(57)【要約】【課題】例えば可撓性を持つ長尺のフィルム状部材を目標とする経路に沿って高精度に搬送する。【解決手段】フィルム状基板Ｐを搬送するラダー式ステージ装置２８であって、フィルム状基板Ｐを支持するために、フィルム状基板Ｐの移動方向に直交する方向に長手方向が配置される複数のロッド３０Ａ〜３０Ｌと、ロッド３０Ａ〜３０Ｌを閉じたループ状の軌跡に沿って連結するチェーン３２Ａ，３２Ｂと、チェーン３２Ａ，３２Ｂを介してそのループ状の軌跡に沿ってロッド３０Ａ〜３０Ｌを移動する駆動モータ３６Ａとを備える。【選択図】図１
2010282203.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フィルム状部材を搬送する搬送方法であって、
前記フィルム状部材を該フィルム状部材の表面に沿った移動方向に移動する工程と、
前記移動方向に交差する方向に長手方向が配置され、前記移動方向に沿って配列される複数の棒状部材で前記フィルム状部材の複数の表面部位を支持する工程と、
前記フィルム状部材を支持している前記複数の棒状部材を同期させて前記移動方向に移動する工程と、
を含む搬送方法。
【請求項２】
前記フィルム状部材の前記複数の表面部位を支持する工程は、
前記複数の棒状部材のうちの第１及び第２の棒状部材を前記フィルム状部材の搬送経路の第１位置に順次移動することと、
前記複数の表面部位のうちの前記第１位置に順次搬送された第１及び第２の表面部位を前記第１及び第２の棒状部材によってそれぞれ支持することと、
を含む請求項１に記載の搬送方法。
【請求項３】
前記搬送経路における前記第１位置より下流側の第２位置へ順次移動された前記第１及び第２の棒状部材をそれぞれ前記第１及び第２の表面部位から順次離す工程を含む請求項２に記載の搬送方法。
【請求項４】
前記フィルム状部材を移動する工程は、
中央部に比して両端部が太い棒状に形成され、前記移動方向に交差する方向に長手方向が配置されたガイド部材を介して前記フィルム状部材の前記搬送経路を折り曲げることと、
前記ガイド部材を介した前記フィルム状部材の前記第１及び第２の表面部位を前記第１位置に順次移動することと、
を含む請求項２又は３に記載の搬送方法。
【請求項５】
前記フィルム状部材の前記複数の表面部位を支持する工程は、前記第１及び第２の棒状部材の間隔を調整することを含む請求項２から４のいずれか一項に記載の搬送方法。
【請求項６】
前記フィルム状部材の前記複数の表面部位を支持する工程は、前記棒状部材が支持した前記表面部位を該棒状部材に吸着することを含む請求項１から５のいずれか一項に記載の搬送方法。
【請求項７】
前記フィルム状部材の前記複数の表面部位を支持する工程は、前記棒状部材が支持した前記表面部位を該棒状部材の中央部から両端部にかけて次第に吸着することを含む請求項６に記載の搬送方法。
【請求項８】
前記フィルム状部材は、帯状形状を有し、
前記フィルム状部材を移動する工程は、前記帯状部材の長尺方向に平行な前記移動方向に前記フィルム状部材を移動する請求項１から７のいずれか一項に記載の搬送方法。
【請求項９】
フィルム状部材を露光する露光方法であって、
請求項１から８のいずれか一項に記載の搬送方法を用いて前記フィルム状部材を前記移動方向に移動し、
前記フィルム状部材のうち前記棒状部材で支持されている被露光部に付設された位置合わせ用マークを検出し、
前記位置合わせ用マークの検出結果に基づいて、前記フィルム状部材の前記被露光部と露光対象のパターンとの位置合わせを行い、前記棒状部材で支持され、かつ前記移動方向に移動している前記被露光部を露光する露光方法。
【請求項１０】
第１のフィルム状部材と第２のフィルム状部材とを貼り合わせる製造方法において、
前記第１のフィルム状部材を請求項１から８のいずれか一項に記載の搬送方法を用いて搬送し、
前記第２のフィルム状部材を請求項１から８のいずれか一項に記載の搬送方法を用いて、前記第１のフィルム状部材に対向させて搬送し、
前記第１及び第２のフィルム状部材のうちそれぞれ前記棒状部材で支持されている第１部及び第２部に付設された位置合わせ用マークを検出し、
前記位置合わせ用マークの検出結果に基づいて、前記第１及び第２のフィルム状部材の前記第１部及び前記第２部の位置合わせを行い、前記棒状部材で支持され、かつ前記移動方向に移動している前記第１部と前記第２部とを貼り合わせる製造方法。
【請求項１１】
前記第１部と前記第２部とを貼り合わせた後、前記第１及び第２のフィルム状部材の前記第１部及び前記第２部を含む部分を切り離す請求項１０に記載の製造方法。
【請求項１２】
請求項９に記載の露光方法を用いてフィルム状感光基板を露光することと、
露光後の前記フィルム状感光基板を処理することと、を含むデバイス製造方法。
【請求項１３】
請求項１０又は１１に記載の製造方法を用いて第１及び第２のフィルム状部材を貼り合わせること、を含むデバイス製造方法。
【請求項１４】
フィルム状部材を搬送する搬送装置であって、
前記フィルム状部材を支持するために、前記フィルム状部材の表面に沿った移動方向に交差する方向に長手方向が配置され、前記移動方向に沿って配列される複数の棒状部材と、
前記複数の棒状部材のうちで前記フィルム状部材を支持している複数の前記棒状部材を同期させて前記移動方向に移動する駆動装置と、
を備える搬送装置。
【請求項１５】
前記フィルム状部材を前記移動方向に移動する移動装置を備え、
前記駆動装置は、前記複数の棒状部材が前記フィルム状部材を支持する第１位置と、前記第１位置より下流側で前記複数の棒状部材が前記フィルム状部材から離れる第２位置とを含むループ状の軌跡に沿って前記複数の棒状部材を連結する連結機構と、前記連結機構を介して前記ループ状の軌跡に沿って前記複数の棒状部材を移動する移動機構と、を有する請求項１４に記載の搬送装置。
【請求項１６】
前記フィルム状部材の搬送経路を折り曲げて、前記フィルム状部材を前記複数の棒状部材のうちの前記第１位置にある前記棒状部材に受け渡すために、中央部に比して両端部が太い棒状に形成され、前記移動方向に交差する方向に長手方向が配置されたガイド部材を備える請求項１５に記載の搬送装置。
【請求項１７】
前記フィルム状部材は前記複数の棒状部材のうちの少なくとも２つの棒状部材で支持され、
前記フィルム状部材を支持している前記少なくとも２つの棒状部材の間隔を調整する間隔調整機構を備える請求項１４から１６のいずれか一項に記載の搬送装置。
【請求項１８】
前記棒状部材が前記フィルム状部材を支持している期間中に、前記棒状部材に前記フィルム状部材を吸着する吸着機構を備える請求項１４から１７のいずれか一項に記載の搬送装置。
【請求項１９】
前記フィルム状部材は、帯状形状を有し、
前記移動装置は、前記帯状部材の長尺方向に平行な前記移動方向に前記フィルム状部材を移動する請求項１５又は１６に記載の搬送装置。
【請求項２０】
フィルム状部材を露光する露光装置であって、
前記フィルム状部材を搬送するための、請求項１４から１９のいずれか一項に記載の搬送装置と、
前記フィルム状部材のうち前記搬送装置の前記棒状部材で支持されている被露光部に付設された位置合わせ用マークを検出するマーク検出系と、
前記マーク検出系の検出結果に基づいて、前記フィルム状部材の前記被露光部と露光対象のパターンとの位置合わせを行い、前記棒状部材で支持され、かつ前記移動方向に移動している前記被露光部を露光する露光部と、
を備える露光装置。
【請求項２１】
第１のフィルム状部材と第２のフィルム状部材とを貼り合わせる製造装置において、
前記第１のフィルム状部材を搬送するための、請求項１４から１９のいずれか一項に記載の第１の搬送装置と、
前記第２のフィルム状部材を、前記第１のフィルム状部材に対向させて搬送するための、請求項１４から１９のいずれか一項に記載の第２の搬送装置と、
前記第１及び第２のフィルム状部材のうちそれぞれ前記棒状部材で支持されている第１部及び第２部に付設された位置合わせ用マークを検出するマーク検出系と、
前記位置合わせ用マークの検出結果に基づいて、前記第１及び第２のフィルム状部材の前記第１部及び前記第２部の位置合わせを行い、前記棒状部材で支持され、かつ前記移動方向に移動している前記第１部と前記第２部とを貼り合わせる貼り合わせ部と、
を備える製造装置。
【請求項２２】
前記貼り合わせ部によって貼り合わされた前記第１及び第２のフィルム状部材の前記第１部及び前記第２部を含む部分を切り離す切断機構を備える請求項２１に記載の製造装置。
【請求項２３】
請求項２０に記載の露光装置を用いてフィルム状感光基板を露光することと、
露光後の前記フィルム状感光基板を処理することと、を含むデバイス製造方法。
【請求項２４】
請求項２１又は２２に記載の製造装置を用いて第１及び第２のフィルム状部材を貼り合わせること、を含むデバイス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば長尺の可撓性を有するフィルム状の部材を搬送する搬送技術、並びにその搬送技術を用いる露光技術及び製造技術に関する。さらに、本発明は、そのような露光技術又は製造技術を用いるデバイス製造技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば半導体素子又は液晶表示素子等を製造する際に使用される露光装置において、従来の一般的な露光対象は、フォトレジストが塗布されたガラス基板又は半導体ウエハ等の剛性の高い平板状の物体であった。最近では、大面積のデバイスを効率的に製造するために、露光対象として、ロール状に巻いて保管可能な可撓性を有する長尺のフィルム状部材が使用されることがある。なお、本明細書において、露光には、露光光でマスクパターン及び投影光学系を介して物体を露光する技術とともに、電子ビーム等の荷電粒子線で物体上に所定のパターンを描画する技術も含まれている。
【０００３】
このような長尺のフィルム状部材に所定のパターンを露光するために、従来は、そのフィルム状部材を２個の静止したローラ間に掛け渡し、そのフィルム状部材の張力を一定に保った状態で、そのローラ間の露光領域に対してそのフィルム状部材を連続的に一定の方向に移動させていた（例えば、特許文献１又はこれに対応する米国特許出願公開第２００６／００６６７１５号明細書参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００６−０９８７１８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
従来のフィルム状部材に露光する装置においては、フィルム状部材が掛け渡される２個のローラが静止しており、その上をフィルム状部材が摺動しながら移動するため、振動等によってフィルム状部材の位置精度（一連の時刻における目標位置に対する位置決め精度）が低下する恐れがあった。このような位置精度の低下によって、露光されるパターンの解像度が低下する恐れがあるとともに、重ね合わせ露光時には重ね合わせ精度が低下する。
【０００６】
本発明の態様は、このような事情に鑑み、例えば可撓性を持つ長尺のフィルム状部材を目標とする経路に沿って高精度に搬送できるようにすることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の第１の態様による搬送方法は、フィルム状部材を搬送する搬送方法であって、そのフィルム状部材を該フィルム状部材の表面に沿った移動方向に移動する工程と、その移動方向に交差する方向に長手方向が配置され、その移動方向に沿って配列される複数の棒状部材でそのフィルム状部材の複数の表面部位を支持する工程と、そのフィルム状部材を支持しているその複数の棒状部材を同期させてその移動方向に移動する工程と、を含むものである。
【０００８】
また、本発明の第２の態様による露光方法は、フィルム状部材を露光する露光方法であって、本発明の第１の態様による搬送方法を用いてそのフィルム状部材をその移動方向に移動し、そのフィルム状部材のうちその棒状部材で支持されている被露光部に付設された位置合わせ用マークを検出し、その位置合わせ用マークの検出結果に基づいて、そのフィルム状部材のその被露光部と露光対象のパターンとの位置合わせを行い、その棒状部材で支持され、かつその移動方向に移動しているその被露光部を露光するものである。
【０００９】
また、本発明の第３の態様による製造方法は、第１のフィルム状部材と第２のフィルム状部材とを貼り合わせる製造方法において、その第１のフィルム状部材を本発明の第１の態様による搬送方法を用いて搬送し、その第２のフィルム状部材を本発明の第１の態様による搬送方法を用いて、その第１のフィルム状部材に対向させて搬送し、その第１及び第２のフィルム状部材のうちそれぞれその棒状部材で支持されている第１部及び第２部に付設された位置合わせ用マークを検出し、その位置合わせ用マークの検出結果に基づいて、その第１及び第２のフィルム状部材のその第１部及びその第２部の位置合わせを行い、その棒状部材で支持され、かつその移動方向に移動しているその第１部とその第２部とを貼り合わせるものである。
【００１０】
また、本発明の第４の態様による搬送装置は、フィルム状部材を搬送する搬送装置であって、そのフィルム状部材を支持するために、そのフィルム状部材の表面に沿った移動方向に交差する方向に長手方向が配置され、その移動方向に沿って配列される複数の棒状部材と、その複数の棒状部材のうちでそのフィルム状部材を支持している複数のその棒状部材を同期させてその移動方向に移動する駆動装置と、を備えるものである。
【００１１】
また、本発明の第５の態様による露光装置は、フィルム状部材を露光する露光装置であって、そのフィルム状部材を搬送するための、本発明の第４の態様による搬送装置と、そのフィルム状部材のうちその搬送装置のその棒状部材で支持されている被露光部に付設された位置合わせ用マークを検出するマーク検出系と、そのマーク検出系の検出結果に基づいて、そのフィルム状部材のその被露光部と露光対象のパターンとの位置合わせを行い、その棒状部材で支持され、かつその移動方向に移動しているその被露光部を露光する露光部と、を備えるものである。
【００１２】
また、本発明の第６の態様による製造装置は、第１のフィルム状部材と第２のフィルム状部材とを貼り合わせる製造装置において、その第１のフィルム状部材を搬送するための、本発明の第４の態様による第１の搬送装置と、その第２のフィルム状部材を、その第１のフィルム状部材に対向させて搬送するための本発明の第４の態様による第２の搬送装置と、その第１及び第２のフィルム状部材のうちそれぞれその棒状部材で支持されている第１部及び第２部に付設された位置合わせ用マークを検出するマーク検出系と、その位置合わせ用マークの検出結果に基づいて、その第１及び第２のフィルム状部材のその第１部及びその第２部の位置合わせを行い、その棒状部材で支持され、かつその移動方向に移動しているその第１部とその第２部とを貼り合わせる貼り合わせ部と、を備えるものである。
【００１３】
また、本発明の第７の態様によるデバイス製造方法は、本発明の第２の態様による露光方法又は本発明の第５の態様による露光装置を用いてフィルム状感光基板を露光することと、露光後のそのフィルム状感光基板を処理することと、を含むものである。
また、本発明の第８の態様によるデバイス製造方法は、本発明の第３の態様による製造方法又は本発明の第６の態様による製造装置を用いて第１及び第２のフィルム状部材を貼り合わせること、を含むものである。
【発明の効果】
【００１４】
本発明の態様によれば、フィルム状部材を支持している棒状部材を移動方向に移動して、フィルム状部材を移動方向に移動しているため、例えば可撓性を持つ長尺のフィルム状部材を目標とする経路に沿って高精度に搬送できる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】第１の実施形態に係る露光装置ＥＸの構成を示す斜視図である。
【図２】（Ａ）は図１のラダー式ステージ装置２８を示す斜視図、（Ｂ）はラダー式ステージ装置２８を示す正面図、（Ｃ）はラダー式ステージ装置２８を示す一部を切り欠いた平面図である。
【図３】（Ａ）は図２（Ａ）のラダー式ステージ装置２８の吸着機構を示す断面図、（Ｂ）は図３（Ａ）のロッド３０Ａと用力管４０との連結状態を示す斜視図である。
【図４】（Ａ）は鼓状ロールガイド２６からロッド３０Ａにフィルム状基板Ｐを受け渡す状態を示す斜視図、（Ｂ）はパターン転写領域６０Ｃのアライメントを開始した状態を示す斜視図、（Ｃ）はパターン転写領域６０Ｃのアライメントが終了する状態を示す斜視図である。
【図５】（Ａ）はパターン転写領域６０Ｃがアライメント中のフィルム状基板Ｐを示す平面図、（Ｂ）はパターン転写領域６０Ｃが露光中のフィルム状基板Ｐを示す平面図である。
【図６】（Ａ）は第１マスクＭＡのパターンを露光中のマスクステージＭＳＴを示す平面図、（Ｂ）はマスクＭＡ，ＭＢをステップ移動中のマスクステージＭＳＴを示す平面図、（Ｃ）は第２マスクＭＢのパターンを露光中のマスクステージＭＳＴを示す平面図である。
【図７】第１の実施形態の露光動作の一例を示すフローチャートである。
【図８】第１の実施形態の変形例のラダー式ステージ装置２８Ｂを示す平面図である。
【図９】第２の実施形態に係るロール部材パネル化装置ＥＰの概略構成を示す正面図である。
【図１０】図９中のラダー式ステージ装置２８，２８Ａの構成を示す斜視図である。
【図１１】マイクロデバイスの製造方法の一例を示すフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
［第１の実施形態］
以下、本発明の第１の実施形態につき図１〜図７を参照して説明する。
図１は、本実施形態の露光装置（投影露光装置）ＥＸの概略構成を示す。図１において、露光装置ＥＸは、露光光源（不図示）と、この露光光源からの照明光ＩＬ（露光光）で第１マスクＭＡ又は第２マスクＭＢのパターンの一部を照明する照明装置ＩＵと、マスクＭＡ，ＭＢを例えば交互に所定方向に走査するマスクステージＭＳＴと、マスクＭＡ又はＭＢのパターンの一部の像をフィルム状基板Ｐ上に投影する投影光学系ＰＬと、を備えている。なお、説明の便宜上、図１においてフィルム状基板Ｐ等は２点鎖線で表されている。マスクステージＭＳＴは、照明装置ＩＵと投影光学系ＰＬとの間で、照明光ＩＬを通す開口が形成されたマスクベース（不図示）上に移動可能に載置されている。
【００１７】
さらに、露光装置ＥＸは、フィルム状基板Ｐを例えば連続的に一定の方向に移動する基板移動装置ＰＤＶと、露光装置ＥＸの動作を統括的に制御するコンピュータよりなる主制御系４とを備えている。
本実施形態のフィルム状基板Ｐは、一例として表示素子等を製造するための可撓性を持ちロール状に巻いて保管することが可能な合成樹脂製の長尺のシート状の部材（帯状部材）であり、露光時にはその表面にフォトレジスト（感光材料）が塗布されている。フィルム状基板Ｐがシート状とは、フィルム状基板Ｐの幅に比べてその厚さが十分に小さく（薄く）、フィルム状基板Ｐが可撓性を有していることを意味する。
【００１８】
以下の説明においては、図１中に設定したＸＹＺ直交座標系を参照しつつ各部材の位置関係について説明する。このＸＹＺ直交座標系は、Ｘ軸及びＹ軸がある水平面上に設定され、Ｚ軸が鉛直方向に設定される。本実施形態では、マスクＭＡ，ＭＢのパターン面は、ＸＹ平面に平行であり、露光中に照明光ＩＬが照射されるフィルム状基板Ｐの露光面の部分もＸＹ平面に平行である。露光装置ＥＸは走査露光型であり、走査露光中のマスクＭＡ，ＭＢの移動方向（走査方向）はＸ軸に平行な方向（Ｘ方向）であり、投影光学系ＰＬの露光領域におけるフィルム状基板Ｐの移動方向（走査方向）もＸ方向である。
【００１９】
先ず、露光光源（不図示）は、超高圧水銀ランプ、楕円鏡、及び波長選択素子を含み、照明装置ＩＵは、ライトガイド等を含む送光光学系と、入射する照明光ＩＬを複数の光束に分岐し、各光束をそれぞれオプティカルインテグレータ、リレー光学系、可変ブラインド（可変視野絞り）、及びコンデンサレンズを介して射出する分岐光学系とを含んでいる。照明光ＩＬは、例えばｇ線（波長４３６ｎｍ）、ｈ線（波長４０５ｎｍ）及びｉ線（波長３６５ｎｍ）を含む波長域から選択された光である。照明光ＩＬは、照明装置ＩＵを介して、マスクＭＡ（又はＭＢ）のパターン面の上記の各可変ブラインドによって独立に開閉される４個の照明領域１８Ａ〜１８Ｄを均一な照度分布で照明する。照明領域１８Ａ〜１８Ｄは、走査方向に直交する非走査方向（Ｙ方向）に細長い形状である。
【００２０】
投影光学系ＰＬは、４個の照明領域１８Ａ〜１８Ｄ内のパターンの像をそれぞれフィルム状基板Ｐ上の露光領域１８ＡＰ〜１８ＤＰ（図５（Ｂ）参照）に形成する４個の部分投影光学系ＰＬＡ〜ＰＬＤから構成されている。部分投影光学系ＰＬＡ〜ＰＬＤ（ひいては投影光学系ＰＬ）のマスクＭＡ，ＭＢからフィルム状基板Ｐへの投影倍率βは拡大倍率（β＞１）である。投影倍率βは例えば２倍〜５倍程度である。本実施形態の部分投影光学系ＰＬＡ〜ＰＬＤは、不図示のフレーム機構に支持されるとともに、中間像を形成し、フィルム状基板Ｐ上に照明領域１８Ａ〜１８Ｄ内のパターンの正立正像を形成する。なお、部分投影光学系ＰＬＡ〜ＰＬＤは、Ｘ方向及び／又はＹ方向に倒立像を形成してもよい。また、部分投影光学系ＰＬＡ〜ＰＬＤとしては、例えば屈折系又は反射屈折系等を使用可能である。
【００２１】
さらに、４個の部分投影光学系ＰＬＡ〜ＰＬＤのうち２つの部分投影光学系ＰＬＡ，ＰＬＣはＹ方向に一列に配置され、他の２つの部分投影光学系ＰＬＢ，ＰＬＤはその部分投影光学系ＰＬＡ，ＰＬＣを＋Ｘ方向及び＋Ｙ方向に斜めにずらした位置に配置されている。
図６（Ａ）は、図１中のマスクステージＭＳＴを示す平面図である。図６（Ａ）において、第１マスクＭＡのパターン領域には、Ｙ方向に所定間隔で４列の部分パターン領域ＭＡ１〜ＭＡ４が形成され、第２マスクＭＢのパターン領域にも、Ｙ方向に所定間隔で４列の部分パターン領域ＭＢ１〜ＭＢ４が形成されている。マスクＭＡの部分パターン領域ＭＡ１〜ＭＡ４、及びマスクＭＢの部分パターン領域ＭＢ１〜ＭＢ４には、フィルム状基板Ｐ上の一つのパターン転写領域に転写すべきパターンを１／β（βは投影倍率）に縮小し、かつＹ方向に４分割した部分パターンがそれぞれ形成されている。マスクＭＡ，ＭＢの部分パターン領域ＭＡ１〜ＭＡ４，ＭＢ１〜ＭＢ４のＸ方向の端部の近傍にそれぞれ例えば２個の２次元のアライメントマーク（不図示）が形成されている。これらのアライメントマークをマスクアライメント系（不図示）で検出することで、マスクＭＡ，ＭＢのアライメントが行われる。
【００２２】
また、マスクＭＡ（又はＭＢ）の露光時には、マスクＭＡ（又はＭＢ）の部分パターン領域ＭＡ１，ＭＡ３（又はＭＢ１，ＭＢ３）のパターンの部分投影光学系ＰＬＡ，ＰＬＣによる像がフィルム状基板Ｐ上に形成され、部分パターン領域ＭＡ２，ＭＡ４（又はＭＢ２，ＭＢ４）のパターンの部分投影光学系ＰＬＢ，ＰＬＤによる像がフィルム状基板Ｐ上に形成される。この場合、マスクＭＡ（又はＭＢ）の部分パターン領域ＭＡ１〜ＭＡ４（又はＭＢ１〜ＭＢ４）の像がフィルム状基板Ｐ上でＸ方向に同じ位置に形成されるように、２つの部分パターン領域ＭＡ１，ＭＡ３（又はＭＢ１，ＭＢ３）と、２つの部分パターン領域ＭＡ２，ＭＡ４（又はＭＢ２，ＭＢ４）とはＸ方向に位置ずれして形成されている。
【００２３】
さらに、継ぎ誤差を軽減するために、部分パターン領域ＭＡ１〜ＭＡ４，ＭＢ１〜ＭＢ４の境界部では二重露光することが好ましい。そのため、照明領域１８Ａ〜１８Ｄは、その両端（又は一方）が傾斜した台形状である。
図１において、マスクステージＭＳＴは、第１マスクＭＡを保持して移動する第１ステージ１０Ａと、第２マスクＭＢを保持して移動する第２ステージ１０Ｂと、ステージ１０Ａ，１０Ｂが並列に移動可能な矩形の枠状のフレーム１２と、フレーム１２に対してステージ１０ＡをＸ方向に駆動する１対のリニアモータ１４Ａ１，１４Ａ２（図１では可動子のみが図示）と、フレーム１２に対してステージ１０ＢをＸ方向に駆動する１対のリニアモータ１４Ｂ１，１４Ｂ２（図１では可動子のみが図示）と、フレーム１２をマスクベース（不図示）に対してＹ方向に駆動する１対のリニアモータ１６Ａ，１６Ｂ（図１では固定子のみが図示）とを備えている。この場合、リニアモータ１４Ａ１，１４Ａ２（又は１４Ｂ１，１４Ｂ２）の駆動量を制御することで、マスクＭＡ（又はＭＢ）をＺ軸に平行な軸の回り（以下、θｚ方向という）に所定範囲内で回転することも可能である。
【００２４】
さらに、ステージ１０Ａ，１０Ｂ（マスクＭＡ，ＭＢ）の少なくともＸ方向、Ｙ方向の位置、及びθｚ方向の回転角を含む位置情報、並びにフレーム１２のＹ方向の位置情報は、それぞれＸ軸の２組の２軸のレーザ干渉計（不図示）及びＹ軸の３軸のレーザ干渉計（不図示）によって計測され、計測値が主制御系４及びマスクステージ制御系８に供給される。マスクステージ制御系８は、主制御系４からの制御情報及びその計測値に基づいてリニアモータ１６Ａ，１６Ｂ，１４Ａ１，１４Ａ２，１４Ｂ１，１４Ｂ２を駆動して、フレーム１２のＹ方向の位置、並びにステージ１０Ａ，１０Ｂ（マスクＭＡ，ＭＢ）のＸ方向、Ｙ方向の位置及び速度とθｚ方向の回転角とを制御する。
【００２５】
また、基板移動装置ＰＤＶは、シート状のフィルム状基板Ｐを＋Ｘ方向に巻き出す供給ローラ２０と、フィルム状基板Ｐの方向を−Ｚ方向に変えるローラ２２と、フィルム状基板Ｐに圧縮空気を吹き出して非接触にフィルム状基板Ｐの方向を斜め上方に変えるエアガイド２４と、長手方向（Ｙ方向）の両端部が中央部よりも太くなるように軸対称に形成されてその上を通過するフィルム状基板Ｐの方向をほぼ＋Ｘ方向に変換する例えば金属製の鼓状ロールガイド２６と、フィルム状基板Ｐを吸着保持して＋Ｘ方向に連続的に移動させるラダー式ステージ装置２８と、フィルム状基板Ｐを巻き取る巻取りローラ５０とを備えている。この場合、供給ローラ２０、ローラ２２、及び鼓状ロールガイド２６は、所定の基板側フレーム（不図示）に回転可能に支持され、エアガイド２４は、例えばフィルム状基板Ｐの張力をほぼ一定に調整するために、その基板側フレームに対してＺ方向の位置が調整可能に支持されている。また、巻取りローラ５０は駆動モータ（不図示）によって回転駆動され、その駆動モータは、基板用ステージ制御系６によって制御される。
【００２６】
また、ラダー式ステージ装置２８は、ＸＺ平面に平行な長円状のループを形成する第１チェーン３２Ａと、第１チェーン３２ＡをＹ方向に所定間隔だけ平行移動した形状のループを形成する第２チェーン３２Ｂと、第１チェーン３２Ａと第２チェーン３２ＢとをＹ方向に連結する、それぞれほぼＹ軸に平行な複数（ここでは一例として１２個）の例えば金属製の円柱状のロッド３０Ａ〜３０Ｌと、チェーン３２Ａ，３２Ｂを同期して同じ方向（上部が＋Ｘ方向に移動する方向）に実質的に同じ速度で駆動する駆動モータ３６Ａ，３６Ｂ（図２（Ｃ）参照）と、チェーン３２Ａ，３２Ｂの＋Ｘ方向の端部を全体としてＹ方向に移動させる駆動部３８Ａとを備えている。基板用ステージ制御系６が、主制御系４からの制御情報に基づいて駆動モータ３６Ａ，３６Ｂ及び駆動部３８Ａの動作を制御する。
【００２７】
ロッド３０Ａ〜３０Ｌのうち、順次隣接する２つのロッド３０Ａ，３０Ｂ、ロッド３０Ｃ，３０Ｄ、ロッド３０Ｅ，３０Ｆ、ロッド３０Ｇ，３０Ｈ、ロッド３０Ｉ，３０Ｊ、ロ
ッド３０Ｋ，３０Ｌの間隔は、フィルム状基板Ｐ上の一つのパターン転写領域のＸ方向の長さと同じであり、それらの２つのロッド同士の間隔は、フィルム状基板Ｐ上の隣接する２つのパターン転写領域の間の領域（空白領域）の長さと同じ（ここでは例えばパターン転写領域のＸ方向の長さの１／２〜数分の一程度）である。さらに、フィルム状基板Ｐのうちで隣接する２つのパターン転写領域及びその間の空白領域に相当するＸ方向の長さの部分が、ロッド３０Ａ〜３０Ｌのうちのほぼいずれか４本のロッドによって常時支持されて＋Ｘ方向に搬送されている。
【００２８】
また、ロッド３０Ａ〜３０Ｌのフィルム状基板Ｐとの接触部にはそれぞれＹ方向に一列に真空吸着用の複数の吸着孔３１が形成されている。ロッド３０Ａ〜３０Ｌの吸着孔３１は、可撓性及び伸縮性を持つ配管（不図示）、及びチェーン３２Ａ，３２Ｂの中央を横切るように配置された用力管４０を介して真空ポンプ（不図示）に連結されている。なお、複数の吸着孔３１の代わりにＹ方向に細長い吸着溝を形成しておいてもよい。
【００２９】
図２（Ａ）は図１中のラダー式ステージ装置２８の概略構成を示す斜視図、図２（Ｂ）はラダー式ステージ装置２８を示す正面図、図２（Ｃ）はラダー式ステージ装置２８を示す平面図である。図２（Ｃ）に示すように、チェーン３２Ａは、多数の内プレート３２Ａｂとこれに対応する多数の外プレート３２Ａａとを交互にピン３２Ａｃによって連結したものであり、チェーン３２Ｂの構成はチェーン３２Ａと同じである。ロッド３０Ａ〜３０Ｌは、それぞれ一例としてチェーン３２Ａの所定のピン３２Ａｃとこれに対向して＋Ｙ方向にあるチェーン３２Ｂのピンとを連結するように、かつ回転しないように設けられている。ロッド３０Ａ〜３０Ｌの両端部の直径は、フィルム状基板Ｐが通過する部分の直径よりも小さく形成されている。なお、ロッド３０Ａ〜３０Ｌの代わりに、断面形状が半円型等でその円弧状の表面でフィルム状基板Ｐと接触する非軸対称な部材を使用することも可能である。
【００３０】
また、チェーン３２Ａ，３２Ｂの＋Ｘ方向の端部に、Ｙ軸に平行な軸の回りに回転可能な同一形状のスプロケット３４Ａ１，３４Ｂ１が係合し、チェーン３２Ａ，３２Ｂの−Ｘ方向の端部に、Ｙ軸に平行な軸の回りに回転可能な同一形状のスプロケット３４Ａ２，３４Ｂ２が係合している。＋Ｘ方向のスプロケット３４Ａ１，３４Ｂ１の回転軸はそれぞれ軸受け３５を介してＵ字型の第１ベース部材３３Ａに支持され、−Ｘ方向のスプロケット３４Ａ２，３４Ｂ２の回転軸はそれぞれ軸受け３５を介してＵ字型の第２ベース部材３３Ｂに支持されている。第１ベース部材３３Ａは、基板側フレーム（不図示）に駆動部３８Ａ及び付勢部３８ＢによってＹ方向に所定範囲内で移動可能に支持されている。第２ベース部材３３Ｂ及び用力管４０は、その基板側フレームに支持されている。
【００３１】
＋Ｘ方向のスプロケット３４Ａ１，３４Ｂ１の回転軸にそれぞれ駆動用の同一形状の歯車３７Ａ，３７Ｂが固定され、歯車３７Ａ，３７Ｂにそれぞれ駆動モータ３６Ａ，３６Ｂの同一形状の歯車が係合している。また、歯車３７Ａ，３７Ｂにはロータリエンコーダ３７ＡＲ，３７ＢＲ（図３（Ｂ）参照）が組み込まれ、ロータリエンコーダ３７ＡＲ，３７ＢＲで検出されるスプロケット３４Ａ１，３４Ｂ１の回転角情報に基づいて、基板用ステージ制御系６が駆動モータ３６Ａ，３６Ｂの回転角及び回転速度を制御する。さらに、第１ベース部材３３Ａにはリニアエンコーダ３８ＡＬ（図３（Ｂ）参照）が組み込まれ、リニアエンコーダ３８ＡＬで検出される第１ベース部材３３ＡのＹ方向の位置情報に基づいて、基板用ステージ制御系６が駆動部３８Ａの駆動量を制御する。
【００３２】
この構成によって、駆動モータ３６Ａ，３６Ｂを同期して同じ回転速度で駆動することによって、スプロケット３４Ａ１，３４Ｂ１を同じ回転速度で回転させて、フィルム状基板Ｐを吸着保持している部分のロッド（ロッド３０Ａ〜３０Ｌのうちのいずれか）及びチェーン３２Ａ，３２Ｂを＋Ｘ方向に同じ速度で移動できる。さらに、駆動モータ３６Ａ，３６Ｂの駆動量を僅かに変えることによって、チェーン３２Ａ，３２ＢのＸ方向の相対位置を変えて、その上のフィルム状基板Ｐのθｚ方向の回転角を制御することも可能である。さらに、駆動部３８Ａによって第１ベース部材３３Ａを介してスプロケット３４Ａ１，３４Ｂ１をＹ方向に変位させることで、スプロケット３４Ａ１，３４Ｂ１の間のフィルム状基板ＰのＹ方向の位置を制御可能である。
【００３３】
基板用ステージ制御系６の記憶部には、ロータリエンコーダ３７ＡＲ，３７ＢＲで検出されるスプロケット３４Ａ１，３４Ｂ１の回転角と、チェーン３２Ａ，３２Ｂに保持される各ロッド３０Ａ〜３０Ｌの位置との関係が記憶されている。
また、図２（Ａ）に示すように、−Ｙ方向の２つのスプロケット３４Ａ１，３４Ａ２の間でチェーン３２Ａを支持するガイド部材７０Ａと、＋Ｙ方向の２つのスプロケット３４Ｂ１，３４Ｂ２の間でチェーン３２Ｂを支持するガイド部材７０Ｂとが基板側フレーム（不図示）に支持されている。これによって、スプロケット３４Ａ２，３４Ｂ２からスプロケット３４Ａ１，３４Ｂ１に向かう部分のチェーン３２Ａ，３２Ｂ（ロッド３０Ａ〜３０Ｌ）が−Ｚ方向に垂れ下がることが防止され、ロッド３０Ａ〜３０Ｌに支持されるフィルム状基板Ｐは、ＸＹ平面に沿って＋Ｘ方向に移動する。
【００３４】
また、図３（Ａ）は、図２（Ａ）のロッド３０Ａ〜３０Ｌに設けられた吸着孔３１と用力管４０との連結状態を示す断面図、図３（Ｂ）は図３（Ａ）の一つのロッド３０Ａと用力管４０との連結状態を示す斜視図である。図３（Ｂ）に示すように、用力管４０は円柱状であるが、用力管４０の−Ｙ方向の端部の内部に通気孔４０ａが形成されている。通気孔４０ａが配管４２を介して真空ポンプ４３に連結され、用力管４０内の端部の通気孔４０ａの周囲はシール機構（不図示）で気密化されている。また、用力管４０の−Ｙ方向の端部の表面に、通気孔４０ａに連通する多数の小さい通気孔４０ｂが形成されている。
【００３５】
さらに、用力管４０の多数の通気孔４０ｂを覆うように、用力管４０の外面に回転可能に第１回転部材４１が配置され、第１回転部材４１のＹ方向の両端部と用力管４０の外面との間は例えば磁性流体軸受けで封止されている。第１回転部材４１の用力管４０の外面におけるＹ方向の位置は２つのＥリング４５によって固定されている。ロッド３０Ａの表面の複数の吸着孔３１はロッド３０Ａ内の排気孔に連結され、その排気孔は、途中に切り替えバルブ４４Ｖが設けられて、可撓性及び伸縮性を持つ配管４４を介して第１回転部材４１の外面の通気孔４１ａに連結され、通気孔４１ａは用力管４０の通気孔４０ｂ，４０ａ及び配管４２を介して真空ポンプ４３に連通している。切り替えバルブ４４Ｖは、ロッド３０Ａの吸着孔３１と用力管４０の通気孔４０ｂとを連結した第１状態と、ロッド３０Ａの吸着孔３１を大気圧に解放した第２状態との間で切り替えを行う。
【００３６】
同様に、図３（Ａ）の他のロッド３０Ｂ〜３０Ｌの複数の吸着孔３１も、それぞれ切り替えバルブ４４Ｖが設けられた可撓性及び伸縮性を持つ配管４４、第１回転部材４１の通気孔４１ａ、用力管４０の通気孔４０ｂ，４０ａ、及び配管４２を介して真空ポンプ４３に連通している。
また、図３（Ｂ）において、用力管４０の＋Ｙ方向の端部の外面に正極の電極部４６Ａ及び負極の電極部４６Ｂが形成され、電極部４６Ａ及び４６Ｂはそれぞれ用力管４０の内部のリード線を介して外部の電源４７の正極及び負極に接続されている。電極部４６Ａ，４６Ｂを覆うように用力管４０の外面に回転可能に第２回転部材４８が配置され、第２回転部材４８の用力管４０の外面におけるＹ方向の位置も２つのＥリング４５によって固定されている。第１回転部材４１と第２回転部材４８とは連結部材（不図示）によって連結され、用力管４０の周囲を連動して回転する。
【００３７】
さらに、第２回転部材４８の中央部の半円筒状の切り欠き部に電極部４６Ａ及び４６Ｂに常時摺動するように平板状の電極板４９Ａ及び４９Ｂが固定され、第２回転部材４８の外面に、受信部５６が固定され、電極板４９Ａ及び４９Ｂを介して受信部５６に常時電力が供給されている。基板用ステージ制御系６は、発信部３９にロッド３０Ａ〜３０Ｌの吸着孔３１による吸着の開始（第１状態）及び解除（第２状態）の切り替えのそれぞれのタイミングを指示する。これに応じて発信部３９は、電波又は赤外線等を介してワイヤレスで、受信部５６にその切り替えのタイミングを示す信号を送信する。その信号に応じて受信部５６は、ロッド３０Ａ〜３０Ｌがそれぞれフィルム状基板Ｐを支持する直前に、対応する切り替えバルブ４４Ｖを第１状態（吸着孔３１で真空吸着を行う状態）に設定し、ロッド３０Ａ〜３０Ｌがそれぞれフィルム状基板Ｐから離れる直前に、対応する切り替えバルブ４４Ｖを第２状態（吸着孔３１内が大気圧に開放される状態）に設定する。
【００３８】
このように用力管４０の外面に回転可能に第１回転部材４１及び第２回転部材４８を設けることによって、用力管４０の周囲を常に一定の方向（ここでは時計回り）に回転しているロッド３０Ａ〜３０Ｌに対して真空ポンプ４３による負圧を供給し、かつ受信部５６に電力を供給できる。
図１において、供給ローラ２０とローラ２２との間のフィルム状基板Ｐの上方に、フィルム状基板Ｐにフォトレジストを塗布するレジストコータ５４が配置されている。また、投影光学系ＰＬと鼓状ロールガイド２６との間で、ラダー式ステージ装置２８で支持されているフィルム状基板Ｐの部分の−Ｘ方向の端部上方に、Ｙ方向に所定間隔でフィルム状基板Ｐ上のアライメントマークの位置を検出するための、例えば画像処理型のアライメント系５２Ａ及び５２Ｂが配置されている。アライメント系５２Ａ，５２Ｂの検出結果は主制御系４内のアライメント制御部に供給される。アライメント系５２Ａ，５２Ｂの検出中心とマスクＭＡ，ＭＢのパターンの投影光学系ＰＬによる像の中心との位置関係（ベースライン）は、例えば複数の基準マークの位置関係が既知のＸ方向に長い基準部材（不図示）をアライメント系５２Ａ，５２Ｂの検出領域から投影光学系ＰＬの投影領域にかけて載置することによって計測することができる。その位置関係の情報は主制御系４内のアライメント制御部に記憶されている。
【００３９】
図５（Ａ）は図１のラダー式ステージ装置２８で支持されているフィルム状基板Ｐの一部を示す平面図である。図５（Ａ）において、フィルム状基板Ｐ上にはＸ方向に所定間隔で多数のパターン転写領域６０Ａ，６０Ｂ，６０Ｃ，…が形成され、各パターン転写領域６０Ａ等にはそれぞれアライメント系５２Ａ，５２ＢのＹ方向の間隔と同じ間隔で２箇所にアライメントマークＰＭＡ〜ＰＭＤが形成されている。この場合、アライメント系５２Ａ，５２Ｂの検出領域から＋Ｘ方向にほぼパターン転写領域の長さ分だけの領域がアライメントエリア５８Ａであり、投影光学系ＰＬの露光領域から＋Ｘ方向にほぼパターン転写領域の長さ分だけの領域が露光エリア５８Ｅであり、その間の領域が中間エリア５８Ｓである。本実施形態では、ほぼアライメントエリア５８Ａ、中間エリア５８Ｓ、及び露光エリア５８Ｅ内を通過しているフィルム状基板Ｐの部分が、ラダー式ステージ装置２８のいずれかのロッド３０Ａ〜３０Ｌによって吸着支持されて、＋Ｘ方向に連続移動している。
【００４０】
以下、本実施形態の露光装置ＥＸを用いて１ロール分のフィルム状基板Ｐを露光する場合の動作の一例につき図７のフローチャートを参照して説明する。この露光動作は主制御系４によって制御される。この際に、図１のマスクステージＭＳＴのステージ１０Ａ，１０Ｂ上にマスクＭＡ，ＭＢがロードされ、そのアライメントが完了しているものとする。
先ず、図７のステップ１０１において、１ロール分のシート状のフィルム状基板Ｐを図１の供給ローラ２０に取り付ける。この段階ではフィルム状基板Ｐにはフォトレジストは塗布されていない。なお、フィルム状基板Ｐ上の一連のパターン転写領域６０Ａ等には、それまでの製造工程においてそれぞれアライメントマークＰＭＡ〜ＰＭＤが付設されている。フィルム状基板Ｐの先端部をローラ２２、エアガイド２４、鼓状ロールガイド２６、及びラダー式ステージ装置２８の上面を介して巻取りローラ５０に受け渡す。次のステップ１０２において、巻取りローラ５０によるフィルム状基板Ｐの＋Ｘ方向への巻取りを開始し、ラダー式ステージ装置２８によるフィルム状基板Ｐの＋Ｘ方向への移動を開始する。なお、フィルム状基板Ｐの＋Ｘ方向への移動速度は、ラダー式ステージ装置２８によって規定され、巻取りローラ５０による巻き取り速度は、ラダー式ステージ装置２８と巻取りローラ５０との間のフィルム状基板Ｐの弛みが所定範囲内に収まるように設定される。次のステップ１０３において、レジストコータ５４によるフィルム状基板Ｐに対するフォトレジストの塗布を開始する。
【００４１】
以下の動作は、ラダー式ステージ装置２８のロッド３０Ａ〜３０Ｌ中の４個毎のロッド３０Ａ，３０Ｅ，３０Ｉに関する動作であり、他のロッド３０Ｂ〜３０Ｄ，３０Ｆ〜３０Ｈ，３０Ｊ〜３０Ｌに関しても同様の動作が順次実行される。即ち、次のステップ１０４において、図４（Ａ）で矢印Ａ１で示すように、吸着孔３１による吸着が解除されているロッド３０Ａが斜め上方に上昇して、ラダー式ステージ装置２８の上面の−Ｘ方向の端部の位置Ｂ１に達すると、フィルム状基板Ｐが鼓状ロールガイド２６からロッド３０Ａに受け渡される。これとほぼ同時に、図３（Ｂ）の基板用ステージ制御系６、発信部３９、及び受信部５６によって、ロッド３０Ａの吸着孔３１に連通する配管４４の切り替えバルブ４４Ｖが第１の状態に設定され、ロッド３０Ａの吸着孔３１によるフィルム状基板Ｐの吸着が開始される。
【００４２】
このとき、図４（Ａ）に示すように、鼓状ロールガイド２６は中央部が細いため、フィルム状基板Ｐは中央部ＰＣが−Ｚ方向に下がった状態でロッド３０Ａに受け渡されるため、フィルム状基板Ｐは中央部ＰＣから両端部に向かって次第にロッド３０Ａに吸着される。従って、フィルム状基板Ｐは歪み等が生じることなく、高い平面度を維持してロッド３０Ａに安定に吸着されて保持されるため、その後のアライメント及び露光を高精度に行うことができる。
【００４３】
次のステップ１０５では、フィルム状基板Ｐを吸着したロッド３０Ａは、ラダー式ステージ装置２８によって＋Ｘ方向に所定の移動速度（走査速度）で移動する。そして、ステップ１０６において、図４（Ｂ）に示すように、ロッド３０Ａがアライメント系５２Ａ，５２Ｂの検出領域を通過すると、アライメント系５２Ａ，５２Ｂによって、図５（Ａ）に示すフィルム状基板Ｐ上のパターン転写領域６０ＣのアライメントマークＰＭＡ，ＰＭＢの位置が検出される。さらに、ロッド３０Ａが＋Ｘ方向に移動すると、次のロッド３０Ｂが位置Ｂ１に達して、ロッド３０Ｂもフィルム状基板Ｐを吸着支持する。その後、ロッド３０Ａ，３０Ｂが図４（Ｃ）に示す位置まで達すると、アライメント系５２Ａ，５２Ｂによってパターン転写領域６０Ｃ上のアライメントマークＰＭＣ，ＰＭＤの位置が検出され、パターン転写領域６０Ｃの両端部はロッド３０Ａ及びロッド３０Ｂで安定に支持される。また、アライメントマークＰＭＡ〜ＰＭＤの位置の検出結果は主制御系４内のアライメント制御部に供給される。アライメント制御部は、その検出結果からパターン転写領域６０Ｃの目標位置からＸ方向、Ｙ方向への位置ずれ量（ΔＸＣ，ΔＹＣ）及びθｚ方向の回転角のずれ量Δθｚｃを求め、これらの位置ずれ量及び回転角のずれ量を主制御系４内のステージ制御部に供給する。
【００４４】
ステージ制御部は、その位置ずれ量（ΔＸＣ，ΔＹＣ）及び回転角のずれ量Δθｚｃに基づいて、マスクステージ制御系８及び基板用ステージ制御系６を介してフィルム状基板Ｐのパターン転写領域６０ＣにマスクＭＡのパターンの像が正確に重ね合わせて露光されるように、マスクステージＭＳＴ及びラダー式ステージ装置２８を駆動する。即ち、次のステップ１０７において、図６（Ａ）に示すように、投影光学系ＰＬの部分投影光学系ＰＬＡ〜ＰＬＤの照明領域１８Ａ〜１８Ｄに対してマスクＭＡの部分パターン領域ＭＡ１〜ＭＡ４を矢印Ａ６で示す＋Ｘ方向に速度ＶＭで移動する動作と、図５（Ｂ）に示すように、部分投影光学系ＰＬＡ〜ＰＬＤの露光領域１８ＡＰ〜１８ＤＰに対してフィルム状基板Ｐのパターン転写領域６０の４個の部分領域を＋Ｘ方向に速度ＶＭ・β（βは投影光学系ＰＬの投影倍率）で移動する動作とを同期して行い、パターン転写領域６０ＣにマスクＭＡのパターンの像を走査露光する。この際に、一例として、上記の位置ずれ量（ΔＸＣ，ΔＹＣ）及び回転角のずれ量Δθｚｃを相殺するように、マスクＭＡの移動中の位置及び回転角が補正される。
【００４５】
なお、ラダー式ステージ装置２８によるロッド３０Ａ〜３０Ｌの移動速度、チェーン３２Ａ，３２Ｂの移動速度のバランスの制御、及び駆動部３８Ａによって、フィルム状基板Ｐのパターン転写領域６０Ｃ側でその位置ずれ量及び回転角のずれ量を補正することも可能である。さらに、図６（Ａ）において、第１ステージ１０Ａを介してマスクＭＡを＋Ｘ方向に移動しているときに、第２ステージ１０Ｂ側では矢印Ａ７で示すようにマスクＭＢを−Ｘ方向に移動する。
【００４６】
その走査露光中に、ロッド３０Ａの位置が露光エリア５８Ｅの＋Ｘ方向の端部の位置Ｂ２に達すると、ステップ１０８において、ロッド３０Ａの吸着孔３１に連通する配管４４の切り替えバルブ４４Ｖが第２の状態に設定され、ロッド３０Ａの吸着孔３１によるフィルム状基板Ｐの吸着が解除される。そして、ラダー式ステージ装置２８によってロッド３０Ａは、フィルム状基板Ｐから離れて斜め下方に移動する。そして、次のロッド３０Ｂが位置Ｂ２に達したときに、パターン転写領域６０Ｃに対する走査露光が終了する。
【００４７】
このときに、マスクステージＭＳＴ側では、図６（Ｂ）に示すように、フレーム１２が全体として矢印Ａ８で示す−Ｙ方向に移動して、第２ステージ１０Ｂ上のマスクＭＢが投影光学系ＰＬの照明領域に対する走査開始位置に移動する。そして、フィルム状基板Ｐ上の次のパターン転写領域６０Ｄに対する走査露光時には、図６（Ｃ）に示すように、投影光学系ＰＬの照明領域１８Ａ〜１８Ｄに対してマスクＭＢの部分パターン領域ＭＢ１〜ＭＢ４を矢印Ａ９で示す＋Ｘ方向に移動することで、パターン転写領域６０Ｄ上にマスクＭＢのパターンの像が露光される。このときにマスクＭＡは矢印Ａ１０で示す−Ｘ方向に移動しているため、フレーム１２を矢印Ａ１１で示す＋Ｙ方向に移動することによって、次はマスクＭＡのパターンの像を次のパターン転写領域上に露光できる。このようにマスクＭＡ及びＭＢのパターンの像を交互にフィルム状基板Ｐ上の隣接するパターン転写領域に露光することで、フィルム状基板Ｐを同じ方向（＋Ｘ方向）に連続して移動しながら、かつ隣接するパターン転写領域間の空白領域を短くして、フィルム状基板Ｐに対する露光を効率的に行うことができる。
【００４８】
また、パターン転写領域６０Ｃの走査露光中に、並行して図５（Ｂ）のロッド３０Ｃ，３０Ｄで支持されているフィルム状基板Ｐ上の次のパターン転写領域６０Ｄに対するアライメントが行われている。
次のステップ１０９において、フィルム状基板Ｐに対する露光が終了したかどうかが判定され、露光が終了していないときには、ロッド３０Ｅ，３０Ｉ，３０Ａ等に関してステップ１０４〜１０８の動作が順次繰り返されて、フィルム状基板Ｐ上の次のパターン転写領域６０Ｅ等に対するアライメント及び走査露光が繰り返される。
【００４９】
そして、ステップ１０９でフィルム状基板Ｐに対する露光が終了すると、動作はステップ１１０に移動し、主制御系４はレジストコータ５４及びラダー式ステージ装置２８の作動を停止させ、巻取りローラ５０にフィルム状基板Ｐを巻き取る。巻き取られたフィルム状基板Ｐは、例えば現像装置（不図示）に搬送されて現像される。
このように本実施形態の露光装置ＥＸによれば、１ロール分のフィルム状基板Ｐに対して効率的にフォトレジストの塗布及びマスクパターンの像の露光を行うことができる。
【００５０】
本実施形態の作用効果等は以下の通りである。
（１）本実施形態においてフィルム状基板Ｐを搬送する基板移動装置ＰＤＶは、フィルム状基板Ｐを支持するためのラダー式ステージ装置２８を備えている。そして、ラダー式ステージ装置２８は、フィルム状基板Ｐの表面に沿った移動方向である＋Ｘ方向に直交するＹ方向に長手方向が配置され、その移動方向に沿って配列される複数のロッド３０Ａ〜３０Ｌと、ロッド３０Ａ〜３０Ｌのうちでフィルム状基板Ｐを支持している複数のロッドを同期させて＋Ｘ方向に移動する駆動機構とを備えている。
【００５１】
また、基板移動装置ＰＤＶによるフィルム状基板Ｐの搬送方法は、フィルム状基板Ｐを＋Ｘ方向に移動するステップ１０２と、複数のロッド３０Ａ〜３０Ｌのうちの複数のロッドでフィルム状基板Ｐの複数の表面部位を支持するステップ１０４と、フィルム状基板Ｐを支持しているその複数のロッドを同期させて＋Ｘ方向に移動するステップ１０５，１０６とを含む。
【００５２】
この実施形態によれば、ロッド３０Ａ〜３０Ｌのうちのフィルム状基板Ｐを支持している複数のロッドを移動方向に移動することで、フィルム状基板Ｐを移動している。従って、フィルム状基板Ｐとそれを支持する部材とが実質的に相対移動することがないため、可撓性を持つ長尺のフィルム状基板Ｐを目標とする搬送経路に沿って高精度に搬送できる。
（２）また、基板移動装置ＰＤＶは、フィルム状基板Ｐを＋Ｘ方向に移動する巻取りローラ５０を備え、ラダー式ステージ装置２８は、ロッド３０Ａ〜３０Ｌがフィルム状基板Ｐを支持する位置Ｂ１と、位置Ｂ１より下流側でロッド３０Ａ〜３０Ｌがフィルム状基板Ｐから離れる位置Ｂ２とを含むループ状の軌跡に沿ってロッド３０Ａ〜３０Ｌを連結する１対のチェーン３２Ａ，３２Ｂと、チェーン３２Ａ，３２Ｂを駆動するスプロケット３４Ａ１，３４Ｂ１を回転することによって、チェーン３２Ａ，３２Ｂを介してそのループ状の軌跡に沿ってロッド３０Ａ〜３０Ｌを移動する駆動モータ３６Ａ，３６Ｂとを備えている。
【００５３】
このラダー式ステージ装置２８を用いることによって、その閉じたループに沿ってロッド３０Ａ〜３０Ｌを一定の方向に移動させるのみの簡単な構成で、フィルム状基板Ｐを安定にその移動方向に移動できる。
従って、フィルム状基板Ｐが可撓性を持つ長いシート状の感光物体（帯状部材）であっても、フィルム状基板Ｐを一定方向に連続的に移動しながらフィルム状基板Ｐ上の一連のパターン転写領域に対して効率的に露光を行うことができる。
【００５４】
（３）また、基板移動装置ＰＤＶは、フィルム状基板Ｐの搬送経路を折り曲げて、フィルム状基板Ｐをロッド３０Ａ〜３０Ｌのうちの位置Ｂ１にあるロッドに受け渡すために、中央部に対して両端部が太い棒状に形成され、Ｙ方向に長手方向が配置された回転可能な鼓状ロールガイド２６を備えている。すなわち、鼓状ロールガイド２６は、ロッド３０Ａ〜３０Ｌと平行に長手方向が配置されている。
そして、ステップ１０４においては、フィルム状基板Ｐを鼓状ロールガイド２６を介してロッド３０Ａ〜３０Ｌのうちの位置Ｂ１にあるロッドに受け渡している。従って、フィルム状基板Ｐは、中央部から両端部にかけて次第にロッドに支持されるため、その受け渡しの際にフィルム状基板Ｐに歪み等が生じない。
【００５５】
（４）また、フィルム状基板Ｐが、複数のロッド３０Ａ〜３０Ｌのうちの例えば少なくとも２つのロッド３０Ａ，３０Ｂで支持されている場合、フィルム状基板Ｐを支持している２つのロッド３０Ａ，３０ＢのＸ方向の間隔を調整する間隔調整機構を備えることが好ましい。
この間隔調整機構は、例えば図２（Ｃ）において、ロッド３０Ａを支持するチェーン３２Ａ，３２Ｂの部分に設けられ、ロッド３０Ａを±Ｘ方向に移動する駆動素子（ピエゾ素子等）から構成できる。その間隔調整機構を用いて、ロッド３０Ａ，３０Ｂの間隔を広くすることによって、ロッド３０Ａ，３０Ｂで吸着保持されているフィルム状基板Ｐの部分が下方に垂れ下がるのを防止できる場合がある。
【００５６】
また、ラダー式ステージ装置２８は、常時ロッド３０Ａ〜３０Ｌのうちの例えば４本のロッドでフィルム状基板Ｐを支持しているが、より多くの本数のロッドでフィルム状基板Ｐを支持してもよい。さらに、ロッド３０Ａ〜３０Ｌのうちの２本のロッドのみでフィルム状基板Ｐを支持してもよい。
なお、ラダー式ステージ装置２８が有するロッド３０Ａ〜３０Ｌの個数は任意であり、例えば３本のロッドのみをループ状の軌跡に沿って移動させながら、そのうちの２本のロッドでフィルム状基板Ｐを支持して＋Ｘ方向に搬送してもよい。
【００５７】
（５）また、ラダー式ステージ装置２８は、ロッド３０Ａ〜３０Ｌがフィルム状基板Ｐを支持している期間中にフィルム状基板Ｐをロッド３０Ａ〜３０Ｌにそれぞれ真空吸着するための、吸着孔３１、切り替えバルブ４４Ｖ付きの配管４４、用力管４０、及び真空ポンプ４３を含む吸着機構を備えている。従って、ロッド３０Ａ〜３０Ｌによってフィルム状基板Ｐを安定に支持できる。
【００５８】
なお、ロッド３０Ａ〜３０Ｌに対して例えば静電吸着でフィルム状基板Ｐを吸着してもよい。
（６）また、本実施形態の露光装置ＥＸは、フィルム状基板Ｐを露光する露光装置であって、フィルム状基板Ｐを搬送するための基板移動装置ＰＤＶと、フィルム状基板Ｐのうちロッド３０Ａ〜３０Ｌで支持されているパターン転写領域に付設されたアライメントマークＰＭＡ〜ＰＭＤを検出するアライメント系５２Ａ，５２Ｂと、アライメント系５２Ａ，５２Ｂの検出結果に基づいて、フィルム状基板Ｐのパターン転写領域とマスクＭＡ（又はＭＢ）のパターンの像との位置合わせを行い、ロッド３０Ａ〜３０Ｌで支持され、かつ＋Ｘ方向に移動しているパターン転写領域を露光する投影光学系ＰＬを含む露光部とを備えている。
【００５９】
また、露光装置ＥＸによる露光方法は、基板移動装置ＰＤＶによる搬送方法を用いてフィルム状基板Ｐを＋Ｘ方向に移動するステップ１０５と、フィルム状基板Ｐのロッド３０Ａ〜３０Ｌで支持されているパターン転写領域に付設されたアライメントマークＰＭＡ〜ＰＭＤを検出するステップ１０６と、そのアライメントマークの検出結果に基づいて、そのパターン転写領域とマスクＭＡ（又はＭＢ）のパターンの像との位置合わせを行い、ロッド３０Ａ〜３０Ｌで支持され、かつ＋Ｘ方向に移動しているパターン転写領域を露光するステップ１０７とを含んでいる。
【００６０】
露光装置ＥＸ又はその露光方法によれば、フィルム状基板Ｐを目標とする経路に沿って高精度に移動できるため、フィルム状基板Ｐ上の各パターン転写領域にそれぞれマスクＭＡ，ＭＢのパターンの像を高精度に、かつ高い重ね合わせ精度で露光できる。
なお、本実施形態では、以下のような変形が可能である。
（１）上記の実施形態では図５（Ａ）に示すように、アライメントエリア５８Ａと露光エリア５８Ｅとの間に狭い中間エリア５８Ｓが設けられている。
【００６１】
これに対して、図８のロッド３０Ａ等を備えるラダー式ステージ装置２８Ｂで示すように、アライメント系５２Ａ，５２Ｂの検出領域を端部とするアライメントエリア５８Ａと、投影光学系ＰＬの露光領域を端部とする露光エリア５８Ｅとの間に、露光エリア５８Ｅとほぼ同じ長さの待機エリア５８Ｗを設けてもよい。この場合には、ラダー式ステージ装置２８Ｂにおいて、フィルム状基板Ｐを支持している部分の長さはラダー式ステージ装置２８に比べて長くなるが、フィルム状基板Ｐの露光対象のパターン転写領域６０Ｂ，６０Ｃ等が待機エリア５８Ｗを通過している間に位置ずれ量の補正等を行うことができる。従って、フィルム状基板Ｐ上の各パターン転写領域６０Ｂ，６０Ｃ等の間隔を狭くできる。
【００６２】
（２）次に、投影光学系ＰＬは４個の部分投影光学系ＰＬＡ〜ＰＬＤから構成されているが、部分投影光学系ＰＬＡ〜ＰＬＤの個数及び配置は任意である。さらに、投影光学系ＰＬを１つの投影光学系から構成してもよい。また、投影光学系ＰＬの投影倍率は等倍又は縮小倍率でもよい。
さらに、投影光学系ＰＬはマスクＭＡ，ＭＢのパターンの像をフィルム状基板Ｐ上に投影しているが、マスクＭＡ，ＭＢの代わりに液晶パネル又はデジタルミラーデバイス（ＤＭＤ）等で形成された可変のパターンの像を投影光学系ＰＬによってフィルム状基板Ｐ上に形成してもよい。この場合には、フィルム状基板Ｐ上の隣接する２つのパターン転写領域の間隔を極めて短くできる。
【００６３】
さらに、投影光学系ＰＬの代わりに、電子線描画装置でフィルム状基板Ｐ上にパターンを描画するようにしてもよい。
（３）また、上記の実施形態ではフィルム状基板Ｐは連続的に＋Ｘ方向に移動しているが、フィルム状基板Ｐを間欠的に移動してもよい。この場合、一例としてアライメント系５２Ａ，５２Ｂでフィルム状基板Ｐ上のアライメントマークの位置を検出する際にフィルム状基板Ｐを停止させ、それ以外の期間ではフィルム状基板Ｐが連続的に＋Ｘ方向に移動される。
【００６４】
（４）また、フィルム状基板Ｐの移動速度は必ずしも一定速度である必要はなく、例えば露光時とそれ以外の期間とでフィルム状基板Ｐの移動速度を変えてもよい。
（５）ラダー式ステージ装置２８はチェーン３２Ａ，３２Ｂでロッド３０Ａ〜３０Ｌを連結しているが、例えば建設機械等で使用される無限軌道的な機構でロッド３０Ａ〜３０Ｌを支持して一定方向に移動することも可能である。
【００６５】
さらに、上記の実施形態ではフィルム状基板Ｐの各パターン転写領域６０Ａ等のＸ方向の両端部をロッド３０Ａ〜３０Ｌで支持しているが、Ｘ方向に等間隔で配置された多数のロッドによってフィルム状基板Ｐの１つ又は複数のパターン転写領域を含む部分を支持してＸ方向に移動することも可能である。
（６）図１の基板移動装置ＰＤＶにおいて、鼓状ロールガイド２６の代わりに円柱状で回転可能なロールを使用することも可能である。また、この場合、ラダー式ステージ装置２８に対してフィルム状基板Ｐが受け渡される受け渡し位置としての位置Ｂ１（図４（Ａ）参照）に移動してくるロッド３０Ａ等を、その中央部がフィルム状基板Ｐに向けて凸状になるように変形させる（しならせる）機構を設けるとよい。これによって、鼓状ロールガイド２６を用いる場合と同様に、フィルム状基板Ｐは、その中央部から両端部に向かって次第にロッド３０Ａに吸着されることとなり、歪み等が生じることなくロッド３０Ａに受け渡される。
【００６６】
（７）また、図１のラダー式ステージ装置２８と巻取りローラ５０との間に現像装置を配置し、巻取りローラ５０に巻き取る前にフィルム状基板Ｐ上のフォトレジストの現像を行うようにしてもよい。
［第２の実施形態］
次に、図９及び図１０を参照して、本発明の第２の実施形態について説明する。本実施形態は、シート状（帯状）で可撓性を持つカラーフィルタＣＦと、シート状で可撓性を持つＴＦＴ(Thin Film Transistor)の基板であるＴＦＴ基板ＴＰとを連続して貼り合わせるロール部材パネル化装置ＥＰに本発明を適用したものである。図９及び図１０において、図１〜図３に対応する部分には同一又は類似の符号を付してその詳細な説明を省略する。
【００６７】
図９は、本実施形態のロール部材パネル化装置ＥＰを示し、図１０は、図９中のラダー式ステージ装置２８及び２８Ａの構成を示す。なお、図１０では、ラダー式ステージ装置２８，２８ＡのＺ方向の間隔は実際の間隔よりも広くなっている。さらに、図９において、ラダー式ステージ装置２８及び２８ＡのＺ方向の間隔は、その間のカラーフィルタＣＦ及びＴＦＴ基板ＴＰがほぼ接触するような間隔に設定されている。
【００６８】
図９において、ロール部材パネル化装置ＥＰは、カラーフィルタＣＦを連続的に＋Ｘ方向に移動する第１の移動装置と、カラーフィルタＣＦに対向するようにＴＦＴ基板ＴＰを連続的に＋Ｘ方向に移動する第２の移動装置と、カラーフィルタＣＦ上に例えば熱硬化性の接着剤ＬＱを塗布する接着剤塗布装置６４と、カラーフィルタＣＦの各デバイス領域に形成されたアライメントマーク（不図示）の位置を検出するアライメント系５２Ａ，５２Ｂと、ＴＦＴ基板ＴＰの各デバイス領域に形成されたアライメントマーク（不図示）の位置を検出するアライメント系５２Ｃ，５２Ｄと、接着剤ＬＱを硬化させる赤外線等を射出する加熱装置７１と、貼り合わせられたカラーフィルタＣＦ及びＴＦＴ基板ＴＰの１つのデバイス領域に対応する部分を切り離す切断装置６８及び支持台６６とを備えている。
【００６９】
その第１の移動装置は、カラーフィルタＣＦを供給する供給ローラ２０と、カラーフィルタＣＦの方向を変えるローラ２２と、カラーフィルタＣＦの張力を制御するエアガイド２４と、カラーフィルタＣＦを吸着保持して＋Ｘ方向に移動するラダー式ステージ装置２８と、エアガイド２４からラダー式ステージ装置２８にカラーフィルタＣＦを受け渡す鼓状ロールガイド２６とを備えている。ラダー式ステージ装置２８の構成は、図１０に示すように、第１の実施形態（図１）と同様であり、その動作は第１ステージ制御系６Ａによって制御される。
【００７０】
また、その第２の移動装置は、ＴＦＴ基板ＴＰを供給する供給ローラ２０Ａと、ＴＦＴ基板ＴＰの方向を変えるローラ２２Ａと、ＴＦＴ基板ＴＰを吸着保持して＋Ｘ方向に移動するラダー式ステージ装置２８Ａと、ローラ２２Ａからラダー式ステージ装置２８ＡにＴＦＴ基板ＴＰを受け渡す鼓状ロールガイド２６Ａとを備えている。鼓状ロールガイド２６Ａの形状は鼓状ロールガイド２６と同様である。なお、ＴＦＴ基板ＴＰは、−Ｚ方向に垂れ下がる傾向があるが、カラーフィルタＣＦで支持されるため、その弛みは極めて少ない。その弛みをさらに低減するために、例えばローラ２２Ａと鼓状ロールガイド２６Ａとの間に張力調整用のエアガイド等を設置してもよい。
【００７１】
ラダー式ステージ装置２８Ａは、図１０に示すように、ラダー式ステージ装置２８と同様に、２つのチェーン３２Ｃ，３２Ｄの間にそれぞれ吸着孔３１Ａが形成された複数（ここでは１２個）のロッド６２Ａ〜６２Ｌを連結し、チェーン３２Ｃ，３２Ｄを駆動モータ３６Ｃ，３６Ｄ（３６Ｄは不図示）で回転することによって、ロッド６２Ａ〜６２Ｌ中でＴＦＴ基板ＴＰを上面側から吸着保持している複数のロッドを＋Ｘ方向に移動するものである。ただし、ラダー式ステージ装置２８側にＹ方向の位置調整用の駆動部３８Ａが設けられているため、ラダー式ステージ装置２８Ａ側ではＹ方向の位置調整機構は設ける必要がない。ラダー式ステージ装置２８Ａの動作は第２ステージ制御系６Ｂによって制御され、ステージ制御系６Ａ，６Ｂは主制御系４Ａによって制御されている。
【００７２】
図９において、一例として接着剤塗布装置６４は鼓状ロールガイド２６とラダー式ステージ装置２８との間の上方に配置され、アライメント系５２Ａ，５２Ｂ及び５２Ｃ，５２Ｄはそれぞれチェーン３２Ａ，３２Ｂ及び３２Ｃ，３２Ｄの内側に配置され、加熱装置７１はチェーン３２Ｃ，３２Ｄの内側に配置され、切断装置６８はラダー式ステージ装置２８，２８Ａの＋Ｘ方向の端部の直後に配置されている。この場合、アライメント系５２Ａ，５２Ａ及び５２Ｃ，５２Ｄの検出領域から＋Ｘ方向にほぼ１つのデバイス領域分の長さの領域がアライメントエリア５８Ａであり、加熱装置７１により赤外線が照射される領域を含み、Ｘ方向にほぼ１つのデバイス領域分の長さの領域が貼り合わせエリア５８Ｌである。
【００７３】
本実施形態のロール部材パネル化装置ＥＰにおいて、供給ローラ２０及び２０Ａから供給されるカラーフィルタＣＦ及びＴＦＴ基板ＴＰは、図１０において、それぞれ鼓状ロールガイド２６及び２６Ａを介して中央の部分からラダー式ステージ装置２８及び２８Ａの矢印Ａ９１で示す方向に移動するロッド３０Ａ〜３０Ｌ及び矢印Ａ９２で示す方向に移動するロッド６２Ａ〜６２Ｌに受け渡される。従って、カラーフィルタＣＦ及びＴＦＴ基板ＴＰに歪み等が生じることがない。また、ラダー式ステージ装置２８に受け渡されるカラーフィルタＣＦの上面に接着剤塗布装置６４によって接着剤ＬＱが所定の厚さに塗布される。
【００７４】
その後、アライメント系５２Ａ，５２ＢによってカラーフィルタＣＦの位置及び回転角が計測され、これと並行してアライメント系５２Ｃ，５２ＤによってＴＦＴ基板ＴＰの位置及び回転角が計測され、これらの検出結果に基づいて図１０の主制御系４Ａ内のアライメント制御部が、カラーフィルタＣＦのデバイス領域とＴＦＴ基板ＴＰのデバイス領域との位置ずれ量及び回転角のずれ量を算出する。そして、主制御系４Ａ内のステージ制御部が、その位置ずれ量及び回転角のずれ量を補正するように、例えばラダー式ステージ装置２８側のカラーフィルタＣＦのＸ方向、Ｙ方向の位置、及びθｚ方向の回転角を補正する。
【００７５】
その後、アライメントエリア５８Ａから貼り合わせエリア５８Ｌに入ったカラーフィルタＣＦ及びＴＦＴ基板ＴＰのデバイス領域に加熱装置７１から赤外線を照射することで、そのデバイス領域におけるカラーフィルタＣＦとＴＦＴ基板ＴＰとが貼り合わせられる。その後、ラダー式ステージ装置２８及び２８Ａから搬出される１デバイス分のカラーフィルタＣＦ及びＴＦＴ基板ＴＰを切断装置６８で切り離すことによって、１デバイス分の表示素子が製造できる。
【００７６】
本実施形態によれば、ラダー式ステージ装置２８及び２８Ａを用いて対向するようにシート状のカラーフィルタＣＦ及びＴＦＴ基板ＴＰを搬送しているため、カラーフィルタＣＦ及びＴＦＴ基板ＴＰを目標とする経路に沿って高精度に搬送できる。従って、表示素子を高精度に製造できる。
また、上記の実施形態の露光装置ＥＸを用いて、フィルム状基板上に所定のパターン（回路パターン、電極パターン等）を形成することによって、マイクロデバイスとしての多数の液晶表示素子を得ることもできる。以下、図１１のフローチャートを参照して、この製造方法の一例につき説明する。
【００７７】
図１１のステップＳ４０１（パターン形成工程）では、先ず、露光対象のフィルム状基板上にフォトレジストを塗布して感光基板を準備する塗布工程、上記の露光装置を用いて液晶表示素子用のマスクのパターンをその感光基板上の多数のパターン転写領域に転写露光する露光工程、及びその感光基板を現像する現像工程が実行される。この塗布工程、露光工程、及び現像工程を含むリソグラフィ工程によって、そのフィルム状基板上に所定のレジストパターンが形成される。このリソグラフィ工程に続いて、そのレジストパターンをマスクとしたエッチング工程、及びレジスト剥離工程等を経て、そのフィルム状基板上に多数の電極等を含む所定パターンが形成される。そのリソグラフィ工程等は、そのフィルム状基板上のレイヤ数に応じて複数回実行される。
【００７８】
その次のステップＳ４０２（カラーフィルタ形成工程）では、赤Ｒ、緑Ｇ、青Ｂに対応した３つの微細なフィルタの組をマトリックス状に多数配列するか、又は赤Ｒ、緑Ｇ、青Ｂの３本のストライプ状の複数のフィルタの組を水平走査線方向に配列することによってカラーフィルタを形成する。その次のステップＳ４０３（セル組立工程）では、例えばステップＳ４０１にて得られた所定パターンを有するフィルム状基板とステップＳ４０２にて得られたカラーフィルタとの間に液晶を注入して、液晶パネル（液晶セル）を製造する。
【００７９】
その後のステップＳ４０４（モジュール組立工程）では、そのようにして組み立てられた多数の液晶パネル（液晶セル）に表示動作を行わせるための電気回路、及びバックライト等の部品を取り付けて、液晶表示素子として完成させる。上述の液晶表示素子の製造方法によれば、上記の実施形態の露光装置を用いてマスクのパターンを感光基板上に露光する工程と、この工程により露光された感光基板を現像等を施して処理する工程とを含んでいる。従って、露光を高精度にかつ効率的に行うことができるため、デバイス製造工程におけるスループットを向上できる。
【００８０】
また、上述の実施形態では、露光対象のフィルム状部材として可撓性を持つ長いシート状の部材が使用されているが、フィルム状部材としては、液晶表示素子等を製造するための比較的剛性の高い矩形の平板状のガラスプレート、薄膜磁気ヘッド製造用のセラミックス基板、又は半導体素子製造用の円形の半導体ウエハ等も使用できる。
なお、上述の実施形態では、露光光源として放電ランプを備え、必要となるｇ線の光、ｈ線、及びｉ線の光を選択するようにしていた。しかしながら、これに限らず、露光光として、紫外ＬＥＤからの光、ＫｒＦエキシマレーザ（２４８ｎｍ）やＡｒＦエキシマレーザ（１９３ｎｍ）からのレーザ光、又は固体レーザ（半導体レーザ等）の高調波、例えばＹＡＧレーザの３倍高調波（波長３５５ｎｍ）等を用いる場合であっても本発明を適用することが可能である。
【００８１】
このように、本発明は上述の実施形態に限定されず、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の構成を取り得る。
【符号の説明】
【００８２】
ＥＸ…露光装置、ＭＡ，ＭＢ…マスク、ＭＳＴ…マスクステージ、ＰＬ…投影光学系、ＰＬＡ〜ＰＬＤ…部分投影光学系、Ｐ…フィルム状基板、４…主制御系、６…基板用ステージ制御系、２０…供給ローラ、２６，２６Ａ…鼓状ロールガイド、２８，２８Ａ…ラダー式ステージ装置、３０Ａ〜３０Ｌ…ロッド、３２Ａ，３２Ｂ…チェーン、３６Ａ，３６Ｂ…駆動モータ、５０…巻取りローラ、５２Ａ，５２Ｂ…アライメント系，ＥＰ…ロール部材パネル化装置
【図１】
2010282203.tif 000003
【図２】
2010282203.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
2010282203.tif 000007
【図６】
2010282203.tif 000008
【図７】
2010282203.tif 000009
【図８】
2010282203.tif 000010
【図９】
2010282203.tif 000011
【図１０】
2010282203.tif 000012
【図１１】
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