(57)【要約】【課題】露光装置の露光空間を構成する部材を良好に洗浄することにより、露光不良によるデバイスの欠陥を低減する露光装置及び露光装置の洗浄方法を得ることを課題とする。【解決手段】露光装置の投影光学系の最終面とこの最終面に対向する基板ステージの表面との間の空間を形成する部材を洗浄するために、洗浄液又はリンス液を吐出する洗浄ノズルと、この洗浄ノズルに前記洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、前記洗浄ノズルに前記リンス液を供給するリンス液供給手段と、前記洗浄液供給手段及び前記リンス液供給手段の供給を制御する制御手段とを備え、この制御手段は、前記洗浄ノズルから洗浄液を吐出する前後に、前記リンス液を洗浄液の吐出に連続して供給するように制御することができる。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
投影光学系を介して原版のパターンを基板ステージに保持された基板に投影する露光装置であって、
前記投影光学系の最終面とこの最終面に対向する前記基板ステージの表面との間の空間を形成する部材及び空間内に存在する部材を洗浄するために、洗浄液又はリンス液を吐出する洗浄ノズルと、
前記洗浄ノズルに前記洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、
前記洗浄ノズルに前記リンス液を供給するリンス液供給手段と、
前記洗浄液供給手段及び前記リンス液供給手段の供給を制御する制御手段とを備え、
前記制御手段は、前記洗浄ノズルから洗浄液を吐出する前後に、前記リンス液を洗浄液の吐出に連続して供給するように制御することを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記洗浄ノズルから吐出された洗浄液及びリンス液を回収する回収ノズルを備えたことを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【請求項３】
前記洗浄液供給手段から供給される洗浄液と、前記リンス液供給手段から供給されるリンス液との流量比率を切替えて前記洗浄ノズルに供給する切替手段を備え、
前記制御手段は、前記リンス液を洗浄液の吐出の前後で連続して供給するために前記切替手段を介してリンス液と洗浄液の流量を制御することを特徴とする請求項１又は請求項２記載の露光装置。
【請求項４】
前記洗浄液供給手段によって供給される洗浄液は、前記リンス液によって希釈して使用する高濃度の洗浄液であり、
前記制御手段は、前記切替手段によって前記高濃度の洗浄液と前記リンス液の流量を制御することにより、所定の濃度の洗浄液を洗浄ノズルに供給することを特徴とする請求項３記載の露光装置。
【請求項５】
前記洗浄液供給手段は、高濃度の洗浄液を貯留する貯留手段を備え、この貯留手段は、交換可能な構造であることを特徴とする請求項４記載の露光装置。
【請求項６】
前記洗浄液供給手段から前記切替手段までの間で、吐出する洗浄液の中または前後に気体が存在することを検知する気体検知手段を備え、
前記気体検知手段で前記気体が検知されると、前記制御手段は、前記切替手段を制御して洗浄液の吐出を停止することを特徴とする請求項３から請求項５までのいずれかに記載の露光装置。
【請求項７】
前記露光装置は、前記投影光学系の最終面と前記基板との間に、液浸液を介在させて液浸露光を行うために、前記液浸液の供給と回収を行う液浸液供給回収ノズルを備え、
前記洗浄ノズルは、前記液浸液が介在する空間に洗浄液とリンス液を吐出することを特徴とする請求項１から請求項６までのいずれかに記載の露光装置。
【請求項８】
前記液浸液供給回収ノズルは、前記洗浄ノズル及び回収ノズルとして共用で使用することを特徴とする請求項７記載の露光装置。
【請求項９】
前記液浸液を前記リンス液として使用することを特徴とする請求項７又は請求項８記載の露光装置。
【請求項１０】
前記洗浄ノズルは、吐出口を前記投影光学系の最終面又は前記液浸液供給回収ノズルに対向配置し、前記吐出口から前記投影光学系の最終面又は前記液浸液供給回収ノズルに向けて洗浄液及びリンス液を噴射することを特徴とする請求項１から請求項９までのいずれかに記載の露光装置。
【請求項１１】
洗浄ノズルから洗浄液とリンス液とを吐出することにより、露光装置の投影光学系の最終面とこの最終面に対向する基板ステージの表面との間の空間を形成する部材を洗浄する洗浄方法であって、
前記洗浄ノズルから前記リンス液を供給する工程と、前記リンス液の供給後、連続して前記洗浄ノズルから前記洗浄液を供給する工程と、前記洗浄液の供給後、連続して前記洗浄ノズルからリンス液を供給する工程とを含むことを特徴とする洗浄方法。
【請求項１２】
前記洗浄液は、前記リンス液で希釈して供給する高濃度の洗浄液とし、前記洗浄液の連続した供給は、所定の濃度に達するまで、前記リンス液の流量を漸次減少させるとともに、前記高濃度の洗浄液の流量を漸次増大させることにより行われ、前記洗浄液の供給後に連続したリンス液の供給は、前記洗浄液の流量を漸次減少させるとともに、前記リンス液の流量を漸次増大させることにより行われることを特徴とする請求項１１記載の洗浄方法。  
【請求項１３】
請求項１から１０のいずれかに記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、該露光された基板を現像する工程と、を有することを特徴とするデバイス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光装置、洗浄方法及びデバイス製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
露光装置において、さまざまな要因で露光装置を構成する部品が汚染されることがある。汚染物質が移動して露光空間内に入り込むと、露光不良を起こす可能性がある。これは投影光学系と基板との間を液で満たして露光する液浸露光装置において特に発生しやすい課題である。
【０００３】
従来、露光装置内部の露光空間を形成する部材又は露光空間内に存在する部材、例えば、投影光学系や液浸液供給回収ノズル、基板ステージ天板等の表面の汚れに対して、液浸液供給回収ノズルや専用の洗浄ノズルから洗浄液を吐出して汚れを洗浄していた。液浸露光装置の場合は、液浸液供給回収ノズルを利用して洗浄液も供給するため、スイッチ弁を介在させ、選択的に液浸液と洗浄液を供給する技術が開示されている（特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特表２００６−５２３０３１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかし、洗浄液を上記液浸供給回収ノズルで吐出して上記部材を洗浄するとき、洗浄液を供給する配管の中に空気が混入していると、吐出される洗浄液の挙動が安定せず、霧状になったり泡が発生したりして周囲に洗浄液が飛び散る場合があった。特に、上記スイッチ弁で選択的に切替えると、液浸液から洗浄液への供給の切替が間欠的となり、空気が混入しやすくなるという問題があった。
【０００６】
そこで、本発明は、上記課題に鑑みて、露光装置の露光空間を構成する部材又は露光空間内に存在する部材の洗浄に際し、洗浄液の飛散を低減することのできる露光装置及び洗浄方法を提供することを目的としたものである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上述の課題を解決するために、本発明に係る露光装置は、投影光学系を介して原版のパターンを基板ステージに保持された基板に投影する露光装置であって、前記投影光学系の最終面とこの最終面に対向する前記基板ステージの表面との間の空間を形成する部材及び空間内に存在する部材を洗浄するために、洗浄液又はリンス液を吐出する洗浄ノズルと、この洗浄ノズルに前記洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、前記洗浄ノズルに前記リンス液を供給するリンス液供給手段と、前記洗浄液供給手段及び前記リンス液供給手段の供給を制御する制御手段とを備え、この制御手段は、前記洗浄ノズルから洗浄液を吐出する前後に、前記リンス液を洗浄液の吐出に連続して供給するように制御することを特徴とする。
【０００８】
また、本発明にかかる洗浄方法は、洗浄ノズルから洗浄液とリンス液とを吐出することにより、露光装置の投影光学系の最終面とこの最終面に対向する基板ステージの表面との間の空間を形成する部材を洗浄する洗浄方法であって、前記洗浄ノズルから前記リンス液を供給する工程と、前記リンス液の供給後、連続して前記洗浄ノズルから前記洗浄液を供給する工程と、前記洗浄液の供給後、連続して前記洗浄ノズルからリンス液を供給する工程とを含むことを特徴とする。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、露光装置の露光空間を構成する部材又は露光空間内に存在する部材の洗浄に際し、洗浄液の飛散を低減することのできるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】液浸露光装置の構成を示す図である。
【図２】液浸液供給回収ノズルを示す図である。
【図３】本発明の第１実施形態の露光装置を示す図である。
【図４】第１実施形態の変形例を示す図である。
【図５】本発明の第２実施形態の露光装置を示す図である。
【図６】第２実施形態の変形例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下に、本発明の好ましい実施形態を添付の図面に基づいて詳細に説明する。
【００１２】
（第1実施形態）
図１は本発明の好適な実施形態の液浸露光装置の構成図である。図１において、照明光学系２は不図示の露光光源から提供された光を用いて、原版（マスク）３の一部を照明する。マスク３を照明している間、マスクステージ４と基板ステージ２３は、同期して走査駆動する。この同期駆動によって、マスク３上の所望のパターン全体が投影光学系１を介して基板ステージ２３に保持された基板２０上に連続的に結像し、基板２０表面に塗布されたレジストを感光させる。
【００１３】
投影光学系１の最終面と基板２０との間には、液浸液供給回収ノズル１１を配置する。このとき液浸液供給回収ノズル１１は基板２０および基板ステージ天板２１から一定の距離を保って配置される。液浸液供給回収ノズル１１は、液浸液供給装置１２から配管を介して液浸液１０の供給を行う。また、液浸液供給回収ノズル１１は、液浸液回収装置１３に配管を介して液浸液１０の回収を行う。液浸露光では、上記液浸液の供給と回収を行うことにより、投影光学系１の最終面と基板２０との間の空間に常に液体が介在するように制御されている。なお、一般に液浸液１０には純水が用いられる。
【００１４】
基板ステージ天板２１には、計測機構２５でアライメントやキャリブレーション計測をするためのマークを配置した計測マーク２２が搭載されている。露光動作や計測マーク２２の計測のために基板ステージ２３は、基板ステージ定盤２４上を移動する。このとき、液浸液１０は基板２０の外部にまで存在しうるため、基板ステージ天板２１と計測マーク２２は、基板ステージ２３に保持された基板２０とほぼ同じ高さ（面一）になるように構成されている。
【００１５】
液浸露光装置は、さまざまな要因で露光空間（液浸領域）を形成する部材及び露光空間内に存在する部材が汚染されることがある。この汚染物質が露光空間内に入り込むと、露光不良を起こす原因となる。例えば、露光装置内へ搬入される基板２０に付着したパーティクル、レジストやトップコートの剥離片が考えられる。さらに、装置の内部空間を浮遊するパーティクル、装置の設置組立て時に付着した汚染物質、装置の長期停止中に付着したパーティクルなども考えられる。また、基板ステージ天板２１上を汚染させる不純物としては、装置内部空間の気体に存在する有機物や無機物などが考えられる。さらに、液浸液１０に溶け込んだレジストやトップコートの光分解物、元々液浸液１０に含まれる有機物や無機物なども考えられる。
【００１６】
投影光学系１や液浸液供給回収ノズル１１、基板ステージ天板２１などの表面の汚れに対して、液浸液供給回収ノズル１１や専用の洗浄ノズルから洗浄液を吐出して汚れを洗浄している。洗浄液には、界面活性剤、溶剤、機能水などが用いられる。
【００１７】
液浸液供給回収ノズル１１は、図２に示すように、投影光学系１の周囲を囲むように液体供給口１４と液体回収口１５が設けられている。さらにそれらの外周には洗浄液回収口１６が設けられている。
【００１８】
以下に図３を参照しながら、本実施例の洗浄方法を説明する。洗浄実施時には、基板ステージ２３にはフッ素樹脂などの撥水性を示すコーティングを施した基板２０を搭載する。基板２０を搭載した基板ステージ２３は、液浸液供給回収ノズル１１の下へ移動させる。
【００１９】
洗浄液３０は洗浄液供給ユニット３１から液浸液供給回収ノズル１１に供給される。洗浄液３０を供給する配管及び吐出するノズルは、洗浄液３０を供給する専用の配管及び洗浄ノズルを備えても良いし、液浸液１０の供給配管及び液浸液供給回収ノズル１１と共用しても良い。本実施の形態では、配管及びノズルは、共用する形態を示した。このように、共用とすることで、部品点数を減らし、コストを低減させるとともに、液浸液供給回収ノズルまわりの空間をより広範に確保することが可能になる。
【００２０】
供給された洗浄液３０は、液浸液供給回収ノズル１１の液体供給口１４から吐出され、投影光学系１、基板２０および基板ステージ天板２１、液浸液供給回収ノズル１１から形成される空間を満たす。前記空間を満たしている洗浄液３０は、洗浄液回収ユニット３２によって、洗浄液回収口１６から回収される。洗浄液３０の化学的作用や洗浄液３０の流れによる物理的作用により、投影光学系１、基板ステージ天板２１、液浸液供給回収ノズル１１の表面が洗浄される。
【００２１】
洗浄液供給ユニット３１の内部にはリンス液供給部３３と洗浄液供給部３４を備え、洗浄液３０の供給配管はリンス液の供給配管と合流している。上記合流している部分には切替弁３５を配置して流路を切り替えることができる。切替弁３５は、制御部３６で制御することで、連続的にリンス液と洗浄液３０とを切替えること（流量比率の調整）ができる。
【００２２】
洗浄を行った後は、制御部３６で切替弁３５を制御して、洗浄液３０の供給から連続的にリンス液を液浸液供給回収ノズル１１に供給する。十分にリンスをおこなった後、リンス液の供給を止めて、リンスの完了となる。なお、液浸露光では、通常、液浸液１０として純水を使用する。そこで、上記リンス液としては、純水を使用すれば洗浄液３０による洗浄後の工程として流すリンス液の供給から、液浸露光を行うための液浸液１０の供給を連続的に行うことができるため、効率的である。以下、適宜用途に応じて液浸液１０をリンス液１０として説明する。
【００２３】
洗浄液３０を洗浄液供給ユニット３１から液浸液供給回収ノズル１１に供給するときに、洗浄液供給配管の内部に空気がある状態で洗浄液３０を供給し始めると、液浸液供給回収ノズル１１の液体供給口１４からは洗浄液３０が気液混合状態で吐出される。気液混合状態で吐出された洗浄液３０は、細かい液滴となって周囲に飛び散る恐れがある。特に、洗浄液３０が界面活性剤の場合には泡が発生し、上記液滴の飛散が起こりやすい。
【００２４】
そのため、洗浄液３０を液浸液供給回収ノズル１１へ供給するときには、洗浄液３０を供給する前に、制御部３６で洗浄液供給ユニット３１内部の切替弁３５を制御して、液浸液供給回収ノズル１１へリンス液１０を供給する。リンス液１０を供給して供給配管中から空気を追い出した後に、切替弁３５を切り替えて連続的に洗浄液３０を供給する。すなわち、液浸液供給回収ノズル１１の液体供給口１４からは最初にリンス液１０が吐出され、その後に連続して洗浄液３０が吐出される。この結果、洗浄液３０と配管中の空気が直接触れることがないため、洗浄液３０と空気が気液混合状態にならないので、安定して洗浄液３０の供給を開始することが可能である。
【００２５】
また、洗浄完了時に洗浄液３０の供給を直ちに停止すると、洗浄液３０の供給配管中で残存している洗浄液３０に空気が混入する可能性がある。その状態でリンス液１０を液浸液供給回収ノズル１１に供給すると、リンス液１０が液体供給口１４から吐出される前に、洗浄液と空気が気液混合状態で吐出し、前述の通り、液滴の飛散により、露光空間を汚染するおそれがある。
【００２６】
そのため、洗浄液３０の供給後にリンス液１０を供給するときには、洗浄液３０を供給している配管中に空気が入らないように、制御部３６で切替弁３５を制御して洗浄液３０の供給からリンス液１０の供給へ連続的に切り替える。この結果、洗浄液３０が配管中で空気と直接触れることを回避することができ、洗浄液３０が気液混合状態で吐出されることを防ぐことができる。
【００２７】
制御部３６は、切替弁３５によって、洗浄液３０とリンス液１０とを混合させる比率を調整し、洗浄液３０の濃度を制御することが可能である。この場合、最初はリンス液１０のみを供給し、その後に洗浄液３０の流量を漸次増大させるとともに、リンス液１０の流量を漸次減少させ、リンス液１０に混合させて洗浄液の濃度を変化させながら供給する。また、洗浄液３０による洗浄が終了した後は、制御部３６によって切替弁３５を制御し、今度は、洗浄液３０の流量を漸次減少させるとともに、リンス液１０の流量を漸次増大させればよい。このように、濃度を漸次変化させることができるため、気液混合状態での洗浄液３０の供給を回避しつつ、汚れの程度に応じて洗浄液３０を所定の濃度に設定することが可能になる。
【００２８】
また、洗浄液供給部３４は、高濃度の洗浄液３０を入れておく交換可能な構造を有する貯留タンク（図示せず）から構成されるものであってもよい。この貯留タンクから供給される高濃度の洗浄液３０を制御部３６で切替弁３５を制御してリンス液１０と混合させることで希釈して供給すれば良い。一般に半導体製造工場では純水は容易に入手できるが、洗浄液３０はタンクなどに入れて外部から購入して使うことが多い。従って、洗浄液３０は濃縮して交換が容易な貯留タンク（あるいはカートリッジ）に入れておけば、洗浄液３０の保管や補充が容易である。さらには、切替弁３５、洗浄液供給部３４、貯留タンクを２つ以上備え、汚れに応じて洗浄液種を変更できる構成としても良い。
【００２９】
本実施の形態では、洗浄液３０は液浸液供給回収ノズル１１の液体供給口１４から吐出する構成で説明しているが、洗浄液３０を液浸液供給回収ノズル１１の液体回収口１５から吐出させる構成としても良い。また、吐出された洗浄液３０は洗浄液回収口１６から回収すると説明しているが、液体供給口１４や液体回収口１５から回収する構成としても良い。
【００３０】
また、上記第１の実施形態の変形例として図４に示すように、リンス液１０は液浸液供給装置１２から液浸液１０を供給する構成としても良い。また、洗浄液３０は液浸液回収装置１３によって回収される構成としても良い。
【００３１】
なお、制御部３６は、洗浄液３０で洗浄しているときには、一定時間、洗浄液３０の供給と回収を止めて、つけ置き状態にしても良い。また、洗浄液３０を供給する時には、流量を落として、緩やかに供給することとしても良い。
【００３２】
洗浄の際には、基板ステージ２３に替えて、液体を保持するための板や受け皿状のユニットを液浸液供給回収ノズル１１の下へ搬入して洗浄しても良い。これらは外部から搬送してきても良いし、装置内部に備えておいても良い。
【００３３】
本発明による洗浄の対象となるのは、投影光学系１の最終面とこの最終面に対向する基板ステージ２３との間の空間を形成する部材及び空間内に存在する部材である。従って、上記最終面、基板ステージ２３の表面、さらには液浸液供給回収ノズル１１が対象となる。また、基板ステージ２３を駆動させることにより、基板ステージ天板２１の表面や基板ステージ状に搭載した計測マーク２２なども洗浄の対象となる。
【００３４】
本実施の形態では、液浸露光装置の洗浄機構について説明をしたが、本発明は液浸露光装置に限定されない。従って、従来のように投影光学系と基板の間が気体で満たされている露光装置の基板ステージ天板や計測マークの洗浄に使用しても良い。
【００３５】
また、露光装置に基板ステージが複数あった場合でも本発明は適用できる。複数の基板ステージの天板を順番に洗浄しても良いし、洗浄ユニットを複数配置して同時に洗浄しても良い。もちろん、洗浄するステージは基板を搭載するステージに限らず、計測マークのみを搭載したステージや天板のみを有するステージでも良い。
【００３６】
ところで、上記のような構造であっても、上記貯留タンクなどに気体が混入している場合など、洗浄液３０の供給に際して、洗浄液３０の中または洗浄液３０の供給の前後に気体が存在し、気液混合状態で洗浄液３０が供給される場合もある。そこで、洗浄液供給部３４から切替弁３５までの間の配管内部に気体が存在することを検知する気体検知センサーを設けても良い。洗浄液３０の供給時に気体が検知された場合には、検知された信号を制御部３６に送り、制御部３６が切替弁３５を作動させて洗浄液３０の供給を停止すれば良い。あるいは、洗浄液３０を逆流させて回収する構成にしても良い。
【００３７】
（第２実施形態）
図５は本発明の第２実施形態の構成図である。洗浄液３０を吐出する洗浄ノズル４０の吐出口を基板ステージ天板２１に対向配置している。基板ステージ２３には第1実施形態と同様にフッ素樹脂等のコーティングを施した基板２０を搭載する。洗浄液３０は洗浄液供給ユニット３１から洗浄ノズル４０へ供給される。洗浄ノズル４０の周囲を囲むように円環状の洗浄液回収ノズル４１を配置している。吐出された洗浄液３０は、洗浄液回収ノズル４１の回収口から洗浄液回収ユニット３２へ回収される。
【００３８】
本実施の形態では、洗浄ノズル４０から、洗浄液３０を噴射して吐出することにより、液体の衝突力や流れの物理的な力を利用して洗浄する。この構成により、基板ステージ天板２１の表面と計測マーク２２の表面を洗浄することができる。
【００３９】
洗浄液３０を洗浄ノズル４０に供給し始めるとき、洗浄液供給配管の内部には空気が存在しているため、洗浄ノズル４０から洗浄液３０と空気が気液混合状態で吐出されるのを防ぐ必要がある。そのために、洗浄液３０を供給し始めるときには、第１実施形態と同様に洗浄液供給ユニット３１内部の切替弁３５を制御部３６によって制御して、洗浄ノズル４０から最初にリンス液１０を吐出し、その後に連続して洗浄液３０を吐出する。
【００４０】
また、洗浄後にリンス液１０を噴射するときには、切替弁３５を用いて洗浄液３０の供給からリンス液１０の供給へ連続的に切り替えることで、洗浄液３０が気液混合状態で吐出されることを防ぐことができる。
【００４１】
なお、上記第２の実施形態の変形例として図６のように、洗浄ノズル４０を投影光学系１の最終面の下方又は液浸液供給回収ノズル１１の下方に対向配置してもよい。この場合は、洗浄ノズル４０の吐出口は、投影光学系１の最終面の下方又は液浸液供給回収ノズル１１の下方から上方に向けて洗浄液３０及びリンス液を噴射する。噴射された洗浄液３０及びリンス液１０は、投影光学系１の最終面又は液浸液供給回収ノズル１１から下方に滴下する。そこで、この滴下する洗浄液３０及びリンス液１０は、洗浄ノズル４０の下方に設置した受け皿４２で受け、受け皿４２に接続した排液配管から洗浄液回収ユニット３２で回収すればよい。なお、洗浄ノズル４０は外部から露光装置内部へ送り込んでも良いし、基板ステージ２３や装置内部に備えてある搬送機構に搭載されていても良い。
【００４２】
次に、上述の露光装置を利用したデバイス製造方法を説明する。デバイス（半導体ＩＣ素子、液晶表示素子等）は、レジスト（感光剤）が塗布された基板（ウエハ、ガラスプレート等）を、上述の露光装置を用いて露光する工程と、露光された前記基板を現像する工程と、その他の周知の工程と、を経ることによって製造される。当該周知の工程は、例えば、酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、およびパッケージング等の少なくとも１つの工程を含みうる。
以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されず、その要旨の範囲内で種々の変形および変更が可能である。
【符号の説明】
【００４３】
１  投影光学系
２  照明光学系
３  マスク
４  マスクステージ
１０  液浸液、リンス液
１１  液浸液供給回収ノズル
１２  液浸液供給装置
１３  液浸液回収装置
１４  液体供給口
１５  液体回収口
１６  洗浄液回収口
２０  基板
２１  基板ステージ天板
２２  計測マーク
２３  基板ステージ
２４  基板ステージ定盤
２５  計測機構
３０  洗浄液
３１  洗浄液供給ユニット
３２  洗浄液回収ユニット
３３  純水供給部
３４  洗浄液供給部
３５  分岐弁
３６  コントローラー
４０  洗浄ノズル
４１  洗浄液回収ノズル
４２  受け皿
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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