(57)【要約】【課題】シート状の基材を連続して処理することができる基材処理装置を提案することを目的とする。【解決手段】基材Ｗを下半分で前後方向に搬送するバックアップロール１２と、このバックアップロール１２の下半分を収納する液槽１４と、液槽１４の後部から液槽１４内部に溶液を供給する供給管２２と、液槽１４の前部に配された溶液の排出槽２０とを有する。【選択図】      図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
塗工対象である基材を下半分で前後方向に搬送するバックアップロールと、
前記バックアップロールの前記下半分を溶液で浸漬するための液槽と、
前記液槽の後部から前記液槽内部に溶液を供給する供給部と、
を有する基材処理装置。
【請求項２】
前記バックアップロールと前記液槽とが、任意の温度に加温されている、
請求項１記載の基材処理装置。
【請求項３】
前記液槽の前部に前記溶液の排出槽を有する、
請求項１記載の基材処理装置。
【請求項４】
前記基材を、請求項１記載の複数の基材処理装置によって連続して処理する、
連続基材処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、シート状の基材の表面に連続的に化合物を析出させる基材処理装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来より、液相析出法による金属酸化物被膜の作成方法が種々提案されている。例えば、酸化チタン、酸化珪素、酸化鉄、酸化亜鉛、硫化カドミウムなどの化合物を基材の表面に析出させる場合に、基材を溶液中に浸漬させ、又は、ロール状の基材を溶液中に浸漬させ、一定時間浸漬させた後に引き上げる方法などが提案されている（例えば、特許文献１、特許文献２参照）。
【特許文献１】特開平１１−２４３２２３号公報
【特許文献２】特開２００１−２９４４０８公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
上記のような化合物の析出方法であると、一定時間基材を溶液中に浸漬させる必要があり、生産時間が長くなり、生産性が低下するという問題点があった。
【０００４】
そこで、本発明は上記問題点に鑑み、シート状の基材を連続して処理することができる基材処理装置を提案することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、塗工対象である基材を下半分で前後方向に搬送するバックアップロールと、前記バックアップロールの前記下半分を溶液で浸漬するための液槽と、前記液槽の後部から前記液槽内部に溶液を供給する供給部と、を有する基材処理装置である。
【発明の効果】
【０００６】
本発明によれば、バックアップロールによって搬送される基材を連続的に処理することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００７】
以下、本発明の一実施形態の基材処理装置１０について図１及び図２に基づいて説明する。
【０００８】
本実施形態における基材処理装置１０によって処理される基材としては、例えば合成樹脂製フィルム、金属箔などであって、溶液に浸漬させて基材の表面に析出させる化合物としては、例えば酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化チタン、硫化カドミウムである。
【０００９】
（１）基材処理装置１０の構成
基材処理装置１０の構造について、図１及び図２に基づいて説明する。
【００１０】
基材処理装置１０は、バックアップロール１２と液槽１４とを備えている。
【００１１】
バックアップロール１２は、図１において、反時計回りに回転し、その下半分で基材Ｗを前後方向（図１においては左から右）に搬送するものである。バックアップロール１２の前方には第１案内ロール１６が配され、後方には第２案内ロール１８が配され、基材Ｗは、第１案内ロール、バックアップロール１２及び第２案内ロール１８の順番で通過する。このバックアップロール１２の直径は２００〜２０００ｍｍ、好ましくは６００ｍｍ〜１５００ｍｍであり、ステンレス製である。そして、基材Ｗを１〜１０ｍ／分の搬送速度Ｖで搬送させる。また、このバックアップロール１２は、５０〜１００℃、好ましくは８０℃〜１００℃に加温されている。
【００１２】
液槽１４は、バックアップロール１２の下半分、すなわち基材Ｗが搬送されている部分を収納するものであり、図１に示すように側面から見るとほぼ縦断面形状が半円形となっている。この半円形の大きさは、バックアップロール１２の直径よりやや大きい程度、具体的にはバックアップロール１２の直径より１０〜１００ｍｍ大きく設計されている。
【００１３】
また、この液槽１４は、不図示のジャケットに覆われ、バックアップロール１２と同様に５０〜１００℃、好ましくは８０℃〜１００℃に加温されている。なお、この加温される温度は、用いられる溶液の析出温度以上に加温させる。この加温方法としては、ジャケットと液槽１４との間に加温した水を流す。
【００１４】
液槽１４の底面には、図２に示すように、基材Ｗの両側よりもやや広い位置に、隔壁２８を設けている。この一対の隔壁２８，２８を設ける理由は、基材Ｗの部分だけ溶液が流れるようにして出来るだけ濃度の高い溶液が基材Ｗに接触するようにするためである。
【００１５】
液槽１４の前部には、溶液を溜めるための排出槽２０が液槽１４とは独立して設けられている。液槽１４の後方には、液槽１４の後部から溶液を供給する供給管２２が設けられている。
【００１６】
液槽１４と排出槽２０とは一体となって、図１に示すように上下動可能となっている。すなわち、基材処理装置１０を駆動させない場合には、液槽１４と排出槽２０とを下方に移動させて待機させておく。
【００１７】
第１案内ロール１６と第２案内ロール１８の下方には、不要な溶液を受けるための受け皿２４，２６が設けられている。
【００１８】
（２）基材処理装置１０の動作状態
次に、基材処理装置１０の動作状態について説明する。
【００１９】
基材Ｗを第１案内ロール１６からバックアップロール１２の下半分を経て第２案内ロール１８に案内されるように掛け渡し、バックアップロール１２を図１において反時計回りに搬送速度Ｖで回転させる。
【００２０】
また、供給管２２から、溶液を液槽１４の後部から流し、バックアップロール１２の下半分が浸漬されるようにした後、余った溶液は排出槽２０に流れるようにする。この場合に、図１に示すように、供給管２２から供給された溶液はバックアップロール１２の回転方向とは反対側である後部から前部に流れて溶液と基材Ｗが接触させる。このバックアップロール１２によって基材Ｗが液槽１４の溶液に浸漬されている時間は化合物が析出するのに必要な時間に対応し、バックアップロール１２の直径と基材Ｗが、接液している時間長さに対応し、具体的には接液時間＝接液長さ／搬送速度となる。例えば、前記のようなバックアップロール１２の直径と搬送速度Ｖによると、この接液時間としては１〜１０分となる。
【００２１】
液槽１４には、基材Ｗの移動方向とは反対方向に溶液が流れているため、溶液中の化合物濃度が上流側、すなわち液槽１４の後部側ほど高くなっている。そのため、基材Ｗが液槽１４内部を通過しても、上流から下流に渡って常に高い濃度の溶液に接液し、均一に化合物が析出できる。その上、液槽１４の縦断面形状が半円形であり、バックアップロール１２の直径よりやや大きい程度に設計されているために、バックアップロール１２に搬送される基材Ｗの外側周囲を常に溶液が反対方向に流れる。
【００２２】
また、化学反応及び析出に適した温度にバックアップロール１２と液槽１４とが加温されているため、その化学反応及び析出を促進させることができる。
【００２３】
さらに、図２に示しように、基材Ｗにのみ溶液ができるだけ流れるようにするために、一対の隔壁２８，２８を設けているため、より析出を促進させることができる。
【００２４】
（３）変更例１
本発明は上記各実施形態に限らず、その主旨を逸脱しない限り種々に変更することができる。
【００２５】
上記実施形態においては、バックアップロール１２と液槽１４とを備えた一台の基材処理装置のみ用いたが、接液時間がこの１台の基材処理装置１０だけでは十分に取れない場合には、同様の基材処理装置１０を複数直列に並べて、接液時間の合計時間を増やすようにしてもよい。すなわち、第２案内ロール１８の後にさらに基材処理装置１０とを設ける。
【００２６】
この変更例１によっても、連続して基材Ｗに化合物を析出させることができる。
【００２７】
（５）変更例２
上記実施形態では液槽１４の後部に排出槽２０を設けたが、この排出槽２０を設けず、液槽１４の後端部から溶液を缶などを用いて外部に排出させてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
【図１】本発明の一実施形態を示す基材処理装置１０の側方から見た縦断面図である。
【図２】基材処理装置の後方から見た縦断面図である。
【符号の説明】
【００２９】
１０  基材処理装置
１２  バックアップロール
１４  液槽
１６  第１案内ロール
１８  第２案内ロール
２０  排出槽
２２  供給管
【図１】
2010051919.tif 000003
【図２】
2010051919.tif 000004