(57)【要約】【課題】ポリエチレンナフタレンジカルボキシレートを主成分とする光学用ポリエステルフィルムでありながら、ハードコート積層時の干渉斑による視認性の低下を招かず、かつ高い透明性を有する光学用ポリエステルフィルムを提供する。【解決手段】ポリエチレンナフタレンジカルボキシレートを主たる成分としてなる二軸配向ポリエステルフィルムの少なくとも片面に塗布層が設けられた光学用ポリエステルフィルムであって、塗布層の少なくとも１成分が共重合ポリエステル樹脂組成物であり、該共重合ポリエステルが全繰り返し単位を基準として４０〜９９モル％の２，６−ナフタレンジカルボン酸を含むジカルボン酸成分と、２０〜６０モル％の特定のフルオレン構造を有するグリコール成分および３０〜８０モル％のエチレングリコールを含むグリコール成分とから構成される共重合ポリエステルであり、塗布層の厚みが０．０５ｕｍ以上０．２０ｕｍ以下である光学用ポリエステルフィルムによって達成される。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリエチレンナフタレンジカルボキシレートを主たる成分としてなる二軸配向ポリエステルフィルムの少なくとも片面に塗布層が設けられた光学用ポリエステルフィルムであって、塗布層の少なくとも１成分が共重合ポリエステルであり、該共重合ポリエステルが全繰り返し単位を基準として４０〜９９モル％の２，６−ナフタレンジカルボン酸を含むジカルボン酸成分と、２０〜６０モル％の下記式（Ｉ）で表わされるフルオレン構造を有するグリコール成分および３０〜８０モル％のエチレングリコールを含むグリコール成分とから構成される共重合ポリエステルであり、塗布層の厚みが０．０５ｕｍ以上０．２０ｕｍ以下であることを特徴とする光学用ポリエステルフィルム。
【化１】
2010284943.tif 000007
（Ｒ1は炭素数２から４のアルキレン基、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、及びＲ5は水素、炭素数１から４のアルキル基、アリール基またはアラルキル基であり、それぞれ同じであっても異なっていてもよい）
【請求項２】
式（Ｉ）で表わされるフルオレン構造を有するグリコール成分が９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレンである請求項１に記載の光学用ポリエステルフィルム。
【請求項３】
共重合ポリエステルが全繰り返し単位を基準としてさらに０．１〜５モル％のスルホン酸塩の基を有する芳香族ジカルボン酸および０〜６０モル％の他の芳香族ジカルボン酸を含有してなる請求項１または２に記載の光学用ポリエステルフィルム。
【請求項４】
塗布層の粒子含有量が塗布層の重量を基準として１％以下である請求項１〜３のいずれかに記載の光学用ポリエステルフィルム。
【請求項５】
フィルムのヘイズ値が０％以上１．０％以下である請求項１〜４のいずれかに記載の光学用ポリエステルフィルム。
【請求項６】
塗布層の上にさらにハードコート層が設けられている請求項１〜５のいずれかに記載の光学用ポリエステルフィルム。
【請求項７】
２００℃で１０分加熱後のフィルム長手方向の熱収縮率と幅方向の熱収縮率がそれぞれ０．１％以下である請求項１〜６のいずれかに記載の光学用ポリエステルフィルム。
【請求項８】
フレキシブルディスプレイ基板に用いられる請求項１〜７のいずれかに記載の光学用ポリエステルフィルム。
【請求項９】
フレキシブルディスプレイが有機ＥＬディスプレイまたは電子ペーパーである請求項８に記載の光学用ポリエステルフィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はフレキシブルディスプレイ等に用いられる光学用ポリエステルフィルムに関し、さらに詳しくは、光学用ポリエステルフィルム上にハードコート層を設けた場合に発生する干渉斑を抑制し、かつ高い透明性を有する光学用ポリエステルフィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
ポリエステルフィルム、特にポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレンジカルボキシレートなどの二軸配向フィルムは、優れた機械的性質、耐熱性、耐薬品性を有するため、磁気テープ、強磁性薄膜テープ、写真フィルム、包装用フィルム、電子部品用フィルム、電気絶縁フィルム、金属ラミネート用フィルム、ガラスディスプレイ等の表面に貼るフィルム、各種部材の保護用フィルム等の素材として広く用いられている。
【０００３】
液晶ディスプレイに代表される画像表示装置には、従来ガラス基板が用いられてきた。しかし近年、画像表示装置には、より一層の薄型化、軽量化、大画面化、形状の自由度、曲面表示などが求められている。そこで、重くて割れやすいガラス基板に代えて、高透明な高分子フィルム基板が検討されるようになってきている。また液晶ディスプレイはバックライトを採用せざるを得ないため、多くの部材を使用する必要がある。
【０００４】
それに対し、エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示素子、特に有機ＥＬ素子のような自発光素子、電子ペーパーのような電子インクを用いた自己印字機能を有するディスプレイは、液晶ディスプレイに較べてより少ない部材で対応できるため、薄肉化、携帯性、フレキシブル性が求められる用途に積極的に開発が進められている。
【０００５】
これら有機ＥＬや電子ペーパーの基板材料としても高分子フィルムが検討されており、高分子フィルムの可撓性を利用して、携帯可能な用途開発、ローラブルなフレキシブルディスプレイなどの開発も進められている。それに伴い、高分子基板フィルムに対し、より一層の薄肉化が求められる一方、基板フィルムに積層されるＴＦＴ層の熱処理温度である２００℃前後での高い寸法安定性が求められている。
【０００６】
高い寸法安定性を持つ高分子フィルム材料としては、ポリエチレンナフタレンジカルボキシレートを樹脂材料とした二軸配向ポリエステルフィルムが多く用いられている（例えば特許文献１、特許文献２）。
【０００７】
一方で、一般にエレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示素子、特に有機ＥＬ素子のような自発光素子、電子ペーパーのような電子インクを用いた自己印字機能を有するディスプレイは湿度に対する耐久性に劣るため、フレキシブルディスプレイを作成する際にはガスバリア層の形成が不可欠である。このようなガスバリア層を形成する場合には、樹脂フィルム上に直接積層する場合もあるが、微小な欠陥からガスバリア性能が低下するために、多くの場合、樹脂フィルム上にハードコート層を積層したのちにガスバリア層を積層する方法が用いられている。
【０００８】
樹脂フィルム上にハードコート層を積層した場合、ハードコート層と樹脂フィルムとの屈折率が異なる場合には界面反射による干渉斑が生じ、ディスプレイに影響を与えることから干渉斑の低減が求められている。
【０００９】
ハードコート層とフィルム間で発生する界面反射を低減する方法としては、例えば特許文献３において、ポリエチレンテレフタレートフィルム上に設ける易接着層として高分子バインダーと微粒子の屈折率がともに１．５０〜１．６０の範囲のものを用いることにより、ヘイズ値が小さく、界面反射を抑制する方法が提案されている。
【００１０】
さらには、屈折率の高いハードコートとの界面反射抑制のために、例えば特許文献４にはポリエチレンテレフタレートフィルム上に屈折率の高い微粒子を用いた塗布層を設けることが提案されている。しかしながら、高屈折率の微粒子を添加する方法では大量に微粒子を添加しなければならず、フィルムのヘイズが高くなり、透明性の低下につながる。
【００１１】
また、耐熱性に優れるポリエチレンナフタレンジカルボキシレートを樹脂材料とした二軸配向ポリエステルフィルムの場合には、ポリエステルフィルムの屈折率が１．７以上の高屈折率となるため、積層されるハードコート層との間で干渉斑がポリエチレンテレフタレートの時よりも生じやすく、視認性の低下につながりやすい。このような高屈折率のポリエステルフィルム上にハードコート層を設けた場合に生じる干渉斑を低減するために、例えば特許文献２において、共押出によりポリエチレンナフタレンジカルボキシレート層の上に低融点のポリエステル層を設け、熱処理で屈折率を制御し、フィルム全体の面内方向の平均屈折率を１．７０以下にする方法が提案されている。
【００１２】
一方、ポリエステルフィルムに、種々の目的に応じた塗布層を設ける検討がなされているが、接着性の塗布層をポリエチレンナフタレンジカルボキシレートフィルム上に設ける方法で高いヘイズ特性とハードコート層との間の干渉斑が改善された光学用途に適したフィルムは未だ提案されていないのが現状である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１３】
【特許文献１】特開２００３−３３４９１２号公報
【特許文献２】特開２００４−９８３２４号公報
【特許文献３】特開２００４−２８４３３１号公報
【特許文献４】特開２００４−５４１６１号公報
【特許文献５】特開２００７−２６８７１１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
本発明の目的は、ポリエチレンナフタレンジカルボキシレートを主成分とする光学用ポリエステルフィルムでありながら、ハードコート積層時の干渉斑による視認性の低下を招かず、かつ高い透明性を有する光学用ポリエステルフィルムを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明者らは、前記課題を解決するために鋭意検討した結果、ジカルボン酸成分として２，６−ナフタレンジカルボン酸を含み、かつグリコール成分として特定のフルオレン構造を有する共重合成分を含む共重合ポリエステルを高分子バインダーとして用いることにより、従来の光学用ポリエステルフィルムの塗布層の屈折率特性が１．６０以下のものであったところ、１．６０を越える高屈折率の塗布層をポリエチレンナフタレンジカルボキシレートフィルムに設けることが可能となり、その塗布層厚みを制御すれば、高屈折率の粒子を用いることなく高透明でかつハードコート層積層時の干渉斑が解消された光学用フィルムが得られることを見出し、本発明を完成するに至った。  
【００１６】
すなわち本発明の目的は、ポリエチレンナフタレンジカルボキシレートを主たる成分としてなる二軸配向ポリエステルフィルムの少なくとも片面に塗布層が設けられた光学用ポリエステルフィルムであって、塗布層の少なくとも１成分が共重合ポリエステルであり、該共重合ポリエステルが全繰り返し単位を基準として４０〜９９モル％の２，６−ナフタレンジカルボン酸を含むジカルボン酸成分と、２０〜６０モル％の下記式（Ｉ）で表わされるフルオレン構造を有するグリコール成分および３０〜８０モル％のエチレングリコールを含むグリコール成分とから構成される共重合ポリエステルであり、塗布層の厚みが０．０５ｕｍ以上０．２０ｕｍ以下である光学用ポリエステルフィルムによって達成される。
【００１７】
【化１】
2010284943.tif 000002
（Ｒ1は炭素数２から４のアルキレン基、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、及びＲ5は水素、炭素数１から４のアルキル基、アリール基またはアラルキル基であり、それぞれ同じであっても異なっていてもよい）
【００１８】
また本発明の光学用ポリエステルフィルムは、好ましい態様として、式（Ｉ）で表わされるフルオレン構造を有するグリコール成分が９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレンであること、共重合ポリエステルが全繰り返し単位を基準としてさらに０．１〜５モル％のスルホン酸塩の基を有する芳香族ジカルボン酸および０〜６０モル％の他の芳香族ジカルボン酸を含有してなること、塗布層の粒子含有量が塗布層の重量を基準として１％以下であること、フィルムのヘイズ値が０％以上１．０％以下であること、塗布層の上にさらにハードコート層が設けられていること、２００℃で１０分加熱後のフィルム長手方向の熱収縮率と幅方向の熱収縮率がそれぞれ０．１％以下であること、フレキシブルディスプレイ基板に用いられること、フレキシブルディスプレイが有機ＥＬディスプレイまたは電子ペーパーであること、の少なくともいずれか１つを具備するものも包含する。
【発明の効果】
【００１９】
本発明の光学用ポリエステルフィルムは、ポリエチレンナフタレンジカルボキシレートを主成分とするフィルムを用いることで２００℃前後での高い寸法安定性に優れ、特定成分の塗布層を有することでハードコート層を積層した際に干渉斑の発生を抑制でき、しかもヘイズ特性に優れ高透明であることから、例えば有機ＥＬディスプレイや電子ペーパーなどのフレキシブルディスプレイ基板として用いた場合に視認性に優れたフレキシブルディスプレイを提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
以下、本発明を詳しく説明する。
＜二軸配向ポリエステルフィルム＞
本発明の光学用ポリエステルフィルムは、ポリエチレンナフタレンジカルボキシレートを主たる成分としてなる二軸配向ポリエステルフィルムの少なくとも片面に塗布層が設けられた層構成からなる。
【００２１】
以下、二軸配向ポリエステルフィルムを構成する成分について説明する。
＜ポリエステル＞
本発明の二軸配向ポリエステルフィルムは、主たる成分がポリエチレンナフタレンジカルボキシレートである。かかるポリエチレンナフタレンジカルボキシレートは、ナフタレンジカルボン酸またはそのエステル形成性誘導体と、エチレングリコールまたはそのエステル形成性誘導体とから合成される。ここで「主たる成分」とは、ポリエチレンナフタレンジカルボキシレートを含むフィルム層の重量を基準として９０重量％以上、好ましくは９５重量％以上、特に好ましくは９９重量％以上であることを意味する。また、ナフタレンジカルボン酸として、２，６−ナフタレンジカルボン酸、２，７−ナフタレンジカルボン酸、１，５−ナフタレンジカルボン酸を挙げることができ、これらの中で２，６−ナフタレンジカルボン酸が特に好ましい。
【００２２】
ポリエチレンナフタレンジカルボキシレートは、ホモポリマーであっても共重合体であってもよい。かかる共重合成分は、ポリエチレンナフタレンジカルボキシレートを構成する全繰返し単位の１０モル％以下であることが好ましく、更に好ましくは５モル％以下、特に好ましくは１モル％以下である。
【００２３】
共重合成分としては、トリメチレングリコール、テトラメチレングリコール、ヘキサメチレングリコール、ネオペンチルグリコール、シクロヘキサンジメタノール、ジエチレングリコール、ポリエチレンオキシドグリコール、ビスフェノールスルホンのエチレンオキサイド付加物などのジオール成分を用いることができる。また共重合成分として、アジピン酸、セバシン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、２，７−ナフタレンジカルボン酸、１，５−ナフタレンジカルボン酸、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸、４，４’−ジフェニルジカルボン酸、５−ナトリウムスルホイソフタル酸などのジカルボン酸成分を用いることができる。これらの化合物は１種のみ用いてもよく、２種以上用いてもよい。
【００２４】
これらの共重合成分の中で、酸成分としてはイソフタル酸、テレフタル酸、４，４’−ジフェニルジカルボン酸、２，７−ナフタレンジカルボン酸を、グリコール成分としてはジエチレングリコール、トリメチレングリコール、ヘキサメチレングリコール、ネオペンチルグリコール、ビスフェノールスルホンのエチレンオキサイド付加物を好ましい例として挙げることができる。
【００２５】
ポリエチレンナフタレンジカルボキシレートは、公知の方法を適用して製造することができる。例えば、ジオールとジカルボン酸をエステル化反応させ、次いで得られる反応生成物を重縮合反応させてポリエステルとする方法で製造することができる。また、これらの原料モノマーの誘導体をエステル交換反応させ、次いで得られる反応生成物を重縮合反応させてポリエステルとする方法で製造してもよい。
【００２６】
ポリエチレンナフタレンジカルボキシレートの固有粘度は、ο−クロロフェノール中、３５℃において、０．４０ｄｌ／ｇ以上であることが好ましく、０．４０ｄｌ／ｇ以上０．９０ｄｌ／ｇ以下であることがさらに好ましい。固有粘度が下限値に満たない場合、フィルム製膜時に切断が多発したり、成形加工後の製品の強度が不足することがある。一方固有粘度が上限値を超える場合、溶融粘度が高いため、溶融押出が困難であるうえ、重合に長時間を要し生産性が悪くなることがある。
【００２７】
＜その他の成分＞
本発明のポリエチレンナフタレンジカルボキシレートを主たる成分としてなる二軸配向ポリエステルフィルムには、ポリエチレンナフタレンジカルボキシレート成分以外に、本発明の課題を損なわない範囲内で少量の樹脂成分を含んでもよい。ポリエチレンナフタレンジカルボキシレート以外の成分の含有量は、該フィルム層の重量を基準として１０重量％以下であることが好ましく、さらに好ましくは５重量％以下、特に好ましくは１重量％以下の範囲内である。
【００２８】
本発明のポリエチレンナフタレンジカルボキシレートフィルム層は、該フィルム層の重量を基準として好ましくは０．０００５〜０．０１重量％の範囲で粒子を含むことができる。基材層の粒子含有量がかかる範囲であれば、フィルムの全光線透過率は８５％を超えており、またヘイズ値が１．０％以下となり透明性を維持することができる。粒子はフィルム製膜時に添加することができる他、回収フィルム中に含まれる粒子であってもよい。粒子の種類は特に問わない。
【００２９】
＜二軸配向フィルムの製膜方法＞
本発明の二軸配向ポリエステルフィルムは、ポリエチレンナフタレンジカルボキシレートをフィルム状に溶融押出し、キャスティングドラムで冷却固化させて未延伸フィルムとし、この未延伸フィルムをＴｇ〜（Ｔｇ＋６０）℃の温度で長手方向（以下、連続製膜方向、縦方向、ＭＤ方向と称することがある）、幅方向（以下、横方向、ＴＤ方向と称することがある）に倍率３．１倍〜４．５倍で二軸延伸することが好ましい。また長手方向の延伸倍率と幅方向の延伸倍率との差は０．３以下であることが好ましい。ここでＴｇはポリエチレンナフタレンジカルボキシレートのガラス転移点、Ｔｍはポリエチレンナフタレンジカルボキシレートの融点をそれぞれ表わす。
延伸は一般に用いられる方法、例えばロールによる方法やステンターを用いる方法で行うことができ、長手方向、幅方向に同時に延伸してもよく、また長手方向、幅方向に逐次延伸してもよい。
【００３０】
二軸延伸されたフィルムは、その後、（Ｔｍ−１００）〜（Ｔｍ−５）℃の温度で１〜１００秒間熱固定することが好ましく、より好ましい熱固定温度は２００〜２５０℃、特に好ましい熱固定温度は２２０〜２４０℃である。かかる熱固定処理が施された二軸延伸フィルムに対してさらに０．５〜３％の弛緩率で熱弛緩処理を行うことにより、２００℃における熱収縮率を０．１％以下にすることができる。ここで熱固定処理とは、フィルム両端部を保持した固定状態で熱処理を行う方法である。
このようにして得られたポリエチレンナフタレンジカルボキシレートフィルム層の屈折率は、フィルム面内方向において長手方向および幅方向とも１．７０を超えるものである。
【００３１】
＜塗布層＞
本発明では、上記二軸配向ポリエステルフィルムの少なくとも片面に塗布層（以下「塗膜」と称することがある）が設けられ、該塗布層は、少なくとも１成分が共重合ポリエステル樹脂組成物からなる高分子バインダーを含有する。
【００３２】
＜高分子バインダー＞  
本発明の塗布層を構成する高分子バインダーは、少なくとも１成分が共重合ポリエステルであることが必要である。塗布層を構成する高分子バインダーとして、必要に応じてさらにアクリル樹脂、ウレタン樹脂およびこれらの変性体などを添加することもできる。共重合ポリエステルに加えてこれらの樹脂を少量併用することにより、屈折率特性に加えてハードコート層との接着性を高めることができる。
【００３３】
また干渉斑抑制の観点から、高分子バインダーの屈折率は１．６０を超え１．６６未満の範囲であることが好ましく、さらに１．６３以上１．６５以下であることが好ましい。かかる屈折率の高分子バインダーは、本発明の共重合成分からなる共重合ポリエステルを高分子バインダー中に７０〜１００重量％含むことで達成される。
【００３４】
塗布層に占める高分子バインダーの割合は、塗布層の重量を基準として８５〜１００重量％であることが好ましい。高分子バインダーの含有量は、さらに８５〜９５重量％であることが好ましい。
本発明の高分子バインダーは、水に可溶性または分散性のものが好ましいが、多少の有機溶剤を含有し、水に可溶なものも好ましく用いることができる。
【００３５】
（共重合ポリエステル）
本発明の共重合ポリエステルは、ジカルボン酸成分として、共重合ポリエステルを構成する全繰り返し単位基準で２，６−ナフタレンジカルボン酸を４０〜９９モル％含有し、グリコール成分として、共重合ポリエステルを構成する全繰り返し単位基準で下記式（Ｉ）で表わされるフルオレン構造を有するグリコール成分を２０〜６０モル％およびエチレングリコールを３０〜８０モル％含有する共重合ポリエステルである。
【００３６】
【化２】
2010284943.tif 000003
（Ｒ1は炭素数２から４のアルキレン基、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、及びＲ5は水素、炭素数１から４のアルキル基、アリール基またはアラルキル基であり、それぞれ同じであっても異なっていてもよい）
【００３７】
かかる共重合ポリエステルは、さらにスルホン酸塩の基を有する芳香族ジカルボン酸を共重合ポリエステルを構成する全繰り返し単位基準で０．１〜５モル％、および他の芳香族ジカルボン酸を０〜６０モル％含有することが好ましい。スルホン酸塩の基を有する芳香族ジカルボン酸をジカルボン酸の共重合成分として含むことにより、共重合ポリエステルを水分散化させやすくなる。
【００３８】
かかる共重合ポリエステルの酸成分において、２，６−ナフタレンジカルボン酸成分の割合の下限値は好ましくは５０モル％であり、より好ましくは６０モル％、さらに好ましくは７０モル％である。また２，６−ナフタレンジカルボン酸成分の割合の上限値は好ましくは９５モル％である。
【００３９】
２，６−ナフタレンジカルボン酸成分の割合が下限値に満たない場合、共重合ポリエステルの屈折率が低下し、塗布層の屈折率低下につながる。一方、２，６−ナフタレンジカルボン酸成分の割合が上限値を超えると、親水性有機溶媒への共重合ポリエステルの溶解が困難となり、このため水分散化が難しくなる。特に９９モル％を超えると、非晶性向上のグリコール成分を共重合してももはや親水性有機溶媒に溶解しなくなり、水分散化が難しくなる。
【００４０】
共重合ポリエステルの酸成分において、スルホン酸塩の基を有する芳香族ジカルボン酸の割合の下限値は好ましくは１モル％であり、より好ましくは２モル％、さらに好ましくは３モル％である。スルホン酸塩の基を有する芳香族ジカルボン酸の割合が下限値に満たない場合、共重合ポリエステルの親水性が低下し、水分散化が十分でないことがある。一方、スルホン酸塩の基を有する芳香族ジカルボン酸の割合が上限値を超えると、フィルムの親水性が大きくなる結果、耐ブロッキング性が低下することがある。
【００４１】
かかるスルホン酸塩の基を有する芳香族ジカルボン酸として、５−ナトリウムスルホイソフタル酸、５−カリウムスルホイソフタル酸、５−リチウムスルホイソフタル酸、５−ホスホニウムスルホイソフタル酸が好ましく例示される。水分散性を向上させるには、５−ナトリウムスルホイソフタル酸、５−カリウムスルホイソフタル酸、５−リチウムスルホイソフタル酸がより好ましく、なかでも５−ナトリウムスルホイソフタル酸が最も好ましい。
【００４２】
共重合ポリエステルの酸成分として、屈折率特性の観点から２，６−ナフタレンジカルボン酸を含有し、さらに共重合ポリエステルを水分散化させやすい点からスルホン酸塩の基を有する芳香族ジカルボン酸を用いることが好ましいが、これらと一緒に他の芳香族ジカルボン酸を使用することができる。他の芳香族ジカルボン酸としては、例えばイソフタル酸、テレフタル酸、ビフェニルジカルボン酸を挙げることができる。これらのなかでイソフタル酸が特に好ましい。
【００４３】
他の芳香族ジカルボン酸の割合の下限値は３モル％であることが好ましく、より好ましくは５モル％である。また、他の芳香族ジカルボン酸の割合の上限値は、好ましくは５０モル％であり、より好ましくは４０モル％、さらに好ましくは３０モル％である。
【００４４】
共重合ポリエステルのグリコール成分の１つとして用いるフルオレン構造を有するグリコール成分は下記式（Ｉ）で表わされる化合物である。
【００４５】
【化３】
2010284943.tif 000004
（Ｒ1は炭素数２から４のアルキレン基、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、及びＲ5は水素、炭素数１から４のアルキル基、アリール基またはアラルキル基であり、それぞれ同じであっても異なっていてもよい）
【００４６】
具体的には、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−メチルフェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３，５−ジメチルフェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−エチルフェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３，５−ジエチルフェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−プロピルフェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３，５−ジプロピルフェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−イソプロピルフェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３，５−ジイソプロピルフェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−ｎ−ブチルフェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３，５−ジ−ｎ−ブチルフェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−イソブチルフェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３，５−ジイソブチルフェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−（１−メチルプロピル）フェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３，５−ビス（１−メチルプロピル）フェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−フェニルフェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３，５−ジフェニルフェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−ベンジルフェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３，５−ジベンジルフェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（３−ヒドロキシプロポキシ）フェニル］フルオレン９，９−ビス［４−（４−ヒドロキシブトキシ）フェニル］フルオレンが例示される。
【００４７】
これらの中でも特に９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレンが好ましい。９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレンは、例えば、９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレンにエチレンオキサイドを付加して得られる。
【００４８】
ジカルボン酸成分を構成する２，６−ナフタレンジカルボン酸とともに、かかる共重合成分を必須の成分として用いることにより共重合ポリエステルの屈折率が向上し、塗布層の屈折率が１．６を超える値となる。
【００４９】
かかるフルオレン構造を有する共重合成分の割合の下限値は２５モル％であることが好ましく、３０モル％であることがより好ましい。一方、フルオレン構造を有する共重合成分の割合の上限値は好ましくは５５モル％であり、さらには５０モル％である。
【００５０】
この化合物の割合が下限値に満たないと、屈折率の向上効果が小さいのに加え、非晶性が不十分なため水分散化が難しくなる。かかる化合物の共重合量が多いほどこの効果が大きくなるが、上限値を超えるとハードコート層との接着性が低下したり表面が粗くなる。また上限値を超えると非晶性が大きくなりすぎ、フィルムの耐ブロッキング性が低下するだけでなく、共重合ポリエステルの製造における重合速度が低下する。
【００５１】
また、共重合ポリエステルのグリコール成分において、エチレングリコールの割合の下限値は好ましくは３５モル％であり、さらに好ましくは４０モル％である。またエチレングリコールの割合の上限値は好ましくは７５モル％である。エチレングリコールの割合が下限値に満たないと、フィルムの耐ブロッキング性が低下する。一方、エチレングリコールの割合が上限値を超えると相対的にフルオレン構造を有する共重合成分の含有量が減るため、塗布層の屈折率低下につながる。
【００５２】
共重合ポリエステルのグリコール成分として、エチレングリコールおよび該フルオレン構造を有する共重合成分の二成分と一緒に、他のグリコールを使用することができる。
他のグリコール成分として脂肪族または脂環族グリコールが挙げられ、例えば１，４−ブタンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノール等を好ましく挙げることができる。またモノマー成分としては添加しないものの、重合過程で生じるジエチレングリコールを含んでいてもよい。
他のグリコール成分の割合の下限値は５モル％であることが好ましい。一方、他のグリコール成分の割合の上限値は好ましくは４０モル％であり、より好ましくは２０モル％、さらに好ましくは１０モル％である。
【００５３】
本発明における共重合ポリエステルの固有粘度は０．２〜０．８ｄｌ／ｇであることが好ましい。かかる固有粘度はオルトクロロフェノールを用いて３５℃において測定した値である。
【００５４】
本発明の共重合ポリエステルは、従来からのポリエステルの製造技術によって製造することができる。例えば上述の酸成分またはそれらのエステル形成性誘導体を上述のグリコール成分と反応せしめてモノマーもしくはオリゴマーを形成し、その後真空下で重縮合せしめることによって所定の固有粘度の共重合ポリエステルとする方法で製造できる。その際、反応を促進する触媒、例えばエステル化もしくはエステル交換触媒、重縮合触媒を用いることができる。また必要に応じて種々の添加剤、例えば安定剤等を添加することもできる。
【００５５】
高分子バインダー成分中に占める共重合ポリエステルの割合は、バインダー成分量を基準として７０〜１００重量％であることが好ましい。共重合ポリエステルの含有量の下限値は好ましくは８０重量％であり、さらに好ましくは９０重量％である。また共重合ポリエステルの含有量の上限値は、より好ましくは９７重量％であり、さらには９５重量％である。共重合ポリエステルの含有量がかかる範囲であることにより、塗布層として１．６０を超える屈折率特性を発現することができる。
本発明の共重合ポリエステルは、ポリエステル水分散体の状態で他の塗布層成分と混合され、塗布液の状態で二軸配向ポリエステルフィルムの少なくとも片面に塗布される。
【００５６】
ポリエステル水分散体は、以下の方法で製造するのが好ましい。
共重合ポリエステルは、２０℃で１リットルの水に対する溶解度が２０ｇ以上でかつ沸点が１００℃以下、または１００℃以下で水と共沸する親水性の有機溶媒に溶解することが好ましい。かかる溶解度を有する共重合ポリエステルを用いることにより、ポリエステル水分散体にすることが可能となる。有機溶媒としてはジオキサン、アセトン、テトラヒドロフラン、メチルエチルケトンを例示することができる。かかる溶液にさらに小量の界面活性剤を添加することもできる。
【００５７】
共重合ポリエステルを溶解した有機溶媒には、ついで攪拌下好ましくは加温高速攪拌下 で水を添加し、青白色から乳白色の分散体とする。また攪拌下の水に前記有機溶液を添加する方法によっても青白色から乳白色の分散体とすることもできる。
【００５８】
得られた分散体から有機溶媒を分離、除去することにより、目的のポリエステル水分散体が得られる。例えば得られた分散体から、常圧または減圧下で親水性の有機溶媒を蒸去する方法により、目的のポリエステル水分散体が得られる。また共重合ポリエステルを水と共沸する親水性の有機溶媒に溶解した場合には、該有機溶媒を蒸去する時に水が共沸するので水の減量分を考慮し、前もって多めの水に分散しておくことが望ましい。
【００５９】
加えて、有機溶媒を除いた後の固形分濃度が４０重量％を超えると、水に分散する共重合ポリエステルの再凝集が起こり易くなり、水分散体の安定性が低下するため、水分散体の固形分濃度は４０重量％以下とすることが好ましい。一方、固形分濃度の下限は、濃度が小さすぎると乾燥に要する時間が長くなるため、０．１重量％以上とするのが好ましい。
【００６０】
（アクリル樹脂）
塗布層を構成する高分子バインダーとして、共重合ポリエステルに加えてさらにアクリル樹脂を用いることができる。高分子バインダー成分中に占めるアクリル樹脂の割合は、バインダー成分量を基準として０〜３０重量％であることが好ましい。アクリル樹脂の含有量はより好ましくは３〜２０重量％であり、さらに好ましくは５〜１０重量％である。かかる範囲内でアクリル樹脂を併用することにより、ハードコート層との接着性が高まる。
【００６１】
アクリル樹脂として、以下に例示されるモノマーを共重合したアクリル樹脂であることが好ましい。即ち、アクリル樹脂を構成する共重合成分として、アルキルアクリレート、アルキルメタクリレート；２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート等のヒドロキシ含有モノマー；グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、アリルグリシジルエーテル等のエポキシ基含有モノマー；アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、フマール酸、クロトン酸、スチレンスルホン酸及びその塩（ナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩、第三級アミン塩等）等のカルボキシ基またはその塩を有するモノマー；アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−アルキルアクリルアミド、Ｎ−アルキルメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジアルキルメタクリレート、Ｎ−アルコキシアクリルアミド、Ｎ−アルコキシメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジアルコキシアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジアルコキシメタクリルアミド、アクリロイルモルホリン、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−メチロールメタクリルアミド、Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−フェニルメタクリルアミド等のアミド基を有するモノマー；無水マレイン酸、無水イタコン酸等の酸無水物のモノマー；２−ビニル−２−オキサゾリン、２−ビニル−４−メチル−２−オキサゾリン、２−ビニル−５−メチル−２−オキサゾリン、２−イソプロペニル−２−オキサゾリン、２−イソプロペニル−４−メチル−２−オキサゾリン、２−イソプロペニル−５−メチル−２−オキサゾリン等のオキサゾリン基含有モノマー；メトキシジエチレングリコールメタクリレート、メトキシポリエチレングリコールメタクリレート、ビニルイソシアネート、アリルイソシアネート、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル、ビニルトリアルコキシシラン、アルキルマレイン酸モノエステル、アルキルフマール酸モノエステル、アルキルイタコン酸モノエステル、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、塩化ビニリデン、エチレン、プロピレン、塩化ビニル、酢酸ビニル、ブタジエンが挙げられる。
【００６２】
かかる化合物のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、２−エチルヘキシル基、シクロヘキシル基が例示される。またかかる化合物のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基等が例示される。
【００６３】
（ウレタン樹脂）
塗布層を構成する高分子バインダーとして、共重合ポリエステルに加えてさらにウレタン樹脂を用いることができる。高分子バインダー成分中に占めるウレタン樹脂の割合は、バインダー成分量を基準として０〜１０重量％であることが好ましい。ウレタン樹脂の含有量はより好ましくは３〜５重量％である。かかる範囲内でウレタン樹脂を併用することにより、ハードコート層との接着性が高まる。
【００６４】
ウレタン樹脂は、具体的にはポリオール、ポリイソシアネート、鎖長延長剤、架橋剤等で構成される樹脂である。ポリオールの例としては、ポリオキシエチレングリコール、ポリオキシプロピレングリコール、ポリオキシテトラメチレングリコールのようなポリエ−テル、ポリエチレンアジペート、ポリエチレン−ブチレンアジペート、ポリカプロラクトンなどを含むグリコールとジカルボン酸との脱水反応により製造されるポリエステル、カ−ボネート結合を有するポリカ−ボネート、アクリル系ポリオール、ひまし油等が挙げられる。
【００６５】
ポリイソシアネートの例としては、トリレンジイソシアネート、フェニレンジイソシアネート、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、４，４’−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート等が挙げられる。
【００６６】
鎖延長剤あるいは架橋剤の例としては、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、トリメチロールプロパン、ヒドラジン、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノジシクロヘキシルメタン、水等が挙げられる。
【００６７】
＜粒子＞
本発明の塗布層は、有機ＥＬディスプレイや電子ペーパーなどのディスプレイなどのフレキシブルディスプレイ基板として用いた場合の視認性を高めるために、塗布層中の粒子含有量が塗布層の重量を基準として１重量％以下であることが好ましい。また粒子含有量は、より好ましくは０．００１〜０．８重量％、さらに好ましくは０．１〜０．５重量％である。塗布層における粒子は滑り性付与の目的でごく少量添加するものであり、粒子含有量をかかる範囲にとどめることにより、フィルムのヘイズ値を低減させることができる。
【００６８】
本発明においては、上述の共重合ポリエステルを主たる高分子バインダー成分として用いた１．６０を越える屈折率の高分子バインダーにより、ハードコート積層時の干渉斑を低減することができる点に特徴があり、粒子による塗布層の高屈折率化の必要がないため、滑り性を損なわない範囲内で粒子含有量を少なくすることができるものである。
【００６９】
かかる粒子は、平均一次粒子径が５〜２００ｎｍであることが好ましい。粒子の平均一次粒子径が２００ｎｍを超えると光学散乱が発生し、塗布層の透明性が低下することがある。一方、粒子の平均一次粒子径が５ｎｍ未満であると粒子同士の凝集が多くなり、二次粒子径が大きくなるため光学散乱が発生し、塗布層の透明性が低下することがある。
【００７０】
粒子の種類は特に限定されず、例えば炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、酸化カルシウム、酸化亜鉛、酸化マグネシウム、酸化ケイ素、ケイ酸ソーダ、水酸化アルミニウム、酸化鉄、酸化ジルコニウム、硫酸バリウム、酸化チタン、酸化錫、三酸化アンチモン、カーボンブラック、二硫化モリブデン等の無機粒子、アクリル系架橋重合体、スチレン系架橋重合体、シリコーン樹脂、フッ素樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、フェノール樹脂、ナイロン樹脂等の有機粒子を用いることができる。
【００７１】
＜塗布層厚み＞
本発明の塗布層の厚みは０．０５μｍ以上０．２０μｍ以下である。塗布層厚みは好ましくは０．０８μｍ以上０．１５μｍ以下である。塗布層厚みがかかる範囲にあることにより、ハードコート積層時の干渉斑を低減することができ、塗布層厚みがかかる範囲からはずれる場合は共重合ポリエステルを含む塗布層組成を用いていても干渉斑の低減効果が十分に発現しない。
【００７２】
＜塗布層の製造方法＞
本発明の塗布層の塗設に用いられる塗布層組成物は、塗布層を形成させるために、水溶液、水分散液或いは乳化液等の水性塗液の形態で使用されることが好ましい。塗布層を形成するために、必要に応じて、上述の高分子バインダー成分および粒子以外に、例えば帯電防止剤、着色剤、界面活性剤、紫外線吸収剤、架橋剤を添加することができる。
【００７３】
本発明に用いる水性塗液の固形分濃度は、通常は塗液の重量に対して２０重量％以下であるが、特に１〜１０重量％であることが好ましい。この割合が１重量％未満であると、ポリエステルフィルムへの塗れ性が不足することがあり、一方、２０重量％を超えると塗液の安定性や塗布層の外観が悪化することがある。
【００７４】
水性塗液のポリエステルフィルムへの塗布は、任意の段階で実施することができるが、ポリエステルフィルムの製造過程で実施するのが好ましく、更には配向結晶化が完了する前のポリエステルフィルムに塗布するのが好ましい。
ここで、結晶配向が完了する前のポリエステルフィルムとは、未延伸フィルム、未延伸フィルムを縦方向または横方向の何れか一方に配向せしめた一軸配向フィルム、更には縦方向および横方向の二方向に低倍率延伸配向せしめたもの（最終的に縦方向また横方向に再延伸せしめて配向結晶化を完了せしめる前の二軸延伸フィルム）等を含むものである。なかでも、未延伸フィルムまたは一方向に配向せしめた一軸延伸フィルムに、上記組成物の水性塗液を塗布し、そのまま縦延伸および／または横延伸と熱固定とを施すのが好ましい。
【００７５】
水性塗液をフィルムに塗布する際には、塗布性を向上させるための予備処理としてフィルム表面にコロナ表面処理、火炎処理、プラズマ処理等の物理処理を施すか、あるいは組成物と共にこれと化学的に不活性な界面活性剤を併用することが好ましい。かかる界面活性剤は、ポリエステルフィルムへの水性塗液の濡れを促進機能や塗液の安定性を向上させるものであり、例えば、ポリオキシエチレン−脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸エステル、グリセリン脂肪酸エステル、脂肪酸金属石鹸、アルキル硫酸塩、アルキルスルホン酸塩、アルキルスルホコハク酸塩等のアニオン型、ノニオン型界面活性剤を挙げることができる。界面活性剤は、塗布層の重量を基準として１〜１５重量％含まれていることが好ましく、さらに５〜１０重量％含まれていることが好ましい。
【００７６】
塗液の塗布量は、塗膜の厚さが０．０５〜０．２０μｍの範囲となるよう調整して用いられる。塗布方法としては、公知の任意の塗工法が適用できる。例えばロールコート法、グラビアコート法、ロールブラッシュ法、スプレーコート法、エアーナイフコート法、含浸法、カーテンコート法等を単独または組合せて用いることができる。
なお、本発明の塗布層はハードコート層を設ける側に設けることが好ましく、フィルムの片面のみに形成しても両面に形成してもよい。
【００７７】
＜フィルム特性＞
（ヘイズ値）
本発明の光学用ポリエステルフィルムのヘイズは０％以上１．０％以下であることが好ましい。ここでヘイズはＪＩＳ規格Ｋ７１３６に従って測定した値で表わされる。
本発明におけるヘイズは、より好ましくは０．１〜０．８％、特に好ましくは０．１〜０．５％である。ヘイズはディスプレイの視認性の評価方法の１つであり、ヘイズが上限値を越える場合、フィルムの透明性が低下して表示画面が白く見えるため、コントラストが低下し視認性が低下することがある。
【００７８】
ヘイズ値をかかる範囲にするためには、ポリエチレンナフタレンジカルボキシレートを主たる成分とする二軸配向ポリエステルフィルムおよび塗布層において、粒子を用いないか、用いる場合は既述の範囲内の量にとどめ、また塗布層を構成する高分子バインダーとして既述の共重合ポリエステルを用いる方法が挙げられる。
【００７９】
（熱収縮率）
本発明の光学用ポリエステルフィルムは、２００℃の温度で１０分間加熱処理したときの熱収縮率がフィルム長手方向および幅方向のそれぞれ０．１％以下であることが好ましい。また、それぞれの方向の熱収縮率の下限は−０．１％であることが好ましい。
【００８０】
該熱収縮率の下限は、好ましくはフィルムの長手方向及び幅方向のいずれも−０．０５％、より好ましくは−０．０３％、特に好ましくは０．００％である。また該熱収縮率の上限は、好ましくはフィルムの長手方向及び幅方向のいずれも０．０８％、より好ましくは０．０５％、特に好ましくは０．０３％である。
【００８１】
熱収縮率がかかる範囲を超える場合、基板フィルムに積層させるＴＦＴ層の熱処理温度である２００℃前後の温度において、例えば電子ペーパー基板を熱処理すると、パターンにアライメントずれが生じ、解像度の低下につながることがある。
熱収縮率をかかる範囲にするための具体的方法として、二軸配向ポリエステルフィルムの製膜方法に記載した延伸倍率、熱固定処理および熱弛緩処理を用いる方法が挙げられる。
【００８２】
（フィルム厚み）
本発明の光学用ポリエステルフィルムの厚みは、薄型フレキシブルディスプレイに適した厚みであることが好ましく、５０〜３００μｍの範囲であることが好ましい。フィルム厚みは、さらに好ましくは１００〜２００μｍ、特に好ましくは１００〜１５０μｍである。フィルム厚みは、携帯性や曲げやすさの点でより薄い方が好ましい。ただし、下限に満たない場合は、フレキシブルディスプレイの基板フィルムとして十分に強度を保持することが難しいことがある。
【００８３】
＜ハードコート層＞
本発明の光学用ポリエステルフィルムは、塗布層の上にさらにハードコート層が設けられることが好ましい。
該ハードコート層としては、放射線硬化系またはシラン系の樹脂を用いることができ、特に放射線硬化系の樹脂を用いたハードコート層が好ましく、そのなかでも紫外線（ＵＶ）硬化系の樹脂を用いたハードコート層が好ましい。ハードコート層の形成に用いられるＵＶ硬化系組成物としては、ウレタン−アクリレート系、エポキシ−アクリレート系、ポリエステル−アクリレート系などのＵＶ硬化性組成物が挙げられる。
本発明の光学用ポリエステルフィルムの塗布層上にハードコート層を積層するには、該塗布層上にハードコート層を構成する組成物を塗布し、加熱、放射線（例えば紫外線）照射等により該組成物を硬化させればよい。ハードコート層の厚さは、特に限定されないが、１〜１５μｍの範囲が好ましい。
【００８４】
＜光学用途＞
本発明の光学用ポリエステルフィルムは、例えば有機ＥＬディスプレイや電子ペーパーなどのフレキシブルディスプレイ基板として好適に用いられる。
かかる光学用途に用いる場合、本発明の光学用ポリエステルフィルムの塗布層上にハードコート層を設け、その上にさらにガスバリア層、ＩＴＯなどの透明導電層などを積層する構成が例示される。  
本発明の光学用ポリエステルフィルムをかかるディスプレイ基板として用いることにより、ヘイズ値が良好なことによる視認性向上およびハードコート積層時の干渉斑が少ないことによる視認性向上により、ディスプレイにした時の視認性を高めることができる。
【実施例】
【００８５】
以下、実施例により本発明を詳述するが、本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。なお、各特性値は以下の方法で測定した。また、実施例中の部および％は、特に断らない限り、それぞれ重量部および重量％を意味する。
【００８６】
（１）高分子バインダーの共重合成分
高分子バインダー組成物またはフィルム上に設けられた塗布層より、１Ｈ−ＮＭＲ測定を用いて特定した。
【００８７】
（２）塗布層厚み
包埋樹脂でフィルムを固定して断面をミクロトームで切断し、２％オスミウム酸で６０℃、２時間染色して、透過型電子顕微鏡（日本電子製ＪＥＭ２０１０）を用いて、塗布層の厚みを測定した。
【００８８】
（３）フィルム厚み
電子マイクロメータ（アンリツ（株）製の商品名「Ｋ−３１２Ａ型」）を用いて針圧３０ｇにてフィルム厚みを測定した。
【００８９】
（４）ヘイズ値
ＪＩＳ  Ｋ７１３６に準じ、日本電色工業社製のヘイズ測定器（ＮＤＨ−２０００）を使用してフィルムのヘイズ値を測定した。
【００９０】
（５）熱収縮率
フィルムに３０ｃｍ間隔で標点をつけ、荷重をかけずに２００℃に設定したオーブンで１０分間熱処理を実施し、室温冷却後に熱処理後の標点間隔を測定して、フィルム長手方向および幅方向における熱収縮率を下記式にて算出した。なお、各熱収縮率はそれぞれｎ＝５で評価を行い、その平均値を用いた。
熱収縮率(％)＝（(熱処理前の標点間距離−熱処理後の標点間距離)/熱処理前の標点間距離）×１００
【００９１】
（６）屈折率
得られた二軸配向ポリエステルフィルムの塗布層未塗工面について、長手方向（ＭＤ方向）、幅方向（ＴＤ方向）、フィルム厚み方向（Ｚ方向）それぞれの屈折率をアッベ屈折率計にて測定した。なお、本発明の塗布層は厚みが薄いため、塗布層が両面に形成されている場合は、塗布層上からアッベ屈折率計を用いて測定しても塗布層の屈折率の影響を受けず、二軸配向ポリエステルフィルムの屈折率を求めることができる。
【００９２】
（７）塗布層の屈折率
日本分光製エリプソメータ（Ｍ−２００）にて、得られたフィルムの塗布層塗工面について、測定された位相差（デルタ）と振幅（プサイ）より、波長５５０ｎｍにおける塗布層の屈折率を求めた。なお基板屈折率として（６）の方法で得られた屈折率を用いた。
【００９３】
（８）中心面平均粗さ（Ｒａ）
Ｚｙｇｏ社製の非接触三次元表面構造解析顕微鏡（ＮｅｗＶｉｅｗ５０２２）を用いて測定倍率２５倍、測定面積２８３μｍ×２１３μｍ（＝０．０６０３ｍｍ２）の条件にて測定し、該粗さ計に内蔵された表面解析ソフトにより中心面平均粗さＲａを以下の式より求めた。
【００９４】
【数１】
2010284943.tif 000005
上式中、Ｚｊｋは測定方法（２８３μｍ）、それと直行する方法（２１３μｍ）をそれぞれＭ分割、Ｎ分割したときの各方向のｊ番目、ｋ番目の位置における２次元粗さチャート上の高さである。
【００９５】
（９）接着性
ハードコート層を形成したポリエステルフィルム上に碁盤目のクロスカット（１ｍｍ２のマス目を１００個）を施し、その上に２４ｍｍ幅のセロハンテープ（ニチバン社製  商品名）を貼り付け、１８０°の剥離角度で急激に剥がした後、剥離面を観察し、下記の基準で評価した。
５：  剥離面積が１０％未満            ……接着力極めて良好
４：  剥離面積が１０％以上２０％未満  ……接着力良好
３：  剥離面積が２０％以上３０％未満  ……接着力やや良好
２：  剥離面積が３０％以上４０％未満  ……接着力不良
１：  剥離面積が４０％を超えるもの    ……接着力極めて不良
【００９６】
（１０）反射率振幅（干渉斑に関する評価）
ハードコート層を形成したポリエステルフィルムの反対面を黒色マジックで塗りつぶし、反対面の反射光を無くし、分光光度計（島津製作所製ＵＶ−３１０１ＰＣ）を用いて分光反射率を測定した。波長５００ｎｍ〜６００ｎｍでの反射率を測定し、その反射率の振幅を下記の基準で評価した。測定された反射率の振幅が大きいほど干渉斑が発生し、ディスプレイとしての視認性が低下する。
◎：          反射率振幅≦０．５％  ……極めて良好
○：０．５％＜反射率振幅≦１．０％  ……良好
×：１．０％＜反射率振幅            ……不良
【００９７】
［実施例１］
ナフタレン−２，６−ジカルボン酸ジメチル１００部およびエチレングリコール６０部を、エステル交換触媒として酢酸マンガン四水塩０．０３部を使用し、１５０℃から２３８℃に徐々に昇温させながら１２０分間エステル交換反応を行なった。途中反応温度が１７０℃に達した時点でリン酸トリメチル（エチレングリコール中で１３５℃、５時間０．１１〜０．１６ＭＰａの加圧下で加熱処理した溶液：リン酸トリメチル換算量で０．０２３部）を添加し、エステル交換反応終了後、三酸化アンチモン０．０２４部を添加した。
その後反応生成物を重合反応器に移し、２９０℃まで昇温し、２７Ｐａ以下の高真空下にて重縮合反応を行って、固有粘度が０．６１ｄｌ／ｇの、実質的に粒子を含有しない、ポリエチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレートを得た。
このポリエチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレートのペレットを１７０℃で６時間乾燥後、押出機ホッパーに供給し、溶融温度３０５℃で溶融し、平均目開きが１７μｍのステンレス鋼細線フィルターで濾過し、２ｍｍのスリット状ダイを通して表面温度６０℃の回転冷却ドラム上で押出し、急冷して未延伸フィルムを得た。
【００９８】
このようにして得られた未延伸フィルムを１２０℃にて予熱し、さらに低速、高速のロール間で１５ｍｍ上方より９００℃のＩＲヒーターにて加熱して縦方向に３．１倍に延伸後、その両面に表１に示す塗剤の濃度６％の水性塗液をロールコーターで均一に塗布した。続いてテンターに供給し、１４５℃にて横方向に３．３倍に延伸した。得られた二軸配向ポリエステルフィルムを、２３０℃の温度で４０秒間熱固定し、厚み１２５μｍのポリエステルフィルムを巻き取った後、ＩＲヒーターによる加熱ゾーンを用いて処理温度２００℃、弛緩率１．０％で弛緩処理を行い、ポリエステルフィルムを得た。なお、塗膜の厚さは０．１μｍであった。得られたポリエステルフィルムの特性を表１に示す。
【００９９】
さらに、以下の組成からなるＵＶ硬化系組成物をロールコーターを用いて、硬化後の膜厚が５μｍとなるように、塗布層上に均一に塗布した。
［ＵＶ硬化組成物］
ペンタエリスリトールアクリレート          ：４５重量％
Ｎ−メチロールアクリルアミド              ：４０重量％
Ｎ−ビニルピロリドン                      ：１０重量％
１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン：  ５重量％
その後、８０Ｗ／ｃｍの強度を有する高圧水銀灯で３０秒間紫外線を照射して硬化させ、ハードコート層を形成した。得られた積層フィルムの特性を表１に示す。
【０１００】
［実施例２］
塗布層を構成する共重合ポリエステルとして共重合ポリエステル２を用いた以外は実施例１と同様にしてポリエステルフィルムおよび積層フィルムを得た。得られた特性を表１に示す。
【０１０１】
［実施例３］
塗布層厚みを０．０５μｍにした以外は実施例１と同様にしてポリエステルフィルムおよび積層フィルムを得た。得られた特性を表１に示す。
【０１０２】
［実施例４］
塗布層を構成する共重合ポリエステルとして共重合ポリエステル２を用い、塗布層厚みを０．２０μｍにした以外は実施例１と同様にしてポリエステルフィルムおよび積層フィルムを得た。得られた特性を表１に示す。
【０１０３】
［比較例１］
塗布層を構成する共重合ポリエステルとして共重合ポリエステル３を用いた以外は実施例１と同様にしてポリエステルフィルムおよび積層フィルムを得た。得られた特性を表１に示す。
【０１０４】
［比較例２］
塗布層を構成する共重合ポリエステルとして共重合ポリエステル４を塗布層の重量を基準として５０重量部用い、屈折率が２．７の無機粒子を塗布層重量を基準として４０重量部用いた以外は実施例１と同様にしてポリエステルフィルムおよび積層フィルムを得た。得られた特性を表１に示す。
【０１０５】
［比較例３］
塗布層厚みを０．０３μｍにした以外は実施例１と同様にしてポリエステルフィルムおよび積層フィルムを得た。得られた特性を表１に示す。
【０１０６】
［比較例４］
塗布層厚みを０．３０μｍにした以外は実施例１と同様にしてポリエステルフィルムおよび積層フィルムを得た。得られた特性を表１に示す。
【０１０７】
［比較例５］
塗布層を構成する共重合ポリエステルとして共重合ポリエステル５を用いた以外は実施例１と同様にしてポリエステルフィルムおよび積層フィルムを得た。得られた特性を表１に示す。
【０１０８】
［比較例６］
溶融ポリエチレンテレフタレート（［η］＝０．６２ｄｌ／ｇ、Ｔｇ＝７８℃）をダイより押出し、常法により冷却ドラムで冷却して未延伸フィルムとし、次いで縦方向に３．２倍に延伸した後、その両面に表１に示す塗剤の濃度８％の水性塗液をロールコーターで均一に塗布した。次いで、この塗布フィルムを引き続いて９５℃で乾燥し、横方向に１２０℃で３．５倍に延伸し、２２０℃で幅方向に３％収縮させ熱固定し、厚さ１２５μｍのポリエステルフィルムを得た。さらに、実施例１と同じ組成からなるＵＶ硬化系組成物をロールコーターを用いて、硬化後の膜厚が５μｍとなるように、塗布層上に均一に塗布し、その後実施例１に準じて硬化処理を行いハードコート層を形成した。得られた積層フィルムの特性を表１に示す。
【０１０９】
【表１】
2010284943.tif 000006
【０１１０】
水性塗液の各成分は次のとおりである。
（ポリエステル１）
酸成分が２，６−ナフタレンジカルボン酸９０モル％／イソフタル酸６モル％／５−ナトリウムスルホイソフタル酸４モル％、グリコール成分がエチレングリコール６０モル％／９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレン３０モル％／ジエチレングリコール１０モル％で構成されている（Ｔｇ＝１３０℃、平均分子量１３０００、屈折率１．６５、密度１．２ｇ／ｃｍ３）。
ポリエステル１は２，６−ナフタレンジカルボン酸ジメチル１００部、イソフタル酸ジメチル５．３部、５−ナトリウムスルホイソフタル酸ジメチル５．４部、エチレングリコール４８部およびビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル）フルオレン７５．３部をエステル交換反応器に仕込み、これにテトラブトキシチタン０．１部を添加して窒素雰囲気下で温度を２３０℃にコントロールして加熱し、生成するメタノールを留去させてエステル交換反応を行った。
次いで、この反応系にイルガノックス１０１０（チバガイギー社製）０．５部を添加した後、温度を徐々に２５５℃まで上昇させ、系内を１ｍｍＨｇまで減圧して重縮合反応を行ない、固有粘度０．４８ｄｌ／ｇの共重合ポリエステルを得た。この共重合ポリエステル２０部をテトラヒドロフラン８０部に溶解し、得られた溶液に１００００回転／分の高速攪拌下で水１８０部を滴下して青みがかった乳白色の分散体を得た。次いでこの分散体を２０ｍｍＨｇの減圧下で蒸留し、テトラヒドロフランを留去した。かくして固形分濃度１０ｗｔ％のポリエステル水分散体を得た。
【０１１１】
（ポリエステル２）  
酸成分が２，６−ナフタレンジカルボン酸９０モル％／イソフタル酸６モル％／５−ナトリウムスルホイソフタル酸４モル％、グリコール成分がエチレングリコール４０モル％／９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレン５０モル％／ジエチレングリコール１０モル％で構成されている（Ｔｇ＝１３０℃、平均分子量１３０００、屈折率１．６５、密度１．２ｇ／ｃｍ３）。ポリエステル１の製造方法に準じて、固形分濃度１０ｗｔ％のポリエステル水分散体を得た。
【０１１２】
（ポリエステル３）  
酸成分が２，６−ナフタレンジカルボン酸７０モル％／イソフタル酸２５モル％／５−ナトリウムスルホイソフタル酸５モル％、グリコール成分がエチレングリコール７５モル％／９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレン１５モル％／ジエチレングリコール１０モル％で構成されている（Ｔｇ＝１１１℃、平均分子量１３０００、屈折率１．５９、密度１．２ｇ／ｃｍ３）。ポリエステル１の製造方法に準じて、固形分濃度１０ｗｔ％のポリエステル水分散体を得た。
【０１１３】
（ポリエステル４）  
酸成分がテレフタル酸９０モル％／イソフタル酸５モル％／５−ナトリウムスルホイソフタル酸５モル％、グリコール成分がエチレングリコール９０モル％／ジエチレングリコール１０モル％で構成されている（Ｔｇ＝７０℃、平均分子量１３０００、屈折率１．５６、密度１．２ｇ／ｃｍ３）。ポリエステル１の製造方法に準じて、固形分濃度１０ｗｔ％のポリエステル水分散体を得た。
【０１１４】
（ポリエステル５）  
酸成分が２，６−ナフタレンジカルボン酸７０モル％／イソフタル酸２５モル％／５−ナトリウムスルホイソフタル酸５モル％、グリコール成分がエチレングリコール２０モル％／９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレン７０モル％／ジエチレングリコール１０モル％で構成されている（Ｔｇ＝１７５℃、平均分子量１３０００、屈折率１．６６、密度１．２ｇ／ｃｍ３）。ポリエステル１の製造方法に準じて、固形分濃度１０ｗｔ％のポリエステル水分散体を得た。
【０１１５】
（アクリル）
メチルメタクリレート３０モル％／２−イソプロペニル−２−オキサゾリン３０モル％／ポリエチレンオキシド（ｎ＝１０）メタクリレート１０モル％／アクリルアミド３０モル％で構成されている（Ｔｇ＝５０℃、分子量３５００００、屈折率１．５０、密度１．２ｇ／ｃｍ３）。
【０１１６】
なお、アクリルは四つ口フラスコに、イオン交換水３０２部を仕込んで窒素気流中で６０℃まで昇温させ、次いで重合開始剤として過硫酸アンモニウム０．５部、亜硫酸水素ナトリウム０．２部を添加し、更にモノマーである、メタクリル酸メチル２３．３部、２−イソプロペニル−２−オキサゾリン２２．６部、ポリエチレンオキシド（ｎ＝１０）メタクリル酸４０．７部、アクリルアミド１３．３部の混合物を３時間にわたり、液温が６０〜７０℃になるよう調整しながら滴下した。滴下終了後も同温度範囲に２時間保持しつつ、撹拌下に反応を継続させ、次いで冷却して固形分が２５％のアクリルの水分散体を得た。
【０１１７】
（有機粒子１）
アクリルフィラー（平均粒径：１００ｎｍ、屈折率：１．５０、密度１．２ｇ／ｃｍ３）（日本触媒社製  ＭＸ−１００Ｗ）
【０１１８】
（無機粒子１）
酸化チタンフィラー（平均一次粒子径：３０ｎｍ、屈折率２．７０、密度４．０ｇ／ｃｍ３）（シーアイ化成社製  商品名酸化チタンスラリー）  
【０１１９】
（界面活性剤）
ポリオキシエチレン（ｎ＝７）ラウリルエーテル（三洋化成社製  商品名ナロアクティーＮ−７０）。
【産業上の利用可能性】
【０１２０】
本発明の光学用ポリエステルフィルムは、ポリエチレンナフタレンジカルボキシレートを主成分とするフィルムを用いるため２００℃前後での高い寸法安定性に優れており、特定成分の塗布層を有することでハードコート層を積層した際の干渉斑の発生を抑制でき、しかもヘイズ特性に優れ高透明であることから、例えば有機ＥＬディスプレイや電子ペーパーなどのフレキシブルディスプレイ基板として用いた場合に視認性に優れたフレキシブルディスプレイを提供することができる。