(57)【要約】【課題】プロセスデータから基準波形を自動で作成、更新を行い、より精度の高い装置データの解析を行い、更にそれによって装置データ異常時に発生する可能性がある、例えば、装置のどこの部分に異常があるかを判別することによって不良品の発生を抑制したり、不良の種類や不良の発生位置などの不良情報を予測する。【解決手段】製造処理装置の動作と製造条件を監視して装置データを得て、装置データから波形データを取得し、更に、検査装置からの検査結果によって良品時の基準波形または不良品時の基準波形のどちらを作成するかを選択し、取得した波形データと、元の良品時の基準波形あるいは元の不良品時の基準波形と所定範囲内で一致していた場合、波形データを重ねることで基準波形を自動で更新し、一致しない場合は新たな基準波形として登録することを特徴とする装置データの自動基準波形作成方法。【選択図】図８
2010282541.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
製造処理装置の動作と製造条件を監視して装置データを得て、装置データから波形データを取得し、更に、検査装置からの検査結果によって良品時の基準波形または不良品時の基準波形のどちらを作成するかを選択し、取得した波形データと、元の良品時の基準波形あるいは元の不良品時の基準波形と所定範囲内で一致していた場合、波形データを重ねることで基準波形を自動で更新し、一致しない場合は新たな基準波形として登録することを特徴とする装置データの自動基準波形作成方法。
【請求項２】
製造処理装置の動作と製造条件を監視して装置データを得て、装置データから波形データを取得し、波形データが請求項１記載の元の良品時の基準波形と所定範囲内で一致しておらず、さらに請求項１記載の元の不良品時の基準波形と比較し所定範囲内で一致した場合、不良情報を予測することを特徴とする不良情報の予測方法。
【請求項３】
不良発生時の基準波形に不良内容を紐付することを特徴とする請求項１記載の装置データの自動基準波形作成方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば半導体や液晶パネルなどの製造処理装置の動作を監視して製造処理装置の動作データや製造条件データを収集し、収集したデータから製造装置の動作や製造状況を解析し、製造処理装置の信頼性や生産性を向上させる方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
背景技術として、液晶パネルに用いられるカラーフィルタの場合を例として説明する。図１はカラー液晶表示装置に用いられるカラーフィルタの一例を断面で示した図である。カラーフィルタ１は、ガラス基板２上にブラックマトリックス（以下、ＢＭ）３、レッドＲの着色画素（以下、Ｒ画素）４ａ、グリーンＧの着色画素（以下、Ｇ画素）４ｂ、ブルーＢの着色画素（以下、Ｂ画素）４ｃ、透明電極５、及びフォトスペーサー（Ｐｈｏｔｏ  Ｓｐａｃｅｒ）（以下、ＰＳ）６、バーテイカルアライメント（Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）（以下、ＶＡ）７が順次形成されたものである。
【０００３】
上記構造のカラーフィルタの製造方法は、フォトリソグラフィー法、印刷法、インクジェット法が知られているが、図２は一般的に用いられているフォトリソグラフィー法の工程を示すフロー図である。カラーフィルタは、先ず、ガラス基板上にブラックマトリックス（ＢＭ）を形成処理する工程（Ｃ−１）、ガラス基板を洗浄処理する工程（Ｃ−２）、着色フォトレジストを塗布および予備乾燥処理する工程（Ｃ−３）、着色フォトレジストを乾燥、硬化処理するプリベーク工程（Ｃ−４）、露光処理する工程（Ｃ−５）、現像処理する工程（Ｃ−６）、着色フォトレジストを硬化処理する工程（Ｃ−７）、透明電極を成膜処理する工程（Ｃ−８）、ＰＳ、ＶＡを形成処理する工程（Ｃ−９）がこの順に行われ製造される。
【０００４】
例えば、Ｒ画素、Ｇ画素、Ｂ画素の順に画素が形成される場合には、カラーフィルタ用ガラス基板を洗浄処理する工程（Ｃ−２）から、着色フォトレジストを硬化処理する工程間（Ｃ−７）ではレッドＲ、グリーンＧ、ブルーＢの順に着色レジストを変更して３回繰り返されてＲ画素、Ｇ画素、Ｂ画素が形成される。
【０００５】
上記カラーフィルタの製造工程において発生する不良の例として、洗浄工程における異物付着、着色レジスト塗布及び予備乾燥工程では着色レジストの塗布ムラやピンホール、露光工程では露光量の過不足やマスクの位置あわせ不良、現像工程では現像の過不足や現像ムラなどがある。
【０００６】
上記不良の発生を抑制したり、発生した不良品を検出するために、製造処理装置の動作状況や、製造条件を監視したり、検査装置で不良品を検出して品質を保証している。
【０００７】
半導体や液晶パネルなどの製造における製造処理装置（以下、プロセス装置）において、プロセス装置の動作状況を示すプロセス装置の動作データ（以下、動作データ）や、洗浄液の流量、温度、圧力といった製造条件、言い換えれば、プロセス条件データ（以下、プロセスデータ）を数ｍｓ周期で高速に収集、解析するＥＥＳ（Ｅｑｕｉｐｍｅｎｔ  Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ  Ｓｙｓｔｅｍ）がある。ＥＥＳとは，プロセス装置から装置の基準データ（動作データやプロセスデータ）を収集し、正常な動作や正常なプロセス条件で製造プロセスが行われているかをデータでチェックし，プロセス装置の信頼性や生産性を向上させるシステムである。
【０００８】
ＥＥＳを用いたプロセス異常の解析方法として、例えば、次のような文献に記載される
ものがある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開昭６２−４２２０４号公報
【特許文献２】特開２００５−１９７３２３号公報
【特許文献３】特開２００４−１８６４４５号公報
【００１０】
特許文献１に記載されるプロセス異常の解析方法は、正常運転時のプロセスデータとの差異から異常検出を行い、異常の有無判定、異常原因の決定を行うものである。
【００１１】
特許文献２に記載されるプロセス異常の解析方法は、ある区間で切り出したプロセスデータから特徴量（平均、最大、最小など）を抽出し、プロセス−品質モデルを作成し、異常の有無判定や、故障発生の予測を行うものである。
【００１２】
特許文献３に記載されるプロセス異常の解析方法は、プロセスデータから抽出した特徴量を用いてデータマイニングや多変量解析による解析からプロセス−品質モデルを作成し、異常の有無判定を行うものである。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
ＥＥＳを用いたプロセス異常の解析方法において、特許文献１に記載されている正常運転時のプロセスデータの選択方法としては、オペレータが正常運転時のデータを過去のデータから選択して基準波形として設定をする。しかし、正常運転時のデータにおいても装置の動作ごとにばらつきが見られるため、収集したプロセスデータとの差異を求めるにあたり、そのばらつきの影響で正確に求めることができない。
【００１４】
また、特許文献２に記載されている方法は、異常の有無の判定は可能だが、どのような異常が発生しているかといった予測は不可能である。
【００１５】
また、特許文献３に記載されている方法は、異常の有無の判定は可能で、しかも検査データを用いているため、どのような異常が発生しているかといった予測も可能となっている。しかしながら、一般的に、良品が出来ている時においてもプロセスデータにバラツキが発生しているため、求められたプロセスデータは、必ずしも正確なものとは言い切れない。
【００１６】
そこで本発明は、プロセスデータから基準波形を自動で作成、更新を行い、より精度の高い装置データの解析を行い、更にそれによって装置データ異常時に発生する可能性がある。例えば、装置のどこの部分に異常があるかを判別することによって不良品の発生を抑制したり、不良の種類や不良の発生位置などの不良情報を予測する装置データの自動基準波形作成方法及び不良情報の予測方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
本発明の請求項１に係る発明は、製造処理装置の動作と製造条件を監視して装置データを得て、装置データから波形データを取得し、更に、検査装置からの検査結果によって良品時の基準波形または不良品時の基準波形のどちらを作成するかを選択し、取得した波形データと、元の良品時の基準波形あるいは元の不良品時の基準波形と所定範囲内で一致していた場合、波形データを重ねることで基準波形を自動で更新し、一致しない場合は新たな基準波形として登録することを特徴とする装置データの自動基準波形作成方法である。
【００１８】
本発明の請求項２に係る発明は、製造処理装置の動作と製造条件を監視して装置データを得て、装置データから波形データを取得し、波形データが請求項１記載の元の良品時の基準波形と所定範囲内で一致しておらず、さらに請求項１記載の元の不良品時の基準波形と比較し所定範囲内で一致した場合、不良情報を予測することを特徴とする不良情報の予測方法である。
【００１９】
本発明の請求項３に係る発明は、不良発生時の基準波形に不良内容を紐付することを特徴とする請求項１記載の装置データの自動基準波形作成方法である。
【発明の効果】
【００２０】
本発明による装置データの自動基準波形作成方法及び不良情報の予測方法によれば、基準波形を自動で更新することで、プロセス装置の時間経過による状態の変化にも対応が可能となり、またデータ量を増加するほど精度の高い基準波形の作成が可能となり、その結果、良品を不良品と誤検査したり、不良品を良品と誤検査したりすることを防ぐことが可能となる。
【００２１】
また、波形データが良品時の基準波形と所定範囲内で一致していない場合は、更に不良品時の基準波形と比較し、不良品時の基準波形と所定範囲内で一致した場合には、発生する可能性のある不良情報を予測することが出来る。その結果、不良品発生を抑制したり、同一の原因によるいわゆる共通不良の発生を最小限におさえることが出来る。
【００２２】
また、不良の基準波形に不良の種類や位置などの不良内容を紐付けすることによって、プロセス装置のメンテナンスや作業のマニュアル化などを行うことが可能となり、後に発生する不良の抑制が期待できる。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】カラーフィルタ基板の一例を断面で示した図。
【図２】一般的に用いられているフォトリソグラフィー法の工程のフロー図。
【図３】本発明に係る装置データの自動基準波形作成方法及び不良情報の予測方法が適用される装置データ収集装置における情報処理の一例を示す図。
【図４】ガラス基板を洗浄する場合を例として示した波形データの図。
【図５】本発明の実施形態係わる基準波形作成フローを示す図。
【図６】本発明の実施形態に係わる良品時の基準波形の作成方法を示す図。
【図７】本発明の実施形態に係わる不良発生時の基準波形の作成方法を示す図。
【図８】本発明の実施形態に係わる波形データの比較フローを示す図。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
以下、図面を参照して本発明に係る装置データの自動基準波形作成方法及び不良情報の予測方法の実施形態を、カラーフィルタのガラス基板を製造する場合のガラス基板の洗浄プロセスを例として説明する。
【００２５】
図３に本発明に係る装置データの自動基準波形作成方法及び不良情報の予測方法が適用される装置データ収集装置における情報処理の一例を示す。
【００２６】
装置データ収集装置（以下、ＥＥＳ）１１は、対象装置１２から装置情報１３を数ｍｓ周期で高速に収集する機能と、検査装置１４からの検査結果情報１５を受信する通信機能を備えている。
【００２７】
ＥＥＳ１１で収集されるプロセス動作データとプロセスデータからなる装置情報（ステージの振動などのプロセス動作データや消費電力、ポンプの圧力、洗浄液流量などのプロセス条件などのプロセスデータを含んだ情報）１３は、データ収集用パソコン(以下、データ収集用ＰＣ)１６上にリアルタイムで表示され、更に、前記プロセス動作データと前記プロセスデータから波形データを取得する。取得した波形データが正常かどうかをデータ収集用ＰＣ１６によって判断し、装置が正常に動いているかどうかの判断が行われる。この場合の波形データは、例えば、図４はガラス基板を洗浄する場合を例として示したもので、洗浄液供給ポンプの動作時間と洗浄液量のデータが収集され、収集したデータから横軸がｍｓ（ミリ秒）で示される経時時間、縦軸がｍｌ（ミリリットル）で示される液量を示す波形データが作られる。
【００２８】
ＥＥＳ１１で波形データを収集している間にプロセス処理（この場合は洗浄装置による洗浄処理）が行われたガラス基板のＩＤ情報１７が、波形データに紐付けされ、紐付けされた波形データは波形データファイル１９に格納される。この波形データファイル1９は、対象装置１２から収集された、例えば、熱、圧力、液量、消費電力などの項目毎にガラス基板のＩＤ情報が紐付けされた複数の波形データを格納するファイルである。
【００２９】
ガラス基板のＩＤ情報１７はＬＣＳ（Ｌｉｎｅ  Ｃｏｎｔｒｏｌ  Ｓｙｓｔｅｍ）１８などの上位システムから取得することができる。一方、検査装置１４（この場合は、ガラス基板の洗浄度合いを検査するために行われる異物検査装置を指す）から出力される検査結果情報１５にもガラス基板のＩＤ情報が紐付けされる。検査結果情報１５の良品、不良品の情報に基づいて基準波形データファイル２０に格納されている基準波形の中から選択した基準波形と、波形データファイル１９の中から検査結果に紐付けされたＩＤ情報から抽出された波形データが比較される。
【００３０】
基準波形には過去に取得した波形データを用いる。基準波形に用いる波形データは、検査装置の検査結果で良品と判断されたガラス基板ＩＤのデータを用いる。現状では、検査結果で良品と判断された波形データを人の手で１個以上重ね合わせた平均値を用いて基準波形として登録している。そのため、基準波形を変更する際はオペレータの操作が必要となる。
【００３１】
基準波形を変更せずに、常に同じ基準波形を用いて波形データとの比較を行うと以下の問題があり、正確な比較ができない可能性がある。
【００３２】
問題の１つは、良品時のデータのばらつきである。即ち、良品ができている時でも波形データにばらつきが発生している可能性がある。
【００３３】
他の問題は、時間の経過による波形データの変化である。即ち、装置の劣化等の経時変化による波形データへの影響である。
【００３４】
上記問題を解決するには、より精度の高い基準波形を作成することであり、できる限り多くの良品が生産されたときの最新の波形データを重ねあわせ、平均値を求めて基準波形を作成する必要がある。
【００３５】
また、不良品が生産された時の波形データを不良発生時の基準波形として不良の種類、位置などの情報と紐付けて良品時の基準波形と同様に作成する。それにより波形データが良品時の基準波形と比較して異常な値と判断された場合、その波形データと不良発生時の基準波形を比較し、一致したものがあれば、発生する可能性のある不良の種類などを予測することが可能となる。
【００３６】
図５は基準波形作成フローを示す。
【００３７】
開始後（Ｋ−１）、検査装置より検査結果を受信する（Ｋ−２）。受信した検査結果が良品の場合（（Ｋ−３）のＹＥＳ）、現在の基準波形に今回のガラス基板の基板ＩＤの波形データを重ね合わせて新しい基準波形を作成し（Ｋ−４）、基準波形を新しい基準波形に更新し（Ｋ−５）、終了する（Ｋ−１３）。
【００３８】
検査結果が良品でない場合は（（Ｋ−３）のＮＯ）、次に今回の基板ＩＤの波形データと良品時の基準波形を比較して波形データは正常か否かを判断し（Ｋ−６）、正常な場合は（（Ｋ−６）のＹＥＳ）、基準波形は更新せずにそのまま終了する（Ｋ−１３）。
【００３９】
正常でない場合は（（Ｋ−６）のＮＯ）、次に検査結果の不良情報と同じ不良情報を持った不良発生時の基準波形が存在するか否かを判断し（Ｋ−７）、存在する場合は（（Ｋ−７）のＹＥＳ）、次に不良発生時の基準波形の重ね合わせを行い（Ｋ−８）、更にメンテナンス方法などの不良情報があるかを判断し（Ｋ−９）、存在する場合は（（Ｋ−９）のＹＥＳ）、不良発生時の基準波形にメンテナンス情報などの不良情報を付加し（Ｋ−１０）、終了する（Ｋ−１４）。不良情報が存在しない場合は（（Ｋ−９）のＮＯ）、そのまま終了する（Ｋ−１４）。
【００４０】
（Ｋ−７）において、不良発生時の基準波形が存在しない場合は（（Ｋ−７）のＮＯ）、次に新たな不良発生時の基準波形の作成を行い（Ｋ−１１）、更に不良発生時の基準波形に不良情報を付加し（Ｋ−１２）、終了する（Ｋ−１４）。
【００４１】
次に、更に基準波形の作成方法を良品時と不良品時に分けて詳しく説明する。図６は良品時の基準波形の作成方法を示す図である。
【００４２】
ガラス基板を検査装置（この場合は、例として異物検査装置）によって検査（Ｇ−１）した検査結果情報をデータ収集用ＰＣ（図示せず）によって受信する（Ｇ−２）。検査結果情報には、この場合は、良品情報やガラス基板の基板ＩＤ情報が含まれている。そのガラス基板の基板ＩＤから、ガラス基板が洗浄された際の洗浄プロセスの例えば洗浄液の液量を示す波形データを抽出する（Ｇ−３）。３１は抽出された波形データを示す。抽出される波形データ３１は、前記洗浄液の液量のほかに、洗浄装置の消費電力や洗浄液の吐出圧力、洗浄液流量、洗浄液の液温等を示す波形データが格納されている波形データファイル（図示せず）から抽出される。
【００４３】
一方、基準波形データファイル（図示せず）に格納されている基準波形（Ｇ−４）の中から、良品時の基準波形を選択する（Ｇ−５）。この場合に選択される基準波形は洗浄プロセスにおける良品時の洗浄液の液量を示すものである。３２は選択された基準波形を示す。
【００４４】
上記抽出された波形データ３１と選択された基準波形３２を重ね合わせ、その平均を取って新たな基準波形３３を作成する。このようにして良品時の基準波形を作成する。作成された基準波形３３は、新しい基準波形に更新され、基準波形データファイルに格納される。
【００４５】
抽出される波形データは、例えば洗浄プロセスの場合には前記洗浄液の液量のほかに、洗浄装置の消費電力や洗浄液の吐出圧力、洗浄液流量、洗浄液の液温等を示す波形データの全ての波形データが抽出され、それに対応した良品時の基準波形が選択されて、抽出された波形データと選択された基準波形を重ね合わせその平均を取って新たな基準波形を作成する。抽出するための波形データは、各プロセス毎になるべく多くの波形データを取得することが望ましい。それによって、新しい基準波形の精度が向上し、不良情報の予測が正確に行うことが出来る。
【００４６】
ＥＥＳでは、洗浄、塗布、乾燥などのプロセス装置毎にプロセス動作データやプロセスデータを区切って収集しているため、基準波形を作成する際は、全てのプロセス動作毎に、また、全てのプロセスデータ毎に基準波形を作成し、基準波形データベースに格納することが望ましい。表１は基準データベースの一部を示す。また、プロセス装置から取得した波形データは、波形データベースに格納すればよい。
【００４７】
【表１】
2010282541.tif 000003
【００４８】
良品時の基準波形の作成に際しては、上記のように波形データと基準波形とを重ね合わせその平均を取って新たな基準波形を作成する方法に限定されず、例えば、ガラス基板ＩＤから波形データを取得し、その波形データを指定した計算条件で、例えば、１０日以内に収集した良品時の波形データと自動的に重ね合わせ平均化し、そのデータを基準波形として更新していくことで、良品時の基準波形を作成しても良い。
【００４９】
次に、不良発生時の基準波形の作成方法を図７に示す。先ず検査装置５０でガラス基板を検査し（Ｆ−１）、検査結果情報５１を取得する（Ｆ−２）。不良検出時の検査結果情報には、基板ＩＤ、検査結果（この場合は不良情報）、不良の種類等の情報が含まれている。次に取得済みの複数の波形データ５２の中から、検査結果情報の基板ＩＤと同じ基板ＩＤの波形データ５３を波形データファイル（図示せず）から抽出する。波形データ５３は検査結果が不良の基になっていると思われるすべての波形データを波形データファイルから抽出する。例えば、異物検査装置で検査した結果、異物不良となった場合には、異物発生の基になっている、洗浄装置の消費電力や洗浄液の吐出圧力、洗浄液流量、洗浄液の液温等を示す波形データの全ての波形データが抽出される。検査結果が不良の場合、波形データを収集しているプロセス装置以外の装置起因によって不良が発生している可能性があるため、先ず前記抽出した波形データ５３と良品時の基準波形５４とを比較する（Ｆ−３）。
【００５０】
比較は、前述したように、波形データが正常かどうかを判断するもので、波形データ（図７の波形データ５３）と基準波形（図７の良品時の基準波形５４で、正常動作時の波形データ）を比較することによって行われる。
【００５１】
比較した結果、波形データ５３と良品時の基準波形が一致している場合（波形データが正常な場合）は他のプロセス装置に不良が起因していると考えられる。この場合はその波形データは別のプロセス装置が起因しているとみなされるため、装置不良発生時の波形データに足し合わせない。また、正常時の基準波形としても足し合わせない。
【００５２】
一方、一致していない場合（波形データが異常な場合）は不良発生が波形データを収集しているプロセス装置に起因していると考えられる。
【００５３】
波形データ５３が良品時の基準波形５４に一致していない、即ち、波形データ５３が異常な場合は、基準波形５４と比較してどのように異常（上限値異常、下限値異常など）なのか、異常原因を取得する。更に検査結果から不良の種類、位置などの情報から一致する不良品時の基準波形が登録されているか（格納されているか）を、前記異常原因と前記不良の種類などに基づいて不良発生時の基準波形を探索する。ここでいう不良発生時の基準波形とは、不良の種類、不良の位置、基準波形と比較した際にどのように異常になったか（上限値異常、下限値異常など）といったことに基づいた基準波形である。探索した基準波形の中にこれらが一致している基準波形があれば、波形データ５３に一致している基準波形を足し合わせて新しい不良発生時の基準波形とする。
【００５４】
基準波形データファイル（図示せず）に格納されている不良発生時の基準波形５５は、探索された不良発生時の基準波形の例であって、不良が発生した場合の基準波形は、例えば不良１が発生した場合の基準波形群５６や、不良２が発生した場合の基準波形群５７等、発生した検査結果の条件や不良毎に基準波形は記憶されている。また、不良が発生した場合の基準波形毎に、上限値異常の基準波形と下限値異常の基準波形が設けられている。
【００５５】
不良１が発生した場合の基準波形群５６の内、例えば上限値異常の基準波形５８や下限値異常の基準波形５９は、過去に発生した異物不良（この場合は異物の大きさの不良とする）となった場合の基準波形から更新されたもので、異物の大きさ不良が発生した場合の例えば洗浄装置の消費電力や洗浄液の吐出圧力、洗浄液流量、洗浄液の液温等を示す良品時の基準波形に対して例えば±５％の上限値、下限値を超えたものの波形データから作られたものである。また不良２が発生した場合の基準波形群の内、不良１が異物の大きさ不良の場合であったとしたが、不良２が発生した場合の基準波形群は、例えば同じ異物不良でも、異物の高さ不良に関する不良発生時の基準波形であって上限値異常の基準波形が６０、下限値異常の基準波形が６１示されている過去の不良発生時の波形データから更新された基準波形である。
【００５６】
比較した結果、一致する不良発生時の基準波形が存在しない場合は、検査結果から不良の種類などの不良内容の情報を取り出し、それらの情報を紐付けて、その波形データを新たな不良発生時の基準波形として登録を行う（Ｆ−４）。６２は波形データ５３と同一なもので新たに作成された不良発生時の基準波形を示す。
【００５７】
また、不良発生時の基準波形にその時に行ったメンテナンス作業の情報などを紐付けて登録することで、その不良が発生した場合の対処方法などを纏めておくことができる。
【００５８】
一方、比較した結果、一致する不良発生時の基準波形が存在する場合は、不良発生時の基準波形６３（例えば、上限値異常の基準波形５３と一致した場合は波形データ６３）と波形データ５３を重ね合わせて、不良発生時の基準波形を自動的に作成し、更新を行う（Ｆ−５）。６４は更新された不良発生時の基準波形を示す。
【００５９】
波形データの比較は、検査を行う前に、各装置毎処理が終了次第、波形データを基準波形と比較して実施できる。波形データの比較フローを図８に示す。開始後（Ｓ−１）、プロセス装置の波形データを取得する（Ｓ−２）。取得した波形データと良品時の基準波形を比較し（Ｓ−３）、波形データが良品時の基準波形の上限値と下限値の中に入っているか否かの判断を行う（Ｓ−４）。良品時の基準波形の上限値と下限値の中に入っている場合は（（Ｓ−４）のＹＥＳ）、次に波形データが閾値を超えているか否かの判定を行う（Ｓ−５）。
【００６０】
製造処理装置の動作と製造条件を監視して装置データを得て、装置データから波形データを取得し、製造処理装置の終了次第、波形データと予め決められた閾値とを比較し、波形データが閾値を超えていた場合、製造装置の不良を予測することが出来る。
【００６１】
上記波形データが閾値を超えていないかどうかの判定（Ｓ−５）を行う理由は、プロセス装置は一般的に経時変化をするため、それに伴い波形データも微少な変化が続き、結果として検査結果に影響せずに、ある程度時間が経過してから不良が発生する可能性がある。また、良品時の基準波形は経時で変化していく波形データを重ねあわせていくため、経時変化している波形データでも検査装置からの検査結果が良品となる場合もあるため、良品時の基準波形も微少な経時変化をしていく。その結果、ある程度時間が経過して、プロセス装置が経時変化することによる不良が発生している場合においても、良品時の基準波形と波形データを比較しても、異常と判断されない可能性がある。
【００６２】
そこで、初期の波形データに対して上限、下限に閾値を設定し、その閾値を超えた場合には、波形データの経時変化による変化が許容できる範囲、即ち閾値を逸脱したと判断してデータ収集用ＰＣ上に経時変化による波形データの異常を通知し、波形データを表示させ、アラームを発生させることで、その部品の交換やメンテナンスを促す。その結果、例えば、モータの消費電力を測定し、消費電力が大幅に上昇した場合にはモータが故障あるいは故障直前であることが判定でき、モータの交換やメンテナンスを行うことが出来る。
【００６３】
波形データが閾値を超えていないと判定した場合は（（Ｓ−５）のＹＥＳ）、正常な装置動作が行われたと判断し終了する（Ｓ−１２）。また、波形データが閾値を超えた場合（（Ｓ−５）のＮＯ）には装置動作の異常が発生したと判断し、データ収集用ＰＣ上に異常が発生した波形データを表示し、アラームを発生し（Ｓ−６）、前記モータの交換やメンテナンスを行い、その後終了する（Ｓ−１２）。
【００６４】
一方、波形データが基準波形の上限値と下限値を超えている場合は（（Ｓ−４）のＮＯ）、波形データと不良発生時の基準波形を比較し、不良発生時の基準波形と一致した場合は（（Ｓ−８）のＹＥＳ）、波形データ、不良の情報（不良の種類、位置、メンテナンス情報など）をデータ収集用ＰＣ上に表示し、アラームを発生して（Ｓ−９）、その後終了する（Ｓ−１２）。これによって、発生した不良の種類等の不良内容を予測することが可能となり、プロセス装置の直後で検査装置によって検査結果が出される前にメンテナンスなどの対応をとることが出来、その結果同一の原因によって発生する不良を最小限にとどめることが出来る。
【００６５】
発生時の基準波形と一致しない場合は（（Ｓ−８）のＮＯ）、全ての不良発生時の基準波形との比較が終了したかどうかを判断し（Ｓ−１０）、全ての不良発生時の基準波形との比較が終了した場合は（（Ｓ−１０）のＹＥＳ）、波形データをデータ収集用ＰＣ上に表示し、アラームを発生して（Ｓ−１１）、その後終了する（Ｓ−１２）。
【００６６】
全ての不良発生時の基準波形との比較が終了していない場合は（（Ｓ−１０）のＮＯ）、更に波形データと別の不良発生時の基準波形を比較し（Ｓ−７）、不良発生時の基準波形と一致するか（（Ｓ−８）のＹＥＳ）、または、全て不良発生時の基準波形との比較が終了するまで、波形データと不良発生時の基準波形の比較を行う。
【００６７】
以上のように、本発明の装置データの自動基準波形作成方法及び不良情報の予測方法によれば、基準波形を更新することによってプロセス装置の時間経過による状態の変化にも対応が可能となり、またデータ量を増加するほど、良品を不良品と誤検査したり、不良品を良品と誤検査したりすることを防ぐことが可能となる。
【００６８】
また、波形データが良品時の基準波形と所定範囲内で一致していない場合は、更に不良品時の基準波形と比較し、不良品時の基準波形と所定範囲内で一致した場合には、発生する可能性のある不良情報を予測することが出来る。その結果、不良発生を抑制したり、同一の原因によるいわゆる共通不良の発生を最小限におさえることが出来る。
【００６９】
また、不良の基準波形に不良の種類や位置などの不良内容を紐付けすることによって、プロセス装置のメンテナンスや作業のマニュアル化などを行うことが可能となり、後に発生する不良の抑制が期待できる。
【符号の説明】
【００７０】
１・・・カラーフィルタ
２・・・ガラス基板
３・・・ブラックマトリックス
４ａ・・・レッドＲの着色画素
４ｂ・・・グリーンＧの着色画素
４ｃ・・・ブルーＢの着色画素
５・・・透明電極
６・・・フォトスペーサー
７・・・バーテイカルアライメント
１１・・・装置データ収集装置（ＥＥＳ）
１２・・・対象装置
１３・・・装置情報
１４・・・検査装置
１５・・・検査結果情報
１６・・・データ収集用ＰＣ
１７・・・ＩＤ情報
１８・・・ＬＣＳ
１９・・・波形データファイル
２０・・・基準波形データファイル
３１・・・抽出された波形データ
３２・・・選択された基準波形
３３・・・新たな基準波形３３
５０・・・検査装置
５１・・・検査結果情報
５２・・・取得済みの複数の波形データ
５３・・・波形データ
５４・・・良品時の基準波形
５５・・・不良発生時の基準波形
５６・・・不良１が発生した場合の基準波形群
５７・・・不良２が発生した場合の基準波形群
５８・・・上限値異常の基準波形
５９・・・下限値異常の基準波形
６０・・・上限値異常の基準波形
６１・・・下限値異常の基準波形
６２・・・新たに作成された不良発生時の基準波形
６３・・・不良発生時の基準波形
６４・・・更新された不良発生時の基準波形
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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