(57)【要約】【課題】低コストであり、大面積化（シームレス化）が可能であるフィルム状レプリカモールド、その製造方法、および微細凹凸構造を有するフィルム製品を低コストで、大面積（シームレス）で製造できる方法を提供する。【解決手段】表面に微細凹凸構造を有するフィルム状レプリカモールド１０であって、微細凹凸構造が、陽極酸化アルミナの表面の微細凹凸構造を転写して形成されたものであるフィルム状レプリカモールド１０；および、フィルム状レプリカモールド１０の表面の微細凹凸構造を、フィルム状の基材の表面に転写する、微細凹凸構造を有するフィルム製品の製造方法。【選択図】図１
2010000719.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面に微細凹凸構造を有するフィルム状レプリカモールドであって、
前記微細凹凸構造が、陽極酸化アルミナの表面の微細凹凸構造を転写して形成されたものである、フィルム状レプリカモールド。
【請求項２】
表面に微細凹凸構造を有するフィルム状レプリカモールドであって、
前記微細凹凸構造が、陽極酸化アルミナの表面の微細凹凸構造を転写して形成された、マザーモールドの表面の微細凹凸構造を転写して形成されたものである、フィルム状レプリカモールド。
【請求項３】
陽極酸化アルミナの表面の微細凹凸構造をフィルム状のモールド本体の表面に転写する、フィルム状レプリカモールドの製造方法。
【請求項４】
陽極酸化アルミナの表面の微細凹凸構造を被転写体の表面に転写して、表面に微細凹凸構造を有するマザーモールドを作製し、
該マザーモールドの表面の微細凹凸構造をフィルム状のモールド本体の表面に転写する、フィルム状レプリカモールドの製造方法。
【請求項５】
前記微細凹凸構造の転写に、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を用いる、請求項３または４に記載のフィルム状レプリカモールドの製造方法。
【請求項６】
前記微細凹凸構造の転写に、溶融状態のフッ素系樹脂を用いる、請求項３または４に記載のフィルム状レプリカモールドの製造方法。
【請求項７】
前記微細凹凸構造を、フィルム状のモールド本体および／または被転写体の表面に熱インプリント法にて転写する、請求項３または４に記載のフィルム状レプリカモールドの製造方法。
【請求項８】
請求項１または２に記載のフィルム状レプリカモールドの表面の微細凹凸構造を、フィルム状の基材の表面に転写する、微細凹凸構造を有するフィルム製品の製造方法。
【請求項９】
シームレスのフィルム状レプリカモールドを用いて、連続で微細凹凸構造をフィルム状の基材の表面に転写する、請求項８に記載の、微細凹凸構造を有するフィルム製品の製造方法。
【請求項１０】
前記シームレスのフィルム状レプリカモールドが、前記フィルム状レプリカモールドをロールへ貼着させてロール状にしたものである、請求項９に記載の、微細凹凸構造を有するフィルム製品の製造方法。
【請求項１１】
前記シームレスのフィルム状レプリカモールドが、前記フィルム状レプリカモールドをベルト状にしたものである、請求項９に記載の、微細凹凸構造を有するフィルム製品の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フィルム状レプリカモールド、その製造方法、および該フィルム状レプリカモールドを用いた、微細凹凸構造を有するフィルム製品の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
凸部間の平均間隔が可視光の波長以下である微細凹凸構造は、空気の屈折率から材料の屈折率に連続的に屈折率が増大していくことで有効な反射防止の手段となることが知られている。該微細凹凸構造する方法としては、微細凹凸構造が形成されたモールドを用い、該モールドの微細凹凸構造を被転写体の表面に転写する、いわゆるナノインプリント法が注目されている。
【０００３】
また、微細凹凸構造が形成されたモールドが高価であることから、該モールドをマスターモールドとし、該マスターモールドの表面の微細凹凸構造をナノインプリント法にて被転写体に転写して、該被転写体をレプリカモールドとして用いることが行われている。または、マスターモールドの表面の微細凹凸構造をナノインプリント法にて被転写体に転写して、該被転写体をマザーモールドとし、該マザーモールドの表面の微細凹凸構造をナノインプリント法にて被転写体に転写して、該被転写体をレプリカモールドとして用いることが行われている（例えば、特許文献１、２）。
【０００４】
しかし、微細凹凸構造を有するマスターモールドを用いたナノインプリント法には、下記の問題がある。
マスターモールドの微細凹凸構造を電子ビーム描画法やレーザー描画法で形成しているため、マスターモールドを簡便に製造できない。そのため、マスターモールドのコストが高く、また大面積化が困難である。その結果、微細凹凸構造が転写されたマザーモールド、レプリカモールド、さらには微細凹凸構造が形成された反射防止フィルム等のフィルム製品もまた、コストが高く、大面積化が困難である。また、大面積化する場合は、マスターモールドの微細凹凸構造を被転写体に繰り返し転写しなければならず、微細凹凸構造をシームレスで連続して形成できない。
【特許文献１】特開２００７−２１６４９３号公報
【特許文献２】特開２００７−２４５６８４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、低コストであり、大面積化（シームレス化）が可能であるフィルム状レプリカモールド、その製造方法、および微細凹凸構造を有するフィルム製品を低コストで、大面積（シームレス）で製造できる方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明のフィルム状レプリカモールドは、表面に微細凹凸構造を有するフィルム状レプリカモールドであって、前記微細凹凸構造が、陽極酸化アルミナの表面の微細凹凸構造を転写して形成されたものであることを特徴とする。
また、本発明のフィルム状レプリカモールドは、表面に微細凹凸構造を有するフィルム状レプリカモールドであって、前記微細凹凸構造が、陽極酸化アルミナの表面の微細凹凸構造を転写して形成された、マザーモールドの表面の微細凹凸構造を転写して形成されたものであることを特徴とする。
【０００７】
本発明のフィルム状レプリカモールドの製造方法は、陽極酸化アルミナの表面の微細凹凸構造をフィルム状のモールド本体の表面に転写することを特徴とする。
また、本発明のフィルム状レプリカモールドの製造方法は、陽極酸化アルミナの表面の微細凹凸構造を被転写体の表面に転写して、表面に微細凹凸構造を有するマザーモールドを作製し、該マザーモールドの表面の微細凹凸構造をフィルム状のモールド本体の表面に転写することを特徴とする。
【０００８】
前記微細凹凸構造の転写に、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を用いることが好ましい。
前記微細凹凸構造の転写に、溶融状態のフッ素系樹脂を用いてもよい。
前記微細凹凸構造を、フィルム状のモールド本体および／または被転写体の表面に熱インプリント法にて転写してもよい。
【０００９】
本発明の微細凹凸構造を有するフィルム製品の製造方法は、本発明のフィルム状レプリカモールドの表面の微細凹凸構造を、フィルム状の基材の表面に転写することを特徴とする。
本発明の微細凹凸構造を有するフィルム製品の製造方法においては、シームレスのフィルム状レプリカモールドを用いて、連続で微細凹凸構造をフィルム状の基材の表面に転写することが好ましい。
前記シームレスのフィルム状レプリカモールドは、前記フィルム状レプリカモールドをロールへ貼着させてロール状にしたもの、またはフィルム状レプリカモールドをベルト状にしたものであることが好ましい。
【発明の効果】
【００１０】
本発明のフィルム状レプリカモールドは、低コストであり、大面積化（シームレス化）が可能である。
本発明のフィルム状レプリカモールドの製造方法によれば、フィルム状レプリカモールドを低コストで、大面積（シームレス）で製造できる。
本発明の微細凹凸構造を有するフィルム製品の製造方法によれば、微細凹凸構造を有するフィルムを、低コストで、大面積（シームレス）で製造できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
本明細書において、（メタ）アクリレートは、アクリレートまたはメタクリレートを意味する。また、活性エネルギー線は、可視光線、紫外線、電子線、プラズマ、熱線（赤外線等）等を意味する。
【００１２】
〔第１の実施形態〕
本発明の第１の実施形態は、陽極酸化アルミナをマスターモールドとし、該マスターモールドを用いてフィルム状レプリカモールドを製造する実施形態である。
【００１３】
＜フィルム状レプリカモールド＞
図１は、本発明のフィルム状レプリカモールドの一例を示す断面図である。フィルム状レプリカモールド１０は、フィルム状のモールド本体１２と、モールド本体１２の表面に形成された、微細凹凸構造を有する樹脂膜１４とを有する。また、フィルム状レプリカモールド１０は表面に微細凹凸構造を形成されたフィルム状のモールド本体１２のみで形成されていてもよい。
【００１４】
（モールド本体）
モールド本体１２は、光を透過できるフィルムである。
モールド本体１２の材料としては、アクリル系樹脂、ポリカーボネート、スチレン系樹脂、ポリエステル、セルロース系樹脂（トリアセチルセルロース等）、ポリオレフィン、脂環式ポリオレフィン等が挙げられる。
【００１５】
モールド本体１２は、所定長の枚葉フィルムであってもよく、不定長の帯状（ウェブ状）フィルムであってもよい。大面積化（シームレス化）の点からは、帯状フィルムが好ましい。
【００１６】
（樹脂膜）
硬化樹脂膜１４は、後述の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化物またはフッ素系樹脂からなる膜であり、表面に微細凹凸構造を有する。
微細凹凸構造は、陽極酸化アルミナの表面の微細凹凸構造を転写して形成されたものであり、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化物またはフッ素系樹脂からなる複数の凸部１６を有する。
【００１７】
微細凹凸構造としては、略円錐形状、角錐形状等の凸部１６が複数並んだ、いわゆるモスアイ構造が好ましい。凸部１６間の間隔が可視光の波長以下であるモスアイ構造は、空気の屈折率から材料の屈折率に連続的に屈折率が増大していくことで有効な反射防止の手段となることが知られている。
【００１８】
凸部１６間の平均間隔は、可視光の波長以下、すなわち４００ｎｍ以下が好ましい。陽極酸化アルミナのモールドを用いて凸部１６を形成した場合、凸部１６間の平均間隔は１００ｎｍ程度となることから、２００ｎｍ以下がより好ましく、１５０ｎｍ以下が特に好ましい。
【００１９】
凸部１６間の平均間隔は、凸部１６の形成のしやすさの点から、２０ｎｍ以上が好ましい。
凸部１６間の平均間隔は、電子顕微鏡観察によって隣接する凸部１６間の間隔（凸部１６の中心から隣接する凸部１６の中心までの距離）を５０点測定し、これらの値を平均したものである。
【００２０】
凸部１６の高さは、平均間隔が１００ｎｍの場合は、８０〜５００ｎｍが好ましく、１２０〜４００ｎｍがより好ましく、１５０〜３００ｎｍが特に好ましい。凸部１６の高さが８０ｎｍ以上であれば、得られるフィルム製品の反射率が十分に低くなり、かつ反射率の波長依存性が少ない。凸部１６の高さが５００ｎｍ以下であれば、凸部１６の耐擦傷性が良好となる。
凸部１６の高さは、電子顕微鏡観察によって倍率３００００倍で観察したときに凸部１６の最頂部と、凸部１６間に存在する凹部の最底部との間の距離を測定した値である。
【００２１】
凸部１６のアスペクト比（凸部１６の高さ／凸部１６間の平均間隔）は、０．８〜５．０が好ましく、１．２〜４．０がより好ましく、１．５〜３．０が特に好ましい。凸部１６のアスペクト比が１．０以上であれば、得られるフィルム製品の反射率が十分に低くなる。凸部１６のアスペクト比が５．０以下であれば、凸部１６の耐擦傷性が良好となる。
【００２２】
凸部１６の形状は、高さ方向と直交する方向の凸部１６の断面積が最表面から深さ方向に連続的に増加する形状、すなわち、凸部１６の高さ方向の断面形状が、三角形、台形、釣鐘型等の形状が好ましい。
【００２３】
＜フィルム状レプリカモールドの製造方法＞
フィルム状レプリカモールド１０は、例えば、図２に示す製造装置を用いて、下記のようにして製造される。
回転する、表面に微細凹凸構造（図示略）を有するロール状モールド２２と、ロール状モールド２２の表面に沿って移動する帯状のモールド本体１２との間に、タンク２４から活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を供給する。
【００２４】
ロール状モールド２２と、空気圧シリンダ２６によってニップ圧が調整されたニップロール２８との間で、モールド本体１２および活性エネルギー線硬化性樹脂組成物をニップし、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を、モールド本体１２とロール状モールド２２との間に均一に行き渡らせると同時に、ロール状モールド２２の微細凹凸構造の凹部内に充填する。
【００２５】
ロール状モールド２２の下方に設置された活性エネルギー線照射装置３０から、モールド本体１２を通して活性エネルギー線硬化性樹脂組成物に活性エネルギー線を照射し、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を硬化させることによって、ロール状モールド２２の表面の微細凹凸構造が転写された樹脂膜１４を形成する。
剥離ロール３２により、表面に樹脂膜１４が形成されたモールド本体１２を剥離することによって、フィルム状レプリカモールド１０を得る。
【００２６】
活性エネルギー線照射装置３０としては、高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ等が好ましく、この場合の光照射エネルギー量は、１００〜１００００ｍＪ／ｃｍ２が好ましい。
【００２７】
また、フィルム状レプリカモールド１０は、例えば、図３に示す製造装置を用いて、下記のようにして製造される。
回転するロール状モールド２２と、ロール状モールド２２の表面に沿って移動する帯状のモールド本体１２との間に、押出機のダイス６４から溶融状態のフッ素系樹脂を供給する。
【００２８】
ロール状モールド２２と、空気圧シリンダ２６によってニップ圧が調整されたニップロール２８との間で、モールド本体１２および溶融状態のフッ素系樹脂をニップし、溶融状態のフッ素系樹脂を、モールド本体１２とロール状モールド２２との間に均一に行き渡らせると同時に、ロール状モールド２２の微細凹凸構造の凹部内に充填する。
【００２９】
ロール状モールド２２の表面に沿って移動させながらフッ素系樹脂を冷却、固化させることによって、ロール状モールド２２の表面の微細凹凸構造が転写された樹脂膜１４を形成する。
剥離ロール３２により、表面に樹脂膜１４が形成されたモールド本体１２を剥離することによって、フィルム状レプリカモールド１０を得る。
【００３０】
また、フィルム状レプリカモールド１０は、例えば、図４に示す製造装置を用いて、下記のようにして製造される。
回転するロール状モールド２２と、モールド本体１２の接触面において、モールド本体１２を構成する樹脂のガラス転移点以上になるようにモールド本体１２を加熱する。
【００３１】
ロール状モールド２２と、空気圧シリン２６によってニップ圧が調整されたニップロール２８との間で、モールド本体１２をニップし、軟化状態にあるモールド本体１２の樹脂を、ロール状モールド２２の微細凹凸構造の凹部内に充填する。
【００３２】
ロール状モールド２２の表面に沿って移動させながらモールド本体１２の樹脂をガラス転移点以下に冷却、固化させることによって、ロール状モールド２２の表面の微細凹凸構造をモールド本体１２の表面に形成する。
剥離ロール３２により、表面に微細凹凸構造が形成されたモールド本体１２を剥離することによって、フィルム状レプリカモールド１０を得る。
【００３３】
また、フィルム状レプリカモールドの製造方法は、ロール状モールドを用いた連続式であってもよく、平板状モールドを用いたバッチ式であってもよい。
【００３４】
（ロール状モールド）
ロール状モールド２２は、表面に陽極酸化アルミナを有するモールドである。表面に陽極酸化アルミナを有するモールドは、大面積化が可能であり、作製が簡便である。
【００３５】
陽極酸化アルミナは、アルミニウムの多孔質の酸化皮膜（アルマイト）であり、表面に複数の細孔（凹部）を有する。
【００３６】
表面に陽極酸化アルミナを有するモールドは、例えば、下記（ａ）〜（ｅ）工程を経て製造できる。
（ａ）ロール状のアルミニウムを電解液中、定電圧下で陽極酸化して酸化皮膜を形成する工程。
（ｂ）酸化皮膜を除去し、陽極酸化の細孔発生点を形成する工程。
（ｃ）ロール状のアルミニウムを電解液中、再度陽極酸化し、細孔発生点に細孔を有する酸化皮膜を形成する工程。
（ｄ）細孔の径を拡大させる工程。
（ｅ）前記（ｃ）工程と（ｄ）工程を繰り返し行う工程。
【００３７】
（ａ）工程：
図５に示すように、アルミニウム３４を陽極酸化すると、細孔３６を有する酸化皮膜３８が形成される。
アルミニウムの純度は、９９％以上が好ましく、９９．５％以上がより好ましく、９９．８％以上が特に好ましい。アルミニウムの純度が低いと、陽極酸化した時に、不純物の偏析により可視光を散乱する大きさの凹凸構造が形成されたり、陽極酸化で得られる細孔の規則性が低下したりすることがある。
電解液としては、硫酸、シュウ酸、リン酸等が挙げられる。
【００３８】
シュウ酸を電解液として用いる場合：
シュウ酸の濃度は、０．７Ｍ以下が好ましい。シュウ酸の濃度が０．７Ｍを超えると、電流値が高くなりすぎて酸化皮膜の表面が粗くなることがある。
化成電圧が３０〜６０Ｖの時、周期が１００ｎｍの規則性の高い細孔を有する陽極酸化アルミナを得ることができる。化成電圧がこの範囲より高くても低くても規則性が低下する傾向にある。
電解液の温度は、６０℃以下が好ましく、４５℃以下がより好ましい。電解液の温度が６０℃を超えると、いわゆる「ヤケ」といわれる現象がおこり、細孔が壊れたり、表面が溶けて細孔の規則性が乱れたりすることがある。
【００３９】
硫酸を電解液として用いる場合：
硫酸の濃度は０．７Ｍ以下が好ましい。硫酸の濃度が０．７Ｍを超えると、電流値が高くなりすぎて定電圧を維持できなくなることがある。
化成電圧が２５〜３０Ｖの時、周期が６３ｎｍの規則性の高い細孔を有する陽極酸化アルミナを得ることができる。化成電圧がこの範囲より高くても低くても規則性が低下する傾向がある。
電解液の温度は、３０℃以下が好ましく、２０℃以下がよりに好ましい。電解液の温度が３０℃を超えると、いわゆる「ヤケ」といわれる現象がおこり、細孔が壊れたり、表面が溶けて細孔の規則性が乱れたりすることがある。
【００４０】
（ｂ）工程：
図５に示すように、酸化皮膜３８を一旦除去し、これを陽極酸化の細孔発生点４０にすることで細孔の規則性を向上することができる。
【００４１】
酸化皮膜を除去する方法としては、アルミニウムを溶解せず、酸化皮膜を選択的に溶解する溶液に溶解させて除去する方法が挙げられる。このような溶液としては、例えば、クロム酸／リン酸混合液等が挙げられる。
【００４２】
（ｃ）工程：
図５に示すように、酸化皮膜を除去したアルミニウム３４を再度、陽極酸化すると、円柱状の細孔３６を有する酸化皮膜３８が形成される。
陽極酸化は、（ａ）工程と同様な条件で行えばよい。陽極酸化の時間を長くするほど深い細孔を得ることができる。
【００４３】
（ｄ）工程：
図５に示すように、細孔３６の径を拡大させる処理（以下、細孔径拡大処理と記す。）を行う。細孔径拡大処理は、酸化皮膜を溶解する溶液に浸漬して陽極酸化で得られた細孔の径を拡大させる処理である。このような溶液としては、例えば、５質量％程度のリン酸水溶液等が挙げられる。
細孔径拡大処理の時間を長くするほど、細孔径は大きくなる。
【００４４】
（ｅ）工程：
図５に示すように、（ｃ）工程の陽極酸化と、（ｄ）工程の細孔径拡大処理を繰り返すと、直径が開口部から深さ方向に連続的に減少する形状の細孔３６を有する陽極酸化アルミナが形成され、表面に陽極酸化アルミナを有するモールド（ロール状モールド２２）が得られる。
繰り返し回数は、合計で３回以上が好ましく、５回以上がより好ましい。繰り返し回数が２回以下では、非連続的に細孔の直径が減少するため、このような細孔を有する陽極酸化アルミナを用いて製造された微細凹凸構造の反射率低減効果は不十分である。
【００４５】
陽極酸化アルミナの表面は、樹脂膜１４またはモールド本体１２との分離が容易になるように、離型剤で処理されていてもよい。処理方法としては、例えば、シリコーン樹脂またはフッ素含有ポリマーをコーティングする方法、フッ素含有化合物を蒸着する方法、フッ素含有シランカップリング剤またはフッ素含有シリコーン系シランカップリング剤をコーティングする方法等が挙げられる。
【００４６】
細孔３６の形状としては、略円錐形状、角錐形状、円柱形状等が挙げられ、円錐形状、角錐形状等のように、深さ方向と直交する方向の細孔断面積が最表面から深さ方向に連続的に減少する形状が好ましい。
細孔３６間の平均間隔は、可視光の波長以下、すなわち４００ｎｍ以下が好ましい。細孔３６間の平均間隔は、２０ｎｍ以上が好ましい。
細孔３６間の平均間隔は、電子顕微鏡観察によって隣接する細孔３６間の間隔（細孔３６の中心から隣接する細孔３６の中心までの距離）を５０点測定し、これらの値を平均したものである。
【００４７】
細孔３６の深さは、平均間隔が１００ｎｍの場合、８０〜５００ｎｍが好ましく、１２０〜４００ｎｍがより好ましく、１５０〜３００ｎｍが特に好ましい。
細孔３６の深さは、電子顕微鏡観察によって倍率３００００倍で観察したときに細孔３６間に存在する凸部の最頂部と、細孔３６の最底部との間の距離を測定した値である。
細孔３６のアスペクト比（細孔の深さ／細孔間の平均間隔）は、０．８〜５．０が好ましく、１．２〜４．０がより好ましく、１．５〜３．０が特に好ましい。
図５に示すような細孔３６を転写して形成された硬化樹脂膜１４の表面は、いわゆるモスアイ構造となる。
【００４８】
また、ロール状モールドは、平板状モールドを円筒状に巻き付けた形態のものであってもよいが、シームレスで連続的な製造を考えるとロール状アルミニウムから得るロール状モールドのほうが好ましい。
平板状モールドは、平板状アルミニウムを用いてロール状モールド２２と同様な上述の方法で製造できる。
【００４９】
（活性エネルギー線硬化性樹脂組成物）
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物は、重合性化合物および重合開始剤を含む。
重合性化合物としては、分子中にラジカル重合性結合および／またはカチオン重合性結合を有するモノマー、オリゴマー、反応性ポリマー等が挙げられる。
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物は、非反応性のポリマー、活性エネルギー線ゾルゲル反応性組成物を含んでいてもよい。
【００５０】
ラジカル重合性結合を有するモノマーとしては、単官能モノマー、多官能モノマーが挙げられる。
単官能モノマーとしては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｉ−ブチル（メタ）アクリレート、ｓ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、アルキル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、アリル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレート誘導体；（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリロニトリル；スチレン、α−メチルスチレン等のスチレン誘導体；（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド、ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリルアミド等の（メタ）アクリルアミド誘導体等が挙げられる。これらは、１種を単独で用いてもよく、２種類以上を併用してもよい。
【００５１】
多官能モノマーとしては、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、イソシアヌール酸エチレンオキサイド変性ジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，５−ペンタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，３−ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、２，２−ビス（４−（メタ）アクリロキシポリエトキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（メタ）アクリロキシエトキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（３−（メタ）アクリロキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル）プロパン、１，２−ビス（３−（メタ）アクリロキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）エタン、１，４−ビス（３−（メタ）アクリロキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）ブタン、ジメチロールトリシクロデカンジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加物ジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡのプロピレンオキサイド付加物ジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ジビニルベンゼン、メチレンビスアクリルアミド等の二官能性モノマー；ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキサイド変性トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンプロピレンオキシド変性トリアクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキシド変性トリアクリレート、イソシアヌール酸エチレンオキサイド変性トリ（メタ）アクリレート等の三官能モノマー；コハク酸／トリメチロールエタン／アクリル酸の縮合反応混合物、ジペンタエリストールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリストールペンタ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、テトラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレート等の四官能以上のモノマー；二官能以上のウレタンアクリレート、二官能以上のポリエステルアクリレート等が挙げられる。これらは、１種を単独で用いてもよく、２種類以上を併用してもよい。
【００５２】
カチオン重合性結合を有するモノマーとしては、エポキシ基、オキセタニル基、オキサゾリル基、ビニルオキシ基等を有するモノマーが挙げられ、エポキシ基を有するモノマーが特に好ましい。
【００５３】
オリゴマーまたは反応性ポリマーとしては、不飽和ジカルボン酸と多価アルコールとの縮合物等の不飽和ポリエステル類；ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート、ポリオール（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、カチオン重合型エポキシ化合物、側鎖にラジカル重合性結合を有する上述のモノマーの単独または共重合ポリマー等が挙げられる。
【００５４】
非反応性のポリマーとしては、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、ポリウレタン、セルロース系樹脂、ポリビニルブチラール、ポリエステル、熱可塑性エラストマーが挙げられる。
活性エネルギー線ゾルゲル反応性組成物としては、アルコキシシラン化合物、アルキルシリケート化合物等が挙げられる。
【００５５】
アルコキシシラン化合物としては、下記式（１）の化合物が挙げられる。
Ｒ１１ｘＳｉ（ＯＲ１２）ｙ  ・・・（１）。
ただし、Ｒ１１、Ｒ１２は、それぞれ炭素数１〜１０のアルキル基を表し、ｘ、ｙは、ｘ＋ｙ＝４の関係を満たす整数を表す。
【００５６】
アルコキシシラン化合物としては、テトラメトキシシラン、テトラ−ｉ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシシラン、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラ−ｔ−ブトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、トリメチルメトキシシラン、トリメチルプロポキシシラン、トリメチルブトキシシラン等が挙げられる。
【００５７】
アルキルシリケート化合物としては、下記式（２）の化合物が挙げられる。
Ｒ２１Ｏ［Ｓｉ（ＯＲ２３）（ＯＲ２４）Ｏ］ｚＲ２２  ・・・（２）。
ただし、Ｒ２１〜Ｒ２４は、それぞれ炭素数１〜５のアルキル基を表し、ｚは、３〜２０の整数を表す。
【００５８】
アルキルシリケート化合物としては、メチルシリケート、エチルシリケート、イソプロピルシリケート、ｎ−プロピルシリケート、ｎ−ブチルシリケート、ｎ−ペンチルシリケート、アセチルシリケート等が挙げられる。
【００５９】
光硬化反応を利用する場合、光重合開始剤としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンジル、ベンゾフェノン、ｐ−メトキシベンゾフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、α，α−ジメトキシ−α−フェニルアセトフェノン、メチルフェニルグリオキシレート、エチルフェニルグリオキシレート、４，４'−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン等のカルボニル化合物；テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド等の硫黄化合物；２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、ベンゾイルジエトキシフォスフィンオキサイド等が挙げられる。これらは、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００６０】
電子線硬化反応を利用する場合、重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン、４，４−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、２，４，６−トリメチルベンゾフェノン、メチルオルソベンゾイルベンゾエート、４−フェニルベンゾフェノン、ｔ−ブチルアントラキノン、２−エチルアントラキノン、２，４−ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、２，４−ジクロロチオキサントン等のチオキサントン；ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、ベンジルジメチルケタール、１−ヒドロキシシクロヘキシル−フェニルケトン、２−メチル−２−モルホリノ（４−チオメチルフェニル）プロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン等のアセトフェノン；ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾインエーテル；２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルホスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキサイド等のアシルホスフィンオキサイド；メチルベンゾイルホルメート、１，７−ビスアクリジニルヘプタン、９−フェニルアクリジン等が挙げられる。これらは、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００６１】
熱硬化反応を利用する場合、熱重合開始剤としては、例えば、メチルエチルケトンパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ｔ−ブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、ｔ−ブチルパーオキシオクトエート、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート、ラウロイルパーオキサイド等の有機過酸化物；アゾビスイソブチロニトリル等のアゾ系化合物；前記有機過酸化物にＮ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−ｐ−トルイジン等のアミンを組み合わせたレドックス重合開始剤等が挙げられる。
【００６２】
重合開始剤の量は、重合性化合物１００質量部に対して、０．１〜１０質量部が好ましい。重合開始剤の量が０．１質量部未満では、重合が進行しにくい。重合開始剤の量が１０質量部を超えると、硬化膜が着色したり、機械強度が低下したりすることがある。
【００６３】
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物は、必要に応じて、帯電防止剤、離型剤、防汚性を向上させるためのフッ素化合物等の添加剤；微粒子、少量の溶剤を含んでいてもよい。
【００６４】
（フッ素系樹脂）
フッ素系樹脂としては、フッ化ビニル樹脂、三フッ化塩化エチレン−エチレン共重合樹脂、三フッ化塩化エチレン樹脂、フッ化ビニリデン樹脂、四フッ化エチレン−エチレン共重合樹脂、四フッ化エチレン−六フッ化プロピレン共重合樹脂、四フッ化エチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合樹脂、四フッ化エチレン樹脂等が挙げられ、市販品としてはＡＦ（デュポン社製）、サイトップ（旭硝子社製）等のフッ素樹脂が挙げられる。
【００６５】
以上説明したフィルム状レプリカモールド１０にあっては、表面の微細凹凸構造が、陽極酸化アルミナの表面の微細凹凸構造を転写して形成されたものであるため、低コストであり、かつ大面積化（シームレス化）が可能である。
【００６６】
＜微細凹凸構造を有するフィルム製品の製造方法＞
微細凹凸構造を有するフィルム製品は、例えば、図６に示す製造装置を用いて、下記のように連続式で製造される。
フィルム状レプリカモールド１０をロール６６に貼着させ、ロール状レプリカモールド６８とする。
【００６７】
ロール状レプリカモールド６８と、ロール状レプリカモールド６８の表面に沿って移動する帯状フィルムの基材４８との間に、タンク２４から活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を供給する。
【００６８】
ロール状レプリカモールド６８と、空気圧シリンダ２６によってニップ圧が調整されたニップロール２８との間で、基材４８および活性エネルギー線硬化性樹脂組成物をニップし、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を、基材４８とロール状レプリカモールド６８との間に均一に行き渡らせると同時に、ロール状レプリカモールド６８の微細凹凸構造の凸部間に充填する。
【００６９】
ロール状レプリカモールド６８の下方に設置された活性エネルギー線照射装置３０から、基材４８を通して活性エネルギー線硬化性樹脂組成物に活性エネルギー線を照射し、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を硬化させることによって、ロール状レプリカモールド６８の表面の微細凹凸構造が転写された樹脂膜６０を形成する。
剥離ロール３２により、表面に樹脂膜６０が形成された基材４８を剥離することによって、微細凹凸構造を有するフィルム製品６２を得る。
【００７０】
活性エネルギー線照射装置３０としては、高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ等が好ましく、この場合の光照射エネルギー量は、１００〜１００００ｍＪ／ｃｍ２が好ましい。
【００７１】
また、微細凹凸構造を有するフィルム製品は、例えば、図７に示す製造装置を用いて、下記のようにして連続式で製造される。
無端ベルト４２を２本のロール４４に懸架した下側ベルトマシン４６の上面に沿って移動する帯状フィルムの基材４８の表面にタンク５０から活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を供給する。
【００７２】
下側ベルトマシン４６と、表面にフィルム状レプリカモールド１０が貼着された無端ベルト５２を２本のロール５４に懸架した上側ベルトマシン５６との間で、基材４８および活性エネルギー線硬化性樹脂組成物をニップし、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物、基材４８とフィルム状レプリカモールド１０との間に均一に行き渡らせると同時に、フィルム状レプリカモールド１０の微細凹凸構造の凸部間に充填する。
【００７３】
上側ベルトマシン５６のロール５４間に設置された活性エネルギー線照射装置５８から、無端ベルト５２およびフィルム状レプリカモールド１０を通して活性エネルギー線硬化性樹脂組成物に活性エネルギー線を照射し、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を硬化させることによって、フィルム状レプリカモールド１０の表面の微細凹凸構造が転写された硬化樹脂膜６０を形成する。
フィルム状レプリカモールド１０を硬化樹脂膜６０から剥離することによって、微細凹凸構造を有するフィルム製品６２を得る。
【００７４】
活性エネルギー線照射装置５８としては、高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ等が好ましく、この場合の光照射エネルギー量は、１００〜１００００ｍＪ／ｃｍ２が好ましい。
上側ベルトマシン５６の無端ベルト５２としては、光を透過できるものを用いる。
【００７５】
また、微細凹凸構造を有するフィルム製品は、例えば、図８に示す製造装置を用いて、下記のように連続式で製造される。
フィルム状レプリカモールド１０をロール６６に貼着させ、ロール状レプリカモールド６８とする。
【００７６】
ロール状レプリカモールド６８と、ロール状レプリカモールド６８の表面に沿って移動する帯状フィルムの基材４８との間に、押出機のダイス６４から溶融状態のフッ素系樹脂を供給する。
【００７７】
ロール状レプリカモールド６８と、空気圧シリンダ２６によってニップ圧が調整されたニップロール２８との間で、基材４８および溶融状態のフッ素系樹脂をニップし、溶融状態のフッ素系樹脂を、基材４８とロール状レプリカモールド６８との間に均一に行き渡らせると同時に、ロール状レプリカモールド６８の微細凹凸構造の凸部間に充填する。
【００７８】
ロール状レプリカモールド６８の表面に沿って移動させながらフッ素系樹脂を冷却、固化させることによって、ロール状レプリカモールド６８の表面の微細凹凸構造が転写された樹脂膜６０を形成する。
剥離ロール３２により、表面に樹脂膜６０が形成された基材４８を剥離することによって、微細凹凸構造を有するフィルム製品６２を得る。
【００７９】
（フィルム状レプリカモールド）
フィルム状レプリカモールド１０の表面は、硬化樹脂膜６０との分離が容易になるように、離型剤で処理されていてもよい。処理方法としては、例えば、シリコーン樹脂またはフッ素含有ポリマーをコーティングする方法、フッ素含有化合物を蒸着する方法、フッ素含有シランカップリング剤またはフッ素含有シリコーン系シランカップリング剤をコーティングする方法等が挙げられる。
【００８０】
（基材）
基材４８の材料としては、アクリル系樹脂、ポリカーボネート、スチレン系樹脂、ポリエステル、セルロース系樹脂（トリアセチルセルロース等）、ポリオレフィン、脂環式ポリオレフィン等が挙げられる。
【００８１】
（活性エネルギー線硬化性樹脂組成物）
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物としては、上述の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物が挙げられる。
【００８２】
（フッ素系樹脂）
フッ素系樹脂としては、上述のフッ素系樹脂が挙げられる。
【００８３】
（フィルム製品）
フィルム製品６２は、硬化樹脂膜６０の表面に複数の凹部（図示略）を有する。
【００８４】
凹部の形状としては、略円錐形状、角錐形状、円柱形状等が挙げられ、円錐形状、角錐形状等のように、深さ方向と直交する方向の細孔断面積が最表面から深さ方向に連続的に減少する形状が好ましい。
凹部間の平均間隔は、可視光の波長以下、すなわち４００ｎｍ以下が好ましい。凹部間の平均間隔は、２０ｎｍ以上が好ましい。
凹部間の平均間隔は、電子顕微鏡観察によって隣接する凹部間の間隔（凹部の中心から隣接する凹部の中心までの距離）を５０点測定し、これらの値を平均したものである。
【００８５】
凹部の深さは、平均間隔が１００ｎｍの場合は、８０〜５００ｎｍが好ましく、１２０〜４００ｎｍがより好ましく、１５０〜３００ｎｍが特に好ましい。
凹部の深さは、電子顕微鏡観察によって倍率３００００倍で観察したときに凹部間に存在する凸部の最頂部と凹部の最底部との間の距離を測定した値である。
凹部のアスペクト比（凹部の深さ／凹部間の平均間隔）は、０．８〜５．０が好ましく、１．２〜４．０がより好ましく、１．５〜３．０が特に好ましい。
【００８６】
フィルム製品６２は、前面板、内外装用部材、光学製品内部材、光学レンズ、電気製品用部材、包装容器、医療基材、雑貨等として有用である。
前面板としては、反射防止機能を利用したフラットパネルディスプレイ（液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、ＰＤＰ、リアプロ等）の前面板、モバイル機器（ゲーム機、携帯電話等）の前面板等が挙げられる。
内外装用部材としては、建材の内外装用部材（窓、照明、壁紙等）、交通用ミラー、標識、看板、自動車内装用部材（インストルメントパネル、コンソールボックス、メーターカバー、ドアロックペゼル、ステアリングホイール、パワーウィンドウスイッチベース、センタークラスター、ダッシュボード等）、自動車外装用部材（ウェザーストリップ、バンパー、バンパーガード、サイドマッドガード、ボディーパネル、スポイラー、フロントグリル、ストラットマウント、ホイールキャップ、センターピラー、ドアミラー、センターオーナメント、サイドモール、ドアモール、ウインドモール、窓、ヘッドランプカバー、テールランプカバー、風防部品等）、自動車以外の各種乗り物（自動二輪車、電車、航空機、船舶等）の内外装用部材等が挙げられる。
光学製品内部材としては、光学製品（カメラ等）の鏡筒、投射型表示装置（フロントプロジェクタ、リアプロジェクタ等）の内部材、これら投射型表示装置を複数備えたマルチビジョンシステムの内部材、撮像装置（デジタルスチルカメラ、ビデオカメラ等）の内部材、光ピックアップ装置の内部材、タッチパネルの内部材、太陽電池の内部材、光ファイバー通信システム等、不要光の除去が必要な全ての光学機器の内部材等が挙げられる。
光学レンズとしては、ピックアップレンズ、カメラ用レンズ、眼鏡レンズ等の樹脂製のレンズが挙げられる。
電気製品用部材としては、ハウジング、ボタン、スイッチ等が挙げられる。
包装容器としては、瓶、化粧品容器、小物入れ等が挙げられる。
医療基材としては、生体細胞を増殖させるための培養シート等が挙げられる。
雑貨としては、景品、小物等が挙げられる。
【００８７】
以上説明したフィルム製品６２の製造方法にあっては、低コストで、かつ大面積（シームレス）のフィルム状レプリカモールド１０を用いているため、微細凹凸構造を有するフィルム製品６２を低コストで、かつ大面積（シームレス）で製造できる。
【００８８】
〔第２の実施形態〕
本発明の第２の実施形態は、第１の実施形態におけるフィルム状レプリカモールド１０をマザーモールドとし、該マザーモールドを用いてフィルム状レプリカモールドを製造する実施形態である。
【００８９】
＜マザーモールドおよびその製造方法＞
マザーモールドは、第１の実施形態におけるフィルム状レプリカモールド１０と同じものであり、その説明は省略する。
【００９０】
＜フィルム状レプリカモールドおよびその製造方法＞
フィルム状レプリカモールドは、第１の実施形態におけるフィルム製品６２と同じものであり、その説明は省略する。
【００９１】
＜微細凹凸構造を有するフィルム製品の製造方法＞
微細凹凸構造を有するフィルム製品の製造方法は、第１の実施形態における方法と同様であり、その説明は省略する。
【００９２】
ただし、第１の実施形態におけるフィルム製品６２の樹脂膜６０の表面に形成された複数の凹部（図示略）を転写して形成された樹脂膜の表面は、複数の凸部（図示略）を有する微細凹凸構造、いわゆるモスアイ構造となる。
【００９３】
凸部間の平均間隔は、可視光の波長以下、すなわち４００ｎｍ以下が好ましく、２００ｎｍ以下がより好ましく、１５０ｎｍ以下が特に好ましい。
凸部間の平均間隔は、凸部の形成のしやすさの点から、２０ｎｍ以上が好ましい。
【００９４】
凸部の高さは、平均間隔が１００ｎｍの場合は、８０〜５００ｎｍが好ましく、１２０〜４００ｎｍがより好ましく、１５０〜３００ｎｍが特に好ましい。凸部の高さが８０ｎｍ以上であれば、反射率が十分に低くなり、かつ反射率の波長依存性が少ない。凸部の高さが５００ｎｍ以下であれば、凸部の耐擦傷性が良好となる。
【００９５】
凸部のアスペクト比（凸部の高さ／凸部間の平均間隔）は、０．８〜５．０が好ましく、１．２〜４．０がより好ましく、１．５〜３．０が特に好ましい。凸部のアスペクト比が１．０以上であれば、反射率が十分に低くなる。凸部のアスペクト比が５．０以下であれば、凸部の耐擦傷性が良好となる。
【００９６】
凸部の形状は、高さ方向と直交する方向の凸部断面積が最表面から深さ方向に連続的に増加する形状、すなわち、凸部の高さ方向の断面形状が、三角形、台形、釣鐘型等の形状が好ましい。
【００９７】
樹脂膜の屈折率と基材の屈折率との差は、０．２以下が好ましく、０．１以下がより好ましく、０．０５以下が特に好ましい。屈折率差が０．２以下であれば、樹脂膜と基材との界面における反射が抑えられる。
【００９８】
表面に微細凹凸構造を有する場合、その表面が疎水性の材料から形成されていればロータス効果により超撥水性が得られ、その表面が親水性の材料から形成されていれば超親水性が得られることが知られている。
【００９９】
硬化樹脂膜の材料が疎水性の場合の微細凹凸構造の表面の水接触角は、９０゜以上が好ましく、１１０゜以上がより好ましく、１２０゜以上が特に好ましい。水接触角が９０゜以上であれば、水汚れが付着しにくくなるため、十分な防汚性が発揮される。また、水が付着しにくいため、着氷防止を期待できる。
【０１００】
硬化樹脂膜の材料が親水性の場合の微細凹凸構造の表面の水接触角は、２５゜以下が好ましく、２３゜以下がより好ましく、２１゜以下が特に好ましい。水接触角が２５゜以下であれば、表面に付着した汚れが水で洗い流され、また油汚れが付着しにくくなるため、十分な防汚性が発揮される。該水接触角は、硬化樹脂膜１４の吸水による微細凹凸構造の変形、それに伴う反射率の上昇を抑える点から、３゜以上が好ましい。
【０１０１】
（疎水性材料）
硬化樹脂膜の微細凹凸構造の表面の水接触角を９０°以上にするためには、疎水性の材料を形成しうる活性エネルギー線硬化性樹脂組成物として、フッ素含有化合物またはシリコーン系化合物を含む組成物を用いることが好ましい。
【０１０２】
フッ素含有化合物：
フッ素含有化合物としては、下記式（３）で表されるフルオロアルキル基を有する化合物が好ましい。
−（ＣＦ２）ｎ−Ｘ   ・・・（３）。
ただし、Ｘは、フッ素原子または水素原子を表し、ｎは、１以上の整数を表し、１〜２０が好ましく、３〜１０がより好ましく、４〜８が特に好ましい。
【０１０３】
フッ素含有化合物としては、フッ素含有モノマー、フッ素含有シランカップリング剤、フッ素含有界面活性剤、フッ素含有ポリマー等が挙げられる。
【０１０４】
フッ素含有モノマーとしては、フルオロアルキル基置換ビニルモノマー、フルオロアルキル基置換開環重合性モノマー等が挙げられる。
フルオロアルキル基置換ビニルモノマーとしては、フルオロアルキル基置換（メタ）アクリレート、フルオロアルキル基置換（メタ）アクリルアミド、フルオロアルキル基置換ビニルエーテル、フルオロアルキル基置換スチレン等が挙げられる。
【０１０５】
フルオロアルキル基置換開環重合性モノマーとしては、フルオロアルキル基置換エポキシ化合物、フルオロアルキル基置換オキセタン化合物、フルオロアルキル基置換オキサゾリン化合物等が挙げられる。
【０１０６】
フッ素含有モノマーとしては、フルオロアルキル基置換（メタ）アクリレートが好ましく、下記式（４）の化合物が特に好ましい。
ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ４１）Ｃ（Ｏ）Ｏ−（ＣＨ２）ｍ−（ＣＦ２）ｎ−Ｘ  ・・・（４）。
ただし、Ｒ４１は、水素原子またはメチル基を表し、Ｘは、水素原子またはフッ素原子を表し、ｍは、１〜６の整数を表し、１〜３が好ましく、１または２がより好ましく、ｎは、１〜２０の整数を表し、３〜１０が好ましく、４〜８がより好ましい。
【０１０７】
フッ素含有シランカップリング剤としては、フルオロアルキル基置換シランカップリング剤が好ましく、下記式（５）の化合物が特に好ましい。
（Ｒｆ）ａＲ５１ｂＳｉＹｃ  ・・・（５）。
【０１０８】
Ｒｆは、エーテル結合またはエステル結合を１個以上含んでいてもよい炭素数１〜２０のフッ素置換アルキル基を表す。Ｒｆとしては、３，３，３−トリフルオロプロピル基、トリデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロオクチル基、３−トリフルオロメトキシプロピル基、３−トリフルオロアセトキシプロピル基等が挙げられる。
【０１０９】
Ｒ５１は、炭素数１〜１０のアルキル基を表す。Ｒ５１としては、メチル基、エチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。
【０１１０】
Ｙは、水酸基または加水分解性基を表す。
加水分解性基としては、アルコキシ基、ハロゲン原子、Ｒ５２Ｃ（Ｏ）Ｏ（ただし、Ｒ５２は、水素原子または炭素数１〜１０のアルキル基を表す。）等が挙げられる。
アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、ｉ−プロピルオキシ基、ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、２−エチルヘキシルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基、３，７−ジメチルオクチルオキシ基、ラウリルオキシ基等が挙げられる。
ハロゲン原子としては、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ等が挙げられる。
Ｒ５２Ｃ（Ｏ）Ｏとしては、ＣＨ３Ｃ（Ｏ）Ｏ、Ｃ２Ｈ５Ｃ（Ｏ）Ｏ等が挙げられる。
【０１１１】
ａ、ｂ、ｃは、ａ＋ｂ＋ｃ＝４であり、かつａ≧１、ｃ≧１を満たす整数を表し、ａ＝１、ｂ＝０、ｃ＝３が好ましい。
【０１１２】
フッ素含有シランカップリング剤としては、３，３，３−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、３，３，３−トリフルオロプロピルトリアセトキシシラン、ジメチル−３，３，３−トリフルオロプロピルメトキシシラン、トリデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロオクチルトリエトキシシラン等が挙げられる。
【０１１３】
フッ素含有界面活性剤としては、フルオロアルキル基含有アニオン系界面活性剤、フルオロアルキル基含有カチオン系界面活性剤等が挙げられる。
【０１１４】
フルオロアルキル基含有アニオン系界面活性剤としては、炭素数２〜１０のフルオロアルキルカルボン酸またはその金属塩、パーフルオロオクタンスルホニルグルタミン酸ジナトリウム、３−［オメガ−フルオロアルキル（Ｃ６〜Ｃ１１）オキシ］−１−アルキル（Ｃ３〜Ｃ４）スルホン酸ナトリウム、３−［オメガ−フルオロアルカノイル（Ｃ６〜Ｃ８）−Ｎ−エチルアミノ］−１−プロパンスルホン酸ナトリウム、フルオロアルキル（Ｃ１１〜Ｃ２０）カルボン酸またはその金属塩、パーフルオロアルキルカルボン酸（Ｃ７〜Ｃ１３）またはその金属塩、パーフルオロアルキル（Ｃ４〜Ｃ１２）スルホン酸またはその金属塩、パーフルオロオクタンスルホン酸ジエタノールアミド、Ｎ−プロピル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）パーフルオロオクタンスルホンアミド、パーフルオロアルキル（Ｃ６〜Ｃ１０）スルホンアミドプロピルトリメチルアンモニウム塩、パーフルオロアルキル（Ｃ６〜Ｃ１０）−Ｎ−エチルスルホニルグリシン塩、モノパーフルオロアルキル（Ｃ６〜Ｃ１６）エチルリン酸エステル等が挙げられる。
【０１１５】
フルオロアルキル基含有カチオン系界面活性剤としては、フルオロアルキル基含有脂肪族一級、二級または三級アミン酸、パーフルオロアルキル（Ｃ６〜Ｃ１０）スルホンアミドプロピルトリメチルアンモニウム塩等の脂肪族４級アンモニウム塩、ベンザルコニウム塩、塩化ベンゼトニウム、ピリジニウム塩、イミダゾリニウム塩等が挙げられる。
【０１１６】
フッ素含有ポリマーとしては、フルオロアルキル基含有モノマーの重合体、フルオロアルキル基含有モノマーとポリ（オキシアルキレン）基含有モノマーとの共重合体、フルオロアルキル基含有モノマーと架橋反応性基含有モノマーとの共重合体等が挙げられる。フッ素含有ポリマーは、共重合可能な他のモノマーとの共重合体であってもよい。
【０１１７】
フッ素含有ポリマーとしては、フルオロアルキル基含有モノマーとポリ（オキシアルキレン）基含有モノマーとの共重合体が好ましい。
ポリ（オキシアルキレン）基としては、下記式（６）で表される基が好ましい。
−（ＯＲ６１）ｐ−  ・・・（６）。
ただし、Ｒ６１は、炭素数２〜４のアルキレン基を表し、ｐは、２以上の整数を表す。Ｒ６１としては、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ（ＣＨ３）−等が挙げられる。
【０１１８】
ポリ（オキシアルキレン）基は、同一のオキシアルキレン単位（ＯＲ６１）からなるものであってもよく、２種以上のオキシアルキレン単位（ＯＲ６１）からなるものであってもよい。２種以上のオキシアルキレン単位（ＯＲ６１）の配列は、ブロックであってもよく、ランダムであってもよい。
【０１１９】
シリコーン系化合物：
シリコーン系化合物としては、（メタ）アクリル酸変性シリコーン、シリコーン樹脂、シリコーン系シランカップリング剤等が挙げられる。
（メタ）アクリル酸変性シリコーンとしては、Ｘ−２２−１６０２（信越化学工業社製）等のシリコーン（ジ）（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【０１２０】
（親水性材料）
樹脂膜の微細凹凸構造の表面の水接触角を２５°以下にするためには、親水性の材料を形成しうる活性エネルギー線硬化性樹脂組成物として、少なくとも親水性モノマーを含む組成物を用いることが好ましい。また、耐擦傷性や耐水性付与の観点からは、架橋可能な多官能モノマーを含むのがより好ましい。なお、親水性モノマーと架橋可能な多官能モノマーは、同一（すなわち、親水性多官能モノマー）であってもよい。さらに活性エネルギー線硬化性樹脂組成物は、その他のモノマーを含んでいてもよい。
【０１２１】
親水性の材料を形成しうる活性エネルギー線硬化性樹脂組成物としては、下記の重合性化合物を含む組成物を用いることがより好ましい。
４官能以上の多官能（メタ）アクリレートの１０〜５０質量％、
２官能以上の親水性（メタ）アクリレートの３０〜８０質量％、
単官能モノマーの０〜２０質量％の合計１００質量％からなる重合性化合物。
【０１２２】
４官能以上の多官能（メタ）アクリレートとしては、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールエトキシテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヒドロキシペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、コハク酸／トリメチロールエタン／アクリル酸のモル比１：２：４の縮合反応混合物、ウレタンアクリレート類（ダイセル・サイテック社製：ＥＢＥＣＲＹＬ２２０、ＥＢＥＣＲＹＬ１２９０、ＥＢＥＣＲＹＬ１２９０Ｋ、ＥＢＥＣＲＹＬ５１２９、ＥＢＥＣＲＹＬ８２１０、ＥＢＥＣＲＹＬ８３０１、ＫＲＭ８２００）、ポリエーテルアクリレート類（ダイセル・サイテック社製：ＥＢＥＣＲＹＬ８１）、変性エポキシアクリレート類（ダイセル・サイテック社製：ＥＢＥＣＲＹＬ３４１６）、ポリエステルアクリレート類（ダイセル・サイテック社製：ＥＢＥＣＲＹＬ４５０、ＥＢＥＣＲＹＬ６５７、ＥＢＥＣＲＹＬ８００、ＥＢＥＣＲＹＬ８１０、ＥＢＥＣＲＹＬ８１１、ＥＢＥＣＲＹＬ８１２、ＥＢＥＣＲＹＬ１８３０、ＥＢＥＣＲＹＬ８４５、ＥＢＥＣＲＹＬ８４６、ＥＢＥＣＲＹＬ１８７０）等が挙げられる。これらは、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
４官能以上の多官能（メタ）アクリレートとしては、５官能以上の多官能（メタ）アクリレートがより好ましい。
【０１２３】
４官能以上の多官能（メタ）アクリレートの割合は、１０〜５０質量％が好ましく、耐水性、耐薬品性の点から、２０〜５０質量％がより好ましく、３０〜５０質量％が特に好ましい。４官能以上の多官能（メタ）アクリレートの割合が１０質量％以上であれば、弾性率が高くなって耐擦傷性が向上する。４官能以上の多官能（メタ）アクリレートの割合が５０質量％以下であれば、表面に小さな亀裂が入りにくく、外観不良となりにくい。
【０１２４】
２官能以上の親水性（メタ）アクリレートとしては、アロニックスＭ−２４０、アロニックスＭ２６０（東亞合成社製）、ＮＫエステルＡＴ−２０Ｅ、ＮＫエステルＡＴＭ−３５Ｅ（新中村化学社製）等の長鎖ポリエチレングリコールを有する多官能アクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート等が挙げられる。これらは、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
ポリエチレングリコールジメタクリレートにおいて、一分子内に存在するポリエチレングリコール鎖の平均繰り返し単位の合計は、６〜４０が好ましく、９〜３０がより好ましく、１２〜２０が特に好ましい。ポリエチレングリコール鎖の平均繰り返し単位が６以上であれば、親水性が十分となり、防汚性が向上する。ポリエチレングリコール鎖の平均繰り返し単位が４０以下であれば、４官能以上の多官能（メタ）アクリレートとの相溶性が良好となり、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物が分離しにくい。
【０１２５】
２官能以上の親水性（メタ）アクリレートの割合は、３０〜８０質量％が好ましく、４０〜７０質量％がより好ましい。２官能以上の親水性（メタ）アクリレートの割合が３０質量％以上であれば、親水性が十分となり、防汚性が向上する。２官能以上の親水性（メタ）アクリレートの割合が８０質量％以下であれば、弾性率が高くなって耐擦傷性が向上する。
【０１２６】
単官能モノマーとしては、親水性単官能モノマーが好ましい。
親水性単官能モノマーとしては、Ｍ−２０Ｇ、Ｍ−９０Ｇ、Ｍ−２３０Ｇ（新中村化学社製）等のエステル基にポリエチレングリコール鎖を有する単官能（メタ）アクリレート、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート等のエステル基に水酸基を有する単官能（メタ）アクリレート、単官能アクリルアミド類、メタクリルアミドプロピルトリメチルアンモニウムメチルサルフェート、メタクリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウムメチルサルフェート等のカチオン性モノマー類等が挙げられる。
また、単官能モノマーとして、アクリロイルモルホリン、ビニルピロリドン等の粘度調整剤、基材への密着性を向上させるアクリロイルイソシアネート類等の密着性向上剤等を用いてもよい。
【０１２７】
単官能モノマーの割合は、０〜２０質量％が好ましく、５〜１５質量％がより好ましい。単官能モノマーを用いることにより、基材と硬化樹脂との密着性が向上する。単官能モノマーの割合が２０質量％以下であれば、４官能以上の多官能（メタ）アクリレートまたは２官能以上の親水性（メタ）アクリレートが不足することなく、防汚性または耐擦傷性が十分に発現する。
【０１２８】
単官能モノマーは、１種または２種以上を（共）重合した低重合度の重合体として活性エネルギー線硬化性樹脂組成物に０〜３５質量部配合してもよい。低重合度の重合体としては、Ｍ−２３０Ｇ（新中村化学社製）等のエステル基にポリエチレングリコール鎖を有する単官能（メタ）アクリレート類と、メタクリルアミドプロピルトリメチルアンモニウムメチルサルフェートとの４０／６０共重合オリゴマー（ＭＲＣユニテック社製、ＭＧポリマー）等が挙げられる。
【０１２９】
（用途）
第２の実施形態におけるフィルム製品の用途としては、第１の実施形態におけるフィルム製品と同様な用途が挙げられる。
【実施例】
【０１３０】
以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１３１】
（陽極酸化アルミナの細孔）
陽極酸化アルミナの一部を削り、断面にプラチナを１分間蒸着し、電界放出形走査電子顕微鏡（日本電子社製、ＪＳＭ−７４００Ｆ）を用いて、加速電圧３．００ｋＶの条件にて、断面を観察し、細孔の間隔、細孔の深さを測定した。各測定は、それぞれ５０点について行い、平均値を求めた。
【０１３２】
（微細凹凸構造）
マザーモールド、フィルム状レプリカモールドまたはフィルム製品の破断面にプラチナを１０分間蒸着し、陽極酸化アルミナと同様に断面を観察し、凸部または凹部の間隔、凸部の高さまたは凹部の深さを測定した。各測定は、それぞれ５０点について行い、平均値を求めた。
【０１３３】
（加重平均反射率）
マザーモールド、フィルム状レプリカモールド、またはフィルム製品について、分光光度計（日立製作所社製、Ｕ−４０００）を用い、入射角５°、波長３８０〜７８０ｎｍの範囲で硬化樹脂膜側の表面の相対反射率を測定し、ＪＩＳ  Ｒ３１０６に準拠して算出した。
【０１３４】
（水接触角）
接触角測定装置（Ｋｒｕｓｓ社製、ＤＳＡ１０−Ｍｋ２）を用い、微細凹凸構造の表面に、１．６μＬの水を滴下した後、滴下の１０秒後から１秒間隔で水接触角を１０点測定し、平均値を求めた。さらに、水を滴下する位置を変えて同様の操作を３回行い、計４回の平均値をさらに平均した。
【０１３５】
〔ロール状モールドａの製造〕
純度９９．９９％のアルミニウムからなるロールを、過塩素酸／エタノール混合溶液（１／４体積比）中で電解研磨した。
（ａ）工程：
該ロールについて、０．５Ｍシュウ酸水溶液中で、直流４０Ｖ、温度１６℃の条件で６時間陽極酸化を行った。
（ｂ）工程：
酸化皮膜が形成されたロールを、６質量％リン酸／１．８質量％クロム酸混合水溶液に６時間浸漬して、酸化皮膜を除去した。
【０１３６】
（ｃ）工程：
該ロールについて、０．３Ｍシュウ酸水溶液中、直流４０Ｖ、温度１６℃の条件で３０秒間陽極酸化を行った。
（ｄ）工程：
酸化皮膜が形成されたロールを、３２℃の５質量％リン酸に８分間浸漬して、細孔径拡大処理を行った。
【０１３７】
（ｅ）工程：
前記（ｃ）工程および（ｄ）工程を合計で５回繰り返し、平均間隔：１００ｎｍ、深さ：２２０ｎｍの略円錐形状の細孔を有する陽極酸化アルミナが表面に形成されたロール状モールドａを得た。
ロール状モールドａを、オプツールＤＳＸ（ダイキン化成品販売社製）の０．１質量％希釈溶液に浸漬し、一晩風乾して、酸化皮膜表面のフッ素化処理を行った。
【０１３８】
〔ロール状モールドｂの製造〕
純度９９．９９％のアルミニウムからなる平板を、過塩素酸／エタノール混合溶液（１／４体積比）中で電解研磨した。
（ａ）工程：
該平板について、０．５Ｍシュウ酸水溶液中で、直流４０Ｖ、温度１６℃の条件で６時間陽極酸化を行った。
（ｂ）工程：
酸化皮膜が形成された平板を、６質量％リン酸／１．８質量％クロム酸混合水溶液に６時間浸漬して、酸化皮膜を除去した。
【０１３９】
（ｃ）工程：
該平板について、０．３Ｍシュウ酸水溶液中、直流４０Ｖ、温度１６℃の条件で３０秒間陽極酸化を行った。
（ｄ）工程：
酸化皮膜が形成された平板を、３２℃の５質量％リン酸に８分間浸漬して、細孔径拡大処理を行った。
【０１４０】
（ｅ）工程：
前記（ｃ）工程および（ｄ）工程を合計で５回繰り返し、平均間隔：１００ｎｍ、深さ：２２０ｎｍの略円錐形状の細孔を有する陽極酸化アルミナが表面に形成された平板モールドｂ’を得た。
平板モールドｂ’を、オプツールＤＳＸ（ダイキン化成品販売社製）の０．１質量％希釈溶液に浸漬し、一晩風乾して、酸化皮膜表面のフッ素化処理を行った。
フッ素処理を行った平板モールドｂ’を円筒加工して、ロール状モールドｂを得た。
【０１４１】
〔活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の調製〕
表１、表２に示す割合で各成分を混合し、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Ａ、Ｂを調製した。
【０１４２】
【表１】
2010000719.tif 000003
【０１４３】
表中の略号は下記の通りである。
ＤＰＨＡ：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（東亞合成社製、アロニックスＭ４００）、
Ｍ２６０：ポリエチレングリコールジアクリレートｎ＝１３〜１４（東亞合成社製、アロニックスＭ２６０）、
ＨＥＡ：２−ヒドロキシエチルアクリレート、
Ｉｒ１８４：１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（チバ・スペシャリティケミカルズ社製、イルガキュア１８４）。
【０１４４】
【表２】
2010000719.tif 000004
【０１４５】
表中の略号は下記の通りである。
ＴＡＳ：トリメチロールエタン・アクリル酸・無水コハク酸縮合エステル、
Ｃ６ＤＡ：１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、
Ｘ−２２−１６０２：ラジカル重合性シリコーンオイル（信越化学工業社製）、
Ｉｒ１８４：１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（チバ・スペシャリティケミカルズ社製、イルガキュア１８４）。
【０１４６】
〔フィルムの製造〕
メタクリル酸メチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸メチル、１，３−ブタジエンおよびメタクリル酸アリルを重合してなるゴム含有多段重合体の７５質量部、およびアクリル樹脂（三菱レイヨン社製、ＢＲ８０）の２５質量部をあらかじめ溶融押し出しした後、製膜して、厚さ２００μｍのアクリル樹脂フィルムを得た。
【０１４７】
〔実施例１〕
図２に示す製造装置を用いて、マザーモールドｃを製造した。
図２中のロール状モールド２２としては、前記ロール状モールドａを用いた。
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物としては、前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Ｂを用いた。
図２中のモールド本体１２としては、前記アクリル樹脂フィルムを用いた。
モールド本体１２側から、積算光量３２００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Ｂの塗膜に照射し、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Ｂの硬化を行った。
マザーモールドｃを、オプツールＤＳＸ（ダイキン化成品販売社製）の０．１質量％希釈溶液に浸漬し、一晩風乾して、表面のフッ素化処理を行った。
得られたマザーモールドｃについて、凸部間の平均間隔、凸部の高さ、加重平均反射率、水接触角を測定した。結果を表３に示す。
【０１４８】
図７に示す製造装置を用いて、フィルム状レプリカモールドｄを製造した。
図７中のフィルム状レプリカモールド１０としては、前記マザーモールドｃを用いた。
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物としては、前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Ａを用いた。
図７中の基材４８としては、前記アクリル樹脂フィルムを用いた。
基材４８側から、積算光量３２００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Ａの塗膜に照射し、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Ａの硬化を行った。
フィルム状レプリカモールドｄを、オプツールＤＳＸ（ダイキン化成品販売社製）の０．１質量％希釈溶液に浸漬し、一晩風乾して、表面のフッ素化処理を行った。
得られたフィルム状レプリカモールドｄについて、凹部間の平均間隔、凹部の深さ、加重平均反射率、水接触角を測定した。結果を表４に示す。
【０１４９】
図７に示す製造装置を用いて、フィルム製品６２を製造した。
図７中のフィルム状レプリカモールド１０としては、前記フィルム状レプリカモールドｄを用いた。  
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物としては、前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Ｂを用いた。
図７中の基材４８としては、前記アクリル樹脂フィルムを用いた。
フィルム状レプリカモールド１０側から、積算光量３２００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Ｂの塗膜に照射し、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Ｂの硬化を行った。
得られたフィルム製品６２について、凸部間の平均間隔、凸部の高さ、加重平均反射率、水接触角を測定した。結果を表５に示す。
【０１５０】
〔実施例２〕
図３に示す製造装置を用いて、フィルム状レプリカモールドｅを製造した。
図３中のロール状モールド２２としては、前記ロール状モールドａを用いた。
フッ素系樹脂としては、サイトップ（旭硝子社製）を用いた。
図３中のモールド本体１２としては、前記アクリル樹脂フィルムを用いた。
フッ素系樹脂をダイス６４から溶融押出し、フィルム状レプリカモールドｄを得た。
得られたフィルム状レプリカモールドｅについて、凸部間の平均間隔、凸部の高さ、加重平均反射率、水接触角を測定した。結果を表３に示す。
【０１５１】
図７に示す製造装置を用いて、フィルム製品６２を製造した。
図７中のフィルム状レプリカモールド１０としては、前記フィルム状レプリカモールドｅを用いた。  
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物としては、前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Ｂを用いた。
図７中の基材４８としては、前記アクリル樹脂フィルムを用いた。
フィルム状レプリカモールド１０側から、積算光量３２００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Ｂの塗膜に照射し、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Ｂの硬化を行った。
得られたフィルム製品６２について、凹部間の平均間隔、凹部の深さ、加重平均反射率、水接触角を測定した。結果を表５に示す。
【０１５２】
〔実施例３〕
図４に示す製造装置を用いて、フィルム状レプリカモールドｆを製造した。
図４中のロール状モールド２２としては、前記ロール状モールドａを用いた。
図４中のモールド本体１２としては、前記アクリル樹脂フィルムを用いた。
モールド本体１２側から１３０℃に加熱したニップロール２８でモールド本体１２をガラス転移点以上に加熱するとともに、ロール状モールド２２との間でニップした。
得られたフィルム状レプリカモールドｆについて、凸部間の平均間隔、凸部の高さ、加重平均反射率、水接触角を測定した。結果を表３に示す。
フィルム状レプリカモールドｆを、オプツールＤＳＸ（ダイキン化成品販売社製）の０．１質量％希釈溶液に浸漬し、一晩風乾して、表面のフッ素化処理を行った。
【０１５３】
図７に示す製造装置を用いて、フィルム製品６２を製造した。
図７中のフィルム状レプリカモールド１０としては、前記フィルム状レプリカモールドｆを用いた。  
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物としては、前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Ｂを用いた。
図７中の基材４８としては、前記アクリル樹脂フィルムを用いた。
フィルム状レプリカモールド１０側から、積算光量３２００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Ｂの塗膜に照射し、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Ｂの硬化を行った。
得られたフィルム製品６２について、凹部間の平均間隔、凹部の深さ、加重平均反射率、水接触角を測定した。結果を表５に示す。
【０１５４】
〔実施例４〕
図６に示す製造装置を用いて、フィルム製品６２を製造した。
図６中のロール状レプリカモールド６８としては、ロール６６の表面に前記フィルム状レプリカモールドｄが貼着されたものを用いた。
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物としては、前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Ｂを用いた。
図６中の基材４８としては、前記アクリル樹脂フィルムを用いた。
基材４８側から、積算光量３２００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Ｂの塗膜に照射し、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Ｂの硬化を行った。
得られたフィルム製品６２について、凸部間の平均間隔、凸部の高さ、加重平均反射率、水接触角を測定した。結果を表５に示す。
【０１５５】
〔実施例５〕
図２に示す製造装置を用いて、マザーモールドｇを製造した。
図２中のロール状モールド２２としては、前記ロール状モールドｂを用いた。
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物としては、前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Ｂを用いた。
図２中のモールド本体１２としては、前記アクリル樹脂フィルムを用いた。
モールド本体１２側から、積算光量３２００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Ｂの塗膜に照射し、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Ｂの硬化を行った。
マザーモールドｇを、オプツールＤＳＸ（ダイキン化成品販売社製）の０．１質量％希釈溶液に浸漬し、一晩風乾して、表面のフッ素化処理を行った。
得られたマザーモールドｇについて、凸部間の平均間隔、凸部の高さ、加重平均反射率、水接触角を測定した。結果を表３に示す。
【０１５６】
図７に示す製造装置を用いて、フィルム状レプリカモールドｈを製造した。
図７中のフィルム状レプリカモールド１０としては、前記マザーモールドｇを用いた。
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物としては、前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Ａを用いた。
図７中の基材４８としては、前記アクリル樹脂フィルムを用いた。
基材４８側から、積算光量３２００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Ａの塗膜に照射し、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Ａの硬化を行った。
フィルム状レプリカモールドｈを、オプツールＤＳＸ（ダイキン化成品販売社製）の０．１質量％希釈溶液に浸漬し、一晩風乾して、表面のフッ素化処理を行った。
得られたフィルム状レプリカモールドｈについて、凹部間の平均間隔、凹部の深さ、加重平均反射率、水接触角を測定した。結果を表４に示す。
【０１５７】
図７に示す製造装置を用いて、フィルム製品６２を製造した。
図７中のフィルム状レプリカモールド１０としては、前記フィルム状レプリカモールドｈを用いた。  
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物としては、前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Ｂを用いた。
図７中の基材４８としては、前記アクリル樹脂フィルムを用いた。
フィルム状レプリカモールド１０側から、積算光量３２００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Ｂの塗膜に照射し、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Ｂの硬化を行った。
得られたフィルム製品６２について、凸部間の平均間隔、凸部の高さ、加重平均反射率、水接触角を測定した。結果を表５に示す。
【０１５８】
【表３】
2010000719.tif 000005
【０１５９】
【表４】
2010000719.tif 000006
【０１６０】
【表５】
2010000719.tif 000007
【産業上の利用可能性】
【０１６１】
本発明のフィルム状レプリカモールドは、表面に微細凹凸構造を有するフィルム製品の製造に有用である。
【図面の簡単な説明】
【０１６２】
【図１】本発明のフィルム状レプリカモールドの一例を示す断面図である。
【図２】本発明のフィルム状レプリカモールドの製造装置の一例を示す構成図である。
【図３】本発明のフィルム状レプリカモールドの製造装置の他の例を示す構成図である。
【図４】本発明のフィルム状レプリカモールドの製造装置の他の例を示す構成図である。
【図５】表面に陽極酸化アルミナを有するモールドの製造工程を示す断面図である。
【図６】本発明の微細凹凸構造を有するフィルム製品の製造装置の一例を示す構成図である。
【図７】本発明の微細凹凸構造を有するフィルム製品の製造装置の他の例を示す構成図である。
【図８】本発明の微細凹凸構造を有するフィルム製品の製造装置の他の例を示す構成図である。
【符号の説明】
【０１６３】
１０  フィルム状レプリカモールド
１２  モールド本体
４８  基材
６２  フィルム製品
【図１】
2010000719.tif 000008
【図２】
2010000719.tif 000009
【図３】
2010000719.tif 000010
【図４】
2010000719.tif 000011
【図５】
2010000719.tif 000012
【図６】
2010000719.tif 000013
【図７】
2010000719.tif 000014
【図８】
2010000719.tif 000015