(57)【要約】【課題】従来に比べ信頼性を向上させることができる不揮発性半導体メモリセル及び不揮発性半導体メモリ装置を提供する。【解決手段】本発明の不揮発性半導体メモリセルは、半導体基板上に形成される複数のＭＯＳトランジスタからなり、当該メモリセルを選択するためのセレクトゲートと、記憶内容を制御するためのコントロールゲートとを有する不揮発性半導体メモリセルであって、  互いに並列接続されるとともに、独立の複数のコントロールゲートでそれぞれ制御される複数のフローティングゲート型トランジスタと、複数のフローティングゲート型トランジスタと直列に接続され、セレクトゲートに接続される選択トランジスタとを有し、複数のフローティングゲート型トランジスタと選択トランジスタとが半導体基板上で直線状に配列されたものであって、複数のフローティングゲート型トランジスタの各ドレインが直線状のメタル配線で接続されたものである【選択図】図１
2010165836.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体基板上に形成される複数のＭＯＳトランジスタからなり、当該メモリセルを選択するためのセレクトゲートと、記憶内容を制御するためのコントロールゲートとを有する不揮発性半導体メモリセルであって、
互いに並列接続されるとともに、独立の複数のコントロールゲートでそれぞれ制御される複数のフローティングゲート型トランジスタと、
前記複数のフローティングゲート型トランジスタと直列に接続され、前記セレクトゲートに接続される選択トランジスタとを有し、
前記複数のフローティングゲート型トランジスタと前記選択トランジスタとが前記半導体基板上で直線状に配列されたものであって、前記複数のフローティングゲート型トランジスタの各ドレインが直線状のメタル配線で接続されたものである
ことを特徴とする不揮発性半導体メモリセル。
【請求項２】
前記コントロールゲートと複数の前記フローティングゲート型トランジスタの各フローティングゲートとの間に形成された複数のキャパシタが、前記各ドレインを接続する直線状のメタル配線と直交する方向に延びる複数の独立したｎ型ウェルを用いてそれぞれ形成されたものである
ことを特徴とする請求項１に記載の不揮発性半導体メモリセル。
【請求項３】
前記コントロールゲートと複数の前記フローティングゲート型トランジスタの各フローティングゲートとの間に形成された複数のキャパシタが、同一のｎ型ウェルを用いて形成されたものである
ことを特徴とする請求項１に記載の不揮発性半導体メモリセル。
【請求項４】
前記コントロールゲートと複数の前記フローティングゲート型トランジスタの各フローティングゲートとの間に形成された複数のキャパシタが、前記半導体基板になされたデプリーションタイプのインプラを用いて形成されたものである
ことを特徴とする請求項１に記載の不揮発性半導体メモリセル。
【請求項５】
データの書き込みを確認する際に、前記複数のコントロールゲートのいずれかに書き込み状態の閾値電圧以上の電圧が印加されるとともに、他のコントロールゲートに前記複数のフローティングゲート型トランジスタのソース電位と同じ電位が印加され、
データの消去を確認する際に、前記複数のコントロールゲートのいずれかに消去状態の閾値電圧以上の電圧が印加されるとともに、他のコントロールゲートに消去状態の閾値電圧より低い電圧が印加され、前記複数のフローティングゲート型トランジスタのソースに消去状態の閾値電圧以上の電圧が印加される
ことを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の不揮発性半導体メモリセル。
【請求項６】
半導体基板上に形成される複数のＭＯＳトランジスタからなり、当該メモリセルを選択するためのセレクトゲートと、記憶内容を制御するためのコントロールゲートとを有する不揮発性半導体メモリセルを、複数個格子状に配列して有する不揮発性半導体メモリ装置であって、
前記各不揮発性半導体メモリセルが、
互いに並列接続されるとともに、独立の複数のコントロールゲートでそれぞれ制御される複数のフローティングゲート型トランジスタと、
前記複数のフローティングゲート型トランジスタと直列に接続され、前記セレクトゲートに接続される選択トランジスタとを有し、
前記複数のフローティングゲート型トランジスタと前記選択トランジスタとが前記半導体基板上で直線状に配列されたものであって、前記複数のフローティングゲート型トランジスタの各ドレインが直線状のメタル配線で接続されたものであり、かつ、前記コントロールゲートに接続されるメタル配線のコンタクトが複数の不揮発性半導体メモリセルで共用されている
ことを特徴とする不揮発性半導体メモリ装置。
【請求項７】
半導体基板上に形成される複数のＭＯＳトランジスタからなり、当該メモリセルを選択するためのセレクトゲートと、記憶内容を制御するためのコントロールゲートとを有する不揮発性半導体メモリセルを、複数個格子状に配列して有する不揮発性半導体メモリ装置であって、
前記各不揮発性半導体メモリセルが、
互いに並列接続されるとともに、独立の複数のコントロールゲートでそれぞれ制御される複数のフローティングゲート型トランジスタと、
前記複数のフローティングゲート型トランジスタと直列に接続され、前記セレクトゲートに接続される選択トランジスタとを有し、
前記複数のフローティングゲート型トランジスタと前記選択トランジスタとが前記半導体基板上で直線状に配列されたものであって、前記複数のフローティングゲート型トランジスタの各ドレインが直線状のメタル配線で接続されたものであり、
前記不揮発性半導体メモリセルを指定するアドレス信号をデコードした信号と、前記不揮発性半導体メモリセルの書き込み信号とに基づいて生成した制御信号を、所定の前記コントロールゲートに出力する出力手段を有するデコーダを備えている
ことを特徴とする不揮発性半導体メモリ装置。
【請求項８】
前記デコーダが、前記書き込み信号に応じて、データ読み出し時に前記出力手段の出力電圧を０Ｖとするものである
ことを特徴とする請求項７に記載の不揮発性半導体メモリ装置。
【請求項９】
前記同一のｎ型ウェルの電位を前記複数のコントロールゲートの電位より高く制御する
ことを特徴とする請求項３に記載の不揮発性半導体メモリセル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、標準ＣＭＯＳ（Complementary Metal Oxide Semiconductor）プロセスで製造する際に用いて好適な不揮発性半導体メモリセル及び不揮発性半導体メモリ装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＥＥＰＲＯＭ（Electrically Erasable Programmable Read Only Memory）に代表される不揮発性半導体メモリは、電源を切っても情報が消えないことから、多くの用途に用いられてきた。例えば、ＥＥＰＲＯＭの代表的な用途としては、ＩＣカードがある。また、いつでも用途に応じて書き換えが出来る便利さから、マイコン内のマスクＲＯＭの置き換えとしてＥＥＰＲＯＭやフラッシュメモリが使われている。さらに、近年では、システムＬＳＩや、論理ＩＣの一部に不揮発性半導体メモリを取り込んだ、埋め込み型の所謂、ロジック混載メモリ(Embedded Memory)が必要になってきた。さらには、アナログ回路に組み込んで、高精度のアナログ回路のチューニング等を行うための調整用スイッチとして、数百ビットから数Ｋビット程度の小規模の不揮発性半導体メモリも必要になってきている。
【０００３】
しかしながら、不揮発性半導体メモリは２層ポリシリコンあるいは３層ポリシリコンを用いたセル構造が一般的であった。２層ポリシリコンや３層ポリシリコンを用いる場合、製造工程は標準ＣＭＯＳロジックプロセスより複雑で製造工程も多くなる。そのため、不揮発性半導体メモリと標準ロジックを１チップの中に同時に埋め込もうとすると、製造工程が多く、歩留まりも低下し、製品の価格（コスト）が上る問題が生じていた。
【０００４】
また、信頼性の面からの要求としては、近年、車載用途で従来の１５０℃から１７０℃あるいはそれ以上の温度保障要求が強くなっており、不揮発性半導体メモリの高温、高信頼性の要求も強くなっている。
コスト面では、ひとつの手段として、１層ポリシリコンを用いたＥＥＰＲＯＭが提案されている。（特許文献１）。この１層ポリシリコンＥＥＰＲＯＭを用いれば、従来の２層ポリシリコンプロセスより製造工程を削減できる。
【０００５】
一方、信頼性問題を解決する手法として、発明者は、２層ポリシリコン型の不揮発性半導体メモリを用いて、特許文献２にあるような提案を行った。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開平１０−２８９９５９号公報
【特許文献２】特許第２６８５９６６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
フローティングゲート型の不揮発性半導体メモリでは電子の抜けを防ぐために高品質な酸化膜が必要であり、特殊な技術が必要である。しかしながら、標準ＣＭＯＳプロセスでは、酸化膜の信頼性は破壊しなければ良しとする、通常の品質で問題ないことから、不揮発性半導体メモリの酸化膜品質としては十分でない場合が多い。すなわち、信頼性が問題となる。さらに、１層ポリシリコン型の不揮発性半導体メモリでは、コントロールゲートとして使用されている２層目のポリシリコンを省略したために、フローティングゲートの下に拡散層からなるコントロールゲートを埋め込む必要がある。その際、高濃度で埋め込まれた拡散層を酸化すると、質の悪い酸化膜となり、さらに不良の発生する確率が高く、信頼性も問題となる。図１８にフローティングゲート型の不揮発性半導体メモリセルの構造、図１９に電荷保持（データリテンション）特性を示す。
【０００８】
図１８（ａ）は２層ポリシリコン構造を有するフローティングゲート型の不揮発性半導体メモリセルの構造の概略を示す平面図、（ｂ）は等価回路図、（ｃ）は（ａ）のＡ−Ａ’に沿った断面図、（ｄ）は（ａ）のＤ−Ｄ’に沿った断面図である。図１８（ｂ）に示すように、不揮発性半導体メモリセルは、直列接続されたトランジスタ（Metal Oxide Semiconductorトランジスタ；以下、単に「トランジスタ」と称する）Ｔ１とフローティングゲート型トランジスタＴ２とから構成されている。ここで、トランジスタＴ１は、メモリセルを選択するためのスイッチである。このメモリセルにおいて、トランジスタＴ１のドレインがメモリセルのドレインＤ、トランジスタＴ２のソースがメモリセルのソースＳ、トランジスタＴ１のゲートがセレクトゲートＳＧ、トランジスタＴ２のフローティングゲートに一端が接続されたキャパシタの他端がコントロールゲートＣＧとなる。
【０００９】
また、図１８（ａ）、（ｃ）及び（ｄ）において、符号（１）がｐ型半導体基板、（３）がトランジスタＴ１を構成するトランジスタ、（４）がトランジスタＴ２を構成するフローティングゲート型トランジスタ、（５）がトランジスタＴ１のｎ型ドレイン拡散層、（６）がトランジスタＴ１のソース（またはトランジスタＴ２のドレイン）となるｎ型拡散層、（７）がトランジスタＴ２のソースとなるｎ型拡散層である。さらに符号（８）がトランジスタＴ１のゲートとなる第一のポリシリコン層、（９）がトランジスタＴ２のフローティングゲートとなるポリシリコン層でキャパシタの一端、（１０）が拡散層５に接続するコンタクト、（１１）が拡散層７に接続するコンタクトである。そして、符号（１９Ｐ）がコントロールゲート配線となる第二のポリシリコン配線層、（２０）が分離用絶縁酸化膜である。
【００１０】
図１９は、電荷保持（データリテンション）特性を示す図である。縦軸方向は、閾値電圧Vthを示し、横軸方向は時間の対数（log）を示している。酸化膜に欠陥等があり、微小にフローティングゲート内にある電荷が抜けると、書き込みセル（電子が注入されている状態）も、消去セル（電子が放出されている、言い換えれば正孔が注入されている）も、時間と共に、初期値（中性状態：電子も正孔もない、空の状態）に漸近する。この不良は、酸化膜の欠陥によるものなので、良いセルと不良のセルとが混在する。また、別な不良としては、書き込み、消去を繰り返しているうちに、酸化膜が破壊して不良となるケースもある。
【００１１】
一方、信頼性問題を解決する手法として、発明者は特許文献２にあるような提案を行った。特許文献２で提案されている不揮発性半導体メモリセルの等価回路を図２０に示す。１つのメモリセルの中に、２つのフローティングゲート型トランジスタＴ１２、Ｔ１３を並列に設けて、各ゲートを共通にコントロールゲートＣＧに接続している。このようにすることで、どちらかが不良となっても、もう一方のトランジスタが良ければ、セルとしては正常である、というものである。なお、トランジスタＴ１１はメモリセル選択用のスイッチである。
【００１２】
この特許文献２に記載されているように並列に設けた２つのフローティングゲート型トランジスタを用いて不揮発性半導体メモリセルを構成した場合、電荷保持特性における信頼性の向上を図ることができる。しかしながら、並列に設けられた２つのフローティングゲート型トランジスタのゲートが共通となっているため、仮に製造段階で一方に不良が発生していたとしても他方が正常に動作することで、その一方のトランジスタの不良を発見することが困難であるという課題がある。すなわち、通常の信頼性しか有していないメモリセルが混在してしまう場合があるという問題があった。
【００１３】
本発明は、上記の事情を考慮してなされたものであり、従来に比べ信頼性を向上させることができる不揮発性半導体メモリセル及び不揮発性半導体メモリ装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
請求項１記載の発明は、半導体基板上に形成される複数のＭＯＳトランジスタからなり、当該メモリセルを選択するためのセレクトゲートと、記憶内容を制御するためのコントロールゲートとを有する不揮発性半導体メモリセルであって、互いに並列接続されるとともに、独立の複数のコントロールゲートでそれぞれ制御される複数のフローティングゲート型トランジスタと、前記複数のフローティングゲート型トランジスタと直列に接続され、前記セレクトゲートに接続される選択トランジスタとを有し、前記複数のフローティングゲート型トランジスタと前記選択トランジスタとが前記半導体基板上で直線状に配列されたものであって、前記複数のフローティングゲート型トランジスタの各ドレインが直線状のメタル配線で接続されたものであることを特徴とする。
【００１５】
請求項２記載の発明は、前記コントロールゲートと複数の前記フローティングゲート型トランジスタの各フローティングゲートとの間に形成された複数のキャパシタが、前記各ドレインを接続する直線状のメタル配線と直交する方向に延びる複数の独立したｎ型ウェルを用いてそれぞれ形成されたものであることを特徴とする。
【００１６】
請求項３記載の発明は、前記コントロールゲートと複数の前記フローティングゲート型トランジスタの各フローティングゲートとの間に形成された複数のキャパシタが、同一のｎ型ウェルを用いて形成されたものであることを特徴とする。
【００１７】
請求項４記載の発明は、前記コントロールゲートと複数の前記フローティングゲート型トランジスタの各フローティングゲートとの間に形成された複数のキャパシタが、前記半導体基板になされたデプリーションタイプのインプラを用いて形成されたものであることを特徴とする。
【００１８】
請求項５記載の発明は、データの書き込みを確認する際に、前記複数のコントロールゲートのいずれかに書き込み状態の閾値電圧以上の電圧が印加されるとともに、他のコントロールゲートに前記複数のフローティングゲート型トランジスタのソース電位と同じ電位が印加され、データの消去を確認する際に、前記複数のコントロールゲートのいずれかに消去状態の閾値電圧以上の電圧が印加されるとともに、他のコントロールゲートに消去状態の閾値電圧より低い電圧が印加され、前記複数のフローティングゲート型トランジスタのソースに消去状態の閾値電圧以上の電圧が印加されることを特徴とする。
【００１９】
請求項６記載の発明は、半導体基板上に形成される複数のＭＯＳトランジスタからなり、当該メモリセルを選択するためのセレクトゲートと、記憶内容を制御するためのコントロールゲートとを有する不揮発性半導体メモリセルを、複数個格子状に配列して有する不揮発性半導体メモリ装置であって、前記各不揮発性半導体メモリセルが、互いに並列接続されるとともに、独立の複数のコントロールゲートでそれぞれ制御される複数のフローティングゲート型トランジスタと、前記複数のフローティングゲート型トランジスタと直列に接続され、前記セレクトゲートに接続される選択トランジスタとを有し、前記複数のフローティングゲート型トランジスタと前記選択トランジスタとが前記半導体基板上で直線状に配列されたものであって、前記複数のフローティングゲート型トランジスタの各ドレインが直線状のメタル配線で接続されたものであり、かつ、前記コントロールゲートに接続されるメタル配線のコンタクトが複数の不揮発性半導体メモリセルで共用されていることを特徴とする。
【００２０】
請求項７記載の発明は、半導体基板上に形成される複数のＭＯＳトランジスタからなり、当該メモリセルを選択するためのセレクトゲートと、記憶内容を制御するためのコントロールゲートとを有する不揮発性半導体メモリセルを、複数個格子状に配列して有する不揮発性半導体メモリ装置であって、前記各不揮発性半導体メモリセルが、互いに並列接続されるとともに、独立の複数のコントロールゲートでそれぞれ制御される複数のフローティングゲート型トランジスタと、前記複数のフローティングゲート型トランジスタと直列に接続され、前記セレクトゲートに接続される選択トランジスタとを有し、前記複数のフローティングゲート型トランジスタと前記選択トランジスタとが前記半導体基板上で直線状に配列されたものであって、前記複数のフローティングゲート型トランジスタの各ドレインが直線状のメタル配線で接続されたものであり、前記不揮発性半導体メモリセルを指定するアドレス信号をデコードした信号と、前記不揮発性半導体メモリセルの書き込み信号とに基づいて生成した制御信号を、所定の前記コントロールゲートに出力する出力手段を有するデコーダを備えていることを特徴とする。
【００２１】
請求項８記載の発明は、前記デコーダが、前記書き込み信号に応じて、データ読み出し時に前記出力手段の出力電圧を０Ｖとするものであることを特徴とする。
【００２２】
請求項９記載の発明は、前記同一のｎ型ウェルの電位を前記複数のコントロールゲートの電位より高く制御することを特徴とする。
【発明の効果】
【００２３】
この発明によれば、複数のフローティングゲート型トランジスタを並列接続したものを用いて不揮発性半導体メモリセルを構成した場合に、各フローティングゲート型トランジスタを独立して制御することが可能となる。したがって例えば製造段階ですべてのフローティングゲート型トランジスタの動作をそれぞれ確認することができる。よって、例えば標準ロジックのＣＭＯＳプロセスで高信頼性を有する不揮発性半導体メモリセル及び装置が実現でき、例えばロジック混載メモリを容易に、また安価に実現できるという効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】本発明の各実施形態で用いる不揮発性半導体メモリセルの基本構造を説明するための概略図である。
【図２】図１に示す基本的な構造の不揮発性半導体メモリセルの動作状態を一覧で示す図である。
【図３】図１に示す基本的な構造の不揮発性半導体メモリセルの特性を説明するための図である。
【図４】図１に示す基本的な構造の不揮発性半導体メモリセルの他の特性を説明するための図である。
【図５】図１に示す基本的な構造の不揮発性半導体メモリセルのカップリング系の等価回路を説明するための図である。
【図６】図１に示す基本的な構造の不揮発性半導体メモリセルのカップリングの計算式を示す図である。
【図７】本発明の実施形態１の不揮発性半導体メモリセルの概略平面構造（ａ）及び等価回路（ｂ）を示す図である。
【図８】図７に示す不揮発性半導体メモリセルの概略構造を示す断面図である。
【図９】図７に示す不揮発性半導体メモリセルの概略構造を示す他の断面図である。
【図１０】図７に示す不揮発性半導体メモリセルの動作状態を一覧で示す図である。
【図１１】本発明の実施形態２の不揮発性半導体メモリセルの概略平面構造（ａ）及び等価回路（ｂ）を示す図である。
【図１２】図１１に示す不揮発性半導体メモリセルの動作状態を一覧で示す図である。
【図１３】図１１に示す不揮発性半導体メモリセルをアレイ配置した例（実施形態３）を示す概略平面図である。
【図１４】本発明の実施形態４の不揮発性半導体メモリセルの平面概略構造（ａ）及びその変形例の平面概略構造（ｂ）、（ａ）の断面構造（ｃ）及び断面構造（ｄ）を示す図である。
【図１５】図１４（ｂ）に示す不揮発性半導体メモリセルをアレイ配置した例（実施形態５）を示す概略平面図である。
【図１６】本発明の実施形態６の不揮発性半導体メモリ装置の回路図である。
【図１７】図１６に示す不揮発性半導体メモリ装置の動作状態を一覧で示す図である。
【図１８】本発明の背景技術における不揮発性半導体メモリセルの平面概略構造（ａ）、等価回路（ｂ）、（ａ）の断面構造（ｃ）及び断面構造（ｄ）を示す図である。
【図１９】本発明の背景技術における不揮発性半導体メモリセルのデータリテンション特性を説明するための図である。
【図２０】本発明の背景技術における不揮発性半導体メモリセルの等価回路図である。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
まず、本発明の各実施の形態は、１個の不揮発性半導体メモリセルに複数個のフローティングゲート型トランジスタを設けることを特徴としている。それらの説明に先立って、ここではまず、図１〜図６を参照して、本発明の各実施の形態で用いる不揮発性半導体メモリセルの基本的な構造・動作について、１セルに１個のフローティングゲート型トランジスタを設ける構造を用いて説明する。図１（ａ）に不揮発性半導体メモリ（ＥＥＰＲＯＭセル）の平面図を示す。図１（ｂ）には等価回路図、図１（ｃ）には図１（ａ）のＡ−Ａ’に沿った断面図、図１（ｄ）にはＢ−Ｂ’に沿った断面図、図１（ｅ）にはＣ−Ｃ’に沿った断面図を示す。このＥＥＰＲＯＭセルは、図１（ｂ）の等価回路に示すように、直列接続されたトランジスタＴ１及びトランジスタＴ２と、キャパシタＣ１とから構成されている。ここで、トランジスタＴ１がメモリセルを選択するためのスイッチ（選択トランジスタ）であり、トランジスタＴ２がフローティングゲート型トランジスタである。このメモリセルにおいて、トランジスタＴ１のドレインがメモリセルのドレインＤ、トランジスタＴ２のソースがメモリセルのソースＳ、トランジスタＴ１のゲートが当該メモリセルを選択するためのセレクトゲートＳＧ、トランジスタＴ２のフローティングゲートＦＧに一端が接続されたキャパシタＣ１の他端が当該メモリセルの記憶内容を制御するためのコントロールゲートＣＧとなる。このキャパシタＣ１は、コントロールゲートＣＧとフローティングゲートＦＧとの間のキャパシタである。
【００２６】
図１（ａ）〜（ｅ）において、符号（１）はｐ型半導体基板、（２）はｐ型半導体基板１上に形成されたｎ型ウェル(以下ｎ−ｗｅｌｌとも表記する)、（３）はトランジスタＴ１を構成するトランジスタ（ｐ型半導体基板１の部分と酸化膜）、（４）はトランジスタＴ２を構成するフローティングゲート型トランジスタ（ｐ型半導体基板１の部分と酸化膜）、（５）はトランジスタＴ１のｎ型ドレイン拡散層、（６）はトランジスタＴ１のソースでありトランジスタＴ２のドレインともなるｎ型拡散層、（７）はトランジスタＴ２のソースとなるｎ型拡散層、（８）はトランジスタＴ１のゲートとなるポリシリコン層、（９）はトランジスタＴ２のフローティングゲートとなるポリシリコン層でキャパシタＣ１の一端となる。符号（１０）は拡散層５とメタル配線１２を接続するコンタクト、（１１）は拡散層７とメタル配線１３を接続するコンタクト、（１２）はトランジスタＴ１のドレインを引き出すためのメタル配線、（１３）はフローティングゲート型トランジスタＴ２のソースＳを引き出すためのメタル配線、（１４）はキャパシタＣ１（ｎ型ウェル２の一部分と酸化膜）、（１５）はｐ型拡散層であり、キャパシタＣ１の他端となる。符号（１６）はｐ型拡散層１５とメタル配線１９を接続するコンタクト、（１７）はｎ型ウェル２上に形成されたｎ型拡散層、（１８）はｎ型拡散層１７とメタル配線１９とを接続するコンタクト、（１９）はコントロールゲート配線となるメタル配線、（２０）は分離用絶縁酸化膜である。
このメモリセルの特徴は、ビット線となる、メモリセルのドレインＤとなるメタル配線１２を図面上の縦方向に配置し、セレクトゲートＳＧとなるポリシリコン配線８と、コントロールゲートＣＧ配線となるメタル配線１９とを図面上の横方向に配置し、さらに、面積の大きくなるキャパシタＣ１をコンパクトに配置して面積を最小限にしたことである。ここで、キャパシタＣ１は、ｎ型ウェル２、キャパシタ１４、ｐ型拡散層１５、コンタクト１６、ｎ型拡散層１７及びコンタクト１８から構成されている。
【００２７】
図１に示すメモリセルの動作を図２を参照して説明する。書き込みに関しては、方式は２つある。第一の方法はホットエレクトロン注入による書き込み方式（単に「書き込み」と表記する）である。「書き込み」として、ＳＧに８Ｖ、ＣＧに３〜８Ｖ、Ｄに５Ｖ、Ｓに０Ｖを印加する。トランジスタＴ２のドレインおよびゲートに高電圧が印加され、後述する飽和領域にて動作を行うため、ドレイン近傍で空乏層に高電界が印加され、ホットエレクトロンが発生し、それがフローティングゲートＦＧに注入される。電子が注入されるため、トランジスタＴ２の閾値は見かけ上、高くなる。
【００２８】
消去の場合は、ＳＧに１０Ｖ、ＣＧに０Ｖ、Ｄに８Ｖ、Ｓをｏｐｅｎ（開放）あるいは２Ｖ程度にバイアスして置く。この状態では、ドレインとフローティングゲートＦＧ間に高電界が印加され、ファウラーノルトハイムのトンネル電流（Fauler-Nordheim：以下ＦＮ電流と略す）が流れ、フローティングゲートＦＧから電子がドレインに放出され、見かけ上、閾値が下がって見える。
【００２９】
読み出しは、ＳＧに３〜５Ｖ、ＣＧに０Ｖ、Ｄに１Ｖ、Ｓに０Ｖを印加すると、書き込み状態（閾値が正）であれば、電流は流れず“０”と判断、消去状態（閾値が負）であれば、電流が流れ、“１”と判断される。
【００３０】
また、第二の書き込みの方法は、素子の耐圧が比較的高い場合であって書き込みもＦＮ電流で行う場合で、「書き込み２」とする。この場合は、ＳＧに５Ｖ、ＣＧに１５Ｖ、Ｄに０Ｖ、Ｓはｏｐｅｎあるいは０Ｖを印加すれば、チャネルとフローティングゲート間に高電圧が印加され、電子注入が行われる。
【００３１】
図３には、トランジスタＴ２のみの特性として、ＶＣＧ−Ｉｄ特性を示している。ここでＶＣＧはソースＳを０Ｖとした場合のコントロールゲートＣＧにおける電圧、ＩｄはトランジスタＴ２のドレイン電流を表す。初期の閾値は１Ｖ程度である。書き込みを行うと、フローティングゲートＦＧ内に電子が注入されるため、図のように、見かけ上、閾値が３Ｖと高くなった特性を示す。また、消去されると、見かけ上閾値が−２Ｖまで下がった特性を示す。ここで、上記書き込み電圧を３〜８Ｖとしているのは、トランジスタＴ２が過消去されていると、後述のように、フローティングゲートＦＧは正に帯電しているので、書き込み時に、あまりコントロールゲートＣＧを高い電圧にすると、非飽和領域に入ってしまい、ホットエレクトロンが発生しづらくなり、書き込み特性が悪化する課題があるからである。過消去状態のときは、コントロールゲートＣＧの電圧を低めに設定し、書き込みされてくれば、書き込み量に併せて、コントロールゲートＣＧの電圧を徐々に高くする、ステップアップ書き込み方式を採用すれば良い。
【００３２】
図４は、トランジスタＴ１とトランジスタＴ２が直列接続された特性を示す。読み出し時、コントロールゲートＣＧの電圧ＶＣＧ＝０Ｖなので、初期値でトランジスタＴ２の閾値が１Ｖ程度であれば、ＶＳＧ−Ｉｄ特性（メモリセルの特性）は、ほぼ電流が流れない状態である。ここで、ＶＳＧはセレクトゲートＳＧの電圧、ＩｄはメモリセルのドレインＤの電流である。書き込みを行うと、完全に電流が流れない。消去時は、トランジスタＴ２が常にオン状態なので、メモリセル特性としては、コントロールゲートＣＧの電圧に比例して電流が流れる。
【００３３】
図５に、図１のメモリセルのカップリング系の等価回路を示す。また、図６にカップリングの計算式を示す。ここでＶＣＧはコントロールゲートＣＧの電圧、ＶＦＧはフローティングゲートＦＧの電圧、ＶＤはゲートＤの電圧、ＶＳはソースＳの電圧、ＶＳｕｂはｐ型半導体基板１の電圧である。また、Ｃ（ＦＣ）はコントロールゲートＣＧとフローティングゲートＦＧ間のキャパシタ（＝キャパシタＣ１）、Ｃ（ＦＢ）はフローティングゲートＦＧとｐ型半導体基板１間のキャパシタ、Ｃ（ＦＳ）はフローティングゲートＦＧとソースＳ間のキャパシタ、Ｃ（ＦＤ）はフローティングゲートＦＧとドレインＤ間のキャパシタである。
【００３４】
フローティングゲートＦＧの状態が初期状態（中性状態）とすると、この系のトータルチャージはゼロということから、図６の式１でＱ＝０となり、（ＶＣＧ−ＶＦＧ）×Ｃ（ＦＣ）＋（ＶＤ−ＶＦＧ）×Ｃ（ＦＤ）＋（ＶＳ−ＶＦＧ）×Ｃ（ＦＳ）＋（ＶＳｕｂ−ＶＦＧ）×Ｃ（ＦＢ）＝０となる。
【００３５】
ここで、Ｃ（ＦＣ）＋Ｃ（ＦＢ）＋Ｃ（ＦＤ）＋Ｃ（ＦＳ）＝ＣＴ（トータル）とすると、ＶＦＧ＝ＶＣＧ×Ｃ（ＦＣ）／ＣＴ＋Ｖｓｕｂ×Ｃ（ＦＢ）／ＣＴ＋ＶＤ×Ｃ（ＦＤ）／ＣＴ＋ＶＳ×Ｃ（ＦＳ）／ＣＴとなる。
【００３６】
ここで、Ｃ（ＦＤ）＝Ｃ（ＦＳ）≒０、Ｖｓｕｂ＝ＶＳ＝０  とすると、ＶＦＧ＝ＶＣＧ×Ｃ（ＦＧ）／｛Ｃ（ＦＣ）＋Ｃ（ＦＢ）｝となる（式４）。
【００３７】
ここで、Ｃ（ＦＧ）／｛Ｃ（ＦＣ）＋Ｃ（ＦＢ）｝＝α（カップリング比）とすると、
ＶＦＧ＝αＶＣＧ  となる。通常、α≒０．６に設定する。
【００３８】
では、次に１個の不揮発性半導体メモリセルに複数個のフローティングゲート型トランジスタを設ける本発明の実施の形態としての不揮発性半導体メモリセルについて説明する。
【００３９】
［実施形態１］
本発明の第１の実施の形態としての不揮発性半導体メモリセルについて、図７〜図１０を参照して説明する。図７（ａ）に、不揮発性半導体メモリセルの平面図を、図７（ｂ）には等価回路を、図８（ｃ）、図８（ｄ）、図９（ｅ）、図９（ｆ）には断面図を示す。図８（ｃ）には図７（ａ）のＡ−Ａ’に沿った断面図、図８（ｄ）にはＢ−Ｂ’に沿った断面図、図９（ｅ）にはＣ−Ｃ’に沿った断面図、図９（ｆ）にはＤ−Ｄ’に沿った断面図を示す。なお、以下の各図において図１に示すものと同一の（あるいは対応する）構成には同一の符号を用いている。また、各図において、図１の構成と同一の（あるいは対応する）構成を複数設ける場合には、図１で用いた符号（数字）に英字１文字（ａ、ｂなど）を追加した符号（例えばｎ型ウェル２に対してｎ型ウェル２ａ、２ｂなどとする）を用いることとする。
【００４０】
このＥＥＰＲＯＭセルは、図７（ｂ）の等価回路に示すように、トランジスタＴ１、トランジスタＴ２、トランジスタＴ３、キャパシタＣ１、キャパシタＣ２から構成されている。トランジスタＴ１には、トランジスタＴ２及びトランジスタＴ３を並列接続したものが直列接続されている。トランジスタＴ１がメモリセルを選択するためのスイッチであり、トランジスタＴ２及びトランジスタＴ３がフローティングゲート型トランジスタである。このメモリセルにおいて、トランジスタＴ１のドレインがメモリセルのドレインＤ、トランジスタＴ２及びトランジスタＴ３のソースがメモリセルのソースＳ、トランジスタＴ１のゲートがセレクトゲートＳＧとなる。また、トランジスタＴ２のフローティングゲートＦＧ１に一端が接続されたキャパシタＣ１の他端がコントロールゲートＣＧ１となり、トランジスタＴ３のフローティングゲートＦＧ２に一端が接続されたキャパシタＣ２の他端がコントロールゲートＣＧ２となる。このキャパシタＣ１は、コントロールゲートＣＧ１とフローティングゲートＦＧ１との間のキャパシタであり、キャパシタＣ２は、コントロールゲートＣＧ２とフローティングゲートＦＧ２との間のキャパシタである。図７において、トランジスタＴ２とトランジスタＴ３が、図１のトランジスタＴ２に対応する構成である。
【００４１】
図７（ａ）及び図８（ｃ）〜図９（ｆ）において、符号（１）はｐ型半導体基板、（２ａ）及び（２ｂ）はｐ型半導体基板１上に形成されたｎ型ウェル、（３）はトランジスタＴ１を構成するトランジスタ、（４ａ）及び（４ｂ）はトランジスタＴ２及びＴ３を構成するフローティングゲート型トランジスタ、（５）はトランジスタＴ１のｎ型ドレイン拡散層、（６ａ）及び（６ｂ）はトランジスタＴ１のソースでありトランジスタＴ２及びＴ３のドレインともなるｎ型拡散層、（７）はトランジスタＴ２及びＴ３のソースとなるｎ型拡散層、（８）はトランジスタＴ１のゲートとなるポリシリコン層、（９ａ）、（９ｂ）はトランジスタＴ２、Ｔ３のフローティングゲートとなるポリシリコン層でキャパシタＣ１及びＣ２の一端となる。（１０）は拡散層５とメタル配線１２を接続するコンタクト、（１１）は拡散層７とメタル配線１３を接続するコンタクト、（１２）はトランジスタＴ１のドレイン（ドレインＤ）を引き出すためのメタル配線、（１３）はフローティングゲート型トランジスタＴ２及びＴ３のソース（ソースＳ）を引き出すためのメタル配線、（１４ａ）、（１４ｂ）はそれぞれキャパシタＣ１、Ｃ２、（１５ａ）及び（１５ｂ）はｐ型拡散層であり、それぞれキャパシタＣ１、Ｃ２の他端となる。符号（１６ａ）、（１６ｂ）はｐ型拡散層１５ａ、１５ｂとメタル配線１９ａ、１９ｂを接続するコンタクト、（１７ａ）、（１７ｂ）はｎ型ウェル２ａ、２ｂ上に形成されたｎ型拡散層、（１８ａ）、（１８ｂ）はｎ型拡散層１７ａ、１７ｂとメタル配線１９ａ、１９ｂとを接続するコンタクト、（１９ａ）、（１９ｂ）はそれぞれ、Ｔ２及びＴ３のコントロールゲート配線となるメタル配線、（２０）は分離用絶縁酸化膜、（２１ａ）、（２１ｂ）はメタル配線層２２をｎ型拡散層６ａ、６ｂにつなぐコンタクト、（２２）はメタル配線層である。
【００４２】
本実施の形態のメモリセルは、コントロールゲートＣＧ１、ＣＧ２を形成するｎ型ウェル２ａ、２ｂをそれぞれ分離して独立に設けるようにしている。また、コントロールゲートＣＧ１、ＣＧ２を図示していない制御回路によって独立して制御可能に構成している。このメモリセルの構造上の特徴は、ビット線となる、メモリセルのドレインＤのメタル配線１２を縦方向に配置し、セレクトゲートＳＧとなるポリシリコン配線８と、コントロールゲートＣＧ配線となるメタル配線１９ａ、１９ｂを横方向に配置し、さらに、面積の大きくなるキャパシタＣ１及びキャパシタＣ２をコンパクトに配置して、また、記憶素子となるトランジスタＴ２、Ｔ３のドレイン６ａ、６ｂをメタル配線２２で繋ぎ、面積を最小限にしたことである。また、本実施の形態のメモリセルは、複数のフローティングゲート型トランジスタＴ２、Ｔ３と選択トランジスタとなるトランジスタＴ１とがｐ型半導体基板１上で直線状に配列されたものであって、複数のフローティングゲート型トランジスタＴ２、Ｔ３の各ドレインが直線状のメタル配線２２で接続されたものであることを一つの特徴としている。また、コントロールゲートＣＧ１、ＣＧ２と複数のフローティングゲート型トランジスタＴ２、Ｔ３の各フローティングゲートＦＧ１、ＦＧ２との間に形成された複数のキャパシタＣ１、Ｃ２が、各ドレインを接続する直線状のメタル配線２２と直交する方向に延びる複数の独立したｎ型ウェル２ａ、２ｂを用いてそれぞれ形成されたものであることを他の一つの特徴としている。ここで、キャパシタＣ１は、ｎ型ウェル２ａ、キャパシタＣ１（１４ａ）、ｐ型拡散層１５ａ、コンタクト１６ａ、ｎ型拡散層１７ａ、コンタクト１８ａで構成されている。また、キャパシタＣ２は、ｎ型ウェル２ｂ、キャパシタＣ２（１４ｂ）、ｐ型拡散層１５ｂ、コンタクト１６ｂ、ｎ型拡散層１７ｂ、コンタクト１８ｂで構成されている。
【００４３】
図１０に、このメモリセルの動作表を示す。基本は図２の動作と同様である。コントロールゲートがＣＧ１とＣＧ２とに、独立に設けてあるので、トランジスタＴ２からなるメモリ素子とトランジスタＴ３からなるメモリ素子で独立に書込みが行える。まず、トランジスタＴ２からなるメモリ素子（セル１とする）に書き込みを行う。図２と異なるのは、このとき、トランジスタＴ３に書き込みが起きないように、コントロールゲートＣＧ２には０Ｖを印加することである。次に、トランジスタＴ３からなるメモリ素子（セル２とする）に書き込みを行う。同様に、コントロールゲートＣＧ２には３〜８Ｖを印加するが、トランジスタＴ２には書き込みが起きないように、コントロールゲートＣＧ１は０Ｖとする。このようにすれば、トランジスタＴ２とトランジスタＴ３には独立に書き込みが行える。
【００４４】
次に、書き込んだ閾値をチェックする、ベリファイ読み出しを説明する。セル１をベリファイするには、ＣＧ１を２Ｖ、ＣＧ２を０Ｖにする。ＣＧ１が２Ｖで、書き込みが出来ていれば、閾値は２Ｖ以上になっているということで、書込み終了。次に、ＣＧ１＝０Ｖ、ＣＧ２＝２Ｖとして、読み出しを行う。同様に、ＣＧ２＝２Ｖで書き込み状態になっていれば、書込み終了、もし、閾値が２Ｖ以下で、まだ書込みが十分出来ていなければ、再度書き込みを行って、閾値が２Ｖ以上になるまで続ける。
【００４５】
次に、消去を説明する。ここでは、セル１とセル２を別々に消去する方法を示す。セル１（トランジスタＴ２）を消去する場合は、メモリセルのドレインＤに８Ｖ印加し、この８ＶをトランジスタＴ２のドレインに転送するために、セレクトゲートＳＧに１０Ｖ、コントロールゲートＣＧ１に０Ｖ、ソースＳに２Ｖあるいはオープンにすると、トランジスタＴ２のドレインとフローティングゲートＦＧ１間に高電圧が印加され、トランジスタＴ２が消去される。このとき、セル２（トランジスタＴ３）のコントロールゲートＣＧ２に例えば２Ｖを印加すると、トランジスタＴ３のドレイン（８Ｖ）とフローティングゲートＦＧ２間の電界は緩和されるために、消去は起こらない。従って、トランジスタＴ２のみが消去される。セル２（トランジスタＴ３）を消去する場合は、ＣＧ１＝２Ｖ、ＣＧ２＝０Ｖとすれば良い。
【００４６】
次に、消去のベリファイについて説明する。セル１の消去レベルをベリファイするには、ＣＧ１＝０．５Ｖ、ＣＧ２＝０Ｖ、ドレインＤの電圧＝１．５Ｖ、ソースＳの電圧としてＳ≧０．５Ｖを印加する。ＣＧ１＞ＣＧ２なので、トランジスタＴ３にはほとんどセル電流が流れない、あるいは、セル電流はセル１（トランジスタＴ２）が支配的である。この状態で、消去を示す規定の電流が流れていれば消去終了と判断される。セル電流が規定値に達していない場合は、さらに消去を追加し、再度、消去ベリファイを行う。ソースＳに０．５Ｖ以上の正電圧を印加するのは、非選択とするセル２のコントロールゲートＣＧ２に、相対的に負の電圧を印加して、実質的にオフさせたい為である。ＣＧ１＝０ＶでＣＧ２＝−０．５Ｖとしても同じであるが、負の電圧を発生するためには、トリプルＷｅｌｌ構造を採用する等プロセス的に複雑になるので、ソースＳに正バイアスを印加して、実質的に負の電圧を印加したと同様の状態とした。セル２の消去ベリファイを行う場合も同様である。読み出しは、図２と同じである。書き込み２の場合は、セル１のみに書き込む場合は、ＣＧ１＝１５Ｖ、ＣＧ２＝０Ｖとすれば良い。セル２のみに書き込む場合も同様である。
【００４７】
以上、セル１とセル２に独立して書き込み、消去、ベリファイする方法を示した。セル１とセル２を同時に書込み、消去、ベリファイしたい場合は、ＣＧ１とＣＧ２等に同一の電圧を印加すればよい。
【００４８】
［実施形態２］
図１１には、別の構成としたメモリセルを示す。図７と同一の構成には同一の符号を用いて説明を省略する。図７を参照して説明した実施形態１のメモリセルと異なり、コントロールゲートＣＧ１及びＣＧ２を形成するｎ型ウェル２ａ、ｎ型ウェル２ｂを共通にしてｎ型ウェル２とするとともに、ｎ型拡散層１７ａ、１７ｂとコンタクト１８ａ、１８ｂが省略されている。すなわち、本実施の形態では、コントロールゲートＣＧ１及びＣＧ２と複数のフローティングゲート型トランジスタＴ２，Ｔ３の各フローティングゲートＦＧ１、ＦＧ２との間に形成された複数のキャパシタＣ１、Ｃ２が、同一のｎ型ウェル２を用いて形成されている。さらに、本実施形態のｎ型ウェル２は、ｎ型拡散層領域２４及びコンタクト２５を介してｎ型ウェル２に独立して電圧を与える図示していないメタル配線に接続されている。これによってｎ型ウェル２の電位を独立させて、面積縮小を図りながら、コントロールゲートＣＧ１及びＣＧ２を独立に制御可能としている。実施形態２では、ｎ型拡散層１７ａ、１７ｂとコンタクト１８ａ、１８ｂを省略してセル面積を小さくできるとともに、ｎ型ウェル２をトランジスタＴ２とＴ３で共通とすることでＷｅｌｌを分離する境界が必要なくなりさらにセル面積が小さく出来る。
【００４９】
図１１に示すメモリセルの等価回路は図１１（ｂ）のようになる。これは、図７（ｂ）と等価である。但し、ｎ型ウェル２には、順バイアスが印加されないように常に正の電圧が印加される必要があるので、その結果、キャパシタ１４ａ、１４ｂにはバックバイアスが印加されることになる。このバックバイアスの印加によってトランジスタＴ２、Ｔ３の閾値が変化することになるが、バックバイアス印加による閾値変化はそれほど大きくないので、大きな問題にはならない。
【００５０】
図１２に動作表を示す。ｎ型ウェル２の電位をＣＧＷｅｌｌとする。ＣＧＷｅｌｌ以外の動作は図１０と同じである。ＣＧＷｅｌｌはＣＧ１、ＣＧ２の電位より常に高いか等しい電圧にバイアスする必要がある。図１０の動作表と比べて、消去ベリファイ１と消去ベリファイ２の電圧条件が異なっているが、図１２に示す値は動作の一例を示したものであって、本実施形態においても括弧で囲んで示した図１０に示すものと同一の電圧条件を用いることも可能である。
【００５１】
［実施形態３］
図１３には、図１１に示すメモリセルをアレイに組んだ構成図を示す。ここでは、ｎ型ウェル２は上下のメモリセルで共通に接続され、ｎ型拡散層領域２４、コンタクト２５を介してＣＧＷｅｌｌの電圧を与えるメタル配線２６に接続されている。
【００５２】
なお、図１３に示すメモリセルは、行方向（横方向）にＭ１１〜Ｍ１４の４個が配置され、列方向（縦方向）にＭ１１〜Ｍ３１のように３個配置され、４×３＝１２個のセルが配置されている。共通部分を対照的に配置することによって、図１１のメモリセルがさらに効果的に配置され、面積縮小化が可能となっている。
【００５３】
この場合、メモリセルＭ１１〜Ｍ３１とメモリセルＭ１２〜Ｍ３２の６個のメモリセルが１つのｎ型ウェル２を共用し、メモリセルＭ１３〜Ｍ３３とメモリセルＭ１４〜Ｍ３４の６個のメモリセルが１つのｎ型ウェル２を共用している。また、横方向に並んだ１対のメモリセル（例えばメモリセルＭ１１とＭ１２）が、コンタクト１６ａ及び１６ｂを共用するようにしている。また、縦方向に並んだメモリセルＭ１１〜Ｍ３１は、共通のメタル配線１２に接続され、これがビット線ＢＩＴ１となる。同様にメモリセルＭ１２〜Ｍ３２は、共通のメタル配線１２に接続され、これがビット線ＢＩＴ２となる。さらにメモリセルＭ１３〜Ｍ３３、モリセルＭ１４〜Ｍ３４は、それぞれ共通のメタル配線１２に接続され、これらがビット線ＢＩＴ３、ＢＩＴ４となる。また、横方向に並んだメモリセルＭ１１〜Ｍ１４の各コンタクト１６ａは共通のメタル配線１９ａに接続され、各コンタクト１６ｂは共通のメタル配線１９ｂに接続され、このメタル配線１９ａがコントロールゲート配線ＣＧ１１となり、メタル配線１９ｂがコントロールゲート配線ＣＧ１２となる。また、横方向に並んだメモリセルＭ１１〜Ｍ１４の各コンタクト１１は共通のメタル配線１３に接続され、このメタル配線１３がソース配線Ｓ１となる。同様に、横方向に並んだメモリセルＭ２１〜Ｍ２４の各コンタクト１６ａは共通のメタル配線１９ａに接続され、各コンタクト１６ｂは共通のメタル配線１９ｂに接続され、このメタル配線１９ａがコントロールゲート配線ＣＧ２１となり、メタル配線１９ｂがコントロールゲート配線ＣＧ２２となる。また、横方向に並んだメモリセルＭ２１〜Ｍ２４の各コンタクト１１は共通のメタル配線１３に接続され、このメタル配線１３がソース配線Ｓ２となる。また、横方向に並んだメモリセルＭ３１〜Ｍ３４の各コンタクト１６ａは共通のメタル配線１９ａに接続され、各コンタクト１６ｂは共通のメタル配線１９ｂに接続され、このメタル配線１９ａがコントロールゲート配線ＣＧ３１となり、メタル配線１９ｂがコントロールゲート配線ＣＧ３２となる。また、横方向に並んだメモリセルＭ３１〜Ｍ３４の各コンタクト１１は共通のメタル配線１３に接続され、このメタル配線１３がソース配線Ｓ３となる。また、３本のポリシリコン層８がそれぞれ横に並んだメモリセルで共通に使用され、上から順にセレクトゲート配線ＳＧ１、ＳＧ２及びＳＧ３となる。
【００５４】
［実施形態４］
図１４に微細化に好適な実施形態を示す。図１４（ａ）が本実施の形態のメモリセルの平面図、図１４（ｂ）が図１４（ａ）の構造の変形例を示す平面図、図１４（ｃ）が図１４（ａ）のＢ−Ｂ’に沿った断面図、図１４（ｄ）が図１４（ａ）のＤ−Ｄ’に沿った断面図である。この実施形態は、コントロールゲート用のｎ−ｗｅｌｌ２を省略して、さらに、微細化したメモリセルの例である。符号（１５ｃ）、（１５ｄ）はｎ型拡散層、（１６ｃ）、（１６ｄ）はｎ型拡散層１５ｃ、１５ｄとコントロールゲートのメタル配線１９ａ、１９ｂとを接続するコンタクトである。図１４の（ａ）は通常のレイアウト、（ｂ）はさらに面積縮小のために、キャパシタの部分１４ａ、１４ｂの形状を折り曲げて、スペースを利用したレイアウト図である。また、符号（２３ａ）、（２３ｂ）はＤタイプ（Ｄｅｐｌｅｔｉｏｎ−Ｔｙｐｅ）のインプラ（Ｉｍｐｌａｎｔａｔｉｏｎ）であり、チャネルが常にオンの状態に設定してある。なお、本実施の形態の等価回路は、図１１（ｂ）に示すものと同じである。すなわち、本実施の形態では、コントロールゲートＣＧ１、ＣＧ２と複数のフローティングゲート型トランジスタＴ２、Ｔ３の各フローティングゲートＦＧ１、ＦＧ２との間に形成された複数のキャパシタＣ１、Ｃ２が、ｐ型半導体基板１になされたデプリーションタイプのインプラを用いて形成されたものとなっている。
【００５５】
［実施形態５］
図１５に図１４（ｂ）のメモリセルのアレイ配置をした実施形態を示す。コントロールゲートのｎ−ｗｅｌｌ２を省略した効果で、面積がさらに縮小化される。なお、図１５に示すメモリセルは、行方向（横方向）にＭ１１〜Ｍ１４の４個が配置され、列方向（縦方向）にＭ１１〜Ｍ４１のように４個配置され、４×４＝１６個のセルが配置されている。共通部分を対照的に配置することによって、図１４（ｂ）のメモリセルがさらに効果的に配置され、面積縮小化が可能となっている。
【００５６】
［実施形態６］
図１６には、本発明の各実施形態のメモリセルを用いた不揮発性半導体メモリ装置の回路構成を示す。図１６における不揮発性半導体メモリセルＭ１１〜Ｍｍｎとしては、例えば図７、図１１、図１４等を参照して説明した不揮発性半導体メモリセルを用いることができる。また、その場合の各メモリセルの配置は、図１３、図１５を参照して説明したアレイ配置を用いることができる。
【００５７】
図１６において、符号（Ｍ１１）〜（Ｍｍｎ）はｍ×ｎ個のメモリセル、（１００）はこれらのメモリセルＭ１１〜Ｍｍｎをアレイ配置したメモリセルアレイ、（２００−１）〜（２００−ｍ）はｍ個の行デコーダ、（３００）は列選択ゲート回路、（４００−１）〜（４００−ｎ）はｎ個の列デコーダ、（５００）は書き込み、消去制御回路、（６００）は読み出し時に動作するセンスアンプ、（７００）は内部電源用回路である。なお、図１６に示す回路構成では、各メモリセルＭ１１〜Ｍｍｎが、図７等を参照して説明した３個のトランジスタＴ１〜Ｔ３から構成されるメモリセルを用いることとしているが、フローティングゲート型トランジスタＴ２、Ｔ３等の並列接続数は２個に限らず、３個以上の複数であってもよい。
【００５８】
行デコーダ２００−１は、行アドレスが入力されるデコーダ部２０１、セレクトゲートＳＧ１へ出力を出すインバータ２０２及びレベルシフタ兼バッファ２０３、コントロールゲートＣＧ１１へ出力を出すＮＡＮＤ（ナンド）回路２０４及びレベルシフタ兼バッファ（出力手段）２０５、コントロールゲートＣＧ１２へ出力を出すＮＡＮＤ回路２０６及びレベルシフタ兼バッファ（出力手段）２０７から構成される。セレクトゲート出力ＳＧ１はメモリアレイ１００に含まれる行方向（図面上の横方向）に配置されたｎ個のメモリセルＭ１１〜Ｍ１ｎに共通に接続され、コントロールゲート出力ＣＧ１１とコントロールゲート出力ＣＧ１２は同じくメモリセルＭ１１〜Ｍ１ｎに共通に接続される。セレクトゲート出力ＳＧ１は各メモリセルＭ１１〜Ｍ１ｎのセレクトゲートＳＧに接続され、コントロールゲート出力ＣＧ１１は各メモリセルＭ１１〜Ｍ１ｎのコントロールゲートＣＧ１に接続され、コントロールゲート出力ＣＧ１２は各メモリセルＭ１１〜Ｍ１ｎのコントロールゲートＣＧ２に接続される。
【００５９】
なお、行デコーダ２００−１のＮＡＮＤ回路２０４に入力されている書き込み信号Ｗ１は、メモリセルＭ１１〜Ｍ１ｎのコントロールゲートＣＧ１を選択するための信号であり、書き込み信号Ｗ１が“１”のとき、ＮＡＮＤ回路２０４が活性化される。また、消去時及び読み出し時には、書き込み信号Ｗ１＝“０”とすることで、ＮＡＮＤ回路２０４が非活性化され、コントロールゲートＣＧ１が０Ｖに制御される。また、行デコーダ２００−１のＮＡＮＤ回路２０６に入力されている書き込み信号Ｗ２は、メモリセルＭ１１〜Ｍ１ｎのコントロールゲートＣＧ２を選択するための信号であり、書き込み信号Ｗ２が“１”のとき、ＮＡＮＤ回路２０６が活性化される。また、消去時及び読み出し時には、書き込み信号Ｗ２＝“０”とすることで、ＮＡＮＤ回路２０６が非活性化され、コントロールゲートＣＧ２が０Ｖに制御される。行デコーダ２００−１は、以上の構成で、メモリセルを指定する行アドレス（アドレス信号）をデコードした信号と、メモリセルの書き込み信号Ｗ１、Ｗ２とに基づいて生成した制御信号ＣＧ１１、ＣＧ１２を、所定のコントロールゲートＣＧ１、ＣＧ２（メモリセルＭ１１〜Ｍ１ｎのコントロールゲートＣＧ１、ＣＧ２）に出力することになる。
【００６０】
行デコーダ２００−ｍも同様の構成である。行デコーダ２００−ｍのセレクトゲート出力ＳＧｍはメモリアレイ１００に含まれる行方向に配置されたｎ個のメモリセルＭｍ１〜Ｍｍｎに共通に接続され、コントロールゲート出力ＣＧｍ１及びＣＧｍ２は同じくメモリセルＭｍ１〜Ｍｍｎに共通に接続される。セレクトゲート出力ＳＧｍは各メモリセルＭｍ１〜ＭｍｎのセレクトゲートＳＧに接続され、コントロールゲート出力ＣＧｍ１は各メモリセルＭｍ１〜ＭｍｎのコントロールゲートＣＧ１に接続され、コントロールゲート出力ＣＧｍ２は各メモリセルＭｍ１〜ＭｍｎのコントロールゲートＣＧ２に接続される。
【００６１】
また、行デコーダ２００−１〜２００−ｍ内のレベルシフタ兼バッファ２０３、レベルシフタ兼バッファ２０５及びレベルシフタ兼バッファ２０７には、内部電源用回路７００から出力された電源ＶＰ１及びＶＰ２が供給され、各メモリセルＭ１１〜Ｍ１ｎ、…、Ｍｍ１〜ＭｍｎのセレクトゲートＳＧとコントロールゲートＣＧに印加される電圧が制御できるようになっている。
【００６２】
列選択ゲート回路３００は、ｎ個の列選択ゲートトランジスタＣＯＬＧ１〜ＣＯＬＧｎで構成され、それぞれゲートには列デコーダ４００−１〜４００−ｎからの出力ＣＯ１〜ＣＯｎが入力される。選択ゲートトランジスタＣＯＬＧ１〜ＣＯＬＧｎの各ドレインはデータ線Ｄａｔａに共通に接続されるとともに、各ソースはそれぞれビット線ＢＩＴ１〜ＢＩＴｎに接続されている。なお、列デコーダ４００−１は、列アドレスが入力されるデコーダ部４０１、インバータ４０２、列線選択信号ＣＯ１を出力するレベルシフタ兼バッファ４０３から構成される。他の列デコーダ４００−２〜４００−ｎも同様に構成される。また、列デコーダ４００−１〜４００−ｎ内のレベルシフタ兼バッファ４０３には、内部電源用回路７００から出力された電源ＶＰ３が供給され、列選択ゲートトランジスタＣＯＬＧ１〜ＣＯＬＧｎの各ゲートに印加される電圧が制御できるようになっている。
【００６３】
書き込み、消去制御回路５００は、書き込み信号Ｗ１及びＷ２あるいは消去信号Ｅを受けて書き込み電圧あるいは消去電圧をデータ線Ｄａｔａ上に出力する制御回路である。書き込み、消去制御回路５００は、また、書き込み時はＤｉｎ信号により“０”を書くか“１”を書く（実質的には“１”は書き込み禁止）か制御する。この書き込み、消去制御回路５００には、内部電源用回路７００から出力された電源ＶＰ４が供給され、各メモリセルＭ１１〜Ｍ１ｎ、…、Ｍｍ１〜ＭｍｎのドレインＤに印加される電圧が制御できるようになっている。
【００６４】
なお、センスアンプ６００は読み出し時にメモリセルのデータを増幅出力するセンスアンプであり、内部電源用回路７００は書き込み、消去及び読み出し時に必要な電圧を発生する電源回路である。また、トランジスタ８００は、そのドレインが各メモリセルＭ１１〜ＭｍｎのソースＳに接続され、そのソースに所定の電圧が印加されるとともに、信号ＥＢでオン・オフ制御される。このトランジスタ８００を制御することで、各メモリセルＭ１１〜ＭｍｎのソースＳをオープンにしたり、所定の電位を印加したりすることができるようになっている。また、本実施形態では、書き込み及び消去に必要な電圧（ＶＰ１〜ＶＰ４）を、内部電源用回路７００で発生させているが、これらの電圧ＶＰ１〜ＶＰ４を、外部から直接供給して、内部電源用回路７００を省略しても動作は同じである。
【００６５】
図１７に、図１６に示す不揮発性半導体メモリ装置の動作表を示す。図１７は、各動作モードにおいて、各メモリセルＭ１１〜ＭｍｎのセレクトゲートＳＧ、コントロールゲートＣＧ、ドレインＤ、ソースＳに印加される電圧と、書き込み信号Ｗ１及びＷ２の論理レベルを示している。ここで書き込み信号Ｗ１及びＷ２は書き込み時に“１”となり、非書き込み時（すなわち読み出し又は消去時）に“０”となる信号であり、図１６の書き込み、行デコーダ２００−１〜２００−ｍ及び消去制御回路５００に入力される信号である。上述したように行デコーダ２００−１〜２００−ｍのＮＡＮＤ回路２０４又はＮＡＮＤ回路２０６に入力されている書き込み信号Ｗ１又はＷ２は、それぞれ、各メモリセルＭ１１〜ＭｍｎのコントロールゲートＣＧ１又はＣＧ２を選択するための信号であり、書き込み時にはＮＡＮＤ回路２０４又はＮＡＮＤ回路２０６を活性化するためＷ１＝“１”又はＷ２＝“１”とされ、消去時及び読み出し時はコントロールゲートＣＧ１又はＣＧ２を常に０ＶとするためＷ１＝“０”又はＷ２＝“０”とされる。
【００６６】
図１７に示すように、セル１書き込み時、セル１ベリファイ時、セル２消去時、セル１消去ベリファイ時、及びセル１書き込み２時に、書き込み信号Ｗ１＝“１”とされ、それ以外の場合に書き込み信号Ｗ１＝“０”とされる。他方、セル２書き込み時、セル２ベリファイ時、セル１消去時、セル２消去ベリファイ時、及びセル２書き込み２時に、書き込み信号Ｗ２＝“１”とされ、その以外の場合に書き込み信号Ｗ２＝“０”とされる。その他の各端子の電圧レベルは、図１０を参照して説明したメモリセル単体の動作と同一であり、説明を省略する。図１７に示すように、本実施形態では、トランジスタＴ２とトランジスタＴ３が独立に、書き込み制御信号Ｗ１とＷ２で制御されるようになっている。
【００６７】
本実施の形態では、データの書き込みを確認する際に、複数のコントロールゲートのいずれかに書き込み状態の閾値電圧以上の電圧が印加されるとともに、他のコントロールゲートに複数のフローティングゲート型トランジスタＴ２、Ｔ３のソース電位と同じ電位が印加され、データの消去を確認する際に、複数のコントロールゲートのいずれかに消去状態の閾値電圧以上の電圧が印加されるとともに、他のコントロールゲートに消去状態の閾値電圧より低い電圧が印加され、複数のフローティングゲート型トランジスタＴ２、Ｔ３のソースに消去状態の閾値電圧以上の電圧が印加されるようになっている。
【００６８】
また、以上の構成では、行デコーダ２００−１〜２００−ｍが、書き込み信号Ｗ１、Ｗ２に応じて、少なくとも読み出し時に各レベルシフタ兼バッファ２０５及び２０７の出力電圧が０Ｖとなる。
【００６９】
以上、本発明の各実施の形態によれば、フローティングゲート型トランジスタの各コントロールゲートＣＧを独立して制御することができるので、製造段階で各メモリセルの不良の有無を容易に確認することができる。したがって、従来に比べ信頼性を向上させることができ、１層ポリシリコンプロセスを用いて不揮発性半導体メモリセルを製造した場合でも、データリテンション特性の問題等の信頼性を改善することができる。よって、標準ロジックのＣＭＯＳプロセスで高信頼性を確保した不揮発性半導体メモリが実現でき、ロジック混載メモリを容易に、また安価に実現できる。
【００７０】
なお、本発明の実施の形態は、上記のものに限定されず、例えば各メモリセルにおけるフローティングゲート型トランジスタの並列接続の個数を３以上の複数とする変更などを行うことが可能である。
【符号の説明】
【００７１】
Ｔ１…トランジスタ（ＭＯＳトランジスタ）  Ｔ２、Ｔ３…フローティングゲート型トランジスタ（フローティングゲート型ＭＯＳトランジスタ）  Ｃ１、Ｃ２…キャパシタ  Ｄ…メモリセルのドレイン  Ｓ…メモリセルのソース  ＳＧ…セレクトゲート  ＣＧ、ＣＧ１、ＣＧ２…コントロールゲート  ＦＧ、ＦＧ１、ＦＧ２…フローティングゲート  １…ｐ型半導体基板  ２…ｎ型ウェル（ｎ−ｗｅｌｌ）  ３…トランジスタ  ４、４ａ、４ｂ…フローティングゲート型トランジスタ  ５…ｎ型ドレイン拡散層  ６、６ａ、６ｂ…ｎ型拡散層  ７…ｎ型拡散層  ８…ポリシリコン層  ９、９ａ、９ｂ…ポリシリコン層  １０…コンタクト  １１…コンタクト  １２…メタル配線  １３…メタル配線  １４、１４ａ、１４ｂ…キャパシタ  １５、１５ａ、１５ｂ…ｐ型拡散層  １５ｃ、１５ｄ…ｎ型拡散層  １６、１６ａ、１６ｂ、１６ｃ、１６ｄ…コンタクト  １７、１７ａ、１７ｂ…ｎ型拡散層  １８、１８ａ、１８ｂ…コンタクト  １９、１９ａ、１９ｂ…メタル配線  ２０…分離用絶縁酸化膜  ２１ａ、２１ｂ…コンタクト  ２２…メタル配線層  ２３ａ、２３ｂ…Ｄタイプのインプラ  ２４…ｎ型拡散層領域  ２５…コンタクト  ２６…メタル配線  Ｍ１１〜Ｍ１４、Ｍ２１〜２４、Ｍ３１〜３４、Ｍ１１〜Ｍｍｎ…メモリセル  １００…メモリセルアレイ  ２００−１〜２００−ｍ…行デコーダ  ３００…列選択ゲート回路  ４００−１〜４００−ｎ…列デコーダ  ５００…書き込み、消去制御回路  ６００…センスアンプ  ７００…内部電源用回路  ２０１…デコーダ部  ２０２…インバータ  ２０３…レベルシフタ兼バッファ  ２０４、２０６…ＮＡＮＤ回路  ２０５、２０７…レベルシフタ兼バッファ  ４０１…デコーダ部  ４０２…インバータ  ４０３…レベルシフタ兼バッファ。
【図１】
2010165836.tif 000003
【図２】
2010165836.tif 000004
【図３】
2010165836.tif 000005
【図４】
2010165836.tif 000006
【図５】
2010165836.tif 000007
【図６】
2010165836.tif 000008
【図７】
2010165836.tif 000009
【図８】
2010165836.tif 000010
【図９】
2010165836.tif 000011
【図１０】
2010165836.tif 000012
【図１１】
2010165836.tif 000013
【図１２】
2010165836.tif 000014
【図１３】
2010165836.tif 000015
【図１４】
2010165836.tif 000016
【図１５】
2010165836.tif 000017
【図１６】
2010165836.tif 000018
【図１７】
2010165836.tif 000019
【図１８】
2010165836.tif 000020
【図１９】
2010165836.tif 000021
【図２０】
2010165836.tif 000022