(57)【要約】【課題】基板を保持する保持部材の高さ調整を容易に行うことができる基板浮上装置及び基板検査装置を提供する。【解決手段】基板浮上装置は、基板を浮上させる浮上ステージ２と、この浮上ステージ２の周縁又はその近傍に配置され、上方に弾性力で付勢されて基板を下方から保持する保持部材３と、この保持部材３の高さ位置を調整する高さ調整部４と、を備える構成とする。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を浮上させる浮上ステージと、
該浮上ステージの周縁又はその近傍に配置され、上方に弾性力で付勢されて前記基板を下方から保持する保持部と、
該保持部の高さ位置を調整する高さ調整部と、
を備えることを特徴とする基板浮上装置。
【請求項２】
前記基板を位置決めする位置決め機構を更に備え、
前記保持部は、前記浮上ステージの周縁又はその近傍で、且つ前記位置決め機構の近傍に位置する、
ことを特徴とする請求項１記載の基板浮上装置。
【請求項３】
請求項１又は請求項２記載の基板浮上装置と、
該基板浮上装置の浮上ステージ上に浮上した基板の検査を行う検査部と、
を含むことを特徴とする基板検査装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）等の基板を浮上させる基板浮上装置、及び、基板を検査する基板検査装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、フォトリソグラフィ工程によりガラス基板（マザーガラス基板）にレジストパターニングを行って液晶パネルを製造する製造工程や、ガラス基板を検査する検査工程において、エアによりマザーガラス基板を浮上させ、この非接触状態のマザーガラス基板を検査或いは搬送する手法がとられている（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
近年のガラス基板の大型化に伴い、ガラス基板は、エアにより浮上させただけでは不安定な状態となりやすく、意図しない方向に移動してしまうこともある。また、ガラス基板の大型化に伴い、ガラス基板に生じる撓みや反りも大きくなってきており、浮上ステージにガラス基板が接触しないように低摩擦でガラス基板を保持する必要がある。
【０００４】
上記特許文献１記載の基板浮上装置は、浮上ステージ上を搬送されてきたガラス基板を支持部材の先端に設けられた接触部材を昇降機構により上昇させ浮上ステージより突出させることで接触部材をガラス基板の裏面に接触させ、浮上している基板の移動を規制する。この接触部材は、浮上したガラス基板が搬送されてきた後、昇降機構 により浮上ステージにほぼ中央より上方に突出され浮上したガラス基板の裏面に接触するようになっている。
【０００５】
特許文献２記載の基板保持具は、浮上ステージの上面に形成された凹部に片持梁状の板ばねが設けられ、この板ばねの自由端に基板の裏面に当接する当接部材が取り付けられている。基板をステージ上に載置することで当接部が基板裏面に接触して基板の移動が規制される。
【特許文献１】国際公開第２００４／０９６６７９号パンフレット
【特許文献２】特開２００４−３４２７７１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上記特許文献１記載の基板浮上装置は、接触部材が浮上装置の中央寄りに設けられているため、例えば基板の浮上量を変更する場合等に、浮上ステージの外側から接触部材の高さ調整を行うのが非常に困難である。
【０００７】
また、上記特許文献２記載の基板保持具は、当接部材の高さ調整を行うためには、板ばねを高さの異なるものに交換しなければならず、非常に手間のかかる作業を要する。
本発明の課題は、上記従来の実情に鑑み、基板を保持する保持部の高さ調整を容易に行うことができる基板浮上装置及び基板検査装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するために、本発明の基板浮上装置は、基板を浮上させる浮上ステージと、この浮上ステージの周縁又はその近傍に配置され、上方に弾性力で付勢されて上記基板を下方から保持する保持部と、この保持部の高さ位置を調整する高さ調整部と、を備える構成とする。
【０００９】
上記課題を解決するために、本発明の基板検査装置は、上記基板浮上装置と、この基板浮上装置の浮上ステージ上に浮上した基板の検査を行う検査部と、を含む構成とする。
【発明の効果】
【００１０】
本発明では、基板を下方から保持する保持部は、浮上ステージの周縁又はその近傍に配置される。そのため、高さ調整部によって保持部の高さ位置を調整する作業が容易となる。よって、本発明によれば、保持部の高さ調整を容易に行うことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、本発明の一実施の形態に係る基板浮上装置及び基板検査装置について、図面を参照しながら説明する。
図１Ａ及び図１Ｂは、本発明の一実施の形態に係る基板浮上装置１を含む基板検査装置１０を示す平面図及び正面図である。
【００１２】
図２及び図３は、基板浮上装置１の保持部３及び高さ調整部４を示す正面図及び斜視図である。
図４は、図１ＡのＡ−Ａ断面図である。
【００１３】
基板浮上装置１は、基板Ｇ（図１Ａのみに２点鎖線で図示）を浮上させる浮上ステージ２と、この浮上ステージ２の周縁に配置され、上方に弾性力で付勢されて矩形状のガラス基板Ｇを下方から保持する４つの保持部３と、この保持部３の高さ位置を調整する高さ調整部４と、ガラス基板Ｇを位置決めする６つの位置決め機構５と、浮上ステージ２の下部に配置され図示しない除振機構等を有するベース部６と、ガントリ用ガイドレール７，７と、を備える。
【００１４】
基板検査装置１０は、基板浮上装置１と、この基板浮上装置１の浮上ステージ２上に浮上した基板の検査を行う検査部１１と、ガントリ１２とを備える。
浮上ステージ２は、その上面にマトリクス状に配置された矩形タイル状の浮上プレート２ａを有する。浮上プレート２ａは、図示しない浮上用エア配管から供給されるエアを上面に形成された吐出孔から吐出することで、ガラス基板Ｇを浮上させる。
【００１５】
浮上ステージ２は、ガラス基板Ｇ全体を載置できるようにガラス基板Ｇと同等の面積に構成されている。浮上プレート２ａは、浮上ステージ２の全体に亘る一枚のプレートとすることも可能であるが、薄いガラス基板Ｇを水平に浮上させるために、エアが流出する間隙を設けて細長い長方形に形成した浮上プレート２ａをマトリックス状に配置してある。
【００１６】
なお、浮上ステージ２内には、ガラス基板Ｇを搬送する図示しない搬送ロボットとの間でガラス基板Ｇを受け渡す図示しないリフト装置が設けられている。このリフト装置は例えば、搬送ロボットのハンドによりガラス基板Ｇを浮上ステージ２上に搬入させた後、複数のピンを浮上プレート２ａの間から上方に上昇させてガラス基板Ｇを搬送ロボットから受取る。この搬送ロボットのハンドを後退させて浮上ステージ２の外に待避させた後、ピンを下降させることでガラス基板Ｇを浮上ステージ２上に載置する。
【００１７】
また、ガラス基板Ｇを搬出する際には、ピンを浮上プレート２ａの間から上方に上昇させて浮上ステージ２上のガラス基板を持ち上げた状態で、浮上ステージ２とガラス基板Ｇとの間に搬送ロボットのハンドを挿入した後、ピンを下降させてガラス基板Ｇを搬送ロボットのハンドにト装置に受け渡す。
【００１８】
なお、リフト装置を配置しない場合、ガラス基板Ｇの搬入時には、搬送ロボットのハン
ドを上方から浮上プレート２ａ間の間隙に下降させてガラス基板Ｇを浮上プレート２ａ上に載置すると共に、載置した後に搬送ロボットのハンドを水平方向に引き抜いて退避できる構成とするとよい。また、ガラス基板Ｇの搬出時には、搬送ロボットのハンドが浮上プレート２ａ間の間隙に水平方向から挿入させた後、この搬送ロボットのハンドを垂直方向に上昇させガラス基板Ｇを持ち上げることになる。
【００１９】
なお、図１Ａ及び図１Ｂに示す浮上ステージ２は、ガントリ１２の移動方向の前後２つのステージに分割されているが、浮上ステージ２全面を1つの一体構造としてもよい。
検査部１１は、顕微鏡等からなり、リニアモータ等の駆動手段によりガントリ１２の水平アーム部に沿って１軸方向に移動する。ガントリ１２は、リニアモータ等の駆動手段により、ベース部６上面の両側端に設けられたガントリ用ガイドレール７，７上を、検査部１１の移動方向と直交する１軸方向に移動する。そのため、検査部１１は、検査部１１自体のガントリ１２に沿った移動とガントリ１２の移動とで、ガラス基板Ｇの上方を水平２軸方向に自在に移動することが可能となっている。
【００２０】
なお、検査部１１にレーザ照射部等の基板修正手段を配置することで、検査部１１の例えば顕微鏡によりレビューしたガラス基板Ｇの欠陥をレーザ等で修正するようにしてもよい。
【００２１】
ガラス基板Ｇを位置決めする位置決め機構５は、浮上ステージ２のガントリ用ガイドレール７，７に沿った２辺の両端近傍にそれぞれ２つずつ、ガントリ用ガイドレール７，７に沿った２辺と交差する２辺の中央にそれぞれ１つずつ、合計で６つ配置されている。位置決め機構５は、搬送ロボットにより浮上ステージ２上に載置されたガラス基板Ｇの側面を図示しない押圧ピンで押圧することで、ガラス基板Ｇを、例えば、互いに交差する基準線（基準位置）に位置決めする。
【００２２】
４つの保持部３は、浮上ステージ２のガントリ用ガイドレール７，７に沿った２辺の両端近傍に配置された４つの位置決め機構５に近い位置に位置することが好ましい。本実施の形態では、一番端の浮上プレート２ａと２番目の浮上プレート２ａの間の隙間に位置決め機構５を配置し、この位置決め機構５が配置された隣の浮上プレート２ａの間の間隙に保持部３が配置されている。
【００２３】
各保持部３は、図２〜図４に示すように、ガラス基板Ｇの裏面に当接する円柱状（もしくは円盤状）に形成された当接部３ａと、この当接部３ａの底面中央に形成されたネジ孔に螺合するネジ溝を形成した軸部（ボルト部）３ｂと、軸部３ｂの基端に形成されたブッシュ部３ｄと、このブッシュ部３ｄが摺動自在に支持する貫通孔が形成された高さ調整片３ｃと、当接部３ａと高さ調整片３ｃとの間に介在し弾性力で当接部３ａを上方に付勢するスプリング３ｅと、を有する。
【００２４】
高さ調整片３ｃは、当接部３ａの下方に位置する水平部３ｃ−１と、この水平部３ｃ−１の浮上ステージ２外側の端部から下方に延びる鉛直部３ｃ−２とを有する。鉛直部３ｃ−２には、高さ方向に長い２つの長孔３ｃ−３，３ｃ−３が形成されている。
【００２５】
高さ調整片３ｃは、長孔３ｃ−３，３ｃ−３において、外側から浮上ステージ２のフレーム２ｂの側面にネジ３ｆ，３ｆにより固定されている。なお、高さ調整片３ｃを後述する高さ調整部４と接続する際に、ネジ３ｆ，３ｆの長孔３ｃ−３，３ｃ−３における高さ位置を調整しておくことで、高さ調整片３ｃひいては当接部３ａの高さを高さ調整部４による高さ調整よりも大きい範囲で調整することができる。
【００２６】
高さ調整部４は、本体プレート４ａと、高さ調整ボルト４ｂと、固定用ネジ４ｃ，４ｃ
とを有する。本体プレート４ａは、水平部４ａ−１と、この水平部４ａ−１の両端から下方に延びる２つの鉛直部４ａ−２，４ａ−２とを有し、図２の正面視において逆Ｕ字状を呈する。
【００２７】
本体プレート４ａは、２つの鉛直部４ａ−２，４ａ−２において、固定用ネジ４ｃ，４ｃにより、浮上ステージ２のフレーム２ｂの側面に固定されている。
高さ調整ボルト４ｂは、水平部４ａ−１を上方から貫通し、高さ調整片３ｃの水平部３ｃ−１に螺合することで、高さ調整片３ｃと接続されている。高さ調整部４は、浮上ステージ２のフレーム２ｂに固定されているため、高さ調整部４の高さ調整ボルト４ｂにより高さ調整片３ｃとの位置関係を調整すれば、高さ調整片３ｃひいては当接部３ａの高さを微調整することができる。
【００２８】
保持部３は、上述のように高さ調整ボルト４ｂにより高さ調整片３ｃの高さを微小に調整できるようになっている。また、保持部３の当接部３ａは、スプリング３ｅの弾性力で上方に付勢され、ガラス基板Ｇを下方から保持する。なお、保持部３の当接部３ａの上面は、各浮上プレート２ａの間の間隙からガラス基板Ｇの浮上高さよりも若干高い位置に突出して固定される。この当接部３ａをガラス基板Ｇの浮上高さよりも若干高い位置に突出させて固定することにより、ガラス基板Ｇと浮上プレート２ａとの接触を防ぐ役目も果たすことになる。
【００２９】
ここで、搬送ロボットによりガラス基板Ｇが浮上ステージ２上に搬入すると、浮上ステージ２から噴出されるエアーによりガラス基板Ｇが浮上ステージ２上に浮上した状態で載置される。このとき、浮上したガラス基板Ｇの裏面が保持部３の当接部３ａに接触し、ガラス基板Ｇの裏面が小さな摩擦力で支えられる。この状態で位置決め機構５等によりガラス基板Ｇを押圧することで、ガラス基板Ｇが保持部３による摩擦力に抗して移動させることで、ガラス基板Ｇを目的の基準位置に位置決することができる。
【００３０】
以上説明した本実施の形態では、保持部３は、浮上ステージ２の周縁に配置される。そのため、例えば、基板浮上装置１の外側から、高さ調整部において保持部３の高さ位置を容易に調整することができる。よって、本実施の形態によれば、保持部３の高さ調整を容易に行うことができる。
【００３１】
また、本実施の形態では、保持部３の当接部３ａは、位置決め機構５の近傍に位置する。このようにガラス基板Ｇを押圧する位置決め機構５と、ガラス基板を保持する当接部３ａとの距離を短くすることで、ガラス基板Ｇを大きく回転させずに位置決めを行うことが可能になり、位置決め機構５の押し付けピンの移動量を小さくすることができる。また、位置決め機構５に保持部３の当接部３ａを近づけることで、ガラス基板Ｇに対して撓みや反りを起こすことなく位置決め機構５の押圧力をガラス基板Ｇに伝えることができ、ガラス基板Ｇを正確に位置決めすることができる。また、位置決め機構５の押圧方向の延長線上に保持部３の当接部３ａを配置することでも同様の効果が得られる。
【００３２】
なお、保持部３の当接部３ａは、浮上ステージ２の周縁ではなく、浮上ステージ２の周縁の近傍、例えば、周縁から人の手の届く数１００ｍｍの範囲に位置するようにしてもよい。保持部３が浮上ステージ２の周縁に位置しているため、基板浮上装置１の外側から人の手で高さ調整部において保持部３の高さ位置を容易に調整することができる。
【００３３】
また、本実施の形態では、保持部３の当接部３ａひいてはガラス基板Ｇに弾性力を与えるために、当接部３ａを弾性力で上方に付勢するスプリング５ｅを配置しているが、弾性力を与えるためには、スプリング５ｅ以外の弾性部材を用いてもよく、また、気圧や磁力を用いてもよい。
【００３４】
また、本実施の形態では、位置決め機構５を配置した基板浮上装置１について説明したが、搬送ロボットによるガラス基板Ｇの搬入時に、例えば、ガラス基板Ｇの１辺に２つ、他の辺に１つ配置されたラインセンサによりガラス基板Ｇの基準位置からのズレ量を求め、このズレ量を搬送ロボットで補正した状態でガラス基板Ｇを浮上ステージ２に載置する構成等の場合には、位置決め機構５を省略することも可能である。
【００３５】
また、本実施の形態では、基板浮上装置１を基板検査装置１０に配置した例について説明したが、基板浮上装置１は、例えば製造ラインにおいてガラス基板Ｇを搬送する基板搬送装置に適用することも可能である。
【００３６】
基板浮上装置１を基板搬送装置に適用した場合には、ガラス基板Ｇの搬送時には、保持部３とガラス基板Ｇとの接触を回避するために、当接部３ａをその上面がステージ部２（浮上プレート２ａ）の上面と同一高さかそれよりも下方に位置するように退避させる必要がある。
【００３７】
また、ガラス基板Ｇが基板搬送装置へ搬入時・位置決め時等の静止時にあるときに、当接部３ａをその上面がステージ部２（浮上プレート２ａ）の上面よりも上方に位置するように移動させる必要がある。
【００３８】
そのため、保持部３にアクチュエータを設けてガラス基板Ｇが搬送時か静止時かにより当接部３ａの高さ位置を自動制御するとよい。
【図面の簡単な説明】
【００３９】
【図１Ａ】本発明の一実施の形態に係る基板浮上装置を含む基板検査装置を示す平面図である。
【図１Ｂ】本発明の一実施の形態に係る基板浮上装置を含む基板検査装置を示す正面図である。
【図２】本発明の一実施の形態に係る基板浮上装置の保持部及び高さ調整部を示す正面図である。
【図３】本発明の一実施の形態に係る基板浮上装置の保持部及び高さ調整部を示す斜視図である。
【図４】図１ＡのＡ−Ａ断面図である。
【符号の説明】
【００４０】
１      基板浮上装置
２      浮上ステージ
２ａ      浮上プレート
２ｂ      フレーム
３      保持部
３ａ      当接部
３ｂ      軸部（ボルト）
３ｃ      高さ調整片
３ｃ−１      水平部
３ｃ−２      鉛直部
３ｃ−３      長孔
３ｄ      ブッシュ部
３ｅ      スプリング
３ｆ      ネジ
４      高さ調整部
４ａ      本体プレート
４ａ−１      水平部
４ａ−２      鉛直部
４ｂ      高さ調整ボルト
４ｃ      固定用ネジ
５      位置決め機構
６      ベース部
７      ガントリ用ガイドレール
１０      基板検査装置
１１      検査部
１２      ガントリ
【図１Ａ】
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【図１Ｂ】
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【図２】
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【図４】
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【図３】
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