(57)【要約】【課題】良好な塗布性を確実に再現することができ、プラズマディスプレイパネルの生産性を大きく向上させることを可能とするプラズマディスプレイパネル用蛍光体ペースト、およびそれを用いたプラズマディスプレイパネルを提供することを目的とする。【解決手段】シリチンを配合したことを特徴とするプラズマディスプレイパネル用蛍光体ペースト、およびそれを用いたプラズマディスプレイパネルであり、より好ましくは、シリチンの配合量が、蛍光体配合重量に対して、０．１から２０％の範囲であるというものである。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
シリチンを配合したことを特徴とするプラズマディスプレイパネル用蛍光体ペースト。
【請求項２】
シリチンの配合量が、蛍光体配合重量に対して、０．１から２０％の範囲であることを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル用蛍光体ペースト。
【請求項３】
請求項１または２に記載のプラズマディスプレイパネル用蛍光体ペーストを用いたプラズマディスプレイパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイパネル用の蛍光体ペーストに関するものであり、特に、蛍光体ペーストの塗布工程において、その塗布安定性を確保することを可能とする蛍光体ペーストに関する。
【背景技術】
【０００２】
プラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰと略称する）を製造するためには、発光表示材料である蛍光体をセル内面に塗布する必要がある。このような蛍光体の塗布は、まず蛍光体粉体を有機バインダー樹脂で分散したペースト（蛍光体ペースト）を製造し、これを隔壁セル内にノズルより吐出して行う方法が安価な方法として知られている。
【０００３】
ノズルより吐出することで塗布を行う方法では、一度塗布を行った後、ペースト吐出口周辺部の先端部にはペーストの一部が滴状になって付着・残存して汚染されるため、２回目に塗布するときには、この滴状のペーストが新たに吐出されるペーストと共に基板に塗布されることとなってしまい、均一な吐出状態が得られないという課題があった。
【０００４】
この課題を解決するために、汚染を除去するための手法について、幾つかの提案がなされている（例えば、特許文献１、特許文献２参照）。
【特許文献１】特開２００４−２９０８３６号公報
【特許文献２】特開２００７−２２９７０６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、硬度の高い蛍光体を含有した蛍光体ペーストを拭き取る際、ノズルには傷が発生し、この傷によって吐出性が不安定化してしまい、より高精細なセルへの塗布を行う場合には、提案された方法だけでは不充分であり、ペーストの根本的な改良が求められていた。
【０００６】
本発明はこのような現状に鑑みなされたもので、良好な塗布性を確実に再現することができ、ＰＤＰの生産性を大きく向上させることを可能とするＰＤＰ用蛍光体ペースト、およびそれを用いたＰＤＰを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を実現するための本発明は、シリチンを配合したことを特徴とするＰＤＰ用蛍光体ペースト、およびそれを用いたＰＤＰである。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、良好な塗布性を確実に再現することができ、ＰＤＰの生産性を大きく向上させることを可能とするＰＤＰ用蛍光体ペースト、およびそれを用いたＰＤＰを提供することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
以下、本発明の一実施の形態によるＰＤＰ用蛍光体ペーストについて説明する。本発明の一実施の形態によるＰＤＰ用蛍光体ペーストは、その構成成分である蛍光体粉末は、波長２００ｎｍ以下、たとえば１４７ｎｍの真空紫外線励起下で効率的に発光し得る蛍光体であることが好ましい。
【００１０】
なかでも、[（Ｙ,Ｇｄ,Ｅｕ）ＢＯ3]、[（Ｚｎ,Ｍｎ）2ＳｉＯ4]、[（Ｂａ,Ｅｕ）ＭｇＡｌ10Ｏ17]は発光効率、色合いともに良好であるため特に好ましいが、蛍光体ペーストとしては、少なくともこれらのうちの１種類を含有していれば好ましいが、特に上記３種類に限定されるものではない。
【００１１】
樹脂としては、有機溶剤に溶解しうるもので、公知のものが使用できるが、焼成時に酸化または分解により消失し、炭化物が残存しないことが望ましく、セルロース系樹脂、アクリル系樹脂、ウレタン樹脂等が使用できる。
【００１２】
有機溶剤は、沸点が１００℃〜３００℃のもので、樹脂を溶解可能であれば特に制限はなく、アルコール系、エーテル系、エステル系のものが好ましい。例えば、テルピネオール（沸点２１７℃）、ベンジルアルコール（沸点２０５℃）、Ｎ−メチルピロリドン（沸点２０２℃）、ジエチレングリコールモノブチルエーテル（沸点２３１℃）、トリエチレングリコールモノメチルエーテル（沸点２４５℃）、トリエチレングリコールジメチルエーテル（沸点２１６℃）等は、作業性に優れていて好ましい。
【００１３】
本発明の一実施の形態による蛍光体ペーストにおいては、その構成成分としてシリチンが配合されている。ここでシリチンは、天然に産出される鉱物で、板状のカオリナイトと塊状石英の天然結合物であり、粒度分布制御、表面処理などを施したものが工業的に利用でき、使用に当たって特に制限はないが、高精細なセルへの塗布に使用する際には粒度分布を細かく制御したものを使用することが好ましい。
【００１４】
本発明の一実施の形態による蛍光体ペーストにおいては、その他に、蛍光体分散性を安定化させるための分散安定剤、塗布後の形状を安定化させるためのレベリング剤、粘度を調整するための増粘剤やチクソトロピック剤などが適宜、添加されている。
【００１５】
以下に、本発明の一実施の形態によるＰＤＰ用蛍光体ペーストの製造方法について説明する。
【００１６】
日新化成製エチルセルロース（グレード：１０ｃｐｓ）１０ｋｇとベンジルアルコール９０ｋｇとを混合し、６０℃で３時間攪拌することで、１０ｗｔ％のビヒクルを作製する。
【００１７】
上記ビヒクル５５ｋｇと各種蛍光体粉体４５ｋｇを混合し、１次予備混練として、プラネタリーミキサーを用いて約５分間撹拌し、一様に分散させる。
【００１８】
その後、２次予備混練として、1次予備混練が終了したペーストに、シリチンを添加し、さらにプラネタリーミキサーを用いて、約５分間攪拌する。
【００１９】
上記予備混練後のペーストを、３本ロールミルにて本混練（ロールギャップなし、２回混練）し、およそ１００ｋｇの蛍光体ペーストを得る。
【００２０】
蛍光体ペーストをＰＤＰに塗布し、まず１５０℃、１５分程度の加熱条件で溶剤を乾燥する。その後、樹脂の分解を行うために、３００℃から５００℃の温度で焼成を行う。
【００２１】
表１は、種々のシリチンを添加した際の連続吐出性を示したものである。
【００２２】
【表１】
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【００２３】
連続吐出性の評価は、４２インチ基板に形成した隔壁セル内に蛍光体ペーストを塗布し、塗布後に汚染除去のためのふき取りを行うというサイクルを１サイクルとして、安定的に塗布できた４２インチ基板の枚数をカウントすることで行った。
【００２４】
表１からわかるように、シリチンの配合比（対蛍光体重量）が０．１０％から２０％である蛍光体ペーストであると、シリチンを配合しない蛍光体ペーストを用いた場合に比べ連続吐出性が向上している。
【００２５】
これは蛍光体ペーストにシリチンを配合することで蛍光体ペーストに滑り性を持たせる、すなわち、シリチンを滑剤として機能させることで、汚染除去のためのふき取り工程を経てもノズルに傷を生じさせず、もって、良好な塗布性を確実に再現することが可能となったためと考えられる。
【００２６】
以上述べてきたように、本発明の一実施の形態による蛍光体ペーストによれば、汚染除去工程を経てもノズルに傷を生じさせないために、ＰＤＰを作製する際の良好な塗布性を確実に再現することができ、ＰＤＰの生産性を大きく向上させることが可能となる。
【産業上の利用可能性】
【００２７】
以上のように本発明は、大画面、高精細のＰＤＰを提供する上で有用な発明である。