(57)【要約】【課題】連続式焼成炉において、収容容器の側壁の内側に滞留する反応生成ガスを考慮した反応ガス濃度の測定および管理を、反応ガス濃度測定器のプローブと収容容器とを干渉させることなく可能とする。【解決手段】反応ガス濃度測定器のプローブ（２１）と、収容容器（１４）の側壁が所定位置に到達したことを検出可能な位置検出器（２０、２３）と、プローブ（２１）を移動または回転させる機構（２４）とを備え、プローブ（２１）は収容容器（１４）の側壁の内側で被焼成物（１３）の直上位置における反応ガス濃度が測定可能なように配置され、位置検出器（２０、２３）の検出により、移動または回転機構（２４）が作動して、被焼成物（１３）の直上位置から収容容器（１４）の側壁の上方位置までプローブ（２１）を退避させる。【選択図】図１
2010139092.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
上部が開放する収容容器に被焼成物を収容して搬送し、連続的に焼成することにより焼成品を得る連続式焼成炉であり、反応ガス濃度測定器のプローブと、前記収容容器の側壁が所定位置に到達したことを検出可能な位置検出器と、該プローブを移動または回転させる機構とを備え、前記プローブは前記収容容器の側壁の内側で前記被焼成物の直上位置における反応ガス濃度が測定可能なように配置され、前記位置検出器の検出により、前記移動または回転機構が作動して、前記被焼成物の直上位置から前記上方位置まで前記プローブを退避させる、連続式焼成炉。
【請求項２】
前記位置検出器は、中心軸の回りに回転可能な軸部および前記収容容器の側壁に接触することにより、該軸部を回転させる構造の先端部とからなる棒状部材と、該棒状部材の回転を検出する手段とを備える、請求項１に記載の連続式焼成炉。
【請求項３】
前記移動または回転機構が上下動機構であり、前記プローブおよび前記棒状部材は、鉛直方向に伸長し、該プローブおよび該棒状部材の基部は、前記上下動機構に取り付けられており、該プローブおよび該棒状部材の先端部は、前記被焼成物の直上位置と前記側壁の上方位置との間を往復移動するようになっている、請求項２に記載の連続式焼成炉。
【請求項４】
前記移動または回転機構が回転機構であり、前記プローブおよび前記棒状部材は、水平方向に伸長し、該プローブおよび該棒状部材の基部は、前記回転機構に取り付けられており、該プローブおよび該棒状部材の先端部は、前記被焼成物の直上位置と前記側壁の上方位置との間を回転移動するようになっている、請求項２に記載の連続式焼成炉。
【請求項５】
前記棒状部材の基部と、前記棒状部材の回転を検出する手段とが炉外に備えられ、該検出手段が、前記棒状部材の基部の回転を検出する、請求項３または４に記載の連続式焼成炉。
【請求項６】
前記検出手段が、光電センサーであり、前記棒状部材の先端部が前記収容容器の側壁と接触して回転した場合に、該棒状部材の基部が該光電センサーに感知されるようになっている、請求項３〜５のいずれかに記載の連続式焼成炉。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、上部が開放する収容容器に被焼成物を収容して搬送し、連続的に焼成することにより焼成品を得るための連続式焼成炉に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、連続式焼成炉には、特開平７−１９０６２７号公報に記載されているように、トンネル炉が用いられている。
【０００３】
連続式焼成炉の基本的な構造を、図４の概略図および図５の断面図で示す。連続式焼成炉の炉体を構成する天井、側壁および炉床は、レンガや耐熱鋼などの耐熱材により形成されている。炉内には、ローラコンベアやベルトコンベアなどの搬送手段が設けられ、被焼成物や、被焼成物を収容した収容容器が、このような搬送手段の上に載置されて、搬入口（１）から搬入され、焼成することにより得られた焼成品が搬出口（２）から搬出される。
【０００４】
炉内は、断面図に示すように、シャッター（１１）や、仕切り板（１２）などの仕切り手段により、昇温ゾーン（８）、焼成ゾーン（９）および徐冷ゾーン（１０）に区分けされ、各ゾーンは、赤外線などを用いた上部ヒータ（６）および下部ヒータ（７）と、それらの温度制御機器（図示せず）とにより、必要な温度管理がなされている。
【０００５】
また、焼成に必要な反応ガスを供給するための反応ガス導入管（４）は、各ゾーンに多数設けられている。一方、搬入口側、すなわち炉体の昇温ゾーン（８）には、反応ガスおよび焼成に伴い生成した反応生成ガスを排気するため、排気管（３）が設けられている。
【０００６】
連続式焼成炉では、反応生成ガスとの逆反応により焼成後の製品が汚染されることがないようにすることが重要である。すなわち、焼成ゾーン（９）における焼成過程で、反応ガスと被焼成物が反応して、反応生成ガスが発生する。このため、炉内の全領域に反応ガスを供給し、反応生成ガスを速やかに炉外に排出することが好ましい。炉内において、反応ガスが行き渡らない領域があると、反応生成ガスの淀みが生じてしまう。かかる反応生成ガスの淀みが存在する領域が焼成ゾーン（９）において存在すると、焼成反応の進行が阻害される。また、徐冷ゾーン（１０）において存在すると、反応生成ガスと焼成物との接触により逆反応が生じ、焼成後の製品が汚染されることになる。
【０００７】
このため、連続式焼成炉では、排気管（３）からの反応ガスおよび反応生成ガスの排出、さらには徐冷ゾーン（１０）に設けられた反応ガス供給管からの反応ガスの供給により、搬出口（２）側から搬入口（１）側に向かう反応ガスの流れを生じさせている。すなわち、炉内には、焼成反応に必要とされる以上の量の反応ガスが導入され、反応生成ガスを排出するためにも用いられる。これにより、焼成ゾーン（９）で発生した反応生成ガスは、炉内を水平方向に流れる反応ガスの流れにより、昇温ゾーン（８）に設けられた排気管（３）から排出され、反応生成ガスが焼成ゾーン（９）に滞留したり、徐冷ゾーン（１０）側に流れてしまうことが阻止されている。
【０００８】
また、焼成ゾーン（９）において、反応生成ガスと反応ガスがさらに速やかに交換されるように、焼成ゾーン（９）のうち、被焼成物と反応ガスとの反応により反応生成ガスが発生する位置（５）において、炉体側壁で内壁面の左右に、図示しない反応ガス回収管を設置するという対策も提案されている。
【０００９】
このように、操業時に、炉内の反応ガス濃度が、各ゾーンに設定された管理値以上となっていることが、製品の品質管理上において非常に重要である。このためには、炉内の反応ガス濃度を測定する必要がある。
【００１０】
たとえば、炉体側壁に設けられたサンプリングバルブから、炉内のガスを炉外に抜き出し、反応ガス濃度測定器により、ほぼ常温のもとで、反応ガス濃度を測定し、その管理を行っている。
【００１１】
また、品質管理上、焼成ゾーン（９）において、被焼成物が充分な反応ガスと接触して速やかに反応が進行していることをモニタリングすることが重要であることから、特に焼成ゾーン（９）においては、耐熱性が５００℃以上で、反応ガス濃度を測定することができる反応ガス濃度測定器のプローブを、焼成炉の天板に開いた孔から炉内に挿入し、搬送中の収容容器と干渉しないように、数ｃｍ離れた位置で、反応ガス濃度の測定を行い、その管理を行っている。
【００１２】
かかる反応ガス濃度の管理において、反応ガス濃度が、各ゾーンに設定された管理値を下回った場合には、当該ゾーンにおける反応ガスの供給量を増加させたり、搬出口（２）側から搬入口（１）側へ向かう反応ガスの流れを強化させたりして、対処している。
【特許文献１】特開平７−１９０６２７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
しかしながら、上述のように各ゾーンにおける反応ガス濃度を管理した場合でも、焼成後の製品における汚染が十分に阻止されているとはいえないのが現状である。
【００１４】
したがって、本発明の目的は、連続焼成炉による被焼成物の焼成に際して、炉内における反応ガス濃度の管理を従来より適切なものとして、焼成後の製品に対して逆反応による汚染が生ずることを十分に防止することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明の連続式焼成炉は、上部が開放する収容容器に被焼成物を収容して搬送し、連続的に焼成することにより焼成品を得る連続式焼成炉に係る。
【００１６】
特に、本発明の連続式焼成炉は、反応ガス濃度測定器のプローブと、前記収容容器の側壁が所定位置に到達したことを検出可能な位置検出器と、該プローブを移動または回転させる機構とを備え、前記プローブは前記収容容器の側壁の内側で前記被焼成物の直上位置における反応ガス濃度が測定可能なように配置され、前記位置検出器の検出により、前記移動または回転機構が作動して、前記被焼成物の直上位置から前記上方位置まで前記プローブを退避させるようになっていることを特徴とする。
【００１７】
より具体的には、前記位置検出器は、中心軸の回りに回転可能な軸部および前記収容容器の側壁に接触することにより、該軸部を回転させる構造の先端部とからなる棒状部材と、該棒状部材の回転を検出する手段とを備える。
【００１８】
本発明の一態様では、前記移動または回転機構が上下動機構であり、前記プローブおよび前記棒状部材は、鉛直方向に伸長し、該プローブおよび該棒状部材の基部は、前記上下動機構に取り付けられており、該プローブおよび該棒状部材の先端部は、前記被焼成物の直上位置と前記側壁の上方位置との間を往復移動するようになっている。
【００１９】
本発明の別態様では、前記移動または回転機構が回転機構であり、前記プローブおよび前記棒状部材は、水平方向に伸長し、該プローブおよび該棒状部材の基部は、前記回転機構に取り付けられており、該プローブおよび該棒状部材の先端部は、前記被焼成物の直上位置と前記側壁の上方位置との間を回転移動するようになっている。
【００２０】
前記棒状部材の基部と、前記棒状部材の回転を検出する手段とが炉外に備えられ、該検出手段が、前記棒状部材の基部の回転を検出するようになっていることが好ましい。
【００２１】
さらに、前記検出手段が、光電センサーであり、前記棒状部材の先端部が前記収容容器の側壁と接触して回転した場合に、該棒状部材の基部が該光電センサーに感知されるようになっていることが好ましい。
【発明の効果】
【００２２】
本発明の連続式焼成炉では、従来測定されていなかった収容容器の側壁の内側にある空間における反応ガス濃度を測定することが可能となり、炉内の各ゾーンにおける平均的な反応ガス濃度による管理ではなく、焼成後の製品に最も影響があると考えられる、収容容器内の反応ガス濃度を測定することが可能となる。すなわち、収容容器内で局所的に発生している反応生成ガスの淀みを検知することが可能となる。
【００２３】
このような反応ガス濃度の測定結果を反応ガスの供給等にフィードバックすることで、製品の品質をより適切に確保し、焼成品の収率の向上を図ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
本発明者は、鋭意研究を重ねた結果、従来の連続式焼成炉では、次のような現象が起きているとの知見を得た。
【００２５】
すなわち、被焼成物の焼成反応に必要な反応ガスは、各ゾーンに設置された多数の反応ガス導入管から導入され、焼成炉全体を反応ガス雰囲気にする。搬出口に近い徐冷ゾーンで、焼成された焼成品が、焼成ゾーンで発生する反応生成ガスにより汚染されることを防ぐために、従来、炉内全体の反応ガスの流れを、搬出口から搬入口に向くように、反応ガス導入管および排気管を設置している。このように構成することで、被焼成物を収容した収容容器の直上では、ほぼ水平に反応ガスの流れが形成され、炉内における反応生成ガスはかかる反応ガスの流れにより排気管より排出される。
【００２６】
しかしながら、被焼成物は搬送中の振動によっても外にこぼれない適度な深さを有する収容容器内に、平坦にならした状態で搬送されるため、被焼成物の表面の上方には、収容容器の縁に囲まれた空間が存在することになる。すなわち、収容容器の縁と被焼成物の表面に囲まれた、収容容器の内側領域は、搬出口から搬入口に向かう水平方向の反応ガスの流れに干渉されることなく、被焼成物の表面から発生する反応生成ガスが局所的に滞留しやすいといえる。特に、被焼成物の表面の上方で、収容容器の縁より下方であり、側壁の内側に近い位置は、水平方向の反応ガスの流れの陰となることから、反応ガスが効率よく回り込むことができず、反応生成ガスの淀み領域となりやすい。
【００２７】
このような現象は、炉内への反応ガスの供給および焼成ゾーンに設けられた反応ガス回収管による反応ガスおよび反応生成ガスの排出の強化を図ることで、解消することが可能である。
【００２８】
しかしながら、従来の反応ガス濃度の管理においては、収容容器の内側における、このような局所的な反応生成ガスの淀みの発生を検知することは十分になし得なかった。
【００２９】
すなわち、炉体側壁に設けられたサンプリングバルブから炉内のガスを炉外に抜きだしてサンプリングする管理方法では、反応生成ガスが発生する位置であっても、反応ガス濃度が平均的に測定されることになり、収容容器内における反応生成ガスの局所的な滞留を考慮した測定結果が得られないという問題がある。また、サンプリングバルブの設置位置や炉の構造によっては、炉内で反応ガスの流れが淀んでいる位置で、反応ガス濃度を測定している可能性がある。この場合、反応生成ガスが収容容器内から排出されている場合でも、これを反映した測定結果が得られないこととなる。さらには、炉内のガスに多くの水分が含まれている場合に、炉外に抜き出されたガスの水分が凝結するため、炉内のおける反応ガス濃度を正確に測定することができないという問題がある。
【００３０】
このように、サンプリングバルブから炉内のガスをサンプリングする方法では、反応ガス濃度の適切な管理が困難である。
【００３１】
一方、反応ガス濃度測定器のプローブを炉内に挿入する方法でも、このプローブが配置される位置は、収容容器の直上であっても、反応ガスが搬出口から搬入口に向けて水平方向に流れる個所であるため、反応生成ガスがこの反応ガスの流れに捕捉されない限り、その影響が測定された反応ガス濃度に反映されない。すなわち、収容容器の内側に局所的に滞留している反応生成ガスの存在を考慮した測定結果は得られないという問題がある。
【００３２】
このように、収容容器の内側に局所的に滞留する反応生成ガス、特に、被焼成物の表面の上方で、収容容器の縁より下方であり、側壁の内側に近い位置における淀み領域に滞留する反応生成ガスの淀みの発生を検知して、炉内の反応ガス濃度の管理に反映させ、各ゾーンにおいて、この淀み領域においても、反応ガス濃度を一定値以上とすることが重要である。特に焼成ゾーンにおいては、反応を担保する管理値以上を保っていることが、品質管理上、重要となる。
【００３３】
そこで、発明者らは、反応ガス濃度測定器のプローブを、収容容器の内側に存在する、この淀み領域に達するまで挿入して、反応ガス濃度をモニタリングすれば、最適な品質管理が可能になるとの知見を得て、本発明を完成するに至った。
【００３４】
本発明について、図面を参照して、以下に説明する。図１に、本発明の連続式焼成炉の一実施態様を縦断面図（ａ、ｂ）で示す。図２は、図１の一部について、かかる実施形態における濃度測定手段の動作状態を縦断面図（ａ、ｂ、ｃ）で示す。また、図３には、別の実施態様の濃度測定手段の動作状態を縦断面図（ａ）および横断面図（ｂ）で示す。
【００３５】
本発明の連続式焼成炉は、上部が開放する収容容器に被焼成物を収容して搬送し、連続的に焼成することにより焼成品を得る連続式焼成炉に係る。なお、連続式焼成炉の基本的な構造については、従来と同様であるから、その説明を省略する。
【００３６】
本発明の連続式焼成炉は、反応ガス濃度測定器のプローブ（２１）と、収容容器（１４）の側壁が所定位置に到達したことを検出可能な位置検出器（２０、２３）と、プローブ（２１）を移動または回転させる機構（２４）とを備え、プローブ（２１）は収容容器（１４）の側壁の内側で被焼成物（１３）の直上位置における反応ガス濃度が測定可能なように配置され、位置検出器（２０、２３）の検出により、移動または回転機構（２４）が作動して、被焼成物（１３）の直上位置から収容容器（１４）の側壁の上方位置までプローブ（２１）を退避させるようになっている。
【００３７】
かかる位置検出器（２０、２３）およびプローブ（２１）は、好ましくは、焼成ゾーン（９）のうち、被焼成物（１３）と反応ガスとの反応生成ガスが発生する位置に配置される。ただし、これに限られず、その他の位置に配置してもよい。
【００３８】
このうち、前記位置検出器（２０、２３）は、中心軸の回りに回転可能な軸部および前記収容容器の側壁に接触することにより、該軸部を回転させる構造の先端部とからなる棒状部材（２０）と、該棒状部材（２０）の回転を検出する手段（２３）とを備える。
【００３９】
本発明の一態様では、移動または回転機構は上下動機構（２４）であり、プローブ（２１）および棒状部材（２０）は、鉛直方向に伸長し、プローブ（２１）および棒状部材（２０）の基部は、上下動機構（２４）に取り付けられており、プローブ（２１）および棒状部材（２０）の先端部は、収容容器（１４）の内側における被焼成物（１３）の直上位置と収容容器（１４）の側壁の上方位置との間を往復移動するようになっている。
【００４０】
このうち、棒状部材（２０）は、ステンレス製などの耐熱性素材からなり、基部側において、上下動機構（２４）に回動可能に取り付けられる。棒状部材（２０）の先端に、略９０°に屈曲する突出部を形成し、先端部としている。棒状部材（２０）の先端部は、軸部から収容容器（１４）の進行方向逆側（搬入口側）に向けて突出する。棒状部材（２０）は、先端部が搬入口側を向くように、スプリングなどによりバイアスをかけられた状態で、上下動機構（２４）に取り付けられている。棒状部材（２０）は、上下動機構（２４）に取り付けた状態で、下方位置において、その先端部が収容容器（１４）の内側であって被焼成物（１３）の直上位置に、被焼成物（１３）と非接触に配置される長さを有している。
【００４１】
反応ガス濃度測定器およびそのプローブ（２１）については、公知の耐熱性のものを採用できるが、プローブ（２１）は、棒状部材（２０）と同様に、上下動機構（２４）に取り付けた状態で、下方位置において、その先端部が収容容器（１４）の内側であって被焼成物（１３）の直上位置に、被焼成物（１３）と非接触に配置される長さを有している。
【００４２】
プローブ（２１）と棒状部材（２０）は相互に干渉しないように配置され、かつ、プローブ（２１）が進行方向前側に、棒状部材（２０）が進行方向後ろ側に所定間隔をあけて配置される。すなわち、棒状部材（２０）が進行してくる収容容器（１４）の側壁に接触するようになっている。
【００４３】
また、上下動機構（２４）については、アクチュエータなど機械的もしくは油空圧的に上下方向に直線的に移動可能な公知の装置を採用できる。プローブ（２１）と棒状部材（２０）は、取付プレートなどを介して、上下動機構（２４）に固定される。
【００４４】
さらに、棒状部材（２０）の回転を検出する手段（２３）については、光電センサーなどの光学式のセンサー、マイクロスイッチなどの接触式センサー、その他の公知のセンサーを採用できる。
【００４５】
光電センサーには、発光部に発光ダイオードが主に用いられ、発光部と向き合う位置に設置した受光センサーが対になっているタイプや、発光部と受光部が一体になっていて、被検体または反射板からの反射光の有無によって検出するタイプなどがある。発光部と受光部が別になっているタイプが一般的であり、発光部が常時発光しており、発光部と受光部との間に遮る物が存在しない場合に受光部にて光信号を検出し、発光部と受光部との間に遮る物が存在する場合に、発光部からの光線が遮られることで、受光部では光信号を検出できなくなる。
【００４６】
本発明の一態様では、図２に示すように、棒状部材（２０）の基部を、先端部と同様で、かつ、同じ方向を向くように屈曲させて突出部を形成し、図２（ｂ）に示すように、棒状部材（２０）の回転により、かかる基部が光電センサーの発光部と受光部との間に移動し、発光部からの光線を遮るように構成される。
【００４７】
また、マイクロスイッチを採用した場合も同様に、棒状部材（２０）の基部が回転により、マイクロスイッチと物理的に接触するように構成する。
【００４８】
いずれの場合でも、検出手段（２３）が棒状部材（２０）の回転を検出すると、かかる検知手段（２３）が、上下動機構（２４）を作動させて、図２（ｂ）および（ｃ）に示すように、プローブ（２１）と棒状部材（２０）を、これらの先端が収容容器（１４）から外れて、収容容器（１４）の上方にある所定位置まで移動するように、上昇させる。
【００４９】
上昇後、棒状手段（２０）は、バイアスにより回転して最初の位置まで復元するため、検出手段（２３）は上下動機構（２４）を作動させるスイッチを切断し、上下動機構（２４）が下降して、プローブ（２１）と棒状部材（２０）の先端が収容容器の側壁の上縁よりも下側に位置するように、これらを移動させる。
【００５０】
このようにして、搬入口から搬出口に向けて一定速度で搬送される収容容器（１４）の移動に伴い、収容容器（１４）の進行方向前後の側壁が所定位置に到達すると、位置検出器（２０、２３）がその到達を検知し、上下動機構（２４）を作動させ、プローブ（２１）を上昇させて、プローブ（２１）の先端が収容容器（１４）の側壁と接触することが回避される。そして、収容容器（１４）の側壁が通過した後、元の高さまで戻されることから、収容容器（１４）の前方の側壁から後方の側壁の通過までの間、プローブ（２１）の先端は、収容容器（１４）の内側に位置することになり、収容容器（１４）の内側に局所的に滞留している反応生成ガスの存在を考慮した反応ガス濃度の測定が可能となる。
【００５１】
なお、炉内を搬送される収容容器（１４）は、図１に示すように、順々に搬送手段上に配置される。収容容器（１４）同士が間隔をおいて搬送手段上に配置される場合には、上述の通り、収容容器（１４）の前後の側壁を検知し、その度に上下動機構（１４）を作動させてもよいが、検知後に、棒状部材が元の位置に復元し、上下動機構（１４）が下降するまでのタイムラグを考慮して、複数の収容容器（１４）を進行方向に配置することで、最初の収容容器（１４）の後方の側壁を検知した後、プローブ（２１）が元の位置に復元した際に、プローブ（２１）の先端が次の収容容器（１４）の内側に位置するようにしてもよい。
【００５２】
また、検知後、上下動機構（１４）を上方にとどまらせて、別体の位置検出器により、次の収容容器（１４）が所定位置に到達したことを検知させ、それに基づいて、上下動機構（１４）を下降させるようにしてもよい。いずれにせよ、本発明においては、プローブ（２１）と収容容器（１４）との干渉が確実に防止される。
【００５３】
上述の態様では、プローブ（２１）および棒状部材（２０）の基部と、検出手段（２３）と、上下動機構（２３）とは、炉外に備えられる。この場合、プローブ（２１）と棒状部材（２０）が炉体を貫通する必要がある。炉体に孔が開いていない場合は、孔を形成する改造工事が必要となり、該工事により、炉壁の断熱効果が変化して、炉内の温度分布が変化するおそれがある。これについては、当該位置における炉内のヒーターの出力などを変化させることで対応する。
【００５４】
本発明の別の態様では、移動または回転機構は回転機構（図示せず）であり、プローブ（２１）および棒状部材（２０）は、水平方向に伸長し、プローブ（２１）および棒状部材（２０）の基部は、回転機構に取り付けられており、プローブ（２１）および棒状部材（２０）の先端部は、収容容器（１４）の内側における被焼成物（１３）の直上位置と収容容器（１４）の側壁の上方位置との間を回転移動するようになっている。すなわち、プローブ（２１）と棒状部材（２０）の先端に、いずれも、略９０°に屈曲する突出を形成し、先端部としている。
【００５５】
上述の態様と同様に、プローブ（２１）と棒状部材（２０）は相互に干渉しないように配置され、かつ、プローブ（２１）が進行方向前側に、棒状部材（２０）が進行方向後ろ側に所定間隔をあけて配置される。すなわち、棒状部材（２０）が進行してくる収容容器（１４）の側壁に接触するようになっている。
【００５６】
これらの軸部は、収容容器（１４）の上方位置において伸長し、先端部は、複数列の収容容器のうち、中央の収容容器の側壁の内側において、それぞれの軸部から下方に向けて突出するように構成される。したがって、この状態において、プローブ（２１）の先端は、収容容器（１４）の内側で、焼成物（１３）とは非接触に位置することになる。
【００５７】
回転機構については、公知の歯車機構などの公知の手段を用いて、棒状部材（２０）の回転に伴い、プローブ（２１）が回転するようにすることができる。この場合、棒状部材（２０）に取り付けられた歯車が、その回転の検出手段となる。上述の態様と同様に、棒状部材（２０）の回転を検知するセンサーないしはスイッチを別に設けて、当該センサーなどにより補助モータのスイッチを接続し、プローブ（２１）の回転を補助させてもよい。さらに、プローブ（２１）のみをローターなどの公知の回転機構に接続し、棒状部材（２０）の基部側を上述の態様と同様に、バイアスをかけた状態とし、回転により棒状部材（２０）の基部が移動し、センサーおよびスイッチに検知させ、これらがローターを作動させるようにしてもよい。
【００５８】
このようにして、搬入口から搬出口に向けて一定速度で搬送される収容容器（１４）の移動に伴い、収容容器（１４）の進行方向前後の側壁が所定位置に到達すると、位置検出器（２０、２３）がその到達を検知し、回転機構を作動させ、プローブ（２１）を回転させて、プローブ（２１）の先端が収容容器（１４）の側壁と接触することが回避される。そして、収容容器（１４）の側壁が通過した後、元の位置まで回転により戻される。
【００５９】
その他の構成については、上述の態様と同様であるから省略する。
【００６０】
以上、詳細に説明したように、本発明の最適な実施形態においては、棒状部材と光電センサーなどからなる位置検出器を用いて、収容容器の到達を検出する部分が動いたことで、炉外に設置した光電センサーの発光部と受光部の間をロッドなどが遮るように構成している。これにより、比較的小規模な工事で、比較的信頼性の高い制御システムを組むことができる。ただし、本発明は、上述の態様に限定されるわけではない。
【００６１】
例えば、棒状部材（２０）を用いずに、光電センサーやマイクロスイッチのみによって、収容容器（１４）が所定位置に到達したことを直接検知し、移動または回転機構を作動させるようにしてもよい。
【００６２】
光電センサーを用いる場合、炉体側面に光電センサーを設置する。発光部と受光部が別になっているタイプの場合、発光部と受光部との間に、搬送されてきた収容容器（１４）が位置して、発光部からの光線が遮られることで、受光部が光信号を検出しなくなり、収容容器（１４）のプローブ（２１）への接近が検知される。
【００６３】
また、マイクロスイッチの場合、収容容器（１４）が通過する位置に配置し、搬送されてきた収容容器（１４）と物理的に接触することで、電気的スイッチが入り、その位置を検出することになる。
【００６４】
これらの場合、プローブ（２１）の先端は、収容容器（１４）の側壁の上方位置に通常は退避させられており、収容容器（１４）およびその側壁の寸法などに合わせて、検知後、所定時間のみプローブ（２１）の先端が下降して、収容容器（１４）の内側に位置させるようにする必要がある。また、これらを炉内に設置する必要があり、５００℃以上の炉内からの輻射熱から、光学センサーやマイクロスイッチを保護する部材を設置したり、冷却機構も別途必要となる。しかし、それぞれの仕様に合うように、設置が可能であれば、運用上のメンテナンスが簡便で、信頼性は高いものとなる。
【実施例】
【００６５】
（実施例１）
図１に、本実施例の連続式焼成炉の縦断面を示した。本実施例では、酸化ニッケルと水酸化リチウムとを焼成するため、反応ガスとして酸素を用いた。
【００６６】
連続式焼成炉として、耐火レンガでできた天井、側壁および炉床からなる筒状トンネル（幅約１０００ｍｍ×高さ約１０００ｍｍ）を有する炉体からなり、炉内には、長手方向に等間隔で多数のローラが配置されたローラコンベア（１５）と、多数のゾーンに区画するための仕切り板が多数、設けられた構造のものを用いた。
【００６７】
焼成ゾーンの進行方向中央部で、かつ、幅方向中央部に、耐熱性プローブ（２１）を含む反応ガス濃度測定器と、棒状部材（２０）および光電センサー（２３）を備えた位置検出器と、これらに接続されたアクチュエータ（２４）とを設置した。
【００６８】
なお、プローブ（２１）および棒状部材（２０）と、炉体を構成する天井との間は、スムーズな上下動に必要なクリアランスが確保されているが、炉内の雰囲気が可能な限り外部に漏れないように、ベローズにてこれらと炉体のフランジとを接続するようにした。
【００６９】
なお、反応ガス導入管、ヒーターなどの配置や構成については、従来のものと同様である。
【００７０】
かかる構造により、反応ガスは、搬出口から搬入口の方向に、０．１ｍ／ｓ程度の速度で水平に流れていた。
【００７１】
被焼成物は、匣鉢（３００ｍｍ×３００ｍｍ×１００ｍｍ）からなる収容容器（１４）に収容された状態で、ローラコンベア（１５）により連続搬送して、炉内を移動させた。被焼成物が収容されている収容容器（１４）の縁（側壁の上面）は、被焼成物の上面よりも約４０ｍｍ高くなるようにした。
【００７２】
収容容器は、ローラコンベア（１５）上に、幅方向３列で、２〜３ｃｍの間隔をあけて連続的に配置した。本実施例では、毎分約１．５ｃｍの速度で収容容器を移動させ、順送りされた収容容器４個について、約１時間、反応ガス濃度を連続的に測定した。
【００７３】
その結果、収容容器のほぼ中央部分で測定された反応ガス濃度を比較すると、８０±１％の範囲で安定していた。
【００７４】
（比較例１）
従来のモニタリング方法を用いて、炉の側面に取り付けられているサンプリングバルブから、炉内のガスをサンプリングし、常温下で動作する反応ガス濃度測定器に導入したこと以外は、実施例１と同様に、収容容器４個分相当について、約１時間、反応ガス濃度を連続的に測定した。
【００７５】
その結果、収容容器のほぼ中央部分で測定された反応ガス濃度を比較すると、９４±１％の範囲で安定していた。
【００７６】
反応ガス濃度に差異はないので、従来方法の比較例１では、本発明の実施例１よりも、反応ガス濃度が１４％も高く測定されていたことが理解される。主な原因は、比較例１において測定される位置が、反応生成ガスの発生源から離れていることと、比較例１では水蒸気が凝結して、反応ガス濃度が高く測定されたこととが考えられる。
【００７７】
実施例１における反応ガス濃度では、収容容器内に滞留する反応生成ガスに起因して、焼成物に逆反応による汚染が発生すると仮定した場合、従来のモニタリング方法では、このような反応生成ガスの状態を検知することができないこととなる。しかしながら、本発明の実施例では、このような反応生成ガスの存在を考慮した反応ガス濃度の管理が可能となり、その結果に基づき、反応ガスの供給および反応生成ガスの排出を適切に制御することで、焼成物の汚染を確実に防止することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００７８】
【図１】本発明の連続式焼成炉の一実施例を示す縦断面図（ａ、ｂ）である。
【図２】図１の一部について、動作を示す縦断面図（ａ、ｂ、ｃ）である。
【図３】本発明の連続式焼成炉の異なる実施例を示す縦断面図（ａ、ｂ）である。
【図４】従来の連続式焼成炉を示す概略図である。
【図５】従来の連続式焼成炉を示す断面図である。
【符号の説明】
【００７９】
１  搬入口
２  搬出口
３  排気管
４  反応ガス導入管
５  反応生成ガスが発生する位置
６  上部ヒータ
７  下部ヒータ
８  昇温ゾーン
９  焼成ゾーン
１０  徐冷ゾーン
１１  シャッター扉
１２  仕切り板
１３  被焼成物
１４  収容容器
１５  ローラコンベア
２０  位置検出器
２１  反応ガス濃度測定器
２３  光電センサー
２４  上下動機構
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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