(57)【要約】【課題】  装置内部からのパーティクル飛散を防止するとともに、ＣＶＤやＰＶＤなどの腐食性ガスを使用する環境においても内部に腐食性ガスが侵入することがなく、極めて長期的に安定した耐腐食性能を得ることができるプリアライナー装置を提供する。【解決手段】  機枠２１の内部を機枠２１に設けた排気用継ぎ手３２から真空排気などにより吸引することによって陰圧化するとともに、機枠２１の外側に外被容器１１を設け、外被容器１１には気体導入用の継ぎ手１２を設けておき、気体導入用の継ぎ手１２から清浄なエアを印加して機枠２１と外被容器１１との間の空間１４に充填することで、外被容器１１の内側を外部雰囲気３に対して陽圧とする。  【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体ウエハが搭載されるウエハステージと、前記ウエハステージを回転させる駆動部と、前記駆動部によって回転する前記半導体ウエハの外周部分を検知するセンサ部と、前記駆動部と前記センサ部とを収納する機枠と、を備え、前記センサ部によって検知された前記外周部分の情報に応じて前記半導体ウエハを所望の位置へ回転させるプリアライナー装置において、
前記機枠の内部を吸引することにより外部雰囲気に対して陰圧化するとともに、前記機枠の外側に外被容器を設け、前記機枠と前記外被容器との間の空間を外部雰囲気に対して陽圧とすることを特徴とするプリアライナー装置。
【請求項２】
前記外被容器に気体導入用の継ぎ手を設け、前記気体導入用の継ぎ手から清浄なエアを印加して前記機枠と前記外被容器との間の空間に充填することで、前記機枠と外被容器との間の空間を前記外部雰囲気に対して陽圧とすることを特徴とする請求項１記載のプリアライナー装置。
【請求項３】
前記外被容器に気体導入用ファンを設け、前記気体導入用ファンによって前記機枠と外被容器との間の空間にエアを供給して前記機枠と外被容器との間の空間に充填することで、前記機枠と外被容器との間の空間を前記外部雰囲気に対して陽圧とすることを特徴とする請求項１記載のプリアライナー装置。
【請求項４】
前記外被容器において、前記センサ部が前記半導体ウエハの外周部分の形状を検知するための検出軸の部分を覆う部分が、透明且つ耐腐食性を有するガラス又はプラスチックによって構成されることを特徴とする請求項１記載のプリアライナー装置。
【請求項５】
前記外被容器は、底部が開口するよう形成し、前記センサ部と前記駆動部とをはさんで前記ウエハステージの反対側の側面に気体導入用ファンを設け、
前記機枠の底部に排気用ファンを設けたことを特徴とする請求項１記載のプリアライナー装置。
【請求項６】
請求項１記載のプリアライナー装置と、前記半導体ウエハを前記ウエハステージに載置するウエハ搬送装置と、を備えたことを特徴とするウエハ搬送システム。
【請求項７】
請求項６記載のウエハ搬送システムを備えたことを特徴とする半導体製造装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体ウエハの位置を調整するプリアライナー装置に関し、特に装置の外部雰囲気のガスが装置内に侵入することを防止する機構に関する。  
【背景技術】
【０００２】
プリアライナー装置は、半導体製造装置等において、主にウエハハンドリングロボットと組み合わせて使用され、ロボットから移載されたウエハを把持（グリップ）し、ウエハを回転させることによってその外周に予め施されているノッチやオリフラなどの切り欠き部分を検知し、これをもとに所定の角度方向へアライメントさせたり、ウエハ自体の中心位置を決定（センタリング）するための装置である。プリアライナー装置は、昨今の半導体製造装置では粉塵（パーティクル）を嫌う半導体製造工程において、フィルタを通過したダウンフローの気流を備えた箱体内、即ち、局所クリーン化された筐体（フロントエンド装置など）の内部に、ウエハハンドリングロボットとともに設置され、ウエハ搬送システムとして設置される。筐体の側面には、ウエハを収納したカセット（ＦＯＵＰなど）を開閉するカセットオープナ（ＰＯＤオープナやＦＯＵＰオープナという）が設けられており、このオープナによって、筐体外の清浄でない雰囲気を筐体内に侵入させることなくカセットなどを開閉させている。そして、ウエハハンドリングロボットがカセット内のウエハをプリアライナーに載置し、アライメントが終了したウエハを筐体に隣接して設置されている処理装置へと搬送する。処理装置では、例えばＣＶＤ、エッチング、露光などといった所定の処理が行われる。そして、処理装置で処理が終わったウエハはウエハハンドリングロボットによって再びカセットに収納される。
【０００３】
このようにプリアライナーはロボットと共にウエハを処理装置へと搬入或いは搬出したり、ウエハを移し変えたりするので、頻繁な動作が発生する。動作が発生すればその駆動機構からパーティクルが発生し、そのパーティクルがウエハに載ってしまうと半導体製造において悪影響を及ぼす。これを防ぐために前記のように筐体内にはフィルタが備えられ、それを通過した清浄な気流下にプリアライナーやロボットが存在するよう構成することで、この気流によってプリアライナーなどの駆動機構で発生したパーティクルが筐体の下部へと流され、パーティクルがウエハに載らないようになっている。また、プリアライナー自体も機枠の内部を真空排気やファンなどで吸引することにより外部雰囲気に対して陰圧化することで、プリアライナーの機枠内部の駆動機構で発生したパーティクルが機枠の外部雰囲気に飛散してウエハに付着することがないようになっている。
【０００４】
上記で説明したプリアライナーの構成について、図４、図５、図６を使用して説明する。図４、図５、図６は従来のプリアライナーの駆動機構を示す側面の断面図である。
図４において、１はプリアライナー装置、２はプリアライナー装置が取り付けられる取付台、３はプリアライナー装置１の周辺の外部雰囲気である。２１はプリアライナーの機枠、２２は機枠２１に固定されたモータ、２３はモータ２２の回転軸に固定された駆動プーリである。２４は機枠２１の内部に貫通するシャフトであり、機枠２１の上板に設けた軸受２５によって回転可能に支持され、下端に駆動プーリ２３の回転力をタイミングベルト２６を介して回転する従動プーリ２７を備え、上端にウエハ２９を搭載するためのウエハステージ２８を備えている。ウエハステージ２８には、ウエハ２９を真空吸着するためのウエハ吸着装置３０を設けており、シャフト２４が回転動作すると、ウエハ２９が同時に回転するように構成している。また、３１はウエハ２９の外周部を検知するためのセンサ部である。３２は機枠２１の内部を外部雰囲気３に対して陰圧化するための排気用継ぎ手である。
【０００５】
次に上記従来のプリアライナー駆動機構の動作について説明する。
アライメントを必要とするウエハ２９は、図示しないウエハ搬送装置（ウエハハンドリングロボット）によって、ウエハステージ２８に搭載される。搭載されたウエハ２９は、ウエハ吸着装置３０によってウエハステージ２８上に吸着され、搭載位置がずれないように固定される。次に、図示しないプリアライナー制御装置からモータ２２に動作指令が与えられると、モータ２２が回転し、モータ２２の回転力は、駆動プーリ２３、タイミングベルト２６、従動プーリ２７を介して、シャフト２４に伝達される。シャフト２４が回転すると、ウエハステージ２８が回転し、ウエハステージ２８に搭載したウエハ２９が回転する。そして、センサ部３１は、ウエハ２９が所定量回転する時に、ウエハ２９外周部の位置を検出して、ウエハ２９の中心位置の基準軸に対するずれ量とウエハ外周部に設けてあるノッチやオリフラなどの切り欠き部分の位置を検出する。検出されたウエハ２９の中心位置ずれ量と切り欠き位置の情報は、図示しないプリアライナー制御装置に伝達される。プリアライナー制御装置は、前述の情報を処理し、図示しないウエハ搬送装置の制御装置に上記ずれ量を通知する。また、プリアライナー制御装置は、モータ２２を回転させ、ウエハ２９の切り欠き位置を所定位置に回転移動させる。図示しないウエハ搬送装置の制御装置は、ウエハ搬送装置に指令してウエハ搬送装置の駆動機構を動作させ、ウエハ２９の中心位置とウエハ搬送装置のハンドの基準軸とが一致してウエハ搬送装置がウエハ２９をウエハステージ２８から受け取るよう動作させる。このとき、図示しないウエハ搬送装置がウエハステージ２８からウエハ２９を受け取る前に、ウエハ２９をウエハステージ２８上の搭載位置からずれないように吸着していたウエハ吸着装置３０は解鍵（非吸着の状態）されている。以上のような手段でウエハのアライメント動作を行なう。
【０００６】
これらの動作の間、排気用継ぎ手３２に接続された図示しない真空ポンプなどの排気装置から排気を行なうことで機枠２１の内部を外部雰囲気３に対して陰圧化し、機枠２１の内部の駆動機構で発生したパーティクルが機枠２１とシャフト２４との隙間３５などから外部雰囲気３に飛散しないようにしている。
また、排気用継ぎ手３２に接続された図示しない真空ポンプなどの排気装置から排気を行なう代わりに、図５に示すように機枠２１に排気用ファン３３を設けて機枠２１の内部の気体を排出することで、機枠２１の内部を外部雰囲気３に対して陰圧化し、機枠２１の内部の駆動機構で発生したパーティクルが外部雰囲気３に飛散しないようにしている場合もある。
また、図６に示すように機枠２１とシャフト２４との隙間３５の同心上に磁性流体シール３４を設けることで、機枠２１の内部の駆動機構で発生したパーティクルが機枠２１とシャフト２４との隙間３５から飛散することを防止している場合もある。
このように、従来のプリアライナー装置においては、パーティクルが外部雰囲気に飛散するのを抑制するために、真空排気やファンなどで内部吸引することにより機枠の内部を外部雰囲気に対して陰圧化したり、磁性流体シールによってシャフト回転部の隙間を塞いだりしている（例えば、特許文献１）。
なお、プリアライナー装置の制御装置とウエハ搬送装置の制御装置とが一体に構成されている場合もある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００６−２４５０７９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、図４、図５、図６に示すような従来のプリアライナー装置では、前述のとおりパーティクルを抑制するために、ＥＦＥＭ内にはダウンフローがあり、且つプリアライナーの機枠２１の内部が外部雰囲気３に対して陰圧となるようにしているので、機枠２１とシャフト２４との隙間３５や機枠２１を構成する部材の隙間などから外部雰囲気３の気体が機枠２１の内部に流入していた。
しかし、プリアライナー装置がＣＶＤやＰＶＤなどのプロセス装置において使用される場合、プロセスで使用されるウエハ処理ガスがウエハ搬送によってごく僅かではあるがウエハと共に搬送されてきて、プリアライナー装置まで搬送されてきたウエハ２９の周辺部にも残留する。そして、プリアライナー上へのウエハ載置やアライメント動作中に、前述のとおり、ウエハ２９周辺部の残留ガスはプリアライナーの機枠２１の内部へと侵入してしまう。機枠２１の内部へと侵入するウエハ２９周辺部の残留ガスは、プロセスで使用されるウエハ処理ガスであり、腐食性ガスであるため、一回のプリアライナー上へのウエハ載置やアライメント動作におけるプリアライナー内部への侵入量が微量であっても、生産ラインにおいて連続運転されればプリアライナー内部が長期間にわたって腐食性ガスに暴露されることになり、その結果プリアライナー内部の腐食が徐々に進み、特にタイミングベルト２６や軸受２５、センサ部３１の電子部品などが腐食によって劣化してしまい、この劣化によってプリアライナー装置の故障が発生し、生産停止や高頻度の部品交換をなどの保守作業を余儀なくされるという問題があった。また、腐食性ガスに暴露されたプリアライナー装置内部の交換部品の廃棄も容易でなく、廃棄コストがかかっていた。また、図６に示すような従来のプリアライナー装置においても、一般的な磁性流体シールには耐腐食性に問題があるため、プリアライナー装置を腐食性ガスが使われるプロセス装置において使用される場合、磁性流体シール３４は、ウエハ２９の周辺部に残留する腐食性ガスに暴露されることで劣化が進行してしまい、生産ラインにおいて長期間使用されるとシールの効果が得られなくなるという問題があった。
そこで、本発明はこのような問題点に鑑みてなされたものであり、プリアライナー装置内部からのパーティクル飛散を防止するとともに、ＣＶＤやＰＶＤなどの腐食性ガスを使用する環境においても、プリアライナー装置内部に腐食性ガスが侵入することがなく、極めて長期的に安定した耐腐食性能を得ることができるプリアライナー装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記問題を解決するため、本発明は、次のように構成したのである。
請求項１に記載の発明は、半導体ウエハが搭載されるウエハステージと、前記ウエハステージを回転させる駆動部と、前記駆動部によって回転する前記半導体ウエハの外周部分を検知するセンサ部と、前記駆動部と前記センサ部とを収納する機枠と、を備え、前記センサ部によって検知された前記外周部分の情報に応じて前記半導体ウエハを所望の位置へ回転させるプリアライナー装置において、前記機枠の内部を吸引することにより外部雰囲気に対して陰圧化するとともに、前記機枠の外側に外被容器を設け、前記機枠と前記外被容器との間の空間を外部雰囲気に対して陽圧とすることを特徴とするプリアライナー装置とした。
また、請求項２に記載の発明は、前記外被容器に気体導入用の継ぎ手を設け、前記気体導入用の継ぎ手から清浄なエアを印加して前記機枠と前記外被容器との間の空間に充填することで、前記機枠と外被容器との間の空間を前記外部雰囲気に対して陽圧とすることを特徴とする請求項１記載のプリアライナー装置とした。
また、請求項３に記載の発明は、前記外被容器に気体導入用ファンを設け、前記気体導入用ファンによって前記機枠と外被容器との間の空間にエアを供給して前記機枠と外被容器との間の空間に充填することで、前記機枠と外被容器との間の空間を前記外部雰囲気に対して陽圧とすることを特徴とする請求項１記載のプリアライナー装置とした。
また、請求項４に記載の発明は、前記外被容器において、前記センサ部が前記半導体ウエハの外周部分の形状を検知するための検出軸の部分を覆う部分が、透明且つ耐腐食性を有するガラス又はプラスチックによって構成されることを特徴とする請求項１記載のプリアライナー装置とした。
また、請求項５に記載の発明は、前記外被容器は、底部が開口するよう形成し、前記センサ部と前記駆動部とをはさんで前記ウエハステージの反対側の側面に気体導入用ファンを設け、前記機枠の底部に排気用ファンを設けたことを特徴とする請求項１記載のプリアライナー装置とした。
また、請求項６に記載の発明は、請求項１記載のプリアライナー装置と、前記半導体ウエハを前記ウエハステージに載置するウエハ搬送装置と、を備えたことを特徴とするウエハ搬送システムとした。
また、請求項７に記載の発明は、請求項６記載のウエハ搬送システムを備えたことを特徴とする半導体製造装置とした。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によると、機枠と外被容器との間の空間を清浄なエアによって外部雰囲気よりも陽圧にすることにより、プリアライナー装置本体からウエハ側に対して気流が形成されるので、ウエハ周辺部の残留ガスはプリアライナー装置の内部へ侵入しなくなる。また、機枠の内部は陰圧化しているので、内部の駆動部からのパーティクルがプリアライナー装置の外部に流出することはなく、ウエハ上を汚染することはない。そして、ウエハ周辺部の腐食性のある残留ガスがプリアライナー内部へ侵入することがなくなったことで、プリアライナー装置は極めて長期的に安定した耐腐食性能を得ることができ、高頻度の保守作業も必要なくなる。また、腐食のある生成物もできないので、廃棄コストも安く抑えることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の第１実施例を示すプリアライナー装置の側断面図
【図２】本発明の第２実施例を示すプリアライナー装置の側断面図
【図３】本発明の第３実施例を示すプリアライナー装置の側断面図
【図４】従来のプリアライナー装置の側断面図
【図５】従来の他のプリアライナー装置の側断面図
【図６】従来の他のプリアライナー装置の側断面図
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、本発明の実施の形態について図を参照して説明する。
【実施例１】
【００１３】
図１は、本発明のプリアライナー装置の側断面図である。従来と同じ機構については図４と同番号を付している。図１において、１はプリアライナー装置、２はプリアライナー装置が取り付けられる取付台、３はプリアライナー装置１の周辺の外部雰囲気である。２１はプリアライナーの機枠、２２は機枠２１に固定されたモータ、２３はモータ２２の回転軸に固定された駆動プーリである。２４は機枠２１の内部に貫通するシャフトであり、機枠２１の上板に設けた軸受２５によって回転可能に支持され、下端に駆動プーリ２３の回転力をタイミングベルト２６を介して回転する従動プーリ２７を設け、上端にウエハ２９を搭載するためのウエハステージ２８を備えている。ウエハステージ２８には、ウエハ２９を真空吸着するためのウエハ吸着装置３０を設けており、シャフト２４が回転動作すると、ウエハ２９ が同時に回転するように構成している。また、３１は回転するウエハ２９の外周部分の形状を検知していくセンサ部である。３２は機枠２１に設けられた排気用継ぎ手であり、図示しない真空ポンプなどの排気装置に接続され機枠２１の内部を外部雰囲気に対して陰圧化するための排気が行なわれる。
【００１４】
さらに本発明では、機枠２１の外側に外被容器１１を設け、さらに前記外被容器１１に気体導入用継ぎ手１２を設けている。機枠２１と外被容器１１との間には複数本の支柱１３を設けることによって空間１４が確保されており、機枠と外被容器間の空間１４は略閉空間である。但し、ウエハステージ２８は外被容器１１を貫通して外被容器１１の外側まで位置するから、ウエハステージ２８下部のシャフト２４と外被容器１１との間には空隙１５が形成される。また、外被容器１１において、外面に露出する部分は耐食性に優れた材料によって構成され、特にセンサ部３１がウエハ２９の外周部分の形状を検知するための検出軸部１１Ａは、透明且つ耐腐食性を有するガラスやプラスチックなどの材料によって構成され、センサ部３１に外部雰囲気３１が侵入しないようになっている。
上記機枠２１は、モータ２２、駆動プーリ２３、タイミングベルト２６、従動プーリ２７、ウエハ吸着装置３０、軸受２５、シャフト２４の下部、およびセンサ部３１を内包するものであり、上記のように排気用継ぎ手３２を介して機枠２１内部が外部雰囲気３の圧力Ｐ１よりも低い圧力Ｐ３になるよう排気される。また、上記外皮容器１１は機枠２１全体を覆うよう形成されているが、シャフト２４の上部とウエハステージ２８のみを外部雰囲気３に露出させるようになっている。そして、気体導入用継ぎ手１２を介して空間１４に向け、機枠２１及びそれが内包する各部に影響を与えない気体が導入され、空間１４の圧力Ｐ２が、Ｐ３＜Ｐ１＜Ｐ２となるように維持される。
【００１５】
次に本発明のプリアライナー駆動機構の動作について説明する。基本的には従来のプリアライナー駆動機構の動作と同様である。アライメントを必要とするウエハ２９は、図示しないウエハ搬送装置（ウエハハンドリングロボット）によって、ウエハステージ２８に搭載される。搭載されたウエハ２９は、ウエハ吸着装置３０によってウエハステージ２８上に吸着され、搭載位置がずれないように固定される。次に、図示しないプリアライナー制御装置からモータ２２に動作指令が与えられると、モータ２２が回転し、モータ２２の回転力は、駆動プーリ２３、タイミングベルト２６、従動プーリ２７を介して、シャフト２４に伝達される。シャフト２４が回転すると、ウエハステージ２８が回転し、ウエハステージ２８に搭載したウエハ２９が回転する。そして、センサ部３１は、ウエハ２９が所定量回転する時に、ウエハ２９外周部の位置を検出して、ウエハ２９の中心位置の基準軸に対するずれ量とウエハ外周部に設けてあるノッチやオリフラなどの切り欠き部分の位置を検出する。検出されたウエハ２９の中心位置ずれ量と切り欠き位置の情報は、図示しないプリアライナー制御装置に伝達される。プリアライナー制御装置は、前述の情報を処理し、図示しないウエハ搬送装置の制御装置に上記ずれ量を通知する。また、プリアライナー制御装置は、モータ２２を回転させ、ウエハ２９の切り欠き位置を所定位置に回転移動させる。図示しないウエハ搬送装置の制御装置は、ウエハ搬送装置に指令してウエハ搬送装置の駆動機構を動作させ、ウエハ２９の中心位置とウエハ搬送装置のハンドの基準軸とが一致してウエハ搬送装置がウエハ２９をウエハステージ２８から受け取るよう動作させる。このとき、図示しないウエハ搬送装置がウエハステージ２８からウエハ２９を受け取る前に、ウエハ２９をウエハステージ２８上の搭載位置からずれないように吸着していたウエハ吸着装置３０は解鍵（非吸着の状態）されている。以上のような手段でウエハのアライメント動作を行なう。なお、プリアライナー装置の制御装置とウエハ搬送装置の制御装置とが一体に構成される場合もある。
【００１６】
本発明では、これらの動作の間、排気用継ぎ手３２に接続された図示しない真空ポンプなどの排気装置から排気を行なうことで機枠２１の内部を陰圧化するとともに、外被容器１１に設けられた気体導入用継ぎ手１２から清浄なエアを常時送り込んで機枠２１と外被容器１１との間の空間１４に充填し、連続的に機枠２１と外被容器１１の間の空間１４を外部雰囲気３に対して陽圧に保つようにする。そうすることによって、シャフト２４と外被容器１１間の空隙１５にプリアライナー本体からウエハ２９側に対して流れる気流が形成され、また外被容器１１を構成する各部材の隙間に外被容器１１の内側から外部雰囲気３に対して流れる気流が形成されるので、ウエハ周辺部の残留ガスはプリアライナー内部へ侵入しなくなる。また、プリアライナーの機枠２１の内部はその外側に対して陰圧化しているので、プリアライナー内部の駆動部からのパーティクルが外部雰囲気に流出することはなく、ウエハ２９上を汚染することはない。
【００１７】
このような構成にしたことにより、ウエハ周辺部の腐食性のある残留ガスがプリアライナー内部へ侵入することがなくなったことで、プリアライナー装置は極めて長期的に安定した耐腐食性能を得ることができ、高頻度の保守作業も必要なくなる。また、腐食のある生成物もできないので、各部品の廃棄コストも安く抑えることができる。
【実施例２】
【００１８】
図２は第２実施例の構成を示す図である。第２実施例が第１実施例と異なる点は、外被容器１１の内側を外部雰囲気３に対して陽圧とする手段として、外被容器１１に設けた気体導入用継ぎ手１２から清浄なエアを印加して機枠２１と外被容器１１との間の空間１４に充填する代わりに、外被容器１１に気体導入用ファン１６を設け、気体導入用ファン１６によって機枠２１と外被容器１１との間の空間１４にエアを供給することで機枠２１と外被容器１１との間の空間１４に充填するようにした点である。ここで、気体導入用ファン１６の吸気口は、ＥＦＥＭ内のダウンフローによってクリーンであり、且つウエハ周辺部の残留ガスの周り込みが無い箇所に設けられる。すなわち、本実施例の場合、センサ部３１やモータ２２をはさんだウエハ２９の反対側の外皮容器１１の側面に気体導入用ファン１６が設置されている。このような構成にすれば、第１実施例では気体導入用継ぎ手１２にエアの供給を行なうためのエア供給源が必要であったが、ファンへの電源供給を行なうだけで良くなるので、簡素なシステム構成でウエハ周辺部の腐食性のある残留ガスがプリアライナー内部へ侵入することがなくなり、プリアライナー装置は極めて長期的に安定した耐腐食性能を得ることができる。
【実施例３】
【００１９】
図３は第３実施例の構成を示す図である。第３実施例が第１実施例や第２実施例と異なる点は、機枠２１と外被容器１１との間の空間１４を略閉空間とせず、プリアライナー装置１の底面部が開口とるよう構成した点であり、プリアライナー装置１の底面にウエハ周辺部の残留ガスの周り込みが無い場合に採用される。このような構成にすれば、外被容器１１の構成が簡素化できる。また、機枠２１と外被容器１１との間の空間１４のプリアライナー装置１の底面部を開口とするとともに、機枠２１の内部を陰圧化するための排気用ファン３３を機枠２１の底部に設け、外被容器１１の内側を外部雰囲気３に対して陽圧とするための気体導入用ファン１６を外被容器１１に設け、気体導入用ファン１６の吸気口はＥＦＥＭ内のダウンフローによってクリーンであり、ウエハ周辺部の残留ガスの周り込みが無く、且つ前記排気用ファン３３からの排気を取り込むことが無い箇所に設けることにより、第１実施例や第２実施例では排気用継ぎ手３２から排気を行なうための真空ポンプなどの排気装置が必要であったが、ファンへの電源供給を行なうだけで良くなるので、更に簡素なシステム構成でウエハ周辺部の腐食性のある残留ガスがプリアライナー内部へ侵入することがなくなり、プリアライナー装置は極めて長期的に安定した耐腐食性能を得ることができる。
【符号の説明】
【００２０】
１      プリアライナー装置
２      取付台
３      外部雰囲気
１１    外被容器
１１Ａ  外被容器のセンサ検出軸部
１２    気体導入用継ぎ手
１３    支柱
１４    機枠と外被容器間の空間
１５    シャフトと外被容器間の空隙
１６    気体導入用ファン
２１    機枠
２２    モータ
２３    駆動プーリ
２４    シャフト
２５    軸受
２６    タイミングベルト
２７    従動プーリ
２８    ウエハステージ
２９    ウエハ
３０    ウエハ吸着装置
３１    センサ部
３２    排気用継ぎ手
３３    排気用ファン
３４    磁性流体シール
３５    機枠とシャフトとの隙間
矢印    気流の向き
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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