(57)【要約】【課題】ウェットコーティング法で形成される有機層、特にインターレイヤの膜厚の均一性を向上させることで、発光ムラを低減させた有機ＥＬディスプレイパネルおよびその製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】基板上に形成された隔壁２と、この隔壁によって区画された短辺と長辺とを有する副画素と、複数の副画素で構成される画素とを備え、副画素に第一の有機層６と、発光層５である第二の有機層とを少なくとも形成する有機ＥＬディスプレイパネルの製造方法であって、第一の有機層を副画素列の短辺方向に印刷してストライプ状に形成する工程と、第二の有機層を副画素列の長辺方向に印刷して形成する工程と、を有する有機ＥＬディスプレイパネルの製造方法とする。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に画素電極と、隔壁と、該隔壁によって区画された短辺と長辺とを有する副画素と、複数の前記副画素で構成される画素とを備え、前記副画素に第一の有機層と、発光層である第二の有機層とを少なくとも形成する有機ＥＬディスプレイパネルの製造方法において、
前記第一の有機層を、副画素列の短辺方向にストライプ状に印刷することを特徴とする有機ＥＬディスプレイパネルの製造方法。
【請求項２】
前記画素電極上に正孔輸送層を有し、前記第一の有機層が、前記正孔輸送層と有機発光層の間に形成されるインターレイヤであることを特徴とする請求項１記載の有機ＥＬディスプレイパネルの製造方法。
【請求項３】
前記第一の有機層は、副画素列の長辺方向のピッチに対応する複数のストライプ状のラインで印刷することを特徴とする請求項１又は２に記載の有機ＥＬディスプレイパネルの製造方法。
【請求項４】
前記第一の有機層は、全画素に一括で印刷することを特徴とする請求項１ないし３のいずれかに記載の有機ＥＬディスプレイパネルの製造方法。
【請求項５】
前記第二の有機層を副画素列の長辺方向にストライプ状に印刷して形成する工程を有することを特徴とする請求項１ないし４のいずれかに記載の有機ＥＬディスプレイパネルの製造方法。
【請求項６】
複数のストライプ状の凸部を有する凸版によってインキを基板上に転写し、第一の有機層を形成することを特徴とする請求項１ないし５のいずれかに記載の有機ＥＬディスプレイパネルの製造方法。
【請求項７】
前記複数のストライプ状の凸部のピッチが、副画素列の長辺方向のピッチに対応していることを特徴とする請求項６に記載の有機ＥＬディスプレイパネルの製造方法。
【請求項８】
基板上に画素電極と、隔壁と、該隔壁によって区画された短辺と長辺とを有する副画素と、複数の前記副画素で構成される画素とを備え、
副画素列の短辺方向にストライプ状に形成された有機層と、
副画素列の長辺方向にストライプ状に同一の発光色毎に配列された発光層と、
を有する有機ＥＬディスプレイパネル。
【請求項９】
ディスプレイの精細度が７０〜２００ｐｐｉであることを特徴とする請求項８に記載の有機ＥＬディスプレイパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機エレクトロルミネッセンス素子（以下有機ＥＬ素子とする）に関し、特に有機層の少なくとも一層を凸版印刷法によって形成する有機ＥＬ素子を用いたディスプレイパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬ素子は、二つの対向する電極の間に有機発光材料からなる発光層が形成され、発光層に電流を流すことで発光させるものであるが、効率よく発光させるには発光層の膜厚が重要であり、１００ｎｍ程度の薄膜にする必要がある。さらに、これをＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）等の発光色で色分けしてディスプレイ化するには高精細にパターニングする必要がある。
【０００３】
発光層を形成する有機発光材料には、低分子材料と高分子材料があり、一般に低分子材料は抵抗加熱蒸着法等により薄膜形成し、このときに微細パターンのマスクを用いてパターニングするが、この方法では基板が大型化すればするほどパターニング精度が出難いという問題がある。
【０００４】
そこで、最近では有機発光材料に高分子材料を用い、有機発光材料を溶剤に分散または溶解させて塗工液にし、これをウェットコーティング法で薄膜形成する方法が試みられるようになってきている。薄膜形成するためのウェットコーティング法としては、スピンコート法、バーコート法、突出コート法、ディップコート法等があるが、高精細にパターニングしたりＲＧＢ３色に塗り分けしたりするためには、これらのウェットコーティング法では難しく、塗り分け・パターニングを得意とする印刷法による薄膜形成が最も有効であると考えられる。実際に印刷法による試みとして、オフセット印刷による方法（特許文献１）、凸版印刷による方法（特許文献２）などが提唱されている。
【０００５】
また、有機発光材料に高分子材料を用いる高分子有機ＥＬ素子の基本的な構成としては、陽極及び陰極、これらに挟持される、正孔輸送層、インターレイヤ、発光層、電子注入層などの発光媒体層を順次積層した構成をとるのが一般的である。このうち有機化合物からなる層を単に有機層と呼ぶことにする。
【０００６】
この発光媒体層において、正孔輸送層と発光層の間にバッファー層として形成されるインターレイヤは、正孔の輸送性を高める効果と、陰極側から移動してきた電子をブロックする効果が期待される層であり、実際にインターレイヤを設けることで、有機ＥＬ素子の効率や寿命が向上することが確認されている。
【０００７】
インターレイヤに用いられる高分子材料は、発光層を形成する材料と同じように、有機溶剤に溶解させて塗工液にすることが可能であり、従って、ウェットコーティング法で薄膜形成することが可能である。また、インターレイヤは発光層のようにＲＧＢ３色に塗分ける必要がないことから、スピンコート法、バーコート法、突出コート法、ディップコート法等の基板全面に一括塗布する方法でも、ディスプレイ用パネルを作成することは可能である。
【０００８】
しかしながら、実際のディスプレイ用パネル基板においては、電極にコンタクトするための取出し配線部分や駆動用ドライバーに接続させる部分など、有機層が塗布されていると不具合生じる部分があり、全面塗布した場合、後から不要部分の有機層を除去する必要がある。
【０００９】
また、発光層はこのインターレイヤ上に形成されるため、インターレイヤの成膜状態によって、発光層の成膜一状態も変化してしまう。すなわち、インターレイヤの膜厚が不均一であると、表面の凹凸や濡れ性の不均一性のために発光層の膜厚も不均一になり、発光ムラが生じてしまう。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特開２００１−９３６６８公報
【特許文献２】特開２００１−１５５８５８公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
そこで本発明では、ウェットコーティング法で形成される有機層、特にインターレイヤの膜厚の均一性を向上させることで、発光ムラを低減させた有機ＥＬディスプレイパネルおよびその製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記目的を達成するためになされた請求項１に係る発明は、基板上に画素電極と、隔壁と、該隔壁によって区画された短辺と長辺とを有する副画素と、複数の前記副画素で構成される画素とを備え、前記副画素に第一の有機層と、発光層である第二の有機層とを少なくとも形成する有機ＥＬディスプレイパネルの製造方法において、前記第一の有機層を、副画素列の短辺方向にストライプ状に印刷することを特徴とする有機ＥＬディスプレイパネルの製造方法である。
また請求項２に係る発明は、前記画素電極上に正孔輸送層を有し、前記第一の有機層が、前記正孔輸送層と有機発光層の間に形成されるインターレイヤであることを特徴とする請求項１記載の有機ＥＬディスプレイパネルの製造方法である。
また請求項３に係る発明は、前記第一の有機層は、副画素列の長辺方向のピッチに対応する複数のストライプ状のラインで印刷することを特徴とする請求項１又は２に記載の有機ＥＬディスプレイパネルの製造方法である。
また請求項４に係る発明は、前記第一の有機層は、全画素に一括で印刷することを特徴とする請求項１ないし３のいずれかに記載の有機ＥＬディスプレイパネルの製造方法である。
また請求項５に係る発明は、前記第二の有機層を副画素列の長辺方向にストライプ状に印刷して形成する工程を有することを特徴とする請求項１ないし４のいずれかに記載の有機ＥＬディスプレイパネルの製造方法である。
また請求項６に係る発明は、複数のストライプ状の凸部を有する凸版によってインキを基板上に転写し、第一の有機層を形成することを特徴とする請求項１ないし５のいずれかに記載の有機ＥＬディスプレイパネルの製造方法である。
また請求項７に係る発明は、前記複数のストライプ状の凸部のピッチが、副画素列の長辺方向のピッチに対応していることを特徴とする請求項６に記載の有機ＥＬディスプレイパネルの製造方法である。
また請求項８に係る発明は、基板上に画素電極と、隔壁と、該隔壁によって区画された短辺と長辺とを有する副画素と、複数の前記副画素で構成される画素とを備え、副画素列の短辺方向にストライプ状に形成された有機層と、副画素列の長辺方向にストライプ状に同一の発光色毎に配列された発光層と、を有する有機ＥＬディスプレイパネルである。
また請求項９に係る発明は、ディスプレイの精細度が７０〜２００ｐｐｉであることを特徴とする請求項８に記載の有機ＥＬディスプレイパネルである。
【発明の効果】
【００１３】
本発明では、発光層の下層に形成される有機層、特にインターレイヤを副画素の所定の方向にストライプ状に印刷して形成することにより、当該有機層の膜厚を均一に成膜することができる。このため、発光層の膜厚を安定させることができ、発光ムラを低減させることができた。また、副画素の短辺方向にストライプ状に印刷することによって、複数のストライプ状のラインで一括して印刷することが可能となるため、生産性を向上させた有機ＥＬディスプレイパネルの製造が可能となった。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明の有機ＥＬディスプレイパネル製造工程における断面図
【図２】インターレイヤ形成工程のおける模式図
【図３】発光層形成工程における模式図
【図４】本発明の有機ＥＬディスプレイパネルの断面図
【図５】本発明に係る印刷装置の模式図
【発明を実施するための形態】
【００１５】
本発明の実施の形態を、ＴＦＴ基板を用いたアクティブマトリックスタイプの有機ＥＬディスプレイパネルを作製する場合を例に説明する。パネル作成に用いるＴＦＴ基板は、副画素電極、ＴＦＴ回路、絶縁層等がすでに形成された基板を用いて、その上に隔壁、有機層、陰極、封止層を形成する例として説明する。しかし、本発明はこの例に限定されるものではなく、例えばパッシブマトリックスタイプの有機ＥＬディスプレイパネルについても本発明は適用できる。
【００１６】
図１は本発明の有機ＥＬ素子製造工程における長辺方向での断面図である。基板１は、各副画素がポリイミドなどの絶縁材料からなる隔壁２によって仕切られており、よって副画素電極３上で独立したマトリックス状の開口部を有することになる。なお副画素電極はＴＦＴに接続されるが、図では省略してある。各副画素について、発光層５を含む有機層が形成される。発光層は発光色に対応して副画素ごとに形成される。発光色としてはＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色の副画素によって１画素を構成しているものが一般的であるが、これに限られるわけではない。発光層以外の発光媒体層として、正孔輸送層、インターレイヤ、発光層、電子注入層などを任意に加えても良い。本発明では、少なくとも発光層と、発光層よりも先に成膜される有機層を備える。
以下、本発明の有機ＥＬディスプレイパネルの製造方法に沿って説明する。説明では、正孔輸送層と、インターレイヤと、ＲＧＢの３色に対応する発光層からなる発光媒体層を例示するが、上述のようにこれに限られない。以下、印刷法で形成される発光層以外の有機層として、インターレイヤを例に説明するが、塗分けの必要としない層であれば、塗布法で形成する層に対して本発明の有機ＥＬディスプレイパネルの製造方法を適用することができる。
【００１７】
＜有機ＥＬディスプレイパネルの製造方法＞
副画素電極３及び隔壁２が形成された基板１上に、まず正孔輸送層４を形成する。正孔輸送層を形成する正孔輸送材料としては、ポリアニリン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリビニルカルバゾール（ＰＶＫ）誘導体、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）（ＰＥＤＯＴ）等が挙げられる。これらの材料は溶媒に溶解または分散させて正孔輸送材料インキとし、スピンコート法で全面塗布して薄膜形成できる。また、無機材料の正孔輸送層として、Ｃｕ２Ｏ、Ｃｒ２Ｏ３、Ｍｎ２Ｏ３、ＦｅＯ、Ｆｅ２Ｏ３、Ｆｅ３Ｏ４、ＮｉＯ、ＣｏＯ、Ｐｒ２Ｏ３、Ａｇ２Ｏ、ＭｏＯ２、Ｂｉ２Ｏ３、ＺｎＯ、ＴｉＯ２、ＳｎＯ２、ＴｈＯ２、Ｖ２Ｏ５、Ｎｂ２Ｏ５、Ｔａ２Ｏ５、ＭｏＯ３、ＷＯ３及びＭｎＯ３等などの金属酸化物を真空蒸着法やスパッタリング法等を用いて形成することができる。
【００１８】
次に、インターレイヤを形成する。インターレイヤを形成する材料は市販の高分子有機ＥＬ素子用のインターレイヤ材料を用いて、有機溶媒に溶解させてインキ化したものを用いる。インキ化に用いる有機溶媒としては、トルエン、キシレン、アニソール、メチルアニソール、テトラリン等の単独またはこれらの混合溶媒が挙げられる。
【００１９】
インターレイヤを印刷で形成する場合は、発光層のように副画素ごとの塗分けは必要ないため、背景技術において説明したように、基板内で必要な部分にのみ印刷するパターン印刷さえできれば、ディスプレイの発光エリア部分は全面塗布されていても良い。しかしながら、各種のウェットコーティング法によって発光エリア部分のみを全面塗布することは困難である。一方、隔壁の各開口部（副画素）に個々に塗布する場合、後述するように副画素精細度が高くなるにつれて、高精度なパターニングを要求されることから、位置ズレ、膜厚のバラツキ等の問題を生じる。
【００２０】
そこで本願発明者らは、塗布形成されるインターレイヤ等の有機層を、印刷法によりストライプ状にパターン形成することにより、当該有機層の膜厚のバラツキが改善され、さらには上層に積層される有機層の膜厚についてもバラツキを抑制できることを発見した。
【００２１】
図２はインターレイヤ６をストライプ状に形成した基板の模式図である。基板には隔壁２が形成され、隔壁によって区画された開口部（副画素）が配置されている。副画素は短辺と長辺とを有する長方形状となっている。これは、短辺方向では複数の副画素（例えばＲＧＢの３色の副画素）で一つの画素を構成するためである。従って、後述する発光層では、短辺方向に各発光色に対応する発光層が順番に形成された構造となる。
【００２２】
インターレイヤ、あるいは副画素上にストライプ状に形成される有機層の形成は、副画素の短辺方向の副画素列に対して行なうことが好ましい。有機層は、複数のストライプ状のパターンを印刷することにより、各副画素列に対して一括して形成することが可能である。この方法によれば、ロールコート法等のベタ印刷と比較して格段に平坦性の良い有機層を形成することが可能である。しかしながら、ディスプレイが高精細になるにつれて副画素のピッチＰ２が狭まり、パターンが高精細になることから、均一なパターンが困難となる。発明者らのこれまでの検討では、発光層の場合には、ＲＧＢの副画素をそれぞれピッチＰ３でストライプ印刷する場合（図３参照）、印刷可能な画素精細度は２００ｐｐｉまでが限界である。これと同様に、塗分けをしない有機層の場合には、長辺方向の副画素列で有機層をパターン形成すると、全副画素一括で印刷可能な副画素の精細度はピッチＰ２で決定され、２００ｐｐｉとなる。よって、ＲＧＢカラーのディスプレイとして印刷可能な画素精細度は副画素の精細度の約１／３であり、６０ｐｐｉ程度までとなる。これ以下高精細になると、版の転写領域以外の部分にもインキが広がり、ベタ印刷同様、印刷ムラが大きくなって印刷不良を生じるおそれがある。したがって、長辺方向に有機層を印刷した場合、６０ｐｐｉ以上の精細度のディスプレイでは対応できないこととなる。一方、短辺方向の副画素列に対して形成する場合には、ディスプレイの精細度以上のピッチＰ１で形成されていることから、より高精細なディスプレイに対応することができる。例えば正方形型の画素の場合には、Ｐ１≒Ｐ３となることから、長辺方向に印刷した場合の約３倍の精細度のディスプレイまで形成可能である。
【００２３】
形成するインターレイヤの印刷幅Ｗ２は、発光領域の長辺方向の幅Ｇ１以上であり、副画素のピッチＰ１以下であれば、隔壁２上で隣り合うインターレイヤとつながっていても良い。ただし、印刷する際の版上での転写領域幅（凸版の凸部の幅）については、前述のようにピッチが狭くなると印刷不良を生じるおそれがあるので、インキが隣り合う転写領域とつながらず、独立して存在している程度の幅であることが望ましい。この場合でも、凸版の場合には隔壁上でインキを押し広げるので、隣り合う層とつながっている場合がある。
【００２４】
インターレイヤ形成後に、発光層５を形成する。図３は発光層５を形成した基板の模式図である。図３では、Ｒ、Ｇ、Ｂに対応する発光層５Ｒ、５Ｇ、５Ｂがそれぞれ副画素列の長辺方向にストライプ状で順番に形成されている。パターン形成する発光層の形状は、図３のように副画素列に一致させたストライプ状、あるいは副画素に一致させたドット状でも良いが、ストライプ状であれば、長辺方向の位置合わせが容易であり好適である。発光層は、ウェットコーティング法によって形成することができ、印刷法で形成することが好ましい。また特にインターレイヤ同様、凸版印刷法で形成することが好ましい。
【００２５】
発光層を形成する有機発光材料は、例えばクマリン系、ペリレン系、ピラン系、アンスロン系、ポルフィレン系、キナクドリン系、Ｎ，Ｎ‘−ジアルキル置換キナクドリン系、ナフタルイミド系、Ｎ，Ｎ‘−ジアリール置換ピロロピロール系、イリジウム錯体系等の発光性色素を、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリビニルカルバゾール等の高分子中に分散させたものや、ポリアリーレン系、ポリアリーレンビニレン系やポリオレフィン系の高分子材料が挙げられる。これらの有機発光材料は溶媒に溶解または分散させて有機発光インキとすることができる。有機発光材料を溶解または分散させる溶媒としては、上述したインターレイヤインキと同様、単独の有機溶媒またはこれらの混合溶媒が挙げられる。
【００２６】
有機発光層の形成後、陰極を形成する。陰極の材料としては、有機発光層の発光特性に応じたものを使用でき、例えば、リチウム、マグネシウム、カルシウム、イッテルビウム、アルミニウム等の金属単体やこれらと金、銀などの安定な金属との合金などが挙げられる。また、インジウム、亜鉛、錫などの導電性酸化物を用いることもできる。陰極層の形成方法としては、マスクを用いた真空蒸着法による形成方法が挙げられる。
【００２７】
最後にこれらの有機ＥＬ構成体を、外部の酸素や水分から保護するために、ガラスキャップや接着剤などを用いて密封封止し、有機ＥＬディスプレイ用の素子パネルを得ることができる。
【００２８】
＜有機ＥＬディスプレイパネルの構造＞
図４は、図３のＳのラインで基板を切断した場合の本発明の有機ＥＬディスプレイパネルの断面図である。インターレイヤ６は、副画素短辺方向でストライプ状に形成されているため、短辺方向においては、副画素内及び隔壁上で連続した構成となっている。発光層５は、インターレイヤ上に形成される。発光層は、副画素ごと塗り分けて形成されるが、図に示すように多少隔壁２に乗り上げても良い。
【００２９】
本発明の構成によれば、次のような作用効果を有する。すなわち副画素の長辺において発光層の下にある層が副画素内及び隔壁上に跨って形成されていることにより、発光層形成領域における表面の濡れ性が均一となり、発光層の膜厚の均一性が向上する。
【００３０】
＜有機層の印刷方法＞
基板上に発光層やインターレイヤを形成するための印刷法としては、グラビア印刷法等のように金属製の印刷版等の硬い版を用いる方法は不向きであり、弾性を有するゴムブランケットを用いるオフセット印刷法や同じく弾性を有するゴム版や樹脂版を用いる凸版印刷法が適正である。したがって、ディスプレイ化においては、インターレイヤも塗工部分を選択してパターン塗布できる印刷法を用いるのが望ましい。
【００３１】
高分子の有機発光材料やインターレイヤ材料は、水、アルコール系の溶剤に対する溶解性が悪く、塗工液（以下インキと記す）化するには、有機溶剤を用いて溶解、分散させる必要があり、中でも、トルエンやキシレンその他の有機溶剤が好適である。したがって、有機発光材料やインターレイヤ材料のインキ（以下有機ＥＬインキと記す）は有機溶剤のインキとなっている。ところが、オフセット印刷に用いるゴムブランケットはトルエンやキシレン有機溶剤によって膨潤や変形を起こしやすいという問題がある。ブランケットに使用されるゴムの種類はオレフィン系のゴムからシリコーン系のゴムまで多様であるが、いずれのゴムもトルエン、キシレンその他の溶剤に対して耐性がなく、膨潤や変形が起こりやすく、有機ＥＬインキの印刷には不向きである。
【００３２】
また、弾性を有する凸版を使用する凸版印刷方式にも、ゴム製の版を用いるフレキソ印刷方式と樹脂性の版を用いる樹脂凸版方式があるが、このうち水現像タイプの樹脂凸版を用いる方式であれば、トルエン、キシレン、その他の有機溶剤に対する耐性も高く、有機層インキの印刷に使用可能である。以上に述べた理由から、ガラス基板のような硬い基材の上に、トルエン、キシレン等の芳香族溶剤からなる有機層材料インキを印刷する方式としては、水現像タイプの樹脂凸版を用いる凸版印刷方式が最適である。
【００３３】
本発明における樹脂版を構成する水現像タイプの感光性樹脂としては、例えば親水性のポリマーと不飽和結合を含むモノマーいわゆる架橋性モノマー及び光重合開始剤を構成要素とするタイプが挙げられる。このタイプでは、親水性ポリマーとしてポリアミド、ポリビニルアルコール、セルロース誘導体等が用いられる。また、架橋性モノマーとしては、例えばビニル結合を有するメタクリレート類が挙げられ、光重合開始剤としては例えば芳香族カルボニル化合物が挙げられる。中でも、印刷適正の面からポリアミド系の水現像タイプの感光性樹脂が好適である。
【００３４】
有機層の形成に用いる印刷機は、平板に印刷する方式の凸版印刷機であれば使用可能であるが、以下に示すような印刷機が望ましい。図５に印刷機構の概略図を示した。本製造装置は、インクタンク１６とインキチャンバー１２とアニロックスロール１１と樹脂凸版を取り付けした版胴８を有している。インクタンク１６には、溶剤で希釈されたインターレイヤ材料インキまたは有機発光インキが収容されており、インキチャンバー１２にはインクタンク１６よりインターレイヤ材料インキまたは有機発光インキが送り込まれるようになっている。アニロックスロール１１は、インキチャンバー１２のインキ供給部及び版胴８に接して回転するようになっている。
【００３５】
アニロックスロール１１の回転にともない、インキチャンバーから供給されたインキはアニロクスロール表面に均一に保持されたあと、版胴に取り付けされた樹脂凸版の凸部に均一な膜厚で転移する。さらに、被印刷基板は摺動可能な基板固定台上に固定され、版のパターンと基板のパターンの位置調整機構により、位置調整しながら印刷開始位置まで移動して、版胴の回転に合わせて版の凸部が基板に接しながらさらに移動し、基板の所定位置にパターニングしてインキを転移する。
【００３６】
インターレイヤ等の塗り分けを必要としない有機層の場合、長辺方向のピッチＷ１と同じピッチのストライプラインの凸部が形成された凸版で印刷することにより、一括でパターンを形成することが可能である。
【００３７】
発光層の場合、副画素のＲＧＢ配列が直線状のストライプ配列であれば、印刷法でＲＧＢを塗りわけして発光層を形成するのに、ストライプ状に発光層を印刷することが可能である。すなわち、ＴＦＴ基板の各副画素は格子状に隔壁で仕切られているが、発光層は副画素列毎にストライプ状の連続したラインで印刷して形成することが可能である。このとき、ＲＧＢの各１色ずつ印刷してゆくから、３色形成するには３回の印刷が必要である。ＲＧＢフルカラーのディスプレイの場合、それぞれＲＧＢの副画素が存在し、ＲＧＢ各１色ずつを印刷する場合のストライプラインのピッチは１画素分のピッチＰ３と同じになる。
【００３８】
上記有機層と発光層は同じ版材、同じ印刷機を用いて印刷できる。ただし、図３に示したように、発光層が副画素の長辺方向に印刷するのに対して、インターレイヤ等の有機層は、これに垂直な方向（短辺方向）で印刷する。従って、印刷方向は、発光層印刷する場合の基板の設置方向に対して、基板を９０度回転させて設置することで実現する。
【実施例】
【００３９】
＜実施例１＞
本発明の実施例を説明する。本実施例においては、既に画素電極、取り出し電極、ＴＦＴ回路をおよび回路を保護するためのＳｉＮｘ膜からなる絶縁層およびポリイミドからなる隔壁を備え、当該ポリイミドからなる隔壁は画素を仕切るように形成されているＴＦＴ基板を用いて、その上に正孔輸送層、インターレイヤ、発光層、陰極を順次形成して、アクティブマトリックス方式の有機ＥＬディスプレイパネルを作成した。
【００４０】
用いたＴＦＴ基板の画素精細度は１４０ｐｐｉで、従って画素ピッチは１８１μｍであり、隔壁で仕切られたＲＧＢ副画素の開口部のサイズは、縦方向９０μｍ、横方向３０μｍの長方形状の開口部であった。ここで言う縦方向はＲＧＢストライプの方向と同一であり、横方向はＲＧＢストライプに対して垂直な方向である。
【００４１】
正孔輸送層は、ＴＦＴ基板上にＰＥＤＯＴ／ＰＳＳの水分散液をスピンコート法で塗布して膜厚５０ｎｍの薄膜を得ることで形成した。
【００４２】
インターレイヤは、住友化学株式会社製のインターレイヤ材料を濃度１％になるようにキシレンに溶解させたインキを用い、凸版印刷法で印刷して形成した。このとき用いた樹脂凸版は、凸部のラインがピッチ１８１μｍ、幅７０μｍでストライプに形成されるよう製版したものであった。この版を用いて、ＴＦＴ基板のＲＧＢ画素のストライプ方向に対して垂直な方向にインターレイヤのストライプが形成されるように印刷した。このように印刷したことで、インターレイヤは１回の印刷で一括して全画素に印刷できた。
【００４３】
発光層は有機発光材料であるポリフルオレン系のＲ材料、Ｇ材料、Ｂ材料をそれぞれ濃度１．５％になるようにキシレンに溶解させたＲＧＢ３色の有機発光インキを用い、凸版印刷法で印刷した。発光層印刷に用いた樹脂凸版は、凸部のラインのピッチが１８１μｍ、幅３０μｍでストライプに形成されたており、この版を用いて、ＲＧＢの各副画素ごとに、ＲＧＢストライプと平行な方向で、各色を３回に分けて印刷した。
【００４４】
その上にＣａ、Ａｌからなる陰極層を抵抗過熱蒸着法により真空蒸着して形成した。最後にこれらの有機ＥＬ構成体を、外部の酸素や水分から保護するために、ガラスキャップと接着剤を用いて密閉封止し、有機ＥＬディスプレイ用素子パネルを作成した。
【００４５】
得られたパネルの表示部の周縁部には、各画素電極に接続されている陽極側および陰極側それぞれの取り出し電極があり、これらをドライバーを介して駆動装置に接続することでパネルの点灯表示確認を行い、発光状態のチェックを行った。
【００４６】
このようにして、インターレイヤを一括印刷によって作製したパネル１０枚について、インターレイヤの膜厚分布および発光ムラを観察したが、パネル内のインターレイヤの膜厚分布は均一で、発光状態も均一であった。
【００４７】
＜実施例２＞
実施例２においては、画素精細度２００ｐｐｉ、画素ピッチ１２７μｍで、隔壁で仕切られたＲＧＢ副画素の開口部のサイズは、縦方向６３μｍ、横方向２１μｍの長方形であるＴＦＴ基板を用い、インターレイヤの印刷には、凸部のラインがピッチ１２７μｍ、幅５０μｍでストライプに形成されるよう製版した樹脂凸版を用いて、ＴＦＴ基板のＲＧＢ画素のストライプ方向に対して垂直な方向にインターレイヤのストライプが形成されるように印刷を行った。このように印刷したことで、実施例２でもインターレイヤは１回の印刷で一括して全画素に印刷できた。
【００４８】
発光層の印刷には、凸部のラインがピッチ１２７μｍ、幅２０μｍでストライプに形成されるよう製版した樹脂凸版を用いて、ＲＧＢの副画素毎に、ＲＧＢストライプと平行な方向で、各色を３回に分けて印刷した。
【００４９】
その他は実施例１と同様にして有機ＥＬディスプレイパネルを作成した。実施例２でも、このようにしてインターレイヤを一括印刷によって作製したパネル１０枚について、インターレイヤの膜厚分布および発光ムラを観察したが、パネル内のインターレイヤの膜厚分布は均一で、発光状態も均一であった。
【００５０】
＜実施例３＞
実施例３においては、画素精細度７０ｐｐｉ、画素ピッチ３６２μｍで、隔壁で仕切られたＲＧＢ副画素の開口部のサイズは、縦方向１８０μｍ、横方向６０μｍの長方形であるＴＦＴ基板を用い、インターレイヤの印刷には、凸部のラインがピッチ３６２μｍ、幅１４０μｍでストライプに形成されるよう製版した樹脂凸版を用いて、ＴＦＴ基板のＲＧＢ画素のストライプ方向に対して垂直な方向にインターレイヤのストライプが形成されるように印刷を行った。このように印刷したことで、実施例３でもインターレイヤは１回の印刷で一括して全画素に印刷できた。
【００５１】
発光層の印刷には、凸部のラインがピッチ３６２μｍ、幅６０μｍでストライプに形成されるよう製版した樹脂凸版を用いて、ＲＧＢの副画素毎に、ＲＧＢストライプと平行な方向で、各色を３回に分けて印刷した。その他は実施例１と全く同様にして有機ＥＬディスプレイパネルを作成した。
【００５２】
実施例３でも、このようにしてインターレイヤを一括印刷によって作製したパネル１０枚について、インターレイヤの膜厚分布および発光ムラを観察したが、パネル内のインターレイヤの膜厚分布は均一で、発光状態も均一であった。
【００５３】
＜比較例１＞
比較例１においては、画素精細度７０ｐｐｉ、画素ピッチ３６２μｍで、隔壁で仕切られたＲＧＢ副画素の開口部のサイズは、縦方向１８０μｍ、横方向６０μｍの長方形であるＴＦＴ基板を用い、インターレイヤの印刷には、凸部のラインがピッチ１２１μｍ、幅６０μｍでストライプに形成されるよう製版した樹脂凸版を用いて、ＴＦＴ基板のＲＧＢ画素のストライプ方向に平行な方向にインターレイヤのストライプが形成されるように印刷を行った。このようにして、比較例１では、ＲＧＢ画素ストライプと平行な方向への１回の印刷で一括して全画素にインターレイヤ印刷を試みた。
【００５４】
発光層の印刷には、凸部のラインがピッチが３６２μｍ、幅６０μｍでストライプに形成されるよう製版した樹脂凸版を用いて、ＲＧＢの副画素毎に、ＲＧＢストライプと平行な方向で、各色を３回に分けて印刷した。
その他は実施例１と全く同様にして有機ＥＬディスプレイパネルを作成した。
【００５５】
このようにしてインターレイヤをＲＧＢストライプ方向と平行な方向への一括印刷によって作製したパネル１０枚について、インターレイヤの膜厚分布および発光ムラを観察したが、パネル内のインターレイヤの膜厚分布は実施例１〜３で作製したパネルに比べて不均一で、発光状態もムラが観察された。
【００５６】
＜比較例２＞
比較例２においては、画素精細度１４０ｐｐｉ、画素ピッチ１８１μｍで、隔壁で仕切られたＲＧＢ副画素の開口部のサイズは、縦方向９０μｍ、横方向３０μｍの長方形であるＴＦＴ基板を用い、インターレイヤの印刷には、凸部のラインがピッチ６０μｍ、幅３０μｍでストライプに形成されるよう製版した樹脂凸版を用いて、ＴＦＴ基板のＲＧＢ画素のストライプ方向に平行な方向にインターレイヤのストライプが形成されるように印刷を行った。
【００５７】
このようにして、比較例２では、ＲＧＢ画素ストライプと平行な方向への１回の印刷で一括して全画素にインターレイヤ印刷を試みた。しかし、凸版の凹部の幅が３０．４μｍと狭いことにより、凹部へのインキの入り込みが激しく、正常なストライプラインが形成できず、パネル作製を中止した。
【００５８】
＜参考例＞
参考例においては、画素精細度２２０ｐｐｉ、画素ピッチ１１５μｍで、隔壁で仕切られたＲＧＢ副画素の開口部のサイズは、縦方向５７μｍ、横方向１９μｍの長方形であるＴＦＴ基板を用い、インターレイヤの印刷には、凸部のラインがピッチ１１５μｍ、幅４５μｍでストライプに形成されるよう製版した樹脂凸版を用いて、ＴＦＴ基板のＲＧＢ画素のストライプ方向に対して垂直な方向にインターレイヤのストライプが形成されるように印刷を行った。このようにして、参考例では、ＲＧＢ画素ストライプと垂直な方向への１回の印刷で一括して全画素にインターレイヤ印刷を試みた。
【００５９】
発光層の印刷には、凸部のラインがピッチが１１５μｍ、幅１９μｍでストライプに形成されるよう製版した樹脂凸版を用いて、ＲＧＢの副画素毎に、ＲＧＢストライプと垂直な方向で、各色を３回に分けて印刷した。
その他は実施例１と全く同様にして有機ＥＬディスプレイパネルを作成した。
【００６０】
このようにしてインターレイヤをＲＧＢストライプ方向と平行な方向への一括印刷によって作製したパネル１０枚について、インターレイヤの膜厚分布および発光ムラを観察したが、パネル内のインターレイヤの膜厚分布は実施例１〜３で作製したパネルに比べて不均一で、発光状態もムラが観察された。
【００６１】
＜結果の検討＞
表１では、実施例１〜３及び比較例１、２及び参考例のインターレイヤのパネル面内の膜厚分布、および作成した有機ＥＬディスプレイパネルの発光状態評価した結果を示す。
【００６２】
これからわかる通り、実施例１〜３では、いずれも膜厚分布、発光状態ともに良好であった。このことから、７０ｐｐｉ〜２００ｐｐｉの精細度のパネルであっても、画素ストライプと垂直な方向に印刷することで、画素ピッチと同じピッチで印刷できることから、全画素一括印刷が可能となることがわかる。
【００６３】
一方、比較例１では、膜厚分布、発光状態ともに不良であった。このことから、７０ｐｐｉの精細度でも、画素ストライプと平行な方向への印刷で、全画素一括印刷するには、画素ピッチの３分の１のピッチで印刷しなければならないことから、インターレイヤ印刷に不具合が生じることがわかる。
【００６４】
比較例２においては、印刷自体が不可能であった。これは、１４０ｐｐｉのパネルを画素ストライプと平行な方向への印刷で、全画素一括印刷するには、１４０ｐｐｉのさらに３分の１の精細で印刷することになるためである。
【００６５】
参考例においては、比較例１と同様、膜厚分布、発光状態ともに不良であった。このことから、２２０ｐｐｉの精細度では、画素ストライプと垂直な方向に印刷することで画素ピッチと同じピッチで印刷しても、画素ピッチ自体が細かいために印刷に不具合が生じるためである。
【００６６】
【表１】
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【符号の説明】
【００６７】
１．基板
２．隔壁
３．画素電極
４．正孔輸送層
５．発光層
６．インターレイヤ
８．版胴
９．印刷版
１０．ドクター
１１．アニロックスロール
１２．インキチャンバー
１３．基板
１４．ステージ
１５．インキ循環ポンプ
１６．インキタンク
１７．溶剤滴下装置
１８．溶剤タンク
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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