(57)【要約】【課題】ライトクロックの出力周波数を上げることなく、位相サーボパターンを描画する電子ビーム描画装置を提供する。【解決手段】フォーマッタ１が備えるＤＤＳ１１が、ライトクロックＷＣＬＫ＿Ｒを出力し、ＤＤＳ１２が、ＷＣＬＫ＿Ｒの位相から１トラックピッチ当たり＋９０ｄｅｇずれた位相を持つライトクロックＷＣＬＫ＿＋９０を出力し、ＤＤＳ１３が、ＷＣＬＫ＿Ｒの位相から１トラックピッチ当たり−９０ｄｅｇずれた位相を持つライトクロックＷＣＬＫ＿−９０を出力する。そして、データジェネレータ１５、１６、１７が、それぞれ、ＷＣＬＫ＿Ｒ、ＷＣＬＫ＿＋９０、ＷＣＬＫ＿−９０に基づいてブランキング信号を出力し、ＯＲ回路２０がそれぞれのブランキング信号の論理和をとって、ブランカに対して入力する。【選択図】図３
2010118100.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
回転駆動機構上に載置された原盤に電子ビームを照射することにより記録媒体の原盤を露光する電子ビーム描画装置において、
共通のリファレンスクロックに基づいて、露光のタイミングの基準となるライトクロックであって、同一の周波数で異なる位相のライトクロックを作成する複数の第１クロック作成回路と、
前記リファレンスクロックに基づいて、前記回転駆動機構の備えるモータの回転速度の基準となるスピンドルクロックを作成する第２クロック作成回路と、
各々の第１クロック作成回路が作成したライトクロックに基づいて、前記原盤の露光に用いる制御信号を出力する制御信号出力手段とを備える
ことを特徴とする電子ビーム描画装置。
【請求項２】
前記電子ビーム描画装置が、更に、
前記原盤の露光に用いる制御信号のＤｕｔｙ比を変更することによって、前記原盤への電子ビームの照射による描画パターンの幅比を調整する描画パターン調整手段を備える
ことを特徴とする請求項１記載の電子ビーム描画装置。
【請求項３】
前記描画パターン調整手段が、
Ｄ型フリップフロップと論理積／論理和回路とを備える
ことを特徴とする請求項２記載の電子ビーム描画装置。
【請求項４】
前記描画パターン調整手段が、予め定められた前記描画パターンの幅の種類毎に設けられている
ことを特徴とする請求項２記載の電子ビーム描画装置。
【請求項５】
前記制御信号に基づいて、位相サーボパターンを描画する
ことを特徴とする請求項１記載の電子ビーム描画装置。
【請求項６】
前記複数の第１クロック作成回路、前記第２クロック作成回路が、ダイレクトデジタルシンセサイザ回路である
ことを特徴とする請求項１記載の電子ビーム描画装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子ビーム描画装置に関し、特に、電子ビームを回転駆動機構上の情報記録媒体の原盤に照射することにより情報記録媒体の原盤を作成（生成）する電子ビーム描画装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
電子ビームによって情報記録用原盤を描画する、いわゆるＥＢマスタリング装置（ＥＢＲ（Electron beam Recorder) ）は、回転している原盤の主面にレジストを塗布し、直接、主面に電子ビームを照射しながら主面に沿って移動させることで、螺旋状もしくは同心円上にピット列を形成する。このようなＥＢＲは、光ディスクを対象に、レーザ光を光学レンズで集光・照射する光学マスタリング装置（ＬＢＲ（Laser beam Recorder)）から発展してきた。磁気ディスクのサーボ情報描画への応用に際しては、より微細なビームが必要であるので、当初からＥＢＲの適用が考えられている。
【０００３】
なお、共通のソースから第１のＤＤＳ(Direct Digital Synthesizer ：ダイレクトデジタルシンセサイザ回路)と第２のＤＤＳに対してリファレンスクロック（Ｆｒ）を供給し、供給されたＦｒに基づいて、第２のＤＤＳが、ＥＢＲに用いられるスピンドルモータの回転基準となるスピンドルクロックを生成し、第１のＤＤＳが、描画データの作成基準となるライトクロックを生成する電子ビーム描画装置が提案されている。
【特許文献１】特開２００８−７６６０３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
磁気ディスクのアドレスパターンは、図１２に示すように、半径方向に直線となる放射パターンが基本である。放射パターンを基本としたサーボ部と無記録部（後から記憶データを書くための記憶領域）が一組となって、１周当たり数十〜数百組配置される。１周当たりのサーボ部の数は、全面に渡って一定であるため、磁気ディスク全体をマクロ的に見ると、アドレス部が放射状の筋になって観察される。なお、現在の磁気ディスク装置は、大部分がスイングアームヘッドで、装置組み立て後１台１台自身のヘッドでアドレス部を書き込むため、放射状ではなく円弧状に整列している。円弧状のアドレス部をＥＢＲで描画するためには、１回転当たりの半径方向送りをビーム径と同程度に狭くして隣接トラックのピットとの未露光部を無くし、さらに露光タイミングを正確に制御して隣接トラックのピットエッジとの円周方向の相対位置ずれを限りなく小さくするという課題がある。このような、円周方向のピットエッジ位置が揃ったピットを整列ピットと呼ぶ。
【０００５】
整列ピットを形成するための制御信号を作成する回路として、図１３に示すような回路が提案されている。図１３に示すフォーマッタ６は、原盤を実際に露光するためのデータを作成する。フォーマッタ６は、ライトクロック作成回路６１及びスピンドルクロック作成回路６２に対して共通の信号源から基準クロック（Ｆｒ）を供給する。ライトクロック作成回路６１は、Ｆｒに基づいてライトクロックを出力し、データジェネレータ６３が、ライトクロックを用いて、描画データに基づいて、原盤を実際に露光するためのデータ（ブランカ制御データ）を作成し、ブランカ４００を制御する。ブランカ４００が、ブランカ制御データに従って電子ビームをｏｎ／ｏｆｆ制御することにより、当該データに応じた情報ピットが原盤の主面上に作成される。一方、スピンドルクロック作成回路６２は、Ｆｒに基づいて、スピンドルクロックを作成し、スピンドル制御回路６４が、スピンドルクロックを用いて、回転ステージとしてのスピンドルモータ４０１の回転数を制御する。スピンドルクロックに従ってスピンドルモータ４０１を制御することにより、モータに載置された原盤は、ライトクロックに基づく電子ビームのｏｎ／ｏｆｆに同期して、所定の回転速度で回転する。
【０００６】
ＥＢＲによる描画には、もう一つの課題がある。図１３を参照して説明した回路では、スピンドルクロックに対して実際のスピンドルモータ４０１の回転がより高精度に追従している間しか整列ピットが得られないため、本来なら全面を一定回転数で描画したいのに対し、ＥＢＲでは回転数を変える必要がある。これは、ＥＢＲがＬＢＲと異なり、ビームエネルギ（ＬＢＲの場合、光量、ＥＢＲの場合、ビーム電流）を可変できないことに起因する課題である。ビームエネルギが一定の場合、一定の描画速度で描画しないと全面均一な描画が得られない。ＥＢＲでの描画速度は、原盤の周速に相当し、外周と内周で回転数を変えなければならない。例えば、外周を描画している間は原盤の回転数を遅くし、内周を描画している間は原盤の回転数を速くする必要がある。しかも、磁気ディスクのアドレスパターンは整列ピットが記録域全面に及んでいるため、階段状に回転数を切り替えることが出来ず、スピンドルクロックとライトクロックを同期させつつ限りなく連続に近い微小ステップで変化させる必要がある。
【０００７】
上述の課題を解決するための回路技術として、本発明者は、図１４に示すような、ＤＤＳを応用したフォーマッタを提案している。図１４に示すフォーマッタは、ＤＤＳ５１、５２に対して共通の信号源からリファレンスクロック（Ｆｒ）を供給し、ＤＤＳ５１がライトクロックを作成し、ＤＤＳ５２がスピンドルクロックを作成する。また、カウンタ５４が、Ｆｒをカウントし、データ同期設定部５５が、Ｆｒのカウント値に基づいて、ＤＤＳ５１が作成するライトクロックの周波数の切り換えタイミングと、ＤＤＳ５２が作成するスピンドルクロックの周波数の切り換えタイミングを高精度に制御し、整列ピットを全面描画する。
【０００８】
しかし、図１４に示すフォーマッタでは、ライトクロックの最高周波数を高められないという問題がある。現在では、１ＧＨｚという高周波数のＦｒで動作するＤＤＳ＿ＩＣも開発されているが、このＤＤＳ＿ＩＣは、Ｆｒを分周したクロック周波数で内部動作しており、複数のＤＤＳ＿ＩＣを同時にリセットしても、内部動作クロックの位相は揃わない。従って、上記のような高周波数のＦｒで動作するＤＤＳ＿ＩＣは、図１４に示すようなフォーマッタには、適用できない。図１４に示すようなフォーマッタに適用できるＤＤＳ＿ＩＣは、内部動作もＦｒで動作しているものに限定され、Ｆｒの最高周波数（Ｆｒ＿ｍａｘ）は、２００ＭＨｚ程度である。一般に、ＤＤＳの最高出力周波数はＦｒ／３程度となるので、出力されるライトクロックの上限は６０ＭＨｚ前後となる。
【０００９】
ここで、磁気ディスクのアドレス部は、トラックナンバやセクタナンバなどが書かれたデータパターン部とヘッド位置決め用のサーボ情報が書かれたサーボパターン部とを備えるが、サーボパターンの中には、いわゆる位相サーボパターンという、図１５中に示すような、放射パターンから特定角度傾いたパターンから構成されるものがある。このような位相サーボパターンを描画するためには、描画パターンの最小ピッチの数倍〜十数倍といった、高いライトクロック周波数が要求される（図１６を参照）ので、ライトクロックの周波数の上限が６０ＭＨｚの場合、精度よく位相サーボパターンを描画することができない。
【００１０】
また、フォーマッタに求められる機能として、いわゆるライトコンペ(Write Compensation)機能がある。ＥＢＲによって描画された原盤は、その後複雑なプロセスを経て磁気ディスク媒体となる。図１７に示すように、最終的に、磁気記録媒体における磁性体と非磁性体の幅比（Ｄｕｔｙ比）が５０％であることが望ましい場合でも、プロセスを加味すると、描画原盤における露光部と未露光部との比（描画パターンの幅比）は５０％より狭く、若しくは広く調整したい場合がある。上記描画パターンの幅比を調整する処理、すなわち、ブランカ制御データのＤｕｔｙ比を調整して電子ビームをｏｎする時間とｏｆｆする時間との比を調整する処理がライトコンペである。
【００１１】
ライトコンペを行う回路として、図１８に示すような、遅延回路４２を用いた回路が提案されている。図１８に示す回路においては、ライトクロックに基づいてデータジェネレータ４１がブランカ制御データを作成し、このブランカ制御データと、遅延回路４２によって位相遅延されたブランカ制御データとをＡＮＤ／ＯＲ（論理積／論理和）回路４３に入力し、ＡＮＤ／ＯＲ回路４３が、両データの論理積もしくは論理和をとってブランカに出力する。しかし、遅延回路４２が有する遅延素子は、環境温度による遅延量のドリフトがある。また、上記遅延素子は遅延分解能が荒く、微妙な調整ができない。更に、遅延レンジが狭いので、描画速度の変更に対し遅延素子自体の交換が必要になるといった問題がある。従って、図１８に示す回路によっては、描画パターンの幅比を精度良く調整することができない。
【００１２】
本発明は、ライトクロックの出力周波数を上げることなく、位相サーボパターンを描画することが可能な電子ビーム描画装置の提供を目的とする。また、本発明は、描画パターンの幅比を精度良く調整することが可能な電子ビーム描画装置の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本電子ビーム描画装置は、回転駆動機構上に載置された原盤に電子ビームを照射することにより記録媒体の原盤を露光する電子ビーム描画装置において、共通のリファレンスクロックに基づいて、露光のタイミングの基準となるライトクロックであって、同一の周波数で異なる位相のライトクロックを作成する複数の第１クロック作成回路と、前記リファレンスクロックに基づいて、前記回転駆動機構の備えるモータの回転速度の基準となるスピンドルクロックを作成する第２クロック作成回路と、各々の第１クロック作成回路が作成したライトクロックに基づいて、前記原盤の露光に用いる制御信号を出力する制御信号出力手段とを備える。
【発明の効果】
【００１４】
本電子ビーム描画装置は、露光のタイミングの基準となるライトクロックであって、同一の周波数で異なる位相のライトクロックを作成し、作成された各々のライトクロックに基づいて、原盤の露光に用いる制御信号を出力する。従って、本電子ビーム描画装置によれば、位相が異なる各々のライトクロックに基づく制御信号に従って、原盤を露光することができる。その結果、ライトクロックの出力周波数を上げることなく、位相サーボパターンを描画することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
図１は、本実施形態の電子ビーム描画装置の一例を示す構成図である。特に、図１（Ａ）は、本発明の電子ビーム描画装置の断面構造の概略を示し、図１（Ｂ）は、本発明の電子ビーム描画装置の回転ステージの断面構造の概略を示す。
【００１６】
電子ビーム描画装置は、周知の構成を備え、図１（Ａ）に示すように、電子ビームを原盤３００上に収束させる電子光学系１００と、ステージ系２００とからなる。電子光学系１００は、電子ビームを発生させる電子銃１０１と、電子ビームのon/offを行うブランカ１０２と、原盤３００の主面に照射される電子ビーム位置を変化させる偏向制御系１０３とからなる。ステージ系２００は、電子光学系１００の下部に設けられた真空チャンバ２０１内に設けられ、直動（直駆動又は直線駆動）ステージ２０３と、この上に搭載された回転ステージ（回転駆動機構）２０２とからなる。回転ステージ２０２は、図１（Ｂ）に示すように、原盤３００を載置するターンテーブル２０４と、モータ（スピンドルモータ又は回転モータ）２０７とを備える。
【００１７】
電子ビーム描画装置は、周知のように、モータ２０７により回転する回転ステージ２０２（のターンテーブル２０４）上に載置された原盤３００に電子ビームを照射することにより記録媒体の原盤３００を露光する。簡単に説明すると、ターンテーブル２０４上にレジストを塗布した原盤３００が固定された状態で、モータ２０７を回転させながら、電子光学系１００から電子ビームが原盤３００に対してブランカ１０２により断続的に照射される。これと同時に、モータ２０７を含む回転ステージ２０２の全体が、直動ステージ２０３により半径方向（図１（Ａ）の左又は右方向）に移動させられる。これにより、例えば、同心円状又は円弧状のピットが記録領域の全面に描画される。
【００１８】
直動ステージ２０３の位置決め誤差やモータ２０７の回転ムラは、周知のように、偏向制御系１０３により補正され、より高精度な描画を可能としている。偏向制御系１０３は本発明には直接関係しないので、その説明は省略する。なお、偏向制御はオープン制御であるため、直動ステージ２０３の位置決めやモータ２０７の回転精度をできるだけ高める必要がある。そこで、電子ビーム描画装置がエアや漏洩磁場を嫌うにも拘らず、周知のように、エアベアリング（エアスピンドル）２０６により支持されたモータ２０７等が、図１（Ｂ）に示すように、真空シール２０５及び磁気シール（図示せず）によりシーリングされた上で、真空チャンバ２０１内に設けられる。
【００１９】
モータ２０７の回転制御はＰＬＬ制御回路２１０により行われる。このために、モータ２０７には、ロータリーエンコーダ２０８及びエンコーダ用ディテクタ２０９が取り付けられる。ロータリーエンコーダ２０８は、モータ２０７の回転数に比例したパルス列、例えば１回転あたり数百〜数千個のパルス列を発生させる。エンコーダ用ディテクタ２０９は、ロータリーエンコーダ２０８が発生させたパルス列を検出し、これに基づいてエンコーダ信号を作成し、ＰＬＬ制御回路２１０に入力する。ＰＬＬ制御回路２１０は、エンコーダ信号とスピンドルクロックとが一致するように、モータ２０７（の駆動回路、図示せず）をフィードバック制御する。従って、スピンドルクロックの周波数を上げるとモータ２０７の回転数は上がり、周波数を下げるとモータ２０７の回転数も下がる。
【００２０】
以下に、図２及び図３を参照して、本発明の第１の実施例を説明する。図２は、本発明の第１の実施例の電子ビーム描画装置の制御信号作成回路の一例を示す構成図であり、図３は、図２に示すフォーマッタ１の構成例を示す図である。
【００２１】
図２に示すように、制御信号作成回路は、原盤３００を実際に露光するためのデータを作成するフォーマッタ１と、スピンドルクロックを作成するスピンドル制御回路６とからなる。フォーマッタ１は、図３に示すように、ＤＤＳ（ダイレクトデジタルシンセサイザ回路）１１乃至１４、データジェネレータ１５乃至１７、カウンタ１８、データ同期設定部１９、ＯＲ（論理和）回路２０を備える。フォーマッタ１において、所定のリファレンスクロック作成回路（図示を省略）が、各々のＤＤＳに、これらに共通のリファレンスクロック（Ｆｒ）を供給する。リファレンスクロックＦｒは、ＤＤＳ１１乃至１４がその出力クロックを作成する基準となるクロックである。カウンタ１８は、Ｆｒをカウントし、データ同期設定部１９に出力する。データ同期設定部１９は、Ｆｒのカウント値に基づいて、ＤＤＳ１１乃至１３が作成するライトクロックの周波数の切り換えタイミングと、ＤＤＳ１４が作成するスピンドルクロックの周波数の切り換えタイミングを同期させる。
【００２２】
ＤＤＳ１１乃至１３は、ライトクロックを作成して出力し、ＤＤＳ１４はスピンドルクロックを作成して出力する。本実施例において、ＤＤＳ１１、１２、１３が出力するライトクロックの周波数は同一であり、位相が異なる。また、ＤＤＳ１１、１２、１３が出力するライトクロックに基づいて描画される描画パターンの描画領域は、それぞれ異なる。ＤＤＳ１１が出力するＷＣＬＫ＿Ｒは、アドレス部のうち、トラックナンバやセクタナンバなどのデータパターンを描画するためのライトクロックである。また、ＤＤＳ１２、ＤＤＳ１３は、それぞれ、放射パターンから所定角度傾いた位相サーボパターンを描画するためのライトクロックであるＷＣＬＫ＿＋９０、ＷＣＬＫ＿−９０を出力する。ＷＣＬＫ＿＋９０の位相、ＷＣＬＫ＿−９０の位相は、それぞれ、ＷＣＬＫ＿Ｒの位相と１トラックピッチ当たり＋９０ｄｅｇ、−９０ｄｅｇだけ異なる。例えば、１トラックピッチ分のサーボパターンを描画するのに原盤を６回転させて露光するものとすると、ＤＤＳ１２、１３は、原盤が１周する毎に、それぞれ、＋１５ｄｅｇ、−１５ｄｅｇだけ位相がずれたライトクロックを出力し、ブランカが、この位相がずれたライトクロックに基づいて生成されるブランカ制御データを用いて原盤１周分に対応するピッチ分の描画パターンを描画する。より具体的に説明すると、ブランカ１０２が、図４に示す１トラックピッチ分の描画パターンを描画する場合、ブランカ１０２は、第１回目の原盤の回転中に、ＷＣＬＫ＿Ｒの位相と＋１５ｄｅｇだけずれた位相を持つライトクロックに基づいて生成されたブランカ制御データを用いて描画パターン３０１を描画する。また、ブランカ１０２は、第２回目の原盤の回転中に、ＷＣＬＫ＿Ｒの位相と＋３０ｄｅｇだけずれた位相を持つライトクロックに基づいて生成されたブランカ制御データを用いて描画パターン３０２を描画する。以下、同様に、原盤が回転する度に、ブランカ１０２は、ＷＣＬＫ＿Ｒの位相と＋４５ｄｅｇ、＋６０ｄｅｇ、＋７５ｄｅｇ、＋９０ｄｅｇだけずれた位相を持つライトクロックに基づいて生成されたブランカ制御データを用いて、それぞれ、描画パターン３０３、３０４、３０５、３０６を描画する。これによって、位相サーボパターンが描画される。なお、放射パターンから任意の角度だけ傾いた位相サーボパターンを描画するためのライトクロックを作成する任意のＤＤＳを用いることもできる。
【００２３】
データジェネレータ１５、１６、１７は、それぞれ、ＷＣＬＫ＿Ｒ、ＷＣＬＫ＿＋９０、ＷＣＬＫ＿−９０に基づいて、ブランカ制御データを作成し、ＯＲ回路２０に出力する。ＯＲ回路２０は、データジェネレータ１５、１６、１７が出力するブランカ制御データの論理和をとって、最終的にブランカ１０２に入力するためのブランカ制御データを生成し、出力する。
【００２４】
図５は、ＤＤＳ１１乃至１３の構成例を示す図である。周波数レジスタ１１１の周波数（Ｆ）にディジタル値（Ｄ）を設定すると、加算器１１２がＤを加算する。該加算結果が、加算器１１４によって、位相レジスタ１１３に設定された位相を持つ信号に変換される。該信号の値がＳｉｎ＿ＲＯＭ１１５に入力され、デジタルの正弦値に変換されてＤ／Ａ（デジタル／アナログ変換器）１１６に入力される。Ｄ／Ａ１１６が上記入力されたデジタル値に基づいてアナログ信号を生成する。ローパスフィルタ１１７が上記アナログ信号を平滑化し、コンパレータ１１８が、上記平滑化された信号に基づいて、周波数ｆｏｕｔを持つパルス信号（ライトクロック）を生成して出力する。図５に示すＤＤＳによれば、リファレンスクロック（Ｆｒ）とＤとから定まる周波数（ｆｏｕｔ）を持つライトクロックが出力される。例えば、ｆｏｕｔ＝Ｆｒ×（Ｄ／２32）である。Ｄを３２ｂｉｔ、Ｆｒを２００ＭＨｚとすると、周波数分解能ΔＦｒについては、ΔＦｒ＝０．０４７Ｈｚと高い分解能が得られる。また、位相レジスタ１１３にディジタル値を設定すると、図６に示すように、出力されるライトクロックの周波数の位相を変化させることができる。例えば、位相レジスタの設定値を０からπに変更することによって、出力されるライトクロックの位相が１８０°変更される。この位相レジスタ１１３も１６ｂｉｔ程度の幅を有しており、高い分解能がある。
【００２５】
本実施例では、図５に示すような構成を有するＤＤＳが複数個設けられており、それぞれのＤＤＳの位相レジスタの値を変えることで、複数の同一周波数／異位相のライトクロックを作成し、これらのライトクロックを用いて、例えば位相サーボパターンを描画することが可能となる。すなわち、本実施例によれば、ライトクロックの周波数を上げることなく、位相を調整することによって、位相サーボパターンを描画することが可能となる。
【００２６】
図７は、本発明の第２の実施例の電子ビーム描画装置の制御信号作成回路が備えるフォーマッタの構成例を示す図である。本発明の第２の実施例の電子ビーム描画装置の制御信号作成回路は、図１を参照して前述した制御信号作成回路が備えるフォーマッタ１に代えて、図７に示すフォーマッタ２を備える。
【００２７】
フォーマッタ２は、ＤＤＳ１１、１４、１６、データジェネレータ１５、カウンタ１８、データ同期設定部１９、ライトコンペ部２１を備える。フォーマッタ２が備える各処理部のうち、図２に示すフォーマッタ１が備える処理部と同一の符号が付けられたものは、図２に示すフォーマッタが備える処理部と同一の処理部である。
【００２８】
ＤＤＳ１６は、基準クロックＦｒに基づいて、ＤＤＳ１１が出力するライトクロック（ＷＣＬＫ＿Ｒ）と比べて周波数が同一で所定の位相分だけ位相が遅延しているライトクロック（ＷＣＬＫ＿ＲＣ）を出力する。また、ＤＤＳ１６は、データ同期設定部１９からの指示に従って、出力するライトクロックの周波数を変更する。ＤＤＳ１６の構成は、図５を参照して前述したＤＤＳ１１乃至１３の構成と同様である。
【００２９】
ライトコンペ部２１は、ライトコンペ処理、すなわち、ブランカ制御データのＤｕｔｙ比を調整する処理を実行する。ライトコンペ部２１は、Ｄ型フリップフロップ２１１とＡＮＤ／ＯＲ回路２１２を備える。ＤＤＳ１６から出力されたＷＣＬＫ＿ＲＣがＤ型フリップフロップ２１１のＣＬＫ端子に入力される。また、データジェネレータ１５が出力するブランカ制御データが、Ｄ型フリップフロップ２１１のＤ端子と、ＡＮＤ／ＯＲ回路２１２とに入力される。上記ＷＣＬＫ＿ＲＣがＣＬＫ端子に入力された時点における、Ｄ端子への入力ブランカ制御データが、そのＷＣＬＫ＿ＲＣがＣＬＫ端子に入力されたタイミングでＱ端子から出力され、ＡＮＤ／ＯＲ回路２１２に入力される。
【００３０】
従って、Ｄ型フリップフロップ２１１からＡＮＤ／ＯＲ回路２１２に入力されるブランカ制御データを示す信号（ブランキング信号）は、データジェネレータ１５からＡＮＤ／ＯＲ回路２１２に入力されるブランキング信号より、所定の位相分位相が遅延している。すなわち、データジェネレータ１５で作成したブランキング信号をＤ型フリップフロップ２１１に入力し、ＷＣＬＫ＿ＲＣでラッチを掛けることにより、ＷＣＬＫ＿ＲとＷＣＬＫ＿ＲＣの位相差だけ遅れたブランキング信号がＤ型フリップフロップ２１１から出力される。
【００３１】
ＡＮＤ／ＯＲ回路２１２は、Ｄ型フリップフロップ２１１から入力されたブランキング信号と、データジェネレータ１５から入力されたブランキング信号との論理積又は論理和をとって、Ｄｕｔｙ比を調整し、最終的にブランカ１０２が電子ビームの照射に用いるブランカ制御データを作成し、出力する。上記論理積をとる処理又は論理和をとる処理のいずれを実行するかは、予め設定される。例えば、露光幅を狭くしたい場合には、上記二つの信号の論理積をとる。また、例えば、露光幅を広くしたい場合には、上記二つの信号の論理和をとる。本実施例によれば、ライトコンペ部２１が、ブランキング信号のＤｕｔｙ比を調整する。従って、描画パターンの幅比を精度良く調整することが可能となる。
【００３２】
次に、図８及び図９を参照して、本発明の第３の実施例について説明する。ライトコンペ処理は、原盤へのパターンの描画後のプロセスでパターン幅が広くなったり狭くなったりすることから、描画時にその変化分を予め見込んでおいて、描画パターンの幅比を所定の幅比に調整する。ここで、描画パターンのパターン幅の変化分は、パターン幅によって異なる。従って、バターン幅ごとにライトコンペ量（ライトコンペ処理による描画パターンの幅比の調整量）を調整できることが望ましい。本発明の第３の実施例では、ライトコンペ部をパターン幅Ｔ用と、パターン幅Ｔの２倍の幅であるパターン幅２Ｔ用に独立して設けることにより、パターン幅毎のライトコンペ量の調整を可能とする。
【００３３】
図８は、本発明の第３の実施例の電子ビーム描画装置の制御信号作成回路が備えるフォーマッタの構成例を示す図である。本発明の第３の実施例の電子ビーム描画装置の制御信号作成回路は、図１を参照して前述した制御信号作成回路が備えるフォーマッタ１に代えて、図８に示すフォーマッタ３を備える。
【００３４】
フォーマッタ３は、ＤＤＳ１４、３１乃至３４、カウンタ１８、データ同期設定部１９、データジェネレータ３５、３６、ライトコンペ部３７、３８、ＯＲ回路３９を備える。フォーマッタ３が備える各処理部のうち、図２に示すフォーマッタ１が備える処理部と同一の符号が付けられたものは、図２に示すフォーマッタが備える処理部と同一の処理部である。
【００３５】
ＤＤＳ３１乃至３４は、図５を参照して前述したＤＤＳ１１乃至１３と同様の構成を有する。ＤＤＳ３１は、ライトクロック（ＷＣＬＫ＿Ｒ１）をデータジェネレータ３５に出力し、ＤＤＳ３２はＷＣＬＫ＿Ｒ１の位相より所定の位相分遅れた位相のライトクロック（ＷＣＬＫ＿ＲＣ１）をライトコンペ部３７に出力する。また、ＤＤＳ３３は、ライトクロック（ＷＣＬＫ＿Ｒ２）をデータジェネレータ３６に出力し、ＤＤＳ３４はＷＣＬＫ＿Ｒ２の位相より所定の位相分遅れた位相のライトクロック（ＷＣＬＫ＿ＲＣ２）をライトコンペ部３８に出力する。
【００３６】
データジェネレータ３５は、ＷＣＬＫ＿Ｒ１に基づいてブランキング信号を生成し、ライトコンペ部３７に入力する。データジェネレータ３６は、ＷＣＬＫ＿Ｒ２に基づいてブランキング信号を生成し、ライトコンペ部３８に入力する。
【００３７】
ライトコンペ部３７、３８は、図７を参照して説明したライトコンペ部２１と同様の構成を有する。本実施例においては、ライトコンペ部３７は、パターン幅Ｔの描画パターンの幅比の調整処理を実行し、ライトコンペ部３８は、パターン幅Ｔの２倍の幅であるパターン幅２Ｔの描画パターンの幅比の調整処理を実行する。すなわち、例えば、図９に示す、パターン幅Ｔと２Ｔの２種類の描画パターンのうち、ライトコンペ部３７は、パターン幅Ｔの描画パターンの幅比の調整処理を行い、ライトコンペ部３８は、パターン幅２Ｔの描画パターンの幅比の調整処理を行う。
【００３８】
具体的には、ライトコンペ部３７は、ＤＤＳ３２から入力されたＷＣＬＫ＿ＲＣ１と、データジェネレータ３５から入力されたブランキング信号とに基づいて、前述したライトコンペ処理を実行して、パターン幅Ｔの描画パターンの幅比を調整するためのブランキング信号を得て、ＯＲ回路３９に入力する。また、ライトコンペ部３８は、ＤＤＳ３４から入力されたＷＣＬＫ＿ＲＣ２と、データジェネレータ３６から入力されたブランキング信号とに基づいて、前述したライトコンペ処理を実行して、パターン幅２Ｔの描画パターンの幅比を調整するためのブランキング信号を得て、ＯＲ回路３９に入力する。ＯＲ回路３９は、ライトコンペ部３７から入力されたブランキング信号とライトコンペ部３８から入力されたブランキング信号との論理和をとって、最終的に露光に用いるブランキング信号を生成し、ブランカに入力する。
【００３９】
なお、描画パターンに現れるパターン幅の種類が増えると、その数だけＤＤＳとライトコンペ部が増えるが、多くの磁気記憶装置は、０を０１、１を１０とするコード変換（マンチェスタコード変換）を行ってから記録し、この場合のパターン幅はＴと２Ｔの二種類しか存在しないので、本発明の第３の実施例で対応できる。
【００４０】
本発明の第３の実施例においては、描画パターン調整手段であるライトコンペ部が、予め定められた描画パターンの幅の種類毎に設けられており、各々のライトコンペ部が、各々に対応する種類の描画パターンの幅の幅比を調整する。従って、描画パターンの幅の種類に応じて、高精度にパターン幅の幅比の調整を実行することが可能となる。
【００４１】
なお、上述した本発明の第１の実施例と第２の実施例とを組み合わせて、図１０に示すようなフォーマッタを構成することも可能である。図１０に示すフォーマッタにおいては、ライトコンペ部２１Ａ、２１Ｂ、２１Ｃが、それぞれ、データジェネレータ１５、１６、１７の出力と、ＤＤＳ１１Ａ、１２Ａ、１３Ａの出力とに基づいてライトコンペ処理を実行し、ＯＲ回路２０Ａが上記それぞれのライトコンペ処理結果の論理和をとって、ブランキング信号として出力する。なお、ＤＤＳ１１Ａ、１２Ａ、１３Ａは、それぞれ、ＷＣＬＫ＿Ｒ、ＷＣＬＫ＿＋９０、ＷＣＬＫ＿−９０の位相と所定の位相分異なる位相のライトクロックであるＷＣＬＫ＿ＲＣ、ＷＣＬＫ＿＋９０Ｃ、ＷＣＬＫ＿−９０Ｃを出力する。
【００４２】
また、上述した本発明の第１の実施例〜第３の実施例を組み合わせて、図１１に示すようなフォーマッタを構成することも可能である。図１１中に示すライトコンペ部２１Ｇが、パターン幅Ｔ用のライトコンペ処理を実行し、ライトコンペ部２１Ｄが、パターン幅２Ｔ用のライトコンペ処理を実行する。そして、ＯＲ回路２０Ｂが、上記それぞれのライトコンペ処理結果の論理和をとって、ブランキング信号として出力する。なお、ＤＤＳ１２、１３は、それぞれ、ＤＤＳ３３が出力するＷＣＬＫ＿Ｒ２より１トラックピッチ当たり＋９０ｄｅｇ、−９０ｄｅｇずれた位相のライトクロックを出力し、ＤＤＳ１２Ａ、１３Ａは、それぞれ、ＤＤＳ１２、１３の出力クロックの位相と所定の位相分異なる位相のライトクロックであるＷＣＬＫ＿＋９０Ｃ、ＷＣＬＫ＿−９０Ｃを出力する。
【図面の簡単な説明】
【００４３】
【図１】本実施形態の電子ビーム描画装置の一例を示す構成図である。
【図２】本発明の第１の実施例の電子ビーム描画装置の制御信号作成回路の一例を示す構成図である。
【図３】フォーマッタの構成例を示す図である。
【図４】１トラックピッチ分の描画パターンを示す図である。
【図５】ＤＤＳの構成例を示す図である。
【図６】ライトクロックの周波数の位相の変化を説明する図である。
【図７】本発明の第２の実施例の電子ビーム描画装置の制御信号作成回路が備えるフォーマッタの構成例を示す図である。
【図８】本発明の第３の実施例の電子ビーム描画装置の制御信号作成回路が備えるフォーマッタの構成例を示す図である。
【図９】描画パターンの例を示す図である。
【図１０】フォーマッタの構成例を示す図である。
【図１１】フォーマッタの構成例を示す図である。
【図１２】磁気ディスクのアドレスパターンを示す図である。
【図１３】整列ピットを形成するための制御信号を作成する回路を示す図である。
【図１４】ＤＤＳを応用したフォーマッタを示す図である。
【図１５】位相サーボパターンの例を示す図である。
【図１６】位相サーボパターンの描画を説明する図である。
【図１７】ライトコンペ機能を説明する図である。
【図１８】ライトコンペを行う回路例を示す図である。
【符号の説明】
【００４４】
１  フォーマッタ
６  スピンドル制御回路
１１、１２、１３、１４  ＤＤＳ
１５、１６、１７  データジェネレータ
１８  カウンタ
１９  データ同期設定部
２０  ＯＲ回路
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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