(57)【要約】      （修正有）【課題】ポリシリコン膜下層の金属材料を、ポリシリコン膜へダメージを与えずにエッチング処理する方法を提供する。【解決手段】ポリシリコン膜１０５をエッチングした後に、カーボンを含むプラズマによりポリシリコン膜１０５の側壁にカーボンポリマの保護膜１０７を形成させることで、ウェハの高温化や処理圧力の低圧力化により揮発性をあげたエッチング条件下で、ハロゲン系ガスのプラズマにより下層膜である金属材料１０４のエッチング処理を行っても、ポリシリコン膜１０５のサイドエッチ及び側壁荒れを防止することができる。また、このカーボンポリマによる保護膜１０７により、金属材料１０４をエッチングする際に飛散した金属物質はポリシリコン膜１０５に直接付着することなく、アッシング工程によりカーボンポリマの保護壁１０７とともに簡単に取り除くことができる。【選択図】図１（ｃ）
2010263132.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体基板上に形成された金属／高誘電体ゲート構造のドライエッチング方法において、
ポリシリコン膜をエッチングする工程と、カーボンを含むプラズマによりポリシリコン膜の側壁にカーボンポリマの保護膜を形成させる工程と、ハロゲン系ガスのプラズマによりポリシリコン膜の下層膜である金属材料のエッチング処理を行う工程と、該エッチング処理後に飛散した金属物質とともにカーボンポリマの保護壁を除去するアッシング工程とを具備したことを特徴とするドライエッチング方法。
【請求項２】
請求項１記載のドライエッチング方法において、
前記カーボンポリマの保護膜を形成させる工程は、エッチングガスとして、ＣＨＦ3：１００ｍｌ／minを使用し、処理室内圧力を０.３Ｐａに保ちウェハ温度は４０℃としたことを特徴とするドライエッチング方法。
【請求項３】
請求項１記載のドライエッチング方法において、
前記カーボンポリマの保護膜を形成させる工程は、エッチングガスとして、ＣＨＦ3，ＣＨ4，Ｃ2Ｈ6，ＣＨ2Ｆ2，ＣＦ4，Ｃ4Ｆ8，Ｃ3Ｆ6，Ｃ3Ｆ8，ＣＨ3ＯＨ，ＣＯの少なくとも一つを含むガス、または、これらのうち２つ以上を混合した混合ガス、または、これらのうち少なくとも一つを含むガスにＡｒ，Ｈｅ，Ｏ2，Ｎ2，ＨＢｒ，Ｃｌ2、等のいずれかの添加ガスを混合したガスを使用することを特徴とするドライエッチング方法。
【請求項４】
請求項１記載のドライエッチング方法において、
前記アッシング工程は、エッチング処理後に装置内のアッシング処理室、または別のアッシング装置で行うことを特徴とするドライエッチング方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は半導体装置の製造方法に関し、特に金属ゲート電極のドライエッチング技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体素子におけるゲート絶縁膜は長らくＳｉＯ2やＳｉＯＮのようなシリコン酸化膜系の膜が使用されてきた。しかしながら、パターンの微細化，回路駆動速度の高速化の要求からゲート絶縁膜の薄膜化が進み、近年ではこれらのゲート絶縁膜において薄膜化の限界に達してきた。そこで、等価的ゲート絶縁膜膜厚を同じ膜厚のＳｉＯ2ゲート酸化膜の数分の１にすることのできるＨｆＳｉＯやＨｆＯ2のような高誘電体が代替材料として用いられるようになってきた。
【０００３】
しかしながら、これらの高誘電体膜を単純にこれまでのゲート酸化膜の代わりにゲート絶縁膜として使用すると、ゲート電極のポリシリコン膜との界面においてポリシリコン膜の空乏化等のトランジスタ特性を低下させる問題が生じる。しかし、この現象は高誘電体ゲート酸化膜とポリシリコン膜の間に金属層を挟むことで回避でき、実際にこのような金属／高誘電体ゲートの構造が次世代のゲート構造となっている。本技術に関連する公知例として例えば、特許文献１が挙げられる。
【０００４】
一般に金属材料をエッチングするにはハロゲン系ガスが使用される。さらに、これらのエッチングガスと金属材料の反応生成物は揮発性が低いためエッチングが進行しにくい。このため金属材料を加工するには、ウェハ温度の高温化や、処理圧力の低圧化などにより反応生成物の揮発性を上げてエッチングを進行させる必要がある。
【０００５】
また、特許文献２にはポリシリコン膜のメインエッチング後のエッチング処理で発生するサイドエッチ形状を添加ガス（炭化水素）により生成される反応性生物により抑制する技術が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特表２００８−５０２１４１号公報
【特許文献２】特開２００７−２５０９４０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、特許文献１の従来技術は、揮発性を上げた条件下で金属材料をエッチング加工すると、先に加工されたポリシリコン膜との反応も促進されるため、ポリシリコン膜にサイドエッチや側壁荒れ等が発生するという問題があった。
【０００８】
また、金属材料をエッチングする際に飛散した金属物質がポリシリコン側壁へ再付着し、最終的に残渣として残るという問題があった。
【０００９】
また、特許文献２の従来技術は、エッチング加工されたポリシリコン膜の側壁を保護するためのカーボンポリマの保護膜を形成できないという問題があった。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記課題を解決するために、本発明は、ポリシリコン膜をエッチングした後に、カーボンを含むプラズマによりポリシリコン膜の側壁にカーボンポリマの保護膜を形成させることで、ハロゲン系ガスのプラズマにより下層膜である金属材料のエッチング処理を行っても、ポリシリコン膜のサイドエッチ及び側壁荒れを防止することができる。
【００１１】
また、このカーボンポリマによる保護膜により、金属材料をエッチングする際に飛散した金属物質はポリシリコン膜に直接付着することがないので、アッシング工程によりカーボンポリマの保護壁とともに簡単に取り除くことが可能なドライエッチング方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１（ａ）】本発明技術による金属／高誘電体ゲート構造の形成方法における選択された段階の断面図。
【図１（ｂ）】本発明技術による金属／高誘電体ゲート構造の形成方法における選択された段階の断面図。
【図１（ｃ）】本発明技術による金属／高誘電体ゲート構造の形成方法における選択された段階の断面図。
【図１（ｄ）】本発明技術による金属／高誘電体ゲート構造の形成方法における選択された段階の断面図。
【図１（ｅ）】本発明技術による金属／高誘電体ゲート構造の形成方法における選択された段階の断面図。
【図２】本発明技術によるポリシリコン膜の側壁に堆積するカーボンポリマの堆積特性図。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、本発明にかかる一実施例の形態を図面を用いて説明する。本一実施例はＥＣＲエッチング装置を用いて実施したものである。
【００１４】
図１（ａ）は実施例１に係る半導体素子の断面図である。半導体基板１０１上にゲート絶縁膜としてＳｉＯ2膜１０２を形成する。その上に高誘電体ゲート絶縁膜としてＨｆＯ2膜１０３を形成し、さらに金属膜としてＴｉＮ膜１０４を形成し、その上にポリシリコン膜１０５を形成し、その上にハードマスクとしてＳｉＯ2膜１０６を形成する。ハードマスク１０６は適切なプロセス処理によりすでにデバイスパターンが転写されている。
【実施例１】
【００１５】
まず、図１（ｂ）で示すように公知の条件にてポリシリコン膜１０５をエッチングする。この際のエッチング条件は例えば、マイクロ波電力を８００Ｗ、ＲＦバイアス電力を４０Ｗとし、エッチングガスはＣｌ2：１５ｍｌ／min，Ｏ2：３ｍｌ／min，ＨＢｒ：４５ｍｌ／minの混合ガスを使用し、処理室内圧力を０.８Ｐａに保ちウェハ温度は４０℃とする。このエッチング条件はポリシリコン膜のエッチング条件の一例であって、ポリシリコン膜のエッチング条件は上記条件に限定されず、いかなる条件でも本発明の効果には影響はしない。
【００１６】
ポリシリコン膜１０５をエッチングした後、図１（ｃ）で示すようにＣＨＦ3のプラズマによりポリシリコン膜の側壁にカーボンポリマの保護膜１０７を形成した。このポリシリコン膜の保護壁形成段階のエッチング条件は例えば、マイクロ波電力を１０００Ｗ、ＲＦバイアス電力を３０Ｗとし、エッチングガスはＣＨＦ3：１００ｍｌ／minを使用し、処理室内圧力を０.３Ｐａに保ちウェハ温度は４０℃とする。この時、ＲＦバイアス電力の印加によりウェハ表面に垂直に引き込まれるイオンのスパッタ効果により、金属材料表面にはカーボンポリマは堆積し難く、選択的にポリシリコン膜１０５の側壁に堆積する。
【００１７】
ポリシリコン膜の側壁に堆積するカーボンポリマの堆積速度を測定するために、デバイスパターンが形成されていないシリコンウェハをこのカーボンポリマ堆積条件でエッチングし、カーボンポリマの堆積量を断面ＳＥＭ（Scanning Electron  Microscope）を用いて測定した。側壁を模擬するためＲＦバイアス電力は印加せずにエッチングを行った。上述の一実施例のエッチング条件で測定を行った結果は図２に示す通りであり、堆積速度は２４.８ｎｍ／minであった。
【００１８】
その後、図１（ｄ）で示すようにポリシリコン膜１０５下層のＴｉＮ膜１０４のエッチングを行った。この際のエッチング条件は例えば、マイクロ波電力を８００Ｗ、ＲＦバイアス電力を１０Ｗとし、エッチングガスはＣｌ2：４０ｍｌ／minとし、処理室内圧力を０.８Ｐａに保ちウェハ温度は４０℃とする。この条件はＴｉＮ膜のエッチング条件の一例であって、ＴｉＮ膜のエッチング条件は上記条件に限定されず、いかなる条件でも本発明の効果には影響はしない。
【００１９】
ＴｉＮ膜エッチング中のカーボンポリマの削れ量を算出するために、ＴｉＮエッチング条件でデバイスパターンが形成されていないレジスト膜付きウェハをエッチングした。この際、ポリシリコン膜側壁のカーボンポリマの削れを模すためにＲＦバイアス電力は印加せずにエッチングを行った。この結果レジスト膜の削れ量は約１.３ｎｍであった。このため本一実施例では４ｎｍ程度の側壁保護膜を形成するために、１０秒の側壁保護処理によりカーボンポリマ保護膜の生成を行った。このようにカーボンポリマ保護膜の生成膜厚は、処理時間により調整できる。ＴｉＮエッチング中の保護膜削れ量はエッチング条件によって異なるため、エッチング条件を変更した際には変更した条件でレジスト膜の削れを測定し、必要な側壁保護ステップ時間の調整を行った。
【００２０】
その後、カーボンポリマの保護膜１０７及び、ＴｉＮ膜１０４のエッチング時に飛散してカーボンポリマの保護膜１０７に付着したＴｉＮ１０８を除去するためにアッシング処理を行った。アッシング処理は装置内のアッシング処理室で行い、アッシング処理の条件は例えば、マイクロ波電力を１８００Ｗ、エッチングガスはＯ2：２０００ｍｌ／minとし、処理室内圧力を２００Ｐａに保ちウェハ温度は２５０℃とする。アッシング条件は上記条件に限定されず、いかなる条件でも本発明の効果には影響はしない。
【００２１】
尚、本アッシング処理は、エッチング処理後にそのままエッチング処理室内で、または別のアッシング装置で実施しても良い。
【００２２】
さらに、アッシング処理後、エッチングによる副生成物除去のために５％ＨＦ水溶液にてウェットエッチングを行い図１（ｅ）で示すようなポリシリコン膜の側壁に荒れやサイドエッチの発生しない加工形状を得ることができた。
【００２３】
本一実施例によれば、ポリシリコン膜をエッチングした後に、カーボンを含むガスをプラズマ化しポリシリコン膜の側壁にカーボンポリマの保護膜を形成させることで、ハロゲン系ガスのプラズマにより下層膜である金属材料のエッチング処理を行っても、ポリシリコン膜のサイドエッチ及び側壁荒れを防止することができる。
【００２４】
また、カーボンポリマの保護膜をポリシリコン膜の表面に形成することにより、金属材料をエッチングする際に飛散した金属物質は、カーボンポリマの保護膜の表面に付着するため、ポリシリコン膜に直接付着することがない。そのためアッシング工程によりカーボンポリマの保護壁とともに簡単に取り除くことができる。
【００２５】
本一実施例では、カーボンポリマの保護膜１０７形成にカーボンを含むガスとしてＣＨＦ3を用いたが、本発明のガスはＣＨＦ3に限定されるものではない。つまり、ＣＨＦ3ガスに代わりＣＨ4やＣ2Ｈ6，ＣＨ2Ｆ2，ＣＦ4，Ｃ4Ｆ8，Ｃ3Ｆ6，Ｃ3Ｆ8，ＣＨ3ＯＨ，ＣＯなどのカーボンを含むガスを使用することもできる。また、これらのうち２種類以上を混合した混合ガスを使用することもできる。また、これらのうち１種類以上のガスにＡｒ，Ｈｅ，Ｏ2，Ｎ2，ＨＢｒ，Ｃｌ2、等のいずれかの添加ガスを混合したガス系を使用しても同様の効果がある。
【００２６】
また、膜構造に関するところでは、ポリシリコン膜下部の金属膜が２種類以上積層した膜構造も考えられるが、このような構造においても本発明による処理方法が適用できる。
【００２７】
さらに、膜種に関するところでは、本一実施例において、ゲート酸化膜にＳｉＯ2、高誘電率ゲート絶縁膜にＨｆＯ2、金属膜にＴｉＮ、ハードマスクにＳｉＯ2を用いたが、これらの膜種は本一実施例と異なるものを用いても適用可能である。以下にこれらの膜の代替材料を列挙する。ハードマスクはＳｉＯ2のほかにＳｉＮ，ＳｉＯＮ，ＳｉＯＣ等のハードマスク材を用いることができ、金属材料に関してもＴｉＮ以外に、Ｔｉ，Ｔａ，Ｗ，Ｌａ，Ｍｏ，Ｈｆ，Ｚｒ，Ｎｂ，Ｖ，Ｎｉ，Ｃｏ，Ｉｒ，Ｐｔ，Ａｌまたは、これらの窒化物またはこれらのシリサイド膜、またはシリサイド膜を窒化させたものでも適用可能である。
【００２８】
また、本一実施例においてポリシリコンのマスクにはハードマスクを用いたが、実際にはレジストマスク等、他のマスク構造を用いても本発明は適用可能である。
【００２９】
また、本一実施例ではプラズマ源にＥＣＲを用いたが、ＩＣＰ又はヘリコンなど他のプラズマ源を使ったエッチングにおいても本発明は応用可能である。
【符号の説明】
【００３０】
１０１  半導体基板
１０２  ゲート絶縁膜（ＳｉＯ2膜）
１０３  高誘電体ゲート絶縁膜（ＨｆＯ2）
１０４  金属膜（ＴｉＮ膜）
１０５  ポリシリコン膜
１０６  ハードマスク（ＳｉＯ2膜）
１０７  保護膜
１０８  飛散金属物質（ＴｉＮ）
【図１（ａ）】
2010263132.tif 000003
【図１（ｂ）】
2010263132.tif 000004
【図１（ｃ）】
2010263132.tif 000005
【図１（ｄ）】
2010263132.tif 000006
【図１（ｅ）】
2010263132.tif 000007
【図２】
2010263132.tif 000008