(57)【要約】【課題】ソース電極の接続に際し、余分な引き回しが無く、構造が簡単であり、接地インダクタンスを有効に低減化可能なマイクロ波／ミリ波／サブミリ波帯の半導体装置を提供する。【解決手段】基板１０上に配置された窒化物系化合物半導体層１２と、窒化物系化合物半導体層１２上に配置され、アルミニウム窒化ガリウム層１８からなる活性領域ＡＡと、活性領域ＡＡ上に配置されたゲート電極２４、ソース電極２０およびドレイン電極２２と、それぞれゲート電極２４およびドレイン電極２２に接続され、ゲート電極２４、ソース電極２０およびドレイン電極２２が延伸する方向の窒化物系化合物半導体層１２上に配置されたゲート端子電極ＧＬ１、ＧＬ２およびドレイン端子電極ＤＬ１、ＤＬ２と、ゲート電極２４，ソース電極２０およびドレイン電極２２が延伸する他方の方向の基板１０の端面に配置され、ソース電極２０と接続された端面電極ＳＣとを備える。【選択図】図１
2010245351.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
前記基板上に配置された窒化物系化合物半導体層と、
前記窒化物系化合物半導体層上に配置され、アルミニウム窒化ガリウム層（ＡｌxＧａ1-xＮ）（０．１≦ｘ≦１）からなる活性領域と、
前記活性領域上に配置されたゲート電極、ソース電極およびドレイン電極と、
それぞれ前記ゲート電極および前記ドレイン電極に接続され、前記ゲート電極、前記ソース電極および前記ドレイン電極が延伸する一方の方向の前記窒化物系化合物半導体層上に配置されたゲート端子電極およびドレイン端子電極と、
前記ゲート電極，前記ソース電極および前記ドレイン電極が延伸する他方の方向の前記窒化物系化合物半導体層上に配置され、前記ソース電極と接続された端面電極と
を備えることを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
基板と、
前記基板上に配置された窒化物系化合物半導体層と、
前記窒化物系化合物半導体層上に配置され、アルミニウム窒化ガリウム層（ＡｌxＧａ1-xＮ）（０．１≦ｘ≦１）からなる活性領域と、
前記活性領域上に配置され、それぞれ複数のフィンガーを有するゲート電極、ソース電極およびドレイン電極と、
前記ゲート電極、前記ソース電極および前記ドレイン電極が延伸する一方の方向の前記窒化物系化合物半導体層上に配置され、前記ゲート電極および前記ドレイン電極ごとに複数のフィンガーをそれぞれ束ねて接続したゲート端子電極およびドレイン端子電極と、
前記ゲート電極，前記ソース電極および前記ドレイン電極が延伸する他方の方向の前記基板の端面に配置され、前記ソース電極と接続された端面電極と
を備えることを特徴とする半導体装置。
【請求項３】
前記端面電極は、前記基板の対向する２辺に配置され、前記ドレイン端子電極および前記ゲート端子電極は、前記基板の中央部に配置され、複数のフィンガーを有する前記ゲート電極、前記ソース電極および前記ドレイン電極は、前記２辺に平行な方向に２系統並列に配置されたことを特徴とする請求項２に記載の半導体装置。
【請求項４】
前記ドレイン端子電極および前記ゲート端子電極は、前記２系統において共通に、それぞれ複数のフィンガーを有する前記ゲート電極、および前記ドレイン電極を束ねて接続されることを特徴とする請求項３に記載の半導体装置。
【請求項５】
前記端面電極は、バリア金属層と、前記バリア金属層上に配置された接地用金属層を備えることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の半導体装置。
【請求項６】
前記バリア金属層はＴｉ層若しくはＴｉ／Ｐｔ層からなり、前記接地用金属層は、Ａｕ層からなることを特徴とする請求項５に記載の半導体装置。
【請求項７】
前記基板は、ＳｉＣ基板、ＧａＡｓ基板、ＧａＮ基板、ＳｉＣ基板上にＧａＮエピタキシャル層を形成した基板、Ｓｉ基板上にＧａＮエピタキシャル層を形成した基板、ＳｉＣ基板上にＧａＮ／ＡｌＧａＮからなるヘテロ接合エピタキシャル層を形成した基板、サファイア基板上にＧａＮエピタキシャル層を形成した基板、サファイア基板若しくはダイヤ-モンド基板のいずれかを備えることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の半導体装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体装置に関し、特に、接地インダクタンスを低減化可能なマイクロ波／ミリ波／サブミリ波帯で動作する半導体装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＧａＮ（Gallium Nitride）などの化合物半導体を用いた電界効果トランジスタ（ＦＥＴ：Field Effect Transistor）は、優れた高周波特性を有し、マイクロ波／ミリ波／サブミリ波帯で動作する半導体装置として広く実用化されている。
【０００３】
従来の半導体装置の模式的平面パターン構成は、図７に示すように表され、図７のＩ−Ｉ線の沿う模式的断面構造は、図８に示すように表される。
【０００４】
従来の半導体装置の模式的平面パターン構成は、図７および図８に示すように、例えば、ＳｉＣからなる基板１０と、基板１０上に配置され、それぞれ複数のフィンガーを有するゲート電極２４、ソース電極２０およびドレイン電極２２と、基板１０上に配置され、ゲート電極２４、ソース電極２０およびドレイン電極２２ごとに複数のフィンガーをそれぞれ束ねて形成したゲート端子電極ＧＥ１，ＧＥ２，ＧＥ３、ソース端子電極ＳＥ１，ＳＥ２，…，ＳＥ４およびドレイン端子電極ＤＥと、ソース端子電極ＳＥ１，ＳＥ２，…，ＳＥ４にそれぞれ接続された端面電極ＳＣ１，ＳＣ２，…，ＳＣ４とを備える。
【０００５】
ゲート電極２４、ソース電極２０およびドレイン電極２２が複数のフィンガー形状を有する部分は、図８に示すように、ＡｌＧａＮ層１８と２次元電子ガス（２ＤＥＧ：Two Dimensional Electron Gas）層１６からなる活性領域ＡＡを形成する。２ＤＥＧ層１６は、ＡｌＧａＮ層１８とＧａＮエピタキシャル成長層１２との界面に形成される。ソース電極２０およびドレイン電極２２は、ＡｌＧａＮ層１８とオーミック接触を形成し、ゲート電極２４は、ＡｌＧａＮ層１８とショットキー（Ｓｃｈｏｔｔｋｙ）接触を形成する。
【０００６】
図７の例では、基板１０の一方の端にゲート端子電極ＧＥ１，ＧＥ２，ＧＥ３、ソース端子電極ＳＥ１，ＳＥ２，…，ＳＥ４が配置され、他方の端にドレイン端子電極ＤＥが配置される。
【０００７】
図７および図８に示すように、ソース端子電極ＳＥ１，ＳＥ２，…，ＳＥ４に対して、それぞれ端面電極ＳＣ１，ＳＣ２，…，ＳＣ４が形成され、基板１０の裏面に形成された接地導体ＢＥと接続されている。端面電極ＳＣ１，ＳＣ２，…，ＳＣ４は、例えばＴｉからなるバリア金属層３０と、バリア金属層３０上に形成され、Ａｕからなる接地用金属層３２から構成される。ソース電極２０およびソース端子電極ＳＥ１，ＳＥ２，…，ＳＥ４に対して、このような端面電極ＳＣ１，ＳＣ２，…，ＳＣ４を形成する理由は、半導体装置の高周波特性に悪影響を及ぼす接地インダクタンスを低減するためである。
【０００８】
そして、基板１０上に設けた回路素子を接地する場合、基板１０の端面に形成された端面電極ＳＣ１，ＳＣ２，…，ＳＣ４を介して、回路素子と基板１０の裏面に形成した接地導体ＢＥとが電気的に接続される。
【０００９】
尚、ゲート端子電極ＧＥ１，ＧＥ２，ＧＥ３は、ボンディングワイヤなどで周辺の半導体チップに接続され、また、ドレイン端子電極ＤＥも、ボンディングワイヤなどで周辺の半導体チップに接続される。
【００１０】
一方、側面メタライズ部を有する半導体チップにおいて、チップの４つの側面のうち、少なくとも１側面がチップ表面に対して垂直でないことを特徴とする半導体装置については、既に開示されている（例えば、特許文献１参照。）。
【００１１】
端面電極ＳＣ１，ＳＣ２，…，ＳＣ４は、加工が容易な反面、ゲート電極２４に対する給電用のパッド電極となるゲート端子電極ＧＥ１，ＧＥ２，ＧＥ３が、ソース端子電極ＳＥ１，ＳＥ２，…，ＳＥ４と同じ接地側に配置されるため、ソース電極２０およびソース端子電極ＳＥ１，ＳＥ２，…，ＳＥ４の接地に際し余分な引き回しが必要となり、接地インダクタンスが有効に低減できないという問題点がある。また、側面メタライズによる接地方法に代え、裏面からのＶＩＡホールを介した接地電極の形成方法も開示されているが、ＧａＮに対するＶＩＡホール形成は、ＧａＮ結晶の硬度が高いため、製造上の困難性を伴う。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１２】
【特許文献１】特開平０２−２９１１３３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
本発明の目的は、ソース電極の接続に際し、余分な引き回しが無く、構造が簡単であり、接地インダクタンスを有効に低減化可能なマイクロ波／ミリ波／サブミリ波帯の半導体装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
上記目的を達成するための本発明の一態様によれば、基板と、前記基板上に配置された窒化物系化合物半導体層と、前記窒化物系化合物半導体層上に配置され、アルミニウム窒化ガリウム層（ＡｌxＧａ1-xＮ）（０．１≦ｘ≦１）からなる活性領域と、前記活性領域上に配置されたゲート電極、ソース電極およびドレイン電極と、それぞれ前記ゲート電極および前記ドレイン電極に接続され、前記ゲート電極、前記ソース電極および前記ドレイン電極が延伸する一方の方向の前記窒化物系化合物半導体層上に配置されたゲート端子電極およびドレイン端子電極と、前記ゲート電極，前記ソース電極および前記ドレイン電極が延伸する他方の方向の前記窒化物系化合物半導体層上に配置され、前記ソース電極と接続された端面電極とを備える半導体装置が提供される。
【００１５】
本発明の他の態様によれば、基板と、前記基板上に配置された窒化物系化合物半導体層と、前記窒化物系化合物半導体層上に配置され、アルミニウム窒化ガリウム層（ＡｌxＧａ1-xＮ）（０．１≦ｘ≦１）からなる活性領域と、前記活性領域上に配置され、それぞれ複数のフィンガーを有するゲート電極、ソース電極およびドレイン電極と、前記ゲート電極、前記ソース電極および前記ドレイン電極が延伸する一方の方向の前記窒化物系化合物半導体層上に配置され、前記ゲート電極および前記ドレイン電極ごとに複数のフィンガーをそれぞれ束ねて接続したゲート端子電極およびドレイン端子電極と、前記ゲート電極，前記ソース電極および前記ドレイン電極が延伸する他方の方向の前記基板の端面に配置され、前記ソース電極と接続された端面電極とを備える半導体装置が提供される。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、ソース電極の接続に際し、余分な引き回しが無く、構造が簡単であり、接地インダクタンスを低減化可能なマイクロ波／ミリ波／サブミリ波帯の半導体装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本発明の第１の実施の形態に係る半導体装置の模式的平面パターン構成図。
【図２】図１のＩＩ−ＩＩ線に沿う模式的断面構造図。
【図３】本発明の第１の実施の形態に係る半導体装置の構成例１の模式的断面構造図。
【図４】本発明の第１の実施の形態に係る半導体装置の構成例２の模式的断面構造図。
【図５】本発明の第１の実施の形態に係る半導体装置の構成例３の模式的断面構造図。
【図６】本発明の第２の実施の形態に係る半導体装置の模式的平面パターン構成図。
【図７】従来の半導体装置の模式的平面パターン構成図。
【図８】図７のＩ−Ｉ線の沿う模式的断面構造図。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
次に、図面を参照して、本発明の実施形態を説明する。以下の図面の記載において、同一又は類似の部分には同一又は類似の符号を付している。又、以下に示す実施形態は、この発明の技術的思想を具体化するための装置や方法を例示するものであって、この発明の実施形態は、構成部品の構造、配置等を下記のものに特定するものでない。この発明の実施形態は、特許請求の範囲において、種々の変更を加えることができる。
【００１９】
[第１の実施の形態]
（素子構造）
本発明の第１の実施の形態に係る半導体装置の模式的平面パターン構成は、図１に示すように表される。また、図１のＩＩ−ＩＩ線に沿う模式的断面構造は、図２に示すように表される。
【００２０】
第１の実施の形態に係る半導体装置は、図１〜図２に示すように、基板１０と、基板１０上に配置された窒化物系化合物半導体層１２と、窒化物系化合物半導体層１２上に配置され、アルミニウム窒化ガリウム層（ＡｌxＧａ1-xＮ）（０．１≦ｘ≦１）１８からなる活性領域ＡＡと、活性領域ＡＡ上に配置されたゲート電極２４、ソース電極２０およびドレイン電極２２と、それぞれゲート電極２４およびドレイン電極２２に接続され、ゲート電極２４、ソース電極２０およびドレイン電極２２が延伸する一方の方向の窒化物系化合物半導体層１２上に配置されたゲート端子電極ＧＬ１、ＧＬ２およびドレイン端子電極ＤＬ１、ＤＬ２と、ゲート電極２４，ソース電極２０およびドレイン電極２２が延伸する他方の方向の窒化物系化合物半導体層１２上に配置され、ソース電極２０と接続された端面電極ＳＣとを備える。
【００２１】
また、第１の実施の形態に係る半導体装置は、図１〜図２に示すように、基板１０と、基板１０上に配置された窒化物系化合物半導体層１２と、窒化物系化合物半導体層１２上に配置され、アルミニウム窒化ガリウム層（ＡｌxＧａ1-xＮ）（０．１≦ｘ≦１）１８からなる活性領域ＡＡと、活性領域ＡＡ上に配置され、それぞれ複数のフィンガーを有するゲート電極２４、ソース電極２０およびドレイン電極２２と、ゲート電極２４、ソース電極２０およびドレイン電極２２が延伸する一方の方向の窒化物系化合物半導体層１２上に配置され、ゲート電極２４およびドレイン電極２２ごとに複数のフィンガーをそれぞれ束ねて接続したゲート端子電極ＧＬ１、ＧＬ２およびドレイン端子電極ＤＬ１、ＤＬ２と、ゲート電極２４，ソース電極２０およびドレイン電極２２が延伸する他方の方向の基板１０の端面に配置され、ソース電極２０と接続された端面電極ＳＣとを備える。
【００２２】
ゲート端子電極ＧＬ１、ＧＬ２およびドレイン端子電極ＤＬ１、ＤＬ２は、複数のゲート電極２４、ソース電極２０およびドレイン電極２２が延伸する方向に配置される。
【００２３】
一方、端面電極ＳＣは、ゲート端子電極ＧＬ１、ＧＬ２およびドレイン端子電極ＤＬ１、ＤＬ２を含まない基板１０の１辺の側面であって、ゲート電極２４，ソース電極２０およびドレイン電極２２が延伸する他方の方向の基板１０の端面に配置される。
【００２４】
端面電極ＳＣは、複数のソース電極２０（Ｓ１）〜２０（Ｓ９）に対して共通に形成されており、かつ電気的に共通に接続される。第１の実施の形態に係る半導体装置は、図１〜図２に示すように、端面電極ＳＣが配置される基板１０の１辺には、ゲート端子電極ＧＬおよびドレイン端子電極ＤＬを含まないため、例えば、ソース電極２０とゲート端子電極ＧＬが短絡する可能性が低減される。したがって、図７に示される従来例のように端面電極を分離形成する必要がなく、構造が簡単化されている。
【００２５】
端面電極ＳＣは、図２に示すように、Ｔｉ層若しくはＴｉ／Ｐｔ層などからなるバリア金属層３０と、バリア金属層３０上に配置され、Ａｕ層からなる接地用金属層３２との積層構造によって形成されている。端面電極ＳＣは、基板１０の裏面に配置される接地導体ＢＥに接続される。
【００２６】
このように端面電極ＳＣは、ゲート端子電極ＧＬ１、ＧＬ２およびドレイン端子電極ＤＬ１、ＤＬ２を含まない基板１０の１辺の側面であって、ゲート電極２４，ソース電極２０およびドレイン電極２２が延伸する他方の方向の基板１０の端面に配置されることから、ソース電極２０との接続に際し、余分な引き回しが無く、接地インダクタンスを有効に低減することができ、接地インダクタンスに伴う負帰還を低減することができる。
【００２７】
また、図１において、Ａで示されるドレイン引き出し電極（上層）とゲート引き出し電極（下層）の交差部は、エアギャップ構造によって、電気的短絡を防止している。同様に、Ｂで示されるゲート引き出し電極（上層）とドレイン引き出し電極（下層）の交差部は、エアギャップ構造によって、電気的短絡を防止している。なお、ゲート端子電極ＧＬ１、ＧＬ２は、ゲートコンタクトＣＧを介して、それぞれの対応するゲート引き出し電極と接続されている。
【００２８】
図１〜図２においては、ゲート電極２４とソース電極２０間、ゲート電極２４とドレイン電極２２間、およびゲート電極２４、ソース電極２０およびドレイン電極２２の下層のアルミニウム窒化ガリウム層（ＡｌxＧａ1-xＮ）（０．１≦ｘ≦１）１８が活性領域ＡＡを構成する。
【００２９】
図１において、ＩＩＩ−ＩＩＩ線に沿う模式的断面構造は、図３〜図５に示される第１の実施の形態に係る半導体装置の構成例１〜構成例３に対応する。
【００３０】
（構成例１）
第１の実施の形態に係る半導体装置は、図３に示すように、基板１０と、基板１０上に配置されたＧａＮエピタキシャル成長層１２と、ＧａＮエピタキシャル成長層１２上に配置されたアルミニウム窒化ガリウム層（ＡｌxＧａ1-xＮ）（０．１≦ｘ≦１）１８と、アルミニウム窒化ガリウム層（ＡｌxＧａ1-xＮ）（０．１≦ｘ≦１）１８上に配置されたソース電極２０，ゲート電極２４およびドレイン電極２２とを備える。ＧａＮエピタキシャル成長層１２上のアルミニウム窒化ガリウム層（ＡｌxＧａ1-xＮ）（０．１≦ｘ≦１）１８との界面には、２ＤＥＧ層１６が形成されている。図３に示す半導体装置では、高電子移動度トランジスタ（ＨＥＭＴ：High Electron Mobility Transistor）が構成されている。
【００３１】
（構成例２）
第１の実施の形態に係る半導体装置の別の構成例は、図４に示すように、基板１０と、基板１０上に配置されたＧａＮエピタキシャル成長層１２と、ＧａＮエピタキシャル成長層１２上に配置されたソース領域２６およびドレイン領域２８と、ソース領域２６上に配置されたソース電極２０，ＧａＮエピタキシャル成長層１２上に配置されたゲート電極２４およびドレイン領域２８上に配置されたドレイン電極２２とを備える。
【００３２】
ＧａＮエピタキシャル成長層１２とゲート電極２４との界面には、ショットキーコンタクト（Schottky Contact）が形成されている。図４に示す構成例２の半導体装置では、金属−半導体電界効果トランジスタ（ＭＥＳＦＥＴ：Metal Semiconductor Field Effect Transistor）が構成されている。
【００３３】
（構成例３）
第１の実施の形態に係る半導体装置の更に別の構成例は、図５に示すように、基板１０と、基板１０上に配置されたＧａＮエピタキシャル成長層１２と、ＧａＮエピタキシャル成長層１２上に配置されたアルミニウム窒化ガリウム層（ＡｌxＧａ1-xＮ）（０．１≦ｘ≦１）１８と、アルミニウム窒化ガリウム層（ＡｌxＧａ1-xＮ）（０．１≦ｘ≦１）１８上に配置されたソース電極２０およびドレイン電極２２と、アルミニウム窒化ガリウム層（ＡｌxＧａ1-xＮ）（０．１≦ｘ≦１）１８上のリセス部に配置されたゲート電極２４と、アルミニウム窒化ガリウム層（ＡｌxＧａ1-xＮ）（０．１≦ｘ≦１）１８とを備える。ＧａＮエピタキシャル成長層１２上のアルミニウム窒化ガリウム層（ＡｌxＧａ1-xＮ）（０．１≦ｘ≦１）１８との界面には、２ＤＥＧ層１６が形成されている。図５に示す半導体装置は、ＨＥＭＴに相当している。
【００３４】
ソース電極２０およびドレイン電極２２は、例えば、Ｔｉ／Ａｌなどで形成される。
【００３５】
ゲート電極２４は、例えばＮｉ／Ａｕなどで形成することができる。
【００３６】
また、基板１０は、ＳｉＣ基板、ＧａＡｓ基板、ＧａＮ基板、ＳｉＣ基板上にＧａＮエピタキシャル層を形成した基板、Ｓｉ基板上にＧａＮエピタキシャル層を形成した基板、ＳｉＣ基板上にＧａＮ／ＡｌＧａＮからなるヘテロ接合エピタキシャル層を形成した基板、サファイア基板上にＧａＮエピタキシャル層を形成した基板、サファイア基板若しくはダイヤモンド基板のいずれかを備えていてもよい。
【００３７】
また、上記の実施形態においては、活性領域ＡＡ以外の窒化物系化合物半導体層１２を電気的に不活性な素子分離領域として用いているが、素子分離領域の他の形成方法としては、アルミニウム窒化ガリウム層（ＡｌxＧａ1-xＮ）（０．１≦ｘ≦１）１８および窒化物系化合物半導体層１２の深さ方向の一部まで、イオン注入により形成することもできる。イオン種としては、例えば、窒素（Ｎ）、アルゴン（Ａｒ）などを適用することができる。また、イオン注入に伴うドーズ量は、例えば、約１×１０14 （ｉｏｎｓ／ｃｍ2）であり、加速エネルギーは、例えば、約１００ｋｅＶ〜２００ｋｅＶである。
【００３８】
素子分離領域上およびデバイス表面上には、パッシベーション用の絶縁層（図示省略）が形成されている。この絶縁層としては、例えば、ＰＥＣＶＤ（Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition）法によって堆積された窒化膜、アルミナ（Ａｌ2Ｏ3）膜、酸化膜（ＳｉＯ2）、酸窒化膜（ＳｉＯＮ）などで形成することができる。
【００３９】
第１の実施の形態に係る半導体装置によれば、ソース電極２０の接地に際し、余分な引き回しが不要であり、接地インダクタンスが有効に低減された高性能な半導体装置を提供することができる。
【００４０】
第１の実施の形態に係る半導体装置によれば、構造が簡単であり、製造が容易で、接地インダクタンスを低減化可能なマイクロ波／ミリ波／サブミリ波帯の半導体装置を提供することができる。
【００４１】
[第２の実施の形態]
第２の実施の形態に係る半導体装置の模式的平面パターン構成は、図６に示すように、第１の実施の形態に係る半導体装置の平面パターンが、基板１０の中央部に配置されるドレイン端子電極ＤＬ１、ＤＬ２およびゲート端子電極ＧＬ１、ＧＬ２のパターン部分を中心にして、上下に折り返された構成を備える。
【００４２】
第２の実施の形態に係る半導体装置は、第１の実施の形態に係る半導体装置と平面パターン構成が異なるのみであって、図２に対応する端面電極ＳＣ１、ＳＣ２近傍の断面構造などは、第１の実施の形態と同様であるため、重複した説明は省略する。
【００４３】
図６においても、図１と同様に、半導体装置の模式的断面構造は、図３〜図５に示される第１の実施の形態に係る半導体装置の構成例１〜構成例３と同様であるため、説明は省略する。
【００４４】
端面電極ＳＣ１、ＳＣ２は、基板１０の対向する２辺に配置され、ドレイン端子電極ＤＬ１、ＤＬ２およびゲート端子電極ＧＬ１、ＧＬ２は、基板１０の中央部に配置される。複数のフィンガーを有するゲート電極２４、ソース電極２０およびドレイン電極２２は、端面電極ＳＣ１、ＳＣ２が配置される基板１０の対向する前記２辺に平行な方向に２系統並列に配置される。また、ドレイン端子電極ＤＬ１、ＤＬ２およびゲート端子電極ＧＬ１、ＧＬ２は、上下に折り返された２系統において共通に、それぞれ複数のフィンガーを有するゲート電極２４、およびドレイン電極２２を束ねて接続している。
【００４５】
なお、第２の実施の形態に係る半導体装置において、ゲート電極２４、ソース電極２０およびドレイン電極２２の長手方向のパターン長は、第１の実施の形態と同じであっても良い。また、マイクロ波／ミリ波／サブミリ波と動作周波数が高くなるにつれて、パターン長は短く設定される。例えば、ミリ波帯においては、パターン長は、約２５μｍ〜５０μｍである。
【００４６】
第２の実施の形態においては、複数のフィンガーを有するゲート電極２４、ソース電極２０およびドレイン電極２２は、端面電極ＳＣ１、ＳＣ２が配置される基板１０の対向する前記２辺に平行な方向に２系統並列に配置される例が開示されているが、２系統に限定されず、共通ソース電極を介して、複数系統、マトリックス状に配置されていてもよい。
【００４７】
第２の実施の形態に係る半導体装置によれば、ソース電極２０の接地に際し、余分な引き回しが不要であり、接地インダクタンスが有効に低減された高性能な半導体装置を提供することができる。
【００４８】
第２の実施の形態に係る半導体装置によれば、構造が簡単であり、製造が容易で、接地インダクタンスを低減化可能なマイクロ波／ミリ波／サブミリ波帯の半導体装置を提供することができる。
【００４９】
[その他の実施の形態]
上記のように、本発明は第１の実施の形態によって記載したが、この開示の一部をなす論述および図面は例示的なものであり、この発明を限定するものであると理解すべきではない。この開示から当業者には様々な代替実施の形態、実施例および運用技術が明らかとなろう。
【００５０】
なお、本発明の半導体装置としては、ＦＥＴ，ＨＥＭＴ，ＭＥＳＦＥＴに限らず、ＬＤＭＯＳ（Lateral Doped Metal-Oxide-Semiconductor Field Effect Transistor）やヘテロ接合バイポーラトランジスタ（ＨＢＴ：Hetero-junction Bipolar Transistor）などの増幅素子、メムス（ＭＥＭＳ：Micro Electro Mechanical Systems）素子などにも適用できることは言うまでもない。
【００５１】
このように、本発明はここでは記載していない様々な実施の形態などを含む。
【産業上の利用可能性】
【００５２】
本発明の半導体装置は、内部整合型電力増幅素子、電力ＭＭＩＣ（Monolithic Microwave Integrated Circuit）、マイクロ波電力増幅器、ミリ波電力増幅器、高周波ＭＥＭＳ素子などの幅広い分野に適用可能である。
【符号の説明】
【００５３】
１０…基板
１２…窒化物系化合物半導体層（ＧａＮエピタキシャル成長層）
１６…２次元電子ガス（２ＤＥＧ）層
１８…アルミニウム窒化ガリウム層（ＡｌxＧａ1-xＮ）（０．１≦ｘ≦１）
２０,Ｓ１,Ｓ２,…,Ｓ９…ソース電極
２２,Ｄ１,Ｄ２,…,Ｄ８…ドレイン電極
２４,Ｇ１,Ｇ２,…,Ｇ１６…ゲート電極
２６…ソース領域
２８…ドレイン領域
３０…バリア金属層
３２…接地用金属層
３４…素子分離領域
３６…層間絶縁膜
ＳＣ,ＳＣ１，ＳＣ２…端面電極
ＤＬ,ＤＬ１,ＤＬ２…ドレイン端子電極
ＧＬ,ＧＬ１,ＧＬ２…ゲート端子電極
ＡＡ…活性領域
ＣＧ…ゲートコンタクト
Ａ,Ｂ…交差部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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