(57)【要約】【課題】磁気ヘッドの浮上状態について高い安定性を得る。【解決手段】磁気ディスク２００において、ディスク基板２０１と、ディスク基板２０１上の、ディスク基板２０１の縁に沿った所定の第１領域を占めた、第１の非磁性材料からなるＬ／ＵＬ部２２０と、ディスク基板２０１上の、上記第１領域よりも内側の第２領域に並んだ、各々が磁性材料からなり情報が磁気的に記録される複数の記録体２１１と、上記第２領域内の、複数の記録体２１１以外の箇所を占めた、化学研磨処理について、上記第１の非磁性材料が示す研磨レートよりも高い研磨レートを示す第２の非磁性材料からなる分離部２１２とを備えた。【選択図】        図２
2010033633.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
前記基板上の、該基板の縁に沿った所定の第１領域を占めた、第１の非磁性材料からなる非記録部と、
前記基板上の、前記第１領域よりも内側の第２領域に並んだ、各々が磁性材料からなり情報が磁気的に記録される複数の記録体と、
前記第２領域内の、前記複数の記録体以外の箇所を占めた、所定の研磨方法について、前記第１の非磁性材料が示す研磨レートよりも高い研磨レートを示す第２の非磁性材料からなる分離部とを備えたことを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項２】
前記非記録部は、シリコン酸化物と有機溶媒との混合物が前記基板上に塗布され加熱によって硬化されて得られた非磁性材料が前記第１の非磁性材料として用いられたものであり、
前記分離部は、シリコン酸化物と有機溶媒との混合物が前記基板上に塗布され加熱によって硬化されて得られた非磁性材料が前記第２の非磁性材料として用いられた、該第１の非磁性材料におけるシリコン酸化物の濃度が前記第２の非磁性材料におけるシリコン酸化物の濃度よりも高いものであることを特徴とする請求項１記載の磁気記録媒体。
【請求項３】
前記非記録部は、シリコン酸化物と有機溶媒との混合物が前記基板上に塗布され加熱によって硬化されて得られた非磁性材料が前記第１の非磁性材料として用いられたものであり、
前記分離部は、シリコン酸化物と有機溶媒との混合物が前記基板上に塗布され加熱によって硬化されて得られた非磁性材料が前記第２の非磁性材料として用いられた、該第１の非磁性材料における加熱時間が前記第２の非磁性材料における加熱時間よりも長いものであることを特徴とする請求項１又は２記載の磁気記録媒体。
【請求項４】
基板上の、該基板の縁に沿った所定の第１領域に、第１の非磁性材料からなる非記録部を形成する非記録部形成過程と、
前記基板上の、前記第１領域よりも内側の第２領域に、各々が磁性材料からなり情報が磁気的に記録される複数の記録体を並べて形成する記録体形成過程と、
前記第２領域内の、前記複数の記録体以外の箇所に、所定の研磨方法について、前記第１の非磁性材料が示す研磨レートよりも高い研磨レートを示す第２の非磁性材料からなる分離部を形成する分離部形成過程と、
前記非記録部と前記分離部との表面を研磨して平滑化する研磨過程とを備えたことを特徴とする磁気記録媒体製造方法。
【請求項５】
基板と、
前記基板上の、該基板の縁に沿った所定の第１領域を占めた、第１の非磁性材料からなる非記録部と、
前記基板上の、前記第１領域よりも内側の第２領域に並んだ、各々が磁性材料からなり情報が磁気的に記録される複数の記録体と、
前記第２領域内の、前記複数の記録体以外の箇所を占めた、所定の研磨方法について、前記第１の非磁性材料が示す研磨レートよりも高い研磨レートを示す第２の非磁性材料からなる分離部とを備えた磁気記録媒体；および、
前記記録体に対して情報を磁気的に記録する磁気ヘッド
を備えたことを特徴とする情報記憶装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本件は、情報が磁気的に記録される磁気記録媒体と、そのような磁気記録媒体を製造する磁気記録媒体製造方法と、そのような磁気記録媒体が搭載された情報記憶装置とに関する。
【背景技術】
【０００２】
コンピュータの分野では、日常的に多量の情報が取り扱われるようになっており、このような多量の情報を記録する装置の１つとして、ハードディスク装置（ＨＤＤ：Ｈａｒｄ  Ｄｉｓｋ  Ｄｒｉｖｅ）が使用されている。このＨＤＤは、情報が記録されるディスク状の磁気記録媒体である磁気ディスクを内蔵した情報記録装置である。
【０００３】
近年、記録媒体の記録密度を飛躍的に高める技術として、いわゆるビットパターンドメディアが注目を集めている（例えば、特許文献１および特許文献２参照）。ビットパターンドメディアは、典型的には、基板上に、ｎｍオーダの微小な磁性体である記録体が複数配列され、それら記録体の間が非磁性材料で埋められたものである。
【０００４】
ところで、情報記録や情報再生を行う磁気ヘッドの動作方式として、情報記録や情報再生が行われていないときにはランプと呼ばれる待機場所に磁気ヘッドが待機しており、情報記録や情報再生の際にこのランプから磁気ディスクの上へと磁気ヘッドが移動するランプロード方式が知られている。このランプロード方式では、ランプから移動してきた磁気ヘッドが最初に通過して、ディスク表面に対する磁気ヘッドの良好な浮上状態を得るための、ロードアンロードゾーン（Ｌ／ＵＬ部）と呼ばれる、磁気ディスクの縁に沿って外縁部を周回する数ｍｍ幅の帯状の領域が設けられている。
【０００５】
近年のＨＤＤでは、磁気ヘッドの動作方式としてこのランプロード方式が採用されることが多く、その結果、上記のようなＬ／ＵＬ部を備えたビットパターンドメディアの製作が盛んに行われている。
【特許文献１】特開２００６−３３１５４０号公報
【特許文献２】特開２００７−２５７８０１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところが、上記のようなＬ／ＵＬ部を備えたビットパターンドメディアにおいて、Ｌ／ＵＬ部を含んだ外縁部における平坦性が悪く、情報記録や情報再生の際の磁気ヘッドの浮上状態における安定性が損なわれてしまうという不具合がしばしば発生している。
【０００７】
本件は、上記事情に鑑み、磁気ヘッドの浮上状態について高い安定性が得られる磁気記録媒体と、そのような磁気記録媒体を製造する磁気記録媒体製造方法と、そのような磁気記録媒体が搭載された情報記憶装置とを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的を達成する磁気記録媒体の基本形態は、
基板と、
上記基板上の、その基板の縁に沿った所定の第１領域を占めた、第１の非磁性材料からなる非記録部と、
上記基板上の、上記第１領域よりも内側の第２領域に並んだ、各々が磁性材料からなり情報が磁気的に記録される複数の記録体と、
上記第２領域内の、上記複数の記録体以外の箇所を占めた、所定の研磨方法について、上記第１の非磁性材料が示す研磨レートよりも高い研磨レートを示す第２の非磁性材料からなる分離部とを備えたことを特徴とする。
【０００９】
この磁気記録媒体の基本形態は、各々に情報が記録される複数の記録体を有するビットパターンドメディアである。また、この磁気記録媒体の基本形態では、上記基板の縁に沿った上記第１領域が上記第１の非磁性材料のみからなる非記録部となっており、この磁気記録媒体の基本形態は、この非記録部を上述のＬ／ＵＬ部として利用することでランプロード方式に適用できるものとなっている。ここで、従来、このようなランプロード方式に適用されるビットパターンドメディアにおいて、Ｌ／ＵＬ部を含んだ外縁部における、磁気ヘッドの浮上状態の安定性を損なわせるような平坦性の悪さは、以下に説明するように、このようなビットパターンドメディアの製造時に生じている可能性が高いことを本件の開発者は見出した。
【００１０】
図５は、ランプロード方式に適用される従来のビットパターンドメディアの製造工程の流れを示す模式図である。
【００１１】
この図５の製造工程では、まず、ディスク基板５０１上に形成された磁性膜５０２の上にレジスト５０３が塗布され、さらに、複数の記録体の配列に応じた凹凸を有するモールド５０４が、レジスト５０３に押し付けられて、モールド５０４の凹凸がレジスト５０３にプリントされる（ステップＳ５０１）。このプリント後に、レジスト５０３の凹部に残っていた残膜が除去されて、磁性膜５０２のうち記録体として使われる部分の上のみを覆うマスク５０５が形成される（ステップＳ５０２）。続いて、エッチング処理が行われ、磁性膜５０２のうち上記のマスク５０５で覆われていない部分が除去されることで、ディスク基板５０１上に複数の記録体５０６が形成される（ステップＳ５０３）。その後、記録体５０６が形成済みのディスク基板５０１に、硬化させることで非磁性材料が得られる所定の未硬化材料が記録体５０６を覆うように塗布されて硬化されて、記録体５０６どうしを非磁性材料で磁気的に分離する分離部５０７が形成される（ステップＳ５０４）。最後に、分離部５０７の表面が、化学研磨処理（ＣＭＰ処理）等によって研磨されて平滑化され、研磨後の表面に不図示の保護膜の形成等が行なわれてビットパターンドメディア５００が完成する（ステップＳ５０５）。このビットパターンドメディア５００では、最外周の非磁性材料５０７のみからなる第１領域５０８がＬ／ＵＬ部として利用され、その第１領域５０８よりも内側の、記録体５０６と非磁性材料５０７とが混在する第２領域５０９がデータ部として利用される。ここで、一般的に、記録体５０６を形成する磁性材料としては、上記の研磨時に記録体５０６が削られ過ぎないように、上記の非磁性材料５０７よりも研磨レートが低い材料が使われる。そのため、上記の第１領域５０８の研磨レートが、上記の第２領域５０９の平均的な研磨レートよりも高くなる。上記のステップＳ５０５の研磨は、ビットパターンドメディア５００の表面を研磨パッド等で全面的に均す処理である。このとき、外縁部では、Ｌ／ＵＬ部として利用される第１領域５０８の研磨レートが高いために、この第１領域５０８の非磁性材料５０７が削られ過ぎ、この外縁部において、研磨パッドが縁に向かって傾いた状態で研磨が進むといった事態が生じる。その結果、データ部として利用され研磨レートが低い第２領域５０９における第１領域５０８との境界付近では、上記のように傾いた研磨パッドによって、図５のステップＳ５０５で模式的に示されているように、記録体５０６までもが縁に向かって傾いた不自然な状態に削られてしまい、この境界付近における平坦性が損なわれてしまう。
【００１２】
ここで、上記の磁気記録媒体の基本形態では、Ｌ／ＵＬ部として利用される上記非記録部を形成する上記第１の非磁性材料の研磨レート、即ち、その非記録部の研磨レートが、上記記録体と上記分離部とが混在しデータ部として利用される上記第２領域内の第２の非磁性材料の研磨レートよりも低い。これにより、上記非記録部の研磨レートと、上記第２領域内の平均的な研磨レートとが互いに近付くので、上述したような製造工程での研磨処理において、外縁部での上述したような削られ過ぎが抑えられて、その外縁部における平坦性の悪化が抑制されることとなる。その結果、上記の磁気記録媒体の基本形態によれば、磁気ヘッドの浮上状態における高い安定性を得ることができる。
【００１３】
また、上記目的を達成する磁気記録媒体製造方法の基本形態は、
基板上の、その基板の縁に沿った所定の第１領域に、第１の非磁性材料からなる非記録部を形成する非記録部形成過程と、
上記基板上の、上記第１領域よりも内側の第２領域に、各々が磁性材料からなり情報が磁気的に記録される複数の記録体を並べて形成する記録体形成過程と、
上記第２領域内の、上記複数の記録体以外の箇所に、所定の研磨方法について、上記第１の非磁性材料が示す研磨レートよりも高い研磨レートを示す第２の非磁性材料からなる分離部を形成する分離部形成過程と、
上記非記録部と上記分離部との表面を研磨して平滑化する研磨過程とを備えたことを特徴とする。
【００１４】
この磁気記録媒体製造方法の基本形態によれば、上記第１の非磁性材料の研磨レートが上記第２非磁性材料の研磨レートよりも低い。このため、上記研磨過程での研磨対象である上記非記録部の研磨レートが、上記分離部を含む上記第２領域内の平均的な研磨レートに近付けられるので、この磁気記録媒体製造方法の基本形態によれば、その非記録部を含んだ外縁部の削られ過ぎが抑えられて、その外縁部における平坦性が高い磁気記録媒体を製造することができる。つまり、この磁気記録媒体製造方法の基本形態によれば、磁気ヘッドの浮上状態における高い安定性を得られる磁気記録媒体を製造することができる。
【００１５】
また、上記目的を達成する情報記憶装置の基本形態は、
基板と、
上記基板上の、その基板の縁に沿った所定の第１領域を占めた、第１の非磁性材料からなる非記録部と、
上記基板上の、上記第１領域よりも内側の第２領域に並んだ、各々が磁性材料からなり情報が磁気的に記録される複数の記録体と、
上記第２領域内の、上記複数の記録体以外の箇所を占めた、所定の研磨方法について、上記第１の非磁性材料が示す研磨レートよりも高い研磨レートを示す第２の非磁性材料からなる分離部とを備えた磁気記録媒体；および、
上記記録体に対して情報を磁気的に記録する磁気ヘッド
を備えたことを特徴とする。
【００１６】
この情報記憶装置の基本形態によれば、磁気ヘッドの浮上状態における高い安定性が得られる上記の磁気記録媒体が搭載され、その磁気記録媒体に対して情報記録が行われるので、信頼性の高い情報記録等を行うことできる。
【発明の効果】
【００１７】
以上、説明したように、本件によれば、磁気ヘッドの浮上状態について高い安定性が得られる磁気記録媒体と、そのような磁気記録媒体を製造する磁気記録媒体製造方法と、そのような磁気記録媒体が搭載された情報記憶装置とを得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下、上記に基本形態について説明した磁気記録媒体、磁気記録媒体製造方法、および情報記憶装置の具体的な実施形態について、図面を参照して説明する。
【００１９】
図１は、基本形態について説明した情報記憶装置の具体的な一実施形態に相当するハードディスク装置（ＨＤＤ）を示す図である。
【００２０】
この図１に示すＨＤＤ１００には、まず、筐体１０１と、その筐体１０１に収納され、図示しないディスクコントロールモータによって、回転軸１０２を中心に回転駆動される磁気ディスク２００とが備えられている。また、このＨＤＤ１００には、磁気ディスク２００に対して情報の記録や再生を行なう磁気ヘッド１０３が形成されたスライダ１０４を先端に備え、回動軸１０５を中心に回動するキャリッジアーム１０６と、そのキャリッジアーム１０６を回動させて、磁気ヘッド１０３を磁気ディスク２００の半径方向に移動させるボイスコイルモータ１０７と、このＨＤＤ１００の全体的な動作を制御する制御回路１０８が備えられている。
【００２１】
さらに、このＨＤＤ１００は、磁気ヘッドの動作方式として、いわゆるランプロード方式が採用されている。このため、筐体１０１内には、磁気ディスク２００の隣に、情報記録や情報再生が行われていないときの磁気ヘッド１０３の待機場所であるランプ１０９が配置されている。
【００２２】
さらに、磁気ディスク２００には、情報が記録される領域（データ部）２１０と、そのデータ部２１０の外縁側にあって、ランプ１０９から移動してきた磁気ヘッド１０３が最初に通過する、ロードアンロードゾーン（Ｌ／ＵＬ部）２２０とが設けられている。このＬ／ＵＬ部２２０は、この磁気ディスク２００の外縁部を縁に沿って周回する数ｍｍ幅の帯状の領域であり、磁気ヘッド１０３は、このＬ／ＵＬ部２２０を通過する際に浮上状態が安定化されて、データ部２１０へと運ばれる。これにより、データ部２１０でのディスク表面に対する磁気ヘッド１０３の良好な浮上状態が得られることとなる。このＬ／ＵＬ部２２０は、情報記録や情報再生の対象ではないので、後述の第１の非磁性材料のみで形成されている。
【００２３】
また、この磁気ディスク２００は、いわゆるビットパターンドメディアであり、上記のデータ部２１０には、各々が磁性材料で形成され情報が磁気的に記録される複数の記録体が同心円状に配列されている。また、このデータ部２１０内のそれら複数の記録体以外の箇所が、上記の第１の非磁性材料よりも、化学研磨処理に対する研磨レートが高い第２の非磁性材料で形成された分離部によって占められている。
【００２４】
ここで、上記の磁気ヘッド１０３が、上述の基本形態における磁気ヘッドの一例に相当し、磁気ディスク２００が、その基本形態における磁気記録媒体の一例に相当する。また、Ｌ／ＵＬ部２２０が、その基本形態における非記録部の一例に相当する。
【００２５】
このＨＤＤ１００では、磁気ディスク２００に対する情報記録や情報再生の際には、磁気ディスク２００が回転駆動されている状態においてボイスコイルモータ１０７によってキャリッジアーム１０６が回動される。この回動により、そのキャリッジアーム１０６の先端の磁気ヘッド１０３が、上記のランプ１０９から引き出され、Ｌ／ＵＬ部２００の上を通って浮上状態の安定化が図られた後に、さらに、磁気ディスク２００の表面に沿ってその磁気ディスク２００の半径方向に運ばれる。これにより、磁気ヘッド１０３の、磁気ディスク２００に対する位置決めが行われる。そして、そのように位置決めされた磁気ヘッド１０３によって、磁気ディスク２００の回転に伴って順次に情報記録や情報再生が実行される。
【００２６】
本実施形態のＨＤＤ１００では、上述のように、ランプロード方式が採用されており、情報記録や情報再生の際には、磁気ヘッド１０３は、Ｌ／ＵＬ部２２０の上で浮上状態が安定した後に、内周側のデータ部２１０の上へと運ばれる。このため、仮に、Ｌ／ＵＬ部２２０を含んだ外縁部におけるディスク表面の平坦性が悪いと、Ｌ／ＵＬ部２２０の上で磁気ヘッド１０３の浮上状態の良好な安定化を図ることができず、安定した情報記録や情報再生が行えなくなってしまう恐れがある。
【００２７】
図２は、図１に示すＬ／ＵＬ部を含んだ外縁部における領域Ａの拡大断面図である。
【００２８】
磁気ディスク２００は、非磁性材料のディスク基板２０１上に、上記のデータ部２１０とＬ／ＵＬ部２２０とが形成されている。上述したように、この磁気ディスク２００はビットパターンドメディアであり、データ部２１０は、磁性材料からなる複数の記録体２１１と、それら複数の記録体２１１以外の箇所を占める分離部２１２とで構成されている。      
【００２９】
ここで、本実施形態では、Ｌ／ＵＬ部２２０を形成する第１の非磁性材料として、ＳｉＯ２と有機溶媒との混合物が熱硬化されて得られる非磁性材料が採用されている。また、各記録体２１１を形成する磁性材料として、ＣｏＣｒ合金が採用され、分離部２１２を形成する第２の非磁性材料として、ＳｉＯ２と有機溶媒との混合物が熱硬化されて得られる非磁性材料であって、上記の第１の非磁性材料よりも、化学研磨処理に対する研磨レートが高い第２の非磁性材料が採用されている。
【００３０】
上記のディスク基板２０１が、上述の基本形態における基板の一例に相当し、そのディスク基板２０１上においてＬ／ＵＬ部２２０が占めている領域が、上述の基本形態における第１領域の一例であり、このディスク基板２０１上においてデータ部２１０が占めている領域が、その基本形態における第２領域の一例である。また、Ｌ／ＵＬ部２２０を形成する第１の非磁性材料が、上述の基本形態における第１の非磁性材料の一例に相当し、記録体２１１が、その基本形態における記録体の一例に相当し、分離部２１２が、その基本形態における分離部の一例に相当し、その分離部２１２を形成する第２の非磁性材料が、その基本形態における第２の非磁性材料の一例に相当する。
【００３１】
この磁気ディスク２００を製造する製造工程では、詳細については後述するようにディスク表面の平滑化のための化学研磨処理が行われる。ここで、記録体２１１を形成するＣｏＣｒ合金の化学研磨処理に対する研磨レートは、化学研磨処理において記録体２１１が削られ過ぎるのを防ぐために、上記の第１の非磁性材料の研磨レート、即ち、Ｌ／ＵＬ部２２０の研磨レートよりも低い。このため、記録体２１１と分離部２１２とが混在しているデータ部２１０における平均的な研磨レートは、Ｌ／ＵＬ部２２０の研磨レートよりも低くなり勝ちである。
【００３２】
仮に、データ部２１０における平均的な研磨レートが、Ｌ／ＵＬ部２２０の研磨レートよりも低いと、化学研磨処理の際に、Ｌ／ＵＬ部２２０を含んだ外縁部が削られ過ぎて外縁部が縁に向かって傾いてしまい、その外縁部におけるディスク表面の平坦性が損なわれてしまう。
【００３３】
そこで、本実施形態では、上記の化学研磨処理による外縁部での平坦性の悪化を抑えるために、Ｌ／ＵＬ部２２０を形成する第１の非磁性材料の研磨レートが、記録体２１１を形成する磁性材料（ＣｏＣｒ合金）の研磨レートよりも高く、分離部２１２を形成する第２の非磁性材料の研磨レートよりも低くなって、Ｌ／ＵＬ部２２０の研磨レートとデータ部２１０における平均的な研磨レートとが互いに近くなるように調整されている。
【００３４】
ここで、上述の磁気記録媒体や情報記憶装置の基本形態に対し、
「上記複数の記録体が、上記研磨方法について、上記第１の非磁性材料が示す研磨レートよりも低い研磨レートを示す磁性材料からなるものである」という応用形態は好適である。
【００３５】
この好適な応用形態によれば、上記第１の非磁性材料の研磨レートが、上記磁性材料の研磨レートと上記第２の非磁性材料の研磨レートとの間のレートとなるので、上記第２領域内の平均的な研磨レートと、上記非記録部の研磨レートとを一層近付けることができる。本実施形態では、上記の第１の非磁性材料の研磨レートが記録体２１１を形成するＣｏＣｒ合金の研磨レートよりも高い。つまり、記録体２１１が、上記の第１の非磁性材料の研磨レートよりも低い研磨レートを示すＣｏＣｒ合金で形成されていることから、この本実施形態における記録体２１１は、この応用形態における記録体の一例にも相当することとなる。
【００３６】
ここで、上記の第１の非磁性材料や第２の非磁性材料の元となっているＳｉＯ２と有機溶媒との混合物は、一般的に、硬化後の硬さ、即ち、化学研磨処理に対する研磨レートを、ＳｉＯ２の濃度や、熱硬化の際の加熱時間によって調整することができる。即ち、ＳｉＯ２の濃度が高いほど硬化後の研磨レートは低く、加熱時間が長いほど硬化後の研磨レートは低くなる。
【００３７】
本実施形態では、上記の第１および第２の非磁性材料の硬化後の研磨レートが、ＳｉＯ２の濃度によって以下のように調整されている。
【００３８】
本実施形態では、記録体２１１を形成するＣｏＣｒ合金の研磨レートが約「４ｎｍ／ｍｉｎ」である。そして、Ｌ／ＵＬ部２２０を形成する第１の非磁性材料の研磨レートが、ＳｉＯ２の混合量によって約「６ｎｍ／ｍｉｎ」に調整され、分離部２１２を形成する第２の非磁性材料の研磨レートが、ＳｉＯ２の混合量によって約「８ｎｍ／ｍｉｎ」に調整されている。これにより、Ｌ／ＵＬ部２２０の研磨レートと、データ部２１０の平均的な研磨レートとが互いに近くなるように調整されている。
【００３９】
このような研磨レートにより、上記の化学研磨処理では、データ部２１０とＬ／ＵＬ部２２０とで研磨量が均等となり、外縁部での上述したような削られ過ぎが抑制されて、この外縁部における高い平坦性が得られることとなる。このように、本実施形態では、ＳｉＯ２と有機溶媒との混合物におけるＳｉＯ２の混合量を調整するという簡単な方法により、その混合物の熱硬化によって得られる非磁性材料について、上記のような望ましい研磨レートが実現されている。
【００４０】
このことは、上述の基本形態に対し、
「上記非記録部は、シリコン酸化物と有機溶媒との混合物が上記基板上に塗布され加熱によって硬化されて得られた非磁性材料が上記第１の非磁性材料として用いられたものであり、
上記分離部は、シリコン酸化物と有機溶媒との混合物が上記基板上に塗布され加熱によって硬化されて得られた非磁性材料が上記第１の非磁性材料として用いられた、その第１の非磁性材料におけるシリコン酸化物の濃度が上記第２の非磁性材料におけるシリコン酸化物の濃度よりも高いものである」という応用形態が好適であることを意味している。本実施形態におけるＬ／ＵＬ部２２０は、この応用形態における非記録部の一例にも相当し、分離部２１２は、この応用形態における分離部の一例にも相当する。
【００４１】
また、本実施形態とは異なり、上記の第１および第２の非磁性材料の研磨レート、即ち、Ｌ／ＵＬ部２２０および分離部２１２の研磨レートが、上記の混合物に対する加熱時間によって上記の値に調整されているという別形態も考えられる。この別形態については、図示は省略するが、本実施形態とは異なり、第１および第２の非磁性材料の元になる上記の混合物として、ＳｉＯ２の濃度が互いに同一のものを用いることができるので、製造時の作業が簡単なものとなる。
【００４２】
このことは、上述の磁気記録媒体や情報記憶装置の基本形態に対し、
「上記非記録部は、シリコン酸化物と有機溶媒との混合物が上記基板上に塗布され加熱によって硬化されて得られた非磁性材料が上記第１の非磁性材料として用いられたものであり、
上記分離部は、シリコン酸化物と有機溶媒との混合物が上記基板上に塗布され加熱によって硬化されて得られた非磁性材料が上記第１の非磁性材料として用いられた、その第１の非磁性材料における加熱時間が上記第２の非磁性材料における加熱時間よりも長いものである」という応用形態も好適であることを意味している。
【００４３】
加熱時間によって第１の非磁性材料の研磨レートが調整されている上記の別形態におけるＬ／ＵＬ部は、この応用形態における非記録部の一例に相当し、同様に加熱時間によってによって第２の非磁性材料の研磨レートが調整されている上記の別形態における分離部は、この応用形態における分離部の一例に相当する。
【００４４】
図１および図２の磁気ディスク２００は、上述のように外縁部における平坦性が高いことから、ＨＤＤ１００では、磁気ヘッド１０３の浮上状態の安定性が高く、信頼性の高い情報記録や情報再生が行われることとなる。
【００４５】
次に、図１および図２の磁気ディスク２００の製造方法について説明する。
【００４６】
図３は、基本形態について説明した磁気記録媒体製造方法の具体的な一実施形態における製造工程の流れを示す模式図である。
【００４７】
この図３の製造工程では、まず、ディスク基板２０１上に形成された磁性膜２０２の上にレジスト２０３が塗布され、さらに、図２示す記録体２１１の配列に応じた凹凸を有するモールド２０４が、レジスト２０３に押し付けられて、モールド２０４の凹凸がレジスト２０３にプリントされる（ステップＳ１０１）。このプリント後に、レジスト２０３の凹部に残っていた残膜が除去されて、磁性膜２０２のうち記録体２１１として使われる部分の上のみを覆うマスク２０５が形成される（ステップＳ１０２）。続いて、エッチング処理が行われ、磁性膜２０２のうち上記のマスク２０５で覆われていない部分が除去されることで、ディスク基板２０１上に記録体２１１が形成される（ステップＳ１０３）。
【００４８】
上記のステップＳ１０１からステップＳ１０３までの一連の工程が、上述の基本形態における記録体形成過程の一例に相当する。
【００４９】
その後、上記の分離部２１２を形成する第２の非磁性材料の元である、ＳｉＯ２と有機溶媒との混合物であって、硬化後に化学研磨処理に対して約「８ｎｍ／ｍｉｎ」の研磨レートが得られる濃度でＳｉＯ２が混合された第２の混合物２０６が、記録体２１１を全体的に覆うように上記のデータ部２１０に対応する領域に塗布される（ステップＳ１０４）。さらに、上記のＬ／ＵＬ部２２０を形成する第１の非磁性材料の元である、ＳｉＯ２と有機溶媒との混合物であって、硬化後に化学研磨処理に対して約「６ｎｍ／ｍｉｎ」の研磨レートが得られる濃度でＳｉＯ２が混合された第１の混合物２０７が、上記のＬ／ＵＬ部２２０に対応する領域に塗布される（ステップＳ１０５）。ここで、ステップＳ１０４およびステップＳ１０５では、上記の第１および第２の混合物２０６，２０７の塗布が、インクジェットプリンタにおけるインクの射出構造を応用したプリンタ方式の塗布装置を使って上記の２つの領域について精密に行われる。さらに、上記のステップＳ１０５では、第１および第２の混合物２０６，２０７との両方が同時に所定時間に亘って加熱されることで両者の熱硬化が行われて、第１の非磁性材料からなるＬ／ＵＬ部２２０と、第２の非磁性材料からなる分離部２１２とが得られる。
【００５０】
ここで、上記のステップＳ１０４とステップＳ１０５とを合わせた工程が、上述の基本形態における分離部形成過程の一例に相当し、上記のステップＳ１０５の工程が、この基本形態における非記録部形成過程の一例に相当する。
【００５１】
最後に、Ｌ／ＵＬ部２２０と分離部２１２との表面が、化学研磨処理によって、記録体２１１が露出するまで研磨され、研磨後の表面に不図示の保護膜の形成等が行なわれてビットパターンドメディア２００が完成する（ステップＳ１０６）。
【００５２】
このステップＳ１０６の工程が、上述の基本形態における研磨過程の一例に相当する。
【００５３】
このステップＳ１０６では、上述したように化学研磨処理に対する研磨レートが約「４ｎｍ／ｍｉｎ」のＣｏＣｒ合金からなる記録体２１１と、研磨レートが約「８ｎｍ／ｍｉｎ」の分離部２１２とが混在するデータ部２１０における平均的な研磨レートと、Ｌ／ＵＬ部２２０の研磨レート（約「６ｎｍ／ｍｉｎ」）とが互いに近くなっている。このため、この化学研磨処理で両者間での研磨量が均等となり、上述したような外縁部におけるディスク表面の高い平坦性が得られることとなる。
【００５４】
このように、図３の製造工程によれば、外縁部におけるディスク表面の平坦性が高く、磁気ヘッド１０３の浮上状態における安定性が高い磁気ディスク２００を製造することができる。
【００５５】
ここで、この図３に示す製造工程では、上述したように第１および第２の非磁性材料の研磨レートが、これらの非磁性材料の元となるＳｉＯ２と有機溶媒との混合物におけるＳｉＯ２の混合量によって調整されている。ここで、ＳｉＯ２と有機溶媒との混合物における硬化後の研磨レートは、上述したように、熱硬化における加熱時間によっても調整することができる。
【００５６】
以下、この加熱時間によって研磨レートを調整する手法が採用された、図３に示す製造工程とは別の製造工程について説明する。この別の製造工程による製造方法も、基本形態について説明した磁気記録媒体製造方法の具体的な一実施形態に相当する。
【００５７】
図４は、磁気ディスクを製造するための、図３に示す製造工程とは別の製造工程の流れを示す模式図である。
【００５８】
この図４の製造工程では、ディスク基板２０１上に記録体２１１の配列を形成するまでの工程が、図３の製造工程におけるステップＳ１０１からステップＳ１０３までの工程と同じであるので、ここでは、これらの工程について図３と同じ符号を付し説明を割愛する。尚、この図４の製造工程でも、これらステップＳ１０１からステップＳ１０３までの一連の工程が、上述の基本形態における記録体形成過程の一例に相当する。
【００５９】
ディスク基板２０１上に記録体２１１が形成されると、次に、上記のＬ／ＵＬ部２２０に対応する領域に、このＬ／ＵＬ部２２０を形成する第１の非磁性材料の元となるＳｉＯ２と有機溶媒との混合物であり、後述するように、分離部２１２’を形成する第２の非磁性材料の元ともなる混合物２０６’が塗布される（ステップＳ２０１）。また、このステップＳ２０１では、上述の図３におけるステップＳ１０４やステップＳ１０５と同様に、混合物２０６’の塗布が、上述のプリンタ方式の塗布装置を使って上記の領域について精密に行われる。さらに、このステップＳ２０１では、塗布後に、この混合物２０６’に所定の第１加熱時間に亘る熱硬化が施される。
【００６０】
次に、上記のステップＳ２０１で塗布され熱硬化された混合物２０６’と同じ混合物２０６’が、データ部２１０’に対応する領域に塗布される（ステップＳ２０２）。ここでの塗布も上記のプリンタ方式の塗布装置を使って行われる。さらに、このステップＳ２０２では、混合物２０６’の塗布後に、所定の第２加熱時間に亘る熱硬化が施される。このステップＳ２０２での熱硬化では、ステップＳ２０１で一度熱硬化が施されている混合物２０６’と、このステップＳ２０２で塗布された混合物２０６’との両方に熱硬化が施される。
【００６１】
ここで、この図４の製造工程では、Ｌ／ＵＬ部２２０に対応する領域に塗布された混合物２０６’は、上記の第１加熱時間と第２加熱時間との合計時間に亘って熱硬化されることとなり、データ部２１０’に対応する領域に塗布された混合物２０６’は、第２加熱時間のみに亘って熱硬化されることとなる。この図４の製造工程では、第２加熱時間は、上記の混合物２０６’について、硬化後に約「８ｎｍ／ｍｉｎ」の研磨レートが得られる時間となっている。さらに、上記の第１加熱時間は、その第２加熱時間との合計時間に亘る熱硬化で、硬化後に約「６ｎｍ／ｍｉｎ」の研磨レートが得られる時間となっている。
【００６２】
これにより、このステップＳ２０２では、上記の第２加熱時間に亘る熱硬化後に、約「６ｎｍ／ｍｉｎ」の研磨レートを示すＬ／ＵＬ部２２０’と、約「８ｎｍ／ｍｉｎ」の研磨レートを示す分離部２１２’とが得られることとなる。
【００６３】
この図４の製造工程では、上記のステップＳ２０１とステップＳ２０２とを合わせた工程が、上述の基本形態における分離部形成過程の一例に相当し、ステップＳ２０２が、その基本形態における非記録部形成過程の一例に相当する。
【００６４】
以上のようにＬ／ＵＬ部２２０’と分離部２１２’とが得られると、最後に、図３の製造工程と同様に化学研磨処理と保護膜の形成等が行われて、磁気ディスク２００’が完成する。図４では、この化学研磨処理等についても図３の製造工程におけるステップＳ１０６と同じ工程となるので、図３と同じ符号を付して説明を割愛する。尚、この図４の製造工程でも、ステップＳ１０６の工程が、上述の基本形態における研磨過程の一例に相当する。
【００６５】
以上に説明した図４の製造工程で製造される磁気ディスク２００’は、図３の製造工程で製造される磁気ディスク２００とは、上記の第１および第２の非磁性材料の間でＳｉＯ２の濃度が同じである。しかし、上述したように、各々の非磁性材料に対する加熱時間を異ならせることで、両者の研磨レートに、図３の製造工程で製造される磁気ディスク２００と同様の差異を生じさせている。その結果、化学研磨処理において、図３の製造工程と同様に、データ部２１０’とＬ／ＵＬ部２２０’とで研磨量が互いにほぼ均等となり、上述したような外縁部におけるディスク表面の高い平坦性が得られることとなる。
【００６６】
このように、図４の製造工程によれば、上述した図３の製造工程と同様に、外縁部におけるディスク表面の平坦性が高く、磁気ヘッド１０３の浮上状態について高い安定性が得られる磁気ディスク２００’を得ることができる。
【００６７】
尚、上記では、上述の基本形態や応用形態における第１の非磁性材料や第２の非磁性材料の元となる材料の一例として、ＳｉＯ２と有機溶媒との混合物を例示したが、この材料はこれに限るものではなく、例えばＳｉＯ２以外の酸化物や非磁性のチッ化物又は熱硬化性樹脂との混合物等であっても良い。
【００６８】
また、上記では、上述の基本形態や応用形態における磁性材料の一例としてＣｏＣｒ合金を例示したが、基本形態や応用形態における磁性材料はこれに限るものではなく、ＣｏＣｒ合金以外の磁性材料であっても良い。
【００６９】
また、上記では基本形態や応用形態における磁性材料の一例として研磨レートが「４ｎｍ／ｍｉｎ」の磁性材料を例示し、第１の非磁性材料の一例として研磨レートが「６ｎｍ／ｍｉｎ」の非磁性材料を例示し、第２の非磁性材料の一例として、研磨レートが「８ｎｍ／ｍｉｎ」の非磁性材料を例示したが、基本形態や応用形態における磁性材料や第１の非磁性材料や第２の非磁性材料はこれらに限るものではなく、例えば、研磨レートがこれらの値以外の値となるの磁性材料や非磁性材料であっても良い。
【００７０】
以下、上述した基本形態を含む種々の形態に関し、更に以下の付記を開示する。
【００７１】
（付記１）
基板と、
前記基板上の、該基板の縁に沿った所定の第１領域を占めた、第１の非磁性材料からなる非記録部と、
前記基板上の、前記第１領域よりも内側の第２領域に並んだ、各々が磁性材料からなり情報が磁気的に記録される複数の記録体と、
前記第２領域内の、前記複数の記録体以外の箇所を占めた、所定の研磨方法について、前記第１の非磁性材料が示す研磨レートよりも高い研磨レートを示す第２の非磁性材料からなる分離部とを備えたことを特徴とする磁気記録媒体。
【００７２】
（付記２）
前記複数の記録体が、前記研磨方法について、前記第１の非磁性材料が示す研磨レートよりも低い研磨レートを示す磁性材料からなるものであることを特徴とする付記１記載の磁気記録媒体。
【００７３】
（付記３）
前記非記録部は、シリコン酸化物と有機溶媒との混合物が前記基板上に塗布され加熱によって硬化されて得られた非磁性材料が前記第１の非磁性材料として用いられたものであり、
前記分離部は、シリコン酸化物と有機溶媒との混合物が前記基板上に塗布され加熱によって硬化されて得られた非磁性材料が前記第２の非磁性材料として用いられた、該第１の非磁性材料におけるシリコン酸化物の濃度が前記第２の非磁性材料におけるシリコン酸化物の混合量よりも高いものであることを特徴とする付記１または２記載の磁気記録媒体。
【００７４】
（付記４）
前記非記録部は、シリコン酸化物と有機溶媒との混合物が前記基板上に塗布され加熱によって硬化されて得られた非磁性材料が前記第１の非磁性材料として用いられたものであり、
前記分離部は、シリコン酸化物と有機溶媒との混合物が前記基板上に塗布され加熱によって硬化されて得られた非磁性材料が前記第１の非磁性材料として用いられた、該第１の非磁性材料における加熱時間が前記第２の非磁性材料における加熱時間よりも長いものであることを特徴とする付記１から３のうちいずれか１項記載の磁気記録媒体。
【００７５】
（付記５）
基板上の、該基板の縁に沿った所定の第１領域に、第１の非磁性材料からなる非記録部を形成する非記録部形成過程と、
前記基板上の、前記第１領域よりも内側の第２領域に、各々が磁性材料からなり情報が磁気的に記録される複数の記録体を並べて形成する記録体形成過程と、
前記第２領域内の、前記複数の記録体以外の箇所に、所定の研磨方法について、前記第１の非磁性材料が示す研磨レートよりも高い研磨レートを示す第２の非磁性材料からなる分離部を形成する分離部形成過程と、
前記非記録部と前記分離部との表面を研磨して平滑化する研磨過程とを備えたことを特徴とする磁気記録媒体製造方法。
【００７６】
（付記６）
基板と、
前記基板上の、該基板の縁に沿った所定の第１領域を占めた、第１の非磁性材料からなる非記録部と、
前記基板上の、前記第１領域よりも内側の第２領域に並んだ、各々が磁性材料からなり情報が磁気的に記録される複数の記録体と、
前記第２領域内の、前記複数の記録体以外の箇所を占めた、所定の研磨方法について、前記第１の非磁性材料が示す研磨レートよりも高い研磨レートを示す第２の非磁性材料からなる分離部とを備えた磁気記録媒体；および、
前記記録体に対して情報を磁気的に記録する磁気ヘッド
を備えたことを特徴とする情報記憶装置。
【図面の簡単な説明】
【００７７】
【図１】基本形態について説明した情報記憶装置の一例であるハードディスク装置（ＨＤＤ）を示す図である。
【図２】図１に示すＬ／ＵＬ部を含んだ外縁部における領域Ａの拡大断面図である。
【図３】基本形態について説明した磁気記録媒体製造方法の一例である製造工程の流れを示す模式図である。
【図４】磁気ディスクを製造するための、図３に示す製造工程とは別の製造工程の流れを示す模式図である。
【図５】ランプロード方式に適用される従来のビットパターンドメディアの製造工程の流れを示す模式図である。
【符号の説明】
【００７８】
１００    ＨＤＤ
１０１    筐体
１０２    回転軸
１０３    磁気ヘッド
１０４    スライダ
１０５    回動軸
１０６    キャリッジアーム
１０７    ボイスコイルモータ
１０８    制御回路
１０９    ランプ
２００，２００’５００    磁気ディスク
２０１，５０１    ディスク基板
２０２，５０２    磁性膜
２０３，５０３    レジスト
２０４，５０４    モールド
２０５，５０５    マスク
２０６    第２の混合物
２０６’    混合物
２０７    第１の混合物
２１０    データ部
２１１，５０６    記録体
２１２，２１２’，５０７    分離部
２２０，２２０’    Ｌ／ＵＬ部
５０８    第１領域
５０９    第２領域
【図１】
2010033633.tif 000003
【図２】
2010033633.tif 000004
【図３】
2010033633.tif 000005
【図４】
2010033633.tif 000006
【図５】
2010033633.tif 000007