(57)【要約】【課題】基板浮上装置において、簡素な構成で圧力一定のエアを浮上プレートに供給する。【解決手段】基板浮上用のエアを吐出する複数の浮上プレート１１と、この複数の浮上プレート１１に供給するエアを一時的に貯留するバッファタンク１２ａと、このバッファタンク１２ａから複数の浮上プレート１１のそれぞれにエアを供給する複数のエア配管１３と、を備える基板浮上装置１０において、バッファタンク１２ａは、浮上プレート１１が配置される領域の下方且つ近傍に配置されると共に、この浮上プレート１１の配列方向に延び、複数のエア配管１３は、バッファタンク１２ａから浮上プレート１１までの長さが互いに実質同一である構成とする。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板浮上用のエアを吐出する複数の浮上プレートと、
該複数の浮上プレートに供給するエアを一時的に貯留するバッファタンクと、
該バッファタンクから前記複数の浮上プレートのそれぞれにエアを供給する複数のエア配管と、
を備える基板浮上装置において、
前記バッファタンクは、前記複数の浮上プレートが配置される領域の下方且つ近傍に配置されると共に、前記浮上プレートの配列方向に延び、
前記複数のエア配管は、前記バッファタンクから前記浮上プレートまでの長さが互いに実質同一である、
ことを特徴とする基板浮上装置。
【請求項２】
前記浮上プレートを下方から支持するプレート支持フレームを更に備え、
前記バッファタンクは、前記プレート支持フレームの内部に形成される、
ことを特徴とする請求項１記載の基板浮上装置。
【請求項３】
前記浮上プレートを下方から支持する複数のプレート支持フレームを更に備え、
前記バッファタンクは、前記複数のプレート支持フレーム間の領域に配置される、
ことを特徴とする請求項１記載の基板浮上装置。
【請求項４】
前記エア配管は、前記バッファタンクから前記プレート支持フレームに沿って上方に延びると共に、該プレート支持フレームの上端で湾曲して前記浮上プレートの底面に沿って水平に延びて、該浮上プレートに接続されることを特徴とする請求項２又は請求項３記載の基板浮上装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）その他のフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）等の基板をエアにより浮上させる基板浮上装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、フォトリソグラフィ工程によりガラス基板（マザーガラス）にレジストパターニングを行って液晶パネルを製造工程やこのガラス基板を検査する検査工程において、エアによりマザーガラス基板を浮上させ、この非接触状態のマザーガラス基板を検査或いは搬送する手法が採られている（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
マザーガラス基板をエアにより浮上させる場合、基板検査装置や基板搬送装置のガラス基板を載置するステージ上面やガラス基板を搬送する搬送面にエア吐出孔が形成された浮上プレートを複数並べて配列し、これら浮上プレートのエア吐出孔からエアを吐出させることでガラス基板を浮上させている。
【０００４】
浮上プレートに吐出用のエアを供給する場合には、エア供給源から供給されるエアを一時貯留するバッファタンクから、エア配管を介して各浮上プレートにエアを供給する手法がとられている。
【特許文献１】特開２００５−６２８１９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、エア配管の長さが浮上プレート毎に異なると、エア配管における圧力損失に差が生じることで浮上プレート毎のエア吐出量に差が生じ、ひいては、浮上時の基板を水平に保つことができなくなる。
【０００６】
この点、エア配管を全て同じ長さにすることでエア配管におけるエアの圧力損失を一定にすることができる。この場合、バッファタンクから一番離れた浮上プレートまでの距離が基準となり、バファタンクに一番近い浮上プレートのエア配管は、一番離れた浮上プレートに比べてガラス基板の搬送路の幅分にだけ長くなる。一辺が３０００ｍｍの大型ガラス基板を搬送するために、例えば幅２００ｍｍの浮上プレートを搬送幅方向に並べた搬送ステージでは、両サイドに配置された浮上プレートに接続されるエア配管の間で約３０００ｍｍの差がでる。すなわち、一番離れた浮上プレートから順番に２００ｍｍずつエア配管にたるみがでるため、たるみがでた他のエア配管を引き回さなければならず、配管作業が複雑化するという問題が生じる。たるみがでたエア配管をバファタンク側で丸めた場合には、この丸めた部分でエアの流れに抵抗が生じるために各エア配管に流れるエアの圧力がことなり、各浮上プレートの浮上圧が一定にできなくなるという問題が新たに生ずることになる。更には、全てのエア配管の長さを、バッファタンクから浮上プレートまでの距離が最も大きいエア配管の長さに合わせなければならないため、圧力損失が大きくなって、浮上プレートに供給するエアの圧力を高める必要も生じる。
【０００７】
本発明の課題は、上記従来の実情に鑑み、簡素な構成で一定圧力のエアを浮上プレートに供給する基板浮上装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するために、本発明の基板浮上装置は、基板浮上用のエアを吐出する複数の浮上プレートと、これら複数の浮上プレートに供給するエアを一時的に貯留するバッファタンクと、このバッファタンクから上記複数の浮上プレートのそれぞれにエアを供給する複数のエア配管と、を備える基板浮上装置において、上記バッファタンクは、上記複数の浮上プレートが配置される領域の下方且つ近傍に配置されると共に、上記浮上プレートの配列方向に延び、上記複数のエア配管は、上記バッファタンクから上記浮上プレートまでの長さが互いに実質同一である構成とする。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、エア配管を短くすることができると共に、エア配管の配置形状に起因するエアの圧力損失差の発生を防ぐことができ、したがって、簡素な構成で圧力一定のエアを浮上プレートに供給することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下、本発明の一実施の形態に係る基板浮上装置について、図面を参照しながら説明する。
図１は、本発明の一実施の形態に係る基板浮上装置１０を備える基板検査装置１を示す斜視図である。なお、同図では、基板検査装置１の基板搬送方向（矢印Ｄ１）の前後に配置される基板搬送装置と、浮上プレート１１上を浮上した基板の片側側端部を保持して搬送するスライダとについては図示を省略している。
【００１１】
図２は基板浮上装置１０を上方から見た斜視図であり、図３は基板浮上装置１０を下方から見た斜視図である。なお、図２では、基板浮上装置１０の浮上プレート１１については図示を省略している。
【００１２】
図１に示す基板検査装置１は、ガントリ固定方式のミクロ検査装置であり、図２及び図３に示す基板浮上装置１０、顕微鏡（検査ユニット）２、ガントリ３、ベース部４、除振部５、架設フレーム６等から構成される。
【００１３】
ガントリ３は、門型形状を呈し、基板浮上装置１０上に搬送される基板を跨ぐようにベース部４上に固定される。顕微鏡２は、ガントリ３の側面に設けられたリニアモータ機構３ａの作動により、基板搬送方向（矢印Ｄ１）に直交する水平１軸方向（矢印Ｄ２）に移動可能となっている。
【００１４】
ガントリ３がベース部４に固定されるため、顕微鏡２は、図示しないスライダにより基板搬送方向（矢印Ｄ１）に搬送される基板を、リニアモータ機構３ａの作動により１軸方向（矢印Ｄ２）に移動しながら観察することで、基板の全面を観察することが可能となっている。なお、顕微鏡２の下方には、この顕微鏡２と対向するように顕微鏡２の動作に同期して移動する透過照明用光源が配設されている。
【００１５】
後述する浮上プレート１１のうち、顕微鏡２による基板の検査対象領域（顕微鏡２が移動方向Ｄ２に移動することで検査可能な領域）を挟むように位置する２列分の浮上プレート１１´は、他の位置に配置された浮上プレート１１よりも短辺方向である顕微鏡移動方向（矢印Ｄ２）に密接して配置され、基板を精密浮上させることが可能となっている。
【００１６】
ベース部４の下部には、外部からの振動を吸収する複数の除振部５が配置されている。また、ベース部４上には、複数の架設フレーム６が基板搬送方向（矢印Ｄ１）に延びるように架設され、架設フレーム６上に、図２及び図３に示す基板浮上ステージ１０が４つ設置されている。
【００１７】
基板浮上装置１０は、浮上プレート１１（図３のみに図示）、プレート支持フレーム１２、バッファタンク１２ａ、エア配管１３，１４、フレームベース部１５、高さ調整部１６等から構成される。
【００１８】
浮上プレート１１は、矩形タイル状を呈し、上面に形成されたエア吐出孔から基板浮上用のエアを吐出する。また、浮上プレート１１は、基板搬送方向（矢印Ｄ１）及び顕微鏡移動方向（矢印Ｄ２）にマトリクス状に配列され、長手方向が基板搬送方向（矢印Ｄ１）と平行となっている。
【００１９】
浮上プレート１１の下部には、角パイプを積層してなり、浮上プレート１１を下方から支持するプレート支持フレーム１２が、顕微鏡移動方向（矢印Ｄ２）に延びるように複数配置されている。
【００２０】
プレート支持フレーム１２は、フレームベース部１５上に固定されている。このフレームベース部１５は、その４つ角において、高さ調整部１６を介して上述の架設フレーム６上に固定されている。
【００２１】
バッファタンク１２ａは、浮上プレート１１が配置される領域の下方で且つ浮上プレート１１の近傍として、本実施の形態では、プレート支持フレーム１２の内部の中空部分（積層された角パイプのうちの１本の中空部分）の両端開口部を板状のシール材１２ｂで封止することで形成されており、図示しないエア供給源からエア配管１４を介して供給されるエアを一時的に貯留する。
【００２２】
また、バッファタンク１２ａは、浮上プレート１１の配列方向（矢印Ｄ１，Ｄ２）の一方であるプレート支持フレーム１２の長手方向（即ち、顕微鏡移動方向Ｄ２）に延びている。
【００２３】
バッファタンク１２ａが浮上プレート１１の配列方向の一方である顕微鏡移動方向（矢印Ｄ２）に延びるため、バッファタンク１２ａから各浮上プレート１１までの距離が互いに同一となり、バッファタンク１２ａから各浮上プレート１１にエアを供給する複数のエア配管１３の長さ（矢印Ｌ）も互いに同一で、同じ形状となっている。
【００２４】
エア配管１３は、バッファタンク１２ａ（プレート支持フレーム１３）の側面に設けられた配管継手１３ａからプレート支持フレーム１２の側面に沿って上方に延び、プレート支持フレーム１２の上端で湾曲して浮上プレート１１の底面に沿って水平に延び、浮上プレート１１の底面に設けられた配管継手１３ｂに接続されている。
【００２５】
以上説明した本実施の形態では、バッファタンク１２ａは、複数の浮上プレート１１が配置される領域の下方且つ近傍に配置されると共に、浮上プレート１１の配列方向の１つである顕微鏡移動方向（矢印Ｄ２）に延び、バッファタンク１２ａと浮上プレート１１とを接続する複数のエア配管１３は、バッファタンク１２ａから浮上プレート１１までの長さＬが互いに実質同一である。
【００２６】
そのため、エア配管１３を短くすることができると共に、エア配管１３の長さ（矢印Ｌ）の違いに起因するエアの圧力損失差の発生を防ぐことができる。よって、本実施の形態によれば、簡素な構成で圧力一定のエアを浮上プレート１１に供給することができる。
【００２７】
また、本実施の形態では、バッファタンク１２ａは、プレート支持フレーム１２の内部に形成される。そのため、バッファタンク１２ａの設置スペースを省略することができ、したがって、簡素な構成で圧力一定のエアを浮上プレート１１に供給することができる。
【００２８】
また、本実施の形態では、バッファタンク１２ａと浮上プレート１１とを接続するエア配管１３は、バッファタンク１２ａからプレート支持フレーム１２に沿って上方に延びると共に、このプレート支持フレーム１２の上端で湾曲して浮上プレート１１の底面に沿って水平に延びて、浮上プレート１１の底面の配管継手１３ｂに接続される。したがって、より簡素な構成とすることができる。
【００２９】
なお、本実施の形態では、バッファタンク１２ａをプレート支持フレーム１２の内部に形成したが、プレート支持フレーム１２，１２間の領域に配置してもよい。その場合、一方のプレート支持フレーム１２に沿うようにバッファタンクを配置することで、より簡素な構成とすることができる。
【００３０】
また、本実施の形態では、ガントリ３がベース部４に固定されるガントリ固定方式の基板検査装置１に基板浮上装置１０を配置する例について説明したが、ガントリ３がベース部４に沿って移動するガントリ移動方式の基板検査装置に基板浮上装置１０を配置してもよい。
【００３１】
また、基板検査装置１の基板搬送方向（矢印Ｄ１）の前後に配置される基板搬送装置や基板受け渡し装置に基板浮上装置１０を配置してもよい。また、基板検査装置１に接続されない基板搬送装置に基板浮上装置１０を配置することもできる。
【００３２】
また、本実施の形態では、バッファタンク１２ａは、浮上プレート１１の配列方向の１つである顕微鏡移動方向（矢印Ｄ２）に延びるが、浮上プレート１１の他の配列方向である基板搬送方向（矢印Ｄ１）に延びるようにしてもよい。その場合には、プレート支持フレーム１２の長手方向を基板搬送方向（矢印Ｄ１）と平行となるようにプレート支持フレーム１２を配置するか、或いは、プレート支持フレーム１１を貫通するようにバッファタンクを配置するとよい。
【００３３】
また、本実施の形態では、バッファタンク１２ａから浮上プレート１１に延びるエア配管１３が浮上プレート１１毎に１つずつ配置されるが、エア配管１３を分岐させて２つ或いは４つの浮上プレート１１と接続されるようにしてもよい。その場合にも、分岐されたエア配管の長さは互いに同一とするとよい。
【００３４】
また、プレート支持フレーム１２が２列の浮上プレート１１の互いに対向する端部を支持する場合には、プレート支持フレーム１２の内部に形成されたバッファタンク１２ａの両側面にエア配管１３を接続することで、バッファタンク１２ａの数を抑えることができる。
【００３５】
また、バッファタンク１２ａ（プレート支持フレーム１２）の側面に、配管継手１３ａが取付けられるエア供給口をエア配管１３の数よりも多く形成しておくことで、浮上プレート１１を異なる大きさのものに変更する際にも、その変更後の浮上プレートに一定距離のエア配管を接続することができる。
【００３６】
また、本実施の形態では、全てのエア配管１３の長さ（矢印Ｌ）が完全に同一にせずに、一部のエア配管１３の長さを異ならせると共に、それにより生じるエア配管１３における圧力損失差を解消するように浮上プレート１１への供給圧力を調整したような場合でも、エア配管１３の長さが実質同一というものとする。
【００３７】
また、複数のバッファタンク１２ａを直列に連結し、エア供給源からバッファタンク１２ａへのエア配管１４の数や長さを抑えるようにしてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００３８】
【図１】本発明の一実施の形態に係る基板浮上装置を備える基板検査装置を示す斜視図である。
【図２】本発明の一実施の形態に係る基板浮上装置を上方から見た斜視図である。
【図３】本発明の一実施の形態に係る基板浮上装置を下方から見た斜視図である。
【符号の説明】
【００３９】
１      基板検査装置
２      顕微鏡
３      ガントリ
４      ベース部
５      除振部
６      架設フレーム
１０      基板浮上装置
１１      浮上プレート
１２      プレート支持フレーム
１２ａ      バッファタンク
１２ｂ      シール材
１３，１４      エア配管
１３ａ，１３ｂ      配管継手
１５      フレームベース部
１６      高さ調整部
【図１】
2010040790.tif 000003
【図２】
2010040790.tif 000004
【図３】
2010040790.tif 000005