(57)【要約】【課題】温度や記録パワー，経年変化などで記録波形が変化し，記録品質が劣化する問題を解決する。【解決手段】記録時にレーザの部品などの影響を受けて変化する光波形に対し，波形の立上り／立下り時間やオーバーシュート量の制御機能のあるドライバを用いて，試し書き，もしくは，テーブルから波形制御レジスタ値を求めて，波形の立上り／立下り時間やオーバーシュート量を最適化する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザ光源からパルス状のレーザ光を照射して記録媒体に記録マークを形成することによって情報を記録する光情報記録方法において、
記録パワーの最適化を行う工程と、
前記レーザ光源を駆動するレーザドライバの波形制御レジスタに設定する値を変えて、前記レーザ光源を駆動する電流パルスの形状を変化させ、実質的に発光パルスを変化させながら前記記録媒体に試し書きを行う工程と、
前記試し書きによって記録された情報を再生する工程と、
前記波形制御レジスタの設定値と記録品質との関係をもとに前記波形制御レジスタに設定する値の最適値を求める工程と、
前記波形制御レジスタに前記最適値を設定する工程と、
前記レーザドライバで駆動される前記レーザ光源から発生されるパルス状のレーザ光でストラテジを構成して情報を記録する工程と
を有することを特徴とする光情報記録方法。
【請求項２】
請求項１記載の光情報記録方法において、前記波形制御レジスタは、前記発光パルスの立上り時間、立下り時間、オーバーシュート量の少なくとも１つを調整するものであることを特徴とする光情報記録方法。
【請求項３】
請求項１記載の光情報記録方法において、前記試し書きによって記録するパターンがランダムパターンであることを特徴とする光情報記録方法。
【請求項４】
請求項２記載の光情報記録方法において、前記波形制御レジスタで調整するパラメータにより、前記試し書きによって記録するパターンを変えるもしくは２種類以上のパターンを用いることを特徴とする光情報記録方法。
【請求項５】
請求項１記載の光情報記録方法において、記録ストラテジによって、前記試し書きによって記録するパターンを変えることを特徴とする光情報記録方法。
【請求項６】
レーザ光源からパルス状のレーザ光を照射して記録媒体に記録マークを形成することによって情報を記録する光情報記録方法において、
温度、前記記録媒体の推奨記録パワー及び搭載されたレーザ光源の微分抵抗に関する情報を取得する工程と、
温度、記録パワー、レーザ光源の微分抵抗の組み合わせと、前記レーザ光源を駆動するレーザドライバの波形制御レジスタに設定するレジスタ値とを対応付けて格納したテーブルを参照して、前記取得した情報に対応するレジスタ値を取得する工程と、
取得したレジスタ値を前記レーザドライバの波形制御レジスタに設定する工程と、
前記レーザドライバによって駆動される前記レーザ光源から発生されるパルス状のレーザ光でストラテジを構成して情報を記録する工程と
を有することを特徴とする光情報記録方法。
【請求項７】
請求項６記載の光情報記録方法において、前記取得したレジスタ値を前記レーザドライバの波形制御レジスタに設定する工程と前記情報を記録する工程との間に、
記録パワーの最適化を行う工程と、
前記レーザ光源を駆動するレーザドライバの波形制御レジスタに設定する値を変えて、前記レーザ光源を駆動する電流パルスの形状を変化させ、実質的に発光パルスを変化させながら前記記録媒体に試し書きを行う工程と、
前記試し書きによって記録された情報を再生する工程と、
前記波形制御レジスタの設定値と記録品質との関係をもとに前記波形制御レジスタに設定する値の最適値を求める工程と、
前記波形制御レジスタに前記最適値を設定する工程と
を有することを特徴とする光情報記録方法。
【請求項８】
請求項１記載の光情報記録方法において、情報の記録方式がＣＡＶ方式であり、第１の記録速度と第２の記録速度に対して前記波形制御レジスタに設定する値の最適値を第１のレジスタ値と第２のレジスタ値として求めて記憶し、前記第１のレジスタ値と前記第２のレジスタ値とから、前記第１の記録速度と前記第２の記録速度の中間の第３の記録速度に対するレジスタ値を導出することを特徴とする光情報記録方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光変調波形を駆動・制御して光情報記録媒体に情報記録を行う光情報記録方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
光ディスク装置では大容量化が進み、従来までの赤外レーザ（波長７８０ｎｍ）を用いたＣＤや、赤色レーザ（波長６５０ｎｍ）を用いたＤＶＤ、さらに青色レーザ（４０５ｎｍ）を用いたBlu-Ray Disc（ＢＤ）が製品化されている。
【０００３】
例えば、ＤＶＤ−ＲＡＭに利用されるライトストラテジ技術は、図１７に示すように、３種類のパワーレベルを持つ複数のレーザーパルスを利用する。３種類のパワーレベルは、高いレベルから順に、ライトパワー（Ｐｗ）、ギャップパワー（Ｐｇ）、イレイズパワー（Ｐｅ）である。上記のライトパワーＰｗのレーザ光で光ディスクを照射すると、光ディスクの記録膜が溶融される。その後、急冷すると、光ディスクはアモルファス状態（非晶質状態）となり、光の反射率が低くなる。これが記録マークとして利用される。また、イレイズパワーＰｅのレーザ光で光ディスクを照射すると、光ディスクの記録膜は結晶状態にされる。レーザ光照射前に非晶質状態であった光ディスク部分は結晶状態になり、元々結晶状態であった光ディスク部分は、そのまま結晶状態に留まる。これにより記録マークを消去できる。
【０００４】
ライトストラテジには、ＣＤ−Ｒ、ＤＶＤ−Ｒ等で採用されている矩形状のモノパルス、ＣＤ−ＲＷ、ＤＶＤ−ＲＷ、ＤＶＤ−ＲＡＭ等で採用されているくし型のマルチパルス（図１７参照）、ＤＶＤ系光ディスクの高倍速記録で採用されているキャッスル型（ノンマルチ型）（図１８参照）等がある。
【０００５】
図１７や図１８に示した記録波形のエッジタイミングを決める値や、Ｐｗ、Ｐｇ、Ｐｅのように記録パワーを決める値は、記録パラメータと呼ばれる。これらの記録パラメータは、最適な値が記録媒体ごとに予め決められて記録されている。例えばＤＶＤ−ＲＡＭでは、内周のLead in area に設けられたControl Data Zone内部のPhysical format information（ＰＦＩ）エリアに記録されている。記録パラメータ群の最適値が、記録媒体の組成、材料等により異なるためである。
【０００６】
即ち、記録マークを記録する場合には、記録波形のエッジタイミングを決める値とＰｗ、Ｐgのように記録パワーを決める値、及びシフトテーブルの各値等の記録パラメータを記録媒体から読み出し、この読み出された記録パラメータを用いてレーザーパルスを制御することで、最適な記録マークを形成するようにしている。このような技術は、例えば特開２００３−８５７５３号公報に記載されている。
【０００７】
この際、記録マークが良好に形成されないと、記録したデータを正しく再生することができなくなる可能性があるため、記録マークは良好に形成する必要がある。良好な記録マークを形成するために、レーザをパルス状に発光することで、光ディスク記録膜に照射した時の熱蓄積を制御することが行われている。一般的には、レーザを発光する半導体レーザダイオード（以下、ＬＤと称す）に、パルス状の電流を供給することでＬＤがパルス状に発光する。
【０００８】
ＬＤにパルス状に電流を供給する装置は、レーザドライバ（ＬＤＤ）である。レーザドライバが、ＬＤにパルス状に電流を供給することで、ＬＤは供給された電流のパルスタイミングに基づいた発光パターンで発光するため、パルス状にレーザを発光することができ、その結果、良好な記録マークを形成している。以下、本明細書では、レーザドライバがＬＤに供給するパルス状の電流のことを電流パルスと称し、レーザから出力される波形を発光パルスと称す。
【０００９】
近年、光ディスクへの記録速度は年々高速化する傾向にある。もともと、レーザドライバからＬＤへ電流パルスを供給する過程において、ＬＤとレーザドライバ間の電気回路的な負荷の影響が少なからず存在し、ＬＤに供給する電流パルスに影響を与えていた。記録速度の高速化が進み電流パルスのパルス幅が細くなるにつれ、ＬＤとレーザドライバ間の電気回路的な負荷が相対的に電流パルスに与える影響が大きくなり、所望の電流パルスをＬＤに供給することが困難となった。所望の電流パルスがＬＤに供給されないと、ＬＤが発光した光波形も所望の波形ではなくなるため、その影響は、ディスク記録面に生成される記録マークに顕著に現れるようになり、記録品質の劣化に繋がる。以下、ＬＤの抵抗負荷をＬＤの微分抵抗と称す（図１９参照）。
【００１０】
上記問題に対し、特開２００６−４８８８５号公報には、温度に応じてＬＤとレーザドライバ間の電気回路的な負荷が変動することに着目し、使用時の温度又は温度に応じて変化するＬＤの負荷に関わる情報を取得し、温度に応じた適切な電流パルスをレーザドライバで生成する方法が記載されている。温度に応じて生成した電流パルスをＬＤに供給することで、使用時の温度環境が変動した場合でも良好なレーザ発光ができるよう対応している。
【００１１】
【特許文献１】特開２００３−８５７５３号公報
【特許文献２】特開２００６−４８８８５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
特開２００６−４８８８５号公報には、温度の影響でＬＤの微分抵抗が変化することについて記載されているが、経時的な劣化、あるいはＬＤが発光するパワーによってもＬＤの微分抵抗が変化することが本発明者の調査によりわかっている。さらには、上述したようなＬＤとレーザドライバとを備えた半導体レーザ発生装置を搭載した製品の量産時においては、量産したＬＤの微分抵抗がある程度の範囲でばらつくことも予想される。この経時変化、発光パワー、あるいは製品ばらつきによるＬＤの微分抵抗の変化に対しては、温度を監視してもその変動に追従することはできず、光波形を制御することはできない。さらには、一般的な光ディスクドライブの構成では、光ディスクドライブの使用中にＬＤの微分抵抗を測定する手段がない場合が多く、直接的にＬＤの微分抵抗を測定することはできない。
【００１３】
本発明は以上の点を考慮し、ＬＤやレーザドライバの温度特性、記録パワー、経年劣化などの影響の大きい要因に対して、それに変動があっても安定に記録できる光情報記録方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明では、図２に示す電流パルスの立上がり時間Ｔr、立下り時間Ｔfやオーバーシュート量ＯＳに着目し、それらを制御し、最適化することで、ＬＤから常に所望の光波形を発生できるようにする。そのためには、発光パルスの立上がり／立下り時間やオーバーシュートの制御機能を備えたレーザドライバを用い、搭載するＬＤの微分抵抗の変化に応じて、制御量を調整する必要がある（図３）。制御量の調整方法には、大きく二つが考えられる。
【００１５】
一つめは、実際に制御量を変化させて記録し、それを実際に再生した結果から最適制御量を割り出す学習方式である。温度もしくはＬＤの微分抵抗変化を補償するため、実際のドライブでの記録発光波形の学習を行う。このとき、少なくとも１つの記録パターンを用いて試し書きを行う。その再生信号特性から最適な立上がり／立下り時間、オーバーシュートの制御量を求める。二つめは、予め温度ごと、ＬＤの微分抵抗ごと、ＬＤのパワーごとなどの条件に対して、それぞれの条件に応じた制御量を決めるテーブルを持つ方式である。
【００１６】
本発明は、レーザ光源からパルス状のレーザ光を照射して記録媒体に記録マークを形成することによって情報を記録する光情報記録方法に関し、記録パワーの最適化を行う工程と、レーザ光源を駆動するレーザドライバの波形制御レジスタに設定する値を変えて、レーザ光源を駆動する電流パルスの形状を変化させながら記録媒体に試し書きを行う工程と、試し書きによって記録された情報を再生する工程と、波形制御レジスタの設定値と記録品質との関係をもとに波形制御レジスタに設定する値の最適値を求める工程と、波形制御レジスタに求められた最適値を設定する工程と、レーザドライバで駆動されるレーザ光源から発生されるパルス状のレーザ光でストラテジを構成して情報を記録する工程とを有する。ここで、波形制御レジスタは、発光パルスの立上り時間、立下り時間、オーバーシュート量の少なくとも１つを調整するものである。
【００１７】
また、本発明の光情報記録方法は、温度、記録媒体の推奨記録パワー及び搭載されたレーザ光源の微分抵抗に関する情報を取得する工程と、温度、記録パワー、レーザ光源の微分抵抗の組み合わせと、レーザ光源を駆動するレーザドライバの波形制御レジスタに設定するレジスタ値とを対応付けて格納したテーブルを参照して、取得した情報に対応するレジスタ値を取得する工程と、取得したレジスタ値をレーザドライバの波形制御レジスタに設定する工程と、レーザドライバによって駆動されるレーザ光源から発生されるパルス状のレーザ光でストラテジを構成して情報を記録する工程とを有する。
【００１８】
この場合、取得したレジスタ値をレーザドライバの波形制御レジスタに設定する工程の後に、記録パワーの最適化を行う工程、レーザ光源を駆動するレーザドライバの波形制御レジスタに設定する値を変えて、レーザ光源を駆動する電流パルスの形状を変化させながら記録媒体に試し書きを行う工程、試し書きによって記録された情報を再生する工程、波形制御レジスタの設定値と記録品質との関係をもとに波形制御レジスタに設定する値の最適値を求める工程、波形制御レジスタに求められた最適値を設定する工程を実行してから、パルス状のレーザ光でストラテジを構成して情報を記録するようにしてもよい。
【００１９】
本発明は、波形の立上がりや立下がりが問題となるような高速時や書き換え型ディスクにおいて大きな効果を発揮するものであり、特に毎秒１００Ｍビット以上の転送速度の光ディスクストレージシステムに好適である。
【発明の効果】
【００２０】
本発明によれば、光ディスクドライブのレーザドライバの性能ばらつき、経年劣化や温度特性により劣化する光出力波形の形状を正確に補償して良好な記録マークを形成することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態を説明する。
【実施例１】
【００２２】
最初に、発光パルスの学習方法ついて説明する。図４、５は記録信号が光ディスクへ書き込まれるまでの流れを示す概略図である。本発明において、レーザドライバは、図４に示すように、単にレジスタ指令を受け、電流を出力する機能を有するものであっても、図５に示すように、その機能に加え、ストラテジ生成回路を含むものであってもよい。入力データは、符号化回路で符号化され、その符号化した信号をディスク上に書き込むためのストラテジを形成する信号にストラテジ生成回路で変換される。ゆえに、図４、５においてパワーレジスタはストラテジ生成回路にあるものとする。この信号がレーザドライバに入力される。図６は、レーザドライバが発生する駆動電流パルスと、ＬＤから出力される発光パルスの関係を示す模式図である。図６に示すように、レーザドライバからの電流波形がレーザダイオードに伝送され、レーザ発光波形となる。
【００２３】
記録の際には、記録パラメータを記録媒体と記録装置の間で最適化する必要があり、例えば記録媒体に記載されている媒体製造者より提供される記録パラメータを基に、媒体に記録を行って該記録領域を再生した際に、記録品質の指標となる再生波形のジッタ、もしくはエラー数が最小となるようにストラテジを最適化する等の動作（以下、「ストラテジ学習」という）が必要になる。本発明では、このストラテジ学習の前に波形制御学習を入れる。
【００２４】
図１に示したフロー１を用いて説明する。この場合の制御シーケンスを説明すると、以下の（１）〜（４）のようになる。
（１）記録する準備として、レーザパワー調整によってレーザドライバの出力電流とレーザ発光の関係を取得する。
【００２５】
（２）次にＯＰＣ（Optimum Power Control）と称される、記録するパワーの最適化を行う。
【００２６】
（３）従来のフローでは、次にストラテジ最適化もしくはこのまま記録するが、本発明では、ここで波形の制御を行う。図７に波形制御学習の手順を示す。波形制御学習は、波形制御機能のあるレーザドライバの制御レジスタ値を変化させて複数のパターンを記録し、その後、記録したパターンを再生し、適当な指標に従って制御レジスタ値の最適値を抽出することで行う。
【００２７】
図８は、制御レジスタを有するレーザドライバの一例を示す略図である。図示したレーザドライバは、発光パルスの立上がり時間を制御するＴr制御レジスタ、立下がり時間を制御するＴf制御レジスタ、及びオーバーシュート量を制御するＯＳ制御レジスタを備える。図９は、発光パルスの立上り時間Ｔr、立下り時間Ｔf、及びオーバーシュート量ＯＳの、制御レジスタ値依存性の一例を示す図である。波形制御機能のあるレーザドライバを用いると、図９に示すように、制御レジスタのレジスタ値を変えることにより、その制御レジスタに対応する波形パラメータを制御することができ、最適化できる。
【００２８】
例えば、発光パルスの立上がり時間を最適化するには、Ｔr制御レジスタの設定値を変えて複数回のパターン記録を行う。このとき、図９（ａ）に示すように、Ｔr制御レジスタ値に応じて異なる立上がり時間Ｔrを有する電流パルスが得られ、それらによって駆動されたＬＤから発生された光波形によって記録マークが形成される。次にそれを再生し、図１０に示すように、Ｔr制御レジスタ値と記録品質の指標との関係を取得する。記録品質の指標には、再生波形のジッタあるいはエラーレートを使うことができる。こうしてＴr制御レジスタの最適値が求まったら、Ｔr制御レジスタにその最適値を設定する。こうして発光パルスの立上がり時間Ｔrが最適制御される。
【００２９】
次に、別の制御レジスタ、例えばＴf制御レジスタの値を変えて複数回のパターン記録を行い、それを再生したときの記録品質の指標を元にＴf制御レジスタの最適値を求め、その最適値をＴf制御レジスタに設定する。これによって発光パルスの立下がり時間Ｔfが最適制御される。さらに、同様の方法でオーバーシュート量ＯＳを制御するＯＳ制御レジスタの最適値を求め、求まった最適値をＯＳ制御レジスタに設定する。これによって電流パルスのオーバーシュート量ＯＳが最適制御される。
【００３０】
こうして、一つ以上のレジスタの最適化を行う。なお、本実施例では、立上がり時間Ｔr、立下がり時間Ｔf及びオーバーシュート量ＯＳについて最適化を行ったが、波形制御に利用できる制御レジスタの種類や数はレーザドライバに依存する。従って、それぞれのレーザドライバに備わっている波形制御用レジスタの最適値をそれぞれ学習によって求め、各制御レジスタに求まった最適値を設定すればよい。
【００３１】
（４）波形制御学習によって最適化された波形によって、ストラテジの最適化もしくは、このまま記録動作へ進む。
【００３２】
この学習方式による波形制御を用いれば、ドライブ内の温度変化に対するＬＤやドライバう回路などの部品特性の変化や、ＬＤの微分抵抗のパワー依存性、部品の経年変化などに対応することができる。
【実施例２】
【００３３】
第２の実施例を、図１のフロー２のシーケンスを用いて説明する。通常、半導体によって作製されるレーザドライバやレーザは、温度によって特性が変化する。この温度特性により、先に述べた立上り時間／立下り時間やオーバーシュート量が変化する。この温度変化による微分抵抗変化を予め測定しておき、温度に対応した最適レジスタ値を記憶した温度テーブルも用意しておく。図１１に、温度の違いによる波形制御に関するテーブルの例を示す。典型的な温度、例えば０℃、２５℃、５０℃における波形制御パラメータとして、立上がり時間Ｔr、立下がり時間Ｔf、オーバーシュート量ＯＳの最適値をテーブル化したものである。
【００３４】
本実施例の制御シーケンスは、以下のようになる。
（１）実施例１と同様に、レーザパワー調整によってレーザドライバの出力電流とレーザ発光の関係を取得する。
（２）次に、実施例１とは異なり、ＯＰＣの前に発光パルスの制御を行う。このとき、最適記録パワーも決まっていないことから、記録して再生という学習方式はとれない。そこで、このとき温度センサ１６で観測された温度で図１１のようなテーブルを参照し、Ｔr、Ｔf、ＯＳに対するレジスタを設定する。また温度だけでなく、レーザパワーやレーザの微分抵抗（Ｒｄ）によっても波形が変化する場合にはレーザパワーの大きさの規定や微分抵抗の大小によって、図１２のようなテーブルを作成して参照する。
（３）次に、記録パワーの最適化であるＯＰＣを行う。
（４）波形制御学習によって最適化された波形によって、ストラテジの最適化もしくは、このまま記録動作へ進む。
【００３５】
また、このとき用いる補償テーブルの書き方の実施例を説明する。まずドライブ出荷前に、図１３のように、例えば温度による立上り時間／立下り時間の変化、オーバーシュートの変化のデータを取得する。この変化の要因の多くはＬＤの微分抵抗だと考えられる。図１４に略示するように、微分抵抗は温度、レーザパワー（記録パワー）、レーザの使用時間（経年変化）で変化する。これらの要因に対して、図１３のように調整によって改善するパラメータ（レジスタ）の値を、条件ごとにテーブル化する（図１１、図１２参照）。経年変化に関しては、レーザの使用時間をドライブで管理し、微分抵抗値を予測するテーブルを別にもつことにより図１２のＲｄの分類に反映させればよい。このように、システム設計の観点から、パラメータ数を決めてテーブルを作成する。
【実施例３】
【００３６】
第３の実施例を、図１５を用いて説明する。
実施例１、２を単独で行う場合、発光パルス制御として精度が出ない場合も考えられる。そこで、ＯＰＣの前に実施例２で述べたテーブル方式の発光パルス制御を行い、ＯＰＣの後に実施例１で述べた学習方式の発光パルス制御を行う。シーケンスは以下のようになる。
１．実施例１、２と同様に、レーザパワー調整によってレーザドライバの出力電流とレーザ発光の関係を取得する。
２．次に、実施例２と同じく、ＯＰＣの前に発光パルスの制御を行う。実施例２と同様に観測された温度やディスクの推奨記録パワーを参考にした記録パワー、またドライブに搭載されたＬＤの微分抵抗データから作成されたテーブルを参考に立上り／立下り時間やオーバーシュート（ＯＳ）を補正するレジスタ値をここで決める（図１２参照）。
３．次に、記録パワーの最適化であるＯＰＣを行う。
４．実施例２ではストラテジ最適化もしくはこのまま記録するが、ここでは、学習方式の波形制御を行う。図７及び図１０を参照して実施例１で説明したように、波形制御学習は、制御するレジスタを変化させて記録し、その記録した場所を再生し、所望の指標でその制御レジスタの最適値を抽出する。ひとつのレジスタについて最適化を行ったあと、次に最適化するレジスタへ進み、同様に最適化処理を行う。このとき、一つ以上のレジスタの最適化を行う。
５．波形制御学習によって最適化された波形によって、ストラテジの最適化もしくは、このまま記録動作へ進む。
【００３７】
本実施例によると、ＯＰＣの精度を高め、実施例１、２よりも記録品質を高めることができる場合もある。
【実施例４】
【００３８】
本実施例では、記録中においても発光パルス制御を行う例について説明する。ドライブで記録動作中に、常にＬＤやドライブの温度を温度センサで観測しておき、波形調整を行った温度から一定以上の温度変化があった場合、一度記録を中断し、波形調整を行うため、ディスクのＯＰＣ領域（試し記録できる領域）に戻る。そして、図１もしくは図１５に示したフローで波形制御を行う。このとき、テーブル方式、学習方式、テーブル方式＋学習方式のいずれかを用いるが、どの方式を採用するかはシステムマージンや時間の制約から選択すればよい。また、温度センサによって検出された温度だけでなく、例えば記録中の記録品質を確認するシステムを構築し、記録中に記録品質の劣化を確認したら、同様に波形調整を行うようにしてもよい。
【００３９】
このＯＰＣ領域での波形調整後、データ記録領域に戻り、調整後の波形で記録を再開する。また記録中の動作になるため、システム上時間の制約がある場合、テーブル方式のみを採用し、検出された温度をもとに、記録中に記録を中断せずに波形調整することも可能である。
【実施例５】
【００４０】
本発明の発光パルス学習に用いる記録パターンとしては、図１６（ａ）に示すようなランダムパターンが用いられる。図１６（ａ）は、２Ｔ〜８Ｔのマーク／スペースのランダムパターンの一部を示している。図中、Ｍはマークを表し、Ｓはスペースを表す。ただし、波形学習の精度を高めるために、図１６（ｂ）に示すような特殊パターンを記録する場合も考えられる。図１６（ｂ）には、３Ｔと８Ｔのみのパターンを示している。
【００４１】
例えば図１７に示すマルチパルスストラテジの場合にはランダムパターンを記録して波形学習し、図１８に示すキャスルストラテジの場合は特殊パターンを記録して波形学習する。また、光ディスクには一回記録型（ＢＤではＢＤ−Ｒ）と複数回記録型（ＢＤ−ＲＥ）があるが、光ディスクの種類によって記録パターンを変えて波形学習をする方が、波形学習の精度が高くなる場合には、その精度の高い記録パターンを用いればよい。またＴr、Ｔf、ＯＳの制御のそれぞれに応じて記録パターンを変えてもよい。さらに一つのパラメータ制御の最適値を求めるために、２種類以上の記録パターンを用いることもある。
【実施例６】
【００４２】
ＣＡＶ（Constant Angular Velocity）記録では、角速度一定で記録するので、内周から外周にかけて記録速度が変化する。その場合、複数の記録速度において、ストラテジや記録パワーなどの記録パラメータ必要となる。この場合の波形学習回数はストラテジの数や、試し記録の回数に応じて行うか、もしくは代表的な記録速度で最低１回は行う。例えば最内周２．４ｘで最外周６ｘのＣＡＶでストラテジが２．４ｘと６ｘで定められている場合、２．４ｘと６ｘの２回波形学習を行うのでもよいし、６ｘのみ１回ですむ場合もある。これらは設計の範疇であり、設計者が選択すればよい。
【図面の簡単な説明】
【００４３】
【図１】本発明による制御シーケンスの例を示す図。
【図２】発光パルスの立上り時間、立下り時間、オーバーシュートの説明図。
【図３】波形制御適正量のＬＤ微分抵抗依存性を示す図。
【図４】記録信号が光ディスクへ書き込まれるまでの流れを示す概略図（レーザドライバにストラテジ生成機能がない場合）。
【図５】記録信号が光ディスクへ書き込まれるまでの流れを示す概略図（レーザドライバにストラテジ生成機能がある場合）。
【図６】ＬＤ駆動電流パルスとＬＤ発光パルスの関係を示す図。
【図７】波形制御学習の手順を示す図。
【図８】レーザドライバの一例を示す模式図。
【図９】発光パルスの立上り時間Ｔr、立下り時間Ｔf、オーバーシュートＯＳの各制御レジスタ値依存性を示す図。
【図１０】波形制御レジスタ値の最適化の方法を示す図。
【図１１】温度変化に対する波形制御パラメータ（レジスタ）の一例を示す図。
【図１２】温度、ＬＤパワー、微分抵抗に対する波形制御パラメータ（レジスタ）の一例を示す図。
【図１３】温度に対する発光パルスの立上り／立下り時間、オーバーシュートの変化を示す図。
【図１４】ＬＤの微分抵抗の温度依存性、レーザパワー依存性、動作時間依存性を示す図。
【図１５】本発明による波形制御をＯＰＣの前後に行う場合のシーケンスを示す図。
【図１６】ランダムパターンと特殊パターンの一例を示す図。
【図１７】マルチパルスのライトストラテジの一例と、このストラテジによって形成される記録マークの説明図。
【図１８】ノンマルチパルス（別名キャスルパルス）のライトストラテジの一例と、このストラテジによって形成される記録マークの説明図。
【図１９】レーザドライバからレーザまでの回路モデルを示す図。
【符号の説明】
【００４４】
ＬＤ…レーザダイオード
１０…光ディスク
１１…レーザダイオード
１２…ＬＤドライバ
１３…ストラテジ生成回路
１４…符号化回路
１５…記録データ
１６…温度センサ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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