(57)【要約】【課題】レーザ加工によって生ずる粉塵の移動面等への付着の防止と、高速に移動する前記移動面等に設けられるカバー等により発生する摩擦をなくす、５軸レーザ加工装置における防塵用カバーを提供する。【解決手段】本発明の防塵用カバー１は、５軸レーザ加工装置１００のチルチング機構部７を支持する支持台６に固定され、装置の上面を被覆するものからなり、その一部にはチルチング機構部７と干渉しない空間部１４，１５等が形成されると共に、粉塵の落下を効果的に行わせるための傾斜面１６，１７等が形成されている。【選択図】図２
2010017746.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
水平面に沿って互いに直角する方向（Ｘ軸及びＹ軸）に移動するベース台と、該ベース台上に載置される支持台と、該支持台上に載置されて垂直軸（Ｚ軸）まわりの（Ｃ軸）に沿って回転するテーブル及び該テーブルを傾斜方向（Ａ軸）に回動する立ち上がり部とを有するチルチング機構部と、前記テーブル上に搭載される加工物をレーザ加工すべくＺ軸方向に沿って移動自在に配設されるレーザ装置とを有する５軸レーザ加工装置に設けられる防塵用カバーであって、該防塵用カバーは、前記支持台に固持されて前記５軸レーザ加工装置の上面を覆うと共に、前記チルチング機構部及びこの回動領域と干渉しない空間部を形成するものからなることを特徴とする５軸レーザ加工装置における防塵用カバー。
【請求項２】
前記防塵用カバーは、落下する防塵の下方への落下を助成するための傾斜面が形成されることを特徴とする請求項１に記載の５軸レーザ加工装置における防塵用カバー。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、主に高速移動型の工作機械に使用される防塵用カバーに係り、特にレーザ装置により方向の異なる多数個の孔を高速に加工する装置に最適な５軸レーザ加工装置における防塵用カバーに関する。
【背景技術】
【０００２】
工作機械で孔加工をする場合には、通常はドリルやバイト等の加工具が用いられる。しかしながら、難削性の材料、例えばインコネル材（インコネルはインコ社の商標）からなる加工物の加工において、前記加工具を使用すると孔加工が困難であり、仮りに可能であっても加工具が摩滅して単時間で使用できない状態となり、加工効率も極めて低いものとなる。このため、このような難削性の加工物の孔加工にはレーザが使用されている。
【０００３】
一方、レーザによる孔加工であっても、加工すべき孔が数多くあり、かつその加工方向が相異するような孔加工においては、単なるＸ，Ｙ軸方向のみの加工物の移動では不可能であり、チルチング機構部を用いるＸ，Ｙ，Ｃ，Ａ軸移動式の加工装置によりレーザ光をＺ軸方向から照射する５軸レーザ加工装置が最適のものである。この装置は、本出願人によって開発されている。
【０００４】
多数個の孔をその加工方向を変化させながら効率的にレーザ加工するには、加工装置の各部の移動速度が極めて高速のものとなる。また、レーザ加工の場合は、細かい粉塵状の切粉が発生するため移動機構部の移動面等への切粉の付着を防止することが必要となる。
従来より、工作機械等における摺動面や回転面は切粉等の付着の防止のため各種のカバーが設けられている。この一例として「特許文献１」が挙げられる。
【特許文献１】特開平１１−１２５２０８号（図１）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
「特許文献１」の「特開平１１−１２５２０８号」の「リニアアクチュエータ」はその図１にあるように、ピストンロッド（６８ａ），（６８ｂ）等を保護するカバー部材（１２８ａ），（１２８ｂ），（１３０ａ），（１３０ｂ）等が設けられている。このカバー部材はピストンロッド（６８ａ），（６８ｂ）にその内面を接触して配置されるものであり、ピストンロッド（６８ａ），（６８ｂ）の保護にはなるが、当然ながらその接触面では摩擦抵抗が発生する。
【０００６】
前記のように、レーザ光を用いた高速加工の場合には、各部が極めて高速移動するため摩擦抵抗の発生は大きな欠陥となる。従って、移動面等に接触せず、かつ粉塵から移動面等を保護するカバーが必要となる。
【０００７】
本発明は、以上の事情に鑑みて発明されたものであり、５軸レーザ加工装置に適用され、各部の移動面や移動部材への粉塵の付着を防止すると共に、摺動による抵抗を防止するようにした５軸レーザ加工装置における防塵用カバーを提供することを目的とする。なお、クーラントをかける切削加工の場合には構造上望ましくないが、勿論これに限定するものではない。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、以上の目的を達成するために、請求項１の発明は、水平面に沿って互いに直角する方向（Ｘ軸及びＹ軸）に移動するベース台と、該ベース台上に載置される支持台と、該支持台上に載置されて垂直軸（Ｚ軸）まわりの（Ｃ軸）に沿って回転するテーブル及び該テーブルを傾斜方向（Ａ軸）に回動する立ち上がり部とを有するチルチング機構部と、前記テーブル上に搭載される加工物をレーザ加工すべくＺ軸方向に沿って移動自在に配設されるレーザ装置とを有する５軸レーザ加工装置に設けられる防塵用カバーであって、該防塵用カバーは、前記支持台に固持されて前記５軸レーザ加工装置の上面を覆うと共に、前記チルチング機構部及びこの回動領域と干渉しない空間部を形成するものからなることを特徴とする。
【０００９】
また、請求項２の発明は、請求項１の５軸レーザ加工装置における防塵用カバーにおいて、前記防塵用カバーは、落下する防塵の下方への落下を助成するための傾斜面が形成されることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１０】
本発明の請求項１の５軸レーザ加工装置における防塵用カバーによれば、防塵用カバーは加工装置の上部を覆って配置されるため、移動部等への粉塵の付着が有効に防止されると共に、チルチング機構部と干渉する部位以外は移動部等と一緒に移動するカバーからなり、摩擦の発生が完全に防止される。
【００１１】
また、本発明の請求項２の５軸レーザ加工装置における防塵用カバーによれば、傾斜面を形成することにより、粉塵が傾斜面に沿って円滑落下し、粉塵の処置がより効率的にできる効果が上げられる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、本発明の５軸レーザ加工装置における防塵用カバーの実施の形態を、図面を参照して詳述する。
図１及び図２は、本発明の防塵用カバー１を配置した５軸レーザ加工装置１００の概要構造を示すものである。まず、土台９上には第３のベース台２が載置され、リニアモータ機構３を介して第２のベース台４がＹ軸方向に移動自在に搭載される。また、第２のベース台４上にはリニアモータ機構５を介してＸ軸方向（Ｙ軸と直交する方向）に移動自在の支持台６が設けられている。この支持台６上にＣ軸及びＡ軸方向に移動自在に形成されるチルチング機構部７が配置され、この上面にはレーザ装置８がＺ軸方向に沿って移動自在に配置される。
【００１３】
チルチング機構部７は、支持台６の上面に固定される左右のブラケット１０，１１と、このブラケットに左右の回動軸（図略）を枢支される立ち上がり部１２と、立ち上がり部１２の中心に配置されるテーブル１３等とからなる。立ち上がり部１２は、ブラケット１０，１１内に設けられている図略の駆動部によりＡ軸方向に回動するものからなり、テーブル１３は、Ｚ軸（垂直軸）まわりのＣ軸に沿って回転するものからなる。なお、被加工物はテーブル１３上に搭載される。
また、レーザ装置８は、Ｚ軸方向に配置されるレーザ光用ノズル８ａとレーザ発振器８ｂ等とからなるが、その詳細な内容は省略する。
【００１４】
以上の構造により、支持台６とチルチング機構部７とは、一体となってＸ軸及びＹ軸方向に移動すると共に、チルチング機構部７は、支持台６上においてＡ軸及びＣ軸まわりに回動（回転）するものからなる。このＸ軸，Ｙ軸，Ｃ軸，Ａ軸方向の同期移動により、テーブル１３上の被加工物は多方向に向きを変えることができ、レーザ装置８によって向きの異なる孔加工を行うことができる。レーザ装置によるレーザ加工により、被加工物より多くの粉塵が舞い上がり、これが装置の下方に向かって落下するため、仮りに防塵用カバーがないとリニアモータ機構部３，５等に粉塵が付着することになり、装置の寿命を低下させる問題点が生ずる。
【００１５】
次に、図１乃至図３により本発明の防塵用カバー１について説明する。
防塵用カバー１は、支持台６に固定されてその上面を覆うカバー１ａと、このカバー１ａに固定されてチルチング機構部７の左右端のエンコーダ１８，１８を覆うカバー１ｂと、左側のカバー１ａ，１ｂと右側のカバー１ａ，１ｂとの間に架設されて底面を形成するカバープレート１ｃ等とからなり、左右はほぼ対称形のものからなる。なお、カバー１ｂには下り傾斜の傾斜面１６，１７が形成される。
また、図３に示すように、防塵用カバー１にはチルチング機構部７と干渉しないための空間部Ａ（１４）や空間部Ｂ（１５）が形成される。
【００１６】
防塵用カバー１は前記のような構造からなり、装置側と摩擦接触する部分がなく、摩擦抵抗の発生がなくなると共に、装置の上面をほぼ覆うと共に傾斜面１６，１７の形成により粉塵は円滑に下方に送られ、装置の各部に溜るものはない。なお、その材質や板厚等の限定はなく、実際的に決められるものであり、その構造も前記の内容に限定するものではなく、同一技術的範疇のものが適用されることは勿論である。
【産業上の利用可能性】
【００１７】
本発明の５軸レーザ加工装置における防塵用カバーは、前記のようにレーザ加工による５軸レーザ加工装置に適用されるが、勿論これに限定するものではなく、高速に動作し、粉塵等の付着防止が必要で、摩擦抵抗を排除することが必要なすべての機械に適用可能であり、その利用範囲は極めて広い。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本発明の防塵用カバーを設けた５軸レーザ加工装置の概要構造を示す正面図。
【図２】図１における防塵用カバーを設けた５軸レーザ加工装置の概略側面図。
【図３】本発明の防塵用カバーを示す平面図。
【符号の説明】
【００１９】
１      防塵用カバー
１ａ    カバー
１ｂ    カバー
１ｃ    カバープレート
２      第３のベース台
３      リニアモータ機構
４      第２のベース台
５      リニアモータ機構
６      支持台
７      チルチング機構部
８      レーザ装置
８ａ    レーザ光用ノズル
８ｂ    レーザ発振器
９      土台
１０    ブラケット
１１    ブラケット
１２    立ち上がり部
１３    テーブル
１４    空間部
１５    空間部
１６    傾斜面
１７    傾斜面
１００  ５軸レーザ加工装置
【図１】
2010017746.tif 000003
【図２】
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【図３】
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