(57)【要約】【課題】直径変動の少ない光伝送体を製造する方法を提供すること。【解決手段】本発明は、プラスチック光伝送体の製造装置であって、光伝送体原糸３４にレーザを照射しながら延伸する延伸装置２２を備えることを特徴とする。【選択図】図３
2010282132.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラスチック光伝送体の製造装置であって、
光伝送体原糸にレーザを照射しながら延伸する延伸装置を備える、
プラスチック光伝送体製造装置。
【請求項２】
光伝送体原糸が、
硬化後に得られる硬化物の屈折率がｎ１ 、ｎ２ 、・・・、ｎＮ （Ｎ≧３）であるＮ個の未硬化物を同心円状に積層して、中心部から外周部に向かって屈折率が順次減少したファイバ状の未硬化物積層体を形成する積層装置と、
前記未硬化物積層体を硬化させる硬化装置によって得られるものである
請求項１記載のプラスチック光伝送体製造装置。
【請求項３】
前記延伸装置が、複数のレーザビームを周囲から照射しながら延伸を行う、
請求項１又は２に記載のプラスチック光伝送体製造装置。
【請求項４】
プラスチック光伝送体の製造方法であって、
光伝送体原糸にレーザを照射しながら延伸するステップを備える、
プラスチック光伝送体の製造方法。
【請求項５】
光伝送体原糸が、
硬化後に得られる硬化物の屈折率がｎ１ 、ｎ２ 、・・・、ｎＮ （Ｎ≧３）であるＮ個の未硬化物を同心円状に積層して、中心部から外周部に向かって屈折率が順次減少したファイバ状の未硬化物積層体を形成するステップと、
前記未硬化物積層体を硬化させるステップと、
により製造される請求項４記載のプラスチック光伝送体の製造方法。
【請求項６】
前記硬化ステップの前に、積層体の各層間の屈折率分布が連続的に変化するように隣接層間の成分の相互拡散させるステップを備えている、
請求項５に記載のプラスチック光伝送体の製造方法。
【請求項７】
前記レーザの照射が複数のレーザビームを周囲から照射することによって行われる、
請求項４ないし６のいずれか１項に記載のプラスチック光伝送体の製造方法。
【請求項８】
前記レーザが、波長約１０．６μｍの炭酸ガスレーザによって行われる、
請求項４ないし７のいずれか１項に記載のプラスチック光伝送体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はプラスチック光伝送体の製造装置および方法に関し、詳細には、ステップインデックス型光伝送体、光集束性光伝送体、光集束性棒状レンズ、光センサ等の光伝送路として利用されるプラスチック光伝送体の製造装置および方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
プラスチック光伝送体（以下、「光伝送体」という。）は、内部から径方向外方に向かって屈折率が階段状に変化するステップインデックス型と、内部から径方向外方に向かって２次曲線にほぼ近似した屈折率分布を有するグレーテッドインデックス型光伝送体に大別される。
【０００３】
ステップインデックス型光伝送体は主に光通信分野の光伝送路として用いられる。
一方、グレーテッドインデックス型光伝送体は、光集束性光伝送体とも呼ばれレンズ機能を有している。このため、単体で光通信分野の光伝送路として用いられる他、光集束性棒状レンズとして用いられる。具体的には、光集束性光伝送体は多数本を配列して接着一体化してプラスチック光伝送体アレイ（以下、単に「光伝送体アレイ」という）として複写機、ファクシミリ、スキャナ等のラインセンサ用の部品として、またＬＥＤプリンタの書き込みデバイス等に広く用いられている。
【０００４】
光伝送体は、その機械的強度を向上させるために、製造過程において加熱延伸工程が不可欠である。このよう加熱延伸工程では、例えば、図１に示されているような熱処理装置１を用いることが知られている（特許文献１参照）
【０００５】
この加熱延伸装置１は、熱媒として加熱空気を用いるもので、加熱炉２と、加熱炉２に光伝送体４を矢印Ａ方向に定速で供給する送りローラ６と、熱処理後の光伝送体を加熱炉２から定速で引出す引出しローラ８とを備えている。この装置では、熱風加熱１０で加熱された空気が、熱風吹き出し管１２を経て加熱炉２に送られる。この加熱延伸装置１では、引出しローラ８の回転速度は、送りローラ６の回転速度より早くなるように設定され、その速度比に応じた倍率の熱延伸が施される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開平５−１１１２８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
加熱延伸装置に供給される光伝送体原糸には、直径変動が存在しているため、上記のような加熱延伸装置では、加熱炉内を通過する際、直径が小さい部分は直径が大きい部分より大きく延ばされ直径変動が増幅されるという問題があった。
【０００８】
また、光伝送体では、未硬化物積層体の隣接層間の相互拡散処理を行いながら、または相互拡散処理を行った後に光重合による硬化処理が行われるが、効果処理後に光伝送体内には１％を超える残存モノマーが存在する。このような残存モノマー量が局所的に異なるとガラス転移温度（Ｔｇ）も光伝送体内で局所的に異なってしまう。
このようにガラス転移温度（Ｔｇ）が局所的に異なる光伝送体を、上述したような加熱延伸装置で処理すると、光伝送体原糸の直径変動が増幅されるという問題もあった。
【０００９】
ここで光集束性光伝送体について説明する。光伝送体の２乗分布状媒質の集束パラメータｇは下記の（１）式によって与えられる。
ｇ２＝２×（ｎ０−ｎ（Ｌ））／（ｎ０×Ｌ２）    …（１）
Ｌ：光軸からの半径方向の距離
ｎ０：光軸上の屈折率
ｎ（Ｌ）：光軸から半径方向に距離Ｌだけ離れた位置の屈折率
また、多数本の光伝送体を配列し接着一体化した光伝送体アレイの共役長Ｔｃは、下記の（２）式によって与えられる。
Ｔｃ＝Ｚ０−（２／（ｎ０×ｇ））×ｔａｎ（（Ｚ０×ｇ）／２）  …（２）
Ｚ０：光伝送体の長さである。
上記（１）及び（２）式から、光伝送体に直径変動があると、光伝送体アレイに組立てた際の共役長がばらつき結果的に不良品となってしまうことが解る。
【００１０】
また、ステップインデックス型光伝送体単体として使用する場合においても、光伝送体の直径変動は大きな問題であり、特に、光伝送体を、光コネクタへ挿入したり、光伝送体同士を接合したり光センサ用途で接合口金へ挿入したりする場合において、直径変動の少ない光伝送体が強く要求されている。
【００１１】
本発明は、このような問題に対処するためになされたものであり、直径変動の少ない光伝送体を製造する装置および方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明によれば、
プラスチック光伝送体の製造装置であって、
光伝送体原糸にレーザを照射しながら延伸する延伸装置を備える、
プラスチック光伝送体製造装置が提供される。
好ましくは
光伝送体原糸は、
硬化後に得られる硬化物の屈折率がｎ１ 、ｎ２ 、・・・、ｎＮ （Ｎ≧３）であるＮ個の未硬化物を同心円状に積層して、中心部から外周部に向かって屈折率が順次減少したファイバ状の未硬化物積層体を形成する積層装置と、
前記未硬化物積層体を硬化させる硬化装置によって得られるものである。
【００１３】
このような構成によれば、延伸（変形）開始点がレーザ照射部分の極めて狭い範囲に固定できるため、光伝送体原糸の直径変動や残存モノマーの変化に影響されることなく延伸が可能となり延伸による直径変動の増幅を低減できる。
【００１４】
本発明の他の好ましい態様によれば、前記延伸装置が、複数のレーザビームを周囲から照射しながら延伸を行う。
【００１５】
本発明の他の態様によれば
プラスチック光伝送体の製造方法であって、
光伝送体原糸にレーザを照射しながら延伸するステップを備える、
プラスチック光伝送体の製造方法が提供される。
好ましくは
光伝送体原糸が、
硬化後に得られる硬化物の屈折率がｎ１ 、ｎ２ 、・・・、ｎＮ （Ｎ≧３）であるＮ個の未硬化物を同心円状に積層して、中心部から外周部に向かって屈折率が順次減少したファイバ状の未硬化物積層体を形成するステップと、
前記未硬化物積層体を硬化させるステップと、
により製造されるものである。
【００１６】
このような構成によれば、延伸（変形）開始点がレーザ照射部分の極めて狭い範囲に固定できるため、光伝送体原糸の直径変動や残存モノマーの変化に影響されることなく延伸が可能となり延伸による直径変動の増幅を低減できる。
【００１７】
本発明の他の好ましい態様によれば、前記硬化ステップの前に、積層体の各層間の屈折率分布が連続的に変化するように隣接層間の成分の相互拡散させるステップを備えている。
【００１８】
本発明の他の好ましい態様によれば、前記レーザの照射が複数のレーザビームを周囲から照射することによって行われる。
【００１９】
本発明の他の好ましい態様によれば、前記レーザが、波長約１０．６μｍの炭酸ガスレーザによって行われる。
【発明の効果】
【００２０】
本発明によれば、直径変動の少ない光伝送体を製造する方法が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】従来技術の光伝送体製造装置の熱処理装置の構成を示す図面である。
【図２】本発明の実施形態で使用される原糸製造装置の概略構成を示す模式的な図面である。
【図３】本発明の実施形態で使用される延伸装置の概略構成を示す模式的な図面である。
【図４】図３の延伸装置に含まれるレーザ照射装置の構成を示す概略図である。
【図５】実施例と比較例に用いた光伝送体原糸の直径変動結果である。
【図６】実施例で作製した光伝送体の直径変動結果である。
【図７】比較例で作製した光伝送体の直径変動結果である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
次に、本発明の実施形態の光伝送体の製造装置および方法について説明する。
先ず、本発明の実施形態の光伝送体製造装置について説明する。
光伝送体製造装置は、上流側に配置された原糸製造装置２０と、下流側に配置された延伸装置２２とを備えている。図２は、原糸製造装置２０の概略構成を示す模式的な図面であり、図３は延伸装置２２の概略構成を示す模式的な図面である。
【００２３】
原糸製造装置２０は、硬化させた後に得られる硬化物の屈折率がｎ１ 、ｎ２ 、・・・、ｎＮ （Ｎ≧３）であるＮ個の未硬化物を同心円状に積層して中心部から外周部に向かって屈折率が順次減少したファイバ状の未硬化物積層体を形成し、この積層体の各層間の屈折率分布が連続的に変化するグレーテッドインデックス型の分布を形成するように隣接層間の成分の相互拡散処理を行い、積層体を硬化させ光伝送体を製造する装置である。
【００２４】
原糸製造装置２０は公知の装置と同様の構成を有し、図２に示されているように、Ｎ種類（例えば５種類）の未硬化の単量体を同心円状に積層配置し未硬化の糸状体２４とする同心円状複合ノズル２６と、複合ノズル２６の下流側に設けられ相互拡散部２８を備えている。
【００２５】
相互拡散部２８では、糸状体２４の各層の単量体を相互に拡散され、糸状体２４にグレーテッドインデックス型の屈折率分布が与えられる。相互拡散部２８の下流側には、単量体を硬化させる第１および第２の硬化処理部３０、３２が設けられている。糸状体２４は、第１および第２の硬化処理部３０、３２で紫外線等によって硬化させられ光伝送体の原糸３４となる。
【００２６】
第２の硬化処理部３２の下流側には、糸状体２４を矢印Ｃ方向に搬送し、単量体が硬化させられた原糸３４を原糸製造装置２０から下流側の延伸装置２２に向けて連続的に送出する引取りローラ３６が設けられている。なお、原糸３４をいったんボビン等に巻き取る等した後、延伸装置２２に供給する構成でもよい。
【００２７】
硬化処理部３０、３２においては、紫外線を周囲から作用させ、光硬化触媒を含有する糸状物に光硬化処理を行う。光重合に用いる光源としては１５０〜６００ｎｍの波長の光を発生する炭素アーク灯、高圧水銀灯、中圧水銀灯、低圧水銀灯、超高圧水銀灯、ケミカルランプ、キセノンランプ、レーザ光等が好ましい。
【００２８】
原糸製造装置２０には、相互拡散部２８、第１および第２の硬化処理部３０、３２に窒素等の不活性ガスを導入する不活性ガス導入口３８と、この不活性ガスを排出する不活性ガス排出口４０が設けられている。糸状体２４から遊離した単量体などの揮発性物質が不活性ガスによって、相互拡散部２８、第１および第２の硬化処理部３０、３２から除去される。
【００２９】
図３に示されているように、延伸装置２２は、原糸製造装置２０から送り込まれた原糸３４の直径を連続的に測定する直径測定装置４２と、上流側の延伸処理部４４と、延伸処理部４４の下流に配置された緩和処理部４６とを備えている。
【００３０】
延伸処理部４４は、送りローラ４８と、予熱装置５０と、レーザ照射装置５２と、延伸ローラ５４とを備え、送り込まれた原糸３４を予熱した後、原糸３４にレーザを照射しながら延伸ローラ５４と送りローラ４８の回転差で原糸３４を延伸する。
【００３１】
予熱装置５０は、原糸３４の内部まで熱を伝えることを目的とし、例えば、ホットローラ、熱風炉、温水槽、遠赤外線ヒータ、ワイヤーヒータ等公知の加熱方法が用いられる。予熱温度は、光伝送体原糸３４の軟化温度以下であれば特に限定されないが、例えば、軟化温度より５〜８０℃低い温度範囲が好ましく、軟化温度より１０〜６０℃低い温度範囲がさらに好ましい。
【００３２】
図４は、レーザ照射装置５２の構成を示す概略図である。レーザとして、炭酸ガスレーザ、ＹＡＧレーザ、アルゴンレーザ、エキシマレーザ等が使用可能であるが、本実施形態では、ほとんどの高分子が適度に吸収する波長約１０．６μｍの高出力赤外線光線が得られ、コストパフォーマンスとエネルギー効率に優れていることから炭酸ガスレーザが用いられている。
【００３３】
レーザ照射装置５２の構造は、特に限定されるものではないが、本実施形態では、レーザ光源からのレーザビーム５４を、複数のハーフミラー５６を用いて分岐させ、分岐させた３本のレーザビーム５４ａ、５４ｂ、５４ｃを、レーザ照射装置５２内を搬送される原糸３４にミラー５８を用いて３方向から照射する構成が採られている。
本実施形態のレーザ照射装置５２では、レーザの出力を測定する測定装置６０および原糸３４に照射されたレーザビームを停止させるストッパ６２が設けられている。
【００３４】
レーザ照射パワーは、例えば、総レーザ照射パワーは、０．３〜６０Ｗ程度、好ましくは０．９〜３０Ｗ程度、より好ましくは１．５〜１５Ｗ程度である。また、より均一に加熱するためには少なくとも２方向以上からレーザ照射を行うのが好ましい。例えば、３方向からのレーザ照射を行う場合は、１方向当たり０．１〜２０Ｗ程度、好ましくは０．３〜１０Ｗ程度、より好ましくは０．５〜５Ｗ程度である。
【００３５】
レーザ照射時の原糸の搬送速度は、延伸倍率や延伸温度（レーザ照射パワー）に基づいて適宜設定される。例えば、延伸倍率を２〜８．５倍とする場合には、送りローラ４８による搬送速度が０．３〜２０ｍ／ｍｉｎ、延伸ローラ５４による搬送速度が０．６〜１７０ｍ／ｍｉｎとなる。
【００３６】
緩和処理部４６は、緩和炉６４と、緩和ローラ６６とを備え、延伸された原糸を緩和装置６４で加熱しながら、延伸ローラ５４と緩和ローラ６６の回転差による緩和処理を行い光伝送体６８とする。
【００３７】
緩和装置６４としては、公知の加熱方法を用いることができ、例えば、ホットローラ、熱風炉、温水槽、遠赤外線ヒータ、ワイヤーヒータ等が挙げられ、例えば、連続して緩和処理を行う場合、延伸された光伝送体を延伸ローラから加熱炉に供給し、加熱炉を通過した光伝送体を緩和ローラで延伸ローラよりも遅い速度で引き取って緩和する方法等があげられる。
【００３８】
緩和時の雰囲気温度は光伝送体の材質等に応じて設定されるが、得られる光伝送体６８の熱収縮を効果的に低下させるためには光伝送体原糸のＴｇ以上とすることが好ましい。延伸された光伝送体原糸の長さに対する緩和処理された光伝送体の長さ（緩和倍率）は、所望の光伝送体直径により決定されるが、４／５倍〜９９／１００倍程度となるようにすることが好ましい。
緩和倍率が９９／１００倍を超えると、熱による光伝送体の収縮が発生しやすくなるおそれがあり、緩和倍率が４／５倍未満であると、光伝送体直径変動が大きくなるおそれがある。緩和倍率は延伸ローラ及び緩和ローラの速度比で調節することができる。
【００３９】
緩和処理部４６の下流には、光伝送体６０の直径を測定する直径測定機７０と、光伝送体６０を巻き取るボビン７２が配置されている。尚、得られた光伝送体６０をボビンに巻き取ることなく、連続的に所望の長さに切断する構成でもよい。
【００４０】
次に、光伝送体製造装置によって実施される本発明の実施形態の光伝送体製造方法について説明する。
【００４１】
まず、複合ノズル２６を使って、硬化した後の屈折率ｎがｎ１ ＞ｎ２ ＞・・・・＞ｎＮ（Ｎ≧３）なるＮ個の未硬化物を中心から外周部に向かって順次屈折率が低くなるように同心円状に積層して糸状体２４を形成する。
【００４２】
この未硬化物を構成する物質としてはラジカル重合性ビニル単量体または該単量体と該単量体に可溶な重合体とよりなる組成物などを用いることができる。
ラジカル重合性ビニル単量体の具体例としてはメチルメタクリレート（ｎ＝１．４９）、スチレン（ｎ＝１．５９）、クロルスチレン（ｎ＝１．６１）、酢酸ビニル（ｎ＝１．４７）、２，２，３，３−テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、２，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロペンチル（メタ）アクリレート、２，２，３，４，４，４−ヘキサフルオロブチル（メタ）アクリレート、２，２，２−トリフルオロエチル（メタ）アクリレート等のフッ素化アルキル（メタ）アクリレート（ｎ＝１．３７〜１．４４）、屈折率１．４３〜１．６２の（メタ）アクリレート類たとえばエチル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、脂環式（メタ）アクリレート、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、アルキレングリコール（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ又はトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ、トリ又はテトラ（メタ）アクリレート、ジグリセリンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、などの他のジエチレングリコールビスアリルカーボネート、フッ素化アルキレングリコールポリ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
【００４３】
未硬化物質の粘度は１００〜２００００Pａ・ｓであることが好ましい。粘度が小さすぎると賦形に際し糸切れが生じやすくなり糸状体の形成が困難となる。また粘度が大きすぎると賦形時の操作性が不良となり各層の同心円性が損なわれたり、直系変動の大きな糸状体となる場合がある。
【００４４】
これら未硬化物から糸状体を形成する際の未硬化物の粘度調整を容易にするため、及び糸状体の中心から外周へ向かい連続的な屈折率分布を持たせるため、未硬化物は単量体とこれに可溶な重合体との組成物で構成されていることが好ましい。
【００４５】
ここで、使用される重合体としては、前記のラジカル重合性ビニル単量体から生成する重合体と相溶性が良いものが用いられ、例えばポリメチルメタクリレート（ｎ＝１．４９）、ポリメチルメタクリレート系コポリマー（ｎ＝１．４７〜１．５０）、ポリ４ーメチルペンテンー１（ｎ＝１．４６）、エチレン／酢酸ビニル共重合体（ｎ＝１．４６〜１．５０）、ポリカーボネート（ｎ＝１．５０〜１．５７）、ポリフッ化ビニリデン（ｎ＝１．４２）、フッ化ビニリデン／テトラフルオロエチレン共重合体（ｎ＝１．４２〜１．４６）、フッ化ビニリデン／テトラフルオロエチレン／ヘキサフルオロプロペン共重合体（ｎ＝１．４０〜１．４６）、フッ化アルキル（メタ）アクリレート系重合体等が挙げられる。
【００４６】
粘度を調整するため、各層に同一の屈折率を有する重合体を用いると、中心から外周に向かって連続的な屈折率分布を有する光伝送体が得られるので好ましい。特に、ポリメチルメタクリレートは透明性に優れ、それ自体の屈折率も高いので本発明の光伝送体を製造するに際して用いる重合体としては好適である。
【００４７】
未硬化物より形成された糸状体を硬化するため、未硬化物中に光硬化触媒を添加しておくことが好ましい。光硬化触媒としてはベンゾフェノン、ベンゾインアルキルエーテル、４’−イソプロピル−２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンジルメチルケタール、２，２−ジエトキシアセトフェノン、クロロチオキサントン、チオキサントン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、Ｎ−メチルジエタノールアミン、トリエチルアミンなどが挙げられる。
【００４８】
次いで、相互拡散部２８で、糸状体２４の各層間の屈折率分布が連続的になるように隣接層間の物質の相互拡散処理を行う。
さらに、第１および第２の硬化処理部３０、３２で、糸状体２４を紫外線等によって硬化させ、好ましくは直径が０．３〜１．５ｍｍの原糸３４とする。
【００４９】
さらに、予熱装置５０で光伝送体の原糸３４を予熱し、次いで、レーザ照射装置５２でレーザ照射を行いながら延伸処理し、その後、緩和処理を行い、光伝送体を得る。
【００５０】
本発明は、上記実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載された事項の範囲内で種々の変更・変形が可能である。
上記実施形態は、グレーテッドインデックス型光伝送体を製造する製造方法であったが、複数の溶融押出機から原料を供給し複合紡糸ノズルから吐出しクエンチ工程を経て延伸、緩和処理を行うステップインデックス型の光伝送体の製造にも適用可能である。
【実施例】
【００５１】
以下、実施例により本発明を具体的に説明する。未硬化物としてポリメチルメタクリレート４６重量部、トリシクロ［５・２・１・０2,6 ］デカニルメタクリレート３０重量部、メチルメタクリレート２４重量部、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン０．２５重量部及びハイドロキノン０．１重量部を７０℃に加熱混練して第１層形成用原液とした。ポリメチルメタクリレート４５重量部、トリシクロ［５・２・１・０2,6 ］デカニルメタクリレート１６．４重量部、メチルメタクリレート２８．６重量部、ベンジルメタクリレート５重量部、２，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロペンチルメタクリレート５重量部、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン０．２５重量部及びハイドロキノン０．１重量部を７０℃に加熱混練して第２層形成用原液とした。ポリメチルメタクリレート４８重量部、メチルメタクリレート３５．２重量部、ベンジルメタクリレート６．８重量部、２，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロペンチルメタクリレート１０重量部、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン０．２５重量部及びハイドロキノン０．１重量部を７０℃に加熱混練して第３層形成用原液とした。ポリメチルメタクリレート４４．８重量部、メチルメタクリレート１２．９重量部、ベンジルメタクリレート１３．１重量部、２，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロペンチルメタクリレート２９．２重量部、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン０．２５重量部及びハイドロキノン０．１重量部を７０℃に加熱混練して第４層形成用原液とした。
【００５２】
ポリメチルメタクリレート４０．３重量部、メチルメタクリレート２．４重量部、ベンジルメタクリレート１６．９重量部、２，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロペンチルメタクリレート４０．４重量部、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン０．２５重量部及びハイドロキノン０．１重量部を７０℃に加熱混練して第４層形成用原液とした。
【００５３】
なお、クロストーク光やフレア光を抑制する目的で、加熱混練前の第４層及び第５層用の各原液中に原液全体に対して染料Ｂｌｕｅ  ＡＣＲ（日本化薬（株）製）、染料Ｂｌｕｅ  ４Ｇ（三菱化学製）、染料ＭＳ  Ｙｅｌｌｏｗ  ＨＤ−１８０（三井東圧染料（株）製）、染料ＭＳ  Ｍａｇｅｎｔａ  ＨＭ−１４５０（三井東圧染料（株）製）、染料ＫＡＹＡＳＯＲＢ  ＣＹ−１０（日本化薬（株）製）を下記の表１のように添加した。
【００５４】
この５種類の原液を、同心円状５層複合ノズルを用い、中心から順次未硬化物の屈折率が低くなるように配列して同時に押し出した。複合紡糸ノズルの温度は５０℃であった。各層の吐出比は、光伝送体原糸の半径方向の各層の厚さ（１層目においては半径）の比に換算して、１層目／２層目／３層目／４層目／５層目＝２４／３１／３９．２／２．８／３とした。ついで長さ３０ｃｍの相互拡散処理部を通し、その後長さ１２０ｃｍ、４０Ｗのケミカルランプ１８本を円状に等間隔に配設され光を照射する第１硬化処理部の中心に糸状体を通過させ、更に２．０ＫＷ高圧水銀灯３本を中心軸の周囲に等間隔に配設された第２硬化処理部（第２光照射部）の中心上に糸状体を通過させて完全硬化させた。
【００５５】
この硬化をおえた光伝送体原糸を、２００ｃｍ／ｍｉｎの速度で、引取りローラにより引き取った。相互拡散処理部における窒素流量は８０Ｌ／ｍｉｎであった。得られた光伝送体原糸の平均直径は０．５５２ｍｍ、直径変動はｍａｘ−ｍｉｎで１０．８μｍ、直径変動Ｃ．Ｖ．は０．５４％、軟化温度は８５℃であった。
【００５６】
直径変動CVは、（直径変動標準偏差／直径平均値）×１００で算出し、直径変動のばらつきの指標となるものである。光伝送体原糸直径の測定は（株）キーエンス製：ＬＳ−５０００を使用し、データー収集は（株）キーエンス製：ＮＲ−２０００を使用した。
【００５７】
この光伝送体原糸を６０℃のワイヤーヒータ内で予熱処理を行いながら、レーザを０．７W×３の出力で照射し、延伸処理を行った。この時、送りローラ速度０．５ｍ／ｍｉｎ、延伸ローラ速度０．９８ｍ／ｍｉｎとした。レーザ照射装置は、（株）鬼塚硝子製：ＰＩＮ−１０Ｒ（炭酸ガスレーザ）を使用した。
【００５８】
この光伝送体の平均直径は０．３９４ｍｍ、直径変動はｍａｘ−ｍｉｎで８．７μｍ、直径変動Ｃ．Ｖ．は０．４９％、であった。光伝送体直径の測定は（株）キーエンス製：ＬＳ−７０００を使用し、データー収集は（株）キーエンス製：ＮＲ−２０００を使用した。本実施形態では緩和処理は行わない。
【００５９】
また、屈折率分布を、カールツァイス社製インターファコ干渉顕微鏡を用いて測定した。中心屈折率は１．４９７、屈折率分布定数ｇは０．７２ｍｍ-1であった。
また、残存モノマーを（株）島津製作所製ガスクロマトグラフ質量分析計：ＧＣ２０１４を用いて測定した。残存モノマー量は１．３〜１．６％であった。
表１
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【００６０】
（比較例）
実施例と同一条件で作製した光伝送体原糸を使用し、１４０℃のワイヤーヒータ内で延伸処理をおこなった。この時、送りローラ速度０．５ｍ／ｍｉｎ、延伸ローラ速度０．９８ｍ／ｍｉｎとした。この光伝送体の平均直径は０．３９８ｍｍ、直径変動はｍａｘ−ｍｉｎで１８．９μｍ、直径変動Ｃ．Ｖ．は１．０％、であった。光伝送体直径の測定は（株）キーエンス製：ＬＳ−７０００を使用し、データー収集は（株）キーエンス製：ＮＲ−２０００を使用した。本実施形態では緩和処理は行わない。
【００６１】
また、屈折率分布を、カールツァイス社製インターファコ干渉顕微鏡を用いて測定した。中心屈折率は１．４９７、屈折率分布定数ｇは０．７２ｍｍ-1であった。
また、残存モノマーを（株）島津製作所製ガスクロマトグラフ質量分析計：ＧＣ２０１４を用いて測定した。残存モノマー量は１．３〜１．６％であった。
【００６２】
実施例と比較例に用いた光伝送体原糸の直径変動結果を図５に、実施例で作製した光伝送体の直径変動結果を図６に、比較例で作製した光伝送体の直径変動結果を図７に示す。
これら図面から、比較例では光伝送体原糸の直径変動が増幅され、結果的に直径変動大きくなるが、実施例では光伝送体原糸の直径変動増幅はなく、結果的に直径変動が少ない光伝送体が得られることがわかる。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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