(57)【要約】      （修正有）【課題】溶液流延製膜法による光学フィルムの製造方法において、剥離後の搬送における押され故障の解消により、これまでのフィルム生産条件の制約が減り、フィルム生産条件の選択範囲が大幅に広がり、フィルムのすべり性が向上し、貼り付き故障を防止し、透明性、平面性に優れた光学特性を有する光学フィルムを製造する。生産速度を上げることができて、フィルムの生産性を向上することができ、ひいては偏光板用保護フィルム等の薄膜化、広幅化、及び高品質化の要求に応え得る光学フィルム、その製造方法、偏光板、及び表示装置を提供する。【解決手段】溶液流延製膜法による光学フィルムの製造方法で、剥離後のウェブの残留溶媒量が１６０〜３０重量％である状態において、該ウェブの支持体接触側表面に、常圧プラズマ処理および／または紫外線照射処理よりなる高エネルギー表面処理を施す。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
溶液流延製膜法により樹脂溶液（ドープ）を流延支持体上に流延して、流延膜（ウェブ）を形成し、ウェブが支持体上を移行する間にウェブに含まれる溶媒の一部を揮散させて、剥離可能となったウェブを支持体から剥離する工程を含む光学フィルムの製造方法であって、剥離後のウェブの残留溶媒量が１６０〜３０重量％である状態において、該ウェブの支持体接触側表面に、高エネルギー表面処理を施すことを特徴とする、光学フィルムの製造方法。
【請求項２】
高エネルギー表面処理が、常圧プラズマ処理および／または紫外線照射処理であることを特徴とする、請求項１に記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項３】
請求項１または２に記載の光学フィルムの製造方法により製造されたことを特徴とする、光学フィルム。
【請求項４】
高エネルギー表面処理された側のフィルム表面の炭素／酸素原子数比（Ｃ／Ｏ比）が、０．８〜１．２であることを特徴とする、請求項３に記載の光学フィルム。
【請求項５】
請求項３または４に記載の光学フィルムを少なくとも一方の面に用いることを特徴とする、偏光板。
【請求項６】
請求項５に記載の偏光板を用いることを特徴とする、表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置（ＬＣＤ）に用いられる偏光板用保護フィルム、位相差フィルム、視野角拡大フィルム、プラズマディスプレイに用いられる反射防止フィルムなどの各種機能フィルム等にも利用することができる光学フィルム、その製造方法、光学フィルムを用いた偏光板、及び表示装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
一般に、液晶表示装置（ＬＣＤ）は、低電圧かつ低消費電力でＩＣ回路への直結が可能であり、しかも薄型化が可能であるから、ワードプロセッサーやパーソナルコンピュータ等の表示装置として広く使用されている。ところで、このＬＣＤの基本的な構成は、液晶セルの両側に偏光板を設けたものである。偏光板は、一定方向の偏波面の光だけを通すので、ＬＣＤにおいては、電界による液晶の配向の変化を可視化させる重要な役割を担っており、偏光板の性能によってＬＣＤの性能が大きく左右される。偏光板は、偏光子と、偏光子の両面に積層された保護フィルムとよりなる。
【０００３】
近年、液晶表示装置（ＬＣＤ）の薄型軽量化、大型画面化、高精細化の開発が進んでいる。それに伴って、偏光板用の保護フィルムもますます薄膜化、高品質化の要求が強くなり、液晶表示装置の高画質化に伴って光学フィルムの品質の要求レベルも厳しくなってきている。加えて、昨今のＬＣＤの薄型化、使用量の増大により、その部材としての保護フィルムも、薄膜化、生産量の増大が要望されている。
【０００４】
偏光板用保護フィルムには、一般的にセルロースエステルフィルムが広く使用されているが、最近の大画面化に伴って、長い巻長のフィルム原反が要望されている。このようなセルロースエステルフィルムよりなる光学フィルムのＬＣＤへの適用には、ＬＣＤの視認性に影響する光学フィルムの品質が、より重要になってくる。
【０００５】
従来から溶液流延製膜法によるセルロースエステルフィルムの製造方法において、何らかの原因物による剥離直後のウェブのロールから受けるダメージ（押され故障）が問題となっていた。この押され故障が発生したフィルムを用いて偏光板を作製すると、該偏光板を組み込んだ表示装置において重大な欠陥が生じることが判っている。
【０００６】
特許文献１には、上記のような従来の課題を解決するために、金属支持体から剥離されたフィルム中の有機溶剤の含有量を規定し、剥離点からの搬送時間と乾燥風温度を規定した光学用フィルムの製造方法が開示されている。特許文献２には、フィルムを支持体から剥ぎ取る直前および／または直後において、膜状物の表面近傍に空気の吸引または／および吹き出しにより空気の流れを発生させることにより、フィルムの表面硬度を上げる流延製膜方法が開示されている。また、特許文献３には、剥離後のフィルムの溶媒含有率を規定し、剥離後の所定時間以内に、少なくとも無端支持体に接触していたフィルム面側に、溶媒ガス濃度３０体積％以下の給気を行なう光学用フィルムの製造方法が開示されている。
【特許文献１】特開平５−１８５４４３号公報
【特許文献２】特開２０００−２９６５２９号公報
【特許文献３】特開２００３−１７５５２１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、昨今のＬＣＤの薄型化、使用量の増大により、その部材としての偏光板用保護フィルムも、薄膜化、生産量の増大が要望されており、このような背景の下、セルロースエステルフィルムを、薄膜で、その生産速度を上げた場合には、上記特許文献１、２及び３に記載の手段を取っても、押され故障に対しては効果が不十分であるという問題があった。
【０００８】
ところで、ＬＣＤに用いられる樹脂フィルムは、その透明性や平滑性からフィルム同士がくっつきやすく、これら樹脂フィルムの製膜時や、それらへの表面加工時のハンドリング性として、フィルムに微粒子を添加し、フィルムの透明性を損なうことなく、滑り性を持たせて、ハンドリング性の向上や、巻き性の安定化を図っているが、この方法は微粒子により、物理的にフィルム表面に凹凸を形成させる方法で、ヘイズ値が高く、透明性が劣化するという問題があった。
【０００９】
本発明の目的は、上記の従来技術の問題を解決し、溶液流延製膜法による光学フィルムの製造方法において、剥離後の搬送における押され故障の解消により、これまでのフィルム生産条件の制約が減り、フィルム生産条件の選択範囲が大幅に広がり、フィルムのすべり性が向上し、貼り付き故障を防止し、透明性、平面性に優れた光学特性を有する光学フィルムを製造することができるとともに、生産速度を上げることができて、フィルムの生産性を向上することができ、ひいては近年の偏光板用保護フィルム等の薄膜化、広幅化、及び高品質化の要求に応えることができる、光学フィルム、その製造方法、光学フィルムを用いた偏光板、及び表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記の目的を達成するために、請求項１の発明は、溶液流延製膜法により樹脂溶液（ドープ）を流延支持体上に流延して、流延膜（ウェブ）を形成し、ウェブが支持体上を移行する間にウェブに含まれる溶媒の一部を揮散させて、剥離可能となったウェブを支持体から剥離する工程を含む光学フィルムの製造方法であって、剥離後のウェブの残留溶媒量が１６０〜３０重量％である状態において、該ウェブの支持体接触側表面に、高エネルギー表面処理を施すことを特徴としている。
【００１１】
請求項２の発明は、請求項１に記載の光学フィルムの製造方法であって、高エネルギー表面処理が、常圧プラズマ処理および／または紫外線照射処理であることを特徴としている。
【００１２】
請求項３の光学フィルムの発明は、請求項１または２に記載の光学フィルムの製造方法により製造されたことを特徴としている。
【００１３】
請求項４の発明は、請求項３に記載の光学フィルムであって、高エネルギー表面処理された側のフィルム表面の炭素／酸素原子数比（Ｃ／Ｏ比）が、０．８〜１．２であることを特徴としている。
【００１４】
請求項５の偏光板の発明は、請求項３または４に記載の光学フィルムを少なくとも一方の面に用いることを特徴としている。
【００１５】
請求項６の表示装置の発明は、請求項５に記載の偏光板を用いることを特徴としている。
【発明の効果】
【００１６】
請求項１の発明は、請求項１の発明は、溶液流延製膜法により樹脂溶液（ドープ）を流延支持体上に流延して、流延膜（ウェブ）を形成し、ウェブが支持体上を移行する間にウェブに含まれる溶媒の一部を揮散させて、剥離可能となったウェブを支持体から剥離する工程を含む光学フィルムの製造方法であって、剥離後のウェブの残留溶媒量が１６０〜３０重量％である状態において、該ウェブの支持体接触側表面に、高エネルギー表面処理を施すもので、請求項１の発明によれば、剥離直後の残留溶媒量の多い支持体接触面側の表面硬度を向上させることにより、その後の搬送による押され故障を防止し、透明性、平面性に優れた光学特性を有する光学フィルムを製造することができるとともに、生産速度を上げることができて、フィルムの生産性を向上することができ、ひいては近年の偏光板用保護フィルム等の薄膜化、広幅化、及び高品質化の要求に応えることができるという効果を奏する。
【００１７】
請求項２の発明は、請求項１に記載の光学フィルムの製造方法であって、高エネルギー表面処理が、常圧プラズマ処理および／または紫外線照射処理であるもので、請求項２の発明によれば、残留溶媒量の多い支持体接触面側の表面硬度を瞬時に向上させることができるという効果を奏する。
【００１８】
請求項３の光学フィルムの発明は、請求項１または２に記載の光学フィルムの製造方法により製造されたもので、請求項３の発明によれば、残留溶媒量の多い支持体接触面側の表面硬度を向上させることにより、その後の搬送による押され故障を防止することから、光学フィルムは透明性、平面性に優れているという効果を奏する。
【００１９】
請求項４の発明は、請求項３に記載の光学フィルムであって、高エネルギー表面処理された側のフィルム表面の炭素／酸素原子数比（Ｃ／Ｏ比）が、０．８〜１．２であるもので、請求項４の発明によれば、すべり性が向上し、貼り付き故障を防止することから、光学フィルムは、平面性に優れているという効果を奏する。
【００２０】
請求項５の偏光板の発明は、請求項３または４に記載の、平面性に優れた光学フィルムを、少なくとも一方の面に用いるものであるから、請求項５の発明によれば、偏光板を液晶パネルに組み込んだ際、液晶パネルのコントラスト低下や濃淡ムラを生じることがなく、視認性に優れているという効果を奏する。
【００２１】
請求項６の表示装置の発明は、請求項５に記載の、平面性に優れた光学フィルムを具備する偏光板を用いているものであるから、請求項６の発明によれば、液晶パネルのコントラスト低下や濃淡ムラを生じることがなく、視認性に優れているという効果を奏する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
つぎに、本発明の実施の形態を、図面を参照して説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００２３】
本発明による光学フィルムの製造方法は、溶液流延製膜法により樹脂溶液（ドープ）を流延支持体上に流延して、流延膜（ウェブ）を形成し、ウェブが支持体上を移行する間にウェブに含まれる溶媒の一部を揮散させて、剥離可能となったウェブを支持体から剥離する工程を含む光学フィルムの製造方法であって、剥離後のウェブの残留溶媒量が１６０〜３０重量％である状態において、該ウェブの支持体接触側表面に、高エネルギー表面処理を施すことを特徴としている。
【００２４】
本発明の光学フィルムの製造方法において、高エネルギー表面処理が、常圧プラズマ処理および／または紫外線照射処理である。
【００２５】
すなわち、本発明による光学フィルムの製造方法は、剥離直後のウェブの支持体接触面側表面を、いわゆるオンライン（製膜工程ライン上）で、常圧プラズマ装置、紫外線照射装置により高エネルギー表面処理を施すことにより、表面硬度を向上させ、あるいはまた、フィルム表面を改質するものである。
【００２６】
そして、本発明の効果は、剥離直後に常圧プラズマ処理あるいは紫外線照射処理を行うことでのみ得られ、例え、離れた位置からプラズマガスが剥離後のフィルムに流れるような場合には、本発明の効果は得られない。
【００２７】
本発明による光学フィルムの製造方法によれば、剥離直後のウェブの支持体接触面側表面を、このような高エネルギー表面処理を施すことによって、その後の搬送による押され故障を無くすことができるものである。
【００２８】
さらには、フィルム表面を改質したことから、すべり性が向上し、巻きフィルムの張付き故障を防止することができるものである。
【００２９】
本発明の方法により製造された光学フィルムは、高エネルギー表面処理された側のフィルム表面の炭素／酸素原子数比（Ｃ／Ｏ比）が、０．８〜１．２であるものである。
【００３０】
ここで、フィルム表面の炭素／酸素原子数比（Ｃ／Ｏ比）とは、フィルム表層数ｎｍにおける炭素原子数、酸素原子数の比率である。すなわち、フィルム表面の官能基により決定される値であり、親水性、疎水性あるいはまた接着性、すべり性の指標となるパラメータである。
【００３１】
本発明の光学フィルムにおいて、高エネルギー表面処理された側のフィルム表面の炭素／酸素原子数比（Ｃ／Ｏ比）が、０．８未満であればフィルム表面に水酸基が多いため、密着性が高くなり、貼り付き故障の原因となるため好ましくない。また、高エネルギー表面処理された側のフィルム表面の炭素／酸素原子数比（Ｃ／Ｏ比）が、１．２を超えると、フィルム表面の水酸基が少ないため濡れ性が悪化し、後工程の偏光板作製時において良好な接着性が得られないため、好ましくない。
【００３２】
本発明の方法により製造された光学フィルムによれば、すべり性が向上し、貼り付き故障を防止することから、光学フィルムは平面性に優れているものである。
【００３３】
以下、本発明による光学フィルムの製造方法について詳しく述べる。フィルムは、溶液流延製膜方法により作製できる。
【００３４】
図１は、本発明の溶液流延製膜法による光学フィルムの製造方法を実施する装置の具体例を示すフローシートである。なお、本発明の実施にあたっては、以下に示す図面のプロセスに限定されるものではない。
【００３５】
同図において、まず、溶解釜（１）で、例えばセルロースエステル系樹脂を、良溶媒及び貧溶媒の混合溶媒に溶解し、これに可塑剤や紫外線吸収剤等の添加剤を添加して樹脂溶液（ドープ）を調製する。
【００３６】
ついで、溶解釜（１）で調整されたドープを、例えば加圧型定量ギヤポンプ（２）を通して、導管によって流延ダイ（３）に送液し、無限に移送する例えば回転駆動ステンレス鋼製エンドレスベルトよりなる金属製支持体（６）上の流延位置に、流延ダイ（３）からドープを流延する。
【００３７】
ここで、ドープを流延する金属支持体（６）は、例えばステンレス鋼（ＳＵＳ３１６やＳＵＳ３０４）製であり、その表面の走査型原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）による３次元表面粗さ（Ｒａ）が、平均１．０ｎｍの超鏡面に研磨したエンドレスベルト（６）を用いる。
【００３８】
流延ダイ（３）によるドープの流延には、流延されたドープ膜（ウェブ）をブレードで膜厚を調節するドクターブレード法、あるいは逆回転するロールで調節するリバースロールコーターによる方法等があるが、口金部分のスリット形状を調製でき、膜厚を均一にしやすい加圧ダイが好ましい。加圧ダイには、コートハンガーダイやＴダイ等があるが、何れも好ましく用いられる。
【００３９】
なお、流延ダイ（３）としては、口金部分のスリット形状を調製でき、膜厚を均一にしやすい加圧ダイが好ましい。また、流延ダイ（３）には、通常、減圧チャンバ（４）が付設されている。
【００４０】
ここで、セルロースエステル溶液（ドープ）の固形分濃度が、１５〜３０重量％であるのが、好ましい。セルロースエステル溶液（ドープ）の固形分濃度が、１５重量％未満であれば、金属支持体（６）上で充分な乾燥ができず、剥離時にドープ膜の一部が金属支持体（６）上に残り、ベルト汚染につながるため、好ましくない。また固形分濃度が３０重量％を超えると、ドープ粘度が高くなり、ドープ調整工程でフィルター詰まりが早くなったり、金属支持体（６）上への流延時に圧力が高くなり、押し出せなくなるため、好ましくない。
【００４１】
金属製支持体（６）として回転駆動エンドレスベルトを具備する図示の製膜装置では、ベルト金属製支持体（６）は、前後一対の巻回ドラム（５）（５）および中間の複数のロール（図示略）より保持されている。
【００４２】
回転駆動エンドレスベルト金属製支持体（６）の両端巻回部の巻回ドラム（５）（５）の一方、もしくは両方に、ベルト金属製支持体（６）に張力を付与する駆動装置が設けられ、これによってベルト金属製支持体（７）は張力が掛けられて張った状態で使用される。
【００４３】
金属支持体（６）の幅は１７００〜２５００ｍｍ、セルロースエステル溶液の流延幅は１６００〜２４００ｍｍ、巻き取り後のフィルムの幅は１４００〜２４００ｍｍであるのが好ましい。これにより、金属支持体方式によって幅の広い液晶表示装置用光学フィルムを製造することができる。
【００４４】
また、金属支持体（６）の周速度が４０〜２００ｍ／ｍｉｎであるのが、好ましい。
【００４５】
金属製支持体（６）としてエンドレスベルトを用いる場合には、製膜時のベルト温度は、一般的な温度範囲０℃〜溶剤の沸点未満の温度、混合溶剤では最も沸点の低い溶剤の沸点未満の温度で流延することができ、さらには５℃〜（溶剤沸点−５℃）の範囲が、より好ましい。このとき、周囲の雰囲気湿度は露点以上に制御する必要がある。
【００４６】
上記のようにして金属支持体（７）表面に流延されたドープは、剥ぎ取りまでの間で乾燥が促進されることによってもゲル膜の強度（フイルム強度）が増加する。
【００４７】
金属製支持体（６）としてエンドレスベルトを用いる方式においては、金属製支持体（６）上では、ウェブ（９）が金属製支持体（７）から剥離ロール（８）によって剥離可能な膜強度となるまで乾燥固化させるため、ウェブ（９）中の残留溶媒量が１５０重量％以下まで乾燥させるのが好ましく、８０〜１２０重量％が、より好ましい。また、金属製支持体（７）からウェブ（９）を剥離するときのウェブ温度は、０〜３０℃が好ましい。また、ウェブ（９）は、金属製支持体（７）からの剥離直後に、金属製支持体（６）密着面側からの溶媒蒸発で温度が一旦急速に下がり、雰囲気中の水蒸気や溶剤蒸気など揮発性成分がコンデンスしやすいため、剥離時のウェブ温度は５〜３０℃がさらに好ましい。
【００４８】
ここで、残留溶媒量は、下記の式で表わせる。
【００４９】
残留溶媒量（重量％）＝｛（Ｍ−Ｎ）／Ｎ｝×１００
式中、Ｍはウェブの任意時点での重量、Ｎは重量Ｍのものを温度１１０℃で、３時間乾燥させたときの重量である。
【００５０】
エンドレスベルト金属製支持体（７）上に流延されたドープにより形成されたドープ膜（ウェブ）（９）を、金属製支持体（７）上で加熱し、金属製支持体（７）から剥離ロール（８）によってウェブが剥離可能になるまで溶媒を蒸発させる。
【００５１】
溶媒を蒸発させるには、ウェブ側から風を吹かせる方法、及び／または金属製支持体（６）の裏面から液体により伝熱させる方法、輻射熱により表裏から伝熱する方法等がある。
【００５２】
金属製支持体（６）にエンドレスベルトを用いる方式においては、金属製支持体（６）とウェブ（９）を剥離ロール（８）によって剥離する際の剥離張力は、通常、ウェブ幅１ｍ当たりの張力で５０Ｎ〜２００Ｎで剥離が行なわれるが、従来よりも薄膜化されている本発明による光学フィルムでは、剥離の際にウェブ（９）の残留溶媒量が多く、搬送方向に伸びやすいために、幅手方向にフィルムは縮みやすく、乾燥と縮みが重なると、端部がカールし、折れ込むことにより、シワが入りやすいため、剥離できる最低張力〜１７０Ｎで剥離することが好ましく、さらに好ましくは、最低張力〜１４０Ｎで剥離することである。
【００５３】
本発明において、金属支持体（６）上でウェブ（９）が剥離可能な膜強度となるまで乾燥させた後に、ウェブ（９）を剥離ロール（８）によって剥離し、ついで、本発明の方法によって、剥離後のウェブ（９）の残留溶媒量が１６０〜３０重量％である状態において、該ウェブ（９）の支持体接触側表面に、高エネルギー表面処理を施すものである。
【００５４】
本発明による光学フィルムの製造方法においては、高エネルギー表面処理時のウェブの残留溶媒量は、１６０〜３０重量％であり、さらに好ましくは７０〜１００重量％で処理することである。ここで、残留溶媒量が１６０重量％を超えると、エンドレスベルト等の流延支持体から剥離できないので好ましくない。また、残留溶媒量が３０重量％未満であれば、安定な処理層が形成されず、経時で処理前の表面状態に戻ってしまうため好ましくない。
【００５５】
ここで、高エネルギー表面処理を行なう場所、換言すれば、常圧プラズマ装置および／またはエキシマ紫外線照射よりなる高エネルギー表面処理装置（２０）を設置する場所は、図１に符号「Ａ」で示す区間である。
【００５６】
すなわち、ウェブ（フィルム）（９）が金属支持体（６）から剥離された直後のウェブの残留溶媒量が１６０〜３０重量％である状態の区間（Ａ）に限られる。高エネルギー表面処理装置は多段で設置してもよい。
【００５７】
なお、本発明による光学フィルムの製造方法において、高エネルギー表面処理が、ウェブの支持体接触側表面に常圧プラズマ装置により、０．１〜３６Ｗ／ｃｍ２  の処理強度および０．００１〜０．６秒間の処理条件でプラズマ照射による高エネルギー表面処理を施すものであり、および／またはウェブの支持体接触側表面にエキシマ紫外線照射装置により、１〜３０００ｍＪ／ｃｍ２  の光量および０．００１〜０．６秒間の処理条件で、エキシマ紫外線照射による高エネルギー処理を施すものであることが好ましい。
【００５８】
上記常圧プラズマ装置による高エネルギー処理の処理条件において、処理強度が、０．１Ｗ／ｍ２  未満であれば、表面改質の効果が弱く、十分な接着性が得られないので、好ましくない。また処理強度が、３６Ｗ／ｃｍ２  を超えると、フィルム表面が劣化するので、好ましくない。またプラズマ照射の時間が、０．００１秒未満であれば、表面改質の効果が弱く、短時間で処理前の表面状態に戻ってしまうので、好ましくない。プラズマ照射の時間が、０．６秒を超えると、いわゆる、弱境界層（Weak Boundary Layer：ＷＢＬ）が形成され、逆に密着性が低下するので、好ましくない。
【００５９】
一方、エキシマＵＶ照射装置による高エネルギー処理の処理条件において、光量が、１ｍＪ／ｃｍ２ 未満であれば、表面改質の効果が弱く、十分な接着性が得られないので、好ましくない。また光量が、３０００ｍＪ／ｃｍ２  を超えると、フィルム表面が劣化するので、好ましくない。またエキシマＵＶ照射の時間が、０．００１秒未満であれば、表面改質の効果が弱く、短時間で処理前の表面状態に戻ってしまうので、好ましくない。エキシマＵＶ照射の時間が、０．６秒を超えると、弱境界層（ＷＢＬ）が形成され、逆に密着性が低下するので、好ましくない。
【００６０】
本発明による光学フィルムは、高エネルギー処理されたフィルムの表面エネルギーが、６０ｍＮ／ｍ未満であれば、十分な接着性が得られていないので、好ましくない。また、高エネルギー処理されたフィルムの表面エネルギーが、１００ｍＮ／ｍを超えると、密着性が高過ぎて貼り付き等の故障が発生してしまうので、好ましくない。
【００６１】
図２は、本発明の溶液流延製膜法による光学フィルムの製造方法を実施する装置のいま１つの具体例を示すフローシートで、ドープを流延する金属支持体（７）は、例えばステンレス鋼製のドラムの表面にハードクロムメッキ処理を施したものであり、その表面の走査型原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）による３次元表面粗さ（Ｒａ）が、平均１．０ｎｍの超鏡面に研磨したドラム（７）を用いる。
【００６２】
本発明においては、溶液流延製膜法により、樹脂溶液（ドープ）をドラム（７）上に流延し、ドラム（７）上でウェブ（９）が剥離可能な膜強度となるまで乾燥させた後に、ウェブ（９）を剥離ロール（８）によって剥離し、ついで、剥離後のウェブ（９）の残留溶媒量が１１０〜５０重量％、さらに好ましくは７０〜１００重量％である状態において、該ウェブ（９）の支持体接触側表面に、高エネルギー表面処理を施すものである。
【００６３】
ここで、高エネルギー表面処理を行なう場所、換言すれば、常圧プラズマ装置および／またはエキシマ紫外線照射よりなる高エネルギー表面処理装置（２０）を設置する場所は、図２に符号「Ａ」で示す区間である。
【００６４】
すなわち、ウェブ（フィルム）（９）がドラム（７）から剥離された直後のウェブの残留溶媒量が１６０〜３０重量％である状態の区間（Ａ）に限られる。高エネルギー表面処理装置は多段で設置してもよい。
【００６５】
なお、本発明による光学フィルムの製造方法において、高エネルギー表面処理が、ウェブの支持体接触側表面に常圧プラズマ装置により、０．１〜３６Ｗ／ｃｍ２  の処理強度および０．００１〜０．６秒間の処理条件でプラズマ照射による高エネルギー表面処理を施すものであり、および／またはウェブの支持体接触側表面にエキシマ紫外線照射装置により、１〜３０００ｍＪ／ｃｍ２  の光量および０．００１〜０．６秒間の処理条件で、エキシマ紫外線照射による高エネルギー処理を施すものであることが好ましい。
【００６６】
なお、図２の光学フィルム製造装置のその他の点は、上記図１の光学フィルム製造装置の場合と同様であるので、図面において同一のものには、同一の符号を付した。
【００６７】
つぎに、本発明による光学フィルムの製造方法に用いる常圧プラズマ装置について、詳細に説明する。
【００６８】
本実施の形態における常圧プラズマ装置は、対向する電極間に、高周波電圧を印加して放電させることにより、反応性ガスをプラズマ状態とし、流延膜表面をこのプラズマ状態の反応性ガスに晒すことによって、ウェブの表面、硬度を上げるとともに表面を改質するものである。
【００６９】
本発明において常圧とは７２２〜７９８Ｔｏｒｒの圧力下を示す。
【００７０】
常圧プラズマ装置には、被処理基板をはさむように対向配置された電極間に高周波電力を加えて、供給ガスをプラズマ化するダイレクト方式、プラナー方式と呼ばれる方式と、反応性ガスを高周波電圧が加えられた電極の間を通して導入し、プラズマ化するリモート式、ダウンストリーム方式と呼ばれる方式とがあり、いずれの方式も本発明に使えるが、本実施の形態の光学フィルムの製造方法では、ウェブ表面への表面処理膜形成には、後者のリモート方式、ダウンストリーム方式と呼ばれる方式を用いるのが好ましい。
【００７１】
図３は、常圧プラズマ装置の原理を説明するための説明図である。
【００７２】
図３において、（ａ）、（ｂ）は常圧プラズマ装置の対向電極、（ｇ）は反応性ガス、（ｓ）はウェブ（フィルム）である。
【００７３】
図３における常圧プラズマ装置の簡単な構造として、高周波電圧が加えられた対向電極（ａ）、（ｂ）間に、反応性ガス（ｇ）を導入、通過させてプラズマ化し、ウェブ（フィルム）（ｓ）表面に噴射供給し、表面硬度を上げ、さらに表面処理膜を形成する。
【００７４】
本発明において、常圧プラズマ装置による高エネルギー表面処理は、０．１〜３６Ｗ／ｃｍ２ の処理強度で行うことが好ましい。
【００７５】
ここで、処理強度（Ｗ／ｃｍ２ ）は、リアクタの対向電極間に供給する電力であり、電極における電圧の印加面積（／ｃｍ２ ）は、放電が起こる範囲の面積のことを指す。
【００７６】
本実施の形態においては、このようなハイパワーの電圧を印加して、均一なグロー放電状態を保つことができる電極を常圧プラズマ装置に採用する必要がある。
【００７７】
このような電極としては、金属母材上に誘電体を被覆したものであることが好ましい。少なくとも対向する印加電極とアース電極の片側に誘電体を被覆すること、さらに好ましくは、対向する印加電極とアース電極の両方に誘電体を被覆することである。誘電体としては、比誘電率が６〜４５の無機物であることが好ましく、このような誘電体としては、アルミナ、窒化珪素等のセラミックス、あるいは、ケイ酸塩系ガラス、ホウ酸塩系ガラス等のガラスライニング材等が挙げられる。
【００７８】
また、透明フィルム基材であるセルロースエステルフィルムを、電極間に載置あるいは電極間を搬送してプラズマに晒す場合には、透明フィルム基材を片方の電極に接して搬送できるロール電極仕様にするだけでなく、さらに、誘電体表面を研磨仕上げし、電極の表面粗さＲｍａｘ（ＪＩＳ Ｂ ０６０１）を１０μｍ以下にすることで、誘電体の厚み、及び電極間のギャップを一定に保つことができ、放電状態を安定化できること、さらに熱収縮差や残留応力による歪やひび割れを無くし、かつポーラスで無い高精度の無機誘電体を被覆することで、大きく耐久性を向上させることができるため、好ましい。
【００７９】
また、プラズマの噴射供給を行う吹出しスリットとウェブ（フィルム）（ｓ）の表面との間隙は、近づけすぎると、ウェブ（フィルム）（ｓ）の表面に接触、損傷させる危険があり、離しすぎると、表面処理の効果が弱くなる。
【００８０】
また、反応ガス（ｇ）には、窒素や酸素、アルゴン、ヘリウムなど種々のものが利用可能であるが、環境面、排気の後処理、ランニングコストの観点から、窒素が好ましく、さらには窒素に微量の酸素を混合する好ましい。酸素の混合比率は、原料ガスの体積に対して２体積％以下が望ましい。
【００８１】
また、常圧プラズマの原料ガスの風量は、プラズマ照射の有効幅１ｍ当たり、２０〜５０００Ｌ／ｍｉｎが望ましい。さらには、４０〜２５００Ｌ／ｍｉｎがより好ましい。
【００８２】
また、常圧プラズマ装置では、誘導電流あるいは放電によるウェブ（フィルム）表面の粗面化等のダメージが懸念されるため、シールド機構を有する装置を用いるのが望ましい。
【００８３】
つぎに、本発明による光学フィルムの製造方法に用いる紫外線照射装置について説明する。
【００８４】
図４は、紫外線照射装置の原理を説明するための説明図である。
【００８５】
同図において、（ｕ）は紫外線照射ランプ、（ｒ）は反射板、（ｐ）はパージガス、（ｉ）はエアーカーテン兼ランプ装置冷却風、（ｓ）はウェブ（フィルム）、（ｅ）排気である。
【００８６】
本発明においては、図４に示す紫外線照射ランプ（ｕ）を用いて、主として波長が１７２ｎｍの紫外線を１〜３，０００ｍＪ／ｃｍ２の光量で、ウェブ（フィルム）（ｓ）に照射するものである。
【００８７】
また、紫外線照射ランプ（ｕ）とウェブ（フィルム）（ｓ）との間隙は、近づけすぎると（ｓ）表面に接触、損傷させる危険があり、離しすぎると、酸素や水に、紫外線の高エネルギーが吸収されてしまい、ウェブ（フィルム）の改質の効果が弱くなるため、０．５〜４ｍｍが好ましく、さらには、１〜３ｍｍがより好ましい。
【００８８】
これらの高エネルギー表面処理装置を、光学用途のフィルム製膜ラインに持ち込む場合には、クリーン度維持の対策が課題となる。特に、構造上、発塵したものをライン内に吐き出す構造の常圧プラズマ装置では、クリーン度維持の対策が重要である。
【００８９】
図１において、ドープを流延する金属支持体（７）は、例えばステンレス鋼（ＳＵＳ３１６やＳＵＳ３１４）製であり、図２において、ドープを流延する金属支持体（６）は、例えばステンレス鋼製のドラムの表面にハードクロムメッキ処理を施したものであり、その表面の走査型原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）による３次元表面粗さ（Ｒａ）が、平均１．０ｎｍの超鏡面に研磨したドラム（６）またはエンドレスベルト（７）を用いる。
【００９０】
高エネルギー表面処理は、前述したように、ウェブ（フィルム）（９）が金属支持体（６）（７）から剥離された直後のウェブの残留溶媒量が１１０〜５０重量％である状態の区間（Ａ）で、ウェブ（フィルム）（９）に直接プラズマガスを吹き付ける方法であり、離れた場所からプラズマガスをウェブ（フィルム）（９）へ流す方法では、ラジカルが失活してしまい効果がない。
【００９１】
本発明の方法によれば、剥離直後の残留溶媒量の多いウェブ（９）の支持体接触面側表面の硬度を向上させるとともに、フィルム表面の改質によりすべり性を向上することにより、その後の搬送による押され故障を防止し、透明性、平面性に優れた光学特性を有する光学フィルムを製造することができるとともに、生産速度を上げることができて、フィルムの生産性を向上することができ、ひいては近年の偏光板用保護フィルム等の薄膜化、広幅化、及び高品質化の要求に応えることができるものである。
【００９２】
つぎに、本発明において、光学フィルムを製造するための樹脂溶液（ドープ）は、主材としてセルロースエステル樹脂等の樹脂を含み、これらに、可塑剤、リタデーション調整剤、紫外線吸収剤、微粒子、及び低分子量物質のうちの少なくとも１種以上の物質と、溶媒とを含むものである。
【００９３】
以下、これらについて説明する。
【００９４】
本発明の光学フィルムを製造する方法においては、フィルム材料として、種々の樹脂を用いることができるが、中でもセルロースエステルが好ましい。
【００９５】
セルロースエステルは、セルロース由来の水酸基がアシル基などで置換されたセルロースエステルである。例えば、セルロースアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネートブチレートなどのセルロースアシレートや、脂肪族ポリエステルグラフト側鎖を有するセルロースアセテートなどが挙げられる。中でも、セルロースアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、脂肪族ポリエステルグラフト側鎖を有するセルロースアセテートが好ましい。本発明の効果を阻害しない範囲であれば、その他の置換基が含まれていてもよい。
【００９６】
セルローストリアセテートの例としては、アセチル基の置換度が２．０以上、３．０以下であることが好ましい。置換度をこの範囲にすることで、良好な成形性が得られ、かつ所望の面内方向リタデーション（Ｒｏ）、及び厚み方向リタデーション（Ｒｔ）を得ることができるのである。アセチル基の置換度が、この範囲より低いと、位相差フィルムとしての耐湿熱性、特に湿熱下での寸法安定性に劣る場合があり、置換度が大きすぎると、必要なリタデーション特性が発現しなくなる場合がある。
【００９７】
本発明の光学フィルムに用いられるセルロースエステルの原料のセルロースとしては、特に限定はないが、綿花リンター、木材パルプ、ケナフなどを挙げることができる。また、それらから得られたセルロースエステルは、それぞれ任意の割合で混合使用することができる。
【００９８】
本発明において、セルロースエステルの数平均分子量は、６００００〜３０００００の範囲が、得られるフィルムの機械的強度が強く好ましい。さらに７００００〜２０００００が好ましい。
【００９９】
本発明において、セルロースエステルには、種々の添加剤を配合することができる。
【０１００】
本発明による光学フィルムを製造する方法では、セルロースエステルと厚み方向リタデーション（Ｒｔ）を低減する添加剤とを含有するドープ組成物を用いるのが、好ましい。
【０１０１】
本発明において、セルロースエステルフィルムの厚み方向リタデーション（Ｒｔ）を低減することが、ＩＰＳモードで動作する液晶表示装置の視野角拡大の意味において重要であるが、本発明において、このような厚み方向リタデーション（Ｒｔ）を低減する添加剤としては、下記のものが挙げられる。
【０１０２】
一般に、セルロースエステルフィルムのリタデーションは、セルロースエステル由来のリタデーションと、添加剤由来のリタデーションの和として現れる。従って、セルロースエステルのリタデーションを低減させるための添加剤とは、セルロースエステルの配向を乱し、かつ自身が配向しにくいおよび／または分極率異方性が小さい添加剤が厚み方向リタデーション（Ｒｔ）を効果的に低下させる化合物である。従って、セルロースエステルの配向を乱すための添加剤としては、芳香族系化合物より、脂肪族系化合物が好ましい。
【０１０３】
ここで、具体的なリタデーション低減剤として、例えば、つぎの一般式（１）または（２）で表わされるポリエステルが挙げられる。
【０１０４】
Ｂ１−（Ｇ−Ａ−）ｍＧ−Ｂ１    …（１）
Ｂ２−（Ｇ−Ａ−）ｎＧ−Ｂ２    …（２）
上記式中、Ｂ１はモノカルボン酸成分を表わし、Ｂ２はモノアルコール成分を表わし、Ｇは２価のアルコール成分を表わし、Ａは２塩基酸成分を表わし、これらによって合成されたことを表わす。Ｂ１、Ｂ２、Ｇ、およびＡは、いずれも芳香環を含まないことが特徴である。ｍ、ｎは、繰り返し数を表わす。
【０１０５】
Ｂ１で表わされるモノカルボン酸成分としては、特に制限はなく、公知の脂肪族モノカルボン酸、脂環族モノカルボン酸等を用いることができる。
【０１０６】
好ましいモノカルボン酸の例としては、以下のようなものを挙げることができるが、本発明はこれに限定されるものではない。
【０１０７】
肪族モノカルボン酸としては、炭素数１〜３２の直鎖または側鎖を持った脂肪酸を好ましく用いることができる。炭素数１〜２０であることがさらに好ましく、炭素数１〜１２であることが特に好ましい。酢酸を含有させると、セルロースエステルとの相溶性が増すため好ましく、酢酸と他のモノカルボン酸を混合して用いることも好ましい。
【０１０８】
好ましいモノカルボン酸としては、蟻酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、２−エチル−ヘキサンカルボン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸等の飽和脂肪酸、ウンデシン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸等の不飽和脂肪酸等を挙げることができる。
【０１０９】
Ｂ２で表わされるモノアルコール成分としては、特に制限はなく、公知のアルコール類を用いることができる。例えば炭素数１〜３２の直鎖または側鎖を持った脂肪族飽和アルコールまたは脂肪族不飽和アルコールを好ましく用いることができる。炭素数１〜２０であることがさらに好ましく、炭素数１〜１２であることが特に好ましい。
【０１１０】
Ｇで表わされる２価のアルコール成分としては、以下のようなものを挙げることができるが、本発明はこれに限定されるものではない。例えばエチレングリコール、１，２−プロピレングリコール、１，３−プロピレングリコール、１，２−ブチレングリコール、１，３−ブチレングリコール、１，４−ブチレングリコール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，５−ペンチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール等を挙げることができるが、これらのうち、エチレングリコール、１，２−プロピレングリコール、１，３−プロピレングリコール、１，２−ブチレングリコール、１，３−ブチレングリコール、１，４−ブチレングリコール、１，６−ヘキサンジオール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコールが好ましく、さらに、１，３−プロピレングリコール、１，４−ブチレングリコール、１，６−ヘキサンジオール、ジエチレングリコールが好ましく用いられる。
【０１１１】
Ａで表わされる２塩基酸（ジカルボン酸）成分としては、脂肪族２塩基酸、脂環式２塩基酸が好ましく、例えば脂肪族２塩基酸としては、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ウンデカンジカルボン酸、ドデカンジカルボン酸等、特に、脂肪族カルボン酸としては、炭素数４〜１２を有するもの、これらから選ばれる少なくとも１つのものを使用する。つまり、２種以上の２塩基酸を組み合わせて使用してよい。
【０１１２】
上記の一般式（１）または（２）における繰り返し数ｍ、ｎは、１以上で１７０以下が好ましい。
【０１１３】
ポリエステルの重量平均分子量は、２００００以下が好ましく、１００００以下であることがさらに好ましい。特に重量平均分子量が５００〜１００００のポリエステルは、セルロースエステルとの相溶性が良好で、製膜において蒸発も揮発も起こらない。
【０１１４】
ポリエステルの重縮合は常法によって行なわれる。例えば上記２塩基酸とグリコールの直接反応、上記の２塩基酸またはこれらのアルキルエステル類、例えば２塩基酸のメチルエステルとグリコール類とのポリエステル化反応またはエステル交換反応により熱溶融縮合法か、あるいはこれらの酸の酸クロライドとグリコールとの脱ハロゲン化水素反応の何れかの方法により用意に合成し得るが、重量平均分子量がさほど大きくないポリエステルは直接反応によるのが、好ましい。低分子量側に分布が高くあるポリエステルは、セルロースエステルとの相溶性が非常によく、フィルム形成後、透湿度も小さく、しかも透明性に富んだセルロースエステルフィルムを得ることができる。
【０１１５】
分子量の調節方法は、特に制限がなく、従来の方法を使用できる。例えば、重合条件にもよるが、１価の酸または１価のアルコールで分子末端を封鎖する方法により、これらの１価のものの添加する量によりコントロールできる。この場合、１価の酸がポリマーの安定性から好ましい。例えば、酢酸、プロピオン酸、酪酸等を挙げることができるが、重縮合反応中には系外に溜去せず、停止して、このような１価の酸を反応系外に除去するときに溜去しやすいものが選ばれる。これらを混合使用しても良い。また、直接反応の場合には、反応中に溜去してくる水の量により反応を停止するタイミングを計ることよっても重量平均分子量を調節できる。その他、仕込むグリコールまたは２塩基酸のモル数を偏らせることよってもできるし、反応温度をコントロールしても調節できる。
【０１１６】
上記一般式（１）または（２）で表わされるポリエステルは、セルロースエステルに対し、１〜４０重量％含有することが好ましい。特に５〜１５重量％含有することが好ましい。
【０１１７】
本発明において、厚み方向リタデーション（Ｒｔ）を低減する添加剤としては、さらに下記のものが挙げられる。
【０１１８】
本発明の光学フィルムの製造に使用するドープは、主に、セルロースエステル、リタデーション（Ｒｔ）を低減する添加剤としてのポリマー（エチレン性不飽和モノマーを重合して得られるポリマー、アクリル系ポリマー）、及び有機溶媒を含有する。
【０１１９】
本発明において、厚み方向リタデーション（Ｒｔ）を低減する添加剤としてのポリマーを合成するには、通常の重合では分子量のコントロールが難しく、分子量をあまり大きくしない方法でできるだけ分子量を揃えることのできる方法を用いることが望ましい。かかる重合方法としては、クメンペルオキシドやｔ−ブチルヒドロペルオキシドのような過酸化物重合開始剤を使用する方法、重合開始剤を通常の重合より多量に使用する方法、重合開始剤の他にメルカプト化合物や四塩化炭素等の連鎖移動剤を使用する方法、重合開始剤の他にベンゾキノンやジニトロベンゼンのような重合停止剤を使用する方法、さらに特開２０００−１２８９１１号公報または特開２０００−３４４８２３号公報にあるような一つのチオール基と２級の水酸基とを有する化合物、あるいは、該化合物と有機金属化合物を併用した重合触媒を用いて塊状重合する方法等を挙げることができ、何れも本発明において好ましく用いられるが、特に、該公報に記載の方法が好ましい。
【０１２０】
本発明において、有用な厚み方向リタデーション（Ｒｔ）を低減する添加剤としてのポリマーを構成するモノマー単位としてのモノマーを下記に挙げるがこれに限定されない。
【０１２１】
エチレン性不飽和モノマーを重合して得られる厚み方向リタデーション（Ｒｔ）を低減する添加剤としてのポリマーを構成するエチレン性不飽和モノマー単位としては、まず、ビニルエステルとして、例えば、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、吉草酸ビニル、ピバリン酸ビニル、カプロン酸ビニル、カプリン酸ビニル、ラウリン酸ビニル、ミリスチン酸ビニル、パルミチン酸ビニル、ステアリン酸ビニル、シクロヘキサンカルボン酸ビニル、オクチル酸ビニル、メタクリル酸ビニル、クロトン酸ビニル、ソルビン酸ビニル、安息香酸ビニル、桂皮酸ビニル等が挙げられる。
【０１２２】
つぎに、アクリル酸エステルとして、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル（ｉ−、ｎ−）、アクリル酸ブチル（ｎ−、ｉ−、ｓ−、ｔ−）、アクリル酸ペンチル（ｎ−、ｉ−、ｓ−）、アクリル酸ヘキシル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸ヘプチル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸オクチル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸ノニル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸ミリスチル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸（２−エチルヘキシル）、アクリル酸ベンジル、アクリル酸フェネチル、アクリル酸（ε−カプロラクトン）、アクリル酸（２−ヒドロキシエチル）、アクリル酸（２−ヒドロキシプロピル）、アクリル酸（３−ヒドロキシプロピル）、アクリル酸（４−ヒドロキシブチル）、アクリル酸（２−ヒドロキシブチル）、アクリル酸−ｐ−ヒドロキシメチルフェニル、アクリル酸−ｐ−（２−ヒドロキシエチル）フェニル等；メタクリル酸エステルとして、上記アクリル酸エステルをメタクリル酸エステルに変えたものが挙げられる。
【０１２３】
さらに、不飽和酸として、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、クロトン酸、イタコン酸等を挙げることができる。
【０１２４】
上記モノマーで構成されるポリマーはコポリマーでもホモポリマーでもよく、ビニルエステルのホモポリマー、ビニルエステルのコポリマー、ビニルエステルとアクリル酸またはメタクリル酸エステルとのコポリマーが好ましい。
【０１２５】
本発明において、アクリル系ポリマーという（単にアクリル系ポリマーという）のは、芳香環あるいはシクロヘキシル基を有するモノマー単位を有しないアクリル酸またはメタクリル酸アルキルエステルのホモポリマーまたはコポリマーを指す。
【０１２６】
芳香環及びシクロヘキシル基を有さないアクリル酸エステルモノマーとしては、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル（ｉ−、ｎ−）、アクリル酸ブチル（ｎ−、ｉ−、ｓ−、ｔ−）、アクリル酸ペンチル（ｎ−、ｉ−、ｓ−）、アクリル酸ヘキシル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸ヘプチル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸オクチル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸ノニル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸ミリスチル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸（２−エチルヘキシル）、アクリル酸（ε−カプロラクトン）、アクリル酸（２−ヒドロキシエチル）、アクリル酸（２−ヒドロキシプロピル）、アクリル酸（３−ヒドロキシプロピル）、アクリル酸（４−ヒドロキシブチル）、アクリル酸（２−ヒドロキシブチル）、アクリル酸（２−メトキシエチル）、アクリル酸（２−エトキシエチル）等、または上記アクリル酸エステルをメタクリル酸エステルに変えたものを挙げることができる。
【０１２７】
アクリル系ポリマーは、上記モノマーのホモポリマーまたはコポリマーであるが、アクリル酸メチルエステルモノマー単位が３０重量％以上を有していることが好ましく、また、メタクリル酸メチルエステルモノマー単位が４０重量％以上有することが好ましい。特にアクリル酸メチルまたはメタクリル酸メチルのホモポリマーが好ましい。
【０１２８】
上述のエチレン性不飽和モノマーを重合して得られるポリマー、アクリル系ポリマーは、いずれもセルロースエステルとの相溶性に優れ、蒸発や揮発もなく生産性に優れ、偏光板用保護フィルムとしての保留性がよく、透湿度が小さく、寸法安定性に優れている。
【０１２９】
本発明において、水酸基を有するアクリル酸またはメタクリル酸エステルモノマーの場合はホモポリマーではなく、コポリマーの構成単位である。この場合、好ましくは、水酸基を有するアクリル酸またはメタクリル酸エステルモノマー単位がアクリル系ポリマー中２〜２０重量％含有することが好ましい。
【０１３０】
本発明の光学フィルムを製造する方法においては、ドープ組成物が、セルロースエステルと、厚み方向リタデーション（Ｒｔ）を低減する添加剤としての重量平均分子量５００以上３０００以下のアクリル系ポリマーとを含有することが好ましい。
【０１３１】
また、本発明の光学フィルムを製造する方法においては、ドープ組成物が、セルロースエステルと、厚み方向リタデーション（Ｒｔ）を低減する添加剤としての重量平均分子量５０００以上３００００以下のアクリル系ポリマーとを含有するが好ましい。
【０１３２】
本発明において、厚み方向リタデーション（Ｒｔ）を低減する添加剤としてのポリマーの重量平均分子量が５００以上３０００以下、あるいはまたポリマーの重量平均分子量が５０００以上３００００以下のものであれば、セルロースエステルとの相溶性が良好で、製膜中において蒸発も揮発も起こらない。また、製膜後のセルロースエステルフィルムの透明性が優れ、透湿度も極めて低く、偏光板用保護フィルムとして優れた性能を示す。
【０１３３】
本発明において、厚み方向リタデーション（Ｒｔ）を低減する添加剤として、側鎖に水酸基を有するポリマーも好ましく用いることができる。水酸基を有するモノマー単位としては、前記したモノマーと同様であるが、アクリル酸またはメタクリル酸エステルが好ましく、例えば、アクリル酸（２−ヒドロキシエチル）、アクリル酸（２−ヒドロキシプロピル）、アクリル酸（３−ヒドロキシプロピル）、アクリル酸（４−ヒドロキシブチル）、アクリル酸（２−ヒドロキシブチル）、アクリル酸−ｐ−ヒドロキシメチルフェニル、アクリル酸−ｐ−（２−ヒドロキシエチル）フェニル、またはこれらアクリル酸をメタクリル酸に置き換えたものを挙げることができ、好ましくは、アクリル酸−２−ヒドロキシエチル及びメタクリル酸−２−ヒドロキシエチルである。ポリマー中に水酸基を有するアクリル酸エステルまたはメタクリル酸エステルモノマー単位はポリマー中２〜２０重量％含有することが好ましく、より好ましくは２〜１０重量％である。
【０１３４】
前記のようなポリマーが上記の水酸基を有するモノマー単位を２〜２０重量％含有したものは、勿論、セルロースエステルとの相溶性、保留性、寸法安定性が優れ、透湿度が小さいばかりでなく、偏光板用保護フィルムとしての偏光子との接着性に特に優れ、偏光板の耐久性が向上する効果を有している。
【０１３５】
また、本発明においては、上記ポリマーの主鎖の少なくとも一方の末端に水酸基を有することが好ましい。主鎖末端に水酸基を有するようにする方法は、特に主鎖の末端に水酸基を有するようにする方法であれば限定ないが、アゾビス（２−ヒドロキシエチルブチレート）のような水酸基を有するラジカル重合開始剤を使用する方法、２−メルカプトエタノールのような水酸基を有する連鎖移動剤を使用する方法、水酸基を有する重合停止剤を使用する方法、リビングイオン重合により水酸基を末端に有するようにする方法、特開２０００−１２８９１１号公報または特開２０００−３４４８２３号公報にあるような一つのチオール基と２級の水酸基とを有する化合物、あるいは、該化合物と有機金属化合物を併用した重合触媒を用いて塊状重合する方法等により得ることができ、特に該公報に記載の方法が好ましい。この公報記載に関連する方法で作られたポリマーは、綜研化学社製のアクトフロー・シリーズとして市販されており、好ましく用いることができる。
【０１３６】
上記の末端に水酸基を有するポリマー及び／または側鎖に水酸基を有するポリマーは、本発明において、セルロースエステルに対するポリマーの相溶性、透明性を著しく向上する効果を有する。
【０１３７】
本発明において、有用な厚み方向リタデーション（Ｒｔ）を低減する添加剤としては、上記のほかにも、例えば特開２０００−６３５６０号公報記載のジグリセリン系多価アルコールと脂肪酸とのエステル化合物、特開２００１−２４７７１７号公報記載のヘキソースの糖アルコールのエステルまたはエーテル化合物、特開２００４−３１５６１３号公報記載のリン酸トリ脂肪族アルコールエステル化合物、特開２００５−４１９１１号公報記載の一般式（１）で表わされる化合物、特開２００４−３１５６０５号公報記載のリン酸エステル化合物、特開２００５−１０５１３９号公報記載のスチレンオリゴマー、および特開２００５−１０５１４０号公報記載のスチレン系モノマーの重合体が挙げられる。
【０１３８】
また、本発明において、厚み方向リタデーション（Ｒｔ）を低減する添加剤は、以下の方法によっても見出すことができる。
【０１３９】
セルロースエステルを酢酸メチルとアセトンからなる混合有機溶媒に溶解したドープ処方をガラス板上に製膜し、１２０℃／１５ｍｉｎで乾燥して膜厚８０μｍのセルロースエステルフィルムを作成する。このセルロースエステルフィルムの厚み方向のリターデーションを測定して、これをＲｔ1 とする。
【０１４０】
つぎに、セルロースエステルに、上記ポリマー添加剤を１０重量％添加し、酢酸メチルとアセトンからなる混合有機溶媒で溶解して、ドープ処方を作成する。このドープ処方を、上記と同様にして、膜厚８０μｍのセルロースエステルフィルムを作成する。このセルロースエステルフィルムの厚み方向のリターデーションを測定して、これをＲｔ2 とする。
【０１４１】
そして、上記の２つのセルロースエステルフィルムの厚み方向のリターデーションの関係が
Ｒｔ2 ＜Ｒｔ1
であれば、セルロースエステルに添加したポリマー添加剤は、厚み方向リタデーション（Ｒｔ）を低減する添加剤であると言える。
【０１４２】
本発明において、セルロースエステルの厚み方向リタデーション（Ｒｔ）は、−１０ｎｍ〜＋１０ｎｍ、好ましくは−５ｎｍ〜＋５ｎｍである。ここで、セルロースエステルの厚み方向リタデーション（Ｒｔ）が−１０ｎｍより小さい場合、あるいはまた＋１０ｎｍより大きい場合のいずれの場合にも、視野角が狭くなり、本発明の効果が現れない。
【０１４３】
また、本発明において、セルロースエステルの面内方向リタデーション（Ｒｏ）は、０ｎｍ〜＋５ｎｍ、好ましくは０ｎｍ〜＋２ｎｍ、さらに好ましくは０ｎｍ〜＋１ｎｍ、特に好ましくは０ｎｍ程度である。ここで、面内方向リタデーション（Ｒｏ）が０ｎｍより小さい場合、あるいはまた＋５ｎｍより大きい場合のいずれの場合にも、視野角が狭くなり、本発明の効果が現れない。
【０１４４】
上述した厚み方向リタデーション（Ｒｔ）を低減する添加剤の含有量は、セルロースエステル系樹脂に対して５〜２５重量％含有させることが好ましい。厚み方向リタデーション（Ｒｔ）を低減する添加剤の含有量が５重量％未満であれば、フィルムの厚み方向リタデーション（Ｒｔ）を低減する効果が発現しないので、好ましくない。また厚み方向リタデーション（Ｒｔ）を低減する添加剤の含有量が２５重量％を超えると、いわゆるブリードアウトが生じるなど、フィルム中の安定性が低下するので、好ましくない。
【０１４５】
本発明において、フィルムのリタデーション値は、自動複屈折率計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測機器株式会社製）を用いて、５９０ｎｍの波長において、三次元屈折率測定を行ない、得られた屈折率Ｎｘ、Ｎｙ、Ｎｚから算出することができる。
【０１４６】
Ｒｏ＝（Ｎｘ−Ｎｙ）×ｄ
Ｒｔ＝（（Ｎｘ＋Ｎｙ）／２−Ｎｚ）×ｄ
式中、Ｎｘ、Ｎｙ、Ｎｚはそれぞれ屈折率楕円体の主軸ｘ、ｙ、ｚ方向の屈折率を表わし、かつ、Ｎｘ、Ｎｙはフィルム面内方向の屈折率を、Ｎｚはフィルムの厚み方向の屈折率を表わす。また、Ｎｘ≧Ｎｙであり、ｄはフィルムの厚み（ｎｍ）を表わす。
【０１４７】
本発明において、セルロースエステルフィルムは、遅相軸方向と製膜方向とのなす角度θ（ラジアン）と面内方向のリタデーション値（Ｒｏ）が下記の関係にあり、特に偏光板用保護フィルム等のセルロースエステルフィルムとして好ましく用いられる。
【０１４８】
Ｐ≦１−ｓｉｎ２（２θ）ｓｉｎ２（πＲｏ／λ）
ここで、Ｐは０．９９９９以下である。
【０１４９】
θはフィルム面内の遅相軸方向と製膜方向（フィルムの直尺方向）とのなす角度（°ラジアン）、λは上記Ｎｘ、Ｎｙ、Ｎｚ、θを求める三次元屈折率測定の際の光の波長５９０ｎｍ、πは円周率である。
【０１５０】
本発明による光学フィルムを製造する方法において、上記セルロース誘導体に対して良好な溶解性を有する有機溶媒を良溶媒といい、また溶解に主たる効果を示し、その中で大量に使用する有機溶媒を主（有機）溶媒または主たる（有機）溶媒という。
【０１５１】
良溶媒の例としては、アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノンなどのケトン類、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、１，２−ジメトキシエタンなどのエーテル類、蟻酸メチル、蟻酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル、γ−ブチロラクトン等のエステル類の他、メチルセロソルブ、ジメチルイミダゾリノン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、アセトニトリル、ジメチルスルフォキシド、スルホラン、ニトロエタン、塩化メチレン、アセト酢酸メチルなどが挙げられるが、１，３−ジオキソラン、ＴＨＦ、メチルエチルケトン、アセトン、酢酸メチル及び塩化メチレンが好ましい。
【０１５２】
ドープには、上記有機溶媒の他に、１〜４０重量％の炭素原子数１〜４のアルコールを含有させることが好ましい。これらは、ドープを金属支持体に流延した後、溶媒が蒸発し始めてアルコールの比率が多くなることで、ウェブ（金属支持体上にセルロース誘導体のドープを流延した以降のドープ膜の呼び方をウェブとする）をゲル化させ、ウェブを丈夫にして、金属支持体から剥離することを容易にするゲル化溶媒として用いられたり、これらの割合が少ない時は非塩素系有機溶媒のセルロース誘導体の溶解を促進したりする役割もある。
【０１５３】
炭素原子数１〜４のアルコールとしては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテルを挙げることができる。これらのうち、ドープの安定性に優れ、沸点も比較的低く、乾燥性も良く、かつ毒性がないことなどからエタノールが好ましい。これらの有機溶媒は、単独ではセルロース誘導体に対して溶解性を有しておらず、貧溶媒という。
【０１５４】
このような条件を満たす好ましい高分子化合物であるセルロース誘導体を高濃度に溶解する溶剤として最も好ましい溶剤は塩化メチレン：エチルアルコールの比が９５：５〜８０：２０の混合溶剤である。あるいは、酢酸メチル：エチルアルコール６０：４０〜９５：５の混合溶媒も好ましく用いられる。
【０１５５】
本発明における光学フィルムには、フィルムに加工性・柔軟性・防湿性を付与する可塑剤、フィルムに滑り性を付与する微粒子（マット剤）、紫外線吸収機能を付与する紫外線吸収剤、フィルムの劣化を防止する酸化防止剤等を含有させてもよい。
【０１５６】
本発明において使用する可塑剤としては、特に限定はないが、フィルムにヘイズを発生させたり、フィルムからブリードアウトあるいは揮発しないように、セルロース誘導体や加水分解重縮合が可能な反応性金属化合物の重縮合物と、水素結合などによって相互作用可能である官能基を有していることが好ましい。
【０１５７】
このような官能基としては、水酸基、エーテル基、カルボニル基、エステル基、カルボン酸残基、アミノ基、イミノ基、アミド基、イミド基、シアノ基、ニトロ基、スルホニル基、スルホン酸残基、ホスホニル基、ホスホン酸残基等が挙げられるが、好ましくはカルボニル基、エステル基、ホスホニル基である。
【０１５８】
このような可塑剤の例として、リン酸エステル系可塑剤、フタル酸エステル系可塑剤、トリメリット酸エステル系可塑剤、ピロメリット酸系可塑剤、多価アルコールエステル系可塑剤、グリコレート系可塑剤、クエン酸エステル系可塑剤、脂肪酸エステル系可塑剤、カルボン酸エステル系可塑剤、ポリエステル系可塑剤などを好ましく用いることができるが、特に好ましくは多価アルコールエステル系可塑剤、グリコレート系可塑剤、多価カルボン酸エステル系可塑剤等の非リン酸エステル系可塑剤である。
【０１５９】
多価アルコールエステルは、２価以上の脂肪族多価アルコールとモノカルボン酸のエステルよりなり、分子内に芳香環またはシクロアルキル環を有することが好ましい。
【０１６０】
本発明に用いられる多価アルコールは、つぎの一般式（３）で表わされる。
【０１６１】
Ｒ１ −（ＯＨ）ｎ        …（３）
式中、Ｒ１ はｎ価の有機基、ｎは２以上の正の整数を表わす。
【０１６２】
好ましい多価アルコールの例としては、例えば以下のようなものを挙げることができるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１６３】
好ましい多価アルコールの例としては、アドニトール、アラビトール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、ジブチレングリコール、１，２，４−ブタントリオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ヘキサントリオール、ガラクチトール、マンニトール、３−メチルペンタン−１，３，５−トリオール、ピナコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、キシリトール等を挙げることができる。特に、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、キシリトールが好ましい。
【０１６４】
本発明において、多価アルコールエステルに用いられるモノカルボン酸としては、特に制限はなく、公知の脂肪族モノカルボン酸、脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸等を用いることができる。脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸を用いると透湿性、保留性を向上させる点で好ましい。
【０１６５】
好ましいモノカルボン酸の例としては、以下のようなものを挙げることができるが、本発明はこれに限定されるものではない。
【０１６６】
脂肪族モノカルボン酸としては、炭素数１〜３２の直鎖または側鎖を有する脂肪酸を好ましく用いることができる。炭素数は１〜２０であることがさらに好ましく、１〜１０であることが特に好ましい。酢酸を含有させると、セルロース誘導体との相溶性が増すため好ましく、酢酸と他のモノカルボン酸を混合して用いることも好ましい。
【０１６７】
好ましい脂肪族モノカルボン酸の例としては、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、２−エチル−ヘキサンカルボン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸等の飽和脂肪酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸等の不飽和脂肪酸等を挙げることができる。
【０１６８】
好ましい脂環族モノカルボン酸の例としては、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることができる。
【０１６９】
好ましい芳香族モノカルボン酸の例としては、安息香酸、トルイル酸等の安息香酸のベンゼン環にアルキル基を導入したもの、ビフェニルカルボン酸、ナフタリンカルボン酸、テトラリンカルボン酸等のベンゼン環を２個以上有する芳香族モノカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることができるが、特に安息香酸が好ましい。
【０１７０】
多価アルコールエステルの分子量は、特に制限はないが、３００〜１５００であることが好ましく、３５０〜７５０であることが、さらに好ましい。分子量が大きい方が揮発し難くなるため好ましく、透湿性、セルロース誘導体との相溶性の点では、小さい方が好ましい。
【０１７１】
多価アルコールエステルに用いられるカルボン酸は１種類でもよいし、２種以上の混合であってもよい。また、多価アルコール中のＯＨ基は、全てエステル化してもよいし、一部をＯＨ基のままで残してもよい。
【０１７２】
グリコレート系可塑剤は、特に限定されないが、分子内に芳香環またはシクロアルキル環を有するグリコレート系可塑剤を、好ましく用いることができる。好ましいグリコレート系可塑剤としては、例えばブチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート等を用いることができる。
【０１７３】
リン酸エステル系可塑剤では、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェート等、フタル酸エステル系可塑剤では、ジエチルフタレート、ジメトキシエチルフタレート、ジメチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ−２−エチルヘキシルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート等を用いることができるが、本発明では、リン酸エステル系可塑剤を実質的に含有しないことが好ましい。
【０１７４】
ここで、「実質的に含有しない」とは、リン酸エステル系可塑剤の含有量が１重量％未満、好ましくは０．１重量％であり、特に好ましいのは添加していないことである。
【０１７５】
これらの可塑剤は、単独あるいは２種以上混合して用いることができる。
【０１７６】
可塑剤の使用量は、１〜２０重量％が好ましい。６〜１６重量％がさらに好ましく、特に好ましくは８〜１３重量％である。可塑剤の使用量が、セルロース誘導体に対して１重量％未満では、フィルムの透湿度を低減させる効果が少ないため、好ましくなく、２０重量％を越えると、フィルムから可塑剤がブリードアウトし、フィルムの物性が劣化するため、好ましくない。
【０１７７】
本発明において、セルロース誘導体には、滑り性を付与するために、マット剤等の微粒子を添加するのが好ましい。微粒子としては、無機化合物の微粒子または有機化合物の微粒子が挙げられる。
【０１７８】
無機化合物の微粒子の例としては、二酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化錫等の微粒子が挙げられる。この中では、ケイ素原子を含有する化合物の微粒子であることが好ましく、特に二酸化ケイ素微粒子が好ましい。二酸化ケイ素微粒子としては、例えばアエロジル株式会社製のＡＥＲＯＳＩＬ  ２００、２００Ｖ、３００、Ｒ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ２０２、Ｒ８１２，Ｒ８０５、ＯＸ５０、ＴＴ６００などが挙げられる。
【０１７９】
有機化合物の微粒子の例としては、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、フッ素化合物樹脂、ウレタン樹脂等の微粒子が挙げられる。
【０１８０】
微粒子の１次粒径は、特に限定されないが、最終的にフィルム中での平均粒径は、０．０５〜５．０μｍ程度が好ましい。さらに好ましくは、０．１〜１．０μｍである。
【０１８１】
微粒子の平均粒径は、セルロースエステルフィルムを電子顕微鏡や光学顕微鏡で観察した際に、フィルムの観察場所における、粒子の長軸方向の長さの平均値を指す。フィルム中で観察される粒子であれば、１次粒子であっても、１次粒子が凝集した２次粒子であってもよいが、通常観察される多くは２次粒子である。
【０１８２】
測定方法の一例としては、１つのフィルムにつき、ランダムに１０箇所の垂直断面写真を撮影し、各断面写真について、長軸長さが、０．０５〜５μｍの範囲にある１００μｍ２中の粒子個数をカウントする。このときカウントした粒子の長軸長さの平均値を求め、１０箇所の平均値を平均した値を平均粒径とする。
【０１８３】
微粒子の場合は、１次粒径、溶媒に分散した後の粒径、フィルムに添加されたの粒径が変化する場合が多く、重要なのは、最終的にフィルム中で微粒子がセルロースエステルと複合し凝集して形成される粒径をコントロールすることである。
【０１８４】
ここで、微粒子の平均粒径が、５μｍを超えた場合は、ヘイズの劣化等が見られたり、異物として巻状態での故障を発生する原因にもなる。また、微粒子の平均粒径が、０．０５μｍ未満の場合は、フィルムに滑り性を付与するのが難しくなる。
【０１８５】
上記の微粒子は、セルロースエステルに対して、０．０４〜０．５重量％添加して使用される。好ましくは、０．０５〜０．３重量％、さらに好ましくは０．０５〜０．２５重量％添加して使用される。微粒子の添加量が０．０４重量％以下では、フィルム表面粗さが平滑になりすぎて、摩擦係数の上昇によりブロッキングを発生する。微粒子の添加量が０．５重量％を超えると、フィルム表面の摩擦係数が下がりすぎて、巻き取り時に巻きズレが発生したり、フィルムの透明度が低く、ヘイズが高くなるため、液晶表示装置用フィルムとしての価値を持たなくなるので、上記の範囲が必須である。
【０１８６】
微粒子の分散は、微粒子と溶剤を混合した組成物を高圧分散装置で処理することが好ましい。本発明で用いる高圧分散装置は、微粒子と溶媒を混合した組成物を、細管中に高速通過させることで、高剪断や高圧状態など特殊な条件を作りだす装置である。
【０１８７】
高圧分散装置で処理することにより、例えば、管径１〜２０００μｍの細管中で装置内部の最大圧力条件が９８０Ｎ／ｃｍ２以上であることが好ましい。さらに好ましくは、装置内部の最大圧力条件が１９６０Ｎ／ｃｍ２以上である。またその際、最高到達速度が１００ｍ／ｓｅｃ以上に達するもの、伝熱速度が１００ｋｃａｌ／ｈｒ以上に達するものが、好ましい。
【０１８８】
上記のような高圧分散装置としては、例えばMicrofluidics Corporation社製の超高圧ホモジナイザー（商品名マイクロフルイダイザー）あるいはナノマイザー社製ナノマイザーが挙げられ、他にもマントンゴーリン型高圧分散装置、例えばイズミフードマシナリ製ホモゲナイザーなどが挙げられる。
【０１８９】
本発明において、微粒子は、低級アルコール類を２５〜１００重量％含有する溶剤中で分散した後、セルロースエステル（セルロース誘導体）を溶剤に溶解したドープと混合し、該混合液を金属支持体上に流延し、乾燥して製膜することを特徴とするセルロースエステルフィルムを得る。
【０１９０】
ここで、低級アルコールの含有比率としては、好ましくは５０〜１００重量％、さらに好ましくは７５〜１００重量％である。
【０１９１】
また、低級アルコール類の例としては、好ましくはメチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール等が挙げられる。
【０１９２】
低級アルコール以外の溶媒としては、特に限定されないが、セルロースエステルの製膜時に用いられる溶剤を用いることが好ましい。
【０１９３】
微粒子は、溶媒中で１〜３０重量％の濃度で分散される。これ以上の濃度で分散すると、粘度が急激に上昇し、好ましくない。分散液中の微粒子の濃度としては、好ましく、５〜２５重量％、さらに好ましくは、１０〜２０重量％である。
【０１９４】
フィルムの紫外線吸収機能は、液晶の劣化防止の観点から、偏光板保護フィルム、位相差フィルム、光学補償フィルムなどの各種光学フィルムに付与されていることが好ましい。このような紫外線吸収機能は、紫外線を吸収する材料をセルロース誘導体中に含ませても良く、セルロース誘導体からなるフィルム上に紫外線吸収機能のある層を設けてもよい。
【０１９５】
本発明において、使用し得る紫外線吸収剤としては、例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物等を挙げることができるが、着色の少ないベンゾトリアゾール系化合物が好ましい。また、特開平１０−１８２６２１号公報、特開平８−３３７５７４号公報に記載の紫外線吸収剤、特開平６−１４８４３０号公報に記載の高分子紫外線吸収剤も好ましく用いられる。
【０１９６】
紫外線吸収剤としては、偏光子や液晶の劣化防止の観点から、波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れており、かつ液晶表示性の観点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ないものが好ましい。
【０１９７】
本発明において、有用な紫外線吸収剤の具体例としては、２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−（３″，４″，５″，６″−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２，２−メチレンビス（４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（直鎖及び側鎖ドデシル）−４−メチルフェノール、オクチル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネートと２−エチルヘキシル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネートの混合物等を挙げることができるが、これらに限定されない。
【０１９８】
また、紫外線吸収剤の市販品として、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）１０９、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）１７１、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）３２６（何れもチバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製）を、好ましく使用できる。
【０１９９】
また、本発明において使用し得る紫外線吸収剤であるベンゾフェノン系化合物の具体例として、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホベンゾフェノン、ビス（２−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−ベンゾイルフェニルメタン）等を挙げることができるが、これらに限定されない。
【０２００】
本発明において、これらの紫外線吸収剤の配合量は、セルロースエステル（セルロース誘導体）に対して、０．０１〜１０重量％の範囲が好ましく、さらに０．１〜５重量％が好ましい。紫外線吸収剤の使用量が少なすぎると、紫外線吸収効果が不充分の場合があり、紫外線吸収剤の多すぎると、フィルムの透明性が劣化する場合があるので、好ましくない。紫外線吸収剤は熱安定性の高いものが好ましい。
【０２０１】
また、本発明の光学フィルムに用いることのできる紫外線吸収剤は、特開平６−１４８４３０号公報及び特開２００２−４７３５７号公報に記載の高分子紫外線吸収剤（または紫外線吸収性ポリマー）を好ましく用いることができる。とりわけ特開平６−１４８４３０号公報に記載の一般式（１）、あるいは一般式（２）、あるいは特開２００２−４７３５７号公報に記載の一般式（３）（６）（７）で表される高分子紫外線吸収剤が、好ましく用いられる。
【０２０２】
酸化防止剤は、一般に、劣化防止剤ともいわれるが、光学フィルムとしてのセルロースエステルフィルム中に含有させるのが好ましい。すなわち、液晶画像表示装置などが高湿高温の状態に置かれた場合には、光学フィルムとしてのセルロースエステルフィルムの劣化が起こる場合がある。酸化防止剤は、例えばフィルム中の残留溶媒中のハロゲンやリン酸系可塑剤のリン酸などによりフィルムが分解するのを遅らせたり、防いだりする役割を有するので、フィルム中に含有させるのが好ましい。
【０２０３】
このような酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール系の化合物が好ましく用いられ、例えば、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、１，６−ヘキサンジオール−ビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、２，４−ビス−（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２，２−チオ−ジエチレンビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、Ｎ，Ｎ′−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ヒドロシンナマミド）、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、トリス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレイト等を挙げることができる。特に、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕が好ましい。また例えば、Ｎ，Ｎ′−ビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニル〕ヒドラジン等のヒドラジン系の金属不活性剤やトリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）フォスファイト等のリン系加工安定剤を併用してもよい。
【０２０４】
これらの化合物の添加量は、セルロース誘導体に対して重量割合で１ｐｐｍ〜１．０重量％が好ましく、１０〜１０００ｐｐｍがさらに好ましい。
【０２０５】
なお、図１と図２に示す本発明の光学フィルムを製造する装置の具体例において、延伸工程は、液晶表示装置用フィルムとしては、ウェブ（またはフィルム）（９）の両側縁部をクリップ等で固定して延伸するテンター方式が、フィルムの平面性や寸法安定性を向上させるために好ましい。
【０２０６】
延伸工程のテンター（１１）に入る直前のウェブ（フィルム）（９）の残留溶媒量が、１０〜３５重量％であることが好ましい。
【０２０７】
本実施の形態において、延伸工程のテンター（１１）におけるウェブの延伸率が３〜１００％であり、５〜８０％であることが好ましく、さらに５〜６０％であることが望ましい。またテンター（１１）における温風吹出しスリット口から吹き出す温風の温度が１００〜２００℃であり、１１０〜１９０℃であることが好ましく、さらに１１５〜１８５℃であることが望ましい。
【０２０８】
図１と図２に示すように、延伸工程のテンター（１１）の後側には、乾燥装置（１０）を設けることが好ましい。なお、図示は省略したが、延伸工程のテンター（１１）の前後両側に乾燥装置（１０）を設けることもある。
【０２０９】
乾燥装置（１０）内では、側面から見て千鳥配置せられた複数の搬送ロールによってウェブ（９）が蛇行せられ、その間にウェブ（９）が乾燥せられるものである。また、乾燥装置（１０）でのフィルム搬送張力は、ドープの物性、剥離時及びフィルム搬送工程での残留溶媒量、乾燥温度等に影響を受けるが、乾燥時のフィルム搬送張力は、３０〜３００Ｎ／幅ｍであり、４０〜２７０Ｎ／幅ｍが、より好ましい。
【０２１０】
なお、ウェブ（フィルム）（９）を乾燥させる手段は、特に制限なく、一般的に熱風、赤外線、加熱ロール、マイクロ波等で行なう。簡便さの点から熱風で乾燥するのが好ましく、例えば乾燥装置（１０）の底の前寄り部分の温風入口から吹込まれる乾燥風（１２）によって乾燥され、乾燥装置（１０）の天井の後寄り部分の出口から排気風が排出せられることによって乾燥される。乾燥風（１２）の温度は４０〜１６０℃が好ましく、５０〜１６０℃が平面性、寸法安定性を良くするためさらに好ましい。
【０２１１】
これら流延から後乾燥までの工程は、空気雰囲気下でもよいし、窒素ガスなどの不活性ガス雰囲気下でもよい。この場合、乾燥雰囲気を溶媒の爆発限界濃度を考慮して実施することは勿論のことである。
【０２１２】
搬送乾燥工程を終えた例えばセルロースエステルフィルムに対し、巻取工程に導入する前段において、一般に、エンボス加工装置によりフィルムにエンボスを形成する加工が行なわれる。
【０２１３】
ここで、エンボスの高さｈ（μｍ）は、フィルム膜厚Ｔの０．０５〜０．３倍の範囲、幅Ｗは、フィルム幅Ｌの０．００５〜０．０２倍の範囲に設定する。エンボスは、フィルムの両面に形成してもよい。この場合、エンボスの高さｈ１＋ｈ２（μｍ）は、フィルム膜厚Ｔの０．０５〜０．３倍の範囲、幅Ｗはフィルム幅Ｌの０．００５〜０．０２倍の範囲に設定する。例えばフィルム膜厚４０μｍであるとき、エンボスの高さｈ１＋ｈ２（μｍ）は２〜１２μｍに設定する。エンボス幅は５〜３０ｍｍに設定する。
【０２１４】
乾燥が終了したフィルムを巻取り装置（１３）によって巻き取り、光学フィルムの元巻を得るものである。乾燥を終了するフィルムの残留溶媒量は、０．５重量％以下、好ましくは０．１重量％以下とすることにより寸法安定性の良好なフィルムを得ることができる。
【０２１５】
フィルムの巻き取り方法は、一般に使用されているワインダーを用いればよく、定トルク法、定テンション法、テーパーテンション法、内部応力一定のプログラムテンションコントロール法等の張力をコントロールする方法があり、それらを使い分ければよい。
【０２１６】
巻取りコア（巻芯）への、フィルムの接合は、両面接着テープでも、片面接着テープでもどちらでもよい。
【０２１７】
本発明による光学フィルムは、巻き取り後のフィルムの幅が、１２００〜２５００ｍｍであることが好ましい。
【０２１８】
本発明においては、セルロースエステルフィルムの乾燥後の膜厚は、液晶表示装置の薄型化の観点から、仕上がりフィルムとして、２０〜１５０μｍの範囲が好ましい。ここで、乾燥後のフィルム膜厚とは、フィルム中の残留溶媒量が０．５重量％以下の状態のフィルムを言うものである。
【０２１９】
ここで、巻き取り後のセルロースエステルフィルムの膜厚が薄過ぎると、例えば偏光板用保護フィルムとしての必要な強度が得られない場合がある。フィルムの膜厚が厚過ぎると、従来のセルロースエステルフィルムに対して薄膜化の優位性がなくなる。膜厚の調節には、所望の厚さになるように、ドープ濃度、ポンプの送液量、流延ダイの口金のスリット間隙、流延ダイの押し出し圧力、金属支持体の速度等をコントロールするのがよい。また、膜厚を均一にする手段として、膜厚検出手段を用いて、プログラムされたフィードバック情報を上記各装置にフィードバックさせて調節するのが好ましい。
【０２２０】
溶液流延製膜法を通しての流延直後からの乾燥までの工程において、乾燥装置内の雰囲気を、空気とするのもよいが、窒素ガスや炭酸ガス等の不活性ガス雰囲気で行なってもよい。ただ、乾燥雰囲気中の蒸発溶媒の爆発限界の危険性は常に考慮されなければならないことはもちろんである。
【０２２１】
本発明において、セルロースエステルフィルムは、含水率としては０．１〜５％が好ましく、０．３〜４％がより好ましく、０．５〜２％であることがさらに好ましい。
【０２２２】
本発明において、セルロースエステルフィルムは、透過率が９０％以上であることが望ましく、さらに好ましくは９２％以上であり、さらに好ましくは９３％以上である。
【０２２３】
また、本発明による光学フィルムは、３枚重ねた場合のヘイズが、０．３〜２．０であるもので、本発明の光学フィルムによれば、フィルムのヘイズが非常に低いものであり、透明性、平面性に優れた光学特性を有するものである。
【０２２４】
ここで、光学フィルムのヘイズの測定は、例えば、ＪＩＳ Ｋ ６７１４に規定される方法に従って、ヘイズ・メーター（１００１ＤＰ型、日本電色工業株式会社製）を用いて測定すればよい。
【０２２５】
また、本発明による光学フィルムとしてのセルロースエステルフィルムの機械方向（ＭＤ方向）の引張弾性率が、１５００ＭＰａ〜３５００ＭＰａ、機械方向に垂直な方向（ＴＤ方向）の引張弾性率が、３０００ＭＰａ〜４５００ＭＰａであるのが好ましく、フィルムのＴＤ方向弾性率／ＭＤ方向弾性率の比が、１．４０〜１．９０であるのが好ましい。
【０２２６】
ここで、光学フィルムのＴＤ方向弾性率／ＭＤ方向弾性率の比が、１．４０未満であれば、１６５０ｍｍを超える幅のフィルムの巻取りでは中央部のたるみが大きくなり、巻き芯のフィルムの貼り付きが多くなるため、好ましくない。また、フィルムのＴＤ方向弾性率／ＭＤ方向弾性率の比が、１．９０を超えると、偏向板での過熱後のそりが生じたり、液晶パネルに組み込んだ際にバックライトの熱によりバックライト側と表面側の偏光板の寸法変化の挙動が大きく異なることにより、コーナーにムラが生じるので、好ましくない。
【０２２７】
フィルムのＭＤ方向、及びＴＤ方向の引張弾性率の具体的な測定方法としては、例えばＪＩＳ  Ｋ７２１７の方法が挙げられる。
【０２２８】
すなわち、引っ張り試験器（ミネベア社製、ＴＧ−２ＫＮ）を用い、チャッキング圧：０．２５ＭＰａ、標線間距離：１００±１０ｍｍで、サンプルをセットし、引っ張り速度：１００±１０ｍｍ／分の速度で引っ張る。その結果、得られた引張応力−歪み曲線から、弾性率算出開始点を１０Ｎ、終了点を３０Ｎとし、その間に引いた接線を外挿し、弾性率を算出するものである。
【０２２９】
本発明の光学フィルムでは、下記式で定義される面内方向リタデーション（Ｒｏ）が、温度２３℃、湿度５５％ＲＨの条件下で３０〜３００ｎｍ、厚み方向リタデーション（Ｒｔ）が、温度２３℃、湿度５５％ＲＨの条件下で７０〜４００ｎｍであることが好ましい。
【０２３０】
Ｒｏ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
Ｒｔ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ
式中、Ｒｏはフィルム面内リタデーション値、Ｒｔはフィルム厚み方向リタデーション値、ｎｘはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率、ｎｙはフィルム面内の進相軸方向の屈折率、ｎｚはフィルムの厚み方向の屈折率（屈折率は波長５９０ｎｍで測定）、ｄはフィルムの厚さ（ｎｍ）を表す。
【０２３１】
なお、リタデーション値Ｒｏ、Ｒｔは、自動複屈折率計を用いて測定することができる。例えば、ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測機器株式会社製）を用いて、温度２３℃、湿度５５％ＲＨの環境下で、波長が５９０ｎｍで求めることができる。
【０２３２】
本発明による光学フィルムは、液晶表示用部材、詳しくは偏光板用保護フィルムに用いられるのが好ましい。特に、透湿度と寸法安定性に対して共に厳しい要求のある偏光板用保護フィルムにおいて、本発明による光学フィルムは好ましく用いられる。
【０２３３】
本発明の光学フィルムからなる偏光板用保護フィルムを用いることにより、薄膜化とともに、耐久性及び寸法安定性、光学的等方性に優れた偏光板を提供することができる。
【０２３４】
上記偏光板には、本発明による光学フィルムを位相差フィルムとして貼り合わせて作製してもよいし、また本発明による光学フィルムを位相差フィルムと保護フィルムとを兼ねて、直接偏光フィルムと貼り合わせて作製してもよい。貼り合わせる方法は、特に限定はないが、水溶性ポリマーの水溶液からなる接着剤により行なうことができる。この水溶性ポリマー接着剤は完全鹸化型のポリビニルアルコール水溶液が好ましく用いられる。さらに、長手方向に延伸し、二色性染料処理した長尺の偏光フィルムと長尺の本発明による位相差フィルムとを貼り合わせることによって長尺の偏光板を得ることができる。偏光板はその片面または両面に感圧性接着剤層（例えば、アクリル系感圧性接着剤層など）を介して剥離性シートを積層した貼着型のもの（剥離性シートを剥すことにより、液晶セルなどに容易に貼着することができる）としてもよい。
【０２３５】
このようにして得られた偏光板は、種々の表示装置に使用できる。特に電圧無印加時に液晶性分子が実質的に垂直配向しているＶＡモードや、電圧無印加時に液晶性分子が実質的に水平かつねじれ配向しているＴＮモードの液晶セルを用いた液晶表示装置が好ましい。
【０２３６】
本発明の光学フィルムには、ハードコート層、防眩層、反射防止層、防汚層、帯電防止層、導電層、光学異方層、液晶層、配向層、粘着層、接着層、下引き層等の各種機能層を付与することができる。これらの機能層は塗布あるいは蒸着、スパッタ、プラズマＣＶＤ、常圧プラズマ処理等の方法で設けることができる。
【０２３７】
このようにして得られた偏光板が、液晶セルの片面または両面に設けられ、これを用いて、液晶表示装置が得られる。
【０２３８】
本発明において、液晶表示装置は、棒状の液晶分子が一対のガラス基板に挟持された液晶セルと、液晶セルを挾むように配置された偏光膜及びその両側に配置された透明保護層からなる２枚の偏光板を持つものである。
【０２３９】
本発明による光学フィルムからなる偏光板用保護フィルムを用いることにより、薄膜化とともに、耐久性及び寸法安定性、光学的等方性に優れた偏光板を提供することができる。さらに、この偏光板あるいは位相差フィルムを用いた液晶表示装置は、長期間に亘って安定した表示性能を維持することができる。
【０２４０】
本発明による光学フィルムは、反射防止用フィルムあるいは光学補償フィルムの基材としても使用できる。
【実施例】
【０２４１】
以下、実施例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は、これらに限定されるものではない。
【０２４２】
実施例１〜６
（ドープの調製）
下記の材料を密閉容器に投入し、加熱し、撹拌しながら、完全に溶解し、濾過して、ドープを調製した。
【０２４３】
（ドープ組成）
セルローストリアセテート（アセチル置換度２．８８）      １００重量部
トリフェニルホスフェート                                    ８重量部
ビフェニルジフェニルホスフェート（液体の可塑剤）            ４重量部
５−クロロ−２−（３，５−ジ−ｓｅｃ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）
−２Ｈ−ベンゾトリアゾール（液体の紫外線吸収剤）            １重量部
メチレンクロライド                                      ４１８重量部
エタノール                                                ２３重量部
つぎに、図１に示す溶液流延製膜装置によりセルローストリアセテートフィルムを製造した。すなわち、上記のドープを流延する金属支持体（６）は、ＳＵＳ３１６製、走査型原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）による３次元表面粗さ（Ｒａ）が、平均１．０ｎｍの超鏡面に研磨したエンドレスベルトを用いた。
【０２４４】
上記のように濾過したドープを、ドープ温度３５℃で、温度２０℃のＳＵＳ３１６製のエンドレスベルト支持体（６）上にコートハンガーダイよりなる流延ダイ（３）により均一に流延した。乾燥風の温度は、３０℃で一定とした。
【０２４５】
ウェブをエンドレスベルト支持体で搬送しながら乾燥した後、エンドレスベルト支持体から剥離された直後に、ウェブ（９）の表面に、常圧プラズマ装置により１２Ｗ／ｃｍ２ の処理強度でプラズマ照射による高エネルギー処理を、また紫外線照射装置により、２０００ｍＪ／ｃｍ２ の処理強度で、紫外線照射による高エネルギー処理を施した。
【０２４６】
ここで、高エネルギー表面処理を行なう場所、換言すれば、常圧プラズマ装置または紫外線照射装置よりなる高エネルギー表面処理装置（２０）を設置した場所は、図１に符号「Ａ」で示す区間とした。
【０２４７】
その後、温度９０℃の雰囲気でロール搬送しながら乾燥させ、テンター（１１）で、残留溶媒量１０％のとき１００℃の雰囲気内で幅方向に１．０６倍延伸した後、幅保持を解放して、ロール搬送しながら１２５℃の乾燥ゾーンで乾燥を終了させ、フィルム両端に幅１０ｍｍ、高さ８μｍのナーリング加工を施して、膜厚４０μｍのセルロースエステルフィルムを作製した。フィルム幅は２０００ｍｍ、巻き取り長は１５００ｍとした。
【０２４８】
（常圧プラズマ処理）
実施例１〜３では、図３に示す常圧プラズマ照射装置を使用し、ウェブ（フィルム）（ｓ）を常圧プラズマ照射装置の下を通過させ、処理時の残留溶媒量を変えて、常圧プラズマ照射処理を施した。
【０２４９】
常圧プラズマ処理に用いた混合ガス（反応ガス）の組成を以下に示した。なお、気圧は７６０Ｔｏｒｒとした。
【０２５０】
窒素          ９９．９８体積％
酸素            ０．０２体積％
混合ガス流量    ２ｍ３ ／ｍｉｎ
（紫外線照射処理）
実施例４〜６では、図４に示す紫外線照射装置を使用し、幅１６００ｍｍ、照射ガラス長手長約３００ｍｍ、Ｘｅ２ 波長１７２ｎｍエキシマＵＶランプが４本入った装置にて、ランプのガラス外部表面から流延膜表面までの間隙を３ｍｍした条件で、流延膜（ウェブ）（ｓ）を紫外線照射装置の下を通過させ、処理時の残留溶媒量を変えて、紫外線照射処理を施した。
【０２５１】
こうして、実施例１〜６で作製したセルローストリアセテートフィルム試料を、以下の方法で評価した。
【０２５２】
（フィルム表面のＣ／Ｏ比率の測定）
フィルム表面のＣ／Ｏ比率の測定は、ＶＧサイエンティフィックス社製ＥＳＣＡＬＡＢ−２００Ｒを用いて測定した。具体的には、Ｘ線アノードにはＭｇを用い、出力６００Ｗ（加速電圧１５ｋＶ、エミッション電流４０ｍＡ）で測定する。エネルギー分解能は、清浄なＡｇ３ｄ５／２  ピークの半値幅で規定したとき、１．５ｅＶ〜１．７ｅＶとなるように設定する。
【０２５３】
測定としては、先ず、結合エネルギー０ｅＶ〜１１００ｅＶの範囲を、データ取り込み間隔１．０ｅＶで測定し、いかなる元素が検出されるかを求める。次に、検出された、エッチングイオン種を除く全ての元素について、データの取り込み間隔を０．２ｅＶとして、その最大強度を与える光電子ピークについてナロースキャンをおこない、各元素のスペクトルを測定する。得られたスペクトルは、測定装置、あるいは、コンピュータの違いによる含有率算出結果の違いを生じせしめなくするために、ＶＡＭＡＳ−ＳＣＡ−ＪＡＰＡＮ製のＣＯＭＭＯＮ  ＤＡＴＡ  ＰＲＯＣＥＳＳＩＮＧ  ＳＹＳＴＥＭ  （Ｖｅｒ．２．３以降が好ましい）上に転送した後、同ソフトで処理をおこない、各分析ターゲットの元素の含有率の値を原子数濃度（atomic concentration：at％）として求めた。
【０２５４】
（動摩擦係数の測定）
フィルム表面と裏面間の動摩擦係数の測定は、ＪＩＳ Ｋ ７１２５（１９８７）の規定に準じ、フィルムの表裏面が接触するように切り出し、２００ｇのおもりを載せ、サンプル移動速度１００ｍｍ／分、接触面積８０ｍｍ×２００ｍｍの条件でおもりを水平引っ張り、おもりが移動中の平均荷重（Ｆ）を測定し、下記式より動摩擦係数（μ）を求めた。
【０２５５】
動摩擦係数（μ）＝Ｆ（ｇｆ）／おもりの重さ（ｇｆ）
（巻品質の評価）
フィルムロールの巻特性（巻品質）の評価は、巻ロールについて、温度２３℃、湿度５５％ＲＨで巻き取ったフィルムを温度４０℃、湿度７０％ＲＨの条件下に２週間経時後、５０ｍ繰り出して貼り付き状況を観察し、貼り付き故障の発生箇所を測定した。
【０２５６】
フィルムロールの巻特性（巻品質）の評価は、貼り付き故障の発生箇所の発生数につき、下記のランクで行なった。
【０２５７】
◎：貼り付き箇所発生数が０〜２
○：貼り付き箇所発生数が３〜６
△：貼り付き箇所発生数が７〜１５
×：貼り付き箇所発生数が１６〜２５
××：貼り付き箇所発生数が２６以上
（押され故障の評価）
フィルムの押され故障の評価は、巻き取られたフィルム１ｍを目視観察し、ロール周長の周期で直径約１００μｍ前後の突起状に見える押され欠陥の有無により、下記の３段階にランク分けして、行なった。
【０２５８】
○：直径１００μｍを超える突起状押され欠陥、及び
直径１００μｍ以下の突起状押され欠陥の発生が、いずれも無し
△：直径１００μｍを超える突起状押され欠陥の発生無し、
直径１００μｍ以下の突起状押され欠陥の発生が１箇所以上有り
×：直径１００μｍを超える突起状押され欠陥が１箇所以上有り、または
直径１００μｍ以下の突起状押され欠陥の発生が２箇所以上有り
下記の表１に、実施例１〜６で作製したセルローストリアセテートフィルム試料の表面Ｃ／Ｏ比率、動摩擦係数、巻品質、押され故障の結果を、まとめて示した。
【０２５９】
比較例１〜５
比較のために、上記実施例１の場合とほゞ同様に実施するが、実施例１の場合と異なる点は、高エネルギー表面処理を施さないか、または高エネルギー表面処理時の残留溶媒量を、本発明の範囲外となるように、設定した点にある。
【０２６０】
比較例６〜８
比較のために、上記実施例１の場合とほゞ同様に実施するが、実施例１の場合と異なる点は、高エネルギー表面処理でなく、剥離直後のウェブ表面に熱風を吹きつけたことである。
【０２６１】
つぎに、比較例１〜８で作製したセルローストリアセテートフィルムについて、上記実施例１〜６の場合と同様に、各フィルム試料の表面Ｃ／Ｏ比率、および動摩擦係数を測定するとともに、各フィルム試料の巻品質、および押され故障の評価を行ない、得られた結果を下記の表１にあわせて示した。
【０２６２】
つぎに、上記実施例１〜６および比較例１〜８で作製したセルローストリアセテートフィルムを偏光板用保護フィルムとして用いた偏光板を、下記の方法により作製して、評価を行なった。
【０２６３】
（偏光膜の作製）
厚さ１２０μｍの長尺のポリビニルアルコールフィルムを、一軸延伸（温度１１０℃、延伸倍率５倍）した。この延伸フィルムを、ヨウ素０．０７５ｇ、ヨウ化カリウム５ｇ、水１００ｇの比率からなる水溶液に６０秒間浸漬し、ついで、ヨウ化カリウム６ｇ、ホウ酸７．５ｇ、水１００ｇの比率からなる温度６８℃の水溶液に浸漬した。これを水洗、乾燥し長尺の偏光膜を得た。
【０２６４】
（偏光板の作製）
ついで、下記工程１〜５に従って、偏光膜と上記実施例１で作製したセルローストリアセテートフィルムよりなる偏光板用保護フィルムとを貼り合わせて偏光板を作製した。
【０２６５】
工程１：実施例１で作製した長尺のセルローストリアセテートフィルムを、２ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム溶液に、温度５０℃で、９０秒間浸漬し、次いで水洗、乾燥させた。
【０２６６】
同様に、市販の位相差フィルムを２ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム溶液に、温度５０℃で、９０秒間浸漬し、次いで水洗、乾燥させた。
【０２６７】
工程２：前述の長尺の偏光膜を固形分２質量％のポリビニルアルコール接着剤槽中に１〜２秒間浸漬した。
【０２６８】
工程３：工程２で偏光膜に付着した過剰の接着剤を軽く取り除き、それを工程１でアルカリ処理した実施例１のセルローストリアセテートフィルムよりなる偏光板用保護フィルムと位相差フィルムで挟み込んで、積層配置した。
【０２６９】
工程４：２つの回転するローラにて２０〜３０Ｎ／ｃｍ２ の圧力で約２ｍ／ｍｉｎの速度で張り合わせた。このとき気泡が入らないように注意して実施した。
【０２７０】
工程５：温度８０℃の乾燥機中にて、工程４で作製した試料を２分間乾燥処理し、実施例１のセルローストリアセテートフィルムよりなる偏光板用保護フィルムを用いた偏光板を作製した。
【０２７１】
同様にして、実施例２〜６および比較例１〜８で作製した長尺のセルローストリアセテートフィルムよりなる偏光板保護フィルムを用いて、各種偏光板を作製した。
【０２７２】
（液晶表示パネルの作製）
市販の液晶表示パネル（ＮＥＣ製カラー液晶ディスプレイ、ＭｕｌｔｉＳｙｎｃ、ＬＣＤ１５２５Ｊ、型名ＬＡ−１５２９ＨＭ）の最表面の偏光板を注意深く剥離し、上述した実施例１〜６および比較例１〜８のセルローストリアセテートフィルムよりなる偏光板保護フィルムを用いて作製した偏光板を、偏光方向を合わせて張り付けて、液晶表示パネルを作製した。
【０２７３】
（偏光板の評価）
このようにして作製した各種の液晶表示パネルについて、複数の評価者で目視にて、正面および斜めから見たときの白っぽく見えるムラを観察して、偏光板の評価とした。
【０２７４】
偏光板のムラ発生の目視評価の基準は、下記の通りである。得られた結果を、下記の表１にあわせて示した。
【０２７５】
○  どの評価者もムラ全く見えず
△  評価者によってかすかにムラが見える場合があるが、
製品としては使えるレベル
×  多くの評価者で、かすかではあるがムラが見られた
【表１】
2010000619.tif 000003
【０２７６】
上記表１の結果から明らかなように、本発明の実施例１〜６におけるように、ウェブ（フィルム）（９）が支持体から剥離された直後に、ウェブ（フィルム）（９）の支持体設置面側表面に、常圧プラズマ装置によりプラズマ照射による高エネルギー処理を施し、あるいはまた紫外線照射装置により紫外線照射による高エネルギー処理を施すことにより、動摩擦係数が小さく、優れた滑り性を有するセルローストリアセテートフィルムが得られ、フィルム製膜工程、並びに偏光板作製工程において、フィルムの滑り性の観点で取扱い性が優れ、かつ押され故障の無いセルローストリアセテートフィルムを得ることができた。
【０２７７】
これに対し、比較例１〜８におけるように、常圧プラズマ装置および紫外線照射装置による表面処理を施さないか、または高エネルギー表面処理時の残留溶媒量の条件を、本発明の範囲外となるように、設定した場合には、滑り性を向上、押され故障を防止することはできなかった。
【０２７８】
また、偏光板の目視評価の結果から、実施例１〜６のセルローストリアセテートフィルムよりなる偏光板保護フィルムを用いて作製した偏光板を用いた液晶表示パネルは、比較例１〜８のセルローストリアセテートフィルムよりなる偏光板保護フィルムを用いて作製した偏光板を用いた液晶表示パネルに比べて、反射光のムラもなく、表示性能に優れていることが確認された。
【図面の簡単な説明】
【０２７９】
【図１】本発明の光学フィルムを製造する装置の具体例を示すフローシートである。
【図２】同装置のいま１つの具体例を示すフローシートである。
【図３】本発明の光学フィルムを製造する装置において使用する常圧プラズマ照射装置の原理を説明するための説明図である。
【図４】本発明の光学フィルムを製造する装置において使用する紫外線照射装置の原理を説明するための説明図である。
【符号の説明】
【０２８０】
１：溶解釜
２：ポンプ
３：流延ダイ
４：減圧チャンバ
５：前後巻回ドラム
６：流延用エンドレスベルト（金属支持体）
７：流延用回転駆動ドラム（金属支持体）
８：剥離ロール
９：ウェブ
１０：ロール搬送乾燥装置
１１：テンター
１２：温風（乾燥風）
１３：巻取り機
１００：高エネルギー表面処理装置
Ａ：高エネルギー表面処理を行なう区間
ａ：常圧プラズマ装置のリアクタの対向電極
ｂ：常圧プラズマ装置のリアクタの対向電極
ｇ：反応ガス
ｓ：流延膜
ｕ：紫外線照射装置の紫外線ランプ
ｒ：反射板
ｐ：パージガス
【図１】
2010000619.tif 000004
【図２】
2010000619.tif 000005
【図３】
2010000619.tif 000006
【図４】
2010000619.tif 000007