(57)【要約】【課題】生産性およびコストに優れ、かつ有機層（機能膜）の膜厚が面内で均一な有機ＥＬディスプレイパネルを提供すること。【解決手段】本発明の有機ＥＬディスプレイパネルは、基板と、基板上にマトリクス状に配置された複数の画素とを有する。各画素は、赤色の光を発する副画素、緑色の光を発する副画素および青色の光を発する副画素を有する。各副画素は、基板上に配置された画素電極と、画素電極上に配置された有機層と、有機層上に配置された対向電極とを有する。本発明の有機ＥＬディスプレイパネルでは、有機層は塗布法で形成される。本発明の有機ＥＬディスプレイパネルは、互いに隣接する画素Ａおよび画素Ｂにおける、前記画素Ａ内で前記画素Ｂに最も近い副画素ａと前記画素Ｂ内で前記画素Ａに最も近い副画素ｂとの間隔を「Ｄ」とした場合に、基板の端部における間隔Ｄ１が基板の中央部における間隔Ｄ２よりも短いことを特徴とする。【選択図】図２
2010282903.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、前記基板上にマトリクス状に配置された複数の画素とを有する有機ＥＬディスプレイパネルであって、
前記画素は、それぞれ、赤色の光を発する副画素、緑色の光を発する副画素および青色の光を発する副画素を有し、
前記副画素は、それぞれ、前記基板上に配置された画素電極と、前記画素電極上に塗布形成された有機層と、前記有機層上に配置された対向電極とを有し、
前記基板の端部に配置された互いに隣接する画素Ａ１および画素Ｂ１における、前記画素Ａ１内で前記画素Ｂ１に最も近い副画素ａ１と前記画素Ｂ１内で前記画素Ａ１に最も近い副画素ｂ１との間隔Ｄ１は、前記基板の中央部に配置された互いに隣接する画素Ａ２および画素Ｂ２における、前記画素Ａ２内で前記画素Ｂ２に最も近い副画素ａ２と前記画素Ｂ２内で前記画素Ａ２に最も近い副画素ｂ２との間隔Ｄ２よりも短い、
有機ＥＬディスプレイパネル。
【請求項２】
前記赤色の光を発する副画素が一列に並んだ領域の有機層、前記緑色の光を発する副画素が一列に並んだ領域の有機層、および前記青色の光を発する副画素が一列に並んだ領域の有機層のそれぞれを規定する、互いに平行な複数のライン状バンクをさらに有する、請求項１に記載の有機ＥＬディスプレイパネル。
【請求項３】
前記赤色の光を発する副画素の有機層、前記緑色の光を発する副画素の有機層および前記青色の光を発する副画素の有機層のそれぞれを規定する格子状バンクをさらに有する、請求項１に記載の有機ＥＬディスプレイパネル。
【請求項４】
互いに隣接する画素Ａおよび画素Ｂにおける、前記画素Ａ内で前記画素Ｂに最も近い副画素ａと前記画素Ｂ内で前記画素Ａに最も近い副画素ｂとの間隔は、前記基板の端部から前記基板の中央部に向けて漸次短くなる、請求項１に記載の有機ＥＬディスプレイパネル。
【請求項５】
前記赤色の光を発する副画素の面積は、それぞれ同一であり、
前記緑色の光を発する副画素の面積は、それぞれ同一であり、
前記青色の光を発する副画素の面積は、それぞれ同一である、
請求項１に記載の有機ＥＬディスプレイパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）ディスプレイパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬディスプレイパネルは、有機化合物の電界発光現象を利用した発光素子を有するディスプレイパネルである。有機ＥＬディスプレイパネルは、携帯電話機などに用いられる小型の表示装置として実用化されている。
【０００３】
有機ＥＬディスプレイパネルは、個別に制御可能な複数の有機ＥＬ素子（発光素子）を基板上に配置して製造される。典型的な有機ＥＬディスプレイパネルは、基板上に、駆動回路、画素電極（例えば、陽極）、有機発光層を含む有機層、対向電極（例えば、陰極）を積層することで製造される。有機層には、有機ＥＬ材料（発光材料）を含む有機発光層に加えて、電子注入層や電子輸送層、正孔輸送層、正孔注入層などの機能層が含まれることもある。基板上の各有機ＥＬ素子では、画素電極および対向電極から有機発光層へ電子および正孔が注入され、有機発光層内で電子と正孔とが再結合することによって、発光が生じる。
【０００４】
有機ＥＬディスプレイパネルを製造する際には、有機発光層を均一な厚さで形成することが重要である。有機発光層の厚さが不均一な場合、パネルの発光面における電流の分布が不均一となり、パネルの発光面に輝度ムラが生じるおそれがある。また、有機発光層の厚さが薄い部分に電流が集中することにより、パネルの寿命が低下してしまうおそれもある。
【０００５】
有機発光層は、例えば、有機ＥＬ材料を含む材料液を基板上に塗布し、乾燥させることで形成される。このような材料液の塗布および乾燥を利用した機能膜の形成方法は、有機ＥＬディスプレイパネルの製造だけではなく、各種装置の製造においても利用されている。このような機能膜の形成方法では、基板の端部と中央部とで溶媒の蒸気濃度が異なるため、基板の端部の材料液の方が基板の中央部の材料液よりも速く乾燥する。このように材料液の乾燥速度が基板の端部と中央部とで異なってしまうと、面内で膜厚のムラが生じてしまう。
【０００６】
この問題を解決するため、様々な技術が提案されている（例えば、特許文献１および特許文献２参照）。特許文献１には、塗布領域の端部の形成領域（機能層が形成される空間）の体積を、基板の中央部の形成領域の体積よりも大きくする技術が記載されている。また、特許文献２には、塗布領域の形状に合わせた仕切り部材を用いて塗布領域を区画する技術が記載されている。これらの技術により、面内で材料液の乾燥速度を均一とすることができ、その結果、面内で機能膜の膜厚を均一にすることができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００８−１６２０５号公報
【特許文献２】特開２００７−９０２００号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、上記従来の技術には、生産性が低く、コストが高いという問題があった。具体的には、特許文献１の技術には、溶媒の蒸発速度を遅くするために塗布領域の端部に塗布する材料液の量を増やすため、高価な有機ＥＬ材料の使用量を増やさなければならないという問題があった。また、材料液を塗布する位置に応じて材料液の塗布量を調整しなければならないため、塗布工程が複雑化するという問題もあった。また、特許文献２の技術には、塗布後乾燥前に仕切り部材を設置しなければならないため、製造工程が複雑化するという問題があった。
【０００９】
本発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、生産性およびコストに優れ、かつ有機層（機能膜）の膜厚が面内で均一な有機ＥＬディスプレイパネルを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者は、基板の単位面積当たりの材料液を塗布しない領域の面積を、基板の中央部に比べて端部で小さくすることで、上記課題を解決できることを見出し、さらに検討を加えて本発明を完成させた。
【００１１】
すなわち、本発明の第一は、以下の有機ＥＬディスプレイパネルに関する。
［１］基板と、前記基板上にマトリクス状に配置された複数の画素とを有する有機ＥＬディスプレイパネルであって、前記画素は、それぞれ、赤色の光を発する副画素、緑色の光を発する副画素および青色の光を発する副画素を有し、前記副画素は、それぞれ、前記基板上に配置された画素電極と、前記画素電極上に塗布形成された有機層と、前記有機層上に配置された対向電極とを有し、前記基板の端部に配置された互いに隣接する画素Ａ１および画素Ｂ１における、前記画素Ａ１内で前記画素Ｂ１に最も近い副画素ａ１と前記画素Ｂ１内で前記画素Ａ１に最も近い副画素ｂ１との間隔Ｄ１は、前記基板の中央部に配置された互いに隣接する画素Ａ２および画素Ｂ２における、前記画素Ａ２内で前記画素Ｂ２に最も近い副画素ａ２と前記画素Ｂ２内で前記画素Ａ２に最も近い副画素ｂ２との間隔Ｄ２よりも短い、有機ＥＬディスプレイパネル。
［２］前記赤色の光を発する副画素が一列に並んだ領域の有機層、前記緑色の光を発する副画素が一列に並んだ領域の有機層、および前記青色の光を発する副画素が一列に並んだ領域の有機層のそれぞれを規定する、互いに平行な複数のライン状バンクをさらに有する、［１］に記載の有機ＥＬディスプレイパネル。
［３］前記赤色の光を発する副画素の有機層、前記緑色の光を発する副画素の有機層および前記青色の光を発する副画素の有機層のそれぞれを規定する格子状バンクをさらに有する、［１］に記載の有機ＥＬディスプレイパネル。
［４］互いに隣接する画素Ａおよび画素Ｂにおける、前記画素Ａ内で前記画素Ｂに最も近い副画素ａと前記画素Ｂ内で前記画素Ａに最も近い副画素ｂとの間隔は、前記基板の端部から前記基板の中央部に向けて漸次短くなる、［１］〜［３］のいずれかに記載の有機ＥＬディスプレイパネル。
［５］前記赤色の光を発する副画素の面積は、それぞれ同一であり、前記緑色の光を発する副画素の面積は、それぞれ同一であり、前記青色の光を発する副画素の面積は、それぞれ同一である、［１］〜［４］のいずれかに記載の有機ＥＬディスプレイパネル。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、基板の端部と中央部とで溶媒の蒸気濃度を均一化し、材料液の乾燥速度を面内で均一化することができる。したがって、本発明によれば、有機層（機能膜）の膜厚が面内で均一な有機ＥＬディスプレイパネルを製造することができる。
【００１３】
また、本発明によれば、材料液を塗布する位置に応じて材料液の塗布量を調整する必要も無く、かつ特別な部材を設置する必要も無いため、高い生産性でかつ低コストで有機ＥＬディスプレイパネルを製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】有機ＥＬディスプレイパネルの画素と副画素の関係を説明するための概念図
【図２】本発明の有機ＥＬディスプレイパネルの一態様を示す平面図
【図３】本発明の有機ＥＬディスプレイパネルの別の態様を示す平面図
【図４】本発明の有機ＥＬディスプレイパネルのさらに別の態様を示す平面図
【図５】本発明の有機ＥＬディスプレイパネルのさらに別の態様を示す平面図
【図６】副画素間の間隔を調整する方法を示す断面図
【図７】本発明の実施の形態１の有機ＥＬディスプレイパネルの平面図
【図８】本発明の実施の形態１の有機ＥＬディスプレイパネルの製造工程を示す平面図
【図９】本発明の実施の形態１の有機ＥＬディスプレイパネルの製造工程を示す平面図
【図１０】本発明の実施の形態１の有機ＥＬディスプレイパネルの製造工程を示す断面図
【図１１】本発明の実施の形態２の有機ＥＬディスプレイパネルの平面図
【図１２】本発明の実施の形態３の有機ＥＬディスプレイパネルの部分拡大平面図
【図１３】本発明の実施の形態４の有機ＥＬディスプレイパネルの部分拡大平面図
【発明を実施するための形態】
【００１５】
本発明の有機ＥＬディスプレイパネルは、基板と、基板上にマトリクス状に配置された複数の画素とを有する。各画素は、赤色の光を発する副画素（有機ＥＬ素子）、緑色の光を発する副画素（有機ＥＬ素子）および青色の光を発する副画素（有機ＥＬ素子）を有する。また、各有機ＥＬ素子（副画素）は、基板上に配置された画素電極と、画素電極上に配置された有機層と、有機層上に配置された対向電極とを有する。本発明の有機ＥＬディスプレイパネルでは、有機層は塗布法で形成される。
【００１６】
本発明の有機ＥＬディスプレイパネルは、互いに隣接する画素Ａおよび画素Ｂにおける、前記画素Ａ内で前記画素Ｂに最も近い副画素ａと前記画素Ｂ内で前記画素Ａに最も近い副画素ｂとの間隔を「Ｄ」とした場合に、基板の端部における間隔Ｄ１が基板の中央部における間隔Ｄ２よりも短いことを特徴とする（後述）。ここで「基板の端部」とは、基板の周縁部のみを意味するのではなく、「基板の中央部」に対して相対的に外側の領域を意味する。同様に、「基板の中央部」とは、基板の中心点のみを意味するのではなく、「基板の端部」に対して相対的に中心点側の領域を意味する。すなわち、「基板の端部」および「基板の中央部」は、比較対象の２つの領域の相対的な位置関係を特定している。
【００１７】
本明細書において、「間隔Ｄ」、「間隔Ｄ１」、「間隔Ｄ２」とは、互いに隣接する画素Ａおよび画素Ｂにおける、前記画素Ａ内で前記画素Ｂに最も近い副画素ａと前記画素Ｂ内で前記画素Ａに最も近い副画素ｂとの間隔を意味する。
【００１８】
以下、本発明の有機ＥＬディスプレイパネルの各構成要素について説明する。
【００１９】
［基板］
基板の材料は、本発明の有機ＥＬディスプレイパネルがボトムエミッション型かトップエミッション型かによって異なる。本発明の有機ＥＬディスプレイパネルがボトムエミッション型の場合、基板の材料は、透明かつ絶縁体であれば特に限定されない。このような材料の例には、ガラスや透明樹脂などが含まれる。一方、本発明の有機ＥＬディスプレイパネルがトップエミッション型の場合、基板の材料は、絶縁体であれば特に限定されない。基板の大きさおよび厚さは、製造する有機ＥＬディスプレイパネルの大きさや基板の材料などに応じて適宜設定すればよい。
【００２０】
基板は、有機ＥＬ素子を駆動するための薄膜トランジスタ（駆動ＴＦＴ）を有していてもよい。ＴＦＴのソース電極またはドレイン電極は、有機ＥＬ素子の画素電極に接続される。この場合、有機ＥＬ素子は、ＴＦＴのソース電極またはドレイン電極と同一平面に配置されてもよいし、ＴＦＴデバイス上に積層して配置されてもよい。
【００２１】
［画素］
本発明の有機ＥＬディスプレイパネルでは、基板上に複数の画素がマトリクス状に配置されている。各画素は、赤色の光を発する副画素（有機ＥＬ素子）、緑色の光を発する副画素（有機ＥＬ素子）および青色の光を発する副画素（有機ＥＬ素子）を有する。画素の大きさは、特に限定されないが、例えば縦２２５μｍ×横２２５μｍ、縦３１８μｍ×横３１８μｍ、縦３６０μｍ×横３６０μｍ、縦４８０μｍ×横４８０μｍであればよい。副画素の大きさは、特に限定されず、画素の大きさに応じて適宜設定すればよい。たとえば、副画素の長軸の長さは２２５〜４８０μｍ程度であればよく、短軸の長さは７５〜１６０μｍ程度であればよい。本発明の有機ＥＬディスプレイパネルでは、すべての副画素の面積が同一であってもよいし、副画素の面積が色ごとに異なっていてもよい。いずれの場合であっても、同じ色の副画素の面積は、同一であることが好ましい。すなわち、赤色の光を発する副画素の面積はそれぞれ同一であり、緑色の光を発する副画素の面積はそれぞれ同一であり、青色の光を発する副画素の面積はそれぞれ同一であることが好ましい。
【００２２】
図１は、画素と副画素の関係を説明するための概念図（平面図）である。図１Ａに示されるように、基板１１０上には、複数の画素１２０がマトリクス状に配置される。この図では、画素間に間隙があるように描いているが、各画素は接触していてもよい。そして、図１Ｂに示されるように、各画素１２０は、赤色の光を発する副画素１３０Ｒ、緑色の光を発する副画素１３０Ｇおよび青色の光を発する副画素１３０Ｂを有する。
【００２３】
通常、異なる色の光を発する副画素間にはバンク（障壁）が設けられている。一方、異なる画素に含まれる同じ色の光を発する副画素間には、バンク（障壁）が設けられていることもあるし（図５Ａ参照；格子状バンク）、設けられていないこともある（図４参照；ライン状バンク）。すなわち、同じ色の光を発する複数の副画素が、基板上に連続して１列に配列されていることがある（図４参照）。この場合も、各副画素は、個別に制御されうる。
【００２４】
前述のとおり、基板上に配置された有機ＥＬ素子（副画素）は、それぞれ、１）画素電極、２）有機層、および３）対向電極を有する。また、各有機ＥＬ素子（副画素）は、任意に、正孔注入層、電子ブロック層、電子輸送層、電子注入層などの機能層をさらに有していてもよい。
【００２５】
１）画素電極
画素電極は、基板上に配置された導電性部材である。本発明の有機ＥＬディスプレイパネルでは、複数の画素電極が基板上にマトリクス状に配列される（図８Ａ参照）。画素電極は、通常陽極として機能するが、陰極として機能してもよい。画素電極の形状は、特に限定されないが、通常は１方向に長い形状（例えば、楕円形）である。画素電極の長軸および短軸の長さは、特に限定されず、副画素の大きさに応じて適宜設定すればよい。たとえば、画素電極の長軸の長さは２０５〜４６０μｍ程度であればよく、短軸の長さは５５〜１４０μｍ程度であればよい。画素電極の厚さは、特に限定されず、適宜設定すればよい。
【００２６】
画素電極の材料は、本発明の有機ＥＬディスプレイパネルがボトムエミッション型かトップエミッション型かによって異なる。本発明の有機ＥＬディスプレイパネルがボトムエミッション型の場合、画素電極の材料は、透明かつ導電体であれば特に限定されない。このような材料の例には、ＩＴＯ（酸化インジウム・スズ）やＩＺＯ（酸化インジウム・亜鉛）、ＺｎＯ（酸化亜鉛）などが含まれる。一方、本発明の有機ＥＬディスプレイパネルがトップエミッション型の場合、画素電極の材料は、光反射性を有し、かつ導電体であれば特に限定されない。このような材料の例には、銀を含む合金、より具体的には銀−パラジウム−銅合金（ＡＰＣ）や銀−ルテニウム−金合金（ＡＲＡ）、ＭｏＣｒ（モリブデンクロム）、ＮｉＣｒ（ニッケルクロム）、アルミニウム−ネオジム合金（Ａｌ−Ｎｄ）などが含まれる。また、光反射性の画素電極の表面には、ＩＴＯ膜またはＩＺＯ膜が形成されていてもよい。
【００２７】
２）有機層
有機層は、画素電極上に配置された、少なくとも有機発光層を含む層である。通常、有機層は、バンク（後述）によって規定される領域に有機層の材料液を塗布することで形成される。たとえば、有機層の材料液（有機層の材料をアニソールやシクロヘキシルベンゼンなどの有機溶媒に溶解させた溶液）を、塗布法（例えば、インクジェット法）によって塗布し、乾燥させることによって、有機層を形成することができる。有機発光層の厚さは、特に限定されないが、例えば５０〜１００ｎｍ程度であればよい。
【００２８】
有機発光層に含まれる有機ＥＬ材料は、塗布法により有機発光層を形成できるものであれば特に限定されない。有機ＥＬ材料は、副画素（有機ＥＬ素子）が発する光の色（赤色、緑色または青色）に応じて、副画素ごとに適宜選択される。有機ＥＬ材料は、高分子有機ＥＬ材料および低分子有機ＥＬ材料のいずれでもよいが、塗布法により形成する観点からは高分子有機ＥＬ材料が好ましい。高分子有機ＥＬ材料を用いることで、他の部材に損傷を与えることなく有機発光層を容易に形成することができるからである。高分子有機ＥＬ材料の例には、ポリフェニレンビニレンおよびその誘導体、ポリアセチレン（polyacetylene）およびその誘導体、ポリフェニレン（polyphenylene（ＰＰ））およびその誘導体、ポリパラフェニレンエチレン（polyparaphenyleneethylene）およびその誘導体、ポリ３−ヘキシルチオフェン（poly-3-hexylthiophene（Ｐ３ＨＴ））およびその誘導体、ポリフルオレン（polyfluorene（ＰＦ））およびその誘導体などが含まれる。低分子有機ＥＬ材料の例には、トリス（８−キノリノラート）アルミニウムなどが含まれる。
【００２９】
有機層は、有機発光層に加えて、電子ブロック層などの機能層を有していてもよい。電子ブロック層は、画素電極（または正孔注入層）と有機発光層との間に配置される。電子ブロック層は、有機発光層に正孔を効率よく運ぶ機能、および画素電極（または正孔注入層）への電子の侵入をブロックする機能を担う。電子ブロック層は、例えばポリアニリン系の材料からなる層である。電子ブロック層は、電子ブロック層の材料液（例えば、電子ブロック層の材料をアニソールやシクロベンゼンなどの有機溶媒に溶解させた溶液）を、画素電極（または正孔注入層）上に塗布することで形成されうる。電子ブロック層の厚さは、特に限定されないが、例えば１０〜４０ｎｍ程度であればよい。
【００３０】
３）対向電極
対向電極は、有機層上に配置される導電性部材である。対向電極は通常陰極として機能するが、陽極として機能してもよい。対向電極は、１つの有機ＥＬ素子（副画素）に対し１つ配置されていてもよいし、複数の有機ＥＬ素子（副画素）に対し１つ配置されていてもよい。たとえば、１枚のパネルに含まれるすべての有機ＥＬ素子（副画素）が、１つの対向電極を共有していてもよい。
【００３１】
対向電極の材料は、本発明の有機ＥＬディスプレイパネルがボトムエミッション型かトップエミッション型かによって異なる。本発明の有機ＥＬディスプレイパネルがトップエミッション型の場合、対向電極の材料は、透明かつ導電体であれば特に限定されない。このような材料の例には、ＩＴＯやＩＺＯ、ＺｎＯ、バリウム、アルミニウム、酸化タングステンなどが含まれる。一方、本発明の有機ＥＬディスプレイパネルがボトムエミッション型の場合、画素電極の材料は、導電体であれば特に限定されない。このような材料の例には、バリウムや酸化バリウム、アルミニウムなどが含まれる。
【００３２】
対向電極上には、さらに封止膜が配置されていてもよい。封止膜は、有機層や画素電極などを、水分や熱、衝撃などから保護する機能を担う。封止膜の材料の例には、窒化シリコンや酸化窒化シリコンなどが含まれる。
【００３３】
前述の通り、本発明の有機ＥＬディスプレイパネルは、互いに隣接する画素Ａおよび画素Ｂにおける、前記画素Ａ内で前記画素Ｂに最も近い副画素ａと前記画素Ｂ内で前記画素Ａに最も近い副画素ｂとの間隔を「Ｄ」とした場合に、基板の端部における間隔Ｄ１が基板の中央部における間隔Ｄ２よりも短いことを特徴とする。
【００３４】
図２は、本発明の有機ＥＬディスプレイパネルの特徴を説明するための模式図（平面図）である。この図では、説明の便宜上、バンクを省略している。図２Ａは、基板の端部における画素および副画素の位置関係を示しており、図２Ｂは、基板の中央部における画素および副画素の位置関係を示している。
【００３５】
図２に示されるように、本発明の有機ＥＬディスプレイパネルでは、互いに隣接する画素Ａ １２０Ａおよび画素Ｂ １２０Ｂにおける、前記画素Ａ １２０Ａ内で前記画素Ｂ １２０Ｂに最も近い副画素ａ １３０ａと前記画素Ｂ １２０Ｂ内で前記画素Ａ １２０Ａに最も近い副画素ｂ １３０ｂとの間隔を「Ｄ」とした場合に、基板の端部における間隔Ｄ１（図２Ａ参照）が基板の中央部における間隔Ｄ２（図２Ｂ参照）よりも短い（Ｄ１＜Ｄ２）。なお、図２では、副画素１３０の短軸方向の間隔Ｄのみを調整した例を示したが、図３に示されるように、副画素１３０の長軸方向の間隔Ｄのみを調整してもよい。もちろん、副画素１３０の長軸方向の間隔Ｄおよび短軸方向の間隔Ｄの両方を調整してもよい。
【００３６】
基板の端部における間隔Ｄ１と基板の中央部における間隔Ｄ２との差は、視認性の観点から、５０μｍ以下が好ましい。たとえば、図２の例において、基板の端部における間隔Ｄ１が２０μｍの場合、基板の中央部における間隔Ｄ２は７０μｍ以下が好ましい。このとき、副画素間の間隔Ｄは、基板の中央部から端部に向けて同じ値をとることなく漸次短くなってもよいし（例えば、３２μｍ，２９μｍ，２６μｍ，２３μｍ，２０μｍ…）、同じ値をとりながら段階的に短くなってもよい（例えば、３０μｍ，３０μｍ，２５μｍ，２５μｍ，２０μｍ…）。また、本発明の有機ＥＬディスプレイパネルにおける副画素間の間隔Ｄの最大値は、７５μｍ以下が好ましい。副画素間の間隔Ｄが７５μｍを超えると、有機層を形成する際に溶媒の蒸気濃度がかえって不均一となり、有機層の膜厚が不均一となるおそれがあるからである。
【００３７】
このように、本発明の有機ＥＬディスプレイパネルは、基板の端部における間隔Ｄ１が基板の中央部における間隔Ｄ２よりも短いことを特徴とする。基板の端部における間隔Ｄ１を基板の中央部における間隔Ｄ２よりも短くすることの効果については、有機ＥＬディスプレイパネルの製造方法について説明する際に説明する。
【００３８】
［バンク］
通常、本発明の有機ＥＬディスプレイパネルは、有機ＥＬ素子（副画素）の有機層を規定するバンクをさらに有する。バンクの材料は、絶縁体であれば特に限定されない。バンクの材料の例には、ポリイミドなどの絶縁性樹脂が含まれる。バンクの表面は、濡れ性が低い（例えば、撥液性であること）が好ましい。バンクの表面の濡れ性を低くするには、例えば、バンクの材料をフッ素樹脂を含む絶縁性樹脂としたり、フッ素系ガスプラズマでバンクの表面を処理したりすればよい。
【００３９】
バンクの形状は、特に限定されず、ライン状バンクであってもよいし、格子状バンクであってもよい。
【００４０】
本発明の有機ＥＬディスプレイパネルが互いに平行な複数のライン状バンクを有する場合、図４に示されるように、複数のライン状バンク１４０は、赤色の光を発する副画素１３０Ｒが一列に並んだ領域の有機層、緑色の光を発する副画素１３０Ｇが一列に並んだ領域の有機層、および青色の光を発する副画素１３０Ｂが一列に並んだ領域の有機層を規定する。この図では、各画素（副画素）の位置を特定するために、画素電極１５０の位置を破線で示している。図４に示されるように、本発明の有機ＥＬディスプレイパネルがライン状バンクを有する場合は、ライン状バンク１４０の長軸方向と直交する方向で互いに隣接する画素Ａ １２０Ａおよび画素Ｂ １２０Ｂにおける、副画素ａ １３０ａと副画素ｂ １３０ｂとの間隔Ｄが調整される。
【００４１】
一方、本発明の有機ＥＬディスプレイパネルが格子状バンクを有する場合、図５に示されるように、格子状バンク１４０は、赤色の光を発する副画素１３０Ｒの有機層、緑色の光を発する副画素１３０Ｇの有機層および青色の光を発する副画素１３０Ｂの有機層を規定する。この場合、図５Ａに示されるように、副画素１３０の長軸方向で互いに隣接する画素Ａ １２０Ａおよび画素Ｂ １２０Ｂにおける、副画素ａ １３０ａと副画素ｂ １３０との間隔Ｄを調整してもよいし、図５Ｂに示されるように、副画素１３０の短軸方向で互いに隣接する画素Ａ １２０Ａおよび画素Ｂ １２０Ｂにおける、副画素ａ １３０ａと副画素ｂ １３０ｂとの間隔Ｄを調整してもよい。
【００４２】
本発明の有機ＥＬディスプレイパネルがバンクを有する場合、互いに隣接する２つの画素Ａ，Ｂにおける、副画素ａ，ｂ間の間隔Ｄは、例えば、副画素ａ，ｂ間のバンクの幅を調整することで調整されうる。また、互いに隣接する２つの画素Ａ，Ｂにおける、副画素ａ，ｂ間の間隔Ｄは、副画素ａの有機層を規定するバンクと副画素ｂの有機層を規定するバンクとの間に間隙を設けることによっても調整されうる。この場合、バンク間の間隙に、バス電極などを配置してもよい。図６Ａは、バンク１４０の幅を調整することにより間隔Ｄを調整した例を示す断面図であり、図６Ｂは、２つのバンク１４０の間に間隙を設けることにより間隔Ｄを調整した例を示す断面図である。
【００４３】
次に、本発明の有機ＥＬディスプレイパネルの製造方法について説明する。
【００４４】
本発明の有機ＥＬディスプレイパネルは、本発明の効果を損なわない限り、任意の方法で製造されうる。たとえば、本発明の有機ＥＬディスプレイパネルは、１）基板を準備する第１のステップ、２）基板上に画素電極を形成する第２のステップ、３）基板上にバンクを形成する第３のステップ、４）バンクにより規定された領域に有機層を塗布形成する第４のステップ、および５）有機層上に対向電極を形成する第５のステップにより製造されうる。
【００４５】
１）第１のステップでは、基板を準備する。基板の種類は、製造する有機ＥＬディスプレイパネルの種類（ボトムエミッション型またはトップエミッション型）に応じて適宜選択すればよい。
【００４６】
２）第２のステップでは、基板上に画素電極を形成する。画素電極の材料は、製造する有機ＥＬディスプレイパネルの種類（ボトムエミッション型またはトップエミッション型）に応じて適宜選択すればよい。画素電極は、例えば、スパッタリング法などを用いて基板上に薄膜を形成し、この薄膜をエッチングしてパターニングすることにより形成されうる。
【００４７】
３）第３のステップでは、基板上にバンクを形成する。バンクの材料は、絶縁体であれば特に限定されない。バンクは、例えばフォトリソグラフィー法や、凸版印刷法、凹版印刷法などにより形成されうる。この第３のステップでは、基板の端部における副画素間の間隔Ｄ１が基板の中央部における副画素間の間隔Ｄ２よりも短くなるように、バンクを形成する（図２、図３および図６参照）。
【００４８】
４）第４のステップでは、バンクにより規定された領域に有機層を塗布形成する。具体的には、まず、有機層の材料を含む材料液をバンクにより規定された領域に塗布し、材料液をバンクにより規定された領域に貯留させる。材料液を塗布する方法は、特に限定されない。材料液を塗布する方法の例には、インクジェット法、ディスペンサー法、スクリーン印刷法、ダイコート法などが含まれる。次いで、有機層の材料液が塗布された基板を乾燥させて、バンクにより規定された領域に有機層を形成する。
【００４９】
従来の一般的な有機ＥＬディスプレイパネルでは、基板の単位面積あたりの有機層の材料液を塗布しない領域の面積が、基板の端部と中央部とで同じであった。したがって、基板の端部における溶媒の蒸気濃度は、基板の中央部における溶媒の蒸気濃度に比べて低くなってしまっていた。その結果、材料液の乾燥速度が基板の中央部に比べて端部で速くなるため、有機層の膜厚が画素間で不均一となっていた。
【００５０】
これに対し、本発明の有機ＥＬディスプレイパネルでは、基板の端部における副画素間の間隔Ｄ１を基板の中央部における副画素間の間隔Ｄ２よりも短くすることで、基板の単位面積あたりの有機層の材料液を塗布しない領域の面積を、基板の中央部に比べて端部で小さくしている。したがって、本発明の有機ＥＬディスプレイパネルでは、基板の端部における溶媒の蒸気濃度と、基板の中央部における溶媒の蒸気濃度とが、ほぼ同一となる。その結果、材料液の乾燥が面内で同じスピードで進行するため、有機層の膜厚が面内で均一となる。
【００５１】
５）第５のステップでは、有機層上に対向電極を形成する。対向電極の材料は、製造する有機ＥＬディスプレイパネルの種類（ボトムエミッション型またはトップエミッション型）に応じて適宜選択すればよい。対向電極は、例えば蒸着法やスパッタリング法などにより形成されうる。
【００５２】
以上の手順により、本発明の有機ＥＬディスプレイパネルを製造することができる。
【００５３】
以上のように、本発明の有機ＥＬディスプレイパネルは、基板の端部における副画素間の間隔Ｄ１が基板の中央部における副画素間の間隔Ｄ２よりも短いため、基板上における溶媒の蒸気濃度を均一化した状態で有機層を形成されうる。したがって、本発明の有機ＥＬディスプレイパネルでは、従来の有機ＥＬディスプレイパネルに比べて、有機層の膜厚が面内でより均一である。また、本発明の有機ＥＬディスプレイパネルは、材料液を塗布する位置に応じて材料液の塗布量を調整する必要も無く、かつ特別な部材を設置する必要も無いため、高い生産性でかつ低コストで製造されうる。
【００５４】
以下、本発明の実施の形態を図面を参照して説明するが、本発明はこれらの実施の形態により限定されない。
【００５５】
（実施の形態１）
実施の形態１では、ライン状バンクを有する本発明の有機ＥＬディスプレイパネルの例を示す。
【００５６】
図７Ａは、本発明の実施の形態１の有機ＥＬディスプレイパネルを示す平面図である。この図では、対向電極を省略している。図７Ｂは、図７Ａの平面図に各画素の位置を示す破線を追加した図である。
【００５７】
構造の観点から見ると、図７Ａに示されるように、実施の形態１の有機ＥＬディスプレイパネル１００は、基板１１０、第１のバンク１４０ａ、第２のバンク（以下「ライン状バンク」ともいう）１４０ｂ、第３のバンク１４０ｃ、複数の画素電極１５０、複数の正孔注入層１６０、有機発光層（有機層）１７０および対向電極１８０（図示せず）を有する。有機発光層１７０には、赤色の光を発する有機発光層１７０Ｒ、緑色の光を発する有機発光層１７０Ｇおよび青色の光を発する有機発光層１７０Ｂが含まれる。なお、図７Ａの平面図では、第１のバンク１４０ａは、ライン状バンク１４０ｂ、第３のバンク１４０ｃおよび有機発光層１７０の下にあるため、視認することはできない。同様に、画素電極１５０および正孔注入層１６０も、有機発光層１７０の下にあるため、視認することはできない。
【００５８】
動作の観点から見ると、図７Ｂに示されるように、基板１１０上には、複数の画素１２０がマトリクス状に配置されている。各画素１２０は、赤色の光を発する副画素１３０Ｒ、緑色の光を発する副画素１３０Ｇおよび青色の光を発する副画素１３０Ｂを有する。各副画素１３０Ｒ，Ｇ，Ｂは、画素電極１５０、正孔注入層１６０、有機発光層１７０Ｒ，Ｇ，Ｂ、対向電極１８０（図示せず）を有する。ここで、赤色の光を発する副画素１３０Ｒは、赤色の光を発する有機発光層１７０Ｒを有し、緑色の光を発する副画素１３０Ｇは、緑色の光を発する有機発光層１７０Ｇを有し、青色の光を発する副画素１３０Ｂは、青色の光を発する有機発光層１７０Ｂを有する。
【００５９】
基板１１０は、例えばガラス板や透明樹脂板などである。
【００６０】
第１のバンク１４０ａは、基板１１０上に形成されており、正孔注入層１６０の材料液が塗布される領域を規定する（図９Ａおよび図１０Ａ参照）。正孔注入層１６０の材料液が塗布される領域は、マトリクス状に配置される。第１のバンク１４０ａ上には、第２のバンク（ライン状バンク）１４０ｂおよび第３のバンク１４０ｃが形成されている。複数のライン状バンク１４０ｂは、互いに平行になるように一定の間隔（副画素の幅）で配置されている。一方、複数の第３のバンク１４０ｃはライン状バンク１４０ｂに直交するように、かつ各ライン状バンク１４０ｂの両端に接続するように配置されている。複数のライン状バンク１４０ｂおよび複数の第３のバンク１４０ｃにより、有機発光層１７０Ｒ，Ｇ，Ｂの材料液を塗布する領域が規定される（図９Ｂおよび図１０Ａ参照）。ライン状バンク１４０ｂの幅は、１０〜７５μｍ程度である。バンクの高さ（第１のバンク１４０ａの高さとライン状バンク１４０ｂの高さの合計）は、０.５〜１μｍ程度である。
【００６１】
図７ＡにおいてＤ１〜Ｄ４の記号で示されるように、青色の光を発する有機発光層１７０Ｂ（副画素１３０Ｂ）と赤色の光を発する有機発光層１７０Ｒ（副画素１３０Ｒ）との間のライン状バンク１４０ｂの幅（間隔Ｄ）は、基板１１０の端部（図中左側）では狭く、基板１１０の中央部（図中右側）では広くなっている。すなわち、ライン状バンク１４０ｂの長軸方向と垂直な方向（図中左右方向）で互いに隣接する副画素１３０Ｂ，１３０Ｒ間に位置するライン状バンク１４０ｂの幅（間隔Ｄ）は、基板１１０の中央部から端部に向けて徐々に狭くなっている（Ｄ１≦Ｄ２≦Ｄ３≦Ｄ４かつＤ１＜Ｄ４）。この構成は、基板の中心点を通過する線を軸として左右対称である。これに対し、赤色の光を発する有機発光層１７０Ｒ（副画素１３０Ｒ）と緑色の光を発する有機発光層１７０Ｇ（副画素１３０Ｇ）との間のライン状バンク１４０ｂの幅、および緑色の光を発する有機発光層１７０Ｇ（副画素１３０Ｇ）と青色の光を発する有機発光層１７０Ｂ（副画素１３０Ｂ）との間のライン状バンク１４０ｂの幅は、基板１１０上の位置に関わらず一定である。すなわち、画素１２０内で副画素１３０Ｒ，Ｇ，Ｂを隔てるバンクの幅は、一定である。
【００６２】
画素電極１５０は、基板１１０上にマトリクス状に配置されている（図８Ａ参照）。各画素電極１５０は、副画素１３０内にそれぞれ１つずつ配置されている。また、画素電極１５０は、ライン状バンク１４０ｂにより規定された細長い領域に、１列に並んで配列される（図８Ｂ参照）。このとき、画素電極１５０の長軸方向は、ライン状バンク１４０ｂの長軸方向と平行であることが好ましい（図８Ｂ参照）。画素電極１５０の長軸の長さは、２０５〜４６０μｍ程度である。一方、短軸の長さは、５５〜１４０μｍ程度である。
【００６３】
正孔注入層１６０は、第１のバンク１４０ａにより規定された領域内の、画素電極１５０上に形成されている（図９Ａおよび図１０Ａ参照）。正孔注入層１６０は、画素電極（陽極）１５０と有機発光層１７０との間に配置され、画素電極（陽極）１５０から有機発光層１７０への正孔の注入を補助する機能を担う。正孔注入層１６０の材料の例には、ポリスチレンスルホン酸をドープしたポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）（以下「ＰＥＤＯＴ−ＰＳＳ」という）およびその誘導体（共重合体など）、酸化タングステンや酸化モリブデンなどの遷移金属の酸化物などが含まれる。
【００６４】
有機発光層１７０は、正孔注入層１６０上に塗布形成された、有機ＥＬ材料を含む層である（図９Ｂおよび図１０Ｂ参照）。有機発光層１７０に含まれる有機ＥＬ材料は、副画素１３０Ｒ，Ｇ，Ｂが発する光の色（赤色、緑色、青色）に応じて、副画素１３０Ｒ，Ｇ，Ｂごとに適宜選択される。有機発光層１７０の厚さは、５０〜１００ｎｍ程度である。
【００６５】
対向電極１８０（図示せず）は、有機発光層１７０上に配置されている。対向電極１８０の材料は、製造する有機ＥＬディスプレイパネルの種類（ボトムエミッション型またはトップエミッション型）に応じて適宜選択される。
【００６６】
以下、図８〜１０を参照して、実施の形態１の有機ＥＬディスプレイパネル１００の製造方法について説明する。
【００６７】
まず、第１のステップでは、基板１１０を準備する。
【００６８】
次いで、第２のステップでは、図８Ａの平面図に示されるように、基板１１０上に画素電極１５０を形成する。たとえば、スパッタリング法などを用いて基板１１０上に薄膜を形成し、この薄膜をエッチングしてパターニングすることで、画素電極１５０を形成することができる。また、第４のステップにおいて正孔注入層１６０の材料液が画素電極１５０の表面によく馴染むように、画素電極１５０上にＩＴＯ膜を形成し、画素電極１５０をＩＴＯ膜で覆ってもよい。
【００６９】
次いで、第３のステップでは、図８Ｂの平面図に示されるように、基板１１０上にバンク（第１のバンク１４０ａ、ライン状バンク１４０ｂ、第３のバンク１４０ｃ）を形成する。このとき、ライン状バンク１４０ｂの長軸方向と垂直な方向（図中左右方向）で互いに隣接する画素１２０間に位置するライン状バンク１４０ｂの幅（間隔Ｄ）が、基板１１０の中央部から端部に向けて徐々に狭くなるようにする（Ｄ１≦Ｄ２≦Ｄ３≦Ｄ４かつＤ１＜Ｄ４）。たとえば、フォトリソグラフィー法や凸版印刷法、凹版印刷法などによって、バンク（第１のバンク１４０ａ、ライン状バンク１４０ｂ、第３のバンク１４０ｃ）を形成することができる。
【００７０】
次いで、第４のステップでは、図９Ａの平面図に示されるように、第１のバンク１４０ａにより規定された領域内の、画素電極１５０上に、正孔注入層１６０を形成する。たとえば、インクジェット法やディスペンサー法、スクリーン印刷法、ダイコート法などにより正孔注入層１６０の材料液（例えば、正孔注入材料を水に溶解させた溶液）を第１のバンク１４０ａにより規定された領域内に塗布し、乾燥させることによって、正孔注入層１６０を形成することができる。なお、正孔注入層１６０の材料が遷移金属の酸化物（酸化タングステンや酸化モリブデンなど）の場合は、第３のステップの前に蒸着法により正孔注入層１６０を形成することが好ましい。
【００７１】
次いで、第５のステップでは、図９Ｂの平面図および図１０Ａの断面図に示されるように、ライン状バンク１４０ｂおよび第３のバンク１４０ｃにより規定された領域に、有機発光層１７０の材料液を塗布する。たとえば、インクジェット法やディスペンサー法、スクリーン印刷法、ダイコート法などにより塗布することができる。
【００７２】
次いで、第６のステップでは、図７の平面図および図１０Ｂの断面図に示されるように、第５のステップで有機発光層１７０の材料液を塗布された基板１１０を減圧乾燥して、有機発光層１７０を形成する。
【００７３】
次いで、第７のステップでは、有機発光層１７０上に対向電極１８０を形成する。たとえば、蒸着法やスパッタリング法などにより対向電極１８０を形成することができる。
【００７４】
以上の手順により、実施の形態１の有機ＥＬディスプレイパネル１００を製造することができる。
【００７５】
実施の形態１の有機ＥＬディスプレイパネルは、基板の端部における副画素間の間隔Ｄが基板の中央部における副画素間の間隔Ｄよりも短いため、基板上における溶媒の蒸気濃度を均一化した状態で有機発光層（有機層）を形成されうる。したがって、実施の形態１の有機ＥＬディスプレイパネルでは、従来の有機ＥＬディスプレイパネルに比べてより有機発光層（有機層）の膜厚が面内で均一である。また、実施の形態１の有機ＥＬディスプレイパネルは、材料液を塗布する位置に応じて材料液の塗布量を調整する必要も無く、かつ特別な部材を設置する必要も無いため、高い生産性でかつ低コストで製造されうる。
【００７６】
（実施の形態２）
実施の形態２では、格子状バンクを有する本発明の有機ＥＬディスプレイパネルの例を示す。
【００７７】
図１１は、本発明の実施の形態２の有機ＥＬディスプレイパネルを示す平面図である。
【００７８】
図１１に示されるように、実施の形態２の有機ＥＬディスプレイパネル２００は、基板１１０、第１のバンク１４０ａ、格子状バンク２１０、複数の画素電極１５０、複数の正孔注入層１６０、有機発光層（有機層）１７０Ｒ，Ｇ，Ｂおよび対向電極１８０（図示せず）を有する。実施の形態２の有機ＥＬディスプレイパネル２００は、ライン状バンク１４０ｂおよび第３のバンク１４０ｃの代わりに格子状バンク２１０を有する点が、実施の形態１の有機ＥＬディスプレイパネル１００と異なる。実施の形態１の有機ＥＬディスプレイパネル１００と同じ構成要素については同一の符号を付し、重複箇所の説明を省略する。
【００７９】
格子状バンク２１０は、第１のバンク１４０ａ上に形成されており、有機発光層１７０Ｒ，Ｇ，Ｂの材料液を塗布する領域（副画素１３０Ｒ，Ｇ，Ｂ）を規定する。格子状バンク２１０の幅は、１０〜７５μｍ程度である。格子状バンク２１０の高さ（第１のバンク１４０ａの高さと格子状バンク２１０の高さの合計）は、０.５〜１μｍ程度である。
【００８０】
図１１においてＤ１〜Ｄ４の記号で示されるように、青色の光を発する有機発光層１７０Ｂ（副画素１３０Ｂ）と赤色の光を発する有機発光層１７０Ｒ（副画素１３０Ｒ）との間の格子状バンク２１０の幅（間隔Ｄ）は、基板１１０の端部（図中左側）では狭く、基板１１０の中央部（図中右側）では広くなっている。すなわち、副画素１３０の短軸方向（図中左右方向）で互いに隣接する副画素１３０Ｂ，１３０Ｒ間に位置する格子状バンク２１０の幅（間隔Ｄ）は、基板１１０の中央部から端部に向けて徐々に狭くなっている（Ｄ１≦Ｄ２≦Ｄ３≦Ｄ４かつＤ１＜Ｄ４）。この構成は、基板の中心点を通過する線を軸として左右対称である。これに対し、赤色の光を発する有機発光層１７０Ｒ（副画素１３０Ｒ）と緑色の光を発する有機発光層１７０Ｇ（副画素１３０Ｇ）との間の格子状バンク２１０の幅、緑色の光を発する有機発光層１７０Ｇ（副画素１３０Ｇ）と青色の光を発する有機発光層１７０Ｂ（副画素１３０Ｂ）との間の格子状バンク２１０の幅、および同じ色の光を発する副画素１３０Ｒ，Ｇ，Ｂ間の格子状バンク２１０の幅は、基板１１０上の位置に関わらず一定である。
【００８１】
実施の形態２の有機ＥＬディスプレイパネル２００は、実施の形態１の有機ＥＬディスプレイパネル１００と同様の手順により製造されうる。
【００８２】
実施の形態２の有機ＥＬディスプレイパネルは、実施の形態１の有機ＥＬディスプレイパネルと同様の効果を有する。
【００８３】
（実施の形態３）
実施の形態１，２では、１画素の幅が基板の端部と中央部とで異なる例について説明した。すなわち、画素の幅を「Ｗ」とすると、実施の形態１，２の有機ＥＬディスプレイパネルでは、基板の端部の画素の幅Ｗ１は、基板の中央部の画素の幅Ｗ４よりも狭かった（図７Ｂ、図１０Ｂおよび図１１参照）。実施の形態３では、すべての画素の幅が同じである、本発明の有機ＥＬディスプレイパネルについて説明する。
【００８４】
図１２Ａは、本発明の実施の形態３の有機ＥＬディスプレイパネルの部分拡大図（平面図）である。この図では、副画素１３０の短軸方向に１列に配列された１０の画素１２０ａ〜ｊを図示している。ここで、第１の画素１２０ａおよび第１０の画素１２０ｊは、基板の両端に位置するものとする。また、この図では、対向電極およびバンクを省略している。
【００８５】
実施の形態３の有機ＥＬディスプレイパネル３００は、基板１１０、複数の画素電極１５０、有機発光層（有機層）１７０Ｒ，Ｇ，Ｂおよび対向電極１８０（図示せず）を有する。実施の形態３の有機ＥＬディスプレイパネル３００は、各画素１２０の幅が同じである点、および画素１２０ごとに画素１２０内における副画素１３０Ｒ，Ｇ，Ｂの位置が異なる点が、実施の形態１の有機ＥＬディスプレイパネル１００と異なる。実施の形態１の有機ＥＬディスプレイパネル１００と同じ構成要素については同一の符号を付し、重複箇所の説明を省略する。
【００８６】
実施の形態３の有機ＥＬディスプレイパネル３００では、すべての画素の幅（副画素の短軸方向の画素の長さ）が同じである。すなわち、図１２Ａに示されるように、第１の画素１２０ａの幅Ｗ１、第２の画素１２０ｂの幅Ｗ２、…、第１０の画素１２０ｊの幅Ｗ１０は、すべて同じである。
【００８７】
一方、実施の形態３の有機ＥＬディスプレイパネル３００では、画素１２０内における副画素１３０Ｒ，Ｇ，Ｂの位置が、画素１２０ごとに異なっている。すなわち、基板の端部に位置する画素１２０に比べて、基板の中央部に位置する画素１２０では、画素１２０内における副画素１３０Ｒ，Ｇ，Ｂの位置が、より基板の中心点側に位置している。
【００８８】
図１２Ｂは、第１の画素１２０ａおよび第５の画素１２０ｅの拡大図である。この図からわかるように、第１の画素１２０ａでは、副画素１３０Ｒ，Ｇ，Ｂがほぼ中央に配置されているのに対し、第５の画素１２０ｅでは、副画素１３０Ｒ，Ｇ，Ｂが基板の中心点側に配置されている。なお、各画素１２０における副画素１３０間の間隔は、すべての画素１２０において同じである。
【００８９】
このように、画素１２０内における副画素１３０Ｒ，Ｇ，Ｂの位置を画素１２０ごとに変えることで、基板の端部の間隔Ｄを基板の中央部の間隔Ｄよりも短くすることができる。図１２Ａの例では、Ｄ１＜Ｄ２＜Ｄ３＜Ｄ４となっている。なお、実施の形態３の有機ＥＬディスプレイパネル３００では、基板の中央部の間隔Ｄ５のみは、間隔Ｄ１〜Ｄ４よりも狭くなるが、本発明の効果はある程度得られる。
【００９０】
実施の形態３の有機ＥＬディスプレイパネルは、実施の形態１の有機ＥＬディスプレイパネルと同様の効果を有する。
【００９１】
（実施の形態４）
実施の形態３では、１画素内の副画素間の幅が同じ例について説明した（図１２Ｂ参照）。実施の形態４では、１画素内の副画素間の間隔が基板の端部と中央部とで異なる例について説明する。
【００９２】
図１３は、本発明の実施の形態４の有機ＥＬディスプレイパネルの部分拡大図（平面図）である。この図では、副画素１３０の短軸方向に１列に配列された１０の画素１２０ａ〜ｊを図示している。ここで、第１の画素１２０ａおよび第１０の画素１２０ｊは、基板の両端に位置するものとする。また、この図では、対向電極およびバンクを省略している。
【００９３】
実施の形態４の有機ＥＬディスプレイパネル４００は、基板１１０、複数の画素電極１５０、有機発光層（有機層）１７０Ｒ，Ｇ，Ｂおよび対向電極１８０（図示せず）を有する。実施の形態４の有機ＥＬディスプレイパネル４００は、画素１２０ごとに画素１２０内における副画素１３０Ｒ，Ｇ，Ｂの位置が異なる点、および画素１２０ごとに画素１２０内の副画素１３０間の間隔が異なる点が、実施の形態３の有機ＥＬディスプレイパネル３００と異なる。実施の形態３の有機ＥＬディスプレイパネル３００と同じ構成要素については同一の符号を付し、重複箇所の説明を省略する。
【００９４】
実施の形態４の有機ＥＬディスプレイパネル４００では、すべての画素の幅（副画素の短軸方向の画素の長さ）が同じである。すなわち、図１３Ａに示されるように、第１の画素１２０ａの幅Ｗ１、第２の画素１２０ｂの幅Ｗ２、…、第１０の画素１２０ｊの幅Ｗ１０は、すべて同じである。
【００９５】
一方、実施の形態４の有機ＥＬディスプレイパネル４００では、画素１２０内における副画素１３０Ｒ，Ｇ，Ｂの位置が、画素１２０ごとに異なっている。すなわち、基板の端部に位置する画素１２０に比べて、基板の中央部に位置する画素１２０では、画素１２０内における副画素１３０Ｒ，Ｇ，Ｂ間の間隔が、より狭くなっている。
【００９６】
図１３Ｂは、第１の画素１２０ａおよび第５の画素１２０ｅの拡大図である。この図からわかるように、第５の画素１２０ｅにおける副画素１３０Ｒ，Ｇ，Ｂ間の間隔は、第１の画素１２０ａにおける副画素１３０Ｒ，Ｇ，Ｂ間の間隔よりも狭くなっている。
【００９７】
このように、画素１２０内における副画素１３０Ｒ，Ｇ，Ｂ間の間隔を画素１２０ごとに変えることで、基板の端部の間隔Ｄを基板の中央部の間隔Ｄよりも短くすることができる。図１２Ａの例では、基板の中央部の第４〜第７の画素１２０ｄ〜ｇにおける副画素１３０Ｒ，Ｇ，Ｂ間の間隔を、その他の画素１２０ａ〜ｃ，ｈ〜ｊにおける副画素１３０Ｒ，Ｇ，Ｂ間の間隔よりも狭くしている。その結果、Ｄ１＜Ｄ２＜Ｄ３となっている。
【００９８】
実施の形態４の有機ＥＬディスプレイパネルは、実施の形態３の有機ＥＬディスプレイパネルと同様の効果を有する。
【産業上の利用可能性】
【００９９】
本発明の有機ＥＬディスプレイパネルは、従来の有機ＥＬディスプレイパネルに比べて、有機層の膜厚が面内でより均一であり、かつ高い生産性で、低コストで製造されうるため、例えば大型の有機ＥＬディスプレイを製造する際に有用である。
【０１００】
また、本発明の思想は、有機ＥＬディスプレイパネルの製造だけではなく、例えば液晶ディスプレイパネルのカラーフィルタ基板にも適用することができる。
【符号の説明】
【０１０１】
１００，２００，３００，４００  有機ＥＬディスプレイパネル
１１０  基板
１２０  画素
１３０  副画素（有機ＥＬ素子）
１３０Ｒ  赤色の光を発する副画素
１３０Ｇ  緑色の光を発する副画素
１３０Ｂ  青色の光を発する副画素
１４０  バンク
１４０ａ  第１のバンク
１４０ｂ  第２のバンク（ライン状バンク）
１４０ｃ  第３のバンク
１５０  画素電極
１６０  正孔注入層
１７０  有機層または有機発光層
１７０’  乾燥前の有機ＥＬ材料を含む材料液
１８０  対向電極
２１０  格子状バンク
Ｗ  １画素の幅
Ｄ  画素Ａ内で画素Ｂに最も近い副画素ａと画素Ｂ内で画素Ａに最も近い副画素ｂとの間隔
【図１】
2010282903.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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