(57)【要約】【課題】Ｂｌｕ−ｒａｙ方式の光情報記録媒体であって、使用環境に関わらず、良好な記録及び再生特性を維持しうる光情報記録媒体、該光情報記録媒体の製造方法を提供すること。【解決手段】本発明は、案内溝を表面に有する基板の該表面に、光反射層、記録層、バリア層、光透過層、及びハードコート層を少なくともこの順に積層してなり、温度２３℃±２℃、相対湿度４５〜５５％の条件下で２４時間以上保存した後に、温度２３℃±２℃、相対湿度４５％〜５５％の環境下で測定した、記録及び再生を行う領域の最外周部の一周に亘るラジアルチルトの平均値が−０．３５°〜−０．１５°の範囲である光情報記録媒体、並びに該光情報記録媒体の製造方法である。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
案内溝を表面に有する基板の該表面に、光反射層、記録層、バリア層、光透過層、及びハードコート層を少なくともこの順に積層してなり、温度２３℃±２℃、相対湿度４５〜５５％の条件下で２４時間以上保存した後に、温度２３℃±２℃、相対湿度４５％〜５５％の環境下で測定した、記録及び再生を行う領域の最外周部の一周に亘るラジアルチルトの平均値が−０．３５°〜−０．１５°の範囲である光情報記録媒体。
【請求項２】
請求項１に記載の光情報記録媒体の製造方法であり、
案内溝を表面に有する基板の該表面上に、光反射層、記録層、バリア層、及び光透過層を少なくともこの順に積層してなる積層体を形成する積層体形成工程と、
該積層体上に、放射線硬化型液状組成物をスピンコート法により塗布し、当該積層体の回転が終了した後、該放射線硬化型液状組成物に対して放射線を照射するハードコート層形成工程と、を有し、
該ハードコート層形成工程が、前記積層体の記録及び再生を行う領域の最外周部のラジアルチルトを測定し、該ラジアルチルトの値をもとに、当該積層体の回転が終了した後から放射線を照射するまでの待機時間を決定し、該待機時間に応じて放射線を照射する工程である光情報記録媒体の製造方法。
【請求項３】
前記積層体の回転が終了した後から放射線を照射するまでの待機時間が１秒以上３０秒以下である請求項２に記載の光情報記録媒体の製造方法。
【請求項４】
請求項１に記載の光情報記録媒体の製造装置であり、
案内溝を表面に有する基板の該表面に、光反射層、記録層、バリア層、及び光透過層を少なくともこの順に積層してなる積層体を形成する積層体形成装置と、
該積層体上に、放射線硬化型液状組成物をスピンコート法により塗布し、当該積層体の回転が終了した後、該放射線硬化型液状組成物に対して放射線を照射するハードコート層形成装置と、を備え、
該ハードコート層形成装置が、前記積層体の記録及び再生を行う領域の最外周部のラジアルチルトを測定する測定手段と、該ラジアルチルトの値をもとに、当該積層体の回転が終了した後から放射線を照射するまでの待機時間を決定し、該待機時間に応じて放射線を照射する指令を出す制御手段と、を有する光情報記録媒体の製造装置。
【請求項５】
前記積層体の回転が終了した後から放射線を照射するまでの待機時間が１秒以上３０秒以下である請求項４に記載の光情報記録媒体の製造装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光情報記録媒体とその製造方法及び製造装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、ＤＶＤを超える大容量の記録媒体としてＢｌｕ−ｒａｙ方式の光情報記録媒体（以降、ＢＤと称する。）が実用化されている。
ＢＤでは、大容量を実現するために、レーザー波長を４０５ｎｍ、レーザーの集束のための対物レンズの開口数（ＮＡ：Ｎｕｍｅｒｉｃａｌ  Ａｐｅｒｔｕｒｅ）を０．８５とし、従来の記録媒体用光ピックアップよりも短波長化、高ＮＡ化している。これに伴い焦点距離が短くなり、記録側入射面から記録面までの距離が約０．１ｍｍとなる。これを実現するためには、ＣＤ、ＤＶＤのように基板を通して記録再生を行うのではなく、ＢＤでは、基板上に記録層からなる記録面を形成し、その上におよそ０．１ｍｍ厚みの光透過層を形成し、光透過層側から記録再生を行う方法がとられている。
このようなことから、ＢＤは、断面方向において非対称な層構成を有する。
【０００３】
また、光情報記録媒体では、通常、紫外線硬化型樹脂などの放射線硬化型材料をコーティングすることにより形成されたハードコート層を有する。ＢＤでは、前述の光透過層上にハードコート層が設けられていることが一般的である。
このようなハードコート層を有する光情報記録媒体においては、ラジアルチルトと呼ばれる半径方向の反りが発生することがある。この反りは、光情報記録媒体の記録及び再生に大きく影響を及ぼす。
このような反り（ラジアルチルト）は、ＢＤのように断面方向において非対称な層構成である場合、特に記録及び再生に大きな影響を及ぼし、また、使用態様や使用環境によって変化することがある。そのため、ＢＤのような光情報記録媒体の場合、使用態様や使用環境に関わらず、記録及び再生特性を良好に保持するように反りを設定する必要がある。
【０００４】
一方、光情報記録媒体におけるハードコート層は、一般的にスピンコート法を用いて形成されている（例えば、特許文献１参照。）。
特許文献１には、スピンコート法を用いて、連続する２層以上の放射線硬化型樹脂層を形成する工程を含む光ディスクの製造方法及び製造装置が記載されている。この特許文献１には、放射線照射前に、加熱手段を有する光ディスク製造装置により、ハードコート液の溶剤を蒸発させる乾燥作用と樹脂層の歪みを緩和するアニールとが行われ、このアニールにより、ディスクの反りが低減されることが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００３−８５８３６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明者らは、光情報記録媒体の反りに着目し、研究を行った結果、ＢＤのような光情報記録媒体では、ハードコート層を有する形態の場合、反り自体を小さくするだけでは、使用環境（温度や湿度）によって記録及び再生特性を良好に維持することができないことを見出した。また、ハードコート層の形成前の積層体におけるラジアルチルトが個々で変わると、ハードコート層の形成時においてもその変化分を調整することができず、製造後の光情報記録媒体のラジアルチルトが個々で異なったものとなり、記録及び再生に問題が発生する光情報記録媒体を製造してしまう可能性があることも見出した。
【０００７】
上述の研究結果から、本発明は、以下の目的を達成することを課題とする。
即ち、本発明の目的は、Ｂｌｕ−ｒａｙ方式の光情報記録媒体であって、使用環境に関わらず、良好な記録及び再生特性を維持しうる光情報記録媒体を提供することにある。
また、本発明の他の目的は、上記光情報記録媒体の製造方法及び製造装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは、上記目的を達成するために鋭意検討を重ねた結果、ハードコート層を有する光情報記録媒体のラジアルチルトがマイナス側（ハードコート層側を下にしたとき上に凸になる反り方向）に変化することが分かり、この光情報記録媒体の反りの程度を特定の範囲に調整することで、使用環境に関わらず、記録及び再生特性が優れることを見出し、本発明を完成するに至った。また、ハードコート層を形成する前の積層体のラジアルチルトに応じて、放射線硬化型液状組成物を塗布してから放射線照射までの時間を制御することにより、ハードコート層を形成することで、上記のような光情報記録媒体を製造することができることを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００９】
即ち、上記目的は、下記手段により達成される。
本発明の光情報記録媒体は、案内溝を表面に有する基板の該表面に、光反射層、記録層、バリア層、光透過層、及びハードコート層を少なくともこの順に積層してなり、温度２３℃±２℃、相対湿度４５〜５５％の条件下で２４時間以上保存した後に、温度２３℃±２℃、相対湿度４５％〜５５％の環境下で測定した、記録及び再生を行う領域の最外周部の一周に亘るラジアルチルトの平均値が−０．３５°〜−０．１５°の範囲であることを特徴とする。
【００１０】
また、本発明の光情報記録媒体の製造方法は、本発明の光情報記録媒体の製造方法であり、
案内溝を表面に有する基板の該表面上に、光反射層、記録層、バリア層、及び光透過層を少なくともこの順に積層してなる積層体を形成する積層体形成工程と、
該積層体上に、放射線硬化型液状組成物をスピンコート法により塗布し、当該積層体の回転が終了した後、該放射線硬化型液状組成物に対して放射線を照射するハードコート層形成工程と、を有し、
該ハードコート層形成工程が、前記積層体の記録及び再生を行う領域の最外周部のラジアルチルトを測定し、該ラジアルチルトの値をもとに、当該積層体の回転が終了した後から放射線を照射するまでの待機時間を決定し、該待機時間に応じて放射線を照射する工程であることを特徴とする。
また、積層体の回転が終了した後から放射線を照射するまでの待機時間が１秒以上３０秒以下であることが好ましい。
【００１１】
本発明の光情報記録媒体の製造装置は、本発明の光情報記録媒体の製造装置であり、
案内溝を表面に有する基板の該表面に、光反射層、記録層、バリア層、及び光透過層を少なくともこの順に積層してなる積層体を形成する積層体形成装置と、
該積層体上に、放射線硬化型液状組成物をスピンコート法により塗布し、当該積層体の回転が終了した後、該放射線硬化型液状組成物に対して放射線を照射するハードコート層形成装置と、を備え、
該ハードコート層形成装置が、前記積層体の記録及び再生を行う領域の最外周部のラジアルチルトを測定する測定手段と、該ラジアルチルトの値をもとに、当該積層体の回転が終了した後から放射線を照射するまでの待機時間を決定し、該待機時間に応じて放射線を照射する指令を出す制御手段と、を有することを特徴とする。
また、積層体の回転が終了した後から放射線を照射するまでの待機時間が１秒以上３０秒以下であることが好ましい。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、Ｂｌｕ−ｒａｙ方式の光情報記録媒体であって、使用環境に関わらず、良好な記録及び再生特性を維持しうる光情報記録媒体を提供することができる。
また、本発明によれば、上記光情報記録媒体の製造方法及び製造装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】ハードコート層形成装置の構成を示す平面図である。
【図２】ハードコート層形成装置の要部の構成を示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
＜光情報記録媒体＞
本発明の光情報記録媒体は、案内溝を表面に有する基板の該表面に、光反射層、記録層、バリア層、光透過層、及びハードコート層を少なくともこの順に積層してなり、温度２３℃±２℃、相対湿度４５〜５５％の条件下で２４時間以上保存した後に、温度２３℃±２℃、相対湿度４５％〜５５％の環境下で測定した、記録及び再生を行う領域の最外周部の一周に亘るラジアルチルトの平均値が−０．３５°〜−０．１５°の範囲であることを特徴とする。
【００１５】
ここで、光情報記録媒体のラジアルチルトとは、光情報記録媒体を駆動装置へセッティングし、線速度１．２ｍ／ｓで回転させた際の、光情報記録媒体の基準面に対する光情報記録媒体の半径方向の傾きを示す。
本発明における「光情報記録媒体の記録及び再生を行う領域の最外周部の一周に亘るラジアルチルト」は、光情報記録媒体の記録及び再生を行う領域の最外周部の一周に亘って、上記基準面に垂直な波長４０５ｎｍの入射光と反射光との角度差を測定したものである。なお、測定位置は、記録及び再生を行う領域の最外周部の一周において、５°おきの７２箇所とした。また、光情報記録媒体のラジアルチルトの測定は、温度２３℃±２℃、相対湿度４５〜５５％の条件下で２４時間以上保存した後の光情報記録媒体を対象とし、温度２３℃±２℃、相対湿度４５％〜５５％の環境下で行うが、本発明におけるラジアルチルトの測定は、特に断わりがない限り、温度２３℃±２℃、相対湿度４５％〜５５％の環境下で行った。
また、その平均値とは、記録及び再生を行う領域の最外周の半径位置一周に亘って測定した上記入射光と反射光との角度差の７２箇所分を平均した値を意味する。
ここで、本発明においては、測定には、ｄｒ．ｓｃｈｗａｂ  Ｉｎｓｐｅｃｔｉｏｎ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ社製のＡｒｇｕｓ−ｂｌｕを用いた。
以降、光情報記録媒体における記録及び再生を行う領域の最外周部の一周に亘るラジアルチルトを、以下、「ＤＲ−ｔｉｌｔ」と称して説明する。
以下、本発明の光情報記録媒体を構成する各要素毎に、詳細に説明する。
【００１６】
［基板］
本発明に用いられる基板としては、従来の光情報記録媒体の基板材料として用いられている各種の材料からなる基板を任意に選択して使用することができる。基板としては、透明な円盤状基板を用いることが好ましい。
基板材料として、具体的には、ガラス；ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂；ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂；エポキシ樹脂；アモルファスポリオレフィン；ポリエステル；アルミニウム等の金属；等を挙げることができ、所望によりこれらを併用してもよい。
前記材料の中では、耐湿性、寸法安定性及び低価格等の点から、アモルファスポリオレフィン、ポリカーボネート等の熱可塑性樹脂が好ましく、ポリカーボネートが特に好ましい。
これらの樹脂を用いた場合には、射出成型を用いて基板を作製することができる。
また、基板の厚さは、１．１±０．３ｍｍとすることがより好ましい。
【００１７】
基板の反りを制御することで、光情報記録媒体のＤＲ−ｔｉｌｔの平均値を、−０．３５°〜−０．１５°の範囲とすることができる。
この範囲とするためには、基板の反りは以下のような範囲にあることが好ましい。
即ち、記録及び再生を行う領域の最外周の半径位置一周に亘る基板のラジアルチルトの平均値が０°〜＋０．９°の範囲にすることが好ましく、０°〜＋０．６°の範囲であることがより好ましい。また、この反りの基板を得ることは、基板射出成形条件の固定金型と可動金型の温度条件や型締力条件、型締時間条件等を調整することで可能である。
【００１８】
基板には、複数のグルーブ及び隣接するグルーブの間に位置するランドからなるプリグルーブ（案内溝）が形成されている。より高い記録密度を達成するためにＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒに比べて、より狭いトラックピッチのプリグルーブが形成された基板を用いることが好ましい。
プリグルーブのトラックピッチは、５０ｎｍ〜５００ｎｍの範囲であることが好ましく、２００ｎｍ〜４００ｎｍの範囲であることがより好ましく、２５０ｎｍ〜３５０ｎｍの範囲であることが更に好ましい。
また、プリグルーブの深さ（溝深さ）は、２０ｎｍ〜１５０ｎｍの範囲であることが好ましく、３０〜１００ｎｍの範囲であることがより好ましい。
更に、プリグルーブの溝幅（半値幅）は、２０ｎｍ〜４００ｎｍの範囲であることが好ましく、５０ｎｍ〜２５０ｎｍの範囲であることがより好ましい。
このような態様のプリグルーブは、例えば、本発明の光情報記録媒体を、青紫色レーザーに対応する媒体（ＢＤ）とする場合に好適である。
【００１９】
なお、後述する光反射層が設けられる側の基板表面には、平面性の改善、接着力の向上の目的で、下塗層を形成することもできる。
該下塗層の材料としては、例えば、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸・メタクリル酸共重合体、スチレン・無水マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコール、Ｎ−メチロールアクリルアミド、スチレン・ビニルトルエン共重合体、クロルスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル・塩化ビニル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート等の高分子物質；シランカップリング剤等の表面改質剤；を挙げることができる。
下塗層は、上記材料を適当な溶剤に溶解又は分散して塗布液を調製した後、この塗布液をスピンコート、ディップコート、エクストルージョンコート等の塗布法により基板表面に塗布することにより形成することができる。
下塗層の層厚は、一般に、０．００５μｍ〜２０μｍの範囲にあり、好ましくは０．０１μｍ〜１０μｍの範囲である。
【００２０】
［光反射層］
光反射層には、レーザー光に対する反射率が高い光反射性物質が用いられる。当該反射率は、７０％以上であることが好ましい。
反射率が高い光反射性物質としては、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉ等の金属及び半金属或いはステンレス鋼を挙げることができる。これらの光反射性物質は単独で用いてもよいし、或いは２種以上の組合せで、又は合金として用いてもよい。これらのうちで好ましいものは、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ａｌ及びステンレス鋼である。特に好ましくは、Ａｕ、Ａｇ、Ａｌ、或いはこれらの合金であり、最も好ましくは、Ａｕ、Ａｇ、或いはこれらの合金である。
【００２１】
光反射層は、例えば、上記光反射性物質を、蒸着、スパッタリング、又はイオンプレーティングすることにより基板上に形成することができる。
光反射層の層厚は、一般的には１０ｎｍ〜３００ｎｍの範囲とし、５０ｎｍ〜２００ｎｍの範囲とすることが好ましい。
【００２２】
［記録層］
本発明における記録層は、記録用の色素を含有する色素型（以下、色素記録層と称する。）であってもよく、相変化金属を含有する相変化型であってもよい。本発明では、色素型とすることが好ましい。
以下、本発明に好適な色素型（色素記録層）について説明する。
【００２３】
本発明における色素記録層は、記録用の色素として有機色素を含有する層である。
ここで、色素記録層に用いる有機色素としては、フタロシアニン系化合物、アゾ化合物、並びにアゾ金属錯体化合物、メチン色素（シアニン系化合物、オキソノール系化合物、スチリル色素、メロシアニン色素、）、トリアジン色素、ベンゾトリアゾール色素、ベンゾオキサゾール色素、アミノブタジエン、アゾメチン色素、ピリドポルフィラジン色素、ピラドポルフィラジン色素、ポルフィリン色素、ポルフィラジン色素が挙げられ、好ましくはフタロシアニン系化合物、アゾ化合物、並びにアゾ金属錯体化合物、メチン色素（シアニン系化合物、オキソノール系化合物、スチリル色素、メロシアニン色素、）、トリアジン色素、ベンゾトリアゾール色素が挙げられる。
中でも、前述の光透過層との組み合わせにおいて、特に、短波長レーザー光（好ましくは、波長３９０ｎｍ〜４４０ｎｍのレーザー光）の照射により優れた記録特性を発揮し得るものとして、フタロシアニン系化合物、アゾ化合物、並びにアゾ金属錯体化合物、メチン色素（シアニン系化合物、オキソノール系化合物、スチリル色素、メロシアニン色素）が好ましいものとして挙げることができる。
【００２４】
有機色素の使用量は、色素記録層の全質量に対して、例えば、１質量％〜１００質量％の範囲であり、好ましくは５０質量％〜１００質量％、より好ましくは７５質量％〜１００質量％の範囲である。
記録用の色素としては、前述の有機色素を１種単独で使用してもよいし、２種以上を組み合わせて使用することもできる。
【００２５】
次に色素記録層の形成について説明する。
色素記録層は、有機色素を、結合剤等と共に、又は結合剤を用いないで適当な溶剤に溶解して塗布液を調製し、次いで、この塗布液を、前述の光反射層上に塗布して塗膜を形成した後、乾燥することにより形成することができる。
ここで、色素記録層は、単層でも重層でもよい。塗布液を塗布する工程を複数回行うことにより、重層構造の記録層を形成することができる。
塗布液中の有機色素の濃度は、一般に０．０１質量％〜１５質量％の範囲であり、好ましくは０．１質量％〜１０質量％の範囲、より好ましくは０．５質量％〜５質量％の範囲、最も好ましくは０．５質量％〜３質量％の範囲である。
【００２６】
塗布液の調製に用いる溶剤としては、例えば、酢酸ブチル、乳酸エチル、セロソルブアセテート等のエステル；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン等のケトン；ジクロルメタン、１，２−ジクロルエタン、クロロホルム等の塩素化炭化水素；ジメチルホルムアミド等のアミド；メチルシクロヘキサン等の炭化水素；テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサン等のエーテル；エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノールジアセトンアルコール等のアルコール；２，２，３，３−テトラフルオロ−１−プロパノール等のフッ素系溶剤；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類；等を挙げることができる。
溶剤は使用する色素の溶解性を考慮して単独で、或いは２種以上を組み合わせて使用することができる。
また、塗布液中には、更に、結合剤、酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、可塑剤、潤滑剤等各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。
【００２７】
結合剤を使用する場合に、該結合剤の例としては、ゼラチン、セルロース誘導体、デキストラン、ロジン、ゴム等の天然有機高分子物質；ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂、ポリビニルアルコール、塩素化ポリエチレン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物等の合成有機高分子；を挙げることができる。
記録層の材料として結合剤を併用する場合に、結合剤の使用量は、一般に記録物質（前記有機色素）に対して０．０１倍量〜５０倍量（質量比）の範囲にあり、好ましくは０．１倍量〜５倍量（質量比）の範囲にある。
このようにして調製される塗布液中の記録物質の濃度は、一般に０．０１質量％〜１０質量％の範囲にあり、好ましくは０．１質量％〜５質量％の範囲にある。
【００２８】
塗布方法としては、スプレー法、スピンコート法、ディップ法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクターロール法、スクリーン印刷法等を挙げることができる。
塗布の際、塗布液の温度は２３℃〜５０℃の範囲であることが好ましく、２４℃〜４０℃の範囲であることがより好ましく、中でも、２３℃〜３８℃の範囲であることが特に好ましい。
【００２９】
色素記録層の厚さは、ランド（基板においての凸部）上で１ｎｍ〜１００ｎｍの範囲であることが好ましく、グルーブ上で５ｎｍ〜１５０ｎｍの範囲であることが好ましい。ランド上での厚さの上限としては、７０ｎｍ以下であることが好ましく、５０ｎｍ以下であることがより好ましく、３０ｎｍ以下であることが更に好ましい。また、下限は、５ｎｍ以上であることが好ましく、１５ｎｍ以上であることがより好ましい。
【００３０】
また、色素記録層の厚さは、グルーブ上（基板においての凹部）で、１００ｎｍ以下であることが好ましく、５０ｎｍ以下であることがより好ましい。下限は、１０ｎｍ以上であることが好ましく、２０ｎｍ以上であることがより好ましい。
【００３１】
更に、ランド上の色素記録層の厚さとグルーブ上の記録層の厚さの比［（ランド上の記録層の厚さ）／（グルーブ上の記録層の厚さ）］は、０．１以上であることが好ましく、０．１３以上であることがより好ましく、０．１５以上であることが更に好ましく、０．１７以上であることが特に好ましい。また、上限としては、１以下であることが好ましく、０．９以下であることがより好ましく、０．８５以下であることが更に好ましく、０．８以下であることが特に好ましい。
【００３２】
更に、色素記録層には、記録層の耐光性を向上させるために種々の褪色防止剤を含有させることができる。
褪色防止剤としては、一般的に一重項酸素クエンチャーが用いられる。一重項酸素クエンチャーとしては、既に公知の刊行物に記載のものを利用することができる。
その具体例としては、特開昭５８−１７５６９３号公報、同５９−８１１９４号公報、同６０−１８３８７号公報、同６０−１９５８６号公報、同６０−１９５８７号公報、同６０−３５０５４号公報、同６０−３６１９０号公報、同６０−３６１９１号公報、同６０−４４５５４号公報、同６０−４４５５５号公報、同６０−４４３８９号公報、同６０−４４３９０号公報、同６０−５４８９２号公報、同６０−４７０６９号公報、同６３−２０９９９５号公報、特開平４−２５４９２号公報、特公平１−３８６８０号公報、及び同６−２６０２８号公報等の各公報、ドイツ特許３５０３９９号明細書、そして日本化学会誌１９９２年１０月号第１１４１頁等に記載のものを挙げることができる。
【００３３】
前記一重項酸素クエンチャーなどの褪色防止剤の使用量は、有機色素の量に対して、通常、０．１質量％〜５０質量％の範囲であり、好ましくは、０．５質量％〜４５質量％の範囲、更に好ましくは、３質量％〜４０質量％の範囲、特に好ましくは５質量％〜２５質量％の範囲である。
【００３４】
［バリア層］
バリア層は、前記記録層と前記光透過層との間に形成され、記録層の有機色素が光透過層側に溶出するのを防止する役割を果たす。
このバリア層の層厚は、１ｎｍ〜５０ｎｍの範囲が好ましく、１ｎｍ〜３０ｎｍの範囲がより好ましい。
【００３５】
バリア層を構成する材料としては、レーザー光を透過する材料であれば、特に制限はないが、誘電体であることが好ましく、より具体的には、ＺｎＳ、ＴｉＯ２、ＳｉＯ２、ＺｎＳ−ＳｉＯ２、ＧｅＯ２、Ｓｉ３Ｎ４、Ｇｅ３Ｎ４、ＭｇＦ２、Ｎｂ２Ｏ５、Ｔａ２Ｏ５等の無機酸化物、窒化物、硫化物が挙げられ、ＺｎＳ−ＳｉＯ２、Ｎｂ２Ｏ５、或いはＳｉＯ２が好ましい。
本発明におけるバリア層は、真空蒸着、イオンプレーティング、スパッタリング等の方法で形成することができるが、生産性において優位なため、スパッタリング法で形成されることが好ましい。
【００３６】
［光透過層］
本発明の光情報記録媒体における光透過層はバリア層上に設けられる層であり、記録及び再生に用いられるレーザー光を透過する層である。
この光透過層は、光透過層用の硬化性組成物を硬化させてなる硬化膜のみからなる層であってもよいし、この硬化膜とカバーシートとからなる層であってもよい。即ち、本発明における光透過層は、硬化性組成物を硬化させてなる硬化膜を有していれば、貼り合わせ法、及びオールスピン法のいずれによって形成されているものであってもよい。
【００３７】
以下、光透過層の形成に用いられる材料について説明する。
光透過層を構成する硬化膜を構成する材料としては、紫外線や電子線で硬化する材料が用いられる。特に紫外線で硬化するアクリレート等の材料は、硬化のための装置が小型で簡便であるためによく用いられる。具体的には、光透過層用の硬化性組成物は、エポキシアクリレートやウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート等のオリゴマーに、希釈や高機能化のためのモノマーや重合を迅速にするための光重合開始剤を含んだ混合物から構成されている。
【００３８】
光透過層をオールスピン法で形成する場合の硬化性組成物の塗布方法は、以下のように行われる。
即ち、まず、基板上に、光反射層、記録層、及びバリア層を積層してなる積層体を回転ステージに載せ、該積層体を低速で回転させる。そして、回転する積層体の最内周部に、ディスペンスノズルから硬化性組成物を塗布し、その後、高速で回転して硬化性組成物を積層体全面に広げるようにすることが好ましい。この時、硬化性組成物が均一に広がるように、ステージの回転条件(回転数、時間)を適宜選択しつつ塗布が行われる。なお、塗布された硬化性組成物の厚みが内周部より外周部が厚くならないように、高速回転時にもディスペンスノズルから硬化性組成物を積層体の最内周部に供給するようにすることがより好ましい。
続いて、積層体上に均一に広がった硬化性組成物に紫外線や電子線を照射して硬化性組成物を硬化させ光透過層が形成される。
【００３９】
一方、光透過層を貼り合わせ法で形成する場合のカバーシートの貼り合わせ方法は、積層体上に硬化性組成物を所定量塗布し、その上にカバーシートを載置した後、回転させ硬化性組成物を積層体とカバーシートとの間に均一になるように広げた後、カバーシート側から紫外線や電子線を照射して硬化性組成物を硬化させるようにすることが好ましい。
なお、カバーシートの貼り合わせには、芝浦メカトロニクス株式会社等から市販されている光ディスク貼り合わせ装置を用いてもよい。
【００４０】
光透過層用の硬化性組成物の硬化方法としては、前述のように、電子線や紫外線が用いられる。硬化の際に電子線を用いる場合には電子線加速器が用いられることが好ましい。また、硬化の際に紫外線を用いる場合には、高圧水銀ランプ、メタハライドランプ、キセノンランプ等の光源を備えた硬化装置で紫外線を照射する方法が好ましい。
【００４１】
本発明において、光透過層用の硬化性組成物を硬化してなる硬化膜の膜厚は、光透過層の態様によって、適宜、選択されればよい。
即ち、本発明におけるカバー層が硬化膜のみからなる態様であれば、硬化膜の厚さ＝カバー層との厚みとなるため、８０μｍ〜１２０μｍの範囲であることが好ましく、より好ましくは９０μｍ〜１１０μｍの範囲、更に好ましくは９５μｍ〜１０５μｍの範囲である。
また、本発明における光透過層が硬化膜とカバーシートからなる態様であれば、硬化膜の膜厚は、０．１μｍ〜１００μｍの範囲であることが好ましく、より好ましくは０．５μｍ〜５０μｍの範囲、更に好ましくは１μｍ〜３０μｍの範囲である。
【００４２】
（カバーシート）
本発明における光透過層が硬化膜とカバーシートからなる態様の場合に用いられるカバーシートとしては、透明な材質のフィルムからなるものであれば、特に限定されないが、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂；ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂；エポキシ樹脂；アモルファスポリオレフィン；ポリエステル；三酢酸セルロース等を使用することが好ましく、中でも、ポリカーボネート又は三酢酸セルロースを使用することがより好ましい。
なお、「透明」とは、記録及び再生に用いられる光に対して、透過率８０％以上であることを意味する。
また、カバーシートを用いた態様の光透過層を形成する際には、該カバーシートを介して紫外線を照射することによって硬化処理が施されるため、カバーシートは紫外線透過性を有するものであることが好ましい。具体的には、放射線硬化型液状組成物の硬化のために照射される紫外線に対して８０％以上の透過率を有することが好ましい。
【００４３】
また、カバーシートは、本発明の効果を妨げない範囲において、種々の添加剤が含有されていてもよい。
例えば、波長４００ｎｍ以下の光をカットするためのＵＶ吸収剤及び／又は５００ｎｍ以上の光をカットするための色素が含有されていてもよい。
更に、カバーシートの表面物性としては、表面粗さが２次元粗さパラメータ及び３次元粗さパラメータのいずれも５ｎｍ以下であることが好ましい。
また、記録及び再生に用いられる光の集光度の観点から、カバーシートの複屈折は１０ｎｍ以下であることが好ましい。
【００４４】
カバーシートの厚さは、０．０１ｍｍ〜０．５ｍｍの範囲内であることが好ましく、０．０５ｍｍ〜０．１２ｍｍの範囲であることがより好ましい。
なお、カバーシートと硬化膜との厚みの総和が、前述の光透過層の厚みの範囲にとなるように、適宜、決定されればよい。
【００４５】
［ハードコート層］
本発明の光情報記録媒体におけるハードコート層は光透過層上に設けられる層である。このハードコート層は、ハードコート層用の放射線硬化型液状組成物を硬化させてなる層である。
以下、このハードコート層用の放射線硬化型液状組成物を、適宜、ハードコート液と称して説明する。
【００４６】
以下、ハードコート層の形成に用いられるハードコート液について説明する。
このハードコート液（硬化性組成物）には、紫外線や電子線で硬化する材料が用いられる。つまり、ハードコート液には、紫外線硬化型樹脂や電子線硬化型樹脂が好適に用いられる。特に好適な紫外線硬化型樹脂としては、特に限定されるものではないが、エポキシアクリレートオリゴマー（２官能オリゴマー）、多官能アクリルモノマー、単官能アクリルモノマー、及び光重合開始剤を含む紫外線硬化型樹脂を用いることが好ましい。
また、特に限定されるものではないが、ハードコート層は、金属、金属酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化物、金属硫化物等の無機粉末、又は、アクリルスチレン系樹脂粉末、ベンゾグアナミン樹脂粉末、メラミン系樹脂粉末、ポリオレフィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、フッ化炭化水素樹脂粉末、ジビニルベンゼン系樹脂粉末等の有機粉末を含有していることが好ましい。なお、ハードコート層の耐擦り傷性、摩擦特性を考慮すれば有機粉末よりも無機粉末を用いる方が好ましい。このことから、ハードコート液には、これらの粉末が用いられていてもよい。
更に、ハードコート液は、フッ素オイル、フッ素置換炭化水素基含有の脂肪酸エステル、フッ素置換炭化水素基含有のエーテル類、脂肪酸、脂肪酸エステル、シリコンオイル類、パラフィン類、脂肪酸金属塩類等の潤滑剤、アニオン活性剤やカチオン活性剤等の帯電防止剤、及びフッ素置換炭化水素基含有の脂肪酸、脂肪酸金属塩類等の分散剤のうち１つ又は２つ以上を含有していることが好ましい。
【００４７】
また、ハードコート層の形成方法としては、まず、光透過層の表面に上述したような材料を含むハードコート液をスピンコート法により塗布し、該ハードコート液に対応した紫外線や電子線を照射してこれを硬化させる方法が用いられる。
この方法によって、厚さ０．２μｍ〜１０μｍのハードコート層を形成する。
なお、ハードコート液の塗布後から放射線の照射までの待機時間を調整することで、光情報記録媒体のＤＲ−ｔｉｌｔの平均値を、−０．３５°〜−０．１５°の範囲とすることが可能となる。この待機時間の調整（ハードコート層の具体的な形成方法）については、後述する本発明の光情報記録媒体の製造方法において説明する。
【００４８】
本発明において、硬化性組成物を硬化してなるハードコート層の膜厚は、光情報記録媒体のラジアルチルトとハードコート層の膜強度との点から、０．１μｍ〜１０μｍの範囲であることが好ましく、より好ましくは０．５μｍ〜５μｍの範囲、更に好ましくは１μｍ〜３μｍの範囲である。
【００４９】
［その他の層］
本発明の光情報記録媒体は、本発明の効果を損なわない範囲において、上記の必須の層に加え、他の任意の層を有していてもよい。
他の任意の層としては、例えば、基板の裏面（記録層が形成された側と逆側の非形成面側）に形成される、所望の画像を有するレーベル層や、光反射層と記録層との間に設けられる界面層などが挙げられる。
ここで、前記レーベル層は、紫外線硬化樹脂、熱硬化性樹脂、及び熱乾燥樹脂などを用いて形成することができる。
なお、上記した必須及び任意の層はいずれも、単層でも、多層構造でもよい。
【００５０】
また、本発明の光情報記録媒体のＤＲ−ｔｉｌｔの平均値を、−０．３５°〜−０．１５°の範囲とする方法としては、前述の方法以外に、基板上に光反射層と有機色素記録層とが形成されてなる積層体のアニール条件や光透過層の形成条件等による積層体の反りの制御が挙げられる。
【００５１】
≪光情報記録媒体の製造方法、及び、光情報記録媒体の製造方法≫
次に、本発明の光情報記録媒体の製造方法を通じて、本発明の光情報記録媒体の製造装置について、詳述する。
本発明の光情報記録媒体の製造方法は、案内溝を表面に有する基板の該表面上に、光反射層、記録層、バリア層、及び光透過層を少なくともこの順に積層してなる積層体を形成する積層体形成工程と、該積層体上に、放射線硬化型液状組成物をスピンコート法により塗布し、当該積層体の回転が終了した後、該放射線硬化型液状組成物に対して放射線を照射するハードコート層形成工程と、を有し、
該ハードコート層形成工程が、前記積層体の記録及び再生を行う領域の最外周部のラジアルチルトを測定し、該ラジアルチルトの値をもとに、当該積層体の回転が終了した後から放射線を照射するまでの待機時間を決定し、該待機時間に応じて紫外線を照射する工程であることを特徴とする。
また、本発明の光情報記録媒体の製造装置は、案内溝を表面に有する基板の該表面に、光反射層、記録層、バリア層、及び光透過層を少なくともこの順に積層してなる積層体を形成する積層体形成装置と、該積層体上に、放射線硬化型液状組成物をスピンコート法により塗布し、当該積層体の回転が終了した後、該放射線硬化型液状組成物に対して放射線を照射するハードコート層形成装置と、を備え、
該ハードコート層形成装置が、前記積層体の記録及び再生を行う領域の最外周部のラジアルチルトを測定する測定手段と、該ラジアルチルトの値をもとに、当該積層体の回転が終了した後から放射線を照射するまでの待機時間を決定し、該待機時間に応じて紫外線を照射する指令を出す制御手段と、を有することを特徴とする。
以降、積層体の記録及び再生を行う領域の最外周部のラジアルチルトを、「ＬＲ−ｔｉｌｔ」と称して説明する。
以下、本発明の光情報記録媒体の製造方法の各工程について説明する。
【００５２】
＜積層体形成工程＞
本発明の光情報記録媒体の製造方法においては、まず、案内溝を表面に有する基板の該表面上に、光反射層、記録層、バリア層、及び光透過層を少なくともこの順に積層してなる積層体を形成する。
基板の作製方法や、光反射層、記録層、バリア層、及び光透過層の各層の形成方法については、前述の本発明の光情報記録媒体の説明において記載した方法が適用される。
また、積層体を形成する装置（積層体形成装置）としては、従来公知の装置が本発明に適用することができる。例えば、オリジン電気製ＢＤ−ＲＯＭ／ＢＤ−Ｒ・ＲＥ製造装置（製品名称：Ａｚｕｌ）が本発明に適用することができる。
【００５３】
＜ハードコート層形成工程＞
以上のようにして形成された積層体は、続いて、ハードコート形成工程に供される。
ハードコート形成工程においては、積層体上に、放射線硬化型液状組成物をスピンコート法により塗布し、当該積層体の回転が終了した後、該放射線硬化型液状組成物に対して放射線を照射することでハードコート層が形成される。本工程は、積層体のＬＲ−ｔｉｌｔを測定し、このＬＲ−ｔｉｌｔの値をもとに、当該積層体の回転が終了した後から放射線を照射するまでの待機時間を決定し、該待機時間に応じて紫外線を照射する工程であることを特徴としている。
【００５４】
本工程において、積層体のＬＲ−ｔｉｌｔは、積層体を駆動装置へセッティングし、線速度１．２ｍ／ｓで回転させ、積層体の基準面に対する積層体の半径方向の傾きを示したものである。また、本発明において、積層体のＬＲ−ｔｉｌｔは、積層体の記録及び再生を行う領域の最外周の半径位置一周に亘って、上記基準面に垂直な波長４０５ｎｍのレーザ光を光透過層側から入射し、その反射光を位置検出器で検出し、入射光と反射光との角度差を測定したものである。なお、測定位置は、記録及び再生を行う領域の最外周部の一周において、５°おきの７２箇所とした。
また、その一周に亘って測定した角度差の７２箇所分を平均した値を求め、これをＬＲ−ｔｉｌｔの値とした。
なお、ハードコート層の厚みの点から、積層体のＬＲ−ｔｉｌｔの平均値は、−０．５°〜＋０．４°であることが好ましく、−０．５°〜＋０．２°がより好ましい。
【００５５】
ここで、放射線硬化型液状組成物（ハードコート液）をスピンコート法により塗布する際の方法について、説明する。
まず、積層体を９０ｒｐｍで回転させ、ディスペンスノズルからハードコート液を積層体に塗布し、その後５０００ｒｐｍに回転を上げ１秒間保持しハードコート液を振り切り、回転を止める方法が用いられる。この際の諸条件を適宜選択することにより、均一な塗布膜厚を得ることができる。
また、放射線硬化型液状組成物の塗布膜の厚みとしては、０．２μｍ〜１０μｍの範囲であることが好ましく、より好ましくは０．５μｍ〜５μｍの範囲、更に好ましくは１μｍ〜３μｍの範囲である。
【００５６】
本発明におけるハードコート層形成工程においては、上記のようにして測定された積層体のＬＲ−ｔｉｌｔの値をもとに、積層体の回転が終了した後から放射線を照射するまでの待機時間が決定される。
この待機時間については以下のようにして決定される。
まず、事前に、ハードコート層形成工程を経て得られた光情報記録媒体のＤＲ−ｔｉｌｔが−０．３５°〜−０．１５°を満たす際の、積層体のＬＲ−ｔｉｌｔの値に応じた待機時間の許容範囲を求めておく。具体的には、例えば、積層体のＬＲ−ｔｉｌｔの値を一定とし、待機時間を変化させて、待機時間毎に得られた光情報記録媒体のＤＲ−ｔｉｌｔを測定し、−０．３５°〜−０．１５°の範囲を満たすかどうかを判定する。この測定、及び判定を、積層体のＬＲ−ｔｉｌｔの値を変えて繰り返す。これにより、積層体のＬＲ−ｔｉｌｔの値に応じた待機時間の許容範囲が求められる。
そして、実際に測定されたＬＲ−ｔｉｌｔを、求められた積層体のＬＲ−ｔｉｌｔの値に応じた待機時間の許容範囲に照し合せることで、待機時間の最適値が決定される。
【００５７】
なお、待機時間については、積層体のＬＲ−ｔｉｌｔの値に加え、使用する放射線硬化型液状組成物の種類（組成）、ハードコート層の厚さ（塗布膜の厚さ）、放射線照射時間の各条件により変化するため、ハードコート層形成工程にて採用される各条件に合わせ、事前に、待機時間を決定することが必要である。
【００５８】
本発明におけるハードコート層形成工程は、以下のようなハードコート層形成装置を適用することができる。
以下、図１を参照して、ハードコート層形成装置の構成の一例とその動作について説明する。
積層体形成工程にて得られた積層体Ｄａ（即ち、案内溝を表面に有する基板の該表面に、光反射層、記録層、バリア層、及び光透過層を少なくともこの順に積層してなる積層体）は、まず、ハードコート層形成装置１に設けられたラジアルチルト測定装置１０によって、ＬＲ−ｔｉｌｔが測定される。このＬＲ−ｔｉｌｔの測定結果は、制御装置５０へと送られる。
その後、ＬＲ−ｔｉｌｔが測定された積層体Ｄａは、不図示の移載手段により、搬送ライン２０へと移載される。
【００５９】
搬送ライン２０に供給された積層体Ｄａが１ステップ進むと、この積層体Ｄａの表面には、搬送ライン２０上においてハードコート液（ハードコート用の放射線硬化型液状組成物）が液状組成物供給手段３０によって供給される。液状組成物供給手段３０は、液状組成物を吐出しながらほぼ１回転するノズル３２を有しており、このノズル３２の回転により、搬送ライン２０上を順次搬送されてくる積層体Ｄａの内周側の所定位置に円環状（ドーナッツ状）にハードコート液を供給する。
【００６０】
その後、ハードコート液が供給された積層体Ｄａは、１ステップ進み、回転処理部４０において回転処理が施される。この際、積層体Ｄａ上にドーナッツ状に供給されたハードコート液は、回転処理部４０において、積層体Ｄａの回転により外周側へと展延され、所望の厚みのハードコート層塗布膜が形成される。ハードコート層塗布膜が形成された積層体を積層体Ｄｂとする。
回転処理部４０は、同時移載手段４２と高速回転処理を行う回転処理装置４４とからなる。同時移載機構４２は、同時に動作して搬送ライン２０上の積層体Ｄａを対応する回転処理装置４４へと移載させると同時に、回転処理装置４４での回転処理が終了し、ハードコート層塗布膜が形成された積層体Ｄｂを搬送ライン２０上に移載させる。
【００６１】
制御装置５０は、ラジアルチルト測定装置１０により得られたＬＲ−ｔｉｌｔの値が伝えられると、このＬＲ−ｔｉｌｔの値を、事前に求められた、積層体のＬＲ−ｔｉｌｔの値に応じた待機時間の許容範囲に照らし合わせ、待機時間の最適値を決定する。
また、回転処理部４０によりハードコート液が展延された後、積層体Ｄｂの回転が終了すると、回転処理装置４４から回転が終了したことを知らせる信号が制御装置５０へと送られる。
この送られてきた信号から制御装置５０は時間のカウントを開始し、決定された待機時間が経過した際に、制御装置５０は放射線照射装置６０へ放射線を照射するように指令を出す。
ここで、積層体のＬＲ−ｔｉｌｔの値に応じた待機時間の許容範囲を求める方法は、前述の方法が適用される。
【００６２】
一方、積層体Ｄｂが、回転処理部４０の同時移載手段４２により搬送ライン２０へと移載された後、積層体Ｄｂは１ステップ進み、放射線照射装置６０が設けられている位置まで搬送される。
制御装置５０からの待機時間に対応した指令を受けた放射線照射装置６０は、積層体Ｄｂに向けて放射線を照射し、ハードコート液の硬化が行われる。この硬化により得られたハードコート層を有する積層体を、光情報記録媒体Ｄｃとする。
ここで、放射線照射装置６０は、搬送ライン２０の間欠的な搬送動作に同期して上下動できるようになっており、搬送ライン２０が間欠的に止まると、放射線照射装置６０は設定位置まで下降した後、積層体Ｄｂに放射線を照射する。この際、放射線の照射は、積層体Ｄｂのハードコート液が塗布された面（ハードコート層塗布膜）の上方から行ってもよいし、上方と下方との両方から行ってもよい。
【００６３】
その後、光情報記録媒体Ｄｃは、移載アーム７２を有する移載機構７０の移載アーム７２によって、搬送ライン２０から中継台７４へと移載される。
そして、中継台７４に載置されている光情報記録媒体Ｄｃは、移載機構８０の移載アーム８２ａによって検査部８４に移載されると共に、検査部８４によって検査された光情報記録媒体Ｄｃは、移載機構８０の移載アーム８２ｂによって別の中継台８６に移載される。検査部８４では、上方から検査光を照射して、或いはＣＣＤカメラなどを使用して予め決められた検査項目に従ってディスクの欠陥等の検査を行う。検査部８４での検査結果に従って、移載機構９０の移載アーム９２は、良品であれば良品用積載機構９６へ、また、不良品であれば不良品用積載機構９４移載され、順次積載される。
以上のようにして、ハードコート層が形成され、光情報記録媒体が製造される。
【００６４】
続いて、図２を参照して、ハードコート層形成装置の構成の別の一例とその動作について説明する。
ここで、図２は、ハードコート層形成装置１００の要部を示す平面図である。
まず、ハードコート層形成装置１００の構成の概要を説明する。ハードコート層形成装置１００は、積層体のＬＲ−ｔｉｌｔを測定するラジアルチルト測定装置１１０と、積層体の受け渡しを行う第１の移載手段１２０と、積層体の光透過層上にハードコート層塗布膜をスピンコート法で形成するためのスピンコート部１３０と、スピンコート部１３０に設置された積層体上にハードコート液（ハードコート用の放射線硬化型液状組成物）を供給するディスペンサー部１４０と、積層体のＬＲ−ｔｉｌｔに応じて放射線照射までの待機時間を決定し、その指令を出す制御装置１５０と、ハードコート層塗布膜を有する積層体の移動を行う第２の移載手段１６０、ハードコート液中の溶剤を蒸発させる乾燥部１７０と、乾燥部１７０からの積層体の移動を行う第３の移載手段１８０と、放射線照射ユニット１９０と、を含んでいる。
【００６５】
以下、図２に示されるハードコート層形成装置１００の構成とその動作について詳細に説明する。
積層体形成工程にて得られた積層体Ｄａ（即ち、案内溝を表面に有する基板の該表面に、光反射層、記録層、バリア層、及び光透過層を少なくともこの順に積層してなる積層体）は、まず、ハードコート層形成装置１００に設けられたラジアルチルト測定装置１１０によって、ＬＲ−ｔｉｌｔが測定される。このＬＲ−ｔｉｌｔの測定結果は、制御装置１５０へと送られる。
その後、ＬＲ−ｔｉｌｔが測定された積層体Ｄａは、移載手段１２０によりピックアップされて、スピンコート部１３０へと移載される。
【００６６】
移載手段１２０は、その軸１２４の周りに回転可能であり、図２に示した状態から時計回りに６０度回転することで、アーム１２２が、積層体Ｄａ上に移動する。この位置において、アーム１２２の先端部に設けられた真空吸着機構（不図示）により、積層体Ｄａがピックアップされ、その後、移載手段１２０を反時計回りに１２０度回転させて、積層体Ｄａをスピンコート部１３０上に運び、その位置で積層体Ｄａの真空吸着を解放して積層体Ｄａをスピンナーテーブル１３２上に設置する。
ここで、スピンコート部１３０上に積層体Ｄａが設置された後、スピンコーティングが開始される前には、ディスペンサー部１４０により、積層体Ｄａ表面のクリーニングを行ってもよい。
【００６７】
ディスペンサー部１４０は、軸１４４の周りに回転可能なアーム１４２を有しており、このアーム１４２の先端にはノズル（不図示）が取り付けられている。
アーム１４２を回転させて、先端のノズルをスピンナーテーブル１３２に設置された積層体Ｄａ上に移動させて、このノズル（不図示）からハードコート用の放射線硬化型液状組成物を積層体Ｄａ上に滴下させる。その後、積層体Ｄａを高速回転させ、放射線硬化型液状組成物を展延させて、所望の厚さのハードコート層塗布膜を形成する。ハードコート層塗布膜が形成された積層体を積層体Ｄｂ（不図示）とする。
【００６８】
制御装置１５０は、ラジアルチルト測定装置１１０により得られたＬＲ−ｔｉｌｔの値が伝えられると、このＬＲ−ｔｉｌｔの値を、事前に求められた、積層体のＬＲ−ｔｉｌｔの値に応じた待機時間の許容範囲に照らし合わせ、待機時間の最適値を決定する。
また、スピンコート部１３０により放射線硬化型液状組成物が展延された後、積層体Ｄｂの回転が終了すると、スピンコート部１３０から回転が終了したことを知らせる信号が制御装置１５０へと送られる。
この送られてきた信号から制御装置１５０は時間のカウントを開始し、決定された待機時間が経過した際に、制御装置１５０は放射線照射ユニット１９０へ放射線を照射するように指令を出す。
ここでも、積層体のＬＲ−ｔｉｌｔの値に応じた待機時間の許容範囲を求める方法は、前述の方法が適用される。
【００６９】
一方、ハードコート層塗布膜が形成された積層体Ｄｂは、移載手段１６０のアーム１６２により乾燥部１７０へと移載される。
なお、移載手段１６０は、移載手段１２０と同様の構成を有しており、その軸１６４の周りに回転可能であり、図２に示した状態から時計回りに６０度回転することで、アーム１６２が、積層体Ｄｂ上に移動する。この位置において、アーム１６２の先端部に設けられた真空吸着機構（不図示）により、積層体Ｄｂがピックアップされ、その後、移載手段１６０を反時計回りに９０度回転させて、積層体Ｄｂを乾燥部１７０に運び、その位置で積層体Ｄｂの真空吸着を解放して積層体Ｄｂを乾燥テーブル１７２上に設置する。
【００７０】
積層体Ｄｂの乾燥が終了した後、乾燥テーブル１７２上の積層体Ｄｂは、移載手段１８０のアーム１８２により移送され、次の工程である放射線照射ユニット１９０へ送られる。
ここで、移載手段１８０は、移載手段１２０と同様の構成を有しており、その軸１８４の周りに回転可能であり、アーム１８２の先端部には不図示の真空吸着機構を有する。この移載手段１８０を用いることで、乾燥テーブル１７２上の積層体Ｄｂを放射線照射ユニット１９０へと運ぶことができる。
【００７１】
放射線照射ユニット１９０では、制御装置１５０からの待機時間に対応した指令を受け、積層体Ｄｂに向けて放射線を照射し、ハードコート液の硬化が行われる。この硬化により、ハードコート層を有する光情報記録媒体が得られる。
その後、ハードコート層を有する光情報記録媒体は、図示されない移載手段により検査装置（不図示）に送られ、ＤＲ−ｔｉｌｔ、膜厚、欠陥等の検査を行い、良品と不良品に分けストックされる。
以上のようにして、ハードコート層が形成され、光情報記録媒体が製造される。
【００７２】
前述の、積層体形成工程及びハードコート層形成工程を経ることで、本発明の光情報記録媒体を得ることができる。
【００７３】
＜光情報記録方法＞
光情報記録媒体に対する情報の記録は、記録層のレーザー光を照射された部分がその光学的特性を変えることによって行われる。光学的特性の変化は、記録層のレーザー光が照射された部分がその光を吸収して局所的に温度上昇し、物理的又は化学的変化（例えば、ピットの生成）を生じることによってもたらされると考えられる。記録層に記録された情報の読み取り（再生）は、例えば、記録用のレーザー光と同様の波長のレーザー光を照射することにより、記録層の光学的特性が変化した部位（記録部位）と変化しない部位（未記録部位）との反射率等の光学的特性の違いを検出することにより行うことができる。
本発明では、情報の記録は、好ましくは、レーザー光照射により記録に含まれる有機色素が熱分解し、それにより発生した気体によりピット内に空隙が形成されることによって行われる。より好ましくは、記録層中の有機色素がレーザー光を吸収することによって発熱し、それにより生じた熱によって該有機色素中の置換基又は色素骨格が分解して気体を発生する。これにより記録層中に空隙が形成され、また、その空隙が隣接するバリア層及び硬化膜を変形させることで、レーザー光照射により空隙が形成された部分とレーザー光未照射部との間に大きな屈折率差を生じさせることができ、記録特性を高めることができると考えられる。
本発明の光情報記録媒体に照射されるレーザー光の波長は、３９０ｎｍ〜４４０ｎｍであることが好ましい。
本発明の光情報記録媒体への情報の記録及び再生方法の詳細は後述する。
【００７４】
本発明の光情報記録方法は、本発明の光情報記録媒体へ、光透過層側から波長３９０〜４４０ｎｍのレーザー光を照射することにより、記録層へ情報を記録する方法である。
情報の記録に、波長３９０ｎｍ〜４４０ｎｍのレーザー光が用いられ、具体的には、４４０ｎｍ以下の範囲の発振波長を有する半導体レーザー光が好適に用いられる。好ましい光源としては、３９０ｎｍ〜４４０（更に好ましくは３９０ｎｍ〜４１５ｎｍ）の範囲の発振波長を有する青紫色半導体レーザー光、中心発振波長８５０ｎｍの赤外半導体レーザー光を光導波路素子を使って半分の波長にした中心発振波長４２５ｎｍの青紫色ＳＨＧレーザー光を挙げることができる。特に、記録密度の点で３９０ｎｍ〜４１５ｎｍの範囲の発振波長を有する青紫色半導体レーザー光を用いることが好ましい。
上記のように記録された情報の再生は、光情報記録媒体を上記と同一の定線速度で回転させながらレーザー光（好ましくは、情報の記録の際に用いたレーザー光と同様の波長のもの）を光透過層側から照射して、その反射光を検出することにより行うことができる。
【００７５】
具体的には、光情報記録媒体に対する情報の記録は、例えば、次のように行われる。
まず、光情報記録媒体を一定の線速度（例えば０．５ｍ／秒〜１０ｍ／秒）、又は一定の角速度にて回転させながら、光透過層側から半導体レーザー光等の記録用のレーザー光を、第一対物レンズ（例えば、開口数ＮＡが０．８５）を介して照射する。このレーザー光の照射により、記録層がレーザー光を吸収して局所的に温度上昇し、物理的又は化学的変化（例えば、ピットの生成）が生じてその光学的特性を変えることにより、情報が記録されると考えられる。
【実施例】
【００７６】
以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明は実施例に示す態様に限定されるものではない。
【００７７】
（実験例１）
［光情報記録媒体の作製］
住友重機械工業製射出成形機ＳＤ４０Ｅと精工技研製ＢＤ用金型にスタンパを装着して、固定金型温度を１２０℃、可動金型温度を１２５℃、最終段の型締力を９８ｋＮに設定し、溶融したポリカーボネート樹脂（帝人製  パンライトＡＤ５５０３）を金型内に射出し、スパイラル状のグルーブ（深さ４０ｎｍ、溝幅１８０ｎｍ、トラックピッチ０．３２μｍ）を有する厚さ１．１ｍｍ、直径１２０ｍｍの基板を成形した。この基板の記録及び再生を行う領域の最外周の半径位置に対応する一周に亘るＲ−ｔｉｌｔの平均値は、０．５８°であった。
続いて、銀合金ターゲットＧＤ０２（株式会社コベルコ科研製）をスパッタリング装置Ｃｕｂｅ（ＯＣ  Ｏｅｒｌｉｋｏｎ  Ｈｏｌｄｉｎｇｓ  ＡＧ製）にてスパッタリングし膜厚５０ｎｍの反射層を形成した。
その後、下記式（１）で示される色素０．７ｇを２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール（ダイキン工業株式会社製）１００ｍｌに溶解した塗布液を調整し、この塗布液をスピンコート法により上記基板の反射層上に塗布して、溝部の膜厚１６ｎｍの色素層を形成した。
【００７８】
【化１】
2010165399.tif 000002
【００７９】
続いて、バリア層ターゲットＮｂ２Ｏｘ（豊島製作所製）をスパッタリング装置Ｃｕｂｅ（ＯＣ  Ｏｅｒｌｉｋｏｎ  Ｈｏｌｄｉｎｇｓ  ＡＧ製）にてスパッタリングし膜厚１０ｎｍのバリア層を形成した。
更に、続いて、２−エチルヘキシルアクリレート５６質量％、脂肪族ウレタンアクリレートＥＢＥＣＲＹＬ２３０  （ダイセルサイテック株式会社製）４０質量％、及びＩＲＧ−９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製）４質量％を混合してなる紫外線硬化樹脂を用いて、光ディスク貼り合わせ装置（芝浦メカトロニクス株式会社製）にて、厚さ９２μｍのポリカーボネートシートパンライト（帝人化成株式会社製）と貼りあわせた後、紫外線を照射した。
このようにして得られた積層体のＬＲ−ｔｉｌｔの値は、０．１５°であった。
【００８０】
その後、ハードコート用の放射線硬化型液状組成物（アクリレート系ＵＶ硬化樹脂、ＴＤＫ製ＳＨＣ）を、９０ｒｐｍで回転させた積層体上にディスペンスノズルから塗布し、その後５０００ｒｐｍに回転を上げ１秒間保持し、液状組成物を振り切り塗布膜を形成した。
その後、待機時間を２秒、５秒、７秒、又は９秒にして、紫外線の照射を行い、４種の光情報記録媒体を得た。
なお、紫外線の照射には、ＸＥＮＯＮ製ＵＶフラッシュランプを用い、紫外線照射時のランプと積層体の距離は３５ｍｍに設定し、紫外線を間欠的に４回照射し、ハードコート層を硬化させた。
【００８１】
［光情報記録媒体のＤＲ−ｔｉｌｔの測定］
得られた光情報記録媒体を温度２３℃±２℃、相対湿度４５〜５５％の条件下で２４時間以上保存し、その後、該光情報記録媒体のＤＲ−ｔｉｌｔを、前述の方法で測定した。
結果を表１に示す。
【００８２】
【表１】
2010165399.tif 000003
【００８３】
上記表１に示されるように、実験例１−２及び実験例１−３で得られた光情報記録媒体が、本発明の光情報記録媒体であることが分かる。
【００８４】
［光情報記録媒体の評価］
＜温・湿度急変試験＞
温・湿度が急変した時の光情報記録媒体のＤＲ−ｔｉｌｔを、下記１）及び２）の状況下で評価した。結果を表２に示す。
１）湿度急変評価
前述のようにして得られた光情報記録媒体を、２５℃９０％ＲＨの環境に３日間保管した。その後、２５℃４５％ＲＨの環境に移し、移動直後から２４時間まで２時間おきに光情報記録媒体のＤＲ−ｔｉｌｔを測定した。
２）温度急変評価
前述のようにして得られた光情報記録媒体を、２５℃４５％ＲＨの環境に３日間保管した。その後、５５℃１０％ＲＨの環境に移し、移動直後から１時間まで５分おきに光情報記録媒体のＤＲ−ｔｉｌｔを測定した。
【００８５】
上記１）の環境でのＤＲ−ｔｉｌｔの測定において、その最大値が０．７°以下であれば、また、上記２）の環境でのＤＲ−ｔｉｌｔの測定において、その最小値が−０．７°以上であれば、記録及び再生特性についての実用上の問題がないことになる。そのため、これらの値が目標値となる。
【００８６】
【表２】
2010165399.tif 000004
【００８７】
上記表２に示されるように、本発明の光情報記録媒体である実験例１−２、実験例１−３で得られた光情報記録媒体は、温・湿度急変試験においてＤＲ−ｔｉｌｔの目標値を満たしていることが分かる。
【００８８】
（実験例２）
［光情報記録媒体の作製］
住友重機械工業製射出成形機ＳＤ４０Ｅと精工技研製ＢＤ用金型にスタンパを装着して、固定金型温度を１１５℃、可動金型温度を１２０℃、最終段の型締力を１４７ｋＮに設定し、溶融したポリカーボネート樹脂（帝人製  パンライトＡＤ５５０３）を金型内に射出し、スパイラル状のグルーブ（深さ４０ｎｍ、溝幅１８０ｎｍ、トラックピッチ０．３２μｍ）を有する厚さ１．１ｍｍ、直径１２０ｍｍの基板を成形した。この基板の記録及び再生を行う領域の最外周の半径位置に対応する一周に亘るＲ−ｔｉｌｔの平均値は、０．３０°であった。
続いて、銀合金ターゲットＧＤ０２（株式会社コベルコ科研製）をスパッタリング装置Ｃｕｂｅ（ＯＣ  Ｏｅｒｌｉｋｏｎ  Ｈｏｌｄｉｎｇｓ  ＡＧ製）にてスパッタリングし膜厚５０ｎｍの反射層を形成した。
その後、前記式（１）で示される色素０．７ｇを２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール（ダイキン工業株式会社製）１００ｍｌに溶解した塗布液を調整し、この塗布液をスピンコート法により上記基板の反射層上に塗布して、溝部の膜厚１６ｎｍの色素層を形成した。
【００８９】
続いて、バリア層ターゲットＮｂ２Ｏｘ（豊島製作所製）をスパッタリング装置Ｃｕｂｅ（ＯＣ  Ｏｅｒｌｉｋｏｎ  Ｈｏｌｄｉｎｇｓ  ＡＧ製）にてスパッタリングし膜厚１０ｎｍのバリア層を形成した。
更に、続いて、２−エチルヘキシルアクリレート５６質量％、脂肪族ウレタンアクリレートＥＢＥＣＲＹＬ２３０（ダイセルサイテック株式会社製）４０質量％、及びＩＲＧ−９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製）４質量％を混合してなる紫外線硬化樹脂を用いて、光ディスク貼り合わせ装置（芝浦メカトロニクス株式会社製）にて、厚さ９２μｍのポリカーボネートシートパンライト（帝人化成株式会社製）と貼りあわせた後、紫外線を照射した。
このようにして得られた積層体のＬＲ−ｔｉｌｔの値は、−０．１０°であった。
【００９０】
その後、ハードコート用の放射線硬化型液状組成物（アクリレート系ＵＶ硬化樹脂、ＴＤＫ製ＳＨＣ）を、９０ｒｐｍで回転させた積層体上にディスペンスノズルから塗布し、その後５０００ｒｐｍに回転を上げ１秒間保持し、液状組成物を振り切り塗布膜を形成した。
その後、待機時間を２秒、５秒、又は７秒にして、紫外線の照射を行い、３種の光情報記録媒体を得た。
なお、紫外線の照射には、ＸＥＮＯＮ製ＵＶフラッシュランプを用い、紫外線照射時のランプと積層体の距離は３５ｍｍに設定し、紫外線を間欠的に４回照射し、ハードコート層を硬化させた。
【００９１】
［光情報記録媒体のＤＲ−ｔｉｌｔの測定］
得られた光情報記録媒体を温度２３℃±２℃、相対湿度４５〜５５％の条件下で２４時間以上保存し、その後、該光情報記録媒体のＤＲ−ｔｉｌｔを、前述の方法で測定した。
結果を表３に示す。
【００９２】
【表３】
2010165399.tif 000005
【００９３】
上記表３に示されるように、実験例２−２及び実験例２−３で得られた光情報記録媒体が、本発明の光情報記録媒体であることが分かる。
【００９４】
［光情報記録媒体の評価］
＜温・湿度急変試験＞
温・湿度が急変した時の光情報記録媒体のＤＲ−ｔｉｌｔを、前記実験例１における１）及び２）の状況下で評価した。結果を表４に示す。
なお、前記１）の環境でのＤＲ−ｔｉｌｔの測定における目標値、及び前記２）の環境でのＤＲ−ｔｉｌｔの測定における目標値は、前記実験例１に記載した値と同様である。
【００９５】
【表４】
2010165399.tif 000006
【００９６】
上記表４に示されるように、本発明の光情報記録媒体である実験例２−２、実験例２−３で得られた光情報記録媒体は、温・湿度急変試験においてＤＲ−ｔｉｌｔの目標値を満たしていることが分かる。
【００９７】
（実験例３）
［光情報記録媒体の作製］
住友重機械工業製射出成形機ＳＤ４０Ｅと精工技研製ＢＤ用金型にスタンパを装着して、固定金型温度を１１５℃、可動金型温度を１２０℃、最終段の型締力を２４６ｋＮに設定し、溶融したポリカーボネート樹脂（帝人製  パンライトＡＤ５５０３）を金型内に射出し、スパイラル状のグルーブ（深さ４０ｎｍ、溝幅１８０ｎｍ、トラックピッチ０．３２μｍ）を有する厚さ１．１ｍｍ、直径１２０ｍｍの基板を成形した。この基板の記録及び再生を行う領域の最外周の半径位置に対応する一周に亘るＲ−ｔｉｌｔの平均値は、０．１２°であった。
続いて、銀合金ターゲットＧＤ０２（株式会社コベルコ科研製）をスパッタリング装置Ｃｕｂｅ（ＯＣ Ｏｅｒｌｉｋｏｎ Ｈｏｌｄｉｎｇｓ ＡＧ製）にてスパッタリングし膜厚５０nmの反射層を形成した。
その後、前記式（１）で示される色素０．７ｇを２,２,３,３−テトラフルオロプロパノール（ダイキン工業株式会社製）１００ｍｌに溶解した塗布液を調整し、この塗布液をスピンコート法により上記基板の反射層上に塗布して、溝部の膜厚１６ｎｍの色素層を形成した。
【００９８】
続いて、バリア層ターゲットＮｂ２Ｏｘ（豊島製作所製）をスパッタリング装置Ｃｕｂｅ（ＯＣ Ｏｅｒｌｉｋｏｎ Ｈｏｌｄｉｎｇｓ ＡＧ製）にてスパッタリングし膜厚1０ｎｍのバリア層を形成した。
更に、続いて、２-エチルヘキシルアクリレート５６質量％、脂肪族ウレタンアクリレートＥＢＥＣＲＹＬ２３０ (ダイセルサイテック株式会社製)４０質量％、及びＩＲＧ−９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製）４質量％を混合してなる紫外線硬化樹脂を用いて、光ディスク貼り合わせ装置（芝浦メカトロニクス株式会社製）にて、厚さ９２μｍのポリカーボネートシートパンライト（帝人化成株式会社製）と貼りあわせた後、紫外線を照射した。
このようにして得られた積層体のＬＲ−ｔｉｌｔの値は、−０．３０°であった。
【００９９】
その後、ハードコート用の放射線硬化型液状組成物（アクリレート系ＵＶ硬化樹脂、ＴＤＫ製ＳＨＣ）を、９０ｒｐｍで回転させた積層体上にディスペンスノズルから塗布し、その後５０００ｒｐｍに回転を上げ１秒間保持し、液状組成物を振り切り塗布膜を形成した。
その後、待機時間を２秒、７秒、又は２０秒にして、紫外線の照射を行い、３種の光情報記録媒体を得た。
なお、紫外線の照射には、ＸＥＮＯＮ製ＵＶフラッシュランプを用い、紫外線照射時のランプと積層体の距離は３５ｍｍに設定し、紫外線を間欠的に４回照射し、ハードコート層を硬化させた。
【０１００】
［光情報記録媒体のＤＲ−ｔｉｌｔの測定］
得られた光情報記録媒体を温度２３℃±２℃、相対湿度４５〜５５％の条件下で２４時間以上保存し、その後、該光情報記録媒体のＤＲ−ｔｉｌｔを、前述の方法で測定した。
結果を表５に示す。
【０１０１】
【表５】
2010165399.tif 000007
【０１０２】
上記表５に示されるように、実験例３−３で得られた光情報記録媒体が、本発明の光情報記録媒体であることが分かる。
【０１０３】
［光情報記録媒体の評価］
＜温・湿度急変試験＞
温・湿度が急変した時の光情報記録媒体のＤＲ−ｔｉｌｔを、前記実験例１における１）及び２）の状況下で評価した。結果を表６に示す。
なお、前記１）の環境でのＤＲ−ｔｉｌｔの測定における目標値、及び前記２）の環境でのＤＲ−ｔｉｌｔの測定における目標値は、前記実験例１に記載した値と同様である。
【０１０４】
【表６】
2010165399.tif 000008
【０１０５】
上記表６に示されるように、本発明の光情報記録媒体である実験例３−３で得られた光情報記録媒体は、温・湿度急変試験においてＤＲ−ｔｉｌｔの目標値を満たしていることが分かる。
【０１０６】
前記表１、表３、及び表５に明らかなように、積層体のＬＲ−ｔｉｌｔの値が一定であっても、待機時間によって、得られた光情報記録媒体のＤＲ−ｔｉｌｔが変化することが分かる。
このことから、積層体のＬＲ−ｔｉｌｔに応じた待機時間の最適値を求めることで、本発明の光情報記録媒体を得ることができることが分かる。
また、本発明の光情報記録媒体は、温・湿度急変試験に供した際であっても、目標値を満たしており、使用環境に関わらず情報の記録及び再生を良好なまま維持することができることが分かる。
【産業上の利用可能性】
【０１０７】
本発明の光情報記録媒体は、短波長レーザー光を照射することにより情報を記録するためのＢｌｕ−ｒａｙ方式の光情報記録媒体として好適である。
【符号の説明】
【０１０８】
１、１００  ハードコート層形成装置
１０、１１０  ラジアルチルト測定装置
２０  搬送ライン
３０  液状組成物供給手段
４０  回転処理部
５０、１５０  制御装置
６０  放射線照射装置
７０、８０、９０  移載機構
８４  検査部
９４  不良品用積載機構
９６  良品用積載機構
１２０、１６０、１８０  移載手段
１３０  スピンコート部
１４０  ディスペンサー部
１７０  乾燥部
１９０  放射線照射ユニット
【図１】
2010165399.tif 000009
【図２】
2010165399.tif 000010