(57)【要約】【課題】液晶装置において、表示画像の品質を低下させることなく、耐光性を向上させる。【解決手段】液晶装置は、表示に寄与する表示領域（１０ａ）及び表示領域を囲むように配置される周辺領域を有する液晶装置であって、一対の基板（１０，２０）と、一対の基板間に挟持されており、耐光性を高めるための添加剤を含む液晶層（５０）と、一対の基板を互いに接着すると共に、液晶層を囲うように周辺領域に設けられるシール材（５２）とを備えている。液晶層は、周辺領域に対応し、シール材に少なくとも部分的に接する第１液晶部（５０ａ）、及び表示領域に対応する第２液晶部（５０ｂ）を含み、第１液晶部に含まれる添加剤の濃度よりも、第２液晶部に含まれる前記添加剤の濃度の方が高い。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示に寄与する表示領域及び前記表示領域を囲むように配置される周辺領域を有する液
晶装置であって、
一対の基板と、
該一対の基板間に挟持されており、耐光性を高めるための添加剤を含む液晶層と、
前記一対の基板を互いに接着すると共に、前記液晶層を囲うように前記周辺領域に設け
られるシール材と
を備え、
前記液晶層は、前記周辺領域に対応し、前記シール材に少なくとも部分的に接する第１
液晶部、及び前記表示領域に対応する第２液晶部を含み、
前記第１液晶部に含まれる前記添加剤の濃度よりも、前記第２液晶部に含まれる前記添
加剤の濃度の方が高い
ことを特徴とする液晶装置。
【請求項２】
前記第１液晶部には、前記添加剤が含まれていないことを特徴とする請求項１に記載の
液晶装置。
【請求項３】
前記第１液晶部は、前記第２液晶部を囲うことで、前記第２液晶部が前記シール材に接
しないように設けられていることを特徴とする請求項１又は２に記載の液晶装置。
【請求項４】
前記液晶層は、前記シール材からの距離が大きくなる程、前記添加剤の濃度が高くなる
ように設けられていることを特徴とする請求項１から３のいずれか一項に記載の液晶装置
。
【請求項５】
請求項１から４のいずれか一項に記載の液晶装置を備えることを特徴とする電子機器。
【請求項６】
一対の基板間に、耐光性を高めるための添加剤を含む液晶層が挟持されてなると共に、
表示に寄与する表示領域及び前記表示領域を囲むように配置される周辺領域を有する液晶
装置の製造方法であって、
前記一対の基板のうち、一方の基板上の前記周辺領域にシール材を描画する描画工程と
、
前記一方の基板上の前記シール材に囲われた領域のうち、前記周辺領域に対応し、前記
シール材に少なくとも部分的に接する第１領域に配置されるように、第１液晶を供給する
第１供給工程と、
前記一方の基板上の前記シール材に囲われた領域のうち、前記表示領域に対応する第２
領域に配置されるように、前記第１液晶より前記添加剤の濃度が高い第２液晶を供給する
第２供給工程と、
前記一対の基板のうち他方の基板を、前記シール材によって前記一方の基板と接着する
接着工程と
を備えることを特徴とする液晶装置の製造方法。
【請求項７】
前記第１供給工程は、前記第１液晶を前記一方の基板上の前記シール材によって囲われ
た領域に滴下することで行われ、
前記第２供給工程は、前記第２液晶を、前記第１液晶と少なくとも部分的に重なるよう
に滴下することで行われ、
前記接着工程において、前記第１液晶が前記第１領域に配置され、前記第２液晶が前記
第２領域に配置される
ことを特徴とする請求項６に記載の液晶装置の製造方法。
【請求項８】
前記第２供給工程において、前記第２液晶は、前記第１液晶が滴下された領域の内側に
、前記第１液晶と重なるように滴下されることを特徴とする請求項７に記載の液晶装置の
製造方法。
【請求項９】
前記第１供給工程は、前記第１液晶を前記第１領域に描画することで行われ、
前記第２供給工程は、前記第２液晶を、前記第１液晶によって前記シール材と隔てられ
た領域に滴下することで行われ、
前記接着工程において、前記第２液晶が前記第２領域に配置される
ことを特徴とする請求項６に記載の液晶装置の製造方法。
【請求項１０】
前記第１供給工程において、前記第１液晶は、前記シール材に沿って前記第２液晶が滴
下される領域を囲うように描画されることを特徴とする請求項９に記載の液晶装置の製造
方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶装置及び該液晶装置を備えた、例えば液晶プロジェクター等の電子機器
、並びに液晶装置の製造方法の技術分野に関する。
【背景技術】
【０００２】
この種の液晶装置として、例えば光源からの光を投射することによって、表示された画
像を直視で、或いはスクリーン等に拡大して視覚可能とするものがある。このような液晶
装置では、液晶層に比較的強い光が入射することとなるため、長時間光を投射し続けると
、液晶の表示特性の劣化により画質が低下してしまうことがある。このため、液晶層に紫
外線吸収剤等の添加剤を添加することによって、液晶層の耐光性を向上させるという技術
が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
【特許文献１】特開平８−１７６５４９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上述した技術で用いられる添加剤は、液晶を封じ込める領域を規定して
いるシール材に含まれる重合開始剤等と反応することにより、液晶中の不純物質を増加さ
せてしまうおそれがある。液晶中の不純物質が増加すると、シミ等が発生し、表示する画
像の品質が低下してしまう。つまり、上述した技術には、液晶の耐光性を向上させること
ができたとしても、表示画像の品質を保つことが困難であるという技術的問題点がある。
【０００５】
本発明は、例えば上述した問題点に鑑みなされたものであり、表示画像の品質を低下さ
せることなく、耐光性を向上させることが可能な液晶装置及び電子機器、並びに液晶装置
の製造方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の液晶装置は上記課題を解決するために、表示に寄与する表示領域及び前記表示
領域を囲むように配置される周辺領域を有する液晶装置であって、一対の基板と、該一対
の基板間に挟持されており、耐光性を高めるための添加剤を含む液晶層と、前記一対の基
板を互いに接着すると共に、前記液晶層を囲うように前記周辺領域に設けられるシール材
とを備え、前記液晶層は、前記周辺領域に対応し、前記シール材に少なくとも部分的に接
する第１液晶部、及び前記表示領域に対応する第２液晶部を含み、前記第１液晶部に含ま
れる前記添加剤の濃度よりも、前記第２液晶部に含まれる前記添加剤の濃度の方が高い。
【０００７】
本発明の液晶装置によれば、その動作時には、例えば光源等から光が投射されることに
より、表示領域に表示された画像がスクリーン等の大型画面に拡大表示される。液晶装置
は、一対の基板間に液晶層が挟持されることによって構成されており、基板上に設けられ
た電極等から液晶層に電圧が印加されることで液晶分子の向きが制御され、様々な画像を
表示することが可能とされている。
【０００８】
液晶層は、一対の基板を接着するためのシール材によって囲われた領域に設けられてい
る。即ち、一対の基板及びシール材によって規定される空間に封入された状態とされてい
る。この液晶層は、光が長時間投射され続けることによって表示特性が劣化してしまうお
それがある。このため、本発明の液晶装置では、液晶層に耐光性を高めるための添加剤（
例えば、ラジカル捕捉剤や紫外線吸収剤）が添加されている。
【０００９】
ここで本発明では特に、液晶層が、表示領域を囲むように配置された周辺領域に対応し
、シール材に少なくとも部分的に接する第１液晶部、及び表示領域に対応する第２液晶部
を含んでいる。尚、ここでの「周辺領域に対応し」とは、少なくとも周辺領域に設けられ
るという意味であり、周辺領域にのみ設けられることを意味するものではない。つまり、
第１液晶部は、表示領域にまで設けられていてもよい。同様に、「表示領域に対応する」
とは、少なくとも表示領域に設けられるという意味であり、表示領域にのみ設けられるこ
とを意味するものではない。つまり、第２液晶部は、周辺領域にまで設けられていてもよ
い。尚、液晶層は、第１液晶部及び第２液晶部以外の液晶部を含んでいても構わない。
【００１０】
上述した第１液晶部及び第２液晶部は、第１液晶部よりも、第２液晶部の添加剤の濃度
が高くなるように設けられている。即ち、液晶層は、設けられている部分によって添加剤
の濃度が異なっている。
【００１１】
シール材は、例えば紫外線硬化樹脂や熱硬化樹脂等によって構成されており、一対の基
板を貼り合わせた後に反応を開始させることで接着を行う。このため、シール材には重合
開始剤等の反応開始剤が含まれている。このような反応開始剤は、液晶層に添加されてい
る添加剤とも反応する。よって、シール材と液晶層が接するような箇所においては、シー
ル材に含まれる反応開始剤と液晶層に含まれる添加剤とが反応し、液晶層における不純物
質を増加させてしまうおそれがある。
【００１２】
しかるに本発明は特に、上述したように、液晶層のうちシール材に少なくとも部分的に
接する第１液晶部の添加剤の濃度が、第２液晶部より低くされている。これにより、シー
ル材に含まれる反応開始剤と液晶層に含まれる添加剤とが反応してしまう確率を低減する
ことができ、液晶層における不純物質の増加を抑制することができる。即ち、添加剤の濃
度を液晶層全体で均一とする場合と比べて、液晶層の表示特性が劣化してしまうことを低
減することができる。よって、表示される画像の品質が低下してしまうことを防止できる
。
【００１３】
尚、典型的には、液晶層のシール材に接している部分全てが第１液晶部とされるが、シ
ール材に接する一部が第１液晶部とされる（即ち、添加剤の濃度が低くされる）場合であ
っても、本発明の効果は相応に得られる。また、投射される光の量や発熱量等の各種条件
に基づいて、シール材に含まれる反応開始剤と液晶層に含まれる添加剤との反応の起り易
さを予測できるような場合には、反応の起り易い部分を第１液晶部とすることで、効率的
に表示特性の劣化を抑制できる。第１液晶部における添加剤の濃度は低い値である程効果
が高いが、第２液晶部における添加剤の濃度より多少なりとも低い値であれば、本発明の
効果は得られる。
【００１４】
以上説明したように、本発明の液晶装置によれば、表示画像の品質を低下させることな
く、耐光性を向上させることが可能である。
【００１５】
本発明の液晶装置の一態様では、前記第１液晶部には、前記添加剤が含まれていない。
【００１６】
この態様によれば、第１液晶部には添加剤が含まれていないため、第１液晶部とシール
材との間では、反応開始剤と添加剤との反応が起らない。よって、極めて効果的に液晶層
における表示特性の劣化を低減することができる。
【００１７】
本発明の液晶装置の他の態様では、前記第１液晶部は、前記第２液晶部を囲うことで、
前記第２液晶が前記シール材に接しないように設けられている。
【００１８】
この態様によれば、第１液晶部が第２液晶部を囲うように設けられているため、シール
材が接する液晶は第１液晶部のみとなり、第２液晶部とは接しない。よって、添加剤の濃
度の高い第２液晶とシール材との間では、反応開始剤と添加剤との反応が起らない。従っ
て、極めて効果的に液晶層における表示特性の劣化を低減することができる。
【００１９】
本発明の液晶装置の他の態様では、前記液晶層は、前記シール材からの距離が大きくな
る程、前記添加剤の濃度が高くなるように設けられている。
【００２０】
この態様によれば、シール材からの距離が大きくなる程、液晶層における添加剤の濃度
が高くなるため、シール材に含まれる反応開始剤と液晶層に含まれる添加剤とが反応して
しまう確率を効果的に低減することができ、液晶層における不純物質の増加を抑制するこ
とができる。
【００２１】
また、表示の際に投射される光は、液晶層の中心部分に近い程（即ち、シール材からの
距離が大きい程）光量が大きい。よって、上述したように、シール材からの距離が大きく
なる程、液晶層における添加剤の濃度が高くなるようにすれば、添加剤を加えることによ
る耐光性を高める効果も、極めて効率的に発揮されることとなる。
【００２２】
本発明の電子機器は上記課題を解決するために、上述した本発明の液晶装置（但し、そ
の各種態様も含む）を備える。
【００２３】
本発明の電子機器によれば、上述した本発明に係る液晶装置を具備してなるので、長時
間光が投射され続けた場合であっても、高品質な表示を行うことが可能な、投射型表示装
置、テレビ、携帯電話、電子手帳、ワードプロセッサー、ビューファインダー型又はモニ
タ直視型のビデオテープレコーダー、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タ
ッチパネルなどの各種電子機器を実現できる。
【００２４】
本発明の液晶装置の製造方法は上記課題を解決するために、一対の基板間に、耐光性を
高めるための添加剤を含む液晶層が挟持されてなると共に、表示に寄与する表示領域及び
前記表示領域を囲むように配置される周辺領域を有する液晶装置の製造方法であって、前
記一対の基板のうち、一方の基板上の前記周辺領域にシール材を描画する描画工程と、前
記一方の基板上の前記シール材に囲われた領域のうち、前記周辺領域に対応し、前記シー
ル材に少なくとも部分的に接する第１領域に配置されるように、第１液晶を供給する第１
供給工程と、前記一方の基板上の前記シール材に囲われた領域のうち、前記表示領域に対
応する第２領域に配置されるように、前記第１液晶より前記添加剤の濃度が高い第２液晶
を供給する第２供給工程と、前記一対の基板のうち他方の基板を、前記シール材によって
前記一方の基板と接着する接着工程とを備える。
【００２５】
本発明の液晶装置の製造方法によれば、先ず一対の基板のうち、一方の基板上の周辺領
域にシール材が描画される。シール材は、例えば一方の基板の各辺に沿うように額縁状に
描画され、後に配置される液晶層を囲うような形状とされる。
【００２６】
シール材が描画されると、シール材に囲われた領域のうち、周辺領域に対応し、シール
材に少なくとも部分的に接する第１領域に配置されるように、第１液晶が供給される。ま
た、シール材に囲われた領域のうち、表示領域に対応する第２領域に配置されるように、
第１液晶より添加剤の濃度が高い第２液晶が供給される。尚、ここでの「周辺領域に対応
し」及び「表示領域に対応する」とは、上述した液晶装置の場合と同様の概念として用い
られている。即ち、第１領域は少なくとも周辺領域を含む領域として定義されるが、表示
領域を含んでいてもよい。一方、第２領域は、少なくとも表示領域を含む領域として定義
されるが、周辺領域を含んでいてもよい。加えて、ここでの「第１領域に配置されるよう
に」及び「第２領域に配置されるように」とは、製造が完了した時点で、第１領域及び第
２領域に夫々配置されるという意味であり、第１供給工程及び第２供給工程が行われた時
点では、第１液晶及び第２液晶は、夫々第１領域及び第２領域に配置されていなくともよ
い。第１液晶及び第２液晶は、第１領域及び第２領域に夫々配置されることで、上述した
液晶装置における第１液晶部及び第２液晶部として形成されたことになる。
【００２７】
続いて、一対の基板のうち他方の基板が、シール材によって一方の基板と接着される。
これによって、液晶層は一対の基板に挟持された状態となる。第１液晶及び第２液晶は、
典型的には、この接着工程において第１領域及び第２領域に夫々配置される。
【００２８】
以上のように製造された液晶装置では、添加剤の濃度の低い第１液晶がシール材に少な
くとも部分的に接するように配置されるため、シール材に含まれる反応開始剤と液晶層に
含まれる添加剤とが反応してしまう確率を低減することができる。よって、液晶層におけ
る不純物質の増加を抑制することができ、液晶層の表示特性が劣化してしまうことを低減
することができる。従って、表示される画像の品質が低下してしまうことを防止できる。
【００２９】
尚、本発明の液晶装置の製造方法においても、上述した本発明の液晶装置における各種
態様と同様の各種態様を採ることが可能である。
【００３０】
本発明の液晶装置の製造方法の一態様では、前記第１供給工程は、前記第１液晶を前記
一方の基板上の前記シール材によって囲われた領域に滴下することで行われ、前記第２供
給工程は、前記第２液晶を、前記第１液晶と少なくとも部分的に重なるように滴下するこ
とで行われ、前記接着工程において、前記第１液晶が前記第１領域に配置され、前記第２
液晶が前記第２領域に配置される。
【００３１】
この態様によれば、第１供給工程において、第１液晶が一方の基板上のシール材によっ
て囲われた領域に滴下される。続いて、第２供給工程において、第２液晶が第１液晶と少
なくとも部分的に重なるように滴下される。
【００３２】
そして第１液晶及び第２液晶は、接着工程において、第１領域及び第２領域第に夫々配
置される。具体的には、一対の基板が互いに圧着されることにより、第１液晶及び第２液
晶が一対の基板からの圧力によって夫々押し伸ばされる。
【００３３】
上述した製造方法によれば、添加剤の濃度の低い第１液晶を、確実にシール材に少なく
とも部分的に接するように配置することができる。よって、シール材に含まれる反応開始
剤と液晶層に含まれる添加剤とが反応してしまう確率を低減することができる。本態様は
特に、例えば液晶を描画することによって配置することができないような、比較的小型の
液晶装置を製造する際に有効である。
【００３４】
上述した第１液晶及び第２液晶を滴下する態様では、前記第２供給工程において、前記
第２液晶は、前記第１液晶が滴下された領域の内側に、前記第１液晶と重なるように滴下
されるようにしてもよい。
【００３５】
この場合、第２液晶が第１液晶の滴下された領域の内側に、第１液晶と重なるように滴
下されるため、接着工程後の第２液晶は、第１液晶に囲われた領域に配置されることとな
る。このため、シール材が接する液晶は第１液晶のみとなり、第２液晶とは接しない。よ
って、添加剤の濃度の高い第２液晶とシール材との間では、反応開始剤と添加剤との反応
が起らない。従って、極めて効果的に液晶層における表示特性の劣化を低減することがで
きる。
【００３６】
本発明の液晶装置の製造方法の他の態様では、前記第１供給工程は、前記第１液晶を前
記第１領域に描画することで行われ、前記第２供給工程は、前記第２液晶を、前記第１液
晶によって前記シール材と隔てられた領域に滴下することで行われ、前記接着工程におい
て、前記第２液晶が前記第２領域に配置される。
【００３７】
この態様によれば、第１供給工程において、第１液晶が一方の基板上の第１領域に描画
される。続いて、第２供給工程において、第２液晶が第１液晶によって記シール材と隔て
られた領域に滴下される。
【００３８】
そして第２液晶は、接着工程において第２領域に配置される。具体的には、一対の基板
が互いに圧着されることにより、第２液晶が一対の基板からの圧力によって、第１液晶が
描画されていない領域（即ち、第２領域）を埋めるように押し伸ばされる。
【００３９】
上述した製造方法によれば、添加剤の濃度の低い第１液晶を、確実にシール材に少なく
とも部分的に接するように配置することができる。よって、シール材に含まれる反応開始
剤と液晶層に含まれる添加剤とが反応してしまう確率を低減することができる。
【００４０】
上述した第１液晶を描画し、第２液晶を滴下する態様では、前記第１供給工程において
、前記第１液晶は、前記シール材に沿って前記第２液晶が滴下される領域を囲うように描
画されるようにしてもよい。
【００４１】
この場合、第１液晶がシール材に沿って第２液晶が滴下される領域を囲うように描画さ
れるため、シール材が接する液晶は第１液晶のみとなり、第２液晶とは接しない。よって
、添加剤の濃度の高い第２液晶とシール材との間では、反応開始剤と添加剤との反応が起
らない。従って、極めて効果的に液晶層における表示特性の劣化を低減することができる
。
【００４２】
本発明の作用及び他の利得は次に説明する発明を実施するための最良の形態から明らか
にされる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４３】
以下では、本発明の実施形態について図を参照しつつ説明する。
【００４４】
＜液晶装置＞
先ず、本実施形態に係る液晶装置の全体構成について、図１及び図２を参照して説明す
る。ここに図１は、本実施形態に係る液晶装置の全体構成を示す平面図であり、図２は、
図１のＨ−Ｈ´線断面図である。尚、以下の実施形態では、本発明の液晶装置の一例であ
る駆動回路内蔵型のＴＦＴ（Thin Film Transistor）アクティブマトリクス駆動方式の液
晶装置を例にとる。
【００４５】
図１及び図２において、本実施形態に係る液晶装置では、本発明の「一対の基板」の一
例であるＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０とが対向配置されている。ＴＦＴアレイ基
板１０は、例えば石英基板、ガラス基板等の透明基板や、シリコン基板等である。対向基
板２０は、例えば石英基板、ガラス基板等の透明基板である。ＴＦＴアレイ基板１０と対
向基板２０との間には、液晶層５０が封入されている。液晶層５０は、例えば一種又は数
種類のネマティック液晶を混合した液晶からなり、一対の配向膜間で所定の配向状態をと
る。
【００４６】
ここで本実施形態に係る液晶装置では特に、液晶層５０に、耐光性を高めるための添加
剤が添加されている。添加剤は、例えばラジカル捕捉剤や紫外線吸収剤等であり、より具
体的には、例えばヒンダードフェノール系の物質を含むものである。
【００４７】
液晶層５０に含まれる液晶分子は、例えば下記式（１）で表される。即ち、ベンゼン環
にシクロヘキシル環が結合された構造である。尚、ベンゼン環に結合している官能基Ｘ、
Ｙ１及びＹ２は、例えばフッ素（Ｆ）や塩素（Ｃｌ）等である。
【００４８】
【化１】
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【００４９】
液晶層５０には、例えば投射型の液晶表示装置として動作する際に、光源光等の比較的
強い光が投射されることになる。この際、ベンゼン環におけるベンジル位では特に、光励
起によるラジカル反応が開始され、そのベンジル位から反応が連鎖的に進行してしまう可
能性が高い。
【００５０】
仮に、ベンゼン環におけるベンジル位においてラジカル反応が発生し、反応が連鎖的に
進行したとすると、液晶層５０における不純物質が増加し、表示特性が劣化してしまう。
この場合、例えば表示される画像にはムラが生じ、画質の低下を招いてしまうおそれがあ
る。添加剤は、上述したような反応を抑制することによって、液晶層５０の耐光性を高め
る役割を果たしている。
【００５１】
ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０とは、複数の画素電極が設けられた画像表示領域
１０ａの周囲に位置するシール領域に設けられたシール材５２により相互に接着されてい
る。即ち、ここでの画像表示領域１０ａは、本発明の「表示領域」の一例である。シール
材５２は、両基板を貼り合わせるための、例えば紫外線硬化樹脂、熱硬化樹脂等からなり
、製造プロセスにおいてＴＦＴアレイ基板１０上に塗布された後、紫外線照射、加熱等に
より硬化させられたものである。シール材５２中には、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板
２０との間隔（即ち、基板間ギャップ）を所定値とするためのグラスファイバー或いはガ
ラスビーズ等のギャップ材が散布されている。尚、ギャップ材を、シール材５２に混入さ
れるものに加えて若しくは代えて、画像表示領域１０ａ又は画像表示領域１０ａの周辺に
位置する周辺領域に、配置するようにしてもよい。
【００５２】
シール材５２が配置されたシール領域の内側に並行して、画像表示領域１０ａの額縁領
域を規定する遮光性の額縁遮光膜５３が、対向基板２０側に設けられている。尚、このよ
うな額縁遮光膜５３の一部又は全部は、ＴＦＴアレイ基板１０側に内蔵遮光膜として設け
られてもよい。
【００５３】
周辺領域のうち、シール材５２が配置されたシール領域の外側に位置する領域には、デ
ータ線駆動回路１０１及び外部回路接続端子１０２がＴＦＴアレイ基板１０の一辺に沿っ
て設けられている。走査線駆動回路１０４は、この一辺に隣接する２辺に沿い、且つ、額
縁遮光膜５３に覆われるようにして設けられている。更に、このように画像表示領域１０
ａの両側に設けられた二つの走査線駆動回路１０４間をつなぐため、ＴＦＴアレイ基板１
０の残る一辺に沿い、且つ、額縁遮光膜５３に覆われるようにして複数の配線１０５が設
けられている。
【００５４】
ＴＦＴアレイ基板１０上における対向基板２０の４つのコーナー部に対向する領域には
、両基板間を上下導通材１０７で接続するための上下導通端子１０６が配置されている。
これらにより、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間で電気的な導通をとることが
できる。
【００５５】
図２において、ＴＦＴアレイ基板１０上には、駆動素子である画素スイッチング用のＴ
ＦＴや走査線、データ線等の配線が作り込まれた積層構造が形成される。この積層構造の
詳細な構成については図２では図示を省略してあるが、この積層構造の上に、ＩＴＯ（In
dium Tin Oxide）等の透明材料からなる画素電極９ａが、画素毎に所定のパターンで島状
に形成されている。
【００５６】
画素電極９ａは、対向電極２１に対向するように、ＴＦＴアレイ基板１０上の画像表示
領域１０ａに形成されている。ＴＦＴアレイ基板１０における液晶層５０の面する側の表
面、即ち画素電極９ａ上には、配向膜１６が画素電極９ａを覆うように形成されている。
【００５７】
対向基板２０におけるＴＦＴアレイ基板１０との対向面上には、遮光膜２３が形成され
ている。遮光膜２３は、例えば対向基板２０における対向面上に平面的に見て、格子状に
形成されている。対向基板２０において、遮光膜２３によって非開口領域が規定され、遮
光膜２３によって区切られた領域が、例えばプロジェクター用のランプや直視用のバック
ライトから出射された光を透過させる開口領域となる。尚、遮光膜２３をストライプ状に
形成し、該遮光膜２３と、ＴＦＴアレイ基板１０側に設けられたデータ線等の各種構成要
素とによって、非開口領域を規定するようにしてもよい。
【００５８】
遮光膜２３上には、ＩＴＯ等の透明材料からなる対向電極２１が複数の画素電極９ａと
対向するように形成されている。また遮光膜２３上には、画像表示領域１０ａにおいてカ
ラー表示を行うために、開口領域及び非開口領域の一部を含む領域に、図２には図示しな
いカラーフィルターが形成されるようにしてもよい。対向基板２０の対向面上における、
対向電極２１上には、配向膜２２が形成されている。
【００５９】
尚、図１及び図２に示したＴＦＴアレイ基板１０上には、上述したデータ線駆動回路１
０１、走査線駆動回路１０４等の駆動回路に加えて、画像信号線上の画像信号をサンプリ
ングしてデータ線に供給するサンプリング回路、複数のデータ線に所定電圧レベルのプリ
チャージ信号を画像信号に先行して各々供給するプリチャージ回路、製造途中や出荷時の
当該液晶装置の品質、欠陥等を検査するための検査回路等を形成してもよい。
【００６０】
次に、本実施形態に係る液晶装置の液晶層の具体的な構成について、図３から図５を参
照して説明する。ここに図３は、本実施形態に係る液晶装置の液晶層の構成を概念的に示
す平面図であり、図４及び図５は夫々、本実施形態に係る液晶装置の変形例を示す平面図
である。尚、図３以降の図では、説明の便宜上、図１及び図２で示した詳細な部材を適宜
省略して図示している。
【００６１】
図３において、本実施形態に係る液晶装置では、液晶層５０に含まれる添加剤の濃度が
場所によって異なっている。具体的には、液晶層５０におけるシール材５２に接する第１
液晶部５０ａは、シール材５２に接していない第２液晶部５０ｂより添加剤の濃度が低い
。尚、第１液晶部５０ａは、典型的には、画像表示領域１０ａ（図１参照）の周辺に位置
する周辺領域に設けられ、第２液晶５０ｂは、画像表示領域１０ａに設けられる。但し、
第１液晶部５０ａが画像表示領域１０ａにまで設けられていてもよいし、第２液晶５０ｂ
が周辺領域にまで設けられていてもよい。
【００６２】
シール材５２は、上述したように紫外線硬化樹脂や熱硬化樹脂等によって構成されてお
り、ＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０を貼り合わせた後に反応を開始させることで
接着を行う。このため、シール材５２には重合開始剤等の反応開始剤が含まれている。こ
のような反応開始剤は、液晶層５０に添加されている添加剤とも反応する。よって、シー
ル材５２と液晶層５０が接するような箇所においては、シール材５２に含まれる反応開始
剤と液晶層５０に含まれる添加剤とが反応し、液晶層５０における不純物質を増加させて
しまうおそれがある。
【００６３】
これに対し本実施形態に係る液晶装置は、シール材５２に接している第１液晶部５０ａ
の添加剤の濃度が、第２液晶部５０ｂより低くされているため、シール材５２に含まれる
反応開始剤と液晶層５０に含まれる添加剤とが反応してしまう確率を低減することができ
る。よって、液晶層５０における不純物質の増加を抑制することができ、液晶層５０の表
示特性が劣化してしまうことを低減することができる。
【００６４】
図４に示すように、液晶層５０における第１液晶部５０ａは、シール材５２に接する領
域全てに設けられていなくともよい。即ち、少なくとも部分的にシール材５２に接する領
域が、他の領域と比べて添加剤の濃度が低くされていれば、上述した効果は相応に得られ
る。尚、第１液晶部５０ａ及び第２液晶部５０ｂが夫々配置される領域の形状は、図３及
び図４で示した形状以外にも様々な形状をとることができる。
【００６５】
図５において、液晶層５０には、上述した第１液晶部５０ａ及び第２液晶部５０ｂに加
えて、更に添加剤の濃度が高い第３液晶部５０ｃが含まれていてもよい。即ち、液晶層５
０における添加剤の濃度は、２種類以上であってもよい。図５に示すように各液晶を設け
た場合、液晶層５０における添加剤の濃度は、画像表示領域１０ａの中心に近付く程高く
なる。これに対し、動作中に液晶装置に投射される光の強度も、画像表示領域１０ａの中
心に近付く程高くなる場合が多い。よって、上述した構成によれば、極めて効率的に液晶
層５０の耐光性を高めることが可能である。
【００６６】
以上説明したように、本実施形態に係る液晶装置によれば、表示画像の品質を低下させ
ることなく、耐光性を向上させることが可能である。
【００６７】
＜液晶装置の製造方法＞
次に、上述した液晶装置の製造方法について、図６から図１５を参照して説明する。
【００６８】
＜第１実施形態＞
先ず、第１実施形態に係る液晶装置の製造方法について、図６から図１１を参照して説
明する。ここに図６から図９は夫々、第１実施形態に係る液晶装置の製造方法を、順を追
って示す工程斜視図であり、図１０及び図１１は夫々、第１実施形態に係る液晶装置の製
造方法の変形例を示す工程斜視図である。尚、以下では、上述した液晶装置についての説
明と整合性をとるため、本発明に係る「第１液晶」及び「第２液晶」を、第１液晶部５０
ａ及び第２液晶部５０ｂとして夫々記載するものとする。
【００６９】
図６において、第１実施形態に係る液晶装置の製造方法では、先ず本発明の「一方の基
板」の一例であるＴＦＴアレイ基板１０上に、シール材５２が描画される。シール材５２
は、例えば図示しないディスペンサー装置等を用いて、画像表示領域１０ａ（図１参照）
となるべき部分を囲うように、未硬化の状態で額縁状に塗布される。
【００７０】
図７において、ＴＦＴアレイ基板１０におけるシール材５２に囲われた領域には、滴下
装置６１０によって、第１液晶部５０ａが滴下される。第１液晶部５０ａは、添加剤を全
く含まない、或いは後に滴下される第２液晶部５０ｂ（図８参照）より添加剤の濃度が低
い液晶である。尚、第１液晶部５０ａは、典型的には、画像表示領域１０ａの中心付近に
滴下される。
【００７１】
図８において、ＴＦＴアレイ基板１０におけるシール材５２に囲われた領域には、滴下
装置６２０によって、第１液晶部５０ａと重なるように第２液晶部５０ｂが滴下される。
第２液晶部５０ｂは、第１液晶部５０ａより添加剤の濃度が高い液晶である。第２液晶部
５０ｂは、図に示すように、滴下された第１液晶部５０ｂからはみ出ることのないように
滴下される。
【００７２】
図９において、第１液晶部５０ａ及び第２液晶部５０ｂが滴下された後には、ＴＦＴア
レイ基板１０と対向基板２０とが互いに接着される。この際、第１液晶部５０ａ及び第２
液晶部５０ｂは、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０によって押し伸ばされ、図３に示
すような配置となる。尚、このような貼り合わせは、典型的には、真空中において行われ
る。また、ＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０は、例えばアライメントマーク等を用
いて高精度に貼り合わせられる。
【００７３】
ＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０が相互に接着されると、例えば紫外線ランから
、シール材５２に紫外線が照射される。これによって、シール材５２は硬化し、ＴＦＴア
レイ基板１０及び対向基板２０はより強固に接着される。紫外線硬化樹脂の具体例として
は、アクリレートモノマー、メタクリレートモノマー、カチオン重合系モノマー、アクリ
レートオリゴマー、ポリエステル系オリゴマー、エポキシアクリレートオリゴマー、ウレ
タンアクリレートオリゴマー等を挙げることができる。
【００７４】
尚、シール材５２が熱硬化樹脂を含むように構成し、加熱によって硬化させるようにし
てもよい。このような熱硬化樹脂の具体例としては、例えば、エポキシ樹脂、ジアリルフ
タレート樹脂、シリコン樹脂、フェノール樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリイミド樹
脂、ポリウレタン樹脂、メラミン樹脂、ユリア樹脂、フッ素樹脂等を挙げることができる
。この場合でも、上述した紫外線硬化樹脂の場合と同様に、シール材５２を硬化させるこ
とで、ＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０をより強固に接着させることができる。
【００７５】
第１実施形態に係る液晶装置の製造方法では、図３に示すように、シール材５２に接し
ている液晶（即ち、第１液晶部５０ａ）の添加剤の濃度が、シール材５２に接していない
液晶（即ち、第２液晶部５０ｂ）の添加剤の濃度より低くなるため、シール材５２に含ま
れる反応開始剤と液晶層５０に含まれる添加剤とが反応してしまう確率を低減することが
できる。よって、液晶層５０における不純物質の増加を抑制することができ、液晶層５０
の表示特性が劣化してしまうことを低減することができる。
【００７６】
尚、図４に示した液晶装置のように、シール材５２に部分的に接する部分を第１液晶部
５０ａとする場合には、先ず図１０に示すように、シール材５２で囲われた領域の上方側
（即ち、図の右上側）に第１液晶部５０ａを滴下した後、図１１に示すように、シール材
５２で囲われた領域の中心付近に第２液晶部５０ｂを滴下すればよい。
【００７７】
また、第１液晶部５０ａの滴下及び第２液晶部５０ｂの滴下は、製造される液晶装置に
おいて図３や図４に示すような配置が実現されるのであれば、互いに順番を入れ替えて行
われてもよい。即ち、第２液晶部５０ｂが滴下された後に、第１液晶部５０ａが滴下され
るようにしてもよい。
【００７８】
以上説明したように、第１実施形態に係る液晶装置の製造方法によれば、高い耐光性を
有すると共に、高品質な画像を表示することのできる液晶装置を製造することが可能であ
る。
【００７９】
＜第２実施形態＞
次に、第２実施形態に係る液晶装置の製造方法について、図１２から図１５を参照して
説明する。ここに図１２及び図１３は夫々、第２実施形態に係る液晶装置の製造方法を、
順を追って示す工程斜視図である。また図１４は、第２実施形態に係る液晶装置の製造方
法によって製造される液晶装置の構成を示す平面図であり、図１５は、第２実施形態に係
る液晶装置の製造方法の変形例によって製造される液晶装置の構成を示す平面図である。
尚、第２実施形態は、上述の第１実施形態と比べて一部の工程が異なり、その他の工程に
ついては概ね同様である。このため第２実施形態では、第１実施形態と異なる部分につい
て詳細に説明し、その他の重複する部分については適宜説明を省略する。
【００８０】
図１２において、第２実施形態に係る液晶装置の製造方法では、シール材５２が描画さ
れた後、例えば図示しないディスペンサー装置等によって、第１液晶部５０ａがシール材
５２に沿って額縁状に描画される。
【００８１】
図１３において、第１液晶部５０ａが描画された後には、滴下装置６２０によって、第
２液晶部５０ｂが第１液晶部５０ａに囲われた領域に滴下される。第２液晶部５０ｂは、
ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０とが互いに接着される際に、第１液晶部５０ａによ
って囲われた領域を埋めるように押し伸ばされる。
【００８２】
図１４において、上述した製造方法によって製造された液晶装置では、第１液晶部５０
ａ及び第２液晶部５０ｂが、夫々図に示すように配置される。よって、第１実施形態と同
様に、シール材５２に接している液晶（即ち、第１液晶部５０ａ）の添加剤の濃度が、シ
ール材５２に接していない液晶（即ち、第２液晶部５０ｂ）の添加剤の濃度より低くなる
ため、シール材５２に含まれる反応開始剤と液晶層５０に含まれる添加剤とが反応してし
まう確率を低減することができる。よって、液晶層５０における不純物質の増加を抑制す
ることができ、液晶層５０の表示特性が劣化してしまうことを低減することができる。
【００８３】
加えて第２実施形態では、第１液晶部５０ａが描画されることによって設けられるため
、第１液晶部５０ａが配置される領域を高い精度で設定することができる。また、第１液
晶部５０ａと第２液晶部５０ｂが混ざってしまうことを防止できるため、極めて好適に第
１液晶部５０ａ及び第２液晶部５０ｂを配置することができる。
【００８４】
図１５において、第１液晶部５０ａを描画する領域を、シール材５２に部分的に接する
ような領域とすれば、第１液晶部５０ａ及び第２液晶部５０ｂを図に示すような配置とす
ることもできる。このような場合であっても、シール材５２に接する液晶が部分的に添加
剤の濃度の低いもの（即ち、第１液晶部５０ａ）となるため、上述した効果は相応に得ら
れる。
【００８５】
以上説明したように、第２実施形態に係る液晶装置の製造方法によれば、高い耐光性を
有すると共に、高品質な画像を表示することのできる液晶装置を、より好適に製造するこ
とが可能である。
【００８６】
＜電子機器＞
次に、上述した液晶装置を各種の電子機器に適用する場合について説明する。ここに図
１６は、プロジェクターの構成例を示す平面図である。以下では、この液晶装置をライト
バルブとして用いたプロジェクターについて説明する。
【００８７】
図１６に示されるように、プロジェクター１１００内部には、ハロゲンランプ等の白色
光源からなるランプユニット１１０２が設けられている。このランプユニット１１０２か
ら射出された投射光は、ライトガイド１１０４内に配置された４枚のミラー１１０６及び
２枚のダイクロイックミラー１１０８によってＲＧＢの３原色に分離され、各原色に対応
するライトバルブとしての液晶パネル１１１０Ｒ、１１１０Ｂ及び１１１０Ｇに入射され
る。
【００８８】
液晶パネル１１１０Ｒ、１１１０Ｂ及び１１１０Ｇの構成は、上述した液晶装置と同等
であり、画像信号処理回路から供給されるＲ、Ｇ、Ｂの原色信号でそれぞれ駆動されるも
のである。そして、これらの液晶パネルによって変調された光は、ダイクロイックプリズ
ム１１１２に３方向から入射される。このダイクロイックプリズム１１１２においては、
Ｒ及びＢの光が９０度に屈折する一方、Ｇの光が直進する。従って、各色の画像が合成さ
れる結果、投射レンズ１１１４を介して、スクリーン等にカラー画像が投写されることと
なる。
【００８９】
ここで、各液晶パネル１１１０Ｒ、１１１０Ｂ及び１１１０Ｇによる表示像について着
目すると、液晶パネル１１１０Ｇによる表示像は、液晶パネル１１１０Ｒ、１１１０Ｂに
よる表示像に対して左右反転することが必要となる。
【００９０】
尚、液晶パネル１１１０Ｒ、１１１０Ｂ及び１１１０Ｇには、ダイクロイックミラー１
１０８によって、Ｒ、Ｇ、Ｂの各原色に対応する光が入射するので、カラーフィルターを
設ける必要はない。
【００９１】
尚、図１６を参照して説明した電子機器の他にも、モバイル型のパーソナルコンピュー
ターや、携帯電話、液晶テレビや、ビューファインダー型、モニタ直視型のビデオテープ
レコーダー、カーナビゲーション装置、ページャー、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ
ー、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた装置等が挙げ
られる。そして、これらの各種電子機器に適用可能なのは言うまでもない。
【００９２】
本発明は、上述した実施形態に限られるものではなく、特許請求の範囲及び明細書全体
から読み取れる発明の要旨或いは思想に反しない範囲で適宜変更可能であり、そのような
変更を伴う液晶装置及び該液晶装置を備えた電子機器、並びに液晶装置の製造方法もまた
本発明の技術的範囲に含まれるものである。
【図面の簡単な説明】
【００９３】
【図１】実施形態に係る液晶装置の全体構成を示す平面図である。
【図２】図１のＨ−Ｈ´線断面図である。
【図３】実施形態に係る液晶装置の液晶層の構成を概念的に示す平面図である。
【図４】実施形態に係る液晶装置の変形例を示す平面図（その１）である。
【図５】実施形態に係る液晶装置の変形例を示す平面図（その２）である。
【図６】第１実施形態に係る液晶装置の製造方法を、順を追って示す工程斜視図（その１）である。
【図７】第１実施形態に係る液晶装置の製造方法を、順を追って示す工程斜視図（その２）である。
【図８】第１実施形態に係る液晶装置の製造方法を、順を追って示す工程斜視図（その３）である。
【図９】第１実施形態に係る液晶装置の製造方法を、順を追って示す工程斜視図（その４）である。
【図１０】第１実施形態に係る液晶装置の製造方法の変形例を示す工程斜視図（その１）である。
【図１１】第１実施形態に係る液晶装置の製造方法の変形例を示す工程斜視図（その２）である。
【図１２】第２実施形態に係る液晶装置の製造方法を、順を追って示す工程斜視図（その１）である。
【図１３】第２実施形態に係る液晶装置の製造方法を、順を追って示す工程斜視図（その２）である。
【図１４】第２実施形態に係る液晶装置の製造方法によって製造される液晶装置の構成を示す平面図である。
【図１５】第２実施形態に係る液晶装置の製造方法の変形例によって製造される液晶装置の構成を示す平面図である。
【図１６】液晶装置を適用した電子機器の一例たるプロジェクターの構成を示す平面図である。
【符号の説明】
【００９４】
１０…ＴＦＴアレイ基板、１０ａ…画像表示領域、２０…対向基板、３０…ＴＦＴ、５
０…液晶層、５０ａ…第１液晶部、５０ｂ…第２液晶部、５０ｃ…第３液晶部、５２…シ
ール材、１０１…データ線駆動回路、１０２…外部回路接続端子、１０４…走査線駆動回
路、６１０，６２０…液晶滴下装置
【図１】
2010139921.tif 000004
【図２】
2010139921.tif 000005
【図３】
2010139921.tif 000006
【図４】
2010139921.tif 000007
【図５】
2010139921.tif 000008
【図６】
2010139921.tif 000009
【図７】
2010139921.tif 000010
【図８】
2010139921.tif 000011
【図９】
2010139921.tif 000012
【図１０】
2010139921.tif 000013
【図１１】
2010139921.tif 000014
【図１２】
2010139921.tif 000015
【図１３】
2010139921.tif 000016
【図１４】
2010139921.tif 000017
【図１５】
2010139921.tif 000018
【図１６】
2010139921.tif 000019