(57)【要約】【課題】測定対象体の微細化および狭ピッチ化に十分に対応し得るプローブを提供する。【解決手段】導体パターン１０１に電気的に接続される電極膜４４（電極板４２）を介して導体パターン１０１に対する測定用信号の供給および測定対象体からの電気信号の入力の少なくとも一方が実行可能であって、その光路の周囲の気体を電離可能なレーザーＬを出力するレーザー出力部４１を備え、電極膜４４は、レーザー出力部４１から出力されるレーザーＬの光路に交差するように配設されて電離された気体によって形成される導電路Ｃを介して導体パターン１０１に非接触で電気的に接続される。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
測定対象体に電気的に接続される接続部を介して当該測定対象体に対する測定用信号の供給および当該測定対象体からの電気信号の入力の少なくとも一方を行うプローブであって、
その光路の周囲の気体を電離可能な高エネルギー光を出力する光源を備え、
前記接続部は、前記光源から出力される前記高エネルギー光の光路に交差または近接するように配設されて前記電離された気体を介して前記測定対象体に非接触で電気的に接続されるプローブ。
【請求項２】
前記接続部は、前記高エネルギー光が透過可能でかつ導電性を有する材料で形成されると共に当該高エネルギー光の前記光路に交差するように配設されている請求項１記載のプローブ。
【請求項３】
前記光源は、前記高エネルギー光としての紫外線レーザーを出力する請求項１または２記載のプローブ。
【請求項４】
請求項１から３のいずれかに記載のプローブを一対備えて構成されているプローブユニット。
【請求項５】
請求項１から３のいずれかに記載のプローブと、当該プローブを介して入力した電気信号に基づいて測定対象体についての所定の物理量を測定する測定部とを備えている測定装置。
【請求項６】
請求項４記載のプローブユニットと、当該プローブユニットを介して入力した電気信号に基づいて測定対象体についての所定の物理量を測定する測定部とを備えている測定装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、測定対象体に電気的に接続されるプローブ、そのプローブを備えたプローブユニット、並びにそのプローブおよびプローブユニットの少なくとも一方を備えた測定装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
この種のプローブを備えた装置として、特開平７−２４４１０５号公報において出願人が開示したインサーキットテスタが知られている。このインサーキットテスタは、操作部、Ｘ−Ｙ−Ｚ制御部、測定部、コントローラ等を備えて、基板（回路基板）におけるパターン（導体パターン）の短絡の有無（パターン間におけるブリッジ半田の有無）を検査可能に構成されている。このインサーキットテスタを用いて、例えば、４端子法によって２つの導体パターン間の抵抗値を測定して短絡の有無を検査する際には、２つの導体パターンにそれぞれ２本のプローブの先端部をプロービング（接触）させて電気的に接続する。次いで、一方の導体パターンに接触させた２本のプローブの一方の先端部を＋側のソース端子に接続すると共に、他方のプローブの先端部を＋側のセンス端子に接続する。また、他方の導体パターンに接触させた２本のプローブの一方の先端部を−側のソース端子に接続すると共に、他方のプローブの先端部を−側のセンス端子に接続する。続いて、両ソース端子に定電流を流して、両センス端子の間に発生する電圧を検出して両導体パターンの間の抵抗値を測定し、その抵抗値としきい値とを比較した比較結果に基づいて導体パターンの短絡の有無を判定する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開平７−２４４１０５号公報（第３−５頁、第１−２図）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところが、上記したインサーキットテスタおよびこのインサーキットテスタに用いられている従来のプローブには、解決すべき以下の課題がある。すなわち、従来のプローブでは、その先端部を導体パターンに接触させて電気的に接続する必要がある。一方、近年の回路基板の高密度化に伴い、導体パターンの微細化および狭ピッチ化が進んでいる。このため、このような導体パターンにプローブを確実に接触させ、かつ隣接するプローブ同士の接触を回避するためには、プローブの先端部を小形化する必要がある。また、４端子法で抵抗値を測定する際には、１つの導体パターンに対して２本のプローブを接触させる必要があるため、プローブの先端をさらに小形化する必要がある。しかしながら、プローブの小形化には限界があり、導体パターンのさらなる微細化および狭ピッチ化に対応可能な新たなプローブの開発が望まれている。
【０００５】
本発明は、かかる解決すべき課題に鑑みてなされたものであり、測定対象体の微細化および狭ピッチ化に十分に対応し得るプローブ、プローブユニットおよび測定装置を提供することを主目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記目的を達成すべく請求項１記載のプローブは、測定対象体に電気的に接続される接続部を介して当該測定対象体に対する測定用信号の供給および当該測定対象体からの電気信号の入力の少なくとも一方を行うプローブであって、その光路の周囲の気体を電離可能な高エネルギー光を出力する光源を備え、前記接続部は、前記光源から出力される前記高エネルギー光の光路に交差または近接するように配設されて前記電離された気体を介して前記測定対象体に非接触で電気的に接続される。
【０００７】
また、請求項２記載のプローブは、請求項１記載のプローブにおいて、前記電極は、前記高エネルギー光が透過可能でかつ導電性を有する材料で形成されると共に当該高エネルギー光の前記光路に交差するように配設されている。
【０００８】
また、請求項３記載のプローブは、請求項１または２記載のプローブにおいて、前記光源は、前記高エネルギー光としての紫外線レーザーを出力する。
【０００９】
また、請求項４記載のプローブユニットは、請求項１から３のいずれかに記載のプローブを一対備えて構成されている。
【００１０】
また、請求項５記載の測定装置は、請求項１から３のいずれかに記載のプローブと、当該プローブを介して入力した電気信号に基づいて測定対象体についての所定の物理量を測定する測定部とを備えている。
【００１１】
また、請求項６記載の測定装置は、請求項４記載のプローブユニットと、当該プローブユニットを介して入力した電気信号に基づいて測定対象体についての所定の物理量を測定する測定部とを備えている。
【発明の効果】
【００１２】
請求項１記載のプローブおよび請求項５記載の測定装置によれば、その光路の周囲の気体を電離可能な高エネルギー光を出力する光源と、光源から出力される高エネルギー光の光路に交差または近接するように配設されて高エネルギー光によって電離された気体を介して測定対象体に非接触で電気的に接続される接続部とを備えて、プローブを構成したことにより、高エネルギー光のスポット径を数μｍ程度に絞ることで、高エネルギー光によって電離された気体で形成される導電路の直径をこれと同程度に極めて小径とすることができる。このため、このプローブおよび測定装置によれば、測定対象体が微細であったり、測定対象体のピッチが狭ピッチであったとしても、測定対象体と接続部とを導電路を介して電気的に確実に接続させ、かつ隣接するプローブから出力された高エネルギー光（導電路）同士の接触を確実に回避することができる。したがって、このプローブおよび測定装置によれば、測定対象体としての測定対象体の微細化および狭ピッチ化に十分に対応することができる。
【００１３】
また、請求項２記載のプローブおよび請求項５記載の測定装置によれば、高エネルギー光を透過可能でかつ導電性を有する材料で接続部を形成すると共に、高エネルギー光の光路に交差するように接続部を配設したことにより、高エネルギー光によって電離された気体で形成される導電路と接続部とを電気的に確実に接続することができるため、高エネルギー光が照射された測定対象体と接続部とを導電路を介して電気的に確実に接続することができる。
【００１４】
また、請求項３記載のプローブおよび請求項５記載の測定装置によれば、高エネルギー光としての紫外線レーザーを出力可能に光源を構成したことにより、紫外線レーザーによって周囲の気体を確実に電離することができるため、紫外線レーザーが照射された測定対象体と接続部とを電離された気体で形成される導電路を介してより確実に電気的に接続することができる。
【００１５】
また、請求項４記載のプローブユニットおよび請求項６記載の測定装置によれば、請求項１から３のいずれかに記載のプローブを一対備えたことにより、各プローブを傾斜させて配置することで、プローブから離間するに従って各プローブから出力された高エネルギー光を互いに近接させることができる。このため、このプローブユニットおよび測定装置によれば、プローブユニット（プローブの光源）から測定対象体までの距離を調整することにより、測定対象体に対する２つの高エネルギー光の照射位置の間隔を十分に短くすることができる結果、測定対象体が微細であったとしても、各プローブから出力された高エネルギー光（高エネルギー光によって電離された気体で形成される導電路）同士の接触を確実に回避しつつ、各高エネルギー光を測定対象体に確実に照射させて、各プローブの接続部と測定対象体とを導電路を介して電気的に確実に接続させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】測定装置１の構成を示す構成図である。
【図２】プローブユニット３の構成を示す斜視図である。
【図３】プローブユニット３の構成を示す断面図である。
【図４】プローブ２３１の構成を示す断面図である。
【図５】プローブ３３１の構成を示す断面図である。
【図６】プローブユニット４０３の構成を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、本発明に係るプローブ、プローブユニットおよび測定装置の実施の形態について、添付図面を参照して説明する。
【００１８】
最初に、測定装置１の構成について、図面を参照して説明する。
【００１９】
図１に示す測定装置１は、本発明に係る測定装置の一例であって、例えば、同図に示す回路基板１００における導体パターン１０１（本発明における測定対象体の一例）の間の抵抗値（本発明における所定の物理量の一例）を測定可能に構成されている。具体的には、測定装置１は、電源部２、プローブユニット３、電圧検出部４、記憶部５、操作部６、表示部７および制御部８を備えて構成されている。なお、この例では、測定装置１は、２つのプローブユニット３を備えている。また、測定装置１は、各プローブユニット３を移動させる移動機構を備えているが、その図示および詳細な説明を省略する。
【００２０】
電源部２は、制御部８の制御に従って測定用信号Ｓｉ（例えば、定電流Ｉ）をプローブユニット３における後述するプローブ３１，３１の電極板４２，４２間に接続ケーブル（図示せず）を介して出力する。この場合、プローブ３１に出力された測定用信号Ｓｉは、一方のプローブ３１を介して導体パターン１０１に供給され、導体パターン１０１，１０１間を流れて他方のプローブ３１に帰還する。また、電源部２は、制御部８の制御に従い、プローブ３１における後述するレーザー出力部４１に対して駆動用の駆動用電力Ｐｄを供給する。
【００２１】
プローブユニット３は、本発明に係るプローブユニットの一例であって、図２，３に示すように、本発明に係るプローブの一例としての一対のプローブ３１，３１と、プローブ３１，３１が収容される例えば有底円筒状のケース３２とを備えて構成されている。各プローブ３１は、測定対象体（回路基板１００の導体パターン１０１）に非接触で電気的に接続されて導体パターン１０１に対する測定用信号Ｓｉの供給および導体パターン１０１からの電圧信号Ｓｖ（本発明における電気信号の一例）の入力に用いられるプローブであって、両図に示すように、レーザー出力部（本発明における光源）４１、電極板４２、支持板４３および電極膜４４を備えてそれぞれ構成されている。
【００２２】
レーザー出力部４１は、その光路（図２，３に直線で示す光路）の周囲の気体を電離可能なレーザーＬ（例えば、酸素分子を電離させるには、波長が２００ｎｍ前後のＡｒＦレーザーなどのエキシマレーザーであって、本発明における高エネルギー光に相当する）を出力（射出）可能に構成されている。なお、レーザーＬによる気体の電離の現象については、例えば、特開２００３−２８２２９６号公報に開示されているように公知であるため、その詳細についての説明を省略する。また、各プローブ３１における各レーザー出力部４１は、両図に示すように、各レーザー出力部４１から離間するに従って各々から出力されるレーザーＬが互いに近接するように、ケース３２の中心軸に対してそれぞれ傾斜するように配置されている。この場合、レーザー出力部４１は、図外の接続ケーブルで電源部２に接続されており、この接続ケーブルを介して電源部２から供給される駆動用電力Ｐｄによって作動する。
【００２３】
電極板４２は、導電性を有する材料（一例として、金属）によって形成されて、図２，３に示すように、ケース３２の内側に配設されている。この場合、各プローブ３１，３１の各電極板４２は、図３に示すように、互いに離間するように配設されることによって互いに絶縁されている。また、各プローブ３１，３１における一方の電極板４２は、図外の接続ケーブルによって電源部２に接続され、他方の電極板４２は、図外の接続ケーブルによって電圧検出部４に接続されている。支持板４３は、レーザー出力部４１から出力されたレーザーＬを透過可能な材料（例えば、ガラス）によって形成されている。この場合、支持板４３は、同図に示すように、レーザーＬの光路に交差するようにして（レーザーＬの光路上に位置するようにして）、電極板４２における上下方向の下端部に取り付けられている。
【００２４】
電極膜４４は、レーザー出力部４１から出力されたレーザーＬを透過可能でかつ導電性を有する材料（例えば、ＩＴＯ（スズドープ酸化インジウム））によって構成されて、図３に示すように、電極板４２の下端面および支持板４３の一面（同図における下面）を覆うようにして形成されている。このため、電極膜４４と電極板４２とは電気的に接続されている。なお、電極膜４４と電極板４２とによって本発明における接続部が構成される（電極膜４４は、本発明における接続部の一部を構成する）。
【００２５】
このプローブ３１では、レーザー出力部４１からレーザーＬが出力されたときに、レーザーＬの光路の周囲の気体（空気）が電離して（以下、この電離した気体を「電離気体」ともいう）、その電離気体によって光路に沿って導電路Ｃが形成される（図２，３参照）。このため、図３に示すように、レーザーＬが回路基板１００の導体パターン１０１に照射されたときには、導体パターン１０１とその導電路Ｃとが電気的に接続されると共に、レーザーＬの光路に交差している電極膜４４と導電路Ｃとが電気的に接続される。したがって、電極膜４４に電気的に接続されている電極板４２と導体パターン１０１とを直接接触させることなく（電極板４２を導体パターン１０１から離間させた状態で）、電極板４２と導体パターン１０１とを導電路Ｃを介して非接触で電気的に接続することが可能となっている。この場合、このプローブ３１では、測定対象体に照射されるレーザーＬの直径（スポット径）を数μｍ程度に絞ることが可能となっている。このため、レーザーＬによって電離した電離気体で形成される導電路Ｃの直径をこれと同程度に極めて小径とすることが可能となっている。
【００２６】
電圧検出部４は、回路基板１００における２つの導体パターン１０１，１０１に対する測定用信号Ｓｉの供給に伴って導体パターン１０１，１０１の間に生じる電圧信号Ｓｖをプローブユニット３のプローブ３１を介して入力して、その電圧信号Ｓｖに基づいて導体パターン１０１，１０１の間の電圧値を検出する。記憶部５は、電圧検出部４によって検出された電圧値や制御部８によって測定された抵抗値を記憶する。操作部６は、各種のスイッチを備えて構成されて、各スイッチが操作されたときに操作信号Ｓｏを出力する。
【００２７】
表示部７は、制御部８の制御に従って測定値（抵抗値）を表示する。制御部８は、操作部６から出力された操作信号Ｓｏに従い、測定装置１を構成する各構成要素を制御すると共に、各種の処理を実行する。また、制御部８は、電圧検出部４と共に本発明における測定部を構成し、電圧検出部４によって検出された電圧値および操作信号Ｓｏの値（電流値）に基づいて抵抗値を測定する。
【００２８】
次に、測定装置１を用いて測定対象体についての所定の物理量を測定する方法の一例として、回路基板１００における導体パターン１０１，１０１の間の抵抗値を４端子法で測定する方法、およびその際の各構成要素の動作について、図面を参照して説明する。
【００２９】
まず、図外の基板保持機構に回路基板１００を保持させる。次いで、操作部６を操作して測定の開始を指示する。この際に、制御部８が、操作部６から出力された操作信号Ｓｏに従って測定処理を実行する。この測定処理では、制御部８は、図外の移動機構を制御して、回路基板１００における１つの導体パターン１０１の上方に一方のプローブユニット３を移動させると共に、他の１つの導体パターン１０１の上方に他方のプローブユニット３を移動させる。
【００３０】
続いて、制御部８は、電源部２を制御して、各プローブユニット３における各プローブ３１のレーザー出力部４１に駆動用電力Ｐｄを供給させる。次いで、図３に示すように、レーザー出力部４１が、駆動用電力Ｐｄの供給によってレーザーＬを出力し、そのレーザーＬが導体パターン１０１に照射される。この際に、図２，３に示すように、レーザーＬの光路の周囲の気体が電離して、その電離気体によってレーザーＬの光路に沿って導電路Ｃが形成される。これにより、導電路Ｃを介して各プローブ３１の電極板４２と導体パターン１０１とが非接触で電気的に接続される。
【００３１】
この場合、このプローブ３１では、導体パターン１０１に照射されるレーザーＬのスポット径が数μｍ程度に規定され、電離気体で形成される導電路Ｃの直径もこれと同程度となっている。このため、このプローブ３１では、導体パターン１０１が微細であったり、導体パターン１０１のピッチが狭ピッチであったとしても、導体パターン１０１と電極板４２とを導電路Ｃを介して電気的に確実に接続させ、かつ隣接するプローブ３１から出力されたレーザーＬ（導電路Ｃ）同士の接触を確実に回避することが可能となっている。
【００３２】
続いて、制御部８は、電源部２を制御して、各プローブユニット３における一方のプローブ３１（例えば、図１に示す各プローブユニット３における内側のプローブ３１）の電極板４２に測定用信号Ｓｉを出力させる。この場合、上記したように、導電路Ｃを介して電極板４２と導体パターン１０１とが非接触で電気的に接続されているため、電極板４２に出力された測定用信号Ｓｉが各導体パターン１０１に供給される。
【００３３】
また、導電路Ｃを介して電極板４２と導体パターン１０１とが非接触で電気的に接続されている。このため、導体パターン１０１，１０１に対する測定用信号Ｓｉの供給に伴って生じる導体パターン１０１，１０１間の電圧信号Ｓｖが、各プローブユニット３における他方のプローブ３１，３１（例えば、図１に示す各プローブユニット３における外側のプローブ３１）の各電極板４２，４２間に入力する。この場合、このプローブユニット３では、ケース３２の中心軸に対して各プローブ３１のレーザー出力部４１がそれぞれ傾斜するようにして配置されているため、各レーザー出力部４１から出力されたレーザーＬがレーザー出力部４１から離間するに従って互いに近接する。このため、このプローブユニット３では、プローブユニット３（各レーザー出力部４１）から導体パターン１０１までの距離を調整することで、導体パターン１０１に対する２つのレーザーＬの照射位置の間隔を十分に短くすることが可能となっている。したがって、このプローブユニット３では、導体パターン１０１が微細であったとしても、導体パターン１０１に対して各プローブ３１から出力されたレーザーＬ（導電路Ｃ）同士の接触を確実に回避しつつ、各レーザーＬを導体パターン１０１に確実に照射させて、各プローブ３１の電極板４２と導体パターン１０１とを導電路Ｃを介して電気的に確実に接続させることが可能となっている。
【００３４】
次いで、電圧検出部４が、各プローブユニット３のプローブ３１の電極板４２を介して入力した電圧信号Ｓｖに基づいて導体パターン１０１，１０１の間の電圧値を検出する。続いて、制御部８は、電圧検出部４によって検出された電圧値と電源部２から出力された測定用信号Ｓｉの電流値（定電流Ｉの電流値）とに基づいて導体パターン１０１，１０１の間の抵抗値を測定する。次いで、制御部８は、測定した抵抗値を記憶部５に保存すると共に、その抵抗値を表示部７に表示させる。続いて、制御部８は、移動機構を制御して、他の導体パターン１０１，１０１の上方に各プローブユニット３を移動させ、以下、上記した各処理（制御）を行う。この場合、４端子法で抵抗値を測定するときには、プローブユニット３におけるプローブ３１の電極膜４４と導体パターン１０１との間の抵抗、つまりレーザーＬによって電離した電離気体で形成される導電路Ｃの抵抗値が大きい場合であっても、測定用信号Ｓｉとして定電流Ｉを供給することで、導体パターン１０１，１０１の間の抵抗値を正確に測定することができる。
【００３５】
このように、このプローブ３１、プローブユニット３および測定装置１によれば、その光路の周囲の気体を電離可能なレーザーＬを出力するレーザー出力部４１と、レーザー出力部４１から出力されるレーザーＬの光路に交差するように配設されてレーザーＬによって電離した電離気体で形成される導電路Ｃを介して導体パターン１０１に非接触で電気的に接続される電極膜４４とを備えて、プローブ３１を構成したことにより、レーザーＬのスポット径を数μｍ程度に絞ることで、導電路Ｃの直径をこれと同程度に極めて小径とすることができる。このため、このプローブ３１、プローブユニット３および測定装置１によれば、導体パターン１０１が微細であったり、導体パターン１０１のピッチが狭ピッチであったとしても、導体パターン１０１と電極板４２とを導電路Ｃを介して電気的に確実に接続させ、かつ隣接するプローブ３１から出力されたレーザーＬ（導電路Ｃ）同士の接触を確実に回避することができる。したがって、このプローブ３１、プローブユニット３および測定装置１によれば、測定対象体としての導体パターン１０１の微細化および狭ピッチ化に十分に対応することができる。
【００３６】
また、このプローブ３１、プローブユニット３および測定装置１によれば、高エネルギー光を透過可能でかつ導電性を有する材料で電極膜４４を形成すると共に、レーザーＬの光路に交差するように電極膜４４を配設したことにより、レーザーＬによって電離した電離気体で形成される導電路Ｃと電極膜４４とを電気的に確実に接続することができるため、レーザーＬが照射された導体パターン１０１と電極板４２とを導電路Ｃを介して電気的に確実に接続することができる。
【００３７】
また、このプローブ３１、プローブユニット３および測定装置１によれば、高エネルギー光としての紫外線レーザーを出力可能にレーザー出力部４１を構成したことにより、レーザーＬによって周囲の気体を確実に電離することができるため、レーザーＬが照射された導体パターン１０１と電極板４２とを導電路Ｃを介してより確実に電気的に接続することができる。
【００３８】
また、このプローブユニット３および測定装置１によれば、プローブ３１を一対備えたことにより、各プローブ３１を傾斜させて配置することで、プローブ３１から離間するに従って各プローブ３１から出力されたレーザーＬを互いに近接させることができる。このため、このプローブユニット３および測定装置１によれば、プローブユニット３（プローブ３１のレーザー出力部４１）から導体パターン１０１までの距離を調整することにより、導体パターン１０１に対する２つのレーザーＬの照射位置の間隔を十分に短くすることができる結果、導体パターン１０１が微細であったとしても、各プローブ３１から出力されたレーザーＬ（導電路Ｃ）同士の接触を確実に回避しつつ、各レーザーＬを導体パターン１０１に確実に照射させて、各プローブ３１の電極板４２と導体パターン１０１とを導電路Ｃを介して電気的に確実に接続させることができる。
【００３９】
なお、本発明は、上記の構成に限定されない。例えば、一対のプローブ３１を備えたプローブユニット３を用いる例について上記したが、図４に示すように、有底円筒状のケース２３２、レーザー出力部４１、円筒状の電極板２４２、支持板４３、および電極膜４４を備えて、単一のプローブとして構成したプローブ２３１を用いることもできる。この場合、図４および後述する図５，６において、上記した各構成要素と同一の構成要素については同一の符号を付して、重複した説明を省略する。この構成においても、微細な導体パターン１０１や狭ピッチの導体パターン１０１と電極板４２とを導電路Ｃを介して電気的に確実に接続させ、かつ隣接するプローブ２３１から出力されたレーザーＬ（導電路Ｃ）同士の接触を確実に回避することができる。
【００４０】
また、レーザーＬを透過可能でかつ導電性を有する材料によって構成された電極膜４４をレーザーＬの光路に交差するように配設した構成例について上記したが、図５に示すように、電極膜４４を備えていないプローブ３３１を採用することもできる。このプローブ３３１は、有底円筒状のケース３３２、レーザー出力部４１および断面Ｌ字状の電極板３４２を備えて構成されている。この場合、この電極板３４２は、同図に示すように、その下端部がレーザーＬの光路に近接し、かつ導電路Ｃにその下端部が接するようにしてケース３３２内に配設されている。また、図６に示すように、レーザー出力部４１、および上記した電極板３４２を有する一対のプローブ４３１が、有底円筒状のケース４３２内に収容されて構成されたプローブユニット４０３を採用することもできる。これらのプローブ３３１およびプローブユニット４０３では、レーザーＬが支持板４３および電極膜４４を透過しないため、その分、レーザーＬの減衰を少なく抑えることができる。
【００４１】
また、紫外線レーザーを出力するレーザー出力部４１を用いる例について上記したが、光路の周囲の気体を電離可能な限り、紫外線レーザー以外の各種の高エネルギー光を用いることができる。また、レーザーＬ（高エネルギー光）によって電離し易い気体（例えば、オゾン）の雰囲気中で上記したプローブユニット３，４０３およびプローブ２３１，３３１を用いる構成を採用することもできる。この構成によれば、導体パターン１０１と電極板４２とを導電路Ｃを介して一層確実に電気的に接続させることができる。また、上記したプローブユニット３，４０３およびプローブ２３１，３３１の形状は一例であって、任意の形状に構成することができる。また、抵抗値を測定する測定装置１に適用した例について上記したが、他の物理量を測定する測定装置や、測定した物理量に基づいて回路基板１００の良否を検査する回路基板検査装置に適用することができる。
【符号の説明】
【００４２】
１  測定装置
２  電源部
３，４０３  プローブユニット
４  電圧検出部
８  制御部
３１，２３１，３３１，４３１  プローブ
４１，２４１，３４１，４４１  レーザー出力部
４２，２４２，３４２，４４２  電極板
４４，２４４  電極膜
１００  回路基板
１０１  導体パターン
Ｃ  導電路
Ｌ  レーザー
Ｓｉ  測定用信号
Ｓｖ  電圧信号
【図１】
2010190603.tif 000003
【図２】
2010190603.tif 000004
【図３】
2010190603.tif 000005
【図４】
2010190603.tif 000006
【図５】
2010190603.tif 000007
【図６】
2010190603.tif 000008