(57)【要約】【課題】マスク検査装置及びマスク検査方法を提供する。【解決手段】所望のパターンに蒸着するために、所定の開口を有するマスクを検査するためのマスク検査装置１００であって、マスクの開口の境界線を検出する表示部１１１と、マスクを利用して蒸着する被蒸着材の情報を保存した保存部１１２と、保存部１１２に保存された被蒸着材の情報に基づいて、蒸着領域の外郭線を形成する第１境界線、第１境界線周囲を取り囲むように形成される第２境界線、第１境界線と第２境界線との間に形成される安全領域を設定する設定部１１４と、表示部１１１が検出したマスクの境界線が、第１境界線及び第２境界線と接触せず、安全領域内に存在するか否かを判断する制御部１１３と、を備えるマスク検査装置１００である。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
所望のパターンに蒸着するために、所定の開口を有するマスクを検査するためのマスク検査装置であって、
前記マスクの開口の境界線を検出する表示部と、
前記マスクを利用して蒸着する被蒸着材の情報を保存した保存部と、
前記保存部に保存された前記被蒸着材の情報に基づいて、前記蒸着領域の外郭線を形成する第１境界線、前記第１境界線を取り囲むように形成される第２境界線、前記第１境界線と前記第２境界線との間に形成される安全領域を設定する設定部と、
前記表示部が検出した前記マスクの境界線が、前記第１境界線及び前記第２境界線と接触せず、前記安全領域内に存在するか否かを判断する制御部と、を備えることを特徴とするマスク検査装置。
【請求項２】
前記設定部は、前記被蒸着材の情報を利用して、前記第１境界線、前記第２境界線及び前記安全領域を仮想のマップ状に設定することを特徴とする請求項１に記載のマスク検査装置。
【請求項３】
前記被蒸着材の情報は、基板、前記基板上のセル、サブピクセル、前記サブピクセル間の間隔を含むことを特徴とする請求項１または２に記載のマスク検査装置。
【請求項４】
前記表示部は、ＣＣＤカメラであることを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載のマスク検査装置。
【請求項５】
前記所定の開口のうち、前記境界線が前記第１境界線または第２境界線と接し前記安全領域内に存在しない開口に関する情報を出力する出力部をより含むことを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載のマスク検査装置。
【請求項６】
（ａ）所望のパターンに蒸着するように、所定のパターンに形成された開口を備えるマスクを準備するステップと、
（ｂ）前記マスクを利用して蒸着する被蒸着材の情報に基づいて蒸着領域の外郭線を形成する第１境界線、前記第１境界線を取り囲むように形成される第２境界線、前記第１境界線と前記第２境界線との間に形成される安全領域を設定するステップと、
（ｃ）前記マスクの前記開口の境界線が前記第１境界線及び前記第２境界線と接触せず、前記安全領域内に存在するか否かを判断するステップと、を含むマスク検査方法。
【請求項７】
前記（ｂ）ステップで、前記被蒸着材の情報を利用して、前記第１境界線、前記第２境界線及び前記安全領域を仮想のマップ状に設定することを特徴とする請求項６に記載のマスク検査方法。
【請求項８】
前記被蒸着材の情報は、基板、前記基板上のセル、サブピクセル、前記サブピクセル間の間隔を含むことを特徴とする請求項６または７に記載のマスク検査方法。
【請求項９】
前記（ｃ）ステップで、
表示部を利用して前記開口部の境界線を検出することを特徴とする請求項６から８のいずれか１項に記載のマスク検査方法。
【請求項１０】
前記表示部は、ＣＣＤカメラのことを特徴とする請求項９に記載のマスク検査方法。
【請求項１１】
前記（ｃ）ステップを行った後に、前記所定の開口のうち、前記境界線が前記安全領域内に存在しない開口の情報を出力するステップをさらに含むことを特徴とする請求項６から１０のいずれか１項に記載のマスク検査方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、マスク検査装置及びマスク検査方法に係り、さらに詳細には、マスクの開口を通じてマスクの不良を容易に検査できるマスク検査装置及びマスク検査方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
所望のパターンに蒸着物質を蒸着するために、所定のパターンに形成された開口部を有するマスクを利用する。
【０００３】
特に、有機発光表示装置（ＯＬＥＤ：Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｌｉｇｈｔ  Ｅｍｉｔｔｉｎｇ  Ｄｉｓｐｌａｙ）の有機発光層は、水分に対して脆弱な有機物を含むので、フォトリソグラフィ法でパターンを形成することは容易でない。それにより、有機発光層を形成するために、所定の開口を有するマスクを利用して、露出された開口部分に蒸着物質を蒸着する方法が多用される。
【０００４】
通常、このような蒸着用マスクは、金属を含む材質で形成するが、製造上の問題によって複数の開口がいずれも所望のパターンに正確に形成されるものではない。
【０００５】
マスクの開口のうち所望のパターンに形成されない開口があれば、マスクを利用して蒸着時に所望のパターンに蒸着されない。このような問題を解決するために、マスクを予め検査する方法が使われているが、通常、マスクの各開口のうち、隣接した開口を互いに比較して不良を判断する方法が使われる。
【０００６】
しかし、このような方法では、マスクのすべての開口を正確に検査し難く、マスク検査の正確性を向上させるのに限界がある。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明が解決しようとする課題は、マスクの開口を通じてマスクの不良を容易に検査できるマスク検査装置及びマスク検査方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
前記課題を達成するために、本発明は、所望のパターンに蒸着するために、所定の開口を有するマスクを検査するためのマスク検査装置であって、前記マスクの開口の境界線を検出する表示部と、前記マスクを利用して蒸着する被蒸着材の情報を保存した保存部と、前記保存部に保存された前記被蒸着材の情報を基準に蒸着領域の外郭線を形成する第１境界線と、前記第１境界線の周囲を取り囲むように形成される第２境界線と、前記第１境界線と前記第２境界線との間に形成される安全領域を設定する設定部と、前記表示部から検出した前記マスクの境界線が、前記第１境界線及び前記第２境界線と接触せず、前記安全領域内に存在するか否かを判断する制御部と、を備えるマスク検査装置を開示する。
【０００９】
本発明において、前記設定部は、前記被蒸着材の情報を利用して、前記第１境界線、第２境界線及び安全領域を仮想のマップ状に設定できる。
【００１０】
本発明において、前記被蒸着材の情報は、基板、前記基板上のセル、サブピクセル、前記サブピクセル間の間隔を含みうる。
【００１１】
本発明において、前記表示部は、ＣＣＤ（Ｃｈａｒｇｅ Ｃｏｕｐｌｅｄ Ｄｅｖｉｃｅ）カメラでありうる。
【００１２】
本発明において、前記複数の開口のうち、その境界線が前記第１マスクまたは第２マスクと接して、前記安全領域内に存在しない開口に関する情報を出力する出力部をさらに備えうる。
【００１３】
本発明の他の側面によれば、（ａ）所望のパターンに蒸着するために、所定のパターンに形成された開口を備えるマスクを準備するステップと、（ｂ）前記マスクを利用して蒸着する被蒸着材の情報を基準に蒸着領域の外郭線を形成する第１境界線と、前記第１境界線の周囲を取り囲むように形成される第２境界線と、前記第１境界線と前記第２境界線との間に形成される安全領域と、を設定するステップと、（ｃ）前記マスクの前記開口の境界線が前記第１境界線及び前記第２境界線と接触せず、前記安全領域に置かれるか否かを判断するステップと、を含むマスク検査方法を開示する。
【００１４】
本発明において、前記（ｂ）ステップで、前記被蒸着材の情報を利用して、前記第１境界線、第２境界線及び安全領域を仮想のマップ状に設定できる。
【００１５】
本発明において、前記被蒸着材の情報は、基板、前記基板上のセル、サブピクセル、前記サブピクセル間の間隔を含みうる。
【００１６】
本発明において、前記（ｃ）ステップで、表示部を利用して、前記開口部の境界線を検出できる。
【００１７】
本発明において、前記表示部は、ＣＣＤカメラでありうる。
【００１８】
本発明において、前記（ｃ）ステップを行った後に、前記複数の開口のうち、その境界線が前記安全領域に置かれていない開口の情報を出力するステップをさらに含みうる。
【発明の効果】
【００１９】
本発明のマスク検査装置及びマスク検査方法は、マスクの開口を通じて、マスクの不良を容易に検査できる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本発明の一実施形態に関するマスク検査装置を説明するためのブロック図である。
【図２】蒸着する基板の情報を説明するための平面図である。
【図３】図１のマスク検査装置において、マスクを検査する過程を示した部分斜視図である。
【図４】図１のマスク検査装置を利用してマスクを検査する過程を示した部分平面図である。
【図５】本発明の他の実施形態に関するマスク検査装置を説明するためのブロック図である。
【図６】本発明の一実施形態に関するマスク検査方法を概略的に示したフローチャートである。
【図７】本発明の他の実施形態に関するマスク検査方法を概略的に示したフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
以下、添付した図面に示された本発明に関する実施形態を参照して、本発明の構成及び作用を詳細に説明する。
【００２２】
図１は、本発明の一実施形態に関するマスク検査装置を説明するためのブロック図である。本実施形態のマスク検査装置１００は、表示部１１１、保存部１１２、制御部１１３及び設定部１１４を備える。
【００２３】
表示部１１１は、マスクの開口の境界線を検出する。このために、表示部１１１は、カメラであり、望ましくは、ＣＣＤ（Ｃｈａｒｇｅ  Ｃｏｕｐｌｅｄ  Ｄｅｖｉｃｅ）カメラでありうる。
【００２４】
保存部１１２は、マスクを利用して蒸着する被蒸着材の情報を保存する。保存部１１２は、ＲＯＭ（Ｒｅａｄ  Ｏｎｌｙ  Ｍｅｍｏｒｙ）またはＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ  Ａｃｃｅｓｓ  Ｍｅｍｏｒｙ）のメモリでありうる。
【００２５】
設定部１１４は、保存部１１２に保存された被蒸着材の情報を利用して、蒸着領域の外郭線を形成する第１境界線と、前記第１境界線周囲を取り囲むように形成される第２境界線と、前記第１境界線と第２境界線との間に形成される安全領域と、を設定する。設定部１１４は、被蒸着材の情報を利用して、座標値が書かれたテーブル状またはマップ状に第１境界線、第２境界線及び安全領域を設定できる。
【００２６】
制御部１１３は、表示部１１１から検出したマスクの境界線が、第１境界線及び第２境界線と接触せず、安全領域内に存在するか否かを判断する。例えば、設定部１１４がマップ状に設定した第１境界線、第２境界線及び安全領域をマスクの境界線と比較する。
【００２７】
制御部１１３は、ＣＰＵ（Ｃｅｎｔｒａｌ  Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ  Ｕｎｉｔ）を備え、マスク検査装置１００の全体的な動作を統括する。図１には、制御部１１３、保存部１１２及び設定部１１４が別途の部材として示されている。しかし、本発明は、これに限定されず、制御部１１３内に保存部１１２または設定部１１４が備えられ、制御部１１３内に保存部１１２及び設定部１１４が備えられることもある。
【００２８】
保存部１１２は、蒸着する被蒸着材の情報の保存において、多様な方法がありうる。具体的に、被蒸着材の情報は、有機発光表示装置（ＯＬＥＤ：Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｌｉｇｈｔ  Ｅｍｉｔｔｉｎｇ  Ｄｉｓｐｌａｙ）の基板に関する情報でありうる。図２は、蒸着される基板の情報を説明するための平面図である。
【００２９】
基板１５０には、サブピクセル１５１が形成されている。図示していないが、基板１５０には、複数のセルを備え、各セルは、複数のサブピクセル１５１を備える。但し、基板１５０に１個のセルを形成することもある。
【００３０】
サブピクセル１５１は、一定の幅Ｓａと長さＳｂとを有するように形成される。また、各サブピクセル１５１は、隣接したサブピクセル１５１と一定の水平間隔Ｐａ及び垂直間隔Ｐｂを有するように形成される。
【００３１】
このようなサブピクセル１５１を基準に、マスクを利用して蒸着物を蒸着する。ＯＬＥＤの基板の場合、マスクを利用してサブピクセル１５１の形態を基準に有機物を蒸着する。
【００３２】
このために、保存部１１２は、蒸着しようとする被蒸着材の情報であるサブピクセル１５１に関する情報を保存する。具体的に、保存部１１２には、サブピクセル１５１の幅Ｓａ及び長さＳｂ、サブピクセル１５１間の水平間隔Ｐａ及び垂直間隔Ｐｂが保存される。
【００３３】
しかし、本発明は、これに限定されない。ユーザの意図によって、異なるサイズのサブピクセル１５１と異なる間隔を有するサブピクセル１５１とを有するＯＬＥＤを製造する場合、それぞれのサブピクセル１５１の幅Ｓａ、長さＳｂ、水平間隔Ｐａ及び垂直間隔Ｐｂが保存される。この時、保存部１１２は、基板１５０上にサブピクセル１５１が配された形態をマップ状に保存できる。また、このような情報を、座標値が記載されたテーブル状に保存することもある。
【００３４】
図２の基板１５０がＯＬＥＤの基板である場合、基板１５０は、ＯＬＥＤの有機発光層を形成する直前の基板１５０を示す。ＯＬＥＤは、有機発光素子を備え、有機発光素子は、下部電極と上部電極との間に介在された有機発光層を備える。図２は、基板１５０に下部電極が形成された形態を示す。具体的に、図２のサブピクセル１５１には、下部電極が形成され、絶縁膜を形成した後に露出された下部電極でありうる。
【００３５】
基板１５０に各サブピクセル１５１を形成しつつ、サブピクセル１５１の情報は、任意の保存媒体に保存されるので、保存部１１２は、サブピクセル１５１の情報を容易に保存しうる。
【００３６】
図３は、図１のマスク検査装置でマスクを検査する過程を示した部分斜視図である。
【００３７】
図３を参照すれば、表示部１１１及びマスク１３０が示されている。マスク１３０は、複数の開口１３１を備える。開口１３１は、蒸着物が蒸着される通路である。表示部１１１は、マスク１３０上でマスク１３０の開口１３１の状態を検出して、検出した情報を制御部（図示せず）に伝達して制御部及び設定部（図示せず）によってマスク検査を行う。
【００３８】
図示していないが、検査の便宜上、マスク１３０は、Ｘ軸及びＹ軸方向に移動することができる支持台上に配されうる。これを通じて、表示部１１１は、固定された状態のまま移動するマスク１３０の検査を行える。
【００３９】
図４は、図１のマスク検査装置を利用してマスクを検査する過程を示した部分平面図である。図４は、図３の表示部１１１が検出した画像でありうる。
【００４０】
図４は、マスク１３０の一部を示しており、マスク１３０は、４個の開口１３１を備える。説明の便宜上、上段の左側開口から開口Ａ １３１Ａ、開口Ｂ １３１Ｂ、開口Ｃ １３１Ｃ及び開口Ｄ １３１Ｄと定義する。
【００４１】
図４に示したように、マスク１３０の開口１３１Ａ〜Ｄは、所望の形態に正確に形成されていない。マスク１３０の開口１３１Ａ〜Ｄは、不規則な境界線を有するように形成されることが一般的である。これは、マスク１３０を形成するための微細なパターニングが容易でないためである。特に、マスク１３０の材質が金属である場合に、マスク１３０の開口１３１を所望の形態及びサイズに正確に形成することは容易でない。これにより、図４に示したように、開口１３１Ａ〜Ｄは、それぞれ異なる形態を有し、このような開口１３１Ａ〜Ｄが蒸着のために適しているか否かを、マスク１３０を予め検査する必要がある。
【００４２】
図４を参照すれば、各開口１３１Ａ〜Ｄの周辺には、第１境界線１７１、第２境界線１７２及び安全領域１７３が示されている。第１境界線１７１、第２境界線１７２及び安全領域１７３は、マスク１３０に形成される領域ではなく、仮想的な境界線及び領域である。図１の設定部１１４は、保存部１１２に保存されている被蒸着材の情報を利用して、第１境界線１７１、第２境界線１７２及び安全領域１７３を設定する。
【００４３】
具体的に、ＯＬＥＤの有機物を蒸着する場合、図２の基板１５０のサブピクセル１５１の情報を通じて、設定部１１４が第１境界線１７１、第２境界線１７２及び安全領域１７３を設定する。
【００４４】
サブピクセル１５１の幅Ｓａ、長さＳｂ、水平間隔Ｐａ及び垂直間隔Ｐｂの情報と共に、基板１５０に関する情報を利用して、基板１５０に複数のセルが形成された場合には、セルの情報を利用して、設定部１１４が第１境界線１７１、第２境界線１７２及び安全領域１７３を設定する。
【００４５】
例えば、保存部１１２にマップ状に保存された各サブピクセルの位置、形態及びサイズに関する情報を利用して、第１境界線１７１、第２境界線１７２及び安全領域１７３が各サブピクセルに対応するマップ状に設定できる。
【００４６】
第１境界線１７１は、蒸着領域の境界線を意味する。第１境界線１７１は、図２のサブピクセル１５１に対応するので、サブピクセル１５１と同じ形態及びサイズを有しうる。すなわち、第１境界線１７１は、サブピクセル１５１の幅Ｓａ及び長さＳｂと同じ幅及び長さを有しうる。しかし、工程上のマージンを有するように、第１境界線１７１は、サブピクセル１５１の幅Ｓａ及び長さＳｂより大きい値を有させうる。例えば、設定部は、サブピクセルの幅及び長さを基準に、数μｍほど大きい値で第１境界線１７１を設定する。
【００４７】
第２境界線１７２は、蒸着されねばならない境界線、すなわち、最大蒸着領域の境界線を意味する。設定部１１４は、第１境界線１７１を基準に第２境界線１７２を設定でき、第２境界線１７２は、第１境界線より大きく設定する。工程条件を勘案して、第２境界線１７２を設定できる。すなわち、要求される蒸着パターンの精密度が高まるほど、第２境界線１７２のサイズが小さく設定される。
【００４８】
安全領域１７３は、第１境界線１７１と第２境界線１７２との間に形成される領域であって、マスク１３０の境界線が安全領域１７３に置かれれば、制御部は、マスク１３０の開口１３１が正常状態と判断できる。
【００４９】
図４を参照すれば、開口Ａ １３１Ａ、開口Ｂ １３１Ｂ及び開口Ｄ １３１Ｄの境界線は、第１境界線１７１及び第２境界線１７２と接触せず、安全領域１７３内に存在する。開口Ｃ １３１Ｃの境界線は、安全領域１７３内に存在せず、第１境界線１７１及び第２境界線１７２と接触する。このような場合、制御部１１３は、開口Ａ １３１Ａ、開口Ｂ １３１Ｂ及び開口Ｄ １３１Ｄは、正常な開口であると判断し、開口Ｃ １３１Ｃは、不良な開口であると判断する。
【００５０】
本実施形態のマスク検査装置１００は、マスク１３０の検査のために、マスク１３０に対して被蒸着材を整列させ接触させる必要はない。マスク検査装置１００は、既設定の被蒸着材の情報を利用して、第１境界線、第２境界線及び安全領域を設定し、設定した情報とマスクの開口の情報とを比較することによって、マスクを容易に検査できる。すなわち、マスクのすべての開口を精密に検査することが容易であり、検査工程が簡便になり効率が向上する。
【００５１】
図５は、本発明の他の実施形態に関するマスク検査装置を説明するためのブロック図である。説明の便宜上、前述した実施形態と異なる点を中心に説明する。
【００５２】
本実施形態のマスク検査装置２００は、表示部２１１、保存部２１２、制御部２１３、設定部２１４及び出力部２１５を備える。
【００５３】
本実施形態のマスク検査装置２００は、出力部２１５を備え、制御部２１３で判断した開口の情報を出力できる。すなわち、出力部２１５は、マスクの開口のうち、正常と判断した開口と、不良と判断した開口とを出力できる。これを通じて、ユーザは、不良と判断した開口を正常の開口に校正するか、またはマスクを交替して蒸着工程を進めうる。
【００５４】
図６は、本発明の一実施形態に関するマスク検査方法を概略的に示したフローチャートである。
【００５５】
本実施形態のマスク検査方法は、開口を備えるマスクを準備するステップ（Ｓ１１）と、蒸着領域の外郭線を形成する第１境界線、前記第１境界線周囲を取り囲むように形成される第２境界線、前記第１境界線と第２境界線との間に形成される安全領域を設定するステップ（Ｓ１２）と、マスクの開口の境界線が第１境界線及び第２境界線と接触せず、安全領域内に存在するか否かを判断するステップ（Ｓ１３）と、を含む。
【００５６】
Ｓ１１で、マスクは、蒸着のための開口を備えるドット型マスクでありうる。
【００５７】
Ｓ１２では、あらかじめ保存された被蒸着材の情報を基準に、仮想の第１境界線、第２境界線及び安全領域を設定する。具体的に、被蒸着材である基板に形成されたサブピクセルに関するマップ情報を利用しかつ工程マージンを設定して、各サブピクセルより数μｍほど大きい領域を形成する第１境界線を設定し、第１境界線より大きい領域を形成する第２境界線を設定できる。第１境界線及び第２境界線は、仮想の境界線で座標化された情報を利用してマップ状に設定される。このようなマップ状の第１境界線及び第２境界線をマスクの境界線と比較して、マスクの検査を容易に行う。
【００５８】
図７は、本発明の他の実施形態に関するマスク検査方法を概略的に示したフローチャートである。
【００５９】
本実施形態のマスク検査方法は、開口を備えるマスクを準備するステップ（Ｓ２１）と、蒸着領域の外郭線を形成する第１境界線、前記第１境界線周囲を取り囲むように形成される第２境界線、前記第１境界線と第２境界線との間に形成される安全領域を設定するステップ（Ｓ２２）と、マスクの開口の境界線が、第１境界線及び第２境界線と接触せず、安全領域に置かれているか否かを判断するステップ（Ｓ２３）と、複数の開口のうち、開口の境界線が安全領域に置かれていない開口の情報を出力するステップ（Ｓ２３）と、を含む。
【００６０】
本実施形態は、Ｓ２３で、マスクの開口のうち、不良と判断した開口の情報を出力する。このような情報は、開口の位置を知らせる座標上の情報を含みうる。これを通じて、不良である開口のみを選択的に校正できる。また、不良である開口が一定数以上である場合、マスクを不良と判断してマスクを交替できる。
【００６１】
図面に示された実施形態を参照して説明されたが、これは、例示的なものに過ぎず、当業者ならば、これから多様な変形及び均等な他の実施形態が可能であるということが分かるであろう。したがって、本発明の真の技術的保護範囲は、特許請求の範囲の技術的思想によって決定されねばならない。
【産業上の利用可能性】
【００６２】
本発明は、表示装置関連の技術分野に好適に適用可能である。
【符号の説明】
【００６３】
１００、２００  マスク検査装置、
１１１、２１１  表示部、
１１２、２１２  保存部、
１１３、２１３  制御部、
１１４、２１４  設定部、
１３０  マスク、
１３１  開口部、
１５０  基板、
１５１  サブピクセル、
１７１  第１境界線、
１７２  第２境界線、
１７３  安全領域。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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