(57)【要約】【課題】基板上に、現像工程における線幅安定性が高く、表面が平滑なパターンを形成しうる紫外光レーザー露光用感光性樹脂組成物およびパターン形成方法、特に、カラーフィルタの着色画素などの形成に好適な、紫外光レーザー露光用感光性樹脂組成物およびパターン形成方法を提供し、それを用いた色特性が良好で、且つ安価なカラーフィルタ、およびそのカラーフィルタを備えるコントラスト、及び色純度の高い画質の表示装置を提供する。【解決手段】（Ａ）樹脂、（Ｂ）エチレン性不飽和化合物、（Ｃ）光重合開始剤、および（Ｄ）チオール化合物を含む紫外光レーザー露光用感光性樹脂組成物、および該感光性樹脂組成物を、紫外光レーザーでパターン状に露光して、露光領域を硬化させるパターン形成方法。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）樹脂、（Ｂ）エチレン性不飽和化合物、（Ｃ）光重合開始剤、および（Ｄ）チオール化合物を含む紫外光レーザー露光用感光性樹脂組成物。
【請求項２】
前記感光性樹脂組成物が、さらに（Ｅ）着色剤を含有する請求項１に記載の紫外光レーザー露光用感光性樹脂組成物。
【請求項３】
前記（Ｄ）チオール化合物が、下記一般式（１）で表される化合物である請求項１または請求項２に記載の紫外光レーザー露光用感光性樹脂組成物。
【化１】
2010039475.tif 000041
一般式（１）中、Ｑは、Ｎ-Ｒ、硫黄原子、又は、酸素原子を表す。Ｒは、水素原子、アルキル基、またはアリール基を表す。Ａ１は、Ｎ＝Ｃ−Ｘと共にヘテロ環を形成する原子団を表す。
【請求項４】
前記（Ｄ）チオール化合物の含有量が、感光性樹脂組成物の固形分に対し、０．１質量％〜５質量％の範囲である請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の紫外光レーザー露光用感光性樹脂組成物。
【請求項５】
前記（Ｃ）光重合開始剤として、オキシム系化合物、およびビイミダゾール系化合物のうち少なくとも１種を含む請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の紫外光レーザー露光用感光性樹脂組成物。
【請求項６】
前記紫外光レーザーが、固体レーザー、またはガスレーザーである請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の紫外光レーザー露光用感光性樹脂組成物。
【請求項７】
前記紫外光レーザーの露光波長が、３００ｎｍ〜３８０ｎｍの範囲である請求項１から請求項６のいずれか１項に記載の紫外光レーザー露光用感光性樹脂組成物。
【請求項８】
請求項１から請求項７のいずれか１項に記載の紫外光レーザー露光用感光性樹脂組成物を、紫外光レーザーでパターン状に露光して、露光領域を硬化させるパターン形成方法。
【請求項９】
請求項８に記載のパターン形成方法により形成したパターンを有するカラーフィルタ。
【請求項１０】
請求項８に記載のパターン形成方法によりカラーフィルタを形成するカラーフィルタの製造方法。
【請求項１１】
請求項９に記載のカラーフィルタを備えた液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、紫外光レーザー露光用感光性樹脂組成物、パターン形成方法、その方法を用いて製造したカラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法およびそれを用いた液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
カラーフィルタは液晶ディスプレイには不可欠な構成部品である。液晶ディスプレイは、表示装置としてＣＲＴと比較すると、コンパクトであり、省電力化が図れ、且つ、技術進歩によって、性能面では同等以上になってきたことから、テレビ画面、パソコン画面、その他の表示装置としてＣＲＴに置き換わりつつある。
【０００３】
近年、液晶ディスプレイの開発は、画面が比較的小面積であるパソコン、モニターの用途から、画面が大型でしかも高度な画質が求められるＴＶ用途にも展開されている。
ＴＶ用途では、従来のモニター用途に比べて、より高度な画質、すなわち、コントラスト、及び色純度の向上が求められている。コントラスト向上のために、カラーフィルタの形成に用いる感光性樹脂組成物に使用する着色剤（有機顔料等）の粒子サイズが、より微小なものが求められている。また、色純度向上のため、該感光性樹脂組成物の固形分中に占める着色剤（有機顔料）の含有率としては、より高いものが求められている。
【０００４】
上記のような要求に対して、顔料の粒子径をより微細化すると共に、分散性のより高い顔料分散組成物が必要とされる。顔料の分散性を高めるためには、通常、例えばフタロシアニン顔料の表面にその誘導体化合物で顔料表面を改質し、改質された表面に吸着しやすい極性官能基を有する低分子量の樹脂などの分散剤を用いて、顔料の分散化ないし分散安定化を図りつつ、顔料、表面改質剤、分散剤を含む顔料分散組成物を得ている。そして、得られた顔料分散組成物に、更にアルカリ可溶性樹脂、光重合性化合物、光重合開始剤及びその他成分を含有して感光性組成物とし、これを用いてフォトリソ法などによりカラーフィルタを得ている。
【０００５】
顔料が微細化し、且つ顔料の含有率が高くなると、フォトリソ法で画像パターンを形成したとき、線幅の安定性が損なわれるなどの問題があった。ＴＶ用途では特に安価にカラーフィルタを提供することが求められているが、上記した現像工程を中心とした問題は、歩留まりを下げ、生産性を悪化させるので改良が求められていた。
上記の問題点を解決するため、カラーフィルタ用の光硬化性組成物に用いる光重合開始剤の改良により感度を向上させる試みが数多く提案されている。例えば、特定の構造のトリアジン系化合物を使用した光重合性組成物（例えば、特許文献１参照）や、ベンゾフェノン系、アセトフェノン系、チオキサントン系化合物を１つ又は２つ以上混合使用したカラーフィルタ用フォトレジスト（例えば、特許文献２参照）などが開示されている。
【０００６】
また、他の提案として、感光性組成物中のバインダー樹脂と重合性モノマーとを合計してなる有機化合物における平均二重結合当量を規定し、さらにバインダー樹脂の分子量を特定することで、焼成により順テーパ形状を形成する技術が開示されている（特許文献３参照）。
しかしながら、これらの技術では露光工程、現像工程での生産性が劣り、十分な生産性を確保できず、従ってカラーフィルタの価格を低減できないものであった。
【０００７】
露光工程、現像工程の生産性を上げるために、レーザー光で露光し、パターン成形することが提案されている（特許文献４参照）。しかしながら、半導体レーザーではマスクが不要であるというメリットがあるもののレーザー出力が小さく生産性を向上させるには不十分であった。そこで高出力の紫外光レーザーを使用したカラーフィルタの製造方法が提案されている（特許文献５参照）。しかしながら、上記した先行技術をもってしても、現像工程で画素表面が粗くなったり、パターンの線幅安定性が十分でなかったり等、カラーフィルタに要求される特性を満足するものではなかった。
また、カラーフィルタのトータルとしてのコストを下げるという点で、露光装置としては、大きなフォトマスクを使用しないものが提案されている。（特許文献６，７参照）しかし、具体的な感光性樹脂組成物の提示はなく、それらの装置に適合した感光性樹脂組成物の提案が望まれていた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開平６−２８９６１１号公報
【特許文献２】特開平９−８０２２５号公報
【特許文献３】特開２００７−９３８１１号公報
【特許文献４】特開２００７−１５６０１１号公報
【特許文献５】特開２００３−２７８６１４号公報
【特許文献６】特開２００８−７６７０９号公報
【特許文献７】特開２００８−５１８６６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は、基板上に、現像工程における線幅安定性が高く、表面が平滑なパターンを形成しうる紫外光レーザー露光用感光性樹脂組成物およびパターン形成方法、特に、カラーフィルタの着色画素などの形成に好適な、紫外光レーザー露光用感光性樹脂組成物およびパターン形成方法を提供することを課題とする。
本発明のさらなる目的は、前記パターン形成方法により得られる、現像工程における線幅安定性が高く、且つ表面粗さが平滑な着色画素を備え、色特性が良好で、高い生産性を有するカラーフィルタ、及び、そのカラーフィルタを備えてなるコントラスト及び色純度の高い画質の表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者は鋭意検討した結果、以下の方法によって、上記課題を解決することを見出した。
＜１＞  （Ａ）樹脂、（Ｂ）エチレン性不飽和化合物、（Ｃ）光重合開始剤、および（Ｄ）チオール化合物を含む紫外光レーザー露光用感光性樹脂組成物。
＜２＞  前記感光性樹脂組成物が、さらに（Ｅ）着色剤を含有する＜１＞に記載の紫外光レーザー露光用感光性樹脂組成物。
【００１１】
＜３＞  前記（Ｄ）チオール化合物が、下記一般式（１）で表される化合物である＜１＞または＜２＞に記載の紫外光レーザー露光用感光性樹脂組成物。
【００１２】
【化１】
2010039475.tif 000002
【００１３】
一般式（１）中、Ｑは、Ｎ−Ｒ、硫黄原子、又は、酸素原子を表す。Ｒは、水素原子、アルキル基、またはアリール基を表す。Ａ１は、Ｎ＝Ｃ−Ｘと共にヘテロ環を形成する原子団を表す。
【００１４】
＜４＞  前記（Ｄ）チオール化合物の含有量が、感光性樹脂組成物の固形分に対し、０．１質量％〜５質量％の範囲である＜１＞から＜３＞のいずれか１項に記載の紫外光レーザー露光用感光性樹脂組成物。
＜５＞  前記（Ｃ）光重合開始剤として、オキシム系化合物、およびビイミダゾール系化合物のうち少なくとも１種を含む＜１＞から＜４＞のいずれか１項に記載の紫外光レーザー露光用感光性樹脂組成物。
＜６＞  前記紫外光レーザーが、固体レーザー、またはガスレーザーである＜１＞から＜５＞のいずれか１項に記載の紫外光レーザー露光用感光性樹脂組成物。
＜７＞  前記紫外光レーザーの露光波長が、３００ｎｍ〜３８０ｎｍの範囲である＜１＞から＜６＞のいずれか１項に記載の紫外光レーザー露光用感光性樹脂組成物。
【００１５】
＜８＞  ＜１＞から＜７＞のいずれか１項に記載の紫外光レーザー露光用感光性樹脂組成物を、紫外光レーザーでパターン状に露光して、露光領域を硬化させるパターン形成方法。
＜９＞  ＜８＞に記載のパターン形成方法により形成したパターンを有するカラーフィルタ。
＜１０＞  ＜８＞に記載のパターン形成方法によりカラーフィルタを形成するカラーフィルタの製造方法。
＜１１＞  ＜９＞に記載のカラーフィルタを備えた液晶表示装置。
【００１６】
本発明では露光光として、紫外光レーザーを使用するが、紫外光レーザーは出力が高いので、生産性が向上するが、このため、露光部の表面が荒れてしまうという問題がある。この理由は、空気中の酸素による重合阻害の他に、露光光によって表面層は分解が促進することなどが推定される。
本発明ではパターン形成に用いられる感光性樹脂組成物に、特に（Ｄ）チオール化合物を添加することによって、表面のあれが防止でき、さらに現像に対する線幅安定性を高めることができた。
この作用は明確ではないが、（Ｄ）チオール化合物が、ラジカル重合での連鎖移動を促進することによって露光部の重合が進み、露光部の皮膜性を向上したか、あるいは、この作用により感光性樹脂組成物層と基板との密着性が向上したことにより、現像工程における線幅安定性を高めることができものと推定される。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、基板上に、現像工程における線幅安定性が高く、表面が平滑なパターンを形成しうる紫外光レーザー露光用感光性樹脂組成物およびパターン形成方法、特に、カラーフィルタの着色画素などの形成に好適な、紫外光レーザー露光用感光性樹脂組成物およびパターン形成方法を提供することができる。
本発明はさらに、前記パターン形成方法により得られる、現像工程における線幅安定性が高く、且つ表面粗さが平滑な着色画素を備え、色特性が良好で、高い生産性を有するカラーフィルタ、及び、そのカラーフィルタを備えてなるコントラスト及び色純度の高い画質の表示装置を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、発明を実施するための最良の形態について詳細に説明する。
本発明のパターン形成方法は、（Ａ）樹脂、（Ｂ）エチレン性不飽和化合物、（Ｃ）光重合開始剤、および（Ｄ）チオール化合物を含む感光性樹脂組成物を、紫外光レーザーでパターン状に露光して、露光領域を硬化させることを特徴とする。
【００１９】
〔パターン形成方法〕
本発明のパターン形成方法においては、紫外光レーザーでパターン状に露光する露光工程を有する。この露光工程により、感光性樹脂組成物におけるパターン状の露光領域で（Ｃ）光重合開始剤から発生した開始種により、（Ｂ）エチレン性不飽和化合物の重合硬化反応が生起、進行して露光領域が硬化することによって、硬化領域と未硬化領域とからなるパターンが形成される。この露光工程の後、所望により現像工程を行い、未硬化領域を除去してパターンを形成することもできる。
【００２０】
（露光工程）
本発明における露光方式では、光源として紫外光レーザーを用いる。レーザーは英語のLight Amplification by Stimulated Emission of Radiation（誘導放出により光の増幅）の頭文字である。反転分布をもった物質中でおきる誘導放出の現象を利用し、光波の増幅、発振によって干渉性と指向性が一層強い単色光を作り出す発振器および増幅器、励起媒体として結晶、ガラス、液体、色素、気体などがあり、これらの媒質から固体レーザー、液体レーザー、気体レーザー、半導体レーザーなどの公知の紫外光に発振波長を有するレーザーを用いることができる。その中でも、レーザーの出力および発振波長の観点から、固体レーザー、ガスレーザーが好ましい。
【００２１】
本発明に用いることのできる波長としては、３００ｎｍ〜３８０ｎｍの範囲である波長の範囲の紫外光レーザーが好ましく、さらに好ましくは、３００ｎｍ〜３６０ｎｍの範囲の波長である紫外光レーザーが、レジストの感光波長に合致しているという点で好ましい。
【００２２】
具体的には、特に出力が大きく、比較的安価な固体レーザーのＮｄ：ＹＡＧレーザーの第三高調波（３５５ｎｍ）や、エキシマレーザーのＸｅＣｌ（３０８ｎｍ）、ＸｅＦ（３５３ｎｍ）を好適に用いることができる。
本発明で好ましい照度としては、１０Ｗ／ｃｍ２以上であることが好ましく、１００Ｗ／ｃｍ２以上であることがより好ましい。
また被露光物（パターン）の露光量としては、１ｍＪ／ｃｍ２〜１００ｍＪ／ｃｍ２の範囲であり、１ｍＪ／ｃｍ２〜５０ｍＪ／ｃｍ２の範囲がより好ましい。露光量がこの範囲であると、パターン形成の生産性の点で好ましい。
【００２３】
本発明に使用可能な露光装置としては、特に制限はないが、市販されているものとしては、ＥＧＩＳ（ブイテクノロジー株式会社製）やＤＦ２２００Ｇ（大日本スクリーン株式会社製などが使用可能である。上記以外の装置も好適に用いられる。
【００２４】
本発明では、上記した露光方法で特定の感光性樹脂組成物を露光することによって、表面が平滑なパターンを形成することができるものである。パターンの好ましい表面粗さは、本発明を適用する分野によって異なるが、カラーフィルタに適用したとき、表面粗さ（Ｒａ値：中心線平均粗さ）で表すと、２ｎｍ〜１２ｎｍの範囲であり、さらに好ましくは２ｎｍ〜１０ｎｍの範囲である。
Ｒａ値は、ＡＦＭ（原子間力顕微鏡）を用いて測定することができる。
表面粗さを上記範囲にすることによって、表面平滑な各種パターンを形成することができる。また、これにより形成された着色パターンは、平滑な表面を有するため、得られたカラーフィルタのコントラスト、透過率等が向上し、それを備えることで、良好な画像の表示装置を得ることができる。
【００２５】
紫外光レーザーは光の平行度が良好で、露光の際にマスクを使用しないで、パターン露光ができるが、パターン形状が出力光の形状、プロファイルの影響を受ける。そのため、マスクを用いてパターンを露光した方が、パターンの直線性が高くなるので好ましい。
【００２６】
紫外光レーザーは照度が高いことが特徴の一つであり、露光工程で熱が発生し、着色画素が硬化ムラを起こすことがある。着色画素を設ける被露光物の温度を制御するために、露光のステージを恒温に保つことが好ましく、また露光ステージの形状にも配慮が必要である。また、光の平行度が高いため、基材との距離の影響が小さく、エアーで浮かせて搬送しつつ露光することも好ましい。
【００２７】
＜感光性樹脂組成物＞
本発明の紫外光レーザー露光用感光性樹脂組成物は、（Ａ）樹脂、（Ｂ）エチレン性不飽和化合物、（Ｃ）光重合開始剤、および（Ｄ）チオール化合物を含む感光性樹脂組成物であり、好ましくは（Ｅ）着色剤を含む感光性樹脂組成物である。以下に感光性樹脂組成物について詳述する。
本発明の感光性樹脂組成物は、所望により、さらに、高分子分散剤や界面活性剤などのその他の添加物を含んでいてもよい。
【００２８】
〔（Ａ）樹脂〕
本発明で用いる感光性樹脂組成物は、皮膜特性向上、現像特性付与などの目的で、樹脂を含むものである。ここで樹脂としては、アルカリ可溶性樹脂、エポキシ樹脂、顔料被覆用の樹脂、高分子分散剤などの高分子化合物を示す。アルカリでの現像を考慮したとき、少なくともアルカリ可溶性樹脂を含むことが好ましい。以下にこれらの樹脂を詳述する。
【００２９】
本発明で使用するアルカリ可溶性樹脂としては、線状有機高分子重合体であって、分子（好ましくは、アクリル系共重合体、スチレン系共重合体を主鎖とする分子）中に少なくとも１つのアルカリ可溶性を促進する基（例えばカルボキシル基、リン酸基、スルホン酸基、ヒドロキシル基など）を有するアルカリ可溶性樹脂の中から適宜選択することができる。
【００３０】
上記アルカリ可溶性樹脂としてより好ましいものは、側鎖にカルボン酸を有するポリマー、例えば特開昭５９−４４６１５号公報、特公昭５４−３４３２７号公報、特公昭５８−１２５７７号公報、特公昭５４−２５９５７号公報、特開昭５９−５３８３６号公報、特開昭５９−７１０４８号公報の各公報に記載されているような、メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等、並びに側鎖にカルボン酸を有する酸性セルロース誘導体、水酸基を有するポリマーに酸無水物を付加させたもの等のアクリル系共重合体のものが挙げられる。
【００３１】
酸価としては、１０ｍｇＫＯＨ／ｇ〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇ、好ましくは３０ｍｇＫＯＨ／ｇ〜１８０ｍｇＫＯＨ／ｇ、更に好ましくは５０ｍｇＫＯＨ／ｇ〜１５０ｍｇＫＯＨ／ｇの範囲のものが好ましい。
【００３２】
アルカリ可溶性樹脂の具体的な構成単位については、特に（メタ）アクリル酸と、これと共重合可能な他の単量体との共重合体が好適である。前記（メタ）アクリル酸と共重合可能な他の単量体としては、アルキル（メタ）アクリレート、アリール（メタ）アクリレート、ビニル化合物などが挙げられる。ここで、アルキル基及びアリール基の水素原子は、置換基で置換されていてもよい。
前記アルキル（メタ）アクリレート及びアリール（メタ）アクリレートとしては、ＣＨ２＝Ｃ(Ｒ１１)(ＣＯＯＲ１３)  〔ここで、Ｒ１１は水素原子又は炭素数１〜５のアルキル基を表し、Ｒ１３は炭素数１〜８のアルキル基又は炭素数６〜１２のアラルキル基を表す。〕具体的にはメチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、トリル（メタ）アクリレート、ナフチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート（アルキルは炭素数１〜８のアルキル基）、ヒドロキシグリシジルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート等を挙げることができる。
【００３３】
また、分子側鎖にポリアルキレンオキサイド鎖を有する樹脂も好ましいものである。前記ポリアルキレンオキサイド鎖としては、ポリエチレンオキシド鎖、ポリプロピレンオキシド鎖、ポリテトラメチレングリコール鎖あるいはこれらの併用も可能であり、末端は水素原子あるいは直鎖もしくは分岐のアルキル基である。
ポリエチレンオキシド鎖、ポリプロピレンオキシド鎖の繰り返し単位は１〜２０が好ましく、２〜１２がより好ましい。これらの側鎖にポリアルキレンオキサイド鎖を有するアクリル系共重合体は、例えばポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリ（エチレングリコール−プロピレングリコール）モノ（メタ）アクリレートなどおよびこれらの末端ＯＨ基をアルキル封鎖した化合物、例えばメトキシポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、エトキシポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、メトキシポリ（エチレングリコール−プロピレングリコール）モノ（メタ）アクリレートなどを共重合成分とするアクリル系共重合体である。
【００３４】
前記ビニル化合物としては、ＣＨ２＝ＣＲ１１Ｒ１２  〔ここで、Ｒ１１は水素原子又は炭素数１〜５のアルキル基を表し、Ｒ１２は炭素数６〜１０の芳香族炭化水素環を表す。〕具体的には、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン、アクリロニトリル、ビニルアセテート、Ｎ−ビニルピロリドン、ポリスチレンマクロモノマー、ポリメチルメタクリレートマクロモノマー等を挙げることができる。
共重合可能な他の単量体は、１種単独であるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。これらの中では特に、ベンジル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸共重合体やベンジル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸／他のモノマーからなる多元共重合体が好適である。
【００３５】
アクリル系樹脂は、既に述べたように、２０ｍｇＫＯＨ／ｇ〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇの範囲の酸価を有する。酸価が２００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であれば、アクリル系樹脂がアルカリに対する溶解性が大きくなりすぎず、現像適正範囲（現像ラチチュード）が狭くなることを防止することができる。一方、２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上あれば、アルカリに対する溶解性が小さくなり難いので、現像時間の長時間化を防止することができる。
また、アクリル系樹脂の重量平均分子量Ｍｗ（ＧＰＣ法で測定されたポリスチレン換算値）は、感光性樹脂組成物を塗布等の工程上使用しやすい粘度範囲を実現するために、また膜強度を確保するために、２,０００〜１００,０００であることが好ましく、より好ましくは３,０００〜５０,０００である。
【００３６】
また、本発明に使用可能な感光性樹脂組成物の架橋効率を向上させるために、重合性基をアルカリ可溶性樹脂に有した樹脂を単独もしくは重合性基を有しないアルカリ可溶性樹脂と併用してもよく、アリル基、（メタ）アクリル基、アリルオキシアルキル基等を側鎖に含有したポリマー等が有用である。重合性二重結合を有するアルカリ可溶性樹脂は、アルカリ現像液での現像が可能であって、さらに光硬化性と熱硬化性を備えたものである。これら重合性基を含有するポリマーの例を以下に示すが、１分子中に、ＣＯＯＨ基、ＯＨ基等のアルカリ可溶性基と炭素−炭素間不飽和結合とを含むものであれば下記に限定されない。
【００３７】
（１）予めイソシアネート基とＯＨ基を反応させ、未反応のイソシアネート基を１つ残し、かつ（メタ）アクリロイル基を少なくとも１つ含む化合物とカルボキシル基を含むアクリル樹脂との反応によって得られるウレタン変性した重合性二重結合含有アクリル樹脂、（２）カルボキシル基を含むアクリル樹脂と分子内にエポキシ基及び重合性二重結合を共に有する化合物との反応によって得られる不飽和基含有アクリル樹脂、
（３）酸ペンダント型エポキシアクリレート樹脂、
（４）ＯＨ基を含むアクリル樹脂と重合性二重結合を有する２塩基酸無水物を反応させた重合性二重結合含有アクリル樹脂。
上記のうち、特に（１）及び（２）の樹脂が好ましい。
【００３８】
具体例として、ＯＨ基を有する例えば２−ヒドロキシエチルアクリレートと、ＣＯＯＨ基を含有する例えばメタクリル酸と、これらと共重合可能なアクリル系若しくはビニル系化合物等のモノマーとの共重合体に、ＯＨ基に対し反応性を有するエポキシ環と炭素間不飽和結合基を有する化合物（例えばグリシジルアクリレートなどの化合物）を反応させて得られる化合物、等を使用できる。ＯＨ基との反応ではエポキシ環のほかに酸無水物、イソシアネート基、アクリロイル基を有する化合物も使用できる。
また、特開平６−１０２６６９号公報、特開平６−１９３８号公報に記載のエポキシ環を有する化合物にアクリル酸のような不飽和カルボン酸を反応させて得られる化合物に、飽和もしくは不飽和多塩基酸無水物を反応させて得られる反応物も使用できる。
【００３９】
ＣＯＯＨ基のようなアルカリ可溶化基と炭素間不飽和基とを併せ持つ化合物として、例えば、ダイヤナールＮＲシリーズ（三菱レイヨン（株）製）；Ｐｈｏｔｏｍｅｒ  ６１７３（ＣＯＯＨ基含有Ｐｏｌｙｕｒｅｔｈａｎｅ  ａｃｒｙｌｉｃ  ｏｌｉｇｏｍｅｒ、Ｄｉａｍｏｎｄ  Ｓｈａｍｒｏｃｋ  Ｃｏ．Ｌｔｄ．，製）；ビスコートＲ−２６４、ＫＳレジスト１０６（いずれも大阪有機化学工業（株）製）；サイクロマーＰシリーズ、プラクセルＣＦ２００シリーズ（いずれもダイセル化学工業（株）製）；Ｅｂｅｃｒｙｌ３８００（ダイセルユーシービー（株）製）、などが挙げられる。
アルカリ可溶性樹脂の添加量としては、感光性樹脂組成物の全固形分中、３〜３０質量％の範囲であることが好ましく、５〜２０質量％がより好ましい。
【００４０】
感光性樹脂組成物の調製時には、上記アルカリ可溶性樹脂に加え、さらに下記のエポキシ樹脂も添加することが好ましい。エポキシ樹脂としては、ビスフェノールＡ型、クレゾールノボラック型、ビフェニル型、脂環式エポキシ化合物などのエポキシ環を分子中に２個以上有する化合物が挙げられる。
例えば、ビスフェノールＡ型としては、エポトートＹＤ-１１５、ＹＤ-１１８Ｔ、ＹＤ-１２７、ＹＤ−１２８、ＹＤ-１３４、ＹＤ-８１２５、ＹＤ−７０１１Ｒ、ＺＸ−１０５９、ＹＤＦ−８１７０、ＹＤＦ−１７０など（以上、東都化成（株）製）、デナコールＥＸ−１１０１、ＥＸ−１１０２、ＥＸ−１１０３など（以上、ナガセ化成（株）製）、プラクセルＧＬ−６１、ＧＬ−６２、Ｇ１０１、Ｇ１０２（以上、ダイセル化学工業（株）製）などが挙げられ、その他にも、これらと類似のビスフェノールＦ型、ビスフェノールＳ型エポキシ樹脂も使用可能なものとして挙げることができる。
【００４１】
また、Ｅｂｅｃｒｙｌ  ３７００、３７０１、６００（以上、ダイセルユーシービー（株）製）などのエポキシアクリレートも使用可能である。クレゾールノボラック型としては、エポトートＹＤＰＮ−６３８、ＹＤＰＮ−７０１、ＹＤＰＮ−７０２、ＹＤＰＮ−７０３、ＹＤＰＮ−７０４など（以上、東都化成（株）製）、デナコールＥＭ−１２５など（以上ナガセ化成製）、ビフェニル型としては３,５,３’,５’−テトラメチル-４,４’−ジグリシジルビフェニルなど、脂環式エポキシ化合物としては、セロキサイド２０２１、２０８１、２０８３、２０８５、エポリードＧＴ−３０１、ＧＴ−３０２、ＧＴ−４０１、ＧＴ−４０３、ＥＨＰＥ−３１５０（以上、ダイセル化学工業（株）製）、サントートＳＴ−３０００、ＳＴ−４０００、ＳＴ−５０８０、ＳＴ−５１００など（以上、東都化成（株）製）、Ｅｐｉｃｌｏｎ４３０、同６７３、同６９５、同８５０Ｓ、同４０３２（以上、ＤＩＣ（株）製）などを挙げることができる。また１,１,２,２−テトラキス（ｐ−グリシジルオキシフェニル）エタン、トリス(p-グリシジルオキシフェニル)メタン、トリグリシジルトリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、ｏ−フタル酸ジグリシジルエステル、テレフタル酸ジグリシジルエステル、他にアミン型エポキシ樹脂であるエポトートＹＨ−４３４、ＹＨ−４３４Ｌ、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂の骨格中にダイマー酸を変性したグリシジルエステル等も使用できる。
【００４２】
この中で好ましいのは「分子量／エポキシ環の数」が１００以上であり、より好ましいものは１３０〜５００である。「分子量／エポキシ環の数」が小さいと硬化性が高く、硬化時の収縮が大きく、また大きすぎると硬化性が不足し、信頼性に欠けたり、平坦性が悪くなったりして好ましくない。
具体的な好ましい化合物としては、エポトートＹＤ−１１５、１１８Ｔ、１２７、ＹＤＦ−１７０、ＹＤＰＮ−６３８、ＹＤＰＮ−７０１、プラクセルＧＬ−６１、ＧＬ−６２、３，５，３’，５’−テトラメチル−４，４’ジグリシジルビフェニル、セロキサイド２０２１、２０８１、エポリードＧＴ−３０２、ＧＴ−４０３、ＥＨＰＥ−３１５０などが挙げられる。
【００４３】
また、本発明では上記のようにエポキシ樹脂を別に添加せずに、エポキシ環をアルカリ可溶性樹脂に有した樹脂を単独もしくはエポキシ環を有しないアルカリ可溶性樹脂と併用してもよい。エポキシ環を有するアルカリ可溶性樹脂は、アルカリ現像液での現像が可能であって、さらに熱硬化性を備えたものである。
このような樹脂は、例えばメタクリル酸、メタクリル酸グリシジル、メタクリル酸トリシクロ［５．２．１．０２,６］デカン−８−イル、スチレンを共重合することによって得られる。
【００４４】
〔（Ｂ）エチレン性不飽和化合物〕
本発明に用いられる感光性樹脂組成物は、（Ｂ）エチレン性不飽和化合物を含有する。
本発明に用いることができるエチレン性不飽和化合物は、少なくとも一個のエチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物であり、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも１個、好ましくは２個以上有する化合物から選ばれる。このような化合物群は当該産業分野において広く知られるものであり、本発明においてはこれらを特に限定無く用いることができる。これらは、例えばモノマー、プレポリマー、すなわち２量体、３量体及びオリゴマー、又はそれらの混合物ならびにそれらの共重合体などの化学的形態をもつ。モノマー及びその共重合体の例としては、不飽和カルボン酸（例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など）や、そのエステル類、アミド類が挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド類が用いられる。また、ヒドロキシル基やアミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と単官能若しくは多官能イソシアネート類或いはエポキシ類との付加反応生成物、及び単官能若しくは、多官能のカルボン酸との脱水縮合反応生成物等も好適に使用される。また、イソシアネート基や、エポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と単官能若しくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との付加反応物、更にハロゲン基や、トシルオキシ基等の脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と単官能若しくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との置換反応物も好適である。また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン、ビニルエーテル等に置き換えた化合物群を使用することも可能である。
【００４５】
脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、１，３−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、１，４−シクロヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、トリ（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー、イソシアヌール酸ＥＯ変性トリアクリレート等がある。
【００４６】
メタクリル酸エステルとしては、テトラメチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、１，３−ブタンジオールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビトールテトラメタクリレート、ビス〔ｐ−（３−メタクリルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル〕ジメチルメタン、ビス−〔ｐ−（メタクリルオキシエトキシ）フェニル〕ジメチルメタン等がある。
【００４７】
イタコン酸エステルとしては、エチレングリコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタコネート、１，３−ブタンジオールジイタコネート、１，４−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジイタコネート、ソルビトールテトライタコネート等がある。クロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビトールテトラジクロトネート等がある。イソクロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトールジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロトネート等がある。マレイン酸エステルとしては、エチレングリコールジマレート、トリエチレングリコールジマレート、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテトラマレート等がある。
【００４８】
その他のエステルの例として、例えば、特公昭５１−４７３３４号公報、特開昭５７−１９６２３１号公報に記載の脂肪族アルコール系エステル類や、特開昭５９−５２４０号公報、特開昭５９−５２４１号公報、特開平２−２２６１４９号公報に記載の芳香族系骨格を有するもの、特開平１−１６５６１３号公報に記載のアミノ基を含有するもの等も好適に用いられる。更に、前述のエステルモノマーは混合物としても使用することができる。
【００４９】
また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチレンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリルアミド、１，６−ヘキサメチレンビス−アクリルアミド、１，６−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミド等がある。その他の好ましいアミド系モノマーの例としては、特公昭５４−２１７２６号公報に記載のシクロへキシレン構造を有すものを挙げることができる。
【００５０】
また、イソシアネートと水酸基の付加反応を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適であり、そのような具体例としては、例えば、特公昭４８−４１７０８号公報中に記載されている１分子に２個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、下記一般式（Ｖ）で示される水酸基を含有するビニルモノマーを付加させた１分子中に２個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられる。
【００５１】
ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ４）ＣＯＯＣＨ２ＣＨ（Ｒ５）ＯＨ      （Ｖ）
（ただし、Ｒ４及びＲ５は、各々独立に、Ｈ又はＣＨ３を示す。）
【００５２】
また、特開昭５１−３７１９３号公報、特公平２−３２２９３号公報、特公平２−１６７６５号公報に記載されているようなウレタンアクリレート類や、特公昭５８−４９８６０号公報、特公昭５６−１７６５４号公報、特公昭６２−３９４１７号公報、特公昭６２−３９４１８号公報に記載のエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適である。更に、特開昭６３−２７７６５３号公報、特開昭６３−２６０９０９号公報、特開平１−１０５２３８号公報に記載される分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有する付加重合性化合物類を用いることによっては、非常に感光スピードに優れた光重合性組成物を得ることができる。
【００５３】
その他の例としては、特開昭４８−６４１８３号公報、特公昭４９−４３１９１号公報、特公昭５２−３０４９０号公報の各公報に記載されているようなポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸を反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタクリレートを挙げることができる。また、特公昭４６−４３９４６号公報、特公平１−４０３３７号公報、特公平１−４０３３６号公報に記載の特定の不飽和化合物や、特開平２−２５４９３号公報に記載のビニルホスホン酸系化合物等も挙げることができる。また、ある場合には、特開昭６１−２２０４８号公報に記載のペルフルオロアルキル基を含有する構造が好適に使用される。更に日本接着協会誌ｖｏｌ．２０、Ｎｏ．７、３００〜３０８ページ（１９８４年）に光硬化性モノマー及びオリゴマーとして紹介されているものも使用することができる。
【００５４】
これらのエチレン性不飽和化合物について、その構造、単独使用か併用か、添加量等の使用方法の詳細は、最終的な感材の性能設計にあわせて任意に設定できる。例えば、次のような観点から選択される。
感度の点では１分子あたりの不飽和基含量が多い構造が好ましく、多くの場合、２官能以上が好ましい。また、着色画像部すなわち、感光性樹脂組成物層の強度を高くするためには、３官能以上のものがよく、更に、異なる官能数・異なる重合性基（例えばアクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、スチレン系化合物、ビニルエーテル系化合物）のものを併用することで、感度と強度の両方を調節する方法も有効である。硬化感度の観点から、（メタ）アクリル酸エステル構造を２個以上含有する化合物を用いることが好ましく、３個以上含有する化合物を用いることがより好ましく、４個以上含有する化合物を用いることが最も好ましい。また、硬化感度、および、未露光部の現像性の観点では、ＥＯ変性体を含有することが好ましい。また、硬化感度、および、露光部強度の観点ではウレタン結合を含有することが好ましい。
また、感光性樹脂組成物層中の他の成分（例えばアルカリ可溶性樹脂、開始剤との相溶性に対しても、付加重合化合物の選択・使用法は重要な要因であり、例えば、低純度化合物の使用や、２種以上の併用により相溶性を向上させうることがある。また、基板との密着性を向上せしめる目的で特定の構造を選択することもあり得る。
【００５５】
以上の観点より、ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレートＥＯ変性体、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（（メタ）アクリロイルオキシプロピル）エーテル、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ソルビトールトリ（メタ）アクリレート、ソルビトールテトラ（メタ）アクリレート、ソルビトールペンタ（メタ）アクリレート、ソルビトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリ（（メタ）アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレートＥＯ変性体、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートＥＯ変性体などが好ましいものとして挙げられ、また、市販品としては、ウレタンオリゴマーＵＡＳ−１０、ＵＡＢ−１４０（山陽国策パルプ社製）、ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ（日本化薬社製）、ＮＫエステル  Ａ‐ＴＭＭＴ、ＮＫエステル  Ａ‐ＴＭＰＴ、ＮＫエステル  Ａ‐ＴＭＭ‐３（以上、新中村化学工業社製）、アロニックス  Ｍ‐３０５、アロニックス  Ｍ‐３０６、アロニックス  Ｍ‐３０９、アロニックス  Ｍ‐４５０、アロニックス  Ｍ‐４０２（以上、東亞合成社製）、Ｖ＃８０２（大阪有機化学工業社製）、ＵＡ−３０６Ｈ、ＵＡ−３０６Ｔ、ＵＡ−３０６Ｉ、ＡＨ−６００、Ｔ−６００、ＡＩ−６００（以上、共栄社製）が好ましい。
【００５６】
なかでも、ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレートＥＯ変性体、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリ（（メタ）アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレートＥＯ変性体、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートＥＯ変性体などが、市販品としては、ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ（日本化薬社製）、ＮＫエステル  Ａ‐ＴＭＭＴ、ＮＫエステル  Ａ‐ＴＭＰＴ、ＮＫエステル  Ａ‐ＴＭＭ‐３（以上、新中村化学工業社製）、アロニックス  Ｍ‐３０５、アロニックス  Ｍ‐３０６、アロニックス  Ｍ‐３０９、アロニックス  Ｍ‐４５０、アロニックス  Ｍ‐４０２（以上、東亞合成社製）、Ｖ＃８０２（大阪有機化学工業社製）がより好ましい。
【００５７】
（Ｂ）エチレン性不飽和化合物の含有量は、本発明の感光性樹脂組成物層中の全固形分中、５質量％〜５５質量％であることが好ましく、１０質量％〜５０質量％であることがより好ましく、１５質量％〜４５質量％であることが更に好ましい。
【００５８】
〔（Ｃ）光重合開始剤〕
本発明の感光性樹脂組成物は、（Ｃ）光重合開始剤を含有する。
前記光重合開始剤は、光により分解し、前記（Ｂ）エチレン性不飽和化合物の重合を開始、促進する化合物であり、紫外光レーザーの波長に感度を有するものが好ましい。
光重合開始剤としては、レーザーの露光波長に吸収を有するものであることが好ましく、紫外光レーザーの波長に吸収のない場合でも、後述する増感色素と併用することによって紫外光レーザーの波長に感度を有するようにすることが可能である。また、前記光重合開始剤は、単独で、又は２種以上を併用して用いることができる。
【００５９】
前記光重合開始剤としては、例えば、有機ハロゲン化化合物、オキシジアゾール化合物、カルボニル化合物、ケタール化合物、ベンゾイン化合物、アクリジン化合物、有機過酸化化合物、アゾ化合物、クマリン化合物、アジド化合物、メタロセン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、有機ホウ酸化合物、ジスルホン酸化合物、オキシムエステル化合物、オニウム塩化合物、アシルホスフィン（オキシド）化合物が挙げられる。
【００６０】
有機ハロゲン化化合物としては、具体的には、若林等、「Ｂｕｌｌ  Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ  Ｊａｐａｎ」４２、２９２４（１９６９）、米国特許第３，９０５，８１５号明細書、特公昭４６−４６０５号公報、特開昭４８−３６２８１号公報、特開昭５５−３２０７０号公報、特開昭６０−２３９７３６号公報、特開昭６１−１６９８３５号公報、特開昭６１−１６９８３７号公報、特開昭６２−５８２４１号公報、特開昭６２−２１２４０１号公報、特開昭６３−７０２４３号公報、特開昭６３−２９８３３９号公報、Ｍ．Ｐ．Ｈｕｔｔ“Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ”１（Ｎｏ３），（１９７０）」等に記載の化合物が挙げられ、特に、トリハロメチル基が置換したオキサゾール化合物、ｓ−トリアジン化合物が挙げられる。
【００６１】
ｓ−トリアジン化合物として、より好適には、すくなくとも一つのモノ、ジ、又はトリハロゲン置換メチル基がｓ−トリアジン環に結合したｓ−トリアジン誘導体、具体的には、例えば、２，４，６−トリス（モノクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２，４，６−トリス（ジクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２，４，６−トリス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−メチル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２―ｎ−プロピル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（α，α，β−トリクロロエチル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−フェニル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（３，４−エポキシフェニル）−４、６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−クロロフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−〔１−（ｐ−メトキシフェニル）−２，４−ブタジエニル〕−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−スチリル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−ｉ−プロピルオキシスチリル）−４、６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−トリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−ナトキシナフチル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−フェニルチオ−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−ベンジルチオ−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、４−（ｏ−ブロモ−ｐ−Ｎ，Ｎ−（ジエトキシカルボニルアミノ）−フェニル）−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２，４，６−トリス（ジブロモメチル）−ｓ−トリアジン、２，４，６−トリス（トリブロモメチル）−ｓ−トリアジン、２−メチル−４，６−ビス（トリブロモメチル）−ｓ−トリアジン、２−メトキシ−４，６−ビス（トリブロモメチル）−ｓ−トリアジン等が挙げられる。
【００６２】
オキシジアゾール化合物としては、２−トリクロロメチル−５−スチリル−１，３，４−オキソジアゾール、２−トリクロロメチル−５−（シアノスチリル）−１，３，４−オキソジアゾール、２−トリクロロメチル−５−（ナフト−１−イル）−１，３，４−オキソジアゾール、２−トリクロロメチル−５−（４−スチリル）スチリル−１，３，４−オキソジアゾールなどが挙げられる。
【００６３】
カルボニル化合物としては、ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、２−メチルベンゾフェノン、３−メチルベンゾフェノン、４−メチルベンゾフェノン、２−クロロベンゾフェノン、４−ブロモベンゾフェノン、２−カルボキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン誘導体、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、α−ヒドトキシ−２−メチルフェニルプロパノン、１−ヒドロキシ−１−メチルエチル−（ｐ−イソプロピルフェニル）ケトン、１−ヒドロキシ−１−（ｐ−ドデシルフェニル）ケトン、２−メチル−１−（４’−（メチルチオ）フェニル）−２−モルフォリノ−１−プロパノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−フォスフィンオキシド、１，１，１−トリクロロメチル−（ｐ−ブチルフェニル）ケトン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−４−モルホリノブチロフェノン等のアセトフェノン誘導体、チオキサントン、２−エチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジイソプロピルチオキサントン等のチオキサントン誘導体、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル、ｐ−ジエチルアミノ安息香酸エチル等の安息香酸エステル誘導体等を挙げることができる。
【００６４】
ケタール化合物としては、ベンジルジメチルケタール、ベンジル−β−メトキシエチルエチルアセタールなどを挙げることができる。
【００６５】
ベンゾイン化合物としてはｍ−ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインメチルエーテル、メチルｏ−ベンゾイルベンゾエートなどを挙げることができる。
【００６６】
アクリジン化合物としては、９−フェニルアクリジン、９−ピリジルアクリジン、９−ピラジニルアクリジン、１，２−ジ（９−アクリジニル）エタン、１，３−ジ（９−アクリジニル）プロパン、１，４−ジ（９−アクリジニル）ブタン、１，５−ジ（９−アクリジニル）ペンタン、１，６−ジ（９−アクリジニル）ヘキサン、１，７−ジ（９−アクリジニル）ヘプタン、１，８−ジ（９−アクリジニル）オクタン、１，９−ジ（９−アクリジニル）ノナン、１，１０−ジ（９−アクリジニル）デカン、１，１１−ジ（９−アクリジニル）ウンデカン、１，１２−ジ（９−アクリジニル）ドデカン等のジ（９−アクリジニル）アルカン、などを挙げることができる。
【００６７】
有機過酸化化合物としては、例えば、トリメチルシクロヘキサノンパーオキサイド、アセチルアセトンパーオキサイド、１，１−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、１，１−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ）シクロヘキサン、２，２−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ）ブタン、ｔｅｒｔ−ブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、２，５−ジメチルヘキサン−２，５−ジハイドロパーオキサイド、１，１，３，３−テトラメチルブチルハイドロパーオキサイド、ｔｅｒｔ−ブチルクミルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン、２，５−オキサノイルパーオキサイド、過酸化琥珀酸、過酸化ベンゾイル、２，４−ジクロロベンゾイルパーオキサイド、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジ−２−エチルヘキシルパーオキシジカーボネート、ジ−２−エトキシエチルパーオキシジカーボネート、ジメトキシイソプロピルパーオキシカーボネート、ジ（３−メチル−３−メトキシブチル）パーオキシジカーボネート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシアセテート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシピバレート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシネオデカノエート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシオクタノエート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシラウレート、ターシルカーボネート、３，３’，４，４’−テトラ−（ｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラ−（ｔ−ヘキシルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラ−（ｐ−イソプロピルクミルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、カルボニルジ（ｔ−ブチルパーオキシ二水素二フタレート）、カルボニルジ（ｔ−ヘキシルパーオキシ二水素二フタレート）等が挙げられる。
【００６８】
アゾ化合物としては、例えば、特開平８−１０８６２１号公報に記載のアゾ化合物等を挙げることができる。
【００６９】
クマリン化合物としては、例えば、３−メチル−５−アミノ−（（ｓ−トリアジン−２−イル）アミノ）−３−フェニルクマリン、３−クロロ−５−ジエチルアミノ−（（ｓ−トリアジン−２−イル）アミノ）−３−フェニルクマリン、３−ブチル−５−ジメチルアミノ−（（ｓ−トリアジン−２−イル）アミノ）−３−フェニルクマリン等を挙げることができる。
【００７０】
アジド化合物としては、米国特許第２８４８３２８号明細書、米国特許第２８５２３７９号明細書ならびに米国特許第２９４０８５３号明細書に記載の有機アジド化合物、２，６−ビス（４−アジドベンジリデン）−４−エチルシクロヘキサノン（ＢＡＣ−Ｅ）等が挙げられる。
【００７１】
ヘキサアリールビイミダゾール化合物としては、例えば、特公平６−２９２８５号公報、米国特許第３，４７９，１８５号、同第４，３１１，７８３号、同第４，６２２，２８６号等の各明細書に記載の種々の化合物、具体的には、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−ブロモフェニル））４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ，ｐ−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｍ−メトキシフェニル）ビイジダゾール、２，２’−ビス（ｏ，ｏ’−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−ニトロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−メチルフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−トリフルオロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール等が挙げられる。
【００７２】
有機ホウ酸塩化合物としては、例えば、特開昭６２−１４３０４４号公報、特開昭６２−１５０２４２号公報、特開平９−１８８６８５号公報、特開平９−１８８６８６号公報、特開平９−１８８７１０号公報、特開２０００−１３１８３７号公報、特開２００２−１０７９１６号公報、特許第２７６４７６９号公報、特願２０００−３１０８０８号公報等の各公報、及び、Ｋｕｎｚ，Ｍａｒｔｉｎ“Ｒａｄ  Ｔｅｃｈ’９８．Ｐｒｏｃｅｅｄｉｎｇ  Ａｐｒｉｌ  １９−２２，１９９８，Ｃｈｉｃａｇｏ”等に記載される有機ホウ酸塩、特開平６−１５７６２３号公報、特開平６−１７５５６４号公報、特開平６−１７５５６１号公報に記載の有機ホウ素スルホニウム錯体或いは有機ホウ素オキソスルホニウム錯体、特開平６−１７５５５４号公報、特開平６−１７５５５３号公報に記載の有機ホウ素ヨードニウム錯体、特開平９−１８８７１０号公報に記載の有機ホウ素ホスホニウム錯体、特開平６−３４８０１１号公報、特開平７−１２８７８５号公報、特開平７−１４０５８９号公報、特開平７−３０６５２７号公報、特開平７−２９２０１４号公報等の有機ホウ素遷移金属配位錯体等が具体例として挙げられる。
【００７３】
ジスルホン化合物としては、特開昭６１−１６６５４４号公報、特願２００１−１３２３１８号明細書等に記載される化合物等が挙げられる。
【００７４】
オキシムエステル化合物としては、Ｊ．Ｃ．Ｓ．Ｐｅｒｋｉｎ  ＩＩ（１９７９）１６５３−１６６０）、Ｊ．Ｃ．Ｓ．Ｐｅｒｋｉｎ  ＩＩ（１９７９）１５６−１６２、Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｐｈｏｔｏｐｏｌｙｍｅｒ  Ｓｃｉｅｎｃｅ  ａｎｄ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ（１９９５）２０２−２３２、特開２０００−６６３８５号公報に記載の化合物、特開２０００−８００６８号公報、特表２００４−５３４７９７号公報に記載の化合物等が挙げられる。市販品としてはチバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製のイルガキュアＯＸＥ−０１、ＯＸＥ−０２などが好適である。
【００７５】
また本発明においては下記の一般式（２）又は（３）で表されるオキシムエステル化合物も好適である。
【００７６】
【化２】
2010039475.tif 000003
【００７７】
【化３】
2010039475.tif 000004
【００７８】
上記一般式（２）及び（３）中、Ｒ１及びＲ２は各々独立に一価の置換基を表し、Ｘは一価の置換基または水素原子を表し、Ａは二価の有機基を表し、Ａｒはアリール基を表す。
上記一般式で表されるオキシムエステル化合物の好ましい具体例を以下に示す。
【００７９】
【化４】
2010039475.tif 000005
【００８０】
【化５】
2010039475.tif 000006
【００８１】
【化６】
2010039475.tif 000007
【００８２】
【化７】
2010039475.tif 000008
【００８３】
これらの中でも、感光性樹脂組成物を調製する段階で溶剤に溶解し易く生産性が良いという観点から、以下のものが特に好ましい。
【００８４】
【化８】
2010039475.tif 000009
【００８５】
オニウム塩化合物としては、例えば、Ｓ．Ｉ．Ｓｃｈｌｅｓｉｎｇｅｒ，Ｐｈｏｔｏｇｒ．Ｓｃｉ．Ｅｎｇ．，１８，３８７（１９７４）、Ｔ．Ｓ．Ｂａｌ  ｅｔ  ａｌ，Ｐｏｌｙｍｅｒ，２１，４２３（１９８０）に記載のジアゾニウム塩、米国特許第４，０６９，０５５号明細書、特開平４−３６５０４９号公報等に記載のアンモニウム塩、米国特許第４，０６９，０５５号明細書、同４，０６９，０５６号明細書の各明細書に記載のホスホニウム塩、欧州特許第１０４、１４３号明細書、米国特許第３３９，０４９号明細書、同第４１０，２０１号明細書の各明細書、特開平２−１５０８４８号公報、特開平２−２９６５１４号公報の各公報に記載のヨードニウム塩などが挙げられる。
【００８６】
本発明に好適に用いることのできるヨードニウム塩は、ジアリールヨードニウム塩であり、安定性の観点から、アルキル基、アルコキシ基、アリーロキシ基等の電子供与性基で２つ以上置換されていることが好ましい。また、その他の好ましいスルホニウム塩の形態として、トリアリールスルホニウム塩の１つの置換基がクマリン、アントアキノン構造を有し、３００ｎｍ以上に吸収を有するヨードニウム塩などが好ましい。
【００８７】
本発明に好適に用いることのできるスルホニウム塩としては、欧州特許第３７０，６９３号明細書、同３９０，２１４号明細書、同２３３，５６７号明細書、同２９７，４４３号明細書、同２９７，４４２号明細書、米国特許第４，９３３，３７７号明細書、同１６１，８１１号明細書、同４１０，２０１号明細書、同３３９，０４９号明細書、同４，７６０，０１３号明細書、同４，７３４，４４４号明細書、同２，８３３，８２７号明細書、独国特許第２，９０４，６２６号明細書、同３，６０４，５８０号明細書、同３，６０４，５８１号明細書の各明細書に記載のスルホニウム塩が挙げられ、安定性の感度点から好ましくは電子吸引性基で置換されていることが好ましい。電子吸引性基としては、ハメット値が０より大きいことが好ましい。好ましい電子吸引性基としては、ハロゲン原子、カルボン酸などが挙げられる。
また、その他の好ましいスルホニウム塩としては、トリアリールスルホニウム塩の１つの置換基がクマリン、アントアキノン構造を有し、３００ｎｍ以上に吸収を有するスルホニウム塩が挙げられる。別の好ましいスルホニウム塩としては、トリアリールスルホニウム塩が、アリロキシ基、アリールチオ基を置換基に有する３００ｎｍ以上に吸収を有するスルホニウム塩が挙げられる。
【００８８】
また、オニウム塩化合物としては、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ  ｅｔ  ａｌ，Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，１０（６），１３０７（１９７７）、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ  ｅｔ  ａｌ，Ｊ．Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｓｃｉ．，Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｃｈｅｍ．Ｅｄ．，１７，１０４７（１９７９）に記載のセレノニウム塩、Ｃ．Ｓ．Ｗｅｎ  ｅｔ  ａｌ，Ｔｅｈ，Ｐｒｏｃ．Ｃｏｎｆ．Ｒａｄ．Ｃｕｒｉｎｇ  ＡＳＩＡ，ｐ４７８  Ｔｏｋｙｏ，Ｏｃｔ（１９８８）に記載のアルソニウム塩等のオニウム塩等が挙げられる。
【００８９】
アシルホスフィン（オキシド）化合物としては、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製のイルガキュア８１９、ダロキュア４２６５、ダロキュアＴＰＯなどが挙げられる。
【００９０】
光重合開始剤としては、露光感度の観点から、トリハロメチルトリアジン系化合物、ベンジルジメチルケタール化合物、α−ヒドロキシケトン化合物、α−アミノケトン化合物、アシルホスフィン系化合物、フォスフィンオキサイド系化合物、メタロセン化合物、オキシム系化合物、トリアリルイミダゾールダイマー、オニウム系化合物、ベンゾチアゾール系化合物、ベンゾフェノン系化合物、アセトフェノン系化合物およびその誘導体、シクロペンタジエン−ベンゼン−鉄錯体およびその塩、ハロメチルオキサジアゾール化合物、３−アリール置換クマリン化合物からなる群より選択される化合物が好ましい。
【００９１】
さらに好ましくは、トリハロメチルトリアジン系化合物、α−アミノケトン化合物、アシルホスフィン系化合物、フォスフィンオキサイド系化合物、オキシム系化合物、トリアリルイミダゾールダイマー、オニウム系化合物、ベンゾフェノン系化合物、アセトフェノン系化合物であり、トリハロメチルトリアジン系化合物、α−アミノケトン化合物、オキシム系化合物、トリアリルイミダゾールダイマー、ベンゾフェノン系化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種の化合物が最も好ましい。
【００９２】
（Ｃ）光重合開始剤の含有量は、感光性樹脂組成物層中の全固形分に対し０．１質量％〜２０質量％の範囲であることが好ましく、より好ましくは０．５質量％〜１５質量％、特に好ましくは１質量％〜１０質量％の範囲である。この範囲で、良好な感度とパターン形成性が得られる。
【００９３】
〔増感色素〕
本発明に用いられる感光性樹脂組成物には、増感色素を添加することが感度向上の観点から好ましい。この増感色素が吸収しうる波長の露光により上記重合開始剤成分のラジカル発生反応や、それによる重合性化合物の重合反応が促進されるものである。
このような増感色素としては、公知の分光増感色素又は染料、又は光を吸収して光重合開始剤と相互作用する染料又は顔料が挙げられる。
【００９４】
本発明に用いることのできる増感色素として好ましい分光増感色素又は染料は、多核芳香族類（例えば、ピレン、ペリレン、トリフェニレン）、キサンテン類（例えば、フルオレッセイン、エオシン、エリスロシン、ローダミンＢ、ローズベンガル）、シアニン類（例えば、チアカルボシアニン、オキサカルボシアニン）、メロシアニン類（例えば、メロシアニン、カルボメロシアニン）、チアジン類（例えば、チオニン、メチレンブルー、トルイジンブルー）、アクリジン類（例えば、アクリジンオレンジ、クロロフラビン、アクリフラビン）、フタロシアニン類（例えば、フタロシアニン、メタルフタロシアニン）、ポルフィリン類（例えば、テトラフェニルポルフィリン、中心金属置換ポルフィリン）、クロロフィル類（例えば、クロロフィル、クロロフィリン、中心金属置換クロロフィル）、金属錯体、アントラキノン類、（例えば、アントラキノン）、スクアリウム類（例えば、スクアリウム）、等が挙げられる。
【００９５】
より好ましい分光増感色素又は染料の例を以下に例示する。
特公平３７−１３０３４号公報に記載のスチリル系色素；特開昭６２−１４３０４４号公報に記載の陽イオン染料；特公昭５９−２４１４７号公報記載のキノキサリニウム塩；特開昭６４−３３１０４号公報記載の新メチレンブルー化合物；特開昭６４−５６７６７号公報記載のアントラキノン類；特開平２−１７１４号公報記載のベンゾキサンテン染料；特開平２−２２６１４８号公報及び特開平２−２２６１４９号公報記載のアクリジン類；特公昭４０−２８４９９号公報記載のピリリウム塩類；特公昭４６−４２３６３号公報記載のシアニン類；特開平２−６３０５３号記載のベンゾフラン色素；特開平２−８５８５８号公報、特開平２−２１６１５４号公報の共役ケトン色素；特開昭５７−１０６０５号公報記載の色素；特公平２−３０３２１号公報記載のアゾシンナミリデン誘導体；特開平１−２８７１０５号公報記載のシアニン系色素；特開昭６２−３１８４４号公報、特開昭６２−３１８４８号公報、特開昭６２−１４３０４３号公報記載のキサンテン系色素；特公昭５９−２８３２５号公報記載のアミノスチリルケトン；特開平２−１７９６４３号公報記載の色素；特開平２−２４４０５０号公報記載のメロシアニン色素；特公昭５９−２８３２６号公報記載のメロシアニン色素；特開昭５９−８９３０３号公報記載のメロシアニン色素；特開平８−１２９２５７号公報記載のメロシアニン色素；特開平８−３３４８９７号公報記載のベンゾピラン系色素が挙げられる。
【００９６】
増感色素の他の好ましい態様として、以下の化合物群に属しており、且つ、３５０〜４５０ｎｍに極大吸収波長を有する色素が挙げられる。
例えば、多核芳香族類（例えば、ピレン、ペリレン、トリフェニレン）、キサンテン類（例えば、フルオレッセイン、エオシン、エリスロシン、ローダミンＢ、ローズベンガル）、シアニン類（例えばチアカルボシアニン、オキサカルボシアニン）、メロシアニン類（例えば、メロシアニン、カルボメロシアニン）、チアジン類（例えば、チオニン、メチレンブルー、トルイジンブルー）、アクリジン類（例えば、アクリジンオレンジ、クロロフラビン、アクリフラビン）、アントラキノン類（例えば、アントラキノン）、スクアリウム類（例えば、スクアリウム）が挙げられる。
【００９７】
〔（Ｄ）チオール化合物〕
本発明におけるチオール化合物は、共増感剤として作用したり、基板との密着性を高める作用もある。共増感剤は、増感色素や光重合開始剤の活性放射線に対する感度を一層向上させる、あるいはエチレン性不飽和化合物の酸素による重合阻害を抑制する等の作用を有する。
チオール化合物として具体的には、エチレングリコールビスチオプロピオネート（ＥＧＴＰ）、ブタンジオールビスチオプロピオネート（ＢＤＴＰ）、トリメチロールプロパントリスチオプロピオネート（ＴＭＴＰ）、ペンタエリスリトールテトラキスチオプロピオネート（ＰＥＴＰ）、下記式で表されるＴＨＥＩＣ−ＢＭＰＡ等のメルカプトプロピオン酸誘導体；エチレングリコールビスチオグリコレート（ＥＧＴＧ）、ブタンジオールビスチオグリコレート（ＢＤＴＧ）、ヘキサンジオールビスチオグリコレート（ＨＤＴＧ）、トリメチロールプロパントリスチオグリコレート（ＴＭＴＧ）、ペンタエリスリトールテトラキスチオグリコレート（ＰＥＴＧ）等のチオグリコール酸誘導体；１，２−ベンゼンジチオール、１，３−ベンゼンジチオール、１，２−エタンジチオール、１，３−プロパンジチオール、１，６−ヘキサメチレンジチオール、２，２’−（エチレンジチオ）ジエタンチオール、ｍｅｓｏ−２，３−ジメルカプトコハク酸、ｐ−キシレンジチオール、ｍ−キシレンジチオール等のチオール類；ジ（メルカプトエチル）エーテル等のメルカプトエーテル類を例示することができる。これらは、単独で、又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００９８】
【化９】
2010039475.tif 000010
【００９９】
本発明で用いられるチオール化合物は、下記一般式（Ｉ）で表されるものが、より好ましい。
【０１００】
【化１０】
2010039475.tif 000011
【０１０１】
一般式（Ｉ）中、Ｒは、水素原子、アルキル基、又はアリール基を表し、Ａ２は、Ｎ＝Ｃ−Ｎと共にヘテロ環を形成する原子団を表す。
【０１０２】
一般式（Ｉ）において、Ｒは、アルキル基、又はアリール基を表す。
前記アルキル基としては、炭素原子数が１から２０までの直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基を挙げることができ、炭素原子数１から１２までの直鎖状、炭素原子数３から１２までの分岐状、並びに炭素原子数５から１０までの環状のアルキル基がより好ましい。その具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、１−メチルブチル基、イソヘキシル基、２−エチルヘキシル基、２−メチルヘキシル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、２−ノルボルニル基等を挙げることができる。
【０１０３】
前記アリール基としては、単環構造のものに加え、１個から３個のベンゼン環が縮合環を形成したもの、ベンゼン環と５員不飽和環が縮合環を形成したものなどを挙げることができ、具体例としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、インデニル基、アセナブテニル基、フルオレニル基等を挙げることができ、これらの中では、フェニル基、ナフチル基がより好ましい。
【０１０４】
これらのアルキル基やアリール基は、更に置換基を有していてもよく、導入しうる置換基としては、炭素原子数１〜２０の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基、炭素原子数２〜２０の直鎖状、分岐状又は環状のアルケニル基、炭素原子数２〜２０のアルキニル基、炭素原子数６〜２０のアリール基、炭素原子数１〜２０のアシルオキシ基、炭素原子数２〜２０のアルコキシカルボニルオキシ基、炭素原子数７〜２０のアリールオキシカルボニルオキシ基、炭素原子数１〜２０のカルバモイルオキシ基、炭素原子数１〜２０のカルボンアミド基、炭素原子数１〜２０のスルホンアミド基、炭素原子数１〜２０のカルバモイル基、スルファモイル基、炭素原子数１〜２０の置換スルファモイル基、炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基、炭素原子数７〜２０のアリールオキシカルボニル基、炭素原子数２〜２０のアルコキシカルボニル基、炭素原子数１〜２０のＮ−アシルスルファモイル基、炭素原子数１〜２０のＮ−スルファモイルカルバモイル基、炭素原子数１〜２０のアルキルスルホニル基、炭素原子数６〜２０のアリールスルホニル基、炭素原子数２〜２０のアルコキシカルボニルアミノ基、炭素数７〜２０のアリールオキシカルボニルアミノ基、アミノ基、炭素原子数１〜２０の置換アミノ基、炭素原子数１〜２０のイミノ基、炭素原子数３〜２０のアンモニオ基、カルボキシル基、スルホ基、オキシ基、メルカプト基、炭素数１〜２０のアルキルスルフィニル基、炭素原子数６〜２０のアリールスルフィニル基、炭素原子数１〜２０のアルキルチオ基、炭素原子数６〜２０のアリールチオ基、炭素原子数１〜２０のウレイド基、炭素原子数２〜２０のヘテロ環基、炭素原子数１〜２０のアシル基、スルファモイルアミノ基、炭素原子数１〜２の置換スルファモイルアミノ基、炭素原子数２〜２０のシリル基、イソシアネート基、イソシアニド基、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等）、シアノ基、ニトロ基、オニウム基等が挙げられる。
【０１０５】
また、一般式（Ｉ）において、Ａ２は、Ｎ＝Ｃ−Ｎと共にヘテロ環を形成する原子団を表す。
この原子団を構成する原子としては、炭素原子、窒素原子、水素原子、硫黄原子、セレン原子等が挙げられる。
なお、Ａ２とＮ＝Ｃ−Ｎとで形成されるヘテロ環は、更に置換基を有していてもよく、導入しうる置換基としては、上記アルキル基やアリール基に導入可能な置換基と同様のものが挙げられる。
【０１０６】
また、チオール化合物として、更に好ましくは、下記一般式（II）又は一般式（III）で表されるものである。
【０１０７】
【化１１】
2010039475.tif 000012
【０１０８】
一般式（II）中、Ｒ１は、アリール基を表し、Ｘ１は、水素原子、ハロゲン原子、アルコキシ基、アルキル基、又はアリール基を表す。
【０１０９】
一般式（III）中、Ｒ２は、アルキル基、又はアリール基を表し、Ｘ１は、一般式（II）のＸ１と同義である。
【０１１０】
一般式（II）及び（III）におけるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が好ましい。
【０１１１】
一般式（II）及び（III）におけるアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブチルオキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ドデシルオキシ基、ベンジルオキシ基、アリルオキシ基、フェネチルオキシ基、カルボキシエチルオキシ基、メトキシカルボニルエチルオキシ基、エトキシカルボニルエチルオキシ基、メトキシエトキシ基、フェノキシエトキシ基、メトキシエトキシエトキシ基、エトキシエトキシエトキシ基、モルホリノエトキシ基、モルホリノプロピルオキシ基、アリロキシエトキシエトキシ基、フェノキシ基、トリルオキシ基、キシリルオキシ基、メシチルオキシ基、クメチルオキシ基、メトキシフェニルオキシ基、エトキシフェニルオキシ基、クロロフェニルオキシ基、ブロモフェニルオキシ基、アセチルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、ナフチルオキシ基等が挙げられる。
【０１１２】
一般式（II）及び（III）におけるアルキル基は、一般式（Ｉ）のＲで表されるアルキル基と同義であり、その好ましい範囲も同様である。
また、一般式（II）及び（III）におけるアリール基は、一般式（Ｉ）のＲで表されるアリール基と同義であり、その好ましい範囲も同様である。
【０１１３】
一般式（II）及び（III）における各基は、更に置換基を有していてもよく、その置換基としては、一般式（Ｉ）のＲで表されるアルキル基やアリール基に導入可能な置換基として挙げられているものと同様である。
【０１１４】
一般式（II）及び（III）中、Ｘ１は、水素原子であることが、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（以下、適宜ＰＧＭＥＡと称する。）溶解性の観点でより好ましい。
一般式（II）中、Ｒ１は、フェニル基であることが、感度とＰＧＭＥＡ溶解性の観点で最も好ましい。
一般式（III）中、Ｒ２は、メチル基、エチル基、フェニル基、ベンジル基であることが、感度とＰＧＭＥＡ溶解性の観点でより好ましい。
【０１１５】
一般式（II）及び（III）の中で、ＰＧＭＥＡ溶解性の観点で、一般式（III）で表される化合物が最も好ましい。
【０１１６】
これらのチオール化合物は、Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｃｈｅｍ．，３４、２２０３−２２０７（１９６１）に記載の方法で合成することができる。
【０１１７】
本発明の感光性樹脂組成物において、一般式（Ｉ）で表される化合物は、１種単独で用いても、２種以上を併用してもよく、また、一般式（II）で表される化合物から選択される化合物と、一般式（III）で表される化合物から選択される化合物と、から選択される化合物と、をそれぞれ併用してもよい。
【０１１８】
感光性樹脂組成物中のチオール化合物の含有量は、感光性樹脂組成物の固形分に対して、０．１〜５．０質量％であることが好ましく、０．２〜４質量％であることがより好ましい。この範囲内にあると、重合性を損なうことがないため好ましい。
【０１１９】
〔（Ｅ）着色剤〕
本発明の感光性樹脂組成物により着色パターンを形成する場合には、感光性樹脂組成物には着色剤が含まれることが好ましい。
着色剤としては、染料、および顔料を適宜選択して用いることができる。耐熱性などの観点からは、顔料がより好ましい。
【０１２０】
着色剤として使用される顔料は、無機顔料であっても、有機顔料であってもよいが、高透過率とする観点から、なるべく粒子サイズの小さいものの使用が好ましい。平均粒子サイズは、１０ｎｍ〜１００ｎｍであることが好ましく、さらに好ましくは、１０ｎｍ〜５０ｎｍの範囲である。
本発明に用いられる感光性樹脂組成物においては、後述する高分子分散剤を用いることで、顔料のサイズが小さい場合であっても、顔料分散性、分散安定性が良好となるため、膜厚が薄くても色純度に優れる着色画素を形成しうる。
【０１２１】
さらに、本発明においては、感光性樹脂組成物に含有される顔料のうち、一次粒子径が０．０２μｍ未満の顔料の割合が、該顔料の全量中、１０％未満であり、かつ、一次粒子径が０．０８μｍを超える顔料の割合が、該顔料の全量中、５％未満であることが好ましい。
【０１２２】
一次粒子径が０．０２μｍ未満の顔料の割合が、１０％未満であることで、耐熱性、色度変化を防止することができ、一次粒子径が０．０８μｍを超える顔料の割合が、５％未満であることで、コントラストが良く、感光性樹脂組成物の経時安定性が良く、さらには異物故障を防止することができる。
一次粒子径が０．０２μｍ未満の顔料の割合は、耐熱性、及び色度変化防止の観点から、５％未満であることが好ましい。
一次粒子径が０．０８μｍを超える顔料の割合は、コントラストを良くする観点から、３％未満であることが好ましい。
【０１２３】
顔料の一次粒子径は、ＴＥＭ（透過型電子顕微鏡）を用いて測定することができる。すなわち、ＴＥＭ写真を画像解析して粒径分布を調べることにより行なう。例えば３〜１０万倍での観察試料中の全粒子数と、０．０２μｍ未満、及び０．０８μｍを超える顔料の粒子数を計測することで粒度分布を把握できる。より具体的には、顔料粉体を透過型電子顕微鏡で３〜１０万倍で観察し、写真を撮り、１０００個の一次粒子の長径を測定し、０．０２μｍ未満、及び０．０８μｍを超える一次粒子の割合を算出する。この操作を顔料粉体の部位を変えて合計で３箇所について行い、結果を平均した。
【０１２４】
着色パターン（着色画素）形成用の着色剤として用いうる無機顔料としては、金属酸化物、金属錯塩等で表される金属化合物を挙げることができ、具体的には、鉄、コバルト、アルミニウム、カドミウム、鉛、銅、チタン、マグネシウム、クロム、亜鉛、アンチモン等の金属酸化物、及び前記金属の複合酸化物等を挙げることができる。
【０１２５】
前記有機顔料としては、例えば、
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｒｅｄ  １、２、３、４、５、６、７、９、１０、１４、１７、２２、２３、３１、３８、４１、４８：１、４８：２、４８：３、４８：４、４９、４９：１、４９：２、５２：１、５２：２、５３：１、５７：１、６０：１、６３：１、６６、６７、８１：１、８１：２、８１：３、８３、８８、９０、１０５、１１２、１１９、１２２、１２３、１４４、１４６、１４９、１５０、１５５、１６６、１６８、１６９、１７０、１７１、１７２、１７５、１７６、１７７、１７８、１７９、１８４、１８５、１８７、１８８、１９０、２００、２０２、２０６、２０７、２０８、２０９、２１０、２１６、２２０、２２４、２２６、２４２、２４６、２５４、２５５、２６４、２７０、２７２、２７９、
【０１２６】
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｙｅｌｌｏｗ  １、２、３、４、５、６、１０、１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、１８、２０、２４、３１、３２、３４、３５、３５：１、３６、３６：１、３７、３７：１、４０、４２、４３、５３、５５、６０、６１、６２、６３、６５、７３、７４、７７、８１、８３、８６、９３、９４、９５、９７、９８、１００、１０１、１０４、１０６、１０８、１０９、１１０、１１３、１１４、１１５、１１６、１１７、１１８、１１９、１２０、１２３、１２５、１２６、１２７、１２８、１２９、１３７、１３８、１３９、１４７、１４８、１５０、１５１、１５２、１５３、１５４、１５５、１５６、１６１、１６２、１６４、１６６、１６７、１６８、１６９、１７０、１７１、１７２、１７３、１７４、１７５、１７６、１７７、１７９、１８０、１８１、１８２、１８５、１８７、１８８、１９３、１９４、１９９、２１３、２１４
【０１２７】
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｏｒａｎｇｅ  ２、５、１３、１６、１７：１、３１、３４、３６、３８、４３、４６、４８、４９、５１、５２、５５、５９、６０、６１、６２、６４、７１、７３
Ｃ．Ｉ．  Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｇｒｅｅｎ  ７、１０、３６、３７、５８
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｂｌｕｅ  １、２、１５、１５：１、１５：２、１５：３、１５：４、１５：６、１６、２２、６０、６４、６６、７９、７９のＣｌ置換基をＯＨに変更したもの、８０
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｖｉｏｌｅｔ  １、１９、２３、２７、３２、３７、４２
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｂｒｏｗｎ  ２５、２８  等を挙げることができる。
【０１２８】
これらの中で好ましく用いることができる顔料として、以下のものを挙げることができる。但し、本発明においてはこれらに限定されるものではない。
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｙｅｌｌｏｗ  １１，２４，１０８，１０９，１１０，１３８，１３９，１５０，１５１，１５４，１６７，１８０，１８５，
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｏｒａｎｇｅ  ３６，７１，
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｒｅｄ  １２２，１５０，１７１，１７５，１７７，２０９，２２４，２４２，２５４，２５５，２６４，
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｖｉｏｌｅｔ  １９，２３，３２，
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｂｌｕｅ  １５：１，１５：３，１５：６，１６，２２，６０，６６，
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｇｒｅｅｎ  ７，３６，３７；
【０１２９】
これら有機顔料は、単独若しくは、色純度を上げるため種々組合せて用いることができる。組合せの具体例を以下に示す。
例えば、赤色相（Ｒ）用の顔料としては、アントラキノン系顔料、ペリレン系顔料、ジケトピロロピロール系顔料単独又はそれらの少なくとも１種と、ジスアゾ系黄色顔料、イソインドリン系黄色顔料、キノフタロン系黄色顔料又はペリレン系赤色顔料、アントラキノン系赤色顔料、ジケトピロロピロール系赤色顔料と、の混合などを用いることができる。例えば、アントラキノン系顔料としては、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１７７が挙げられ、ペリレン系顔料としては、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１５５、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド２２４が挙げられ、ジケトピロロピロール系顔料としては、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド２５４が挙げられ、色再現性の点でＣ．Ｉ．ピグメント・イエロー１３９またはＣ．Ｉ．ピグメント・レッド１７７との混合が好ましい。また、赤色顔料と他顔料との質量比は、１００：５〜１００：８０が好ましい。１００：４以下では４００nmから５００nmの光透過率を抑えることが困難で色純度を上げることが出来ない場合がある。また１００：８１以上では発色力が下がる場合がある。特に、上記質量比としては、１００：１０〜１００：６５の範囲が最適である。尚、赤色顔料同士の組み合わせの場合は、色度に併せて調整することができる。
【０１３０】
また、緑色相（Ｇ）用の顔料としては、ハロゲン化フタロシアニン系顔料を単独で、又は、これとビスアゾ系黄色顔料、キノフタロン系黄色顔料、アゾメチン系黄色顔料若しくはイソインドリン系黄色顔料との混合を用いることができる。例えば、このような例としては、Ｃ．Ｉ．ピグメント・グリーン７、３６、３７、５８とＣ．Ｉ．ピグメント・イエロー１３８、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１３９、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１５０、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１８０又はＣ．Ｉ．ピグメント・イエロー１８５との混合が好ましい。緑顔料と黄色顔料との質量比は、十分な色純度を得ること、及びＮＴＳＣ目標色相からのずれを抑制する観点から、１００：５〜１００：１５０が好ましい。質量比としては１００：３０〜１００：１２０の範囲が特に好ましい。
【０１３１】
青色相（Ｂ）用の顔料としては、フタロシアニン系顔料を単独で、若しくはこれとジオキサジン系紫色顔料との混合を用いることができる。例えば、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：６とＣ．Ｉ．ピグメント・バイオレット２３との混合が好ましい。青色顔料と紫色顔料との質量比は、１００：０〜１００：５０が好ましく、より好ましくは１００：５〜１００：３０である。
【０１３２】
また、本発明で遮光層を設けることも可能であり、この場合には（Ｅ）着色剤として、カーボンブラック、チタンブラック、金属微粒子、金属酸化物、硫化物の微粒子などを用いることができる。遮光層はカラーフィルタにおいては、光学濃度（ＯＤ値）を３．５以上とすることが好ましい。
【０１３３】
遮光層用の材料としては従来から黒色着色剤として、可視光領域を遮蔽するように顔料を少なくとも２種以上併用して用いられてきた。これらの顔料としては、特開２００５−１７７１６号公報［００３８］〜［００４０］や、特開２００５−１７５２１号公報［００８０］〜［００８８］に記載の顔料を挙げることができ、これらの顔料を使用した遮光層の形成は特開平７−２７１０２０などに開示されている。
遮光効果をより大きくするために特開２０００−１４７２４０、特開２０００−１４３９８５、特開２００５−３３８３２８、特開２００６−１５４８４９などでは、カーボンブラック、チタンブラック、または黒鉛等が遮光材料の好適なものとして開発されてきた。遮光性やコストの観点から、カーボンブラックは遮光材料のひとつとして好ましいものである。
【０１３４】
カーボンブラックの例としては、ピグメント・ブラック７（カーボンブラック）が好ましい。カーボンブラックとしては、例えば、三菱化学社製のカーボンブラック＃２４００、＃２３５０、＃２３００、＃２２００、＃１０００、＃９８０、＃９７０、＃９６０、＃９５０、＃９００、＃８５０、ＭＣＦ８８、＃６５０、ＭＡ６００、ＭＡ７、ＭＡ８、ＭＡ１１、ＭＡ１００、ＭＡ２２０、ＩＬ３０Ｂ、ＩＬ３１Ｂ、ＩＬ７Ｂ、ＩＬ１１Ｂ、ＩＬ５２Ｂ、＃４０００、＃４０１０、＃５５、＃５２、＃５０、＃４７、＃４５、＃４４、＃４０、＃３３、＃３２、＃３０、＃２０、＃１０、＃５、ＣＦ９、＃３０５０、＃３１５０、＃３２５０、＃３７５０、＃３９５０、ダイヤブラックＡ、ダイヤブラックＮ２２０Ｍ、ダイヤブラックＮ２３４、ダイヤブラックＩ、ダイヤブラックＬＩ、ダイヤブラックＩＩ、ダイヤブラックＮ３３９、ダイヤブラックＳＨ、ダイヤブラックＳＨＡ、ダイヤブラックＬＨ、ダイヤブラックＨ、ダイヤブラックＨＡ、ダイヤブラックＳＦ、ダイヤブラックＮ５５０Ｍ、ダイヤブラックＥ、ダイヤブラックＧ、ダイヤブラックＲ、ダイヤブラックＮ７６０Ｍ、ダイヤブラックＬＰ；デグサ社製のカーボンブラックＣｏｌｏｒ  Ｂｌａｃｋ  ＦＷ２００、Ｃｏｌｏｒ  Ｂｌａｃｋ  ＦＷ２、Ｃｏｌｏｒ  Ｂｌａｃｋ  ＦＷ１、Ｃｏｌｏｒ  Ｂｌａｃｋ  ＦＷ１８、Ｃｏｌｏｒ  Ｂｌａｃｋ  Ｓ１７０、Ｃｏｌｏｒ  Ｂｌａｃｋ  Ｓ１６０、Ｓｐｅｃｉａｌ  Ｂｌａｃｋ６、Ｓｐｅｃｉａｌ  Ｂｌａｃｋ５、Ｓｐｅｃｉａｌ  Ｂｌａｃｋ４、Ｓｐｅｃｉａｌ  Ｂｌａｃｋ４Ａ、Ｐｒｉｎｔｅｘ  Ｕ、ＰｒｉｎｔｅｘＶ、Ｐｒｉｎｔｅｘ  １４０Ｕ、Ｐｒｉｎｔｅｘ  １４０Ｖ、Ｐｒｉｎｔｅｘ  ３５；Ｃａｂｏｔ社製のカーボンブラックＲＥＧＡＬ  ４００、ＲＥＧＡＬ  ４００Ｒ、ＲＥＧＡＬ  ＸＣ７２、ＶＵＬＣＡＮ  ＸＣ７２Ｒ、ＭＯＧＵＬ  Ｌ、ＭＯＮＡＲＣＨ  １４００、ＭＯＮＡＲＣＨ  １０００、ＢＬＡＣＫ  ＰＥＡＲＬＳ１４００；旭カーボン社製のカーボンブラックＳＵＮＢＬＡＣＫ９００、同９１０、同９３０、同９６０、同９７０等を挙げることができる。また電気抵抗を大きくするためにこれらを高分子化合物で被覆したものも好ましいものである。これらのカーボンブラックの好ましい単粒子の大きさは１０〜１００ｎｍ、より好ましくは１０〜５０ｎｍである。
これらは必要に応じて、単独又は複数種組み合わせて用いられる。例えば、カーボンブラック単独、有機顔料の混合、カーボンブラックと有機顔料、カーボンブラックとチタンブラックとの併用などである。
【０１３５】
本発明に用いられる感光性樹脂組成物中における（Ｅ）着色剤の含有量としては、該組成物の全固形分（質量）に対して、２５質量％〜７５質量％が好ましく、３２質量％〜７０質量％がより好ましい。着色剤の含有量が前記範囲内であると、色濃度が充分で優れた色特性を確保するのに有効である。
【０１３６】
本発明では特に着色剤として有機顔料を用い、且つ顔料の微細化工程あるいは分散工程で、顔料を高分子化合物で被覆したものを用いることが好ましい。顔料を高分子化合物で被覆することによって微細化された顔料においても、２次凝集体の形成が抑制され、１次粒子の状態で分散させることができる分散性が向上された被覆顔料、分散させた１次粒子が安定的に維持される分散安定性に優れた被覆顔料を用いることができる。
【０１３７】
本発明で好適な態様である被覆顔料とは、高分子化合物で顔料が被覆されたものであるが、被覆とは微細化で生じた表面活性の高い顔料の新界面が、側鎖に複素環を有する高分子化合物との強い静電的作用によって、該高分子化合物の強固な被覆層を形成するため、より高い分散安定性を有する被覆顔料が得られるものと考えられる。即ち、本発明においては、被覆処理後の顔料は、高分子化合物を溶解する有機溶剤で洗浄しても、殆ど被覆した高分子化合物は遊離しない。
【０１３８】
本発明でいう被覆顔料は、有機顔料などの顔料粒子が側鎖に複素環等の極性基を有する高分子化合物で被覆されているものであり、該高分子化合物が顔料粒子表面の一部或いは全部に強固に被覆されることでより高い分散安定性の効果を奏するものであり、一般的な高分子分散剤が顔料に吸着してなるものとは異なるものである。この被覆状態は以下に示す有機溶剤による洗浄で高分子化合物の遊離量（遊離率）を測定することにより確認できる。即ち、単に吸着してなる高分子化合物は有機溶剤による洗浄によりその殆ど、具体的には、６５％以上が遊離、除去されるが、本発明の如く表面被覆された顔料の場合には遊離率は極めて少なく、３０％以下である。
【０１３９】
被覆処理後の顔料を１−メトキシ−２−プロパノールで洗浄して、遊離量を算出する。その方法は、顔料１０ｇを１−メトキシ−２−プロパノール１００ｍｌ中に投入し、振とう機を用いて室温で３時間、振とうさせた。その後遠心分離機で８０，０００ｒｐｍで８時間かけて顔料を沈降させ、上澄み液部分の固形分を乾燥法から求めた。顔料から遊離した高分子化合物の質量を求め、初期の処理に使用した高分子化合物の質量との比から、遊離率（％）を算出した。
【０１４０】
市販等の顔料の遊離率は、以下の方法で測定できる。即ち、顔料を溶解する溶剤（例えばジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、蟻酸、硫酸など）で、顔料全体を溶解した後に、高分子化合物と顔料とに、溶解性の差を利用して有機溶剤で分離して、「初期の処理に使用した高分子化合物の質量」として算出する。別途、顔料を１−メトキシ−２−プロパノールで洗浄して、得られた上記の遊離量を、この「初期の処理に使用した高分子化合物の質量」で除して遊離率（％）を求める。
遊離率は小さいほど顔料への被覆率が高く、分散性、分散安定性が良好である。遊離率の好ましい範囲は３０％以下、より好ましくは２０％以下、最も好ましくは１５％以下である。理想的には０％である。
【０１４１】
被覆処理は、顔料の微細化工程で同時に行うことが好ましく、具体的には、ｉ）顔料と、ii）水溶性の無機塩と、iii）実質的にii）を溶解しない少量の水溶性の有機溶剤、およびiv）高分子化合物を加え、ニーダー等で機械的に混練する工程（ソルトミリング工程と称する）、この混合物を水中に投入し、ハイスピードミキサー等で撹拌しスラリー状とする工程、及び、このスラリーを濾過、水洗して必要により乾燥する工程を経て実施される。
【０１４２】
上記したソルトミリングについて、さらに具体的に説明する。まず、ｉ）有機顔料とii）水溶性の無機塩の混合物に、湿潤剤として少量のiii）水溶性の有機溶剤を加え，ニーダー等で強く練り込んだ後、この混合物を水中に投入し，ハイスピードミキサー等で攪拌しスラリー状とする。次に，このスラリーを濾過、水洗して必要により乾燥することにより，微細化された顔料が得られる。なお、油性のワニスに分散して用いる場合には，乾燥前の処理顔料（濾過ケーキと呼ぶ）を一般にフラッシングと呼ばれる方法で、水を除去しながら油性のワニスに分散することも可能である。また水系のワニスに分散する場合は，処理顔料は乾燥する必要がなく、濾過ケーキをそのままワニスに分散することができる。
【０１４３】
ソルトミリング時に上記iii）有機溶剤にiv）少なくとも一部可溶な樹脂を併用することにより、さらに微細で、表面がiv）少なくとも一部可溶な樹脂による被覆された、乾燥時の顔料の凝集が少ないものが得られる。
なお、iv）高分子化合物を加えるタイミングは、ソルトミリング工程の初期にすべてを添加してもよく、分割して添加してもよい。また分散工程で添加することも可能である。
【０１４４】
顔料の被覆に用いる高分子化合物は顔料への吸着性基を有するものなら何でもよい。特に、側鎖に複素環を有する高分子化合物で被覆処理したものが好ましい。このような高分子化合物としては、下記一般式（IV）で表される単量体、または、マレイミド、マレイミド誘導体からなる単量体に由来する重合単位を含む重合体であることが好ましく、下記一般式（IV）で表される単量体に由来する重合単位を含む重合体であることが特に好ましい。
【０１４５】
【化１２】
2010039475.tif 000013
【０１４６】
前記一般式（ＩＶ）中、Ｒ６は、水素原子、又は置換若しくは無置換のアルキル基を表す。Ｒ７は、単結合、又は２価の連結基を表す。Ｙ１は、−ＣＯ−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＣＯＮＨ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、又はフェニレン基を表す。Ｚ１は含窒素複素環構造を有する基を表す。
【０１４７】
Ｒ６のアルキル基としては、炭素数１〜１２のアルキル基が好ましく、炭素数１〜８のアルキル基がより好ましく、炭素数１〜４のアルキル基が特に好ましい。
Ｒ６で表されるアルキル基が置換基を有する場合、該置換基としては、例えば、ヒドロキシ基、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜５、より好ましくは炭素数１〜３がより好ましい。）メトキシ基、エトキシ基、シクロヘキシロキシ基等が挙げられる。
【０１４８】
Ｒ６で表される好ましいアルキル基として具体的には、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、２−ヒドロキシエチル基、３−ヒドロキシプロピル基、２−ヒドロキシプロピル基、２−メトキシエチル基が挙げられる。
Ｒ６としては、水素原子又はメチル基が最も好ましい。
【０１４９】
一般式（ＩＶ）中、Ｒ７は、単結合又は２価の連結基を表す。該２価の連結基としては、置換若しくは無置換のアルキレン基が好ましい。該アルキレン基としては、炭素数１〜１２のアルキレン基が好ましく、炭素数１〜１２のアルキレン基がより好ましく、炭素数１〜８のアルキレン基が更に好ましく、炭素数１〜４のアルキレン基が特に好ましい。
Ｒ７で表されるアルキレン基は、ヘテロ原子（例えば、酸素原子、窒素原子、又は硫黄原子）を介して２以上連結したものであってもよい。
Ｒ７で表される好ましいアルキレン基として具体的には、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基が挙げられる。
Ｒ７で表される好ましいアルキレン基が置換基を有する場合、該置換基としては、例えば、ヒドロキシ基、等が挙げられる。
【０１５０】
Ｒ７で表される２価の連結基としては、上記のアルキレン基の末端において、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＣＯＮＨ−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｓ−、−ＮＨＣＯＮＨ−、−ＮＨＣ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＮＨＣ（＝Ｏ）Ｓ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−ＯＣＯＮＨ−、及び−ＮＨＣＯ−から選ばれるヘテロ原子又はヘテロ原子を含む部分構造を有し、該ヘテロ原子又はヘテロ原子を含む部分構造を介してＺ１と連結するものであってもよい。
【０１５１】
一般式（ＩＶ）中、Ｚ１は複素環構造を有する基を表す。複素環構造を有する基としては、例えば、フタロシアニン系、不溶性アゾ系、アゾレーキ系、アントラキノン系、キナクリドン系、ジオキサジン系、ジケトピロロピロール系、アントラピリジン系、アンサンスロン系、インダンスロン系、フラバンスロン系、ペリノン系、ペリレン系、チオインジゴ系の色素構造や、例えば、チオフェン、フラン、キサンテン、ピロール、ピロリン、ピロリジン、ジオキソラン、ピラゾール、ピラゾリン、ピラゾリジン、イミダゾール、オキサゾール、チアゾール、オキサジアゾール、トリアゾール、チアジアゾール、ピラン、ピリジン、ピペリジン、ジオキサン、モルホリン、ピリダジン、ピリミジン、ピペラジン、トリアジン、トリチアン、イソインドリン、イソインドリノン、ベンズイミダゾロン、ベンゾチアゾール、コハクイミド、フタルイミド、ナフタルイミド、ヒダントイン、インドール、キノリン、カルバゾール、アクリジン、アクリドン、アントラキノン、ピラジン、テトラゾール、フェノチアジン、フェノキサジン、ベンズイミダゾール、ベンズトリアゾール、環状アミド、環状ウレア、環状イミド等の複素環構造が挙げられる。これらの複素環構造は、置換基を有していてもよく、該置換基としては、例えば、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、脂肪族エステル基、芳香族エステル基、アルコキシカルボニル基、等が挙げられる。
【０１５２】
Ｚ１は、炭素数が６以上である含窒素複素環構造を有する基であることがより好ましく、炭素数が６以上１２以下である含窒素複素環構造を有する基であることが特に好ましい。炭素数が６以上である含窒素複素環構造として具体的には、フェノチアジン環、フェノキサジン環、アクリドン環、アントラキノン環、ベンズイミダゾール構造、ベンズトリアゾール構造、ベンズチアゾール構造、環状アミド構造、環状ウレア構造、及び環状イミド構造が好ましく、下記（２）、（３）又は（４）で表される構造であることが特に好ましい。
【０１５３】
【化１３】
2010039475.tif 000014
【０１５４】
一般式（２）中、Ｘは、単結合、アルキレン基（例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基など）、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲＡ−、及び−Ｃ（＝Ｏ）−からなる群より選ばれるいずれかである。ここでＲＡは、水素原子又はアルキル基を表す。ＲＡがアルキル基を表す場合のアルキル基は、好ましくは炭素数１〜１８のアルキル基、より好ましくは炭素数１〜６のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、ｎ−オクタデシル基などが挙げられる。
上記した中でも、一般式（２）におけるＸとしては、単結合、メチレン基、−Ｏ−、又は−Ｃ（＝Ｏ）−が好ましく、−Ｃ（＝Ｏ）−が特に好ましい。
【０１５５】
一般式（４）中、Ｙ及びＺは、各々独立に、−Ｎ＝、−ＮＨ−、−Ｎ（ＲＢ）−、−Ｓ−、又は−Ｏ−を表す。ＲＢはアルキル基を表し、ＲＢがアルキル基を表す場合のアルキル基は、好ましくは炭素数１〜１８のアルキル基、より好ましくは炭素数１〜６のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、ｎ−オクタデシル基などが挙げられる。
上記した中でも、一般式（４）における、Ｙ及びＺとしては、−Ｎ＝、−ＮＨ−、及び−Ｎ（ＲＢ）−が特に好ましい。Ｙ及びＺの組み合わせとしては、Ｙ及びＺのいずれか一方が−Ｎ＝であり他方が−ＮＨ−である組み合わせ、イミダゾリル基が挙げられる。
【０１５６】
一般式（２）、（３）、および（４）で、環Ａ、環Ｂ、環Ｃ、及び環Ｄは、各々独立に、芳香環を表す。該芳香環としては、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、インデン環、アズレン環、フルオレン環、アントラセン環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、ピロール環、イミダゾール環、インドール環、キノリン環、アクリジン環、フェノチアジン環、フェノキサジン環、アクリドン環、アントラキノン環等が挙げられ、中でも、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、ピリジン環、フェノキサジン環、アクリジン環、フェノチアジン環、フェノキサジン環、アクリドン環、アントラキノン環が好ましく、ベンゼン環、ナフタレン環、ピリジン環が特に好ましい。
【０１５７】
具体的には、一般式（２）における環Ａ及び環Ｂとしては、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、ピリジン環、ピラジン環、等が挙げられる。一般式（３）における環Ｃとしては、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、ピリジン環、ピラジン環、等が挙げられる。一般式（４）における環Ｄとしては、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、ピリジン環、ピラジン環、等が挙げられる。
【０１５８】
一般式（２）、（３）および（４）で表される構造の中でも、分散性、分散液の経時安定性の点からは、ベンゼン環、ナフタレン環がより好ましく、一般式（２）又は（４）においては、ベンゼン環がさらに好ましく、一般式（３）においては、ナフタレン環がさらに好ましい。
【０１５９】
これらの具体的化合物として、下記ＭＡ−１〜ＭＡ−１３、及び下記Ｍ−１〜Ｍ−３３を挙げることができるが、本発明は、これらに限られるものではない。
【０１６０】
【化１４】
2010039475.tif 000015
【０１６１】
【化１５】
2010039475.tif 000016
【０１６２】
【化１６】
2010039475.tif 000017
【０１６３】
【化１７】
2010039475.tif 000018
【０１６４】
【化１８】
2010039475.tif 000019
【０１６５】
【化１９】
2010039475.tif 000020
【０１６６】
【化２０】
2010039475.tif 000021
【０１６７】
【化２１】
2010039475.tif 000022
【０１６８】
また、上記ＭＡ−１〜ＭＡ−１３、及びＭ−１〜Ｍ−３３以外に、下記の化合物を挙げることができる。
【０１６９】
【化２２】
2010039475.tif 000023
【０１７０】
【化２３】
2010039475.tif 000024
【０１７１】
上記した被覆処理した顔料を用いる場合でも、分散剤の少なくとも１種を使用して顔料を分散し、顔料分散組成物として使用することがさらに好ましい。この分散剤の含有により、顔料の分散性を向上させることができる。
分散剤としては、例えば、公知の顔料分散剤や界面活性剤を適宜選択して用いることができる。
【０１７２】
具体的には、多くの種類の化合物を使用可能であり、例えば、オルガノシロキサンポリマーＫＰ３４１（信越化学工業（株）製）、（メタ）アクリル酸系（共）重合体ポリフローＮo.７５、Ｎo.９０、Ｎo.９５（共栄社化学工業（株）製）、Ｗ００１（裕商（株）社製）等のカチオン系界面活性剤；ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート、ソルビタン脂肪酸エステル等のノニオン系界面活性剤；Ｗ００４、Ｗ００５、Ｗ０１７（裕商（株）社製）等のアニオン系界面活性剤；ＥＦＫＡ−４６、ＥＦＫＡ−４７、ＥＦＫＡ−４７ＥＡ、ＥＦＫＡポリマー１００、ＥＦＫＡポリマー４００、ＥＦＫＡポリマー４０１、ＥＦＫＡポリマー４５０（いずれもチバ・スペシャルテイケミカル社製）、ディスパースエイド６、ディスパースエイド８、ディスパースエイド１５、ディスパースエイド９１００（いずれもサンノプコ社製）等の高分子分散剤；ソルスパース３０００、５０００、９０００、１２０００、１３２４０、１３９４０、１７０００、２４０００、２６０００、２８０００などの各種ソルスパース分散剤（日本ルーブリゾール（株）製）；アデカプルロニックＬ３１，Ｆ３８，Ｌ４２，Ｌ４４，Ｌ６１，Ｌ６４，Ｆ６８，Ｌ７２，Ｐ９５，Ｆ７７、Ｐ８４、Ｆ８７、Ｐ９４，Ｌ１０１，Ｐ１０３，Ｆ１０８、Ｌ１２１、Ｐ−１２３（旭電化（株）製）及びイソネットＳ−２０（三洋化成（株）製）、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ  １０１，１０３，１０６，１０８，１０９，１１１，１１２，１１６，１３０，１４０，１４２，１６２，１６３，１６４，１６６，１６７，１７０，１７１，１７４，１７６，１８０，１８２，２０００，２００１，２０５０，２１５０（ビックケミー（株）社製）が挙げられる。その他、アクリル系共重合体など、分子末端もしくは側鎖に極性基を有するオリゴマーもしくはポリマーが挙げられる。
【０１７３】
分散剤の顔料分散組成物中における含有量としては、既述の顔料の質量に対して、１〜１００質量％が好ましく、３〜７０質量％がより好ましい。
【０１７４】
上記した顔料分散組成物は、必要に応じて、顔料誘導体が添加される。分散剤と親和性のある部分、あるいは極性基を導入した顔料誘導体を顔料表面に吸着させ、これを分散剤の吸着点として用いることで、顔料を微細な粒子として硬化性組成物中に分散させ、その再凝集を防止することができ、コントラストが高く、透明性に優れたカラーフィルタを構成するのに有効である。
【０１７５】
顔料誘導体は、具体的には有機顔料を母体骨格とし、側鎖に酸性基や塩基性基、芳香族基を置換基として導入した化合物である。有機顔料は、具体的には、キナクリドン系顔料、フタロシアニン系顔料、アゾ系顔料、キノフタロン系顔料、イソインドリン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノリン顔料、ジケトピロロピロール顔料、ベンゾイミダゾロン顔料等が挙げられる。一般に、色素と呼ばれていないナフタレン系、アントラキノン系、トリアジン系、キノリン系等の淡黄色の芳香族多環化合物も含まれる。色素誘導体としては、特開平１１−４９９７４号公報、特開平１１−１８９７３２号公報、特開平１０−２４５５０１号公報、特開２００６−２６５５２８号公報、特開平８−２９５８１０号公報、特開平１１−１９９７９６号公報、特開２００５−２３４４７８号公報、特開２００３−２４０９３８号公報、特開２００１−３５６２１０号公報等に記載されているものを使用できる。
【０１７６】
顔料誘導体の顔料分散組成物中における含有量としては、顔料の質量に対して、１〜３０質量％が好ましく、３〜２０質量％がより好ましい。該含有量が前記範囲内であると、粘度を低く抑えながら、分散を良好に行なえると共に分散後の分散安定性を向上させることができ、透過率が高く優れた色特性が得られ、カラーフィルタを作製するときには良好な色特性を有する高コントラストに構成することができる。
【０１７７】
分散の方法は、例えば、顔料と分散剤を予め混合してホモジナイザー等で予め分散しておいたものを、ジルコニアビーズ等を用いたビーズ分散機等を用いて微分散させることによって行なえる。
【０１７８】
本発明において、着色剤として、染料を用いる場合は、均一に溶解された光硬化性組成物が得られる。
着色剤として使用可能な染料としては、特に制限はなく、従来カラーフィルタ用途として用いられている公知の染料を使用できる。例えば、特開昭６４−９０４０３号公報、特開昭６４−９１１０２号公報、特開平１−９４３０１号公報、特開平６−１１６１４号公報、特登２５９２２０７号、米国特許第４，８０８，５０１号明細書、米国特許第５，６６７，９２０号明細書、米国特許第５，０５９，５００号明細書、特開平５−３３３２０７号公報、特開平６−３５１８３号公報、特開平６−５１１１５号公報、特開平６−１９４８２８号公報、特開平８−２１１５９９号公報、特開平４−２４９５４９号公報、特開平１０−１２３３１６号公報、特開平１１−３０２２８３号公報、特開平７−２８６１０７号公報、特開２００１−４８２３号公報、特開平８−１５５２２号公報、特開平８−２９７７１号公報、特開平８−１４６２１５号公報、特開平１１−３４３４３７号公報、特開平８−６２４１６号公報、特開２００２−１４２２０号公報、特開２００２−１４２２１号公報、特開２００２−１４２２２号公報、特開２００２−１４２２３号公報、特開平８−３０２２２４号公報、特開平８−７３７５８号公報、特開平８−１７９１２０号公報、特開平８−１５１５３１号公報等に記載の色素である。
【０１７９】
化学構造としては、ピラゾールアゾ系、アニリノアゾ系、トリフェニルメタン系、アントラキノン系、アンスラピリドン系、ベンジリデン系、オキソノール系、ピラゾロトリアゾールアゾ系、ピリドンアゾ系、シアニン系、フェノチアジン系、ピロロピラゾールアゾメチン系、キサンテン系、フタロシアニン系、ペンゾピラン系、インジゴ系等の染料が使用できる。
【０１８０】
〔溶剤〕
本発明に用いられる感光性樹脂組成物は、一般に溶剤を用いて調製することができる。また上述した顔料分散組成物も溶剤を用いて調製する。
溶剤としては、エステル類、例えば酢酸エチル、酢酸−ｎ−ブチル、酢酸イソブチル、ギ酸アミル、酢酸イソアミル、酢酸イソブチル、プロピオン酸ブチル、酪酸イソプロピル、酪酸エチル、酪酸ブチル、アルキルエステル類、乳酸メチル、乳酸エチル、オキシ酢酸メチル、オキシ酢酸エチル、オキシ酢酸ブチル、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、並びに３−オキシプロピオン酸メチル、３−オキシプロピオン酸エチルなどの３−オキシプロピオン酸アルキルエステル類（例えば、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチルなど）、２−オキシプロピオン酸メチル、２−オキシプロピオン酸エチル、２−オキシプロピオン酸プロピルなどの２−オキシプロピオン酸アルキルエステル類（例えば、２−メトキシプロピオン酸メチル、２−メトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシプロピオン酸プロピル、２−エトキシプロピオン酸メチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、２−オキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−オキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、２−メトキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−エトキシ−２−メチルプロピオン酸エチルなど）、並びに、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、２−オキソブタン酸メチル、２−オキソブタン酸エチル、１，３-ブタンジオールジアセテート等；
【０１８１】
エーテル類、例えばジエチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールプロピルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールn-プロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールジアセテート、プロピレングリコールn-ブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールフェニルエーテル、プロピレングリコールフェニルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールｎ−プロピルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールｎ−ブチルエーテルアセテート、トリプロピレングリコールモノｎ−ブチルエーテル、トリプロピレングリコールメチルエーテルアセテート等；
【０１８２】
ケトン類、例えばアセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、２−ヘプタノン、３−ヘプタノン等；
アルコール類、例えばエタノール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコールメチルエーテル、プロピレングリコールモノｎ−プロピルエーテル、プロピレングリコールモノｎ−ブチルエーテル、
芳香族炭化水素類、例えばトルエン、キシレン等が挙げられる。
【０１８３】
これらのうち、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、エチルセロソルブアセテート、乳酸エチル、ジエチレングリコールジメチテルエーテル、酢酸ブチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、２−ヘプタノン、シクロヘキサノン、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールメチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート等が好適である。
溶剤は、単独で用いる以外に２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【０１８４】
〔その他の添加物〕
また、本発明に用いられる感光性樹脂組成物には、上記成分の他に、さらに、目的に応じて種々の公知の添加剤を用いることができる。
以下、そのような添加剤について述べる。
【０１８５】
（界面活性剤）
顔料濃度を大きくすると塗布液のチキソ性が一般的に大きくなるため、基板上に感光性樹脂組成物を塗布または転写して感光性樹脂組成物層（着色層塗膜）形成後の膜厚ムラを生じやすい。また特に、スリットコート法による感光性樹脂組成物層（着色層塗膜）形成では、乾燥までに感光性樹脂組成物層形成用の塗布液がレベリングして均一な厚みの塗膜を形成することが重要である。このため、前記感光性樹脂組成物中に適切な界面活性剤を含有させることが好ましい。上記界面活性剤としては、特開２００３−３３７４２４号公報、特開平１１−１３３６００号公報に開示されている界面活性剤が、好適なものとして挙げられる。
塗布性を向上するための界面活性剤としてはノニオン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤、シリコン系界面活性剤等が添加される。
【０１８６】
ノニオン系界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレングリコール類、ポリオキシプロピレングリコール類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルエステル類、ポリオキシプロピレンアルキルエーテル類、ポリオキシプロピレンアルキルアリールエーテル類、ポリオキシプロピレンアルキルエステル類、ソルビタンアルキルエステル類、モノグリセリドアルキルエステル類などのノニオン系界面活性剤が好ましい。
【０１８７】
具体的には、ポリオキシエチレングリコール、ポリオキシプロピレングリコールなどのポリオキシアルキレングリコール類；ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシプロピレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテルなどのポリオキシアルキレンアルキルエーテル類；ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンポリスチリル化エーテル、ポリオキシエチレントリベンジルフェニルエーテル、ポリオキシエチレン-プロピレンポリスチリル化エーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテルなどのポリオキシエチレンアリールエーテル類；ポリオキシエチレンジラウレート、ポリオキシエチレンジステアレートなどのポリオキシアルキレンジアルキルエステル、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシアルキレンソルビタン脂肪酸エステル類などのノニオン系界面活性剤がある。
【０１８８】
これらの具体例は、例えば、アデカプルロニックシリーズ、アデカノールシリーズイ、テトロニックシリーズ（以上ＡＤＥＫＡ（株）製）、エマルゲンシリーズ、レオドールシリーズ（以上花王（株）製）、エレミノールシリーズ、ノニポールシリーズ、オクタポールシリーズ、ドデカポールシリーズ、ニューポールシリーズ（以上三洋化成(株)製）、パイオニンシリーズ（以上竹本油脂（株）製）、ニッサンノニオンシリーズ（以上日本油脂(株)製）などである。これらの市販されているものが適宜使用できる。好ましいＨＬＢ値は８〜２０、更に好ましくは１０〜１７である。
【０１８９】
フッ素系界面活性剤としては、末端、主鎖および側鎖の少なくともいずれかの部位にフルオロアルキルまたはフルオロアルキレン基を有する化合物を好適に用いることができる。
具体的市販品としては、例えばメガファックＦ１４２Ｄ、同Ｆ１７２、同Ｆ１７３、同Ｆ１７６、同Ｆ１７７、同Ｆ１８３、同Ｆ７８０Ｆ、同Ｆ７８１Ｆ、同Ｒ３０、同Ｒ０８、同Ｆ４８２、同Ｆ５５４（ＤＩＣ（株）製）、フロラードＦＣ−１３５、同ＦＣ−１７０Ｃ、同ＦＣ−４３０、同ＦＣ−４３１（住友スリーエム（株）製）、サーフロンＳ−１１２、同Ｓ−１１３、同Ｓ−１３１、同Ｓ−１４１、同Ｓ−１４５、同Ｓ−３８２、同ＳＣ−１０１、同ＳＣ−１０２、同ＳＣ−１０３、同ＳＣ−１０４、同ＳＣ−１０５、同ＳＣ−１０６（旭硝子（株）製）、エフトップＥＦ３５１、同３５２、同８０１、同８０２（ＪＥＭＣＯ（株）製）などである。
【０１９０】
シリコン系界面活性剤としては、例えばトーレシリコーンＤＣ３ＰＡ、同ＤＣ７ＰＡ、同ＳＨ１１ＰＡ、同ＳＨ２１ＰＡ、同ＳＨ２８ＰＡ、同ＳＨ２９ＰＡ、同ＳＨ３０ＰＡ、同ＳＨ−１９０、同ＳＨ−１９３、同ＳＺ−６０３２、同ＳＦ−８４２８、同ＤＣ−５７、同ＤＣ−１９０（以上、東レ・ダウコーニング・シリコーン（株）製）、ＴＳＦ−４４４０、ＴＳＦ−４３００、ＴＳＦ−４４４５、ＴＳＦ−４４４６、ＴＳＦ−４４６０、ＴＳＦ−４４５２（以上、ＧＥ東芝シリコーン（株）製）等を挙げることができる。
【０１９１】
これらの界面活性剤は、感光性樹脂組成物層を形成するための塗布液１００質量部に対して、好ましくは５質量部以下、より好ましくは２質量部以下で用いられる。界面活性剤の量が５質量部を超える場合は、塗布乾燥での表面あれが生じやすく、平滑性が悪化しやすくなる。
【０１９２】
また、未硬化部のアルカリ溶解性を促進し、感光性樹脂組成物の現像性の更なる向上を図る場合には、有機カルボン酸、好ましくは分子量１０００以下の低分子量有機カルボン酸の添加を行なうことができる。具体的には、例えば、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、ピバル酸、カプロン酸、ジエチル酢酸、エナント酸、カプリル酸等の脂肪族モノカルボン酸；シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ブラシル酸、メチルマロン酸、エチルマロン酸、ジメチルマロン酸、メチルコハク酸、テトラメチルコハク酸、シトラコン酸等の脂肪族ジカルボン酸；トリカルバリル酸、アコニット酸、カンホロン酸等の脂肪族トリカルボン酸；安息香酸、トルイル酸、クミン酸、ヘメリト酸、メシチレン酸等の芳香族モノカルボン酸；フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、トリメリト酸、トリメシン酸、メロファン酸、ピロメリト酸等の芳香族ポリカルボン酸；フェニル酢酸、フェノキシ酢酸、メトキシフェノキシ酢酸、ヒドロアトロパ酸、ヒドロケイ皮酸、マンデル酸、フェニルコハク酸、アトロパ酸、ケイ皮酸、ケイ皮酸メチル、ケイ皮酸ベンジル、シンナミリデン酢酸、クマル酸、ウンベル酸等のその他のカルボン酸が挙げられる。
【０１９３】
（アルコキシシラン化合物）
本発明に用いられる感光性樹脂組成物には、基板との密着性向上といった観点から、アルコキシシラン化合物、なかでもシランカップリング剤を使用することができる。
シランカップリング剤は、無機材料と化学結合可能な加水分解性基としてアルコキシシリル基を有するものが好ましく、有機樹脂との間で相互作用もしくは結合形成して親和性を示す（メタ）アクリロイル、フェニル、メルカプト、エポキシ、アミノシランであることが好ましく、その中でも（メタ）アクリロイルプロピルトリメトキシシランであることがより好ましい。このような素材としては、ＫＢＭ−３０３、ＫＢＭ−４０２、ＫＢＭ−４０３、ＫＢＭ−５０２、ＫＢＭ−５０３、ＫＢＭ−８０２、ＫＢＭ−８０３、ＫＢＭ−９０３（信越化学工業（株）製）を挙げることができる。
シランカップリング剤を用いる場合の添加量としては、本発明に用いられる感光性樹脂組成物中の全固形分中、０．２質量％〜５．０質量％の範囲であることが好ましく、０．５質量％〜３．０質量％がより好ましい。
【０１９４】
（共増感剤）
本発明に用いられる感光性樹脂組成物は、上記した（Ｄ）チオール化合物以外の共増感剤を所望により含有することも好ましい。本発明において共増感剤は、増感色素や開始剤の活性放射線に対する感度を一層向上させる、あるいは酸素によるエチレン性不飽和化合物の重合阻害を抑制する等の作用を有する。
この様な共増感剤の例としては、アミン類、例えばＭ．Ｒ．  Ｓａｎｄｅｒら著「Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｓｏｃｉｅｔｙ」第１０巻３１７３頁（１９７２）、特公昭４４−２０１８９号公報、特開昭５１−８２１０２号公報、特開昭５２−１３４６９２号公報、特開昭５９−１３８２０５号公報、特開昭６０−８４３０５号公報、特開昭６２−１８５３７号公報、特開昭６４−３３１０４号公報、Ｒｅｓｅａｒｃｈ  Ｄｉｓｃｌｏｓｕｒｅ  ３３８２５号記載の化合物等が挙げられ、具体的には、トリエタノールアミン、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル、ｐ−ホルミルジメチルアニリン、ｐ−メチルチオジメチルアニリン等が挙げられる。
【０１９５】
共増感剤の別の例としては、スルフィド類、例えば、特開昭５６−７５６４３号公報のジスルフィド化合物等が挙げられ、具体的には、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾオキサゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾール、２−メルカプト−４（３Ｈ）−キナゾリン、β−メルカプトナフタレン等が挙げられる。
【０１９６】
また、共増感剤の別の例としては、アミノ酸化合物（例、Ｎ−フェニルグリシン等）、特公昭４８−４２９６５号公報記載の有機金属化合物（例、トリブチル錫アセテート等）、特公昭５５−３４４１４号公報記載の水素供与体、特開平６−３０８７２７号公報記載のイオウ化合物（例、トリチアン等）等が挙げられる。
【０１９７】
これら共増感剤の含有量は、重合成長速度と連鎖移動のバランスによる硬化速度の向上の観点から、感光性樹脂組成物の全固形分に対し、０．１質量％〜３０質量％の範囲が好ましく、０．１質量％〜２５質量％の範囲がより好ましく、０．５質量％〜２０質量％の範囲が更に好ましい。
【０１９８】
（重合禁止剤）
本発明においては、感光性樹脂組成物の製造中あるいは保存中において重合可能なエチレン性不飽和化合物の不要な熱重合を阻止するために少量の熱重合防止剤を添加することが望ましい。
本発明に用いうる熱重合防止剤としては、ハイドロキノン、ｐ−メトキシフェノール、ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ピロガロール、ｔ−ブチルカテコール、ベンゾキノン、４，４'−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２'−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、Ｎ−ニトロソフェニルヒドロキシアミン第一セリウム塩、フェノキサジン、フェノチアジン等が挙げられる。
【０１９９】
熱重合防止剤の添加量は、感光性樹脂組成物に対して、０．０１質量％〜５質量％が好ましい。また必要に応じて、酸素による重合阻害を防止するためにベヘン酸やベヘン酸アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加して、塗布後の乾燥の過程で感光層の表面に偏在させることもできる。高級脂肪酸誘導体の添加量は、感光性樹脂組成物の固形分に対して０．５質量％〜１０質量％が好ましい。
【０２００】
（可塑剤）
さらに、本発明においては、感光性樹脂組成物の物性を改良するために無機充填剤や、可塑剤等を加えてもよい。
可塑剤としては例えばジオクチルフタレート、ジドデシルフタレート、トリエチレングリコールジカプリレート、ジメチルグリコールフタレート、トリクレジルホスフェート、ジオクチルアジペート、ジブチルセバケート、トリアセチルグリセリン等があり、エチレン性不飽和化合物と樹脂との合計質量に対し１０質量％以下を添加することができる。
【０２０１】
上述した成分を用いることで、本発明における感光性樹脂組成物は、紫外光レーザーの露光により高感度で硬化し、また、基板への高い密着性を示す。さらに、高感度で被膜形成するため、紫外光レーザーの高出力露光によっても、表面の平滑性が維持される。従って、前記各種成分を含有する感光性樹脂組成物は、本発明の方法に適用して、カラーフィルタの着色パターン形成に好ましく使用することができる。
【０２０２】
本発明の紫外光レーザー露光用感光性樹脂組成物およびパターン形成方法は、液晶表示装置用カラーフィルタに好適である。以下、本発明の紫外光レーザー露光用感光性樹脂組成物およびパターン形成方法を、液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法における着色パターンの形成用組成物および形成方法として説明するが、本発明はこの方法に限定されるものではない。
＜液晶表示素子用カラーフィルタの製造方法＞
光透過性基板上に、感光性樹脂組成物を用いて着色パターンを形成することで製造するが、必要に応じて更に他の工程を設けることもできる。
【０２０３】
〔パターン形成工程〕
本発明において、着色パターンは、光透過性基板上に、感光性樹脂組成物を用いて感光性樹脂組成物層を形成し（感光性樹脂組成物層形成工程）、前記感光性樹脂組成物層を紫外光レーザーによりパターン状に露光し（露光工程）、露光後の前記感光性樹脂組成物層を現像して未硬化領域を除去し（現像工程）、所望により、現像された前記感光性樹脂組成物層をベークすることにより（ベーク工程）、形成することができる。パターン形成工程は上記各工程に加え、必要に応じて、さらにプリベーク工程などの他の工程を設けてもよい。
【０２０４】
−感光性樹脂組成物層形成工程−
前記した光透過性基板（以下、単に「基板」とも称する）としては、例えば、液晶表示装置等に用いられる無アルカリガラス、ソーダガラス、パイレックス（登録商標）ガラス、石英ガラスおよびこれらに透明導電膜を付着させたものや、固体撮像素子等に用いられる光電変換素子基板が挙げられる。さらに、プラスチック基板も可能である。これらの基板は、格子状などにブラックマトリックスを形成し、格子の空いた部分に着色パターンが形成される。
【０２０５】
また、これらの基板上には、必要により、上部の層との密着改良、物質の拡散防止或いは基板表面の平坦化のために下塗り層を設けてもよい。基板は大型（おおむね１辺１ｍ以上）である方が、本発明の効果をより奏する点で好ましい。
【０２０６】
基板上に感光性樹脂組成物層を形成する方法としては、スリット塗布、インクジェット法、回転塗布、流延塗布、ロール塗布、スクリーン印刷法等の各種の塗布等の付与方法を適用することができる。中でもスリット塗布が精度と速さの観点で好ましい。
また、予め仮支持体上に上記付与方法によって付与して形成した塗膜を、基板上に転写する方法を適用することもできる。
転写方法に関しては特開２００６−２３６９６号公報の段落番号[００２３]、[００３６]〜[００５１]や、特開２００６−４７５９２号公報の段落番号[００９６]〜[０１０８]に記載の作製方法を本発明においても好適に用いることができる。
【０２０７】
感光性樹脂組成物層の層厚（例えば、塗布厚）は、充分な色再現領域を得、且つ充分なパネルの輝度を得るために、乾燥後の膜厚が、０．５μｍ〜３．０μｍとなるように形成することが好ましく、１．５μｍ〜２．５μｍとすることがより好ましい。
本発明は遮光層にも応用できるが、その場合の遮光層（ブラックマトリックス）の膜厚としては、乾燥後の膜厚が、０．２μｍ〜２．２μｍであることが好ましく、０．８μｍ〜１．５μｍであることがより好ましい。
【０２０８】
−露光工程−
本発明のパターン形成方法では、露光工程で前記感光性樹脂組成物層を、光源として紫外光レーザーを用いて露光する。この場合マスクを介してパターン露光しても良いし、露光光の焦点を絞ってパターン状に露光しても良い。パターン形状の観点からはマスクを用いて露光することが好ましい。好ましい照度、露光量は前述の通りである。
【０２０９】
−現像工程−
現像工程では、露光後の前記感光性樹脂組成物層を現像する。露光領域はパターン状に硬化しており、現像処理では、アルカリ現像処理を行うことにより、上記露光工程での未照射部分（未硬化部分）を、アルカリ水溶液に溶出させで除去し、光硬化した部分だけを残すことによって、パターンを形成させることができる。
【０２１０】
現像液としては、有機アルカリ現像液や無機アルカリ現像液又はその混合液が使用される。
現像液に用いるアルカリ剤としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、硅酸ナトリウム、メタ硅酸ナトリウム、アンモニア水、エチルアミン、ジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、コリン、ピロール、ピペリジン、１，８−ジアザビシクロ−［５、４、０］−７−ウンデセンなどの有機アルカリ性化合物が挙げられ、これらのアルカリ性化合物を濃度が０．００１〜１０質量％、好ましくは０．０１〜１質量％となるように純水で希釈したアルカリ性水溶液が現像液として好ましく使用される。なお、このようなアルカリ性水溶液からなる現像液を使用した場合には、一般に現像後に純水で洗浄（リンス）する。
【０２１１】
現像温度としては２０℃〜３５℃が好ましく、２３℃〜３０℃がより好ましい。現像時間は、３０秒〜１２０秒が好ましく、４０秒〜９０秒がより好ましい。これらのうち、現像温度と現像時間の好ましい組み合わせは、例えば、温度２５℃では５０秒〜１００秒であり、温度３０℃では４０秒〜８０秒であることが挙げられる。
また、シャワー圧は、０．０１ＭＰａ〜０．５ＭＰａが好ましく、０．０５ＭＰａ〜０．３ＭＰａが好ましく、０．１ＭＰａ〜０．３ＭＰａが好ましい。  これらの条件を選択することによって、パターンの形状を、矩形にしたり、順テーパにしたり任意に設計することができる。
【０２１２】
−ベーク工程−
ベーク工程では、感光性樹脂組成物の硬化を完全なものとするために、現像された前記感光性樹脂組成物層をベークする。ベークする方法は、現像・リンス後の感光性樹脂組成物パターン層を有する基板を、ホットプレートやコンベクションオーブン（熱風循環式乾燥機）、高周波加熱機等の加熱手段を用いて、連続式あるいはバッチ式で加熱することによって行うことができる。
ベークの条件としては、温度は、１５０℃〜２６０℃が好ましく、１８０℃〜２６０℃がより好ましく、２００℃〜２４０℃が最も好ましい。ベーク時間は、１０分間〜１５０分間が好ましく、２０分間〜１２０分間がより好ましく、３０分間〜９０分間がもっとも好ましい。
【０２１３】
なお、ＲＧＢ３色相、遮光層等、複数色相の着色パターンを形成するときは、感光性樹脂組成物層の形成、露光、現像、及びベークのサイクルを、所望の色相数だけ繰り返してもよいし、各色相ごとに感光性樹脂組成物層の形成、露光、及び現像を行ってから、最後に全色相分まとめてベークを行なってもよい。これにより、所望の色相よりなる着色画素を備えたカラーフィルタが作製される。
【０２１４】
−その他の工程−
露光工程の前に、塗布等によって形成した感光性樹脂組成物層を乾燥させるために、プリベークする工程を設けてもよい。
感光性樹脂組成物層のプリベーク温度は、６０℃〜１４０℃が好ましく、８０℃〜１２０℃がより好ましい。プリベーク時間は、３０秒〜３００秒が好ましく、８０秒〜２００秒がより好ましい。
【０２１５】
＜液晶表示装置＞
液晶表示装置用カラーフィルタは、液晶表示装置の作成に好適であり、本発明のパターン形成方法で作製したカラーフィルタを用いた液晶表示装置は、高品位の画像を表示することができる。
表示装置の定義や各表示装置の説明は例えば「電子ディスプレイデバイス（佐々木  昭夫著、（株）工業調査会  １９９０年発行）」、「ディスプレイデバイス（伊吹  順章著、産業図書（株）平成元年発行）」などに記載されている。また、液晶表示装置については例えば「次世代液晶ディスプレイ技術（内田  龍男編集、（株）工業調査会  １９９４年発行）」に記載されている。本発明が適用できる液晶表示装置に特に制限はなく、例えば上記の「次世代液晶ディスプレイ技術」に記載されている色々な方式の液晶表示装置に適用できる。
【０２１６】
液晶表示装置用カラーフィルタは、中でも特に、カラーＴＦＴ方式の液晶表示装置に対して有効である。カラーＴＦＴ方式の液晶表示装置については例えば「カラーＴＦＴ液晶ディスプレイ（共立出版（株）１９９６年発行）」に記載されている。さらに本発明はＩＰＳなどの横電界駆動方式、ＭＶＡなどの画素分割方式などの視野角が拡大された液晶表示装置や、ＳＴＮ、ＴＮ、ＶＡ、ＩＰＳ、ＯＣＳ、ＦＦＳ、及びＲ−ＯＣＢ等にも適用できる。これらの方式については例えば「ＥＬ、ＰＤＰ、ＬＣＤディスプレイ−技術と市場の最新動向−（東レリサーチセンター調査研究部門  ２００１年発行）」の４３ページに記載されている。
液晶表示装置はカラーフィルタ以外に電極基板、偏光フィルム、位相差フィルム、バックライト、スペーサ、視野角保障フィルムなどさまざまな部材から構成される。本発明の液晶表示素子用カラーフィルタはこれらの公知の部材で構成される液晶表示装置に適用することができる。
これらの部材については例えば「’９４液晶ディスプレイ周辺材料・ケミカルズの市場（島  健太郎  （株）シーエムシー  １９９４年発行）」、「２００３液晶関連市場の現状と将来展望（下巻）（表  良吉（株）富士キメラ総研  ２００３年発行）」に記載されている。
【０２１７】
バックライトに関しては、ＳＩＤ  ｍｅｅｔｉｎｇ  Ｄｉｇｅｓｔ  １３８０（２００５）（Ａ.Ｋｏｎｎｏ  ｅｔ．ａｌ）や、月刊デイスプレイ  ２００５年１２月号の１８〜２４ページ（島  康裕）、同２５〜３０ページ（八木  隆明）などに記載されている。
【０２１８】
本発明のパターン形成方法によって作製されたカラーフィルタを液晶表示装置に用いて、従来公知の冷陰極管の三波長管と組み合わせたときに高いコントラストを実現できるが、更に赤、緑、青のＬＥＤ光源（ＲＧＢ−ＬＥＤ）をバックライトとすることによって輝度が高く、また色純度の高い色再現性の良好な液晶表示装置を提供することができる。
【実施例】
【０２１９】
以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はその主旨を越えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」および「％」は質量基準である。
【０２２０】
〔実施例１〕
＜感光性樹脂組成物（ブラックマトリックス用）の調製＞
−カーボンブラック分散液（Ｋ−１）の調製−
下記処方でカーボンブラック分散液（Ｋ−１）を調製した。
・カーボンブラック（デグッサ社製  カラーブラックＦＷ２）    ２６．７部
・分散剤（楠本化成製ディスパロンＤＡ７５００  酸価２６  アミン価４０）    ３．３部
・ベンジルメタクリレート／メタクリル酸（＝７２／２８［モル比］）共重合体（重量平均分子量３０，０００、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートの５０％溶液）    １０部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート    ６０部
【０２２１】
上記各成分を３０００ｒｐｍの条件でホモジナイザーを用いて１時間撹拌した。得られた混合溶液を、０．３ｍｍジルコニアビーズを用いたビーズ分散機（商品名：ディスパーマット、ＧＥＴＺＭＡＮＮ社製）にて８時間微分散処理を施し、カーボンブラック分散液（Ｋ−１）を得た。
得られたカーボンブラック分散液（Ｋ−１）を用いて、表１の処方で感光性樹脂組成物（ブラックマトリックス用）ＣＫ−１を調製した。表１中の数値は質量比を示す。
【０２２２】
【表１】
2010039475.tif 000025
【０２２３】
表１中の各成分の詳細は下記のとおりである。
・樹脂溶液Ｃ−２：ベンジルメタクリレート／メタクリル酸（＝８５／１５モル比）共重合体、（Ｍｗ１０，０００、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートの５０％溶液）
・ＵＶ硬化性樹脂Ｃ−３：商品名サイクロマーＰ  ＡＣＡ−２５０  ダイセル化学工業（株）製〔側鎖に脂環、ＣＯＯＨ基、及びアクリロイル基のあるアクリル系共重合体、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液（固形分：５０％）〕
・エチレン性不飽和化合物Ｃ−５：商品名  ＴＯ−１３８２  東亞合成（株）製（ジペンタエリスリトールペンタアクリレートの末端ＯＨ基の一部をＣＯＯＨ基に置換した５官能のアクリロイル基を有するモノマーが主成分。）
・光重合開始剤Ｃ−７：商品名「ＯＸＥ−０２」  チバ・スペシャルテイ・ケミカルズ社製
・チオール化合物１；メルカプトベンズチアゾール：商品名「アクセルＭ」  川口化学工業（株）製
・界面活性剤Ｃ−８：商品名「メガファックＲ３０」  ＤＩＣ（株）製
・溶剤  ＰＧＭＥＡ：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
・溶剤  ＥＥＰ：３−エトキシエチルプロピオネート
【０２２４】
＜ブラックマトリックス基板の形成＞
−感光性樹脂組成物層形成工程−
得られた感光性樹脂組成物ＣＫ−１を、ガラス基板（コーニング社製ミレニアム  ０．７ｍｍ厚）にスリットコーター（型番ＨＣ６０００、平田機工株式会社製）を用いて、スリットとガラス基板間との距離を１５０μｍに設定し、ポストベーク後の膜厚が１．２μｍとなるように吐出量を調節して、塗布速度１２０ｍｍ／秒で塗布した。
【０２２５】
−プリベーク工程、露光工程−
次いで、ホットプレートを用いて、９０℃で１２０秒間加熱（プリベーク処理）を行なった後、Ｎｄ：ＹＡＧレーザー（Ｐｕｌｓｅｏ、第三高調波３５５ｎｍ、Ｓｐｅｃｔｒａ−Ｐｈｙｓｉｃｓ社製）を用いた露光装置にて、感光性樹脂組成物層表面に対し照射エネルギーが約１ｍＪ/ｃｍ２となるように光学系を調整し、フォトマスクを通して露光を行った。感光性樹脂組成物層表面に対し、２０回の多重露光を行うことでパターン形成を行った。
【０２２６】
−現像工程−
その後、現像装置（日立ハイテクノロジーズ社製）を用いて、水酸化カリウム系現像液ＣＤＫ−１（富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製）の１．０％現像液（ＣＤＫ−１を１部、純水を９９部の希釈した液、２５℃）でシャワー圧を０．２０ＭＰａに設定して、５０秒現像し、純水で洗浄し、現像後のブラックマトリックスを付与された基板を得た。
【０２２７】
−ベーク（ポストベーク）工程−
次いで２４０℃のクリーンオーブンで４０分間ポストベーク処理し、着色画素形成領域となる開口部が９０μｍ×２００μｍの大きさで、ブラックマトリックスの厚みが１．２μｍ、ブラックマトリックスの線幅が約２２μｍの格子状のブラックマトリックスを有する基板を形成した。
Ｘ-Ｒｉｔｅ  ３６１Ｔ(Ｖ)（サカタインクスエンジニアリング（株）製）を用いて、出来上がったブラックマトリックスの光学濃度（ＯＤ値）を測定したところ、４．２であった。
【０２２８】
〔実施例２、４、６〕
−側鎖に複素環を有する高分子化合物の合成−
（合成例１：重合体１の合成）
Ｍ-１１（下記構造）２７．０ｇ、メチルメタクリレート  １２６．０ｇ、メタクリル酸  ２７．０ｇ、および１-メトキシ-２-プロパノール  ４２０．０ｇを、窒素置換した三つ口フラスコに導入し、撹拌機（新東科学（株）：スリーワンモータ）にて撹拌し、窒素をフラスコ内に流しながら加熱して９０℃まで昇温した。これに２，２−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）（和光純薬（株）製  Ｖ−６５）を１．６９ｇ加え、９０℃にて２時間加熱撹拌を行った。２時間後、さらにＶ−６５を１．６９ｇ加え、３時間加熱撹拌の後、重合体１の３０％溶液を得た。得られた重合体１の重量平均分子量を、ポリスチレンを標準物質としたゲルパーミエーションクロマトグラフィー法（ＧＰＣ）により測定した結果、２．０万であった。また、水酸化ナトリウムを用いた滴定から、固形分あたりの酸価は、９８ｍｇＫＯＨ/ｇであった。
【０２２９】
（合成例２：重合体２の合成）
Ｍ-６（下記構造）２７．０ｇ、メチルメタクリレート  １２６．０ｇ、メタクリル酸  ２７．０ｇ、および１-メトキシ-２-プロパノール  ４２０．０ｇを、窒素置換した三口フラスコに導入し、撹拌機（新東科学（株）：スリーワンモータ）にて撹拌し、窒素をフラスコ内に流しながら加熱して９０℃まで昇温した。これに２，２−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）（和光純薬（株）製Ｖ−６５）を１．８０ｇ加え、９０℃にて２時間加熱撹拌を行った。２時間後、さらにＶ−６５を１．８０ｇ加え、３時間加熱撹拌の後、重合体２の３０％溶液を得た。ポリスチレンを標準物質としたゲルパーミエーションクロマトグラフィー法（ＧＰＣ）により、得られた重合体２の重量平均分子量を測定した結果、２．１万であった。また、水酸化ナトリウムを用いた滴定から、固形分あたりの酸価は、９９ｍｇＫＯＨ/ｇであった。
【０２３０】
【化２４】
2010039475.tif 000026
【０２３１】
本発明でチオール化合物と共に用いるオキシム化合物のうち、市販でないオキシム化合物３、４、５について、詳細な合成法を以下に示す。
【０２３２】
（合成例３：オキシム化合物３の合成）
まず、下記のスキームで化合物Ａを合成する。
エチルカルバゾール（１００．０ｇ、０．５１２ｍｏｌ）をクロロベンゼン２６０ｍｌに溶解し、０℃に冷却後、塩化アルミニウム（７０．３ｇ、０．５２７ｍｏｌ）を加える。続いて、ｏ−トリルクロリド（８１．５ｇ、０．５２７ｍｏｌ）を４０分かけて滴下し、室温に昇温して３時間攪拌する。次に、０℃に冷却後、塩化アルミニウム（７５．１ｇ、０．５６３ｍｏｌ）を加える。４−クロロブチリルクロリド（７９．４ｇ、０．５６３ｍｏｌ）を４０分かけて滴下し、室温に昇温して３時間攪拌する。３５質量％塩酸水溶液１５６ｍｌと蒸留水３９２ｍｌとの混合溶液を０℃に冷却し、反応溶液を滴下する。析出した固体を吸引濾過後、蒸留水とメタノールで洗浄し、アセトニトリルで再結晶後、下記構造の化合物Ａ（収量１６４．４ｇ、収率７７％）を得た。
【０２３３】
【化２５】
2010039475.tif 000027
【０２３４】
次に、化合物Ａを用いて下記のスキームで化合物Ｂを合成する。
化合物Ａ（２０．０ｇ、４７．９ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（以下、ＴＨＦと称する。）６４ｍｌに溶解し、４−クロロベンゼンチオール（７．２７ｇ、５０．２ｍｍｏｌ）とヨウ化ナトリウム（０．７ｇ、４．７９ｍｍｏｌ）を加える。続いて反応液に水酸化ナトリウム（２．０ｇ、５０．２ｍｍｏｌ）を加え、２時間還流する。次に、０℃に冷却後、ソジウムメチラート２８％メタノール溶液（日本触媒（株）製：ＳＭ−２８）（１１．１ｇ、５７．４ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下し、室温に昇温して２時間攪拌する。次に、０℃に冷却後、亜硝酸イソペンチル（６．７３ｇ、５７．４ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下し、室温に昇温して３時間攪拌する。反応液をアセトン１２０ｍｌに希釈し、０℃に冷却した０．１Ｎ塩酸水溶液に滴下する。析出した固体を吸引濾過後、蒸留水で洗浄した。続いて、アセトニトリルで再結晶し、下記構造の化合物Ｂ（収量１７．０ｇ、収率６４％）を得た。
【０２３５】
【化２６】
2010039475.tif 000028
【０２３６】
続いて、化合物Ｂを用いて下記のスキームでオキシム化合物３を合成する。
化合物Ｂ（１８．０ｇ、３２．４ｍｍｏｌ）を９０ｍｌのＮ−メチルピロリドンに溶解し、トリエチルアミン（３．９４ｇ、３８．９ｍｍｏｌ）を加えた。次に、０℃に冷却後、アセチルクロライド（３．０５ｇ、３８．９ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下後、室温に昇温して２時間攪拌する。反応液を０℃に冷却した蒸留水１５０ｍｌに滴下し、析出した固体を吸引濾過後、０℃に冷却したイソプロピルアルコール２００ｍｌで洗浄し、乾燥後、下記構造のオキシム化合物３（収量１９．５ｇ、収率９９％）を得た。
【０２３７】
【化２７】
2010039475.tif 000029
【０２３８】
得られたオキシム化合物３の構造はＮＭＲにて同定した。
（１Ｈ−ＮＭＲ  ４００ＭＨｚ  ＣＤＣｌ３）：８．８６（ｓ，１Ｈ），８．６０（ｓ，１Ｈ），８．３１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），８．８１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），７．５１−７．２４（ｍ．１０Ｈ），７．３６（ｑ，２Ｈ，７．４Ｈｚ），３．２４−３．１３（ｍ，４Ｈ），２．３６（ｓ，３Ｈ），２．２１（ｓ，３Ｈ），１．５０（ｔ，３Ｈ，７．４Ｈｚ）．
【０２３９】
（合成例４：オキシム化合物４の合成）
まず、オキシム化合物３の合成法と同様に化合物Ａを合成する。
化合物Ａ（８６．５ｇ、２０９ｍｍｏｌ）をＴＨＦ２７７ｍｌに溶解し、２，６−ジメチルベンゼンチオール（３０ｇ、２１７ｍｍｏｌ）とヨウ化ナトリウム（３．０ｇ、２０．０ｍｍｏｌ）を加え４０℃で攪拌した。続いて反応液に水酸化ナトリウム（８．６６ｇ、２１６ｍｍｏｌ）を加え、４０℃で２時間還流した。次に、０℃に冷却後、ソジウムメチラート２８％メタノール溶液（日本触媒（株）製：ＳＭ−２８）（４８ｇ、２４９ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下し、室温に昇温して２時間攪拌した。次に、０℃に冷却後、亜硝酸イソペンチル（２９．３ｇ、２５０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下し、室温に昇温して３時間攪拌した。反応液をアセトン１０５ｍｌに希釈し、０℃に冷却した０．１Ｎ塩酸水溶液で洗浄した。酢酸エチルにて有機相を抽出した後、メタノールを加え析出した固体を吸引濾過した。続いて、アセトニトリルで再結晶し、下記構造の化合物Ｃ（収量７６．６ｇ、収率６７％）を得た。
【０２４０】
【化２８】
2010039475.tif 000030
【０２４１】
続いて、化合物Ｃを用いて下記のスキームでオキシム化合物４を合成する。
化合物Ｃ（４６．４ｇ、８５ｍｍｏｌ）を２３０ｍｌの酢酸エチルに溶解し、トリエチルアミン（１０．３ｇ、１０１ｍｍｏｌ）を加えた。次に、０℃に冷却後、アセチルクロライド（８．０ｇ、１０２ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下後、室温に昇温して１時間攪拌した。反応液を０℃に冷却した蒸留水１０００ｍｌで洗浄し、酢酸エチルにて抽出した。減圧濃縮した後、蒸留水１００ｍｌに滴下し、析出した固体を吸引濾過後、０℃に冷却したイソプロピルアルコール１５０ｍｌで洗浄し、乾燥後、下記構造のオキシム化合物４（収量４９．７ｇ、収率９９％）を得た。
【０２４２】
【化２９】
2010039475.tif 000031
【０２４３】
得られたオキシム化合物４の構造は、ＮＭＲにて同定した。
（１Ｈ−ＮＭＲ  ４００ＭＨｚ  ＣＤＣｌ３）：８．８４（ｓ，１Ｈ），８．５７（ｓ，１Ｈ），８．３１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），８．０８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），７．４４６−７．２４（ｍ，４Ｈ），７．４８（ｑ，２Ｈ，７．４Ｈｚ），７．０９（ｄ，３Ｈ），３．１０−２．９０（ｍ，４Ｈ），２．５０（ｓ，６Ｈ），２．３５（ｓ，３Ｈ），２．１７（ｓ，３Ｈ），１．４８（ｔ，３Ｈ，７．４Ｈｚ）
【０２４４】
（合成例５：オキシム化合物５の合成）
２００ｍｌ三口フラスコにフェニルスルフィド１８．６３ｇ（０．１ｍｏｌ）、二硫化炭素７５ｍｌ、４−クロロブチリルクロリド１４．２４ｇ（０．１ｍｏｌ）を加え、窒素ガス置換しながら０℃に冷却した。その後、塩化アルミニウム（III）１３．４７ｇ（０．１ｍｏｌ）を少しずつ加えた。添加終了後、室温で２時間攪拌し、反応溶液を０．５Ｎ塩酸水溶液１００ｍｌ中に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和塩化ナトリウム水溶液を用いて順に洗浄し、硫酸マグネシウムを加えて脱水した。硫酸マグネシウムをろ去して、エバポレータにより溶剤を濃縮した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製を行ない、２２．４５ｇ（収率７７％）の下記構造の化合物Ｄを得た。
【０２４５】
【化３０】
2010039475.tif 000032
【０２４６】
３００ｍｌ三口フラスコに４−クロロチオフェノール１０．９５ｇ（０．０７５７ｍｏｌ）、ＴＨＦ  ３０ｍｌ、蒸留水２０ｍｌ、水酸化ナトリウム３．０３ｇ（０．０７５７ｍｏｌ）、ヨウ化カリウム１．２６ｇ（０．００７６ｍｏｌ）を加え、室温で攪拌した。そこに上記で得られた化合物Ｄ  ２２ｇ（０．０７５７ｍｏｌ）をＴＨＦ  ２０ｍｌに溶解した溶液を３０分かけて滴下した。滴下終了後、反応溶液を８０℃で加熱し４時間攪拌した。その後、室温まで放冷してから反応溶液を酢酸エチルで抽出し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄、硫酸マグネシウムを加えて脱水した。硫酸マグネシウムをろ過してエバポレータにより溶剤を濃縮した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製を行ない、１８．１２ｇ（収率６０％）の下記構造の化合物Ｅを得た。
【０２４７】
【化３１】
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【０２４８】
１００ｍｌ三口フラスコにメタノール１５ｍｌ、ナトリウムメトキシド１．５３ｇ（０．０２８ｍｏｌ）を加え、系中を窒素ガス置換した。反応溶液を０℃に冷却した後、上記で得られた化合物Ｅ  １０．６９ｇ（０．０２６８ｍｏｌ）のＴＨＦ２０ｍｌに溶解した溶液を３０分間かけて滴下した。滴下終了後、室温でさらに２時間攪拌した後、恒温層を用いて反応溶液を１０℃に保ち、亜硝酸イソペンチル３．３１ｇ（０．０２８ｍｏｌ）のＴＨＦ１０ｍｌに溶解した溶液を３０分間かけて滴下した。滴下終了後、室温でさらに２時間攪拌した後、反応溶液を０℃に冷却した蒸留水１００ｍｌ／酢酸３．０ｍｌの溶液中に注いだ。
その後、酢酸エチルで抽出し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄、硫酸マグネシウムを加えて脱水した。硫酸マグネシウムをろ過してエバポレータにより溶剤を濃縮した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製を行ない、７．１１ｇ（収率６２％）の下記構造の化合物Ｆを得た。
【０２４９】
【化３２】
2010039475.tif 000034
【０２５０】
１００ｍｌ三口フラスコに上記で得られた化合物Ｆ  ６．５１ｇ（０．０１５２ｍｏｌ）、ＴＨＦ  ２０ｍｌを加え、系中を窒素ガス置換して攪拌しながら０℃に冷却した。そこに、ピリジン２．１８ｇ（０．０２８ｍｏｌ）のＴＨＦ５ｍｌ溶液とアセチルクロリド１．９７ｇ（０．０２５ｍｏｌ）のＴＨＦ５ｍｌ溶液とを別々に同時に滴下した。１５分間かけて滴下した後、室温でさらに３時間攪拌した。
その後、反応溶液を蒸留水２００ｍｌ中に注ぎ、酢酸エチルで抽出し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄、硫酸マグネシウムを加えて脱水した。硫酸マグネシウムをろ過してエバポレータにより溶剤を濃縮した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製を行ない、６．７９ｇ（収率９５％）のオキシム化合物５を得た。下記の解析結果により化学構造が確認された。
【０２５１】
得られたオキシム化合物５について、１Ｈ−ＮＭＲにより同定した。得られたオキシム化合物５の１Ｈ−ＮＭＲスペクトルを示す。
（アセトン−ｄ６：内部標準ＴＭＳ）δ〔ｐｐｍ〕：８．０５（ｄ、２Ｈ）、７．５９（ｍ、２Ｈ）、７．５２（ｍ、３Ｈ）、７．３９（ｍ、４Ｈ）、７．２５（ｄ、２Ｈ）、３．３１（ｔ、２Ｈ）、３．１３（ｔ、２Ｈ）、２．１９（ｓ、３Ｈ）
【０２５２】
【化３３】
2010039475.tif 000035
【０２５３】
重合性基を含むアルカリ可溶性樹脂２の合成を合成例６として示す。
（合成例６：アルカリ可溶性樹脂２の合成）
酸価２００、分子量５，０００のスチレン・アクリル酸樹脂２０部、ｐ−メトキシフェノール０．２部、ドデシルトリメチルアンモニウムクロリド０．２部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート４０部をフラスコに仕込み、（３，４エポキシシクロヘキシル）メチルアクリレート７．６部を滴下し１００℃の温度で３０時間反応させた。反応液を水に再沈殿、乾燥させてアルカリ可溶性樹脂２を得た。ＫＯＨによる中和滴定をおこなったところ樹脂の酸価は８０ｍｇＫＯＨ／ｇであった。
【０２５４】
重合性基を含むアルカリ可溶性樹脂３の合成を合成例７として示す。
（合成例７：アルカリ可溶性樹脂３の合成）
反応容器中に１−メトキシ−２−プロパノール（ＭＦＧ、ダイセル化学工業（株）製）  ８．５７部をあらかじめ加え９０℃に昇温し、シクロヘキシルメタクリレート  ６．２７部、メタクリル酸  ５．１５部、アゾ系重合開始剤（和光純薬社製、Ｖ−６０１）  １部、及び１−メトキシ−２−プロパノール  ８．５７部からなる混合溶液を窒素ガス雰囲気下、９０℃の反応容器中に２時間かけて滴下した。滴下後４時間反応させて、アクリル樹脂溶液を得た。
次いで、前記アクリル樹脂溶液に、ハイドロキノンモノメチルエーテル  ０．０２５部、及びテトラエチルアンモニウムブロマイド  ０．０８４部を加えた後、グリシジルメタクリレート  ５．４１部を２時間かけて滴下した。滴下後、空気を吹き込みながら９０℃で４時間反応させ後、固形分濃度が４５％になるように溶媒を添加することにより、エチレン性不飽和基を持つアルカリ可溶性樹脂３（固形分酸価；７３ｍｇＫＯＨ／ｇ、Ｍｗ；３０，０００）の１−メトキシ−２−プロパノール溶液（４５％）を得た。
なお、この樹脂の重量平均分子量Ｍｗは、ゲル浸透クロマトグラフ（ＧＰＣ）を用いて測定した。
【０２５５】
エポキシ基を含むアルカリ可溶性樹脂４の合成を合成例８として示す。
（合成例８：アルカリ可溶性樹脂４の合成）
冷却管、撹拌機を備えたフラスコに、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）７部、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル２００部を仕込み、引き続いてメタクリル酸１８部、メタクリル酸グリシジル２０部、スチレン５部、メタクリル酸トリシクロ[５．２．１．０２,６]デカン−８−イル３２部、テトラヒドロフルフリルメタクリレート２５部を仕込んで、窒素置換したのち、緩やかに攪拌しつつ、溶液の温度を７０℃に上昇させ、この温度を５時間保持して重合させて、アルカリ可溶性樹脂４の溶液（固形分濃度＝３３．４％）を得た。この樹脂（Ｂ）のＭｗは９，０００であった。
なお、この樹脂の重量平均分子量Ｍｗは、ゲル浸透クロマトグラフ（ＧＰＣ）を用いて測定した。
【０２５６】
アリル基を含むアルカリ可溶性樹脂５の合成を合成例９として示す。
（合成例９：アルカリ可溶性樹脂５の合成）
撹拌羽を供えた撹拌棒、還流冷却管、温度計を備えた、２００ｍＬ三つ口フラスコに１−メトキシ−２−プロパノール  ５４ｇを入れ、窒素気流下、７０℃に加熱した。アリルメタクリレート  １０．０７ｇ、メタクリレート  １．９３ｇ、重合開始剤として２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）  ０．１８５ｇを１-メトキシ-２-プロパノール  ５４ｇに溶解した溶液をプランジャーポンプを用いて、２．５時間かけて、三つ口フラスコ内に滴下した。滴下終了後、さらに７０℃で２時間撹拌した。加熱終了後、水1Ｌへ投入し、再沈した。析出物を濾過後、真空乾燥させ、９ｇ（収率７５％）のポリマー化合物を得た。
重量平均分子量の測定試料として得られたポリマー  ０．０１ｇを１０ｍＬメスフラスコに秤取り、ＴＨＦ約８ｍＬを加えて室温で溶解した後に全量を１０ｍＬにした。この溶液について、ＧＰＣを用いて測定した。アルカリ可溶性樹脂５（アリルメタクリレート／メタクリル酸共重合体（モル比＝８０／２０））の重量平均分子量は３５０００であった。
【０２５７】
（被覆顔料１の調製）
顔料（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｒｅｄ  ２５４  チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製  ＣＲＯＭＯＰＨＴＡＬ  ＲＥＤ  ＢＰ）  ５０ｇ、塩化ナトリウム  ５００ｇ、上記の重合体１の溶液  ２０ｇ、およびジエチレングリコール  １００ｇをステンレス製１ガロンニーダー（井上製作所製）に仕込み、９時間混練した。次に、この混合物を約３リットルの水中に投入し、ハイスピードミキサーで約１時間撹拌した後に、ろ過、水洗して塩化ナトリウムおよび溶剤を除き、乾燥して被覆顔料１を調製した。
【０２５８】
（被覆顔料２の調製）
被覆顔料１の調製において、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｒｅｄ  ２５４の代わりに、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｇｒｅｅｎ  ３６（日本ルーブリゾール社製  Ｍｏｎａｓｔｒａｌ  Ｇｒｅｅｎ  ６Ｙ−ＣＬ）を用いて、また重合体１の代わりに重合体２を用いて、他は被覆顔料１の調製と同様にして、被覆顔料２を調製した。
【０２５９】
−感光性樹脂組成物層形成工程−
（顔料分散液１の調製）
顔料分散液１を次のようにして調製した。すなわち、下記に記載の組成にて、ホモジナイザーを用いて回転数３，０００ｒ.ｐ.ｍ.で３時間撹拌して混合し、混合溶液を調製し、さらに０．１ｍｍφジルコニアビーズを用いたビーズ分散機ウルトラアペックスミル（寿工業社製）にて８時間分散処理を行なった。
【０２６０】
・被覆顔料１    ２４部
・Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｒｅｄ  １７７    ６部
・Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ１６１  ビックケミー社製〔３０％溶液〕    １６部
・アルカリ可溶性樹脂：ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体＝７５／２５〔質量比〕共重合体、重量平均分子量Ｍｗ：５０００のプロピレングリコールメチルエーテルアセテート溶液（固形分５０％）    ８部
・プロピレングリコールメチルエーテルアセテート（以下、ＰＧＭＥＡと称する。）    １４６部
【０２６１】
（感光性樹脂組成物ＣＲ−１の調製）
得られた顔料分散液１に、さらに以下の組成の成分を添加し、撹拌混合して赤色（Ｒ）用感光性樹脂組成物ＣＲ−１を調製した。
・アルカリ可溶性樹脂１：ベンジルメタクリレートとメタクリル酸との共重合体（モル比＝７０／３０）  重量平均分子量＝５，０００    １２部
・エチレン性不飽和化合物：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（日本化薬（株）製、ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ）    ２６部
・光重合開始剤：２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール〔保土ヶ谷化学社製、Ｂ−ＣＩＭ〕    ３部
・光重合開始剤：１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）  （チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製  Ｉｒｇａｃｕｒｅ  ＯＸＥ０１）    ９部
・光重合開始剤：ジエチルアミノベンゾフェノン  （保土ヶ谷化学社製  ＥＡＢＦ）    １部
・チオール化合物２：Ｎ−フェニルメルカプトベンズイミダゾール    １部
・エポキシ化合物：（ＤＩＣ社製、エピクロン６９５）    ４部
・プロピレングリコールメチルエーテルアセテートと３−エトキシエチルプロピオネート（＝８０／２０[質量比]）の混合溶液    ２００部
・重合禁止剤：ｐ−メトキシフェノール    ０．００１部
・界面活性剤１（下記の構造物１のメチルエチルケトンの３０質量％溶液）    １部
【０２６２】
【化３４】
2010039475.tif 000036
【０２６３】
（感光性樹脂組成物層形成）
得られた赤色（Ｒ）用感光性樹脂組成物ＣＲ−１を、前記ブラックマトリックスを付与した基板のブラックマトリックス形成面側に、塗布した。具体的には、実施例１の感光性樹脂組成物層形成の場合と同様に、ポストベーク後の感光性樹脂組成物層の層厚が約２．０μｍとなるようにスリットとブラックマトリックス基板との間隔、および吐出量を調節して、塗布速度１２０ｍｍ／秒で塗布した。
【０２６４】
−着色層プリベーク工程、着色層露光工程−
次いで、ホットプレートを用いて、１００℃で１２０秒間加熱（プリベーク処理）を行なった後、Ｎｄ：ＹＡＧレーザー（Ｐｕｌｓｅｏ、第三高調波３５５ｎｍ、Ｓｐｅｃｔｒａ−Ｐｈｙｓｉｃｓ社製）を用いた露光装置にて、感光性樹脂組成物層表面に対し照射エネルギーが約１ｍＪ/ｃｍ２となるように光学系を調整し、フォトマスクを通して露光を行った。感光性樹脂組成物層表面に対し、２０回の多重露光を行うことでパターン形成を行った。
【０２６５】
−着色層現像工程、着色層ベーク（ポストベーク）工程−
その後、現像装置（日立ハイテクノロジーズ社製）を用いて、水酸化カリウム系現像液ＣＤＫ−１（富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製）の１．０％現像液（ＣＤＫ−１を１部、純水を９９部の希釈した液、２５℃）でシャワー圧を０．２ＭＰａに設定して、４５秒現像し、純水で洗浄した。
次いで２２０℃のクリーンオーブンで３０分間ポストベーク処理し、熱処理済みの赤色画素を有する基板を形成した。
【０２６６】
緑色（Ｇ）画素を、赤色画素を有する基板に下記記載の感光性樹脂組成物ＣＧ−１を用いて作成した。さらに、青色（Ｂ）画素に関しても、上記赤色画素、および緑色画素を有する基板上に下記記載の感光性樹脂組成物ＣＢ−１を用いて作成した。
【０２６７】
（顔料分散液２の調製）
顔料分散液１の顔料分（被覆顔料１、ＰＲ２５４）を、被覆顔料２に変えた以外は同様にして、顔料分散液２を調製した。
【０２６８】
（感光性樹脂組成物ＣＧ−１の調製）
得られた顔料分散液２にさらに以下の組成の成分を添加し、撹拌混合して緑色（Ｇ）用感光性樹脂組成物ＣＧ−１を調製した。
・アルカリ可溶性樹脂１：ベンジルメタクリレートとメタクリル酸との共重合体（モル比＝７０／３０）  重量平均分子量＝５，０００    １２部
・エチレン性不飽和化合物：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（日本化薬（株）製、ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ）    ２６部
・光重合開始剤：２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール（保土ヶ谷化学社製、Ｂ−ＣＩＭ）    ３部
・光重合開始剤：エタノン，１−[９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾル−３−イル]−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）（チバスペシャリティーケミカルズ社製  Ｉｒｇａｃｕｒｅ  ＯＸＥ０２）    ５部
・光重合開始剤：ジエチルアミノベンゾフェノン（保土ヶ谷化学社製  ＥＡＢＦ）    １部
・チオール化合物２：Ｎ−フェニルメルカプトベンズイミダゾール    １部
・エポキシ化合物：（ＤＩＣ社製  エピクロン６９５）    ４部
・プロピレングリコールメチルエーテルアセテートと３−エトキシエチルプロピオネート（＝８０／２０[質量比]）の混合溶液    ２００部
・重合禁止剤：ｐ−メトキシフェノール    ０．００１部
・界面活性剤１    １部
【０２６９】
（顔料分散液３の調製）
被覆顔料２の顔料を、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｂｌｕｅ  １５：６に変更して被覆顔料３を作製し、さらに顔料分散液２の調整で、被覆顔料２の代わりに被覆顔料３を用いて、他は被覆顔料２の調整、および顔料分散液２の調整と同様にして顔料分散液３を調製した。
【０２７０】
（感光性樹脂組成物ＣＢ−１の調製）
得られた顔料分散液３に、さらに以下の組成の成分を添加し、撹拌混合して青色（Ｂ）用感光性樹脂組成物ＣＢ−１を調製した。
・アルカリ可溶性樹脂１：ベンジルメタクリレートとメタクリル酸との共重合体（モル比＝７０／３０）  重量平均分子量＝５，０００    １８部
・エチレン性不飽和化合物：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（日本化薬（株）製、ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ）    ３２部
・光重合開始剤：２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール（保土ヶ谷化学社製、Ｂ−ＣＩＭ）    ３部
・光重合開始剤：エタノン，１−[９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾル−３−イル]−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）（チバスペシャリティーケミカルズ製  Ｉｒｇａｃｕｒｅ  ＯＸＥ０２）    ５部
・光重合開始剤：ジエチルアミノベンゾフェノン（保土ヶ谷化学社製  ＥＡＢＦ）    １部
・チオール化合物２：Ｎ−フェニルメルカプトベンズイミダゾール    １部
・エポキシ化合物：（ＤＩＣ社製、エピクロン６９５）    ４部
・プロピレングリコールメチルエーテルアセテートと３−エトキシエチルプロピオネート（＝８０／２０[質量比]）の混合溶液    ２００部
・重合禁止剤：ｐ−メトキシフェノール    ０．００１部
・界面活性剤１    １部
【０２７１】
〔実施例１２〕
（感光性樹脂組成物の調製）
下記素材を混合して、フォトスペーサ用の感光性樹脂組成物を調製した。
・ＰＧＭＥＡ    ５６部
・ジエチレングリコールエチルメチルエーテル    １１４部
・樹脂Ａ    ５９．４部
・ＤＰＨＡ（ＰＧＭＥＡで固形分７６質量％になるように希釈したもの、日本化薬社製）    ２１．１部
・Ｂ−ＣＩＭ（保土ヶ谷化学社製）    ２．８部
・ＥＡＢＦ（保土ヶ谷化学社製）    ０．７部
・アクセルＭ（川口化学工業社製）    ０．７５部
・界面活性剤１    ０．３部
【０２７２】
（感光性樹脂組成物層形成）
得られたフォトスペーサ用感光性樹脂組成物を、ＩＴＯ蒸着後のカラーフィルタ基板のカラーフィルタ形成面側に、塗布した。具体的には、実施例１と同様にして、ポストベーク後の感光性樹脂組成物層の膜厚が約４．０μｍとなるようにスリットと基板との間隔、吐出量を調節して、塗布速度１２０ｍｍ／秒で塗布した。
【０２７３】
−プリベーク工程、露光工程−
次いで、ホットプレートを用いて、１００℃で１２０秒間加熱（プリベーク処理）を行なった後、Ｎｄ：ＹＡＧレーザー（Ｐｕｌｓｅｏ、第三高調波３５５ｎｍ、Ｓｐｅｃｔｒａ−Ｐｈｙｓｉｃｓ社製）を用いた露光装置にて、感光性樹脂組成物層表面に対し照射エネルギーが約１ｍＪ/ｃｍ２となるように光学系を調整し、フォトマスクを通して露光を行った。感光性樹脂組成物層表面に対し、２０回の多重露光を行うことでパターン形成を行った。
【０２７４】
−現像工程、ベーク（ポストベーク）工程−
その後、現像装置（日立ハイテクノロジーズ社製）を用いて、水酸化カリウム系現像液ＣＤＫ−１（富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製）の１．０％現像液（ＣＤＫ−１を１部、純水を９９部の希釈した液、２５℃）でシャワー圧を０．２ＭＰａに設定して、４５秒現像し、純水で洗浄した。
次いで２２０℃のクリーンオーブンで３０分間ポストベーク処理し、熱処理済みの１６μｍφのフォトスペーサをブラックマトリクス上に形成した。
【０２７５】
〔実施例３、５、７〜１１、１３〜２５〕
顔料分散液、アルカリ可溶性樹脂、光重合開始剤、およびチオール化合物の種類と添加量を表２に記載のよう変更して、実施例２、４、６、１２と同様にして感光性樹脂組成物を調製して、各色の画素を有する基板、またはフォトスペーサを有するカラーフィルタ基板それぞれ作製した。
【０２７６】
【表２】
2010039475.tif 000037
【０２７７】
前記表２中の成分の詳細は、下記のとおりである。
・オキシム化合物１：エタノン，１−[９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾル−３−イル]−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製  Ｉｒｇａｃｕｒｅ  ＯＸＥ０２）
・オキシム化合物２：１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製  Ｉｒｇａｃｕｒｅ  ＯＸＥ０１）
・ビイミダゾール化合物：２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール（保土ヶ谷化学社製  Ｂ−ＣＩＭ）
・チオール化合物１：商品名「アクセルＭ」  川口化学工業（株）製
・チオール化合物２：Ｎ−フェニルメルカプトベンズイミダゾール
【０２７８】
〔実施例２６〕
顔料分散液３に、さらに以下の組成の成分を添加し、撹拌混合して青色（Ｂ）用感光性樹脂組成物をそれぞれ調製した。
・アルカリ可溶性樹脂５：アリルメタクリレートとメタクリル酸との共重合体（モル比＝８０／２０）  重量平均分子量＝３５，０００    １８部
・エチレン性不飽和化合物：ペンタエリスリトールテトラアクリレート（新中村化学工業（株）製、ＮＫエステル  Ａ‐ＴＭＭＴ）    ３２部
・光重合開始剤： オキシム化合物３    １９部
・チオール化合物２：Ｎ−フェニルメルカプトベンズイミダゾール    ５部
・エポキシ化合物：ＥＨＰＥ３１５０（ダイセル化学工業（株）製）    ４部
・プロピレングリコールメチルエーテルアセテートと３−エトキシエチルプロピオネート（＝８０／２０[質量比]）の混合溶液    ２００部
・重合禁止剤：ｐ−メトキシフェノール    ０．００１部
・界面活性剤：メガファックＦ−５５４（ＤＩＣ株式会社製）    １部
上記のように調製した感光性樹脂組成物を用いて、実施例６と同様にして青色の画素を有する基板を作製した。
【０２７９】
〔実施例２７〜３０〕
光重合開始剤（オキシム化合物）、チオール化合物および界面活性剤の種類と添加量を表３のように変更した以外は、実施例２６と同様にして青色（Ｂ）用感光性樹脂組成物をそれぞれ調製し、青色の画素を有する基板を作製した。
【０２８０】
【表３】
2010039475.tif 000038
【０２８１】
＜液晶表示装置の作製＞
上記により得たフォトスペーサ付きのカラーフィルタに、更にポリイミドよりなる配向膜を設けた。
−液晶配向分割用突起の形成−
下記処方Ａよりなる突起用感光性樹脂層用塗布液を、上記と同様のスリットコーターによりカラーフィルタ上のＩＴＯ透明電極の上に塗布し、乾燥させて突起用感光性樹脂層を形成した。
＜突起用感光性樹脂層用塗布液：処方Ａ＞
・ポジ型レジスト液    ５３．３部
（富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製、ＦＨ−２４１３Ｆ）
・メチルエチルケトン    ４６．７部
・界面活性剤１（上記した構造物１のメチルエチルケトンの３０％溶液）    ０．０４部
【０２８２】
次いで、ミラープロジェクション方式露光機（型番ＭＰＡ−８０００、キャノン株式会社製）を用いて、１５０ｍＪ／ｃｍ２で露光した。
その後、２．３８％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液を、シャワー式現像装置にて３３℃で３０秒間、突起用感光性樹脂層に噴霧しながら現像し、突起用感光性樹脂層の不要部（露光部）を現像除去した。すると、カラーフィルタのＩＴＯ透明電極の上に、所望形状にパターニングされた突起が形成された。次いで、この突起が形成されたカラーフィルタ基板を２４０℃下で５０分間ベーク処理することにより、カラーフィルタ上に高さ１．５μｍ、縦断面形状（ガラス基板面の法線方向と平行な面の形状）が蒲鉾様の配向分割用突起を形成することができた。
その後、カラーフィルタの着色画素群の周囲を取り囲むように設けられたブラックマトリックス外枠に相当する位置に紫外線硬化樹脂のシール剤をディスペンサ方式により塗布し、ＭＶＡモード用液晶を滴下して対向基板と貼り合わせ、貼り合わされた基板をＵＶ照射した後、熱処理してシール剤を硬化させた。このようにして液晶セルを得た。この液晶セルの両面に（株）サンリッツ製の偏光板ＨＬＣ２−２５１８を貼り付け、次いで冷陰極管のバックライトを構成して前記偏光板が設けられた液晶セルの背面となる側に配置し、液晶表示装置とした。
【０２８３】
〔比較例１〜８〕
実施例２〜実施例７、実施例１２、および実施例１の組成中のチオール化合物２の代わりに、それぞれ同質量のＮ-フェニルグリシン（関東化学株式会社製）に置き換えて比較用感光性樹脂組成物を作製し、比較例１〜６、比較例７、および比較例８を、それぞれの実施例と同様にして各色の画素を有する基板を作製した。
【０２８４】
また、実施例１〜３０については、Ｎｄ：ＹＡＧレーザーに代えて、高圧水銀灯を光源とするプロキシミティー露光機（日立ハイテクノロジーズ社製、ＬＥ５５６５Ａ）を用いて、２０ｍＪ／ｃｍ２で露光することによる画素形成を行った。この結果をそれぞれ比較例１ａ〜３０ａとする。
以上のようにして得られた実施例および比較例の遮光用、ＲＧＢの着色層、および透明層の付与された基板を用いて、感光性樹脂組成物層の表面粗さを下記に示す方法で評価した。結果を表４および表５に示す。
【０２８５】
〔表面粗さの評価〕
ＡＦＭ（Dimension3100、Digital  instruments社製）を用いて、それぞれの表面粗さを測定した。測定面積は１０μｍ平方とした。
【０２８６】
〔線幅安定性の評価〕
現像時間の変化に対して現像後の平均線幅が、最も安定している現像時間の秒数のポイント（最適現像秒数）から現像時間をさらに長くしたときに、２μｍ変動するまでにかかる秒数（最適現像秒数からの秒数）をそれぞれ求めた。
【０２８７】
【表４】
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【０２８８】
【表５】
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【０２８９】
表４、表５から、本発明の紫外光レーザー用感光性樹脂組成物およびパターン形成方法で作製した感光性樹脂組成物層である遮光用、ＲＧＢ着色画素用、透明層（フォトスペーサー）の表面は、光重合開始剤の種類を問わず、平滑であることがわかる。また本発明の紫外光レーザー用感光性樹脂組成物およびパターン形成方法で作製することによりパターンの線幅安定性が大きくなり、製造の余裕度が生じ、生産性の向上が期待できる。これに対し本発明の感光性樹脂組成物の要因を欠く比較例処方、および紫外光レーザーで露光しない比較例は、表面粗さが大きく、またパターンの線幅安定性が劣っていることがわかる。さらに実施例および比較例で作成したカラーフィルタをそれぞれ用いて、液晶表示装置を組み立てたところ、実施例の方が暗所での光漏れが少なく画質が向上していた。