(57)【要約】【課題】塩化物等の析出のおそれがなく、かつ配管の劣化を直ちに検出可能なウェーハ製造装置用の配管構造及びこの配管構造を備えたウェーハ製造設備を提供する。【解決手段】ウェーハ製造装置に塩酸を供給する配管構造において、外管２１と、外管２１の内部に挿入されたフッ素樹脂からなる内管２２とを備え、内管２２が塩酸を流通させる酸流通路２３とされ、外管２１と内管２２の間には隙間２４が設けられてこの隙間２４が析出防止用流体を流通させる流体通路２５とされていることを特徴とする配管構造１２、１４を採用する。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ウェーハ製造装置に塩酸を供給する配管構造において、外管と、前記外管の内部に挿入されたフッ素樹脂からなる内管とを備え、前記内管が前記塩酸を流通させる酸流通路とされ、前記外管と前記内管の間には隙間が設けられて前記隙間が析出防止用流体を流通させる流体通路とされていることを特徴とするウェーハ製造装置用の配管構造。
【請求項２】
前記析出防止用流体が液体であり、前記流体通路または前記流体通路に連結される前記析出防止用流体の排出路内に、前記析出防止用流体のｐＨを計測するｐＨ計が設置されていることを特徴とする請求項１に記載のウェーハ製造装置用の配管構造。
【請求項３】
前記析出防止用流体が気体であり、前記流体通路または前期流体通路に連結される前期析出防止用流体の排出路内に気体中のＨＣｌガス・塩素を検出するセンサが設置されている、又は前記流体通路のうち、最も低い箇所に配置された最下部に、前記塩酸の前記流体通路への漏出を検出するセンサが少なくとも設置されていることを特徴とする請求項１に記載のウェーハ製造装置用の配管構造。
【請求項４】
前記析出防止用流体の圧力が、前記塩酸の圧力よりも低く設定されていることを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれかに記載のウェーハ製造装置用の配管構造。
【請求項５】
前記内管の一部にフィルタ、ダンパまたはポンプのいずれか１種以上の制御機器が設置されており、前記流体通路には前記制御機器を迂回するバイパス路が接続されていることを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれかに記載のウェーハ製造装置用の配管構造。
【請求項６】
ウェーハ製造装置と、前記ウェーハ製造装置に塩酸を供給するための供給機構とを具備してなり、前記供給機構が、請求項１乃至請求項５のいずれかに記載のウェーハ製造装置用の配管構造を備えていることを特徴とするウェーハ製造設備。
【請求項７】
前記ウェーハ製造装置が清浄度クラス１００以上のクリーンルーム内に設置されており、前記供給機構が清浄度クラス１０以下の環境下に設置されていることを特徴とする請求項６に記載のウェーハ製造設備。
【請求項８】
前記ウェーハ製造装置が、ＲＣＡ洗浄装置であることを特徴とする請求項６または請求項７に記載のウェーハ製造設備。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ウェーハ製造装置用の配管構造及びこの配管構造を備えたウェーハ製造設備に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＣＺ法によるシリコンウェーハの製造工程には、単結晶引き上げ工程後に、単結晶を切断してウェーハにする切断工程、ウェーハ面をラッピングするラッピング工程、ウェーハ面をエッチングするエッチング工程及びウェーハ面を研磨する研磨工程等の工程がある。これらの工程の間には、ウェーハの表面の重金属を除去するためのＳＣ−２洗浄工程が備えられている。このＳＣ−２洗浄工程では、塩酸を主成分とする洗浄液が用いられている。
ＳＣ−２洗浄工程を実施するＲＣＡ洗浄装置は、通常、ウェーハへの不純物の混入を防止するためにクリーンルーム内に設置されており、洗浄液の原料液である塩酸等はクリーンルームの外部から配管を通して供給されている。
【０００３】
ところで、塩酸は極めて腐食性の高い酸であるため、配管の材質には十分に留意する必要がある。特にＳＣ−２洗浄で使用する塩酸は濃度３６％乃至３８％程度の濃塩酸であるため、金属や汎用プラスチックからなる配管は全く使用に耐えられず、ポリ四フッ化エチレン等のフッ素樹脂製の配管が用いられる。
【非特許文献１】ＵＣＳ半導体基盤技術研究会編集，「シリコンの科学」，株式会社リアライズ社，１９９６年６月２８日発行，ｐ．３３３
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかし、フッ素樹脂製の配管に濃塩酸を長期間に渡って流通させると、次第に配管の表面に塩化物からなる塩が析出し、この塩が配管表面を厚く覆ってしまう状態になり、配管部材内部での膨張が確認されるようになる。塩の析出はおそらく、塩酸に含まれる塩素イオンが配管の管壁を透過し、この塩素イオンが配管表面において雰囲気中の不純物と結合して塩化物を生成することによって起きるものと考えられ、配管の膨張は水分との結合・膨張によるものと考えられる。
従来は、析出した塩化物を定期的に清掃していたが、清掃の際に塩化物の飛散が避けられず、工場内を汚染してしまう可能性があった。また、濃塩酸の配管は通常、他の配管とともに工場等の建物の配管スペースに収容されているため、清掃するにもその作業が非常に繁雑になるという問題があった。
更に、塩化物が配管表面を厚く覆ってしまうと、配管の外観検査が全く不可能な状態になり、配管の劣化状態を把握することが困難になって、濃塩酸自体の漏出事故等を未然に防止できないという重大な問題が内在していた。
【０００５】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであって、塩化物等の析出のおそれがなく、かつ配管の劣化を直ちに検出可能なウェーハ製造装置用の配管構造及びこの配管構造を備えたウェーハ製造設備を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記の目的を達成するために、本発明は以下の構成を採用した。
本発明のウェーハ製造装置用の配管構造（以下、配管構造という）は、ウェーハ製造装置に塩酸を供給する配管構造において、外管と、前記外管の内部に挿入されたフッ素樹脂からなる内管とを備え、前記内管が前記塩酸を流通させる酸流通路とされ、前記外管と前記内管の間には隙間が設けられて前記隙間が析出防止用流体を流通させる流体通路とされていることを特徴とする。
また、本発明の配管構造においては、前記塩酸の濃度が、０．０１９％以上３８％以下の範囲とされていることが好ましい。
【０００７】
また、本発明の配管構造における析出防止用流体とは、内管外面における塩化物の析出を防止する流体である。具体的には、空気、または不活性ガス等が好ましい。また、析出防止用流体が空気、不活性ガス等の気体である場合には、その純度が９９．９％以上であることが好ましい。
【０００８】
また本発明の配管構造においては、前記流体通路によって前記内管の外面全部が覆われていることが好ましい。
また本発明の配管構造においては、前記析出防止用流体が液体であり、前記流体通路または前記流体通路に連結される前記析出防止用流体の排出路内に、前記析出防止用流体のｐＨを計測するｐＨ計が設置されていることが好ましい。
また本発明の配管構造においては、前記析出防止用流体が気体であり、前記流体通路または前期流体通路に連結される前期析出防止用流体の排出路内に、気体中のＨＣｌガス・塩素を検出するセンサーが設置されている、又は前記流体通路のうち、最も低い箇所に配置された最下部に、前記塩酸の前記流体通路への漏出を検出するセンサが少なくとも設置されていることを特徴とする。このセンサは、最下部に限らず、漏出した塩酸が溜まりそうな箇所に設けても良い。
また、本発明の配管構造においては、前記析出防止用流体の圧力が、前記塩酸の圧力よりも低く設定されていることが好ましい。
また、本発明の配管構造においては、前記内管の一部にフィルタ、ダンパまたはポンプのいずれか１種以上の制御機器が設置されており、前記流体通路には前記制御機器を迂回するバイパス路が接続されていても良い。
【０００９】
上記の配管構造によれば、外管と内管の間に隙間が設けられて、この隙間が析出防止用流体を流通させる流体通路とされているので、内管の外面に塩素イオンが滲み出てきたとしても、その滲み出た箇所は析出防止用流体が流通する流体通路となるので、析出防止用流体が滲み出た塩素イオンに直ちに作用し、これにより塩化物の析出が抑制される。
【００１０】
塩化物の析出は、塩酸に含まれる塩素イオンが配管の壁を透過し、この塩素イオンが配管表面において雰囲気中の不純物と結合して塩化物を生成することによって起きるものと考えられることから、内管表面側に液体を流して塩素イオンを洗い流すか、あるいは内管表面側を清浄な気体で満たして塩化物の析出反応を抑制することにより、塩化物の析出を防止することが可能になる。よって本発明では、塩素イオンを洗い流すことが可能な液体または塩素イオンと反応しない清浄な気体であれば、析出防止用流体として用いることができる。具体的には、水、空気、または不活性ガス等が好ましい。析出防止用流体が水の場合には、滲み出た塩素イオンが水に溶け込まれて除去される。また、析出防止用流体が空気または不活性ガスの場合には、塩素イオンに化合する不純物の混入が防止されて、塩化物からなる塩の生成が妨げられる。
【００１１】
また、流体通路によって内管の外面全部が覆われることで、内管の外面全面に渡って塩化物の析出が抑制される。
更に、ｐＨ計が設置されているので、塩素イオンが析出防止用流体に混入した場合に、析出防止用流体内のｐＨの変化を検知することで塩素イオンの漏出を直ちに検出することが可能になる。これにより、内管の劣化を直ちに検出できる。
更にまた、塩酸の漏出を検知するセンサが設置されているので、塩酸の漏出を直接検出することが可能になり、内管の劣化を直ちに検出できる。
また、析出防止用流体の圧力が、塩酸の圧力よりも低く設定されているので、析出防止用流体が内管を浸透して塩酸に混入するおそれがない。
更に、流体通路には制御機器を迂回するバイパス路が接続されているので、配管構造の設置が容易に行えるとともに、制御機器のメンテナンスも容易に行える。
【００１２】
次に本発明のウェーハ製造設備は、ウェーハ製造装置と、前記ウェーハ製造装置に塩酸を供給するための供給機構とを具備してなり、前記供給機構が、先のいずれかに記載の配管構造を備えていることを特徴とする。
また本発明のウェーハ製造設備においては、前記ウェーハ製造装置が清浄度クラス１００以上のクリーンルーム内に設置されており、前記供給機構が清浄度クラス１０以下の環境下に設置されていることが好ましい。
また本発明のウェーハ製造設備においては、前記ウェーハ製造装置が、ＲＣＡ洗浄装置であることが好ましい。
【００１３】
上記のウェーハ製造設備によれば、供給機構に上記の配管構造が備えられているので、供給機構における塩化物の析出を防止することが可能になる。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、塩化物等の析出のおそれがなく、かつ配管の劣化を直ちに検出可能なウェーハ製造装置用の配管構造及びウェーハ製造設備を提供できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、本発明の実施形態であるウェーハ製造設備及びその配管構造について図面を参照して説明する。尚、以下の説明で参照する図面はいずれも、ウェーハ製造設備及び配管構造の構成を説明するためのものであり、図示される各部の大きさや厚さや寸法等は、実際のウェーハ製造設備及び配管構造の寸法関係等とは異なる場合がある。
【００１６】
［第１の実施形態］
図１は第１の実施形態のウェーハ製造設備を示す模式図であり、図２は図１のウェーハ製造設備に備えられた配管構造の一例を示す模式図である。
図１に示すように、本実施形態のウェーハ製造設備１は、ウェーハ製造装置２と、ウェーハ製造装置２に塩酸を供給するための供給機構３とを具備して概略構成されている。ウェーハ製造装置２は、清浄度クラス１００以上のクリーンルームＣＲ内に設置されており、供給機構３は清浄度クラス１０以下のバックスペースＢＳ（環境下）に設置されている。クリーンルームＣＲとバックスペースＢＳの間は、隔壁４によって仕切られている。また、隔壁４に一部にはフィルタ５が設置されており、このフィルタ５によってバックスペースＢＳ内の雰囲気が浄化され、浄化された雰囲気がクリーンルームＣＲ内に導入されるように構成されている。
【００１７】
図１に示すウェーハ製造装置２は、所謂ＲＣＡ洗浄装置であり、洗浄液２ｂで満たされた洗浄槽２ａと、洗浄槽２ａ内の洗浄液２ｂに塩酸を供給する配管２ｃとから概略構成されている。配管２ｃはクリーンルームＣＲ内に設置されている。洗浄液２ｂは、例えば、塩酸と、過酸化水素水と、水の混合液からなるＳＣ−２洗浄液が用いられる。なお、洗浄液２ｂに過酸化水素水及び水を供給する配管は図１おいて図示を省略している。
【００１８】
次に図１に示すように、供給機構３は、塩酸の循環装置１１と、循環装置１１からウェーハ製造装置２に塩酸を供給する供給配管１２とから概略構成されている。供給配管１２は、クリーンルームＣＲの隔壁４においてウェーハ製造装置２の配管２ｃに接続されている。
【００１９】
また、図２に示すように、循環装置１１は、塩酸を貯留する塩酸タンク１３と、塩酸を循環させる循環配管１４と、循環配管１４の途中にそれぞれ設けられた塩酸ポンプ１４ａ（制御機器）、ダンパ１４ｂ（制御機器）及びフィルタ１４ｃ（制御機器）とから構成されている。ダンパ１４ｂ及びフィルタ１４ｃは塩酸ポンプ１４ａの下流側に順次設置されている。また、フィルタ１４ｃの下流側には分岐部１４ｄが設けられており、この分岐部１４ｄには先の供給配管１２が連結されている。供給配管１２及び循環配管１４の分岐部１４ｄに隣接する位置にはそれぞれ、バルブ１４ｅ，１４ｅが取付けられている。塩酸は、例えば、濃度が０．０１９％以上３８％以下程度の塩酸である。
【００２０】
次に、供給配管１２及び循環配管１４の構造（配管構造）について詳細に説明する。
供給配管１２及び循環配管１４はそれぞれ、外管２１と、外管２１の内部に挿入されたフッ素樹脂からなる内管２２とから構成されている。内管２２が塩酸を流通させる酸流通路２３とされている。また、外管２１と内管２２の間には隙間２４が設けられており、この隙間２４が析出防止用流体を流通させる流体通路２５とされている。外管２１の内部に内管が挿入されていることから、流体通路２５は、内管２２の外面２２ａと、外管２１の内面２１ａとによって区画されて構成されている。
【００２１】
流体通路２５には、析出防止用流体を供給する複数の流体供給管２５ａと、析出防止用流体を排出する複数の流体排出管（排出路）２５ｂとがそれぞれ設けられている。流体供給管２５ａの上流側には図示しない流体ポンプが設置されている。そして、この流体ポンプと先の塩酸ポンプ１４ａを制御することによって、流体通路２５内の析出防止用流体の圧力が、酸流通路２３内の塩酸の圧力よりも低く設定されている。具体的には、流体通路２５内の析出防止用流体の圧力が０．１０Ｐａ乃至０．２０Ｐａ程度とされ、酸流通路２３内の塩酸の圧力が０．１５Ｐａ乃至０．５０Ｐａ程度であって析出防止用流体の圧力よりも低く設定されている。塩酸の圧力は循環用エアードポンプ１４ａの駆動用エア圧より上記の範囲が好ましい。
なお、流体通路２５を流通する析出防止用流体は、例えば比抵抗が１５ＭΩｃｍ以上の水が好ましく、水の他にはＩＰＡ（イソプロピルアルコール）などのアルコール、樹脂系液体や有機系液体でもよい。さらに、析出防止用流体は、１２（MΩ・ｃｍ）程度に対応する純度以上の水が好ましく、純水以外には、塩酸と反応して判別しやすく発色する組成を有する薬液でも適用可能であるが、このような薬液を使用した際に内部リークが発生して塩酸側に混入する可能性を排除するために、特に純水が好ましい。
更に、流体排出管２５ｂには、洗浄流体のｐＨを計測するためのｐＨ計２６が設置されている。また、ｐＨ計は流体通路２５内の複数の箇所に設置されていてもよい。
【００２２】
外管２１の材質は金属、樹脂のいずれでもよく、析出防止用流体によって劣化しないものであれば、どのような材質でも良い。一方、内管２２はその内部に塩酸が流通することから、その材質はフッ素樹脂が好ましく、より具体的にはポリ四フッ化エチレンが良い。
【００２３】
また、塩酸ポンプ１４ａ、ダンパ１４ｂ、フィルタ１４ｃ及び塩酸タンク１３には、内管２２（酸流通路２３）のみが連結されており、これら塩酸ポンプ１４ａ等には塩酸のみが流通するように構成されている。一方、循環配管１４における流体通路２５には、析出防止用流体がダンパ１４ｂ及びフィルタ１４ｃを迂回するためのバイパス路２７がそれぞれ設けられている。
【００２４】
次に、本実施形態のウェーハ製造設備１の動作について説明する。
まず、循環配管１４に設けられた塩酸ポンプ１４ａを作動させて、塩酸タンク１３に貯留されている塩酸を循環配管１４に送り出して循環させる。塩酸は、ダンパ１４ｂ及びフィルタ１４ｃを順次通過して分岐部１４ｄに至る。この分岐部１４ｄによって、塩酸の一部が供給配管１２を介してウェーハ製造装置２に供給され、塩酸の残部は循環配管１４を介して塩酸タンク１３に戻される。ウェーハ製造装置２に供給された塩酸はウェーハの洗浄に用いられる。一方、塩酸タンク１３に戻された塩酸は、再度、塩酸ポンプ１４ａによって循環配管１４に送り出される。
【００２５】
一方、図示しない流体ポンプを作動させて、水（析出防止用流体）を流体供給管２５ａ、２５ａを介して流体通路２５に導入させる。水（析出防止用流体）は、流体通路２５を流通した後に流体排出管２５ｂ、２５ｂから排出されるとともに、各流体排出管２５ｂ、２５ｂに設けられたｐＨ計２６、２６によってそのｐＨが計測される。流体通路２５を流れる水のｐＨ値は通常、６乃至７程度であるが、内管２２が劣化して塩素イオンまたは塩酸が流体通路２５側に漏出すると、水のｐＨ値が徐々に低くなる。したがって、水のｐＨ値の変化を常時監視することにより、内管２２の劣化を検知することが可能になる。この際、水の純度は上記のように高い方が良い。純度が低いと、不純物の緩衝作用によってｐＨ変化が鋭敏でなくなるので好ましくない。
【００２６】
以上説明したように、本実施形態のウェーハ製造設備１によれば、上記の配管構造からなる供給配管１２及び循環配管１４を備えており、各配管１２、１４には外管２１と内管２２の間に隙間２４が設けられて、この隙間２４が水（析出防止用流体）を流通させる流体通路２５とされているので、内管２２の外面２２ａに塩素イオンが滲み出てきたとしても、その滲み出た箇所は水が流通する流体通路２５となるので、滲み出た塩素イオンが水によって直ちに洗い流され、これにより塩化物の析出を防止することができる。
また、流体通路２５によって内管２２の外面２２ａ全部が覆われているので、内管２２の外面２２ａ全面に渡って塩化物の析出を防止できる。
また本実施形態の配管構造が工場等の建物の配管スペースに収容されていたとしても、析出物の形成がほとんど起きないので、清掃する必要がなく、その作業が非常に繁雑になることもない。
【００２７】
また本実施形態の配管構造は、清浄度クラス１０以下のバックスペースＢＳに配置することが特に有効である。このレベルの清浄度の雰囲気には、塩素イオンまたは塩酸と反応して析出物を形成する原因となる不純物が含まれている可能性があるところ、本実施形態の配管構造を用いることで、析出物の形成を防止することができ、これにより塩化物の飛散を防いで工場内の汚染を防止できる。尚、ウェーハ製造装置が設置されているクリーンルームＣＲには、析出物を析出させる原因物質がほとんど存在しないので、このクリーンルームＣＲ内に本実施形態の配管構造を適用する必要はない。
【００２８】
また、ｐＨ計２６が設置されているので、塩素イオンまたは塩酸が水に混入した場合に、水のｐＨ値の変化を検知することで塩素イオンまたは塩酸の漏出を直ちに検出することができる。これにより、内管２２の劣化を直ちに検出できる。
また、水（析出防止用流体）の圧力が、塩酸の圧力よりも低く設定されているので、水が内管を浸透して塩酸に混入するおそれがない。
更に、流体通路２５には塩酸ポンプ１４ａ等の制御機器を迂回するバイパス路２７が接続されているので、配管構造の設置を容易に行えるとともに、塩酸ポンプ１４ａ等の制御機器のメンテナンスも容易に行える。
【００２９】
［第２の実施形態］
図３は第２の実施形態のウェーハ製造設備に備えられた配管構造の一例を示す模式図である。なお、図３に示す配管構造の構成要素のうち、図１及び図２に示す配管構造の構成要素と同一の構成要素には、図１及び図２に付した符号と同一の符号を付してその説明を省略、若しくは簡単に説明する。
【００３０】
図３に示す循環装置３１は、第１の実施形態と同様にウェーハ製造設備の一部をなすものであり、図示しないウェーハ製造装置に塩酸を供給するための供給機構を構成するものである。この循環装置３１（供給機構）は清浄度クラス１０以下のバックスペースＢＳ（環境下）に設置されている。
【００３１】
図３に示す循環装置３１は、塩酸タンク１３と、循環配管１４と、循環配管１４の途中にそれぞれ設けられた塩酸ポンプ１４ａ、ダンパ１４ｂ及びフィルタ１４ｃ（制御機器）とから構成されている。フィルタ１４ｃの下流側に分岐部１４ｄが設けられており、この分岐部１４ｄに供給配管１２が連結されている。
【００３２】
供給配管１２及び循環配管１４はそれぞれ、外管２１と内管２２とから構成され、内管２２が塩酸を流通させる酸流通路２３とされ、外管２１と内管２２の間の隙間２４が析出防止用流体を流通させる流体通路２５とされている。
流体通路２５には、析出防止用流体を供給する複数の流体供給管２５ａと、析出防止用流体を排出する複数の流体排出管（排出路）２５ｂとがそれぞれ設けられている。流体供給管２５ａの上流側には図示しないガスの圧力調整弁が設置されている。そして、このガスの圧力調整弁と先の塩酸ポンプ１４ａを制御することによって、流体通路２５内の析出防止用流体の圧力が、酸流通路２３内の塩酸の圧力よりも低く設定されている。なお、流体通路２５を流通する析出防止用流体は、塩素イオンまたは塩酸との反応活性が低い気体がよく、具体的には、空気、アルゴン、窒素等の純度９９．９％以上の気体が好ましい。
【００３３】
更に、流体通路２５の途中には、塩酸の漏出を検知するセンサ３６が設置されている。センサ３６はたとえば、静電センサまたは光電センサが用いられる。これらセンサ３６の検出部が流体通路２５内に設置されている。内管２２の外面２２ａから塩酸が漏出した場合に、センサ３６の検出部がこの塩酸を検知できるようになっている。
また、センサ３６は、流体通路２５のうち、最も低い箇所に配置された最下部に少なくとも設置されていることが好ましい。図３において、流体通路２５の最下部とは、塩酸ポンプ１４ａと塩酸タンク１３の間の部分に相当する。この部分に設置されたセンサ３６ａが、最下部に設置されたセンサ３６となる。
センサ３６は、最下部に限らず、漏出した塩酸が溜まりそうな箇所や、塩酸が漏出しそうな箇所に設けても良い。例えば図３に示すように、センサ３６を塩酸ポンプ１４ａ、ダンパ１４ｂ及びフィルタ１４ｃの間（塩酸が漏出しそうな箇所）にそれぞれ設置されても良く、供給配管１２の途中（漏出した塩酸が溜まりそうな箇所）に設置されていても良い。
【００３４】
次に、本実施形態のウェーハ製造設備１の動作について説明する。
まず、循環配管１４に設けられた塩酸ポンプ１４ａを作動させて、塩酸タンク１３に貯留されている塩酸を循環配管１４に送り出して循環させる。塩酸は、ダンパ１４ｂ及びフィルタ１４ｃを順次通過して分岐部１４ｄに至る。この分岐部１４ｄによって、塩酸の一部が供給配管１２を介してウェーハ製造装置２に供給され、塩酸の残部は循環配管１４を介して塩酸タンク１３に戻される。ウェーハ製造装置２に供給された塩酸はウェーハの洗浄に用いられる。一方、塩酸タンク１３に戻された塩酸は、再度、塩酸ポンプ１４ａによって循環配管１４に送り出される。
【００３５】
一方、図示しないガスの圧力調整弁を調整して、空気等の気体を流体供給管２５ａ、２５ａを介して流体通路２５に導入させる。空気（析出防止用流体）は、流体通路２５を流通した後に流体排出管２５ｂ、２５ｂから排出される。内管２２が劣化して塩酸が流体通路２５側に漏出すると、センサ３６によってその流出が直ちに検知される。
【００３６】
本実施形態のウェーハ製造装置によれば、第１の実施形態と同様な効果の他に、以下の効果が得られる。すなわち、本実施形態のウェーハ製造装置は、上記の配管構造からなる供給配管１２及び循環配管１４を備えており、各配管１２、１４には外管２１と内管２２の間に隙間２４が設けられて、この隙間２４が空気等の気体（析出防止用流体）を流通させる流体通路２５とされているので、内管２２の外面２２ａに塩素イオンまたは塩酸が滲み出てきたとしても、その滲み出た箇所は空気等の純度の高い気体が流通する流体通路２５となるので、滲み出た塩素イオンや塩酸が析出物に変化するおそれがなく、これにより塩化物の飛散を防止することができる。
更に、センサ３６が設置されているので内管２２の劣化を直ちに検出できる。特に、センサ３６を流体通路２５の最下部に設置することで、流体通路２５を伝って流れ落ちてきた塩酸を検出することが可能になるので、センサ３６の設置個数を少なくすることができる。
また、センサ３６を塩酸ポンプ１４ａ、ダンパ１４ｂ及びフィルタ１４ｃの間にそれぞれ設置することで、内管２２とこれら塩酸ポンプ１４ａとの接続部における塩酸の漏出を直ちに検知できる。
【００３７】
［第３の実施形態］
図４，５は第３の実施形態のウェーハ製造設備に備えられた配管構造の一例を示す模式図である。なお、図３に示す配管構造の構成要素のうち、図１ないし図３に示す配管構造の構成要素と同一の構成要素には、図１ないし図３に付した符号と同一の符号を付してその説明を省略、若しくは簡単に説明する。
【００３８】
図４に示すガス加圧供給装置４１は、第１、２の実施形態と同様にウェーハ製造設備の一部をなすものであり、図示しないウェーハ製造装置に塩酸を供給するための供給機構を構成するものである。この循環装置４１（供給機構）は清浄度クラス１０以下のバックスペースＢＳ（環境下）に設置されている。
【００３９】
図４に示すガス加圧供給装置４１は、塩酸タンク１１３と、塩酸タンク１１３内にガスを供給してこの塩酸タンク１１３内を加圧するガス加圧機構と、ガス加圧により塩酸タンク１１３内の塩酸を図２，３に示す塩酸タンク１３または図１に示す洗浄槽２ａに供給するための配管１２と、配管１２の途中にそれぞれ設けられたフィルタ１４ｃ（制御機器）とバルブ１４ｅから構成されている。
【００４０】
ガス加圧機構は、密閉状態の塩酸タンク１１３の上部に接続され、図示しないガス供給装置に一端が接続されるとともに内部に貯留された塩酸に浸漬されない高さに他端部（下端部）１１６ａが位置されたガス供給管１１３と、一端（下端部１１８ａ）が内部に貯留された塩酸に浸漬されるとともに、液面が下降しても塩酸が外部に供給できる高さに下端部１１８ａが位置され塩酸供給管１１８とを有する。
塩酸供給管１１８の他端部（下流側）には、上述したような２重管構造を有する供給配管１２が連結され、図２，３に示す塩酸タンク１３または図１に示す洗浄槽２ａに接続されている。
【００４１】
図４に示すガス加圧供給装置４１は、図示しないガス供給装置から加圧した不活性ガスをガス供給管から供給して密閉状態の塩酸タンク１１３内を加圧し、この圧力によって塩酸タンク１１３内の塩酸を供給管１２へと供給するものである。ここで、不活性ガスは窒素（Ｎ２ ）が好ましい。
また、塩酸タンク１１３には図示しない圧力計が設けられ、タンク内の圧力を監視しており、圧力低下を検出することにより、タンクの機密状態の破れ、すなわち、塩酸の漏出を検出可能となっているとともに、タンク内の圧力上昇を検出して、ガス供給装置４１におけるトラブル発生を検知することが可能となっている。
【００４２】
本実施形態のウェーハ製造装置によれば、第１の実施形態と同様な効果の他に、以下の効果が得られる。すなわち、本実施形態のウェーハ製造装置は、塩酸ポンプの代わりに、上記のガス加圧式としているので、２重管構造となっていないポンプ部分においても、塩酸の漏出を容易に防止することができる。
【００４３】
さらに、図５に示すように、塩酸タンク１１３を密閉された筐体１１９内部に設けることができる。この場合、筐体１１９内部はクラス１００以上のクリーンルームとしてその内部に塩酸タンク１１３が設置され、この筐体１１９内部では２重管構造を持たず、筐体１１９外部のみで上記の２重配管構造とすることができる。
【図面の簡単な説明】
【００４４】
【図１】図１は本発明の第１の実施形態であるウェーハ製造設備を示す模式図である。
【図２】図２は図１のウェーハ製造設備に備えられた配管構造の一例を示す模式図である。
【図３】図３は本発明の第１の実施形態であるウェーハ製造設備に備えられた配管構造の一例を示す模式図である。
【図４】図４は本発明の第３の実施形態であるウェーハ製造設備に備えられた配管構造の一例を示す模式図である。
【図５】図５は本発明の第３の実施形態であるウェーハ製造設備に備えられた配管構造の他の例を示す模式図である。
【符号の説明】
【００４５】
１…ウェーハ製造設備、２…ウェーハ製造装置、３…供給機構、１２…供給配管（配管構造）、１４…循環配管（配管構造）、１４ａ…塩酸ポンプ（制御機器）、１４ｂ…ダンパ（制御機器）、１４ｃ…フィルタ（制御機器）、２１…外管、２２…内管、２３…酸流通路、２４…隙間、２５…流体通路、２５ｂ…排出配管（排出路内）、２６…ｐＨ計、２７…バイパス路、３６、３６ａ…センサ、ＣＲ…クリーンルーム、ＢＳ…バックスペース（清浄度クラス１０以下の環境）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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