(57)【要約】【課題】処理済み基板を識別するためのマーク付与時の安定性や保守作業の作業性を確保することができる基板のプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】プラズマ処理部２ｃにて処理済み基板５＊をアンローダ装置４のマガジン６Ｂに収納する構成のプラズマ処理装置１において、アンローダ装置４の後面側にペン３４によって基板５＊に当該基板がプラズマ処理済みであることを示すマークを付与するマーク付与機構８を配置し、ペンホルダ３３に保持されたペン３４を水平動アクチュエータ３１によってマガジン６Ｂ側に水平移動させ、マガジン６Ｂに収納された基板５＊における後方開口部６ｂ側の先端部に、ペン先３４ａを接触させてマークを付与する。【選択図】図１
2010050366.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラズマを発生させて基板の表面のプラズマ処理を行うプラズマ処理部と、基板を収納するマガジンを備えた基板収納部と、未処理の基板を前記プラズマ処理部へ搬入し処理済みの基板を前記基板収納部のマガジンに収納する基板搬送機構とを備え、
前記マガジンは、前記基板搬送機構によって搬送された基板の収納口となる前方開口部とその反対側に開口した後方開口部とを有し、
前記基板収納部に、前記マガジンに収納された基板における後方開口部側の先端部に当該基板がプラズマ処理済みであることを示すマークを付与するマーク付与機構を備えたことを特徴とする基板のプラズマ処理装置。
【請求項２】
前記マーク付与機構は、前記マークを印加するためのペン先を有する筆記具と、この筆記具を前記ペン先を前記後方開口部側へ向けた姿勢で保持する筆記具保持部と、この筆記具保持部を移動させることにより前記ペン先を前記先端部に対して水平方向に接近・離隔させる筆記具移動用アクチュエータを備えたことを特徴とする請求項１に記載の基板のプラズマ処理装置。
【請求項３】
前記基板搬送機構は前記基板の後端部に当接して押送する基板送り部材を備え、前記筆記具のペン先を前記基板の先端部に接触させる際の基板の水平移動を規制するために、前記基板送り部材を前記基板の後端部側に当接させた状態で前記ペン先を前記先端部に接触させることを特徴とする請求項２に記載の基板のプラズマ処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板の表面をプラズマによって処理する基板のプラズマ処理装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
電子機器に組み込まれる実装基板は、半導体装置などの電子部品を基板に実装することにより製造され、このような実装基板の製造過程においては、基板の表面の清浄化や表面特性の改質など各種の目的に応じて基板を対象としたプラズマ処理が行われる。プラズマ処理は、プラズマによって発生したイオンや電子の衝突という微視的な作用によるものであるため、クリーニング処理が行われたか否かの判定は精密な分析による以外に方法がなく、一般に目視により判定することができない。このため、後工程において処理済みの基板を収納したマガジンから基板を取り出してしまうと、その後にはこの取り出された基板が処理済みのものか否かを識別する手段がなかった。このような不都合を避ける方策として、プラズマ処理後の基板が真空チャンバから搬出されてマガジンに収納されるまでの搬送経路にフェルトペンなどのマーキング手段を設け、この搬送経路を基板が通過する度にペン先が基板に接触して基板に自動的にマークが付与される構成のものが提案されている（特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２０００−１５０６１６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、上記特許文献に示される先行技術おいては、主にそのマーキング手段の配置に起因して以下のような不都合がある。まず、この方法では、搬送レールに沿って移動する基板に固定配置されたペン先を接触させる構成を用いていることから、基板の先端部がペン先に接触する際の挙動は必ずしも安定したものではなく、基板の引っ掛かりなどの搬送トラブルを誘発しやすい。特に対象とする基板が薄型の樹脂基板などの場合には、基板は容易に変形するため基板へのマーク付与が安定して行われないおそれが強い。
【０００４】
またプラズマ処理装置においては、真空チャンバ内でプラズマ処理が実行された後の基板は極力速やかにマガジン内へ収納して異物の付着を防止することが望ましいことから、一般にマガジンは真空チャンバに近接して配置される。このため、真空チャンバから搬出されてマガジンに収納されるまでの搬送経路にマーキング手段を設けると真空チャンバとマガジンとの間隔をフェルトペンの交換などの保守作業を考慮して広く取らざるを得ず、品質維持上好ましくない配置となる。さらに近年は生産効率向上のためにプラズマ処理装置においても複数列の搬送路を備えたものが導入されるようになっており、この場合には上述の保守作業の作業性を確保することがさらに困難となる。このように従来のプラズマ処理装置においては、処理済みの基板を識別するためのマーク付与に用いられるマーキング手段の配置に起因して、マーク付与時の安定性や保守作業の作業性を確保することが困難であるという課題があった。
【０００５】
そこで本発明は、処理済み基板を識別するためのマーク付与時の安定性や保守作業の作業性を確保することができる基板のプラズマ処理装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の基板のプラズマ処理装置は、プラズマを発生させて基板の表面のプラズマ処理を行うプラズマ処理部と、基板を収納するマガジンを備えた基板収納部と、未処理の基板を前記プラズマ処理部へ搬入し処理済みの基板を前記基板収納部のマガジンに収納する基
板搬送機構とを備え、前記マガジンは、前記基板搬送機構によって搬送された基板の収納口となる前方開口部とその反対側に開口した後方開口部とを有し、前記基板収納部に、前記マガジンに収納された基板における後方開口部側の先端部に当該基板がプラズマ処理済みであることを示すマークを付与するマーク付与機構を備えた。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、プラズマ処理後の基板を収納する基板収納部に、マガジンに収納された基板における後方開口部側の先端部に当該基板がプラズマ処理済みであることを示すマークを付与するマーク付与機構を備えることにより、処理済み基板を識別するためのマーク印加時の安定性や保守作業の作業性を確保することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
次に本発明の実施の形態を図面を参照して説明する。図１は本発明の一実施の形態のプラズマ処理装置の正面図、図２は本発明の一実施の形態のプラズマ処理装置の平面図、図３、図４、図５、図６は本発明の一実施の形態のプラズマ処理装置の動作説明図である。
【０００９】
まず図１、図２を参照して基板のプラズマ処理装置の構造を説明する。図１において、プラズマ処理装置１は、基板を対象としてプラズマ処理を実行する装置本体部２の両側（基板搬送方向・・Ｘ方向についての上流側および下流側）に、ローダ装置３およびアンローダ装置４を付設して構成されている。図１，図２においては、左側が上流側、右側が下流側となっており、基板はローダ装置３からアンローダ装置４に向かう方向に搬送される。
【００１０】
ローダ装置３は、基部３ａに対して昇降自在に設けられたマガジン保持テーブル３ｂにマガジン６Ａを保持させた構成となっており、ここでは図２に示すように、ローダ装置３には複数（ここでは３つ）のマガジン６Ａが並列状態で保持されている。マガジン６Ａの内部には基板収納用の挿入ラック（図３に示す挿入ラック６ｃ参照）が上下方向に複数段設けられており、処理対象の基板５は各挿入ラック６ｃに挿入された状態で収納されている。マガジン６Ａは前面と後面のいずれも開放されており、基板５の収納口となる前方開口部６ａとその反対側に開口した後方開口部６ｂとを有している。ローダ装置３は、未処理の基板５を収納するマガジン６Ａを備えた第１の基板収納部となっている。
【００１１】
基部３ａの頂部にはベースプレート３ｃが結合されており、ベースプレート３ｃの上面に立設されたポスト３ｄの上端部には、基板押出し機構７が設けられている。基板押出し機構７は、押出しアクチュエータ７ａによって矢印ａ方向に移動する移動プレート７ｂに、プッシャピン７ｃを基板搬送高さに合わせて設けた構成となっている。ここでは図２に示すように、３つのマガジン６Ａのそれぞれに対応して、３つのプッシャピン７ｃが設けられている。基板５の供給に際しては、まず基部３ａに内蔵されたマガジン昇降機構（図示省略）によってマガジン６Ａを昇降させて、マガジン６Ａ内の複数の基板５のうち取り出し対象となる基板５を基板搬送レベルに位置させる。そしてこの状態で基板押出し機構７を作動させることにより、取り出し対象の基板５はプッシャピン７ｃによって同時に矢印ｂ方向に押し出される。
【００１２】
装置本体部２は、基部２ａの上面に基板搬送機構２ｂおよびプラズマ処理部２ｃを配置した構成となっている。基板搬送機構２ｂは、ローダ装置３から基板５が渡される基板搬送レベルに高さ位置を合わせてＸ方向に配置された基板搬入レール１０を備えている。ここでは、図２に示すように、３つのマガジン６Ａのそれぞれに対応して３列の基板搬入レール１０が平行に設けられている。ローダ装置３のマガジン６Ａから、基板押出し機構７によって押し出されて渡された基板５は、基板搬入レール１０によってガイドされて、以下に説明する第１の搬送アームユニット１２Ａによってプラズマ処理部２ｃへ搬入される
。
【００１３】
基部２ａの上方で基板搬入レール１０の下方には、基板送り駆動部１１が基板搬送機構２ｂ、プラズマ処理部２ｃを含む全長にわたってＸ方向に配設されている。基板送り駆動部１１には、第１の搬送アームユニット１２Ａ、第２の搬送アームユニット１２Ｂが装着されている。基板送り駆動部１１を駆動することにより、第１の搬送アームユニット１２Ａ、第２の搬送アームユニット１２Ｂは、基板送り駆動部１１に沿ってＸ方向に往復動する（矢印ｃ）。
【００１４】
第１の搬送アームユニット１２Ａ、第２の搬送アームユニット１２Ｂの構成を説明する。第１の搬送アームユニット１２Ａ、第２の搬送アームユニット１２Ｂは、基板送り駆動部１１に沿って移動するシリンダ１３Ａ、１３Ｂを備えている。シリンダ１３Ａ、１３Ｂのロッド１４Ａ、１４Ｂには、それぞれＹ方向に細長形状のアーム部材１６Ａ、１６Ｂが、結合プレート１５Ａ、１５Ｂを介して結合されており、アーム部材１６Ａ、１６Ｂはいずれも３列の基板搬入レール１０の上方に延出している。
【００１５】
アーム部材１６Ａには、各基板搬入レール１０の列位置に対応して、３つの搬送爪部材１７ＡがＸ方向下流側に、３つの基板把持用のチャック機構１８がＸ方向上流側に延出してそれぞれ装着されている。またアーム部材１６Ｂには、各基板搬入レール１０の列位置に対応して、３つの搬送爪部材１７ＢがＸ方向下流側に延出してそれぞれ装着されている。シリンダ１３Ａを駆動してロッド１４Ａを凸没させることにより、搬送爪部材１７Ａおよびチャック機構１８がともに昇降し、シリンダ１３Ｂを駆動してロッド１４Ｂを凸没させることにより、搬送爪部材１７Ｂが昇降する（矢印ｄ）。
【００１６】
基板搬送機構２ｂにおける基板搬送動作について説明する。基板押出し機構７のプッシャピン７ｃによってマガジン６Ａから基板５を押し出すことにより、マガジン６Ａの下流側から押し出された基板５の先端部は基板搬入レール１０上に位置し、チャック機構１８はこの状態の基板５の先端部を上下から挟み込んで把持する。次いで基板送り駆動部１１を駆動してシリンダ１３Ａを下流側へ移動させることにより、チャック機構１８によって把持された基板５はマガジン６Ａから引き出され、基板搬入レール１０上へ移動する。
【００１７】
この後、チャック機構１８による基板５の把持を解除したならば、シリンダ１３Ａを駆動して搬送アームユニット１２Ａを上昇させ、搬送爪部材１７Ａによって基板５の後端部を押送可能な位置まで移動させる。次いでシリンダ１３Ａを駆動して、搬送爪部材１７Ａを基板搬送レベルまで下降させたのち、基板送り駆動部１１を駆動してシリンダ１３Ａを下流側へ移動させる。これにより、搬送爪部材１７Ａによって後端部を押送された基板５は、基板搬入レール１０上を下流側へ移動してプラズマ処理部２ｃに搬入される（矢印ｅ）。
【００１８】
次にプラズマ処理部２ｃの構造を説明する。図１において、基部２ａの上面にはプラズマ処理のための真空チャンバの底部を構成するチャンバベース部２０が設けられている。チャンバベース部２０の上面には、基板搬送機構２ｂにおける基板搬入レール１０と、高さ位置およびＹ方向の配列位置を合わせて、チャンバ内レール２１がＸ方向に配設されている。ここで、チャンバ内レール２１は基板搬入レール１０と同様に３列平行に配列されており、図２に示すように、同時に３枚の基板５を載置可能となっている。
【００１９】
チャンバベース部２０の上方には、保持ブラケット２３によってＸ方向の両側を保持された蓋部材２２が昇降自在に配設されている。保持ブラケット２３は基部２ａ上に配設された蓋昇降機構２４に結合されており、蓋昇降機構２４を駆動することにより、蓋部材２２は保持ブラケット２３を介してチャンバベース部２０に対して昇降する。蓋部材２２を
下降させることにより、チャンバベース部２０および蓋部材２２は真空チャンバを形成し、チャンバベース部２０の上面は蓋部材２２によって覆われて密閉された処理空間が形成され、処理対象の基板５はこの処理空間内に収容される。プラズマ処理に際しては、処理空間内を減圧した状態でプラズマ発生用ガスを供給し、さらにチャンバベース部２０と蓋部材２２との間に高周波電圧を印加して処理空間内でプラズマ放電を発生させることにより、基板５の表面を対象としたプラズマ処理が実行される。すなわち、プラズマ処理部２ｃはプラズマを発生させて基板の表面のプラズマ処理を行う機能を備えている。
【００２０】
プラズマ処理部２ｃとアンローダ装置４との間には、プラズマ処理部２ｃにおけるチャンバ内レール２１と、高さ位置およびＹ方向の配列位置を合わせて、基板搬出レール２５がＸ方向に配設されている。アンローダ装置４は、基部４ａに対して昇降自在に設けられたマガジン保持テーブル４ｂに、マガジン６Ａと同様構造のマガジン６Ｂを保持させた構成となっており、マガジン６Ｂには処済みの基板５＊が複数枚収納される。ここでは図２に示すように、アンローダ装置４には３つのマガジン６Ｂが基板搬出レール２５の配列に合わせて並列状態で保持されている。マガジン６Ｂは前面と後面のいずれも開放された構造となっており、基板搬送機構２ｂによって搬送された基板５の収納口となる前方開口部６ａとその反対側に開口した後方開口部６ｂとを有する形態となっている。アンローダ装置４は、プラズマ処理済みの基板５＊を収納するマガジン６Ｂを備えた第２の基板収納部となっている。
【００２１】
プラズマ処理後の基板５＊は、第２の搬送アームユニット１２Ｂによってアンローダ装置４に搬出される。まず蓋部材２２を上昇させてチャンバベース部２０の上面を開放した状態で、シリンダ１３Ｂを駆動して搬送爪部材１７Ｂを基板搬送レベルまで下降させる。この後、基板送り駆動部１１を駆動して第２の搬送アームユニット１２Ｂを下流側へ移動させることにより、搬送爪部材１７Ｂによって基板５＊の後端部を押送する。これにより処理済みの基板５＊は、基板搬出レール２５上を経由してアンローダ装置４へ移動し、マガジン６Ｂの前方開口部６ａからマガジン６Ｂ内へ搬入される（矢印ｆ）。このとき、基部４ａに内蔵されたマガジン昇降機構（図示省略）によってマガジン６Ｂを昇降させることにより、マガジン６Ｂの所望の挿入ラック６ｃを基板搬出レール２５の基板搬送レベルに合わせることができる。
【００２２】
すなわち上述の基板搬送機構２ｂは、基板５をガイドする複数列の基板搬入レール１０と、基板送り駆動部１１によって移動する第１の搬送アームユニット１２Ａおよび第２の搬送アームユニット１２Ｂより構成される。そして基板搬送機構２ｂは、基板５，５＊の後端部に当接して押送する基板送り部材としての搬送爪部材１７Ａ、１７Ｂを備えた構成となっており、未処理の基板５をプラズマ処理部２ｃへ搬入し、処理済みの基板５＊を第２の基板収納部であるアンローダ装置４のマガジン６Ｂに収納する機能を有している。
【００２３】
アンローダ装置４の後端部には、マーク付与機構８が配設されている。基部４ａの頂部にはベースプレート４ｃが結合されており、ベースプレート４ｃの上面には、垂直な昇降軸３０ａを備えた昇降アクチュエータ３０が立設されている。昇降軸３０ａの上端部にはＹ方向に細長形状の移動プレート３１ａを備えた水平動アクチュエータ３１が結合されており、移動プレート３１ａ上に立設された軸部材３２には、ペンホルダ３３を介して印字用のペン３４が保持されている。
【００２４】
ペン３４は、油性のフェルトペンなど、マークを印加するためのペン先を有する筆記具であり、ペンホルダ３３はこのペン３４をペン先３４ａを後方開口部６ｂ側へ向けた姿勢で保持する。ここでは、図２に示すように、移動プレート３１ａには３つのマガジン６Ｂのそれぞれに対応して３つのペンホルダ３３、ペン３４が設けられている。昇降アクチュエータ３０を駆動して昇降軸３０ａを昇降させることにより、水平動アクチュエータ３１
は移動プレート３１ａとともに昇降し（矢印ｇ）、これにより３つのペン３４を所望の高さ位置に保持することができるようになっている。また水平動アクチュエータ３１を駆動することにより移動プレート３１ａがＸ方向に進退し、これにより３つのペン３４がともにマガジン６Ｂに対して進退し、ペン先３４ａを基板５＊の先端部に対して接近させ、また離隔させることができる。水平動アクチュエータ３１は、ペンホルダ３３を移動させることによりペン先３４ａを基板５＊の先端部に対して水平方向に接近・離隔させる筆記具移動用アクチュエータとなっている。
【００２５】
このペン３４の進退動作において、ペン先３４ａが後方開口部６ｂからマガジン６Ｂ内に進入して基板５＊の先端部に接触することにより、当該基板５＊にはプラズマ処理済みであることを示すマークが付与される。したがって、本実施の形態に示すアンローダ装置４は、マガジン６Ｂに収納された基板５＊における後方開口部６ｂ側の先端部に、当該基板５＊がプラズマ処理済みであることを示すマークを付与するマーク付与機構８を備えた形態となっている。そしてマーク付与機構８は、マークを印加するためのペン先３４ａを有する筆記具であるペン３４と、このペン３４をペン先３４ａをマガジン６Ｂの後方開口部６ｂ側へ向けた姿勢で保持するペンホルダ（筆記具保持部）３３と、このペンホルダ（筆記具保持部）３３を移動させることによりペン先３４ａを基板５＊の先端部に対して水平方向に接近・離隔させる水平動アクチュエータ３１を備えた構成となっている。
【００２６】
マーク付与機構８には、昇降アクチュエータ３０、水平動アクチュエータ３１によるペン先３４ａの移動範囲内に、位置が固定されたキャップ３５が設けられている。昇降アクチュエータ３０、水平動アクチュエータ３１を駆動することにより、ペン先３４ａを移動させてキャップ３５内に挿入することができるようになっている。これにより、マーク付与動作を長時間中断する際にペン先３４ａの乾燥が防止され、ペン３４の使用寿命を延長することができる。  
【００２７】
このプラズマ処理装置１は上記のように構成されており、以下、マーク付与機構８によるマーク付与動作について、図３〜図５を参照して説明する。図３（ａ）は、プラズマ処理部２ｃによってプラズマ処理が終了した処理済みの基板５＊を、アンローダ装置４のマガジン６Ｂ内へ前方開口部６ａ側から収納する動作状態を示している。このとき、マガジン６Ｂ内には複数の基板５＊が既に収納されており、新たな基板５＊は既収納の基板５＊の上側に位置する挿入ラック６ｃに収納される。すなわち、基板５＊の後端部を第２の搬送アームユニット１２Ｂの搬送爪部材１７Ｂによって押送することにより（矢印ｉ）、基板５＊を基板搬出レール２５からマガジン６Ｂ内へ移動させ、挿入ラック６ｃに沿って矢印ｊ方向へスライドさせる。このとき、マーク付与機構８においては、ペン先３４ａが基板収納の対象となる挿入ラック６ｃの高さ位置と一致するように、ペンホルダ３３の高さ位置が昇降アクチュエータ３０によって調整されている。
【００２８】
図３（ｂ）は、搬送爪部材１７Ｂが所定の押送ストロークだけ移動して、基板５＊がマガジン６Ｂ内の規定収納位置に収納された状態を示している。これにより、基板５＊の先端部５ａは、マガジン６Ｂの後方開口部６ｂの近傍に位置する。次いで、マーク付与動作が行われる。すなわち水平動アクチュエータ３１を駆動して、図３（ｃ）に示すように、ペンホルダ３３をマガジン６Ｂに接近する方向に移動させる（矢印ｋ）。これにより、ペン３４のペン先３４ａが先端部５ａに接触して、先端部５ａの端面には当該基板５＊がプラズマ処理済みであることを示すマークが付与される。そして図３（ｃ）に示すように、第２の搬送アームユニット１２Ｂを上流側へ移動させ（矢印ｍ）、ペン３４をマガジン６Ｂから離隔させる方向に移動させる（矢印ｌ）ことにより、マーク付与動作が終了する。
【００２９】
このマーク付与動作においては、基板５＊の後端部には搬送爪部材１７Ｂが当接して基板５＊の水平方向の位置が規制されていることから、ペン３４によるマーク付与の際に基
板５＊が押し戻されることによるマーク付与の不具合が防止される。すなわち本実施の形態においては、基板搬送機構２ｂは基板５＊の後端部に当接して押送する基板送り部材としての搬送爪部材１７Ｂを備え、ペン３４のペン先３４ａを基板５＊の先端部５ａに接触させる際の基板５＊の水平移動を規制するために、搬送爪部材１７Ｂを基板５＊の後端部５ｂ側に当接させた状態で、ペン先３４ａを先端部５ａに接触させるようにしている。
【００３０】
図４は、図３に示すマーク付与動作のバリエーションを示しており、ここでは第２の搬送アームユニット１２Ｂによって基板５＊をマガジン６Ｂ内に押し込む動作に先立って、ペン３４の先端部をマガジン６Ｂ内に進入させておくようにしている。すなわち水平動アクチュエータ３１を駆動して、図４（ａ）に示すように、ペンホルダ３３をマガジン６Ｂに接近する方向に移動させ（矢印ｎ）、ペン先３４ａを予め後方開口部６ｂから基板収納の対象となる挿入ラック６ｃの高さ位置に合わせて進入させて、マーク付与位置にて待機させておく。そしてこの状態で、搬送爪部材１７Ｂによって基板５＊の後端部を押送してマガジン６Ｂ内に押し込む動作を行う。
【００３１】
これにより、基板５＊は矢印ｊ方向にスライド移動し、図４（ｂ）に示すようにペン３４のペン先３４ａが先端部５ａに接触する。これにより基板５＊の先端部５ａの端面には当該基板５＊がプラズマ処理済みであることを示すマークが付与される。そして図３（ｃ）に示すように、第２の搬送アームユニット１２Ｂを上流側へ移動させ（矢印ｐ）、ペン３４をマガジン６Ｂから離隔させる方向に移動させる（矢印ｏ）ことにより、マーク付与動作が終了する。
【００３２】
図５は、マーク付与動作のその他の例を示している。図３，図４に示すマーク付与動作では、マーク印加対象の基板５＊の先端面にペン先３４ａを接触させることのみによって基板端面にマークを付与する例を示したが、ここでは、ペン先３４ａに対して基板５＊の先端部を上下方向に相対移動させることによってマークを付与する例を示している。ここでは第２の搬送アームユニット１２Ｂによって基板５＊をマガジン６Ｂ内に押し込む動作に先立ってペン３４の先端部をマガジン６Ｂ内に進入させるとともに、図５（ａ）に示すように、ペン先３４ａを予め基板収納の対象となる挿入ラック６ｃから所定の高さ差ｈだけ高い位置に合わせて待機させておく。そしてこの状態で、搬送爪部材１７Ｂによって基板５＊の後端部を押送して、マガジン６Ｂ内に押し込む動作を行う。この押し込み動作により、基板５＊は矢印ｊ方向にスライド移動し、図５（ｂ）に示すように、先端部５ａがペン先３４ａから図５（ａ）に示す高さ差ｈだけ下方に位置した状態で停止する。この状態では、ペン先３４ａは先端部５ａに接触しないため、まだマーク付与は行われない。
【００３３】
次いでマーク付与のための動作を行う。すなわちマガジン昇降機構（図示省略）を駆動して、図５（ｃ）に示すように、マガジン６Ｂを所定の昇降ストロークで所定回数昇降させる（矢印ｑ）。これにより、ペン先３４ａは先端部５ａに複数回接触し、先端部５ａの端面および先端部５ａ近傍の表裏両面には、ペン先３４ａによってマークが付与される。そしてこの後、図５（ｄ）に示すように、第２の搬送アームユニット１２Ｂを上流側へ移動させ（矢印ｓ）、ペン３４をマガジン６Ｂから離隔させる方向に移動させる（矢印ｒ）ことにより、マーク付与動作が終了する。
【００３４】
このように、ペン先３４ａに対して基板５＊の先端部５ａを相対的に上下動させることにより、薄くて撓みやすい種類の基板５＊に対しても、確実にマーク付与を行うことができる。すなわち、薄くて撓みやすい基板の場合には先端部５ａの端面にペン先３４ａを水平方向から正確に接触させることが困難であるのに対し、ペン先３４ａに対して先端部５ａを相対的に上下動させることにより、ペン先３４ａは先端部５ａに必ず接触して、確実にマーク付与を行うことができる。なおここでは、ペン先３４ａに対して先端部５ａを相対的に上下動させる方法として、マガジン６Ｂを昇降させる例を示したが、昇降アクチュ
エータ３０を駆動してペン３４を昇降させてもよい。
【００３５】
図６は、複数枚の基板５を対象とした一連のプラズマ処理作業が終了して、プラズマ処理装置１の装置稼働を一時的に停止する際の動作を示している。すなわち、ペン３４は揮発性のインクを内蔵したものを用いていることから、ペン先３４ａが大気に暴露されたままに放置すると、ペン先３４ａの乾燥・固化やインクの蒸発によって使用できなくなる。このため、装置稼働を停止する際には、昇降アクチュエータ３０、水平動アクチュエータ３１を駆動してペン３４を図６に示す矢印ｔのように移動させ、ペン先３４ａをキャップ３５内に挿入する。これにより、ペン先３４ａは大気暴露から保護され、ペン３４の使用寿命を延長することができる。
【００３６】
上記説明したように、本実施の形態に示すプラズマ処理装置１においては、プラズマ処理後の基板５＊を収納するアンローダ装置４に、マガジン６Ｂに収納された基板５＊における後方開口部５ｂ側の先端部に当該基板５＊がプラズマ処理済みであることを示すマークを付与するマーク付与機構８を備えるようにしている。これにより、搬送レールに沿って移動する基板に固定配置されたペン先を接触させる構成を用いる従来技術において生じる課題、すなわち基板の先端部がペン先に接触する際に基板の引っ掛かりなどの搬送トラブルを誘発するという不具合を生じることがない。このため、対象とする基板が薄型の樹脂基板で変形しやすい場合においても、基板へのマーク印加を安定して行うことができる。
【００３７】
また本実施の形態においては、マーク付与機構８はアンローダ装置４の後面側に設けられていることから、真空チャンバが設けられたプラズマ処理部２ｃとアンローダ装置とを極力近接して配置することができ、プラズマ処理が実行された後の基板を速やかにマガジン内へ収納して異物の付着を防止することができる。さらにアンローダ装置４の後面側はアクセスが容易であり、ペン３４の交換などの保守作業時にも容易に作業を行うことができる。したがって、プラズマ処理を行う真空チャンバとマガジンとの間にマーキング手段を配置する従来技術と比較して、処理後の基板の品質維持の面で優れるとともに、作業性・操作性に優れている。このような作業性・操作性の利点は、生産効率向上のために複数列の基板搬送レールを備えた構成において特に顕著となる。
【産業上の利用可能性】
【００３８】
本発明のプラズマ処理装置は、処理済み基板を識別するためのマーク印加時の安定性や保守作業の作業性を確保することができるという効果を有し、基板を対象として表面クリーニングや表面改質などを目的としてプラズマ処理を行う分野において有用である。
【図面の簡単な説明】
【００３９】
【図１】本発明の一実施の形態のプラズマ処理装置の正面図
【図２】本発明の一実施の形態のプラズマ処理装置の平面図
【図３】本発明の一実施の形態のプラズマ処理装置の動作説明図
【図４】本発明の一実施の形態のプラズマ処理装置の動作説明図
【図５】本発明の一実施の形態のプラズマ処理装置の動作説明図
【図６】本発明の一実施の形態のプラズマ処理装置の動作説明図
【符号の説明】
【００４０】
１  プラズマ処理装置
２  装置本体部
２ｂ  基板搬送機構
２ｃ  プラズマ処理部
３  ローダ装置
４  アンローダ装置
５，５＊  基板
６Ａ，６Ｂ  マガジン
６ａ  前方開口部
６ｂ  後方開口部
７  基板押出し機構
８  マーク付与機構
１０  基板搬入レール
１１  基板送り駆動部
１２Ａ  第１の搬送アームユニット
１２Ｂ  第２の搬送アームユニット
１７Ａ，１７Ｂ  搬送爪部材
１８  チャック機構
３０  昇降アクチュエータ
３１  水平動アクチュエータ
３３  ペンホルダ
３４  ペン
３４ａ  ペン先
３５  キャップ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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