(57)【要約】【課題】磁気カードに設けた磁気テープを隠蔽する隠蔽層を薄くして、隠蔽層の上層の印刷層を厚くして意匠性を高め、または、印刷層を厚くしないで、磁気特性を高めた磁気カードを提供すること。【解決手段】磁気記録層を有する磁気カードであって、少なくとも磁気記録層上を覆って該磁気記録層を外から見えなくする隠蔽層と、少なくとも該磁気記録層上の該隠蔽層の上に配置される絵柄層とを有し、前記隠蔽層が鱗片状粉末を含むインキにより形成される。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
磁気記録層を有する磁気カードであって、少なくとも磁気記録層上を覆って該磁気記録層を外から見えなくする隠蔽層と、少なくとも該磁気記録層上の該隠蔽層の上に配置される絵柄層とを有し、前記隠蔽層が鱗片状粉末を含むインキにより形成されることを特徴とする磁気カード。
【請求項２】
前記隠蔽層の厚さが０．２〜０．５μｍであることを特徴とする請求項１に記載の磁気カード。
【請求項３】
前記鱗片状粉末が厚さ０．０１〜０．１μｍ、平均粒径１０〜１２μｍであることを特徴とする請求項１または２に記載の磁気カード。
【請求項４】
前記鱗片状粉末の水面拡散面積が３．７〜３７ｍ２／ｇであることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の磁気カード。
【請求項５】
前記鱗片状粉末がアルミニウム粉末からなることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の磁気カード。
【請求項６】
前記隠蔽層と前記絵柄層との間に白色層を設けることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の磁気カード。
【請求項７】
前記隠蔽層の形成を印刷法で行い、前記隠蔽層の上に重なる前記白色層および／または絵柄層も連続して印刷する磁気カードの製造方法であって、印刷層を設けたカード基材に、オーバーコート層を転写する工程を有し、必要な層が積層されたカード基材の全体に熱と圧力をかけて表面の平坦化を行うことを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の磁気カードの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、カード基材に磁気テープを搭載して情報を保持するための磁気カードとその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、クレジットカード、ＩＤカード、キャッシュカード等に、非視覚情報を磁気テープやＩＣモジュールに書き込んで搭載する形態のものが多く使用され、情報記録容量やセキュリティーのレベルに応じて、各種の仕様のカードが開発されている。
【０００３】
一方、前記各種の仕様のカードにおいて、絵柄、文字等の視覚情報を欠陥無く正確に表現することも、使用する人が安心して便利に使用する上では欠かせない。これらの視覚情報を保持する層は印刷パターン形成体として、上記カードを製造する工程で、前記磁気テープやＩＣモジュール等の非視覚情報を保持するキャリアと共に、ラミネート方式で積層化されたり、射出成形で一体化されて、カードが製造される。特に磁気記録層としての磁気テープを含むカード上に絵柄、文字等の視覚情報を表現するには、できるだけ広い領域を使って多くの視覚情報を美しく印刷することが望ましいので、磁気テープ上にも磁気テープの無い領域と同様に印刷できるようにしたい。
【０００４】
上述の要請のため、磁気テープからなる磁気記録層上を覆って該磁気記録層を外から見えなくするとともに、磁気記録層の有無が上層の印刷に影響を与えなくする隠蔽層を設けることが従来より行われている。なお、前記各種の仕様のカードの中で、磁気カードとは、前記磁気テープからなる磁気記録層を有するカード全般を指し、前記ＩＣモジュールを磁気テープと併せて有するカードも、磁気カードとして対象とすることができる。
【０００５】
前記磁気カードは、一般に、合成樹脂材料のカード基材（コアシート）の一面、または両面に、磁気テープを含むオーバーシート、隠蔽層、白色層、絵柄層等を含む印刷層、最表面保護のためのオーバーコート層が積層されて成る場合が多い。前記磁気テープを隠蔽する構造の磁気カードの例として、アルミ箔を粉砕して得られた微粒状の粉末をインキ化して隠蔽層を印刷する（特許文献１参照）ものがある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００８−２００８９５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
前記隠蔽層は、上述の理由により、前記磁気テープを視覚上および工程上で隠蔽することが第一に必要である。一方、磁気カードが使用される際の磁気情報の読み取りや書き込みに支障をきたさないように、磁気テープの有する磁気特性を良好に発揮させる必要もある。さらに、前記隠蔽層に加えて、前記白色層や前記絵柄層も含めた非磁性層全体を通しても、同様に、視覚上および工程上の隠蔽性を確保することと、磁気特性を良好に発揮させることとを両立させなければならない。
【０００８】
然るに、従来の隠蔽層に用いられた材料は、アルミ箔を粉砕して得られた微粒状の粉末をインキ化したもので、アルミ粉末が厚さ１〜２μｍ以下、平均粒径８〜１０μｍであって、隠蔽層の厚さを２〜３μｍ程度としたものであった。前記隠蔽層の厚さの制約の理由は、２μｍ未満では充分な隠蔽性が得られないこと、また、隠蔽層が厚くなればなるほど
、磁気特性を良好に発揮させるには、前記白色層や絵柄層の厚さを薄くしなければならず、良好な意匠性との両立が困難になることのためであった。前記隠蔽層の厚さの上限３μｍは前記の事情を両立するための妥協点であって、隠蔽層を薄くしても充分な隠蔽性を得ることができるようになれば、前記白色層や絵柄層の厚さを従来より厚くして、さらに意匠性の高いデザインを得ることができ、または、前記白色層や絵柄層の厚さは変えずに、磁気特性をさらに良好に発揮させることが可能になる。なお、ここで言うアルミ粉末の平均粒径の「粒径」とは、アルミ粉末を平面的に投影した際の形状の大きさを指し、球状粒子の径を意味している訳ではない。
【０００９】
本発明は、前記の問題点に鑑みて提案するものであり、本発明が解決しようとする課題は、磁気カードに設けた磁気テープを隠蔽する隠蔽層を薄くして、隠蔽層の上層の印刷層の意匠性を高めた磁気カードを提供することである。また、本発明が解決しようとする他の課題は、磁気カードに設けた磁気テープを隠蔽する隠蔽層を薄くして、磁気カードの磁気特性を高めた磁気カードを提供することである。さらに、本発明が解決しようとする他の課題は、上記の改良された磁気カードの製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記の課題を解決するための手段として、請求項１に記載の発明は、磁気記録層を有する磁気カードであって、少なくとも磁気記録層上を覆って該磁気記録層を外から見えなくする隠蔽層と、少なくとも該磁気記録層上の該隠蔽層の上に配置される絵柄層とを有し、前記隠蔽層が鱗片状粉末を含むインキにより形成されることを特徴とする磁気カードである。
【００１１】
また、請求項２に記載の発明は、前記隠蔽層の厚さが０．２〜０．５μｍであることを特徴とする請求項１に記載の磁気カードである。
【００１２】
また、請求項３に記載の発明は、前記鱗片状粉末が厚さ０．０１〜０．１μｍ、平均粒径１０〜１２μｍであることを特徴とする請求項１または２に記載の磁気カードである。
【００１３】
また、請求項４に記載の発明は、前記鱗片状粉末の水面拡散面積が３．７〜３７ｍ２／ｇであることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の磁気カードである。
【００１４】
また、請求項５に記載の発明は、前記鱗片状粉末がアルミニウム粉末からなることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の磁気カードである。
【００１５】
また、請求項６に記載の発明は、前記隠蔽層と前記絵柄層との間に白色層を設けることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の磁気カードである。
【００１６】
また、請求項７に記載の発明は、前記隠蔽層の形成を印刷法で行い、前記隠蔽層の上に重なる前記白色層および／または絵柄層も連続して印刷する磁気カードの製造方法であって、印刷層を設けたカード基材に、オーバーコート層を転写する工程を有し、必要な層が積層されたカード基材の全体に熱と圧力をかけて表面の平坦化を行うことを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の磁気カードの製造方法である。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、隠蔽層に使用する粉末材料を工夫することにより、磁気カードに設けた磁気テープを隠蔽する隠蔽層を薄くしても、視覚上および工程上で充分な隠蔽性を得ることができるようになり、その結果、前記白色層や絵柄層の厚さを従来より厚くして、さらに意匠性の高いデザインを得ることができ、または、前記白色層や絵柄層の厚さは変えずに、磁気特性をさらに良好に発揮させることが可能になる。従って、隠蔽層の上層の印
刷層の意匠性を高めた磁気カードが提供でき、また、磁気特性を高めて磁気情報の読み取りや書き込みに好適な磁気カードを提供できる。
【００１８】
また、請求項６によれば、前記隠蔽層と前記絵柄層との間に白色層を設けることにより、絵柄層を印刷する下地の白色度を向上させて絵柄の視認性をさらに良くするとともに、上述の隠蔽層を薄く形成できることによって、前記白色層の厚さの設定範囲を広く取ることができる。
【００１９】
また、請求項７によれば、前記隠蔽層および上層に重なる印刷層を磁気テープが積層されたカード基材上に連続的に印刷し、オーバーコート層を引き続いて転写および平坦化処理することができるので、必要な層が均一に積層された磁気カードを大量に製造する方法を提供する。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本発明の磁気カードの一構成例を説明するための断面模式図
【図２】本発明の磁気カードの他の構成例を説明するための断面模式図
【図３】本発明の製造方法の一工程例を説明するための工程図
【図４】本発明の磁気カードの隠蔽層の機能を比較説明するための断面模式図であって、（Ａ）はノンリーフィングタイプの隠蔽層を有する場合、（Ｂ）はリーフィングタイプの隠蔽層を有する場合をそれぞれ示す。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
本発明の実施形態を、図面に従って、以下に説明する。
【００２２】
図１は、本発明の磁気カードの一構成例を説明するための断面模式図である。基材１にオーバーシート２を介して磁気テープ３を埋め込んだ磁気カードの積層基材上に隠蔽層４を設けて、磁気テープ３が外からは見えない状態にする。隠蔽層の厚さは０．２〜０．５μｍと従来より薄くしても、隠蔽層４を構成するインキが鱗片状粉末を含むものであれば、充分な隠蔽性を得ることが可能である。隠蔽層４の上に、白色層５を印刷し、さらにその上に、絵柄や文字を含む絵柄層６の印刷を重ねて、いわゆるオーバープリント印刷層を３層重ねる例である。さらに、絵柄層６が複数層からなることも可能である。最上層にはオーバーコート層７を設けてカード表面を保護する。
【００２３】
図２は、本発明の磁気カードの他の構成例を説明するための断面模式図であって、前記図１に示した白色層５を含まない場合である。一般に、図１のように白色層５を絵柄層６の下地として設ける方が、図２の白色層５を含まない場合と較べて、絵柄層６を印刷する下地の白色度を向上させるので、絵柄の視認性をさらに良くする傾向があるが、絵柄層６のデザインによっては、白色層なしも良好となる。さらに、絵柄層６が複数層からなることも可能である。
【００２４】
図３は、本発明の製造方法の一工程例を説明するための工程図である。
図３において、予め、磁気テープ（Ｊ２）と、それを直接保持するためのオーバーシート（Ｊ１）と、を準備し、両者を仮貼りしておく（Ｓ１）。別にカードの基材（Ｊ３）を準備しておき、前述の磁気テープを仮貼りしたオーバーシートを該基材に仮貼りする（Ｓ２）。この状態で、軽度の熱プレス等による積層処理を行い、磁気テープのオーバーシートへの埋め込みを充分なものにすると共に、印刷前の下地の状態を整える（Ｓ３）。
【００２５】
上述の説明をさらに補足すると、カードの基材１（Ｊ３）とオーバーシート２（Ｊ１）としては、塩ビや耐熱塩ビを用いる。また、本例では磁気テープを埋め込む形態のみを説明したが、他にＩＣモジュールや他の非視覚情報を保持するキャリアを設けることもでき
る。磁気テープのオーバーシートへの仮貼り（Ｓ１）とオーバーシートの基材への仮貼り（Ｓ２）は、熱転写の手段で行う。
【００２６】
次に、オーバープリント１、オーバープリント２、オーバープリント３の印刷を重ねて隠蔽層印刷（Ｓ４）、白色層印刷（Ｓ５）、絵柄層印刷（Ｓ６）を行う。絵柄層印刷（Ｓ６）が複数回の印刷からなる場合もある。本例では、グラビア印刷、スクリーン印刷、フレキソ印刷、オフセット印刷等の印刷法を適宜選択してカードに直接印刷できるが、他の方法として、転写フィルム等にいったん印刷した印刷層を転写して形成することもできる。転写形成する場合は、印刷各層毎に単独で転写することもできるが、他の層と併せて転写することもできる。カード上に印刷層が形成された後、予め準備したオーバーコート転写箔（Ｊ４）を印刷層の上に転写して積層処理を加熱および加圧しながら行い平坦化する（Ｓ７）。最後に、カードの外形加工を行って（Ｓ８）、カードが完成する。
【００２７】
さらに具体的な印刷例としては、先ず、スクリーン印刷で隠蔽層４および白色層５の印刷を行い（Ｓ４）（Ｓ５）、乾燥後、オフセット印刷で詳細な絵柄層６を印刷する（Ｓ６）。印刷後の乾燥処理（図３では省略）も含めて、ここまでの各工程の処理温度は、例えば、基材に貼り合わせるオーバーシートとして塩ビシートを使う場合には、塩ビのガラス転移点である６０〜７０℃を超えない。但し、後述のオーバーコート転写箔（Ｊ４）の積層処理（Ｓ７）では、基材とオーバーシート、オーバーコート転写箔の接着を熱融着により行う場合、より高温の処理も可能になる。
【００２８】
オーバーコート転写箔（Ｊ４）は、転写保護層付きフィルムであって、オーバーコート層となるべき樹脂層を剥離性のよいフィルム上に形成したタイプのものを準備しておき、オーバーコート層７を１１０〜１６５℃、１０秒程度の加熱による積層処理を行うことでオフセット印刷による絵柄層６の上に転写する（Ｓ７）。
【００２９】
印刷に用いるインキとして、以下のものが使用できる。隠蔽層を形成するインキは、鱗片状粉末を含み、該鱗片状粉末の厚さが０．０１〜０．１μｍ、平均粒径１０〜１２μｍの場合が実用的に好適な隠蔽性を得る上で最適であり、該鱗片状粉末の材料としてはアルミニウム粉末が最も優れている。また、上記の最適な鱗片状粉末を水面拡散面積で表すと３．７〜３７ｍ２／ｇ程度であり、インキの素材を選定する上で、有効な指針となる。なお、ここで言う鱗片状粉末の平均粒径の「粒径」とは、鱗片状粉末を平面的に投影した際の形状の大きさを指し、球状粒子の径を意味している訳ではない。アルミニウム粉末を鱗片状粉末として入手するには、各種の製法があるが、中でもアルミニウムを薄いフィルムに真空蒸着し、得られた蒸着膜を剥離して粉砕する製法が一般的である。
【００３０】
上記鱗片状粉末を用い、隠蔽層の厚さは０．２〜０．５μｍと従来より薄くしても、充分な隠蔽性を得ることを可能とするには、特にリーフィングタイプのアルミペーストを用いた隠蔽層が有効である。図４は、本発明の磁気カードの隠蔽層の機能を比較説明するための断面模式図であって、（Ａ）はノンリーフィングタイプの隠蔽層を有する場合、（Ｂ）はリーフィングタイプの隠蔽層を有する場合をそれぞれ示す。（Ａ）に示すように、下地８上にノンリーフィングタイプの隠蔽層９を設けた場合は、アルミ顔料の平面配置に隙間が多いために、入射光１０が隠蔽層９の最外層に配置される顔料表面で必ずしも反射されず、隠蔽層の内部に進入して反射する光もかなり多い。このため、隠蔽層９の隠蔽性を一定程度得るためには、比較的厚い隠蔽層９が必要となる。また、反射光１１として鏡面反射される光の量は減衰する傾向がある。
【００３１】
一方、図４（Ｂ）に示すように、下地８上にリーフィングタイプの隠蔽層１２を設けた場合は、アルミ顔料の平面配置に隙間が少ないために、入射光１０が隠蔽層１２の最外層に配置される顔料表面で反射されることが多く、隠蔽層の内部に進入する光は極めて少な
い。このため、隠蔽層１２の隠蔽性を一定程度得るためには、比較的薄い隠蔽層１２で充分となる。また、反射光１３として鏡面反射される光の量はあまり減衰しない。本発明に用いる薄くて隠蔽性の大きい隠蔽層は、上述の理由により、リーフィングタイプの隠蔽層１２で達成しやすい。リーフィングタイプのアルミペーストを得るには、上記鱗片状のアルミニウム粉末の表面にステアリン酸等の飽和脂肪酸を一様に吸着させて顔料配列させることが好適である。
【００３２】
前記隠蔽層を構成するインキをスクリーン印刷用インキとして構成するには、顔料成分として前記鱗片状粉末を分散剤で被覆する。また、樹脂としては、ポリ酢酸ビニルとその共重合樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合樹脂、ロジン変性フェノール樹脂、尿素樹脂及びメラミン樹脂、ケトン樹脂、ＰＶＣ、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、アルキド樹脂、ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン、ニトロセルロース、エチルヒドロキシエチルセルロース、環化ゴム、塩化ゴムなどの各種樹脂を単独で使用し、または２種以上併用して用いることができる。特に相溶性やカード基材との密着性の観点からポリ酢酸ビニルとその共重合樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合樹脂が好ましい。
【００３３】
形成された隠蔽層４における顔料の含有率は、隠蔽性や樹脂との相溶性やカード基材１、オーバーシート２、磁気テープ３との密着性の観点から３０〜７０％であることが好ましく、中でも、４０〜６０％であることがより好ましい。この範囲よりも低いと隠蔽性が落ちるために隠蔽層の膜厚を厚くする必要があり、この範囲よりも高いとインキ中の顔料の分散が不均一になり、インキの密着性が低下する等の問題が発生する。上記インキにより形成された隠蔽層４の膜厚は０．２μｍ以上であれば、意匠的に問題ない程度にまで磁気テープのストライプを隠蔽することが可能であり、０．５μｍ以上であればほぼ完全に隠蔽することができる。
【００３４】
白色層５には、一般的な白色インキが用いられる。顔料には酸化チタンを用いるのが一般的であるが、この限りではない。樹脂は、ウレタン樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、塩酢ビ系樹脂、塩素化ポリプロピレン系樹脂、ポリアミド系樹脂、アクリル系樹脂、マレイン酸系樹脂、環化ゴム系樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリスチレン樹脂、ＡＢＳ樹脂、ポリエステル樹脂、ナイロン樹脂、ポリカーボネート樹脂、セルロース樹脂、ポリ乳酸樹脂等の熱硬化型樹脂や、フェノール樹脂、不飽和ポリエステル樹脂等の熱可塑型樹脂を用いることができるが、相溶性やカード基材との密着性の観点から塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、塩酢ビ系樹脂が好ましい。
【００３５】
形成された白色層５における顔料の含有率は、白色度や樹脂との相溶性や他の層との密着性の観点から２０〜７０％であることが好ましく、中でも、３０〜６０％であることがより好ましい。この範囲よりも低いと白色度が落ちるために白色層の膜厚を厚くする必要があり、この範囲よりも高いとインキ中の顔料の分散が不均一になり、インキの密着性が低下する等の問題が発生する。また、白色度は、形成された被膜中の酸化チタンの含有率が６０％以上になると、それ以上に含有率を高めても白色度が向上しないことが知られている。
【００３６】
隠蔽層４の印刷は、上述のとおり、スクリーン印刷等の通常の印刷方法により良好に行われ、鏡面を有する被膜表面を得ることができる。転写フィルム等にいったん印刷した印刷層を転写して形成する場合には、予め印刷する転写フィルムの表面が鏡面であるものを用いれば、カード基材側に転写された隠蔽層４の被膜表面が鏡面となる。なお、被膜表面が鏡面となるという意味は、被膜表面に入射光を投じた時、反射の法則により光の入射角と反射角とが反射面に対して同じ角度をとる鏡面反射（正反射）が実現することであり、隠蔽層４の隠蔽性と関連する目安となる。
【００３７】
白色層５の印刷は、上述のとおり、スクリーン印刷等の通常の印刷方法により良好に行われ、良好な白色度を得ることができる。また、転写フィルム等にいったん印刷した印刷層を転写して形成することもできる。例えば白色層５の印刷膜厚を４．０〜５．０μｍとして良好な性能が得られる。
【００３８】
絵柄層６の印刷は、上述のとおり、オフセット印刷等の通常の印刷方法により良好に行われ、良好な絵柄表現を得ることができる。また、転写フィルム等にいったん印刷した印刷層を転写して形成することもできる。例えば絵柄層６の印刷膜厚を０．５〜１．０μｍとして良好な絵柄が得られる。
【００３９】
オーバーコート層７の形成は、上述のとおり、オーバーコート転写箔を上記絵柄層６に転写して積層処理を行うことにより可能であるが、直接、スクリーン印刷やオフセット印刷等の通常の印刷方法により形成することもできる。例えばオーバーコート層７の転写膜厚を１．０〜１．５μｍとして良好なオーバーコートが実現できる。
【００４０】
上述のとおり、必要な層と絵柄が形成されたカード基材の表面に熱と圧力をかけることで均一な表面を出す。この時の温度は１００〜１６０℃、圧力は１０〜５０ＭＰａで行うことが一般的である。転写方式の場合は、各層の転写と表面出し加工を兼ねることができる。
【００４１】
以上、説明した本発明の磁気カードは、磁気テープのストライプ上に積層される非磁性層の膜厚を５．７〜８．０μｍとすることができるので、従来の非磁性層の膜厚７．５〜９．５μｍに較べて１．５〜１．８μｍ薄くして磁気特性を高めることができる。また、薄くできる分を白色層や絵柄層、オーバーコート層の膜厚を大きくすることもでき、より優れた意匠性やカードの信頼性向上に資することができる。
【符号の説明】
【００４２】
１・・・基材
２・・・オーバーシート
３・・・磁気テープ
４・・・隠蔽層
５・・・白色層
６・・・絵柄層
７・・・オーバーコート層
８・・・下地
９・・・ノンリーフィングタイプの隠蔽層
１０・・・入射光
１１、１３・・・反射光
１２・・・リーフィングタイプの隠蔽層
Ｊ１・・・オーバーシート
Ｊ２・・・磁気テープ
Ｊ３・・・基材
Ｊ４・・・オーバーコート転写箔
Ｓ１・・・磁気テープ仮貼り
Ｓ２・・・オーバーシート仮貼り
Ｓ３・・・積層処理（印刷前処理）
Ｓ４・・・隠蔽層印刷（オーバープリント１）
Ｓ５・・・白色層印刷（オーバープリント２）
Ｓ６・・・絵柄層印刷（オーバープリント３）
Ｓ７・・・積層処理（転写）
Ｓ８・・・カード外形加工
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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