(57)【要約】【課題】ブラックマトリックスのパターンに対し、スリット露光で着色画素を形成する際、露光領域の移動方向末端部にても位置合わせが良好な露光方法を提供する。【解決手段】前方撮像カメラＣＭを備えた露光装置にて、基板５０上のガイド用マークを撮像し、基板の移動量を取得する下方撮像カメラＣＭ−Ｃが設けられ、予め、基板上の画素領域外にガイド用マーク域２４を設け、露光領域の末端部Ｃにては、ガイド用マークを撮像して取得した基板の移動量と、フォトマスクの位置合わせマークＫ２とが位置調整されることにより、第１パターンに対するフォトマスクのパターン（開口部）の位置合わせがなされ露光光が照射される。【選択図】図１８
2010256685.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
スリット露光によって、基板上に既に形成された第１パターンに対し、第２パターンを位置合わせして形成する際に、
露光装置として、前記第１パターンの位置合わせマークの位置情報を取得する前方撮像カメラが設けられた露光装置を用い、フォトマスクとして、前方撮像カメラによって基板上の第１パターンの位置合わせマークを撮像するための前方撮像開口部が設けられたフォトマスクを用い、前記フォトマスクの下方を移動してくる基板上の第１パターンの位置合わせマークを前方撮像カメラで撮像して、第１パターンの位置合わせマークの位置情報を取得し、該位置情報と、フォトマスクの位置合わせマークとが位置調整されることにより、第１パターンに対するフォトマスクのパターン（開口部）の位置合わせがなされ、露光光が照射される露光方法において、
１）前記露光装置には、基板の下方より基板上のガイド用マークを撮像し、基板の移動量を取得する下方撮像カメラが設けられ、
２）前記基板上に既に形成された第１パターンに対し、第２パターンを位置合わせして形成する際に、ａ）予め、基板上の画素領域外にガイド用マークを設け、
ｂ）第１パターンの位置合わせマークを撮像できない露光領域の末端部にては、該ガイド用マークを下方撮像カメラで撮像して取得した基板の移動量と、フォトマスクの位置合わせマークとが位置調整されることにより、第１パターンに対するフォトマスクのパターン（開口部）の位置合わせがなされ、露光光が照射されることを特徴とする露光方法。
【請求項２】
１）前記露光装置には、少なくとも、光源、フォトマスク、前方撮像カメラで一体的に構成される露光ヘッドが、露光ステージの移動方向と直角な方向（Ｙ軸方向）に複数基が設けられており、
２）前記ガイド用マークを設ける画素領域外は、基板上の幅方向（Ｙ軸方向）の両端周縁部であり、
３）前記下方撮像カメラは、上記複数基の露光ヘッドの両端側部の、上記ガイド用マーク下方に複数基が設けられていることを特徴とする請求項１記載の露光方法。
【請求項３】
前記第１パターンがカラーフィルタを構成するブラックマトリックスのパターンであり、前記第２パターンがカラーフィルタを構成する着色画素であることを特徴とする請求項１又は請求項２記載の露光方法。
【請求項４】
前記第１パターンが液晶表示装置を構成する基板上の画素領域であり、前記第２パターンが該画素領域に設けられた光配向膜領域、或いは該光配向膜領域を分割した分割光配向膜領域であることを特徴とする請求項１又は請求項２記載の露光方法。
【請求項５】
請求項３記載の露光方法を用いて製造されたことを特徴とするカラーフィルタ。
【請求項６】
請求項４記載の露光方法を用いて製造されたことを特徴とする光配向膜基板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば、スリット露光により基板上に形成されたブラックマトリックスのパターンに対し着色画素を位置合わせして形成する露光方法に関するものであり、特に、位置合わせマークを撮像し位置調整をする撮像カメラが配設された露光装置を用いても、露光領域の移動方向末端部にては位置合わせが良好に行われない、といった現象を発生させない露光方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置などの表示装置において、カラー表示、反射率の低減、コントラストの調整、分光特性制御などの目的にカラーフィルタを用いることは有用な手段となっている。この表示装置に用いられるカラーフィルタは、多くの場合、画素として形成され用いられる。表示装置に用いられるカラーフィルタの画素を形成する方法として、これまで実用されてきた方法には、印刷法、フォトリソグラフィ法などが挙げられる。
【０００３】
図１は、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタの画素の一例を拡大して示す平面図である。また、図２は、図１に示すカラーフィルタの画素のＸ−Ｘ線における断面図である。図１、及び図２に示すように、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタは、ガラス基板（５０）上にブラックマトリックス（２１）、着色画素（２２）、及び透明導電膜（２３）が順次に形成されたものである。
【０００４】
液晶表示装置に用いられる上記カラーフィルタの製造方法としては、先ず、ガラス基板（５０）上にブラックマトリックス（２１）を形成し、次に、ブラックマトリックス（２１）が形成されたガラス基板上のブラックマトリックスのパターン（開口部）に位置合わせして着色画素（２２）を形成し、更に透明導電膜（２３）を形成するといった方法が広く用いられている。
【０００５】
ブラックマトリックス（２１）は遮光性を有し、その開口部にてガラス基板上での着色画素の位置を定め、大きさを均一なものとし、また、表示装置に用いられた際に、好ましくない光を遮蔽し、表示装置の画像をムラのない均一な、且つコントラストを向上させた画像にする機能を有している。このブラックマトリックス（２１）の形成は、例えば、ガラス基板（５０）上に、黒色フォトレジストの塗布膜を設け、この塗布膜へのフォトマスクを介した露光、現像によってブラックマトリックスを形成するといったフォトリソグラフィ法がとられている。
【０００６】
また、着色画素（２２）は、例えば、赤色、緑色、青色の色再現フィルタの機能を有するものであり、ブラックマトリックスが形成されたガラス基板（５０）上に、顔料などの色素を分散させたネガ型の着色フォトレジストの塗布膜を設け、この塗布膜へのフォトマスクを介した露光、現像によって着色画素を形成するといったフォトリソグラフィ法がとられている。
また、透明導電膜（２３）の形成は、着色画素が形成されたガラス基板上に、例えば、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）を用いスパッタ法によって透明導電膜を形成するといった方法がとられている。
【０００７】
カラーフィルタを大量に製造する際には、一基の液晶表示装置に対応したサイズのカラーフィルタを大サイズのガラス基板に多面付けした状態で製造することが多い。例えば、対角１７インチのカラーフィルタを６５０ｍｍ×８５０ｍｍ程度の大サイズのガラス基板に４面付けして製造する。
【０００８】
この際の露光は、ガラス基板のサイズと略同程度のサイズのマスク基板に、例えば、対角１７インチのカラーフィルタを形成するためのマスクパターンが４面付けされたフォトマスクを用いて露光する方法が広く採用されている。４面付けされたマスクパターンの４画面全体を１回の露光で一括して行う、所謂、一括露光法である。
この際の多面付けは、例えば、パターンである着色画素のサイズ、カラーフィルタの仕上がりサイズなどが同一の、すなわち、同一品種のカラーフィルタを多面付けする。
【０００９】
マスクサイズの大型化によるコスト高と、マスクの自重による撓みの問題の解決のため、ガラス基板のサイズが、例えば、７３０ｍｍ×９２０ｍｍ程度の第４世代からは、露光方式は一括露光法から１軸ステップ露光方式が採用され始め、また、ガラス基板のサイズが、例えば、１０００ｍｍ×１２００ｍｍ程度の第５世代からは、ＸＹ（２軸）ステップ露光方式（所謂、ステップ・アンド・リピート方式）に移行している。
【００１０】
図３は、ＸＹステップ露光方式によりカラーフィルタを製造する際のステップ露光の一例を説明する平面図である。
図３に示す例は、大サイズのガラス基板（５０）に、第１露光〜第６露光の６回の露光が行われた例である。第１露光から数えて５回のステップ移動（Ｐｙ、Ｐｘ）毎に、第２露光以降の各露光が行われたものである。符号（１Ｅｘ〜６Ｅｘ）は、各々第１露光〜第６露光の領域を表している。
【００１１】
このようなステップ露光方式への移行によって、マスクサイズの大型化によるコスト高は抑制され、自重による撓みの問題は解決された。
しかしながら、ガラス基板のサイズが、例えば、１５００ｍｍ×１８００ｍｍ程度の第６世代、或いは、例えば、２１００ｍｍ×２４００ｍｍ程度の第８世代へと更に大型化へと移行するのに伴い、マスクサイズの大型化も付随し、コスト高と、撓みの問題が再燃している。
【００１２】
そこで、ガラス基板のサイズが更に大型化へと移行した際の、付随するフォトマスクのコスト高を回避するために、マスクサイズを更に大型にすることなく、むしろマスクサイズを小型化にしてカラーフィルタを製造すべく、様々な露光方式が試みられている。
【００１３】
図４は、スリット露光によりカラーフィルタを製造する際のスリット露光の一例を説明する平面図である。図４に示す例は、大サイズのガラス基板（５０）に第１露光と第２露光の２回の露光が行われる例である。図５（ａ）、（ｂ）は、図４のＸ−Ｘ線での断面図である。図５（ａ）は第１露光が開始される状態を、また、（ｂ）は第１露光が終了した状態を表したものである。
【００１４】
図４、図５に示すように、露光ステージ（６０）上に載置されたガラス基板（５０）の上方にフォトマスク（ＰＭ２）が配置されている。フォトマスク（ＰＭ２）は露光装置内で固定されており、Ｘ、Ｙ、Ｚ軸方向には移動しないようになっている。フォトマスク（ＰＭ２）の下方の露光ステージ（６０）は、ガラス基板（５０）を載置した状態で、図中左方、Ｘ軸方向に等速で移動するようになっている。また、Ｙ軸方向ではステップ移動を行うようになっている。
【００１５】
スリット露光とは、露光装置内に、ガラス基板の長さ方向（Ｘ軸方向）に短く、幅方向（Ｙ軸方向）に長いスリット（Ｓ）を設け、スリット（Ｓ）又はガラス基板をガラス基板の長さ方向（Ｘ軸方向）に移動させながらスリット（Ｓ）を介した光をガラス基板（５０）上の塗膜（５４）に与え、ガラス基板の全面を露光する露光方法である。
カラーフィルタを製造する際のスリット露光は、ストライプ状の着色画素を形成するので
、上記スリット（Ｓ）は、着色画素のストライプの幅に対応した幅（Ｗｉ）を開口部（５１）とし、他の部分を遮光部（５２）とした構成となる。この開口部（５１）が着色画素の形成に対応したマスクパターンとしてフォトマスク（ＰＭ２）上に設けられている。
【００１６】
図６は、スリット露光に用いられるフォトマスク（ＰＭ２）の一例におけるスリット（Ｓ）の部分を拡大して示す平面図である。このフォトマスク（ＰＭ２）は、ネガ型フォトレジストに対応した例である。
図６に示すように、スリット（Ｓ）の長手方向（Ｌｓ）はＹ軸と平行であり、この長手方向（Ｌｓ）に多数個の開口部（５１）が配設されている。開口部（５１）以外の部分は遮光部（５２）となっている。フォトマスク（ＰＭ２）の下方では、図６中、白太矢印で示す方向に露光ステージ（６０）を移動（Ｘ軸方向）させながら、開口部（５１）を透過した光をガラス基板（５０）上の塗膜（５４）を連続して照射する。尚、符号（Ｐｉ）は開口部（５１）のピッチ、符号（Ｗｉ）は開口部（５１）の幅、符号（Ｌｉ）は開口部（５１）の長さを表している。
【００１７】
図５（ａ）は、ガラス基板（５０）上に塗布されたフォトレジストの塗膜（５４）にフォトマスク（ＰＭ２）のスリットを介した第１露光が開始される状態を表したものである。また、（ｂ）は第１露光が終了した状態を表したものである。図５中、白太矢印で示すように、露光ステージ（６０）を図中左方へ移動（Ｘ軸方向）させながら、フォトマスク（ＰＭ２）のスリットを介し連続して露光光（Ｅ）を与え、図５（ｂ）中、斜線で示す第１露光を終了する。第２露光は図４に示すステップ移動（Ｐｙ）を露光ステージ（６０）に与えた後に行われる。
このように、スリット露光は、マスクサイズを更に大型にすることなく、むしろマスクサイズを小型にして、Ｘ軸方向に長く、大面積の露光を可能とする方式である。
【００１８】
図７は、露光後の現像処理によって得られたストライプパターンの一例を示す平面図である。図７に示すように、ガラス基板（５０）上にピッチ（Ｐｉ）、幅（Ｗｉ）のストライプパターン、例えば、ストライプ状の着色画素（２２）が形成される。
【００１９】
図８は、このようなスリット露光によって製造されたカラーフィルタの一例を示す説明図である。図８に示すように、このカラーフィルタは、ブラックマトリックス（２１）が形成されたガラス基板上に、赤色、緑色、青色の着色画素（２２Ｒ、２２Ｇ、２２Ｂ）が形成された状態のものである。
各色の着色画素は、各々が図８中、Ｘ軸方向に画素間で途切れず、連続したストライプ状のものである。また、Ｙ軸方向には、その各々のストライプ状の着色画素の列が、赤色、緑色、青色の順に繰り返し配設されている。すなわち、スリット露光方式が好適に適用された例である。
【００２０】
図９は、このようなスリット露光によって、１基の液晶表示装置に対応したサイズのカラーフィルタを、大サイズのガラス基板上に多面付けして製造する際の面付け状態を例示したものである。図９中、符号（Ｍ１〜Ｍ６）は、１基の液晶表示装置に対応したサイズのカラーフィルタが形成される第１〜第６露光領域を表している。
また、符号（ｍ１〜ｍ６）は、第１〜第６露光領域間、及び該露光領域外の非露光領域を表している。
【００２１】
図９中、白太矢印は、露光ステージ（６０）上に載置されたガラス基板（５０）が、フォトマスクの下方で移動される方向（Ｘ軸方向）である。従って、図７に示すストライプ状の着色画素（２２）は、図９中、Ｘ軸方向と平行に形成される。第１〜第６露光領域に形成される着色画素（２２）の一部が点線で表わされている。露光領域間及び露光領域外の非露光領域（ｍ１〜ｍ６）には、着色画素（２２）は形成されない。
【００２２】
この際の、ガラス基板（５０）上の塗膜へのフォトマスクを介した露光は、露光ステージ（６０）上に載置されたガラス基板（５０）の移動によって、各露光領域（Ｍ１〜Ｍ６）がフォトマスクの下方を順次に通過するのに同期して、例えば、フォトマスクの上方に設けられたシャッターを開状態とし、光源からの露光光を照射する。
また、露光領域間（ｍ１〜ｍ４）がフォトマスクの下方を順次に通過するのに同期して、シャッターを閉状態とし、光源からの露光光を遮蔽するといった方法を採用する。
【００２３】
上記のようなスリット露光によってカラーフィルタを製造する方法は、前記ＸＹステップ露光によって製造する方法と比較して、確かに、小型のフォトマスクでストライプパターンを大サイズのガラス基板の全面にカラーフィルタを多面付けで形成することを可能とする。
【００２４】
図１０は、図９に示す第１露光領域（Ｍ１）の近傍を拡大して示す平面図であるが、ガラス基板（５０）上に既に形成された第１露光領域（Ｍ１）のブラックマトリックス（２１）のパターン（図示せず）に、着色画素（２２）を位置合わせして形成する際に、白太矢印で示すガラス基板（５０）の進行方向の先端部（Ａ）及び中央部（Ｂ）にては、その位置合わせが良好に行われる。
しかしながら、図１０中、移動方向の斜線で表す末端部（Ｃ）にては、ブラックマトリックス（２１）のパターンに対する着色画素（２２）の位置合わせが良好に行われない、といった問題が発生する。この現象は、第１露光領域（Ｍ１）以外の他の露光領域においても同様に発生することが観察されている。
【００２５】
図１１は、スリット露光を採用した露光装置の一例の部分断面図である。図１１は、この一例に示す露光装置を用い、ガラス基板（５０）上に形成されたブラックマトリックス（２１）のパターンに位置合わせして着色画素（２２）を形成する方法の説明図である。図１１は、図１０に示すガラス基板（５０）の移動方向の中央部（Ｂ）におけるＸ２−Ｘ２線での断面を表したものであり、前記図５（ａ）〜（ｂ）間でのガラス基板の移動状態に相当するものである。
【００２６】
図１１に示すように、この露光装置には、フォトマスク（ＰＭ２）の上方に撮像カメラ（ＣＭ）が設けられている。この撮像カメラ（ＣＭ）の位置は、フォトマスク（ＰＭ２）の上方から開口部（５１）に照射する露光光（Ｅ）の光軸から、ガラス基板の移動方向の逆方向（図１１中、Ｘ軸右方向）に距離（Ｌ0 ）離れた位置である。
【００２７】
この撮像カメラ（ＣＭ）は、フォトマスク（ＰＭ２）の上方から、フォトマスク（ＰＭ２）に設けられた撮像開口部（５３）を経て、下方のガラス基板（５０）上に形成された、例えば、ブラックマトリックスの位置合わせマーク（Ｋ１）及びブラックマトリックス（２１）のパターンを撮像するためのものである。
【００２８】
図６に示すように、フォトマスク（ＰＭ２）には、その長手方向をＹ軸と平行にして設けられたスリット（Ｓ）から、Ｘ軸右方向に距離（Ｌ0 ）離れた位置に撮像開口部（５３）が設けられている。撮像開口部（５３）は、その長手方向をスリット（Ｓ）と同様にＹ軸と平行にしている。
撮像開口部（５３）は、開口部（５１）と同様に、フォトマスク基板の表面が露出している透光部である。フォトマスク（ＰＭ２）の上方からの露光光（Ｅ）はスリット（Ｓ）を照射するが、撮像開口部（５３）には照射しないようになっている。
また、フォトマスク（ＰＭ２）には、位置合わせのための、フォトマスクの位置合わせマーク（Ｋ２）が設けられている（図示せず）。
【００２９】
図１１に示すように、露光ステージ（６０）上に載置されたガラス基板（５０）上には、既にブラックマトリックス（２１）が形成されており、このブラックマトリックス（２１）上に着色画素（２２）を形成するための塗膜（５４）が設けられている。
ブラックマトリックス（２１）には、ブラックマトリックス（２１）のパターン（開口部）、及び位置合わせのための、ブラックマトリックスの位置合わせマーク（Ｋ１）が設けられている（図示せず）。
【００３０】
第１露光領域（Ｍ１）への、フォトマスク（ＰＭ２）上の開口部（５１）を介した露光光（Ｅ）の照射に際しての、ブラックマトリックス（２１）のパターンに対するフォトマスク（ＰＭ２）のパターンの位置合わせは、例えば、撮像カメラ（ＣＭ）が、フォトマスクの下方を移動してくるガラス基板（５０）上のブラックマトリックスの位置合わせマーク（Ｋ１）を撮像すると、このブラックマトリックスの位置合わせマーク（Ｋ１）と、フォトマスクの位置合わせマーク（Ｋ２）とが、予め設定された所定の位置関係となるように、位置調整されることにより、ブラックマトリックス（２１）のパターンとフォトマスクのパターンが位置合わせされるようになっている。
【００３１】
図１２は、図１０に示す第１露光領域（Ｍ１）の移動方向の先端部（Ａ）〜末端部（Ｃ）へと、白太矢印で示す方向に露光ステージ（６０）を移動させながら、スリットの開口部（５１）を透過した露光光（Ｅ）をガラス基板（５０）上の塗膜（５４）に連続に照射する状態を説明する断面図である。
【００３２】
図１２（ａ）は、図１０中、Ｘ１−Ｘ１線での断面であり、第１露光領域（Ｍ１）の先端部（Ａ）を露光光（Ｅ）が照射している状態を表したものである。図１２（ｂ）は、Ｘ２−Ｘ２線での断面で、第１露光領域（Ｍ１）の中央部（Ｂ）の状態、また、図１２（ｃ）は、Ｘ３−Ｘ３線での断面で、第１露光領域（Ｍ１）の末端部（Ｃ）の状態を表したものである。
図１２（ａ）に示すように、第１露光領域（Ｍ１）の先端部（Ａ）の、露光光（Ｅ）の照射が開始される部位（ａ）は、露光ステージ（６０）の移動によって、開口部（５１）の下方に達しており、この部位（ａ）から先端部（Ａ）への照射が開始される。
【００３３】
一方、撮像カメラ（ＣＭ）は、この部位（ａ）が開口部（５１）の下方に達する以前に、撮像開口部（５３）の下方を通過するブラックマトリックスの位置合わせマーク（Ｋ１）（図示せず）に同期して、ブラックマトリックスの位置合わせマーク（Ｋ１）を撮像しており、ブラックマトリックスの位置合わせマーク（Ｋ１）の位置情報を取得している。このブラックマトリックスの位置合わせマーク（Ｋ１）の位置情報と、フォトマスクの位置合わせマーク（Ｋ２）とが、予め設定された所定の位置関係となるように、位置調整されることにより、ブラックマトリックス（２１）のパターンに対するフォトマスクのパターンの位置合わせがなされる。
【００３４】
この位置合わせは、照射が開始される上記部位（ａ）が開口部（５１）の下方に達する以前に終了している。従って、露光光（Ｅ）の照射が開始される部位（ａ）以降の、図１２（ａ）中、左方の先端部（Ａ）にては、ブラックマトリックス（２１）のパターンに対するフォトマスクのパターンの位置合わせは良好に行われて露光光（Ｅ）が照射される。尚、このブラックマトリックスの位置合わせマーク（Ｋ１）は、照射が開始される部位（ａ）近傍から、照射が終了される部位近傍までの間、第１露光領域（Ｍ１）の全域に適宜に設けられている。
【００３５】
図１２（ｂ）に示すように、第１露光領域（Ｍ１）の中央部（Ｂ）にては、撮像カメラ（ＣＭ）が取得した、ブラックマトリックスの位置合わせマーク（Ｋ１）の位置情報によって、上記ブラックマトリックス（２１）のパターンに対するフォトマスクのパターンの
位置合わせは常時良好に行われて露光光（Ｅ）が照射される。
【００３６】
しかし、図１２（ｃ）に示すように、第１露光領域（Ｍ１）の末端部（Ｃ）に至ると、末端部（Ｃ）の端末の部位（ｃ）以降は、撮像開口部（５３）の下方を通過するブラックマトリックスの位置合わせマーク（Ｋ１）がなくなり、ブラックマトリックスの位置合わせマーク（Ｋ１）の位置情報に基づいたブラックマトリックス（２１）のパターンに対するフォトマスクのパターンの位置合わせはされない状態となる。
つまり、前記図１０中、斜線で表す末端部（Ｃ）にては、ブラックマトリックス（２１）のパターンに対する着色画素（２２）の位置合わせが良好に行われないといった現象は、末端部（Ｃ）にては、ブラックマトリックスの位置合わせマーク（Ｋ１）の位置情報が得られないことに起因している。
【００３７】
このような、位置合わせが良好に行われないといった状態を解消する手法としては、ブラックマトリックスの位置合わせマーク（Ｋ１）の位置情報によらず、ガラス基板を載置した露光ステージ（６０）の移動速度から求めた単位時間あたりの移動量を理論値と定め、この理論値を用いて、上記末端部（Ｃ）においては、ブラックマトリックス（２１）のパターンに対するフォトマスクのパターンの位置合わせをする手法が挙げられる。
【００３８】
例えば、予め、作製したサンプルを用い、ブラックマトリックス（２１）のパターンに対するフォトマスクのパターンのズレ量を測定し、この測定値をオフセット値として補正するのであるが、上記末端部（Ｃ）においては、露光ステージ（６０）を移動させる駆動系の微小な歪み、移動量の微少なズレによって、上記ブラックマトリックスの位置合わせマーク（Ｋ１）の位置情報に基づいた位置合わせに匹敵する精度を得ることは困難である。
【００３９】
また、仮に、この手法によって位置合わせが良好に行われるとしても、実作業においては、このオフセット値は、個々の品種によって異なるため、事前に品種毎にサンプルを作製し、ズレ量を測定するといった準備作業に相応の時間を費やすことになり、好ましい手法とはいえない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００４０】
【特許文献１】特開２００８−２１６５９３号公報
【特許文献２】特開２００７−１２１３４４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００４１】
本発明は、上記の問題を解決するためになされたものであり、例えば、既に基板上に形成されたブラックマトリックスのパターンに対し、スリット露光により着色画素を位置合わせして形成する際に、露光装置として、ブラックマトリックスのパターンに対するフォトマスクのパターンの位置合わせをするために、ブラックマトリックスの位置合わせマークを撮像し位置調整をする撮像カメラが配設された露光装置を用いても、基板上に多面付けされた露光領域の、基板上の露光領域の移動方向末端部にては、ブラックマトリックスのパターンに対する着色画素を位置合わせが良好に行われない、といった現象を発生させることのない露光方法を提供することを課題とするものである。
また、上記露光方法を用いて製造したカラーフィルタ、光配向膜基板をを提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００４２】
本発明は、スリット露光によって、基板上に既に形成された第１パターンに対し、第２パターンを位置合わせして形成する際に、
露光装置として、前記第１パターンの位置合わせマークの位置情報を取得する前方撮像カメラが設けられた露光装置を用い、フォトマスクとして、前方撮像カメラによって基板上の第１パターンの位置合わせマークを撮像するための前方撮像開口部が設けられたフォトマスクを用い、前記フォトマスクの下方を移動してくる基板上の第１パターンの位置合わせマークを前方撮像カメラで撮像して、第１パターンの位置合わせマークの位置情報を取得し、該位置情報と、フォトマスクの位置合わせマークとが位置調整されることにより、第１パターンに対するフォトマスクのパターン（開口部）の位置合わせがなされ、露光光が照射される露光方法において、
１）前記露光装置には、基板の下方より基板上のガイド用マークを撮像し、基板の移動量を取得する下方撮像カメラが設けられ、
２）前記基板上に既に形成された第１パターンに対し、第２パターンを位置合わせして形成する際に、ａ）予め、基板上の画素領域外にガイド用マークを設け、
ｂ）第１パターンの位置合わせマークを撮像できない露光領域の末端部にては、該ガイド用マークを下方撮像カメラで撮像して取得した基板の移動量と、フォトマスクの位置合わせマークとが位置調整されることにより、第１パターンに対するフォトマスクのパターン（開口部）の位置合わせがなされ、露光光が照射されることを特徴とする露光方法である。
【００４３】
また、本発明は、上記発明による露光方法において、１）前記露光装置には、少なくとも、光源、フォトマスク、前方撮像カメラで一体的に構成される露光ヘッドが、露光ステージの移動方向と直角な方向（Ｙ軸方向）に複数基が設けられており、
２）前記ガイド用マークを設ける画素領域外は、基板上の幅方向（Ｙ軸方向）の両端周縁部であり、
３）前記下方撮像カメラは、上記複数基の露光ヘッドの両端側部の、上記ガイド用マーク下方に複数基が設けられていることを特徴とする露光方法である。
【００４４】
また、本発明は、上記発明による露光方法において、前記第１パターンがカラーフィルタを構成するブラックマトリックスのパターンであり、前記第２パターンがカラーフィルタを構成する着色画素であることを特徴とする露光方法である。
【００４５】
また、本発明は、上記発明による露光方法において、前記第１パターンが液晶表示装置を構成する基板上の画素領域であり、前記第２パターンが該画素領域に設けられた光配向膜領域、或いは該光配向膜領域を分割した分割光配向膜領域であることを特徴とする露光方法である。
【００４６】
また、本発明は、請求項３記載の露光方法を用いて製造されたことを特徴とするカラーフィルタである。
【００４７】
また、本発明は、請求項４記載の露光方法を用いて製造されたことを特徴とする光配向膜基板である。
【発明の効果】
【００４８】
本発明は、露光装置として前方撮像カメラが設けられた露光装置を用い、フォトマスクとして前方撮像開口部が設けられたフォトマスクを用い、前方撮像カメラで第１パターンの位置合わせマークの位置情報を取得し、該位置情報と、フォトマスクの位置合わせマークとが位置調整されることにより、第１パターンに対するフォトマスクのパターン（開口部）の位置合わせがなされ、露光光が照射される露光方法において、
１）露光装置には下方撮像カメラが設けられ、２）予め、基板上の画素領域外にガイド用マークを設け、露光領域の末端部にては、該ガイド用マークを下方撮像カメラで撮像して取得した基板の移動量と、フォトマスクの位置合わせマークとが位置調整されることにより、第１パターンに対するフォトマスクのパターン（開口部）の位置合わせがなされ、露光光が照射されるので、例えば、既に基板上に形成されたブラックマトリックスのパターンに対し、スリット露光により着色画素を位置合わせして形成する際に、ガラス基板上に多面付けされた露光領域の先端部から末端部の全領域にわたり、ブラックマトリックスのパターンに対する着色画素を位置合わせが良好に行われる露光方法となる。
【００４９】
また、本発明は、露光装置には、露光ヘッドが、露光ステージの移動方向と直角な方向に複数基が設けられており、ガイド用マークを設ける画素領域外は、基板上の幅方向の両端周縁部であり、下方撮像カメラは、露光ヘッド列の両端側部のガイド用マーク下方に複数基が設けられているので、ガラス基板のサイズが更に大型化し、且つフォトマスクのサイズを更に小型化しても、スリット露光の精度を保持し、且つ、１回の露光でガラス基板の全面を露光し、廉価にカラーフィルタを製造する露光方法となる。
【００５０】
また、本発明は、上記露光方法によって製造されたカラーフィルタであるので、露光領域の先端部から末端部の全領域にわたり、ブラックマトリックスのパターンに対する着色画素を位置合わせが良好に行われたカラーフィルタとなる。
また、本発明は、上記露光方法によって製造された光配向膜基板であるので、露光領域の先端部から末端部の全領域にわたり、光配向膜領域、或いは分割光配向膜領域の位置合わせが良好に行われた光配向膜基板となる。
【図面の簡単な説明】
【００５１】
【図１】液晶表示装置のカラーフィルタの画素の一例を拡大して示す平面図である。
【図２】図１に示すカラーフィルタの画素のＸ−Ｘ線における断面図である。
【図３】ＸＹステップ露光の一例を説明する平面図である。
【図４】スリット露光の一例を説明する平面図である。
【図５】（ａ）、（ｂ）は、図４のＸ−Ｘ線での断面図である。
【図６】スリット露光用のフォトマスクの一例のスリットの部分を拡大した平面図である。
【図７】露光後の現像処理によって得られたストライプパターンの一例を示す平面図である。
【図８】スリット露光によって製造されたカラーフィルタの一例を示す説明図である。
【図９】１基の液晶表示装置に対応したサイズのカラーフィルタを、大サイズのガラス基板上に多面付けして製造する際の面付け状態を例示したものである。
【図１０】図９に示す第１露光領域の近傍を拡大して示す平面図である。
【図１１】スリット露光を採用した露光装置の一例の部分断面図である。
【図１２】露光ステージを移動させ第１露光領域に照射する状態を説明する断面図である。
【図１３】本発明において用いられる露光装置の一例の部分平面図である。
【図１４】図１３中、Ｘ１１−Ｘ１１線での断面図である。
【図１５】図１３中、Ｘ１２−Ｘ１２線での断面図である。
【図１６】先端部での状態を説明するものである。
【図１７】中央部での状態を説明するものである。
【図１８】末端部での状態を説明するものである。
【図１９】請求項２に係わる発明に用いられる露光装置の一例を示す平面図である。
【図２０】（ａ）は、図１９中、Ｘ２１−Ｘ２１線での断面を拡大して示す断面図である。（ｂ）は、Ｘ２２−Ｘ２２線での断面を拡大して示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００５２】
以下に、本発明による露光方法を、その実施の形態に基づいて詳細に説明する。
図１３は、本発明において用いられる露光装置の一例の部分平面図である。また、図１４、及び図１５は、図１３中、Ｘ１１−Ｘ１１（Ｘ２−Ｘ２）線、及びＸ１２−Ｘ１２線での断面図である。図１３は、前記図９の第４領域（Ｍ４）近傍の相当する部分を表した部分平面図である。
【００５３】
図１３〜図１５に示すように、この露光装置の一例は図１１に示す、その部分断面を表した露光装置に、ガラス基板の下方よりガラス基板上のガイド用マークを撮像し、ガラス基板の移動量を取得する下方撮像カメラ（ＣＭ−Ｃ）が設けられたものである。
この下方撮像カメラ（ＣＭ−Ｃ）は、露光ステージ（６０）上に載置されたガラス基板（５０）の側端周縁部の、第４領域（Ｍ４）外、つまり、ガラス基板上の画素領域外（非露光領域（ｍ６））の下方に設けられている。
【００５４】
フォトマスク上のスリット（Ｓ）を上方から照射する露光光（Ｅ）の光軸は、Ｙ軸方向の直線上にあり、図１３においては、Ｘ軸（Ｘ１２−Ｘ１２）と直交するＹ１１線上にある。ガラス基板（５０）の下方より、上方に向かっている図１５に示す下方撮像カメラ（ＣＭ−Ｃ）の光軸は、露光光（Ｅ）の延長線（図１３中、点線で示すＹ１１線）と、ガイド用マーク域（２４）の中心線（Ｘ１２−Ｘ１２線）との交点にあるものを例示してある。この下方撮像カメラ（ＣＭ−Ｃ）は、ガラス基板（５０）の下方よりガラス基板上のガイド用マークを撮像し、ガラス基板の移動量を取得する。
【００５５】
ガイド用マーク域（２４）は、ガラス基板（５０）の側端周縁部の第４領域（Ｍ４）外、つまり、ガラス基板上の画素領域外にＸ軸（Ｘ１２−Ｘ１２）と平行に設けられている。このガイド用マーク域（２４）は、ガイド用マーク（Ｋ３）（図示せず）が設けられた域であり、この域内のガイド用マーク（Ｋ３）を下方撮像カメラ（ＣＭ−Ｃ）が撮像し、ガラス基板の移動量を取得する。尚、露光ステージ（６０）は、例えば、透光性の材料を用いたものである。
【００５６】
図１４に示すように、この露光装置には、フォトマスク（ＰＭ２）の上方に撮像カメラ（ＣＭ）がに設けられている。この撮像カメラ（ＣＭ）は、露光光（Ｅ）の光軸からガラス基板（５０）の移動方向の逆方向（図１４中、Ｘ軸右方向）に距離（Ｌ0 ）離れた位置にある。この撮像カメラ（ＣＭ）は、フォトマスク（ＰＭ２）の上方から、フォトマスク
（ＰＭ２）に設けられた撮像開口部（５３）を経て、下方のガラス基板（５０）上に形成された、ブラックマトリックスの位置合わせマーク（Ｋ１）を撮像し、ブラックマトリックスの位置合わせマーク（Ｋ１）の位置情報を取得する。
【００５７】
第４露光領域（Ｍ４）への、フォトマスク（ＰＭ２）上の開口部（５１）を介した露光光（Ｅ）の照射に際しての、ブラックマトリックス（２１）のパターンに対するフォトマスク（ＰＭ２）のパターンの位置合わせは、例えば、撮像カメラ（ＣＭ）が、フォトマスクの下方を移動してくるガラス基板（５０）上のブラックマトリックスの位置合わせマーク（Ｋ１）を撮像すると、このブラックマトリックスの位置合わせマーク（Ｋ１）と、フォトマスクの位置合わせマーク（Ｋ２）とが、予め設定された所定の位置関係となるように、位置調整されることにより、ブラックマトリックス（２１）のパターンとフォトマスクのパターンが位置合わせされるようになっている。
【００５８】
また、下方撮像カメラ（ＣＭ−Ｃ）が、上方を移動してくるガラス基板（５０）上の、ガイド用マーク域（２４）のガイド用マーク（Ｋ３）を撮像し、ガラス基板の移動量を取得すると、この移動量と、フォトマスクの位置合わせマーク（Ｋ２）とが、予め設定された所定の位置関係となるように、位置調整されることにより、ブラックマトリックス（２１）のパターンとフォトマスクのパターンが位置合わせされるようになっている。第４領域（Ｍ４）の移動方向の先端部（Ａ）〜中央部（Ｂ）では、ブラックマトリックスの位置情報を用い、末端部（Ｃ）では、ガイド用マークによるガラス基板の移動量を用いる。
【００５９】
図１６〜図１８は、図１３に示す第４露光領域（Ｍ４）の移動方向の先端部（Ａ）〜末端部（Ｃ）へと、白太矢印で示す方向に露光ステージ（６０）を移動させながら、スリットの開口部（５１）を透過した露光光（Ｅ）をガラス基板（５０）上の塗膜（５４）に連続に照射する状態を説明する断面図である。
図１６は、先端部（Ａ）での状態を説明するものである。（ａ）は、図１３中、Ｘ１−Ｘ１線での断面であり、（ｂ）は、Ｘ１２−Ｘ１２線での断面である。
【００６０】
図１６（ａ）に示すように、第４露光領域（Ｍ４）の先端部（Ａ）の、露光光（Ｅ）の照射が開始される部位（ａ）は、露光ステージ（６０）の移動によって、開口部（５１）の下方に達しており、この部位（ａ）から先端部（Ａ）への照射が開始される。
撮像カメラ（ＣＭ）は、ブラックマトリックスの位置合わせマーク（Ｋ１）を撮像して、ブラックマトリックスの位置合わせマーク（Ｋ１）の位置情報を取得する。この位置情報と、フォトマスクの位置合わせマーク（Ｋ２）とが、予め設定された所定の位置関係となるように、位置調整されることにより、ブラックマトリックス（２１）のパターンに対するフォトマスクのパターンの位置合わせがなされて露光光（Ｅ）が照射される。
【００６１】
図１７は、中央部（Ｂ）での状態を説明するものである。（ａ）は、図１３中、Ｘ２−Ｘ２線での断面であり、（ｂ）は、Ｘ１２−Ｘ１２線での断面である。
図１７（ａ）に示すように、第４露光領域（Ｍ４）の中央部（Ｂ）にては、撮像カメラ（ＣＭ）が取得した、ブラックマトリックスの位置合わせマーク（Ｋ１）の位置情報によって、上記ブラックマトリックス（２１）のパターンに対するフォトマスクのパターンの位置合わせは常時良好に行われて露光光（Ｅ）が照射される。
【００６２】
図１８は、末端部（Ｃ）での状態を説明するものである。（ａ）は、図１３中、Ｘ３−Ｘ３線での断面であり、（ｂ）は、Ｘ１２−Ｘ１２線での断面である。
図１８（ａ）に示すように、第４露光領域（Ｍ４）の末端部（Ｃ）に至ると、末端部（Ｃ）の端末の部位（ｃ）以降は、撮像開口部（５３）の下方を通過するブラックマトリックスの位置合わせマーク（Ｋ１）がなくなる。
【００６３】
ガラス基板（５０）下方の下方撮像カメラ（ＣＭ−Ｃ）は、ガイド用マーク域（２４）のガイド用マーク（Ｋ３）を撮像し、ガラス基板の移動量を取得する。この移動量と、フォトマスクの位置合わせマーク（Ｋ２）とが、予め設定された所定の位置関係となるように、位置調整されることにより、ブラックマトリックス（２１）のパターンとフォトマスクのパターンが位置合わせされ、露光光（Ｅ）が照射される。
【００６４】
上記のように、本発明による露光方法によれば、ガラス基板上の露光領域の末端部にては、ガラス基板の移動量によって、ブラックマトリックス（２１）のパターンとフォトマスクのパターンが位置合わせが行われるので、ブラックマトリックス（２１）のパターンに対する着色画素の位置合わせは、露光領域の全域にわたって良好なものとなる。
【００６５】
図１９は、請求項２に係わる発明に用いられる露光装置の一例を示す平面図である。図１９は、露光装置の露光ステージ（６０）上部を表している部分平面図である。図２０（ａ）は、図１９中、Ｘ２１−Ｘ２１線での断面を拡大して示す断面図である。また、（ｂ）は、Ｘ２２−Ｘ２２線での断面を拡大して示す断面図である。
【００６６】
前記図４に示す、スリット露光を行う露光装置では、サイズ（（ｅ）×（ｆ））のフォトマスク（ＰＭ２）を用い、第１及び第２露光の２回の露光によりガラス基板（５０）の全面を露光する。この露光装置で用いるフォトマスク（ＰＭ２）は、図３に示すＸＹステップ露光方式におけるフォトマスク（ＰＭ）のサイズ（（ｇ）×（ｈ））と比較し、Ｘ軸方向のサイズは数分の１（（ｅ）≪（ｇ）、（ｆ）≒（ｈ））に小型化されたものが例示されている。
【００６７】
図１９に示す露光装置の一例は、ガラス基板（５０）のサイズが更に大型化した際に、スリット露光の精度を保持し、且つフォトマスクのサイズを更に小型化し、また、１回の露光でガラス基板の全面を露光して、廉価にカラーフィルタを製造する露光装置の例である。
【００６８】
図１９中、符号（Ｈ）は、光源、フォトマスク、前方撮像カメラで一体的に構成された露光ヘッドを表している。この露光ヘッドに装着されるフォトマスク（図示せず）のサイズは、図４に示すフォトマスク（ＰＭ２）のサイズより更に小さな、特にＹ軸方向に小さな小型フォトマスクである。
図１９に示すように、複数基の露光ヘッド（Ｈ）が、基板ステージ（６０）の移動方向と直角な方向（Ｙ軸方向）に間隔を保った列をなして設けられている。各々の露光ヘッド（Ｈ）の光源からの露光光（Ｅ）の光軸は、図１９中、符号（Ｙ１３）又は（Ｙ１２）で表す一直線上に揃えたものとなっている。露光ヘッド（Ｈ）の複数基からなる列は、露光ヘッド（Ｈ）の大きさからして二列とした例である。
【００６９】
図１９（ｂ）は、露光ヘッドの列の配列を表したものである。基板ステージ（６０）の移動方向の逆方向（図１９中、Ｘ軸右方向）に設けられた前方露光ヘッド列（Ｈ−Ａ）は、奇数番目の露光ヘッド（Ｈ１〜Ｈ９）で構成され、また、基板ステージ（６０）の移動方向に設けられた後方露光ヘッド列（Ｈ−Ｂ）は、偶数番目の露光ヘッド（Ｈ２〜Ｈ１０）で構成されている。前方露光ヘッド列（Ｈ−Ａ）及び後方露光ヘッド列（Ｈ−Ｂ）は、相互に補完し、露光光（Ｅ）の光軸をＹ軸方向の一直線上に揃え、一体となった露光部として機能させている。
【００７０】
ガイド用マーク（Ｋ３）（図示せず）が形成されたガイド用マーク域は、ガラス基板（５０）の両端周縁部上の２箇所でＸ軸方向に向かって設けられている（２４Ｒ、２４Ｌ）。下方撮像カメラ（ＣＭ−Ｃ）として、４基の下方撮像カメラが設けられている。下方撮像カメラ１（ＣＭ−Ｃ１）及び下方撮像カメラ３（ＣＭ−Ｃ３）は、各々、前方露光ヘッ
ド列（Ｈ−Ａ）の両端部の、露光光（Ｅ）の光軸の延長線（Ｙ１２）とガイド用マーク域（２４Ｒ）の中心線との交点、及び光軸の延長線（Ｙ１２）とガイド用マーク域（２４Ｌ）の中心線との交点に設けられている。
【００７１】
また、下方撮像カメラ２（ＣＭ−Ｃ２）及び下方撮像カメラ４（ＣＭ−Ｃ４）は、各々、後方露光ヘッド列（Ｈ−Ｂ）の両端部の、露光光（Ｅ）の光軸の延長線（Ｙ１３）とガイド用マーク域（２４Ｒ）の中心線との交点、及び光軸の延長線（Ｙ１３）とガイド用マーク域（２４Ｌ）の中心線との交点に設けられている。
【００７２】
図２０（ａ）に示すように、露光領域内にては、前方露光ヘッド列（Ｈ−Ａ）内の各前方撮像カメラが取得した位置情報と、各フォトマスクの位置合わせマーク（Ｋ２）とが、予め設定された所定の位置関係となるように、位置調整されることにより、ブラックマトリックス（２１）のパターンに対するフォトマスクのパターンの位置合わせがなされて露光光（Ｅ）が照射される。
【００７３】
また、後方露光ヘッド列（Ｈ−Ｂ）内の各前方撮像カメラが取得した位置情報と、各フォトマスクの位置合わせマーク（Ｋ２）とが、予め設定された所定の位置関係となるように、位置調整されることにより、ブラックマトリックス（２１）のパターンに対するフォトマスクのパターンの位置合わせがなされて露光光（Ｅ）が照射される。
【００７４】
図２０（ｂ）に示すように、露光領域外にては、下方撮像カメラ１（ＣＭ−Ｃ１）及び下方撮像カメラ３（ＣＭ−Ｃ３）は、ガイド用マーク域（２４Ｒ、２４Ｌ）のガイド用マーク（Ｋ３）を撮像し、ガラス基板の移動量を取得する。この移動量と、前方露光ヘッド列（Ｈ−Ａ）内の各フォトマスクの位置合わせマーク（Ｋ２）とが、予め設定された所定の位置関係となるように、位置調整されることにより、ブラックマトリックス（２１）のパターンとフォトマスクのパターンが位置合わせされ、露光光（Ｅ）が照射される。
【００７５】
また、下方撮像カメラ２（ＣＭ−Ｃ２）及び下方撮像カメラ４（ＣＭ−Ｃ４）は、ガイド用マーク域（２４Ｒ、２４Ｌ）のガイド用マーク（Ｋ３）を撮像し、ガラス基板の移動量を取得する。この移動量と、前方露光ヘッド列（Ｈ−Ｂ）内の各フォトマスクの位置合わせマーク（Ｋ２）とが、予め設定された所定の位置関係となるように、位置調整されることにより、ブラックマトリックス（２１）のパターンとフォトマスクのパターンが位置合わせされ、露光光（Ｅ）が照射される。
【００７６】
上記のように、請求項２に係わる発明によれば、ガラス基板のサイズが更に大型化し、且つフォトマスクのサイズを更に小型化しても、スリット露光の精度を保持し、且つ、１回の露光でガラス基板の全面を露光し、廉価にカラーフィルタを製造する露光方法となる。
【００７７】
また、本発明による露光方法は、ガラス基板の移動方向（Ｘ軸方向）に、複数基の撮像カメラ（ＣＭ）、及び複数基の下方撮像カメラ（ＣＭ−Ｃ）を備えているので、それらにより取得される位置情報、及び移動量から、ブラックマトリックス（２１）のパターンに対するフォトマスクのパターンの位置合わせが、Ｘ軸とＹ軸方向のみでなく、ガラス基板のＺ軸方向を回転軸としたガラス基板の傾き（θ方向）に対応した位置合わせの調整が可能となる。
【００７８】
一方、液晶表示装置においては、基板面で液晶分子の方位を一方向に揃え、且つプレチルト角を発現させるために、従来、接触式のラビング法が広く用いられてきた。しかし、ガラス基板のサイズが、例えば、２１００×２４００ｍｍ程度の第８世代へと大型化するに伴い、非接触式の液晶配向が求められている。
従来の非接触式配向法としての光配向法では、基板面に対し斜めにＵＶ光を照射する必要があり、例えば、装置上の制約は大きなものであった。
【００７９】
近年に至り、ガラス基板に対し垂直方向からの光照射によって液晶のプレチルト角を発現させる技法が提案されてきた。例えば、周期的な強度分布をもつ直線偏光を光配向膜上に、ガラス基板を移動させながらスリット露光を与えることにより発現させる技法である。請求項４に係わる発明は、基板上の画素領域に設けられた光配向膜領域にプレチルト角を発現させる際の、或いは該光配向膜領域を分割した分割光配向膜領域（ドメイン）毎に異なるプレチルト角を発現させる際の光照射の手法として好適なものである。
【００８０】
上述するように、本発明による露光方法について、液晶表示装置を構成するカラーフィルタを例に説明し、また、液晶表示装置を構成する基板上の配向膜の、画素に相当する画素領域への露光を例に説明したが、本発明による露光方法は、液晶表示装置を構成する基板のパターン（画素）形成に限定されるものではなく、スリット露光によってパターンを位置合わせして露光する際に広く適用できる露光方法である。
【符号の説明】
【００８１】
２１・・・ブラックマトリックス
２２・・・着色画素
２３・・・透明導電膜
２４・・・ガイド用マーク域
５０・・・基板（ガラス基板）
５１・・・スリットの開口部
５２・・・遮光部
５３・・・撮像開口部
５４・・・塗膜
６０・・・露光ステージ
ＣＭ・・・撮像カメラ
ＣＭ−Ｃ・・・下方撮像カメラ
Ｅ・・・露光光
Ｈ−Ａ・・・前方露光ヘッド列
Ｈ−Ｂ・・・後方露光ヘッド列
Ｌｉ・・・開口部の長さ
Ｌｓ・・・スリットの長手方向
Ｍ１〜Ｍ６・・・カラーフィルタが形成される第１〜第６露光領域
ＰＭ、ＰＭ２・・・フォトマスク
Ｓ・・・フォトマスク上のスリット
ｍ１〜ｍ６・・・非露光領域
【図１】
2010256685.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
2010256685.tif 000017
【図１６】
2010256685.tif 000018
【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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