(57)【要約】【課題】長時間の使用、特に高温高湿下でも光吸収剤の劣化に起因する分光特性変化が起こり難い赤外線吸収積層体、及び当該赤外線吸収積層体を含む光学フィルタを提供する。【解決手段】透明基材の一方の面に、複合タングステン酸化物微粒子、特定の構造を有する置換ベンゼンジチオール金属錯体、及び樹脂を含有する赤外線吸収膜が設けられていることを特徴とする、赤外線吸収積層体。【選択図】図１
2010079145.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材の一方の面に、一般式ＭｘＷｙＯｚ（但し、Ｍ元素は、Ｈ、Ｈｅ、アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類元素、Ｍｇ、Ｚｒ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｒｕ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｔｌ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｓｂ、Ｂ、Ｆ、Ｐ、Ｓ、Ｓｅ、Ｂｒ、Ｔｅ、Ｔｉ、Ｎｂ、Ｖ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｒｅ、Ｂｅ、Ｈｆ、Ｏｓ、Ｂｉ、Ｉのうちから選択される１種類以上の元素、Ｗはタングステン、Ｏは酸素、０．００１≦ｘ／ｙ≦１．１、２．２≦ｚ／ｙ≦３．０）で表される複合タングステン酸化物微粒子、下記化学式（１）で表される置換ベンゼンジチオール金属錯体、及び樹脂を含有する赤外線吸収膜が設けられていることを特徴とする、赤外線吸収積層体。
【化１】
2010079145.tif 000012
（化学式（１）中、Ａは遷移金属であり、Ｒは下記化学式（２）に示す、いずれかの基である。Ｂ＋は第４級アンモニウム基である。）
【化２】
2010079145.tif 000013
【請求項２】
前記置換ベンゼンジチオール金属錯体が、ビス［４−ピペリジノスルホニル−１，２−ベンゼンジチオラート−Ｓ，Ｓ’］銅テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム、ビス（４−モルホリノスルホニル−１，２−ベンゼンチオラート−Ｓ，Ｓ’）ニッケル−テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム、及びビス（４−モルホリノスルホニル−１，２−ジチオフェノラート）銅テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムよりなる群から選ばれる１種以上の金属錯体であることを特徴とする、請求項１に記載の赤外線吸収積層体。
【請求項３】
前記置換ベンゼンジチオール金属錯体の配合量が、前記複合タングステン酸化物微粒子１００重量部に対して、０．１〜２０重量部の範囲であることを特徴とする、請求項１又は２に記載の赤外線吸収積層体。
【請求項４】
前記複合タングステン酸化物微粒子の平均分散粒径が、８００ｎｍ以下であることを特徴とする、請求項１乃至３のいずれか一項に記載の赤外線吸収積層体。
【請求項５】
前記複合タングステン酸化物微粒子が、六方晶、正方晶、立方晶のいずれか１種類以上の結晶構造を含むことを特徴とする、請求項１乃至４のいずれか一項に記載の赤外線吸収積層体。
【請求項６】
前記複合タングステン酸化物微粒子を表す一般式ＭｘＷｙＯｚにおいて、Ｍ元素がＣｓ（セシウム）であり、当該複合タングステン酸化物微粒子が六方晶の結晶構造を有することを特徴とする、請求項１乃至５のいずれか一項に記載の赤外線吸収積層体。
【請求項７】
前記複合タングステン酸化物微粒子の表面が、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ａｌから選択される１種類以上の元素を含有する酸化物で被覆されていることを特徴とする、請求項１乃至６のいずれか一項に記載の赤外線吸収積層体。
【請求項８】
請求項１乃至７のいずれか一項に記載の赤外線吸収積層体の透明基材側の面、及び／又は赤外線吸収膜側の面に、機能層が積層されていることを特徴とする、光学フィルタ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示装置の前面に配置され、表示装置から発生する赤外線を吸収する機能を有する赤外線吸収積層体、及び当該赤外線吸収積層体を含む光学フィルタに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、種々の電子機器の表示装置として、ＣＲＴ（ブラウン管）、ＬＣＤ（液晶ディスプレイ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰともいう）、有機・無機ＥＬディスプレイ、ＦＥＤ（フィールドエミッションディスプレイ）等の表示装置が使用されている。
このような電子ディスプレイの前面には、不要な発光成分を除去して、表示色を鮮明にするために、フィルタが設置されている。例えば、プラズマディスプレイでは、キセノンとネオンの混合ガスのプラズマ放電により８００〜１１００ｎｍ付近の近赤外線が発生し、発生した近赤外線は周辺機器の誤作動を引き起こす。この為、プラズマディスプレイでは近赤外線吸収層を基材フィルム上に積層した、近赤外線を吸収除去する機能を有するフィルタ（近赤外線吸収フィルタ）を画像表示装置（以下、ディスプレイとも呼称）の前面に設置している。上記近赤外線吸収除去機能は、近赤外線吸収剤を樹脂中に含有した近赤外線吸収層により発現されることが多い。
【０００３】
従来、近赤外線吸収剤として、フタロシアニン系化合物とジイモニウム系化合物を組み合わせた有機系近赤外線吸収剤（色素）を用いたものが検討されている。
上記フタロシアニン系化合物は、耐熱性及び耐湿熱性に優れるため、当該フタロシアニン系化合物とジイモニウム系化合物を組み合わせた上記有機系近赤外線吸収剤（色素）を用いることにより、長時間の使用、特に高温高湿下において光吸収剤の劣化に起因する分光特性変化を起こり難くすることができる。しかしながら、当該有機系近赤外線吸収剤（色素）は、日光等に由来する紫外線で劣化し易いという問題がある。
【０００４】
一方、特許文献１には、複合タングステン酸化物微粒子を用いたＰＤＰ用近赤外線吸収フィルタが記載されている。
斯かる複合タングステン酸化物微粒子は、有機系近赤外線吸収剤（色素）と比べて耐ＵＶ性及び耐候性に優れるが、耐熱性及び耐湿熱性は不十分である。そのため、長時間の使用、特に高温高湿下において劣化に起因する分光特性変化が起こり易く、近赤外線の吸収が不十分となる。
【０００５】
【特許文献１】特開２００６−１５４５１６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は上記問題点を解消するためになされたものであり、近赤外線吸収剤として複合タングステン酸化物微粒子を用いた場合でも、長時間の使用、特に高温高湿下でも光吸収剤の劣化に起因する分光特性変化が起こり難い赤外線吸収積層体、及び当該赤外線吸収積層体を含む光学フィルタを提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは、鋭意検討の結果、赤外線吸収膜中に、複合タングステン酸化物微粒子と共に特定の構造を有する置換ベンゼンジチオール金属錯体を含有させることにより、上記課題が解決されるという知見を見出し、本発明を完成させるに至った。
すなわち、本発明に係る赤外線吸収積層体は、透明基材の一方の面に、一般式ＭｘＷｙＯｚ（但し、Ｍ元素は、Ｈ、Ｈｅ、アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類元素、Ｍｇ、Ｚｒ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｒｕ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｔｌ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｓｂ、Ｂ、Ｆ、Ｐ、Ｓ、Ｓｅ、Ｂｒ、Ｔｅ、Ｔｉ、Ｎｂ、Ｖ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｒｅ、Ｂｅ、Ｈｆ、Ｏｓ、Ｂｉ、Ｉのうちから選択される１種類以上の元素、Ｗはタングステン、Ｏは酸素、０．００１≦ｘ／ｙ≦１．１、２．２≦ｚ／ｙ≦３．０）で表される複合タングステン酸化物微粒子、下記化学式（１）で表される置換ベンゼンジチオール金属錯体、及び樹脂を含有する赤外線吸収膜が設けられていることを特徴とする。
【０００８】
【化１】
2010079145.tif 000003
（化学式（１）中、Ａは遷移金属であり、Ｒは下記化学式（２）に示す、いずれかの基である。Ｂ＋は第４級アンモニウム基である。）
【０００９】
【化２】
2010079145.tif 000004
【００１０】
本発明によれば、赤外線吸収膜中に、複合タングステン酸化物微粒子とともに特定の構造を有する置換ベンゼンジチオール金属錯体を含有させることにより、当該複合タングステン酸化物微粒子の劣化が抑制され、長時間の使用、特に高温高湿下でも光吸収剤の劣化に起因する分光特性変化を起こり難くすることができる。
【００１１】
本発明に係る赤外線吸収積層体においては、前記置換ベンゼンジチオール金属錯体が、ビス［４−ピペリジノスルホニル−１，２−ベンゼンジチオラート−Ｓ，Ｓ’］銅テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム、ビス（４−モルホリノスルホニル−１，２−ベンゼンチオラート−Ｓ，Ｓ’）ニッケル−テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム、及びビス（４−モルホリノスルホニル−１，２−ジチオフェノラート）銅テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムよりなる群から選ばれる１種以上の金属錯体であることが、複合タングステン酸化物微粒子の劣化を抑制する点から好ましい。
【００１２】
本発明に係る赤外線吸収積層体においては、前記置換ベンゼンジチオール金属錯体の配合量が、前記複合タングステン酸化物微粒子１００重量部に対して、０．１〜２０重量部の範囲であることが、赤外線吸収膜の色味の変化、及び膜物性変化の防止、並びに当該置換ベンゼンジチオール金属錯体の析出防止の点から好ましい。
【００１３】
本発明に係る赤外線吸収積層体においては、前記複合タングステン酸化物微粒子の平均分散粒径が、８００ｎｍ以下であることが、可視域の透過率が高くなる点から好ましい。
【００１４】
本発明に係る赤外線吸収積層体においては、前記複合タングステン酸化物微粒子が、六方晶、正方晶、立方晶のいずれか１種類以上の結晶構造を含むことが、光学特性の耐久性向上の点から好ましい。
【００１５】
本発明に係る赤外線吸収積層体においては、前記複合タングステン酸化物微粒子を表す一般式ＭｘＷｙＯｚにおいて、Ｍ元素がＣｓ（セシウム）であり、当該複合タングステン酸化物微粒子が六方晶の結晶構造を有することが、光学特性の耐久性向上の点から好ましい。
【００１６】
本発明に係る赤外線吸収積層体においては、前記複合タングステン酸化物微粒子の表面が、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ａｌから選択される１種類以上の元素を含有する酸化物で被覆されていることが、光学特性の耐久性向上の点から好ましい。
【００１７】
本発明に係る光学フィルタは、上記赤外線吸収積層体の透明基材側の面、及び／又は赤外線吸収膜側の面に、機能層が積層されていることを特徴とする。このような光学フィルタは、上記赤外線吸収機能に加えて、種々の機能が付加された光学フィルタとして用いることができる。
【発明の効果】
【００１８】
本発明の赤外線吸収積層体は、赤外線吸収膜中に、複合タングステン酸化物微粒子とともに特定の構造を有する置換ベンゼンジチオール金属錯体を含有させることにより、当該複合タングステン酸化物微粒子の劣化が抑制され、長時間の使用、特に高温高湿下でも光吸収剤の劣化に起因する分光特性変化を起こり難くすることができる。
また、本発明の光学フィルタは、上記赤外線吸収機能に加えて、種々の機能が付加された光学フィルタとして用いることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
本発明は、赤外線吸収積層体及び当該赤外線吸収積層体を含む光学フィルタを含むものである。以下、それぞれについて詳述する。尚、本発明において、赤外線とは、波長７８０ｎｍ〜４μｍの範囲の電磁波であり、特に波長７８０ｎｍ〜１，１００ｎｍの範囲の電磁波を近赤外線ともいう。
【００２０】
Ｉ．赤外線吸収積層体
本発明に係る赤外線吸収積層体は、透明基材の一方の面に、一般式ＭｘＷｙＯｚ（但し、Ｍ元素は、Ｈ、Ｈｅ、アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類元素、Ｍｇ、Ｚｒ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｒｕ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｔｌ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｓｂ、Ｂ、Ｆ、Ｐ、Ｓ、Ｓｅ、Ｂｒ、Ｔｅ、Ｔｉ、Ｎｂ、Ｖ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｒｅ、Ｂｅ、Ｈｆ、Ｏｓ、Ｂｉ、Ｉのうちから選択される１種類以上の元素、Ｗはタングステン、Ｏは酸素、０．００１≦ｘ／ｙ≦１．１、２．２≦ｚ／ｙ≦３．０）で表される複合タングステン酸化物微粒子、下記化学式（１）で表される置換ベンゼンジチオール金属錯体、及び樹脂を含有する赤外線吸収膜が設けられていることを特徴とする。
【００２１】
【化３】
2010079145.tif 000005
（化学式（１）中、Ａは遷移金属であり、Ｒは下記化学式（２）に示すいずれかの基である。Ｂ＋は第４級アンモニウム基である。）
【００２２】
【化４】
2010079145.tif 000006
【００２３】
本発明によれば、赤外線吸収膜中に、複合タングステン酸化物微粒子とともに、特定の構造を有する置換ベンゼンジチオール金属錯体を含有させることにより、当該複合タングステン酸化物微粒子の劣化が抑制され、長時間の使用、特に高温高湿下でも光吸収剤の劣化に起因する分光特性変化を起こり難くすることができる。
【００２４】
複合タングステン酸化物微粒子とともに、特定の構造を有する置換ベンゼンジチオール金属錯体を併用することにより、耐熱性及び耐湿熱性が改善されたのは未解明であるが、次のような理由によるものと考えられる。
タングステン酸化物に元素Ｍが添加された一般式ＭｘＷｙＯｚで表される複合タングステン酸化物微粒子は、当該タングステン酸化物の集合体中に形成された空隙中に、当該元素Ｍが配置した構成単位が多数集合して結晶構造を形成している。当該複合タングステン酸化物微粒子は、熱等によって結晶構造から元素Ｍが遊離するため、劣化し易いと考えられている。これに対して、複合タングステン酸化物微粒子とともに、特定の構造を有する置換ベンゼンジチオール金属錯体を併用することにより、当該複合タングステン酸化物微粒子の結晶構造から元素Ｍの遊離が抑制され、耐熱性及び耐湿熱性が改善されると考えられる。
【００２５】
本発明に係る赤外線吸収積層体の層構成を図面を用いて説明する。
本発明に係る赤外線吸収積層体の一例の断面図を図１で概念的に示す。なお、図１乃至図３に示す断面図において、説明の容易化のために、厚み方向（図の上下方向）の縮尺を面方向（図の左右方向）の縮尺よりも大幅に拡大誇張して図示してある。図１は、本発明に係る赤外線吸収積層体１の好適な実施形態のうちの第一の実施形態であり、透明基材１０の一方の面に赤外線吸収膜１１が設けられている。ここで設けられているとは、当該透明基材１０の面上に、当該赤外線吸収膜１１が積層されていることを意味するが、当該透明基材１０の面に対して当該赤外線吸収膜１１が剥離可能に貼り付けられていてもよい。
また、図２は、本発明に係る赤外線吸収積層体１の好適な実施形態のうちの第二の実施形態であり、透明基材１０の一方の面に、紫外線吸収層１２、及び赤外線吸収膜１１がこの順に設けられている。このように、透明基材１０と赤外線吸収膜１１の間に他の機能層が設けられていてもよい。
【００２６】
図３は、本発明に係る光学フィルタ２０の一例を示す断面図である。本発明に係る赤外線吸収積層体１の赤外線吸収膜１１の透明基材１０側とは反対側の面に、防眩層１３が積層されている。また、当該赤外線吸収膜１１は、赤外線吸収機能と共に、粘着剤層としての機能を兼ねている。
本発明の赤外線吸収膜１１は、透明基材や他の層の面上に、塗膜として設けられてもよく、また、粘着剤層を兼ねる赤外線吸収層として積層されてもよい。
以下、本発明の赤外線吸収積層体について、透明基材から順に説明する。
【００２７】
１．透明基材
透明基材としては、機械的強度、光透過性を有するものであれば、その他、必要に応じて耐熱性等の性能を適宜勘案したものを用途に応じて選択すればよい。このような、透明基材としては高分子フィルム（乃至は高分子シート）を用いることができる。
【００２８】
高分子フィルムの材料として用いる透明樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、テレフタル酸−イソフタル酸−エチレングリコール共重合体、テレフタル酸−シクロヘキサンジメタノール−エチレングリコール共重合体などのポリエステル系樹脂、ナイロン６などのポリアミド系樹脂、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、シクロオレフィン重合体などのポリオレフィン系樹脂、ポリメチルメタクリレートなどのアクリル系樹脂、ポリスチレン、スチレン−アクリロニトリル共重合体などのスチレン系樹脂、トリアセチルセルロースなどのセルロース系樹脂、ポリカーボネート樹脂等が挙げられる。
【００２９】
なお、これらの樹脂は、単独、又は複数種類の混合樹脂（ポリマーアロイを含む）として用いられ、透明基材の層構成は、単層、又は２層以上の積層体として用いられる。また、樹脂フィルムの場合、１軸延伸や２軸延伸した延伸フィルムが機械的強度の点でより好ましい。
【００３０】
透明基材の厚さは、基本的には用途に応じ選定すればよく、特に制限はないが、通常は１２〜１０００μｍ、好ましくは２０〜５００μｍ、より好ましくは５０〜２００μｍである。このような厚み範囲ならば、機械的強度が十分で、反り、弛み、破断などを防ぎ、連続帯状で供給して加工する事も容易である。
なお、本発明では、透明基材とは、高分子フィルム（高分子シートも含む）以外に樹脂板と呼ばれるものも含めて呼ぶことにする。但し、総厚増加を回避して光学フィルタの薄型化を図る観点から、透明基材は薄いものが好ましい。
【００３１】
この様な点で、透明基材の形態としては樹脂板よりは高分子フィルムが好ましい。当該高分子フィルムのなかでも特に、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂フィルムが、透明性、耐熱性、コスト等の点で好ましく、より好ましくは２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムが最適である。なお、透明基材フィルムの透明性は高いほどよいが、好ましくは可視光線透過率で８０％以上となる光透過性のフィルムがよい。
【００３２】
また、透明基材の樹脂中には、更に必要に応じて適宜、公知の添加剤、例えば、充填剤、可塑剤、帯電防止剤などを本発明の趣旨を逸脱しない範囲内で加えることができる。
また、透明基材は、その表面に適宜、コロナ放電処理、プラズマ処理、オゾン処理、フレーム処理、プライマー処理、アルカリ処理、などの公知の易接着処理を行ってもよい。
【００３３】
２．赤外線吸収膜
本発明の赤外線吸収膜は、一般式ＭｘＷｙＯｚ（但し、Ｍ元素は、Ｈ、Ｈｅ、アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類元素、Ｍｇ、Ｚｒ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｒｕ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｔｌ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｓｂ、Ｂ、Ｆ、Ｐ、Ｓ、Ｓｅ、Ｂｒ、Ｔｅ、Ｔｉ、Ｎｂ、Ｖ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｒｅ、Ｂｅ、Ｈｆ、Ｏｓ、Ｂｉ、Ｉのうちから選択される１種類以上の元素、Ｗはタングステン、Ｏは酸素、０．００１≦ｘ／ｙ≦１．１、２．２≦ｚ／ｙ≦３．０）で示される複合タングステン酸化物微粒子、特定の構造を有する置換ベンゼンジチオール金属錯体、及び樹脂を含有し、更に他の成分を含有しても良いものである。
本発明の赤外線吸収膜においては、樹脂中に複合タングステン酸化物微粒子、及び特定の構造を有する置換ベンゼンジチオール金属錯体が分散されて、赤外線吸収積層体に必要な透明性と、赤外線吸収機能を確保している。
【００３４】
（１）複合タングステン酸化物微粒子
前記一般式ＭｘＷｙＯｚ（但し、Ｍ元素は、Ｈ、Ｈｅ、アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類元素、Ｍｇ、Ｚｒ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｒｕ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｔｌ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｓｂ、Ｂ、Ｆ、Ｐ、Ｓ、Ｓｅ、Ｂｒ、Ｔｅ、Ｔｉ、Ｎｂ、Ｖ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｒｅ、Ｂｅ、Ｈｆ、Ｏｓ、Ｂｉ、Ｉのうちから選択される１種類以上の元素、Ｗはタングステン、Ｏは酸素、０．００１≦ｘ／ｙ≦１．１、２．２≦ｚ／ｙ≦３．０）で示される複合タングステン酸化物微粒子は、８００ｎｍ〜１，１００ｎｍの波長域を吸収するものであり、本発明において赤外線吸収剤として機能する。
【００３５】
前記一般式ＭｘＷｙＯｚで表記される複合タングステン酸化物微粒子は、六方晶、正方晶、立方晶の結晶構造を有する場合に耐久性に優れることから、当該六方晶、正方晶、立方晶から選ばれる1つ以上の結晶構造を含むことが好ましい。例えば、六方晶の結晶構造を持つ複合タングステン酸化物微粒子の場合であれば、好ましいＭ元素として、Ｃｓ、Ｒｂ、Ｋ、Ｔｌ、Ｉｎ、Ｂａ、Ｌｉ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｆｅ、Ｓｎの各元素から選択される１種類以上の元素を含む複合タングステン酸化物微粒子が挙げられる。中でも、Ｍ元素としては、耐久性の点から、Ｃｓ（セシウム）であることが好ましい。
【００３６】
このとき、添加されるＭ元素の添加量ｘは、０．００１以上１．０以下が好ましく、更に好ましくは０．３３付近が好ましい。これは六方晶の結晶構造から理論的に算出されるｘの値が０．３３であり、この前後の添加量で好ましい光学特性が得られるからである。一方、酸素の存在量ｚは、２．２以上３．０以下が好ましい。例えば、Ｃｓ０．３３ＷＯ３、Ｒｂ０．３３ＷＯ３、Ｋ０．３３ＷＯ３、Ｂａ０．３３ＷＯ３などを挙げることができるが、ｘ、ｚが上記の範囲に収まるものであれば、有用な赤外線吸収特性を得ることができる。
【００３７】
このような複合タングステン酸化物微粒子は、各々単独で使用してもよいが、混合して使用することも好ましい。
また、上記複合タングステン酸化物微粒子の表面を、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ａｌのいずれか１種類以上の元素を含有する酸化物で被覆することが、耐候性をより向上させることができる点から好ましい。
【００３８】
また、複合タングステン酸化物微粒子の平均分散粒径は、赤外線吸収膜の透明性の点から８００ｎｍ以下であることが好ましく、更に好ましくは２００ｎｍ以下、特に好ましくは１００ｎｍ以下である。尚、ここでの平均分散粒径は、体積平均粒径をいい、粒度分布・粒径分布測定装置（例えば、日機装（株）製、ナノトラック粒度分布測定装置）を用いて測定することができる。
【００３９】
複合タングステン酸化物微粒子の含有量は、赤外線吸収膜中に、１〜２５重量％であることが好ましい。含有量が１重量％より多ければ、十分な赤外線吸収機能を発現でき、２５重量％以下であれば、十分な量の可視光線を透過できる。
【００４０】
（２）化学式（１）で表される置換ベンゼンジチオール金属錯体
本発明の赤外線吸収膜は、下記化学式（１）で表される置換ベンゼンジチオール金属錯体を含有する。
【００４１】
【化５】
2010079145.tif 000007
（化学式（１）中、Ａは遷移金属であり、Ｒは下記化学式（２）に示すいずれかの基である。Ｂ＋は第４級アンモニウム基である。）
【００４２】
【化６】
2010079145.tif 000008
【００４３】
上記化学式（１）において、Ａは遷移金属を表し、特に限定されるものではないが、例えば、銅、コバルト、ニッケル等を挙げることができる。中でも銅、ニッケルが好ましい。
また、Ｂ＋は第４級アンモニウム基を表し、具体的には、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム基、テトラエチルアンモニウム基、テトラフェニルアンモニウム基、テトラベンジルアンモニウム基、トリメチルベンジルアンモニウム基等を挙げることができる。中でも、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム基が好ましい。
【００４４】
上記化学式（１）で表される置換ベンゼンジチオール金属錯体としては、上記複合タングステン酸化物微粒子の劣化を抑制する点から、下記化学式（３）で表されるビス［４−ピペリジノスルホニル−１，２−ベンゼンジチオラート−Ｓ，Ｓ’］銅テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム、下記化学式（４）で表されるビス（４−モルホリノスルホニル−１，２−ベンゼンチオラート−Ｓ，Ｓ’）ニッケル−テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム、及び下記化学式（５）で表されるビス（４−モルホリノスルホニル−１，２−ジチオフェノラート）銅テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムよりなる群から選ばれる１種以上の金属錯体であることが好ましい。
【００４５】
【化７】
2010079145.tif 000009
【００４６】
【化８】
2010079145.tif 000010
【００４７】
【化９】
2010079145.tif 000011
【００４８】
また、前記置換ベンゼンジチオール金属錯体の配合量は、前記複合タングステン酸化物微粒子１００重量部に対して、０．１〜２０重量部の範囲であることが好ましく、更に０．２〜１０重量部の範囲であることが好ましい。０．１重量部未満の場合、当該複合タングステン酸化物微粒子の劣化抑制効果が十分に得られない恐れがあり、２０重量部超過の場合、赤外線吸収膜全体の色度変化、該膜の硬度変化、及び当該置換ベンゼンジチオール金属錯体が析出する恐れがある。
【００４９】
（３）樹脂
赤外線吸収膜に含まれる樹脂は、上記複合タングステン酸化物微粒子、及び上記置換ベンゼンジチオール金属錯体を均一に分散し、且つ赤外線吸収膜に成膜性を与えるバインダ樹脂として機能する。樹脂は、成膜性と透明性を実現するものであれば特に限定されることなく、赤外線吸収膜と隣接する層構成によって適宜選択して用いることができる。赤外線吸収膜としての透明性は、高いほどよい。用いられる樹脂で膜を形成したときに、可視光域３８０〜７８０ｎｍにおける光線透過率が７０％以上、より好ましくは８０％以上となる光透過性が得られるような樹脂及び膜厚で用いられることが好ましい。
樹脂としては、例えばポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、アクリル樹脂、エポキシ
樹脂等の樹脂が挙げられる。
【００５０】
また、本発明に用いられる樹脂は、上記複合タングステン酸化物微粒子、及び上記置換ベンゼンジチオール金属錯体を良好に分散させることができるものであることが好ましい。
具体的には、上記複合タングステン酸化物微粒子、及び上記置換ベンゼンジチオール金属錯体を樹脂に分散させて、膜厚２５μｍの塗膜を形成し、ＪＩＳ  Ｋ７１０５−１９８１に準拠したヘイズ値を測定したときに、ヘイズ値が１５以下となるような樹脂を選択し、ヘイズ値が１５以下となる混合割合で用いられることが好ましい。当該ヘイズ値はより好ましくは１０以下、特に好ましくは５以下である。複合タングステン酸化物微粒子、及び置換ベンゼンジチオール金属錯体を分散する際に分散を向上するための添加剤を用いる場合には、当該添加剤も合わせて上記ヘイズ値となるような混合割合で樹脂、添加剤が用いられることが好ましい。
【００５１】
当該赤外線吸収膜は、前記透明基材と後述する機能層を接着するための粘着剤層として機能させることもできる。
粘着剤とは、接着剤の１種をいい、接着剤のうち、接着の際には室温下で単に適度な、通常、軽く手で押圧する程度の加圧のみにより、表面の粘着性のみで接着可能なものをいう。粘着剤の接着力発現には、通常特に、加熱、加湿、放射線（紫外線や電子線等）照射といった物理的なエネルギー乃至作用が不要で、且つ重合反応等の化学反応も不要である。又、粘着剤は、接着後も再剥離可能な程度の接着力を経時的に維持し得るものである。本発明においては、公知の粘着剤として慣用されているものの中から、適度な粘着性（接着力）、透明性、分散性、塗工適性を有し、光学フィルタの透過スペクトルを実質的に変化させることの無いものを適宜選択して用いることができる。
【００５２】
粘着剤としては、例えば、天然ゴム系、合成ゴム系、アクリル樹脂系（以後、アクリル系とも略称）、ポリビニルエーテル系、ウレタン樹脂系、シリコーン樹脂系等が挙げられる。合成ゴム系の具体例としては、スチレン−ブタジエンゴム、アクリロニトリル−ブタジエンゴム、ポリイソブチレンゴム、イソブチレン−イソプレンゴム、スチレン−イソプレンブロック共重合体、スチレン−ブタジエンブロック共重合体、スチレン−エチレン−ブチレンブロック共重合体が挙げられる。シリコーン樹脂系の具体例としては、ジメチルポリシロキサン等が挙げられる。これらの粘着剤は、１種単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００５３】
好適に用いられる粘着剤としては、アクリル系粘着剤が挙げられる。アクリル系粘着剤は、少なくとも（メタ）アクリル酸アルキルエステルモノマーを含んで重合させたものである。炭素原子数１〜１８程度のアルキル基を有する（メタ）アクリル酸アルキルエステルモノマーとカルボキシル基を有するモノマーとの共重合体や、炭素原子数１〜１８程度のアルキル基を有する（メタ）アクリル酸アルキルエステルモノマーの２種以上を用いた共重合体であるのが一般的である。なお、本発明において（メタ）アクリル酸とは、アクリル酸及び／又はメタクリル酸をいう。
【００５４】
ここで使用される（メタ）アクリル酸アルキルエステルモノマーの例としては、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ｎ−プロピル、（メタ）アクリル酸ｓｅｃ−プロピル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｓｅｃ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｔｅｒｔ−ブチル、（メタ）アクリル酸イソアミル、（メタ）アクリル酸ｎ−ヘキシル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸ｎ−オクチル、（メタ）アクリル酸イソオクチル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸ウンデシル及び（メタ）アクリル酸ラウリル等を挙げることができる。
また、上記（メタ）アクリル酸アルキルエステルは、アクリル系粘着剤中に３０〜９９.５重量部の量で共重合されていることが好ましい。
【００５５】
また、アクリル系粘着剤を形成するカルボキシル基を有するモノマーとしては、（メタ）アクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、マレイン酸モノブチル及びβ−カルボキシエチルアクリレート等のカルボキシル基を含有するモノマーを挙げることができる。
更に、本発明で用いられるアクリル系粘着剤には、上記の他に、アクリル系粘着剤の特性を損なわない範囲内で他の官能基を有するモノマーが共重合されていても良い。他の官能基を有するモノマーの例としては、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル及びアリルアルコール等の水酸基を含有するモノマー；（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチル（メタ）アクリルアミド及びＮ−エチル（メタ）アクリルアミドのアミド基を含有するモノマー；Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミド及びジメチロール（メタ）アクリルアミド等のアミド基とメチロール基とを含有するモノマー；アミノメチル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート及びビニルピリジン等のアミノ基を含有するモノマーのような官能基を有するモノマー；アリルグリシジルエーテル、（メタ）アクリル酸グリシジルエーテルなどのエポキシ基含有モノマーなどが挙げられる。この他にもフッ素置換（メタ）アクリル酸アルキルエステル、（メタ）アクリロニトリルなどのほか、スチレン及びメチルスチレンなどのビニル基含有芳香族化合物、酢酸ビニル、ハロゲン化ビニル化合物などを挙げることができる。
【００５６】
さらに、本発明で用いられるアクリル系粘着剤には、上記のような他の官能基を有するモノマーの他に、他のエチレン性二重結合を有するモノマーを使用することができる。ここでエチレン性二重結合を有するモノマーの例としては、マレイン酸ジブチル、マレイン酸ジオクチル及びフマル酸ジブチル等のα，β−不飽和二塩基酸のジエステル；酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル等のビニルエステル；ビニルエーテル；スチレン、α−メチルスチレン及びビニルトルエン等のビニル芳香族化合物；（メタ）アクリロニトリル等を挙げることができる。
また、上記のようなエチレン性二重結合を有するモノマーの他に、エチレン性二重結合を２個以上有する化合物を併用することもできる。このような化合物の例としては、ジビニルベンゼン、ジアリルマレート、ジアリルフタレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、メチレンビス（メタ）アクリルアミド等を挙げることができる。
【００５７】
さらに、上記のようなモノマーの他に、アルコキシアルキル鎖を有するモノマー等を使用することができる。（メタ）アクリル酸アルコキシアルキルエステルの例としては、（メタ）アクリル酸２−メトキシエチル、(メタ)アクリル酸メトキシエチル、（メタ）アクリル酸２−メトキシプロピル、（メタ）アクリル酸３−メトキシプロピル、（メタ）アクリル酸２−メトキシブチル、（メタ）アクリル酸４−メトキシブチル、（メタ）アクリル酸２−エトキシエチル、（メタ）アクリル酸３−エトキシプロピル、（メタ）アクリル酸４−エトキシブチルなどを挙げることができる。
【００５８】
アクリル系粘着剤の市販品としては、例えば、商品名：ＴＵ−４１Ａ（巴川製紙所製）、商品名：Ｎｏ．５９１、Ｎｏ．５９１５、Ｎｏ．５９１９Ｍ、ＣＳ９６２１、ＬＡ−５０、ＬＡ−１００、ＨＪ−９２１０、Ｎｏ．５９５Ｂ（日東電工（株）製）、商品名：ＳＫダインＳＫ２０９４（綜研化学株式会社製）等が、ヘイズが低くなり、且つ、粘着力の点から好適に用いられる。
【００５９】
（４）その他の成分
赤外線吸収膜に更に含まれていても良いその他の成分としては、ネオン光吸収剤、色補正色素が挙げられる。
【００６０】
（ネオン光吸収剤）
ネオン光吸収機能は、プラズマディスプレイパネルから放射されるネオン光、即ちネオン原子の発光スペクトルを吸収するべく含有するものである。ネオン光の発光スペクトル帯域は波長５５０〜６４０ｎｍの為、ネオン光吸収層として機能する場合の分光透過率は波長５５０ｎｍにおいて５０％以下、更に４０％以下になるように設計することが好ましい。ネオン光吸収剤は、少なくとも５５０〜６４０ｎｍの波長領域内に吸収極大を有する色素を用いることができる。当該色素の具体例としては、シアニン系、オキソノール系、メチン系、サブフタロシアニン系もしくはポルフィリン系等を挙げることができる。これらの中でもポルフィリン系が好ましい。その中でも特に、特許第３８３４４７９号公報に開示されるような、テトラアザポルフィリン系色素が、粘着剤においても分散性が良好で、且つ耐熱性、耐湿性、耐光性が良好な点から好ましい。
ネオン光吸収剤の含有量は、特に限定されないが、膜中に、０．０５〜５重量％であることが好ましい。含有量が０．０５重量％より多ければ、十分なネオン光吸収機能を発現でき、５重量％以下であれば、十分な量の可視光線を透過できる。
【００６１】
（色補正色素）
また、色補正機能とは、パネルからの発光の色純度や色再現範囲、電源ＯＦＦ時のディスプレイ色などの改善の為にディスプレイ用フィルタの色を調整するために含有するものである。
色補正色素として用いることのできる公知の色素としては、特開２０００−２７５４３２号公報、特開２００１−１８８１２１号公報、特開２００１−３５００１３号公報、特開２００２−１３１５３０号公報等に記載の色素が好適に使用できる。更にこのほかにも、黄色光、赤色光、青色光等の可視光を吸収するアントラキノン系、ナフタレン系、アゾ系、フタロシアニン系、ピロメテン系、テトラアザポルフィリン系、スクアリリウム系、シアニン系等の色素を使用することができる。
色補正色素の含有量は、補正すべき色に合わせて適宜調整され、特に限定されない。通常、膜中に０．０１〜１０重量％程度含有する。
【００６２】
（その他の成分）
また、本発明の効果を損なわない限り、複合タングステン酸化物微粒子以外の赤外線吸収剤を含んでいても良い。複合タングステン酸化物微粒子以外の赤外線吸収剤としては、上記一般式で表される以外のタングステン酸化物などの無機系赤外線吸収剤や、フタロシアニン系化合物、ジイモニウム化合物等の有機系赤外線吸収剤から適宜選択して用いられる。
更に、赤外線吸収膜には、所望に応じて、イソシアネート化合物等の架橋剤、粘着付与剤等が含まれていても良い。
その他、赤外線吸収膜には、複合タングステン酸化物微粒子及び置換ベンゼンジチオール金属錯体の分散性を向上するための各種分散剤や、各種界面活性剤、シランカップリング剤等が含まれていても良い。
【００６３】
３．赤外線吸収積層体の特性
（赤外線吸収性）
本発明に係る赤外線吸収積層体は、８００ｎｍ〜１，１００ｎｍの波長域（近赤外線領域）の赤外線の透過率が２０％以下、更に１５％以下であることが好ましい。
なお、本発明における光線透過率は、ＪＩＳ−Ｚ８７０１に準拠して分光光度計（例えば、品番：ＵＶ−３１００ＰＣ、会社名：株式会社島津製作所）にて測定することができる。
【００６４】
（耐久性）
本発明の赤外線吸収積層体は、優れた耐久性を有し、高温高湿下での長時間の使用によっても光吸収剤の劣化に帰属される分光特性の変化が起こり難い。具体的には、耐湿熱環境（８０℃、湿度９５％ＲＨ）の条件下にて、３日経過後の波長３００ｎｍ〜１３００ｎｍにおける透過率Ｔの差ΔＴが、１０％以下、更に好ましくは６％以下であることが望ましい。
【００６５】
ＩＩ．光学フィルタ
本発明に係る光学フィルタは、上記赤外線吸収積層体の透明基材側の面、及び／又は赤外線吸収膜側の面に、機能層が積層されていることを特徴とする。このような光学フィルタは、上記赤外線吸収機能に加えて、種々の機能が付加された光学フィルタとして用いることができる。
【００６６】
本発明に用いられる機能層としては、耐擦傷機能、防眩機能、反射防止機能等の光学機能を有する光学機能層、及び電磁波遮蔽機能、防汚機能等の光学機能以外の機能を有する機能層が挙げられる。また、上記機能層は、単層の他、多層として形成してもよい。なお、上記機能層は、従来の光学フィルタに於いて公知のものを用いてもよい。
【００６７】
以下、各機能層について順に説明する。
（１）光学機能層
＜耐擦傷機能層＞
耐擦傷機能（ハードコート）層は、ＪＩＳＫ５６００−５−４（１９９９）で規定される鉛筆硬度試験で「Ｈ」以上の硬度を示すものであることが好ましく、このような硬度と上記透明基材と同様な透明性を実現できるものであれば、材料は特に限定されない。
耐擦傷機能（ハードコート）層は、例えば、ポリエステル（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート等の多官能（メタ）アクリレートプレポリマー、或いは、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の３官能以上の多官能（メタ）アクリレートモノマーを単独で或いはこれらの中から２種以上選択して組み合わせて配合した電離放射線硬化性樹脂を用いた塗膜として形成することができる。また、電離放射線硬化型樹脂を紫外線硬化型樹脂として使用する場合には、光重合開始剤または光重合促進剤として増感剤を添加することができる。なおここで、（メタ）アクリレートとは、アクリレート又はメタクリレートを意味する複合的表記である。耐擦傷機能（ハードコート）は上記材料を必要に応じて溶剤で希釈して上記透明基材上に塗工等の湿式成膜法により形成することができる。
【００６８】
＜防眩層＞
防眩層（Ａｎｔｉ  Ｇｌａｒｅ層、略称してＡＧ層）は、樹脂バインダ中にシリカなどの無機フィラーを添加した塗膜形成や、或いは賦形版等を用いた賦形加工により、層表面に外光を乱反射する微細凹凸を設けた層として形成することができる。樹脂バインダの樹脂としては、表面層として表面強度が望まれる関係上、硬化性アクリル樹脂や、前記の耐擦傷機能（ハードコート）層同様に電離放射線硬化性樹脂等が好適に使用される。
【００６９】
＜反射防止層＞
反射防止層（Ａｎｔｉ  Ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ層、略称してＡＲ層）は、低屈折率層の単層、或いは、低屈折率層と高屈折率層とを、当該低屈折率層が最上層に位置する様に交互に積層した多層構成が一般的であり、蒸着やスパッタ等の乾式成膜法で、或いは塗工等の湿式成膜法も利用して形成することができる。なお、低屈折率層はケイ素酸化物、フッ化マグネシウム、フッ素含有樹脂等が用いられ、高屈折率層には、酸化チタン、硫化亜鉛、酸化ジルコニウム、酸化ニオブ等が用いられる。尚、ここで高（低）屈折率層とは、当該層と隣接する層（例えば、低（高）屈折率層）と比較して当該層の屈折率が相対的に高（低）いという意味である。
反射防止層に更に耐擦傷機能を付与する場合には、前記の耐擦傷機能（ハードコート）層の項で記載した硬度の高い材料を適宜用いて形成する。
【００７０】
＜その他の光学機能層＞
その他の光学機能層としては、例えば、ネオン光吸収層、色補正層、紫外線吸収層等が挙げられる。しかしながら、ネオン光吸収層、色補正層は、生産効率の点から、単独の層として形成されるよりも、前述のように、赤外線吸収膜など他の膜（層）にネオン光吸収剤や色補正色素を含有させて、ネオン光吸収層、色補正層を兼用する層とする方が好ましい。単独の層として形成される場合であっても、ネオン光吸収剤や色補正色素としては、上記「２．赤外線吸収膜」において説明したものを用いることができる。
紫外線吸収層は、独立した層であっても良いし、他の機能層に紫外線吸収剤を含有させた、他の機能層と紫外線吸収層を兼ねる層であっても良い。紫外線吸収剤を含有させた透明基材としては、例えば、帝人（株）製「テトロンフィルムＨＢタイプ」（商品名）が挙げられる。
紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾフェノン系化合物等の有機系化合物、微粒子状の酸化亜鉛、酸化セリウム等からなる無機系化合物からなるものが挙げられる。独立した層とする場合に用いられるバインダ樹脂としては、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂等の樹脂が挙げられる。
【００７１】
（２）その他の機能層
＜電磁波遮蔽層＞
電磁波遮蔽層は電磁波遮蔽性能と可視光透過性能とを兼ね備えた層である。ここで、透明とは、可視光（単に光とも呼称する）に対して光透過性を有する全面連続体の被膜である場合だけでなく、材料そのものは不透明であってもメッシュ化することによって、全光線透過率が５０％以上、より好ましくは８０％以上としたものであってもよい。
【００７２】
電磁波遮蔽層の材料及び形状は特に限定されるものではなく、従来公知の光透過性の電磁波シールドフィルタに於ける各種導電体層を適宜採用できるものである。電磁波遮蔽層は、一般的には金属箔のエッチングで形成したメッシュ状のものが代表的であり、例えば、印刷法やめっき法等を利用してポリエステルフィルム上に最初からメッシュ状の形状で電磁波遮蔽層（以下、導電体メッシュ層と呼称する。）を形成したものや、最初はポリエステルフィルム上に全面に、蒸着、スパッタ、めっき等の１又は２以上の物理的或いは化学的形成手法を用いて電磁波遮蔽層を形成後、エッチング等で導電体メッシュ層を形成したものが挙げられる。また、ポリエステルフィルムシートに積層前の金属箔単体をエッチングでパターンニングして導電体メッシュ層とすることも可能である。この層単体の導電体メッシュ層は、接着剤等でポリエステルフィルムシートに積層する。
また、光透過性を有する全面被膜である電磁波遮蔽層としては、例えば、ポリエステルフィルム上に銀、ＩＴＯ（酸化インジウム錫）等の蒸着により透明導電体層の全面被膜を形成したものが挙げられる。
【００７３】
電磁波遮蔽層は、電磁波遮蔽性能を発現するに足る導電性を有する物質であれば、特に制限は無いが、通常は、導電性が良い点で金属層が好ましく、金属層は上記のように、蒸着、めっき、金属箔ラミネート等により形成することができる。金属層の金属材料としては、例えば、金、銀、銅、鉄、ニッケル、クロム、アルミニウム等が挙げられる。また金属層の金属は合金でも良く、金属層は単層でも多層でも良い。
また、電磁波遮蔽層が導電体メッシュ層である場合、上記電磁波遮蔽層表面の光反射を防ぐことを目的として、従来公知の方法により黒化処理面を形成することができる。更に、導電体メッシュ層や黒化処理面に、必要に応じて従来公知の防錆層を設けてもよい。
【００７４】
＜防汚層＞
防汚層は、一般的に、撥水性、撥油性のコートで、シロキサン系、フッ素化アルキルシリル化合物などが適用できる。撥水性塗料として用いられるフッ素系或いはシリコーン系樹脂を好適に用いることができる。例えば、反射防止層の低屈折率層をＳｉＯ２により形成した場合には、フルオロシリケート系撥水性塗料が好ましく用いられる。
【００７５】
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。
【実施例】
【００７６】
以下、実施例を挙げて、本発明を更に具体的に説明する。これらの記載により本発明を制限するものではない。
【００７７】
（実施例１）
アクリル樹脂（綜研化学（株）製、ＳＫダイン２０９４）１００重量部に対して、硬化剤（綜研化学（株）製、Ｅ−５ＸＭ）０．２５重量部、赤外線吸収剤としてセシウム含有タングステン酸化物（Ｃｓ０.３３ＷＯ３）含有量１８．５重量％懸濁液（住友金属鉱山（株）製、ＹＭＦ−０２；平均分散粒径５０ｎｍ）１０重量部、及びメチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）４０重量部を添加して撹拌し、更に、ビス（４−モルホリノスルホニル−１，２−ベンゼンチオラート−Ｓ，Ｓ’）ニッケル−テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム０．０５重量部添加して混合し、赤外線吸収性組成物を調製した。
次に、上記赤外線吸収性組成物を、厚さ１００μｍで連続帯状の無着色透明な２軸延伸ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（Ａ４３００：商品名、東洋紡績（株）製）の上に、乾燥膜厚２５μｍとなるようにアプリケーターにて塗工し、７０℃で３分乾燥後、上から厚み７５μｍの離型処理ＰＥＴをラミネートして、赤外線吸収積層体を得た。
【００７８】
（評価）
作製した赤外線吸収積層体の初期状態、及び当該赤外線吸収積層体の耐湿熱環境（８０℃、湿度９５％ＲＨ）の条件下にて、３日経過後の波長３００ｎｍ〜１３００ｎｍにおける透過率Ｔを、分光光度計（島津製作所製、ＵＶ−３１００ＰＣ）を用いて測定した。初期状態と、耐湿熱環境（８０℃、湿度９５％ＲＨ）の条件下で３日経過後の透過率Ｔの測定値から、透過率変化ΔＴを求めた。
その結果、初期状態と３日経過後との比較において、透過率変化ΔＴは７％未満であった。
【００７９】
（比較例１）
実施例１において、ビス（４−モルホリノスルホニル−１，２−ベンゼンチオラート−Ｓ，Ｓ’）ニッケル−テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムを用いなかった以外は実施例１と同様に赤外線吸収積層体を作製した。
［評価結果］
実施例１と同様に評価したところ、３日経過前後の波長３００ｎｍ〜１３００ｎｍにおける透過率Ｔの値の差ΔＴは１０％超過となり、赤外線域での光吸収剤の劣化が起こった。
【図面の簡単な説明】
【００８０】
【図１】図１は、本発明に係る赤外線吸収積層体の一例の断面模式図である。
【図２】図２は、本発明に係る赤外線吸収積層体の一例の断面模式図である。
【図３】図３は、本発明に係る光学フィルタの一例の断面模式図である。
【符号の説明】
【００８１】
１  赤外線吸収積層体
１０  透明基材
１１  赤外線吸収膜
１２  紫外線吸収層
１３  防眩層
２０  光学フィルタ
【図１】
2010079145.tif 000014
【図２】
2010079145.tif 000015
【図３】
2010079145.tif 000016