(57)【要約】【課題】再配線の形状のばらつきにより再配線の導電率が変化することを抑制し、品質の高い半導体装置を製造する方法を提供する。【解決手段】基板４０を準備する工程と、基板４０上に絶縁層４２を積層する工程と、絶縁層４２上に下地金属密着層４６及び下地金属酸化防止層４７を順次積層する工程と、下地金属酸化防止層４７上に該下地金属酸化防止層４７を共通電極として電気メッキ法により再配線４９を形成する工程と、露出した下地金属酸化防止層４７をエッチング液により除去する工程と、再配線４９上に下地金属密着層４６を共通電極として電気メッキ法により柱状電極５２を形成する工程と、下地金属密着層４６をエッチング液により除去する工程と、を有する。【選択図】図４
2010118697.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を準備する工程と、
前記基板上に絶縁層を積層する工程と、
前記絶縁層上に下地金属密着層及び下地金属酸化防止層を順次積層する工程と、
前記下地金属酸化防止層上に該下地金属酸化防止層を共通電極として電気メッキ法により再配線を形成する工程と、
露出した前記下地金属酸化防止層をエッチング液により除去する工程と、
前記再配線上に前記下地金属密着層を共通電極として電気メッキ法により柱状電極を形成する工程と、
前記下地金属密着層をエッチング液により除去する工程と、
を有することを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項２】
前記下地金属密着層が、前記柱状電極をメッキ法により形成することができる程度に積層されていることを特徴とする請求項１に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項３】
前記下地金属密着層の膜厚が、０．４μｍ以上１．０μｍ以下であることを特徴とする請求項１又は２に記載の半導体装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は半導体装置の製造方法に関するものであり、特に、ウエハレベルチップサイズパッケージ（Ｗ−ＣＳＰ）に代表される小型半導体装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、半導体集積回路などの半導体素子をパッケージングした集積回路パッケージでは、小型化及び薄型化に対する要求が高まっており、近年、特に薄型化を要求される分野の半導体集積回路パッケージを中心に、半導体素子の表面に球状の端子を格子状に配置したＷ・Ｃ・Ｓ・Ｐ（Ｗａｆｅｒ  ｌｅｖｅｌ．Ｃｈｉｐ．Ｓｃａｌｅ．Ｐａｃｋａｇｅ）が提唱されている。
このような半導体装置の製造方法としては、パッド電極、層間絶縁膜、下地金属層が順次形成されたシリコンウエハ上に再配線を設け、再配線上面に柱状電極を形成した後に、下地金属層を除去して樹脂封止する製造方法が挙げられる（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００５−３８９７９公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、近年のウエハレベルチップサイズパッケージの更なる小型化が要求されるに連れ、内蔵する再配線の幅や間隔がより微細化されると同時に、その外形寸法の許容値の縮小も要求が強くなっている。従って、従来の加工方法では、下地金属層を例えばウエットエッチングによって除去する際に、再配線も目減りする。また、ウエハ表面に高さが１００μｍを越すポスト電極が共存していることにより、エッチング液のウエハ表面での流れが均一ではない。従って、ウエハ面内でのエッチング速度の差異が生じ、これが再配線形状のばらつきにつながり、この許容値を満足させるものは得られなかった。また、エッチング残部が発生しないように過剰にエッチングすると再配線もエッチングされるため、より一層再配線のばらつきが大きくなってしまう。
具体的には、図７〜図１０に沿って説明する。
【０００５】
図７〜図１０は、従来の半導体装置の製造方法の工程断面図である。
図７（Ａ）に示すように、半導体基板１０１に形成された酸化膜１０２上に、Ａｌ電極パッド１０３を形成する。そして、表面保護膜１０４及び層間絶縁膜１０５を形成した後Ａｌ電極パッド１０３上にスルーホールを開孔する。
次いで、図７（Ｂ）に示すように、Ａｌ電極パッド１０３上及び層間絶縁膜１０５の表面に、スパッタ法等により、例えばＴｉからなる下地金属密着層１０６と、例えばＣｕからなる下地金属酸化防止層１０７を順次積層形成する。
その後、図７（Ｃ）に示すように、感光性樹脂層を全面に被着し、パターンの露光及び感光性樹脂層のパターン開口のための現像処理を行い、感光性樹脂膜１０８のパターンを形成する。次に、下地金属酸化防止層１０７を一方の共通電極として、銅を電気メッキ法にて電着させ、Ａｌ電極パッド１０３から後述する銅製の柱状電極を形成する部分へ引き回すための再配線１０９を形成する。
そして、図８（Ａ）に示すように、感光性樹脂膜１０８を溶剤等で除去し、図８（Ｂ）に示すように、下地金属酸化防止層１０７上に感光性樹脂膜１１０を全面に貼着した後、柱状電極１１１を形成するための開孔部を露光・現像処理により形成する。そして、下地金属酸化防止層１０７を一方の共通電極として、銅を電気メッキ法にて電着させ、柱状電極１１１を形成する。
さらに、図８（Ｃ）に示すように、感光性樹脂膜１１０を溶剤等で除去し、下地金属酸化防止層１０７と下地金属密着層１０６とを随時エッチング除去する。
最後に、図９に示すように、柱状電極１１１の表面が露出するように封止樹脂１１２を形成し、柱状電極１１１上に半田端子１１３をリフロー処理により形成し、個片分割して図１０に示すような半導体装置を製造する。
【０００６】
このように、図８（Ｂ）から図８（Ｃ）の工程で下地金属酸化防止層１０７及び下地金属密着層１０６を除去する際に、柱状電極１１１によりエッチング液の流れが均一ではなくなってしまうため、エッチングにムラが生じてしまう。
【０００７】
本発明は、前記問題点に鑑みなされたものであり、以下の目的を達成することを課題とする。
即ち、本発明の目的は、再配線の形状のばらつきにより再配線の導電率が変化することを抑制し、品質の高い半導体装置を製造する方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者は鋭意検討した結果、下記の半導体装置の製造方法を用いることにより、上記問題を解決できることを見出し、上記目的を達成するに至った。
【０００９】
即ち、本発明において参考例１に係る半導体装置の製造方法は、基板を準備する工程と、前記基板上に絶縁層を積層する工程と、前記絶縁層上に第１の下地金属層を積層する工程と、前記第１の下地金属層上に該第１の下地金属層を共通電極として電気メッキ法により再配線を形成する工程と、露出した前記第１の下地金属層をエッチング液により除去する工程と、前記再配線及び前記絶縁層上に第２の下地金属層を積層する工程と、前記再配線上に前記第２の下地金属層を介し該第２の下地金属層を共通電極として電気メッキ法により柱状電極を形成する工程と、露出した前記第２の下地金属層をエッチング液により除去する工程と、を有することを特徴とする。
上記参考例１に係る半導体装置の製造方法によると、柱状電極を形成する前に第１の下地金属層をエッチングするため、柱状電極が存在した場合におけるエッチング液の流れの不均一を抑制し、第１の下地金属層をムラなくエッチングすることができる。従って、再配線のエッジ部がわずかにエッチングされたとしても、いずれの箇所も同じようにエッチングされるため、再配線の形状のばらつきを許容範囲におさめることができ、半導体装置の歩留まりが向上する。さらには、第２の下地金属層は再配線を被覆しているため、柱状電極が形成されていてもエッチング液の不均一に起因する再配線の過度のエッチングを抑制し、半導体装置の品質が向上することができる。
【００１０】
本発明において参考例２に係る半導体装置の製造方法は上記参考例１において、前記第２の下地金属層が下地金属密着層と下地金属酸化防止層とを有することを特徴とする。
本発明において参考例３に係る半導体装置の製造方法は上記参考例１において、前記第１の下地金属層が下地金属密着層と下地金属酸化防止層とを有することを特徴とする。
上記参考例２、３に係る半導体装置の製造方法によると、下地金属酸化防止層と下地金属密着層の酸化の２層構造であるため、下地金属密着層の酸化を防止することができる。
【００１１】
本発明において参考例４に係る半導体装置の製造方法は上記参考例１において、前記第２の下地金属層が、前記柱状電極をメッキ法により形成することができる程度に積層されていることを特徴とする。
本発明において参考例５に係る半導体装置の製造方法は上記参考例１において、前記第２の下地金属層の膜厚が、０．４μｍ以上１．０μｍ以下であることを特徴とする。
上記参考例４、５に係る半導体装置の製造方法によると、半導体装置の切断部にも十分に下地金属密着層を形成することができる。すなわち、下地金属密着層が端部の角にも十分な膜厚で下地金属密着層を形成することにより、柱状電極を形成する際に半導体ウエハ全体に均一な高さで形成することができる。
【００１２】
請求項１に記載の半導体装置の製造方法は、基板を準備する工程と、前記基板上に絶縁層を積層する工程と、前記絶縁層上に下地金属密着層及び下地金属酸化防止層を順次積層する工程と、前記下地金属酸化防止層上に該下地金属酸化防止層を共通電極として電気メッキ法により再配線を形成する工程と、露出した前記下地金属酸化防止層をエッチング液により除去する工程と、前記再配線上に前記下地金属密着層を共通電極として電気メッキ法により柱状電極を形成する工程と、前記下地金属密着層をエッチング液により除去する工程と、を有することを特徴とする。
請求項１に記載の半導体装置の製造方法によると、従来の製造方法と同等の工程数で、工程の順番を組み替えるだけで半導体装置の品質が向上する。また、柱状電極を形成する前に下地金属酸化防止層をエッチングするため、エッチング液の流れが均一になり、再配線の形状のばらつきを許容範囲におさめることができ、半導体装置の品質が向上する。また、下地金属密着層をエッチングしても再配線はエッチングされないため、柱状電極によりエッチング液の流れが不均一であっても、エッチング残部が発生しないように下地金属密着層をエッチングすることができる。従って、再配線のばらつきを抑制し半導体装置の品質が向上する。
【００１３】
請求項２に記載の半導体装置の製造方法は、前記下地金属密着層が、前記柱状電極をメッキ法により形成することができる程度に積層されていることを特徴とする。
請求項３に記載の半導体装置の製造方法は、前記下地金属密着層の膜厚が、０．４μｍ以上１．０μｍ以下であることを特徴とする。
請求項２、３に記載の半導体装置の製造方法によると、半導体装置の切断部にも十分に下地金属密着層を形成することができる。すなわち、下地金属密着層が端部の角にも十分な膜厚で下地金属密着層を形成することにより、柱状電極を形成する際に半導体ウエハ全体に均一な高さで形成することができる。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、再配線の形状のばらつきにより再配線の導電率が変化することを抑制し、品質の高い半導体装置を製造する方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明において参考例としての半導体装置の製造方法の、再配線を形成してから第２の下地金属層を形成する工程の工程断面図である。
【図２】本発明において参考例としての半導体装置の製造方法の、柱状電極を形成してから第２の下地金属層を形成する工程の工程断面図である。
【図３】本発明において参考例としての半導体装置の製造方法の、半田電極を形成する工程の工程断面図である。
【図４】本発明の第１の実施形態における半導体装置の製造方法の、再配線を形成してから柱状電極を形成する工程の工程断面図である。
【図５】本発明の第１の実施形態における半導体装置の製造方法の、感光性樹脂層を除去してから下地金属密着層をエッチングする工程の工程断面図である。
【図６】本発明の第１の実施形態における半導体装置の製造方法の、半田電極を形成する工程の工程断面図である。
【図７】従来の半導体装置の製造方法における、層間絶縁膜を形成してから再配線を形成する工程の工程断面図である。
【図８】従来の半導体装置の製造方法における、感光性樹脂膜を形成してから下地金属層をエッチングする工程の工程断面図である。
【図９】従来の半導体装置の製造方法における、半田電極を形成する工程の工程断面図である。
【図１０】従来の半導体装置の製造方法で製造した半導体装置の断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、図面を参照して、この発明の実施の形態につき説明する。なお、図面には、この
発明が理解できる程度に各構成部位の形状、大きさ及び配置関係が概略的に示されている
にすぎず、これによりこの発明が特に限定されるものではない。以下の説明において、特定の材料、条件及び数値条件等を用いることがあるが、これは好適例の一つにすぎず、従って、何らこれらに限定されない。
【００１７】
＜参考例＞
本発明において参考例としての半導体装置の製造方法は、基板を準備する工程と、前記基板上に絶縁層を積層する工程と、前記絶縁層上に第１の下地金属層を積層する工程と、前記第１の下地金属層上に該第１の下地金属層を共通電極として電気メッキ法により再配線を形成する工程と、露出した前記第１の下地金属層をエッチング液により除去する工程と、前記再配線及び前記絶縁層上に第２の下地金属層を積層する工程と、前記再配線上に前記第２の下地金属層を介し該第２の下地金属層を共通電極として電気メッキ法により柱状電極を形成する工程と、露出した前記第２の下地金属層をエッチング液により除去する工程と、を有する。
以下に、各工程を図１〜図３に沿って詳述する。
【００１８】
〔基板を準備する工程、前記基板上に絶縁層を積層する工程、前記絶縁層上に第１の下地金属層を積層する工程、前記第１の下地金属層上に再配線を形成する工程〕
参考例の半導体装置の製造方法は、図１（Ａ）に示すような再配線１９を形成するにあたり、図７（Ａ）〜（Ｃ）と同様の工程を経る。
まず、図７（Ａ）と同様に、絶縁層１２が形成された半導体基板１０を準備する。そして、絶縁層１２上に、電極パッド１３を形成する。そして、表面保護膜１４及び絶縁層１５（層間絶縁膜）を形成した後、電極パッド１３上にスルーホールを開孔する。
次いで、図７（Ｂ）と同様に、電極パッド１３上及び絶縁層１５の表面に、スパッタ法等により、例えばＴｉからなる下地金属密着層１６と、例えばＣｕからなる下地金属酸化防止層１７を順次積層形成する。
その後、図７（Ｃ）と同様に、感光性樹脂層（不図示）を全面に被着し、パターンの露光及び感光性樹脂層のパターン開口のための現像処理を行い、感光性樹脂膜１０８のパターンを形成する。次に、下地金属酸化防止層１７を一方の共通電極として、銅を電気メッキ法にて電着させ、電極パッド１３から後述する銅製の柱状電極を形成する部分へ引き回すための再配線１９を形成する。
そして、図１（Ａ）のように、感光性樹脂膜１０８を除去して下地金属層２０を露出させる。
【００１９】
〔露出した前記第１の下地金属層を除去する工程〕
参考例の半導体装置の製造方法では、第１の下地金属層２０を露出させた後、図１（Ｂ）のように、露出した第１の下地金属層２０を除去する。
ここで、第１の下地金属層２０をエッチング液に晒すと、同時に再配線１９もエッチング液にさらされることとなる。しかしながら、この場合においては、下地金属層２０をエッチングする際に柱状電極が存在しないため、エッチング液の流れが不均一になることなく、露出している下地金属層２０はいずれの箇所においてもムラなくエッチングされる。このため、再配線１９がエッチングされたとしても、いずれの箇所においても均一にエッチングされる。従って、再配線の形状のばらつきの許容値を満足することができる。
【００２０】
参考例における第１の下地金属層２０は、下地金属密着層１６のみから構成されていてもよい。しかし、下地金属密着層１６の酸化防止の観点から考えれば、下地金属密着層１６の上に下地金属酸化防止層１７が形成されていることが好ましい。下地金属層２０を下地金属密着層１６のみとした場合、下地金属密着層１６は先に示したとおり、通常Ｔｉを主成分とするため、容易に酸化されてしまう。すると、酸化後に柱状電極を形成しても当該酸化後の下地金属密着層と柱状電極とが剥離しやすくなってしまう。それに対し、下地金属酸化防止層１７を有することによりこの酸化を阻止することができるからである。
なお、下地金属酸化防止層１７としては、先に例示したＣｕ以外には、Ａｕ、Ｐｄ、Ｐｔ等の酸化されにくい金属を用いることが好ましい。
また、第１の下地金属酸化防止層１７のエッチング液としては、例えば硫酸系溶液を用いることができ、第１の下地金属密着層１６のエッチング液としては、例えば、過酸化水素溶液を挙げることができる。
【００２１】
〔前記再配線及び前記絶縁層上に第２の下地金属層を積層する工程〕
参考例の半導体装置の製造方法では、露出した第１の下地金属層２０を除去した後、図１（Ｃ）に示すように、絶縁層１５と再配線１９上に、スパッタ法等により第２の下地金属層３０を形成する。
この第２の下地金属層３０は、後述する柱状電極２２を形成するための一方の共通電極として機能するばかりでなく、第２の下地金属層３０をエッチングする際における再配線１９のエッチングによる侵食をも抑制するものである。
この第２の下地金属層３０は、Ｔｉを主成分とするものであることが好ましい。後述する第２の下地金属層を除去する工程において、再配線１９を目減りさせることなく除去することができる点でも有効であるからである。なお、第１の下地金属層２０と同様に第２の下地金属密着層２６と第２の下地金属酸化防止層２７が順次積層されていることが好ましい。そして、この場合には、第２の下地金属密着層２６はＴｉを主成分とする金属、第２の下地金属酸化防止層２７はＣｕ、Ａｕ、Ｐｄ、Ｐｔ等の酸化されにくい金属を用いることが好ましい。これは、第１の下地金属層２０と同様の方法で形成することができるためであり、尚且つ下地金属密着層２６の酸化を下地金属酸化防止層２７が阻止することができるためである。なお、下地金属層３０の膜厚は、前述の下地金属層２０と同様である。
【００２２】
〔前記再配線上に前記第２の下地金属層を介して柱状電極を形成する工程〕
図２（Ａ）に示すように、第２の下地金属層３０上に感光性樹脂層２１を形成した後、柱状電極２２を形成する部分のみに開孔するため、パターンの露光及び現像処理を行う。次いで、第２の下地金属層３０を一方の共通電極として、電気メッキ法にて電着させ、柱状電極２２を形成する。
この工程により、柱状電極２２は第２の下地金属層３０上に形成されるが、下地金属層３０は主にＣｕやＴｉ等から構成されているため、再配線１９と柱状電極２２との電気抵抗にはほとんど影響を与えない。
柱状電極２２としては、例えばＣｕ、Ａｌ、Ｗ等が挙げられる。
なお、第２の下地金属層３０は、前記柱状電極をメッキ法により形成することができる程度に積層されていることが好ましい。すなわち、ウエハ上に、個片化（チップ化）のための切りしろが設けられていることによって形成された、個々の半導体装置の外周の段差部によって第２の下地金属層３０が破断されることなく層として形成されていることが好ましい。柱状電極２２は基板の端部から電圧を印加してメッキ法により形成するが、層が破断していると基板の中心部に近い程所望の電流が流れず、メッキ不良の原因となってしまうからである。また、メッキ不良を抑制するためには、下地金属密着層２６と下地金属酸化防止層２７との膜厚の合計が０．４μｍ〜１μｍ程度であることが特に好ましい。なお、この膜厚は、半導体装置の断面観察により計測することができる。
【００２３】
〔露出した前記第２の下地金属層をエッチングする工程〕
次に、図２（Ｂ）に示すように、感光性樹脂層２１を除去溶剤等で除去した後、図２（Ｃ）に示すように、露出している第２の下地金属層３０を除去する。
まず、第２の下地金属酸化防止層２７を、ウエットエッチング法によって除去する。次に、第２の下地金属密着層２６を除去する。このとき、柱状電極２２が介在しているため、エッチング液の流れは、柱状電極２２の近傍において不均一となる。しかし、上記参考例によれば、第２の下地金属層３０は再配線１９を被覆しているため、柱状電極２２が形成されていてもエッチング液の不均一に起因する再配線１９の過度のエッチングを抑制し、半導体装置の品質が向上することができる。したがって、再配線１９は許容値を満たすことができる。
【００２４】
最後に、図３に示すように、封止樹脂２３にて全面を被覆した後、切削加工やＣＭＰ等により柱状電極２２の表面を露出させ、当該表面に半田ボールなどで、半田電極２４をリフロー工程により接続する。その後、基板上の半導体装置１００をダイシングソーにて個片化し半導体装置を製造する。
【００２５】
＜第１の実施形態＞
本発明の第１の実施形態における半導体装置の製造方法は、基板を準備する工程と、前記基板上に絶縁層を積層する工程と、前記絶縁層上に下地金属密着層及び下地金属酸化防止層を順次積層する工程と、前記下地金属酸化防止層上に該下地金属酸化防止層を共通電極として電気メッキ法により再配線を形成する工程と、露出した前記下地金属酸化防止層をエッチング液により除去する工程と、前記再配線上に前記下地金属密着層を共通電極として電気メッキ法により柱状電極を形成する工程と、前記下地金属密着層をエッチング液により除去する工程と、を有する。
以下に、各工程を図４〜図６に沿って詳述する。
【００２６】
〔基板を準備する工程、前記基板上に絶縁層を積層する工程、前記絶縁層上に下地金属密着層及び下地金属酸化防止層を順次積層する工程、前記下地金属酸化防止層上に再配線を形成する工程〕
本発明の第１の実施形態における半導体装置の製造方法は、図４（Ａ）に示すような再配線４９を形成するにあたり、図７（Ａ）〜（Ｃ）と同様の工程を経る。
まず、図７（Ａ）と同様に、絶縁層４２が形成された半導体基板４０を準備する。そして、絶縁層４２上に、電極パッド４３を形成する。そして、表面保護膜４４及び絶縁層４５（層間絶縁膜）を形成した後、電極パッド４３上にスルーホールを開孔する。
次いで、図７（Ｂ）と同様に、電極パッド４３上及び絶縁層４５の表面に、スパッタ法等により、例えばＴｉからなる下地金属密着層４６と、例えばＣｕからなる下地金属酸化防止層４７を順次積層形成する。
その後、図７（Ｃ）と同様に、感光性樹脂層（不図示）を全面に被着し、パターンの露光及び感光性樹脂層のパターン開口のための現像処理を行い、感光性樹脂膜のパターンを形成する。次に、下地金属酸化防止層４７を一方の共通電極として、銅を電気メッキ法にて電着させ、電極パッド４３から後述する銅製の柱状電極を形成する部分へ引き回すための再配線４９を形成する。
そして、図４（Ａ）のように、感光性樹脂膜を除去して下地金属層５０を露出させる。
【００２７】
〔露出した前記下地金属酸化防止層を除去する工程〕
本発明の第１の実施形態における半導体装置の製造方法では、下地金属層５０を露出させた後、図４（Ｂ）のように、露出した下地金属酸化防止層４７を除去する。
このように、前記参考例と同様に、後述する柱状電極５２を形成する前に下地金属酸化防止層４７を除去する際にエッチング液を用いるため、エッチング液の流れが均一となり、下地金属酸化防止層４７の残部の発生を抑制することができる。
当該工程で、下地金属酸化防止層４７のみをエッチングするのは、下地金属密着層４６を共通電極として後述する柱状電極を形成するためである。従って、メッキ法により柱状電極を形成するための共通電極として機能するため、前述の下地金属密着層４６及び下地金属酸化防止層４７が、後述する柱状電極をメッキ法により形成することができることが好ましい。また、同様に、後述する柱状電極を形成する直前では、露出されている下地金属酸化防止層４７が除去されているため、下地金属密着層４６が柱状電極をメッキ法により形成することができる程度に積層されていることが好ましい。
【００２８】
なお、「下地金属密着層４６は、柱状電極５２をメッキ法により形成することができる程度に積層されている」とは具体的には以下のことを表す。すなわち、ウエハ上に、個片化（チップ化）のための切りしろが設けられていることによって形成された、個々の半導体装置の外周の段差部によって下地金属密着層４６が破断されることなく層として形成されていることが好ましい。柱状電極５２は基板の端部から電圧を印加してメッキ処理により形成するが、層が破断していると基板の中心部に近い程所望の電流が流れず、メッキ不良の原因となってしまうからである。また、メッキ不良を抑制するためには、下地金属密着層４６の膜厚は０．４μｍ〜１μｍ程度であることが特に好ましい。０．４μｍ未満であると、半導体ウエハの端部近傍で下地金属密着層が断層してしまうおそれがある。一方、１．０μｍ以上であると、製造時間の短縮を阻害してしまう。また、下地金属密着層４６をエッチングによって除去するため時間も多く費やしてしまう。なお、この膜厚は、半導体装置の断面観察により計測することができる。
【００２９】
また、第１の実施形態における半導体装置の製造方法では、下地金属密着層４６及び下地金属酸化防止層４７が必須の構成要素であり、それぞれ異なる材質である。材質としては、例えば前述のように、下地金属密着層４６としては、先に示したとおりＴｉを主成分とする金属であり、下地金属酸化防止層４７としては、先に例示したＣｕ以外では、Ａｕ、Ｐｔ、Ｐｄ等である。
【００３０】
〔前記再配線上に前記柱状電極を形成する工程、前記下地金属密着層をエッチングする工程〕
図４（Ｃ）のように、図２（Ａ）と同様にして柱状電極を形成する。
その後、図５（Ａ）のように、感光性樹脂層５１を除去し、図５（Ｂ）のように、露出している下地金属密着層４６をウエットエッチング法により除去する。
このとき、柱状電極５２が介在しているため、エッチング液の流れは、柱状電極５２の近傍において不均一となる。しかし、本発明によれば、下地金属密着層４６の除去に用いられるエッチング液による場合には、下地金属密着層４６と再配線４９の選択比が非常に大きいことから、再配線４９が除去されることはない。したがって、下地金属密着層４６除去の際にいくら過剰にエッチング液に晒そうとも、再配線４９が目減りすることはない。したがって、再配線１９は許容地を満たすことができる。
【００３１】
最後に、図６のように、図３と同様にして基板上の半導体装置２００をダイシングソーにて個片化し半導体装置を製造することができる。
【００３２】
なお、本実施形態は、限定的に解釈されるものではなく、本発明の要件を満足する範囲内で実現可能であることは、言うまでもない。
【符号の説明】
【００３３】
１０、４０  基板
１２、４２  絶縁層
１３、４３  電極パッド
１４、４４  表面保護膜
１５、４５  絶縁層（層間絶縁膜）
１６、４６  （第１の）下地金属密着層
１７、４７  （第１の）下地金属酸化防止層
１９、４９  再配線
２０、５０  （第１の）下地金属層
２１、５１  感光性樹脂層
２２、５２  柱状電極
２３、５３  封止樹脂
２４、５４  半田電極
２６  第２の下地金属密着層
２７  第２の下地金属酸化防止層
３０  第２の下地金属層
１００、２００  半導体装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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