で大掛かりとなってしまう。
【０００６】
以上のような事情に鑑み、本発明の目的は、作業性に優れたペデスタルの固定構造及びペデスタルの固定方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明に係るペデスタル（ＢＰ）の固定構造は、床部（ＦＬ）に設けられる固定用部材（６０）にペデスタルを固定するペデスタルの固定構造であって、前記ペデスタルは、前記固定用部材のうち当該ペデスタルとの対向部分（６０ｃ）とは異なる部分（６０ａ、６０ｂ）を用いて固定されている。
【０００８】
本発明によれば、固定用部材のうちペデスタルとの対向部分は固定に用いられないことになる。このため、ペデスタルを固定用部材から除去した場合であっても、当該対向部分には固定の痕跡が残りにくくなる。固定用部材に他の装置等を固定させる場合であっても、当該固定用部材をそのまま用いることが可能であるため、固定用部材の大掛かりな再配置作業を行わずに済み、作業性に優れたものとなる。
【０００９】
本発明に係るペデスタル（ＢＰ）の固定方法は、床部（ＦＬ）に設けられる固定用部材（６０）にペデスタルを固定するペデスタルの固定方法であって、前記固定用部材のうち前記ペデスタルとの対向部分（６０ｃ）とは異なる部分（６０ａ、６０ｂ）を用いて当該ペデスタルを固定する。
【００１０】
本発明によれば、固定用部材のうちペデスタルとの対向部分は固定に用いられないことになる。このため、ペデスタルを固定用部材から除去した場合であっても、当該対向部分には固定の痕跡が残りにくくなる。固定用部材に他の装置等を固定させる場合であっても、当該固定用部材をそのまま用いることが可能であるため、固定用部材の大掛かりな再配置作業を行わずに済み、作業性に優れたものとなる。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、作業性に優れたペデスタルの固定構造及びペデスタルの固定方法を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明の第１実施形態に係る露光装置の構成を示す概略図である。
【図２】本実施形態に係る露光装置の床部の構成を示す斜視図である。
【図３】ベースプレートの固定構造を示す斜視図である。
【図４】ベースプレートの固定構造を示す断面図である。
【図５】ベースプレートの設置手順を示す工程図。
【図６】同、工程図。
【図７】同、工程図。
【図８】同、工程図。
【図９】同、工程図。
【図１０】同、工程図。
【図１１】本発明の第２実施形態に係る露光装置の一部の構成を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明するが、本発明はこれに限定されない。以下の説明においては、ＸＹＺ直交座標系を設定し、このＸＹＺ直交座標系を参照しつつ各部材の位置関係について説明する。水平面内の所定方向をＸ軸方向、水平面内においてＸ軸方向と直交する方向をＹ軸方向、Ｘ軸方向及びＹ軸方向のそれぞれと直交する方向（鉛直方向）をＺ軸方向とする。また、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸まわりの回転（傾斜）方向をそれぞれ、θＸ、θＹ、及びθＺ方向とする。
【００１４】
図１は、本実施形態に係る露光装置ＥＸの一例を示す概略構成図である。図１において、露光装置ＥＸは、露光光ＥＬによってレチクルＲ上の照明領域を照明する照明光学系ＩＬと、レチクルＲを保持して移動させるレチクルステージ装置ＲＳＴと、露光光ＥＬによって照明されたレチクルＲのパターンの像をウエハＷに投影する投影光学系ＰＬと、ウエハＷを保持して移動させる基板ステージ装置ＰＳＴと、上記各部を支持するベースプレートＢＰと、露光装置ＥＸ全体の動作を制御する制御装置ＣＯＮＴとを備えている。制御装置ＣＯＮＴは、例えばコンピュータシステムを含む。
【００１５】
本実施形態の露光装置ＥＸは、レチクルＲとウエハＷとを所定の走査方向に同期移動しつつ、レチクルＲを介した露光光ＥＬでウエハＷを露光する走査型露光装置（所謂スキャニングステッパ）である。本実施形態においては、ウエハＷの走査方向（同期移動方向）をＹ軸方向とし、レチクルＲの走査方向（同期移動方向）もＹ軸方向とする。
【００１６】
本実施形態において、レチクルＲは、例えばガラス板等の透明板にクロム等の遮光膜を用いて所定のパターンが形成された透過型マスクである。この透過型マスクは、遮光膜でパターンが形成されるバイナリーマスクに限られず、例えばハーフトーン型、あるいは空間周波数変調型などの位相シフトマスクも含む。また、本実施形態においては、レチクルＲとして透過型マスクを用いるが、反射型マスクでもよい。
【００１７】
本実施形態において、ウエハＷは、デバイスを製造するための基板であって、例えばシリコンウエハのような半導体ウエハ等の基材に感光膜が形成されたものを含む。感光膜は、感光材（フォトレジスト）の膜である。また、ウエハＷにおいて、感光膜上に保護膜（トップコート膜）のような各種の膜が形成されていてもよい。
【００１８】
照明光学系ＩＬは露光光ＥＬを照明する光源である。照明光学系ＩＬは、所定の位置関係で配置されたミラー、可変減光器、ビーム成形光学系、オプティカルインテグレータ、集光光学系、振動ミラー、照明系開口絞り板、ビームスプリッタ、リレーレンズ系、及びブラインド機構（設定装置）等を備えている。照明光学系ＩＬより射出される露光光ＥＬとしては、例えばＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）などが用いられている。
【００１９】
レチクルステージ装置ＲＳＴは、レチクルＲを保持した状態でレチクル定盤ＲＢのガイド面２０上を移動可能なステージ２を有している。ガイド面２０は、ＸＹ平面とほぼ平行に設けられている。レチクルステージ装置ＲＳＴは、例えばリニアモータなどを含む駆動システム２１を有している。レチクルステージ装置ＲＳＴは、当該駆動システム２１の動作により、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向、及びθＺ方向の３つの方向にステージ２を移動させる構成になっている。
【００２０】
投影光学系ＰＬは、レチクルＲを透過した露光光ＥＬをウエハＷ上に投影する光学系であり、１／４（または１／５）縮小倍率の屈折光学系が用いられている。投影光学系ＰＬの内部には、複数の光学素子が設けられている。光学素子としては、例えば物体面（レチクルＲ）側と像面（ウエハＷ）側の両方がテレセントリックで円形の投影視野を有し、石英や蛍石を光学硝材とした屈折光学素子（レンズ素子）が用いられている。
【００２１】
ウエハステージ装置ＷＳＴは、ウエハＷを保持した状態でベースプレートＢＰのガイド面４０上を移動可能なステージ４を有している。ガイド面４０は、ＸＹ平面とほぼ平行に設けられている。ウエハステージ装置ＷＳＴは、例えばリニアモータなどを含む駆動システム４１を有している。ウエハステージ装置ＷＳＴは、当該駆動システム４１の動作により、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向及びθＺ方向の３つの方向にステージ４を移動させる構成になっている。
【００２２】
ベースプレートＢＰは、露光装置ＥＸにおけるペデスタルである。ベースプレートＢＰは、床部ＦＬ上に載置された状態で当該床部ＦＬ内に設けられた根太部材６０に固定されている。ベースプレートＢＰ上には、露光装置ＥＸの各構成要素を支持する不図示のフレーム部材が配置されている。
【００２３】
図２は、床部ＦＬの構成を示す斜視図である。  
同図に示すように、根太部材６０は工場の床部などに設置される角柱状の建屋構造物である。根太部材６０は、例えばコンクリートなどから構成されており、床部ＦＬを構成する梁部材９０上に例えばＹ方向に沿って配列されている。根太部材６０は、Ｘ軸方向に複数配列されている。根太部材６０は、角柱の対向する２組の側面のうち一方の組がＺ軸方向（＋Ｚ方向及び−Ｚ方向）に向けられると共に、他方の組がＸ軸方向（＋Ｘ方向及び−Ｘ方向）に向けられるように配置されている。根太部材６０の延在方向はＹ軸方向に限られず、ＸＹ平面に平行な方向であれば他の方向（例えばＸ軸方向など）であっても構わない。図２の破線部は、ベースプレートＢＰが配置される位置を示している。ベースプレートＢＰは、Ｘ軸方向に配列された複数の根太部材６０に跨って配置されることとなる。
【００２４】
根太部材６０には、ベースプレートＢＰを固定する固定機構６１が設けられている。固定機構６１は、根太部材６０とベースプレートＢＰとを固定する。固定機構６１は、各根太部材６０のうちベースプレートＢＰが配置される領域内に複数設けられている。複数の固定機構６１は、例えば根太部材６０の延在方向（Ｙ軸方向）に沿って設けられている。このため、ベースプレートＢＰは、当該固定機構６１の配置された複数の位置において固定された状態になっている。
【００２５】
固定機構６１は、ベースプレートＢＰの配置される領域内においてＹ軸方向の両端部よりもＹ軸方向の中央部の方が数が多くなるように配置されている。このため、ベースプレートＢＰの平面視中央部では、当該ベースプレートＢＰの平面視外周部に比べて固定機構６１に固定される箇所が多くなっている。
【００２６】
図３は、ベースプレートＢＰの固定部分の構成を示す図である。図４は、固定機構６１の構成を示す図である。  
ベースプレートＢＰは、プレート部材５０、貫通孔５１、５２、５３、当接部材５４、接着部材５５、固定部材５６及び調整機構５７を有している。
【００２７】
貫通孔５１、５２、５３は、それぞれプレート部材５０をＺ軸方向に貫通して形成されており、例えばＸ軸方向に５つ設けられている。５つのうちＸ軸方向の両端に配置された貫通孔５１には、それぞれ固定部材５６が挿入されている。５つのうちＸ軸方向の両端からそれぞれ２つ目に配置された貫通孔５２は、それぞれ接着部材５５の流通路である。５つのうちＸ軸方向の中央に配置された貫通孔５３は、調整機構５７が挿入されている。貫通孔５３の内面には、不図示のネジ山がＺ軸方向に形成されている。
【００２８】
当接部材５４は、プレート部材５０の−Ｚ側の面に取り付けられている。当接部材５４は、−Ｚ側の面が固定機構６１に当接した状態になっている。当接部材５４は、固定部材５６によってプレート部材５０に固定されている。この固定部材５６としては、プレート部材５０を貫通して設けられるボルトなどが挙げられる。当接部材５４は、Ｚ軸方向に貫通する貫通部５４ａを有している。貫通部５４ａは、プレート部材５０の５つの貫通孔のうち貫通孔５２及び貫通孔５３にそれぞれ連通されている。
【００２９】
接着部材５５は、当該貫通部５４ａ内に設けられており、当接部材５４と固定機構６１との間を接着によって固定する。接着部材５５としては、例えばグラウト材が用いられている。グラウト材としては、例えばセメント系や、ガラス系、合成樹脂系などのグラウト材を好適に用いることができ、熱硬化型のグラウト材や光硬化型のグラウト材、これらの他の態様で硬化するグラウト材など、各種のグラウト材を用いることができる。接着部材５５の上面５５ａは貫通部５４ａ内に収まっており、貫通孔５２には接着部材５５が配置されない状態になっている。
【００３０】
調整機構５７は、プレート部材５０の貫通孔５３内に挿入された円柱状部材である。調整機構５７は、プレート部材５０の高さ位置（Ｚ軸方向の位置）を調整する。調整機構５７の側面には、貫通孔５３に形成されたネジ山と螺合するようにＺ軸方向にネジ山が形成されている。調整機構５７の−Ｚ側端部には、固定機構６１側に当接させる当接部５７ａが設けられている。調整機構５７の＋Ｚ側端面には、調整機構５７をθＺ方向に回転させるための六角穴（不図示）が設けられている。調整機構５７は、θＺ方向に回転させることでＺ軸方向上に移動するようになっている。当接部５７ａを固定機構６１に当接させた状態で調整機構５７を移動させることにより、プレート部材５０と固定機構６１との間の位置を調整できるようになっている。
【００３１】
固定機構６１は、第１部材６２、第２部材６３、Ｘ側補強部材６４、Ｙ側補強部材６５及び板状部材６６を有している。  
第１部材６２は、根太部材６０のＸ方向上の面６０ａ及び６０ｂ上に１つずつ配置されている。各第１部材６２は、接着剤６７を介して面６０ａ及び６０ｂのそれぞれに接着されて固定されている。第１部材６２のうち根太部材６０に固定される面には凹部が形成されており、接着剤６７は当該凹部内に配置されている。接着剤６７としては、例えば上記の接着部材５５と同様にグラウト材を用いることができる。各第１部材６２の＋Ｚ側端面は、根太部材６０の＋Ｚ側の面６０ｃとの間で面一状態になっている。
【００３２】
第２部材６３は、根太部材６０の＋Ｚ側の面６０ｃ上に配置されている。第２部材６３は、根太部材６０に対してＸ軸方向に張り出すように設けられている。第２部材６３の当該張り出し部分は、上記の２つの第１部材６２のそれぞれの＋Ｚ側端面上に配置されている。第２部材６３の＋Ｘ側端面は、第１部材６２の＋Ｘ側端面に対して面一状態になっている。第２部材６３の＋Ｙ側端面は、第１部材６２の＋Ｙ側端面に対して面一状態になっている。第２部材６３の−Ｙ側端面は、第１部材６２の−Ｙ側端面に対して面一状態になっている。
【００３３】
第２部材６３は、根太部材６０の面６０ｃとの間で接着などの固定はされておらず、面６０ｃには当接したのみの状態となっている。一方、第２部材６３は、根太部材６０からの張り出し部分において、例えばボルトなどの固定部材７０によって各第１部材６２の＋Ｚ側端面に固定されている。このため、第２部材６３は、第１部材６２を介して根太部材６０の側面に相当する面６０ａ及び６０ｂに固定された状態になっている。
【００３４】
Ｘ側補強部材６４は、第１部材６２と第２部材６３との間の固定状態をＸ軸方向から補強する。Ｘ側補強部材６４は、面一状態に配置された第１部材６２の＋Ｘ側端面及び第２部材６３の＋Ｘ側端面の両方に跨るように設けられている。Ｘ側補強部材６４は、第１部材６２に重なる部分と第２部材６３に重なる部分とにおいて、それぞれボルトなどの固定部材６９が設けられている。固定部材６９は、例えば図３に示すようにＸ側補強部材６４の４つの角部にそれぞれ設けられている。固定部材６９は、Ｘ側補強部材６４を貫通し、第１部材６２及び第２部材６３の内部までそれぞれ到達するように設けられている。
【００３５】
Ｙ側補強部材６５は、第１部材６２と第２部材６３との間の固定状態をＹ軸方向から補強する。Ｙ側補強部材６５は、面一状態に配置された第１部材６２の＋Ｙ側端面及び第２部材の＋Ｙ側端面の両方に跨がって＋Ｙ側から覆うように設けられている。Ｙ側補強部材６５は、第１部材６２に重なる部分及び第２部材６３に重なる部分のそれぞれに、ボルトなどの固定部材６８が設けられている。固定部材６８は、例えば図３に示すように、第１部材６２側及び第２部材６３側に１つずつ設けられている。固定部材６８は、Ｙ側補強部材６５を貫通し、第１部材６２及び第２部材６３の内部に到達するように設けられている。図３では２つの第１部材６２のそれぞれについてＹ側補強部材６５が設けられた構成が図示されているが、図４ではこのうち図中左側のＹ側補強部材６５のみが図示されており（図中破線部）、右側のＹ側補強部材６５の図示は省略されている。図示を省略するが、第１部材６２及び第２部材６３の−Ｙ側端面についても同様にＹ側補強部材６５が設けられている。  
このように、Ｘ側補強部材６４、Ｙ側補強部材６５、固定部材６８及び固定部材６９を介して、第１部材６２と第２部材６３との間の固定状態が補強されている。
【００３６】
板状部材６６は、平面視で例えば矩形に形成されており、例えば不図示の接着剤などを介して第２部材６３上に固定されている。板状部材６６は、ベースプレートＢＰの当接部材５４に平面視で対応する位置に配置されている。板状部材６６は、ベースプレートＢＰの当接部材５４に当接されており、当接部材５４に設けられた接着部材５５によって固定されている。
【００３７】
このように、ベースプレートＢＰは、板状部材６６、第２部材６３及び第１部材６２を介することにより、当該根太部材６０との対向面（上面６０ｃ）とは異なる部分（側面６０ａ及び６０ｂ）を用いて固定された状態になっている。
【００３８】
次に、図５〜図１０を参照して、床部ＦＬにベースプレートＢＰを設置する手順を説明する。説明を簡単にするため、図５〜図１０では、上記固定機構６１が設けられる１箇所を代表させて説明するが、実際には固定機構６１が設けられる全ての箇所において以下の手順を行うようにする。
【００３９】
まず、床部ＦＬに形成された根太部材６０の面６０ａ及び６０ｂにそれぞれ第１部材６２を取り付ける。この工程では、第１部材６２の凹部内に接着剤６７を配置した状態で、第１部材６２の＋Ｚ側の面が根太部材６０の面６０ｃに対して面一状態になるように位置合わせをする。位置合わせの後、接着剤６７の一部を硬化させて第１部材６２を面６０ａ及び６０ｂ上に仮固定させる。
【００４０】
次に、図６に示すように、第１部材６２上に第２部材６３を固定させる。この工程では、第２部材６３の＋Ｙ側端面及び−Ｙ側端面が第１部材６２の＋Ｙ側端面及び−Ｙ側端面にそれぞれ面一状態となるようにＹ軸方向の位置合わせをする。Ｙ軸方向の位置合わせの後、面一状態になっている根太部材６０の面６０ｃと第１部材６２の＋Ｚ側の面とに跨るようにＸ軸方向の位置合わせをする。これらの位置合わせの後、固定部材７０によって第２部材６３を第１部材６２に固定させる。
【００４１】
次に、図７に示すように、第１部材６２と第２部材６３とをＸ側補強部材６４及び固定部材６９によって固定する。更に、Ｘ側補強部材６４によって固定した後、図７に示すように、第１部材６２と第２部材６３とをＹ側補強部材６５及び固定部材６８によって固定する。
【００４２】
次に、図８に示すように、第２部材６３上に板状部材６６を配置し、ベースプレートＢＰを板状部材６６上に配置させる。プレート部材５０と当接部材５４とは、予め固定部材５６によって固定させておく。当接部材５４を板状部材６６に当接させた後、調整機構５７をθＺ方向に回転させてプレート部材５０のＺ軸方向の位置を調整する。この調整動作は、調整機構５７の＋Ｚ側端面に形成された六角穴に回転部材８０を挿入し、当該回転部材８０を貫通孔５３（図８では不図示）の外部からθＺ方向に回転させることによって行う。回転部材８０は貫通孔５３を介して調整機構５７にアクセスさせる。プレート部材５０のＺ軸方向の位置調整は、例えばプレート部材５０の＋Ｚ側の面が水平になるように固定機構６１ごとに行う。
【００４３】
次に、図９に示すように、貫通孔５２から接着部材５５を流入させる。接着部材５５が貫通部５４ａから貫通孔５２内へと入り込んでしまうと、当接部材５４とプレート部材５０とが接着部材５５によって固定されてしまうため、この工程では、接着部材５５の上面５５ａが当接部材５４の貫通部５４ａ内に収まるように接着部材５５の量を予め調整した上で当該接着部材５５を流入させる。接着部材５５の流入後、当該接着部材５５を硬化させ、板状部材６６と当接部材５４とを固定する。
【００４４】
接着部材５５の硬化後、図１０に示すように、第１部材６２に配置されていた接着剤６７を全て硬化させ、第１部材６２を根太部材６０に本固定させる。この工程では、接着剤６７を硬化させるための硬化装置８１を用いる。硬化装置は、例えば第１部材６２に接続させて用いることができる。接着剤として熱硬化型の接着剤を用いる場合、硬化装置８１としては加熱装置が用いられる。接着剤として紫外線などの光硬化型の接着剤を用いる場合には、硬化装置８１として光源装置が用いられる。接着剤として、上記とは異なる態様で硬化させる接着剤を用いる場合には、当該硬化させる態様に応じた装置が用いられる。
【００４５】
このように固定機構６１を介してベースプレートＢＰを根太部材６０に固定させた後、ベースプレートＢＰ上に露光装置ＥＸの各部を配置して、上記の露光装置ＥＸを組み立てる。
【００４６】
このように設置した露光装置ＥＸを床部ＦＬから撤去する場合、ベースプレートＢＰ上の各構成要素を撤去させ、その後ベースプレートＢＰを撤去させる。ベースプレートＢＰの撤去時には、固定部材５６を外してプレート部材５０をまず撤去する。プレート部材５０の撤去後、固定部材６９及び固定部材６８を外し、Ｘ側補強部材６４及びＹ側補強部材６５を取り外す。その後、固定部材７０を外し、板状部材６６及び当接部材５４が固定された状態のまま第２部材６３を取り外す。第２部材６３を取り外した状態、すなわち、根太部材６０に第１部材６２のみが固定された状態で、露光装置ＥＸの撤去作業が完了となる。
【００４７】
以上のように、本実施形態によれば、根太部材６０のうちベースプレートＢＰとの対向部分である面６０ｃは固定に用いられないことになる。このため、ベースプレートＢＰを根太部材６０から除去した場合であっても、当該面６０ｃには固定の痕跡を残さずに済むこととなる。根太部材６０に他の装置等を固定させる場合であっても、当該根太部材６０をそのまま用いることが可能であるため、根太部材６０の大掛かりな再配置作業などを行わずに済み、作業性に優れたものとなる。
【００４８】
本実施形態では、根太部材６０の面６０ａ及び６０ｂ上には第１部材６２が残るものの、根太部材６０の面６０ｃ上には残留物がない状態となるため、他の装置等を固定させる場合には根太部材６０をそのまま用いることが可能となる。
【００４９】
［第２実施形態］  
次に、図１１を参照して、本発明の第２実施形態を説明する。本実施形態では、固定機構１６１の構成が第１実施形態とは異なっているため、当該相違点を中心に説明する。図１１は、本実施形態に係る固定機構１６１の構成を示す断面図である。
【００５０】
同図に示すように、固定機構１６１は、第１部材１６２、第２部材１６３、補強部材１６４、ボルト部材１６５、板状部材１６６及び接着部材１６７が設けられている。第１部材１６２が接着部材１６７を介して根太部材１６０に固定されている点は、第１実施形態と同様である。
【００５１】
第２部材１６３は、Ｘ軸方向の両端が−Ｚ側にほぼ９０°折り曲げられた形状に形成されている。第２部材１６３は、Ｘ軸方向の中央部が根太部材１６０及び第１部材１６２のそれぞれの＋Ｚ側の面を隙間無くカバーすると共に、折り曲げられた両端が第１部材１６２のＸ軸方向の各外面を隙間無くカバーするように配置されている。
【００５２】
第２部材１６３のＸ軸方向の中央部は、例えばボルトなどの固定部材によって第１部材１６２の＋Ｚ側の面に例えば図中２箇所で固定されている。折り曲げられた第２部材１６３の端部のうち図中左側の端部は、例えばボルトなどの固定部材によって第１部材１６２の−Ｘ側の面に固定されている。
【００５３】
第２部材１６３の端部のうち図中右側には、−Ｘ側に傾斜部１６３ａが形成されている。加えて、第２部材１６３の右側の端部には、当該第２部材１６３をＺ軸方向に貫通する貫通孔１６３ｂが形成されている。貫通孔１６３ｂには、第２部材１６３の＋Ｚ側から−Ｚ側にかけて狭くなるように段差が形成されている。
【００５４】
補強部材１６４は、第２部材１６３の図中右側の端部と第１部材１６２との間に配置されている。補強部材１６４は、＋Ｚ側の面に凹部１６４ａ形成されている。凹部１６４ａの内面には、ネジ山が形成されている。補強部材１６４の＋Ｘ側には、傾斜部１６４ｂが形成されている。傾斜部１６４ｂは、第２部材１６３の傾斜部１６３ａとの間で隙間無く密接するように傾きが調整されている。
【００５５】
ボルト部材１６５は、第２部材１６３の貫通孔１６３ｂを貫通し、補強部材１６４の凹部１６４ａ内に到達するように設けられている。ボルト部材１６５のヘッドは貫通孔１６３ｂの段差部分に係合している。ボルト部材１６５の−Ｚ側端部にはネジ山が形成されている。このネジ山は、補強部材１６４の凹部１６４ａ内のネジ山に対応するように形成されている。本実施形態では、ボルト部材１６５を第２部材１６３側へ締め付けるようにθＺ方向に回転させることで凹部１６４ａの−Ｚ側へ入り込むようにネジ山が形成されている。
【００５６】
本実施形態では、ボルト部材１６５のヘッドが貫通部１６３ｂの段差部分に係合しているため、ボルト部材１６５を回転させた場合、ボルト部材１６５が−Ｚ方向へ移動するのではなく、補強部材１６４が第２部材１６３の傾斜部１６３ａに沿って＋Ｚ側へ移動することになる。
【００５７】
この移動により、第２部材１６３の＋Ｘ側の端部は補強部材１６４によって＋Ｘ方向に押圧される。第２部材１６３が補強部材１６４に押圧されることにより、第２部材１６３の−Ｘ側の端部が−Ｘ側の第１部材１６２を＋Ｘ側へ押圧する。一方、第２部材１６３の弾性によって補強部材１６４が−Ｘ側へ押圧され、当該補強部材１６４が＋Ｘ側の第１部材１６２を−Ｘ方向に押圧する。
【００５８】
このように、本実施形態によれば、第２部材１６２が補強部材１６４を介してＸ軸方向の両側から第１部材１６２及び根太部材１６０を挟みつけることになるため、より強固な固定構造を確保することができる。
【００５９】
本発明の技術範囲は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更を加えることができる。  
上記実施形態では、第２部材６３と当接部材５４との間に板状部材６６が介挿された構成を例に挙げて説明したが、これに限られることは無く、当該板状部材６６を回想することなく第２部材６３に当接部材５４を直接的に当接させる構成であっても構わない。また、板状部材６６に代えて、第２部材６３と当接部材５４との間を接着剤の層を形成する構成であっても構わない。
【００６０】
また、上記実施形態では、第１部材を根太部材の側面（Ｘ軸方向の面）に固定させる構成としたが、これに限られることは無く、例えば第１部材を根太部材の−Ｚ側の面に固定させる構成であっても構わない。この場合であっても、根太部材の＋Ｚ側の面を用いることなく、ベースプレートＢＰを固定させることができる。
【００６１】
また、例えば、露光装置ＥＸとしては、マスクＭと基板Ｐとを同期移動してマスクＭのパターンを走査露光するステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置（スキャニングステッパ）の他に、マスクＭと基板Ｐとを静止した状態でマスクＭのパターンを一括露光し、基板Ｐを順次ステップ移動させるステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置（ステッパ）にも適用することができる。
【００６２】
さらに、ステップ・アンド・リピート方式の露光において、第１パターンと基板Ｐとをほぼ静止した状態で、投影光学系を用いて第１パターンの縮小像を基板Ｐ上に転写した後、第２パターンと基板Ｐとをほぼ静止した状態で、投影光学系を用いて第２パターンの縮小像を第１パターンと部分的に重ねて基板Ｐ上に一括露光してもよい（スティッチ方式の一括露光装置）。また、スティッチ方式の露光装置としては、基板Ｐ上で少なくとも２つのパターンを部分的に重ねて転写し、基板Ｐを順次移動させるステップ・アンド・スティッチ方式の露光装置にも適用できる。
【００６３】
また、例えば米国特許第６６１１３１６号明細書に開示されているように、２つのマスクのパターンを、投影光学系を介して基板上で合成し、１回の走査露光によって基板上の１つのショット領域をほぼ同時に二重露光する露光装置などにも本発明を適用することができる。また、プロキシミティ方式の露光装置、ミラープロジェクション・アライナーなどにも本発明を適用することができる。
【００６４】
また、露光装置ＥＸとして、米国特許第６３４１００７号明細書、米国特許第６４００４４１号明細書、米国特許第６５４９２６９号明細書、米国特許第６５９０６３４号明細書、米国特許第６２０８４０７号明細書、及び米国特許第６２６２７９６号明細書等に開示されているような、複数の基板ステージを備えたツインステージ型の露光装置にも適用できる。
【００６５】
また、例えば国際公開第９９／４９５０４号パンフレット等に開示されているような、液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置に適用することもできる。また、極端紫外光で基板Ｐを露光するＥＵＶ光光源露光装置にも適用することができる。
【００６６】
露光装置ＥＸの種類としては、基板Ｐに半導体素子パターンを露光する半導体素子製造用の露光装置に限られず、液晶表示素子製造用又はディスプレイ製造用の露光装置や、薄膜磁気ヘッド、撮像素子（ＣＣＤ）、マイクロマシン、ＭＥＭＳ、ＤＮＡチップ、あるいはレチクル又はマスクなどを製造するための露光装置などにも広く適用できる。
【００６７】
また、上述の各実施形態では、露光光ＥＬとしてＡｒＦエキシマレーザ光を発生する光源装置として、ＡｒＦエキシマレーザを用いてもよいが、例えば、米国特許第７０２３６１０号明細書に開示されているように、ＤＦＢ半導体レーザ又はファイバーレーザなどの固体レーザ光源、ファイバーアンプなどを有する光増幅部、及び波長変換部などを含み、波長１９３ｎｍのパルス光を出力する高調波発生装置を用いてもよい。  
なお、上述の各実施形態の要件は、適宜組み合わせることができる。また、上述の各実施形態及び変形例で引用した露光装置などに関する全ての公開公報及び米国特許の開示を援用して本文の記載の一部とする。
【符号の説明】
【００６８】
ＥＸ…露光装置  ＢＰ…ベースプレート  ＦＬ…床部  ５０…プレート部材  ５１〜５３…貫通孔  ５４…当接部材  ５５…接着部材  ５６…固定部材  ５７…調整機構  ６０、１６０…根太部材  ６０ａ、６０ｂ…面（側面）  ６０ｃ…面（上面）  ６１、１６１…固定機構  ６２、１６２…第１部材  ６３、１６３…第２部材  ６４…Ｘ側補強部材  ６５…Ｙ側補強部材  ６６…板状部材  ６７…接着剤  １６４…補強部材
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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