(57)【要約】【課題】簡素な工程で大面積基板に発光層をパターニングすることができると共に、発光層の発光特性を向上させることができる表示装置の製造方法および表示装置を提供する。【解決手段】正孔輸送層１３の上に、ラジカル反応性を有する赤色発光材料を含む赤色発光材料層１４Ｒと、ラジカル開始剤を含むラジカル開始剤層３１とを順に形成する。ラジカル開始剤層３１のうち赤色発光層１５Ｒの形成予定領域に含まれるラジカル開始剤を励起させ、ラジカル連鎖反応により赤色発光材料層１４Ｒのうち赤色発光層１５Ｒの形成予定領域を高分子化させる。そののち、例えば薬剤による現像処理、または加熱を行うことにより、ラジカル開始剤層３１と、赤色発光材料層１４Ｒのうち高分子化していない領域とを除去する。これにより、所望の部位のみに赤色発光層１５Ｒが形成される。【選択図】図４
2010040352.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板に第１電極，発光層を含む有機層および第２電極をこの順に積層することにより複数の有機発光素子を形成する表示装置の製造方法であって、
前記発光層を形成する工程は、
ラジカル反応性を有する発光材料を含む発光材料層を形成する第１工程と、
前記発光材料層の上に、ラジカル開始剤を含むラジカル開始剤層を形成する第２工程と、
前記ラジカル開始剤層のうち前記発光層の形成予定領域に含まれるラジカル開始剤を励起させ、ラジカル連鎖反応により前記発光材料層のうち前記発光層の形成予定領域を高分子化させる第３工程と
を含む表示装置の製造方法。
【請求項２】
前記第３工程ののち、前記ラジカル開始剤層と、前記発光材料層のうち高分子化していない領域とを除去する第４工程を含む
請求項１記載の表示装置の製造方法。
【請求項３】
前記複数の有機発光素子として、赤色，緑色および青色を含む複数色の有機発光素子を形成し、
前記発光層を形成する工程において、前記複数色の各々ごとに、前記第１工程ないし前記第４工程を行う
請求項２記載の表示装置の製造方法。
【請求項４】
前記ラジカル開始剤の励起を、紫外線，電子線，イオンまたは放射線を照射することにより行う
請求項１ないし３のいずれか１項に記載の表示装置の製造方法。
【請求項５】
前記発光材料は、ホスト材料と、ゲスト材料とにより構成されていると共に、前記ゲスト材料として蛍光性材料または燐光性材料を含む
請求項１ないし４のいずれか１項に記載の表示装置の製造方法。
【請求項６】
前記ホスト材料および前記ゲスト材料の少なくとも一方は、一つ以上のラジカル反応性の官能基を有する
請求項５記載の表示装置の製造方法。
【請求項７】
基板に第１電極，発光層を含む有機層および第２電極をこの順に積層した複数の有機発光素子を備えた表示装置であって、
前記発光層は、ラジカル反応性を有する発光材料を含む発光材料層と、ラジカル開始剤を含むラジカル開始剤層とを順に形成したのち、前記ラジカル開始剤層のうち前記発光層の形成予定領域に含まれるラジカル開始剤を励起させ、ラジカル連鎖反応により前記発光材料層のうち前記発光層の形成予定領域を高分子化させることにより形成された
表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機発光素子（有機ＥＬ（Electroluminescence ）素子）を用いた表示装置の製造方法および表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
テレビジョン受像機や情報端末機器等の表示措置は、薄型化、軽量化、大画面化、高精細表示化の要求に答えるため、重量や厚みに限界のあるＣＲＴ（Cathode Ray Tube）からフラットパネル表示装置への移行する開発が盛んに行われている。このようなフラットパネル表示装置の一つとして、有機発光素子（有機ＥＬ素子）を用いた有機ＥＬ表示装置が注目されている。有機発光素子は、基板に、第１電極，発光層を含む有機層および第２電極を順に有し、第１電極と第２電極との間に直流電圧を印加すると発光層において正孔−電子再結合が起こり、光を発生するものである。
【０００３】
有機ＥＬ表示装置の特長は、実用化が進んでいる液晶表示装置やプラズマ表示装置などとの対比で語られることが多い。以下の特徴を持っている。
（１）薄型：液晶表示装置のようなバックライトが不要で薄型化できる。
フレキシブル：プラスチックなどの基板を使えば、柔らかく折り曲げることができるディスプレイを作ることが可能。しかし、プラスチックシートを基板に使用すると酸素などを透過して発光体を劣化させ、寿命を短くしてしまうことから透過を阻止する層の研究が行われている。
（２）低電圧・低消費電力：液晶表示装置のようにバックライトをカラーフィルタに通して色を出すのではなく、色の着いた光を直接出せるためエネルギーの変換効率が高い。また、プラズマ表示装置のような放電発光ではなく有機半導体内の励起子により発光するので、発光そのものに必要な電圧も数Ｖ程度と低い。
（３）応答速度が速い：液晶表示装置では液晶の分子の方向を変えることで輝度を変えているため、応答速度が鈍く動画再生などで問題になる。有機ＥＬ表示装置は励起子の発光時間は非常に早く、電流を変化させれば輝度が瞬時に変化するので、非常に応答速度が早い。
（４）視野角が広い：液晶表示装置のように見る方向によって階調が変わってしまうことがなく、またコントラストの低下も低く、視野角は１８０度に近い。プリズムシートで集光して表面輝度を向上させている液晶表示装置とは異なり、ランバート分布に近い発光分布を持つが、マイクロキャビティー効果を用いることで集光させる事も可能である。
（５）高輝度：液晶表示装置ではカラーフィルタを通して発色させているため、発光量の３分の１しか利用できないが、有機ＥＬ表示装置では（方式によっては）発生した光のすべてを生かすことができる。ただ、生産性を向上させるため、カラーフィルタを利用する方法も検討されている。
（６）高解像度：有機ＥＬ表示装置は薄く作ることができるため、三色の発光層を縦に重ねることもできる。この手法を用いると既存のものより解像度を高くすることができる。
（７）磁気の影響を受けない :ブラウン管とは異なり磁気の影響を受けない。
（８）色再現範囲：分子設計によって所望の色を表示可能であり、色再現域が広い。フルカラーディスプレイだけでなく、特定の色のみを発光する素子が自由に作れる。
【０００４】
このような有機ＥＬ表示装置は、フラットパネル表示装置として理想的な特性を有しており、２ｍｍ以下の厚みで１から４０インチサイズの高画質、高視認性のディスプレイを実現可能である。しかし、液晶表示装置との競合も相まっていくつもの課題を抱えている。大きな課題としては、（１）大面積基板への展開、（２）消費電力の低減、（３）信頼性の向上、（４）コストの低減等が挙げられる。
【０００５】
特に、大面積基板への展開が非常に重要な技術となっている。この際に問題となるのが多色塗分け技術である。多色化については、光の三原色を発光する発光層を平面的に配置する塗り分け法（所謂、マスク法、インクジェット法）、青色発光を蛍光変換する色変換法（ＣＣＭ（Color Changing Medium ）法）、および白色発光をカラーフィルタにて三原色に分けるカラーフィルタ法が提案されている。
【０００６】
色変換法（ＣＣＭ法）やカラーフィルタ法では色純度が悪いこと、輝度の低下を招くなどの問題があり、最先端のディスプレイデバイスの性能を満足することは難しい。そこで、色変換法（ＣＣＭ法）やカラーフィルタ法を用いないでカラー化を行う必要がある。この際には発光画素のミクロ化に加えて、複数種の発光層を高精度に基板上に製膜する塗分けが必要になる。
【０００７】
塗分け技術に関しては、マスクの開口に１色目の発光層を形成した後、別の開口にて２色目の有機EL素子を設けるように、マスクを変更する。この方法は単純ではあるが多色エリア分け有機ＥＬ素子の作成には有効である。
【０００８】
前述の方法を発展させ、周期的に微小開口を設けたマスクを１色の発光層を形成するごとに画素ピッチ分だけ移動し、２色、３色目の発光層を製膜する方法が提案されている（例えば、特許文献１参照。）。この時の絶縁層は、発光層相互の間に有機層が存在しない場合には、第１電極と第２電極との短絡を防ぐとともに、画素の形状を定める重要な役割をしている。
【特許文献１】特開平８−２２７２７６号公報
【特許文献２】特開平１０−６９９８１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、従来のマスクによる蒸着塗分け法では、量産プロセスに適用した場合、大型マスクを基板に密着させることが困難な上、マスク上に堆積する有機物を除去する必要がある等、課題を残していた。
【００１０】
一方、インクジェット法を用いた塗分け法では、インクジェットでＲＧＢの発光層を形成する場合には、バンクと呼ばれる土手構造を作成し、その中にインクジェットでインクを滴下する。更に、第１電極のＩＴＯ（Indium Tin Oxide）上を親水性、バンクを疎水性にするための表面処理を行う必要があった。
【００１１】
ちなみに、特許文献２では、光感光性樹脂化合物に発光材料を混合し、光感光性樹脂化合物の一部を露光して高分子マトリクスを形成することにより発光層のパターニングを行うことが記載されている。しかし、この従来方法では、高分子マトリクス中に発光材料を添加するので、発光材料の含有率を高くすることができず、発光特性を高くすることが難しいという問題があった。また、露光後の現像工程で発光材料が流出してしまい、現像後の発光層に含まれる発光材料の含有量はわずか１％程度に過ぎず、発光特性が更に低下してしまっていた。
【００１２】
本発明はかかる問題点に鑑みてなされたもので、その目的は、簡素な工程で大面積基板に発光層をパターニングすることができると共に、発光層の発光特性を向上させることができる表示装置の製造方法および表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明による表示装置の製造方法は、基板に第１電極，発光層を含む有機層および第２電極をこの順に積層することにより複数の有機発光素子を形成するものであって、発光層を形成する工程は、以下の（Ａ）〜（Ｃ）の工程を含むものである。
（Ａ）ラジカル反応性を有する発光材料を含む発光材料層を形成する第１工程
（Ｂ）発光材料層の上に、ラジカル開始剤を含むラジカル開始剤層を形成する第２工程
（Ｃ）ラジカル開始剤層のうち発光層の形成予定領域に含まれるラジカル開始剤を励起させ、ラジカル連鎖反応により発光材料層のうち発光層の形成予定領域を高分子化させる第３工程
【００１４】
本発明による表示装置は、基板に第１電極，発光層を含む有機層および第２電極をこの順に積層した複数の有機発光素子を備えたものであって、発光層は、ラジカル反応性を有する発光材料を含む発光材料層と、ラジカル開始剤を含むラジカル開始剤層とを順に形成したのち、ラジカル開始剤層のうち発光層の形成予定領域に含まれるラジカル開始剤を励起させ、ラジカル連鎖反応により発光材料層のうち発光層の形成予定領域を高分子化させることにより形成されたものである。
【００１５】
本発明の表示装置では、発光層が、ラジカル反応性を有する発光材料を含む発光材料層と、ラジカル開始剤を含むラジカル開始剤層とを順に形成したのち、ラジカル開始剤層のうち発光層の形成予定領域に含まれるラジカル開始剤を励起させ、ラジカル連鎖反応により発光材料層のうち発光層の形成予定領域を高分子化させることにより形成されているので、発光材料そのものがラジカル連鎖反応により高分子化されている。よって、得られた発光層に含まれる発光材料の含有率が高く、発光特性が向上する。
【発明の効果】
【００１６】
本発明の表示装置の製造方法、または本発明の表示装置によれば、ラジカル反応性を有する発光材料を含む発光材料層と、ラジカル開始剤を含むラジカル開始剤層とを順に形成したのち、ラジカル開始剤層のうち発光層の形成予定領域に含まれるラジカル開始剤を励起させ、ラジカル連鎖反応により発光材料層のうち発光層の形成予定領域を高分子化させることにより、発光層を形成するようにしたので、マスク法またはインクジェット法などの塗分け技術を用いる必要がなくなり、簡素な工程で大面積基板に発光層をパターニングすることができる。また、発光材料そのものをラジカル連鎖反応により高分子化させるようにしたので、得られた発光層に含まれる発光材料の含有率を高くすることができ、発光特性を向上させることができる
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。
【００１８】
図１は、本発明の一実施の形態に係る表示装置の構成を表すものである。この表示装置は、極薄型の有機発光カラーディスプレイ装置などとして用いられるものであり、例えば、可視領域に吸収のない透明基板、例えば、ソーダライム基板などのガラス基板またはプラスチック基板よりなる基板１０の上に、後述する複数の有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂがマトリクス状に配置されてなる表示領域１１０が形成されると共に、この表示領域１１０の周辺に、映像表示用のドライバである信号線駆動回路１２０および走査線駆動回路１３０が形成されたものである。
【００１９】
表示領域１１０内には画素駆動回路１４０が形成されている。図２は、画素駆動回路１４０の一例を表したものである。この画素駆動回路１４０は、後述する第１電極１１の下層に形成され、駆動トランジスタＴｒ１および書き込みトランジスタＴｒ２と、その間のキャパシタ（保持容量）Ｃｓと、第１の電源ライン（Ｖｃｃ）および第２の電源ライン（ＧＮＤ）の間において駆動トランジスタＴｒ１に直列に接続された有機発光素子１０Ｒ（または１０Ｇ，１０Ｂ）とを有するアクティブ型の駆動回路である。駆動トランジスタＴｒ１および書き込みトランジスタＴｒ２は、一般的な薄膜トランジスタ（ＴＦＴ（Thin Film Transistor））により構成され、その構成は例えば逆スタガー構造（いわゆるボトムゲート型）でもよいしスタガー構造（トップゲート型）でもよく特に限定されない。
【００２０】
画素駆動回路１４０において、列方向には信号線１２０Ａが複数配置され、行方向には走査線１３０Ａが複数配置されている。各信号線１２０Ａと各走査線１３０Ａとの交差点が、有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂのいずれか一つ（サブピクセル）に対応している。各信号線１２０Ａは、信号線駆動回路１２０に接続され、この信号線駆動回路１２０から信号線１２０Ａを介して書き込みトランジスタＴｒ２のソース電極に画像信号が供給されるようになっている。各走査線１３０Ａは走査線駆動回路１３０に接続され、この走査線駆動回路１３０から走査線１３０Ａを介して書き込みトランジスタＴｒ２のゲート電極に走査信号が順次供給されるようになっている。
【００２１】
図３は、表示領域１１０の断面構成を表したものである。表示領域１１０には、赤色の光を発生する有機発光素子１０Ｒと、緑色の光を発生する有機発光素子１０Ｇと、青色の光を発生する有機発光素子１０Ｂとが、順に全体としてマトリクス状に形成されている。なお、有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂは短冊形の平面形状を有し、隣り合う有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの組み合わせが一つの画素（ピクセル）を構成している。
【００２２】
有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂは、それぞれ、基板１０の側から、上述した画素駆動回路１４０および平坦化層（図示せず）を間にして、陽極としての第１電極１１、正孔注入層１２、正孔輸送層１３、発光層１５（赤色発光層１５Ｒ，緑色発光層１５Ｇ，青色発光層１５Ｂ）、正孔ブロッキング層１６、電子輸送層１７、電子注入層１８、および陰極としての第２電極１９がこの順に積層された構成を有している。また、第１電極１１と第２電極１９との間には、電源２０を通じて必要な電圧−電流が印加されるようになっている。
【００２３】
このような有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂは、必要に応じて、窒化ケイ素（ＳｉＮ）または酸化ケイ素（ＳｉＯ）などの保護膜（図示せず）により被覆され、更にこの保護膜（図示せず）上に、熱硬化型樹脂または紫外線硬化型樹脂などの接着層（図示せず）を間にしてガラスなどよりなる封止用基板（図示せず）が全面にわたって貼り合わされることにより封止されている。封止用基板（図示せず）には、必要に応じてカラーフィルタ３２およびブラックマトリクスとしての光遮蔽膜（図示せず）が設けられていてもよい。
【００２４】
第１電極１１は、有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの各々に対応して形成されている。発光層１５で発生した光を第２電極１９側から取り出す場合には、第１電極１１は、発光層１５で発生した光を反射させる反射電極としての機能を有しており、できるだけ高い反射率を有するようにすることが発光効率を高める上で望ましい。この場合、第１電極１１は、例えば、厚みが１００ｎｍ以上１０００ｎｍ以下、具体的には５０ｎｍ程度であり、アルミニウム（Ａｌ）あるいはアルミニウム（Ａｌ）を含む合金、または、銀（Ａｇ）あるいは銀（Ａｇ）を含む合金により構成されている。また、第１電極１１は、クロム（Ｃｒ），チタン（Ｔｉ），鉄（Ｆｅ），コバルト（Ｃｏ），ニッケル（Ｎｉ），モリブデン（Ｍｏ），銅（Ｃｕ），タンタル（Ｔａ），タングステン（Ｗ），白金（Ｐｔ）あるいは金（Ａｕ）などの他の金属元素の単体または合金により構成されていてもよい。
【００２５】
一方、発光層１５で発生した光を基板１０側から取り出す場合には、第１電極１１は、可視領域に吸収が無く導電性の高い透明電極により構成されていることが望ましい。この場合、第１電極の構成材料としては、例えば、ＩＴＯまたはＩＺＯなどの導電性酸化物が挙げられる。
【００２６】
正孔注入層１２は、正孔注入効率を高めるためのものであると共に、リークを防止するためのバッファ層である。正孔輸送層１３は、発光層１５への正孔輸送効率を高めるためのものである。正孔注入層１２の厚みは、例えば、５ｎｍ以上３００ｎｍ以下であり、正孔輸送層１３の厚みは、例えば、５ｎｍ以上３００ｎｍ以下である。正孔注入層１２および正孔輸送層１３の構成材料としては、例えば、以下のものが挙げられる。
Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル) −Ｎ，Ｎ’−ジフェニル− [１，１’−ビフェニル] −４，４’−ジアミン（ＴＰＤ）
４，４’，４’’−トリス [３−メチルフェニル（フェニル）アミノ] トリフェニルアミン (ｍ−ＭＴＤＡＴＡ) 
４，４’，４’’−トリス [１−ナフチル (フェニル) アミノ] トリフェニルアミン (１−ＴＮＡＴＡ) 
４，４’，４’’−トリス [２−ナフチル (フェニル) アミノ] トリフェニルアミン (２−ＴＮＡＴＡ) 
４，４’，４’’−トリス [ビフェニル−４−イル− (３−メチルフェニル) アミノ] トリフェニルアミン (ｐ−ＰＭＴＤＡＴＡ) 
４，４’，４’’−トリス [９，９−ジメチル−２−フルオレニル (フェニル) アミノ] トリフェニルアミン (ＴＦＡＴＡ) 
４，４’，４’’−トリ (Ｎ−カルバゾリル) トリフェニルアミン (ＴＣＴＡ) 
１，３，５−トリス [Ｎ− (４−ジフェニルアミノフェニル) フェニルアミノ] ベンゼン (ｐ−ＤＰＡ−ＴＤＡＢ) 
１，３，５−トリス｛４− [メチルフェニル (フェニル) アミノ] フェニル｝ベンゼン (ＭＴＤＡＰＢ) 
Ｎ，Ｎ’’−ジ (ビフェニル−４−イル) −Ｎ，Ｎ’−ジフェニル− [１，１’−ビフェニル] −４，４’−ジアミン (ｐ−ＢＰＤ) 
Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス (９，９−ジメチル−２−フルオレニル) − [１，１’−ビフェニル] −４，４’−ジアミン (ＦＦＤ) 
【００２７】
発光層１５は、電界をかけることにより電子と正孔との再結合が起こり、光を発生するものである。発光層１５は、例えば、厚みが、１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下であり、発光材料として、ホスト材料と、ゲスト材料とを含んでいる。
【００２８】
また、この発光層１５は、後述するように、ラジカル反応性を有する発光材料を含む発光材料層と、ラジカル開始剤を含むラジカル開始剤層とを順に形成したのち、ラジカル開始剤層のうち発光層１５の形成予定領域に含まれるラジカル開始剤を励起させ、ラジカル連鎖反応により発光材料層のうち発光層１５の形成予定領域を高分子化させることにより形成されたものである。そのため、上述したホスト材料およびゲスト材料の少なくとも一方は、末端に一つ以上のラジカル反応性の官能基、すなわち、ビニル基、アクリル酸基、メタクリル酸基等を有するものであることが好ましい。
【００２９】
更に、ホスト材料およびゲスト材料の両方が、一つ以上のラジカル反応性の官能基を有する材料であれば、より好ましい。ゲスト材料にもラジカル重合反応やホスト材料との共重合反応を進行させることができ、後述する第４工程において、薬剤を用いて発光材料層の高分子化していない領域を除去する過程でのゲスト材料の溶解・流出を効果的に抑制することができるからである。
【００３０】
ホスト材料としては、例えば、以下のものが挙げられる。
（１）発光性アモルファス分子材料
トリ (ｏ−テルフェニル−４−イル) アミン (ｏ−ＴＴＡ) 
トリ (ｐ−テルフェニル−４−イル) アミン (ｐ−ＴＴＡ) 
（２）オリゴチオフェン誘導体
２，５−ビス｛４− [ビス (４−メチルフェニル) アミノ] フェニル｝トリオフェン (ＢＭＡ−１Ｔ) 
５，５’−ビス｛４− [ビス (４−メチルフェニル) アミノ] フェニル｝−２，２’−ビチオフェン (ＢＭＡ−２Ｔ) 
５，５’−ビス｛４− [ビス (４−メチルフェニル) アミノ] フェニル｝−２，２’：5',2''−テルチオフェン (ＢＭＡ−３Ｔ) 
５，５’’’’−ビス｛４− [ビス (４−メチルフェニル) アミノ] フェニル｝−２，２’：５’２’’：５’’，２’’’−クオーターチオフェン (ＢＭＡ−４Ｔ) 
【００３１】
ゲスト材料は、蛍光性材料または燐光性材料のいずれでもよい。蛍光性色素としては、例えば以下のものが挙げられる。
（１）蛍光性化合物
クマリン系色素、ピラン系色素、シアニン系色素、クロコニウム系色素、
（２）多環芳香族炭化水素
アントラセン類、ピレン類、ペリレン類
（３）ヘテロ芳香族化合物
オキサゾール、チアゾール、イミダゾール、オキサジアゾール、チアジアゾール、ロフィン、クマリン、ナイルレッド、4H- ピラニリデンプロパンジニトリル誘導体、ポリチオフェン、ポリビニルカルバゾール
（４）ポリメチン系化合物
シアニン、オキソノール、アズレニウム、ピリリウム
（５）スチルベン系化合物
ジアミノスチルベン誘導体、ポリフェニレンビニレン、アゾメチン、アゾベンゼン、
（６）キレート金属錯体
キノリン類、ナフタレン類、8-キノリノール、Al3+錯体、ベリリウム錯体、
（７）亜鉛錯体
キノリノール、２−ヒドロキシフェニルベンゾオキサゾール、２− (２−ピリジル) フェノール、２− (３−オキサジアゾリル) フェノール誘導体、２−ヒドロキシベンジリデンアニリン誘導体（アゾメチン化合物）
（８）キレートランタノイド錯体
（９）キサンテン系色素
フルオレセレン、ローダミンＢ
（１０）有機顔料等の関連色素
キナクリドン、ジケトピロロピロール誘導体、銅フタロシアニン
（１１）無機有機複合系、ポリシラン、スピロ化合物、スクワリリウム色素、フルオレセイン
【００３２】
燐光性色素としては、以下のものが挙げられる。
（１）緑色材料
トリス (２−フェニルピリジン) イリジウム (ＩＩＩ)  (Ｉｒ (ｐｐｙ) ３) 
ビス (２−フェニルピリジン）（アセチルアセトネート) イリジウム (ＩＩ)  (Ｉｒ (ｐｐｙ) ２ (ａｃａｃ))
トリス [２− (ｐ−トリル) ピリジン] イリジウム (ＩＩＩ)  (Ｉｒ (ｍｐｐｙ) ３) 
（２）青色材料
ビス (３，５−ジフルオロ−２− (２−ピリジル) フェニル− (２−カルボキシピリジル) イリジウム（ＩＩＩ）（ＦｉｒＰｉｃ）
ビス (４８，６８−ジフルオロフェニルピリジネート) テトラキス (１−ピラゾリル) ボレートイリジウム（ＩＩＩ）（ＦＩｒ６）
（３）赤色材料
トリス (１−フェニルイソキノリン) イリジウム (ＩＩＩ)  (Ｉｒ (ｐｉｑ) ３) 
ビス (１−フェニルイソキノリン)(アセチルアセトネート) イリジウムＩＩＩ)  (Ｉｒ (ｐｉｑ) ２ (ａｃａｃ))
ビス [１− (９，９−ジメチル−９Ｈ−フルオレン−２−イル) −イソキノリン］（アセチルアセトネート) イリジウム (ＩＩＩ)  (Ｉｒ (ｆｌｉｑ) ２ (ａｃａｃ))
ビス [３− (９，９−ジメチル−９Ｈ−フルオレン−２−イル) −イソキノリン］（アセチルアセトネート) イリジウム (ＩＩＩ)  (Ｉｒ (ｆｌｑ) ２ (ａｃａｃ))
トリス (２−フェニルキノリン) イリジウム (ＩＩＩ)(Ｉｒ (２−ｐｈｑ) ３) 
ビス (２−フェニルキノリン）（アセチルアセトネート) イリジウム (ＩＩＩ)(Ｉｒ (２−ｐｈｑ) ２ (ａｃａｃ））
【００３３】
正孔ブロッキング層１６は、キャリアの再結合領域を制御して、正孔輸送層１２および電子輸送層１７の両方で励起分子を生成させるために設けられたものであり、例えば、厚みが３ｎｍないし１００ｎｍ程度であり、１，２，４−トリチアゾール誘導体（ｐ−ＥｔＴＡＺ）により構成されている。
【００３４】
電子輸送層１７は、発光層１５への電子輸送効率を高めるためのものである。電子輸送層１７の厚みは、例えば、５ｎｍ以上３００ｎｍ以下である。電子輸送層１７の構成材料としては、例えば、以下のものが挙げられる。
Ａｌｑ３（トリス（８−キノリノレート）アルミニウム（ＩＩＩ））
オキサジアゾール誘導体等
１，３，５−トリス [５− (４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル) −１，３，４−オキサジアゾル−２−イル] ベンゼン (ＴＰＯＢ) 
５．５’−ビス (ジメシチルボリル) −２，２’−ビチオフェン (ＢＭＢ−２Ｔ) 
５．５’−ビス (ジメシチルボリル) −２，２’：５’，２’’−テルチオフェン (ＢＭＢ−３Ｔ) 
【００３５】
電子注入層１８は、発光層１５への電子注入効率を高めるためのものであり、例えば、厚みが１ｎｍ程度であり、ＬｉＦ，Ｌｉ2 Ｏにより構成されている。
【００３６】
なお、以上のうち発光層１５以外の各層、すなわち正孔注入層１２，正孔輸送層１３，正孔ブロッキング層１６，電子輸送層１７および電子注入層１８は、必要に応じて設ければよい。
【００３７】
第２電極１９は、例えば、有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの共通電極として形成され、アルミニウム（Ａｌ），マグネシウム（Ｍｇ），カルシウム（Ｃａ），ナトリウム（Ｎａ）などの金属元素の単体または合金により構成されている。中でも、マグネシウムと銀との合金（ＭｇＡｇ合金）、またはアルミニウム（Ａｌ）とリチウム（Ｌｉ）との合金（ＡｌＬｉ合金）が好ましい。また、第２電極１９は、ＩＴＯ（インジウム・スズ複合酸化物）またはＩＺＯ（インジウム・亜鉛複合酸化物）により構成されていてもよい。第２電極１９の厚みは、例えば、発光層１５で発生した光を第２電極１９側から取り出す場合は５ｎｍ以上５０ｎｍ以下であり、発光層１５で発生した光を基板１０側から取り出す場合は１００ｎｍ以上２００ｎｍ以下である。
【００３８】
この表示装置は、例えば次のようにして製造することができる。
【００３９】
図４および図５は、この表示装置の製造方法を工程順に表すものである。まず、上述した材料よりなる基板１０に画素駆動回路１４０および平坦化層（図示せず）を形成したのち、例えばスパッタ法により、第１電極１１を形成するための上述した厚みおよび材料よりなる第１電極材料膜（図示せず）を形成する。次いで、この第１電極材料膜の上に、例えばフォトリソグラフィ法によりマスク（図示せず）を形成し、このマスクにより、例えば塩化水素等に代表される無機酸を用いて第１電極材料膜を所定の形状にパターニングする。これにより、図４（Ａ）に示したように、第１電極１１が形成される。
【００４０】
続いて、同じく図４（Ａ）に示したように、例えば蒸着法により、上述した厚みおよび材料よりなる正孔注入層１２および正孔輸送層１３を形成する。
【００４１】
そののち、正孔輸送層１３の上に、以下の第１工程ないし第４工程により、発光層１５すなわち赤色発光層１５Ｒ，緑色発光層１５Ｇおよび青色発光層１５Ｂを形成する。
【００４２】
（第１工程）
まず、図４（Ｂ）に示したように、例えば蒸着法により、正孔輸送層１３の上に、上述したラジカル反応性を有する赤色発光材料を含む赤色発光材料層１４Ｒを形成する。
【００４３】
（第２工程）
次いで、同じく図４（Ｂ）に示したように、赤色発光材料層１４Ｒの上に、ラジカル開始剤を含むラジカル開始剤層３１を形成する。ラジカル開始剤としては、紫外線照射等によりラジカル発生が可能な材料、例えば、アルキルフェノン系光重合開始剤、アシルフォスフィンオキシド系光重合開始剤、チタノセン系光重合開始剤、オキシムエステル系重合開始剤又はオキシフェニル酢酸エステルを含有してなる材料を用いることが可能である。
【００４４】
具体的には、ラジカル開始剤としては、以下のものが挙げられる。
（１）ラジカル系光重合開始剤
（ｉ）アルキルフェノン系光重合開始剤
２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン
１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン
２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン
１− [４− (２−ヒドロキシエトキシ) −フェニル] −２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン
２−ヒロドキシ−１−｛４− [４− (２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル) −ベンジル] フェニル｝−２−メチル−プロパン−１−オン
２−メチル−１− (４−メチルチオフェニル) −２−モルフォリノプロパン−１−オン
２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１
２−（ジメチルアミノ) −２−[(４−メチルフェニル) メチル] −１− [４− (４−モルホリニル) フェニル] −１−ブタノン
（ｉｉ）アシルフォスフィンオキシド系光重合開始剤
２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−フォスフィンオキサイド
ビス (２，４，６−トリメチルベンゾイル) −フェニルフォスフィンオキサイド
（ｉｉｉ）チタノセン系光重合開始剤
ビス（η５−２，４−シクロペンタジエン−１−イル) −ビス (２，６−ジフルオロ−３− (１Ｈ−ピロール−１−イル) −フェニル) チタニウム
（２）その他の光重合開始剤
（ｉ）オキシムエステル
１，２−オクタンジオン，１− [４−( フェニルチオ) −，２− (Ｏ−ベンゾイルオキシム)]
エタノン，１− [９−エチル−６− (２−メチルベンゾイル) −９Ｈ−カルバゾール−３−イル] −，１− (０−アセチルオキシム) 
（ｉｉ）オキシフェニル酢酸エステル
オキシフェニル酢酸、２− [２−オキソ−２−フェニルアセトキシエトキシ] エチルエステルとオキシフェニル酢酸、２− (２−ヒドロキシエトキシ) エチルエステルの混合物
（３）重合促進剤
エチル−４−ジメチルアミノベンゾエート
２−エチルヘキシル−４−ジメチルアミノベンゾエート
（４）カチオン系光重合開始剤
Ａ：ヨードニウム， (４−メチルフェニル)[４− (２−メチルプロピル) フェニル] −ヘキサフルオロフォスフェート (１−) 
Ｂ：プロピレンカーボネート
【００４５】
（第３工程）
続いて、図４（Ｃ）に示したように、マスク３２を用いて、ラジカル開始剤層３１のうち赤色発光層１５Ｒの形成予定領域に含まれるラジカル開始剤を励起させ、ラジカル連鎖反応により赤色発光材料層１４Ｒのうち赤色発光層１５Ｒの形成予定領域１５Ｒ１を高分子化させる。ラジカル開始剤の励起は、例えば、紫外線，電子線，イオンまたは放射線を照射することにより行うことが好ましい。
【００４６】
ラジカル開始剤を励起させることにより、ラジカル開始剤層３１においてラジカルが発生する。発生したラジカルは、下層の赤色発光材料層１４Ｒのラジカル反応性が付与された赤色発光材料にラジカルを伝播し、反応が進行する。このようなラジカル連鎖反応により赤色発光材料が高分子化する。
【００４７】
（第４工程）
第３工程ののち、例えば薬剤による現像処理、または加熱を行うことにより、ラジカル開始剤層３１と、赤色発光材料層１４Ｒのうち高分子化していない領域とを除去する。これにより、図４（Ｄ）に示したように、所望の部位のみに赤色発光層１５Ｒが形成される。
【００４８】
ここで、ラジカル開始剤層３１を、赤色発光材料層１４Ｒとは別の層として、赤色発光材料層１４Ｒの上に形成するようにしたので、薬剤による現像処理または加熱により、赤色発光層１５Ｒ上の残余のラジカル開始剤層３１も除去可能である。このため、赤色発光層１５Ｒ中にラジカル開始剤が残ってしまうことがなく、発光特性の劣化や寿命への影響を抑えることができる。
【００４９】
なかでも、加熱により、ラジカル開始剤層３１と、赤色発光材料層１４Ｒのうち高分子化していない領域とを除去することが好ましい。薬剤による赤色発光層１５Ｒへのダメージをより小さくすることができるからである。
【００５０】
このようにして赤色発光層１５Ｒを形成したのち、図５（Ａ）ないし図５（Ｄ）に示したように、緑色，青色の各々ごとに、第１工程ないし第４工程を行うことにより、赤色発光層１５Ｒと同様にして緑色発光層１５Ｇおよび青色発光層１５Ｂを形成する。
【００５１】
すなわち、まず、図５（Ａ）に示したように、正孔輸送層１３および赤色発光層１５Ｒの上に、上述したラジカル反応性を有する緑色発光材料を含む緑色発光材料層１４Ｇを形成する（第１工程）。次いで、同じく図５（Ａ）に示したように、緑色発光材料層１４Ｇの上に、ラジカル開始剤を含むラジカル開始剤層３１を形成する（第２工程）。続いて、同じく図５（Ａ）に示したように、マスク３２を用いて、ラジカル開始剤層３１のうち緑色発光層１５Ｇの形成予定領域１５Ｇ１に含まれるラジカル開始剤を励起させ、ラジカル連鎖反応により緑色発光材料層１４Ｇのうち緑色発光層１５Ｒの形成予定領域１５Ｇ１を高分子化させる。
【００５２】
第３工程ののち、薬剤による現像処理を行うことにより、ラジカル開始剤層３１と、緑色発光材料層１４Ｇのうち高分子化していない領域とを除去する（第４工程）。これにより、図５（Ｂ）に示したように、所望の部位のみに緑色発光層１５Ｇが形成される。
【００５３】
そののち、緑色発光層１５Ｇと同様にして第１工程ないし第４工程を行うことにより、図５（Ｃ）に示したように、青色発光層１５Ｂを形成する。
【００５４】
青色発光層１５Ｂを形成したのち、同じく図５（Ｃ）に示したように、例えば蒸着法により、上述した厚みおよび材料よりなる正孔ブロッキング層１６および電子輸送層１７を形成する。
【００５５】
続いて、図５（Ｄ）に示したように、例えば蒸着法により、上述した厚みおよび材料よりなる電子注入層１８および第２電極１９を形成し、必要に応じて保護膜（図示せず）を形成し、接着層（図示せず）により封止用基板（図示せず）を貼り合わせて封止する。以上により、図１に示した表示装置が完成する。
【００５６】
この表示装置では、各画素に対して走査線駆動回路１３０から書き込みトランジスタＴｒ２のゲート電極を介して走査信号が供給されると共に、信号線駆動回路１２０から画像信号が書き込みトランジスタＴｒ２を介して保持容量Ｃｓに保持される。すなわち、この保持容量Ｃｓに保持された信号に応じて駆動トランジスタＴｒ１がオンオフ制御され、これにより、各有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂに駆動電流Ｉｄが注入されることにより、正孔と電子とが再結合して発光が起こる。この光は、第２電極１９，カラーフィルタおよび封止用基板（いずれも図示せず）を透過して取り出される。ここでは、赤色発光層１５Ｒ（または緑色発光層１５Ｇあるいは青色発光層１５Ｂ）が、ラジカル反応性を有する赤色発光材料（または緑色発光材料あるいは青色発光材料）を含む赤色発光材料層１４Ｒ（または緑色発光材料層１４Ｇあるいは青色発光材料層１４Ｂ）と、ラジカル開始剤を含むラジカル開始剤層３１とを順に形成したのち、ラジカル開始剤層３１のうち赤色発光層１５Ｒ（または緑色発光層１５Ｇあるいは青色発光層１５Ｂ）の形成予定領域に含まれるラジカル開始剤を励起させ、ラジカル連鎖反応により赤色発光材料層１４Ｒ（または緑色発光材料層１４Ｇあるいは青色発光材料層１４Ｂ）のうち赤色発光層１５Ｒ（または緑色発光層１５Ｇあるいは青色発光層１５Ｂ）の形成予定領域を高分子化させることにより形成されているので、発光材料そのものがラジカル連鎖反応により高分子化されている。よって、得られた赤色発光層１５Ｒ（または緑色発光層１５Ｇあるいは青色発光層１５Ｂ）に含まれる発光材料の含有率が高く、発光特性が向上する。
【００５７】
このように本実施の形態では、ラジカル反応性を有する赤色発光材料を含む赤色発光材料層１４Ｒ（または緑色発光材料層１４Ｇあるいは青色発光材料層１４Ｂ）と、ラジカル開始剤を含むラジカル開始剤層３１とを順に形成したのち、ラジカル開始剤層３１のうち赤色発光層１５Ｒ（または緑色発光層１５Ｇあるいは青色発光層１５Ｂ）の形成予定領域に含まれるラジカル開始剤を励起させ、ラジカル連鎖反応により赤色発光材料層１４Ｒ（または緑色発光材料層１４Ｇあるいは青色発光材料層１４Ｂ）のうち赤色発光層１５Ｒ（または緑色発光層１５Ｇあるいは青色発光層１５Ｂ）の形成予定領域を高分子化させることにより、赤色発光層１５Ｒ（または緑色発光層１５Ｇあるいは青色発光層１５Ｂ）を形成するようにしたので、マスク法またはインクジェット法などの塗分け技術を用いる必要がなくなり、簡素な工程で大面積基板に赤色発光層１５Ｒ（または緑色発光層１５Ｇあるいは青色発光層１５Ｂ）をパターニングすることができる。また、発光材料そのものをラジカル連鎖反応により高分子化させるようにしたので、得られた赤色発光層１５Ｒ（または緑色発光層１５Ｇあるいは青色発光層１５Ｂ）に含まれる発光材料の含有率を高くすることができ、発光特性を向上させることができる。
【００５８】
（モジュールおよび適用例）
以下、上記実施の形態で説明した表示装置の適用例について説明する。上記実施の形態の表示装置は、テレビジョン装置，デジタルカメラ，ノート型パーソナルコンピュータ、携帯電話等の携帯端末装置あるいはビデオカメラなど、外部から入力された映像信号あるいは内部で生成した映像信号を、画像あるいは映像として表示するあらゆる分野の電子機器の表示装置に適用することが可能である。
【００５９】
（モジュール）
上記実施の形態の表示装置は、例えば、図６に示したようなモジュールとして、後述する適用例１〜５などの種々の電子機器に組み込まれる。このモジュールは、例えば、基板１１の一辺に、封止用基板５０および接着層（図示せず）から露出した領域２１０を設け、この露出した領域２１０に、信号線駆動回路１２０および走査線駆動回路１３０の配線を延長して外部接続端子（図示せず）を形成したものである。外部接続端子には、信号の入出力のためのフレキシブルプリント配線基板（ＦＰＣ；Flexible Printed Circuit）２２０が設けられていてもよい。
【００６０】
（適用例１）
図７は、上記実施の形態の表示装置が適用されるテレビジョン装置の外観を表したものである。このテレビジョン装置は、例えば、フロントパネル３１０およびフィルターガラス３２０を含む映像表示画面部３００を有しており、この映像表示画面部３００は、上記各実施の形態に係る表示装置により構成されている。
【００６１】
（適用例２）
図８は、上記実施の形態の表示装置が適用されるデジタルカメラの外観を表したものである。このデジタルカメラは、例えば、フラッシュ用の発光部４１０、表示部４２０、メニュースイッチ４３０およびシャッターボタン４４０を有しており、その表示部４２０は、上記各実施の形態に係る表示装置により構成されている。
【００６２】
（適用例３）
図９は、上記実施の形態の表示装置が適用されるノート型パーソナルコンピュータの外観を表したものである。このノート型パーソナルコンピュータは、例えば、本体５１０，文字等の入力操作のためのキーボード５２０および画像を表示する表示部５３０を有しており、その表示部５３０は、上記各実施の形態に係る表示装置により構成されている。
【００６３】
（適用例４）
図１０は、上記実施の形態の表示装置が適用されるビデオカメラの外観を表したものである。このビデオカメラは、例えば、本体部６１０，この本体部６１０の前方側面に設けられた被写体撮影用のレンズ６２０，撮影時のスタート／ストップスイッチ６３０および表示部６４０を有しており、その表示部６４０は、上記各実施の形態に係る表示装置により構成されている。
【００６４】
（適用例５）
図１１は、上記実施の形態の表示装置が適用される携帯電話機の外観を表したものである。この携帯電話機は、例えば、上側筐体７１０と下側筐体７２０とを連結部（ヒンジ部）７３０で連結したものであり、ディスプレイ７４０，サブディスプレイ７５０，ピクチャーライト７６０およびカメラ７７０を有している。そのディスプレイ７４０またはサブディスプレイ７５０は、上記各実施の形態に係る表示装置により構成されている。
【実施例】
【００６５】
更に、本発明の具体的な実施例について説明する。
【００６６】
（実施例１）
上記実施の形態の製造方法と同様にして表示装置を作製した。なお、以下の実施例では、正孔注入層１２および正孔ブロッキング層１６は省略した。まず、ソーダライムガラスよりなる基板１０を用意し、この基板１０上にＩＴＯ層をスパッタ法により１００ｎｍの厚みで形成し、第１電極１１とした。なお、本実施例ではＩＴＯ層のパターニングは行わなかった。
【００６７】
次いで、正孔輸送層１３を以下の条件で形成した。このとき、上層の赤色発光層１５Ｒ，緑色発光層１５Ｇおよび青色発光層１５Ｂの耐溶剤性を確保するために、製膜中に熱フィラメントから電子を放出させることで重合反応を促進させた。
正孔輸送層形成条件
原料：Ｎ，Ｎ−ビス (３−メチルフェニル) −Ｎ，Ｎ−ジフェニル− [１，１−ビフェニル] −４，４−ジアミン  アクリル変性 (ａｃｒｙｌ−ＴＰＤ) 
蒸着条件  蒸着温度／蒸着圧力＝２００℃／１ｅ−５ｔｏｒｒ
【００６８】
続いて、赤色発光材料層１４Ｒを以下の条件で形成した（第１工程）。
赤色発光層形成条件
原料：ホスト材料：カルバゾールアクリレート
ゲスト材料：トリス (１−フェニルイソキノリン) イリジウム (ＩＩＩ) 
蒸着条件  蒸着温度／蒸着圧力＝２００℃／１ｅ−５ｔｏｒｒ
【００６９】
そののち、ラジカル開始剤層３１を以下の条件で形成した（第２工程）。
ラジカル開始剤層形成条件
開始剤材料：ベンゾフェノン
蒸着条件  蒸着温度／蒸着圧力＝１５０℃／１ｅ−５ｔｏｒｒ
【００７０】
ラジカル開始剤層３１を形成したのち、ラジカル開始剤層３１中に含有するラジカル開始剤を分解させ、ラジカルを発生させるために、マスク３２を用いて紫外線を照射した。これにより、紫外線を照射した部位のみに重合反応を進行させた（第３工程）。続いて、ラジカル開始剤層３１と、赤色発光材料層１４Ｒのうち高分子化していない領域とを有機溶媒で溶解除去することにより、赤色発光層１５Ｒを形成した（第４工程）。
【００７１】
そののち、緑色発光材料層１４Ｇを以下の条件で形成した（第１工程）。
緑色発光材料層形成条件
原料：ホスト材料：カルバゾールアクリレート
ゲスト材料：トリス (２−フェニルピリジン) イリジウム (ＩＩＩ) 
蒸着条件  蒸着温度／蒸着圧力＝２００℃／１ｅ−５ｔｏｒｒ
【００７２】
続いて、ラジカル開始剤層３１を赤色発光層１５Ｒの場合と同様の条件により形成し（第２工程）、このラジカル開始剤層３１に対して、マスク３２を用いて紫外線を照射し、紫外線を照射した部位のみに重合反応を進行させた（第３工程）。そののち、ラジカル開始剤層３１と、緑色発光材料層１４Ｇのうち高分子化していない領域とを有機溶媒で溶解除去することにより、緑色発光層１５Ｇを形成した（第４工程）。
【００７３】
同様にして、青色発光材料層１４Ｂおよびラジカル開始剤層３１を形成し（第１工程および第２工程）、紫外線照射を行い（第３工程）、ラジカル開始剤層３１と、青色発光材料層１４Ｂのうち高分子化していない領域とを有機溶媒で溶解除去する（第４工程）ことにより、青色発光層１５Ｂを形成した。その際、青色発光材料層１４Ｂは、以下の条件で形成した。
青色発光材料層形成条件
原料：ホスト材料：カルバゾールアクリレート
ゲスト材料：ビス（３，５−ジフルオロ−２−（２−ピリジル）フェニル−（２−カルボキシピリジル）イリジウム（ＩＩＩ）（ＦｉｒＰｉｃ）
蒸着条件  蒸着温度／蒸着圧力＝２５０℃／３ｅ−６ｔｏｒｒ
【００７４】
そののち、電子輸送層１７，電子注入層１８および第２電極１９を、それぞれ以下の条件で形成した。
電子輸送層形成条件
原料：キノリノールアルミニウム錯体 (トリス (８−キノリノラート) アルミニウム (Ａｌｑ３) ）
蒸着条件  蒸着温度／蒸着圧力＝２００℃／１ｅ−５ｔｏｒｒ
電子注入層形成条件
原料：ＬｉＦ
蒸着条件  蒸着温度／蒸着圧力＝３００℃／１ｅ−５ｔｏｒｒ
第２電極形成条件
原料：Ａｌ
蒸着条件  蒸着温度／蒸着圧力＝２００℃／１ｅ−５ｔｏｒｒ
【００７５】
（参照試料）
本実施例１に対する参照試料として、ラジカル開始剤層３１を用いたパターニング工程を行わず、基板に同一の材料を積層製膜したものを形成した。
【００７６】
（評価）
得られた実施例１および参照試料について、電流の電圧依存性、輝度の電圧依存性について評価を行った。電流の電圧依存性については、ＩＴＯよりなる第１電極を陽極、アルミニウム（Ａｌ）よりなる第２電極を陰極として電圧を印加し、素子に流れる電流を電流計にて測定した。また、輝度の電圧依存性は、ＩＴＯよりなる第１電極を陽極、アルミニウム（Ａｌ）よりなる第２電極を陰極として電圧を印加し、第１電極側から観測される発光層からの光の輝度およびその波長依存性を調べた。
【００７７】
その結果、電流の電圧依存性については、実施例１および参照試料のいずれについても、閾値電圧およびその後の電流の電圧依存性に差異が認められなかった。また、輝度の電圧依存性についても、実施例１および参照試料のいずれについても同様な特性が観測された。更に、発光スペクトルについても同様な結果が得られた。
【００７８】
すなわち、ラジカル反応性を有する赤色発光材料を含む赤色発光材料層１４Ｒ（または緑色発光材料層１４Ｇあるいは青色発光材料層１４Ｂ）と、ラジカル開始剤を含むラジカル開始剤層３１とを順に形成したのち、ラジカル開始剤層３１のうち赤色発光層１５Ｒ（または緑色発光層１５Ｇあるいは青色発光層１５Ｂ）の形成予定領域に含まれるラジカル開始剤を励起させ、ラジカル連鎖反応により赤色発光材料層１４Ｒ（または緑色発光材料層１４Ｇあるいは青色発光材料層１４Ｂ）のうち赤色発光層１５Ｒ（または緑色発光層１５Ｇあるいは青色発光層１５Ｂ）の形成予定領域を高分子化させることにより、赤色発光層１５Ｒ（または緑色発光層１５Ｇあるいは青色発光層１５Ｂ）を形成するようにすれば、パターニングによる発光特性への影響を完全に排除し、パターニングを行わない場合と同等の特性を得られることが分かった。つまり、マスク法またはインクジェット法などの塗分け技術を用いる必要がなくなり、簡素な工程で大面積基板に赤色発光層１５Ｒ（または緑色発光層１５Ｇあるいは青色発光層１５Ｂ）をパターニングすることができると共に、赤色発光層１５Ｒ（または緑色発光層１５Ｇあるいは青色発光層１５Ｂ）の発光特性を向上させることができることが分かった。
【００７９】
（実施例２）
発光材料およびラジカル開始剤を異ならせたことを除いては、上記実施例１と同様にして表示装置を形成した。また、本実施例では、赤色発光材料層１４Ｒ，緑色発光材料層１４Ｇおよび青色発光材料層１４Ｂのホスト材料だけでなく、ゲスト材料にも一つ以上のラジカル反応性の官能基を有するものを用いた。各層は以下の条件で形成した。
【００８０】
赤色発光材料層形成条件
原料：ホスト材料：カルバゾールアクリレート
ゲスト材料：アクリル変性
ビス (１−フェニルイソキノリン)(アセチルアセトネート) イリジウム (ＩＩＩ) 
蒸着条件  蒸着温度／蒸着圧力＝２００℃／１ｅ−５ｔｏｒｒ
【００８１】
ラジカル開始剤層形成条件
開始剤材料：メチルアミノベンゾフェノン
蒸着条件  蒸着温度／蒸着圧力＝１５０℃／１ｅ−５ｔｏｒｒ
【００８２】
緑色発光層形成条件
原料：ホスト材料：カルバゾールアクリレート
ゲスト材料：アクリル変性（ビニル変性）  ビス (２−フェニルピリジン)(４−ビニルフェニルピリジン) イリジウム (ＩＩＩ) 
蒸着条件  蒸着温度／蒸着圧力＝２００℃／１ｅ−５ｔｏｒｒ
【００８３】
青色発光材料層形成条件
原料：ホスト材料：カルバゾールアクリレート
ゲスト材料：ビス（４８，６８−ジフルオロフェニルピリジネート）テトラキス（１−ピラゾリル）ボレートイリジウム（ＩＩＩ）（ＦＩｒ６）
蒸着条件  蒸着温度／蒸着圧力＝２５０℃／３ｅ−６ｔｏｒｒ
【００８４】
（実施例３）
発光材料およびラジカル開始剤を異ならせたこと、および第４工程において、加熱により、ラジカル開始剤層３１と、赤色発光材料層１４Ｒのうち高分子化していない領域とを除去するようにしたことを除いては、上記実施例１と同様にして表示装置を形成した。また、本実施例では、赤色発光材料層１４Ｒ，緑色発光材料層１４Ｇおよび青色発光材料層１４Ｂのホスト材料だけでなく、ゲスト材料にも一つ以上のラジカル反応性の官能基を有するものを用いた。各層は以下の条件で形成した。
【００８５】
赤色発光層形成条件
原料：ホスト材料：カルバゾールアクリレート
ゲスト材料：アクリル変性  ビス (１−フェニルイソキノリン)(アセチルアセトネート) イリジウム (ＩＩＩ) 
蒸着条件  蒸着温度／蒸着圧力＝２００℃／１ｅ−５ｔｏｒｒ
【００８６】
ラジカル開始剤層形成条件
開始剤材料：メチルアミノベンゾフェノン
蒸着条件  蒸着温度／蒸着圧力＝２００℃／１ｅ−５ｔｏｒｒ
【００８７】
第４工程の加熱条件  温度／圧力＝２２０℃／１ｅ−５ｔｏｒｒ
【００８８】
緑色発光層形成条件
原料：ホスト材料：カルバゾールアクリレート
ゲスト材料：アクリル変性  ビス (２−フェニルピリジン)(アセチルアセトネート) イリジウム (ＩＩ) 
蒸着条件  蒸着温度／蒸着圧力＝２００℃／１ｅ−５ｔｏｒｒ
【００８９】
青色発光材料層形成条件
原料：ホスト材料：カルバゾールアクリレート
ゲスト材料：ビス（４８，６８−ジフルオロフェニルピリジネート）テトラキス（１−ピラゾリル）ボレートイリジウム（ＩＩＩ）（ＦＩｒ６）
蒸着条件  蒸着温度／蒸着圧力＝２５０℃／３ｅ−６ｔｏｒｒ
【００９０】
得られた実施例２，３の表示装置についても、実施例１と同様にして参照試料との比較を行ったところ、実施例１と同様の結果が得られた。
【００９１】
以上、実施の形態および実施例を挙げて本発明を説明したが、本発明は上記実施の形態および実施例に限定されるものではなく、種々変形が可能である。例えば、上記実施の形態および実施例において説明した各層の材料および厚み、または成膜方法および成膜条件などは限定されるものではなく、他の材料および厚みとしてもよく、または他の成膜方法および成膜条件としてもよい。
【００９２】
また、上記実施の形態では、有機発光素子１０Ｒ，１０Ｂ，１０Ｇの構成を具体的に挙げて説明したが、全ての層を備える必要はなく、また、他の層を更に備えていてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００９３】
【図１】本発明の一実施の形態に係る表示装置の構成を表す図である。
【図２】図１に示した画素駆動回路の一例を表す等価回路図である。
【図３】図１に示した表示領域の構成を表す断面図である。
【図４】図１ないし図３に示した表示装置の製造方法を工程順に表した断面図である。
【図５】図４に続く工程を表す断面図である。
【図６】上記実施の形態の表示装置を含むモジュールの概略構成を表す平面図である。
【図７】上記実施の形態の表示装置の適用例１の外観を表す斜視図である。
【図８】（Ａ）は適用例２の表側から見た外観を表す斜視図であり、（Ｂ）は裏側から見た外観を表す斜視図である。
【図９】適用例３の外観を表す斜視図である。
【図１０】適用例４の外観を表す斜視図である。
【図１１】（Ａ）は適用例５の開いた状態の正面図、（Ｂ）はその側面図、（Ｃ）は閉じた状態の正面図、（Ｄ）は左側面図、（Ｅ）は右側面図、（Ｆ）は上面図、（Ｇ）は下面図である。
【符号の説明】
【００９４】
１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂ…有機発光素子、１１…基板、１２…第１電極、１３…正孔注入層、１４Ｒ…赤色発光材料層、１４Ｇ…緑色発光材料層、１４Ｂ…青色発光材料層、１５…発光層、１５Ｒ…赤色発光層、１５Ｇ…緑色発光層、１５Ｂ…青色発光層、１６…正孔ブロッキング層、１７…電子輸送層、１８…電子注入層、１９…第２電極、２０…電源、３１…ラジカル開始剤層、３２…マスク、１１０…表示領域、１４０…画素駆動回路、Ｃｓ…キャパシタ、Ｔｒ１…駆動トランジスタ、Ｔｒ２…書き込みトランジスタ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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