(57)【要約】【課題】減圧された処理容器の内部において、汚染を生じさせずに基板を搬送させる。【解決手段】基板Ｇを処理する処理装置１３であって、基板Ｇを収納する処理容器３０と、処理容器３０の内部を減圧させる減圧機構３６と、処理容器３０の内部に配置された、基板Ｇを保持するステージ４１と、ステージ４１を直進運動させる直進運動機構４３と、ステージ４１の回転を防止する平行リンク機構４４、４５を備え、処理容器３０の内部の雰囲気と遮断された空間部１００が、ステージ４１の内部に形成され、空間部１００と処理容器３０の外部との雰囲気を連通させる通気経路１１０が、平行リンク機構４４、４５の内部に形成されている。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を処理する処理装置であって、
基板を収納する処理容器と、
前記処理容器の内部を減圧させる減圧機構と、
前記処理容器の内部に配置された、基板を保持するステージと、前記ステージを直進運動させる直進運動機構と、前記ステージの回転を防止する平行リンク機構を備え、
前記処理容器の内部の雰囲気と遮断された空間部が、前記ステージの内部に形成され、
前記空間部と前記処理容器の外部との雰囲気を連通させる通気経路が、前記平行リンク機構の内部に形成されている、処理装置。
【請求項２】
前記直進運動機構がポースリエの直進運動機構である、請求項１に記載の処理装置。
【請求項３】
前記直進運動機構を駆動させる駆動源が、前記処理容器の外部に配置されている、請求項１または２に記載の処理装置。
【請求項４】
前記平行リンク機構は、互いに折り曲げ自在に接続された複数のアームを有している、請求項１〜３のいずれかに記載の処理装置。
【請求項５】
前記平行リンク機構を構成する複数のアーム同士の接続部では、一方のアームに形成された円柱形状の凸部を、他方のアームに形成された円柱形状の凹部に挿入することにより、互いに折り曲げ自在に接続され、
前記凸部の外周面と前記凹部の内周面との間には、軸受け部材とシール部材が設けられている、請求項４に記載の処理装置。
【請求項６】
前記シール部材が前記軸受け部材よりも前記処理容器の内部雰囲気側に配置され、前記軸受け部材が前記シール部材によって封止された前記アーム内の雰囲気側に配置されている、請求項５に記載の処理装置。
【請求項７】
前記シール部材は磁性流体である、請求項５または６に記載の処理装置。
【請求項８】
前記平行リンク機構を構成する複数のアームのいずれかには外側に広がるように設けられた湾曲部が形成されており、この湾曲部があることにより、前記複数のアーム同士の接続部におけるアーム同士の折り曲げ角度が大きくさせられている、請求項４〜７のいずれかに記載の処理装置。
【請求項９】
前記アームの内部に電気配線が配置されている、請求項４〜８のいずれかに記載の処理装置。
【請求項１０】
前記アームの内部に流体流路が配置されている、請求項４〜９のいずれかに記載の処理装置。
【請求項１１】
前記アームの内部に気体配管が配置されている、請求項４〜１０のいずれかに記載の処理装置。
【請求項１２】
前記ステージに保持された基板に対して成膜材料の蒸気を供給する蒸着ヘッドを前記処理容器の内部に備える、請求項１〜１１のいずれかに記載の処理装置。
【請求項１３】
前記成膜材料は、有機ＥＬ素子の発光層の成膜材料である、請求項１２に記載の処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、減圧された処理容器の内部において、基板に対して所定の処理を行う処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、エレクトロルミネッセンス(ＥＬ;Electro  Luminescence)を利用した有機ＥＬ素子が開発されている。有機ＥＬ素子は、熱をほとんど出さないのでブラウン管などに比べて消費電力が小さく、また、自発光なので、液晶ディスプレー(LCD)などに比べて視野角に優れている等の利点があり、今後の発展が期待されている。この有機ＥＬ素子のもっとも基本的な構造は、ガラス基板上にアノード（陽極）層、発光層およびカソード（陰極）層を重ねて形成したサンドイッチ構造である。発光層の光を外に取り出すために、ガラス基板上のアノード層には、ITO(Indium Tin Oxide）からなる透明電極が用いられる。かかる有機ＥＬ素子は、表面にITO層（アノード層）が予め形成されたガラス基板上に、発光層とカソード層を順に成膜することによって製造されるのが一般的である。
【０００３】
ところで、有機ＥＬ素子の発光層を成膜させる場合、所定の圧力まで減圧させた処理容器内において、基板を搬送しながら、蒸着ヘッド（蒸発ヘッド）から２００℃〜５００℃程度の高温にした成膜材料の蒸気を供給して、基板表面に成膜材料を蒸着させる工程が行われる。そのため、処理容器内には基板の搬送装置が存在するが、処理容器内を減圧した場合、搬送装置から汚染源が発生し、成膜処理に悪影響を与えてしまう恐れがある。即ち、通常の搬送装置は、基板を保持するステージの移動を直線状にガイドするためのリニアガイドやステージを移動させる駆動モータ、金属ころ等を有しているが、処理容器内を減圧した場合、リニアガイド等で潤滑剤として使用されているグリスが蒸発し、それが有機ＥＬ素子の発光層中にコンタミとして混入してしまう恐れを生ずる。
【０００４】
そこで、真空トンネル内において、基板を載置させる搬送台を磁力で浮上させて、非接触状態で搬送させる磁気浮上真空搬送装置が提案されている（特許文献１参照）。また、減圧雰囲気下ではないが、ワークに粉流体を噴射して加工する装置の分野では、例えばポースリエの直進運動機構を利用した搬送装置が知られている（特許文献２参照）。
【０００５】
【特許文献１】特開平６−１７９５２４号公報
【特許文献２】特開２０００−１９８０７０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、特許文献１に示されたような磁気浮上真空搬送装置は構造が複雑であり、また、リニアモータ等から発生するパーティクルにより、汚染を生ずる心配がある。一方、特許文献２に示された搬送装置は、大気中に設置されることを前提としたものであり、減圧雰囲気下におかれる処理容器内において、ポースリエなどのリンク機構を設けることは従来考えられていなかった。
【０００７】
本発明の目的は、減圧された処理容器の内部において、汚染を生じさせずに基板を搬送させることにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明によれば、基板を処理する処理装置であって、基板を収納する処理容器と、前記処理容器の内部を減圧させる減圧機構と、前記処理容器の内部に配置された、基板を保持するステージと、前記ステージを直進運動させる直進運動機構と、前記ステージの回転を防止する平行リンク機構を備え、前記処理容器の内部の雰囲気と遮断された空間部が、前記ステージの内部に形成され、前記空間部と前記処理容器の外部との雰囲気を連通させる通気経路が、前記平行リンク機構の内部に形成されている、処理装置が提供される。
【０００９】
この処理装置において、前記直進運動機構は例えばポースリエ（ｐｅａｕｃｅｌｌｉｅｒ）の直進運動機構である。また、前記直進運動機構を駆動させる駆動源が、前記処理容器の外部に配置されていても良い。また、前記平行リンク機構は、互いに折り曲げ自在に接続された複数のアームを有していても良い。この場合、前記平行リンク機構を構成する複数のアーム同士の接続部では、一方のアームに形成された円柱形状の凸部を、他方のアームに形成された円柱形状の凹部に挿入することにより、互いに折り曲げ自在に接続され、前記凸部の外周面と前記凹部の内周面との間には、軸受け部材とシール部材が設けられていても良い。また、前記シール部材が前記軸受け部材よりも前記処理容器の内部雰囲気側に配置され、前記軸受け部材が前記シール部材によって封止された前記アーム内の雰囲気側に配置されていても良い。なお、前記シール部材は例えば磁性流体である。
【００１０】
また、前記平行リンク機構を構成する複数のアームのいずれかには外側に広がるように設けられた湾曲部が形成されており、この湾曲部があることにより、前記複数のアーム同士の接続部におけるアーム同士の折り曲げ角度が大きくさせられても良い。また、前記アームの内部に、電気配線あるいは流体流路が配置されていても良い。更に、前記アームの内部に気体配管が配置されていても良い。
【００１１】
更に、前記ステージに保持された基板に対して成膜材料の蒸気を供給する蒸着ヘッドを前記処理容器の内部に備えていても良い。この場合、前記成膜材料は、例えば有機ＥＬ素子の発光層の成膜材料である。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、減圧された処理容器の内部において、直進運動機構と平行リンク機構によって、基板を保持したステージを回転させずに直進運動させることができる。特に、ポースリエの直進運動機構を用いることにより、モータ等の回転動力を利用して、コンパクトな機構でありながら、処理容器内を清浄な雰囲気に維持して、ステージを容易に直進運動させることができる。また、ステージの内部に形成した空間部の雰囲気を、平行リンク機構の内部に形成された通気経路を介して処理容器の外部雰囲気に連通させることにより、静電チャックの電気配線、シャフトモータの電気配線、熱媒配管、伝熱用ガスの供給配管などを、平行リンク機構の内部に配置でき、チャックの保持、ステージの移動、基板の温調などを、処理容器の外部から好適に行うことができるようになる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、本発明の実施の形態を、図面を参照にして説明する。なお、以下の実施の形態では、減圧雰囲気における基板処理の一例として、ガラス基板Ｇ上にアノード（陽極）層１、発光層３およびカソード（陰極）層２を成膜して有機ＥＬ素子Ａを製造する処理システム１０を例にして具体的に説明する。本明細書及び図面において、実質的に同一の機能構成を有する構成要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略する。
【００１４】
先ず、図１は、本発明の実施の形態において製造される有機ＥＬ素子Ａの説明図である。有機ＥＬ素子Ａのもっとも基本となる構造は、陽極１と陰極２との間に発光層３を挟んだサンドイッチ構造である。陽極１はガラス基板Ｇ上に形成されている。陽極１には、発光層３で発行された光ａを透過させることが可能な、例えばITO(Indium Tin Oxide）からなる透明電極が用いられる。
【００１５】
発光層３である有機層は一層から多層のものまであるが、図１では、第１層ａ１〜第６層ａ６を積層した６層構成である。第１層ａ１はホール輸送層、第２層ａ２は非発光層（電子ブロック層）、第３層ａ３は青発光層、第４層ａ４は赤発光層、第５層ａ５は緑発光層、第６層ａ６は電子輸送層である。かかる有機ＥＬ素子Ａは、後述するように、ガラス基板Ｇ表面の陽極１の上に、発光層３（第１層ａ１〜第６層ａ６）を順次成膜し、例えば仕事関数調整層（図示せず）を介在させた後、Ａｇ、Ｍｇ／Ａｇ合金などの陰極２を形成し、最後に、全体を窒化膜（図示せず）などで封止して、製造される。
【００１６】
図２は、有機ＥＬ素子Ａを製造するための成膜システム１０の概略図である。この成膜システム１０は、基板Ｇの搬送方向（図２において右向き）に沿って、ローダ１１、トランスファーチャンバ１２、発光層３の蒸着処理装置１３、トランスファーチャンバ１４、仕事関数調整層の成膜装置１５、トランスファーチャンバ１６、エッチング装置１７、トランスファーチャンバ１８、スパッタリング装置１９、トランスファーチャンバ２０、ＣＶＤ装置２１、トランスファーチャンバ２２、アンローダ２３を直列に順に並べた構成である。これらローダ１１、トランスファーチャンバ１２、発光層３の蒸着処理装置１３、トランスファーチャンバ１４、仕事関数調整層の成膜装置１５、トランスファーチャンバ１６、エッチング装置１７、トランスファーチャンバ１８、スパッタリング装置１９、トランスファーチャンバ２０、ＣＶＤ装置２１、トランスファーチャンバ２２、アンローダ２３の間は、ゲートバルブ２４を介して接続されている。ローダ１１は、基板Ｇを成膜システム１０内に搬入するための装置である。トランスファーチャンバ１２、１４、１６、１８、２０、２２は、各処理装置間で基板Ｇを受け渡しするための装置である。アンローダ２３は、基板Ｇを成膜システム１０外に搬出するための装置である。
【００１７】
ここで、本発明の実施の形態にかかる処理装置の一例として、蒸着処理装置１３について、更に詳細に説明する。図３は、蒸着処理装置１３の斜視図であり、図４は、蒸着処理装置１３の内部構造を説明するための部分断面図である。
【００１８】
この蒸着処理装置１３は、基板Ｇを内部に収納するための処理容器３０を備えている。処理容器３０は、アルミニウム、ステンレススチール等で構成され、切削加工や溶接により製作される。処理容器３０は、全体として前後に長い直方体形状をなしており、処理容器３０の前面に搬出口３１が形成され、後面に搬入口３２が形成されている。この蒸着処理装置１３では、処理容器３０後面の搬入口３２から搬入された基板Ｇが、処理容器３０内において手前側に向かって搬送され、処理容器３０前面の搬出口３１から搬出される。なお、説明のため、この基板Ｇの搬送方向をＸ軸、水平面内においてＸ軸と直交する方向をＹ軸、鉛直方向をＺ軸と定義する。
【００１９】
処理容器３０の側面には、排気孔３５が開口しており、排気孔３５には、処理容器３０の外部に配置された減圧機構３６が、排気管３７を介して接続されている。減圧機構３６は、ターボ分子ポンプ３８、ドライポンプ３９を備えている。この減圧機構３６の稼動により、処理容器３０の内部は所定の圧力に減圧される。
【００２０】
処理容器３０の内部には、基板ＧをＸ軸方向に沿って搬送する搬送装置４０が設けられている。この搬送装置４０は、基板Ｇを保持するステージ４１と、ステージ４１を直進運動させる直進運動機構４３と、２つの平行リンク機構４４、４５を備えている。図６に示すように、この実施の形態では、直進運動機構４３としてポースリエの直進運動機構が用いられる。搬送装置４０は、直進運動機構４３の両側に平行リンク機構４４、４５を設けることにより、ステージ４１の回転を防止した構成になっている。
【００２１】
先ず、直進運動機構４３を説明する。Ｔ形状をなす支持プレート５０において、Ｙ軸方向に所定の間隔をもって二つの回転軸５１、５２が設けられている。これら二つの回転軸５１、５２は、Ｘ軸方向に関しては同じ位置にある（即ち、回転軸５１、５２を結ぶ直線は、Ｙ軸方向と平行である）。支持プレート５０は、処理容器３０の側面もしくは底面に固定されており、これら二つの回転軸５１、５２の位置は固定である。回転軸５１には、２つのリンク５３、５４が支持されており、これら２つのリンク５３、５４は、水平面内（ＸＹ平面内）において、いずれも回転軸５１を中心に回転自在である。回転軸５２には、１つのリンク５５が固定されている。回転軸５２には、処理容器３０の外部に配置された駆動源としてのモータ５６の回転動力が、軸５７を介して伝達されるようになっている。このため、リンク５５は、モータ５６の回転動力によって、水平面内（ＸＹ平面内）において、回転軸５２を中心に回転駆動させられる。
【００２２】
図５に示すように、モータ５６の軸５７は処理容器３０の底面を貫通し、リンク５５に固定された回転軸５２に接続されている。処理容器３０の底面に対する軸５７の貫通部分には、軸受け５８とシール部材としての磁性流体５９が設けられている。なお、軸受け５８は、処理容器３０の外部側（即ち大気側）に配置され、磁性流体５９は、処理容器３０の内部側（即ち処理雰囲気側）に配置されている。
【００２３】
リンク５３の先端には、回転軸６０が設けられており、リンク５５の先端には、回転軸６１が設けられている。リンク５３先端の回転軸６０とリンク５５先端の回転軸６１の間は、リンク６２で接続されている。リンク６２の両端は、回転軸６０、６１に対しては、水平面内（ＸＹ平面内）において回転自在に支持されている。同様に、リンク５４の先端には、回転軸６５が設けられており、リンク５４先端の回転軸６５とリンク５５先端の回転軸６１の間は、リンク６６で接続されている。リンク６６の両端は、回転軸６１、６５に対しては、水平面内（ＸＹ平面内）において回転自在に支持されている。
【００２４】
また、リンク５３先端の回転軸６０には、リンク７０の一端が支持されており、同様に、リンク５４先端の回転軸６５には、リンク７１の一端が支持されている。これらリンク７０、７１の他端は、回転軸７２によって接続されている。回転軸７２は、ステージ４１の下面に取り付けられる。リンク７０の両端は、回転軸６０、７２に対しては、水平面内（ＸＹ平面内）において回転自在に支持されている。同様に、リンク７１の両端は、回転軸６５、７２に対しては、水平面内（ＸＹ平面内）において回転自在に支持されている。
【００２５】
直進運動機構４３における各リンクの長さ（各回転軸間の距離）は、次の関係である。リンク５３の長さと、リンク５４の長さは等しい。即ち、回転軸５１と回転軸６０の間の距離＝回転軸５１と回転軸６５の間の距離である。また、リンク６２、６６、７０、７１の長さはいずれも等しい。即ち、回転軸６０と回転軸６１の間の距離＝回転軸６１と回転軸６５の間の距離＝回転軸６０と回転軸７２の間の距離＝回転軸６５と回転軸７２の間の距離である。かかる構成を有するポースリエの直進運動機構４３にあっては、モータ５６の回転動力によって、リンク５５を水平面内（ＸＹ平面内）において回転軸５２を中心に回転駆動させることによって、回転軸７２を、図６中においてＸ方向に直進運動させることができる。
【００２６】
次に、一方の平行リンク機構４４を説明する。平行リンク機構４４は、直進運動機構４３のリンク５３、７０に、２つのアーム７５、７６と一つのリンク７７を加えた構成である。Ｔ形状をなす支持プレート５０において、回転軸５１からＸ軸方向に所定の間隔をもって回転軸８０が設けられている。回転軸８０の位置は固定である。これら二つの回転軸５１、８０は、Ｙ軸方向に関しては同じ位置にある（即ち、回転軸５１、８０を結ぶ直線は、Ｘ軸方向と平行である）。
【００２７】
回転軸８０には、アーム７５が支持されており、アーム７５は、水平面内（ＸＹ平面内）において、回転軸８０を中心に回転自在である。アーム７５の先端には、回転軸８１が設けられており、リンク５３先端の回転軸６０とアーム７５先端の回転軸８１の間は、リンク７７で接続されている。リンク７７の両端は、回転軸６０、８１に対しては、水平面内（ＸＹ平面内）において回転自在に支持されている。
【００２８】
また、アーム７５先端の回転軸８１には、アーム７６の一端が支持されている。アーム７６の他端には、回転軸８２が設けられており、この回転軸８２は、ステージ４１の下面に取り付けられる。アーム７６の両端は、回転軸８１、８２に対しては、水平面内（ＸＹ平面内）において回転自在に支持されている。
【００２９】
平行リンク機構４４における各リンク（各アーム）の長さ（各回転軸間の距離）は、次の関係である。リンク５３の長さと、アーム７５の長さは等しい。即ち、回転軸５１と回転軸６０の間の距離＝回転軸８０と回転軸８１の間の距離である。また、リンク７７の長さは（即ち、回転軸６０と回転軸８１の間の距離は）、回転軸５１と回転軸８０の間の距離に等しい。このため、リンク５３およびアーム７５が水平面内（ＸＹ平面内）において回転しても、回転軸５１、６０、８１、８０を頂点とする平行四辺形が常に形成されることになる。したがって、リンク７７は、回転軸５１、８０を結ぶ直線と常に平行であり、リンク７７は、常にＸ軸方向と平行である。
【００３０】
また、リンク７０の長さと、アーム７６の長さは等しい。即ち、回転軸６０と回転軸７２の間の距離＝回転軸８１と回転軸８２の間の距離である。また、リンク７７の長さは（即ち、回転軸６０と回転軸８１の間の距離は）、回転軸７２と回転軸８２の間の距離に等しい。このため、リンク７０およびアーム７６が水平面内（ＸＹ平面内）において回転しても、回転軸６０、７２、８２、８１を頂点とする平行四辺形が常に形成されることになる。したがって、回転軸７２と回転軸８２を結ぶ直線は、リンク７７と常に平行であり、回転軸７２と回転軸８２を結ぶ直線は、常にＸ軸方向と平行になる。
【００３１】
なお、他方の平行リンク機構４５は、先に説明した平行リンク機構４４と基本的に同様の構成を有している。即ち、平行リンク機構４５は、直進運動機構４３のリンク５４、７１に、２つのアーム８５、８６と一つのリンク８７を加えた構成である。Ｔ形状をなす支持プレート５０において、回転軸５１からＸ軸方向に所定の間隔をもって回転軸８８が設けられている。但し、回転軸８８は、回転軸５１を挟んで、回転軸８０と反対側に位置している。回転軸８８の位置は固定であり、回転軸５１、８８は、Ｙ軸方向に関しては同じ位置にある（即ち、回転軸５１、８８を結ぶ直線は、Ｘ軸方向と平行である）。
【００３２】
回転軸８８には、アーム８５が支持されており、アーム８５は、水平面内（ＸＹ平面内）において、回転軸８８を中心に回転自在である。アーム８５の先端には、回転軸８９が設けられており、リンク５４先端の回転軸６５とアーム８５先端の回転軸８９の間は、リンク８７で接続されている。リンク８７の両端は、回転軸６５、８９に対しては、水平面内（ＸＹ平面内）において回転自在に支持されている。
【００３３】
また、アーム８５先端の回転軸８９には、アーム８６の一端が支持されている。アーム８６の他端には、回転軸９０が設けられており、この回転軸９０は、ステージ４１の下面に取り付けられる。アーム８６の両端は、回転軸８９、９０に対しては、水平面内（ＸＹ平面内）において回転自在に支持されている。
【００３４】
平行リンク機構４５における各リンク（各アーム）の長さ（各回転軸間の距離）は、次の関係である。リンク５４の長さと、アーム８５の長さは等しい。即ち、回転軸５１と回転軸６５の間の距離＝回転軸８８と回転軸８９の間の距離である。また、リンク８７の長さは（即ち、回転軸６５と回転軸８９の間の距離は）、回転軸５１と回転軸８８の間の距離に等しい。このため、リンク５４およびアーム８５が水平面内（ＸＹ平面内）において回転しても、回転軸５１、６５、８９、８８を頂点とする平行四辺形が常に形成されることになる。したがって、リンク８７は、回転軸５１、８８を結ぶ直線と常に平行であり、リンク８７は、常にＸ軸方向と平行である。
【００３５】
また、リンク７１の長さと、アーム８６の長さは等しい。即ち、回転軸６５と回転軸７２の間の距離＝回転軸８９と回転軸９０の間の距離である。また、リンク８７の長さは（即ち、回転軸６５と回転軸８９の間の距離は）、回転軸７２と回転軸９０の間の距離に等しい。このため、リンク７１およびアーム８６が水平面内（ＸＹ平面内）において回転しても、回転軸６５、７２、９０、８９を頂点とする平行四辺形が常に形成されることになる。したがって、回転軸７２と回転軸９０を結ぶ直線は、リンク８７と常に平行であり、回転軸７２と回転軸９０を結ぶ直線は、常にＸ軸方向と平行になる。
【００３６】
図７は、搬送装置４０を構成している直進運動機構４３と平行リンク機構４４、４５の各リンク、各アームおよび各回転軸の位置関係の変化を示す模式図である。かかる構成を有する搬送装置４０にあっては、先に説明した直進運動機構４３によって、回転軸７２が図６中においてＸ方向に直進運動させられた場合に、平行リンク機構４４、４５によって、３つの回転軸７２、８２、９０を結ぶ直線を、常にＸ軸方向と平行な位置関係に保つことができる。したがって、ステージ４１の下面に３つの回転軸７２、８２、９０を取り付けることによって、直進運動機構４３と平行リンク機構４４、４５の協働により、ステージ４１を回転させずに直進運動させることができる。その結果、処理容器３０の内部において、搬送装置４０により、基板Ｇを回転させずにＸ軸方向に沿って搬送することが可能である。
【００３７】
図８に示すように、ステージ４１の内部には、処理容器３０の内部の雰囲気と遮断された空間部１００が形成されている。ステージ４１の上面内部には、ステージ４１上に載せた基板Ｇを保持するための静電チャック１０１を有している。この静電チャック１０１への電気配線１０２は、ステージ４１の内部の空間部１００に引き出されている。
【００３８】
また、ステージ４１の上面内部には、ステージ４１上に載せた基板Ｇの温度を調節するための熱媒流路１０５を有している。この熱媒流路１０５へ例えばエチレングリコールなどの熱媒を供給する流体流路１０６も、ステージ４１の内部の空間部１００に引き出されている。更に、ステージ４１の上面には、ステージ４１上に保持した基板Ｇの下面とステージ４１の上面との隙間に伝熱用のガスを供給する伝熱用ガス供給部１０７を有している。この伝熱用ガス供給部１０７へ例えばＨｅなどの伝熱用のガスを供給する気体配管１０８も、ステージ４１の内部の空間部１００に引き出されている。
【００３９】
先に説明した平行リンク機構４４、４５の各アーム７５、７６、８５、８６の内部には、通気経路１１０が設けられている。この通気経路１１０の内部を通して、ステージ４１の内部の空間部１００と、処理容器３０の外部との雰囲気が連通させられている。なお、ステージ４１の底面には、ステージ４１の内部の空間部１００と各アーム７５、７６、８５、８６内の通気経路１１０を連通させる孔１１１が形成されている。この孔１１１は、先に説明した回転軸８２、９０の位置に設けられている。図示はしないが、処理容器３０の壁面にも、各アーム７５、７６、８５、８６内の通気経路１１０と処理容器３０の外部を連通させる孔が同様に形成されている。
【００４０】
上記のようにステージ４１の内部の空間部１００にそれぞれ引き出された静電チャック１０１への電気配線１０２、熱媒流路１０５へ熱媒を供給する流体流路１０６、伝熱用ガス供給部１０７へ伝熱用のガスを供給する気体配管１０８は、いずれも各アーム７５、７６、８５、８６内の通気経路１１０を通して、処理容器３０の外部へと引き出されている。
【００４１】
図９は、平行リンク機構４４におけるアーム７５、７６同士の接続構造を示す拡大断面図である。アーム７５、７６同士は、一方のアーム７５の端部に形成された円柱形状の凸部１１５を、他方のアーム７６の端部に形成された円柱形状の凹部１１６の内部に挿入することにより、互いに折り曲げ自在に接続されている。これら凸部１１５および凹部１１６の中心軸は、先に説明した回転軸８１に一致している。各アーム７５、７６内の通気経路１１０は、凸部１１５の内部に形成された流路１１７を介して連通している。
【００４２】
一方のアーム７５の端部に形成された凸部１１５の外周面と、他方のアーム７６の端部に形成された１１６凹部の内周面との間には、軸受け部材１２０とシール部材１２１が設けられている。シール部材１２１は、軸受け部材１２０よりも処理容器３０の内部雰囲気側に配置されており、軸受け部材１２０は、シール部材１２１によって封止された各アーム７５、７６、８５、８６内の雰囲気側に配置されている。シール部材１２１には、例えば磁性流体が用いられる。
【００４３】
なお、重複説明を省略するが、平行リンク機構４５におけるアーム８５、８６同士も同様の構造により互いに折り曲げ自在に接続されている。これにより、処理容器３０の内部の雰囲気と遮断された状態で、各アーム７５、７６、８５、８６内の通気経路１１０を通して、ステージ４１の内部の空間部１００と、処理容器３０の外部との雰囲気を連通させている。
【００４４】
なお、平行リンク機構４４、４５のアーム７５、７６、８５、８６を例にして説明したが、例えばアーム７６とステージ４１下面の接続箇所、アーム８６とステージ４１下面の接続箇所、アーム７５と処理容器３０の壁面の接続箇所、アーム８５と処理容器３０の壁面の接続箇所においても、同様に軸受け部材とシール部材（磁性流体）を利用した接続構造としても良い。また、直進運動機構４３の各リンク同士の接続箇所、リンク７０とステージ４１下面の接続箇所などにも同様の接続構造を用いることもできる。
【００４５】
図６に示すように、平行リンク機構４４のアーム７５には、直進運動機構４３に対して外側に広がるように設けられた湾曲部７５ａが形成されている。この湾曲部７５ａがあることにより、アーム７５、７６同士の接続箇所（回転軸８１の位置）においては、アーム７５、７６同士の折り曲げ角度を大きくさせることができる。上述のように、アーム７５、７６内の通気経路１１０には、静電チャック１０１への電気配線１０２、熱媒流路１０５へ熱媒を供給する流体流路１０６、伝熱用ガス供給部１０７へ伝熱用のガスを供給する気体配管１０８などが通されるが、このようにアーム７５、７６同士の折り曲げ角度が大きく維持されることにより、アーム７５、７６同士の接続部において、電気配線１０２や流体流路１０６、１０８が鋭角に折り曲げられることが回避される。これにより、電気配線１０２や流体流路１０６、１０８の破損や劣化が防止される。
【００４６】
なお同様に、平行リンク機構４５のアーム８５にも、直進運動機構４３に対して外側に広がるように設けられた湾曲部８５ａが形成されている。これにより、アーム８５、８６同士の折り曲げ角度が大きく維持されることにより、アーム８５、８６同士の接続部において、電気配線１０２や流体流路１０６、１０８が鋭角に折り曲げられることが回避され、破損や劣化が防止される。
【００４７】
図４に示すように、処理容器３０の上面には、ステージ４１に保持されて移動していく基板Ｇの表面に対して成膜材料の蒸気を供給する蒸着ヘッド（蒸発ヘッド）１３０を備えている。この蒸着ヘッド１３０は、ホール輸送層を蒸着させる第１ヘッド１３１、非発光層を蒸着させる第２ヘッド１３２、青発光層を蒸着させる第３ヘッド１３３、赤発光層を蒸着させる第４ヘッド１３４、緑発光層を蒸着させる第５ヘッド１３５、電子輸送層を蒸着させる第６ヘッド１３６を、ステージ４１の移動方向（Ｘ軸方向）に沿って配置した構成である。
【００４８】
次に、図２に示す仕事関数調整層の成膜装置１５は、蒸着によって基板Ｇの表面に対して仕事関数調整層を成膜するように構成されている。エッチング装置１７は、成膜された各層などをエッチングするように構成されている。スパッタリング装置１９は、Ａｇなどの電極材料をスパッタリングして、陰極２を形成させるように構成されている。ＣＶＤ装置２１は、窒化膜などからなる封止膜を、ＣＶＤ等によって成膜し有機ＥＬ素子Ａの封止を行うものである。
【００４９】
さて、以上のように構成された成膜システム１０において、ローダ１１を介して搬入された基板Ｇが、トランスファーチャンバ１２によって、先ず、蒸着処理装置１３に搬入される。この場合、基板Ｇの表面には、例えばITOからなる陽極１が所定のパターンで予め形成されている。
【００５０】
そして、蒸着処理装置１３では、基板Ｇの表面（成膜面）を上に向けた姿勢にしてステージ４１上に基板Ｇが載せられる。なお、このように基板Ｇが蒸着処理装置１３に搬入される前に、蒸着処理装置１３の処理容器３０の内部は、減圧機構３６の稼動により、予め所定の圧力に減圧されている。
【００５１】
こうして、減圧された蒸着処理装置１３の処理容器３０内において、図１０に示すように、搬送装置４０の直進運動機構４３と平行リンク機構４４、４５により、ステージ４１がＸ軸方向に沿って回転せずに直線移動していく。即ち、直進運動機構４３であるポースリエの直進運動機構の稼動により、ステージ４１がＸ軸方向に沿って運動させられ、図１０（ａ）、（ｂ）、（ｃ）に示すように、ステージ４１が順次直進移動させられていく。また、この直進移動中、平行リンク機構４４、４５の存在により、ステージ４１の回転が防止され、図１０（ａ）、（ｂ）、（ｃ）に示すように、ステージ４１は平行移動させられる。そして、このステージ４１の直進移動中に、ステージ４１上に保持された基板Ｇの表面に向けて蒸着ヘッド１３０から成膜材料の蒸気が供給され、基板Ｇの表面に発光層３が成膜・積層されていく。
【００５２】
そして、蒸着処理装置１３において発光層３を成膜させた基板Ｇは、トランスファーチャンバ１４によって、次に、成膜装置１５に搬入される。こうして、成膜装置１５では、基板Ｇの表面に仕事関数調整層が成膜される。
【００５３】
次に、トランスファーチャンバ１６によって、基板Ｇはエッチング装置１７に搬入され、各成膜の形状等が調整される。次に、トランスファーチャンバ１８によって、基板Ｇはスパッタリング装置１９に搬入され、陰極２が形成される。次に、トランスファーチャンバ２０によって、基板ＧはＣＶＤ装置２１に搬入され、有機ＥＬ素子Ａの封止が行われる。こうして製造された有機ＥＬ素子Ａが、トランスファーチャンバ２２、アンローダ２３を介して、成膜システム１０外に搬出される。
【００５４】
以上の成膜システム１０にあっては、蒸着処理装置１３では、減圧された処理容器３０内において、ポースリエの直進運動機構４３と平行リンク機構４４、４５を用いることにより、モータ５６の回転動力を利用して、ステージ４１を容易に直進運動させることができる。また、搬送中、ステージ４１のＹ軸方向の移動（横ずれ）、Ｘ軸方向を中心とする回転運動（ローリング）、Ｚ軸方向を中心とする回転運動（ヨーイング）も抑制される。これにより、ステージ４１を正しい姿勢に維持しつつ、基板Ｇの表面に発光層３を良好な状態で成膜・積層させることができる。
【００５５】
また、ステージ４１の内部に形成した空間部１００の雰囲気は、各アーム７５、７６、８５、８６内の通気経路１１０を介して処理容器３０の外部雰囲気に連通しており、静電チャック１０１への電気配線１０２、熱媒流路１０５へ熱媒を供給する流体流路１０６、伝熱用ガス供給部１０７へ伝熱用のガスを供給する気体配管１０８などは、いずれも通気経路１１０を通して、処理容器３０の外部へと引き出されている。このため、基板Ｇの保持、ステージ４１の移動、基板Ｇの温調などを、処理容器３０の外部から好適に行うことができる。また、各平行リンク機構４４、４５のアーム７５、８５に湾曲部８５ａが形成されていることにより、アーム７５、７６、８５．８６同士の折り曲げ角度が大きく維持され、電気配線１０２や流体流路１０６、１０８の破損や劣化が防止される。また、ステージ４１内に大気圧の空間部１００が形成されているため、例えばリフトピンなどのレイアウトも容易となる。
【００５６】
以上、本発明の好ましい実施の形態の一例を説明したが、本発明は図示の形態に限定されない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に相到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。例えば、図示の搬送装置４０では、直進運動機構４３に対して２つの平行リンク機構４４、４５を設けた例を説明したが、通気経路１１０内に配置する電気配線や熱媒流路が少ないような場合、平行リンク機構４４、４５はどちらか一方のみでも良い。
【００５７】
また、直進運動機構４３やリンク機構４４、４５を構成する各リンクや各アームなどへの成膜防ぐために、直進運動機構４３やリンク機構４４、４５をカバーで覆うことも考えられる。また、各リンク間、各アーム間、リンクまたはアームとステージ間等に設けるシール部材として、磁性流体の他、Ｏリングも利用できる。
【００５８】
また、本発明の適用例を、有機ＥＬ素子Ａの発光層３の蒸着処理装置１３に基づいて説明したが、本発明は、その他の各種電子デバイス等の処理に利用される真空処理装置に適用することができる。例えば、成膜（ＰＶＤ、ＣＶＤ）・エッチング・熱処理・光照射等の各種処理装置に本発明を適用できる。また、基板を搬送する搬送チャンバにも本発明を適用できる。なお、実施の形態で示した蒸着処理装置１３など日本発明を適用する場合は、基板Ｇの搬送速度を一定にするように、モータ５６の回転を制御することが望ましい。一方、搬送チャンバなどにも本発明を適用する場合であれば、基板Ｇの搬送速度を一定にするようなモータ５６の回転制御は省略できる。
【００５９】
処理の対象となる基板Ｇは、ガラス基板、シリコン基板、角形、丸形等の基板など、各種基板に適用できる。また、図２では、基板Ｇの搬送方向に沿って、ローダ１１、トランスファーチャンバ１２、発光層３の蒸着処理装置１３、トランスファーチャンバ１４、仕事関数調整層の成膜装置１５、トランスファーチャンバ１６、エッチング装置１７、トランスファーチャンバ１８、スパッタリング装置１９、トランスファーチャンバ２０、ＣＶＤ装置２１、トランスファーチャンバ２２、アンローダ２３を直列に順に並べた構成の成膜システム１０を示した。しかし、各処理装置の台数・配置は任意に変更可能である。
【産業上の利用可能性】
【００６０】
本発明は、例えば有機ＥＬ素子の製造分野に適用できる。
【図面の簡単な説明】
【００６１】
【図１】有機ＥＬ素子の説明図である。
【図２】成膜システムの説明図である。
【図３】本発明の実施の形態にかかる蒸着処理装置の斜視図である。
【図４】本発明の実施の形態にかかる蒸着処理装置の内部構造を示す部分断面図である。
【図５】処理容器の底面におけるモータの軸の貫通部分の断面図である。
【図６】搬送装置の平面図である。
【図７】直進運動機構と平行リンク機構の各リンク、各アームおよび各回転軸の位置関係の変化を示す模式図である。
【図８】ステージの内部構造を示す断面図である。
【図９】アーム同士の接続構造を示す拡大断面図である。
【図１０】ステージが回転せずに直線移動していく状態の説明図である。
【符号の説明】
【００６２】
Ａ  有機ＥＬ素子
Ｇ  ガラス基板
１０  処理システム
１１  ローダ１１
１２、１４、１６、１８、２０、２２  トランスファーチャンバ
１３  発光層の蒸着処理装置
１５  仕事関数調整層の成膜装置
１７  エッチング装置
１９  スパッタリング装置
２１  ＣＶＤ装置
２３  アンローダ
３０  処理容器
３１  搬出口
３２  搬入口
３５  排気孔
３６  減圧機構
４０  搬送装置
４１  ステージ
４３  直進運動機構
４４、４５  平行リンク機構４４、４５
５０  支持プレート
５６  モータ
７５、７６、８５、８６  アーム
７５ａ、８５ａ  湾曲部
１００  空間部
１０２  電気配線
１０６  流体流路
１０８  気体配管
１１０  通気経路
１１５  凸部
１１６  凹部
１２０  軸受け部材
１２１  シール部材
１３０  蒸着ヘッド
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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