(57)【要約】      （修正有）【課題】ブルーレイ・ディスク構成の光情報記録媒体であって、短波長レーザー光照射による記録時に良好な記録特性を発揮することができ、かつ高い強度を有する光情報記録媒体を提供する。【解決手段】基板のプリグルーブを有する表面上に、反射層１８、色素含有記録層１４、バリア層２０、およびカバー層１６をこの順に有する光情報記録媒体１０Ａ。前記バリア層とカバー層との間に、１分子内に少なくとも２個の(メタ)アクリロイル基を有する共役ジエン重合体を含有する紫外線硬化型組成物に硬化処理を施すことにより形成された−２５℃以下のガラス転移温度を有する中間層２２を有する。【選択図】図１
2010033667.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板のプリグルーブを有する表面上に、反射層、色素含有記録層、バリア層、およびカバー層をこの順に有する光情報記録媒体であって、
前記バリア層とカバー層との間に、１分子内に少なくとも２個の(メタ)アクリロイル基を有する共役ジエン重合体を含有する紫外線硬化型組成物に硬化処理を施すことにより形成された−２５℃以下のガラス転移温度を有する中間層を有することを特徴とする光情報記録媒体。
【請求項２】
前記紫外線硬化型組成物は、前記共役ジエン重合体を、紫外線硬化型組成物１００質量部に対し、１０〜８０質量部含む請求項１に記載の光情報記録媒体。
【請求項３】
前記共役ジエン重合体は、１分子内に少なくとも２個の（メタ）アクリロイル基を有するポリブタジエンおよび／または１分子内に少なくとも２個の（メタ）アクリロイル基を有するポリイソプレンを含む請求項１または２に記載の光情報記録媒体。
【請求項４】
前記紫外線硬化型組成物は、ホモポリマーのガラス転移温度が−９０〜２５℃の単官能または多官能（メタ）アクリレートを含有する請求項１〜３のいずれか１項に記載の光情報記録媒体。
【請求項５】
前記色素は、フタロシアニン色素化合物である請求項１〜４のいずれか１項に記載の光情報記録媒体。
【請求項６】
前記色素は、アゾ化合物ならびにアゾ化合物および金属イオンまたは金属酸化物イオンを含むアゾ金属錯体化合物からなる群から選ばれる少なくとも一種のアゾ色素化合物である請求項１〜４のいずれか１項に記載の光情報記録媒体。
【請求項７】
前記アゾ金属錯体化合物は、銅イオンを含む請求項６に記載の光情報記録媒体。
【請求項８】
前記色素は、波長４０５ｎｍにおける消衰係数が０．１５〜１．０の範囲である請求項６または７に記載の光情報記録媒体。
【請求項９】
前記色素は、波長４０５ｎｍにおける屈折率が１．４５〜１．７５の範囲である請求項６〜８のいずれか１項に記載の光情報記録媒体。
【請求項１０】
前記色素の熱分解温度は、１５０〜４００℃の範囲である請求項５〜９のいずれか１項に記載の光情報記録媒体。
【請求項１１】
前記プリグルーブは、複数のグルーブおよび隣接するグルーブの間に位置するランドからなり、かつトラックピッチは５０〜５００ｎｍの範囲であり、
前記記録層の厚さは、ランド上で１〜１００ｎｍの範囲であり、かつグルーブ上で５〜１５０ｎｍの範囲である請求項１〜１０のいずれか１項に記載の光情報記録媒体。
【請求項１２】
前記プリグルーブは、複数のグルーブおよび隣接するグルーブの間に位置するランドからなり、ランド上の記録層の厚さとグルーブ上の記録層との厚さの比[（ランド上の記録層の厚さ）／（グルーブ上の記録層の厚さ）]が０．１〜１の範囲である請求項１〜１１のいずれか１項に記載の光情報記録媒体。
【請求項１３】
波長３９０〜４４０ｎｍのレーザー光を照射することにより情報を記録するために使用される請求項１〜１２のいずれか１項に記載の光情報記録媒体。
【請求項１４】
請求項１〜１３のいずれか１項に記載の光情報記録媒体へ、波長３９０〜４４０ｎｍのレーザー光を照射することにより、光情報記録媒体の記録層へ情報を記録する情報記録方法。
【請求項１５】
基板のプリグルーブを有する表面上に、反射層、色素含有記録層、バリア層、およびカバー層をこの順に有する光情報記録媒体の製造方法であって、
前記バリア層上に、１分子内に少なくとも２個の(メタ)アクリロイル基を有する共役ジエン重合体を含有する紫外線硬化型組成物を塗布し、該組成物に紫外線を照射することにより、前記バリア層と前記カバー層との間に、−２５℃以下のガラス転移温度を有する中間層を形成することを特徴とする光情報記録媒体の製造方法。
【請求項１６】
バリア層上に塗布する前記紫外線硬化型組成物の粘度は、２０〜１０００ｍＰａ・ｓの範囲である請求項１５に記載の光情報記録媒体の製造方法。
【請求項１７】
前記紫外線硬化型組成物は、前記共役ジエン重合体を、紫外線硬化型組成物１００質量部に対し、１０〜８０質量部含む請求項１５または１６に記載の光情報記録媒体の製造方法。
【請求項１８】
前記共役ジエン重合体は、１分子内に少なくとも２個の（メタ）アクリロイル基を有するポリブタジエンおよび／または１分子内に少なくとも２個の（メタ）アクリロイル基を有するポリイソプレンを含む請求項１５〜１７のいずれか１項に記載の光情報記録媒体の製造方法。
【請求項１９】
前記紫外線硬化型組成物は、ホモポリマーのガラス転移温度が−９０〜２５℃の単官能または多官能（メタ）アクリレートを含有する請求項１５〜１８のいずれか１項に記載の光情報記録媒体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、短波長レーザー光を用いて情報の記録および再生が可能な光情報記録媒体およびその製造方法に関するものであり、より詳しくは、Ｂｌｕ−ｒａｙ方式の光情報記録媒体およびその製造方法に関するものである。更に本発明は、前記光情報記録媒体への情報記録方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、レーザー光により１回限りの情報記録が可能な光情報記録媒体として、追記型ＣＤ（ＣＤ−Ｒ）および追記型ＤＶＤ（ＤＶＤ−Ｒ）が知られている。ＣＤ−Ｒへの情報の記録は、近赤外域のレーザー光（通常、波長７８０ｎｍ程度）により行われるのに対し、ＤＶＤ−Ｒへの情報の記録は可視レーザー光（約６３０〜６８０ｎｍ）によって行われる。ＤＶＤ−Ｒは、記録用レーザー光としてＣＤ−Ｒより短波長のレーザー光を使用するため、ＣＤ−Ｒと比べて高密度記録可能であるという利点を有する。そのため、近年、ＤＶＤ−Ｒは、大容量の記録媒体としての地位をある程度まで確保している。
【０００３】
近年、インターネット等のネットワークやハイビジョンＴＶが急速に普及している。また、ＨＤＴＶ（Ｈｉｇｈ  Ｄｅｆｉｎｉｔｉｏｎ  Ｔｅｌｅｖｉｓｉｏｎ）の放映を間近にひかえて、画像情報を安価簡便に記録するための大容量の記録媒体の要求が高まっている。しかし、ＣＤ−ＲおよびＤＶＤ−Ｒは、将来の要求に対応できる程の充分に大きな記録容量を有しているとはいえない。そこで、ＤＶＤ−Ｒよりも更に短波長のレーザー光を用いることによって記録密度を向上させるため、短波長レーザー（例えば波長４４０ｎｍ以下）による記録が可能な大容量光ディスクの開発が進められている。そのような光ディスクとして、例えば４０５ｎｍの青色レーザーを用いたＢｌｕ−ｒａｙ方式と称される光記録ディスク（Ｂｌｕ−ｒａｙ Ｄｉｓｃ、以下、「ＢＤ」ともいう）が提案されている。
【０００４】
前述のブルーレイ・ディスクは、一般に、従来の追記型光ディスクと比べてトラックピッチが狭い。また、基板上に、反射層と記録層をこの順に有し、更に記録層の上に比較的薄い光透過性を有する層（一般に、カバー層と呼ばれる）が貼り合わされているという、従来の追記型光ディスクとは異なる層構成を有する。また記録用レーザー光が短波長化されている。そのため、ＣＤ−Ｒ、ＤＶＤ−Ｒ等の従来の追記型光情報記録媒体用記録色素として使用されていた色素では、ブルーレイ・ディスクにおいて十分な記録再生特性が得られない点が課題であった。
【０００５】
これに対し、特許文献１には、前記Ｂｌｕ−ｒａｙ方式の光記録ディスクのように短波長レーザー光を照射することにより情報を記録するための光情報記録媒体において、バリア層とカバー層の間にガラス転移温度Ｔｇが０℃以下のポリマーを含有する粘着剤層を設けることを提案している。また、特許文献２には、青色レーザー対応の光情報記録媒体において、カバー層の記録層側界面に、ガラス転移温度が０℃以下の変形促進層を設けることが提案されている。
【特許文献１】特開２００３−２１７１７７号公報
【特許文献２】特開２００７−２６５４１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
カバー層と記録層との間に上記特許文献１および２に記載されているようにガラス転移温度が低く柔軟な層を設けることにより、記録特性が向上する理由について、本発明者らは以下のように推察している。
【０００７】
色素を含有する記録層へレーザー光を照射すると、色素がレーザー光を吸収して発熱し、その熱により色素骨格またはその置換基が熱分解して気体を発生し、これによりピット内に空隙が形成されると考えられる。一般に、色素を含む記録層において、レーザー光未照射部の屈折率は、１．１〜１．９程度であるのに対し、レーザー光照射により空隙が形成された部分の屈折率は約１．０であり未照射部の屈折率と大きく異なる。これにより、大きな屈折率差を実現することができ、記録特性を高めることができると考えられる。
ところが、上記のようにレーザー光照射により記録層内に空隙を形成する場合、通常、空隙の形成は記録層の変形を伴うため、記録層の変形が妨げられると空隙が良好に形成されず、十分な記録特性を得ることが困難となる。例えば、基板上に、光反射層、記録層、バリア層、中間層（バリア層とカバー層との貼り合せのために設けられる層）およびカバー層をこの順に有する光情報記録媒体では、一般に、基板および光反射層は、中間層やバリア層に比べて剛性が高い。よって、空隙が形成されると記録層はバリア層を押し上げ、バリア層とカバー層との間に位置する中間層が適度に柔軟な場合は、該中間層に凹状の変形を生じさせる。このようにバリア層とカバー層の間に位置する中間層が容易に変形する場合は記録層における空隙の形成が妨げられることなく、ピットの形成を良好に行うことができる。したがって、上記中間層がガラス転移温度が低く柔軟であれば、空隙形成に伴い容易に変形可能であるため、空隙形成を良好に行うことができる。
【０００８】
しかし、特許文献１に記載の光情報記録媒体は、上記中間層が粘着剤から形成される。接着剤から中間層を形成する場合には粘着剤貼り合わせ工程を行う必要があるため、生産性が低下する。そのため、特許文献１に記載の技術では、生産性向上が課題であった。
【０００９】
生産性向上のためには、特許文献２の参考例に記載されているように、紫外線硬化型樹脂を用いて中間層を形成することが有効と考えられる。しかし特許文献２には、参考例に使用した低ガラス転移温度のアクリル系紫外線硬化型樹脂の組成等の詳細は何ら記載されていない。
【００１０】
紫外線硬化型組成物は、従来、ＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒ等の貼り合せ型光ディスクの貼り合せのために広く使用されていた。しかし、これら貼り合せ型光ディスク用の紫外線硬化型組成物には、低Ｔｇであることは求められていなかった。そこで本発明者らは、低ガラス転移温度の中間層を形成可能な紫外線硬化型組成物について検討を重ねた。しかしその結果、記録性能を良化させるためにガラス転移温度を低下させると、カバー層とバリア層の接着力が低下するというトレードオフの関係にあることが明らかになった。また紫外線硬化型組成物によっては、硬化を促進させるために多量の紫外線を照射すると、短波長レーザー光に対する透過率が低下し記録特性が劣化するという新たな問題が発生することも判明した。
【００１１】
そこで、本発明の目的は、ブルーレイ・ディスク構成の光情報記録媒体であって、短波長レーザー光照射による記録時に良好な記録特性を発揮することができ、かつ高い強度を有する光情報記録媒体を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明者らは、上記目的を達成するために鋭意検討を重ねた結果、バリア層とカバー層との間に設ける中間層を紫外線硬化型組成物から形成されるガラス転移温度が−２５℃以下の層とすることにより、高い生産性と良好な記録特性を兼ね備えた光情報記録媒体を得ることができること、更に、上記紫外線硬化型組成物として１分子内に少なくとも２個の(メタ)アクリロイル基を有する共役ジエン重合体を含有する紫外線硬化型組成物を用いることにより、低ガラス転移温度であっても、十分な強度でバリア層とカバー層を貼り合せることができる中間層が得られること、更には上記紫外線硬化型組成物は硬化後にも短波長レーザー光に対し高い透過率を有することを見出し、本発明を完成するに至った。
【００１３】
即ち、上記目的は、下記手段により達成された。
［１］基板のプリグルーブを有する表面上に、反射層、色素含有記録層、バリア層、およびカバー層をこの順に有する光情報記録媒体であって、
前記バリア層とカバー層との間に、１分子内に少なくとも２個の(メタ)アクリロイル基を有する共役ジエン重合体を含有する紫外線硬化型組成物に硬化処理を施すことにより形成された−２５℃以下のガラス転移温度を有する中間層を有することを特徴とする光情報記録媒体。
［２］前記紫外線硬化型組成物は、前記共役ジエン重合体を、紫外線硬化型組成物１００質量部に対し、１０〜８０質量部含む［１］に記載の光情報記録媒体。
［３］前記共役ジエン重合体は、１分子内に少なくとも２個の（メタ）アクリロイル基を有するポリブタジエンおよび／または１分子内に少なくとも２個の（メタ）アクリロイル基を有するポリイソプレンを含む［１］または［２］に記載の光情報記録媒体。
［４］前記紫外線硬化型組成物は、ホモポリマーのガラス転移温度が−９０〜２５℃の単官能または多官能（メタ）アクリレートを含有する［１］〜［３］のいずれかに記載の光情報記録媒体。
［５］前記色素は、フタロシアニン色素化合物である［１］〜［４］のいずれかに記載の光情報記録媒体。
［６］前記色素は、アゾ化合物ならびにアゾ化合物および金属イオンまたは金属酸化物イオンを含むアゾ金属錯体化合物からなる群から選ばれる少なくとも一種のアゾ色素化合物である［１］〜［４］のいずれかに記載の光情報記録媒体。
［７］前記アゾ金属錯体化合物は、銅イオンを含む［６］に記載の光情報記録媒体。
［８］前記色素は、波長４０５ｎｍにおける消衰係数が０．１５〜１．０の範囲である［６］または［７］に記載の光情報記録媒体。
［９］前記色素は、波長４０５ｎｍにおける屈折率が１．４５〜１．７５の範囲である［６］〜［８］のいずれかに記載の光情報記録媒体。
［１０］前記色素の熱分解温度は、１５０〜４００℃の範囲である［５］〜［９］のいずれかに記載の光情報記録媒体。
［１１］前記プリグルーブは、複数のグルーブおよび隣接するグルーブの間に位置するランドからなり、かつトラックピッチは５０〜５００ｎｍの範囲であり、
前記記録層の厚さは、ランド上で１〜１００ｎｍの範囲であり、かつグルーブ上で５〜１５０ｎｍの範囲である［１］〜［１０］のいずれかに記載の光情報記録媒体。
［１２］前記プリグルーブは、複数のグルーブおよび隣接するグルーブの間に位置するランドからなり、ランド上の記録層の厚さとグルーブ上の記録層との厚さの比[（ランド上の記録層の厚さ）／（グルーブ上の記録層の厚さ）]が０．１〜１の範囲である［１］〜［１１］のいずれかに記載の光情報記録媒体。
［１３］波長３９０〜４４０ｎｍのレーザー光を照射することにより情報を記録するために使用される［１］〜［１２］のいずれかに記載の光情報記録媒体。
［１４］［１］〜［１３］のいずれかに記載の光情報記録媒体へ、波長３９０〜４４０ｎｍのレーザー光を照射することにより、光情報記録媒体の記録層へ情報を記録する情報記録方法。
［１５］基板のプリグルーブを有する表面上に、反射層、色素含有記録層、バリア層、およびカバー層をこの順に有する光情報記録媒体の製造方法であって、
前記バリア層上に、１分子内に少なくとも２個の(メタ)アクリロイル基を有する共役ジエン重合体を含有する紫外線硬化型組成物を塗布し、該組成物に紫外線を照射することにより、前記バリア層と前記カバー層との間に、−２５℃以下のガラス転移温度を有する中間層を形成することを特徴とする光情報記録媒体の製造方法。
［１６］バリア層上に塗布する前記紫外線硬化型組成物の粘度は、２０〜１０００ｍＰａ・ｓの範囲である［１５］に記載の光情報記録媒体の製造方法。
［１７］前記紫外線硬化型組成物は、前記共役ジエン重合体を、紫外線硬化型組成物１００質量部に対し、１０〜８０質量部含む［１５］または［１６］に記載の光情報記録媒体の製造方法。
［１８］前記共役ジエン重合体は、１分子内に少なくとも２個の（メタ）アクリロイル基を有するポリブタジエンおよび／または１分子内に少なくとも２個の（メタ）アクリロイル基を有するポリイソプレンを含む［１５］〜［１７］のいずれかに記載の光情報記録媒体の製造方法。
［１９］前記紫外線硬化型組成物は、ホモポリマーのガラス転移温度が−９０〜２５℃の単官能または多官能（メタ）アクリレートを含有する［１５］〜［１８］のいずれかに記載の光情報記録媒体の製造方法。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、短波長領域での記録特性に優れた光情報記録媒体を高い生産性をもって提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
本発明は、基板のプリグルーブを有する表面上に、反射層、色素含有記録層、バリア層、およびカバー層をこの順に有する光情報記録媒体に関する。本発明の光情報記録媒体は、バリア層とカバー層との間に、１分子内に少なくとも２個の(メタ)アクリロイル基を有する共役ジエン重合体を含有する紫外線硬化型組成物に硬化処理を施すことにより形成された−２５℃以下のガラス転移温度を有する中間層を有する。
以下に、本発明の光情報記録媒体について、更に詳細に説明する。
【００１６】
中間層
本発明の光情報記録媒体は、基板上に、反射層、色素含有記録層、バリア層、およびカバー層をこの順に有するＢＤ構成の光情報記録媒体であり、バリア層とカバー層の間に紫外線硬化型組成物に硬化処理を施すことにより形成された−２５℃以下のガラス転移温度（Ｔｇ）を有する中間層（以下、「接着層」ともいう）を有する。先に説明したように、バリア層とカバー層との間に柔軟な中間層を設けることにより、記録層中の空隙形成が妨げられることなく、良好な記録特性を得ることができる。前記中間層のガラス転移温度が−２５℃を超えると、記録層中の空隙形成に伴う中間層の変形が良好に行われず、十分な記録特性を得ることが困難となる。優れた記録特性を得るためには、中間層のガラス転移温度は−３５℃以下であることが好ましく、−４５℃以下であることが更に好ましい。また、剥離強度との両立の点では、接着層のガラス転移温度は−１２５℃以上であることが好ましい。すなわち、本発明に用いられる接着層のガラス転移温度は−２５℃〜−１２５℃の範囲であることが好ましく、より好ましくは−３５℃〜−１００℃、さらに好ましくは−４５℃〜−９０℃である。
なお、本発明におけるガラス転移温度（Ｔｇ）とは、示差走査熱量分析（ＤＳＣ）により求められるガラス転移温度である。中間層のガラス転移温度は、中間層形成のために使用する紫外線硬化型組成物の処方、該組成物に含有される紫外線硬化型化合物の種類、硬化条件等により制御することができる。
【００１７】
本発明では、貯蔵弾性率を、ガラス転移温度と同様に接着層の硬軟の指標として用いることもできる。前記接着層のせん断モードによる貯蔵弾性率G'は、３０℃において、１０００ＫＰａ以下であることが好ましく、より好ましくは５００ＫＰａ以下、さらに好ましくは４００ＫＰａ以下である。また、前記接着層の貯蔵弾性率は、保存性の観点から１ＫＰａ以上であることが好ましい。すなわち、前記接着層の貯蔵弾性率は１０００ＫＰａ〜１ＫＰａの範囲であることが好ましく、より好ましくは５００ＫＰａ〜１０ＫＰａ、さらに好ましくは４００ＫＰａ〜２０ＫＰａである。前記貯蔵弾性率は、動的粘弾性測定装置（例えばアイティー計測制御（株）製ＤＶＡ−２００）による周波数１Ｈｚでの測定で得られる動的粘弾性挙動から求めることができる。さらに動的粘弾性挙動によって求められる損失正接（tanδ）は、周波数１Ｈｚ、引張りモードまたはせん断モードで測定した時に３０℃において１．０〜０．００３の範囲であることが好ましく、より好ましくは０．９〜０．００３５の範囲であり、さらに好ましくは０．６〜０．００４の範囲である。
【００１８】
本発明では、前記中間層を紫外線硬化型組成物から形成することにより、カバー層との貼りあわせにかかる装置が簡便になり、しかも貼り合わせ時間を短縮することができるため、安価製造が可能になる。これにより生産性を向上することができる。そして前記紫外線硬化型組成物として、１分子内に少なくとも２個の(メタ)アクリロイル基を有する共役ジエン重合体を含有する紫外線硬化型組成物を使用することにより、接着力を維持したままガラス転移温度が低い中間層を形成することができる。本発明では、上記紫外線硬化型組成物を用いて接着層を形成することにより、低Tgであっても短波長レーザー光に対して十分な透過率を示し、かつバリア層とカバー層を強固に貼り合わせることができる十分な接着力を有する接着層を形成することができる。これにより高い強度を有し、かつ良好な記録特性を示す光情報記録媒体を得ることができる。
【００１９】
本発明において、「（メタ）アクリロイル基」とは、アクリロイル基とメタクリロイル基を包含するものであり、「共役ジエン重合体」とは、少なくとも１種の共役ジエンが重合または共重合することにより得られる重合体である。共役ジエンとしては、例えばブタジエン、イソプレン、ペンタジエン、２，３−ジメチルブタジエン等の炭素数４〜８の共役ジエンが挙げられる。共役ジエン重合体としては、例えばポリブタジエン、ポリイソプレン、ポリペンタジエン、ブタジエン−イソプレン共重合体等を挙げることができる。入手容易性、およびコスト面からポリブタジエン、ポリイソプレンが好ましい。
【００２０】
前記共役ジエン重合体は、１分子内に少なくとも２個の（メタ）アクリロイル基を有する。即ち、前記共役ジエン重合体は２官能以上である。（メタ）アクリロイル基の数が１分子中１個では、上記共役ジエン重合体が架橋構造に関与せず記録特性と接着力の両立が不十分となる。前記共役ジエン重合体は、２官能から５官能のものが好ましく、より好ましくは２官能から４官能であり、さらに好ましくは２官能から３官能である。
【００２１】
紫外線硬化型組成物としては、常温〜４０℃において、液状であるものを用いることが好ましい。溶媒は用いないことが好ましく、用いたとしても極力少量に留めることが好ましい。紫外線硬化型組成物としては、スピンコート法による塗布適性の点からは、温度２５℃における粘度が２０〜１０００ｍＰａ・ｓのものが好ましく、粘度が３０〜７００ｍＰａ・ｓのものがより好ましく、粘度が４０〜５００ｍＰａ・ｓのものが更に好ましい。
粘度調整のために、希釈剤として単官能の(メタ)アクリルモノマーを添加してもよい。好ましい単官能の（メタ）アクリルモノマーについては後述する。また、増粘剤として、質量平均分子量１万以上のポリマーを用いることができる。少量の添加で所望の粘度とするためには、より高分子量のポリマー、例えば質量平均分子量１０万以上のポリマーが好ましく、質量平均分子量１００万以上のポリマーを用いるとさらに好ましい。ただし、共役ジエン重合体として後述の好ましい範囲の分子量を有するものを使用すること等により、増粘剤を使用することなく好適な粘度を有する紫外線硬化型組成物を得ることももちろん可能である。
【００２２】
前記共役ジエン重合体の質量平均分子量は、好ましくは１０００〜５００００、より好ましくは１５００〜４５０００、更に好ましくは２０００〜４００００である。質量平均分子量が上記範囲内であれば、上記好ましい粘度を有する紫外線硬化型組成物を得ることができ、しかも硬化後のガラス転移温度が所望の範囲にある紫外線硬化型組成物を得ることができる。
【００２３】
前記１分子内に少なくとも２個の(メタ)アクリロイル基を有する共役ジエン重合体は、例えば（１）２−ヒドロキシエチルアクリレートを２，４−トリレンジイソシアネートを介して共役ジエン重合体の末端ヒドロキシル基とウレタン付加反応する方法、（２）エン付加反応により無水マレイン酸を付加したマレイン化共役ジエン重合体に２−ヒドロキシエチルアクリレートをエステル化反応する方法、（３）共役ジエン重合体の有するカルボキシル基とアクリル酸グリシジルとのエポキシエステル化反応による方法、（４）共役ジエン重合体にエポキシ化剤を作用して得られるエポキシ化共役ジエン重合体とアクリル酸とのエステル化反応による方法、（５）ヒドロキシル基を有する共役ジエン重合体とアクリル酸クロリドとの脱塩酸反応による方法などにより得ることができる。または市販品としても入手可能である。市販品としては、日本曹達社製ＴＥ−２０００、クラレ社製ＵＣ−１０２、ＵＣ−２０３、ＵＣ−１０５、大阪有機化学工業社製ＢＡＣ−４５などが挙げられるが本発明はこれらに限るものではない。
【００２４】
前記共役ジエン重合体は、形成される中間層のガラス転移温度および紫外線硬化型組成物の粘度の点から、組成物１００質量部中１０〜８０質量部含まれることが好ましく、１５〜７５質量部含まれることがより好ましく、２０〜７０質量部含まれることが更に好ましい。なお、前記共役ジエン重合体は一種のみ用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００２５】
前記紫外線硬化型組成物は、前記共役ジエン重合体とともに、単官能（メタ）アクリレートや多官能（メタ）アクリレート等の重合性モノマーや重合性オリゴマー等の重合性化合物を含むことができる。なお、本発明において「（メタ）アクリレート」とは、アクリル酸エステル（アクリレート）とメタクリル酸エステル（メタクリレート）を包含するものである。これらは各々、単独または２種以上組み合わせて使用することができる。単官能（メタ）アクリレートとしては、下記一般式（ａ）で表されるアクリレートおよび下記一般式（ｂ）で表されるメタアクリレートを挙げることができる。
【化１】
2010033667.tif 000003
【化２】
2010033667.tif 000004
［一般式（ａ）、（ｂ）中、Ｒ11は置換基を表す。］
【００２６】
より詳しくは、本発明に使用可能な重合性モノマーとしては例えば以下のものが挙げられる。単官能（メタ）アクリレートとしては例えば、一般式（ａ）、（ｂ）において置換基Ｒ11がメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、sec−ブチル基、ter−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、２−エチルヘキシル基、オクチル基、ノニル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、メトキシエチル基、ブトキシエチル基、フェノキシエチル基、ノニルフェノキシエチル基、テトラヒドロフルフリル基、グリシジル基、２−ヒドロキシエチル基、２−ヒドロキシプロピル基、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル基、ジメチルアミノエチル基、ジエチルアミノエチル基、ノニルフェノキシエチルテトラヒドロフルフリル基、カプロラクトン変性テトラヒドロフルフリル基、イソボルニル基、ジシクロペンタニル基、ジシクロペンテニル基、ジシクロペンテニロキシエチル基等の置換基を有する（メタ）アクリレート等、さらに、（メタ）アクリル酸が挙げられる。
好ましい置換基Ｒ11としてはブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、２−エチルヘキシル基、オクチル基、ノニル基、ドデシル基、が挙げられ、さらに好ましいモノマーとしてはブチルアクリレート、ヘキシルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、オクチルアクリレート、ノニルアクリレート、ドデシルメタクリレートが挙げられる。
【００２７】
また、多官能（メタ）アクリレートとしては、例えば、１，３−ブチレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、１，８−オクタンジオール、１，９−ノナンジオール、トリシクロデカンジメタノール、エチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール等のジアクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートのジ（メタ）アクリレート、 ネオペンチルグリコール１モルに４モル以上のエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ１モルに２モルのエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパン１モルに３モル以上のエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得たトリオールのジまたはトリ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ１モルに４モル以上のエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレート１モルに３モル以上のエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得たトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリまたはテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトール１モルに４モル以上のエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得たトリまたはテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールのポリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトール１モルに６モル以上のエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得たポリ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性トリス［（メタ）アクリロキシエチル］イソシアヌレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールのポリ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールのポリ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレート、カプロラクトン変性ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレート、エチレンオキサイド変性リン酸（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性アルキル化リン酸（メタ）アクリレート等が挙げられる。
好ましくはビスフェノールＡ１モルに４モル以上のエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパン１モルに３モル以上のエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得たトリオールのジまたはトリ（メタ）アクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレート１モルに３モル以上のエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得たトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトール１モルに４モル以上のエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得たトリまたはテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトール１モルに６モル以上のエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得たポリ（メタ）アクリレートであり、より好ましくはビスフェノールＡ１モルに４モル以上のエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパン１モルに３モル以上のエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得たトリオールのジまたはトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトール１モルに４モル以上のエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得たトリまたはテトラ（メタ）アクリレートである。
【００２８】
また、Ｎ−ビニル−２−ピロリドン、アクリロイルモルホリン、ビニルイミダゾール、Ｎ−ビニルカプロラクタム、Ｎ−ビニルホルムアミド、酢酸ビニル、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシメチルアクリルアミドまたはＮ−ヒドロキシエチルアクリルアミドおよびそれらのアルキルエーテル化合物等も使用できる。
【００２９】
更に、紫外線硬化型化合物としては、重合性オリゴマーを使用することもできる。重合性オリゴマーとしては、ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００３０】
上記紫外線硬化型組成物から形成される中間層のガラス転移温度は、前述の通り紫外線硬化型組成物の処方、該組成物に含有される紫外線硬化型化合物の種類、硬化条件等により調整することができる。特に本発明では、低Tgの中間層を形成するために、紫外線硬化型組成物に前記共役ジエン重合体と併用する重合性化合物として、通常の紫外線硬化型組成物に使用されるものよりはるかに低Tgの化合物、中でも、ホモポリマーのガラス転移温度が−９０〜２５℃の単官能または多官能の（メタ）アクリレートを使用することが好ましい。本発明によれば、前記共役ジエン化合物の使用により接着層において短波長レーザー光に対する高い透過率と高い接着強度を実現することができ、上記のような低Tgの重合性化合物を使用することにより接着層の低Tg化を達成することができる。上記（メタ）アクリレートのホモポリマーのガラス転移温度とは、測定対象の（メタ）アクリレートのホモポリマーについて示差走査熱量分析（ＤＳＣ）により求められる値をいうものとする。
【００３１】
前記共役ジエン重合体と共に前記重合性化合物を併用する場合の前記重合性化合物の含有量は、前記共役ジエン重合体と前記重合性化合物との両者の合計１００質量部あたり９０〜２０質量部とすることが好ましく、８５〜２５質量部とすることがより好ましく、８０〜３０質量部とすることが更に好ましい。
【００３２】
紫外線硬化型組成物には、一般に光重合開始剤が添加される。光重合開始剤は、用いる重合性モノマーおよび／または重合性オリゴマーに代表される紫外線硬化性化合物が硬化できるものであればよく、特に限定されるものではない。光重合開始剤としては、分子開裂型または水素引き抜き型のものが本発明に好適である。
【００３３】
光重合開始剤としては、ベンゾインイソブチルエーテル、２，４−ジエチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、ベンジル、２、２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルホスフィンオキシド等が好適であり、更にこれら以外の分子開裂型のものとして、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾイルエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オンおよび２−メチル−４’−（メチルチオ）−２−モルホリノプロピオフェノン等を併用してもよいし、更に水素引き抜き型光重合開始剤である、ベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノン、イソフタロフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチル−ジフェニルスルフイド等も併用できる。
好ましくは２，４−ジエチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２、２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−４’−（メチルチオ）−２−モルホリノプロピオフェノン、４−フェニルベンゾフェノンであり、より好ましくは２−イソプロピルチオキサントン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−４’−（メチルチオ）−２−モルホリノプロピオフェノン、４−フェニルベンゾフェノンである。
【００３４】
また上記光重合開始剤に対し、増感剤として、例えば、トリエチルアミン、メチルジエタノールアミン、トリエタノールアミン、ｐ−ジエチルアミノアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミンおよび４，４'−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン等の、前述重合性成分と付加重合反応を起こさないアミン類を併用することもできる。勿論、上記光重合開始剤や増感剤は、硬化型成分への溶解性に優れ、紫外線透過性を阻害しないものを選択して用いることが好ましい。
【００３５】
また、紫外線硬化型組成物には、必要であれば、さらにその他の添加剤として、熱重合禁止剤、ヒンダードフェノール、ヒンダードアミン、ホスファイト等に代表される酸化防止剤、可塑剤およびエポキシシラン、メルカプトシラン、（メタ）アクリルシラン等に代表されるシランカップリング剤等を、各種特性を改良する目的で配合することもできる。これらは、硬化型成分への溶解性に優れたもの、紫外線透過性を阻害しないものを選択して用いることが好ましい。
【００３６】
前記紫外線硬化型組成物中の光重合開始剤、増感剤およびその他の添加剤の使用量は適宜設定することができるが、例えば、前記共役ジエン重合体を含む重合性化合物の総量に対し、光重合開始剤の使用量は、１．０〜１０．０質量％とすることができ、増感剤の使用量は０．５〜１０．０質量％とすることができ、その他の添加剤の総使用量は０．１〜５．０質量％とすることができる。
【００３７】
中間層形成のために使用される紫外線硬化型組成物の詳細は、先に説明した通りである。中間層の形成方法は特に限定されないが、バリア層の表面（被貼り合わせ面）上に、紫外線硬化型組成物を所定量塗布し、その上にカバー層を載置した後、スピンコートにより接着剤を、被貼り合わせ面とカバー層との間に均一になるように広げた後、カバー層側から紫外線を照射して硬化処理を施すことにより中間層を形成することができる。または、バリア層の表面に紫外線硬化型組成物を所定量塗布した後、塗布面に紫外線を照射し硬化処理を施し、次いでその上にカバー層形成のための紫外線硬化型組成物を塗布し紫外線照射し硬化処理を施すことによりカバー層を形成することもできる。
【００３８】
上記いずれの方法においても、中間層硬化のために照射される紫外線の照射量は、２００ｍＪ／ｃｍ2超とすることが好ましい。より好ましくは２００〜２０００ｍＪ／ｃｍ2の範囲である。硬化に使用するUVランプとしては、例えばメタルハライドランプＭ０２−Ｌ３１（アイグラフィックス社製、コールドミラー付き、ランプ出力１２０Ｗ／ｃｍ）やXenon Corporation社製4.2inch-SPIRAL LAMP等を用いることができる。紫外線照射時のランプ面とサンプル面との間の距離は適宜設定することが好ましい。
【００３９】
紫外線硬化型組成物が塗布された媒体をＵＶ照射位置へ移動させる（例えばスピンテーブルからＵＶ照射テーブルへの移動させる）ためには、媒体の外周部分または内周部分で基板を保持して持ち上げて移動させることが望ましい。吸着などの方法で上から媒体を支持して持ち上げると、紫外線硬化型組成物が未硬化であるために媒体が変形したり、中間層に気泡が混入したりして、中間層の膜厚変動や欠陥の原因となる可能性がある。外周部を支持して移動する場合においては、支持部材を定期的に清掃することが好ましい。外周部はスピン時に振切られた未硬化の紫外線硬化型組成物が外周縁部に付着していることがあり、支持部材に付着することがある。繰り返し同じ支持部材で媒体を移動する時に、支持部材から媒体へと付着して欠陥を生じる可能性がある。
また、ＵＶ照射位置（例えばＵＶ照射テーブル上）では、媒体を支持する部位として、基板（媒体）の内周部、外周部または中周部などの中から一つの部位、或いは複数の部位を支持することができる。プレート状の支持部材で全面を均一に支持してもよい。複数の部位を支持する場合には、各々の部位の支持高さを変更することができる。これは、例えば内周のみを支持した場合に、支持されていない媒体外周部が自重で下に垂れ、その形状で硬化されることで、硬化後の媒体の反りが生じる場合に、外周部も支持して垂れを抑制することで硬化後の反りを抑制するような場合であり、各支持部材の高さを調整して硬化後の媒体形状を調整する効果が期待できる。
【００４０】
中間層の厚さは、良好な記録特性と接着力を両立する観点から、０．１〜１００μｍの範囲であることが好ましく、より好ましくは０．５〜５０μｍの範囲、更に好ましくは１〜３０μｍの範囲である。
【００４１】
前記紫外線硬化型組成物は、硬化後にも短波長レーザー光に対し高い透過率を有し得る。ＢＤ構成の光情報記録媒体への情報の記録はカバー層側から行われるため、カバー層と記録層との間に位置する中間層が、短波長レーザー光に対して高い透過率を有することは、記録特性向上の観点から好ましい。前記紫外線硬化型組成物によれば、後述する実施例記載の方法で測定される値として、例えば１００〜８０％の透過率を有する中間層を形成することができる。
【００４２】
本発明の光情報記録媒体の具体例を、図１に示す。図１に示す第１光情報記録媒体１０Ａは、第１基板１２上に、第１光反射層１８と、第１追記型記録層１４と、バリア層２０と、中間層２２と、カバー層１６とをこの順に有する。以下、本発明の光情報記録媒体に用いられる基板およびその他の層を構成する材料について順次説明する。
【００４３】
基板
本発明に用いられる基板としては、従来の光情報記録媒体の基板材料として用いられている各種の材料を任意に選択して使用することができる。基板としては、透明な円盤状基板を用いることが好ましい。
具体的には、ガラス；ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂；ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂；エポキシ樹脂；アモルファスポリオレフィン；ポリエステル；アルミニウム等の金属；等を挙げることができ、所望によりこれらを併用してもよい。
前記材料の中では、耐湿性、寸法安定性および低価格等の点から、アモルファスポリオレフィン、ポリカーボネート等の熱可塑性樹脂が好ましく、ポリカーボネートが特に好ましい。これらの樹脂を用いた場合、射出成型を用いて基板を作製することができる。
また、基板の厚さは、一般に０．７〜２ｍｍの範囲であり、０．９〜１．６ｍｍの範囲であることが好ましく、１．０〜１．３ｍｍとすることがより好ましい。
なお、後述する光反射層が設けられる側の基板表面には、平面性の改善、接着力の向上の目的で、下塗層を形成することもできる。
【００４４】
基板の記録層が形成される表面には、複数のグルーブおよび隣接するグルーブの間に位置するランドからなるプリグルーブ（案内溝）が形成されている。このプリグルーブは、ＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒに比べてより高い記録密度を達成するために設けられたものであり、例えば、本発明の光情報記録媒体を、青紫色レーザーに対応する媒体として使用する場合に好適である。
【００４５】
プリグルーブのトラックピッチは、好ましくは５０〜５００ｎｍの範囲である。上限値は４２０ｎｍ以下であることがより好ましく、３７０ｎｍ以下であることが更に好ましく、３３０ｎｍ以下であることがよりいっそう好ましい。また、下限値は、１００ｎｍ以上であることがより好ましく、２００ｎｍ以上であることが更に好ましく、２６０ｎｍ以上であることがより一層好ましい。トラックピッチが５０ｎｍ以上であれば、プリグルーブを正確に形成することができる上に、クロストークの発生を回避することができ、５００ｎｍ以下であれば、高密度記録を行うことができる。
【００４６】
プリグルーブのトラックピッチは、１００ｎｍ以上４２０ｎｍ以下であることが好ましく、２００ｎｍ以上３７０ｎｍ以下であることがより好ましく、２６０ｎｍ以上３３０ｎｍ以下であることが更に好ましい。
【００４７】
プリグルーブの溝幅（半値幅）は、２５〜２５０ｎｍの範囲であることが好ましい。上限値は２４０ｎｍ以下であることが好ましく、２３０ｎｍ以下であることがより好ましく、２２０ｎｍ以下であることが更に好ましい。また、下限値は、５０ｎｍ以上であることが好ましく、８０ｎｍ以上であることがより好ましく、１００ｎｍ以上であることが更に好ましい。プリグルーブの溝幅が２５ｎｍ以上であれば、成型時に溝を十分に転写することができ、さらに記録時のエラーレート上昇を抑制することができ、２５０ｎｍ以下であれば、同じく成型時に溝を十分に転写することができ、更に記録時に形成されるピットの広がりによりクロストークが発生することを回避することができる。
【００４８】
プリグルーブの溝幅（半値幅）は、５０ｎｍ以上２４０ｎｍ以下であることが好ましく、８０ｎｍ以上２３０ｎｍ以下であることがより好ましく、１００ｎｍ以上２２０ｎｍ以下であることが更に好ましい。
【００４９】
プリグルーブの溝深さは、５〜１５０ｎｍの範囲であることが好ましい。上限値は８５ｎｍ以下であることが好ましく、８０ｎｍ以下であることがより好ましく、７５ｎｍ以下であることが更に好ましい。また、下限値は、１０ｎｍ以上であることが好ましく、２０ｎｍ以上であることがより好ましく、２８ｎｍ以上であることが更に好ましい。プリグルーブの溝深さが５ｎｍ以上であれば十分な記録変調度を得ることができ、１５０ｎｍ以下であれば、高い反射率を得ることができる。
【００５０】
プリグルーブの溝深さは、１０ｎｍ以上８５ｎｍ以下であることが好ましく、２０ｎｍ以上８０ｎｍ以下であることがより好ましく、２８ｎｍ以上７５ｎｍ以下であることが更に好ましい。
【００５１】
また、プリグルーブの溝傾斜角度は、上限値が８０°以下であることが好ましく、７５°以下であることがより好ましく、７０°以下であることが更に好ましく、６５°以下であることが特に好ましい。また、下限値は、２０°以上であることが好ましく、３０°以上であることがより好ましく、４０°以上であることが更に好ましい。
プリグルーブの溝傾斜角度が２０°以上であれば、十分なトラッキングエラー信号振幅を得ることができ、８０°以下であれば成型性が良好である。
【００５２】
反射層
反射層は、レーザー光に対する反射率が高い光反射性物質を、例えば、真空蒸着、スパッタリングまたはイオンプレーティングすることにより基板上に形成することができる。
光反射層の層厚は、一般的には１０〜３００ｎｍの範囲とし、２０〜２００ｎｍの範囲とすることが好ましい。
なお、前記反射率は、７０％以上であることが好ましい。
【００５３】
反射率が高い光反射性物質としては、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉ等の金属および半金属またはステンレス鋼を挙げることができる。これらの光反射性物質は単独で用いてもよいし、あるいは二種以上の組合せで、または合金として用いてもよい。これらのうちで好ましいものは、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ａｌおよびステンレス鋼である。特に好ましくは、Ａｕ、Ａｇ、Ａｌまたはこれらの合金であり、最も好ましくは、Ａｕ、Ａｇまたはこれらの合金である。
【００５４】
記録層
本発明の光情報記録媒体に用いる色素化合物としては、フタロシアニン系化合物、アゾ化合物、ならびにアゾ金属錯体化合物、メチン色素（シアニン系化合物、オキソノール系化合物、スチリル色素、メロシアニン色素、）、トリアジン色素、ベンゾトリアゾール色素、ベンゾオキサゾール色素、アミノブタジエン、アゾメチン色素、ピリドポルフィラジン色素、ピラドポルフィラジン色素、ポルフィリン色素、ポルフィラジン色素が挙げられ、好ましくはフタロシアニン系化合物、アゾ化合物、ならびにアゾ金属錯体化合物、メチン色素（シアニン系化合物、オキソノール系化合物、スチリル色素、メロシアニン色素、）、トリアジン色素、ベンゾトリアゾール色素、より好ましくはフタロシアニン系化合物、アゾ化合物、ならびにアゾ金属錯体化合物、メチン色素（シアニン系化合物、オキソノール系化合物、スチリル色素、メロシアニン色素、）が挙げられる。
【００５５】
本発明では、記録層内での空隙形成を良好に行い記録特性を高めるために、上記で表される色素化合物の中で、熱質量分析での主減量過程における質量減少率が１０％以上である熱分解性を有する化合物を使用することが好ましい。ある温度域において化合物を昇温していくと、熱分解による質量減少が生じる。化合物の種類にもよるが、通常、大きな質量減少を示すいくつかの温度域（質量減少過程）が存在することが多い。本発明では、いくつかの質量減少過程（減量過程）のうち、質量減少の度合が最大のものを主減量過程と呼ぶ。質量減少率は、以下の方法によって求めることができる。
【００５６】
図２に示すように、質量Ｍ０の化合物を窒素雰囲気下で、１０℃／分で昇温する。この昇温に従って、質量はほぼ直線ａ−ｂに沿って微量ずつ減少し、ある温度に達すると、ほぼ直線ｃ−ｄに沿った急激な質量減少を起こす。さらに昇温を続けると急激な質量減少が終了し、ほぼ直線ｅ−ｆに沿った質量減少を起こす。ここで、直線ａ−ｂと直線ｃ−ｄとの交点において、温度をＴ１（℃）とし、初期質量Ｍ０に対する残存質量率をｍ１（％）とする。また、直線ｃ−ｄと直線ｅ−ｆとの交点において、温度をＴ２（℃）とし、初期質量Ｍ０に対する残存質量率をｍ２（％）とする。すなわち、主減量過程において、減量開始温度はＴ１、減量終了温度はＴ２となり、質量減少率は、（ｍ１−ｍ２）（％）で示される。
【００５７】
上記の窒素雰囲気下での質量減少は、酸化分解ではなく色素の置換基分解や骨格分解に基づき、ガスが発生しているものと考えられる。よって、質量減少率が高いほど、熱分解による気体発生量が多く、空隙形成に有利であると考えられる。上記色素化合物の中でも、上記質量減少率が１０％以上のものを記録層に含むことにより、レーザー光照射による気体発生量が多くピットを良好に形成できると考えられる。上記色素化合物の中でも、１５０℃〜４００℃における熱分解時の質量減少率が２０％以上である熱分解性を有するものがより好ましく、２００℃〜４００℃における熱分解時の質量減少率が２５％以上である熱分解性を有するものが更に好ましい。色素の熱分解性は、色素骨格に導入する置換基の種類等によって制御することができる。
具体的には、例えばＳｅｉｋｏ  Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ  Ｉｎｃ．製ＥＸＳＴＡＲ６０００を用い、Ｎ2気流下（流量２００ｍｌ／ｍｉｎ）、３０℃〜５５０℃の範囲において１０℃／分で昇温を行い、質量減少率を求めることができる。
【００５８】
更に、感度向上のためには、前記色素化合物として熱分解性が良好な化合物を使用することが好ましい。熱分解性の指標としては、熱分解温度を用いることができる。本発明では、前記色素化合物として熱分解温度が、例えば１５０〜４００℃、好ましくは２００〜４００℃、更に好ましくは２００〜３８０℃のものを用いることが好ましい。なお、本発明における熱分解温度は、ＴＧ／ＤＴＡ測定によって求められる値をいうものとする。具体的には、例えばＳｅｉｋｏ  Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ  Ｉｎｃ．製ＥＸＳＴＡＲ６０００を用い、Ｎ2気流下（流量２００ｍｌ／ｍｉｎ）、３０℃〜５５０℃の範囲において１０℃／分で昇温を行い、質量減少率が１０％に達した時点の温度として熱分解温度を求めることができる。
【００５９】
本発明の光情報記録媒体へレーザー光を照射すると、記録層のレーザー光が照射された部分が局所的に温度上昇し、その部分で記録用色素が熱分解を起こすと考えられる。一般に有機物は熱分解温度以前に状態変化に伴う吸発熱を示す。熱分解温度以前の発熱量が大きいと、熱分解時に発生するガスに大きなエネルギーが与えられることにより、記録ピット形成時に発生する熱が先行する記録ピットに影響を及ぼしピット形状の変形を起こすおそれがあり、また形成される記録ピットの形状制御が困難となるおそれがある。他方、熱分解以前の発熱量が小さければ熱分解時に発生するガスに与えられるエネルギーが小さくなるため、隣接ピットに対する影響を低減することはできる。ただし上記発熱量が小さすぎるとピット形成が困難となるおそれがある。通常、前述の主減量過程は熱分解温度直前の温度域であるため、ヒートモード記録時の物質変化の指標として、主減量過程における総発熱量、即ち、主減量過程における減少開始温度（図２中のＴ１）から減量終了温度（図２中のＴ２）間の温度域（Ｔ１〜Ｔ２）における総発熱量を用いることができる。記録層中の色素の主減量過程における総発熱量（以下、「総発熱量Ｑ」ともいう）は、−２００〜５００Ｊ／ｇの範囲であることが好ましい。総発熱量Ｑが上記範囲内であれば所望形状のピット形成を良好に行うことができ、これにより良好な記録再生特性を得ることができる。Ｑのより好ましい範囲は−１８０〜４５０Ｊ／ｇであり、更に好ましい範囲は−１６０〜３５０Ｊ／ｇである。
【００６０】
総発熱量Ｑは、熱質量分析での主減量過程における減少開始温度（図２中のＴ１）から減量終了温度（図２中のＴ２）間の温度域における発熱量を、Seiko Instruments Inc.製DSC6200Rを用い、DSC(Differential Scanning Calorimetry)法によって測定することにより求めることができる。一般に有機物質の熱分解時には質量減少に相当する気体が揮散する。この気体に与えられるエネルギーもＱに含めるため、DSCの測定は密閉雰囲気中にて行うものとする。具体的にはDSCの測定は、SUS製密閉容器等に試料を封じて行うことができる。
【００６１】
以下に、短波長領域で大きな屈折率差を実現することができ、前述の中間層と組み合わせることにより、特に短波長レーザ光照射により優れた記録特性を発揮し得る色素化合物の具体例を示すが、本発明は下記色素化合物に限定されるものではない。
【００６２】
フタロシアニン色素化合物
記録層に含まれる色素化合物としては、下記一般式（Ｉ）で表されるフタロシアニン色素化合物（フタロシアニン誘導体）を挙げることができる。該フタロシアニン色素化合物は、前述の好ましい色素特性を有することが好ましい。
【００６３】
【化３】
2010033667.tif 000005
［一般式（Ｉ）中、Ｒは置換基を表し、ｎは１〜８の範囲の整数を表し、ｎが２以上の整数のとき、複数個のＲは互いに同一でも異なっていてもよく、Ｍは２個の水素原子、２〜４価の金属原子、２〜４価のオキシ金属原子、または配位子を有する２〜４価の金属原子を表す。］
【００６４】
以下に、一般式(I)の詳細を説明する。
【００６５】
【化４】
2010033667.tif 000006
【００６６】
一般式(I)中、Ｒは置換基を表す。Ｒで表される置換基の詳細は、一般式(II)のＲα1〜Ｒα8、Ｒβ1〜Ｒβ8について後述する通りである。
【００６７】
一般式(I)中、ｎは１〜８の範囲の整数を表し、２〜７の範囲の整数を表すことが好ましく、３〜６の範囲の整数を表すことが更に好ましい。ｎが２以上の整数のとき、複数個のＲは互いに同一でも異なっていてもよい。
【００６８】
Ｍは２個の水素原子、２〜４価の金属原子、２〜４価のオキシ金属原子、または配位子を有する２〜４価の金属原子を表す。
２〜４価の金属原子としては、銅原子、亜鉛原子、マグネシウム原子が好ましく、銅原子、亜鉛原子がより好ましく、銅原子が最も好ましい。
２〜４価のオキシ金属原子としては、上記金属原子のいずれか１つを含む酸化物が好ましい。
前記配位子としては、例えば、ハロゲン原子、炭素数６〜３０のアリール基、５員または６員のヘテロ環基、シアノ基、水酸基等を挙げることができる。
【００６９】
一般式(I)で表される化合物は、下記一般式(II)で表される化合物であることが好ましい。
【００７０】
【化５】
2010033667.tif 000007
【００７１】
一般式（II）中、Ｒα1〜Ｒα8およびＲβ1〜Ｒβ8は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、ホルミル基、カルボキシル基、スルホ基、炭素数１〜２０の置換もしくは無置換のアルキル基、炭素数６〜１４の置換もしくは無置換のアリール基、炭素数１〜２０の置換もしくは無置換のヘテロ環基、炭素数１〜２０の置換もしくは無置換のアルコキシ基、炭素数６〜２０の置換もしくは無置換のアリールオキシ基、炭素数１〜２０の置換もしくは無置換のヘテロ環オキシ基、炭素数１〜２０の置換もしくは無置換のアルキルチオ基、炭素数６〜２０の置換もしくは無置換のアリールチオ基、炭素数１〜２０の置換もしくは無置換のヘテロ環チオ基、炭素数２〜２１の置換もしくは無置換のアシル基、炭素数１〜２０の置換もしくは無置換のアルキルスルホニル基、炭素数６〜１４の置換もしくは無置換のアリールスルホニル基、炭素数１〜１０のヘテリルスルホニル基、炭素数１〜２５の置換もしくは無置換のカルバモイル基、炭素数０〜３２の置換もしくは無置換のスルファモイル基、炭素数２〜２０の置換もしくは無置換のアルコキシカルボニル基、炭素数７〜１５の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニル基、炭素数２〜２１の置換もしくは無置換のアシルアミノ基、炭素数１〜２０の置換もしくは無置換のスルホニルアミノ基、または炭素数０〜３６の置換もしくは無置換のアミノ基を表し、Ｍ1は２個の水素原子、２〜４価の金属原子、２〜４価のオキシ金属原子または配位子を有する２〜４価の金属原子を表す。なお、上記アミノ基にはアニリノ基が含まれる。
以下に、一般式(II)の詳細を説明する。
【００７２】
一般式(II)において、Ｒα1〜Ｒα8およびＲβ1〜Ｒβ8は、それぞれ独立に、好ましくは、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、臭素原子）、カルボキシル基、スルホ基、炭素数１〜１６の置換もしくは無置換のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基）、炭素数６〜１４の置換もしくは無置換のアリール基（例えば、フェニル基、ｐ−メトキシフェニル基、ｐ−オクダデシルフェニル基）、炭素数１〜２０の置換もしくは無置換のへテロ環基（例えば５または６員の置換もしくは無置換の、芳香族性もしくは非芳香族性のヘテロ環化合物から一個の水素原子を取り除いた一価の基であり、炭素数１〜２０の５もしくは６員の芳香族のヘテロ環基である。例えば、２−フリル基、２−チエニル基、２−ピリミジニル基、２−ベンゾチアゾリル基）、炭素数１〜２０の置換もしくは無置換のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−オクチルオキシ基）、炭素数６〜２０の置換もしくは無置換のアリールオキシ基（例えば、フェノキシ基、ｐ−エトキシフェノキシ基）、炭素数１〜２０の置換もしくは無置換のヘテロ環オキシ基（例えば、１−フェニルテトラゾール−５−オキシ基、２−テトラヒドロピラニルオキシ基）、炭素数１〜２０の置換もしくは無置換のアルキルチオ基（例えばメチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−ヘキサデシルチオ基）、炭素数６〜２０の置換もしくは無置換のアリールチオ基（例えば、フェニルチオ基、ｐ−クロロフェニルチオ基、ｍ−メトキシフェニルチオ基）、炭素数１〜２０の置換もしくは無置換のヘテロ環チオ基（例えば、２−ベンゾチアゾリルチオ基、１−フェニルテトラゾール−５−イルチオ基）、炭素数１〜２０の置換もしくは無置換のアルキルスルホニル基（例えば、メタンスルホニル基、ｎ−プロピルスルホニル基、ｎ−オクチルスルホニル基）、炭素数６〜１４の置換もしくは無置換のアリールスルホニル基（例えば、トルエンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基）、炭素数０〜２０の置換もしくは無置換のスルファモイル基（例えば、メチルスルファモイル基、ｎ−ブチルスルファモイル基）、炭素数２〜２０の置換もしくは無置換のアルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、ｎ−ブトキシカルボニル基）、炭素数７〜１５の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニル基（例えば、フェノキシカルボニル基、ｍ−クロロフェニルカルボニル基）、炭素数２〜２１の置換もしくは無置換のアシルアミノ基（例えば、アセチルアミノ基、ピバロイルアミノ基、ｎ−ヘキシルアミノ基）、炭素数１〜１８のスルホニルアミノ基（例えば、メタンスルホニルアミノ基、ｎ−ブタンスルホニルアミノ基）である。
【００７３】
Ｒα1〜Ｒα8およびＲβ1〜Ｒβ8は、それぞれ独立に、より好ましくは、ハロゲン原子、カルボキシル基、スルホ基、炭素数１〜１６の置換もしくは無置換のアルキル基、炭素数１〜２０の置換もしくは無置換のヘテロ環基、炭素数１〜２０の置換もしくは無置換のアルコキシ基、炭素数６〜２０の置換もしくは無置換のアリールオキシ基、炭素数１〜２０の置換もしくは無置換のヘテロ環オキシ基、炭素数１〜２０の置換もしくは無置換のアルキルチオ基、炭素数６〜２０の置換もしくは無置換のアリールチオ基、炭素数１〜２０の置換もしくは無置換のヘテロ環チオ基、炭素数１〜２０の置換もしくは無置換のアルキルスルホニル基、炭素数６〜１４の置換もしくは無置換のアリールスルホニル基、炭素数２〜２０の置換もしくは無置換のスルファモイル基、炭素数２〜１３の置換もしくは無置換のアルコキシカルボニル基、炭素数２〜２１の置換もしくは無置換のアシルアミノ基、炭素数１〜１８のスルホニルアミノ基であり、さらに好ましくは、Ｒα1〜Ｒα8は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、スルホ基、炭素数１〜１６の置換もしくは無置換のアルコキシ基、炭素数１〜２０の置換もしくは無置換のアルキルスルホニル基、炭素数６〜１４の置換もしくは無置換のアリールスルホニル基、炭素数２〜２０の置換もしくは無置換のスルファモイル基、炭素数２〜２１の置換もしくは無置換のアシルアミノ基、炭素数１〜１８の置換もしくは無置換のスルホニルアミノ基であり、Ｒβ1〜Ｒβ8が、それぞれ独立に、水素原子またはハロゲン原子であることがより一層好ましい。更には、Ｒα1〜Ｒα8が、それぞれ独立に、水素原子、スルホ基、炭素数１〜２０の置換もしくは無置換のヘテロ環基、炭素数６〜２０の置換もしくは無置換のアリールオキシ基、炭素数６〜２０の置換もしくは無置換のアリールチオ基、炭素数１〜２０の無置換のアルキルスルホニル基、炭素数６〜１４の無置換のアリールスルホニル基、炭素数７〜２０の無置換のスルファモイル基であり、Ｒβ1〜Ｒβ8が水素原子であることが特に好ましい。
【００７４】
一般式(II)で表される化合物におけるＲα1およびＲα2のいずれか一方、Ｒα3およびＲα4のいずれか一方、Ｒα5およびＲα6のいずれか一方、Ｒα7およびＲα8のいずれか一方の計４つの置換基は、同時に水素原子ではないことが好ましい。
【００７５】
特に、前記一般式(II)で表される化合物におけるＲα1とＲα2、Ｒα3とＲα4、Ｒα5とＲα6、およびＲα7とＲα8の４つの置換基の組のうち、各々いずれか一方の置換基が水素原子であり、各々他方の置換基が水素原子以外の置換基であることが、フタロシアニン誘導体のインク化適正の点、およびディスク上に塗布された後の記録層の結晶化の起こり難さの点において好ましい。
この場合、水素原子以外の置換基としては、スルホ基、炭素数１〜２０の置換もしくは無置換のヘテロ環基、炭素数６〜２０の置換もしくは無置換のアリールオキシ基、炭素数６〜２０の置換もしくは無置換のアリールチオ基、炭素数１〜２０の無置換のアルキルスルホニル基、炭素数６〜１４の無置換のアリールスルホニル基、炭素数７〜２０の無置換のスルファモイル基が好ましい。
【００７６】
一般式（II）において、Ｒα1〜Ｒα8およびＲβ1〜Ｒβ8は更に置換基を有していてもよく、該置換基の例としては、以下に記載のものを挙げることができる。
ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、アルキル基〔直鎖、分岐、環状の置換もしくは無置換のアルキル基を表す。それらは、アルキル基（好ましくは炭素数１〜３０のアルキル基、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、エイコシル基、２−クロロエチル基、２−シアノエチル基、２−エチルヘキシル基）、シクロアルキル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換または無置換のシクロアルキル基、例えば、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシル基）、ビシクロアルキル基（好ましくは、炭素数５〜３０の置換もしくは無置換のビシクロアルキル基、つまり、炭素数５〜３０のビシクロアルカンから水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ［１，２，２］ヘプタン−２−イル、ビシクロ［２，２，２］オクタン−３−イル）、更に環構造が多いトリシクロ構造なども包含するものである。以下に説明する置換基の中のアルキル基（例えばアルキルチオ基のアルキル基）もこのような概念のアルキル基を表す。］、アルケニル基［直鎖、分岐、環状の置換もしくは無置換のアルケニル基を表す。それらは、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜３０の置換または無置換のアルケニル基、例えば、ビニル基、アリル基、プレニル基、ゲラニル基、オレイル基）、シクロアルケニル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換もしくは無置換のシクロアルケニル基、つまり、炭素数３〜３０のシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、２−シクロペンテン−１−イル、２−シクロヘキセン−１−イル）、ビシクロアルケニル基（置換もしくは無置換のビシクロアルケニル基、好ましくは、炭素数５から３０の置換もしくは無置換のビシクロアルケニル基、つまり二重結合を一個持つビシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ［２，２，１］ヘプト−２−エン−１−イル、ビシクロ［２，２，２］オクト−２−エン−４−イル）を包含するものである。］、アルキニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換または無置換のアルキニル基、例えば、エチニル基、プロパルギル基、トリメチルシリルエチニル基、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリール基、例えばフェニル基、ｐ−トリル基、ナフチル基、ｍ−クロロフェニル基、ｏ−ヘキサデカノイルアミノフェニル基）、ヘテロ環基（好ましくは５または６員の置換もしくは無置換の、芳香族性もしくは非芳香族性のヘテロ環化合物から一個の水素原子を取り除いた一価の基であり、更に好ましくは、炭素数３〜３０の５もしくは６員の芳香族のヘテロ環基である。例えば、２−フリル基、２−チエニル基、２−ピリミジニル基、２−ベンゾチアゾリル基）、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルコキシ基、例えば、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、２−メトキシエトキシ基）、アリールオキシ基（好ましくは、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシ基、例えば、フェノキシ基、２−メチルフェノキシ基、４−ｔ−ブチルフェノキシ基、３−ニトロフェノキシ基、２−テトラデカノイルアミノフェノキシ基）、シリルオキシ基（好ましくは、炭素数３〜２０のシリルオキシ基、例えば、トリメチルシリルオキシ基、ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ基）、ヘテロ環オキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のヘテロ環オキシ基、１−フェニルテトラゾール−５−オキシ基、２−テトラヒドロピラニルオキシ基）、アシルオキシ基（好ましくはホルミルオキシ基、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニルオキシ基、例えば、ホルミルオキシ基、アセチルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ステアロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、ｐ−メトキシフェニルカルボニルオキシ基）、カルバモイルオキシ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のカルバモイルオキシ基、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイルオキシ基、モルホリノカルボニルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルアミノカルボニルオキシ基、Ｎ−ｎ−オクチルカルバモイルオキシ基）、アルコキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニルオキシ基、例えばメトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、ｔ−ブトキシカルボニルオキシ基、ｎ−オクチルカルボニルオキシ基）、アリールオキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニルオキシ基、例えば、フェノキシカルボニルオキシ基、ｐ−メトキシフェノキシカルボニルオキシ基、ｐ−ｎ−ヘキサデシルオキシフェノキシカルボニルオキシ基）、アミノ基（好ましくは、アミノ基、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルアミノ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアニリノ基、例えば、アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、アニリノ基、Ｎ−メチル−アニリノ基、ジフェニルアミノ基）、アシルアミノ基（好ましくは、ホルミルアミノ基、炭素数１から３０の置換もしくは無置換のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニルアミノ基、例えば、ホルミルアミノ基、アセチルアミノ基、ピバロイルアミノ基、ラウロイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、３，４，５−トリ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニルアミノ基）、アミノカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアミノカルボニルアミノ基、例えば、カルバモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノカルボニルアミノ基、モルホリノカルボニルアミノ基）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニルアミノ基、例えば、メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、ｔ−ブトキシカルボニルアミノ基、ｎ−オクタデシルオキシカルボニルアミノ基、Ｎ−メチルーメトキシカルボニルアミノ基）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニルアミノ基、例えば、フェノキシカルボニルアミノ基、ｐ−クロロフェノキシカルボニルアミノ基、ｍ−（ｎ−オクチルオキシ）フェノキシカルボニルアミノ基）、スルファモイルアミノ基（好ましくは、炭素数０〜３０の置換もしくは無置換のスルファモイルアミノ基、例えば、スルファモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノスルホニルアミノ基、Ｎ−ｎ−オクチルアミノスルホニルアミノ基）、アルキルおよびアリールスルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルスルホニルアミノ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールスルホニルアミノ基、例えば、メチルスルホニルアミノ基、ブチルスルホニルアミノ基、フェニルスルホニルアミノ基、２，３，５−トリクロロフェニルスルホニルアミノ基、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノ基）、メルカプト基、アルキルチオ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルチオ基、例えばメチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−ヘキサデシルチオ基）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールチオ基、例えば、フェニルチオ基、ｐ−クロロフェニルチオ基、ｍ−メトキシフェニルチオ基、ヘテロ環チオ基（好ましくは炭素数２〜３０の置換または無置換のヘテロ環チオ基、例えば、２−ベンゾチアゾリルチオ基、１−フェニルテトラゾール−５−イルチオ基）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜３０の置換もしくは無置換のスルファモイル基、例えば、Ｎ−エチルスルファモイル基、Ｎ−（３−ドデシルオキシプロピル）スルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、Ｎ−アセチルスルファモイル基、Ｎ−ベンゾイルスルファモイル基、Ｎ−（Ｎ’−フェニルカルバモイル）スルファモイル基）、スルホ基、アルキルおよびアリールスルフィニル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換または無置換のアルキルスルフィニル基、６〜３０の置換または無置換のアリールスルフィニル基、例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、フェニルスルフィニル基、ｐ−メチルフェニルスルフィニル基）、アルキルおよびアリールスルホニル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換または無置換のアルキルスルホニル基、６〜３０の置換または無置換のアリールスルホニル基、例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、フェニルスルホニル基、ｐ−メチルフェニルスルホニル基）、アシル基（好ましくはホルミル基、炭素数２〜３０の置換または無置換のアルキルカルボニル基、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニル基、炭素数４〜３０の置換もしくは無置換の炭素原子でカルボニル基と結合しているヘテロ環カルボニル基、例えば、アセチル基、ピバロイル基、２−クロロアセチル基、ステアロイル基、ベンゾイル基、ｐ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニル基、２―ピリジルカルボニル基、２−フリルカルボニル基）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニル基、例えば、フェノキシカルボニル基、ｏ−クロロフェノキシカルボニル基、ｍ−ニトロフェノキシカルボニル基、ｐ−ｔ−ブチルフェノキシカルボニル基）、アルコキシカルボニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニル基、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基、ｎ−オクタデシルオキシカルボニル基）、カルバモイル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のカルバモイル基、例えば、カルバモイル基、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルカルバモイル基、Ｎ−（メチルスルホニル）カルバモイル基）、アリールおよびヘテロ環アゾ基（好ましくは炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールアゾ基、炭素数３〜３０の置換もしくは無置換のヘテロ環アゾ基、例えば、フェニルアゾ基、ｐ−クロロフェニルアゾ基、５−エチルチオ−１，３，４−チアジアゾール−２−イルアゾ基）、イミド基（好ましくは、Ｎ−スクシンイミド基、Ｎ−フタルイミド基）、ホスフィノ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のホスフィノ基、例えば、ジメチルホスフィノ基、ジフェニルホスフィノ基、メチルフェノキシホスフィノ基）、ホスフィニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のホスフィニル基、例えば、ホスフィニル基、ジオクチルオキシホスフィニル基、ジエトキシホスフィニル基）、ホスフィニルオキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のホスフィニルオキシ基、例えば、ジフェノキシホスフィニルオキシ基、ジオクチルオキシホスフィニルオキシ基）、ホスフィニルアミノ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のホスフィニルアミノ基、例えば、ジメトキシホスフィニルアミノ基、ジメチルアミノホスフィニルアミノ基）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換もしくは無置換のシリル基、例えば、トリメチルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、フェニルジメチルシリル基）を表す。
【００７７】
上記の官能基の中で、水素原子を有するものは、これを取り去り更に上記の基で置換されていても良い。そのような官能基の例としては、アルキルカルボニルアミノスルホニル基、アリールカルボニルアミノスルホニル基、アルキルスルホニルアミノカルボニル基、アリールスルホニルアミノカルボニル基が挙げられる。更に具体的には、メチルスルホニルアミノカルボニル基、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノカルボニル基、アセチルアミノスルホニル基、ベンゾイルアミノスルホニル基が挙げられる。
【００７８】
一般式(II)において、Ｒα1〜Ｒα8およびＲβ1〜Ｒβ8を置換する置換基として好ましいものは、炭素数１〜１６の鎖状または環状の置換もしくは無置換のアルキル基、炭素数６〜１４のアリール基、炭素数１〜１６のアルコキシ基、ハロゲン原子、炭素数１〜２０のカルバモイルオキシ基、炭素数１〜２０のアルコキシカルボニルオキシ基、炭素数１〜２０のアリールオキシカルボニルオキシ基、炭素数１〜２０のアミノカルボニルアミノ基、炭素数２〜２０のアルコキシカルボニルアミノ基、炭素数７〜２０のアリールオキシカルボニルアミノ基、炭素数３〜２０のスルファモイル基、炭素数２〜２０のアルキルおよびアリールスルホニル基、炭素数７〜２０のアリールオキシカルボニル基、炭素数２〜２０のアルコキシカルボニル基、炭素数２〜２０のカルバモイル基である。その中でも好ましいものは、炭素数１〜１０の鎖状または環状の置換もしくは無置換のアルキル基、炭素数６〜１０のアリール基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、塩素原子、炭素数１〜１０のアルコキシカルボニルオキシ基、炭素数２〜１０のアルコキシカルボニルアミノ基、炭素数３〜１０のスルファモイル基、炭素数２〜１０のアルキルおよびアリールスルホニル基、炭素数２〜１０のアルコキシカルボニル基、炭素数２〜１０のカルバモイル基である。その中でも特に好ましいものは、炭素数１〜８の鎖状または環状の置換もしくは無置換のアルキル基、炭素数６〜８のアリール基、炭素数１〜８のアルコキシ基、炭素数１〜８のアルコキシカルボニルオキシ基、炭素数２〜８のアルコキシカルボニルアミノ基、炭素数３〜８のスルファモイル基、炭素数２〜８のアルキルおよびアリールスルホニル基、炭素数２〜８のアルコキシカルボニル基、炭素数２〜８のカルバモイル基である。置換基として最も好ましいものは炭素数２〜６のアルキルスルホニル基，炭素数２〜６のアルコキシカルボニル基である。
である。
【００７９】
一般式(II)中のＭ1は、２個の水素原子、２〜４価の金属原子、２〜４価のオキシ金属原子、または配位子を有する２〜４価の金属原子を表す。その詳細は、先に一般式(I)中のＭについて述べた通りである。
【００８０】
一般式(I)または(II)で表される化合物は任意の位置で結合して多量体を形成していてもよく、この場合の各単位は互いに同一でも異なっていてもよく、またポリスチレン、ポリメタクリレート、ポリビニルアルコール、セルロース等のポリマー鎖に結合していてもよい。
【００８１】
更に、一般式(I)または(II)で表される化合物は、特定の誘導体単独で使用してもよく、また構造の異なったものを複数種混合して用いてもよい。特に記録層の結晶化を防ぐ目的で、置換基の置換位置が異なる異性体の混合物を使用することが好ましい。
【００８２】
以下に、一般式(I)または(II)で表される化合物の好ましい具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
下記表1において、例えばＲα1／Ｒα2という表記はＲα1またはＲα2のいずれか一方という意味を表しており、従ってこの表記のある化合物は置換位置異性体の混合物である。また無置換の場合、即ち水素原子が置換している場合は表記を省略している。
【００８３】
【化６】
2010033667.tif 000008
【００８４】
【表１】
2010033667.tif 000009
2010033667.tif 000010
2010033667.tif 000011
2010033667.tif 000012
2010033667.tif 000013
2010033667.tif 000014
【００８５】
以上説明した一般式(I)で表される化合物は、公知の方法（例えば白井−小林共著、（株）アイピーシー発行「フタロシアニン−化学と機能−」（Ｐ．１〜６２）、Ｃ．Ｃ．Ｌｅｚｎｏｆｆ−Ａ．Ｂ．Ｐ．Ｌｅｖｅｒ共著、ＶＣＨ発行‘Ｐｈｔｈａｌｏｃｙａｎｉｎｅｓ−Ｐｒｏｐｅｒｔｉｅｓ  ａｎｄ  Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎｓ’（Ｐ．１〜５４）等に記載、引用もしくはこれらに類似の方法）で合成することができ、また市販品として入手可能なものもある。
【００８６】
アゾ色素化合物
本発明の光情報記録媒体において、記録層に含まれる色素としては、(i)アゾ化合物、ならびに、(ii)アゾ化合物および金属イオンまたは金属酸化物イオンを含むアゾ金属錯体化合物、からなる群から選ばれる少なくとも一種のアゾ色素化合物も好ましい。前記化合物は、短波長領域で大きな屈折率差を実現することができ、前述の中間層と組み合わせることにより、特に短波長レーザ光照射により優れた記録特性を発揮し得る。
【００８７】
前記アゾ色素化合物の好ましい色素特性は前述の通りである。更に、前記アゾ色素化合物としては、前述の構成の光情報記録媒体に対し短波長レーザー光を照射し情報を記録再生する際の記録再生感度向上の点からは、波長４０５ｎｍにおける消衰係数（以下において、波長４０５ｎｍにおける消衰係数を「消衰係数ｋ」という）が０．１５〜１．０の範囲にあるものが好ましく、０．２〜０．６の範囲にあるものがより好ましい。記録層に含まれるアゾ色素化合物の消衰係数ｋが大きすぎると反射率が低くなりすぎ実用的な記録再生特性を得ることが困難となることがあり、一方、消衰係数ｋが小さすぎると、実用に適した感度を得ることが困難となることがある。
【００８８】
また、前記アゾ色素化合物としては、前述の構成の光情報記録媒体において、短波長レーザー光を照射により良好な記録再生特性を得るためには、波長４０５ｎｍにおける屈折率（以下において、波長４０５ｎｍの光に対する屈折率を、「屈折率ｎ」という。）が、１．４５〜１．７５の範囲であるものを用いることが好ましく、１．４７〜１．７０の範囲であるものを用いることが更に好ましい。屈折率ｎが１．４５以上のアゾ色素化合物であれば、短波長レーザ光照射による記録において良好な２Ｔ ＣＮＲを得ることができる。屈折率ｎが１．７５より大きいアゾ色素化合物では、前述の構成の光情報記録媒体では、良好なトラッキング適性を得ることが困難となることがある。
【００８９】
屈折率ｎ、消衰係数ｋは、色素を適当な溶媒に溶解して調製した塗布液を用いて色素膜を形成し、この色素膜について、例えば分光エリプソメトリ装置（Ｊ．Ａ．ウーラムジャパン社製、型式  Ｍ−２０００）を用いて測定解析することにより求められる値をいうものとする。例えば、色素２ｇを２，２，２，３−テトラフルオロプロパノール１００ｍｌに溶解して得られた色素含有塗布液を、厚さ１．１ｍｍのガラス板上に、スピンコート法により回転数５００〜１０００ｒｐｍまで変化させながら２３℃、５０％ＲＨの条件で塗布して形成した色素膜に対して、上記測定装置を用いて測定される値を、屈折率ｎ、消衰係数ｋとすることができる。
【００９０】
前記アゾ色素化合物の４０５ｎｍにおける屈折率ｎ、消衰係数ｋ、および熱分解温度は、記録信号のＣＮＲ、トラッキング適性、記録感度および再生耐久性のすべてを満足させるという観点から、１．４５≦ｎ≦１．７０、かつ０．１３≦ｋ＜０．３、かつ熱分解温度２１０℃以上３４０℃以下、であることが好ましく、１．４６≦ｎ≦１．６７、かつ０．１５≦ｋ≦０．２９、かつ熱分解温度２２０℃以上３３０℃以下、であることがより好ましく、１．４７≦ｎ≦１．６５、かつ０．１７≦ｋ≦０．２８、かつ熱分解温度２３０℃以上３２０℃以下、であることがさらに好ましい。
【００９１】
以下に、前記アゾ化合物およびアゾ金属錯体化合物について更に詳細に説明する。
【００９２】
アゾ化合物
本発明においてアゾ化合物とは、非環状のアゾ基（−Ｎ＝Ｎ−）を有する化合物と定義する。アゾ化合物としては、非環状のアゾ基を有し、色素として機能し得るものを用いることができ、記録特性に優れる点で、下記一般式（Ａ）、一般式（Ｂ）、または一般式（Ｃ）のいずれかで表されるアゾ色素が特に好適に用いられる。
【００９３】
【化７】
2010033667.tif 000015
［式中、Ｑ11は含窒素複素環を形成する原子群を表し、Ｑ12は複素環または炭素環を形成する原子群を表し、Ｙ11は解離性水素原子を含有し、かつ金属イオンまたは金属酸化物イオンに結合可能な基を表す。］
【００９４】
【化８】
2010033667.tif 000016
［式中、Ｑ21およびＱ22は、各々独立に、複素環または炭素環を形成する原子群を表し、Ｙ21およびＹ22は、各々独立に、解離性水素原子を含有し、かつ金属イオンまたは金属酸化物イオンに結合可能な基を表す。］
【００９５】
【化９】
2010033667.tif 000017
［式中、Ｑ31は複素環または炭素環を形成する原子群を表し、Ｑ32は含窒素複素環を形成する原子群を表し、Ｙ31は解離性水素原子を含有し、かつ金属イオンまたは金属酸化物イオンに結合可能な基を表し、Ｒ31は水素原子または置換基を表す。］
【００９６】
本発明において、「解離性水素原子」とは、ｐＫａが低く脱プロトン化し易い水素原子をいい、好ましくはｐＫａ値が５〜１５、より好ましくは７．０〜１２．０の範囲内であり、さらに好ましくは８．０〜１１．０の範囲内である。ここで定義したｐＫａ値はＴＨＦ／水＝６／４の溶媒系において、酸−塩基滴定法で求めた値である。また、一般式（Ｃ）中のＲ31で表される水素原子も解離性水素原子であることができ、Ｒ31で表される置換基は解離性水素原子を含むこともできる。
【００９７】
以下に、一般式（Ａ）について説明する。
Ｑ11は含窒素複素環を形成する原子群を表す。Ｑ11により形成される含窒素複素環としては、特に限定されないが、例えば、ピラゾール環、ピロール環、イミダゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、１，２，４−チアジアゾール環、１，３，４−チアジアゾール環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、ピリダジン環等が挙げられる。
【００９８】
Ｑ12は複素環または炭素環を形成する原子群を表す。Ｑ12が複素環を形成する場合、Ｑ12により形成される環は、炭素原子およびヘテロ原子（酸素原子、硫黄原子、窒素原子等）とともに形成される複素環であればよく、特に限定されないが、例えば、ピラゾール環、ピロール環、フラン環、チオフェン環、イミダゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、ピリダジン環を挙げることができる。これらの環は置換基を有していてもよく、また、縮環していてもよい。
【００９９】
また、一般式（Ａ）中、下記部分構造：
【化１０】
2010033667.tif 000018
の具体例としては、下記部分構造式（Ｃ−１）〜（Ｃ−７）等が挙げられる。下記部分構造式は、一般式（Ａ）中のＹ11がヒドロキシル基である態様である。
【化１１】
2010033667.tif 000019
【０１００】
上記において、Ｒ3は水素原子または置換基を表し、Ｒ3同士は互いに同じであっても異なっていてもよい。Ｒ3同士は連結基を介して互いに結合してもよい。Ｒ3は置換基であることが好ましい。置換基としては、特に限定されないが、アルキル基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは炭素数１〜２０、特に好ましくは炭素数１〜１０であり、例えばメチル基、エチル基、ｉｓｏ−プロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる。）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニル基、ｐ−メチルフェニル基、ナフチル基、アントラニル基、ピリジル基、チアゾール基、オキサゾール基、トリアゾール基などが挙げられる。）、などが挙げられる。
【０１０１】
Ｑ12により形成される環が炭素環である場合、該炭素環としてはベンゼン環が好ましい。
【０１０２】
Ｑ11およびＱ12で表される原子群は置換基を有していてもよく、塗布溶剤への溶解性の観点から、置換基を有することが好ましい。置換基としては、特に限定されないが、例えば、ハロゲン原子、アルキル基（シクロアルキル基、ビシクロアルキル基を含む）、アルケニル基（シクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基を含む）、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ、アミノ基（アニリノ基を含む）、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキルおよびアリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキルおよびアリールスルフィニル基、アルキルおよびアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリールおよびヘテロ環アゾ基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、シリル基が例として挙げられる。
更に詳しくは、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、アルキル基〔直鎖、分岐、環状の置換もしくは無置換のアルキル基を表す。それらは、アルキル基（好ましくは炭素数１〜３０のアルキル基、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、エイコシル基、２−クロロエチル基、２−シアノエチル基、２―エチルヘキシル基）、シクロアルキル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換または無置換のシクロアルキル基、例えば、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシル基）、ビシクロアルキル基（好ましくは、炭素数５〜３０の置換もしくは無置換のビシクロアルキル基、つまり、炭素数５〜３０のビシクロアルカンから水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ［１，２，２］ヘプタン−２−イル、ビシクロ［２，２，２］オクタン−３−イル）、更に環構造が多いトリシクロ構造なども包含するものである。以下に説明する置換基の中のアルキル基（例えばアルキルチオ基のアルキル基）もこのような概念のアルキル基を表す。］、アルケニル基［直鎖、分岐、環状の置換もしくは無置換のアルケニル基を表す。それらは、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜３０の置換または無置換のアルケニル基、例えば、ビニル基、アリル基、プレニル基、ゲラニル基、オレイル基）、シクロアルケニル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換もしくは無置換のシクロアルケニル基、つまり、炭素数３〜３０のシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、２−シクロペンテン−１−イル、２−シクロヘキセン−１−イル）、ビシクロアルケニル基（置換もしくは無置換のビシクロアルケニル基、好ましくは、炭素数５〜３０の置換もしくは無置換のビシクロアルケニル基、つまり二重結合を一個持つビシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ［２，２，１］ヘプト−２−エン−１−イル、ビシクロ［２，２，２］オクト−２−エン−４−イル）を包含するものである。］、アルキニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換または無置換のアルキニル基、例えば、エチニル基、プロパルギル基、トリメチルシリルエチニル基、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリール基、例えばフェニル基、ｐ−トリル基、ナフチル基、ｍ−クロロフェニル基、ｏ−ヘキサデカノイルアミノフェニル基）、ヘテロ環基（好ましくは５または６員の置換もしくは無置換の、芳香族もしくは非芳香族のヘテロ環化合物から一個の水素原子を取り除いた一価の基であり、更に好ましくは、炭素数３〜３０の５もしくは６員の芳香族のヘテロ環基である。例えば、２−フリル基、２−チエニル基、２−ピリミジニル基、２−ベンゾチアゾリル基）、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルコキシ基、例えば、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、２−メトキシエトキシ基）、アリールオキシ基（好ましくは、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシ基、例えば、フェノキシ基、２−メチルフェノキシ基、４−ｔ−ブチルフェノキシ基、３−ニトロフェノキシ基、２−テトラデカノイルアミノフェノキシ基）、シリルオキシ基（好ましくは、炭素数３〜２０のシリルオキシ基、例えば、トリメチルシリルオキシ基、ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ基）、ヘテロ環オキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のヘテロ環オキシ基、１−フェニルテトラゾール−５−オキシ基、２−テトラヒドロピラニルオキシ基）、アシルオキシ基（好ましくはホルミルオキシ基、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニルオキシ基、例えば、ホルミルオキシ基、アセチルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ステアロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、ｐ−メトキシフェニルカルボニルオキシ基）、カルバモイルオキシ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のカルバモイルオキシ基、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイルオキシ基、モルホリノカルボニルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルアミノカルボニルオキシ基、Ｎ−ｎ−オクチルカルバモイルオキシ基）、アルコキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニルオキシ基、例えばメトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、ｔ−ブトキシカルボニルオキシ基、ｎ−オクチルカルボニルオキシ基）、アリールオキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニルオキシ基、例えば、フェノキシカルボニルオキシ基、ｐ−メトキシフェノキシカルボニルオキシ基、ｐ−ｎ−ヘキサデシルオキシフェノキシカルボニルオキシ基）、アミノ基（好ましくは、アミノ基、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルアミノ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアニリノ基、例えば、アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、アニリノ基、Ｎ−メチル−アニリノ基、ジフェニルアミノ基）、アシルアミノ基（好ましくは、ホルミルアミノ基、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニルアミノ基、例えば、ホルミルアミノ基、アセチルアミノ基、ピバロイルアミノ基、ラウロイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、３，４，５−トリ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニルアミノ基）、アミノカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアミノカルボニルアミノ基、例えば、カルバモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノカルボニルアミノ基、モルホリノカルボニルアミノ基）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニルアミノ基、例えば、メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、ｔ−ブトキシカルボニルアミノ基、ｎ−オクタデシルオキシカルボニルアミノ基、Ｎ−メチルーメトキシカルボニルアミノ基）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニルアミノ基、例えば、フェノキシカルボニルアミノ基、ｐ−クロロフェノキシカルボニルアミノ基、ｍ−ｎ−オクチルオキシフェノキシカルボニルアミノ基）、スルファモイルアミノ基（好ましくは、炭素数０〜３０の置換もしくは無置換のスルファモイルアミノ基、例えば、スルファモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノスルホニルアミノ基、Ｎ−ｎ−オクチルアミノスルホニルアミノ基）、アルキルおよびアリールスルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルスルホニルアミノ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールスルホニルアミノ基、例えば、メチルスルホニルアミノ基、ブチルスルホニルアミノ基、フェニルスルホニルアミノ基、２，３，５−トリクロロフェニルスルホニルアミノ基、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノ基）、メルカプト基、アルキルチオ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルチオ基、例えばメチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−ヘキサデシルチオ基）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールチオ基、例えば、フェニルチオ基、ｐ−クロロフェニルチオ基、ｍ−メトキシフェニルチオ基）、ヘテロ環チオ基（好ましくは炭素数２〜３０の置換または無置換のヘテロ環チオ基、例えば、２−ベンゾチアゾリルチオ基、１−フェニルテトラゾール−５−イルチオ基）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜３０の置換もしくは無置換のスルファモイル基、例えば、Ｎ−エチルスルファモイル基、Ｎ−（３−ドデシルオキシプロピル）スルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、Ｎ−アセチルスルファモイル基、Ｎ−ベンゾイルスルファモイル基、Ｎ−（Ｎ‘−フェニルカルバモイル）スルファモイル基）、スルホ基、アルキルおよびアリールスルフィニル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換または無置換のアルキルスルフィニル基、６〜３０の置換または無置換のアリールスルフィニル基、例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、フェニルスルフィニル基、ｐ−メチルフェニルスルフィニル基）、アルキルおよびアリールスルホニル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換または無置換のアルキルスルホニル基、６〜３０の置換または無置換のアリールスルホニル基、例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、フェニルスルホニル基、ｐ−メチルフェニルスルホニル基）、アシル基（好ましくはホルミル基、炭素数２〜３０の置換または無置換のアルキルカルボニル基、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニル基、炭素数４〜３０の置換もしくは無置換の炭素原子でカルボニル基と結合しているヘテロ環カルボニル基、例えば、アセチル基、ピバロイル基、２−クロロアセチル基、ステアロイル基、ベンゾイル基、ｐ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニル基、２―ピリジルカルボニル基、２−フリルカルボニル基）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニル基、例えば、フェノキシカルボニル基、ｏ−クロロフェノキシカルボニル基、ｍ−ニトロフェノキシカルボニル基、ｐ−ｔ−ブチルフェノキシカルボニル基）、アルコキシカルボニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニル基、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基、ｎ−オクタデシルオキシカルボニル基）、カルバモイル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のカルバモイル基、例えば、カルバモイル基、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルカルバモイル基、Ｎ−（メチルスルホニル）カルバモイル基）、アリールおよびヘテロ環アゾ基（好ましくは炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールアゾ基、炭素数３〜３０の置換もしくは無置換のヘテロ環アゾ基、例えば、フェニルアゾ基、ｐ−クロロフェニルアゾ基、５−エチルチオ−１，３，４−チアジアゾール−２−イルアゾ基）、イミド基（好ましくは、Ｎ−スクシンイミド、Ｎ−フタルイミド）、ホスフィノ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のホスフィノ基、例えば、ジメチルホスフィノ基、ジフェニルホスフィノ基、メチルフェノキシホスフィノ基）、ホスフィニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のホスフィニル基、例えば、ホスフィニル基、ジオクチルオキシホスフィニル基、ジエトキシホスフィニル基）、ホスフィニルオキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のホスフィニルオキシ基、例えば、ジフェノキシホスフィニルオキシ基、ジオクチルオキシホスフィニルオキシ基）、ホスフィニルアミノ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のホスフィニルアミノ基、例えば、ジメトキシホスフィニルアミノ基、ジメチルアミノホスフィニルアミノ基）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換もしくは無置換のシリル基、例えば、トリメチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリル、フェニルジメチルシリル）を表す。
上記の官能基の中で、水素原子を有するものは、これを取り去り更に上記の基で置換されていても良い。そのような官能基の例としては、アルキルカルボニルアミノスルホニル基、アリールカルボニルアミノスルホニル基、アルキルスルホニルアミノカルボニル基、アリールスルホニルアミノカルボニル基が挙げられる。その例としては、メチルスルホニルアミノカルボニル、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノカルボニル、アセチルアミノスルホニル、ベンゾイルアミノスルホニル基が挙げられる。
【０１０３】
Ｑ12で表される原子群に置換基を有する場合、青色半導体レーザに対する感度の点から、置換基は、ヒドロキシル基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、チオール基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アミノ基、アルキルアミノ基およびアニリノ基のいずれにも該当しない置換基であることが好ましい。該置換基としては、ハロゲン、ニトロ基、シアノ基、炭素数１〜１０の置換もしくは無置換のアルキル基、炭素数６〜２０の置換もしくは無置換のアリール基、炭素数２〜１０の置換もしくは無置換のアシル基、炭素数２〜１０の置換もしくは無置換のアルコキシカルボニル基、炭素数７〜１０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニル基、炭素数１〜１０の置換もしくは無置換のアルキルスルホニル基、炭素数６〜１０の置換もしくは無置換のアリールスルホニル基、または炭素数１〜１０の置換もしくは無置換のアルコキシスルホニル基であることが好ましく、シアノ基、置換もしくは無置換の炭素数１〜１０のアルキル基、置換もしくは無置換の炭素数６〜２０のアリール基、置換もしくは無置換の炭素数２〜１０のアシル基、置換もしくは無置換の炭素数２〜１０のアルコキシカルボニル基、置換もしくは無置換の炭素数１〜１０のアルキルスルホニル基、置換もしくは無置換の炭素数６〜１０のアリールスルホニル基であることがより好ましく、置換もしくは無置換の炭素数１〜１０のアルキル基、置換もしくは無置換の炭素数２〜１０のアシル基、置換もしくは無置換の炭素数２〜１０のアルコキシカルボニル基、置換もしくは無置換の炭素数１〜１０のアルキルスルホニル基であることがさらに好ましい。
【０１０４】
Ｙ11は、解離性水素原子を含有し、かつ金属イオンまたは金属酸化物イオンに結合可能な基を表す。Ｙ11で表される基としては、特に限定されないが、例えば、ヒドロキシル基、チオール基、アミノ基、カルボキシル基、スルホン酸基等が挙げられる。
【０１０５】
Ｙ11は、ヒドロキシル基、アミノ基（好ましくは、アミノ基、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルアミノ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアニリノ基、例えば、アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、アニリノ基、Ｎ−メチル−アニリノ基、ジフェニルアミノ基）、アシルアミノ基（好ましくは、ホルミルアミノ基、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニルアミノ基、例えば、ホルミルアミノ基、アセチルアミノ基、ピバロイルアミノ基、ラウロイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、３，４，５−トリ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニルアミノ基）、アミノカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアミノカルボニルアミノ基、例えば、カルバモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノカルボニルアミノ基、モルホリノカルボニルアミノ基）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニルアミノ基、例えば、メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、ｔ−ブトキシカルボニルアミノ基、ｎ−オクタデシルオキシカルボニルアミノ基、Ｎ−メチルーメトキシカルボニルアミノ基）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニルアミノ基、例えば、フェノキシカルボニルアミノ基、ｐ−クロロフェノキシカルボニルアミノ基、ｍ−ｎ−オクチルオキシフェノキシカルボニルアミノ基）、スルファモイルアミノ基（好ましくは、炭素数０〜３０の置換もしくは無置換のスルファモイルアミノ基、例えば、スルファモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノスルホニルアミノ基、Ｎ−ｎ−オクチルアミノスルホニルアミノ基）、アルキルおよびアリールスルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルスルホニルアミノ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールスルホニルアミノ基、例えば、メチルスルホニルアミノ基、ブチルスルホニルアミノ基、フェニルスルホニルアミノ基、２，３，５−トリクロロフェニルスルホニルアミノ基、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノ基）であることが好ましい。Ｙが置換基を有するアミノ基である場合、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアニリノ基、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のアシルアミノ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニルアミノ基、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアミノカルボニルアミノ基、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のアルコキシカルボニルアミノ基、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニルアミノ基、炭素数０〜３０の置換もしくは無置換のスルファモイルアミノ基、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルスルホニルアミノ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールスルホニルアミノ基であることが好ましく、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のアシルアミノ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニルアミノ基、炭素数１〜３０の置換もし���は無置換のアミノカルボニルアミノ基、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のアルコキシカルボニルアミノ基、炭素数０〜３０の置換もしくは無置換のスルファモイルアミノ基、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルスルホニルアミノ基であることがより好ましく、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のアシルアミノ基、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のアルコキシカルボニルアミノ基、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルスルホニルアミノ基であることがさらに好ましく、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のアシルアミノ基、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のアルコキシカルボニルアミノ基であることが特に好ましい。
【０１０６】
Ｙ11が置換基を有するアミノ基である場合、該置換基はＱ1により形成される原子群と結合して環を形成してもよく、このような場合も好ましい。このようにして形成される環としては、窒素原子１〜３個を含む５員環、窒素原子１〜４個を含む６員環が挙げられ、窒素原子２個または３個を含む５員環であることが好ましく、窒素原子３個を含む５員環であることがより好ましい。窒素原子３個を含む５員環が形成された場合の好ましい具体例として、下記例示化合物（ＡＺＯ−１）、（ＡＺＯ−２）等に含まれる縮環構造が挙げられる。
【０１０７】
以下に、一般式（Ａ）で表されるアゾ化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１０８】
【化１２】
2010033667.tif 000020
【０１０９】
【化１３】
2010033667.tif 000021
【０１１０】
次に、一般式（Ｂ）について説明する。
一般式（Ｂ）中、Ｑ21およびＱ22は、各々独立に複素環または炭素環を形成する原子群を表す。Ｑ21およびＱ22の詳細は、先に一般式（Ａ）中のＱ12について述べた通りである。
【０１１１】
Ｙ21およびＹ22は、各々独立に解離性水素原子を含有し、かつ金属イオンまたは金属酸化物イオンに結合可能な基を表し、その詳細は先に一般式（Ａ）中のＹ11について述べた通りである。
【０１１２】
以下に、一般式（Ｂ）で表されるアゾ化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１１３】
【化１４】
2010033667.tif 000022
【０１１４】
以下に、一般式（Ｃ）について説明する。
Ｑ31は複素環または炭素環を形成する原子群を表し、その詳細は先に一般式（Ａ）中のＱ12について述べた通りである。
【０１１５】
Ｑ32は含窒素複素環を形成する原子群を表す。Ｑ32によって形成される含窒素複素環基は、部分構造式（ｑ−１）〜（ｑ−４）で表される環であることが好ましく、（ｑ−１）、（ｑ−２）で表される環であることがより好ましく、（ｑ−１）で表される環であることがさらに好ましい。
【０１１６】
【化１５】
2010033667.tif 000023
【０１１７】
上記において、＊は−Ｎ＝Ｎ−基との結合位置を表し、Ｒ31は一般式（Ｃ）中のＲ31に相当し、Ｒ41〜Ｒ46は、各々独立に置換基を表す。
【０１１８】
一般式（Ｃ）中のＲ31は、水素原子または置換基を表す。Ｒ31で表される置換基としては、特に限定されないが、解離性水素原子を含有し、金属イオンまたは金属酸化物イオンに結合可能な基であるか、または該基を有する置換基であることが好ましく、含窒素ヘテロ環を形成する基であることがより好ましい。含窒素ヘテロ環としては、特に限定されないが、例えば、ピラゾール環、イミダゾール環、チアゾール環、オキサゾール環、４，５−ジヒドロイミダゾール、４，５−ジヒドロオキサゾール、４，５−ジヒドロチアゾール、１，２，４−チアジアゾール環、１，３，４−チアジアゾール環、１，２，４−トリアゾール環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、１，３，５−トリアジン環のいずれかを形成する環等が挙げられる。これらの環はさらに置換基を有していてもよく、また、縮環していてもよい。
【０１１９】
該含窒素へテロ環基は、好ましくは、チアゾール環、オキサゾール環、１，２，４−チアジアゾール環、１，３，４−チアジアゾール環、１，２，４−トリアゾール環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、トリアジン環であり、より好ましくは、チアゾール環、オキサゾール環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、トリアジン環であり、さらに好ましくは、チアゾール環、ピリジン環、ピラジン環、トリアジン環であり、特に好ましくはチアゾール環、ピリジン環である。
【０１２０】
Ｒ31が水素原子である場合、該水素原子が解離して、該水素原子と結合していた窒素原子と金属イオンが共有結合してアゾ金属錯体を形成することが好ましい。
【０１２１】
前記部分構造式（ｑ−１）〜（ｑ−４）中のＲ41〜Ｒ46は、各々独立に水素原子または置換基を表す。Ｒ41〜Ｒ46は溶解性向上の観点から置換基であることが好ましい。置換基としては、特に限定されないが、前記Ｑ11およびＱ12で表される原子群にさらに置換する置換基として挙げた置換基が挙げられる。
【０１２２】
Ｒ41、Ｒ43、Ｒ44は、炭素数６〜２０の置換もしくは無置換の炭素環基、炭素数６〜２０の置換もしくは無置換の複素環基、炭素数２〜１０の置換もしくは無置換のアルキルオキシカルボニル基、炭素数７〜１０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニル基、炭素数２〜１０の置換もしくは無置換のアルキルアミノカルボニル基、炭素数７〜１０の置換もしくは無置換のアニリノカルボニル基、炭素数１〜１０の置換もしくは無置換のアルキルスルホニル基、炭素数６〜１０の置換もしくは無置換のアリールスルホニル基、シアノ基より選ばれる基であることが好ましく、炭素数２〜１０の置換もしくは無置換のアルキルオキシカルボニル基、炭素数７〜１０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニル基、炭素数１〜１０の置換もしくは無置換のアルキルスルホニル基、炭素数６〜１０の置換もしくは無置換のアリールスルホニル基、シアノ基より選ばれる基であることがより好ましく、炭素数２〜１０の置換もしくは無置換のアルキルオキシカルボニル基、炭素数７〜１０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニル基、炭素数１〜１０の置換もしくは無置換のアルキルスルホニル基、炭素数６〜１０の置換もしくは無置換のアリールスルホニル基、シアノ基より選ばれる基であることが更に好ましく、シアノ基であることが特に好ましい。
【０１２３】
Ｒ42、Ｒ45、Ｒ46は、水素原子、炭素数１〜１０の置換もしくは無置換のアルキル基、炭素数６〜１０の置換もしくは無置換のアリール基が好ましく、溶解性の観点から炭素数１〜１０の置換もしくは無置換のアルキル基、炭素数６〜１０の置換もしくは無置換のアリール基がより好ましい。アルキル基としては、炭素数３〜６の分岐のアルキル基であることが好ましく、炭素数４〜６の３級アルキル基がより好ましい。
【０１２４】
一般式（Ｃ）中のＹ31は、解離性水素原子を含有し、かつ金属イオンまたは金属酸化物イオンに結合可能な基を表し、その詳細は先に一般式（Ａ）中のＹ11について述べた通りである。
【０１２５】
以下に、一般式（Ｃ）で表されるアゾ化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１２６】
【化１６】
2010033667.tif 000024
【０１２７】
【化１７】
2010033667.tif 000025
【０１２８】
【化１８】
2010033667.tif 000026
【０１２９】
以上説明したアゾ化合物は、金属イオンや金属酸化物イオンと錯体形成していない状態で、記録用色素として記録層に含有されるものである。このように金属イオンや金属酸化物イオンを含まないことは、環境や人体に対する影響の観点で好ましい。前記アゾ化合物としては、色素膜安定性および色素膜耐光性の観点から、一般式（Ｃ）で表されるアゾ化合物が好ましい。
【０１３０】
一般式（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）としては、アゾ−ヒドラゾン互変異性平衡におけるアゾフォームのみを示してしているが、対応するヒドラゾンフォームであってもよい。
【０１３１】
アゾ金属錯体化合物
前記アゾ金属錯体化合物は、アゾ化合物および金属イオンもしくは金属酸化物イオンを含む。前記アゾ金属錯体化合物は、アゾ化合物と金属イオンもしくは金属酸化物イオンとを反応させることによりアゾ化合物が金属イオンに配位結合し、生成する色素である。
【０１３２】
アゾ金属錯体色素としては、記録特性に優れる点で、前記一般式（Ａ）、一般式（Ｂ）、または一般式（Ｃ）のいずれかで表されるアゾ色素と金属イオンまたは金属酸化物イオンとを含むアゾ金属錯体色素が特に好適に用いられる。ただし、この場合のアゾ金属錯体色素の配位子である一般式（Ａ）、一般式（Ｂ）、または一般式（Ｃ）については、Y11、Y12、Y13は各々水素原子を有する基であり、アゾ金属錯体色素形成時に水素原子が解離してアニオン性基となることが好ましい。
【０１３３】
前記金属イオンとしては、例えば、Ｍｇ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｃａ、Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｇａ、Ｇｅ、Ａｓ、Ｓｒ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｔｃ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｃｄ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｂａ、Ｐｒ、Ｅｕ、Ｙｂ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ａｕ、Ｈｇ、Ｔｌ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｔｈ等の金属のイオンが挙げられ、中でも、遷移金属原子のイオンが好ましい。また、金属酸化物イオンとしては、前記金属の酸化物イオンを挙げることができる。
【０１３４】
遷移金属原子とは、周期表のＩＩＩａ族〜ＶＩＩＩ族の元素およびＩｂが含まれ、不完全ｄ電子殻を持つ元素である。遷移金属原子としては、特に限定されるものではないが、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｃｒが好ましく、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎがより好ましく、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕがさらに好ましく、記録再生特性の観点から、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕが特に好ましく、環境や人体に対する影響の観点から、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｕが特に好ましい。
【０１３５】
金属イオンとしては、２価または３価の金属原子が好ましく、２価の金属原子がより好ましい。２価または３価の金属（金属イオンで表す）としては、例えば、Ｍｎ2+、Ｆｅ2+、Ｆｅ3+、Ｃｏ2+、Ｃｏ3+、Ｎｉ2+、Ｎｉ3+、Ｃｕ2+、Ｚｎ2+、Ｃｒ3+、Ｒｕ2+、Ｒｈ3+、Ｐｄ2+、Ｉｒ3+、Ｐｔ2+等が挙げられ、Ｍｎ2+、Ｆｅ2+、Ｆｅ3+、Ｃｏ2+、Ｃｏ3+、Ｎｉ2+、Ｎｉ3+、Ｃｕ2+、Ｚｎ2+が好ましく、Ｍｎ2+、Ｆｅ2+、Ｃｏ2+、Ｃｏ3+、Ｎｉ2+、Ｎｉ3+、Ｃｕ2+がより好ましく、Ｃｏ3+、Ｎｉ3+、Ｍｎ2+、Ｆｅ2+、Ｃｕ2+がさらに好ましい。
【０１３６】
前記アゾ金属錯体化合物は、記録再生特性の観点から、銅イオン、コバルトイオンまたはニッケルイオンを中心金属イオンとして含むことが特に好ましく、銅イオンを含むことが最も好ましい。
【０１３７】
一般式（Ａ）〜一般式（Ｃ）で表されるアゾ色素の一般的合成法としては、特開昭６１−３６３６２号公報および特開２００６−５７０７６号公報に記載の方法が挙げられる。ただし、これに限定するものではなく、他の酸、反応溶媒を用いてもよく、また、カップリング反応を塩基（例えば、酢酸ナトリウム、ピリジン、水酸化ナトリウム等）存在下で行ってもよい。本発明において使用可能なアゾ化合物の合成方法の具体例を、以下に示す。本発明において使用可能な種々のアゾ化合物は同様の方法により合成できる。
【０１３８】
【化１９】
2010033667.tif 000027
【０１３９】
【化２０】
2010033667.tif 000028
【０１４０】
【化２１】
2010033667.tif 000029
［一般式（Ｄ）中、Ｑ33は含窒素へテロ環を形成する原子群を表し、Ｑ31、Ｑ32、Ｙ31は一般式（Ｃ）と同義である。］
【０１４１】
アゾ化合物と金属イオン（または金属酸化物イオン）を反応させて金属アゾキレート色素を得る一般的方法としては、アゾ化合物、金属塩（金属錯体、金属酸化物塩を含む）を、塩基存在下、有機溶媒中もしくは水中、またはその混合液中において、攪拌する方法が挙げられる。ただし、金属塩の種類、塩基の種類、有機溶媒またはその混合液の種類、反応温度等は限定されない。本発明に使用可能なアゾ金属錯体色素の合成法の一例を、以下に示す。
【０１４２】
前記アゾ化合物と金属イオン（または金属酸化物イオン）からなるアゾ金属錯体色素の合成例を以下に示す。以下において反応溶媒としてメタノールを示したが、反応溶媒はメタノールに限定されない。反応溶媒としては金属イオンを溶解できるアルコールが好ましい。また、以下において塩基としてトリエチルアミンを示したが、塩基はトリエチルアミンに限定されない。また、Ｍと窒素原子を結ぶ点線は配位結合を表すが、仮にこの配位結合が無く結合していない状態であったとしても同一の化合物とする。本発明において使用可能な種々のアゾ化合物と金属イオン（または金属酸化物イオン）からなる種々のアゾ金属錯体色素も同様の方法で合成できる。
【０１４３】
【化２２】
2010033667.tif 000030
【０１４４】
ここで、Ｚは、酸素原子、硫黄原子、ＮＲ36で表される二価の連結基を表し、Ｒ36は水素原子または置換基を表し、ｑは１または２を表す。ｎ１は１〜３の範囲の整数を表し、ｎ３はｑと同一の数を表す。本合成法により得られたアゾ金属錯体色素のトリエチルアンモニウムカチオンは、溶媒中、カチオン交換反応が可能である。
【０１４５】
上記合成法において、Ｃｏ塩、Ｎｉ塩、Ｍｎ塩、Ｆｅ塩等をアゾ色素と反応させることにより、上記アゾ金属錯体色素が得られる。
【０１４６】
同様の合成法において、Ｃｕ塩を反応させることにより、以下のような一般式（５−１’’）で表されるアゾ金属錯体を合成することができる。
【０１４７】
【化２３】
2010033667.tif 000031
【０１４８】
ここで、Ｚは先に述べた通りであり、Ｌ２は配位子を表し、ｎ２は０〜３の範囲の整数を表す。Ｘ-は陰イオンであればよく、特に限定されない。Ｘ-としては、例えば、ハロゲンイオン、ＣＨ3ＣＯＯ-、ＣｌＯ4-、ＳＯ42-などが挙げられる。ｎは０〜６の範囲の整数を表し、０〜４の範囲であることが好ましい。
【０１４９】
また、一般式（Ｄ）についても同様の方法によりアゾ金属錯体が合成できる。Ｙが−ＯＨ基である場合は、塩基の存在しない条件下でも反応が進行する。
【０１５０】
【化２４】
2010033667.tif 000032
［Y31=ZH、Q33=含窒素へテロ環を形成する原子群］
【０１５１】
以下に、本発明の光情報記録媒体の記録用色素として使用可能なアゾ金属錯体色素の具体例を示す。ただし、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１５２】
【化２５】
2010033667.tif 000033
【０１５３】
【化２６】
2010033667.tif 000034
【０１５４】
【化２７】
2010033667.tif 000035
【０１５５】
【化２８】
2010033667.tif 000036
【０１５６】
【化２９】
2010033667.tif 000037
【０１５７】
【表２】
2010033667.tif 000038
2010033667.tif 000039
【０１５８】
一般式（Ｅ）についてアゾ配位子上のアニオンがＭと結合するＮ原子上にあるように記載しているが、アニオンはＮ原子上に存在することに限られず、アゾ配位子の骨格全体に広く非局在化している状態であってもよく、互変異性構造をとっていてもよい。
また、（Ｍ−３９）〜（Ｍ−５３）についても当てはまるが、一般式（Ｅ）中のtは化合物の存在する環境により変化し得る。すなわち、配位性化合物（ニトリル系化合物、アミド系化合物、Ｈ2Ｏ、アルコール系化合物、エーテル系化合物、エステル系化合物、アミン系化合物、含窒素へテロ環化合物など）などが存在する環境において、化合物中に取り込まれることがある。
一般式（Ｅ）は化合物の存在する環境により変化し得るが、その変化が銅イオンの価数を変化させるものである場合も考えられる。例えば、溶媒存在下においてＣｕ2+がＣｕ+になることが考えられ、その場合、アゾ金属錯体部位が中性あるいはアニオン性になることも考えられる。その場合はＹv-の数（一般式（Ｅ）中のｗ）が変わったり、Ｙv-が任意のカチオンに置き換わることも想定される。
【０１５９】
記録層には、記録層用色素として前記アゾ色素化合物を一種または二種以上組み合わせて使用することができる。更に、前記アゾ色素化合物以外の色素を併用することもできる。併用可能な色素としては、例えば波長４４０ｎｍ以下の短波長領域において吸収を有するものが好ましい。そのような色素としては、特に限定されないが、アゾ色素、アゾ金属錯体色素、フタロシアニン色素、オキソノール色素、シアニン色素等が挙げられる。
【０１６０】
記録層用色素の使用量は、記録層の全質量に対して、例えば１〜１００質量％の範囲であり、好ましくは５０〜１００質量％、より好ましくは７５〜１００質量％の範囲である。記録層用色素として前記アゾ色素化合物と他の色素を併用する場合、色素全量に対する前記アゾ色素化合物の割合が、１質量％以上であることが好ましく、１０〜１００質量％であることが更に好ましく、５０〜１００質量％であることが特に好ましい。
【０１６１】
オキソノール色素化合物
本発明の光情報記録媒体は、記録用色素としてオキソノール色素を含むこともできる。オキソノール色素としては、下記一般式(X)で表されるアニオン化合物と、該アニオン化合物の電荷を中和し得るカチオンを含む色素、ならびに／または、下記一般式（X）で表される化合物の２つ以上（それらは同一でも異なっていてもよい）が、Ａ、Ｂ、Ｃおよび／もしくはＤのいずれかを介して互いに連結したアニオン化合物と、該アニオン化合物の電荷を中和し得るカチオンを含む色素（オキソノール誘導体、以下、「色素A」ともいう。）を挙げることができる。これらオキソノール色素化合物は、前述の好ましい色素物性を有することが好ましい。
【０１６２】
【化３０】
2010033667.tif 000040
［一般式（X）中、ＡおよびＢは、AおよびBのハメットのσｐ値の合計が０．６以上となる電子吸引性基であって互いに連結して環を形成してもよく、ＣおよびＤは、ＣおよびＤのハメットのσｐ値の合計が０．６以上となる電子吸引性基であって互いに連結して環を形成してもよく、Ｒはメチン炭素上の置換基を表し、ｍは０〜３の範囲の整数を表し、ｎは０〜（２ｍ＋１）の範囲の整数を表し、ｎが２以上の整数のとき、複数個のＲは互いに同一でも異なっていてもよく、また互いに連結して環を形成していてもよい。］
【０１６３】
以下に、前記色素の詳細を説明する。
【０１６４】
色素Ａはオキソノール色素であり、下記一般式（X）で表されるアニオン化合物と、該アニオン化合物の電荷を中和し得るカチオンを含む色素、ならびに／または、下記一般式（X）で表される化合物の２つ以上（それらは同一でも異なっていてもよい）が、Ａ、Ｂ、Ｃおよび／もしくはＤのいずれかを介して互いに連結したアニオン化合物と、該アニオン化合物の電荷を中和し得るカチオンを含む色素である。なお、本発明においてオキソノール色素とは、アニオン性色素部位を有するポリメチン色素と定義する。
【０１６５】
【化３１】
2010033667.tif 000041
【０１６６】
以下に、一般式（X）の詳細を説明する。
【０１６７】
一般式（X）中、ＡおよびＢは、AおよびBのハメットのσｐ値の合計が０．６以上となる電子吸引性基であって互いに連結して環を形成してもよく、ＣおよびＤは、ＣおよびＤのハメットのσｐ値の合計が０．６以上となる電子吸引性基であって互いに連結して環を形成してもよく、Ｒはメチン炭素上の置換基を表し、ｍは０〜３の範囲の整数を表し、ｎは０〜（２ｍ＋１）の範囲の整数を表し、ｎが２以上の整数のとき、複数個のＲは互いに同一でも異なっていてもよく、また互いに連結して環を形成していてもよい。一般式（I）はアニオンの局在位置の表記の違いによる複数の互変異性体を含むものであるが、特にＡ、Ｂ、Ｃ、Ｄのいずれかが−ＣＯ−Ｅ（Ｅは置換基）である場合、酸素原子上に負電荷を局在させて表記することが一般的である。例えばＤが−ＣＯ−Ｅである場合、表記としては、下記一般式（XI）が一般的であり、このような表記のものも一般式（I）に含まれる。
【０１６８】
【化３２】
2010033667.tif 000042
【０１６９】
一般式（XI）におけるＡ、Ｂ、Ｃ、Ｒ、ｍ、ｎの定義は一般式（X）と同様である。
【０１７０】
以下に、上記一般式（X）で表されるオキソノール色素部位について説明する。一般式（I）において、Ａ、Ｂ、ＣおよびＤは、ＡとＢのハメットの置換基定数σp値の合計およびＣとＤのハメットの置換基定数σp値の合計がそれぞれ０．６以上となる電子吸引性基を表す。Ａ、Ｂ、ＣおよびＤはそれぞれ同一でもよく、また異なっていてもよい。また、ＡとＢ、もしくはＣとＤは連結して環を形成していてもよい。Ａ、Ｂ、ＣおよびＤで表される電子吸引性基のハメットの置換基定数σp値は、それぞれ独立に０．３０〜０．８５の範囲にあることが好ましく、更に好ましくは、０．３５〜０．８０の範囲である。
【０１７１】
ハメットの置換基定数σp値（以下、σp値という）は、例えばＣｈｅｍ．Ｒｅｖ．９１，１６５（１９９１）およびこれに引用されている参考文献に記載されており、記載されていないものについても同文献記載の方法によって求めることが可能である。ＡとＢ（ＣとＤ）が連結して環を形成している場合、Ａ（Ｃ）のσp値は、−Ａ−Ｂ−Ｈ（−Ｃ−Ｄ−Ｈ）基のσp 値を意味し、Ｂ（Ｄ）のσp 値は、−Ｂ−Ａ−Ｈ（−Ｄ−Ｃ−Ｈ）基のσp値を意味する。この場合、両者は結合の方向が異なるためσp値は異なる。
【０１７２】
Ａ、Ｂ、ＣおよびＤで表される電子吸引性基の好ましい具体例としては、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜１０のアシル基（例、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、ピバロイル基、ベンゾイル基）、炭素原子数２〜１２のアルコキシカルボニル基（例、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、デシルオキシカルボニル基）、炭素原子数７〜１１のアリールオキシカルボニル基（例、フェノキシカルボニル基）、炭素原子数１〜１０のカルバモイル基（例、メチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基）、炭素原子数１〜１０のアルキルスルホニル基（例、メタンスルホニル基）、炭素原子数６〜１０のアリールスルホニル基（例、ベンゼンスルホニル基）、炭素原子数１〜１０のアルコキシスルホニル基（例、メトキシスルホニル基）、炭素原子数１〜１０のスルファモイル基（例、エチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基）、炭素原子数１〜１０のアルキルスルフィニル基（例、メタンスルフィニル基、エタンスルフィニル基）、炭素原子数６〜１０のアリールスルフィニル基（例、ベンゼンスルフィニル基）、炭素原子数１〜１０のアルキルスルフェニル基（例、メタンスルフェニル基、エタンスルフェニル基）、炭素原子数６〜１０のアリールスルフェニル基（例、ベンゼンスルフェニル基）、ハロゲン原子、炭素原子数２〜１０のアルキニル基（例、エチニル基）、炭素原子数２〜１０のジアシルアミノ基（例、ジアセチルアミノ基）、ホスホリル基、カルボキシル基、５員もしくは６員のヘテロ環基（例えば、２−ベンゾチアゾリル基、２−ベンゾオキサゾリル基、３−ピリジル基、５−（１Ｈ）−テトラゾリル基、４−ピリミジル基）であり、好ましくはシアノ基、アルコキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基を挙げることができる。
【０１７３】
一般式（X）において、Ｒで表されるメチン炭素上の置換基としては、例えば以下に記載のものを挙げることができる。炭素原子数１〜２０の鎖状または環状のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基）、炭素原子数６〜１８の置換または無置換のアリール基（例えば、フェニル基、クロロフェニル基、アニシル基、トルイル基、２，４−ジ−ｔ−アミル基、１−ナフチル基）、アルケニル基（例えば、ビニル基、２−メチルビニル基）、アルキニル基（例えば、エチニル基、２−メチルエチニル基、２−フェニルエチニル基）、ハロゲン原子（例えば、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）、シアノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アシル基（例えば、アセチル基、ベンゾイル基、サリチロイル基、ピバロイル基）、アルコキシ基（例えば、メトキシ基、ブトキシ基、シクロヘキシルオキシ基）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ基、１−ナフトキシ基）、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ基、ブチルチオ基、ベンジルチオ基、３−メトキシプロピルチオ基）、アリールチオ基（例えば、フェニルチオ基、４−クロロフェニルチオ基）、
【０１７４】
アルキルスルホニル基（例えば、メタンスルホニル基、ブタンスルホニル基）、アリールスルホニル基（例えば、ベンゼンスルホニル基、パラトルエンスルホニル基）、炭素原子数１〜１０のカルバモイル基、炭素原子数１〜１０のアミド基、炭素原子数２〜１２のイミド基、炭素原子数２〜１０のアシルオキシ基、炭素原子数２〜１０のアルコキシカルボニル基、ヘテロ環基（例えば、ピリジル基、チエニル基、フリル基、チアゾリル基、イミダゾリル基、ピラゾリルなどの芳香族ヘテロ環、ピロリジン環、ピペリジン環、モルホリン環、ピラン環、チオピラン環、ジオキサン環、ジチオラン環などの脂肪族ヘテロ環）である。
【０１７５】
Rとして好ましいものは、ハロゲン原子、炭素原子数１〜８の鎖状または環状のアルキル基、炭素原子数６〜１０のアリール基、炭素原子数１〜８のアルコキシ基、炭素原子数６〜１０のアリールオキシ基、炭素原子数３〜１０のヘテロ環基であり、特に塩素原子、炭素原子数１〜４のアルキル基（例：メチル基、エチル基、イソプロピル基）、フェニル基、炭素原子数１〜４のアルコキシ基（例：メトキシ基、エトキシ基）、フェノキシ基、炭素原子数４〜８の含窒素ヘテロ環基（例：４−ピリジル基、ベンゾオキサゾール−２−イル、ベンゾチアゾール−２−イル）が好ましい。
【０１７６】
ｎは０〜（２ｍ＋１）の範囲の整数を表す。なお、ｍについては後述する。ｎは、好ましくは０〜７の範囲の整数である。ｎが２以上の整数のとき、複数個のＲは互いに同一でも異なっていてもよく、また互いに連結して環を形成してもよい。このとき環員数は４〜８が好ましく、特に５または６が好ましく、環の構成原子は炭素原子、酸素原子または窒素原子が好ましく、特に炭素原子が好ましい。
【０１７７】
Ａ、Ｂ、Ｃ、ＤおよびＲは更に置換基を有していてもよく、置換基の例としては、一般式（Ｉ）におけるRで表される一価の置換基の例として先に挙げたものと同様のものを挙げることができる。
【０１７８】
記録層用色素として用いられる色素としては、熱分解性の観点からＡとＢ、またはＣとＤが連結して環を形成することが好ましく、そのような環の例として以下のようなものが挙げられる。なお、例示中、Ｒa 、Ｒb およびＲc は各々独立に、水素原子または置換基を表す。
【０１７９】
【化３３】
2010033667.tif 000043
【０１８０】
【化３４】
2010033667.tif 000044
【０１８１】
【化３５】
2010033667.tif 000045
【０１８２】
【化３６】
2010033667.tif 000046
【０１８３】
【化３７】
2010033667.tif 000047
【０１８４】
【化３８】
2010033667.tif 000048
【０１８５】
【化３９】
2010033667.tif 000049
【０１８６】
【化４０】
2010033667.tif 000050
【０１８７】
上記の中で、好ましい環は、D−２、D−８、D−９、D−１０、D−１３、D−１４、D−１６、D−１７，D−３６、D−３９、D−４２、D−５４、D−５７、D−５９、D−６１、D−６５およびD−６６で示されるものである。更に好ましくは、D−２、D−９、D−１０、D−１３、D−１７、D−４２、D−５４、D−５７、D−５９、D−６１、D−６５およびD−６６で示されるものである。最も好ましくは、D−１３、D−１７、D−５４、D−５７、D−５９、D−６１、D−６５およびD−６６で示されるものである。
【０１８８】
Ｒa、ＲbおよびＲcで表される置換基は、それぞれ前記Rで表される置換基として挙げたものと同義である。またＲa、ＲbおよびＲcはそれぞれ互いに連結して炭素環または複素環を形成してもよい。炭素環としては、例えば、シクロヘキシル環、シクロペンチル環、シクロヘキセン環、およびベンゼン環などの飽和または不飽和の４〜７員の炭素環を挙げることができる。また複素環としては、例えば、ピペリジン環、ピペラジン環、モルホリン環、テトラヒドロフラン環、フラン環、チオフェン環、ピリジン環、およびピラジン環などの飽和または不飽和の４〜７員の複素環を挙げることができる。これらの炭素環または複素環は更に置換されていてもよい。更に置換し得る基としては、前記Rで表される置換基として挙げたものと同義である。
【０１８９】
一般式（X）において、ｍは０〜３の範囲の整数である。このｍの値によって該オキソノール色素の吸収波長が大きく変化する。記録再生に用いるレーザの発振波長に応じて最適な吸収波長の色素を設計すべきであり、この点においてｍの値の選択は重要である。記録再生に用いるレーザの中心発振波長が４４０ｎｍ以下の場合（例えば、中心発振波長４０５ｎｍの青紫色半導体レーザ）は、ｍは０または１が好ましい。
【０１９０】
一般式（X）で表されるオキソノール発色団は、任意の位置で結合して多量体を形成していてもよく、この場合の各単位は互いに同一でも異なっていてもよく、またポリスチレン、ポリメタクリレート、ポリビニルアルコール、セルロース等のポリマー鎖に結合していてもよい。
【０１９１】
また、一般式(X)で表されるアニオン化合物の２つ以上が、Ａ、Ｂ、Ｃおよび／もしくはＤのいずれかを介して互いに連結した多量体を形成してもよい。この場合、複数含まれる一般式(I)で表されるオキソノール色素部位は、同一でも異なっていてもよい。具体的には、一般式（X）においてＡ、Ｂ、Ｃ、Ｄを構成するいずれかの水素原子を抜く形で、連結基によって連結した二量体を挙げることができる。
【０１９２】
一般式(X)で表されるアニオン化合物の二量体としては、下記一般式(XII)で表される構造のアニオン化合物が好ましい。
【化４１】
2010033667.tif 000051
【０１９３】
一般式(XII)中、Ｚａ5およびＺａ6は、各々独立に、酸性核を形成する原子群であり、Ｌ11は、２価の連結基を表し、またＡ、Ｂ、Ｃ、Ｄの定義および詳細は、先に一般式（X）のＡ、Ｂ、Ｃ、Ｄについて述べた通りである。
一般式(XII)中、Ｒ1およびＲ2は、各々独立にメチン炭素上の置換基を表し、その詳細は先に一般式（X）中のRについて述べた通りである。Ｒ1、Ｒ2は同一でもよく異なってもよい。
一般式(XII)中、ｍ１およびｍ２は、各々独立に０〜３の範囲の整数を表し、その詳細は先に一般式（X）中のｍについて述べた通りである。
一般式(XII)中、ｎ１は０〜（２ｍ１＋１）の範囲の整数を表し、ｎ２は０〜（２ｍ２＋１）の範囲の整数を表す。ｎ１およびｎ２の詳細は、先に一般式（X）中のｎについて述べた通りである。またｍ１とｍ２、ｎ１とｎ２はそれぞれ同一でも異なってもよい。
【０１９４】
なお、一般式(XII)において、Ｚａ5およびＺａ6を構成するいずれかの水素原子を抜く形で一般式(I)の色素残基として連結基Ｌ11と結合させることができる。
【０１９５】
Ｚａ5、Ｚａ6は、各々酸性核を形成するために必要な原子群を表し、Ｊａｍｅｓ  編、Ｔｈｅ  Ｔｈｅｏｒｙ  ｏｆ  ｔｈｅ  Ｐｈｏｔｏｇｒａｐｈｉｃ  Ｐｒｏｃｅｓｓ、第４版、マクミラン社、１９７７年、第１９８頁により定義される。具体的には、２−ピラゾロン−５−オン、ピラゾリジン−３，５−ジオン、イミダゾリン−５−オン、ヒダントイン、２または４−チオヒダントイン、２−イミノオキサゾリジン−４−オン、２−オキサゾリン−５−オン、２−チオオキサゾリン−２，４−ジオン、イソローダニン、ローダニン、インダン−１，３−ジオン、チオフェン−３−オン、チオフェン−３−オン−１，１−ジオキシド、インドリン−２−オン、インドリン−３−オン、２−オキソインダゾリウム、５，７−ジオキソ−６，７−ジヒドロチアゾロ〔３，２−ａ〕ピリミジン、３，４−ジヒドロイソキノリン−４−オン、１，３−ジオキサン−４，６−ジオン、バルビツール酸、２−チオバルビツール酸、クマリンー２，４−ジオン、インダゾリン−２−オン、ピリド［１，２−ａ］ピリミジン−１，３−ジオン、ピラゾロ〔１，５−ｂ〕キナゾロン、ピラゾロピリドン、３−ジシアノメチリデニル−３−フェニルプロピオニトリル、オキサチオラノンジオキシド、メルドラム酸などの核が挙げられ、好ましくは、２−ピラゾロン−５−オン、バルビツール酸、２−チオバルビツール酸、オキサチオラノンジオキシド、メルドラム酸、ピラゾリジン−３，５−ジオンである。
【０１９６】
より具体的には、Ｚａ5、Ｚａ6が形成する酸性核としては、炭素数３〜２５のオキサゾール核（例えば、２−３−メチルオキサゾリル、２−３−エチルオキサゾリル、２−３，４−ジエチルオキサゾリル、２−３−メチルベンゾオキサゾリル、２−３−エチルベンゾオキサゾリル、２−３−スルホエチルベンゾオキサゾリル、２−３−スルホプロピルベンゾオキサゾリル、２−３−メチルチオエチルベンゾオキサゾリル、２−３−メトキシエチルベンゾオキサゾリル、２−３−スルホブチルベンゾオキサゾリル、２−３−メチル−β−ナフトオキサゾリル、２−３−メチル−α−ナフトオキサゾリル、２−３−スルホプロピル−β−ナフトオキサゾリル、２−３−スルホプロピル−β−ナフトオキサゾリル、２−３−（３−ナフトキシエチル）ベンゾオキサゾリル、２−３，５−ジメチルベンゾオキサゾリル、２−６−クロロ−３−メチルベンゾオキサゾリル、２−５−ブロモ−３−メチルベンゾオキサゾリル、２−３−エチル−５−メトキシベンゾオキサゾリル、２−５−フェニル−３−スルホプロピルベンゾオキサゾリル、２−５−（４−ブロモフェニル）−３−スルホブチルベンゾオキサゾリル、２−３−ジメチル−５，６−ジメチルチオベンゾオキサゾリル）、炭素数３〜２５のチアゾール核（例えば、２−３−メチルチアゾリル、２−３−エチルチアゾリル、２−３−スルホプロピルチアゾリル、２−３−スルホブチルチアゾリル、２−３，４−ジメチルチアゾリル、２−３，４，４−トリメチルチアゾリル、２−３−カルボキシエチルチアゾリル、２−３−メチルベンゾチアゾリル、２−３−エチルベンゾチアゾリル、２−３−ブチルベンゾチアゾリル、２−３−スルホプロピルベンゾチアゾリル、２−３−スルホブチルベンゾチアゾリル、２−３−メチル−β−ナフトチアゾリル、２−３−スルホプロピル−γ−ナフトチアゾリル、２−３−（１−ナフトキシエチル）ベンゾチアゾリル、２−３，５−ジメチルベンゾチアゾリル、２−６−クロロ−３−メチルベンゾチアゾリル、２−６−ヨード−３−エチルベンゾチアゾリル、２−５−ブロモ−３−メチルベンゾチアゾリル、２−３−エチル−５−メトキシベンゾチアゾリル、２−５−フェニル−３−スルホプロピルベンゾチアゾリル、２−５−（４−ブロモフェニル）−３−スルホブチルベンゾチアゾリル、２−３−ジメチル−５，６−ジメチルチオベンゾチアゾリルなどが挙げられる）、炭素数３〜２５のイミダゾール核（例えば、２−１，３−ジエチルイミダゾリル、２−１，３−ジメチルイミダゾリル、２−１−メチルベンゾイミダゾリル、２−１，３，４−トリエチルイミダゾリル、２−１，３−ジエチルベンゾイミダゾリル、２−１，３，５−トリメチルベンゾイミダゾリル、２−６−クロロ−１，３−ジメチルベンゾイミダゾリル、２−５，６−ジクロロ−１，３−ジエチルベンゾイミダゾリル、２−１，３−ジスルホプロピル−５−シアノ−６−クロロベンゾイミダゾリルなどが挙げられる）、炭素数１０〜３０のインドレニン核（例えば、３，３−ジメチルインドレニン）、炭素数９〜２５のキノリン核（例えば、２−１−メチルキノリル、２−１−エチルキノリル、２−１−メチル６−クロロキノリル、２−１，３−ジエチルキノリル、２−１−メチ���−６−メチルチオキノリル、２−１−スルホプロピルキノリル、４−１−メチルキノリル、４−１−スルホエチルキノリル、４−１−メチル−７−クロロキノリル、４−１，８−ジエチルキノリル、４−１−メチル−６−メチルチオキノリル、４−１−スルホプロピルキノリルなどが挙げられる）、炭素数３〜２５のセレナゾール核（例えば、２−３−メチルベンゾセレナゾリルなどが挙げられる）、炭素数５〜２５のピリジン核（例えば、２−ピリジルなどが挙げられる）などが挙げられ、さらに他にチアゾリン核、オキサゾリン核、セレナゾリン核、テルラゾリン核、テルラゾール核、ベンゾテルラゾール核、イミダゾリン核、イミダゾ［４，５−キノキザリン］核、オキサジアゾール核、チアジアゾール核、テトラゾール核、ピリミジン核を挙げることができる。これらは置換されてもよく、置換基として好ましくは、例えばアルキル基（例えばメチル基、エチル基、プロピル基）、ハロゲン原子（例えば、塩素、臭素、ヨウ素、フッ素）、ニトロ基、アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基）、アリール基（例えば、フェニル基）、ヘテロ環基（例えば２−ピリジル基、３−ピリジル基、１−ピロリル基、２−チエニル基）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ基）、アシルアミノ基（例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基）、カルバモイル基（例えばＮ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基）、スルホ基、スルホンアミド基（例えばメタンスルホンアミド基）、スルファモイル基（例えばＮ−メチルスルファモイル基）、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アルキルチオ基（例えばメチルチオ基）、シアノ基などが挙げられる。Ｚａ5、Ｚａ6が形成する酸性核として、好ましくは、オキサゾール核、イミダゾール核、チアゾール核である。これらの複素環はさらに縮環されていてもよい。縮環する環としてはベンゼン環、ベンゾフラン環、ピリジン環、ピロール環、インドール環、チオフェン環等が挙げられる。
【０１９７】
一般式(XII)において、Ｌ11は、２価の連結基を表し、それらが結合した発色団間でπ共役系を形成しない以外に特に限定はないが、好ましくはアルキレン基（炭素数１〜２０、例えばメチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基）、アリーレン基（炭素数６〜２６、例えばフェニレン基、ナフチレン基）、アルケニレン基（炭素数２〜２０、例えばエテニレン基、プロペニレン基）、アルキニンレン基（炭素数２〜２０、例えばエチニレン基、プロピニレン基）、メタロセニレン基（例えばフェロセン基）、−ＣＯ−Ｎ（Ｒ101）−、−ＣＯ−Ｏ−、−ＳＯ2−Ｎ（Ｒ102）−、−ＳＯ2−Ｏ−、−Ｎ（Ｒ103）−ＣＯ−Ｎ（Ｒ104）−、−ＳＯ2−、−ＳＯ−、−Ｓ−、−Ｏ−、−ＣＯ−、−Ｎ（Ｒ105）−、ヘテリレン基（炭素数１〜２６、例えば６−クロロ−１，３，５−トリアジル−２，４−ジイル基、ピリミジン−２，４−ジイル基）を１つまたはそれ以上組み合わせて構成される炭素数０以上１００以下、好ましくは１以上２０以下の連結基を表す。上記、Ｒ101、Ｒ102、Ｒ103、Ｒ104、Ｒ105は、各々独立に、水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアリール基を表す。また、Ｌ11で表される連結基は、それらが連結する２つのクロモフォア間で１つ以上複数個存在していてもよく、複数個（好ましくは２つ）が結合して環を形成してもよい。Ｌ11は、好ましくは２つのアルキレン基（好ましくは、エチレン基）が結合して環を形成したものである。その中でも、５または６員環（好ましくはシクロヘキシル）を形成した場合が更に好ましい。
【０１９８】
一般式（X）で表されるアニオン化合物の中でも、下記一般式（XIII）で表されるアニオン化合物が最も好ましい。
【０１９９】
【化４２】
2010033667.tif 000052
【０２００】
一般式(XIII)中、Ａ、Ｂ、Ｃ、D、Ｒ、ｍ、ｎの定義および詳細は、一般式（X）のＡ、Ｂ、Ｃ、D、Ｒ、ｍ、ｎについて述べた通りである。
【０２０１】
以下に、一般式(X)〜(XIII)で表されるアニオン化合物の好ましい具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０２０２】
【表３】
2010033667.tif 000053
【０２０３】
【表４】
2010033667.tif 000054
【０２０４】
【表５】
2010033667.tif 000055
【０２０５】
【表６】
2010033667.tif 000056
【０２０６】
【表７】
2010033667.tif 000057
【０２０７】
【表８】
2010033667.tif 000058
【０２０８】
【表９】
2010033667.tif 000059
【０２０９】
【表１０】
2010033667.tif 000060
【０２１０】
【表１１】
2010033667.tif 000061
【０２１１】
【表１２】
2010033667.tif 000062
【０２１２】
【表１３】
2010033667.tif 000063
【０２１３】
【表１４】
2010033667.tif 000064
【０２１４】
【表１５】
2010033667.tif 000065
【０２１５】
【表１６】
2010033667.tif 000066
【０２１６】
【表１７】
2010033667.tif 000067
【０２１７】
色素Ａは、前記アニオン化合物と、該アニオン化合物の電荷を中和し得るカチオンを含む。以下において、前記カチオンには特に制限はなく、無機化合物よりなるイオンであっても、有機化合物よりなるイオンであっても構わない。また、前記カチオンの電荷は１価であっても多価であっても構わない。前記カチオンとしては、例えばナトリウムイオン、カリウムイオンのような金属イオン、４級アンモニウムイオン、オキソニウムイオン、スルホニウムイオン、ホスホニウムイオン、セレノニウムイオン、ヨードニウムイオンなどのオニウムイオンが挙げられる。Ｑで表される陽イオンとして好ましくは、オニウムイオンであり、更に好ましくは４級アンモニウムイオンである。４級アンモニウムイオンの中でも特に好ましくは、特開２０００−５２６５８号公報の一般式（Ｉ−４）で表される４，４’−ビピリジニウム陽イオンおよび特開２００２−５９６５２号公報に開示されている４，４’−ビピリジニウム陽イオンである。
【０２１８】
以下に、色素Ａの好ましい具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０２１９】
【化４３】
2010033667.tif 000068
2010033667.tif 000069
2010033667.tif 000070
【０２２０】
上記色素は、公知の方法で合成することができ、また市販品として入手可能なものもある。
【０２２１】
シアニン色素化合物
本発明の光情報記録媒体は、記録用色素として、下記一般式（XX）で表される化合物（ポリメチン誘導体）を含有することもできる。前記シアニン色素化合物は、前述の好ましい色素物性を有することが好ましい。
【０２２２】
【化４４】
2010033667.tif 000071
［一般式（XX）中、Ｘ1およびＸ2は、各々独立に、酸素原子、硫黄原子またはＮ−Ｒを表し、Ｒはアルキル基、アリール基、または複素環基を表し、Ｚａ1およびＺａ2は、各々独立に、５員または６員の複素環を完成するために必要な原子群を表し、Ｌ1、Ｌ2およびＬ3は、各々独立に、置換または無置換のメチン基を表し（但し、Ｌ1〜Ｌ3上に置換基がある場合には互いに連結して環を形成してもよい）、ｊは、０または１を表し、Ｍ1は電荷均衡対イオンを表し、ｍ１は分子の電荷を中和するために必要な０以上１０以下の数を表す。]
【０２２３】
以下に、一般式(XX)の詳細を説明する。
【０２２４】
【化４５】
2010033667.tif 000072
［一般式（XX）中、Ｘ1およびＸ2は、各々独立に、酸素原子、硫黄原子またはＮ−Ｒを表し、Ｒはアルキル基、アリール基、または複素環基を表し、Ｚａ1およびＺａ2は、各々独立に、５員または６員の複素環を完成するために必要な原子群を表し、Ｌ1、Ｌ2およびＬ3は、各々独立に、置換または無置換のメチン基を表し（但し、Ｌ1〜Ｌ3上に置換基がある場合には互いに連結して環を形成してもよい）、ｊは、０または１を表し、Ｍ1は電荷均衡対イオンを表し、ｍ１は分子の電荷を中和するために必要な０以上１０以下の数を表す。]
【０２２５】
一般式（XX）中、Ｌ1、Ｌ2およびＬ3は、各々独立に、置換または無置換のメチン基を表す。Ｌ1〜Ｌ3上に置換基がある場合には互いに連結して環を形成してもよい。
【０２２６】
メチン基が有し得る置換基をＶとすると、Ｖで示される置換基としては特に制限はないが、例えば、ハロゲン原子（例えば塩素、臭素、沃素、フッ素）、メルカプト基、シアノ基、カルボキシル基、リン酸基、スルホ基、ヒドロキシ基、炭素数１〜１０、好ましくは炭素数２〜８、さらに好ましくは炭素数２〜５のカルバモイル基（例えばメチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基、モルホリノカルボニル基）、炭素数０〜１０、好ましくは炭素数２〜８、さらに好ましくは炭素数２〜５のスルファモイル基（例えばメチルスルファモイル基、エチルスルファモイル基、ピペリジノスルホニル基）、ニトロ基、炭素数１〜２０、好ましくは炭素数１〜１０、さらに好ましくは炭素数１〜８のアルコキシ基（例えばメトキシ基、エトキシ基、２−メトキシエトキシ基、２−フェニルエトキシ基）、炭素数６〜２０、好ましくは炭素数６〜１２、さらに好ましくは炭素数６〜１０のアリールオキシ基（例えばフェノキシ基、ｐ−メチルフェノキシ基、ｐ−クロロフェノキシ基、ナフトキシ基）、炭素数１〜２０、好ましくは炭素数２〜１２、さらに好ましくは炭素数２〜８のアシル基（例えばアセチル基、ベンゾイル基、トリクロロアセチル基）、炭素数１〜２０、好ましくは炭素数２〜１２、さらに好ましくは炭素数２〜８のアシルオキシ基（例えばアセチルオキシ基、ベンゾイルオキシ基）、炭素数１〜２０、好ましくは炭素数２〜１２、さらに好ましくは炭素数２〜８のアシルアミノ基（例えばアセチルアミノ基）、炭素１〜２０、好ましくは炭素数１〜１０、さらに好ましくは炭素数１〜８のスルホニル基（例えばメタンスルホニル基、エタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基など）、炭素１〜２０、好ましくは炭素数１〜１０、さらに好ましくは炭素数１〜８のスルフィニル基（例えばメタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基）、炭素１〜２０、好ましくは炭素数１〜１０、さらに好ましくは炭素数１〜８のスルホニルアミノ基（例えばメタンスルホニルアミノ基、エタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基など）、アミノ基、炭素数１〜２０、好ましくは炭素数１〜１２、さらに好ましくは炭素数１〜８の置換アミノ基（例えばメチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ベンジルアミノ基、アニリノ基、ジフェニルアミノ基）、炭素数０〜１５、好ましくは炭素数３〜１０、さらに好ましくは炭素数３〜６のアンモニウム基（例えばトリメチルアンモニウム基、トリエチルアンモニウム基）、炭素数０〜１５、好ましくは炭素数１〜１０、さらに好ましくは炭素数１〜６のヒドラジノ基（例えばトリメチルヒドラジノ基）、炭素数１〜１５、好ましくは炭素数１〜１０、さらに好ましくは炭素数１〜６のウレイド基（例えばウレイド基、Ｎ，Ｎ−ジメチルウレイド基）、炭素数１〜１５、好ましくは炭素数１〜１０、さらに好ましくは炭素数１〜６のイミド基（例えばスクシンイミド基）、炭素数１〜２０、好ましくは炭素数１〜１２、さらに好ましくは炭素数１〜８のアルキルまたはアリールチオ基（例えばメチルチオ基、エチルチオ基、カルボキシエチルチオ基、スルホブチルチオ基、フェニルチオ基など）、炭素数２〜２０、好ましくは炭素数２〜１２、さらに好ましくは炭素数２〜８のアルコキシカルボニル基（例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基）、炭素数６〜２０、好ましくは炭素数６〜１２、さらに好ましくは炭素数６〜８のアリーロキシカルボニル基（例えばフェノキシカルボニル基）、炭素数１〜１８、好ましくは炭素数１〜１０、さらに好ましくは炭素数１〜５の無置換アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基）、炭素数１〜１８、好ましくは炭素数１〜１０、さらに好ましくは炭素数１〜５の置換アルキル基（ヒドロキシメチル基、トリフルオロメチル基、ベンジル基、カルボキシエチル基、エトキシカルボニルメチル基、アセチルアミノメチル基、また、ここでは好ましくは炭素数２〜１８、さらに好ましくは炭素数３〜１０、特に好ましくは炭素数３〜５の不飽和炭化水素基（例えばビニル基、エチニル基、１−シクロヘキセニル基、ベンジリジン基、ベンジリデン基）も置換アルキル基に含まれることにする。）、炭素数６〜２０、好ましくは炭素数６〜１５、さらに好ましくは炭素数６〜１０の置換または無置換のアリール基（例えばフェニル基、ナフチル基、ｐ−カルボキシフェニル基、ｐ−ニトロフェニル基、３，５−ジクロロフェニル基、ｐ−シアノフェニル基、ｍ−フルオロフェニル基、ｐ−トリル基）、炭素数１〜２０、好ましくは炭素数２〜１０、さらに好ましくは炭素数４〜６の置換されてもよいヘテロ環基（例えばピリジル基、５−メチルピリジル基、チエニル基、フリル基、モルホリノ基、テトラヒドロフルフリル基）が挙げられる。
【０２２７】
置換基として好ましいものは、上述のアルキル基、アリール基、アルコキシ基、ハロゲン原子、アシル基、シアノ基、スルホニル基、およびベンゼン環縮合であり、さらに好ましくはアルキル基、アリール基、ハロゲン原子、アシル基、およびスルホニル基である。Ｌ1〜Ｌ3として好ましくは無置換メチン基である。
【０２２８】
ｊは０または１であり、ｊが１の時、メチン基が繰り返されるが同一である必要はない。
【０２２９】
Ｘ1およびＸ2は、各々独立に、酸素原子、硫黄原子またはＮ−Ｒを表し、Ｒはアルキル基、アリール基または複素環基を表す。Ｘ1とＸ2は同一でも異なってもよいが同一であることが好ましい。
【０２３０】
アルキル基としては、例えば炭素数１〜１８、好ましくは１〜７、特に好ましくは１〜４の無置換アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、オクタデシル基）、炭素数１〜１８、好ましくは１〜７、特に好ましくは１〜４の置換アルキル基｛例えば前述のＬ1などの置換基として挙げたＶが置換したアルキル基が挙げられる。好ましくはアラルキル基（例えばベンジル基、２−フェニルエチル基）、不飽和炭化水素基（例えばアリル基）、ヒドロキシアルキル基（例えば、２−ヒドロキシエチル基、３−ヒドロキシプロピル基）、カルボキシアルキル基（例えば、２−カルボキシエチル基、３−カルボキシプロピル基、４−カルボキシブチル基、カルボキシメチル基）、アルコキシアルキル基（例えば、２−メトキシエチル基、２−（２−メトキシエトキシ）エチル基）、アリーロキシアルキル基（例えば２ーフェノキシエチル基、２−（１−ナフトキシ）エチル基）、アルコキシカルボニルアルキル基（例えばエトキシカルボニルメチル基、２−ベンジルオキシカルボニルエチル基）、アリーロキシカルボニルアルキル基（例えば３−フェノキシカルボニルプロピル基）、アシルオキシアルキル基（例えば２ーアセチルオキシエチル基）、アシルアルキル基（例えば２−アセチルエチル基）、カルバモイルアルキル基（例えば２−モルホリノカルボニルエチル基）、スルファモイルアルキル基（例えばＮ，Ｎ−ジメチルカルバモイルメチル基）、スルホアルキル基（例えば、２−スルホエチル基、３−スルホプロピル基、３−スルホブチル基、４−スルホブチル基、２−〔３−スルホプロポキシ〕エチル基、２−ヒドロキシ−３−スルホプロピル基、３−スルホプロポキシエトキシエチル基）、スルホアルケニル基（例えば、スルホプロペニル基）、スルファトアルキル基（例えば、２ースルファトエチル基、３−スルファトプロピル基、４−スルファトブチル基）、複素環置換アルキル基（例えば２−（ピロリジン−２−オン−１−イル）エチル基、テトラヒドロフルフリル基）、アルキルスルホニルカルバモイルメチル基（例えばメタンスルホニルカルバモイルメチル基）｝が挙げられる。
【０２３１】
アリール基としては、例えば炭素数６〜２０、好ましくは炭素数６〜１０、さらに好ましくは炭素数６〜８の無置換アリール基（例えばフェニル基、１−ナフチル基）、炭素数６〜２０、好ましくは炭素数６〜１０、さらに好ましくは炭素数６〜８の置換アリール基（例えば前述のＬ1などの置換基として挙げたＶが置換したアリール基が挙げられる。具体的にはｐ−メトキシフェニル基、ｐ−メチルフェニル基、ｐ−クロロフェニル基などが挙げられる。）が挙げられる。
【０２３２】
複素環基としては、例えば炭素数１〜２０、好ましくは炭素数３〜１０、さらに好ましくは炭素数４〜８の無置換複素環基（例えば２−フリル基、２−チエニル基、２−ピリジル基、３−ピラゾリル基、３−イソオキサゾリル基、３−イソチアゾリル基、２−イミダゾリル基、２−オキサゾリル基、２−チアゾリル基、２−ピリダジル基、２−ピリミジル基、３−ピラジル基、２−（１，３，５−トリアゾリル）基、３−（１，２，４−トリアゾリル）基、５−テトラゾリル基）、炭素数１〜２０、好ましくは炭素数３〜１０、さらに好ましくは炭素数４〜８の置換複素環基（例えば前述のＬ1などの置換基として挙げたＶが置換した複素環基が挙げられる。具体的には５−メチル−２−チエニル基、４−メトキシ−２−ピリジル基などが挙げられる。）が挙げられる。
【０２３３】
Ｚａ1およびＺａ2は、各々独立に、５員または６員の複素環を完成するために必要な原子群を表す。Ｚａ1およびＺａ2は、同一でも異なってもよいが同一であることが好ましい。
Ｚａ1を含む５員もしくは６員の複素環（核）としては、例えば、チアゾール核、ベンゾチアゾール核、ナフトチアゾール核、チアゾリン核、オキサゾール核、ベンゾオキサゾール核、ナフトオキサゾール核、オキサゾリン核、セレナゾール核、ベンゾセレナゾール核、ナフトセレナゾール核、セレナゾリン核、テルラゾール核、ベンゾテルラゾール核、ナフトテルラゾール核、テルラゾリン核、イミダゾール核、ベンゾイミダゾール核、ナフトイミダゾール核、ピリジン核、キノリン核、イソキノリン核、イミダゾ〔４，５−ｂ〕キノキサリン核、オキサジアゾール核、チアジアゾール核、テトラゾール核、ピリミジン核、ピロール核、インドレニン核、ベンゾインドレニン核、１，３−ジオキソラン核、および１，３−ジチオラン核、などを挙げることができる。これらの中では、チアゾール核、チアゾリン核、ベンゾチアゾール核、オキサゾール核、オキサゾリン核、ベンゾオキサゾール核、イミダゾール核、ベンゾイミダゾール核、ナフトイミダゾール核、キノリン核、イソキノリン核、イミダゾ〔４，５−ｂ〕キノキサリン核、チアジアゾール核、テトラゾール核、ピリミジン核、ピロール核、インドレニン核、ベンゾインドレニン核、１，３−ジオキソラン核、および１，３−ジチオラン核が好ましい。これらの環には、更にベンゼン環、ジオキソラン環、ナフトキノン環が縮合していても良い。
【０２３４】
上記の５員または６員の含窒素複素環は置換基を有していてもよい。好ましい置換基（原子）の例としては、ハロゲン原子、置換または無置換のアルキル基、アリール基、アルコキシ基、およびアルコキシカルボニル基を挙げることができる。ハロゲン原子としては、塩素原子が好ましい。アルキル基は、炭素数数１〜６の直鎖状のアルキル基が好ましい。またアルキル基の置換基の例としては、アルコキシ基（例、メトキシ基）、アルキルチオ基（例、メチルチオ基）を挙げることができる。アリール基としては、フェニル基が好ましい。アルコキシ基としては、メトキシ基が好ましい。アルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基が好ましい。特に好ましい置換基の例は、ハロゲン原子、無置換のアルキル基、アルコキシ基、およびアルコキシカルボニル基である。
【０２３５】
Ｍ1は、電荷均衡対イオンを表し、色素のイオン電荷を中性にするために必要であるとき、陽イオンまたは陰イオンの存在を示すために式の中に含められている。典型的な陽イオンとしては、水素イオン（Ｈ+）、アルカリ金属イオン（例えばナトリウムイオン、カリウムイオン、リチウムイオン）、アルカリ土類金属イオン（例えばカルシウムイオン）などの無機陽イオン、アンモニウムイオン（例えば、アンモニウムイオン、テトラアルキルアンモニウムイオン、ピリジニウムイオン、エチルピリジニウムイオン）などの有機イオンが挙げられる。陰イオンは無機陰イオンあるいは有機陰イオンのいずれであってもよく、ハロゲン陰イオン（例えばフッ素イオン、塩素イオン、ヨウ素イオン）、置換アリールスルホン酸イオン（例えばｐ−トルエンスルホン酸イオン、ｐ−クロルベンゼンスルホン酸イオン）、アリールジスルホン酸イオン（例えば１，３−ベンゼンスルホン酸イオン、１，５−ナフタレンジスルホン酸イオン、２，６−ナフタレンジスルホン酸イオン）、アルキル硫酸イオン（例えばメチル硫酸イオン）、硫酸イオン、チオシアン酸イオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロホウ酸イオン、ピクリン酸イオン、酢酸イオン、トリフルオロメタンスルホン酸イオンが挙げられる。さらに、イオン性ポリマーまたは色素と逆電荷を有する他の色素を用いても良い。本発明では、スルホ基をＳＯ3-と表記しているが、対イオンとして水素イオンを持つときはＳＯ3Ｈと表記することも可能である。ｍ１は分子の電荷を中和するために必要な０以上１０以下の数を表し、分子内で塩を形成する場合には０である。
【０２３６】
一般式(XX)で表される化合物は、更に下記一般式（XX-1）、下記一般式（XX-2）、または下記一般式（XXI）で表される化合物であることが好ましい。
【０２３７】
【化４６】
2010033667.tif 000073
【０２３８】
一般式（XX−１）および（XX−２）中、Ｚｂは、インドレニン核、ベンゾインドレニン核、ベンゾイミダゾール核、ベンゾオキサゾール核またはベンゾチアゾール核を形成するために必要な原子群を表し、Ｘａは、酸素原子、硫黄原子、Ｃ（Ｒ3）（Ｒ4）またはＮ−Ｒ5を表し、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4およびＲ5は、各々独立に、アルキル基またはアリール基を表し、Ｌ4は、置換または無置換のメチン基を表す。Ｍ1およびｍ１は、前記一般式(I-1)における定義と同義であり、その好ましい範囲も同一である。
【０２３９】
上記Ｚｂを含むインドレニン核、ベンゾインドレニン核、ベンゾイミダゾール核、ベンゾオキサゾール核またはベンゾチアゾール核は置換基を有していてもよい。置換基（原子であってもよい）の例としては、前述した５員または６員の複素環上に有する置換基の例を挙げることができ、その好ましい範囲も同一である。
【０２４０】
上記Ｒ1およびＲ2は、アルキル基またはアリール基を表し、その詳細は、先に一般式（Ｉ−１）におけるＲについて述べた通りである。
【０２４１】
上記Ｒ3、Ｒ4およびＲ5は、アルキル基またはアリール基を表し、好ましくはアルキル基であり、更に好ましくは置換基を有してもよい炭素数数１〜１８の直鎖状、分岐状、または環状のアルキル基である。Ｒ3、Ｒ4およびＲ5で表されるアルキル基は、それぞれ炭素数数１〜６の直鎖状の無置換のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基）であることが特に好ましい。
【０２４２】
【化４７】
2010033667.tif 000074
【０２４３】
一般式（XXI）中、ＸｂおよびＸｃは、各々独立に、酸素原子、硫黄原子、またはＮ−Ｒ14を表し、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13およびＲ14は、各々独立に、水素原子、アルキル基またはアリール基を表し、Ｌ5、Ｌ6およびＬ7は各々独立に置換または無置換のメチン基を表す。但し、Ｌ5〜Ｌ7上に置換基がある場合には、これらの置換基は互いに連結して環を形成してもよい。ｋは０または１を表す。Ｍ1およびｍ１は、前記一般式(I-1)における定義と同義であり、その好ましい範囲も同一である。
【０２４４】
ＸｂおよびＸｃは、いずれも酸素原子、硫黄原子、もしくはＮ−Ｒ14であるか、または一方が酸素原子であり他方がＮ−Ｒ14、もしくは、一方が硫黄原子であり他方がＮ−Ｒ14の組み合わせとなることが好ましい。Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13およびＲ14は好ましくは水素原子またはアルキル基であり、更に好ましくは水素原子または置換基を有しても良い炭素数数１〜１８の直鎖状、分岐状、あるいは環状のアルキル基である。Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13およびＲ14で表されるアルキル基は、それぞれ炭素数数１〜６の直鎖状の無置換のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基）であることが特に好ましい。
【０２４５】
一般式（XXI）において、Ｌ5、Ｌ6およびＬ7は、各々独立に、置換または無置換のメチン基を表し、その詳細は、一般式（XX−１）中のＬ1、Ｌ2およびＬ3について説明した通りである。
【０２４６】
以下に、一般式（XX）（一般式（XX-1）、一般式（XX-2）、または（XXI）で表される化合物を含む）で表される化合物の好ましい具体例を挙げる。
【０２４７】
【化４８】
2010033667.tif 000075
【０２４８】
【化４９】
2010033667.tif 000076
【０２４９】
【化５０】
2010033667.tif 000077
【０２５０】
【化５１】
2010033667.tif 000078
【０２５１】
【化５２】
2010033667.tif 000079
【０２５２】
【化５３】
2010033667.tif 000080
【０２５３】
【化５４】
2010033667.tif 000081
【０２５４】
【化５５】
2010033667.tif 000082
【０２５５】
【化５６】
2010033667.tif 000083
【０２５６】
前記色素化合物は、例えば、エフ・エム・ハーマー著「ザ・シアニン・ダイズ・アンド・リレイテッド・コンパウンズ５（インターサイエンス・パブリシャーズ、Ｎ．Ｙ．１９６４年）５５頁以降；ニコライ・チュチュルコフ、ユルゲン・ファビアン、アキム・メールホルン、フィリッツ・ディエツ、アリア・タジエール（Nikolai Tyutyulkov, Jurgen Fabian, Achim Ulehlhorn, Fritz Dietz, Alia Tadjer）共著「ポリメチン・ダイズ」、セントクリメント・オーリズキ・ユニバシティ・プレス、ソフィア（St. Kliment OhridskiUniversity Press,Sophia）、２３頁ないし３８頁；デー・エム・スターマー（D.M.Sturmer）著、「ヘテロサイクリック、コンパウンズ−スペシャル・トピックス・イン・ヘテロサイクリック・ケミストリー（Heterocyclic Compounds-Special topics in heterocyclic chemistry）」、第１８章、第１４節、第４８２〜５１５頁、ジョン・ウィリー・アンド・サンズ（John Wiley & Sons）社、ニューヨーク、ロンドン、（１９７７年刊）；「ロッズ・ケミストリー・オブ・カーボン・コンパウンズ（Rodd's Chemistry of Carbon Compounds）」、（2nd.Ed.vol.IV,part B,１９７７年刊）、第１５章、第３６９〜４２２頁、（2nd.Ed.vol.IV,part B,１９８５年刊）、第１５章、第２６７〜２９６頁、エルスバイヤー・サイエンス・パブリック・カンパニー・インク（Elsvier Science Public Company Inc.）、ニューヨークなどに記載の方法によって合成することができる。
【０２５７】
多価の陰イオンを対イオンとして導入する手法は、まず適当な溶剤に１価の対イオンを有する色素を溶かし、これに多価の酸またはその塩の溶液を添加し、更に必要に応じて色素を溶解しにくい溶剤を添加して、多価イオンを対イオンとする色素の結晶を析出せしめる方法が最も簡便でかつ大量の合成に適している。その他の方法としては、イオン交換樹脂を用いて対イオンを交換する方法が挙げられる。
【０２５８】
記録層用色素の使用量は、前述のように、記録層の全質量に対して、例えば１〜１００質量％の範囲であり、好ましくは５０〜１００質量％、より好ましくは７５〜１００質量％の範囲である。記録用色素として、色素化合物を一種使用することもでき、二種以上を組み合わせて使用することもできる。
【０２５９】
次に記録層の形成について説明する。
記録層は、色素を、結合剤等と共に、または結合剤を用いないで適当な溶剤に溶解して塗布液を調製し、次いで、この塗布液を、後述する反射層上に塗布して塗膜を形成した後、乾燥することにより形成することができる。ここで、追記型記録層は、単層でも重層でもよい。塗布液を塗布する工程を複数回行うことにより、重層構造の記録層を形成することができる。
塗布液中の色素の濃度は、一般に０．０１〜１５質量％の範囲であり、好ましくは０．１〜１０質量％の範囲、より好ましくは０．５〜５質量％の範囲、最も好ましくは０．５〜３質量％の範囲である。
【０２６０】
塗布液の調製に用いる溶剤としては、例えば、酢酸ブチル、乳酸エチル、セロソルブアセテート等のエステル；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン等のケトン；ジクロルメタン、１，２−ジクロルエタン、クロロホルム等の塩素化炭化水素；ジメチルホルムアミド等のアミド；メチルシクロヘキサン等の炭化水素；テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサン等のエーテル；エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノールジアセトンアルコール等のアルコール；２，２，３，３−テトラフルオロ−１−プロパノール等のフッ素系溶剤；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類；等を挙げることができる。
溶剤は使用する色素の溶解性を考慮して単独で、あるいは二種以上を組み合わせて使用することができる。塗布液中には、さらに、結合剤、酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、可塑剤、潤滑剤等各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。
【０２６１】
塗布方法としては、スプレー法、スピンコート法、ディップ法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクターロール法、スクリーン印刷法等を挙げることができる。
塗布の際、塗布液の温度は２３〜５０℃の範囲であることが好ましく、２３〜４０℃の範囲であることがより好ましく、中でも、２３〜３８℃の範囲であることが特に好ましい。
【０２６２】
追記型記録層の厚さは、ランド上で１〜１００ｎｍの範囲であることが好ましく、グルーブ上で５〜１５０ｎｍの範囲であることが好ましい。ランド（前記基板において凸部）上での厚さは、７０ｎｍ以下であることが好ましく、５０ｎｍ以下であることがより好ましく、３０ｎｍ以下であることが更に好ましい。下限値は、５ｎｍ以上であることが好ましく、１５ｎｍ以上であることがより好ましい。
【０２６３】
また、追記型記録層の厚さは、グルーブ上（前記基板において凹部）で、１００ｎｍ以下であることが好ましく、５０ｎｍ以下であることがより好ましい。下限値は、１０ｎｍ以上であることが好ましく、２０ｎｍ以上であることがより好ましい。
更に、ランド上の追記型記録層の厚さとグルーブ上の追記型記録層の厚さの比[（ランド上の記録層の厚さ）／（グルーブ上の記録層の厚さ）]は、０．１以上であることが好ましく、０．１３以上であることがより好ましく、０．１５以上であることが更に好ましく、０．１７以上であることが特に好ましい。上限値としては、１以下であることが好ましく、０．９以下であることがより好ましく、０．８５以下であることが更に好ましく、０．８以下であることが特に好ましい。
【０２６４】
更に、記録層には、記録層の耐光性を向上させるために種々の褪色防止剤を含有させることができる。褪色防止剤としては、有機酸化剤や一重項酸素クエンチャーを挙げることができる。褪色防止剤として用いられる有機酸化剤としては、特開平１０−１５１８６１号公報に記載されている化合物が好ましい。一重項酸素クエンチャーとしては、既に公知の特許明細書等の刊行物に記載のものを利用することができる。その具体例としては、特開昭５８−１７５６９３号、同５９−８１１９４号、同６０−１８３８７号、同６０−１９５８６号、同６０−１９５８７号、同６０−３５０５４号、同６０−３６１９０号、同６０−３６１９１号、同６０−４４５５４号、同６０−４４５５５号、同６０−４４３８９号、同６０−４４３９０号、同６０−５４８９２号、同６０−４７０６９号、同６３−２０９９９５号、特開平４−２５４９２号、特公平１−３８６８０号、および同６−２６０２８号等の各公報、ドイツ特許３５０３９９号明細書、そして日本化学会誌１９９２年１０月号第１１４１頁などに記載のものを挙げることができる。好ましい一重項酸素クエンチャーの例としては、下記の一般式(A)で表される化合物を挙げることができる。
【０２６５】
【化５７】
2010033667.tif 000084
【０２６６】
一般式（Ａ）中、Ｒ21は置換基を有していてもよいアルキル基を表し、Ｑ-はアニオンを表す。
【０２６７】
一般式（Ａ）において、Ｒ21は置換されていてもよい炭素数１〜８のアルキル基であり、無置換の炭素数１〜６のアルキル基が好ましい。アルキル基の置換基としては、ハロゲン原子（例、Ｆ，Ｃｌ）、アルコキシ基（例、メトキシ基、エトキシ基）、アルキルチオ基（例、メチルチオ基、エチルチオ基）、アシル基（例、アセチル基、プロピオニル基）、アシルオキシ基（例、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基）、ヒドロキシ基、アルコキシカルボニル基（例、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基）、アルケニル基（例、ビニル基）、アリール基（例、フェニル基、ナフチル基）を挙げることができる。これらの中で、ハロゲン原子、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルコキシカルボニル基が好ましい。Ｑ-のアニオンの好ましい例としては、ＣｌＯ4-、ＡｓＦ6-、ＢＦ4-、およびＳｂＦ6-を挙げることができる。
【０２６８】
一般式(Ａ)で表される化合物例（化合物番号ＡＡ−１〜ＡＡ−８）を下記表１８に示す。
【０２６９】
【表１８】
2010033667.tif 000085
【０２７０】
前記一重項酸素クエンチャーなどの褪色防止剤の使用量は、色素量に対して、通常０．１〜５０質量％の範囲であり、好ましくは、０．５〜４５質量％の範囲、更に好ましくは、３〜４０質量％の範囲、特に好ましくは５〜２５質量％の範囲である。
【０２７１】
バリア層
バリア層は、記録層の保存性向上、記録層とカバー層との接着性向上、反射率調整、熱伝導率調整等のために設けることができる。
バリア層に用いられる材料としては、記録および再生に用いられる光を透過する材料であり、上記の機能を発現し得るものであれば、特に制限されるものではないが、例えば、一般的には、ガスや水分の透過性の低い材料、Ａｇ合金などの反射層材料との接触により腐食を生じない材料、湿熱環境での腐食が生じない材料を用いることが好ましく、誘電体であることが更に好ましい。
具体的には、Ｚｎ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｔｅ、Ｓｎ、Ｍｏ、Ｇｅ、Ｎｂ、Ｔａ等の窒化物、酸化物、炭化物、硫化物からなる材料が好ましく、ＭｏＯ2、ＧｅＯ2、ＴｅＯ、ＳｉＯ2、ＴｉＯ2、ＺｎＯ、ＳｎＯ2、ＺｎＯ−Ｇａ2Ｏ3、Ｎｂ2Ｏ5、Ｔａ2Ｏ5が好ましく、ＳｎＯ2、ＺｎＯ−Ｇａ2Ｏ3、ＳｉＯ2、Ｎｂ2Ｏ5、Ｔａ2Ｏ5がより好ましい。
【０２７２】
また、バリア層は、真空蒸着、ＤＣスパッタリング、ＲＦスパッタリング、イオンプレーティングなどの真空成膜法により形成することができる。中でも、スパッタリングを用いることがより好ましい。
バリア層の厚さは、１〜２００ｎｍの範囲が好ましく、２〜１００ｎｍの範囲がより好ましく、３〜５０ｎｍの範囲が更に好ましい。
【０２７３】
カバー層
カバー層は、バリア層上に、前述の中間層を介して貼り合わされる。
カバー層としては、透明な材質のフィルムであれば、特に限定されないが、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂；ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂；エポキシ樹脂；アモルファスポリオレフィン；ポリエステル；三酢酸セルロース等を使用することが好ましく、中でも、ポリカーボネートまたは三酢酸セルロースを使用することがより好ましい。
なお、「透明」とは、記録および再生に用いられる光に対して、透過率８０％以上であることを意味する。また、本発明の光情報記録媒体は、バリア層上に塗布された紫外線硬化型組成物に対し、カバー層を介して紫外線を照射することによって硬化処理を施すことにより形成することができる。よって、カバー層は紫外線透過性を有するものであることが好ましい。具体的には、紫外線硬化型組成物の硬化のために照射される紫外線に対して８０％以上の透過率を有することが好ましい。
【０２７４】
また、カバー層は、本発明の効果を妨げない範囲において、種々の添加剤が含有されていてもよい。例えば、波長４００ｎｍ以下の光をカットするためのＵＶ吸収剤および／または５００ｎｍ以上の光をカットするための色素が含有されていてもよい。
更に、カバー層の表面物性としては、表面粗さが２次元粗さパラメータおよび３次元粗さパラメータのいずれも５ｎｍ以下であることが好ましい。
また、記録および再生に用いられる光の集光度の観点から、カバー層の複屈折は１０ｎｍ以下であることが好ましい。
【０２７５】
カバー層の厚さは、記録および再生のために照射されるレーザー光の波長やＮＡ、紫外線硬化型組成物の硬化のために照射される紫外線の波長等により、適宜、規定することができるが、本発明においては、０．０１〜０．５ｍｍの範囲内であることが好ましく、０．０５〜０．１２ｍｍの範囲であることがより好ましい。
また、カバー層と接着層を合わせた総厚は、０．０９〜０．１１ｍｍであることが好ましく、０．０９５〜０．１０５ｍｍであることがより好ましい。
なお、カバー層の光入射面には、光情報記録媒体の製造時に、光入射面が傷つくことを防止するための保護層（後述する図１に示す態様ではハードコート層４４）が設けられていてもよい。
【０２７６】
またカバー層は、ＵＶ硬化樹脂を利用してスピンコーティング法により形成してもよい。
【０２７７】
その他の層
本発明の光情報記録媒体は、本発明の効果を損なわない範囲においては、上記の必須の層に加え、他の任意の層を有していてもよい。他の任意の層としては、例えば、基板の裏面（追記型記録層が形成された側と逆側の非形成面側）に形成される、所望の画像を有するレーベル層や、反射層と記録層との間に設けられる界面層などが挙げられる。ここで、前記レーベル層は、紫外線硬化樹脂、熱硬化性樹脂、および熱乾燥樹脂などを用いて形成することができる。
なお、上記した必須および任意の層はいずれも、単層でも、多層構造でもよい。
【０２７８】
前記好ましい構成の追記型記録層を有する光情報記録媒体は、従来のＣＤ−Ｒ、ＤＶＤ−Ｒ等における記録層の形成方法と同様の方法により形成できるため、製造が容易である。本発明によれば、上記構成の光情報記録媒体において、優れた短波長記録特性と機械的強度（カバー層とバリア層の接着力）を得ることができ、更には生産性も両立できる。
【０２７９】
本発明の光情報記録媒体に対してレーザー光を照射することにより、記録層に情報を記録することができる。光情報記録媒体に対する情報の記録は、記録層のレーザー光を照射された部分がその光学的特性を変えることによって行われる。光学的特性の変化は、記録層のレーザー光が照射された部分がその光を吸収して局所的に温度上昇し、物理的または化学的変化（例えばピットの生成）を生じることによってもたらされると考えられる。記録層に記録された情報の読み取り（再生）は、例えば記録用のレーザー光と同様の波長のレーザー光を照射することにより、記録層の光学的特性が変化した部位（記録部位）と変化しない部位（未記録部位）との反射率等の光学的特性の違いを検出することにより行うことができる。前述のように、本発明では、情報の記録は、好ましくは、レーザー光照射により記録に含まれる色素化合物が熱分解し、それにより発生した気体によりピット内に空隙が形成されることによって行われる。より好ましくは、色素化合物がレーザー光を吸収することによって発熱し、それにより生じた熱によって該色素化合物中の置換基または色素骨格が分解して気体を発生する。これにより記録層中に空隙が形成され、レーザー光照射により空隙が形成された部分とレーザー光未照射部との間に大きな屈折率差を生じさせることができ、記録特性を高めることができると考えられる。前記レーザー光の波長は、３９０〜４４０ｎｍであることが好ましい。本発明の光情報記録媒体への情報記録の詳細は後述する。
【０２８０】
［光情報記録媒体の製造方法］
更に本発明は、基板のプリグルーブを表面上に、反射層、色素含有記録層、バリア層、およびカバー層をこの順に有する光情報記録媒体の製造方法に関する。本発明の光情報記録媒体の製造方法は、１分子内に少なくとも２個の(メタ)アクリロイル基を有する共役ジエン重合体を含有する紫外線硬化型組成物をバリア層上に塗布し、該組成物に紫外線を照射することにより、前記バリア層と前記カバー層との間に、−２５℃以下のガラス転移温度を有する中間層を形成することを含む。その詳細は、先に説明した通りである。本発明の光情報記録媒体の製造方法により、本発明の光情報記録媒体を得ることができる。
【０２８１】
[情報記録方法]
更に、本発明は、本発明の光情報記録媒体へ、波長３９０〜４４０ｎｍのレーザー光を照射することにより、記録層へ情報を記録する情報記録方法に関する。
【０２８２】
記録光は波長３９０〜４４０ｎｍのレーザー光であり、４４０ｎｍ以下の範囲の発振波長を有する半導体レーザー光が好適に用いられ、好ましい光源としては３９０〜４４０ｎｍ（更に好ましくは３９０〜４１５ｎｍ）の範囲の発振波長を有する青紫色半導体レーザー光、中心発振波長８５０ｎｍの赤外半導体レーザー光を光導波路素子を使って半分の波長にした中心発振波長４２５ｎｍの青紫色ＳＨＧレーザー光を挙げることができる。特に、記録密度の点で３９０〜４１５ｎｍの範囲の発振波長を有する青紫色半導体レーザー光を用いることが好ましい。上記のように記録された情報の再生は、光情報記録媒体を上記と同一の定線速度で回転させながら半導体レーザー光をカバー層側から照射して、その反射光を検出することにより行うことができる。
【０２８３】
具体的には、図１に示す光情報記録媒体に対する情報の記録は、例えば次のように行われる。
まず、光情報記録媒体を一定の線速度（例えば０．５〜１０ｍ／秒）または一定の角速度にて回転させながら、カバー層１６側から半導体レーザー光等の記録用のレーザー光４６を、第一対物レンズ４２（例えば開口数ＮＡが０．８５）を介して照射する。このレーザー光４６の照射により、追記型記録層１４がレーザー光４６を吸収して局所的に温度上昇し、物理的または化学的変化（例えばピットの生成）が生じてその光学的特性を変えることにより、情報が記録されると考えられる。
その他の本発明の情報記録方法の詳細は、先に本発明の光情報記録媒体について説明した通りである。
【実施例】
【０２８４】
以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明は実施例に示す態様に限定されるものではない。
【０２８５】
《紫外線硬化型組成物の調製》
中間層形成用接着剤として使用する紫外線硬化型組成物を、単官能モノマーに１分子内に少なくとも２個の(メタ)アクリロイル基を有する共役ジエン重合体や増粘剤を添加した後に、光重合開始剤を添加して暗所で攪拌し均一にすることにより調製した。以下に、紫外線硬化型組成物Ａ、Ｂを例にとり調製方法を説明する。紫外線硬化型組成物Ｃ〜Ｌも同様にして調製した。
【０２８６】
調製例：紫外線硬化型組成物Ａ
１分子内に少なくとも２個の(メタ)アクリロイル基を有する共役ジエン重合体として出光興産社製Ｐｏｌｙ  ｂｄ（Ｒ−４５ＨＴ：数平均分子量２８００、ＯＨ基価４６．６ｍｇＫＯＨ／ｇ、ＯＨ含有量０．８２ｍｏｌ／ｋｇ）とアクリル酸クロリドとの脱塩酸反応によって得られる１分子内に少なくとも２個の(メタ)アクリロイル基を有する共役ジエン重合体Ａ１００ｇを使用し、単官能モノマーとして２−エチルヘキシルアクリレート（１４０ｇ：和光純薬工業株式会社製、ホモポリマーのガラス転移温度−８０℃）、さらに、光重合開始剤としてチバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製イルガキュア９０７（Ｉｒｇａｃｕｒｅ９０７）：２−メチル−４’−（メチルチオ）−２−モルホリノプロピオフェノン（１０ｇ）を暗所で３時間攪拌し一晩放置して紫外線硬化型組成物Ａを得た。
【０２８７】
調製例：紫外線硬化型組成物Ｂ
１分子内に少なくとも２個の(メタ)アクリロイル基を有する共役ジエン重合体として出光興産社製Ｐｏｌｙ  ｉｐ（ＯＨ含有量０．８０ｍｏｌ／ｋｇ）と無水マレイン酸とのエン付加反応によって得られるマレイン化ポリイソプレンに２−ヒドロキシエチルアクリレートをエステル化反応して得られる１分子内に少なくとも２個の(メタ)アクリロイル基を有する共役ジエン重合体Ｂ１００ｇを使用し、単官能モノマーとして２−エチルヘキシルアクリレート（１４０ｇ：和光純薬工業株式会社製、ホモポリマーのガラス転移温度−８０℃）、さらに、光重合開始剤としてチバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製イルガキュア９０７（Ｉｒｇａｃｕｒｅ９０７）：２−メチル−４’−（メチルチオ）−２−モルホリノプロピオフェノン（１０ｇ）を暗所で３時間攪拌し一晩放置して紫外線硬化型組成物Ａを得た。
【０２８８】
調製例：紫外線硬化型組成物Ｃ〜Ｌ
１分子内に少なくとも２個の(メタ)アクリロイル基を有する共役ジエン重合体として、クラレ社製ＵＣ−１０２、クラレ社製ＵＣ−２０３、大阪有機化学工業社製ＢＡＣ−４５、日本曹達社製ＴＥ−２０００をそれぞれ表１９に示す量使用し、単官能モノマー、光重合開始剤として表１９に示すものを使用した以外は紫外線硬化型組成物Ａ、Ｂと同様にして紫外線硬化型組成物Ｃ〜Ｌを調整した。
【０２８９】
粘度測定
得られた紫外線硬化型組成物について東機産業株式会社製Ｒ５００型粘度計を用い、２５℃での粘度を測定した。結果を表１９に示す。
【０２９０】
【表１９】
2010033667.tif 000086
２ＥＨＡ：２−エチルヘキシルアクリレート（ホモポリマーのガラス転移温度−８０℃）
ＤｏＡ：ドデシルアクリレート（ホモポリマーのガラス転移温度−３℃）
Ｅｂｅｃｒｙｌ１１０：ＥＯ変性フェノールアクリレート（ダイセル・サイテック社製、ホモポリマーのガラス転移温度−２５℃）
イルガキュア１８４：１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製）
イルガキュア６５１：２,２−ジメトキシー１，２−ジフェニルエタンー１−オン（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製）
ダロキュア１１７３：２−ヒドロキシー２−メチルー１−フェニルプロパンー１−オン（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製）
【０２９１】
比較調製例：紫外線硬化型組成物Ｍ
単官能モノマーとして２−エチルヘキシルアクリレート（８．４ｇ：和光純薬工業株式会社製）に多官能モノマーとして、Ｅｂｅｃｒｙｌ−８１（６．０ｇ、ダイセルサイテック社製、２．５官能アミン変性ポリエーテルアクリレート）、光重合開始剤としてイルガキュア９０７：２−メチル−４’−（メチルチオ）−２−モルホリノプロピオフェノン（０．６ｇ：チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製）を暗所で３時間攪拌し一晩放置して紫外線硬化型組成物Ｍを得た。上記と同様の方法で粘度を測定したところ、５．５ｍＰａ・ｓであった。
【０２９２】
比較調製例：紫外線硬化型組成物Ｎ
イソホロンジイソシアネート２モルジブチルスズラウレートを１滴添加し、７０℃で攪拌した後、ポリプロピレングリコール４００（質量平均分子量６８３、数平均分子量５６７）１モルを添加して３時間攪拌・反応させ、その後に２−ヒドロキシエチルアクリレート２モルを滴下させて３時間攪拌し多官能ウレタンアクリレートＮを得た。単官能モノマーとして２−エチルヘキシルアクリレート（８．４ｇ：和光純薬工業株式会社製）に多官能モノマーとして、前記多官能ウレタンアクリレートＮ６．０ｇ、光重合開始剤としてイルガキュア９０７：２−メチル−４’−（メチルチオ）−２−モルホリノプロピオフェノン（０．６ｇ：チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製）を暗所で３時間攪拌し一晩放置して紫外線硬化型組成物Ｍを得た。上記と同様の方法で粘度を測定したところ、４５ｍＰａ・ｓであった。
【０２９３】
比較調製例：紫外線硬化型組成物Ｏ
単官能モノマーとして２−エチルヘキシルアクリレート（２１ｇ：和光純薬工業株式会社製）に多官能モノマーとして、グリセリン１モルに４０モルのエチレンオキサイドを付加した後にアクリル酸クロライドと反応せしめて得られた架橋剤（０．５ｇ、新中村化学工業株式会社製ＮＫ  ＥＳＴＨＥＲ  ＡＳＯ  ４０ＥＯ）、さらに増粘剤としてポリブチルアクリレート（７ｇ：アルドリッチ社製、Ｍｗ＝１０１０００、Ｍｎ＝３８０００）、光重合開始剤として１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（０．５ｇ：和光純薬工業株式会社製）を暗所で３時間攪拌し一晩放置して紫外線硬化型組成物Ｏを得た。上記と同様の方法で粘度を測定したところ、５６ｍＰａ・ｓであった。
【０２９４】
［例示色素化合物（Ｍ−５０）の合成］
【化５８】
2010033667.tif 000087
【０２９５】
（１）化合物（Ｑ−５）の合成
１００ｍｌ三角フラスコに化合物（１）１ｇを入れ、酢酸１．３ｍｌ、プロピオン酸２ｍｌを注ぎ、氷冷下で塩酸（３５〜３７％）１．９ｍｌをゆっくり滴下した。氷浴にて０〜５℃に冷却し、そこへＮａＮＯ2  ０．４６ｇを溶解させた水溶液１ｍｌ（５℃以下に冷却したもの）をゆっくり滴下した後、０〜５℃にて１時間分間攪拌した。この酸性溶液を、氷冷下で０〜５℃に保った化合物（２）０．９４ｇを含むメタノール溶液２０ｍｌに徐々に加え、１時間攪拌した。室温に戻し２時間攪拌した後、沈殿物をろ過し最小量のメタノールで洗浄した。得られた固体を乾燥させ、化合物（Ｑ−５）０．８ｇを得た。化合物の同定は３００ＭＨｚ1Ｈ−ＮＭＲにより行った。
1H-NMR(DMSO-d6)[ppm]；δ13.70(1H,br),13.31(1H,s),3.331(3H,s),1.413(9H,s),1.331(9H,s)
【０２９６】
（２）例示色素化合物（Ｍ−５０）の合成
次に、５０ｍｌナスフラスコに、上記（１）で合成した化合物（Ｑ−５）０．７ｇ、メタノール１０ｍｌを入れ、攪拌しながらトリエチルアミン１．５ｍｌを滴下した。１０分間攪拌し、さらにＣｕ（ＯＡｃ）2・Ｈ2Ｏ  ０．４３ｇを加え、１時間加熱還流させた。室温に戻し、沈殿物をろ過し、メタノールにて洗浄し、乾燥を施して化合物（Ｍ−５０）０．４４ｇを得た。
【０２９７】
［例示色素化合物（Ｉ−４９）の合成］
特開２００４―１８８７２７号公報に記載の合成例１に従い、例示色素化合物（Ｉ−４９）を合成した。
【０２９８】
《色素の物性評価》
＜屈折率ｎおよび消衰係数ｋの測定解析＞
後述する実施例１と同様の色素含有塗布液を調製し、厚さ１．１ｍｍのガラス板上に、調製した色素含有塗布液を、スピンコート法により回転数５００〜１０００ｒｐｍまで変化させながら２３℃、５０％ＲＨの条件で塗布した。この色素膜について、屈折率ｎおよび消衰係数ｋを分光エリプソメトリ装置（Ｊ．Ａ．ウーラムジャパン社製、型式  Ｍ−２０００）を用いて測定解析した。４０５ｎｍにおける例示色素化合物（Ｍ−５０）の屈折率ｎは１．５６、消衰係数ｋは０．２３であった。また同様に例示色素化合物（Ｉ−４９）の屈折率ｎは１．８１、消衰係数ｋは０．０５２であった。
【０２９９】
＜熱分解温度の測定＞
例示色素化合物（Ｍ−５０）についてＴＧ／ＤＴＡ測定を行った。測定はＳｅｉｋｏ  Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ  Ｉｎｃ．製ＥＸＳＴＡＲ６０００を用い、Ｎ2気流下（流量２００ｍｌ／ｍｉｎ）、３０℃〜５５０℃の範囲において１０℃／ｍｉｎで昇温を行った。質量減少率が１０％に達した時点の温度を読み取ったところ３２１℃であった。また同様に例示色素化合物（Ｉ−４９）の質量減少率が１０％に達した時点の温度を読み取ったところ３５３℃であった。
【０３００】
≪光情報記録媒体の作製≫
（基板の作製）
厚さ１．１ｍｍ、外径１２０ｍｍ、内径１５ｍｍでスパイラル状のプリグルーブ（トラックピッチ：３２０ｎｍ、溝幅：グルーブ（凹部）幅１９０ｎｍ、溝深さ：４７ｎｍ、溝傾斜角度：６５°、ウォブル振幅：２０ｎｍ）を有する、ポリカーボネート樹脂からなる射出成形基板を作製した。射出成型時に用いられたスタンパのマスタリングは、レーザーカッティング（３５１ｎｍ）を用いて行なわれた。
【０３０１】
（光反射層の形成）
基板上に、Ｕｎａｘｉｓ社製Ｃｕｂｅを使用し、Ａｒ雰囲気中で、ＤＣスパッタリングにより、膜厚６０ｎｍの真空成膜層としてのＡＮＣ光反射層（Ａｇ：９８．１ａｔ％、Ｎｄ：０．７ａｔ％、Ｃｕ：０．９ａｔ％）を形成した。光反射層の膜厚の調整は、スパッタ時間により行った。
【０３０２】
（追記型記録層の形成）
合成した例示化合物（Ｍ−５０）１．２ｇを、２，２，３，３−テトラフロロプロパノール１００ｍｌ中に添加して溶解し、色素含有塗布液を調製した。そして、光反射層上に、調製した色素含有塗布液を、スピンコート法により回転数３００〜４０００ｒｐｍまで変化させながら２３℃、５０％ＲＨの条件で塗布した。その後、２３℃、５０％ＲＨで１時間保存して追記型記録層を形成した。追記型記録層の厚さはグルーブ上の厚さ４０ｎｍ、ランド上の厚さ１５ｎｍであった。
【０３０３】
追記型記録層を形成した後、クリーンオーブンにてアニール処理を施した。アニール処理は、基板を垂直のスタックポールにスペーサーで間をあけながら支持し、８０℃で１時間保持して行った。
【０３０４】
（バリア層の形成）
その後、追記型記録層上に、Ｕｎａｘｉｓ社製Ｃｕｂｅを使用し、Ａｒ雰囲気中で、ＤＣスパッタリングによりＮｂ2Ｏ5からなる、厚さ５ｎｍのバリア層を形成した。
【０３０５】
バリア層を成膜した媒体をスピン塗布装置上に設置し、内周部３０ｍｍ付近に紫外線硬化型組成物Ａをリング状に塗布した。その上から内径１５ｍｍ、外径１２０ｍｍのポリカーボネート製フィルム（帝人ピュアエース、厚さ：９０μｍ）を載せた後に、２０００〜８０００ｒ．ｐ．ｍ．の回転数で回転させた。これによって遠心力で接着剤が外周部まで延展し、均一な厚みの接着剤層を得ることができた。このサンプルをＵＶ光照射テーブルに移動し、ＵＶ光を照射、ＵＶ接着剤を硬化させた。このとき、硬化に用いたＵＶランプはＸｅｎｏｎ  Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ社製４．２ｉｎｃｈ−ＳＰＩＲＡＬ  ＬＡＭＰであり、１回あたり０．５秒の照射時間となる閃光を複数回照射して硬化させた。ランプ面〜サンプル面間距離は約３５ｍｍであった。紫外線照射量は、２０００ｍＪ／ｃｍ2であった。形成された接着層の厚さは１０μｍであった。
これにより、実施例１の光情報記録媒体が作製された。
【０３０６】
［実施例２〜９、比較例１〜３］
紫外線硬化型組成物Ａの代わりに表２１に示す紫外線硬化型組成物を使用し、該組成物の硬化処理のための紫外線照射時間を変更することにより紫外線照射量を変更した以外は、実施例１と同様の方法により光情報記録媒体を作製した（実施例２〜８、比較例１〜３）。また同様に例示色素化合物（Ｉ−４９）を用いた以外は実施例１と同様の方法により光情報記録媒体を作製した（実施例９）。
【０３０７】
紫外線照射量
接着層の硬化のために照射した紫外線の照射量は以下のように測定した。
照射照度測定機としてウシオ電機株式会社製ＥＣ−１００ＦＬ型を用い、積算光量測定モードで測定した。この測定機の受光部上にポリカーボネート製フィルム（帝人ピュアエース、厚さ：９０μｍ）を載せてＵＶ光照射部にセットし、１回あたり０．５秒の照射時間となる閃光を３、６、１０回照射して各回における積算光量を測定した。照射時間と積算光量の関係をプロットしたところ、照射時間と積算光量の関係は良好な直線関係を示した。そこで、原点を通る近似直線の傾きを単位時間当たりの照射量として、単位時間当たりの照射量と照射時間との積を照射量とした。結果を下記表２０に示す。測定機の受光部は半径４０ｍｍ部にあることから、表２０に示す値は、半径４０ｍｍにおける測定結果を代表値として用いたものであり、ランプによっては面内強度にバラツキが生じる可能性もある。
尚、この測定機は、相対的な値を測定するもので単位は無いが、表２１では得られた数値にｍＪ／ｃｍ2という単位を付けてエネルギーに置き換えて示した。これは、ポリカーボネート製フィルムを置かずに３ｓｅｃ照射した時の積算光量が、メーカーデータ（ｍＪ／ｃｍ2の単位を持つエネルギーとして計測されている）とほぼ一致しているためである。
【０３０８】
《接着層のガラス転移温度の測定》
（１）ガラス転移温度用サンプルの調製
各紫外線硬化型組成物を、それぞれガラス基板上に塗布した後、メタルハライドランプＭ０２−Ｌ３１（アイグラフィックス社製、コールドミラー付き、ランプ出力１２０Ｗ／ｃｍ）を用いて窒素雰囲気中で表２１に示す照射量で紫外線を照射し硬化させ、測定用サンプルを調製した。
（２）ガラス転移温度（ＤＳＣ）の測定
得られた硬化塗膜のガラス転移温度を、ＳＣ／ＤＳＣにより測定した。測定結果を表２１に示す。測定方法を以下に説明する。
ＤＳＣ装置：Ｓｅｉｋｏ  Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ  Ｉｎｃ．製ＤＳＣ６２００Ｒを用いＳＵＳ製密閉セルに試料を密閉し、−１００℃〜１００℃の範囲において１０℃／分で昇温して１回目のガラス転移温度を求めた。さらに１００℃〜−１００℃まで５０℃／分で降温した後に−１００℃〜１００℃の範囲において１０℃／分で昇温して２回目のガラス転移温度を求めた。この点をガラス転移温度（ＤＳＣ）とした。
なお、ガラス転移温度測定のために、測定用サンプル中の硬化塗膜は、実施例および比較例の光情報記録媒体における接着層よりも厚く形成した。ただしガラス転移温度は膜厚の影響を受けないため、下記表２１に示す結果は、それぞれ対応する実施例、比較例の評価結果とみなすことができる。
【０３０９】
《接着層のガラス転移温度および貯蔵弾性率の測定》
（１）動的粘弾性挙動測定用サンプルの調製
紫外線硬化型組成物Ａ〜Ｅを、それぞれガラス基板上に塗布した後、メタルハライドランプＭ０２−Ｌ３１（アイグラフィックス社製、コールドミラー付き、ランプ出力１２０Ｗ／ｃｍ）を用いて窒素雰囲気中で表２０に示す照射量で紫外線を照射し硬化させ、測定用サンプル（サンプルＡ〜Ｅ）を調製した。
得られた硬化塗膜を動的粘弾性測定装置：ＤＶＡ−２００（アイティー計測制御（株））にて周波数１Ｈｚのときの動的粘弾性挙動を測定した（昇温スピード５℃／ｍｉｎ）。測定モードはせん断モードとし、３０℃のときの貯蔵弾性率および損失正接（tanδ）を求めた。測定結果を表２０に示す。
【０３１０】
【表２０】
2010033667.tif 000088
【０３１１】
《剥離強度の測定》
（１）剥離強度測定サンプルの作成
片面に、光記録媒体の作製に用いたものと同一の基板を、溝が形成された側を上向きにスピン塗布装置上に設置し、内周部３０ｍｍ付近に紫外線硬化型組成物Ａをリング状に塗布した。その上から内径１５ｍｍ、外径１２０ｍｍのポリカーボネート製フィルム（帝人ピュアエース、厚さ：９０μｍ）を載せた後に、２０００〜８０００ｒ．ｐ．ｍ．の回転数で回転させた。これによって遠心力で紫外線硬化型組成物が外周部まで延展し、均一な厚みの接着層を得ることができた。このサンプルをＵＶ光照射テーブルに移動し、ＵＶ光を照射、ＵＶ接着剤を硬化させた。このとき、硬化に用いたＵＶランプはアイグラフィックス社製M０３−０４１であり、２．１秒間照射した。紫外線照射量は、１０７７ｍＪ／ｃｍ2であった。形成された接着層の厚さは５μｍであった。
（２）剥離強度の測定
図３に示すように、サンプルのポリカーボネート製フィルムに、カッターナイフを用いて、内周から外周端まで幅１４ｍｍの切れ込みを入れた。切れ込みの深さは１００μｍ以上とし、切れ込みの左右でシートが完全に分離するようにした。切れ込みで挟まれた帯状部分の外周端から１０ｍｍのところで略１８０°折り返した。
図４に測定装置の概略を示す。粘着シートを用いてステージ上にサンプルを、切れ込み及び折り返し部が可動部から遠い側となるように水平に固定した。図５に示すようにシート折り返し部とサンプルの間に、セロハンテープを粘着面を上側に向け挿しこみ折り返し部と十分に密着させた。セロハンテープのもう一方の端部はロードセル（ミネベア株式会社製  ＵＴ−１Ｋ）に接続したフックに巻きつけた。その状態でモーターを動作させ、ねじ山付き回転軸を回転させることにより、可動部に接している回転軸の端部を矢印方向に移動させ、可動部およびそれに取り付けたロードセルをサンプルと正反対の方向に、１４ｍｍ／ｓeｃの速度にて水平に移動させた。移動は切れ込みを入れた幅１４ｍｍの帯状の部分が完全にポリカーボネート基板から剥離するまで行い、その間にロードセルによって測定した荷重の最大値をサンプルの剥離強度とした。
【０３１２】
《透過率の測定》
剥離強度測定サンプルと同一の構成、方法でサンプルを作製し、分光光度計ＥＴＡ−ＲＴ（ＳＴＥＡＧ  ＥＴＡ−Ｏｐｔｉｋ  ＧｍｂＨ製）にて半径４０ｍｍ、入射光波長４０５ｎｍにて透過率（入射光強度を１とした場合の、透過した光の比強度）を測定した。
【０３１３】
《記録特性の評価》
作製した光情報記録媒体を、４０３ｎｍレーザー、ＮＡ０．８５ピックアップを積んだ記録再生評価機（パルステック社製：ＤＤＵ１０００）を用い、クロック周波数６６ＭＨｚ、線速４．９２ｍ／ｓにて、０．１６μｍの信号（２Ｔ）を記録、再生しスペクトルアナライザー（ローデ＆シュウハ゛ルツ社製ＦＳＰ−３型）にて出力を測定した。記録後の１６ＭＨｚ付近に見られるピークの出力をＣａｒｒｉｅｒ出力、記録前の同周波数の出力をＮｏｉｓｅ出力として、記録後の出力−記録前の出力をＣ／Ｎ値とした。記録はグルーブ上に行った。また記録パワーは１〜８ｍＷの範囲で行い、再生パワー０．３ｍＷであった。表２１中、記録パワーが６ｍＷ時のＣ／Ｎ値が３５ｄＢより大きい場合を実用上使用できるレベル「○」とし、３５ｄＢ未満の場合を「×」とした。
以上の結果を表２１および表２２に示す。
【０３１４】
【表２１】
2010033667.tif 000089
【０３１５】
表２１に示すように、実施例１〜８では１分子内に少なくとも２個の(メタ)アクリロイル基を有する共役ジエン重合体を含む紫外線硬化型組成物から−２５℃以下のガラス転移温度を有する中間層を形成することができた。実施例１〜４について剥離強度と透過率を測定したところ、いずれも良好であった。また、実施例１〜８において使用した紫外線硬化型組成物は、いずれも塗布適性は良好であった。
これに対し、比較例２および３では、中間層のガラス転移温度は−２５℃以下であったが、実施例１〜４と比べ剥離強度が低い結果となった。１分子内に少なくとも２個の(メタ)アクリロイル基を有する共役ジエン重合体を含む紫外線硬化型組成物を使用することにより、剥離強度を大きく低下させることなく、ガラス転移温度を大きく低下させることが可能になったものと考えられる。なお、比較例１については後述する。
【０３１６】
【表２２】
2010033667.tif 000090
【０３１７】
表２２に示すように、実施例１〜４、９の光情報記録媒体は、良好な記録特性を示した。
これに対し、比較例１の光情報記録媒体は、表２１に示すように剥離強度および透過率は実施例１〜４と同等であったものの、表２２に示すように良好な記録特性を得ることはできなかった。これは、中間層のガラス転移温度が−２５℃超であったことに起因すると考えられる。
【産業上の利用可能性】
【０３１８】
本発明の光情報記録媒体は、短波長レーザー光を照射することにより情報を記録するためのブルーレイ方式の光情報記録媒体として好適である。
【図面の簡単な説明】
【０３１９】
【図１】本発明の光情報記録媒体の一例を示す概略断面図である。
【図２】熱質量分析での主減量過程における質量減少率の測定方法の説明図である。
【図３】剥離強度測定サンプルの概略図である。
【図４】剥離強度測定装置の概略図である。
【図５】剥離強度測定サンプルの概略図である。
【符号の説明】
【０３２０】
１０Ａ…第１光情報記録媒体
１２…基板
１４…記録層
１６…カバー層
１８…光反射層
２０…バリア層
２２…中間層
４２…第一対物レンズ
４４…ハードコート層
４６…レーザー光
【図１】
2010033667.tif 000091
【図２】
2010033667.tif 000092
【図３】
2010033667.tif 000093
【図４】
2010033667.tif 000094
【図５】
2010033667.tif 000095