(57)【要約】      （修正有）【課題】液晶分子のプレティルト角を広範囲に設定し得る新規な技術を提供する。【解決手段】第１基板の一面に第１配向膜を形成する第１工程と、上記第１基板と第２基板とを、互いの一面を向かい合わせて配置する第２工程と、上記第１基板と上記第２基板との間に液晶層を形成する第３工程と、を含み、上記第１工程は、材料液と上記第１基板との間に相対的に電位差を生じさせた状態で上記材料液を放出することにより上記材料液を霧状にし、当該霧状の材料液52を上記第１基板40の一面側に散布し、当該散布された上記材料液を固化すること、を含む、液晶表示装置の製造方法。【選択図】図２
2010282156.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いの一面を向かい合わせて配置された第１基板及び第２基板と、
前記第１基板の前記一面側に設けられた第１配向膜と、
前記第２基板の前記一面側に設けられた第２配向膜と、
前記第１基板と前記第２基板との相互間に設けられた液晶層と、
を含み、
前記第１配向膜は多数の微細膜を有し、前記多数の微細膜は各々の相互間に下地が露出するように分散して配置され、
前記多数の微細膜の分布密度に応じて、前記第１配向膜と前記液晶層との界面付近における液晶分子のプレティルト角が制御された、
液晶表示装置。
【請求項２】
前記第１配向膜と前記第１基板の前記一面との間に設けられており、前記第１配向膜とは配向制御特性が異なる第３配向膜、を更に含む、
請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記多数の微細膜は、平面視における形状が略円形状又は環状形状のものを含む、
請求項１又は２に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
第１基板の一面に第１配向膜を形成する第１工程と、
前記第１基板と第２基板とを、互いの一面を向かい合わせて配置する第２工程と、
前記第１基板と前記第２基板との間に液晶層を形成する第３工程と、
を含み、
前記第１工程は、
材料液と前記第１基板との間に相対的に電位差を生じさせた状態で前記材料液を放出することにより、前記材料液を霧状にして前記第１基板の一面側に散布する工程と、
当該散布された前記材料液を固化する工程と、
を含む、
液晶表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置における液晶分子の配向制御技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置の製造における要素技術の１つとして配向制御技術がある。従前、比較的高いプレティルト角を実現する技術として、例えば特開平６−９５１１５号公報（特許文献１）に開示されたものが知られている。しかし、特許文献１に開示される技術を用いる場合には、０°〜９０°の所望のプレティルト角が得られるものの、異方性ドライエッチングを用いること等により製造プロセスが複雑であるため加工費がかかるとともに、多くの材料（粒子、樹脂など）が必要であるため材料費がかかるという点で未だ改良の余地が残されていた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開平６−９５１１５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明に係る具体的態様は、液晶分子のプレティルト角を広範囲に設定し得る新規な技術を提供することを目的の１つとする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明に係る一態様の液晶表示装置は、互いの一面を向かい合わせて配置された第１基板及び第２基板と、上記第１基板の上記一面側に設けられた第１配向膜と、上記第２基板の上記一面側に設けられた第２配向膜と、上記第１基板と上記第２基板との相互間に設けられた液晶層と、を含む。上記第１配向膜は多数の微細膜を有し、上記多数の微細膜は各々の相互間に下地が露出するように分散して配置される。そして、上記第１配向膜と上記液晶層との界面付近における液晶分子のプレティルト角が、上記多数の微細膜の分布密度に応じて制御される。
【０００６】
上記の液晶表示装置では、多数の微細膜からなる配向膜を用いることにより、当該配向膜と液晶層との界面付近における液晶分子のプレティルト角を多数の微細膜の分布密度に応じて変化させることができる。例えば、いわゆる垂直配向膜用の材料液を用いて第１配向膜が形成されている場合であれば、微細膜の密度の増加に伴ってプレティルト角を高くすることができる。ここで、上記した特許文献１に記載の従来例では、尖鋭形状に形成された突起体または針状体を用い、これらによる形状的な作用を利用して配向制御が行われていた（特許文献１の段落００２５等参照）。このため、上述したような製造上の不都合があるとともに、プレティルト角を広範囲に制御するのが困難であると考えられる。これに対して本発明は、多数の微細膜の密度によって配向制御が可能となることを見出し、これを新規な技術として具現化したものである。本発明における多数の微細膜は、配向膜の分散に由来する物性を利用するものであるため、後述のような比較的簡素な装置・プロセスによって製造可能である。
【０００７】
上記した液晶表示装置において、上記第１配向膜とは配向制御特性が異なる第３配向膜を上記第１配向膜と上記第１基板の上記一面との間に設けることも好ましい。例えば、第１配向膜が垂直配向膜であるとすれば、第３配向膜としては水平配向膜が用いられる。
【０００８】
これにより、第１配向膜を形作る多数の微細膜の相互間に露出する下地が第３配向膜となるので、液晶層全体の配向の安定性を高めることが期待される。また、第１配向膜と第３配向膜との組み合わせにより、第１配向膜または第３配向膜を単独で用いる場合とは異なるプレティルト角が得られる。
【０００９】
また、第１配向膜を構成する多数の微細膜は、平面視における形状が略円形状又は環状形状のものを含んでもよい。
【００１０】
上記のように本発明では微細膜の配向膜の分散に由来する物性を利用するものであるため、多数の微細膜としては種々の形状が許容される。それにより、製造が容易になる。
【００１１】
本発明に係る一態様の液晶表示装置の製造方法は、（ａ）第１基板の一面に第１配向膜を形成する第１工程と、（ｂ）上記第１基板と第２基板とを、互いの一面を向かい合わせて配置する第２工程と、（ｃ）上記第１基板と上記第２基板との間に液晶層を形成する第３工程と、を含む。そして、上記第１工程は、（ｄ）材料液と上記第１基板との間に相対的に電位差を生じさせた状態で上記材料液を放出することにより、上記材料液を霧状にして上記第１基板の一面側に散布する工程と、（ｅ）当該散布された上記材料液を固化する工程と、を含む。
【００１２】
上記の製造方法によれば、例えば材料液にプラス電位を与え、基板側にマイナス電位を与えることにより、材料液を非常に細かい粒子からなる霧状体にし、基板上へ散布することができる。したがって、多数の微細膜からなる第１配向膜を簡易な構成の装置によって形成することができる。したがって、プレティルト角を広範囲に設定して液晶表示装置を製造することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】一実施形態の液晶表示装置を模式的に示す断面図である。
【図２】多数の微細膜からなる配向膜の形成に適した手法の一例について説明する原理図である。
【図３】多数の微細膜からなる配向膜の形成に適した手法の他の一例について説明する原理図である。
【図４】配向膜液の射出点と基板との位置関係について説明する図である。
【図５】一実施形態の液晶表示装置の製造工程を説明する模式断面図である。
【図６】比較例の液晶表示装置の電気光学特性および顕微鏡写真を示す図である。
【図７】実施例１の液晶表示装置の電気光学特性および顕微鏡写真を示す図である。
【図８】実施例２の液晶表示装置の電気光学特性および顕微鏡写真を示す図である。
【図９】実施例３の液晶表示装置の電気光学特性および顕微鏡写真を示す図である。
【図１０】実施例４の液晶表示装置の顕微鏡観察写真を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下に、本発明の実施の形態について図面を参照しながら説明する。
【００１５】
図１は、一実施形態の液晶表示装置を模式的に示す断面図である。図１に示す本実施形態の液晶表示装置１は、第１基板１１と第２基板１５の間に液晶層１９を介在させた基本構成を有する。第１基板１１の外側には第１偏光板２１が配置され、第２基板１５の外側には第２偏光板２２が配置されている。以下、さらに詳細に液晶表示装置１の構造を説明する。なお、液晶層１９の周囲を封止するシール材等の部材については図示および説明を省略する。
【００１６】
第１基板１１および第２基板１５は、それぞれ、例えばガラス基板、プラスチック基板等の透明基板である。図示のように、第１基板１１と第２基板１５とは、互いの一面が対向するようにして、所定の間隙（例えば数μｍ）を設けて貼り合わされている。なお、特段の図示を省略するが、いずれかの基板上に薄膜トランジスタ等のスイッチング素子が形成されていてもよい。
【００１７】
液晶層１９は、第１基板１１と第２基板１５の相互間に設けられている。本実施形態においては、誘電率異方性Δεが正（Δε＞０）の液晶材料を用いて液晶層１９が構成されている。液晶層１９に図示された太線は、液晶層１９に電圧が印加されていない初期状態における液晶分子の配向方位を模式的に示したものである。液晶層１９は、例えば図示のように比較的高いプレティルト角が付与された一様な初期配向状態とされる。
【００１８】
第１電極１２は、第１基板１１の一面側に設けられている。また、第２電極１６は、第２基板１５の一面側に設けられている。第１電極１２および第２電極１６は、それぞれ、例えばインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）などの透明導電膜を適宜パターニングすることによって構成されている。
【００１９】
配向膜１３は、第１基板１１の一面側に、第１電極１２を覆うようにして設けられている。また、配向膜１７は、第２基板１５の一面側に、第２電極１６を覆うようにして設けられている。これらの配向膜１３、１７としては、液晶層１９の電圧無印加時における配向状態（初期配向状態）を水平配向状態に規制する性質を有するもの（いわゆる水平配向膜）が用いられる。
【００２０】
配向膜１４は、第１基板１１の一面側（配向膜１３の一面上）に設けられている。また、配向膜１８は、第２基板１５の一面側（配向膜１７の一面上）に設けられている。これらの配向膜１４、１８としては、液晶層１９の初期配向状態を垂直配向状態に規制する性質を有するもの（いわゆる垂直配向膜）が用いられる。ここで、本実施形態における配向膜１４、１８のそれぞれは、不定形状、略円形状（円形に近い形状）あるいは環状の多数の微細膜が分散配置されてなる集合体である。図示のように、配向膜１４はその下側の配向膜１３を部分的に覆うに留まっている。すなわち、配向膜１４を構成する多数の微細膜の相互間では下地の配向膜１３が部分的に露出している。配向膜１７と配向膜１８の関係も同様である。このような配向膜１４および１８の形成に適した方法について次に詳述する。
【００２１】
図２は、多数の微細膜（微細膜片）からなる配向膜の形成に適した手法の一例について説明する原理図である。本実施形態では、配向膜の材料液（以下「配向膜液」という。）を内部に保持するための円筒状等のマイクロシリンジ（筒）５０と、このマイクロシリンジ５０の一端に設けられた中空の微小な針５１とを備えた噴射装置を用いることにより、多数の微細膜からなる配向膜を基板上に形成する。このとき、基板４０の一面には予め導電膜４１が設けられる。この導電膜４１は、例えばインジウム錫酸化物膜などの透明導電膜である。図示のように、噴射装置の針５１と基板４０との距離Ｌ１を適宜（例えば、数十ｍｍ程度）に確保する。そして、針５１と基板４０の間に電圧印加手段を用いて高電圧（例えば数ｋＶの直流電圧）を印加しながら、針５１の先端にマイクロシリンジ５０内の配向膜液を供給する。このとき、例えば、針５１を基板４０より相対的に高い電位に設定しておく（なお、電位の関係は逆でもよい）。それにより、針５１から吐出される配向膜液はプラスの電位を帯びた状態の液体粒子となる。この電位を帯びた液体粒子は、電気的に反発しながら細かく分裂して拡がり、霧状の微小液滴（霧状体）５２となる。この微小液滴５２がマイナスに帯電した基板４０に引き寄せられ、導電膜４１上に定着する。その後、基板４０に到達した微小液滴５２に対して適宜熱処理等を与えることによって膜化（固化）させることにより、多数の微細膜からなる配向膜が得られる。上述した配向膜１４および配向膜１８は、このような手法によって形成することができる。
【００２２】
なお、図２に示す原理図においては、基板４０の一面に導電膜４１を設けておき、この導電膜４１と針５１との間に電圧を印加していたが、図３に示す原理図のように、基板４０の裏面側に導電板（導電体）５３を配置し、この導電板５３と針５１との間に電圧を印加することもできる。この例では、基板４０の一面に電気的な接続を施す必要がない点で汎用性が高いという利点がある。なお、この導電板５３に、基板を保持し得る機構（真空吸着手段等）を設けておくことにより、導電板５３を基板固定手段（基板フォルダ）として兼用することができる。
【００２３】
図４は、配向膜液の射出点と基板との位置関係について説明する図である。配向膜液の射出点とは、図２および図３に示した噴射装置においては針５１の先端部である。上述した図２または図３に示した例では、基板４０を縦置きし、水平方向に対向する位置に針５１の先端部を配置していたが、他の配置にすることも可能である。例えば、図４（Ａ）に示すように、基板４０よりも相対的に高い位置に針５１の先端部を配置することができる。この場合には、基板４０が相対的に低い位置となることで基板４０の保持機構がより簡素となり、従って配向膜を形成するための装置構成をより簡素にできることが期待できる。また、図４（Ｂ）に示すように、基板４０よりも相対的に低い位置に針５１の先端部を配置してもよい。この場合には、重力の関係から、針５１の先端から放出された微小液滴５２の中でより粒子の細かいもの（粒径の小さなもの）が優先的に基板４０の一面へ到達するようにできる。すなわち、配向膜を構成する多数の微細膜のそれぞれをより小さくし、基板４０上に分散させることができる。
【００２４】
次に、本実施形態に係る液晶表示装置１の製造工程について図面を参照しながら詳細に説明する。図５は、一実施形態の液晶表示装置の製造工程を説明する模式断面図である。
【００２５】
まず、第１基板１１の一面に、ＩＴＯ等からなる第１電極１２が形成される（図５（Ａ）参照）。例えば、第１基板１１の一面に、スパッタ法等の成膜方法を用いて透明導電膜を形成する。予めこのような透明導電膜が形成された基板を用いてもよい。この透明導電膜を洗浄し、一般的なパターニング手法（例えばフォトリソ法）を用いて所望の形状の第１電極１２を形成する。第１基板１１としては、例えば板厚０．７ｍｍの無アルカリガラスからなるガラス基板を用いることができる。また、第１電極１２の膜厚は、例えば１５００Å（オングストローム）程度とすることができる。
【００２６】
次いで、第１基板１１上に、第１電極１２を覆うようにして配向膜１３が形成される（図５（Ａ））。具体的には、フレキソ印刷、インクジェット印刷等の手法により、配向膜１３の前駆体としての配向膜液が第１基板１１の一面上に塗布される。ここでは、以下の化学式で示されるような一般的な水平配向膜用の配向膜液（配向膜材料）を用いることができる。その後、この第１基板１１に対して熱処理（例えば、２５０℃・１時間）、ラビング処理（または光配向処理等）が施されることにより、水平配向膜である配向膜１３が得られる。なお、ラビング処理等の表面処理は後述の配向膜１４が形成された後に行ってもよい。
【化１】
2010282156.tif 000003
【００２７】
次いで、第１基板１１の一面上（配向膜１３の一面上）に配向膜１４が形成される。具体的には、上記の図２〜図４を用いて説明した手法により、配向膜１４の前駆体としての配向膜液が配向膜１３の一面上に散布される。ここでは、以下の化学式で示されるような一般的な垂直配向膜用の配向膜液を用いることができる。微小液滴５２をより良い状態で発生させるには配向膜液の粘度が低いことが望ましいため、本実施形態では、シンナーで４ｗｔ％まで希釈された配向膜液をさらにアセトンで２倍に薄める（希釈配向膜液：アセトン＝１：１）。この希釈された配向膜液を上記の噴射装置のマイクロシリンジ５０に充填する。また、針５１と第１基板１１との距離Ｌ１（図２参照）を６０ｍｍとする。また、針５１と第１基板１１との間に印加する直流電圧を７ｋＶとする。針５１からの配向膜液の吐出量は３６ピコリットル／秒とする。その後、第１基板１１に対して熱処理（例えば１９０℃・１時間）が施されることにより、配向膜液が固化（膜化）され、配向膜１４が得られる。
【化２】
2010282156.tif 000004
【００２８】
なお、希釈用の溶媒としてはアセトンに限らず、エタノール、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）など別の有機溶媒を用いてもよい。基本的には、沸点が低く、揮発性の高いものが望ましい。針５１から第１基板１１へ向けて配向膜液が飛翔する間に、配向膜液は細かな液滴の集合体である微小液滴５２となるが、第１基板１１に到達するころにはアセトン等の希釈用溶媒はほとんど蒸発するものと考えられる。したがって、ここで用いる希釈用溶媒は、何を選んでも液晶層１９の配向性に大きな影響を与えることはないと考えられる。
【００２９】
また、第２基板１５の一面上に配向膜１７が形成され、さらにこの配向膜１７の一面上に配向膜１８が形成される（図５（Ｃ）参照）。それぞれの詳細については上記の配向膜１３、１４と同様であるため、ここでは説明を省略する。
【００３０】
次いで、第１基板１１と第２基板１５とを、互いの一面を対向させて配置する（図５（Ｄ）参照）。例えば本実施形態では、第１基板１１と第２基板１５との間隔（セルギャップ）を一定に保つために、一方の基板面上（例えば第１基板１１の一面上）にギャップコントロール剤を乾式散布する。ギャップコントロール剤としては、粒径が数μｍのプラスチックボール等を用いることができる。また、シール剤を他方の基板面上（例えば第２基板１５の一面上）に形成する。シール剤の形成は、例えばスクリーン印刷法により行われる。ディスペンサを用いてもよい。シール剤としては、熱硬化性、光硬化性、光・熱併用型など何れも用いることができる。シール剤には粒径が数μｍのグラスファイバーが数％含まれていてもよい。その後、第１基板１１と第２基板１５とを重ね合わせてセル化し、プレスした状態で熱処理等によりシール剤を硬化させる。ここでは、ホットプレス法にて熱硬化を行う（１５０℃焼成）。本実施形態では、図中に示すように、各配向膜１３、１６に対するラビング方向がアンチパラレル状態となるように第１基板１１と第２基板１５とが貼り合わされる。
【００３１】
次いで、第１基板１１と第２基板１５の間に、例えば真空注入法によって液晶材料を注入することにより液晶層１９が形成される（図５（Ｄ）参照）。液晶材料の注入口はエンドシール剤によって封止される。更に、液晶層１９の配向を整えるために、液晶材料の相転移温度以上にセルを熱する処理（例えば、６０℃・３０分間）を行うことも好ましい。
【００３２】
その後、セルを洗浄する処理を適宜行い、第１基板１１の外側に第１偏光板２１を貼り付け、第２基板１５の外側に第２偏光板２２を貼り付けることにより、上記の図１に示した液晶表示装置１が完成する。
【００３３】
以下に、本実施形態に係る液晶表示装置のいくつかの実施例について説明する。なお、比較例として一般的な水平配向状態の液晶表示装置についても併せて説明する。
【００３４】
（比較例）
図６は、比較例の液晶表示装置の電気光学特性および顕微鏡写真を示す図である。この比較例は、上述した実施形態における配向膜１４および配向膜１８を省略して作製されたものである。液晶層１９を形成するための液晶材料としては５ＣＢが用いられた。セル厚（第１基板１１と第２基板１５の間隙の距離）は５．７μｍであった。それ以外の製造条件については、上記した実施形態において例示した条件に即している。図６（Ｂ）および図６（Ｃ）に顕微鏡写真を示すように、比較例の液晶セルは一般的な水平配向に見られる均一な配向状態であることがわかる。また、図６（Ａ）に示す電気光学特性から、この液晶セルの飽和電圧は８．５Ｖ程度であることがわかる。またこの液晶セルのプレティルト角をクリスタルローテーション法にて測定したところ、プレティルト角は約３°であった。このプレティルト角は、２０ｍｍ×２５ｍｍの範囲で９点ずつ測定された（以下の各実施例も同様）。
【００３５】
（実施例１）
図７は、実施例１の液晶表示装置の電気光学特性および顕微鏡写真を示す図である。この実施例１についても、液晶層１９を形成するための液晶材料としては５ＣＢが用いられた。セル厚は６．０μｍであった。また、配向膜１４、配向膜１８のそれぞれを形成する際には、各配向膜１４、１８の前駆体としての配向膜液が３μリットルずつ散布された。それ以外の製造条件については、上記した実施形態において例示した条件に即している。図７（Ｂ）〜図７（Ｄ）に顕微鏡写真を示すように、部分的に液晶分子の配向状態が異なっていることがわかる。この配向状態の異なっている部分は、配向膜１４または配向膜１８に対応して形成されていると考えられる。当該部分の大きさは数μｍ程度かそれ以下であり１μｍ以下の細かな部分も見られる。また、当該部分の形状は無定形（円形にやや近い形状）であることがわかる。また、図７（Ａ）に示す電気光学特性から、この液晶セルの飽和電圧は８．０Ｖ程度であることがわかる。またこの液晶セルのプレティルト角をクリスタルローテーション法（外挿法）によって測定したところ、プレティルト角は約１３．５°〜１４．１°の範囲であった。すなわち、比較的に高いプレティルト角が付与されていることがわかった。
【００３６】
（実施例２）
図８は、実施例２の液晶表示装置の電気光学特性および顕微鏡写真を示す図である。この実施例２についても、液晶層１９を形成するための液晶材料としては５ＣＢが用いられた。セル厚は６．０μｍであった。また、配向膜１４、配向膜１８のそれぞれを形成する際には、各配向膜１４、１８の前駆体としての配向膜液が１５μリットルずつ散布された。それ以外の製造条件については、上記した実施形態において例示した条件に即している。図８（Ｂ）および図８（Ｃ）に顕微鏡写真を示すように、実施例２の液晶セルにおいても、部分的に液晶分子の配向状態が異なっており、これは配向膜１４、１８に起因すると考えられる。また、配向膜液の散布量の増加に伴い、当該部分の密度が高くなっていることがわかる。また、当該部分の形状は無定形で、円形よりも複雑な形状となっている。また、当該部分の大きさも、実施例１に比較してより大きいことがわかる。また、図８（Ａ）に示す電気光学特性から、この液晶セルの飽和電圧は６．０Ｖ程度であることがわかる。またこの液晶セルのプレティルト角をクリスタルローテーション法（外挿法）によって測定したところ、プレティルト角は約１９．５°〜２２．４°の範囲であった。すなわち、配向膜液の散布量を増加させることによって微細膜の密度を増加させ、それによりプレティルト角をより高く制御できることが明らかとなった。
【００３７】
（実施例３）
図９は、実施例３の液晶表示装置の電気光学特性および顕微鏡写真を示す図である。この実施例３についても、液晶層１９を形成するための液晶材料としては５ＣＢが用いられた。セル厚は６．０μｍであった。また、配向膜１４、配向膜１８のそれぞれを形成する際には、各配向膜１４、１８の前駆体としての配向膜液が４５μリットルずつ散布された。それ以外の製造条件については、上記した実施形態において例示した条件に即している。図９（Ｂ）および図９（Ｃ）に顕微鏡写真を示すように、実施例３の液晶セルにおいても、部分的に液晶分子の配向状態が異なっており、これは配向膜１４、１８に起因すると考えられる。また、配向膜液の散布量の増加に伴い、当該部分の密度が高くなっていることがわかる。また、当該部分の形状は無定形で、円形よりも複雑な形状となっている。また、当該部分の大きさも実施例１に比較してより大きいことがわかる。さらに、部分的に黒く見えている部分があり、これは垂直配向もしくは垂直に近い配向状態になっていると考えられる。この部分に対応する第１基板１１、第２基板１５のそれぞれの表面には配向膜１４、１８を構成する微細膜が形成されていると考えられる。また、図９（Ａ）に示す電気光学特性から、この液晶セルの飽和電圧は５．０Ｖ程度であることがわかる。またこの液晶セルのプレティルト角をクリスタルローテーション法（外挿法）によって測定したところ、プレティルト角は約３７．２°〜４２．９°の範囲であった。すなわち、配向膜液の散布量を増加させることによって微細膜の密度をさらに増加させ、それによりプレティルト角をさらに高く制御できることが明らかとなった。
【００３８】
（実施例４）
実施例４として、一方の基板側にのみ垂直配向膜を散布した実施例を説明する。具体的には、上述した実施形態において、第１基板１１側には配向膜１３および配向膜１４を形成し、第２基板１５側には配向膜１７のみを形成し、配向膜１８を省略した液晶表示装置を作製した。図１０は、実施例４の液晶表示装置の顕微鏡観察写真を示す図である。図１０（Ａ）は２０倍に拡大した偏光顕微鏡写真、図１０（Ｂ）は５０倍に拡大した偏光顕微鏡写真である。各写真において白く見えている部分は、配向膜１４を構成する微細膜に対応する。当該部分の形状は、円形もしくは円形を組み合わせた形状となっていることがわかる。また、ドーナツ状（環状）の形状も見られる。当該部分の大きさは様々であり、サブミクロンオーダ（０．１μｍ以下もある）から、大きいものは１０μｍ程度、最大では３０μｍ程度である。液晶セルの作製に当たっては比較的簡易な装置を用いたため、微小液滴５２（図２，３参照）の粒径のばらつきが大きいが、より高精度な装置を用いれば粒径のばらつきを抑えることが可能と考えられる。また、粒径の大きさについても、噴射装置の針と基板との距離や、両者間に印加する電圧の値、針の形状やサイズ、配向膜液の吐出量、吐出速度などの製造パラメータを適宜設定することにより、数ｎｍ〜数十ｎｍ程度のオーダまで制御可能である。ただし、人間の目の分解能（一般に１００μｍ程度）を考慮すると、配向膜１４（又は配向膜１８）を構成する各微細膜をそれほど小さくしなくとも、視認されるおそれは低いものと考えられる。また、液晶分子はお互いが揃いあって並ぶ性質を有し、細かな配向分布があっても全体としてはなるべく急激な配向変化にならないように徐々に変化していく性質を有している。前記配向分布があまりにも細かすぎると表面の配向分布による影響が全体の液晶配向にあまり影響を与えない可能性もあり、配向膜１４等を構成する各微細膜はあまり細かすぎないほうがよい可能性もある。すなわち、配向膜液の噴射装置としてそれほど高精度なものを用いる必要がないとも考えられる。
【００３９】
以上の本実施形態によれば、多数の微細膜からなる配向膜を用いることにより、当該配向膜と液晶層との界面付近における液晶分子のプレティルト角を広範囲に設定することができる。また、多数の微細膜の分布密度に応じてプレティルト角を変化させることができる。また、多数の微細膜からなる配向膜を比較的簡易な構成の装置によって形成することができる。したがって、プレティルト角を広範囲に設定して液晶表示装置を製造することが可能となる。それにより、例えばＯＣＢ（オプティカル・コンペイセーティット・ベンド）モード、あるいは全く新規なモードなど、比較的高いプレティルト角を必要とする表示モードを用いた液晶表示装置も容易に実現可能となる。
【００４０】
なお、本発明は上述した実施形態の内容に限定されるものではなく、本発明の要旨の範囲内において種々に変形して実施をすることが可能である。例えば、上述した実施形態において適宜示した製造条件等の数値は一例であり、それらに限定されない。例えば、上述した実施形態においては、第１基板、第２基板のそれぞれに対して、異なる２種類の配向膜（水平配向膜および多数の微細膜からなる垂直配向膜）を設けていたが、いずれか一方の基板にのみ２種類の配向膜を設けるようにしてもよい。また、上述した実施形態においては、水平配向膜の上側に、多数の微細膜からなる垂直配向膜を重ねていたが、これを逆にしてもよい。すなわち、垂直配向膜の上側に、多数の微細膜からなる水平配向膜を重ねるようにしてもよい。さらに、多数の微細膜からなる配向膜（垂直配向膜または水平配向膜）を他の性質の配向膜上に重ねるのではなく、単独で用いてもよい。反対に、多数の微細膜からなる配向膜を複数層に重ねてもよい。
【符号の説明】
【００４１】
１…液晶表示装置（液晶表示素子）、１１…第１基板、１２…第１電極、１３、１４、１７、１８…配向膜、１５…第２基板、１６…第２電極、１９…液晶層、２１…第１偏光板、２２…第２偏光板、４０…基板、４１…導電膜、５０…マイクロシリンジ、５１…針、５２…微小液滴、５３…導電板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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