(57)【要約】【課題】例えば成膜により堆積した膜の応力などに起因するトレーの変形を防止することができるとともに、例えば堆積した膜のクリーニングの頻度が少なくてすみ、さらに、大型の基板に対応するときにも寿命が短くなるおそれを防止することのできる基板搬送トレーを提供すること。【解決手段】トレー５は、長方形板状本体部５ａと、本体部５ａの周囲に設けられた周縁部５ｂと、周縁部５ｂが部分的に外方から内方へ向かって切り欠かれてなる切欠部５ｃとを備えてなる。本体部５ａは、成膜のために搬送すべき基板６が搭載される部分である。周縁部５ｂは、基板６が搭載されない部分である。切欠部５ｃは、成膜時における膜応力を緩和するための部分である。切欠部５ｃは、周縁部５ｂのそれぞれの長辺部分に６箇所ずつ、それぞれの短辺部分に４箇所ずつ、周縁部５ｂの全周にわたって設けられている。【選択図】図３
2010219221.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板が搭載される本体部と、この本体部の周囲に設けられ、基板が搭載されない周縁部と、この周縁部が部分的に外方から内方へ向かって切り欠かれた切欠部とを備える基板搬送トレー。
【請求項２】
切欠部は、周縁部の表側面から裏側面に達するように設けられている請求項１に記載の基板搬送トレー。
【請求項３】
切欠部は、周縁部の全周にわたって複数箇所設けられている請求項１または２に記載の基板搬送トレー。
【請求項４】
本体部は、その平面形状が方形枠状である請求項１〜３のいずれか１つに記載の基板搬送トレー。
【請求項５】
本体部は、その平面形状が方形板状である請求項１〜３のいずれか１つに記載の基板搬送トレー。
【請求項６】
トレーは、厚さが０．５ｍｍ〜２．０ｍｍである請求項１〜５のいずれか１つに記載の基板搬送トレー。
【請求項７】
トレーは、その材質がアルミニウム合金である請求項５または６に記載の基板搬送トレー。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、基板搬送トレーに関するものであり、さらに詳しくは、例えば基板をトレーに載せて搬送しながら基板の表面に薄膜を作成するための成膜装置などに使用される基板搬送トレーに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、基板をトレーに搭載して搬送しながら基板の表面に薄膜を作成するための成膜装置としては、例えば特許文献１に記載されたものが知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開平９−２７９３４１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
特許文献１には、長方形枠状トレーの内側に基板を搭載するための段差部分が設けられ、長辺の部分にトレーへの基板の受け渡しの際に使用される受け板用凹部が設けられた成膜用トレーが開示されている（〔００１４〕および図２を参照）。
【０００５】
このようなトレーでは、成膜工程を重ねるたびに基板周縁のトレー枠部分に膜が堆積し、堆積した膜の応力によってトレーが反るなどのトレーの変形が生じることがあり、その結果、基板を搬送する際に搬送不良が発生するおそれがある。
【０００６】
また、膜が堆積したトレーは、ケミカルエッチングや機械的な方法により、クリーニング（堆積した膜の除去）を行う必要がある。
【０００７】
このため、上記のようなトレーでは、堆積した膜のクリーニングの頻度が多くなり、結果的にトレーの寿命が短くなるおそれがある。特に、比較的大型の基板に対応したトレーにあっては、膜応力によるトレーの変形がいっそう顕著になるため、その寿命がさらに短くなるという問題がある。
【０００８】
この発明は以上のような事情を考慮してなされたものであり、その課題は、例えば成膜により堆積した膜の応力などに起因するトレーの変形を防止することができるとともに、例えば堆積した膜のクリーニングの頻度が少なくてすみ、さらに、大型の基板に対応するときにも寿命が短くなるおそれを防止することのできる基板搬送トレーを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
この発明によれば、基板が搭載される本体部と、この本体部の周囲に設けられ、基板が搭載されない周縁部と、この周縁部が部分的に外方から内方へ向かって切り欠かれた切欠部とを備える基板搬送トレーが提供される。
【００１０】
基板を搭載するためのトレーとしては、基板を搭載した状態で搬送され、例えば成膜のための各種処理の温度、圧力などに耐えることのできるものであれば、その大きさ（例えば、縦５００ｍｍ、横１０００ｍｍ、厚さ１５ｍｍ）、形状（例えば、方形板状あるいは方形枠状）や材質（例えば、ステンレス鋼あるいはアルミニウム合金）などについて特に制約されない。ただし、搬送されるという観点からは、トレーは軽量であることが好ましく、例えば薄板状のもの（厚さが例えば０．５ｍｍ〜２．０ｍｍのもの）が好ましく使用される。
【００１１】
トレーは、本体部と周縁部と切欠部とを有してなる。本体部は、例えば成膜のために搬送すべき基板が搭載される部分である。周縁部は、本体部の周囲に設けられ、基板が搭載されない部分である。切欠部は、周縁部が部分的に外方から内方へ向かって切り欠かれてなり、成膜時における膜応力を緩和するための部分である。
【００１２】
切欠部は、成膜によりトレーに付着／堆積した膜によって生じる応力を緩和するように作用し、膜が付着／堆積したトレーの変形を低減するという効果を奏する。また、切欠部は、基板が搭載されない周縁部における膜が付着／堆積しやすい部分に設けられているため、トレーの変形防止に効果的である。
【００１３】
切欠部の平面形状や大きさは、特に制限されるものではなく、本体部および周縁部の大きさ、成膜の条件などに応じて適宜、決定される。切欠部の平面形状は、周縁部が部分的に外方から内方へ向かって切り欠かれていれば、長方形、台形、三角形、半円形など、どのような形状であってもよい。切欠部の長さ（奥行き）および幅は、例えば数ｍｍ〜数十ｍｍの範囲で調整される。
【００１４】
また、切欠部は、周縁部の表側面から裏側面に達するように設けられているのが好ましい。切欠部がこのように設けられているときには、膜応力の緩和がいっそう効果的に行われる。
【００１５】
切欠部は、周縁部の全周にわたって複数箇所設けられているのが好ましい。例えば、本体部が長方形枠あるいは長方形板からなるときには、切欠部は、枠あるいは板の周縁部の長辺部分および短辺部分のそれぞれに数箇所ずつ設けられる。切欠部がこのように設けられているときには、トレーに生じる膜応力をトレーの面方向（縦横方向）に、すなわち２次元的に緩和することができ、トレーの２次元的変形を低減することができる。
【００１６】
本体部は例えば、その平面形状が方形枠状であってもよく、あるいは方形板状であってもよい。本体部の平面形状が方形枠状であるトレーは、例えば成膜の際における膜応力の緩和に優れ、膜応力に起因する変形が少ない。本体部の平面形状が方形板状であるトレーは、基板をより均一に加熱して成膜することができる。
【００１７】
トレーは、上記のように、厚さが例えば０．５ｍｍ〜２．０ｍｍのものが使用される。このように厚さが比較的薄いトレーは、熱容量が比較的小さく、基板をより均一に加熱しやすい反面、基板に反りなどの変形が発生しやすいという問題がある。この発明の基板搬送トレーは、厚さが比較的薄いトレーに上記のような膜応力緩和用切欠部を設けることで、基板における反りなどの変形を低減することができる点で、より効果的である。
【００１８】
トレーは例えば、その材質がアルミニウム合金であるものが使用される。アルミニウム合金は熱伝導性が比較的良好であるため、トレーをアルミニウム合金から作製すれば、基板をより均一に加熱することができる。このような効果は、特に、トレーが板状である場合やトレーの厚さが比較的薄い場合に、より顕著になる。トレーが枠状である場合は、ステンレス鋼などの、熱伝導性がアルミニウム合金より小さい材料を用いても、基板の加熱に関してそれほど問題とはならない。
【発明の効果】
【００１９】
この発明の基板搬送トレーによれば、例えば成膜のために搬送すべき基板が搭載される本体部と、この本体部の周囲に設けられ、基板が搭載されない周縁部と、この周縁部が部分的に外方から内方へ向かって切り欠かれてなり、成膜時における膜応力を緩和するための切欠部とを備えているので、堆積した膜の応力に起因するトレーの変形を防止することができるとともに、堆積した膜のクリーニングの頻度が少なくてすみ、さらに、大型の基板に対応するときにも寿命が短くなるおそれを防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】プラズマ処理装置に組み込まれ、この発明の実施の形態１における成膜用基板搬送トレーを使用する基板搬送装置の一部切欠斜視図である。
【図２】図１に示された基板搬送装置の構成説明図である。
【図３】図１に示された基板搬送装置に使用される、この発明の実施の形態１における成膜用基板搬送トレーの平面図である。
【図４】図３に示された基板搬送トレーの切欠部の１つを示す要部拡大平面図である。
【図５】図３に示された基板搬送トレーの切欠部の１つを示す要部拡大斜視図である。
【図６】この発明の実施の形態２における成膜用基板搬送トレーの平面図である。
【図７】この発明の実施の形態３における成膜用基板搬送トレーの平面図である。
【図８】この発明の実施の形態４における成膜用基板搬送トレーの平面図である。
【図９】この発明の実施の形態５における成膜用基板搬送トレーの要部拡大平面図である。
【図１０】この発明の実施の形態６における成膜用基板搬送トレーの要部拡大平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
以下、添付図面である図１〜図１０に基づいて、この発明の好ましい実施の形態１〜６を説明する。なお、これらによってこの発明が限定されるものではない。
【００２２】
〔実施の形態１〕
図１および図２に示されたように、この発明の実施の形態１における成膜用基板搬送トレー５を使用する基板搬送装置Ｄは、プラズマ処理装置に組み込まれている。基板搬送装置Ｄは、搬送上流側から搬送下流側へかけて互いに離間した状態に隣接して配置された第１真空室１および第２真空室２を備えてなる。これら２つの真空室１，２は、長手方向に直線状に延びる１つのケーシングを開閉可能な１つの隔離用ゲートバルブ３により２つに区画することで構成されている。
【００２３】
これらの真空室１，２はステンレス鋼製で、内面には鏡面加工が施されている。ゲートバルブ３は、昇降可能に構成され、上昇した位置で隣接する２つの真空室１，２を連通状態にし、下降した位置で隣接する２つの真空室１，２を隔離状態にする。
【００２４】
第１真空室１は、搬送上流側からここへ搬入された板状被処理物４（ここでは、後述するトレー５とこのトレー５に搭載されるプラズマ処理用基板６とからなる）にプラズマ処理を行うためのプラズマ処理室にされている。第２真空室２は、第１真空室１であるプラズマ処理室で処理された被処理物４を搬出するための被処理物搬出室にされている。
【００２５】
第１真空室としてのプラズマ処理室１および第２真空室としての被処理物搬出室２にはそれぞれ、長方形板状体からなり、被処理物４が載置される浮上搬送用ガイドプレート７が設けられている。これらのガイドプレート７，７もステンレス鋼製であり、後に説明するように部分的に中空構造とされている。それぞれのガイドプレート７は、表面に鏡面加工が施され、幅（短辺長さ）６００ｍｍ、長さ（長辺長さ）１０００ｍｍ、厚さ３０ｍｍの寸法を有している。
【００２６】
これら２つのガイドプレート７，７は、ゲートバルブ３を隔てて隣接されたプラズマ処理室１および被処理物搬出室２において、搬送方向に沿って一線状に配置されている。また、それぞれのガイドプレート７には、基板６を加熱するためのヒータ（図示略）が内蔵されている。
【００２７】
図１および図２に示されたように、それぞれのガイドプレート７には、複数の浮上用ガス噴出孔８，……，８が形成されている。すなわち、それぞれのガイドプレート７の上面には、長方形短辺の延びる方向（搬送方向に直交する方向）へ１列に８個、長方形長辺の延びる方向（搬送方向に平行な方向）へ１６列に配置された合計１２８個の円形ガス噴出孔８，……，８が形成されている。それぞれのガス噴出孔８の孔径は１．０ｍｍである。
【００２８】
これら１２８個のガス噴出孔８，……，８は、２列である１６個ごとに独立した８つの帯状噴出孔群９，……，９に分けられている。これらの噴出孔群９，……，９は、ガイドプレート７の長辺の延びる方向である搬送方向に対して横断状に、かつ、搬送方向へ所定間隔を置いて形成されている。
【００２９】
それぞれのガイドプレート７は、搬送方向に対して横断状に、かつ、搬送方向へ互いに所定間隔を置いて形成された、８つの帯状噴出孔群９，……，９のそれぞれに対応する８本の内部溝（図示略）と、これらの内部溝のそれぞれに連通状に接続され、ガイドプレート７の内部で搬送方向へ沿って延びる８本の浮上用ガス供給管１０，……，１０とを備えている。ガイドプレート７は、このような内部溝が形成されていることにより、これらの内部溝の箇所で中空状にされている。
【００３０】
図２に示されたように、この基板搬送装置Ｄには、プラズマ処理室１および被処理物搬出室２におけるガイドプレート７，７へ浮上用ガスを供給するガス供給源１１が設けられている。ガス供給源１１は、プラズマ処理室１および被処理物搬出室２のそれぞれの底壁外部に設けられた浮上用ガス供給バルブ１２，１２を介して、ガイドプレート７，７のガス供給管１０，……，１０に接続されている。
【００３１】
また、プラズマ処理室１および被処理物搬出室２はそれぞれ、外部の真空ポンプ１３，１３に接続されている。プラズマ処理室１には、その入口側に被処理物搬入用扉１４が設けられている。プラズマ処理室１は、室内を所定の真空度に維持するための圧力調整バルブ１５を介して下方の真空ポンプ１３に接続されているとともに、上方でプラズマ処理用反応ガスを導入するための反応ガス導入管１６に接続されている。被処理物搬出室２には、その出口側に被処理物搬出用扉１７が設けられている。さらに、被処理物搬出室２は、上方でリークガス導入管１８に接続されている。
【００３２】
プラズマ処理室１のガイドプレート７はプラズマ処理用アノード電極１９を兼ねている。また、アノード電極１９の上方には、対向状にプラズマ処理用カソード電極２０が設けられている。カソード電極２０は、プラズマ処理室１の外部におけるコンデンサ２１および整合回路２２を介して、高周波電源２３へ電気的に接続されている。
【００３３】
図１および図２に示されたように、被処理物搬出室２におけるガイドプレート７には１枚の成膜用基板搬送トレー５が載置されている。トレー５はステンレス鋼製であって、長方形の平面形状を有している。トレー５の裏面（ガイドプレート７との対向面）には、滑らかな搬送移動を実現するために鏡面加工が施されている。トレー５は、幅（短辺長さ）６０５ｍｍ、長さ（長辺長さ）９００ｍｍ、厚さ２ｍｍの寸法を有している。トレー５は、搬送すべき基板６を搭載するためにガイドプレート７に載置されて浮上用ガスにより浮上される。
【００３４】
図３に示されたように、トレー５は、搬送方向に対して平行にされる両側縁がある長方形板状本体部５ａと、本体部５ａの周囲に設けられた周縁部５ｂと、周縁部５ｂが部分的に外方から内方へ向かって切り欠かれてなる切欠部５ｃとを備えてなる。
【００３５】
トレー５の本体部５ａは、成膜のために搬送すべき基板６が搭載される部分である。周縁部５ｂは、基板６が搭載されない部分である。切欠部５ｃは、成膜時における膜応力を緩和するための部分である。
【００３６】
図３に示されたように、トレー５の切欠部５ｃは、周縁部５ｂの全周にわたって複数箇所設けられている。すなわち、切欠部５ｃは、周縁部５ｂのそれぞれの長辺部分に６箇所ずつ、それぞれの短辺部分に４箇所ずつ、周縁部５ｂの全周にわたって合計２０箇所に設けられている。それぞれの長辺部分における６箇所の切欠部５ｃは互いに等間隔に設けられている。また、それぞれの短辺部分における４箇所の切欠部５ｃも互いに等間隔に設けられている。
【００３７】
これらの切欠部５ｃは、互いに同一の平面形状および大きさを有している。すなわち、図３〜図５に示されたように、それぞれの切欠部５ｃの平面形状は、長さ（奥行き）が１０ｍｍ、幅が２ｍｍの長方形である。また、これらの切欠部５ｃは、周縁部５ｂの表側面から裏側面に達するように設けられている。
【００３８】
この基板搬送装置Ｄには、ガイドプレート７に載置された被処理物４を浮上させ、浮上した被処理物４を外力によりプラズマ処理室１および被処理物搬出室２の間でガイドプレート７，７に沿って搬送するための搬送機能部３０，３０が、被処理物搬出室２に設けられている。以下、図１を参照しながら、搬送機能部３０，３０による浮上搬送について説明する。
【００３９】
図１において、それぞれの搬送機能部３０は、被処理物４をプラズマ処理室１および被処理物搬出室２の間で移動させる。それぞれの搬送機能部３０は、被処理物搬出室２における被処理物４の両側縁のそれぞれに沿って配設された搬送用アーム２４と、搬送方向に間隔を置いて配置された一対のプーリ（駆動プーリ２５ａおよび従動プーリ２５ｂ）と、これらのプーリ２５ａ，２５ｂに巻き掛けられたワイヤー２６と、駆動プーリ２５ａに接続されたモータ２７とを備えてなる。
【００４０】
従動プーリ２５ｂには、ワイヤー２６のたるみを取る方向に付勢されたスプリング２９が取り付けられている。スプリング２９により、従動プーリ２５ｂは搬送方向に対して平行な方向へ引っ張られ、ワイヤー２６の張力が一定に保たれている。
【００４１】
図１に示されたように、搬送用アーム２４は、ベース部２４ａとガイド部とアーム部とを備えてなる。搬送用アーム２４は、その一部が、ワイヤー２６に連結されているとともに、被処理物搬出室２の底面後方に水平状に設けられたレール２８に載置されている。
【００４２】
すなわち、ベース部２４ａは、ワイヤー２６に連結されているとともにレール２８に載置されていて、レール２８に沿って水平状に往復移動することができる。ガイド部は、ベース部２４ａにおいて搬送方向に直交する方向へ水平状に往復移動することができるように設けられている。アーム部は、ガイド部２４ｂにおいて搬送方向に対して平行な方向に水平状に、かつ、載置されたトレー５の側方に位置するように設けられている。アーム部の搬送方向への移動距離は、６５０ｍｍになるように設定されている。
【００４３】
アーム部には、その自由端に内方突出状端が設けられている。内方突出状端は、トレー５のそれぞれの側縁に設けられた係合部（図示略）のそれぞれに、当接係合／係合解除される。
【００４４】
この基板搬送装置Ｄは、搬送中のトレー５の位置を検出するセンサー（図示略）と所定の制御を行う制御機能部（図示略）とをさらに備えている。
【００４５】
制御機能部は、主として次のような制御を行うものである。すなわち、ゲートバルブ３を開放して、隣接するプラズマ処理室１と被処理物搬出室２とを連通させる。また、プラズマ処理室１および被処理物搬出室２のガイドプレート７，７におけるガス噴出孔８，……，８から浮上用ガスを噴出させる。そして、噴出した浮上用ガスにより浮上した被処理物４（トレー５＋基板６）を搬送機能部３０，３０によりガイドプレート７，７に沿って搬送させる。
【００４６】
すなわち、制御機能部は、浮上搬送制御に際して、プラズマ処理室１および被処理物搬出室２における被処理物４の浮上に関与している噴出孔群９，……，９から浮上用ガスを順次噴出させるとともに、被処理物４の浮上に関与しなくなった噴出孔群９，……，９からの浮上用ガスの噴出を順次停止する。以上のような浮上用ガスの噴出は、制御機能部が、それぞれのガス供給源１１に接続された流量調整用バルブ１２を操作することによって行われる。
【００４７】
この発明の実施の形態１における成膜用基板搬送トレー５は、成膜のために搬送すべき基板６が搭載される本体部５ａと、本体部５ａの周囲に設けられ、基板６が搭載されない周縁部５ｂと、周縁部５ｂが部分的に外方から内方へ向かって切り欠かれてなり、成膜時における膜応力を緩和するための切欠部５ｃとを備えてなる。従って、このトレー５によれば、堆積した膜の応力に起因するトレー５の変形を防止することができるとともに、堆積した膜のクリーニングの頻度が少なくてすみ、さらに、大型の基板６に対応するときにも寿命が短くなるおそれを防止することができる。
【００４８】
〔実施の形態２〕
図６に示された、この発明の実施の形態２における成膜用基板搬送トレー５５は、実施の形態１と同様に、基板搬送装置に使用されるものである。トレー５５は、搬送方向に対して平行にされる両側縁がある長方形枠状本体部５５ａと、この本体部５５ａの周囲に設けられた周縁部５５ｂと、周縁部５５ｂが部分的に外方から内方へ向かって切り欠かれてなる切欠部５５ｃとを備えてなる。
【００４９】
トレー５５の本体部５５ａは、成膜のために搬送すべき基板６が搭載される部分である。周縁部５５ｂは、基板６が搭載されない部分である。切欠部５５ｃは、成膜時における膜応力を緩和するための部分である。
【００５０】
トレー５５の本体部５５ａは、その長辺および短辺の寸法が基板６の長辺および短辺の寸法にそれぞれほぼ対応するように、かつ、高さが周縁部５５ｂの高さよりも低くなるように構成されている。すなわち、本体部５５ａと周縁部５５ｂとは段差があり、この段差を利用して、基板６を、周縁部５５ｂによって包囲された状態で本体部５５ａに搭載することができる。
【００５１】
図６に示されたように、トレー５５の切欠部５５ｃは、周縁部５５ｂのそれぞれの長辺部分に６箇所ずつ、それぞれの短辺部分に４箇所ずつ、周縁部５５ｂの全周にわたって合計２０箇所に設けられている。それぞれの長辺部分における６箇所の切欠部５５ｃは互いに等間隔に設けられている。また、それぞれの短辺部分における４箇所の切欠部５５ｃも互いに等間隔に設けられている。
【００５２】
これらの切欠部５５ｃは、互いに同一の平面形状および大きさを有している、実施の形態１のトレー５における切欠部５ｃと同じものである。すなわち、それぞれの切欠部５５ｃの平面形状は、長さ（奥行き）が１０ｍｍ、幅が２ｍｍの長方形である。また、これらの切欠部５５ｃは、周縁部５５ｂの表側面から裏側面に達するように設けられている。
【００５３】
この発明の実施の形態２における成膜用基板搬送トレー５５は、成膜のために搬送すべき基板６が搭載される本体部５５ａと、本体部５５ａの周囲に設けられ、基板６が搭載されない周縁部５５ｂと、周縁部５５ｂが部分的に外方から内方へ向かって切り欠かれてなり、成膜時における膜応力を緩和するための切欠部５５ｃとを備えてなる。従って、このトレー５５によれば、堆積した膜の応力に起因するトレー５５の変形を防止することができるとともに、堆積した膜のクリーニングの頻度が少なくてすみ、さらに、大型の基板６に対応するときにも寿命が短くなるおそれを防止することができる。
【００５４】
〔実施の形態３〕
図７に示された、この発明の実施の形態３における成膜用基板搬送トレー６５は、実施の形態１と同様に、基板搬送装置に使用されるものである。トレー６５は、搬送方向に対して平行にされる両側縁がある長方形板状本体部６５ａと、この本体部６５ａの周囲に設けられた周縁部６５ｂと、周縁部６５ｂが部分的に外方から内方へ向かって切り欠かれてなる３種類の切欠部６５ｃ，６５ｄ，６５ｅとを備えてなる。
【００５５】
トレー６５の本体部６５ａは、成膜のために搬送すべき基板６が搭載される部分である。周縁部６５ｂは、基板６が搭載されない部分である。切欠部６５ｃ，６５ｄ，６５ｅは、成膜時における膜応力を緩和するための部分である。
【００５６】
切欠部６５ｃは、周縁部６５ｂのそれぞれの短辺部分に５箇所ずつ、互いに等間隔に設けられている。これらの切欠部６５ｃは、互いに同一の平面形状および大きさを有している、実施の形態１の切欠部５ｃと同じものである。切欠部６５ｄは、周縁部６５ｂのそれぞれの長辺部分に３箇所ずつ、互いに等間隔に設けられている。これらの切欠部６５ｄは、切欠部６５ｃよりも長さ（奥行き）が短く、幅が広い、平面形状が長方形のものである。切欠部６５ｅは、周縁部６５ｂのそれぞれの長辺部分に２箇所ずつ、切欠部６５ｄを介して設けられている。これらの切欠部６５ｅは、切欠部６５ｃよりも長さ（奥行き）が短く、幅がきわめて広い、平面形状が長方形のものである。
【００５７】
この発明の実施の形態３における成膜用基板搬送トレー６５は、成膜のために搬送すべき基板６が搭載される本体部６５ａと、本体部６５ａの周囲に設けられ、基板６が搭載されない周縁部６５ｂと、周縁部６５ｂが部分的に外方から内方へ向かって切り欠かれてなり、成膜時における膜応力を緩和するための切欠部６５ｃ，６５ｄ，６５ｅとを備えてなる。従って、このトレー６５によれば、堆積した膜の応力に起因するトレー６５の変形を防止することができるとともに、堆積した膜のクリーニングの頻度が少なくてすみ、さらに、大型の基板６に対応するときにも寿命が短くなるおそれを防止することができる。
【００５８】
〔実施の形態４〕
図８に示された、この発明の実施の形態４における成膜用基板搬送トレー７５は、実施の形態１と同様に、基板搬送装置に使用されるものである。トレー７５は、搬送方向に対して平行にされる両側縁がある長方形板状本体部７５ａと、この本体部７５ａの周囲に設けられた周縁部７５ｂと、周縁部７５ｂが部分的に外方から内方へ向かって切り欠かれてなる３種類の切欠部７５ｃ，７５ｄ，７５ｅとを備えてなる。
【００５９】
また、トレー７５は、周縁部７５ｂの一方端部に、トレー７５を両手で保持するための一対の保持部７５ｆ，７５ｆを備えている。
【００６０】
トレー７５の本体部７５ａは、成膜のために搬送すべき基板６が搭載される部分である。周縁部７５ｂは、基板６が搭載されない部分である。切欠部７５ｃ，７５ｄ，７５ｅは、成膜時における膜応力を緩和するための部分である。
【００６１】
切欠部７５ｃは、周縁部７５ｂの一方の短辺部分に３箇所、他方の短辺部分に５箇所、互いに等間隔に設けられている。これらの切欠部７５ｃは、互いに同一の平面形状および大きさを有している、実施の形態１の切欠部５ｃと同じものである。切欠部７５ｄは、周縁部７５ｂのそれぞれの長辺部分に３箇所ずつ、互いに等間隔に設けられている。これらの切欠部７５ｄは、実施の形態３におけるトレー６５の切欠部６５ｄと同じものである。切欠部７５ｅは、周縁部７５ｂのそれぞれの長辺部分に２箇所ずつ、切欠部７５ｄを介して設けられている。これらの切欠部７５ｅは、実施の形態３におけるトレー６５の切欠部６５ｅと同じものである。
【００６２】
この発明の実施の形態４における成膜用基板搬送トレー７５は、成膜のために搬送すべき基板６が搭載される本体部７５ａと、本体部７５ａの周囲に設けられ、基板６が搭載されない周縁部７５ｂと、周縁部７５ｂが部分的に外方から内方へ向かって切り欠かれてなり、成膜時における膜応力を緩和するための切欠部７５ｃ，７５ｄ，７５ｅとを備えてなる。従って、このトレー７５によれば、堆積した膜の応力に起因するトレー７５の変形を防止することができるとともに、堆積した膜のクリーニングの頻度が少なくてすみ、さらに、大型の基板６に対応するときにも寿命が短くなるおそれを防止することができる。
【００６３】
〔実施の形態５〕
図９に示された、この発明の実施の形態５における成膜用基板搬送トレー８５は、実施の形態１と同様に、基板搬送装置に使用されるものである。トレー８５は、搬送方向に対して平行にされる両側縁がある長方形板状本体部８５ａと、この本体部８５ａの周囲に設けられた周縁部８５ｂと、周縁部８５ｂが部分的に外方から内方へ向かって切り欠かれてなる切欠部８５ｃとを備えてなる。
【００６４】
切欠部８５ｃは、平面形状が台形であり、図３に示された実施の形態１におけるトレー５の切欠部５ｃと同様に、周縁部８５ｂのそれぞれの長辺部分に６箇所ずつ、それぞれの短辺部分に４箇所ずつ、周縁部８５ｂの全周にわたって合計２０箇所に設けられている。
【００６５】
この発明の実施の形態５における成膜用基板搬送トレー８５は、成膜のために搬送すべき基板６が搭載される本体部８５ａと、本体部８５ａの周囲に設けられ、基板６が搭載されない周縁部８５ｂと、周縁部８５ｂが部分的に外方から内方へ向かって切り欠かれてなり、成膜時における膜応力を緩和するための切欠部８５ｃとを備えてなる。従って、このトレー８５によれば、堆積した膜の応力に起因するトレー８５の変形を防止することができるとともに、堆積した膜のクリーニングの頻度が少なくてすみ、さらに、大型の基板６に対応するときにも寿命が短くなるおそれを防止することができる。
【００６６】
〔実施の形態６〕
図１０に示された、この発明の実施の形態６における成膜用基板搬送トレー９５は、実施の形態１と同様に、基板搬送装置に使用されるものである。トレー９５は、搬送方向に対して平行にされる両側縁がある長方形板状本体部９５ａと、この本体部９５ａの周囲に設けられた周縁部９５ｂと、周縁部９５ｂが部分的に外方から内方へ向かって切り欠かれてなる切欠部９５ｃとを備えてなる。
【００６７】
切欠部９５ｃは、平面形状が半円形であり、図３に示された実施の形態１におけるトレー５の切欠部５ｃと同様に、周縁部９５ｂのそれぞれの長辺部分に６箇所ずつ、それぞれの短辺部分に４箇所ずつ、周縁部９５ｂの全周にわたって合計２０箇所に設けられている。
【００６８】
この発明の実施の形態６における成膜用基板搬送トレー９５は、成膜のために搬送すべき基板６が搭載される本体部９５ａと、本体部９５ａの周囲に設けられ、基板６が搭載されない周縁部９５ｂと、周縁部９５ｂが部分的に外方から内方へ向かって切り欠かれてなり、成膜時における膜応力を緩和するための切欠部９５ｃとを備えてなる。従って、このトレー９５によれば、堆積した膜の応力に起因するトレー９５の変形を防止することができるとともに、堆積した膜のクリーニングの頻度が少なくてすみ、さらに、大型の基板６に対応するときにも寿命が短くなるおそれを防止することができる。
【符号の説明】
【００６９】
５・・・トレー
５ａ・・本体部
５ｂ・・周縁部
５ｃ・・切欠部
６・・・基板
５５・・・トレー
５５ａ・・本体部
５５ｂ・・周縁部
５５ｃ・・切欠部
６５・・・トレー
６５ａ・・本体部
６５ｂ・・周縁部
６５ｃ・・切欠部
６５ｄ・・切欠部
６５ｅ・・切欠部
７５・・・トレー
７５ａ・・本体部
７５ｂ・・周縁部
７５ｃ・・切欠部
７５ｄ・・切欠部
７５ｅ・・切欠部
８５・・・トレー
８５ａ・・本体部
８５ｂ・・周縁部
８５ｃ・・切欠部
９５・・・トレー
９５ａ・・本体部
９５ｂ・・周縁部
９５ｃ・・切欠部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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