(57)【要約】      （修正有）【課題】ＲＦフィードバック信号に対するプラズマ室からの歪の影響を最小にする。【解決手段】無線周波数（ＲＦ）システムはＭ個の予め定められた周波数インターバルを割当てる制御モジュールを含んでいる。システムはさらにＭ個の予め定められた周波数インターバルの割当てられたそれぞれ１つの周波数インターバル内の周波数でプラズマ室内の電極へ第１のＲＦ電力をそれぞれ与える。Ｎ個のＲＦソースはプラズマ室からのフィードバックを含んでいる第２のＲＦ電力にそれぞれ応答する。Ｎ個のＲＦソースは第２のＲＦ電力とＭ個の予め定められた周波数インターバルのそれぞれの１つに基づいて、第１のＲＦ電力を調節する処理モジュールをそれぞれ含んでいる。ＭとＮは１よりも大きい整数である。【選択図】図３Ａ
2010219026.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
無線周波数（ＲＦ）システムにおいて、
Ｍ個の予め定められた周波数インターバルを割当てる制御モジュールと、
Ｍ個の予め定められた周波数インターバルの割当てられたそれぞれ１つの周波数インターバル内の周波数でプラズマ室内の電極へ第１のＲＦ電力をそれぞれ供給し、プラズマ室からのフィードバックを含んでいる第２のＲＦ電力にそれぞれ応答するＮ個のＲＦソースとを具備しており、
Ｎ個のＲＦソースは第２のＲＦ電力とＭ個の予め定められた周波数インターバルのそれぞれの１つに基づいて第１のＲＦ電力を調節する処理モジュールをそれぞれ含んでおり、ＭとＮは１よりも大きい整数であるＲＦシステム。
【請求項２】
Ｍ個の予め定められた周波数インターバルのうちＬがオーバーラップし、ここでＬは１よりも大きい整数である請求項１記載のＲＦシステム。
【請求項３】
制御モジュールはＭ個の予め定められた周波数インターバルのうちＬのメンバーを、近傍ではない１つの電極と通信するＮ個のＲＦソースのメンバーに割当てる請求項２記載のＲＦシステム。
【請求項４】
Ｍ個の予め定められた周波数インターバルのうちＪは同じ予め定められた周波数インターバルに対応し、Ｊは１以上の整数である請求項１記載のＲＦシステム。
【請求項５】
Ｍ個の予め定められた周波数インターバルはそれぞれ整合した長さであり、Ｍ個の予め定められた周波数インターバルはオーバーラップせず、Ｍ＝Ｎである請求項１記載のＲＦシステム。
【請求項６】
Ｍ個の予め定められた周波数インターバルのうちＯはそれぞれ整合した長さであり、Ｍ個の予め定められた周波数インターバルのうちＰはそれぞれ異なる長さであり、ＯとＰはそれぞれ１以上の整数である請求項１記載のＲＦシステム。
【請求項７】
Ｎ個のＲＦソースはそれぞれ第１のＲＦ電力と第２のＲＦ電力が処理モジュールで処理される前に、第１のＲＦ電力と第２のＲＦ電力の干渉成分を濾波する狭帯域フィルタを含んでいる請求項１記載のＲＦシステム。
【請求項８】
さらに、それぞれＮ個のＲＦソースと通信するＮ個の整合ネットワークを具備している請求項１記載のＲＦシステム。
【請求項９】
さらに、プラズマ室と、
Ｎ個のＲＦソースとプラズマ室との間に挿入され、Ｎ個の整合ネットワークの素子の設定点を制御するＮ個のＲＦソースのそれぞれの処理モジュールからの信号に基づいて、Ｎ個のＲＦソースとプラズマ室との間のインピーダンスを整合させるＮ個の整合ネットワークを具備している請求項１記載のＲＦシステム。
【請求項１０】
さらに、Ｎ個の整合ネットワークとプラズマ室との間に位置され、プラズマ室からの第２のＲＦ電力を感知するＮ個のセンサを具備している請求項９記載のＲＦシステム。
【請求項１１】
制御モジュールはさらにＮ個のセンサからの信号に基づいて、１以上のＲＦソースの周波数の位相を選択的に提供する位相モジュールを具備している請求項１０記載のＲＦシステム。
【請求項１２】
Ｎ個のＲＦソースの処理モジュールはそれぞれ、擬似ランダム変調方式と複素周波数変調方式の少なくとも一方に基づいて、Ｎ個のＲＦソースのそれぞれ１つによって出力されたＲＦ電力の周波数を変調する変調モジュールを含んでいる請求項１記載のＲＦシステム。
【請求項１３】
変調モジュールは周波数シフトキーイング（ＦＳＫ）、位相シフトキーイング（ＰＳＫ）、直角位相シフトキーイング（ＱＰＳＫ）、周波数ホッピングおよび高速度周波数掃引の少なくとも１つを用いて周波数を変調する請求項１２記載のＲＦシステム。
【請求項１４】
制御モジュールはＭ個の予め定められた周波数インターバルのうちの１つを共有するＮ個のＲＦソースのメンバーのＲＦ電力出力パルスを同期する請求項１記載のＲＦシステム。
【請求項１５】
無線周波数（ＲＦ）システムにおいて、
Ｍ個の予め定められた周波数インターバルを割当てる制御モジュールと、
負荷中の第１の電極に転送される第１の電力と、負荷から反射される第１のフィードバックと、Ｍ個の予め定められた周波数インターバルの割当てられた第１のものとに基づいて、転送された負荷電力の第１の設定点を第１の周波数に維持する第１の同調可能なＲＦソースと、
負荷中の第２の電極に転送される第２の電力と、負荷から反射される第２のフィードバックと、Ｍ個の予め定められた周波数インターバルの割当てられた第２のものとに基づいて、転送された負荷電力の第２の設定点を第２の周波数に維持する第２の同調可能なＲＦソースとを具備しており、
Ｍは１よりも大きい整数であるＲＦシステム。
【請求項１６】
Ｍ個の予め定められた周波数インターバルの第１および第２のものはオーバーラップし、第１の電極は負荷内の第２の電極と近接していない請求項１５記載のＲＦシステム。
【請求項１７】
Ｍ個の予め定められた周波数インターバルはそれぞれ釣り合った長さであり、Ｍ個の予め定められた周波数インターバルはオーバーラップせず、Ｍ＝Ｎである請求項１５記載のＲＦシステム。
【請求項１８】
第３の同調可能なＲＦソースは、負荷中の第３の電極に転送される第３の電力と、負荷からの第３のフィードバックと、Ｍ個の予め定められた周波数インターバルの第３のものに基づいて、転送された負荷電力の第３の設定点を第３の周波数に維持する請求項１５記載のＲＦシステム。
【請求項１９】
Ｍ個の予め定められた周波数インターバルの第１および第３のものは整合した予め定められた周波数インターバルに対応し、Ｍ個の予め定められた周波数インターバルの第１および第２のものは異なるインターバルに対応し、第１および第３の電極は近接していない電極であり、第１の電極は負荷内の第２の電極と近接している請求項１８記載のＲＦシステム。
【請求項２０】
Ｍ個の予め定められた周波数インターバルのうちＯはそれぞれ整合した長さであり、Ｍ個の予め定められた周波数インターバルのうちＰはそれぞれ異なる長さであり、ＯとＰは１以上の整数である請求項１５記載のＲＦシステム。
【請求項２１】
第１の同調可能なＲＦソースは第２の同調可能なＲＦソースからの第２の電力により生じる負荷から反射された第１のフィードバック内の干渉成分を濾波する狭帯域フィルタを含んでいる請求項１５記載のＲＦシステム。
【請求項２２】
さらに、第１の同調可能なＲＦソースおよび負荷と通信する第１の整合ネットワークと、第２の同調可能なＲＦソースおよび負荷と通信する第２の整合ネットワークとを具備している請求項１５記載のＲＦシステム。
【請求項２３】
第１の整合ネットワークは、第１の整合ネットワークの素子の設定点を制御する第１の同調可能なＲＦソースからの信号に基づいて、第１の同調可能なＲＦソースと負荷との間のインピーダンスを整合させる請求項１５記載のＲＦシステム。
【請求項２４】
さらに、第１の整合ネットワークと負荷との間に位置され、第１および第２のＲＦ電力を感知するセンサを具備し、制御モジュールはさらにセンサからの信号に基づいて第１と第２の同調可能なＲＦソースの１以上の周波数の位相を選択的に提供する位相モジュールを具備している請求項２３記載のＲＦシステム。
【請求項２５】
第１の同調可能なＲＦソースは、擬似ランダム変調方式と複素周波数変調方式の少なくとも一方に基づいて、第１の同調可能なＲＦソースから出力されたＲＦ電力の周波数を変調する変調モジュールを含んでいる請求項１５記載のＲＦシステム。
【請求項２６】
変調モジュールは周波数シフトキーイング（ＦＳＫ）、位相シフトキーイング（ＰＳＫ）、直角位相シフトキーイング（ＱＰＳＫ）、周波数ホッピングおよび高速度周波数掃引の少なくとも１つを用いて周波数を変調する請求項２５記載のＲＦシステム。
【請求項２７】
制御モジュールは第１の同調可能なＲＦソースがＭ個の予め定められた周波数インターバルのうちの１つを第２の同調可能なＲＦソースと共有するとき第１の同調可能なＲＦソースと第２の同調可能なＲＦソースとのＲＦ電力出力パルスを同期する請求項２５記載のＲＦシステム。
【請求項２８】
さらに負荷を具備し、その負荷はプラズマ室を含んでいる請求項１５記載のＲＦシステム。
【請求項２９】
Ｍ個の予め定められた周波数インターバルを割当て、
Ｍ個の予め定められた周波数インターバルの割当てられたそれぞれ１つの周波数インターバル内の周波数でそれぞれプラズマ室内の電極にＮ個の第１のＲＦ電力出力を供給し、
プラズマ室からフィードバックを受信し、
フィードバックおよびＭ個の予め定められた周波数インターバルの割当てられたそれぞれ１つの周波数インターバルに基づいてＮ個の第１のＲＦ電力出力を調節するステップを含み、ＭとＮは１よりも大きい整数である無線周波数（ＲＦ）システムの動作方法。
【請求項３０】
Ｍ個の予め定められた周波数インターバルのうちＬがオーバーラップし、ここでＬは１よりも大きい整数である請求項２９記載の方法。
【請求項３１】
さらに、Ｍ個の予め定められた周波数インターバルのうちＬのメンバーを、電極の近傍ではない１つの電極と通信するＮ個の第１のＲＦ電力出力のメンバーに割当てるステップを含んでいる請求項３０記載の方法。
【請求項３２】
Ｍ個の予め定められた周波数インターバルのうちＪは同じ予め定められた周波数インターバルに対応し、Ｊは１以上の整数である請求項２９記載の方法。
【請求項３３】
Ｍ個の予め定められた周波数インターバルはそれぞれ整合した長さであり、Ｍ個の予め定められた周波数インターバルはオーバーラップせず、Ｍ＝Ｎである請求項２９記載の方法。
【請求項３４】
Ｍ個の予め定められた周波数インターバルのうちＯはそれぞれ整合した長さであり、Ｍ個の予め定められた周波数インターバルのうちＰはそれぞれ異なる長さであり、ＯとＰは１以上の整数である請求項２９記載の方法。
【請求項３５】
Ｎ個のＲＦ電力出力の１以上のＲＦソースの周波数の位相を選択的に与えるステップを含んでいる請求項２９記載の方法。
【請求項３６】
さらに、擬似ランダム変調方式と複素周波数変調方式の少なくとも一方に基づいて、Ｎ個のＲＦ電力のメンバーの変調周波数を含んでいる請求項２９記載の方法。
【請求項３７】
さらに、Ｍ個の予め定められた周波数インターバルのうちの１つを共有するＮ個のＲＦ電力出力のメンバーのパルスを同期するステップを含んでいる請求項２９記載の方法。
【請求項３８】
Ｍ個の予め定められた周波数インターバルを割当て、
負荷の第１の電極に転送される第１の電力と、負荷からの第１のフィードバックと、Ｍ個の予め定められた周波数インターバルの割当てられた第１の周波数インターバルとに基づいて、第１の周波数において転送された負荷電力の第１の設定点をアクチブに維持し、
負荷の第２の電極に転送される第２の電力と、負荷からの第２のフィードバックと、Ｍ個の予め定められた周波数インターバルの割当てられた第２の周波数インターバルに基づいて、第２の周波数において転送された負荷電力の第２の設定点をアクチブに維持するステップを含み、
Ｍは１よりも大きい整数である無線周波数（ＲＦ）システムの動作方法。
【請求項３９】
Ｍ個の予め定められた周波数インターバルの第１および第２のものはオーバーラップし、第１の電極は負荷内の第２の電極と近接していない請求項３８記載の方法。
【請求項４０】
Ｍ個の予め定められた周波数インターバルはそれぞれ整合した長さであり、Ｍ個の予め定められた周波数インターバルはオーバーラップせず、Ｍ＝Ｎである請求項３８記載の方法。
【請求項４１】
負荷中の第３の電極に転送される第３の電力と、負荷からの第３のフィードバックと、Ｍ個の予め定められた周波数インターバルの第３のものとに基づいて、転送された負荷電力の第３の設定点を第３の周波数に維持するステップをさらに含んでいる請求項３８記載の方法。
【請求項４２】
Ｍ個の予め定められた周波数インターバルの第１および第３のものは同じ予め定められた周波数インターバルに対応し、Ｍ個の予め定められた周波数インターバルの第１および第２のものは異なるインターバルに対応し、第１および第３の電極は近接していない電極であり、第１の電極は負荷内の第２の電極と近接している請求項４１記載の方法。
【請求項４３】
Ｍ個の予め定められた周波数インターバルのうちＯはそれぞれ整合した長さであり、Ｍ個の予め定められた周波数インターバルのうちＰはそれぞれ異なる長さであり、ＯとＰはそれぞれ１以上の整数である請求項３８記載の方法。
【請求項４５】
さらに、第１および第２の周波数の位相を選択的に与えるステップを含んでいる請求項３８記載の方法。
【請求項４６】
さらに、擬似ランダム変調方式と複素周波数変調方式の少なくとも一方に基づいて、第１および第２の周波数を変調するステップを含んでいる請求項３８記載の方法。
【請求項４７】
さらに第１の電力と第２の電力のパルスを同期するステップを含んでいる請求項３８記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はＲＦソースとプラズマ室との間の無線周波数（ＲＦ）電力交換に関する。特に本発明はＲＦフィードバック信号に対するプラズマ室からの歪の影響を最小にすることに関する。
【背景技術】
【０００２】
ここで行われる背景の説明は一般的な説明の文脈で提示することを目的とする。本願の発明者の研究はその研究がこの背景のセクションで説明される範囲では、出願時に従来技術として適格とされない可能性があり、また本願の説明に対する従来技術として明確的にも暗黙的にも認められない可能性もある。
【０００３】
図１を参照すると、太陽装置の製造のための付着プロセスで使用されるツール10は室16へ無線周波数（ＲＦ）電力を提供できる。室16はそれぞれのプラズマソース21-1,…21-i,…,21-N（プラズマソース21と呼ばれる）に関連される付勢電極19-1,…19-i,…,19-N（電極19と呼ばれる）および接地電極20-1,…20-i,…,20-N（電極20と呼ばれる）を包囲することができる。
【０００４】
ツール10は伝送線24-1,…24-i,…,24-N（伝送線24と呼ばれる）を介してＲＦ電力を伝送するＲＦソース22-1,…22-i,…,22-N（ＲＦソース22と呼ばれる）を含むことができる。伝送線24はＲＦ電力をそれぞれの電極20へ与える整合ネットワーク26-1,…26-i,…,26-N（整合ネットワーク26と呼ばれる）と通信する。ＲＦセンサ28-1,…28-i,…,28-N（ＲＦセンサ28と呼ばれる）は伝送線24と通信する。ＲＦセンサ28はプラズマ室16から反射されＲＦソース22により受信される受信ＲＦ電力（←Ｒ）の読取りを行うことができる。ＲＦセンサ28はプラズマ室16に与えられる順方向のＲＦ電力（→Ｆ）の読取りも行うことができる。同様に、電圧／電流センサはＲＦセンサ28の代わりに伝送線上の電圧および電流信号を検出するために使用されることができる。
【０００５】
動作において、電極19、20は共通の真空および／または接地を共有できるので、多数のＲＦソース22からの順方向ＲＦ電力からのＲＦ放電は室16内の電磁（ＥＭ）相互作用を通して結合できる。ＲＦソース22内のＲＦセンサ（図示せず）は結合されたＲＦ放電を検出しそれらをフィードバックすることができ、それによってこれらは対応するＲＦソース22で受信される。反射されたＲＦ電力はそれ故、プラズマ室16の多数の電極19、20と通信する多数のＲＦソース22からのＲＦ信号により生じるクロストークのような歪みによって影響されるプラズマ室16からのＲＦフィードバックを含む可能性がある。
【０００６】
プラズマプロセスを効率的に実行するため、反射されたＲＦ電力／フィードバックに基づいて順方向のＲＦ電力を正確に制御することが望ましいであろう。例えば順方向のＲＦ電力を制御するための厳格な要求は太陽装置製造プロセスの複雑性が増加するにしたがって、進化する。その結果、種々の制御技術が順方向および反射された電力を監視するために使用される。
【０００７】
例えば、典型的な周波数同調方法は以下のように行われる。ＲＦソース22はオンに切換えられ、全ての、好ましくは同じＲＦ帯域内の開始点で１つの周波数を有する。ＲＦソース22は順方向電力をプラズマ室へ供給する。順方向電力の一部はプラズマ室16から反射される。反射された電力は測定され、反射された電力の大きさは受信された信号としてメモリに記憶される。ＲＦソース22はその後、一方向でＲＦ周波数を変化する。ＲＦソース22は再び反射された電力を測定し、これを先の測定からの記憶された大きさと比較する。
【０００８】
反射された電力の変化に基づいて、ＲＦソース22は再度、周波数を移動させる。反射された電力に減少が存在するならば、周波数は同じ方向で動かされ、反射された電力に増加が存在するならば、周波数は反対の方向で移動される。これは最低の可能な反射された電力が実現されるまで継続される。
【発明の概要】
【０００９】
無線周波数（ＲＦ）システムはＭ個の予め定められた周波数インターバルを割当てる制御モジュールを含んでいる。このシステムはまたＭ個の予め定められた周波数インターバルの割当てられたそれぞれ１つの周波数インターバル内の周波数でプラズマ室内の電極へ第１のＲＦ電力をそれぞれ与えるＮ個のＲＦソースを含んでいる。Ｎ個のＲＦソースもプラズマ室からのフィードバックを含んでいる第２のＲＦ電力にそれぞれ応答する。Ｎ個のＲＦソースは第２のＲＦ電力とＭ個の予め定められた周波数インターバルのそれぞれの１つに基づいて第１のＲＦ電力を調節する処理モジュールをそれぞれ含んでいる。ＭとＮは１よりも大きい整数である。
【００１０】
別の特徴では、ＲＦシステムはＭ個の予め定められた周波数インターバルを割当てる制御モジュールを含んでいる。このシステムはさらに負荷中の第１の電極に転送される第１の電力と、負荷からの第１のフィードバックと、Ｍ個の予め定められた周波数インターバルの割当てられた第１のものとに基づいて、転送された負荷電力に対して第１の設定点を第１の周波数に維持する第１の同調可能なＲＦソースを含んでいる。システムはまた負荷中の第２の電極に転送される第２の電力と、負荷からの第２のフィードバックと、Ｍ個の予め定められた周波数インターバルの割当てられた第２のものとに基づいて、転送された負荷電力に対して第２の設定点を第２の周波数に維持する第２の同調可能なＲＦソースを含んでいる。Ｍは１よりも大きい整数である。
【００１１】
別の特徴では、ＲＦシステムを動作する方法はＭ個の予め定められた周波数インターバルの割当を含んでいる。その方法はまたＭ個の予め定められた周波数インターバルの割当てられたそれぞれ１つの周波数インターバル内の各周波数でプラズマ室内の電極へＮ個の第１のＲＦ電力信号を与えるステップを含んでいる。方法はまたプラズマ室からフィードバックを受けるステップも含んでいる。方法はさらにフィードバックとＭ個の予め定められた周波数インターバルのそれぞれ１つとに基づいてＮ個の第１のＲＦ電力信号を調節するステップを含んでいる。ＭとＮは１よりも大きい整数である。
【００１２】
別の特徴では、ＲＦシステムを動作する方法はＭ個の予め定められた周波数インターバルの割当を含んでいる。その方法はまた負荷中の第１の電極に転送される第１の電力と、負荷からの第１のフィードバックと、Ｍ個の予め定められた周波数インターバルの第１のものとに基づいて、転送された負荷電力に対して第１の設定点を第１の周波数にアクチブに維持するステップを含んでいる。この方法はさらに負荷中の第２の電極に転送される第２の電力と、負荷からの第２のフィードバックと、Ｍ個の予め定められた周波数インターバルの割当てられた第２のものとに基づいて、転送された負荷電力に対して第２の設定点を第２の周波数にアクチブに維持することを含んでいる。Ｍは１よりも大きい整数である。
【００１３】
本発明の応用性のさらに広い領域は本発明の詳細な説明、請求項、図面から明白になるであろう。詳細な説明および特定の例は単なる例示の目的としており、本発明の技術的範囲を限定することを意図していない。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】従来技術による例示的な無線周波数（ＲＦ）システムのブロック図である。
【図２Ａ】選択周波数分布のないスペクトル図である。
【図２Ｂ】選択周波数分布のないスペクトル図である。
【図３Ａ】本発明による例示的なＲＦシステムのブロック図である。
【図３Ｂ】本発明による例示的なＲＦシステムのブロック図である。
【図３Ｃ】本発明による例示的なＲＦシステムのブロック図である。
【図４】本発明による周波数割当図である。
【図５】本発明による受信された信号の歪みを示す周波数プロット図である。
【図６】本発明による例示的なＲＦシステムのブロック図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
本発明は詳細な説明および添付図面からさらに十分に理解されるであろう。  
以下の説明は本質的に単なる例示であり、発明、その応用、又は使用を限定することを意図するものではない。明瞭にする目的で、同じ参照符合は類似の組織を識別するために図面中で使用される。ここで使用されているように、用語「Ａ、Ｂ、Ｃの少なくとも１つ」は非排他的論理ｏｒを使用して論理（ＡまたはＢまたはＣ）を意味するように解釈されるべきである。方法内のステップは本発明の明細書の原理を変更せずに異なる順序で実行されることができることを理解すべきである。
【００１６】
ここで使用されているように、用語「モジュール」は１以上のソフトウェア又はファームウェアプログラムを実行する特定用途用集積回路（ＡＳＩＣ）、電子回路、プロセッサ（共有、専用またはグループ）および／またはメモリ（共有、専用またはグループ）、組合せ論理回路および／または説明された機能を行う他の適切なコンポーネントまたは、その一部又はそれらを含んでいる。
【００１７】
多数のＲＦソースから無線周波数（ＲＦ）電力を負荷へ与えるツールは本発明に含まれる。ツールはＲＦソースからの転送されたまたは順方向のＲＦ電力（→Ｆ）（→はベクトルを示す）に基づいて負荷から反射された受信されたＲＦ電力（←Ｒ）内のクロストークのような歪みを減少する１以上の処理モジュールを含んでいる。制御モジュールまたはツールオペレータは選択的にＲＦソースの周波数インターバルを割当てることができる。処理モジュールは周波数インターバルに基づいて歪みを減少できる。
【００１８】
クロストークは負荷中の多数の電極間で生じる可能性があるので、反射された信号、例えばｉ番目のＲＦソースの反射された信号Ｒｉの付加的な歪みはこの歪みに影響するＮ個のソースのｋの累算である。  
【数１】
2010219026.tif 000003
【００１９】
Ｒｅｖｉ（ｔ）ｃｏｓ（ωｉｔ＋αｉ（ｔ））はｉ番目のＲＦソースのｉ番目の逆ベース信号に対応する。  
【数２】
2010219026.tif 000004
【００２０】
はｉ番目のＲＦソースのベース信号に付加された他のｋのＲＦ信号からの歪みの和に対応する。時間（ｔ）における特定の瞬間のＲｉの対応するフーリエ変換は次式である。  
【数３】
2010219026.tif 000005
【００２１】
図２Ａ−２Ｂを参照すると、通常のスペクトル図が示されており、多数のＲＦソースは狭領域ｆｃ−ｆｔ乃至ｆｃ＋ｆｔ、例えば指定された中心周波数（ｆｃ）の５０ｐｐｍに制限される。図２Ａでは、ｉ番目のＲＦソースの受信された信号［Ｒｉ］に結合されそれと干渉する２つの例示的な帯域内スペクトル成分30-1、30-Nが示されている。例えば、負荷から反射された実際の電力に対応する関係する３０−ｉのスペクトル成分は同じ周波数値を有する干渉するスペクトル成分30-1、30-Nと垂直に整列されることができる。この例では、全てのスペクトル成分の累積和から関係する３０−ｉのスペクトル成分を弁別することは困難である。
【００２２】
同様に、図２Ｂでは干渉するスペクトル成分30-1、30-Nは同じ周波数値を共有しておらず、動作帯域幅（ｆｃ−ｆｔ乃至ｆｃ＋ｆｔ）内の周波数値を有するように分配されることができる。ＲＦ信号間の周波数変化が予め規定された狭い周波数範囲内であるならば、関係する３０−ｉの反射されたスペクトル成分は他の帯域内スペクトル成分３０−１、３０−Ｎと合成されることができる。
【００２３】
図２Ａと２Ｂの通常の周波数分布はそれ故、反射された信号の不正確な解析と、したがって対応するＲＦソース内の不正確な電力調節の一因になる可能性がある。
【００２４】
図３Ａ−３Ｃを参照すると、ツール100は室116へＲＦ電力を提供できる。図３Ａ−３Ｃは種々の特徴およびコンポーネントの組合せを含めて示されているが、ここで説明した種々の他の特性およびコンポーネントの組合せが図３Ａ−３Ｃの任意又は全てに含まれることもできる。室116は各プラズマソース121-1,…121-i,…および121-N（プラズマソース121と呼ぶ）に関連される電極119-1,…119-i,…および119-N（電極119と呼ぶ）と電極120-1,…120-i,…および120-N（電極120と呼ぶ）を含んでいる。電極119、120は室116内の共通の真空と共通の接地を共有することができる。
【００２５】
ツール100は伝送線124-1,…124-i,…および124-N（伝送線124と呼ぶ）を介してＲＦ電力を伝送する同調可能なＲＦソース122-1,…122-i,…および122-N（ＲＦソース122と呼ぶ）を含むことができる。ＲＦソース122は電力増幅器126-1,…126-i,…および126-N（電力増幅器126と呼ぶ）と、ＲＦセンサ128-1,…128-i,…および128-N（ＲＦセンサ128と呼ぶ）と、処理モジュール129-1,…129-i,…および129-N（処理モジュール129と呼ぶ）を含むことができる。１実施形態では、処理モジュール129は各ＲＦソース122の負荷電力設定点を維持するために電力増幅器126を変化する。例示的な処理モジュール129は比例−積分−微分制御装置（ＰＩＤ制御装置）を含んでいる。処理モジュール129は歪みを濾波するフィルタに関連されることができ、その例は本発明の明細書で後に説明する。ＲＦソース122の主なコンポーネントだけを説明するが、他の既知のコンポーネントがＲＦソース122を構成するために必要とされる可能性があることが理解されよう。
【００２６】
ＲＦソース122はそれぞれ特定の動作周波数を割当てられることができる。１実施形態では、ツールオペレータは各処理モジュール129に対してメモリ130中の予め定められた周波数ビンを割当てることができる。別の実施形態では、制御モジュール132はＲＦソース122の周波数帯域を分割し、および／または各ＲＦソースに対してメモリ130中の予め定められた周波数ビンを割当てることができる。制御モジュール132はその後各処理モジュール129に周波数インターバルを割当てることができる。
【００２７】
ＲＦソース122は整合ネットワーク136-1,…136-i,…および136-N（整合ネットワーク136と呼ぶ）を介して室116へ出力されるＲＦ電力を発生できる。整合ネットワーク136は設定点に基づいて室116の入力インピーダンスをＲＦソース122の出力インピーダンスへ整合するように制御される可変素子を含んでいる。整合ネットワーク136の可変素子は例えばここで参考文献とされている米国特許第5,654,679号、米国特許第5,473,291号、米国特許出願11/554,979号明細書のように電子機械コンポーネントまたは固体状態装置を含むことができる。電子機械的コンポーネントは真空の可変キャパシタを含むことができるがそれに限定されない。固体状態装置は半導体装置を使用するキャパシタ状の同調素子であってもよい。同調素子の数は整合ネットワーク126のトポロジにしたがって変化できる。
【００２８】
例えば１以上の５０オームの伝送線を含むことができる伝送線124はそれぞれの電極119へ電力を提供する。１実施形態では第１の伝送線はＲＦソース122から整合ネットワーク136へＲＦ電力を提供し、第２の伝送線は整合ネットワーク136から電極119へＲＦ電力を提供する。ＲＦセンサ138-1,…138-i,…および138-N（ＲＦセンサ138と呼ぶ）は伝送線124と通信しＲＦ電力を検出する。ＲＦセンサ138はそれ故、室116からＲＦソース122へ戻るように反射をされた電力および／または室116へ与えられる順方向電力の読取りを行う。
【００２９】
ＲＦソース122のＲＦセンサ128はＲＦソース122により出力された順方向ＲＦ電力と室116から反射されたＲＦ電力を検出するために、電力増幅器126と整合ネットワーク136との間に補間されることができる。１実施形態では、ＲＦセンサ128は検出された順方向電力→Ｆと受信され反射された電力←Ｒに対応する出力を有する方向センサを含んでいる。それ故、ＲＦセンサ128からの２つの出力信号は処理モジュール129への入力として役目をすることができる。センサ信号の処理は特定のセンサ構造に基づくことができるが、本発明の処理モジュールの広い観点が種々の異なるタイプのセンサ構造に対して応用可能であることが容易に理解される。例えば伝送線に存在する電圧および電流信号に基づいた電圧および／または電流信号を発生するセンサが説明したＲＦセンサ128の代わりに使用されることができる。
【００３０】
１実施形態では、処理モジュール129は転送された負荷電力（Ｐ）の設定点を維持し（例えばＰ＝→Ｆ−←Ｒ＝λ（→Ｆ’−←Ｒ’））、ここでλは定数である。反射された電力が設定点から変化するならば、処理モジュール129は負荷電力を調節するために電力増幅器126を駆動するように反応できる。反射された電力が歪みを含むならば、処理モジュール129は歪みに基づいて付加的に負荷電力を限定できる。ツール100はそれ故、ＲＦソース122の動作周波数インターバルの選択的な割当てと制御を通して歪みを限定できる。
【００３１】
図３Ａ−３Ｃを考慮して図４Ａ−４Ｃを参照すると、周波数割当ての例示的な図が示されている。図４Ａに示されるように、制御モジュール132はＲＦソース122の動作ＲＦ帯域を分割し、周波数インターバルを各処理モジュール129へ割当てる。例えば制御モジュール132は図４Ａのように、ＲＦ帯域を長さΔｆ１のＮ−１のオーバーラップしない周波数インターバルに分割する割当てモジュール140を含むことができる。周波数インターバルは均一の長さであってもなくてもよい。割当てモジュール142はその後周波数インターバルをＲＦソース122へ割当てることができ、それによって２以上のＲＦソース122が割当てられるインターバルは存在しない。
【００３２】
別の実施形態では、割当てモジュール140は図４Ｂのように、Ｎ個のＲＦソース122の動作ＲＦ帯域を長さΔｆ２のＫ＜Ｎ周波数インターバルへ分割することができる。Ｎ×Δｆ２が使用可能な帯域幅の長さよりも大きくてもＫ＜Ｎインターバルが使用される。周波数インターバルの長さは均一であってもなくてもよく、この実施形態では、周波数インターバルはオーバーラップしてもよい。
【００３３】
割当てモジュール142は室116内の近傍ではない電極119と通信する多数のＲＦソース122に同じ周波数インターバルを割当てることができる。近傍電極は直接隣接する電極を含むことができ、および／またはしきい値よりも少ない距離を離れた電極を含むことができる。
【００３４】
１実施形態では、割当てモジュール142はそれらのそれぞれのターゲット電極を示すＲＦソース122から信号を受信できる。割当てモジュール142は例えばメモリ130に記憶されたプラズマ室マップに基づいて近傍である電極を決定することができ、電極の位置に基づいて周波数インターバルを割当てることができる。制御モジュール132はまた非周波数アジャイルＲＦソースの通常の帯域（例えば５０ｐｐｍ）よりも大きい範囲にわたってＲＦソースの周波数を分配できる。帯域幅は＋／−Ｘ％＞＞５０ｐｐｍの予め定められた範囲まで拡張されることができる。
【００３５】
１実施形態では、図３Ｂのように、同じ周波数インターバルがＲＦソース122のセットに割当てられるとき、制御モジュール132はＲＦソース122のセットのＲＦセンサ138から信号を受信する位相モジュール143を含んでいる。位相モジュール143は信号に基づいてＲＦソース122の各対応するセットの相対的な位相を測定することができ、位相設定点でそれぞれの処理モジュール129を更新できる。処理モジュール129は位相設定点に基づいてそれぞれのＲＦソース122の出力電力の位相を更新できる。例えば位相モジュール143は同じ周波数インターバルを割当てられた各ＲＦソースに対して異なる位相設定点を提供できる。
【００３６】
他の実施形態では、ＲＦソース122はパルス電力出力であることができる。ＲＦソース122が周波数インターバルを共有するとき、制御モジュール132はＲＦソース22のパルス時間を同期できる。例えば制御モジュール132および／またはＲＦソース122は１以上のクロックに関連されることができる。制御モジュール132はそれ故、パルスを同期するために周波数インターバルを共有するＲＦソース122の１以上の時間インターバルを設定できる。制御モジュール132はＲＦソース122が同期してパルスを生成するようにＲＦソース122へ時間インターバルを与えることができる。
【００３７】
別の実施形態では、図４Ｃのように制御モジュール132は長さΔｆ２の周波数インターバルを割当てることができる。長さΔｆ２の周波数インターバルを割当てられたＲＦソース122は予め定められた周波数範囲、例えば長さΔｆ３の予め定められた周波数範囲にわたって同調することができる。
【００３８】
処理モジュール129は関数の値を計算する自己調整モジュール144-1,…144-i,…および144-N（自己調整モジュール144と呼ぶ）も含むことができる。その関数はメモリ130に記憶された前に反射された電力および／または前の順方向電力の値に基づいて、反射された電力と順方向電力の比を含むことができる。自己調整モジュール144はその後幾つかのステップ値によりその周波数を変更するよう電力増幅器126に通報することを処理モジュール129へ命令できる。自己調整モジュール144はそれ故、整合ネットワーク136の可変の整合の同調よりもＲＦソース122の電力転送を最適にすることができる。例示的な自動調整モジュール144は米国特許第6,0120,794号明細書に示されており、この文献はここで参考文献とされている。自己調整モジュール144および／または整合ネットワーク136による周波数同調はＲＦソース122からそれぞれの電極119へのＲＦ信号転送を最適化することができる。
【００３９】
１実施形態では、処理モジュール129は検出された順方向電力→Ｆおよび／または受信され反射された電力←Ｒを濾波する狭帯域タイプのフィルタ150-1,…150-i,…および150-N（フィルタ150と呼ぶ）を含んでいる。フィルタは関係する信号を通過させ、受信された信号の付加的なスペクトル成分を減衰させる。例示的なフィルタは米国特許第6,707,255号明細書に示されており、ここで参考文献とされている。動作において、フィルタ150は関係する周波数を通過し干渉する周波数成分を拒否する予め定められた帯域内にアナログ信号を限定する。関係する周波数は同調された周波数における基本周波数成分を含むことができるが、関係する周波数は同調された周波数に対して他の周波数成分も含むことができることが想定される。ＲＦソース122はフィルタ150により濾波されている受信された信号から関係する周波数を通過させるために周波数インターバル内で同調することができる。
【００４０】
１実施形態では図３Ｃのように、例えばガラスに与えられる材料を比較的均等に付着するために室116中のプラズマに与えられるＲＦ電力の提供を「攪拌」またはランダム化することが望ましい。それ故、処理モジュール129は、それぞれのＲＦソース122に割当てられる周波数インターバル内で周波数を分配／スメアするそれぞれの変調モジュール158-1,…158-i,…および158-N（変調モジュール158と呼ぶ）を含むことができる。
【００４１】
変調モジュール158は周波数が電力増幅器126を駆動するために出力される前に周波数を変調できる。周波数はフィルタ150を通して処理されることができる。例示的な変調モジュール158は周波数シフトキーイング（ＦＳＫ）、位相シフトキーイング（ＰＳＫ）、直角位相シフトキーイング（ＱＰＳＫ）、周波数ホッピングおよび高速度周波数掃引、種々の他の擬似ランダムまたは複素数周波数変調技術を使用して出力周波数を変調できる。変調モジュール158は相互に通信してもしなくてもよく、異なるＲＦソース122の異なる周波数を集合的に変調してもしなくてもよい。
【００４２】
１実施形態では、整合ネットワーク136は相互変調歪（ＩＭＤ）成分を減衰できる反射損失を含むことができる。ＩＭＤ成分はプラズマ放電を通してＲＦ結合から生じることができ、これは各電極119に与えられる種々の周波数から和および差スペクトル成分を生成できる。
【００４３】
図５Ａを参照すると、制御モジュール132が動作帯域幅をＮ−１のインターバルに区分し、そのインターバルをＲＦソース122へ割当てる場合の１実施形態についての周波数スペクトルが示されている。ｉ番目のソースでは、反射された信号に対応するＩＭＤ成分は差周波数のセットに対してＲ∀ｋ≠ｉとして示されている。
【００４４】
示されているように、ｉ番目のＲＦソースの反射された電力信号［Ｒｉ］はそれ故ＩＭＤと他の歪から弁別可能である。整合ネットワーク136が図５Ａに示されているようにＩＭＤ成分（Ｒ∀ｋ≠ｉ）の低周波数範囲に対応する反射損失を有するならば、ＩＭＤ成分は整合ネットワーク136により減衰されることができる。ＩＭＤ成分はそれ故、ＲＦソースに関連される制御方式を混乱させない。このタイプの整合ネットワーク136は処理モジュール129により受信され／フィードバックされた信号の処理においてデジタル濾波を含む実施形態では必要とされない。例えば米国特許第6,707,255号明細書の例により示されているフィルタ150が使用されることができる。換言すると、ＩＭＤ成分（Ｒ∀ｋ≠ｉ）の低周波数範囲は単に受信された信号から濾波されることができる。
【００４５】
図５Ｂを参照すると、制御モジュール132が図４Ｃのように動作帯域幅をＫ＜Ｎインターバルに区分し、そのインターバルをＲＦソース122へ割当てる場合の１実施形態について周波数スペクトルが示されている。幅Δｆ２の周波数インターバルは多数のＲＦソース122に対応できる。しかしながらプラズマソース121間のＥＭ結合を避けるため、割当てモジュール142は周波数をＲＦソース122へ割当てることができ、それによって近傍電極119は図５Ｂの周波数スペクトルでのようにオーバーラップする周波数インターバルを含まない。Δｆ２により規定される周波数インターバルは図４ＣのようにΔｆ３の広いアジャイル周波数同調範囲を可能にできる。
【００４６】
図６を参照すると、例示的なＲＦシステムのブロック図が示されている。図６では図３のコンポーネントと類似のコンポーネントが同様に符合付けされている。１実施形態では、整合ネットワーク160-1,…160-i,…および160-N（整合ネットワーク160と呼ぶ）は出力ロードインピーダンスを整合し最大の電力転送を実現するために同調される可変素子を有することができる。
【００４７】
ＲＦソース162-1,…162-i,…および162-N（ＲＦソース162と呼ぶ）はアジャイル周波数の可変性を介して負荷電力を調節するための制御目標（オブジェクティブ）も有しながらそれらの周波数割当ての知識を有することができる。処理モジュール164-1,…164-i,…および164-N（処理モジュール164と呼ぶ）はそれ故整合ネットワーク160中の可変素子を制御するため制御信号を整合ネットワーク160へ提供することができる。制御信号は効率的にＲＦソース162と整合ネットワーク160の可変素子との制御をダイナミックシステム制御を行うことのできる共通の制御装置へ局部化する。
【００４８】
処理モジュール164からの制御信号は処理モジュール164が整合ネットワーク160の同調範囲を区分できるので、周波数帯域の区画化に類似している。例えば１つのＲＦソースは周波数設定ｆ１用に構成されることができ、近傍ＲＦソースはｆ１＋Δｆ２のようにｆ１からオフセットされた周波数構造を有することができる。周波数インターバル割当てに基づく周波数の変化はｆ１で動作するＲＦソースとｆ１＋Δｆ２で動作するＲＦソースとの間の対応するインピーダンスシフトを有するプラズマソース121により与えられる負荷インピーダンスを調節することができる。これらのインピーダンスシフトはＲＦソースの２つのそれぞれの整合ネットワークがそれらの可変素子について対応する設定点シフトを有することを必要とする可能性がある。それぞれのＲＦソースの処理モジュールは設定点シフトを制御できる。
【００４９】
ＲＦ電力をオンに切換える前に、処理モジュール164はプラズマ点火に関連される設定点により整合ネットワーク160を構成できる。プラズマ点火後、処理モジュール164はそれぞれの整合ネットワーク160の可変素子に電力転送を最大にするための放電設定を命令する。処理モジュール164は整合ネットワーク160の可変素子を調節しおよび／または電力転送を最大にするように周波数同調することができる。放電設定はＲＦソース162で自律的に構成された分配された制御のための異なるプラズマプロセスまたは動作（例えばクリーンサイクル）のためにダイナミックに構成されることができる。
【００５０】
動作において、図３Ａ−３Ｃを参照すると、ＲＦソース122はオンに切換えられ、周波数は制御モジュール132により設定された予め定められた周波数インターバル内の設定点にある。ＲＦソース122は順方向電力をプラズマ室116へ供給する。順方向電力の一部はＲＦソース122の方向へ戻すように反射される。反射された電力は測定され、反射された電力の大きさは受信された信号としてメモリ130に記憶される。ＲＦソース122はその後、それらのそれぞれの周波数インターバル内で一方向でＲＦ周波数を変化する。ＲＦソース122は再度反射された電力を測定し、これを以前の測定からの記憶された大きさと比較する。反射された電力の変化に基づいて、ＲＦソース122は再度周波数インターバル内で周波数を移動させる。反射された電力に減少があるならば、周波数は同じ方向で動かされることができ、反射された方向に増加があるならば、周波数は反対方向で動かされることができる。これは最低の可能な反射された電力のような電力の設定点が実現されるまで継続される。
【００５１】
本発明の広い教示は種々の形態で実行されることができる。それ故、この開示は特定の例を含み、他の変形が図面、明細書、請求項を研究すれば明白になるので、発明の真の技術的範囲はそれに限定されない。
【図１】
2010219026.tif 000006
【図２Ａ】
2010219026.tif 000007
【図２Ｂ】
2010219026.tif 000008
【図３Ａ】
2010219026.tif 000009
【図３Ｂ】
2010219026.tif 000010
【図３Ｃ】
2010219026.tif 000011
【図４】
2010219026.tif 000012
【図５】
2010219026.tif 000013
【図６】
2010219026.tif 000014
【手続補正書】
【提出日】平成22年4月27日(2010.4.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
無線周波数（ＲＦ）システムにおいて、
Ｍ個の予め定められた周波数インターバルを割当てる制御モジュールと、
Ｍ個の予め定められた周波数インターバルの割当てられたそれぞれ１つの周波数インターバル内の周波数でプラズマ室内の電極へ第１のＲＦ電力をそれぞれ供給し、プラズマ室からのフィードバックを含んでいる第２のＲＦ電力にそれぞれ応答するＮ個のＲＦソースとを具備しており、
Ｎ個のＲＦソースは第２のＲＦ電力とＭ個の予め定められた周波数インターバルのそれぞれの１つに基づいて第１のＲＦ電力を調節する処理モジュールをそれぞれ含んでおり、ＭとＮは１よりも大きい整数であるＲＦシステム。
【請求項２】
Ｍ個の予め定められた周波数インターバルのうちＬがオーバーラップし、ここでＬは１よりも大きい整数である請求項１記載のＲＦシステム。
【請求項３】
制御モジュールはＭ個の予め定められた周波数インターバルのうちＬのメンバーを、近傍ではない１つの電極と通信するＮ個のＲＦソースのメンバーに割当てる請求項２記載のＲＦシステム。
【請求項４】
Ｍ個の予め定められた周波数インターバルのうちＪは同じ予め定められた周波数インターバルに対応し、Ｊは１以上の整数である請求項１記載のＲＦシステム。
【請求項５】
Ｍ個の予め定められた周波数インターバルはそれぞれ整合した長さであり、Ｍ個の予め定められた周波数インターバルはオーバーラップせず、Ｍ＝Ｎである請求項１記載のＲＦシステム。
【請求項６】
Ｍ個の予め定められた周波数インターバルのうちＯはそれぞれ整合した長さであり、Ｍ個の予め定められた周波数インターバルのうちＰはそれぞれ異なる長さであり、ＯとＰはそれぞれ１以上の整数である請求項１記載のＲＦシステム。
【請求項７】
Ｎ個のＲＦソースはそれぞれ第１のＲＦ電力と第２のＲＦ電力が処理モジュールで処理される前に、第１のＲＦ電力と第２のＲＦ電力の干渉成分を濾波する狭帯域フィルタを含んでいる請求項１記載のＲＦシステム。
【請求項８】
さらに、それぞれＮ個のＲＦソースと通信するＮ個の整合ネットワークを具備している請求項１記載のＲＦシステム。
【請求項９】
さらに、プラズマ室と、
Ｎ個のＲＦソースとプラズマ室との間に挿入され、Ｎ個の整合ネットワークの素子の設定点を制御するＮ個のＲＦソースのそれぞれの処理モジュールからの信号に基づいて、Ｎ個のＲＦソースとプラズマ室との間のインピーダンスを整合させるＮ個の整合ネットワークを具備している請求項１記載のＲＦシステム。
【請求項１０】
さらに、Ｎ個の整合ネットワークとプラズマ室との間に位置され、プラズマ室からの第２のＲＦ電力を感知するＮ個のセンサを具備している請求項９記載のＲＦシステム。
【請求項１１】
制御モジュールはさらにＮ個のセンサからの信号に基づいて、１以上のＲＦソースの周波数の位相を選択的に提供する位相モジュールを具備している請求項１０記載のＲＦシステム。
【請求項１２】
Ｎ個のＲＦソースの処理モジュールはそれぞれ、擬似ランダム変調方式と複素周波数変調方式の少なくとも一方に基づいて、Ｎ個のＲＦソースのそれぞれ１つによって出力されたＲＦ電力の周波数を変調する変調モジュールを含んでいる請求項１記載のＲＦシステム。
【請求項１３】
変調モジュールは周波数シフトキーイング（ＦＳＫ）、位相シフトキーイング（ＰＳＫ）、直角位相シフトキーイング（ＱＰＳＫ）、周波数ホッピングおよび高速度周波数掃引の少なくとも１つを用いて周波数を変調する請求項１２記載のＲＦシステム。
【請求項１４】
制御モジュールはＭ個の予め定められた周波数インターバルのうちの１つを共有するＮ個のＲＦソースのメンバーのＲＦ電力出力パルスを同期する請求項１記載のＲＦシステム。
【請求項１５】
無線周波数（ＲＦ）システムにおいて、
Ｍ個の予め定められた周波数インターバルを割当てる制御モジュールと、
負荷中の第１の電極に転送される第１の電力と、負荷から反射される第１のフィードバックと、Ｍ個の予め定められた周波数インターバルの割当てられた第１のものとに基づいて、転送された負荷電力の第１の設定点を第１の周波数に維持する第１の同調可能なＲＦソースと、
負荷中の第２の電極に転送される第２の電力と、負荷から反射される第２のフィードバックと、Ｍ個の予め定められた周波数インターバルの割当てられた第２のものとに基づいて、転送された負荷電力の第２の設定点を第２の周波数に維持する第２の同調可能なＲＦソースとを具備しており、
Ｍは１よりも大きい整数であるＲＦシステム。
【請求項１６】
Ｍ個の予め定められた周波数インターバルの第１および第２のものはオーバーラップし、第１の電極は負荷内の第２の電極と近接していない請求項１５記載のＲＦシステム。
【請求項１７】
Ｍ個の予め定められた周波数インターバルはそれぞれ釣り合った長さであり、Ｍ個の予め定められた周波数インターバルはオーバーラップせず、Ｍ＝Ｎである請求項１５記載のＲＦシステム。
【請求項１８】
第３の同調可能なＲＦソースは、負荷中の第３の電極に転送される第３の電力と、負荷からの第３のフィードバックと、Ｍ個の予め定められた周波数インターバルの第３のものに基づいて、転送された負荷電力の第３の設定点を第３の周波数に維持する請求項１５記載のＲＦシステム。
【請求項１９】
Ｍ個の予め定められた周波数インターバルの第１および第３のものは整合した予め定められた周波数インターバルに対応し、Ｍ個の予め定められた周波数インターバルの第１および第２のものは異なるインターバルに対応し、第１および第３の電極は近接していない電極であり、第１の電極は負荷内の第２の電極と近接している請求項１８記載のＲＦシステム。
【請求項２０】
Ｍ個の予め定められた周波数インターバルのうちＯはそれぞれ整合した長さであり、Ｍ個の予め定められた周波数インターバルのうちＰはそれぞれ異なる長さであり、ＯとＰは１以上の整数である請求項１５記載のＲＦシステム。
【請求項２１】
第１の同調可能なＲＦソースは第２の同調可能なＲＦソースからの第２の電力により生じる負荷から反射された第１のフィードバック内の干渉成分を濾波する狭帯域フィルタを含んでいる請求項１５記載のＲＦシステム。
【請求項２２】
さらに、第１の同調可能なＲＦソースおよび負荷と通信する第１の整合ネットワークと、第２の同調可能なＲＦソースおよび負荷と通信する第２の整合ネットワークとを具備している請求項１５記載のＲＦシステム。
【請求項２３】
第１の整合ネットワークは、第１の整合ネットワークの素子の設定点を制御する第１の同調可能なＲＦソースからの信号に基づいて、第１の同調可能なＲＦソースと負荷との間のインピーダンスを整合させる請求項１５記載のＲＦシステム。
【請求項２４】
さらに、第１の整合ネットワークと負荷との間に位置され、第１および第２のＲＦ電力を感知するセンサを具備し、制御モジュールはさらにセンサからの信号に基づいて第１と第２の同調可能なＲＦソースの１以上の周波数の位相を選択的に提供する位相モジュールを具備している請求項２３記載のＲＦシステム。
【請求項２５】
第１の同調可能なＲＦソースは、擬似ランダム変調方式と複素周波数変調方式の少なくとも一方に基づいて、第１の同調可能なＲＦソースから出力されたＲＦ電力の周波数を変調する変調モジュールを含んでいる請求項１５記載のＲＦシステム。
【請求項２６】
変調モジュールは周波数シフトキーイング（ＦＳＫ）、位相シフトキーイング（ＰＳＫ）、直角位相シフトキーイング（ＱＰＳＫ）、周波数ホッピングおよび高速度周波数掃引の少なくとも１つを用いて周波数を変調する請求項２５記載のＲＦシステム。
【請求項２７】
制御モジュールは第１の同調可能なＲＦソースがＭ個の予め定められた周波数インターバルのうちの１つを第２の同調可能なＲＦソースと共有するとき第１の同調可能なＲＦソースと第２の同調可能なＲＦソースとのＲＦ電力出力パルスを同期する請求項２５記載のＲＦシステム。
【請求項２８】
さらに負荷を具備し、その負荷はプラズマ室を含んでいる請求項１５記載のＲＦシステム。
【請求項２９】
Ｍ個の予め定められた周波数インターバルを割当て、
Ｍ個の予め定められた周波数インターバルの割当てられたそれぞれ１つの周波数インターバル内の周波数でそれぞれプラズマ室内の電極にＮ個の第１のＲＦ電力出力を供給し、
プラズマ室からフィードバックを受信し、
フィードバックおよびＭ個の予め定められた周波数インターバルの割当てられたそれぞれ１つの周波数インターバルに基づいてＮ個の第１のＲＦ電力出力を調節するステップを含み、ＭとＮは１よりも大きい整数である無線周波数（ＲＦ）システムの動作方法。
【請求項３０】
Ｍ個の予め定められた周波数インターバルのうちＬがオーバーラップし、ここでＬは１よりも大きい整数である請求項２９記載の方法。
【請求項３１】
さらに、Ｍ個の予め定められた周波数インターバルのうちＬのメンバーを、電極の近傍ではない１つの電極と通信するＮ個の第１のＲＦ電力出力のメンバーに割当てるステップを含んでいる請求項３０記載の方法。
【請求項３２】
Ｍ個の予め定められた周波数インターバルのうちＪは同じ予め定められた周波数インターバルに対応し、Ｊは１以上の整数である請求項２９記載の方法。
【請求項３３】
Ｍ個の予め定められた周波数インターバルはそれぞれ整合した長さであり、Ｍ個の予め定められた周波数インターバルはオーバーラップせず、Ｍ＝Ｎである請求項２９記載の方法。
【請求項３４】
Ｍ個の予め定められた周波数インターバルのうちＯはそれぞれ整合した長さであり、Ｍ個の予め定められた周波数インターバルのうちＰはそれぞれ異なる長さであり、ＯとＰは１以上の整数である請求項２９記載の方法。
【請求項３５】
Ｎ個のＲＦ電力出力の１以上のＲＦソースの周波数の位相を選択的に与えるステップを含んでいる請求項２９記載の方法。
【請求項３６】
さらに、擬似ランダム変調方式と複素周波数変調方式の少なくとも一方に基づいて、Ｎ個のＲＦ電力のメンバーの変調周波数を含んでいる請求項２９記載の方法。
【請求項３７】
さらに、Ｍ個の予め定められた周波数インターバルのうちの１つを共有するＮ個のＲＦ電力出力のメンバーのパルスを同期するステップを含んでいる請求項２９記載の方法。
【請求項３８】
Ｍ個の予め定められた周波数インターバルを割当て、
負荷の第１の電極に転送される第１の電力と、負荷からの第１のフィードバックと、Ｍ個の予め定められた周波数インターバルの割当てられた第１の周波数インターバルとに基づいて、第１の周波数において転送された負荷電力の第１の設定点をアクチブに維持し、
負荷の第２の電極に転送される第２の電力と、負荷からの第２のフィードバックと、Ｍ個の予め定められた周波数インターバルの割当てられた第２の周波数インターバルに基づいて、第２の周波数において転送された負荷電力の第２の設定点をアクチブに維持するステップを含み、
Ｍは１よりも大きい整数である無線周波数（ＲＦ）システムの動作方法。
【請求項３９】
Ｍ個の予め定められた周波数インターバルの第１および第２のものはオーバーラップし、第１の電極は負荷内の第２の電極と近接していない請求項３８記載の方法。
【請求項４０】
Ｍ個の予め定められた周波数インターバルはそれぞれ整合した長さであり、Ｍ個の予め定められた周波数インターバルはオーバーラップせず、Ｍ＝Ｎである請求項３８記載の方法。
【請求項４１】
負荷中の第３の電極に転送される第３の電力と、負荷からの第３のフィードバックと、Ｍ個の予め定められた周波数インターバルの第３のものとに基づいて、転送された負荷電力の第３の設定点を第３の周波数に維持するステップをさらに含んでいる請求項３８記載の方法。
【請求項４２】
Ｍ個の予め定められた周波数インターバルの第１および第３のものは同じ予め定められた周波数インターバルに対応し、Ｍ個の予め定められた周波数インターバルの第１および第２のものは異なるインターバルに対応し、第１および第３の電極は近接していない電極であり、第１の電極は負荷内の第２の電極と近接している請求項４１記載の方法。
【請求項４３】
Ｍ個の予め定められた周波数インターバルのうちＯはそれぞれ整合した長さであり、Ｍ個の予め定められた周波数インターバルのうちＰはそれぞれ異なる長さであり、ＯとＰはそれぞれ１以上の整数である請求項３８記載の方法。
【請求項４４】
さらに、第１および第２の周波数の位相を選択的に与えるステップを含んでいる請求項３８記載の方法。
【請求項４５】
さらに、擬似ランダム変調方式と複素周波数変調方式の少なくとも一方に基づいて、第１および第２の周波数を変調するステップを含んでいる請求項３８記載の方法。
【請求項４６】
さらに第１の電力と第２の電力のパルスを同期するステップを含んでいる請求項３８記載の方法。
【外国語明細書】
2010219026000001.pdf