(57)【要約】【課題】定電流のトリミングをより容易にすることが可能な半導体装置を提供する。【解決手段】半導体装置の制御回路は、マルチプレクサに第２のデータをトリミングデータとして出力させる状態で、第２のデータを変化させることにより定電流を段階的に変化するように設定し、比較結果信号の論理が反転した時に対応する第２のデータを抽出し、この抽出した第２のデータを記憶回路に第１のデータとして記憶させる。【選択図】図２
2010219370.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ターゲット電流が印加されるパッドと、
前記パッドと接地との間に接続された第１のＭＯＳトランジスタと、  
電源に一端が接続された第１の抵抗素子と、
前記第１の抵抗素子の他端と前記接地との間に接続され、前記第１のＭＯＳトランジスタに流れる前記ターゲット電流をカレントミラーした第１の電流が流れる第２のＭＯＳトランジスタと、
トリミングデータに対応した定電流を出力する定電流回路と、
前記電源に一端が接続され、前記第１の抵抗素子と同じ抵抗値を有する第２の抵抗素子と、
前記第２の抵抗素子の他端と前記接地との間に接続され、前記第２のＭＯＳトランジスタと同じサイズを有し、前記定電流回路が出力する前記定電流に対応する第２の電流が流れる第３のＭＯＳトランジスタと、
前記第１の抵抗素子と前記第２のＭＯＳトランジスタとの間の第１の電圧と、前記第２の抵抗素子と前記第３のＭＯＳトランジスタとの間の第２の電圧とを比較し、前記第１の電圧と前記第２の電圧の大小関係に応じて論理が異なる比較結果信号を出力するコンパレータと、
第１のデータを記憶する記憶回路と、
前記比較結果信号が入力され、且つ、設定した第２のデータを出力する制御回路と、
前記記憶回路に記憶された前記第１のデータが入力されるとともに前記制御回路から出力された第２のデータが入力され、前記制御回路か出力された選択信号に応じて選択した前記第１のデータまたは前記第２のデータの何れか一方を前記トリミングデータとして前記定電流回路に出力するマルチプレクサと、を備え、
前記制御回路は、前記マルチプレクサが前記第２のデータを選択し前記トリミングデータとして出力する状態で、前記第２のデータを変化させることにより前記定電流を段階的に変化するように設定し、前記比較結果信号の論理が反転した時に対応する前記第２のデータを抽出し、抽出した前記第２のデータを前記記憶回路に前記第１のデータとして記憶させ、
前記第２の電流の値は、設定された第２のデータに対応する定電流の値に、この設定された前記第２のデータに対応する前記定電流を次に設定される第２のデータに対応する定電流の値から引いた電流値差の２分の１を、加算した値である
ことを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
前記第１のＭＯＳトランジスタのサイズと前記第２のＭＯＳトランジスタのサイズとが等しい
ことを特徴とする請求項１に記載の半導体装置。
【請求項３】
外部信号に応じて、前記記憶回路に記憶された前記第１のデータを読み出し、読み出された前記第１のデータを前記制御回路に抽出された前記第２のデータでベリファイし、このベリファイに応じたベリファイ信号を出力するベリファイ回路をさらに備える
ことを特徴とする請求項１または２に記載の半導体装置。
【請求項４】
ターゲット電流が印加されるパッドと、前記パッドと接地との間に接続された第１のＭＯＳトランジスタと、電源に一端が接続された第１の抵抗素子と、前記第１の抵抗素子の他端と前記接地との間に接続され、前記第１のＭＯＳトランジスタに流れる前記ターゲット電流をカレントミラーした第１の電流が流れる第２のＭＯＳトランジスタと、トリミングデータに対応した定電流を出力する定電流回路と、前記電源に一端が接続され、前記第１の抵抗素子と同じ抵抗値を有する第２の抵抗素子と、前記第２の抵抗素子の他端と前記接地との間に接続され、前記第２のＭＯＳトランジスタと同じサイズを有し、前記定電流回路が出力する前記定電流に対応する第２の電流が流れる第３のＭＯＳトランジスタと、前記第１の抵抗素子と前記第２のＭＯＳトランジスタとの間の第１の電圧と、前記第２の抵抗素子と前記第３のＭＯＳトランジスタとの間の第２の電圧とを比較し、前記第１の電圧と前記第２の電圧の大小関係に応じて論理が異なる比較結果信号を出力するコンパレータと、第１のデータを記憶する記憶回路と、前記比較結果信号が入力され、且つ、設定した第２のデータを出力する制御回路と、前記記憶回路に記憶された前記第１のデータが入力されるとともに前記制御回路から出力された第２のデータが入力され、前記制御回路か出力された選択信号に応じて選択した前記第１のデータまたは前記第２のデータの何れか一方を前記トリミングデータとして前記定電流回路に出力するマルチプレクサと、を有し、前記制御回路は、前記マルチプレクサが前記第２のデータを選択し前記トリミングデータとして出力する状態で、前記第２のデータを変化させることにより前記定電流を段階的に変化するように設定し、前記比較結果信号の論理が反転した時に対応する前記第２のデータを抽出し、抽出した前記第２のデータを前記記憶回路に前記第１のデータとして記憶させ、前記第２の電流の値は、設定された第２のデータに対応する定電流の値に、この設定された前記第２のデータに対応する前記定電流を次に設定される第２のデータに対応する定電流の値から引いた電流値差の２分の１を、加算した値である複数の半導体装置と、
前記ターゲット電流をそれぞれの前記半導体装置に順次印加して前記制御回路に前記第２のデータを抽出させ、全ての前記半導体装置の前記制御回路が抽出した前記第２のデータを前記記憶回路に前記第１のデータとして各々同時に記憶させた後、同時に全ての前記半導体装置の前記ベリファイ回路にベリファイさせるテスト装置と、を備える
ことを特徴とする半導体システム。
【請求項５】
ターゲット電流が印加されるパッドと、前記パッドと接地との間に接続された第１のＭＯＳトランジスタと、電源に一端が接続された第１の抵抗素子と、前記第１の抵抗素子の他端と前記接地との間に接続され、前記第１のＭＯＳトランジスタに流れる前記ターゲット電流をカレントミラーした第１の電流が流れる第２のＭＯＳトランジスタと、トリミングデータに対応した定電流を出力する定電流回路と、前記電源に一端が接続され、前記第１の抵抗素子と同じ抵抗値を有する第２の抵抗素子と、前記第２の抵抗素子の他端と前記接地との間に接続され、前記第２のＭＯＳトランジスタと同じサイズを有し、前記定電流回路が出力する前記定電流に対応する第２の電流が流れる第３のＭＯＳトランジスタと、前記第１の抵抗素子と前記第２のＭＯＳトランジスタとの間の第１の電圧と、前記第２の抵抗素子と前記第３のＭＯＳトランジスタとの間の第２の電圧とを比較し、前記第１の電圧と前記第２の電圧の大小関係に応じて論理が異なる比較結果信号を出力するコンパレータと、第１のデータを記憶する記憶回路と、前記比較結果信号が入力され、且つ、設定した第２のデータを出力する制御回路と、前記記憶回路に記憶された前記第１のデータが入力されるとともに前記制御回路から出力された第２のデータが入力され、前記制御回路か出力された選択信号に応じて選択した前記第１のデータまたは前記第２のデータの何れか一方を前記トリミングデータとして前記定電流回路に出力するマルチプレクサと、を有し、前記制御回路は、前記マルチプレクサが前記第２のデータを選択し前記トリミングデータとして出力する状態で、前記第２のデータを変化させることにより前記定電流を段階的に変化するように設定し、前記比較結果信号の論理が反転した時に対応する前記第２のデータを抽出し、抽出した前記第２のデータを前記記憶回路に前記第１のデータとして記憶させ、前記第２の電流の値は、設定された第２のデータに対応する定電流の値に、この設定された前記第２のデータに対応する前記定電流を次に設定される第２のデータに対応する定電流の値から引いた電流値差の２分の１を、加算した値である複数の半導体装置と、
前記ターゲット電流をそれぞれの前記半導体装置に同時に印加し、全ての前記半導体装置の前記制御回路が抽出した前記第２のデータを前記記憶回路に前記第１のデータとして記憶させた後、同時に全ての前記半導体装置の前記ベリファイ回路にベリファイさせるテスト装置と、を備える
ことを特徴とする半導体システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、定電流をトリミングする半導体装置および半導体システムに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、半導体装置においては歩留まり向上等のために、トリミングが採用される。このトリミングは、通常、ダイソータ時に各チップの値をテスタにて測定する。そして、得られた測定値が、ターゲット値から外れている場合、このターゲット値になる様に設定が行われる。
【０００３】
近年、テストコスト削減のために、多数のチップを同時にダイソートすることが行われている。しかし、トリミングの補正値はチップ毎に異なる。このため、トリミング設定については、同時設定が困難となる。
【０００４】
特に、電流の測定は時間が掛かるため、テスト時間の増大に繋がる。そこで、トリミングをＢＩＳＴ（Ｂｕｉｌｔ−ｉｎ  Ｓｅｌｆ−Ｔｅｓｔ）の様な形で行うことが求められている。
【０００５】
ここで、従来の半導体集積回路では、例えば、ＣＰＵとフラッシュメモリを有する半導体集積回路の外部の評価装置から期待値の電圧（Ｖｒｅｆ）を複数の半導体集積回路に並列的に与える。半導体集積回路の内部には、この期待値電圧と内部で発生する昇圧電圧とを比較する比較回路を内蔵する。ＣＰＵがその比較結果を参照しながら、昇圧電圧値を変更するデータレジスタの制御データを最適に設定していく。上記の比較回路やデータレジスタを内蔵ＣＰＵで制御し、トリミングを自己完結で行うため、複数の半導体集積回路に対する並列的なトリミングが容易であり、全体としてのテスト時間を短縮できる（例えば、特許文献１参照。）。  
しかし、上記従来の半導体集積回路は、期待値の電圧（Ｖｒｅｆ）を用いたトリミングのＢＩＳＴである。すなわち、期待値に対応する電流によるトリミングのＢＩＳＴではない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００２−３１８２６５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、定電流のトリミングをより容易にすることが可能な半導体装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の一態様に係る半導体装置は、ターゲット電流が印加されるパッドと、前記パッドと接地との間に接続された第１のＭＯＳトランジスタと、電源に一端が接続された第１の抵抗素子と、前記第１の抵抗素子の他端と前記接地との間に接続され、前記第１のＭＯＳトランジスタに流れる前記ターゲット電流をカレントミラーした第１の電流が流れる第２のＭＯＳトランジスタと、トリミングデータに対応した定電流を出力する定電流回路と、前記電源に一端が接続され、前記第１の抵抗素子と同じ抵抗値を有する第２の抵抗素子と、前記第２の抵抗素子の他端と前記接地との間に接続され、前記第２のＭＯＳトランジスタと同じサイズを有し、前記定電流回路が出力する前記定電流に対応する第２の電流が流れる第３のＭＯＳトランジスタと、前記第１の抵抗素子と前記第２のＭＯＳトランジスタとの間の第１の電圧と、前記第２の抵抗素子と前記第３のＭＯＳトランジスタとの間の第２の電圧とを比較し、前記第１の電圧と前記第２の電圧の大小関係に応じて論理が異なる比較結果信号を出力するコンパレータと、第１のデータを記憶する記憶回路と、前記比較結果信号が入力され、且つ、設定した第２のデータを出力する制御回路と、前記記憶回路に記憶された前記第１のデータが入力されるとともに前記制御回路から出力された第２のデータが入力され、前記制御回路か出力された選択信号に応じて選択した前記第１のデータまたは前記第２のデータの何れか一方を前記トリミングデータとして前記定電流回路に出力するマルチプレクサと、を備え、前記制御回路は、前記マルチプレクサが前記第２のデータを選択し前記トリミングデータとして出力する状態で、前記第２のデータを変化させることにより前記定電流を段階的に変化するように設定し、前記比較結果信号の論理が反転した時に対応する前記第２のデータを抽出し、抽出した前記第２のデータを前記記憶回路に前記第１のデータとして記憶させ、前記第２の電流の値は、設定された第２のデータに対応する定電流の値に、この設定された前記第２のデータに対応する前記定電流を次に設定される第２のデータに対応する定電流の値から引いた電流値差の２分の１を、加算した値であることを特徴とする。
【０００９】
本発明の一態様に係る半導体システムは、ターゲット電流が印加されるパッドと、前記パッドと接地との間に接続された第１のＭＯＳトランジスタと、電源に一端が接続された第１の抵抗素子と、前記第１の抵抗素子の他端と前記接地との間に接続され、前記第１のＭＯＳトランジスタに流れる前記ターゲット電流をカレントミラーした第１の電流が流れる第２のＭＯＳトランジスタと、トリミングデータに対応した定電流を出力する定電流回路と、前記電源に一端が接続され、前記第１の抵抗素子と同じ抵抗値を有する第２の抵抗素子と、前記第２の抵抗素子の他端と前記接地との間に接続され、前記第２のＭＯＳトランジスタと同じサイズを有し、前記定電流回路が出力する前記定電流に対応する第２の電流が流れる第３のＭＯＳトランジスタと、前記第１の抵抗素子と前記第２のＭＯＳトランジスタとの間の第１の電圧と、前記第２の抵抗素子と前記第３のＭＯＳトランジスタとの間の第２の電圧とを比較し、前記第１の電圧と前記第２の電圧の大小関係に応じて論理が異なる比較結果信号を出力するコンパレータと、第１のデータを記憶する記憶回路と、前記比較結果信号が入力され、且つ、設定した第２のデータを出力する制御回路と、前記記憶回路に記憶された前記第１のデータが入力されるとともに前記制御回路から出力された第２のデータが入力され、前記制御回路か出力された選択信号に応じて選択した前記第１のデータまたは前記第２のデータの何れか一方を前記トリミングデータとして前記定電流回路に出力するマルチプレクサと、を有し、前記制御回路は、前記マルチプレクサが前記第２のデータを選択し前記トリミングデータとして出力する状態で、前記第２のデータを変化させることにより前記定電流を段階的に変化するように設定し、前記比較結果信号の論理が反転した時に対応する前記第２のデータを抽出し、抽出した前記第２のデータを前記記憶回路に前記第１のデータとして記憶させ、前記第２の電流の値は、設定された第２のデータに対応する定電流の値に、この設定された前記第２のデータに対応する前記定電流を次に設定される第２のデータに対応する定電流の値から引いた電流値差の２分の１を、加算した値である複数の半導体装置と、前記ターゲット電流をそれぞれの前記半導体装置に順次印加して前記制御回路に前記第２のデータを抽出させ、全ての前記半導体装置の前記制御回路が抽出した前記第２のデータを前記記憶回路に前記第１のデータとして各々同時に記憶させた後、同時に全ての前記半導体装置の前記ベリファイ回路にベリファイさせるテスト装置と、を備えることを特徴とする。
【００１０】
本発明の他の態様に係る半導体システムは、ターゲット電流が印加されるパッドと、前記パッドと接地との間に接続された第１のＭＯＳトランジスタと、電源に一端が接続された第１の抵抗素子と、前記第１の抵抗素子の他端と前記接地との間に接続され、前記第１のＭＯＳトランジスタに流れる前記ターゲット電流をカレントミラーした第１の電流が流れる第２のＭＯＳトランジスタと、トリミングデータに対応した定電流を出力する定電流回路と、前記電源に一端が接続され、前記第１の抵抗素子と同じ抵抗値を有する第２の抵抗素子と、前記第２の抵抗素子の他端と前記接地との間に接続され、前記第２のＭＯＳトランジスタと同じサイズを有し、前記定電流回路が出力する前記定電流に対応する第２の電流が流れる第３のＭＯＳトランジスタと、前記第１の抵抗素子と前記第２のＭＯＳトランジスタとの間の第１の電圧と、前記第２の抵抗素子と前記第３のＭＯＳトランジスタとの間の第２の電圧とを比較し、前記第１の電圧と前記第２の電圧の大小関係に応じて論理が異なる比較結果信号を出力するコンパレータと、第１のデータを記憶する記憶回路と、前記比較結果信号が入力され、且つ、設定した第２のデータを出力する制御回路と、前記記憶回路に記憶された前記第１のデータが入力されるとともに前記制御回路から出力された第２のデータが入力され、前記制御回路か出力された選択信号に応じて選択した前記第１のデータまたは前記第２のデータの何れか一方を前記トリミングデータとして前記定電流回路に出力するマルチプレクサと、を有し、前記制御回路は、前記マルチプレクサが前記第２のデータを選択し前記トリミングデータとして出力する状態で、前記第２のデータを変化させることにより前記定電流を段階的に変化するように設定し、前記比較結果信号の論理が反転した時に対応する前記第２のデータを抽出し、抽出した前記第２のデータを前記記憶回路に前記第１のデータとして記憶させ、前記第２の電流の値は、設定された第２のデータに対応する定電流の値に、この設定された前記第２のデータに対応する前記定電流を次に設定される第２のデータに対応する定電流の値から引いた電流値差の２分の１を、加算した値である複数の半導体装置と、前記ターゲット電流をそれぞれの前記半導体装置に同時に印加し、全ての前記半導体装置の前記制御回路が抽出した前記第２のデータを前記記憶回路に前記第１のデータとして記憶させた後、同時に全ての前記半導体装置の前記ベリファイ回路にベリファイさせるテスト装置と、を備えることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１１】
本発明の一態様に係る半導体装置によれば、定電流のトリミングをより容易にすることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明の一態様である実施例１に係る半導体装置１００を含む半導体システム１０００の構成の一例を示す図である。
【図２】図１に示す半導体装置１００の構成の一例を示す図である。
【図３】図２に示す半導体装置１００のトリミングデータを生成する動作の一例を示すタイミングチャートである。
【図４】図２に示す半導体装置１００のトリミングデータを生成する動作の他の例を示すタイミングチャートである。
【図５】図１に示す半導体システム１０００が電流トリミングする場合のシーケンスの一例を示す図である。
【図６】図１に示す半導体システム１０００が電流トリミングする場合のシーケンスの他の例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、本発明を適用した各実施例について図面を参照しながら説明する。
【実施例１】
【００１４】
図１は、本発明の一態様である実施例１に係る半導体装置１００を含む半導体システム１０００の構成の一例を示す図である。
【００１５】
図１に示すように、半導体システム１０００は、テスト装置１００１と、基板１００２とを備える。
【００１６】
基板１００２には、複数の半導体装置（チップ）１００が配置されている。
【００１７】
テスト装置１００１は、半導体装置１００にターゲット電流ｉｔｒｇを供給し、また、半導体装置１００の動作を制御するための制御信号を半導体装置１００に出力するようになっている。
【００１８】
ここで、図２は、図１に示す半導体装置１００の構成の一例を示す図である。
【００１９】
図２に示すように、半導体装置１００は、第１のパッド１と、定電流回路２と、コンパレータ３と、記憶回路４と、制御回路５と、マルチプレクサ６と、ベリファイ回路７と、第２のパッド８と、第１のＭＯＳトランジスタＴｒ１と、第２のＭＯＳトランジスタＴｒ２と、第３のＭＯＳトランジスタＴｒ３と、第１の抵抗素子Ｒ１と、第２の抵抗素子Ｒ２と、を備える。
【００２０】
第１のパッド１は、テスト装置１００１からターゲット電流ｉｔｒｇが印加されるようになっている。
【００２１】
第１のＭＯＳトランジスタＴｒ１は、第１のパッド１と接地との間に接続されている。この第１のＭＯＳトランジスタＴｒ１は、ダイオード接続されている。
第１の抵抗素子Ｒ１は、電源ＶＤＤに一端が接続されている。
【００２２】
第２のＭＯＳトランジスタＴｒ２は、第１の抵抗素子Ｒ１の他端と接地との間に接続され、第１のＭＯＳトランジスタＴｒ１のゲートにゲートが接続されている。すなわち、第１のＭＯＳトランジスタＴｒ１と第２のＭＯＳトランジスタＴｒ２とは、ミラー回路を構成する。
【００２３】
これにより、この第２のＭＯＳトランジスタＴｒ２は、第１のＭＯＳトランジスタＴｒ２に流れるターゲット電流ｉｔｒｇをカレントミラーした第１の電流Ｉ１が流れるようになっている。
【００２４】
ここでは、例えば、第１のＭＯＳトランジスタＴｒ１のサイズと第２のＭＯＳトランジスタＴｒ２のサイズとが等しく設定されている。この場合、ターゲット電流ｉｔｒｇと第１の電流Ｉ１とは、等しくなる。
【００２５】
定電流回路２は、電源ＶＤＤと接地との間に接続されており、トリミングデータに対応した定電流Ｉｒｅｇを出力するようになっている。
【００２６】
第２の抵抗素子Ｒ２は、電源ＶＤＤに一端が接続されている。この第２の抵抗素子Ｒ２は、ここでは、例えば、第１の抵抗素子Ｒ１と同じ抵抗値を有する。
【００２７】
第３のＭＯＳトランジスタＴｒ３は、第２の抵抗素子Ｒ２の他端と接地との間に接続されている。この第３のＭＯＳトランジスタＴｒ３は、第２のＭＯＳトランジスタＴｒ２と同じサイズを有する。この第３のＭＯＳトランジスタＴｒ３は、定電流回路２が出力する定電流Ｉｒｅｇに対応する第２の電流Ｉ２が流れるようになっている。
【００２８】
この第２の電流Ｉ２の値は、設定された第２のデータに対応する定電流Ｉｒｅｇの値に、この設定された第２のデータに対応する定電流Ｉｒｅｇを次に設定される第２のデータに対応する定電流Ｉｒｅｇの値から引いた電流値差の２分の１を、加算した値である。
【００２９】
コンパレータ３は、第１の抵抗素子Ｒ１と第２のＭＯＳトランジスタＴｒ２との間の第１の電圧Ｖｉｎ１と、第２の抵抗素子Ｒ２と第３のＭＯＳトランジスタＴｒ３との間の第２の電圧Ｖｉｎ２とを比較する。そして、コンパレータ３は、第１の電圧Ｖｉｎ１と第２の電圧Ｖｉｎ２の大小関係に応じて論理（レベル）が異なる比較結果信号ｃｏｍｐ＿ｒｅｓを、出力するようになっている。
【００３０】
ここで、第１の電圧Ｖｉｎ１は、第１の抵抗素子Ｒ１および第２のＭＯＳトランジスタＴｒ２に流れる第１の電流Ｉ１に応じた電圧降下により決定される。さらに、第２の電圧Ｖｉｎ２は、第２抵抗素子Ｒ２および第３のＭＯＳトランジスタＴｒ３に流れる第２の電流Ｉ２に応じた電圧降下により決定される。
【００３１】
したがって、第１の電圧Ｖｉｎ１と第２の電圧Ｖｉｎ２とをコンパレータ３で比較することにより、第１の電流Ｉ１と第２の電流Ｉ２との大小関係を調べることができる。すなわち、第１の電流Ｉ１とターゲット電流ｉｔｒｇとの関係および第２の電流Ｉ２と定電流ｉｒｅｇとの関係から、第１の電圧Ｖｉｎ１と第２の電圧Ｖｉｎ２とをコンパレータ３で比較することにより、ターゲット電流ｉｔｒｇと定電流ｉｒｅｇとの大小関係を調べることができる。
【００３２】
記憶回路４は、第１のデータ（ヒューズデータ）を記憶するようになっている。この記憶回路４は、例えば、ヒューズ素子や、ＮＡＮＤ型フラッシュメモリ等の不揮発性メモリである。
【００３３】
制御回路５は、比較結果信号ｃｏｍｐ＿ｒｅｓがコンパレータ３から入力されるようになっている。また、制御回路５は、テスト装置１００１から第２のパッド８を介して外部信号が入力されるようになっている。さらに、制御回路５は、設定した第２のデータをマルチプレクサ６に出力するようになっている。
【００３４】
また、制御回路５は、マルチプレクサ６に選択信号を出力することにより、マルチプレクサ６に入力されたデータを切り換えて出力させるようになっている。
【００３５】
また、制御回路５は、該外部信号に応じて、ベリファイ動作の指令をベリファイ回路７に出力するとともに、抽出された第２のデータをベリファイ回路７に出力するようになっている。
【００３６】
マルチプレクサ６は、記憶回路４に記憶された第１のデータが入力されるとともに制御回路５から出力された第２のデータが入力されるようになっている。そして、マルチプレクサ６は、制御回路５から出力された選択信号に応じて選択した該第１のデータまたは該第２のデータの何れか一方を、該トリミングデータとして定電流回路２に出力するようになっている。
【００３７】
ベリファイ回路７は、テスト装置１００１から出力された該外部信号に応じて、記憶回路４に記憶された第１のデータを読み出す。そして、ベリファイ回路７は、読み出された第１のデータを制御回路５で抽出された第２のデータでベリファイし、このベリファイに応じたベリファイ信号を出力するようになっている。
【００３８】
次に、以上のような構成を有する半導体システム１０００の動作の一例について説明する。
【００３９】
図３は、図２に示す半導体装置１００のトリミングデータを生成する動作の一例を示すタイミングチャートである。
【００４０】
トリミングデータを生成するために、制御回路５は、該選択信号によりマルチプレクサ６が第２のデータを選択しトリミングデータとして出力する状態にする。
【００４１】
そして、制御回路５は、この状態で、第２のデータを変化（ＴＡＰ０〜ＴＡＰ３）させることにより、トリミングデータ（ＴＡＰ０〜ＴＡＰ３）を変化させて、定電流Ｉｒｅｇを段階的に変化（ここでは増加）するように設定する。
【００４２】
例えば、トリミングデータ（第２のデータ）ＴＡＰ０、ＴＡＰ１の時、コンパレータ３は、トリミングデータＴＡＰ０、ＴＡＰ１に対応する第２の電流Ｉ２とターゲット電流ｉｔｒｇの比較を行う。このとき、第２の電流Ｉ２はターゲット電流ｉｔｒｇより小さいため、コンパレータ３から出力される比較結果信号ｃｏｍｐ＿ｒｅｓは、“Ｌｏｗ”レベルとなる。
【００４３】
そして、トリミングデータ（第２のデータ）ＴＡＰ２の時、コンパレータ３は、トリミングデータＴＡＰ２に対応する第２の電流Ｉ２とターゲット電流ｉｔｒｇの比較を行う。このとき、第２の電流Ｉ２はターゲット電流ｉｔｒｇより大きいため、コンパレータ３から出力される比較結果信号ｃｏｍｐ＿ｒｅｓは、“Ｈｉｇｈ”レベルとなる。
【００４４】
このとき、制御回路５は、第２のデータＴＡＰ２を抽出する。すなわち、制御回路５は、コンパレータ３から出力された比較結果信号ｃｏｍｐ＿ｒｅｓの論理が反転した時に対応する第２のデータＴＡＰ２を抽出する。
【００４５】
そして、制御回路５は、この抽出した第２のデータＴＡＰ２を記憶回路４に第１のデータ（最終的に調整されたトリミングデータ）として記憶させる。
【００４６】
ここで、既述のように、第２の電流Ｉ２の値は、設定された第２のデータ（例えば、ＴＡＰ０）に対応する定電流Ｉｒｅｇの値に、この設定された第２のデータ（ＴＡＰ０）に対応する該定電流Ｉｒｅｇを次に設定される第２のデータ（ＴＡＰ１）に対応する定電流Ｉｒｅｇの値から引いた電流値差ΔＩの２分の１を、加算した値である。他の第２のデータに対応する第２の電流Ｉ２も同様の関係である。
【００４７】
したがって、図３に示すように、抽出された第２のデータＴＡＰ２に対応する定電流ｉｒｅｇは、ターゲット電流ｉｔｒｇに一番近くなる。この抽出された第２のデータＴＡＰ２は、書き込みコマンドに応じて、制御回路５により、記憶回路４に第１のデータ（最終的に調整されたトリミングデータ）として記憶される。
【００４８】
この図３に示す動作は、図１に示すテスト装置１００１により、各半導体装置（チップ）１００に対して実施される。
【００４９】
なお、図３では、定電流Ｉｒｅｇを段階的に増加するように設定しているが、定電流Ｉｒｅｇを段階的に減少するように設定してもよい。
【００５０】
また、図４は、図２に示す半導体装置１００のトリミングデータを生成する動作の他の例を示すタイミングチャートである。
【００５１】
トリミングデータで生成するために、制御回路５は、該選択信号によりマルチプレクサ６が第２のデータを選択しトリミングデータとして出力する状態にする。
【００５２】
そして、制御回路５は、この状態で、第２のデータを変化（ＴＡＰ０〜ＴＡＰ３）させることにより、トリミングデータ（ＴＡＰ０〜ＴＡＰ３）を変化させて、定電流Ｉｒｅｇを段階的に変化（ここでは増加）するように設定する。
【００５３】
例えば、トリミングデータ（第２のデータ）ＴＡＰ０の時、コンパレータ３は、トリミングデータＴＡＰ０に対応する第２の電流Ｉ２とターゲット電流ｉｔｒｇの比較を行う。このとき、第２の電流Ｉ２はターゲット電流ｉｔｒｇより小さいため、コンパレータ３から出力される比較結果信号ｃｏｍｐ＿ｒｅｓは、“Ｌｏｗ”レベルとなる。
【００５４】
そして、トリミングデータ（第２のデータ）ＴＡＰ１の時、コンパレータ３は、トリミングデータＴＡＰ１に対応する第２の電流Ｉ２とターゲット電流ｉｔｒｇの比較を行う。このとき、第２の電流Ｉ２はターゲット電流ｉｔｒｇより大きいため、コンパレータ３から出力される比較結果信号ｃｏｍｐ＿ｒｅｓは、“Ｈｉｇｈ”レベルとなる。
【００５５】
このとき、制御回路５は、第２のデータＴＡＰ１を抽出する。すなわち、制御回路５は、コンパレータ３から出力された比較結果信号ｃｏｍｐ＿ｒｅｓの論理が反転した時に対応する第２のデータＴＡＰ１を抽出する。
【００５６】
そして、制御回路５は、この抽出した第２のデータＴＡＰ１を記憶回路４に第１のデータとして記憶させる。
【００５７】
ここで、既述のように、第２の電流Ｉ２の値は、設定された第２のデータ（例えば、ＴＡＰ０）に対応する定電流Ｉｒｅｇの値に、この設定された第２のデータ（ＴＡＰ０）に対応する該定電流Ｉｒｅｇを次に設定される第２のデータ（ＴＡＰ１）に対応する定電流Ｉｒｅｇの値から引いた電流値差ΔＩの２分の１を、加算した値である。他の第２のデータに対応する第２の電流Ｉ２も同様の関係である。
【００５８】
したがって、図４に示すように、抽出された第２のデータＴＡＰ２に対応する定電流ｉｒｅｇは、ターゲット電流ｉｔｒｇに一番近くなる。この抽出された第２のデータＴＡＰ２は、書き込みコマンドに応じて、制御回路５により、記憶回路４に第１のデータ（最終的に調整されたトリミングデータ）として記憶される。
【００５９】
この図４に示す動作は、図１に示すテスト装置１００１により、各半導体装置（チップ）１００に対して実施される。
【００６０】
なお、図４では、定電流Ｉｒｅｇを段階的に増加するように設定しているが、定電流Ｉｒｅｇを段階的に減少するように設定してもよい。
【００６１】
ここで、図５は、図１に示す半導体システム１０００が電流トリミングする場合のシーケンスの一例を示す図である。
【００６２】
既述のように、電流トリミングの場合、複数の半導体装置（チップ）１００にテスト装置１００１より同時にターゲット電流を流すことは難しい。この場合、トリミングデータを調整する動作は、半導体装置（チップ）１００毎に順次実施する必要がある。
【００６３】
しかし、本発明の場合、テスト装置１００１からは全半導体装置（チップ）１００に対し同一のターゲット電流を設定し、順次トリミングデータを抽出すればよい。
【００６４】
これにより、テスト装置１００１による測定動作が不要となる。その後、抽出したデータを一度に記憶装置に書き込み／ベリファイを実施することが可能になる。これにより、テスト時間の短縮が可能となる。
【００６５】
例えば、図５に示すように、半導体システム１０００のテスト装置１００１は、ターゲット電流ｉｔｒｇをそれぞれの半導体装置（チップ）１００に順次印加して制御回路５に第２のデータを抽出させる。そして、テスト装置１００１は、該外部信号により、全ての半導体装置１００の制御回路５が抽出した第２のデータを記憶回路４に第１のデータ（最終的に調整されたトリミングデータ）として各々同時に記憶させる。その後、テスト装置１００１は、該外部信号により同時に全ての半導体装置１００のベリファイ回路７にベリファイさせる。
【００６６】
このように、測定単位内の全半導体装置（チップ）１００のトリミングデータの生成が終了後は、記憶回路（ヒューズ素子）４への書き込み/データデータについて同時測定の実施が可能となり、テスト時間の短縮が可能となる。
【００６７】
一方、仕様により、複数の半導体装置（チップ）１００にテスト装置１００１より同時にターゲット電流を流すことができる場合がある。この場合、トリミングデータを調整する動作は、半導体装置（チップ）１００毎に同時に実施することができる。
【００６８】
ここで、図６は、図１に示す半導体システム１０００が電流トリミングする場合のシーケンスの他の例を示す図である。
【００６９】
図６に示すように、半導体システム１０００のテスト装置１００１は、ターゲット電流ｉｔｒｇをそれぞれの半導体装置（チップ）１００に同時に印加して制御回路５に第２のデータを抽出させる。そして、テスト装置１００１は、該外部信号により、全ての半導体装置１００の制御回路５が抽出した第２のデータを記憶回路４に第１のデータとして各々同時に記憶させる。その後、テスト回路１００１は、該外部信号により同時に全ての半導体装置１００のベリファイ回路７にベリファイさせる。
【００７０】
このように、測定単位内の全半導体装置（チップ）１００のトリミングデータの生成が終了後は、記憶回路（ヒューズ素子）４への書き込み/データデータについて同時測定の実施が可能となり、テスト時間の短縮が可能となる。
【００７１】
以上のように、本実施例に係る半導体装置によれば、定電流のトリミングをより容易にすることができる。
【符号の説明】
【００７２】
１  第１のパッド、２  定電流回路、３  コンパレータ、４  記憶回路、５  制御回路、６  マルチプレクサ、７  ベリファイ回路、８  第２のパッド、Ｔｒ１  第１のＭＯＳトランジスタ、Ｔｒ２  第２のＭＯＳトランジスタ、Ｔｒ３  第３のＭＯＳトランジスタ、Ｒ１  第１の抵抗素子、Ｒ２  第２の抵抗素子、１００  半導体装置、１０００  半導体システム、１００１  テスト装置、１００２  基板
【図１】
2010219370.tif 000003
【図２】
2010219370.tif 000004
【図３】
2010219370.tif 000005
【図４】
2010219370.tif 000006
【図５】
2010219370.tif 000007
【図６】
2010219370.tif 000008