(57)【要約】      （修正有）【課題】高温下においても、金属の表面処理剤として用いた際の防錆性能に優れる金属表面処理剤の提供。【解決手段】下記の一般式（１）等で示されるアゾール系化合物を少なくとも１種有効成分として含有する金属表面処理剤。2010156043.tif 000019【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（１）または（２）で示されるアゾール系化合物の少なくとも１種を有効成分として含有することを特徴とする金属表面処理剤。
【化１】
2010156043.tif 000013
（式中、Ｒ１〜Ｒ３は、水素原子、アルキル基、フェニル基、又はハロゲン原子であり、同一でも異なっていてもよい。Ｘは、水素原子、カルボキシル基、又はカルボン酸エステル基であり、Ｙは、炭素原子または窒素原子である。）
【化２】
2010156043.tif 000014
（式中、Ｒ４は、水素原子、アルキル基、フェニル基、又はハロゲン原子である。Ｘは、水素原子、カルボキシル基、又はカルボン酸エステル基である。）
【請求項２】
アゾール系化合物が、下記一般式（３）で示されるイミダゾール系化合物であることを特徴とする請求項１記載の金属表面処理剤。
【化３】
2010156043.tif 000015
（式中、Ｒ１〜Ｒ３は、水素原子、アルキル基、フェニル基、又はハロゲン原子であり、同一でも異なっていてもよい。Ｘは、水素原子、カルボキシル基、又はカルボン酸エステル基である。）
【請求項３】
銅、ニッケル、銀、亜鉛、鉄、アルミニウムまたはこれらの合金から選ばれる金属に用いることを特徴とする請求項１または２記載の金属表面処理剤。
【請求項４】
金属表面防錆剤として用いることを特徴とする請求項１〜３いずれか記載の金属表面処理剤。
【請求項５】
下記一般式（４）で示されるイミダゾール系化合物。
【化４】
2010156043.tif 000016
（式中、Ｒは、水素原子またはアルキル基である。）
【請求項６】
下記一般式（５）で示されるイミダゾール系化合物。
【化５】
2010156043.tif 000017
（式中、Ｒは、水素原子またはアルキル基である。）
【請求項７】
下記一般式（６）で示されるイミダゾール系化合物。
【化６】
2010156043.tif 000018
（式中、Ｒは、水素原子またはアルキル基である。）
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、金属表面の防錆性能に優れた金属表面処理剤に関するものであり、とりわけプリント配線板の製造に有用な銅および銅合金の表面処理剤に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、金属表面の防錆を目的として、イミダゾール骨格、ベンゾイミダゾール骨格、ベンゾトリアゾール骨格を有する化合物が、金属表面処理剤として用いられていた。
また、特に銅で形成される電気部品や、銅で回路が形成されるプリント配線板、その他銅のメッキを表面に形成した部品などにおいては、銅の表面は容易に腐食されて変色されるために、防錆剤を含む変色防止剤を塗布して腐食変色を防ぐことがおこなわれていた。
【０００３】
このような防錆性能を持った表面処理剤として、例えば、特許文献１には、ベンゾトリアゾール又はその誘導体からなる防錆剤が記載されており、また、特許文献２には、銅および銅合金の防錆剤、特にプリント配線板の銅回路部のプレフラックス処理剤として好適なイミダゾール系化合物が記載されている。
【０００４】
しかしながら、上記特許文献１および２に記載の表面処理剤は、変色防止や防食等の防錆効果を謳ってはいるものの、かかる効果に関する評価は行なわれていない。更に、現在では、防錆性の付与を目的として表面処理された金属の用途は、多種多様に広がっており、より厳しい条件下での使用にも耐えうる防錆性能が要求されている。したがって、上記特許文献１および２の表面処理剤の苛酷な条件下での防錆性能は未だ十分なものとは言えないものであった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００５−１７１３６６号公報
【特許文献２】特開平６−３２９６３５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
そこで、本発明ではこのような背景下において、高温条件下においても、金属の表面処理剤として用いた際の防錆性能に優れる金属表面処理剤の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
しかるに本発明者等は、かかる事情に鑑み鋭意研究を重ねた結果、従来表面処理剤として使用されていなかった、ベンジル基で窒素原子上の水素が置換された特定構造のイミダゾール系化合物を含む表面処理剤が、高温条件下においても優れた防錆性能を発揮することを見出し、本発明を完成させるに至った。
【０００８】
即ち、本発明の要旨は、下記一般式（１）または（２）で示されるアゾール系化合物の少なくとも１種を有効成分として含有する金属表面処理剤である。
【０００９】
【化１】
2010156043.tif 000002
（式中、Ｒ１〜Ｒ３は、水素原子、アルキル基、フェニル基、又はハロゲン原子であり、同一でも異なっていてもよい。Ｘは、水素原子、カルボキシル基、又はカルボン酸エステル基であり、Ｙは、炭素原子または窒素原子である。）
【００１０】
【化２】
2010156043.tif 000003
（式中、Ｒ４は、水素原子、アルキル基、フェニル基、又はハロゲン原子である。Ｘは、水素原子、カルボキシル基、又はカルボン酸エステル基である。）  
【００１１】
なお、金属表面処理剤中のイミダゾール骨格のＮ原子のローンペアは、金属表面の空軌道に配位し、薄い有機皮膜を形成し、金属表面を保護することで熱や湿気から金属酸化を防いでいると考えられている。本発明における一般式（１）または（２）で示されるアゾール系化合物は、分子内に嵩高いベンシル基を有していることから、上記金属との結合状態が変化することで皮膜形成能が向上しており、特にベンジル基がカルボキシル基を有する場合には、これら置換基が金属表面に配位した分子とは別の分子と塩を形成することで強固な皮膜となり、防錆性の向上に更に寄与しているものと考えられる。
【発明の効果】
【００１２】
本発明の表面処理剤は、高温下における変色防止や防食等の防錆性能に優れるものである。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、本発明の構成につき詳細に説明するが、これらは望ましい実施態様の一例を示すものである。
【００１４】
本発明の金属表面処理剤は、下記一般式（１）または（２）で示されるアゾール系化合物（以下、単に「アゾール系化合物（Ａ）」と記すことがある。）の少なくとも１種を有効成分として含有するものである。
なお、本発明における「有効成分として含有する」とは、金属表面処理剤全量に対して、アゾール系化合物（Ａ）を通常０．０００００１重量％以上、好ましくは０．００００１重量％以上、特に好ましくは０．０００１重量％以上含有するものである。
【００１５】
【化３】
2010156043.tif 000004
（式中、Ｒ１〜Ｒ３は、水素原子、アルキル基、フェニル基、又はハロゲン原子であり、同一でも異なっていてもよい。Ｘは、水素原子、カルボキシル基、又はカルボン酸エステル基であり、Ｙは、炭素原子または窒素原子である。）
【００１６】
【化４】
2010156043.tif 000005
（式中、Ｒ４は、水素原子、アルキル基、フェニル基、又はハロゲン原子である。Ｘは、水素原子、カルボキシル基、又はカルボン酸エステル基である。）
【００１７】
上記一般式（１）のＲ１〜Ｒ３は、水素原子、アルキル基、フェニル基、又はハロゲン原子のいずれかである。
【００１８】
上記アルキル基は置換基を有していてもよく、かかる置換基としては、通常ハロゲン原子、水酸基、アルコキシ基、アミノ基、スルファニル基、アリール基、ヘテロアリール基などが挙げられる。かかるアルキル基としては、通常、炭素数１〜２０、好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のものが用いられる。
【００１９】
上記フェニル基は置換基を有していてもよく、かかる置換基としては、通常ハロゲン原子、水酸基、アルコキシ基、アミノ基、スルファニル基、アリール基、ヘテロアリール基などが挙げられる。
【００２０】
上記ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
【００２１】
かかるＲ１、Ｒ２、Ｒ３は全て同一であってもよいし、一部又は全てが異なるものであってもよい。
【００２２】
上記一般式（１）中のＸは、水素原子、カルボキシル基（−ＣＯＯＨ）又はカルボン酸エステル基（−ＣＯＯＲ）である。かかるカルボン酸エステル基の置換基Ｒとしては、特に限定されるものではなく、例えば、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアルケニル基、置換されていてもよいアリール基等が挙げられる。
【００２３】
また、上記一般式（１）中のＸがカルボキシル基、カルボン酸エステル基である場合に、ベンジル基のベンゼン環上でのＸの置換位置としては、オルト位、メタ位、パラ位のいずれであってもよいが、好ましくはパラ位である。
【００２４】
上記一般式（１）中のＹは炭素原子または窒素原子である。
【００２５】
上記一般式（２）のＲ４は、水素原子、アルキル基、フェニル基、又はハロゲン原子のいずれかである。
【００２６】
上記アルキル基は置換基を有していてもよく、かかる置換基としては、通常ハロゲン原子、水酸基、アルコキシ基、アミノ基、スルファニル基、アリール基、ヘテロアリール基などが挙げられる。かかるアルキル基としては、通常、炭素数１〜２０、好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のものが用いられる。
【００２７】
上記フェニル基は置換基を有していてもよく、かかる置換基としては、通常ハロゲン原子、水酸基、アルコキシ基、アミノ基、スルファニル基、アリール基、ヘテロアリール基などが挙げられる。
【００２８】
上記ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
【００２９】
上記一般式（２）中のＸは、水素原子、カルボキシル基（−ＣＯＯＨ）又はカルボン酸エステル基（−ＣＯＯＲ）である。かかるカルボン酸エステル基の置換基Ｒとしては、特に限定されるものではなく、例えば、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアルケニル基、置換されていてもよいアリール基等が挙げられる。
【００３０】
また、上記一般式（２）中のＸがカルボキシル基、カルボン酸エステル基である場合に、ベンジル基のベンゼン環上でのＸの置換位置としては、オルト位、メタ位、パラ位のいずれであってもよいが、好ましくはパラ位である。
【００３１】
本発明におけるアゾール系化合物（Ａ）は、防錆性能、安全性、及び合成の容易さの点で、上記一般式（１）中のＹを炭素原子とした下記一般式（３）で示されるイミダゾール系化合物であることが好ましい。
【００３２】
【化５】
2010156043.tif 000006
（式中、Ｒ１〜Ｒ３は、水素原子、アルキル基、フェニル基、又はハロゲン原子であり、同一でも異なっていてもよい。Ｘは、水素原子、カルボキシル基、又はカルボン酸エステル基である。）
【００３３】
上記一般式（３）を満たすイミダゾール系化合物としては、具体的には、２,４−ジフェニル−１−ベンジルイミダゾール、４−(１Ｈ−２,４−ジフェニルイミダゾール−１−イルメチル)−安息香酸、４−(１Ｈ−２,４−ジフェニルイミダゾール−１−イルメチル)−安息香酸メチル、４−(１Ｈ−２,４−ジフェニルイミダゾール−１−イルメチル)−安息香酸エチル、４−(１Ｈ−２,４−ジフェニルイミダゾール−１−イルメチル)−安息香酸プロピル、４−(１Ｈ−２−メチルイミダゾール-１-イルメチル)−安息香酸、４−(１Ｈ−２−エチルイミダゾール-１-イルメチル)−安息香酸、４−(１Ｈ−２−プロピルイミダゾール-１-イルメチル)−安息香酸、４−(１Ｈ−２−オクチルイミダゾール-１-イルメチル)−安息香酸、４−(１Ｈ−２−ウンデジルイミダゾール-１-イルメチル)−安息香酸、４−(１Ｈ−２−フェニルイミダゾール-１-イルメチル)−安息香酸、４−(１Ｈ−２−メチル−４−エチルイミダゾール-１-イルメチル)−安息香酸、４−(１Ｈ−２，４，５−トリメチルイミダゾール-１-イルメチル)−安息香酸、４−(１Ｈ−２−メチルイミダゾール-１-イルメチル)−安息香酸メチル、４−(１Ｈ−２−エチルイミダゾール-１-イルメチル)−安息香酸メチル、４−(１Ｈ−２−プロピルイミダゾール-１-イルメチル)−安息香酸メチル、４−(１Ｈ−２−オクチルイミダゾール-１-イルメチル)−安息香酸メチル、４−(１Ｈ−２−ウンデジルイミダゾール-１-イルメチル)−安息香酸メチル、４−(１Ｈ−２−フェニルイミダゾール-１-イルメチル)−安息香酸メチル、４−(１Ｈ−２−メチル−４−エチルイミダゾール-１-イルメチル)−安息香酸メチル、４−(１Ｈ−２，４，５−トリメチルイミダゾール-１-イルメチル)−安息香酸メチル、４−(１Ｈ−２−メチルイミダゾール-１-イルメチル)−安息香酸エチル、４−(１Ｈ−２−エチルイミダゾール-１-イルメチル)−安息香酸エチル、４−(１Ｈ−２−プロピルイミダゾール-１-イルメチル)−安息香酸エチル、４−(１Ｈ−２−オクチルイミダゾール-１-イルメチル１Ｈ−２−オクチルイミダゾール-１-イルメチル)−安息香酸エチル、４−(１Ｈ−２−ウンデジルイミダゾール-１-イルメチル)−安息香酸エチル、４−(１Ｈ−２−フェニルイミダゾール-１-イルメチル)−安息香酸エチル、４−(１Ｈ−２−メチル−４−エチルイミダゾール-１-イルメチル)−安息香酸エチル、４−(１Ｈ−２，４，５−トリメチルイミダゾール-１-イルメチル)−安息香酸エチル、４−(１Ｈ−２−メチルイミダゾール-１-イルメチル)−安息香酸プロピル、４−(１Ｈ−２−エチルイミダゾール-１-イルメチル)−安息香酸プロピル、４−(１Ｈ−２−プロピルイミダゾール-１-イルメチル)−安息香酸プロピル、４−(１Ｈ−２−オクチルイミダゾール-１-イルメチル)−安息香酸プロピル、４−(１Ｈ−２−ウンデジルイミダゾール-１-イルメチル１Ｈ−２−ウンデジルイミダゾール-１-イルメチル)−安息香酸プロピル４−(１Ｈ−２−フェニルイミダゾール-１-イルメチル)−安息香酸プロピル、４−(１Ｈ−２−メチル−４−エチルイミダゾール-１-イルメチル)−安息香酸プロピル、４−(１Ｈ−２，４，５−トリメチルイミダゾール-１-イルメチル)−安息香酸プロピル等が挙げられるが、これらの中でも、防錆性能に優れる点で４−(１Ｈ−２,４−ジフェニルイミダゾール−１−イルメチル)−安息香酸、４−(１Ｈ−２,４−ジフェニルイミダゾール−１−イルメチル)−安息香酸メチル、４−(１Ｈ−２−メチル−４−エチルイミダゾール-１-イルメチル)−安息香酸、４−(１Ｈ−２−メチル−４−エチルイミダゾール-１-イルメチル)−安息香酸メチル、４−(１Ｈ−２，４，５−トリメチルイミダゾール-１-イルメチル)−安息香酸、４−(１Ｈ−２，４，５−トリメチルイミダゾール-１-イルメチル)−安息香酸メチル、４−(１Ｈ−２−メチルイミダゾール-１-イルメチル)−安息香酸、２,４−ジフェニル−１−ベンジルイミダゾール、４−(１Ｈ−２−メチルイミダゾール-１-イルメチル)−安息香酸メチルが好ましく、特には４−(１Ｈ−２,４−ジフェニルイミダゾール−１−イルメチル)−安息香酸、４−(１Ｈ−２,４−ジフェニルイミダゾール−１−イルメチル)−安息香酸メチル、４−(１Ｈ−２−メチル−４−エチルイミダゾール-１-イルメチル)−安息香酸、４−(１Ｈ−２−メチル−４−エチルイミダゾール-１-イルメチル)−安息香酸メチル、４−(１Ｈ−２，４，５−トリメチルイミダゾール-１-イルメチル)−安息香酸、４−(１Ｈ−２，４，５−トリメチルイミダゾール-１-イルメチル)−安息香酸メチル、４−(１Ｈ−２−メチルイミダゾール-１-イルメチル)−安息香酸が好ましい。
【００３４】
アゾール系化合物（Ａ）の分子量としては、通常２００〜１０００であり、好ましくは２００〜８００、特に好ましくは２００〜６００である。かかる分子量が小さすぎると防錆被膜の耐熱性が劣る傾向があり、大きすぎると化合物の溶媒への溶解性が劣り、処理液の調整、防錆処理が困難になる傾向がある。
【００３５】
アゾール系化合物（Ａ）の製造方法に関しては、特に限定されるものではなく、例えば、アゾールがイミダゾールについて説明すると、下記反応式（[化６]参照）で示されるベンジル基のベンゼン環上にカルボキシル基またはカルボン酸エステル基を有する化合物の場合には、１位無置換のイミダゾール系化合物をハロメチル安息香酸エステルを用いてアルキル化、次いでエステル基を加水分解する方法や、アミノメチル安息香酸エステル、アルデヒド化合物、アンモニア、α‐ジケトン化合物との反応によりイミダゾール環を形成後、エステル基を加水分解する等の方法により製造することができる。
【００３６】
【化６】
2010156043.tif 000007
2010156043.tif 000008
【００３７】
ここでは、上記アルキル化法について、簡単に説明する。
１位無置換イミダゾール系化合物、水酸化ナトリウム、炭酸カリウムなどの無機塩基、トリエチルアミンなどの有機塩基及び有機溶媒との混合液に、攪拌下、４−クロロメチル安息香酸メチル、４−ブロモメチル安息香酸メチルなどのハロメチル安息香酸エステルの有機溶媒の溶液を滴下した後、攪拌下反応させる。
上記有機溶媒としては、ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）、ジオキサンなどのエーテル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドなどのアミド類、アセトニトリルなどが挙げられる。
【００３８】
かかるアルキル化反応のハロメチル安息香酸エステルの仕込み量は、イミダゾール系化合物に対し、通常０．５〜５倍モル、好ましくは、０．７〜３倍モル、さらに好ましくは０．８〜２倍モルである。かかるハロメチル安息香酸エステルの仕込み量がこれより少なすぎると、未反応のイミダゾール系化合物が多くなり収率の低下、分離、精製が困難になる傾向があり、これより多すぎると、イミダゾール系化合物の４級塩などの副生物が多くなり、収率が低下する傾向がある。
【００３９】
かかるアルキル化反応の塩基の仕込み量はイミダゾール化合物に対し、通常０．５〜１０倍モル、好ましくは０．７〜８倍モル、さらに好ましくは０．８〜６倍モルである。かかる塩基の使用量がこれより少なすぎると、収率が低下する傾向が見られ、多すぎても不経済であり好ましくない。
【００４０】
かかるアルキル化反応に使用する反応溶媒はイミダゾール系化合物に対して通常１〜５０重量％、好ましくは１〜３０重量％、さらに好ましくは１〜２０重量％である。かかる溶媒の使用量がこれより少なすぎると、攪拌が困難になることや、４級塩の副生により収率が低下する傾向が見られ、これより使用量が多いと反応速度の低下、収率が低下する傾向が見られる。
【００４１】
かかるアルキル化反応の反応温度は、通常−２０から１５０℃、好ましくは−１０〜１３０℃、さらに好ましくは０〜１２０℃である。かかる反応温度がこれより低すぎると反応を追い込むことができず収率が低下する傾向が見られ、これより高すぎると４級塩の副生などにより収率が低下する傾向が見られる。
【００４２】
かかるアルキル化反応の反応時間は、通常１分〜１００時間、好ましくは３分〜９０時間、さらに好ましくは５分〜８０時間である。かかる反応時間がこれより短いと反応が追い込めず低下する傾向が見られ、反応温度が長くなると、化合物が分解する傾向が見られる場合もある。
【００４３】
ここに記載したアルキル化反応の反応条件は一例を挙げているのみであり、用いるイミダゾール系化合物、ハロメチル安息香酸エステルより異なり適宜調整することが可能である。
【００４４】
かかるアルキル化反応の反応終了後、加水し、そのまま加水分解しても、ろ過、濃縮、再結晶などの方法によりエステル体を単離した後、加水分解を行っても良い。
【００４５】
かかるアルキル化反応の後、エステル体を単離せずに続けて加水分解を行う際には、仕込んだイミダゾール系化合物に対し、通常０．０１〜２０重量％、好ましくは０．０５〜１５重量％、さらに好ましくは０．１〜１０重量％の水を加える。かかる加水量がこれより少なすぎると反応速度が遅く、収率が低下する傾向があり、多すぎるとイミダゾール系化合物が析出し収率が低下することがある。
【００４６】
かかる加水分解反応において、必要に応じて水酸化ナトリウムなどの無機塩基を反応系中にイミダゾール系化合物に対して通常０．５〜２０倍モル、好ましく０．８〜１０倍モル、さらに好ましくは０．９〜５倍モル含まれるように添加する。かかる塩基の量が少なすぎると加水分解反応が進まず、収率が低下する傾向があり、多すぎてもイミダゾール系化合物の分解などにより収率が低下する傾向がある。
【００４７】
かかる加水分解反応の反応温度は、通常０〜１５０℃、好ましくは５〜１２０℃、さらに好ましくは１０〜１００℃にて行う。かかる反応温度が低すぎる場合には、反応速度が遅く、収率が低下する傾向があり、高すぎるとイミダゾール系化合物の分解により収率が低下する傾向がある。
【００４８】
かかる加水分解反応の反応時間は、通常１分〜１００時間、好ましくは３分〜９０時間、さらに好ましくは５分〜８０時間である。かかる反応時間がこれより短いと十分に反応が進行せずに収率が低下する傾向が見られ、反応温度が長くなると、化合物が分解する傾向が見られる場合もある。
【００４９】
上記、エステル体を単離した場合にも、単離せずに加水分解反応をさせたときと同様に、塩基と水を加え、必要に応じてメタノール、エタノールなどのアルコール類、ＴＨＦ、ジオキサンなどのエーテル類などの有機溶媒を添加し、加水分解反応を行う。
【００５０】
かかる加水分解終了後、反応液を塩酸等の酸で中和、ろ過、抽出、晶析などの後処理により、目的とするイミダゾール系化合物を得るのである。
【００５１】
次に、上記アゾール系化合物（Ａ）を用いた金属表面処理剤について説明する。
なお、本発明における金属表面処理とは、金属表面の防錆処理に有効なものであるが、その他にも、洗浄処理、エッチング処理、フラックス処理等も含むものである。
【００５２】
アゾール系化合物（Ａ）を表面処理剤として用いる場合には、アゾール系化合物（Ａ）を溶媒に溶解させて使用することが一般的であるが、固体のまま、又は気化、昇華させるなどして使用することもできる。
【００５３】
かかる溶媒としては、アゾール系化合物（Ａ）を完全に溶解させるものであれば特に限定されるものではなく、例えば、水、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコールなどのアルコール類、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン類、酢酸エチルなどのエステル類、ジメチルホルムアミドなどのアミド類等を挙げることができるが、これらの中でも、取り扱いの容易さ、作業性の点で水、または水と混和する有機溶媒、もしくは水と有機溶媒との混合溶媒が特に好ましい。
【００５４】
アゾール系化合物（Ａ）の溶媒中での濃度としては、通常０．０００００１〜２０重量％であり、好ましくは０．００００１〜１０重量％、特に好ましくは０．０００１〜５重量％である。かかる濃度が濃すぎると不経済であり、薄すぎるとアゾール系化合物の有機被膜が十分に形成されない傾向がある。
【００５５】
本発明における表面処理剤は、アゾール系化合物（Ａ）以外に、有機酸や無機酸、アミン系化合物、無機塩基、金属塩、界面活性剤、キレート剤などを含有していてもよい。
【００５６】
かかる有機酸としては、例えばギ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、カプロン酸、ラウリル酸、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、アジピン酸、マレイン酸、フマル酸、グリコール酸、グリオキシル酸、乳酸、リンゴ酸、安息香酸、メタンスルホン酸、アクリル酸等が挙げられる。
【００５７】
かかる無機酸としては、例えば塩酸、臭化水素酸、硫酸、リン酸などが上げられる。
【００５８】
かかるアミン系化合物としては、例えばアンモニア、メチルアミン、エチルアミンなどのアルキルアミン、ベンゾトリアゾール、ベンゾイミダゾール、２−フェニルイミダゾール、２,４−ジフェニルイミダゾール、２−ウンデシルイミダゾールなどのアゾール類が挙げられる。
【００５９】
かかる無機塩基としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウムなどが挙げられる。
【００６０】
かかる金属塩としては、例えば、酢酸銅、塩化銅、臭化銅、硫酸銅、硝酸銅などの銅塩、酢酸亜鉛、塩化亜鉛、臭化亜鉛、硫酸亜鉛、硝酸亜鉛などの亜鉛塩、塩化カリウム、臭化カリウム、ヨウ化カリウムなどのハロゲン化アルカリ金属塩などが挙げられる。
【００６１】
ついで、本発明の金属表面処理剤を用いた金属の表面処理方法について説明する。
【００６２】
金属表面処理剤を用いて表面処理される金属としては、特に限定されるものではなく、公知一般の金属を用いることができるが、中でも銅、ニッケル、銀、亜鉛、鉄、アルミニウムまたはこれらの合金が、本発明の金属表面処理剤に対して好適であり、特に好ましくは、銅、銅合金である。
【００６３】
金属表面の処理方法については、処理する金属を上記アゾール系化合物（Ａ）を含んだ処理液に含浸したり、処理する金属に上記アゾール系化合物（Ａ）を含んだ処理液を吹き付けたり、スピンコーターを用いて塗布したりした後、乾燥、もしくは余分な処理液を水などにより洗浄後、乾燥する等の方法により処理することができる。
【００６４】
かかる処理温度は、通常１０〜８０℃、好ましくは１５〜７０℃、より好ましくは２０〜６０℃である。かかる処理温度が低すぎる場合には、金属表面へ十分な被膜を形成させることができない傾向があり、高すぎる場合にはアゾール系化合物の分解などが起こる可能性がある。
【００６５】
かかる処理時間は、通常１秒〜３０分、好ましくは５秒〜２５分、より好ましくは１０秒〜２０分である。かかる処理時間が短すぎると、金属表面へ十分な被膜を形成させることができない傾向があり、長すぎても、必要以上の被膜を形成させることで不経済であったり、分厚い被膜による導電性の低下などが起きる傾向がある。
【００６６】
表面処理された後の金属上の塗布膜の厚みに関しては、通常０．１ｎｍ〜２μｍであるが、表面処理された金属の用途、求められる性能により、適宜処理方法、条件を変えて膜厚をコントロールすることができる。
【００６７】
また、本発明は、下記一般式（４）〜（６）で示される新規イミダゾール系化合物も提供するものである。
【００６８】
【化４】
2010156043.tif 000009
（式中、Ｒは、水素原子またはアルキル基である。）
【００６９】
【化５】
2010156043.tif 000010
（式中、Ｒは、水素原子またはアルキル基である。）
【００７０】
【化６】
2010156043.tif 000011
（式中、Ｒは、水素原子またはアルキル基である。）
【実施例】
【００７１】
以下、実施例をあげて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り以下の実施例に限定されるものではない。なお、例中、「部」、「％」とあるのは、断りのない限り重量基準を意味する。
【００７２】
＜化合物の製造方法＞
（製造例１）
４−(１Ｈ−２,４−ジフェニルイミダゾール−１−イルメチル)−安息香酸（Ａ−１）の合成
２,４−ジフェニルイミダゾール９．６ｇ(４４ｍｍｏｌ)、水酸化ナトリウム４．６ｇ(１１５ｍｍｏｌ)のアセトニトリル６０ｍＬ溶液に、室温で攪拌下、４−ブロモメチル安息香酸メチル１０．０g(４４ｍｍｏl)のアセトニトリル２０ｍＬ溶液を滴下した後、更に２時間攪拌した。ついで水３０ｍＬを加え、４０℃に昇温し、1時間攪拌した後、２０℃まで冷却し、２０％塩酸水溶液でｐＨを４．９とした。析出した結晶を濾取し、水２０ｍＬで２回、次いでメタノール１５ｍＬで２回洗浄後乾燥し、イミダゾール系化合物（Ａ−１）を１１．１g（収率７１．８％）で得た。
【００７３】
LC-MS：[M+1]=355
1H-NMR (DMSO-d6)：5.5(s, 2H), 7.2〜7.9(m, 15H)
13C-NMR (DMSO-d6)：50.4, 119.6, 125.0, 127.2, 129.0, 129.2, 129.3, 129.5, 130.5, 130.8, 131.0, 134.8, 140.7, 143.1, 148.0, 167.7
【００７４】
（製造例２）
４−(１Ｈ−２,４−ジフェニルイミダゾール−１−イルメチル)−安息香酸メチル（Ａ−２）の合成
２,４−ジフェニルイミダゾール１７．０ｇ(７７ｍｍｏｌ)、及び４−ブロモメチル安息香酸メチル１８．６g(８１ｍｍｏl)のアセトニトリル８００ｍＬ溶液に、水酸化ナトリウム３．８ｇ(９５ｍｍｏｌ)を加え、室温下で４時間攪拌した。不溶物をろ過し、ろ液に濃塩酸を加え酸性とした後、減圧下濃縮した。残渣に水３００ｍＬを加えて攪拌し、水をデカンテーションにて除去した。残った固体を必要最小量のメタノールに溶解させ、酢酸エチルを加えて結晶を析出させた。析出した結晶を濾取し、酢酸エチルで洗浄後乾燥し、イミダゾール系化合物（Ａ−２）を１５．８g（収率５５．５％）で得た。
【００７５】
LC-MS：[M+1]=369
1H-NMR (DMSO-d6)：3.8(s，3H)，5.6(s, 2H), 7.4〜8.4(m, 15H)
13C-NMR (DMSO-d6)：51.4，53.0，120.4，123.7，126.3、128.0，128.3，129.8，129.9，130.1，130.3，130.6，132.6，134.4，140.9，146.3，166.5
【００７６】
（製造例３）
２,４−ジフェニル−１−ベンジルイミダゾール（Ａ−３）の合成
２,４−ジフェニルイミダゾール１０．０ｇ(４５ｍｍｏｌ)、水酸化ナトリウム６．３ｇ(１１５ｍｍｏｌ)のアセトニトリル３０ｍＬ溶液に、室温で攪拌下、ベンジルクロリド６．３g(５０ｍｍｏｌ)を滴下した後、更に６時間攪拌した。不溶物をろ過し、ろ過固体を更にアセトニトリル２０ｍＬで洗浄した。ろ液と洗液をまとめて減圧下濃縮し、得られたオイル状残渣に水１０ｍＬと酢酸エチル３０ｍＬを加え結晶化させた。析出した結晶を濾取し、水１０ｍＬ、次いで酢酸エチル１０ｍＬで洗浄後乾燥し、イミダゾール系化合物（Ａ−３）を６．５g（収率４６．１％）で得た。
【００７７】
LC-MS：[M+1]=311
1H-NMR (DMSO-d6)： 5.4(s, 2H), 7.1〜7.8(m, 16H)
【００７８】
（製造例４）
４−(１Ｈ−２−メチルイミダゾール-１-イルメチル)−安息香酸（Ａ−４）の合成
２−メチルイミダゾール４．０ｇ(４９ｍｍｏｌ)、水酸化ナトリウム３．９ｇ(９８ｍｍｏｌ)のアセトニトリル３０ｍＬ溶液に、室温で攪拌下、４−ブロモメチル安息香酸メチル１１．２ｇ(４９ｍｍｏｌ)のアセトニトリル２２ｍＬ溶液を滴下し、更に３時間攪拌した。析出した結晶を濾取し、アセトニトリル３０ｍＬで洗浄した後、固形分を水１５ｍＬに溶解させ、酢酸エチル１０ｍＬを添加し、分液後、２０％塩酸水溶液でｐＨを５．８とした後、減圧下濃縮乾固した。残渣にメタノール５ｍＬを加え、不溶分を濾取により除去し、アセトンを加え、析出した結晶を濾取し、アセトンで洗浄後、乾燥しイミダゾール系化合物（Ａ−４）を３．７g（収率３５．０％）で得た。
【００７９】
LC-MS：[M+1]=217
1H-NMR (DMSO-d6)：2.2(s, 3H), 5.2(s, 2H), 6.8(d, 1H), 7.17(d, 1H), 7.19(d, 2H), 7.9(d, 2H)
13C-NMR (DMSO-d6)：13.3, 49.0, 121.2, 127.1, 127.4, 130.3, 132.8, 142.1, 144.7, 168.3
【００８０】
（製造例５）
４−(１Ｈ−２−メチルイミダゾール-１-イルメチル)−安息香酸メチル（Ａ−５）の合成
２−メチルイミダゾール４．０ｇ(４９ｍｍｏｌ)、水酸化ナトリウム３．９ｇ(９８ｍｍｏｌ)のアセトニトリル３０ｍＬ溶液に、室温で攪拌下、４−ブロモメチル安息香酸メチル１１．２ｇ(４９ｍｍｏｌ)のアセトニトリル２２ｍＬ溶液を滴下し、更に３時間攪拌した。反応液をろ過し、ろ過固体を更にアセトニトリル３０ｍＬ洗浄した。ろ液と洗液をあわせて減圧下濃縮し、残渣に酢酸エチル／トルエン混合液(＝1／1)を４ｍL添加し、不溶物をろ過し、ろ液を減圧下濃縮乾固することで、イミダゾール系化合物（Ａ−５）を４．３ｇ（収率３８．４％）で得た。
【００８１】
LC-MS：[M+1]=231
1H-NMR (DMSO-d6)：2.2(s, 3H), 3.8(s, 3H), 5.2(s, 2H), 6.8(d, 1H), 7.1(d, 1H), 7.2(d, 2H), 7.9(d, 2H)
13C-NMR (DMSO-d6)：13.3, 48.9, 52.8, 121.1, 127.3, 127.8, 129.4, 130.3, 143.7, 144.7, 166.6
【００８２】
（製造例６）
４−(１Ｈ−２−エチル−４−メチルイミダゾール-１-イルメチル)−安息香酸メチル（Ａ−６）の合成
２−エチル−4−メチルイミダゾール１１．０ｇ(１００ｍｍｏｌ)、水酸化ナトリウム５．０ｇ(１２５ｍｍｏｌ)、４−ブロモメチル安息香酸メチル２４．０ｇ(１０５ｍｍｏｌ) のアセトニトリル４００ｍＬ溶液を室温下で１２時間攪拌した。析出した結晶をろ過し、アセトニトリル５０ｍLで洗浄し、得られたろ液を減圧下濃縮した。残渣に水５０ｍL、次いで２０％塩酸１９．６ｇを添加、溶解させた後、酢酸エチル５０ｍＬを加えた後、分液した。水層に２０％水酸化ナトリウム水溶液２１．４ｇを加え、中和後、酢酸エチル１００ｍＬで２回抽出した。得られた有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液５０ｍＬ、次いで水５０ｍＬで２回洗浄した。有機層を減圧下濃縮し、イミダゾール系化合物（Ａ−６）を１７．５ｇ（収率６７．８％）で得た。得られたイミダゾール系化合物（Ａ−６）は、４−(１Ｈ−２−エチル−4−メチルイミダゾール-１-イルメチル)−安息香酸メチルと４−(１Ｈ−２−エチル−５−メチルイミダゾール-１-イルメチル)−安息香酸メチルの混合物であった。
【００８３】
LC-MS：[M+1]=259
1H-NMR (DMSO-d6)：1.1,1.2(t, 3H), 2.0,2.1(s, 3H), 2.5(q, 2H), 3.9,4.1(s, 3H), 5.20,5.23(s, 2H), 6.7,6.8(s, 1H), 7.1,7.2(d, 2H), 8.0(d, 2H)
13C-NMR (DMSO-d6)：9.9, 12.7, 14.2, 14.7, 19.9, 20.5, 21.3, 46.1, 48.5, 52.7, 60.4, 117.1, 125.0, 126.8, 127.5, 127.6, 129.3, 129.4, 129.8, 130.2, 130.3, 135.5, 143.8, 144.0, 148.5, 149.1, 166.6, 171.0
【００８４】
（製造例７）
４−(１Ｈ−２−エチル−４−メチルイミダゾール-１-イルメチル)−安息香酸（Ａ−７）の合成
イミダゾール系化合物（Ａ−６）６．７ｇ（２６ｍｍｏｌ）のメタノール２０ｍＬ溶液に２０％水酸化ナトリウム水溶液１０．７ｇを加え、室温下で４時間反応させた。反応終了後、２０％塩酸９．８ｇを加え、中和し、減圧下濃縮した。得られた残渣にメタノール１５ｍＬを加え、ろ過し、メタノール５ｍＬで洗浄した。得られたろ液を減圧下濃縮し、イミダゾール系化合物（Ａ−７）を５．８ｇ（収率９１．５％）で得た。
【００８５】
LC-MS：[M+1]=245
1H-NMR (DMSO-d6)：1.1(t, H), 2.1(s, 3H), 2.6(q, 2H), 5.3(s, 2H), 6.8(s, 1H), 7.5(d, 2H), 8.0(d, 2H)
13C-NMR (DMSO-d6)：12.6, 13.2, 19.6, 48.8, 117.6, 127.5, 130.4, 131.9, 134.0, 142.3, 148.6, 168.1
【００８６】
（製造例８）
４−(１Ｈ−２，４，５−トリメチルイミダゾール-１-イルメチル)−安息香酸メチル（Ａ−８）の合成
２，４，５−トリメチルイミダゾール１９．８ｇ(１８０ｍｍｏｌ)のメタノール４０ｍL溶液に５ｍｏｌ／Ｌナトリウムメトキシド／メタノール溶液３６ｍＬ(１８０ｍｍｏｌ)を加えた後、減圧下濃縮乾固した。残渣にＤＭＦ１４０ｍＬを加え、氷浴下にて冷却した。これに４−ブロモメチル安息香酸メチル４１．２ｇ(１８０ｍｏｌ)のＤＭＦ８０ｍＬ溶液を２時間かけて滴下した。滴下終了後、氷浴をはずし、室温で２時間攪拌した。不溶物をろ過し、ＤＭＦ５０ｍLで洗浄し、得られたろ液を減圧下濃縮した。残渣に酢酸エチル３００ｍLを加え、不溶物をろ過し、酢酸エチル１００ｍＬで洗浄した。得られた酢酸エチル層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液１００ｍＬで２回、次いで水１００ｍＬで２回洗浄した。得られた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮し、イミダゾール系化合物（Ａ−８）を４１．１ｇ（収率８８．５％）で得た。
【００８７】
LC-MS：[M+1]=259
1H-NMR (DMSO-d6)：1.9(s, 3H), 2.0(s, 3H), 2.1(s, 3H), 3.8(s, 3H), 5.2(s, 2H), 7.1(d, 2H), 7.9(sd, 2H)
13C-NMR (DMSO-d6)：9.2, 13.2, 13.5, 46.6, 52.8, 122.1, 126.9, 129.2, 130.3, 131.3, 142.6, 143.9, 166.6
【００８８】
（製造例９）
４−(１Ｈ−２，４，５−トリメチルイミダゾール-１-イルメチル)−安息香酸（Ａ−９）の合成
イミダゾール系化合物（Ａ−８）１７．０ｇ（６６ｍｍｏｌ）のメタノール５０ｍＬ溶液に２０％水酸化ナトリウム水溶液２６．３ｇを加え、室温下で２時間反応させた。反応終了後、２０％塩酸２４．０ｇを加え、中和し、減圧下、約半分になるまで濃縮した。濃縮物に水５０ｍＬを加え攪拌し、析出した結晶をろ過、水３０ｍＬで２回、次いでアセトン３０ｍＬで洗浄後、乾燥し、イミダゾール系化合物（Ａ−９）を１２．８ｇ（収率７９．６％）で得た。
【００８９】
LC-MS：[M+1]=245
1H-NMR (DMSO-d6)：2.0(s, 3H), 2.1(s, 3H), 2.3(s, 3H), 5.2(s, 2H), 7.1(d, 2H), 7.9(d, 2H)
13C-NMR (DMSO-d6)：9.1, 12.4, 13.0, 46.8, 122.9, 126.7, 123.0, 130.4, 132.3, 142.0, 142.8, 168.3
【００９０】
（製造例１０）
４−(１Ｈ−２−フェニルイミダゾール-１-イルメチル)−安息香酸メチル（Ａ−１０）の合成
２−フェニルイミダゾール１４．４ｇ(１００ｍｍｏｌ)、水酸化ナトリウム８．０ｇ(２００ｍｍｏｌ)のアセトニトリル１００ｍＬ溶液に、室温で攪拌下、４−ブロモメチル安息香酸メチル２２．９ｇ(１００ｍｍｏｌ)のアセトニトリル５０ｍＬ溶液を２時間かけて滴下し、更に３０分間攪拌した。析出した結晶をろ過し、アセトニトリル３０ｍＬで２回洗浄した後、得られたろ液を減圧下濃縮した。残渣に酢酸エチル１００ｍＬを加え、不溶物をろ過した後、酢酸エチル１０ｍＬで洗浄し、得られたろ液を減圧下濃縮した。残渣にトルエン３０ｍＬを加え溶解後、極少量の水を添加、冷却し、析出した結晶をろ過、冷トルエン１０ｍＬで洗浄後、乾燥しイミダゾール系化合物（Ａ−１０）を８．５g（収率２９．１％）で得た。
【００９１】
LC-MS：[M+1]=293
1H-NMR (DMSO-d6)：3.8(s, 3H), 5.4(s, 2H), 7.1(m, 3H), 7.4(m, 4H), 7.5(m, 2H), 7.9(d, 2H)
13C-NMR (DMSO-d6)：50.1, 52.8, 123.5, 127.2, 128.9, 129.0, 129.2, 129.4, 130.3, 131.3, 143.9, 147.5, 166.6
【００９２】
（製造例１１）
４−(１Ｈ−２−フェニルイミダゾール-１-イルメチル)−安息香酸（Ａ−１１）の合成
イミダゾール系化合物（Ａ−１０）８．０ｇ（２７ｍｍｏｌ）のメタノール２４ｍＬ溶液に２０％水酸化ナトリウム水溶液１０．９ｇを加え、室温下で１．５時間反応させた。反応終了後、２０％塩酸９．９ｇを加え、中和した後、冷却し、析出した結晶をろ過し、水１６ｍＬで洗浄後、乾燥し、イミダゾール系化合物（Ａ−１１）を６．９ｇ（収率９１．０％）で得た。
【００９３】
LC-MS：[M+1]=279
1H-NMR (DMSO-d6)：5.4(s, 2H), 7.1(m, 3H), 7.4(m, 4H), 7.5(m, 2H), 7.9(d, 2H)
13C-NMR (DMSO-d6)：50.1, 123.5, 127.1, 128.9, 129.0, 129.2, 130.4, 131.2, 143.3, 147.5, 167.7
【００９４】
（製造例１２）
４−(１Ｈ−２−ウンデシルイミダゾール−１−イルメチル)−安息香酸メチル（Ａ−１２）の合成
２−ウンデシルイミダゾール７．０ｇ(３１ｍｍｏｌ)、及び４−ブロモメチル安息香酸メチル７．６g(３３ｍｍｏl)のアセトニトリル３００ｍＬ溶液に、水酸化ナトリウム１．６ｇ(３９ｍｍｏｌ)を加え、室温で１６時間攪拌した。不溶物をろ過し、ろ液に濃塩酸を加え酸性とした後、減圧下濃縮した。残渣に水１００ｍＬを加え、炭酸水素ナトリウムを加えてアルカリ性とし、酢酸エチルで抽出した後、酢酸エチル層を減圧下、濃縮した。残渣にメタノールを加え、不溶物をろ別した後、減圧下濃縮乾固した。残渣を少量の酢酸エチルで洗浄後乾燥し、イミダゾール系化合物（Ａ−１２）を８．３g（収率７１．６％）で得た。
【００９５】
LC-MS：[M+1]=371
1H-NMR (DMSO-d6)：0.9(t, 3H), 1.1-1.2(m, 16H), 1.5(m, 2H), 3.0(t, 2H), 5.6(s, 2H), 7.4(d, 2H), 7.7(d, 1), 7.8(d, 1H), 8.0(d, 2H)
13C-NMR (DMSO-d6)：14.6, 22.7, 24.5, 27.1, 28.8, 29.0, 29.4, 29.6, 31.9, 50.1, 52.9, 119.2, 123.3, 128.3, 130.1, 130.4, 141.1, 148.2, 166.4
【００９６】
（製造例１３）
４−(１Ｈ−２−ウンデシルイミダゾール−１−イルメチル)−安息香酸（Ａ−１３）の合成
イミダゾール系化合物（Ａ−１２）８．０ｇ（２７ｍｍｏｌ）のメタノール２４ｍＬ溶液に２０％水酸化ナトリウム水溶液１０．９ｇを加え、室温で１．５時間反応させた。反応終了後、２０％塩酸９．９ｇを加え中和し、冷却後、析出した結晶をろ過し、水１６ｍＬで洗浄後、乾燥し、イミダゾール系化合物（Ａ−１３）を６．９ｇ（収率９１．０％）で得た。
【００９７】
LC-MS：[M+1]=357
1H-NMR (DMSO-d6)：0.9(t, 3H), 1.1-1.3(m, 16H), 1.5(m, 2H), 3.0(t, 2H), 5.6(s, 2H), 7.4(d, 2H), 7.7(d, 2H), 7.8(d, 2H), 8.0(d, 2H)
13C-NMR (DMSO-d6)：14.6, 22.8, 24.5, 27.1, 28.9, 29.1, 29.4, 29.6, 31.9, 50.2, 119.2, 123.3, 128.2, 130.5, 131.4, 140.6, 148.2, 167.5
【００９８】
（製造例１４）
４−(１Ｈ−２−ベンズイミダゾール−１−イルメチル)−安息香酸メチル（Ａ−１４）の合成
ベンズイミダゾール５．０ｇ(４２ｍｍｏｌ)、及び４−ブロモメチル安息香酸メチル１０．２g(４５ｍｍｏl)のアセトニトリル２００ｍＬ溶液に、水酸化ナトリウム２．1ｇ(５３ｍｍｏｌ)を加え、室温で２．５時間攪拌した。不溶物をろ過し、ろ液に濃塩酸を加え酸性とした後、減圧下濃縮した。残渣に水１００ｍＬを加えた後、炭酸水素ナトリウムを加えてアルカリ性とした後、析出した結晶をろ過、水で洗浄後乾燥し、イミダゾール系化合物（Ａ−１４）を１１．２g（収率９９．５％）で得た。
【００９９】
LC-MS：[M+1]=267
1H-NMR (DMSO-d6)：3.8(s, 3H), 5.6(s, 2H), 7.2(m, 2H), 7.4(d, 2H), 7.5(m, 1H), 7.7(m, 1H), 7.9(d, 2H), 8.5(s, 1H)
13C-NMR (DMSO-d6)：47.9, 52.8, 111.3, 120.2, 122.4, 123.3, 128.2, 129.7, 130.3, 134.3, 143.0, 144.1, 145.0, 166.6
【０１００】
（製造例１５）
４−(１Ｈ−ベンズイミダゾール−１−イルメチル)−安息香酸（Ａ−１５）の合成
イミダゾール系化合物（Ａ−１２）の代わりにイミダゾール系化合物（Ａ−１４）６．７ｇ（２５ｍｍｏｌ）を用いた以外は製造例１３と同様の操作を行い、イミダゾール系化合物（Ａ−１５）を５．５ｇ（収率８７．３％）で得た。
【０１０１】
LC-MS：[M+1]=253
1H-NMR (DMSO-d6)：5.6(s, 2H), 7.2(d, 2H), 7.4(m 2H), 7.5(dd, 1H), 7.7(dd, 1H), 7.9(d, 2H), 8.5(s, 1H)
13C-NMR (DMSO-d6)：48.0, 111.3, 120.2, 122.4, 123.2, 128.1, 130.4, 130.6, 130.9, 134.3, 142.5, 144.2, 145.0, 167.7
【０１０２】
（製造例１６）
４−(１Ｈ−２−ベンズトリアゾール−１−イルメチル)−安息香酸メチル（Ａ−１６）の合成
ベンズイミダゾールをベンズトリアゾール５．０ｇ（４２ｍｍｏｌ）に変えた以外は製造例１４と同様に反応を行い、トリアゾール系化合物（Ａ−１６）を１１．１g（収率９９．５％）で得た。ＨＰＬＣ分析より、アルキル基がベンズトリアゾール環の2位がアルキル化されたものを２１％含むものであった。
【０１０３】
LC-MS：[M+1]=268
1H-NMR (DMSO-d6)：3.8(3H), 6.1(2H), 7.4-7.6(m, 4H), 7.9(d, 2H), 8.0(m, 2H), 8.1(d, 2HH)
13C-NMR (DMSO-d6)：51.1, 52.8, 59.6, 111.3, 118.6, 120.0, 124.8, 127.3, 128.3, 128.6, 129.1, 130.0, 130.3, 130.4, 133.5, 141.2, 141.9, 144.7, 146.0, 166.5
【０１０４】
（製造例１７）
４−(１Ｈ−ベンズトリアゾール−１−イルメチル)−安息香酸（Ａ−１７）の合成
イミダゾール系化合物（Ａ−１４）の代わりにトリアゾール系化合物（Ａ−１６）６．７ｇ（２５ｍｍｏｌ）を用いた以外は製造例１５と同様の操作を行い、トリアゾール系化合物（Ａ−１７）を収率９９．９％で得た。これは、位置異性体を２１％含むものであった。
【０１０５】
LC-MS：[M+1]=254
1H-NMR (DMSO-d6)：6.1(s, 2H), 7.4-7.6(m, 4H), 7.9(d, 1H), 8.0(m, 2H), 8.1(d, 1H), 13.1(s, 1H)
13C-NMR (DMSO-d6)：51.2, 59.7, 111.3, 118.6, 112.0, 124.8, 127.3, 128.3, 128.4, 129.0, 130.4, 130.5, 131.2, 133.4, 140.7, 141.3, 144.7, 146.0, 167.6
【０１０６】
（製造例１８）
４−(１Ｈ−５−フェニルテトラゾール−１−イルメチル)−安息香酸メチル（Ａ−１８）の合成
ベンズイミダゾールを５−フェニルテトラゾール８．５ｇ（５８ｍｍｏｌ）に変えた以外は製造例１４と同様に反応を行い、テトラゾール系化合物（Ａ−１８）を収率５１．８％得た。
【０１０７】
LC-MS：[M+1]=295
1H-NMR (DMSO-d6)：3.9(s, 3H), 6.1(s, 2H), 7.5-7.6(m, 5H), 8.0-8.1(m, 4H)
13C-NMR (DMSO-d6)：52.9, 56.2, 127.1, 127.4, 129.2, 130.0, 130.4, 130.5, 131.4, 139.9, 165.2, 166.5
【０１０８】
（製造例１９）
４−(１Ｈ−５−フェニルテトラゾール−１−イルメチル)−安息香酸（Ａ−１９）の合成
イミダゾール系化合物（Ａ−１４）の代わりにテトラゾール系化合物（Ａ−１８）８．５ｇ（３０ｍｍｏｌ）を用いた以外は製造例１５と同様の操作を行い、テトラゾール系化合物（Ａ−１９）を収率９２．５％で得た。
【０１０９】
LC-MS：[M+1]=281
1H-NMR (DMSO-d6)：6.2(s, 2H), 7.5-7.6(m, 5H), 8.0-8.1(m, 4H), 13.1(brs, 1H)
13C-NMR (DMSO-d6)：56.3, 127.1, 127.4, 129.0, 129.9, 130.6, 131.3, 131.6, 139.5, 165.2, 167.6
【０１１０】
＜金属表面処理試験＞
上記で得られたアゾール系化合物（Ａ−１）〜（Ａ−１９）、更に１，２，３−ベンゾトリアゾールについて、金属表面処理試験（耐熱試験）を行った。
【０１１１】
（実施例１）
銅板（山本鍍金試験器製：ハルセル用陰極板；B-60-P05）を酸性クリーナー：ＬＡＣ−４１（ロームアンドハース製）の２０％水溶液に４０℃で５分浸漬した後、純水に１分間浸漬し、次いで５％硫酸水溶液に３０℃、1分浸漬した。得られた銅板を濃度１００ｐｐｍのイミダゾール系化合物（Ａ−１）のイソプロピルアルコール溶液に３０℃、1分間浸漬し、次いで純水に1分浸漬洗浄した後、ドライヤーで乾燥させた。得られた銅板について、表面処理試験（耐熱試験）を行った。評価結果は下記表１に示す。
【０１１２】
（実施例２〜１９）
実施例１において、イミダゾール系化合物（Ａ−１）の代わりに、アゾール系化合物（Ａ−２）〜（Ａ−１９）を用い、表１に示した溶媒で１００ｐｐｍの試験液を調整した以外は同様にして、銅板を得た。次いで、表面処理試験（耐熱試験）を実施した。
【０１１３】
（比較例１）
実施例１において、イミダゾール系化合物（Ａ−１）のイソプロピルアルコール溶液の代わりに、１，２，３−ベンゾトリアゾールの水溶液を用いた以外は同様にして、銅板を得た。次いで、表面処理試験（耐熱試験）を実施した。
【０１１４】
（耐熱試験）
オーブン（ＳＡＫＵＲＡ社製：ＨＯＴ−ＡＩＲ  ＳＴＥＲＩＬＩＺＥＲ  ＨＥ−１１）を用いて、１５０℃で1時間加熱した。
・評価（目視判定）
１：変色なし、
２：僅かに変色、
３：少し変色、
４：明らかに変色、
５：ひどく変色
【０１１５】
【表１】
2010156043.tif 000012
【０１１６】
上記表１の結果より、実施例１〜１９のアゾール系化合物（Ａ−１）〜（Ａ−１９）は、比較例１のベンゾトリアゾール系化合物よりも優れた防錆性を示すことがわかる。
なお、耐熱試験は、通常の環境よりも過酷な条件下での表面処理試験であるため、化合物のもつ防錆性能の差がより顕著に現れる試験であると考えられる。
【産業上の利用可能性】
【０１１７】
本発明の表面処理剤は、高温条件下においても、優れた防錆性能を示すものであるため、プリント配線板の製造における銅箔やリードフレーム用の処理剤、またはプレフラックス処理剤に非常に有用である。