(57)【要約】【課題】塗布ムラ・乾燥ムラを大幅に抑制する塗布組成物と、該塗布組成物を用いた関連技術を提供すること。【解決手段】本発明の塗布組成物は、熱及び活性エネルギー線照射のいずれかにより重合可能な化合物と溶媒とを有する塗布組成物であって、前記溶媒が２種以上の溶媒成分を含み、かつ、前記溶媒成分における２種類の溶媒成分ＡとＢとが、該溶媒成分Ａの沸点温度をＸ（℃）とし、該溶媒成分Ｂの沸点温度をＹ(℃）としたとき、下記（１）及び（２）式の関係を満たすことを特徴とする。    Ｘ  ≦  Ｙ                                                ・・・（１）    ３０  ＜  Ｙ−Ｘ  ＜  ８０                                ・・・（２）【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
熱及び活性エネルギー線照射のいずれかにより重合可能な化合物と溶媒とを有する塗布組成物であって、前記溶媒が２種以上の溶媒成分を含み、かつ、前記溶媒成分における２種類の溶媒成分ＡとＢとが、該溶媒成分Ａの沸点温度をＸ（℃）とし、該溶媒成分Ｂの沸点温度をＹ(℃）としたとき、下記（１）及び（２）式の関係を満たすことを特徴とする塗布組成物。
Ｘ  ≦  Ｙ                                                ・・・（１）
３０  ＜  Ｙ−Ｘ  ＜  ８０                                ・・・（２）
【請求項２】
塗布組成物における溶媒成分Ａの質量をＬ（ｋｇ）とし、塗布組成物の溶媒成分Ｂの質量をＭ（ｋｇ）としたとき、前記ＬとＭとが下記式（３）の関係を満たす請求項１に記載の塗布組成物。
１０  ≦  Ｍ／（Ｌ＋Ｍ）×１００  ≦  ９０                  ・・・（３）
【請求項３】
重合可能な化合物が、重合性基を有する液晶化合物である請求項１から２のいずれかに記載の塗布組成物。
【請求項４】
重合可能な化合物が、重合性基を有するディスコティック液晶化合物である請求項３に記載の塗布組成物。
【請求項５】
請求項１から４のいずれかに記載の塗布組成物を支持体に塗布する塗布工程と、
前記塗布組成物中の溶媒を揮発させ、前記溶媒の固形分濃度を９０％まで乾燥させる乾燥工程とを含み、
さらに、前記乾燥工程は、前記塗布組成物の固形分濃度が５０％となるように乾燥を行う前半乾燥工程と、前記塗布組成物の固形分濃度が５０％以上となるように乾燥を行う後半乾燥工程とを含み、
前記前半乾燥工程の前半乾燥温度（℃）と、前記後半乾燥温度（℃）とが異なり、かつ、  前記前半乾燥温度（℃）と前記後半乾燥温度（℃）と溶媒成分Ａの沸点温度Ｘ（℃）と該溶媒成分Ｂの沸点温度Ｙ（℃）とが、下記式（４）及び（５）の関係を満たすことを特徴とする光学フィルムの製造方法。
（Ｘ−６０）＜  前半乾燥温度  ＜（Ｘ−１０）                ・・・（４）
（Ｙ−６０）＜  後半乾燥温度  ＜（Ｙ−１０）                ・・・（５）
【請求項６】
請求項５に記載の製造方法で作製されることを特徴とする光学フィルム。
【請求項７】
請求項６に記載の光学フィルムを用いることを特徴とする偏光板。
【請求項８】
請求項７に記載の偏光板を用いることを特徴とするＯＣＢ、ＴＮ、ＶＡ、ＩＰＳモードの液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、沸点の異なる２種類の溶媒成分を含む溶媒を用いた塗布組成物、光学フィルムの製造方法、光学フィルム、偏光板、及び、ＯＣＢ、ＴＮ、ＶＡ、ＩＰＳモードの液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年の液晶表示装置は、ＴＶ用途の拡大や、サイズの大型化などが一気に進んでおり、求められる表示品質の要求は高まるばかりの状況であり、液晶表示パネルに用いられるフィルムについても、同時に品質を高めていく必要がある。
【０００３】
生産性が良好で、サイズの大きなフィルムを作製する方法としては、重合可能な化合物と溶媒とを有する塗布組成物を塗布した後、これを乾燥して溶媒を除去するとともに、熱または活性エネルギー線照射により、化合物を重合させる塗布法が適している。
【０００４】
しかしながら、塗布法においては、塗布組成物を塗布した後の低固形分濃度時に、風や振動といった外乱によって、塗布膜の塗布ムラ・乾燥ムラが生じやすく、膜厚が均一で平坦化されたフィルムを得ることが難しいという問題がある。
【０００５】
こうした問題を解決するものとして、塗布組成物の溶媒に異なる特性を有する２種以上の溶媒成分を用いることことが知られている（特許文献１参照）。
該特許文献１によると、それぞれの溶媒成分が有する特性に応じて、フィルムの塗布ムラ・乾燥ムラを一定程度防止させることができる。
【０００６】
しかしながら、こうした塗布ムラ・乾燥ムラを大幅に改善する構成は、知られておらず、膜厚が均一で平坦化された（レベリング）フィルムについては、満足なものが存在しないというのが現状である。
【０００７】
【特許文献１】特開２００６−２１９６３２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、従来における前記問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、塗布ムラ・乾燥ムラを大幅に抑制する塗布組成物と、該塗布組成物を用いた関連技術を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者らは、前記目的を達成すべく鋭意研究を重ねた結果、塗布組成物中の溶媒に異なる沸点を有する溶媒成分を含んでいると、低い沸点の溶媒が先に除去され、短時間で固形分濃度を高くすることができ、外乱の影響を受けることなく、レベリングの効果が高くなるという知見を得た。ここからさらに、(１)塗布直後の低固形分濃度時の保持時間を短くし、膜厚ムラの発生を抑制することに関し、単に乾燥温度を高めることで乾燥を早め、前記保持時間を短くしようとすると、ベナール対流が発生するため、大幅な膜厚ムラの抑制は達成できない。(２)固形分濃度がより高い状態の保持時間を長くし、経時によるレベリング効果を促進させる。(３)レベリングさせるときは、乾燥温度を高くすることで粘度を下げ、レベリングを促進させる、ことを知見し、前半乾燥は急速に乾燥させるため、沸点の低い溶媒成分を使用し、後半乾燥は、沸点の高い溶媒成分を使用することで、レベリング効果を大きくし、膜厚ムラを大幅に抑制することが可能であることを見出し、本発明の完成に至った。
【００１０】
本発明は、本発明者らによる前記知見に基づくものであり、前記課題を解決するための手段としては以下の通りである。即ち、
＜１＞  熱及び活性エネルギー線照射のいずれかにより重合可能な化合物と溶媒とを有する塗布組成物であって、前記溶媒が２種以上の溶媒成分を含み、かつ、前記溶媒成分における２種類の溶媒成分ＡとＢとが、該溶媒成分Ａの沸点温度をＸ（℃）とし、該溶媒成分Ｂの沸点温度をＹ(℃）としたとき、下記（１）及び（２）式の関係を満たすことを特徴とする塗布組成物である。
Ｘ  ≦  Ｙ                                                ・・・（１）
３０  ＜  Ｙ−Ｘ  ＜  ８０                                ・・・（２）
＜２＞  塗布組成物における溶媒成分Ａの質量をＬ（ｋｇ）とし、塗布組成物の溶媒成分Ｂの質量をＭ（ｋｇ）としたとき、前記ＬとＭとが下記式（３）の関係を満たす前記＜１＞に記載の塗布組成物である。
１０  ≦  Ｍ／（Ｌ＋Ｍ）×１００  ≦  ９０                  ・・・（３）
＜３＞  重合可能な化合物が、重合性基を有する液晶化合物である前記＜１＞から＜２＞に記載の塗布組成物である。
＜４＞  重合可能な化合物が、重合性基を有するディスコティック液晶化合物である前記＜３＞に記載の塗布組成物である。
＜５＞  前記＜１＞から＜４＞のいずれかに記載の塗布組成物を支持体に塗布する塗布工程と、前記塗布組成物中の溶媒を揮発させ、前記溶媒の固形分濃度を９０％まで乾燥させる乾燥工程とを含み、さらに、前記乾燥工程は、前記塗布組成物の固形分濃度が５０％となるように乾燥を行う前半乾燥工程と、前記塗布組成物の固形分濃度が５０％以上となるように乾燥を行う後半乾燥工程とを含み、前記前半乾燥工程の前半乾燥温度（℃）と、前記後半乾燥温度（℃）とが異なり、かつ、前記前半乾燥温度（℃）と前記後半乾燥温度（℃）と溶媒成分Ａの沸点温度Ｘ（℃）と該溶媒成分Ｂの沸点温度Ｙ（℃）とが、下記式（４）及び（５）の関係を満たすことを特徴とする光学フィルムの製造方法である。
（Ｘ−６０）＜  前半乾燥温度  ＜（Ｘ−１０）                ・・・（４）
（Ｙ−６０）＜  後半乾燥温度  ＜（Ｙ−１０）                ・・・（５）
＜６＞  前記＜５＞に記載の製造方法で作製されることを特徴とする光学フィルムである。
＜７＞  前記＜６＞に記載の光学フィルムを用いることを特徴とする偏光板である。
＜８＞  前記＜７＞に記載の偏光板を用いることを特徴とするＯＣＢ、ＴＮ、ＶＡ、ＩＰＳモードの液晶表示装置である。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、従来における前記問題を解決し、前記目的を達成することができ、本発明は、塗布ムラ・乾燥ムラを大幅に抑制する塗布組成物と、該塗布組成物を用いた関連技術を提供することを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
（塗布組成物）
本発明の塗布組成物は、熱または活性エネルギー線照射により重合可能な化合物と溶媒とを有する塗布組成物であって、前記溶媒が２種以上の溶媒成分を含み、かつ、前記溶媒成分における２種類の溶媒成分ＡとＢとが、該溶媒成分Ａの沸点温度をＸ（℃）とし、該溶媒成分Ｂの沸点温度をＹ(℃）としたとき、下記（１）及び（２）式の関係を満たすことを特徴とする。
Ｘ  ≦  Ｙ                                                ・・・（１）
３０  ＜  Ｙ−Ｘ  ＜  ８０                                ・・・（２）
【００１３】
＜溶媒＞
前記塗布組成物において使用する２種以上の溶媒成分をそれぞれ溶媒成分Ａ，Ｂ，Ｃ，・・・として説明する。
前記溶媒Ａとしては、重合可能な化合物を可溶化させるものであれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
例えば、沸点が１００℃以下の溶媒成分（以下のカッコ内の数値は、沸点（℃）、表面張力（ｄｙｎ／ｃｍ）、粘度（ｍＰａ・ｓ）をこの順で示す）としては、ヘキサン（６８．７、１８．４、０．３１３）、ヘプタン（９８．４、２０．３、０．４１８）、シクロヘキサン（８０．７、２５．３、０．９８０）、ベンゼン（８０．１、２８．９、０．６４９）などの炭化水素類、ジクロロメタン（４０．４、２８．１、０．４２５）、クロロホルム（６１．２、２７．１、０．５６３）、四塩化炭素（７６．７、２６．８、０．９６５）、１，２−ジクロロエタン（８３．５、３２．２、０．８４０）、トリクロロエチレン（８７．２、２９、０．５８）などのハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル（３４．６、１７．０６、０．２３３）、ジイソプロピルエーテル（６８．５、１７．３４、０．３２９）、テトラヒドロフラン（６６、１６．５、０．５２）などのエーテル類、ギ酸エチル（５４．２、２４．３７、０．４１９）、酢酸メチル（５７．８、２４．７６、０．３６２）、酢酸エチル（７７．１、２３．９、０．４５）、酢酸イソプロピル（８９、２４．５、０．５６９）などのエステル類、アセトン（５６．１、２３．７、０．３３７）、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）（７９．６、２４．６、０．４２３）などのケトン類、メタノール（６４．５、２２．５５、０．５９）、エタノール（７８．３、２２．１、１．２２）、２−プロパノール（８２．４、２０．８、２．４１）、１−プロパノール（９７．２、２３．８，２．２６）などのアルコール類、アセトニトリル（８１．６、２９．１、０．３７５）などのシアノ化合物類、二硫化炭素（４６．２、３２．２５、０．３６３）などが挙げられる。
【００１４】
沸点が１００℃を超える溶媒成分としては、例えば、オクタン（１２５．６、２１．７６、０．５４２）、トルエン（１１０．６、２８．５３、０．５８７）、キシレン（１３８、２８．３１、０．６４４）、テトラクロロエチレン（１２１．２、３２．３２、０．８８）、クロロベンゼン（１３１．５、３３．２８、０．８０３）、ジオキサン（１０１．３、３４．４５、１．４３９）、ジブチルエーテル（１４２．０、２３．４０、０．７４１）、酢酸イソブチル（１１８．３、２３．７、０．６９７）、シクロヘキサノン（１５５．７、３５．１、２．４５）、４−メチル−２−ペンタノン（ＭＩＢＫ、１１５．９、２５．４、０．５９０）、１−ペンタノール（１１７．７、２５．６０、３．３１）、Ｎ，Ｎ−メチルホルムアミド（１４９．６、３６．７６、０．９２４）、などが挙げられる。
【００１５】
前記溶媒成分Ａの種類としては、ケトン類、芳香族炭化水素類、エステル類、アルコール類が好ましく、ケトン類がより好ましい。中でも、メチルエチルケトンが特に好ましい。
【００１６】
前記溶媒成分Ｂは、前記溶媒成分Ａの沸点温度をＸ（℃）とし、該溶媒成分Ｂの沸点温度をＹ(℃）としたとき、下記（１）及び（２）式の関係を満たすものである。
Ｘ  ≦  Ｙ                                                ・・・（１）
３０  ＜  Ｙ−Ｘ  ＜  ８０                                ・・・（２）
前記（１）及び（２）式の関係を満たすと、相分離を起こすことなく、膜厚ムラを大幅に抑制することができる。
【００１７】
前記溶媒成分Ｂとしては、前記（１）及び（２）式の関係を満たすものであれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
例えば、前記溶媒成分Ａとして、メチルエチルケトン（ＭＥＫ、７９．６、２４．６、０．４２３）を選択した場合、前記溶媒成分Ｂとしては、１−ブタノール（１１７．７、２３．８、２．９５）、１−ペンタノール（１３７．８，２５．６，３．３１）、ジアセトンアルコール（ＤＡＡ、１６７．９、２９．８、３．２）、オクタン（１２５．６、２１．７６、０．５４２）、トルエン（１１０．６、２８．５３、０．５８７）、キシレン（１３８、２８．３１、０．６４４）、テトラクロロエチレン（１２１．２、３２．３２、０．８８）、クロロベンゼン（１３１．５、３３．２８、０．８０３）、ジブチルエーテル（１４２．０、２３．４０、０．７４１）、酢酸イソブチル（１１８．３、２３．７、０．６９７）、シクロヘキサノン（１５５．７、３５．１、２．４５）、４−メチル−２−ペンタノン（ＭＩＢＫ、１１５．９、２５．４、０．５９０）、１−ペンタノール（１１７．７、２５．６０、３．３１）、Ｎ，Ｎ−メチルホルムアミド（１４９．６、３６．７６、０．９２４）などが挙げられる。
また、前記溶媒成分Ａとして、シクロヘキサノン（１５５．７、３５．１，２．４５）を選択した場合、前記溶媒成分Ｂとしては、ジメチルスルホキシド（１８９、４３、２．１４）、プロピレングリコール（１８８．２，３６．５，５６）などが挙げられる。
【００１８】
溶媒成分を３種以上含有する場合の溶媒の決め方を、３種の溶媒成分（溶媒成分Ａ、溶媒成分Ｂ、溶媒成分Ｃ）を選択する場合を例として以下で説明する。
溶媒成分Ｃとしては、前記溶媒成分Ｂと同様に、前記（１）及び（２）式の関係を満たす（溶媒成分Ｂの沸点温度Ｙ（℃）を溶媒成分Ｃの沸点温度Ｚ（℃）とし、溶媒成分Ａの沸点温度Ｘ（℃）と溶媒成分Ｃの沸点温度Ｚ（℃）とが前記（１）及び（２）式の関係を満たす）ことが好ましい。
よって、前記溶媒成分Ａとして、メチルエチルケトン（７９．６、２４．６、０．４２３）を選択した場合、前記溶媒成分Ｃとしては、前記溶媒成分Ｂと同様に、１−ブタノール（１１７．７、２３．８、２．９５）、１−ペンタノール（１３７．８，２５．６，３．３１）、ジアセトンアルコール（ＤＡＡ、１６７．９、２９．８、３．２）、オクタン（１２５．６、２１．７６、０．５４２）、トルエン（１１０．６、２８．５３、０．５８７）、キシレン（１３８、２８．３１、０．６４４）、テトラクロロエチレン（１２１．２、３２．３２、０．８８）、クロロベンゼン（１３１．５、３３．２８、０．８０３）、ジブチルエーテル（１４２．０、２３．４０、０．７４１）、酢酸イソブチル（１１８．３、２３．７、０．６９７）、シクロヘキサノン（１５５．７、３５．１、２．４５）、４−メチル−２−ペンタノン（ＭＩＢＫ、１１５．９、２５．４、０．５９０）、１−ペンタノール（１１７．７、２５．６０、３．３１）、Ｎ，Ｎ−メチルホルムアミド（１４９．６、３６．７６、０．９２４）などが挙げられる。
また、前記溶媒成分Ａとして、シクロヘキサノン（１５５．７、３５．１，２．４５）を選択した場合、前記溶媒成分Ｃとしては、前記溶媒成分Ｂと同様に、ジメチルスルホキシド（１８９、４３、２．１４）、プロピレングリコール（１８８．２，３６．５，５６）などが挙げられる。
【００１９】
また、塗布組成物における溶媒成分Ａの質量をＬ（ｋｇ）とし、塗布組成物の溶媒成分Ｂの質量をＭ（ｋｇ）としたとき、前記ＬとＭとが下記式（３）の関係を満たすことが好ましい。
１０  ≦  Ｍ／（Ｌ＋Ｍ）×１００  ≦  ９０                  ・・・（３）
前記ＬとＭとが下記式（３）の関係を満たさない場合は、前記溶媒成分Ａ、Ｂによるレベリング効果を十分に発揮することができない。
また、前記ＬとＭの関係、Ｍ／（Ｌ＋Ｍ）×１００の数値範囲（％）としては、２０〜８０がより好ましい。
【００２０】
前記塗布組成物の粘度としては、固形分濃度、塗布性の観点から、１ｍＰａ・ｓ〜６．５ｍＰａ・ｓが好ましく、１ｍＰａ・ｓ〜３．５ｍＰａ・ｓがより好ましい。
【００２１】
前記塗布組成物の中の固形分濃度としては、１質量％〜２０質量％が好ましく、１質量％〜１５質量％がより好ましく、１質量％〜１０質量％以下であることが更により好ましく、１質量％〜７質量％が特に好ましい。
前記固形分濃度が１質量％〜２０質量％であると、塗布時のｗｅｔ膜厚を良好な範囲に確保できるとともに、良好な塗布性を得ることができ、乾燥ムラも発生しにくい。
【００２２】
＜重合可能な化合物＞
前記重合可能な化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択数ことができるが、重合性基を有する液晶化合物が好ましい。
【００２３】
−重合性基を有する液晶化合物−
前記重合性基を有する液晶化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、棒状液晶化合物、ディスコティック液晶化合物などを挙げることができるが、中でもディスコティック液晶化合物が好ましい。
【００２４】
［棒状液晶化合物］
前記棒状液晶化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類及びアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。
なお、棒状液晶化合物には、金属錯体も含まれる。また、棒状液晶化合物を繰り返し単位中に含む液晶ポリマーも用いることができる。言い換えると、棒状液晶化合物は、（液晶）ポリマーと結合していてもよい。
棒状液晶化合物については、季刊化学総説第２２巻「液晶の化学（１９９４）日本化学会編」の第４章、第７章、及び第１１章、及び液晶デバイスハンドブック日本学術振興会第１４２委員会編の第３章に記載がある。
【００２５】
前記棒状液晶化合物の複屈折率としては、０．００１〜０．７の範囲にあることが好ましい。
前記棒状液晶化合物は、その配向状態を固定するために、重合性基を有することが好ましい。
前記重合性基は、不飽和重合性基又はエポキシ基が好ましく、不飽和重合性基が更に好ましく、エチレン性不飽和重合性基が特に好ましい。
【００２６】
［ディスコティック液晶化合物］
ディスコティック液晶化合物には、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．７１巻、１１１頁（１９８１年）に記載されているベンゼン誘導体、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．１２２巻、１４１頁（１９８５年）、Ｐｈｙｓｉｃｓ  ｌｅｔｔ，Ａ，７８巻、８２頁（１９９０）に記載されているトルキセン誘導体、Ｂ．Ｋｏｈｎｅらの研究報告、Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．９６巻、７０頁（１９８４年）に記載されたシクロヘキサン誘導体及びＪ．Ｍ．Ｌｅｈｎらの研究報告、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．，１７９４頁（１９８５年）、Ｊ．Ｚｈａｎｇらの研究報告、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１１６巻、２６５５頁（１９９４年）に記載されているアザクラウン系やフェニルアセチレン系マクロサイクルが含まれる。
【００２７】
前記ディスコティック液晶化合物には、分子中心の母核に対して、直鎖のアルキル基、アルコキシ基、又は置換ベンゾイルオキシ基が母核の側鎖として放射線状に置換した構造の、液晶性を示す化合物も含まれる。分子又は分子の集合体が、回転対称性を有し、一定の配向を付与できる化合物であることが好ましい。
ディスコティック液晶化合物の好ましい例は、特開平８−５０２０６号公報、特開２００６−７６９９２号公報明細書中の段落番号[００５２]、特開２００７−２２２０号公報明細書中の段落番号[００４０]〜[００６３]に記載されている。
【００２８】
例えば下記一般式（ＤＩ）、（ＤＩＩ）で表される化合物が高い複屈折性を示すので好ましい。
更に下記一般式（ＤＩ）、（ＤＩＩ）で表される化合物の中でも、ディスコティック液晶性を示す化合物が好ましく、特に、ディスコティックネマチック相を示す化合物が好ましい。
【００２９】
【化１】
2010083950.tif 000002
ただし、前記一般式（ＤＩ）中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立に下記一般式（ＤＩ−Ｒ）を表す。
Ｈ１、Ｈ２及びＨ３は、それぞれ独立に下記一般式（ＤＩ−Ａ）または下記一般式（ＤＩ−Ｂ）を表す。
Ｌ１、Ｌ２及びＬ３は、それぞれ独立に単結合または二価の連結基を表す。
Ｙ１１、Ｙ１２及びＹ１３は、それぞれ独立にメチンまたは窒素原子を表す。
【００３０】
一般式（ Ｄ Ｉ − Ｒ ）
＊−（−Ｌ21−Ｑ2）n1−Ｌ22−Ｌ23−Ｑ1
（一般式（ＤＩ−Ｒ）中、＊は一般式（ＤＩ）におけるＨ1〜Ｈ3側と結合する位置を表し、Ｌ21は単結合または二価の連結基を表し、Ｑ2は少なくとも１種類の環状構造を有する二価の基を表し、ｎ１は０〜４の整数を表し、Ｌ22は、＊＊−Ｏ−、＊＊−Ｏ−ＣＯ−、＊＊−ＣＯ−Ｏ−、＊＊−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、＊＊−Ｓ−、＊＊−ＮＨ−、＊＊−ＳＯ2−、＊＊−ＣＨ2−、＊＊−ＣＨ＝ＣＨ−または＊＊−Ｃ≡Ｃ−を表し、＊＊はＱ2側と結合する位置を表し、Ｌ23は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ2−、−ＮＨ−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−および−Ｃ≡Ｃ−ならびにこれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表し、Ｑ1は重合性基または水素原子を表し、前記重合性基が水素原子を含む場合該水素原子は置換基で置換されていてもよい。ｎ１が２以上のとき、複数個の−Ｌ21−Ｑ2は、それぞれ、同一でも異なっていてもよい。）
【００３１】
一般式ＤＩ−Ａ
【化２】
2010083950.tif 000003
（一般式（ＤＩ−Ａ）中、ＹＡ1およびＹＡ2は、それぞれ独立にメチンまたは窒素原子を表し、ＸＡは、酸素原子、硫黄原子、メチレンまたはイミノを表す。＊は上記一般式（ＤＩ）におけるＬ1〜Ｌ3側と結合する位置を表し、＊＊は上記一般式（ＤＩ）におけるＲ1〜Ｒ3側と結合する位置を表す。）
【００３２】
一般式ＤＩ−Ｂ
【化３】
2010083950.tif 000004
（一般式（ＤＩ−Ｂ）中、ＹＢ1およびＹＢ2は、それぞれ独立にメチンまたは窒素原子を表し、ＸＢは、酸素原子、硫黄原子、メチレンまたはイミノを表す。＊は上記一般式（ＤＩ）におけるＬ1〜Ｌ3側と結合する位置を表し、＊＊は上記一般式（ＤＩ）におけるＲ1〜Ｒ3側と結合する位置を表す。）
【００３３】
【化４】
2010083950.tif 000005
ただし、前記一般式（ＤＩＩ）中、ＬＱ（又はＱＬ）は、二価の連結基（Ｌ）と重合性基（Ｑ）との組み合わせを意味する。二価の連結基（Ｌ）は、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−Ｏ−、−Ｓ−及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。二価の連結基（Ｌ）は、アルキレン基、アリ−レン基、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−Ｏ−及び−Ｓ−からなる群より選ばれる二価の基を少なくとも二つ組み合わせた二価の連結基であることが更に好ましい。二価の連結基（Ｌ）は、アルキレン基、アリーレン基、−ＣＯ−及び−Ｏ−からなる群より選ばれる二価の基を少なくとも二つ組み合わせた二価の連結基であることが特に好ましい。前記アルキレン基の炭素原子数は、１〜１２であることが好ましい。前記アルケニレン基の炭素原子数は、２〜１２であることが好ましい。前記アリ−レン基の炭素原子数は、６〜１０であることが好ましい。
重合性基（Ｑ）は、重合反応の種類に応じて決定する。重合性基（Ｑ）は、不飽和重合性基又はエポキシ基であることが好ましく、不飽和重合性基であることが更に好ましく、エチレン性不飽和重合性基であることが特に好ましい。
【００３４】
また、前記円盤状液晶化合物の好ましい例には、特開２００５−３０１２０６号公報に記載の化合物も含まれる。
【００３５】
（光学フィルムの製造方法）
【００３６】
本発明の光学フィルムの製造方法は、塗布工程と、乾燥工程とを含む。また、必要に応じて、その他の工程を含む。その他の工程としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、光学フィルムの製造方法として知られている公知の工程を用いることができる。
【００３７】
＜塗布工程＞
前記塗布工程は、塗布組成物を支持体に塗布する工程である。
塗布の方法としては、例えばカーテンコーティング法、ディップコーティング法、スピンコーティング法、印刷コーティング法、スプレーコーティング法、スロットコーティング法、ロールコーティング法、スライドコーテティング法、ブレードコーティング法、グラビアコーティング法、ワイヤーバー法等の公知の塗布方法が挙げられる。
塗膜を乾燥する際には、加熱してもよい。塗膜を乾燥して溶媒を除去すると同時に、塗膜中の液晶化合物の分子を配向させて、所望の配向状態を得る。
【００３８】
＜乾燥工程＞
前記乾燥工程は、前記塗布組成物中の溶媒を揮発させ、前記溶媒の固形分濃度を９０％まで乾燥させる乾燥工程である。
【００３９】
前記乾燥工程は、前記塗布組成物の固形分濃度が５０％となるように乾燥を行う前半乾燥工程と、前記塗布組成物の固形分濃度が５０％以上となるように乾燥を行う後半乾燥工程とを含み、前記前半乾燥工程の前半乾燥温度（℃）と、前記後半乾燥温度（℃）とは異なる温度とする。
【００４０】
ここでいう固形分濃度とは、
固形分濃度（％）＝固形分／（揮発分＋固形分）×１００
である。
前記固形分及び（揮発分＋固形分）は、重量測定により、以下の式（６）及び式（７）により求めることができる。
固形分＝［Ａ：乾燥終了した膜の重量］−［Ｂ：塗布前の支持体の重量］・・・（６）
揮発分＋固形分＝［Ｃ：ある乾燥ゾーンでサンプルした膜の重量］−［Ｂ：塗布前の支持体の重量］ ・・・（７）
【００４１】
前記前半乾燥温度（℃）と前記後半乾燥温度（℃）としては、これらの温度が、前記溶媒成分Ａの沸点温度Ｘ（℃）と、前記該溶媒成分Ｂの沸点温度Ｙ（℃）とに対して、下記式（４）及び（５）の関係を満たすことが好ましい。
（Ｘ−６０）  ＜  前半乾燥温度  ＜（Ｘ−１０）              ・・・（４）
（Ｙ−６０）  ＜  後半乾燥温度  ＜（Ｙ−１０）              ・・・（５）
上記（４）及び（５）式を満たすと、前記沸点の低い溶媒成分Ａ（沸点温度Ｘ）が、前半乾燥で除去され、前記沸点の高い溶媒成分Ｂ（沸点温度Ｙ）が後半乾燥で除去される。このとき、前記溶媒成分Ａを含む前記塗布組成物の支持体上での保持時間を、乾燥開始から短くすることができ、前記溶媒成分Ｂを含む前記塗布組成物の支持体上での保持時間を、乾燥開始から長くとることができるので、レベリング効果を大きくし、膜厚ムラを大幅に抑制することが可能となる。
【００４２】
以下、添付図面により、光学フィルムの製造工程を例示して説明するが、本発明における光学フィルムの製造工程としては、これらに限らない。図１は、光学フィルムの製造工程の概略を示す図であり、塗布機３としては、例えば、ワイヤーバーを備えたバー塗布装置を使用することができ、複数のバックアップローラに支持されて走行するウエブの下面に塗布液が塗布されて塗布膜が形成される。乾燥装置１０としては、本発明において前半乾燥ゾーン４と後半乾燥ゾーン５に区切られており、かつ、自由に温度をコントロールできる形態が好ましい。加温方法としては、塗膜に隣接させたヒーターにより温度をコントロールする方法、乾燥ゾーン中に給気・排気を行い、給気風の温度をコントロールする方法でも良い。また前半乾燥ゾーン４・後半乾燥ゾーン５のゾーン長は任意に設定することができ、塗布速度と溶媒の塗布量・乾燥時間を勘案し設定することが好ましい。
【００４３】
（光学フィルム）
本発明の光学フィルムは、前記塗布組成物を用いた前記光学フィルムの製造方法により製造されることを特徴とし、さらに、必要に応じて、他の光学フィルムの構成を含むのが好ましい。
【００４４】
前記光学フィルムとしては、前記塗布組成物を液晶化合物を少なくとも一種含有する組成物として、表面（例えば、配向膜表面）に配置し、液晶化合物の分子を所望の配向状態とし、重合により硬化させ、その配向状態を固定して形成するのが好ましい。固定する配向状態は、ハイブリッド配向状態であるのが好ましい。ハイブリッド配向とは、層の厚み方向で液晶分子のダイレクタの方向が連続的に変化する配向状態をいう。棒状分子の場合は、ダイレクタは長軸方向、円盤状分子の場合は、ダイレクタは円盤面に垂直方向となる。
【００４５】
前記液晶化合物の分子を所望の配向状態とするため、及び前記塗布組成物の塗布性もしくは硬化性の良化のために、前記塗布組成物は一種以上の添加剤を含んでいてもよい。
前記液晶化合物（特に棒状液晶化合物）の分子をハイブリッド配向させるために、層の空気界面側の配向を制御し得る添加剤（以下、「空気界面配向制御剤」という）を添加してもよい。該添加剤として、フッ化アルキル基及びスルホニル基等の親水性基を有する低分子量もしくは高分子量の化合物が挙げられる。使用可能な空気界面配向制御剤の具体例には、特開２００６−２６７１７１号公報等に記載の化合物が含まれる。
【００４６】
また、前記塗布組成物には、塗布性の良化のために界面活性剤を添加してもよい。界面活性剤としては、フッ素系化合物が好ましく、具体的には、例えば特開２００１−３３０７２５号公報中の段落番号［００２８］〜［００５６］に記載の化合物が挙げられる。また市販の「メガファックＦ７８０」（大日本インキ化学工業株式会社製）などを用いてもよい。
【００４７】
また、前記塗布組成物には、重合開始剤を含有しているのが好ましい。前記重合開始剤は、熱重合開始剤であっても光重合開始剤であってもよいが、制御が容易である等の観点から、光重合開始剤が好ましい。光の作用によりラジカルを発生させる光重合開始剤の例としては、α−カルボニル化合物（米国特許第２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許第２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許第２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許第３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許第３５４９３６７号明細書記載）、アクリジン及びフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許第４２３９８５０号明細書記載）及びオキサジアゾール化合物（米国特許第４２１２９７０号明細書記載）、アセトフェノン系化合物、ベンゾインエーテル系化合物、ベンジル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、チオキサントン系化合物等が好ましい。アセトフェノン系化合物としては、例えば、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシメチル−１−フェニルプロパン−１−オン、４’−イソプロピル−２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオフェノン、ｐ−ジメチルアミノアセトン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルジクロロアセトフェノン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルトリクロロアセトフェノン、ｐ−アジドベンザルアセトフェノン等が挙げられる。ベンジル系化合物としては、例えば、ベンジル、ベンジルジメチルケタール、ベンジル−β−メトキシエチルアセタール、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン等が挙げられる。ベンゾインエーテル系化合物としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾイン−ｎ−プロピルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイン−ｎ−ブチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等が挙げられる。ベンゾフェノン系化合物としては、例えば、ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、ミヒラーズケトン、４，４’−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、４，４’−ジクロロベンゾフェノン等が挙げられる。チオキサントン系化合物としては、例えば、チオキサントン、２−メチルチオキサントン、２−エチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、４−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン等が挙げられる。このような芳香族ケトン類からなる感光性ラジカル重合開始剤の中でも、アセトフェノン系化合物及びベンジル系化合物が、硬化特性、保存安定性、臭気等の面で特に好ましい。これらの芳香族ケトン類からなる感光性ラジカル重合開始剤は、１種又は２種以上のものを所望の性能に応じて配合して使用することができる。
また、感度を高める目的で重合開始剤に加えて、増感剤を用いてもよい。増感剤の例には、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン、及びチオキサントン等が含まれる。
【００４８】
前記光重合開始剤は複数種を組み合わせてもよく、使用量は、塗布液の固形分の０．０１質量％〜２０質量％であることが好ましく、０．５質量％〜５質量％であることがより好ましい。前記液晶化合物の重合のための光照射は紫外線を用いることが好ましい。
【００４９】
前記塗布組成物は、重合性液晶化合物とは別に、非液晶性の重合性モノマーを含有していてもよい。重合性モノマーとしては、ビニル基、ビニルオキシ基、アクリロイル基又はメタクリロイル基を有する化合物が好ましい。なお、重合性の反応性官能基数が２以上の多官能モノマー、例えば、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパンアクリレートを用いると、耐久性が改善されるので好ましい。
前記非液晶性の重合性モノマーは、非液晶性成分であるので、その添加量が、液晶化合物に対して１５質量％を超えることはなく、０〜１０質量％程度であるのが好ましい。
【００５０】
前記光学フィルムは、前記塗布組成物を塗布液として調製し、該塗布液を、例えば、支持体上に形成された配向膜の表面に塗布し、前記乾燥工程において前記溶媒を除去するとともに、前記液晶化合物の分子を配向させ、その後、重合により硬化させて、形成することができる。
【００５１】
次に、紫外線照射等によって重合を進行させて、配向状態を固定化し、前記光学フィルムを形成する。重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましい。照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ２〜５０Ｊ／ｃｍ２であることが好ましく、１００ｍＪ／ｃｍ２〜８００ｍＪ／ｃｍ２であることがより好ましい。光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を実施してもよい。
【００５２】
前記光学フィルムの厚さは、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、０．１μｍ〜１０μｍが好ましく、０．５μｍ〜５μｍがより好ましい。
【００５３】
前記光学フィルムは、配向膜を利用して形成するのが好ましい。利用可能な配向膜の例としては、ポリビニルアルコール膜やポリイミド膜等が挙げられる。
【００５４】
（偏光板）
本発明の偏光板は、前記塗布組成物を用いた前記光学フィルムの製造方法により製造された前記光学フィルムを用いることを特徴とする。
前記偏光板としては、前記光学フィルムを含むものであれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、偏光子とを有し、更に必要に応じてその他の構成を有してなる。
【００５５】
（偏光子）
前記偏光子は、Ｏｐｔｉｖａ  Ｉｎｃ．に代表される塗布型偏光子、又はバインダーとヨウ素、もしくは二色性色素とからなる偏光子が好ましい。
前記ヨウ素及び二色性色素は、バインダー中で配向することで偏向性能を発現する。ヨウ素及び二色性色素は、バインダー分子に沿って配向するか、もしくは二色性色素が液晶のような自己組織化により一方向に配向することが好ましい。
現在市販の偏光子は、延伸したポリマーを、浴槽中のヨウ素もしくは二色性色素の溶液に浸漬し、バインダー中にヨウ素、もしくは二色性色素をバインダー中に浸透させることで作製されるのが一般的である。
また、市販の偏光子は、ポリマー表面から４μｍ程度（両側合わせて８μｍ程度）にヨウ素もしくは二色性色素が分布しており、十分な偏光性能を得るためには、少なくとも１０μｍの厚みが必要である。浸透度は、ヨウ素もしくは二色性色素の溶液濃度、同浴槽の温度、同浸漬時間により制御することができる。
したがって、上記のように、バインダーの厚みの下限は、１０μｍであることが好ましい。厚みの上限は、偏光板を液晶表示装置に使用した場合に発生する光漏れ現象の観点からは、薄ければ薄い程よい。現在市販の偏光板（約３０μｍ）以下であることが好ましく、２５μｍ以下が好ましく、２０μｍ以下が更に好ましい。２０μｍ以下であると、光漏れ現象は、１７インチの液晶表示装置で観察されなくなる。
【００５６】
偏光子のバインダーは架橋していてもよい。偏光子のバインダーとして、それ自体架橋可能なポリマーを用いてもよい。官能基を有するポリマー、又はポリマーに官能基を導入して得られたポリマーに、光、熱あるいはｐＨ変化を与えて、官能基を反応させてポリマー間を架橋させ、偏光子を形成することができる。
また、架橋剤によりポリマーに架橋構造を導入してもよい。反応活性の高い化合物である架橋剤を用いてバインダー間に架橋剤に由来する結合基を導入して、バインダー間を架橋することにより形成することができる。
架橋は一般に、架橋可能なポリマー、又はポリマーと架橋剤との混合物を含む塗布液を、支持体上に塗布した後、加熱することにより実施できる。最終商品の段階で耐久性が確保できればよいため、架橋させる処理は、最終の偏光板を得るまでのいずれの段階で行ってもよい。
【００５７】
上記した様に、偏光子のバインダーとしては、それ自体架橋可能なポリマーあるいは架橋剤により架橋されるポリマーのいずれも使用することができる。
ポリマーの例には、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリスチレン、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、ポリビニルトルエン、クロロスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、塩素化ポリオレフィン（例、ポリ塩化ビニル）、ポリエステル、ポリイミド、ポリ酢酸ビニル、ポリエチレン、カルボキシメチルセルロース、ポリプロピレン、ポリカーボネート及びそれらのコポリマー（例、アクリル酸／メタクリル酸共重合体、スチレン／マレインイミド共重合体、スチレン／ビニルトルエン共重合体、酢酸ビニル／塩化ビニル共重合体、エチレン／酢酸ビニル共重合体）が含まれる。シランカップリング剤をポリマーとして用いてもよい。
水溶性ポリマー（例、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、カルボキシメチルセルロース、ゼラチン、ポリビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコール）が好ましく、ゼラチン、ポリビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコールが更に好ましく、ポリビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコールが特に好ましい。
【００５８】
ポリビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコールの鹸化度は、７０〜１００％が好ましく、８０〜１００％が更に好ましく、９５〜１００％が特に好ましい。ポリビニルアルコールの重合度は、１００〜５，０００が好ましい。
変性ポリビニルアルコールは、ポリビニルアルコールに対して、共重合変性、連鎖移動変性あるいはブロック重合変性により変性基を導入して得られる。共重合変性では、変性基として、ＣＯＯＮａ、Ｓｉ（ＯＨ）３、Ｎ（ＣＨ３）３・Ｃｌ、Ｃ９Ｈ１９ＣＯＯ、ＳＯ３Ｎａ、Ｃ１２Ｈ２５を導入することができる。連鎖移動変性では、変性基として、ＣＯＯＮａ、ＳＨ、ＳＣ１２Ｈ２５を導入することができる。
変性ポリビニルアルコールの重合度は、１００〜３，０００が好ましい。変性ポリビニルアルコールについては、特開平８−３３８９１３号公報、特開平９−１５２５０９号公報、及び特開平９−３１６１２７号公報に記載がある。
また、鹸化度が８５〜９５％の未変性ポリビニルアルコール、及びアルキルチオ変性ポリビニルアルコールが特に好ましい。
更に、ポリビニルアルコール、及び変性ポリビニルアルコールは、二種以上を併用してもよい。
【００５９】
架橋剤については、米国再発行特許２３２９７号明細書に記載があり、本発明に用いることができる。また、ホウ素化合物（例、ホウ酸、硼砂）も、架橋剤として用いることができる。
バインダーの架橋剤は、多く添加すると、偏光子の耐湿熱性を向上させることができる。ただし、バインダーに対して架橋剤を５０質量％以上添加すると、ヨウ素、もしくは二色性色素の配向性が低下する。架橋剤の添加量は、バインダーに対して、０．１〜２０質量％が好ましく、０．５〜１５質量％が更に好ましい。
バインダーは、架橋反応が終了した後でも、反応しなかった架橋剤をある程度含んでいる。ただし、残存する架橋剤の量は、バインダー中に１．０質量％以下であることが好ましく、０．５質量％以下であることが更に好ましい。
バインダー中に１．０質量％を超える量で架橋剤が含まれていると、耐久性に問題が生じる場合がある。すなわち、架橋剤の残留量が多い偏光子を液晶表示装置に組み込み、長期使用、あるいは高温高湿の雰囲気下に長期間放置した場合に、偏光度の低下が生じることがある。
【００６０】
前記二色性色素としては、アゾ系色素、スチルベン系色素、ピラゾロン系色素、トリフェニルメタン系色素、キノリン系色素、オキサジン系色素、チアジン系色素あるいはアントラキノン系色素が用いられる。二色性色素は、水溶性であることが好ましい。二色性色素は、親水性置換基（例、スルホ、アミノ、ヒドロキシル）を有することが好ましい。
二色性色素の例には、Ｃ．Ｉ．ダイレクト・イエロー１２、Ｃ．Ｉ．ダイレクト・オレンジ３９、Ｃ．Ｉ．ダイレクト・オレンジ７２、Ｃ．Ｉ．ダイレクト・レッド３９、Ｃ．Ｉ．ダイレクト・レッド７９、Ｃ．Ｉ．ダイレクト・レッド８１、Ｃ．Ｉ．ダイレクト・レッド８３、Ｃ．Ｉ．ダイレクト・レッド８９、Ｃ．Ｉ．ダイレクト・バイオレット４８、Ｃ．Ｉ．ダイレクト・ブルー６７、Ｃ．Ｉ．ダイレクト・ブルー９０、Ｃ．Ｉ．ダイレクト・グリ−ン５９、Ｃ．Ｉ．アシッド・レッド３７が含まれる。
二色性色素については、特開平１−１６１２０２号公報、特開平１−１７２９０６号公報、特開平１−１７２９０７号公報、特開平１−１８３６０２号公報、特開平１−２４８１０５号公報、特開平１−２６５２０５号公報、特開平７−２６１０２４号公報に記載がある。
【００６１】
二色性色素は、遊離酸、又はアルカリ金属塩、アンモニウム塩、もしくはアミン塩等の塩として用いられる。二種類以上の二色性色素を配合することにより、各種の色相を有する偏光子を製造することができる。偏光軸を直交させた時に黒色を呈する化合物（色素）を用いた偏光子、あるいは黒色を呈するように各種の二色性分子を配合した偏光子又は偏光板が、単板透過率及び偏光率とも優れており、好ましい。
【００６２】
偏光子は、バインダーを偏光子の長手方向（ＭＤ方向）に延伸した後に、ヨウ素、二色性染料で染色することが好ましい。
【００６３】
延伸法の場合、延伸倍率は、２．５〜３０．０倍が好ましく、３．０〜１０．０倍が更に好ましい。延伸は、空気中でのドライ延伸で実施できる。
また、水に浸漬した状態でのウェット延伸を実施してもよい。ドライ延伸の延伸倍率は、２．５〜５．０倍が好ましく、ウェット延伸の延伸倍率は、３．０〜１０．０倍が好ましい。
延伸工程は、数回に分けて行ってもよい。数回に分けることによって、高倍率延伸でもより均一に延伸することができる。
延伸前に、横あるいは縦に若干の延伸（幅方向の収縮を防止する程度）を行ってもよい。延伸は、二軸延伸におけるテンター延伸を左右異なる工程で行うことによって実施できる。上記二軸延伸は、通常のフィルム製膜において行われている延伸方法と同様である。
【００６４】
また、本発明の偏光板を液晶表示装置に用いる場合、視認側表面に反射防止層を設置するのが好ましく、該反射防止層を偏光子の視認側の保護層と兼用してもよい。
液晶表示装置の視角による色味変化抑制の観点から、反射防止層の内部ヘイズを５０％以上にすることが好ましい。これら好ましい具体例としては、特開２００１−３３７８３号公報、特開２００１−３４３６４６号公報、及び特開２００２−３２８２２８号公報に記載がある。
【００６５】
液晶表示装置のコントラスト比を高めるためには、偏光子の透過率は高い方が好ましく、偏光度も高い方が好ましい。
本発明の偏光子の透過率は、波長５５０ｎｍの光において、３０〜５０％の範囲にあることが好ましく、３５〜５０％の範囲にあることが更に好ましく、４０〜５０％の範囲にあることが特に好ましい。
偏光度は、波長５５０ｎｍの光において、９０〜１００％の範囲にあることが好ましく、９５〜１００％の範囲にあることが更に好ましく、９９〜１００％の範囲にあることが特に好ましい。
【００６６】
〔偏光板の製造方法〕
上記光学フィルムに、公知の手法を用いて、偏光子を貼合せることによって、偏光板を製造できる。
【００６７】
（液晶表示装置）
本発明の液晶表示装置は、前記偏光板を用いることを特徴とし、ＯＣＢ方式の液晶表示装置、ＴＮ方式の液晶表示装置、ＶＡ方式の液晶表示装置、ＩＳＰ方式の液晶表示装置に用いられるものである。
前記液晶表示装置の構成としては、少なくとも、前記偏光板と、液晶セルとを備える。
【００６８】
本発明の光学フィルムを用いた偏光板は、複屈折モードの液晶表示装置、特にＯＣＢ方式の液晶表示装置等、光学フィルムが装着されないと黒／白表示が困難な液晶表示装置に有利に用いられる。
透過型液晶表示装置は、液晶セル及びその両側に配置された二枚の偏光板からなる。液晶セルは、二枚の電極基板の間に液晶を担持している。
光学フィルムは、液晶セルと一方の偏光板との間に、一枚配置するか、あるいは液晶セルと双方の偏光板との間に二枚配置する。
【００６９】
ＯＣＢモードの液晶セルは、棒状液晶性分子を液晶セルの上部と下部とで実質的に逆の方向に（対称的に）配向させるベンド配向モードの液晶セルを用いた液晶表示装置であり、米国特許４５８３８２５号明細書、及び米国特許５４１０４２２号明細書に開示されている。棒状液晶分子が液晶セルの上部と下部とで対称的に配向しているため、ベンド配向モードの液晶セルは、自己光学補償機能を有する。
そのため、この液晶モードは、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ  Ｂｅｎｄ）液晶モードとも呼ばれる。ベンド配向モードの液晶表示装置は、応答速度が速いとの利点がある。
また、ＯＣＢ方式は、高速応答駆動が可能なため、フィールドシーケンシャル駆動方式と組み合わせることが好ましい。
【００７０】
本発明の液晶表示装置に用いられる液晶セルは、無電圧印加状態（液晶層に電圧を印加しない状態での液晶セル中の液晶材料の配向状態下）でのΔｎｄ値が、８００以上１，２００未満であることが好ましい。
【実施例】
【００７１】
以下、本発明の実施例について説明するが、本発明は下記実施例に何ら限定されるものではない。
（１）光学フィルムの作製方法
【００７２】
＜支持体Ｓ−１の作製＞
＜＜セルロースアセテート溶液の調製＞＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。
【００７３】
［セルロースアセテート溶液組成］                                              
酢化度６０．９％のセルロースアセテート                            １００質量部
トリフェニルホスフェート                                          ７．８質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート                                  ３．９質量部
メチレンクロリド                                                  ３００質量部
メタノール                                                          ４５質量部
【００７４】
別のミキシングタンクに、酢化度６０．９％のセルロースアセテート（リンター）４質量部、下記のレターデーション上昇剤２５質量部、シリカ微粒子（平均粒子サイズ：２０ｎｍ）０．５質量部、メチレンクロリド８０質量部、及びメタノール２０質量部を投入し、加熱しながら攪拌して、レターデーション上昇剤溶液を調製した。
【００７５】
【化５】
2010083950.tif 000006
【００７６】
前記セルロースアセテート溶液４７０質量部に、上記レターデーション上昇剤溶液を混合し、十分に攪拌してドープを調製した。レターデーション上昇剤のセルロースアセテートに対する質量比を調整し、所望の光学特性に調整した。
【００７７】
＜配向膜の作製＞
鹸化処理をした前記支持体Ｓ−１上に、下記表１に示す組成の配向膜塗布液を＃１６のワイヤーバーコーターで２８ｍＬ／ｍ２塗布した。６０℃の温風で６０秒、更に９０℃の温風で１５０秒乾燥し、配向膜を作製した。乾燥後の配向膜の厚みは、１．１μｍであった。
【００７８】
＜配向膜塗布液組成＞
【表１】
2010083950.tif 000007
【００７９】
−変性ポリビニルアルコール−
【化６】
2010083950.tif 000008
【００８０】
＜配向処理＞
前記配向膜を塗設した支持体Ｓ−１に対し、その延伸方向に対して９０°にラビング処理されるようにラビングロールを設定し、４５０ｒｐｍで回転させて、配向膜設置表面にラビング処理を施した。
【００８１】
（２）評価方法
暗室内に置かれた高輝度バックライトを有するシャーカステンに直行させた偏光板を２枚配置し、上記作製したサンプルをシャーカステン上に設置した偏光板の間に挟みこみ、偏光板の透過軸とサンプルのラビング軸が４５°になるようにセットし目視での官能評価を行った。
◎    ⇒ムラが認識出来ない
○    ⇒わずかに見えるが気にならない
△    ⇒見える
×    ⇒はっきりと見える
【００８２】
（３）実施例
（実施例１）
＜塗布組成物の調製＞
前記光学フィルムの塗設に準じ、ＳＵＳポット中に、溶媒成分Ａ（１２２．４質量部）としてメチルエチルケトン（ＭＥＫ、沸点８０℃）と、溶媒成分Ｂ（８１．６質量部）として４−メチル−２−ペンタノン（ＭＩＢＫ、沸点１１６℃）とを加え、溶媒における溶媒成分Ｂの比が４０％となるように溶媒を調製した。
この溶媒２０４．０質量部に、下記のディスコティック化合物Ａ９０質量部、下記のディスコティック化合物Ｂ１０質量部、光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製）３質量部、増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）１質量部を溶解して塗布組成物を調製した。
【００８３】
・ディスコティック液晶化合物Ａ；特開２００６−７６９９２号公報中にＤ−１１２として記載のディスコティック液晶化合物
【化７】
2010083950.tif 000009
・ディスコティック液晶化合物Ｂ；特開２００１−１６６１４４号公報に化４４として記載のディスコティック液晶化合物
【化８】
2010083950.tif 000010
【００８４】
＜塗布工程＞
図１に示すように、送出し部１から供給され、ラビング処理部２において前記配向処理（ラビング処理）された前記支持体Ｓ−１上に、塗布機３を用い、バーコーター法により、＃３．２のワイヤーバーで５．５２ｍＬ／ｍ２の塗布量で前記塗布組成物を塗布し、固形分濃度が低い状態の塗布膜を形成した。
【００８５】
＜乾燥工程＞
これを、前半乾燥ゾーン４において、５０℃の前半乾燥温度で前半乾燥を行い、前記溶媒ＡであるＭＥＫが十分に乾燥する時間をかけた後（固形分濃度が５０％以上となった状態）、後半乾燥ゾーン５において、引き続き５０℃の後半乾燥温度で後半乾燥を行い、溶媒を除去した。前半・後半の乾燥ゾーンを通過する時間はそれぞれ２０秒とした。
なお、塗布膜の固形分濃度は、非接触の赤外線膜厚計（クラボウ社製；ＫＧ−３００ＣＭ）を用い塗布膜の膜厚を測定することにより５０％以上であることを確認した。
【００８６】
＜光学フィルムの作製＞
前記溶媒が除去された塗布膜を１３０℃の加熱ゾーン６に２分滞在させることで液晶化合物を配向させた。次に、９０℃で１２０Ｗ／ｃｍ高圧水銀灯（ＵＶ照射装置７）を用いて紫外線照射し、ディスコティック液晶化合物を重合させ、その後、室温まで放冷した。このようにして実施例１の塗布組成物を用いた光学フィルムを作製した。
この実施例１に係る光学フィルムについて、前記（２）の評価方法により、膜厚ムラの評価を行った。結果を下記表２に示す。
【００８７】
（実施例２）
溶媒成分Ｂに、４−メチル−２−ペンタノン（ＭＩＢＫ、沸点１１６℃）に代えて、シクロヘキサノン（沸点１５６℃）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、実施例２の塗布組成物を調製した。
また、実施例１と同様の塗布工程、乾燥工程、光学フィルムの作製を行って、実施例２に係る光学フィルムを作製した。
この実施例２に係る光学フィルムについて、前記（２）の評価方法により、膜厚ムラの評価を行った。結果を下記表２に示す。
【００８８】
（実施例３）
溶媒成分Ａに、メチルエチルケトン（ＭＥＫ、沸点８０℃）に代えて、４−メチル−２−ペンタノン（ＭＩＢＫ、沸点１１６℃）を用いたこと以外は、実施例２と同様にして、実施例３の塗布組成物を調製した。
また、実施例１と同様の塗布工程、乾燥工程、光学フィルムの作製を行って、実施例３に係る光学フィルムを作製した。
この実施例３に係る光学フィルムについて、前記（２）の評価方法により、膜厚ムラの評価を行った。結果を下記表２に示す。
【００８９】
（実施例４）
溶媒成分Ｂに、シクロヘキサノン（沸点１１６℃）に代えて、ジアセトンアルコール（ＤＡＡ、沸点１６８℃）を用いたこと以外は、実施例３と同様にして、実施例４の塗布組成物を調製した。
また、実施例１と同様の塗布工程、乾燥工程、光学フィルムの作製を行って、実施例４に係る光学フィルムを作製した。
この実施例４に係る光学フィルムについて、前記（２）の評価方法により、膜厚ムラの評価を行った。結果を下記表２に示す。
【００９０】
（実施例５）
実施例２と同様にして、実施例５の塗布組成物を調製した。
後半乾燥温度を、５０℃から１３０℃に変えたこと以外は、実施例２と同様にして、乾燥工程を行った。
また、実施例１と同様の塗布工程、光学フィルムの作製を行って、実施例５に係る光学フィルムを作製した。
この実施例５に係る光学フィルムについて、前記（２）の評価方法により、膜厚ムラの評価を行った。結果を下記表２に示す。
【００９１】
（実施例６）
実施例４と同様にして、実施例６の塗布組成物を調製した。
前半乾燥温度を、５０℃から８０℃に変え、後半乾燥温度を５０℃から１４０℃に変えたこと以外は、実施例４と同様にして、乾燥工程を行った。
また、実施例１と同様の塗布工程、光学フィルムの作製を行って、実施例６に係る光学フィルムを作製した。
この実施例６に係る光学フィルムについて、前記（２）の評価方法により、膜厚ムラの評価を行った。結果を下記表２に示す。
【００９２】
（実施例７）
実施例２と同様にして、実施例７の塗布組成物を調製した。
前半乾燥温度を、５０℃から１０℃に変え、後半乾燥温度を５０℃から１３０℃に変えたこと以外は、実施例２と同様にして、乾燥工程を行った。
また、実施例１と同様の塗布工程、光学フィルムの作製を行って、実施例７に係る光学フィルムを作製した。
この実施例７に係る光学フィルムについて、前記（２）の評価方法により、膜厚ムラの評価を行った。結果を下記表２に示す。
【００９３】
（実施例８）
実施例２と同様にして、実施例８の塗布組成物を調製した。
前半乾燥温度を、５０℃から８０℃に変え、後半乾燥温度を５０℃から１３０℃に変えたこと以外は、実施例２と同様にして、乾燥工程を行った。
また、実施例１と同様の塗布工程、光学フィルムの作製を行って、実施例８に係る光学フィルムを作製した。
この実施例８に係る光学フィルムについて、前記（２）の評価方法により、膜厚ムラの評価を行った。結果を下記表２に示す。
【００９４】
（実施例９）
実施例２と同様にして、実施例８の塗布組成物を調製した。
後半乾燥温度を５０℃から８０℃に変えたこと以外は、実施例２と同様にして、乾燥工程を行った。
また、実施例１と同様の塗布工程、光学フィルムの作製を行って、実施例９に係る光学フィルムを作製した。
この実施例９に係る光学フィルムについて、前記（２）の評価方法により、膜厚ムラの評価を行った。結果を下記表２に示す。
【００９５】
（実施例１０）
実施例２と同様にして、実施例１０の塗布組成物を調製した。
後半乾燥温度を５０℃から１６０℃に変えたこと以外は、実施例２と同様にして、乾燥工程を行った。
また、実施例１と同様の塗布工程、光学フィルムの作製を行って、実施例１０に係る光学フィルムを作製した。
この実施例１０に係る光学フィルムについて、前記（２）の評価方法により、膜厚ムラの評価を行った。結果を下記表２に示す。
【００９６】
（実施例１１）
溶媒成分Ａの添加量を１７３．４質量部、溶媒成分Ｂの添加量を３０．６質量部とし、溶媒における溶媒成分Ｂの比を１５％としたこと以外は、実施例５と同様にして、実施例１１の塗布組成物を調製した。
また、実施例５と同様の塗布工程、乾燥工程、光学フィルムの作製を行って、実施例１１に係る光学フィルムを作製した。
この実施例１１に係る光学フィルムについて、前記（２）の評価方法により、膜厚ムラの評価を行った。結果を下記表２に示す。
【００９７】
（実施例１２）
溶媒成分Ａの添加量を３０．６質量部、溶媒成分Ｂの添加量を１７３．４質量部とし、溶媒における溶媒成分Ｂの比を８５％としたこと以外は、実施例５と同様にして、実施例１２の塗布組成物を調製した。
また、実施例５と同様の塗布工程、乾燥工程、光学フィルムの作製を行って、実施例１２に係る光学フィルムを作製した。
この実施例１２に係る光学フィルムについて、前記（２）の評価方法により、膜厚ムラの評価を行った。結果を下記表２に示す。
【００９８】
＜比較例１＞
溶媒成分Ｂを加えないこと以外は、実施例１と同様にして、比較例１の塗布組成物を調製した。
また、実施例１と同様の塗布工程、乾燥工程、光学フィルムの作製を行って、比較例１に係る光学フィルムを作製した。
この比較例１に係る光学フィルムについて、前記（２）の評価方法により、膜厚ムラの評価を行った。結果を下記表２に示す。
【００９９】
＜比較例２＞
溶媒成分Ｂを加えないこと以外は、実施例１と同様にして、比較例２の塗布組成物を調製した。
前半乾燥温度を５０℃から２５℃に変え、後半乾燥温度を５０℃から２５℃に変えたこと以外は、実施例１と同様にして、乾燥工程を行った。
また、実施例１と同様の塗布工程、光学フィルムの作製を行って、比較例２に係る光学フィルムを作製した。
この比較例２に係る光学フィルムについて、前記（２）の評価方法により、膜厚ムラの評価を行った。結果を下記表２に示す。
【０１００】
＜比較例３＞
溶媒成分Ｂを加えないこと以外は、実施例１と同様にして、比較例３の塗布組成物を調製した。
前半乾燥温度を５０℃から８０℃に変え、後半乾燥温度を５０℃から８０℃に変えたこと以外は、実施例１と同様にして、乾燥工程を行った。
また、実施例１と同様の塗布工程、光学フィルムの作製を行って、比較例３に係る光学フィルムを作製した。
この比較例３に係る光学フィルムについて、前記（２）の評価方法により、膜厚ムラの評価を行った。結果を下記表２に示す。
【０１０１】
＜比較例４＞
溶媒成分Ｂに、４−メチル−２−ペンタノン（ＭＩＢＫ、沸点１１６℃）に代えて、１−プロパノール（沸点９７℃）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、比較例３の塗布組成物を調製した。
また、実施例１と同様の塗布工程、乾燥工程、光学フィルムの作製を行って、比較例４に係る光学フィルムを作製した。
この比較例４に係る光学フィルムについて、前記（２）の評価方法により、膜厚ムラの評価を行った。結果を下記表２に示す。
【０１０２】
＜比較例５＞
溶媒成分Ｂに、４−メチル−２−ペンタノン（ＭＩＢＫ、沸点１１６℃）に代えて、ジアセトンアルコール（ＤＡＡ、沸点１６８℃）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、比較例５の塗布組成物を調製した。
また、実施例１と同様の塗布工程、乾燥工程、光学フィルムの作製を行って、比較例５に係る光学フィルムを作製した。
この比較例５に係る光学フィルムについて、前記（２）の評価方法により、膜厚ムラの評価を行った。結果を下記表２に示す。
【０１０３】
【表２】
2010083950.tif 000011
【図面の簡単な説明】
【０１０４】
【図１】図１は光学フィルムの製造工程の概略を示す図である。
【符号の説明】
【０１０５】
１  送出し部
２  ラビング処理部
３  塗布機
４  前半乾燥ゾーン
５  後半乾燥ゾーン
６  加熱ゾーン
７  ＵＶ照射装置
８  巻取り部
１０  乾燥装置
【図１】
2010083950.tif 000012