(57)【要約】【課題】共通電極とその共通電極から引き出された端子部とを確実に電気的に接続する。【解決手段】カラーフィルタ１７がそれぞれ形成された透明基板１１に透明導電膜１８を形成して、各カラーフィルタ１７を覆う共通電極１８ａ及び共通電極１８ａからブラックマトリクス１４の外側に引き出された端子部１８ｂを形成する透明導電膜形成工程よりも前に、ブラックマトリクス１４の外枠部１４ａよりも外側に突出したレジスト層１３の外側端部１３ｃを露光した後に加熱することにより、その外側端部１３ｃをブラックマトリクス１４の側端面を覆うように融解させる融解工程を含む。【選択図】図３
2010039269.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板に対して金属膜を形成した後、該金属膜の表面に枠状に且つ該枠内に格子状に形成されたレジスト層を形成し、該レジスト層をマスクとして等方性エッチングによって上記金属膜をパターニングすることにより、ブラックマトリクスを形成するブラックマトリクス形成工程と、
上記ブラックマトリクスによって区画された上記透明基板の各領域にカラーフィルタをそれぞれ形成するカラーフィルタ形成工程と、
上記カラーフィルタがそれぞれ形成された透明基板に透明導電膜を形成して、上記各カラーフィルタを覆う共通電極及び該共通電極から上記ブラックマトリクスの外側に引き出された端子部を形成する透明導電膜形成工程とを含むカラーフィルタ基板の製造方法であって、
上記透明導電膜形成工程よりも前に、上記ブラックマトリクスの外枠部よりも外側に突出した上記レジスト層の外側端部を露光した後に加熱することにより、該外側端部を上記ブラックマトリクスの側端面を覆うように融解させる融解工程を含む
ことを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項２】
請求項１に記載のカラーフィルタ基板の製造方法において、
上記融解工程では、上記ブラックマトリクスをマスクとして上記レジスト層の外側端部に上記透明基板における上記ブラックマトリクスとは反対側から光を照射する
ことを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項３】
透明基板と、
上記透明基板上に枠状に且つ該枠内に格子状に形成された金属製のブラックマトリクスと、
上記ブラックマトリクス上に該ブラックマトリクスを形成するためのマスクとして設けられたレジスト層と、
上記ブラックマトリクスによって区画された上記透明基板の各領域にそれぞれ設けられたカラーフィルタと、
上記各カラーフィルタを覆うように設けられた共通電極と、
上記共通電極から上記ブラックマトリクスの外側に引き出して設けられた端子部とを備えるカラーフィルタ基板であって、
上記レジスト層の外枠部における外側端部は、上記ブラックマトリクスの側端面を覆っている
ことを特徴とするカラーフィルタ基板。
【請求項４】
請求項３に記載のカラーフィルタ基板と、
上記カラーフィルタ基板に対向して配置されて複数のスイッチング素子を有する素子基板と、
上記カラーフィルタ基板と上記素子基板との間に設けられた液晶層とを備える
ことを特徴とする液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、カラーフィルタ基板及びその製造方法、並びに液晶表示装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来から、液晶表示装置として、複数色の画素を有してカラー画像の表示を行うカラー液晶表示装置が知られている。このカラー液晶表示装置は、複数のカラーフィルタを有するカラーフィルタ基板と、カラーフィルタ基板に対向して配置されて複数の薄膜トランジスタ（Thin Film Transistor、以下、ＴＦＴと称する）を有するＴＦＴ基板と、これらカラーフィルタ基板とＴＦＴ基板との間に設けられた液晶層とを備えている。
【０００３】
図１３は、従来のカラーフィルタ基板の一部を拡大して概略的に示す断面図である。
【０００４】
カラーフィルタ基板には、図１３に示すように、ガラス基板１００の表面に枠状に且つその枠内に格子状に形成された金属製のブラックマトリクス１０１が設けられ、このブラックマトリクス１０１に区画された各領域にカラーフィルタ１０２がそれぞれ設けられている。金属製のブラックマトリクス１０１は遮光率が比較的高いので比較的薄く形成されているのに対し、各カラーフィルタ１０２は色純度等を十分に得るためにブラックマトリクス１０１よりも厚く形成されている。
【０００５】
そして、ブラックマトリクス１０１上には、図中に示すように、そのブラックマトリクス１０１を形成する際にマスクとして用いたレジスト層１０３が積層されたままの状態で残されている（例えば、特許文献１参照）。これにより、ブラックマトリクス１０１と各カラーフィルタ１０２との段差を減少させてその段差による液晶分子の配向乱れを抑制し、且つレジスト層を除去する工程をなくしている。
【０００６】
さらに、このカラーフィルタ基板には、各カラーフィルタ１０２を覆うように共通電極１０４が設けられ、この共通電極１０４からブラックマトリクス１０１の外側に引き出されて端子部１０５が設けられている。
【特許文献１】特開平１１−３８２２４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ところで、レジスト層をマスクとして金属膜をウェットエッチングすることによりブラックマトリクスを形成すると、金属膜がレジスト層の側端よりも内側にまで等方的にエッチングされるいわゆるエッチングシフトが発生するため、図１３に示すように、ブラックマトリクス１０１がレジスト層１０３の内側に形成され、レジスト層１０３の側端部がブラックマトリクス１０１よりも側方に突出して庇状部分１０３ａが形成される。
【０００８】
このようにレジスト層１０３に庇状部分１０３ａが形成されると、ブラックマトリクスの外枠部１０１ａよりも外側に突出した庇状部分１０３ａとガラス基板１００との間に隙間ｓが形成されるため、その後に共通電極１０４と共に端子部１０５を形成する際に共通電極１０４から端子部１０５を引き出す引き出し部分においてその庇状部分１０３ａを覆うことが難しく、共通電極１０４と端子部１０５とが電気的に接続され難い。
【０００９】
本発明は、斯かる諸点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、共通電極とその共通電極から引き出された端子部とを確実に電気的に接続することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記の目的を達成するために、この発明では、各カラーフィルタを覆う共通電極及びその共通電極から上記ブラックマトリクスの外側に引き出された端子部を形成するよりも前に、ブラックマトリクスの外枠部よりも外側に突出したレジスト層の外側端部を露光した後に加熱することにより、その外側端部をブラックマトリクスの側端面を覆うように融解させるようにした。
【００１１】
具体的に、本発明に係るカラーフィルタ基板の製造方法は、透明基板に対して金属膜を形成した後、該金属膜の表面に枠状に且つ該枠内に格子状に形成されたレジスト層を形成し、該レジスト層をマスクとして等方性エッチングによって上記金属膜をパターニングすることにより、ブラックマトリクスを形成するブラックマトリクス形成工程と、上記ブラックマトリクスによって区画された上記透明基板の各領域にカラーフィルタをそれぞれ形成するカラーフィルタ形成工程と、上記カラーフィルタがそれぞれ形成された透明基板に透明導電膜を形成して、上記各カラーフィルタを覆う共通電極及び該共通電極から上記ブラックマトリクスの外側に引き出された端子部を形成する透明導電膜形成工程とを含むカラーフィルタ基板の製造方法であって、上記透明導電膜形成工程よりも前に、上記ブラックマトリクスの外枠部よりも外側に突出した上記レジスト層の外側端部を露光した後に加熱することにより、該外側端部を上記ブラックマトリクスの側端面を覆うように融解させる融解工程を含むことを特徴とする。
【００１２】
この製造方法によると、カラーフィルタがそれぞれ形成された透明基板に透明導電膜を形成して、各カラーフィルタを覆うように設けられた共通電極及びその共通電極からブラックマトリクスの外側に引き出された端子部を形成する透明導電膜形成工程よりも前に、ブラックマトリクスの外枠部よりも外側に突出したレジスト層の外側端部を露光した後に加熱することにより、その外側端部をブラックマトリクスの側端面を覆うように融解させる融解工程を行う。この融解工程によってレジスト層の外側端部と透明基板との間の隙間がレジスト層の融解された外側端部によって埋められてなくなるため、透明導電膜形成工程において、端子部の引き出し部分によりレジスト層の外側端部が良好に覆われ、共通電極と端子部とが確実に電気的に接続される。
【００１３】
ところで、各カラーフィルタ及びレジスト層を覆うようにオーバーコート層を形成してそのオーバーコート層上に共通電極及びその共通電極の端子部を形成することによっても共通電極と端子部とを確実に電気的に接続することが可能になるが、オーバーコート層をフォトリソグラフィーによって形成する場合には、そのオーバーコート層を形成するためにレジスト塗布工程、硬化工程、露光工程、現像工程及び洗浄工程等の複数の工程の追加が必要となるため、製造工程が大幅に増加する。また、フォトリソグラフィーによるパターニングを行わずにオーバーコート層を形成するとしても、レジスト塗布工程、硬化工程及び洗浄工程等の複数の工程の追加が必要となり、製造工程が増加する。
【００１４】
これに対して、本発明に係るカラーフィルタ基板の製造方法では、オーバーコート層を形成することなく共通電極と端子部とが確実に電気的に接続されることにより、オーバーコート層を形成するための複数の工程が不要であるため、製造工程の増加が抑制される。
【００１５】
上記融解工程では、上記ブラックマトリクスをマスクとして上記レジスト層の外側端部に上記透明基板における上記ブラックマトリクスとは反対側から光を照射することが好ましい。
【００１６】
この製造方法によると、ブラックマトリクスをマスクとしてレジスト層の外側端部に光を照射することにより、ブラックマトリクスとは別個のマスクの準備及びそのマスクとレジスト層が設けられた透明基板との位置合わせ等を行う必要がないため、レジスト層の外側端部への露光を容易に行うことが可能になる。
【００１７】
また、本発明に係るカラーフィルタ基板は、透明基板と、上記透明基板上に枠状に且つ該枠内に格子状に形成された金属製のブラックマトリクスと、上記ブラックマトリクス上に該ブラックマトリクスを形成するためのマスクとして設けられたレジスト層と、上記ブラックマトリクスによって区画された上記透明基板の各領域にそれぞれ設けられたカラーフィルタと、上記各カラーフィルタを覆うように設けられた共通電極と、上記共通電極から上記ブラックマトリクスの外側に引き出して設けられた端子部とを備えるカラーフィルタ基板であって、上記レジスト層の外枠部における外側端部は、上記ブラックマトリクスの側端面を覆っていることを特徴とする。
【００１８】
この構成によると、金属製のブラックマトリクス上にそのブラックマトリクスを形成するためのマスクとして設けられたレジスト層の外枠部における外側端部がブラックマトリクスの側端面を覆っている。このように構成されたカラーフィルタ基板は、各カラーフィルタを覆う共通電極及びその共通電極からブラックマトリクスの外側に引き出された端子部を形成するよりも前に、ブラックマトリクスの外枠部よりも外側に突出したレジスト層の外側端部を露光した後に加熱することにより、その外側端部をブラックマトリクスの側端面を覆うように融解させて形成される。そのことにより、共通電極及び端子部を形成するよりも前に、レジスト層の外側端部と透明基板との間の隙間がレジスト層の融解された外側端部によって埋められてなくなるため、その後に共通電極及び端子部を形成した際に、端子部の引き出し部分によってレジスト層の外側端部が良好に覆われ、共通電極と端子部とが確実に電気的に接続される。
【００１９】
そして、各カラーフィルタ及びレジスト層を覆うようにオーバーコート層を形成してそのオーバーコート層上に共通電極及びその共通電極の端子部を形成することで共通電極と端子部とを確実に電気的に接続する場合に比べて、オーバーコート層を形成するための複数の工程が不要であるため、製造工程の増加が抑制される。
【００２０】
また、本発明に係る液晶表示装置は、上記カラーフィルタ基板と、上記カラーフィルタ基板に対向して配置されて複数のスイッチング素子を有する素子基板と、上記カラーフィルタ基板と上記素子基板との間に設けられた液晶層とを備えることを特徴とする。
【００２１】
この構成によると、上記カラーフィルタ基板を備えているので、液晶表示装置においても本発明の作用効果が具体的に奏される。
【発明の効果】
【００２２】
本発明によれば、カラーフィルタがそれぞれ形成された透明基板に透明導電膜を形成して、各カラーフィルタを覆う共通電極及びその共通電極からブラックマトリクスの外側に引き出された端子部を形成する透明導電膜形成工程よりも前に、ブラックマトリクスの外枠部よりも外側に突出したレジスト層の外側端部を露光した後に加熱することにより、その外側端部をブラックマトリクスの側端面を覆うように融解させる融解工程を行うので、共通電極と端子部とを確実に電気的に接続できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。尚、本発明は、以下の各実施形態に限定されるものではない。
【００２４】
《発明の実施形態１》
図１〜図１２は、本発明の実施形態１を示している。図１は、液晶表示装置１の構成を概略的に示す断面図である。図２は、液晶表示装置１を構成するカラーフィルタ基板１０を概略的に示す平面図である。図３は、図２のIII−III線に沿ってカラーフィルタ基板１０の一部を概略的に示す断面図である。図４は、液晶表示装置１を構成してカラーフィルタ基板１０に対向して配置された基板２０の一部を概略的に示す平面図である。尚、図２では、後述の共通電極１８ａを透過して各カラーフィルタ１７を図示している。
【００２５】
液晶表示装置１は、カラー画像の表示を行うカラー液晶表示装置であり、図１に示すように、液晶表示パネル５と、液晶表示パネル５の背面側（図中下側）に配置されたバックライトユニット４０と、液晶表示パネル５に信号を供給して液晶表示パネル５の駆動を制御する制御回路部（図示省略）とを備えている。
【００２６】
液晶表示パネル５は、図１に示すように、複数のカラーフィルタ１７を有するカラーフィルタ基板１０と、カラーフィルタ基板１０に対向して配置されてスイッチング素子である複数の薄膜トランジスタ（Thin Film Transistor、以下、ＴＦＴと称する）２４を有するＴＦＴ基板２０と、これらカラーフィルタ基板１０とＴＦＴ基板２０との間に設けられた液晶層３０とを備えている。
【００２７】
カラーフィルタ基板１０及びＴＦＴ基板２０は、矩形状等に形成され、液晶層３０側の表面に配向膜３１，３２がそれぞれ設けられていると共に、液晶層３０とは反対側の表面に偏光板３３，３４がそれぞれ設けれている。これらカラーフィルタ基板１０とＴＦＴ基板２０との間には枠状のシール材３５が配置されており、このシール材３５の内側に液晶材料が封入されていることにより、上記液晶層３０が構成されている。シール材３５は、エポキシ樹脂等からなり、内部に導電粒子が分散されている。
【００２８】
この液晶表示パネル５は、画像表示を行う表示領域Ｄ、及び表示領域Ｄの外側に配置されて画像表示に寄与しない非表示領域である額縁領域Ｆを有している。図示は省略するが、表示領域Ｄは、マトリクス状に配置された複数の画素から構成され、各行において列方向に赤色、緑色及び青色等の複数色の画素が順に繰り返し配置されている。
【００２９】
カラーフィルタ基板１０は、図２に示すように、矩形状の透明基板であるガラス基板１１を有し、図３に示すように、そのガラス基板１１上に表示領域Ｄを囲むように枠状に且つその枠内に格子状に形成されたブラックマトリクス１４が形成されている。このブラックマトリクス１４は、例えば低反射クロム（Ｃｒ）層又は低反射ニッケル（Ｎｉ）系合金層等の遮光性を有する金属層が積層されて構成されている。
【００３０】
尚、ブラックマトリクス１４は、本実施形態において金属層が積層されて構成されているとしているが、低反射クロム（Ｃｒ）層等の単層の金属層によって構成されていてもよい。
【００３１】
このブラックマトリクス１４上には、そのブラックマトリクス１４を形成する際にマスクとして用いたレジスト層１３がブラックマトリクス１４に重なるようにそのブラックマトリクス１４に沿って枠状に且つその枠内に格子状に設けられている。このレジスト層１３は、ブラックマトリクス１４を覆うように設けられており、外枠部１３ａの両側端部（外側端部及び内側端部）及び外枠部１３ａの内側で互いに交差して格子状をなす複数の線状部１３ｂの両側端部（以下、これらを合わせて単に側端部と称する）がブラックマトリクス１４の側端面全体を覆ってガラス基板１１側に広がるように形成されている。
【００３２】
また、レジスト層１３に覆われたブラックマトリクス１４によって区画されたガラス基板１１の各領域には、図３に示すように、カラーフィルタ１７がそれぞれ設けられている。これら複数のカラーフィルタ１７は各画素に対応する色をそれぞれ有し、図２に示すように、各行において列方向に赤色、緑色及び青色のカラーフィルタ１７ｒ，１７ｇ，１７ｂが順に繰り返し配置されている。
【００３３】
さらに、このカラーフィルタ基板１０には、図２及び図３に示すように、表示領域Ｄを覆うようにＩＴＯ（Indium Tin Oxide）等の透明導電材料からなる透明導電膜１８が設けられている。この透明導電膜１８は、各カラーフィルタ１７を覆うように設けられた共通電極１８ａ、及びその共通電極１８ａからブラックマトリクス１４の外枠部１４ａの外側にガラス基板１１の各辺に向かってそれぞれ引き出して設けられた複数の端子部１８ｂから構成されている。
【００３４】
ＴＦＴ基板２０には、表示領域Ｄに、図４に示すように、互いに平行に延びる複数のソース線２１、各ソース線２１に交差するように互いに平行に延びる複数のゲート線２２、及び各ゲート線２２の間でそれら各ゲート線２２と平行に延びる複数の補助容量線２３が設けられている。
【００３５】
そして、各ソース線２１と各ゲート線２２との交差部付近にはスイッチング素子であるＴＦＴ２４がそれぞれ設けられており、これら各ＴＦＴ２４は各交差部をなすソース線２１及びゲート線２２に接続されている。そして、各ＴＦＴ２４には、各カラーフィルタ１７にそれぞれ対向するようにマトリクス状に設けられた複数の画素電極２５が電気的に接続されている。これら各画素電極２５は各補助容量線２３に絶縁膜（図示省略）を介して重なるように設けられ、これら各画素電極２５と各補助容量線２３との間に各画素電極２５に書き込まれた電位を保持するための補助容量が構成されている。
【００３６】
このＴＦＴ基板２０の額縁領域Ｆには、図示は省略するが、各ソース線２１に電気的に接続されてこれら各ソース線２１を駆動させるソースドライバ部と、各ゲート線２２に電気的に接続されてこれら各ゲート線２２を駆動させるゲートドライバ部とが設けられている。これら各ドライバ部は、制御回路部に電気的に接続され、その制御回路部から出力された信号に基づき、所定の各ソース線２１及び各ゲート線２２にソース信号及びゲート信号を出力するように構成されている。
【００３７】
また、このＴＦＴ基板２０の額縁領域Ｆには、図示は省略するが、制御回路部に電気的に接続されたコモン配線がシール材３５に重なるように環状等に形成されている。このコモン配線には、カラーフィルタ基板１０の各端子部１８ｂにシール材３５を介して重なるように複数のコモン転移端子部が形成されている。これら各コモン転移端子部は、シール材３５中の導電粒子を介してカラーフィルタ基板１０の各端子部１８ｂにそれぞれ電気的に接続されている。
【００３８】
バックライトユニット４０は、液晶表示パネル５のＴＦＴ基板２０側に取り付けられている。このバックライトユニット４０は、図示は省略するが、蛍光管やＬＥＤ（Light Emitting Diode）等の光源、その光源から出射された光を液晶表示パネル５側に導光する導光部材、及びその導光部材の液晶表示パネル５側に設けられた複数の光学シート等がシャーシに配置された構造を有し、液晶表示パネル５へ光を照射するように構成されている。
【００３９】
このように、液晶表示装置１は、制御回路部から各ドライバ部及びコモン配線に出力された信号に基づいて、各画素電極２５と共通電極１８ａとの間で液晶層３０に電圧を印加して液晶分子の配向を制御し、これにより各画素におけるバックライトユニット４０から照射される光の透過量を調整することにより、所望の画像表示を行うように構成されている。
【００４０】
−製造方法−
次に、上記液晶表示装置１の製造方法について説明する。
【００４１】
液晶表示装置１の製造方法には、液晶表示パネル作製工程と、実装工程とが含まれる。
【００４２】
（液晶表示パネル作製工程）
液晶表示パネル作製工程では、カラーフィルタ基板１０及びＴＦＴ基板２０をそれぞれ作製して両基板１０，２０に配向膜３１，３２を形成した後、これら両基板１０，２０をシール材３５を介して互いに貼り合わせると共に、そのシール材３５によって両基板１０，２０の間に液晶層３０を封入することによって液晶表示パネル５を作製する。本発明に係る液晶表示装置１は、特にカラーフィルタ基板１０に特徴があるので、カラーフィルタ基板１０の作製方法について、以下に図５〜図１２を参照しながら詳述する。図５〜図１２は、カラーフィルタ基板１０の作製方法を説明するための図であり、図３に対応する箇所を示す断面図である。
【００４３】
カラーフィルタ基板１０の作製方法には、ブラックマトリクス形成工程と、融解工程と、カラーフィルタ形成工程と、透明導電膜形成工程とが含まれる。
【００４４】
（ブラックマトリクス形成工程）
ブラックマトリクス形成工程では、まず、図５に示すように、ガラス基板１１の全面に対してスパッタ法等によって低反射クロム（Ｃｒ）膜又は低反射ニッケル（Ｎｉ）系合金膜等の金属膜を連続して積層することによって金属積層膜（例えば厚さ１５０ｎｍ程度）１２を形成する。次に、その金属積層膜１２の全面にスピンコート法によってノボラック系フォトレジスト等のレジスト膜を形成した後、そのレジスト膜をフォトリソグラフィーによってパターニングし、図６に示すように、枠状に且つその枠内に格子状に形成されたレジスト層１３を形成する。
【００４５】
その後、レジスト層１３をマスクとして硝酸第二セリウム塩溶液又は硝酸アンモニウム混合液等のエッチング液を用いたウェットエッチングによって、図７に示すように、金属積層膜１２をパターニングすることにより、ブラックマトリクス１４を形成する。このとき、金属積層膜１２がレジスト層１３の側端よりも内側にまで等方的にエッチングされるいわゆるエッチングシフトが発生し、ブラックマトリクス１４がレジスト層１３の内側に形成される。これにより、レジスト層１３の側端部がブラックマトリクス１４よりも側方に突出してガラス基板１１との間に隙間ｓを有する庇状部分１３ｃが形成される。
【００４６】
（融解工程）
次に行う融解工程では、図８に示すように、ガラス基板１１におけるブラックマトリクス１４とは反対側からガラス基板１１全面に紫外線を照射し、ブラックマトリクス１４をマスクとしてレジスト層１３の庇状部分１３ｃ全体を露光して感光させる。ここで、図８中の矢印１５は、紫外線を照射する方向を示している。このとき、ブラックマトリクス１４の外枠部１４ａよりも外側に突出したレジスト層１３の外側端部である庇状部分１３ｃも露光されて感光する。そのことにより、感光した庇状部分１３ｃは、露光量に比例して紫外線によって感光する感光基の分子結合が減少するため熱リフロー特性が向上する。
【００４７】
その後、アニール装置を用いてレジスト層を２２０℃程度で加熱する。そのことにより、図９に示すように、先の露光によって比較的高い熱リフロー特性を有する庇状部分１３ｃが融解されて、レジスト層１３の庇状部分１３ｃとガラス基板１１との間の隙間ｓがその融解された庇状部分１３ｃによって埋められてなくなると共に、その庇状部分をなす側端部１３ｃがブラックマトリクス１２の側端面を覆ってガラス基板１１側に広がるように形成される。
【００４８】
この融解工程においてレジスト層１３の庇状部分１３ｃに必要な露光量は、レジスト層１３の適正な露光量（レジスト層１３が現像液に十分に可溶する露光量）からレジスト層１３中における感光剤が全て感光する露光量（適正な露光量の７〜８倍程度の露光量）程度までの範囲であり、レジスト層１３に対するブラックマトリクス１４のエッチングシフトの幅、ブラックマトリクス１４の厚み及び庇状部分をなす側端部１３ｃが融解後になすガラス基板１１に対する角度を考慮して適宜調整する。
【００４９】
尚、本実施形態の融解工程では、紫外線でレジスト層１３の庇状部分１３ｃを露光するとしたが、Ｘ線等の他の光でレジスト層の庇状部分を露光してもよい。この場合には、照射する光に合わせたレジスト材料（例えばＸ線を照射する場合にはＸ線レジスト材料）でレジスト層を形成しておく必要がある。
【００５０】
（カラーフィルタ形成工程）
次に行うカラーフィルタ形成工程では、まず、図１０に示すようにスピンコート法等によってレジスト層１３を覆うようにガラス基板１１全面に赤色樹脂膜１６を塗布し、図１１に示すようにフォトリソグラフィーによって赤色樹脂膜１６をパターニングすることで赤色の各カラーフィルタ１７ｒを形成する。続いて、赤色の各カラーフィルタ１７ｒの形成と同様に、色樹脂膜の塗布及びフォトリソグラフィーをさらに２回繰り返し行うことにより、図１２に示すように、緑色及び青色の各カラーフィルタ１７ｇ，１７ｂを連続して形成する。
【００５１】
尚、本実施形態では、色樹脂膜を塗布した後にその色樹脂膜をフォトリソグラフィーによってパターニングして各カラーフィルタ１７を形成するとしているが、印刷法や染色法等のその他の公知の方法によって各カラーフィルタ１７を形成してもよい。
【００５２】
（透明導電膜形成工程）
その後行う透明導電膜形成工程では、成膜を行う領域に開口を有するマスクを介してスパッタリングを行うマスクスパッタリングにより、各カラーフィルタ１７が形成されたガラス基板１１に透明導電膜（例えば厚さ１５０ｎｍ程度）１８を形成して、各カラーフィルタ１７を覆う共通電極１８ａ、及びその共通電極１８ａからブラックマトリクス１４の外側にそれぞれ引き出された各端子部１８ｂを形成する。以上の工程を行って、ブラックマトリクス１４上にレジスト層１３が残された状態のカラーフィルタ基板１０が作製される。
【００５３】
（実装工程）
実装工程では、液晶表示パネル作製工程で作製された液晶表示パネル５に対し、両面に偏光板３３，３４を貼り付けた後、各ドライバ部、制御回路部及びバックライトユニット４０を実装する。
【００５４】
−実施形態１の効果−
したがって、この実施形態１によると、カラーフィルタ１７がそれぞれ形成されたガラス基板１１に透明導電膜１８を形成して、各カラーフィルタ１７を覆うように設けられた共通電極１８ａ及びその共通電極１８ａからブラックマトリクス１４の外側に引き出された複数の端子部１８ｂを形成する透明導電膜形成工程よりも前に、レジスト層１３の庇状部分１３ｃを露光した後に加熱することにより、その庇状部分１３ｃをブラックマトリクス１４の側端面を覆うように融解させる融解工程を行う。この融解工程によってレジスト層１３の庇状部分１３ｃとガラス基板１１との間の隙間ｓがレジスト層１３の融解された庇状部分１３ｃによって埋められてなくなるため、透明導電膜形成工程において、各端子部１８ｂの引き出し部分によりレジスト層１３の外側端部１３ｃを良好に覆うことができ、共通電極１８ａと各端子部１８ｂとを確実に電気的に接続できる。
【００５５】
ところで、各カラーフィルタ及びレジスト層を覆うようにオーバーコート層を形成してそのオーバーコート層上に共通電極及びその共通電極の端子部を形成することによっても共通電極と端子部とを確実に電気的に接続することが可能になるが、オーバーコート層をフォトリソグラフィーによって形成する場合には、そのオーバーコート層を形成するためにレジスト塗布工程、硬化工程、露光工程、現像工程及び洗浄工程等の複数の工程の追加が必要となるため、製造工程が大幅に増加する。また、フォトリソグラフィーによるパターニングを行わずにオーバーコート層を形成するとしても、レジスト塗布工程、硬化工程及び洗浄工程等の複数の工程の追加が必要となり、製造工程が増加する。
【００５６】
これに対して、本実施形態のカラーフィルタ基板１０の製造方法では、オーバーコート層を形成することなく共通電極１８ａと端子部１８ｂとを確実に電気的に接続できることにより、オーバーコート層を形成するための複数の工程が不要であるため、製造工程の増加を抑制できる。
【００５７】
さらに、融解工程において、ブラックマトリクス１４をマスクとしてレジスト層１３の庇状部分１３ｃにガラス基板１１におけるブラックマトリクス１４とは反対側から光を照射することにより、ブラックマトリクス１４とは別個のマスクの準備及びそのマスクとレジスト層１３が設けられたガラス基板１１との位置合わせ等を行う必要がないため、レジスト層１３の庇状部分１３ｃへの露光を容易に行うことができる。
【００５８】
《その他の実施形態》
上記実施形態１では、融解工程においてレジスト層１３の庇状部分１３ｃ全体を露光して感光させるとしたが、本発明はこれに限られず、ブラックマトリクス１４の外枠部１４ａよりも外側に突出したレジスト層１３の外側端部がなす庇状部分１３ｃのみを露光して感光させてもよい。このようにしても、その後にレジスト層１３を加熱してレジスト層１３の感光した庇状部分１３ｃをブラックマトリクス１４の側端面を覆うように融解させることにより、レジスト層１３の外側端部がなす庇状部分１３ｃとガラス基板１１との間の隙間ｓがレジスト層１３の融解された庇状部分１３ｃによって埋められてなくなるため、透明導電膜形成工程において、各端子部１８ｂの引き出し部分によりレジスト層１３の外側端部１３ｃを良好に覆うことができ、共通電極１８ａと端子部１８ｂとを確実に電気的に接続することが可能になる。
【００５９】
上記実施形態１では、液晶表示装置１が複数のＴＦＴ２４を有するＴＦＴ基板２０を備えているとしたが、本発明はこれに限られず、液晶表示装置１は、ＴＦＴ基板２０に代えてＭＩＭ（Metal Insulator Metal）素子等のその他のスイッチング素子を複数有する素子基板を備えていてもよい。
【産業上の利用可能性】
【００６０】
以上説明したように、本発明は、カラーフィルタ基板及びその製造方法、並びに液晶表示装置について有用であり、特に、共通電極とその共通電極から引き出された端子部とを確実に電気的に接続することが要望されるカラーフィルタ基板及びその製造方法、並びに液晶表示装置に適している。
【図面の簡単な説明】
【００６１】
【図１】実施形態１の液晶表示装置の構成を概略的に示す断面図である。
【図２】実施形態１のカラーフィルタ基板を概略的に示す平面図である。
【図３】図２のIII−III線断面を概略的に示す図である。
【図４】ＴＦＴ基板の一部を概略的に示す平面図である。
【図５】ガラス基板上に金属積層膜を形成した状態を概略的に示す断面図である。
【図６】金属積層膜の表面にレジスト層を形成した状態を概略的に示す断面図である。
【図７】ブラックマトリクスを形成した状態を概略的に示す断面図である。
【図８】レジスト層の庇状部分を露光している状態を示す断面図である。
【図９】加熱によってレジスト層の庇状部分が融解された状態を概略的に示す断面図である。
【図１０】レジスト層を覆うように赤色樹脂膜が塗布された状態を概略的に示す断面図である
【図１１】赤色の各カラーフィルタが形成された状態を概略的に示す断面図である。
【図１２】各色のカラーフィルタが形成された状態を概略的に示す断面図である。
【図１３】従来のカラーフィルタ基板の一部を概略的に示す断面図である。
【符号の説明】
【００６２】
１    液晶表示装置
１０    カラーフィルタ基板
１１    ガラス基板（透明基板）
１２    金属積層膜（金属膜）
１３    レジスト層
１３ａ    レジスト層の外枠部
１３ｃ    レジスト層の庇状部分（外側端部）
１４    ブラックマトリクス
１４ａ    ブラックマトリクスの枠状部
１７    カラーフィルタ
１８    透明導電膜
１８ａ    共通電極
１８ｂ    端子部
２０    ＴＦＴ基板（素子基板）
２５    ＴＦＴ（スイッチング素子）
３０    液晶層
４０    バックライトユニット
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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