(57)【要約】【課題】生産性及び原材料の点で大幅にコストダウンが図られ、かつ安定的な電極を有するディスプレイ用フィルター及びその製造方法を提供する。【解決手段】ディスプレイ用画像表示パネルに装着するためのディスプレイ用フィルターであって、該ディスプレイ用フィルターは、少なくとも、基材、導電層、及び機能性表面層をこの順に有し、画像表示パネルの非画像表示領域に対応する部分の少なくとも一部に、前記機能性表面層から導電層に達し、かつ幅が２ｍｍ未満である空隙を有し、該空隙に下記イ）、ロ）、ハ）の中のいずれかの導電性部材が、該導電性部材の導電性粘着剤層を介して貼着されていることを特徴とする、ディスプレイ用フィルター。  イ）導電性繊維からなる布帛に導電性粘着剤層が積層された導電性部材。  ロ）複数の貫通孔を有するプラスチックフィルムの両面に金属鍍金が施された導電性プラスチックフィルムに導電性粘着剤層が積層された導電性部材。  ハ）離型フィルムに導電性粘着剤層が積層された導電性部材。【選択図】図５
2010204332.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ディスプレイ用画像表示パネルに装着するためのディスプレイ用フィルターであって、
該ディスプレイ用フィルターは、少なくとも、基材、導電層、及び機能性表面層をこの順に有し、
画像表示パネルの非画像表示領域に対応する部分の少なくとも一部に、前記機能性表面層から導電層に達し、かつ幅が２ｍｍ未満である空隙を有し、
該空隙に下記イ）、ロ）、ハ）の中のいずれかの導電性部材が、該導電性部材の導電性粘着剤層を介して貼着されていることを特徴とする、ディスプレイ用フィルター。
イ）導電性繊維からなる布帛に導電性粘着剤層が積層された導電性部材。
ロ）複数の貫通孔を有するプラスチックフィルムの両面に金属鍍金が施された導電性プラスチックフィルムに導電性粘着剤層が積層された導電性部材。
ハ）離型フィルムに導電性粘着剤層が積層された導電性部材。
【請求項２】
前記空隙が、ディスプレイ用フィルターの４辺の内の少なくとも対向する２辺に対して、それぞれ平行かつ直線状に設けられたものである、請求項１に記載のディスプレイ用フィルター。
【請求項３】
前記導電性部材は、空隙の全域を被覆するように貼着されたものである、請求項１または２に記載のディスプレイ用フィルター。
【請求項４】
前記機能性表面層は、反射防止機能、防眩機能、ハードコート機能、及び防汚機能の中から選ばれる少なくとも１つの機能を有する機能層であり、かつ導電層上に直接に積層されたものである、請求項１〜３のいずれかに記載のディスプレイ用フィルター。
【請求項５】
ディスプレイ用画像表示パネルに装着するためのディスプレイ用フィルターの製造方法であって、
少なくとも、基材、導電層、及び機能性表面層をこの順に有する積層体を得る工程（Ａ）、
積層体の、画像表示パネルの非画像表示領域に対応する部分の少なくとも一部に、機能性表面層側からレーザーを照射して、機能性表面層から導電層に達し、かつ幅が２ｍｍ未満である空隙を形成する工程（Ｂ）、
前記空隙に、下記イ）、ロ）、ハ）の中のいずれかの導電性部材を、該導電性部材の導電性粘着剤層を介して貼着する工程（Ｃ）を少なくとも有することを特徴とする、ディスプレイ用フィルターの製造方法。
イ）導電性繊維からなる布帛に導電性粘着剤層が積層された導電性部材。
ロ）複数の貫通孔を有するプラスチックフィルムの両面に金属鍍金が施された導電性プラスチックフィルムに導電性粘着剤層が積層された導電性部材。
ハ）離型フィルムに導電性粘着剤層が積層された導電性部材。
【請求項６】
前記積層体を得る工程（Ａ）が、機能性表面層の上に更にカバーフィルムを積層する工程を含み、
前記空隙を形成する工程（Ｂ）が、カバーフィルムの表面からレーザーを照射してカバーフィルム表面から導電層に達し、かつ幅が２ｍｍ未満である空隙を形成する工程であり、
前記貼着する工程（Ｃ）が、少なくとも導電性部材の貼着領域に対応する部分のカバーフィルムを剥離した後、空隙に導電性部材を貼着する工程である、請求項５に記載のディスプレイ用フィルターの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ディスプレイ用画像表示パネルに装着するためのディスプレイ用フィルター及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬディスプレイ、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイなどのディスプレイは、明瞭なフルカラー表示が可能な表示装置である。ディスプレイには、通常、外光の反射の防止、ディスプレイから発生する電磁波の遮蔽、ディスプレイの保護などを目的とした前面フィルター（ディスプレイ用フィルター）がディスプレイの視認側に配置されている。
【０００３】
特にプラズマディスプレイはその構造や動作原理上、強度な電磁波が発生するために、電磁波を遮蔽する機能と、外光の反射やギラツキを防止するための、反射防止機能や防眩機能が付与されたディスプレイ用フィルターが通常用いられている。上記の反射防止機能や防眩機能は、通常、視認側（観賞側）の最表面になるように配置されている。以降、反射防止機能や防眩機能を有する層を機能性表面層と言う。
【０００４】
ディスプレイ用フィルターが貼り付けられた画像表示パネルは、通常、以下のようにしてプラズマディスプレイ装置に組み込まれる。即ち、駆動回路ブロックを配置した金属製のシャーシ部材の前面に、上記画像表示パネルが保持されてパネルモジュールが形成され、更にパネルモジュールを収納するように、前面カバー及びバックカバーからなる筐体が組み立てられてプラズマディスプレイ装置が完成する。
【０００５】
通常、ディスプレイ用フィルターは、画像表示パネルの画像表示領域とその周辺部の非画像表示領域を覆うように貼り付けられるが、電磁波遮蔽層（導電層）を有するディスプレイ用フィルターを画像表示パネルに装着する場合、非画像表示領域において、ディスプレイ用フィルターの導電層と筐体の外部電極とを電気的に接続し、ディスプレイ用フィルターの導電層にアースを取ることが行われる。
【０００６】
上記のディスプレイ用フィルターの導電層と筐体の外部電極とを電気的に接続するために、ディスプレイ用フィルターの外周端縁部（非画像表示領域に対応する部分）に導電層に接続された電極を形成することが行われている。かかる電極の形成方法として、導電層上に積層される機能性フィルム（プラスチックフィルム上に機能性表面層を積層したフィルム）のサイズを導電層のサイズより小さくして、外周端縁部に機能性フィルムが被覆されない部分を設けて、外周端縁部の導電層を部分的に露出させることが、従来から行われている。
【０００７】
そして、ディスプレイ用フィルター側に設けられた電極は、ガスケット等を介して筐体の外部電極と接続される。
【０００８】
上記した、従来から一般的に行われている電極の形成方法について、具体的に説明する。従来から一般的に知られているディスプレイ用フィルターは、機能性表面層を有する機能性フィルムと、プラスチックフィルム上に導電層が設けられた電磁波遮蔽フィルムとを粘着剤等を介して積層して形成されている。上記の機能性フィルムと電磁波遮蔽フィルムとの積層に際し、電磁波遮蔽フィルムの外周端縁部において導電層が剥き出し状態になるように、電磁波遮蔽フィルムより小さいサイズの機能性フィルムを貼り合わせることによって、ディスプレイ用フィルターの外周端縁部に導電層が剥き出し状態の電極（剥き出し電極）が形成される。
【０００９】
上記した剥き出し電極を、ディスプレイ用フィルターの外周端縁部の４辺に設けるためには、電磁波遮蔽フィルムと機能性フィルムとをシート同士で積層する必要がある。しかしながら、この積層方式は生産性に劣るという欠点がある。
【００１０】
これに対して、ロール状の電磁波遮蔽フィルムとロール状の光学機能性フィルムとを連続的に積層する方式（ロール積層方式）、あるいは、ロール状の電磁波遮蔽フィルムの導電層上に直接に機能性表面層を連続的にコーティングする方式は、生産性を大きく向上させることができる。特に、後者の電層上に直接に機能性表面層を連続的にコーティングする方式は、プラスチックフィルムからなる基材数の低減が可能であり、ディスプレイ用フィルターの低価格化に有利である。
【００１１】
しかしながら、上記したコーティング方式は、生産ラインの搬送方向に平行な両端部には導電層の剥き出し電極を形成することは可能であるが、生産ラインの搬送方向に対して直交する方向には、剥き出し電極を形成することはできない。
【００１２】
そこで、剥き出し電極の形成に代えて、機能性表面層にレーザーを照射し、機能性表面層を除去して、導電層を露出する方法が知られている（例えば、特許文献１、２）。
【００１３】
上記特許文献１、２には、レーザーを照射することによって機能性表面層に細長い溝状の空隙を形成し、該空隙に導電性粘着テープを貼り付けることが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１４】
【特許文献１】特開２００７−２４３１５８号公報
【特許文献２】ＷＯ２００８／０２９７０９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１５】
上記特許文献１、２に記載されているように、レーザーによって空隙を形成する場合、空隙の幅が大きい方が導電層と導通を取るという点では有利であるが、空隙の幅を大きくするには、レーザー走査を数回繰り返す必要があり、生産性の観点から不利となる。
【００１６】
特に、空隙の幅を２ｍｍ未満とした場合、特許文献１、２に記載されている導電性粘着テープ、即ち金属箔に導電性粘着剤層を積層した導電性粘着テープでは、単に貼り付けただけでは安定して電極を形成することができなかった。特に、時間経過とともに導電層と導電性粘着テープとの導通性が低下した。
【００１７】
そこで、本発明は、上記した従来技術に鑑み、生産性及び原材料の点で大幅にコストダウンが図られ、かつ安定的な電極を有するディスプレイ用フィルター及びその製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１８】
本発明の上記目的は、以下の発明によって基本的に達成された。
１）  ディスプレイ用画像表示パネルに装着するためのディスプレイ用フィルターであって、
該ディスプレイ用フィルターは、少なくとも、基材、導電層、及び機能性表面層をこの順に有し、
画像表示パネルの非画像表示領域に対応する部分の少なくとも一部に、前記機能性表面層から導電層に達し、かつ幅が２ｍｍ未満である空隙を有し、
該空隙に下記イ）、ロ）、ハ）の中のいずれかの導電性部材が、該導電性部材の導電性粘着剤層を介して貼着されていることを特徴とする、ディスプレイ用フィルター。
【００１９】
イ）導電性繊維からなる布帛に導電性粘着剤層が積層された導電性部材。
【００２０】
ロ）複数の貫通孔を有するプラスチックフィルムの両面に金属鍍金が施された導電性プラスチックフィルムに導電性粘着剤層が積層された導電性部材。
【００２１】
ハ）離型フィルムに導電性粘着剤層が積層された導電性部材。
２）  前記空隙が、ディスプレイ用フィルターの４辺の内の少なくとも対向する２辺に対して、それぞれ平行かつ直線状に設けられたものである、前記１）に記載のディスプレイ用フィルター。
３）  前記導電性部材は、空隙の全域を被覆するように貼着されたものである、前記１）または２）に記載のディスプレイ用フィルター。
４）  前記機能性表面層は、反射防止機能、防眩機能、ハードコート機能、及び防汚機能の中から選ばれる少なくとも１つの機能を有する機能層であり、かつ導電層上に直接に積層されたものである、前記１）〜３）のいずれかに記載のディスプレイ用フィルター。
５）  ディスプレイ用画像表示パネルに装着するためのディスプレイ用フィルターの製造方法であって、
少なくとも、基材、導電層、及び機能性表面層をこの順に有する積層体を得る工程（Ａ）、
積層体の、画像表示パネルの非画像表示領域に対応する部分の少なくとも一部に、機能性表面層側からレーザーを照射して、機能性表面層から導電層に達し、かつ幅が２ｍｍ未満である空隙を形成する工程（Ｂ）、
前記空隙に、下記イ）、ロ）、ハ）の中のいずれかの導電性部材を、該導電性部材の導電性粘着剤層を介して貼着する工程（Ｃ）を少なくとも有することを特徴とする、ディスプレイ用フィルターの製造方法。
【００２２】
イ）導電性繊維からなる布帛に導電性粘着剤層が積層された導電性部材。
【００２３】
ロ）複数の貫通孔を有するプラスチックフィルムの両面に金属鍍金が施された導電性プラスチックフィルムに導電性粘着剤層が積層された導電性部材。
【００２４】
ハ）離型フィルムに導電性粘着剤層が積層された導電性部材。
６）  前記積層体を得る工程（Ａ）が、機能性表面層の上に更にカバーフィルムを積層する工程を含み、
前記空隙を形成する工程（Ｂ）が、カバーフィルムの表面からレーザーを照射してカバーフィルム表面から導電層に達し、かつ幅が２ｍｍ未満である空隙を形成する工程であり、
前記貼着する工程（Ｃ）が、少なくとも導電性部材の貼着領域に対応する部分のカバーフィルムを剥離した後、空隙に導電性部材を貼着する工程である、前記５）に記載のディスプレイ用フィルターの製造方法。
【発明の効果】
【００２５】
本発明によれば、導電層上に機能性表面層を直接に積層されたディスプレイ用フィルターに、容易にかつ安定的に電極を形成することができ、これによって大幅なコストダウンが図られる。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】本発明のディスプレイ用フィルターの一例の平面図。
【図２】図２ａ：図１のＡ−Ａの模式断面図、図２ｂ：空隙部分の拡大模式断面図（図２ａで示された一方の空隙部分周辺の拡大図）。
【図３】本発明のディスプレイ用フィルターの他の例の平面図。
【図４】本発明のディスプレイ用フィルターを得るための積層体の製造工程の一例の模式平面図。
【図５】本発明の空隙に導電性部材が貼着された状態の模式断面図。
【図６】本発明のディスプレイ用フィルターが適用されるプラズマディスプレイの一例（主要構成部分の模式断面図）。
【図７】本発明のディスプレイ用フィルターが適用されるプラズマディスプレイの他の例（主要構成部分の模式断面図）。
【発明を実施するための形態】
【００２７】
本発明のディスプレイ用フィルターは、ディスプレイ用画像表示パネルに装着するためのディスプレイ用フィルターであって、少なくとも基材、導電層、及び機能性表面層をこの順に有する。そして、画像表示パネルの非画像表示領域に対応する部分の少なくとも一部に、機能性表面層から導電層に達し、かつ幅が２ｍｍ未満である空隙を有し、該空隙に下記のイ）、ロ）、ハ）の中のいずれかの導電性部材が、該導電性部材の導電性粘着剤層を介して貼着されている。
【００２８】
空隙は機能性表面層から導電層に達しており、空隙内では導電層が露出している。この空隙に本発明の特定の導電性部材を貼着することによって、導電層と導電性部材の導電性粘着剤層が接触して、ディスプレイ用フィルターの機能性表面層の表面に、導電層に導通した電極を形成することができる。
【００２９】
本発明は、幅が２ｍｍ未満という狭幅の空隙であっても、本発明の特定の導電性部材を用いることによって、容易にかつ安定的に電極を形成することができる。一方、ディスプレイ用フィルターの電極の形成に、従来から知られている導電性テープ、即ち、銅やアルミニウム等の金属箔に導電性粘着剤層を積層した導電性テープを使用した場合、金属箔の高い剛性によって、単に導電性テープを空隙に貼着するだけでは、安定して電極を形成することができない。
【００３０】
そこで、本発明は、導電性部材の基材の剛性に着目し、柔軟性の高い基材を用いることによって、幅が２ｍｍ未満という狭幅の空隙に対して、導電性部材の導電性粘着剤層を埋設できることを見いだした。
（導電性部材）
以下に、本発明にかかる、イ）、ロ）、及びハ）の導電性部材を詳細に説明する。
【００３１】
イ）の導電性部材は、導電性繊維からなる布帛に導電性粘着剤が積層された導電性部材である。かかる導電性繊維からなる布帛に用いられる導電性繊維は、特に限定されず、公知とものが使用できる。
【００３２】
かかる導電性繊維としては、例えば、綿やレーヨンなどの天然繊維、ポリアミド、ポリエステル、アクリル、テトロンなど合成繊維で成形された糸に、銅、ニッケル、アルミニウム、金、銀等の導電性金属をメッキ法や蒸着法等により、単層あるいは２層以上に被覆することによって得ることができる。また、他の製造例として、上記の天然繊維や合成繊維に上記の導電性金属の粒子や繊維を混合して導電性繊維を得ることができる。
【００３３】
導電性繊維からなる布帛の厚みは、布帛の加工性や取り扱い性、及び強度の観点から５μｍ以上が好ましく、１０μｍ以上がより好ましく、特に１５μｍ以上が好ましい。また、布帛の厚みが大きくなりすぎると、布帛の柔軟性が低下して、ディスプレイ用フィルターに形成された幅が２ｍｍ未満の空隙に対して導電層と導通が取れなくなる場合があるので、布帛の厚みの上限は８０μｍ未満が好ましく、７０ｎｍ未満がより好ましく、特に６０μｍ未満が好ましい。
【００３４】
導電性繊維からなる布帛の片面には、導電性粘着剤層が積層されるが、該導電性粘着剤層に用いられる導電性粘着剤は、特に限定されず公知のものを使用することができる。例えば、粘着剤に導電性粒子が分散されたものが挙げられる。かかる導電性粒子としては、ニッケル、銀、銅、錫、アルミニウム、カーボン等の粒子が挙げられる。粘着剤としては、アクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、エポキシ系粘着剤、フェノール系樹脂に硬化剤を配合した粘着剤、あるいは、架橋型導電粘着剤が挙げられる。架橋型粘着剤としては、エチレン−酢酸ビニル系共重合体を主成分とするポリマーとその架橋剤とを含む後架橋型接着剤が挙げられる。
導電性粘着剤層における導電性粒子の含有量は、粘着剤１００質量部に対して３０〜３００質量部程度が適当であり、５０〜２００質量部が好ましい。
導電性粘着剤層の厚みは、ディスプレイ用フィルターに形成された幅が２ｍｍ未満の空隙を十分に埋めるという観点から、５μｍ以上が好ましく、１０μｍ以上がより好ましく、特に１５μｍ以上が好ましい。導電性粘着剤層の厚みの上限は、ディスプレイ用フィルター表面において導電性部材による段差を軽減するという観点から８０μｍ未満が好ましく、６０μｍ未満がより好ましく、特に５０μｍ未満が好ましい。
ロ）の導電性部材は、貫通孔を有するプラスチックフィルムの両面に金属鍍金が施された導電性プラスチックフィルムに導電性粘着剤層が積層された導電性部材である。
【００３５】
かかるプラスチックフィルムとしては、特に限定されず公知のものが使用できる。例えば、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリブチレンフィルム等のポリオレフィンフィルム、ポリアセチルセルロースフィルム、ポリアクリルフィルム、ポリカーボネートフィルム、エポキシ系フィルム、ポリウレタンフィルム、ナイロンフィルム等が挙げられる。
【００３６】
プラスチックフィルムの厚みは、強度の観点から５μｍ以上が好ましく、１０μｍ以上がより好ましく、特に１５μｍ以上が好ましい。また、プラスチックフィルムの厚みが大きくなりすぎると、柔軟性が低下して、ディスプレイ用フィルターに形成された幅が２ｍｍ未満の空隙に対して導電層と導通が取れなくなる場合があるので、プラスチックフィルムの厚みの上限は８０μｍ未満が好ましく、６０ｎｍ未満がより好ましく、特に５０μｍ未満が好ましい。
【００３７】
プラスチックフィルムに設けられる貫通孔の形状は、特に限定されないが、例えば、円、楕円、三角形、四角形、５〜１２の多角形等が挙げられる。貫通孔の大きさは、最大径として０．５〜５ｍｍの範囲が適当であり、０．５〜３ｍｍの範囲が好ましく、０．５〜２ｍｍの範囲がより好ましい。貫通孔の数は、プラスチックフィルム１ｃｍ２当たり、１〜２０個程度が適当であり、４〜２０個の範囲が好ましい。
【００３８】
上記のようにして複数の貫通孔が設けられたプラスチックフィルムの両面に、金属鍍金が施される。かかる金属鍍金としては、真空蒸着法、化学鍍金法、スパッタリング法、イオン鍍金法、化学蒸着法、物理蒸着法が挙げられる。金属鍍金の厚みは、片面当たり０．５〜５μｍの範囲が適当である。
【００３９】
また鍍金される金属としては、アルミニウム、銀、銅、ニッケル、クロムなどを用いることができる。
【００４０】
上記のようにして形成された導電性プラスチックフィルムは、複数の貫通孔を介してプラスチックフィルム両面間の導電性が得られる。
【００４１】
導電性プラスチックフィルムの片面に積層される導電性粘着剤層は、上記のイ）の導電性部材と同様のものを用いることができる。
【００４２】
ハ）の導電性部材は、離型フィルムに導電性粘着剤層が積層された導電性部材である。かかる導電性部材に用いられる離型フィルムは、最終的には剥離除去されるものであるので、導電性粘着剤層から容易に剥離できることが重要である。離型フィルムの剥離時期は、本発明のディスプレイ用フィルターを画像表示パネルに装着する前あるいは装着後であって、かつディスプレイの筐体が組み立てられる以前である。離型フィルムの好ましい剥離時期は、ディスプレイ用フィルターを画像表示パネルに装着後で筐体を組み立てる前である。
【００４３】
かかる離型フィルムは、特に限定されず公知のものが使用できる。例えば、プラスチックフィルムに、公知の離型剤、例えば、シリコーン樹脂、長鎖アルキル樹脂、フッ素樹脂、ワックス等の離型剤が塗布されたものが挙げられる。離型フィルムに用いられるプラスチックフィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリブチレンフィルム等のポリオレフィンフィルム、ポリアセチルセルロースフィルム、ポリアクリルフィルム、ポリカーボネートフィルム、エポキシ系フィルム、ポリウレタンフィルム、ナイロンフィルム等が挙げられる。
【００４４】
離型フィルムの厚みは、強度の観点から５μｍ以上が好ましく、１０μｍ以上がより好ましく、特に１５μｍ以上が好ましい。また、離型フィルムの厚みが大きくなりすぎると、柔軟性が低下して、ディスプレイ用フィルターに形成された幅が２ｍｍ未満の空隙に対して導電層と導通が取れなくなる場合があるので、離型フィルムの厚みの上限は８０μｍ未満が好ましく、６０ｎｍ未満がより好ましく、特に５０μｍ未満が好ましい。
【００４５】
離型フィルムの片面に積層される導電性粘着剤層は、上記のイ）の導電性部材と同様のものを用いることができる。
（空隙）
本発明のディスプレイ用フィルターは、画像表示パネルの非画像表示領域に対応する部分の少なくとも一部に、機能性表面層から導電層に達する空隙を有する。該空隙の幅は２ｍｍ未満である。空隙内には導電層が露出している。
【００４６】
空隙は、矩形状ディスプレイ用フィルターの辺に対して略平行に直線状に設けることが好ましい。空隙は、直線状に連続した空隙であってもよいし、破線状の不連続な空隙であってもよい。
【００４７】
空隙が形成されたディスプレイ用フィルターの一例の平面図を図１に示す。矩形状のディスプレイ用フィルター１００の４辺に対して略平行に直線状の連続した空隙４が形成されている。空隙４は、画像表示パネルの非画像表示領域に対応する領域に形成される。符号５は、画像表示領域と非画像表示領域の境界線である。境界線５の内側が画像表示パネルの画像表示領域に対応し、外側が非画像表示領域に対応する。
【００４８】
図２ａは、図１のＡ−Ａ模式断面図である。本発明のディスプレイ用フィルターは、基材１上に導電層２が形成され、導電層２上に機能性表面層３が積層されている。空隙４は、機能性表面層３から導電層２に到達し、空隙４内では導電層３が露出している。
【００４９】
空隙は、細長い溝状の空隙であることが好ましい。空隙の幅は、２ｍｍ未満であるが、更に１．５ｍｍ以下が好ましい。空隙の幅の下限としては、０．３ｍｍ以上が好ましく、０．４ｍｍ以上がより好ましい。空隙の幅が２ｍｍ以上と大きくなると、導電層の露出面が大きくなり導電層が酸化劣化しやすくなるという問題、及び後述するように幅が２ｍｍ以上の空隙を形成するためには、レーザーの操作回数を多くする必要があり、生産性が低下するという問題がある。一方、空隙の幅が０．３ｍｍより小さくなると筐体（外部電極）との導通が不十分になり十分な電磁波遮蔽効果が得られない場合がある。ここで、空隙の幅とは、機能性表面層の表面位置における空隙の開口幅である。
【００５０】
図２ｂは、空隙部分の拡大模式断面図である（図２ｂは、図２ａで示された一方の空隙部分周辺の拡大図である。）。本発明における空隙の幅とは、機能性表面層３の表面位置における幅（開口幅）Ｌである。
【００５１】
ディスプレイ用フィルターの１辺における空隙の長さは、ディスプレイ用フィルターの辺の長さ１００％に対して１０％以上が好ましく、３０％以上がより好ましく、特に５０％以上が好ましい。上記の比率は高い方が電磁波遮蔽性能の観点から好ましく、上限は１００であってもよいが、実質的な上限は９９％程度が適当である。本発明における空隙は、直線状に連続した空隙であってもよいし、破線状の不連続な空隙であってもよい。後者の不連続な空隙の場合は合計の長さが上記比率の対象となる。
【００５２】
上記の破線状の不連続な空隙としては、例えば、１つの長さが５〜１００ｍｍの空隙が、間隔長さ５〜１００ｍｍで直線状に複数配置されている態様が挙げられる。上記の不連続な空隙において、ディスプレイ用フィルター１辺当たりの空隙の合計長さ（Ａ）と、空隙と空隙の間隔の合計長さ（Ｂ）の比率（Ａ／Ｂ）は、０．５〜１０の範囲が適当であり、１〜５の範囲が好ましい。
【００５３】
空隙は、ディスプレイ用フィルターの４辺の内の少なくとも対向する２辺に設けることが好ましい。図１に示すように、ディスプレイ用フィルターの４辺にそれぞれ空隙を設けることがより好ましい。
【００５４】
空隙と従来の剥き出し電極を組み合わすこともできる。例えば、図３に示すように、ディスプレイ用フィルターの対向する短辺側の２辺に空隙を形成し、対向する長辺側の２辺に剥き出し電極を形成することができる。ここで、剥き出し電極は、導電層上に機能性表面層を塗工形成するときに、導電層の幅に対して機能性表面層の塗工幅を小さくして、導電層の両端部に機能性表面層の未塗工部を設けることによって形成することができる。図３において、符号６が剥き出し電極である。
【００５５】
また、従来の剥き出し電極を１辺に形成し、残りの３辺に空隙を形成することもできる。この態様は、生産効率向上の観点から、導電層上に機能性表面層を塗工する際に、導電層の幅方向に対して、ディスプレイ用フィルターが２面取れるように、導電層の幅を広幅とし、導電層の幅方向の両端部に機能性表面層の未塗工部を設けることによって、ディスプレイ用フィルターの１辺に剥き出し電極が形成される。
【００５６】
上記の具体的態様を、図４に示す。図４は、ディスプレイ用フィルターの製造過程における、基材、導電層、及び機能性表面層の積層体を製造する工程の模式平面図である。基材上に導電層が形成された長尺の導電層積層基材１１の導電層上に機能性表面層を塗工する際に、機能性表面層の塗工幅を調整して長尺の導電層積層基材１１の幅方向両端部に機能性表面層の未塗工部１２を形成する。長尺の導電層積層基材１１の幅は、ディスプレイ用フィルター１００が２面取れるようになっている。これによって、ディスプレイ用フィルター１００の１辺に剥き出し電極６が形成される。そして、ディスプレイ用フィルター１００の残りの３辺に、上述した空隙を形成することによって、上記態様のディスプレイ用フィルターを得ることができる。
【００５７】
（空隙の形成方法）
本発明において、前記機能性表面層から導電層に達し、かつ幅が２ｍｍ未満である空隙の形成方法は特に限定されない。例えば、ナイフ等のカッター刃を用いる方法、超音波半田コテを用いて機能性表面層を除去する方法、機能性表面層をドライエッチングする方法、レーザーを用いる方法等があるが、レーザーを用いる方法が好ましく用いられる。
【００５８】
本発明において、導電層の上に位置する機能性表面層等を物理的な方法で剥離することなく空隙を形成することが好ましく、機能性表面層等の有機物を蒸発あるいは燃焼させることによって空隙を形成する方法が好ましく用いられる。かかる方法として、機能性表面層側からレーザーを照射する方法が最適である。
【００５９】
レーザーを照射する方法は、ディスプレイ用フィルターに物理的な接触なしに空隙が形成できること、ほぼ一定の幅で安定的に空隙を形成できること、及び空隙の深さ方向の制御が精度よくできるという利点がある。このようなレーザーの出力源としては、ヨウ素、ＹＡＧ、ＣＯ２などがあるが、特にＣＯ２レーザーは、空隙幅及び空隙深さが精度よく制御できること、及び金属からなる導電層は破壊せずに機能性表面層等を蒸発・燃焼させて空隙を形成できる点で好ましい。
【００６０】
空隙をレーザー照射で形成する場合、空隙の幅及び深さは、レーザーの焦点位置、レーザーの出力、及びレーザーの走査速度（ヘードスピード）を調整することによって制御することができる。空隙の幅は更に走査回数を調整することによって制御することができるが、１回の走査でも本発明が所望とする空隙を形成することができる。
【００６１】
本発明にかかる空隙の幅は２ｍｍ未満である。レーザーを用いて幅が２ｍｍ以上の空隙を形成するには、レーザーの走査回数を多くする必要があり、生産効率が低下する。
【００６２】
（導電性部材の空隙への貼着）
前述した本発明にかかる導電性部材は、その導電性粘着剤層を介して空隙に貼着される。そして導電性部材は、空隙の全域を被覆するように導電性粘着剤層を介して貼着されることが好ましい。図５に、空隙に導電性部材が貼着された状態の模式断面図を示す。導電性部材２０は、基材２１と導電性粘着剤層２２が積層されたものであり、ここで基材２１は、導電性部材が、イ）の導電性部材のときは導電性繊維からなる布帛であり、ロ）の導電性部材のときは導電性プラスチックフィルムであり、ハ）の導電性部材のときは離型フィルムである。
【００６３】
導電性部材は、本発明にかかる空隙、即ち幅が２ｍｍ未満の空隙を被覆するように貼着されることが好ましいので、導電性部材及び導電性粘着剤層の幅は、２ｍｍ以上であればよいが、導電性部材の取り扱いや貼着作業性を考慮すると、導電性部材及び導電性粘着剤層の幅は３ｍｍ以上であることが好ましく、特に５ｍｍ以上であることが好ましい。導電性部材及び導電性粘着剤層の幅の上限は、ディスプレイ用フィルターの画像表示パネルの非画像表示領域に対応する部分より小さくすることが好ましく、具体的には２５ｍｍ以下が好ましく、２０ｍｍ以下がより好ましく、更に１５ｍｍ以下が好ましい。
【００６４】
導電性部材及び導電性粘着剤層の長さは、ディスプレイ用フィルターの１辺に形成された空隙の長さと同等かそれ以上であることが好ましい。
【００６５】
（ディスプレイ用フィルターの電極と筐体の外部電極との接続）
上述にようにして、ディスプレイ用フィルターの画像表示パネルの非画像表示領域に対応する部分の少なくとも一部は、空隙を介して導電層と導通状態にある導電性部材によってアース電極が取り出され、導電性部材が電極となる。このディスプレイ用フィルターの電極は筐体の外部電極と接続されてアースされる。
【００６６】
従来から、ディスプレイ用フィルターの電極と筐体の外部電極との間にガスケットを介在させることによって、ディスプレイ用フィルターの電極と外部電極を電気的に接続することが知られている。
【００６７】
図６は、本発明が適用できるプラズマディスプレイの一例の主要構成部分の模式断面図である。図６において、ディスプレイ用フィルター１００は画像表示パネル３１に貼り付けられており、画像表示パネル３１の画像表示領域の外周（非画像表示領域）には筐体の前面カバー３２がディスプレイ用フィルター１００を画像表示パネル３１に押圧するように組み立てられている。ディスプレイ用フィルター１００と前面カバー３２の間にはガスケット３３が配置されており、ガスケット３３はディスプレイ用フィルター１００に設けられた電極（本発明の導電性部材２０）と前面カバー３２の外部電極（図示せず）とを電気的に接続し、アースしている。ここで、ディスプレイ用フィルター１００に設けられた電極は、空隙（図示せず）に本発明の導電性部材２０が貼着されたものである。
【００６８】
図６の態様で用いられているガスケットは、例えば、弾性部材（例えばスポンジやゴム等）の周囲に導電性繊維で織った布帛を巻き付けたものである。
【００６９】
また、本発明のディスプレイ用フィルターは、ディスプレイ用画像表示パネルに装着後、上記のガスケットを介在させずに、ディスプレイ用フィルターに形成された空隙を介して導電層と筐体の外部電極（例えばアルミニウム板）とを導電性部材で直接に接続することができる。この態様は、ディスプレイ用画像表示パネルに装着されたディスプレイ用フィルターと外部電極がほぼ同一平面上になるように外部電極を配置することによって可能となる。この態様の模式断面図を図７に示す。
【００７０】
図７において、アルミニウム板からなる外部電極３４が、ディスプレイ用フィルター１００とほぼ同一平面上に配置されており、ディスプレイ用フィルター１００の電極を構成する本発明の導電性部材２０が、ディスプレイ用フィルター１００に設けられた空隙（図示せず）と外部電極３４を接続するように貼着されている。
【００７１】
（カバーフィルム）
本発明のディスプレイ用フィルターは、機能性表面層を保護するために、剥離可能なカバーフィルムが機能性表面層を被覆するように積層されていることが好ましい。機能性表面層上にカバーフィルムを積層することによって、ディスプレイ用フィルターの製造工程、ディスプレイ用画像表示パネルの製造工程、及びディスプレイの組み立て工程において、機能性表面層を保護することができる。カバーフィルムは、最終的には剥離除去されるものであり、従って、カバーフィルムは、剥離可能に積層される。ここで、剥離可能とは、機能性表面層を傷つけないで、比較的容易に剥離できることを意味し、またカバーフィルムを剥離するときに機能性表面層側にカバーフィルムの粘着剤が残留しないことが重要である。
【００７２】
本発明に用いることができるカバーフィルムとしては、各種プラスチックフィルムを用いることができる。例えば、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリブチレンフィルム等のポリオレフィンフィルム、ポリアセチルセルロースフィルム、ポリアクリルフィルム、ポリカーボネートフィルム、エポキシ系フィルム、ポリウレタンフィルム等が挙げられ、これらの中でもポリエステルフィルムやポリオレフィンフィルムが好ましく用いられる。
【００７３】
カバーフィルムは、最終的にはディスプレイ用フィルターから剥離除去されるので、剥離可能な粘着材または接着材が用いられる。あるいは、カバーフィルムとして粘着性を有するフィルムを用いる場合には、粘着材等は不要である。
【００７４】
カバーフィルムの厚み（積層のための粘着層が必要な場合は粘着層を含む）は２０〜８０μｍの範囲が好ましい。
【００７５】
カバーフィルムの積層は、後述する少なくとも、基材、導電層、及び機能性表面層をこの順に有する積層体を得る工程（Ａ）において、機能性表面層の上に更にカバーフィルムを積層することが好ましく、より詳細には機能性表面層の塗工工程において、導電層上に機能性表面層を塗工、乾燥、及び必要に応じて硬化した後、巻き取るまでに機能性表面層上にカバーフィルム積層することが好ましい。
【００７６】
機能性表面層上にカバーフィルムが積層された状態で、本発明にかかる空隙を形成することが好ましい。例えば、後述する空隙を形成する工程（Ｂ）においては、カバーフィルムの表面からレーザーを照射して、カバーフィルム表面から導電層に達する幅が２ｍｍ未満の空隙を形成することができる。カバーフィルム表面からレーザーを照射して空隙を形成することによって、レーザー照射によって発生した機能性表面層等の蒸散物のディスプレイ用フィルターへの再付着を防止することができる。
【００７７】
後述する導電性部材を貼着する工程（Ｃ）においては、カバーフィルム上から空隙が形成された後、空隙に本発明の導電性部材を貼着する前に、少なくとも導電性部材の貼着領域に対応する部分のカバーフィルムを剥離した後に、空隙に導電性部材を貼着することが好ましいが、このとき、少なくとも画像表示領域に対応する部分のカバーフィルムは剥離せずに残し、導電性部材の貼着に影響のない範囲でカバーフィルムを剥離することが好ましい。
【００７８】
上記の導電性部材の貼着に影響のない範囲とは、導電性部材の貼着領域より少し大きめの面積を意味する。具体的には、空隙は非画像表示領域に対応する部分に形成され、導電性部材の貼着領域も非画像表示領域の中であるので、非画像表示領域のみのカバーフィルムを剥離し、画像表示領域のカバーフィルムは残しておくことが好ましい。
【００７９】
カバーフィルムの目的は機能性表面層を保護することであり、更に具体的には、画像表示領域に対応する部分の機能性表面層を保護することであり、この観点から、画像表示領域に対応する領域のカバーフィルムは、できるだけ後の工程で剥離除去することが好ましい。
【００８０】
従って、ディスプレイ用フィルターの画像表示領域に対応する領域と非画像表示領域に対応する領域の境界線に、カバーフィルムに切り込み線を設けることによって、画像表示領域に対応する領域のカバーフィルムの剥離を遅らせることが可能になる。
【００８１】
即ち、ディスプレイ用フィルターの画像表示領域に対応する領域と非画像表示領域に対応する領域の境界線に、カバーフィルムに切り込み線を設けることによって、非画像表示領域に対応する領域のカバーフィルムのみを剥離し、画像表示領域に対応する領域のカバーフィルムを残すことが可能となる。
【００８２】
カバーフィルムに設けられる切り込み線は、画像表示領域と非画像表示領域の境界線に沿って設けられるが、ここで画像表示領域と非画像表示領域の境界線とは、厳密な境界線を指すものではなく、境界線近傍という意味である。
【００８３】
カバーフィルムを積層する目的は、上記したように画像表示領域の機能性表面層を保護することであり、この意味において、カバーフィルムに設けられる切り込み線は、前記境界線上、あるいは前記境界線より非画像表示領域側にずれ込んだ位置であることが好ましい。切り込み線が前記境界線より非画像表示領域側にずれ込んだ位置に設定する場合、空隙への導電性部材の貼着の障害とならないように設定することが好ましい。切り込み線の境界線からのずれ込み量は、例えば、１〜５ｍｍ程度が適当であり、１〜３ｍｍの範囲が好ましい。
【００８４】
カバーフィルムの切り込み線は、この切り込み線に沿ってカバーフィルムの画像表示領域と非画像表示領域とを分断することが目的であり、従って、切り込み線の深さや形状は、上記目的が達成できるように設定すればよい。
【００８５】
切り込み線の深さは、必ずしもカバーフィルム（カバーフィルムが粘着層を含む場合はプラスチックフィルム部分）を貫通しなくても上記目的は達成できるが、カバーフィルム（プラスチックフィルム部分）を貫通することが、非画像表示領域の剥離が容易に行えるので好ましい。
【００８６】
切り込み線の平面形状は、連続線であることが好ましいが、ミシン目のような不連続線であってもよい。上記不連続線の場合の１つの不連続部分の長さは、カバーフィルムが容易に引きちぎれるように、小さくする必要があり、１つの不連続部分の長さは２ｍｍ以下が好ましく、１ｍｍ以下がより好ましい。
【００８７】
切り込み線は、カッター刃でも形成することができるが、レーザーを照射して形成することが好ましい。レーザーによる切り込み線の形成は、前述したレーザーでの空隙形成方法を適用することができる。即ち、レーザー照射条件（レーザーの焦点位置、レーザーの出力、及びレーザーの走査速度等）を調整して用いることができる。レーザーによる切り込み線の形成は、切り込み線の深さを精度よく、安定的に再現することができる。即ち、機能性表面層をほとんど傷つけることなくカバーフィルムを貫通する切り込み線を形成することができる。
【００８８】
本発明においては、レーザーによる空隙の形成と、レーザーによる切り込み線の形成を組み合わせて行うことが好ましい。これによって、１つのレーザー装置にカバーフィルムが積層されたディスプレイ用フィルターを装着（固定）した状態で、空隙形成と切り込み線の形成を行うことができる。空隙の形成と切り込み線の形成の順序は特に限定されない。
【００８９】
カバーフィルムの切り込み線によって分けられた、非画像表示領域に対応する部分の剥離は、空隙に導電性部材を貼着する前に行われるが、画像表示領域に対応する部分の剥離は、ディスプレイ用フィルターを画像表示パネルに装着後、筐体の前面カバーを組み立てる前に行われる。
（ディスプレイ用フィルターの構成）
本発明のディスプレイ用フィルターは、基材、導電層、及び機能性表面層をこの順に有することが重要である。より好ましくは、基材上に導電層を有し、更に導電層上に機能性表面層を有する態様である。
【００９０】
（基材）
本発明のディスプレイ用フィルターに用いられる基材としては、プラスチックフィルムが好ましい。かかるプラスチックフィルムを構成する樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル樹脂、トリアセチルセルロース等のセルロース樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブチレン等のポリオレフィン樹脂、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、アートン樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリスルフォン樹脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂、ポリエーテルスルフォン樹脂等が挙げられる。これらの中でも、ポリエステル樹脂、ポリオレフィン樹脂及びセルロース樹脂が好ましく、特にポリエステル樹脂が好ましく用いられる。また、上記の樹脂で形成されるプラスチックフィルムは、単層構成であっても、積層構成であってもよい。
【００９１】
プラスチックフィルムの厚みとしては、５０〜３００μｍの範囲が適当であるが、コストの観点及びディスプレイ用フィルターの剛性を確保するという観点から９０〜２５０μｍの範囲が特に好ましい。
【００９２】
本発明にかかるディスプレイ用フィルターは、基材は１枚のみであることが好ましく、更に基材として１枚のみのプラスチックフィルムを用いるのが好ましい。
【００９３】
本発明に用いられるプラスチックフィルムは、前述した導電層あるいは後述する近赤外線遮蔽層等との密着性（接着強度）を強化するためのプライマー層（下引き層、易接着層）を設けておくのが好ましい（つまり、基材としては、プライマー層（下引き層、易接着層）を有するプラスチックフィルムが好ましい。）。
（導電層）
本発明における導電層は、ディスプレイから発生する電磁波を遮蔽するための層であり、導電層の面抵抗値は、低い方が好ましい。導電層の面抵抗値としては、５Ω／□以下が好ましく、３Ω／□以下がより好ましく、特に１Ω／□以下が好ましい。また、面抵抗は低いほど電磁波シールド性が向上するために好ましいが、現実的な下限は０．０１Ω／□程度と考えられる。導電層の面抵抗値は、４端子法により測定することができる。
【００９４】
本発明にかかる導電層としては、金属薄膜あるいは導電性メッシュを用いることができる。本発明においては、導電性メッシュを有する導電層が好ましく、少なくとも画像表示領域は導電性メッシュからなる導電層がより好ましい。この場合、画像表示領域及び非画像表示領域ともに導電性メッシュで形成されていても良いし、画像表示領域が導電性メッシュで、非画像表示領域が金属ベタで形成されていても良い。
【００９５】
本発明の好ましい態様である導電性メッシュを有する導電層について、以下に詳細に説明する。
【００９６】
電磁波シールド性を向上させるためには導電メッシュの厚みはある程度大きくする必要があるが、逆に厚みが大きくなりすぎると、後述する機能性表面層の塗工性が低下し、塗布筋やムラが発生する場合がある。また、導電メッシュの厚みが大きくなりすぎると、機能性表面層の塗工性を確保するために機能性表面層の厚みを大きくする必要があり、特に機能性表面層としてハードコート層を用いる場合は、カールの発生により、加工が困難になる場合がある。また、導電性メッシュの厚みが大きくなりすぎると、透過画像鮮明性が低下する傾向にある。
【００９７】
上記の観点から、導電性メッシュの厚みは、０．５〜８μｍの範囲が好ましく、１〜５μｍの範囲がより好ましく、特に１〜３μｍの範囲が好ましい。導電性メッシュの厚みが０．５μｍ未満の場合は、十分な電磁波シールド性が得られない場合がある。また、導電性メッシュの厚みが８μｍを越えると、機能性表面層の塗工性が低下するので、面内に均一な表面粗さを有する機能性表面層に安定的に形成することが難しくなる傾向があり、更には、コストアップにつながるために好ましくない。
【００９８】
導電性メッシュのメッシュパターンの形状（開口部の形状）は、例えば、正方形、長方形、菱形等の４角形からなる格子状メッシュパターン、三角形、５角形、６角形、８角形、１２角形のような多角形からなるメッシュパターン、円形、楕円形からなるメッシュパターン、前記の複合形状からなるメッシュパターン、及びランダムメッシュパターンが挙げられる。上記の中でも、導電性メッシュの製造の容易性の観点から、４角形からなる格子状メッシュパターンが好ましい。
【００９９】
導電性メッシュのピッチは、５０〜５００μｍの範囲が好ましく、７５〜４５０ｎｍの範囲がより好ましく、１００〜３５０μｍの範囲が更に好ましい。導電性メッシュのピッチが５０μｍより小さくなると透過率が低下する傾向にあり、５００μｍより大きくなると導電性が低下する傾向があり好ましくない。なお、導電性メッシュのピッチとは、導電性メッシュのある１つの開口部（導電性メッシュの細線と細線で囲まれた部分）と、この開口部と１辺を共有する隣接する開口部との重心間の距離とする。
【０１００】
導電性メッシュの線幅は、３〜３０μｍの範囲が好ましく、５〜２０μｍの範囲がより好ましい。導電性メッシュの線幅が、３μｍより小さくなると電磁波シールド性が低下する傾向にあり、一方、線幅が３０μｍより大きくなるとディスプレイ用フィルターの透過率が低下する傾向にある。
【０１０１】
導電性メッシュを有する導電層を基材上に形成する方法は、公知の方法を用いることができる。例えば、１）基材上に導電性インキをパターン状に印刷する方法。２）メッキの触媒核を含むインキでパターン印刷した後にメッキを施す方法、３）導電性繊維を用いる方法、４）基材上に金属箔を接着剤で貼り合わせた後にパターニングする方法、５）基材上に気相製膜法あるいはメッキ法により金属薄膜を形成した後にパターニングする方法、６）感光性銀塩を用いる方法、７）金属薄膜をレーザーアブレーションする方法、及び８）印刷パターン上に金属膜積層後に現像する方法、等が挙げられるが、これらに限定されない。
【０１０２】
上記の導電メッシュを有する導電層の製造方法について詳細に説明する。
【０１０３】
１）基材上に導電性インキをパターン状に印刷する方法は、基材上に導電性インキを、スクリーン印刷、グラビア印刷等の公知の印刷法によりパターン状に印刷する方法である。
【０１０４】
２）メッキの触媒核を含むインキでパターン印刷した後にメッキを施す方法は、例えば、パラジウムコロイド含有ペーストからなる触媒インクを用いてパターン状に印刷し、これを無電解銅メッキ液中に浸漬して無電解銅メッキを施し、続いて電解銅メッキを施し、さらにＮｉ−Ｓｎ合金の電解メッキを施して導電性メッシュパターンを形成する方法である。
【０１０５】
３）導電性繊維を用いる方法は、導電性繊維からなる編布を接着剤または粘着材を介して貼り合わせる方法である。
【０１０６】
４）基材上に金属箔を接着剤で貼り合わせた後にパターニングする方法は、基材上に金属箔（銅、アルミニウム、又はニッケル等）を接着剤または粘着材を介して貼り合わせた後、この金属箔をフォトリソグラフィー法あるいはスクリーン印刷法などを利用してレジストパターンを作製した後、金属箔をエッチングする方法である。上記のレジストパターンを形成する方法としては、フォトリソグラフィー法が好ましく、フォトリソグラフィー法は、金属箔上に感光性レジストを塗工又は感光性レジストフィルムをラミネートし、パターンマスクを密着させて露光後、現像液で現像してエッチングレジストパターンを形成し、さらに適当なエッチング液でパターン部以外の金属を溶出させて所望の導電性メッシュを形成する方法である。
【０１０７】
５）基材上に気相製膜法あるいはメッキ法により金属薄膜を形成した後にパターニングする方法は、基材上に金属薄膜（銅、アルミニウム、銀、金、パラジウム、インジウム、スズ、あるいは銀とそれ以外の金属の合金などからなる金属）を、蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング等の気相製膜法、あるいはメッキ法によって形成し、この金属薄膜をフォトリソグラフィー法あるいはスクリーン印刷法などを利用してレジストパターンを作製した後、金属薄膜をエッチングする方法である。上記のレジストパターンを形成する方法としては、フォトリソグラフィー法が好ましく、フォトリソグラフィー法は、金属薄膜上に感光性レジストを塗工又は感光性レジストフィルムをラミネートし、パターンマスクを密着させて露光後、現像液で現像してエッチングレジストパターンを形成し、さらに適当なエッチング液でパターン部以外の金属を溶出させて所望の導電性メッシュを形成する方法である。この方法では、接着剤や粘着剤を介さずに、基材上に金属薄膜を形成することが好ましい。
【０１０８】
６）感光性銀塩を用いる方法は、ハロゲン化銀などの銀塩乳剤層を透明基材上にコーティングし、フォトマスク露光あるいはレーザー露光の後、現像処理して銀のメッシュを形成する方法がある。形成された銀メッシュはさらに銅、ニッケルなどの金属でメッキするのが好ましい。この方法は、ＷＯ２００４／７８１０号公報、特開２００４−２２１５６４号公報、特開２００６−１２９３５号公報などに記載されており、参照することができる。
【０１０９】
７）金属薄膜をレーザーアブレーションする方法は、上記５）と同様の方法で基材上に形成された金属薄膜をレーザーアブレーション方式で、金属薄膜のメッシュパターンを作製する方法である。
【０１１０】
レーザーアブレーションとは、レーザー光を吸収する固体表面へエネルギー密度の高いレーザー光を照射した場合、照射された部分の分子間の結合が切断され、蒸発することにより、照射された部分の固体表面が削られる現象である。この現象を利用することで固体表面を加工することが出来る。レーザー光は直進性、集光性が高い為、アブレーションに用いるレーザー光の波長の約３倍程度の微細な面積を選択的に加工することが可能であり、レーザーアブレーション法により高い加工精度を得ることが出来る。
【０１１１】
かかるアブレーションに用いるレーザーは金属が吸収する波長のあらゆるレーザーを用いることが出来る。例えばガスレーザー、半導体レーザー、エキシマレーザー、または半導体レーザーを励起光源に用いた固体レーザーを用いることが出来る。また、これら固体レーザーと非線形光学結晶を組み合わせることにより得られる第二高調波光源（ＳＨＧ）、第三高調波光源（ＴＨＧ）、第四高調波光源（ＦＨＧ）を用いることが出来る。
【０１１２】
かかる固体レーザーの中でも、プラスチックフィルムを加工しないという観点から、波長が２５４ｎｍから５３３ｎｍの紫外線レーザーを用いることが好ましい。中でも好ましくはＮｄ：ＹＡＧ（ネオジウム：イットリウム・アルミニウム・ガーネット） などの固体レーザーのＳＨＧ（波長５３３ｎｍ）、さらに好ましくはＮｄ：ＹＡＧ などの固体レーザーのＴＨＧ（波長３５５ｎｍ）の紫外線レーザーを用いることが好ましい。
【０１１３】
８）印刷パターン上に金属膜形成後に現像する方法は、基材上に剥離可能な樹脂でメッシュパターンとは逆パターンの印刷を施し、その印刷パターン上に金属薄膜を上記５）と同様の方法で形成した後、現像して樹脂とその上の金属膜を剥離して金属のメッシュパターンを形成する方法である。剥離可能な樹脂として、水、有機溶剤あるいはアルカリに可溶な樹脂やレジストを用いることができる。この方法は、特開２００１−１８５８３４号、特開２００１−３３２８８９号、特開２００３−２４３８８１号、特開２００６−１４０３４６号、特開２００６−１５６６４２号公報等に記載されており、参照することができる。
【０１１４】
上記した導電性メッシュの製造方法の中でも、厚みが比較的小さい導電性メッシュ（例えば厚みが８μｍ以下の導電性メッシュ）を容易に製造することができ、かつ高い電磁波シールド性を確保できるという観点から、上記の２）、５）、６）及び７）の製造方法が好ましく用いられる。また、機能性表面層の塗工性、及び機能性表面層と導電層との密着性の観点からは、上記の２）、５）及び７）の製造方法で製造された導電性メッシュが好ましく用いられる。特に、上記５）の製造方法は、機能性表面層の塗工性が良好であり、かつ導電性メッシュの製造コストが低いことから、特に好ましく用いられる。
【０１１５】
上記５）の製造方法について、更に詳細に説明する。
【０１１６】
基材上に金属薄膜を形成する方法としては、気相製膜法が好ましい。上記の気相製膜法としては、スパッタリング、イオンプレーティング、電子ビーム蒸着、真空蒸着、化学蒸着等が挙げられるが、これらの中でも、スパッタリング及び真空蒸着が好ましい。金属薄膜を形成するための金属としては、銅、アルミニウム、ニッケル、鉄、金、銀、ステンレス、クロム、チタンなどの金属の内、１種または２種以上を組合せた合金あるいは多層のものを使用することができる。これらの中でも、良好な電磁波シールド性が得られ、メッシュパターン加工が容易で、かつ低価格であるなどの点から、銅が好ましく用いられる。
【０１１７】
また、金属薄膜の金属として銅を用いる場合は、基材と銅薄膜との間に、５〜１００ｎｍの厚みのニッケル薄膜を用いるのが好ましい。これによって、透明基材と銅薄膜の接着性が向上する。また、金属薄膜の表面に、金属酸化物、金属窒化物、金属硫化物等の金属化合物を、気相製膜法で積層することができる。この金属化合物の積層によって、後述する黒化処理を省略することができるので好ましい。かかる金属化合物としては、金、白金、銀、水銀、銅、アルミニウム、ニッケル、クロム、鉄、スズ、亜鉛、インジウム、パラジウム、イリジウム、コバルト、タンタル、アンチモン、及びチタン等の金属の酸化物、窒化物、あるいは硫化物が挙げられる。上記の金属化合物の厚みは、５〜２００ｎｍの範囲が好ましく、１０〜１００ｎｍの範囲がより好ましい。この金属化合物層は、金属薄膜の一部を構成し、更に導電性メッシュの一部を構成する。
【０１１８】
金属薄膜上にレジストパターンを形成する方法としては、フォトリソグラフィーが好ましく用いられる。かかるフォトリソグラフィー法は、金属薄膜上に感光性レジスト層を積層し、該レジスト層をメッシュパターン状に露光し、現像してレジストパターンを形成し、次いで、金属薄膜をエッチングしてメッシュパターン化し、メッシュ上のレジスト層を剥離除去する方法である。感光性レジスト層としては、露光部分が硬化するネガレジスト、あるいは逆に露光部分が現像によって溶解するポジレジストを用いることができる。感光性レジスト層は金属薄膜上に直接に塗工して積層してもよいし、あるいはフォトレジストからなるフィルムを貼り合わせてもよい。フォトレジスト層を露光する方法としては、フォトマスクを介して紫外線等で露光する方法、もしくはレーザーを用いて直接に走査露光する方法を用いることができる。
【０１１９】
また、上記のレジスト層に、カーボンブラックやチタンブラック等の黒顔料を含有させて、黒色化することができる。この黒色レジスト層は、除去せずに、導電性メッシュ上にそのまま残すことによって、後述する黒化処理を省略することができるので好ましい。エッチングする方法としては、ケミカルエッチング法等がある。ケミカルエッチングとは、レジストパターンで保護された金属部分以外の金属をエッチング液で溶解し、除去する方法である。エッチング液としては、塩化第二鉄水溶液、塩化第二銅水溶液、アルカリエッチング液等がある。
【０１２０】
本発明にかかる導電性メッシュは、黒化処理が施されていることが好ましい。黒化処理を施すことにより、導電性メッシュの金属光沢による視聴者側からの反射やディスプレイ側からの反射も低減することができ、さらに画像視認性の低下を低減することができ、コントラスト・視認性に優れたディスプレイ用フィルターが得られる。
（機能性表面層）
本発明にかかる機能性表面層は、基材に対して導電層側の最表面に配置される層である。かかる機能性表面層は、反射防止機能、防眩機能、ハードコート機能、及び防汚機能の中から選ばれる少なくとも１つの機能を有することが好ましい。上記機能性表面層は単一層であっても複数層で構成されていてもよく、また複数の機能を併せ持った層であってもよい。
【０１２１】
本発明は、導電層上に機能性表面層を直接に積層するのが好ましく、特に導電層上に直接に機能性表面層を塗工形成するのが好ましい。
【０１２２】
導電層上に機能性表面層を直接に積層することによって、さらには直接に塗工形成することによって、ディスプレイ用フィルターの基材を１枚のみにすることが可能になることから原材料コストが低下し、貼合工程が不要となることから生産効率が向上し、さらに、前述したレーザーによる電極形成（空隙の形成）が容易に行えるようになる。
【０１２３】
以下に機能性表面層を構成する反射防止機能、防眩機能、ハードコート機能、防汚機能を有する層について具体的に説明する。
（反射防止層）
反射防止機能を有する層（反射防止層）は、ディスプレイの画像表示に影響を与える蛍光灯などの外光の反射や映り込みを防止するものである。反射防止層は、表面の視感反射率が４％以下であることが好ましく、３％以下がより好ましく、特に２％以下であることが好ましい。ここで視感反射率は、分光光度計等を使用して可視領域波長（３８０〜７８０ｎｍ）の反射率を測定し、ＣＩＥ１９３１システムに準じて計算された視感反射率（Ｙ）である。
【０１２４】
反射防止層としては、低屈折率層のみの単一層であってもよいし、低屈折率層と高屈折率層の積層構成であってもよい。上記積層構成では、高屈折率層が導電層側に配置される。
低屈折率層の屈折率は１．２５〜１．４９の範囲が好ましく、特に１．３〜１．４５の範囲が好ましい。高屈折率層の屈折率は１．５〜１．７５の範囲が好ましく、特に１．５５〜１．７０の範囲が好ましい。
（低屈折率層）
低屈折率層を形成する方法としては、１）ＭｇＦ2やＳｉＯ2等の薄膜を真空蒸着法やスパッタリング、プラズマＣＶＤ法等の気相法により形成する方法、２）シリカ系微粒子と結合してなるシロキサンポリマーを主成分と層を熱硬化する方法、３）含フッ素化合物やシリカ系微粒子を含む活性エネルギー線硬化型樹脂層を硬化する方法等が挙げられる。これらの中でも、２）、３）の方法が好ましく、特に３）の方法が好ましい。
上記２）のシリカ系微粒子と結合してなるシロキサンポリマーを主成分と層を熱硬化する方法について説明する。
【０１２５】
ここで言う「結合」とは、シリカ系微粒子のシリカ成分とマトリックスのシロキサンポリマーが反応して均質化している状態を意味する。シリカ系微粒子と結合してなるシロキサンポリマーは、該シリカ系微粒子の存在下、多官能性シラン化合物を溶剤中、酸触媒により、公知の加水分解反応によって、一旦シラノール化合物を形成し、公知の縮合反応を利用することによって得ることができる。
【０１２６】
かかる多官能性シラン化合物としては、多官能性フッ素含有シラン化合物を含むことが低屈折率化、防汚性の点から好ましく、トリフルオロメチルメトキシシラン、トリフルオロメチルエトキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリエトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリエトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリエトキシシランなどの３官能性フッ素含有シラン化合物、ヘプタデカフルオロデシルメチルジメトキシシランなどの２官能性フッ素含有シラン化合物などが挙げられ、いずれも好適に用いられるが、表面硬度の観点から、トリフルオロメチルメトキシシラン、トリフルオロメチルエトキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリエトキシシランが、より好ましい。
【０１２７】
シリカ系微粒子としては、平均粒子径１ｎｍ〜２００ｎｍのシリカ系微粒子であることが好ましく、特に好ましくは、平均粒子径１ｎｍ〜７０ｎｍである。平均粒子径が１ｎｍを下回ると、マトリックス材料との結合が不十分となり、硬度が低下することがある。一方、平均粒子径が２００ｎｍを越えると、粒子を多く導入して生じる粒子間の空隙の発生が少なくなり、低屈折率化の効果が十分発現しないことがある。さらに、かかるシリカ系微粒子の中でも、内部に空洞を有する構造のものが、屈折率を低下させるために、特に好ましく使用される。
【０１２８】
かかる内部に空洞を有するシリカ系微粒子とは、外殻によって包囲された空洞部を有するシリカ系微粒子、多数の空洞部を有する多孔質のシリカ系微粒子等が挙げられ、いずれも好適に用いられる。このような例としては例えば、特許第３２７２１１１号公報に開示されている方法によって製造でき、微粒子内部の空洞の占める体積、すなわち微粒子の空隙率としては、５％以上が好ましく、３０％以上がさらに好ましい。空隙率は、例えば、水銀ポロシメーター（商品名：ボアサイザー９３２０−ＰＣ２、（株）島津製作所製）を用いて測定することができる。また、該微粒子自体の屈折率は、１．２０〜１．４０であるのが好ましく、１．２０〜１．３５であるのがより好ましい。このようなシリカ系微粒子としては、例えば特開２００１−２３３６１１号公報に開示されているものや、特許第３２７２１１１号公報等の一般に市販されているものを挙げることができる。
【０１２９】
上記３）の含フッ素化合物やシリカ系微粒子を含む活性エネルギー線硬化型樹脂層を硬化する方法について説明する。
【０１３０】
含フッ素化合物とシリカ系微粒子はそれぞれ単独で用いてもよいが、組み合わせて用いることが好ましい。
上記の含フッ素化合物としては、含フッ素モノマー、含フッ素高分子化合物が挙げられる。
【０１３１】
含フッ素モノマーとしては、例えば、２，２，２−トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロブチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロヘキシル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロオクチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロデシル）エチル（メタ）アクリレートなどのフッ素含有（メタ）アクリル酸エステル類が挙げられる。
【０１３２】
含フッ素高分子化合物としては、例えば、含フッ素モノマーと架橋性基付与のためのモノマーを構成単位とする含フッ素共重合体が挙げられる。含フッ素モノマー単位の具体例としては、例えばフルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール等）、（メタ）アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類（例えばビスコート６ＦＭ（大阪有機化学製）やＭ−２０２０（ダイキン製）等）、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等である。架橋性基付与のためのモノマーとしてはグリシジルメタクリレートのように分子内にあらかじめ架橋性官能基を有する（メタ）アクリレートモノマーの他、カルボキシル基やヒドロキシル基、アミノ基、スルホン酸基等を有する（メタ）アクリレートモノマー（例えば（メタ）アクリル酸、メチロール（メタ）アクリレート、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、アリルアクリレート等）が挙げられる。
【０１３３】
シリカ系微粒子としては、上記２）の方法に用いられる内部に空洞を有するシリカ系微粒子が好ましく用いられる。
【０１３４】
活性エネルギー線硬化型樹脂は、活性エネルギー線の照射によって重合し硬化されて低屈折率層の樹脂層を形成する。ここで、活性エネルギー線とは、紫外線、電子線および放射線（α線、β線、γ線など）などを指し、実用的には、電子線や紫外線が好ましく、特に紫外線が簡便であり好ましい。紫外線源としては、紫外線蛍光灯、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノン灯、炭素アーク灯などを用いることができる。また、活性エネルギー線を照射するときに、低酸素濃度下で照射を行なうと、効率よく硬化させることができる。また、電子線照射方式は、装置が高価で不活性気体下での操作が必要ではあるが、塗布液中に光重合開始剤や光増感剤などを含有させなくてもよい点で有利である。
【０１３５】
上記の活性エネルギー線硬化型樹脂層に用いられる樹脂成分としては、（メタ）アクリロイル基を分子内に２個以上有する多官能（メタ）アクリレート化合物が好ましく用いられる。更に（メタ）アクリロイル基を分子内に３個以上有する多官能（メタ）アクリレート化合物が好ましく、特にアクリロイル基を分子内に３〜１０個有する多官能（メタ）アクリレート化合物が好ましく用いられる。
【０１３６】
かかる多官能（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジイルジメチレンジ（メタ）アクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルの両末端（メタ）アクリル酸付加物、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、グリセロールトリ（メタ）アクリレート、エチレン変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス−（２−ヒドロキシエチル）−イソシアヌル酸エステルトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等が挙げられる。なお、本発明において「・・・（メタ）アクリ・・・」とは、「・・・アクリ・・・または・・・メタアクリ・・・」を略して表示したものである。
【０１３７】
上記の多官能（メタ）アクリレート化合物の中でも、（メタ）アクリロイル基を分子内に３個以上有する多官能（メタ）アクリレート化合物が好ましく、特にアクリロイル基を分子内に３〜１０個有する多官能（メタ）アクリレート化合物が好ましく用いられる。
【０１３８】
上記の多官能（メタ）アクリレート化合物の重合、硬化を促進するために、活性エネルギー線硬化型樹脂層に、光重合開始剤を含有させることが好ましい。
かかる光重合開始剤としては、光重合開始剤の具体的な例としては、アセトフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、ｐ−ジメチルアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノプロピオフェノン、ベンゾフェノン、２−クロロベンゾフェノン、４，４’−ジクロロベンゾフェノン、４，４’−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、メチルベンゾイルフォルメート、ｐ−イソプロピル−α−ヒドロキシイソブチルフェノン、α−ヒドロキシイソブチルフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンなどのカルボニル化合物、テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド、チオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−メチルチオキサントンなどの硫黄化合物などを用いることができる。これらの光重合開始剤は単独で使用してもよいし、２種以上組み合せて用いてもよい。
【０１３９】
低屈折率層の厚みは、０．０１〜０．４μｍの範囲が好ましく、０．０２〜０．２μｍの範囲がより好ましい。
（高屈折率層）
高屈折率層は、金属酸化物微粒子を含む活性エネルギー線硬化型樹脂層を硬化した層であることが好ましい。
【０１４０】
金属酸化物微粒子としては、例えば、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化アンチモン、酸化セリウム、酸化鉄、アンチモン酸亜鉛、酸化錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、アンチモンドープ酸化錫（ＡＴＯ）、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、フッ素ドープ酸化錫等が挙げられ、これらの金属酸化物微粒子は単独で用いても良いし、複数併用しても良い。
【０１４１】
活性エネルギー線硬化型樹脂層については、上記の低屈折率層の項で説明したものと同様のものを用いることができる。
【０１４２】
高屈折率層の厚みは、０．０５〜１０μｍの範囲が好ましく、０．０８〜５μｍの範囲がより好ましい。
（防眩層）
防眩機能を有する層（防眩層）は、画像のギラツキを防止するものであり、表面に微小な凹凸を有する膜が好ましく用いられる。防眩層としては、例えば、熱硬化型樹脂または光硬化型樹脂に、平均粒子径が１〜１０μｍ程度の粒子を分散させて支持体上に塗布および硬化させたもの、あるいは、熱硬化型樹脂または光硬化型樹脂を表面に塗布し、所望の表面状態を有する型を押し付けて凹凸を形成した後に硬化させたものなどが用いられる。防眩層は、ヘイズ値（ＪＩＳ Ｋ ７１３６；２０００年）が０．５〜２０％であることが好ましい。また、防眩層表面の中心線平均粗さＲａ値は、１００〜１０００ｎｍの範囲が好ましく、特に２００〜７００ｎｍの範囲が好ましい。ここで中心線平均粗さＲａ値は、ＪＩＳ  Ｂ０６０１−１９８２の方法に基づき、表面粗さ測定器ＳＥ―３４００（（株）小坂研究所製）を用いて測定することができる。
【０１４３】
防眩層は、ハードコート機能を併せ持つことが好ましい。防眩層の厚みは０．５〜２０μｍの範囲が好ましく、１〜１５μｍの範囲がより好ましく、特に１．５〜１２μｍの範囲が好ましい。
（ハードコート層）
ハードコート機能を有する層（ハードコート層）は、傷防止のために設けられる。ハードコート層は硬度が高いことが好ましく、ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−４（１９９９年）で定義される鉛筆硬度が、Ｈ以上が好ましく、２Ｈ以上がより好ましい。上限は９Ｈ程度である。
【０１４４】
ハードコート層は、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、有機シリケート化合物、シリコーン系樹脂などで構成することができる。特に、硬度と耐久性などの点で、シリコーン系樹脂やアクリル系樹脂が好ましい。さらに、硬化性、可撓性および生産性の点で、活性エネルギー線硬化型のアクリル系樹脂、または熱硬化型のアクリル系樹脂からなるものが好ましい。
【０１４５】
活性エネルギー線硬化型のアクリル系樹脂または熱硬化型のアクリル系樹脂とは、重合硬化成分として多官能アクリレート、アクリルオリゴマーあるいは反応性希釈剤を含む組成物である。その他に必要に応じて光開始剤、光増感剤、熱重合開始剤あるいは改質剤等を含有しているものを用いてもよい。
【０１４６】
アクリルオリゴマーとは、アクリル系樹脂骨格に反応性のアクリル基が結合されたものを始めとして、ポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエーテルアクリレートなどであり、また、メラミンやイソシアヌール酸などの剛直な骨格にアクリル基を結合したものなども用いることができる。
【０１４７】
また、反応性希釈剤とは、塗布剤の媒体として塗布工程での溶剤の機能を担うと共に、それ自体が一官能性あるいは多官能性のアクリルオリゴマーと反応する基を有し、塗膜の共重合成分となるものである。
【０１４８】
また、市販されている多官能アクリル系硬化塗料としては、三菱レイヨン株式会社；（商品名“ダイヤビーム（登録商標）”シリーズなど）、長瀬産業株式会社；（商品名“デナコール（登録商標）”シリーズなど）、新中村株式会社；（商品名“ＮＫエステル”シリーズなど）、大日本インキ化学工業株式会社；（商品名“ＵＮＩＤＩＣ（登録商標）”シリーズなど）、東亜合成化学工業株式会社；（商品名“アロニックス（登録商標）”シリーズなど）、日本油脂株式会社；（商品名“ブレンマー（登録商標）”シリーズなど）、日本化薬株式会社；（商品名“ＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）”シリーズなど）、共栄社化学株式会社；（商品名“ライトエステル”シリーズ、“ライトアクリレート”シリーズなど）などの製品を利用することができる。
【０１４９】
ハードコート層形成組成物を構成するアクリル化合物の代表的なものを例示すると、１分子中に３個以上、より好ましくは４個以上、さらに好ましくは５個以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する単量体およびプレポリマーの少なくとも１種と、１分子中に１〜２個のエチレン性不飽和二重結合を有する単量体の少なくとも１種とからなる混合物を主たる構成成分とし、活性エネルギー線硬化または熱硬化によって得られるハードコート層が、硬度、耐摩耗性および可撓性に優れている点で好ましく用いられる。（メタ）アクリロイルオキシ基が多すぎる場合には、単量体は高粘度となり取り扱いし難くなり、また、高分子量とならざるを得なくなって塗布液として用いることが困難となるので、１分子中の（メタ）アクリロイルオキシ基は好ましくは１０個以下である。
【０１５０】
１分子中に３個以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する単量体およびプレポリマーとしては、１分子中に３個以上のアルコール性水酸基を有する多価アルコールの該水酸基が、３個以上の（メタ）アクリル酸のエステル化物となっている化合物などを挙げることができる。具体的な例としては、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ペンタエリスリトールトリアクリレートトルエンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ペンタエリスリトールトリアクリレートイソホロンジイソシアネートウレタンプレポリマーなどを用いることができる。これらの単量体およびプレポリマーは、１種または２種以上を混合して使用することができる。特にこれらの内、少なくともひとつの水酸基を有する多官能アクリレート化合物は、後述するイソシアネートとの併用により、ハードコート層と隣接層との接着性を向上させることができるので特に好ましい。
【０１５１】
これらの１分子中に３個以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する単量体およびプレポリマーの使用割合は、ハードコート層形成組成物総量に対して２０〜９０質量％が好ましく、より好ましくは３０〜８０質量％、最も好ましくは３０〜７０質量％である。
【０１５２】
上記１分子中に３個以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する単量体およびプレポリマーの使用割合が、ハードコート層形成組成物総量に対して２０質量％未満の場合には、十分な耐摩耗性を有する硬化被膜を得るという点で不十分な場合がある。また、上記１分子中に３個以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する単量体およびプレポリマーの使用割合が、ハードコート層形成組成物総量に対して９０質量％を超える場合は、硬化による収縮が大きく、硬化被膜に歪が残ったり、被膜の可撓性が低下したり、硬化被膜側に大きくカールするなどの不都合を招く場合がある。
【０１５３】
また、これらの内、少なくともひとつの水酸基を有する多官能アクリレート化合物の使用割合は、ハードコート層形成組成物総量に対して１０〜８０質量％が好ましく、より好ましくは２０〜７０質量％、最も好ましくは３０〜６０質量％である。少なくともひとつの水酸基を有する多官能アクリレート化合物の使用割合が、ハードコート層形成組成物総量に対して１０質量％未満の場合には、ハードコート層とその隣接層との接着性を向上させる効果が小さい場合がある。少なくともひとつの水酸基を有する多官能アクリレート化合物の使用割合が、ハードコート層形成組成物総量に対して８０質量％を超える場合は、ハードコート層内の架橋密度が低下して、ハードコート層の硬度が低下する傾向がある。
【０１５４】
次に、１分子中に１〜２個のエチレン性不飽和二重結合を有する単量体としては、ラジカル重合性のある通常の単量体ならば特に限定されずに使用することができる。
【０１５５】
また、分子内に２個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物としては、下記（ａ）〜（ｆ）の（メタ）アクリレート等を用いることができる。
【０１５６】
すなわち、（ａ）炭素数２〜１２のアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類：エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレートなど；
（ｂ）ポリオキシアルキレングリコールの（メタ）アクリレート酸ジエステル類：ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレートなど；
（ｃ）多価アルコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類：ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレートなど；
（ｄ）ビスフェノールＡあるいはビスフェノールＡの水素化物のエチレンオキシドおよびプロピレンオキシド付加物の（メタ）アクリル酸ジエステル類：２，２’−ビス（４−アクリロキシエトキシフェニル）プロパン、２，２’−ビス（４−アクリロキシプロポキシフェニル）プロパンなど；
（ｅ）ジイソシアネート化合物と２個以上のアルコール性水酸基含有化合物を予め反応させて得られる末端イソシアネート基含有化合物に、さらにアルコール性水酸基含有（メタ）アクリレートを反応させて得られる分子内に２個の（メタ）アクリロイルオキシ基を有するウレタン（メタ）アクリレート類など、および；
（ｆ）分子内に２個以上のエポキシ基を有する化合物にアクリル酸またはメタクリル酸を反応させて得られる分子内に２個の（メタ）アクリロイルオキシ基を有するエポキシ（メタ）アクリレート類など。
【０１５７】
分子内に１個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−およびｉ−プロピル（メタ）アクリレート、ｎ−、ｓｅｃ−、およびｔ−ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、メトキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、Ｎ−ヒドロキシエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニル−３−メチルピロリドン、Ｎ−ビニル−５−メチルピロリドンなどを用いることができる。これらの単量体は、１種または２種以上混合して使用してもよい。
【０１５８】
これらの１分子中に１〜２個のエチレン性不飽和二重結合を有する単量体の使用割合は、ハードコート層形成組成物総量に対して１０〜５０質量％が好ましく、より好ましくは２０〜４０質量％である。１分子中に１〜２個のエチレン性不飽和二重結合を有する単量体の使用割合が、ハードコート層形成組成物総量に対して５０質量％を超える場合には、十分な耐摩耗性を有する硬化被膜が得られにくくなる場合がある。また、１分子中に１〜２個のエチレン性不飽和二重結合を有する単量体の使用割合が、ハードコート層形成組成物総量に対して１０質量％未満の場合には、被膜の可撓性が低下したり、基材フィルム上に設けた積層膜との接着性が低下する場合がある。
【０１５９】
本発明において、ハードコート形成組成物を硬化させる方法としては、例えば、活性エネルギー線として紫外線を照射する方法や高温加熱法等を用いることができる。これらの方法を用いる場合には、前記ハードコート層形成組成物に、光重合開始剤または熱重合開始剤等を加えることが望ましい。
【０１６０】
光重合開始剤については、上述の低屈折率層に用いることができるものと同様のものを用いることができる。熱重合開始剤としては、ベンゾイルパーオキサイドまたはジ−ｔ−ブチルパーオキサイドなどのパーオキサイド化合物などを用いることができる。
【０１６１】
光重合開始剤または熱重合開始剤の使用量は、ハードコート層形成組成物総量１００質量％に対して０．０１〜１０質量％が適当である。電子線またはガンマ線を硬化手段とする場合には、必ずしも重合開始剤を添加する必要はない。また２２０℃以上の高温で熱硬化させる場合には、熱重合開始剤の添加は必ずしも必要ではない。
【０１６２】
本発明において、ハードコート層中には、本発明の効果が損なわれない範囲で、さらに各種の添加剤を必要に応じて配合することができる。例えば、酸化防止剤、光安定剤、紫外線吸収剤などの安定剤、界面活性剤、レベリング剤および帯電防止剤などを用いることができる。
【０１６３】
本発明で用いられる活性エネルギー線としては、紫外線、電子線および放射線（α線、β線、γ線など）などアクリル系のビニル基を重合させる電磁波が挙げられ、実用的には、紫外線が簡便であり好ましい。紫外線源としては、紫外線蛍光灯、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノン灯、炭素アーク灯などを用いることができる。また、活性線を照射するときに、低酸素濃度下で照射を行なうと、効率よく硬化させることができる。またさらに、電子線方式は、装置が高価で不活性気体下での操作が必要ではあるが、塗布層中に光重合開始剤や光増感剤などを含有させなくてもよい点で有利である。
【０１６４】
本発明で用いられる熱硬化に必要な熱としては、スチームヒーター、電気ヒーター、赤外線ヒーターあるいは遠赤外線ヒーターなどを用いて温度を少なくとも１４０℃以上に加温された空気、不活性ガスを、スリットノズルを用いて基材、塗膜に吹きあてることにより与えられる熱が挙げられ、中でも２００℃以上に加温された空気による熱が好ましく、さらに好ましくは２００℃以上に加温された窒素による熱であることが、硬化速度が早いので好ましい。
【０１６５】
ハードコート層の厚みは０．５〜２０μｍの範囲が好ましく、１〜１５μｍの範囲がより好ましく、特に１．５〜１２μｍの範囲が好ましい。ハードコート層の厚みが０．５μｍ未満の場合には十分硬化していても薄すぎるために、表面硬度が十分でなく、傷が付きやすくなる傾向にある。一方、ハードコート層の厚さが２０μｍを超える場合には、折り曲げなどの応力により、硬化膜にクラックが入りやすくなる傾向にある。
【０１６６】
ハードコート層には、前述した反射防止層を構成する高屈折率層としての機能を付与することができる。ハードコート層の高屈折率化は、ハードコート層形成用樹脂組成物中に、前述した金属酸化物微粒子を添加することにより、あるいは高屈折率成分の分子や原子を含んだ樹脂を用いることにより図られる。
【０１６７】
上記の屈折率を向上させる樹脂に含まれる分子及び原子としては、Ｆ以外のハロゲン原子、Ｓ、Ｎ、Ｐの原子、芳香族環等が挙げられる。
【０１６８】
（防汚層）
防汚機能を有する（防汚層）は、ディスプレイ用フィルターに、人が指で触ることによって油脂性物質が付着するのを防止したり、大気中のごみや埃が付着するのを防止したり、あるいはこれらの付着物が付着しても除去しやすくするための層である。かかる防汚層としては、例えば、フッ素系コート剤、シリコーン系コート剤、シリコン・フッ素系コート剤等が用いられる。防汚層の厚さは、１〜１０ｎｍの範囲が好ましい。
（機能性表面層の構成）
前述したように本発明の機能性表面層は単一層であっても、複数層であってもよい。複数構成の機能性表面層としては、ａ）ハードコート層／高屈折率層／低屈折率層、ｂ）高屈折率ハードコート層／低屈折率層、ｃ）ハードコート層／防眩層、ｄ）ハードコート層／防眩性反射防止層、等が例示される。尚、上記ａ）〜ｄ）の構成において、右側に記載の層が視認側に配置される。
【０１６９】
また、機能性表面層が単一層の場合は、複数の機能を併せ持つのが好ましい。かかる単一層の例としては、ｅ）反射防止性ハードコート層（反射防止機能とハードコート機能を有する単一層）、ｆ）防眩性ハードコート層（防眩機能とハードコート機能を有する単一層、ｇ）防眩性反射防止ハードコート層（防眩機能と反射防止機能とハードコート機能を有する単一層）、ｈ）防眩性反射防止層（防眩機能と反射防止機能を有する単一層）、等が例示される。
【０１７０】
防汚層は、上記した複数構成あるいは単一構成の表面に、これらの層の機能を阻害しない程度に、薄膜（１〜１０ｎｍ）で形成することができる。
【０１７１】
機能性表面層を塗工形成するための塗布方式としては、ディップコーティング法、スピンコート法、スリットダイコート法、グラビアコート法、リーバースコート法、ロッドコート法、バーコート法、スプレー法、ロールコーティング法等の公知のウェットコーティング法を用いることができる。
【０１７２】
機能性表面層は、上述したように単一層であっても複数層であってもよい。機能性表面層の合計の厚みは、１〜２０μｍの範囲が好ましく、２〜１５μｍの範囲がより好ましく、特に３〜１２μｍの範囲が好ましい。
【０１７３】
機能性表面層の合計厚みが１μｍ未満の場合は、導電層上へ機能性表面層を塗工する際に、良好な塗工性が確保できない場合があり、一方、２０μｍを越えると、幅が２ｍｍ未満の空隙を介して導電性部材を貼着したときに、導電層と導電性部材との安定的な導通を確保できない場合がある。
【０１７４】
機能性表面層の合計厚みは、導電層が金属薄膜からなる場合は、導電層表面から機能性表面層の表面までの距離であり、導電層が導電性メッシュからなる場合は、導電性メッシュの開口部の重心における基材から機能性表面層の表面までの距離である。
（ディスプレイ用フィルターを構成する他の機能層）
本発明のディスプレイ用フィルターには、更に近赤外線遮蔽機能、色調調整機能、あるいは可視光透過率調整機能の中から選ばれる少なくとも一つの機能を有する機能層を設けることが好ましい。
【０１７５】
近赤外線遮蔽機能は、波長８００〜１１００ｎｍの範囲における光線透過率の最大値が１５％以下となるように調整するのが好ましい。近赤外線遮蔽機能は、基材や機能性表面層、あるいは後述する接着層に近赤外線吸収剤を混錬、分散することによって付与してもよいし、近赤外線遮蔽層を新たに設けてもよい。近赤外線遮蔽機能は、近赤外線吸収剤を用いることによって、あるいは導電性薄膜のような金属の自由電子によって近赤外線を反射する層を設けることによって付与することができる。本発明においては、近赤外線吸収剤を樹脂バインダー中に分散もしくは溶解した塗料を塗布乾燥して形成した近赤外線遮蔽層を用いること、あるいは機能性表面層や接着層に上記近赤外線吸収剤を含有させる態様が好ましく用いられる。近赤外線吸収剤としては、フタロシアニン系化合物、アントラキノン系化合物、ジチオール系化合物、ジイモニウム系化合物等の有機系近赤外線吸収剤、あるいは酸化チタン、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化錫、硫化亜鉛、セシウム含有酸化タングステン等の無機系近赤外線吸収剤を用いることができる。
【０１７６】
上記した近赤外線遮蔽層を新たに設ける場合は、基材と導電層との間、もしくは基材に対して導電層とは反対面に、基材に塗工形成して設けることができる。
【０１７７】
近赤外線遮蔽機能を基材より視認側に付与する場合は、耐光性に優れる無機系近赤外線吸収剤を用いるのが好ましい。
【０１７８】
色調調整機能は、ディスプレイから発光される特定波長の光を吸収して色純度や白色度を向上させるための機能である。特に赤色発光の色純度を低下させるオレンジ光を遮蔽するのが好ましく、波長５８０〜６２０ｎｍの範囲に吸収極大を有する色素（例えばテトラアザポルフィリン系色素）を含有させるのが好ましい。更に、白色度を向上させるために波長４８０〜５００ｎｍに吸収極大を有する色素を含有させるのが好ましい。
色調調整機能は、上記した波長の光を吸収する色素を含有する層を新たに設けてもよいし、上述の近赤外線遮蔽層、機能性表面層あるいは接着層に色素を含有させてもよい。
【０１７９】
可視光透過率調整機能は、可視光の透過率を調整するための機能であり、染料や顔料を含有させて調整することができる。可視光透過率調整機能は、基材、近赤外線遮蔽層、機能性表面層、あるいは接着層に付与してもよいし、新たに透過率調整層を設けてもよい。
【０１８０】
上述した色調調整機能を有する層及び可視光透過率調整機能を有する層をそれぞれ新たに設ける場合、これらの層は基材と導電層との間、もしくは基材に対して導電層とは反対面に設けることができる。
【０１８１】
本発明のディスプレイ用フィルターは、画像表示パネルに直接、あるいは厚みが１〜５ｍｍ程度の高剛性基板（例えば、ガラス板、アクリル板、ポリカーボネート板等の公知の高剛性基板）を介して装着することができる。従って、ディスプレイ用フィルターには、画像表示パネルあるいは高剛性基板に貼り付けるための接着層を設けるのが好ましい。本発明のディスプレイ用フィルターは、画像表示パネルに接着層を介して直接に貼り付けることが好ましい。
【０１８２】
接着層には、前述したように近赤外線遮蔽機能、色調調整機能、あるいは可視光透過率調整機能を付与することができる。また、接着層に、ディスプレイを衝撃から保護するための衝撃緩和機能を付与することは好ましい態様である。接着層に衝撃緩和機能を付与するには、接着層の厚みを１００μｍ以上にすることが好ましく、３００μｍ以上がより好ましい。上限の厚みは、接着層のコーティング適性を考慮して３０００μｍ以下が好ましい。
【０１８３】
接着層には、公知の接着材あるいは粘着材を用いることができる。粘着材としては、アクリル、シリコーン、ウレタン、ポリビニルブチラール、エチレン−酢酸ビニルなどが挙げられる。接着材としては、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、テトラヒドロキシフェニルメタン型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、レゾルシン型エポキシ樹脂、ポリオレフィン型エポキシ樹脂などのエポキシ樹脂、天然ゴム、ポリイソプレン、ポリ−１、２−ブタジエン、ポリイソブテン、ポリブテン、ポリ−２−ヘプチル−１、３−ブタジエン、ポリ−１、３−ブタジエンなどの（ジ）エン類、ポリオキシエチレン、ポリオキシプロピレン、ポリビニルエチルエーテル、ポリビニルヘキシルエーテルなどのポリエーテル類、ポリビニルアセテート 、ポリビニルプロピオネートなどのポリエステル類、ポリウレタン、エチルセルロース、ポリ塩化ビニル、ポリアクリロニトリル、ポリメタクリロニトリル、ポリスルフォン、フェノキシ樹脂などが挙げられる。
【０１８４】
（ディスプレイ用フィルターの製造方法）
本発明にかかるディスプレイ用フィルターの製造方法について説明する。
【０１８５】
本発明のディスプレイ用フィルターの製造方法は、少なくとも、基材、導電層、及び機能性表面層をこの順に有する積層体を得る工程（Ａ）、積層体の、画像表示パネルの非画像表示領域に対応する部分の少なくとも一部に、機能性表面層側からレーザーを照射して、機能性表面層から導電層に達し、かつ幅が２ｍｍ未満である空隙を形成する工程（Ｂ）、前記空隙に、前述したイ）、ロ）、ハ）の中のいずれかの導電性部材を、該導電性部材の導電性粘着剤層を介して貼着する工程（Ｃ）を少なくとも有する。  
【０１８６】
積層体を得る工程（Ａ）について説明する。
【０１８７】
先ず、基材上に導電層を形成する。導電層の製造方法は前述したとおりである。次いで、導電層上に機能性表面層を塗工形成する。機能性表面層の構成は前述したとおりである。
【０１８８】
上記の導電層の製造工程は、長さが３０〜３０００ｍ程度のロール状の長尺基材に、導電層を連続的に形成することが好ましい。また、機能性表面層の形成についても、上記の導電層の製造工程で長尺基材上に連続的に形成された導電層上に、機能性表面層を連続的に塗工により形成することが好ましい。
【０１８９】
上記した連続生産において、基材及び導電層の幅は、少なくとも単一のディスプレイ用フィルターの短辺側の長さと同等かそれより大きくする必要がある。機能性表面層の幅は、ディスプレイ用フィルターの短辺側の長さより小さくすることは可能である。
【０１９０】
前述したように、ディスプレイ用フィルターの短辺側の対向する２辺に、従来の剥き出し電極を形成する場合は、機能性表面層の塗工幅はディスプレイ用フィルターの短辺側長さより小さくなるように調整される。同様に、ディスプレイ用フィルターの長辺側の対向する２辺に、従来の剥き出し電極を形成するには、機能性表面層の塗工幅はディスプレイ用フィルターの長辺側長さより小さくなるように調整される。
【０１９１】
また、基材、導電層、及び機能性表面層の幅は、幅方向にディスプレイ用フィルターが２面以上取れるように広幅にすることも可能であり、これによって生産性が向上する。この態様の場合も、導電層の幅方向の両端部に機能性表面層の未塗工部を設けることによって、ディスプレイ用フィルターに剥き出し電極を形成することができる。例えば、２面取りの場合、前述の図４に示すように、導電層の幅方向両端部に機能性表面層の未塗工部を設けることによって、ディスプレイ用フィルターの１辺に剥き出し電極を形成することができる。
【０１９２】
本発明において、ディスプレイ用フィルターに形成される空隙は、少なくともディスプレイ用フィルターの４辺の内の少なくとも対向する２辺に設けることが好ましく、特にディスプレイ用フィルターの４辺全てに空隙を設けることが好ましい。これは、空隙の外側にも機能性表面層が存在するので、ディスプレイ用フィルターの外周端部において機能性表面層によって導電層が保護されるという利点があるからである。また、空隙の周辺に機能性表面層が存在することによって、導電性部材の接着性が向上するという利点もある。      
【０１９３】
また積層体を得る工程（Ａ）では、導電層上に機能性表面層が塗工された後、乾燥及び必要に応じて硬化されて機能性表面層が形成された後、更にカバーフィルムを機能性表面層上に積層することが好ましい。カバーフィルムの積層は、機能性表面層の塗工、乾燥（硬化を含む）、巻き取りの一連の生産ラインの中で行われ、機能性表面層上にカバーフィルムが積層された状態で巻き取られる。
【０１９４】
次に必要に応じて、基材の導電層が形成された面とは反対面に、近赤外線遮蔽機能と色調調整機能を併せ持つ近赤外線遮蔽層が塗工形成され、更に、近赤外線遮蔽層上に接着層が塗工形成される。また、上記の近赤外線遮蔽層と接着層の積層に代えて、近赤外線遮蔽機能と色調調整機能を有する接着層を積層してもよい。
【０１９５】
上記のようにして、ディスプレイ用フィルターのための長尺積層体が製造される。
【０１９６】
次に、積層体の画像表示パネルの非画像表示領域に対応する部分の少なくとも一部に、機能性表面層側からレーザーを照射して、前述の特定の空隙を形成する工程（Ｂ）について説明する。空隙は、前述したようにレーザーを照射することによって形成されることが好ましい。レーザーによる空隙の形成方法の詳細は前述したとおりである。
【０１９７】
空隙の形成は、長尺積層体の状態で行ってもよいし、長尺積層体を切断して単一のディスプレイ用フィルターのサイズに加工してから行ってもよい。空隙の形成はカバーフィルムが積層された状態で行うのが好ましい。つまり、カバーフィルムの表面からレーザーを照射することによって、カバーフィルム表面から導電層に達し、かつ幅が２ｍｍ未満である空隙を形成することが好ましい。
【０１９８】
なお、カバーフィルムが積層された状態で空隙を形成する場合は、カバーフィルムの画像表示領域と非画像表示領域の境界線に対応する部分に、切り込み線を形成することが好ましい。
【０１９９】
上記のようにして、ディスプレイ用フィルターに空隙が形成された後、該空隙に導電性粘着剤層を介して導電性部材を貼着する工程（Ｃ）が実施される。
【０２００】
工程（Ｃ）において、カバーフィルムが積層されている場合は、少なくとも導電性部材の貼着領域に対応する部分のカバーフィルムを剥離した後、空隙に導電性粘着剤層を介して導電性部材を貼着することが好ましい。つまり、カバーフィルムの切り込み線に沿って非画像表示領域に対応する部分を剥離して、空隙部分を露出させ、空隙に導電性部材を貼着する。
【０２０１】
また、本発明の製造方法において、空隙の形成工程（Ｂ）、導電性部材の貼着工程（Ｃ）は、前述の積層体を画像表示パネルに装着した後で行ってもよい。また、ディスプレイ用フィルターを画像表示パネルに装着する前に空隙を形成し、装着後に導電性部材を貼着してもよい。
【０２０２】
また、カバーフィルムへの切り込み線の形成工程についても、上記と同様に、ディスプレイ用フィルターを画像表示パネルに装着する前に行ってもよいし、装着後に行ってもよい。
【０２０３】
以上、本発明のディスプレイ用フィルターの製造方法を説明したが、本発明のディスプレイ用フィルターにおいては、画像表示パネルに装着され、筐体が組み立てられる前の状態において、空隙に導電性部材が貼着されていることが重要であり、空隙の形成時期や導電性部材の貼着時期は特に制限されない。
【実施例】
【０２０４】
以下、実施例により本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。
＜導電層の厚み及び機能性表面層の合計厚みの測定方法＞
（１）導電性メッシュの厚みの測定方法
ミクロトームにてサンプル断面を切り出し、その断面を電解放射型走査電子顕微鏡（（株）日立製Ｓ―８００、加速電圧１５ｋＶ、観察倍率２５００倍）にて観察し、導電性メッシュの厚みを計測する。２０ｃｍ×２０ｃｍサイズのサンプル１枚から任意の１０箇所を選び、顕微鏡視野内に導電性メッシュ部が入るように設置してメッシュ厚みを計測し、その平均値を導電性メッシュの厚みとする。
【０２０５】
（２）機能性表面層の合計厚みの測定
ミクロトームにてサンプル断面を切り出し、その断面を電解放射型走査電子顕微鏡（（株）日立製Ｓ―８００、加速電圧１５ｋＶ、観察倍率２０００倍）にて観察し、機能性表面層の合計厚みを計測する。２０ｃｍ×２０ｃｍサイズのサンプル１枚から任意の開口部１０箇所を選び、導電性メッシュの開口部の重心における基材から機能性表面層までの距離を求め平均した。
（実施例１）
＜長尺積層体の作製＞
下記の要領で、ディスプレイ用フィルター用長尺積層体を作製した。
【０２０６】
＜基材＞
ロール状の長尺基材として、厚み１００μｍ、幅１０００ｍｍ、長さ１００ｍのロール状ＰＥＴフィルム（東レ（株）製  ルミラー（登録商標））を用いた。
【０２０７】
＜導電性メッシュを有する導電層の形成＞
上記の長尺基材の片方の面の幅方向両端部各１０ｍｍを除く全面に、スパッタリング法によりニッケル層（厚み０．０２μｍ）を形成し、更にその上に、厚みが２．５μｍの銅層を真空蒸着法により形成した。次いで、この銅層の表面にアルカリ現像型高感度ポジ型レジストフィルムを積層し、波長４０５ｎｍ半導体レーザーを用いて露光し、炭酸ナトリウムを１質量％含有する現像液を用いて現像処理を行った。次いで、塩化第２鉄溶液によりエッチング処理を行った後、３質量％水酸化ナトリウム水溶液で処理してレジスト層を剥離して、線幅１０μｍ、線ピッチ２５０μｍ、厚みが２．５μｍの連続メッシュパターンからなる導電性メッシュが、長尺基材の幅方向に９８０ｍｍ、長手方向に９０ｍに渡って形成された。次いで、酸化処理剤（メルテックス（株）製  エンプレート  ＭＢ―４３８Ａ／Ｂ／純水＝８／１３／７９の割合で調整）を用いて、導電性メッシュを黒化処理した。
＜機能性表面層の塗工＞
上記の導電層が形成されたＰＥＴフィルムの導電層上に、導電層のほぼ全面を被覆するように、下記のハードコート層、高屈折率層、及び低屈折率層を順次塗工した。これらの機能性表面層の塗工幅はいずれも９８０ｍｍである。
【０２０８】
機能性表面層の合計厚みは、測定の結果、８．１μｍであった。
＜ハードコート層の塗工形成＞
導電性フィルムの金属パターン層上に、市販のハードコート剤（ＪＳＲ（株）製  オプスター（登録商標）Ｚ７５３４；固形分濃度６０質量％）を、固形分濃度が４５質量％になるようにメチルエチルケトンで希釈して調製したハードコート層用塗工液をマイクログラビアコーターで塗工し、１００℃で乾燥後、紫外線１．０Ｊ／ｃｍ２を照射して硬化させ、ハードコート層を形成した。ハードコート層の塗工に際し、乾燥・硬化後の厚みが約８μｍとなるように塗工した。
＜高屈折率層の被覆＞
上記のハードコート層上に、市販の高屈折率・帯電防止塗料（ＪＳＲ（株）製  オプスター （登録商標）  ＴＵ４００５）をイソプロピルアルコールで固形分濃度８％に希釈して調製した高屈折率層用塗工液を、マイクログラビアコーターで塗布し、１００℃で乾燥後、紫外線１．０Ｊ／ｃｍ２を照射して硬化させ、１．６５の高屈折率層を形成した。高屈折率層の塗工に際し、乾燥・硬化後の厚みが約０．１μｍとなるように塗工した。
＜低屈折率層＞
上記の高屈折率層上に、市販の低屈折率層用塗料（ＪＳＲ（株）製  オプスター（登録商標）  ＴＵ２１８０）をメチルイソブチルケトンで固形分濃度が３質量％になるように希釈して調製した低屈折率層用塗工液を、マイクログラビアコーターで塗布し、１００℃で乾燥後、紫外線１．０Ｊ／ｃｍ２を照射して硬化させ、屈折率が１．３７の低屈折率層を形成した。低屈折率層の塗工に際し、乾燥・硬化後の厚みが約０．１μｍとなるように塗工した。
＜カバーフィルムの積層＞
低屈折率層の上に、低屈折率層の全面を被覆するようにカバーフィルム（日東電工（株）製の「Ｅ−ＭＡＳＫ ＩＰ３００」；３８μｍのＰＥＴフィルムに５μｍの微粘着層を積層）の微粘着層側を低屈折率層側にして積層した。カバーフィルムの幅は、９８０ｍｍである。
＜近赤外線遮蔽層の積層＞
前記ＰＥＴフィルムの基材に対して導電層を有する面とは反対面に、オレンジ光遮蔽機能を併せ持つ近赤外線遮蔽層（近赤外線吸収色素としてのフタロシアニン系色素とジイモニウム系色素、およびオレンジ光吸収色素としてのテトラアザポルフィリン系色素をアクリル系樹脂に混合した塗料を、乾燥膜厚みが１０μｍになるように塗工した層）を設けた。近赤外線遮蔽層の塗工幅は９８０ｍｍである。
＜接着層の積層＞
セパレートフィルム上に紫外線硬化型ウレタンアクリレート樹脂（日立化成ポリマー（株）製のハイボン（登録商標））をスリットダイコーターで、厚みが１００μｍになるように塗布した後、ＵＶ照射装置を用いて塗布膜を硬化し、続いてさらにセパレートフィルムを貼り付けて、セパレートフィルムにサンドウィッチされた接着層を得た。次に、上記で作製した積層体の近赤外線遮蔽層の上に、一方のセパレートフィルムを剥離しながら接着層を積層した。前記粘着層の幅は９８０ｍｍである。
【０２０９】
上記のようにして作製した、ディスプレイ用フィルター用長尺積層体の構成を以下に示す。
＜長尺積層体の構成＞
接着層／近赤外線遮蔽層／ＰＥＴフィルム／導電層／機能性表面層（ハードコート層／高屈折率層／低屈折率層）／カバーフィルム。  
＜ディスプレイ用フィルターの作製＞
上記のようにして作製した長尺積層体を、長辺９６４ｍｍ、短辺５５４ｍｍのシート状に切断して１枚のディスプレイ用フィルターを切り出した後、このディスプレイ用フィルターをレーザーカッター（コマックス製のＣＯ２レーザーカッター）に装着して、ディスプレイ用フィルターの４辺にそれぞれ端部から１０ｍｍ内側に直線状にレーザーを照射して連続した直線状の空隙（図１の符号４）を形成した。レーザーはカバーフィルムの表面から照射し、カバーフィルム及び機能性表面層を貫通し、導電層に達する空隙を形成した。この空隙によって形成された導電層露出部を電極とした。
【０２１０】
上記のようにして形成された空隙の長さは、長辺側で９３０ｍｍ、短辺側で５２０ｍｍであり、空隙の幅は０．７ｍｍである。
【０２１１】
続いて、上記のレーザーカッターにディスプレイ用フィルターを装着した状態で、画像表示領域と非画像表示領域との境界線に対応する部分（図１の符号５）の全部（長辺側はそれぞれ端部から１８ｍｍ内側、短辺側はそれぞれ端部から２１ｍｍ内側）に沿って、カバーフィルムの表面からレーザーを照射して、連続線からなる切り込み線を形成した。切り込み線がカバーフィルムのプラスチックフィルム部分のみを貫通するようにレーザーの出力を調整した。
【０２１２】
次に、カバーフィルムに設けられた切り込み線に沿って、非画像表示領域のみのカバーフィルムを剥離除去し、空隙に下記の導電性部材を導電性粘着剤層を介して貼着した。＜導電性部材＞
本発明のイ）の導電性部材として、厚みが５０μｍの導電性繊維からなる布帛に厚みが２５μｍの導電性粘着剤層が積層された導電性部材を用いた。この導電性部材の幅は６ｍｍである。
＜画像表示パネルの作製＞
上記のようにして作製したディスプレイ用フィルターの接着層が画像表示パネル側になるように、ディスプレイ用フィルターをプラズマディスプレイの画像表示パネルに貼合した。
＜プラズマディスプレイの組み立て＞
上記のようにして作製された画像表示パネルに筐体の前面カバーを組み立てるに際し、画像表示領域のカバーフィルムを剥離除去した後に前面カバーを組み立てた。
（実施例２）
導電性部材を下記のものに変更する以外は、実施例１と同様にした。
＜導電性部材＞
本発明のロ）の導電性部材として、１ｃｍ２当たり１０個の貫通孔（直径０．７ｍｍの円形）を有する、厚み２０μｍのＰＥＴフィルムの両面に、それぞれ厚み３μｍのアルミニウムが蒸着された導電性プラスチックフィルムに、厚みが２５μｍの導電性粘着剤層が積層された導電性部材を用いた。この導電性部材の幅は６ｍｍである。
（実施例３）
導電性部材を下記のものに変更する以外は、実施例１と同様にした。
＜導電性部材＞
本発明のハ）の導電性部材として、厚みが２５μｍの離型ＰＥＴフィルムに厚みが２５μｍの導電性粘着剤層が積層された導電性部材を用いた。この導電性部材の幅は６ｍｍである。
【０２１３】
但し、ディスプレイの組み立てに際し、筐体の全面カバーを組み立てる前に、導電性部材の離型ＰＥＴフィルムは剥離しておいた。
（比較例１）
導電性部材を下記のものに変更する以外は、実施例１と同様にした。
＜導電性部材＞
従来の導電性粘着テープとして、厚みが５０μｍのアルミニウム箔に厚みが２５μｍの導電性粘着剤層が積層されたものを用いた。この導電性部材の幅は６ｍｍである。
＜電磁波遮蔽性の評価＞
実施例及び比較例で作製したディスプレイについて、温度２５℃、相対湿度５０％の環境下に３０日間放置後、以下の要領で電磁波遮蔽性を評価した。
【０２１４】
リケン製３ｍ法電波暗室にSchwarzbeck製アンテナを設置し、Rohde & Schwarz 製ＥＭＩテストレシーバおよびAgilent Technologies製スペクトラムアナライザを用いて、プラズマディスプレイから放射される周波数３０〜８８ＭＨｚの放射エミッションを測定した。ＦＣＣ規格ｃｌａｓｓＢを満たすためには、４０ｄＢ以下が許容値である。
＜評価結果＞
本発明の実施例１〜３は、いずれも３５ｄＢ程度で良好であったが、比較例１は４０ｄＢを越えていた。
【符号の説明】
【０２１５】
１  基材
２  導電層
３  機能性表面層
４  空隙
５  画像表示領域と非画像表示領域の境界
６  剥き出し電極
１１  基材上に導電層が形成された長尺の導電層積層基材
１２  機能性表面層の未塗工部
２０  本発明の導電性部材
２１  導電性部材の基材
２２  導電性部材の導電性粘着剤層
３１  画像表示パネル
３２  筐体の前面カバー
３３  ガスケット
３４  外部電極
１００  本発明のディスプレイ用フィルター
Ｌ  空隙の幅
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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