(57)【要約】【課題】処理室内を自動洗浄することによって、洗浄の手間を省き、かつ処理室内の状態を一定に保つことができる恒温槽を得る。【解決手段】試料が収納される処理室１８が設けられている。シャワー２０は、処理室１８の内壁に洗浄液を噴射して洗浄する。排水口２２は、洗浄に用いられた洗浄液を排出する。水質センサ２４は、排水口２２から排出される洗浄液の水質を測定する。制御部３６は、水質センサ２４の測定結果を入力し、シャワー２０を制御する。制御部３６は、シャワー２０に洗浄を開始させ、洗浄開始から所定時間が経過し、かつ洗浄液の水質が所定の値に達すると、シャワー２０を停止させる。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
試料が収納される処理室と、
前記処理室の内壁に洗浄液を噴射して洗浄するシャワーと、
洗浄に用いられた前記洗浄液を排出する排水口と、
前記排水口から排出される前記洗浄液の水質を測定する水質センサと、
前記水質センサの測定結果を入力し、前記シャワーを制御する制御部とを備え、
前記制御部は、
前記シャワーに洗浄を開始させ、
洗浄開始から所定時間が経過し、かつ前記洗浄液の水質が所定の値に達すると、前記シャワーを停止させることを特徴とする恒温槽。
【請求項２】
前記処理室内を乾燥させる乾燥手段と、
前記処理室内の温度を上昇させるヒータと、
前記処理室内の湿度を測定する湿度センサと、
前記処理室内の温度を測定する温度センサとを更に備え、
前記制御部は、前記湿度センサ及び前記温度センサの測定結果を入力し、前記乾燥手段及び前記ヒータを制御し、
前記制御部は、
前記シャワーを停止させた後に、前記乾燥手段に前記処理室内の乾燥を開始させ、前記ヒータに前記処理室内を第１の設定温度まで上げさせ、
乾燥開始から所定時間が経過し、かつ前記処理室内の湿度が所定湿度に達すると、前記ヒータを停止させ、
前記ヒータを停止させてから前記処理室内の温度が第２の設定温度まで低下すると、前記乾燥手段を停止させることを特徴とする請求項１に記載の恒温槽。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体装置の信頼性試験などに用いられる恒温槽に関し、特に処理室内を自動洗浄することによって、洗浄の手間を省き、かつ処理室内の状態を一定に保つことができる恒温槽に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
半導体装置の信頼性試験などにおいて、試料が収納される処理室内を長時間一定温度及び一定湿度に保つことができる恒温槽が用いられる（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
【特許文献１】特開平１０−１８５４２７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
恒温槽の処理室内は、試験条件によって高温高湿になり、結露しやすい。そして、恒温槽を連続で使用すると、空気中の汚染物質、試料から発生する物質、作業者の人体から発生する異物等により処理室内が汚染される。これは、試料に樹脂が含まれている場合や、頻繁なサンプル投入・取り出し作業がある場合に非常に顕著である。このように処理室内は密閉状態であるため、汚れが発生しやすく、溜まり易い。この汚れが試料に影響を及ぼし、正しい評価ができないため、従来は人間の手で処理室内の洗浄を行っていた。
【０００５】
しかし、洗浄の手間がかかるという問題があった。また、作業者によって清掃後の処理室内の状態にバラツキが生じるという問題もあった。特に、コストダウンのためにパッケージレス化した製品は外部環境の変化に大きな影響を受けるため、正確な信頼性評価を行うためには処理室内の状態を一定に保つ必要がある。
【０００６】
本発明は、上述のような課題を解決するためになされたもので、その目的は、処理室内を自動洗浄することによって、洗浄の手間を省き、かつ処理室内の状態を一定に保つことができる恒温槽を得るものである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、試料が収納される処理室と、前記処理室の内壁に洗浄液を噴射して洗浄するシャワーと、洗浄に用いられた前記洗浄液を排出する排水口と、前記排水口から排出される前記洗浄液の水質を測定する水質センサと、前記水質センサの測定結果を入力し、前記シャワーを制御する制御部とを備え、前記制御部は、前記シャワーに洗浄を開始させ、洗浄開始から所定時間が経過し、かつ前記洗浄液の水質が所定の値に達すると、前記シャワーを停止させることを特徴とする恒温槽である。本発明のその他の特徴は以下に明らかにする。
【発明の効果】
【０００８】
本発明により、処理室内を自動洗浄することによって、洗浄の手間を省き、かつ処理室内の状態を一定に保つことができる。これにより、処理室内の汚れが試料に影響を及ぼすことはなくなり、正確な信頼性評価を行うことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
図１は、本発明の実施の形態に係る恒温槽の外観を示す図である。槽本体１０の内部は扉１２により密閉されている。扉１２には取っ手１４が設けられている。タンク１６は、槽本体１０の内部の湿度を上昇させるための純水を貯蔵している。
【００１０】
図２は、本発明の実施の形態に係る恒温槽の内部を示す図である。槽本体１０の内部には、試料が収納される処理室１８が設けられている。処理室１８内にシャワー２０が取り付けられている。シャワー２０は、処理室１８の内壁に洗浄液を噴射して洗浄する。洗浄液として、タンク１６から純水をポンプで吸い上げてもよいし、配管により外部から純水を供給してもよい。シャワー２０はヘッドが回転する可動型であるため、処理室１８の内壁に洗浄液をくまなく噴射することができる。シャワー２０の個数や配置は、処理室１８の大きさ、内壁への水圧のかかり方、洗浄のし易さ等を考慮して決定されている。
【００１１】
処理室１８の下部に設けられた排水口２２は、洗浄に用いられた洗浄液を排出する。水質センサ２４は、排水口２２から排出される洗浄液の水質（ｐＨ及び電導率）を測定する。フィルター２６及びファン付き空気交換口２８（乾燥手段）は、処理室１８内への空気の導入及び排出を行なって、処理室１８内を乾燥させる。ヒータ３０は、処理室１８内の温度を上昇させる。湿度センサ３２は、処理室１８内の湿度を測定する。温度センサ３４は、処理室１８内の温度を測定する。制御部３６は、水質センサ２４、湿度センサ３２及び温度センサ３４の測定結果を入力し、シャワー２０、ファン付き空気交換口２８及びヒータ３０を制御する。
【００１２】
図３のフローチャートを参照しながら、上記の恒温槽の自動洗浄について説明する。まず、自動洗浄を開始すると、制御部３６はシャワー２０に洗浄を開始させる（ステップＳ１）。
【００１３】
次に、洗浄開始から所定時間が経過し（ステップＳ２）、かつ排出される洗浄液の水質（ｐＨ及び電導率）が所定の値に達する（ステップＳ３）と、制御部３６はシャワー２０を停止させる（ステップＳ４）。このように、排出される洗浄液の水質を測定することによって、間接的に処理室１８内の洗浄度を測定することができる。
【００１４】
次に、シャワー２０を停止させた後に、制御部３６はファン付き空気交換口２８を開けて処理室１８内の乾燥を開始させる（ステップＳ５）。そして、制御部３６はヒータ３０に処理室１８内の温度を第１の設定温度まで上げさせる（ステップＳ６）。
【００１５】
次に、乾燥開始から所定時間が経過し（ステップＳ７）、かつ処理室１８内の湿度が所定湿度に達する（ステップＳ８）と、制御部３６はヒータ３０を停止させる（ステップＳ９）。
【００１６】
次に、ヒータ３０を停止させてから処理室１８内の温度が第２の設定温度まで低下する（ステップＳ１０）と、制御部３６はファン付き空気交換口２８を閉めて処理室１８内の乾燥を停止させ（ステップＳ１１）、自動洗浄を終了する。
【００１７】
以上説明したように、処理室１８内を自動洗浄することによって、洗浄の手間を省き、かつ処理室１８内の状態を一定に保つことができる。これにより、処理室１８内の汚れが試料に影響を及ぼすことはなくなり、正確な信頼性評価を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本発明の実施の形態に係る恒温槽の外観を示す図である。
【図２】本発明の実施の形態に係る恒温槽の内部を示す図である。
【図３】本発明の実施の形態に係る恒温槽の自動洗浄を示すフローチャートである。
【符号の説明】
【００１９】
１８  処理室
２０  シャワー
２２  排水口
２４  水質センサ
２８  ファン付き空気交換口（乾燥手段）
３０  ヒータ
３２  湿度センサ
３４  温度センサ
３６  制御部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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