(57)【要約】【課題】スタンパー用ロールの表面にレジストを均一な厚みに形成できるレジスト塗布方法と、スタンパー形成方法を提供することを目的とする。【解決手段】被加工物としてのスタンパー用ロール（１）の軸心（１６）を鉛直軸に対して傾斜させた状態で軸心（１６）の周りに回転させ、そのレジストを滴下位置をスタンパー用ロールの軸心（１６）に沿って移動させてスタンパー用ロール（１）の表面にレジストを滴下することを特徴とする。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
被加工物としてのスタンパー用ロールの表面にレジストを塗布するに際し、
前記スタンパー用ロールの軸心を鉛直軸に対して傾斜させた状態で前記軸心の周りに回転させ、そのレジストを滴下位置を前記スタンパー用ロールの軸心に沿って移動させて前記スタンパー用ロールの表面にレジストを滴下する
レジスト塗布方法。
【請求項２】
前記スタンパー用ロールの表面のレジストに対して気体を吹き付けレジスト均一性を調整する
請求項１記載のレジスト塗布方法。
【請求項３】
前記スタンパー用ロールの表面のレジストに対して静電力を作用させてレジスト均一性を調整する
請求項１記載のレジスト塗布方法。
【請求項４】
被加工物としてのスタンパー用ロールの軸心を鉛直軸に対して傾斜させた状態で前記軸心の周りに回転させ、レジストの滴下位置を前記スタンパー用ロールの軸心に沿って移動させて前記スタンパー用ロールの表面にレジストを滴下して前記スタンパー用ロールの表面にレジストを塗布し、
前記スタンパー用ロールを前記軸心の周りに回転させ、前記スタンパー用ロールの表面に形成されたレジストに対して記録用レーザを照射し、
前記記録用レーザを前記軸心方向に移動させて前記レジストにスタンパー形状を記録する
スタンパー形成方法。
【請求項５】
被加工物としてのスタンパー用ロールの軸心を鉛直軸に対して傾斜させた状態で前記軸心の周りに回転させ、レジストの滴下位置を前記スタンパー用ロールの軸心に沿って移動させて前記スタンパー用ロールの表面にレジストを滴下して前記スタンパー用ロールの表面にレジストを塗布し、
前記スタンパー用ロールを前記軸心の周りに回転させ、前記スタンパー用ロールの表面に形成されたレジストに対して記録用レーザを照射し、
前記スタンパー用ロールの軸心の軸方向に同一ピッチまたはほぼ同一ピッチでピットもしくはグルーブを前記レジストに連続的に露光する
スタンパー形成方法。
【請求項６】
スタンパー用ロールの表面にレジストを塗布するに際し、
前記スタンパー用ロールの軸心を鉛直軸に対して傾斜させた状態で前記軸心の周りに回転させ、前記スタンパー用ロールの表面にレジストを滴下し、
前記スタンパー用ロールの表面のレジストに対して気体を吹き付けレジスト均一性を調整する
レジスト塗布方法。
【請求項７】
スタンパー用ロールの表面にレジストを塗布するに際し、
前記スタンパー用ロールの軸心を鉛直軸に対して傾斜させた状態で前記軸心の周りに回転させ、前記スタンパー用ロールの表面にレジストを滴下し、
前記スタンパー用ロールの表面のレジストに対して静電力を作用させてレジスト均一性を調整する
レジスト塗布方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、スタンパーに使用するスタンパー用ロールの表面にレジストを均一に形成するレジスト塗布方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、微小の機能的なパターンを作成する技術は、半導体のＲＡＭ製造技術、光ディスクおよびＭＥＭＳ（Micro Electro Mechanical Systems）に影響を与え、その微細化の方向のみならず、ナノインプリントなどのような、次世代のナノテクノロジーにつながる用途拡大の方向の道を辿っている。
【０００３】
この背景にあるのは、近年の微細化技術が進展してきて、従来までのミクロンオーダからサブミクロンへと、さらにサブミクロンからクォータミクロンへの加工が可能となってきたことに加え、量産技術が確立され設備の安定的な稼動が保証されることになったためと考えられる。最新の技術では０．１μｍレベル以下のラインアンドスペースもしくはピット、グルーブなどが一部の分野では実現可能となってきて、しかも安定した高歩留まりがすでに実現されている。
【０００４】
例えば、半導体ＤＲＡＭのラインアンドスペースでは、既に、露光方式で最小線幅９０ｎｍを切るレベルのものが普及期を迎えており、光ディスクにおいてもブルーレイディスクが開発され、０．１６μｍのグルーブ、０．３２μｍのピッチですでに量産が確立されている。
【０００５】
ナノインプリントでも連続的な転写を実現させるべく、ローラを用いて熱ナノプリントもしくはローラ転写プリントが可能で、例えば、特許文献１に見られる、成形ロールおよびその製造方法、光記録媒体用基板シートの製造装置がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開平５−１６２３０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ここでは、無限長のシートに対して、微細パターンを書き込んだローラを転写型として用いている点、この発明における量産性の進展は非常に大きいものがある。しかしながらこの方式の基になっている考えは、ローラの１周毎の同じパターンの繰り返し転写を基本とするものである。
【０００８】
もしもローラの外側円筒面に、連続的にかつ一定のピッチで巻線を施すように、例えば幅０．１μｍ程度のピットもしくはグルーブをピッチ０．２μｍで形成し、連続的に流れてくる一定の幅をもった樹脂や有機材料シートをこのローラを型として熱ナノインプリントし続ければ、表面上に描かれるピットもしくはグルーブは、流れてくる方向にほぼ平行で無限遠のものが継ぎ目なく連続的に形成されることになる。このような連続転写を樹脂や有機材料のシート上で製作することを考えれば、前述した従来例としての資料に記載された手法は、シームレスで転写はできるものの、転写されたものが無限遠に連続的になるものを考えておらず、実現させるには、端のつなぎに対して著しい精度が要求される。
【０００９】
本発明は、スタンパー用ロールの表面にレジストを均一な厚みに形成できるレジスト塗布方法と、このレジスト塗布方法によって表面に均一な厚みのレジストが形成されたスタンパー用ロールの表面の前記レジストに、スタンパー形状を連続に記録できるスタンパー形成方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の請求項１記載のレジスト塗布方法は、スタンパー用ロールの表面にレジストを塗布するに際し、前記スタンパー用ロールの軸心を鉛直軸に対して傾斜させた状態で前記軸心の周りに回転させ、そのレジストを滴下位置を前記スタンパー用ロールの軸心に沿って移動させて前記スタンパー用ロールの表面にレジストを滴下することを特徴とする。
【００１１】
本発明の請求項２記載のレジスト塗布方法は、請求項１において、前記スタンパー用ロールの表面のレジストに対して気体を吹き付けレジスト均一性を調整することを特徴とする。
【００１２】
本発明の請求項３記載のレジスト塗布方法は、請求項１において、前記スタンパー用ロールの表面のレジストに対して静電力を作用させてレジスト均一性を調整することを特徴とする。
【００１３】
本発明の請求項４記載のスタンパー形成方法は、被加工物としてのスタンパー用ロールの軸心を鉛直軸に対して傾斜させた状態で前記軸心の周りに回転させ、レジストの滴下位置を前記スタンパー用ロールの軸心に沿って移動させて前記スタンパー用ロールの表面にレジストを滴下して前記スタンパー用ロールの表面にレジストを塗布し、前記スタンパー用ロールを前記軸心の周りに回転させ、前記スタンパー用ロールの表面に形成されたレジストに対して記録用レーザを照射し、前記記録用レーザを前記軸心方向に移動させて前記レジストにスタンパー形状を記録することを特徴とする。
【００１４】
本発明の請求項５記載のスタンパー形成方法は、被加工物としてのスタンパー用ロールの軸心を鉛直軸に対して傾斜させた状態で前記軸心の周りに回転させ、レジストの滴下位置を前記スタンパー用ロールの軸心に沿って移動させて前記スタンパー用ロールの表面にレジストを滴下して前記スタンパー用ロールの表面にレジストを塗布し、前記スタンパー用ロールを前記軸心の周りに回転させ、前記スタンパー用ロールの表面に形成されたレジストに対して記録用レーザを照射し、前記スタンパー用ロールの軸心の軸方向に同一ピッチまたはほぼ同一ピッチでピットもしくはグルーブを前記レジストに連続的に露光することを特徴とする。
【００１５】
本発明の請求項６記載のスタンパー形成方法は、スタンパー用ロールの表面にレジストを塗布するに際し、前記スタンパー用ロールの軸心を鉛直軸に対して傾斜させた状態で前記軸心の周りに回転させ、前記スタンパー用ロールの表面にレジストを滴下し、前記スタンパー用ロールの表面のレジストに対して気体を吹き付けレジスト均一性を調整することを特徴とする。
【００１６】
本発明の請求項７記載のスタンパー形成方法は、スタンパー用ロールの表面にレジストを塗布するに際し、前記スタンパー用ロールの軸心を鉛直軸に対して傾斜させた状態で前記軸心の周りに回転させ、前記スタンパー用ロールの表面にレジストを滴下し、前記スタンパー用ロールの表面のレジストに対して静電力を作用させてレジスト均一性を調整することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１７】
このレジスト塗布方法によると、滴下されたレジストが前記スタンパー用ロールの傾きに沿って流れ落ちることを利用して前記スタンパー用ロールの表面にレジストを均一に塗布することができる。
【００１８】
また、このスタンパー形成方法によると、前記スタンパー用ロールの表面にスタンパー形状を連続的に記録することができ、ローラ転写によるナノインプリントが実現でき、一定幅の樹脂のシートに、連続的にかつ切れ目なく、同じパターンを転写していくことが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明のレジスト塗布方法を実施する実施の形態１のレジスト塗布装置の斜視図
【図２】同実施の形態の動作説明図
【図３】本発明のレジスト塗布方法を実施する実施の形態２のレジスト塗布装置の斜視図
【図４】同実施の形態の動作を説明する斜視図とＡ方向から見た矢視図およびＢの拡大図
【図５】本発明のレジスト塗布方法を実施する実施の形態３のレジスト塗布装置の斜視図
【図６】同実施の形態の絶縁体の形状の補足説明図
【図７】本発明のレジスト塗布方法によって塗布されたスタンパー用ロールにスタンパー形状を記録するスタンパー形成方法を実施するスタンパー記録装置の斜視図
【図８】別のスタンパー記録装置の斜視図
【発明を実施するための形態】
【００２０】
本発明の各実施の形態を図１〜図８に基づいて説明する。
（実施の形態１）
図１は本発明のレジスト塗布方法を実施するレジスト塗布装置を示している。
【００２１】
被加工物であるスタンパー用ロール１の表面にレジストを塗布するこのレジスト塗布装置２は、プレート３に装着されスタンパー用ロール１の回転シャフト４を回転自在に支持するスピンドル部５と、減速機６を介してスピンドル部５を低速回転と高速回転させることができるモータ７とを有している。８はこれらを支持する固定部である。
【００２２】
なお、前記低速回転とはスタンパー用ロール１へレジストを滴下する際に使用する回転で、１０〜６０〔回転／分〕程度である。前記高速回転とは、余分なレジストを振り切って厚さを均一化するときに使用する回転数で、６００〜９００〔回転／分〕程度である。
【００２３】
これらの機構は、通常の塗布装置に見られるように、カップ９の中に配置されており、必要に応じて、上カバー１０がシリンダ１１によって上下し、レジスト滴下時や、レジストの振り切り時にレジストが周囲に飛び散ることを防いでいる。
【００２４】
１２は先端にレジストを吐出するレジストノズル１３を備えたアームであって、上カバー１０が上昇しているときのみ、回転アクチュエータ１４によって、ノズル退避位置１５から図１に示すスタンパー用ロール１の上方へ入り込みレジストを塗布する。
【００２５】
スタンパー用ロール１は、図２（ａ）に示すように前記スタンパー用ロール１の軸心１６を鉛直軸１７に対して角度θだけ傾斜させた状態でプレート３に取り付けられている。
レジストは図２（ａ）に示すように、スタンパー用ロール１の周面のうちで最も位置が高い位置に、上方からアーム１２の先端のレジストノズル１３から吐出される。レジストが滴下されてしばらくの間は、スタンパー用ロール１はモータ７によって軸心１６の回り（スタンパー用ロール１の周面の方向）には回転駆動されていない停止状態にする。
【００２６】
このときレジストノズル１３の先端から塗布されるレジストは、円周方向と軸心１６の方向の両方の方向へ広がろうとする。しかし、軸心１６の方向についてはスタンパー用ロール１の周面上の嶺である直線１８を通らず、図２（ｂ）のように、よりポテンシャルの低い円周面を通って、ほぼ下の方向に流れ落ちる。さらに流れ落ちたレジストはスタンパー用ロール１の周面上の下の嶺である直線１９を通ってスタンパー用ロール１の一番下のエッジに集中し、重力にしたがって下に落ちる。この動きは、レジストの粘度によりスタンパー用ロール１の周面での広がり幅は変わるもののほぼ同じ傾向となる。
【００２７】
ここで減速機６を介してモータ７によってスタンパー用ロール１を軸心１６の回りに前記低速回転で回転駆動させれば、既にレジストが塗布される領域は一様に増えていき、ノズルの先端からまっすぐ下に伸ばした線が、スタンパー用ロール１の周面から突き出る点２０を境として、軸心方向（＋）側に関しては、レジストは塗布できる。しかし、逆方向の面に関しては、直接にノズルから塗布される部分がないために、レジストの粘度や、スタンパー用ロール１の表面の状態によって、流れる道が図２（ｃ）に示すように数本に別れてしまうような場合が出てくる。この場合は一様にレジストが塗布されるとは限らない。
【００２８】
そこでこの実施の形態のレジスト塗布方法では、図２（ｄ）に示すように滴下したレジストが周面に沿って流下し始めてからスタンパー用ロール１を減速機６を介してモータ７によって前記高速回転で回転駆動させるとともに、回転アクチュエータ１４によってアーム１２を移動させて、ノズルから滴下されたレジストがスタンパー用ロール１の周面に着弾する位置を、図２（ｅ）に示すスタンパー用ロール１の周面上の嶺である直線１８の両端間２１を水平方向に移動可能なようにしておけば、レジストノズルから直接塗布される領域が水平方向への移動にともない増加してスタンパー用ロール１の周面のすべての領域にレジスト塗布できる。
【００２９】
このようにして、多少のむらはあるものの、スタンパー用ロール１の周面にレジストが塗布されたら、次に図１の状態から回転アクチュエータ１４によってアーム１２を移動させてレジストノズル１３を退避させ、カバー１０をしてスピンドル５の回転数を増やし、数分間にわたって前記高速回転で駆動させる。
【００３０】
このとき、レジストにかかる力は、重力とスタンパー用ロール１の周面の回転による遠心力であり、最終的にはレジストの遠心力と表面張力とが釣り合うまで、レジストは周囲に飛ばされるか、重力で下に流れるかし、スタンパー用ロール１の周面に塗布されたレジストの膜厚がほぼ均一となる。
【００３１】
（実施の形態２）
実施の形態１ではスタンパー用ロール１の周面へのレジストの滴下が完了すると、スタンパー用ロール１をスピンドル部５によって高速回転することでレジストを振り切りレジストの膜厚を均一にしたが、図３と図４に示すこの実施の形態２では、スタンパー用ロール１を高速回転させずにエアーノズルを使用してレジストの膜厚を均一にしている点だけが異なっている。
【００３２】
回転シャフト４に保持されたスタンパー用ロール１０１の周面のよりわずかに離れた位置に設置されたエアーノズル２２ａ，２２ｂ，２２ｃは、図４（ｂ）に示すようにノズルの先端がスタンパー用ロール１の軸心方向に向いており、軸方向に圧縮空気が吹き付けられる。図示されていないが、エアーノズル２２ａ〜２２ｃには圧縮空気が送られてきており、その途中のバルブにてＯＮ／ＯＦＦされる構造となっている。
【００３３】
図４（ａ）に示すように、スタンパー用ロール１の周面にレジストが既に塗布されていて、スタンパー用ロール１が回転をしていなければ、エアーノズル２２ａ〜２２ｃから噴射された圧縮空気は、図４（ｃ）に示すようにスタンパー用ロール１の周面にあたり、中央部が高い圧力を持つ部分２３が発生し、この部分だけ局所的にレジストの膜圧を薄くし、周囲にレジストを押し退ける。中央部が高い圧力を持つ部分２３の周辺には圧縮空気の中心部に押し退けられたレジストが厚みをわずかに増す領域２４ができ、さらにその外側に、圧縮空気の影響は殆ど受けずレジストの厚さも圧縮空気を吹き付ける前と殆ど変化のない領域２５が存在する。
【００３４】
次にスタンパー用ロール１が回転する場合を考える。
図４（ａ）のエアーノズル２２ａ〜２２ｃは、高さ方向にも、水平方向にも故意にずらして設定してある。レジストノズル１３からレジストが滴下されると、重力にしたがって、レジストがスタンパー用ロール１の周面に落ち、この周面を広がりながら重力にしたがって流れる。このとき周面が図で示す方向に回転するとすれば、レジストは十分に広がる前に、エアーノズル２２ａによる圧縮空気に吹き付けられるところを通過しようとする。しかしながら、圧縮空気の中心からの圧力に勝つことができず、レジストは中心部をさけるように流れる軌跡が変わる。この場合、圧縮空気の中心をうまく設定すれば、殆どの流れ落ちてくるレジストがこの圧縮空気によって流れる経路をかえることが可能である。流れが変わったレジストは今度はエアーノズル２２ｂによる圧縮空気に吹き付けられ、さらに方向を変更し、エアーノズル２２ｃによる圧縮空気でなおいっそう流れの経路を変更させることが可能である。
【００３５】
図４（ａ）においては、これらが連続的に行われてスタンパー用ロール１の周面上のレジストが、エアーノズル２２ａ〜２２ｃからの圧縮空気によって強制的にスタンパー用ロール１の下端へ押される場合を示している。この場合は２６ａ，２６ｂ，２６ｃが、それぞれエアーノズル２２ａ，２２ｂ，２２ｃのエアーの吹き付けられる中心点である。このようにレジストの流れる方向をエアーノズルで強制的に変更させれば、結果的に薄いレジストの領域２７と厚いレジストの領域２８とができる。
【００３６】
なお、圧縮空気をスタンパー用ロール１の軸芯に向かって周面に噴射したが、必ずしも軸中心に向かって噴出させる必要はなく、レジストの流れる経路を変えるという目的に合致すれば、圧縮空気の向きにはこだわる必要がない。
【００３７】
また、実施の形態１のようにレジストノズル１３を水平方向に動かしても、レジストノズル１３を固定としても良い。
また、エアーノズル２２ａ〜２２ｃも固定の場合を説明したが、このノズルについても必要に応じて動かしてもよい。
【００３８】
また、図４では３つの圧縮空気用のノズルで説明したが、数は増やすことも可能である。噴射される気体が圧縮空気であったが、窒素などの不活性ガスであっても同様である。
（実施の形態３）
実施の形態１ではスタンパー用ロール１の周面へのレジストの滴下が完了すると、スタンパー用ロール１をスピンドル部５によって高速回転することでレジストの膜厚を均一にしたが、図５と図６に示すこの実施の形態３では、スタンパー用ロール１を高速回転させずに静電気を利用してレジストの膜厚を均一にしている点だけが異なっている。
【００３９】
回転シャフト４に保持されたスタンパー用ロール１の周面のよりわずかに離れた位置にスタンパー用ロール１の軸心方向に沿って延びる棒状の絶縁体２９が設置されている。絶縁体２９は静電気発生装置３０に絶縁体３１で結合されている。静電気発生装置３０は具体的にはヴァンデグラフ起電機である。
【００４０】
絶縁体２９について、代表的な例を図６（ａ）と図６（ｂ）に挙げる。
図６（ａ）に示す例の絶縁体２９は、スタンパー用ロール１に沿った長さＪ−Ｋに等しいかそれ以上の長さを持っており、絶縁体２９のひとつの曲面が、一定の幅で常にスタンパー用ロール１の周面に対して、一定の間隔を常に保つような並行曲面となるような構成となっている。つまり、スタンパー用ロール１の周面Ｓに対して、Ｅ−Ｆ−Ｇ−Ｈで構成される面が並行となっている。これは、絶縁体２９の周面Ｓに与える電界の強さが、どの部分をとってもほぼ同じに保つためである。
【００４１】
図６（ｂ）に示す例の絶縁体２９は、長さはスタンパー用ロール１の長さより短くても、スタンパー用ロール１の回転軸に平行な方向に直動可動なようにしておき、レジストの塗布量や濃度に応じて動かす。この場合の絶縁体２９の形状は、ひとつの曲面が一定の幅で常に周面Ｓに対して、一定の間隔を常に保つような並行曲面となるような構成である必要がある。つまり、周面ＳとＱ−Ｒ−Ｔ−Ｕで構成される面は並行でなければならない。
【００４２】
これらの作用について説明する。
静電気発生装置３０から発生された静電気は、まず、静電気発生装置３０上に溜まる。絶縁体３０は絶縁体２９につながっているため、絶縁体２９には、静電気発生装置３０で発生したと逆極性の静電気が貯められる。
【００４３】
一方、通常のレジストの溶媒はアルコールであり、アルコールは分極特性をもつために、静電気の影響を受けやすく、スタンパー用ロール１の軸回転により、荷電を帯びた絶縁体２９が近づけば、これに反応して、斥力か引力かが発生し、アルコールの軌道を変更させることが出来る。つまり、このアルコールに溶けているレジストの流れを変えることができる。ここでは絶縁体２９は、図６（ａ）で説明した形状で、静止している場合でも、図６（ｂ）のように示す形状であって、被加工物の回転軸に平行な方向に直動させてもどちらでも同様であって、静電気力によってレジストの膜厚を均一にできる。
【００４４】
なお、この実施の形態３の場合も実施の形態２のようにレジストノズル１３を水平方向に動かしても、レジストノズル１３を固定としても良い。
（実施の形態４）
実施の形態１〜実施の形態３の何れかのレジスト塗布方法によってレジストが均一に塗布したスタンパー用ロール１に、スタンパー形状を記録するスタンパー形成方法を、図７に基づいて説明する。
【００４５】
図７はスタンパー記録装置３２を示す。
定盤３３には、レジストを均一に塗布したスタンパー用ロール１を保持しスタンパー用ロール１の軸心が鉛直軸に一致するように回転駆動するモータ３４と、鉛直方向にスライド部３５を上下動させるスライド機構３６と、スライド機構３６に取り付けられてスタンパー用ロール１の周面に塗布されたレジストを目的のピットもしくはグルーブを露光する記録用光学系３７とが設けられている。
【００４６】
スライド機構３６は、スライダガイド３８と、スライダガイド３８に沿って鉛直方向に動くスライド部３５と、モータ３９を装着するブラケット４０とで構成されている。
記録用光学系３７は、スタンパー用ロール１にレーザ光４４を集光する対物レンズ４１と、最終ミラー４２および下から来るレーザを水平方向に変更する移動ミラー４３がスライド機構３６のスライド部３５に装着されており、モータ３９によって昇降駆動されるスライド部３５がどの位置にあっても、レーザ光はスタンパー用ロール１の周面に焦点が合うように構成されている。
【００４７】
運転の制御部は次のように構成されている。
図７に示す装置の動作としては、スタンパー用ロール１の周面Ｓにピットもしくはグルーブを等間隔で作成するためには、モータ３４を一定速度で回転しながら、スライド部３５を等速で下降（または上昇）させるとともに、記録用光学系３７の光を目的のピットもしくはグルーブに応じて変調して照射して記録し、この後、現像をした後で、レジストを硬化させるか、レジストをマスキングとしてエッチングを行うなどの処理をすれば、所望の信号が記録されたスタンパー用ロール１が製作可能となる。
【００４８】
この目的のピットもしくはグルーブが周面に記録されたスタンパー用ロール１を使用することによって、連続的に流れてくる一定の幅をもった樹脂や有機材料シートに、前記ピットやグルーブのナノインプリントの転写を継ぎ目なく、連続的におこなうことが可能となる。
【００４９】
（実施の形態５）
実施の形態４のスタンパー記録装置では、レジストを均一に塗布したスタンパー用ロール１の軸心が鉛直方向に一致するように回転駆動したが、図８に示すようにレジストを均一に塗布したスタンパー用ロール１の軸心が水平方向に一致するように保持して回転駆動し、スライド部３５をスタンパー用ロール１の軸心と平行に移動させることによっても、前記スタンパー用ロール１の軸心の軸方向に同一ピッチまたはほぼ同一ピッチでピットもしくはグルーブをレジストに連続的に露光することができる。
【００５０】
なお、実施の形態２では、スタンパー用ロール１を高速回転させずにエアーノズルを使用してレジストの膜厚を均一にしたが、実施の形態１において、スタンパー用ロール１の周面へのレジストの滴下が完了すると、スタンパー用ロール１をスピンドル部５によって高速回転することでレジストを振り切りレジストの膜厚を均一にし、さらにエアーノズルを使用してレジストの膜厚をさらに均一にすることもできる。
【００５１】
また、実施の形態３では、スタンパー用ロール１を高速回転させずに静電気を利用してレジストの膜厚を均一にしたが、実施の形態１において、スタンパー用ロール１の周面へのレジストの滴下が完了すると、スタンパー用ロール１をスピンドル部５によって高速回転することでレジストを振り切りレジストの膜厚を均一にし、さらに静電気を利用してレジストの膜厚を均一にすることもできる。
【００５２】
また、実施の形態１において、スタンパー用ロール１の周面へのレジストの滴下が完了すると、スタンパー用ロール１をスピンドル部５によって高速回転することでレジストを振り切りレジストの膜厚を均一にし、エアーノズルを使用してレジストの膜厚をさらに均一にし、さらに静電気を利用してレジストの膜厚を均一にすることもできる。
【産業上の利用可能性】
【００５３】
本発明は、連続的に流れてくる一定の幅をもった樹脂や有機材料シートに、ピットやグルーブのナノインプリントの転写を継ぎ目なく、連続的におこなうことができ、各種の量産工程の改善に寄与できる。
【符号の説明】
【００５４】
１    スタンパー用ロール
２    レジスト塗布装置
３    プレート
４    回転シャフト
５    スピンドル部
６    減速機
７    モータ
８    固定部
９    カップ
１０    上カバー
１１    シリンダ
１２    アーム
１３    レジストノズル
１４    回転アクチュエータ
１５    ノズル退避位置
１６    スタンパー用ロールの軸心
１７    鉛直軸
θ    角度
１８    スタンパー用ロールの周面上の嶺である直線
１９    スタンパー用ロールの周面上の下の嶺である直線
２０    スタンパー用ロールの周面から突き出る点
２１    スタンパー用ロールの周面上の嶺である直線１８の両端間
２２ａ，２２ｂ，２２ｃ    エアーノズル
２３    中央部が高い圧力を持つ部分
２４    レジストが厚みをわずかに増す領域
２５    圧縮空気を吹き付ける前と殆ど変化のない領域
２６ａ，２６ｂ，２６ｃ    エアーの吹き付けられる中心点
２７    薄いレジストの領域
２８    厚いレジストの領域
２９    絶縁体
３０    静電気発生装置
３１    絶縁体
３２    スタンパー記録装置
３３    定盤
３４    モータ
３５    スライド部
３６    スライド機構
３７    記録用光学系
３８    スライダガイド
３９    モータ
４０    ブラケット
４４    レーザ光
４１    対物レンズ
４２    最終ミラー
４３    移動ミラー
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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