(57)【要約】【課題】成膜効率が高く、基材の表面に均一な蒸着膜を形成できるとともに、均一な厚さの膜を形成することができ、さらに、基材の表面及び裏面に、均一な厚さの蒸着膜を同時に形成することができる成膜方法及び装置を提供する。【解決手段】基材８の表面に膜形成材料を蒸着させる成膜方法であって、１又は２以上の基材を、鉛直面内に設けた円軌道に沿って、膜形成面が上記円軌道の内側に向くように配置して一定速度で回転させるとともに、上記円軌道の内側部に設けた蒸着源６から、上記膜形成材料を蒸散させて上記基材に蒸着させる。【選択図】図１
2010095745.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材の表面に膜形成材料を蒸着させる成膜方法であって、
１又は２以上の基材を、鉛直面内に設けた円軌道に沿って、膜形成面が上記円軌道の内側を向くように配置して一定速度で回転させるとともに、
上記円軌道の内側部に設けた蒸着源から、上記膜形成材料を蒸散させて上記基材に蒸着させる、成膜方法。
【請求項２】
複数の基材を上記円軌道に沿って配列するとともに、
各基材を、これらの表裏面が上記蒸着源に交互に対向するように自転させながら、上記円軌道に沿って回転させる、請求項１に記載の成膜方法。
【請求項３】
上記各基材は、上記円軌道の軸に直交する平面に沿って設定された軸回りに自転させられる、請求項２に記載の成膜方法。
【請求項４】
上記各基材は、上記蒸着源からの膜形成材料の蒸着可能範囲において、少なくとも１回転以上自転させられる、請求項２又は請求項３のいずれかに記載の成膜方法。
【請求項５】
長尺状の基材を上記円軌道に沿って円筒状に保持して回転させる、請求項１に記載の成膜方法。
【請求項６】
枠状マスク部材を介して、各基材に設定した所定範囲に膜形成材料を蒸着させる、請求項１から請求項５のいずれか一項に記載の成膜方法。
【請求項７】
基材の表面に膜形成材料を蒸着させる成膜装置であって、
１又は２以上の基材を、鉛直面内に設けた円軌道に沿って、膜形成面を上記円軌道の内側に向くように保持できる基材保持手段と、
上記基材を上記円軌道に沿って回転させる回転手段と、
上記円軌道の内側に設けられ、上記膜形成材料を蒸散させる蒸着源とを備える、成膜装置。
【請求項８】
上記保持手段は複数の基材を保持できるとともに、
上記各基材の表裏面を上記蒸着源に交互に対向させるように自転させる自転手段を備える、請求項７に記載の成膜装置。
【請求項９】
上記自転手段は、各基材を上記円軌道の軸に直交する平面に沿って設定された軸回りに自転させる、請求項８に記載の成膜装置。
【請求項１０】
長尺状の基材を上記円軌道に沿って円筒状に保持して回転させる保持手段を備える、請求項７に記載の成膜装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本願発明は、成膜方法及び成膜装置に関する。詳しくは、１又は２以上の基材の表面に均一な厚みの薄膜を形成できるとともに、成膜効率が高く、さらに、基材の表面及び裏面に均一な薄膜を同時に形成できる成膜方法及び成膜装置に関するものである。
【０００２】
半導体装置、薄膜電池等、種々の機器が薄膜形成プロセスを経て製造される。薄膜形成プロセスでは、厚みの均一性と、成膜効率（薄膜量／投入原材料）とを高めることが重要である。たとえば、特許文献１に記載されているように、従来は、長尺フィルム基材をローラ状の搬送装置に掛け回しながら、蒸発源のるつぼから蒸着物質を蒸散させて上記フイルム表面に薄膜を形成する手法が採用されていた。
【０００３】
【特許文献１】特開平１０−３６５９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
膜形成材料は、上記るつぼから上方に放射状に蒸散される。一方、上記特許文献１に記載されている手法では、基材が上記るつぼに向かって膨出するように保持されて搬送される。このため、蒸散された多くの膜形成材料が、上記基材を設けた方向以外に蒸散されることになる。したがって、膜形成材料を基材表面に効率よく蒸着させることは困難であり、成膜効率が低い。
【０００５】
上記成膜効率を高めるために、蒸着源を上記基材表面に近接させて基材に蒸着される膜形成材料を増加させることが考えられる。しかしながら、上記手法では、るつぼからの蒸散範囲における蒸散量の違いから、蒸着源直上の位置に比較して蒸着源側方の位置における蒸着量が低下する。したがって、基材表面に均一な厚さの膜を形成することは困難となる。
【０００６】
さらに、薄膜電池等の分野においては、板状あるいは箔状の基材の両面に活物質を成膜することが要求される場合がある。このような場合に、上記手法では基材の両面に同時に薄膜を形成することはできない。このため、基材の片面に膜を形成した後、基材の表裏をひっくり帰して再度装置にセットし、同様の成膜工程を行うことになる。ところが、異なる工程によって、基材の両面に同じ厚さの薄膜を形成するのは非常に困難である。
【０００７】
しかも、表裏を返して装置にセットする際、一方の面に形成された薄膜がローラ等に接触して傷ついたり、薄膜表面に異物が付着することも多い。このため、製品の歩留りが低下するといった問題もあった。
【０００８】
本願発明は、上記問題を解決し、成膜効率を向上させることができるばかりでなく、基材の表面に均一な蒸着膜を形成でき、さらに、基材の表面及び裏面に、均一な厚さの蒸着膜を同時に形成することができる成膜方法及び装置を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本願発明は、基材の表面に膜形成材料を蒸着させる成膜方法であって、１又は２以上の基材を、鉛直面内に設けた円軌道に沿って、膜形成面が上記円軌道の内側に向くように配置して一定速度で回転させるとともに、上記円軌道の内側部に設けた蒸着源から、上記膜形成材料を蒸散させて上記基材に蒸着させるものである。
【００１０】
本願発明では、膜形成面を上記蒸着源の方向に向けた状態で、基材が上記蒸着源の回りを回転させられる。このため、蒸着源からの膜形成材料の蒸散量が基材の回転角度位置によって異なっていても、上記回転により蒸着量が平均化されて、上記基材の膜形成面に上記膜形成材料を均一に蒸着させることが可能となる。したがって、基材に均一な厚さの膜を形成することができる。なお、上記回転数は、少なくとも１０回転以上に設定するのが好ましい。これにより、より均一な厚さの膜を形成することができる。
【００１１】
また、上記円軌道において上記蒸着源の直上から離れた部位においては、膜形成材料の蒸散量が少なくなる。本願発明では、この部位においても基材表面に膜形成材料を蒸着させることができる。これにより、蒸散される膜形成材料を効率よく基材に蒸着させることが可能となり、成膜効率を大幅に向上させることができる。
【００１２】
上記基材の形態及び数量は特に限定されることはない。たとえば、複数の板状又は箔状の基材を一定間隔で上記円軌道に沿って配列保持して回転させて、膜形成材料を蒸着させることができる。
【００１３】
上記蒸着源の構成及び膜形成材料を蒸散させる手法は特に限定されることはない。たとえば、るつぼに膜形成材料を投入して、電子ビームを照射してエネルギーを供給し、上記膜形成材料を蒸散させることができる。
【００１４】
本願の請求項２に記載した発明は、複数の基材を上記円軌道に沿って配列するとともに、各基材を、これらの表裏面が上記蒸着源に交互に対向するように自転させながら、上記円軌道に沿って回転させるものである。
【００１５】
複数の基材を、自転させながら上記円軌道によって回転させることにより、各基材の両面に膜を形成することができる。しかも、同じ蒸着源から蒸散する膜形成材料を同時に蒸着させることができるため、基材の表裏に均一な厚さの膜を形成することができる。また、膜の厚さのみならず、熱履歴や膜物性が均一な膜を形成することができる。しかも、従来の手法のように、片面に膜を形成した後に、基材をひっくり返して再度工程を行う必要がなくなり、ローラ等に接触して膜が傷んだり、異物が付着する恐れもない。
【００１６】
さらに、請求項３に記載した発明のように、上記各基材を、上記円軌道の軸に直交する平面に沿って設定された軸回りに自転させるのが望ましい。この構成により、上記円軌道に沿う方向のみならず、この円軌道に直交する方向における基材の膜厚をより均一にすることが可能となる。
【００１７】
上記自転軸の回りに各基材を自転させると、上記自転軸から離れた部分の膜形成面が上記蒸着源の直上に交互に位置することになる。これにより、上記円軌道の軸方向の膜形成材料の蒸散量に違いあっても、基材のこれら部位に対応する蒸着量を均一化して、より均一な膜を形成することが可能になるのである。この結果、蒸着源を、基材に近接させることも可能となり、蒸散させた膜形成材料を基材に効率よく蒸着させて、成膜効率をさらに向上させることもできる。
【００１８】
上記回転及び上記自転は、種々の手法を用いて達成することができる。たとえば、回転する円板の周縁部に、膜形成面を内方に向けて２以上の基材を保持するとともに、上記円板の内周側に蒸着源を設け、この蒸着源から膜形成材料を蒸散させることができる。
【００１９】
また、上記円板から直角方向に突出する回転軸を設け、この回転軸に上記各基材を取り付けて自転させるように構成することができる。上記自転は、上記円板の回転を利用して生じさせることもできる。また、上記円板の回転とは別に駆動するモータ等を利用して、各基材を自転するように構成してもよい。
【００２０】
基材に厚さの均一な膜を形成するには、各基材の膜形成面の各部が、膜形成材料が蒸着しうる領域に同じ時間滞在させるように自転させるのが好ましい。たとえば、請求項４に記載した発明のように、上記各基材を、上記蒸着源からの膜形成材料の蒸着可能範囲において、少なくとも１回転以上自転させるのが望ましい。また、円軌道に沿う回転速度を１とした場合、各基材を1〜50の回転速度に設定することができる。蒸着膜が形成される回転範囲において各基材を複数回自転させることにより、膜形成面の各部が蒸着可能範囲に滞在する時間を均等に設定することが可能となり、より均一な膜を形成することが可能となる。
【００２１】
請求項５に記載した発明は、長尺状基材を、上記円軌道に沿って円筒状に保持して回転させるものである。
【００２２】
従来、シート状やリボン状の基材に蒸着膜を形成する場合、基材を蒸着源に対向するように複数のローラ等に掛け回す手法が採用されていた。上記手法では、蒸着源からの膜形成材料を効率よく上記基材表面に蒸着させることが困難であった。本願発明では、回転する円筒状基材の内面に蒸着源を配置して成膜を行うことができるため、蒸着源から蒸散する膜形成材料を無駄なく蒸着させることが可能となる。これにより、長尺状基材の成膜効率を向上させることができる。また、基材を回転かせることにより、基材の各部に、均一な厚さの膜を形成することができる。
【００２３】
請求項６に記載した発明は、枠状マスク部材を介して、各基材に設定した所定領域に成膜物質を蒸着させるものである。
【００２４】
本願発明では、蒸着源に対して広い範囲で均一な膜を形成できる。このため、枠状マスク部材を介して、各基材に設定した所定領域に均一な膜を形成することができる。また、上記マスク部材を介して、一つの基材の複数部位に均一な膜を形成することも可能となる。
【００２５】
上記マスク部材の形態や機構は特に限定されることはない。たとえば、基材に重ね合わせたシート状あるいは板状のマスク部材を別途採用することもできるし、上記基材を保持する部材を枠状に形成して、マスク部材を兼用させることもできる。
【００２６】
請求項７に記載した発明は、基材の表面に膜形成材料を蒸着させる成膜装置であって、１又は２以上の基材を、鉛直面内に設けた円軌道に沿って、膜形成面を上記円軌道の内側に向くように保持できる基材保持手段と、上記基材を上記円軌道に沿って回転させる回転手段と、上記円軌道の内側に設けられ、上記膜形成材料を蒸散させる蒸着源とを備える成膜装置に係るものである。
【００２７】
請求項８に記載した発明は、上記保持手段が複数の基材を保持できるとともに、上記各基材の表裏面を上記蒸着源に交互に対向させるように自転させる自転手段を備えて構成した成膜装置に係るものである。
【００２８】
請求項９に記載した発明は、上記自転手段を、各基材を上記円軌道の軸に直交する平面に沿って設定された軸回りに自転させるように構成した成膜装置に係るものである。
【００２９】
請求項１０に記載した発明は、長尺状の基材を上記円軌道に沿って円筒状に保持して回転させる保持手段を備えて構成した成膜装置に係るものである。
【発明の効果】
【００３０】
本願発明により、成膜効率を向上させることができるばかりでなく、基材表面に均一な蒸着膜を形成でき、さらに、基材の表面及び裏面に、均一な厚さの蒸着膜を同時に形成することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３１】
以下、本願発明に係る実施形態を図に基づいて具体的に説明する。
【００３２】
図１から図４に第１の実施形態を示す。
【００３３】
第１の実施形態に係る成膜方法は、複数の基材を、鉛直面内で回転する円板の周縁部に膜形成面が回転軌道の内側を向くように配置するとともに、上記円板の軸心近傍に設けた蒸着源から膜形成材料を蒸散させて、上記膜形成面に蒸着させるものである。
【００３４】
図１に示すように、本実施形態で用いられる成膜装置１は、水平方向に配置された軸３を介して鉛直面内で回転させられる円板２と、上記円板２の上記軸３を設けた側と反対側の側面から直立して設けられたアーム部４と、上記アーム部４の端部に着脱可能に保持される保持部材５と、上記円板２の上記軸３を設けた側と反対側の軸心近傍に、柄部７を介して保持される蒸着源６とを備えて構成される。
【００３５】
図３及び図４に示すように、上記保持部材５は、上記円板２の内周側に配置される表部材５ｂと、外周側に配置される裏部材５ａとを備える。上記表部材５ｂには、膜形成部位を設定する矩形状の開口部５ｃが設けられている。上記表部材５ｂと上記裏部材５ｂには凹部９ａ、９ｂが形成されている。矩形板状の基材８が、この凹部９ａ，９ｂの間に挟み込まれるようにして保持される。
【００３６】
上記アーム部４の先端には、上記基材８を挟み込んだ保持部材５の縁部を挿入できる保持溝４ａが軸方向に形成されている。上記保持部材５は、上記表部材５ｂを上記円板２の軸心に対向させるように、上記保持溝４ａに嵌入保持される。
【００３７】
上記蒸着源６としてるつぼが採用されている。本実施形態では、上記るつぼ６を上記円板２の回転中心近傍に配置している。このるつぼ６に膜形成材料を入れ、図示しない電子ビーム発生装置から電子ビームエネルギーを上記膜形成材料に投入する。これにより、上記るつぼ内の膜形成材料が、上方の所定角度範囲に放射状に蒸散させられる。なお、上記工程は、図示しない真空チャンバー内で行われる。
【００３８】
図２に示すように、本実施形態では、上記保持部材５を上記円板２の周縁部に等間隔で配置している。上記円板２は、図示しないモータ等を用いて一定速度で上記軸３の回りに回転させられる。また、各基材８は、上記蒸着源から一定の距離に保持されているため、すべての基材８に均一な厚さの膜を形成することが可能となる。
【００３９】
また、上記蒸着源６の直上近傍から離れた角度位置では膜形成材料の蒸散量が少ない。しかしながら、本願発明では、上記基材８を、上記蒸着源６を囲むようにして回転させるため、上記蒸着源６の直上近傍から離れた角度位置においても膜形成材料を蒸着させることができる。このため、蒸散する膜形成材料を無駄なく蒸着させることが可能となり、成膜効率を大幅に向上させることができる。
【００４０】
さらに、本実施形態では、上記保持部材５に基材８を挟み込んで、矩形状の開口部５ｃを介して所要の部位に膜を形成することができる。たとえば、保持部材の表部材５ｂを格子状に形成すると、一つの基材８に複数の膜形成部位を設定することも可能となる。
【００４１】
図５から図９に本願発明の第２の実施形態を示す。
【００４２】
第２の実施形態は、第１の実施形態における各基材を、円板の軸回りに回転させると同時に、上記軸と平行な軸回りに自転させながら、膜を形成するものである。
【００４３】
図６は図５に示す成膜装置の正面図であり、図６は背面図である。これらの図に示すように、第２の実施形態では、軸１０３の回りに回転させられる円板１０２の周縁部に一定間隔でアーム部１０４を突設し、このアーム部１０４を介して保持部材１０５を自転させる。
【００４４】
図８及び図９に示すように、上記保持部材１０５は、一対の矩形状挟持部材１０５ａ、１０５ｂを備え、これらの内側に形成した溝部１０９ａ、１０９ｂに基材１０８を保持できるように構成されている。上記挟持部材１０５ａ、１０５ｂには、それぞれ矩形状の開口部１０５ｃ．１０５ｃが設けられており、上記基材１０８の膜形成面を露出させるように構成されている。上記構成により、上記基材１０８の表裏両面に膜形成材料を蒸着させることができる。
【００４５】
上記アーム部１０４の先端には、上記保持部材１０５を保持できる保持溝１０４ａが設けられており、基材１０８を保持した上記保持部材１０５が上記保持溝１０４ａに嵌入保持される。
【００４６】
図８に示すように、上記各アーム部１０４は、上記円板１０２内を貫通して延びる軸部１０４ａが延出形成されており、この軸部１０４ａの上記アーム部１０４と反対側に内歯車１１０が連結されている。上記アーム部１０４及び上記軸部１０４ａは、上記円板１０２に回転自在に保持されている。なお、蒸着源１０６の構成は、上記第１の実施形態と同様であるので説明は省略する。
【００４７】
一方、上記円板１０２の軸１０３側には、上記各軸部１０４ａに連結された複数の内歯車１１０を囲むように外歯車１１１が設けられている。本実施形態では、上記外歯車１１１は図示しないケーシングに固定されており、上記内歯車１１０の歯部１１０ａと上記外歯車の歯部１１１ａとが噛合させられている。
【００４８】
図７及び図８に示すように、上記軸１０３を介して上記円板１０２を回転させると、上記内歯車１１０の回転位置が変化すると同時に、上記内歯車１１０と上記外歯車１１１との噛合によって、上記軸部１０４ａ及び上記アーム部１０４が回動させられる。これにより、上記保持部材１０５が、上記円板１０２の回転にともなって軸１０３の回りに回転させられるとともに、上記アーム部１０４を介して上記円板１０２に直交する軸回りに自転させられる。すなわち、各基材１０８は、上記軸１０３の回りに公転させられると同時に、上記アーム部の回りに自転させられる。
【００４９】
上記保持部材１０５は、上記基材１０８の両面に対応した開口部１０５ｃが形成されている。各基材１０８は、これらの表裏面が上記蒸着源１０６に交互に対向するように自転させられながら、上記円板１０２によって上記蒸着源１０６の回りを公転させられる。これにより、上記基材１０８の両面に膜形成材料を蒸着させて膜を形成することができる。
【００５０】
第２の実施形態では、上記保持部材１０５を自転させることにより、基材１０８の両面に同時に膜を形成することができる。しかも、一つの蒸着源１０６から蒸散する膜形成材料を蒸着させて同時に膜を形成することができるため、円板に配置された基材１０８の両側に厚さの均一な膜を形成することが可能となる。上記自転速度は特に限定されることはないが、図６に示す膜形成材料の蒸着可能領域において、複数回自転するように構成するのが望ましい。これにより、各基材の両面に均一な厚さの膜を形成することができる。
【００５１】
また、第１の実施形態と同様に、各基材１０８が、上記蒸着源から一定の距離に保持されているため、すべての基材８の両面に均一な厚さの膜を形成することが可能となる。また、上記蒸着源の直上近傍から離れた膜形成材料の蒸散量が少ない位置においも、基材１０８に膜形成材料を蒸着させることができる。このため、蒸散する膜形成材料を無駄なく蒸着させることが可能となり、成膜効率を大幅に向上させることができる。
【００５２】
図１０から図１５に、本願発明の第３の実施形態を示す。
【００５３】
第３の実施形態は、基材を円板の回転軸に直交する平面に沿う軸回りに自転させるものである。なお、蒸着源の構成、保持部材の構成は、上記第２の実施形態と同様であるので説明は省略する。
【００５４】
図１０及び図１３に示すように、第３の実施形態は、軸２０３の回りに回転させられる円板２０２の周縁部に直立して設けられたアーム部２０４ｂの先端に、回転可能に保持された保持軸部２０４ａを設け、この保持軸部２０４ａを介して基材２０８を装着した保持部材２０５を自転させるように構成している。
【００５５】
図１１及び図１４に示すように、上記各アーム部２０４ｂの内部には、上記円板２０２を貫通して延びるとともに、回転自在に保持された軸部２１２が設けられている。上記軸部２１２の先端部には傘歯車２１３が連結されるとともに、基端部には内歯車２１０が連結されている。
【００５６】
上記各アーム部２０４ｂの先端側には、保持部材２０５を保持する保持溝２０４ｃを備えるとともに、上記傘歯車２１３に噛合させられる傘歯車２１４を連結した保持軸部２０４ａが設けられている。
【００５７】
図１２に示すように、上記円板２０２の軸２０３側には、上記各軸部２１２に連結された複数の内歯車２１０を囲むように外歯車２１１が設けられている。上記外歯車２１１は図示しないケーシングに固定されており、上記内歯車２１０の歯部２１０ａと上記外歯車の歯部２１１ａとが噛合させられている。
【００５８】
図１２に示すように、上記円板２０２を、軸２０３を介して回転させると、上記内歯車２１０の回転位置が変化すると同時に、上記内歯車２１０と上記外歯車２１１との噛合によって、上記軸部２１２が回動させられる。これにより、上記軸部２１２の先端部に連結された傘歯車２１３が回転させられるとともに、これに噛合させられた上記傘歯車２１４及び保持軸部２０４ａが回転させられ、上記保持部材２０５も回転させられる。
【００５９】
第３の実施形態では、上記傘歯車２１３、２１４を介して、上記保持部材２０５が、上記円板２０２の回転軸２０３に直交する平面上に設定した軸回りに自転させられる。すなわち、第２の実施形態における保持部材の回転軸と直交する軸回りに上記保持部材が自転させられる。
【００６０】
また、上記保持部材２０５を自転させることにより、基材２０８の両面に同時に膜を形成することができる。しかも、一つの蒸着源２０６から蒸散する膜形成材料を蒸着させて同時に膜を形成することができるため、円板に配置された基材２０８の表裏両面に厚さの均一な膜を形成することが可能となる。上記自転速度は特に限定されることはないが、図１１に示す膜形成材料の蒸着可能領域において、複数回自転するように構成するのが望ましい。これにより、各基材の両面に均一な厚さの膜を形成することができる。
【００６１】
さらに、本実施形態においては、上記保持部材２０５を上記円板２０２の回転軸２０３に直交する平面上に設定した軸回りに自転させている。この構成により、各基材２０８の自転軸から離れた部分の膜形成面が上記蒸着源２０６の直上に交互に位置することになる。このため、基材各部の蒸着量をより均一化することが可能となり、より均一な膜を形成することが可能になる。この結果、蒸着源２０６を、回転する基材２０８に近接させることも可能となり、蒸散させた膜形成材料を基材２０８に効率よく蒸着させて、成膜効率をさらに向上させることもできる。
【００６２】
また、第１の実施形態と同様に、各基材２０８が、上記蒸着源２０６から一定の距離に保持されているため、すべての基材２０８の両面に均一な厚さの膜を形成することが可能となる。また、上記蒸着源２０６の直上近傍から離れた位置においも、基材２０８に膜形成材料を蒸着させることができる。このため、蒸散する膜形成材料を無駄なく蒸着させることが可能となり、成膜効率を大幅に向上させることができる。
【００６３】
図１６から図１８に本願発明の第４の実施形態を示す。
【００６４】
第４の実施形態は、長尺状の基材に、均一な膜を形成するものである。
【００６５】
図１６に示すように、本実施形態に係る成膜装置３０１は、軸３０３によって回転させられる円板３０２と、上記円板３０２の周縁部から上記軸３０３と反対側に延出する円筒状の保持部３０５と、上記保持部３０５の内側に柄部３０７を介して保持される蒸着源３０６とを備える。そして、長尺状の基材３０８が、上記保持部３０５の外周に巻き付けるようにして装着される。
【００６６】
上記保持部３０５には、矩形状の開口部３１１が周方向に複数配列形成されている。このため、上記長尺状の基材３０８は、上記開口部３１１を介して上記蒸着源３０６に対向するように装着される。
【００６７】
上記蒸着源３０６から膜形成材料を蒸散させるとともに、上記円板３０２及び保持部を３０５介して、円筒状に保持された上記基材３０８が一定速度で回転させられる。
【００６８】
上記構成を採用することにより、長尺状の基材表面の複数箇所に矩形状の膜を同時に形成することができる。
【００６９】
また、上述した実施形態と同様に、上記基材３０８を一定速度で回転させながら膜形成材料を蒸着させることができるため、基材の膜形成部位に均一な厚さの膜を形成することができる。
【００７０】
また、上記蒸着源３０６から蒸散させた膜形成材料を無駄なく上記基材３０８の表面に形成できるため、成膜効率を高めることができる。
【００７１】
さらに、上記保持部３０５の開口部３１１の形状を変更することにより、長尺状基材３０８の所要の部位に所要形状の膜を形成することができる。
【００７２】
本願発明は、上述の実施形態に限定されることはない。今回開示された実施形態は、すべての点で例示であって、制限的なものではないと考えられるべきである。本願発明の範囲は、上記説明した意味ではなく、特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味及び範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
【産業上の利用可能性】
【００７３】
本願発明係る成膜方法により、成膜効率を向上させることができるばかりでなく、基材の表面に均一な蒸着膜を形成できる。
【図面の簡単な説明】
【００７４】
【図１】本願発明の第１の実施形態に係る成膜装置の概要を示す斜視図である。
【図２】図１に示す成膜装置の正面図である。
【図３】図１におけるIII −III 線に沿う要部の拡大断面図である。
【図４】基材保持手段（保持部材）の分解断面図である。
【図５】本願発明の第２の実施形態に係る成膜装置の概要を示す斜視図である。
【図６】図５に示す成膜装置の正面図である。
【図７】図６に示す成膜装置の背面図である。
【図８】図６におけるVIII−VIII線に沿う要部の拡大断面図である。
【図９】基材保持手段（保持部材）の分解断面図である。
【図１０】本願発明の第３の実施形態に係る成膜装置の要部を示す斜視図である。
【図１１】図１０に示す成膜装置の正面図である。
【図１２】図１１に示す成膜装置の背面図である。
【図１３】図１１におけるXIII−XIII線に沿う拡大断面図である。
【図１４】図１０におけるXIV −  XIV 線に沿う拡大断面図である。
【図１５】図１１におけるXV−XV線に沿う拡大断面図である。
【図１６】本願発明の第４の実施形態に係る成膜装置の概要を示す斜視図である。
【図１７】図１６におけるXVII−XVII線に沿う断面図である。
【図１８】図１７におけるXVIII −XVIII 線に沿う断面図である。
【符号の説明】
【００７５】
８  基材
６  蒸着源
【図１】
2010095745.tif 000003
【図２】
2010095745.tif 000004
【図３】
2010095745.tif 000005
【図４】
2010095745.tif 000006
【図５】
2010095745.tif 000007
【図６】
2010095745.tif 000008
【図７】
2010095745.tif 000009
【図８】
2010095745.tif 000010
【図９】
2010095745.tif 000011
【図１０】
2010095745.tif 000012
【図１１】
2010095745.tif 000013
【図１２】
2010095745.tif 000014
【図１３】
2010095745.tif 000015
【図１４】
2010095745.tif 000016
【図１５】
2010095745.tif 000017
【図１６】
2010095745.tif 000018
【図１７】
2010095745.tif 000019
【図１８】
2010095745.tif 000020