(57)【要約】【課題】放射線照射装置の照射野内の線量分布の不均一を低減し、被照射物に悪影響を与えずにトレイ上の非照射物体に照射される放射線の線量率の均一度を向上させる技術を提供する。【解決手段】線中心部分の線量が高く周辺に近づくほど線量が低くなる傾向にある照射野内の線量分布状態に合わせて付加するＸ線フィルタの形状を形成する。具体的には、Ｘ線フィルタの形状を、Ｘ線中心付近の厚みを厚くし、照射野周辺に向かって薄くなるよう形成する。【選択図】図４
2010017202.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被照射物に放射線を照射する放射線照射部と、
前記放射線照射部の放射線照射方向に設置され、前記被照射物を配置するトレイ部と、を備える放射線照射装置であって、
前記放射線照射部と前記トレイ部との間に、前記放射線の照射野の線量分布に応じた厚みを有するフィルタを備え、
前記照射野の線量分布は、前記フィルタを用いずに計測されたものであり、
前記フィルタの厚みは、前記照射野の線量分布において線量率の高い位置に対する前記フィルタの部分ほど増すよう設定されていること
を特徴とする放射線照射装置。
【請求項２】
被照射物に放射線を照射する放射線照射部と、
前記放射線照射部の放射線照射方向に設置され、前記被照射物を配置するトレイ部と、を備える放射線照射装置であって、
前記放射線照射部と前記トレイ部との間に、前記放射線の照射野の線量分布に応じた厚みを有するフィルタを備え、
前記照射野の線量分布は、前記フィルタを用いずに計測されたものであり、
前記フィルタの厚みは、当該フィルタを透過した放射線の強度が前記照射野において略等しくなるよう設定されていること
を特徴とする放射線照射装置。
【請求項３】
被照射物に放射線を照射する放射線照射部と、
前記放射線照射部の放射線照射方向に設置され、前記被照射物を配置するトレイ部と、を備える放射線照射装置であって、
前記放射線照射部と前記トレイ部との間に、周辺部から中心に向かって厚みが増すフィルタを備えること
を特徴とする放射線照射装置。
【請求項４】
請求項１から３いずれか１項記載の放射線照射装置であって、
前記フィルタの厚みは、連続して変化すること
を特徴とする放射線照射装置。
【請求項５】
請求項１または３いずれか１項記載の放射線照射装置であって、
前記フィルタの厚みは、段階的に変化すること
を特徴とする放射線照射装置。
【請求項６】
請求項１から５いずれか１項記載の放射線照射装置であって、
当該放射線装置は、
前記放射線照射部として、第一の放射線照射部と第二の放射線照射部とを備え、
前記フィルタとして、第一のフィルタと第二のフィルタとを備え、
前記第二の放射線照射部は、前記トレイ部を中間にして、前記第一の放射線照射部と対面して配置され、
前記第一のフィルタは前記第一の放射線照射部と前記トレイ部との間に配置され、
前記第二のフィルタは前記第二の放射線照射部と前記トレイ部との間に配置されること
を特徴とする放射線照射装置。
【請求項７】
請求項１から６いずれか１項記載の放射線照射装置であって、
前記トレイ部の中心と前記放射線照射部の中心とを結ぶ軸を回転軸として前記トレイ部を前記放射線照射部に対して相対的に回転させる回転手段をさらに備えること
を特徴とする放射線照射装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、放射線照射装置の放射線量の制御技術に関する。特に、照射する放射線の線量分布の均一性を向上させる技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
輸血後ＧＶＨＤ（Ｇｒａｆｔ  Ｖｅｒｓｕｓ  Ｈｏｓｔ  Ｄｉｓｅａｓｅ）と呼ばれる輸血による副作用がある。これを予防するため、放射線を照射し、輸血用血液製剤の内のリンパ球を不活性化する技術が知られている。用いられる放射線には、放射性同位元素１３７Ｃｓ（セシウム）を利用したγ線とＸ線とがある。Ｘ線やγ線等の放射線を血液に照射することは、リンパ球の不活性化には有効であるが、リスク要因も少なからず存在する。このため、必要最小限の照射に留めなければならず、血液製剤への照射量は厳密に制御する必要がある。
【０００３】
例えば、Ｘ線を照射するＸ線照射装置は、Ｘ線管装置と、Ｘ線管装置に対面して配置された円盤状のトレイ部とを備え、トレイ部に被照射物体である輸血用血液製剤を載せ、Ｘ線を照射する。このとき、トレイ部の輸血用血液製剤全てに均等にＸ線が照射されると、当該製剤の配置による照射量の差を考慮しなくて良いため、輸血用血液製剤への照射量制御を容易に行うことができる。ところが、Ｘ線管装置の構造上、照射野内において、Ｘ線中心が最も高い線量率を示し、照射野周辺に向かうほど線量率が低くなる。また、照射野内において、Ｘ線管装置の管軸方向についても陰極側に偏ることが知られている。さらに、Ｘ線は、物体を通り抜ける際、吸収されるため、輸血用血液製剤の上部と下部との間に線量差が生まれる。
【０００４】
上部と下部との線量差を小さくするため、Ｘ線照射装置では、Ｘ線管装置と輸血用血液製剤との間にＸ線フィルタを配し、線質、すなわち波長域を調整している。一般に用いられる管電圧１５０ｋＶ、管電流２０ｍＡの場合、Ｘ線フィルタとして厚さ１ｍｍのアルミフィルタを用いると、輸血用血液製剤の上部と下部との線量差が少なく、短時間に多くの血液を照射できることが実験で確かめられている（例えば、非特許文献１参照。）。
【０００５】
さらに、管軸方向の線量率の差を低減させるものとして、トレイ部を回転させるもの、上下二方向にＸ線管装置を配置してそれぞれ陰極と陽極とを対向させて設置するもの（二方向Ｘ線照射装置）などがある。二方向Ｘ線照射装置は、トレイ部における照射野のＸ線中心と照射野周辺との差を低減するだけでなく、短時間の照射を実現するとともに輸血用血液製剤の厚み方向の均一性も向上させている（例えば、特許文献１、特許文献２参照。）。
【０００６】
【非特許文献１】日本輸血学会雑誌  Ｖｏｌ．６  Ｎｏ．４「輸血後移植片対宿主病の予防を目的とする血液製剤へのＸ線照射条件の検討  平成２年３月１日」
【特許文献１】特開２００７−１３２７２３号公報
【特許文献２】実公平７−４３６７９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかし、照射野内のＸ線中心と照射野周辺との線量分布の不均一は上記工夫では解消されない。Ｘ線フィルタは、線量分布による差や物体の厚み方向によるＸ線吸収量の差を低減する効果がある。このため、Ｘ線フィルタ全体の厚みを増すことにより、線量分布の不均一はある程度解消することができる。しかし、一方で、全体的に線量率が低下し、必要な照射量を得るためには照射時間を長くする必要がある。被照射物体が低温保存を要する輸血用血液製剤の場合、常温環境に長時間置いて照射を行うことは望ましくない。従って、均一性を向上させる手段としては適さない。
【０００８】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、放射線照射装置の照射野内の線量分布の不均一を低減し、被照射物に悪影響を与えずにトレイ上の被照射物体に照射される放射線の線量率の均一度を向上させる技術を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、Ｘ線中心部分の線量が高く周辺に近づくほど線量が低くなる傾向にある照射野内の線量分布状態に合わせて付加するＸ線フィルタの形状を形成する。すなわち、Ｘ線フィルタの形状を、Ｘ線中心付近の厚みを厚く、照射野周辺に向かって薄くなるよう形成する。
【００１０】
具体的には、被照射物に放射線を照射する放射線照射部と、前記放射線照射部の放射線照射方向に設置され、前記被照射物を配置するトレイ部と、を備える放射線照射装置であって、前記放射線照射部と前記トレイ部との間に、前記放射線の照射野の線量分布に応じた厚みを有するフィルタを備え、前記照射野の線量分布は、前記フィルタを用いずに計測されたものであり、前記フィルタの厚みは、前記照射野の線量分布において線量率の高い位置に対する前記フィルタの部分ほど増すよう設定されていることを特徴とする放射線照射装置を提供する。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、放射線照射装置のトレイ部における線量分布の不均一を低減し、被照射物に悪影響を与えずにトレイ上の非照射物体に照射される放射線の線量率の均一度が向上する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、本発明を適用する実施形態について図面を参照し説明する。なお、本発明の実施形態を説明するための全図において、同一機能を有するものは同一符号を付け、その繰り返しの説明は省略する。本実施形態では、放射線照射装置として二方向Ｘ線照射装置を例にあげて説明する。
【００１３】
図１は、本実施形態の二方向Ｘ線照射装置の構成図である。ここでは、二方向Ｘ線照射装置を例にあげて説明する。本実施形態の二方向照射装置１００は、輸血用血液製剤等の試料１３に対し上下からＸ線を照射するための上部Ｘ線管装置２および下部Ｘ線管装置３と、上部Ｘ線管装置２および下部Ｘ線管装置３それぞれのＸ線の線量分布の均一性や透過力を向上させるためのＸ線フィルタ１１および１２と、Ｘ線を発生するための高電圧を発生させる高電圧発生装置４（４ａ、４ｂ）と、上部Ｘ線管装置２および下部Ｘ線管装置３の陽極を冷却するために冷却油を供給するための冷却装置５と、上部Ｘ線管装置２および下部Ｘ線管装置３によって温められた冷却油を冷却するために冷却水を供給する循環式冷却装置もしくは水道水９と、試料１３に照射されるＸ線量を計測するプローブ７ａを備えた線量計７と、照射線量や試料１３の厚み補正用の設定等及びエラー表示をするための操作盤８と、Ｘ線を照射する照射室１ｂからＸ線が外部に漏れないようにするための遮へい体１ａを備える防護ボックス１と、高電圧発生ユニット４、線量計７、冷却装置５および循環式冷却装置（もしくは水道水）９等の各ユニットを制御する制御装置６と、試料１３を載置するトレイ１０と、を備える。なお、Ｘ線フィルタ１１、１２は、照射室１ｂにねじ止めされる。
【００１４】
上記構成を有する二方向Ｘ線照射装置１００では、上部Ｘ線管装置２および下部Ｘ線管装置３の２つのＸ線管装置が、トレイ１０に載置された試料１３の両面からＸ線を照射する。二方向Ｘ線照射装置１００は、上下両方向からＸ線を照射するため、これら２つのＸ線管装置に、１方向から照射するＸ線照射装置のＸ線管装置と同じ管電流を供給することで、線量を２倍にすることができる。
【００１５】
一般に、照射野における線量分布は、Ｘ線管装置の陰極および陽極の配列方向（管軸方向）について線束の中心軸に関して非対称である。これを解消するため、本実施形態の二方向Ｘ線照射装置１００は、下部Ｘ線管装置３の陰極および陽極が上部Ｘ線管装置２のそれらと互いに反対位置に配置される。例えば、上部Ｘ線管装置２において、図面に＋の記号で示す陽極を左側に、−の記号で示す陰極を右側に配置している場合、下部Ｘ線管装置３においては、＋で示す陽極を右側に、−で示す陰極を左側に配置する。このように配置することにより、トレイ１０の面上の照射野内における、それぞれのＸ線管装置２、３の陰極および陽極における線束２ａ、３ａの中心軸の両側における線量分布の不均一が打ち消される。
【００１６】
さらに、本実施形態では、Ｘ線フィルタ１１および１２として、照射野内のＸ線の線量分布に従って厚みを調整したフィルタを用いる。
【００１７】
まず、Ｘ線フィルタ１１および１２として、一様な厚みのＸ線フィルタ１１ａおよび１２ａを用い、Ｘ線管装置２によるトレイ１０面上の照射野のＸ線の線量分布を、線量計７に接続されたプローブ７ａを用いて計測する。ここでは、一様な厚みのＸ線フィルタ１１ａおよび１２ａを用いて計測する場合を例にあげて説明する。一様な厚みのＸ線フィルタ１１ａおよび１２ａを用いた場合の円盤状のトレイ１０面上の、直径方向の線量分布３０を図２に示す。横軸は直径方向の距離、縦軸は線量率であるＸ線強度を示す。この場合、本図に示すように、線量分布３０は、照射野のＸ線中心Ｃの線量率が最も高く、Ｘ線照射野周辺（ＥＬ、ＥＲ）に向かうほど線量率が低くなり、全体として山形を呈する。この計測結果を元に照射野周辺（ＥＬ、ＥＲ）の線量率すなわち線量率の低い領域の線量率に照射野内の各部の線量率を近づけるよう、Ｘ線フィルタ１１および１２の厚みを決定する。以下、決定の手法を説明する。
【００１８】
Ｘ線がある物体を透過したときの透過前後の線量は、以下の式（１）で求められる。
Ｉ／Ｉ０＝ｅｘｐ（−μｔ）      （１）
ここで、Ｉは、透過後の線量、Ｉ０は、透過前の線量、μは吸収係数、ｔは、物体の厚さである。本実施形態では、Ｉ０を、上記の条件で計測した線量、Ｉを目標の線量とし、Ｘ線フィルタ１１および１２の厚みｔを算出する。なお、μには、Ｘ線フィルタ１１および１２として用いる素材に応じた吸収係数を採用する。
【００１９】
照射野において、直径方向の中心からの距離をｘとすると、ｘにおけるＸ線フィルタの厚みｔ（ｘ）は、ｘにおける目標線量Ｉ（ｘ）を用い、以下の式（２）により算出される。
ｔ（ｘ）＝−ｌｎ（Ｉ（ｘ）／Ｉ０）／μ      （２）
ここで、ｌｎは、自然対数である。
【００２０】
まず、上記式（２）に従って、直径方向のサイズが照射野の直径と等しいＸ線フィルタ２０の形状を得る。このときのＸ線フィルタ２０の形状を図３に示す。本図に示すように、本実施形態のＸ線フィルタ１１および１２は、Ｘ線中心部が厚く、照射野周辺に近づくにつれて薄くなる形状を有する。次に、Ｘ線フィルタの直径方向の大きさＤを決定する。実際のＸ線フィルタ１１および１２の直径方向の大きさＤは、Ｘ線フィルタ１１および１２が取り付けられる位置（Ｘ線管装置２、３からの距離Ｌ）により定まる。すなわち、図３に示すように、大きさＤは、Ｘ線焦点ＸＦを頂点とし、トレイ１０上のＸ線フィルタ１１および１２の厚みを算出する際に使用した照射野ＩＲを底面とする円錐の、位置Ｌにおける底面に平行な断面の直径である。Ｘ線フィルタ１１および１２は、上記式（２）に従って得られるＸ線フィルタ２０の形状と相似形状を有し、取り付け位置Ｌに応じた直径方向の大きさＤのものとなる。
【００２１】
上記手順で決定したＸ線フィルタ１１および１２の形状およびＸ線フィルタ１１および１２を用いた場合の線量分布を、図４に示す。ここで、３０は、一様な厚みのＸ線フィルタ１１ａおよび１２ａを用いた場合の線量分布、３１は、Ｘ線フィルタ１１および１２を用いた場合の線量分布である。本図に示すように、Ｘ線フィルタ１１および１２により、照射野のＸ線中心に近い範囲の線量率が低下する。このため、トレイ１０面上の直径方向の線量分布は、一様な厚みのＸ線フィルタ１１ａおよび１２ａを用いた場合の線量分布Ｉ０と比較し、その均一性が向上したものとなる。
【００２２】
以上説明したように、本実施形態によれば、トレイ１０の面上で、照射野の中心部から周辺において均一性の高い線量分布が得られる。これにより、輸血用血液製剤等のＸ線を照射する対象の試料に対し、均一性の高い線量分布のＸ線を照射することができ、試料がトレイ１０の面上のいずれの箇所に配置されていても略同じ照射量を得ることができる。従って、照射量の制御が容易になるとともに、いずれの箇所に配置されている試料であっても必要最低限のＸ線の照射で済む。例えば、試料が輸血用血液製剤の場合、トレイ１０面のどの位置に置かれたものにも、均一に照射されるため、必要最小限の照射で処理ができる。このため、品質を確保し易くなる。
【００２３】
なお、上記実施形態では、上記式（２）に従って、連続して厚みが変化するようＸ線フィルタ１１および１２を構成しているが、これに限られない。例えば、目標線量Ｉ（ｘ）を離散的に計測し、厚みも離散的に変更するよう構成してもよい。すなわち、同心円状のフィルタを積層する積層型フィルタである。この場合の具体例を図５、図６に示す。
【００２４】
図５（ａ）は、本実施形態の他の例である積層型フィルタ２１の斜視図であり、図５（ｂ）は、直径方向の断面図である。本図に示すように、積層型フィルタ２１は、半径の異なる複数の円形状の一様な厚みのＸ線フィルタを、中心軸を共通にして重ねたものである。ここでは、一例として、２１ａ、２１ｂ、２１ｃ、２１ｄの４枚のフィルタから構成される場合を例に、その作成手順を説明する。
【００２５】
上記実施形態同様、一様な厚みのＸ線フィルタ１１ａおよび１２ａを用いた場合のＸ線管装置２によるトレイ１０面上の照射野のＸ線の線量分布を線量計７を用いて計測する。ここでは、例えば、Ｘ線中心Ｃと照射野周辺のＥＲ（またはＥＬ）との間で、例えば、等間隔で４箇所計測する。それらの値と、各計測点における目標線量Ｉ（ｘ）とを用いて、各計測位置に対応するフィルタの厚みを決定する。そして、決定した厚みと、Ｘ線フィルタの設置位置とに従って、それぞれ、２１ａ、２１ｂ、２１ｃ、２１ｄの厚みおよびサイズを決定する。
【００２６】
図６に、一様な厚みのＸ線フィルタ１１ａおよび１２ａを用いた場合のトレイ１０面上の直径方向の線量分布３０と、上記積層型フィルタ２１をＸ線フィルタ１１および１２として用いた場合の、線量分布３２とを示す。本図に示すように、この場合も、Ｘ線フィルタ１１および１２により、Ｘ線中心に近い範囲の線量率が低下するため、その線量分布が均一化する。従って、上記実施形態同様の効果が得られる。さらに、積層型フィルタを採用する場合、既存の一様な厚みのＸ線フィルタで半径の異なるものを重ねあわせればよいため、製作も容易である。
【００２７】
なお、積層型フィルタ２１の重ね合わせ枚数、それぞれの大きさおよび厚みは、血液照射装置の照射野の大きさ、線量分布の状態、求める均一性に応じて決定する。すなわち、均一性を向上させたい場合は、前述した方法により、計測点を増やし、積層するＸ線フィルタを増やせばよい。すなわち、積層型フィルタによれば、均一性の向上の度合いと製作の容易さとを適宜調整できる。
【００２８】
また、積層型フィルタのベースとなるフィルタ２１ａは、基本的には円盤状であるが、これに限られない。照射野より十分大きくできるのであれば、照射室１ｂの取り付け穴を考慮して、正方形や長方形であってもよい。
【００２９】
また、上記実施形態では、管軸方向の線量分布の偏りを打ち消すことができる二方向Ｘ線照射装置を例にあげて説明している。管軸方向の線量分布の偏りを打ち消すためにトレイ部を回転させるＸ線照射装置でも同様である。すなわち、上記実施形態と同様に、トレイ部１０の線量分布を計測し、計測結果と目標線量分布とから、Ｘ線フィルタの厚みを算出すればよい。
【００３０】
さらに、管軸方向の線量分布の偏りを打ち消す機能を有しない、一般のＸ線照射装置であっても同様である。上記実施形態と同様に、トレイ部１０の線量分布を計測し、計測結果と目標線量分布とから、Ｘ線フィルタの厚みを算出する。一般のＸ線照射装置では、照射野の線量分布について管軸方向に偏りがあるため、Ｘ線フィルタ１１および１２の形状は、この偏りのある線量分布に従ったものとなる。
【００３１】
なお、Ｘ線高電圧装置とＸ線管装置の改良により、管電流を増加させて線量率を増加させることが可能となっている。上記実施形態のＸ線フィルタに管電流の増加を組み合わせることにより、均一性の向上に加え、照射時間が短時間になる。具体的には、２０ｍＡとしていた管電流を、例えば３０ｍＡに上げることにより、理論上１．５倍の線量率が得られることになる。よって照射時間は、１／１．５に短縮され、輸血用血液製剤の常温環境での放置時間が短縮される。
【００３２】
＜＜実施例＞＞
以下に、上記積層型フィルタをＸ線フィルタとして用いた場合の、線量分布の均一性の改善例を示す。ここで、一般に線量率の均一性を示す指標として最低線量率と最大線量率との比が用いられる。以後、本指標を均一度と呼ぶ。一様な厚みの従来型Ｘ線フィルタを用いる、一般のＸ線照射装置の場合、その均一度は約１：３である。同様のＸ線フィルタを用いる二方向Ｘ線照射装置の場合、それが約１：１．４に改善する。
【００３３】
二方向Ｘ線照射装置の照射野は、φ３５０ｍｍであり、線量率の高い領域はφ１７５ｍｍの範囲である。これを踏まえ、この線量率の高い範囲に、０．１ｍｍ程度のアルミフィルタを追加した場合の線量分布を計測した。
【００３４】
ここでは、二方向Ｘ線照射装置を用い、１）二方向からＸ線を照射した場合、２）上側のＸ線管装置のみからＸ線を照射した場合、３）下側のＸ線管装置のみからＸ線を照射した場合、の３通りについて、それぞれ、Ａ）直径（φ）３００ｍｍ、厚み１．０ｍｍの円盤状のアルミフィルタをＸフィルタとして用いた場合、Ｂ）Ａ）に、φ１４５ｍｍ、厚さ０．１ｍｍの円盤状のアルミフィルタを中心軸を共通にして重ねたものをＸ線フィルタとして用いた場合、Ｃ）Ｂ）にさらに、φ１４５ｍｍ、厚さ０．１ｍｍの円盤状のアルミフィルタを中心軸を共通にして重ねたものをＸ線フィルタとして用いた場合、Ｄ）Ｃ）にさらに、φ１４５ｍｍ、厚さ０．１ｍｍの円盤状のアルミフィルタを中心軸を共通にして重ねたものをＸ線フィルタとして用いた場合、の４通りを計測した。
【００３５】
図７は、上記１）の条件で、Ａ）〜Ｄ）の計測結果である。また、図８は、上記２）の条件で、Ａ）〜Ｄ）の計測結果である。図９は、上記３）の条件で、Ａ）〜Ｄ）の計測結果である。それぞれ、中心から±７５ｍｍ、±１５０ｍｍ、±１７５ｍｍの位置で、線量率（Ｇｙ／ｍｉｎ）を計測した。各図において、（ａ）は、計測結果をグラフに、（ｂ）は、計測結果を表にしたものである。（ａ）のグラフにおいて、横軸は、中心からの位置を示し、縦軸は、Ａ）の条件での中心位置での計測値を１００％とした場合の比率である。一方、（ｂ）の表内の数値は、Ａ）〜Ｄ）それぞれの中心における計測結果を１００％とした場合の、線量率の比率である。また、Ａ）〜Ｄ）における均一度を併記する。
【００３６】
図７〜図９に示すように、１）の条件の場合、Ａ）の均一度は、１：１．２５、Ｂ）は、１：１．２１、Ｃ）は、１：１．１８、Ｄ）は、１：１．１３である。また、２）の条件の場合、Ａ）は、１：１．４０、Ｂ）は、１：１．３２、Ｃ）は１：１．３１、Ｄ）は、１：１．２９、３）の条件の場合、Ａ）は、１：１．４５、Ｂ）は、１：１．４２、Ｃ）は１：１．４０、Ｄ）は、１：１．３７である。いずれにおいても、Ｘ線フィルタの中央部の厚みを増すに従って、均一度が向上することがわかる。特に、１）の条件のＤ）のケースでは、上述のように均一度が１：１．１３となり、従来の一様な厚みのフィルタを用いる場合に比べ、均一度が約２０％程度向上することがわかる。
【図面の簡単な説明】
【００３７】
【図１】本発明の実施形態の二方向Ｘ線照射装置の構成図である。
【図２】一様な厚みのＸ線フィルタを用いた場合の線量分布を説明するための図である。
【図３】本発明の実施形態のＸ線フィルタの大きさを説明するための図である。
【図４】本発明の実施形態のＸ線フィルタの形状および線量分布を説明するための図である。
【図５】本発明の実施形態の積層型フィルタ斜視図である。
【図６】本発明の実施形態の積層型フィルタの断面図である。
【図７】本発明の実施例の計測結果を説明するための図である。
【図８】本発明の実施例の計測結果を説明するための図である。
【図９】本発明の実施例の計測結果を説明するための図である。
【符号の説明】
【００３８】
１：防護ボックス、１ａ：遮へい体、１ｂ照射室、２：上部Ｘ線管装置、２ａ：上部Ｘ線線束、３：下部Ｘ線管装置、３ａ：下部Ｘ線線束、４：高電圧発生ユニット、４ａ：高電圧発生装置、４ｂ：高電圧発生装置、５：冷却装置、６：制御装置、７：線量計、７ａ：プローブ、８：操作盤、９：循環式冷却装置、１０：トレイ、１１：Ｘ線フィルタ、１１ａ：一様な厚みのＸ線フィルタ、１２：Ｘ線フィルタ、１２ａ：一様な厚みのＸ線フィルタ、１３：試料、２０：本実施形態のＸ線フィルタ、２１：積層型フィルタ、２１ａ：一様な厚みのＸ線フィルタ、２１ｂ：一様な厚みのＸ線フィルタ、２１ｃ：一様な厚みのＸ線フィルタ、２１ｄ：一様な厚みのＸ線フィルタ、３０：一様な厚みのＸ線フィルタ使用時の線量分布、３１：本実施形態のフィルタ使用時の線量分布、３２：積層型フィルタ使用時の線量分布、１００：二方向Ｘ線照射装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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