(57)【要約】【課題】液晶層１３における低温衝撃気泡の発生をより確実に防止する。【解決手段】柱状スペーサは、先端が第１基板１１に接触することにより第１基板１１と第２基板１２との間隔を規定する第１スペーサと、第１スペーサよりも高さが低い第２スペーサとを有している。表示領域２０は、第１スペーサ及び第２スペーサが一定の割合で混在して配置された第１領域２１と、第１領域２１よりも小さい面積を有すると共に第１スペーサのみが複数配置された第２領域２２とを有している。【選択図】図１
2010139568.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１基板と、
上記第１基板に対向して配置され、複数の柱状スペーサが形成された第２基板と、
上記第１基板及び第２基板の間に設けられた液晶層とを備え、
上記液晶層が設けられた領域に表示領域が形成された液晶表示装置であって、
上記柱状スペーサは、先端が上記第１基板に接触することにより該第１基板と上記第２基板との間隔を規定する第１スペーサと、該第１スペーサよりも高さが低い第２スペーサとを有し、
上記表示領域は、上記第１スペーサ及び第２スペーサが一定の割合で混在して配置された第１領域と、該第１領域よりも小さい面積を有すると共に上記第１スペーサのみが複数配置された第２領域とを有している
ことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
請求項１に記載の液晶表示装置において、
上記第２領域は、上記表示領域の中央に配置されている
ことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項３】
請求項１に記載の液晶表示装置において、
上記第１基板と上記第２基板との間には、上記液晶層を封入するためのシール部材が設けられ、
上記シール部材は、上記第２基板表面の法線方向から見てリング状に形成された１つの部材によって構成されている
ことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項４】
第１基板と、該第１基板に対向して配置され、複数の柱状スペーサが形成された第２基板と、上記第１基板及び第２基板の間に設けられた液晶層とを備え、該液晶層が設けられた領域に表示領域が形成された液晶表示装置を製造する方法であって、
上記第１基板を形成する工程と、
先端が上記第１基板に接触することにより該第１基板と上記第２基板との間隔を規定する第１スペーサと、該第１スペーサよりも高さが低い第２スペーサとを有する上記複数の柱状スペーサを基板上に形成することにより、上記第２基板を形成する工程と、
上記第２基板における上記柱状スペーサの高さを検出することにより、液晶の滴下量を算出する工程と、
上記算出された滴下量の液晶を、上記第１基板又は上記第２基板に滴下する工程と、
上記液晶を介して上記第１基板及び第２基板を貼り合わせる工程とを有し、
上記第２基板を形成する工程では、上記第１スペーサ及び第２スペーサが一定の割合で混在して配置された第１領域と、該第１領域よりも小さい面積を有すると共に上記第１スペーサのみが複数配置された第２領域とを、上記第２基板の表示領域に形成し、
上記液晶の滴下量を算出する工程では、上記第２基板の第２領域において第１スペーサの高さを検出する
ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項５】
請求項１に記載の液晶表示装置の製造方法において、
上記第２基板を形成する工程では、上記第２領域を、上記表示領域の中央に配置されるように形成する
ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項６】
請求項１に記載の液晶表示装置の製造方法において、
上記液晶層を封入するためのシール部材を上記第１基板又は第２基板に形成する工程を有し、
上記シール部材を形成する工程では、上記シール部材を、上記第１基板又は第２基板表面の法線方向から見てリング状である１つの部材によって形成する
ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、柱状スペーサを有する液晶表示装置及びその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、複数の画素電極及びスイッチング素子が形成された素子基板と、素子基板に対向して配置された対向基板と、これらの基板の間に封入された液晶層とを備えた構造を有している。上記素子基板と対向基板との間には、液晶層の厚みを規定するためのスペーサが設けられている。従来より、スペーサとして、ガラス又は合成樹脂からなる透明球状体粒子（ビーズ）を設けることが知られている。そして、多数の粒子状スペーサが、一対の基板間に散布されて介在されている。
【０００３】
しかし、この粒子状スペーサは、透明な粒子であることから、黒色表示時に光漏れが生じてしまう問題がある。また、表示領域における粒子状スペーサの近傍において、液晶分子の配列が乱されることによっても光漏れが生じる。その結果、コントラストが低下し表示品位が低下してしまう。
【０００４】
そこで、感光性樹脂を用いて画素間の遮光領域に柱状スペーサ（フォトスペーサ）を形成することが知られている。柱状スペーサは、素子基板又は対向基板に複数形成されると共に、基板に平行な方向の断面積が同一であり、その高さも同一に形成されている。柱状スペーサは、画素内の表示領域を避けた位置に形成されているので、コントラストを向上できることに加え、液晶表示装置の耐衝撃性も向上することとなる。
【０００５】
ところで、上記液晶表示装置を製造する場合には、柱状スペーサが形成された対向基板と素子基板とを互いに平行に配置した状態で、これらの基板をシール部材を介して互いに圧接して貼り合わせる。このとき、柱状スペーサの断面積が比較的小さければ、柱状スペーサが貼り合わせ時に加わる応力によって変形し易くなるため、基板間のギャップ（つまり液晶層の厚み）を均一に維持することは難しい。したがって、柱状スペーサの断面積は、全体として、ある程度大きくすることが必要である。しかしながら、柱状スペーサの配置密度を大きくすると、液晶層に気泡（低温衝撃気泡）が発生しやすくなる。
【０００６】
すなわち、液晶表示装置の使用環境が、例えば−２０℃というような低温環境である場合、液晶表示装置の構成部材はすべて収縮しようとする。構成部材の中では液晶の収縮率が最も大きいため、基板間のギャップを小さくする方向に収縮しようとする。このとき、液晶の収縮力に対して、柱状スペーサの変形量が追従できなくなると、液晶セルの内部に負圧が生じるため、液晶層には低温衝撃気泡が発生し易くなる。
【０００７】
これに対し、特許文献１には、２種類の高さの柱状スペーサを形成することが開示されている。対向基板の平面図である図５、及び対向基板の拡大断面図である図６に示すように、対向基板１０１は、ガラス基板１０２上に形成された柱状スペーサ１０３を有している。柱状スペーサ１０３は、図示省略の素子基板に先端が接触して基板間のギャップを規定するメインスペーサ１０４と、ガラス基板１０２表面からの高さがメインスペーサ１０４よりも低いサブスペーサ１０５とにより構成されている。
【０００８】
図５に示すように、メインスペーサ１０４及びサブスペーサ１０５は、それぞれ表示領域において分散して配置されている。こうして、基板間のギャップである液晶層の厚みを適切に維持しつつ、低温衝撃気泡の発生を抑制するようにしている。
【特許文献１】特開２００３−１２１８５７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
ところで、一対の基板間への液晶の注入方法として、基板上に液晶を滴下した後に基板同士を貼り合わせる滴下注入法（ＯＤＦ：One Drop Fill）が、製造工程の削減や基板間のギャップの縮小が可能となるために重要視されている。
【００１０】
この滴下注入法において、液晶の適正な滴下量を決定するために、上記メインスペーサの高さを光学的装置によって測定することが考えられる。すなわち、メインスペーサの高さはセルギャップ（液晶層の厚み）に相当することから、その高さを検出することにより必要な液晶の量を算出することができる。
【００１１】
しかしながら、上記メインスペーサ及びサブスペーサを、光学的装置によって明確に見分けることは困難であり、誤ってサブスペーサの高さを測定してしまう虞がある。その結果、液晶の滴下量が適切な量よりも少なくなって、形成された液晶層において低温衝撃気泡が発生してしまう問題がある。
【００１２】
メインスペーサ及びサブスペーサの断面形状に差を設けて、差別化を図ることも考えられるが、画素の高詳細化が進む近年では、柱状スペーサの径も小さくなり、その断面形状の違いを判別することは非常に困難になってきている。
【００１３】
本発明は、斯かる諸点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、適切な量の液晶を滴下し得るようにすることにより、液晶層における低温衝撃気泡の発生をより確実に防止しようとすることにある。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
上記の目的を達成するために、本発明に係る液晶表示装置は、第１基板と、上記第１基板に対向して配置され、複数の柱状スペーサが形成された第２基板と、上記第１基板及び第２基板の間に設けられた液晶層とを備え、上記液晶層が設けられた領域に表示領域が形成された液晶表示装置であって、上記柱状スペーサは、先端が上記第１基板に接触することにより該第１基板と上記第２基板との間隔を規定する第１スペーサと、該第１スペーサよりも高さが低い第２スペーサとを有し、上記表示領域は、上記第１スペーサ及び第２スペーサが一定の割合で混在して配置された第１領域と、該第１領域よりも小さい面積を有すると共に上記第１スペーサのみが複数配置された第２領域とを有している。
【００１５】
上記第２領域は、上記表示領域の中央に配置されていてもよい。
【００１６】
上記第１基板と上記第２基板との間には、上記液晶層を封入するためのシール部材が設けられ、上記シール部材は、上記第２基板表面の法線方向から見てリング状に形成された１つの部材によって構成されていてもよい。
【００１７】
また、本発明に係る液晶表示装置の製造方法は、第１基板と、該第１基板に対向して配置され、複数の柱状スペーサが形成された第２基板と、上記第１基板及び第２基板の間に設けられた液晶層とを備え、該液晶層が設けられた領域に表示領域が形成された液晶表示装置を製造する方法であって、上記第１基板を形成する工程と、先端が上記第１基板に接触することにより該第１基板と上記第２基板との間隔を規定する第１スペーサと、該第１スペーサよりも高さが低い第２スペーサとを有する上記複数の柱状スペーサを基板上に形成することにより、上記第２基板を形成する工程と、上記第２基板における上記柱状スペーサの高さを検出することにより、液晶の滴下量を算出する工程と、上記算出された滴下量の液晶を、上記第１基板又は上記第２基板に滴下する工程と、上記液晶を介して上記第１基板及び第２基板を貼り合わせる工程とを有し、上記第２基板を形成する工程では、上記第１スペーサ及び第２スペーサが一定の割合で混在して配置された第１領域と、該第１領域よりも小さい面積を有すると共に上記第１スペーサのみが複数配置された第２領域とを、上記第２基板の表示領域に形成し、上記液晶の滴下量を算出する工程では、上記第２基板の第２領域において第１スペーサの高さを検出する。
【００１８】
上記第２基板を形成する工程では、上記第２領域を、上記表示領域の中央に配置されるように形成するようにしてもよい。
【００１９】
上記液晶層を封入するためのシール部材を上記第１基板又は第２基板に形成する工程を有し、上記シール部材を形成する工程では、上記シール部材を、上記第１基板又は第２基板表面の法線方向から見てリング状である１つの部材によって形成するようにしてもよい。
【００２０】
−作用−
次に、本発明の作用について説明する。
【００２１】
上記液晶表示装置は、表示領域における第１領域において、第１基板と第２基板との間隔を規定する第１スペーサと、第１スペーサよりも低い第２スペーサとが、一定の割合で混在して配置されているので、液晶層における低温衝撃気泡の発生が抑制される。
【００２２】
また、液晶表示装置を製造する場合には、第２基板における第２領域に形成されている第１スペーサの高さを光学的に検出して液晶の滴下量を算出することが可能である。このとき、第２領域には、複数の第１スペーサのみが配置されているため、第２スペーサとの判別を誤ることはなく、当該第１スペーサの高さが確実に検出される。その結果、液晶の滴下量を適切に算出して、適切な量の液晶によって液晶層を形成できる結果、その液晶層における低温衝撃気泡の発生をより確実に防止することが可能になる。
【００２３】
さらに、第２領域を表示領域の中央に配置すれば、第２領域が第１領域に比べて非常に小さい領域であっても、第２領域の特定が容易であるため、液晶の滴下量をより容易且つ適切に算出することが可能になる。
【００２４】
上記液晶表示装置を製造する場合には、第１基板と第２基板とをそれぞれ形成した後に、その第１基板又は第２基板に液晶を滴下し、その液晶を介して第１基板と第２基板とを貼り合わせる。第２基板を形成する工程では、第１スペーサ及び第２スペーサが混在して配置された第１領域と、第１スペーサのみが複数配置されている第２領域とを、第２基板の表示領域に形成する。そして、上記液晶を滴下する前に、上記第２領域において第１スペーサの高さを検出することによって、液晶の滴下量を算出する。このことにより、上述のように、第１スペーサの高さを確実に検出して、液晶の滴下量を適切に算出することが可能になる。
【発明の効果】
【００２５】
本発明によれば、第１スペーサ及び第２スペーサが混在して配置された第１領域と、第１スペーサのみが複数配置されている第２領域とを第２基板に形成するようにしたので、第２領域に形成されている第１スペーサの高さを光学的に検出することにより、第２スペーサとの判別を誤ることはなく、当該第１スペーサの高さを確実に検出することができる。その結果、液晶の滴下量を適切に算出して、適切な量の液晶によって液晶層を形成できるため、その液晶層における低温衝撃気泡の発生をより確実に防止することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。尚、本発明は、以下の実施形態に限定されるものではない。
【００２７】
《発明の実施形態》
図１〜図４は、本発明の実施形態を示している。
【００２８】
図１は、本実施形態における液晶表示装置１の概観を模式的に示す平面図である。図２は、本実施形態における対向基板１２の第１領域２１を示す平面図である。図３は、本実施形態における対向基板１２の第２領域２２を示す平面図である。図４は、本実施形態における液晶表示装置１の概略構造を示す断面図である。
【００２９】
−液晶表示装置の構成−
液晶表示装置１は、図１及び図４に示すように、第１基板としてのＴＦＴ基板１１と、ＴＦＴ基板１１に対向して配置された第２基板としての対向基板１２と、上記対向基板１２及びＴＦＴ基板１１の間に設けられた液晶層１３とを備えている。
【００３０】
（シール部材及び表示領域の構成）
ＴＦＴ基板１１と対向基板１２との間には、液晶層１３を封入するためのシール部材１４が設けられている。シール部材１４は、図１に示すように、対向基板１２表面の法線方向から見て矩形リング状に形成された１つの部材によって構成されている。
【００３１】
そして、液晶層１３が設けられたシール部材１４の内側の領域に表示領域２０が形成されている。表示領域２０の外側周囲には、非表示領域２４が額縁状に形成されている。液晶層は、後述するように滴下注入法によって形成されている。尚、シール部材１４の形状は、矩形リング状に限らず、例えば楕円状等の他のリング形状であってもよい。
【００３２】
（ＴＦＴ基板の構成）
ＴＦＴ基板１１は、いわゆるアクティブマトリクス基板に構成されている。ＴＦＴ基板１１は、図４に示すように、透明基板であるガラス基板１５を有している。ガラス基板１５には、金属層からなるゲート配線及びソース配線等の配線層１６が複数形成されている。複数のゲート配線は、互いに平行に延びて形成されている。また、複数のソース配線は、互いに平行に形成されると共に上記ゲート配線と直交するように配置されている。そのことにより、ＴＦＴ基板１１には、配線層１６が格子状にパターン形成されている。この格子状の配線層１６によって、複数の画素（図示省略）が区画形成されている。
【００３３】
また、ガラス基板１５上には、配線層１６を覆うように層間絶縁膜１７が形成されている。層間絶縁膜１７の表面には、液晶層１３を駆動するための画素電極１８が形成されている。画素電極１８は、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）等の透明電極により構成され、上記各画素毎にそれぞれ配置されている。また、図示を省略するが、各画素には、上記ゲート配線及びソース配線に接続されたスイッチング素子としてのＴＦＴ（Thin-Film Transistor：薄膜トランジスタ）が配置されている。ＴＦＴは、上記層間絶縁膜１７によって覆われており、この層間絶縁膜１７に形成されているコンタクトホール（図示省略）を介して上記画素電極１８に接続されている。
【００３４】
（対向基板の構成）
一方、対向基板１２は、図４に示すように、透明基板であるガラス基板２５を有している。ガラス基板２５には、図２及び図４に示すように、遮光膜である複数のブラックマトリクス２６が例えばストライプ状に形成されている。ブラックマトリクス２６は、後述の柱状スペーサ３０が形成される領域において他の領域よりも幅広に形成されている。ブラックマトリクス２６は、例えばクロム膜等の金属膜によって形成されている。
【００３５】
また、ガラス基板２５には、複数色の着色層２７からなるカラーフィルタ層２８が形成されている。カラーフィルタ層２８には、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）及び青色（Ｂ）の着色層２７が含まれている。各色の着色層２７同士の間には、上記ブラックマトリクス２６が配置されるようになっている。このことにより、着色層２７同士の境界がブラックマトリクス２６によって遮光されるようになっている。
【００３６】
カラーフィルタ層２８の表面には、ＩＴＯ等の透明電極からなる共通電極２９が表示領域２０の全体に亘って形成されている。すなわち、共通電極２９は、ＴＦＴ基板１１に形成されている各画素電極１８に共通して対向するようになっている。
【００３７】
対向基板１２における共通電極２９の表面には、上記ブラックマトリクス２６に重なるように配置された複数の柱状スペーサ（フォトスペーサ）３０が形成されている。この複数の柱状スペーサ３０は、表示領域２０にマトリクス状に配置され、第１スペーサ（メインフォトスペーサ）３１と、第１スペーサ３１よりも高さが低い第２スペーサ（サブフォトスペーサ）３２とを有している。
【００３８】
第１スペーサ３１は、先端がＴＦＴ基板１１に接触することにより、ＴＦＴ基板１１と対向基板１２との間隔（つまり、液晶層１３の厚み）を規定している。一方、第２スペーサ３２は、その先端とＴＦＴ基板１１との間には所定の間隔が設けられている。
【００３９】
（第１領域及び第２領域）
そして、上記表示領域２０は、図２に示すように、第１スペーサ３１及び第２スペーサ３２が一定の割合で混在して配置された第１領域２１と、図３に示すように、第１領域２１よりも小さい面積を有すると共に第１スペーサ３１のみが複数配置された第２領域２２とを有している。第２領域は、図１に示すように、表示領域２０の中央に配置された矩形状の領域になっている。第１領域２１では、例えば１列の第２スペーサ３２と、１列の第１スペーサ３１とが、行方向に交互に並んで配置されている。
【００４０】
−液晶表示装置の作動−
上記液晶表示装置１は、ゲート配線を介して走査電圧がＴＦＴに印加された状態で、信号電圧がソース配線からＴＦＴを介して画素電極１８へ供給されることにより、画素毎に液晶層１３を駆動して、所望の画像を表示するようになっている。
【００４１】
また、液晶層１３の厚みは、第１領域２１及び第２領域２２に設けられている第１スペーサ３１によって規定されている。例えば対向基板１２が使用者に押圧された場合には、液晶層１３側に湾曲した対向基板１２が第２スペーサ３２によって支持されるため、液晶表示装置１の強度は適切に維持される。
【００４２】
−製造方法−
次に、上記液晶表示装置１の製造方法について説明する。
【００４３】
まず、第１工程では、ＴＦＴ基板１１を形成する。ＴＦＴ基板１１は、ガラス基板１５上に形成した金属膜をフォトリソグラフィによってパターニングすることにより、ゲート配線等の配線層１６を形成する。また、図示省略のＴＦＴを形成した後に、これを層間絶縁膜１７によって覆い、この層間絶縁膜１７にコンタクトホール（図示省略）及びＩＴＯからなる複数の画素電極１８を形成する。そうして、コンタクトホールを介して画素電極１８をＴＦＴに接続する。
【００４４】
第２工程では、対向基板１２を形成する。第１工程及び第２工程は、どちらを先に行ってもよい。すなわち、第２工程では、ガラス基板２５上にクロム膜等の金属膜をスパッタリングし、これをフォトリソグラフィによってパターニングすることにより、ストライプ状のブラックマトリクス２６を形成する。その後、ブラックマトリクス２６を覆うように、Ｒ，Ｇ，Ｂの複数色の着色層を形成することでカラーフィルタ層２８を形成する。その後に、カラーフィルタ層２８を覆うように、ＩＴＯ層を一様に形成して共通電極２９を形成する。
【００４５】
次に、第１スペーサ３１及び第２スペーサ３２を基板上の共通電極２９表面に形成する。これら第１スペーサ３１及び第２スペーサ３２は、共通電極２９上に一様に塗布した感光性樹脂をハーフトーン露光することにより、一括して形成することが可能である。このとき、第１スペーサ３１及び第２スペーサ３２が一定の割合で混在して配置された第１領域２１と、この第１領域２１よりも小さい面積を有すると共に第１スペーサ３１のみが複数配置された第２領域２２とを、対向基板１２の表示領域２０に形成する。上記第２領域２２は、表示領域２０の中央に形成する。こうして、対向基板１２を形成する。
【００４６】
次に、第３工程を行い、液晶層１３を基板間に封入するためのシール部材１４をＴＦＴ基板１１又は対向基板１２に形成する。第３工程では、例えば熱及び紫外線によって硬化する樹脂によって構成されたシール部材１４を、ＴＦＴ基板１１又は対向基板１２表面の法線方向から見てリング状である１つの部材によって形成する。
【００４７】
次に、第４工程を行い、対向基板１２における柱状スペーサ３０の高さを検出することにより、液晶の滴下量を算出する。この第４工程では、対向基板１２の第２領域２２において、第１スペーサ３１の高さを光学的測定装置を用いて検出する。
【００４８】
その後、第５工程を行い、上記算出された滴下量の液晶を、ＴＦＴ基板１１又は対向基板１２に滴下する。液晶は、ＴＦＴ基板１１及び対向基板１２のうち、上記リング状のシール部材１４が形成された基板に対して、上記シール部材１４の内側に滴下することが好ましい。
【００４９】
次に、第６工程を行い、滴下された液晶及びシール部材１４を介して、ＴＦＴ基板１１及び対向基板１２を互いに貼り合わせる。この貼り合わせ後に、シール部材１４を完全に硬化させる。そうして、上記液晶表示装置１を製造する。
【００５０】
−実施形態の効果−
したがって、この実施形態によると、第１スペーサ３１及び第２スペーサ３２が混在して配置された第１領域２１と、第１スペーサ３１のみが複数配置されている第２領域２２とを対向基板１２に形成するようにしたので、第２領域２２に形成されている第１スペーサ３１の高さを光学的に検出することにより、第２スペーサ３２との判別を誤ることはなく、当該第１スペーサ３１の高さを確実に検出することができる。その結果、液晶の滴下量を適切に算出して、適切な量の液晶によって液晶層１３を形成できるため、その液晶層１３における低温衝撃気泡の発生をより確実に防止することができる。
【００５１】
さらに、第２領域２２を表示領域２０の中央に配置するようにしたので、第２領域２２が第１領域２１に比べて非常に小さい領域であっても、第２領域２２の特定が容易であるため、液晶の滴下量をより容易且つ適切に算出することが可能になる。
【００５２】
加えて、より広い第１領域２１において第１スペーサ３１と第２スペーサ３２とを混在させるようにしたので、基板間のギャップである液晶層１３の厚みを適切に維持することができる。
【００５３】
《その他の実施形態》
上記実施形態では、第２領域２２を表示領域２０の中央に配置した例について説明したが、これ以外にも表示領域２０の四隅の少なくとも１つ等の他の領域に配置することが可能である。
【００５４】
また、第１領域２１における第１スペーサ３１及び第２スペーサ３２は、上述の配置パターンに限らず、混在していれば、その他のパターンに配置してもよい。
【産業上の利用可能性】
【００５５】
以上説明したように、本発明は、柱状スペーサを有する液晶表示装置及びその製造方法について有用である。
【図面の簡単な説明】
【００５６】
【図１】図１は、本実施形態における液晶表示装置の概観を模式的に示す平面図である。
【図２】図２は、本実施形態における対向基板の第１領域を示す平面図である。
【図３】図３は、本実施形態における対向基板の第２領域を示す平面図である。
【図４】図４は、本実施形態における液晶表示装置の概略構造を示す断面図である。
【図５】図５は、従来の対向基板を示す平面図である。
【図６】図６は、従来の対向基板の一部を拡大して示す断面図である。
【符号の説明】
【００５７】
１      液晶表示装置
１１      ＴＦＴ基板（第１基板）
１２      対向基板（第２基板）
１３      液晶層
１４      シール部材
２０      表示領域
２１      第１領域
２２      第２領域
３０      柱状スペーサ
３１      第１スペーサ
３２      第２スペーサ
【図１】
2010139568.tif 000003
【図２】
2010139568.tif 000004
【図３】
2010139568.tif 000005
【図４】
2010139568.tif 000006
【図５】
2010139568.tif 000007
【図６】
2010139568.tif 000008