(57)【要約】【課題】ターゲット交換の作業効率を向上することができるスパッタリング装置及びその使用方法を提供する。【解決手段】ターゲット１２が取り付けられたターゲットホルダ１３と、ターゲットホルダ１３を回転可能に支持する支持部材１５と、ターゲットホルダ１３を回転させる回転機構１８，２０と、を具備し、ターゲット１２及びターゲットホルダ１３の重心を合成してなる合成重心が、ターゲット１２の使用開始時にはターゲットホルダ１３を回転させる際の回転中心よりもターゲット１２に近い側に位置し且つターゲット１２の使用終了時には回転中心よりもターゲット１２から遠い側に位置する構成とする。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ターゲットが取り付けられたターゲットホルダと、該ターゲットホルダを回転可能に支持する支持部材と、該支持部材を軸として前記ターゲットホルダを回転させる回転機構と、を具備し、
前記ターゲット及び前記ターゲットホルダの重心を合成してなる合成重心が、前記ターゲットの使用開始時には前記ターゲットホルダを回転させる際の回転中心よりも前記ターゲットに近い側に位置し且つ前記ターゲットの使用終了時には前記回転中心よりも前記ターゲットから遠い側に位置することを特徴とするスパッタリング装置。
【請求項２】
前記回転機構は、前記ターゲットホルダを手動で回転させるための機構であり、前記支持部材の他端側に設けられて前記ターゲットホルダの自重による回転を抑制する制動手段を具備することを特徴とする請求項１に記載のスパッタリング装置。
【請求項３】
前記ターゲットホルダには、前記回転中心よりも前記ターゲットから遠い側に所定重量のカウンタウェイトが取り外し可能に固定されていることを特徴とする請求項１又は２に記載のスパッタリング装置。
【請求項４】
前記ターゲットの使用開始時の前記合成重心と前記回転中心との距離が、前記ターゲットの使用終了時の前記合成重心と前記回転中心との距離よりも短いことを特徴とする請求項１〜３の何れか一項に記載のスパッタリング装置。
【請求項５】
前記ターゲットの使用開始時に前記ターゲットホルダを回転させるのに必要なトルクと、前記ターゲットの使用終了時に前記ターゲットホルダを回転させるのに必要なトルクとが実質的に同一であることを特徴とする請求項４に記載のスパッタリング装置。
【請求項６】
ターゲットが取り付けられたターゲットホルダと、該ターゲットホルダを回転可能に支持する支持部材と、該支持部材を軸として前記ターゲットホルダを回転させる回転機構と、を具備するスパッタリング装置の使用方法であって、
前記ターゲット及び前記ターゲットホルダの重心を合成してなる合成重心が前記ターゲットホルダを回転させる際の回転中心よりも前記ターゲットに近い側に位置する状態で、前記ターゲットの使用を開始し、
前記合成重心が前記回転中心よりも前記ターゲットから遠い側に位置する状態で前記ターゲットの使用を終了して、前記ターゲットの交換作業を実施することを特徴とするスパッタリング装置の使用方法。
【請求項７】
前記合成重心が前記回転中心よりも前記ターゲットから遠い側に位置し、且つ前記ターゲットホルダを回転させるのに必要なトルクが前記ターゲットの使用を開始した際に前記ターゲットホルダを回転させるのに必要なトルクと実質的に同一となった時点で、前記ターゲットの使用を終了して、前記ターゲットの交換作業を実施することを特徴とする請求項６に記載のスパッタリング装置の使用方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、スパッタリング装置及びその使用方法に関し、特に、スパッタリングターゲットを交換するための技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
スパッタリング装置では、成膜する基板に対向してスパッタリングターゲット（以下、単に「ターゲット」ともいう）が配置され、このターゲットがスパッタされて飛び出した原子が基板上に堆積することで基板表面に薄膜が形成（成膜）される。したがって基板に成膜するのに伴ってターゲットの量は徐々に減少するため、ターゲットの量がある程度減少した所定のタイミングで新しいターゲットに交換する必要がある。
【０００３】
例えば、ターゲットホルダにターゲットが下向きに取り付けられた、いわゆるデポダウン方式のスパッタリング装置があるが（例えば、特許文献１参照）、勿論、このような方式のスパッタリング装置においても、所定のタイミングでターゲットを交換する必要がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平６−３４６２３４号公報（例えば、図１参照）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ターゲットが比較的小型で軽量であれば、ターゲットホルダからターゲットを下向きのまま取り外して新しいターゲットを取り付けることができる。しかしながら、近年、薄膜を形成する基板の大型化に伴ってターゲットの大きさも大型化し重量も増加してきている。このため、例えば、デポダウン方式のスパッタリング装置では、一旦、ターゲットホルダを反転させてターゲットを上向きにし、この状態でターゲットを交換した後、ターゲットを下向きにすべく再びターゲットホルダを反転させる必要がある。このようなターゲットホルダの反転作業は、例えば、クレーン等を用いて行っているため作業が煩雑であり時間も掛かってしまい、作業効率が悪いという問題がある。
【０００６】
なおこのような問題は、デポダウン方式のスパッタリング装置だけでなく、他の方式のスパッタリング装置においても同様に起こり得るものである。
【０００７】
本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであり、ターゲット交換作業の作業効率を向上することができるスパッタリング装置及びその使用方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決する本発明は、ターゲットが取り付けられたターゲットホルダと、該ターゲットホルダを回転可能に支持する支持部材と、該支持部材を軸として前記ターゲットホルダを回転させる回転機構と、を具備し、前記ターゲット及び前記ターゲットホルダの重心を合成してなる合成重心が、前記ターゲットの使用開始時には前記ターゲットホルダを回転させる際の回転中心よりも前記ターゲットに近い側に位置し且つ前記ターゲットの使用終了時には前記回転中心よりも前記ターゲットから遠い側に位置することを特徴とするスパッタリング装置にある。
【０００９】
かかる本発明のスパッタリング装置では、ターゲットホルダを回転させるのに必要なトルクが小さく抑えられる。このため、クレーン等を用いることなく手動であってもターゲットホルダを回転させることも可能となり、ターゲット交換等の作業効率が大幅に向上する。
【００１０】
ここで、前記回転機構は、前記ターゲットホルダを手動で回転させるための機構である場合、この回転機構が前記支持部材の他端側に設けられて前記ターゲットホルダの自重による回転を抑制する制動手段を具備することが好ましい。これにより、ターゲットホルダを安全に手動で回転させることができる。
【００１１】
また前記ターゲットホルダには、前記回転中心よりも前記ターゲットから遠い側に所定重量のカウンタウェイトが取り外し可能に固定されていることが好ましい。このような構成では、カウンタウェイトの重さによってターゲットホルダの重心を調整することができる。したがって、ターゲットの使用終了時期やターゲットの種類が変わった場合でも、ターゲットホルダの重心を適宜調整することができる。
【００１２】
また前記ターゲットの使用開始時の前記合成重心と前記回転中心との距離が、前記ターゲットの使用終了時の前記合成重心と前記回転中心との距離よりも短いことが好ましい。特に、前記ターゲットの使用開始時に前記ターゲットホルダを回転させるのに必要なトルクと、前記ターゲットの使用終了時に前記ターゲットホルダを回転させるのに必要なトルクとが実質的に同一であることが好ましい。このような構成とすることで、ターゲットの使用開始時又は使用終了時の何れの時点においても、比較的小さい力でターゲットホルダを回転させることができる。
【００１３】
また本発明は、ターゲットが取り付けられたターゲットホルダと、該ターゲットホルダを回転可能に支持する支持部材と、該支持部材を軸として前記ターゲットホルダを回転させる回転機構と、を具備するスパッタリング装置の使用方法であって、前記ターゲット及び前記ターゲットホルダの重心を合成してなる合成重心が前記ターゲットホルダを回転させる際の回転中心よりも前記ターゲットに近い側に位置する状態で、前記ターゲットの使用を開始し、前記合成重心が前記回転中心よりも前記ターゲットから遠い側に位置する状態で前記ターゲットの使用を終了して、前記ターゲットの交換作業を実施することを特徴とするスパッタリング装置の使用方法にある。
【００１４】
かかる本発明の使用方法では、ターゲットホルダを回転させるのに必要なトルクが小さく抑えられる。このため、クレーン等を用いることなく手動であってもターゲットホルダを回転させることも可能となり、ターゲット交換等の作業効率が大幅に向上する。
【００１５】
ここで、前記合成重心が前記回転中心よりも前記ターゲットから遠い側に位置し、且つ前記ターゲットホルダを回転させるのに必要なトルクが前記ターゲットの使用を開始した際に前記ターゲットホルダを回転させるのに必要なトルクと実質的に同一となった時点で、前記ターゲットの使用を終了して、前記ターゲットの交換作業を実施することが好ましい。これにより、ターゲットの使用開始時又は使用終了時の何れの時点においても、比較的小さい力でターゲットホルダを回転させることができる。
【発明の効果】
【００１６】
かかる本発明では、ターゲットの交換作業を行う際に、例えば、電動モータ等の動力を使用することなく手動によってターゲットホルダを比較的容易に回転させることができる。したがって、ターゲット交換の作業効率を大幅に向上することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本発明の一実施形態に係るインライン方式の成膜装置の概略構成図である。
【図２】本発明の一実施形態に係るスパッタリング装置の概略図である。
【図３】本発明の一実施形態に係るスパッタリング装置の側面図である。
【図４】スパッタリング装置におけるターゲットの交換手順を示す図である。
【図５】スパッタリング装置におけるターゲットの交換手順を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、本発明の実施形態について図面を参照して詳細に説明する。図１は、成膜装置の概略図であり、図２は、成膜装置を構成する本実施形態に係るスパッタリング装置の概略構成図であり、図３は、図２の側面図である。
【００１９】
図１に示すように、成膜装置１は、いわゆるインライン方式の成膜装置であり、基板Ｓの搬送方向上流側（図中左側）から順に、ロードロック室２と、加熱室３と、スパッタリング装置１０を構成するスパッタ処理室１１と、搬送室４と、アンロード室５とを備える。またロードロック室２の上流側及びアンロード室５の下流側、並びにロードロック室２と、加熱室３と、スパッタ処理室１１と、搬送室４との間にはそれぞれゲートバルブ６が設けられており、ロードロック室２、加熱室３、スパッタ処理室１１、搬送室４及びアンロード室５はそれぞれ図示しない排気手段を備え、内部を真空状態に保つことができるように構成されている。
【００２０】
このような成膜装置１では、まず基板Ｓをロードロック室２の上流側のゲートバルブ６を開いてロードロック室２に搬送し、ロードロック室２を排気した後に、ロードロック室２の下流側のゲートバルブ６を開いて加熱室３へ基板Ｓを搬送する。加熱室３において各種ヒータ（例えば、シースヒータ）により基板Ｓを所定温度まで加熱する。その後、基板Ｓをスパッタリング装置１０のスパッタ処理室１１内に搬送して基板Ｓの表面に薄膜を形成する。成膜後は、基板Ｓは搬送室４を経由してアンロード室５に搬送され、所定温度まで冷却された後に下流側のゲートバルブ６から外部に取り出される。
【００２１】
以下、このような成膜装置１を構成するスパッタリング装置１０について説明する。本実施形態に係るスパッタリング装置１０は、図２に示すように、いわゆるデポダウン式の装置であり、スパッタ処理室１１と、スパッタ処理室１１の上部に設けられてターゲット１２が取り付けられたターゲットホルダ１３とを具備する。ターゲット１２は板状の部材であって、スパッタ面１２ａが下向きとなるようにターゲットホルダ１３に固定されている。一方、スパッタ処理室１１の天板１１ａには、開口部１４が形成されている。そしてターゲット１２のスパッタ面１２ａが開口部１４からスパッタ処理室１１内に露出されている。なお図示しないが、ターゲットホルダ１３には、ターゲット１２の周囲に、パッキングプレートがターゲット１２と共に固定されており、ターゲットホルダ１３がこのパッキングプレートを介してスパッタ処理室１１の天板１１ａに固定されることで開口部１４は密封されている。
【００２２】
なお本実施形態に係るスパッタリング装置１０は、マグネトロンスパッタリング装置であり、図示しないがターゲットホルダ１３内には、複数の磁石からなる磁石組立体等の構成部品が設けられている。
【００２３】
このターゲットホルダ１３は、ターゲット１２のスパッタ面１２ａが上下反転するべく回転可能に支持されている。具体的には、ターゲットホルダ１３は支持部材１５に固定されており、この支持部材１５の両端部がスライド部材１６Ａ，１６Ｂに回転可能にそれぞれ支持されている。これらのスライド部材１６Ａ，１６Ｂは、天板１１ａ上に立設されたガイドシャフト１７に係合しており、このガイドシャフト１７に沿って上下スライド可能になっている。
【００２４】
また支持部材１５の一端には、支持部材１５を回転中心としてターゲットホルダ１３を回転させるための回転機構が設けられている。例えば、本実施形態では、スライド部材１６Ａに減速機としての遊星ギヤ１８が固定されており、支持部材１５の一端がこの遊星ギヤ１８に接続されている。また、遊星ギヤ１８の支持部材１５とは反対側には、支持部材１５の軸方向に対して略直交する方向に延びるレバー部材１９が接続されている。このレバー部材１９に力を加えることで、支持部材１５を介してターゲットホルダ１３を手動で回転させることができるようになっている。また本実施形態では、レバー部材１９がラチェット機構を備えており、ターゲットホルダ１３の一方向への回転のみが許容されている。
【００２５】
支持部材１５の他端側には、ターゲット１２、ターゲットホルダ１３及びカウンタウェイト２１等の重量に起因するターゲットホルダ１３の回転を制動する制動手段２０が設けられている。例えば、本実施形態に係る制動手段２０は、スライド部材１６Ｂに固定されており、摩擦クラッチで構成されている。そしてこの制動手段２０に支持部材１５の他端が接続され、制動手段２０が具備するクラッチ板（図示なし）の摩擦力によってターゲットホルダ１３等の重量に起因するターゲットホルダ１３の回転が制動されるようになっている。
【００２６】
さらに、このようなターゲットホルダ１３には、ターゲットホルダ１３を回転させる際の回転中心（支持部材１５の中心）よりもターゲット１２から遠い側に所定重量のカウンタウェイト２１が固定されている。そして本実施形態のスパッタリング装置１０は、ターゲット１２の重心と、カウンタウェイト２１が固定されたターゲットホルダ１３の重心とを合成してなる合成重心が、ターゲット１２の使用開始時にはターゲットホルダ１３を回転させる際の回転中心よりもターゲット１２に近い側に位置し且つターゲット１２の使用終了時には回転中心よりもターゲット１２から遠い側に位置するように構成されている。つまり、ターゲット１２の重心と、カウンタウェイト２１が固定されたターゲットホルダ１３の重心とを合成してなる合成重心がこのような位置関係となるように、カウンタウェイト２１の重量や配置が決定されている。
【００２７】
なおターゲット１２の使用終了時期（使用量）は、予め設定されており、例えば、新品のターゲット１２に対して利用効率６０％程度の時点に設定される。すなわちターゲット１２の重量が６０％程度減少した時点でターゲット１２の交換時期であると判断し、ターゲット１２の交換作業が実施される。そして、このように設定されたターゲット１２の使用終了時期に応じて、カウンタウェイト２１の重量等が適宜決定される。
【００２８】
またターゲット１２の重量は、その材料によって大きく異なるため、ターゲット１２の材質によってもカウンタウェイト２１の重量等を適宜調整する必要がある。なお本実施形態では、カウンタウェイト２１はターゲットホルダ１３に取り外し可能に固定されているが、一種類のターゲットのみを使用する場合にはカウンタウェイト２１はターゲットホルダ１３に一体的に設けられていてもよい。
【００２９】
ここで、このような本実施形態に係るスパッタリング装置１０の使用方法、特にターゲット１２の交換作業について説明する。まず上述したようにターゲット１２の重心とターゲットホルダ１３の重心とを合成してなる合成重心が、ターゲットホルダ１３を回転させる際の回転中心よりもターゲット１２に近い側に位置する状態で、ターゲット１２の使用を開始する。そして、ターゲット１２の利用効率が所定値（例えば、およそ６０％）に達すると、ターゲット１２の交換時期であると判断して、ターゲット１２の交換作業を実施する。なお、ターゲット１２の利用効率（交換時期）は、視認による判断であってもよいが、例えば、ターゲット１２の厚さや使用時間等から自動検出することもできる。
【００３０】
ターゲット１２の交換作業としては、図４（ａ）に示すように、まずターゲットホルダ１３をクレーン等で釣り上げて、ターゲットホルダ１３をスライド部材１６Ａ，１６Ｂと共にガイドシャフト１７に沿って所定の高さまで上昇させる。そして図４（ｂ）に示すように、スライド部材１６Ａ，１６Ｂとスパッタ処理室１１の天板１１ａとの間にスペーサブロック２２を挟み込みターゲットホルダ１３をこの位置に固定する。これにより、天板１１ａとターゲットホルダ１３との間には、ターゲットホルダ１３を回転（反転）させるのに必要な空間が確保される。
【００３１】
次いで、レバー部材１９に手動で操作することにより、図５（ａ）に示すようにターゲットホルダ１３を反転させる。つまり、ターゲット１２のスパッタ面１２ａが上方を向くまでターゲットホルダ１３を回転させる。このようにターゲットホルダ１３を反転させた状態で、使用済のターゲット１２をクレーン等で釣り上げて取り外す。
【００３２】
そして、新しいターゲットをターゲットホルダ１３に取り付け、その後レバー部材１９を手動により操作して、図５（ｂ）に示すようにターゲットホルダ１３を再び反転させる。つまり、ターゲット１２のスパッタ面１２ａが下方を向くまでターゲットホルダ１３を回転させる。
【００３３】
その後ターゲットホルダ１３をクレーンで釣り下げた状態でスペーサブロック２２を取り外し、ターゲットホルダ１３を天板１１ａ上まで下降させて天板１１ａに固定することで、一連の交換作業が終了する。
【００３４】
このようにターゲット１２の交換作業においては、使用済のターゲット１２を取り外す際（ターゲット１２の使用終了時）と、新しいターゲット１２を取り付けた後（ターゲット１２の使用開始時）とに、ターゲットホルダ１３を反転させる必要がある。
【００３５】
ここで、上記合成重心がターゲットホルダ１３の回転中心と一致していれば、ターゲットホルダ１３を回転（反転）させるために必要なトルクを最も抑制して、ターゲットホルダ１３を手動で比較的容易に反転させることができる。しかしながら、使用済のターゲットを新しいターゲットに交換することでターゲットの重量が変化するため、上記合成重心の位置も変化する。このため、ターゲット１２の使用終了時と使用開始時との両方の時点で、合成重心をターゲットホルダ１３の回転中心と一致させることはできない。また一方の時点で合成重心をターゲットホルダ１３の回転中心と一致させてターゲットホルダ１３の回転に必要なトルクを抑制すると、他方の時点では合成重心とターゲットホルダ１３の回転中心との距離が長くなりターゲットホルダ１３を回転させるのに必要なトルクが増大してしまう。つまり、ターゲットの使用終了時及びターゲットの使用開始時のそれぞれにおいて、ターゲットホルダ１３を比較的容易に反転させるのは難しい。
【００３６】
これに対し、本発明のスパッタリング装置１０では、上述のように合成重心Ｃ１がターゲット１２の使用開始時にはターゲットホルダ１３を回転させる際の回転中心よりもターゲット１２に近い側に位置し（図５（ｂ）参照）且つターゲット１２の使用終了時には回転中心よりもターゲットから遠い側に位置する（図４（ｂ）参照）ように構成されているため、ターゲット１２の使用終了時及びターゲット１２の使用開始時のそれぞれにおいて、ターゲットホルダ１３を比較的容易に回転させることができる。すなわち、本発明のスパッタリング装置１０では、ターゲット１２の使用終了時と使用開始時との両方の時点で、合成重心Ｃ１をターゲットホルダ１３の回転中心と一致させることはできないものの、ターゲット１２の使用終了時と使用開始時との両方の時点で、合成重心Ｃ１をターゲットホルダ１３の回転中心に極めて近い位置とすることができる。
【００３７】
これにより、ターゲット１２の使用終了時及び使用開始時の何れの場合においても、ターゲットホルダ１３を回転するのに必要なトルクが小さく抑えられる。また本実施形態では、支持部材１５の一端に遊星ギヤ１８が設けられているため、ターゲットホルダ１３を回転するのに必要なトルクはより小さく抑えられている。したがって、手動であってもターゲットホルダ１３を比較的容易に反転させることができる。さらに本実施形態では、支持部材１５の他端に制動手段２０が設けられて、ターゲット１２、ターゲットホルダ１３及びカウンタウェイト２１の重さによるターゲットホルダ１３の回転が抑えられる。これにより、ターゲット１２の交換作業における安全性が向上する。
【００３８】
なお合成重心Ｃ１の位置は、ターゲット１２の使用開始時にターゲットホルダ１３を回転させる際の回転中心よりもターゲット１２に近い側に位置し且つターゲット１２の使用終了時に回転中心よりもターゲット１２から遠い側に位置していればよいが、ターゲット１２の使用終了時における合成重心Ｃ１とターゲットホルダ１３の回転中心との距離Ｌ１（図４（ｂ）参照）は、ターゲット１２の使用開始時における合成重心Ｃ１とターゲットホルダ１３の回転中心との距離Ｌ２（図５（ｂ）参照）と同程度であることが好ましい。すなわち、ターゲット１２を予定の半分程度使用した時点で合成重心Ｃ１がターゲット１２の回転中心と一致するように、カウンタウェイト２１の重量等が設定されていることが好ましい。
【００３９】
特に、ターゲット１２の使用開始時の合成重心Ｃ１とターゲットホルダ１３の回転中心との距離Ｌ２が、ターゲット１２の使用終了時の合成重心Ｃ１とターゲットホルダ１３の回転中心との距離Ｌ１よりも若干短いことが好ましい。すなわち、ターゲット１２の重量はターゲット１２の使用開始時の方が重いため、距離Ｌ１と距離Ｌ２とがこのような関係を満たすようにして、ターゲット１２の使用終了時及び使用開始時において、ターゲットホルダ１３を回転させるのに必要なトルクを実質的に同一とするのが好ましい。
【００４０】
換言すれば、ターゲット１２とターゲットホルダ１３との合成重心が、上記回転中心よりもターゲット１２から遠い側に位置し、且つターゲットホルダ１３を回転させるのに必要なトルクがターゲット１２の使用を開始した際にターゲットホルダ１３を回転させるのに必要なトルクと実質的に同一となった時点でターゲット１２の使用を終了し、ターゲット１２の交換作業を実施するが好ましい。
【００４１】
これにより、ターゲット１２の使用終了時においても、ターゲット１２の使用開始時においても、同程度の力でターゲットホルダ１３を回転させることができる。したがって、ターゲットホルダ１３を回転させる際のスパッタリング装置１０の操作性が向上する。
【００４２】
また実際には、ターゲット１２の使用終了時と使用開始時とで、ターゲットホルダ１３を回転させるのに必要な力（回転トルク）は変化するため、制動手段２０の設定で、ターゲット１２の使用前後での回転トルクが一定となるようにしている。このように制動手段２０によって回転トルクを調整する場合、上述のようにターゲット１２の使用終了時及び使用開始時における上記回転トルクが実質的に同一となるようにすることで、制動手段２０に要求される制動範囲幅が小さくなり、コストを削減することもできる。すなわちターゲット１２の使用終了時と使用開始時とにおける上記回転トルクの変化量は小さく抑えられるため、回転トルクを一定にするために制動可能範囲幅が小さい比較的安価な制動手段を採用してコストを削減することもできる。
【００４３】
なお支持部材１５を、例えば、電動モータ等によって回転させるようにすれば、ターゲットホルダ１３を楽に回転させることはできる。ただし安全面等の問題から、電力を使用することなくターゲット１２の交換作業を行うことが望まれる場合がある。本発明のスパッタリング装置１０は、特にこのような場合に有用なものであり、電力を使用しなくてもターゲットホルダ１３を手動によって比較的容易且つ安全に回転させることができ、ターゲット交換の作業効率を向上させることができる。
【００４４】
以上、本発明の一実施形態について説明したが、勿論、本発明はこの実施形態に限定されるものではなく、発明の主旨を逸脱しない範囲において種々の変更は可能である。例えば、上述の実施形態では、ターゲットホルダ１３を回転するのに必要なトルクを抑制するために減速機として遊星ギヤ１８を設けるようにしたが、必ずしも遊星ギヤ１８である必要はなく、トルクを抑制することができれば、その構成は特に限定されるものではない。また、ターゲットホルダ１３の回転を制動する制動手段２０の構成も特に限定されず、例えば、ディスクブレーキ等で構成されるものであってもよい。
【００４５】
また上述の実施形態では、ターゲットホルダに平板状のターゲットが取り付けられた構成を例示したが、例えば、ターゲットホルダに円筒状のターゲットが回転可能に取り付けられた構成のスパッタリング装置にも本発明を適用することができる。さらに、上述の実施形態では、いわゆるデポダウン方式のスパッタリング装置を例示して本発明を説明したが、勿論本発明は、例えば、デポアップ方式やサイドデポ方式等、他の方式のスパッタリング装置にも適用することができる。
【符号の説明】
【００４６】
１  成膜装置
２  ロードロック室
３  加熱室
４  搬送室
５  アンロード室
６  ゲートバルブ
１０  スパッタリング装置
１１  スパッタ処理室
１１ａ  天板
１２  ターゲット
１２ａ  スパッタ面
１３  ターゲットホルダ
１４  開口部
１５  支持部材
１６Ａ，１６Ｂ  スライド部材
１７  ガイドシャフト
１８  遊星ギヤ
１９  レバー部材
２０  制動手段
２１  カウンタウェイト
２２  スペーサブロック
【図１】
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【図２】
2010174355.tif 000004
【図３】
2010174355.tif 000005
【図４】
2010174355.tif 000006
【図５】
2010174355.tif 000007