(57)【要約】【課題】本発明は、誘電体多層膜を有し、耐熱性が高く、耐クラック性が改善され、特に、近赤外線カット能に優れ、吸湿性が低く、異物や反りが少なく、耐熱性に優れ、固体撮像素子の視感度補正に好適に用いられる近赤外線カットフィルターや、耐熱性に優れ、耐クラック性が改善された反射防止フィルムとして好適に用いられる光学積層フィルムおよびその製造方法を提供することを課題としている。【解決手段】本発明の光学積層フィルムの製造方法は、ガラス転移温度（Ｔｇ）が１１０〜５００℃であり、かつ厚さ１００μｍでの全光線透過率が８０〜９４％である透明樹脂を含む基材フィルム上に、誘電体層Ａと、誘電体層Ａよりも高い屈折率を有する誘電体層Ｂとを、１００℃〜（前記Ｔｇ−１０）℃で蒸着して積層し、誘電体多層膜を形成することを特徴としている。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス転移温度（Ｔｇ）が１１０〜５００℃であり、かつ厚さ１００μｍでの全光線透過率が８０〜９４％である透明樹脂を含む基材フィルム上に、誘電体層Ａと、誘電体層Ａが有する屈折率よりも高い屈折率を有する誘電体層Ｂとを、１００℃以上であり且つ前記透明樹脂のＴｇより１０℃以上低い温度で蒸着して積層し、誘電体多層膜を形成することを特徴とする光学積層フィルムの製造方法。
【請求項２】
誘電体多層膜を、基材フィルムの両面に形成することを特徴とする請求項１に記載の光学積層フィルムの製造方法。
【請求項３】
前記透明樹脂が、下記式（１）で表される構造単位（１）を有する環状オレフィン系樹脂であることを特徴とする請求項１または２に記載の光学積層フィルムの製造方法。
【化１】
2010044278.tif 000010
（式中、ｍは、０以上の整数を表し、ｐは、０以上の整数を表し、
Ｘは、独立に、式：−ＣＨ＝ＣＨ−で表される基、または式：−ＣＨ2ＣＨ2−で表される基を表し、
Ｒ1〜Ｒ4は、それぞれ独立に、水素原子；ハロゲン原子；酸素原子、窒素原子、イオウ原子もしくはケイ素原子を含む連結基を有していてもよい置換または非置換の炭素原子数１〜３０の炭化水素基；または極性基を表し、Ｒ1とＲ2と、および／またはＲ3とＲ4とは、一体化して２価の炭化水素基を形成してもよく、
Ｒ1またはＲ2と、Ｒ3またはＲ4とは、相互に結合して炭素環または複素環を形成してもよく、該炭素環または複素環は、単環構造でも多環構造でもよい。ただし、Ｒ1〜Ｒ4の少なくとも１つの基には、炭素原子および水素原子以外の原子が含まれる。）
【請求項４】
前記誘電体層Ａおよび／または誘電体層Ｂが、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｇｅ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ａｌ、Ｓｃ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｚｎ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｖ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｗから選択される少なくとも一つの元素を含有することを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の光学積層フィルムの製造方法。
【請求項５】
前記誘電体層Ａおよび／または誘電体層Ｂが、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｇｅ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ａｌ、Ｓｃ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｚｎ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｖ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｗから選択される少なくとも一つの元素の酸化物を含有することを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の光学積層フィルムの製造方法。
【請求項６】
前記基材フィルムが、ガラス転移温度（Ｔｇ）が１１０〜５００℃であり、かつ厚さ１
００μｍでの全光線透過率が８０〜９４％である透明樹脂からなるフィルムの少なくとも一方の表面に、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を光硬化させて得られる硬化層を形成してなるフィルムであって、透明樹脂からなるフィルムの厚さ１００に対して、硬化層の厚さの合計が０．２〜４０の範囲であることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の光学積層フィルムの製造方法。
【請求項７】
前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物が、アクリロイル基を３以上有する多官能モノマーを含有することを特徴とする請求項６に記載の光学積層フィルムの製造方法。
【請求項８】
前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物が、さらに多官能ウレタンアクリレートを含有することを特徴とする請求項７に記載の光学積層フィルムの製造方法。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれかに記載の製造方法で得られることを特徴とする光学積層フィルム。
【請求項１０】
赤外線カットフィルターであることを特徴とする請求項９に記載の光学積層フィルム。
【請求項１１】
反射防止フィルムであることを特徴とする請求項９に記載の光学積層フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、誘電体多層膜を有する光学積層フィルムの製造方法と、該製造方法により得られる光学積層フィルムに関する。詳しくは、本発明は、耐熱性が高く、耐クラック性が改善された誘電体多層膜を形成することができ、近赤外線カットフィルター、ＣＣＤ、ＣＭＯＳなどの固体撮像素子用視感度補正フィルター、携帯電話、PDA、パソコン、TV等の
電子ディスプレイの反射防止フィルムなどとして好適に用いることができる光学積層フィルムの製造方法と、該製造方法により得られる光学積層フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、プラズマデイスプレイパネル（ＰＤＰ）を搭載したテレビが商品化され、一般家庭にも広く普及するようになってきた。このＰＤＰは、プラズマ放電を利用して作動するディスプレイであるが、プラズマ放電の際に近赤外線（波長：８００〜１０００ｎｍ）が発生することが知られている。
【０００３】
一方、家庭内においては、テレビ、ステレオあるいはエアコンなどの家電製品のリモコン、さらには、パーソナルコンピューターの情報のやり取りに近赤外線を利用することが多くなっており、前記ＰＤＰの発する近赤外線がこれら機器の誤作動の原因になる可能性が高いことが常々指摘されている。また、画面の表面反射が高いことにより、画像が見づらくなるといった問題もあった。
【０００４】
そこで、市販されているＰＤＰの多くは、その前面板に、自らが発する近赤外線をカットするためのフィルター機能を備えるようになっている。
また、ビデオカメラ、デジタルスチルカメラ、カメラ機能付き携帯電話などにはカラー画像の固体撮像素子であるＣＣＤやＣＭＯＳイメージセンサが使用されているが、これら固体撮像素子はその受光部において近赤外線に感度を有するシリコンフォトダイオードを使用しているために、視感度補正を行うことが必要であり、近赤外線カットフィルターを用いることが多い。
【０００５】
前記近赤外線カットフィルターとしては、従来から各種方法で製造されたものが使用されている。例えば、ガラスなど透明基材の表面に銀などの金属を蒸着して近赤外線を反射するようにしたもの、ガラス、アクリル樹脂、あるいはポリカーボネート樹脂などの透明基材に近赤外線吸収色素を添加したものなどが実用に供されている。
【０００６】
しかしながら、ガラス基材に金属を蒸着した近赤外線カットフィルターは製造コストがかかるだけでなく、カッティング時に異物として基材のガラス片が混入してしまうという問題があった。
【０００７】
また、真空蒸着法等により作製された近赤外線カットフィルターや反射防止フィルムは既に広く実用に供されているが、その耐熱性は高くなく、１００℃以下の加温であっても膜にクラックが入る不具合が生じる場合があった。
【０００８】
また、透明基材に近赤外線吸収剤を分散させた近赤外線カットフィルターとしては、近赤外線吸収能を有する銅化合物をリン酸塩ガラスに分散させたフィルターが知られているが、このフィルターは薄肉化のために研磨が必要であり、製造コストも高いという問題があった。また、固体撮像装置用の近赤外線カットフィルターとして用いる場合には、リン酸塩ガラスは比較的吸湿性が高く、固体撮像素子に対して悪影響を与える場合もあった。
さらに、基材として無機質材料を用いる場合は、近年の固体撮像装置の薄型化・小型化に対応していくためには限界があった。
【０００９】
一方、基材として透明樹脂を用い、透明樹脂中に近赤外線吸収色素を含有させた近赤外線カットフィルターも知られている（例えば、特許文献１参照。）。しかし、基材として透明樹脂を用いた近赤外線カットフィルターは、リン酸塩ガラスを基材とした前記近赤外線カットフィルターと比較して、近赤外線吸収能が必ずしも十分ではない場合があった。
【００１０】
本発明者は、このような問題を解決するものとして、特定のガラス転移点および熱膨張率を有する熱可塑性樹脂製の透明基板の両面に、誘電体多層膜からなる近赤外線反射膜などを特定の構成で有する近赤外線カットフィルターを提案している（特許文献２参照）。
【００１１】
しかしながら、さらに耐熱特性に優れ、フィルター部品の半田付けでのカールやクラックの発生が生じにくく、且つ、製品への組み込み後も高温下でもカールなどによる光学的歪を生じにくい、近赤外線カットフィルターおよび反射防止フィルムなどの用途に有用な光学積層フィルムの出現が望まれていた。
【特許文献１】特開平６−２００１１３号公報
【特許文献２】特開２００６−３０９４４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
本発明は、誘電体多層膜を有し、耐熱性が高く、耐クラック性が改善された光学積層フィルムを製造する方法及び光学積層フィルムを提供することを課題としている。また本発明は、近赤外線カット能に優れ、吸湿性が低く、異物や反りが少なく、耐熱性に優れ、特にＣＣＤ、ＣＭＯＳなどの固体撮像素子の視感度補正に好適に用いることができる近赤外線カットフィルターに好適な光学積層フィルムおよびその製造方法を提供することを課題としている。さらに本発明は、耐熱性に優れ、耐クラック性が改善された反射防止フィルムに好適な光学積層フィルムおよびその製造方法を提供することを課題としている。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明の光学積層フィルムの製造方法は、ガラス転移温度（Ｔｇ）が１１０〜５００℃であり、かつ厚さ１００μｍでの全光線透過率が８０〜９４％である透明樹脂を含む基材フィルム上に、誘電体層Ａと、誘電体層Ａが有する屈折率よりも高い屈折率を有する誘電体層Ｂとを、１００℃以上であり且つ前記透明樹脂のＴｇより１０℃以上低い温度で蒸着して積層し、誘電体多層膜を形成することを特徴としている。
【００１４】
このような本発明の光学積層フィルムの製造方法では、誘電体多層膜を、基材フィルムの両面に形成することが好ましい。
本発明の光学積層フィルムの製造方法では、前記透明樹脂が、下記式（１）で表される構造単位（１）を有する環状オレフィン系樹脂であることが好ましい。
【００１５】
【化１】
2010044278.tif 000002
【００１６】
（式中、ｍは、０以上の整数を表し、ｐは、０以上の整数を表し、
Ｘは、独立に、式：−ＣＨ＝ＣＨ−で表される基、または式：−ＣＨ2ＣＨ2−で表される基を表し、
Ｒ1〜Ｒ4は、それぞれ独立に、水素原子；ハロゲン原子；酸素原子、窒素原子、イオウ原子もしくはケイ素原子を含む連結基を有していてもよい置換または非置換の炭素原子数１〜３０の炭化水素基；または極性基を表し、Ｒ1とＲ2と、および／またはＲ3とＲ4とは、一体化して２価の炭化水素基を形成してもよく、
Ｒ1またはＲ2と、Ｒ3またはＲ4とは、相互に結合して炭素環または複素環を形成してもよく、該炭素環または複素環は、単環構造でも多環構造でもよい。ただし、Ｒ1〜Ｒ4の少なくとも１つの基には、炭素原子および水素原子以外の原子が含まれる。）
本発明の光学積層フィルムの製造方法では、前記誘電体層Ａおよび／または誘電体層Ｂが、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｇｅ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ａｌ、Ｓｃ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｚｎ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｖ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｗから選択される少なくとも一つの元素を含有することが好ましく、また、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｇｅ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ａｌ、Ｓｃ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｚｎ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｖ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｗから選択される少なくとも一つの元素の酸化物を含有することも好ましい。
【００１７】
本発明の光学積層フィルムの製造方法では、前記基材フィルムが、ガラス転移温度（Ｔｇ）が１１０〜５００℃であり、かつ厚さ１００μｍでの全光線透過率が８０〜９４％である透明樹脂からなるフィルムの少なくとも一方の表面に、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を光硬化させて得られる硬化層を形成してなるフィルムであって、透明樹脂からなるフィルムの厚さ１００に対して、硬化層の厚さの合計が０．２〜４０の範囲であることが好ましい。ここで、前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物が、アクリロイル基を３以上有する多官能モノマーを含有することが好ましく、この場合に前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物が、さらに多官能ウレタンアクリレートを含有することがより好ましい。
【００１８】
本発明の光学積層フィルムは、上記本発明の光学積層フィルムの製造方法で得られることを特徴としている。
本発明の光学積層フィルムは、赤外線カットフィルターであることが好ましく、また、反射防止フィルムであることも好ましい。
【発明の効果】
【００１９】
本発明によれば、誘電体多層膜を有し、基材フィルムと誘電体多層膜との密着性に優れ、耐熱性が高く、耐クラック性が改善された光学積層フィルムの製造方法と、製造方法に
より得られる光学積層フィルムを提供することができる。本発明の光学積層フィルムが近赤外線カットフィルターである場合には、近赤外線カット能に優れ、吸湿性が低く、異物や反りが少なく、耐熱性に優れ、高温下での組み立てあるいは使用にも好適であり、特にＣＣＤ、ＣＭＯＳなどの固体撮像素子の視感度補正に好適に用いることができる。また本発明の光学積層フィルムが反射防止膜である場合には、優れた反射防止機能を有し、耐熱性に優れ、歪みや割れを生じにくく、携帯電話、ＰＤＡ、パソコン、ＴＶ等の電子ディスプレイの表面反射防止膜として好適に用いることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下、本発明について具体的に説明する。
本発明の光学積層フィルムの製造方法は、ガラス転移温度（Ｔｇ）が１１０〜５００℃であり、かつ厚さ１００μｍでの全光線透過率が８０〜９４％である透明樹脂を含む基材フィルム上に、誘電体層Ａと、誘電体層Ａが有する屈折率よりも高い屈折率を有する誘電体層Ｂとを、１００℃以上であり且つ前記透明樹脂のＴｇより１０℃以上低い蒸着温度で交互に蒸着して積層し、誘電体多層膜を形成する工程を有する。
【００２１】
基材フィルム
本発明の光学積層フィルムを構成する基材フィルムは、後述する特定の透明樹脂を含む。基材フィルムは、特定の透明樹脂のみから形成されてもよく、透明樹脂を含む樹脂組成物から形成されてもよく、さらに少なくとも一方の表面に硬化層を有してもよい。
【００２２】
＜透明樹脂＞
本発明で用いる透明樹脂としては、ガラス転移温度（Ｔｇ）が１１０〜５００℃であり、かつ厚さ１００μｍでの全光線透過率が８０〜９４％である樹脂を、本発明の効果を損なわないものである限り特に制限なく用いることができる。
【００２３】
＜透明樹脂の物性＞
本発明で用いる透明樹脂としては、ガラス転移温度（Ｔｇ）は、熱安定性およびフィルムへの成形性を確保し、かつ、１００℃以上の蒸着温度での高温蒸着により誘電体多層膜を形成しうるフィルムとするため、通常１１０〜３００℃、好ましくは１１０〜２００℃、さらに好ましくは１２０〜１８０℃である。また、透明樹脂のガラス転移温度が、１２０℃以上、好ましくは１３０℃以上、さらに好ましくは１４０℃以上である場合には、誘電体多層膜をより高温で蒸着形成し得るフィルムが得られるため望ましい。
【００２４】
また厚さ１００μｍでの全光線透過率は、通常８０〜９４％であり、好ましくは８３〜９３％であり、更に好ましくは８５〜９２％である。全光線透過率がこのような範囲であれば、透明樹脂から得られる基材フィルムが、光学フィルムとして良好な透明性を示す。
【００２５】
そのような透明樹脂としては例えば、（変性）アクリル樹脂、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリエーテルサルホン（ＰＥＳ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリイミド、有機−無機ナノハイブリッド材料、環状オレフィン系樹脂をあげることができる。
【００２６】
・環状オレフィン系樹脂
透明樹脂が環状オレフィン系樹脂である場合、環状オレフィン系樹脂としては、ノルボルネン骨格を有する環状オレフィン系単量体を、必要に応じて共重合性単量体とともに重合あるいは共重合して得られる重合体あるいは共重合体（以下、（共）重合体ともいう）、あるいはさらに水素添加したものをいずれも用いることができ、付加（共）重合体、開環（共）重合体およびその水素添加物のいずれであってもよいが、本発明では、透明樹脂が、下記式（１）で表わされる構造単位（１）を有する環状オレフィン系樹脂であることが好ましい。
【００２７】
【化２】
2010044278.tif 000003
【００２８】
（式（１）中、ｍは、０以上の整数、好ましくは０〜５の整数、特に好ましくは０を表し、ｐは、０以上の整数であり、好ましくは０〜５の整数、特に好ましくは１を表わす。
Ｘは、独立に、式：−ＣＨ＝ＣＨ−で表される基、または式：−ＣＨ2ＣＨ2−で表される基を表わす。
Ｒ1〜Ｒ4は、それぞれ独立に、水素原子；ハロゲン原子；酸素原子、窒素原子、イオウ原子もしくはケイ素原子を含む連結基を有していてもよい置換または非置換の炭素原子数１〜３０の炭化水素基；または極性基を表し、Ｒ1とＲ2と、および／またはＲ3とＲ4とは、一体化して２価の炭化水素基を形成してもよく、
Ｒ1またはＲ2と、Ｒ3またはＲ4とは、相互に結合して炭素環または複素環を形成してもよく、該炭素環または複素環は、単環構造でも多環構造でもよい。ただし、Ｒ1〜Ｒ4の少なくとも１つの基には、炭素原子および水素原子以外の原子が含まれる。）
上記環状オレフィン系樹脂は、環状オレフィン系構造単位として、上記式（１）で表わされる構造単位（１）のみを含む樹脂であってもよいが、好ましくは、上記式（１）で表わされる構造単位（１）とともに、下記式（２）で表わされる構造単位（２）を有することが望ましい。さらに必要に応じてほかの構造単位を有していてもよい。
【００２９】
【化３】
2010044278.tif 000004
【００３０】
（式（２）中、Ｙは独立に式：−ＣＨ＝ＣＨ−で表される基または式：−ＣＨ2ＣＨ2−で表される基であり、Ｒ5〜Ｒ8は各々独立に水素原子；ハロゲン原子；酸素、窒素、イオウ若しくはケイ素を含む連結基を有していてもよい置換または非置換の炭素原子数１〜３０の炭化水素基；または極性基を表し、Ｒ5とＲ6および／またはＲ7とＲ8は一体化して２価の炭化水素基を形成してもよく、Ｒ5またはＲ6と、Ｒ7またはＲ8とは相互に結合して炭素環または複素環を形成してもよく、該炭素環または複素環は、単環構造でも多環構造でもよい。）
構造単位（１）および必要に応じて構造単位（２）を有する環状オレフィン系樹脂は、たとえば、下記式（１ｍ）で表わされる１種以上の単量体（１ｍ）と、必要に応じて下記式（２ｍ）で表わされる１種以上の単量体（２ｍ）とを開環共重合して、必要に応じて水素添加して得られる。開環共重合においては、単量体（１ｍ）および必要に応じて（２ｍ）とともに、共重合性単量体を用いてもよい。
【００３１】
【化４】
2010044278.tif 000005
【００３２】
（式（１ｍ）中、ｍ、ｐ、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4の定義は、式（１）の定義のとおりである。）
【００３３】
【化５】
2010044278.tif 000006
【００３４】
（式（２ｍ）中、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7およびＲ8の定義は、式（２）の定義のとおりである。）
式（１）、（２）、（１ｍ）および（２ｍ）において、Ｒ1〜Ｒ8は、水素原子；ハロゲン原子；酸素、窒素、イオウまたはケイ素を含む連結基を有していてもよい置換または非置換の炭素原子数１〜３０の炭化水素基；または極性基を表す。前記の原子および基について以下に説明する。
【００３５】
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子および臭素原子が挙げられる。
炭素原子数１〜３０の炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基等のアルキル基；シクロペンチル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基；ビニル基、アリル基、プロペニル基等のアルケニル基などが挙げられる。
【００３６】
置換または非置換の炭化水素基は、直接環構造に結合していてもよいし、あるいは連結基（ｌｉｎｋａｇｅ）を介して結合していてもよい。連結基としては、例えば、炭素原子数１〜１０の２価の炭化水素基（例えば、−（ＣＨ2）m−（式中、ｍは１〜１０の整数）で表されるアルキレン基）；酸素、窒素、イオウまたはケイ素を含む連結基（例えば、カルボニル基（−ＣＯ−）、オキシカルボニル基（−Ｏ（ＣＯ）−）、スルホン基（−ＳＯ2−）、エーテル結合（−Ｏ−）、チオエーテル結合（−Ｓ−）、イミノ基（−ＮＨ−）
、アミド結合（−ＮＨＣＯ−，−ＣＯＮＨ−）、シロキサン結合（−ＯＳｉ（Ｒ2）−（
式中、Ｒはメチル、エチル等のアルキル基））等が挙げられ、これらの複数を含む連結基であってもよい。
【００３７】
極性基としては、例えば水酸基、炭素原子数１〜１０のアルコキシ基、アルコキシカル
ボニル基、アリーロキシカルボニル基、シアノ基、アミド基、イミド環含有基、トリオルガノシロキシ基、トリオルガノシリル基、アミノ基、アシル基、アルコキシシリル基、スルホニル含有基、およびカルボキシル基などが挙げられる。さらに具体的には、上記アルコキシ基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基等が挙げられ；アルコキシカルボニル基としては、例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等が挙げられ；アリーロキシカルボニル基としては、例えばフェノキシカルボニル基、ナフチルオキシカルボニル基、フルオレニルオキシカルボニル基、ビフェニリルオキシカルボニル基等が挙げられ；トリオルガノシロキシ基としては例えばトリメチルシロキシ基、トリエチルシロキシ基等が挙げられ；トリオルガノシリル基としてはトリメチルシリル基、トリエチルシリル基等が挙げられ；アミノ基としては第１級アミノ基が挙げられ、アルコキシシリル基としては例えばトリメトキシシリル基、トリエトキシシリル基等が挙げられる。
【００３８】
本発明で用いる環状オレフィン系樹脂のより具体的な例としては、下記＜１＞〜＜３＞に示す共重合体を挙げることができる。これらのうち、優れた熱安定性を有し、光学特性に優れることから、＜３＞に示す共重合体が特に好ましい。
＜１＞  単量体（１ｍ）と必要に応じて単量体（２ｍ）との開環共重合体。
＜２＞  単量体（１ｍ）と必要に応じて単量体（２ｍ）およびその他の共重合性単量体との開環共重合体。
＜３＞  ＜１＞および＜２＞の開環共重合体の水素添加物。
【００３９】
＜単量体（１ｍ）＞
構造単位（１）は、通常、上記式（１ｍ）で表わされる単量体（１ｍ）に由来する。以下に単量体（１ｍ）の具体例を挙げるが、本発明はこれら具体例に限定されるものではない。また、単量体（１ｍ）は、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
【００４０】
８−メトキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン
、
８−エトキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン
、
８−ｎ−プロポキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ド
デセン、
８−イソプロポキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ド
デセン、
８−ｎ−ブトキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデ
セン、
８−フェノキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセ
ン、
８−メチル−８−メトキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−
３−ドデセン、
８−メチル−８−エトキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−
３−ドデセン、
８−メチル−８−ｎ−プロポキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン、
８−メチル−８−イソプロポキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン、
８−メチル−８−ｎ−ブトキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10
］−３−ドデセン、
８−メチル−８−フェノキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］
−３−ドデセン、
【００４１】
８−エチリデンテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン、
８−フルオロテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン、
８−フルオロメチルテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン、
８−ジフルオロメチルテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン、
８−トリフルオロメチルテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン
、
８−ペンタフルオロエチルテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセ
ン、
８，８−ジフルオロテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン、
８，９−ジフルオロテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン、
８，８−ビス（トリフルオロメチル）テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−
３−ドデセン、
８，９−ビス（トリフルオロメチル）テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−
３−ドデセン、
８−メチル−８−トリフルオロメチルテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−
３−ドデセン、
８，８，９−トリフルオロテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセ
ン、
８，８，９−トリス（トリフルオロメチル）テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン、
８，８，９，９−テトラフルオロテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−
ドデセン、
８，８，９，９−テトラキス（トリフルオロメチル）テトラシクロ［１2,5．１7,10］
−３−ドデセン、
【００４２】
８，８−ジフルオロ−９，９−ビス（トリフルオロメチル）テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン、
８，９−ジフルオロ−８，９−ビス（トリフルオロメチル）テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン、
８，８，９−トリフルオロ−９−トリフルオロメチルテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン、
８，８，９−トリフルオロ−９−トリフルオロメトキシテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン、
８，８，９−トリフルオロ−９−ペンタフルオロプロポキシテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン、
８−フルオロ−８−ペンタフルオロエチル−９，９−ビス（トリフルオロメチル）テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン、
８，９−ジフルオロ−８−ヘプタフルオロｉｓｏ−プロピル−９−トリフルオロメチルテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン、
８−クロロ−８，９，９−トリフルオロテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］
−３−ドデセン、
８，９−ジクロロ−８，９−ビス（トリフルオロメチル）テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン、
８−（２，２，２−トリフルオロエトキシカルボニル）テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン、
８−メチル−８−（２，２，２−トリフルオロエトキシカルボニル）テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン
などを挙げることができる。
【００４３】
単量体（１ｍ）は、式（１ｍ）中のＲ1〜Ｒ4の少なくともひとつが炭素原子および水素
原子以外の原子が含まれる基であるが、炭素原子および水素原子以外の原子が含まれる基は極性基であることが好ましい。すなわち、上記式（１ｍ）において、Ｒ1およびＲ3が、水素原子または炭素原子数１〜１０の炭化水素基を表し、Ｒ2およびＲ4が、水素原子または一価の有機基を表し、Ｒ2およびＲ4の少なくとも１つが、水素原子および炭化水素基以外の極性基を表す単量体（１ｍ）が含まれていると、他素材との密着性・接着性を高めるので好ましい。
【００４４】
全構造単位（１）中における、少なくとも１つの極性基を有する構造単位（１）の割合、すなわち単量体（１ｍ）全量中における、分子内に少なくとも１つの極性基を有する単量体の含有割合は、所望の機能等により決定されるものであり、特に限定はされないが、誘電体層（誘電体多層膜）あるいは硬化層との密着性・接着性を高めるために、通常５０モル％以上、好ましくは７０モル％以上、より好ましくは８０モル％以上含まれることが望ましい。構造単位（１）すべてが極性基を有してもよい。
【００４５】
上記式（１ｍ）中、Ｒ2および／またはＲ4が、下記式（３）で表される極性基を示す場合、該極性基を有する単量体（１）は、得られる共重合体のガラス転移温度〔Ｔｇ〕と吸水性とを制御し易い点で好ましい。
【００４６】
−（ＣＨ2）pＣＯＯＲ9  …（３）
（式（３）中、ｐは、０〜５の整数を表し、Ｒ9は、一価の有機基を表す。）
上記式（３）中、Ｒ9で表される「一価の有機基」としては、例えば、メチル基、エチ
ル基、プロピル基等のアルキル基；フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基、ビフェニリル基等のアリール基；この他にもジフェニルスルホン、テトラヒドロフルオレン等のフルオレン類等の芳香環、フラン環、イミド環等の複素環を有する一価の基などが挙げられる。
【００４７】
上記式（３）中、ｐは、好ましくは０〜２の整数、より好ましくは０を表す。ｐが小さい整数を表すほど得られる共重合体のガラス転移温度〔Ｔｇ〕が高くなるので好ましく、特にｐが０である単量体（１ｍ）は、その合成が容易である点で好ましい。
【００４８】
上記式（１ｍ）において、上記式（３）で表される極性基が結合している炭素原子に、さらにアルキル基が結合していることが、得られる共重合体の耐熱性と吸水性とのバランスを図る上で好ましい。「アルキル基」の炭素原子数は、１〜５であることが好ましく、より好ましくは１〜２、特に好ましくは１である。
【００４９】
上記式（１ｍ）中、ｍが１であり、ｎが０である単量体（１ｍ）は、ガラス転移温度〔Ｔｇ〕が高い共重合体が得られる点で好ましい。
単量体（１ｍ）としては、８−メチル−８−メトキシカルボニルテトラシクロ〔４．４．０．１2,5．１7,10〕−３−ドデセンが、得られる共重合体のガラス転移温度〔Ｔｇ〕
を高め、吸水による変形等の悪影響をほとんど受けず、かつ他材料との密着性や接着性が良好となる程度の吸水性を維持できるので好ましい。
【００５０】
＜単量体（２ｍ）＞
本発明に係る環状オレフィン系樹脂に必要に応じて含まれる構造単位（２）は、通常、上記式（２ｍ）で表わされる単量体（２ｍ）に由来する。以下に単量体（２ｍ）の具体例を挙げるが、本発明はこれら具体例に限定されるものではない。また、単量体（２ｍ）は、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
【００５１】
ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５−エチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５−メトキシカルボニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５−メチル−５−メトキシカルボニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５−フェノキシカルボニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５−メチル−５−フェノキシカルボニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５−シアノビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５−エチリデンビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５−フェニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５−（２−ナフチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン（αおよびβの両タイプを含む。）、
５−フルオロビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５−フルオロメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５−トリフルオロメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５−ペンタフルオロエチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５，５−ジフルオロビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５，６−ジフルオロビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５，５−ビス（トリフルオロメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５，６−ビス（トリフルオロメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５−メチル−５−トリフルオロメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５，５，６−トリフルオロビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５，５，６−トリス（フルオロメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５，５，６，６−テトラフルオロビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５，５，６，６−テトラキス（トリフルオロメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５，５−ジフルオロ−６，６−ビス（トリフルオロメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５，６−ジフルオロ−５，６−ビス（トリフルオロメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５，５，６−トリフルオロ−５−トリフルオロメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５−フルオロ−５−ペンタフルオロエチル−６，６−ビス（トリフルオロメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５，６−ジフルオロ−５−ヘプタフルオロ−ｉｓｏ−プロピル−６−トリフルオロメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５−クロロ−５，６，６−トリフルオロビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５，６−ジクロロ−５，６−ビス（トリフルオロメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５，５，６−トリフルオロ−６−トリフルオロメトキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５，５，６−トリフルオロ−６−ヘプタフルオロプロポキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５−（４−フェニルフェニル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
４−（ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２−イル）フェニルスルホニルベンゼン
などを挙げることができる。
【００５２】
これらのうち、上記式（２ｍ）において、Ｒ5〜Ｒ8がすべて水素原子；またはＲ5〜Ｒ8のうちいずれか１つが炭素原子数１〜３０の炭化水素基を表し、残り３つが水素原子を表す単量体（２ｍ）は、得られる誘電体多層膜を有する積層体の靭性を向上させる効果が大きい点で好ましく、特に、Ｒ5〜Ｒ8がすべて水素原子；もしくはＲ5〜Ｒ8のうちいずれか
１つがメチル基、エチル基またはフェニル基を表し、残り３つがすべて水素原子を表す単量体は、耐熱性の観点からも好ましい。さらに、単量体（２ｍ）が、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エンまたは５−フェニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エンであるとき、その合成が容易である点と、樹脂の靭性向上・ガラス転移温度〔Ｔｇ〕の調整・共押出し成形性に優れる点で好ましい。
【００５３】
本発明において、単量体（１ｍ）とともに単量体（２ｍ）を併用する場合、その使用する重量比は、単量体（１ｍ）と単量体（２ｍ）との合計重量を１００とする場合、通常、単量体（１ｍ）：単量体（２ｍ）＝９５：５〜５：９５、好ましくは９５：５〜６０：４０、より好ましくは９５：５〜７０：３０、さらに好ましくは９５：５〜７５：２５であることが望ましい。単量体（１ｍ）の重量比が上記範囲より大きいと靱性改良の効果が期待できない場合があり、単量体（１ｍ）の重量比が上記範囲より小さいとガラス転移温度〔Ｔｇ〕が低くなり、耐熱性に問題が生じる場合がある。
【００５４】
＜他の共重合性単量体＞
単量体（１ｍ）および単量体（２ｍ）と共重合させることができる他の共重合性単量体としては、例えば、シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘプテン、シクロオクテン、トリシクロ［５．２．１．０2,6］−３−デセン、ジシクロペンタジエンなどのシクロオ
レフィンを挙げることができる。シクロオレフィンの炭素原子数としては、４〜２０が好ましく、さらに好ましくは５〜１２である。共重合性単量体として使用できる、単量体（１ｍ）および単量体（２ｍ）以外のシクロオレフィンとしては、たとえば、上記式（１ｍ）において、Ｒ1〜Ｒ4のいずれもが、水素原子あるいはヘテロ原子を有さない炭化水素基である単量体が挙げられる。これら共重合性単量体は位相差発現性改良、Ｔｇ調整、成形性改良等、樹脂の改質に有用である。
【００５５】
また、「他の共重合性単量体」として、例えば、オレフィン性不飽和結合を有する不飽和炭化水素系ポリマーなどの不飽和二重結合含有化合物も好適である。特に、ポリブタジエン、ポリイソプレン、スチレン−ブタジエン共重合体、エチレン−非共役ジエン共重合体、ポリノルボルネンなどの主鎖に、単量体（１）および必要に応じて単量体（２）の存在下、「不飽和二重結合含有化合物」を共重合させて得られる共重合体は、耐衝撃性が向上するため好ましい。
【００５６】
「他の共重合性単量体」から導かれる構成単位を含む開環共重合体を得るには、開環重合工程において、特定単量体と共重合性単量体とを開環共重合させてもよいが、さらに、ポリブタジエン、ポリイソプレンなどの共役ジエン化合物、スチレン−ブタジエン共重合体、エチレン−非共役ジエン共重合体、ポリノルボルネンなどの主鎖に炭素−炭素間二重結合を２つ以上含む不飽和炭化水素系ポリマーなどの存在下に単量体（１）および必要に応じ手単量体（２）を開環重合させてもよい。
【００５７】
単量体（１）および必要に応じて単量体（２）と、「他の共重合性単量体」（共重合性環状単量体および／または不飽和二重結合含有化合物）との使用する重量比は、［単量体（１）＋単量体（２）］と「他の共重合性単量体」との合計重量を１００とする場合、［単量体（１）＋単量体（２）］：「他の共重合性単量体」＝１００：０〜５０：５０が好ましく、１００：０〜６０：４０がより好ましく、１００：０〜７０：３０がさらに好ましい。
【００５８】
＜開環重合触媒＞
これらの単量体の開環（共）重合反応は、メタセシス触媒の存在下に行われる。このメタセシス触媒は、タングステン化合物、モリブデン化合物およびレニウム化合物から選ばれた少なくとも１種の金属化合物（以下、「（ａ）成分」という。）と、周期表第１族元
素（例えばＬｉ、Ｎａ、Ｋなど）、第２族元素（例えばＭｇ、Ｃａなど）、第１２族元素（例えばＺｎ、Ｃｄ、Ｈｇなど）、第１３族元素（例えばＢ、Ａｌなど）、第４族元素（例えばＴｉ、Ｚｒなど）あるいは第１４族元素（例えばＳｉ、Ｓｎ、Ｐｂなど）の化合物であって、少なくとも１つの当該元素−炭素結合あるいは当該元素−水素結合を有するものから選ばれた少なくとも１種の化合物（以下、「（ｂ）成分」という。）との組み合わせからなるものであり、触媒活性を高めるために添加剤（以下、「（ｃ）成分」という。）が含有されていてもよい。
【００５９】
上記（ａ）成分を構成する好適な金属化合物の具体例としては、ＷＣｌ6、ＭｏＣｌ5、ＲｅＯＣｌ3などの特開平１−２４０５１７号公報に記載の金属化合物を挙げることがで
きる。
【００６０】
上記（ｂ）成分を構成する化合物の具体例としては、ｎ−Ｃ4Ｈ9Ｌｉ、（Ｃ2Ｈ5）3Ａ
ｌ、（Ｃ2Ｈ5）2ＡｌＣｌ、（Ｃ2Ｈ5）1.5ＡｌＣｌ1.5、（Ｃ2Ｈ5）ＡｌＣｌ2、メチルアルミノキサン、ＬｉＨなどの特開平１−２４０５１７号公報に記載の化合物を挙げることができる。
【００６１】
上記（ｃ）成分としては、アルコール類、アルデヒド類、ケトン類、アミン類などを好適に用いることができるが、その他に特開平１−２４０５１７号公報に示される化合物を用いることができる。
【００６２】
また、上記（ａ）（ｂ）（ｃ）成分以外のメタセシス触媒として、グラブス触媒として公知のルテニウム化合物を用いることもできる。
＜重合反応用溶媒＞
開環重合反応は、溶媒存在下で行われることが好ましく、用いられる溶媒（分子量調節剤溶液を構成する溶媒、特定単量体及び／又はメタセシス触媒の溶媒）としては、例えば、アルカン類、シクロアルカン類；芳香族炭化水素；ハロゲン化アルカン、ハロゲン化アリール；飽和カルボン酸エステル類；エーテル類などを挙げることができる。
【００６３】
＜分子量調節剤＞
得られる開環（共）重合体の分子量の調節は、重合温度、触媒の種類、溶媒の種類によっても行うことができるが、分子量調節剤を反応系に共存させることにより調節することが好ましい。
【００６４】
以上のようにして得られる開環（共）重合体は、そのままでも用いることができるが、この開環（共）重合体の分子中のオレフィン性不飽和結合を水素添加して得られた上述の水素添加物＜３＞は、耐熱着色性や耐光性に優れ、得られる近赤外線カットフィルターや反射防止フィルターの耐久性を向上させることができるので好ましい。
【００６５】
＜水素添加触媒＞
開環（共）重合体の水素添加反応は、通常のオレフィン性不飽和結合を水素添加する方法が適用できる。水素添加触媒としては、通常のオレフィン性化合物の水素添加反応に用いられるものを使用することができる。
【００６６】
水素添加（共）重合体の水素添加率は、５００ＭＨｚ、1Ｈ−ＮＭＲで測定した値が５
０％以上、好ましくは９０％以上、さらに好ましくは９８％以上、最も好ましくは９９％以上である。水素添加率が高いほど、熱や光に対する安定性が優れたものとなり、本発明の誘電体多層膜を有する近赤外線カットフィルターや反射防止フィルムを製造した場合に長期にわたって安定した特性を得ることができる。
【００６７】
なお、開環（共）重合体分子中に芳香族基を有する場合、係る芳香族基は耐熱着色性、耐光性を低下させることが少なく、逆に光学特性、例えば、屈折率、波長分散性等の光学的特性あるいは耐熱性に関して有利な効果をもたらすこともあり、必ずしも水素添加される必要はない。
【００６８】
上記のようにして得られた開環（共）重合体には、公知の酸化防止剤、；紫外線吸収剤、などを添加することによって安定化することができる。また、加工性を向上させる目的で、滑剤などの添加剤を添加することもできる。
【００６９】
なお、本発明において透明樹脂として用いることができる環状オレフィン系樹脂の水素添加（共）重合体は、当該水素添加（共）重合体中に含まれるゲル含有量が５重量％以下であることが好ましく、さらに１重量％以下であることが特に好ましい。
【００７０】
また、本発明において用いられる環状オレフィン系樹脂として、＜４＞：上記＜１＞又は＜２＞の開環（共）重合体をフリーデルクラフト反応により環化したのち、水素添加した（共）重合体も使用できる。
【００７１】
＜環状オレフィン系樹脂の物性＞
上記環状オレフィン系樹脂は、水素添加されたもの（上述の水素添加物＜３＞）であることが好ましく、水素添加率は、通常５０％以上、好ましくは７０％以上、より好ましくは９０％以上、さらに好ましくは９７％以上、特に好ましくは９９％以上である。
【００７２】
上記環状オレフィン系樹脂は、３０℃のクロロホルム中（試料濃度０．５ｇ／ｄｌ）でウベローデ型粘度計を用いて測定した対数粘度は、好ましくは０．２〜５．０ｄｌ／ｇ、さらに好ましくは０．３〜３ｄｌ／ｇ、特に好ましくは０．４〜１．５ｄｌ／ｇであることが望ましい。
【００７３】
また、本発明の透明樹脂が前記環状オレフィン系樹脂である場合の平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）で測定されるポリスチレン換算の数平均分子量（Ｍｎ）が８,０００〜１００,０００であるのが好ましく、重量平均分子量（Ｍｗ）は２０,０００〜３００,０００、さらに好ましくは３０,０００〜２５０,０００、特に好ましくは４０,０００〜２００,０００の範囲のものが好適である。また分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は、１〜５の範囲のものが好適である。
【００７４】
上記環状オレフィン系樹脂は、上述のような環状オレフィン系樹脂を含む樹脂組成物であってもよい。樹脂組成物には、環状オレフィン系樹脂の他、必要に応じて、酸化防止剤、熱安定剤、光安定剤、位相差調整剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、分散剤、加工性向上剤、塩素捕捉剤、難燃剤、結晶化核剤、ブロッキング防止剤、防曇剤、離型剤、顔料、有機または無機の充填材、中和剤、滑剤、分解剤、金属不活性化剤、汚染防止材、抗菌剤やその他の樹脂、熱可塑性エラストマーなどの公知の添加剤を発明の効果が損なわれない範囲で添加することができる。
【００７５】
・環状オレフィン系樹脂を含むフィルム
上記環状オレフィン系樹脂を含むフィルムは、上記の環状オレフィン系樹脂を溶融成形法あるいは溶液流延法（溶剤キャスト法）など、公知の方法によりフィルムもしくはシート状に製造して用いることができる。このうち、膜厚の均一性及び表面平滑性が良好になる点から溶剤キャスト法が好ましい。また、製造コスト面からは溶融成形法が好ましい。
【００７６】
本発明において用いられる環状オレフィン系樹脂を含むフィルムの厚さは、通常は１〜５００μｍ、好ましくは１〜３００μｍ、さらに好ましくは１０〜２５０μｍ、特に好ま
しくは５０〜２００μｍである。このような厚さであれば、良好なハンドリングが確保できるとともに、ロール状への巻き取りが容易である。
【００７７】
上記環状オレフィン系樹脂を含むフィルムの厚み分布は、通常は平均値に対して±２０％以内、好ましくは±１０％以内、さらに好ましくは±５％以内、特に好ましくは±３％以内である。また、１ｃｍあたりの厚みの変動は、通常は１０％以下、好ましくは５％以下、さらに好ましくは１％以下、特に好ましくは０．５％以下であることが望ましい。かかる厚み制御を実施することにより、得られる光学積層フィルムの面内におけるムラを防ぐことができる。
【００７８】
上記環状オレフィン系樹脂を含むフィルムとしては、必要に応じて延伸加工したものを用いてもよい。
上記環状オレフィンを含むフィルムとしては、具体的には、ジェイエスアール（株）製、商品名「アートン」等が挙げられる。
【００７９】
基材フィルムが、環状オレフィン系樹脂以外の透明樹脂から形成される場合、フィルムの形成方法は特に限定されず、樹脂の種類及び所望の膜厚などに応じて適宜選択して採用することができる。透明樹脂から形成されるフィルムの厚さは、環状オレフィン系樹脂を含むフィルムの場合と同様、通常は１〜５００μｍ、好ましくは１〜３００μｍ、さらに好ましくは１０〜２５０μｍ、特に好ましくは５０〜２００μｍである。このような厚さであれば、良好なハンドリングが確保できるとともに、ロール状への巻き取りが容易である。また透明樹脂から形成されるフィルムの厚み分布は、通常は平均値に対して±２０％以内、好ましくは±１０％以内、さらに好ましくは±５％以内、特に好ましくは±３％以内である。また、１ｃｍあたりの厚みの変動は、通常は１０％以下、好ましくは５％以下、さらに好ましくは１％以下、特に好ましくは０．５％以下であることが望ましい。
【００８０】
また、透明樹脂を含むフィルムは、その片面あるいは両面に活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を光硬化させて得られる硬化層を有していてもよい。
・硬化層
本発明で用いる基材フィルムは、環状オレフィン系樹脂などの透明樹脂のみから形成されたフィルムであってもよいが、透明樹脂からなるフィルムの少なくとも一方の表面にさらに硬化層が形成されていてもよい。本発明において硬化層は、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を光硬化させて得られる層である。
【００８１】
本発明では、誘電体多層膜と基材フィルムとの密着性をより向上し、光学積層フィルムの耐熱性を向上するなどの目的で、透明樹脂からなるフィルムの片面あるいは両面に活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を用いて硬化膜を形成することができる。本発明では、硬化膜を形成する面が、誘電体多層膜を形成する面であることが望ましい。
【００８２】
＜活性エネルギー線硬化性樹脂組成物＞
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物は、好ましくは（Ａ）表面張力が３７ｍＮ／ｍ以下であってアクリロイル基を３以上有する多官能モノマー（以下、（Ａ）成分という）、（Ｂ）グリシジル（メタ）アクリレート系重合物にアクリル酸を付加反応させてなるポリマー（以下、（Ｂ）成分という）、及び（Ｃ）任意にその他のアクリルオリゴマー（以下、（Ｃ）成分という）を特定量で配合してなる。特に、（Ａ）成分は、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物から得られる保護層の硬度、透明フィルムへの密着性等を付与し得る成分である。（Ｂ）成分は、保護層の硬度のさらなる向上、硬化性及び硬化時のカール発生の低減などを付与し得る成分である。（Ｂ）成分を配合することにより、（Ｂ）成分が高分子量であり、かつ分子中に水酸基を多く有することに起因して、疎水性の高い（Ａ）成分との相溶性が低下し、（Ｂ）成分が得られる表面保護膜の表面に移行するためであると考
えられる。（Ｃ）成分は、強靭性等を付与し得る任意成分である。
【００８３】
（Ａ）成分の表面張力は、十分な硬度及び密着性を得ることができるという観点から、３７ｍＮ／ｍ以下の範囲が適当であり、さらに３０ｍＮ／ｍ以上のものが好ましい。表面張力の測定は、協和ＣＢＶＰ式表面張力計を用いる垂直板法（wilhemy method）による。
【００８４】
（Ａ）成分の具体例としては、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、グリセリンプロピレングリコール付加物のトリアクリレート、トリメチロールプロパンプロピレングリコール付加物のトリアクリレートなどが挙げられるが、硬化塗膜が高硬度となることから、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレートが好ましい。
【００８５】
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物中の（Ａ）成分の配合量は、４０〜６０重量％（但し、（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）成分の合計が１００重量％である。）であることが適当であり、５０〜６０重量％が好ましい。
【００８６】
（Ｂ）成分は、前記のように、グリシジル（メタ）アクリレート系重合物にアクリル酸を付加反応させてなるポリマーアクリレートである。エポキシ基に対するアクリル酸の付加量は、未反応のエポキシが組成物の安定性に悪影響を与えるため、１：１〜１：０．８程度が適当であり、１：１〜１：０．９程度が好ましい。
【００８７】
グリシジル（メタ）アクリレート系重合物としては、グリシジル（メタ）アクリレートの単独重合体、グリシジル（メタ）アクリレートとカルボキシル基を含有しない各種α，β−不飽和単量体との共重合体等が挙げられる。当該カルボキシル基を含有しないα，β−不飽和単量体としては、各種の（メタ）アクリル酸エステル、スチレン、酢酸ビニル、アクリロニトリルなどが例示できる。なお、グリシジル（メタ）アクリレートとカルボキシル基を含有しないα，β−不飽和単量体とを共重合させてグリシジル（メタ）アクリレート系重合物を得ようとする場合には、反応時に架橋が生じることなく、高粘度化やゲル化を有効に防止することができる。グリシジル（メタ）アクリレート系重合物の分子量は、硬化時のカール性の低減及びアクリル付加反応時のゲル化防止の観点より重量平均分子量５，０００〜１００，０００程度であり、１０，０００〜５０，０００程度が好ましい。（Ｂ）成分中のグリシジル（メタ）アクリレートの使用割合は、保護層の硬度及びポリマーの移行性などを考慮して７０重量％以上が適しており、７５重量％以上が好ましい。
【００８８】
（Ｂ）成分の製造は、公知の共重合方法を適用できる。グリシジル（メタ）アクリレート系重合体の製造は、この単量体、重合開始剤、必要により連鎖移動剤及び溶剤を反応容器に仕込み、窒素気流下に８０〜９０℃、３〜６時間程度の条件にて行うことが適切である。こうして得られたグリシジル（メタ）アクリレート系重合体とアクリル酸とを開環エステル化反応させて、（Ｂ）成分を収得できるが、通常は、アクリル酸自体の重合を防止するために酸素気流下に行うのがよく、また反応温度は１００〜１２０℃、反応時間は５〜８時間程度が適切である。
【００８９】
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物中の（Ｂ）成分の配合量は、１０〜６０重量％（但し、（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）成分の合計が１００重量％である。）であることが適しており、２０〜５０重量％が好ましい。
【００９０】
（Ｃ）成分の具体例としては、多官能ポリエステルアクリレート、多官能ウレタンアクリレート、エポキシアクリレートが挙げられる。なかでも、硬化塗膜の耐擦傷性、強靭性等の観点から、多官能ウレタンアクリレートが好ましい。例えば（ａ）ヒドロキシル基を有する（メタ）アクリレートと分子内に２個以上のイソシアネート基を有するイソシアネ
ート化合物とのウレタン反応生成物、（ｂ）分子内に２個以上のイソシアネート基を有するイソシアネート化合物にポリオール、ポリエステル又はポリアミド系のジオールを反応させて付加体を合成した後、残ったイソシアネート基にヒドロキシル基を有する（メタ）アクリレートを付加させる反応生成物等が挙げられる（例えば、特開２００２−２７５３９２号参照）。
【００９１】
多官能ウレタンアクリレートは、ヒドロキシル基を有する（メタ）アクリレートと２個以上のイソシアネート基を有する多価イソシアネート化合物とからなるウレタン反応生成物である。ヒドロキシル基を有する（メタ）アクリレートとしては、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートなどが好ましい。
【００９２】
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物中の（Ｃ）成分の配合量は、０〜５０重量％（但し、（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）成分の合計が１００重量％である。）が適している。
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物には、その粘度を調整するために有機溶剤を配合できる。有機溶剤は、透明フィルムである環状オレフィン系樹脂フィルムを溶解しないものが適当であり、例えば、エステル系溶剤、アルコール溶剤、ケトン系溶剤が好ましい。
【００９３】
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を硬化させるために用いる活性エネルギー線としては、紫外線などの光が挙げられる。紫外線により硬化させる場合には、樹脂組成物１００重量部に対し、通常、光重合開始剤１〜１５重量部程度を含有させることができる。光重合開始剤としては、ダロキュアー１１７３、イルガキュアー６５１、イルガキュアー１８４、イルガキュアー９０７、イルガキュアー７５４（いずれもチバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）、ベンゾフェノン等の各種の公知のものを使用できる。必要に応じて、上記以外の各種添加剤、例えば、重合禁止剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、光安定剤、溶剤、消泡剤、レベリング剤などを配合してもよい。
【００９４】
＜硬化層の形成＞
本発明では、透明樹脂を含むフィルムの両面に、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を光硬化させて硬化層を形成することができる。
【００９５】
硬化層の形成は、上述した活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を、透明樹脂を含むフィルムの表面に塗布／乾燥し、光照射することにより形成することができる。塗布／乾燥による塗膜の形成、光照射は、透明樹脂を含むフィルムの両面で同時に行ってもよく、片面ずつ逐次に行ってもよい。
【００９６】
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の塗工方法としては、バーコーター塗工、エアナイフ塗工、グラビア塗工、グラビアリバース塗工、リバースロール塗工、リップ塗工、ダイ塗工、ディップ塗工、オフセット印刷、フレキソ印刷、スクリーン印刷など種々の方法を採用することができる。活性エネルギー線（光）の照射は、特に限定されず、用いる活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の組成、活性エネルギー線の種対、樹脂組成物の厚み等に応じて、当該分野で公知の方法によって、適宜調整して行うことができる。
【００９７】
形成される硬化層の膜厚は、透明樹脂からなるフィルムの厚さ１００に対して、片面あるいは両面に形成された硬化層の厚さの合計が、０．２〜４０、好ましくは０．５〜３０、より好ましくは１〜２０の範囲である。硬化層が両面に形成される場合、硬化層の膜厚は両面で同等であってもよく、異なっていてもよいが、両面で同等の厚さである場合には、得られる赤外線カットフィルターなどの光学積層フィルムが特に反りを生じにくく好ましい。
【００９８】
このようにして硬化層の形成された基材フィルムでは、透明樹脂のみからなるフィルムよりも、硬化層形成により表面平滑性が向上するため、より表面平滑性にすぐれた近赤外線カットフィルターや反射防止フィルムなどの光学積層フィルムを製造することができるため好ましい。また、硬化層の形成された基材フィルムは、透明樹脂のみからなるフィルムよりも、剛性が向上し、製造工程での傷つきを防止できるほか、耐熱性が向上し、熱を受けた場合にも寸法変化、カール、クラックなどが生じにくい。硬化層の形成された基材フィルムでは、耐熱性が向上するため、後述する誘電体多層膜の蒸着積層を、透明樹脂のＴｇ−１０℃などの透明樹脂のＴｇに近接した高温で、高い蒸着速度で行った場合にも、基材フィルムへの悪影響を生じることなく効率的に光学積層フィルムを製造することができる。また、得られる光学積層フィルムの耐熱性も向上するため、高温下での使用などにも好適な光学積層フィルムとすることができる。
【００９９】
・誘電体多層膜
誘電体多層膜は、誘電体層Ａと、誘電体層Ａが有する屈折率よりも高い屈折率を有する誘電体層Ｂとを積層して形成される。本発明では、このような誘電体多層膜を基材フィルムの少なくとも一方の面に形成することにより、近赤外線を反射する能力に優れた近赤外線カットフィルターや、反射防止特性に優れた反射防止膜などの光学積層フィルムを製造することができる。誘電体多層膜は、好ましくは基材フィルムの両面に形成される。
【０１００】
＜各誘電体層＞
誘電体層Ａを構成する材料としては、屈折率が１．６以下の材料を通常用いることができ、好ましくは、屈折率の範囲が１．２〜１．６の材料が選択される。これらの材料としては、例えば、シリカ、アルミナ、フッ化ランタン、フッ化マグネシウム、六フッ化アルミニウムナトリウムなどが挙げられる。
【０１０１】
誘電体層Ｂを構成する材料としては、屈折率が１．７以上の材料を用いることができ、好ましくは、屈折率の範囲が１．７〜２．５の材料が選択される。これらの材料としては、例えば、酸化チタン、酸化ジルコニウム、五酸化タンタル、五酸化ニオブ、酸化ランタン、酸化イットリウム、酸化亜鉛、硫化亜鉛、酸化インジウムを主成分とし酸化チタン、酸化錫、酸化セリウムなどを少量含有させたものなどが挙げられる。
【０１０２】
本発明では、誘電体層Ａおよび／または誘電体層Ｂが、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｇｅ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ａｌ、Ｓｃ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｚｎ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｖ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｗから選択される少なくとも一つの元素を含有することが好ましく、前記誘電体層Ａおよび／または誘電体層Ｂが、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｇｅ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ａｌ、Ｓｃ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｚｎ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｖ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｗから選択される少なくとも一つの元素の酸化物を含有することがより好ましい。
【０１０３】
より好ましくは、誘電体層Ａおよび誘電体層Ｂのいずれもが、それぞれ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｇｅ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ａｌ、Ｓｃ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｚｎ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｖ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｗから選択される少なくとも一つの元素を含有し、さらに好ましくは、誘電体層Ａおよび誘電体層Ｂのいずれもが、それぞれ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｇｅ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ａｌ、Ｓｃ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｚｎ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｖ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｗから選択される少なくとも一つの元素の酸化物を含有する。誘電体層Ａと誘電体層Ｂとでは、含有する元素あるいは元素の酸化物が異なっていてもよい。
【０１０４】
＜誘電体層の蒸着積層＞
誘電体層Ａと誘電体層Ｂとを積層して誘電体多層膜を形成する方法は、上述した誘電体層材料を蒸着により基材フィルム上に順次積層する方法であればよい。具体的には、例えば、ＣＶＤ法、スパッタ法、真空蒸着法などにより、誘電体層Ａと誘電体層Ｂとを交互に
積層することにより誘電体多層膜を形成することができる。蒸着は、通常１００℃以上且つ透明樹脂フィルムのＴｇより１０℃以上低い蒸着温度の範囲で行い、好ましくは１００℃以上且つ透明樹脂フィルムのＴｇより２０℃以上低い蒸着温度の範囲で行うことが望ましい。このような温度条件で蒸着を行うと、基材フィルムに過剰な加熱を行うことなく、しかも密着性に優れた誘電多層膜を形成できるため好ましい。また、形成される誘電多層膜の基材フィルムへの密着性、耐熱性、耐クラック性などをより向上させる目的で、誘電体層ＡおよびＢの蒸着温度を好ましくは１１０℃以上、より好ましくは１１５℃以上、さらに好ましくは１２０℃以上とすることもできる。
【０１０５】
本発明では、１１０〜５００℃という高いガラス転移温度（Ｔｇ）を有する透明樹脂を含む基材フィルムを用いるため、通常よりも高温での蒸着による誘電体多層膜形成を行うことができる。誘電体多層膜を、高温での蒸着で形成すると、誘電体多層膜の密着性が向上し、蒸着膜である誘電体多層膜の強度が上がるため、得られる誘電体多層膜ならびにそれを用いた積層体の耐熱性、耐傷つき性も向上する。
【０１０６】
硬化層を有する基材フィルム上に、誘電体多層膜を形成する場合には、透明樹脂のみからなる基材フィルム上に直接誘電体多層膜を形成する場合よりも、さらに寸法変化、カールならびにクラック発生を好適に抑制でき、熱変形を生じにくく、高温での蒸着による誘電体多層膜形成を行うことができる。
【０１０７】
これら誘電体層Ａおよび誘電体層Ｂの各層の厚みは、特に限定されるものではないが、近赤外線カットフィルターを製造する用途に用いる場合には、遮断しようとする近赤外線波長λ（ｎｍ）の０．１λ〜０．５λの厚みである。厚みが上記範囲外になると、屈折率（ｎ）と膜厚（ｄ）との積（ｎ×ｄ）がλ／４で算出される光学的膜厚と大きく異なって反射・屈折の光学的特性の関係が崩れてしまい、特定波長の遮断・透過をするコントロールができなくなってしまう傾向になる。
【０１０８】
前記誘電体層ＡおよびＢの積層数は、基材フィルムの一方の面にのみ誘電体多層膜を有する場合は、通常２〜８０層の範囲で、好ましくは４〜５０層の範囲である。一方、基材フィルムの両面に誘電体多層膜を有する場合は、前記誘電体層の積層数は、積層フィルム両面の積層数全体として、通常４〜８０層の範囲で、好ましくは８〜５０層の範囲である。
【０１０９】
また、得られる光学積層フィルムを近赤外線カットフィルターの用途に用いる場合において、基材フィルム中に近赤外線吸収剤が含まれている場合は、基材フィルムの一方の面にのみ前記誘電体多層膜を有する場合は、前記誘電体多層膜における積層数は、２〜４０層、好ましくは４〜３０層とすることができ、基材フィルムの両面に前記誘電体層膜を有する場合は、前記誘電体層の積層数は、基板両面の積層数全体として、４〜４０層、好ましくは８〜３０層とすることができる。近赤外線カットフィルターとして用いる光学積層フィルムの製造において、近赤外線吸収剤を含有するフィルムを基材フィルムとして用いる場合は、さらに生産性を高め、前記誘電体多層膜を割れにくくすることができる。
【０１１０】
・機能膜
本発明の光学積層フィルムは、その表面にさらに、等価屈折率膜、反射防止機能膜、ハードコート膜から選ばれる少なくとも一種の機能膜を有していてもよい。本発明の光学積層フィルムは、これらの機能膜が、誘電体多層膜上に形成された構成であってもよいが、基材フィルムの一方の面に誘電体多層膜を、もう一方の面に機能膜を形成した構成であることが好ましい。本発明の光学積層フィルムが、基材フィルムの一方の面に誘電体多層膜を、もう一方の面に機能膜を形成した構成である場合、機能膜を設ける工程は、誘電体多層膜を形成した後で行ってもよく、誘電体多層膜の形成に先立って行ってもよい。
【０１１１】
＜等価屈折率膜＞
本発明に用いられる等価屈折率膜とは、前記透明樹脂を含むフィルムとほぼ同一の等価屈折率を有する膜である。これら等価屈折率膜としては、例えば、シリカ層／アルミナ層／シリカ層の三層からなるアルミナ層を中心とした対称三層膜を挙げることができる。なお、前記対称三層膜を等価屈折率膜として用いる場合には、各層の膜厚を調整することで屈折率を透明樹脂を含むフィルムとほぼ同一とすることができる。
【０１１２】
＜反射防止機能膜＞
本発明に用いられる反射防止機能膜とは、たとえば本発明に係る光学積層フィルムを近赤外線カットフィルターとして用いる場合に、入射した光の反射を防止することにより透過率を向上させ、効率よく入射光を利用する機能を有する膜をいう。反射防止機能膜として用いることができる材料としては、例えば酸化ジルコニウム、アルミナ、フッ化マグネシウムなどが挙げられる。反射防止機能膜は、例えば、これら材料のいずれか一つの材料からなる一層、またはこれら材料からなる複数の層を組み合わせた多層膜などが挙げられる。
【０１１３】
＜ハードコート膜＞
本発明に用いられるハードコート膜とは、高硬度の膜であって、本発明に係る近赤外線カットフィルターの耐傷付き性を向上させる機能を有する膜をいう。
【０１１４】
ハードコート膜に用いることができる材料としては、例えば、有機系材料としてシリコーン系ハードコート材、アクリレート系ハードコート材、オキセタン系ハードコート材などを挙げることができる。また、無機系材料として水系シリケートハードコート材、水系アルミナハードコート材などを挙げることができる。また、上記材料などを組み合わせた等、有機無機ハイブリッド系ハードコート材なども挙げることができる。
【０１１５】
＜機能膜の形成方法＞
これらの機能膜の形成方法は、機能膜が形成される限り特に制限はないが、例えば、原料物質をCVD法、スパッタ法、真空蒸着法などにより製膜したり、原料物質を含有す
る液状組成物を塗布、乾燥して製膜することにより形成することができる。また、あらかじめ製膜した機能膜を、接着剤あるいは粘着剤を介して貼付することにより形成してもよい。
【０１１６】
機能膜が原料物質を含有する液状組成物から得られる場合には、例えば、この液状組成物を透明基板上に直接塗布し、乾燥することによって得ることもできる。
また、基材フィルムの一方の面に前記機能膜を有する場合は、その機能膜は１種であってもよいが、複数種の機能膜を積層してもよい。複数種の機能膜を積層する場合には、例えば、上述した膜形成方法によって、複数種の機能膜を積層することができる。
【０１１７】
このようにして本発明に係る光学積層フィルムを作製することにより、反りや誘電多層膜の割れの少ない光学積層フィルムを得ることができる。
そして、このようにして得られた光学積層フィルムは、近赤外線カットフィルターとして用いる場合、波長６３３ｎｍのレーザー光を照射した際に、レーザー光の照射中心から直径６０ｍｍの領域内に発生するニュートンリングの最大本数が通常は８本以下、好ましくは５本以下とすることができ、表面平滑性および均一性に優れる。そのため、特に固体撮像素子の視感度補正に好適に用いることができる。
【０１１８】
・光学積層フィルムの用途
本発明の光学積層フィルムは、特に限定されるものではないが、近赤外線カットフィル
ター、あるいは反射防止フィルムとして好適に用いることができる。
【０１１９】
本発明に係る近赤外線カットフィルターは、優れた近赤外線カット能を有し、しかも耐熱性に優れ、歪みや割れを生じにくい。したがって自動車や建物などのガラスなどに装着される熱線カットフィルターなどとして有用であるのみならず、特に、デジタルスチルカメラや携帯電話用カメラなどのＣＣＤやＣＭＯＳなどの固体撮像素子の視感度補正に有用であり、製品組み込み時の高温接着、高温領域下での使用などを求められる用途にも好適に使用できる。
【０１２０】
本発明に係る反射防止フィルムは、優れた反射防止機能を有し、しかも耐熱性に優れ、歪みや割れを生じにくい。したがって携帯電話、PDA、パソコン、TV等の電子ディスプレ
イの表面反射防止用として有用である。
【実施例】
【０１２１】
以下、実施例に基づいて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。なお、「部」および「％」は、特に断りのない限り「重量部」および「重量％」を意味する。
【０１２２】
各物性値は、以下の方法により測定あるいは評価した。
＜ガラス転移温度（Ｔｇ）＞
セイコーインスツルメンツ社製の示差走査熱量計（ＤＳＣ６２００）を用いて、昇温速度：毎分１０℃、窒素気流下で測定を行った。
【０１２３】
＜積層フィルムの外観＞
目視により、フィルムに異物、ムラ、ハジキがないものを「Ａ」、目視によりフィルムに異物、ムラ、ハジキが有るものを「Ｂ」と評価した。
【０１２４】
＜変形（カール、ウネリ）＞
蒸着後の誘電体多層膜を有するフィルムについて、カールが１００ｍｍ幅に対して、ソリ量が２０ｍｍ未満であり、かつ、ウネリ（波打ち）が１００×２６０ｍｍ四方で５ｍｍ未満である場合を「Ａ」（図１参照）、カールが１００ｍｍ幅に対して、ソリ量が２０ｍｍ以上、および／または、ウネリ（波打ち）が１００×２６０ｍｍ四方で５ｍｍ以上である場合を「Ｂ」と評価した。
【０１２５】
＜クラック＞
誘電体多層膜を有するフィルムについて、目視により、誘電体多層膜層（蒸着層）にクラックのないものを「Ａ」、誘電体多層膜層（蒸着層）にクラックが有るものを「Ｂ」と評価した。
【０１２６】
＜誘電体多層膜を有するフィルムの外観＞
誘電体多層膜を有するフィルムについて、目視により、フィルムに異物、ムラ、ハジキが無いものを「Ａ」、異物、ムラ、ハジキが有るものを「Ｂ」と評価した。
【０１２７】
＜密着性＞
誘電体多層膜を有するフィルムについて、ＪＩＳ−Ｋ５６００−５−６「塗料一般試験方法−第５部：塗膜の機械的性質−第６節：付着性（クロスカット法）」に準拠して、剥離試験を行ない、コート層（硬化層および誘電体多層膜）の剥離がないものを「Ａ」、剥離が有るものを「Ｂ」と評価した。
【０１２８】
＜加熱試験＞
３０×３０ｍｍに切り出したフィルムを所定の温度±５℃のホットプレート上に設置し、１２０℃±５℃、３０秒加熱後のサンプルおよび、１６０℃±５℃、３０秒加熱後のサンプルについて、クラック発生の有無を目視にて確認し、それぞれの加熱温度において、クラック発生無しを「Ａ」、クラック発生有りを「Ｂ」と評価した。
【０１２９】
また、加熱試験の総合評価は、これらの１２０℃および１６０℃の加熱試験の評価結果から、１２０℃および１６０℃のいずれの加熱試験でもクラック発生が無いものを「Ａ」、１２０℃または１６０℃のいずれか一方の加熱試験でクラック発生があるものを「Ｂ」、１２０℃および１６０℃のいずれの加熱試験でもクラック発生があるものを「Ｃ」とした。
【０１３０】
［実施例１］
［調製例］ハードコート剤
紫外線硬化性樹脂組成物（ＪＳＲ（株）製  デソライトＺ−７５２４：組成を表１に示す。固形分濃度は５３．２％である。）を、メチルエチルケトンにより、固形分濃度が４５重量％となるように希釈し、紫外線硬化性樹脂組成物を得た。
【０１３１】
【表１】
2010044278.tif 000007
【０１３２】
ＪＳＲ（株）製の環状オレフィン系樹脂、アートン（登録商標）（ガラス転移点：１６５℃、厚さ１００μｍでの全光線透過率：９３％、グレード：Ｇ７８１０）からなる膜厚１００μｍの透明フィルムを用い、Ａ４サイズに切り出した透明フィルム上に、上記で調製したＵＶ硬化性樹脂組成物をラボコーター（安田精機製作所製 オートマチックフィル
ムアプリケーター、型番No.542-AB）を用い、コーターバーにより所定厚みとなるよう両
面に塗布した。
【０１３３】
イナートオーブン（ヤマト科学製 イナートオーブンDN410I）を用い、８０℃、３分間
乾燥した後、ＵＶコンベア（アイグラフィックス製 アイ紫外硬化装置、型式ＵＳ２−Ｘ
０４０５  ６０Ｈｚ)を用い、メタルハライドランプ照度２７０mW/cm2、積算光量５００mJ/cm2でＵＶ硬化させ、各面に厚さ１．０μｍの透明な硬化層が形成された基材フィルム
を得た。得られた基材フィルムは、目視による観察で、異物、ムラ、ハジキが見受けられず、良好な外観を有していた。
【０１３４】
得られた基材フィルムを１１０×２６０ｍｍに切り出し、治具に設置して、ＳｉＯ2層
と、ＴｉＯ2層とを、蒸着温度１３０℃にて交互に積層蒸着し、誘電体多層膜を両面に形
成し、誘電体多層膜付積層フィルムを得た。基材フィルム上に形成された誘電体多層膜層は、１層が１１０〜１２０ｎｍで、片面１７層（最表面層はＳｉＯ2層）の層構成であっ
た。
【０１３５】
得られた誘電体多層膜付積層フィルムについて、上述の方法により各特性を評価した。結果を表２に示す。
［実施例２、比較例１〜２］
硬化層の有無、および、ＳｉＯ2層とＴｉＯ2層との蒸着温度を、表２に示す条件としたことの他は、実施例１と同様にして、誘電体多層膜付フィルムを得た。
【０１３６】
得られた誘電体多層膜付フィルムについて、実施例１と同様に各特性を評価した。結果を表２に示す。
［実施例３］
実施例1と同様にして各面に厚さ１．０μｍの透明な硬化層が形成された積層フィルム
を１１０×２６０ｍｍに切り出し、治具に設置して、Al2O3層とＳｉＯ2層ならびにＴｉＯ2層を、蒸着温度１３０℃にて順に積層蒸着し、誘電体多層膜を両面に形成し、誘電体多
層膜付フィルムを得た。積層フィルム上に形成された誘電体多層膜層は、１層が７０〜１１０ｎｍで、片面3層（最表面層はＳｉＯ2層）の層構成であった。
【０１３７】
得られた誘電体多層膜付フィルムについて、上述の方法により各特性を評価した。結果を表３に示す。
［実施例４、比較例３〜４］
硬化層の有無、および、Ａｌ2Ｏ3層とＳｉＯ2層、ＴｉＯ2層との蒸着温度を、表3に示
す条件としたことの他は、実施例３と同様にして、誘電体多層膜付フィルムを得た。
得られた誘電体多層膜付フィルムについて、実施例１と同様に各特性を評価した。結果を表３に示す。
【０１３８】
[実施例５]
ＳｉＯ2層とＴｉＯ2層との蒸着温度を、表３に示す条件としたことの他は、実施例１と同様にして、誘電体多層膜付フィルムを得た。
【０１３９】
得られた誘電体多層膜付フィルムについて、実施例１と同様に各特性を評価した。結果を表３に示す。
【０１４０】
【表２】
2010044278.tif 000008
【０１４１】
【表３】
2010044278.tif 000009
【産業上の利用可能性】
【０１４２】
本発明の光学積層フィルムは、近赤外線カットフィルター、あるいは反射防止フィルムとして好適に用いることができる。
本発明に係る近赤外線カットフィルターは、優れた近赤外線カット能を有し、しかも耐熱性に優れ、歪みや割れを生じにくいため、自動車や建物などのガラスなどに装着される熱線カットフィルターなどとして有用であるのみならず、特に、デジタルスチルカメラや
携帯電話用カメラなどのＣＣＤやＣＭＯＳなどの固体撮像素子の視感度補正に有用である。
【０１４３】
また本発明に係る反射防止フィルムは、優れた反射防止機能を有し、しかも耐熱性に優れ、歪みや割れを生じにくいため、携帯電話、PDA、パソコン、TV等の電子ディスプレイ
の表面反射防止用として有用である。
【図面の簡単な説明】
【０１４４】
【図１】図１は、誘電体多層膜を蒸着したフィルム（近赤外線カットフィルター）の変形を評価において、「Ａ」（良好）と評価し得る、カールおよびウネリ（波打ち）の模式図である。
【図１】
2010044278.tif 000011