(57)【要約】【課題】高価で高精度なステージが不要で製造コストが低く、かつ、生産品の製造コストを低減できると共に、処理精度に優れる工程処理装置を提供すること。【解決手段】ずれ量計測要否判断部１７で、副走査方向９への工程処理部３の目標位置に対する実際の位置のずれ量の計測の有無を判断する。補正移動量算出部１８は、ずれ量計測要否判断部１７の判断に基づいて、新たに計測されたずれ量または予め記憶されたずれ量に基づいて、工程処理部３の副走査方向９の補正移動量を算出する。ステージ制御部１３は、補正移動量算出部１８により算出された補正移動量に応じて工程処理部３の副走査方向９の移動を制御する。カメラ位置調整処理部２０は、主走査部６の走査速度に応じてカメラ位置記憶部１１ｄを参照して、カメラ位置調整部２１の移動を制御する。【選択図】図１
2010079797.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被処理対象物上を第１の方向に移動して上記被処理物に処理を行う工程処理部と、
上記被処理対象物の位置に基づいて決定される目標位置に対する上記工程処理部の処理位置の第２の方向のずれ量を計測するずれ量計測部と、
上記ずれ量に基づいて上記第２の方向に上記工程処理部を移動させることで、上記処理位置を補正する処理位置補正部と、
上記工程処理部と上記ずれ量計測部との間の上記第１の方向の距離を調整する距離調整部と
を備えることを特徴とする工程処理装置。
【請求項２】
請求項１に記載の工程処理装置において、
上記ずれ量と、このずれ量を計測したときの上記第１の方向の上記工程処理部の位置の情報とを記憶するずれ量記憶部を備えることを特徴とする工程処理装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の工程処理装置において、
上記ずれ量計測部が上記ずれ量を計測する必要があるか否かを、予め定められた基準に基づいて判断するずれ量計測要否判断部を備えることを特徴とする工程処理装置。
【請求項４】
請求項３に記載の工程処理装置において、
上記ずれ量計測要否判断部が上記ずれ量の計測が必要であるという判断をした場合において、その判断に基づいて上記ずれ量計測部により計測されたずれ量に基づいて、上記工程処理部の上記第２の方向の補正移動量を算出する一方、上記ずれ量計測要否判断部が上記ずれ量の計測が不必要であると判断した場合において、上記ずれ量記憶部により予め記憶されたずれ量に基づいて、上記工程処理部の上記第２の方向の補正移動量を算出する補正移動量算出部を備えることを特徴とする工程処理装置。
【請求項５】
請求項４に記載の工程処理装置において、
上記工程処理部の上記第１の方向の移動を制御する第１移動制御部と、
上記補正移動量算出部により算出された上記補正移動量に応じて上記工程処理部の上記第２の方向の移動を制御する第２移動制御部と
を備えることを特徴とする工程処理装置。
【請求項６】
請求項１から５までのいずれか一項に記載の工程処理装置において、
上記ずれ量計測部が、上記ずれ量の計測をする場合に、上記工程処理部が上記被処理対象物に対して上記第１の方向に移動する際の速度と、上記ずれ量計測部が、上記ずれ量の計測をしない場合に、上記工程処理部が上記被処理対象物に対して上記第１の方向に移動する際の速度とを記憶する速度記憶部を備えることを特徴とする工程処理装置。
【請求項７】
請求項６に記載の工程処理装置において、
Ｌ［ｍ］を、上記工程処理部と上記ずれ量計測部間との距離とし、ＭおよびＮを、自然数とし、Ｃを、１サイクル長［ｍ］とし、Ｆを、１フレーム長［ｍ］としたとき、
上記距離調整部は、Ｌ＝Ｍ×Ｃ＝Ｍ×Ｎ×Ｆを満たすように、上記ずれ量計測部を上記第１の方向に移動させることを特徴とする工程処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板等の被処理対象物上に処理を施す工程処理装置に関し、特に、基板上にスペーサのパターンを形成する工程処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、工程処理装置としては、例えば、特許第３３７２６７１号公報（特許文献１）に記載されたカラーフィルタを製造する装置がある。この工程処理装置は、所定形状に形成された遮光部の中心線と、吐出ノズルとの位置ずれを検出し、上記吐出ノズルは、フィルタエレメントを着色するための着色剤を吐出するようになっている。
【０００３】
この工程処理装置は、位置ずれから補正量を算出し、吐出ノズルの位置を補正移動してから、吐出ノズルによりフィルタエレメントを着色処理するようになっている。
【０００４】
この工程処理装置は、カラーフィルタの製造に限定するものであり、所定のパターンで形成された遮光部に対する位置検出を行う場合に、好適に使用されている。
【特許文献１】特許第３３７２６７１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、上記所定形状に形成された遮光部の中心線と、吐出ノズルとの位置ずれの検出は、複雑なパターン形状に対しては行いにくく、上記従来の装置を、薄膜トランジスタ(ＴＦＴ)等、パターンが複雑な形状のものの形成に使用しにくい。
【０００６】
そして、仮に、この装置を、パターンが複雑な形状のものの形成に使用しようとすると、動作性能に優れる高価なステージが必要不可欠になって、工程処理装置の製造コストの増大および生産品の製造コストを招く。
【０００７】
そこで、この発明の課題は、パターンが複雑な形状のものの形成にも適用されることができて、製造コストが小さい工程処理装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するため、この発明の工程処理装置は、
被処理対象物上を第１の方向に移動して上記被処理物に処理を行う工程処理部と、
上記被処理対象物の位置に基づいて決定される目標位置に対する上記工程処理部の処理位置の第２の方向のずれ量を計測するずれ量計測部と、
上記ずれ量に基づいて上記第２の方向に上記工程処理部を移動させることで、上記処理位置を補正する処理位置補正部と、
上記工程処理部と上記ずれ量計測部との間の上記第１の方向の距離を調整する距離調整部と
を備えることを特徴としている。
【０００９】
本発明によれば、処理位置補正部および距離調整部を備えるから、第１および第２の方向の両方において、上記処理位置を自在に調整できる。
【００１０】
また、一実施形態では、
上記ずれ量と、このずれ量を計測したときの上記第１の方向の上記工程処理部の位置の情報とを記憶するずれ量記憶部を備える。
【００１１】
上記実施形態によれば、ずれ量記憶部を備えるから、工程処理装置の使用とともに、ずれ量記憶部に記憶させる情報の量が大きくなって、工程処理装置の使用とともに、より迅速にずれ量の調整を行うことができる。
【００１２】
また、一実施形態では、
上記ずれ量計測部が上記ずれ量を計測する必要があるか否かを、予め定められた基準に基づいて判断するずれ量計測要否判断部を備える。
【００１３】
上記実施形態によれば、ずれ量計測要否判断部を備えるから、ずれ量の計測要の回数を減らすことができて、作業の工数を低減できる。
【００１４】
また、一実施形態では、
上記ずれ量計測要否判断部が上記ずれ量の計測が必要であるという判断をした場合において、その判断に基づいて上記ずれ量計測部により計測されたずれ量に基づいて、上記工程処理部の上記第２の方向の補正移動量を算出する一方、上記ずれ量計測要否判断部が上記ずれ量の計測が不必要であると判断した場合において、上記ずれ量記憶部により予め記憶されたずれ量に基づいて、上記工程処理部の上記第２の方向の補正移動量を算出する補正移動量算出部を備える。
【００１５】
上記実施形態によれば、補正移動量算出部を備えるから、上記第２の方向の補正移動量を簡易に算出できる。
【００１６】
また、一実施形態では、
上記工程処理部の上記第１の方向の移動を制御する第１移動制御部と、
上記補正移動量算出部により算出された上記補正移動量に応じて上記工程処理部の上記第２の方向の移動を制御する第２移動制御部と
を備える。
【００１７】
上記実施形態によれば、工程処理部を、２次元空間内において所定の位置に精密に位置させることができる。
【００１８】
また、一実施形態では、
上記ずれ量計測部が、上記ずれ量の計測をする場合に、上記工程処理部が上記被処理対象物に対して上記第１の方向に移動する際の速度と、上記ずれ量計測部が、上記ずれ量の計測をしない場合に、上記工程処理部が上記被処理対象物に対して上記第１の方向に移動する際の速度とを記憶する速度記憶部を備える。
【００１９】
上記実施形態によれば、ずれ量を計測する場合と、しない場合において、上記被処理対象物に対する工程処理部の上記第１の方向に移動する際の速度を変えることができるから、例えば、工程処理のみの場合、ずれ量計測時の走査速度より高速の走査速度とすることができて、作業時間を短縮できる。
【００２０】
また、一実施形態では、
Ｌ［ｍ］を、上記工程処理部と上記ずれ量計測部間との距離とし、ＭおよびＮを、自然数とし、Ｃを、１サイクル長［ｍ］とし、Ｆを、１フレーム長［ｍ］としたとき、
上記距離調整部は、Ｌ＝Ｍ×Ｃ＝Ｍ×Ｎ×Ｆを満たすように、上記ずれ量計測部を上記第１の方向に移動させる。
【００２１】
尚、上記Ｌは、１サイクル長のＭ倍に相当する。また、上記Ｆは、１フレーム長［ｍ］であるが、これは、１画像撮像距離に相当する。また、上記Ｃは、上記Ｆの自然数Ｎ倍であり、１フレーム撮像＋工程処理と補正計測＋補正移動に掛かる第１の方向走査距離に相当する。
【００２２】
上記実施形態によれば、計測処理開始タイミングを、一定間隔に保つことができて、精度良くずれ量計測を行うことができる。
【発明の効果】
【００２３】
本発明の工程処理装置によれば、処理位置補正部および距離調整部を備えるから、第１および第２の方向の両方において、上記処理位置を自在に調整できる。
【００２４】
また、一実施形態の工程処理装置によれば、工程処理部と、ずれ量計測ユニットと、距離調整部と、ずれ量記憶部と、ずれ量計測要否判断部と、補正移動量算出部と、第１移動制御部と、第２移動制御部とを備えるので、高価で高精度なステージを不要とし、低価格で高精度な装置を提供できて、生産品の製造コストを低減できる。また、上記ずれ量計測要否判断部を有するので、ずれ量の計測要の回数を減らすことにより、作業の工程数を低減できる。
【００２５】
また、一実施形態の工程処理装置によれば、距離調整部が、速度記憶部の走査速度設定値を参照して、ずれ量計測部を適当な位置に移動させるから、最適なずれ量計測サイクルで処理を実行することができ、計測処理開始タイミングを一定間隔に保つことができ、精度良くずれ量計測を行うことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
以下、この発明を図示の実施の形態により詳細に説明する。
【００２７】
（第１実施形態）
図１は、本発明の第１実施形態の工程処理装置の構成を示すブロック図である。
【００２８】
図１に示すように、この工程処理装置は、主制御ユニット１０、記憶ユニット１１、工程処理部３、画像処理部１２、ステージ処理部１３および基板位置決め制御部１４を備え、上記主制御ユニット１０は、記憶ユニット１１、工程処理部３、画像処理部１２、ステージ処理部１３および基板位置決め制御部１４の夫々と信号のやり取りを、行うようになっている。
【００２９】
上記主制御ユニット１０は、ずれ量計測要否判断部１７、補正移動量算出部１８、走査速度変更部１９およびカメラ位置調整処理部２０を有する。また、上記記憶ユニット１１は、ずれ量記憶部１１ａ、形状記憶部１１ｂ、速度記憶部としての走査速度記憶部１１ｃおよびカメラ位置記憶部１１ｄを有する。
【００３０】
この工程処理装置は、観察カメラ４、アライメントカメラ１５、主走査部６、副走査部７、カメラ位置制御部２１および吸着ステージ２を備える。
【００３１】
図１に示すように、上記画像処理部１２は、観察カメラ４およびアラインメントカメラと信号をやり取りするようになっている。また、上記ステージ制御部１３は、主走査部６、副走査部７およびカメラ位置制御部２１と信号をやり取りし、基板位置決め制御部１４は、吸着ステージ２と信号をやり取りするようになっている。
【００３２】
図２は、上記構成の３次元的な配置を模式的に示す模式配置図である。
【００３３】
この工程処理装置の工程処理部３は、所定形状に形成された被処理対象物上の予め定められた位置に対して、第１の方向に往復走査を行いながら所定の処理を行う。つまり、この装置では、被処理対象物としての基板１を、吸着ステージ２に固定し、工程処理を行う工程処理部３を、基板１に対して主走査部６および副走査部７により移動させる。そして、移動後の工程処理部３で、基板１の面上に、スペーサ材料を塗布してスペーサのパターンを形成する。
【００３４】
上記主走査部６は、工程処理部３を、第１の方向としての主走査方向８に移動させる一方、副走査部７は、工程処理部３を、第２の方向としての副走査方向９に移動させるようになっている。上記主走査方向８と副走査方向９とは、互いに直交している。上記主走査方向８および副走査方向９は、基板１に平行な面上にある。
【００３５】
上記工程処理部３は、計測カメラ４およびアライメントカメラ１５を有する。上記計測カメラ４は、基板１の形状を計測する。上記計測カメラ４としては、ラインセンサカメラを用いることができる。この場合、所定のライン数で１フレームを形成する。尚、上記計測カメラ４としては、例えば高速シャッターを有するエリアセンサカメラを用いても良い。上記アライメントカメラ１５は、基板１面上に形成されたアライメントマークを撮像するようになっている。
【００３６】
上記計測カメラ４およびアライメントカメラ１５は、画像処理部１２に電気的に接続され、画像処理部１２で、計測カメラ４およびアライメントカメラ１５の画像を処理するようになっている。
【００３７】
上記計測カメラ４および画像処理部１２は、ずれ量計測部としてのずれ量計測ユニットを構成している。このずれ量計測ユニットは、工程処理部３毎に設けられている。このずれ量計測ユニットは、基板１の形状（位置）を計測し、この計測した基板１の形状に基づいて、副走査方向９に関して、目標位置に対する工程処理部３の実際の位置のずれ量を計測するようになっている。
【００３８】
上記主走査部６および副走査部７は、ステージ制御部１３に有線または無線で電気的に接続されている。上記ステージ制御部１３は、主走査部６および副走査部７を制御して、工程処理部３、計測カメラ４およびアライメントカメラ１５の夫々について、基板１に対する位置を調整するようになっている。
【００３９】
上記主走査部６およびステージ制御部１３は、第１移動制御部としての第１移動制御ユニットを構成する一方、副走査部７およびステージ制御部１３は、第２移動制御部としての第２移動制御ユニットを構成している。上記第１移動制御ユニットは、工程処理部３の主走査方向８の移動を制御している。一方、第２移動制御ユニットは、工程処理部３の副走査方向９の移動を制御している。
【００４０】
上記吸着ステージ２は、基板位置決め制御部１４に有線または無線で電気的に接続されている。上記基板位置決め制御部１４は、吸着ステージ２を制御して、基板１のＸＹθ軸の位置を調整するようになっている。
【００４１】
上記主制御ユニット１０は、画像処理部１２、ステージ制御部１３および基板位置決め制御部１４に有線または無線で電気的に接続し、画像処理部１２、ステージ制御部１３および基板位置決め制御部１４を制御するようになっている。
【００４２】
また、上記主制御ユニット１０は、記憶ユニット１１に線または無線で電気的に接続されている。上記主制御ユニット１０は、記憶ユニット１１と双方向の通信が可能になっている。すなわち、上記主制御ユニット１０は、記憶ユニット１１にデータを入力し、また、記憶ユニット１１からデータが出力されるようになっている。
【００４３】
上述のように、上記主制御ユニット１０は、ずれ量計測要否判断部１７と、補正移動量算出部１８と、走査速度変更部１９とを有する。また、上記記憶ユニット１１は、ずれ量記憶部１１ａと、形状記憶部１１ｂと、走査速度記憶部１１ｃと、カメラ位置記憶部１１ｄとを有する。
【００４４】
上記ずれ量記憶部１１ａは、工程処理部３のずれ量と、工程処理部３の位置情報とのセットを記憶する。ここで、上記工程処理部３のずれ量は、上記ずれ量計測ユニット（計測カメラ４および画像処理部１２）により計測される。また、上記工程処理部３の位置情報は、上記ずれ量を計測したときの主走査方向８の工程処理部３の位置情報である。
【００４５】
上記ずれ量計測要否判断部１７は、ずれ量計測ユニットにより新たにずれ量を計測する必要があるか否かを、予め定められた基準に基づいて判断するようになっている。また、上記補正移動量算出部１８は、ずれ量計測要否判断部１７により新たなずれ量の計測が必要であると判断された場合、上記ずれ量計測ユニットにより新たに計測されたずれ量に基づいて、工程処理部３の副走査方向９の補正移動量を算出する一方、ずれ量計測要否判断部１７により新たなずれ量の計測が必要でないと判断された場合、ずれ量記憶部１１ａにより予め記憶されたずれ量に基づいて、工程処理部３の副走査方向９の補正移動量を算出するようになっている。また、上記第２移動制御ユニット（副走査部７およびステージ制御部１３）は、補正移動量算出部１８により算出された補正移動量に応じて、工程処理部３の副走査方向９の移動を制御するようになっている。
【００４６】
上記形状記憶部１１ｂは、基板１の形状の情報を記憶する。上記ずれ量計測要否判断部１７は、形状記憶部１１ｂの形状情報を参照して、ずれ量計測ユニットの対象とすべき形状位置を判断する。
【００４７】
上記走査速度変更部１９は、工程処理部３の主走査方向８の走査速度を変更する。上記走査速度記憶部１１ｃは、ずれ量の計測時に必要な走査速度と、ずれ量の計測をせずに工程処理のみ行う場合に必要な走査速度とを、記憶する。上記走査速度変更部１９は、走査速度記憶部１１ｃに記憶された操作速度に基づいて、工程処理部３の主走査方向８の走査速度を変更するようになっている。
【００４８】
上記カメラ位置記憶部１１ｄは、処理走査速度に応じたカメラ位置調整部２１上における計測カメラ４の位置情報を記憶する。上記カメラ位置調整部２１は、ステージ制御部１３に有線または無線で電気的に接続されている。上記ステージ制御部１３は、カメラ位置記憶部１１ｄの位置情報を参照して、カメラ位置調整部２１を目的の位置へ移動制御する。このことにより、計測カメラ４を、主走査方向８と同一方向に移動させて、工程処理部３と、ずれ量計測ユニットの計測カメラ４との距離を調整する。
【００４９】
上述のように、上記主制御ユニット１０は、カメラ位置調整処理部２０を有する。上記カメラ位置調整処理部２０は、カメラ位置記憶部１１ｄの情報を参照し、必要に応じてステージ制御部１３を介してカメラ調整部２１を移動する。上記カメラ位置記憶部１１ｄ、カメラ位置調整処理部２０、カメラ位置調整部２１およびステージ制御部１３は、距離調整部を構成している。
【００５０】
図３は、この工程処理装置による工程処理の手順を示すフローチャートである。
【００５１】
図３に示すように、この工程処理装置は、先ず、ステップＳ１で、基板搬入処理を行う。この基板搬入処理では、図示しない基板搬送ユニットにより、吸着ステージ２へ基板１を搬入する。上記基板１を、位置決め制御部１４により、吸着ステージ２に吸着固定する。
【００５２】
次に、ステップＳ２で、アライメント処理を行う。詳しくは、上記基板１の上面上に形成されたアライメントマークを撮像するために、ステージ制御部１３の指示に基づいて、主走査部６および副走査部７を制御して、アライメントカメラ１５を、アライメントマークが撮像可能な位置へ移動する。上記画像処理部１２により、撮像したマーク位置を計測して、ＸＹθ軸補正量を算出する。上記主制御ユニット１０は、算出された上記ＸＹθ軸補正量に基づいて、基板位置決め制御部１４へ移動指令を行い、吸着ステージ２の姿勢を制御する。
【００５３】
次に、ステップＳ３では、載置された基板１に対する工程処理のための準備を行う。詳しくは、このステップＳ３で、上記主制御ユニット１０は、図示しないデータサーバーからパターンデータを読み出し、その読み出したパターンデータに応じて、工程処理部３およびステージ制御部１３へ処理指令を送る。
【００５４】
上記主制御ユニット１０は、ステージ制御部１３へ、主走査部６と副走査部７との絶対位置指令値あるいは相対移動指令値を出力し、このことに基づいて、工程処理部３を処理位置へ移動させる。尚、主制御ユニット１０は、上記図示しないデータサーバーからのパターンデータに基づいて、上記絶対位置指令値あるいは相対移動指令値を算出する。
【００５５】
また、上記走査速度変更部１９は、走査速度記憶部１１ｃに記憶された走査速度に基づいて、工程処理部３の主走査方向８の走査速度を変更し、カメラ位置調整処理部２０は、カメラ位置記憶部１１ｄの情報を参照して、カメラ位置調整部２１を目的の位置へ移動する。
【００５６】
例えば、計測カメラ４として、８０［Ｈｚ］仕様のラインスキャンカメラを採用した場合を考える。計測用の画像サイズを１フレーム１６００ラインに決め、ずれ量計測と副軸方向補正量移動に掛かる時間を最大８０［ｍｓｅｃ］と見積る。また、ラインスキャンカメラが計測と移動を行っている間も、ラインスキャンカメラで、１フレーム１６００ラインの画像を繰り返し撮像する。
【００５７】
図４は、ラインスキャンカメラのこの動作について説明する図である。
【００５８】
図４において、計測用画像撮像と、その直後に行われる計測と移動中の画像撮像の繰り返しを１サイクルとすると、そのサイクル長の整数倍がユニット間距離となるように計測カメラ４の位置を調整する必要がある。
【００５９】
ここで、１０［ｍｍ］間隔で工程処理を行う機種に対して、走査速度１００［ｍｍ／ｓｅｃ］に設定することにより、ラインスキャン１２．５［μｓｅｃ］から１フレーム１６００ラインの移動距離は、１２.５・１０−６×１.６・１０３×１.０・１０−１＝２.０×１０−３［ｍ］＝２［ｍｍ］であり、計測と移動に掛かる時間８０［ｍｓｅｃ］の間に進む距離は、０.１［ｍ／ｓｅｃ］×８０・１０−３［ｓｅｃ］＝８［ｍｍ］である。
【００６０】
また、１サイクル長を、１０［ｍｍ］として、５フレーム分の距離とし、ユニット間距離を、１１０［ｍｍ］にすることにより、１ユニットに対して１１０［ｍｍ］／１０［ｍｍ］＝１１サイクルの処理を行う計算になる。
【００６１】
尚、別機種として９［ｍｍ］間隔で工程処理を行う場合では、同じ速度とユニット間距離設定で計算すると、１１０［ｍｍ］／９［ｍｍ］＝１２．２２サイクルとなり整数倍を満たさない。そこで、速度を９０［ｍｍ／ｓｅｃ］に落とし、１１サイクルで計算すると、ユニット間距離を９９［ｍｍ］に変更することにより、条件を満足することが可能となる。
【００６２】
再度、図３を参照して、続いて、ステップＳ４では、ステージ制御部１３の指示により、主走査部６および副走査部７を制御して、工程処理部３を走査処理の開始位置へ移動し、工程処理を開始する。上記基板１の全てのパターンデータに対して工程処理を行う。工程処理部３は、パターンデータに応じて、主走査方向８へ走査中に、図示しないエンコーダ信号により処理タイミングを計って、工程処理を行う。
【００６３】
次に、ステップＳ５では、ずれ量計測要否判断部１７により、ずれ量計測の要否を判断し、必要であればステップＳ６へ、不要であればステップＳ８へ進む。
【００６４】
ここで、ずれ量計測の要否判断は、予め定められた基準に基づいて判断する。
【００６５】
例えば、往復走査処理を行う場合、往路と復路の処理位置が隣接しているのであれば、隣接位置では、ずれ量の差が位置検出誤差と比較して大差無いことが予め分かっている場合において、往路で計測したずれ量に基づいて復路の補正量を算出すれば良く、往路では、ずれ量の計測が要である一方、復路では、ずれ量の計測が否であると判断して処理することが出来る。
【００６６】
また、例えば、パターンの描画装置が高精度であり、基板１に対して一度ずれ量を計測すれば、その後の処理はそのずれ量を基に補正量を算出するのみで良い場合、最初の往路処理時にのみずれ量計測要とし、その後の処理はずれ量計測否と判断して処理することが出来る。
【００６７】
また、上記ずれ量計測要否判断部１７は、形状記憶部１１ｂの形状情報を参照して、ずれ量計測ユニットの対象とすべき形状位置についてのみ、ずれ量の計測が必要であると判断するようにしてもよい。
【００６８】
また、上記走査速度変更部１９は、走査速度記憶部１１ｃに記憶された走査速度に基づいて、工程処理部３の主走査方向８の走査速度を変更するようにしてもよい。
【００６９】
工程処理のみの場合の走査速度に比べ、ずれ量計測を要する場合の走査速度の方を低速にする必要がある。したがって、ずれ量の計測が要である回数を減らすことにより、タクトの短縮を図ることができる。
【００７０】
次に、ステップＳ６では、ずれ量計測ユニットによりずれ量を計測する。図５，６は、上記計測カメラ４で撮像した画像データを基に、基板の位置を決定する際の流れについて説明する図である。ステップＳ６では、上記計測カメラ４の撮像画像を投影処理し、所定の閾値を超える領域のエッジ部を検出し、その中心位置を実際の位置として検出している。
【００７１】
図５では、目標位置（目標中心位置）と実際の位置（検出位置）が同じであるため、ずれ量０となる。一方、図６では、目標位置（目標中心位置）と実際の位置（検出位置）が異なるため、計測カメラ４の撮像画像上の目標位置と実際の位置との差を、ずれ量として算出する。
【００７２】
例えば、水平方向に５１２画素を有する計測カメラを使用した場合において、予め目標とする位置を２５６画素の位置に設定した場合、実際の位置が２５０画素の位置であれば−６画素分がずれ量算出の元データとなる。ここで、素子サイズ１４ミクロンの計測カメラに、固定倍率１０倍レンズを使用して撮像した場合、１画素１．４ミクロン相当分解能となり、−６画素では、−６×１．４＝−８．４ミクロンのずれ量と算出される。
【００７３】
ステップＳ７では、計測位置とずれ量をセットにして、ずれ量記憶部１１ａに記憶する。この時、計測位置は、主走査部６および副走査部７の位置情報を基に生成するものとして、ずれ量計測時の副走査部７の位置が、後の補正移動量算出に必要となる。
【００７４】
ステップＳ８では、予め記憶してあるずれ量、あるいは過去に計測した結果データとして、ずれ量記憶部１１ａからずれ量記憶部１１ａに記憶されたずれ量を取得する。
【００７５】
ステップＳ９では、ステップ７またはステップ８に基づく、計測または取得したずれ量に基づいて、上記補正移動量算出部１８により、補正移動量を算出する。上記工程処理部３と計測カメラ４の相対距離を考慮し、先行する計測カメラ４で検出した位置情報を基に算出されたずれ量に対し、工程処理部３が当該処理位置に到達する際、その時点における副走査部７の位置と、計測時点における副走査部７の位置との差に、計測したずれ量を足し込むことにより、補正移動量を算出するのである。
【００７６】
例えば、計測時点の副走査部７の位置が＋１００ミクロンの位置で、算出ずれ量が−８．４ミクロン、工程処理部３が計測位置到達時（補正移動実施位置）の副走査部７の位置が＋１０５ミクロンであったとすると、補正に必要な移動量は、（１００−１０５）＋（−８．４）＝−１３．４ミクロンとなる。つまり、（補正移動量）＝（計測時の位置）−（現在位置）＋（ずれ量）となる。
【００７７】
ステップＳ１０では、第２移動制御ユニット（副走査部７およびステージ制御部１３）により、算出された補正移動量に応じて、工程処理部３を副走査方向９へ補正移動する。上記ずれ量記憶部１１ａおよび第２移動制御ユニット（副走査部７およびステージ制御部１３）は、処理位置補正部を構成している。
【００７８】
また、ステップＳ１１では、その走査処理の終了かどうかを判断し、終了ならステップＳ１２へ、終了でないならステップＳ５へ戻る。
【００７９】
また、ステップＳ１２では、上記走査処理の終了により、工程処理が終了したかどうかを判断し、終了ならステップＳ１３へ、終了でないならステップＳ１４へ進む。
【００８０】
続いて、ステップＳ１４では、計測カメラ４の位置調整の要否を判断し、必要であればステップＳ１５へ、不要であればステップＳ１６へ進む。
【００８１】
ステップＳ１５では、走査速度等条件に応じた計測カメラ４の位置調整を行い、ステップＳ１６へ進む。
【００８２】
ステップＳ１６では、次走査開始位置へ移動し、ステップＳ５へ戻り、次の走査処理を開始する。
【００８３】
また、ステップＳ１３では、基板搬出処理を行う。主制御ユニット１０の指示により、吸着ステージ２により吸着を解除する。次に、図示しない基板搬送ユニットにより、基板１を搬出する。
【００８４】
上記実施形態の工程処理装置によれば、工程処理部３と、ずれ量計測ユニット４，１２と、ずれ量記憶部１１ａと、ずれ量計測要否判断部１７と、補正移動量算出部１８と、第１移動制御ユニット６，１３と、第２移動制御ユニット７，１３とを備えるので、高価で高精度なステージを不要とせずに、低価格で高精度な装置を提供できて、生産品の製造コストを低減できる。また、ずれ量計測要否判断部１７を有するので、ずれ量の計測要の回数を減らすことができて、作業の工程数を低減できる。
【００８５】
また、上記ずれ量計測要否判断部１７は、形状記憶部１１ｂの形状情報を参照して、ずれ量計測ユニット（計測カメラ４および画像処理部１２）の対象とすべき形状位置についてのみ、ずれ量の計測が必要であると判断するので、ずれ量の計測要の回数を減らすことができて、作業の工程数を低減できる。
【００８６】
また、上記走査速度変更部１９は、走査速度記憶部１１ｃに記憶された走査速度に基づいて、工程処理部の主走査方向８の走査速度を変更するので、工程処理のみの場合、ずれ量計測時の走査速度より高速の走査速度とすることができて、作業時間を短縮できる。
【００８７】
なお、この発明は上述の実施形態に限定されない。例えば、形状記憶部１１ｂ、走査速度変更部１９および走査速度記憶部１１ｃを、省略してもよい。また、工程処理部３を複数設けてもよく、ずれ量計測ユニットは、工程処理部３毎に設ければよい。また、第１の方向（主走査方向８）と第２の方向（副走査方向９）とは、互いに直交する必要はなく、互いに異なる方向であればよい。また、工程処理としては、カラーフィルタの製造や、機械加工であってもよい。
【図面の簡単な説明】
【００８８】
【図１】本発明の第１実施形態の工程処理装置の構成を示すブロック図である。
【図２】上記構成の３次元的な配置を模式的に示す模式配置図である。
【図３】第１実施形態の工程処理装置による工程処理の手順を示すフローチャートである。
【図４】ラインスキャンカメラのこの動作について説明する図である。
【図５】計測カメラで撮像した画像データを基に、基板の位置を決定する際の流れについて説明する図である。
【図６】計測カメラで撮像した画像データを基に、基板の位置を決定する際の流れについて説明する図である。
【符号の説明】
【００８９】
１  基板（被処理対象物）
２  吸着ステージ
３  工程処理部
４  計測カメラ
６  主走査部
７  副走査部
８  主走査方向
９  副走査方向
１０  主制御ユニット
１１  記憶ユニット
１１ａ  ずれ量記憶部
１１ｂ  形状記憶部
１１ｃ  走査速度記憶部
１１ｄ  カメラ位置記憶部
１２  画像処理部
１３  ステージ制御部
１４  基板位置決め制御部
１５  アライメントカメラ
１７  ずれ量計測要否判断部
１８  補正移動量算出部
１９  走査速度変更部
２０  カメラ位置調整処理部
２１  カメラ位置調整部
【図１】
2010079797.tif 000003
【図２】
2010079797.tif 000004
【図３】
2010079797.tif 000005
【図４】
2010079797.tif 000006
【図５】
2010079797.tif 000007
【図６】
2010079797.tif 000008