(57)【要約】【課題】  従来の被照射面の積算露光量を調整するための可変スリット装置を有する走査型露光装置では、スリット形状の照射領域の走査方向長さを走査方向に垂直な方向（スリット方向）の位置毎に変化させて積算露光量の調整を行っている。このときステージを傾けて露光を行うと、ステージ傾けの効果がスリット方向位置毎に異なってしまい、その結果、スリット方向位置毎に露光線幅に差が発生するという問題がある。【解決手段】  本発明による走査型露光装置は、光源からの光を用いて原板Ｒを照明する照明光学系と、原板Ｒに形成されたパターンを基板Ｗ上に投影する投影光学系ＰＯとを備え、矩形形状の照明光を形成する可変スリット装置１２を有し、矩形形状の照明光の走査方向中間位置に減光もしくは遮光領域を有し、前記減光もしくは遮光領域の走査方向幅をスリット方向位置毎に調整可能であることを特徴とする。【選択図】  図１
2010118403.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源からの光を用いて所定のパターンが形成された原板を照明する照明光学系と、前記照明光学系内に配置されて矩形形状の照明領域を形成する照明領域形成装置と、前記原板に形成されたパターンを感光剤の塗布された基板上に投影する投影光学系とを備え、前記原板と前記基板とを相対走査させることにより前記原板に形成されたパターンを前記基板上に投影露光する走査型露光装置において、前記矩形形状の照明領域の走査方向中間位置に減光もしくは遮光領域を有し、前記減光もしくは遮光領域の走査方向長さが走査方向と直交する位置毎に調整可能であることを特徴とする走査型露光装置。
【請求項２】
前記減光もしくは遮光領域は、前記矩形形状の照明領域の走査方向中心に関してほぼ対称をなすことを特徴とする請求項１に記載の走査型露光装置。
【請求項３】
前記減光もしくは遮光領域は、走査方向の遮光幅を変化させることが可能な遮光部材によって形成されることを特徴とする請求項１もしくは請求項２に記載の走査型露光装置。
【請求項４】
前記遮光部材は、走査方向に垂直な回転軸で回転可能であることを特徴とする請求項３に記載の走査型露光装置。
【請求項５】
前記遮光部材は、走査方向の幅が調整可能な複数のブレードからなることを特徴とする請求項３に記載の走査型露光装置。
【請求項６】
前記遮光部材を形成するテープと、前記テープを加工して前記テープの走査方向の遮光幅を走査方向に直交する位置毎に変化させる少なくとも一つ以上のテープ加工部とを備えることを特徴とする請求項３に記載の走査型露光装置。
【請求項７】
前記テープを前記照明光の光路中に送るテープ送り部と、前記照明光の光路中から前記テープを回収するテープ回収部の少なくともいずれか一方を備えることを特徴とする請求項６に記載の走査型露光装置。
【請求項８】
前記遮光部材は、走査方向と光軸方向およびそれらに垂直な方向のうち少なくとも一つの方向に駆動可能であることを特徴とする請求項１から請求項７のいずれかに記載の走査型露光装置。
【請求項９】
前記照明光学系の照度むらに関する情報に基づいて積算露光量を調整することを特徴とする請求項１から請求項８のいずれかに記載の走査型露光装置。
【請求項１０】
前記照明光学系の照度むらに関する情報を計測する計測部を備えることを特徴とする、請求項９に記載の走査型露光装置。
【請求項１１】
前記基板に形成されるパターンの線幅情報と、前記基板に塗布される感光剤の厚さ情報うちの少なくともいずれか一方を入力する入力手段を有し、前記入力された情報に基づいて、積算露光量を調整することを特徴とする請求項１から請求項１０のいずれかに記載の走査型露光装置。
【請求項１２】
前記原板を保持・走査させるステージと、前記基板を保持・走査させるステージとを備え、前記ステージのうち少なくともいずれか一方を光軸に対して傾けて走査することが可能であることを特徴とする請求項１から請求項１１のいずれかに記載の走査型露光装置。
【請求項１３】
請求項１から請求項１２のいずれかに記載の走査型露光装置を用いて前記原板に形成されたパターンを前記感光剤の塗布された基板上に投影露光した後、前記基板を現像処理してデバイスを製造することを特徴とするデバイスの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体素子、撮像素子、液晶表示素子、薄膜磁気ヘッド等のマイクロデバイス製造におけるマイクロリソグラフィー用露光装置およびこれを用いたデバイスの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体素子等のマイクロデバイスを製造するフォトリソグラフィ工程では、マスクあるいはレチクルに形成されたパターンの像を、感光剤を塗布したシリコン等の基板上に転写させる露光装置が一般的に使用されている。この露光装置では、転写するパターンの微細化に伴って、露光条件のわずかな変化が不良率を増加させ、歩留まりの低下を招いている。このため照明光をレチクルに照射する照明装置においては、照明領域内の照度のむらに起因して、基板に形成されるパターンの線幅が不均一になる不良を、照明領域内の積算露光量を均一にすることによって防止している。
【０００３】
スリット形状の照明光に対してレチクルと感光基板とを相対的に走査して、レチクル上のパターンを転写する走査型露光装置においては、例えば特開平１０−３４０８５４号公報に開示されるように、可変スリット装置によりスリット形状の照明光の走査方向幅をスリット方向（走査方向と直交する方向）位置毎に変化させて積算露光量を均一にする方法が提案されている。
【０００４】
ところで、露光装置の解像度Ｒは、一般にＲａｙｌｅｉｇｈの式と呼ばれる以下の式で表される。
【０００５】
【数１】
2010118403.tif 000003
ここでｋ１はプロセス係数、λは露光装置の光源波長、ＮＡは投影光学系の開口数である。Ｒａｙｌｅｉｇｈの式から、解像度Ｒを小さくして微細な回路パターンを描画するためには、プロセス係数ｋ１か波長λを小さくするか、投影光学系のＮＡを大きくすればよいことが分かる。このため、半導体デバイスの微細化に伴い、露光装置の光源は短波長化が進み、投影光学系のＮＡは拡大してきている。
【０００６】
また、実際のリソグラフィー工程では感光基板の湾曲やプロセスによる感光基板の段差等の影響、感光部材自体の厚さのために、ある程度の焦点深度ＤＯＦが必要となる。焦点深度は一般的に以下の式で表される。
【０００７】
【数２】
2010118403.tif 000004
ここでｋ２はプロセス係数である。この式から明らかなように、焦点深度は光源の短波長化、投影光学系のＮＡの増加とともに小さくなる。微細なパターンのデバイス製造においては焦点深度の値が小さくなるため、歩留まりの低下を招く。
【０００８】
波長や投影光学系のＮＡを変えることなく焦点深度を拡大する方法として、非特許文献 １に開示されているように、光軸に対してステージの走査方向を傾けて露光する方法がある。この方法によれば、走査露光される際に基板は多数の焦平面上で露光されることになるので、焦点深度が拡大される。光軸に対してステージの走査方向を傾けた走査露光の模式図を図２に示す。Rは所定のパターンが形成された原板で、原板Ｒと感光剤の塗布された露光基板Ｗを相対走査させることにより、投影光学系ＰＯを介して、原板Ｒ上のパターンを基板Ｗ上に投影露光する。ＢＦは投影光学系ＰＯのベストフォーカス面である。ＡＩは投影光学系ＰＯによって形成される基板Ｒ上のパターンの光学像であり、ベストフォーカス位置から広がって像を形成している。また、図２中では紙面に垂直な方向がスリット方向である。光軸に対してステージを傾けて走査露光を行うと、基板Ｗ上の一点は、多数の焦平面上の光学像ＡＩで露光されることが分かる。このとき、基板Ｗが露光される焦平面の幅（フォーカスレンジＦＲ）は、ステージの傾け量および照明光の走査方向幅に比例する。図２は基板ステージを傾ける方法について示したものであるが、原板を傾けて走査露光を行っても、同様の効果が得られる。
【特許文献１】特開平１０−３４０８５４号公報
【非特許文献１】Ｐｒｏｃ．  ｏｆ  ＳＰＩＥ  Ｖｏｌ．  ６１５４  ６１５４１K−１
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
図３は従来技術による可変スリット装置を示している。図３中のＸ軸はスリット方向、Ｙ軸は走査方向を示す。以降の図のＸ軸およびＹ軸も同様の方向を示す。従来技術による可変スリット装置では、スリット形状の照明領域ＥＬ内の照度が高いスリット方向位置のスリット幅を選択的に短くすることにより、走査露光における積算露光量を調整している。この方式による露光量補正は、ＤＯＦを拡大する目的でステージを傾けて走査露光を行う際に問題となる。
【００１０】
従来技術による露光量補正では、被照射面を照明する照明光の走査方向長さをスリット方向位置毎に変えてしまっている。このとき、焦点深度の拡大を目的として光軸に対してステージの走査方向を傾けて露光を行うと、フォーカスレンジＦＲやその中心位置がスリット方向位置毎に異なってしまう。例として、図３のスリット方向位置ｘ１とｘ２とで比較を行う。位置ｘ１では図４（ａ）の状態から走査露光が開始され、図４（ｂ）を通って図４（ｃ）の状態で走査露光が完了される。一方、位置ｘ２では走査露光が開始される走査方向位置はｘ１と同じであるが、照明領域の走査方向長さが位置ｘ２のそれよりも短いので、図４（ａ）の状態から走査露光が開始され図４（ｂ）の状態で走査露光が完了する。したがって、位置ｘ１と位置ｘ２ではフォーカスレンジとその中心位置に差が生じてしまい、その結果位置ｘ１と位置ｘ２とでは露光線幅に差が生じてしまう。
【００１１】
以上のように、従来技術による可変スリット装置を用いた走査型露光装置では、ステージを傾けて露光を行う際に積算露光量を調整するために可変スリットを駆動させた場合、フォーカスレンジやその中心位置の違いによる線幅差が発生してしまうという問題があった。
【００１２】
よって本発明は、走査型露光装置においてステージを傾けて露光を行う際に、フォーカスレンジとその中心位置のずれによる線幅差を発生することなく、積算露光量を調整することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明では、上述の課題を解決するために、矩形形状の照明領域の走査方向中間位置に減光もしくは遮光領域を有し、前記減光もしくは遮光領域の走査方向長さがスリット方向の位置毎に調整可能であることを特徴とする走査型露光装置を提供する。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、ステージを傾けて露光する際にもスリット方向位置毎のフォーカスレンジやその中心位置を一定に維持したまま、照明領域内の積算露光量を調整することができる。その結果、基板上に形成されるパターンの線幅を均一にすることができ、線幅不良の発生を低下させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
次に、本発明の詳細を実施例の記述に従って説明する。
【実施例１】
【００１６】
以下、添付図面を参照して、本発明の第１の実施例について説明する。図１は本発明第一の実施例を適用した走査露光装置の一例を示した概略図である。
【００１７】
１は光源で、例えば波長が約１９３ｎｍのＡｒＦエキシマレーザーや約２４８ｎｍのＫｒＦエキシマレーザーが用いられる。本発明は光源の種類や波長、個数に限定されることはない。
【００１８】
２は引き回し光学系で、光源１からの光束を回折光学素子３に導く。
【００１９】
回折光学素子３は複数のスロットを有するターレットに搭載されており、アクチュエータ４によって任意の素子を光軸上に移動することが可能である。
【００２０】
回折光学素子３の射出光は、コンデンサーレンズ５によって集光され、回折パターン面６に回折パターンを形成する。アクチュエータ４により光軸上に位置する回折光学素子を交換すれば、輪帯状や多重極状など複数の回折パターンを形成することができる。
【００２１】
回折パターン面６に形成された回折パターンは、プリズム７、ズームレンズ８によって大きさや形状を調整された後、ミラー９に入射する。
【００２２】
プリズム７はズーミングすることが可能であり、プリズム７ａとプリズム７ｂの距離が十分に小さい場合、プリズム７ａとプリズム７ｂは一体化した一枚の平行ガラス平板とみなすことができる。このとき、回折パターン面６に形成された回折パターンは、ほぼ相似形状を保ちながらズームレンズ８に拡大縮小され、光強度分布形成手段１０の入射面に結像される。プリズム７ａとプリズム７ｂの位置を離すことによって、回折パターン面６に形成された回折パターンは、輪帯の幅などの形状も調整される。
【００２３】
ミラー９によって反射した光束はインテグレータ１０に入射する。インテグレータ１０としてはハエの目レンズ、マイクロレンズアレイ等が用いられる。
【００２４】
インテグレータ１０の射出光束はコンデンサーレンズ１１で集光されて、露光領域を規定するためのマスキングブレード１３が位置する平面を所望の光強度分布で照明する。マスキングブレード１４はレチクルステージＲＳに保持されるレチクルＲの露光範囲を規定するために配置され、レチクルＲおよびウェハステージＷＳに保持されるフォトレジスト等の感光剤が塗布された基板（ウェハ）Ｗとともに同期して走査される。
【００２５】
１２は矩形形状の照明光を形成するためのスリット装置で、被照射面あるいはその共役面もしくはそれらの近傍に配置される。可変スリット装置１２には、照明領域の走査方向中心付近を遮光する遮光部材１２ｂが配置されており、遮光部材１２ｂはその走査方向の遮光幅を変えることにより、照明領域に形成された遮光領域の走査方向長さを変えることができる。遮光部材１２ｂにより、積算露光量の像高毎のむらを補正することができる。可変スリット装置１２は被照射面あるいはその共役面もしくはそれらの近傍に配置されていればよく、マスキングブレード１４の下流側に配置されていてもよい。
【００２６】
１１、１５、１７はマスキングブレード１４上の光強度分布をレチクルＲ上に投影するリレー光学系である。レチクルＲ上に形成されたパターンは投影光学系ＰＯによって基板Ｗ上に投影露光される。
【００２７】
レチクルステージＲＳ及びウェハステージＷＳは走査する方向を光軸に対して傾けることができる構造になっている。両ステージのうちいずれか一方を傾けて走査露光することによって、焦点深度の拡大を達成することができる。
【００２８】
図５に本発明による可変スリット装置１２の一例を示す。図５中のＺ軸は光軸方向を示しており、図５（ａ）は可変スリット装置１２を光軸方向から見た図、図５（ｂ）はスリット方向から見た図である。本発明の遮光部材１２ｂは走査方向位置毎に幅が異なる薄い板で形成されており、可変スリット装置１２によって形成される矩形形状の照明領域ＥＬの走査方向中心付近を遮光するように配置されている。また、遮光部材１２ｂはスリット方向に平行な回転軸で回転可能なように構成されており、スリット方向に平行な回転軸で回転することにより、照明領域におけるその走査方向遮光幅をスリット方向位置毎に変化させることができる。照明領域におけるスリット方向遮光幅を変化させることによって、照明光の強度が高い領域の遮光量を増やし、積算露光量を調整する。このとき、遮光部材１２ｂによって照明領域に形成される遮光領域は、矩形形状の照明領域の走査方向中心に関して、ほぼ対称をなすことが望ましい。
【００２９】
図５に示す形状の遮光部材１２ｂを用いれば、積算露光量が例えば図６のような形状の２次の照度むらを解消することができる。遮光部材１２ｂの回転角度は、発生している照度むらの大きさにより決定される。また、遮光部材１２ｂが図７に示す形状の場合には、図８のような形状の１次の照度むらを解消することができる。遮光部材１２ｂが図９に示す形状の場合には、図１０のような形状の４次の照度むらを解消することができる。
【００３０】
より複雑な形状の照度むらに対しては、複数の異なる形状の遮光部材を用いればよい。例えば、図５と図７に示す遮光部材を組み合わせて用いることで、図１１のような形状の照度むらを解消することができる。このとき、個々の遮光部材は光軸に平行、あるいは垂直な方向に駆動できるようにすることで、様々な形状の照度むらを解消することができる。
【００３１】
また、本発明による可変スリット装置１２は、一箇所に限定されて配置される必要は無い。例えば被照射面の共役面の前後に可変スリット装置１２を配置したり、被照射面の共役面が２箇所つくられるように光学系を構成し、各々の共役面に可変スリット装置１２を配置してもよい。
【００３２】
本発明による可変スリット装置１２を備えた走査露光装置を用いれば、照明領域の積算露光量が均一になるように調整しても、走査露光を開始する走査方向位置と走査露光を終了する走査方向位置とをスリット方向位置毎に変化させることはない。したがって、焦点深度を拡大させる目的でステージＲＳまたはステージＷＳを傾けて露光する際にも、フォーカスレンジやその中心位置をスリット方向位置毎に一定に保ったまま積算露光量を調整することができる。その結果、基板上に形成されるパターンの線幅の均一性を向上することができる。
【００３３】
ここで、本発明にとって遮光部材１２ｂの正確な形状は重要ではないことは明らかである。しかし、その最大開口位置における遮光量を小さくするために、遮光部材１２ｂはできるだけ薄く作られることが望ましい。
【００３４】
次に、照度むらに起因する露光むらを補正する際の可変スリット装置１２の具体的な動作について説明する。照明光の光路中に配置された不図示の照度計により、照明光の照度分布が計測される。計測された照度分布に基づいて、照明領域の積算露光量を均一にするように、遮光部材１２ｂが駆動される。
【００３５】
なお、本発明による可変スリット装置１２は、照度むらに起因する露光むらを補正する場合に限らず用いられる。例えば、基板に塗布されたフォトレジストの膜厚にむらがある場合には、露光装置外部のレジスト厚計測装置（不図示）によりレジスト厚を計測し、その計測結果に基づいて遮光部材１２ｂを駆動させることも可能である。すなわち、レジストの膜厚が厚い領域では露光量を増やし、膜厚が薄い領域では露光量を少なくすることにより、フォトレジストを均一に露光することもできる。
【００３６】
また、露光装置外部の線幅計測装置（不図示）により、既に露光処理された基板の線幅情報を計測し、その計測結果に基づいて遮光部材１２ｂを駆動させても良い。すなわち、線幅情報の計測結果に基づいて、新たな基板を露光する際に照明光の積算露光量を補正し、基板上に形成されるパターンの線幅を均一にすることもできる。このように、露光むらを直接計測し、その計測結果に基づいて照明光の積算露光量を調整してもよい。
【実施例２】
【００３７】
本発明第２の実施例において、可変スリット装置１２を構成する遮光部材１２ｂを、スリット方向に配列された複数のブレードにより構成するという以下に記載のことを除いては、本発明第１の実施例と基本的に同様である。
【００３８】
図１２は本発明第２の実施例にかかる遮光部材１２ｂを示す図である。この可変スリット装置１２を構成する遮光部材１２ｂは、スリット方向に平行な共通の回転軸２０をもつ複数のブレード２１〜ブレード２４により構成される。ブレード２１〜ブレード２４はスリット方向に平行な回転軸２０で連続的に回転が可能であり、かつそれぞれ独立に回転することが可能であり、照明領域における走査方向の遮光幅を独立に変化させることができる。また、ブレード２１〜ブレード２４はそれぞれ隣接するブレード同士の照明領域における影が重なるように配置されており、照明領域のスリット方向に対して隙間無く積算露光量を調整可能なように配置されている。
【００３９】
ブレード２１〜ブレード２４はスリット方向に平行な回転軸でそれぞれ独立に回転することにより、照明領域におけるその走査方向遮光幅を部分的に変化させることができる。照明領域における走査方向遮光幅を部分的に変化させることによって、露光むらが解消されるように積算露光量を調整する。
【００４０】
ここで、図１２中には４枚のブレードが描かれているが、露光むらをより良好に解消するにはブレードの数はできるだけ多いことが望ましいことはもちろんである。また、図１２中のブレードの回転角や大きさは誇張して描かれているということも理解されたい。例えばスリット形状の露光領域の走査方向幅が１０ｍｍであれば、積算露光量を１０％変化させるには、ブレードの走査方向遮光幅の変化は最大で１ｍｍあればよい。したがって、ブレードの回転角が小さいか、もしくはブレードの長さそのものが１ｍｍあればよい。
【００４１】
以上、複数のブレードにスリット方向に平行な回転軸をもつブレードを用いる例について説明してきたが、複数のブレードは例えば図１３に示すような走査方向に伸縮するブレードであってもよい。
【００４２】
走査方向に伸縮する複数のブレードは、例えばそれぞれに電極が接続された圧電素子で形成されている。圧電素子は印加する電圧によって伸縮する素子であり、非常に精度の高い駆動が可能である。
【００４３】
また、走査方向に伸縮する複数のブレードは、例えば熱膨張素子によって形成されてもよい。ブレードにはブレードの温度を調整する熱電素子と、ブレードの温度を計測する温度計が接続されている。熱電素子は印加する電圧によって、加熱、冷却が可能な素子である。熱膨張素子によって形成されたブレードは、照明光を照射されることによって温度変化してしまい、それに伴ってブレードの走査方向遮光幅が変化してしまうことが懸念される。それを防ぐためにブレードに接続された温度計によってブレードの温度を逐次計測し、ブレードの走査方向遮光幅が一定に保たれるように、熱電素子によって温度を調整することが望ましい。
【００４４】
本発明第２の実施例では、スリット方向位置毎に独立に遮光量を制御できるため、複雑な形状の露光むらであっても良好に解消することができる。その結果、ウェハ上に形成されるパターンの線幅を均一にすることができる。
【実施例３】
【００４５】
本発明第３の実施例は、可変スリット装置１２の遮光部材１２ｂに任意形状に加工されたテープを用いるという以下に記載の内容を除いては、本発明第１の実施例と基本的に同様である。
【００４６】
図１４は本発明第３の実施例にかかる可変スリット装置１２を示している。この可変スリット装置は、遮光部材１２ｂを形成するテープ３０と、テープ３０を任意の形状に加工する加工装置３１と、テープ３０を光路中に移送、回収するテープ移送部３２から構成される。
【００４７】
テープ３０は例えば薄い金属性のテープである。テープ３０はできるだけ薄いことが望ましく、厚みは例えば１０μｍである。これは、スリット形状の照明光を遮光する光軸方向の位置をできるだけ等しくして照明光の形状を正確に任意の形状に変形させるためであり、更にはテープの加工を容易にするためである。
【００４８】
カッター３３は走査方向に回転軸を有する円盤状の刃物からなり、カッター駆動部３４はカッター３３をスリット方向に回転させつつ、カッター３３を走査方向に移動させる。テープ３０の一方の側辺はカッター３３により任意の形状に加工され、テープ３０の走査方向幅を所望の幅に変化させる。
【００４９】
さらに、テープ移送部３２が光路中に加工されたテープ３０を送り出すことにより、これを遮光部材１２ｂとして照明領域の積算露光量を調整する。テープ３０の形状は照度むらやレジスト膜厚、露光むらの計測結果に基づいて、露光むらが解消されるように決定される。
【００５０】
以上、テープ加工部として円盤状のカッターを用いた場合について説明したが、カッターの形状は円盤状に限らず例えば板状など任意の形状でよい。また、テープ加工部は円盤状の刃物に限らず、レーザー加工機などテープの形状を任意に加工できるものであればよい。また、テープ加工部は２つでもよく、テープ３０の両方の側辺を同時に加工するようにしてもよい。
【００５１】
本発明第３の実施例では、任意形状のテープを遮光部材１２ｂとして用いるため、比較的簡単な構成で良好に露光むらを解消することができる。その結果、ウェハ上に形成されるパターンの線幅を均一にすることができる。
【００５２】
なお、本発明は上述した各実施例に限定されず、本発明の要旨を逸脱しない範囲で異なる構成を取り得ることはもちろんである。
【図面の簡単な説明】
【００５３】
【図１】本発明第１の実施例にかかる走査露光装置を概略的に示す図。
【図２】基板ステージを傾けて走査露光することにより、基板が多数の焦平面で露光される様子を表す図。
【図３】従来の可変スリット装置を示す図。
【図４】従来の可変スリット装置を用いて基板ステージを傾けて走査露光した場合、フォーカスレンジがスリット方向位置毎に異なる様子を表す図。
【図５】本発明第１の実施例にかかる可変スリット装置の一例を示す図。
【図６】図５の可変スリット装置により解消することができる照度むらの形状を表す図。
【図７】本発明第１の実施例にかかる可変スリット装置の一例を示す図。
【図８】図７の可変スリット装置により解消することができる照度むらの形状を表す図。
【図９】本発明第１の実施例にかかる可変スリット装置の一例を示す図。
【図１０】図９の可変スリット装置により解消することができる照度むらの形状を表す図。
【図１１】図５と図７の遮光部材を組み合わせて用いることにより解消することができる照度むらの形状を表す図。
【図１２】本発明第２の実施例にかかる可変スリット装置を構成するスリット方向に平行な共通の回転軸をもつ複数のブレードを示す図。
【図１３】本発明第２の実施例にかかる可変スリット装置を構成する走査方向に伸縮する複数のブレードを示す図。
【図１４】本発明第３の実施例にかかる可変スリット装置を示す図。
【符号の説明】
【００５４】
１  光源
２  引き回し光学系
３  回折光学素子
４  アクチュエータ
５  コンデンサーレンズ
６  回折パターン面
７  プリズム
８  ズームレンズ
９  折り曲げミラー
１０  インテグレータ
１１  コンデンサーレンズ
１２  可変スリット装置
１２ｂ  遮光部材
１４  マスキングブレード
１５  コンデンサーレンズ
１６  折り曲げミラー
１７  コリメータレンズ
２０  回転軸
２１〜２４  ブレード
３０  テープ
３１  加工装置
３２  テープ移送部
３３  カッター
Ｒ  レチクル
ＲＳ  レチクルステージ
ＰＯ  投影光学系
Ｗ  ウェハ
ＷＳ  ウェハステージ
ＡＩ  光学像
ＢＦ  ベストフォーカス位置
ＦＲ  フォーカスレンジ
ＶＳ  可変スリット装置
【図１】
2010118403.tif 000005
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
2010118403.tif 000011
【図８】
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【図９】
2010118403.tif 000013
【図１０】
2010118403.tif 000014
【図１１】
2010118403.tif 000015
【図１２】
2010118403.tif 000016
【図１３】
2010118403.tif 000017
【図１４】
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