(57)【要約】【課題】発光装置に発生する静電気を除去するために形成される導電層の損傷や剥離を抑制する対象物と表示装置との接触を正確に検出する。【解決手段】互いに対向する第１基板１０および第２基板３０と、第１基板１０のうち第２基板３０との対向面上に配置された発光素子Ｕと、第１基板１０と第２基板３０との間に配置されて発光素子Ｕ１を覆う絶縁層（Ｆ１，Ｆ２）と、第１基板１０と第２基板３０との間に配置されて絶縁層（Ｆ１，Ｆ２）の少なくとも一部を覆う導電層（２２，２６，２８）と、を具備することを特徴とする発光装置Ｄ。【選択図】      図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに対向する第１基板および第２基板と、
前記第１基板のうち前記第２基板との対向面上に配置された発光素子と、
前記第１基板と前記第２基板との間に配置されて前記発光素子を覆う絶縁層と、
前記第１基板と前記第２基板との間に配置されて前記絶縁層の少なくとも一部を覆う導電層と、を具備する、
発光装置。
【請求項２】
前記絶縁層は、前記発光素子を直接覆う第１絶縁層を含み、
前記導電層は、前記第１絶縁層の少なくとも一部を覆う第１導電層を含む、
請求項１に記載の発光装置。
【請求項３】
前記絶縁層は、前記第１基板と前記第２基板とを接着するための第２絶縁層を含み、
前記導電層は、前記第２絶縁層の一部を覆う第２導電層を含む、
請求項１または請求項２に記載の発光装置。
【請求項４】
前記絶縁層は、
前記発光素子を直接覆う第１絶縁層と、前記第１絶縁層を覆うとともに前記第１基板と前記第２基板とを接着するための第２絶縁層とを含み、
前記導電層は、前記第１絶縁層の少なくとも一部を覆うとともに前記第２絶縁層で覆われる第１導電層と、前記第２絶縁層の一部を覆う第２導電層とを含む、
請求項１に記載の発光装置。
【請求項５】
前記導電層は、前記第２基板のうち前記第１基板との対向面に形成される第３導電層を含む、
請求項１から請求項４の何れかに記載の発光装置。
【請求項６】
前記第２導電層は、前記第２絶縁層の上面の一部を覆う第１部分を含むとともに、前記第１基板上に形成された定電位線に導通し、
前記導電層は、前記第２基板のうち前記第１基板との対向面に形成されるとともに前記第２導電層の第１部分に接触する第３導電層を含む、
請求項３に記載の発光装置。
【請求項７】
前記定電位線は、前記第１基板上に形成されるとともに前記第２絶縁層の周縁の外側に位置する接続部分を含み、
前記第２導電層は、前記第１部分に連続するとともに前記第２絶縁層の側面を覆う第２部分を含み、
前記第２導電層の第２部分は、前記定電位線における接続部分に接続される、
請求項６に記載の発光装置。
【請求項８】
前記導電層は、前記絶縁層の側面を覆う部分を含む、
請求項１に記載の発光装置。
【請求項９】
前記第１基板上に形成されるとともに前記絶縁層の周縁の外側に位置する接続部分を含む定電位線を備え、
前記導電層のうち前記絶縁層の側面を覆う部分は、前記接続部分に接続される、
請求項８に記載の発光装置。
【請求項１０】
前記第２基板のうち前記第１基板との対向面上には、前記発光素子に対向する位置に開口が設けられた遮光膜が形成され、
前記導電層は、前記遮光膜が形成された領域内に位置するように設けられる、
請求項１から請求項９の何れかに記載の発光装置。
【請求項１１】
請求項１から請求項１０の何れかに記載の発光装置を具備する電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、発光装置および電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、互いに対向する２つの基板間に、例えば液晶などの電気光学素子や当該電気光学素子を駆動するための駆動回路が設けられるという構成が知られている。このような構成では、例えば製造工程において発生する静電気が、電気光学素子や駆動回路に悪影響を及ぼすという問題があった。特許文献１〜特許文献３には、一方の基板のうち他方の基板とは反対側の面（つまり、液晶とは反対側の面）に静電気を除去するための導電層が形成されるという構成が開示されている。
【特許文献１】特開２００７―１５６４０５号公報
【特許文献２】特開平１０−１４９８９０号公報
【特許文献３】特開平５−５８７０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、特許文献１〜特許文献３においては、静電気を除去するための導電層が外部に露出する構成であるため、外部からの衝撃が加わると、導電層の損傷や剥離が発生し易い。このため、特許文献１〜特許文献３に開示された技術では、例えば製造工程において発生する静電気を十分に除去することは困難であるという問題があった。
以上の事情に鑑みて、本発明は、発光装置に発生する静電気を除去するために設けられる導電層の損傷や剥離を抑制するという課題の解決を目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
以上の課題を解決するために、本発明に係る発光装置は、互いに対向する第１基板および第２基板と、第１基板のうち第２基板との対向面上に配置された発光素子と、第１基板と第２基板との間に配置されて発光素子を覆う絶縁層と、第１基板と第２基板との間に配置されて絶縁層の少なくとも一部を覆う導電層と、を具備する。
【０００５】
この態様においては、発光素子を覆う絶縁層（例えば図１に示す第１絶縁層Ｆ１、第２絶縁層Ｆ２）の少なくとも一部を覆う導電層（例えば図１に示す第１導電層２２、第２導電層２６、第３導電層２８）が、第１基板と第２基板との間に配置されるから、発光装置に対して外部からの衝撃が加わった場合であっても、導電層が外部に露出する構成に比べて、導電層の損傷や剥離を抑制できるという利点がある。
【０００６】
本発明に係る発光装置の好適な態様として、絶縁層は、発光素子を直接覆う第１絶縁層を含み、導電層は、第１絶縁層の少なくとも一部を覆う第１導電層を含む。また、絶縁層は、第１基板と第２基板とを接着するための第２絶縁層を含み、導電層は、第２絶縁層の一部を覆う第２導電層を含む態様とすることもできる。
【０００７】
さらに、絶縁層は、発光素子を直接覆う第１絶縁層と、第１絶縁層を覆うとともに第１基板と第２基板とを接着するための第２絶縁層とを含み、導電層は、第１絶縁層の少なくとも一部を覆うとともに第２絶縁層で覆われる第１導電層と、第２絶縁層の一部を覆う第２導電層とを含む態様とすることもできる。この態様によれば、第１導電層および第２導電層のうち何れか一方のみが設けられる構成に比べて、より大きな静電気除去効果が得られるという利点がある。
【０００８】
本発明に係る発光装置の好適な態様として、導電層は、第２基板のうち第１基板との対向面に形成される第３導電層を含む態様とすることもできる。
【０００９】
本発明に係る発光装置の好適な態様として、第２導電層は、第２絶縁層の上面の一部を覆う第１部分を含むとともに、第１基板上に形成された定電位線に導通し、導電層は、第２基板のうち第１基板との対向面に形成されるとともに第２導電層の第１部分に接触する第３導電層を含む。この態様によれば、第３導電層は第２導電層の第１部分を介して定電位線に導通するから、静電気を放電するための経路を第２基板側に設ける必要は無く、簡易な構成で静電気を放電できるという利点がある。
【００１０】
また、定電位線は、第１基板上に形成されるとともに第２絶縁層の周縁の外側に位置する接続部分（例えば図１に示す接続部分５０ｂ）を含み、第２導電層は、第１部分に連続するとともに第２絶縁層の側面を覆う第２部分を含み、第２導電層の第２部分は、定電位線における接続部分に接続される態様とすることもできる。例えば、定電位線が、第２絶縁層の周縁の外側に位置する接続部分を有さずに、第２絶縁層が設けられる領域内に配置されるという構成において、第２絶縁層の一部を覆う第２導電層と定電位線とを導通させるためには、第２導電層と定電位線とを導通させるためのコンタクトホールを第２絶縁層に形成する必要があるところ、上記態様によれば、第２導電層の第２部分は定電位線における接続部分に直接接続されるから、第２導電層と定電位線とを導通させるためのコンタクトホールを第２絶縁層に形成する必要はない。したがって、簡易な構成で第２導電層と定電位線とを導通させることができるという利点がある。
【００１１】
本発明に係る発光装置の好適な態様として、導電層は、絶縁層（例えば図１に示す第１絶縁層Ｆ１、第２絶縁層Ｆ２）の側面を覆う部分（例えば図１に示す第１導電層２２における第２部分２２ｂ、第２導電層２６における第２部分２６ｂ）を含む。例えば、絶縁層の側面のみが導電層で覆われるという構成とすることもできる。また、例えば、絶縁層の側面および上面が導電層で完全に覆われる構成を採用することもできる。この構成によれば、絶縁層の表面近傍で発生する静電気の大部分を除去することができるから、発光素子を覆う絶縁層の一部のみが導電層で覆われる構成に比べて、より大きな静電気除去効果が得られるという利点がある。
【００１２】
また、本発明に係る発光装置の好適な態様として、第１基板上に形成されるとともに絶縁層（例えば図１に示す第１絶縁層Ｆ１、第２絶縁層Ｆ２）の周縁の外側に位置する接続部分（例えば図１に示す接続部分５０ａ，５０ｂ）を含む定電位線を備え、導電層のうち絶縁層の側面を覆う部分（例えば図１に示す第１導電層２２における第２部分２２ｂ、第２導電層２６における第２部分２６ｂ）は、当該接続部分に接続されるという構成を採用することもできる。例えば、定電位線が、絶縁層の周縁の外側に位置する接続部分を有さずに、絶縁層が設けられる領域内に配置されるという構成において、絶縁層の少なくとも一部を覆う導電層と定電位線とを導通させるためには、導電層と定電位線とを導通させるためのコンタクトホールを絶縁層に形成する必要があるところ、上記態様によれば、導電層のうち絶縁層の側面を覆う部分は定電位線における接続部分に直接接続されるから、導電層と定電位線とを導通させるためのコンタクトホールを絶縁層に形成する必要はない。したがって、簡易な構成で導電層と定電位線とを導通させることができるという利点がある。
【００１３】
さらに、本発明に係る発光装置の好適な態様として、第２基板のうち第１基板との対向面には、発光素子に対向する位置に開口が設けられた遮光膜が形成され、導電層は、遮光膜が形成された領域内に位置するように設けられる。例えば、第１基板上に形成された発光素子からの出射光が第１基板とは反対側に進行する構成（トップエミッション）において、発光素子を覆う絶縁層上の領域のうち当該発光素子に対向する位置に導電層が形成される場合は、当該導電層は光透過性を有する必要がある。これに対して、上記の態様によれば、導電層は、遮光膜が形成された領域内に位置するように設けられるから、光透過性を有する必要は無い。すなわち、導電層を形成する材料を任意に選択できるという利点がある。
【００１４】
本発明に係る発光装置は各種の電子機器に利用される。この電子機器の典型例は、発光装置を表示装置として利用した機器である。この種の機器としては、パーソナルコンピュータや携帯電話機などがある。もっとも、本発明に係る発光装置の用途は画像の表示に限定されない。例えば、光線の照射によって感光体ドラムなどの像担持体に潜像を形成する構成の画像形成装置（印刷装置）においては、像担持体を露光する手段（いわゆる露光ヘッド）として本発明の発光装置を採用することもできる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
図１は、本発明の実施形態に係る発光装置Ｄの概要を示す模式的な断面図である。本実施形態に係る発光装置Ｄは、複数の発光素子Ｕが第１基板１０の面上に配列された構成であるが、図１においては、説明の便宜上、ひとつの発光素子Ｕのみが例示されている。本実施形態の発光装置Ｄは、トップエミッション型であり、発光素子Ｕにて発生した光は第１基板１０とは反対側に向かって進行する。従って、ガラスなどの光透過性を有する板材のほか、セラミックスや金属のシートなど不透明な板材を第１基板１０として採用することができる。
【００１６】
第１基板１０には、発光素子Ｕに給電して発光させるための配線が配置されているが、配線の図示は省略する。また、第１基板１０には、発光素子Ｕに給電するための回路が配置されているが、回路の図示は省略する。
【００１７】
図１に示すように、発光素子Ｕは、光反射層１２、第１電極１４、発光層１６、第２電極１８を有する。図１に示すように、光反射層１２は第１基板１０上に形成される。光反射層１２は、光反射性を有する材料で形成される。この種の材料としては、例えばアルミニウムや銀などの単体金属、またはアルミニウムや銀を主成分とする合金などが好適に採用される。
【００１８】
図１に示すように、光反射層１２上には第１電極１４が形成される。本実施形態では、第１電極１４は陽極であり、ＩＴＯ（indium tin oxide）、ＩＺＯ（indium zinc oxide、出光興産株式会社の登録商標）、またはＺｎＯ２のような透明酸化物導電材料から形成される。なお、本実施形態では、第１基板１０上に光反射層１２が形成され、当該光反射層１２上に第１電極１４が形成されているが、これに限らず、例えば光反射層１２を設けずに第１基板１０上に第１電極１４を直接形成する構成とすることもできる。この場合、第１電極１４は光反射性を有する金属で形成される。
【００１９】
図１に示すように、第１基板１０上には隔壁２０（セパレータ）が形成される。この隔壁２０は、第１基板１０上の表面上の空間を発光素子Ｕ１ごとに仕切るものであり、絶縁性の透明材料、例えばアクリル、ポリイミドなどにより形成されている。図１に示すように、光反射層１２および第１電極１４は隔壁２０で包囲される。
【００２０】
図１に示すように、第１電極１４上には発光層１６が形成され、当該発光層１６は隔壁２０で包囲される。詳細な図示は省略するが、発光層１６は、第１電極１４上に形成された正孔注入層と、正孔注入層上に形成された正孔輸送層と、正孔輸送層上に形成された発光機能層と、発光機能層上に形成された電子輸送層と、電子輸送層上に形成された電子注入層とを含む。本実施形態では、発光機能層は、正孔と電子が結合して発光する有機ＥＬ物質から形成される。つまり、本実施形態に係る発光素子Ｕは有機ＥＬ素子である。なお、発光機能層を形成する有機ＥＬ物質は、低分子材料であってもよいし、高分子材料であってもよい。
【００２１】
図１に示す第２電極１８は、複数の発光素子Ｕにわたって連続しており、各発光素子Ｕにおける発光層１６および隔壁２０上に形成される。本実施形態では、第２電極１８は陰極であり、ＩＴＯ（indium tin oxide）、ＩＺＯ（indium zinc oxide、出光興産株式会社の登録商標）、またはＺｎＯ２のような透明酸化物導電材料から形成される。また、仕事関数の低いマグネシウムや銀などの単体金属、またはこれらを主成分とする合金を極薄膜化して光透過性を高めたものを第２電極１８として採用することもできる。
【００２２】
図１に示すように、第２電極１８および隔壁２０は、第１絶縁層Ｆ１で覆われる。第１絶縁層Ｆ１は、第１基板１０上において第２電極１８および隔壁２０が設けられた領域を平坦化するとともに、水分や気体などが発光素子Ｕに浸入することを防ぐ。第１絶縁層Ｆ１は、例えばエポキシ樹脂やアクリル樹脂などの絶縁性の材料で形成され、光透過性を有する。
【００２３】
図１に示すように、第１絶縁層Ｆ１は、第１導電層２２によって覆われる。本実施形態では、第１導電層２２はＩＴＯ（indium tin oxide）などの光透過性の導電性材料で形成される。
【００２４】
図１に示すように、第１導電層２２は、第１絶縁層Ｆ１の上面を覆う第１部分２２ａと、第１部分２２ａに連続するとともに第１絶縁層Ｆ１の側面を覆う第２部分２２ｂと、を含む。第１導電層２２の第２部分２２ｂは、第１基板１０上に形成された定電位線５０に接続される。図１に示すように、定電位線５０は、第１絶縁層Ｆ１の周縁ｅ１の外側に位置する接続部分５０ａを有し、第１導電層２２の第２部分２２ｂは、第１絶縁層Ｆ１の側面から第１基板上の定電位線５０上に延在して接続部分５０ａに接続される。また、定電位線５０には、接地電位が供給されている。これにより、例えば発光装置Ｄの製造工程において第１絶縁層Ｆ１の表面近傍に静電気が発生しても、当該静電気は、第１導電層２２を経由して定電位線５０へ放電される。したがって、発光装置Ｄに発生する静電気が発光素子Ｕに対して悪影響を及ぼすことを抑制できる。
【００２５】
なお、定電位線５０が、第１絶縁層Ｆ１の周縁ｅ１の外側に位置する部分を有さずに、第１基板１０の面上の第１絶縁層Ｆ１が設けられる領域内に配置されるという構成を採用することもできる。ただし、この構成においては、第１導電層２２と定電位線５０とを導通させるためのコンタクトホールを第１絶縁層Ｆ１に形成する必要がある。これに対して、図１の構成によれば、第１導電層２２の第２部分２２ｂが、定電位線５０における接続部分５０ａに直接接続されるから、第１導電層２２と定電位線５０とを導通させるためのコンタクトホールを第１絶縁層Ｆ１に形成する必要はない。したがって、簡易な構成で第１導電層２２を定電位線５０に導通させることができるという利点がある。
【００２６】
図１に示すように、第１導電層２２は、第２絶縁層Ｆ２で覆われる。第２絶縁層Ｆ２は、第１基板１０と、当該第１基板１０に対向する第２基板３０とを接着するとともに、水分や気体などが発光素子Ｕ側へ浸入することを防ぐ。第２絶縁層Ｆ２は、エポキシ樹脂などの絶縁性の材料で形成され、光透過性を有する。
【００２７】
図１に示すように、第２絶縁層Ｆ２の一部は第２導電層２６によって覆われる。本実施形態では、第２導電層２６はＩＴＯ（indium tin oxide）などの光透過性の導電材料で形成される。
【００２８】
図１に示すように、第２導電層２６は、第２絶縁層Ｆ２の上面の一部を覆う第１部分２６ａと、第１部分２６ａに連続するとともに第２絶縁層Ｆ２の側面を覆う第２部分２６ｂとを含む。第２導電層２６の第２部分２６ｂは、定電位線５０に接続される。図１に示すように、定電位線５０は、第２絶縁層Ｆ２の周縁ｅ２の外側に位置する接続部分５０ｂを有し、第２導電層２６の第２部分２６ｂは、第２絶縁層Ｆ２の側面から第１基板上の定電位線５０上に延在して接続部分５０ｂに接続される。これにより、例えば発光装置Ｄの製造工程において第２絶縁層Ｆ２の表面近傍に静電気が発生しても、当該静電気は、第２導電層２６を経由して定電位線５０へ放電される。したがって、発光装置Ｄに発生する静電気が発光素子Ｕに対して悪影響を及ぼすことを抑制できる。
【００２９】
なお、定電位線５０が、第２絶縁層Ｆ２の周縁ｅ２の外側に位置する部分を有さずに、第１基板１０の面上の第２絶縁層Ｆ２が設けられる領域内に配置されるという構成を採用することもできる。ただし、この構成においては、第２導電層２２と定電位線５０とを導通させるためのコンタクトホールを第２絶縁層Ｆ２に形成する必要がある。これに対して、図１の構成によれば、第２導電層２６の第２部分２６ｂが、定電位線５０における接続部分５０ｂに直接接続されるから、第２導電層２２と定電位線５０とを導通させるためのコンタクトホールを第２絶縁層Ｆ２に形成する必要はない。したがって、簡易な構成で第２導電層２６を定電位線５０に導通させることができるという利点がある。
【００３０】
図２は、第２絶縁層Ｆ２の上面の平面図である。図２において斜線が付された部分は、第２導電層２６の第１部分２６ａを示す。図２に示す領域Ｃは、第２絶縁層Ｆ２の上面のうち第２導電層２６の第１部分２６ａによって覆われない領域である。そして、当該領域Ｃが第２基板３０との接着面になる。
【００３１】
図１に示すように、第２基板３０のうち第１基板１０との対向面には、第３導電層２８が形成される。本実施形態では、第３導電層２８はＩＴＯ（indium tin oxide）などの光透過性の導電材料で形成される。
【００３２】
図１に示すように、第３導電層２８は、第２導電層２６の第１部分２６ａと接触する。したがって、本実施形態によれば、第３絶縁層２８は、第２導電層２６の第１部分２６ａおよび第２部分２６ｂを介して定電位線５０に導通するから、静電気を放電するための経路を第２基板３０側に設ける必要は無く、簡易な構成で静電気を放電できるという利点がある。
【００３３】
本実施形態においては、発光装置Ｄで発生した静電気を除去するための第１導電層２２、第２導電層２６および第３導電層２８が、第１基板１０と第２基板３０との間に配置されるから、これらの導電層は外部に露出しない。したがって、本実施形態によれば、発光装置Ｄに対して外部からの衝撃が加わった場合であっても、導電層が外部に露出する構成に比べて、導電層の損傷や剥離を抑制できるという利点がある。
【００３４】
＜変形例＞
本発明は上述した各実施形態に限定されるものではなく、例えば、以下の変形が可能である。また、以下に示す変形例のうちの２以上の変形例を組み合わせることもできる。
【００３５】
（１）変形例１
上述の実施形態においては、第１導電層２２と、第２導電層２６と、第３導電層２８とが第１基板１０と第２基板３０との間に配置されているが、これに限らず、第１基板１０上に形成されて発光素子Ｕを覆う絶縁層（例えば第１絶縁層Ｆ１や第２絶縁層Ｆ２を含む）の少なくとも一部が第１基板１０と第２基板３０との間に配置された導電層によって覆われる構成であればよい。
【００３６】
例えば図３に示すように、第２導電層２６および第３導電層２８が設けられずに、第１導電層２２のみが設けられる構成を採用することもできる。
【００３７】
また、図１および図３において、第１導電層２２は、第１絶縁層Ｆ１を完全に覆っているが、これに限らず、例えば第１導電層２２は、第１絶縁層Ｆ１の上面を覆う第１部分２２ａのみから形成される態様であってもよいし、第１絶縁層Ｆ１の側面を覆う第２部分２２ｂのみから形成される態様であってもよい。ただし、第１絶縁層Ｆ１が第１導電層２２で完全に覆われる構成によれば、第１絶縁層Ｆ１の表面近傍で発生した静電気の大部分が第１導電層２２を経由して定電位線５０へ放電されるから、第１絶縁層Ｆ１の一部のみが第１導電層２２で覆われる構成に比べて、より大きな静電気除去効果が得られるという利点がある。
【００３８】
また、例えば図４に示すように、第１導電層２２および第３導電層２８が設けられずに、第２導電層２６のみが設けられる構成を採用することもできる。ただし、第１導電層２２が設けられる構成においては、第２導電層２６のみが設けられる構成に比べて発光素子Ｕに近い位置に導電層が設けられるから、発光素子Ｕに近い位置に発生する静電気を確実に除去することができる。したがって、第１導電層２２が設けられる構成によれば、発光装置Ｄに発生する静電気が発光素子Ｕに悪影響を及ぼすことを、第２導電層２６のみが設けられる構成に比べて軽減できるという利点がある。
【００３９】
また、図１および図４において、第２導電層２６は、第２絶縁層Ｆ２の上面の一部を覆う第１部分２６ａと、第２絶縁層Ｆ２の側面を覆う第２部分２６ｂとを含む態様が例示されているが、これに限らず、例えば第２導電層２６は、第２絶縁層Ｆ２の上面の一部を覆う第１部分２６ａのみから形成される態様であってもよいし、第２絶縁層Ｆ２の側面を覆う第２部分２６ｂのみから形成される態様であってもよい。
【００４０】
また、例えば図５に示すように、第１導電層２２と第２導電層２６とが設けられる構成を採用することもできる。図５に示す構成によれば、第１導電層２２および第２導電層２６のうち何れか一方のみが設けられる構成（図３，図４）に比べて、より大きな静電気除去効果が得られるという利点がある。
【００４１】
また、例えば図６に示すように、第１導電層２２および第２導電層２６が設けられずに、第３導電層２８のみが設けられる構成を採用することもできる。その他、第２導電層２６が設けられずに第１導電層２２と第３導電層２８とが設けられる構成や、第１導電層２２が設けられずに第２導電層２６と第３導電層２８とが設けられる構成などを採用することもできる。ただし、図１のように第１導電層２２と第２導電層２６と第３導電層２８とが設けられる構成によれば、１つまたは２つの導電層が設けられる構成（例えば図３〜図６に示す構成）に比べて、より大きな静電気除去効果が得られるという利点がある。
【００４２】
（２）変形例２
上述の実施形態においては、発光素子Ｕを第１絶縁層Ｆ１で覆ったうえで、当該第１絶縁層Ｆ１上に第２絶縁層Ｆ２を形成する態様が例示されているが、これに限らず、例えば第１絶縁層Ｆ１を設けずに、発光素子Ｕを第２絶縁層Ｆ２で直接覆う態様とすることもできる。
【００４３】
（３）変形例３
図７は、本発明の変形例に係る発光装置Ｄの概要を示す模式的な断面図である。図７に示す各発光素子Ｕ（Ｕｒ，Ｕｇ，Ｕｂ）は複数の色彩（赤色・緑色・青色）の何れかに対応した波長の光を発生する要素である。本実施形態では、発光素子Ｕｒは赤色光を出射し、発光素子Ｕｇは緑色光を出射し、発光素子Ｕｂは青色光を出射する。
【００４４】
図８は、カラーフィルタ３２および遮光膜３４の概略的な平面図である。図７および図８に示すように、第２基板３０のうち第１基板１０との対向面には、カラーフィルタ３２および格子状の遮光膜３４が形成される。遮光膜３４は、各発光素子Ｕに対応して開口３６が形成された遮光性の膜体である。開口３６内にはカラーフィルタ３２が形成される。
【００４５】
図７および図８に示すように、第１導電層２２および第２導電層２６は、基板に対して垂直な方向から見て遮光膜３４が形成された領域内に位置するように設けられる。より具体的には、第１絶縁層Ｆ１の上面には、第１導電層２２の第１部分２２ａが格子状に形成される。そして、第１導電層２２の第１部分２２ａと、第１絶縁層Ｆ１の側面を覆う第２部分２２ｂとは、遮光膜３４に重なる位置に設けられる。同様に、第２絶縁層Ｆ２の上面には、第２導電層２６の第１部分２６ａが格子状に形成される。そして、第２導電層２６の第１部分２６ａと、第２絶縁層Ｆ１の側面を覆う第２部分２６ｂとは、遮光膜３４に重なる位置に設けられる。
【００４６】
例えば、発光素子Ｕを覆う絶縁層である第１絶縁層Ｆ１や第２絶縁層Ｆ２上の領域のうち当該発光素子Ｕ（カラーフィルタ３２）に対向する位置に導電層が形成される場合は、当該導電層は光透過性を有する必要がある。これに対して、図７および図８に示す構成によれば、導電層は、基板に対して垂直な方向から見て遮光膜３４が形成された領域内に位置するように設けられるから、光透過性を有する必要は無い。すなわち、導電層を形成する材料を任意に選択できるという利点がある。
【００４７】
また、遮光膜３４は、クロムなどの導電性材料で形成することもできる。これにより、遮光膜３４を、第３導電層２８として機能させることができる。そして、遮光膜３４と、第２導電層２６の第１部分２６ａとを接触させることにより、遮光膜３４は第２導電層２６を介して定電位線５０に接続されるから、上述の実施形態と同様、静電気を放電するための経路を第２基板３０側に設ける必要が無く、簡易な構成で静電気を放電することができるという利点がある
【００４８】
（４）変形例４
上述の実施形態においては、第１電極１４は発光素子Ｕの陽極であったが、陰極とすることもできる。また、第２電極１８は発光素子Ｕの陰極であったが、陽極とすることもできる。
【００４９】
（５）変形例５
上述の実施形態においては、発光素子Ｕの一例として、有機ＥＬ素子を取り上げたが、これに限らず、無機発光ダイオードやＬＥＤ（Ｌｉｇｈｔ  Ｅｍｉｔｔｉｎｇ  Ｄｉｏｄｅ）であってもよい。
【００５０】
＜応用例＞
次に、本発明に係る発光装置Ｄを利用した電子機器について説明する。図９は、本実施形態に係る発光装置Ｄを表示装置として採用したモバイル型のパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。パーソナルコンピュータ２０００は、表示装置としての発光装置Ｄと本体部２０１０とを備える。本体部２０１０には、電源スイッチ２００１およびキーボード２００２が設けられている。この発光装置Ｄは有機ＥＬ素子を使用しているので、視野角が広く見易い画面を表示できる。
【００５１】
図１０に、本実施形態に係る発光装置Ｄを適用した携帯電話機の構成を示す。携帯電話機３０００は、複数の操作ボタン３００１およびスクロールボタン３００２、ならびに表示装置としての発光装置Ｄを備える。スクロールボタン３００２を操作することによって、発光装置Ｄ１に表示される画面がスクロールされる。
【００５２】
図１１に、本実施形態に係る発光装置Ｄを適用した携帯情報端末（ＰＤＡ：Personal Digital Assistant）の構成を示す。情報携帯端末４０００は、複数の操作ボタン４００１および電源スイッチ４００２、ならびに表示装置としての発光装置Ｄを備える。電源スイッチ４００２を操作すると、住所録やスケジュール帳といった各種の情報が表示装置に表示される。
【００５３】
なお、本発明に係る発光装置が適用される電子機器としては、図９から図１１に示したもののほか、デジタルスチルカメラ、テレビ、ビデオカメラ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電子ペーパー、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、プリンタ、スキャナ、複写機、ビデオプレーヤ、タッチパネルを備えた機器等などが挙げられる。また、本発明に係る電気光学装置の用途は画像の表示に限定されない。例えば、光書込み型のプリンタや電子複写機といった画像形成装置においては、用紙などの記録材に形成されるべき画像に応じて感光体を露光する書込みヘッドが使用されるが、この種の書込みヘッドとしても本発明の発光装置は利用される。
【図面の簡単な説明】
【００５４】
【図１】本実施形態に係る発光装置の断面図である。
【図２】同実施形態に係る発光装置の平面図である。
【図３】本発明の変形例に係る発光装置の断面図である。
【図４】本発明の変形例に係る発光装置の断面図である。
【図５】本発明の変形例に係る発光装置の断面図である。
【図６】本発明の変形例に係る発光装置の断面図である。
【図７】本発明の変形例に係る発光装置の断面図である。
【図８】本発明の変形例に係る発光装置の平面図である。
【図９】本発明に係る電子機器の具体的な形態を示す斜視図である。
【図１０】本発明に係る電子機器の具体的な形態を示す斜視図である。
【図１１】本発明に係る電子機器の具体的な形態を示す斜視図である。
【符号の説明】
【００５５】
１０……第１基板、１２……光反射層、１４……第１電極、１６……発光層、１８……第２電極、２０……隔壁、２２……第１導電層、２６……第２導電層、２８……第３導電層、３０……第２基板、３２……カラーフィルタ、３４……遮光膜、５０……定電位線、５０ａ，５０ｂ……接続部分、Ｕ……発光素子、Ｆ１……第１絶縁層、Ｆ２……第２絶縁層、Ｄ……発光装置。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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