(57)【要約】【課題】基材フィルムの枚数が少なくて光線透過率が高いと供に、遮光パターンの位置合わせ精度を高く維持して製造できるディスプレイ用光学フィルムを提供する。【解決手段】透明基材１の一方の面に、ブラックストライプの遮光パターン７（または５）と電磁波シールド機能を有する導電性薄膜からなるメッシュパターン４（または２）とが形成されるとともに、透明基材１の他方の面に、導電性薄膜からなるメッシュパターンの表示電極１５が形成されてなる。遮光パターン７（または５）、電磁波シールド機能を有するメッシュパターン４（または２）、及び表示電極１５は、導電性薄膜で形成された細線パターン、または導電性薄膜で形成された細線パターンの上にメッキ層が積層されてなるメッキ積層パターンである。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材の一方の面に、ブラックストライプの遮光パターンと電磁波シールド機能を有する導電性薄膜からなるメッシュパターンとが形成されるとともに、前記透明基材の他方の面に、導電性薄膜からなるメッシュパターンの表示電極が形成されてなることを特徴とするディスプレイ用光学フィルム。
【請求項２】
前記電磁波シールド機能を有するメッシュパターン、及び表示電極は、導電性薄膜で形成された細線パターン、または導電性薄膜で形成された細線パターンの上にメッキ層が積層されてなるメッキ積層パターンであることを特徴とする請求項１に記載のディスプレイ用光学フィルム。
【請求項３】
前記電磁波シールド機能を有するメッシュパターンの表面が黒化処理されてなることを特徴とする請求項１または２に記載のディスプレイ用光学フィルム。
【請求項４】
前記ブラックストライプの遮光パターン、及び前記電磁波シールド機能を有するメッシュパターンが、同一面の上で交差した複合パターンとして導電性薄膜により形成されていることを特徴とする請求項１に記載のディスプレイ用光学フィルム。
【請求項５】
前記遮光パターン、電磁波シールド機能を有するメッシュパターン、及び表示電極は、導電性薄膜で形成された細線パターン、または導電性薄膜で形成された細線パターンの上にメッキ層が積層されてなるメッキ積層パターンであることを特徴とする請求項４に記載のディスプレイ用光学フィルム。
【請求項６】
前記遮光パターン、及び電磁波シールド機能を有するメッシュパターンの表面が黒化処理されてなることを特徴とする請求項４または５に記載のディスプレイ用光学フィルム。
【請求項７】
さらに、近赤外線吸収層、紫外線吸収層、ネオン光吸収層、反射防止層、ハードコート層、防汚層、帯電防止層のうち、１つ以上の機能層を有することを特徴とする請求項１から６のいずれかに記載のディスプレイ用光学フィルム。
【請求項８】
請求項１から７のいずれかに記載のディスプレイ用光学フィルムを備えたディスプレイ。
【請求項９】
プラズマチューブアレイ表示装置用であることを特徴とする請求項１から７のいずれかに記載のディスプレイ用光学フィルム。
【請求項１０】
前記ディスプレイがプラズマチューブアレイ表示装置であることを特徴とする請求項８に記載のディスプレイ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、プラズマチューブアレイ（ＰＴＡ）、液晶パネル（ＬＣＤ）、有機ＥＬパネルなどの各種ディスプレイに用いられる光学フィルムに関する。さらに詳細には、基材フィルムの枚数が少なくて光線透過率が高いと供に、遮光パターンの位置合わせ精度を高く維持して製造できるディスプレイ用光学フィルム及びそれを備えたディスプレイに関する。
【０００２】
なお、ＰＴＡは、放電ガスが密封された微細な発光管を多数並べた発光管アレイの外部から放電圧を印加して、発光管の内面に塗布された蛍光体層から発光させることを特徴とするプラズマ放電に基づいた表示装置である。
【背景技術】
【０００３】
近年、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、プラズマチューブアレイ（ＰＴＡ）、液晶パネル、有機ＥＬパネルなどの各種ディスプレイにおいては、ディスプレイ前面から発生する電磁波が人体に悪影響を与えたり、周囲の電子機器を誤動作させることが問題とされるようになり、ディスプレイの画像の鮮明さと共に、ディスプレイが周囲へ与える影響への対策が益々重要視されつつある。
【０００４】
特に、大型の薄型ディスプレイとして需要の増大しているＰＤＰにおいては、電磁波のシールドフィルム以外に、近赤外線の波長領域を使用している各種のリモコンスイッチの誤作動を防ぐための近赤外線吸収フィルム、その近赤外線吸収フィルムに使用されている近赤外線吸収剤の経時劣化を防ぐための紫外線吸収フィルム、さらには可視光領域の色調調整のためのネオン光カットフィルム、光学フィルターの表面に外光が映り込むのを防ぐための反射防止フィルム等が、必要とされる機能に応じて組み合わせて構成されている。
例えば、特許文献１には、電磁波遮蔽性を有する金属メッシュと、近赤外線吸収能を有する近赤外線吸収剤含有接着層と、反射防止層と、ネオン光吸収層とを積層したプラズマディスプレイ用光学フィルターが開示されている。
【０００５】
一方、ＰＤＰにおける電磁波シールド材の取り付け方法としては、一般的には、光学フィルムの中に電磁波シールド材が組み込まれた積層フィルムを、ＰＤＰ前面パネルに直接に貼り合わせる、いわゆる直貼り方式（例えば、特許文献１を参照）、あるいはＰＤＰ前面パネルから一定の空気層を隔てて配置された前面板に光学フィルムの中に電磁波シールド材が組み込まれた積層フィルムを貼り合わせる、前面板方式（例えば、特許文献２を参照）の２方式が用いられている。
【０００６】
ところで、ＰＤＰにおける、ブラックストライプの配置構造としては、ＰＤＰパネルの全面ガラス基板の内側に一定間隔で配置された複数の表示電極の間に、ブラックストライプの遮光パターン線が挿入されて配設されている（例えば、特許文献３を参照）。また、表示電極は、走査電極と維持電極の２種類の電極を１対として、複数の表示電極の対が一定間隔で配置されている。
【０００７】
また、特許文献４には、ＰＴＡにおいて、電磁波の放射を抑制するために電磁波遮蔽体を設けることが開示されている。
【特許文献１】特開２００４−３３３７４３号公報
【特許文献２】特開２００２−１１６７００号公報
【特許文献３】特開２００７−２３４２８２号公報
【特許文献４】特開２００６−１６５１２０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
ＰＤＰ等の薄型ディスプレイが広範囲に普及しつつある現在では、表示画面の鮮明さを追求すると供に、製品価格を安価に抑えることが求められている。このため、必用とされる機能を維持しながら構成部品の部材点数を削減して、軽量化および光線透過率を高めることが課題とされている。
【０００９】
こうした状況において、ＰＤＰに関する従来技術では、例えば、特許文献２及び３に示されているように、ブラックストライプの遮光パターンと電磁波シールド材のメッシュパターンとは、異なる部材に取り付けられていて、両方を一緒に形成して複合パターンとすることは、全く開示されていない。
【００１０】
また、ＰＴＡに関しても、特許文献４には、表示電極が設けられている基材の反対側面に、表示電極と重なる位置となるように同一のピッチで配置された、表示電極と同一形状を有する電磁波遮蔽用電極を配設することが開示されている。
しかし、特許文献４においては、ＰＴＡにおいてブラックストライプに関する記載が無く、ブラックストライプの遮光パターンと電磁波シールド材のメッシュパターンの両方を一緒に形成して複合パターンとすることは、全く開示されていない。
【００１１】
従来技術のＰＴＡでは、図８の概略構成の一例を示す断面図のように、ブラックストライプと電磁波シールド材とは、それぞれ異なる基材の片面に形成した後、その他の機能性層と供に貼り合せて光学フィルターを作成していた。
しかし、ブラックストライプと電磁波シールド材と表示電極とを、それぞれ異なる基材に形成した後に貼り合せるのは、基材が無駄になると供に製造コストが嵩むという問題があった。
また、別々の基材の貼り合せによるのでは、画面サイズが大型になる程、ブラックストライプと電磁波シールド材と表示電極との位置合わせ精度を維持するのが困難であるという問題があった。
【００１２】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、基材フィルムの枚数が少なくて光線透過率が高いと供に、遮光パターンの位置合わせ精度を高く維持して製造できるディスプレイ用光学フィルム及びそれを備えるディスプレイを提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
前記課題を解決するため、本発明は、透明基材の一方の面に、ブラックストライプの遮光パターンと電磁波シールド機能を有する導電性薄膜からなるメッシュパターンとが形成されるとともに、前記透明基材の他方の面に、導電性薄膜からなるメッシュパターンの表示電極が形成されてなることを特徴とするディスプレイ用光学フィルムを提供する。
【００１４】
また、前記電磁波シールド機能を有するメッシュパターン、及び表示電極は、導電性薄膜で形成された細線パターン、または導電性薄膜で形成された細線パターンの上にメッキ層が積層されてなるメッキ積層パターンであることが好ましい。
また、前記電磁波シールド機能を有するメッシュパターンの表面が黒化処理されてなることが好ましい。
【００１５】
また、前記ブラックストライプの遮光パターン、及び前記電磁波シールド機能を有するメッシュパターンが、同一面の上で交差した複合パターンとして導電性薄膜により形成されていることが好ましい。
また、前記遮光パターン、電磁波シールド機能を有するメッシュパターン、及び表示電極は、導電性薄膜で形成された細線パターン、または導電性薄膜で形成された細線パターンの上にメッキ層が積層されてなるメッキ積層パターンであることが好ましい。
また、前記遮光パターン、及び電磁波シールド機能を有するメッシュパターンの表面が黒化処理されてなることが好ましい。
【００１６】
さらに前記光学フィルムが、近赤外線吸収層、紫外線吸収層、ネオン光吸収層、反射防止層、ハードコート層、防汚層、帯電防止層のうち、１つ以上の機能層を有することが好ましい。
【００１７】
また、本発明は、前記のディスプレイ用光学フィルムを備えたディスプレイを提供する。
前記のディスプレイは、プラズマチューブアレイ表示装置であることが好ましい。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば、ブラックストライプの遮光パターンと電磁波シールド機能を有するメッシュパターンとが基材の片面に形成され、また、基材の他面に表示電極を形成することにより、基材の２枚が省略できるので、次のような効果が得られる。
（１）基材２枚分、及び貼合用粘着剤の材料費のコスト削減が図れる。
（２）電磁波シールドフィルム、ブラックストライプの遮光フィルム、表示電極フィルムの各フィルムを貼り合せて積層する工程費用の削減が図れる。
（３）基材２枚分、及び貼合用粘着剤が省けるので、光線透過率が向上して画像が明るく表示される。
（４）表示電極の形成が、同一の基材の他面においてレジストパターンを用いてフォトリソグラフ法によるので、別々の基材の貼り合せによるのと比べ、表示電極の位置合わせ精度を高く維持できる。
（５）表示電極がメッシュパターンからなるので、光線透過率が高い。
以上のことから、本発明によれば、基材フィルムの枚数が少なくて光線透過率が高いと供に、表示電極の位置合わせ精度を高く維持して製造できるディスプレイ用光学フィルムを提供することが可能である。
【００１９】
さらに、遮光パターンと電磁波シールド機能を有するメッシュパターンとが同一面の上で交差した複合パターンとして基材の片面に一緒に形成された場合、遮光パターンと電磁波シールド機能を有するメッシュパターンとの位置合わせ精度を高くすることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下、最良の形態に基づき、図面を参照して本発明を説明する。
図１は、本発明のディスプレイ用光学フィルムが用いられた、ＰＴＡの部分斜視断面図である。図２は、本発明のディスプレイ用光学フィルムを示す概略平面図である。図３は、図２におけるＡ−Ａ矢視図であり、本発明のディスプレイ用光学フィルムを示す概略断面図である。図４は、図３におけるＢ部の部分拡大図であり、図４（ａ）は、導電性薄膜からなる遮光パターン及び金属メッシュパターンを示す断面図、図４（ｂ）は、導電性薄膜の上にメッキ層が積層されたメッキ層積層パターンからなる遮光パターン及び金属メッシュパターンを示す断面図である。図５は、図３におけるＣ−Ｃ矢視図であり、表示電極のメッシュパターンの一例を示す平面図である。図６は、機能層を有する、本発明のディスプレイ用光学フィルムの一例を示す断面図である。図７は、従来技術によるディスプレイ用光学フィルムが用いられた、ＰＴＡの部分斜視断面図である。図８は、従来技術による、ＰＴＡの前面板の概略構成の一例を示す断面図である。図９は、本発明のディスプレイ用光学フィルムの別の例を示す概略断面図である。
【００２１】
図２及び図３に示した、本発明のディスプレイ用光学フィルム１０は、図４（ａ）に示すように、透明基材１の一方の面に、導電性の金属薄膜からなる、遮光パターン５と電磁波シールド機能を有する細線メッシュパターン２とが形成されている。
または、図４（ｂ）に示すように、透明基材１の一方の面に、導電性薄膜からなるブラックストライプの遮光パターン５の上にメッキ層６が積層されて遮光パターン７が形成され、導電性薄膜からなる細線メッシュパターン２とその上にメッキ層３が積層されて電磁波シールド機能を有する金属メッシュパターン４が形成されている。
【００２２】
また、図２に示すように、ブラックストライプの直線状の遮光パターン７（または５）と電磁波シールド機能を有する金属メッシュパターン４（または２）とが、同一面の上で交差した複合パターンを形成している。
この複合パターンの形状を決定するに当たっては、電磁波シールド機能を有する金属メッシュパターン４（または２）は、ブラックストライプの遮光パターン（または５）の直線に対して、一定のバイアス角度を持たせて配設することにより、モアレの発生を最小限に抑えるようにしている。
【００２３】
図３では、透明基材の片面に、ブラックストライプの遮光パターン７（または５）と電磁波シールド機能を有する金属メッシュパターン４（または２）とが一定間隔で配置されており、透明基材１の他方の面に、走査電極１３と維持電極１４の２種類の電極を１対とした表示電極１５が一定間隔で配置されている。走査電極１３と維持電極１４の２種類の電極を１対とした表示電極１５は、図５に示すような導電性薄膜からなるメッシュパターンで形成されている。
【００２４】
前記遮光パターン、金属メッシュパターン、及び表示電極の導電性薄膜は、フォトレジストパターンまたは溶剤溶解性の印刷材料を印刷したパターンのいずれかを遮蔽マスクとして用いて金属または金属酸化物のスパッタまたは真空蒸着を行った後に遮蔽マスクを除去して行なう、剥離（リフトオフ）法により形成した導電性薄膜、金属または金属酸化物のスパッタまたは真空蒸着により製膜された薄膜をフォトリソ法によりエッチングして形成した導電性薄膜、金属箔をフォトリソ法によりエッチングして形成した導電性薄膜のいずれかであることが好ましい。
【００２５】
本発明のディスプレイ用光学フィルムには、さらに、近赤外線吸収層、紫外線吸収層、ネオン光吸収層、反射防止層、ハードコート層、防汚層、帯電防止層のうち、１つ以上の機能層を積層したものであることが好ましい。図６は、透明基材２１の上に反射防止層２２が形成されたＡＲフィルム２３を粘着剤層２４で貼り合せたものが例示されているが、必要に応じて、さらに、近赤外線吸収層、紫外線吸収層、ネオン光吸収層を積層することができる。
また、ブラックストライプの遮光パターン、及び電磁波シールド機能を有する金属メッシュパターンの表面が黒化処理されていることが、観察者から視て反射光を減少させることができるので好ましい。
また、ブラックストライプの遮光パターン、及び電磁波シールド機能を有する金属メッシュパターンの表面が黒化処理されていない場合は、金属メッキ層の金属光沢により輝いて見え、ディスプレイの表示画像が白っぽくなるという不具合が生じる。
【００２６】
図７は、従来技術によるディスプレイ用光学フィルムが用いられた、ＰＴＡの部分斜視断面図である。基材４１の片面に表示電極１５（走査電極１３及び維持電極１４）が形成され、表示電極１５の形成されている面とは反対側面には、電磁波遮蔽用電極４２，４２が、表示電極１５と同一の形状で配設されている。
また、図１は、本発明のディスプレイ用光学フィルムが用いられた、ＰＴＡ２０の部分斜視断面図である。
【００２７】
図１と図７とを比較すると、本発明に係わるディスプレイ用光学フィルムでは、金属メッシュパターン４（または２）が前面に広がっているので、従来の電磁波遮蔽用電極４２，４２と表示電極１５とによるものに比べて、電磁波を遮蔽する金属線の間隔を狭くしているので、従来技術に比べて電磁波遮蔽性能を格段に向上させることができる。
なお、本発明では、金属メッシュパターン４（または２）の線幅を１０〜６０μｍとし、ピッチ間隔を２５０〜５００μｍとすることにより、全光線透過率を５０〜７０％程度に確保することが可能となる。また、本発明では、全光線透過率を高めるため、表示電極１５（走査電極１３及び維持電極１４）を、図５に示すような金属メッシュパターン１９とするのが好ましい。
【００２８】
図８は、従来技術による、ディスプレイ用光学フィルムの概略構成の一例を示す断面図である。また、図６は、本発明による、ディスプレイ用光学フィルムの概略構成の一例を示す断面図である。図８に示す従来技術によるディスプレイ用光学フィルムでは、透明基材３１の一方の面にメッシュパターン３２が形成されたメッシュパターンフィルム３３と、透明基材３４の一方の面に遮光パターン３５が形成された遮光パターンフィルム３６と、これらを接着する粘着剤層３７とが設けられている。
図６と図８とを比較すると、本発明に係わるディスプレイ用光学フィルムでは、透明基材１１、３４と、粘着剤層１６、３７とが削減されている。
また、ブラックストライプの遮光パターンと金属メッシュパターンとを別々の基材に設ける場合に比べて、ブラックストライプの遮光パターンと金属メッシュパターンとが、同一面の上で交差した複合パターンを形成する方が、ディスプレイ用光学フィルム１０の表面抵抗率が低下する。このため、同じ表面抵抗率を確保する場合には、金属メッシュパターン４（または２）のピッチ間隔を拡げることが可能となり、全光線透過率を向上させることができる効果を奏する。
【００２９】
さらに、本発明に係わるディスプレイ用光学フィルムでは、透明基材１の片面にブラックストライプの遮光パターン７（または５）と金属メッシュパターン４（または２）とが、同一面の上で交差した複合パターンを形成し、透明基材１の他方の面に表示電極１５を形成している。
このため、大画面においては、図８に示した従来技術による遮光パターン３５が形成されたフィルム３６と表示電極１５が形成されたフィルム１１を貼り合せたディスプレイ用光学フィルムと比べて、本発明によるディスプレイ用光学フィルムでは、パターン形成用の遮蔽マスクの位置合わせにより、表示電極の位置に対する遮光パターンの位置合わせ精度を高く維持して製造できる。
【００３０】
図６の遮光パターン７（または５）と電磁波シールド機能を有する金属メッシュパターン４（または２）とが、同一面の上で交差して形成した複合パターンの上には、熱硬化性樹脂又はエネルギー線硬化性樹脂を塗布し、硬化させて、接着性樹脂層（粘着剤層）２４が形成される。
本発明で使用できる接着性樹脂（粘着剤層）としては、例えば、熱硬化性樹脂、紫外線（ＵＶ）硬化性樹脂、可視光硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂などを挙げることができる。
【００３１】
投入するエネルギーにより硬化する透明樹脂であれば特に限定されるものではない。投入するエネルギーとしては、加熱や、エネルギー線（紫外線、電子線、場合により可視光線など）が挙げられる。
なおエネルギー線硬化樹脂の場合は、エネルギー線照射後に必要に応じて加熱処理を行うことにより、硬化の完全化を図ることもでき、その逆に加熱処理を行ってからエネルギー線照射を行なっても構わず、二種以上のエネルギー線照射を組み合わせても構わない。
【００３２】
熱硬化性樹脂としては、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂およびそれらの変性樹脂を挙げることができる。
エネルギー線硬化粘着性樹脂に用いる樹脂化合物としては、アルキルアクリレートやアルキルメタクリレート、などの単官能の（メタ）アクリレート成分；多価アルコールのジ、トリまたはポリ（メタ）アクリレートやヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートなどの多官能の（メタ）アクリレート成分；アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、イタコン酸、無水イタコン酸、マレイン酸、無水マレイン酸、フマール酸、グリシジル（メタ）アクリレート、Ｎ−メチロールアクリルアミドなどの官能基含有モノマー成分；酢酸ビニル、スチレン、アクリルウレタン系オリゴマーなどが挙げられる。
【００３３】
（透明基材）
本発明に使用される透明基材１、２１は、可視領域で透明性を有し、一般に全光線透過率が９０％以上のものが好ましい。中でも、フレキシブル性を有する樹脂フィルムは、取扱い性に優れることから透明基材１として好ましい。透明基材１に使用される樹脂フィルムの具体例としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）やポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、フッ素樹脂、シリコーン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ジアセテート樹脂、トリアセテート樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリスルフォン樹脂、ポリエーテルスルフォン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、環状ポリオレフィン樹脂等からなる厚さ５０〜３００μｍの単層フィルム又は前記樹脂からなる複数層の複合フィルムが挙げられる。
【００３４】
（粘着剤層）
図６に示した、本発明のディスプレイ用光学フィルムに使用される粘着剤層２４を構成する粘着剤としては、可視領域で透明であれば（すなわち、十分な透過率を有すれば）特に限定されず、硬化型樹脂でも良いし、熱可塑性樹脂でも良い。透明性の観点からは、アクリル系樹脂が好適に用いられる。
【００３５】
（遮光パターン及びメッシュパターン）
本発明に適用できる遮光パターンと金属メッシュパターンが複合されたパターン、及び表示電極のメッシュパターンの作製方法は特に限定されないが、導電性の金属薄膜からなる細線パターン、または導電性の金属薄膜からなる細線パターンの上にメッキ層を積層したメッキ積層パターンにより作製する方法が好適である。
図４は、本発明に係わるディスプレイ用光学フィルムを構成する遮光パターン７（または５）と金属メッシュパターン４（または２）の部分断面図である。
【００３６】
図４（ａ）において、透明基材１の片面に、導電性薄膜からなる遮光パターン５及び細線メッシュパターン２が形成されている。ここで、導電性薄膜は、フォトレジストパターンまたは溶剤溶解性の印刷材料を印刷したパターンのいずれかを遮蔽マスクとして用いて金属または金属酸化物のスパッタまたは真空蒸着を行った後に遮蔽マスクを除去して行なう、剥離（リフトオフ）法により形成した導電性薄膜、金属または金属酸化物のスパッタまたは真空蒸着により製膜された薄膜をフォトリソ法によりエッチングして形成した導電性薄膜、透明基材に貼り合せた金属箔をフォトリソ法によりエッチングして形成した導電性薄膜、のいずれかであることが好ましい。図５に示した表示電極１５のメッシュパターン１９も、同様に形成することができる。
【００３７】
図４（ｂ）において、導電性薄膜からなる遮光パターン５及び細線メッシュパターン２の上にメッキ層６，３が積層されてメッキ積層パターンからなる遮光パターン７及び金属メッシュパターン４が形成される。同様に、図５に示した表示電極１５のメッシュパターン１９も、導電性薄膜からなる細線メッシュパターンの上にメッキ層を積層したメッキ積層パターンとすることができる。
電磁波シールド機能を有する細線メッシュパターン２、金属メッシュパターン４、及び
表示電極１５のメッシュパターン１９において、メッシュパターンの線幅は、いずれも１０〜６０μｍが好ましく、さらには１５〜４０μｍであることがより好ましい。線幅を１０μｍ未満の微細線にすると、導電性薄膜を形成するための、例えばフォトリソ法で用いる露光マスクなどの製造コストが著しく上昇するので好ましくない。逆に線幅を太くして６０μｍを超えると、導電性は高くなるが透視性は低下するので好ましくない。
【００３８】
また、細線メッシュパターン２、金属メッシュパターン４、及び表示電極１５のメッシュパターン１９の厚みは、所望とする特性により任意に変えることができるが、好ましくは０．０５〜１５μｍの範囲であり、より好ましくは０．０５〜１０μｍの範囲である。細線メッシュパターン２、金属メッシュパターン４、及び表示電極１５のメッシュパターン１９の膜厚が薄いと電磁波遮蔽性能及び導電性能が低くなり過ぎてしまう。又、細線メッシュパターン２、金属メッシュパターン４、及び表示電極１５のメッシュパターン１９の膜厚が厚いとコスト高の要因となってしまう。
図４（ａ）及び図４（ｂ）において、遮光パターン７（または５）の線幅は、いずれも１００〜１０００μｍが好ましく、さらには３００〜１０００μｍであることがより好ましい。線幅を１００μｍ未満の微細線にすると遮蔽効果が少なく、逆に線幅を太くして１０００μｍを超えると、遮蔽効果は高くなるが透視性は低下するので好ましくない。
【００３９】
本発明では、遮光パターン、金属メッシュパターン、及び表示電極は、基材の上に導電性薄膜で形成された細線パターン、または導電性薄膜で形成された細線パターンの上にメッキ層が積層されてなるメッキ積層パターンを形成するのが好ましい。導電性薄膜およびメッキ層の形成方法は、特に制限されない。既に知られている各種の公知技術を用いて、導電性薄膜およびその上に積層したメッキ層の形成することができる。
【００４０】
例えば、遮光パターン、金属メッシュパターン、及び表示電極は、基材の上に導電性薄膜からなる細線パターンで形成することも、あるいは、その細線メッシュパターンの上にメッキ層を積層してメッキ積層パターンとして形成することができる。
この導電性薄膜は、特開昭５８−１０８７８６号公報（特許文献５）に開示されている方法に準じた剥離（リフトオフ）法や、通常のフォトリソ−エッチング法により形成することができる。フォトレジストパターンまたは溶剤溶解性の印刷材料を印刷したパターンのいずれかを遮蔽マスクとして用いて金属または金属酸化物のスパッタまたは真空蒸着を行った後に遮蔽マスクを除去して形成した剥離（リフトオフ）法による導電性薄膜、金属または金属酸化物のスパッタまたは真空蒸着により製膜された薄膜をフォトリソ法によりエッチングして形成した導電性薄膜、金属箔をフォトリソ法によりエッチングして形成した導電性薄膜のいずれかであることが好ましい。
【００４１】
また、本発明では、遮光パターン、金属メッシュパターン、及び表示電極は、基材の上に形成された導電性薄膜の上にメッキ層のパターンを積層し、その後にエッチング処理してメッキ層のパターンが積層されていない部分の導電性薄膜を除去してメッキ積層パターンを形成することができる。
この場合、このメッキ積層パターンは、特開平６−１１２６２８号公報（特許文献６）に開示されている方法に準じて、透明基材の上に、スパッタまたは真空蒸着による導電性薄膜を形成し、フォトレジストパターンを遮蔽マスクとして用いて電解メッキを行い、金属メッキ層を積層した後、フォトレジストパターンを溶解除去した後、さらにエッチング処理を行い金属メッキ層の積層されていない部分の導電性薄膜を除去して形成される。
【００４２】
以下にそれぞれの方法による細線メッシュパターンを含む導電性薄膜の作製方法と、併せて金属メッキ層について順に説明する。
なお、遮光パターン及び金属メッシュパターンが同一面の上で交差した複合パターンとされる場合、以下の細線メッシュパターンを含む導電性薄膜の形成とは、遮光パターン及び細線メッシュパターンが同一面の上で交差した複合パターンの導電性薄膜の形成である。
【００４３】
（導電性薄膜で形成されたパターンの生成）
本発明で使用される導電性薄膜で形成されたパターンは、フォトレジストパターンまたは溶剤溶解性の印刷材料を印刷したパターンのいずれかを遮蔽マスクとして用いて金属または金属酸化物のスパッタまたは真空蒸着を行った後に遮蔽マスクを除去して行なう、剥離（リフトオフ）法により形成した導電性薄膜、金属または金属酸化物のスパッタまたは真空蒸着により製膜された薄膜をフォトリソ法によりエッチングして形成した導電性薄膜、透明基材に貼り合せた金属箔をフォトリソ法によりエッチングして形成した導電性薄膜のいずれかであることが好ましい。
【００４４】
その中でも、簡便さの点から剥離（リフトオフ）法を用いて形成されるのが好ましい。剥離（リフトオフ）法では、フォトレジストパターンまたは溶剤溶解性の印刷材料を印刷したパターンのいずれかを遮蔽マスクとして用いて真空蒸着を行った後に遮蔽マスクを除去して、細線メッシュパターンを含む導電性薄膜が形成される。
【００４５】
フォトレジストパターンを遮蔽マスクとして用いて行なう、剥離（リフトオフ）法による細線メッシュパターンの形成方法は、次による。
まず、基材上にレジストを塗布した後、熱処理（プリベーク）を行い、レジストから溶媒を除去する。次に、フォトマスクを用いてレジストに所望のパターンを露光した後、レジストパターンを現像して遮蔽マスクとなるレジストパターンを形成する。次に、基材とレジストパターンからなる遮蔽マスクの上に、全面に渡って蒸着膜を形成した後、レジスト剥離剤を用いて遮蔽マスクとその上に乗っている蒸着膜とを同時に除去し、基材の上に残された蒸着膜からなる細線メッシュパターンを含む導電性薄膜を得る。
【００４６】
溶剤溶解性の印刷材料を印刷したパターンを遮蔽マスクとして用いて行なう、剥離（リフトオフ）法による細線メッシュパターンの形成方法は、次による。
まず、基材上に溶剤溶解性の樹脂を主成分とする印刷材料で遮蔽マスクとなる部分を印刷する。次に、基材の上と印刷材料からなる遮蔽マスクの上に、全面に渡って蒸着膜を形成した後、溶剤を用いて遮蔽マスクとその上に乗っている蒸着膜とを同時に除去して、基材の上に残された蒸着膜からなる細線メッシュパターンを含む導電性薄膜を得る。
【００４７】
（金属メッキ層）
本発明で使用される、導電性薄膜で形成された細線パターンの上に金属メッキ層を積層するときに用いるメッキ法は、遮光パターン及び電磁波シールド用の細線メッシュパターンが組み合わされて形成された複合パターン、及び表示電極のメッシュパターンのように、連続のパターンが２次元的に配設された場合では、無電解メッキ法、電解メッキ法あるいは両者を組み合わせたメッキ法のいずれでも可能である。
本発明において、金属メッキ法は公知の方法で行うことができるが、例えば無電解メッキ法は、銅、ニッケル、銀、金、スズ、はんだ、あるいは銅／ニッケルの多層あるいは複合系などの従来公知の方法を使用でき、これらについては、「無電解めっき  基礎と応用；日刊工業新聞社、１９９４年５月３０日初版」等の文献を参照することができる。
【００４８】
メッキが容易で、かつメッキ層の導電性が優れ、さらに厚膜にメッキでき、低コストであるなどの理由により、メッキに用いる金属としては、銅（Ｃｕ）および／またはニッケル（Ｎｉ）が好ましい。金属メッキ層は、メッキを複数回行うことにより、同種の金属または異種の金属を複数層積層することも好ましい。例えば、現像銀層の上に第１のメッキ層、さらにその上に第２のメッキ層を積層する場合に、一方のメッキ層が無電解ニッケルメッキ層であり、他方のメッキ層が無電解銅メッキ層である組み合わせが好ましい。
メッキに使用するメッキ槽の型式は、竪型、横型のいずれであっても構わないが、所定のメッキ滞留時間を確保できるように長さを決定する。
【００４９】
（金属箔のエッチングによる細線パターン）
本発明のディスプレイ用光学フィルムは、前述のとおり、導電性薄膜からなる遮光パターンと細線メッシュパターンが組み合わされた複合パターン及び表示電極のメッシュパターン、または、その細線パターンの上にメッキ層を積層したメッキ積層パターンが用いられるが、図３の透明基材１に金属箔を接着剤により貼り合せた後、公知技術であるフォトリソ法によりエッチングして形成した、遮光パターンと金属メッシュパターンとが複合したパターン及び表示電極のメッシュパターンを使用することもできる。導電性の金属箔であれば、材質は特に制限されなくて、銅、アルミ、錫などの箔を使用することができる。その中でも、価格が安価であり、エッチング処理の腐食速度が速い点から、銅箔が好適に使用される。
【００５０】
銅箔は、電解銅箔または圧延銅箔のいずれも用いることができる。本発明に使用できる、一般的な銅箔の厚みは６〜１５μｍ程度である。厚みが６μｍよりも薄い銅箔は、特殊な製品であって高価であることから、安価な電磁波シールド材、表示電極などの部材には、採用することが困難である。また、厚みが１５μｍを超える場合は、エッチングの処理費用および廃液の処理費用が嵩むことから好ましくない。
銅箔がエッチングされた箇所に露出される透明基材１の表面は、銅箔の表面が有する凸凹が接着剤層に転写されていて、接着剤層の凸凹表面が露出するため透過光が散乱されることから光線透過率が低下してしまう問題を有する。この問題を解決するには、金属メッシュの凸凹面を、透明な樹脂や粘着剤で埋め、加圧しながら高温に保持して行なう透明化処理を施す必要がある。
また、銅箔を用いた場合は、金属素材の光沢色である茶色を目立たなくするために、視認側の表面を黒化処理するのが好ましい。
【００５１】
（黒化処理）
前記金属メッキ層の表面に黒化処理を施すことにより、反射率を低下させるための黒化層を形成してもよい。黒化層は、光を反射しにくい暗色の層であればよく、真黒だけでなく、例えば黒っぽい茶色や黒っぽい緑色等でもよい。黒化層の形成により、金属細線が一層目立ちにくくなり、本発明のディスプレイ用光学フィルムを有する前面板を前面パネルに貼り付けて用いる場合にディスプレイの画面が見やすくなるため、好ましい。
黒化層は、黒色インクの塗布によるインキ処理、ルテニウムやニッケル、スズなどの表面が黒色を呈する金属のメッキによる黒化メッキ処理、金属細線の化成処理（酸化処理等）などにより形成することができる。このうち化成処理では、金属層の表面に金属酸化物の薄膜が形成されることにより、黒色を呈するようになる。
【００５２】
上記の説明は、本発明に適用できる遮光パターンと金属メッシュパターンが組み合わされて形成された複合パターン及び表示電極のメッシュパターンの作製方法として、導電性薄膜からなる遮光パターンと細線メッシュパターンを組み合せてなる複合パターン及び表示電極のメッシュパターンの上にメッキ層を積層したメッキ積層パターンとして作製する方法を示した。
導電性薄膜の作製方法として、フォトレジストパターンまたは溶剤溶解性の印刷材料を印刷したパターンのいずれかを遮蔽マスクとして用いて金属または金属酸化物のスパッタまたは真空蒸着を行った後に遮蔽マスクを除去して行なう、剥離（リフトオフ）法により形成した導電性薄膜、金属または金属酸化物のスパッタまたは真空蒸着により製膜された薄膜をフォトリソ法によりエッチングして形成した導電性薄膜、透明基材に貼り合せた金属箔をフォトリソ法によりエッチングして形成した導電性薄膜、などによる作製方法を示した。
【００５３】
（ディスプレイ用光学フィルター）
図３に示した、本発明のディスプレイ用光学フィルム１０に、近赤外線吸収層、紫外線吸収層、ネオン光吸収層、反射防止層、ハードコート層、防汚層、帯電防止層のうち、１つ以上の機能層を積層して、複合機能を有するディスプレイ用光学フィルターを作製することができる。
ディスプレイに使用される光学フィルターは、ディスプレイの画面サイズに裁断された各種の機能性フィルムを、枚葉で貼り合せて行なう方法と、ロール体で用意された長尺の各種の機能性フィルムをロールｔｏロールで連続して貼り合せて行ない、光学フィルターの作製されたロール状の長尺フィルムとし、ディスプレイの画面サイズに応じて裁断する方法のいずれを用いても作製することができる。
【００５４】
しかし、一般的に行なわれている工業的な生産方法としては、生産性を高めて製造コストを下げるために、ロールｔｏロールで連続して貼り合せる生産方法が採用される。
本発明に係わる長尺のディスプレイ用光学フィルムと、各種の機能性フィルムを積層して長尺の光学フィルターを作製する方法は、次のように行なわれる。
まず、剥離処理された表面が平滑な長尺の剥離フィルムの片面に、光学機能層として近赤外線吸収層、紫外線吸収層、ネオン光吸収層、反射防止層、ハードコート層、防汚層、帯電防止層などの機能層から必要とされる機能層を選択して積層した後、ロール状に巻いて光学積層フィルムのロール体を作製する。
次に、作製したロール体から巻き戻して供給される長尺のディスプレイ用光学フィルムと、ロール体から巻き戻して供給される長尺の光学積層フィルムとを、粘着剤層を介して貼り合せて長尺の積層フィルムからなる光学フィルターが作製される。
【００５５】
ここで、長尺の光学積層フィルムの横幅寸法は、貼り合せるディスプレイ用光学フィルムの横幅寸法と同じである必要はなく、少なくとも光学フィルムに配設されているディスプレイ画面に応じた電極枠を完全に覆うことができるような横幅寸法を有していれば良い。なお、光学フィルム光学積層フィルムとの貼り合せに際しては、基材に粘着剤をコートしながら貼り合せることが可能であるが、事前に光学フィルム１０、又は光学積層フィルムのどちらかの基材に粘着剤層を積層し剥離フィルムで保護して置くのが好ましい。
【００５６】
（近赤外線吸収層）
本発明では、必要に応じて、ロール体から巻き戻して供給される長尺の少なくとも近赤外線吸収層を有する光学機能性フィルムを用いることができる。
近赤外線吸収層は、近赤外線吸収剤層を含む両面粘着フィルムであることが好ましい。この場合には、当該両面粘着フィルムを構成する粘着剤層のうち光学機能性フィルムの外面に露出されるほうの粘着剤層を、光学フィルム１０と光学機能性フィルムとを貼り合せる粘着剤層として利用することができる。
この近赤外線吸収層用の両面粘着フィルムを構成する両面の透明樹脂からなる剥離フィルム（セパレーター）を剥がして、例えば、ロール体から巻き戻して供給される、紫外線吸収剤が混入された長尺の透明基材や透明樹脂層と貼り合せる際、両面粘着フィルムのセパレーターは、片側のみ剥がしてあればよく、反対面のセパレーターは両面粘着フィルムと合わせたままで良い。
【００５７】
近赤外線吸収用層の両面粘着フィルムは、近赤外線吸収色素が分散された透明樹脂層の両面に、粘着剤層と透明樹脂からなる剥離フィルムとを順に積層してなることが好ましい。
また、前記近赤外線吸収色素は、８５０ｎｍ〜１１００ｎｍの吸収波長帯において、それぞれ異なる波長帯域に吸収能の極大値を有する長波長用の吸収色素と短波長用の吸収色素との２種類からなることが好ましい。
【００５８】
前記長波長用の近赤外線吸収色素がジインモニウム塩系化合物の中から選択された１種であり、かつ、前記短波長用の近赤外線吸収色素がフタロシアニン系化合物、シアニン系化合物、チオールニッケル錯塩系化合物の中から選択された１種または２種類以上の色素であることが好ましい。
【００５９】
（近赤外線吸収色素が分散された透明樹脂層）
近赤外線吸収色素が分散された透明樹脂層の機能としては、波長領域８５０〜１１００ｎｍの近赤外線透過率を１５％以下、好ましくは１０％以下に低下させるものであることが望ましい。
近赤外線吸収色素の具体例としては、インモニウム塩系化合物、ジインモニウム塩系化合物、アミニウム塩系化合物、ニトロソ化合物及びその金属錯塩、シアニン系化合物、スクワリリウム系化合物、チオールニッケル錯塩系化合物、アミノチオールニッケル錯塩系化合物、フタロシアニン系化合物、ナフタロシアニン系化合物、トリアリールメタン系化合物、ナフトキノン系化合物、アントラキノン系化合物、アミノ化合物、カーボンブラック、酸化アンチモン、酸化インジウムをドープした酸化錫、周期表の４族、５族または６族に属する金属の酸化物若しくは炭化物若しくはホウ化物等が挙げられる。
【００６０】
近赤外線吸収色素は、８５０ｎｍ〜１１００ｎｍの吸収波長帯において、それぞれ異なる波長帯域に吸収能を有する長波長用の近赤外線吸収色素と短波長用の近赤外線吸収色素との２種類以上の色素からなることが好ましい。
前記長波長用の近赤外線吸収色素がジインモニウム塩系化合物の中から選択された１種であり、かつ、前記短波長用の近赤外線吸収色素がフタロシアニン系化合物、シアニン系化合物、チオールニッケル錯塩系化合物の中から選択された１種または２種類以上の色素であることが好ましい。
【００６１】
近赤外線吸収色素が分散された透明樹脂層は、透明樹脂からなるバインダーに近赤外線吸収色素を分散して形成することができる。
上記バインダー樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）は８０〜１６０℃であることが好ましい。これにより、バインダー樹脂自体の耐候性が向上することになり、近赤外線吸収性塗膜の近赤外線吸収性能が持続すると共に、近赤外線吸収性塗膜自体の耐候性や物性がより向上することとなる。好ましくは、−５０〜１３０℃であり、より好ましくは、２０〜１１０℃であり、更に好ましくは、４０〜１００℃である。
【００６２】
上記バインダー樹脂の種類としては、例えば、（メタ）アクリル系樹脂、（メタ）アクリルウレタン系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、スチレン系樹脂、アルキド系樹脂、フェノール系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリエステル系樹脂や、（メタ）アクリルシリコーン系樹脂、アルキルポリシロキサン系樹脂、シリコーン樹脂、シリコーンアルキド樹脂、シリコーンウレタン樹脂、シリコーンポリエステル樹脂、シリコーンアクリル樹脂等の変性シリコーン樹脂、ポリフッ化ビニリデン、フルオロオレフィンビニルエーテルポリマー等のフッ素系樹脂等が挙げられ、熱可塑性樹脂でもよく、熱硬化性樹脂、湿気硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂等の硬化性樹脂でもよい。また、エチレン−プロピレン共重合ゴム、ポリブタジエンゴム、スチレン−ブタジエンゴム、アクリロニトリル−ブタジエンゴム等の合成ゴム又は天然ゴム等の有機系バインダー樹脂；シリカゾル、アルカリ珪酸塩、シリコンアルコキシドやそれらの（加水分解）縮合物、リン酸塩等の無機系結着剤等の従来公知のバインダー樹脂等が挙げられる。これらは単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００６３】
これらの中でも、比較的低温で乾燥して近赤外線吸収性塗膜を形成することができる点で、（メタ）アクリル系樹脂、（メタ）アクリルウレタン系樹脂、（メタ）アクリルシリコーン系樹脂、ポリエステル系樹脂、シリコーン樹脂、シリコーンアルキド樹脂、シリコーンウレタン樹脂、シリコーンポリエステル樹脂、シリコーンアクリル樹脂等の変性シリコーン樹脂、ポリフッ化ビニリデン、フルオロオレフィンビニルエーテルポリマー等のフッ素系樹脂であることが好ましい。なお、アクリル系樹脂とメタクリル系樹脂をアクリル系樹脂ともいう。
【００６４】
近赤外線吸収色素が分散された透明樹脂層を形成する際に、上述した以外の配合物として、例えば、溶剤や添加剤等を１種又は２種以上含んでいてもよい。このような溶剤としては、特に限定されず、例えば、トルエン、キシレン等の芳香族系溶媒；イソプロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、プロピレングリコールメチルエーテル、ジプロピレングリコールメチルエーテル等のアルコール系溶媒；酢酸ブチル、酢酸エチル、セロソルブアセテート等のエステル系溶媒；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒；ジメチルホルムアミド等の１種又は２種以上の有機溶剤が挙げられる。
【００６５】
また、添加剤としては、フィルムやコーティング膜等を形成する樹脂組成物に一般に使用される従来公知の添加剤等を用いることができ、例えば、レベリング剤；コロイド状シリカ、アルミナゾル等の無機微粒子、消泡剤、タレ性防止剤、シランカップリング剤、粘性改質剤、金属不活性化剤、過酸化物分解剤、可塑剤、潤滑剤、防錆剤、有機及び無機系紫外線吸収剤、無機系熱線吸収剤、有機・無機防炎剤、静電防止剤等が挙げられる。
【００６６】
色素の耐久性を向上するためにクエンチャーや酸化防止剤を配合することもできる。
このようなクエンチャーとしては、金属錯体系の材料が挙げられ、例えば、みどり化学社製の商品名「ＭＩＲ１０１」、住友精化社製の商品名「ＥＳＴ５」等が挙げられる。
酸化防止剤の代表的なものとしては、ヒンダードアミン系化合物、ヒンダードフェノール系化合物、ホスファイト系化合物等があり、これらを１種類、または２種類以上複合して用いることができる。
【００６７】
近赤外線吸収色素が分散された透明樹脂層を塗布する方法としては、例えば、浸漬、吹き付け、刷毛塗り、カーテンフローコート、グラビアコート、ロールコート、スピンコート、ブレードコート、バーコート、リバースコート、ダイコート、スプレーコート、静電塗装等の方法が挙げられる。これらの場合には、近赤外線吸収性樹脂組成物に上述した有機溶剤を適宜混合させて塗布することができる。
上記近赤外線吸収剤層の厚さとしては、使用用途等により適宜設定すればよく特に限定されるものではない。例えば、乾燥時の厚さを１〜５０μｍ、好ましくは、１〜２０μｍである。
【００６８】
（紫外線吸収層）
紫外線吸収層は、外部光による近赤外線吸収層の劣化を防ぐため、近赤外線吸収層よりも視覚側に設けられる。紫外線吸収層は、必要に応じて光学フィルターの適切な位置に一層または複数層設けることができる。
紫外線吸収層を形成する方法としては、透明基材や透明樹脂層、粘着剤層の中に紫外線吸収剤を混入させる方法、紫外線吸収剤を含有する塗工液を透明基材上に直接または他の層を介して塗布する方法などが挙げられる。
【００６９】
紫外線吸収剤としては、有機系紫外線吸収剤と無機系紫外線吸収剤のいずれも使用可能であるが、５０％透過率での波長が３５０〜４２０ｎｍのものが好ましく、より好ましくは３６０ｎｍ〜４００ｎｍである。５０％透過率での波長が３５０ｎｍより低波長の紫外線吸収剤は、紫外線遮断能が弱く、同波長が４２０ｎｍより高波長の紫外線吸収剤は着色が強くなり、好ましくない。
【００７０】
有機系紫外線吸収剤としては、２−（２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール等のベンゾトリアゾール系化合物、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクチルオキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン系化合物、フェニルサリチレート、４−ｔ−ブチルフェニルサリチレート、２，５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ安息香酸ｎ−ヘキサデシルエステル、２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３′，５′−ジ−ｔ−ブチル−４′−ヒドロキシベンゾエート等のヒドロキシベンゾエート系化合物等が挙げられる。無機系紫外線吸収剤としては、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化鉄、硫酸バリウム等が挙げられる。これらの紫外線吸収剤は、１種類、または２種類以上複合して用いることができる。
【００７１】
（ネオン光吸収層）
ネオン光吸収層は、必要に応じて光学フィルターの適切な位置に一層または複数層設けることができる。ネオン光吸収層は、ディスプレイの発光するネオン光（吸収波長５８０〜６２０ｎｍ）を、ネオン光吸収剤を用いて除去することにより画像の赤色をより鮮明にするためのものである。ネオン光吸収層を形成する方法としては、透明基材や透明樹脂層、粘着剤層の中にネオン光吸収剤を混入させる方法、ネオン光吸収剤を含有する塗工液を透明基材上に直接または他の層を介して塗布する方法などが挙げられる。前記ネオン光吸収剤としては、例えば、シアニン系、スクアリリウム系、アゾメチン系、キサンテン系、オキソノール系、アゾ系等の色素のうち、波長５８０〜６２０ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する適当な色素が挙げられる。これらのネオン光吸収剤は、１種類、または２種類以上複合して用いることができる。
【００７２】
（機能性層）
ディスプレイ用光学フィルターとして必要とされる機能性層としては、反射防止層、ハードコート層、防汚層、帯電防止層などが挙げられるが、求められる機能水準に応じて複数の機能性層を積層することが一般に行なわれる。
【００７３】
（反射防止層）
ここで、反射防止層は、光学フィルターの外側からの可視光線の反射を防ぐためのものであって、単層の場合は、透明基材に比べて屈折率の低い物質、例えば、ポリシロキサン構造を有するフッ素含有有機化合物、ＭｇＦ２、ＳｉＯ２等の薄膜を形成する。
反射防止層の膜厚は、光学的膜厚ｄ（ｎｍ）を、ｄ＝λ／４（但し、λは設計波長で５００〜５８０ｎｍ）と設定して単層の反射防止層を形成する。
また多層からなる場合は、透明基材に比べて高屈折率の物質、例えば、酸化チタン、酸化ジルコニウム、ＩＴＯなどの薄膜と、透明基材に比べて低屈折率の物質、例えば酸化ケイ素の薄膜を交互に積層する。
このような金属酸化物薄膜の形成方法は特に限定されず、スパッタリング法、真空蒸着法、湿式塗布法などの公知の方法を用いて行なうことができる。
【００７４】
（ハードコート層）
透明基材フィルムに直接又は他の層を介して、公知の方法にてハードコート層用の樹脂組成物を塗布して形成することにより耐磨耗性、耐擦傷性を付与することができる。
ハードコート層は、ハードコート剤を必要に応じて溶剤に溶解した液を、基材に塗布、乾燥、硬化させることにより形成することができる。
ハードコート剤としては、特に制限されることなく、熱硬化型ハードコート剤、紫外線硬化型ハードコート剤などの公知の各種ハードコート剤を用いることができる。
熱硬化型ハードコート剤としては、例えば、シリコーン樹脂系、アクリル樹脂系、メラミン樹脂系等ハードコート剤を用いることができる。シリコーン樹脂系ハードコート剤は従来のアクリル樹脂系ハードコート剤と比べ硬度、耐候性、耐擦傷性の点で優れている。
【００７５】
また、紫外線硬化型ハードコート剤としては、不飽和ポリエステル樹脂系、アクリル樹脂系等のラジカル重合性ハードコート剤、エポキシ樹脂系、ビニルエーテル樹脂系等のカチオン重合性ハードコート剤等のハードコート剤を用いることができる。
紫外線硬化型ハードコート剤の場合には、紫外線照射を行い硬化させる。紫外線照射は、キセノンランプ、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、カーボンアーク灯、タングステンランプ等のランプを用いることができる。
【００７６】
ハードコート層には、さらに必要に応じて、酸化防止剤、帯電防止剤、難燃剤等の各種の添加剤を含ませてもよい。各種添加剤は、ハードコート剤中に添加して塗布することができる。
ハードコート層の膜厚みは０．０５〜５μｍ、好ましくは、０．５〜３μｍ程度の膜厚とすることにより、反射防止フィルムに耐磨耗性、耐擦傷性を付与することができる。
【００７７】
（防汚層）
反射防止層の上に最外層として防汚層をコートする場合は、反射防止層の表面にフッ素系、シリコーン系の防汚コート剤を塗布した後、余分な塗布液を拭き取ることで防汚層を形成させることができる。
防汚層は、反射防止層を保護し、かつ、防汚性能を高めるものである。
防汚コート剤としては、フッ素系樹脂あるいはシリコーン系樹脂を用いることができる。例えば、反射防止層の低屈折率層をＳｉＯ２により形成した場合には、フルオロアルキルシランなどのフルオロシリケート系撥水性塗料が好ましく用いられる。
防汚層は、防汚コート剤を溶剤によって希釈したものを、スクリーン印刷、マイクログラビアコーター等によって塗工することに形成することができる。
【００７８】
また、防汚層の厚さは反射防止層の機能を阻害しないように設定しなければならず、好ましくは１〜３０ｎｍ、更に好ましくは５〜１５ｎｍであることが好ましい。
また、ハードコート層に防汚機能を持たせる方法としては、ハードコート層中のハードコート剤、例えば、紫外線硬化型のアクリル樹脂系ハードコート剤にフッ素系の紫外線硬化型防汚添加剤を少量添加することにより、表面機能材料としてフッ素系化合物の特長である撥水・撥油性に加え、優れた防汚性（指紋付着防止）をハードコート層の表面へ付与することができる。
【００７９】
（帯電防止層）
本発明においては、機能性層の表面または内部に帯電防止層を形成することが好ましい。これにより、光学フィルターの表面に静電気の作用で塵・埃が付着するのを防止することができる。
機能性層の表面に塵・埃が付着するのを完全に防止するためには、表面抵抗率を１×１０10（Ω／□）以下、更に好ましくは１×１０8（Ω／□）以下にする必要がある。
【００８０】
一般的には、機能性層の最外層である反射防止層に、帯電防止剤を含有させて帯電防止層を兼ねさせることができる。また、ハードコート層の上に帯電防止剤を塗布して帯電防止層を形成することができる。あるいは、ハードコート層に帯電防止剤を含有させて帯電防止機能を付与して帯電防止層を兼ねさせてもよい。
【００８１】
帯電防止剤としては、酸化アルミニウム、二酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化ジルコニウムなどの金属酸化物微粒子、導電性ポリマーの微粒子、界面活性剤などが挙げられる。
界面活性剤としてはアニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、非イオン系界面活性剤、両性界面活性剤等が例示される。
これらの界面活性剤を含む液を樹脂フィルムの上に直接塗布する方法等によって帯電防止層の薄膜を形成することができる。
この帯電防止層は、前記の導電性の金属酸化物微粒子を含有したハードコート層の上に形成することもできる。
帯電防止剤の塗工方法としては、グラビアコーター、マイクログラビアコーター、ダイコーター、ディップコーター、スクリーン印刷などの公知の方法を適宜選定して用いることができる。
【００８２】
（ディスプレイ用光学フィルム）
図３に示した、本発明に係わるディスプレイ用光学フィルム１０は、透明基材１の一方の面に、ブラックストライプの遮光パターン７（または５）が、導電性の金属で形成されてなり、前記遮光パターンと電磁波シールド機能を有する金属メッシュパターン４とが、同一面の上で交差した複合パターンを形成している。透明基材１の他方の面には、導電性薄膜からなるメッシュパターンの表示電極１５が形成されている。
一般的に、フィルム基材を用いてロールｔｏロールで生産するのが、生産性を高めるものとされている。
【００８３】
本発明のディスプレイ用光学フィルム１０を、ロールｔｏロールで生産するには、まず最初に、ロール体の透明基材１を使用して、ロール体から巻き戻して供給される長尺の透明基材１の一方の面に、ディスプレイの画面サイズの金属薄膜からなる表示電極のメッシュパターンを一定の間隔で配置しながら連続的に形成し、透明基材１の他方の面に、表示電極のパターンに対する位置合わせを行い、ブラックストライプの遮光パターン５と細線メッシュパターン２との複合パターンを一定の間隔で配置しながら連続的に形成した後、ロール体に巻き取る。
【００８４】
次に、前記ロール体を巻き戻しながら、表示電極のメッシュパターン及びブラックストライプの遮光パターン５と細線メッシュパターン２との複合パターンの上に、無電解メッキ及び／又は電解メッキしたメッキ層を積層し、かつ、前記ディスプレイの画面サイズに所定間隔で配置された遮光パターンと金属メッシュパターンの複合パターンの周囲には金属メッシュ又は金属薄膜からなる電極枠が配設される（図示を省略）。
電極枠の寸法、配置パターンは、ディスプレイの画面サイズに応じて変更する必要がある。ディスプレイの画面サイズは、代表的には４２インチ、５０インチ、６０インチ、６５インチなどがある。
【００８５】
ディスプレイ用光学フィルムにおいては、ディスプレイのブラックマトリックスの遮光パターンと電磁波シールドのための金属メッシュパターンとの干渉により発生するモアレを最小にするため、遮光パターンに対する金属メッシュパターンのバイアス角度を調節する必要がある。本発明では、遮光パターンと金属メッシュパターンとを複合したパターンに形成するため、最初にモアレを最小にするためにバイアス角度を設定し、複合パターンの形成方法に応じて、例えば、露光マスク、印刷版などを作成すれば良い。
ディスプレイ１台ごとの枚葉のディスプレイ用光学フィルムを形成するには、ロール体の長尺の光学フィルムを電極枠の外形寸法で裁断する。
【００８６】
図３に示す本発明によるディスプレイ用光学フィルム１０を、ディスプレイの前面パネル、又は前面ガラス板に貼り合せるときは、透明基材１の表示電極１５が形成された面に設けた粘着剤層及び剥離フィルム（図示を省略）の剥離フィルムを剥がして露出した粘着剤層を前面パネル、又は前面ガラス板側に向け、押圧することで、容易に貼り合せることができる。
また、図３に示す本発明によるディスプレイ用光学フィルム１０は、必要に応じて、近赤外線吸収層、紫外線吸収層、ネオン光吸収層、反射防止層、ハードコート層、防汚層、帯電防止層のうち、１つ以上の機能層を積層し、例えば、図６に示すように透明基材２１と反射防止層２２からなるＡＲフィルム２３を粘着剤層２４で貼り合せ、光学フィルターとして使用することができる。
【００８７】
上述のディスプレイ用光学フィルム１０は、図３に示すように、ブラックストライプの遮光パターン７（または５）と電磁波シールド機能を有するメッシュパターン４（または２）とが透明基材１の同一面の上で交差してなる複合パターンを形成したものである。本発明では、別の態様例として、図９に示すように、電磁波シールド機能を有するメッシュパターン４（または２）の上に、ブラックストライプの遮光パターン８を印刷等で重ねて形成することもできる。この場合の遮光パターン８は、電磁波シールド機能を有するメッシュパターン４とは別に形成されるので、導電性薄膜に限られず、絶縁性薄膜でもよい。
この場合、電磁波シールド機能を有するメッシュパターン４（または２）は、透明基材１の上でブラックストライプの遮光パターン７（または５）の上をまたがって、ディスプレイ画面の全面にわたり形成することができるので、遮光パターンや表示電極に対し電磁波シールド材の位置合わせが不要になる。また、ブラックストライプを印刷等で形成する場合においても、他面に表示電極１３が形成される同一の透明基材１に対して印刷等を行うので、位置合わせ精度を高くすることができる。
【００８８】
（ＰＴＡ表示装置の基本構成）
本実施の形態例のＰＴＡ表示装置の基本構成は、従来のＰＴＡと同様に、赤色ガス放電管１７ａ，緑色ガス放電管１７ｂ，青色ガス放電管１７ｃの３本を基本単位とし、これらの発光管１７ａ，１７ｂ，１７ｃを、その軸方向と直交する方向に、規則的に多数アレイ配置した発光管アレイを備える。そして、発光管アレイの観察者側には表示電極１５が配置され、背面側にはアドレス電極１８が配置される。
【００８９】
ガス放電管１７ａ，１７ｂ，１７ｃを構成する管状体は、細長い透明絶縁性の管状体、例えば内径が０．８ｍｍの円筒状で、肉厚が０．１ｍｍの光透過性のガラス管が用いられる。このガラス管の内面には、放電が生じるのに必要な電圧（放電電圧）を下げるための二次電子放出膜と、放電により発生した紫外光を可視光に変換させるための蛍光体層が形成されている。また、ガス放電管の内部には、Ｘｅ−Ｎｅ、Ｘｅ−Ｈｅ等の放電ガスが封入されている。蛍光体層は、赤色ガス放電管１７ａには赤色の可視光を放出する蛍光体が、緑色ガス放電管１７ｂには緑色の可視光を放出する蛍光体が、青色ガス放電管１７ｃには青色の可視光を放出する蛍光体が、用いられる。
【００９０】
表示電極１５は、ガス放電管１７ａ，１７ｂ，１７ｃの管軸方向に略直交する方向に、所定ピッチで設けられている。一方、背面基材１２には、アドレス電極１８がガス放電管１７ａ，１７ｂ，１７ｃごとに設けられている。
アドレス電極１８は、光透過性を必要としないので、その形状に制約はなく、例えばライン状パターンの金属膜で形成されている。
背面基材１２は、ＰＴＡ表示装置を発光管１７ａ，１７ｂ，１７ｃの軸方向と直交する方向に曲げられるようにするため、樹脂シートや樹脂フィルム等、可撓性を有する基材が好ましい。
【００９１】
このようなＰＴＡ表示装置においては、走査電極１３とアドレス電極１８との間に電圧を印加して、表示書き込みのためのアドレス放電（対向放電）を選択的に発生させ、その放電セル対応のガラス内壁に壁電荷を生じさる。引き続いて、走査電極１３と維持電極１４との間に電圧を印加して、前記アドレス放電によって壁電荷が生じたセルに表示維持のための表示放電（面放電）を発生させる。この放電によって放電ガス中のＸｅと衝突して紫外光が放出される。紫外光は蛍光体層にて可視光に変換され、赤、緑、青色の可視光が外部へ放出される。
【産業上の利用可能性】
【００９２】
本発明によれば、大画面の薄型ディスプレイに用いる光学フィルムを提供できる。本発明によれば、ブラックストライプの遮光パターンと電磁波シールド材の金属メッシュパターンとが組み合わされた複合したパターンとして一緒に基材の片面に形成され、また、基材の他面に表示電極を形成することにより、基材フィルムの枚数が少なくて光線透過率が高いと供に、遮光パターンの位置合わせ精度を高く維持して製造できるディスプレイ用光学フィルムを提供することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００９３】
【図１】本発明のディスプレイ用光学フィルムが用いられた、ＰＴＡの部分斜視断面図である。
【図２】本発明のディスプレイ用光学フィルムを示す概略平面図である。
【図３】図２におけるＡ−Ａ矢視図であり、本発明のディスプレイ用光学フィルムを示す概略断面図である。
【図４】図３におけるＢ部の部分拡大図であり、（ａ）は、導電性薄膜からなる遮光パターン及び金属メッシュパターンを示す断面図、（ｂ）は、導電性薄膜の上にメッキ層が積層されたメッキ層積層パターンからなる遮光パターン及び金属メッシュパターンを示す断面図である。
【図５】図３におけるＣ−Ｃ矢視図であり、表示電極のメッシュパターンの一例を示す平面図である。
【図６】機能層を有する、本発明のディスプレイ用光学フィルムの一例を示す断面図である。
【図７】従来技術によるディスプレイ用光学フィルムが用いられた、ＰＴＡの部分斜視断面図である。
【図８】従来技術による、ＰＴＡの前面板の概略構成の一例を示す断面図である。
【図９】本発明のディスプレイ用光学フィルムの別の例を示す概略断面図である。
【符号の説明】
【００９４】
１，１１，２１，３１，３４…透明基材、２…金属薄膜の細線メッシュパターン、３…金属メッキ層、４…電磁波シールド機能を有する金属メッシュパターン、５…金属薄膜の遮光パターン、６…金属メッキ層、７…メッキ積層の遮光パターン、８…印刷による遮光パターン、１０…本発明によるディスプレイ用光学フィルム、１２…基材、１３…走査電極、１４…維持電極、１５…表示電極、１６，２４，３７…粘着剤層、１７ａ，１７ｂ，１７ｃ…ガス放電管、１８…アドレス電極、１９…表示電極のメッシュパターン、２０…本発明によるディスプレイ（ＰＴＡ表示装置）、２２…反射防止層、２３…ＡＲフィルム、３０…従来技術によるディスプレイ用光学フィルム、４０…従来技術によるディスプレイ、４１…基材、４２…電磁波遮蔽用電極。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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