(57)【要約】【課題】流体液滴吐出用ノズル形状を提供する。【解決手段】流体吐出装置は、ノズル面と基板を貫通して流体を流す通路とを有する基板であって、通路が基板のノズル面における開口を含むノズルを有する、基板と、通路内の流体がノズルから吐出されるようにする駆動素子と、を備える。ノズルは、開口から離れる方向に延びる側壁を有し、側壁は、開口から離れるにつれて外側に広がる傾斜を有する。開口の長さの開口の幅に対するアスペクト比は、少なくとも２：１である。【選択図】図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ノズル面と基板を貫通して流体を流す通路とを有する基板であって、前記通路が前記基板の前記ノズル面における開口を含むノズルを有する、基板と、
前記通路内の流体が前記ノズルから吐出されるようにする駆動素子と、
を備え、
前記ノズルは前記開口から離れる方向に延びる側壁を有し、前記側壁は前記開口から離れるにつれて外側に広がる傾斜を有し、前記開口の長さの前記開口の幅に対するアスペクト比が少なくとも２：１である、
流体吐出装置。
【請求項２】
前記基板が流路本体及びノズル層を有し、前記ノズル層が前記ノズル面と反対側に前記流路本体に接合する第２面を有する、請求項１に記載の流体吐出装置。
【請求項３】
前記側壁は、前記第２面から前記ノズル面まで内側に傾斜する、請求項２に記載の流体吐出装置。
【請求項４】
前記アスペクト比が２：１から５０：１の間である、請求項１乃至３のいずれかに記載の流体吐出装置。
【請求項５】
前記アスペクト比が２：１から２０：１の間である、請求項４に記載の流体吐出装置。
【請求項６】
前記アスペクト比が約５：１である、請求項５に記載の流体吐出装置。
【請求項７】
前記開口が矩形を形成する、請求項１乃至６のいずれかに記載の流体吐出装置。
【請求項８】
ノズル面と基板を貫通して流体を流す通路とを有する基板であって、前記通路が前記基板の前記ノズル面における開口を含むノズルを有する、基板と、
前記通路内の流体が前記ノズルから吐出されるようにする駆動素子と、
を備え、
前記開口が複数の実質的に直線状のセグメントを有し、前記複数の実質的に直線状のセグメントが少なくとも一つの凸状角部を形成するように交差し、前記複数の実質的に直線状のセグメントのうちの第１セグメントの長さの前記第１セグメントの幅に対するアスペクト比が少なくとも２：１である、流体吐出装置。
【請求項９】
前記基板が流路本体及びノズル層を有し、前記ノズル層が前記ノズル面と反対側に前記流路本体に接合する第２面を有する、請求項８に記載の流体吐出装置。
【請求項１０】
前記凸状角部における曲率半径が、前記第１セグメントの幅の１／２未満である、請求項８又は９に記載の流体吐出装置。
【請求項１１】
前記複数の実質的に直線状のセグメントが少なくとも一つの２７０°の角度を形成するように交差する、請求項８乃至１０のいずれかに記載の流体吐出装置。
【請求項１２】
各セグメントが長さ及び幅を有し、各セグメントの前記長さの前記幅に対するアスペクト比が少なくとも２：１である、請求項８乃至１１のいずれかに記載の流体吐出装置。
【請求項１３】
前記アスペクト比が２：１から５０：１の間である、請求項８乃至１２のいずれかに記載の流体吐出装置。
【請求項１４】
前記アスペクト比が２：１から２０：１の間である、請求項１３に記載の流体吐出装置。
【請求項１５】
前記アスペクト比が約５：１である、請求項１４に記載の流体吐出装置。
【請求項１６】
前記開口が十字型を形成する、請求項８乃至１５のいずれかに記載の流体吐出装置。
【請求項１７】
前記開口がＴ字型を形成する、請求項８乃至１５のいずれかに記載の流体吐出装置。
【請求項１８】
前記開口が工字型を形成する、請求項８乃至１５のいずれかに記載の流体吐出装置。
【請求項１９】
粘度が３ｃＰ未満である液体を含む流体リザーバと、
ノズル面と基板を貫通して前記リザーバからの液体を流す通路とを有する基板であって、前記通路が前記基板の前記ノズル面における開口を含むノズルを有し、前記開口の長さの前記開口の幅に対するアスペクト比が少なくとも２：１である、基板と、
前記通路内の液体が前記ノズルから吐出されるようにする駆動素子と、
を備える流体吐出装置。
【請求項２０】
前記基板が流路本体及びノズル層を有し、前記ノズル層が前記ノズル面と反対側に前記流路本体に接合する第２面を有する、請求項１９に記載の流体吐出装置。
【請求項２１】
前記液体の粘度が約２ｃＰである、請求項１９又は２０に記載の流体吐出装置。
【請求項２２】
前記アスペクト比が２：１から５０：１の間である、請求項１９乃至２１のいずれかに記載の流体吐出装置。
【請求項２３】
前記アスペクト比が２：１から２０：１の間である、請求項２２に記載の流体吐出装置。
【請求項２４】
前記アスペクト比が約５：１である、請求項２３に記載の流体吐出装置。
【請求項２５】
前記開口が矩形を形成する、請求項１９乃至２４に記載の流体吐出装置。
【請求項２６】
前記開口が楕円形を形成する、請求項１９乃至２４に記載の流体吐出装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、一般に流体液滴吐出に関する。
【背景技術】
【０００２】
ある種の流体液滴吐出装置において、シリコン基板等の基板内に、流体ポンプ室、下降部及びノズルが形成されている。プリント動作等において、流体液滴を、ノズルから媒体上に吐出することができる。ノズルは下降部に流体接続されていて、下降部は流体ポンプ室に流体接続されている。流体ポンプ室を、熱アクチュエータ又は圧電アクチュエータ等のトランスデューサによって駆動することができ、流体ポンプ室は、駆動されるとノズルを通して流体液滴が吐出されるようにすることができる。媒体は、流体吐出装置に対して移動させることができる。ノズルからの流体液滴の吐出を、媒体の移動とタイミングを合わせることにより、媒体上の所望の場所に流体液滴を配置することができる。
【０００３】
流体吐出装置は、一般に複数のノズルを有し、通常、媒体上への流体液滴の均一な付着をもたらすために、均一なサイズ及び速度の流体液滴を同じ方向に吐出することが望ましい。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開昭５９−１７８２５８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
プリントヘッドからの流体液滴吐出での一つの問題は、プリントヘッドモジュールのノズルから吐出される流体液滴の量及び速度が不安定である可能性があり、それにより、プリント媒体上への液滴の着弾が不正確になるとともに、プリントヘッドの耐久性に問題が生じる可能性がある、ということである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
概して、一態様では、流体吐出装置は、ノズル面と基板を貫通して流体を流す通路とを有する基板であって、通路が基板のノズル面における開口を含むノズルを有する、基板と、通路内の流体がノズルから吐出されるようにする駆動素子と、を備える。ノズルは、開口から離れる方向に延びる側壁を有し、側壁は、開口から離れるにつれて外側に広がる傾斜を有する。開口の長さの開口の幅に対するアスペクト比は、少なくとも２：１である。
【０００７】
この実施形態及び他の実施形態は、任意に、以下の特徴のうちの一つ又は複数を含むことができる。基板は、流路本体及びノズル層を有することができ、ノズル層は、ノズル面と反対側に流路本体に接合する第２面を有する。側壁は、第２面からノズル面まで内側に傾斜することができる。アスペクト比は、２：１から５０：１の間であってもよい。アスペクト比は、２：１から２０：１の間、例えば約５：１であってもよい。開口は矩形を形成してもよい。側壁の傾斜角は、例えば、約３０°から約６０°の間であってもよく、約３５°、約４５°又は約５４°であってもよい。
【０００８】
概して、一態様では、流体吐出装置は、ノズル面と基板を貫通して流体を流す通路とを有する基板であって、通路が基板のノズル面における開口を含むノズルを有する、基板と、通路内の流体がノズルから吐出されるようにする駆動素子と、を備える。開口は、複数の実質的に直線状のセグメントを有し、複数の実質的に直線状のセグメントは、少なくとも一つの凸状角部を形成するように交差する。複数の実質的に直線状のセグメントのうちの第１セグメントの長さの第１セグメントの幅に対するアスペクト比は、少なくとも２：１である。
【０００９】
この実施形態及び他の実施形態は、任意に、以下の特徴のうちの一つ又は複数を含むことができる。基板は、流路本体及びノズル層を有することができ、ノズル層は、流路本体に接合する上面とノズル面を提供する底面を有する。凸状角部における曲率半径は、第１セグメントの幅の１／２未満であってもよい。実質的に直線状のセグメントは、少なくとも一つの２７０°の角度を形成するように交差することができる。各セグメントは、長さ及び幅を有することができ、各セグメントの長さの幅に対するアスペクト比は、少なくとも２：１であってもよい。アスペクト比は、２：１から５０：１の間であってもよい。アスペクト比は、２：１から２０：１の間、例えば約５：１であってもよい。開口は、十字型、Ｔ字型又は工字型を形成してもよい。
【００１０】
概して、一態様では、流体吐出装置は、粘度が３ｃＰ未満である液体を含む流体リザーバと、ノズル面と基板を貫通してリザーバからの液体を流す通路とを有する基板であって、通路が基板のノズル面における開口を含むノズルを有する、基板と、通路内の液体がノズルから吐出されるようにする駆動素子と、を備える。
開口の長さの開口の幅に対するアスペクト比は、少なくとも２：１であってもよい。
【００１１】
この実施形態及び他の実施形態は、任意に、以下の特徴のうちの一つ又は複数を含むことができる。基板は、流路本体及びノズル層を有することができ、ノズル層は、ノズル面と反対側に流路本体に接合する第２面を有する。液体の粘度は、約２ｃＰであってもよい。アスペクト比は、２：１から５０：１の間であってもよい。アスペクト比は、２：１から２０：１の間、例えば約５：１であってもよい。開口は、矩形又は楕円形を形成していてもよい。
【００１２】
実施態様によっては、以下の利点のうちの一つ又は複数を有することができる。ノズルの開口の長さの幅に対するアスペクト比を少なくとも２：１まで増加させることにより、液滴サイズに影響を及ぼすことなくノズルの抵抗を増大させることができる。そして、抵抗を増大させることにより、特に低粘度の流体の場合に、流体吐出中の液滴の安定性を向上させることができる。
【００１３】
本発明の一つ又は複数の実施形態の詳細を、添付図面及び以下の説明において示す。本発明の他の特徴、態様及び利点は、説明、図面及び特許請求の範囲から明らかとなろう。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】流体吐出構造の例の斜視図である。
【図２】プリントヘッドモジュールの例の一部の断面概略図である。
【図３】ノズル層の底面図である。
【図４Ａ】プリントヘッドモジュールのノズルの断面概略図である。
【図４Ｂ】プリントヘッドモジュールのノズルの断面概略図である。
【図４Ｃ】プリントヘッドモジュールのノズルの断面概略図である。
【図４Ｄ】ノズルを製造するために用いられる多層基板の断面概略図である。
【図５】矩形ノズルの例の平断面図である。
【図６】十字型ノズルの例の平断面図である。
【図７】工字型ノズルの例の平断面図である。
【００１５】
それぞれの図面における同様の参照番号及び名称は同様の要素を示す。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
アスペクト比が２：１を上回る開口部を有するノズルを用いることで、流体に対する抵抗を増大させて液滴の量及び速度をより安定させることができ、したがって、特に低粘度の流体の場合に流体液滴吐出工程の質を向上させることができる。
【００１７】
図１に示すように、流体液滴吐出用のプリントヘッド１００の実施態様は、ケーシング１１０を有している。プリント媒体の上に一つ又は複数のプリントヘッドを保持するプリントバーにプリントヘッド１００を固定するために、ケーシング１１０に取付アセンブリ１４０が取り付けられている。プリントヘッド１００はまた、ケーシング１１０の底部に流体吐出モジュール１２０、例えば平行四辺形状プリントヘッドモジュールが取り付けられており、それは、半導体処理技法を用いて製造されるダイであり得る。プリントヘッドモジュール１２０は、複数の流体流路２２２（図２参照）が形成されている基板１３０を有している。プリントヘッドモジュール１２０は、流路から流体が選択的に吐出されるようにする複数の駆動素子６８０も更に有している（図２の断面図には、一組の流路及び駆動素子のみを示す）。したがって、各流路はその関連する駆動素子とともに、個々に制御可能な微小電気機械素子（ＭＥＭＳ）流体吐出ユニットを提供する。基板１３０を、単結晶シリコン等のシリコンから構成することができる。
【００１８】
図２に示すように、基板１３０は、微細加工された通路又は流路２２２が内部に形成されている流路本体６０５を有している。流路本体６０５の上面に膜６７５が形成されていて、膜６７５の上に駆動素子６８０が配置されている。各流路は、流入路６２０（複数の流路に対して共通の流入路であり得る）と、上昇部６３０と、膜６７５によって提供される可撓性の壁を有する流体ポンプ室６４０と、ノズル１８０に至る下降部６５０と、を有している。任意に、流路本体６０５に形成されている再循環流路６６０が、下降部６５０から帰還流路６７０（複数の流路に対して共通の帰還流路であり得る）に流体接続している。駆動素子６８０が駆動されると、ポンプ室６４０が収縮し、流体を強制的に下降部６５０に通し、ノズル１８０から流体液滴が吐出される。
【００１９】
基板１３０はまた、その底面にノズル層１３２を有しており、そこにノズル１８０が形成されている。ノズル１８０は、流路２２２の一部であってもよく、ノズル層１３２内に延在することができる。ノズル層１３２は、流路本体６０５に固定される層であってもよく、それにより、底面１３５は別個のノズル層１３２の一面として形成される。或いは、ノズル層１３２は、基板１３０と一体の部分、例えば流路本体をエッチングして形成してもよい。
【００２０】
図３（ノズルを示す底面図）に示すように、各ノズル１８０は、基板１３０又はノズル層１３２の底面１３５における開口で終端する。ノズル１８０は規則的に配列されていてもよく、例えば、底面１３５はノズル１８０の複数の列１７０を有していてもよいが、実施態様によっては、プリントヘッドモジュールはノズルの単一列しか有していなくてもよい。
【００２１】
図４Ａに示すように、各ノズル１８０は、基板１３０又はノズル層１３２の下面の開口５５０に至る垂直側壁８０４を備えた下部分８０２と、傾斜側壁８０８を備えた上部漏斗型部分８０６と、を有することができる。或いは、図４Ｂに示すように、傾斜側壁８１０が開口５５０まで延在していてもよい。図４Ａ及び図４Ｂに示す実施態様では、ノズル１８０の側壁８０８又は８１０は、上方に行くにつれて外側に広がるように傾斜していてもよい。傾斜側壁８１０は、基板１３０の底面１３５（図３参照）と４５°の角度を形成していてもよい。或いは、図４Ｃに示すように、ノズル１８０は、下降部６５０まで延在する垂直側壁８１２を有することができる。したがって、ノズルの側部は、開口から垂直方向にまっすぐに延在してもよく、即ち、開口５５０の面に対して垂直であってもよい。図４Ａ〜図４Ｃの実施態様では、開口５５０は、基板面１３５に対して平行である、一つ又は複数の長さ又は幅等の寸法を有することができる。
【００２２】
図４Ｄに示すように、ノズル１８０を、例えばシリコン・オン・インシュレータ（ＳＯＩ）基板等の多層基板９６０から形成することができる。多層基板９６０は、シリコンの下部ハンドル層９６６、中間絶縁体層９６４及びシリコンの上部ノズル層９６２を有することができる。そして、シリコンノズル層９６２をその外面（中間層から離れている側）からエッチングしてノズル１８０を形成することができる（図４Ｄには一つのノズル形成しか示していない）。シリコンノズル層９６２を、例えば、シリコン基板を異方性エッチングすることによってエッチングすることができる。ウェットエッチング技法等の異方性エッチングには、限定されないが、エッチング液としてエチレンジアミン又はＫＯＨを用いる技法が含まれ得る。異方性エッチングは、１１１面からよりも１００面から迅速に粒子を除去し、そのため、図４Ａ及び図４Ｂに示すような傾斜壁を形成する。或いは、シリコンノズル層を、深堀り反応性イオンエッチング（ＤＲＩＥ）によってエッチングすることができる。ＤＲＩＥは、プラズマを利用して、図４Ｃに示すような実質的に垂直な側壁を有する形状を形成するようにシリコンを選択的にエッチングする。
【００２３】
そして、エッチングしたシリコンノズル層９６２を、下降部及び他の流路機構を有する、流路本体６０５（図２参照）等の流路本体に位置合せする。流路本体及びノズル層を、下降部がノズルと位置合せされるように配置する。そして、流路モジュールとノズル層とを接合する。直接シリコン接合の後、二つのシリコン層は、接合が完了した時に二つの層間に境目が全くないか又は実質的にないように接合される。流路本体とノズル層とが互いに接合された後、シリコンのハンドル層９６６を、例えばバルク研磨工程によって除去する。そして、酸化物層９６４を、エッチングによって完全に除去することができ、それによりノズル開口を露出させる。
【００２４】
任意に、最初のエッチングがシリコン層全体に及ぶ必要はなく、流路本体にシリコンノズル層９６２が取り付けられてハンドル層９６６が除去された後に、シリコンノズル層９６２に対して外面から追加のエッチングステップ、例えばＤＲＩＥエッチングを施すことができる（これにより、図４Ａに示すノズルを製作することができる）。
【００２５】
図５に示す実施形態では、ノズル１８０は形状が矩形であり、開口５５０の長さＬは開口５５０の幅Ｗより長い。長さＬの幅Ｗに対するアスペクト比は、２：１から５０：１の間、例えば２：１から２０：１の間、例えば２：１、３：１、４：１、５：１又は６：１であり得る。例えば、幅Ｗは５μｍであってもよく、長さＬは３１μｍであってもよい。
【００２６】
他の実施態様では、例えば図６及び図７に示すように、開口５５０は、複数の実質的に直線状のセグメントを有している。直線状セグメントが交差することにより、少なくとも一つの凸状角部を形成する（即ち、開放領域にわたって測定されるノズルの交差する内壁間の角度αが１８０°を超える）。図６の実施態様では、直線状セグメント３０２及び３０４は十字型に交差している。凸状角部３１０は、直線状セグメント３０２及び３０４の交差部分に形成される。例えば、角部３１０はおよそ２７０°（開放領域にわたって測定）であってもよい。角部３１０における曲率半径は、直線状セグメント３０２の幅ｗ又は直線状セグメント３０４の幅ｗ′の１／２未満である。直線状セグメント３０２の長さｌは直線状セグメント３０２の幅ｗより長い。同様に、直線状セグメント３０４の長さｌ′は直線状セグメント３０４の幅ｗ′より長い。図２に示す実施形態と同様に、ｌのｗに対するアスペクト比及び／又はｌ′のｗ′に対するアスペクト比は、２：１から５０：１の間、例えば２：１、３：１、４：１、５：１又は６：１であり得る。図６では、直線状セグメント３０２及び３０４は、各直線状セグメントの中間点近くで交差しているように示されているが、そうである必要はない。例えば、直線状セグメントはＬ字型又はＴ字型を形成することができる。更に、図６では、直線状セグメント３０２及び３０４は長さ及び幅が同じであるように示されているが、各直線状セグメントの長さ及び／又は幅は互いに異なってもよい。更に、図６の実施形態では二つの直線状セグメントしか示していないが、三つから六つの間の直線状セグメント等、直線状セグメントの数が追加されていてもよい。
【００２７】
図７の実施態様では、ノズル１８０の開口５５０は工字型である。したがって、ノズル１８０は三つの直線状セグメント４０２、４０４及び４０６を有している。直線状セグメント４０２、４０４及び４０６の互いとの交差部分に、凸状角部４１０が形成されている。長さｌ、ｌ′及びｌ″は、幅ｗ、ｗ′及びｗ″より長い。したがって、図５及び図６の実施形態と同様に、直線状セグメント４０２、４０４、４０６のうちの一つ又は複数の長さ及び幅のアスペクト比は、２：１から５０：１の間、例えば２：１から２０：１の間、例えば２：１、３：１、４：１、５：１又は６：１であり得る。更に、図６の実施形態では、直線状セグメント４０２、４０４及び４０６の幅を等しいものとして示し、直線状セグメント４０４、４０２の長さを互いに等しくかつ直線状セグメント４０６の長さより短いように示すが、そうである必要はない。例えば、長さｌ、ｌ′及びｌ″は全て互いに等しくてもよく、幅ｗ、ｗ′及びｗ″は全て互いに等しくてもよい。或いは、長さ及び幅は全て異なっていてもよく、又は異なるものと同じものとがあってもよい。
【００２８】
２：１を上回るアスペクト比を有するノズル１８０の開口５５０の他の形状も考えられる。例えば、ノズル１８０の開口５５０は、楕円形状又は星型であってもよい。或いは、開口５５０のセグメントは直線状でなくてもよく、円形であるか又は湾曲していてもよい。実施態様によっては、ノズル１８０の開口５５０の形状は、複数のノズルをノズル層１３２の上に適合させることによって制約されてもよい。更に、実施態様によっては、ノズル開口の形状をエッチング工程によって制約してもよく、それは、凸状角部が、ここで説明したよりも複雑な形状の角部で発生するアンダーカットを補償するように、ＫＯＨエッチング工程でコーナー補償構造を備えたマスクを必要とする可能性があるためである。
【００２９】
流体吐出モジュール１００の動作中、流体は、基板流入口（不図示）を通って流入路６２０に流れ込む。そして、流体は、上昇部６３０、流体ポンプ室６４０及び下降部６５０内を流れる。流体は、下降部６５０から任意の再循環流路６６０を通って帰還流路６７０まで流れることができる。駆動素子６８０が駆動されると、圧力パルスが下降部６５０を下ってノズル１８０まで伝わり、この圧力パルスによってノズル１８０から流体液滴を吐出させることができる。
【００３０】
ノズル駆動率、流速、流れ方向及び流体粘度等の種々の流れ状態の変動により、ノズル領域におけるインピーダンスの変動がもたらされる可能性があり、それにより流体吐出工程に変動がもたらされる可能性がある。例えば、流体の粘度が低いか又はノズル開口面積が広い結果として、ノズル１８０における抵抗が低い場合、液滴メニスカスが不安定になる可能性があり、流体液滴吐出工程に不正確さが生じる。一方で、例えばノズル開口面積が狭いか又は流体の粘度が高い結果として、ノズル１８０における抵抗が高い場合、流体液滴を発射するために必要な電圧を上昇させなければ、流体を吐出することができない可能性がある。
【００３１】
流体吐出工程における制約によって、液滴サイズを、例えば０．５ｐｌから５ｐｌの間、例えば２ｐｌの液滴を生成するように一定に保ち、かつ、流体粘度が、６ｃＰ未満、例えば２ｃＰ〜３ｃＰ等、低い必要がある場合、正方形の開口を有するノズルの抵抗は、液滴メニスカスを安定化させるために十分でない可能性がある。抵抗を、ノズル開口のアスペクト比を増加させることによって増大させることができる。即ち、液滴サイズは、概してノズル開口の面積に比例する。一方、抵抗は、ノズル開口の小さい方の寸法の３乗に比例し、大きい方の寸法に対して線形である。抵抗、面積及びアスペクト比の関係を、以下の式に示す。
【００３２】
Ｒ＝ＣμＬ／（ａ３ｂ）
ここで、Ｒは抵抗であり、Ｃは開口の小さい方の寸法の大きい方の寸法に対する比によって決まる定数であり、μは粘度であり、Ｌはノズル側壁の長さであり、ａは開口の幅であり、ｂは開口の長さである。したがって、例えば、ノズル面積が維持されるが、ノズル開口のアスペクト比が増加する場合、ノズルにおける抵抗を、開口の面積を変化させることなく（したがって本質的に液滴サイズを変化させることなく）増大させることができる。アスペクト比を、例えば、矩形、十字型又は工字型開口を有するノズル等、本明細書で説明するノズルを実装することにより増大させることができる。更に、電圧と特定の設計のアスペクト比との両方を変化させることにより、粘度及び量が同じであるが、液滴メニスカスを安定化するために抵抗を増大させる第二の設計を得ることが可能である。
【００３３】
明細書及び特許請求の範囲を通して「正面」、「背面」、「上部」、「下部」、「上方」及び「下方」等の用語の使用は、システムの様々な構成要素の相対的な位置及び向きを示すためのものであり、プリントヘッド又は他の任意の構成要素の重力に対する特定の向きを示唆するものではない。
【００３４】
本発明の特定の実施形態について説明した。他の実施形態は、以下の特許請求の範囲内にある。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４Ａ】
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【図４Ｂ】
2010240639.tif 000007
【図４Ｃ】
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【図４Ｄ】
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【図５】
2010240639.tif 000010
【図６】
2010240639.tif 000011
【図７】
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