(57)【要約】      （修正有）【課題】ラビング筋を減少させた信頼性のある配向膜が得られる液晶表示装置の製造方法の提供。【解決手段】複数の柱状スペーサが形成された第２複数枚取り基板と対向する、複数の矩形状のパネル基板領域ＰＳＤに第１有機絶縁膜を含む積層体が形成され、非パネル領域にパターン化された複数の金属膜と前記柱状スペーサの受座となる第２有機絶縁膜とが形成された第１複数枚取り基板ＬＳＢ１に関して、前記積層体の上面に形成された樹脂膜に、前記パネル基板領域の配列方向に対して実質的に平行あるいは垂直な方向にラビングを行うことによって配向膜を形成する液晶表示装置の製造方法であって、それぞれの前記パネル基板領域の各辺のうち前記ラビングの開始側の方向に位置する一辺側の前記非パネル領域に形成される前記第２有機絶縁膜は、前記金属膜を被い、少なくとも前記一辺の全体にわたって前記一辺に沿って連続して形成されている。【選択図】図１
2010204233.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１複数枚取り基板と、この第１複数枚取り基板と対向され複数の柱状スペーサが形成された第２複数枚取り基板のうち、
前記第１複数枚取り基板には、前記第１複数枚取り基板において配列される複数の矩形状のパネル基板領域に、第１有機絶縁膜を含む積層体が形成され、各パネル基板領域の周辺の非パネル領域に、パターン化された複数の金属膜と、前記柱状スペーサの台座となる第２有機絶縁膜とが形成され、
前記第１複数枚取り基板の前記各パネル基板領域における前記積層体の上面に形成された樹脂膜に、前記パネル基板領域の配列方向に対して実質的に平行な方向あるいは実質的に垂直な方向にラビングを行うことによって配向膜を形成する液晶表示装置の製造方法であって、
それぞれの前記パネル基板領域の各辺のうち前記ラビングの開始側の方向に位置する一辺側の前記非パネル領域に形成される前記第２有機絶縁膜は、前記金属膜を被い、少なくとも前記一辺の全体にわたって前記一辺に沿って連続して形成されていることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項２】
前記ラビングの方向に対して交差する方向に配列される複数のパネル基板領域のそれぞれの前記ラビング開始側の非パネル領域に形成される前記第２有機絶縁膜は、互いに接続されて形成されていることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項３】
前記第２有機絶縁膜は、各パネル基板領域を囲んで連続して形成されていることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項４】
前記第２有機絶縁膜は、前記第１有機絶縁膜の形成の際に同時に形成される有機絶縁膜であることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項５】
前記金属膜はマークとして形成されていることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項６】
前記マークはアライメントマークとして形成されていることを特徴とする請求項５に記載の液晶表示装置。
【請求項７】
前記金属膜はコードとして形成されていることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項８】
第１複数枚取り基板と、この第１複数枚取り基板と対向され複数の柱状スペーサが形成された第２複数枚取り基板のうち、
前記第１複数枚取り基板には、前記第１複数枚取り基板において配列される複数の矩形状のパネル基板領域に、第１有機絶縁膜を含む積層体が形成され、各パネル基板領域の周辺の非パネル領域に、パターン化された複数の金属膜と、前記柱状スペーサの台座となる第２有機絶縁膜とが形成され、
前記第１複数枚取り基板の前記各パネル基板領域における前記積層体の上面に形成された樹脂膜に、前記パネル基板領域の配列方向に対して斜め方向にラビングを行うことによって配向膜を形成する液晶表示装置の製造方法であって、
それぞれの前記パネル基板領域の各辺のうち前記ラビングの開始側の方向に位置する二辺側の前記非パネル領域に形成される前記第２有機絶縁膜は、前記金属膜を被い、少なくとも前記二辺の全体にわたって前記二辺に沿って連続して形成され、かつ、隣接される他のパネル基板領域に対応して形成された前記第２絶縁膜と互いに接続されていることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項９】
前記第２有機絶縁膜は、各パネル基板領域を囲んで連続して形成されていることを特徴とする請求項８に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項１０】
前記第２有機絶縁膜は、前記第１有機絶縁膜の形成の際に同時に形成される有機絶縁膜であることを特徴とする請求項８に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項１１】
前記金属膜はマークとして形成されていることを特徴とする請求項８に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項１２】
前記マークはアライメントマークとして形成されていることを特徴とする請求項１１に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項１３】
前記金属膜はコードとして形成されていることを特徴とする請求項８に記載の液晶表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は液晶表示装置の製造方法に係り、特に、貼り合わせた一対の複数枚取り基板を切断することによって複数の液晶セルを形成する液晶表示装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
このような液晶表示装置の製造方法は、複数の領域（パネル基板領域と称する場合がある）のそれぞれに画像表示部を形成した一対の複数枚取り基板を、それぞれ画像表示部が形成されている面を対向させ、前記画像表示部のそれぞれを囲んで形成されるシール材によって貼り合わせた後に、これら一対の複数枚取り基板の前記シール材に近接する箇所を切断することによって、複数の液晶セルを得るようになっている。
【０００３】
このような液晶表示装置の製造方法では、複数枚取り基板の各パネル基板領域の配向膜に対して、一括してラビングを行っている。
【０００４】
尚、本願発明に関連するものとしては下記特許文献１、２、３がある。
【０００５】
特許文献１には、基板のパネル基板領域の外側に、パネル基板領域の周辺に沿って突起あるいは溝を設けた記載がある。前記突起あるいは溝は、配向膜のラビング方向の入口側および出口側に設けられ、これにより、ラビング処理の際に発生する塵埃等を除去あるいは塞き止めるようにしている。
【０００６】
特許文献２には、アレイ基板と対向基板とを貼り合わせてセルを組み立てる際に歪みが生じるのを防止するために、対向基板またはアレイ基板上のスクライブ除去される周辺領域に柱状スペーサの列を設けておくものが開示されている。
【０００７】
特許文献３には、基板のパネル基板領域の外側に、等間隔に配置された複数の凸段差部を設け、配向膜のラビング処理において、前記凸段差部の間にラビング布のパイルを通過させることによって、前記パイルの偏りを矯正して配向処理するものが開示されている。また、前記凸段差部は表示領域外周に配置されたスペーサであり、前記凸段差部に囲まれた領域内に柱状スペーサが設けられている記載がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２００５−８４２２４号公報
【特許文献２】特開２０００−２９０４２号公報
【特許文献３】特開２００２−３５０８５７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
液晶表示装置の製造において、一対の複数枚取り基板のうちの一方の複数枚取り基板（第１複数枚取り基板と称する場合がある）の各パネル基板領域の周辺の領域（非パネル領域と称する場合がある）において、例えばアライメントマークなどのマーク、あるいは各パネル基板領域（あるいは液晶セル）を特定するためのコード等となるパターン化された複数の金属膜を形成する場合がある。
【００１０】
また、近年の液晶表示装置の大型化にともない、一対の複数枚取り基板のうちの他方の複数枚取り基板（第２複数枚取り基板と称する場合がある）の各パネル基板領域に柱状スペーサを形成し、この柱状スペーサは非パネル領域にも形成させる場合がある。これにより、一対の複数枚取り基板の全域にわたっていわゆるギャップ出しの信頼性を確保できるからである。
【００１１】
ここで、第１複数枚取り基板の各パネル基板領域に、層厚の比較的大きな有機絶縁膜からなる保護膜が形成される場合、非パネル領域の前記柱状スペーサと対向する領域にも、前記保護膜の形成の際に同時に有機絶縁膜を形成することを検討した。前記有機絶縁膜を柱状スペーサの台座とすることにより、非パネル領域とパネル基板領域とにおける基板間のギャップを均一にするためである。
【００１２】
図１２（ａ）は、本発明に対する比較例の前記第１複数枚取り基板（図中符号ＬＳＢ１で示す）の画像表示部が形成された側の面を示す平面図である。また、図１２（ｂ）、図１２（ｃ）は、それぞれ、図１２（ａ）のｂ−ｂ線、ｃ−ｃ線における断面図を示している。図１２（ｂ）、図１２（ｃ）では、後の工程で貼り合わせられる第２複数枚取り基板ＬＳＢ２とこの第２複数枚取り基板ＬＳＢ２に形成された柱状スペーサＰＳＰとを点線で示している。なお、図１２（ａ）、（ｂ）、（ｃ）は、それぞれ本発明の実施例１を説明する図２（ａ）、（ｂ）、（ｃ）と対応づけて描画している。このため、以下に説明する内容以外の詳細な説明は実施例１における説明を参照されたい。
【００１３】
図１２（ａ）において、第１複数枚取り基板ＬＳＢ１がある。第１複数枚取り基板ＬＳＢ１には、後に切断される液晶表示パネルの領域（以下、パネル基板領域ＰＳＤと称する）を点線枠で示している。パネル基板領域ＰＳＤは矩形状からなり、たとえば、図中ｘ方向に２個、図中ｙ方向に２個互いに離間されて配列されている。
【００１４】
それぞれのパネル基板領域ＰＳＤの表面には、マトリックス状に多数の画素が配列された画像表示部ＡＲが形成されている。この画像表示部ＡＲは、パターン化された導電層、絶縁層、および半導体層等を所定の順序に積層させて構成されている。ここで、前記絶縁膜の一つとして、たとえば、樹脂を塗布することによって形成され比較的膜厚が大きな有機絶縁膜からなる保護膜（図  １２（ｃ）において符号ＰＡＳ２で示す）が形成されている。
【００１５】
それぞれのパネル基板領域ＰＳＤの周辺の領域となる非パネル領域ＮＰＤには、パターン化された金属膜ＭＴが複数個並設されて形成されている。これらの金属膜ＭＴは、たとえばアライメントマークなどのマーク、あるいは各パネル基板領域（あるいは液晶セル）を特定するためのコード等として機能するようになっている。また、前記非パネル領域ＮＰＤには、有機絶縁膜ＯＰＳが形成されている。この有機絶縁膜ＯＰＳは、前記画像表示部ＡＲに前記保護膜ＰＡＳ２を形成する際に同時に形成され、その厚さは、保護膜ＰＡＳ２の厚さとほぼ等しくなっている。
【００１６】
この有機絶縁膜ＯＰＳは、第１複数枚取り基板ＬＳＢ１に対して対向配置される第２複数枚取り基板ＬＳＢ２に形成された柱状スペーサＰＳＰの台座として機能するようになっている。柱状スペーサＰＳＰは、図１２（ａ）に点線丸で示しており、パネル基板領域ＰＳＤ、および非パネル領域ＮＰＤに形成されている。貼り合わされた一対の複数枚取り基板ＬＳＢ１、ＬＳＢ２の全域に及んでギャップ出しの信頼性を確保せんとするためである。このことから、非パネル領域ＮＰＤに形成される有機絶縁膜ＯＰＳは柱状スペーサＰＳＰと対向する部分に形成されている（図１２（ｂ）、（ｃ）参照）。そして、この場合、有機絶縁膜ＯＰＳは、この比較例では、前記金属膜ＭＴの形成領域を回避するように形成した。これにより、たとえばアライメントマークとして機能する金属膜ＭＴを目視し易くしている。なお、第１複数枚取り基板ＬＳＢ１と第２複数枚取り基板ＬＳＢ２との貼り合わせは、図 １２（ｃ）に示すシール材ＳＬによってなされるようになっている。このシール材ＳＬは、各パネル基板ＰＳＤの周辺に画像表示領域ＡＲを囲んで形成されている。
【００１７】
しかし、図１２（ａ）に示した第１複数枚取り基板ＬＳＢ１は、第２複数枚取り基板ＬＳＢ２と貼り合わせる前に、各パネル基板領域のそれぞれの上層に形成した樹脂膜（図１２（ｃ）において符号ＲＳＭ（ＯＲＩ）で示す）にラビングを施して配向膜を構成する行程を必要とする。
【００１８】
この場合、図１３（ａ）に示すように、たとえば、図中ｙ方向に回転軸を一致づけて配置されるラビングローラＲＢＬを図中ｘ方向に相対移動させてラビングを行う場合、前記樹脂膜ＲＳＭ（ＯＲＩ）にいわゆるラビング筋と称される筋状のラビングむらが図中ｘ方向に連続して形成されてしまうことが確認された。なお、図１３（ａ）、および次に示す図１３（ｂ）は、それぞれ、図１２（ａ）、（ｂ）に対応する図であるが、第２複数膜取り基板ＬＳＢ２および第２複数膜取り基板ＬＳＢ２に形成された柱状スペーサＰＳＰを図示していない図となっている。
【００１９】
本発明者等は、この原因を究明した結果、各パネル基板領域ＰＳＤにおいて、ラビング開始側の非パネル領域ＮＰＤに形成される有機絶縁膜ＯＰＳは、アライメントマーク等の金属膜ＭＴ上に形成されるのを回避しているため、ラビングローラＲＢＬの軸方向（図中ｙ方向）に断続的に形成されていることが原因であることを見出した。すなわち、図１３（ａ）のｂ−ｂ線における断面図である図１３（ｂ）に示すように、ラビングローラＲＢＬが有機絶縁膜ＯＰＳを乗り越えて図中ｘ方向に相対的に移動する際に、有機絶縁膜ＯＰＳの大きな段差部（図中ＳＤで示す）によって毛乱れが発生し、この毛乱れがパネル基板領域ＰＳＤ上の樹脂膜ＲＳＭ（ＯＲＩ）に図中ｘ方向に連続するラビング筋を発生させてしまうことを見出した。すなわち、ラビングローラＲＢＬにおいて、有機絶縁膜ＯＰＳを通過した部分と、有機絶縁膜ＯＰＳを通過しなかった部分とで、ラビングの状態が異なってしまうことを見出した。
【００２０】
本発明の目的は、ラビング筋を減少させた信頼性のある配向膜が得られる液晶表示装置の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００２１】
本発明の液晶表示装置の製造方法は、第１複数枚取り基板の非パネル領域において、柱状スペーサの台座として形成される有機絶縁膜を、アライメントマーク等として機能させる金属膜を被うようにして、断続部のない連続したパターンとして形成するようにしたものである。すなわち、前記有機絶縁膜の断続部によって発生するラビングローラの毛乱れを前記断続部を無くすことによって低減させようとするものである。
【００２２】
本発明の構成は、たとえば、以下のようなものとすることができる。
【００２３】
（１）本発明の液晶表示装置の製造方法は、第１複数枚取り基板と、この第１複数枚取り基板と対向され複数の柱状スペーサが形成された第２複数枚取り基板のうち、
前記第１複数枚取り基板には、前記第１複数枚取り基板において配列される複数の矩形状のパネル基板領域に、第１有機絶縁膜を含む積層体が形成され、各パネル基板領域の周辺の非パネル領域に、パターン化された複数の金属膜と、前記柱状スペーサの台座となる第２有機絶縁膜とが形成され、
前記第１複数枚取り基板の前記各パネル基板領域における前記積層体の上面に形成された樹脂膜に、前記パネル基板領域の配列方向に対して実質的に平行な方向あるいは実質的に垂直な方向にラビングを行うことによって配向膜を形成する液晶表示装置の製造方法であって、
それぞれの前記パネル基板領域の各辺のうち前記ラビングの開始側の方向に位置する一辺側の前記非パネル領域に形成される前記第２有機絶縁膜は、前記金属膜を被い、少なくとも前記一辺の全体にわたって前記一辺に沿って連続して形成されていることを特徴とする。
【００２４】
（２）本発明の液晶表示装置の製造方法は、（１）において、前記ラビングの方向に対して交差する方向に配列される複数のパネル基板領域のそれぞれの前記ラビング開始側の非パネル領域に形成される前記第２有機絶縁膜は、互いに接続されて形成されていることを特徴とする。
【００２５】
（３）本発明の液晶表示装置の製造方法は、（１）において、前記第２有機絶縁膜は、各パネル基板領域を囲んで連続して形成されていることを特徴とする。
【００２６】
（４）本発明の液晶表示装置の製造方法は、（１）において、前記第２有機絶縁膜は、前記第１有機絶縁膜の形成の際に同時に形成される有機絶縁膜であることを特徴とする。
【００２７】
（５）本発明の液晶表示装置の製造方法は、（１）において、前記金属膜はマークとして形成されていることを特徴とする。
【００２８】
（６）本発明の液晶表示装置の製造方法は、（５）において、前記マークはアライメントマークとして形成されていることを特徴とする。
【００２９】
（７）本発明の液晶表示装置の製造方法は、（１）において、前記金属膜はコードとして形成されていることを特徴とする。
【００３０】
（８）本発明の液晶表示装置の製造方法は、第１複数枚取り基板と、この第１複数枚取り基板と対向され複数の柱状スペーサが形成された第２複数枚取り基板のうち、
前記第１複数枚取り基板には、前記第１複数枚取り基板において配列される複数の矩形状のパネル基板領域に、第１有機絶縁膜を含む積層体が形成され、各パネル基板領域の周辺の非パネル領域に、パターン化された複数の金属膜と、前記柱状スペーサの台座となる第２有機絶縁膜とが形成され、
前記第１複数枚取り基板の前記各パネル基板領域における前記積層体の上面に形成された樹脂膜に、前記パネル基板領域の配列方向に対して斜め方向にラビングを行うことによって配向膜を形成する液晶表示装置の製造方法であって、
それぞれの前記パネル基板領域の各辺のうち前記ラビングの開始側の方向に位置する二辺側の前記非パネル領域に形成される前記第２有機絶縁膜は、前記金属膜を被い、少なくとも前記二辺の全体にわたって前記二辺に沿って連続して形成され、かつ、隣接される他のパネル基板領域に対応して形成された前記第２絶縁膜と互いに接続されていることを特徴とする。
【００３１】
（９）本発明の液晶表示装置の製造方法は、（８）において、前記第２有機絶縁膜は、各パネル基板領域を囲んで連続して形成されていることを特徴とする。
【００３２】
（１０）本発明の液晶表示装置の製造方法は、（８）において、前記第２有機絶縁膜は、前記第１有機絶縁膜の形成の際に同時に形成される有機絶縁膜であることを特徴とする。
【００３３】
（１１）本発明の液晶表示装置の製造方法は、（８）において、前記金属膜はマークとして形成されていることを特徴とする。
【００３４】
（１２）本発明の液晶表示装置の製造方法は、（１１）において、前記マークはアライメントマークとして形成されていることを特徴とする。
【００３５】
（１３）本発明の液晶表示装置の製造方法は、（８）において、前記金属膜はコードとして形成されていることを特徴とする。
【００３６】
なお、上記した構成はあくまで一例であり、本発明は、技術思想を逸脱しない範囲内で適宜変更が可能である。また、上記した構成以外の本発明の構成の例は、本願明細書全体の記載または図面から明らかにされる。
【発明の効果】
【００３７】
上述した液晶表示装置の製造方法によれば、ラビング筋を減少させた信頼性のある配向膜が得られるようになる。
【００３８】
本発明のその他の効果については、明細書全体の記載から明らかにされる。
【図面の簡単な説明】
【００３９】
【図１】本発明の液晶表示装置の製造方法の実施例１を示す概略平面図である。
【図２】図１に示した第１複数枚取り基板を示す構成図である。
【図３】図１に示した第１複数枚取り基板に形成される画素の等価回路図である。
【図４】図１に示した第１複数枚取り基板と第２複数枚取り基板を貼り合わせる場合に用いられるシール材を示した平面図である。
【図５】第１複数枚取り基板と第２複数枚取り基板の非パネル領域に柱状スペーサを形成しない場合における問題点を示した説明図である。
【図６】図１に示した第１複数枚取り基板に形成される画素を示した構成図である。
【図７】本発明の液晶表示装置の製造方法の実施例２を示す概略平面図である。
【図８】本発明の液晶表示装置の製造方法の実施例３を示す概略平面図である。
【図９】本発明の液晶表示装置の製造方法の実施例４を示す概略平面図である。
【図１０】本発明の液晶表示装置の製造方法の実施例５を示す概略平面図である。
【図１１】本発明の液晶表示装置の製造方法の実施例６を示す概略平面図である。
【図１２】比較例の第１複数枚取り基板の一例を示す構成図である。
【図１３】比較例の第１複数枚取り基板にラビングを施す場合の不都合を示す説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００４０】
本発明の実施例を図面を参照しながら説明する。なお、各図および各実施例において、同一または類似の構成要素には同じ符号を付し、説明を省略する。
【実施例１】
【００４１】
（全体の構成）
図１は、本発明の液晶表示装置の製造方法の実施例１を示す概略平面図である。図２（ａ）は、本発明による液晶表示装置の製造方法の実施例１を示した要部構成図で、液晶を挟持して対向配置される一対の複数枚取り基板のうち一方の基板である複数枚取り基板ＬＳＢ１（以下、第１複数枚取り基板ＬＳＢ１と称する）を示す平面図である。また、図２（ｂ）、（ｃ）は、それぞれ、図２（ａ）のｂ−ｂ線、ｃ−ｃ線における断面図を示している。図２（ｂ）、図２（ｃ）では、後の工程で貼り合わせられる第２複数枚取り基板ＬＳＢ２とこの第２複数枚取り基板ＬＳＢ２に形成された柱状スペーサＰＳＰとを点線で示している。図２（ｂ）、（ｃ）をこのように図示したのは、柱状スペーサＰＳＰの第１複数枚取り基板ＬＳＢ１上における位置を明らかにせんとするためである。
【００４２】
図２（ａ）に示す第１複数枚取り基板ＬＳＢ１は、その主面の最上層に形成された樹脂膜ＲＳＭ（ＯＲＩ）にラビングローラ（図１において符号ＲＢＬで示す）を用いてラビングすることにより配向膜を形成する直前の状態の平面図となっている。この第１複数枚取り基板ＬＳＢ１は、ラビングが行われた後に、第２複数枚取り基板ＬＳＢ２をシール材ＳＬ（図２（ｃ）参照）によって貼り合わせ、いわゆるギャップ出しを行った後に、前記第２複数取り基板ＳＵＢ２とともに切断され、液晶表示パネル毎に分離されるようになっている。
【００４３】
図２（ａ）に示す第１複数枚取り基板ＬＳＢ１には、後に切断される液晶表示パネルの領域（以下、パネル基板領域ＰＳＤと称する）を点線枠で示している。図１では、一枚の第１複数枚取り基板ＬＳＢ１においてたとえば４個の矩形状からなるパネル基板領域ＰＳＤが互いに離間されて図中ｘ方向に２個、図中ｙ方向に２個配列されている。
【００４４】
ここで、パネル基板領域ＰＳＤの表面には画像表示部ＡＲが形成され、この画像表示部ＡＲはマトリックス状に配置された多数の画素から構成されている。図３は、画像表示部ＡＲの等価回路を示している。図３に示すように、図中ｘ方向に伸長され図中ｙ方向に並設されるゲート信号線ＧＬと図中ｙ方向に伸長され図中ｘ方向に並設されるドレイン信号線ＤＬとで囲まれた矩形状の領域を画素領域（図中点線枠ＰＩＸで示す）とし、この画素領域内に、一方のゲート信号線ＧＬからの走査信号の供給によってオンされる薄膜トランジスタＴＦＴと、このオンされた薄膜トランジスタＴＦＴを通して一方のドレイン信号線ＤＬからの映像信号が供給される画素電極ＰＸと、この画素電極ＰＸとの間で液晶に電界を発生させる対向電極ＣＴを備えている。この対向電極ＣＴはコモン信号線ＣＬを通して前記映像信号に対する基準信号が供給されるようになっている。このような画素は、ＩＰＳ（In Plane Switching）方式、あるいは横電界方式と称される構成となっている。しかし、本発明は、このような構成に限らず、ＴＮ（Twisted Nematic）、ＳＴＮ（Super Twisted Nematic）方式、あるいは縦電界方式と称される構成のものであっても適用できる。
【００４５】
このような画素は、パネル基板領域ＰＳＤにおいて、パターン化された導電膜、絶縁膜、および半導体膜等を所定の順序に積層させて構成されている。この場合、前記絶縁膜のうちの一つとして薄膜トランジスタＴＦＴを被うようにして形成される保護膜ＰＡＳ２（図２（ｃ）参照。但し、図２（ｃ）では薄膜トランジスタＴＦＴは図示せず。）を備え、この保護膜ＰＡＳ２は膜厚の大きな（例えば１μｍ以上の）たとえば樹脂からなる有機絶縁膜（第１有機絶縁膜と称する場合がある）からなっている。なお、前記画素の構成は図６を用いて後に詳述する。
【００４６】
また、パネル基板領域ＰＳＤのそれぞれには、図４に示すように、その周囲において、画像表示部ＡＲを囲むようにしてシール材ＳＬが形成されるようになっている。このシール材ＳＬは、第１複数枚取り基板ＬＳＢ１と第２複数枚取り基板ＬＳＢ２との貼り合わせる直前（配向膜の形成後）に形成されるようになっている。なお、図４に示すシール材ＳＬは、液晶封入口を有しないものであるが、該液晶封入口が備えられていてもよい。本発明は、液晶セル内に液晶を充填する方法の違いによらず適用できるからである。
【００４７】
図２（ａ）に戻り、第１複数枚取り基板ＬＳＢ１の主面には、上述したパネル基板領域ＰＳＤ以外の領域である非パネル領域ＮＰＤを備えている。この非パネル領域ＮＰＤは、パネル基板領域ＰＳＤのそれぞれの周辺の領域に形成されている。すなわち、非パネル領域ＮＰＤは、第１複数枚取り基板ＬＳＢ１の外周輪郭と各パネル基板領域ＰＳＤとの間の領域と、互いに隣接する各パネル基板領域ＰＳＤの間の領域とからなっている。
【００４８】
そして、この非パネル領域ＮＰＤには、パターン化された金属膜ＭＴが形成されている。この金属膜ＭＴは、それぞれのパネル基板領域ＰＳＤを囲むように、複数形成され、たとえばアライメントマークなどのマーク、あるいは各パネル基板領域ＰＳＤ（あるいは液晶セル）を特定するためのコード等として機能するようになっている。この金属膜ＭＴは、パネル基板領域ＰＳＤ内にたとえば前記ゲート信号線ＧＬを形成する場合において、ゲート信号線ＧＬの形成の際に同時にゲート信号線ＧＬの材料で形成するようになっている。しかし、これに限らず、金属膜ＭＴは、ドレイン信号線ＤＬの形成の際に同時にドレイン信号線ＤＬの材料で形成するようにしてもよい。また、金属膜ＭＴは、ゲート信号線ＧＬの形成の際に同時にゲート信号線ＧＬの材料で形成したものと、ドレイン信号線ＤＬの形成の際に同時にドレイン信号線ＤＬの材料で形成したものとを組み合わせたものであってもよい。
【００４９】
また、前記非パネル領域ＮＰＤには、有機絶縁膜ＯＰＳが形成されている。この有機絶縁膜ＯＰＳは、第１複数枚取り基板ＬＳＢ１に対して第２複数枚取り基板ＬＳＢ２を貼り合わせた際に、第２複数枚取り基板ＬＳＢ２の非パネル領域ＮＰＤに対向する領域に形成された柱状スペーサＰＳＰの台座として機能するようになっている。
【００５０】
第２複数枚取り基板ＬＳＢ２には、パネル基板領域ＰＳＤおよび非パネル領域ＮＰＤに複数の柱状スペーサＰＳＰが散在されて形成されている（図２（ａ）にはこれらの柱状スペーサＰＳＰの配置箇所を点線丸で示している）。非パネル領域ＮＰＤに柱状スペーサＰＳＰを形成するのは、たとえば、図５に示すように、非パネル領域ＮＰＤに柱状スペーサを設けなかった場合、シール材ＳＬを始点として第２複数枚取り基板ＬＳＢ２が歪み、第１複数枚取り基板ＬＳＢ１とのギャップが均一にならなくなってしまうのを防止するためである。ここで、図５は、図２（ｃ）に対応させて描画した図となっている。この場合、図２（ｃ）で示した樹脂膜ＲＳＭ（ＯＲＩ）は、図５においてラビング処理され配向膜ＯＲＩとなっている。
【００５１】
前記有機絶縁膜ＯＰＳは、前記画像表示部ＡＲにおいて前記保護膜（有機絶縁膜）ＰＡＳ２を形成する際に同時に形成され、このため、その厚さは、前記保護膜ＰＡＳ２の厚さとほぼ等しくなっている。この有機絶縁膜（第２有機絶縁膜と称する場合がある）ＯＰＳは、図２（ｂ）に示すように、前記金属膜ＭＴを被うとともに、隣接する金属膜ＭＴの間の領域にも連続的に形成されている。これにより、有機絶縁膜ＯＰＳは、パネル基板領域ＰＳＤのそれぞれを囲むようにして断続することなく連続して形成されるようになっている。
【００５２】
なお、第１複数枚取り基板ＬＳＢ１の非パネル領域ＮＰＤには、図２（ａ）、（ｂ）に示すように、前記金属膜ＭＴ、有機絶縁膜ＯＰＳの他に、たとえば絶縁膜ＧＩ、保護膜ＰＡＳ１、絶縁膜ＬＩ等も積層されて形成されている。いずれもパネル基板領域ＰＳＤにおいて形成される膜で、パネル基板領域ＰＳＤおよび非パネル領域ＮＰＤにおけるそれぞれの積層膜の高さを等しくせんがために設けられている。
【００５３】
このように構成された第１複数枚取り基板ＬＳＢ１は、図１に示すように、その主面の最上層において各パネル基板領域ＰＳＤ毎に形成された樹脂膜ＲＳＭ（ＯＲＩ）にラビングローラＲＢＬを用いてラビングすることにより前記配向膜ＯＲＩを形成する工程を経るようになっている。なお、図１に示す第１複数枚取り基板ＬＳＢ１は図２（ａ）に示した第１複数枚取り基板ＬＳＢ１と同様の構成となっている。但し、図１に示す第１複数枚取り基板ＬＳＢ１は簡略化して描画している。第１複数枚取り基板ＬＳＢ１の非パネル領域ＮＰＤにおいて、金属膜ＭＴの描画を省略し、これら金属膜ＭＴを被い断続することなく連続して形成される有機絶縁膜ＯＰＳを示している。
【００５４】
図１中、ラビングローラＲＢＬは、たとえば、その回転軸を図中ｙ方向に一致づけられ、図中ｘ方向に相対移動するようになっている。実際には、第１複数枚取り基板ＬＳＢ１がｘ方向とは逆の方向に移動する。すなわち、パネル基板領域ＰＳＤの配列方向に対して実質的に平行な方向あるいは実質的に垂直な方向にラビングを行う。ここで、実質的にとは、誤差が±１°以内のものを含む。この場合、ラビングローラＲＢＬと第１複数枚取り基板ＬＳＢ１との相対移動の過程において、ラビングローラＲＢＬが乗り上げる有機絶縁膜ＯＰＳは、ラビングローラＲＢＬの軸方向において、断続部による段差（図１３（ｂ）の符号ＳＤ参照）がないことから、この段差によってラビングローラＲＢＬに毛乱れが発生することが無くなる。すなわち、ラビングローラＲＢＬは、パネル基板領域ＰＳＤに対応する部分全体が一様に有機絶縁膜ＯＰＳを通過することとなるので、ラビングローラＲＢＬの毛の状態はパネル基板領域ＰＳＤに対応する部分全体で一様になる。このため、配向膜にいわゆるラビング筋（筋状のラビングむら）が発生するのを防止することができる。したがって、上述した液晶表示装置の製造方法によれば、ラビング筋を減少させた信頼性のある配向膜ＯＲＩを得るようにできる。
【００５５】
（画素の構成）
図６（ａ）、（ｂ）は、前記第１複数枚取り基板ＬＳＢ１のパネル基板領域ＰＳＤ内に形成された画素の構成を示す図で、図３の画素領域ＰＩＸにおける構成を示している。図６（ａ）は平面図、図６（ｂ）は図６（ａ）のｂ−ｂ線における断面図である。
【００５６】
まず、パネル基板領域ＰＳＤの面に、図中ｘ方向に延在されｙ方向に並設されるゲート信号線ＧＬが形成されている。パネル基板領域ＰＳＤの面には、ゲート信号線ＧＬをも被って絶縁膜ＧＩが形成され、この絶縁膜ＧＩは後述の薄膜トランジスタＴＦＴの形成領域においてゲート絶縁膜として機能するようになっている。
【００５７】
ゲート絶縁膜ＧＩの表面であってゲート信号線ＧＬの一部に重畳する薄膜トランジスタＴＦＴの形成領域に、たとえばアモルファスＳｉからなる半導体層ＡＳが島状に形成されている。前記薄膜トランジスタＴＦＴは、前記半導体層ＡＳの表面に、互いに対向配置されたドレイン電極ＤＴ、ソース電極ＳＴが形成されることにより、ゲート信号線ＧＬの一部をゲート電極とする逆スタガ構造のＭＩＳ（Metal Insulator Semiconductor）型トランジスタが構成されるようになる。
【００５８】
パネル基板領域ＰＳＤの面には、図中ｙ方向に延在しｘ方向に並設されるドレイン信号線ＤＬが形成され、このドレイン信号線ＤＬの一部を前記半導体層ＡＳの表面に延在させることにより、該延在部を薄膜トランジスタＴＦＴのドレイン電極ＤＴとするようになっている。また、ドレイン信号線ＤＬの形成の際に、薄膜トランジスタＴＦＴのソース電極ＳＴが形成され、このソース電極ＳＴは半導体層ＡＳの形成領域を超えて画素領域に延在するパッド部ＰＤを具備して構成されている。このパッド部ＰＤは後述の画素電極ＰＸと電気的に接続される部分として構成される。
【００５９】
パネル基板領域ＰＳＤの面には、ドレイン信号線ＤＬ等をも被って保護膜ＰＡＳが形成されている。この保護膜ＰＡＳは薄膜トランジスタＴＦＴの液晶との直接の接触を回避するための絶縁膜からなり、たとえば、無機絶縁膜からなる保護膜ＰＡＳ１および有機絶縁膜からなる保護膜ＰＡＳ２の積層構造から構成される。保護膜ＰＡＳ２において有機絶縁膜を用いたのはたとえばその表面を平坦化させるためである。
【００６０】
保護膜ＰＡＳ２の表面であって隣接する一対のゲート信号線ＧＬの間には、該ゲート信号線ＧＬの走行方向に沿って形成されるコモン信号線ＣＬが形成されている。このコモン信号線ＣＬは図中ｘ方向に並設される各画素領域のほぼ全域を被って形成され、各画素領域における対向電極ＣＴを兼備した構成となっている。このコモン信号線ＣＬ（対向電極ＣＴ）は、たとえばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）からなる透光性導電膜から構成されている。
【００６１】
パネル基板領域ＰＳＤの面には、コモン信号線ＣＬ（対向電極ＣＴ）をも被って無機絶縁膜からなる絶縁膜ＬＩが形成され、この絶縁膜ＬＩの上面には各画素領域に画素電極ＰＸが形成されている。絶縁膜ＬＩは画素電極ＰＸと後述の対向電極ＣＴとの層間絶縁を図る層間絶縁膜としての機能を有する。画素電極ＰＸは、たとえば図中ｙ方向に延在されｘ方向に並設された複数（図ではたとえば３個）の線状の電極からなり、これら各電極は、前記薄膜トランジスタＴＦＴ側の端部において互いに接続された接続部ＪＮを備えている。画素電極ＰＸは、たとえばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）からなる透光性導電膜から構成されている。画素電極ＰＸの接続部ＪＮの一部は、層間絶縁膜ＬＩおよび保護膜ＰＡＳに形成されたスルーホールＴＨを通して前記ソース電極ＳＴのパッド部ＰＤに電気的に接続されるようになっている。また、この場合において、コモン信号線ＣＬ（対向電極ＣＴ）において、予め、前記スルーホールＴＨとほぼ同軸で該スルーホールＴＨよりも充分に径の大きな開口ＯＰが形成され、前記画素電極ＰＸが対向電極ＣＴと電気的にショートしてしまうのを回避させている。
【００６２】
なお、図６（ａ）、（ｂ）に示す画素は、絶縁膜ＬＩ上に画素電極ＰＸをも被って樹脂膜ＲＳＭ（ＯＲＩ）が形成されている。この樹脂膜ＲＳＭ（ＯＲＩ）は、図１で示したラビングローラＲＢＬによってラビングがなされることによって配向膜が形成されるようになっている。
【００６３】
このような構成からなる画素を形成する際、第１複数枚取り基板ＬＳＢ１の非パネル領域ＮＰＤには、図２（ｂ）、（ｃ）に示したように、金属膜ＭＴ、絶縁膜ＧＩ、保護膜ＰＡＳ１、有機絶縁膜ＯＰＳ（保護膜ＰＡＳ２）、絶縁膜ＬＩの順次積層体が形成されるようになっている。但し、絶縁膜ＧＩ、保護膜ＰＡＳ１、絶縁膜ＬＩについては、基板間のギャップの均一性が問題にならない程度であれば、一部または全部を非パネル領域ＮＰＤに形成しないようにしてもよい。このように、非パネル領域ＮＰＤには、前記金属膜ＭＴによってアライメントマークなどのマーク、あるいは各パネル基板領域ＰＳＤ（あるいは液晶セル）を特定するためのコード等を構成するとともに、前記有機絶縁膜ＯＰＳによって柱状スペーサＰＳＰの台座を構成するようになっている。
【実施例２】
【００６４】
図７は、本発明の液晶表示装置の製造方法の実施例２を説明する構成図である。図７は、図１と対応させて描画しており、図示の第１複数枚取り基板ＬＳＢ１は図１（ａ）に示した第１複数枚取り基板ＬＳＢ１と同様の構成となっている。尚、図１と同様に金属膜ＭＴは図示を省略している。
【００６５】
図７において、図１の場合と異なる構成は、ラビングローラＲＢＬの相対移動方向にある。ラビングローラＲＢＬは、その回転軸を図中ｘ方向に一致づけられ、図中ｙ方向に相対移動するようになっている。実際は、第１複数枚取り基板ＬＳＢ１がｙ方向とは逆の方向に移動する。すなわち、パネル基板領域ＰＳＤの配列方向に対して実質的に平行な方向あるいは実質的に垂直な方向にラビングを行う。ここで、実質的にとは、誤差が±１°以内のものを含む。
【００６６】
このようにしてラビングを行っても、ラビングローラＲＢＬが乗り上げる有機絶縁膜ＯＰＳは、ラビングローラＰＢＬの軸方向において、断続部による段差がないことから、この段差によってラビングローラＲＢＬに毛乱れが発生することが無くなる。このため、樹脂膜ＲＳＭ（ＯＲＩ）にいわゆるラビング筋が発生するのを防止することができる。
【実施例３】
【００６７】
図８（ａ）、（ｂ）は、本発明の液晶表示装置の製造方法の実施例３を説明する構成図である。
【００６８】
図８（ａ）は、図１に対応して描画した簡略図となっており、第１複数枚取り基板ＬＳＢ１の非パネル領域ＮＰＤにおいて、金属膜ＭＴの描画を省略して示している。そして、この図８（ａ）では、前記非パネル領域ＮＰＤに形成される有機絶縁膜ＯＰＳのうち、少なくとも前記金属膜ＭＴを被い断続することなく連続して形成される必要のある有機絶縁膜ＯＰＳを示している。このため、非パネル領域ＮＰＤに形成されている有機絶縁膜ＯＰＳのうち、図示されている有機絶縁膜ＯＰＳ以外の有機絶縁膜ＯＰＳは、該当する箇所において、図２（ａ）に示したように各金属層ＭＴを被うことなく形成され、前記金属層ＭＴの形成領域で断続されて形成されていてもよい。図示されている有機絶縁膜ＯＰＳは、それぞれのパネル基板領域ＰＳＤの各辺のうちラビングの開始側の方向に位置する一辺側の非パネル領域ＮＤＰに形成されるようになっている。そして、この有機絶縁膜ＯＰＳは、金属膜ＭＴを被い、少なくとも前記一辺の全体にわたって前記一辺に沿って連続して形成されている。尚、ｙ方向に隣接するパネル基板領域ＰＳＤのそれぞれに対応する有機絶縁膜ＯＰＳ同士の間には、断続部ＧＰを有していてもよい。これに限られず、断続部ＧＰを有しないように互いに接続してもよい。
【００６９】
このように構成した場合、ラビングローラＲＢＬは、その回転軸が図中ｙ方向に一致づけられて、図中ｘ方向に相対移動し、図示されている有機絶縁膜ＯＰＳを乗り上げた後に、各パネル基板領域ＰＳＤに形成されている樹脂膜をラビングするようになる。この場合、各パネル基板領域ＰＳＤに対応する位置には、前記有機絶縁膜ＯＰＳにおいて、ラビングローラＲＢＬの軸方向に、断続部による段差がないことから、ラビングローラＲＢＬに毛乱れが発生することが無く、樹脂膜ＲＳＭ（ＯＲＩ）にいわゆるラビング筋が発生するのを防止することができる。ちなみに、ラビングローラＲＢＬにおいて、図示した断続部ＧＰや、図示されていないｘ方向に延在し断続部を有する有機絶縁膜などを乗り上げる箇所があっても、この箇所によって、各パネル基板領域ＰＳＤの樹脂膜をラビングするようなことはないことから問題となることはない。
【００７０】
図８（ｂ）は、ラビングローラＲＢＬが、その回転軸において図中ｘ方向に一致づけられて、図中ｙ方向に相対移動する場合における第１複数枚取り基板ＬＳＢ１の構成を示した図である。この場合においても、第１複数枚取り基板ＬＳＢ１の非パネル領域ＮＰＤにおいて、金属膜ＭＴの描画を省略して示している。そして、図８（ｂ）では、前記非パネル領域ＮＰＤに形成される有機絶縁膜ＯＰＳのうち、少なくとも前記金属膜ＭＴを被い断続することなく連続して形成される必要のある有機絶縁膜ＯＰＳを示している。
【００７１】
図示されている有機絶縁膜ＯＰＳは、図８（ａ）の場合と同様の関係にあり、それぞれのパネル基板領域ＰＳＤの各辺のうちラビングの開始側の方向に位置する一辺側の非パネル領域ＮＤＰに形成されるようになっている。そして、この有機絶縁膜ＯＰＳは、金属膜ＭＴを被い、少なくとも前記一辺の全体にわたって前記一辺に沿って連続して形成されている。尚、ｘ方向に隣接するパネル基板領域ＰＳＤのそれぞれに対応する有機絶縁膜ＯＰＳ同士の間には、断続部を有していてもよい。これに限られず、断続部を有しないように互いに接続してもよい。
【００７２】
ラビングローラＲＢＬは、その回転軸が図中ｘ方向に一致づけられて、図中ｙ方向に相対移動し、図示されている有機絶縁膜ＯＰＳを乗り上げた後に、各パネル基板領域ＰＳＤに形成されている樹脂膜ＲＳＭ（ＯＲＩ）をラビングするようになる。この場合、各パネル基板領域ＰＳＤに対応する位置には前記有機絶縁膜ＯＰＳに断続部による段差がないことから、ラビングローラＲＢＬに毛乱れが発生することが無く、樹脂膜ＲＳＭ（ＯＲＩ）にいわゆるラビング筋が発生するのを防止することができる。
【実施例４】
【００７３】
図９（ａ）、（ｂ）は、本発明の液晶表示装置の製造方法の実施例４を説明する構成図である。尚、金属膜ＭＴは図示を省略している。
【００７４】
図９（ａ）は、実施例３の図８（ａ）に対応させて描画した図となっている。図９（ａ）において、図８（ａ）の場合と比較して異なる構成は、まず、ラビングローラＲＢＬは、その回転軸が図中ｙ方向に対して若干の傾き（図中角度Θ°）を有し、図中ｘ方向に移動するようになっている。Θは、１°より大きく５°以内が望ましい。このようにラビングローラＲＢＬを駆動させるのは、ラビングローラＲＢＬのある箇所に最初から毛乱れが生じていた場合の対応策であり、ラビングローラＲＢＬの移動方向に対して斜め方向（図中右肩上がり）に形成される短いラビング筋を、断続的に繰り返して形成されるようにするためである。このようにした場合、図８（ａ）のようにラビングローラＲＢＬの前記角度Θ°を０とし、毛乱れによってラビング筋が連続した直線状に形成されてしまう場合と比べると、コントラスト面においてラビング筋の影響を低減させることができる。
【００７５】
そして、第１複数枚取り基板ＬＳＢ１において、パネル基板領域ＰＳＤのラビングの開始側の方向に位置する一辺側の非パネル領域ＮＰＤに形成された有機絶縁膜ＯＰＳは、図中ｙ方向に並設されるもの同士で互いに接続されるようになっている。さらに、このように互いに接続された有機絶縁膜ＯＰＳは、傾きを有するラビングローラＲＢＬが第１複数枚取り基板ＳＵＢ１に近接する側の端部において、若干の延在部（図中ＥＸで示す）を有するようにして形成されている。
【００７６】
有機絶縁膜ＯＰＳを上述のように形成したのは、前記有機絶縁膜ＯＰＳが図８（ａ）に示したようなパターンとなっていた場合、図中ｙ方向における断続部（図８（ａ）において符号ＧＰで示す）および図中の端部（図８（ａ）において符号ＴＭで示す）の箇所で発生する毛乱れによるラビング筋（短いがラビングローラＲＢＬの移動方向に対して斜め方向（図中右肩上がり）に生じる）が、パネル基板領域ＰＳＤ内に侵入して形成されてしまう憂いを回避するためである。
【００７７】
図９（ｂ）は、ラビングローラＲＢＬが、その回転軸において図中ｘ方向に対して若干の傾き（図中角度Θ°）を有し、図中ｙ方向に相対移動するようになっている場合を示している。この場合においても、第１複数枚取り基板ＬＳＢ１において、パネル基板領域ＰＳＤのラビングの開始側の方向（図中におけるラビングローラＲＢＬの相対移動方向：図中ｙ方向）に位置する一辺側の非パネル領域ＮＤＰに形成された有機絶縁膜ＯＰＳは、図中ｘ方向に並設されるもの同士で互いに接続されるようになっている。さらに、このように互いに接続された第２有機絶縁膜ＯＰＳは、傾きを有するラビングローラＲＢＬが第１複数枚取り基板ＳＵＢ１に近接する側の端部において、若干の延在部（図中ＥＸで示す）を有するようにして形成されている。図９（ａ）に示したのと同様の趣旨である。
【実施例５】
【００７８】
図１０は、本発明の液晶表示装置の製造方法の実施例５を説明する構成図である。
【００７９】
図１０は、図１と対応させて描画した簡略図となっている。尚、図１と同様に金属膜ＭＴは図示を省略している。図１と比較して異なる構成は、まず、ラビングローラＲＢＬは、第１複数枚取り基板ＬＳＢ１におけるパネル基板領域ＲＳＤの配列方向に対して斜め方向（たとえば図中ｘ方向に対して約４５°方向）に相対移動するようになっている。ここでいう斜めとは、パネル基板領域ＲＳＤの配列方向に対して実質的に平行または実質的に垂直なものを除いた角度、すなわち、１°より大きく８９°より小さい角度を想定している。好ましくは、１５°以上７５°以下の角度である。これによって、斜め方向にラビングを行う。
【００８０】
また、第１複数枚取り基板ＬＳＢ１の非パネル領域ＮＰＤにおいて、金属膜ＭＴの描画を省略し、有機絶縁膜ＯＰＳは、少なくとも前記金属膜ＭＴを被い断続することなく連続して形成される必要のあるものを示している。
【００８１】
すなわち、図１０において、それぞれのパネル基板領域ＰＳＤの４辺のうちラビングの開始側の方向に位置する二辺（図中において符号Ｓ１、Ｓ２で示す）側にの非パネル領域ＮＰＤに形成される有機絶縁膜ＯＰＳは連続して形成されている。有機絶縁膜ＯＰＳは、金属膜ＭＴを被い、少なくとも前記二辺Ｓ１、Ｓ２の全体にわたって前記二辺Ｓ１、Ｓ２に沿って連続して形成されている。そして、これら有機絶縁膜ＯＰＳは、隣接される他のパネル基板領域ＰＳＤに対応して形成された有機絶縁膜ＯＰＳと互いに接続されるようになっている。
【００８２】
このようにした場合、ラビングローラＲＢＬは、図示されている有機絶縁膜ＯＰＳを乗り上げた後に、各パネル基板領域ＰＳＤに形成されている樹脂膜ＲＳＭ（ＯＲＩ）をラビングするようになる。この場合、有機絶縁膜ＯＰＳに断続部による段差がないことから、ラビングローラＲＢＬに毛乱れが発生することが無く、樹脂膜ＲＳＭ（ＯＲＩ）にいわゆるラビング筋が発生するのを防止することができる。
【実施例６】
【００８３】
図１１は、本発明の液晶表示装置の製造方法の実施例６を説明する構成図である。
【００８４】
図１１は、図１０と対応づけて描画された図となっている。尚、金属膜ＭＴは図示を省略している。図１０と比較して異なる構成は、断続なく連続されて形成される有機絶縁膜ＯＰＳにあり、この有機絶縁膜ＯＰＳは、パネル基板領域ＰＳＤの周辺に該パネル基板領域ＰＳＤを囲んで連続して形成されている。すなわち、第１複数枚取り基板ＬＳＢ１の構成は、図２において示した構成と同様となっている。
【００８５】
この場合において、ラビングローラＲＢＬが、第１複数枚取り基板ＬＳＢ１におけるパネル基板領域ＰＳＤの配列方向に対して斜め方向に移動するようにしても、実施例５の図１０に示したのと同様の効果を奏することができる。
【００８６】
以上、本発明を実施例を用いて説明してきたが、これまでの各実施例で説明した構成はあくまで一例であり、本発明は、技術思想を逸脱しない範囲内で適宜変更が可能である。また、それぞれの実施例で説明した構成は、互いに矛盾しない限り、組み合わせて用いてもよい。
【符号の説明】
【００８７】
ＬＳＢ１……第１複数枚取り基板、ＬＳＢ２……第２複数枚取り基板、ＰＳＤ……パネル基板領域、ＮＰＤ……非パネル領域、ＡＲ……画像表示部、ＭＴ……金属膜、ＯＰＳ……有機絶縁膜、ＲＳＭ（ＯＲＩ）……樹脂膜、ＳＬ……シール材、ＧＬ……ゲート信号線、ＤＬ……ドレイン信号線、ＣＬ……コモン信号線、ＴＦＴ……薄膜トランジスタ、ＰＸ……画素電極、ＣＴ……対向電極、ＯＲＩ……配向膜、ＧＩ……絶縁膜、ＰＡＳ１……保護膜（無機絶縁膜）、ＰＡＳ２……保護膜（有機絶縁膜）、ＬＩ……絶縁膜、ＲＢＬ……ラビングローラ。
【図１】
2010204233.tif 000003
【図２】
2010204233.tif 000004
【図３】
2010204233.tif 000005
【図４】
2010204233.tif 000006
【図５】
2010204233.tif 000007
【図６】
2010204233.tif 000008
【図７】
2010204233.tif 000009
【図８】
2010204233.tif 000010
【図９】
2010204233.tif 000011
【図１０】
2010204233.tif 000012
【図１１】
2010204233.tif 000013
【図１２】
2010204233.tif 000014
【図１３】
2010204233.tif 000015