(57)【要約】      （修正有）【課題】電界印加状態での経時色味安定性と画面局所間の色味安定性を改善したブルーフェーズ液晶モードの液晶表示装置を提供する。【解決手段】バックライトユニットと、吸収軸が互いに直交するように配置された２枚の偏光板と、該２枚の偏光板の間に一対の透明基板で、電界を印加しないときに光学的等方性を示し、電界を印加するとその大きさに応じて光学的異方性を発現する液晶媒質を挟み封入した液晶表示素子とを有する液晶表示装置において、該バックライトユニットと該バックライトユニットに近い位置にある偏光板との間に、無機化合物含有層を少なくとも１層有し、該無機化合物含有層の比重を該無機化合物含有層に含有される無機化合物の比重で割った値が０．６以上であることを特徴とする液晶表示装置。【選択図】図１
2010026200.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも、バックライトユニットと、吸収軸が互いに直交するように配置された２枚の偏光板と、該２枚の偏光板の間に一対の透明基板で、電界を印加しないときに光学的等方性を示し、電界を印加するとその大きさに応じて光学的異方性を発現する液晶媒質を挟み封入した液晶表示素子とを有する液晶表示装置において、該バックライトユニットと該バックライトユニットに近い位置にある偏光板との間に、無機化合物含有層を少なくとも１層有し、該無機化合物含有層の比重を該無機化合物含有層に含有される無機化合物の比重で割った値が０．６以上であることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
前記液晶表示素子の４００ｎｍでの分光反射率Ｒ４００と、５５０ｎｍでの分光反射率Ｒ５５０との比Ｒ４００／Ｒ５５０が５以下であることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記バックライトユニットが複数のＬＥＤ光源からなり、該ＬＥＤ光源別に部分駆動されることを特徴とする請求項１または２に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記無機化合物含有層がプラズマＣＶＤ法により形成された薄膜層であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は液晶表示装置に関し、より詳しくは電界を印加しないときに光学的等方性を示し、電界を印加するとその大きさに応じて光学的異方性を発現する方式の液晶表示装置であって、特に色味安定性を改善した液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
昨今、薄型液晶テレビに代表される液晶表示装置の低価格競争および更なる薄型化の競争は激化の一途を辿っている。自発光型ディスプレイではない液晶表示装置は、従来より種々の部材を積層することにより成り立っている。具体的にはＣＣＦＬ（冷陰極管）に代表されるようなバックライト、これを面光源化するための拡散板および拡散シート、光利用効率を高めるための反射板や反射型偏光板、正面輝度を高めるためのプリズムシート、バックライトユニットから発せられる光に対し特定方向の偏光成分のみ透過したり特定方向以外の偏光成分を吸収したりする偏光板、その偏光を制御し光のシャッターの働きをする液晶表示素子、その液晶表示素子が有する光学的異方性を補償するための位相差フィルム、などである。更にその液晶表示素子内には、液晶を整然と配向させるための配向膜やフルカラー化するためのカラーフィルターが含まれているのが一般的である。これら多岐に渡る部材の機能をいかに統廃合し、部材点数を減らすことで低価格競争に耐え得る低コスト化を実現できるかというのが、液晶表示装置開発の最近の流れとなっている。典型例としては、拡散板あるいは拡散シートとプリズムシートの機能を一体化した表面プリズム形状付き拡散板または拡散シート、あるいは、光学補償機能を兼ねた偏光板保護フィルムなどが挙げられる。
【０００３】
一方、近年、液晶表示装置は、性能面でも他方式のディスプレイの脅威に晒されている。具体的には有機ＥＬディスプレイの台頭が挙げられる。有機ＥＬディスプレイは、その応答速度の速さに起因して優れた動画特性が得られ、斜め方向から見たときでも高いコントラストを維持し、また暗い表示から明るい表示まで幅広い明るさの中で色再現領域が殆ど変わらないなど、性能面で液晶表示装置に対し差別化要素を持っている。このような状況より、これからの液晶表示装置開発には、他方式ディスプレイに見劣りしない更なる性能向上も非常に求められている。
【０００４】
このようなコスト、性能への要請に対し、最近では革新的な液晶表示素子の開発の動きが活発化している。特許文献１や特許文献２に開示されているブルーフェーズ液晶モードがその典型である。この新モード液晶の実際のパネルは、サムスン電子社からＳＩＤ２００８で公開されている。このモードの特徴としては、液晶を並べるための配向膜を必要としないこと、電界を印加しない状態で光学的に等方であることより、異方性を補償する位相差フィルムを必要としないこと、更にはマイクロ秒オーダーの高速応答が可能なこと、バックライトにＲＧＢ各色のＬＥＤ光源を使い、これらを順次高速で点滅させるフィールドシーケンシャル方式と組み合わせることにより、カラーフィルターも不要となる可能性があること、などが挙げられる（非特許文献１，非特許文献２参照。）。
【０００５】
しかしながら、このモードには色味安定性の点で課題がある。即ち、本来同じ色味を示すはずのものが、電界を印加した直後と暫く経過した後で異なってしまったり、画面の場所によって異なってしまったりするという現象があり、このような課題に対する解決法は今まで知られておらず、早急な解決が望まれている。
【特許文献１】特開２００５−２３４５４１号公報
【特許文献２】特開２００６−９９０３８号公報
【非特許文献１】菊池裕嗣，「高分子とキラル効果が広げる液晶の新しい世界  −等方性液晶の異常Ｋｅｒｒ効果−」，液晶，第９巻，第２号，ｐ８２−９５，２００５年
【非特許文献２】Ｅｒｉｃ  Ｇｒｅｌｅｔ、ほか３名  “Ｓｔｒｕｃｔｕｒａｌ  Ｉｎｖｅｓｔｉｇａｔｉｏｎｓ  ｏｎ  Ｓｍｅｃｔｉｃ  Ｂｌｕｅ  Ｐｈａｓｅｓ”，ＰＨＹＳＩＣＡＬ  ＲＥＶＩＥＷ  ＬＥＴＴＥＲＳ，Ｔｈｅ  Ａｍｅｒｉｃａｎ  Ｐｈｙｓｉｃａｌ  Ｓｏｃｉｅｔｙ，２３  ＡＰＲＩＬ  ２００１，ＶＯＬＵＭＥ  ８６，ＮＵＭＢＥＲ  １７，ｐ．３７９１−３７９４
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明では、電界印加状態での経時色味安定性と画面局所間の色味安定性を改善したブルーフェーズ液晶モードの液晶表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の上記課題は以下の構成により達成される。
【０００８】
１．少なくとも、バックライトユニットと、吸収軸が互いに直交するように配置された２枚の偏光板と、該２枚の偏光板の間に一対の透明基板で、電界を印加しないときに光学的等方性を示し、電界を印加するとその大きさに応じて光学的異方性を発現する液晶媒質を挟み封入した液晶表示素子とを有する液晶表示装置において、該バックライトユニットと該バックライトユニットに近い位置にある偏光板との間に、無機化合物含有層を少なくとも１層有し、該無機化合物含有層の比重を該無機化合物含有層に含有される無機化合物の比重で割った値が０．６以上であることを特徴とする液晶表示装置。
【０００９】
２．前記液晶表示素子の４００ｎｍでの分光反射率Ｒ４００と、５５０ｎｍでの分光反射率Ｒ５５０との比Ｒ４００／Ｒ５５０が５以下であることを特徴とする前記１に記載の液晶表示装置。
【００１０】
３．前記バックライトユニットが複数のＬＥＤ光源からなり、該ＬＥＤ光源別に部分駆動されることを特徴とする前記１または２に記載の液晶表示装置。
【００１１】
４．前記無機化合物含有層がプラズマＣＶＤ法により形成された薄膜層であることを特徴とする前記１〜３のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【発明の効果】
【００１２】
本発明により、電界印加状態での経時色味安定性と画面局所間の色味安定性を改善したブルーフェーズ液晶モードの液晶表示装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下本発明を実施するための最良の形態について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００１４】
本発明の液晶表示装置は、少なくとも、バックライトユニットと、吸収軸が互いに直交するように配置された２枚の偏光板と、該２枚の偏光板の間に一対の透明基板で、電界を印加しないときに光学的等方性を示し、電界を印加するとその大きさに応じて光学的異方性を発現する液晶媒質を挟み封入した液晶表示素子とを有する液晶表示装置において、該バックライトユニットと該バックライトユニットに近い位置にある偏光板との間に、無機化合物含有層を少なくとも１層有し、該無機化合物含有層の比重を該無機化合物含有層に含有される無機化合物の比重で割った値が０．６以上であることを特徴とし、かかる構成により、電界印加状態での経時色味安定性と画面局所間の色味安定性を改善するという効果を奏するものである。
【００１５】
本発明によれば、一対の透明基板で、電界を印加しないときに光学的等方性を示し、電界を印加するとその大きさに応じて光学的異方性を発現する液晶媒質を封入した液晶表示素子を有する液晶表示装置において、電界印加直後と暫くそのままの状態を保持したときとで色味が変わらず、また、同じ色味を示す画像信号に対し、画面の場所の違いによる色ムラも認められないという効果を奏する。
【００１６】
これらの効果の詳細な機構は定かではないが、一般的に、電界無印加時に光学的等方性を示し、電界印加時に光学的異方性を発現する液晶表示素子では、セル内にカイラル剤が添加されたネガ型液晶性混合物が封入されており、カイラルピッチに起因した反射による色味を生じることがあるが、このピッチが温度変動によって変化することで色味が変化すると考えられる。本発明の構成では、バックライト側の偏光板とバックライトユニットの間に位置するところに、樹脂よりも熱伝導性の高い無機化合物含有層を挿入することで、上記経時あるいは局所的温度変動を抑制する作用が付与されたのではないかと推定している。
【００１７】
即ち、本発明の構成では、バックライト側の偏光板とバックライトユニットの間に位置するところに、樹脂よりも熱伝導性の高い無機化合物物含有層を挿入することで、面内方向の温度均一性が高まり局所的温度変動を抑制する効果が発現するとともに、パネル側面からの放熱も促進され、経時での温度変動も抑えられたのではないかと推定している。無機化合物含有層内の無機化合物密度が低いと、十分な効果が発現できないことは、上記推定の確からしさを支持しているものと考えられる。
【００１８】
以下、本発明を詳細に説明する。
【００１９】
＜液晶表示装置の概要＞
本発明の液晶表示装置は、少なくとも、バックライトユニットと、液晶表示素子と、該液晶表示素子の視認側に配置された第１の偏光板と、該液晶表示素子のバックライトユニット側に配置された第２の偏光板とを備える。ここで、第１の偏光板の吸収軸と第２の偏光板の吸収軸とは直交に配置される。本発明の液晶表示装置は、液晶表示素子の背面より光を照射して画面を見る、いわゆる透過型であってもよいし、透過型と液晶表示素子の視認側からの光を受けて画面を見る反射型の両方の性質を併せ持つ、半透過型であってもよい。
【００２０】
図１に本発明に係る液晶表示装置の構成例を示す。
【００２１】
本発明に係る無機化合物層は、バックライトユニットとバックライトユニットに近い位置にある偏光板（図では第２の偏光板）との間にあれば特にその位置を特定されるものではないが、図１ａのように無機化合物含有層を第２の偏光子の偏光板保護フィルムと輝度向上フィルムの間に設けたり、図１ｂのように輝度向上フィルムとバックライトユニットの間に設けたりすることができる。更に第２の偏光子の偏光板保護フィルムや輝度向上フィルム上に直接設けたりすることも好ましい。
【００２２】
＜バックライトユニットおよびその周辺部材＞
本発明に関わるバックライトユニットは、光源を液晶表示素子の直下に配置する直下方式のものでも、光源を画面側面に配置し、面光源化して液晶表示素子を背面より照射するサイドライト方式のものでもよい。直下方式の場合、好ましくは、光源と、反射板と、拡散板とを備える。サイドライト方式の場合は、好ましくは、光源と、導光板と、反射板と、拡散板を備える。また、いずれの方式でも上記バックライトユニットと第２の偏光板の間には、用途に応じて拡散シートや、プリズムシート、反射型偏光フィルムを備えることが、輝度向上効果や消費電力削減効果の点で好ましい。本発明に関わるバックライトユニットには、上記拡散シートやプリズムシート、反射型偏光フィルムは含まれない。
【００２３】
本発明に係るバックライトユニットの模式図を図２に示す。
【００２４】
図２ａは直下型（ＣＣＦＬ光源）バックライトユニットの模式図であり、図２ｂは同じ直下型でも白色ＬＥＤ光源を用いた例である。
【００２５】
本発明のバックライトユニットに用いる光源は、冷陰極菅（ＣＣＦＬ）に代表される線状光源、もしくは発光ダイオード（ＬＥＤ）に代表される点状光源であることが好ましい。
【００２６】
特にバックライト光源としては、複数のＬＥＤを並べたものを採用することが色再現性を高める上で好ましい。更にＬＥＤ光源にすることにより、本発明の無機化合物含有層の色味安定性への効果は顕著になることを見出した。ＣＣＦＬに対し、発熱量が高く個々のＬＥＤの性能ばらつきが大きい現状のＬＥＤに対し、本発明に係る熱伝導性の高い無機化合物含有層を設けることにより、経時での熱籠もりや局所的熱ムラが緩和されるものと推定している。
【００２７】
また、複数のＬＥＤ光源を個々に部分駆動して点滅させる、いわゆるローカルディミング方式も好ましく用いられる。具体的には、特開２００７−２８６６２７号公報に開示されているような構成のものが好ましく用いられる。
【００２８】
ローカルディミング方式とは、基板上に配列された多数のＬＥＤが液晶パネルの後面を照射する際、多数のＬＥＤの配列体、即ちＬＥＤ光源部は部分駆動する複数の光源領域に分けられ、この複数の光源領域間の境界部にはマトリクスタイプの隔壁が配置される。
【００２９】
液晶パネルは、複数の領域に分割され、各分割領域別に画像を具現することが出来る。ＬＥＤ光源部は液晶パネルの各分割領域別に光を照射する。この際、（ＬＥＤ光源部の）各光源領域の輝度は、（液晶パネルの）各分割領域のグレーレベルのピーク値に応じて調節される。即ち、相対的に高い輝度を有すべき分割領域に対応する光源領域は、他の光源領域に比べて高い電流デューティ比で点灯される。または他の分割領域に対応する光源領域のデューティ比を減少させることも出来る。
【００３０】
用いられるＬＥＤ光源は、赤色（Ｒ）ＬＥＤ、緑色（Ｇ）ＬＥＤ、及び青色（Ｂ）ＬＥＤを有するカラー液晶表示装置用ＬＥＤバックライトであって、例えば、上記赤色（Ｒ）ＬＥＤのピーク波長が６１０ｎｍ以上であり、上記緑色（Ｇ）ＬＥＤのピーク波長が５３０±１０ｎｍの範囲内であり、上記青色（Ｂ）ＬＥＤのピーク波長が４８０ｎｍ以下であるものが好ましく用いられる。ピーク波長が上記範囲内の緑色（Ｇ）ＬＥＤの種類としては、例えば、ＤＧ１１１２Ｈ（スタンレー電気（株）製）、ＵＧ１１１２Ｈ（スタンレー電気（株）製）、Ｅ１Ｌ５１−３Ｇ（豊田合成（株）製）、Ｅ１Ｌ４９−３Ｇ（豊田合成（株）製）、ＮＳＰＧ５００Ｓ（日亜化学工業（株）製）等が挙げられる。赤色（Ｒ）ＬＥＤとして用いられるＬＥＤの種類としては、例えばＦＲ１１１２Ｈ（スタンレー電気（株）製）、ＦＲ５３６６Ｘ（スタンレー電気（株）製）、ＮＳＴＭ５１５ＡＳ（日亜化学工業（株）製）、ＧＬ３ＺＲ２Ｄ１ＣＯＳ（シャープ（株）製）、ＧＭ１ＪＪ３５２００ＡＥ（シャープ（株）製）等が挙げられる。青色（Ｂ）ＬＥＤとして用いられるＬＥＤの種類としては、ＤＢ１１１２Ｈ（スタンレー電気（株）製）、ＤＢ５３０６Ｘ（スタンレー電気（株）製）、Ｅ１Ｌ５１−３Ｂ（豊田合成（株）製）、Ｅ１Ｌ４Ｅ−ＳＢ１Ａ（豊田合成（株）製）、ＮＳＰＢ６３０Ｓ（日亜化学工業（株）製）、ＮＳＰＢ３１０Ａ（日亜化学工業（株）製）等が挙げられる。上述した３色のＬＥＤを組み合わせてバックライトとすることができる。或いは白色ＬＥＤを用いることもでき、豊田合成社の高輝度白色ＬＥＤ「ＴＧ  ＴＲＵＥ  Ｗｈｉｔｅ  Ｈｉ」などが挙げられる。
【００３１】
また、本発明では輝度向上フィルムを用いることが好ましい。輝度向上フィルムは、通常、熱可塑性樹脂層（Ａ）と熱可塑性樹脂層（Ｂ）とを含む積層体である。代表的には、上記輝度向上フィルムは、熱可塑性樹脂層（Ａ）と熱可塑性樹脂層（Ｂ）とを交互に並べたもの（ＡＢＡＢＡＢ・・・）である。上記輝度向上フィルムを構成する層の数は、好ましくは２層〜２０層であり、さらに好ましくは２層〜１５層である。このような構造を有する輝度向上フィルムは、例えば、２種類の樹脂を共押出し、その押出フィルムを延伸して作製される。上記輝度向上フィルムの総厚みは、好ましくは２０μｍ〜８００μｍである。
【００３２】
好ましくは、上記熱可塑性樹脂層（Ａ）は、光学的に異方性を示す。上記熱可塑性樹脂（Ａ）の面内の複屈折率（ΔｎＡ）は、好ましくは０．０５以上であり、さらに好ましくは、０．１以上であり、特に好ましくは０．１５以上である。光学的な均一性の観点から、上記ΔｎＡの上限値は、好ましくは０．２である。ここで、上記ΔｎＡは、ｎｘＡ（遅相軸方向の屈折率）とｎｙＡ（進相軸方向の屈折率）との差（ｎｘＡ−ｎｙＡ）を表す。
【００３３】
上記熱可塑性樹脂層（Ｂ）は、好ましくは、実質的に光学的に等方性を示す。上記熱可塑性樹脂層（Ｂ）の面内の複屈折率（ΔｎＢ）は、好ましくは５×１０−４以下であり、１×１０−４以下であり、特に好ましくは０．５×１０−４以下である。上記ΔｎＢの下限値は、好ましくは０．０１×１０−４である。ここで、上記ΔｎＢは、ｎｘＢ（遅相軸方向の屈折率）とｎｙＢ（進相軸方向の屈折率）との差（ｎｘＢ−ｎｙＢ）を表す。
【００３４】
上記熱可塑性樹脂層（Ａ）のｎｙＡと上記熱可塑性樹脂層（Ｂ）のｎｙＢとは、好ましくは、実質的に同一である。ｎｙＡとｎｙＢとの差の絶対値は、好ましくは５×１０−４以下であり、１×１０−４以下であり、特に好ましくは０．５×１０−４以下である。このような光学特性を有する輝度向上フィルムは、偏光成分を反射させる機能に優れる。
【００３５】
上記熱可塑性樹脂層（Ａ）を形成する樹脂としては、任意の適切なものが選択され得る。上記熱可塑性樹脂層（Ａ）は、好ましくは、ポリエチレンテレフタレート系樹脂、ポリトリメチレンテレフタレート系樹脂、ポリブチレンテレフタレート系樹脂、ポリエチレンナフタレート系樹脂、ポリブチレンナフタレート系樹脂、又はこれらの混合物を含む。これらの樹脂は、延伸による複屈折の発現性に優れ、延伸後の複屈折の安定性に優れる。
【００３６】
上記熱可塑性樹脂層（Ｂ）としては、任意の適切なものが選択され得る。上記熱可塑性樹脂層（Ｂ）は、好ましくは、ポリスチレン系樹脂、ポリメチルメタクリレート系樹脂、ポリスチレングリシジルメタクリレート系樹脂、又はこれらの混合物を含む。上記の樹脂は、屈折率を高めるために、塩素、臭素及びヨウ素などのハロゲン基が導入されていてもよい。あるいは、上記の樹脂は、屈折率を調整するために、任意の添加剤を含有し得る。
【００３７】
上記輝度向上フィルムは、市販のものをそのまま用いることができる。市販の輝度向上フィルムとしては、例えば、日東電工（株）製  ＮＩＰＯＣＳ  ＰＣＦシリーズや住友スリーエム（株）製  ビキュイティＤＢＥＦシリーズ等が挙げられる。
【００３８】
＜液晶表示素子＞
本発明の液晶表示素子は、少なくとも部分的には透明な一対の基板間と、その基板間に挟持された液晶媒質層と、その液晶媒質に電界を印加させるための電極構造とを備える。本発明の液晶表示素子は、第１の電極と第２の電極とに電圧を印加することで電界を形成することが好ましく、更には、いずれか一方の基板の液晶媒質が封入される側の表面に、上記第１の電極と第２の電極とを有することが好ましい。
【００３９】
また、上記基板間に挟持され封入される液晶媒質は、電界無印加時に光学的等方性を示し、電界印加時に光学的異方性を発現する物質であることが必要である。このような物質の例としては、コレステリックブルー相を示す分子からなる媒質や、スメクチックブルー相を示す分子からなる媒質などが挙げられる。前者の具体例としては、ＪＣ１０４１（混合液晶、チッソ社製）を４８．２ｍｏｌ％、５ＣＢ（４−ｃｙａｎｏ−４’−ｐｅｎｔｙｌ  ｂｉｐｈｅｎｙｌ、ネマチック液晶、メルク社製）を４７．４ｍｏｌ％、ＺＬＩ−４５７２（カイラルドーパント、メルク社製）を４．４ｍｏｌ％混合した物質がある。この物質は、３３０．７Ｋから３３１．８Ｋの温度範囲で、コレステリックブルー相を示す。後者の具体例としては、非特許文献２に記載されているＦＨ／ＦＨ／ＨＨ−１４ＢＴＭＨＣがある。この物質は、７４．４℃〜７３．２℃でＢＰＳｍ３相、７３．２℃〜７２．３℃でＢＰＳｍ２相、７２．３℃〜７２．１℃でＢＰＳｍ１相を示す。また、これら低分子の液晶物質に適当なモノマーや架橋剤、光重合開始剤を添加し、ブルー相を保持しながら光重合することにより、ブルー相発現温度領域を低温域まで広げることができる。このようないわゆる高分子安定化ブルー相も好ましく用いられる。
【００４０】
液晶表示装置の色味安定性を向上させる点において、元々の液晶表示素子自体の色味を極力なくす（可視光において透明に近づける）ことが好ましい。指標として液晶表示素子の反射スペクトルにおいて、波長４００ｎｍの入射光での反射率Ｒ４００と５５０ｎｍでの反射率Ｒ５５０との比、即ちＲ４００／Ｒ５５０が５以下であることが好ましい。より好ましくは３以下、最も好ましくは１．５以下である。反射スペクトルは、市販の分光光度計により、容易に測定できる。上記コレステリックブルー相を示す分子からなる媒質の場合、カイラルドーパントの添加量を増すことにより、コレステリックピッチに起因したピーク反射波長を可視光領域より短波化することができ、従って可視光において透明に近づけることができる。
【００４１】
＜偏光板＞
本発明に用いられる偏光板は、自然光または偏光を直線偏光に変換するものを指し、好ましくは入射する光を直交する２つの偏光成分に分離し、一方の偏光成分を透過させ、他方の偏光成分を吸収、反射および／または散乱させる機能を有する。
【００４２】
上記偏光板の厚みは、特に制限されず、薄膜、フィルム、シートの一般的な概念を包含する。上記偏光板の厚みは、好ましくは１μｍ〜２５０μｍであり、さらに好ましくは２０μｍ〜２５０μｍである。偏光板の厚みを上記の範囲とすることによって、機械的強度に優れるものが得られる。
【００４３】
上記偏光板は、単層の偏光機能を有する層（偏光子ともいう）であってもよいし、複数の層からなる積層体であってもよい。上記偏光板が積層体である場合、その構成としては、例えば、（ａ）偏光子と保護層とを含む積層体、（ｂ）偏光子と保護層と表面処理層とを含む積層体、（ｃ）２層以上の偏光子を含む積層体、などが挙げられる。上記偏光板は、表面処理層を２層以上有していてもよい。あるいは、上記偏光板は、保護層が、液晶セルの視野角を拡大する機能を兼ねていてもよい（このような機能を有する層を、光学補償層ともいう）。
【００４４】
本発明に用いられる偏光子は、任意の適切なものが採用され得る。好ましくは、上記第１の偏光板は第１の偏光子を含み、上記第２の偏光板は第２の偏光子を含み、該第１の偏光子及び該第２の偏光子は、それぞれヨウ素を含有するポリビニルアルコール系樹脂を主成分とする。上記偏光子は、通常、ヨウ素を含有するポリビニルアルコール系樹脂を主成分とする高分子フィルムを延伸して得ることができる。このような偏光子を含む偏光板は、光学特性に優れる。
【００４５】
上記第１の偏光子のヨウ素含有量（Ｉ１）と上記第２の偏光板のヨウ素含有量（Ｉ２）との関係は、好ましくは、Ｉ１＞Ｉ２である。上記第１の偏光子のヨウ素含有量（Ｉ１）と、上記第２の偏光板のヨウ素含有量（Ｉ２）との差（ΔＩ＝Ｉ１−Ｉ２）は、好ましくは０．１質量％〜１．９質量％であり、さらに好ましくは０．２質量％〜１．９質量％であり、特に好ましくは０．４質量％〜１．８質量％であり、最も好ましくは０．６質量％〜１．７質量％である。各偏光子のヨウ素含有量の関係を上記の範囲とすることによって、好ましい範囲の透過率の関係を有する偏光板が得られ、正面方向のコントラスト比が高い液晶表示装置を得ることができる。
【００４６】
上記第１の偏光子及び／又は上記第２の偏光子のヨウ素含有量は、好ましくは２．０質量％〜５．０質量％であり、さらに好ましくは２．０質量％〜４．０質量％である。上記第１の偏光子のヨウ素含有量は、好ましくは２．３質量％〜５．０質量％であり、さらに好ましくは２．５質量％〜４．５質量％であり、特に好ましくは２．７質量％〜４．０質量％である。上記第２の偏光子のヨウ素含有量は、好ましくは２．０質量％〜３．５質量％であり、さらに好ましくは２．０質量％〜３．２質量％であり、特に好ましくは２．０質量％〜２．９質量％である。各偏光子のヨウ素含有量を上記の範囲とすることによって、好ましい範囲の透過率の偏光板が得られ、正面方向のコントラスト比が高い液晶表示装置を得ることができる。
【００４７】
好ましくは、上記第１の偏光子及び／又は上記第２の偏光子は、カリウムをさらに含有する。上記カリウム含有量は、好ましくは０．２質量％〜１．０質量％であり、さらに好ましくは０．３質量％〜０．９質量％であり、特に好ましくは０．４質量％〜０．８質量％である。カリウム含有量を上記範囲とすることによって、好ましい範囲の透過率を有し、且つ、偏光度が高い偏光板を得ることができる。
【００４８】
好ましくは、上記第１の偏光子及び／又は前記第２の偏光子は、ホウ素をさらに含有する。上記ホウ素含有量は、好ましくは０．５質量％〜３．０質量％であり、さらに好ましくは１．０質量％〜２．８質量％であり、特に好ましくは１．５質量％〜２．６質量％である。ホウ素含有量を上記範囲とすることによって、好ましい範囲の透過率を有し、且つ、偏光度が高い偏光板を得ることができる。
【００４９】
上記ポリビニルアルコール系樹脂は、ビニルエステル系モノマーを重合して得られるビニルエステル系重合体をケン化することによって得ることができる。上記ポリビニルアルコール系樹脂のケン化度は、好ましくは９５．０モル％〜９９．９モル％である。上記ケン化度は、ＪＩＳ  Ｋ  ６７２６−１９９４に準じて求めることができる。ケン化度が上記の範囲であるポリビニルアルコール系樹脂を用いることによって、耐久性に優れた偏光子が得られ得る。
【００５０】
上記ポリビニルアルコール系樹脂の平均重合度は、目的に応じて、任意の適切な値が選択され得る。上記平均重合度は、好ましくは１２００〜３６００である。なお、平均重合度は、ＪＩＳ  Ｋ  ６７２６−１９９４に準じて求めることができる。
【００５１】
上記ポリビニルアルコール系樹脂を主成分とする高分子フィルムを得る方法としては、任意の適切な成形加工法が採用され得る。上記成形加工法としては、例えば、特開２０００−３１５１４４号公報［実施例１］に記載の方法が挙げられる。
【００５２】
上記ポリビニルアルコール系樹脂を主成分とする高分子フィルムは、好ましくは、可塑剤及び／又は界面活性剤を含有する。上記可塑剤としては、例えば、エチレングリコールやグリセリン等の多価アルコールが挙げられる。上記多価アルコールは、偏光子の染色性や延伸性をより一層向上させる目的で使用される。上記界面活性剤としては、例えば、非イオン界面活性剤が挙げられる。上記界面活性剤は、偏光子の染色性や延伸性をより一層向上させる目的で使用される。
【００５３】
上記ポリビニルアルコール系樹脂を主成分とする高分子フィルムは、市販のフィルムをそのまま用いることもできる。市販のポリビニルアルコール系樹脂を主成分とする高分子フィルムとしては、例えば、（株）クラレ製  商品名「クラレビニロンフィルム」、東セロ（株）製  商品名「トーセロビニロンフィルム」、日本合成化学工業（株）製  商品名「日合ビニロンフィルム」等が挙げられる。
【００５４】
偏光子の製造方法の一例について、図３を参照して説明する。図３は、本発明に用いられる偏光子の代表的な製造工程の概念を示す模式図である。例えば、ポリビニルアルコール系樹脂を主成分とする高分子フィルム１０１は、繰り出し部１００から繰り出され、純水を含む膨潤浴１１０、及びヨウ素水溶液を含む染色浴１２０に浸漬され、速度比の異なるロール１１１、１１２、１２１及び１２２でフィルム長手方向に張力を付与されながら、膨潤処理及び染色処理が施される。次に、膨潤処理及び染色処理されたフィルムは、ヨウ化カリウムを含む第１の架橋浴１３０中及び第２の架橋浴１４０中に浸漬され、速度比の異なるロール１３１、１３２、１４１及び１４２でフィルムの長手方向に張力を付与されながら、架橋処理及び最終的な延伸処理が施される。架橋処理されたフィルムは、ロール１５１および１５２によって、純水を含む水洗浴１５０中に浸漬され、水洗処理が施される。水洗処理されたフィルムは、乾燥手段１６０で乾燥されることにより、水分率が、例えば１０％〜３０％に調節され、巻き取り部１８０にて巻き取られる。偏光子１７０は、これらの工程を経て、上記ポリビニルアルコール系樹脂を主成分とする高分子フィルムを元長の５倍〜７倍に延伸することで得ることができる。
【００５５】
上記染色工程において、染色浴のヨウ素の添加量は、水１００質量部に対して、好ましくは０．０１質量部〜０．１５質量部であり、さらに好ましくは０．０１質量部〜０．０５質量部である。染色浴のヨウ素の添加量を上記範囲にすることによって、光学特性に優れた偏光板を得ることができる。上記の範囲で染色浴のヨウ素の添加量を増加させると、結果として、透過率の低い偏光板を得ることができる。また、上記の範囲で染色浴のヨウ素の添加量を減少させると、結果として、透過率の高い偏光板を得ることができる。
【００５６】
上記染色浴のヨウ化カリウムの添加量は、水１００質量部に対して、好ましくは０．０５質量部〜０．５質量部であり、さらに好ましくは０．１質量部〜０．３質量部である。ヨウ化カリウムの添加量を上記範囲とすることによって、好ましい範囲の透過率を有し、且つ、偏光度が高い偏光板を得ることができる。
【００５７】
上記染色工程において、第１の架橋浴及び第２の架橋浴の、ヨウ化カリウムの添加量は、水１００質量部に対して、好ましくは０．５質量部〜１０質量部であり、さらに好ましくは１質量部〜７質量部である。第１の架橋浴及び第２の架橋浴の、ホウ酸の添加量は、好ましくは０．５質量部〜１０質量部であり、さらに好ましくは１質量部〜７質量部である。ヨウ化カリウム及びホウ酸の添加量を上記範囲とすることによって、好ましい範囲の透過率を有し、且つ、偏光度が高い光学特性に優れた偏光板を得ることができる。
【００５８】
＜保護層＞
本発明に用いられる偏光板は、好ましくは、偏光子と、該偏光子の両側に配置された保護層（本発明では、保護フィルム、または偏光板保護フィルムという場合もある）とを備える。上記保護層は、例えば、偏光子が収縮や膨張することを防いだり、紫外線による劣化を防いだりすることができ、耐久性の高い偏光板を得ることができる。
【００５９】
１つの実施形態において、本発明に用いられる第１の偏光板は、好ましくは、第１の偏光子と、該第１の偏光子の液晶セル側に配置された第１の保護層と、該第１の偏光子の液晶セル側とは反対側に配置された第２の保護層とを備える。さらに、第２の偏光板は、好ましくは第２の偏光子と、該第２の偏光子の液晶セル側に配置された第３の保護層と、該第２の偏光子の液晶セル側とは反対側に配置された第４の保護層とを備える。
【００６０】
上記保護層と上記偏光子とは、任意の適切な接着層を介して、積層させることができる。本明細書において、「接着層」とは、隣り合う光学部材の面と面とを接合し、実用上十分な接着力と接着時間で一体化させるものをいう。上記接着層を形成する材料としては、例えば、接着剤、アンカーコート剤が挙げられる。上記接着層は、被着体の表面にアンカーコート層が形成され、その上に接着剤層が形成されたような、多層構造であってもよい。また、肉眼的に認知できないような薄い層（ヘアーラインともいう）であってもよい。
【００６１】
上記偏光子が、ヨウ素を含有するポリビニルアルコール系樹脂を主成分とする場合、上記接着層を形成する材料としては、好ましくは、水溶性接着剤である。上記水溶性接着剤としては、好ましくは、ポリビニルアルコール系樹脂を主成分とする水溶性接着剤である。上記接着層は、市販の接着剤をそのまま用いることもできる。あるいは、市販の接着剤に溶剤や添加剤を混合して用いることもできる。市販のポリビニルアルコール系樹脂を主成分とする接着剤としては、例えば、日本合成化学工業（株）製  商品名「ゴーセファイマーＺ２００」が挙げられる。
【００６２】
上記水溶性接着剤は、添加剤として、架橋剤をさらに含有し得る。架橋剤の種類としては、例えば、アミン化合物、アルデヒド化合物、メチロール化合物、エポキシ化合物、イソシアネート化合物、および多価金属塩等が挙げられる。上記架橋剤は、市販のものをそのまま用いることもできる。市販の架橋剤としては、日本合成化学工業（株）製  アルデヒド化合物  商品名「グリオキサザール」が挙げられる。上記架橋剤の添加量は、目的に応じて、適宜、調整され得るが、通常、水溶性接着剤の固形分１００質量部に対して、０を超え１０質量部以下である。
【００６３】
〔第１の保護層〕
第１の保護層は、第１の偏光子の液晶セル側に配置される。上記第１の保護層の厚みは、目的に応じて、任意の適切な値が選択され得る。上記保護層の厚みは、好ましくは、２０μｍ〜１００μｍである。第１の保護層の厚みを上記の範囲とすることによって、機械的強度や耐久性に優れた偏光板が得られる。
【００６４】
上記第１の保護層の２３℃における波長５９０ｎｍの光で測定した透過率は、好ましくは９０％以上である。上記透過率の実現可能な上限は９６％である。
【００６５】
上記第１の保護層の、光弾性係数の絶対値（Ｃ［５９０］（ｍ２／Ｎ））は、好ましくは１×１０−１２〜１００×１０−１２であり、さらに好ましくは１×１０−１２〜６０×１０−１２である。光弾性係数の絶対値が上記の範囲であるものを用いることによって、歪によって光学的なムラが生じにくい偏光板が得られ得る。
【００６６】
上記第１の保護層は、偏光子と液晶セルとの間に配置されるため、その光学特性が液晶表示装置の表示特性に影響を与える場合がある。したがって、上記第１の保護層は、適切な位相差値を有するものを用いることが好ましい。
【００６７】
上記第１の保護層は、好ましくは、実質的に光学的に等方性を示す。ここで、「実質的に光学的に等方性を示す」とは、Ｒｏ［５９０］が１０ｎｍ未満であり、且つ、厚み方向の位相差値の絶対値（｜Ｒｔｈ［５９０］｜）が１０ｎｍ未満であるものを包含する。
【００６８】
上記第１の保護層のＲｏ［５９０］は、好ましくは１０ｎｍ未満であり、さらに好ましくは８ｎｍ以下であり、特に好ましくは５ｎｍ以下である。Ｒｏ［５９０］を上記の範囲とすることによって、斜め方向のカラーシフトが小さい液晶表示装置が得られる。
【００６９】
上記第１の保護層のＲｔｈ［５９０］の絶対値（｜Ｒｔｈ［５９０］｜）は、好ましくは１０ｎｍ未満であり、さらに好ましくは８ｎｍ以下であり、特に好ましくは５ｎｍ以下である。｜Ｒｔｈ［５９０］｜を上記の範囲とすることによって、斜め方向のカラーシフトが小さい液晶表示装置が得られる。
【００７０】
ここで、Ｒｏとは面内リターデーションを示し、Ｒｔとは厚み方向リターデーションを示す。
【００７１】
リターデーションＲｏ、Ｒｔは下記式により求められる。
【００７２】
式（ｉ）  Ｒｏ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
式（ii）  Ｒｔ＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ）×ｄ
（式中、ｎｘは保護層面内の遅相軸方向の屈折率、ｎｙは保護層面内の進相軸方向の屈折率、ｎｚは保護層の厚み方向の屈折率（屈折率は２３℃、５５％ＲＨの環境下、波長５９０ｎｍで測定）、ｄはフィルムの厚さ（ｎｍ）を表す。）
保護層の屈折率は、アッベ屈折率計（４Ｔ）を用いて、保護層の厚さは市販のマイクロメーターを用いて、リターデーション値は、自動複屈折計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）製）等を用いて、各々測定することが出来る。
【００７３】
上記第１の保護層を形成する材料としては、任意の適切なものが採用され得る。好ましくは、上記第１の保護層は、セルロース系樹脂を含有する高分子フィルムである。セルロース系樹脂は、上記偏光子との接着性に優れるため、高温、多湿の環境下でも、偏光子と保護層との間に浮きや剥がれが生じない偏光板を得ることができる。
【００７４】
上記セルロース系樹脂は、任意の適切なものが採用され得る。上記セルロース系樹脂は、好ましくは、セルロースの水酸基の一部または全部がアセチル基、プロピオニル基および／またはブチル基で置換されたセルロース有機酸エステルまたはセルロース混合有機酸エステルである。上記セルロース有機酸エステルとしては、例えば、セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート等が挙げられる。上記セルロース混合有機酸エステルとしては、例えば、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート等が挙げられる。上記セルロース系樹脂は、例えば、特開２００１−１８８１２８号公報［００４０］〜［００４１］に記載の方法により得ることができる。
【００７５】
上記セルロース系樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、テトラヒドロフラン溶媒によるゲル・パーミエーション・クロマトグラフ（ＧＰＣ）法で測定した値が、好ましくは２００００〜１００００００、さらに好ましくは２５０００〜８０００００である。なお、上記重量平均分子量は、実施例に記載の方法で測定した値である。重量平均分子量が上記の範囲であれば、機械的強度に優れ、溶解性、成形性、流延の操作性が良いものができる。
【００７６】
上記セルロース系樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）は、好ましくは１１０℃〜１８５℃である。Ｔｇが１１０℃以上あれば、熱安定性の良好なフィルムが得られやすくなり、１８５℃以下であれば、成形加工性に優れる。なお、ガラス転移温度（Ｔｇ）は、ＪＩＳ  Ｋ  ７１２１に準じたＤＳＣ法により求めることができる。
【００７７】
記セルロース系樹脂を含有する高分子フィルムを得る方法としては、任意の適切な成形加工法が採用され得る。成形加工法としては、例えば、圧縮成形法、トランスファー成形法、射出成形法、押出成形法、ブロー成形法、粉末成形法、ＦＲＰ成形法、およびソルベントキャスティング法等が挙げられる。好ましくは、上記成形加工法は、ソルベントキャスティング法である。平滑性、光学均一性に優れた高分子フィルムを得ることができるからである。
【００７８】
上記ソルベントキャスティング法は、具体的には、主成分となる樹脂、添加剤等を含む樹脂組成物を溶剤に溶解した濃厚溶液（ドープ）を脱泡した後、エンドレスステンレスベルトまたは回転ドラムの表面に、シート状に均一に流延し、溶剤を蒸発させてフィルムを成形する方法である。フィルム形成時に採用される条件は、目的に応じて、任意の適切な条件が選択され得る。
【００７９】
上記セルロース系樹脂を含有する高分子フィルムは、任意の適切な添加剤をさらに含有し得る。上記添加剤としては、例えば、可塑剤、熱安定剤、光安定剤、滑剤、抗酸化剤、紫外線吸収剤、難燃剤、着色剤、帯電防止剤、相溶化剤、架橋剤、および増粘剤等が挙げられる。上記添加剤の含有量（質量比）は、目的に応じて、任意の適切な値が設定され得る。好ましくは、上記添加剤の含有量（質量比）は、上記セルロース系樹脂１００質量部に対し、０を超え２０以下である。
【００８０】
上記第１の保護層は、市販のフィルムをそのまま用いることができる。あるいは、市販のフィルムに延伸処理および／または収縮処理などの２次的加工を施したものを用いることができる。市販のセルロース系樹脂を含有する高分子フィルムとしては、例えば、ＫＣ８ＵＸ２Ｍ、ＫＣ４ＵＸ、ＫＣ５ＵＸ、ＫＣ４ＵＹ、ＫＣ８ＵＹ、ＫＣ４ＵＥ、ＫＣ１２ＵＲ、ＫＣ８ＵＣＲ−３、ＫＣ８ＵＣＲ−４、ＫＣ４ＦＲ−１、ＫＣ８ＵＹ−ＨＡ、ＫＣ８ＵＸ−ＲＨＡ（以上、コニカミノルタオプト（株）製）、富士写真フィルム（株）製  フジタックシリーズ（商品名；ＺＲＦ８０Ｓ，ＴＤ８０ＵＦ，ＴＤＹ−８０ＵＬ）等が挙げられる。
【００８１】
〔第２の保護層〕
第２の保護層は、第１の偏光子の液晶セル側とは反対側に配置される。上記第２の保護層としては、任意の適切なものが採用され得る。好ましくは、前項に記載した範囲の、厚み、透過率、および光弾性係数の絶対値を有するものが用いられる。
【００８２】
上記第２の保護層を形成する材料としては、任意の適切なものが採用され得る。好ましくは、上記第２の保護層は、セルロース系樹脂を含有する高分子フィルムである。上記セルロース系樹脂を含有する高分子フィルムは、好ましくは、前項に記載したものと同様のものが用いられる。
【００８３】
上記第２の保護層は、上記透過率の関係を満足する限り、その表面に任意の適切な表面処理が施されてもよい。例えば、上記保護層として、表面処理が施された市販の高分子フィルムをそのまま用いることができる。あるいは、市販の高分子フィルムに任意の表面処理を施して用いることもできる。表面処理としては、拡散処理（アンチグレア処理）、反射防止処理（アンチリフレクション処理）、ハードコート処理、帯電防止処理等が挙げられる。市販の拡散処理（アンチグレア処理）品としては、例えば、日東電工（株）製  ＡＧ１５０、ＡＧＳ１、ＡＧＳ２、ＡＧＴ１等が挙げられる。市販の反射防止処理（アンチリフレクション処理）品としては、日東電工（株）製  ＡＲＳ、ＡＲＣ等が挙げられる。ハードコート処理および帯電防止処理が施された市販のフィルムとしては、例えば、コニカミノルタオプト（株）製  商品名「ＫＣ８ＵＸ−ＨＡ」が挙げられる。
【００８４】
〔表面処理層〕
必要に応じて、上記第２の保護層の第１の偏光子を備える側とは反対側に、表面処理層を設けてもよい。上記表面処理層は、目的に応じて、任意の適切なものを採用し得る。例えば、拡散処理（アンチグレア処理）層、反射防止処理（アンチリフレクション処理）層、ハードコート処理層、帯電防止処理層等が挙げられる。これらの表面処理層は、画面の汚れや傷つきを防止したり、室内の蛍光灯や太陽光線が画面に写り込むことによって、表示画像が見え難くなることを防止したりする目的で使用される。表面処理層は、一般的には、ベースフィルムの表面に上記の処理層を形成する処理剤を固着させたものが用いられる。上記ベースフィルムは、上記第２の保護層を兼ねていてもよい。さらに、表面処理層は、例えば、帯電防止処理層の上にハードコート処理層を積層したような多層構造を有してもよい。反射防止処理が施された市販の表面処理層としては、例えば、日本油脂（株）製  ＲｏａＬｏｏｋシリーズが挙げられる。
【００８５】
〔第３の保護層〕
第３の保護層は、第２の偏光子の液晶セル側に配置される。上記第３の保護層としては、上述した第１の保護層に記載した材料、特性、条件等から任意の適切なものが採用され得る。上記第１の保護層と上記第３の保護層とは、それぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよい。好ましくは、上記第３の保護層は、実質的に光学的に等方性を示す。
【００８６】
〔第４の保護層〕
第４の保護層は、第２の偏光子の液晶セル側とは反対側に配置される。上記第４の保護層としては、上述した第２の保護層に記載した材料、特性、条件等から任意の適切なものが採用され得る。上記第２の保護層と上記第４の保護層とは、それぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよい。
【００８７】
＜接着層＞
好ましい実施形態においては、上記偏光板（第１の偏光板及び第２の偏光板）は、接着層を介して、液晶パネルに貼着される。上記接着層を形成する材料としては、被着体の種類や用途に応じて、適切な接着剤及び／又はアンカーコート剤が選択され得る。接着剤の具体例としては、形状による分類によれば、溶剤形接着剤、エマルジョン形接着剤、感圧性接着剤、再湿性接着剤、重縮合形接着剤、無溶剤形接着剤、フィルム状接着剤、ホットメルト形接着剤などが挙げられる。化学構造による分類によれば、合成樹脂接着剤、ゴム系接着剤、および天然物接着剤が挙げられる。なお、上記接着剤は、加圧接触で感知しうる接着力を常温で示す粘弾性物質（粘着剤ともいう）を包含する。
【００８８】
好ましくは、上記接着層を形成する材料は、アクリル系重合体をベースポリマーとする感圧性接着剤（アクリル系粘着剤ともいう）である。透明性、接着性、耐候性、及び耐熱性に優れるからである。上記アクリル系粘着剤層の厚みは、被着体の材質や用途に応じて、適宜、調整され得るが、通常、５μｍ〜５０μｍである。
【００８９】
＜無機化合物含有層＞
本発明の液晶表示装置は、バックライトユニットと該バックライトユニットに近い位置にある方の偏光板との間に、無機化合物含有層を少なくとも１層有することを特徴とする。バックライトユニットと該バックライトユニットに近い位置にある方の偏光板との間とは、拡散板から第２の偏光板の間を意味する。無機化合物含有層を設けることができる位置をより詳細に述べると、拡散板の上、拡散板に対し視認側に配置される拡散シートの両面、プリズムシートの両面、反射型偏光フィルムの両面、輝度向上フィルムの両面、第２の偏光板を構成するバックライト側の偏光板保護層の偏光子とは反対側の面、のいずれかの位置あるいはこれらから選ばれる複数の位置である。
【００９０】
また、無機化合物含有層の構成物質としては、例えば珪素の酸化物、窒化物、ハロゲン化物、炭化物の単体または複合物や、アルミニウム、クロム、イットリウム、ジルコニア、タンタル、チタン、バリウム、インジウム、錫、亜鉛、マグネシウム、カルシウム、セリウム、銅などの金属の酸化物、窒化物、ハロゲン化物、炭化物の単体または複合物を用いることができる。好ましくは、酸化珪素、酸化チタン、酸化セリウム、酸化アルミニウム、酸化イットリウム、酸化ジルコニウム、窒化珪素、窒化アルミニウムまたはそれらの複合物である。
【００９１】
また、無機化合物含有層は異なる構成物質または組成比の積層構造であっても構わない。
【００９２】
また、上記無機化合物含有層の比重を、該層に含有される無機化合物の比重で割った値は０．６以上であることが特徴である。無機化合物含有層の比重は、以下のように求められる。まず予め基材となるフィルムの質量を測定しておき、その基材フィルムの上に例えば後述の如く無機化合物含有層を形成させた後、質量を計測することで無機化合物含有層のみの質量を算出する。無機化合物含有層が形成されたフィルムの垂直断面を走査型電子顕微鏡で観察することにより、平均的な無機化合物含有層の厚みを測定する。フィルムの面積と無機化合物含有層の厚みより、層の体積を求め、先に算出した質量を体積で割ることにより無機化合物含有層の比重が求まる。また、無機化合物自体の比重は、種々の文献等に記載されている値を用いることとし、これによって、無機化合物含有層と無機化合物の比重比を求めることができる。ここで、複数の無機化合物を用いる場合は、個々の比重に理論組成比を掛け合わせたものを荷重平均比重として採用するものとする。色味安定性を高める上では、無機化合物以外の組成物や空隙の存在はできるだけ小さい方が熱伝導性を高めることができる為、無機化合物含有層の比重を該層を構成する無機化合物の比重で割った値は、０．６以上であり、好ましくは０．７以上、より好ましくは０．８以上である。
【００９３】
また、上記無機化合物含有層の厚さは、用いられる材料の種類、構成により最適条件が異なり、適宜選択されるが、１〜１０００ｎｍの範囲内であることが好ましく、さらに好ましいのは５〜５００ｎｍの範囲内であり、最も好ましくは３０〜３００ｎｍである。
【００９４】
無機化合物層は本発明の使用に鑑みて透明な層であることが好ましく、その透過率は用いる無機化合物の種類、量を適宜調整して８５％以上、より好ましくは９０％以上にすることが好ましい。
【００９５】
＜支持体＞
無機化合物層の支持体は特に限定されるものではないが、無機化合物層を保持することができる樹脂フィルムであることが好ましい。更に、前記拡散シート、プリズムシート、反射型偏光フィルム、輝度向上フィルム、第２の偏光板を構成するバックライト側の偏光板保護層、等がそのまま支持体となることも好ましい。特に、輝度向上フィルム、及び第２の偏光板を構成するバックライト側の偏光板保護層であることが好ましい。
【００９６】
使用できる樹脂としては、環状ポリオレフィン等の非晶質ポリオレフィン樹脂（ＡＰＯ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレン２，６−ナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル系樹脂、ナイロン６、ナイロン１２、共重合ナイロン等のポリアミド系（ＰＡ）樹脂、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）樹脂、エチレン−ビニルアルコール共重合体（ＥＶＯＨ）等のポリビニルアルコール系樹脂、ポリイミド（ＰＩ）樹脂、ポリエーテルイミド（ＰＥＩ）樹脂、ポリサルホン（ＰＳ）樹脂、ポリエーテルサルホン（ＰＥＳ）樹脂、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）樹脂、ポリカーボネート（ＰＣ）樹脂、ポリビニルブチラート（ＰＶＢ）樹脂、ポリアリレート（ＰＡＲ）樹脂、エチレン−四フッ化エチレン共重合体（ＥＴＦＥ）、三フッ化塩化エチレン（ＰＦＡ）、四フッ化エチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体（ＦＥＰ）、フッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）、フッ化ビニル（ＰＶＦ）、パーフルオロエチレンーパーフルオロプロピレンーパーフルオロビニルエーテル−共重合体（ＥＰＡ）等のフッ素系樹脂、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート等のセルロースエステル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂、ポリカーボネートを用いることができる。
【００９７】
さらには、非晶質ポリオレフィン樹脂、ポリカーボネート、アクリル樹脂、セルロースエステルであることが好ましい。
【００９８】
これらの樹脂から得られるフィルムは、非晶質ポリオレフィン樹脂フィルムとしてゼオネックス、ゼオノア（日本ゼオン（株）製）、ＡＲＴＯＮ（ジェイエスアール（株）製）、ポリカーボネートフィルムとしてピュアエース（帝人（株）製）、セルロースエステルフィルムとしてコニカミノルタタックＫＣ４ＵＸ、ＫＣ８ＵＸ、ＫＣ４ＵＹ、ＫＣ８ＵＹ（コニカミノルタオプト（株）製）などが市販品として入手でき好ましく使用することができる。
【００９９】
これらののフィルムは、従来公知の一般的な方法により製造することが可能である。例えば、材料となる樹脂を押し出し機により溶融し、環状ダイやＴダイにより押し出して急冷することにより、実質的に無定形で配向していない未延伸の支持体を製造することができる。
【０１００】
また、未延伸の支持体を一軸延伸、テンター式逐次二軸延伸、テンター式同時二軸延伸、チューブラー式同時二軸延伸などの公知の方法により、支持体の流れ（縦軸）方向、または支持体の流れ方向と直角（横軸）方向に延伸することにより延伸支持体を製造することができる。
【０１０１】
この場合の延伸倍率は、支持体の原料となる樹脂に合わせて適宜選択することできるが、縦軸方向および横軸方向にそれぞれ２〜１０倍が好ましい。
【０１０２】
支持体であるフィルムは、ロール状に巻き上げられた長尺品が便利である。フィルムの膜厚は、適宜選択され、例えば１０〜２００μｍが好ましく、より好ましくは４０〜１００μｍである。
【０１０３】
＜無機化合物含有層の製造方法＞
本発明の無機化合物含有層を形成する方法としては、無機化合物含有層の比重を該層を構成する無機化合物の比重で割った値を高める上で、プラズマＣＶＤ法が好ましく、なかでも異なる周波数の電界を二つ以上印加する、いわゆる２周波プラズマＣＶＤ法が特に好ましい。
【０１０４】
はじめに、本発明の無機化合物含有層を製造する方法において、プラズマＣＶＤ法による製造方法で用いられる原料化合物について説明する。
【０１０５】
＜原料化合物＞
本発明の無機化合物含有層は、プラズマＣＶＤ法において、原料（原材料ともいう）である有機金属化合物、分解ガス、分解温度、投入電力などの条件を選ぶことで、酸化珪素、また酸化珪素を主体とした金属酸化物、また、金属炭化物、金属窒化物、金属硫化物、金属ハロゲン化物等との混合物（金属酸窒化物、金属酸化ハロゲン化物など）等の組成を作り分けることができる。
【０１０６】
例えば、珪素化合物を原料化合物として用い、分解ガスに酸素を用いれば、珪素酸化物が生成する。また、シラザン等を原料化合物として用いれば、酸化窒化珪素が生成する。これはプラズマ空間内では非常に活性な荷電粒子・活性ラジカルが高密度で存在するため、プラズマ空間内では多段階の化学反応が非常に高速に促進され、プラズマ空間内に存在する元素は熱力学的に安定な化合物へと非常な短時間で変換されるためである。
【０１０７】
このような無機化合物含有層の形成原料としては、珪素化合物であれば、常温常圧下で気体、液体、固体いずれの状態であっても構わない。
【０１０８】
気体の場合にはそのまま放電空間に導入できるが、液体、固体の場合は、加熱、バブリング、減圧、超音波照射等の手段により気化させて使用する。又、溶媒によって希釈して使用してもよく、溶媒は、メタノール、エタノール、ｎ−ヘキサンなどの有機溶媒およびこれらの混合溶媒が使用できる。
【０１０９】
尚、これらの希釈溶媒は、プラズマ放電処理中において、分子状、原子状に分解されるため、影響は殆ど無視することができる。
【０１１０】
このような珪素化合物としては、シラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラｎ−プロポキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラｎ−ブトキシシラン、テトラｔ−ブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジエチルジメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、（３，３，３−トリフルオロプロピル）トリメトキシシラン、ヘキサメチルジシロキサン、ビス（ジメチルアミノ）ジメチルシラン、ビス（ジメチルアミノ）メチルビニルシラン、ビス（エチルアミノ）ジメチルシラン、Ｎ，Ｏ−ビス（トリメチルシリル）アセトアミド、ビス（トリメチルシリル）カルボジイミド、ジエチルアミノトリメチルシラン、ジメチルアミノジメチルシラン、ヘキサメチルジシラザン、ヘキサメチルシクロトリシラザン、ヘプタメチルジシラザン、ノナメチルトリシラザン、オクタメチルシクロテトラシラザン、テトラキスジメチルアミノシラン、テトライソシアナートシラン、テトラメチルジシラザン、トリス（ジメチルアミノ）シラン、トリエトキシフルオロシラン、アリルジメチルシラン、アリルトリメチルシラン、ベンジルトリメチルシラン、ビス（トリメチルシリル）アセチレン、１，４−ビストリメチルシリル−１，３−ブタジイン、ジ−ｔ−ブチルシラン、１，３−ジシラブタン、ビス（トリメチルシリル）メタン、シクロペンタジエニルトリメチルシラン、フェニルジメチルシラン、フェニルトリメチルシラン、プロパルギルトリメチルシラン、テトラメチルシラン、トリメチルシリルアセチレン、１−（トリメチルシリル）−１−プロピン、トリス（トリメチルシリル）メタン、トリス（トリメチルシリル）シラン、ビニルトリメチルシラン、ヘキサメチルジシラン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、テトラメチルシクロテトラシロキサン、ヘキサメチルシクロテトラシロキサン、Ｍシリケート５１等が挙げられる。
【０１１１】
また、これら珪素を含む原料ガスを分解して無機化合物含有層を得るための分解ガスとしては、水素ガス、メタンガス、アセチレンガス、一酸化炭素ガス、二酸化炭素ガス、窒素ガス、アンモニアガス、亜酸化窒素ガス、酸化窒素ガス、二酸化窒素ガス、酸素ガス、水蒸気、フッ素ガス、フッ化水素、トリフルオロアルコール、トリフルオロトルエン、硫化水素、二酸化硫黄、二硫化炭素、塩素ガスなどが挙げられる。
【０１１２】
珪素を含む原料ガスと、分解ガスを適宜選択することで、酸化珪素、また、窒化物、炭化物等を含有する無機化合物含有層を得ることができる。
【０１１３】
プラズマＣＶＤ法においては、これらの反応性ガスに対して、主にプラズマ状態になりやすい放電ガスを混合し、プラズマ放電発生装置にガスを送りこむ。
【０１１４】
このような放電ガスとしては、窒素ガスおよび／または周期表の第１８属原子、具体的には、ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノン、ラドン等が用いられる。これらの中でも特に、窒素、ヘリウム、アルゴンが好ましく用いられる。
【０１１５】
上記放電ガスと反応性ガスを混合し、無機化合物含有層形成（混合）ガスとして大気圧プラズマ放電発生装置（プラズマ発生装置）に供給することで無機化合物含有層形成を行う。
【０１１６】
放電ガスと反応性ガスの割合は、得ようとする無機化合物含有層の性質によって異なるが、混合ガス全体に対し、放電ガスの割合を５０％以上として反応性ガスを供給する。
【０１１７】
＜プラズマＣＶＤ装置および無機化合物含有層形成条件＞
次いで、プラズマＣＶＤ法に使用されるプラズマＣＶＤ装置（大気圧プラズマ放電処理装置ともいう）および無機化合物含有層形成条件について、以下説明する。
【０１１８】
プラズマＣＶＤ法は、例えば、特開平１０−１５４５９８号公報や特開２００３−４９２７２号公報、国際公開第０２／０４８４２８号パンフレットなどに記載されているが、特に、特開２００４−６８１４３号公報に記載されている無機化合物含有層形成方法が、緻密でガスバリア性が高い無機化合物含有層を形成するには好ましい。
【０１１９】
また、ロール状の元巻きからウエブ状の支持体を繰り出して、組成の異なる無機化合物含有層を連続的に形成することができる。
【０１２０】
本発明のプラズマＣＶＤ法は、大気圧もしくはその近傍の圧力下で行われるプラズマＣＶＤ法であり、大気圧もしくはその近傍の圧力とは２０ｋＰａ〜１１０ｋＰａ程度であり、本発明に記載の良好な効果を得るためには、９３ｋＰａ〜１０４ｋＰａが好ましい。
【０１２１】
本発明における放電条件は、放電空間に異なる周波数の電界を２つ以上印加するものが好ましく、第１の高周波電界と第２の高周波電界とを重畳し、電界を印加する。
【０１２２】
前記第１の高周波電界の周波数ω１より前記第２の高周波電界の周波数ω２が高く、且つ、前記第１の高周波電界の強さＶ１と、前記第２の高周波電界の強さＶ２と、放電開始電界の強さＩＶとの関係が、Ｖ１≧ＩＶ＞Ｖ２または  Ｖ１＞ＩＶ≧Ｖ２を満たし、前記第２の高周波電界の出力密度が、１Ｗ／ｃｍ２以上である。高周波とは、少なくとも０．５ｋＨｚの周波数を有するものを言う。
【０１２３】
重畳する高周波電界が、ともにサイン波である場合、第１の高周波電界の周波数ω１と該周波数ω１より高い第２の高周波電界の周波数ω２とを重ね合わせた成分となり、その波形は周波数ω１のサイン波上に、それより高い周波数ω２のサイン波が重なった鋸歯状の波形となる。
【０１２４】
本発明において、放電開始電界の強さとは、実際の無機化合物含有層形成方法に使用される放電空間（電極の構成など）および反応条件（ガス条件など）において放電を起こすことのできる最低電界強度のことを指す。
【０１２５】
放電開始電界強度は、放電空間に供給されるガス種や電極の誘電体種または電極間距離などによって多少変動するが、同じ放電空間においては、放電ガスの放電開始電界強度に支配される。
【０１２６】
上記で述べたような高周波電界を放電空間に印加することによって、無機化合物含有層形成可能な放電を起こし、高品位な無機化合物含有層形成に必要な高密度プラズマを発生することができると推定される。
【０１２７】
ここで重要なのは、このような高周波電界が対向する電極間に印加され、すなわち、同じ放電空間に印加されることである。
【０１２８】
上記でサイン波等の連続波の重畳について説明したが、両方パルス波であっても、一方が連続波でもう一方がパルス波であってもかまわない。また、さらに周波数の異なる第３の電界を有していてもよい。
【０１２９】
上記本発明の高周波電界を、同一放電空間に印加する具体的な方法としては、例えば、対向電極を構成する第１電極に周波数ω１であって電界強度Ｖ１である第１の高周波電界を印加する第１電源を接続し、第２電極に周波数ω２であって電界強度Ｖ２である第２の高周波電界を印加する第２電源を接続した大気圧プラズマ放電処理装置を用いる。
【０１３０】
上記の大気圧プラズマ放電処理装置には、対向電極間に、放電ガスと無機化合物層形成ガスとを供給するガス供給手段を備える。さらに、電極の温度を制御する電極温度制御手段を有することが好ましい。
【０１３１】
また、第１電極、第１電源またはそれらの間の何れかには第１フィルタを、また第２電極、第２電源またはそれらの間の何れかには第２フィルタを接続することが好ましく、第１フィルタは第１電源から第１電極への第１の高周波電界の電流を通過しやすくし、第２の高周波電界の電流をアースして、第２電源から第１電源への第２の高周波電界の電流を通過しにくくする。
【０１３２】
また、第２フィルタはその逆で、第２電源から第２電極への第２の高周波電界の電流を通過しやすくし、第１の高周波電界の電流をアースして、第１電源から第２電源への第１の高周波電界の電流を通過しにくくする機能が備わっているものを使用する。
【０１３３】
ここで、通過しにくいとは、好ましくは、電流の２０％以下、より好ましくは１０％以下しか通さないことをいう。逆に通過しやすいとは、好ましくは電流の８０％以上、より好ましくは９０％以上を通すことをいう。
【０１３４】
例えば、第１フィルタとしては、第２電源の周波数に応じて数１０ｐＦ〜数万ｐＦのコンデンサ、もしくは数μＨ程度のコイルを用いることができる。第２フィルタとしては、第１電源の周波数に応じて１０μＨ以上のコイルを用い、これらのコイルまたはコンデンサを介してアース接地することでフィルタとして使用できる。
【０１３５】
さらに、本発明の大気圧プラズマ放電処理装置の第１電源は、第２電源より高い電界強度を印加できる能力を有していることが好ましい。
【０１３６】
ここで、本発明でいう印加電界強度と放電開始電界強度は、下記の方法で測定されたものをいう。
【０１３７】
印加電界強度Ｖ１およびＶ２（単位：ｋＶ／ｍｍ）の測定方法：
各電極部に高周波電圧プローブ（Ｐ６０１５Ａ）を設置し、該高周波電圧プローブの出力信号をオシロスコープ（Ｔｅｋｔｒｏｎｉｘ社製、ＴＤＳ３０１２Ｂ）に接続し、所定の時点の電界強度を測定する。
【０１３８】
放電開始電界強度ＩＶ（単位：ｋＶ／ｍｍ）の測定方法：
電極間に放電ガスを供給し、この電極間の電界強度を増大させていき、放電が始まる電界強度を放電開始電界強度ＩＶと定義する。測定器は上記印加電界強度測定と同じである。
【０１３９】
本発明で規定する放電条件をとることにより、例え窒素ガスのように放電開始電界強度が高い放電ガスでも、放電を開始し、高密度で安定なプラズマ状態を維持でき、高性能な無機化合物含有層形成を行うことができる。
【０１４０】
上記の測定により放電ガスを窒素ガスとした場合、その放電開始電界強度ＩＶ（１／２Ｖｐ−ｐ）は３．７ｋＶ／ｍｍ程度であり、従って、上記の関係において、第１の印加電界強度を、Ｖ１≧３．７ｋＶ／ｍｍとして印加することによって窒素ガスを励起し、プラズマ状態にすることができる。
【０１４１】
ここで、第１電源の周波数としては、２００ｋＨｚ以下が好ましく用いることができる。またこの電界波形としては、連続波でもパルス波でもよい。下限は１ｋＨｚ程度が望ましい。
【０１４２】
一方、第２電源の周波数としては、８００ｋＨｚ以上が好ましく用いられる。この第２電源の周波数が高い程、プラズマ密度が高くなり、緻密で良質な無機化合物含有層が得られる。上限は２００ＭＨｚ程度が望ましい。
【０１４３】
本発明に用いられる大気圧プラズマ放電処理装置は、上述のように、対向電極の間で放電させ、前記対向電極間に導入したガスをプラズマ状態とし、前記対向電極間に静置あるいは電極間を移送される支持体を該プラズマ状態のガスに晒すことによって、該支持体の上に無機化合物含有層を形成させるものである。
【０１４４】
また他の方式として、大気圧プラズマ放電処理装置は、上記同様の対向電極間で放電させ、該対向電極間に導入したガスを励起しまたはプラズマ状態とし、該対向電極外にジェット状に励起またはプラズマ状態のガスを吹き出し、該対向電極の近傍にある支持体（静置していても移送されていてもよい）を晒すことによって該支持体の上に無機化合物含有層を形成させるジェット方式の装置がある。
【０１４５】
図４は、本発明に有用なジェット方式の大気圧プラズマ放電処理装置の一例を示した概略図である。
【０１４６】
ジェット方式の大気圧プラズマ放電処理装置は、プラズマ放電処理装置、二つの電源を有する電界印加手段の他に、図４では図示してない（後述の図５に図示してある）が、ガス供給手段、電極温度調節手段を有している装置である。
【０１４７】
プラズマ放電処理装置１０は、第１電極１１と第２電極１２から構成されている対向電極を有しており、該対向電極間に、第１電極１１からは第１電源２１からの周波数ω１、電界強度Ｖ１、電流Ｉ１の第１の高周波電界が印加され、また第２電極１２からは第２電源２２からの周波数ω２、電界強度Ｖ２、電流Ｉ２の第２の高周波電界が印加されるようになっている。
【０１４８】
第１電源２１は第２電源２２より高い高周波電界強度（Ｖ１＞Ｖ２）を印加し、また第１電源２１の第１の周波数ω１は第２電源２２の第２の周波数ω２より低い周波数を印加する。
【０１４９】
第１電極１１と第１電源２１との間には、第１フィルタ２３が設置されており、第１電源２１から第１電極１１への電流を通過しやすくし、第２電源２２からの電流をアースして、第２電源２２から第１電源２１への電流が通過しにくくなるように設計されている。
【０１５０】
また、第２電極１２と第２電源２２との間には、第２フィルター２４が設置されており、第２電源２２から第２電極への電流を通過しやすくし、第１電源２１からの電流をアースして、第１電源２１から第２電源への電流を通過しにくくするように設計されている。
【０１５１】
第１電極１１と第２電極１２との対向電極間（放電空間）１３に、図４に図示してあるようなガス供給手段から前述した無機化合物含有層形成ガスＧを導入し、第１電源２１と第２電源２２により第１電極１１と第２電極１２間に、前述した高周波電界を印加して放電を発生させ、前述した無機化合物含有層形成ガスＧをプラズマ状態にしながら対向電極の下側（紙面下側）にジェット状に吹き出させて、対向電極下面と支持体Ｆとで作る処理空間をプラズマ状態のガスＧ°で満たし、図示してない支持体の元巻き（アンワインダー）から巻きほぐされて搬送して来るか、あるいは前工程から搬送して来る支持体Ｆの上に、処理位置１４付近で無機化合物含有層を形成させる。
【０１５２】
無機化合物含有層形成中、図４に図示してあるような電極温度調節手段から媒体が配管を通って電極を加熱または冷却する。
【０１５３】
プラズマ放電処理の際の支持体の温度によっては、得られる無機化合物含有層の物性や組成等は変化することがあり、これに対して適宜制御することが望ましい。温度調節の媒体としては、蒸留水、油等の絶縁性材料が好ましく用いられる。
【０１５４】
プラズマ放電処理の際、支持体の幅手方向あるいは長手方向での温度ムラができるだけ生じないように電極の内部の温度を均等に調節することが望まれる。
【０１５５】
また、図４に前述の印加電界強度と放電開始電界強度の測定に使用する測定器と測定位置を示した。２５および２６は高周波電圧プローブであり、２７および２８はオシロスコープである。
【０１５６】
ジェット方式の大気圧プラズマ放電処理装置を、支持体Ｆの搬送方向と平行に複数台並べ、同時に同じプラズマ状態のガスを放電させることにより、同一位置に複数層の無機化合物含有層を形成可能となり、短時間で所望の膜厚を形成可能となる。
【０１５７】
また支持体Ｆの搬送方向と平行に複数台並べ、各装置に異なる無機化合物含有層形成ガスを供給して異なったプラズマ状態のガスをジェット噴射すれば、異なった層の積層無機化合物含有層を形成することもできる。
【０１５８】
図５は本発明に有用な対向電極間で支持体を処理する方式の大気圧プラズマ放電処理装置の一例を示す概略図である。
【０１５９】
本発明の大気圧プラズマ放電処理装置は、少なくとも、プラズマ放電処理装置３０、二つの電源を有する電界印加手段４０、ガス供給手段５０、電極温度調節手段６０を有している装置である。
【０１６０】
ロール回転電極（第１電極）３５と角筒型固定電極群（第２電極）（以下角筒型固定電極群を固定電極群と記す）３６との対向電極間３２（以下対向電極間を放電空間３２とも記す）で、支持体Ｆをプラズマ放電処理して無機化合物含有層を形成するものである。
【０１６１】
ロール回転電極３５と角筒型固定電極群３６との間に形成された放電空間３２に、ロール回転電極３５には第１電源４１から周波数ω１、電界強度Ｖ１、電流Ｉ１の第１の高周波電界を、また角筒型固定電極群３６には第２電源４２から周波数ω２、電界強度Ｖ２、電流Ｉ２の第２の高周波電界をかけるようになっている。
【０１６２】
ロール回転電極３５と第１電源４１との間には、第１フィルタ４３が設置されており、第１フィルタ４３は第１電源４１から第１電極への電流を通過しやすくし、第２電源４２からの電流をアースして、第２電源４２から第１電源への電流を通過しにくくするように設計されている。
【０１６３】
また、角筒型固定電極群３６と第２電源４２との間には、第２フィルタ４４が設置されており、第２フィルター４４は、第２電源４２から第２電極への電流を通過しやすくし、第１電源４１からの電流をアースして、第１電源４１から第２電源への電流を通過しにくくするように設計されている。
【０１６４】
なお、本発明においては、ロール回転電極３５を第２電極、また角筒型固定電極群３６を第１電極としてもよい。いずれの場合でも第１電極には第１電源が、また第２電極には第２電源が接続される。第１電源は第２電源より高い高周波電界強度（Ｖ１＞Ｖ２）を印加することが好ましい。また、周波数はω１＜ω２となる能力を有している。
【０１６５】
また、電流はＩ１＜Ｉ２となることが好ましい。第１の高周波電界の電流Ｉ１は、好ましくは０．３ｍＡ／ｃｍ２〜２０ｍＡ／ｃｍ２、さらに好ましくは１．０ｍＡ／ｃｍ２〜２０ｍＡ／ｃｍ２である。
【０１６６】
また、第２の高周波電界の電流Ｉ２は、好ましくは１０ｍＡ／ｃｍ２〜１００ｍＡ／ｃｍ２、さらに好ましくは２０ｍＡ／ｃｍ２〜１００ｍＡ／ｃｍ２である。
【０１６７】
ガス供給手段５０のガス発生装置５１で発生させた無機化合物含有層形成ガスＧは、不図示のガス流量調整手段により流量を制御して給気口５２よりプラズマ放電処理容器３１内に導入する。
【０１６８】
支持体Ｆを、図示されていない元巻きから巻きほぐして搬送されて来るか、または前工程から矢印方向に搬送されて来て、ガイドロール６４を経てニップロール６５で支持体に同伴されて来る空気等を遮断し、ロール回転電極３５に接触したまま巻き回しながら角筒型固定電極群３６との間に移送する。
【０１６９】
移送中にロール回転電極３５と角筒型固定電極群３６との両方から電界をかけ、対向電極間（放電空間）３２で放電プラズマを発生させる。支持体Ｆはロール回転電極３５に接触したまま巻き回されながらプラズマ状態のガスにより無機化合物層を形成する。
【０１７０】
なお、角筒型固定電極の数は、上記ロール電極の円周より大きな円周上に沿って複数本設置されており、該電極の放電面積はロール回転電極３５に対向している全ての角筒型固定電極のロール回転電極３５と対向する面の面積の和で表される。
【０１７１】
支持体Ｆは、ニップロール６６、ガイドロール６７を経て、図示してない巻き取り機で巻き取るか、次工程に移送する。放電処理済みの処理排ガスＧ′は排気口５３より排出する。
【０１７２】
無機化合物含有層形成中、ロール回転電極３５および角筒型固定電極群３６を加熱または冷却するために、電極温度調節手段６０で温度を調節した媒体を、送液ポンプＰで配管６１を経て両電極に送り、電極内側から温度を調節する。なお、６８および６９はプラズマ放電処理容器３１と外界とを仕切る仕切板である。
【０１７３】
対向する第１電極および第２の電極の電極間距離は、電極の一方に誘電体を設けた場合、該誘電体表面ともう一方の電極の導電性の金属質母材表面との最短距離のことを言う。
【０１７４】
双方の電極に誘電体を設けた場合、誘電体表面同士の距離の最短距離のことを言う。電極間距離は、導電性の金属質母材に設けた誘電体の厚さ、印加電界強度の大きさ、プラズマを利用する目的等を考慮して決定されるが、いずれの場合も均一な放電を行う観点から０．１〜２０ｍｍが好ましく、特に好ましくは０．５〜２ｍｍである。
【０１７５】
プラズマ放電処理容器３１はパイレックス（登録商標）ガラス製の処理容器等が好ましく用いられるが、電極との絶縁がとれれば金属製を用いることも可能である。
【０１７６】
例えば、アルミニウムまたは、ステンレススティールのフレームの内面にポリイミド樹脂等を張り付けても良く、該金属フレームにセラミックス溶射を行い絶縁性をとってもよい。
【０１７７】
図４において、平行した両電極の両側面（支持体面近くまで）を上記のような材質の物で覆うことが好ましい。
【０１７８】
本発明の大気圧プラズマ放電処理装置に設置する第１電源（高周波電源）としては、
印加電源記号  メーカー            周波数                  製品名
Ａ１          神鋼電機            ３ｋＨｚ            ＳＰＧ３−４５００
Ａ２          神鋼電機            ５ｋＨｚ            ＳＰＧ５−４５００
Ａ３          春日電機          １５ｋＨｚ            ＡＧＩ−０２３
Ａ４          神鋼電機          ５０ｋＨｚ            ＳＰＧ５０−４５００
Ａ５        ハイデン研究所    １００ｋＨｚ＊          ＰＨＦ−６ｋ
Ａ６          パール工業      ２００ｋＨｚ            ＣＦ−２０００−２００ｋ
Ａ７          パール工業      ４００ｋＨｚ            ＣＦ−２０００−４００ｋ
等の市販のものを挙げることができ、何れも使用することができる。
【０１７９】
また、第２電源（高周波電源）としては、
印加電源記号  メーカー            周波数                  製品名
Ｂ１          パール工業      ８００ｋＨｚ            ＣＦ−２０００−８００ｋ
Ｂ２          パール工業          ２ＭＨｚ            ＣＦ−２０００−２Ｍ
Ｂ３          パール工業  １３．５６ＭＨｚ            ＣＦ−５０００−１３Ｍ
Ｂ４          パール工業        ２７ＭＨｚ            ＣＦ−２０００−２７Ｍ
Ｂ５          パール工業      １５０ＭＨｚ            ＣＦ−２０００−１５０Ｍ
等の市販のものを挙げることができ、何れも好ましく使用できる。
【０１８０】
なお、上記電源のうち、＊印はハイデン研究所インパルス高周波電源（連続モードで１００ｋＨｚ）である。それ以外は連続サイン波のみ印加可能な高周波電源である。
【０１８１】
本発明においては、このような電界を印加して、均一で安定な放電状態を保つことができる電極を大気圧プラズマ放電処理装置に採用することが好ましい。
【０１８２】
本発明において、対向する電極間に印加する電力は、第２電極（第２の高周波電界）に１Ｗ／ｃｍ２以上の電力（出力密度）を供給し、放電ガスを励起してプラズマを発生させ、エネルギーを無機化合物含有層形成ガスに与え、無機化合物含有層を形成する。
【０１８３】
第２電極に供給する電力の上限値としては、好ましくは５０Ｗ／ｃｍ２、より好ましくは２０Ｗ／ｃｍ２である。下限値は、好ましくは１．２Ｗ／ｃｍ２である。なお、放電面積（ｃｍ２）は、電極間において放電が起こる範囲の面積のことを指す。
【０１８４】
また、第１電極（第１の高周波電界）にも、１Ｗ／ｃｍ２以上の電力（出力密度）を供給することにより、第２の高周波電界の均一性を維持したまま、出力密度を向上させることができる。
【０１８５】
これにより、更なる均一高密度プラズマを生成でき、更なる製膜速度の向上と膜質の向上が両立できる。好ましくは５Ｗ／ｃｍ２以上である。第１電極に供給する電力の上限値は、好ましくは５０Ｗ／ｃｍ２である。
【０１８６】
ここで高周波電界の波形としては、特に限定されない。連続モードと呼ばれる連続サイン波状の連続発振モードと、パルスモードと呼ばれるＯＮ／ＯＦＦを断続的に行う断続発振モード等があり、そのどちらを採用してもよいが、少なくとも第２電極側（第２の高周波電界）は連続サイン波の方がより緻密で良質な膜が得られるので好ましい。
【０１８７】
このような大気圧プラズマによる無機化合物含有層形成法に使用する電極は、構造的にも、性能的にも過酷な条件に耐えられるものでなければならない。このような電極としては、金属質母材上に誘電体を被覆したものであることが好ましい。
【０１８８】
本発明に使用する誘電体被覆電極においては、様々な金属質母材と誘電体との間に特性が合うものが好ましく、その一つの特性として、金属質母材と誘電体との線熱膨張係数の差が１０×１０−６／℃以下となる組み合わせのものである。
【０１８９】
好ましくは８×１０−６／℃以下、さらに好ましくは５×１０−６／℃以下、さらに好ましくは２×１０−６／℃以下である。なお、線熱膨張係数とは、周知の材料特有の物性値である。
【０１９０】
線熱膨張係数の差が、この範囲にある導電性の金属質母材と誘電体との組み合わせとしては、
１：金属質母材が純チタンまたはチタン合金で、誘電体がセラミックス溶射被膜
２：金属質母材が純チタンまたはチタン合金で、誘電体がガラスライニング
３：金属質母材がステンレススティールで、誘電体がセラミックス溶射被膜
４：金属質母材がステンレススティールで、誘電体がガラスライニング
５：金属質母材がセラミックスおよび鉄の複合材料で、誘電体がセラミックス溶射被膜
６：金属質母材がセラミックスおよび鉄の複合材料で、誘電体がガラスライニング
７：金属質母材がセラミックスおよびアルミの複合材料で、誘電体がセラミックス溶射皮膜
８：金属質母材がセラミックスおよびアルミの複合材料で、誘電体がガラスライニング等がある。
【０１９１】
線熱膨張係数の差という観点では、上記１項または２項および５〜８項が好ましく、特に１項が好ましい。
【０１９２】
本発明において、金属質母材は、上記の特性からはチタンまたはチタン合金が特に有用である。
【０１９３】
本発明に有用な電極の金属質母材は、チタンを７０質量％以上含有するチタン合金またはチタン金属である。本発明において、チタン合金またはチタン金属中のチタンの含有量は、７０質量％以上であれば、問題なく使用できるが、好ましくは８０質量％以上のチタンを含有しているものが好ましい。
【０１９４】
本発明に有用なチタン合金またはチタン金属は、工業用純チタン、耐食性チタン、高力チタン等として一般に使用されているものを用いることができる。
【０１９５】
工業用純チタンとしては、ＴＩＡ、ＴＩＢ、ＴＩＣ、ＴＩＤ等を挙げることができ、何れも鉄原子、炭素原子、窒素原子、酸素原子、水素原子等を極僅か含有しているもので、チタンの含有量としては、９９質量％以上を有している。耐食性チタン合金としては、Ｔ１５ＰＢを好ましく用いることができ、上記含有原子の他に鉛を含有しており、チタン含有量としては、９８質量％以上である。
【０１９６】
また、チタン合金としては、鉛を除く上記の原子の他に、アルミニウムを含有し、その他バナジウムや錫を含有しているＴ６４、Ｔ３２５、Ｔ５２５、ＴＡ３等を好ましく用いることができ、これらのチタン含有量としては、８５質量％以上を含有しているものである。
【０１９７】
これらのチタン合金またはチタン金属はステンレススティール、例えばＡＩＳＩ３１６に比べて、熱膨張係数が１／２程度小さく、金属質母材としてチタン合金またはチタン金属の上に施された後述の誘電体との組み合わせがよく、高温、長時間での使用に耐えることができる。
【０１９８】
一方、誘電体の求められる特性としては、具体的には、比誘電率が６〜４５の無機化合物であることが好ましく、また、このような誘電体としては、アルミナ、窒化珪素等のセラミックス、あるいは、ケイ酸塩系ガラス、ホウ酸塩系ガラス等のガラスライニング材等がある。
【０１９９】
この中では、後述のセラミックスを溶射したものやガラスライニングにより設けたものが好ましい。特にアルミナを溶射して設けた誘電体が好ましい。
【０２００】
または、上述のような大電力に耐える仕様の一つとして、誘電体の空隙率が１０体積％以下、好ましくは８体積％以下であることで、好ましくは０体積％を越えて５体積％以下である。
【０２０１】
なお、誘電体の空隙率は、ＢＥＴ吸着法や水銀ポロシメーターにより測定することができる。後述の実施例においては、島津製作所製の水銀ポロシメーターにより金属質母材に被覆された誘電体の破片を用い、空隙率を測定する。誘電体が、低い空隙率を有することにより、高耐久性が達成される。
【０２０２】
このような空隙を有しつつも空隙率が低い誘電体としては、大気プラズマ溶射法等による高密度、高密着のセラミックス溶射被膜等を挙げることができる。さらに空隙率を下げるためには、封孔処理を行うことが好ましい。
【０２０３】
また、大電力に耐える別の好ましい仕様としては、誘電体の厚みが０．５〜２ｍｍであることである。この膜厚変動は、５％以下であることが望ましく、好ましくは３％以下、さらに好ましくは１％以下である。
【０２０４】
本発明において、無機化合物含有層形成方法に係る電極においては、電極の少なくとも支持体と接する側のＪＩＳ  Ｂ  ０６０１で規定される表面粗さの最大高さ（Ｒｍａｘ）が１０μｍ以下になるように調整することが、本発明に記載の効果を得る観点から好ましいが、さらに好ましくは、表面粗さの最大値が８μｍ以下であり、特に好ましくは、７μｍ以下に調整することである。
【０２０５】
誘電体表面の研磨仕上げは、少なくとも支持体と接する側の誘電体において行われることが好ましい。さらにＪＩＳ  Ｂ  ０６０１で規定される中心線平均表面粗さ（Ｒａ）は０．５μｍ以下が好ましく、さらに好ましくは０．１μｍ以下である。
【０２０６】
本発明に使用する誘電体被覆電極において、大電力に耐える他の好ましい仕様としては、耐熱温度が１００℃以上であることである。
【０２０７】
さらに好ましくは１２０℃以上、特に好ましくは１５０℃以上である。また上限は５００℃である。なお、耐熱温度とは、大気圧プラズマ処理で用いられる電圧において絶縁破壊が発生せず、正常に放電できる状態において耐えられる最も高い温度のことを指す。
【０２０８】
このような耐熱温度は、上記のセラミックス溶射や、泡混入量の異なる層状のガラスライニングで設けた誘電体を適用したり、上記金属質母材と誘電体の線熱膨張係数の差の範囲内の材料を適宜選択する手段を適宜組み合わせることによって達成可能である。
【０２０９】
また、前記無機化合物を、バインダーと適当な溶媒に分散し基材に塗布することで無機化合物含有層を形成することも可能である。
【０２１０】
無機化合物含有層のバインダーとして用いられる樹脂としては、例えば塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、酢酸ビニルとビニルアルコールの共重合体、部分加水分解した塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル−アクリロニトリル共重合体、エチレン−ビニルアルコール共重合体、塩素化ポリ塩化ビニル、エチレン−塩化ビニル共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体等のビニル系重合体または共重合体、ニトロセルロース、セルロースアセテートプロピオネート（好ましくはアセチル基置換度１．８〜２．３、プロピオニル基置換度０．１〜１．０）、ジアセチルセルロース、セルロースアセテートブチレート樹脂等のセルロース誘導体、マレイン酸及び／またはアクリル酸の共重合体、アクリル酸エステル共重合体、アクリロニトリル−スチレン共重合体、塩素化ポリエチレン、アクリロニトリル−塩素化ポリエチレン−スチレン共重合体、メチルメタクリレート−ブタジエン−スチレン共重合体、アクリル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ウレタン樹脂、ポリエステルポリウレタン樹脂、ポリエーテルポリウレタン樹脂、ポリカーボネートポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアミド樹脂、アミノ樹脂、スチレン−ブタジエン樹脂、ブタジエン−アクリロニトリル樹脂等のゴム系樹脂、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
【０２１１】
無機化合物含有層の塗布に用いられる溶媒としては、例えば、ジオキサン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、酢酸メチル、酢酸エチル、トリクロロエチレン、メチレンクロライド、エチレンクロライド、テトラクロロエタン、トリクロロエタン、クロロホルム、水、メタノール、エタノール、ｎ−プロピルアルコール、ｉ−プロピルアルコール、ｎ−ブタノール、シクロヘキサノン、シクロヘキサノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、または炭化水素類（トルエン、キシレン）等があげられ、適宜組み合わされて用いられる。
【０２１２】
これらの塗布組成物をグラビアコーター、ディップコーター、コンマコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、またはスプレー塗布、インクジェット塗布等を用いて基材の表面に塗布することが好ましい。
【実施例】
【０２１３】
以下に本発明の具体的実施例を述べるが、本発明は以下に限定されるものではない。
【０２１４】
実施例１
＜液晶表示素子Ｄ−１の作製＞
ＪＣ１０４１（混合液晶、チッソ社製）を４８．２ｍｏｌ％、５ＣＢ（４−ｃｙａｎｏ−４’−ｐｅｎｔｙｌ  ｂｉｐｈｅｎｙｌ、ネマチック液晶、メルク社製）を４７．４ｍｏｌ％、ＺＬＩ−４５７２（カイラルドーパント、メルク社製）を４．４ｍｏｌ％混合した物質ａを準備する。
【０２１５】
続いて、
物質ａ                                                      ９５．８質量％
ＵＣＬ００１（ＤＩＣ社製）                                    ３．０質量％
ＲＭ２５７（メルク社製のジアクリレートモノマー）              １．０質量％
ＤＭＰＡＰ（アルドリッチ社製、２，２−ジメトキシ−２−ペンチルアセトフェノン）                                                                ０．２質量％
上記割合で混合し、透明な２枚のガラス間に注入した。但し２枚のガラスのうち、１枚には各画素ごとに第１および第２の電極を事前に設けて置いた。このガラス基板に挟まれた液晶媒質を５８℃に保持し、その状態で紫外線照射を施し、ブルー相を光重合高分子で安定化させ、液晶表示素子Ｄ−１を得た。Ｄ−１の反射スペクトル測定を行った結果、Ｒ４００／Ｒ５５０＝１２．５であった。
【０２１６】
＜液晶表示素子Ｄ−２の作製＞
ＪＣ１０４１（混合液晶、チッソ社製）を４７．８ｍｏｌ％、５ＣＢ（４−ｃｙａｎｏ−４’−ｐｅｎｔｙｌ  ｂｉｐｈｅｎｙｌ、ネマチック液晶、メルク社製）を４７．０ｍｏｌ％、ＺＬＩ−４５７２（カイラルドーパント、メルク社製）を５．２ｍｏｌ％混合した物質ｂを準備する。
【０２１７】
続いて、
物質ｂ                                                      ９５．８質量％
ＵＣＬ００１（ＤＩＣ社製）                                    ３．０質量％
ＲＭ２５７（メルク社製のジアクリレートモノマー）              １．０質量％
ＤＭＰＡＰ（アルドリッチ社製、２，２−ジメトキシ−２−ペンチルアセトフェノン）                                                                ０．２質量％
上記割合で混合し、透明な２枚のガラス間に注入し、以下、Ｄ−１と同様にして液晶表示素子Ｄ−２を得た。Ｄ−２の反射スペクトルを測定したところ、Ｒ４００／Ｒ５５０＝３．５であった。
【０２１８】
＜偏光板ＰＬ−１の作製＞
厚み７５μｍのポリビニルアルコール系樹脂を主成分とする高分子フィルム（クラレ（株）製  商品名「ＶＦ−ＰＳ＃７５００」）を下記（１）〜（５）条件の５浴に、フィルム長手方向に張力を付与しながら浸漬し、最終的な延伸倍率がフィルム元長に対して、６．２倍となるように延伸した。この延伸フィルムを４０℃の空気循環式乾燥オーブン内で１分間乾燥させて、偏光子Ａを作製した。この偏光子Ａの両側に、厚み８０μｍのセルロース系樹脂を含有する高分子フィルムであるＴＡＣフィルムＴ１（コニカミノルタタック  ＫＣ８ＵＹ  コニカミノルタオプト（株）製）を、ポリビニルアルコール系樹脂を主成分とする水溶性接着剤（日本合成化学工業（株）製  商品名「ゴーセファイマーＺ２００」）を介して、貼着し、偏光板ＰＬ−１を作製した。
【０２１９】
〈条件〉
（１）膨潤浴：３０℃の純水。
（２）染色浴：水１００質量部に対し、０．０３２質量部のヨウ素と、水１００質量部に対し、０．２質量部のヨウ化カリウムとを含む、３０℃の水溶液。
（３）第１の架橋浴：３質量％のヨウ化カリウムと、３質量％のホウ酸とを含む、４０℃の水溶液。
（４）第２の架橋浴：５質量％のヨウ化カリウムと、４質量％のホウ酸とを含む、６０℃の水溶液。
（５）水洗浴：３質量％のヨウ化カリウムを含む、２５℃の水溶液。
【０２２０】
＜偏光板ＰＬ−２の作製＞
厚み８０μｍのＫＣ８ＵＹ  コニカミノルタオプト（株）製の片面に、図５に記載の装置を用いて、下記組成の無機化合物含有層を設けＴＡＣフィルムＴ２を作製した。無機化合物含有層の膜厚は１００ｎｍとした。
【０２２１】
〈無機化合物層混合ガス組成物１〉
放電ガス：窒素ガス                                          ９４．９体積％
薄膜形成ガス：テトラエトキシシラン                            ０．１体積％
添加ガス：酸素ガス                                            ５．０体積％
〈成膜条件〉
第１電極側  電源種類  ハイデン研究所  １００ｋＨｚ（連続モード）  ＰＨＦ−６ｋ
周波数    １００ｋＨｚ
出力密度  １０Ｗ／ｃｍ２
電極温度  １２０℃
第２電極側  電源種類  パール工業製  １３．５６ＭＨｚ  ＣＦ−５０００−１３Ｍ
周波数    １３．５６ＭＨｚ
出力密度  １０Ｗ／ｃｍ２
電極温度  ９０℃
上記無機化合物含有層の比重を該層に含有される無機化合物の比重で割った値は０．８７であった。このＴＡＣフィルムＴ２の無機化合物含有層を設けていない表面と、前記ＴＡＣフィルムＴ１  ＫＣ８ＵＹの一方の面とで偏光子を挟み、偏光板ＰＬ−１と同様にして偏光板ＰＬ−２を作製した。
【０２２２】
＜偏光板ＰＬ−３の作製＞
シクロアルキル基を有するポリエステルポリオールを基材ポリマーとするバインダー樹脂配合物１００部、平均粒径が２０ｎｍのコロイダルシリカ（扶桑化学工業（株）の「ＰＬ−１」）６０部及び硬化剤（日本ポリウレタン（株）の「コロネートＨＸ」）１０部を含むポリマー組成物である塗工液を作製し、この塗工液をロールコート法により厚み８０μｍのＫＣ８ＵＹ上に１５ｇ／ｍ２（固形分換算）塗工し、硬化させ無機化合物層を形成しＴＡＣフィルムＴ３を得た。
【０２２３】
無機化合物含有層の比重を該層に含有される無機化合物の比重で割った値は、０．６であった。
【０２２４】
得られたＴＡＣフィルムＴ３の無機化合物含有層を設けていない表面と、前記ＴＡＣフィルムＴ１  ＫＣ８ＵＹの一方の面とで偏光子を挟み、偏光板ＰＬ−２と同様にして偏光板ＰＬ−３を作製した。
【０２２５】
＜偏光板ＰＬ−４の作製＞
シクロアルキル基を有するポリエステルポリオールを基材ポリマーとするバインダー樹脂配合物１００部、平均粒径が２０ｎｍのコロイダルシリカ（扶桑化学工業（株）の「ＰＬ−１」）５０部及び硬化剤（日本ポリウレタン（株）の「コロネートＨＸ」）８部を含むポリマー組成物である塗工液を作製し、この塗工液をロールコート法により厚み８０μｍのＫＣ８ＵＹ上に１５ｇ／ｍ２（固形分換算）塗工し、硬化させ無機化合物層を形成しＴＡＣフィルムＴ４を得た。
【０２２６】
無機化合物含有層の比重を該層に含有される無機化合物の比重で割った値は、０．５であった。
【０２２７】
得られたＴＡＣフィルムＴ４の無機化合物含有層を設けていない表面と、前記ＴＡＣフィルムＴ１  ＫＣ８ＵＹの一方の面とで偏光子を挟み、偏光板ＰＬ−２と同様にして偏光板ＰＬ−４を作製した。
【０２２８】
＜偏光板ＰＬ−５の作製＞
厚み８０μｍのＫＣ８ＵＹ  コニカミノルタオプト（株）製の片面に、図５に記載の装置を用いて、下記組成の無機化合物含有層（酸化チタン薄膜）を設けＴＡＣフィルムＴ５を作製した。無機化合物含有層の膜厚は１００ｎｍとした。
【０２２９】
〔電源条件〕
電源１：パール工業製高周波電源、高周波側１３．５６ＭＨｚ  ５Ｗ／ｃｍ２
電源２：ＳＥＲＥＮ社製高周波電源、低周波側１００ＫＨｚ  ５ｗ／ｃｍ２
〔電極条件〕
第２電極の角形電極は、３０ｍｍ角状の中空のチタンパイプに対し、誘電体としてアルミナを溶射加工して製作した。
【０２３０】
誘電体厚み：１ｍｍ
電極巾：３００ｍｍ
印加電極温度：９０℃
第２電極間スリットギャップ：１．０ｍｍ
電極間ギャップ：１．０ｍｍ
〔ガス条件〕
（原料ガス）
ＴｉＯ２膜形成用の原材料として、テトライゾプロポキシチタン（ＴＩＰＴ）をバブリングにより気化させた（Ｎ２ガス：３ｓｌｍ、６０℃）。
【０２３１】
（放電ガス）  Ｎ２：６０ｓｌｍ
（補助ガス）  Ｈ２：０．３ｓｌｍ
無機化合物含有層の比重を該層に含有される無機化合物の比重で割った値は、０．８５であった。
【０２３２】
得られたＴＡＣフィルムＴ５の無機化合物含有層を設けていない表面と、前記ＴＡＣフィルムＴ１  ＫＣ８ＵＹの一方の面とで偏光子を挟み、偏光板ＰＬ−２と同様にして偏光板ＰＬ−５を作製した。
【０２３３】
＜無機化合物含有層を設けた輝度向上フィルムの作製＞
住友スリーエム社製ビキュイティＤＢＥＦ−Ｄ４００のいずれか一方の面に、偏光板ＰＬ−２に使用したＴＡＣフィルムＴ２と同様の方法で二酸化珪素を構成成分とする無機化合物含有層を形成し、輝度向上フィルムＥ１を得た。無機化合物含有層の膜厚は１００ｎｍとした。無機化合物含有層の比重を、該層に含有される無機化合物の比重で割った値は０．８７であった。
【０２３４】
＜液晶表示装置ＬＣＤ−１〜ＬＣＤ−１２の作製＞
第１の偏光板、液晶表示素子、第２の偏光板、輝度向上フィルム、バックライトユニットを表１に記載の組み合わせで組み立てることにより、３２インチ型の液晶表示装置ＬＣＤ−１〜ＬＣＤ−１２を作製した。
【０２３５】
尚バックライトユニットは、図２ａで示されるＣＣＦＬタイプ、図２ｂで示される白色ＬＥＤタイプの２種類を用いた。該白色ＬＥＤは、複数のＬＥＤ光源からなり、ＬＥＤ光源別に部分駆動される。
【０２３６】
【表１】
2010026200.tif 000003
【０２３７】
これらの液晶表示装置に対し、以下の２種類の色味安定性を、無作為に抽出した１０人の被験者の目視により評価した。
【０２３８】
〈評価１．経時での色味安定性評価〉
上記ＬＣＤ−１〜ＬＣＤ−１２と全く同じ液晶表示装置を全く同じ方法でＬＣＤ−１’〜ＬＣＤ−１２’を作製し、一方（ＬＣＤ−１〜ＬＣＤ−１２）は画面全体に白表示をさせたまま４８時間経過させ、他方（ＬＣＤ−１’〜ＬＣＤ−１２’）はＬＣＤ−１〜ＬＣＤ−１２が電界印加開始から４８時間経過した時点で初めて電界を印加させ画面全体に白表示をさせた。この時点での色味を比較させることで安定性を評価した。
【０２３９】
◎：１０人全員が、色味の違いはないと判断
○：１０人中７人以上９人以下が、色味の違いはないと判断
△：１０人中３人以上６人以下が、色味の違いはないと判断
×：１０人中２人以下が色味の違いはないと判断
〈評価２．画面局所間での色ムラ評価〉
上記ＬＣＤ−１〜ＬＣＤ−１２の電界印加時（画面全体に白表示）の色ムラを下記基準で評価した。
【０２４０】
◎：１０人全員が、色ムラはないと判断
○：１０人中７人以上９人以下が、色ムラはないと判断
△：１０人中３人以上６人以下が、色ムラはないと判断
×：１０人中２人以下が色ムラはないと判断
結果を表２にまとめた。
【０２４１】
表２の結果より、本発明の液晶表示装置は、経時での色味安定性に優れ、画面の局所的な色ムラも殆ど認められないことが判る。また、液晶表示素子自体の色味を改善したもの（液晶表示素子Ｄ−２）、バックライトユニットに白色ＬＥＤを光源として用いたものは、本発明の効果が顕著なことが判る。
【０２４２】
【表２】
2010026200.tif 000004
【図面の簡単な説明】
【０２４３】
【図１】本発明に係る液晶表示装置の構成例を示す。
【図２】本発明に係るバックライトユニットの模式図を示す。
【図３】本発明に用いられる偏光子の代表的な製造工程の概念を示す模式図である。
【図４】本発明に有用なジェット方式の大気圧プラズマ放電処理装置の一例を示した概略図である。
【図５】本発明に有用な対向電極間で基材を処理する方式の大気圧プラズマ放電処理装置の一例を示す概略図である。
【符号の説明】
【０２４４】
１０  プラズマ放電処理装置
１１  第１電極
１２  第２電極
２１  第１電源
２２  第２電源
３０  プラズマ放電処理装置
３２  放電空間
３５  ロール回転電極
３５ａ  ロール電極
３５Ａ  金属質母材
３５Ｂ  誘電体
３６  角筒型固定電極群
４０  電界印加手段
４１  第１電源
４２  第２電源
５０  ガス供給手段
５１  ガス発生装置
５２  給気口
５３  排気口
６０  電極温度調節手段
Ｇ  無機化合物含有層形成ガス
Ｇ°  プラズマ状態のガス
Ｇ′  処理排ガス
１０１  ポリビニルアルコール系樹脂を主成分とする高分子フィルム
１００  繰り出し部
１１０  膨潤浴
１２０  染色浴
１１１、１１２、１２１、１２２、１３１、１３２、１４１、１４２  ロール
１３０  第１の架橋浴
１４０  第２の架橋浴
１５０  水洗浴
１５１、１５２  ロール
１６０  乾燥手段
１７０  偏光子
１８０  巻き取り部
【図１】
2010026200.tif 000005
【図２】
2010026200.tif 000006
【図３】
2010026200.tif 000007
【図４】
2010026200.tif 000008
【図５】
2010026200.tif 000009