(57)【要約】【課題】静電気に起因する成形不具合を防止し、安定して高精度な光学素子を得る。【解決手段】加熱軟化した熱可塑性素材を成形用型２に実装し押圧する光学素子の製造方法において、不活性ガスｇ１の雰囲気内に上記成形用型２を設置して成形を行う。また、成形チャンバ３内に複数配置された上加熱ブロック６及び下加熱ブロック７の間に成形用型２を狭持して成形を行う製造装置１において、上記成形チャンバ３内にイオン化した不活性ガスｇ１を供給するイオン発生装置１０とガス供給管９とを設け、成形チャンバ３に成形用型２の中央に実装された熱可塑性素材２５の帯電を防止し、キャビティ２６内での位置ずれによる成形不良を防止する。【選択図】図１
2010105834.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
成形用型に実装された熱可塑性素材を加熱軟化して成形する光学素子の製造方法において、
イオンを付加した不活性ガスを成形室に供給する供給工程と、
前記成形室に設置した前記成形用型によって、前記熱可塑性素材を成形する成形工程と、
を有することを特徴とする光学素子の製造方法。
【請求項２】
前記供給工程では、前記イオンを付加した不活性ガスを前記成形用型に吹き付けること、
を特徴とする請求項１記載の光学素子の製造方法。
【請求項３】
成形用型に実装された熱可塑性素材を加熱軟化して成形する光学素子の製造装置において、
不活性ガスが充填される成形室と、
前記成形室内に配置された前記成形用型を加熱する加熱手段と、
前記成形用型を押圧する押圧手段と、
前記成形室内に前記不活性ガスを供給する供給手段と、
前記成形室内に供給される前記不活性ガスにイオンを付加するイオン付加手段と、
を具備することを特徴とする光学素子の製造装置。
【請求項４】
前記供給手段は、前記成形用型に前記イオンを付加した不活性ガスを吹き付ける吹き付けノズルを備えること、
を特徴とする請求項３記載の光学素子の製造装置。
【請求項５】
前記成形用型は、上型、下型および貫通孔を有するスリーブを具備し、前記貫通孔を通じて前記成形用型の内部の前記熱可塑性素材が前記不活性ガスにさらされること、
を特徴とする請求項３または４記載の光学素子の製造装置。
【請求項６】
前記成形室には、前記成形用型を挟んで上加熱ブロック及び下加熱ブロックを対向して配置した複数の成形ステージが配設され、個々の前記成形ステージの間で前記成形用型を移動させる搬送機構を具備したこと、
を特徴とする請求項４記載の光学素子の製造装置。
【請求項７】
前記成形ステージの前記成形用型の搬送方向の最上流側及び搬送方向の最下流側に前記吹き付けノズルを配置したこと、
を特徴とする請求項６記載の光学素子の製造装置。
【請求項８】
前記成形用型の前記搬送方向の最上流側に位置する前記成形ステージに前記成形用型を搬入する搬入室と、
前記成形用型の前記搬送方向の最下流側に位置する前記成形ステージから搬出された前記成形用型を受け入れる搬出室と、を備え、
前記搬入室及び前記搬出室に向けて前記吹き付けノズルを配置したこと、
を特徴とする請求項７記載の光学素子の製造装置。
【請求項９】
前記搬送機構に前記成形用型の帯電状態を緩和する除電機能を設けたこと、
を特徴とする請求項６記載の光学素子の製造装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、レンズ、プリズム、ミラー等の光学素子を製造する製造方法及び製造装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、レンズ等の光学素子を高精度且つ安価に製造する製造方法として、成形用型に収容した熱可塑性素材（プリフォーム）を、加熱軟化させて加圧し、冷却して固化させることで、成形用型が有する光学面形状或いは表面粗さを転写して光学素子を成形する製造方法が用いられている。
【０００３】
近年、光学素子を用いる製品の小型化に伴い、光学素子は微小化の傾向にあり、直径１ｍｍ以下の光学素子も珍しくない。これに伴い、熱可塑性素材も小さくなり、熱可塑性素材の重量に比べて静電気の力の影響が大きくなり、取り扱い作業などが困難になっている。
【０００４】
詳述すると、熱可塑性素材の重量に比べて静電気の力の影響が大きくなると、この影響により、熱可塑性素材が成形用型の中心に安定して位置されない可能性が考えられる（図２Ｂ参照）。この状態で、熱可塑性素材を加圧すると、レンズが光軸に対して対称に成形されず、面精度不良等の成形不具合を発生させてしまう。
【０００５】
そこで、特許文献１では、ガラス材を保持するガラス材保持部が導電体からなっており、ガラス材に蓄積される静電気をガラス材保持部に逃がすとともに、ガラス材保持部が静電気を蓄電しないガラスプレス成形装置の提案がなされている。
【０００６】
また、特許文献１では、成形室内に静電気が発生しにくい湿度に保つための湿度調節部が取り付けられており、加湿された空気を成形室内に取り込むダクトが導電体により形成され、ガラス材保持部などの成形室内の機器に静電気を蓄積しないガラスプレス成形装置の提案がなされている。
【特許文献１】特開２０００−１６９１６０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、特許文献１の技術は、ガラス材保持部を導電体により構成し、静電気を蓄電させないという効果を奏するが、ガラス成形においては、成形時に成形室内が高温になり、成形用型が搬送される際に発生する摩擦、成形室内の高温状態などにより成形用型に静電気が発生しやすくなるという技術的課題がある。
【０００８】
また、成形時に成形室内が高温になるため、使用する部材は、導電体よりもセラミックなどの耐熱部材を使用することが好ましいという技術的課題がある。
また、加湿装置を用いる方法では、被覆していない導電体を露出した状態で酸化性雰囲気中での装置内を加湿すると表面の劣化が促進され、望ましい手段とはいえず、成形用型の加熱は困難であるという技術的課題がある。
【０００９】
本発明の目的は、静電気に起因する成形不具合を防止し、安定して高精度な光学素子を得ることが可能な製造方法及び製造装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記目的を達成するために、本発明は、成形用型に実装された熱可塑性素材を加熱軟化して成形する光学素子の製造方法において、イオンを付加した不活性ガスを成形室に供給する供給工程と、上記成形室に設置した上記成形用型によって、上記熱可塑性素材を成形する成形工程と、を有することを特徴とする。
【００１１】
また、上記目的を達成するために、本発明は、成形用型に実装された熱可塑性素材を加熱軟化して成形する光学素子の製造装置において、不活性ガスが充填される成形室と、上記成形室内に配置された上記成形用型を加熱する加熱手段と、上記成形用型を押圧する押圧手段と、上記成形室内に上記不活性ガスを供給する供給手段と、上記成形室内に供給される上記不活性ガスにイオンを付加するイオン付加手段と、を具備することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、静電気に起因する成形不具合を防止し、安定して高精度な光学素子を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
本実施形態の態様では、成形機（光学素子の製造装置）に成形用型の搬入室、成形室、搬出室があり、それぞれ不活性ガス（純度９９％以上）が導入され酸素濃度が下げられている。
【００１４】
成形機と不活性ガス供給元との間にはイオン発生装置があり、不活性ガスはイオン発生装置を通り、装置内で陽イオン、陰イオンが交互に付加され除電効果を持った状態で成形機に供給される。
【００１５】
成形機内では、不活性ガスはイオンが付加された状態で成形用型の搬送経路部（ヒータープレート等）に直接吹きかかり、その後成形機内に充填されている。
あらかじめ、プリフォーム（熱可塑性素材）を成形用型にセットする時は静電気除去装置等を用い、成形用型やプリフォームの静電気を除去している。その後、プリフォームが実装された成形用型を成形機に投入し、成形用型は順次搬送されていく。
【００１６】
通常、成形用型の搬送時には摩擦が起こり、静電気が発生しやすくなっているが、本態様の成形機内では成形用型と搬送経路部とには常にイオンを付加した不活性ガスがかかり、静電気の発生は抑えられ、成形用型は除電状態を維持しつつ成形機内を搬送される。その為、プリフォームは成型用型の中心に載ったまま、搬送及び成形されるので面精度不良等の不具合も発生しない。
【００１７】
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。
（実施形態１）
図１は本実施の形態による製造装置の構成を模式的に示した側断面図である。
【００１８】
本実施形態に係る光学素子の製造装置１は、ガラス、プラスチックなどの熱可塑性素材を加熱、加圧して光学素子を成形する成形手段としての製造装置１であり、加熱、加圧、冷却の工程を、それぞれ加熱ステージＡ（成形ステージ）、加圧ステージＢ（成形ステージ）、第１の冷却ステージＣ（成形ステージ）及び第２の冷却ステージＤ（成形ステージ）にて行ういわゆる循環型の製造装置１である。
【００１９】
製造装置１は、上述した加熱ステージＡ、加圧ステージＢ、第１の冷却ステージＣ及び第２の冷却ステージＤが配置される成形チャンバ３と、この成形チャンバ３に成形用型２
が搬入される搬入チャンバ４と、成形チャンバ３から成形用型２が搬出される搬出チャンバ５とを有している。
【００２０】
成形チャンバ３で形成される成形室には、加熱ステージＡ、加圧ステージＢ、第１の冷却ステージＣ、第２の冷却ステージＤが成形用型２の搬送方向（後述する円筒形状のスリーブ２３の中心軸に対して直交する方向）に沿って配置されている。
【００２１】
尚、本実施の形態では、加熱ステージＡを成形用型２の搬送方向の最上流側に位置する成形ステージとし、第２の冷却ステージＤを成形用型２の搬送方向の最下流側に位置する成形ステージとしている。
【００２２】
これら加熱ステージＡ、加圧ステージＢ、第１の冷却ステージＣ、第２の冷却ステージＤは、それぞれ、成形用型２を挟み込むように上加熱ブロック６（加熱手段）及び下加熱ブロック７（加熱手段）を互いに対向させて配置している。
【００２３】
尚、本実施の形態では、加熱ステージＡ、加圧ステージＢ、第１の冷却ステージＣ、第２の冷却ステージＤの４つの成形ステージにより構成しているが、例えば、加熱ステージＥ、加圧ステージＦ、冷却ステージＧの３つの成形ステージで構成しても良く、成形ステージの数はこれに限らない。
【００２４】
また、加熱ステージＡ、加圧ステージＢ、第１の冷却ステージＣ、第２の冷却ステージＤについては、全て同じ構成であるので、以下、加熱ステージＡの内部構成の説明を行い、加熱ステージＡと同一又は相当する部分には、同一の符号を付してその説明を省略する。
【００２５】
上加熱ブロック６は、成形用型２に当接するプレート６ａと、このプレート６ａに設けられた貫通孔に挿通して配置される加熱用ヒータ６ｂとを具備している。プレート６ａは熱伝導率の良いセラミック（例えば、窒化アルミニウム（ＡｌＮ）／窒化ホウ素（ＢＮ）系のセラミック）で構成され、加熱用ヒータ６ｂは、セラミックヒータ（例えば、ＳｉＣセラミックヒータ）を用いている。
【００２６】
下加熱ブロック７も、上加熱ブロック６と同様に、成形用型２に当接するプレート７ａと、このプレート７ａに設けられた貫通孔に挿通して配置される加熱用ヒータ７ｂとを具備している。プレート７ａ及び加熱用ヒータ７ｂについては、上述した上加熱ブロック６のプレート６ａ及び加熱用ヒータ６ｂと同様のため、説明を省略する。
【００２７】
尚、上加熱ブロック６及び下加熱ブロック７には、図示しない温度調節器が接続されており、成形ステージ（加熱ステージＡ、加圧ステージＢ、第１の冷却ステージＣ、第２の冷却ステージＤ）毎にそれぞれ温度制御されている。
【００２８】
上加熱ブロック６の上方には、上加熱ブロック６を駆動させる駆動手段８（押圧手段）が配置されている。この駆動手段８は、上加熱ブロック６に接続されて上加熱ブロック６を支持する駆動軸８ａと、駆動軸８ａを上下動自在に昇降させるシリンダー８ｂとを具備している。
【００２９】
そして、成形チャンバ３の右面（搬送方向の上流側）には、成形用型２を成形チャンバ３に搬入する搬入チャンバ４が成形チャンバ３に当接して配置されている。
搬入チャンバ４で形成される搬入室には、図示しない搬入台から搬送される成形用型２が載置されるプレート１１が配置されている。尚、プレート１１には、上述した成形チャンバ３内に配置されているプレート７ａと同様に、加熱用ヒータを具備することが可能で
あり、これにより、搬入チャンバ４は、成形用型２を加熱ステージＡにおいて加熱する前段階として、予熱を行う予熱部としてもよい。
【００３０】
一方、成形チャンバ３の左面（搬送方向の下流側）には、成形チャンバ３から搬出された成形用型２を受け入れる搬出チャンバ５が成形チャンバ３に当接して配置されている。
搬出チャンバ５で形成される搬出室には、第２の冷却ステージＤから搬送される成形用型２が載置されるプレート１２が配置されている。尚、プレート１２にも、上述した成形チャンバ３内に配置されているプレート７ａと同様に、加熱用ヒータを具備することが可能であり、これにより、搬出チャンバ５は、成形用型２を第２の冷却ステージＤにおいて冷却した後、徐冷を行う徐冷部としても良い。
【００３１】
本実施の形態において、製造装置１は、成形チャンバ３、搬入チャンバ４及び搬出チャンバ５にイオン化された窒素ガスなどの不活性ガスｇ１を供給する供給手段としてのガス供給管９を具備している。
【００３２】
このガス供給管９の基端部と、ソースガス（窒素ガスなどの不活性ガス）ｇ０を供給するガスタンク５０との間には、ソースガスｇ０をイオン化した不活性ガスｇ１とするイオン付加手段としてのイオン発生装置１０が設けられている。
【００３３】
このイオン発生装置１０は、ソースガスｇ０に陽イオン、陰イオンを交互に付加することにより、イオン化して除電効果を持った不活性ガスｇ１としてガス供給管９に送り込むようになっている。
【００３４】
このガス供給管９は、成形チャンバ３、搬入チャンバ４及び搬出チャンバ５の夫々にイオン化した不活性ガスｇ１を供給可能に形成されており、各チャンバの内部にガス供給分岐管９ａ、９ｂ、９ｃ、９ｄの先端部を配置している。
【００３５】
本実施の形態では、ガス供給分岐管９ａを搬入チャンバ４の搬入室に向けて設け、ガス供給分岐管９ｂを成形チャンバ３の成形室の加熱ステージＡに向けて設け、ガス供給分岐管９ｃを成形チャンバ３の成形室の第２の冷却ステージＤに向けて設け、ガス供給分岐管９ｄを搬出チャンバ５の搬出室に向けて設けている。
【００３６】
尚、ガス供給管９には、図示しないバルブが設けられており、イオン化した不活性ガスｇ１の供給量が調節可能となっている。
これらガス供給分岐管９ａ、９ｂ、９ｃ、９ｄは、先端部にイオン化した不活性ｇ１を吹き付ける吹き付けノズルを具備している。また、ガス供給分岐管９ａ、９ｂ、９ｃ、９ｄは、延縮自在に構成されている。すなわち、成形用型２の下面と下加熱ブロック７との当接面近傍にガス供給分岐管９ａ、９ｂ、９ｃ、９ｄの先端部を延ばしてイオン化した不活性ガスｇ１を直接吹き付けることが可能である。
【００３７】
図２Ａ及び図２Ｂは成形用型を模式的に示した側断面図である。
成形用型２は、ガラス、プラスチックなどの熱可塑性素材２５を載置する下型２１と、下型２１に熱可塑性素材２５を挟んで対向配置される上型２２と、これら下型２１及び上型２２を摺動自在に案内する円筒形状のスリーブ２３とを具備している。
【００３８】
下型２１及び上型２２は、スリーブ２３の内部にそれぞれの成形面２１ａ及び成形面２２ａが対向するようにスリーブ２３の両端側から挿嵌されて配置されている。そして、上型２２はスリーブ２３の軸方向に摺動自在に配置されている。下型２１、上型２２及びスリーブ２３は、一例として、タングステンカーバイド（ＷＣ）などの超硬合金を研磨して製作されている。
【００３９】
この時、図２Ａに例示されるように、下型２１の成形面２１ａと上型２２の成形面２２ａとの間には、球体形状を呈するプリフォームに整形されたガラス、ポリエチレン、ポリカーボネイトなどの熱可塑性素材２５が光軸に対して対称に配置されている。
【００４０】
本実施の形態では、スリーブ２３の側面には、不活性ガスｇ１をキャビティ２６に通過させるガス流入口２４ａ（貫通孔）、キャビティ２６内から外部に排出させるガス排出口２４ｂ（貫通孔）が、スリーブ２３の軸方向に対して直交方向であって、且つ、放射状に複数形成されている。これらガス流入口２４ａ及びガス排出口２４ｂは、上型２２の可動により閉鎖され、キャビティ２６への開口面積が変動する位置に形成されている。
【００４１】
以下、本実施の形態の成形装置を用いた製造方法の一例について、図１、図２Ａ及び図２Ｂを参照しながら説明する。
まず、成形チャンバ３、搬入チャンバ４及び搬出チャンバ５にイオン化した不活性ガスｇ１の供給を開始しておき、これら成形チャンバ３内、搬入チャンバ４内及び搬出チャンバ５内に発生する静電気を低下させるようにする。
【００４２】
熱可塑性素材２５を下型２１と上型２２とで挟持して収納した成形用型２は、図示しない搬送手段により、図示しない搬入台から搬入チャンバ４内のプレート１１に搬入される。
【００４３】
次に、成形用型２は、搬入チャンバ４から成形チャンバ３に搬入され、加熱ステージＡの下加熱ブロック７上に載置される。この時、イオン化した不活性ガスｇ１が成形用型２のスリーブ２３に設けられたガス流入口２４ａからキャビティ２６内に流入されている。
【００４４】
また、成形用型２は、プレート１１からプレート７ａに移動するときに、プレート上を摺動することで静電気が発生するが、ガス供給分岐管９ｂを延ばして、成形用型２とプレート７ａとの当接面に向けてイオン化した不活性ガスｇ１を直接吹き付けると静電気の除電に効果的である。
【００４５】
このように、キャビティ２６内、又は、成形用型２とプレート７ａとの当接面近傍の静電気が除電され、図２Ｂに示すような熱可塑性素材２５の位置ずれを防止することができる（なお、熱可塑性素材２５に上型２２の自重が加わっていたとしても、静電気により熱可塑性素材２５が下型２１上で位置ずれする可能性はある）。すなわち、図２Ａに示すように、熱可塑性素材２５をキャビティ２６の中心に位置させることができる（なお、実際は、上型２２が熱可塑性素材２５上に当接した状態である）。
【００４６】
次に、シリンダー８ｂにより、駆動軸８ａが上加熱ブロック６を成形用型２の上面に当接するまで下降させ、熱可塑性素材２５を所望の温度まで昇温させ、加熱軟化させる。
一例を示すと、加熱ステージＡでは、温度が５７０℃〜６００℃に昇温され、また、押圧力は、２０ｋｇ／ｃｍ２である。この状態では、熱可塑性素材２５はやや軟化しており、変形が開始される。
【００４７】
熱可塑性素材２５の加熱が終了した後、成形用型２は、図示しない搬送手段により、加圧ステージＢの下加熱ブロック７上に載置される。そして、駆動軸８ａがシリンダー８ｂによって上加熱ブロック６を下降させ、成形用型２の上型２２を押圧する。これにより、加熱ステージＡにおいて加熱軟化した熱可塑性素材２５は、下型２１の成形面２１ａ及び上型２２の成形面２２ａの成形面形状が転写されて、目的の形状に成形される。
【００４８】
一例を示すと、加圧ステージＢでは、温度が６００℃付近に保持され、また、押圧力は
、５０ｋｇ／ｃｍ２である。この状態では、熱可塑性素材２５は変形可能に軟化しており、かつ十分な押圧力が付与されて変形する。
【００４９】
この時、キャビティ２６内の静電気が除電されているので、図２Ａに示すように、熱可塑性素材２５をキャビティ２６の中心に位置させることができる。
熱可塑性素材２５の加圧成形が終了した後、成形用型２は、図示しない搬送手段により、第１の冷却ステージＣの下加熱ブロック７上に載置される。そして、駆動軸８ａがシリンダー８ｂにより上加熱ブロック６を成形用型２の上型２２の上面に当接するまで下降させ、熱可塑性素材２５を所望の温度まで冷却させる。
【００５０】
一例を示すと、第１の冷却ステージＣでは、温度が６００℃〜３９１℃に冷却され、また、押圧力は、３０ｋｇ／ｃｍ２である。このとき、熱可塑性素材２５には所定の押圧力が付与された状態で冷却が開始される。
【００５１】
そして、第２の冷却ステージＤでは、温度が３９１℃〜２００℃に冷却され、また、押圧力は、５ｋｇ／ｃｍ２である。このとき、熱可塑性素材２５への押圧力はほとんどなくなっている。
【００５２】
熱可塑性素材２５の冷却が終了した後、成形用型２は、図示しない搬送手段により、成形チャンバ３から搬出チャンバ５に搬出され、プレート１２に載置される。そして、熱可塑性素材２５が硬化する温度以下で、且つ、成形用型２が搬出チャンバ５から搬出されて大気に晒されても劣化しにくい温度以下まで徐冷される。
【００５３】
この後、成形用型２は図示しない搬送手段により、搬出チャンバ５から搬出されて図示しない搬出台上に載置される。そして、静電気の発生が抑えられた成形用型２からすなわち上型２２に静電気で貼りつくことなく下型２１上に載置された状態から成形された光学素子が図示しない取出し手段によりに取出される。このようにして、光学素子が成形される。
【００５４】
本実施の形態では、成形チャンバ３内、搬入チャンバ４内及び搬出チャンバ５内にイオン化した不活性ガスｇ１を供給することで、静電気の発生を防止することができる。また、不活性ガスｇ１をキャビティ２６内に流入させているため、キャビティ２６内の温度変化に起因する圧力変動を抑えることができる。これにより、図２Ａに示すように、熱可塑性素材２５をキャビティ２６の中心に位置させることができるため、安定して高精度な光学素子を得ることができる。
【００５５】
なお、本実施の形態においては、製造装置１を、加熱、加圧、冷却の工程毎に搬送するいわゆる循環型の製造装置１として説明したが、加熱、加圧、冷却を同じ加熱ブロック上で行う製造装置においても、チャンバ内にイオン化した不活性ガスｇ１を供給することで、静電気の発生を防止することができる。
【００５６】
また、本実施の形態では、ガス供給管９を成形チャンバ３の成形室の加熱ステージＡと第２の冷却ステージＤに向けて設けているが、これに加え、ガス供給管９を成形ステージ毎すなわち加圧ステージＢと第１の冷却ステージＣに向けて設けても良い。
【００５７】
これにより、各成形ステージ上で成形用型２の下面とプレート７ａの上面との当接面に向けてイオン化した不活性ガスｇ１を直接吹き付けることができ、例えば成形用型２が成形ステージ間のプレート上を摺動することで発生し得る静電気を効果的に除電することができる。
【００５８】
（実施形態２）
図３は本実施の形態による製造装置の構成を模式的に示した側断面図である。また、図４は、搬送アームの構成を模式的に示した斜視図である。尚、上述した実施形態１と同一又は相当する部分には、同一の符号を付してその説明を省略する。
【００５９】
本実施の形態において、製造装置３０は、成形用型２を次の工程に搬送する搬送アーム３１（搬送機構）に除電ブラシ３２（除電機能）を設けて構成されている。
搬送アーム３１は、成形用型２を次の工程に搬送する搬送方向に対して直交する方向で且つ水平方向に延出した棒状部と、棒状部の下面から延出した除電ブラシ３２と、を具備している。この搬送アーム３１は、搬送方向および棒状部の延出方向に移動可能であり、成形用型２を搬送する際、常に成形用型２に当接した位置に配置されている。
【００６０】
除電ブラシ３２は、搬送アーム３１の下面に設けられており、搬送アーム３１の下面から下方向に下加熱ブロック７に接する位置まで延びて形成されている。すなわち、図４に示すように、除電ブラシ３２は、搬送アーム３１の移動により、下加熱ブロック７の上面をなぞりながら搬送アーム３１と同様に搬送方向に移動する。
【００６１】
また、搬送アーム３１及び除電ブラシ３２は、共に導電体により構成されていて、アースされている。すなわち、成形用型２を搬送する際、搬送アーム３１は、成形用型２の静電気を放電させ、除電ブラシ３２は、下加熱ブロック７の静電気を除電する。
【００６２】
このように、本実施の形態では、イオン化した不活性ガスｇ１に加え、除電ブラシ３２を有する搬送アーム３１を用いることにより、成形用型２及び成形用型２と下加熱ブロック７との当接面に生じる静電気の発生をさらに防止することができる。これにより、図２Ａに示すように、熱可塑性素材２５をキャビティ２６の中心に位置させることができるため、安定して高精度な光学素子を得ることができる。
【００６３】
（付記１）
ガラス素材を上下型間に載置し、加熱、押圧して光学素子を成形する成形方法において、除電効果がある不活性ガスを成形機に供給することを特徴とした製造方法。
【００６４】
（付記２）
上記不活性ガスはイオン発生装置により除電効果を持たせることを特徴とした製造装置。
【図面の簡単な説明】
【００６５】
【図１】本発明の実施形態１の製造装置の内部構成を簡略に示した側断面図である。
【図２Ａ】本発明の実施形態１の成形用型の内部構成を簡略に示した側断面図である。
【図２Ｂ】本発明の実施形態１の成形用型の内部構成を簡略に示した側断面図である。
【図３】本発明の実施形態２の製造装置の内部構成を簡略に示した側断面図である。
【図４】本発明の実施形態２の成形用型を模式的に示した斜視図である。
【符号の説明】
【００６６】
１      製造装置
２      成形用型
３      成形チャンバ
４      搬入チャンバ
５      搬出チャンバ
６      上加熱ブロック
６ａ    プレート
６ｂ    加熱用ヒータ
７      下加熱ブロック
７ａ    プレート
７ｂ    加熱用ヒータ
８      駆動手段
８ａ    駆動軸
８ｂ    シリンダー
９      ガス供給管
１０      イオン発生装置
１１      プレート
１２      プレート
２１      下型
２１ａ    成形面
２２      上型
２２ａ    成形面
２３      スリーブ
２４ａ    ガス流入口
２４ｂ    ガス排出口
２５      熱可塑性素材
２６      キャビティ
３０      製造装置
３１      搬送アーム
３２      除電ブラシ
５０      ガスタンク
Ａ      加熱ステージ
Ｂ      加圧ステージ
Ｃ      第１の冷却ステージ
Ｄ      第２の冷却ステージ
【図２Ａ】
2010105834.tif 000003
【図２Ｂ】
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【図４】
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【図１】
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【図３】
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