(57)【要約】【課題】軽量で高剛性な可動部を備え、高加減速で高精度位置決め可能な露光装置用ステージを提供する。【解決手段】  原版または基板を搭載して移動する可動部を備える走査型露光装置であって、前記可動部は、走査方向に平行で、かつ、前記可動部の一端から他端に渡ってつなぎ目なく配置される複数の第１棒状部材と、前記複数の第１棒状部材と交差するように配置され、前記第１棒状部材とともに複数の直方体の辺を形成する複数の第２棒状部材と、前記複数の直方体の６面の四角形において対角線上に配置される複数の第３棒状部材と、を含む。【選択図】図２
2010258243.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
原版または基板を搭載して移動する可動部を備える走査型露光装置であって、前記可動部は、
走査方向に平行で、かつ、前記可動部の一端から他端に渡ってつなぎ目なく配置される複数の第１棒状部材と、
前記複数の第１棒状部材と交差するように配置され、前記第１棒状部材とともに複数の直方体の辺を形成する複数の第２棒状部材と、
前記複数の直方体の６面の四角形において対角線上に配置される複数の第３棒状部材と、
を含むことを特徴とする走査型露光装置。
【請求項２】
前記複数の第２棒状部材は、前記走査方向に直交する２方向のそれぞれに平行に配置され、
前記２方向のうち少なくとも一方に平行に配置された第２棒状部材が、前記複数の第１棒状部材と一体的に構成されることを特徴とする請求項１に記載の走査型露光装置。
【請求項３】
前記第１棒状部材の軸方向におけるヤング率は、前記軸方向に直交する方向におけるヤング率よりも高いことを特徴とする請求項１または２に記載の走査型露光装置。
【請求項４】
前記第１棒状部材は炭素繊維強化部材で構成され、
前記第１棒状部材の軸方向における炭素繊維の割合は、前記軸方向に直交する方向における炭素繊維の割合よりも高いことを特徴とする請求項１〜３のいずれか１つに記載の走査型露光装置。
【請求項５】
前記可動部に力を与えるアクチュエータを備え、  前記可動部の側面であって、かつ、前記第１棒状部材と前記第２棒状部材が交差する部分において、前記アクチュエータの可動子が締結されることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１つに記載の走査型露光装置。
【請求項６】
前記アクチュエータの可動子は、所定の磁極ピッチで前記走査方向に沿って配置された複数の永久磁石を含み、  前記アクチュエータの可動子が締結される締結位置の間隔は前記磁極ピッチの整数倍である、もしくは前記磁極ピッチが締結位置の間隔の整数倍であることを特徴とする請求項５に記載の走査型露光装置。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか１つに記載の走査型露光装置を用いて前記基板を露光する工程と、
前記工程で露光された前記基板を現像する工程と、
を有することを特徴とするデバイス製造方法。                  
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、走査型露光装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、半導体素子等を製造するためのフォトリソグラフィ工程では、マスク（又はレチクル）に形成されたパターンを投影光学系を介してウエハ等の感光基板上に投影露光する投影露光装置が使用されている。この投影露光装置としては、ステップ・アンド・リピート方式の縮小投影露光装置（いわゆるステッパ）等の静止露光型やステップ・アンド・スキャン、あるいはスリット・スキャン等の走査露光型の露光装置が用いられている。
【０００３】
マスクやウエハを搭載する基板ステージまたは原版ステージでは、高速で加速・減速・移動をし、高精度の位置決めをすることが求められる。特に基板ステージまたは弦板ステージの可動部については、軽量で、高剛性な構造体であることが望ましい。特許文献１では、図３１に示すように基板ステージの可動部構造体１０１０を中空構造にし、且つ内部リブ１０１２，１０１３により構造を補強することで、軽量で、高剛性な可動部を実現している。
【０００４】
また、別の産業分野である人工衛星の分野では、特許文献２で提案されたように、パイプを継手で繋いだトラス構造を構造体として適用することで、構造体の軽量化を可能にしている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００４−３４３０９７号公報
【特許文献２】特許第２８４８６２１号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
露光装置において、基板ステージまたは原版ステージの高加減速化に伴って、基板ステージ可動部をさらに軽量化することが課題となっている。
また、軽量化する一方で、基板ステージまたは原版ステージの可動部の剛性を向上させて、スキャン方向の加減速力による変形量を低減し、アライメント精度を向上させることが課題となっている。例えば、基板ステージ可動部の変形量が大きいとき、基板やチャックの位置ずれを発生させ、アライメント精度を劣化させてしまう。また、基板ステージがスキャン方向へ加減速しているときに露光する場合、スキャン方向加減速力に起因する可動部変形がアライメント精度を劣化させてしまう。
また、特許文献１に記載されるトラス構造は、パイプと継手の接合部分の剛性や、継手単品の剛性が弱いと、構造体全体の剛性を低下させる要因になるため、単に可動部をトラス構造にしただけでは装置の性能を維持するための十分な剛性が得られない可能性があった。
【０００７】
本発明はこのような課題に鑑みてなされたものである。基板ステージまたは原版ステージの可動部の構造体へトラス構造を適用することで、軽量な可動部を備えた基板ステージまたは原版ステージを提供する。さらに、重量を増加させることなく、トラス構造の可動部のスキャン方向剛性およびピッチング方向曲げ剛性を向上させることで変形量を低減し、アライメント精度を向上させる。
【０００８】
本発明は、トラス構造等の骨組構造を走査型露光装置のステージに適用してステージを軽量化するとともに、ステージの変形に起因する露光精度の劣化を抑えることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
原版または基板を搭載して移動する可動部を備える走査型露光装置であって、前記可動部は、走査方向に平行で、かつ、前記可動部の一端から他端に渡ってつなぎ目なく配置される複数の第１棒状部材と、前記複数の第１棒状部材と交差するように配置され、前記第１棒状部材とともに複数の直方体の辺を形成する複数の第２棒状部材と、前記複数の直方体の６面の四角形において対角線上に配置される複数の第３棒状部材と、
を含むことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、トラス構造等の骨組構造を走査型露光装置のステージに適用してステージを軽量化するとともに、ステージの変形に起因する露光精度の劣化を抑えることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の実施形態１の基板ステージの概略構成を示す図である。
【図２】図１のＡ−Ａ’断面図を示す図である。
【図３】本発明の実施形態１のトラス構造体を構成する基本トラス構造体、および第一の構造を示す図である。
【図４】本発明の実施形態１のトラス構造体の一例を示す図である。
【図５】本発明の実施形態１ロッド配置方法について説明する図である。
【図６】本発明の実施形態１トラス構造体に付加される力を示す図である。
【図７】図６のＢ−Ｂ’断面図を示す図である。
【図８】本発明の実施形態１のロッド形状について説明する図である。
【図９】図８の概念を示す図である。
【図１０】本発明の実施形態１のトラス構造体の応用例を示す図である。
【図１１】本発明の実施形態１のトラス構造体の第三の構造を示す図である。
【図１２】本発明の実施形態１のトラス構造体の応用例を示す図である。
【図１３】本発明の実施形態１のトラス構造体の板状トラスユニットの応用例を示す図である。
【図１４】本発明の実施形態１のトラス構造体の板状トラスユニットを示す図である。
【図１５】本発明の実施形態１のトラス構造体の板状トラスユニットの応用例を示す図である。
【図１６】本発明の実施形態１のトラス構造体の板状トラスユニットの応用例を示す図である。
【図１７】本発明の実施形態１のトラス構造体の組み立て手順の例を示す図である。
【図１８】本発明の実施形態１のトラス構造体の組み立て後の形状を示す図である。
【図１９】本発明の実施形態１のトラス構造体の材質について説明する図である。
【図２０】本発明の実施形態１のトラス構造体のロッドの材質について説明する図である。
【図２１】本発明の実施形態１のトラス構造体のロッドの材質について説明する図である。
【図２２】本発明の実施形態１のトラス構造体の補強方法について説明する図である。
【図２３】本発明の実施形態２の基板ステージの概略構成を示す図である。
【図２４】本発明の実施形態２の基板ステージの加速時の変形形状を示す図である。
【図２５】本発明の実施形態２の基板ステージの加速時の力の分布を示す概念図である。
【図２６】本発明実施形態のトラス構造体と磁石ユニットとの締結方法を説明する図である。
【図２７】図２６のＣ−Ｃ’断面図を示す図である。
【図２８】本発明の実施形態のトラス構造体と磁石ユニットとの締結方法の一例を示す図である。
【図２９】本発明の実施形態のトラス構造体と磁石ユニットとの締結方法の一例を示す図である
【図３０】本発明の実施形態の露光装置の全体構成図である。
【図３１】従来例の斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、本発明のステージが適用される例示的な走査型露光装置を説明する。露光装置は図３０に示すように、照明装置９０１、原版であるレチクルを搭載したレチクルステージ装置９０２、投影光学系９０３、基板であるウエハを搭載したウエハステージ装置９０４と、を有する。レチクルステージ装置９０２は、レチクルステージ（原版ステージ）を有し、ウエハステージ装置９０４はウエハステージ（基板ステージ）を有する。露光装置は、レチクルに形成された回路パターンをウエハに投影露光するものであり、ステップアンドスキャン投影露光方式である。
【００１３】
照明装置９０１は回路パターンが形成されたレチクルを照明し、光源部と照明光学系とを有する。光源部は、例えば、光源としてレーザを使用する。レーザは、波長約１９３ｎｍのＡｒＦエキシマレーザ、波長約２４８ｎｍのＫｒＦエキシマレーザ、波長約１５３ｎｍのＦ２エキシマレーザなどを使用することができる。レーザの種類はエキシマレーザに限定されず、例えば、ＹＡＧレーザを使用してもよいし、そのレーザの個数も限定されない。光源にレーザが使用される場合、レーザ光源からの平行光束を所望のビーム形状に整形する光束整形光学系、コヒーレントなレーザ光束をインコヒーレント化するインコヒーレント化光学系を使用することが好ましい。また、光源部に使用可能な光源はレーザに限定されるものではなく、一又は複数の水銀ランプやキセノンランプなどのランプも使用可能である。照明光学系はレチクルを照明する光学系であり、レンズ、ミラー、ライトインテグレーター、絞り等を含む。
【００１４】
投影光学系９０３は、複数のレンズ素子のみからなる光学系、複数のレンズ素子と少なくとも一枚の凹面鏡とを有する光学系、複数のレンズ素子と少なくとも一枚のキノフォームなどの回折光学素子とを有する光学系、を使用することができる。
レチクルステージ装置９０２およびウエハステージ装置９０４は、例えば、リニアモータによって移動可能である。ステップアンドスキャン投影露光方式の場合には、それぞれのステージ装置９０２，９０４は同期して移動する。また、レチクルのパターンをウエハ上に位置合わせするためにウエハステージ装置９０４およびレチクルステージ装置９０２の少なくともいずれかに別途アクチュエータを備える。
このような露光装置は、半導体集積回路等の半導体デバイスや、マイクロマシン、薄膜磁気ヘッド等の微細なパターンが形成されたデバイスの製造に利用される。
【００１５】
本発明は、例えば、高加減速で高精度な位置決めをする露光装置用基板ステージ、もしくはその露光装置用基板ステージを搭載する露光装置に適用可能である。本発明によれば、基板ステージ可動部の構造体へトラス構造を適用することで可動部を軽量化することが可能である。さらに、スキャン方向へ平行なロッドを配置したトラス構造にすることで、重量を増加させることなく、可動部のスキャン方向剛性およびピッチング方向曲げ剛性を向上させることが可能である。これによって、ステージ可動部を軽量化、高剛性化でき、高加減速で高精度位置決めが可能になる。
【００１６】
以下では図３０の露光装置用ステージである基板ステージ装置９０４における基板ステージの実施形態を説明するが、原版ステージ装置９０２における原版ステージにも適用される。
次に、図1は、本発明の実施形態１の基板ステージの概略構成を示す図である。この基板ステージ１は、鉛直方向をＺ方向、スキャン方向をＹ方向として、ＸＹ方向に可動な粗動ステージ２と、粗動ステージ２上に搭載される６軸方向に可動な微動ステージ３を備えた２段構成の基板ステージである。微動ステージ３上には、基板であるウエハ４を吸着保持するチャック５を搭載しており、ウエハ４を載せて保持し運搬することができる。Ｙ方向へスキャンして露光パターンをウエハ４上に焼き付ける場合、粗動ステージ３で大ストロークを移動し、微動ステージ４でウエハ４の６軸方向の位置を精密に位置決めする。本発明の特徴のひとつとして、チャック５を保持する微動ステージ可動部（可動部）の構造体はトラス状の構造体（これ以降「トラス構造体」と呼ぶ）からなり、複数本のロッド１０１〜１０５を組み合わせて構成される。
【００１７】
図２は、図１におけるＡ−Ａ’断面を示す図である。図２を用いて、さらに詳細な構成について説明する。粗動ステージ２は、粗動ステージ下面に設置される静圧軸受６を介して、ステージ定盤７からＺ方向に支持される。これによって、ＸＹ方向にほとんど摩擦力を受けることなく移動可能になっている。不図示のアクチュエーターが粗動ステージ２に設置されており、このアクチュエーターが粗動ステージ２へ移動に必要な推力を供給する。粗動ステージ２上には、自重支持用バネ８を介して微動ステージ３が搭載される。粗動ステージ２と微動ステージ３の間には、複数のリニアモータ９が配置される。微動ステージ３側へ永久磁石を備えたリニアモータ可動子１０が配置され、粗動ステージ２側へコイルを備えたリニアモータ固定子１１が配置される。図２ではリニアモータ２個を図示しているが、２個以上あって良い。複数のリニアモータ９の推力の方向、大きさを制御することで、微動ステージ３を６軸方向に移動させ、位置決めすることができる。
【００１８】
また、粗動ステージ２と微動ステージ３の間には、Ｘ用電磁石１２とＹ用電磁石１３が配置される。電磁石は、以下のような構成である。高透磁率材料からなるＩコアおよびＥコアと、Ｅコアを励磁する励磁コイルから構成される。Ｅコアに励磁コイルを巻回し、ある空隙を介してＥコアとＩコアを対面させる。励磁コイルに通電してＥコアを励磁すると、ＥコアとＩコアの間に磁気的吸引力が発生するという仕組みである。Ｘ用電磁石１２とＹ用電磁石１３はそれぞれ、Ｘ用Ｉコア１６、Ｘ用Ｅコア１５、Ｘ用励磁コイル１４と、Ｙ用Ｉコア１７、Ｙ用Ｅコア１８、Ｙ用励磁コイル１９から構成される。微動ステージ３において、Ｙ軸に垂直な両側面にＹ用Ｉコア１７が設置される。Ｙ用Ｅコア１８は、Ｙ用励磁コイル１９に巻回された状態で、Ｙ用Ｉコア１７と対面するように粗動ステージ２に設置される。このようなＹ用電磁石１３によって、微動ステージ３と粗動ステージ２の間にＹ方向の磁気的吸引力を発生させることができる。粗動ステージ２がＹ方向へ加速する場合、Ｙ方向加速力をＹ用電磁石１３を介して微動ステージ３へ伝達することができ、結果として、微動ステージ３を粗動ステージ２に追従させてＹ方向へ加速させ、移動させることができる。
【００１９】
Ｘ用電磁石１２においてもＹ用電磁石１３と同様の働きをする。粗動ステージ２がＸ方向へ加速する場合、Ｘ方向加速力をＸ用電磁石１２を介して微動ステージ３へ伝達することができ、結果として、微動ステージ３を粗動ステージ２に追従させてＸ方向へ加速させ、移動させることができる。微動ステージ可動部の構造体はトラス構造体２０から構成される。トラス構造体２０の上面には中間板２１が設置され、その上にチャック５が搭載される。チャック５は中間板２１から着脱可能になっている。中間板２１へ不図示の真空排気用配管が繋がっており、中間板２１とチャック５の間を真空排気することで、チャック５を中間板２１へ吸着させ、保持できる構成になっている。チャック５はウエハ４を保持できる構成になっており、例えば真空排気による吸着力や、静電力による吸着力を利用して保持できる。
【００２０】
本発明の実施形態１のチャック５を支持する微動ステージ可動部（可動部）のトラス構造体２０について、詳細を説明する。図３の基本トラス構造体２２は、直方体を形成する１２本のロッドと、直方体の６面の四角形において、対角線上に配置される６本のロッド（第３棒状部材）から構成される。スキャン方向（走査方向）であるＹ軸に平行で上部面にある１組のロッド１０１、１０２（第１棒状部材）と同じくＹ軸に平行でその垂直方向（Ｚ軸）下側の面にある１組のロッド２０１、２０２（第１棒状部材）を有する。スキャン方向に２組の同一長のロッドを有することとなる。さらにＺ軸方向に（第１棒状部材に交差するように）ロッド５０１、５０２，５０３，５０４（第２の棒状部材）を有し、ロッド１０１，１０２，２０１，２０２とともに直方体の辺を形成している。これら全てのロッドはそれぞれ基本トラス構造体の一端から他端へ渡ってつなぎ目なく配置される。この内同一ＹＺ面にあるロッド１０１と２０１に対し対角線をなす位置にロッド１６０（第３棒状部材）が配置され、同様にロッド１０２とロッド２０２に対しロッド１７０が配置される。ここで対角線上のロッド１６０はＹＺ面上で負の傾きを持ち、一方ロッド１７０は正の傾きを持つ。
【００２１】
この結果ロッド１０１、ロッド５０３、ロッド１６０の一組のロッドはＹＺ面で三角形を形成し、強い剛性をもたらす。同様に１０２，５０２、１７０の一組も三角形を形成する。Ｙ方向はスキャン方向であるので、このトラス構造はスキャン方向に強い剛性を基本トラス構造体２２に与える。この基本トラス構造体２２は、５つの三角錐を組み合わせることで直方体を構成していると言うこともできる。
基本トラス構造体２２を４個並べると、図４のようなトラス構造体４９を構成することができる。本実施例のトラス構造体２０は、図３に示すような基本トラス構造体２２を複数個並べた構成である。
【００２２】
図１の微動ステージ３のトラス構造体２０を構成する複数のロッドのうちロッド１０１〜ロッド１０５は、スキャン方向であるＹ方向に平行に設置される。また、ロッド１０１〜ロッド１０５は、一体成形品からなり、Ｙ方向においてトラス構造体の端部６０からもう一方の端部６０へ渡ってつなぎ目なく配置される。ロッド１０１〜ロッド１０５に平行で、鉛直方向下方に設置されるロッドにおいても同様で、スキャン方向に平行に設置され、一体成形品からなり、スキャン方向においてトラス構造体の端部６０からもう一方の端部６０へ渡ってつなぎ目なく配置される。図２においては、ロッド１０３、ロッド２０３、ロッド３０３が、スキャン方向に平行に設置されていることがわかる。さらに、一体成形品からなり、Ｙ方向においてトラス構造体２０の端部６０からもう一方の端部６０へ渡ってつなぎ目なく配置されていることがわかる。微動ステージ可動部の構造体へこのトラス構造体２０を適用することで、微動ステージ可動部を軽量化することができ、さらに、重量を増加させることなくスキャン方向剛性およびピッチング方向曲げ剛性を向上させることができる。
【００２３】
剛性の観点から、トラス構造体におけるロッドについて詳細に説明する。図５にロッド配置について比較した図を示す。図５（a）は、１本のロッド４０１をＹ方向へ力Ｆで引っ張り、そのときの変位をΔＹ１としたときの剛性をＫ１とすることを示している。剛性Ｋ１は下記式で示すことができる。
Ｋ１＝Ｆ／ΔＹ１  …  式１
図５（b）は、２本のロッド４０２が２θの角度を形成して接合された図である。接合された一端をＹ方向へ力Ｆで引っ張り、そのときの変位をΔＹ２としたときの剛性をＫ２とする。剛性Ｋ２を下記式で示すことができる。
Ｋ２＝Ｆ／ΔＹ２  …  式２
ロッド４０１およびロッド４０２は同じ材質であるとして、
ロッド４０１について、重量Ｗ１、断面積Ｓ１、ヤング率Ｅ、密度ρとし、
ロッド４０２について、重量Ｗ２、断面積Ｓ２、ヤング率Ｅ、密度ρとする。
ロッド４０１およびロッド４０２の重量が等しい場合、剛性Ｋ１および剛性Ｋ２の大きさを比較すると、以下のことがわかる。
ロッド４０１およびロッド４０２の重量が等しいので、
Ｗ１＝Ｗ２  …  式３
重量、密度が等しいことから、体積が等しい。そのため断面積の関係は下記式で示される。
Ｓ２＝（１／２）・Ｓ１・ｃｏｓθ  …  式４
フックの法則から下記２式が示される。
Ｆ／Ｓ１＝Ｅ・ΔＹ１／ａ  …  式５
Ｆ／Ｓ２＝Ｅ・ΔＹ２／ａ  …  式６
式１、式２、式４、式５、式６から、剛性Ｋ１および剛性Ｋ２は下記式で示される。
Ｋ１＝Ｅ・Ｓ１／ａ  …  式７
Ｋ２＝Ｅ・Ｓ１／ａ・（ｃｏｓθ）＾３  …  式８
よって、０ｄｅｇ＜θ＜９０ｄｅｇのとき、下記式を満たすことが言える。
Ｋ１ ＜ Ｋ２（０ｄｅｇ＜θ＜９０ｄｅｇ）  …  式９
【００２４】
以上のことから、重量を増加させることなく、スキャン方向であるＹ方向の剛性を向上させるためには、ロッドをＹ方向に平行に配置することが、有効なロッドの配置方法であることがわかる。  この考えは、図１のトラス構造体２０におけるロッド１０１〜１０５の配置方法に反映されており、本発明の特徴のひとつである。
微動ステージ可動部のトラス構造体２０がＹ方向へ加速するとき、トラス構造体２０に付加される力の状態を示した図を図６に示す。微動ステージ可動部のトラス構造体２０へＹ用電磁石１３から加速力Ｆａが伝えられる。この加速力Ｆａと、逆方向に発生するトラス構造体２０の慣性力によって、トラス構造体２０全体にＹ方向に平行な引張力Ｆｐが発生する。このＹ方向引張力Ｆｐに対して、ロッド１０１〜ロッド１０５をＹ方向へ平行に配置することでトラス構造体２０全体のスキャン方向であるＹ方向の剛性を向上させ、Ｙ方向変形量を小さく抑えている。
【００２５】
図７に図６のＢ−Ｂ’断面図を示す。ＹＺ平面内に配置するロッドについても同様であり、鉛直方向に並列するロッド１０３、ロッド２０３、ロッド３０３をＹ方向へ平行に配置することでトラス構造体２０全体のスキャン方向であるＹ方向の剛性を向上させ、Ｙ方向変形量を小さく抑えている。
図８にロッド形状について比較した図を示す。図８（ａ）は、１本の長さaのロッド４０１をＹ方向へ力Ｆで引っ張り、そのときの変位をΔＹ１としたときの剛性をＫ１とすることを示している。図８（ｂ）は、ロッド４０１の半分の長さである２本のロッド４０３が、Ｙ方向において直列に接合された図である。接合部分には、厚さｄｙの接着層３０が挟まれており、２本のロッド４０３を１本に接合している。そして、Ｙ方向へ力Ｆで引っ張り、そのときの変位をΔＹ３としたときの剛性をＫ３とすることを示している。
ロッド４０１およびロッド４０３は同じ材質であるとして、断面積Ｓ１、ヤング率Ｅとし、接着層３０については、断面積Ｓ１、ヤング率Ｅ３、厚さｄｙとする。
【００２６】
図８をバネ系として簡略化した図９を示す。図８（ａ）を簡略化したものを図９（ａ）に、図８（ｂ）を簡略化したものを図９（ｂ）にそれぞれ示す。図９（ｂ）のように、ロッド４０３、１本の剛性をＫｒ、接着層１層の剛性をＫｇとする。
ロッド４０１の剛性Ｋ１は、上記式７を参考すると下記式で示すことができる。
Ｋ１＝Ｅ・Ｓ１／ａ  …  式１１
ロッド４０３、１本の剛性Ｋｒは、下記式で示すことができる。
Ｋｒ＝Ｅ・Ｓ１／（ａ／２）  …  式１２
接着層１層の剛性Ｋｇは、下記式で示すことができる。
Ｋｇ＝Ｅ３・Ｓ１／ｄｙ  …  式１３
ロッド４０３、２本を接着層で接合したときのトータルの剛性Ｋ３は、下記式で示すことができる。
１／Ｋ３＝２／Ｋｒ＋１／Ｋｇ  …  式１４
式１１、式１２、式１３、式１４より、剛性Ｋ１、剛性Ｋ３の関係を下記式で示すことができる。
１／Ｋ３＝１／Ｋ１＋ｄｙ／(Ｅ３・Ｓ１)   …  式１５
【００２７】
式１５から以下のことが言える。接着層３０のヤング率Ｅ３とロッド４０１のヤング率Ｅが等しい場合、剛性Ｋ３と剛性Ｋ１は等しいことは明確なので、接着層３０のヤング率Ｅ３がロッド４０１のヤング率Ｅより小さいほど、剛性Ｋ３は剛性Ｋ１より小さくなることがわかる。また、接着層３０の厚さｄｙが大きくなるほど、剛性Ｋ３は剛性Ｋ１より小さくなることがわかる。例えば、ロッド４０１の材質が鉄の場合ヤング率は２００ＧＰａ、セラミックスＳｉＣの場合ヤング率は４００ＧＰａ、ＣＦＲＰ一方向強化材の場合ヤング率は５５０ＧＰａ程度である。これに対して、接着層３０のヤング率は５ＧＰａ程度である。接着層３０の厚さｄｙはできるだけ薄いほうがよいが、厚さ０．５ｍｍ以下でも、剛性Ｋ３を剛性Ｋ１より顕著に小さくなってしまう。以上のことから、スキャン方向であるＹ方向の剛性の低下を抑制するためには、ロッド４０１のように、ロッドをできるだけ一体成形品にし、Ｙ方向において接着層３０をできるだけ介在させないことが有効である。
【００２８】
このようなロッド形状、接着層の影響を考慮した考えは、図１のトラス構造体２０におけるロッド１０１〜１０５の形状に反映されており、本発明の特徴のひとつである。これを図６で説明する。微動ステージ可動部のトラス構造体２０へＹ用電磁石１３から加速力Ｆａが伝えられる。この加速力Ｆａと、加速力Ｆａと逆方向に発生するトラス構造体２０の慣性力によって、トラス構造体２０全体にＹ方向に平行な引張力Ｆｐが発生する。このＹ方向引張力Ｆｐに対して、Ｙ方向へ平行に配置されるロッド１０１〜ロッド１０５を一体成形品で構成し、Ｙ方向において接着層が介在しない構成にすることで、スキャン方向であるＹ方向の剛性低下を抑制している。そして、ロッド１０１〜ロッド１０５をそれぞれ、Ｙ方向においてトラス構造体２０の端部６０からもう一方の端部６０へ渡って配置することで、トラス構造体２０全体のＹ方向の剛性を確保し、Ｙ方向変形量を小さく抑えている。図７のように、ＹＺ平面内に配置するロッドに１０３，２０３，３０３ついても同様である。今回の例では、接着層介在によるロッドの剛性低下について説明したが、接着層に限る事象ではない。ロッドとロッドを継手で接合する構成や、ロッドとロッドをボルト締結で接合する場合でも同様に、剛性低下を招くという課題があり、その課題に対して本発明は有効である。
【００２９】
図１０に、トラス構造体におけるロッド配置に関して、その他の例について説明する。図１０は、図１のトラス構造体２０で、ＸＹ平面内に配置される複数のロッドのみを抜き出した３面図である。ロッド１０１〜ロッド１０５は、スキャン方向であるＹ方向に平行に設置され、一体成形品からなり、Ｙ方向において対面するトラス構造体２０の端部６０からもう一方の端部６０へ渡って配置される。Ｘ方向に平行なロッド１５１（第２棒状部材）や、ＸＹ軸に対して傾いた対角ロッド１６１は、各ロッド長手方向における端面６１を接合面として、ロッド１０１〜ロッド１０５へ接合されている。例えば、ロッド１０１とロッド１５１の端面６１に接着層が介在し、ロッド１０１とロッド１５１を接合している。
【００３０】
図１１は、トラス構造体２０のＸＹ平面内に配置されるロッドのその他の例である。ロッド１０１〜ロッド１０５は、Ｙ方向に平行に設置され、一体成形品からなり、Ｙ方向においてトラス構造体２０の端部６０からもう一方の端部６０へ渡ってつなぎ目なく配置される。Ｘ方向に平行なロッド５１１は、ロッド長手方向における端面６１を接合面として、Ｙ方向に平行なロッド１０１〜１０５へ同一水平面上で接合されている。さらに、Ｘ方向に平行なロッド５１２は、一体成形品からなり、Ｘ方向において対面するトラス構造体２０の端部６０からもう一方の端部６０へ渡ってつなぎ目なく配置される。Ｙ方向に平行なロッド１０１〜ロッド１０５と、Ｘ方向に平行なロッド５１２は、鉛直Ｚ方向にずらして配置され、その交点において鉛直Ｚ方向に重ねて連結されている。この二層の構造物にすることでトラス構造体２０の剛性を、スキャン方向であるＹ方向の剛性に加えて、Ｘ方向の剛性を向上させることができる。接合については、例えば、ロッド１０１、ロッド５１１、ロッド５１２のそれぞれの端面６１に接着層が介在し、ロッド１０１、ロッド５１１、ロッド５１２を一体に接合している。
【００３１】
図１２は、トラス構造体２０のＸＹ平面内に配置されるロッドのその他の例である。Ｙ方向（走査方向）に平行なロッドとＸ方向（走査方向に直行する）に平行なロッドを、一体成形品である（一体的に構成される）格子状部材６０１で構成したものである。格子状部材６０１は、ＸＹ方向においてトラス構造体の端部６０からもう一方の端部６０へ渡ってつなぎ目なく配置される。この構成にすることでトラス構造体２０の剛性を、スキャン方向であるＹ方向剛性に加えて、Ｘ方向剛性も向上させることができる。
図１３は、図１１の変形例である。図１１におけるロッド１０２〜ロッド１０４は、それぞれＸ方向に２分割され、ロッド１２１、ロッド１２２、ロッド１３１、ロッド１３２、ロッド１４１、ロッド１４２を形成している。ロッド１２１、ロッド１２２の接合方法は、例えばロッド１２１、ロッド１２２の端面６２を接着面として接合している。この構成にすることにより、トラス構造体が組み立てやすくなるというメリットがある。
【００３２】
図１４に示すような１枚板形状の同一平面上の板状トラスユニット２３を事前に組み立てる。そして、複数の板状トラスユニット２３とロッド５１２を組み立てて接合することで、図１３のトラス構造をつくることができる。このように、事前に板状トラスユニット２３を組み立てることで、その後組み立てるトラス構造体を板の組合せとして容易に組み立てることができる。図１４の板状トラスユニット２３は、上下面を形成するロッドとして、一体成形品のロッド１０１、ロッド２０１を配置し、板状トラスユニット２３の両端部に渡ってつなぎ目なく配置している。また、ロッド１０１、ロッド２０１に同一水平面上で直交し、ロッド１０１，２０１を均等に分割（図１４では４分割）するＸ方向のロッド５１１がロッド１０１，２０１に挟まれるように複数（図１４では５本）配置され、はしご状の形状をなす。
【００３３】
さらに均等に分割されたロッド１０１，２０１の各部とロッド５１１の対角線上に対角ロッド１６１が配置される。ここで隣り合う対角ロッド１６１はそれぞれその端部が、ロッド５１１を挟んで隣り合うように配置される。すなわち対角ロッド１６１の傾きが隣り合う対角ロッド１６１で正負逆になるように配置される。
そして、この板状トラスユニット２３を図１３のトラス構造へ組み込むとき、板状トラスユニット２３を、このトラス構造体２０（図１３）のＹ方向における端部６０からもう一方の端部６０へ渡って配置する。こうすることで、トラス構造（図１３）のＹ方向における端部６０からもう一方の端部６０へ渡って、一体成形品であるロッド１０１およびロッド１２１がつなぎ目なく配置される。
【００３４】
図１５に、図１３の構成を応用した例を示す。事前に板状トラスユニットをつくる方法を応用すると、容易に３次元構造のトラス構造体２０を組み立てることができる。ＸＹ平面を構成する板状トラスユニット２４、ＺＸ平面を構成する板状トラスユニット２５、ＹＺ平面を構成する板状トラスユニット２６を複数枚組み立てることで、図１５のトラス構造体ができることがわかる。このトラス構造体においても、スキャン方向であるＹ方向に平行にロッド１０１およびロッド１２１が設置され、そのロッドは一体成形品からなり、Ｙ方向においてトラス構造体の端部６０からもう一方の端部６０へ渡ってつなぎ目なく配置される。
【００３５】
図１６のトラス構造体５０においても同様である。図１６のトラス構造体５０では、Ｙ方向に平行にロッド１０１およびロッド１２１が設置され、そのロッドは一体成形品からなり、Ｙ方向においてトラス構造体５０の端部からもう一方の端部へ渡ってつなぎ目なく配置される。さらに、Ｘ方向に平行にロッド５１１，５２１が設置され、そのロッドは一体成形品からなり、Ｘ方向においてトラス構造体５０の端部からもう一方の端部へ渡ってつなぎ目なく配置されることがわかる。図１７に、図１６のトラス構造体５０における組立て手順を示す。
第１のステップ（ａ）で板状トラスユニット２７をＹ方向に平行に並べ接合する。第２のステップ（ｂ）で板状トラスユニット２９をＸ軸に平行に等間隔で板状トラスユニット２７の下方に配置し接着する。第３のステップ（ｃ）で板状トラスユニット２８をＹ軸に平行に板状トラスユニット２９に直交させて板状トラスユニット２７の下方に配置し接着する。第４のステップ（ｄ）で再び板状トラスユニット２７をＹ方向に平行に並べ、最下部に配置し接着して完成する。図１８に組立て後の形状を示す。
【００３６】
微動ステージ可動部に適用するトラス構造体の材質は、例えば、ＳｉＣ、アルミナなどのセラミックスや、低熱膨張材料や、ＧＦＲＰ、ＣＦＲＰなどの繊維強化複合材を挙げることができる。
トラス構造の特徴として、構造体に付加される外力に対して、複数のロッドそれぞれにおけるロッド軸方向の引張圧縮力で対抗できると考えることができる。この特徴を利用して、トラス構造体の剛性をさらに向上させることができる。図１９にその例を示す。トラス構造を形成するそれぞれのロッドは、各ロッド軸方向における剛性を強化した材料を適用する。この様子を図１９に示す。剛性強化方向はスキャン方向であるＹ軸方向である。基本的な考えとして、ロッド軸方向に直交する２方向の剛性と比較して、ロッド軸方向の剛性が大きい材料を適用する。例えば、図２０に示すようなロッド５５０である。このロッド５５０はＣＦＲＰ材（炭素繊維強化部材）から形成される。ヤング率の高い炭素繊維を主にロッド軸方向へ配置することで、ロッド軸方向のヤング率を向上させ、ロッド軸方向の剛性を向上させている。
【００３７】
ロッド５５０において、ロッド軸方向（軸方向）に直交する２方向のヤング率と比較して、ロッド軸方向のヤング率を更に大きくするためには、ロッド軸方向へ配置する炭素繊維の割合を、他の２方向へ配置する炭素繊維の割合より大きくすることで実現できる。炭素繊維をすべてロッド軸方向へ配置してロッド５５０を形成することも可能である。このようにすることで、ロッド単体のロッド軸方向剛性を向上させ、結果としてトラス構造体の剛性向上、トラス構造体のＹ方向剛性向上を可能にする。炭素繊維の材質をより高剛性のものを選択したり、ロッド表面に機械的な仕上げ加工を施したりすると、炭素繊維の毛羽立ちなどでロッド表面が荒れることがある。これは見た目が悪いことに加えて、雰囲気に露出した炭素繊維から炭素粉末が飛び散り、コンタミを発生させるという問題がある。炭素繊維を露出させないためには、図２１に示すように、ロッド５５０表面にコーティング膜を施すことが有効である。例として、ＫＮ、Ｎｉ、Ａｌなどの金属のメッキや、樹脂によるコーティングが挙げられる。また、シート状のＣＦＲＰ材をロッド周辺に巻くという方法もある。
【００３８】
ロッドとロッドの接合方法について、さらに高剛性に接合する場合、図２２に示すように、補強部材６０２を接合部の横に設けることが有効である。接合したいロッドからロッドへ渡って配置されるように、補強部材６０２を固定する。補強部材６０２をロッドに接着固定してもよい。また、補強部材６０２をロッドへボルト締結してもよい。また、ロッドを挟み込むように、補強部材６０２をボルト、ナットで締結してもよい。図２２では分かりやすいように、補強部材６０２をＬ字状や放射状の形状で図示しているが、形状はこれに限らず、作りやすいように四角形状や円板状でもよい。
本実施形態では、図３の基本トラス構造体２２を基本単位としたトラス構造体について説明したが、ロッドの配置はさまざまな配置があり、本発明は本実施例におけるロッド配置に限定するものではない。
また、本実施形態では、ウエハステージについて説明したが、本発明はこれに限定するものでなく、レチクルステージにも適用可能である。
【００３９】
以上述べたように、基板ステージ可動部の構造体へトラス構造を適用することで可動部を軽量化することができる。さらに、スキャン方向へ平行で、一体成形品からなるロッドを配置したトラス構造体によって、重量を増加させることなく、可動部のスキャン方向剛性を向上させることができる。結果として、基板ステージ１がスキャン方向へ加減速するときのスキャン方向変形量を低減することができ、これに起因するウエハ４やチャック５の位置ずれを防止し、高精度な位置決めを可能にする。また、基板ステージ１の加減速中に露光パターンをウエハ４へ焼き付ける場合、スキャン方向のアライメント精度を向上させることができる。
【００４０】
図２３は、本発明の第２の実施形態の基板ステージの概略構成を示す図である。この基板ステージ３１は、鉛直方向をＺ方向、スキャン方向をＹ方向として、ＸＹ方向に可動な基板ステージである。基板ステージ３１上には、基板であるウエハ４を保持するチャック５を搭載し、基板ステージ３１下には、水平面内２方向へ移動可能な平面モータ３２（アクチュエータ）を備えており、ウエハ４を載せて保持し運搬することができる。Ｙ方向へスキャンして露光パターンをウエハ４上に焼き付ける場合、大ストロークを移動しながら、ウエハ４の６軸方向の位置を精密に位置決めする。
【００４１】
基板ステージ可動部３５下面には平面モータ可動子である磁石ユニット３３（アクチュエータの可動子）が設置され、磁石ユニット３３とある空隙を介して対面して、相対移動可能な平面モータ固定子であるコイルユニット３４が設置される。磁石ユニット３３には、複数の永久磁石が設置され、Ｘ方向およびＹ方向へあるピッチで配列される。コイルユニット３４には、複数のコイルが設置され、Ｘ方向およびＹ方向へあるピッチで配列される。平面モータ３２は、コイルユニット３４へ通電したときの、磁石ユニット３３とコイルユニット３４間に発生するローレンツ力を推力とする。磁石ユニット３３とコイルユニット３４の相対位置関係に対して、コイルユニット３４へ通電する電流の位相や、電流のＯＮ、ＯＦＦを制御することで、推力の大きさと方向を制御し、基板ステージ可動部３５へ６軸方向の推力を発生させることができる。そして、基板ステージ可動部３５を浮上させ、６軸方向に移動させ、６軸方向の位置を決めることができる。
【００４２】
基板ステージ可動部３５の構造体はトラス構造体４０からなる。トラス構造体４０の上面には中間板３６が設置され、その上にチャック５が搭載される。チャック５は中間板３６から着脱可能になっている。中間板３６へ不図示の真空排気用配管が繋がっており、中間板３６とチャック５の間を真空排気することで、チャック５を中間板３６へ吸着させ、保持できる構成になっている。チャック５はウエハ４を保持できる構成になっており、例えば真空排気による吸着力や、静電力による吸着力を利用して保持できる。トラス構造体４０の側面には、中間板３７を介して位置計測用のミラー３８が設置される。レーザ光をミラー３８へ照射し、基板ステージ可動部３５の位置を計測できる。
【００４３】
本実施形態の基板ステージ３１の構造体は、基本的に実施形態１のトラス構造体２０と同じ構成で、図３に示す基本トラス構造体２２を複数個並べた構成である。トラス構造体４０を構成するロッドのうち、ロッド１７１はスキャン方向に平行に設置されている。また、ロッド１７１は一体成形品からなり、スキャン方向においてトラス構造体の端部６０からもう一方の端部６０へ渡ってつなぎ目なく配置される。ロッド１７１に平行で、鉛直Ｚ方向にずれた位置に配置されるロッド１７２においても同様で、スキャン方向に平行に設置され、一体成形品からなり、スキャン方向においてトラス構造体の一方の端部６０から他方の端部６０へ渡ってつなぎ目なく配置される。基板ステージ可動部３５の構造体へこのトラス構造体４０を適用することで、基板ステージ可動部３５を軽量化することができ、さらに、重量を増加させることなくスキャン方向剛性およびピッチング方向曲げ剛性を向上させることができる。
【００４４】
図２３に示すように、平面モータ３２で基板ステージ可動部３５をＹ方向へ加速させる場合、ＸＹ方向において、加速力Ｆ１の代表位置と基板ステージ可動部３５の重心位置が合うように、加速力Ｆ１を発生させる。このとき、加速力Ｆ１の代表位置と基板ステージ可動部３５の重心位置はＺ方向にずれるので、Ｘ軸周り（ピッチング方向）の回転モーメントが発生する。これに対抗するため、平面モータ３２は鉛直Ｚ方向力Ｆ２による偶力を発生させ、基板ステージ可動部３５へ逆方向の回転モーメントを与える。結果として、図２４のように、トラス構造体４１は、ＹＺ平面において凹凸のある形状になる。これに対して、本発明のトラス構造体４０を適用し、ピッチング方向曲げ剛性を向上させることで、この凹凸状の変形を低減してＺ方向の変形量を低減することができ、基板ステージ３１のアライメント精度を向上させることができる。
【００４５】
図２５に、平面モータ３２で、基板ステージ可動部３５を基板ステージ固定部３９のコイルユニット３４に対しＹ方向へ加速させる場合で、Ｙ方向の並進力に注目した図を示す。加速力Ｆ１と、基板ステージ可動部３５の慣性力によって、ロッド１７１、ロッド１７２に引張力、圧縮力が発生することがわかる。これに対して、本発明のトラス構造体４０を適用し、スキャン方向剛性を向上させることで、スキャン方向変形量を低減することができ、基板ステージ３１のアライメント精度を向上させることができる。
【００４６】
基板ステージ可動部３５の構造体であるトラス構造体４０と、平面モータ３２の可動子である磁石ユニット３３の締結方法について説明する。図２６に、トラス構造体４０と磁石ユニット３３の位置関係を示す。トラス構造体４０において、ある方向をロッド軸方向とするロッドと、別の方向をロッド軸方向とするロッドが締結される部分を連結部４２とする。図２６では、Ｙ軸方向をロッド軸方向とするロッド１８１と、Ｘ軸方向をロッド軸方向とするロッド１８２が交差する部分を連結部４２とし、黒丸で表現する。
基板ステージ固定部３９にあるコイルユニット３４に対面して、トラス構造体４０の側面に磁石ユニット３３を取付ける。その取付面に、Ｙ方向へピッチＫＰ（アクチュエータの可動子が締結される締結位置の間隔）で連結部４２が配置される。そして、連結部ピッチＫＰは、磁石ユニット３３のＹ方向磁石ピッチＪＰ（所定の磁極ピッチ）の整数倍に設定される。この構成によって、トラス構造体４０と磁石ユニット３３を高剛性に締結することを可能にしている。
【００４７】
理由は以下のとおりである。トラス構造体４０の連結部４２は、複数の方向からロッドが集まる箇所なので、トラス構造体４０の中で剛性が高い箇所である。磁石ユニット３３からトラス構造体４０へ様々な方向の推力が供給されるので、この推力を高剛性の連結部４２で受け止めることで、トラス構造体４０の変形量を低減することができる。また、磁石ユニット３３では、磁石ベース４３上に複数の永久磁石４４がＹ方向へピッチＪＰで配置されるが、磁石４４と磁石４４の間を、トラス構造体４０との締結用スペースに活用することで、締結用スペースの省スペース化ができる。また、磁石ベース４３上のＸＹ平面を、全面に渡ってトラス構造体４０へ締結できるからである。
【００４８】
図２６のＣ−Ｃ’断面図を図２７へ示す。トラス構造体４０と磁石ユニット３３がある間隔で締結され、その締結箇所は、トラス構造体４０の連結部４２と、磁石ユニット３３の磁石間隙間の位置が一致した部分になっている。
ピッチＫＰとピッチＪＰの関係は、ピッチＪＰがピッチＫＰの整数倍であってもよい。また、Ｙ方向のピッチついて説明したが、Ｘ方向における連結部ピッチと、磁石ピッチにおいても有効である。
【００４９】
図２８に、トラス構造体４０と磁石ユニット３３の締結部分の変形例を示す。トラス構造体４０と磁石ユニット３３を中間板４６を介して締結する例である。この構成によって、トラス構造体４０の連結部４２の位置と、磁石間隙間の位置が少しずれても、トラス構造体４０と磁石ユニット３３を締結することができる。また、複数の磁石間隙間から、ひとつの連結部４２へ集中して締結することが可能になり、トラス構造体４０と磁石ユニット３３をさらに高剛性に締結することができる。
トラス構造体４０と中間板４６の締結部分の信頼性を高めるために、図２９のようにボルトで締結することも可能である。トラス構造体４０のあるロッド２０１を、中間板４７と中間板４８で挟みこみ、互いをボルトで締結することで、中間板４７と中間板４８を連結部４２へ締結することができる。
【００５０】
本実施形態におけるトラス構造体４０の材質についての基本的な考えは実施形態１と同じで、例えば、ＳｉＣ、アルミナなどのセラミックスや、低熱膨張材料や、ＧＦＲＰ、ＣＦＲＰなどの繊維強化複合材を挙げることができる。また、実施形態１と同様に、ロッドをＣＦＲＰ材（炭素繊維強化部材）で形成し、ヤング率の高い炭素繊維を主にロッド軸方向へ配置することで、ロッド軸方向のヤング率を向上させることは有効である。
本実施形態では、図３の基本トラス構造体２２を基本単位としたトラス構造体４０について説明したが、ロッドの配置はさまざまな配置があり、本発明は本実施形態におけるロッド配置に限定するものではない。
また、本実施形態では、ウエハステージについて説明したが、本発明はこれに限定するものでなく、レチクルステージにも適用可能である。
以上述べたように、基板ステージ可動部３５の構造体へトラス構造体４０を適用することで可動部を軽量化することができる。さらに、スキャン方向へ平行で、一体成形品からなるロッドを配置したトラス構造体によって、重量を増加させることなく、可動部のスキャン方向剛性およびピッチング方向剛性を向上させることができる。結果として、基板ステージがスキャン方向へ加減速するときのスキャン方向変形量を低減することができ、これに起因する基板やチャックの位置ずれを防止し、高精度な位置決めを可能にする。また、基板ステージの加減速中に露光パターンを基板へ焼き付ける場合、スキャン方向のアライメント精度を向上させ、デフォーカス量を低減することができる。
【００５１】
[デバイス製造方法の実施形態]
次に、本発明の一実施形態のデバイス（半導体デバイス、液晶表示デバイス等）の製造方法について説明する。当該方法において、本発明を適用した露光装置を使用し得る。
半導体デバイスは、ウエハに集積回路を作る前工程と、前工程で作られたウエハ上の集積回路チップを製品として完成させる後工程とを経ることにより製造される。前工程は、前述の露光装置を用いて、感光剤が塗布されたウエハを露光する工程と、その工程で露光されたウエハを現像する工程とを含み得る。後工程は、アッセンブリ工程（ダイシング、ボンディング）と、パッケージング工程（封入）とを含み得る。また、液晶表示デバイスは、透明電極を形成する工程を経ることにより製造される。透明電極を形成する工程は、透明導電膜が蒸着されたガラス基板に感光剤を塗布する工程と、前述の露光装置を用いて、感光剤が塗布されたガラス基板を露光する工程と、その工程で露光されたガラス基板を現像する工程とを含み得る。
本実施形態のデバイス製造方法は、デバイスの生産性、品質および生産コスト、ならびに安全性の少なくとも一つにおいて従来よりも有利である。
以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されず、その要旨の範囲内で種々の変形および変更が可能である。
【符号の説明】
【００５２】
３  ：微動ステージ    
４  ：ウエハ    
１０１〜１０２、１５１、１６０，１７０、２０１〜２０２，５０１〜５０４，５１１〜５１２：ロッド  
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
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【図３１】
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