(57)【要約】【課題】      遊離フェノール性水酸基を有するポリシロキサン化合物に容易に変換可能なポリシロキサン化合物、及びその製造方法を提供すること。【解決手段】  式（１）のシラン化合物中にアルコキシ基１当量当り０．７５〜１０当量の水で加水分解した反応物で、２９Ｓｉ−ＮＭＲ測定の珪素種Ｔ０、Ｔ１、Ｔ２、Ｔ３と帰属される全シグナル中Ｔ３の面積が２０〜１００%であるポリシロキサン化合物、及び式（１）の化合物を加水分解するポリシロキサン化合物の製造方法。  【化１】2010095689.tif 000006【選択図】    なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（１）で表されるシラン化合物に存在するアルコキシ基１当量あたり０．７５〜１０当量の水で加水分解して得られる反応物であって、２９Ｓｉ−ＮＭＲ測定において、珪素種Ｔ０、Ｔ１、Ｔ２、Ｔ３として帰属される全シグナルのうちＴ３シグナルの面積が２０〜１００%を占めるポリシロキサン化合物。
【化１】
2010095689.tif 000005
（式中、ｍは１〜５の整数を表し、ｎは０〜１０の整数を表し、kは１または２を表し、Ｒ１〜Ｒ３、及びＲ9は炭素数１〜１０の飽和脂肪族炭化水素置換基、またはベンゼン環に炭素数１〜１０の飽和脂肪族置換基が０〜５個結合している芳香族炭化水素基を表し、Ｒ４〜Ｒ8は水素原子、炭素数１〜１０の飽和脂肪族炭化水素置換基、またはベンゼン環に炭素数１〜１０の飽和脂肪族置換基が０〜５個結合している芳香族炭化水素基を表す。）
【請求項２】
前記加水分解反応を、アルカリの存在下で行うことを特徴とする請求項１に記載のポリシロキサン化合物。
【請求項３】
前記加水分解反応を、有機溶剤の共存下で行うことを特徴とする請求項１または２に記載のポリシロキサン化合物。
【請求項４】
前記Ｔ３シグナルの面積が４０〜１００％を占めることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のポリシロキサン化合物。
【請求項５】
前記一般式（１）中、ｍが１、Ｒ４〜Ｒ8が水素原子である請求項１〜４のいずれかに記載のポリシロキサン化合物。
【請求項６】
前記一般式（１）で表されるシラン化合物に存在するアルコキシ基１当量あたり０．７５〜１０当量の水で加水分解させる請求項１〜５のいずれかに記載のポリシロキサン化合物の製造方法。
【請求項７】
前記加水分解をアルカリの存在下で行うことを特徴とする請求項６に記載のポリシロキサン化合物の製造方法。
【請求項８】
前記加水分解を、有機溶剤の共存下で行うことを特徴とする請求項６または７に記載のポリシロキサン化合物の製造方法。
【請求項９】
請求項１〜５のいずれかに記載のポリシロキサン化合物のアセタール構造を酸の存在下で加水分解させる遊離フェノール性水酸基含有型ポリシロキサン化合物の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ポリシロキサン化合物およびその製造方法に関する。さらに詳しくは、遊離フェノール性水酸基を有するポリシロキサン化合物に容易に変換可能なポリシロキサン化合物およびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機-無機ハイブリッド材料は予想外の特性を発揮しうる材料として現在注目されている。中でもトリアルコキシシラン化合物を原料に合成されるシルセスキオキサン化合物はそのキーマテリアルの一つと位置付けられる。実際、多様な構造のシルセスキオキサン化合物が現在までに合成されており、これを利用した材料開発に関する研究が盛んである。
【０００３】
現在までに様々な官能基を所有したシルセスキオキサン化合物の合成例が報告されているその一方で、フェノール性水酸基をその分子内に所有するシルセスキオキサン化合物の合成報告例は希有である。特にフェノール誘導型のトリアルコキシシラン化合物を原料に遊離フェノール性水酸基を所有するシルセスキオキサン化合物を選択的に合成するためには、加水分解条件下で進行するシロキサン架橋形成の最中に遊離フェノール性水酸基がもたらすフェノキシシラン種による架橋反応が併発しないよう反応を制御する必要がある。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明の目的は、遊離フェノール性水酸基を有するポリシロキサン化合物を効率的に与えることが可能なその前駆体およびその製造方法を提供することを目的とする。
本発明はまた、遊離のフェノール性水酸基を発生しうる保護基でその水酸基を保護したままフェノール誘導型シラン化合物を加水分解させて、遊離フェノール性水酸基を有するポリシロキサン化合物に容易に変換可能なポリシロキサン化合物を効率的に与えるための製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、下記一般式（１）で表されるシラン化合物１当量あたり０．７５〜１０当量の水で加水分解して得られる反応物であって、２９Ｓｉ−ＮＭＲ測定において、珪素種Ｔ０、Ｔ１、Ｔ２、Ｔ３として帰属される全シグナルのうちＴ３シグナルの面積が２０〜１００%を占めるポリシロキサン化合物を提供する。
【０００６】
【化１】
2010095689.tif 000002
（式中、ｍは１〜５の整数を表し、ｎは０〜１０の整数を表し、kは１または２を表し、Ｒ１〜Ｒ３、及びＲ6〜Ｒ9は炭素数１〜１０の飽和脂肪族炭化水素置換基、またはベンゼン環に炭素数１〜１０の飽和脂肪族置換基が０〜５個結合している芳香族炭化水素基を表し、Ｒ４およびＲ５は水素原子、炭素数１〜１０の飽和脂肪族炭化水素置換基、またはベンゼン環に炭素数１〜１０の飽和脂肪族置換基が０〜５個結合している芳香族炭化水素基を表す。）
【０００７】
本発明はまた、前記一般式（１）で表されるシラン化合物１当量あたり０．７５〜１０当量の水で加水分解させる前記したポリシロキサン化合物の製造方法を提供する。
【０００８】
本発明はさらに、前記の製造方法により得られるポリシロキサン化合物を酸の存在下で加水分解させる遊離フェノール性水酸基含有型ポリシロキサン化合物の製造方法を提供する。
【発明の効果】
【０００９】
本発明により、効率的にフェノール性水酸基を有するポリシロキサン化合物を与えることが可能なポリシロキサン化合物およびその製造方法が提供される。また、前記のポリシロキサン化合物を遊離フェノール性水酸基含有型ポリシロキサン化合物に効率的に変換する製造方法が提供される。
本方法によれば、ゾルゲル反応時に水酸基が保護されているため、ゾルゲル反応時に遊離したフェノール性OH基とアルコキシシランの反応による部分３次元ゲル化や分子量分布の増大などが抑制され、低分子量で分子量分布がシャープな溶解性などに優れたポリシロキサン化合物を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
本発明は、下記一般式（１）で表されるシラン化合物１当量あたり０．７５〜１０当量の水で加水分解して得られる反応物であって、２９Ｓｉ−ＮＭＲ測定において、珪素種Ｔ０、Ｔ１、Ｔ２、Ｔ３として帰属される全シグナルのうちＴ３シグナルの面積が２０〜１００%を占めるポリシロキサン化合物を提供する。
【００１１】
【化２】
2010095689.tif 000003
【００１２】
式（１）中、ｍは１〜５の整数を表し、ｎは０〜１０の整数を表し、ｋは１または２を表す。
Ｒ１〜Ｒ３、及びＲ6〜Ｒ9は炭素数１〜１０の飽和脂肪族炭化水素置換基、またはベンゼン環に炭素数１〜１０の飽和脂肪族置換基が０〜５個結合している芳香族炭化水素基を表す。
Ｒ４およびＲ５は水素原子、炭素数１〜１０の飽和脂肪族炭化水素置換基、またはベンゼン環に炭素数１〜１０の飽和脂肪族置換基が０〜５個結合している芳香族炭化水素基を表す。
【００１３】
一般式（１）で表されるシラン化合物は、アルカリ性条件下の加水分解において遊離フェノール性水酸基の発生を伴わずにシロキサン架橋形成のみが選択的に進行し、その後の酸性条件下の加水分解により容易に遊離フェノール性水酸基を発生させることができる構造のものである。すなわちフェノール性水酸基がアセタール構造により保護されたシラン化合物が使用される。そのようなシラン化合物の具体例として、１−[２−（１−エトキシエトキシ）フェニル]エチルトリエトキシシラン、１−[３−（１−エトキシエトキシ）フェニル]エチルトリエトキシシラン、１−[４−（１−エトキシエトキシ）フェニル]エチルトリエトキシシラン、２−[２−（１−エトキシエトキシ）フェニル]エチルトリエトキシシラン、２−[３−（１−エトキシエトキシ）フェニル]エチルトリエトキシシラン、２−[４−（１−エトキシエトキシ）フェニル]エチルトリエトキシシラン、１−メチル−２−[２−（１−ブトキシエトキシ）フェニル]エチルトリエトキシシラン、１−メチル−２−[３−（１−ブトキシエトキシ）フェニル]エチルトリエトキシシラン、１−メチル−２−[４−（１−ブトキシエトキシ）フェニル]エチルトリエトキシシラン、３−[２−（１−ブトキシエトキシ）フェニル]プロピルトリエトキシシラン、３−[３−（１−ブトキシエトキシ）フェニル]プロピルトリエトキシシラン、３−[４−（１−ブトキシエトキシ）フェニル]プロピルトリエトキシシラン、２−[２−（１−プロポキシエトキシ）フェニル]エチルトリメトキシシラン、２−[３−（１−プロポキシエトキシ）フェニル]エチルトリメトキシシラン、２−[４−（１−プロポキシエトキシ）フェニル]エチルトリメトキシシラン、３−[２−（１−ブトキシプロポキシ）フェニル]プロピルトリプロポキシシラン、３−[３−（１−ブトキシプロポキシ）フェニル]プロピルトリプロポキシシラン、３−[４−（１−ブトキシプロポキシ）フェニル]プロピルトリプロポキシシラン、１−メチル−１−[３−（１−メトキシエトキシ）−５−（１−エトキシエトキシ）フェニル]エチルトリメトキシシラン、１−[３，４，５−トリ（１−メトキシ−１−メチルエトキシ）フェニル]プロピルトリエトキシシラン、１−[２，４，６−トリ（１−エトキシ−１−プロポキシ）フェニル]プロピルトリプロポキシシランなどを挙げることができる。
【００１４】
上記シラン化合物の加水分解により遊離フェノール性水酸基を発生させずにシロキサン架橋のみを進行させポリシロキサン化合物に誘導することができるアルカリ性触媒としては、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化ルビジウム、水酸化セシウム、アンモニア水、水酸化テトラメチルアンモニウム、水酸化テトラエチルアンモニウム、水酸化テトラプロピルアンモニウム、水酸化テトライソプロピルアンモニウム、水酸化テトラブチルアンモニウム、水酸化テトライソブチルアンモニウム、コリン等の水酸化物を例示することができる。使用量は一般式（１）で表されるシラン化合物に存在するアルコキシ基１当量に対し、アルカリ性触媒は０．０００１〜１当量の使用が好ましい。
【００１５】
上記アルカリ性加水分解に用いる水の添加量は、一般式（１）で表されるシラン化合物に存在するアルコキシ基１当量に対し０．７５〜１０当量、好ましくは１．５〜５当量使用することが望ましい。
【００１６】
上記の加水分解によりポリシロキサン化合物に変換した後は、酸性触媒存在下の加水分解によりフェノール性水酸基を遊離させることができる。そのような酸性触媒としては、塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、硝酸、硫酸等のような無機酸、蟻酸、酢酸、プロピオン酸、蓚酸等のカルボン酸、メタンスルホン酸、p-トルエンスルホン酸、トルフルオロメタンスルホン酸等のスルホン酸を例示することができる。使用量は一般式（１）で表されるシラン化合物に存在するアルコキシ基１当量に対し、酸性触媒は０．０００１〜１当量の使用が好ましい。
【００１７】
上記酸性加水分解に用いる水の添加量は、一般式（１）のシラン化合物に存在するアルコキシ基１当量に対し０．０１〜１００当量、好ましくは１〜５０当量使用することが望ましい。
【００１８】
また、加水分解反応では必要に応じて溶媒を使用することもできる。例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノール、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、クロロホルム、テトラヒドロフラン等が使用可能であるが、原料を完全に溶解しうる性質のものの使用が特に好ましく、中でもメタノール、エタノール、イソプロパノール、テトラヒドロフラン等の使用が好適である。これら溶剤の使用量は使用原料に対する溶解性で変化するが、例えば一般式（１）のシラン化合物１重量部に対し１００重量部以下、好ましくは０．１〜１００、更に好ましくは０．２〜１０重量部とするのがよい。
加水分解の反応温度は用いる溶剤や触媒種により異なるが、通常は０〜２００℃の範囲、好ましくは２５〜８０℃の範囲とするのがよい。
【００１９】
本発明の加水分解反応により、原料シランに含まれる１個の珪素原子は最大３つのシロキサン結合を形成しうる。２９Ｓｉ−ＮＭＲでは、珪素原子１個当たりのシロキサン結合が０の時は最も低磁場の化学シフトのシグナルとして観測され、シロキサン結合の増加とともに化学シフトも順次高磁場にシフトする。これらシロキサン結合数ｎに由来するシグナルをＴｎと帰属し、シロキサン結合数０〜３と対応させてＴ０〜Ｔ３と表す。本発明で行われる加水分解の反応条件に従えば、Ｔ３シグナルの面積が２０〜１００％の範囲となるポリシロキサン化合物を合成することができ、反応条件の工夫で範囲の制御も可能である。特に用途によっては後述のエポキシ樹脂硬化剤としての利用を考える場合、Ｔ３シグナルの面積の範囲を４０〜１００％としたものが好ましい。
【００２０】
かくして得られるポリシロキサン化合物は遊離のフェノール性水酸基を発生させることでエポキシ樹脂硬化剤としての利用が可能である。すなわち、エポキシ樹脂組成物として用いることで、その硬化により有機-無機ハイブリッド構造を有するエポキシ樹脂硬化物を与える。
【００２１】
本発明のポリシロキサン化合物からなるエポキシ樹脂硬化剤とともに使用することができるエポキシ樹脂としては、例えばビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、フェノールアラルキル型エポキシ樹脂、ナフトールアラルキル型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、ジヒドロキシナフタレン型エポキシ樹脂などのグリシジルエーテル型エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、ハロゲン型エポキシ樹脂など、分子中にエポキシ基を２個以上有するエポキシ樹脂が挙げられる。これらエポキシ樹脂は単独で使用しても、２種類以上を併用してもよい。そのときの配合比は、ポリシロキサン化合物に含まれる遊離のフェノール性水酸基及びその保護体の共通構造であるフェノキシ基を１当量としたとき、エポキシ樹脂に含まれるエポキシ基の当量が０．５〜１．５、特に０．８〜１．２の範囲にあることが好ましい。
【００２２】
エポキシ樹脂の硬化に際しては、硬化促進剤を併用することが望ましい。かかる硬化促進剤としては、エポキシ樹脂をフェノール樹脂系硬化剤で硬化させるための公知の硬化促進剤を用いることができ、例えば第３級アミン、第４級アンモニウム塩、イミダゾール類、有機ホスフィン化合物、第４級ホスホニウム塩などを挙げることができる。より具体的には、トリエチルアミン、トリエチレンジアミン、ベンジルジメチルアミン、2,4,6-トリス（ジメチルアミノメチル）フェノール、1,8-ジアザビシクロ（5,4,0）ウンデセン-7などの第3級アミン、イミダゾール、2-メチルイミダゾール、2,4-ジメチルイミダゾール、2-エチル-4-メチルイミダゾール、2-フェニルイミダゾール、2-フェニル-4-メチルイミダゾールなどのイミダゾール類、トリフェニルホスフィン、トリブチルホスフィン、トリ（p-メチルフェニル）ホスフィン、トリ（ノニルフェニル）ホスフィンなどの有機ホスフィン化合物、テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート、ビスフェノール類のテトラフェニルホスホニウム塩などのホスホニウム化合物を挙げることができる。その使用量は種類によっても異なるが、エポキシ樹脂１００重量部に対して０．１〜５重量部の範囲で使用するのが好ましい。
【００２３】
このほか本発明のエポキシ樹脂硬化剤には、必要に応じて、他種硬化剤、充填剤、カップリング剤、離型剤、着色剤、難燃剤、難燃助剤、低応力剤などを、添加または予め反応して用いることもできる。
【００２４】
かくして本発明のポリシロキサン化合物をミキサーなどによりエポキシ樹脂をはじめとする上記配合剤と混合、熱ロールやニーダーなどによる混練、粉砕、などの一般的な手法を経て成形材料とする。そのエポキシ樹脂組成物の硬化は、例えば１００〜２５０℃の温度範囲で行うことができ、有機-無機ハイブリッド構造を有する成形体とすることができる。
【実施例】
【００２５】
以下に実施例を用いて本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれらの例によって何ら制限されるものではない。
【００２６】
本発明における分析方法は、下記の方法により行なった。
（１）溶融粘度
ＩＣＩ溶融粘度計により１５０℃時の溶融粘度を測定した。
（２）水酸基当量
ＪＩＳ  Ｋ００７０に記載の電位差滴定法に準拠して測定した。
【００２７】
（参考例１）２−（１−ブトキシエトキシ）フェニルプロペンの合成
２−アリルフェノール１３４．８ｇ（１０００ミリモル）、ブチルビニルエーテル１１０．２ｇ（１１００ミリモル）、蓚酸二水和物０．０５ｇ（０．４ミリモル）の混合物を７０℃で４時間保持した後、さらに蓚酸二水和物０．１５ｇ（１．２ミリモル）を加えて７０℃で１０時間保持することで反応物２２８．５ｇを得た。
【００２８】
（参考例２）３−（２−（１−ブトキシエトキシ）フェニル）プロピルトリエトキシシランの合成
トリエトキシシラン（東京化成工業（株）製）５１．７ｇ（３１５ミリモル）とトリス（トリフェニルホスフィン）ロジウム(I)クロリド（東京化成工業（株）製）０．５６ｇ（０．６ミリモル）の８０℃の混合物に参考例1に記載の方法により合成した２−（１−ブトキシエトキシ）フェニルプロペン７０．３ｇ（３００ミリモル）を滴下し4時間保持した。冷却後、反応液にヘプタン１８０ｇ、N,N-ジメチルホルムアミド６０ｇを加えて激しく攪拌した。分離した反応液の上層のみを回収し、これにメタノール５ｇを加えて攪拌し分離する下層成分を除去するこの操作を３回繰り返した。得られるヘプタン層を減圧留去することで、３−（２−（１−ブトキシエトキシ）フェニル）プロピルトリエトキシシラン７７．６ｇを得た。
【００２９】
（実施例１）３−（２−（１−ブトキシエトキシ）フェニル）プロピルトリエトキシシラン由来ポリシロキサン体Ａの合成
参考例２記載の３−（２−（１−ブトキシエトキシ）フェニル）プロピルトリエトキシシラン３１．８ｇ（８０ミリモル）、２６％−水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液３．９ｇ、テトラヒドロフラン４０ｇの混合物を室温で２時間攪拌した後、テトラヒドロフラン還流下で２時間保持した。冷却後、反応溶液に４−メチル−２−ペンタノン４０ｇと飽和食塩水４０ｇを加えて攪拌し、分離した反応液の上層のみを回収した。この上層に再び飽和食塩水を加えて攪拌し、分離した下層のｐＨが７になるまでこの操作を繰り返した。回収した上層は硫酸マグネシウム２ｇで乾燥させた。乾燥後、水分を吸着した硫酸マグネシウムを濾過により除去して得られる溶液を減圧留去することで、ポリシロキサン体Ａ１８．９ｇ（黄褐色の粘稠な液体）を得た。
得られたポリシロキサン体Ａの29Si−ＮＭＲチャートを図１に、IＲチャートを図２に示した。図１より、観測されたシグナルはその化学シフトから珪素種T2およびT3に帰属される。そのうちT3シグナルの面積は全シグナルの面積の８０％であった。図２では水酸基に由来する伸縮振動のピーク強度が小さく、アセタール構造がアルカリ性加水分解条件下で保持されることがわかる。
【００３０】
（実施例２）ポリシロキサン体Ａ由来遊離フェノール性水酸基含有ポリシロキサン体Ｂの合成
実施例１記載のポリシロキサン体Ａ８．６１ｇ（アセタール当量として２８７ｇ／eq）、蓚酸二水和物０．０４ｇ、水７．５ｇ、メタノール７．５ｇの混合物を５０℃で２時間攪拌し、冷却後、反応溶液に４−メチル−２−ペンタノン３０ｇを加えて攪拌し、分離した反応液の上層のみを回収した。この上層に再び水を加えて攪拌し、分離した下層のｐＨが７になるまでこの操作を繰り返した。回収した上層は硫酸マグネシウム１ｇで乾燥させた。乾燥後、水分を吸着した硫酸マグネシウムを濾過により除去して得られる溶液を減圧留去することで、ポリシロキサン体Ｂ５．０ｇ（黄褐色の粘稠な液体）を得た。
得られたポリシロキサン体Ｂの29Si−ＮＭＲチャートを図３に、IＲチャートを図４に示した。図３より、観測されたシグナルはその化学シフトから珪素種Ｔ２およびＴ３に帰属される。そのうちT3シグナルの面積は全シグナルの面積の８３％であった。図４では水酸基に由来する伸縮振動のピークがポリシロキサン体Ａのそれより大きくなっており、アセタール構造が加水分解されて遊離のフェノール性水酸基を発生したことがわかる。
【００３１】
（参考例３）２−アセトキシフェニルプロペンの合成
２−アリルフェノール１３４．８ｇ（１０００ミリモル）をピリジン１５０ｇに溶解させた後、無水酢酸１０５．１１ｇ（１０１０ミリモル）を１０分かけて滴下し、５０℃で１時間保持した。冷却後、ヘプタン１００ｇを加え、これに１０％食塩水５０ｇを加えて攪拌し分離する下層成分を除去するこの操作を５回繰り返した。得られるヘプタン層を減圧留去することで、２−アセトキシフェニルプロペン１７１．８ｇを得た。
【００３２】
（参考例４）３−（２−アセトキシフェニル）プロピルトリエトキシシランの合成
トリエトキシシラン５１．７ｇ（３１５ミリモル）とトリス（トリフェニルホスフィン）ロジウム（Ｉ）クロリド０．５６ｇ（０．６ミリモル）の８０℃の混合物に参考例３に記載の方法により合成した２−アセトキシフェニルプロペン５２．８６ｇ（３００ミリモル）を滴下し４時間保持した。冷却後、反応液にヘプタン１８０ｇ、N,N-ジメチルホルムアミド６０ｇを加えて激しく攪拌した。分離した反応液の上層のみを回収し、これにメタノール５ｇを加えて攪拌し分離する下層成分を除去するこの操作を３回繰り返した。得られるヘプタン層を減圧留去することで、３−（２−アセトキシフェニル）プロピルトリエトキシシラン６６．２１ｇを得た。
【００３３】
（比較例１）遊離フェノール性水酸基含有３−（２−アセトキシフェニル）プロピルトリエトキシシラン由来ポリシロキサン体Ｃの合成
８６％水酸化カリウム１３．０ｇ（２００ミリモル）、水２．７ｇ（１５０ミリモル）、エタノール４０ｇ、参考例４に記載の３−（２−アセトキシフェニル）プロピルトリエトキシシラン１７．０ｇ（５０ミリモル）の混合物を８０℃で２４時間保持した。冷却後、反応溶液に４−メチル−２−ペンタノン１００ｇと４％塩酸２００ｇを加えて分液させ下層を除去した。回収した上層は１０％食塩水５０ｇで５回洗浄した後、硫酸マグネシウム３ｇで乾燥させた。乾燥後、水分を吸着した硫酸マグネシウムを濾過して除去して得られる溶液を減圧留去することで、ポリシロキサン体Ｃ７．８ｇ（淡黄色透明のガラス状固体）を得た。その29Si−ＮＭＲチャートを図５に、ＩＲチャートを図６に示した。
実施例２および比較例１に記載の遊離フェノール性水酸基含有ポリシロキサン化合物ＢおよびＣの性状を表１に示す。
【００３４】
【表１】
2010095689.tif 000004
【００３５】
表１のポリシロキサン化合物Ｂは、ポリシロキサン化合物Ｃと比べて粘度、水酸基当量、数平均分子量、Mw/Mn比のいずれの値も小さい。これらのことより、実施例２が与えるポリシロキサン化合物Ｂは、シロキサン架橋形成反応とその後の脱保護反応が同時進行せずにそれぞれ精密に制御されて合成されたことがわかる。
【図面の簡単な説明】
【００３６】
【図１】実施例１で得られたポリシロキサン体Ａの２９Ｓｉ−ＮＭＲチャートである。
【図２】実施例１で得られたポリシロキサン体ＡのＩＲチャートである。
【図３】実施例２で得られたポリシロキサン体Ｂの２９Ｓｉ−ＮＭＲチャートである。
【図４】実施例２で得られたポリシロキサン体ＢのＩＲチャートである。
【図５】比較例１で得られたポリシロキサン体Ｃの２９Ｓｉ−ＮＭＲチャートである。
【図６】比較例１で得られたポリシロキサン体ＣのＩＲチャートである。
【図１】
2010095689.tif 000007
【図２】
2010095689.tif 000008
【図３】
2010095689.tif 000009
【図４】
2010095689.tif 000010
【図５】
2010095689.tif 000011
【図６】
2010095689.tif 000012