(57)【要約】      （修正有）【課題】耐久性能が大幅に改良され光学性能電気性能および耐環境性能も総合的にバランスよく高い水準に維持された抵抗膜式タッチパネル構造体およびそのための上部基板層と下部基板層を提供する。【解決手段】透明フィルム１（またはシート４）の片面の表面に、導電性高分子膜またはカーボンナノチューブ層である第１の導電性層２，５が形成され、さらにその第１の導電性層の表面に、ＩＴＯ膜（ＩｎｄｉｕｍＴｉｎ Ｏｘｉｄｅ膜）である第２の導電性層３，６が形成されていることを特徴とする透明導電性複合フィルムＡ（またはシートＢ）。およびこれらを上部基板層または下部基板層として使用した抵抗膜式タッチパネル構造体。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明フィルムの片面の表面に、導電性高分子膜またはカーボンナノチューブ層である第１の導電性層が形成され、さらにその第１の導電性層の表面に、ＩＴＯ膜（Ｉｎｄｉｕｍ
Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ膜）である第２の導電性層が形成されていることを特徴とする透明導電性複合フィルム。
【請求項２】
該透明フィルムは、厚さ５０μｍ〜２００μｍを有するポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムまたはポリカーボネート（ＰＣ）フィルムである請求項１記載の複合フィルム。
【請求項３】
第１の導電性層は、厚さ１ｎｍ〜１００ｎｍを有する請求項１記載の複合フィルム。
【請求項４】
第１の導電性層は、チオフェン系高分子膜である請求項１記載の複合フィルム。
【請求項５】
第１の導電性層は、単層カーボンナノチューブ層である請求項１記載の複合フィルム。
【請求項６】
光透過率が８５％以上でありかつ表面抵抗値が１００Ω／□〜３０００Ω／□である請求項１記載の複合フィルム。
【請求項７】
透明シートの片面の表面に、導電性高分子膜またはカーボンナノチューブ層である第１の導電性層が形成され、さらにその第１の導電性層の表面にＩＴＯ膜（Ｉｎｄｉｕｍ
Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ膜）である第２の導電性層が形成されていることを特徴とする透明導電性複合シート。
【請求項８】
該透明シートは、厚さが５００μｍ〜２ｍｍを有するガラスシート、ポリカーボネート（ＰＣ）シートまたはポリシクロオレフィンシートである請求項７記載の複合シート。
【請求項９】
第１の導電性層は、厚さ１ｎｍ〜１００ｎｍを有する請求項７記載の複合シート。
【請求項１０】
第１の導電性層は、チオフェン系高分子膜である請求項７記載の複合シート。
【請求項１１】
第１の導電性層は、単層カーボンナノチューブ層である請求項７記載の複合シート。
【請求項１２】
光透過率が８５％以上でありかつ表面抵抗値が１００Ω／□〜３０００Ω／□である請求項７記載の複合シート。
【請求項１３】
請求項１記載の複合フィルムを上部基板層として構成した抵抗膜式タッチパネル構造体。
【請求項１４】
請求項１記載の複合フィルムを上部基板層とし、かつ請求項７記載の複合シートを下部基板層として構成した抵抗膜式タッチパネル構造体。
【請求項１５】
請求項７記載の複合シートを下部基板層として構成した抵抗膜式タッチパネル構造体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、透明導電性複合フィルムおよびシートに関し、さらにこれらフィルムおよびシートを使用した抵抗膜式タッチパネル構造体に関する。
【背景技術】
【０００２】
最近、指入力またはペン入力によるモバイル情報端末として抵抗膜式タッチパネルの用途が拡大しつつある。抵抗膜式タッチパネルは、特殊なペンを使用しないで、指または通常のペンで容易に入力でき、しかも低コスト化が比較的簡単であるという利点を有している。一方抵抗膜式タッチパネルは、上部基板と下部基板との間にスペーサーによる空気層を有し、上部基板と下部基板の表面に形成された透明導電性膜を物理的に接触(タッチ)させることによって接触位置を感知する構造となっている。このタッチパネルの上部基板および下部基板の基板材料として、ガラス、高分子フィルム、プラスチックシートなどが使用され、それぞれの基板材料の組合に基づいて、種々の利点および欠点を有している。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
殊に、上部基板(タッチ面)の材料として高分子フィルム(例えばポリエチレンテレフタレートフィルムやポリカーボネートフィルム)は、割れない、軽量である、薄い、屈曲性にすぐれているなどの多くの利点のために広く利用されてきた。上部基板として高分子フィルムを使用した場合、その優れた屈曲性のために局所的なタッチ圧が容易に感知される。一方上部基板として、高分子フィルム基板を使用することは前述したように種々の利点を有しているが、実際のタッチパネル構造体の実装に当たってはさらに改良すべき問題点を有している。
タッチパネル用の透明導電性フィルムとして、耐久性能、光学性能、電気性能および耐環境性能が総合的にバランスよく、これら性能が全て満足する水準を有するものは従来なかった。例えば一般によく使用されるＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ
Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）膜は光学性能、電気性能および耐環境性能は優れているが、摺動筆記耐久性が不充分であった。一方導電性高分子膜は、耐久性（例えば摺動筆記耐久性）は優れているが、光学性能や耐環境性能は充分といえなかった。
【０００４】
そこで諸性能を改良する対策として、特許文献１ではＩＴＯ膜が形成された面と反対面に、ハードコート層とＳｉＯｘ膜との２層構造を形成させる構成とする手段が提案され、特許文献２ではＩＴＯ膜における酸化スズと酸化インジウムの組成を変えた２層構造とすることが提案され、また特許文献３ではＩＴＯ膜と透明フィルムとの間に、ＳｎＯやＺｎＯの下地層を介在させ、ＩＴＯ膜表面の表面粗さ（Ｒａ）を或る一定の範囲に制御することが提案されている。しかしこれらいずれの提案も、前記した諸性能を総合的に充分な特性を得たものとはいえなかった。
【特許文献１】：特開２００６−１３４８６７号公報
【特許文献２】：特開２００６−２４４７７１号公報
【特許文献３】：特開２００７−２８７４５０号公報
【課題を解決するための手段】
【０００５】
そこで本発明者は、透明フィルムの片面の表面に導電性高分子膜またはカーボンナノチューブ層を形成させ、さらにその面にＩＴＯ膜を積層させた構造のものは、総合的な性能がバランスよく、優れた透明導電性フィルムまたはシートとして利用できることが判明し本発明に到達した。
本発明によれば下記透明導電性複合フィルムおよびシート並びにこれらを使用した抵抗膜式タッチパネル構造体が提供される。
（１）透明フィルムの片面の表面に導電性高分子膜またはカーボンナノチューブ層である第１の導電性層が形成されさらにその第１の導電性層の表面に、ＩＴＯ膜（Ｉｎｄｉｕｍ
Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ膜）である第２の導電性層が形成されていることを特徴とする透明導電性複合フィルム。
（２）該透明フィルムは、厚さ５０μｍ〜２００μｍを有するポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムまたはポリカーボネート（ＰＣ）フィルムである前記（１）記載の複合フィルム。
（３）第１の導電性層は、厚さ１ｎｍ〜１００ｎｍを有する前記（１）記載の複合フィルム。
（４）第１の導電性層は、チオフェン系高分子膜である前記（１）記載の複合フィルム。
（５）第１の導電性層は、単層カーボンナノチューブ層である前記（１）記載の複合フィルム。
（６）光透過率が８５％以上でありかつ表面抵抗値が１００Ω／□〜３０００Ω／□である前記（１）記載の複合フィルム。
（７）透明シートの片面の表面に、導電性高分子膜またはカーボンナノチューブ層である第１の導電性層が形成され、さらにその第１の導電性層の表面にＩＴＯ膜（Ｉｎｄｉｕｍ
Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ膜）である第２の導電性層が形成されていることを特徴とする透明導電性複合シート。
（８）該透明シートは、厚さが５００μｍ〜２ｍｍを有するガラスシート、ポリカーボネート（ＰＣ）シートまたはポリシクロオレフィンシートである前記（７）記載の複合シート。
（９）第１の導電性層は、厚さ１ｎｍ〜１００ｎｍを有する前記（７）記載の複合シート。
（１０）第１の導電性層は、チオフェン系高分子膜である前記（７）記載の複合シート。
（１１）第１の導電性層は、単層カーボンナノチューブ層である（７）記載の複合シート。
（１２）光透過率が８５％以上でありかつ表面抵抗値が１００Ω／□〜３０００Ω／□である前記（７）記載の複合シート。
（１３）前記（１）記載の複合フィルムを上部基板層として構成した抵抗膜式タッチパネル構造体。
（１４）前記（１）記載の複合フィルムを上部基板層とし、かつ前記（７）記載の複合シートを下部基板層として構成した抵抗膜式タッチパネル構造体。
（１５）前記（７）記載の複合シートを下部基板層として構成した抵抗膜式タッチパネル構造体。
【発明の効果】
【０００６】
本発明の透明導電性複合フィルムおよび透明導電性複合シートはそれぞれタッチパネル用の上部基板層および下部基板層として使用することにより、耐久性能、光学性能、電気性能および耐環境性能が総合的にバランスよく、しかもこれら全て性能が満足する水準に到達したタッチパネル構造体を得ることができる。従って本発明によれば、前記した４つの性能のバランスがよく、実用性価値の高いタッチパネル構造体を提供でき、またそれに使用される透明導電性複合フィルムおよび透明導電性複合シートも提供できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００７】
以下、本発明の透明導電性複合フィルム、透明導電性複合シートおよびこれらフィルム（またはシート）を使用したタッチパネル構造体について順次、詳細に説明する。
（Ａ）透明導電性複合フィルム；
基本的構成を図１により説明する。図１は、透明導電性複合フィルムの表面からの直角断面構造を示す模式図がＡとして示されている。図１に示されているように、透明導電性複合フィルムＡは透明フィルム１の片面の表面に、導電性高分子膜またはカーボンナノチューブ層である第１の導電性層２が形成され、さらにその第１の導電性層の表面にＩＴＯ膜（Ｉｎｄｉｕｍ
Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ膜）である第２の導電性層３が形成されている構造を有している。
【０００８】
透明導電性複合フィルムＡにおいて透明フィルム１は、透明な高分子フィルムであり、厚さは５０μｍ〜２００μｍ、好ましくは８０μｍ〜１９０μｍ、特に好ましくは１００μｍ〜１８０μｍであるのが有利である。透明フィルムとしてはポリエステルフィルム、好ましくはポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムまたはポリカーボネート（ＰＣ）フィルムが優れている。特に好ましいのはポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムである。
前記透明フィルム１の片面の表面には、第１の導電性層２が形成されている。この第１の導電性層２は、導電性高分子膜或いはカーボンナノチューブ層である。第１の導電性層２の厚みは１ｎｍ〜１００ｎｍ、好ましくは５ｎｍ〜８０ｎｍが望ましい。
透明フィルムの表面に透明導電性高分子膜を形成するには導電性高分子の溶液またはドープを透明フィルムの表面に塗布または印刷すればよい。この導電性高分子としては透明性に優れかつ電気伝導性を有するものであればよい。
【０００９】
導電性高分子膜の具体例としては、主鎖がπ共役系で構成されている有機高分子であるのが有利であり、例えば、ポリピロール類、ポリチオフェン類、ポリアセチレン類、ポリフェニレン類、ポリフェニレンビニレン類、ポリアニリン類、ポリアセン類、ポリチオフェンビニレン類、およびこれらの共重合体が挙げられる。これらの中でポリピロール類、ポリチオフェン類、およびポリアニリン類が安定性および膜の形成の容易性の点から好ましい。とりわけ、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリ（Ｎ−メチルピロール）、ポリ（３−メチルチオフェン）、ポリ（３−メトキシチオフェン）、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）およびこれらの共重合体が好ましい。これらのうち、チオフェン系高分子が特に好ましい。これら導電性高分子の溶液を調製するために使用される溶媒としては水；Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ―ジメチルアセトアミド、アセトニトリルおよびベンゾニトリルの如き極性有機溶媒；フェノール、クレゾールおよびキシレノールの如き、フェノール類；メタノール、エタノール、プロパノールおよびブタノールの如きアルコール類；アセトンおよびメチルエチルケトンの如きケトン類；ヘキサン、ベンゼン、トルエン、およびキシレンの如き炭化水素類；ジオキサンおよびジエチルエーテルの如きエーテル類などが例示される。これらの溶媒は、１種でも或いは２種以上の混合溶媒として使用される。
【００１０】
前述した導電高分子の溶液を透明フィルム１上に塗布または印刷する方法としては、例えば浸漬、コンマコート、スプレーコート、ロールコート、グラビア印刷などが挙げられる。塗布後薄膜を硬化させることが望ましい。
第１の導電性層２としては、カーボンナノチューブ層であってもよい。カーボンナノチューブ層を形成するカーボンナノチューブとしては、単層カーボンナノチューブ、複層カーボンナノチューブまたは多層カーボンナノチューブのいずれでもよいが、単層カーボンナノチューブが好ましい。カーボンナノチューブの繊維長は１００ｎｍ〜１００μｍ、好ましくは１μｍ〜１０μｍが適当である。カーボンナノチューブ層はカーボンナノチューブネットを形成しかつ透明性を維持できるものであればよい。
カーボンナノチューブ層を透明フィルム１の表面に形成させるには、カーボンナノチューブ、分散剤および溶媒によりなる分散液を調整し、この分散液を透明フィルム表面に塗布し加熱して、分散剤および溶媒を除去する方法が好ましい。この際使用される分散剤としてはｎ−プロピルアミン、ｉｓｏ−プロピルアミン、ｎ−ブチルアミンおよびｓｅｃ−ブチルアミンの如き１級アミンが好ましく、また溶媒としてはケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノンなど）、エステル類（酢酸メチル、酢酸エチルなど）、炭化水素類（ペンタン、ヘキサン、トルエン、キシレンなど）、エーテル類（ジエチルエーテル、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、ジオキサンなど）、ハロゲン化炭化水素類（塩化メチレン、クロロベンゼンなど）およびアルコール類（メタノール、エタノール、プロパノールなど）を挙げることができる。前記分散液にはさらに必要により、ポリエステル樹脂、ポリオレフィン樹脂、アクリル樹脂などの熱可塑性樹脂を少割合添加することもできる。
【００１１】
前述した第１の導電性層２が形成された透明フィルムの第１の導電性層２の表面には、第２の導電性層３が形成される。この第２の導電性層３は、ＩＴＯ膜（Ｉｎｄｉｕｍ
Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ膜）である。このＩＴＯ膜は第１の導電性層２の表面上にスパッタリングまたはＣＶＤ方式によって形成することができる。このＩＴＯ膜は１０〜５０ｎｍの厚さを有することが好ましい。
本発明の透明導電性複合フィイルムＡは前述したように、基本的には透明フィルム１／第１の導電性層２／第２の導電性層３の３層構造である。この複合フィルムＡは、表面抵抗値が３００〜３０００Ω／□、好ましくは４００〜２５００Ω／□の範囲であるのが望ましく、また透明度は光透過度（波長５５０ｎｍ）が８５％以上、好ましくは８７％以上、特に好ましくは８８〜９６％の範囲であるのが有利である。この複合フィルムはタッチパネル構造体の上部基板層として有利に利用される。
（Ｂ）透明導電性複合シート；
基本的構成を図1により説明する。図１には、透明導電性複合シートの表面からの直角断面構造を示す模式図がＢとして示されている。図1に示されているように、透明導電性複合シートＢは、透明シートの片面の表面に導電性高分子膜またはカーボンナノチューブ層である第１の導電性層が形成され、さらにその第１の導電性層の表面にＩＴＯ膜（Ｉｎｄｉｕｍ
Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ膜）である第２の導電性層が形成されている構造を有している。
【００１２】
透明導電性複合シートＢにおいて、透明シート４は透明なシートであればよいが具体的にはガラスシート、ポリカーボネート（ＰＣ）シートまたはポリシクロオレフィンシートが好ましく、特にガラスシートまたはポリカーボネートシートが好ましい。透明シート４は、厚さが５００μｍ〜２ｍｍ、好ましくは８００μｍ〜１．８ｍｍが望ましい。
前記複合シートＢの透明シート４が、ポリカーボネート（ＰＣ）シートである場合、ポリカーボネートシートとしてはビスフェノールＡを２価フェノール成分として使用して得られたポリカーボネートのシートであることが、透明性、耐衝撃性、耐熱性および入手容易性などの点から好ましい。このポリカーボネート（ＰＣ）は前述した透明導電性複合フィルムＡの透明フィルム２の材料としても適している。
【００１３】
前記透明シート４の片面の表面には第１の導電性層５および第２の導電性層６がこの順序で形成されている。この透明シート４の表面に形成されている第１の導電性層５は透明導電性高分子膜或いはカーボンナノチューブ層である。第１の導電性層５の厚みは１ｎｍ〜１００ｎｍ、好ましくは５ｎｍ〜８０ｎｍが望ましい。
透明シート４の表面に導電性高分子膜を形成する方法および導電性高分子の種類は、前記透明導電性複合フィルムＡにおける第１の導電性層２の導電性高分子膜において説明した方法および高分子の種類が同様に採用することができるので、ここでは説明を省略する。
また第１の導電性層５が、カーボンナノチューブ層である場合、カーボンナノチューブ層の種類およびその形成方法は、前記透明導電性複合フィルムＡにおける第１の導電性層２において説明したカーボンナノチューブ層の種類および形成方法が同様に採用することができるので、ここでは説明を省略する。
前述した第１の導電性層５が形成された透明シート４の第１の導電性層５の表面には、第２の導電性層６が形成される。この第２の導電性層６は、ＩＴＯ膜（Ｉｎｄｉｕｍ
Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ膜）である。このＩＴＯ膜は第１の導電性層５の表面上にスパッタリングまたはＣＶＤ方式によって形成することができる。このＩＴＯ膜は１０〜５０ｎｍの厚さを有することが好ましい。
【００１４】
本発明の透明導電性複合シートＢは前述したように、基本的には透明シート４／第１の導電性層５／第２の導電性層６の３層構造である。この複合シートＢは、表面抵抗値が３００〜３０００Ω／□、好ましくは４００〜２５００Ω／□の範囲であるのが望ましく、また透明度は光透過度（波長５５０ｎｍ）が８０％以上、好ましくは８５％以上、特に好ましくは８６〜９６％の範囲であるのが有利である。この複合シートＢはタッチパネル構造体の下部基板層として有利に利用される。
（Ｃ）抵抗膜式タッチパネル構造体
前記した本発明の透明導電性複合フィルムＡおよび透明導電性複合シートＢは、それぞれ抵抗膜式タッチパネル構造体の上部基板層および下部基板層として使用することができる。
かくして本発明によれば下記（１）〜（３）の抵抗膜式タッチパネル構造体が提供される。
（１）本発明の透明導電性複合フィルムＡを上部基板層として使用し、下部基板層として従来のものを使用して構成した抵抗膜式タッチパネル構造体。ここで従来のものとしては、ＩＴＯ膜を表面に形成させたガラスシートまたはポリカーボネート（ＰＣ）シートが有利である。
（２）本発明の透明導電性複合フィルムＡを上部基板とし、かつ透明導電性複合シートＢを下部基板層として使用して構成した抵抗膜式タッチパネル構造体。この構造体は図１に示すような構成により、複合フィルムＡおよび複合シートＢとが導電性層３および導電性層６が互いに向い合うように配置されている。
（３）本発明の透明導電性複合シートＢを下部基板層として使用し、上部基板層として従来のものを使用して構成した抵抗膜式タッチパネル構造体。ここで従来のものとしては、ＩＴＯ膜を表面に形成させたポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムまたはポリカーボネート（ＰＣ）フィルムが有利である。
以下、実施例を掲げ本発明を具体的に説明する。
【比較例１】
【００１５】
厚さ１８８μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムの片面にスパッタリング方によりＩＴＯ膜（Ｉｎｄｉｕｍ
Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ膜）を形成させ上部基板層を作成した。一方厚さ１．１ｍｍのガラス基板の片面にＩＴＯ膜を形成させたものを下部基板層として使用した。前記上部基板層と前記下部基板層とをＩＴＯ膜が互いに向き合うように配置して抵抗膜式タッチパネル構造体を作成した。
このタッチパネル構造体の筆記摺動試験および打鍵試験を行った。この結果を下記表１に示した。
【実施例１】
【００１６】
厚さ１８８μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムの片面にポリチオフェン（Ｐｏｌｙｔｈｉｏｆｅｎ）系の導電性高分子を４０ｎｍの膜厚になるように塗布して形成させた。この後この高分子膜面上にＩＴＯ膜をスパッタリング法により形成させて、上部基板層を作成した。この上部基板層の光線透過率は８８％、表面抵抗値は５００Ω／□であった。一方厚さ１．１ｍｍのガラス基板の片面にＩＴＯ膜を形成させたものを下部基板として使用した。前記上部基板層と前記下部基板層とをＩＴＯ膜が互いに向き合うように配置して抵抗膜式タッチパネル構造体を作成した。
このタッチパネル構造体の筆記摺動試験および打鍵試験を行った。この結果を下記表１に示した。表１の結果から明らかなように、本発明の透明導電性複合フィルムを上部基板層として使用することにより、従来品（比較例１）と比べて筆記摺動試験および打鍵耐久性がいずれも著しく改善できた。また光学特性および電気特性は従来品と殆ど変わらなかった。
【実施例２】
【００１７】
厚さ１００μｍのポリカーボネート（ＰＣ）フィルムの片面にカーボンナノチューブよりなる導電性層を２０ｎｍの膜厚となるように塗布して形成させた。その後この導電性層の表面にＩＴＯ膜をスパッタリング法により形成させて上部基板層を作成した。この上部基板層の光線透過率は９０％、表面抵抗値７００Ω／□であった。一方厚さ１．１ｍｍのガラス基板の片面にＩＴＯ膜を形成させたものを下部基板として使用した。前記上部基板層と前記下部基板層とをＩＴＯ膜が互いに向き合うように配置して抵抗膜式タッチパネル構造体を作成した。
このタッチパネル構造体の筆記摺動試験および打鍵試験を行った。この結果を下記表１に示した。表１の結果から明らかなように、本発明の透明導電性複合フィルムを上部基板層として使用することにより、従来品（比較例１）と比べて筆記摺動試験および打鍵耐久性がいずれも大幅に改善できた。また光学特性および電気特性は従来品と殆ど変わらなかった。
【実施例３】
【００１８】
実施例１に示した上部基板層と同じものを上部基板層として使用した。一方厚さ１ｍｍのポリカーボネート（ＰＣ）シートの片面にポリチオフェン系の導電性高分子を４０ｎｍの膜厚になるように塗布して形成させ、次いでこの高分子膜面上にＩＴＯ膜をスパッタリング法により形成させて、下部基板層を作成した。この上部基板層の光線透過率は９０％、表面抵抗値は５００Ω／□であった。前記上部基板層と前記下部基板層とをＩＴＯ膜が互いに向き合うように配置して抵抗膜式タッチパネル構造体を作成した。
このタッチパネル構造体の筆記摺動試験および打鍵試験を行った。この結果を下記表１に示した。表１の結果から明らかなように、本発明の透明導電性複合フィルムを上部基板層として、また透明導電性複合シートを下部基板層として使用することにより、従来品（比較例１）と比べて筆記摺動試験および打鍵耐久性がいずれも著しく改善できた。また光学特性および電気特性は従来品と殆ど変わらなかった。
【表１】
2010033775.tif 000003
筆記摺動試験条件；筆記ペン０．８Ｒポリアセタール樹脂製，荷重２５０ｇ，文字筆記
打鍵試験条件；８Ｒシリコンゴム，荷重２５０ｇ，１０回／秒打鍵
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明の透明導電性複合フィルム（Ａ）および透明導電性複合シート（Ｂ）の表面からの直角断面構造を示す模式図である。
【符号の説明】
【００２０】
Ａ；透明導電性複合フィルム
Ｂ；透明導電性複合シート
１；透明フィルム
２；第１の導電性層
３；第２の導電性層
４；透明シート
５；第１の導電性層
６；第２の導電性層
【図１】
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