(57)【要約】【課題】平坦化層を兼ねる接着剤層付き反射防止フィルムの接着剤層でラミネートする場合でも、金属パターンによる凹凸及びパターンの断面形状が原因で気泡が発生し、残留気泡により透視性や反射防止効果が不十分なものとなるのを防止することのできる光学フィルタとその製造方法を提供する。【解決手段】透明基材上に、該透明基材に平行な仮想面で切断した面積が、該透明基材からの距離ｚの減少関数Ｓ（ｚ）となる金属パターン層を形成する金属パターン層形成工程と、剥離性基材上に光鏡面反射防止層及び接着剤層を積層してなる転写シートを準備し、該転写シートをその接着剤層側を金属パターン層側に対面する向きで重ねて、該金属パターン層上に圧着せしめ、該剥離性基材を剥離除去する光鏡面反射防止層転写工程とを有する電磁波遮蔽性と光鏡面反射防止性とを有する光学フィルタの製造方法である。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材の一方の面に金属パターン層と、透明樹脂からなり該金属パターン層の凹凸を埋めてその表面が平坦面である接着剤層と光鏡面反射防止層とがこの順に積層されてなる電磁波遮蔽性と光鏡面反射防止性とを有する光学フィルタの製造方法であって、
透明基材上に、該透明基材表面に平行な仮想面で切断した面積が、該透明基材からの距離ｚの減少関数Ｓ（ｚ）となる金属パターン層を形成する金属パターン層形成工程と、
前記金属パターン層形成工程後、剥離性基材上に光鏡面反射防止層及び接着剤層を積層してなる転写シートを準備し、該転写シートをその接着剤層側を金属パターン層側に対面する向きで重ねて、該金属パターン層上に圧着せしめ、該剥離性基材を剥離除去する光鏡面反射防止層転写工程とを、有することを特徴とする、電磁波遮蔽性と光鏡面反射防止性とを有する光学フィルタの製造方法。
【請求項２】
前記金属パターン層の金属がアルミニウムである、請求項１に記載の電磁波遮蔽性と光鏡面反射防止性とを有する光学フィルタの製造方法。
【請求項３】
前記アルミニウムから成る金属パターン層の少なくとも上面（透明基材に対して遠い側のアルミニウムパターン層表面）のアルミニウムの酸化皮膜の厚みが０〜１３Åである、請求項２に記載の電磁波遮蔽性と光鏡面反射防止性とを有する光学フィルタの製造方法。
【請求項４】
透明基材上に、該透明基材に平行な仮想面で切断した面積が、該透明基材からの距離ｚの減少関数Ｓ（ｚ）となるアルミニウムから成る金属パターン層と、透明樹脂からなり該金属パターン層の凹凸を埋めてその表面が平坦面である接着剤層と、光鏡面反射防止層とがこの順に積層されてなる電磁波遮蔽性と光鏡面反射防止性とを有する光学フィルタであって、
前記アルミニウムから成る金属パターン層の少なくとも上面（透明基材に対して遠い側のアルミニウムパターン層表面）のアルミニウムの酸化皮膜の厚みが０〜１３Åである、ことを特徴とする光学フィルタ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は光学フィルタ、特に画像表示装置（ディスプレイ）の前面に配置するのに好適な、電磁波遮蔽性と光鏡面反射防止性とを有する光学フィルタ及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
現在、電磁波遮蔽フィルタは、ディスプレイの前面に配置する用途などで使用されており、そのなかでも代表的にはプラズマディスプレイ（ＰＤＰともいう）用途がある。プラズマディスプレイ用の電磁波遮蔽フィルタにおいて、電磁波遮蔽性能と光透過性とを両立させた金属パターンとしてはメッシュ状のパターンが多く用いられている。金属パターン（ＥＭＩ遮蔽メッシュ）は、透明基材に金属箔を透明接着剤で貼り合せた後、フォトリソグラフィー法により金属箔をメッシュ状にケミカルエッチングして作ることができる（特許文献１、特許文献２）。
【０００３】
金属箔の金属の材質としては、特許文献などでは特に限定しない文献が多い（特許文献１、特許文献２）。例示される金属としては銅の他、アルミニウム（特許文献２）等の高電導率のものが挙げられている。しかし、事実上、市場に流通している電磁波遮蔽フィルタのＥＭＩ遮蔽メッシュは、銅、具体的には銅箔しか用いられておらず、アルミニウム箔を用いたものはなく実用化されていない。
なお、本発明において単に電磁波という場合は、周波数が上記範囲を中心とするＫＨｚ〜ＧＨｚ帯近辺の電磁波のことをいう。赤外線、可視光線、紫外線、Ｘ線等は含まないものとする（例えば、赤外線帯域の周波数の電磁波は赤外線と呼称する）。
【０００４】
また、ディスプレイ用フィルタには、電磁波遮蔽性とともに、外来光反射防止等の光学フィルタ機能が求められるが、金属パターンを形成した透明基材に反射防止剤を塗布すると、金属パターン層と透明基材との凹凸により、反射防止剤の塗りムラや気泡の混入が起こり、反射防止効果が不十分なものとなる。この問題を解決するために、金属パターン層と透明基材との凹凸を平坦化するための透明な平坦化層を塗工により設け、その上面に平坦化層よりも屈折率の低い反射防止層を塗工又はシート積層により設けることが提案されている（特許文献３）。
但し、その場合でも、平坦化層を兼ねる接着剤層自体を金属パターン上に塗工する時点で既に、金属パターン凹部内の空気が該平坦化層兼接着剤層との置換が完全且つ迅速には行かない為、凹部内に気泡が殘留し、該残留気泡の光拡散か〔ヘイズ（曇価）上昇〕により透視性が低下したり、或は反射防止効果が不十分なものとなっていた。
【０００５】
【特許文献１】特開２００３−３１８５９６号公報
【特許文献２】特許第３３８８６８２号公報
【特許文献３】特開平１１−３３７７０２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
近年、金属パターン層による電磁遮蔽性と光鏡面反射防止性と有する光学フィルタにおいて、電磁波遮蔽層と光鏡面反射防止層を積層する工程において、平坦化層や接着剤層に生じる気泡が、ヘイズを上昇させ透視性を阻害するので問題とされていた。
そこで、我々は、金属パターンの凸状を構成する断面形状と、光鏡面反射防止層積層時の気泡の抜けやすさを鋭意検討したところ、断面の先端側が透明基材から離れるに従って先細り状である場合に、金属パターン凹部内の気泡が抜けやすく、残留し難いことを知得した。
また、従来において、高価な電磁波遮蔽フィルタは、画像表示装置（ディスプレイ）の普及促進においてその妨げとなっていたが、アルミニウム箔は、銅箔よりも安価なので、これを用いた電磁波遮蔽フィルタは、低コスト化に貢献できる。
しかし、アルミニウムパターン層の実用化には、次の解決すべき課題があることがわかった。なお、以下の課題は、パターンの線幅及び厚みの寸法が１００μｍ程度以上の場合は目立たない。高品質のディスプレイ用途の為に透視性を追及すべく、パターンの線幅及び厚みの寸法が１０〜２０μｍ程度以下に微細化した場合において、特に顕在化してくるものであることも判明した。
【０００７】
（ａ）アルミニウム自体が、活性が高く、表面にアルミニウムの酸化皮膜が存在し、これが耐腐食膜となってケミカルエッチングを阻害する。
（ｂ）エッチング液に接触した領域の酸化皮膜が一部除去されると、除去された部分がまだ除去されていない部分に対して急速にエッチングが進んでしまい、均一な安定したエッチングが困難である。
（ｃ）上記（ａ）及び（ｂ）の結果として、金属パターンのライン部の輪郭に、ギザ（ｚｉｇｚａｇ状のこと。ラインの輪郭に凹凸があって直線性が悪くギザギザしている形態をこのように呼称する。）や断線が発生し、ラインのパターン精度が、銅箔の場合に比べてアルミニウムは劣る。且つ、前記の如く気泡残留防止の為にアルミニウムパターンを安定して再現性良く先細りにエッチング加工する上でも該酸化物皮膜が障碍となる。
【０００８】
以上の結果、銅箔と比べて画像表示装置で要求される微細なパターン（例えばライン幅１０〜２０μｍ、パターンの厚み１０〜２０μｍ程度）が得られない。そして、ギザは光透過性を実現する開口部の面積率のムラとなって表示画面の面ムラに繋がり、断線は電磁波遮蔽性能の低下に繋がること、及び気泡残留による透視性低下の改善が不十分となること等が知得された。
【０００９】
すなわち、本発明の目的は、平坦化層を兼ねる接着剤層を介して光鏡面反射防止層を積層する場合でも、金属パターンによる凹凸及びパターンの断面形状が原因で気泡が発生し、残留気泡の光拡散により透視性や反射防止効果が不十分なものとなるのを防止することのできる光学フィルタ及びその製造方法を提供することにある。
さらに、金属パターンの材質を銅から安価なアルミニウムに代えると生じる、ケミカルエッチングで形成したアルミニウムパターンのパターン精度不良を解消し、かつ、アルミニウムパターンの断面形状が原因で気泡が発生し、残留気泡により透視性や反射防止効果が不十分なものとなるのを防止することのできる光学フィルタ及びその製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明は、
（１）透明基材の一方の面に金属パターン層と、透明樹脂からなり該金属パターン層の凹凸を埋めてその表面が平坦面である接着剤層と光鏡面反射防止層とがこの順に積層されてなる電磁波遮蔽性と光鏡面反射防止性とを有する光学フィルタの製造方法であって、
透明基材上に、該透明基材表面に平行な仮想面で切断した面積が、該透明基材からの距離ｚの減少関数Ｓ（ｚ）となる金属パターン層を形成する金属パターン層形成工程と、
前記金属パターン層形成工程後、剥離性基材上に光鏡面反射防止層及び接着剤層を積層してなる転写シートを準備し、該転写シートをその接着剤層側を金属パターン層側に対面する向きで重ねて、該金属パターン層上に圧着せしめ、該剥離性基材を剥離除去する光鏡面反射防止層転写工程とを有することを特徴とする、電磁波遮蔽性と光鏡面反射防止性とを有する光学フィルタの製造方法、
（２）前記金属パターン層の金属がアルミニウムである、前記（１）に記載の電磁波遮蔽性と光鏡面反射防止性とを有する光学フィルタの製造方法、及び
（３）前記アルミニウムから成る金属パターン層の少なくとも上面（透明基材に対して遠い側のアルミニウムパターン層表面）のアルミニウムの酸化皮膜の厚みが０〜１３Åである、前記（２）に記載の電磁波遮蔽性と光鏡面反射防止性とを有する光学フィルタの製造方法、並びに、
（４）透明基材上に、該透明基材に平行な仮想面で切断した面積が、該透明基材からの距離ｚの減少関数Ｓ（ｚ）となるアルミニウムから成る金属パターン層と、透明樹脂からなり該金属パターン層の凹凸を埋めてその表面が平坦面である接着剤層と、光鏡面反射防止層とがこの順に積層されてなる電磁波遮蔽性と光鏡面反射防止性とを有する光学フィルタであって、
前記アルミニウムから成る金属パターン層の少なくとも上面（透明基材に対して遠い側のアルミニウムパターン層表面）のアルミニウムの酸化皮膜の厚みが０〜１３Åである、ことを特徴とする光学フィルタ、
を提供する。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、金属パターン層の断面形状を先細り、すなわち透明基材に平行な仮想面で切断した面積が、該透明基材からの距離ｚの減少関数Ｓ（ｚ）になるようにしたので、光鏡面反射防止層の転写時に、金属パターン層の凹部（開口部）内の平坦化層を兼ねる接着剤層の気泡が抜け易く、気泡が残留し難く、透視性の良好な光学フィルタ及びその製造方法を提供できる。
さらに、少なくとも上面の酸化皮膜の厚みが０〜１３Åであるアルミニウムパターン層を形成すると、ケミカルエッチング形成時のライン輪郭のギザ（ｚｉｇｚａｇ）や断線が解消してパターン精度が向上し、電磁波遮蔽性（表面抵抗値）のバラツキ、及びヘイズの上昇を避けられ、且つ上記の気泡残留し難い先細りのパターンを安定的に得ることが出来、安価な電磁波遮蔽フィルタを実用化できる。
また、アルミニウムの酸化皮膜はそのままでケミカルエッチングできるので、酸化皮膜の追加的な除去工程が不要で、製造工程の複雑化やコストアップも避けられる。
また、本発明の製造方法によれば、金属パターン層の凹凸を埋めてその表面が平坦面である接着剤層と、光鏡面反射防止層を設けたことにより、電磁波遮蔽性とともに、優れた光鏡面反射防止性とを有する、特にディスプレイ用に好適な、光学フィルタを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
図１（Ａ）は、本発明の製造方法により得られる光学フィルタの一形態の層構成を示す断面の概念図である。
同図の場合、透明基材１の一方の面に、金属パターン層２が形成され、その下面側の表面で透明接着剤層４によって透明基材１に接着固定され積層されている。透明接着剤層４は金属パターンの開口部も含めて透明基材１の全面に形成されている。なお、接着剤層４は必ずしも必須ではなく、透明基材１に金属薄膜を蒸着等により形成し、これに金属パターンを形成した場合などは、接着剤層を要しない。
そして、本発明による光学フィルタは、金属パターン層２の上に、透明樹脂からなり該金属パターンの凹凸を埋めてその表面が平坦面である平坦化層を兼ねる接着剤層５と、光鏡面反射防止層６がこの順に積層されている。なお、図１において、上方が観察者（視聴者）側であり、下方が画像表示装置側である。
【００１３】
図１（Ｂ）は、本発明の製造方法による光学フィルタの他の一形態の層構成を示す断面の概念図である。
同図の場合、透明基材１の一方の面に、アルミニウムから成る金属パターン層２（以下、単に「アルミニウムパターン層」とも略称することがある。）が形成され、アルミニウムパターン層２はその上面（透明基材１から遠い側の表面）及び下面（透明基材１に近い側の表面）の表面にはアルミニウムの酸化皮膜３を有し、少なくとも上面の酸化皮膜の厚みが０〜１３Åの範囲となっている。そして、同図の形態例では、このアルミニウムパターン層２は、その下面側の酸化皮膜３の表面で透明接着剤層４によって透明基材１に接着固定され積層されている。透明接着剤層４はアルミニウムパターン層の開口部も含めて透明基材１の全面に形成されている。
そして、本発明による光学フィルタは、少なくとも上面側表面に酸化皮膜３を有するアルミニウムパターン層２の上に、透明樹脂からなり該アルミニウムパターン層の凹凸を埋めてその表面が平坦面である平坦化層を兼ねる接着剤層５と、光鏡面反射防止層６がこの順に積層されている。なお、図１（Ｂ）において、上方が観察者（視聴者）側であり、下方が画像表示装置側である。
以下、本発明の光学フィルタの製造方法の構成につき、詳細に説明する。
【００１４】
［透明基材］
透明基材１は、可視領域での透明性（光透過性）、耐熱性、機械的強度等の要求物性を考慮して、公知の材料及び厚みを適宜選択すればよく、ガラス、セラミックス等の透明無機物の板、或いは樹脂板など板状体の剛直物でもよい。ただし、生産性に優れるロール・トゥ・ロールでの連続加工適性を考慮すると、フレキシブルな樹脂フィルム（乃至シート）が好ましい。なお、ロール・トゥ・ロールとは、巻取（ロール）から巻き出して供給し、適宜加工を施し、その後、巻取に巻き取って保管する加工方式をいう。
【００１５】
樹脂フィルム、樹脂板の樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、エチレングリコール−１，４シクロヘキサンジメタノール−テレフタール酸共重合体、エチレングリコール−テレフタール酸−イソフタール酸共重合体などのポリエステル系樹脂、ポリメチルメタクリレートなどのアクリル系樹脂、ポリプロピレン、シクロオレフィン重合体などのポリオレフィン系樹脂、トリアセチルセルロースなどのセルロース系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリイミド系樹脂等である。なかでも、ポリエチレンテレフタレートはその２軸延伸フィルムが耐熱性、機械的強度、光透過性、コスト等の点で好ましい透明基材である。
透明無機物としては、ソーダ硝子、カリ硝子、硼珪酸硝子、鉛硝子等の硝子、或はＰＬＺＴ、石英等の透明セラミックス等である。
【００１６】
透明基材の厚みは基本的には特に制限はなく用途等に応じ適宜選択し、フレキシブルな樹脂フィルムを利用する場合、例えば１２〜５００μｍ、好ましくは２５〜２００μｍ程度である。樹脂や透明無機物の板を利用する場合、例えば、５００〜５０００μｍ程度である。
【００１７】
なお、透明基材の樹脂中には、必要に応じて適宜、紫外線吸収剤、着色剤、充填剤、可塑剤、帯電防止剤などの公知の添加剤を添加できる。
また、透明基材は、その表面に、コロナ放電処理、プライマー処理、下地処理などの公知の易接着処理を行ったものでもよい。
【００１８】
〔金属パターン層〕
金属パターン層２は、導電性を有する層であって、電磁波遮蔽機能を担う層であり、また、それ自体は不透明性であっても、メッシュ状等の形状で開口部が存在することにより、電磁波シールド性能と光透過性を両立させている。
【００１９】
パターンの形状は、任意で特に限定されず、メッシュ（網乃至格子）形状、ストライプ（平行線群乃至縞模様）形状、スパイラル（螺旋乃至渦巻）形状等が使用されるが、メッシュ形状が「代表的である。メッシュ形状に於いて、開口部の形状は、例えば、正三角形等の三角形、正方形、長方形、菱形、台形等の四角形、六角形、等の多角形、或いは、円形、楕円形などが挙げられるが、正方形が代表的である。パターンはこれらの形状からなる複数の開口部を有し、開口部間は通常幅均一のライン状のライン部となり、通常は、開口部及び開口部間は全面で同一形状同一サイズである。具体的サイズを例示すれば、開口率及びメッシュパターンの非視認性の点で、開口部間のライン部の幅Ｗは１００μｍ以下、好ましくは５０μｍ以下であることが好ましい。但し、電磁波遮蔽効果の発現、破断防止のためには、少なくとも５μｍ以上確保することが好ましい。また、開口部の間口幅は、（ラインピッチＴ−（ライン幅Ｗ）で表され、本発明においては１００μｍ以上、好ましくは１５０μｍ以上とする。且つ上記のライン幅Ｔ、及び間口幅Ｔ−Ｗは、開口率＝[（Ｔ−Ｗ）×（Ｔ−Ｗ）／（Ｔ×Ｔ）]×１００％を６０％以上とするのが、光透過性、及び後述する接着剤層による平坦化処理時に開口部内に気泡が残留し難い点から好ましい。但し、ＭＨｚ〜ＧＨｚ帯の電磁波遮蔽性発現のためには、最大３０００μｍ以下、又開口率９７％以下とする。
金属の電気抵抗値が増え電磁波遮蔽効果が損なわれやすくならないように、電磁波遮蔽機能の点を考慮すると、メッシュ状領域のライン部の高さは、５μｍ以上が好ましい。
一方、サイドエッチングの影響を受けずにエッチング加工を行う為には１５μｍ以下となるようにすることがさらに好ましい。
また、パターン層領域のバイアス角度（メッシュのライン部と電磁波遮蔽シートの外周辺とのなす角度）は、ディスプレイの画素ピッチや発光特性を考慮して、モアレが出難い角度に適宜設定すればよい。
また、上記パターンは、ディスプレイ用途では、電磁波遮蔽フィルタの画像表示に影響しない四辺周辺部には、接地用導通の為に開口部を設けないベタパターンか、あっても占有面積比率が小さい接地領域を、開口部を有する内部の画像表示領域の周囲に有することがある。
【００２０】
このような、金属パターン層が少なくとも積層されてなる電磁波遮蔽シートを準備する方法としては、（１）透明基材と金属箔とを接着剤で積層した後に、金属箔をフォトリソグラフィー法でメッシュパターン状とする（例えば、特開平１１−１４５６７８号公報）、（２）透明基材の一方の面へ、金属薄膜をスパッタ等により形成して導電処理層を形成し、その上に電解メッキにより金属層を形成した透明基材を準備し、該金属メッキした透明基材の金属層及び導電処理層を、フォトリソグラフィー法でメッシュ状とする方法(例えば、特許第３５０２９７９号公報、特開２００４−２４１７６１号公報)を挙げることができる。
【００２１】
中でも、本発明においては特に、短い工程で歩留りがよく安価に製造できる点等から上記（１）、すなわち透明基材と金属箔とを接着剤で積層した後に、フォトリソグラフィー法でメッシュパターン状とする方法を用いることが特に好ましい。
そこで、上記（１）の方法によりメッシュ状領域を形成している金属パターン層を有する電磁波遮蔽シートを準備する方法を中心に説明する。
【００２２】
（金属パターン層の形成）
金属パターン層の形成は、透明基材１に、導電性金属を、透明接着剤層４を介して貼り合わせることにより行う。
導電性金属としては、銅、アルミニウム、ニッケル、鉄、金、銀、白金、錫、ステンレス、タングステン、クロム、チタンなどの金属、あるいはそれらの金属の２種以上を組み合わせた合金を使用することができる。高い導電性やメッシュ加工の容易さ、価格の点から銅が汎用されている。また、更に価格を低廉にするためにはアルミニウムの使用が望ましい。
金属箔の厚みは、通常、厚さが５〜１５μｍのものが使われる。厚さが１５μｍを超えると、細かいライン幅の形成が困難な場合がある。
【００２３】
（金属パターン層の断面形態）
本発明では、金属パターン層の各線條の断面を、透明基材１の表面と平行な仮想面Ｐで切断した断面積が、その透明基材１からの距離ｚの減少関数Ｓ（ｚ）の状態（以後、「先細りの状態」、ということがある。）とすることに特徴がある。図２は、透明基材１と平行な仮想面で切断した金属パターン層の断面積の説明図である。本発明において、エッチング加工後の金属パターン層２は、透明基材１の表面と平行な仮想面Ｐで切断した断面積が、その透明基材１からの距離ｚの減少関数Ｓ（ｚ）になるようにする。透明基材1からの距離ｚとは、図２（Ｂ）に示すように、透明基材1の表面から、該透明基材から遠ざかる方向（図２（Ｂ）でいうと上方）に向かって測った距離をいう。その断面積Ｓ（ｚ）は、金属パターン層２のライン方向の所定長さｙの範囲における断面積で比較する。実際には、例えば、図２（Ａ）に示すように、電磁波遮蔽材から所定長さｙ（例えば５０μｍ）の範囲で切り出した測定試料片３０を研磨用硬化樹脂に埋め込み、図２（Ｂ）に示すように、硬化後に透明基材１と平行になるように研磨し、その仮想面Ｐでの断面積を顕微鏡で測定して評価する。図２（Ｂ）の場合、金属パターン層２のライン方向に直交する断面に於ける幅も距離ｚの増加と共に減少し、ｚ＝０即ち下面側に於いて最大値Ｗとなる。かかる値Ｗを以って線條部のライン幅Ｗと定義する。
【００２４】
図３は、本発明の製造方法において、金属パターン層を形成した場合の断面形状の具体例である。金属パターン層２のライン方向に直交する断面形状としては、図３に順次図示するように、台形等の４角形〔図３（Ａ）〕、３角形〔図３（Ｂ）〕、台形形態の５角形〔図３（Ｃ））〕、６角形〔（図３（Ｄ）〕などの多角形、半楕円形〔図３（Ｅ）〕、放物線形〔図３（Ｆ）〕、正弦曲線形〔図３（Ｇ）〕、正規分布曲線（図示省略）及びそれらに類似する形状から選択されるいずれかを挙げることができる。これらの各形状は、いずれも、透明基材1と平行な仮想面Ｐで切断した断面積がその透明基材１からの距離ｚの減少関数Ｓ(ｚ）になっている。
【００２５】
例えば、図３の（Ａ）に示す台形においては、底辺側の両角α，α’の角度が２０°〜８５°で、上辺側の両角β，β’の角度が９５°〜１６０°である台形を例示できる。また、（Ｂ）に示す３角形においては、底辺側の両角α，α'の角度が２０°〜７５°で、頂部の角度β画３０°〜１４０°出ある３角形を例示できる。また、（Ｃ）に示す５角形においては、底辺側の両角α，α’の角度が２０°〜８５°で、頂部の角度βが３０°〜１７０°で、その間の両角γ，γ’の角度が１０５°〜１７０°出ある５角形を例示できる。また、（Ｄ）に示す６角形においては、底辺側の両角α，α’の角度が２０°〜８５°で、上辺側の両角の角度β，β’が９５°〜１６０°で、その間の両角の角度γ，γ'が１０５°〜１７０°出ある６角形を例示できる。また、（Ｅ）に示す半楕円形においては、断面の水平方向座標をｘ、鉛直方向座標をｙとした際に、（ｘ2／ａ2）＋（ｙ2／ｂ2）＝１、の式で表される半楕円形を例示できる。楕円の扁平度は、ｂ／ａで評価するとした場合、 １／５ ≦ ｂ／ａ ≦５／１ 程度である。また、（Ｆ）示す放物線形においては、断面の水平方向座標をｘ、鉛直方向座標をｙと仮定した際に、ｙ＝ａｘ2、の式で表される放物線形を例示できる。また、（Ｇ）に示す正弦曲線形においては、断面の水平方向座標をｘ、鉛直方向座席をｙとした際に、ｙ＝a ｓｉｎ（ｂｘ）、の式で表される曲線を例示できる。
さらに、正規分布曲線形（図示省略）は、数式（１）で示される確率密度関数において、平均μ、分散σ2、の正規分布はＮ（μ，σ2）で表されが、μ＝０、σ2＝１の時の標準正規分布の形状や、μ＝０、σ2＝０．２〜１．０の正規分布曲線の形状を例示できる。
【００２６】
【数１】
2010118396.tif 000002
【００２７】
本発明においは、図３に示した断面形状の具体例に限定されるものではなく、その他の角度を有する断面形状であってもよい。また、αとα’、βとβ’、γとγ’は、それぞれ同じ角度であってもよいし、異なる角度であってもよい。同じ角度にした場合には、版の製造し易さ、視野角を均一にする効果の点で有利であり、異なる角度にした場合には、後述する剥離工程において、版面側の角度α，α’のうち角度の小さい側から剥がすことによって、剥離を容易に行うことができる点で有利である。また、図３に示した以外の断面形状の例としては、前記の正規分布曲線の他に、双曲線、双曲線正弦（又は双曲線余弦）曲線、楕円函数曲線、サイクロイド曲線、Ｂｅｓｓｅｌ関数曲線等（の一部）を挙げることができる。
【００２８】
このような断面形状を有する金属パターン層２は、その形状の特徴により、金属パターン層２上から、平坦化層を兼ねる接着剤層５を有する被着体をラミネートする際に、金属パターン層２と接着剤層５との間の空気が抜けやすく、気泡が残留しにくいという効果を有し、その結果、こうした金属パターン層２を有する金属パターン層を前記被着体と貼り合わせて構成しても、いわゆる「エアーがみ」を極力生じさせないので、画像透過性に優れたディスプレイ用光学フィルタとすることができるという効果を奏する。
【００２９】
このような、先細り状態の断面形状を有する金属パターン層２は、フォトリソグラフィー法で金属メッシュパターン層をエッチングにより形成する際に、レジスト膜の材料と厚さ、エッチング液（腐食液）の組成、濃度、スプレー圧、温度、時間を制御して、サイドエッチングを制御することにより形成できる。
【００３０】
本発明の光学フィルタの製造方法においては、好ましくは、金属パターン層を、アルミニウムから成る金属パターン層とすることができる。
［アルミニウムから成る金属パターン層］
図１（Ｂ）に示す、アルミニウムから成る金属パターン層即ちアルミニウムパターン層２はアルミニウムで形成したパターン層であり、該層自体は不透明であるが、開口部など該層の非形成部を設けたパターンとすることによって、電磁波遮蔽性能と光透過性とを両立させた層である。そして、本発明のアルミニウムパターン層２は少なくともその上面に特定の厚み範囲０〜１３Åのアルミニウムの酸化皮膜３を有する。なお、１Å＝０．１ｎｍである。
【００３１】
アルミニウムパターン層のアルミニウムは、アルミニウムを主成分とし、アルミニウム純金属の他にアルミニウム合金でもよくこれらを纏めて本発明ではアルミニウムというが、アルミニウムの純度が低いと導電性が低下するので、純度は電磁波遮蔽性能の点では高い方が好ましく、純度が９９．０％以上のアルミニウムが好ましい。このような純度が９９．０％以上のアルミニウムを利用したアルミニウムパターン層は、ＪＩＳ Ｈ４１６０（アルミニウム及びアルミニウム合金はく）、ＪＩＳ Ｈ４１７０（高純度アルミニウムはく）で規定されるアルミニウム箔に準じた箔を利用することで形成できる。
【００３２】
なお、アルミニウムパターン層はアルミニウム箔から形成するのではなく、透明基材上にアルミニウムを気相成長法、例えば真空蒸着法で形成したアルミニウム蒸着膜から形成したものを利用してもよい。
【００３３】
アルミニウムパターン層の厚みは、電磁波遮蔽性能、加工適性、機械的強度などの点から適宜選択すればよく、具体的には１〜１００μｍ、好ましくは５〜２０μｍ、より好ましくは８〜１５μｍである。厚みが薄いと電磁波遮蔽性能、機械的強度などが低下し、厚みが厚いと加工適性が低下する。
【００３４】
アルミニウムパターン層の平面視のパターン形状及び寸法は、前記の如くであり詳細な記載の重複は省略する。
【００３５】
(アルミニウムパターン層形成）
アルミニウムパターン層のパターンを形成するには、透明基材上にアルミニウム箔などパターン形成前のアルミニウム層を積層した後、ケミカルエッチングによって形成できる。
ケミカルエッチング時のレジストパターンのパターン形成はフォトリソグラフィー法（パターン露光法）、印刷法などの公知のパターン形成法を適宜選択すればよい。なかでも、フォトリソグラフィー法は印刷法に比べて、電磁波遮蔽フィルタに要求されるライン幅やその均一性など高精度のパターンを安定的に形成できる点で好ましい方法である。
【００３６】
（アルミニウムパターン層の断面形状）
アルミニウムパターン層の断面形状を先細り形状とするには、前述のように、レジスト膜の材料と厚さ、エッチング液（腐食液）の組成、濃度、スプレー圧、温度、時間を調整して、サイドエッチングを制御する必要がある。特に後述する酸化皮膜の厚みにも充分配慮して、エッチング条件を決定する必要がある。
【００３７】
アルミニウムパターン層をケミカルエッチングする際のエッチング液としては、公知のエッチング液を適宜選択使用すればよい。例えば、塩化第二鉄を含む酸性のエッチング液である。
エッチングは、アルミニウム層の上面のレジストパターン非形成部におけるアルミニウムの酸化皮膜も含めて行われる。エッチングの前処理として、該上面のアルミニウムの酸化皮膜の除去は特に必要ない。
そして、レジストパターン形成部に対応した、上面や下面のアルミニウムの酸化皮膜３は、アルミニウムパターン層２の上面や下面の酸化皮膜３となって残る。
【００３８】
［アルミニウムの酸化皮膜］
アルミニウムの酸化皮膜はアルミニウム酸化物を含む層であり、通常は該アルミニウム酸化物アルミナ（Ａｌ2Ｏ3）から成る。アルミニウムパターン層を、アルミニウム箔を利用して形成する場合、アルミニウムの酸化皮膜は箔の上面及び下面の表裏両面に存在するが、本発明ではケミカルエッチングでパターン形成する際に、はじめにエッチングされる側、つまり上面側について、その厚みを規定する。アルミニウムパターン層の少なくとも上面のアルミニウムの酸化皮膜の厚みについて、その上限を１３Å、好ましくは１２Å、より好ましくは１０Å、更に好ましくは８Åとする。
少なくとも上面のアルミニウムの酸化皮膜の厚みについて、その上限を上記のようにすることで、該酸化皮膜がたとえ存在したままでも、安定したケミカルエッチングが可能となり、銅を安価なアルミニウムに変更したが故のパターン精度不良を回避できる、又パターンを安定して再現性良く先細り形状に加工できる。
【００３９】
ところで、普通に製造されるアルミニウム箔は圧延法で製造され、アルミニウム塊の圧延工程、焼鈍工程を経る箔製造工程、その後の空気中保管など、常温（２０℃、５０％ＲＨ前後）で製造保管することによって、活性なアルミニウムは表面に不可逆的にアルミニウムの酸化皮膜が形成されるが、本発明のように薄い酸化皮膜とはならずに、より厚みの厚い１５Å以上、通常２０〜１００Å程度の酸化皮膜となる。
【００４０】
また、アルミニウムパターン層上面のアルミニウムの酸化皮膜の厚みの下限は、ケミカルエッチングを阻害しない観点からは、０（零）Å、つまり酸化皮膜が存在し無くてもよい。
ただ、アルミニウムの酸化皮膜は、不動態膜と言われており、アルミニウム箔を加工、搬送、保管する過程中において、アルミニウム箔の内部に（不用意な、望まれない）酸化乃至は腐食が進行することを防止する機能を有するので、この点では２〜３Å程度の、緻密なアルミニウム不動態膜としての酸化皮膜を形成しておいてもよい。
【００４１】
なお、上（下）面にアルミニウムの酸化皮膜が存在しないアルミニウムパターン層は、真空中、不活性気体中でパターン形成前のアルミニウム層を透明基材上に形成し、酸化皮膜生成前にアルミニウム層の上面を樹脂被覆し酸化反応を遮断するなどすれば可能である。その後、ケミカルエッチングで所定のパターンを形成すれば、上（下）面にアルミニウムの酸化皮膜が存在しないアルミニウムパターン層となる。
【００４２】
アルミニウムの酸化皮膜の厚みを上記のような薄い所定の厚みにするには、各種あるが、アルミニウムパターン層にアルミニウム箔を利用する場合、アルミニウム箔は圧延法によって作られ、その後、焼鈍して製造されているが、圧延条件や焼鈍条件を調整することで、目的とする厚みに調整できる。
【００４３】
例えば、圧延後のアルミニウム箔の表面に付着している圧延油を焼鈍時に除去する際に、表面が酸化しないように、焼鈍雰囲気のガス組成を制御したり（酸素濃度を低めにする）、アルミニウム箔表面のアルミニウムの酸化皮膜を薬品で除去したりする、といった方法などがある。焼鈍しないという方法もあるが、圧延油は、フォトリソグラフィー法に悪影響を及ぼすため好ましくない。
【００４４】
なお、アルミニウムの酸化皮膜の厚みは、ハンターホール法、蛍光Ｘ線分析法の一種であるＸ線光電子分光法（ＸＰＳ）で測定する。
【００４５】
アルミニウムの酸化皮膜は、その箔製造工程からして、箔の表裏両面、つまり上面及び下面の両面に通常形成されている。このうち、アルミニウムパターン層のパターン形成のためのケミカルエッチングに影響するのは上面の酸化皮膜であるので、本発明では少なくともこの上面のアルミニウムの酸化皮膜について特定の厚み（薄さ）を規定する。なお、下面のアルミニウムの酸化皮膜については、通常は、上面のアルミニウムの酸化皮膜に比べてケミカルエッチング時のメッシュ形状ギザ発生への寄与は無視できる為、パターン精度の点からは特に規定する必要はない。ただし、該膜厚が厚すぎると、開口部に残留したアルミニウムの酸化皮膜によるメッシュ形状への悪影響も起こり得るし、又開口部の透明性を低下させることも有り得る。この為、下面のアルミニウムの酸化皮膜は、好ましくは、可視光線の最小波長３８０ｎｍ未満、更に好ましくは２００ｎｍ以下とすることが推奨される。例えば、下面のアルミニウムの酸化皮膜の膜厚も上面と同様に０〜１３Åとする。なお、本発明の１形態として、ケミカルエッチング前の下面のアルミニウムの酸化皮膜の膜厚、及びケミカルエッチングの加工条件を調整することにより、パターン開口部に可視光線の最小波長３８０ｎｍ未満（例えば３〜１３Å）の膜厚の透明なアルミニウムの酸化皮膜を残留させ、ケミカルエッチング時に開口部に露出する透明接着剤層又は透明基材を腐食液による着色から保護することもできる。
ただ、下面のアルミニウムの酸化皮膜も上面の酸化皮膜と同程度の厚みで存在するとすれば、下面のアルミニウムの酸化皮膜の厚みについても、上記した上面のアルミニウムの酸化皮膜の厚みと同じ規定をすることができる。
【００４６】
（黒化処理層）
なお、アルミニウムパターン層はその表面に黒化処理層を形成してもよい。
黒化処理層は、アルミニウムパターン層やその表面の酸化皮膜による光反射を抑制することで、外光吸収、画像のコントラスト向上を図る層である。黒化処理層は外光吸収、画像のコントラスト向上が必要な場合に設ける。黒化処理層はアルミニウムパターン層の表面、表面に酸化皮膜がある場合はその皮膜表面に設けて、その光反射率を低下させる層である。
【００４７】
ここで表面は上面、下面、側面などの面をいう。黒化処理して黒化処理層を形成する表面としては、上面のみ、上面と両側側面、下面のみ、上面と両側側面と下面の全ての表面など、要求に応じた面とすればよいのは公知の黒化処理と同じである。このうち、透明接着剤層存在下で透明接着剤に接する面が下面である。また、電磁波遮蔽フィルタをその上面側を観察者側にして使用するには、少なくとも上面については黒化処理層を形成するのが好ましく、更に好ましくは両側側面、画像表示素子側となる下面についても黒化処理層を形成するのがよい。
【００４８】
黒化処理層としては、電磁波遮蔽フィルタにおいて、公知のものを適宜採用すればよい。例えば、黒化処理層としては、金属などの無機材料、黒色樹脂などの有機材料などを使用できる。無機材料としては、例えば金属乃至は合金、金属酸化物、金属硫化物などの金属化合物であり、めっき法など公知の黒化処理にて形成することができる。また、黒色樹脂としては例えば黒色の着色剤を樹脂中に含有させた層として形成できる。
【００４９】
［透明接着剤層］
透明接着剤層４は、アルミニウムパターン層を透明基材に固定するための層であり、例えば、アルミニウムパターン層をアルミニウム箔から形成する場合に、アルミニウム箔を透明基材に接着固定するために使用される。なお、透明接着剤層は、アルミニウムパターン層をアルミニウム蒸着で透明基材上に直接積層したアルミニウム層から形成する場合には省略できる。
【００５０】
透明接着剤層としては、アルミニウムパターン層の開口部による光透過性を阻害しないように、透明な接着剤であればよく、公知の透明な接着剤を適宜使用すればよい。例えば、ウレタン系接着剤、アクリル系接着剤、エポキシ系接着剤、ゴム系接着剤などである。なかでも、ウレタン系接着剤、例えば２液硬化型ウレタン系接着剤は、接着力などの点で好ましい。２液硬化型ウレタン系接着剤としては、ポリオールを主剤とし、これに硬化剤としてポリイソシアネート化合物を用いた接着剤を使用できる。ポリオールは、例えば、アクリルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリウレタンポリオール、ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリウレタンポリオールなどである。また、ポリイソシアネート化合物は、例えば、トリレンジイソシアネート系、キシリレンジイソシアネート系、ジフェニルメタンジイソシアネート系、ナフタレンジイソシアネート系等の芳香族イソシアネート化合物、ヘキサメチレンジイソシアネート系、水素添加トリレンジイソシアネート系、イソホロンジイソシアネート系等の脂肪族乃至脂環式イソシアネート化合物などである。これらイソシアネート化合物は、多量体、或いは付加体の形で用いることもできる。ポリオール、ポリイソシアネート化合物は、各々複数種使用してもよい。
【００５１】
透明接着剤層は、透明な接着剤をアルミニウム箔、透明基材のいずれか又は両方に公知の形成法によって施した後、これらを、接着剤を介するように積層することで形成できる。該形成法は、塗工法、印刷法などである。
【００５２】
［平坦化層を兼ねる接着剤層］
金属パターン層（アルミニウムパターン層を含む。）は、凹凸表面（開口部が凹、線條部が凸）をなす。そして、光鏡面反射防止層を形成する材料は、一般的に、凹凸を充填して表面を平坦化する性能には乏しい為、金属パターン層上に直接、光鏡面反射防止層を形成すると、該金属パターン層の凹凸を該光鏡面反射防止層が完全に充填しない場合には、該光鏡面反射防止層表面に残留した凹凸が画像光を散乱する。又、該光鏡面反射防止層が完全に金属パターン層の凹凸を充填し切れた場合であっても、該金属パターン層の凹部内の空気が十分に置換されずに残留し、気泡となって画像光を散乱して、画像に曇りを生じ、又画像の明暗コントラストの低下、画像端部の輪郭の不鮮明化等の画質低下をもたらす。これを防止する為に、金属パターン層と光鏡面反射防止層との間に平坦化層を兼ねる接着剤層を介在させる。
【００５３】
平坦化層を兼ねる接着剤層は、金属パターン層の凹凸を埋めてその表面が平坦面である層であり、透明な樹脂からなる。該樹脂としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電離放射線硬化性樹脂等のなかから適宜選択する。
熱可塑性樹脂としては、アクリル樹脂、熱可塑性ポリエステル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、セルロース系樹脂、ポリオレフィン樹脂等が用いられる。
ここで、アクリル樹脂としては、例えば、ポリメチル（メタ）アクリレート、ポリブチル（メタ）アクリレート、メチル（メタ）アクリレート−エチル（メタ）アクリレート共重合体、メチル（メタ）アクリレート−ブチル（メタ）アクリレート共重合体、メチル（メタ）アクリレート−スチレン共重合体、メチル（メタ）アクリレート−２ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート共重合体、メチル（メタ）アクリレート−２ヒドロキシ３フェニルオキシプロピル（メタ）アクリレート共重合体、メチル（メタ）アクリレート−２ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート−スチレン共重合体等が挙げられる（なお、（メタ）アクリレートとは、アクリレート又はメタクリレートを意味する）。
熱可塑性ポリエステル樹脂としては、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコール、１，４シクロヘキサンジメタノール等の多価アルコールと、テレフタール酸、イソフタール酸、マレイン酸、フマル酸、アジピン酸等の多塩基酸とを縮重合させたものが挙げられる。
塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体としては、例えば、酢酸ビニル含有量が５〜２０質量％程度、平均重合度３５０〜９００程度の塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体が挙げられる。なお、必要に応じ、更にマレイン酸、フマル酸、（メタ）アクリル酸等のカルボン酸を共重合させたものでもよい。
セルロース系樹脂としては、例えば、ニトロセルロース（硝化綿）、酢酸セルロース、セルロースアセテートプロピオネート等が挙げられる。
ポリオレフィン樹脂としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、環状ポリオレフィン等が挙げられる。
熱硬化性樹脂としては、例えば、熱硬化性ウレタン樹脂、熱硬化性の不飽和ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂当が用いられる。
ここで、ウレタン樹脂としては、例えば、（多価）ポリオールと（多価）イソシアネートとを反応させてなるから成るものである。（多価）ポリオールとしては、アクリルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオール、ポリウレタンポリオール等が挙げられる。（多価）イソシアネートとしては、２，４トリレンジイソシアネート、キシレンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート等の芳香族イソシアネート、１，６ヘキサメチレンジイソシアネート、水添トリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネートの脂肪族（乃至脂環式）イソシアネートが挙げられる。
電離放射線硬化性樹脂としては、電離放射線で架橋等の反応により重合硬化するモノマー（単量体）、或いはプレポリマーやオリゴマーが用いられる。モノマーとしては、例えば、ラジカル重合性モノマー、具体的には、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の各種（メタ）アクリレートが挙げられる。また、プレポリマー（乃至はオリゴマー）としては、例えば、ラジカル重合性プレポリマー、具体的には、ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート、トリアジン（メタ）アクリレート、等の各種（メタ）アクリレートプレポリマー、トリメチロールプロパントリチオグリコレート、ペンタエリスリトールテトラチオグリコレート等のポリチオール系プレポリマー、不飽和ポリエステルプレポリマー等が挙げられる。その他、カチオン重合性プレポリマー、例えば、ノボラック系型エポキシ樹脂プレポリマー、芳香族ビニルエーテル系樹脂プレポリマー等が挙げられる。
これらモノマー、或いはプレポリマーは、要求される性能、塗布適性等に応じて、１種類単独で用いる他、モノマーを２種類以上混合したり、プレポリマーを２種類以上混合したり、或いはモノマー１種類以上とプレポリマー１種類以上とを混合して用いたりすることができる。
光重合開始剤としては、ラジカル重合性のモノマー又はプレポリマーの場合には、ベンゾフェノン系、アセトフェノン系、チオキサントン系、ベンゾイン系等の化合物が、また、カチオン重合系のモノマー又はプレポリマーの場合には、メタロセン系、芳香族スルホニウム系、芳香族ヨードニウム系等の化合物が用いられる。これら光重合開始剤は、上記モノマー及び／又はプレポリマーからなる組成物１００重量部に対して０．１〜５重量部程度添加する。
なお、電離放射線としては、紫外線又は電子線が代表的なものであるが、この他、可視光線、Ｘ線、γ線等の電磁波、或いはα線、各種イオン線等の荷電粒子線を用いることもできる。
【００５４】
これら平坦化層を兼ねる接着剤層の構成材料中には、必要に応じて適宜添加剤を添加することができる。該添加剤としては、例えば、熱安定剤、ラジカル捕捉剤、可塑剤、界面活性剤、帯電防止剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、色素（着色染料、着色顔料）、体質顔料、光拡散剤等が挙げられる。
【００５５】
平坦化層を兼ねる接着剤層の厚みは、金属パターン層の凹凸を埋めてその表面を平坦面とせしめる為に、その最大厚みである該金属パターン開口部における厚みが、該金属パターン層の厚みと同等以上、より好ましくは、該金属パターン層の厚みよりも１〜２０μｍ程度厚くなるように設定する。
【００５６】
（平坦化層を兼ねる接着剤層の形成法）
本発明において平坦化層は、金属パターン層の凹凸面上に平坦化層を兼ねる接着剤層を形成する。形成方法としては、金屬パターン層上に該接着剤を形成し得る液状組成物を直接塗工し、而かる後、該組成物を固化せしめるか、或は予め製膜した該接着剤層を転写して形成する。転写法の場合は、剥離基材上に、予め転写層として平坦化層を兼ねる接着剤層を塗工形成した構成の転写シートを用意しておく。次いで、該転写シートの該接着剤層側の面が金属パターン層側に当接する向きで、該転写シートを金属パターン層上に圧着する。そして、該接着剤層がその時点において流動性を有する場合は、その状態のままで、また該接着剤層がその時点において流動性がない場合は、該平接着剤層を加熱し、軟化或いは溶融等の方法により流動化せしめる。次いで、該流動性の接着剤層を金属パターン層の凹凸内に充填させ、該凹凸内の空気と置換せしめる。なお、この過程の間、接着剤層の金属パターン側とは反対側面は、剥離基材の平坦面と接触し、変形を規制されるため、平坦面に保たれる。しかる後、該接着剤層を金属パターン層側に残し、該剥離基材のみを剥離除去する。
なお、この転写形態において、剥離基材上に、転写層として更に光鏡面反射防止層も形成しておき；剥離基材／光鏡面反射防止層／平坦化層を兼ねる接着剤層、の構成の転写シートとしておけば、金属パターン層上に接着剤による平坦化層と同時に光鏡面反射防止層も形成することができる。なお、かかる転写形態では、接着剤層が転写層を被転写体に接着する機能と、金属パターン層上を平坦化する平坦化層としての機能を有する。
【００５７】
［光鏡面反射防止層］
下記防眩層又は反射防止層のいずれかを選択する。或いは、両者を併用して設けることもできる。
【００５８】
（防眩層）
防眩層（Ａｎｔｉ Ｇｌａｒｅ層、略称してＡＧ層）は、外来光を散乱もしくは拡散させるために、光の入射面を粗面化するか、或いは該層内に光拡散性粒子を分散してなるものである。この粗面化処理には、サンドブラスト法やエンボス法等により該層表面に直接微細凹凸を形成して粗面化する方法；放射線、熱のいずれかもしくは組み合わせにより硬化する樹脂バインダ中に、光拡散性粒子としてシリカなどの無機充填剤や、樹脂粒子などの有機充填剤を含有させた塗膜表面に充填剤に対応する微小凹凸を突出させた塗膜により表面が粗面の塗膜を設ける方法；及び塗膜表面に海島構造による多孔質膜を形成する方法等を挙げることができる。樹脂バインダの樹脂としては、表面層として表面強度が望まれる関係上、硬化性アクリル樹脂や、下記ハードコート層と同様に電離放射線硬化性樹脂等が好適に使用される。
また、層内に光拡散性粒子を分散させた形態の場合は、塗膜中に分散させた前記充填剤と塗膜バインダ樹脂との間に屈折率差（好ましくは、０．１４以上）を有するように材料を選定する。この形態の場合は、塗膜表面は平坦面（平滑面）であってもよい。
防眩層の厚みは特に限定されるものではないが、０．０７μｍ以上２０μｍ以下が好ましい。
また、該防眩層の凹凸の平均間隔をＳｍとし、凹凸部の平均傾斜角をθａとし、凹凸の十点平均粗さをＲｚとした場合に、Ｓｍが６０〜２５０μｍであり、θａが０．３度〜１．０度であり、且つＲｚが０．３〜１．０μｍであることが好ましい。
なお、上記Ｓｍ、θａ及びＲｚはＪＩＳ Ｂ０６０１ １９９４に準拠し、例えば、表面粗さ測定器〔（株）小坂研究所製「ＳＥ−３４００」〕で測定し得るものである。
【００５９】
（反射防止層）
反射防止層（Ａｎｔｉ Ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ層、略称してＡＲ層）は、低屈折率層の単層、或いは、低屈折率層と高屈折率層とを、該低屈折率層が最上層に位置するように交互に積層した多層構成が一般的であり、蒸着やスパッタ等の乾式成膜法で、或いは塗工等の湿式成膜法も利用して形成することができる。
なお、ここで高（低）屈折率層とは、該層と隣接する層（例えば、平坦化層或いは低（高）屈折率層）と比較して該層の屈折率が相対的に高（低）いという意味である。
反射防止層に更に耐擦傷機能を付与する場合には、下記耐擦傷機能（ハードコート）層の項で記載するような硬度の高い材料を適宜用いて形成する。
【００６０】
反射防止効果を向上させるためには、低屈折率層の屈折率は、原理上、直下の層の屈折率の平方根に設定することが好ましい。例えば、直下の層が屈折率１．５０であれば低屈折率層の屈折率は１．２３、又直下の層が屈折率２．１０であれば低屈折率層の屈折率は１．４５である。この値に完全一致はできないとしても極力この値に近づけるように設計する。
かかる低屈折率を有する材料としては、例えばＬｉＦ（屈折率ｎ＝１．３６）、ＭｇＦ2（屈折率ｎ＝１．３８）、３ＮａＦ・ＡｌＦ3 （屈折率ｎ＝１．４）、ＡｌＦ３（屈折率ｎ＝１．３７）、Ｎａ3ＡｌＦ6（屈折率ｎ＝１．３３）、ＮａＦ（屈折率ｎ＝１．３３）、ＣａＦ2（屈折率ｎ＝１．４４）、Ｎａ3ＡｌＦ6（屈折率ｎ＝１．３３）、ＳｉＯ2（屈折率ｎ＝１．４５）等の無機材料、又はこれら無機材料を微粒子化し、アクリル系樹脂やエポキシ系樹脂等に含有させた無機系低反射材料、或はフッ素系・シリコーン系の有機化合物、又は其の他低屈折率の熱可塑性樹脂、熱硬化型樹脂、放射線硬化型樹脂等の有機低反射材料を挙げることができる。
【００６１】
また、低屈折率層には、空隙を有する微粒子を用いてもよい。空隙を有する微粒子とは、微粒子の内部に気体が充填された構造及び／又は気体を含む多孔質構造体を形成し、微粒子本来の屈折率に比べて微粒子中の気体の占有率に反比例して屈折率が低下する微粒子を意味する。また、本発明にあっては、微粒子の形態、構造、凝集状態、塗膜内部での微粒子の分散状態により、内部、及び／又は表面の少なくとも一部にナノポーラス構造の形成が可能な微粒子も含まれる。空隙を有する微粒子は、無機物、有機物のいずれでもあってよく、例えば、金属、金属酸化物、樹脂からなるものが挙げられ、好ましくは、酸化ケイ素（シリカ）微粒子が挙げられる。
【００６２】
さらに、５〜３０ｎｍのシリカ超微粒子を水もしくは有機溶剤に分散したゾルとフッ素樹脂系又は珪素系の皮膜形成剤を混合した材料を使用することもできる。該５〜３０ｎｍのシリカ超微粒子を水もしくは有機溶剤に分散したゾルは、ケイ酸アルカリ塩中のアルカリ金属イオンをイオン交換等で脱アルカリする方法や、ケイ酸アルカリ塩を鉱酸で中和する方法等で知られた活性ケイ酸を縮合して得られる公知のシリカゾル、アルコキシシランを有機溶媒中で塩基性触媒の存在下に加水分解と縮合することにより得られる公知のシリカゾル、さらには上記の水性シリカゾル中の水を蒸留法等により有機溶剤に置換することにより得られる有機溶剤系のシリカゾル（オルガノシリカゾル）が用いられる。これらのシリカゾルは水系及び有機溶剤系のどちらでも使用することができる。有機溶剤系シリカゾルの製造に際し、完全に水を有機溶剤に置換する必要はない。前記シリカゾルはＳｉＯ2として０．５〜５０質量％濃度の固形分を含有する。シリカゾル中のシリカ超微粒子の構造は球状、針状、板状等様々なものが使用可能である。また、皮膜形成剤としては、アルコキシシラン、金属アルコキシドや金属塩の加水分解物や、ポリシロキサンをフッ素変性したものなどを用いることができる。低屈折率層の好ましい態様によれば、「空隙を有する微粒子」を利用することが好ましい。
【００６３】
低屈折率層の形成は、上記で述べた材料を例えば溶剤に希釈し、スピンコーティング、ロールコーティングや印刷等によるウェットコーティング法で、高屈折率層、平坦化層、剥離性基材（転写形態で光鏡面反射防止層を形成する場合）等の所定の層上に設けて乾燥後、熱や放射線（紫外線の場合は上述の光重合開始剤を使用する）等により硬化させることによって得ることができる。或いは、真空蒸着、スパッタリング、プラズマＣＶＤ、イオンプレーティング等による気相法（乃至ドライコーティング法）により低屈折率層を設けることもできる。
【００６４】
高屈折率層に用いる材料としては、無機材料、或いは樹脂等の有機材料の何れも利用できる。高屈折率樹脂については、前記の低屈折率層よりも相対的に低い屈折率を持つ透明なものであれば任意の樹脂が使用可能であり、熱硬化型樹脂、熱可塑性樹脂、電離放射線（紫外線を含む）硬化型樹脂などを用いることができる。熱硬化型樹脂としては、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ポリウレタン樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、ケイ素樹脂、ポリシロキサン樹脂等を用いることができ、これらの樹脂に、必要に応じて架橋剤、重合開始剤等の硬化剤、重合促進剤、溶剤、粘度調整剤等を加えることができる。
高屈折率を有する無機材料としては、例えば、紫外線遮蔽の効果をも得ることができる、ＺｎＯ（屈折率ｎ＝１．９）、ＴｉＯ2（屈折率ｎ＝２．３〜２．７）、ＣｅＯ2（屈折率ｎ＝１．９５）、また、帯電防止効果が付与されて埃の付着を防止することもできる、アンチモンがドープされたＳｎＯ2（屈折率ｎ＝１．９５）又はＩＴＯ（屈折率ｎ＝１．９５）、また近赤外線遮蔽の効果も得ることができる、Ｃｓ0.33ＷＯ3（セシウム含有酸化タングステン（屈折率ｎ＝２．５〜２．６）が挙げられる。その他としては、Ａｌ2Ｏ3（屈折率ｎ＝１．６３）、Ｌａ2Ｏ3（屈折率ｎ＝１．９５）、ＺｒＯ2（屈折率ｎ＝２．０５）、Ｙ2Ｏ3（屈折率ｎ＝１．８７）等を挙げることができる。これらの無機材料を微粒子とする場合は単独又は混合して使用され、有機溶剤又は水に分散したコロイド状になったものが分散性の点において良好であり、その粒径としては、１〜１００ｎｍ、塗膜の透明性から好ましくは、５〜２０ｎｍであることが望ましい。また、高屈折率層の形成は、高い屈折率を有する超微粒子をバインダ樹脂に添加した塗料組成物を塗工することによっても形成出できる。かかる高屈折率層の屈折率は、１．５５〜２．７０の範囲にあることが好ましい。
【００６５】
高屈折率層を設けるには、上記で述べた高屈折率無機材料を例えば、微粒子化した上でバインダ樹脂中に分散して溶剤に希釈し、スピンコーティング、ロールコーティング、印刷等のウェットコーティングで基体上に設けて乾燥後、熱や放射線（紫外線の場合は上述の光重合開始剤を使用する）等により硬化させればよい。或いは、上記の高屈折率無機材料を真空蒸着、スパッタリング、プラズマＣＶＤ、イオンプレーティング等による気相法（乃至ドライコーティング法）により堆積、製膜して高屈折率層を設けることもできる。
低屈折率層の厚みは特に限定されるものではないが、通常、低屈折率層の屈折率と厚みの積が反射率を最小化すべき可視光線の波長（３８０ｎｍ〜７８０ｎｍ範囲の特定波長）の１／４程度（９５〜１９５ｎｍ）とする。
【００６６】
（耐擦傷機能層）
耐擦傷機能（ハードコート）層は、ＪＩＳ Ｋ５６００−５−４（１９９９）で規定される鉛筆硬度試験で「Ｈ」以上の硬度を示すものであることが好ましく、このような硬度と上記透明（樹脂）基材と同様な透明性を実現できるものであれば、材料は特に限定されない。
耐擦傷機能（ハードコート）層は、通常樹脂硬化層として形成される。形成する位置及び形態としては、上記光鏡面反射防止層の構成層の何れかを兼用するか、或いは上記光鏡面反射防止層と平坦化層との間に独立した別層として形成する。
用いる硬化性樹脂としては、電離放射線硬化性樹脂、その他公知の硬化性樹脂などを要求性能などに応じて適宜採用すればよい。電離放射線硬化性樹脂としては、アクリレート系、オキセタン系、シリコーン系などが挙げられる。例えば、アクリレート系の電離放射線硬化性樹脂は、例えば、ポリエステル（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート等の多官能（メタ）アクリレートプレポリマー、或いは、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の３官能以上の多官能（メタ）アクリレートモノマーを単独で或いはこれらの中から２種以上選択して組み合わせて配合した電離放射線硬化性樹脂を用いた塗膜として形成することができる。
耐擦傷機能（ハードコート）は上記材料を必要に応じて溶剤で希釈して上記平坦化層上に、或いは、特に後述の転写法で光鏡面反射防止層を形成する場合は、転写シート上の光鏡面反射防止層上に塗工等の湿式成膜法により形成することができる。
耐擦傷機能層の厚みは特に限定されるものではないが、１．０μｍ以上２０μｍ以下が好ましく、より好ましくは３．０μｍ以上５μｍ以下である。
【００６７】
［光鏡面反射防止層の形成法］
平坦化層を兼ねる接着剤層上へ光鏡面反射防止層を形成するには、前記平坦化層を間に介して、転写シート上から光鏡面反射防止層を転写する転写法、光鏡面反射防止層形成用塗料を直接塗工する方法、或いは予め形成して成る光鏡面反射防止層を表面に有するシートを接着、積層する方法を採用することができる。但し、光反射率のムラが少なく、且つ厚みや層構成数も少なくて済む点に於いて転写法が好ましい。斯くして、金属パターン層の凹凸に平坦化層を兼ねる接着剤層が埋め込まれた光鏡面反射防止層付きのフィルタを得ることができる。
【００６８】
（転写シート）
本発明では、剥離性基材上に、少なくとも光鏡面反射防止層を転写層として剥離可能に積層してなる転写シートを用いる。より好ましくは、転写層として光鏡面反射防止層に加えて平坦化層を兼ねる接着剤層をも具備する転写シートを用いる。以下、主に光鏡面反射防止層及び接着剤層の両方を具備する転写シートを例に説明する(但し、本発明が、此の形態のみに限定される訳では無い)。
（剥離性基材）
適宜の基材シートからなる。必要に応じて、転写層との剥離性（離型性ともいう）を確保する為に、転写層側に離型層を形成することが好ましい。
基材シートは、適度な強度と応力に対する寸法安定性（弾性率）、耐熱性（特に転写時に加熱する場合）、及び表面平滑性の高いものを選択する。厚さ２０〜１００μｍ程度の樹脂シート、或いは坪量２０〜１００ｇ／ｍ2の紙が用いられる。該樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル樹脂、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン等のポリオレフィン樹脂が挙げられる。紙としては上質紙、パーチメント紙、グラシン紙、硫酸紙等で地合のできるだけ均一なものが用いられる。
離型層は、基材シート自体では光鏡面反射防止層（転写層）との剥離性が不足する場合に形成される。離型層は、基材シートとの密着性が高く、且つ転写層との剥離性の高い材料を選定する。
剥離層の材料としては、メラミン樹脂、シリコン樹脂、ポリオレフィン樹脂等が用いられる。必要に応じて、これにワックス、フッ素樹脂等からなる離型剤を添加する。離型層の厚さは、通常、０．１〜５μｍ程度である。
【００６９】
（転写層）
剥離性基材側から金属パターン層側に転写する層である。少なくとも光鏡面反射防止層から成り、必要に応じて更に、接着剤層、その他転写層を含む。
転写層の１要素としての接着剤層は、該光鏡面反射防止層と該金属パターン層との両方に対して接着性を持つ材料からなる。
接着剤層の材料としては、例えば、熱可塑性樹脂として、平坦化層を兼ねる接着剤層のところで例示したものから選択した、アクリル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、熱可塑性ポリエステル樹脂等が使用できる。その他、熱硬化性樹脂、或いは電離放射線硬化性樹脂を使用することもできる。
接着剤層の厚みは、通常、金属パターン層の高さ以上であり、概ね１〜３０μｍ程度である。
なお、接着剤層の形成形態は、予め、転写シート上に転写層として平坦化層としても機能し得る接着剤層（平坦化層及び接着剤層兼用層）を形成しておく。一方、金属パターン層上には平坦化層は未形成とする。その状態にて、該導電パターン層上に該転写シートから該接着剤層を転写する。接着の際に、該接着剤層を加熱等によって流動性を付与せしめ、導電パターン層の凹凸内に該接着剤層を充填し、該接着剤層の表面が平坦化して後、該接着剤層を固化せしめる。かくすることにより、導電パターン層上に、接着剤層形成と同時に平坦化層も形成が完了する。なお、この形態においても、転写シート上に、転写層として接着剤層及び平坦化層兼用層と光鏡面反射防止層の両方を形成しておくと、１転写工程で、平坦化層の形成、接着剤層の形成、及び光鏡面反射防止層の形成を同時に行うことができる。
必要に応じて設けるその他転写層としては、例えば、適宜樹脂中に近赤外線吸收剤、紫外線吸收剤、ネオン光吸收剤、各種着色色素、帯電防止剤等を含む層であり、これらは各々、近赤外線吸収層等として機能する。
【００７０】
かかる転写シートは、所望の寸法形状に裁断された枚葉形態、或いは巻取に巻き取られた連続帯状の形態のいずれも可能である。
【００７１】
本発明の製造方法により得られる光学フィルタは、各種用途に使用可能である。特に、テレビジョン受像装置、各種測定機器や計器類の表示部、各種事務用機器や電算機器の表示部、電話機等に用いられるプラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、ブラウン管ディスプレイ（ＣＲＴ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）などの画像表示装置の前面フィルタ用として好適であり、特にプラズマディスプレイ用として好適である。また、その他、建築物の窓、電子レンジの窓等の用途にも使用可能である。
【実施例】
【００７２】
次に、本発明を実施例により、さらに詳細に説明するが、本発明は、これらの例により何ら限定されるものではない。
【００７３】
実施例１
先ず、アルミニウムパターン層とする金属箔として、厚み１２μｍの連続帯状の圧延アルミニウム箔を用意した。このアルミニウム箔の表面の酸化皮膜の厚みを測定したところ、上面下面とも８Åだった。
また、透明基材として、片面にポリエステル樹脂系プライマー層が形成された、連続帯状の無着色透明な厚み１００μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムを用意した。次いで、上記透明基材のプライマー層面と、上記アルミニウム箔の光沢面とを、透明な２液硬化型ウレタン樹脂系接着剤（主剤として平均分子量３万のポリエステルポリウレタンポリオール１２質量部に対して、硬化剤としてキシリレンジイソシアネート系プレポリマー１質量部を含む）でドライラミネートした後、５０℃で３日間養生して、アルミニウム箔と透明基材間に厚み７μｍの透明接着剤層を有する連続帯状のアルミニウム箔積層シートを得た。
次いで、上記アルミニウム箔積層シートのアルミニウム箔に対して、フォトリソグラフィー法を利用したケミカルエッチング処理を行い、開口部及びライン部とから成るメッシュ状領域、及びメッシュ状領域を囲繞する外縁部に額縁状の開口部非形成の接地用領域を有するアルミニウムパターン層を形成した。
上記エッチング処理は、上記アルミニウム箔積層シートのアルミニウム箔面全面に感光性のエッチングレジストを塗布後、所望のメッシュパターンを密着露光し、現像、硬膜処理、ベーキングして、メッシュの開口部に相当する領域上にレジスト層が非形成となったレジストパターンを形成した後、レジスト層非形成部のアルミニウム箔を、塩化第二鉄を含む酸性水溶液のエッチング液中に浸漬することでエッチングして除去して、メッシュ状の開口部を有したアルミニウムパターン層を形成し、次いで、水洗、レジスト剥離、洗浄、乾燥を順次行った。
メッシュ状領域（画像表示領域）のメッシュの形状は、その開口部の平面視形状が正方形で非開口部となる線状のライン部のライン幅は２０μｍ、そのライン間隔（ピッチ）は３００μｍ、ライン部の高さは１２μｍであり、透明基材の表面と平行な仮想面Ｐで切断した断面積がその表面からの距離ｚの減少関数Ｓ（ｚ）になっている。さらに具体的には、図３（Ａ）に示す台形形状であり、αは７５°、α’は７５°、βは１０５°、β’は１０５°であった。長方形の枚葉シートに切断した場合に、該ライン部と該長方形の長辺とが構成する劣角として定義されるバイアス角度は４９度であった。このようにして、幅寸法６０５ｍｍの電磁波遮蔽フィルタの中間体を得て、ロール状に巻き取った。
得られたロール状の、電磁波遮蔽フィルタの中間体を、ロール・トウ・ロールで連続的に黒化処理装置に供給し、中間体のアルミニウムパターン層面に対してニッケル化合物の黒化処理層を形成し、巻き取って電磁波遮蔽フィルタを得た。
得られたアルミニウムパターン層のパターン精度は、メッシュ線條部のライン幅のバラツキは４．５μｍであり、面ムラは外観上判別不能で問題なく、また、線條部の断線も無く、後述の様に表面抵抗値の低下による電磁波遮蔽性の低下は無かった。
【００７４】
（光鏡面反射防止層及び接着剤層を含む転写シートの作製）
剥離性基材の準備：
片面にメラミン樹脂系の離型層が形成された幅１０００ｍｍで厚さ１００μｍの長尺２軸延伸ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムを用意した。
転写層の形成：
このポリエチレンテレフタレートフィルムの離型層上に、光鏡面反射防止層を形成した。該反射防止層を構成する低屈折率層形成用組成物として、ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）１．９５質量部に、光重合開始剤として、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン［チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、商品名「イルガキュア１８４」］０．１質量部を添加し、次いで処理シリカゾル含有溶液［空隙を有する微粒子（平均粒子径６０nm）、シリカゾル固形分２０質量％、溶媒；メチルイソブチルケトン］１２．３質量部、及びシリカ粒子含有溶液［ナカライテスク社製、商品名「ｓｉｃａｓｔａｒ」、巨大粒子（平均粒子径１００nm）、シリカ粒子固形分２０質量％、溶媒；メチルイソブチルケトン］１．２３質量部を混合したのち、メチルイソブチルケトン８３．５質量部を加えて、紫外線硬化性樹脂組成物の形態の低屈折率層形成用塗工液を調製した。
該ＰＥＴフィルムの離型層上記低屈折率層形成用塗工液を、乾燥重量０．１ｇ／ｍ2塗布（バーコーティング）し、次いで、４０℃にて６０秒間乾燥した。その後、高圧水銀燈からなる紫外線照射装置を用いて、照射線量２００ｍＪ／ｃｍ2で紫外線照射を行うことにより硬化せしめて低屈折率層となし、反射防止層を連続的に形成した。
なお、該低屈折率層の硬化後の膜厚は、９０ｎｍ、屈折率が１．４４になるように形成した。
次いで、光鏡面反射防止層上に、ウレタンアクリレートプレポリマーと１，６ヘキサンジオールジアクリレートモノマーとの混合組成物１００質量部、光重合開始剤として１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン５質量部、メチルセロソルブ３００質量部を混合し、均一化したコーティング剤をロールコーター法により塗布し、８０℃で乾燥後、８０Ｗの高圧水銀灯照射し、約３μｍ厚さのハードコート層を形成した。
前記光鏡面反射防止層のハードコート層上に、熱可塑性ポリエステル樹脂１０質量部、トルエン４０質量部、メチルエチルケトン５０質量部からなる溶液をリバースロールコーティング法にて連続的に５０ｍ／分で塗布、乾燥し厚さ２５μｍの接着剤層を形成して、光鏡面反射防止層及び接着剤層を含む転写シート（以下、単に「反射防止用転写シート」ともいう。）を得た。
【００７５】
（アルミニウムパターン層上への接着剤層、光鏡面反射防止層の転写）
このようにして得た反射防止用転写シートを、上記アルミニウムパターン層上に熱転写法により転写した。熱転写工程としては、先ず、市販のホットスタンプ転写機を用意し、該転写機の基材載置台上に、上記電磁波遮蔽フィルタを載置し、更に該電磁波遮蔽フィルタのアルミニウムパターン層上に上記反射防止用転写シートを其の接着剤層側を対面させて載置した。次いで、該転写機に於いて、鉄製の軸芯の表面をシリコンゴムで被覆したローラを表面温度１７０℃に加熱した、該ローラを軸芯の周りに回転させつつ、上記載置された転写シートの剥離性基材側を１ｇ／ｃｍ２の圧力（設定値）にて押圧しながら、該載置台の送り速度を１ｍ／分にて送った。而かる後、該転写シート表面（剥離性基材側）温度を室温（２３℃）迄冷却した上で、ポリエチレンテレフタレートフィルムを離型層とともに剥離して転写工程を完了させた。斯くして、光鏡面反射防止層付きでアルミニウムパターン層から成る光学フィルタを作製した。
このようにして作製した反射防止層付きアルミニウムパターン層には、熱転写時に空気を内包してできる気泡は見られなかった。
実施例２
アルミニウム箔として、其の表面の酸化皮膜の厚みが上面下面とも１３Åの物を使用した以外は実施例１と同様にして、実施例２の光学フィルタを得た。
【００７６】
比較例１
エッチングの条件を変更した他は、実施例と同様にして、メッシュ状領域（画像表示領域）のメッシュの形状を、その開口部の平面視形状が正方形で非開口部となる線状のライン部のライン幅は２０μｍ、そのライン間隔（ピッチ）は３００μｍ、ライン部の高さは１２μｍであり、透明基材の表面と平行な仮想面Ｐで切断した断面積がその表面からの距離ｚの増加関数Ｓ（ｚ）になっており、さらに具体的には、図４に示す逆台形形状であり、αは９０°、α’は９０°、βは９０°、β’は９０°であるような断面のアルミニウムパターン層を作製した。なお、エッチングの条件による断面形状の制御は、実施例と比較してエッチング液の濃度、温度を変更すると共に、アルミニウム箔積層シートを回転させつつエッチング液をスプレー吹き付けした。
次いで、実施例と同様にして、光鏡面反射防止層付きアルミニウムパターン層からなる光学フィルタを作製した。
得られたフィルタは、熱転写処理後の反射防止層付きアルミニウムパターン層には、アルミニウムパターン層と、その上に貼り合わされた接着層との間に気泡がみられた。
【００７７】
比較例２
アルミニウム箔として、其の表面の酸化皮膜の厚みが上面下面とも１５Åの物を使用した以外は実施例１と同樣にして、比較例２の光学フィルタを得た。
得られたアルミニウムパターン層のパターン精度は、メッシュ線條部のライン幅のバラツキは２０μｍであり、面ムラは外観上判別可能であった。又、一部に線條部の断線も認められた。
【００７８】
〔評価〕
（透視性評価）
目視観察で実施例と比較例の光学フィルタを比較したところ、実施例１、実施例２、及び比較例２のものでは開口部に白濁は認められなかったのに対して、比較例１のものでは白濁が認められた。フィルタとしての透視性が低下し、かつ、反射防止効果が不十分なものであった。
（電磁波遮蔽性評価）
ＶＣＣＩの３ｍ法に準拠した電波暗室にて、３０ＭＨｚ〜１０００ＭＨｚの範囲で垂直偏波と水平偏波の測定を行った。高さ８０ｃｍのターンテーブル上に作製された光学フィルタを載置した。アンテナとしてダイポールアンテナを使用し、垂直偏波のとき１ｍの高さで測定し、水平偏波のとき２ｍの高さで測定した。
実施例１、実施例２、及び比較例１に係る光学フィルタについては、ＶＣＣＩのクラスＢの規格値を全ての測定範囲において安定して満たすことできた。比較例２に係るディスプレイについては、ＶＣＣＩのクラスＢの規格値を全ての測定範囲において満たすことが出来無いものであり、電磁波遮蔽性能が安定しなかった。
【図面の簡単な説明】
【００７９】
【図１】本発明の光学フィルタの一例を示す模式的な断面図である。
【図２】透明基材と平行な仮想面で切断した金属パターン層の断面積の説明図である。
【図３】本発明における金属パターン層の線條部の断面形状の具体例の模式図である。
【図４】比較例による金属パターン層の線條部の断面形状の模式図である
【符号の説明】
【００８０】
１  透明基材
２  金属パターン層、アルミニウムから成る金属パターン層
３  アルミニウムの酸化皮膜
４  透明接着剤層
５  平坦化層を兼ねる接着剤層
６  光鏡面反射防止層
【図１】
2010118396.tif 000003
【図２】
2010118396.tif 000004
【図３】
2010118396.tif 000005
【図４】
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