(57)【要約】【課題】本発明は、凹凸の鋭角性に優れるテクスチャー痕を均一で且つ微細に形成することができるとともに、スクラッチ欠点、リッジ欠点が少ないという高精度なテクスチャー加工を施すことができる研磨布を提供するものである。【解決手段】本発明の研磨布は、平均繊維径０．１〜３μｍの極細繊維からなる不織布と高分子弾性体とを含んで構成され、少なくとも片面に前記極細繊維からなる立毛を有し、前記立毛における極細繊維の少なくとも一部にカチオン性界面活性剤を有してなることを特徴とする研磨布である。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
平均繊維径０．１〜３μｍの極細繊維からなる不織布と高分子弾性体とを含んで構成され、少なくとも片面に前記極細繊維からなる立毛を有し、前記立毛における極細繊維の少なくとも一部にカチオン性界面活性剤を有してなることを特徴とする研磨布。
【請求項２】
前記カチオン性界面活性剤の付量が研磨布に対して０．１〜１０質量％である、請求項１記載の研磨布。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は研磨布、より具体的にはハードディスクに用いられるアルミニウム合金基板またはガラス基板に研磨加工やクリーニング加工を施す際に用いる研磨布に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
ハードディスク等の磁気記録媒体は、めざましい技術革新により高容量化と高記録密度化の要求が高まり、このため各種基板表面加工の高精度化が要求されている。
【０００３】
高容量化と高記録密度化に対し、記録ディスクの磁気特性向上の手段として、記録ディスクの基板表面にほぼ同心円状の微細な条痕を形成するテクスチャー加工という表面処理が行われている。このテクスチャー加工を行うことにより、ディスク基板上に金属磁性層を形成する際の結晶成長の方向性を制御することで記録方向の抗磁力を向上させることが可能となり、円周方向に磁気的配向を与えて磁気特性を向上している。
【０００４】
テクスチャー加工の方法としては、遊離砥粒からなる水系研磨スラリーを研磨布表面に付着させて研削を行うスラリー研削が用いられている。すなわち、研磨布をテープ状として用い、アルミニウム合金基板またはガラス基板を連続回転させた状態で、その研磨テープを基板に押し付けながら、基板の径方向に往復運動させ、連続的に研磨テープを走行させる。その際に、スラリーを研磨テープと基板との間に供給し、スラリー中に含まれる遊離砥粒が研磨テープを構成する繊維に微分散した状態で把持され、基板に接触し研磨を行う方法である。
【０００５】
テクスチャー加工によって磁気特性を向上させる場合、均一で且つ微細なテクチャー痕を形成し、局所的な傷（スクラッチ欠点）及び異常突起（リッジ欠点）を極めて少なくすることが要求され、その要求に対応しうる研磨方法が求められてきた。
【０００６】
従来、研磨スラリーに用いる研磨粒子は粒径１００ｎｍ程度のダイヤモンド粒子を用いていたが、近年、前記ディスク欠点を削減することを目的として、ダイヤモンド粒子の小径化が図られている。例えば、特許文献１には、粒径が１〜１０ｎｍの範囲にあるダイヤモンド粒子からなるクラスター粒子を研磨粒子とした水系研磨スラリーが開示されている。しかし、かかる研磨スラリーを用いたテクスチャー加工では、ダイヤモンド粒子径が小さく、スクラッチ欠点やリッジ欠点を減少させることができる一方、砥粒の研削力自体が低くなり、基板表面のテクスチャー痕の凹凸形状が鋭角性に欠けるという問題があった。テクスチャー痕の凹凸が鋭角性に欠けると、ディスク基板上に金属磁性層を形成する際の結晶成長の方向性を制御することが不十分となり、円周方向の磁気的配向が低くなり、分解能やＳ／Ｎ比などの電磁変換特性を著しく低下させる要因となって、ハードディスクドライブにおけるエラーにつながるという新たな問題点となる。
【０００７】
一方、研磨布としては、クッション性に優れたものとして、極細化した繊維からなる不織布に高分子弾性体を含浸させたものが知られている。
【０００８】
例えば特許文献２には、スクラッチ欠点等の発生の抑制と優れた研磨効率とを達成すべく、ノニオン性界面活性剤を付与してなる研磨布が開示されている。しかしかかる研磨布に対しても、近年のダイヤモンド粒子の微細化に伴い、より研磨効率を向上させることが求められてきた。
【０００９】
なお、特許文献３には、フィルム表面に帯電防止を目的としてカチオン性界面活性剤を付与した研磨テープが開示されている。しかし、基材がフィルムのためクッション性が低く、テクスチャー痕の線密度の低い荒削りの状態となり、スクラッチ欠点も多く、実用に耐えるものではない。
【特許文献１】特開２０００−２３７９５１号公報
【特許文献２】特開２００４−１７８７７７号公報
【特許文献３】特開平０３−１５４７８２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明は、凹凸の鋭角性に優れるテクスチャー痕を均一で且つ微細に形成することができるとともに、スクラッチ欠点、リッジ欠点が少ないという高精度なテクスチャー加工を施すことができる研磨布を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
すなわち本発明は、平均繊維径０．１〜３μｍの極細繊維からなる不織布と高分子弾性体とを含んで構成され、少なくとも片面に前記極細繊維からなる立毛面を有し、前記立毛における繊維の少なくとも一部にカチオン性界面活性剤を有してなることを特徴とする研磨布である。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、繊維がカチオン性界面活性剤を有することにより、砥粒の押圧を高めて凹凸の鋭角性に優れるテクスチャー痕を形成することができるとともに、スクラッチ欠点、リッジ欠点が少なく、均一で且つ微細なテクスチャー痕を形成することができ、記録ディスクの高記録密度化に対応可能な加工面として仕上げることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
本発明の研磨布は極細繊維からなる不織布と高分子弾性体とを含んで構成される。
【００１４】
極細繊維を構成する樹脂としては、例えば、ナイロン６、ナイロン６６、ナイロン１２および共重合ナイロンなどのポリアミド類、ポリブチレンテレフタレート、ポリトリメチレンテレフタレート、ポリエチレンテレフタレートおよび共重合ポリエステルなどのポリエステル類、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリスチレンおよび共重合ポリスチレンなどのポリオレフィン類、ポリ乳酸、乳酸共重合体およびポリグリコール酸などの脂肪酸ポリエステル系重合体類や脂肪酸ポリエステルアミド系重合体類などを挙げることができる。
【００１５】
極細繊維の平均繊維径としては、研磨布表面の立毛繊維の緻密性、繊維強度及び砥粒の把持性の点から、０．１〜３μｍとすることが重要である。０．１μｍ未満である場合には、繊維強度及び剛性が低く、研削不足となるばかりでなく、極細繊維の分散性に劣り、砥粒の局所的な凝集を招き、スクラッチ欠点が発生しやすいため好ましくない。一方、３μｍを越える場合には、立毛繊維の緻密性に劣り、砥粒が微分散されず、研磨布表面における砥粒分布の偏りが大きくなるため、テクスチャー痕の線密度が低くなると共に、スクラッチ欠点とリッジ欠点を抑制しきれないため好ましくない。
【００１６】
本発明において、極細繊維束を構成する極細繊維の単繊維の繊維径ＣＶが１０％以下であることが好ましい。ここでいう繊維径ＣＶとは、極細繊維束を構成する繊維の繊維径標準偏差を平均繊維径で割った値を百分率（％）表示したものであり、値が小さいほど極細繊維束を構成する極細繊維の単繊維繊維径が均一であることを示すものである。繊維径ＣＶを１０％以下とすることにより、研磨布表面における低繊維径繊維と高繊維径繊維との剛性差に起因する立毛繊維の分布の偏りを抑え、砥粒分散及び押し付け力の均一性を向上させ、スクラッチ欠点及びリッジ欠点の抑制に資する。また下限は特に限定されないが、通常０．１％以上となる。
【００１７】
極細繊維の断面形状としては例えば、丸、楕円、扁平および三角などの多角形や、扇、十字、Ｙ、Ｈ、Ｘ、Ｗ、Ｃおよびπ型などが挙げられる。
【００１８】
本発明の研磨布を構成する不織布は短繊維不織布、長繊維不織布のいずれでもよいが、短繊維不織布が好ましい。短繊維不織布は、表面繊維の緻密性、表面繊維本数密度の均一性に優れ、よって研磨砥粒の均一な保持にも優れる。
【００１９】
短繊維不織布における短繊維の繊維長としては、２５〜９０ｍｍが好ましい。９０ｍｍ以下とすることで、表面繊維の緻密性に優れる。また２５ｍｍ以上とすることで、耐摩耗性に優れる。
【００２０】
本発明の研磨布における繊維の密度、すなわち不織布の見掛け密度としては、０．２〜０．６ｇ／ｃｍ３が好ましい。０．２ｇ／ｃｍ３以上、より好ましくは０．３ｇ／ｃｍ３以上、さらに好ましくは０．３５ｇ／ｃｍ３以上とすることで、表面繊維の緻密性及び均一性に優れ、砥粒の保持性、押し付け力に優れる。また０．６ｇ／ｃｍ３以下、より好ましくは０．５ｇ／ｃｍ３以下とすることで、クッション性に優れる。
【００２１】
本発明の研磨布における高分子弾性体は、表面凹凸や振動吸収のためのクッション、繊維形態保持などの役割を有し、極細繊維不織布の内部空間に高分子弾性体を充填し一体化させることにより、被研磨物へのフィット性および被研磨物表面の傷の抑制効果を得ることができる。
【００２２】
本発明で使用する高分子弾性体としては、ポリウレタン、ＳＢＲ、ＮＢＲ、アクリル樹脂等、ゴム弾性を有するものであれば使用可能である。中でも、強度、柔軟性、品位等の観点からポリウレタンを用いることが好ましい。ポリウレタンは、ポリオール、ポリイソシアネート、鎖伸長剤を適宜反応させた構造を有するものを用いることができる。
【００２３】
また、バインダーとしての性能や風合いを損なわない範囲でポリエステル系、ポリアミド系、ポリオレフィン系などのエラストマー樹脂、アクリル樹脂、エチレン−酢酸ビニル樹脂などが含まれていても良く、各種の添加剤、例えばカーボンブラックなどの顔料、リン系、ハロゲン系、無機系などの難燃剤、フェノール系、イオウ系、リン系などの酸化防止剤、ベンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン系、サリシレート系、シアノアクリレート系、オキザリックアシッドアニリド系などの紫外線吸収剤、ヒンダードアミン系、ベンゾエート系などの光安定剤、ポリカルボジイミドなどの耐加水分解安定剤、可塑剤、耐電防止剤、界面活性剤、凝固調整剤、染料などを含有していてもよい。
【００２４】
高分子弾性体の含有率は、極細繊維の総質量に対し１０〜１００質量％が好ましい。高分子弾性体の含有量によって、研磨布の表面状態、空隙率、クッション性、硬度および強度などを適宜調節することができる。１０質量％以上、より好ましくは１５質量％以上とすることで、優れたクッション性を得ることができ、また繊維脱落を防ぐことができる。また１００質量％以下、より好ましくは６０質量％以下とすることで、加工性および生産性に優れ、立毛シート状物表面上において極細繊維が均一に分散した立毛面を得ることができる。
【００２５】
本発明の研磨布は、その少なくとも片面に極細繊維からなる立毛を有することが重要である。立毛した極細繊維が砥粒を把持し、均一な研磨に資する。
【００２６】
極細繊維の立毛状態としては、研磨布表面に均一に分散し、粗密ムラが小さく、同一方向に配列した状態であることが好ましい。そうすることにより、テクスチャー加工時の砥粒の分散性を高め、研磨布表面における砥粒分布を均一にできるため、スクラッチ欠点を極めて少なくすることができる。
【００２７】
本発明の研磨布は、立毛における極細繊維の少なくとも一部にカチオン性界面活性剤を有することが重要である。そうすることにより、砥粒の押圧を高めて凹凸の鋭角性に優れるテクスチャー痕を形成することができるとともに、スクラッチ欠点、リッジ欠点が少なく、均一で且つ微細なテクスチャー痕を形成することができ、記録ディスクの高記録密度化に対応可能な加工面として仕上げることができる。一方、界面活性剤としてアニオン性または非イオン性界面活性剤を使用しても、凹凸の鋭角性に優れたテクスチャー痕を形成することができない。
【００２８】
立毛における極細繊維の少なくとも一部にカチオン性界面活性剤を有することにより上記のような効果を奏するメカニズムとしては、次のようなことが考えられる。すなわち、砥粒である、人工的に調整されるダイヤモンド粒子の表面には、水酸基やカルボキシル基等のアニオン性基が存在している。そのため、研磨布を構成する繊維表面にカチオン性界面活性剤を有することにより、繊維と砥粒であるダイヤモンド粒子との親和性が増し、繊維に砥粒がしっかりと把持され、砥粒の押圧を高めて凹凸の鋭角性に優れるテクスチャー痕を形成することができる。
【００２９】
カチオン性界面活性剤の種類としては、アルキルアミン塩、アミド結合アミン塩、エステル結合アミン塩などのアミン塩、アルキルアンモニウム塩、アミド結合アンモニウム塩、エステル結合アンモニウム塩、エーテル結合アンモニウム塩などの第４級アンモニウム塩、アルキルピリジニウム塩、アミド結合ピリジニウム塩、エーテル結合ピリジニウム塩、エステル結合ピリジニウム塩などのピリジニウム塩などを採用することができる。
【００３０】
本発明の研磨布に対するカチオン性界面活性剤の付量としては、０．１〜１０質量％が好ましい。０．１質量％以上、より好ましくは０．２質量％以上とすることで、繊維が砥粒を十分に把持することにより、凹凸形状の鋭角性に富んだテクスチャー痕を形成する実効を得ることができる。一方、１０質量％以下、より好ましくは５質量％以下とすることで、立毛極細繊維の分散性や研磨布のクッション性を維持し、研磨布表面における砥粒分布の偏りが却って大きくなるのを抑えることができる。
【００３１】
本発明の研磨布の目付としては、１００〜４００ｇ／ｍ２が好ましく、より好ましくは１５０〜３００ｇ／ｍ２である。本発明の研磨布は主としてテープ状としてテクスチャー加工に使用し、その際に寸法変化を抑え基板表面を均一に研磨するために、研磨布の形態安定性の点から、上記範囲内とすることが好ましい。
【００３２】
本発明の研磨布には更に、立毛面の反対側の面に補強層を設けることも好ましい。そうすることにより、テクスチャー加工時のテープ伸びを抑え、ひいては加工ムラ、スクラッチ欠点の発生などを抑えることができる。
【００３３】
補強層としては、フィルム、織編物、熱接着繊維を用いた不織布などを使用することができる。
【００３４】
次に、本発明の研磨布を製造する方法について説明する。
【００３５】
不織布を構成する極細繊維を得る手段としては、極細繊維発生型繊維を用いることが好ましい。極細繊維発生型繊維をあらかじめ絡合させて不織布とした後に繊維の極細化を行うことによって、極細繊維が絡合してなる不織布を得ることができる。
【００３６】
極細繊維発生型繊維としては、溶剤溶解性の異なる２成分の熱可塑性樹脂を海成分・島成分とし、海成分を溶剤などを用いて溶解除去することによって島成分を極細繊維とする海島型繊維や、２成分の熱可塑性樹脂を繊維断面において放射状または多層状に交互に配置し、各成分を剥離分割することによって極細繊維に割繊する剥離型複合繊維などを採用することができる。中でも、海島型繊維は、海成分を除去することによって島成分間、すなわち繊維束の内部の極細繊維間に適度な空隙を付与することができるので、立毛の開繊性に優れる。
【００３７】
海島型繊維には、海島型複合用口金を用い海・島の２成分を相互配列して紡糸する海島型複合繊維や、海・島の２成分を混合して紡糸する混合紡糸繊維などがあるが、均一な繊度の極細繊維が得られる点で海島型複合繊維がより好ましい。
【００３８】
海島型複合繊維の海成分としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ナトリウムスルホイソフタル酸やポリエチレングリコールなどを共重合した共重合ポリエステル、ポリ乳酸、水溶性熱可塑性ポリビニルアルコール系樹脂などを用いることができる。
【００３９】
海成分を溶解する溶剤としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレンの場合は、トルエンやトリクロロエチレンなどの有機溶剤、共重合ポリエステル、ポリ乳酸の場合は、水酸化ナトリウムなどのアルカリ水溶液、水溶性熱可塑性ポリビニルアルコール系樹脂の場合は、熱水を用いることができる。
【００４０】
次いで極細繊維発生型繊維を絡合させて、不織布とする。短繊維不織布を得る例としては、極細繊維発生型繊維を短繊維化し、カード・クロスラッパーを用いてシート幅方向に配列させた積層ウエブを形成させる。ウエブの形成においては、ランダムウエブなどを用いてもよい。
【００４１】
積層ウエブを形成せしめた後、ニードルパンチ処理を行うことが好ましい。ニードルパンチ処理により、繊維の高絡合化による緻密な立毛面を形成することができる。ニードルパンチ処理のパンチング本数としては、１０００〜４０００本／ｃｍ２が好ましい。１０００本／ｃｍ２以上とすることで、表面繊維の緻密性に優れる。４０００本／ｃｍ２以下とすることで、生産性に優れ、また繊維損傷による強度低下を抑えることができる。ニードルパンチング後の極細繊維発生型繊維からなる不織布の見かけ密度としては、表面繊維本数の緻密化の観点から、０．２ｇ／ｃｍ３以上であることが好ましい。
【００４２】
極細繊維発生型繊維からなる不織布は、表面繊維本数の緻密化の観点から、乾熱または湿熱、あるいはその両者によって収縮させ、さらに高密度化させることが好ましい。
【００４３】
また、極細繊維化処理をした後に、極細繊維および／または極細繊維束の相互絡合をより高め、緻密化させることおよび極細繊維束の開繊性を高め、平滑性を向上させるという点から、ウォータージェットパンチング処理などの高速流体流処理や、液流染色機、ウィンス染色機、ジッガー染色機、タンブラーおよびリラクサー等を用いた揉み処理を適宜組み合わせて施してもよい。高速流体流処理と揉み処理を組み合わせて行う場合には、揉み処理時の寸法変動を抑える点から、高速流体流処理を行った後に揉み処理を行うことが好ましい。高速流体流処理としては、作業環境の点で水流を使用するウォータージェットパンチング処理が好ましく、ウォータージェットパンチング処理を行う場合には、水は柱状流の状態で行うことが好ましい。柱状流を得るには、直径０．０６〜１．０ｍｍのノズルから圧力１〜６０ＭＰａで噴出させる方法が好適に用いられる。
【００４４】
本発明の研磨布は、前記不織布を極細化処理する前および／または後に高分子弾性体を付与する。例えばポリウレタンの場合、不織布にポリウレタン溶液を含浸し、湿式凝固または乾式凝固させる。
【００４５】
極細繊維発生型繊維が海島型繊維の場合、極細繊維化処理は、前記のような溶剤中に海島型繊維を浸漬し、窄液をすることによって行うことができる。
【００４６】
立毛面は、バッフィング処理により得ることができる。バッフィング処理としては、サンドペーパーやロールサンダーなどを用いてシート表面を研削する方法などを採用することができる。とりわけ、シート表面をサンドペーパーを使用して起毛処理することにより、均一で緻密な立毛を形成することができる。更に、シート表面上の表面繊維分布の均一性および緻密性を向上させ、立毛繊維の方向性を極めて少なくするためには、研削負荷をより小さくすることが好ましい。研削負荷が高い状態では、巻き毛状となる立毛繊維が多く、また立毛繊維が束状に膠着した状態となりやすい。研削負荷を小さくするためには、バフ段数やサンドペーパー番手などを調整することが好ましい。中でも、バフ段数は３段以上の多段バッフィングとし、各段に使用するサンドペーパーの番手をＪＩＳ規定の１２０番〜６００番の範囲とすることが好ましい。
【００４７】
研磨布に補強層を設ける場合、接着方法としては、熱圧着法、フレームラミ法、補強層と研磨布との間に接着層を設ける方法等を採用することができる。
【００４８】
起毛処理する前および／または後に、カチオン性界面活性剤を付与する。
【００４９】
カチオン性界面活性剤を付与する方法としては、浸漬法、噴霧法、ロール含浸法、泡末含浸法などを採用することができる。中でも、カチオン性界面活性剤水溶液に含浸し乾燥する浸漬法が均一性、付量の制御に優れるため好ましい。
【００５０】
また、本発明の研磨布は、ポリウレタン含浸前、極細繊維発現工程前、起毛処理を行う前、カチオン性界面活性剤を付与する前または後に、シート厚み方向に半裁、ないしは数枚に分割されて得られるものでもよい。
【００５１】
本発明の研磨布を用いてテクスチャー加工を行う方法としては、研磨布を加工効率と安定性の観点から、２０〜５０ｍｍ幅のテープ状にカットして、テクスチャー加工用テープとして用いる。該研磨テープと遊離砥粒を含むスラリーとを用いて、アルミニウム合金磁気記録ディスクもしくはガラス磁気記録ディスクのテクスチャー加工を行う方法が好適な方法である。研磨条件として、スラリーは、ダイヤモンド微粒子などの高硬度砥粒を水系分散媒に分散したものが好ましく用いられる。中でも、砥粒の保持性、分散性、スクラッチ抑制の観点から、本発明の研磨布を構成する極細繊維に適合した砥粒は、単結晶ダイヤモンドからなり、１次粒子径が１〜２０ｎｍであることが好ましく、１〜１０ｎｍがより好ましい。テクスチャー痕の凹凸の鋭角化を図る点から、更に該ダイヤモンド粒子がクラスター化していることが好ましく、クラスター径は５０〜８００ｎｍが好ましく、５０〜６００ｎｍがより好ましい。
【実施例】
【００５２】
［測定方法・評価用加工方法］
（１）平均繊維径
研磨布を厚み方向にカットした断面を観察面として走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）により観察し、束状の繊維群を５つ、無作為に抽出した。５つの束状の繊維群のそれぞれについて、１つの束状の繊維群が視野に納まる最大倍率にて観察し、それらを構成するすべての極細繊維の繊維径を測定して平均値を算出し、平均繊維径とした。
なお、束状の極細繊維が存在しない場合は、極細繊維３００本の繊維径を測定し、平均値を計算する。
【００５３】
（２）界面活性剤の付量
研磨布試料１０ｃｍ２を秤量し、ソックスレー抽出器に入れ、メタノールを抽出溶媒として３時間抽出した。抽出後の研磨布残渣を乾燥、秤量し、元の重量と残渣重量の差を元の重量で除することにより界面活性剤の付量を算出した。これを研磨布から無作為に取出した試料３点について行い、その平均値を界面活性剤の付量とした。
【００５４】
（３）テクスチャー加工
研磨布を４０ｍｍ幅のテープとした。
研磨対象として、アルミニウム基板にＮｉ−Ｐメッキ処理した後、ポリッシング加工し、平均表面粗さ０．２ｎｍに制御したディスクを用いた。
研磨布表面に１次粒子径１〜１０ｎｍの単結晶ダイヤモンド粒子がクラスター平均径１００ｎｍでクラスター化した遊離砥粒スラリーを滴下し、テープ走行速度５ｃｍ／分にて１０秒間研磨した。これを各ディスクの両面について実施した。
【００５５】
（４）スクラッチ点数
テクスチャー加工後の基板５枚の両面、すなわち計１０表面の全領域を測定対象として、光学表面分析計（Ｃａｎｄｅｌａ５１００）を用いて、深さ２ｎｍ以上の溝をスクラッチとし、スクラッチ点数を測定し、１０表面の測定値の平均値で評価した。数値が低いほど高性能であることを示す。
【００５６】
（５）リッジ点数
原子間力顕微鏡ＡＦＭ（Ｄｉｇｉｔａｌ  Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製ＮａｎｏＳｃｏｐｅ  ＩＩＩａＡＦＭ  Ｄｉｍｅｎｓｉｏｎ３０００ステージシステム）を用いて、テクスチャー加工後の基板サンプル表面から１０カ所（１カ所あたりの観察領域はディスク表面上の径方向５μｍ×周方向５μｍの領域である）を無作為に抽出し、高さ５ｎｍ以上の突起をリッジとして、その個数を測定し、その合計点数をリッジ点数とした。
【００５７】
（６）テクスチャー痕の鋭角性
原子間力顕微鏡ＡＦＭ（Ｄｉｇｉｔａｌ  Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製ＮａｎｏＳｃｏｐｅ  ＩＩＩａＡＦＭ  Ｄｉｍｅｎｓｉｏｎ３０００ステージシステム）を用いて、走査速度０．５Ｈｚ、ピクセル数５１２×１２８の条件でテクスチャー加工後の基板サンプル表面の径方向に３カ所（１カ所あたりの観察領域はディスク表面上の径方向１μｍ×周方向０．２５μｍの領域である）を無作為に抽出し、該３カ所の各々について１点ずつ、ディスクの厚み方向における横軸を径方向とした断面プロファイルを無作為に抽出した。次いで、合計３点の断面プロファイルについて、径方向１μｍ幅全ての凹部及び凸部（以下、凹凸）の形状を観察し、鋭角性の評価を以下の基準にて行った。尚、凹凸の先端部が尖った状態とは、先端部の曲率半径が１００ｎｍ未満であることを示し、なだらかな曲線状とは先端部の曲率半径が１００ｎｍ以上であることを示す。
【００５８】
［実施例１］
（立毛シート状物）
島成分としてポリエチレンテレフタレート、海成分としてポリスチレンを用いて、島本数２００島／ホールの高分子相互配列体方式の海島型複合用口金を通して、島／海質量比率５０／５０、紡糸速度１２４０ｍ／分で溶融紡糸した後、９０℃の液浴中で３．３倍に延伸後、押し込み型捲縮機にて捲縮を付与して、単繊維繊度４．６ｄｔｅｘの海島型複合繊維を作製した。
次いで、この海島型複合繊維を５１ｍｍにカットして得られた原綿を用いて、カード、クロスラッパー工程を経て積層ウエブを形成し、３０００本／ｃｍ２のパンチ本数でニードルパンチし、目付６５０ｇ／ｍ２、密度０．２２ｇ／ｃｍ３の複合繊維不織布を作製した。
この複合繊維不織布を熱水収縮させた後、ポリビニルアルコール１２％水溶液に含浸し乾燥した。
その後、トリクロロエチレン中で海成分であるポリスチレンを溶解除去し、乾燥を行って、極細繊維束が絡合してなる極細繊維不織布を得た。
次いで、当該極細繊維不織布に、ポリウレタンを極細繊維総重量に対し２８質量％となるように含浸させ、水中で当該ポリウレタンを凝固した後、ポリビニルアルコールを熱水にて溶解除去し、乾燥した。
得られたシート状物の片面に対し、番手が２４０番のエンドレスサンドペーパーを用いて３段バッフィングを施して立毛面を形成させて、厚さ０．５３ｍｍの立毛シート状物とした。得られた立毛シート状物を構成する極細繊維の平均繊維径は１．０μｍであった。
【００５９】
（界面活性剤の付与）
上記立毛シート状物に、カチオン性界面活性剤としてアルキルアマイドアミン誘導体を研磨布に対し付量２質量％となるように含浸させ、乾燥することにより、カチオン性界面活性剤を有する立毛シート状物を作製し、これを研磨布とした。
【００６０】
得られた研磨布の目付は２００ｇ／ｍ２、見掛け密度は０．３８ｇ／ｃｍ２であり、走査型電子顕微鏡により観察したところ、極細繊維同士が独立して分散していることを確認した。
【００６１】
得られた研磨布を用いてテクスチャー加工を行った結果、ディスクのスクラッチ点数は２５、リッジ点数は０であった。また、テクスチャー痕の鋭角性は、凹凸が明瞭に形成されており、且つ凹凸の先端部の８８％が尖った状態であった。
【００６２】
［実施例２］
（立毛シート状物）
実施例１で用いたのと同様のものを用いた。
【００６３】
（界面活性剤の付与）
上記立毛シート状物に、カチオン性界面活性剤を第４級アンモニウム塩型界面活性剤に変更した以外は実施例１と同様にして界面活性剤を付与し、研磨布とした。
【００６４】
［比較例１］
（立毛シート状物）
実施例１で用いたのと同様のものを用いた。
【００６５】
（界面活性剤の付与）
界面活性剤は付与せずにそのまま、上記立毛シート状物を研磨布とした。
【００６６】
［比較例２］
（立毛シート状物）
実施例１で用いたのと同様のものを用いた。
【００６７】
（界面活性剤の付与）
上記立毛シート状物に、界面活性剤をアニオン性界面活性剤としてドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムに変更した以外は実施例１と同様にして界面活性剤を付与し、研磨布とした。
【００６８】
［比較例３］
（立毛シート状物）
実施例１で用いたのと同様のものを用いた。
【００６９】
（界面活性剤の付与）
上記立毛シート状物に、界面活性剤をノニオン性界面活性剤としてポリオキシエチレンアルキルエーテルに変更した以外は実施例１と同様にして界面活性剤を付与し、研磨布とした。
【００７０】
【表１】
2010005724.tif 000002
【００７１】
［実施例３〜６］
（立毛シート状物）
実施例１で用いたのと同様のものを用いた。
【００７２】
（界面活性剤の付与）
界面活性剤の付量がそれぞれ表１の記載となるようにした以外は実施例１と同様にして界面活性剤を付与し、研磨布とした。
【００７３】
【表２】
2010005724.tif 000003
【００７４】
［比較例４］
（立毛シート状物）
実施例１で用いたのと同様の島成分および海成分を用いて、島本数４０００島／ホールの高分子相互配列体方式の海島型複合用口金を通して、島／海質量比率２０／８０、紡糸速度１２４０ｍ／分で溶融紡糸した後、９０℃の液浴中で１．８倍に延伸後、捲縮機にて捲縮を付与して、単繊維繊度２．６ｄｔｅｘの海島型複合繊維を作製した。
次いで、この海島型複合繊維を５１ｍｍにカットして得られた原綿を用いて、カード、クロスラッパー工程を経て積層ウエブを形成し、３０００本／ｃｍ２のパンチ本数でニードルパンチし、目付８１０ｇ／ｍ２、密度０．２２ｇ／ｃｍ３の複合繊維不織布を作製した。
この複合繊維不織布を実施例１と同様にして、立毛シート状物とした。得られた立毛シート状物は、厚さ０．５３ｍｍ、またこれを構成する極細繊維の平均繊維径は０．０８μｍであった。
【００７５】
（界面活性剤の付与）
上記立毛シート状物を用いた以外は実施例１と同様にして界面活性剤を付与し、研磨布とした。
【００７６】
［実施例７］
（立毛シート状物）
実施例１で用いたのと同様の島成分および海成分を用いて、島本数１０００島／ホールの高分子相互配列体方式の海島型複合用口金を通して、島／海質量比率４０／６０、紡糸速度１２４０ｍ／分で溶融紡糸した後、９０℃の液浴中で２．５倍に延伸後、捲縮機にて捲縮を付与して、単繊維繊度３．３ｄｔｅｘの海島型複合繊維を作製した。
次いで、この海島型複合繊維を５１ｍｍにカットして得られた原綿を用いて、カード、クロスラッパー工程を経て積層ウエブを形成し、３０００本／ｃｍ２のパンチ本数でニードルパンチし、目付８１０ｇ／ｍ２、密度０．２２ｇ／ｃｍ３の複合繊維不織布を作製した。
この複合繊維不織布を実施例１と同様にして、立毛シート状物とした。得られた立毛シート状物は、厚さ０．５３ｍｍ、またこれを構成する極細繊維の平均繊維径は０．３μｍであった。
【００７７】
（界面活性剤の付与）
上記立毛シート状物を用いた以外は実施例１と同様にして界面活性剤を付与し、研磨布とした。
【００７８】
［実施例８］
（立毛シート状物）
実施例１で用いたのと同様の島成分および海成分を用いて、島本数３６島／ホールの高分子相互配列体方式の海島型複合用口金を通して、島／海質量比率５０／５０、紡糸速度１２４０ｍ／分で溶融紡糸した後、９０℃の液浴中で３．３倍に延伸後、捲縮機にて捲縮を付与して、単繊維繊度４．９ｄｔｅｘの海島型複合繊維を作製した。
次いで、この海島型複合繊維を５１ｍｍにカットして得られた原綿を用いて、カード、クロスラッパー工程を経て積層ウエブを形成し、３０００本／ｃｍ２のパンチ本数でニードルパンチし、目付６５０ｇ／ｍ２、密度０．２２ｇ／ｃｍ３の複合繊維不織布を作製した。
この複合繊維不織布を実施例１と同様にして、立毛シート状物とした。得られた立毛シート状物は、厚さ０．５３ｍｍ、またこれを構成する極細繊維の平均繊維径は２．５μｍであった。
【００７９】
（界面活性剤の付与）
上記立毛シート状物を用いた以外は実施例１と同様にして界面活性剤を付与し、研磨布とした。
【００８０】
［比較例５］
（立毛シート状物）
実施例１で用いたのと同様の島成分および海成分を用いて、島本数１６島／ホールの高分子相互配列体方式の海島型複合用口金を通して、島／海質量比率６０／４０、紡糸速度１２４０ｍ／分で溶融紡糸した後、９０℃の液浴中で３．３倍に延伸後、捲縮機にて捲縮を付与して、単繊維繊度４．６ｄｔｅｘの海島型複合繊維を作製した。
次いで、この海島型複合繊維を５１ｍｍにカットして得られた原綿を用いて、カード、クロスラッパー工程を経て積層ウエブを形成し、３０００本／ｃｍ２のパンチ本数でニードルパンチし、目付５４０ｇ／ｍ２、密度０．２２ｇ／ｃｍ３の複合繊維不織布を作製した。
この複合繊維不織布を実施例１と同様にして、立毛シート状物とした。得られた立毛シート状物は、厚さ０．５３ｍｍ、またこれを構成する極細繊維の平均繊維径は４．０μｍであった。
【００８１】
（界面活性剤の付与）
上記立毛シート状物を用いた以外は実施例１と同様にして界面活性剤を付与し、研磨布とした。
【００８２】
【表３】
2010005724.tif 000004
【産業上の利用可能性】
【００８３】
本発明の研磨布は、繊維がカチオン性界面活性剤を有することにより、研磨布を構成する繊維と砥粒であるダイヤモンド粒子との親和性が増すため、繊維に砥粒がしっかりと把持され、砥粒の押圧を高めて凹凸の鋭角性に優れるテクスチャー痕を形成することができるとともに、砥粒が局所的に集中することなく、微分散した状態で研磨布表面に分布するため、スクラッチ欠点、リッジ欠点が少なく、均一で且つ微細なテクスチャー痕を形成することができ、記録ディスクの高記録密度化に対応可能な加工面として仕上げることができる。