(57)【要約】【課題】  スパッタリングの影響により発現するうねりを抑制することによって、表面平坦性の高い積層体を提供する。【解決手段】  長尺樹脂フィルム基板Ｆの少なくとも片面に酸化物誘電体膜および／または金属膜をスパッタリング法で成膜する積層体の製造方法であって、長尺樹脂フィルム基板Ｆに成膜して得られた積層体を、長尺樹脂フィルム基板Ｆのガラス転移温度−６０℃から該ガラス転移温度−２０℃の雰囲気温度で、９８０００Ｐａ〜９８１０００Ｐａの圧力で積層体の表面に対して略法線方向からプレス処理する。【選択図】    図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
長尺樹脂フィルム基板の少なくとも片面に酸化物誘電体膜および／または金属膜をスパッタリング法で成膜する積層体の製造方法において、長尺樹脂フィルム基板に成膜して得られた積層体を、前記長尺樹脂フィルム基板のガラス転移温度−６０℃から該ガラス転移温度−２０℃の雰囲気温度で、９８０００Ｐａ〜９８１０００Ｐａの圧力で前記積層体の表面に対して略法線方向からプレス処理することを特徴とする積層体の製造方法。
【請求項２】
前記積層体が吸収型多層膜ＮＤフィルタであることを特徴とする、請求項１に記載の積層体の製造方法。
【請求項３】
前記長尺樹脂フィルム基板の少なくとも片面に酸化物誘電体膜と金属膜とを交互に積層させて成る吸収型多層膜が設けられた吸収型多層膜ＮＤフィルタを幅方向に切断して得られるシート状の吸収型多層膜ＮＤフィルタの表面に対して略法線方向から前記プレス処理することを特徴とする、請求項1または２に記載の積層体の製造方法。
【請求項４】
前記長尺樹脂フィルム基板がＰＥＴフィルム基板であり、前記プレス処理を行う際の雰囲気温度が１０℃から５０℃であることを特徴とする、請求項１から３のいずれかに記載の積層体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、長尺樹脂フィルム基板の少なくとも片面に酸化物誘電体膜および／または金属膜をスパッタリング法で積層させて成る積層体の製造方法に関し、特に前記積層体として長尺樹脂フィルム基板の少なくとも片面にスパッタリング法で酸化物誘電体膜と金属膜とを交互に積層させて成る吸収型多層膜が設けられた吸収型多層膜ＮＤフィルタの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
樹脂フィルム基板の少なくとも片面に酸化物誘電体膜および／または金属膜を成膜した積層体は光学部品をはじめ広く用いられている。このような積層体の一例としてＮＤフィルタ（Ｎｅｕｔｒａｌ  Ｄｅｎｓｉｔｙ  Ｆｉｌｔｅｒ）がある。ＮＤフィルタには、入射光を反射して減衰させる反射型ＮＤフィルタと、入射光を吸収して減衰させる吸収型ＮＤフィルタが知られている。
【０００３】
反射光が問題となるレンズ光学系にＮＤフィルタを組み込む場合には、一般的に吸収型ＮＤフィルタが用いられている。この吸収型ＮＤフィルタには、基板自体に吸収物質を混ぜたり（色ガラスフィルタ）塗布したりするタイプと、基板自体に吸収はなくその表面に形成された薄膜に吸収があるタイプとが存在する。後者のタイプは、薄膜表面の反射を防ぐ為、上記薄膜を多層膜（吸収型多層膜）で構成し、透過光を減衰させる機能とともに反射防止の効果を持たせている。
【０００４】
ところで、ＮＤフィルタを製造する方法には、長尺状の樹脂フィルムからなる基板（以降、長尺樹脂フィルム基板と称する）を使用し、その片面または両面に金属膜と酸化物膜とからなる多層膜を成膜する方法がある。例えば、ＰＥＴフィルム等の長尺樹脂フィルム基板をロール・ツー・ロールで搬送しながら、その表面に金属膜や酸化物膜をスパッタリング法などの成膜法で成膜する方法が知られている。このような長尺状のＰＥＴフィルムの成膜には、一般にスパッタリングロールコータ装置が使用されている。
【０００５】
長尺ＰＥＴフィルムへの成膜技術は、磁気テープなどの磁気記録媒体の製造にも応用されている。従来のアナログ記録媒体用の磁気テープでは、電磁変換特性低減のため、磁気テープの表面が上がったり下がったりするうねりの低減が求められていた。しかし、近年のデジタル記録型の磁気テープでは、うねり成分があっても電磁変換特性を低下させないので、走行性向上の観点から意図的にベースフィルム（ＰＥＴフィルム）にうねりを付与する技術が特許文献１に開示されている。
【０００６】
特許文献２には、光学フィルムの転写性および離型性を両立することを目的として、温度設定された成形ロールと温度設定された弾性ロールとの間に光学フィルムを挟んで処理する方法が提案されている。具体的には、ガラス転移温度（Ｔｇ）以上に温度設定した成形ロールと、Ｔｇ以下に温度設定した弾性ロールとで光学フィルムを挟むことによって転写性および離型性を両立しているが、光学フィルムのうねりについては検討されていない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開平１０−２７５３２４号公報
【特許文献２】特開２００７−９０８５９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
吸収型多層膜ＮＤフィルタでは、うねりを有していることは好ましくないので、うねりの除去が必要である。しかしながら、これまで、ロール・ツー・ロールで吸収型多層膜ＮＤフィルタを作製したときに発生する長手方向（ＭＤ）、幅方向（ＴＤ）のうねりを効果的に抑制する方法は開示されていなかった。
【０００９】
本発明は、長尺樹脂フィルム基板の少なくとも片面にスパッタリング法で酸化物誘電体膜と金属膜とを交互に積層させて成る吸収型多層膜が設けられた吸収型多層膜ＮＤフィルタにおいて、スパッタリングの影響により長尺樹脂フィルム基板に生じた歪みが、作製後の吸収型多層膜ＮＤフィルタに、長尺樹脂フィルム基板のときの長手方向（ＭＤ）、幅方向（ＴＤ）に沿った方向のうねりを発現させるという問題を解決することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者は、前記課題を解決するため、吸収型多層膜ＮＤフィルタの作製後に発生するうねりの問題、すなわち、長尺樹脂フィルム基板がスパッタリングの影響を受けて歪みを生じ、これが作製後の吸収型多層膜ＮＤフィルタに長尺樹脂フィルム基板のときの長手方向（ＭＤ）、幅方向（ＴＤ）に沿った方向のうねりとなる問題に対して、吸収型多層膜ＮＤフィルタの作製後にプレス処理することの効果について鋭意調査研究を行った。
【００１１】
その結果、長尺樹脂フィルム基板の少なくとも片面にスパッタリング法で酸化物誘電体膜と金属膜とを交互に積層させて成る吸収型多層膜が設けられた吸収型多層膜ＮＤフィルタの製造において、上記長尺樹脂フィルム基板に吸収型多層膜を形成したのち、得られた吸収型多層膜ＮＤフィルタに所定の条件でプレスすることによって上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。
【００１２】
すなわち、本発明が提供する積層体の製造方法は、長尺樹脂フィルム基板の少なくとも片面に酸化物誘電体膜および／または金属膜をスパッタリング法で成膜する積層体の製造方法であって、長尺樹脂フィルム基板に成膜して得られた積層体を、前記長尺樹脂フィルム基板のガラス転移温度−６０℃から該ガラス転移温度−２０℃の雰囲気温度で、９８０００Ｐａ〜９８１０００Ｐａの圧力で前記積層体の表面に対して略法線方向からプレス処理することを特徴としている。
【００１３】
上記本発明の製造方法においては、作製される積層体が吸収型多層膜ＮＤフィルタであっても良い。また、上記本発明の製造方法においては、長尺樹脂フィルム基板の少なくとも片面に酸化物誘電体膜と金属膜とを交互に積層させて成る吸収型多層膜が設けられた吸収型多層膜ＮＤフィルタを幅方向に切断して得られるシート状の吸収型多層膜ＮＤフィルタの表面に対して略法線方向から前記プレス処理することが好ましい。
【００１４】
さらに、上記本発明の製造方法においては、前記長尺樹脂フィルム基板がＰＥＴフィルム基板である場合、前記プレス処理を行う際の雰囲気温度が１０℃から５０℃であることが好ましい。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、スパッタリングの影響により生じる長尺樹脂フィルム基板の歪みによって作製後の吸収型多層膜ＮＤフィルタに発現するうねりを抑制することができる。その結果、従来の吸収型多層膜ＮＤフィルタと比較して表面平坦性の高い吸収型多層膜ＮＤフィルタを簡単に得ることができ、工業的に有用である。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】吸収型多層膜ＮＤフィルタの一般的な構成を示す模式図である。
【図２】本発明の積層体の製造方法に好適に使用されるスパッタリングロールコータ装置の概略図を示す。
【図３】本発明で定義するうねり高さＨを示す模式図である。
【図４】本発明の積層体にプレス処理を行っている様子を示す概略図である。
【図５】本発明の実施例で使用したうねり測定装置を示す概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、本発明の実施の形態について、積層体の一例である吸収型多層膜ＮＤフィルタを例にとって詳細に説明する。本発明においては、長尺樹脂フィルム基板の少なくとも片面にスパッタリング法で酸化物誘電体膜と金属膜とを交互に積層させて成る吸収型多層膜が設けられた吸収型多層膜ＮＤフィルタの製造方法において、得られた吸収型多層膜ＮＤフィルタにプレス処理を行うことを特徴としている。
【００１８】
吸収型多層膜ＮＤフィルタにプレス処理を行うことによって、スパッタリングの影響を受けて長尺樹脂フィルム基板に生じる歪みが作製後の吸収型多層膜ＮＤフィルタに発現させるうねり、特に、長尺樹脂フィルム基板のときの長手方向（ＭＤ）、すなわち、スパッタリング時の長尺樹脂フィルム基板の搬送方向や、長尺樹脂フィルム基板のときの幅方向（ＴＤ）、すなわち、スパッタリング時の長尺樹脂フィルム基板の搬送方向に直交する方向に沿って吸収型多層膜ＮＤフィルタに発生するうねりを抑制することができる。
【００１９】
本発明の吸収型多層膜ＮＤフィルタは、長尺樹脂フィルム基板の少なくとも片面にスパッタリング法で酸化物誘電体膜と金属膜とを交互に積層して吸収型多層膜を形成したものである。この吸収型多層膜ＮＤフィルタの基板となる樹脂板若しくは長尺樹脂フィルム基板には、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンテレナフタレート（ＰＥＮ）、ポリエーテルスルフォン（ＰＥＳ）、ポリアリレート（ＰＡＲ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリオレフィン（ＰＯ）、ノルボルネン、ポリイミドおよびポリアミドの樹脂材料から選択された樹脂板若しくは樹脂フィルムの単体で構成されるか、あるいは、前記樹脂材料から選択された樹脂板若しくは樹脂フィルム単体と、この単体の少なくとも片面を覆うアクリル系有機膜との複合体で構成されている。これらの材料のうち、長尺樹脂フィルム基板には、価格の観点からＰＥＴが望ましい。
【００２０】
酸化物誘電体膜には、ＳｉＯ２、ＡｌＯ２若しくはこれらの混合物のいずれかの誘電体層が用いられる。また、金属膜には、Ｎｉを主成分とする金属層が用いられる。前記Ｎｉを主成分とする金属層は、Ｔｉ、Ａｌ、Ｖ、Ｗ、Ｔａ、Ｓｉから選択された１種類以上の元素を添加したＮｉ系合金材料で構成されていることが好ましく、前記添加元素は、Ｔｉ元素の添加割合が５〜１５重量％、Ａｌ元素の添加割合が３〜８重量％、Ｖ元素の添加割合が３〜９重量％、Ｗ元素の添加割合が１８〜３２重量％、Ｔａ元素の添加割合が５〜１２重量％、Ｓｉ元素の添加割合が２〜６重量％の範囲であることが好ましい。
【００２１】
図１には、かかる吸収型多層膜ＮＤフィルタの構成の一例が示されている。ＰＥＴからなるフィルム基板の両面に、それぞれ３層の酸化物誘電体膜（ＳｉＯ２）と２層の金属膜（Ｎｉ）とが所定の物理的膜厚で交互に積層されて吸収型多層膜を構成している。
【００２２】
図２には、長尺樹脂フィルム基板Ｆにスパッタリング法で成膜して吸収型多層膜ＮＤフィルタの製造を行う装置の一例であるスパッタリングロールコータ装置１０が概略図で示されている。このスパッタリングロールコータ装置１０は、真空成膜室１１の内部に主要な構成部品の多くを備えており、例えば長尺樹脂フィルム基板Ｆの巻出しや巻取りを行う第１ロール１２と第２ロール１３、キャンロール１４、スパッタリングカソード１５ａ、１５ｂ、ガイドロール１６ａ、１６ｂ、１６ｃ、１６ｄなどを備えている。
【００２３】
このスパッタリングロールコータ装置１０でスパッタリングを行う際は、長尺樹脂フィルム基板Ｆを第１ロール１２から巻き出し、ガイドロール１６ａ、１６ｂでガイドしてキャンローラー１４に導き、ここで長尺樹脂フィルム基板Ｆをキャンローラー１４に密着させながらスパッタリングカソード１５ａによってスパッタリングする。スパッタリングされた長尺樹脂フィルム基板Ｆはガイドロール１６ｃ、１６ｄでガイドされた後、第２ロール１３に巻き取られる。
【００２４】
スパッタリングカソード１５ａによるスパッタリングが完了して第２ロール１３に長尺樹脂フィルム基板Ｆが全て巻き取られると、次に搬送方向を逆にして第２ロール１３から長尺樹脂フィルム基板Ｆを巻き出し、スパッタリングカソード１５ｂによってスパッタリングする。スパッタリングされた長尺樹脂フィルム基板Ｆは、第１ロール１２に巻き取られる。このようにして順次成膜を繰り返すことによって積層体が形成される。
【００２５】
ところで、成膜の際、スパッタリングによって長尺樹脂フィルム基板Ｆは加熱されるので、キャンロール１４の内部には冷媒が循環しており、スパッタリング時に長尺樹脂フィルム基板Ｆを冷却するようになっている。更に、確実な冷却を行うべく長尺樹脂フィルム基板Ｆをキャンロール１４に密着させるため、長尺樹脂フィルム基板Ｆには、その長手方向、すなわち長尺樹脂フィルム基板Ｆの搬送方向に張力が加えられている。
【００２６】
このように、スパッタリングロールコータ装置１０によって成膜が行われる長尺樹脂フィルム基板Ｆには、キャンロール１４によってある程度は冷却されるものの、スパッタリングの際に熱と張力が同時に加わる。これら熱と張力が長尺樹脂フィルム基板Ｆに歪みを生じ、うねりとなって品質に影響を及ぼすと考えられる。特に、長尺樹脂フィルム基板ＦにＰＥＴフィルムを用いると、ＰＥＴフィルムのガラス転移温度は７０℃であることから、スパッタリング時の熱による影響を受けやすいと考えられる。
【００２７】
上記したスパッタリング時の熱と張力による影響を受けた長尺樹脂フィルム基板Ｆは、その後に晒される環境からも影響を受ける。特に、高温多湿の環境下に晒された場合、スパッタリングの影響により生じた歪みがうねりを発生させやすくなる。例えば、長さ３３０ｍｍ、幅２８０ｍｍのシート状の吸収型多層膜ＮＤフィルタでは、長尺樹脂フィルム基板Ｆの長手方向（ＭＤ）または幅方向（ＴＤ）に、うねり高さＨが０.５ｍｍを超えるうねりを発生させることがある。
【００２８】
ここで、うねり高さＨとは、水平な台にフィルムをその表面が上下を向くように載置したとき、そのフィルム表面上の水平距離Ｌだけ離間した２点の高低差Ｈをいうものとする。例えば、図３には、長尺樹脂フィルム基板Ｆに酸化物誘電体膜及び金属膜が積層された吸収型多層膜ＮＤフィルタＮにおいて、長尺樹脂フィルム基板Ｆの長手方向（ＭＤ）に水平距離Ｌだけ離間した２点に高低差Ｈのうねりが生じている様子が示されている。本発明においては、この距離Ｌは５０ｍｍとする。
【００２９】
本発明の製造方法で得られた吸収型多層膜ＮＤフィルタを更に加工する場合や、加工された吸収型多層膜ＮＤフィルタを構成部品として備える光学部品の特性を考慮すると、直径５０ｍｍの吸収型多層膜ＮＤフィルタが有しているうねり高さＨは０.５ｍｍ以下であることが望ましい。これに対して、本発明の吸収型多層膜ＮＤフィルタの製造方法によれば、下記に詳細に説明するように、直径５０ｍｍの吸収型多層膜ＮＤフィルタのうねり高さＨを０.５ｍｍ以下にすることが可能となる。
【００３０】
なお、吸収型多層膜ＮＤフィルタを構成部品として備える光学部品では、吸収型多層膜ＮＤフィルタを直径５ｍｍ程度に切り出して取り付けることがある。このような直径５ｍｍ程度の吸収型多層膜ＮＤフィルタのうねり高さＨを測定する場合は、当該直径５ｍｍ程度の吸収型多層膜ＮＤフィルタの曲率を測定し、これを換算してうねり高さＨを得ることができる。
【００３１】
本発明の吸収型多層膜ＮＤフィルタの製造方法は、吸収型多層膜ＮＤフィルタにプレス処理を施すことを特徴としている。具体的には、長尺樹脂フィルム基板の少なくとも片面に酸化物誘電体膜と金属膜とを交互に積層させて成る吸収型多層膜ＮＤフィルタを空気中でプレス処理するか、またはこの吸収型多層膜ＮＤフィルタを酸素含有雰囲気下でプレス処理する。
【００３２】
酸素含有雰囲気下で処理する時の雰囲気温度は、吸収型多層膜ＮＤフィルタを構成する長尺樹脂フィルム基板のガラス転移温度−６０℃から該ガラス転移温度−２０℃とする。例えば、長尺樹脂フィルム基板にＰＥＴフィルムを使用する場合は、そのガラス転移温度は７０℃であるので、雰囲気温度は１０℃以上５０℃以下に調整する。この雰囲気温度は３０℃以下がより好ましい。
【００３３】
ＰＥＴフィルムを使用する場合の雰囲気温度が５０℃よりも高いとプレス処理の際に樹脂フィルム基板が変形し、フィルムに歪みが生じ、うねりを抑制できなくなるので好ましくない。一方、この温度が１０℃より低いとスパッタリングの影響により生じる長尺樹脂フィルム基板の歪みが作製後の吸収型多層膜ＮＤフィルタに発現させる長尺樹脂フィルム基板のときの長手方向（ＭＤ）、幅方向（ＴＤ）に沿った方向のうねりを良好に抑制することができなくなる。
【００３４】
プレスする圧力は９８０００Ｐａから９８１０００Ｐａで行う。この圧力は、３９００００Ｐａ〜５９００００Ｐａがより好ましい。プレスする圧力が９８１０００Ｐａよりも高いと前記吸収型多層膜ＮＤフィルタに積層されている前記吸収型多層膜に微細なクラックが発生するため、好ましくない。一方、９８０００Ｐａよりも低いとプレスする圧力が弱すぎて、うねりを抑制する効果が低くなる。
【００３５】
吸収型多層膜ＮＤフィルタをプレス処理するには、長尺樹脂フィルム基板の少なくとも片面に酸化物誘電体膜と金属膜とを交互に積層させて成る吸収型多層膜が設けられた吸収型多層膜ＮＤフィルタを幅方向に切断し、得られたシート状の吸収型多層膜ＮＤフィルタを、プレス処理の圧力では変形することのない平坦なステンレス板等の金属板やガラス板に挟み、吸収型多層膜ＮＤフィルタの表面に対して略法線方向から所定の圧力が加わるように、前記金属板や前記ガラス板に圧力を加えればよい。
【００３６】
圧力を加える方法としては、前記金属板や前記ガラス板を、それに挟まれている吸収型多層膜ＮＤフィルタの表面が略水平となるように保ち、吸収型多層膜ＮＤフィルタの上面側に位置する金属板又はガラス板の上に所望の圧力を実現できる分銅を載せても良いし、前記金属板や前記ガラス板に水圧や油圧プレスにより圧力を加えても良い。図４には、２枚の金属板２０、２１に挟んだ吸収型多層膜ＮＤフィルタＮを分銅２２で加圧してプレス処理している様子が示されている。
【００３７】
吸収型多層膜ＮＤフィルタを前記金属板又はガラス板に挟む際は、吸収型多層膜ＮＤフィルタの表面に傷などがつかないようにするため、合い紙で表面と裏面を保護しても良い。また、複数枚の吸収型多層膜ＮＤフィルタを前記金属板又はガラス板に挟んで同時にプレス処理する場合には、隣接する吸収型多層膜ＮＤフィルタ同士の間に合い紙を挟んで保護しても良い。合い紙には、無塵紙や長尺樹脂フィルム等を用いることができる。
【００３８】
このように、長尺樹脂フィルム基板の少なくとも片面に酸化物誘電体膜と金属膜を交互に積層させて成る吸収型多層膜が設けられた吸収型多層膜ＮＤフィルタに空気中あるいは酸素含有雰囲気下でプレス処理を行うことによって、スパッタリングの影響により生じる長尺樹脂フィルム基板の歪みが作製後の吸収型多層膜ＮＤフィルタに発現させる長尺樹脂フィルム基板のときの長手方向（ＭＤ）、幅方向（ＴＤ）に沿った方向のうねりを抑制することができ、従来の吸収型多層膜ＮＤフィルタと比較してうねりが抑制された表面平坦性の高い吸収型多層膜ＮＤフィルタを提供する事ができる。
【００３９】
上記説明においては、長尺樹脂フィルム基板の少なくとも片面に酸化物誘電体膜と金属膜を交互に積層させて成る吸収型多層膜が設けられた吸収型多層膜ＮＤフィルタを中心に説明してきたが、これに限定するものではなく、長尺樹脂フィルム基板の少なくとも片面に金属膜を成膜した遮光フィルタ等の他のフィルタにも、本発明が適用可能であることはいうまでもない。
【００４０】
本発明の製造方法で製造された吸収型多層膜ＮＤフィルタは、基板自体に吸収物質を混ぜた吸収型ＮＤフィルタや、厚いガラス基板を用いた吸収型多層膜ＮＤフィルタに好適に用いることができる。特に、小型薄型デジタルカメラや携帯電話等のＮＤフィルタを組み込むためのスペースの小さい装置用のＮＤフィルタとして好適に利用することができる。
【実施例】
【００４１】
以下、実施例を用いて本発明をさらに説明する。
［実施例１］
吸収型多層膜ＮＤフィルタの基板には、耐熱性が高く、可視域の波長域で透明性が高く、また吸水率が低いポリエチレンテレフタレート（以下ＰＥＴフィルムと記す）（東洋紡製）を選択した。図１に実施例１で作製した吸収型多層膜ＮＤフィルタの構造を示す。
【００４２】
このＰＥＴフィルム（厚さ１００μｍ、幅２８０μｍ）の両面に酸化物誘電体膜としてＳｉＯ２膜を３層、金属吸収膜としてＮｉ層を２層、それぞれ交互に積層させて吸収型多層膜を形成した。成膜には図２に示すスパッタリングロールコータ装置１０（ヒラノ光音社製）を用いた。
【００４３】
スパッタリングカソード１５ａには、酸化物誘電体膜であるＳｉＯ２を成膜するためのスパッタリングターゲットとして、ＳｉＣにＳｉが添加されたスパッタリングターゲット（旭硝子セラミックス社製）を装着した。このスパッタリングターゲットを用いて、Ａｒガスを導入してデュアルマグネトロンスパッタリング法により、酸素ガスを導入しながらＳｉＯ２膜を成膜した（Ａｒガス圧１５０ＳＣＣＭ）。酸素ガス導入量はインピーダンスモニターにより制御した（Ｏ２ガス圧５Ｐａ）。
【００４４】
また、スパッタリングカソード１５ｂには、金属吸収膜であるＮｉを成膜するためのスパッタリングターゲットとして、Ｎｉ−Ｔｉ８％添加されたターゲット（住友金属鉱山社製）を装着した。このスパッタリングターゲットを用い、Ａｒガス圧１５０ＳＣＣＭとなるようにＡｒガスを導入してＤＣマグネトロンスパッタリング法により金属吸収膜を成膜した。このようにして、図１に示す膜厚の多層膜を形成した。
【００４５】
＜プレス処理＞
図２のスパッタリングロールコータ装置１０によって成膜された前記吸収型多層膜ＮＤフィルタを取出し、ロールから巻き出しながら２枚の無塵紙（大庫洋紙（株）社製）に挟み込み、シート状（長さ３３０ｍｍ、幅２８０ｍｍ）に切断した。前記無塵紙には厚さ０.０８ｍｍ、長さ３３０ｍｍ、幅２８０ｍｍを用いた。
【００４６】
２枚の無塵紙に挟みこまれた吸収型多層膜ＮＤフィルタ１００組を積み重ね、更にこれら１００組の吸収型多層膜ＮＤフィルタを、雰囲気温度を３０℃にセットした環境試験機（エスペック社製）内で２枚のステンレス板を用いて上下から挟み込んだ。吸収型多層膜ＮＤフィルタの表面に略法線方向から圧力３９００００Ｐａがかかるようにステンレス板に荷重をかけた。この状態を２４時間保ってプレス処理した。
【００４７】
＜うねりの測定方法＞
プレス処理によって吸収型多層膜ＮＤフィルタに発生するうねりが抑えられているか否かを評価するため、長さ３３０ｍｍ、幅２８０ｍｍに切断した吸収型多層膜ＮＤフィルタにおいて、ＰＥＴフィルム基板のときの長手方向（ＭＤ）、幅方向（ＴＤ）に発生する基板上のうねり高さＨを測定した。この測定には、図５に示すうねり測定装置３０を用いた。うねり測定装置３０は、水平な測定台３１の上に検出対象となる長さ３３０ｍｍ、幅２８０ｍｍに切断した吸収型多層膜ＮＤフィルタＮをその表面が上下を向くように載置し、このフィルムＮの両端部に対向して設けられている発信部３２から受信部３３に向けて光線３４を照射することによってうねり高さを検出するものである。
【００４８】
このうねり測定装置３０で検出した結果、この実施例１に係る吸収型多層膜ＮＤフィルタをプレス処理したときのＰＥＴフィルム基板での長手方向（ＭＤ）、幅方向（ＴＤ）のうねり高さＨは、うねり測定装置３０の検出限界である直径５０ｍｍ当たり０.２ｍｍよりも低くて検出できなかった。すなわち、プレス処理することによって検出できないほど表面平坦性が高くなっていることが分かった。
【００４９】
［比較例１］
雰囲気温度６０℃でプレス処理すること以外は実施例１と同様にして吸収型多層膜ＮＤフィルタのプレス処理を行った。得られた比較例１に係る吸収型多層膜ＮＤフィルタのうねりの大きさを図５に示すうねり測定装置３０を用いて測定したところ、長手方向（ＭＤ）、幅方向（ＴＤ）のうねり高さＨは直径５０ｍｍ当たり１.０ｍｍであった。
【００５０】
［比較例２］
圧力１.１ＭＰａでプレス処理すること以外は実施例１と同様にして吸収型多層膜ＮＤフィルタのプレス処理を行った。得られた比較例２に係る吸収型多層膜ＮＤフィルタのうねりの大きさを図５に示すうねり測定装置３０を用いて測定したところ、長手方向（ＭＤ）、幅方向（ＴＤ）のうねり高さＨは直径５０ｍｍ当たり０.２ｍｍよりも低くて検出できず、実施例１と同様に高い表面平坦性を有していた。しかしながら、前記吸収型多層膜ＮＤフィルタに積層されている前記吸収型多層膜に微細なクラックが発生した。
【００５１】
以上の実施例１および比較例１〜２の結果から、実施例１では、雰囲気温度３０℃、圧力３９００００Ｐａで２４時間プレス処理を行うことにより、スパッタリングの影響を受けて生じる歪みが作製後の吸収型多層膜ＮＤフィルタに発現させる長手方向（ＭＤ）、幅方向（ＴＤ）のうねりを効果的に抑制できることが分かった。
【００５２】
一方、比較例１では、雰囲気温度６０℃でプレス処理を行うことにより、スパッタリングの影響を受けて生じる歪みが作製後の吸収型多層膜ＮＤフィルタに発現させる長手方向（ＭＤ）、幅方向（ＴＤ）のうねりを抑制することができなかった。
【００５３】
また、比較例２では、圧力１.１ＭＰａでプレス処理を行うことにより、スパッタリングの影響を受けて生じる歪みが作製後の吸収型多層膜ＮＤフィルタに発現させる長手方向（ＭＤ）、幅方向（ＴＤ）のうねりは抑制することができたが、前記吸収型多層膜ＮＤフィルタに積層されている前記吸収型多層膜に微細なクラックが発生したため、工業的に有効では無くなった。
【符号の説明】
【００５４】
１０  スパッタリングロールコータ装置
３０  うねり測定装置
Ｆ    長尺樹脂フィルム基板
【図１】
2010240898.tif 000003
【図２】
2010240898.tif 000004
【図３】
2010240898.tif 000005
【図４】
2010240898.tif 000006
【図５】
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