(57)【要約】【解決手段】一般式（１）2010105941.tif 000014［Ｒ1、Ｒ2は、同一又は異なるα位又はβ位に炭化水素基を有する炭素数３〜１０の１価の分岐状炭化水素基又は炭素数３〜１０の１価の環状炭化水素基、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5は同一又は異なる炭素数１〜２０の置換又は非置換炭化水素基、又は一般式（２）2010105941.tif 000015（Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9は同一又は異なる炭素数１〜２０の置換又は非置換炭化水素基である。）で示されるシロキシ基であり、Ｒ6は水素原子又はメチル基である。］で示される嵩高い置換基を有するシロキシ基含有シリル（メタ）アクリレート化合物。【効果】本発明により提供される嵩高い置換基を有するシロキシ基含有シリル（メタ）アクリレート化合物は加水分解速度が遅く、またアルキルメタクリレートと共重合させたポリマーは殺生物剤を微量添加、もしくは無添加で表面への水中生物の付着抑制を図ることができるため、船底塗料などの加水分解性自己研磨型ポリマーの原料として有用である。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（１）
【化１】
2010105941.tif 000010
［式中、Ｒ1、Ｒ2は、同一又は異なるα位又はβ位に炭化水素基を有する炭素数３〜１０の１価の分岐状炭化水素基又は炭素数３〜１０の１価の環状炭化水素基、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5は同一又は異なる炭素数１〜２０の置換又は非置換炭化水素基、又は下記一般式（２）
【化２】
2010105941.tif 000011
（式中、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9は同一又は異なる炭素数１〜２０の置換又は非置換炭化水素基である。）
で示されるシロキシ基であり、Ｒ6は水素原子又はメチル基である。］
で示される嵩高い置換基を有するシロキシ基含有シリル（メタ）アクリレート化合物。
【請求項２】
上記一般式（１）のＲ1、Ｒ2がイソプロピル基又はｓｅｃ−ブチル基である請求項１記載のシロキシ基含有シリル（メタ）アクリレート化合物。
【請求項３】
上記一般式（１）のＲ3、Ｒ4、Ｒ5がメチル基又はトリストリメチルシロキシ基である請求項１又は２記載のシロキシ基含有シリル（メタ）アクリレート化合物。
【請求項４】
下記一般式（３）
【化３】
2010105941.tif 000012
［式中、Ｒ1、Ｒ2は、同一又は異なるα位又はβ位に炭化水素基を有する炭素数３〜１０の１価の分岐状炭化水素基又は炭素数３〜１０の１価の環状炭化水素基、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5は同一又は異なる炭素数１〜２０の置換又は非置換炭化水素基、又は下記一般式（２）
【化４】
2010105941.tif 000013
（式中、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9は同一又は異なる炭素数１〜２０の置換又は非置換炭化水素基である。）
で示されるシロキシ基である。］
で示される嵩高い置換基を有するシロキシ基含有クロロシラン化合物と、アクリル酸又はメタクリル酸とを、塩基性化合物の存在下に反応させることを特徴とする請求項１記載のシロキシ基含有シリル（メタ）アクリレート化合物の製造方法。
【請求項５】
相間移動触媒を用いることを特徴とする請求項４記載のシロキシ基含有シリル（メタ）アクリレート化合物の製造方法。
【請求項６】
アクリル酸又はメタクリル酸１モルに対し、一般式（３）のクロロシラン化合物を０．５〜２．０モルの割合で反応させると共に、反応温度が−２０℃〜２００℃である請求項４又は５記載のシロキシ基含有シリル（メタ）アクリレート化合物の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、新規な嵩高い置換基を有するシロキシ基含有シリル（メタ）アクリレート化合物及びその製造方法に関する。この新規化合物は、船底塗料などの加水分解性自己研磨型ポリマーの原料として有用である。
【背景技術】
【０００２】
船底塗料などに含まれている加水分解性自己研磨型ポリマーとしては、これまで、トリブチルスズメタクリレートとメチルメタクリレート等との共重合体が用いられてきた。この共重合体は水中で加水分解され、ビストリブチルスズオキシドを放出し、加水分解されたポリマー部がカルボン酸になるため水溶性となり、水中に溶解し、常に活性な表面を保つことができる。
【０００３】
しかしながら、加水分解の際に放出するビストリブチルスズオキシドは毒性が強いため、水中を汚染し、生態系への悪影響が懸念されている。
【０００４】
そのため、スズを含有しないポリマーの開発が行われており、そのようなポリマーの例としては、特許第３０５３０８１号公報（特許文献１）、米国特許第４５９３０５５号明細書（特許文献２）に記載のトリブチルスズメタクリレートの代わりにトリブチルシリルメタクリレート、トリイソプロピルシリルアクリレート等のトリアルキルシリル（メタ）アクリレートを用い、アルキルメタクリレートと共重合させたものが挙げられる。
【０００５】
しかしながら、上記トリアルキルシリル（メタ）アクリレートとアルキルメタクリレートとの共重合体では、加水分解によるポリマーの自己研磨により放出される化合物が、水中生物の付着抑制には効果のないトリアルキルシラノールであり、またポリマー自体にも水中生物付着抑制効果がないため、水中生物の付着抑制のためには殺生物剤を同時に用いる必要がある。
【０００６】
殺生物剤を用いない、もしくは減量可能な加水分解性自己研磨型ポリマーとしては、例えば特開昭６３−２５３０９０号公報（特許文献３）記載のトリス（トリメチルシロキシ）シリル（メタ）アクリレート等のシロキシ基含有シリル（メタ）アクリレート化合物を用い、アルキルメタクリレートと共重合させたものが挙げられる。これらのポリマーはシロキシ基を有するため表面自由エネルギーが低く、表面への水中生物の付着抑制を図ることができる。そのため殺生物剤を微量添加、もしくは無添加で水中生物の付着を防止することができる。更に加水分解によるポリマーの自己研磨により、常に活性なシロキシ基含有ポリマー表面を保つことができるので、持続的な水中生物の付着抑制が可能である。しかしながら、上記シロキシ基含有シリル（メタ）アクリレート化合物では加水分解速度が速く、ポリマーが急激に溶出してしまい防汚効果が持続しないという問題点がある。そのため、加水分解に対して更に安定なシロキシ基含有シリル（メタ）アクリレート化合物が求められてきた。
【０００７】
【特許文献１】特許第３０５３０８１号公報
【特許文献２】米国特許第４５９３０５５号明細書
【特許文献３】特開昭６３−２５３０９０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は上記事情に鑑みなされたもので、より加水分解に対して安定なシロキシ基含有シリル（メタ）アクリレート化合物及びその製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者らは、上記目的を達成するため鋭意検討を重ねた結果、（メタ）アクリロイル基が結合するケイ素原子上に嵩高い置換基を導入したシロキシ基含有シリル（メタ）アクリレート化合物が、上述のシロキシ基含有シリル（メタ）アクリレート化合物に比べ、加水分解に対して更に安定であることを知見し、本発明を完成するに至ったものである。
【００１０】
従って、本発明は、下記一般式（１）
【化１】
2010105941.tif 000002
［式中、Ｒ1、Ｒ2は、同一又は異なるα位又はβ位に炭化水素基を有する炭素数３〜１０の１価の分岐状炭化水素基又は炭素数３〜１０の１価の環状炭化水素基、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5は同一又は異なる炭素数１〜２０の置換又は非置換炭化水素基、又は下記一般式（２）
【化２】
2010105941.tif 000003
（式中、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9は同一又は異なる炭素数１〜２０の置換又は非置換炭化水素基である。）
で示されるシロキシ基であり、Ｒ6は水素原子又はメチル基である。］
で示される嵩高い置換基を有するシロキシ基含有シリル（メタ）アクリレート化合物、及び、下記一般式（３）
【化３】
2010105941.tif 000004
［式中、Ｒ1、Ｒ2は、同一又は異なるα位又はβ位に炭化水素基を有する炭素数３〜１０の１価の分岐状炭化水素基又は炭素数３〜１０の１価の環状炭化水素基、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5は同一又は異なる炭素数１〜２０の置換又は非置換炭化水素基、又は下記一般式（２）
【化４】
2010105941.tif 000005
（式中、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9は同一又は異なる炭素数１〜２０の置換又は非置換炭化水素基である。）
で示されるシロキシ基である。］
で示される嵩高い置換基を有するシロキシ基含有クロロシラン化合物と、アクリル酸又はメタクリル酸とを、塩基性化合物の存在下に反応させることを特徴とする上記一般式（１）で示される嵩高い置換基を有するシロキシ基含有シリル（メタ）アクリレート化合物の製造方法を提供するものである。
【発明の効果】
【００１１】
本発明により提供される嵩高い置換基を有するシロキシ基含有シリル（メタ）アクリレート化合物は加水分解速度が遅く、またアルキルメタクリレートと共重合させたポリマーは殺生物剤を微量添加、もしくは無添加で表面への水中生物の付着抑制を図ることができるため、船底塗料などの加水分解性自己研磨型ポリマーの原料として有用である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
本発明の嵩高い置換基を有するシロキシ基含有シリル（メタ）アクリレート化合物は、下記一般式（１）
【化５】
2010105941.tif 000006
［式中、Ｒ1、Ｒ2は、同一又は異なるα位又はβ位に炭化水素基を有する炭素数３〜１０の１価の分岐状炭化水素基又は炭素数３〜１０の１価の環状炭化水素基、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5は同一又は異なる炭素数１〜２０の置換又は非置換炭化水素基、又は下記一般式（２）
【化６】
2010105941.tif 000007
（式中、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9は同一又は異なる炭素数１〜２０の置換又は非置換炭化水素基である。）
で示されるシロキシ基であり、Ｒ6は水素原子又はメチル基である。］
で示される化合物である。
【００１３】
ここで、Ｒ1、Ｒ2の炭素数３〜１０の分岐状炭化水素基及び環状炭化水素基としては、分岐状のアルキル基又はシクロアルキル基が好ましく、具体的にはイソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、１−メチルブチル基、１−エチルプロピル基、２−エチルヘキシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が例示され、特にイソプロピル基、ｓｅｃ−ブチル基が好ましい。
【００１４】
Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9の炭素数１〜２０の置換又は非置換炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基等のアルキル基；シクロペンチル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基；フェニル基等のアリール基；ベンジル基等のアラルキル基；ビニル基、アリル基等のアルケニル基等が例示される。なお、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5はメチル基又はトリストリメチルシロキシ基であることが好ましい。
【００１５】
上記一般式（１）で示される嵩高い置換基を有するシロキシ基含有シリル（メタ）アクリレート化合物の具体例としては、１−アクリロイルオキシ−１，１−ジイソプロピル−トリメチルジシロキサン、１−アクリロイルオキシ−１，１−ジイソプロピル−ペンタメチルトリシロキサン、１−アクリロイルオキシ−１，１−ジイソプロピル−３−トリメチルシロキシ−テトラメチルトリシロキサン、１−アクリロイルオキシ−１，１−ジイソプロピル−３，３−ビストリメチルシロキシ−トリメチルトリシロキサン、１−アクリロイルオキシ−１，１−ジ（ｓｅｃ−ブチル）−トリメチルジシロキサン、１−アクリロイルオキシ−１，１−ジ（ｓｅｃ−ブチル）−ペンタメチルトリシロキサン、１−アクリロイルオキシ−１，１−ジ（ｓｅｃ−ブチル）−３−トリメチルシロキシ−テトラメチルトリシロキサン、１−アクリロイルオキシ−１，１−ジ（ｓｅｃ−ブチル）−３，３−ビストリメチルシロキシ−トリメチルトリシロキサン、１−アクリロイルオキシ−１，１−ジイソブチル−トリメチルジシロキサン、１−アクリロイルオキシ−１，１−ジイソブチル−ペンタメチルトリシロキサン、１−アクリロイルオキシ−１，１−ジイソブチル−３−トリメチルシロキシ−テトラメチルトリシロキサン、１−アクリロイルオキシ−１，１−ジイソブチル−３，３−ビストリメチルシロキシ−トリメチルトリシロキサン、１−アクリロイルオキシ−１，１−ジイソプロピル−トリエチルジシロキサン、１−アクリロイルオキシ−１，１−ジイソプロピル−３，３−ジメチル−５，５，５−トリエチルトリシロキサン、１−アクリロイルオキシ−１，１−ジイソプロピル−３−トリエチルシロキシ−テトラメチルトリシロキサン、１−アクリロイルオキシ−１，１−ジイソプロピル−３，３−ビストリエチルシロキシ−トリメチルトリシロキサン、１−アクリロイルオキシ−１，１−ジ（ｓｅｃ−ブチル）−トリエチルジシロキサン、１−アクリロイルオキシ−１，１−ジ（ｓｅｃ−ブチル）−３，３−ジメチル−５，５，５−トリエチルトリシロキサン、１−アクリロイルオキシ−１，１−ジ（ｓｅｃ−ブチル）−３−トリエチルシロキシ−テトラメチルトリシロキサン、１−アクリロイルオキシ−１，１−ジ（ｓｅｃ−ブチル）−３，３−ビストリエチルシロキシ−トリメチルトリシロキサン、１−アクリロイルオキシ−１，１−ジイソブチル−トリエチルジシロキサン、１−アクリロイルオキシ−１，１−ジイソブチル−３，３−ジメチル−５，５，５−トリエチルトリシロキサン、１−アクリロイルオキシ−１，１−ジイソブチル−３−トリエチルシロキシ−テトラメチルトリシロキサン、１−アクリロイルオキシ−１，１−ジイソブチル−３，３−ビストリエチルシロキシ−トリメチルトリシロキサン、１−アクリロイルオキシ−１，１−ジイソプロピル−３−ｔ−ブチルジメチルジシロキサン、１−アクリロイルオキシ−１，１−ジイソプロピル−５−ｔ−ブチルトリメチルトリシロキサン、１−アクリロイルオキシ−１，１−ジイソプロピル−３−（ｔ−ブチルジメチルシロキシ）−テトラメチルトリシロキサン、１−アクリロイルオキシ−１，１−ジイソプロピル−３，３−ビス（ｔ−ブチルジメチルシロキシ）−トリメチルトリシロキサン、１−アクリロイルオキシ−１，１−ジ（ｓｅｃ−ブチル）−３−ｔ−ブチルジメチルジシロキサン、１−アクリロイルオキシ−１，１−ジ（ｓｅｃ−ブチル）−５−ｔ−ブチルトリメチルトリシロキサン、１−アクリロイルオキシ−１，１−ジ（ｓｅｃ−ブチル）−３−（ｔ−ブチルジメチルシロキシ）−テトラメチルトリシロキサン、１−アクリロイルオキシ−１，１−ジ（ｓｅｃ−ブチル）−３，３−ビス（ｔ−ブチルジメチルシロキシ）−トリメチルトリシロキサン、１−アクリロイルオキシ−１，１，３，３，３−ペンタイソプロピルジシロキサン、１−アクリロイルオキシ−１，１，５，５，５−ペンタイソプロピル−ジメチルトリシロキサン、１−アクリロイルオキシ−１，１−ジイソプロピル−３−（トリイソプロピルシロキシ）−テトラメチルトリシロキサン、１−アクリロイルオキシ−１，１−ジイソプロピル−３，３−ビス（トリイソプロピルシロキシ）−トリメチルトリシロキサン、１−アクリロイルオキシ−１，１−ジ（ｓｅｃ−ブチル）−３，３，３−トリイソプロピルジシロキサン、１−アクリロイルオキシ−１，１−ジ（ｓｅｃ−ブチル）−５，５，５−トリイソプロピルジメチルトリシロキサン、１−アクリロイルオキシ−１，１−ジ（ｓｅｃ−ブチル）−３−（トリイソプロピルシロキシ）−テトラメチルトリシロキサン、１−アクリロイルオキシ−１，１−ジ（ｓｅｃ−ブチル）−３，３−ビス（トリイソプロピルシロキシ）−トリメチルトリシロキサン、１−アクリロイルオキシ−１，１−ジイソブチル−３，３，３−トリイソプロピルジシロキサン、１−アクリロイルオキシ−１，１−ジイソブチル−５，５，５−トリイソプロピルジメチルトリシロキサン、１−アクリロイルオキシ−１，１−ジイソブチル−３−（トリイソプロピルシロキシ）−テトラメチルトリシロキサン、１−アクリロイルオキシ−１，１−ジイソブチル−３，３−ビス（トリイソプロピルシロキシ）−トリメチルトリシロキサン、１−メタクリロイルオキシ−１，１−ジイソプロピル−トリメチルジシロキサン、１−メタクリロイルオキシ−１，１−ジイソプロピル−ペンタメチルトリシロキサン、１−メタクリロイルオキシ−１，１−ジイソプロピル−３−トリメチルシロキシ−テトラメチルトリシロキサン、１−メタクリロイルオキシ−１，１−ジイソプロピル−３，３−ビストリメチルシロキシ−トリメチルトリシロキサン、１−メタクリロイルオキシ−１，１−ジ（ｓｅｃ−ブチル）−トリメチルジシロキサン、１−メタクリロイルオキシ−１，１−ジ（ｓｅｃ−ブチル）−ペンタメチルトリシロキサン、１−メタクリロイルオキシ−１，１−ジ（ｓｅｃ−ブチル）−３−トリメチルシロキシ−テトラメチルトリシロキサン、１−メタクリロイルオキシ−１，１−ジ（ｓｅｃ−ブチル）−３，３−ビストリメチルシロキシ−トリメチルトリシロキサン、１−メタクリロイルオキシ−１，１−ジイソブチル−トリメチルジシロキサン、１−メタクリロイルオキシ−１，１−ジイソブチル−ペンタメチルトリシロキサン、１−メタクリロイルオキシ−１，１−ジイソブチル−３−トリメチルシロキシ−テトラメチルトリシロキサン、１−メタクリロイルオキシ−１，１−ジイソブチル−３，３−ビストリメチルシロキシ−トリメチルトリシロキサン、１−メタクリロイルオキシ−１，１−ジイソプロピル−トリエチルジシロキサン、１−メタクリロイルオキシ−１，１−ジイソプロピル−３，３−ジメチル−５，５，５−トリエチルトリシロキサン、１−メタクリロイルオキシ−１，１−ジイソプロピル−３−トリエチルシロキシ−テトラメチルトリシロキサン、１−メタクリロイルオキシ−１，１−ジイソプロピル−３，３−ビストリエチルシロキシ−トリメチルトリシロキサン、１−メタクリロイルオキシ−１，１−ジ（ｓｅｃ−ブチル）−トリエチルジシロキサン、１−メタクリロイルオキシ−１，１−ジ（ｓｅｃ−ブチル）−３，３−ジメチル−５，５，５−トリエチルトリシロキサン、１−メタクリロイルオキシ−１，１−ジ（ｓｅｃ−ブチル）−３−トリエチルシロキシ−テトラメチルトリシロキサン、１−メタクリロイルオキシ−１，１−ジ（ｓｅｃ−ブチル）−３，３−ビストリエチルシロキシ−トリメチルトリシロキサン、１−メタクリロイルオキシ−１，１−ジイソブチル−トリエチルジシロキサン、１−メタクリロイルオキシ−１，１−ジイソブチル−３，３−ジメチル−５，５，５−トリエチルトリシロキサン、１−メタクリロイルオキシ−１，１−ジイソブチル−３−トリエチルシロキシ−テトラメチルトリシロキサン、１−メタクリロイルオキシ−１，１−ジイソブチル−３，３−ビストリエチルシロキシ−トリメチルトリシロキサン、１−メタクリロイルオキシ−１，１−ジイソプロピル−３−ｔ−ブチルジメチルジシロキサン、１−メタクリロイルオキシ−１，１−ジイソプロピル−５−ｔ−ブチルトリメチルトリシロキサン、１−メタクリロイルオキシ−１，１−ジイソプロピル−３−（ｔ−ブチルジメチルシロキシ）−テトラメチルトリシロキサン、１−メタクリロイルオキシ−１，１−ジイソプロピル−３，３−ビス（ｔ−ブチルジメチルシロキシ）−トリメチルトリシロキサン、１−メタクリロイルオキシ−１，１−ジ（ｓｅｃ−ブチル）−３−ｔ−ブチルジメチルジシロキサン、１−メタクリロイルオキシ−１，１−ジ（ｓｅｃ−ブチル）−５−ｔ−ブチルトリメチルトリシロキサン、１−メタクリロイルオキシ−１，１−ジ（ｓｅｃ−ブチル）−３−（ｔ−ブチルジメチルシロキシ）−テトラメチルトリシロキサン、１−メタクリロイルオキシ−１，１−ジ（ｓｅｃ−ブチル）−３，３−ビス（ｔ−ブチルジメチルシロキシ）−トリメチルトリシロキサン、１−メタクリロイルオキシ−１，１，３，３，３−ペンタイソプロピルジシロキサン、１−メタクリロイルオキシ−１，１，５，５，５−ペンタイソプロピル−ジメチルトリシロキサン、１−メタクリロイルオキシ−１，１−ジイソプロピル−３−（トリイソプロピルシロキシ）−テトラメチルトリシロキサン、１−メタクリロイルオキシ−１，１−ジイソプロピル−３，３−ビス（トリイソプロピルシロキシ）−トリメチルトリシロキサン、１−メタクリロイルオキシ−１，１−ジ（ｓｅｃ−ブチル）−３，３，３−トリイソプロピルジシロキサン、１−メタクリロイルオキシ−１，１−ジ（ｓｅｃ−ブチル）−５，５，５−トリイソプロピルジメチルトリシロキサン、１−メタクリロイルオキシ−１，１−ジ（ｓｅｃ−ブチル）−３−（トリイソプロピルシロキシ）−テトラメチルトリシロキサン、１−メタクリロイルオキシ−１，１−ジ（ｓｅｃ−ブチル）−３，３−ビス（トリイソプロピルシロキシ）−トリメチルトリシロキサン、１−メタクリロイルオキシ−１，１−ジイソブチル−３，３，３−トリイソプロピルジシロキサン、１−メタクリロイルオキシ−１，１−ジイソブチル−５，５，５−トリイソプロピルジメチルトリシロキサン、１−メタクリロイルオキシ−１，１−ジイソブチル−３−（トリイソプロピルシロキシ）−テトラメチルトリシロキサン、１−メタクリロイルオキシ−１，１−ジイソブチル−３，３−ビス（トリイソプロピルシロキシ）−トリメチルトリシロキサン等が例示される。
【００１６】
また、本発明における上記一般式（１）で示される嵩高い置換基を有するシロキシ基含有シリル（メタ）アクリレート化合物の製造方法は、例えば、下記一般式（３）
【化７】
2010105941.tif 000008
［式中、Ｒ1、Ｒ2は、同一又は異なるα位又はβ位に炭化水素基を有する炭素数３〜１０の１価の分岐状炭化水素基又は炭素数３〜１０の１価の環状炭化水素基、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5は同一又は異なる炭素数１〜２０の置換又は非置換炭化水素基、又は下記一般式（２）
【化８】
2010105941.tif 000009
（式中、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9は同一又は異なる炭素数１〜２０の置換又は非置換炭化水素基である。）
で示されるシロキシ基である。］
で示される嵩高い置換基を有するシロキシ基含有クロロシラン化合物と、アクリル酸又はメタクリル酸とを、塩基性化合物の存在下に反応させて製造する方法が挙げられる。
【００１７】
上記一般式（３）におけるＲ1、Ｒ2及びＲ3〜Ｒ9は上述したものが挙げられる。
【００１８】
また、上記一般式（３）で示される嵩高い置換基を有するシロキシ基含有クロロシラン化合物の具体例としては、１−クロロ−１，１−ジイソプロピル−トリメチルジシロキサン、１−クロロ−１，１−ジイソプロピル−ペンタメチルトリシロキサン、１−クロロ−１，１−ジイソプロピル−３−トリメチルシロキシ−テトラメチルトリシロキサン、１−クロロ−１，１−ジイソプロピル−３，３−ビストリメチルシロキシ−トリメチルトリシロキサン、１−クロロ−１，１−ジ（ｓｅｃ−ブチル）−トリメチルジシロキサン、１−クロロ−１，１−ジ（ｓｅｃ−ブチル）−ペンタメチルトリシロキサン、１−クロロ−１，１−ジ（ｓｅｃ−ブチル）−３−トリメチルシロキシ−テトラメチルトリシロキサン、１−クロロ−１，１−ジ（ｓｅｃ−ブチル）−３，３−ビストリメチルシロキシ−トリメチルトリシロキサン、１−クロロ−１，１−ジイソブチル−トリメチルジシロキサン、１−クロロ−１，１−ジイソブチル−ペンタメチルトリシロキサン、１−クロロ−１，１−ジイソブチル−３−トリメチルシロキシ−テトラメチルトリシロキサン、１−クロロ−１，１−ジイソブチル−３，３−ビストリメチルシロキシ−トリメチルトリシロキサン、１−クロロ−１，１−ジイソプロピル−トリエチルジシロキサン、１−クロロ−１，１−ジイソプロピル−３，３−ジメチル−５，５，５−トリエチルトリシロキサン、１−クロロ−１，１−ジイソプロピル−３−トリエチルシロキシ−テトラメチルトリシロキサン、１−クロロ−１，１−ジイソプロピル−３，３−ビストリエチルシロキシ−トリメチルトリシロキサン、１−クロロ−１，１−ジ（ｓｅｃ−ブチル）−トリエチルジシロキサン、１−クロロ−１，１−ジ（ｓｅｃ−ブチル）−３，３−ジメチル−５，５，５−トリエチルトリシロキサン、１−クロロ−１，１−ジ（ｓｅｃ−ブチル）−３−トリエチルシロキシ−テトラメチルトリシロキサン、１−クロロ−１，１−ジ（ｓｅｃ−ブチル）−３，３−ビストリエチルシロキシ−トリメチルトリシロキサン、１−クロロ−１，１−ジイソブチル−トリエチルジシロキサン、１−クロロ−１，１−ジイソブチル−３，３−ジメチル−５，５，５−トリエチルトリシロキサン、１−クロロ−１，１−ジイソブチル−３−トリエチルシロキシ−テトラメチルトリシロキサン、１−クロロ−１，１−ジイソブチル−３，３−ビストリエチルシロキシ−トリメチルトリシロキサン、１−クロロ−１，１−ジイソプロピル−３−ｔ−ブチルジメチルジシロキサン、１−クロロ−１，１−ジイソプロピル−５−ｔ−ブチルトリメチルトリシロキサン、１−クロロ−１，１−ジイソプロピル−３−（ｔ−ブチルジメチルシロキシ）−テトラメチルトリシロキサン、１−クロロ−１，１−ジイソプロピル−３，３−ビス（ｔ−ブチルジメチルシロキシ）−トリメチルトリシロキサン、１−クロロ−１，１−ジ（ｓｅｃ−ブチル）−３−ｔ−ブチルジメチルジシロキサン、１−クロロ−１，１−ジ（ｓｅｃ−ブチル）−５−ｔ−ブチルトリメチルトリシロキサン、１−クロロ−１，１−ジ（ｓｅｃ−ブチル）−３−（ｔ−ブチルジメチルシロキシ）−テトラメチルトリシロキサン、１−クロロ−１，１−ジ（ｓｅｃ−ブチル）−３，３−ビス（ｔ−ブチルジメチルシロキシ）−トリメチルトリシロキサン、１−クロロ−１，１，３，３，３−ペンタイソプロピルジシロキサン、１−クロロ−１，１，５，５，５−ペンタイソプロピル−ジメチルトリシロキサン、１−クロロ−１，１−ジイソプロピル−３−（トリイソプロピルシロキシ）−テトラメチルトリシロキサン、１−クロロ−１，１−ジイソプロピル−３，３−ビス（トリイソプロピルシロキシ）−トリメチルトリシロキサン、１−クロロ−１，１−ジ（ｓｅｃ−ブチル）−３，３，３−トリイソプロピルジシロキサン、１−クロロ−１，１−ジ（ｓｅｃ−ブチル）−５，５，５−トリイソプロピルジメチルトリシロキサン、１−クロロ−１，１−ジ（ｓｅｃ−ブチル）−３−（トリイソプロピルシロキシ）−テトラメチルトリシロキサン、１−クロロ−１，１−ジ（ｓｅｃ−ブチル）−３，３−ビス（トリイソプロピルシロキシ）−トリメチルトリシロキサン、１−クロロ−１，１−ジイソブチル−３，３，３−トリイソプロピルジシロキサン、１−クロロ−１，１−ジイソブチル−５，５，５−トリイソプロピルジメチルトリシロキサン、１−クロロ−１，１−ジイソブチル−３−（トリイソプロピルシロキシ）−テトラメチルトリシロキサン、１−クロロ−１，１−ジイソブチル−３，３−ビス（トリイソプロピルシロキシ）−トリメチルトリシロキサン等が例示される。
【００１９】
アクリル酸又はメタクリル酸と上記一般式（３）で示される嵩高い置換基を有するシロキシ基含有クロロシラン化合物の配合比は特に限定されないが、反応性、生産性の点から、アクリル酸又はメタクリル酸１モルに対し、嵩高い置換基を有するシロキシ基含有クロロシラン化合物０．５〜２．０モル、特に０．８〜１．２モルの範囲が好ましい。
【００２０】
上記反応では、反応中に生じる塩酸を、塩基性化合物を用いて脱塩酸するものである。塩基性化合物としては、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、エチルジイソプロピルアミン、ピリジン、ジメチルアミノピリジン、ジメチルアニリン、メチルイミダゾール、テトラメチルエチレンジアミン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデセン−７、アンモニア、イミダゾール、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド等が例示される。
【００２１】
塩基性化合物の添加量は特に限定されないが、反応性及び生産性の点から、アクリル酸又はメタクリル酸１モルに対し、０．５〜２．０モル、特に０．８〜１．５モルの範囲が好ましい。塩基性化合物が０．５モル未満だと十分に脱塩酸が行われず反応が未達になる可能性があり、２．０モルを超えると、塩基性化合物の量に見合うだけの反応促進効果がみられない可能性がある。
【００２２】
また、上記反応において、反応促進の目的で相間移動触媒を用いることもできる。相間移動触媒としては、４級アンモニウム塩、４級ホスホニウム塩、クラウンエーテル等が例示されるが、工業的入手の容易さ、安価であることから４級アンモニウム塩が好ましい。
【００２３】
４級アンモニウム塩として、具体的には、テトラメチルアンモニウムクロライド、テトラメチルアンモニウムブロマイド、テトラエチルアンモニウムクロライド、テトラエチルアンモニウムブロマイド、テトラプロピルアンモニウムクロライド、テトラプロピルアンモニウムブロマイド、テトラブチルアンモニウムクロライド、テトラブチルアンモニウムブロマイド、トリオクチルメチルアンモニウムクロライド、トリオクチルメチルアンモニウムブロマイド、ベンジルトリメチルアンモニウムクロライド、ベンジルトリメチルアンモニウムブロマイド、セチルトリメチルアンモニウムクロライド、セチルトリメチルアンモニウムブロマイド等が例示される。
【００２４】
相間移動触媒の使用量は、特に限定されないが、反応性、生産性の点から、アクリル酸又はメタクリル酸１モルに対し、０．０００１〜０．１モル、特に０．００１〜０．０５モルの範囲が好ましい。
【００２５】
また、反応温度は特に限定されないが、常圧又は加圧下で−２０℃〜２００℃、特に０℃〜１５０℃が好ましい。
【００２６】
なお、反応は無溶媒でも進行するが、溶媒を用いることもできる。用いられる溶媒としては、例えばペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、イソオクタン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒、アセトニトリル、ジメチルスルホキシド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ヘキサメチルホスホリックトリアミド等の非プロトン性極性溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム等の塩素化炭化水素溶媒等が例示される。これらの溶媒は単独で用いてもよく、２種類以上を混合して用いてもよい。
【００２７】
また、上記の反応において、重合を防止するために、ヒドロキノン、ｐ−メトキシフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール等の重合禁止剤を添加してもよい。
【００２８】
反応終了後にはアミン化合物の塩酸塩が生じるが、これは反応液を濾過、又は水、エチレンジアミン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデセン−７等を添加し、分離する等の方法により除去できる。以上のようにして塩を除去した反応液からは、蒸留等の通常の方法で目的物を回収することができる。
【実施例】
【００２９】
以下、実施例及び実験例を示して本発明を具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるものではない。
【００３０】
［実施例１］１−アクリロイルオキシ−１，１−ジイソプロピル−３，３−ビストリメチルシロキシ−トリメチルトリシロキサンの合成
撹拌機、還流冷却器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに、１−クロロ−１，１−ジイソプロピル−３，３−ビストリメチルシロキシ−トリメチルトリシロキサン（４６．１ｇ、０．１ｍｏｌ）、トリエチルアミン（１１．１ｇ、０．１１ｍｏｌ）、トルエン（３０ｍｌ）、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール０．０５ｇを仕込み、室温にてアクリル酸（７．６ｇ、０．１０５ｍｏｌ）を１時間かけて滴下し、その後２時間撹拌した。生じた塩酸塩を濾過により除去した後、蒸留した。沸点１３２℃／０．４ｋＰａの留分を３８．６ｇ得た。
【００３１】
得られた留分の質量スペクトル、1Ｈ−ＮＭＲスペクトル、ＩＲスペクトルを測定した。
質量スペクトル
ｍ／ｚ    ４８１，４５３，２６７，７３，５５
1Ｈ−ＮＭＲスペクトル（重クロロホルム溶媒）
図１にチャートで示す。
ＩＲスペクトル
図２にチャートで示す。
以上の結果より、得られた化合物は１−アクリロイルオキシ−１，１−ジイソプロピル−３，３−ビストリメチルシロキシ−トリメチルトリシロキサンであることが確認された。
【００３２】
［実施例２］１−メタクリロイルオキシ−１，１−ジイソプロピル−３，３−ビストリメチルシロキシ−トリメチルトリシロキサンの合成
撹拌機、還流冷却器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに、１−クロロ−１，１−ジイソプロピル−３，３−ビストリメチルシロキシ−トリメチルトリシロキサン（４６．１ｇ、０．１ｍｏｌ）、トリエチルアミン（１１．１ｇ、０．１１ｍｏｌ）、トルエン（３０ｍｌ）、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール０．０５ｇを仕込み、室温にてメタクリル酸（９．０ｇ、０．１０５ｍｏｌ）を１時間かけて滴下し、その後２時間撹拌した。生じた塩酸塩を濾過により除去した後、蒸留した。沸点１０５−１０８℃／３０ｋＰａの留分を４３．７ｇ得た。
【００３３】
得られた留分の質量スペクトル、1Ｈ−ＮＭＲスペクトル、ＩＲスペクトルを測定した。
質量スペクトル
ｍ／ｚ    ４９５，４６７，２６７，７３，６９，４１
1Ｈ−ＮＭＲスペクトル（重クロロホルム溶媒）
図３にチャートで示す。
ＩＲスペクトル
図４にチャートで示す。
以上の結果より、得られた化合物は１−メタクリロイルオキシ−１，１−ジイソプロピル−３，３−ビストリメチルシロキシ−トリメチルトリシロキサンであることが確認された。
【００３４】
［実施例３］１−アクリロイルオキシ−１，１−ジ（ｓｅｃ−ブチル）−３，３−ビストリメチルシロキシ−トリメチルトリシロキサンの合成
撹拌機、還流冷却器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに、１−クロロ−１，１−ジ（ｓｅｃ−ブチル）−３，３−ビストリメチルシロキシ−トリメチルトリシロキサン（４８．９ｇ、０．１ｍｏｌ）、トリエチルアミン（１１．１ｇ、０．１１ｍｏｌ）、トルエン（３０ｍｌ）、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール０．０５ｇを仕込み、室温にてアクリル酸（７．６ｇ、０．１０５ｍｏｌ）を１時間かけて滴下し、その後２時間撹拌した。生じた塩酸塩を濾過により除去した後、蒸留した。沸点１４７−１４８℃／０．３ｋＰａの留分を４３．５ｇ得た。
【００３５】
得られた留分の質量スペクトル、1Ｈ−ＮＭＲスペクトル、ＩＲスペクトルを測定した。
質量スペクトル
ｍ／ｚ    ５０９，４６７，２６７，７３，５５
1Ｈ−ＮＭＲスペクトル（重クロロホルム溶媒）
図５にチャートで示す。
ＩＲスペクトル
図６にチャートで示す。
以上の結果より、得られた化合物は１−アクリロイルオキシ−１，１−ジ（ｓｅｃ−ブチル）−３，３−ビストリメチルシロキシ−トリメチルトリシロキサンであることが確認された。
【００３６】
［実施例４］１−メタクリロイルオキシ−１，１−ジ（ｓｅｃ−ブチル）−３，３−ビストリメチルシロキシ−トリメチルトリシロキサンの合成
撹拌機、還流冷却器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに、１−クロロ−１，１−ジ（ｓｅｃ−ブチル）−３，３−ビストリメチルシロキシ−トリメチルトリシロキサン（４８．９ｇ、０．１ｍｏｌ）、トリエチルアミン（１１．１ｇ、０．１１ｍｏｌ）、トルエン（３０ｍｌ）、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール０．０５ｇを仕込み、室温にてメタクリル酸（９．０ｇ、０．１０５ｍｏｌ）を１時間かけて滴下し、その後２時間撹拌した。生じた塩酸塩を濾過により除去した後、蒸留した。沸点１５０℃／０．３ｋＰａの留分を３９．５ｇ得た。
【００３７】
得られた留分の質量スペクトル、1Ｈ−ＮＭＲスペクトル、ＩＲスペクトルを測定した。
質量スペクトル
ｍ／ｚ    ５２３，４８１，２６７，７３，６９，４１
1Ｈ−ＮＭＲスペクトル（重クロロホルム溶媒）
図７にチャートで示す。
ＩＲスペクトル
図８にチャートで示す。
以上の結果より、得られた化合物は１−メタクリロイルオキシ−１，１−ジ（ｓｅｃ−ブチル）−３，３−ビストリメチルシロキシ−トリメチルトリシロキサンであることが確認された。
【００３８】
［実施例５］１−アクリロイルオキシ−１，１−ジイソプロピル−３−トリメチルシロキシ−テトラメチルトリシロキサンの合成
撹拌機、還流冷却器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに、１−クロロ−１，１−ジイソプロピル−３−トリメチルシロキシ−テトラメチルトリシロキサン（３８．７ｇ、０．１ｍｏｌ）、トリエチルアミン（１１．１ｇ、０．１１ｍｏｌ）、トルエン（３０ｍｌ）、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール０．０４ｇを仕込み、室温にてアクリル酸（７．６ｇ、０．１０５ｍｏｌ）を１時間かけて滴下し、その後２時間撹拌した。生じた塩酸塩を濾過により除去した後、蒸留した。沸点１２０℃／０．３ｋＰａの留分を３６．１ｇ得た。
【００３９】
得られた留分の質量スペクトル、1Ｈ−ＮＭＲスペクトル、ＩＲスペクトルを測定した。
質量スペクトル
ｍ／ｚ    ４０７，３７９，２８１，７３，５５
1Ｈ−ＮＭＲスペクトル（重クロロホルム溶媒）
図９にチャートで示す。
ＩＲスペクトル
図１０にチャートで示す。
以上の結果より、得られた化合物は１−アクリロイルオキシ−１，１−ジイソプロピル−３−トリメチルシロキシ−テトラメチルトリシロキサンであることが確認された。
【００４０】
［実施例６］１−アクリロイルオキシ−１，１−ジイソプロピル−ペンタメチルトリシロキサンの合成
撹拌機、還流冷却器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに、１−クロロ−１，１−ジイソプロピル−ペンタメチルトリシロキサン（３１．３ｇ、０．１ｍｏｌ）、トリエチルアミン（１１．１ｇ、０．１１ｍｏｌ）、トルエン（３０ｍｌ）、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール０．０４ｇを仕込み、室温にてアクリル酸（７．６ｇ、０．１０５ｍｏｌ）を１時間かけて滴下し、その後２時間撹拌した。生じた塩酸塩を濾過により除去した後、蒸留した。沸点１０３℃／０．４ｋＰａの留分を２７．４ｇ得た。
【００４１】
得られた留分の質量スペクトル、1Ｈ−ＮＭＲスペクトル、ＩＲスペクトルを測定した。
質量スペクトル
ｍ／ｚ    ３３３，３０５，２０７，７３，５５
1Ｈ−ＮＭＲスペクトル（重クロロホルム溶媒）
図１１にチャートで示す。
ＩＲスペクトル
図１２にチャートで示す。
以上の結果より、得られた化合物は１−アクリロイルオキシ−１，１−ジイソプロピル−ペンタメチルトリシロキサンであることが確認された。
【００４２】
［実施例７］１−アクリロイルオキシ−１，１−ジイソプロピル−トリメチルジシロキサンの合成
撹拌機、還流冷却器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに、１−クロロ−１，１−ジイソプロピル−トリメチルジシロキサン（４７．８ｇ、０．２ｍｏｌ）、トリエチルアミン（２２．３ｇ、０．２２ｍｏｌ）、トルエン（６０ｍｌ）、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール０．０６ｇを仕込み、室温にてアクリル酸（１５．１ｇ、０．２１ｍｏｌ）を１時間かけて滴下し、その後２時間撹拌した。生じた塩酸塩を濾過により除去した後、蒸留した。沸点８２℃／０．４ｋＰａの留分を４６．３ｇ得た。
【００４３】
得られた留分の質量スペクトル、1Ｈ−ＮＭＲスペクトル、ＩＲスペクトルを測定した。
質量スペクトル
ｍ／ｚ    ２５９，２３１，１３３，７３，５５
1Ｈ−ＮＭＲスペクトル（重クロロホルム溶媒）
図１３にチャートで示す。
ＩＲスペクトル
図１４にチャートで示す。
以上の結果より、得られた化合物は１−アクリロイルオキシ−１，１−ジイソプロピル−トリメチルジシロキサンであることが確認された。
【００４４】
以下、実験例を示す。なお、下記例で％は質量％である。
［実験例１］１−アクリロイルオキシ−１，１−ジイソプロピル−３，３−ビストリメチルシロキシ−トリメチルトリシロキサンとトリス（トリメチルシロキシ）シリルアクリレートとの加水分解性比較
撹拌機、還流冷却器及び温度計を備えたフラスコに、水０．５ｇ、テトラヒドロフラン７．５ｇ、１−アクリロイルオキシ−１，１−ジイソプロピル−３，３−ビストリメチルシロキシ−トリメチルトリシロキサン２．５ｇ（０．００５ｍｏｌ）、トリス（トリメチルシロキシ）シリルアクリレート１．８ｇ（０．００５ｍｏｌ）、内部標準としてキシレン１ｇを仕込み、室温で撹拌し、３時間後のシロキシ基含有シリルアクリレートの加水分解反応の進行度合いをガスクロマトグラフィー分析により定量した。その結果、１−アクリロイルオキシ−１，１−ジイソプロピル−３，３−ビストリメチルシロキシ−トリメチルトリシロキサンが加水分解反応によりアクリル酸と１−ヒドロキシ−１，１−ジイソプロピル−３，３−ビストリメチルシロキシ−トリメチルトリシロキサンに変化した割合は２％にすぎなかったが、トリス（トリメチルシロキシ）シリルアクリレートが加水分解反応によりアクリル酸とトリス（トリメチルシロキシ）シラノールに変化した割合は１０％であり、１−アクリロイルオキシ−１，１−ジイソプロピル−３，３−ビストリメチルシロキシ−トリメチルトリシロキサンはトリス（トリメチルシロキシ）シリルアクリレートに比べ加水分解に対して安定であることが明らかとなった。
【００４５】
［実験例２］１−アクリロイルオキシ−１，１−ジ（ｓｅｃ−ブチル）−３，３−ビストリメチルシロキシ−トリメチルトリシロキサンとトリス（トリメチルシロキシ）シリルアクリレートとの加水分解性比較
撹拌機、還流冷却器及び温度計を備えたフラスコに、水０．５ｇ、テトラヒドロフラン７．５ｇ、１−アクリロイルオキシ−１，１−ジ（ｓｅｃ−ブチル）−３，３−ビストリメチルシロキシ−トリメチルトリシロキサン２．６ｇ（０．００５ｍｏｌ）、トリス（トリメチルシロキシ）シリルアクリレート１．８ｇ（０．００５ｍｏｌ）、内部標準としてキシレン１ｇを仕込み、室温で撹拌し、３時間後のシロキシ基含有シリルアクリレートの加水分解反応の進行度合いをガスクロマトグラフィー分析により定量した。その結果、１−アクリロイルオキシ−１，１−ジ（ｓｅｃ−ブチル）−３，３−ビストリメチルシロキシ−トリメチルトリシロキサンが加水分解反応によりアクリル酸と１−ヒドロキシ−１，１−ジ（ｓｅｃ−ブチル）−３，３−ビストリメチルシロキシ−トリメチルトリシロキサンに変化した割合は１％にすぎなかったが、トリス（トリメチルシロキシ）シリルアクリレートが加水分解反応によりアクリル酸とトリス（トリメチルシロキシ）シラノールに変化した割合は１０％であり、１−アクリロイルオキシ−１，１−ジ（ｓｅｃ−ブチル）−３，３−ビストリメチルシロキシ−トリメチルトリシロキサンはトリス（トリメチルシロキシ）シリルアクリレートに比べ加水分解に対して安定であることが明らかとなった。
【図面の簡単な説明】
【００４６】
【図１】実施例１で得られた１−アクリロイルオキシ−１，１−ジイソプロピル−３，３−ビストリメチルシロキシ−トリメチルトリシロキサンの1Ｈ−ＮＭＲスペクトルである。
【図２】実施例１で得られた１−アクリロイルオキシ−１，１−ジイソプロピル−３，３−ビストリメチルシロキシ−トリメチルトリシロキサンのＩＲスペクトルである。
【図３】実施例２で得られた１−メタクリロイルオキシ−１，１−ジイソプロピル−３，３−ビストリメチルシロキシ−トリメチルトリシロキサンの1Ｈ−ＮＭＲスペクトルである。
【図４】実施例２で得られた１−メタクリロイルオキシ−１，１−ジイソプロピル−３，３−ビストリメチルシロキシ−トリメチルトリシロキサンのＩＲスペクトルである。
【図５】実施例３で得られた１−アクリロイルオキシ−１，１−ジ（ｓｅｃ−ブチル）−３，３−ビストリメチルシロキシ−トリメチルトリシロキサンの1Ｈ−ＮＭＲスペクトルである。
【図６】実施例３で得られた１−アクリロイルオキシ−１，１−ジ（ｓｅｃ−ブチル）−３，３−ビストリメチルシロキシ−トリメチルトリシロキサンのＩＲスペクトルである。
【図７】実施例４で得られた１−メタクリロイルオキシ−１，１−ジ（ｓｅｃ−ブチル）−３，３−ビストリメチルシロキシ−トリメチルトリシロキサンの1Ｈ−ＮＭＲスペクトルである。
【図８】実施例４で得られた１−メタクリロイルオキシ−１，１−ジ（ｓｅｃ−ブチル）−３，３−ビストリメチルシロキシ−トリメチルトリシロキサンのＩＲスペクトルである。
【図９】実施例５で得られた１−アクリロイルオキシ−１，１−ジイソプロピル−３−トリメチルシロキシ−テトラメチルトリシロキサンの1Ｈ−ＮＭＲスペクトルである。
【図１０】実施例５で得られた１−アクリロイルオキシ−１，１−ジイソプロピル−３−トリメチルシロキシ−テトラメチルトリシロキサンのＩＲスペクトルである。
【図１１】実施例６で得られた１−アクリロイルオキシ−１，１−ジイソプロピル−ペンタメチルトリシロキサンの1Ｈ−ＮＭＲスペクトルである。
【図１２】実施例６で得られた１−アクリロイルオキシ−１，１−ジイソプロピル−ペンタメチルトリシロキサンのＩＲスペクトルである。
【図１３】実施例７で得られた１−アクリロイルオキシ−１，１−ジイソプロピル−トリメチルジシロキサンの1Ｈ−ＮＭＲスペクトルである。
【図１４】実施例７で得られた１−アクリロイルオキシ−１，１−ジイソプロピル−トリメチルジシロキサンのＩＲスペクトルである。
【図１】
2010105941.tif 000016
【図２】
2010105941.tif 000017
【図３】
2010105941.tif 000018
【図４】
2010105941.tif 000019
【図５】
2010105941.tif 000020
【図６】
2010105941.tif 000021
【図７】
2010105941.tif 000022
【図８】
2010105941.tif 000023
【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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