(57)【要約】【課題】半導体製造における各作業で用いる業務システムに依存せずに、マスタデータや、時間管理、品質管理に関するデータを全ての作業段階で共通に利用できるように情報を一元管理する半導体生産管理システムを提供する。【解決手段】半導体製造における各作業段階で用いられる業務システムから取得した情報に基づいて、半導体製造の作業工程を管理する半導体生産管理システムであって、前記各業務システムとの間でデータの送受信を行う通信部１１５と、品質データを保持する品質データ管理部１１１と、進捗データを保持する時間管理部１１３と、各作業段階で作成または参照されるマスタデータを保持するマスタデータ管理部１１２とを有し、前記各業務システムに依存しないフォーマットで、それぞれのデータをデータベースに保持し、前記各業務システムとの間のデータの送受信の際には、前記各業務システムに依存しないインタフェースで送受信を行う。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体製造における各作業段階で用いられる業務システムから取得した情報に基づいて、半導体製造の作業工程を管理する半導体生産管理システムであって、
前記各業務システムとの間でデータの送受信を行う通信部と、
前記各業務システムから取得した、半導体製造の各作業段階での品質データを保持して一元的に管理する品質データ管理部と、
前記各業務システムから取得した、半導体製造の各作業段階での進捗データを保持して一元的に管理する時間管理部と、
前記各業務システムにおいて、半導体製造の各作業段階で作成または参照されるマスタデータを保持して一元的に管理するマスタデータ管理部とを有し、
前記品質データ管理部、前記時間管理部、および前記マスタデータ管理部では、前記各業務システムに依存しないフォーマットで、前記品質データ、前記進捗データ、および前記マスタデータをそれぞれデータベースに保持し、
前記各業務システムとの間の、前記品質データ、前記進捗データ、および前記マスタデータの送受信の際には、前記各業務システムに依存しないインタフェースで送受信を行うことを特徴とする半導体生産管理システム。
【請求項２】
請求項１に記載の半導体生産管理システムにおいて、
前記各業務システムの一部または全部が、該半導体生産管理システムを有する企業とは異なる企業に属するものであることを特徴とする半導体生産管理システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体の生産技術に関し、特に、回路設計からウェハ製造までの作業フローおよびそこで必要となる情報を管理する生産管理システムに適用して有効な技術に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
半導体製造においては、回路設計からウェハの製造までの作業フローにおける各作業間や、そこで用いられる電子システム間の連携性が低く、各電子システムの有するインタフェースも複雑で統一されていないため、各作業間の情報の引渡し、変換等のために作業待ちが発生しやすい状況が多く見られる。
【０００３】
半導体製造における作業フローやデータを管理する電子システムとしては、作業段階毎にそれぞれ個別のシステムが構築されているケースや、ファウンドリ（半導体製造専業企業）やファブレス（半導体生産設備を有さない企業）、自社内一貫製造など、それぞれの生産形態に特化したシステムが構築されているケースがある。
【０００４】
例えば、非特許文献１には、ファウンドリにおけるウェハ製造の生産受託に関する一貫した作業を請け負うための作業フローと、それをサポートする電子システムのカバー範囲が示されている。また、非特許文献２には、サービス提供の主体となるメーカにおけるマスクメーカへのマスク発注に関する電子システムと、マスクメーカおよびウェハラインとの連動方法について示されている。
【非特許文献１】“TSMC Service Guide”、[online]、台湾セミコンダクター・マニュファクチャリング・カンパニー (TSMC) 、［平成２０年６月３０日検索］、インターネット＜ＵＲＬ：http://www.tsmc.com/japanese/c_services/c00_Service_Guide/c0100_Service_Guide.htm＞
【非特許文献２】“Progressive Architecture of Mask-Supply Chain and Integrated Operation System supporting Extreme-QTAT Device Manufacturing”，第１１回ホトマスクシンポジウム（PMJ2004: Symposium on Photomask and Next Generation Lithography Mask Technology XI）、２００４年４月
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上述したように、ファウンドリによるウェハの生産受託や、設計からウェハ製造までの自社内一貫製造といった生産形態においては、作業フローやデータの管理、各作業間でのスムーズなデータの受け渡しなどについて、従来技術による電子システムによってある程度の対応は可能となっている。
【０００６】
しかし昨今では、ファウンドリとして生産受託をしつつ、他社に生産委託も行うような複合的な生産形態も出てきている。このような複合的な生産形態では、例えば、ある一部の作業を切り出して外部に委託するというようなことが考えられる。しかし、従来技術による電子システムでは、複数の作業間でデータのやり取りが頻繁に行われるケースもあり、このような作業を個別に切り離して外部に委託するというような対応をとることは難しい。
【０００７】
また、従来技術による電子システムでは、例えば、ＤＦＭ（Design For Manufacturing）などの新しい技術を導入する際に、複数の作業で用いるシステムに渡って多数のインタフェースを準備する必要があり、既存の作業フローにおける各作業に対して適切なタイミングで情報を提供することが困難であるという問題もある。
【０００８】
そこで本発明の目的は、回路設計からウェハ製造までの半導体製造の作業フローにおける、回路設計、ＭＤＰ（Mask Data Preparation）、マスク発注、マスク製造、ウェハ製造などの各作業で用いるシステムに依存せずに、マスタデータや、時間管理、品質管理に関するデータを全ての作業段階で共通に利用できるように情報を一元管理し、情報の交換を可能とする半導体生産管理システムを提供することにある。
【０００９】
本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本願において開示される発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、以下のとおりである。
【００１１】
本発明の代表的な実施の形態による半導体生産管理システムは、半導体製造における各作業段階で用いられる業務システムとの間でデータの送受信を行う通信部と、前記各業務システムから取得した、半導体製造の各作業段階での品質データを保持する品質データ管理部と、前記各業務システムから取得した、半導体製造の各作業段階での進捗データを保持する時間管理部と、前記各業務システムにおいて作成・参照されるマスタデータを保持するマスタデータ管理部とを有し、前記各業務システムに依存しないフォーマットで、それぞれのデータをデータベースに保持し、前記各業務システムとの間のデータの送受信の際には、前記各業務システムに依存しないインタフェースで送受信を行うことを特徴とするものである。
【発明の効果】
【００１２】
本願において開示される発明のうち、代表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば以下のとおりである。
【００１３】
本発明の代表的な実施の形態によれば、半導体製造の各作業で用いるシステムにおいて、マスタデータや、時間管理、品質管理に関するデータを統一されたフォーマットで共有できるようにすることで、回路設計からウェハ製造までに必要な情報を少ない労力で管理することができるとともに、仕様の誤認や作業待ちなどを低減することが可能となる。
【００１４】
また、本発明の代表的な実施の形態によれば、回路設計からウェハ製造までのどの作業段階においても、各作業で用いるシステムを代替システムや外部リソースに置き換えることが容易となり、ファウンドリやファブレス、自社内一貫製造などとは異なる複合的な生産形態にもシステム的に柔軟に対応することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。なお、実施の形態を説明するための全図において、同一部には原則として同一の符号を付し、その繰り返しの説明は省略する。また、以下においては、本発明の特徴を分かり易くするために、従来の技術と比較して説明する。
【００１６】
＜概要＞
図４は、従来技術による半導体製造の作業フローの例を示した図である。図４の例では、サービス提供主体メーカ４３０は、ＭＤＰシステム４３１と一体となって構築されているマスク発注システム４３２、マスク製造システム４３３、およびウェハ製造システム４３４を有している。また、回路設計の委託先である設計会社４２０は、回路設計システム４２１を有している。これら各業務システムは独自にそれぞれのフォーマットによるデータベースを有しており、また、時間管理を行う機能も独自に有している。
【００１７】
図４では、さらに例として、ファウンドリ／ファブレスの生産形態における、マスク名決定から通知までの処理のシーケンス図を示している。この処理において、マスク名を決定する直接のパラメータは、「製品名」、「工程名」、「マスク製造仕様」、「設計データ改訂番号」の４つであり、これらを決定することによってマスク名が決定されるものとする。
【００１８】
「製品名」は、設計会社４２０の回路設計システム４２１において決定される（Ｓ４０１）。サービス提供主体メーカ４３０のウェハ製造システム４３４では、「工程名」がマスタ登録（Ｓ４０２）された後、ウェハプロセスが策定され（Ｓ４０３）、これらの情報が設計会社４２０に渡される。設計会社４２０では、その後、回路設計システム４２１においてウェハプロセスが選択され（Ｓ４０４）、さらに「工程名」が選択される（Ｓ４０５）。
【００１９】
設計会社４２０においてステップＳ４０４にて選択されたウェハプロセスの情報は、サービス提供主体メーカ４３０に渡され、ＭＤＰシステム４３１から、選択されたウェハプロセスに該当するライブラリが設計会社４２０の回路設計システム４２１に提供される（Ｓ４０６）。また、選択されたウェハプロセスの情報に基づいて、マスク発注システム４３２において「マスク製造仕様」が決定される（Ｓ４０８）。
【００２０】
設計会社４２０の回路設計システム４２１では、ステップＳ４０５にて選択された「工程名」と、サービス提供主体メーカ４３０のＭＤＰシステム４３１から提供されたライブラリに基づいて、「設計データ改訂番号」を決定する（Ｓ４０７）。選択された「設計データ改訂番号」は、サービス提供主体メーカ４３０に渡される。サービス提供主体メーカ４３０のマスク発注システム４３２では、ステップＳ４０８にて決定された「マスク製造仕様」と、設計会社４２０から渡された「設計データ改訂番号」とから、マスク名を決定・登録し（Ｓ４０９）、これを各システムに通知する（Ｓ４１０）。各システムでは、決定されたマスク名を受領する（Ｓ４１１、Ｓ４１２）。
【００２１】
図４の例では、サービス提供主体メーカ４３０が、サービス提供主体メーカ４３０での命名規則に従って自社でのマスク名を決定して、設計会社４２０等に通知する流れとなっているが、一般的にマスク名などの命名規則は各企業によって異なり、これを調整するには大きな労力を伴う。従って、自社での命名規則に基づいて決定したマスク名と、他社で決定されたマスク名との対応付けを管理するなどの処理を行っている場合がある。
【００２２】
また、上述した処理の流れでは、各業務システム間の連携性は低く、データは紙やメールなどによってやり取りされ、人手を介して各システムとの入出力が行われる。特に、ファブレス／ファウンドリの境界では企業が異なるため、人手を介したデータの授受が多くなると作業効率は著しく悪くなる。
【００２３】
また、企業内においても、複数の業務システム間でデータのフォーマット等が統一されておらず、各業務システム間でデータの授受をする際に、対象の業務システムでの取り扱いが可能なようにデータ変換を行うことが必要な場合もある。また、ＭＤＰシステム４３１とマスク発注システム４３２の例のように、システムが結合しており、その間のデータの授受も多い場合には、いずれかのシステムを個別に切り離すということも困難になる。
【００２４】
＜実施の形態＞
以下、本発明の一実施の形態である半導体生産管理システムについて説明する。図１は、本実施の形態の半導体生産管理システムを利用したシステム構成例の概要を示す図である。図１の例では、半導体製造の作業フローに関わる企業として、サービス提供主体メーカ１００、設計会社１２０、マスクメーカ１３０、ファウンドリメーカ１４０が存在し、各企業ではそれぞれ個別のシステムを有している構成となっている。また、各企業間は、例えば、専用線やＩＰ−ＶＰＮ（IP-Virtual Private Network）などのネットワークで接続されている。
【００２５】
サービス提供主体メーカ１００では、例えば、ＬＡＮなどの企業内ネットワークに、回路設計システム１０１、ＭＤＰシステム１０２、マスク発注システム１０３、および、各システムに対するクライアントとなるＰＣ１０４が接続されている。さらに、サービス提供主体メーカ１００では、後述する半導体生産管理システム１１０が配置されている。
【００２６】
設計会社１２０では、同様に、企業内ネットワークに回路設計システム１２１、およびクライアントとなるＰＣ１２２が接続されている。また、マスクメーカ１３０では、企業内ネットワークにマスク製造システム１３１、およびクライアントとなるＰＣ１３２が接続されている。また、ファウンドリメーカ１４０では、企業内ネットワークにＴＥＧ（Test Element Group）設計システム１４１、ウェハ製造システム１４２、およびクライアントとなるＰＣ１４３が接続されている。
【００２７】
サービス提供主体メーカ１００には、本実施の形態の半導体生産管理システム１１０が配置されている。半導体生産管理システム１１０は、コンピュータシステムによって実装されるサーバ装置であり、例えば、セキュリティ管理部１１４、通信部１１５、ユーザインタフェース部１１６といった基本的な機能を提供する各部と、品質データ管理部１１１、マスタデータ管理部１１２、時間管理部１１３の各部を有する。
【００２８】
通信部１１５は、ネットワークを介して他の業務システムとの通信を行う機能を提供する。ここで、通信に用いるプロトコルには、要件に応じて種々のものを用いることができる。他の業務システムとの間でファイルやデータを転送する際は、既存の通信プロトコルや、リモートデータベースへのアクセスプロトコルなどを用いてもよいし、新たな通信プロトコルを規定して実装してもよい。他の業務システムとの間で授受されるファイルやデータは、主に、テキストデータを中心とした、各業務システムとの間で情報を相互に更新するためのデータである。なお、ここでのファイルやデータのフォーマットには、例えば、ＸＭＬ（Extensible Markup Language）や、ＣＳＶ（Comma-Separated Values）などを用いることができる。
【００２９】
各クライアントＰＣからのアクセスについては、例えば、通信部１１５にＷｅｂサーバの機能を有して、各クライアントＰＣからＷｅｂブラウザによるアクセスを行うようにしてもよい。Ｗｅｂブラウザを介した各クライアントＰＣからのアクセスは、主に、ユーザによる情報の検索・取得と情報の入力である。
【００３０】
ユーザインタフェース部１１６は、各企業のクライアントＰＣや、半導体生産管理システム１１０の図示しない表示部に対して、ＧＵＩによる操作・表示画面（ユーザインタフェース）を提供する。例えば、通信部１１５の有するＷｅｂサーバの機能と連携して、ＨＴＭＬ（HyperText Markup Language）によって画面を各クライアントＰＣのＷｅｂブラウザに提供してもよい。
【００３１】
セキュリティ管理部１１４は、半導体生産管理システム１１０におけるセキュリティ機能を提供する。これには、業務システムやクライアントＰＣからのアクセスの際にユーザ認証を行う機能や、要求元に応じてアクセス可能なデータや機能にのみアクセスすることを可能とするアクセス制御の機能、および、業務システムとの間のファイルやデータの転送の際の暗号化／復号化の機能などが含まれる。これらの機能には、既存の技術を用いることができる。
【００３２】
品質データ管理部１１１は、半導体製造の各作業段階での品質データを保持し、一元的に管理する機能を提供する。各企業の各業務システムにおいて実施される半導体製造の各作業において発生した品質データを都度入力して、品質データ管理部１１１のデータベースに蓄積していくことで、品質データを一元的に管理する。これにより、例えば、サービス提供主体メーカ１００の担当者が、ＰＣ１０４を用いて半導体生産管理システム１１０の品質データ管理部１１１にアクセスし、品質管理を行うといったことができる。なお、品質データ管理部１１１において、蓄積されたデータに対して種々の統計処理などを行ってデータを加工することも当然可能である。
【００３３】
時間管理部１１３は、半導体製造の各作業段階での進捗データを保持し、一元的に管理する機能を提供する。各企業の各業務システムにおいて実施される半導体製造の各作業の実施予定と実施日時等の進捗状況などを都度入力して、時間管理部１１３のデータベースに蓄積していくことで、時間管理データを一元的に管理する。これにより、例えば、サービス提供主体メーカ１００の担当者が、ＰＣ１０４を用いて半導体生産管理システム１１０の時間管理部１１３にアクセスし、作業工程の時間管理を行うといったことができる。また、例えば、ワークフロー機能などを実装することにより、各作業の開始指示などを自動的に行うというようなことも可能である。なお、時間管理部１１３において、蓄積されたデータに対して種々の演算などを行ってデータを加工することも当然可能である。
【００３４】
マスタデータ管理部１１２は、半導体製造の各作業段階で作成・参照されるマスタデータを保持し、一元的に管理する機能を提供する。図２は、マスタデータ管理部１１２で管理されるマスタデータの例の概要を示す図である。図２において、マスタデータ管理部１１２のデータベース２００は、例えば、設計会社マスタ２１０、製品マスタ２２０、仕様マスタ２３０、在庫マスタ２４０の各データベースから構成される。
【００３５】
ここで、設計会社マスタ２１０は、例えば、設計会社管理テーブル２１１、部門管理テーブル２１２、担当者管理テーブル２１３などのテーブルを有し、委託先となる設計会社１２０の情報を管理する。これら各テーブルは、それぞれ、設計会社１２０、設計会社１２０内の担当部門、および当該担当部門内の担当者の情報などをマスタデータとして保持する。なお、これらの情報以外の情報を保持するテーブルを有していてもよい。
【００３６】
また、製品マスタ２２０は、例えば、製品管理テーブル２２１、マスクセット管理テーブル２２２などのテーブルを有し、製造される製品に関連する情報を管理する。これら各テーブルは、それぞれ、製品に関連する属性の情報、およびマスクセットに関連する属性の情報をマスタデータとして保持する。なお、これらの情報以外の情報を保持するテーブルを有していてもよい。
【００３７】
さらに、仕様マスタ２３０は、例えば、ウェハプロセスやマスク製造の仕様を管理するテーブルや、設計ライブラリ、工程名等の仕様に関連する情報を管理するテーブルを有していてもよい。また、在庫マスタ２４０は、例えば、ウェハやマスクの在庫を管理するテーブルを有していてもよい。
【００３８】
上述したような品質データ、時間管理データ、マスタデータを、半導体製造の各作業段階で用いる業務システムに依存しない統一されたフォーマットで保持することで、全作業段階において、各業務システム間でデータを共有して情報の交換をすることが可能となる。なお、設計データ自体や、発注データなどは、本実施の形態の半導体生産管理システム１１０におけるマスタデータとしての管理の対象外とし、各企業間、各業務システム間で従来通り個別に授受されるものとする。
【００３９】
以下では、本実施の形態の半導体生産管理システム１１０において、品質データ、時間管理データ、マスタデータを一元管理して、各作業段階で情報を共有した場合の処理の流れの例について説明する。図３は、本実施の形態の半導体生産管理システム１１０を利用した場合の半導体製造の作業フローの例を示した図である。
【００４０】
図３の例では、前述した図４の場合と同様に、ファウンドリ／ファブレスの生産形態における、マスク名決定から通知までの処理のシーケンス図を示している。マスク名を決定する直接のパラメータである、「製品名」、「工程名」、「マスク製造仕様」、「設計データ改訂番号」の４つのうち、例えば、「製品名」、「工程名」、「マスク製造仕様」の３つのデータ、および「マスク名」を、マスタデータとして半導体生産管理システム１１０にて一元管理して、各作業段階および各業務システムで共有することにより、人手を介したデータの授受などを排除し、作業時間と労力の削減を可能とする。
【００４１】
「製品名」は、設計会社１２０の回路設計システム１２１において決定される（Ｓ３０１）。ファウンドリメーカ１４０のウェハ製造システム１４２では、工程名がマスタ登録（Ｓ３０２）された後、ウェハプロセスが策定されてマスタ登録される（Ｓ３０３）。これらの作業の後、設計会社１２０では、回路設計システム１２１において、登録されたマスタデータから「工程名」が選択される（Ｓ３０４）。このとき、ファウンドリメーカ１４０と設計会社１２０との間では「工程名」やウェハプロセスのデータのやり取りは行われない。
【００４２】
その後、登録されたマスタデータに基づいて、サービス提供主体メーカ１００のＭＤＰシステム１０２において、ウェハプロセスに該当するライブラリが提供され（Ｓ３０５）、提供されたライブラリや「工程名」の情報に基づいて、設計会社１２０の回路設計システム１２１にて「設計データ改訂番号」が決定される（Ｓ３０７）。また、登録されたマスタデータに基づいて、サービス提供主体メーカ１００のマスク発注システム１０３において、「マスク製造仕様」がマスタ登録される（Ｓ３０６）。
【００４３】
「設計データ改訂番号」や、マスタデータに登録された「マスク製造仕様」の情報に基づいて、設計会社１２０の回路設計システム１２１では、「マスク名」を決定してマスタ登録する（Ｓ３０８）。これにより、他のシステムではマスタデータに登録された「マスク名」を確認することができる（Ｓ３０９）。ここでも、サービス提供主体メーカ１００と設計会社１２０とファウンドリメーカ１４０の間では、「マスク製造仕様」や「マスク名」などのデータのやり取りは行われない。
【００４４】
なお、本実施の形態では、設計会社１２０が、設計会社１２０での命名規則に基づいてマスク名を決定する場合の処理の流れを示しているが、マスク名を決定するパラメータがマスタデータに登録されれば、他の企業でも当該企業での命名規則に従ったマスク名を決定してマスタに登録することができる。マスタデータでは、例えば、図２のマスクセット管理テーブル２２２に示すように、複数の企業でのマスクセット名を対応付けて管理することにより、各企業の業務システムでは、自社での命名規則に従ったマスク名を使用して作業を行うことができる。
【００４５】
また、例えば、各社のマスク名の命名規則を予め半導体生産管理システム１１０に登録しておくことにより、マスク名を決定するパラメータがマスタデータに登録された時点で、自動的に各社の命名規則に従ったマスク名を決定してマスタデータに登録することも可能である。
【００４６】
以上に説明したように、本実施の形態の半導体生産管理システム１１０によれば、半導体製造の各作業で用いる業務システムにおいて、マスタデータや、時間管理、品質管理に関するデータを統一されたフォーマットで共有できるようにすることで、回路設計からウェハ製造までに必要な情報を人手を介して直接やり取りすることによる労力を少なくすることができるとともに、仕様の誤認や作業待ちなどを低減することが可能となる。
【００４７】
また、データのフォーマットや、データ授受のプロトコル、ユーザインタフェースなど、半導体生産管理システム１１０に接続するためのインタフェースが統一されるため、回路設計からウェハ製造までのどの作業段階においても、各作業で用いる業務システムを代替システムや外部リソースに置き換えることが容易となり、ファウンドリやファブレス、自社内一貫製造はもちろん、これらとは異なる複合的な生産形態にもシステム的に柔軟に対応することが可能となる。
【００４８】
以上、本発明者によってなされた発明を実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることはいうまでもない。
【産業上の利用可能性】
【００４９】
本発明は、半導体製造における、回路設計からウェハ製造までの作業フローおよびそこで必要となる情報を管理する生産管理システムに利用可能である。
【図面の簡単な説明】
【００５０】
【図１】本発明の一実施の形態である半導体生産管理システムを利用したシステム構成例の概要を示す図である。
【図２】本発明の一実施の形態におけるマスタデータ管理部で管理されるマスタデータの例の概要を示す図である。
【図３】本発明の一実施の形態の半導体生産管理システムを利用した場合の半導体製造の作業フローの例を示した図である。
【図４】従来技術による半導体製造の作業フローの例を示した図である。
【符号の説明】
【００５１】
１００…サービス提供主体メーカ、１０１…回路設計システム、１０２…ＭＤＰシステム、１０３…マスク発注システム、、１０４…ＰＣ、１１０…半導体生産管理システム、１１１…品質データ管理部、１１２…マスタデータ管理部、１１３…時間管理部、１１４…セキュリティ管理部、１１５…通信部、１１６…ユーザインタフェース部、１２０…設計会社、１２１…回路設計システム、１２２…ＰＣ、１３０…マスクメーカ、１３１…マスク製造システム、１３２…ＰＣ、１４０…ファウンドリメーカ、１４１…ＴＥＧ設計システム、１４２…ウェハ製造システム、１４３…ＰＣ、
２００…データベース、２１０…設計会社マスタ、２１１…設計会社管理テーブル、２１２…部門管理テーブル、２１３…担当者管理テーブル、２２０…製品マスタ、２２１…製品管理テーブル、２２２…マスクセット管理テーブル、２３０…仕様マスタ、２４０…在庫マスタ、
４２０…設計会社、４２１…回路設計システム、４３０…サービス提供主体メーカ、４３１…ＭＤＰシステム、４３２…マスク発注システム、４３３…マスク製造システム、４３４…ウェハ製造システム。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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