(57)【要約】【課題】  光学系への入射角度と照射面での走査速度との関係を最適化することにより、照射面における光束の光量の均一性を向上させる。【解決手段】  走査光学系（１００）は、光源（１０）と、光源から出射した光束を走査方向に偏向する偏向面を有する光偏向器（２０）と、光偏向器（２０）で偏向された光束を照射面上に照射させる光学系（３０）と、を備え、光偏向器から照射面に入射するまでの光束の減衰率に応じて照射面（９０）上で走査速度（ｄＹ／ｄθ）が変化するように光学系が設定されている。【選択図】  図１
2010026113.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源と、
前記光源から出射した光束を走査方向に偏向する偏向面を有する光偏向器と、
前記光偏向器で偏向された光束を照射面上に照射させる光学系と、を備え、
前記光偏向器から前記照射面に入射するまでの前記光束の減衰率に応じて前記照射面上で走査速度が変化するように、前記光学系が設定されていることを特徴とする走査光学系。
【請求項２】
前記光束の減衰率は、前記光偏向器で偏向される光束が前記光学系に入射する入射角方向に応じて変化していることを特徴とする請求項１に記載の走査光学系。
【請求項３】
前記照射面上における走査速度（ｄＹ／ｄθ）が以下の関係式を満たすことを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の走査光学系。
【数１】
2010026113.tif 000010
ここで、Ｙは前記照射面における光軸からの距離、θは前記光偏向器から前記光学系への入射角、Ｔｊは入射角θｊにおける透過率、Ｔｃは前記光軸上での透過率である。
【請求項４】
前記入射角θｊが最大入射角であり、前記透過率Ｔｊが最大入射角における透過率であることを特徴とする請求項３に記載の走査光学系。
【請求項５】
前記光偏向器で偏向される光束の複数の入射角θｊにおいて、前記走査速度（ｄＹ／ｄθ）が前記関係式を満たすことを特徴とする請求項３に記載の走査光学系。
【請求項６】
前記光学系は非球面が含まれていることを特徴とする請求項１から請求項５のいずれか一項に記載の走査光学系。
【請求項７】
前記光源が多波長光源であり、前記光学系は色収差補正が施されていることを特徴とする請求項１から請求項６のいずれか一項に記載の走査光学系。
【請求項８】
光源から出射した光束を照射面に走査する走査型露光装置において、
前記光源から出射した光束を走査方向に偏向する偏向面を有する光偏向器と、
前記光偏向器を一定の角速度で回転させる駆動部と、
前記光偏向器で偏向された光束を照射面上に照射させる光学系と、を備え、
前記光偏向器から前記照射面に入射するまでの前記光束の減衰率に応じて前記照射面上で走査速度が変化するように、前記光学系が設定されていることを特徴とする走査型露光装置。
【請求項９】
前記光束の減衰率は、前記光偏向器で偏向される光束が前記光学系に入射する入射角方向に応じて変化していることを特徴とする請求項８に記載の走査型露光装置。
【請求項１０】
前記照射面上における走査速度（ｄＹ／ｄθ）が以下の関係を満たすことを特徴とする請求項８又は請求項９に記載の走査型露光装置。
【数２】
2010026113.tif 000011
ここで、Ｙは前記照射面における光軸からの距離、θは前記光偏向器から前記光学系への入射角、Ｔｊは入射角θｊにおける透過率、Ｔｃは前記光軸上での透過率である。
【請求項１１】
前記入射角θｊが最大入射角であり、前記透過率Ｔｊが前記最大入射角における透過率であることを特徴とする請求項１０に記載の走査型露光装置。
【請求項１２】
前記光偏向器で偏向される光束の複数の入射角θｊにおいて、前記走査速度（ｄＹ／ｄθ）が前記関係式を満たすことを特徴とする請求項１０に記載の走査型露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えばレーザービームプリンタ、光学フィルムの露光装置などで用いられる走査光学系およびその走査光学系を有する走査型露光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
レーザービームプリンタ等の走査型露光装置は、ポリゴンミラーと呼ばれる光偏向器を介してレーザー光束を走査することにより静電潜像を形成している。半導体レーザーからのレーザー光束はポリゴンミラーで偏向走査され、さらに幾枚かの走査レンズ又は反射ミラーなどを透過又は反射して照射面である感光体上に結像される。走査レンズはレーザービームを感光体に結像させる結像機能の他に、ポリゴンミラーによって等角速度で偏向されるレーザー光束に対し、感光体上でレーザー光束の像点（光スポット）を等速度で移動させるｆθ機能を有する走査レンズ又は反射ミラーが広く使用されている。走査型露光装置は高精細化や階調表現が要求されているので、１走査内での光量の均一性向上が必要である。
【０００３】
一般に、ポリゴンミラー又はｆθレンズなどの部品は、入射角によってレーザー光束の反射率又は透過率が変化するということが知られている。一般に入射角が小さいときよりも大きいときの方がレーザー光束の反射率は高くなる。すなわちｆθレンズなどの屈折光学系の場合、入射角が小さいときよりも大きいときの方が光の透過率が低くなることが多く、照射面での光量が変動する。
【０００４】
このため、特許文献１の発明は、ポリゴンミラーと感光体の間に、走査域のレーザー光束の出力を検知する光センサを設け、この光センサからの出力に基づき半導体レーザーの出力を制御して照射面に照射される光量が一定となるようにしている。
また、特許文献２の発明は、ポリゴンミラーで偏向されるレーザー光束の内、最軸外光束がｆθレンズ面に入射する角度において透過率が最大となるように反射防止膜の膜厚を設定している。
【特許文献１】特開平０９−１５９９６２号公報
【特許文献２】特開２００１−７５０３６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献１の発明では光センサからの出力に基づき半導体レーザーの出力を制御しているが、その制御は難しく、また光源が半導体レーザーであると電流を制御して光束に細かい制御をすることは困難である。
また、特許文献２の発明のように、反射防止膜の入射角特性を利用する場合、調整可能な範囲が限定される。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、上記のような問題を鑑み、光学系への入射角度と照射面での走査速度との関係を最適化することにより、照射面における光束の光量の均一性を向上させるものである。
第１の観点の走査光学系は、光源と、光源から出射した光束を走査方向に偏向する偏向面を有する光偏向器と、光偏向器で偏向された光束を照射面上に照射させる光学系と、を備え、光偏向器から照射面に入射するまでの光束の減衰率に応じて照射面上で走査速度が変化するように光学系が設定されている。
この光学系の構成により、光偏向器から光学系に入射する光束の入射角に応じて光量の減衰がある場合には、その減衰に応じて照射面における走査速度が変化する。したがって、照射面において光量の均一性を向上させることができる。
【０００７】
第２の観点の走査型露光装置は、光源から出射した光束を照射面に走査する。この走査型露光装置は、光源から出射した光束を走査方向に偏向する偏向面を有する光偏向器と、光偏向器を一定の角速度で回転させる駆動部と、光偏向器で偏向された光束を照射面上に照射させる光学系と、を備え、光偏向器から照射面に入射するまでの光束の減衰率に応じて照射面上で走査速度が変化するように、光学系が設定されている。
この光学系の構成により、光偏向器から光学系に入射する光束の入射角に応じて光量の減衰がある場合には、その減衰に応じて照射面における走査速度が変化する。したがって、照射面において光量の均一性を向上させることができる。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、光学系への入射角に応じて減衰率（又は透過率）が変化しても、照射面における走査速度を変化させることにより、照射面では均一な光量を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。
＜走査光学系の概要＞
図１（ａ）は走査光学系１００の概念図を示した図であり、光偏向器であるポリゴンミラー２０、光学素子であるレンズ３０及び照射面９０を示している。図１（ｂ）はレンズ３０の入射角θにおける光の透過率Ｔを軸上の透過率で規格化して示した図である。
【００１０】
以下の説明では、照射面９０におけるレーザー光束ＬＢの光束の移動の方向を矢印ＡＲで示される主走査方向とする。また、主走査方向に直交する方向（紙面の表裏方向）を副走査方向とする。さらに以下の説明では、屈折力とはレンズまたは屈折面の焦点距離の逆数をいうが、屈折面にはミラーなどの反射面も含まれるものとする。
【００１１】
図１に示されるように、ポリゴンミラー２０を利用して光束を走査する場合、ポリゴンミラー２０を等速回転させるのが望ましい。ポリゴンミラー２０が高速に回転して光束を走査すればするほどポリゴンミラー２０の速度を変化させながら回転させることは困難だからである。ポリゴンミラー２０を等速回転させた場合、ポリゴンミラー２０からレンズ３０へのレーザー光束ＬＢの光束の入射角θは時間ｔに比例する。
θ∝ｔ
【００１２】
レンズ３０が入射角θと照射面９０における走査速度ｖとの関係は以下の式が成立する。
【数１】
2010026113.tif 000003
よって、本発明では便宜上、ｄＹ／ｄθを走査速度と呼ぶ。
なお、照射位置Ｙは照射面９０における光軸ＯＡからの距離を示す。
【００１３】
走査光学系１００のレンズ３０にレーザー光束ＬＢが入射して照射面９０に至るまでに、減衰がまったく無いのであれば照射面９０における光量Ｉは走査速度ｖに反比例する。このため以下の式が成立する。
Ｉ∝１／ｖ
【００１４】
しかし、レンズ３０の減衰率はレーザー光束ＬＢがレンズ３０に入射する入射角θに依存しており、入射角θが大きくなると減衰率が大きくなることが多い。別言すれば入射角θが大きくなると透過率Ｔが低くなる。この透過率Ｔの入射角θの依存性は反射防止膜や反射膜の特性やレンズ３０の厚さで決まってくる。透過率Ｔは事前の解析又は試作により求めることが可能であり、図１（ｂ）に示された透過率Ｔはその一例である。
【００１５】
図１（ｂ）は、横軸に入射角θ、縦軸に透過率Ｔをとっている。図１に示されるように、光軸ＯＡ上（０°）の透過率Ｔｃを基準として、１００％とし、最大入射角（２５°）における透過率Ｔｏが９８％であるとすると、最大入射角での照射面９０における走査速度（ｄＹ／ｄθ）を２％遅くするレンズ３０を用意すれば、照射面９０での均一性を向上させることができる。
つまり、以下の関係式が成立すれば光軸上と最大入射角での照射面９０上での光量Ｉを同じにできる。
【数２】
2010026113.tif 000004
特に、図１（ｂ）に示されるように、透過率Ｔｃが入射角θに極値や変曲点がなく、なめらかに対応するのであれば、光軸上と最大入射角とにおける透過率又は減衰率が把握されていればよい。
【００１６】
さらに均一性を向上させるには、非球面レンズなどを利用して、レンズ３０への任意の複数点における入射角θと結像位置Ｙの関係を制御すれば、光軸ＯＡ上と任意の結像位置Ｙでも制御可能である。
光軸ＯＡ上の透過率Ｔｃに対して複数の入射角θｊにおける透過率をＴｊとすると、入射角θｊに応じて照射面９０の走査速度（ｄＹ／ｄθ）を制御したレンズ３０を用意すれば、照射面９０での光量Ｉの均一性を向上させることができる。つまり、以下の関係式が成立すればよい。
【数３】
2010026113.tif 000005
【００１７】
本実施形態では、目的に応じて必要なレーザー光束の径で照射することも、レーザー光束を結像させることも可能である。以下に説明する実施例１及び実施例２ではほぼ平行光束のレーザー光束を所定の径で照射面９０に照射する。実施例３ではレーザー光束を結像させる例である。図１（ｂ）に示されたレンズ３０の透過率Ｔの入射角の依存性は、コンピュータによる解析によって求めても良いし、レンズの試作によって求めてもよい。走査光学系１００の全体の透過率Ｔはポリゴンミラー２０の反射率やその他の要因も含めた透過率に依存する。たとえば遮蔽又はケラレなどによって変化すれば、それらも考慮する必要がある。
【実施例１】
【００１８】
＜第１走査光学系１１０の構造＞
図２は、第１走査光学系１１０の基本構成を表すｙｚ面図である。この第１走査光学系１１０は、レーザー光源１０、ポリゴンミラー２０、レンズ４０及び照射面９０を備えている。第１走査光学系１１０は、レーザー光源１０より射出したレーザー光束ＬＢを照射面９０にほぼ平行光束として照射すると共に、そのレーザー光束ＬＢを照射面９０に沿って一定方向に移動させるものである。
【００１９】
第１走査光学系１１０は、例えば半導体レーザー素子よりなるレーザー光源１０を有している。このレーザー光源１０は、例えば波長５３２ｎｍでφ２ｍｍの光束を射出するものである。レーザー光源１０から射出されたレーザー光束ＬＢは、ポリゴンミラー２０の反射面２０Ａに照射される。なお、レーザー光源１０より射出されたレーザー光束ＬＢは一般に中央領域が明るく周辺領域が暗いガウシアン分布を有している。第１走査光学系１１０の光路中にガウシアン分布を補正する光学系を入れない限り、照射面９０においてもレーザー光束ＬＢはガウシアン分布を有している。
【００２０】
実施例１のレンズ４０は、ポリゴンミラー２０側から順に、負の屈折力を有する第１レンズ要素４１と、正の屈折力を有する第２レンズ要素４３と、正の屈折力を有する第３レンズ要素４５と、正の屈折力を有する第４レンズ要素４７とを備えている。
【００２１】
またポリゴンミラー２０から実施例１のレンズ４０に入射する入射角θは、±２０°であり、最大入射角と軸上におけるレンズ４０の透過率の比Ｔｏ／Ｔｃが９０％である。すなわち１０％の光量の減衰がある。
具体的なレンズデータを表１に示す。角倍率１／４倍のアフォーカル光学系であり、照射面９０におけるレーザー光束ＬＢがφ８ｍｍとなる。照射範囲は１０００ｍｍである。
表１
【表１】
2010026113.tif 000006
【００２２】
なお、表１の面番号は、ポリゴンミラー２０の反射面を２０Ａ、第１レンズ要素４１，第２レンズ要素４３、第３レンズ要素４５及び第４レンズ要素４７の入射面側をＡと射出面側をＢとして示している。
【００２３】
図３は、実施例１の第１走査光学系１１０において、入射角θに応じたレーザー光束ＬＢの走査速度（ｄＹ／ｄθ）を示したグラフである。横軸に入射角θ、縦軸に中心軸上（θ＝０°）の走査速度（ｄＹ／ｄθ）を１００％としたパーセンテージをとっている。
実施例１のレンズ４０を用意すれば、最大入射角においてレーザー光束ＬＢの走査速度（ｄＹ／ｄθ）が中心軸上（θ＝０°）と比べて９０％の速度となる。これは最大入射角におけるレンズ４０の透過率Ｔｏの９０％と一致する。すなわち照射面９０でレーザー光束ＬＢの光量の均一性を向上させることができる。
【実施例２】
【００２４】
＜第２走査光学系１２０の構造＞
図４は、第２走査光学系１２０の基本構成を表すｙｚ平面図である。この第２走査光学系１２０は、レーザー光源１０、ポリゴンミラー２０、レンズ５０及び照射面９０を備えている。第２走査光学系１２０は、レーザー光源１０より射出したレーザー光束ＬＢを照射面９０にほぼ平行光束として照射すると共に、そのレーザー光束ＬＢを照射面９０に沿って一定方向に移動させるものである。
【００２５】
第２走査光学系１２０のレーザー光源１０は、例えば波長５３２ｎｍでφ２ｍｍの光束を射出するものである。レーザー光源１０から射出されたレーザー光束ＬＢは、ポリゴンミラー２０の反射面２０Ａに照射される。
【００２６】
実施例２のレンズ５０は、ポリゴンミラー２０側から順に、負の屈折力を有する第１レンズ要素５１と、正の屈折力を有する第２レンズ要素５３と、正の屈折力を有する第３レンズ要素５５と、正の屈折力を有する第４レンズ要素５７とを備えている。
【００２７】
ポリゴンミラー２０から実施例２のレンズ５０に入射する入射角θは、±２０°であり、最大入射角と軸上におけるレンズ５０の透過率の比Ｔｏ／Ｔｃが９７％である。さらに、±１０°において、レンズ５０の透過率の比Ｔｊ／Ｔｃが１０１％と中心軸上（θ＝０°）より透過率が高くなっている。このように所定の入射角θにおいて透過率又は減衰率が極値を持って変わるときには非球面レンズを用いることが好ましい。光軸ＯＡからの距離Ｙに応じてレーザー光束ＬＢの速度を制御して設計することが容易になる。
【００２８】
具体的なレンズデータを表２に示す。角倍率１／４倍のアフォーカル光学系であり、照射面９０におけるレーザー光束ＬＢがφ８ｍｍとなる。照射範囲は１０００ｍｍである。
表２
【表２】
2010026113.tif 000007
【００２９】
なお、表２の面番号は、ポリゴンミラー２０の反射面を２０Ａ、第１レンズ要素５１，第２レンズ要素５３、第３レンズ要素５５及び第４レンズ要素５７の入射面側をＡと射出面側をＢとして示している。
【００３０】
また第２レンズ要素５３の面５３Ａの非球面形状は、以下の式で表される。
【数４】
2010026113.tif 000008
K:0.000000   
A:-0.101485E-08   B:0.326651E-14   C:0.163067E-18
ここで、ｈは光軸からの距離を表し、Ｚは光軸と非球面の交点を含み且つ光軸ＯＡに垂直な基準平面からの光軸方向の非球面の変位である。Ｒはその面の曲率半径である。
【００３１】
図５は、実施例２の第２走査光学系１２０において、入射角θに応じたレーザー光束ＬＢの走査速度（ｄＹ／ｄθ）を示したグラフである。横軸に入射角θ、縦軸に中心軸上（θ＝０°）の走査速度を１００％としたパーセンテージをとっている。
実施例２のレンズ５０を用意すれば、複数の入射角θにおいてレンズ５０の透過率に応じた走査速度（ｄＹ／ｄθ）に一致するようになる。すなわち照射面９０でレーザー光束ＬＢの光量の均一性を向上させることができる。
【実施例３】
【００３２】
＜第３走査光学系１３０の構造＞
図６は、第３走査光学系１３０の基本構成を表すｙｚ平面図である。第３走査光学系１３０は、第１走査光学系１１０及び第２走査光学系１２０と異なり、照射面９０で結像する結像光学系である。この第３走査光学系１３０は、レーザー光源１０、ポリゴンミラー２０、レンズ６０及び照射面９０を備えている。第３走査光学系１３０は、レーザー光源１０より射出した光束を照射面９０に結像すると共に、結像光を照射面９０に沿って一定方向に移動させる。
【００３３】
第３走査光学系１３０のレーザー光源１０は、例えば波長３５５ｎｍでφ５ｍｍの光束を射出するものである。レーザー光源１０から射出されたレーザー光束ＬＢは、ポリゴンミラー２０の反射面２０Ａに照射される。
【００３４】
実施例３のレンズ６０は、ポリゴンミラー２０側から順に、負の屈折力を有する第１レンズ要素６１と、負の屈折力を有する第２レンズ要素６３と、正の屈折力を有する第３レンズ要素６５とを備えている。
【００３５】
ポリゴンミラー２０から実施例３のレンズ６０に入射する入射角θは、±２０°であり、最大入射角と軸上におけるレンズ６０の透過率の比Ｔｏ／Ｔｃが９７％である。すなわち光量が３％減衰する。
具体的なレンズデータを表３に示す。焦点距離ｆ＝４５２ｍｍの結像光学系であり、照射範囲は３１３ｍｍである。
表３
【表３】
2010026113.tif 000009
【００３６】
なお、表３の面番号は、ポリゴンミラー２０の反射面を２０Ａ、第１レンズ要素６１、第２レンズ要素６３及び第３レンズ要素６５の入射面側をＡと射出面側をＢとして示している。
【００３７】
図７は、実施例３の第３走査光学系１３０において、入射角θに応じたレーザー光束ＬＢの走査速度（ｄＹ／ｄθ）を示したグラフである。横軸に入射角θ、縦軸に中心軸上（θ＝０°）の走査速度を１００％としたパーセンテージをとっている。
実施例３のレンズ６０を用意すれば、最大入射角においてレーザー光束ＬＢの結像光の走査速度（ｄＹ／ｄθ）が中心軸上（θ＝０°）と比べて９７％の速度となる。これは最大入射角と軸上におけるレンズ６０の透過率の比Ｔｏ／Ｔｃの９７％と一致する。すなわち照射面９０で結像したレーザー光束（スポット光）の光量の均一性を向上させることができる。
【００３８】
以上の実施例１から実施例３はレーザー光源１０を使用した単波長の光を各レンズに照射した。しかし、所定のスペクトル幅を有する光源や白色光源でもよい。所定のスペクトル幅を有する光源を使用する場合は、必要に応じてレンズの硝材を変えたり組み合わせたりして色収差補正を行ってもよい。
また、図２、図４及び図６においては、ｙｚ平面内にレーザー光源１０を配置しているが、ｙｚ平面に直交するｘ方向と光軸ＯＡ含む面内(紙面に垂直な面内)にレーザー光源１０を配置した方が光軸に関して対称性が保たれる。
【００３９】
また、図２、図４及び図６においては、レーザー光源１０とポリゴンミラー２０との間には光学素子が描かれていないが、必要に応じてコリメータレンズやビームエクスパンダ及び絞りなどを配置してもよい。このコリメータレンズは、レーザー光源１０から射出された発散光状態の光束を平行光にするためのものであり、ビームエクスパンダは平行光束のビーム径を拡大縮小するものである。また、絞りは、コリメータレンズから射出された光束を所定形状の径にするためのものである。ビーム整形用の光学部品を挿入すれば、レーザー光束ＬＢの光量分布を均等分布に補正することができる。
【００４０】
＜レーザービームプリンタ２００の動作＞
図８は、走査型露光装置として、第３実施例の第３走査光学系１３０をレーザービームプリンタ２００に適用した図である。
【００４１】
まず、このように構成された第３走査光学系１３０およびレーザービームプリンタ２００の基本動作について説明する。このレーザービームプリンタ２００では、制御部８０が、第３走査光学系１３０のレーザー光源１０を高速でオンオフさせ、駆動モータ２９に駆動信号を送っている。駆動モータ２９はポリゴンミラー２０を一定速度で回転させる。制御部８０は照射面９０である感光体ドラムなどを回転させる。第３走査光学系１３０において、レーザー光源１０から射出された光束は、コリメータレンズ１２によって平行光となり絞り１４を通過する。この光束は、ポリゴンミラー２０の反射面２０Ａにおいて偏向され、第３実施例の第１レンズ要素６１と第２レンズ要素６３と第３レンズ要素６５とを透過してミラー６７に入射する。この光束は、さらに、ミラー６７により反射されて照射面９０に収束し、照射面９０上に結像する。ポリゴンミラー２０の回転に伴い、結像光が照射面９０上を主走査方向に移動し走査線が形成される。なお、ミラー６７は、レーザービームプリンタ２００を小型化するために光路を折り曲げるためのものであるが、入射角に応じてミラー６７の反射率が異なるならばその反射率も考慮に入れる必要がある。
【００４２】
次に、本実施形態において特徴的な作用について説明する。本実施形態に係る第３走査光学系１３０では、ポリゴンミラー２０の回転による第３実施例のレンズ６０の入射角によって変化する透過率に応じて結像光が照射面９０上を主走査方向の速度が変化するので、照射面９０上において結像光の光量の均一性が向上する。そのためレーザービームプリンタ２００の描画精度が向上する。
【００４３】
加えて、上述した第３走査光学系１３０では、結像光の径を小さくでき、望ましい解像度を得るに十分な微小なレーザー光束ＬＢ（光スポット）を得ることができる。
【００４４】
以上、実施の形態および実施例を挙げて本発明を説明したが、本発明はこれら実施の形態および実施例に限定されるものではなく種々の変形が可能である。また、本発明による走査光学系は、レーザービームプリンタ又は光学フィルムの露光装置などの用途に用いることも可能である。
【図面の簡単な説明】
【００４５】
【図１】走査光学系１００の概念図を示した図である。
【図２】第１実施例の第１走査光学系１１０の基本構成を表すｙｚ平面図である。
【図３】実施例１の第１走査光学系１１０において、入射角θに応じたレーザー光束ＬＢの走査速度（ｄＹ／ｄθ）を示したグラフである。
【図４】第２実施例の第２走査光学系１２０の基本構成を表すｙｚ平面図である。
【図５】実施例２の第２走査光学系１２０において、入射角θに応じたレーザー光束ＬＢの走査速度（ｄＹ／ｄθ）を示したグラフである。
【図６】第３実施例の第３走査光学系１３０の基本構成を表すｙｚ平面図である。
【図７】実施例３の第３走査光学系１３０において、入射角θに応じたレーザー光束ＬＢの走査速度（ｄＹ／ｄθ）を示したグラフである。
【図８】第３実施例の第３走査光学系１３０をレーザービームプリンタ２００に適用した図である。
【符号の説明】
【００４６】
１０…  光源、
１２…  コリメータレンズ
１４…  絞り
２０…  ポリゴンミラー
３０、４０、５０、６０…  レンズ、
４１、５１、６１…  第１レンズ要素
４３、５３、６３…  第２レンズ要素
４５、５５、６５…  第３レンズ要素
４７、５７…  第４レンズ要素
６７…  ミラー
８０…  制御部
９０…  照射面
１００…  走査光学系、１１０…第１走査光学系
１２０…第２走査光学系、１３０…第３走査光学系
２００…レーザービームプリンタ
ＯＡ…  光学系の光軸
θ  …  入射角
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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