(57)【要約】【課題】光増幅媒質から発生する自然放出光によるノイズを低減し、有効にＳ／Ｎ増強を図る。【解決手段】光源部フィルタとしての波長選択手段を備えた光源ユニットと、前記光源ユニットから射出された光を測定光と参照光とに分割する光分割手段と、前記参照光の光路長を調整する光路長調整手段と、前記測定光の測定対象からの反射光を増幅する光増幅手段と、前記光源部フィルタの時間変化特性と同一のフィルタ特性を有する増幅部のフィルタ機構と、前記増幅部のフィルタ機構で特定の波長が選択された前記反射光と、前記光路長調整手段で光路長が調整された前記参照光とを合波する合波手段と、前記合波手段により合波された前記反射光と前記参照光との干渉光を検出する干渉光検出手段と、前記干渉光検出手段により検出された前記干渉光から前記測定対象の断層画像を取得する画像取得手段とを備えたことを特徴とする。【選択図】図１
2010005266.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一定の波長帯域を有する光を射出する光源と、該光源から射出される波長を選択する光源部フィルタとしての波長選択手段を備えた光源ユニットと、
前記光源ユニットから射出された光を測定光と参照光とに分割する光分割手段と、
前記光分割手段により分割された参照光の光路長を調整する光路長調整手段と、
前記光分割手段により分割された測定光が測定対象に照射されたときの該測定対象からの反射光を増幅する光増幅手段と、
前記光源部フィルタの時間変化特性と同一のフィルタ特性を有し、前記増幅された反射光から特定の波長を選択する増幅部のフィルタ機構と、
前記増幅部のフィルタ機構で特定の波長が選択された前記反射光と、前記光路長調整手段で光路長が調整された前記参照光とを合波する合波手段と、
前記合波手段により合波された前記反射光と前記参照光との干渉光を検出する干渉光検出手段と、
前記干渉光検出手段により検出された前記干渉光から前記測定対象の断層画像を取得する画像取得手段と、
を備えたことを特徴とする光断層画像化装置。
【請求項２】
前記光源部フィルタとしての波長選択手段と、増幅部のフィルタ機構は、別体として構成されていることを特徴とする請求項１に記載の光断層画像化装置。
【請求項３】
前記光源部フィルタとしての波長選択手段と、増幅部のフィルタ機構は、少なくともその一部を共有していることを特徴とする請求項１に記載の光断層画像化装置。
【請求項４】
前記光源部フィルタとしての波長選択手段と、増幅部のフィルタ機構は、ポリゴンミラーを用いたことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の光断層画像化装置。
【請求項５】
前記光源部フィルタとしての波長選択手段と、増幅部のフィルタ機構は、ポリゴンミラーを共有し、該ポリゴンミラーの異なる面を使用することを特徴とする請求項３に記載の光断層画像化装置。
【請求項６】
前記光源部フィルタとしての波長選択手段と、増幅部のフィルタ機構は、ポリゴンミラーを共有し、該ポリゴンミラーの同一の面を使用して、該同一の面の上下を使い分けるようにしたことを特徴とする請求項３に記載の光断層画像化装置。
【請求項７】
前記光源部フィルタとしての波長選択手段と、増幅部のフィルタ機構は、ガルバノスキャナを用いたことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の光断層画像化装置。
【請求項８】
前記光源部フィルタとしての波長選択手段と、増幅部のフィルタ機構は、ファブリペローフィルタを用いたことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の光断層画像化装置。
【請求項９】
前記光源部フィルタとしての波長選択手段の透過帯域よりも、前記増幅部のフィルタ機構の透過帯域の方が広いことを特徴とする請求項１〜８に記載の光断層画像化装置。
【請求項１０】
前記光増幅手段は、半導体利得媒質であることを特徴とする請求項１〜９のいずれかに記載の光断層画像化装置。
【請求項１１】
前記光増幅手段は、光ファイバ増幅器であることを特徴とする請求項１〜９のいずれかに記載の光断層画像化装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光断層画像化装置に係り、特に、光干渉断層(ＯＣＴ;Optical Coherence Tomography)計測法において、被検体に照射する光の光強度に制限されないＳ／Ｎ増強技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、生体組織等の測定対象を切断せずに断面画像を取得する方法として光干渉断層(ＯＣＴ;Optical Coherence Tomography)計測法を利用した光断層画像化装置が知られている。
【０００３】
このＯＣＴ計測法は、光干渉計測法の一種であり、光源から射出された光を測定光と参照光との２つに分け、測定光と参照光との光路長が光源のコヒーレンス長以内の範囲で一致したときにのみ光干渉が検出されることを利用した計測方法である。
【０００４】
例えば、被測定部で反射した反射光を光増幅した後、参照光と干渉させ、干渉光強度を測定することにより、信号光の光強度を被測定部の安全性を確保できる光強度に保ちつつ、Ｓ／Ｎを向上させるようにした、ＴＤ−ＯＣＴ（Time-Domain OCT)における光増幅によるＳ／Ｎ増強技術の考えをＳＳ−ＯＣＴ（Swept Source OCT)に適用したものが知られている(例えば、非特許文献１等参照)。
【非特許文献１】Jun Zhang et. al. “Coherent amplified optical coherent tomography” Proc. of SPIE-OSA Biomedical Optics,SPIE Vol.6627,662718(2007)
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、上記非特許文献１に記載のものでは、光増幅媒質からの自然放出光の揺らぎと、もともとの光源からの光揺らぎによるノイズが干渉光の交流成分に混在するため、十分なＳ／Ｎ増強が図れないという問題がある。
【０００６】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、光増幅媒質から発生する自然放出光によるノイズを低減し、有効にＳ／Ｎ増強を図ることのできる光断層画像化装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
前記目的を達成するために、請求項１に記載の発明は、一定の波長帯域を有する光を射出する光源と、該光源から射出される波長を選択する光源部フィルタとしての波長選択手段を備えた光源ユニットと、前記光源ユニットから射出された光を測定光と参照光とに分割する光分割手段と、前記光分割手段により分割された参照光の光路長を調整する光路長調整手段と、前記光分割手段により分割された測定光が測定対象に照射されたときの該測定対象からの反射光を増幅する光増幅手段と、前記光源部フィルタの時間変化特性と同一のフィルタ特性を有し、前記増幅された反射光から特定の波長を選択する増幅部のフィルタ機構と、前記増幅部のフィルタ機構で特定の波長が選択された前記反射光と、前記光路長調整手段で光路長が調整された前記参照光とを合波する合波手段と、前記合波手段により合波された前記反射光と前記参照光との干渉光を検出する干渉光検出手段と、前記干渉光検出手段により検出された前記干渉光から前記測定対象の断層画像を取得する画像取得手段と、を備えたことを特徴とする光断層画像化装置を提供する。
【０００８】
これにより、干渉に不要な光増幅媒体からの自然放出光を遮断できるため、自然放出光の揺らぎによるＳ／Ｎ劣化を防止でき、光増幅部でのゲイン相当のＳ／Ｎ改善を実現することができ、さらに不要な光が検出器に導入することを防ぐことができるので、光検出器の飽和を防止することもできる。
【０００９】
また、請求項２に示すように、前記光源部フィルタとしての波長選択手段と、増幅部のフィルタ機構は、別体として構成されていることを特徴とする。
【００１０】
また、請求項３に示すように、前記光源部フィルタとしての波長選択手段と、増幅部のフィルタ機構は、少なくともその一部を共有していることを特徴とする。
【００１１】
また、請求項４に示すように、前記光源部フィルタとしての波長選択手段と、増幅部のフィルタ機構は、ポリゴンミラーを用いたことを特徴とする。
【００１２】
また、請求項５に示すように、前記光源部フィルタとしての波長選択手段と、増幅部のフィルタ機構は、ポリゴンミラーを共有し、該ポリゴンミラーの異なる面を使用することを特徴とする。
【００１３】
また、請求項６に示すように、前記光源部フィルタとしての波長選択手段と、増幅部のフィルタ機構は、ポリゴンミラーを共有し、該ポリゴンミラーの同一の面を使用して、該同一の面の上下を使い分けるようにしたことを特徴とする。
【００１４】
また、請求項７に示すように、前記光源部フィルタとしての波長選択手段と、増幅部のフィルタ機構は、ガルバノスキャナを用いたことを特徴とする。
【００１５】
また、請求項８に示すように、前記光源部フィルタとしての波長選択手段と、増幅部のフィルタ機構は、ファブリペローフィルタを用いたことを特徴とする。
【００１６】
このように様々な構成を用いて、少なくともフィルタ構成の一部を共有することで装置構成をいくらかでもコンパクトにすることが可能となる。
【００１７】
また、請求項９に示すように、前記光源部フィルタとしての波長選択手段の透過帯域よりも、前記増幅部のフィルタ機構の透過帯域の方が広いことを特徴とする。
【００１８】
これにより、光源部フィルタと増幅部のフィルタ機構との間で同期をとることがより容易となる。
【００１９】
また、請求項１０に示すように、前記光増幅手段は、半導体利得媒質であることを特徴とする。
【００２０】
これにより、半導体利得媒質を用いることにより低価格でコンパクトな構成とすることが可能となる。
【００２１】
また、請求項１１に示すように、前記光増幅手段は、光ファイバ増幅器であることを特徴とする。
【００２２】
これにより、光ファイバを長くすることで増幅度を上げることができるので、高い利得を実現可能となる。
【発明の効果】
【００２３】
以上説明したように、本発明によれば、これにより、干渉に不要な光増幅媒体からの自然放出光を遮断できるため、自然放出光の揺らぎによるＳ／Ｎ劣化を防止でき、光増幅部でのゲイン相当のＳ／Ｎ改善を実現することができ、さらに不要な光が検出器に導入することを防ぐことができるので、光検出器の飽和を防止することもできる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
以下、添付図面を参照して、本発明に係る光断層画像化装置について詳細に説明する。      
【００２５】
図１は、本発明に係る光断層画像化装置の第１実施形態を示す概略構成図である。
【００２６】
図１に示すように、本実施形態の光断層画像化装置１００は、例えば、体腔内の生体組織や細胞等の測定対象の断層画像をＳＳ−ＯＣＴ（Swept Source OCT)計測により取得するものであって、光を射出する光源ユニット１０と、光源ユニット１０から射出された光Ｌａを測定光Ｌ１と参照光Ｌ２とに分割する光分割手段２により分割された参照光Ｌ２の光路長を調整する光路長調整手段２０と、光分割手段２により分割された測定光Ｌ１を測定対象Ｓまで導波するプローブ３０と、プローブ３０から測定光Ｌ１が測定対象Ｓに照射されたときの測定対象からの反射光Ｌ３と参照光Ｌ２とを合波する合波手段４と、合波手段４により合波された反射光Ｌ３と参照光Ｌ２との干渉光Ｌ４を検出する干渉光検出手段４０と、干渉光検出手段４０により検出された干渉信号を周波数解析することにより測定対象の各深さ位置における干渉光Ｌ４の強度を検出し測定対象Ｓの断層画像を取得する処理部（画像取得手段）５０と、取得された断層画像を表示する表示部５２及び各部を制御する制御操作部５４等を有している。
【００２７】
なお、本実施形態は、測定対象Ｓからの反射光Ｌ３を増幅するとともに、光増幅部で発生する誘導放出光以外の不要な自然放出光をカットして、参照光Ｌ２と干渉させることによりＳ／Ｎを有効に増強するものである。
【００２８】
そのため、本実施形態の光断層画像化装置１００は、さらに、反射光Ｌ３を増幅するための光増幅媒体６０及び不要な自然放出光をカットする増幅部のフィルタ機構７０を備えている。これらについては、以下各部の構成について説明していく中で詳しく説明する。
【００２９】
まず光源ユニット１０は、周波数を一定の周期で掃引させながらレーザ光Ｌａを射出するものである。そのため、光源ユニット１０は、一定の波長帯域を有する光を射出する光源１１と、波長掃引光源用のフィルタ（光源部フィルタ）として光源１１から射出される波長を選択する波長選択手段１２とを備えている。光源１１は、光ファイバＦＢ１０とループ状に接続された、自然放出光を射出するとともに光ファイバＦＢ１０を導波した自然放出光を増幅する半導体光増幅器（半導体利得媒質）１３から成っている。この光源１１は、駆動電流の注入により自然放出光を光ファイバＦＢ１０の一端側に射出するとともに、光ファイバＦＢ１０の他端側から入射された光を増幅する機能を有している。そして、半導体光増幅器１３に駆動電流が供給されたとき、半導体光増幅器１３及び光ファイバＦＢ１０によって形成されるレーザ光源共振器によりレーザ光Ｌａが光ファイバＦＢ１１へ射出されるようになっている。
【００３０】
次に、波長選択手段１２は、波長掃引光源用のフィルタ（光源部フィルタ）として光ファイバＦＢ１０を導波する自然放出光の波長を選択するものであって、光ファイバＦＢ１０に結合された光分岐器（サーキュレータ）１４から光ファイバＦＢ１１を介して自然放出光が入射されるようになっている。波長選択手段１２は、コリメータレンズ１５、回折格子素子１６、光学系(面倒れ補正レンズ)１７及び回転多面鏡（ポリゴンミラー）１８等を有している。
【００３１】
光ファイバＦＢ１１から入射した光はコリメータレンズ１５、回折格子素子１６、光学系１７を介して回転多面鏡１８において反射される。反射された光は光学系１７、回折格子素子１６、コリメータレンズ１５を介して再び光ファイバＦＢ１１に入射される。
【００３２】
回転多面鏡（ポリゴンミラー）１８は、矢印Ｒ１方向に回転し、各反射面の角度が光学系１７の光軸に対して変化するようになっている。これにより、回折格子素子１６において分光された光のうち、特定の周波数域からなる光のみが再び光ファイバＦＢ１１に戻るようになっている。
【００３３】
この光ファイバＦＢ１１に戻る光の周波数は、光学系１７の光軸と回転多面鏡１８の反射面との角度によって決まる。光ファイバＦＢ１１に入射した特定の周波数域からなる光が光分岐器１４から光ファイバＦＢ１０に入射され、結果として特定の周波数域からなるレーザ光Ｌａが光ファイバカプラ６から光ファイバＦＢ３側に射出されるようになっている。
【００３４】
従って、回転多面鏡１８が矢印Ｒ１方向に等速で回転したとき、光学系１７の光軸と回転多面鏡１８の反射面との角度が一定の速度で変化するため、再び光ファイバＦＢ１１に入射される光の波長は一定の周期で掃引することになる。つまり、光源ユニット１０から波長が一定の周期で掃引したレーザ光Ｌａが光ファイバカプラ６を介して光ファイバＦＢ３側に射出されることとなる。
【００３５】
光分割手段２は、例えば２×２の光ファイバカプラからなっており、光源ユニット１０から光ファイバＦＢ３を介して導波されたレーザ光Ｌａを測定光Ｌ１と参照光Ｌ２に分割するものである。光分割手段２は、２つの光ファイバＦＢ２、ＦＢ４にそれぞれ光学的に接続されており、測定光Ｌ１は光ファイバＦＢ２側に導波され、参照光Ｌ２は光ファイバＦＢ４側に導波されるようになっている。
【００３６】
光ファイバＦＢ４の一方の先端は光分岐器（サーキュレータ）３２に接続しており、光分岐器３２にはさらに光ファイバＦＢ５及び光ファイバＦＢ９が接続されている。光ファイバＦＢ４から導波された参照光Ｌ２は光分岐器３２から光ファイバＦＢ５に導波される。そして、光ファイバＦＢ５の先には光路長調整手段２０が配置されている。
【００３７】
光路長調整手段２０は、断層画像の取得を開始する位置を調整するために、参照光Ｌ２の光路長を変えるものである。光路長調整手段２０は、光ファイバＦＢ５から射出された参照光Ｌ２を反射させる反射ミラー２２と、反射ミラー２２と光ファイバＦＢ５との間に配置された第１光学レンズ２１ａと、第１光学レンズ２１ａと反射ミラー２２との間に配置された第２光学レンズ２１ｂとを有している。
【００３８】
第１光学レンズ２１ａは、光ファイバＦＢ５から射出された参照光Ｌ２を平行光にするとともに、反射ミラー２２により反射された参照光Ｌ２を光ファイバＦＢ５のコアに集光する機能を有している。また、第２光学レンズ２１ｂは、第１光学レンズ２１ａにより平行光にされた参照光Ｌ２を反射ミラー２２上に集光するとともに、反射ミラー２２により反射された参照光Ｌ２を平行光にする機能を有している。
【００３９】
これにより、光ファイバＦＢ５から射出された参照光Ｌ２は、第１光学レンズ２１ａにより平行光となり、第２光学レンズ２１ｂにより反射ミラー２２上に集光される。その後、反射ミラー２２により反射された参照光Ｌ２は、第２光学レンズ２１ｂにより平行光になり、第１光学レンズ２１ａにより光ファイバＦＢ５のコアに集光される。
【００４０】
さらに、光路長調整手段２０は、第２光学レンズ２１ｂと反射ミラー２２とを固定した可動ステージ２３と、該可動ステージ２３を第１光学レンズ２１ａの光軸方向に移動させるミラー移動機構２４とを有している。そして可動ステージ２３が矢印Ａ方向に移動することにより、参照光Ｌ２の光路長が変更するように構成されている。
【００４１】
光路長調整手段２０により光路長が変更された光は、再び光ファイバＦＢ５に入射され、さらに光分岐器３２を介して光ファイバＦＢ９側に導波される。
【００４２】
一方、測定光Ｌ１を導波する光ファイバＦＢ２の先には光分岐器（サーキュレータ）３４が接続しており、光分岐器３４にはさらに光ファイバＦＢ１及び光ファイバＦＢ６が接続されており、測定光Ｌ１は光分岐器３４から光ファイバＦＢ１側に導波される。
【００４３】
光ファイバＦＢ１の一方の先端にはプローブ３０が光学的に接続されており、測定光Ｌ１は光ファイバＦＢ１からプローブ３０内の光ファイバＦＢ０に導波されるようになっている。プローブ３０は、例えば鉗子口から鉗子チャンネルを介して体腔内に挿入されるものであって、光学コネクタＯＣによって光ファイバＦＢ１に対して着脱可能に取り付けられている。
【００４４】
プローブ３０は、光学コネクタＯＣを介して光ファイバＦＢ１と接続されており、光ファイバＦＢ１によって導波された測定光Ｌ１がプローブ３０内の光ファイバＦＢ０に入射される。入射された測定光Ｌ１は光ファイバＦＢ０によって伝送され測定対象Ｓに照射される。そして測定対象Ｓで反射した戻り光（反射光）Ｌ３は、再び光ファイバＦＢ０に入射し、光学コネクタＯＣを介して光ファイバＦＢ１に射出されるようになっている。
【００４５】
光ファイバＦＢ１に入射した反射光Ｌ３は、光分岐器３４を介して光ファイバＦＢ６側に導波されるようになっている。
【００４６】
そして、光ファイバＦＢ６上には光増幅媒体６０が配置されている。光増幅媒体６０としては、特に限定されるものではなく、例えば、半導体利得媒質(ＳＯＡ：Semiconductor Optical Amplifier)や光ファイバ増幅器(ＯＦＡ：Optical Fiber Amplifier)等が好適に例示される。
【００４７】
半導体利得媒質(ＳＯＡ)は、ストライプ状の光導波路の光増幅媒体を有し、信号光を電気変換することなく増幅する素子である。その構造は、半導体レーザと基本的に共通であるが、素子端部における光反射率を無反射被覆などで抑制し、光共振器構造とならないように設計されている。このため、キャリア注入してもＳＯＡ自体のレーザ発振は抑えられ、入力信号光による誘導放出で増幅光が出る仕組みとなっている。
【００４８】
また、光ファイバ増幅器(ＯＦＡ)は、例えばエルビウムやプラセオジムなどを添加した光増幅用の光ファイバに強い励起光とともに信号光を入力すると信号光が励起光からエネルギーを得て増幅するものである。
【００４９】
光増幅媒体６０が設けられた光ファイバＦＢ６の他端には光分岐器（サーキュレータ）３６が配置されており、光分岐器３６にはさらに光ファイバＦＢ７及び光ファイバＦＢ８が接続されている。光増幅媒体６０で増幅された反射光Ｌ３は光分岐器３６を介して光ファイバＦＢ７側に導波されるようになっている。そして光ファイバＦＢ７の先端には増幅部のフィルタ機構７０が配置されている。なお、以下では、増幅部のフィルタ機構を単にフィルタ機構と言う場合もある。
【００５０】
光増幅媒体６０は信号光(反射光Ｌ３)を増幅するとともに、不要な自然放出光を放出してしまうので、フィルタ機構７０はこの不要な自然放出光をカットするために設けられているものである。
【００５１】
フィルタ機構７０は、図１に示すように、波長選択手段１２(波長掃引光源用のフィルタ)と同様の構成を有し、波長選択手段１２の回転多面鏡１８を共用している。すなわち、フィルタ機構７０は、コリメータレンズ７１、回折格子素子７２、光学系７３から構成され、光ファイバＦＢ７からコリメータレンズ７１に入射した光は、回折格子素子７２、光学系７３を介して、回転多面鏡１８の波長選択手段１２の光学系１７から光が入射する面に対向する面(平行な面)に入射するようになっている。そして回転多面鏡１８の面で反射された光は、光学系７３、回折格子素子７２、コリメータレンズ７１を介して再び光ファイバＦＢ７に入射される。
【００５２】
フィルタ機構７０においては、光源ユニット１０と回転多面鏡１８を共有し、回転多面鏡１８の他の面を用いて光源ユニット１０が発振する光と同期して、増幅された反射光Ｌ３のうち同一波長の光のみが選択されて光ファイバＦＢ７側に戻ってくるようにして後にこの反射光Ｌ３と参照光Ｌ２を干渉させている。このようにフィルタ機構７０においては、光増幅媒体６０で発生した不要な自然放出光をカットすることによりＳ／Ｎの劣化を防止している。
【００５３】
なお、光学系７３から光を入射させる回転多面鏡１８の面は、上述したように必ずしも波長選択手段１２の光学系１７から光が入射する面に対して平行な面でなくとも良く、例えば９０°の角など異なる面であればよい。
【００５４】
フィルタ機構７０から再び光ファイバＦＢ７に入射した光は、光ファイバＦＢ７から光分岐器３６を介して光ファイバＦＢ８に導波されるようになっている。一方、光路長調整手段２０により光路長が変更された参照光Ｌ２は、光ファイバＦＢ５及び光分岐器３２を介して光ファイバＦＢ９側に導波されている。
【００５５】
光ファイバＦＢ８によって導波された反射光Ｌ３及び光ファイバＦＢ９によって導波された参照光Ｌ２は、合波手段４によって合波され干渉光Ｌ４、Ｌ５として出力される。干渉光Ｌ４は検出器４０ａに入射され、また干渉光Ｌ５は検出器４０ｂに入射されるようになっている。
【００５６】
干渉光検出手段４０は、参照光Ｌ２と増幅された反射光Ｌ３を合成して生成された干渉光Ｌ４、Ｌ５を干渉信号として検出するものである。また、干渉光検出手段４０は、検出器４０ａ及び検出器４０ｂの検出結果に基づいて、合波手段４から出力される干渉光Ｌ４及びＬ５の強度のバランスを調整する機能を有している。
【００５７】
処理部５０は、干渉光検出手段４０で検出した干渉信号から、測定位置におけるプローブ３０と測定対象Ｓとの接触している領域、より正確にはプローブ３０のプローブ外筒の表面と測定対象Ｓの表面とが接触しているとみなせる領域を検出し、さらに、干渉光検出手段４０で検出した干渉信号から、断層画像を取得する。
【００５８】
表示部５２は、ＣＲＴあるいは液晶表示装置等で構成され、処理部５０から送信された断層画像を表示する。
【００５９】
制御操作部５４は、キーボード、マウス等の入力手段と、入力された情報に基づいて各種条件を管理する制御手段とを有し、処理部５０及び表示部５２に接続されている。制御操作部５４は、入力手段から入力されたオペレータの指示に基づいて、処理部５０における各種処理条件等の入力、設定、変更や、表示部５２の表示設定の変更等を行う。
【００６０】
以下、本実施形態における光断層画像化装置１００の作用について説明する。
【００６１】
まず、図１に示した光路長調整手段２０のミラー移動機構２４で可動ステージ２３を矢印Ａ方向に移動させることにより、測定可能領域内に測定対象Ｓが位置するように光路長を調整し、設定する。
【００６２】
その後、光源ユニット１０からレーザ光Ｌａを射出する。射出されたレーザ光Ｌａは、光分割手段２により測定光Ｌ１と参照光Ｌ２とに分割される。測定光Ｌ１は、光ファイバＦＢ２から光分岐器３４、光ファイバＦＢ１を介して光学コネクタＯＣに導波される。さらに、測定光Ｌ１は光学コネクタＯＣからプローブ３０内の光ファイバＦＢ０に導波されて測定対象Ｓに照射される。このとき、プローブ３０内の光ファイバＦＢ０は回転されているので、体腔などの測定対象Ｓを全周に亙って測定光Ｌ１が照射することとなる。
【００６３】
そして、測定対象Ｓの各深さ位置で反射された光が反射光(戻り光)Ｌ３としてプローブ３０の光ファイバＦＢ０に入射し、光ファイバＦＢ０から光学コネクタＯＣを介して光ファイバＦＢ１に導波される。その後、反射光Ｌ３は光分岐器３４を介して光ファイバＦＢ６に導波され、光増幅媒体６０により増幅される。増幅された反射光Ｌ３は、光分岐器３６を介して光ファイバＦＢ７に導波される。
【００６４】
光ファイバＦＢ７に導波された増幅された反射光Ｌ３はフィルタ機構７０により不要な自然放出光がカットされ特定の波長の光のみが取り出されて、再度光ファイバＦＢ７に導波される。そして、反射光Ｌ３は、光分岐器３６を介して光ファイバＦＢ８に導波され、合波手段４に入射される。
【００６５】
一方、光分割手段２によって分割された参照光Ｌ２は、光ファイバＦＢ４から光分岐器３２、光ファイバＦＢ５を介して光路長調整手段２０に入射される。そして、光路長調整手段２０において光路長が調整された参照光Ｌ２は、再度光ファイバＦＢ５に入射される。その後、光ファイバＦＢ５に入射された参照光Ｌ２は、光分岐器３２を介して光ファイバＦＢ９に導波され、光ファイバＦＢ９から合波手段４に入射される。
【００６６】
そして、合波手段４において、測定対象Ｓで反射され光増幅媒体６０で増幅されフィルタ機構７０で不要な自然放出光がカットされた反射光Ｌ３と、光路長調整手段２０により光路長が調整された参照光Ｌ２とが合波される。
【００６７】
これにより、反射光Ｌ３と参照光Ｌ２が合波されて干渉光Ｌ４、Ｌ５が生成される。干渉光Ｌ４及びＬ５は、検出器４０ａ及び検出器４０ｂを介して干渉光検出手段４０によって干渉信号として検出される。
【００６８】
検出された干渉信号は処理部５０に送られる。処理部５０では、送られた干渉信号を取得すると、光学コネクタＯＣから測定位置の情報を取得し、干渉信号と測定位置の位置情報を対応付ける。そして処理部５０は、これらの情報からプローブ３０の外筒と測定対象Ｓとの接触領域についての深さ方向の断層画像を生成する。生成された断層画像は表示部５２に送られて表示される。
【００６９】
このように、本実施形態においては、Ｓ／Ｎを向上させるために反射光Ｌ３を光増幅媒体６０で増幅しているが、この光増幅媒体６０においていわゆる誘導放出の光以外に自然放出光(ＡＳＥ(Amplified Spontaneous Emission)光)が出てくるので、光源ユニット１０の波長選択手段１２と同様にして回転多面鏡１８を共用し、回転多面鏡１８の他の面を利用したフィルタ機構７０によってこの自然放出光をカットするようにしている。
【００７０】
その結果、干渉に不要な光増幅媒体からの自然放出光を遮断できるため、自然放出光の揺らぎによるＳ／Ｎ劣化を防止でき、光増幅部でのゲイン相当のＳ／Ｎ改善を実現することができ、また、不要な光が検出器に導入することを防ぐことができるので、光検出器の飽和を防止することもできる。
【００７１】
次に、本発明の第２実施形態について説明する。
【００７２】
図２に、本発明の第２実施形態に係る光断層画像化装置の概略構成を示す。
【００７３】
第２実施形態も、前述した第１実施形態と同様に波長掃引光源用のフィルタ(波長選択手段１２)と光増幅部用のフィルタ機構で使用する回転多面鏡を共用するものであるが、本第２実施形態は、第１実施形態のようにコリメータレンズ１５、回折格子素子１６、光学系１７からなる波長選択手段１２と同様の構成を別途設けるのではなく、これらの構成も波長選択手段１２と共用することとし、さらに回転多面鏡１８の同一の面を使用して、波長掃引光源用のフィルタ（波長選択手段１２）と光増幅部用のフィルタ機構とで、回転多面鏡１８の同一の面の上下を使い分ける構成としたものである。
【００７４】
図２に示すように、本実施形態の光断層画像化装置２００は、光増幅部用のフィルタ機構２７０を光源ユニット２１０の波長掃引光源用のフィルタ(波長選択手段１２)と共用している点のみが図１に示す第１実施形態と異なり、その他の構成は第１実施形態と同様である。
【００７５】
そこで、光源ユニット２１０の波長選択手段１２と共用した光増幅部用のフィルタ機構２７０について詳しく説明することとし、その他の構成についての説明は省略する。
【００７６】
図３に、フィルタ機構２７０の構成を示す。
【００７７】
図３に示すように、第２実施形態のフィルタ機構２７０は、光源ユニット２１０の波長選択手段１２と共用となっており、コリメータレンズ１５、回折格子素子１６、光学系(面倒れ補正レンズ)１７及び回転多面鏡(ポリゴンミラー)１８を有して構成されている。
【００７８】
ただ、本実施形態においては、コリメータレンズ１５は、光源ユニット２１０の波長掃引レーザ光源共振器内からの光ファイバＦＢ１１から光が入射されるコリメータレンズ１５ａと、光増幅媒体６０で増幅された反射光Ｌ３を導波する光ファイバＦＢ７から光が入射されるコリメータレンズ１５ｂとが別途上下２段に構成されている。
【００７９】
そして、光ファイバＦＢ１１及び光ファイバＦＢ７から射出された光は、それぞれコリメータレンズ１５ａ及び１５ｂ、回折格子素子１６、光学系１７を介して回転多面鏡１８の同じ面のそれぞれ上下別々の部分に入射され、反射した後、前と同じ経路をたどって戻り、再び、それぞれ光ファイバＦＢ１１及び光ファイバＦＢ７に入射するようになっている。
【００８０】
これにより、波長選択手段１２としては、回折格子素子１６において分光された光のうち特定の周波数域からなる光のみが回転多面鏡１８のある面の上側の部分で反射され、再び光ファイバＦＢ１１に戻り、光源ユニット２１０から特定の周波数域からなるレーザ光Ｌａが射出される。
【００８１】
また一方、フィルタ機構２７０としては、光増幅媒体６０で増幅された反射光Ｌ３が回転多面鏡１８の上記面と同じ面の下側の部分で反射され、不要な自然放出光がカットされて、再び光ファイバＦＢ７に戻り、参照光Ｌ２と合波されるようになっている。
【００８２】
これにより、本実施形態においても、干渉に不要な光増幅媒体からの自然放出光を遮断できるため、自然放出光の揺らぎによるＳ／Ｎ劣化を防止でき、光増幅部でのゲイン相当のＳ／Ｎ改善を実現することができる。
【００８３】
次に、本発明の第３実施形態について説明する。
【００８４】
図４に、本発明の第３実施形態に係る光断層画像化装置の概略構成を示す。
【００８５】
本第３実施形態も、前述した第２実施形態と同様に、光増幅部用のフィルタ機構を波長掃引光源用のフィルタ(波長選択手段)と共用するようにしたものであるが、本第３実施形態は、回転多面鏡の代わりに固定された反射ミラーを用い、回折格子素子をガルバノスキャナで回動させるようにしたものである。
【００８６】
図４に示すように、本実施形態の光断層画像化装置３００は、光源ユニット３１０において、波長掃引光源用のフィルタである波長選択手段３１２と、反射光を増幅する光増幅部用のフィルタ機構３７０とを共用するようにし、その他の構成は前述した第２実施形態と同様である。そこで、波長選択手段３１２でありかつフィルタ機構３７０の構成を詳しく説明して、その他の構成についての説明は省略することとする。
【００８７】
図５に波長選択手段３１２かつフィルタ機構３７０の構成を示す。
【００８８】
図５に示すように、波長選択手段３１２かつフィルタ機構３７０としての構成は、コリメータレンズ１５、回折格子素子１６、光学系(面倒れ補正レンズ)１７、固定反射ミラー３１８から成る。
【００８９】
コリメータレンズ１５は、前述した第２実施形態の場合と同様に上下２段に分かれ、光源ユニット３１０の光ファイバＦＢ１１からの光が入射される下段のコリメータレンズ１５ａと、増幅された反射光Ｌ３を導波する光ファイバＦＢ７からの光が入射される上段のコリメータレンズ１５ｂとから構成されている。
【００９０】
また、回折格子素子１６は、ガルバノスキャナ３１６によって回動可能に構成されている。ガルバノスキャナ３１６によって回折格子素子１６を回動させることにより、固定反射ミラー３１８と合わせて、前の実施形態における回転多面鏡１８と同様の波長掃引効果を実現している。
【００９１】
すなわち、光ファイバＦＢ１１及び光ファイバＦＢ７から射出された光は、それぞれコリメータレンズ１５ａ及び１５ｂ、ガルバノスキャナ３１６によって回動される（首を振るように動かされる）回折格子素子１６、光学系１７を介して固定反射ミラー３１８の反射面のそれぞれ上下に入射され、反射した後、前と同じ経路をたどって戻り、それぞれ光ファイバＦＢ１１及び光ファイバＦＢ７に入射するようになっている。
【００９２】
これにより、波長選択手段３１２としては、ガルバノスキャナ３１６によって回動する回折格子素子１６と固定反射ミラー３１８の働きにより、回折格子素子１６において分光された光のうち特定の周波数域からなる光のみが再び光ファイバＦＢ１１に戻り、光源ユニット３１０から特定の周波数域からなるレーザ光Ｌａが射出される。
【００９３】
また一方、フィルタ機構３７０としては、光増幅媒体６０で増幅された反射光Ｌ３から上と同様にガルバノスキャナ３１６によって回動する回折格子素子１６と固定反射ミラー３１８の働きにより、不要な自然放出光がカットされた反射光Ｌ３が再び光ファイバＦＢ７に戻り、参照光Ｌ２と合波されるようになっている。
【００９４】
これにより、本実施形態においても、干渉に不要な光増幅媒体からの自然放出光を遮断できるため、自然放出光の揺らぎによるＳ／Ｎ劣化を防止でき、光増幅部でのゲイン相当のＳ／Ｎ改善を実現することができる。
【００９５】
次に、本発明の第４実施形態について説明する。
【００９６】
図６に、本発明の第４実施形態に係る光断層画像化装置の概略構成を示す。
【００９７】
本第４実施形態も、前述した第２あるいは第３実施形態と同様に、光増幅部用のフィルタ機構を波長掃引光源用のフィルタ(波長選択手段)と共用するようにしたものであり、本第４実施形態は、特に、共用する光源ユニットの波長選択手段及び光増幅部用のフィルタ機構として、ファブリペローフィルタを用いたものである。
【００９８】
図６に示すように、本実施形態の光断層画像化装置４００は、光源ユニット４１０において、波長掃引光源用のフィルタである波長選択手段４１２と、反射光を増幅する光増幅部用のフィルタ機構４７０とを、ファブリペローフィルタ４１６で構成して共用するようにしたものである。また、これ以外の構成については、前述した第３実施形態と同様である。そこで、波長選択手段４１２でありかつフィルタ機構４７０を構成するファブリペローフィルタ４１６について詳しく説明し、その他の構成についての説明は、第３実施形態と同様であるので省略することとする。
【００９９】
図７に波長選択手段４１２かつフィルタ機構４７０の構成を示す。
【０１００】
図７に示すように、ファブリペローフィルタ（ファブリペロー波長可変フィルタ）４１６は、部分反射ミラー４１６ａと、反射率の高い全反射ミラー４１６ｂとの間にギャップを形成し、互いに向かい合わせた光学フィルタである。部分反射ミラー４１６ａと全反射ミラー４１６ｂとの間に圧電アクチュエータ４１６ｃを配置して、部分反射ミラー４１６ａを、図に矢印で示すように全反射ミラー４１６ｂの方向に変位させて、ギャップの大きさを変化させ、ギャップの大きさに応じた波長を選択して透過させるようになっている。
【０１０１】
また、ファブリペローフィルタ４１６に対して、コリメータレンズ１５を介して光を入射するようになっているが、コリメータレンズ１５は、光源ユニット４１０の光ファイバＦＢ１１から光Ｌａを入射させるコリメータレンズ１５ａと、光ファイバＦＢ７から反射光Ｌ３を入射させるコリメータレンズ１５ｂとが別体で構成されている。
【０１０２】
光ファイバＦＢ１１からコリメータレンズ１５ａを介してファブリペローフィルタ４１６に入射した光Ｌａ、及び光ファイバＦＢ７からコリメータレンズ１５ｂを介してファブリペローフィルタ４１６に入射した反射光Ｌ３は、それぞれファブリペローフィルタ４１６で反射されて特定の波長の光のみが再び光ファイバＦＢ１１及び光ファイバＦＢ７に戻るようになっている。
【０１０３】
これにより、ファブリペローフィルタ４１６は、光源ユニット４１０における波長選択手段４１２としての機能と、光増幅部用のフィルタ機構４７０としての機能を兼ね備えている。
【０１０４】
これにより、本実施形態においても、干渉に不要な光増幅媒体からの自然放出光を遮断できるため、自然放出光の揺らぎによるＳ／Ｎ劣化を防止でき、光増幅部でのゲイン相当のＳ／Ｎ改善を実現することができる。
【０１０５】
次に本発明の第５実施形態について説明する。
【０１０６】
図８に、本発明の第５実施形態に係る光断層画像化装置の概略構成を示す。
【０１０７】
本第５実施形態は、フィルタ機構において波長選択手段の回転多面鏡を共有するようにした図２に示す第２実施形態において、光増幅媒体６０を特に光ファイバ増幅としたものである。
【０１０８】
すなわち、図８に示すように、本第５実施形態は、光増幅媒体５６０を光ファイバ増幅とした以外は、図２に示す第２実施形態とまったく同じであり、光増幅媒体５６０で増幅された反射光Ｌ３から不要な自然放出光をカットするフィルタ機構５７０は、光源ユニット５１０の波長選択手段（波長掃引光源用のフィルタ）１２と共用するように構成されている。そこで、光増幅媒体５６０以外の構成についての詳しい説明は省略する。
【０１０９】
図８に示すように、光増幅媒体５６０は、光分岐器３４に接続し、測定対象Ｓからの反射光Ｌ３を導波する光ファイバＦＢ６に設けられ、光増幅媒体５６０で増幅された反射光Ｌ３は、光分岐器３６を介して光ファイバＦＢ７からフィルタ機構５７０へ導波されるようになっている。
【０１１０】
光増幅媒体５６０は、励起状態において、信号光が入射されると、その信号光を増幅するファイバ増幅部５６１と、該ファイバ増幅部５６１に供給する励起光である波長１．０６μｍを発生するＹＡＧレーザ（励起レーザ）５６２と、該ＹＡＧレーザ５６２から出力された励起光を集光する集光レンズ５６３と、励起光を導光する光ファイバＦＢ１２と、該光ファイバＦＢ１２により導光された励起光をファイバ増幅部５６１に導入する光ファイバカプラ５６４とを備えている。ファイバ増幅部５６１は、７８０ｎｍ近傍に利得を有するＴｉ４＋が添加されたコアを備える光ファイバから成り、該光ファイバは巻き回された状態で設置されている。
【０１１１】
次に、光ファイバ増幅器で構成された光増幅媒体５６０の動作を説明する。
【０１１２】
ＹＡＧレーザ５６２から射出された波長１．０６μｍの励起光は、集光レンズ５６３により集光されて、光ファイバＦＢ１２に入射される。光ファイバカプラ５６４を介して、励起光はファイバ増幅部５６１に入射する。励起光はファイバ増幅部５６１内を伝播しながら、コアに添加されたＴｉ４＋に吸収される。励起光を吸収したＴｉ４＋は、基底状態から励起状態に遷移する。この状態において、ファイバ増幅部５６１の一端に、反射光Ｌ３が入射し、ファイバ増幅部５６１のコア内を伝播すると、反射光Ｌ３と同一位相の光が誘導放出され、Ｔｉ４＋は基底状態に戻る。このような誘導放出が繰り返され、増幅された反射光Ｌ３がファイバ増幅部５６１の他端から射出される。
【０１１３】
従って、光増幅媒体５６０から出射された増幅された反射光Ｌ３は、前述したように光ファイバＦＢ７を介してフィルタ機構５７０へ導波され、不要な自然放出光がカットされて、光ファイバＦＢ８を介して合波手段４へ導波され、参照光Ｌ２と合波される。この参照光Ｌ２と合波される光は、反射光Ｌ３が増幅された同位相の信号であるため、この増幅された反射光Ｌ３と参照光Ｌ２とを干渉させた干渉光から断層画像情報を取得することができる。
【０１１４】
これにより、本実施形態においても、干渉に不要な光増幅媒体からの自然放出光を遮断できるため、自然放出光の揺らぎによるＳ／Ｎ劣化を防止でき、光増幅部でのゲイン相当のＳ／Ｎ改善を実現することができる。
【０１１５】
次に、本発明の第６実施形態について説明する。
【０１１６】
図９に、本発明の第６実施形態に係る光断層画像化装置の概略構成を示す。
【０１１７】
本第６実施形態は、前述した第１実施形態に近いものである。すなわち、第１実施形態では、光源ユニット１０の波長選択手段１２と、光増幅部のフィルタ機構７０とで、回転多面鏡１８のみを共用（ただしそれぞれ使用するのは別の面）していたが、本第６実施形態では、波長選択手段とフィルタ機構は回転多面鏡もそれぞれ別々に持つようにしたものである。
【０１１８】
図９に示すように、本第６実施形態の光断層画像化装置６００は、図１に示した第１実施形態の構成と略同じであり、異なる点は、第１実施形態のフィルタ機構７０に相当する本実施形態におけるフィルタ機構６７０が、光源ユニット１０の波長選択手段１２の回転多面鏡１８とは別に回転多面鏡６１８を備えたことである。
【０１１９】
すなわち、本実施形態のフィルタ機構６７０は、コリメータレンズ６７１、回折格子素子６７２、光学系（面倒れ補正レンズ）６７３及び回転多面鏡（ポリゴンミラー）６１８を有して構成されている。
【０１２０】
なお、本実施形態の場合には、光源部のフィルタ（波長選択手段１２）と光増幅部のフィルタ（フィルタ機構７０）とが完全に別体となっているので、それぞれの回転多面鏡１８、６１８の反射面と、回折格子素子１６、６７２及び光ファイバＦＢ１１、ＦＢ７との位置関係が時間的にきちんと揃うように同期をとることが前述した各実施形態のようにフィルタを共有する場合に比べて重要になり、図示しない同期制御を行う。
【０１２１】
また、図１０に、これらフィルタの詳しい構成を示す。図１０（ａ）は、光源ユニット１０の波長選択手段１２の構成を示し、図１０（ｂ）は、光増幅部用のフィルタ機構６７０の構成を示す。
【０１２２】
図１０（ａ）に示すように、波長選択手段１２においては、波長掃引レーザ光源共振器内からの光を導光する光ファイバＦＢ１１から光がコリメータレンズ１５に入射するようになっている。この光はコリメータレンズ１５によって平行光とされて回折格子素子１６に入射する。この回折格子素子１６に入射するビーム幅をＤとする。
【０１２３】
回折格子素子１６に入射した光は、光学系１７を介して回転多面鏡１８に入射し、反射して同じ経路を戻り、再び光ファイバＦＢ１１に入射されるようになっている。
【０１２４】
また、図１０（ｂ）に示すように、フィルタ機構６７０においては、光増幅媒体６０からの光（増幅された反射光Ｌ３）を導光する光ファイバＦＢ７から光がコリメータレンズ６７１に入射するようになっている。この光はコリメータレンズ６７１によって平行光とされて回折格子素子６７２に入射する。この回折格子素子６７２に入射するビーム幅をｄとする。
【０１２５】
回折格子素子６７２に入射した光は、光学系６７３を介して回転多面鏡６１８に入射し、反射して同じ経路を戻り、再び光ファイバＦＢ７に入射されるようになっている。
【０１２６】
このとき、波長選択手段１２の回折格子素子１６に入射するビーム幅Ｄの方が、フィルタ機構６７０の回折格子素子６７２に入射するビーム幅ｄよりも大きく、Ｄ＞ｄとなるようにする。これによって、光源部のフィルタ（波長選択手段１２）の透過帯域よりも光増幅部のフィルタ（フィルタ機構７０）の透過帯域の方が広くなるようにする。
【０１２７】
図１１に、このときの光源部のフィルタ（波長選択手段１２）と光増幅部のフィルタ（フィルタ機構７０）の透過帯域特性を示す。図１１において、ｆＳが光源部のフィルタの透過帯域特性を示し、ｆＡが光増幅部のフィルタの透過帯域特性を示している。
【０１２８】
図１１に示すように、光源部のフィルタ（波長選択手段１２）の透過帯域よりも光増幅部のフィルタ（フィルタ機構７０）の透過帯域の方が広くなっている。このようにして本実施形態ように、光源部のフィルタ（波長選択手段１２）と光増幅部のフィルタ（フィルタ機構７０）を別体として構成した場合であっても、増幅側のフィルタの幅をすこし広くして同期の精度を実用的な範囲に持ってくることで確実に同期をとることができる。
【０１２９】
本実施形態においても、干渉に不要な光増幅媒体からの自然放出光を遮断できるため、自然放出光の揺らぎによるＳ／Ｎ劣化を防止でき、光増幅部でのゲイン相当のＳ／Ｎ改善を実現することができる。
【０１３０】
なお、本発明は、測定対象からの反射光を増幅するとともに、その光増幅部で発生する不要な自然放出光をフィルタ機構でカットすることによりＳ／Ｎを増強するものであるが、上述した実施形態において、光増幅部として半導体利得媒質あるいは光ファイバ増幅を用い、また増幅部のフィルタ機構で用いられるフィルタとして、ポリゴンミラー、ガルバノスキャナ、ファブリペローフィルタなどを用いた例が示されているが、これらの組み合わせは上記実施形態に示されたものに限定されるものではなく、各実施形態以外の任意の組み合わせが可能である。
【０１３１】
以上、本発明の光断層画像化装置について詳細に説明したが、本発明は、以上の例には限定されず、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、各種の改良や変形を行ってもよいのはもちろんである。
【図面の簡単な説明】
【０１３２】
【図１】本発明に係る光断層画像化装置の第１実施形態を示す概略構成図である。
【図２】本発明の第２実施形態に係る光断層画像化装置の概略構成図である。
【図３】第２実施形態の光断層画像化装置のフィルタ機構を示す構成図である。
【図４】本発明の第３実施形態に係る光断層画像化装置の概略構成図である。
【図５】第３実施形態の波長選択手段かつフィルタ機構を示す構成図である。
【図６】本発明の第４実施形態に係る光断層画像化装置の概略構成図である。
【図７】第４実施形態の波長選択手段かつフィルタ機構を示す構成図である。
【図８】本発明の第５実施形態に係る光断層画像化装置の概略構成図である。
【図９】本発明の第６実施形態に係る光断層画像化装置の概略構成図である。
【図１０】（ａ）は第６実施形態の波長選択手段を、（ｂ）は第６実施形態のフィルタ機構を示す構成図である。
【図１１】第６実施形態における波長選択手段とフィルタ機構におけるフィルタ透過帯域特性を示すグラフである。
【符号の説明】
【０１３３】
２…光分割手段、４…合波手段、６…光ファイバカプラ、１０…光源ユニット、１１…光源、１２…波長選択手段、１３…半導体増幅器、１４…光分岐器（サーキュレータ）、１５…コリメータレンズ、１６…回折格子素子、１７…光学系（面倒れ補正レンズ）、１８…回転多面鏡、２０…光路長調整手段、２１ａ…第１光学レンズ、２１ｂ…第２光学レンズ、２２…反射ミラー、２３…可動ステージ、２４…ミラー移動機構、３０…プローブ、３２、３４、３６…光分岐器、４０…干渉光検出手段、４０ａ、４０ｂ…検出器、５０…処理部（画像取得手段）、５２…表示部、５４…制御操作部、６０…光増幅媒体、７０…フィルタ機構、１００…光断層画像化装置
【図１】
2010005266.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
2010005266.tif 000009
【図８】
2010005266.tif 000010
【図９】
2010005266.tif 000011
【図１０】
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【図１１】
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