(57)【要約】  【課題】変性シリコンアクリレート添加による外観欠点の発生を抑制するとともに、優れた耐擦傷性および防汚性を有する樹脂組成物、それを用いた反射防止フィルム、表示装置および反射防止フィルムの製造方法を提供する。  【解決手段】反射防止フィルムは、基材と反射防止層とを備える。反射防止層は、両末端の少なくとも１方にアクリル基またはメタクリル基を有し、かつ、重量平均分子量８０００以上を有する第１の変性シリコン化合物と、側鎖にアクリル基またはメタクリル基を有する第２の変性シリコン化合物と、中空粒子または多孔質粒子と、電離放射線硬化型樹脂とを含む樹脂組成物を硬化することにより形成される。【選択図】図１
2010254950.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
重量平均分子量８０００以上の式（ａ）で表される化合物の少なくとも１種よりなる第１の変性シリコン化合物と、
式（ｂ）で表される化合物の少なくとも１種よりなる第２の変性シリコン化合物と、
中空粒子または多孔質粒子と、
電離放射線硬化型樹脂と
を含む樹脂組成物。
【化１】
2010254950.tif 000020
（Ｒａは、アルキル基、アクリル基またはメタクリル基である。Ｒｂは、アクリル基またはメタクリル基である。ｎは整数である。）
【化２】
2010254950.tif 000021
（Ｒｃ〜Ｒｄは、それぞれ独立して、アルキル基、アクリル基またはメタクリル基である。Ｒｅは、アクリル基またはメタクリル基である。ｎ、ｍは整数である。）
【請求項２】
上記第１の変性シリコン化合物と上記第２の変性シリコン化合物との質量比（第１の変性シリコン化合物の質量／第２の変性シリコン化合物の質量）は、０．０５以上である請求項１記載の樹脂組成物。
【請求項３】
上記第１の変性シリコン化合物の重量平均分子量は、８０００以上１０００００以下である請求項１記載の樹脂組成物。
【請求項４】
上記電離放射線硬化型樹脂は、アクリル基またはメタクリル基を有するモノマーおよび／またはオリゴマーを含む紫外線硬化樹脂である請求項１記載の樹脂組成物。
【請求項５】
アクリル基またはメタクリル基を有するシルセスキオキサンをさらに含有し、
上記電離放射線硬化型樹脂は、アクリル基またはメタクリル基を有するモノマーおよび／またはオリゴマーを含んでいる請求項１記載の樹脂組成物。
【請求項６】
上記電離放射線硬化型樹脂は、アクリル基およびメタクリル基の少なくとも１種を３個以上有するアクリル化合物を含有し、
上記アクリル化合物の表面張力が、４０ｍＮ／ｍ以上であり、
固形分全体に対する上記アクリル化合物の含有量が、５ｗｔ％以上１８ｗｔ％以下である請求項１記載の樹脂組成物。
【請求項７】
上記電離放射線硬化型樹脂は、フッ素含有電離放射線硬化型樹脂を含有する請求項１記載の樹脂組成物。
【請求項８】
基材上に反射防止層が形成された反射防止フィルムの製造方法であって、
上記反射防止層を、
重量平均分子量８０００以上の式（ａ）で表される化合物の少なくとも１種よりなる第１の変性シリコン化合物と、式（ｂ）で表される化合物の少なくとも１種よりなる第２の変性シリコン化合物と、中空粒子または多孔質粒子と、電離放射線硬化型樹脂とを含む樹脂組成物を塗布して樹脂組成物層を形成する工程と、
上記樹脂組成物に対して、低酸素濃度雰囲気下で電離放射線を照射する硬化工程と
によって形成する反射防止フィルムの製造方法。
【化３】
2010254950.tif 000022
（Ｒａは、アルキル基、アクリル基またはメタクリル基である。Ｒｂは、アクリル基またはメタクリル基である。ｎは整数である。）
【化４】
2010254950.tif 000023
（Ｒｃ〜Ｒｄは、それぞれ独立して、アルキル基、アクリル基またはメタクリル基である。Ｒｅは、アクリル基またはメタクリル基である。ｎ、ｍは整数である。）
【請求項９】
上記低酸素濃度雰囲気は、１００００ｐｐｍ以下である
請求項８記載の反射防止フィルムの製造方法。
【請求項１０】
基材と反射防止層とを備え、
上記反射防止層は、
重量平均分子量８０００以上の式（ａ）で表される化合物の少なくとも１種よりなる第１の変性シリコン化合物と、式（ｂ）で表される化合物の少なくとも１種よりなる第２の変性シリコン化合物と、中空粒子または多孔質粒子と、電離放射線硬化型樹脂とを含む樹脂組成物を硬化することにより形成されたものである反射防止フィルム。
【化５】
2010254950.tif 000024
（Ｒａは、アルキル基、アクリル基またはメタクリル基である。Ｒｂは、アクリル基またはメタクリル基である。ｎは整数である。）
【化６】
2010254950.tif 000025
（Ｒｃ〜Ｒｄは、それぞれ独立して、アルキル基、アクリル基またはメタクリル基である。Ｒｅは、アクリル基またはメタクリル基である。ｎ、ｍは整数である。）
【請求項１１】
画像を表示する表示部と、
上記表示部の表示面側に設けられた反射防止層と
を備え、
上記反射防止層は、
重量平均分子量８０００以上の式（ａ）で表される化合物の少なくとも１種よりなる第１の変性シリコン化合物と、式（ｂ）で表される化合物の少なくとも１種よりなる第２の変性シリコン化合物と、中空粒子または多孔質粒子と、電離放射線硬化型樹脂とを含む樹脂組成物を硬化することにより形成されたものである表示装置。
【化７】
2010254950.tif 000026
（Ｒａは、アルキル基、アクリル基またはメタクリル基である。Ｒｂは、アクリル基またはメタクリル基である。ｎは整数である。）
【化８】
2010254950.tif 000027
（Ｒｃ〜Ｒｄは、それぞれ独立して、アルキル基、アクリル基またはメタクリル基である。Ｒｅは、アクリル基またはメタクリル基である。ｎ、ｍは整数である。）
【請求項１２】
画像を表示する第１の面を有する表示部と、
上記第１の面と対向する第２の面、および上記第２の面とは反対側となる第３の面を有する前面部材と
上記第１の面、上記第２の面、および上記第３の面の少なくとも１つの面に設けられた反射防止層と
を備え、
上記反射防止層は、
重量平均分子量８０００以上の式（ａ）で表される化合物の少なくとも１種よりなる第１の変性シリコン化合物と、式（ｂ）で表される化合物の少なくとも１種よりなる第２の変性シリコン化合物と、中空粒子または多孔質粒子と、電離放射線硬化型樹脂とを含む樹脂組成物を硬化することにより形成されたものである表示装置。
【化９】
2010254950.tif 000028
（Ｒａは、アルキル基、アクリル基またはメタクリル基である。Ｒｂは、アクリル基またはメタクリル基である。ｎは整数である。）
【化１０】
2010254950.tif 000029
（Ｒｃ〜Ｒｄは、それぞれ独立して、アルキル基、アクリル基またはメタクリル基である。Ｒｅは、アクリル基またはメタクリル基である。ｎ、ｍは整数である。）
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、樹脂組成物、反射防止フィルム、表示装置および反射防止フィルムの製造方法に関する。詳しくは、液晶表示装置などの表示装置に用いられる樹脂組成物、反射防止フィルム、表示装置および反射防止フィルムの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
反射防止フィルムは、ＣＲＴ（Cathode Ray Tube）や液晶表示装置などの表示面側に形成されて、外光の映り込みを防止して画面を見やすくしたり、コンストラストを上げて画質を向上させたりするために用いられている。
【０００３】
反射防止フィルムは、通常、基材となる透明基板／ハードコート性付与のための樹脂層／低屈折率の反射防止層からなる構成を有している。かかる反射防止フィルムにおいて、反射率の観点からハードコート層には高屈折率が求められ、反射防止層にはより低い屈折率が求められる。
【０００４】
反射防止層は、最近ではウエットコーティングで形成することが一般的である。例えば、分子構造中にフッ素原子を含むモノマーを含有する塗液を支持体の表面に塗布、乾燥した後、ＵＶ照射などによって硬化させて反射防止層を形成する方法が用いられている。フッ素系官能基を硬化後の樹脂に組み込むことによって、耐擦傷性および防汚性の向上、外観欠点の改善などの効果を得ることができる。（例えば、特許文献１参照）しかしながら、フッ素が含有されていることによる環境破壊および人体に対する有害性が懸念される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００３−３２９８０４号公報
【０００６】
そこで、フッ素系材料を用いる代わりに、中空シリカ微粒子をコーティング材料に添加する技術が提案されている。しかし、反射防止層の屈折率を低減すべく、中空シリカ微粒子の添加量を増加させると、耐擦傷性や防汚性が低下してしまうという問題が発生してしまう。そこで、変性シリコンアクリレートをコーティング材料に添加することにより、耐擦傷性や防汚性の低下を抑制する技術が提案されている。
【０００７】
また、反射防止層の反射率を低減するために、フッ素系材料に加えて、中空シリカ微粒子をコーティング材料にさらに添加する技術も提案されている。この技術でも、変性シリコンアクリレートをコーティング材料に添加することにより、耐擦傷性や防汚性の低下を抑制することが考えられている。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、変性シリコンアクリレートは、コーティング材料（紫外線硬化樹脂）との相溶性が悪いため、はじきや輝点などといった外観欠点が多く発生してしまう。
【０００９】
したがって、この発明の目的は、変性シリコンアクリレート添加による外観欠点の発生を抑制するとともに、優れた耐擦傷性および防汚性を有する樹脂組成物、それを用いた反射防止フィルム、表示装置および反射防止フィルムの製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上述した課題を解決するために、
第１の発明は、
重量平均分子量８０００以上の式（ａ）で表される化合物の少なくとも１種よりなる第１の変性シリコン化合物と、
式（ｂ）で表される化合物の少なくとも１種よりなる第２の変性シリコン化合物と、
中空粒子または多孔質粒子と、
電離放射線硬化型樹脂と
を含む樹脂組成物である。
【化１】
2010254950.tif 000003
（Ｒａは、アルキル基、アクリル基またはメタクリル基である。Ｒｂは、アクリル基またはメタクリル基である。ｎは整数である。）
【化２】
2010254950.tif 000004
（Ｒｃ〜Ｒｄは、それぞれ独立して、アルキル基、アクリル基またはメタクリル基である。Ｒｅは、アクリル基またはメタクリル基である。ｎ、ｍは整数である。）
【００１１】
第１の発明において、好ましくは、第１の変性シリコン化合物と第２の変性シリコン化合物との質量比（第１の変性シリコン化合物の質量／第２の変性シリコン化合物の質量）は、０．０５以上である。
【００１２】
第１の発明において、好ましくは、第１の変性シリコン化合物の重量平均分子量は、８０００以上１０００００以下である。
【００１３】
第１の発明において、好ましくは、電離放射線硬化型樹脂は、アクリル基またはメタクリル基を有するモノマーおよび／またはオリゴマーを含む紫外線硬化樹脂である。
【００１４】
第１の発明において、好ましくは、アクリル基またはメタアクリル基を有するシルセスキオキサンをさらに含有し、電離放射線硬化型樹脂は、アクリル基またはメタクリル基を有するモノマーおよび／またはオリゴマーを含んでいる。
【００１５】
第２の発明は、
基材上に反射防止層が形成された反射防止フィルムの製造方法であって、
反射防止層を、
重量平均分子量８０００以上の式（ａ）で表される化合物の少なくとも１種よりなる第１の変性シリコン化合物と、式（ｂ）で表される化合物の少なくとも１種よりなる第２の変性シリコン化合物と、中空粒子または多孔質粒子と、電離放射線硬化型樹脂とを含む樹脂組成物を塗布して樹脂組成物層を形成する工程と、
樹脂組成物に対して、低酸素濃度雰囲気下で電離放射線を照射する硬化工程と
によって形成する反射防止フィルムの製造方法である。
【化３】
2010254950.tif 000005
（Ｒａは、アルキル基、アクリル基またはメタクリル基である。Ｒｂは、アクリル基またはメタクリル基である。ｎは整数である。）
【化４】
2010254950.tif 000006
（Ｒｃ〜Ｒｄは、それぞれ独立して、アルキル基、アクリル基またはメタクリル基である。Ｒｅは、アクリル基またはメタクリル基である。ｎ、ｍは整数である。）
【００１６】
第２の発明において、好ましくは、低酸素濃度雰囲気は、１００００ｐｐｍ以下である。
【００１７】
第３の発明は、
基材と反射防止層とを備え、
反射防止層は、
重量平均分子量８０００以上の式（ａ）で表される化合物の少なくとも１種よりなる第１の変性シリコン化合物と、式（ｂ）で表される化合物の少なくとも１種よりなる第２の変性シリコン化合物と、中空粒子または多孔質粒子と、電離放射線硬化型樹脂とを含む樹脂組成物を硬化することにより形成されたものである反射防止フィルムである。
【化５】
2010254950.tif 000007
（Ｒａは、アルキル基、アクリル基またはメタクリル基である。Ｒｂは、アクリル基またはメタクリル基である。ｎは整数である。）
【化６】
2010254950.tif 000008
（Ｒｃ〜Ｒｄは、それぞれ独立して、アルキル基、アクリル基またはメタクリル基である。Ｒｅは、アクリル基またはメタクリル基である。ｎ、ｍは整数である。）
【００１８】
第４の発明は、
画像を表示する表示部と、
表示部の表示面側に設けられた反射防止層と
を備え、
反射防止層は、
重量平均分子量８０００以上の式（ａ）で表される化合物の少なくとも１種よりなる第１の変性シリコン化合物と、式（ｂ）で表される化合物の少なくとも１種よりなる第２の変性シリコン化合物と、中空粒子または多孔質粒子と、電離放射線硬化型樹脂とを含む樹脂組成物を硬化することにより形成されたものである表示装置である。
【化７】
2010254950.tif 000009
（Ｒａは、アルキル基、アクリル基またはメタクリル基である。Ｒｂは、アクリル基またはメタクリル基である。ｎは整数である。）
【化８】
2010254950.tif 000010
（Ｒｃ〜Ｒｄは、それぞれ独立して、アルキル基、アクリル基またはメタクリル基である。Ｒｅは、アクリル基またはメタクリル基である。ｎ、ｍは整数である。）
【００１９】
第５の発明は、
画像を表示する第１の面を有する表示部と、
表示面と対向する第２の面、および第２の面とは反対側となる第３の面を有する前面部材と
第１の面、第２の面、および第３の面の少なくとも１つの面に設けられた反射防止層と
を備え、
反射防止層は、
重量平均分子量８０００以上の式（ａ）で表される化合物の少なくとも１種よりなる第１の変性シリコン化合物と、式（ｂ）で表される化合物の少なくとも１種よりなる第２の変性シリコン化合物と、中空粒子または多孔質粒子と、電離放射線硬化型樹脂とを含む樹脂組成物を硬化することにより形成されたものである表示装置である。
【化９】
2010254950.tif 000011
（Ｒａは、アルキル基、アクリル基またはメタクリル基である。Ｒｂは、アクリル基またはメタクリル基である。ｎは整数である。）
【化１０】
2010254950.tif 000012
（Ｒｃ〜Ｒｄは、それぞれ独立して、アルキル基、アクリル基またはメタクリル基である。Ｒｅは、アクリル基またはメタクリル基である。ｎ、ｍは整数である。）
【００２０】
第１〜第５の発明では、重量平均分子量８０００以上の式（ａ）で表される化合物の少なくとも１種よりなる第１の変性シリコン化合物と、式（ｂ）で表される化合物の少なくとも１種よりなる第２の変性シリコン化合物とを含む樹脂組成物を用いて、反射防止層を形成することによって、優れた耐擦傷性および防汚性を有し、外観欠点を減少することができる。
【００２１】
第１〜第５の発明では、重量平均分子量８０００以上の式（ａ）で表される第１の変性シリコン化合物は、耐擦傷性や防汚性を付与することができる。また、式（ｂ）で表される第２の変性シリコン化合物は、式（ａ）で表される第１の変性シリコン化合物と、紫外線硬化樹脂などの電離放射線硬化型樹脂との相溶性を向上することができる。したがって、はじきや輝点の発生を抑制することができる。
【発明の効果】
【００２２】
この発明によれば、優れた耐擦傷性および防汚性を有し、外観欠点を減少することができるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】この発明の第２の実施の形態による反射防止フィルムの構成の一例を示す概略断面図である。
【図２】この発明の第３の実施の形態による液晶表示装置の構成の一例を示す概略断面図である。
【図３】この発明の第４の実施の形態による液晶表示装置の構成の一例を示す概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
以下、この発明の実施の形態について図面を参照して説明する。
以下に説明する実施の形態は、この発明の具体的な例であり、技術的に好ましい種々の限定が付されているが、この発明の範囲は、以下の説明において、特にこの発明を限定する旨の記載がない限り、実施の形態に限定されないものとする。なお、説明は、以下の順序で行う。
１．第１の実施の形態（樹脂組成物）
２．第２の実施の形態（反射防止フィルム）
３．第３の実施の形態（表示装置）
４．第４の実施形態（表示装置）
【００２５】
１．第１の実施の形態
この発明の第１の実施の形態による樹脂組成物について説明する。
【００２６】
この発明の第１の実施の形態による樹脂組成物は、例えば、透明支持体上に設けられたハードコート層上の反射防止層を形成するのに適したものである。この樹脂組成物は、電離放射線硬化型樹脂と、第１の変性シリコン化合物および第２の変性シリコン化合物と、中空シリカ微粒子と、を有するものである。
【００２７】
［電離放射性硬化型樹脂］
電離放射性硬化型樹脂は、光または電子線などにより硬化する材料である。電離放射線硬化型樹脂は特に制限はなく、従来公知のものの中から適宜選択して用いることができる。電離放射線硬化型樹脂は、例えば、電離放射線重合性モノマー、電離放射線重合性オリゴマー、電離放射線重合性ポリマー、電離放射線重合開始剤等を含有するものである。電離放射性硬化型樹脂は、例えば、アクリル基またはメタクリル基を有する、ラジカル重合系の紫外線硬化樹脂である。紫外線硬化樹脂は、例えば、アクリル基またはメタクリル基を有するモノマーおよび／またはオリゴマーと、光重合開始剤とを含有している。製造の容易性の観点からすると、紫外線硬化樹脂が最も好ましい。紫外線硬化型樹脂は耐擦傷の観点から、光重合性多官能モノマー、光重合性オリゴマー、光重合性ポリマーを８０％以上含んでいることが好ましく、９０％以上含んでいることが最も好ましい。多官能モノマーとしては、例えば、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル、具体的には例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ジシクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−シクロヘキサンテトラメタクリレートなどが挙げられる。光重合性オリゴマー、光重合性ポリマーとしては、例えば、ウレタンアクリレート系、ポリオールアクリレート系、ポリエステルアクリレート系、エポキシアクリレート系、などが挙げられる。低屈折率という観点からは、フッ素含有アクリルモノマー、フッ素含有アクリルオリゴマー、フッ素含有アクリルポリマーを含んでいることが好ましい。
【００２８】
［変性シリコン化合物］
第１の変性シリコン化合物は、式（ａ）で表される変性シリコン化合物の少なくとも１種である。
【００２９】
【化１１】
2010254950.tif 000013
（Ｒａは、アルキル基（１≦炭素数≦１６）、アクリル基またはメタクリル基である。Ｒｂはアクリル基またはメタクリル基である。ｎは整数であり、例えば１００≦ｎ≦１５００、好ましくは１５０≦ｎ≦１３００である。）
【００３０】
第１の変性シリコン化合物は、片末端にアクリル基若しくはメタクリル基を有するもの、または両末端にアクリル基若しくはメタクリル基を有するものである。第１の変性シリコン化合物の重量平均分子量は、８０００以上であり、例えば８０００以上１０００００以下である。重量平均分子量が８０００未満であると、耐擦傷性や防汚性の効果が低下する傾向にある。なお、重量平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィ（ＧＰＣ:Gel Permeation Chromatography）分析により、キャリア溶媒：ＴＨＦ、ポリスチレン換算で測定したものである。
【００３１】
第２の変性シリコン化合物は、式（ｂ）で表される変性シリコン化合物の少なくとも１種である。
【００３２】
【化１２】
2010254950.tif 000014
（Ｒｃ〜Ｒｄは、それぞれ独立して、アルキル基（１≦炭素数≦１６）、アクリル基またはメタクリル基である。Ｒｅはアクリル基またはメタクリル基である。ｎ、ｍは整数である。ｎは、例えば３≦ｎ≦１００、好ましくは９≦ｎ≦５０である。ｍ、例えばｍ≦１５０、好ましくはｍ≦１００である。）
【００３３】
第２の変性シリコン化合物は、側鎖にアクリル基またはメタクリル基を有するものである。末端にアクリル基またはメタクリル基を有していても、有していなくてもよい。第２の変性シリコン化合物の重量平均分子量は、特に規定されないが、例えば１０００以上５００００以下である。
【００３４】
第１の変性シリコン化合物の含有量は、例えば、０．１ｗｔ％以上３．０ｗｔ％以下である。０．１ｗｔ％未満であると、耐擦傷性および防汚性などの機能が低下することとなり、３．０ｗｔ％を超えると、耐擦傷性の機能が低下することとなる。第２の変性シリコン化合物の含有量は、例えば、０．００５ｗｔ％以上２．９７ｗｔ％以下である。０．００５ｗｔ％未満であると、ハジキや輝点等の外観欠点が頻繁に発生することとなり、２．９７ｗｔ％を超えると、耐擦傷性および防汚性などの機能が低下することとなる。
【００３５】
第１の変性シリコン化合物と第２の変性シリコン化合物との質量比（第２の変性シリコン化合物の質量／第１の変性シリコン化合物の質量）は、例えば、０．０５〜０．９９である。０．０５未満であると、ハジキや輝点等の外観欠点が頻繁に発生することとなり、０．９９を超えると、耐擦傷性および防汚性などの機能が低下することとなる。
【００３６】
変性シリコーン化合物の側鎖官能基量は、核磁気共鳴測定装置（ＮＭＲ）により得られる１Ｈ−ＮＭＲ（プロトンＮＭＲ）の積分曲線から算出される。１Ｈ−ＮＭＲで、シロキサン構造のケイ素にＣを介して結合するＨ（例えばＳｉ−（ＣＨ3）2のＨ）の積分曲線と、官能基のＣ＝ＣＨ2のＨの積分曲線の比を求める。予めシロキサン構造の化学式と官能基の化学式は分かっているので、シロキサン構造のＳｉ−（ＣＨ3）2の個数と、官能基のＣ＝ＣＨ2の個数の比から、測定試料に含まれる、Ｓｉ−（ＣＨ3）2結合を有するシロキサン構造の個数Ａと、官能基の個数Ｂとの比（Ｂ／Ａ）が分かる。
例えば、ポリジメチルシロキサン（Ｓｉ−ＣＨ3:０ｐｐｍ付近の化学シフト）、メタクリル基（Ｃ＝ＣＨ2:４〜７ｐｐｍ付近の化学シフト）などに着目し、それぞれの得られた積分値の比より存在比を算出可能である。
【００３７】
電離放射性硬化型樹脂が、反射率の低減の観点から、フッ素含有アクリル化合物を含んでいることが好ましい。この場合、フッ素含有アクリル化合物の含有量は、樹脂組成物の固形分に対して、１０ｗｔ％以上６０ｗｔ％以下であることが好ましい。１０ｗｔ％未満であると、反射率が極端に高くなる傾向がある。一方、６０ｗｔ％超えると、塗工性に問題が発生したり、塗工後の外観に異常が発生しやすくなる。ここで、アクリル化合物とは、アクリレート、またはメタクリレートである。
【００３８】
電離放射性硬化型樹脂が、防汚性および耐擦傷性の向上の観点から、アクリル基およびメタクリル基の少なくとも１種を３個以上有するアクリル化合物をさらに含有することが好ましい。アクリル化合物の表面張力が、４０ｍＮ／ｍ以上であることが好ましく、より好ましくは４０ｍＮ／ｍ以上４５ｍＮ／ｍ以下である。樹脂組成物の固形分全体に対するアクリル化合物の含有量が、５ｗｔ％以上１８ｗｔ％以下であることが好ましい。アクリル基およびメタクリル基の少なくとも１種の個数が３未満であると、耐擦傷性が低下する傾向にある。表面張力が４０ｍＮ／ｍ未満であると、防汚性および耐擦傷性が低下する傾向にあり、表面張力が４５ｍＮ／ｍを超えると、塗液中で白濁する傾向にある。アクリル化合物の含有量が５ｗｔ％未満であると、防汚性および耐擦傷性が低下する傾向にあり、アクリル化合物の含有量が１８ｗｔ％を超えると、耐擦傷性が低下する傾向にある。
【００３９】
［中空シリカ微粒子］
中空シリカ微粒子とは、内部が空洞になっているシリカ微粒子である。また、内部が多孔質となっていてもよい。気体が屈折率１．０の空気である場合、微粒子本来の屈折率に比べて微粒子中の空気の占有率に比例して屈折率が低下する。中空シリカ微粒子の屈折率は、例えば、１．４５以下であるが、特に限定されるものではない。中空微粒子の平均粒径は、例えば１０ｎｍ〜２００ｎｍである。微粒子として、中空シリカ微粒子に代えて多孔質シリカ微粒子を用いてもよい。また、微粒子として、中空シリカ微粒子と多孔質シリカ微粒子との両方を用いてもよい。
【００４０】
［その他］
必要に応じて、光安定剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、難燃剤、酸化防止剤などの添加剤を添加してもよい。また、必要に応じて、電離放射性硬化型樹脂を溶剤に希釈して用いるようにしてもよい。また、優れた耐擦傷性を得るためには、有機−無機ハイブリッド材料等を併用してもよい。
【００４１】
有機−無機ハイブリッド材料としては、例えば、シルセスキオキサンを用いることができる。シルセスキオキサンは、例えば、組成式［（ＲＳｉＯ3/2）n］（Ｒは、紫外線硬化型官能基であり、例えば、アクリル基、メタアクリル基、ビニル基等である。）で表されるものを用いることができる。シルセスキオキサンとしては、例えば、ランダム構造、完全カゴ型構造、ハシゴ型構造、不完全カゴ形構造のものを用いることができる。これらの構造を有するものを単体または混合して用いることができる。シルセスキオキサンは、有機官能基としてアクリル基およびメタアクリル基の少なくとも一種を有していることが好ましい。このような官能基を有することで、アクリル基またはメタアクリル基を有する紫外線硬化型樹脂、または、アクリル基またはメタアクリル基を有する第１または第２の変性シリコンと結合し、架橋構造などを形成することができるからである。シルセスキオキサンの含有量は、好ましくは６ｗｔ％以上４６ｗｔ％以下、より好ましくは１２ｗｔ％以上４６ｗｔ％以下である。６ｗｔ％以上であると、反射防止層１３の耐擦傷性を向上することができる。４６ｗｔ％以下であると、電離放射性硬化型樹脂としてフッ素基を有するアクリレートを含有するものを用いている場合において、反射防止層１３の反射率の低下を抑制することができる。また、シルセスキオキサンは、反射特性の改善の点から、パーフルオロアルキル基をさらに有していることが好ましい。また、耐擦傷性を向上するために、シルセスキオキサンのナノフィラーを用いるようにしてもよい。この場合、シルセスキオキサンとしては、アクリル基またはメタアクリル基などの官能基を有していないものを用いることも可能である。
【００４２】
以上説明したこの発明の第１の実施の形態による樹脂組成物を用いて、後述する反射防止フィルムにおける反射防止層を形成することができる。この樹脂組成物を用いて作製した反射防止フィルムは、優れた耐擦傷性および防汚性を有し、外観欠点を減少することができる。
【００４３】
２．第２の実施の形態
この発明の第２の実施の形態による反射防止フィルムについて説明する。
【００４４】
図１は、この発明の第２の実施の形態による反射防止フィルムの構成の一例を示す。この反射防止フィルムは、図１に示すように、基材１１と、この基材１１に設けられたハードコート層１２と、ハードコート層１２上に設けられた反射防止層１３とから構成されている。なお、反射防止フィルムの構成は、上記の構成に限定されるものではない。例えば、基材１１とハードコート層１２との間、およびハードコート層１２と反射防止層１３との間の少なくとも何れかに、帯電防止層や、高屈折率層、防眩層等の機能層を設けた構成としてもよい。
【００４５】
［基材］
基材１１の材料としては、例えば透明性を有するプラスチックフィルムを用いることができる。透明プラスチックフィルムの材料としては、例えば、公知の高分子フィルムを用いることができる。公知の高分子フィルムとしては、具体的には例えば、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリエステル（ＴＰＥＥ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリイミド（ＰＩ）、ポリアミド（ＰＡ）、アラミド、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリアクリレート（ＰＡＲ）、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリプロピレン（ＰＰ）、ジアセチルセルロース、ポリ塩化ビニル、アクリル樹脂（ＰＭＭＡ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、エポキシ樹脂、尿素樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂などが挙げられる。基材１１の厚さは、生産性の点から２０μｍ〜２００μｍであることが好ましいが、この範囲に特に限定されるものではない。
【００４６】
［ハードコート層］
ハードコート層１２は、反射防止フィルムの強度を向上させるものであり、例えば、メラニン系樹脂、アルキド系樹脂、アクリル系樹脂、シリコン系樹脂、ウレタン系樹脂などの比較的硬質な材料が用いられる。ハードコート層内にシリカゲル、樹脂ビーズ等を分散させて、光を散乱させることで防眩性を付与するようにしてもよい。ハードコート層１２内に金属酸化物などからなる微粒子を分散させて、高屈折率を付与するようにしてもよい。また、金属酸化物微粒子、帯電防止樹脂、導電性高分子等の導電性を有する材料を、ハードコート層１２内に分散させて帯電防止機能を付与するようにしてもよい。
【００４７】
［反射防止層］
反射防止層１３は、ハードコート層１２の屈折率より低い屈折率を有する低屈折率層である。反射防止フィルムでは、基材１１の表面に屈折率の異なる層を設けて反射光を軽減することによって、反射防止機能を有する。詳細は後述するが、反射防止層１３は、第１の実施の形態による樹脂組成物を用いて形成することができる。
【００４８】
［反射防止フィルムの製造方法］
この発明の第２の実施の形態による反射防止フィルムは、例えば、以下のようにして製造することができる。
【００４９】
（ハードコート層）
まず、基材１１上にハードコート層１２を形成する。ハードコート層１２の形成は、公知の技術を適宜適用して形成することができる。
【００５０】
（反射防止層）
次に、以下に説明するようにして、ハードコート層１２上に、反射防止層１３を形成する。
【００５１】
（塗料調製）
まず、例えばディスパーなどの攪拌機やビーズミルなどの分散機により、シリカ中空微粒子、電離放射線硬化型樹脂、第１の変性シリコン化合物、第２のシリコン化合物、溶剤を混合し、塗料を調製する。また、必要に応じて、光安定剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、難燃剤、酸化防止剤などの添加剤を添加するようにしてもよい。
【００５２】
溶剤としては、特に制限されず、種々の有機溶剤、例えば、イソプロピルアルコール、メタノール、エタノール、ｎ−ブタノール等のアルコール類、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、ハロゲン化炭化水素、トルエン、またはキシレン等の芳香族炭化水素、あるいはこれらの混合物を用いることができる。
【００５３】
（塗工）
次に、上述のように調製した塗料を、ハードコート層１２上に塗工する。塗料の塗工方法としては、例えば、グラビアコータ、バーコータ、ダイコータ、ナイフコータ、コンマコータ、スプレーコータ、カーテンコータなどが挙げられる。なお、塗工方法は、上記方法に限定されることはなく、所定量の厚みを均一に塗布できればいかなるものでもよい。
【００５４】
（乾燥）
次に、ハードコート層１２上に塗工された塗料を乾燥させる。乾燥条件は、特に限定されず、自然乾燥であっても、乾燥温度や乾燥時間などを調整する人工的な乾燥であってもよい。
【００５５】
（硬化）
次に、電離放射線照射により、ハードコート層１２上にて乾燥された樹脂組成物を硬化させる。これにより、反射防止層１３が形成される。
【００５６】
電離放射線としては、例えば、電子線、紫外線、可視光線、ガンマ線、電子線などを用いることができ、生産設備の観点から、紫外線が好ましい。紫外線源としては、例えば、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプなどを用いることができる。積算照射量は、樹脂の硬化特性、樹脂や基材１１の黄変抑制などを考慮して適宜選択することが好ましい。また、照射の雰囲気は、例えば、空気、窒素、アルゴンなどの不活性ガスの雰囲気が挙げられる。照射の雰囲気は、酸素による反応阻害を抑制する観点から、例えば、酸素濃度が１００００ｐｐｍ以下の低酸素濃度雰囲気が好ましい。
【００５７】
この発明の第２の実施の形態による反射防止フィルムは、反射防止層１３が、第１の実施の形態による樹脂組成物を用いて形成されたものであるので、優れた耐擦傷性および防汚性を有し、外観欠点を減少することができる。
【００５８】
この発明の第２の実施の形態による反射防止フィルムは、片面に粘着層を設けるなどしてディスプレイの最表面に配置したりして使用することができる。また、基材がトリアセチルセルロースの場合は、偏光子の偏光層を保護する保護フィルムとしてトリアセチルセルロースが用いられるため、この発明の第２の実施の形態による反射防止フィルムをそのまま保護フィルムとして用いることができる。
【００５９】
３．第３の実施の形態
この発明の第３の実施の形態による表示装置について説明する。
［液晶表示装置の構成］
図２は、この発明の第３の実施形態による液晶表示装置の構成の一例を示す。この液晶表示装置は、図２に示すように、光を出射するバックライト３と、バックライト３から出射された光を時間的空間的に変調して画像を表示する液晶パネル２とを備える。液晶パネル２の両面にはそれぞれ、偏光子２ａ、２ｂが設けられている。液晶パネル２の表示面側に設けられた偏光子２ｂには、この発明の第２の実施の形態による反射防止フィルム１が設けられている。
【００６０】
バックライト３としては、例えば直下型バックライト、エッジ型バックライト、平面光源型バックライトを用いることができる。バックライト３は、例えば、光源、反射板、光学フィルムなどを備える。光源としては、例えば、冷陰極蛍光管（Cold Cathode Fluorescent Lamp：ＣＣＦＬ）、熱陰極蛍光管（Hot Cathode Fluorescent Lamp：ＨＣＦＬ）、有機エレクトロルミネッセンス（Organic ElectroLuminescence:OEL）、発光ダイオード（Light Emitting Diode：ＬＥＤ）などが用いられる。
【００６１】
液晶パネル２としては、例えば、ツイステッドネマチック（Twisted Nematic：ＴＮ）モード、スーパーツイステッドネマチック（Super Twisted Nematic：ＳＴＮ）モード、垂直配向（Vertically Aligned：ＶＡ）モード、水平配列（In-Plane Switching:IPS）モード、光学補償ベンド配向（Optically Compensated Birefringence：ＯＣＢ）モード、強誘電性（Ferroelectric Liquid Crystal：ＦＬＣ）モード、高分子分散型液晶（Polymer Dispersed Liquid Crystal：ＰＤＬＣ）モード、相転移型ゲスト・ホスト（Phase Change Guest Host：ＰＣＧＨ）モードなどの表示モードのものを用いることができる。
【００６２】
液晶パネル２の両面には、例えば偏光子２ａ，２ｂがその透過軸が互いに直交するようにして設けられる。偏光子２ａ，２ｂは、入射する光のうち直交する偏光成分の一方のみを通過させ、他方を吸収により遮へいするものである。偏光子２ａ，２ｂとしては、例えば、ポリビニルアルコール系フィルム、部分ホルマール化ポリビニルアルコール系フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルムなどの親水性高分子フィルムに、ヨウ素や二色性染料などの二色性物質を吸着させて一軸延伸させたものを用いることができる。
【００６３】
４．第４の実施の形態
この発明の第４の実施の形態による表示装置について説明する。
［液晶表示装置の構成］
図３は、この発明の第４の実施形態による液晶表示装置の構成の一例を示す。この液晶表示装置は、液晶パネル２と、液晶パネル２の前面側に配置された前面部材４とを備え、液晶パネル２および前面部材４の少なくとも一方が反射防止フィルム１を備える点において、第１の実施形態のものとは異なっている。液晶パネル２は、画像が表示される前面（第１の面）を有し、前面部材４は、液晶パネル２の前面に対向する裏面（第２の面）と、この裏面とは反対側となる前面（第３の面）とを有している。液晶パネル２の前面、前面部材４の裏面、および前面部材４の前面の少なくとも１つの面に、反射防止フィルム１が設けられている。図３では、液晶パネル２の前面、前面部材４の裏面、および前面部材４の前面のすべての面に、反射防止フィルム１が設けられた例が示されている。液晶パネル２と前面部材４との間には、例えば空気層が形成されている。上述の第３の実施形態と同様の部分には同一の符号を付して説明を省略する。なお、本発明において、前面とは表示面となる側の面、すなわち観察者側となる面を示し、裏面とは表示面と反対となる側の面を示す。
【００６４】
前面部材４は、液晶パネル２の前面（観察者側）に対する機械的、熱的、もしくは耐候的保護、または意匠性の付与を目的として用いるフロントパネルなどである。前面部材４は、例えば、シート状、フィルム状、または板状を有する。前面部材４の材料としては、例えば、ガラス、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリエステル（ＴＰＥＥ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリイミド（ＰＩ）、ポリアミド（ＰＡ）、アラミド、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリアクリレート、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリプロピレン（ＰＰ）、ジアセチルセルロース、ポリ塩化ビニル、アクリル樹脂（ＰＭＭＡ）、ポリカーボネート（ＰＣ）などを用いることができるが、特にこれらの材料に限定されるものではなく、透明性を有する材料であれば用いることができる。
【実施例】
【００６５】
この発明の具体的な実施例について詳細に説明する。ただし、この発明はこれらの実施例に限定されるものではない。なお、以下に説明する実施例および比較例では、以下の変性シリコンアクリレート化合物Ａ〜Ｈ（以下、化合物Ａ〜Ｈと称する）を用いて検討を行った。
【００６６】
化合物Ａ
変性シリコンアクリレート化合物（信越シリコーン社製  商品名２４２６）
重量平均分子量：１５０００
片末端：メタクリル基
【００６７】
化合物Ｂ
変性シリコンアクリレート化合物（信越シリコーン社製  商品名１６４Ｅ）
重量平均分子量：１２０００
両末端：メタクリル基
【００６８】
化合物Ｃ
変性シリコンアクリレート化合物（信越シリコーン社製  商品名１６４Ｃ）
重量平均分子量：８０００
両末端：メタクリル基
【００６９】
化合物Ｄ
変性シリコンアクリレート化合物（信越シリコーン社製  商品名１６４Ｂ）
重量平均分子量：５５００
両末端：メタクリル基
【００７０】
化合物Ｅ
変性シリコンアクリレート化合物（信越シリコーン社製  商品名１６０３）
重量平均分子量：３０００
両末端：アクリル基
【００７１】
化合物Ｆ
変性シリコンアクリレート化合物（信越シリコーン社製  商品名１６４Ａ）
重量平均分子量：２０００
両末端：メタクリル基
【００７２】
化合物Ｇ
変性シリコンアクリレート化合物（信越シリコーン社製  商品名２４５７）
重量平均分子量：１３０００
両末端：アクリル基、側鎖：アクリル基
【００７３】
化合物Ｈ
変性シリコンアクリレート化合物（信越シリコーン社製  商品名２４５９）
重量平均分子量：２５０００
側鎖：アクリル基
【００７４】
なお、上記分子量は、以下の測定方法で求めた重量平均分子量である。
分析名：ＧＰＣ分析（ゲル浸透クロマトグラフィ）
分析装置：Shodex GPC SYSTEM21
検出器：ＲＩ検出器
カラム温度：４０℃
キャリア溶媒：ＴＨＦ
流量：１ｍｌ／ｍｉｎ
測定方法：ＴＨＦにて測定サンプルの固形分として０．５％希釈を行い、この溶液をカラム分離にてＲＩ検出器を用いて測定し、標準ポリスチレン試料により作成された検量線を基に分子量分布測定を行った。
【００７５】
＜実施例１＞
基材は厚さ８０μｍのＴＡＣフィルムを用いた。この基材上にハードコート層を形成した後、ハードコート層上に反射防止層を形成して実施例１の反射防止フィルムを得た。
【００７６】
［ハードコート層の形成］
ハードコート層の形成は以下のように行った。
ジペンタエリスリトールヘキサアクリート、及びイソシアヌル酸ＥＯ変性ジアクリレート及び、ジメチロールトリシクロデカンジアクリレート、五酸化アンチモン、開始剤（１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン）を、溶剤であるイソプロピルアルコールに、固形分４０重量％となるように溶解させ、ハードコート層用の塗液を調整した。なお、固形分とは、塗液中の溶剤以外の物質であり、ここでは、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等の光重合性プレポリマーと、五酸化アンチモンと、開始剤である。このハードコート層用塗布液をグラビア法により、透明基材であるトリアセチルセルロースフィルム（膜厚８０μｍ）表面に、乾燥膜厚２μｍになるよう塗布し、８０℃オーブンにて１分３０秒間乾燥させた。その後、１６０Ｗの高圧水銀灯を１８ｃｍの距離から３秒間照射することにより硬化させ、ハードコート層を形成した。
【００７７】
［反射防止層の形成］
反射防止層の形成は以下のように行った。
ポリエステルアクリレートオリゴマ８ｗｔ％、ペンタエリスリトールテトラアクリレート３５ｗｔ％、およびポリエチレングリコールジアクリレート５７ｗｔ％を混合したマトリックスを準備した。このマトリックス３０．５ｗｔ％に平均粒径６０ｎｍの中空シリカゾルを６０ｗｔ％、開始剤（１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン）を８ｗｔ％、変性シリコンアクリレート化合物として変性シリコンアクリレート化合物Ｂを１．２ｗｔ％、変性シリコンアクリレート化合物Ｇを０．３ｗｔ％添加した。これにより、低屈折率コーティング剤を作製した。その後、溶剤としてｎ−ブタノールを使用し固形分３．０ｗｔ％に調整したコーティング溶液を得た。
【００７８】
このコーティング溶液を、表面処理を行ったハードコート層上に、小径グラビア法を用いて、乾燥膜厚１００ｎｍになるように塗布し、８０℃に設定したオーブン内で１分３０秒間乾燥させた。その後、酸素濃度１０００ｐｐｍとされた窒素雰囲気下で１６０Ｗの高圧水銀灯を１８ｃｍの距離から３秒間照射することにより、反射防止層を形成した。
【００７９】
＜実施例２＞
変性シリコンアクリレート化合物として、化合物Ｂを１．２ｗｔ％、化合物Ｈを０．３ｗｔ％添加した点以外は、実施例１と同様にして、反射防止フィルムを得た。
【００８０】
＜実施例３＞
変性シリコンアクリレート化合物として、化合物Ａを１．２ｗｔ％、化合物Ｇを０．３ｗｔ％、化合物Ｈを０．３ｗｔ％添加した点以外は、実施例１と同様にして、反射防止フィルムを得た。
【００８１】
＜実施例４＞
変性シリコンアクリレート化合物として、化合物Ｃを１．２ｗｔ％、化合物Ｇを０．３ｗｔ％添加した点以外は、実施例１と同様にして、反射防止フィルムを得た。
【００８２】
＜実施例５＞
変性シリコンアクリレート化合物として、化合物Ｂを１．２ｗｔ％、化合物Ｇを０．１ｗｔ％添加した点以外は、実施例１と同様にして、反射防止フィルムを得た。
【００８３】
＜実施例６＞
変性シリコンアクリレート化合物として、化合物Ｂを３．０ｗｔ％、化合物Ｇを０．３ｗｔ％、化合物Ｈを０．３ｗｔ％添加した点以外は、実施例１と同様にして、反射防止フィルムを得た。
【００８４】
＜実施例７＞
反射防止層の形成工程において、窒素雰囲気下の酸素濃度を１００００ｐｐｍにした点以外は、実施例１と同様にして、反射防止フィルムを得た。
【００８５】
＜比較例１＞
変性シリコンアクリレート化合物を添加しなかった。反射防止層の形成工程において、窒素雰囲気下の酸素濃度を５００００ｐｐｍにした。以上の点以外は、実施例１と同様にして、反射防止フィルムを得た。
【００８６】
＜比較例２＞
変性シリコンアクリレート化合物として、化合物Ａを１．５ｗｔ％添加した点以外は、実施例１と同様にして、反射防止フィルムを得た。
【００８７】
＜比較例３＞
変性シリコンアクリレート化合物として、化合物Ａを１．２ｗｔ％添加した点以外は、実施例１と同様にして、反射防止フィルムを得た。
【００８８】
＜比較例４＞
変性シリコンアクリレート化合物として、化合物Ａを１．０ｗｔ％添加した点以外は、実施例１と同様にして、反射防止フィルムを得た。
【００８９】
＜比較例５＞
変性シリコンアクリレート化合物として、化合物Ｂを１．５ｗｔ％添加した点以外は、実施例１と同様にして、反射防止フィルムを得た。
【００９０】
＜比較例６＞
変性シリコンアクリレート化合物として、化合物Ｂを１．２ｗｔ％添加した点以外は、実施例１と同様にして、反射防止フィルムを得た。
【００９１】
＜比較例７＞
変性シリコンアクリレート化合物として、化合物Ｂを１．０ｗｔ％添加した点以外は、実施例１と同様にして、反射防止フィルムを得た。
【００９２】
＜比較例８＞
変性シリコンアクリレート化合物として、化合物Ｂを１．２ｗｔ％、化合物Ｅを０．３ｗｔ％添加した点以外は、実施例１と同様にして、反射防止フィルムを得た。
【００９３】
＜比較例９＞
変性シリコンアクリレート化合物として、化合物Ｂを１．２ｗｔ％、化合物Ｄを０．３ｗｔ％添加した点以外は、実施例１と同様にして、反射防止フィルムを得た。
【００９４】
＜比較例１０＞
変性シリコンアクリレート化合物として、化合物Ｅを１．２ｗｔ％添加した点以外は、実施例１と同様にして、反射防止フィルムを得た。
【００９５】
＜比較例１１＞
変性シリコンアクリレート化合物として、化合物Ｈを１．５ｗｔ％添加した点以外は、実施例１と同様にして、反射防止フィルムを得た。
【００９６】
＜比較例１２＞
変性シリコンアクリレート化合物として、化合物Ｈを１．２ｗｔ％添加した点以外は、実施例１と同様にして、反射防止フィルムを得た。
【００９７】
＜比較例１３＞
変性シリコンアクリレート化合物として、化合物Ｈを１．０ｗｔ％添加した点以外は、実施例１と同様にして、反射防止フィルムを得た。
【００９８】
＜比較例１４＞
変性シリコンアクリレート化合物として、化合物Ｄを０．３ｗｔ％、化合物Ｇを１．２ｗｔ％、化合物Ｈを１．０ｗｔ％添加した点以外は、実施例１と同様にして、反射防止フィルムを得た。
【００９９】
＜比較例１５＞
変性シリコンアクリレート化合物として、化合物Ｂを１．２ｗｔ％、化合物Ｇを０．３ｗｔ％添加した。反射防止層の形成工程において、窒素雰囲気下の酸素濃度を５００００ｐｐｍにした。以上の点以外は、実施例１と同様にして、反射防止フィルムを得た。
【０１００】
［特性評価］
作製した実施例１〜実施例７および比較例１〜比較例１５を試料とし、各々について以下の特性評価を行った。
【０１０１】
［ＳＷ；スチールウール耐擦傷性試験］
ラビングテスターを用いて、以下の条件でこすりテストをおこなった。
評価環境条件２３℃、５５％ＲＨ
こすり材：試料と接触するテスターのこすり先端部にスチールウールを巻いて、動かないようにバンド固定した。
移動距離（片道）：５ｃｍ、こすり速度：１０ｃｍ／秒、荷重：４００ｇ／ｃｍ2、先端部接触面積：１ｃｍ×１ｃｍ、こすり回数：１０往復
こすり終えた試料の裏側油性クロインキを塗り、反射光で目視観察して、こすり部分の傷を以下の基準で評価した。
◎：傷なし。
○：弱い傷が数本確認できる
×：強い傷が確認できる。
【０１０２】
［防汚性］
マジックインキ（ZEBRA(株)マッキー極細：油性）を用い、試料の上に直径１ｃｍの円を描いて塗りつぶし、インクがはじくか否かを目視観察した。さらに、３０秒後にベンコットＭ−３（旭化成(株)）で擦り、インクがふき取れるかを目視観察した。
防汚性は、以下の基準で評価した。
◎：インクがはじくそして拭き取れる。
○：インクがはじかないが拭き取れる。
×：インクが拭き取れない。
【０１０３】
［耐薬性］
１％水酸化ナトリウム水溶液に３０分間浸漬後の試料の状態を目視にて観察し、以下の基準で評価した。
◎：跡が残らない。
○：若干跡が残る。
×：膜が剥がれている。
【０１０４】
［ハジキ］
１０ｃｍ×１０ｃｍの試料の裏面にブラックテープ（ニチバン(株)ＶＴ−５０）を貼り、目視観察にてハジキの数を確認した。
【０１０５】
測定結果を表１に示す。
【０１０６】
【表１】
2010254950.tif 000015
【０１０７】
実施例１〜実施例７では、末端のみに官能基（メタクリル基またはアクリル基）を有する式（ａ）で表される変性シリコン化合物と、側鎖に官能基（メタクリル基またはアクリル基）を有する式（ｂ）で表される変性シリコン化合物との両方を用いている。このため、すべての評価において良好な特性が得られた。
【０１０８】
比較例１〜比較例９より、末端のみに官能基を有する式（ａ）で表される変性シリコン化合物では、単独で用いても、組み合わせて用いても良好な特性が得られないことがわかった。また、末端のみに官能基を有する式（ａ）表される変性シリコン化合物では、分子量を変えても、添加量を変えても良好な特性が得られないことがわかった。
【０１０９】
比較例１０より、末端のみに官能基を有する式（ａ）表される変性シリコン化合物のみでも、分子量が低ければ、ハジキは生じないが、耐擦傷性、防汚性が良好ではないことがわかった。
【０１１０】
比較例１１〜比較例１３より、側鎖に官能基を有する式（ｂ）で表される変性シリコン化合物単独では、耐擦傷性が良好ではないことがわかった。
【０１１１】
比較例１４より、重量平均分子量が８０００より小さいと式（ａ）で表される変性シリコン化合物では、側鎖に官能基を有する式（ｂ）で表される変性シリコン化合物と組み合わせて用いても、耐擦傷性が良好ではないことがわかった。
【０１１２】
比較例１５より、反射防止層の形成工程において、酸素濃度が高いと、耐擦傷性、耐アルカリ性が良好ではないことがわかった。
【０１１３】
＜実施例８＞
まず、実施例１と同様に、厚さ８０μｍのＴＡＣフィルムを準備した。次に、このＴＡＣフィルム上にハードコート層を、実施例１と同様にして形成した。
【０１１４】
反射防止層を以下のようにして形成した。
まず、下記配合の低屈折率コーティング剤を調製した。
フッ素基を有するアクリレートオリゴマー                      ６０．５ｗｔ％
（ダイキン工業株式会社製  商品名ＡＲ１１０）
平均粒径６０ｎｍの中空シリカゾル                            ３５ｗｔ％
１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン（開始剤）  ３ｗｔ％
変性シリコンアクリレート化合物Ｂ                            １．２ｗｔ％
（信越シリコン社製  商品名１６４Ｅ）
変性シリコンアクリレート化合物Ｇ                            ０．３ｗｔ％
（信越シリコン社製  商品名２４５７）
【０１１５】
次に、低屈折率コーティング剤を、溶剤であるｎ−ブタノールに固形分１．２５ｗｔ％に溶解し、コーティング溶液を得た。次に、小径グラビア法を用いて、コーティング溶液をハードコート層上に乾燥膜厚１２０ｎｍになるよう塗布した。次に、温度８０℃のオーブンにて１分３０秒間コーティング溶液を乾燥させた後、酸素濃度１０００ｐｐｍの窒素雰囲気下にて１６０Ｗの高圧水銀灯を１８ｃｍの距離から３秒間照射することにより、反射防止層を形成した。以上により、反射防止フィルムが得られた。
【０１１６】
＜実施例９＞
下記配合の低屈折率コーティング剤を用いた点以外は、実施例８と同様にして、反射防止フィルムを得た。
フッ素基を有するアクリレートオリゴマー                      ５９．５ｗｔ％
（ダイキン工業株式会社製  商品名ＡＲ１１０）
アクリル変性シルセスキオキサン                                １ｗｔ％
（東亜合成株式会社製  商品名ＡＣＳＱ）
平均粒径６０ｎｍの中空シリカゾル                            ３５ｗｔ％
１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン（開始剤）  ３ｗｔ％
変性シリコンアクリレート化合物Ｂ                            １．２ｗｔ％
（信越シリコン社製  商品名１６４Ｅ）
変性シリコンアクリレート化合物Ｇ                            ０．３ｗｔ％
（信越シリコン社製  商品名２４５７）
【０１１７】
＜実施例１０＞
フッ素基を有するアクリレートオリゴマーを５７．５ｗｔ％、アクリル変性シルセスキオキサンを３ｗｔ％とした点以外は、実施例９と同様にして、反射防止フィルムを得た。
【０１１８】
＜実施例１１＞
フッ素基を有するアクリレートオリゴマーを５４．５ｗｔ％、アクリル変性シルセスキオキサンを６ｗｔ％とした点以外は、実施例９と同様にして、反射防止フィルムを得た。
【０１１９】
＜実施例１２＞
フッ素基を有するアクリレートオリゴマーを４８．５ｗｔ％、アクリル変性シルセスキオキサンを１２ｗｔ％とした点以外は、実施例９と同様にして、反射防止フィルムを得た。
【０１２０】
＜実施例１３＞
フッ素基を有するアクリレートオリゴマーを４２．５ｗｔ％、アクリル変性シルセスキオキサンを１８ｗｔ％とした点以外は、実施例９と同様にして、反射防止フィルムを得た。
【０１２１】
＜実施例１４＞
フッ素基を有するアクリレートオリゴマーを３６．５ｗｔ％、アクリル変性シルセスキオキサンを２４ｗｔ％とした点以外は、実施例９と同様にして、反射防止フィルムを得た。
【０１２２】
＜実施例１５＞
フッ素基を有するアクリレートオリゴマーを３０．５ｗｔ％、アクリル変性シルセスキオキサンを３０ｗｔ％とした点以外は、実施例９と同様にして、反射防止フィルムを得た。
【０１２３】
＜実施例１６＞
フッ素基を有するアクリレートオリゴマーを１４．９ｗｔ％、アクリル変性シルセスキオキサンを４５．６ｗｔ％とした点以外は、実施例９と同様にして、反射防止フィルムを得た。
【０１２４】
＜実施例１７＞
フッ素基を有するアクリレートオリゴマーを０ｗｔ％、アクリル変性シルセスキオキサンを６０．５ｗｔ％とした点以外は、実施例９と同様にして、反射防止フィルムを得た。
【０１２５】
＜実施例１８＞
アクリル変性シルセスキオキサン６ｗｔ％に代えて、ペンタエリスリトールトリアクリレート６ｗｔ％を用いた点以外は、実施例１１と同様にして、反射防止フィルムを得た。
【０１２６】
＜実施例１９＞
アクリル変性シルセスキオキサン６ｗｔ％に代えて、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート６ｗｔ％を用いた点以外は、実施例１１と同様にして、反射防止フィルムを得た。
【０１２７】
＜実施例２０＞
アクリル変性シルセスキオキサン６ｗｔ％に代えて、ポリウレタンアクリレートオリゴマー６ｗｔ％を用いた点以外は、実施例１１と同様にして、反射防止フィルムを得た。
【０１２８】
＜実施例２１＞
アクリル変性シルセスキオキサン１２ｗｔ％に代えて、ペンタエリスリトールトリアクリレート１２ｗｔ％を用いた点以外は、実施例１２と同様にして、反射防止フィルムを得た。
【０１２９】
＜実施例２２＞
アクリル変性シルセスキオキサン１２ｗｔ％に代えて、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート１２ｗｔ％を用いた点以外は、実施例１２と同様にして、反射防止フィルムを得た。
【０１３０】
＜実施例２３＞
アクリル変性シルセスキオキサン１２ｗｔ％に代えて、ポリウレタンアクリレートオリゴマー１２ｗｔ％を用いた点以外は、実施例１２と同様にして、反射防止フィルムを得た。
【０１３１】
＜実施例２４＞
アクリル変性シルセスキオキサン２４ｗｔ％に代えて、ペンタエリスリトールトリアクリレート２４ｗｔ％を用いた点以外は、実施例１４と同様にして、反射防止フィルムを得た。
【０１３２】
＜実施例２５＞
アクリル変性シルセスキオキサン２４ｗｔ％に代えて、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２４ｗｔ％を用いた点以外は、実施例１４と同様にして、反射防止フィルムを得た。
【０１３３】
＜実施例２６＞
アクリル変性シルセスキオキサン２４ｗｔ％に代えて、ポリウレタンアクリレートオリゴマー２４ｗｔ％を用いた点以外は、実施例１４と同様にして、反射防止フィルムを得た。
【０１３４】
＜実施例２７＞
フッ素基を有するアクリレートオリゴマーを１０．５ｗｔ％、ペンタエリスリトールトリアクリレートを５０ｗｔ％とした点以外は、実施例１８と同様にして、反射防止フィルムを得た。
【０１３５】
＜実施例２８＞
フッ素基を有するアクリレートオリゴマーを１０．５ｗｔ％、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを５０ｗｔ％とした点以外は、実施例１９と同様にして、反射防止フィルムを得た。
【０１３６】
＜実施例２９＞
フッ素基を有するアクリレートオリゴマーを１０．５ｗｔ％、ポリウレタンアクリレートオリゴマーを５０ｗｔ％とした点以外は、実施例２０と同様にして、反射防止フィルムを得た。
【０１３７】
＜実施例３０＞
フッ素基を有するアクリレートオリゴマー６０．５ｗｔ％に代えて、３成分からなる下記配合のアクリレート６０．５ｗｔ％を用いた点以外は、実施例８と同様にして、反射防止フィルムを得た。
ポリエステルアクリレートオリゴマー        ８ｗｔ％
ペンタエリスリトールテトラアクリレート    ３５ｗｔ％
ポリエチレングリコールジアクリレート      ５７ｗｔ％
【０１３８】
（実施例３１）
フッ素基を有するアクリレートオリゴマーを１４．９ｗｔ％、フェニル変性シルセスキオキサン（Ｐｈ-ＳＱ）を４５．６％とした点以外は、実施例１６と同様にして、反射防止フィルムを得た。
【０１３９】
（実施例３２）
フッ素基を有するアクリレートオリゴマーを１４．９ｗｔ％、メチル変性シルセスキオキサン（Ｍe-ＳＱ）を４５．６％とした点以外は、実施例１６と同様にして、反射防止フィルムを得た。
【０１４０】
［特性評価］
作製した実施例８〜３０を試料とし、各々について以下の特性評価を行った。
【０１４１】
［ＳＷ；スチールウール耐擦傷性試験］
ラビングテスターを用いて、以下の条件でこすりテストをおこなった。
評価環境条件２３℃、５５％ＲＨ
こすり材：試料と接触するテスターのこすり先端部にスチールウールを巻いて、動かないようにバンド固定した。
移動距離（片道）：５ｃｍ、こすり速度：１０ｃｍ／秒、荷重：４００ｇ／ｃｍ2、８００ｇ／ｃｍ2、１ｋｇ／ｃｍ2、先端部接触面積：１ｃｍ×１ｃｍ、こすり回数：１０往復
こすり終えた試料の裏側に油性クロインキを塗り、反射光で目視観察して、こすり部分の傷を以下の基準で評価した。
◎：傷なし。
○：傷５本以下が確認できる。
×：傷６本以上が確認できる。
【０１４２】
［防汚性］
マジックインキ（ZEBRA(株)マッキー極細：油性）を用い、試料の上に直径１ｃｍの円を描いて塗りつぶし、インクがはじくか否かを目視観察した。さらに、３０秒後にベンコットＭ−３（旭化成(株)）で擦り、インクがふき取れるかを目視観察した。
防汚性は、以下の基準で評価した。
◎：インクがはじくそして拭き取れる。
○：インクがはじかないが拭き取れる。
×：インクが拭き取れない。
【０１４３】
［耐薬性］
１％水酸化ナトリウム水溶液に３０分間浸漬後の試料の状態を目視にて観察し、以下の基準で評価した。
◎：跡が残らない。
○：若干跡が残る。
×：膜が剥がれている。
【０１４４】
［ハジキ］
１０ｃｍ×１０ｃｍの試料の裏面にブラックテープ（ニチバン(株)ＶＴ−５０）を貼り、目視観察にてハジキの数を確認し、以下の基準で評価した。
○：ハジキ無し
×：ハジキ有り
【０１４５】
［反射率］
まず、反射率Ｒを以下のようにして測定した。
塗布裏面にブラックテープを貼り、分光光度計（日立ハイテクノロジーズ（株）製、商品名：Ｕ−４１００）にて波長３７０ｎｍ〜７９０ｎｍの光の入射角１２°での塗布面の最低反射率を測定した。ここで、塗布裏面とは、透明基材のハードコート層と反射防止層とが積層された側とは反対側の面のことをいう。また、塗布面とは、反射防止フィルムの反射防止層が形成された側の面のことをいう。
次に、測定した反射率Ｒのうち最低反射率Ｒminを以下の基準で評価した。
◎：Ｒmin≦１％
○：１％＜Ｒmin≦２．０％
×：２．０％＞Ｒmin
【０１４６】
表２は、実施例８〜３０の反射防止フィルムの構成を示す。
【表２】
2010254950.tif 000016
【０１４７】
表３は、実施例８〜３０の反射防止フィルムの評価結果を示す。
【表３】
2010254950.tif 000017
【０１４８】
表２、表３から以下のことがわかった。
実施例８〜１７から、アクリル変性シルセスキオキサンを添加することで、耐擦傷性をより向上できる。また、アクリル変性シルセスキオキサンの添加量を多くすると耐擦傷性が向上するが、添加量が過剰になると反射防止層の機能が低下する傾向がある。これらの点を考慮すると、アクリル変性シルセスキオキサンの添加量は、好ましくは６ｗｔ％以上４６ｗｔ％以下、より好ましくは１２ｗｔ％以上４６ｗｔ％以下である。
【０１４９】
実施例１８〜２９から、アクリル変性シルセスキオキサンの代替材料の添加量を増加させるに従って、耐擦傷性が向上するが、反射特性は低下する傾向がある。これは以下の理由によると考えられる。すなわち、アクリル変性シルセスキオキサンの代替材料を用いて、アクリル変性シルセスキオキサンと同程度の耐擦傷性を得るためには、アクリル変性シルセスキオキサンよりも多くの代替材料を添加しなければならい。このように代替材料を多量に添加すると、フッ素基を有するアクリレートオリゴマーの添加量が少なくなり、反射特性の低下を招くことになる。
実施例３０から、フッ素基を有するアクリレートオリゴマーの代わりに、３成分のアクリレートを用いると、耐擦傷性は得られるが、反射率が低下する傾向がある。
【０１５０】
実施例３１では、シルセスキオキサンとしてフェニル変性シルセスキオキサンを用いているため、耐擦傷性が低下している。また、実施例３２では、ポリシルセスキオキサンとしてメチル変性シルセスキオキサンを用いているため、耐擦傷性が低下している。
なお、実施例８〜３２において、化合物Ｂおよび化合物Ｇを用いているのに、耐擦傷性が低下しているサンプルがあるのは、反射率を低減するために、アクリレートとしてフッ素含有アクリレートを併用しているためである。
【０１５１】
（実施例３３）
まず、実施例１と同様に、厚さ８０μｍのＴＡＣフィルムを準備した。次に、このＴＡＣフィルム上にハードコート層を、実施例１と同様にして形成した。
【０１５２】
反射防止層を以下のようにして形成した。
まず、下記配合の低屈折率コーティング剤を調製した。
フッ素基を有するアクリレートオリゴマー                      １８．５ｗｔ％
（ダイキン工業株式会社製  商品名ＡＲ１１０）
アクリル変性シルセスキオキサン                              １７ｗｔ％
（東亜合成株式会社製  商品名ＡＣＳＱ）
平均粒径６０ｎｍの中空シリカゾル                            ５０ｗｔ％
（日揮触媒化成株式会社製  商品名スルーリア４３２０）
ペンタエリスリトールトリアクリレート                        １０ｗｔ％
α−ヒドロキシケトン系（開始剤）                              ２ｗｔ％
（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製  商品名Ｉｒｇａｃｕｒｅ１２７）
変性シリコンアクリレート化合物Ｂ                              ２ｗｔ％
（信越シリコーン社製  商品名１６４Ｅ）
変性シリコンアクリレート化合物Ｇ                              ０．５ｗｔ％
（信越シリコーン社製  商品名２４５７）
【０１５３】
次に、低屈折率コーティング剤を、溶剤であるｎ−ブタノールに溶解し、固形分１．２５ｗｔ％のコーティング溶液を得た。次に、小径グラビア法を用いて、コーティング溶液をハードコート層上に乾燥膜厚１２０ｎｍになるよう塗布した。次に、温度８０℃のオーブンにて１分３０秒間コーティング溶液を乾燥させた後、酸素濃度１０００ｐｐｍの窒素雰囲気下にて１６０Ｗの高圧水銀灯を１８ｃｍの距離から３秒間照射することにより、反射防止層を形成した。以上により、反射防止フィルムが得られた。
【０１５４】
（実施例３４）
ペンタエリスリトールトリアクリレート１０ｗｔ％に代えて、トリメチロールプロパントリアクリレート１０ｗｔ％を用いた点以外は、実施例３３と同様にして、反射防止フィルムを得た。
【０１５５】
（実施例３５）
ペンタエリスリトールトリアクリレート１０ｗｔ％に代えて、エトキシ化（３）トリメチロールプロパントリアクリレート１０ｗｔ％を用いた点以外は、実施例３３と同様にして、反射防止フィルムを得た。
【０１５６】
（実施例３６）
ペンタエリスリトールトリアクリレート１０ｗｔ％に代えて、エトキシ化（６）トリメチロールプロパントリアクリレート１０ｗｔ％を用いた点以外は、実施例３３と同様にして、反射防止フィルムを得た。
【０１５７】
（実施例３７）
ペンタエリスリトールトリアクリレート１０ｗｔ％に代えて、エトキシ化（９）トリメチロールプロパントリアクリレート１０ｗｔ％を用いた点以外は、実施例３３と同様にして、反射防止フィルムを得た。
【０１５８】
（実施例３８）
ペンタエリスリトールトリアクリレート１０ｗｔ％に代えて、エトキシ化（１５）トリメチロールプロパントリアクリレート１０ｗｔ％を用いた点以外は、実施例３３と同様にして、反射防止フィルムを得た。
【０１５９】
（実施例３９）
ペンタエリスリトールトリアクリレート１０ｗｔ％に代えて、エトキシ化（２０）トリメチロールプロパントリアクリレート１０ｗｔ％を用いた点以外は、実施例３３と同様にして、反射防止フィルムを得た。
【０１６０】
（実施例４０）
エトキシ化（２０）トリメチロールプロパントリアクリレートを１２．５ｗｔ％、アクリル変性シルセスキオキサン１４．５ｗｔ％とした点以外は、実施例３９と同様にして、反射防止フィルムを得た。
【０１６１】
（実施例４１）
エトキシ化（２０）トリメチロールプロパントリアクリレートを１５ｗｔ％、アクリル変性シルセスキオキサン１２ｗｔ％とした点以外は、実施例３９と同様にして、反射防止フィルムを得た。
【０１６２】
（実施例４２）
エトキシ化（２０）トリメチロールプロパントリアクリレートを１８ｗｔ％、アクリル変性シルセスキオキサン９ｗｔ％とした点以外は、実施例３９と同様にして、反射防止フィルムを得た。
【０１６３】
（実施例４３）
エトキシ化（２０）トリメチロールプロパントリアクリレートを２０ｗｔ％、アクリル変性シルセスキオキサン７ｗｔ％とした点以外は、実施例３９と同様にして、反射防止フィルムを得た。
【０１６４】
（実施例４４）
エトキシ化（２０）トリメチロールプロパントリアクリレートを５ｗｔ％、アクリル変性シルセスキオキサン２２ｗｔ％とした点以外は、実施例３９と同様にして、反射防止フィルムを得た。
【０１６５】
（実施例４５）
エトキシ化（２０）トリメチロールプロパントリアクリレートを３ｗｔ％、アクリル変性シルセスキオキサン２４ｗｔ％とした点以外は、実施例３９と同様にして、反射防止フィルムを得た。
【０１６６】
（実施例４６）
ペンタエリスリトールトリアクリレート１０ｗｔ％に代えて、メトキシポリエチレングリコール（５５０）モノアクリレート１０ｗｔ％を用いた点以外は、実施例３３と同様にして、反射防止フィルムを得た。
【０１６７】
（実施例４７）
ペンタエリスリトールトリアクリレート１０ｗｔ％に代えて、ポリエチレングリコール（６００）ジアクリレート１０ｗｔ％を用いた点以外は、実施例３３と同様にして、反射防止フィルムを得た。
【０１６８】
（実施例４８）
ペンタエリスリトールトリアクリレート１０ｗｔ％に代えて、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート１０ｗｔ％を用いた点以外は、実施例３３と同様にして、反射防止フィルムを得た。
【０１６９】
（実施例４９）
ペンタエリスリトールトリアクリレート１０ｗｔ％に代えて、トリメチロールプロパントリメタクリレート１０ｗｔ％を用いた点以外は、実施例３３と同様にして、反射防止フィルムを得た。
【０１７０】
（実施例５０）
ペンタエリスリトールトリアクリレート１０ｗｔ％に代えて、ペンタエリスリトールテトラアクリレート１０ｗｔ％を用いた点以外は、実施例３３と同様にして、反射防止フィルムを得た。
【０１７１】
［特性評価］
作製した実施例３３〜５０を試料とし、各々について以下の特性評価を行った。
【０１７２】
［摩擦抵抗試験（動摩擦係数）］
摩擦抵抗試験機：HEIDON-14D（新東科学（株））を使用し荷重２００ｇ（フィルムに対する接触面積３ｃｍ×３ｃｍ）にてフィルム表面の滑り性試験を行い、動摩擦係数を測定した。評価環境条件２３℃５５％ＲＨ、移動距離（片道）：８ｃｍ、移動速度：１０ｃｍ／分、フィルム表面を滑らせる材質：ベンコットＭ−３（旭化成(株)）を用いて動摩擦係数測定をおこなった。
【０１７３】
［ＳＷ；スチールウール耐擦傷性試験］
ラビングテスター：AB-301（テスター産業（株））を用いて、以下の条件でこすりテストを
おこなった。
評価環境条件２３℃、５５％ＲＨ
こすり材：試料と接触するテスターのこすり先端部にスチールウールを巻いて、動かないようにバンド固定した。スチールウールの粗さとしては、♯００００を使用した。
移動距離（片道）：５ｃｍ、こすり速度：１０ｃｍ／秒、荷重：４００ｇ／ｃｍ2、６００ｇ／ｃｍ2、８００ｇ／ｃｍ2、１ｋｇ／ｃｍ2、先端部接触面積：１ｃｍ×１ｃｍ、こすり回数：１０往復
こすり終えた試料の裏側に油性クロインキを塗り、反射光で目視観察して、こすり部分に傷があるか否かを判別した。そして、こすり部分に傷がなかった荷重の最大値を求めた。
【０１７４】
また、こすり部分に傷がなかった荷重の最大値を用いて、以下の基準に基づき耐スチールウール（ＳＷ）擦傷性を評価した。
◎：こすり部分に傷がなかった荷重の最大値が１０００ｇ／ｃｍ2以上
○：こすり部分に傷がなかった荷重の最大値が８００ｇ／ｃｍ2
△：こすり部分に傷がなかった荷重の最大値が６００ｇ／ｃｍ2
×：こすり部分に傷がなかった荷重の最大値が４００ｇ／ｃｍ2以下
【０１７５】
［防汚性］
マジックインキ（ZEBRA(株)マッキー極細：油性）を用い、試料の上に直径１ｃｍの円を描いて塗りつぶし、インクがはじくか否かを目視観察した。さらに、３０秒後にベンコットＭ−３（旭化成(株)）で擦り、インクが拭き取れるか否かを目視観察した。そして、この拭き取り性試験を繰り返し行った。
防汚性は、以下の基準で評価した。
◎：インクがはじくそして拭き取れ、かつ、繰り返し拭き取り容易。
○：インクがはじくそして拭き取れるが、繰り返し拭き取り困難。
△：インクがはじかないが拭き取れる。
×：インクが拭き取れない。
【０１７６】
また、上述の拭き取り性試験における拭き取り可能回数に基づき、以下に示すように拭き取り性をレベル分けして評価した。
レベル１：拭き取り可能回数が３回以下
レベル２：拭き取り可能回数が４回以上１０回以下
レベル３：拭き取り可能回数が１１回以上１５回以下
レベル４：拭き取り可能回数が１６回以上２０以下
レベル５：拭き取り可能回数が２０回以上３０回以下
レベル６：拭き取り可能回数が３１回以上
【０１７７】
［反射率］
まず、反射率Ｒを以下のようにして測定した。
塗布裏面にブラックテープを貼り、分光光度計（日立ハイテクノロジーズ（株）製、商品名：Ｕ−４１００）にて波長３７０ｎｍ〜７９０ｎｍの光の入射角１２°での塗布面の最低反射率を測定した。ここで、塗布裏面とは、透明基材のハードコート層と反射防止層とが積層された側とは反対側の面のことをいう。また、塗布面とは、反射防止フィルムの反射防止層が形成された側の面のことをいう。
次に、測定した反射率Ｒのうち最低反射率Ｒminを以下の基準で評価した。
◎：Ｒmin≦１％
○：１％＜Ｒmin≦２．０％
×：２．０％＞Ｒmin
【０１７８】
［表面張力］
上述の実施例３３〜５０で用いたアクリレート（表４中、（１）〜（１２）のアクリレート）の表面張力は、白金プレート法を用いて測定した。測定装置としては、自動表面張力計（協和界面科学社製、商品名：ＣＢＶＰ−Ａ３）を用いた。また、測定温度は２５℃に設定した。
【０１７９】
表４は、実施例３３〜５０の反射防止フィルムの構成を示す。
【表４】
2010254950.tif 000018
【０１８０】
表５は、実施例３３〜５０の反射防止フィルムの評価結果を示す。
【表５】
2010254950.tif 000019
【０１８１】
但し、表４において、アクリレートの種類（１）〜（１２）は、以下のものを示す。
（１）ペンタエリスリトールトリアクリレート
（サートマー社製、商品名：ＳＲ４４４）
（２）トリメチロールプロパントリアクリレート
（サートマー社製、商品名：ＳＲ３１５Ｓ）
（３）エトキシ化（３）トリメチロールプロパントリアクリレート
（サートマー社製、商品名：ＳＲ４５４）
（４）エトキシ化（６）トリメチロールプロパントリアクリレート
（サートマー社製、商品名：ＳＲ４４４）
（５）エトキシ化（９）トリメチロールプロパントリアクリレート
（サートマー社製、商品名：ＳＲ５０２）
（６）エトキシ化（１５）トリメチロールプロパントリアクリレート
（サートマー社製、商品名：ＳＲ９０３５）
（７）エトキシ化（２０）トリメチロールプロパントリアクリレート
（サートマー社製、商品名：ＳＲ４１５）
（８）メトキシポリエチレングリコール（５５０）モノアクリレート
（サートマー社製、商品名：ＣＤ５５３）
（９）ポリエチレングリコール（６００）ジアクリレート
（サートマー社製、商品名：ＳＲ６１０）
（１０）エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート
（サートマー社製、商品名：ＳＲ４９４）
（１１）トリメチロールプロパントリメタクリレート
（サートマー社製、商品名：ＳＲ３５０）
（１２）ペンタエリスリトールテトラアクリレート
（サートマー社製、商品名：ＳＲ２９５）
【０１８２】
表４、表５から以下のことがわかった。
実施例３３〜３６から、表面張力が４０ｍＮ／ｍ未満であると、防汚性および耐擦傷性が低下する傾向にあることがわかる。
実施例３７〜４２、実施例４４から、アクリレートＢの表面張力が４０ｍＮ／ｍ以上であり、アクリレートＢの官能基数が３個であり、アクリレートＢの添加量が５ｗｔ％以上１８ｗｔ％以下であると、防汚性および耐擦傷性が向上する傾向にあることがわかる。
実施例４３から、アクリレートＢの添加量が１８ｗｔ％を超えた場合には、耐擦傷性が低下する傾向にあることがわかる。
実施例４５から、アクリレートＢの添加量が５ｗｔ％未満である場合には、防汚性および耐擦傷性が低下する傾向にあることがわかる。
実施例４６、４７から、３官能未満のアクリレートＢを用いた場合には、耐擦傷性が低下する傾向にあることがわかる。
実施例４８から、表面張力が４０ｍＮ／ｍ未満のアクリレートＢを用いた場合には、４官能のアクリレートを用いても、耐擦傷性が低下する傾向にあることがわかる。
実施例４９から、メタクリル基を有するアクリレートＢを用いた場合にも、表面張力が４０ｍＮ／ｍ未満であると、防汚性および耐擦傷性が低下する傾向にあることがわかる。
実施例５０から、４官能のアクリレートＢを用いたい場合にも、上述の実施例３７〜４２、実施例４４と同様に、防汚性および耐擦傷性が低下する傾向にあることがわかる。
なお、実施例３３〜５０において、化合物Ｂおよび化合物Ｇを用いているのに、耐擦傷性が低下しているサンプルがあるのは、反射率を低減するために、アクリレートとしてフッ素含有アクリレートを併用しているためである。
【０１８３】
以上により、防汚性および耐擦傷性を考慮すると、表面張力が４０ｍＮ／ｍ以上であり、３官能以上のアクリル基またはメタクリル基を有するアクリル化合物を用い、そのアクリル化合物の添加量を５ｗｔ％以上１８ｗｔ％以下とすることが好ましい。
【０１８４】
この発明は、上述したこの発明の実施の形態および実施例に限定されるものでは無く、この発明の要旨を逸脱しない範囲内で様々な変形や応用が可能である。
【０１８５】
例えば、上述の実施の形態および実施例において挙げた数値、形状、材料および構成などはあくまでも例に過ぎず、必要に応じてこれと異なる数値、形状、材料および構成などを用いてもよい。
【０１８６】
また、上述の実施の形態では、基材／ハードコート層／反射防止層の構成の反射防止フィルムについて説明したが、反射防止フィルムの構成は、これに限定されるものではない。例えば、ハードコート層を省略した構成としてもよい。また、反射防止層を、低屈折率層、高屈折率層を適宜積層した多層構成とし、低屈折率層を、第１の実施の形態による樹脂組成物を用いて形成したものとしてもよい。
【０１８７】
また、上述の実施の形態では、液晶ディスプレイの表示面に備えられる反射防止フィルムこの発明を適用する場合を例として説明したが、この発明はこれに限定されるものではなく、ＣＲＴ（Cathode Ray Tube）ディスプレイ、プラズマディスプレイ（Plasma Disply Panel：ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンス（Electro Luminescence：ＥＬ）ディスプレイ、表面伝導型電子放出素子ディスプレイ（Surface-conduction Electron-emitter Display：ＳＥＤ）などの各種表示装置の表示面に用いられる反射防止フィルムに適用可能である。
【符号の説明】
【０１８８】
１・・・反射防止フィルム
２ａ，２ｂ・・・偏光子
２・・・液晶パネル
３・・・バックライト
４・・・前面部材
１１・・・基材
１２・・・ハードコート層
１３・・・反射防止層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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