(57)【要約】【課題】大画面化、高精細化に適するプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）を提供することを目的とする。【解決手段】前面パネルの誘電体層上に下地膜を形成し、その後、ダイヘッドを用いたコーティング法により、金属酸化物の結晶粒子９２ａを揮発性溶媒に分散させたインク液２１をこの下地膜上に塗布することで、前記下地膜上に結晶粒子９２ａを付着させた保護層を形成する工程を備え、ダイヘッド２０は、インク液２１をダイヘッド２０外部に吐出させる開口２２を有するスリット２３と、このスリット２３と連通しスリット２３にインク液２１を供給するマニホールド２４とを備え、待機期間では、開口２２を略鉛直上方に向け、且つスリット２３の開口２２からインク液２１が吐出しないようにし、その状態で、マニホールド２４内のインク液２１が入れ替わるようにインク液２１を循環させる。【選択図】図１０
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
前面パネルと背面パネルとが放電空間を挟んで対向配置され、前記前面パネルは、前記放電空間に面する側に、走査電極及び維持電極からなる表示電極と誘電体層と保護層とが順次積層され、前記背面パネルには、前記表示電極と前記放電空間を隔てて交差するアドレス電極が配され、前記交差する箇所に放電セルが形成されてなるプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、
前記誘電体層上に下地膜を形成し、その後、ダイヘッドを用いたコーティング法により、金属酸化物の結晶粒子を揮発性溶媒に分散させたインク液をこの下地膜上に塗布することで、前記下地膜上に前記結晶粒子を付着させた構成の保護層を形成する工程を備え、
前記ダイヘッドは、前記インク液をダイヘッド外部に吐出させる開口を有するスリットと、このスリットと連通しスリットにインク液を供給するマニホールドとを備え、
塗布をしていない待機期間では、スリットの開口を略鉛直上方に向け、且つ前記スリットの開口からインク液が吐出しないようにし、その状態で、マニホールド内の前記インク液が入れ替わるようにインク液を循環させることを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示デバイスであるプラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰともいう）の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、大画面で薄型軽量化を実現することのできるＰＤＰが注目されている。
【０００３】
このＰＤＰには、ＤＣ（直流）型とＡＣ（交流）型とがあり、信頼性、画質など様々な面でＡＣ型が優れているため、現在のＰＤＰの主流はＡＣ型となっている。
【０００４】
ＰＤＰは、前面パネルと背面パネルとで放電空間を挟んだ構造となっている。
【０００５】
前面パネルには、ガラス基板の主面に、走査電極と維持電極との対による表示電極と、この表示電極を覆うように誘電体層と、さらにその誘電体層を覆うように保護層と、が形成されている。
【０００６】
一方、背面パネルには、ガラス基板の主面に、アドレス電極と、このアドレス電極を覆うように誘電体層と、この誘電体層上にアドレス電極を挟む位置関係に隔壁が形成されている。そして、隔壁間には蛍光体層が塗布されている。
【０００７】
そして、以上のように作製された前面パネルと背面パネルとは、その電極形成面側を対向させて設置され、その周辺部をフリットガラス等で封着され、内部に、例えばＮｅ−Ｘｅの放電ガスを４００Ｔｏｒｒ〜６００Ｔｏｒｒの圧力で封入することでＰＤＰが形成される。
【０００８】
ここで近年、テレビは高精細化が進んでおり、市場では低コスト・低消費電力・高輝度のフルＨＤ（ハイ・デフィニション（１９２０×１０８０画素）：プログレッシブ表示）ＰＤＰが要求されており、このような要求を満足するため、アドレス放電を発生させるための初期電子の放出特性を改善するため、保護層として、前面パネルの誘電体層上に、例えばＭｇＯによる下地膜を形成するとともに、この下地膜上に、金属酸化物である例えばＭｇＯの結晶粒子を、ほぼ均一に分布するように付着させた構成が提案されている（例えば、特許文献１、２参照）。
【特許文献１】国際公開第２００４／０４９３７５号パンフレット
【特許文献２】特開２００８−１６２１４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
ところで、金属酸化物の結晶粒子（以下、結晶粒子と略記する）を下地膜上に散布する方法としては、スプレーガンを用いたスプレー法により、結晶粒子を溶液に分散させたインクを下地膜上に吹き付けることで散布する、という方法が知られている。
【００１０】
しかしながらスプレーガンを用いたスプレー法は、吐出量や飛散方向のバラツキにより、下地膜上における結晶粒子の分布状態、すなわち、結晶粒子による下地膜の被覆率が均一とはならずに面内バラツキが発生してしまうという課題がある。
【００１１】
このような場合、ＰＤＰの各放電セルにおける被覆率がばらついてしまい、放電制御が困難となってしまう。また、必要エリア外にもインクが飛散する為、インクの使用効率が低いなどの課題もある。
【００１２】
本発明はこのような現状に鑑みなされたものであり、金属酸化物の結晶粒子が良好に散布された構成の保護膜を備えるＰＤＰの製造方法を提供し、もって、良好な画像表示が可能なＰＤＰを実現することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
上記目的を実現するために本発明のＰＤＰの製造方法は、前面パネルと背面パネルとが放電空間を挟んで対向配置され、前記前面パネルは、前記放電空間に面する側に、走査電極及び維持電極からなる表示電極と誘電体層と保護層とが順次積層され、前記背面パネルには、前記表示電極と前記放電空間を隔てて交差するアドレス電極が配され、前記交差する箇所に放電セルが形成されてなるＰＤＰの製造方法であって、前記誘電体層上に下地膜を形成し、その後、ダイヘッドを用いたコーティング法により、金属酸化物の結晶粒子を揮発性溶媒に分散させたインク液をこの下地膜上に塗布することで、前記下地膜上に前記結晶粒子を付着させた構成の保護層を形成する工程を備え、前記ダイヘッドは、前記インク液をダイヘッド外部に吐出させる開口を有するスリットと、このスリットと連通しスリットにインク液を供給するマニホールドとを備え、塗布をしていない期間は、スリットの開口を略鉛直上方に向け、且つ前記スリットの開口からインク液が吐出しないようにし、その状態で、マニホールド内の前記インク液が入れ替わるようにインク液を循環させることを特徴とするものである。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、金属酸化物の結晶粒子が良好に散布された構成の保護膜を備えたＰＤＰの製造方法が提供でき、その結果、良好な画像表示が可能なＰＤＰを実現することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、本発明の一実施の形態によるＰＤＰの製造方法について図を用いて説明するが、本発明の実施の態様はこれに限定されるものではない。
【００１６】
図１は、本発明の一実施の形態によるＰＤＰの製造方法により製造されるＰＤＰの概略構造を示す断面斜視図である。ＰＤＰ１は、前面ガラス基板３などを備える前面パネル２と、背面ガラス基板１１などを備える背面パネル１０とが対向して配置され、その外周部をガラスフリットなど、封着材によって気密封着して構成されている。封着されたＰＤＰ１内部の放電空間１６には、ネオン（Ｎｅ）およびキセノン（Ｘｅ）などの放電ガスが４００Ｔｏｒｒ〜６００Ｔｏｒｒの圧力で封入されている。
【００１７】
前面パネル２の前面ガラス基板３上には、走査電極４および維持電極５よりなる一対の表示電極６と遮光層７とが互いに平行にそれぞれ複数列配置されている。前面ガラス基板３上には表示電極６と遮光層７とを覆うようにコンデンサとしての働きをする誘電体層８が形成され、さらにその表面に保護層９が形成されている。
【００１８】
図２は、本発明の一実施の形態によるＰＤＰの製造方法により製造されるＰＤＰにおける前面パネル２の概略構成を示す断面図である。
【００１９】
保護層９は、前記誘電体層８（図２においては、一例として２層構造で示しているが、特に制限されるものではない）上に、例えばＡｌを不純物として含有するＭｇＯからなる下地膜９１を形成し、その下地膜９１上に、金属酸化物である例えばＭｇＯの結晶粒子９２ａが複数個凝集した凝集粒子９２を離散的、且つ、全面に亘ってほぼ均一に分布するように付着させた構成となっている。
【００２０】
ここで、凝集粒子９２とは、図３に模式的に示すように、所定の一次粒径の結晶粒子９２ａが凝集またはネッキングした状態のもので、固体として大きな結合力を持って結合しているのではなく、静電気やファンデルワールス力などによって複数の一次粒子が集合体の体をなしているもので、超音波などの外的刺激により、その一部または全部が一次粒子の状態になる程度で結合しているものである。凝集粒子９２の粒径としては、約１μｍ程度のもので、結晶粒子９２ａとしては、１４面体や１２面体などの７面以上の面を持つ多面体形状を有するのが望ましい。
【００２１】
この結晶粒子９２ａの一次粒子の粒径は、結晶粒子９２ａの生成条件によって制御できる。例えば、結晶粒子９２ａとしてＭｇＯ結晶粒子とし、これを炭酸マグネシウムや水酸化マグネシウムなどのＭｇＯ前駆体を焼成して生成するという場合、焼成温度や焼成雰囲気を制御することで、粒径を制御できる。一般的に、焼成温度は７００℃程度から１５００℃程度の範囲で選択できるが、焼成温度が比較的高い１０００℃以上にすることで、一次粒径を０．３〜２μｍ程度に制御可能である。さらに、結晶粒子９２ａをＭｇＯ前駆体を加熱することによって得ることにより、生成過程において、複数個の一次粒子同士が凝集またはネッキングと呼ばれる現象により結合した凝集粒子９２を得ることができる。
【００２２】
上述したような構成の保護層９は、結晶粒子９２ａを揮発性溶媒に分散させたインク液２１を、ダイヘッドを用いたコーティング法により下地膜９１上に均一に塗布し、その後、乾燥することにより得ることができる。
【００２３】
図４は、本発明の一実施の形態によるＰＤＰの製造方法における保護膜９の形成の際に用いられるダイヘッドの概略構成を模式的に示す斜視図であり、図５は、ダイヘッドを図４におけるＡ−Ａ矢視断面図で示した、塗布状態を模式的に示す図であり、また図６は、ダイヘッドを図４におけるＢ−Ｂ矢視断面図で示した、塗布装置の概略構成を模式的に示す図である。なお、図４〜図６においては、同じ構成要素については同じ符号を付している。
【００２４】
ダイヘッド２０は、インク液２１をダイヘッド２０外部に吐出させる吐出口である開口２２を有するスリット２３と、このスリット２３と連通しスリット２３にインク液２１を供給するマニホールド２４とを備えている。
【００２５】
また、マニホールド２４内にインク液２１を供給するインク液供給配管２５と、マニホールド２４内からのインク液２１をタンク３０に戻すインク液還流配管２６とがそれぞれ、マニホールド２４の端部に接続されている。
【００２６】
そして、インク液２１がマニホールド２４からスリット２３へ流れ込む際の抵抗によって長手方向（塗布幅方向）の吐出圧力が一定に保たれることで、インク液２１の塗布膜厚が均質になる様、マニホールド２４、スリット２３などの寸法が最適設計されている。
【００２７】
また、マニホールド２４の内径とインク液供給配管２５の内径とインク液還流配管２６の内径とは、それぞれ略同一径であると、マニホールド２４と上記配管との間の接続部分においてインク液２１の滞留や気泡溜りの発生が大幅に抑制されるので、好ましい。
【００２８】
インク液２１は、タンク３０内に蓄えられ、回転翼３１によって常に撹拌されている。また、タンク３０は下部が漏斗形状となっており、このような形状とすることで、インク液２１のタンク３０内での澱み点がなくなり、加えて、澱み点がなくなることから、タンク３０内でのインク液２１の撹拌も効果的になり、もって、インク液２１中の結晶粒子（図示せず）がタンク３０内で沈降・堆積してしまうということを大幅に抑制することが可能となる。
【００２９】
そして、この漏斗形状を有するタンク３０の底部から出たインク液２１は、配管３２を介して、循環ポンプ３３、粒子濃度計３４、塗布ポンプ前バルブ３５、塗布ポンプ３６を経由し、さらに、供給側バルブ３７とインク液供給配管２５とを介してダイヘッド２０内のマニホールド２４に供給される。
【００３０】
マニホールド２４に供給されたインク液２１は、その一つの流れとして、供給側バルブ３７を開き、還流側バルブ３８は閉じることで、マニホールド２４と連通したスリット２３に供給され、開口２２からダイヘッド２０外部に吐出される。
【００３１】
また、マニホールド２４に供給されたインク液２１のもう一つの流れとして、開口２２をシールした状態とし、且つ、供給側バルブ３７、還流側バルブ３８を共に開いた状態とすることで、インク液還流配管２６、還流側バルブ３８、配管３２を介して、再びタンク３０に戻る、というものである。ここで、タンク３０に戻る際の戻り口３９は、タンク３０に蓄えられるインク液２１の液面より低い位置となるように設けられている。循環によりタンク３０に戻ってくるインク液２１は、このような位置に設けられた戻り口３９を介してタンク３０に蓄えられたインク液２１に戻ることで、タンク３０に戻る際にインク液２１中に気泡を巻き込まないようにしている。
【００３２】
なお、タンク３０から出発して、配管３２、インク液供給配管２５、マニホールド２４、インク液還流配管２６、配管３２を介してタンク３０に戻る経路を、以降、「系」と呼ぶ。
【００３３】
また、循環ポンプ３３は、連続で一定流量の送液ができるマグネットポンプなどを用いることが好ましい。また、塗布ポンプ３６には、一定流速・一定容積の送液ができるシリンジポンプやＣＴポンプを用いることが可能であるが、気泡溜りや液滞留が発生しないＣＴポンプを用いることが好ましい。
【００３４】
次に、インク液２１の塗布時の動作について以下に説明する。まず、供給側バルブ３７、還流側バルブ３８を共に閉じ、塗布ポンプ前バルブ３５を開にし、塗布ポンプ３６の吸引を行う。この際、塗布ポンプ３６の吸引を補助するために、循環ポンプ３３でゆっくり送液を行う。次いで、塗布ポンプ前バルブ３５を閉じ、供給側バルブ３７は開き、還流側バルブ３８は閉じたままとして、塗布ポンプ３６で所定の流速で送液を行う。以上により、マニホールド２４へ送り込まれたインク液２１は、マニホールド２４から幅数十μｍから百数十μｍのスリット２３を通って、開口２２から前面パネル２の下地膜９１上に向かって吐出される。そしてこの状態で、前面パネル２と開口２２との相対位置を変化させる、例えば、前面パネル２を搬送し開口２２の前を通過させることで、下地膜９１上に数μｍから十数μｍの所定の厚さにインク液２１の膜を塗布する。
【００３５】
そして上述のようにしてインク液２１の膜を形成した前面パネル２を、真空乾燥装置に投入し、数Ｐａにまで減圧することによって揮発性溶媒成分を急速かつ完全に除去することで、下地膜９１の上に、均質に、すなわち、各放電セル毎で被覆率がほぼ均一となるように凝集粒子９２が散布された構成の保護層９が完成する。
【００３６】
ここでインク液２１は、金属酸化物の結晶粒子を、樹脂バインダーを含まない、揮発性溶媒に分散させたものであり、インク液２１をこのように構成することで、保護層９の形成工程においては、焼成工程をなくすことが可能となり、また乾燥工程も、長い炉長を必要とする熱乾燥ではなく真空乾燥炉を採用することが可能となる。
【００３７】
一方、インク液２１は、常温・真空での乾燥で除去することができない樹脂バインダや添加剤は用いておらず、また、揮発性溶媒としても、低沸点・高蒸気圧のものに限ったものとしていることから、時間とともにインク液２１中に分散された結晶粒子が沈降しやすい、という性質を有するものとなっている。
【００３８】
このような性質は、ダイコートを用いたコーティング法により塗布する際に、インク液２１中に分散させた結晶粒子の分散状態が不均一となりやすく、したがって、塗布したインク液２１により形成される膜の均質性、すなわち、膜中の結晶粒子の分散の均質性が損なわれてしまうという不具合の原因となるばかりでなく、長時間、インク液を塗布しない状態が続くと、例えば、図７に概略的に断面図で示すように、結晶粒子９２ａが沈降した結果、スリット２３内に堆積してしまい、スリット２３が目詰まりを起こしてしまう、という不具合の原因にもなってしまう場合がある。
【００３９】
そこで、本発明の一実施の形態によるＰＤＰの製造方法においては、以下のように構成することで、インク液２１中に分散されている結晶粒子が容易には沈降しないようにしている。
【００４０】
すなわちまず、結晶粒子は、沈降抑制のためには粒子サイズは小さい方が好ましく、そこで、放電特性との兼ね合いから、平均粒径を０．９μｍ〜２μｍとしている。
【００４１】
また、沈降抑制のためにはインク液２１の粘度は高い方が好ましく、そこで、塗布安定性との兼ね合いから、数ｍＰａＳ〜数十ｍＰａＳとしている。
【００４２】
また、結晶粒子沈降抑制のためには、インク液２１は、常に一定以上の流速で流動撹拌され続けられていることが望ましい。そこで、タンク３０内に蓄えられているインク液２１は、回転翼３１により常に撹拌されるようにしている。
【００４３】
一方、配管３２やマニホールド２４など、系内のインク液２１は撹拌することができないため、時間の経過と共に結晶粒子は徐々に沈降してしまう。
【００４４】
そこで、配管３２やマニホールド２４など、系内のインク液２１に対しては、所定の時間間隔で循環させることで新規にインク液を入れ替え、もって、結晶粒子の沈降のない、分散の均質性が維持された状態を実現するようにしている。
【００４５】
具体的には、スリット２３の開口２２をシールし、各バルブ３５、３７、３８を開放状態とすることで、タンク３０から、配管３２−マニホールド２４−配管３２を介してタンク３０に戻る系を閉回路状態にした上で、循環ポンプ３３で系内のインク液２１を、インク液２１の結晶粒子に沈降が発生し塗布する膜の均質性が問題となる状態になる前に、総入れ替えのための循環を行う、という動作である。
【００４６】
以上の動作により、配管３２、マニホールド２４など、系内のインク液２１は、概略的に、図８（ａ）にダイヘッドの断面図として示すように、インク液２１の結晶粒子に沈降が発生し塗布する膜の均質性が問題となる状態になってしまう前に総入れ替えされることとなるので、系内のインク液２１の結晶粒子の分散均一性は、概略的に図８（ｂ）に示すように、膜の均質性が問題とならない程度に保たれた状態となり、もって、インク液２１により形成される膜の均質性を確保することが可能となる。
【００４７】
ここで、上述したような、系内のインク液２１を循環により総入れ替えしようとすると、頻繁に循環を行うことが必要となる場合があり、そのような動作が問題となる場合がある。
【００４８】
ところが、「循環」の時間間隔を大きくすると、結晶粒子の沈降・堆積が発生してしまい、図７に示すような状態に結晶粒子が堆積してしまうと、上述したような「循環」を行ったとしても、図９に示すように、マニホールド２４部分内に堆積した結晶粒子は除去した状態とすることができても、スリット２３内の堆積した結晶粒子は、上述の「循環」の際のインク液２１の流れでは、除去することは容易ではない。さらには、スリット２３内においては揮発性溶媒が揮発しやすく、その結果、スリット２３内に沈降・堆積した結晶粒子は、揮発性溶媒が揮発してしまって乾燥してしまい、強固な状態の堆積となってしまい、目詰まりの原因となってしまう場合がある。
【００４９】
そこで、頻繁に循環を行うという動作が問題となり、「循環」の時間間隔を大きくせざるを得ない場合には、次に述べるような動作とする。
【００５０】
すなわち、前述した「循環」に加えて、スリット２３内に沈降・堆積した結晶粒子が強固な状態の堆積とならないうちに、すなわち、揮発性溶媒が揮発してしまわないうちに、塗布を行わない待機中においても、所定の時間間隔で、通常の塗布時のように開口２２からインク液２１を「ダミー」で吐出させる。このような「循環」と「ダミー吐出」とを組み合わせた動作により、マニホールド２４内およびスリット２３内に沈降・堆積した結晶粒子の除去を行うことが可能となる。
【００５１】
すなわち、「循環」と「ダミー吐出」とを組み合わせた動作により、循環を頻繁に行わなくても、スリット２３での目詰まりを発生させることなく、配管３２、マニホールド２４内のインク液２１における結晶粒子の分散均一性を保ち、もって、インク液２１により形成される膜の均質性の確保することが可能となる。
【００５２】
ここで、上述した「ダミー吐出」は、スリット２３内において沈降・堆積した結晶粒子が強固な状態の堆積とならない時間間隔（頻度）で行う必要があり、インク液２１の塗布を行わない待機時間が長くなればなるほど、ダミー吐出の回数は増えることとなり、一方、ダミーで吐出されるインク液は無駄となるため、当然ながら、待機時間が長くなればなるほど、無駄となってしまうインク液２１の量が増えることとなり、問題となる場合がある。
【００５３】
そこでこのような場合には、塗布をせずに待機している期間は、スリット２３の開口２２を略鉛直上方に向け、且つこの開口２２からインク液が吐出しないよう、例えばシリコーンゴムなどで塞ぐなどすることでシールし、この状態で、マニホールド２４や配管２３などの系内のインク液２１が総入れ替えとなるように、「循環」を行う。
【００５４】
上記のような動作とすることで、塗布せずに待機している期間、スリット２３の開口２２を略鉛直方向上方に向けた状態であると、図１０に概略的に断面図で示すように、沈降する結晶粒子９２ａは、マニホールド２４の内底面に堆積するのみで、スリット２３内には沈降・堆積せず、且つ、マニホールド２４内の揮発性溶媒は容易には揮発しないので、マニホールド２４内に堆積した結晶粒子９２ａは強固な状態の堆積とはならず、したがって、スリット２３内のインク液をダミーで吐出させるという無駄をすることなく、且つリフレッシュの循環を任意のタイミングで行うことのみで、沈降・堆積した結晶粒子９２ａの除去が可能となるので、系内のインク液２１における結晶粒子の分散均一性が保たれ、もって、インク液２１により形成される膜の均質性の確保が可能となる。
【００５５】
すなわち以上より、例えば、基板搬入待ちなど、系内のインク液における結晶粒子の沈降が膜の均質性に影響を与えない程度の、比較的短時間の待機状態が発生する場合には、系内のインク液のリフレッシュのための「循環」のみとし、待機時間が、系内のインク液における結晶粒子の沈降・堆積が発生するが、「ダミー吐出」動作が許容される程度である場合には、「循環」と「ダミー吐出」との組み合わせとし、待機時間が非常に長時間にわたり、「ダミー吐出」の動作が頻繁となり、ダミー吐出により無駄に消費されるインク液の量が許容されない場合には、スリットの開口を略上方に向け且つ前記スリットの開口からインク液が吐出しないようにシールし、その状態でマニホールド内の前記インク液が入れ替わるようにインク液を循環させる、という動作としても良く、また、待機中は常に、スリットの開口を略上方に向け且つ前記スリットの開口からインク液が吐出しないようにシールし、その状態でマニホールド内の前記インク液が入れ替わるようにインク液を循環させる、という動作としても良い。
【００５６】
なお以上において、除去された、配管・ダイヘッド内において沈降・堆積した結晶粒子は、再びタンクへ戻され、新たにタンクから系内には、均質に結晶粒子が分布したインク液が供給されるため、均一な塗布を継続して行うことが可能になる。また、タンクへ戻された結晶粒子は、撹拌翼により再びインク液中に均質に分散される。
【００５７】
また、略鉛直方向上方とは、厳密に鉛直方向上方のみに限るものではないことを意味し、本発明の主旨からすると、マニホールド内のインク液の結晶粒子が沈降・堆積してもスリット内に沈降・堆積しない程度に、例えば図１１に示すように、スリット２３の向きを傾けるというものであれば十分である。
【００５８】
また、図６には、マニホールドと配管とは、マニホールド２４の端部にそれぞれ接続された、マニホールド２４内にインク液２１を供給するインク液供給配管２５と、マニホールド２４内からのインク液２１をタンク３０に戻すためのインク液還流配管２６とを介した構成を示したが特にこれに限るものではなく、例えば図１２に示すように、マニホールド２４に対して、その略中央部にインク液供給配管２５を設け、また、マニホールド２４の両端にはインク液還流配管２６を設けた構成であっても構わない。
【００５９】
また、上述した、系内のリフレッシュのための循環動作時には、ダイヘッドに超音波振動を与えるとか、循環の流速を図１３に示すようにパルス状に変化させるという動作を加えれば、系内に沈降堆積した結晶粒子を除去することに対して効果的であり好ましい。
【産業上の利用可能性】
【００６０】
以上のように本発明は、大画面、高精細のプラズマディスプレイ装置を提供する上で有用な発明である。
【図面の簡単な説明】
【００６１】
【図１】本発明の一実施の形態によるＰＤＰの製造方法により製造されるＰＤＰの概略構造を示す断面斜視図
【図２】本発明の一実施の形態によるＰＤＰの製造方法により製造されるＰＤＰにおける前面パネルの概略構成を示す断面図
【図３】凝集粒子を模式的に示す図
【図４】本発明の一実施の形態によるＰＤＰの製造方法における保護膜の形成の際に用いられるダイヘッドの概略構成を模式的に示す斜視図
【図５】本発明の一実施の形態によるＰＤＰの製造方法における保護膜の塗布状態を模式的に示す図
【図６】本発明の一実施の形態によるＰＤＰの製造方法における保護膜の塗布装置の概略構成を模式的に示す図
【図７】ダイヘッド内において沈降した結晶粒子の状態を概略的に示す断面図
【図８】ダイヘッド内でのインク液の状態を概略的に示す断面図
【図９】ダイヘッド内において沈降した結晶粒子の状態を概略的に示す断面図
【図１０】ダイヘッド内において沈降した結晶粒子の状態を概略的に示す断面図
【図１１】ダイヘッドのスリットの傾きの一例を概略的に示す断面図
【図１２】本発明の他の実施の形態によるＰＤＰの製造方法における保護膜の塗布装置の概略構成を模式的に示す図
【図１３】循環の流速の変化の状態の一例を示す図
【符号の説明】
【００６２】
２０  ダイヘッド
２１  インク液
２２  開口
２３  スリット
２４  マニホールド
９２ａ  結晶粒子
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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