(57)【要約】【課題】メンテナンスの対象物に容易にアクセスすることができるメンテナンス装置を提供すること。【解決手段】基板を露光する露光装置のメンテナンス装置であって、前記露光装置の所定部分にアクセス可能に設けられ、前記所定部分の清浄化を行うクリーニング機構を備える。【選択図】図１
2010219108.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を露光する露光装置のメンテナンス装置であって、
前記露光装置の所定部分にアクセス可能に設けられ、前記所定部分の清浄化を行うクリーニング機構を備えるメンテナンス装置。
【請求項２】
前記清浄化は、前記所定部分の洗浄及び前記所定部分の乾燥のうち少なくとも一方を含む請求項１に記載のメンテナンス装置。
【請求項３】
前記クリーニング機構は、前記所定部分に流体を供給する流体供給部を有する請求項１又は請求項２に記載のメンテナンス装置。
【請求項４】
前記流体は、前記所定部分を洗浄する洗浄液及び前記所定部分を乾燥させる気体のうち少なくとも一方を含む請求項３に記載のメンテナンス装置。
【請求項５】
前記流体供給部は、前記所定部分の平面視中央部から外周部へ前記流体を供給する請求項３又は請求項４に記載のメンテナンス装置。
【請求項６】
前記流体供給部は、前記所定部分上で前記流体を前記所定部分の外周部に沿った方向に流通させる請求項３から請求項５のうちいずれか一項に記載のメンテナンス装置。
【請求項７】
前記流体供給部は、前記所定部分上での前記流体の流通方向を変更可能である請求項３から請求項６のうちいずれか一項に記載のメンテナンス装置。
【請求項８】
前記流体供給部は、供給される前記流体の流量を調節する請求項３から請求項７のうちいずれか一項に記載のメンテナンス装置。
【請求項９】
前記クリーニング機構は、前記所定部分上に供給される前記流体の流通範囲を規制する規制部を有する請求項３から請求項８のうちいずれか一項に記載のメンテナンス装置。
【請求項１０】
前記クリーニング機構は、前記所定部分に供給された前記流体を排出する排出部を有する請求項３から請求項９のうちいずれか一項に記載のメンテナンス装置。
【請求項１１】
前記排出部は、前記所定部分の周辺部の前記流体を排出する請求項１０に記載のメンテナンス装置。
【請求項１２】
前記排出部は、前記所定部分上の前記流体を排出する請求項１０又は請求項１１に記載のメンテナンス装置。
【請求項１３】
前記クリーニング機構は、前記所定部分上の空間を密閉する密閉部を有する請求項１から請求項１２のうちいずれか一項に記載のメンテナンス装置。
【請求項１４】
前記クリーニング機構は、密閉された前記空間の圧力を調整する調整部を有する請求項１３に記載のメンテナンス装置。
【請求項１５】
前記クリーニング機構は、密閉された前記空間の圧力を検出する検出部を有し、
前記調整部は、前記検出部の検出結果に応じて前記空間の圧力を調整する請求項１４に記載のメンテナンス装置。
【請求項１６】
前記所定部分にアクセスされた後、前記クリーニング機構に前記所定部分のメンテナンスを行わせる制御機構を更に備える請求項１から請求項１５のうちいずれか一項に記載のメンテナンス装置。
【請求項１７】
前記所定部分は、複数設けられ、
前記クリーニング機構は、複数の前記所定部分の清浄化を同時に行うことが可能である請求項１から請求項１６のうちいずれか一項に記載のメンテナンス装置。
【請求項１８】
前記クリーニング機構は、前記所定部分の少なくとも一部を覆うヘッド部材を有する請求項１から請求項１７のうちいずれか一項に記載のメンテナンス装置。
【請求項１９】
前記ヘッド部材は、前記所定部分を走査可能である請求項１８に記載のメンテナンス装置。
【請求項２０】
前記ヘッド部材は、前記所定部分の全部を覆う請求項１８及び請求項１９に記載のメンテナンス装置。
【請求項２１】
前記所定部分は、複数設けられ、
前記ヘッド部材は、複数の前記所定部分を含む領域を覆う請求項２０に記載のメンテナンス装置。
【請求項２２】
前記ヘッド部材は、前記所定部分に吸着する吸着部を有する請求項１８から請求項２１のうちいずれか一項に記載のメンテナンス装置。
【請求項２３】
前記露光装置は、移動可能に設けられたステージ装置を有し、
前記所定部分は、前記ステージ装置上に設けられる請求項１から請求項２２のうちいずれか一項に記載のメンテナンス装置。
【請求項２４】
前記露光装置は、前記ステージ装置の移動による反力を相殺するカウンタマスを有し、
前記クリーニング機構は、前記露光装置の外部から前記カウンタマスを超えて前記所定部分にアクセス可能である請求項２３に記載のメンテナンス装置。
【請求項２５】
前記露光装置は、液体を介して露光光で前記基板を露光する請求項１から請求項２４のうちいずれか一項に記載のメンテナンス装置。
【請求項２６】
基板を露光する露光装置のメンテナンスを行うメンテナンス装置であって、
構造体を取り付け可能に設けられ、基準位置を置換しながら前記露光装置の所定部分にアクセス可能なアクセス機構を備えるメンテナンス装置。
【請求項２７】
前記基準位置は、前記アクセス機構によって力が加えられる位置である請求項１に記載のメンテナンス装置。
【請求項２８】
前記メンテナンスは、前記アクセス機構を介して前記構造体を前記所定部分にアクセスさせることを含む請求項２６又は請求項２７に記載のメンテナンス装置。
【請求項２９】
前記アクセス機構は、前記所定部分上に支持される請求項２６から請求項２８のうちいずれか一項に記載のメンテナンス装置。
【請求項３０】
前記アクセス機構は、前記所定部分上の支持位置に対する位置合わせ部を有する請求項２９に記載のメンテナンス装置。
【請求項３１】
前記アクセス機構は、前記所定部分上の第１位置を保持する請求項２６から請求項３０のうちいずれか一項に記載のメンテナンス装置。
【請求項３２】
前記アクセス機構は、前記第１位置を保持する保持部を複数有し、複数の前記保持部を連動させて前記第１位置を保持する請求項３１に記載のメンテナンス装置。
【請求項３３】
前記アクセス機構は、前記第１位置に力を作用させて前記アクセス機構と前記所定部分とを相対的に近づける請求項３１又は請求項３２に記載のメンテナンス装置。
【請求項３４】
前記アクセス機構は、前記第１位置を保持する保持部を複数有し、複数の前記保持部を連動させて前記第１位置に前記力を作用させる請求項３３に記載のメンテナンス装置。
【請求項３５】
前記アクセス機構は、前記第１位置に作用させる前記力の向きとは反対の向きに前記所定部分上の第２位置を押圧する請求項３３又は請求項３４に記載のメンテナンス装置。
【請求項３６】
前記アクセス機構は、取り付けられる前記構造体を搬送する搬送部を有する請求項２６から請求項３５のうちいずれか一項に記載のメンテナンス装置。
【請求項３７】
前記搬送部は、
前記構造体を第１方向に移動させる第１アクチュエータと、
前記構造体を前記第１方向とは異なる第２方向に移動させる第２アクチュエータと
を有する請求項３６に記載のメンテナンス装置。
【請求項３８】
前記第１アクチュエータ及び前記第２アクチュエータのうち少なくとも一方は、エアシリンダ機構を有する請求項３７に記載のメンテナンス装置。
【請求項３９】
前記搬送部は、前記構造体を支持する支持部材を有し、
前記第２アクチュエータは、エアシリンダ機構を有し、
前記第２アクチュエータの前記エアシリンダ機構の少なくとも一部は、前記支持部材の内部に設けられる請求項３８に記載のメンテナンス装置。
【請求項４０】
前記露光装置は、移動可能に設けられたステージ装置を有し、
前記所定部分は、前記ステージ装置上に設けられる請求項２６から請求項３９のうちいずれか一項に記載のメンテナンス装置。
【請求項４１】
前記ステージ装置は、第１ステージと、当該第１ステージに設けられる第２ステージとを有し、
前記アクセス機構は、前記第１ステージに支持され、前記第２ステージの第１面を保持し、前記第２ステージの前記第１面とは異なる第２面を押圧する請求項４０に記載のメンテナンス装置。
【請求項４２】
前記露光装置は、前記ステージ装置の移動による反力を相殺するカウンタマスを有し、
前記アクセス機構は、前記露光装置の外部から前記カウンタマスを超えて前記所定部分にアクセス可能である請求項４０又は請求項４１に記載のメンテナンス装置。
【請求項４３】
前記構造体は、請求項１から請求項２５のうちいずれか一項に記載のメンテナンス装置に設けられる前記クリーニング機構である請求項２６から請求項４２のうちいずれか一項に記載のメンテナンス装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、メンテナンス装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体デバイスや液晶表示デバイスは、レチクルなどのマスク上に形成されたパターンを感光性のウエハなどの基板上に転写する、所謂フォトリソグラフィの手法により製造される。このフォトリソグラフィの露光工程で使用される露光装置は、マスクを支持するマスクステージと基板を支持する基板ステージとを有し、マスクステージ及び基板ステージを逐次移動しながら投影光学系を介してマスクのパターンを基板に転写する装置である。露光装置には、これらのステージに加えて計測ステージが設けられている。計測ステージは、基板ステージがローディングポジションにあるときに投影光学系の下方に移動し、計測を行うステージである（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
上記露光装置を用いて基板を露光する場合、露光精度を高める上で各ステージを清浄化する作業は重要である。例えば液浸露光装置など、液体を用いて露光する露光装置では、当該液体によってステージが汚れやすいため、各ステージを頻繁に清浄化する必要性が高い。従来、ステージの清浄化に際しては、作業者が各ステージにアクセスして手作業で清浄化していた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００６−２５３５７２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、近年では露光装置のステージの周囲に他の構成要素を配置させることが多く、作業者がステージにアクセスすることが困難になっていた。
【０００６】
以上のような事情に鑑み、本発明の目的は、メンテナンスの対象物に容易にアクセスすることができるメンテナンス装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明に係るメンテナンス装置（ＭＴＮ）は、基板（Ｗ）を露光する露光装置（ＥＸ）のメンテナンス装置であって、前記露光装置の所定部分にアクセス可能に設けられ、前記所定部分の清浄化を行うクリーニング機構（３）を備えることを特徴とする。
【０００８】
本発明によれば、クリーニング機構によって露光装置の所定部分に容易にアクセスして清浄化を行わせることができる。
【０００９】
本発明に係るメンテナンス装置（ＭＴＮ）は、基板（Ｗ）を露光する露光装置（ＥＸ）のメンテナンスを行うメンテナンス装置であって、構造体を取り付け可能に設けられ、基準位置を置換しながら前記露光装置の所定部分にアクセス可能なアクセス機構（６２）を備えることを特徴とする。
【００１０】
本発明によれば、構造体との間で基準位置を置換しながら所定部分にアクセスすることにより、当該所定部分に容易にアクセスさせることができる。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、メンテナンスの対象物に容易にアクセスすることができるメンテナンス装置を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明に係るメンテナンス装置の構成を示す斜視図。
【図２】設置台の構成を示す斜視図。
【図３】設置台の構成を示す平面図。
【図４】設置台の構成を示す側面図。
【図５】アーム部の構成を示す斜視図。
【図６】基部の構成を示す斜視図。
【図７】メンテナンス装置の一部の構成を示す斜視図。
【図８】第２駆動機構の構成を示す模式図。
【図９】ヘッド機構の構成を示す斜視図。
【図１０】洗浄ヘッドの構成を示す斜視図。
【図１１】洗浄ヘッドの一部の構成を示す斜視図。
【図１２】洗浄ヘッドの一部の構成を示す断面図。
【図１３】メンテナンス装置の一部の構成を示す斜視図。
【図１４】露光装置の構成を示す図。
【図１５】ステージ装置の構成を示す斜視図。
【図１６】メンテナンス装置を用いた洗浄動作の様子を示す図。
【図１７】本発明に係るメンテナンス装置の他の構成を示す斜視図。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態を説明する。図１は、本発明に係るメンテナンス装置の構成を模式的に示す斜視図である。  
メンテナンス装置ＭＮＴは、設置台１、アーム部２及びヘッド機構３を有している。メンテナンス装置ＭＮＴは、設置台１にアーム部２が支持されると共に、ヘッド機構３がアーム部２に支持された構成になっている。メンテナンス装置ＭＮＴは、例えば露光装置の所定部分としてのステージ装置を清浄化する場合などに用いられる。
【００１４】
以下の説明においては、必要であれば図中にＸＹＺ直交座標系を設定し、このＸＹＺ直交座標系を参照しつつ各部材の位置関係について説明する。図１に示すＸＹＺ直交座標系は、Ｘ軸及びＹ軸が設置台１の設置面に平行な面に含まれるよう設定される。当該設置面に垂直な方向にＺ軸が設定される。
【００１５】
図２は、設置台１の構成を示す斜視図である。  
同図に示すように、設置台１は、上記ステージ装置など、メンテナンスの対象物であるステージ装置にアクセスすると共に当該ステージ装置に取り付けられる部分である。設置台１は、本体部６０、操作レバー６１、アクセス機構６２及び移動規制板６３を有している。設置台１は、本体部６０に操作レバー６１及びアクセス機構６２が取り付けられており、操作レバー６１の動作とアクセス機構６２の動作とが移動規制板６３を介して連動するように形成されている。
【００１６】
本体部６０は、例えば操作レバー６１、アクセス機構６２及び移動規制板６３を支持する部分である。本体部６０は、当接部６０ａ及び嵌合部６７を有している。当接部６０ａは、本体部６０の＋Ｘ側端面に例えば２箇所に設けられている。当接部６０ａは、メンテナンス装置ＭＮＴの設置状態において構造体の一部に当接される部分となる。嵌合部６７は、本体部６０の−Ｚ側に突出するように形成されている。嵌合部６７は、ステージ装置に設けられる凹部に嵌合させる部分である。ステージ装置には、当該嵌合部６７に対応する凹部を予め形成しておくことが好ましい。
【００１７】
操作レバー６１は、本体部６０に回転可能に取り付けられている。操作レバー６１は、操作部６１ａ、支持部６１ｂ及び係合部６１ｃを有している。操作部６１ａは、作業者が手にとって回転させる部分である。支持部６１ｂは、本体部６０に回転可能に支持される部分である。操作レバー６１は、θＺ方向（Ｚ軸周りの方向）に回転可能になっている。係合部６１ｃは、移動規制板６３の開口部６３ａに係合される部分である。
【００１８】
アクセス機構６２は、引き込み部６４、６５及び６６を有している。引き込み部６４は、本体部６０の−Ｙ側端面に配置されている。引き込み部６４は、本体部６０の−Ｙ側端面に沿ってＸ方向に移動可能に取り付けられている。引き込み部６４は、押圧部６４ａ及び係合部６４ｂを有している。押圧部６４ａは、ステージ装置の一部（例えば側部）に押圧される部分である。係合部６４ｂは、移動規制板６３の開口部６３ｂに係合されている。
【００１９】
引き込み部６５は、本体部６０の＋Ｙ側端面に配置されている。引き込み部６５は、本体部６０の＋Ｙ側端面に沿ってＸ方向に移動可能になっていると共に、本体部６０から離れる方向（＋Ｙ方向）にも移動可能になっている。引き込み部６５は、引掛部６５ａ及び係合部６４ｂを有している。引掛部６５ａは、ステージ装置の一部（例えば側部）に引き掛けられる部分である。ステージ装置には、当該引掛部６５ａに係合させる係合部を予め形成しておくことが好ましい。引き込み部６５は、Ｙ方向について不図示のバネ機構を有している。当該バネ機構により、引掛部６５ａはＹ方向に沿って本体部６０側に引き付けられるようになっている。
【００２０】
引き込み部６６は、本体部６０の−Ｚ側に配置されている。引き込み部６６は、Ｙ方向に移動可能に設けられている。引き込み部６６は、例えばボルトなどの固定機構を介して移動規制板６３に固定されている。したがって、引き込み部６６は、移動規制板６３と一体的に移動するようになっている。引き込み部６６は、ステージ装置の一部に当接させる当接部６６ａを有している。
【００２１】
移動規制板６３は、本体部６０の＋Ｚ側の面上に移動可能に配置されている。移動規制板６３は、上記のように開口部６３ａ、６３ｂ及び６３ｃを有している。開口部６３ａは、操作レバー６１の係合部６１ｃに係合されている。開口部６３ａは、Ｘ方向を長手とするように形成されている。開口部６３ｂは、引き込み部６４の係合部６４ｂに係合されている。開口部６３ｂは、移動規制板６３の−Ｙ側端辺から＋Ｙ側に一定の寸法で形成され、途中から−Ｘ側に４５°程度傾くように形成されている。開口部６３ｃは、引き込み部６５の係合部６５ｂに係合されている。開口部６３ｃは、開口部６３ｂとほぼ同様の形状に形成されている。開口部６３ｂと開口部６３ｃとの間では、Ｙ方向に延在する部分の寸法及び−Ｘ側に４５°傾いて形成される部分の寸法がほぼ等しくなっている。
【００２２】
図３及び図４は、操作レバー６１を回転させたときの各構成要素の移動の様子を示す図である。  
これらの図に示すように、操作レバー６１の操作部６１ａを本体部６０の＋Ｘ側から−Ｙ側へθＺ方向に時計回りに回転させると、係合部６１ｃの位置が移動する。係合部６１ｃは−Ｙ方向及び−Ｘ方向に移動するが、−Ｘ方向に移動については開口部６３ａによって吸収されることになる。したがって、係合部６１ｂの−Ｙ方向の移動のみが移動規制板６３に伝達されることになる。
【００２３】
係合部６１ｂが−Ｙ方向に移動することにより、移動規制板６３が係合部６１ｂに引っ張られて−Ｙ方向に平行移動する。移動規制板６３の当該移動により、開口部６３ｂ及び開口部６３ｃの位置が移動する。係合部６４ｂが開口部６３ｂの−Ｙ方向に沿った部分に係合している間は、係合部６４ｂは移動しない。係合部６４ｂが開口部６３ｂの−Ｘ方向に４５°傾いた部分に係合している間は、移動規制板６３の移動に伴い開口部６３ｂに引っ張られるように係合部６４ｂが−Ｘ方向に移動する。このため、引き込み部６４が−Ｘ方向に移動する。
【００２４】
一方、引き込み部６５については、不図示のバネ機構が設けられているため、係合部６５ｂが開口部６３ｃの−Ｙ方向に沿った部分に係合している間、−Ｘ方向へは移動しないが、バネ機構に引っ張られるように−Ｙ方向へと移動する。係合部６５ｂが開口部６３ｃの−Ｘ方向に４５°傾いた部分に係合している間は、移動規制板６３の移動に伴い開口部６３ｃに引っ張られるように係合部６５ｂが−Ｘ方向に移動する。したがって、この場合引き込み部６５は−Ｘ方向に移動する。このように、引き込み部６５は、ステージ装置の側方からステージ装置を本体部６０側に巻き込むようにアクセスすることになる。
【００２５】
また、移動規制板６３の−Ｙ方向への移動により、移動規制板６３に固定された引き込み部６６が当該移動規制板６３と一体的に移動する。このため、引き込み部６６は−Ｙ方向に移動する。引き込み部６６が移動することにより、当接部６６ａがステージ装置に当接することになる。
【００２６】
このように、操作レバー６１の回転動作を一動作行うことより、引き込み部６４、６５、６６の３つの部分が異なる移動形態で移動し、ステージ装置にアクセスすることとなる。このため、作業スペースが限られた狭い空間内であっても、設置台１を簡単に設置することができるようになっている。
【００２７】
次に、アーム部２の構成を説明する。以下の図においては、図１から図４と共通の座標系を用いて説明する。図５は、アーム部２の構成を示す斜視図である。  
図５に示すように、アーム部２は、基部７０、移動部７１及び駆動機構７２を有している。アーム部２は、駆動機構７２の駆動によって移動部７１が基部７０に対して移動する構成となっている。
【００２８】
基部７０は、平面視で板状に設けられており、中央部に開口部７０ａを有している。基部７０は、移動部７１の移動を案内するガイド部７０ｇを有している。ガイド部７０ｇは、基部７０の＋Ｙ側端辺及び−Ｙ側端辺に１つずつ設けられている。ガイド部７０ｇは、それぞれ基部７０のＸ方向に沿って配置されており、Ｘ方向の全体に亘って延在している。
【００２９】
基部７０は、上記の設置台１に接続される部分である。図６は、基部７０を−Ｚ側から見たときの構成を示す斜視図である。基部７０の−Ｚ側の面には、設置台１との位置合わせを行う位置合わせ機構７０ｂが設けられている。位置合わせ機構７０ｂは、基部７０の＋Ｙ側端辺と−Ｙ側端辺とに一対設けられている。一対の位置合わせ機構７０ｂは、基部７０の＋Ｘ側端部に配置されている。
【００３０】
図７は、基部７０と設置台１とを接続したときの構成を示す斜視図である。図を判別しやすくするため、設置台１の構成を模式的に示している。図７に示すように、基部７０の−Ｚ側の面には板状部材７０ｃを介して設置台１が接続されている。板状部材７０ｃは、位置合わせ機構７０ｂの係合部７０ｄに係合されることで基部７０に保持されている。板状部材７０ｃは、例えば設置台１に固定されている。
【００３１】
図５に戻って、移動部７１は、平面視コ字状に形成されており、基部７０のガイド部７０ｇに沿って当該基部７０上をスライドするように設けられている。移動部７１は、ヘッド機構保持部７１ａ及び配管保持部７１ｂを有している。ヘッド機構保持部７１ａは、ヘッド機構３を保持する部分である。配管保持部７１ｂは、ヘッド機構３に接続される配管等を保持する。
【００３２】
駆動機構７２は、移動部７１をＸ方向に駆動させる第１駆動機構７２Ａと、ヘッド機構３をＺ方向に駆動させる第２駆動機構７２Ｂとを有している。第１駆動機構７２Ａは、移動部７１の＋Ｙ側端部及び−Ｙ側端部に１つずつ設けられている。第１駆動機構７２Ａとしては、例えばエアシリンダ機構が用いられている。勿論、他の種類のアクチュエータを用いる構成であっても構わない。
【００３３】
図８は、第２駆動機構７２Ｂの構成を示す断面図である。同図に示すように第２駆動機構７２Ｂは、昇降機構９０、圧力調整口９４、９５、エア流路９６、９７及び接続部９８を有している。第２駆動機構７２Ｂは、移動部７１の＋Ｙ側端辺及び−Ｙ側端辺に１つずつ設けられている。当該２つの第２駆動機構７２Ｂは、それぞれ移動部７１の先端部（＋Ｘ側端部）に配置されている。
【００３４】
昇降機構９０は、ピストン９１、ベアリング９２及びヘッド接続部９３を有している。ヘッド接続部９３は、ヘッド機構３に接続されるようになっている。ベアリング９２によって密閉された空間９０Ｓ内の圧力を調整し、ピストン９１をＺ方向に移動させ、ヘッド接続部９３のＺ方向上の位置を調整することにより、ヘッド機構３のＺ方向の位置を変化させることができるようになっている。昇降機構９０は、Ｘ方向に沿って例えば２つ設けられている。
【００３５】
圧力調整口９４は、エア流路９６を介して例えば＋Ｘ側の昇降機構９０の空間９０Ｓに接続されている。圧力調整口９５は、エア流路９７を介して例えば−Ｘ側の昇降機構９０の空間９０Ｓに接続されている。圧力調整口９４、９５に空気を供給したり、当該圧力調整口９４、９５から吸引したりすることで、空間９０Ｓ内の圧力を調整可能になっている。接続部９８は、−Ｘ側及び＋Ｘ側に設けられた昇降機構９０を接続する部分である。例えばエア流路９６及び９７は、当該接続部９８の内部に設けられる構成とすることができる。また、基部７０に溝を形成し、接続部９８によって当該溝を密閉することにより、当該溝をエア流路９６、９７とする構成であっても構わない。
【００３６】
次に、ヘッド機構３の構成を説明する。以下の図においても、図１から図８と共通の座標系を用いて説明する。図９は、ヘッド機構３の構成を示す斜視図である。  
図９に示すように、ヘッド機構３は、洗浄ヘッド８０、ヘッド保持部８１、清浄化制御部８２及び配管８３を有している。ヘッド機構３は、メンテナンスの対象であるステージ装置の洗浄を行う部分である。ヘッド機構３は、メンテナンスに用いる薬液やエアなどの流体が配管８３を介して清浄化制御部８２に供給され、清浄化制御部８２の制御に基づいて洗浄ヘッド８０に当該流体が供給されるようになっている。ヘッド保持部８１には、アーム部２に接続させるための接続部８１ａが設けられている。接続部８１ａは、ヘッド機構３の＋Ｙ側端部及び−Ｙ側端部に設けられている。
【００３７】
洗浄ヘッド８０は、ステージ装置を洗浄する部分である。図１０は、洗浄ヘッド８０の構成を示す斜視図である。図１０においては、洗浄ヘッド８０を−Ｚ側から見たときの状態を示している。図１０に示すように、洗浄ヘッド８０は、基板１００、密閉部１０１、吸着部１０２、噴出部１０３、１０４、排出部１０５、１０６及び吸引口１０７を有している。
【００３８】
基板１００は、平面視で矩形に形成されており、洗浄ヘッド８０の本体となる部分である。本実施形態では、洗浄ヘッド８０の本体となる部分が基板１００によって構成されており、薄型の洗浄ヘッド８０となっている。このため、狭いスペースであっても容易に目標にアクセスすることができるようになっている。基板１００は、図中−Ｚ側の面をステージ装置に対向させ、当該ステージ装置に被せるようにして用いられるようになっている。基板１００の＋Ｚ側の面はヘッド保持部８１に保持される。
【００３９】
密閉部１０１は、ステージ装置の表面と基板１００の−Ｚ側の面との間を密閉する部分である。密閉部１０１は、基板１００の中央部に環状に設けられている。密閉部１０１としては、例えばＯリングなどを用いることができる。密閉部１０１によって囲まれた部分が洗浄領域１１０となる。本実施形態では、洗浄領域１１０がＯリングなどの密閉部１０１によって形成される領域であるため、洗浄液などの流体を供給する場合には、高い流速が確保されるようになっている。
【００４０】
吸着部１０２は、基板１００のうち洗浄領域１１０の外側に配置されている。吸着部１０２は、基板１００をステージ装置の表面に吸着させる部分である。本実施形態では、吸着部１０２は、基板１００の−Ｚ側の面の３箇所に設けられている。吸着部１０２としては、例えばＯリングなどを用いることができる。
【００４１】
噴出部１０３、１０４は、基板１００の洗浄領域１１０内に配置されている。噴出部１０３、１０４は、ステージ装置の表面を洗浄する洗浄液や、洗浄後のステージ装置の表面を乾燥させるエアなどを噴出する部分である。本実施形態では、基板１００を貫通する貫通孔として形成されている。噴出部１０３、１０４は、清浄化制御部８２に接続されている。噴出部１０３は、洗浄領域１１０の中央部に配置されている。噴出部１０４は、洗浄領域１１０の周縁部に配置されている。
【００４２】
図１１及び図１２は、噴出部１０３、１０４の構成を示す図である。図１１は洗浄領域１１０を−Ｚ側から見たときの平面図であり、図１２は図１１におけるＡ−Ａ断面に沿った構成を示す図である。
【００４３】
図１１に示すように、噴出部１０３は、図中時計回り方向に噴出方向を有する第１噴出部１０３Ａと、図中反時計回り方向に噴出方向を有する第２噴出部１０３Ｂと、洗浄領域１１０の中央に配置されＺ方向に沿った噴出方向を有する中央噴出部１０３Ｃを有している。噴出部１０４は、図中時計回り方向に噴出方向を有する第１噴出部１０４Ａと、図中反時計回り方向に噴出方向を有する第２噴出部１０４Ｂとを有している。
【００４４】
図１２に示すように、第１噴出部１０３Ａと第２噴出部１０３Ｂとでは、Ｚ方向に対して異なる方向に傾いた状態で貫通孔が形成されている。図１２では、第１噴出部１０３ＡがＺ方向に対して図中左側に傾いた状態となっており、第２噴出部１０３ＢがＺ方向に対して図中右側に傾いた状態となっている。第１噴出部１０３Ａ及び第２噴出部１０３Ｂは、貫通孔の傾いている方向に洗浄液やエアを噴出するようになっている。中央噴出部１０３Ｃについては、Ｚ方向に対して傾くことなく貫通孔が形成されている。第１噴出部１０４Ａ及び第２噴出部１０４Ｂについても、上記同様の構成となっている。この構成により、中央噴出部１０３Ｃから噴出させる流体が洗浄領域１１０の平面視中央部から外周部へと流通し、第１噴出部１０３Ａ、１０４Ａ若しくは第２噴出部１０３Ｂ、１０４Ｂによって時計回りあるいは反時計回りに流通することになる。このため、噴出部１０３、１０４から噴出させる流体は、洗浄領域１１０の平面視中央部から外周部へかけて回転しながら流通することになる。
【００４５】
排出部１０５、１０６は、ステージ装置の表面に供給される薬液やエアを排出する部分である。排出部１０５及び１０６は、密閉空間内を吸引する吸引機構（不図示）に接続されている。排出部１０５は、洗浄領域１１０の周縁部に沿って形成されている。排出部１０６は、洗浄領域１１０に設定される局所排液領域１０８を囲うように形成されている。排出部１０６が設けられているため、局所排液領域１０８には薬液やエアが到達しないようになっている。
【００４６】
吸引口１０７は、吸着部１０２に囲まれた部分に配置されている。吸引口１０７は、吸引機構（不図示）に接続されている。吸引口１０７は、吸着部１０２とステージ装置との間で密閉された空間を吸引する。吸引口１０７を介して当該密閉空間が吸引されることで、吸着部１０２がステージ装置に吸着するようになっている。
【００４７】
図９に戻って、清浄化制御部８２は、洗浄ヘッド８０を用いた清浄化動作を制御する部分である。例えば、噴出部１０３、１０４から噴出させる流体の流速や流量、噴出のタイミングなどを制御することができるようになっている。清浄化制御部８２は、排出部１０５、１０６からの排出量などについても制御することができるようになっている。
清浄化制御部８２は、切替機構８４を有している。切替機構８４は、供給する流体の種類を切り替えると共に、流体の供給先を切り替える構成となっている。流体の種類の切り替えとしては、例えば薬液（洗浄液など）とエアとの切り替えなどが挙げられる。供給先の切り替えとしては、例えば第１噴出部１０３Ａ、１０４Ａと第２噴出部１０３Ｂ、１０４Ｂとの間での切り替えが挙げられる。
【００４８】
清浄化制御部８２は、圧力センサ８５及び圧力調整機構８６を有している。圧力センサ８５は、密閉部１０１がステージ装置の表面を密閉している状態において当該密閉空間の圧力を検出する。圧力調整機構８６は、密閉空間内の圧力を調整する。具体的には、基板１００に別途貫通孔を設けておき、圧力調整機構８６を当該貫通孔に接続させるように構成する。
【００４９】
密閉空間内の圧力の検出は、例えば洗浄ヘッド８０がステージ装置の表面から剥がれてしまう状況を回避する際に有効となる。例えば圧力センサ８５による検出結果が所定の閾値を超えた場合に、当該圧力調整機構８６を用いて密閉空間の圧力を調整させる構成としても構わない。
【００５０】
圧力調整機構８６を用いる場合、例えば密閉空間内の圧力を周期的に変化させることができるようになっている。圧力の周期的な変化として、例えば密閉空間内に圧力の脈動を与えるように変化させる態様などが挙げられる。圧力調整機構８６を切替機構８４と連動させるように構成し、薬液の供給圧やエアの供給圧を変化させる構成としても構わない。
【００５１】
清浄化制御部８２は、濃度センサ８７及び濃度調整機構８８を有している。濃度センサ８７は、洗浄ヘッド８０に供給する薬液の濃度を検出する。濃度調整機構８８は、洗浄ヘッド８０に供給する薬液の濃度を調整する。例えば、薬液を希釈することによって濃度を調整するなどの構成が挙げられる。
【００５２】
薬液の濃度検出は、ステージ装置上の洗浄状態を適正な状態に保持させる際に有効となる。例えば濃度センサ８７による検出結果が所定の閾値を超えた場合には、濃度調整機構８８を用いて薬液の濃度を調整させる構成としても構わない。この場合、基板１００の洗浄領域１１０内に貫通孔を複数設けておき、当該複数の貫通孔を濃度センサ８７に接続させる構成とすることができる。
【００５３】
清浄化制御部８２では、薬液やエアの供給動作を自動的に行わせることができるようになっている。この場合、例えば薬液及びエアの供給時間、供給量などを測定しておき、当該供給時間や供給量が閾値を超えた場合に動作を切り替えるなどのシーケンスを設定しておくことができる。
【００５４】
清浄化制御部８２は、噴出部１０３と噴出部１０４とで噴出される流体の流速に差をつけることも可能になっている。特に噴出部１０４から噴出させる流体の流速を噴出部１０３から噴出させる流体の流速よりも速くすることにより、洗浄領域１１０の外周部に沿った方向に流体を流通させることができるようになっている。
【００５５】
図１３は、ヘッド機構３をアーム部２に接続させた状態を示す図である。  
同図に示すように、ヘッド機構３は、ヘッド保持部８１の接続部８１ａを介してアーム部２の第２駆動機構７２Ｂに接続されている。具体的には、接続部８１ａとヘッド接続部９３とが接続されている。接続部８１ａは、ヘッド接続部９３に対してぶら下がるように接続されている。このため、ヘッド機構３のＸ方向への移動が拘束された状態になっている。
【００５６】
次に、上記のメンテナンス装置ＭＮＴのメンテナンス対象である露光装置の概略構成を示す側面図である。図１４に示す露光装置ＥＸは、図１４中の投影光学系ＰＬに対してマスクとしてのレチクルＲと基板としてのウエハＷとを相対的に移動させつつ、レチクルＲに形成されたパターンをウエハＷに逐次転写するステップ・アンド・スキャン方式の走査露光型の露光装置である。
【００５７】
以下の説明においては、ＸＹＺ直交座標系を設定し、このＸＹＺ直交座標系を参照しつつ各部材の位置関係について説明する。図１４に示すＸＹＺ直交座標系は、Ｘ軸及びＹ軸がウエハＷの移動面に平行な面に含まれるよう設定され、Ｚ軸が投影光学系ＰＬの光軸ＡＸに沿う方向に設定されている。また、本実施形態ではレチクルＲ及びウエハＷを同期移動させる方向（走査方向）をＹ方向に設定している。
【００５８】
図１４に示すように、本実施形態の露光装置ＥＸは、照明光学系ＩＬＳ、レチクルＲを保持するレチクルステージＲＳＴ、投影ユニットＰＵ、ウエハＷを保持するウエハステージＷＳＴ（基板ステージ）と計測ステージＭＳＴとを有するステージ装置ＳＴ、及び制御装置ＣＯＮＴを備える。
【００５９】
照明光学系ＩＬＳは、不図示のレチクルブラインドで規定されたレチクルＲ上のスリット状の照明領域を露光光ＩＬによってほぼ均一な照度で照明する。ここで、露光光ＩＬとしては、一例としてＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）が用いられる。
【００６０】
レチクルステージＲＳＴ上には、パターン面（図１４における−Ｚ側の面）にパターンが形成されたレチクルＲが、例えば真空吸着により保持されている。レチクルステージＲＳＴは、例えばリニアモータを含むレチクルステージ駆動装置（図示省略）によって、照明光学系ＩＬＳの光軸（後述する投影光学系ＰＬの光軸ＡＸに一致）に垂直なＸＹ平面内で微小駆動可能であるとともに、走査方向（Ｙ方向）に指定された走査速度で駆動可能に構成されている。
【００６１】
投影ユニットＰＵは、鏡筒１３と、鏡筒１３内に所定の位置関係で保持された複数の光学素子を含む投影光学系ＰＬと備えている。投影光学系ＰＬとしては、例えばＺ方向の共通の光軸ＡＸを有する複数のレンズ（レンズエレメント）からなる屈折光学系が用いられている。
【００６２】
また、本実施形態の露光装置ＥＸは、液浸法を適用した露光を行うため、投影光学系ＰＬを構成する最も像面側（ウエハＷ側）のレンズ（以下、先玉ともいう）ＧＬの近傍には、液浸装置１４を構成する液体供給ノズル１５ａと、液体回収ノズル１５ｂとが設けられている。液体供給ノズル１５ａは液体供給管を介して液体供給装置（何れも図示省略）に接続されており、液体回収ノズル１５ｂは液体回収管を介して液体回収装置（何れも図示省略）に接続されている。
【００６３】
上記の液体としては、ここではＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍの光）が透過する超純水（以下、特に必要な場合を除いて、単に「水」と記述する）を用いるものとする。超純水は、半導体製造工場等で容易に大量に入手できるとともに、ウエハＷ上に塗布されたフォトレジスト及び光学レンズ等に対する悪影響を及ぼさないという利点がある。
ここで、水の屈折率ｎはほぼ１．４４であり、この水の中では露光光ＩＬの波長は１９３ｎｍ×１／ｎ＝約１３４ｎｍに短波長化される。
【００６４】
上記の液体供給装置は、制御装置ＣＯＮＴからの指示に応じて液体供給管に接続されたバルブを所定開度で開き、液体供給ノズル１５ａを介して先玉ＧＬとウエハＷとの間に水を供給する。また、上記の液体回収装置は、制御装置ＣＯＮＴからの指示に応じて液体回収管に接続されたバルブを所定開度で開き、液体回収ノズル１５ｂを介して先玉ＧＬとウエハＷとの間から液体回収装置（液体のタンク）の内部に水を回収する。このとき、制御装置ＣＯＮＴは、先玉ＧＬとウエハＷとの間に液体供給ノズル１５ａから供給される水の量と、液体回収ノズル１５ｂを介して回収される水の量とが常に等しくなるように、液体供給装置及び液体回収装置に対して指令を与える。従って、先玉ＧＬとウエハＷとの間に一定量の水Ｌｑ（図１４参照）が保持される。尚、先玉ＧＬとウエハＷとの間に保持される水Ｌｑは、常に入れ替わることになる。
【００６５】
本実施形態の露光装置が備える液浸装置１４は、図示しない液体供給装置、液体回収装置、供給管、及び回収管と、図１４に示す液体供給ノズル１５ａ及び液体回収ノズル１５ｂ等とを有する局所液浸装置である。尚、投影ユニットＰＵの下方に計測ステージＭＳＴが位置する場合にも、上記と同様に計測テーブルＭＴＢと先玉ＧＬとの間に水を満たすことが可能である。
【００６６】
ステージ装置ＳＴは、例えば半導体工場の床面ＦＬ上に配置されたフレームキャスタＦＣ、フレームキャスタＦＣ上に設けられたベース盤（定盤）２１、ベース盤２１の上方に配置されベース盤２１の上面（所定平面）２１ａに沿って移動するウエハステージＷＳＴ及び計測ステージＭＳＴ、これらのステージＷＳＴ，ＭＳＴの位置を検出する干渉計２２，２３、並びにステージＷＳＴ，ＭＳＴを駆動する駆動装置（図１４では図示省略）を備える。
【００６７】
フレームキャスタＦＣは、Ｘ方向の一側と他側との端部近傍にＹ方向を長手方向として上方に突出した突部ＦＣａ，ＦＣｂが一体的に形成された概略平板状からなるものである。ベース盤２１は、フレームキャスタＦＣの突部ＦＣａ，ＦＣｂに挟まれた領域上に配置されている。ベース盤２１の上面２１ａは平坦度が極めて高く仕上げられ、ウエハステージＷＳＴ及び計測ステージＭＳＴのＸＹ平面に沿った移動の際のガイド面とされている。
【００６８】
ウエハステージＷＳＴは、ベース盤２１上に配置されたウエハステージ本体２４とウエハステージ本体２４上に搭載されたウエハテーブルＷＴＢとを備えており、レチクルＲのパターンをウエハＷに露光転写するためにウエハＷを保持して移動するものである。ウエハステージＷＳＴは、ウエハステージ本体２４をＸ方向にロングストロークで駆動するとともに、Ｙ方向、Ｚ方向、θｘ（Ｘ軸周りの回転方向）、θｙ（Ｙ軸周りの回転方向）、θｚ（Ｚ軸周りの回転方向）に微小駆動する第１駆動系３１と、ウエハステージ本体２４及び第１駆動系３１をＹ方向にロングストロークで駆動する第２駆動系３２ａ，３２ｂとを備えている。更に、ウエハステージＷＳＴは、Ｘ方向に等速運動をするチューブキャリアＴＣと、真空又はエア等の用力をチューブキャリアＴＣからウエハステージ本体２４に非接触で伝達する不図示の６自由度パイプを備えている
【００６９】
フレームキャスタＦＣの突部ＦＣａ，ＦＣｂの上方には、第２駆動系３２ａ，３２ｂを構成するＹ方向に延びるＹ軸用の固定子３８ａ，３８ｂがそれぞれ配設されている。これらのＹ軸用の固定子３８ａ，３８ｂは、それぞれの下面に設けられた不図示の気体静圧軸受、例えばエアベアリングによって突部ＦＣａ，ＦＣｂの上方において所定のクリアランスを介して浮上支持されている。これはウエハステージＷＳＴや計測ステージＭＳＴのＹ方向の移動により発生した反力により、固定子３８ａ，３８ｂがＹ方向のＹカウンタマスとして逆方向に移動して、この反力を運動量保存の法則により相殺するためである。
【００７０】
計測ステージＭＳＴは、計測ステージ本体２６と、計測ステージ本体２６上に搭載された計測テーブルＭＴＢとを備えており、ウエハステージＷＳＴがウエハＷの交換のためにローディングポジションに位置している間に投影光学系ＰＬの下方に位置して各種の計測を行うものである。計測ステージ本体２６はウエハステージ本体２４と同様の構成であり、またその下面にはベース盤２１上において計測ステージ本体２６が６自由度を有するよう支持する支持機構としての自重キャンセラ機構２７が設けられている。
【００７１】
計測ステージＭＳＴは、チューブキャリアＴＣ及び不図示の６自由度パイプを除いてほぼウエハステージＷＳＴと同様の構成である。つまり、図１５に示す通り、ベース盤２１上に配置された計測ステージ本体２６と、計測ステージ本体２６上に搭載された計測テーブルＭＴＢとを備えている。また、計測ステージ本体２６をＸ方向にロングストロークで駆動するとともに、Ｙ方向、Ｚ方向、θｘ、θｙ、θｚに微小駆動する第１駆動系５１と、計測ステージ本体２６及び第１駆動系５１をＹ方向にロングストロークで駆動する第２駆動系５２ａ，５２ｂとを備えている。
【００７２】
ウエハステージＷＳＴを駆動する第１駆動系３１及び第２駆動系３２ａ，３２ｂ、並びに計測ステージＭＳＴを駆動する第１駆動系５１及び第２駆動系５２ａ，５２ｂによってステージ装置ＳＴの駆動装置が構成されている。この駆動装置は、前述した制御装置ＣＯＮＴによって制御され、例えばウエハＷの露光前における計測ステージＭＳＴの移動、及び露光時におけるウエハステージＷＳＴの移動が制御される。計測ステージＭＳＴの第１駆動系５１を構成する固定子５１ａは、＋Ｚ側の面に凹部５１ｂが形成されている。当該凹部５１ｂは、例えばステージ装置ＳＴのメンテナンスの際、基準位置の位置合わせ部として用いられる。
【００７３】
計測テーブルＭＴＢは、その上面が撥液性（撥水性）を有しており、例えば真空吸着によって計測ステージ本体２６上に保持されている。この計測テーブルＭＴＢのＸ方向の一端（＋Ｘ側端）には、Ｘ方向に直交する（Ｙ方向に延在する）反射面５３Ｘが鏡面加工により形成されており、Ｙ方向の一端（−Ｙ側端）には、Ｙ方向に直交する（Ｘ方向に延在する）反射面５３Ｙが同様に鏡面加工により形成されている。これら反射面５３Ｘ，５３Ｙには、Ｘ軸干渉計４２及びＹ軸干渉計５４からの干渉計ビーム（ビーム）がそれぞれ投射される。尚、図１５に示すＸ軸干渉計４２及びＹ軸干渉計５４は、図１４においてはまとめて干渉計２３として図示している。計測ステージ本体２６の−Ｙ側の側面２６ａには、メンテナンスの際に用いられる係合部２６ｂが形成されている。係合部２６ｂは、側面２６ａに例えば凹部として形成することができる。勿論、係合部２６ｂを凸部として形成しても構わない。
【００７４】
計測ステージＭＳＴは、露光に関する各種計測を行うための計測器群を備えている。この計測器群としては、例えば空間像計測装置、波面収差測定装置、及び露光検出装置等がある。露光検出装置は、平面視で円形に形成された光透過部材Ｃを有している。光透過部材Ｃの表面には微細パターンが形成されている。光透過部材Ｃの表面が汚染されると、露光検出に悪影響を及ぼすこととなる。このため、光透過部材Ｃの表面は、清浄な状態に保持されることが好ましい。
【００７５】
制御装置ＣＯＮＴは、露光装置ＥＸの動作を統括的に制御する。例えば、レチクル干渉計１１の計測値に基づいてレチクルステージＲＳＴの位置、姿勢、及び速度を制御し、干渉計２２，２３の計測値に基づいてステージ装置ＳＴ（ウエハステージＷＳＴ及び計測ステージＭＳＴ）の位置、姿勢、及び速度を制御する。また、液浸装置１４を制御して、投影光学系ＰＬの先玉ＧＬとウエハＷとの間に一定量の水Ｌｑを保持する。
【００７６】
次に、上記のメンテナンス装置ＭＮＴの動作を説明する。ここでは、露光装置ＥＸの計測ステージＭＳＴに設けられる光透過部材Ｃを洗浄する場合を例に挙げて説明する。  
【００７７】
メンテナンスを行う場合、上記のメンテナンス装置ＭＮＴを計測ステージ本体（微動ステージ）２６にアクセスさせる。メンテナンス装置ＭＮＴをアクセスさせる際には、まず設置台１を単独で計測ステージＭＳＴに装着させる。
【００７８】
作業者は、例えば図１５に示す場合において、露光装置ＥＸの−Ｘ側の位置Ｐから固定子（カウンタマス）３８ｂを超えるように設置台１を第１駆動系（粗動ステージ）５１の固定子５１ａ上に配置させる。設置台１が固定子５１ａ上に配置された後、作業者は設置台１に設けられる操作レバー６１を回転させる。
【００７９】
この動作により、まず引き込み部６５の引掛部６５ａが計測ステージ本体２６の側面２６ａに当接し、引掛部６５ａが側面２６ａに設けられた係合部２６ｂに係合する。その後、引き込み部６５の引き込み動作により、設置台１と計測ステージ本体２６とが当該係合部分を基準位置として近づくように移動していく。このとき、引き込み部６４の押圧部６４ａは、計測ステージ本体２６の−Ｙ側の面を押圧した状態となっている。
【００８０】
設置台１が計測ステージ本体２６側へ一定距離移動すると、設置台１の嵌合部６７が固定子５１ａに形成された凹部５１ｂに嵌合する。嵌合部６７が凹部５１ｂに嵌合すると設置台１の位置が固定されるため、引き込み部６５の引き込み動作によって計測ステージ本体２６が設置台１に近づくように移動する。このように、アクセス時の基準位置は、引掛部６５ａの係合部分から嵌合部６７の嵌合部分へと移動する。
【００８１】
計測ステージ本体２６が設置台１に近づき、設置台１の本体部６０に設けられた当接部６０ａが計測ステージ本体２６の−Ｘ側の面に当接したら、設置台１によるアクセスが完了する。このように、設置台１は、基準位置を変化させながら計測ステージ本体２６にアクセスする。
【００８２】
設置台１を計測ステージ本体２６にアクセスさせた後、一体化させた状態のアーム部２及びヘッド機構３を設置台１に接続する。アーム部２及びヘッド機構３を設置台１に接続した後、アーム部２の第１駆動機構７２Ａを駆動させて移動部７１をＸ方向に移動させる。移動部７１に固定されたヘッド機構３が計測テーブルＭＴＢ上に配置される。
【００８３】
ヘッド機構３が計測テーブルＭＴＢ上に配置された後、ヘッド機構３の洗浄領域１１０と計測テーブルＭＴＢの光透過部材Ｃとの間で位置合わせをする。具体的には、洗浄領域１１０が光透過部材Ｃを囲う位置に配置されるように位置合わせをする。位置合わせの後、アーム部２の第２駆動機構７２Ｂを駆動させ、移動部７１を−Ｚ方向へ移動させる。この動作により、図１４に示すように、洗浄ヘッド８０の密閉部１０１が計測テーブルＭＴＢの光透過部材Ｃを囲うように密着され、計測テーブルＭＴＢ上に密閉領域が形成される。この動作に加えて、吸着部１０２を用いて洗浄ヘッド８０を計測テーブルＭＴＢ上に確実に吸着させる。
【００８４】
次に、ヘッド機構３を用いて光透過部材Ｃ上を洗浄する。清浄化制御部８２に設定されたシーケンスに基づいて洗浄の工程は自動的に制御される。洗浄工程での動作として、例えば清浄化制御部８２は、第１噴出部１０３Ａ、１０４Ａから洗浄液を噴出させる。洗浄液は光透過部材Ｃ上で反時計回りに流通しながら当該光透過部材Ｃの表面を洗浄する。洗浄液は、排出部１０５から適宜排出される。
【００８５】
清浄化制御部８２は、光透過部材Ｃの洗浄中に、切替機構８４を作動させることで洗浄液の供給先を第２噴出部１０３Ｂ、１０４Ｂに切り替えながら洗浄動作を行う。光透過部材Ｃ上で洗浄液の流通方向を変化させることにより、効率的な洗浄が行われることとなる。清浄化制御部８２は、圧力センサ８５、濃度センサ８７を用いて密閉空間内の圧力や洗浄液の濃度などを検出させ、検出結果に応じて圧力調整機構８６、濃度調整機構８８を作動させて洗浄状態を調整する。この動作により、最適な洗浄状態で光透過部材Ｃの洗浄が行われることになる。
【００８６】
清浄化制御部８２は、例えば洗浄液を供給してから一定時間が経過すると、第１噴出部１０３Ａ、１０４Ａ又は第２噴出部１０３Ｂ、１０４Ｂからエアを噴出させ、光透過部材Ｃ上を乾燥させる。乾燥時においても、清浄化制御部８２は、第１噴出部１０３Ａ、１０４Ａと第２噴出部１０３Ｂ、１０４Ｂとの間でエアの供給先を切り替えさせても良いし、密閉空間内の圧力を検出して調整させても構わない。
【００８７】
光透過部材Ｃの乾燥後、ヘッド機構３の洗浄領域１１０を計測テーブルＭＴＢの他の領域に位置合わせして、同様の手順で洗浄動作を行う。他の領域を洗浄する際に、例えば計測テーブルＭＴＢ上に洗浄液を流通させるのが好ましくない領域がある場合、当該領域については排出部１０６に囲まれた局所排液領域１０８に重なるように位置合わせし、当該領域に洗浄液を流通させないように洗浄することもできる。また、洗浄領域１１０の範囲内に収まる場合には、他の領域を洗浄する際に複数の領域を同時に洗浄しても良い。
【００８８】
計測テーブルＭＴＢ上の洗浄が終了した後、ヘッド機構３を計測テーブルＭＴＢから取り外し、移動部７１の移動によってヘッド機構３を基部７０上に収容する。収容動作の後、アーム部２及びヘッド機構３を設置台１から取り外す。その後、設置台１を計測ステージ本体２６から取り外す。このようにして、メンテナンス動作が完了する。
【００８９】
以上のように、本実施形態によれば、露光装置ＥＸの各部との間で基準位置を置換しながらに計測ステージ本体２６アクセスすることにより、当該計測ステージ本体２６に容易にアクセスさせることができる。加えて、ヘッド機構３によって露光装置ＥＸの計測ステージ本体２６に容易にアクセスして清浄化を行わせることができる。このように、メンテナンス対象物である計測ステージ本体２６に容易にアクセスが可能となる。
【００９０】
本発明の技術範囲は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更を加えることができる。  
上記実施形態では、ヘッド機構３の洗浄ヘッド８０として、密閉部１０１を介して基板１００を洗浄対象領域に被せ、第１噴出部１０３Ａ、１０４Ａと第２噴出部１０３Ｂ、１０４Ｂとを切り替えるようにして洗浄液及びエアを供給する構成としたが、これに限られることは無い。例えば図１７（ａ）及び図１７（ｂ）に示すように、洗浄ヘッド８０にスキャン部材８０ａを設けて、当該スキャン部材８０ａを洗浄対象領域にスキャンさせることで戦場を行う構成としても構わない。この場合、洗浄液やエアを噴出する噴出部８０ｂはスキャン部材８０ａに設けられることになる。
【００９１】
上記実施形態においては、メンテナンス装置ＭＮＴによるメンテナンスとしてステージ装置の清浄化を例に挙げて説明したが、これに限られることは無く、他のメンテナンス用とに上記メンテナンス装置ＭＮＴを用いても構わない。
【符号の説明】
【００９２】
ＭＮＴ…メンテナンス装置  ＥＸ…露光装置  ＭＳＴ…計測ステージ  ＭＴＢ…計測テーブル  Ｃ…光透過部材  Ｐ…位置  １…設置台  ２…アーム部  ３…ヘッド機構  ２６…計測テーブル本体５１ａ…固定子  ５１ｂ…凹部  ６０…本体部  ６１…操作レバー  ６２…アクセス機構  ６３…移動規制板  ６４、６５、６６…引き込み部  ６７…嵌合部  ７０…基部  ７１…移動部  ７２Ａ…第１駆動機構  ７２Ｂ…第２駆動機構  ８０…洗浄ヘッド  ８１…ヘッド保持部  ８１ａ…接続部  ８２…清浄化制御部  ８４…切替機構  ８５…圧力センサ  ８６…圧力調整機構  ８７…濃度センサ  ８８…濃度調整機構  ９０…昇降機構  １００…基板  １０１…密閉部  １０２…吸着部  １０３、１０４…噴出部  １０５、１０６…排出部  １０７…吸引口  １０８…局所排液領域  １１０…洗浄領域
【図１】
2010219108.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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