(57)【要約】【課題】本発明は連続生産が可能であり、経済性に優れ、かつ得られる偏光性回折素子の光学特性にも優れた偏光性回折素子の製造方法および該製造方法で得られた偏光性回折素子を提供すること。【解決手段】本発明の偏光性回折素子は、透明樹脂（Ａ）からなる基材（ａ）の少なくとも片面に、分子配向能を有する層（Ｂ）、凹部と凸部とが連続的に形成された化合物（Ｃ）に由来する構造単位を有する層（ＬＣ）、および前記層（ＬＣ）の凹部および凸部と嵌合する連続した凸部と凹部を有する、化合物（Ｄ）に由来する構造単位を有する層（ＬＤ）がこの順番で積層されてなり、前記層（ＬＣ）が光学異方性を有し、前記層（ＬＤ）が光学等方性を有する。【選択図】図６
2010156956.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明樹脂（Ａ）からなる基材（ａ）の少なくとも片面に、
分子配向能を有する層（Ｂ）、
凹部と凸部とが連続的に形成された化合物（Ｃ）に由来する構造単位を有する層（ＬＣ）、
および前記層（ＬＣ）の凹部および凸部と嵌合する連続した凸部と凹部を有する、化合物（Ｄ）を含有する組成物から形成された層（ＬＤ）がこの順番で積層されてなり、
前記層（ＬＣ）が光学異方性を有し、前記層（ＬＤ）が光学等方性を有する偏光性回折素子。
【請求項２】
透明樹脂（Ａ）からなる基材（ａ）の少なくとも片面に、
分子配向能を有する層（Ｂ）、
凹部と凸部とが連続的に形成された化合物（Ｃ）に由来する構造単位を有する層（ＬＣ）、
前記層（ＬＣ）の凹部および凸部と嵌合する連続した凸部と凹部を有する、化合物（Ｄ）を含有する組成物から形成された層（ＬＤ）、
および透明樹脂（Ｅ）からなる基材（ｅ）がこの順番で積層されてなり、
前記層（ＬＣ）が光学異方性を有し、前記層（ＬＤ）が光学等方性を有する偏光性回折素子。
【請求項３】
前記基材（ａ）および分子配向能を有する層（Ｂ）に、延伸処理が施されていることを特徴とする請求項１または２に記載の偏光性回折素子。
【請求項４】
前記分子配向能を有する層（Ｂ）に、ラビング処理が施されていることを特徴とする請求項１または２に記載の偏光性回折素子。
【請求項５】
前記分子配向能を有する層（Ｂ）が、（メタ）アクリル系化合物、ポリイミド、ポリビニルアルコールおよびポリウレタンより選ばれる少なくとも１種を含む組成物からなることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の偏光性回折素子。
【請求項６】
前記分子配向能を有する層（Ｂ）が、下記式（Ｉ）で表される構造を有する重合体を含む組成物からなり、層（Ｂ）は放射線の照射によって分子配向能を付与されてなることを特徴とする請求項１または２に記載の偏光性回折素子。
【化１】
2010156956.tif 000007
[式（Ｉ）中、Ｒ1は−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−ＣＯＮＨ−、−ＣＯ−Ｅ−、非置換またはハロゲン基、シアノ基およびニトロ基から選ばれる基を有する１,４-フェニレン、あるいはピリジン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、２，５−チオフェンジイル、２，５−フラニレン、１，４−ナフチレン、または２，６−ナフチレンを表し、
Ｅは非置換またはハロゲン基、シアノ基およびニトロ基から選ばれる基を有する１,４-フェニレン、あるいはピリジン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、２，５−チオフェンジイル、２，５−フラニレン、１，４−ナフチレン、または２，６−ナフチレンを表し、
Ｚ1は単結合、非置換またはハロゲン基、シアノ基およびニトロ基から選ばれる基を有する１,４-フェニレン、あるいはピリジン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、２，５−チオフェンジイル、２，５−フラニレン、トランス−１，４−シクロヘキシレン、トランス−１，３−ジオキサン−２，５−ジイルまたは１，４−ピペリジルを表し、
Ａｒ1は芳香族環を有する１価の基を表す。]
【請求項７】
前記化合物（Ｃ）が紫外線硬化型液晶を含むことを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載の偏光性回折素子。
【請求項８】
前記化合物（Ｄ）が紫外線硬化型樹脂を含むことを特徴とする請求項１〜７のいずれか一項に記載の偏光性回折素子。
【請求項９】
前記化合物（Ｄ）が紫外線硬化型（メタ）アクリル樹脂を含むことを特徴とする請求項１〜７のいずれか一項に記載の偏光性回折素子。
【請求項１０】
前記透明樹脂（Ａ）が、環状オレフィン系樹脂を含むことを特徴とする請求項１〜９のいずれか一項に記載の偏光性回折素子。
【請求項１１】
前記透明樹脂（Ｅ）が、透明樹脂（Ａ）と同様の樹脂であることを特徴とする請求項２〜１０のいずれか一項に記載の偏光性回折素子。
【請求項１２】
（１）透明樹脂（Ａ）からなる基材（ａ）の少なくとも片面に、分子配向能を有する層（Ｂ）を形成し、基材（ｂ）を得る工程、
（２）透明樹脂（Ｅ）からなる基材（ｅ）の片面に、転写により化合物（Ｄ）を含む組成物からなる凹部と凸部とが連続的に形成されたパターンを形成し、基材（ｆ）を得る工程、および
（３）前記基材（ｂ）の分子配向能を有する層（Ｂ）と、基材（ｆ）のパターンを有する面とを化合物（Ｃ）を含む組成物を介して、対向させてラミネートする工程を有する偏光性回折素子の製造方法であり、
前記化合物（Ｄ）を含む組成物からなるパターン部分が光学等方性を有し、前記化合物（Ｃ）を含む組成物に由来する部分が光学異方性を有することを特徴とする偏光性回折素子の製造方法。
【請求項１３】
前記（３）工程が、化合物（Ｃ）を含む組成物を前記基材（ｂ）の層（Ｂ）に塗布し、該塗布面と前記基材（ｆ）のパターンを有する面と対向させてラミネートする工程であることを特徴とする請求項１２に記載の偏光性回折素子の製造方法。
【請求項１４】
前記（３）工程が、化合物（Ｃ）を含む組成物を前記基材（ｆ）のパターンを有する面に塗布し、該塗布面と前記基材（ｂ）の層（Ｂ）面と対向させてラミネートする工程であることを特徴とする請求項１２に記載の偏光性回折素子の製造方法。
【請求項１５】
工程（１）において、層（Ｂ）を形成する際に、延伸処理が行われることを特徴とする請求項１２に記載の偏光性回折素子の製造方法。
【請求項１６】
（Ｉ）透明樹脂（Ａ）からなる基材（ａ）の少なくとも片面に、分子配向能を有する層（Ｂ）を形成し、基材（ｂ）を得る工程、
（ＩＩ）基材（ｂ）の層（Ｂ）に、転写により化合物（Ｃ）を含む組成物からなる凹部と凸部とが連続的に形成されたパターンを形成し、基材（ｃ）を得る工程、および
（ＩＩＩ）前記基材（ｃ）のパターンを有する面に、化合物（Ｄ）を含む組成物を塗布し、前記凹部を少なくとも化合物（Ｄ）により充填し、充填部を有する基材（ｄ）を得る工程を有する偏光性回折素子の製造方法であり、
前記凸部に由来する部分が光学異方性を有し、前記充填部に由来する部分が光学等方性を有することを特徴とする偏光性回折素子の製造方法。
【請求項１７】
工程（Ｉ）において、層（Ｂ）を形成する際に、延伸処理が行われることを特徴とする請求項１６に記載の偏光性回折素子の製造方法。
【請求項１８】
前記透明樹脂（Ａ）および透明樹脂（Ｅ）が同様の樹脂であることを特徴とする請求項１２に記載の偏光性回折素子の製造方法。
【請求項１９】
前記偏光性回折素子の充填部を有する面に、更に透明性樹脂（Ｅ）からなる基材（ｅ）を配設する工程を有することを特徴とする請求項１６に記載の偏光性回折素子の製造方法。
【請求項２０】
前記基材（ａ）が、透明樹脂（Ａ）からなる、長手方向に少なくとも３ｍ以上連続したロール形状の基材であることを特徴とする、請求項１２〜１９のいずれか一項に記載の偏光性回折素子の製造方法。
【請求項２１】
（ｉ）透明樹脂（Ａ）からなる基材（ａ'）の少なくとも片面に、転写により化合物（Ｃ）を含む組成物からなる凹部と凸部とが連続的に形成されたパターンを形成し、基材（ｂ）を得る工程、および
（ｉｉ）前記基材（ｂ）のパターンを有する面に、化合物（Ｄ）を含む組成物を塗布し、前記凹部を少なくとも化合物（Ｄ）により充填し、充填部を有する基材（ｃ）を得る工程を有する偏光性回折素子の製造方法であり、
前記基材（ａ'）のパターンが形成される面が、分子配向能を有し、前記凸部に由来する部分が光学異方性を有し、前記充填部に由来する部分が光学等方性を有することを特徴とする偏光性回折素子の製造方法。
【請求項２２】
前記偏光性回折素子の充填部を有する面に、更に透明性樹脂（Ｅ）からなる基材（ｅ）を配設する工程を有することを特徴とする請求項２１に記載の偏光性回折素子の製造方法。
【請求項２３】
前記基材（ａ’）が、透明樹脂（Ａ）からなる、長手方向に少なくとも３ｍ以上連続したロール形状の基材であることを特徴とする、請求項２１または２２に記載の偏光性回折素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、偏光性回折素子および偏光性回折素子の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
光ディスク装置は、非接触、単位体積あたりの情報量の多さ、高速アクセス性、低コストなどの理由から、近年、大きく伸長している光学情報記録・再生装置であり、これらの特徴を生かし、各種の記録媒体が開発されている。例えば、あらかじめ記録された情報を音や画像あるいはコンピュータ用プログラムなどとして再生するコンパクトディスク（ＣＤ）、レーザーディスク（ＬＤ）、ＣＤ−ＲＯＭ、ＤＶＤ−ＲＯＭなど、レーザーによって情報を１回だけ書き込め、係る情報を再生できるＣＤ−Ｒ、ＤＶＤ−Ｒなど、情報の記録再生が繰り返しできる光磁気ディスク（ＭＯ）、ＤＶＤ−ＲＡＭ、ＤＶＤ−ＲＷなどに対応した光ピックアップ装置が開発されている。
【０００３】
このような光ピックアップ装置の光学系には、装置の小型化や高性能化を図るために様々な光学部品が組み込まれて使用されている。例えば、光源であるレーザー、回折格子、波長板、ハーフミラー、偏光性回折素子、対物レンズなどが代表的な部品の例である。
【０００４】
これら部品の中で、偏光性回折素子とは、直線偏光であるレーザー光を往路では透過し、復路では透過しない、いわゆる戻り光をブロックするための光学部品である。偏光性回折素子としては、従来からガラス基板やプラスチック基板を用いて作製されるもの（例えば、特許文献１および２参照）やニオブ酸リチウムなどの光学異方性の結晶基板を用いて作製されるものが知られている（例えば、特許文献３参照）。これらはすべて、フォトリソグラフィー工程やエッチング工程を経て製造されるものである。
【０００５】
ところが、上記のようにフォトリソグラフィー工程やエッチング工程を経て製造される場合には、装置の制約上から基板としては枚葉の基板しか用いることができない。そのため、いわゆるバッチ処理でしか製造できないために連続生産性が乏しいのが実情である。
また、フォトリソグラフィー工程やエッチング工程はフォトレジストやエッチングによって除去される材料があることを前提とした工程であり、偏光性回折素子の製造工程が煩雑であることも相まって、コストや経済性の観点から問題があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開平１１−０６４６１５号公報
【特許文献２】特開２００４−１３３０７４号公報
【特許文献３】特開平１１−２９５５２４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は上記従来技術の有する課題を鑑みてされたものであり、連続生産性に優れており、経済性に優れ、かつ得られる偏光性回折素子の光学特性にも優れた偏光性回折素子の製造方法を提供すること、および該製造方法で得られた偏光性回折素子を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは上記課題を達成するために鋭意研究を重ねた結果、特定の偏光性回折素子の製造方法により、得られる偏光性回折素子は、光学特性に優れることを見出した。
また、該製造方法は、従来の製造方法と比べて、フォトリソグラフィー工程やエッチング工程を必要としないため、基材の制約が少なく、連続生産性に優れており、経済性にも優れることを見出し、本発明を完成させた。
【０００９】
すなわち、本発明の偏光性回折素子は透明樹脂（Ａ）からなる基材（ａ）の少なくとも片面に、分子配向能を有する層（Ｂ）、凹部と凸部とが連続的に形成された化合物（Ｃ）に由来する構造単位を有する層（ＬＣ）、および前記層（ＬＣ）の凹部および凸部と嵌合する連続した凸部と凹部を有する、化合物（Ｄ）を含有する組成物から形成された層（ＬＤ）がこの順番で積層されてなり、前記層（ＬＣ）が光学異方性を有し、前記層（ＬＤ）が光学等方性を有する。
【００１０】
また、本発明の偏光性回折素子は、透明樹脂（Ａ）からなる基材（ａ）の少なくとも片面に、分子配向能を有する層（Ｂ）、凹部と凸部とが連続的に形成された化合物（Ｃ）に由来する構造単位を有する層（ＬＣ）、前記層（ＬＣ）の凹部および凸部と嵌合する連続した凸部と凹部を有する、化合物（Ｄ）を含有する組成物から形成された層（ＬＤ）、および透明樹脂（Ｅ）からなる基材（ｅ）がこの順番で積層されてなり、前記層（ＬＣ）が光学異方性を有し、前記層（ＬＤ）が光学等方性を有することが好ましい。
【００１１】
前記基材（ａ）および分子配向能を有する層（Ｂ）に、延伸処理が施されていることが好ましい。
前記分子配向能を有する層（Ｂ）に、ラビング処理が施されていることも好ましい。
【００１２】
前記分子配向能を有する層（Ｂ）が、（メタ）アクリル系化合物、ポリイミド、ポリビニルアルコールおよびポリウレタンより選ばれる少なくとも１種を含む組成物からなることが好ましい。
【００１３】
前記分子配向能を有する層（Ｂ）が、下記式（Ｉ）で表される構造を有する重合体を含む組成物からなり、層（Ｂ）は放射線の照射によって分子配向能を付与されてなることも好ましい。
【００１４】
【化１】
2010156956.tif 000003
[式（Ｉ）中、Ｒ1は−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−ＣＯＮＨ−、−ＣＯ−Ｅ−、非置換またはハロゲン基、シアノ基およびニトロ基から選ばれる基を有する１,４-フェニレン、あるいはピリジン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、２，５−チオフェンジイル、２，５−フラニレン、１，４−ナフチレン、または２，６−ナフチレンを表し、Ｅは非置換またはハロゲン基、シアノ基およびニトロ基から選ばれる基を有する１,４-フェニレン、あるいはピリジン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、２，５−チオフェンジイル、２，５−フラニレン、１，４−ナフチレン、または２，６−ナフチレンを表し、Ｚ1は単結合、非置換またはハロゲン基、シアノ基およびニトロ基から選ばれる基を有する１,４-フェニレン、あるいはピリジン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、２，５−チオフェンジイル、２，５−フラニレン、トランス−１，４−シクロヘキシレン、トランス−１，３−ジオキサン−２，５−ジイルまたは１，４−ピペリジルを表し、Ａｒ1は芳香族環を有する１価の基を表す。]
【００１５】
前記化合物（Ｃ）が紫外線硬化型液晶を含むことが好ましい。
前記化合物（Ｄ）が紫外線硬化型樹脂を含むことが好ましい。
前記化合物（Ｄ）が紫外線硬化型（メタ）アクリル樹脂を含むことがより好ましい。
前記透明樹脂（Ａ）が、環状オレフィン系樹脂を含むことが好ましい。
前記透明樹脂（Ｅ）が、透明樹脂（Ａ）と同様の樹脂であることが好ましい。
【００１６】
本発明の偏光性回折素子の製造方法（第一の態様）は、（１）透明樹脂（Ａ）からなる基材（ａ）の少なくとも片面に、分子配向能を有する層（Ｂ）を形成し、基材（ｂ）を得る工程、（２）透明樹脂（Ｅ）からなる基材（ｅ）の片面に、転写により化合物（Ｄ）を含む組成物からなる凹部と凸部とが連続的に形成されたパターンを形成し、基材（ｆ）を得る工程、および（３）前記基材（ｂ）の分子配向能を有する層（Ｂ）と、基材（ｆ）のパターンを有する面とを化合物（Ｃ）を含む組成物を介して、対向させてラミネートする工程を有する偏光性回折素子の製造方法であり、前記化合物（Ｄ）を含む組成物からなるパターン部分が光学等方性を有し、前記化合物（Ｃ）を含む組成物に由来する部分が光学異方性を有することを特徴とする。
【００１７】
前記（３）工程が、化合物（Ｃ）を含む組成物を前記基材（ｂ）の層（Ｂ）に塗布し、該塗布面と前記基材（ｆ）のパターンを有する面と対向させてラミネートする工程であることが好ましい。
【００１８】
前記（３）工程が、化合物（Ｃ）を含む組成物を前記基材（ｆ）のパターンを有する面に塗布し、該塗布面と前記基材（ｂ）の層（Ｂ）面と対向させてラミネートする工程であることも好ましい。
【００１９】
工程（１）において、層（Ｂ）を形成する際に、延伸処理が行われることが好ましい。
本発明の偏光性回折素子の製造方法（第二の態様）は、（Ｉ）透明樹脂（Ａ）からなる基材（ａ）の少なくとも片面に、分子配向能を有する層（Ｂ）を形成し、基材（ｂ）を得る工程、（ＩＩ）基材（ｂ）の層（Ｂ）に、転写により化合物（Ｃ）を含む組成物からなる凹部と凸部とが連続的に形成されたパターンを形成し、基材（ｃ）を得る工程、および（ＩＩＩ）前記基材（ｃ）のパターンを有する面に、化合物（Ｄ）を含む組成物を塗布し、前記凹部を少なくとも化合物（Ｄ）により充填し、充填部を有する基材（ｄ）を得る工程を有する偏光性回折素子の製造方法であり、前記凸部に由来する部分が光学異方性を有し、前記充填部に由来する部分が光学等方性を有することを特徴とする。
【００２０】
工程（Ｉ）において、層（Ｂ）を形成する際に、延伸処理が行われることが好ましい。
前記透明樹脂（Ａ）および透明樹脂（Ｅ）が同様の樹脂であることが好ましい。
前記偏光性回折素子の充填部を有する面に、更に透明性樹脂（Ｅ）からなる基材（ｅ）を配設する工程を有することが好ましい。
前記基材（ａ）が、透明樹脂（Ａ）からなる、長手方向に少なくとも３ｍ以上連続したロール形状の基材であることが好ましい。
【００２１】
本発明の偏光性回折素子の製造方法（第三の態様）は、（ｉ）透明樹脂（Ａ）からなる基材（ａ'）の少なくとも片面に、転写により化合物（Ｃ）を含む組成物からなる凹部と凸部とが連続的に形成されたパターンを形成し、基材（ｂ）を得る工程、および（ｉｉ）前記基材（ｂ）のパターンを有する面に、化合物（Ｄ）を含む組成物を塗布し、前記凹部を少なくとも化合物（Ｄ）により充填し、充填部を有する基材（ｃ）を得る工程を有する偏光性回折素子の製造方法であり、前記基材（ａ'）のパターンが形成される面が、分子配向能を有し、前記凸部に由来する部分が光学異方性を有し、前記充填部に由来する部分が光学等方性を有することを特徴とする。
【００２２】
前記偏光性回折素子の充填部を有する面に、更に透明性樹脂（Ｅ）からなる基材（ｅ）を配設する工程を有することが好ましい。
前記基材（ａ’）が、透明樹脂（Ａ）からなる、長手方向に少なくとも３ｍ以上連続したロール形状の基材であることが好ましい。
【発明の効果】
【００２３】
本発明によれば、光学特性に優れる偏光性回折素子および、該偏光性回折素子得るための、連続生産性に優れており、かつ経済性に優れた偏光性回折素子の製造方法を提供することができる。
【００２４】
該偏光性回折素子は、光ピックアップ装置などに組み込まれる光学部品などとして、好適に用いることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】第二の態様の偏光性回折素子の製造方法における、基材（ｃ）の模式図である。
【図２】第二の態様の偏光性回折素子の製造方法における、基材（ｄ）の模式図である。
【図３】第三の態様の偏光性回折素子の製造方法における、基材（ｂ）の模式図である。
【図４】第三の態様の偏光性回折素子の製造方法における、基材（ｃ）の模式図である。
【図５】第一の態様の偏光性回折素子の製造方法の（３）工程における一態様で用いられる、化合物（Ｃ）を含む組成物が塗布された基材（ｂ）の構造および基材（ｆ）の断面を示す模式図である。
【図６】第一の態様の偏光性回折素子の製造方法より得られる偏光性回折素子の模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００２６】
以下、本発明について具体的に説明する。
［偏光性回折素子］
本発明の偏光性回折素子は、透明樹脂（Ａ）からなる基材（ａ）の少なくとも片面に、分子配向能を有する層（Ｂ）、凹部と凸部とが連続的に形成された化合物（Ｃ）に由来する構造単位を有する層（ＬＣ）、および前記層（ＬＣ）の凹部および凸部と嵌合する連続した凸部と凹部を有する、化合物（Ｄ）を含有する組成物から形成された層（ＬＤ）がこの順番で積層されてなり、前記層（ＬＣ）が光学異方性を有し、前記層（ＬＤ）が光学等方性を有する。
【００２７】
また、本発明の偏光性回折素子は、透明樹脂（Ａ）からなる基材（ａ）の少なくとも片面に、分子配向能を有する層（Ｂ）、凹部と凸部とが連続的に形成された化合物（Ｃ）に由来する構造単位を有する層（ＬＣ）、前記層（ＬＣ）の凹部および凸部と嵌合する連続した凸部と凹部を有する、化合物（Ｄ）に由来する構造単位を有する層（ＬＤ）、および透明樹脂（Ｅ）からなる基材（ｅ）がこの順番で積層されてなり、前記層（ＬＣ）が光学異方性を有し、前記層（ＬＤ）が光学等方性を有することが好ましい。
【００２８】
本発明の偏光性回折素子は、例えば後述の偏光性回折素子の製造方法（第一の態様、第二の態様）により得られる素子である。本発明の偏光性回折素子は、面全体において高度に偏光回折性能が制御することが可能であり、光ピックアップ装置などに組み込まれる光学部品などとして好適に用いることができる。このようなレーザー光が通過する光学部品においては、レーザー光が通過する際にレーザー光がゆがまないために、部品の平滑性が求められる。このような平滑性の指標としては、透過波面収差（全面ＲＭＳ、λｒｍｓ）が用いられているが、本発明の製造方法により得られる偏光性回折素子においては、平滑な基材（ａ）を用いて、その上に材料を塗布して表面平滑性を得るため、十分な平滑性が確保できている。本発明の偏光性回折素子の透過波面収差としては、例えばＤＶＤ波長における光径２ｍｍφの場合の全面ＲＭＳ値で好ましくは２５ｍλ以下、さらに好ましくは２０ｍλ以下、最も好ましくは１５ｍλ以下である。全面ＲＭＳ値で２５ｍλを超える場合は、出射レーザー光がゆがみ、光ピックアップ装置の読み書き性能が低下するために好ましくない。
【００２９】
本発明の偏光性回折素子は、前記基材（ａ）および分子配向能を有する層（Ｂ）に、延伸処理が施されていてもよい。
層（Ｂ）を延伸処理によって形成することにより、分子配向能を層（Ｂ）に付与することができる。延伸処理によって形成された層（Ｂ）は、分子配向能を有し、該層上に積層される層（ＬＣ）に光学異方性を付与することができる。
【００３０】
延伸処理は、通常層（Ｂ）を形成する際に行われ、該延伸処理では基材（ａ）にも延伸処理が施される。延伸処理の具体的な方法は、後述の偏光性回折素子の製造方法（第一の態様、第二の態様）において、詳述する方法によって行うことが好ましい。
【００３１】
本発明の偏光性回折素子は、前記分子配向能を有する層（Ｂ）に、ラビング処理が施されていることが好ましい。ラビング処理は、分子配向能を有する層（Ｂ）に分子配向能を付与するための方法の一つである。なお、ラビング処理の具体的な方法は、後述の偏光性回折素子の製造方法（第一の態様、第二の態様）において、詳述する方法によって行うことが好ましい。
【００３２】
本発明の偏光性回折素子は、前記分子配向能を有する層（Ｂ）が（メタ）アクリル系化合物、ポリイミド、ポリビニルアルコールおよびポリウレタンより選ばれる少なくとも１種を含む組成物からなることが好ましい。
【００３３】
また、前記分子配向能を有する層（Ｂ）が、下記式（Ｉ）で表される構造を有する重合体を含む組成物からなり、層（Ｂ）は放射線の照射によって分子配向能を付与されてなることも好ましい。
【００３４】
【化２】
2010156956.tif 000004
[式（Ｉ）中、Ｒ1は−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−ＣＯＮＨ−、−ＣＯ−Ｅ−、非置換またはハロゲン基、シアノ基およびニトロ基から選ばれる基を有する１,４-フェニレン、あるいはピリジン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、２，５−チオフェンジイル、２，５−フラニレン、１，４−ナフチレン、または２，６−ナフチレンを表し、
Ｅは非置換またはハロゲン基、シアノ基およびニトロ基から選ばれる基を有する１,４-フェニレン、あるいはピリジン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、２，５−チオフェンジイル、２，５−フラニレン、１，４−ナフチレン、または２，６−ナフチレンを表し、
Ｚ1は単結合、非置換またはハロゲン基、シアノ基およびニトロ基から選ばれる基を有する１,４-フェニレン、あるいはピリジン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、２，５−チオフェンジイル、２，５−フラニレン、トランス−１，４−シクロヘキシレン、トランス−１，３−ジオキサン−２，５−ジイルまたは１，４−ピペリジルを表し、
Ａｒ1は芳香族環を有する１価の基を表す。]
【００３５】
前記（メタ）アクリル系化合物、ポリイミド、ポリビニルアルコールおよびポリウレタンより選ばれる少なくとも１種を含む組成物に含まれる（メタ）アクリル系化合物としては、後述する化合物（Ｄ）に例示される（メタ）アクリレート化合物を反応させてなる重合体等が挙げられ、ポリイミドとしてはテトラカルボン酸二無水物とジアミンを反応させて得られるポリアミック酸を脱水環化させて得られるもの等が挙げられ、ポリビニルアルコールとしては、ポリビニルアルコールの水酸基を有機基で置換した変性ポリビニルアルコール等が挙げられ、ポリウレタンとしてはポリエーテルポリオールとポリイソシアネートを反応させてなる重合体などが挙げられる。
【００３６】
ここで、後述する化合物（Ｄ）に例示される（メタ）アクリレート化合物を反応させてなる重合体としては、紫外線硬化型の樹脂とすることが好ましく、予め重合体を得てから分子配向能を有する層（Ｂ）に使用してもよいし、モノマーや光重合開始剤（光ラジカル発生剤）等の組成物として基材（ａ）上に分子配向能を有する層（Ｂ）を形成してもよい。化合物（Ｄ）に由来する構造単位を含む層は、一般に光学等方性材料として使用されるが、ラビング処理や延伸処理等により、分子配向能を有する層としても利用が可能である。この場合、特に基材（ａ）が後述する環状オレフィン系樹脂を含む透明樹脂（Ａ）からなる場合には、（メタ）アクリレート化合物としては、基材（ａ）との密着性の観点から脂環式構造を含む単官能モノマーや多官能モノマーを含むことが好ましい。
【００３７】
また、（メタ）アクリル系化合物、ポリイミド、ポリビニルアルコールおよびポリウレタンより選ばれる少なくとも１種を含む組成物に含まれる他の成分としては、目的の物性を損なわない範囲内で、基材（ａ）の表面に対する接着性をさらに向上させる観点から、官能性シラン含有化合物、エポキシ化合物などが含有されていてもよい。
【００３８】
前記式（Ｉ）で表わされる構造を有する重合体を含む組成物に含まれる、前記式（Ｉ）で表わされる構造を有する重合体としては、特に限定はないが、例えば前記式（Ｉ）を測鎖に有する重合体が挙げられる。該重合体として、例えば特開２００３−３０７７３６、特開平６−２８７４５３に記載のポリイミド系重合体やアクリル系重合体等が挙げられる。また、式（Ｉ）で表わされる構造を有する重合体を含む組成物に含まれる他の成分としては、目的の物性を損なわない範囲内で、基材（ａ）の表面に対する接着性を向上させる観点から、官能性シラン含有化合物、エポキシ化合物などが含有されていてもよい。
【００３９】
また、本発明の偏光性回折素子において、分子配向能を有する層（Ｂ）の厚みは１〜５０００ｎｍが好ましく、さらに好ましくは５〜５００ｎｍ、最も好ましくは１０〜２００ｎｍである。
【００４０】
層（ＬＣ）は、化合物（Ｃ）を含む組成物から形成されることが好ましい。通常は化合物（Ｃ）として、光学異方性材料が用いられる。また、前記化合物（Ｃ）が紫外線硬化型液晶を含むことが好ましい。
【００４１】
なお、化合物（Ｃ）を含む組成物とは、光学異方性を有する組成物であり、通常は化合物（Ｃ）として、光学異方性材料が用いられる。
前述の光学異方性材料としては、光学的に異方性を有する材料であれば特に制限はないが、液晶材料が好ましく用いられる。液晶材料の中でも、連続的に経済的に偏光性回折素子を生産するという観点から、紫外線硬化型液晶が好ましく用いられる。
【００４２】
紫外線硬化型液晶としては、特に限定されることが無く、ネマティック型液晶、スメクティック型液晶にアクリレート基および／またはメタクリレート基を１個以上導入したものを用いることができる。
【００４３】
このような紫外線硬化型液晶の例としては、アゾキシ系液晶、シアノビフェニル系液晶、シッフ系液晶、シアノフェニルエステル系液晶、シアノフェニルシクロヘキサン系液晶、安息香酸フェニルエステル系液晶、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル系液晶、フェニルピリミジン系液晶、フェニルジオキサン系液晶などの低分子液晶にアクリレート基および／またはメタクリレート基を１個以上導入した紫外線硬化型液晶が挙げられる。また、これらの紫外線硬化型液晶は単独で使用してもよいし、２種以上を混合して使用してもよい。
【００４４】
前記化合物（Ｃ）を含む組成物としては、紫外線硬化型液晶自体が流動性を有する場合には、紫外線硬化型液晶のみでも、紫外線硬化型液晶を含む混合物でもよく、紫外線硬化型液晶の塗布性を向上させるために、溶剤を添加した溶液を組成物として用いてもよい。
この時、使用される溶剤としては、分子配向能を有する層（Ｂ）の分子配向能を損なわないものを適宜選択する。化合物（Ｃ）を含む組成物として溶剤を添加した溶液を用いる場合には、該組成物を、基材（ｂ）の層（Ｂ）に塗布した後に、加熱により溶剤を揮発させることが好ましい。この時、溶剤の添加量は、化合物（Ｃ）１００質量％に対して、好ましくは１〜５００質量％、さらに好ましくは１０〜４００質量％、特に好ましくは２０〜３００質量％である。
【００４５】
また、化合物（Ｃ）を含む組成物は光重合開始剤（光ラジカル発生剤）が添加されてなることが好ましい。光重合開始剤は、後述の（メタ）アクリレート化合物を重合（硬化）する際に用いることができる、光重合開始剤（光ラジカル発生剤）と同様のものを使用することができる。
【００４６】
光重合開始剤（光ラジカル発生剤）の添加量としては、本発明の紫外線硬化型液晶の質量１００質量％に対して、好ましくは１０質量％以下、さらに好ましくは５質量％以下、最も好ましくは３質量％以下である。添加量が１０質量％を超えると、未反応の光重合開始剤が液晶転移温度など偏光性回折素子の物性に与える影響が無視できなくなるため好ましくない。なお、市販の化合物（Ｃ）を含む組成物としては、例えばメルク株式会社製のＬｉｃｒｉｖｕｅTM  ＲＭＭ７２７等が挙げられる。
【００４７】
層（ＬＤ）は、化合物（Ｄ）を含む組成物から形成される。通常は化合物（Ｄ）として、光学等方性材料が用いられる。また、前記化合物（Ｄ）が紫外線硬化型樹脂を含むことが好ましい。化合物（Ｄ）が紫外線硬化型樹脂であると、本発明の偏光性回折素子を連続的に生産することができるため好ましく、透明性や光学的な等方性を得やすい面から前記化合物（Ｄ）が紫外線硬化型（メタ）アクリル樹脂を含むことが好ましい。
【００４８】
前記紫外線硬化型（メタ）アクリル樹脂は、以下に示す（メタ）アクリレート化合物を重合することにより得られる樹脂を用いることが好ましい。（メタ）アクリレート化合物としては分子内に少なくとも一つの（メタ）アクリロイル基を有しているものであれば特に制限されるものではない。たとえば、（メタ）アクリレート化合物としては単官能（メタ）アクリレート化合物、多官能（メタ）アクリレート化合物が挙げられる。
【００４９】
なお、本発明において（メタ）アクリレート化合物とは、アクリレート化合物およびメタクリレート化合物からなる群から選択される少なくとも１種の化合物を示し、（メタ）アクリロイル基とは、アクリロイル基およびメタクリロイル基からなる群から選択される少なくとも１種の基を示す。
【００５０】
単官能（メタ）アクリレート化合物の具体例としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、２−フェノキシエチルアクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、アミル（メタ）アクリレート、イソアミル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、ヘプチル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ウンデシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート等のアルキル（メタ）アクリレート類；
ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート等のヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート類；フェノキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート等のフェノキシアルキル（メタ）アクリレート類；
メトキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシエチル（メタ）アクリレート、プロポキシエチル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシブチル（メタ）アクリレート等のアルコキシアルキル（メタ）アクリレート類；
ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、エトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート等のポリエチレングリコール（メタ）アクリレート類；
ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート等のポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート類；
シクロヘキシル（メタ）アクリレート、４−ブチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタジエニル（メタ）アクリレート、ボルニル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、トリシクロデカニル（メタ）アクリレート等のシクロアルキル（メタ）アクリレート類；
ベンジル（メタ）アクリレート；テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレートなどが挙げられる。これらの単官能（メタ）アクリレート化合物は、１種単独で、または２種以上を混合して用いることができる。
【００５１】
また、多官能（メタ）アクリレート化合物の具体例としては、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等のアルキレングリコールジ（メタ）アクリレート類；
トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリヒドロキシエチルトリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等の多価アルコールのポリ（メタ）アクリレート類；
イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートジ（メタ）アクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート等のイソシアヌレートのポリ（メタ）アクリレート類；
トリシクロデカンジイルジメチルジ（メタ）アクリレート等のシクロアルカンのポリ（メタ）アクリレート類；
ビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加体のジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡのプロピレンオキサイド付加体のジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡのアルキレンオキサイド付加体のジ（メタ）アクリレート、水添ビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加体のジ（メタ）アクリレート、水添ビスフェノールＡのプロピレンオキサイド付加体のジ（メタ）アクリレート、水添ビスフェノールＡのアルキレンオキサイド付加体のジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルと（メタ）アクリル酸とから得られる（メタ）アクリレート等のビスフェノールＡの（メタ）アクリレート誘導体類；
３，３，４，４，５，５，６，６−オクタフルオロオクタンジ（メタ）アクリレート、３−（２−パーフルオロヘキシル）エトキシ−１，２−ジ（メタ）アクリロイルプロパン、Ｎ−ｎ−プロピル−Ｎ−２，３−ジ（メタ）アクリロイルプロピルパーフルオロオクチルスルホンアミド等の含フッ素（メタ）アクリレート類；
以下のビスフェノール構造を有するポリオール（ａ）と、有機ポリイソシアネート（ｂ）と、水酸基含有（メタ）アクリレート（ｃ）とを反応させて得られるウレタン（メタ）アクリレート類；
（ａ）ビスフェノール構造を有するポリオールとしては、ビスフェノールＡのアルキレンオキサイド付加ジオール、ビスフェノールＦのアルキレンオキサイド付加ジオール、水添ビスフェノールＡのアルキレンオキサイド付加ジオール、水添ビスフェノールＦのアルキレンオキサイド付加ジオール等が挙げられる。これらの中で、ビスフェノールＡのアルキレンオキサイド付加ジオールが好ましい。これらの市販品としては、例えば、日油（株）製  ＤＡ−４００、ＤＢ−４００等が挙げられる。
（ｂ）有機ポリイソシアネートとしては、ジイソシアネートが好ましく、例えば２，４−トリレンジイソシアネート、２，６−トリレンジイソシアネート、１，３−キシリレンジイソシアネート、１，４−キシリレンジイソシアネート、１，５−ナフタレンジイソシアネート、ｍ−フェニレンジイソシアネート、ｐ−フェニレンジイソシアネート、３，３′−ジメチル−４，４′−ジフェニルメタンジイソシアネート、４，４′−ジフェニルメタンジイソシアネート、３，３′−ジメチルフェニレンジイソシアネート、４，４′−ビフェニレンジイソシアネート等が挙げられる。このうち特に、２，４−トリレンジイソシアネート、２，６−トリレンジイソシアネート、１，３−キシリレンジイソシアネート、１，４−キシリレンジイソシアネートが好ましい。
（ｃ）水酸基含有（メタ）アクリレートとしては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェニルオキシプロピル（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールモノ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシアルキル（メタ）アクリロイルフォスフェート、４−ヒドロキシシクロヘキシル（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールモノ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールモノ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタンジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート等を挙げることができる。これらのうち、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート等が好ましい。
【００５２】
これらの多官能（メタ）アクリレート化合物は、１種単独で、または２種以上を混合して用いることができる。
これらの多官能（メタ）アクリレート化合物のうち、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレートなど、１分子内に含まれるアクリロイル基の数が多く、架橋密度の向上が図れ、優れた膜硬度を与える多官能（メタ）アクリレート化合物が特に好ましい。
【００５３】
前記透明樹脂（Ａ）としては、偏光性回折素子を使用する際のレーザー波長において透明であれば特に制限無く用いることができるが、前記レーザー波長における波長別光線透過率が、８５％以上であることが好ましく、８７％以上であることがより好ましく、８９％以上であることが最も好ましい。
【００５４】
前記透明樹脂（Ａ）としては例えば、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ＰＭＭＡ、ＰＳ、ＰＣ、ＰＥＳ、ＰＳＵ、環状オレフィン系樹脂などの熱可塑性樹脂、紫外線硬化型樹脂等を含むことが好ましい。中でも透明樹脂（Ａ）としては、環状オレフィン系樹脂を含むことが好ましい。透明樹脂（Ａ）が環状オレフィン系樹脂であると、耐熱性や耐久性および加工性に優れるため好ましい。環状オレフィン系樹脂としては、熱変形温度の指標となるガラス転移温度（Ｔｇ）が、通常９０〜２００℃であり、好ましくは１００〜１９０℃であり、さらに好ましくは１１０〜１８０℃である。Ｔｇが１１０℃以上である場合には、偏光性回折素子が優れた耐熱性を有するため好ましい。Ｔｇが９０℃未満である場合には、熱変形温度が低くなるため、耐熱性に問題が生じるおそれがあり、また、得られるフィルムにおける温度による光学特性の変化が大きくなるという問題が生じることがある。一方、Ｔｇが２００℃を超える場合には、加工温度が高くなりすぎるため、フィルム形状に加工する際に酸化劣化による着色が起こって光学特性が低下するという問題が生じる場合がある。
【００５５】
ここで、ガラス転移温度（Ｔｇ）とは、示差走査熱量計（ＤＳＣ）を用い、昇温速度２０℃／分、窒素雰囲気にて測定した際に得られる微分示差走査熱量曲線の最大ピーク温度（Ａ点）及び最大ピーク温度より−２０℃の温度（Ｂ点）を示差走査熱量曲線上にプロットし、Ｂ点を起点とするベースライン上の接線とＡ点を起点とする接線との交点として求められる。
【００５６】
前記透明樹脂（Ｅ）が、透明樹脂（Ａ）と同様の樹脂であることが好ましい。
なお、本発明の偏光性回折素子は、任意の層に、酸化防止剤、熱安定剤、光安定剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、消泡剤、界面活性剤（離型剤）などの公知の添加剤が、含有されていてもよい。
【００５７】
本発明の偏光性回折素子は、例えば後述の偏光性回折素子の製造方法（第一の態様、第二の態様）により得られる素子である。以下偏光性回折素子の製造方法について説明する。
【００５８】
［偏光性回折素子の製造方法］
本発明の偏光性回折素子の製造方法は、大きく三つの態様に分けられる。
本発明の偏光性回折素子の製造方法の、第一の態様は、（１）透明樹脂（Ａ）からなる基材（ａ）の少なくとも片面に、分子配向能を有する層（Ｂ）を形成し、基材（ｂ）を得る工程、（２）透明性樹脂（Ｅ）からなる基材（ｅ）の片面に、転写により化合物（Ｄ）を含む組成物からなる凹部と凸部とが連続的に形成されたパターンを形成し、基材（ｆ）を得る工程、および（３）前記基材（ｂ）の分子配向能を有する層（Ｂ）と、基材（ｆ）のパターンを有する面とを化合物（Ｃ）を含む組成物を介して、対向させてラミネートする工程を有する偏光性回折素子の製造方法であり、前記化合物（Ｄ）を含む組成物からなるパターン部分が光学等方性を有し、前記化合物（Ｃ）を含む組成物に由来する部分が光学異方性を有することを特徴とする。
【００５９】
本発明の偏光性回折素子の製造方法の、第二の態様は、（Ｉ）透明樹脂（Ａ）からなる基材（ａ）の少なくとも片面に、分子配向能を有する層（Ｂ）を形成し、基材（ｂ）を得る工程、（ＩＩ）基材（ｂ）の層（Ｂ）に、転写により化合物（Ｃ）を含む組成物からなる凹部と凸部とが連続的に形成されたパターンを形成し、基材（ｃ）を得る工程、および（ＩＩＩ）前記基材（ｃ）のパターンを有する面に、化合物（Ｄ）を含む組成物を塗布し、前記凹部を少なくとも化合物（Ｄ）により充填し、充填部を有する基材（ｄ）を得る工程を有する偏光性回折素子の製造方法であり、前記凸部に由来する部分が光学異方性を有し、前記充填部に由来する部分が光学等方性を有することを特徴とする。
【００６０】
本発明の偏光性回折素子の製造方法の、第三の態様は、（ｉ）透明樹脂（Ａ）からなる基材（ａ'）の少なくとも片面に、転写により化合物（Ｃ）を含む組成物からなる凹部と凸部とが連続的に形成されたパターンを形成し、基材（ｂ）を得る工程、および（ｉｉ）前記基材（ｂ）のパターンを有する面に、化合物（Ｄ）を含む組成物を塗布し、前記凹部を少なくとも化合物（Ｄ）により充填し、充填部を有する基材（ｃ）を得る工程を有する偏光性回折素子の製造方法であり、前記基材（ａ'）のパターンが形成される面が、分子配向能を有し、前記凸部に由来する部分が光学異方性を有し、前記充填部に由来する部分が光学等方性を有することを特徴とする。
【００６１】
本発明の偏光性回折素子の製造方法の中で、第一の態様および第二の態様では、前述の［偏光性回折素子］の項で記載した偏光性回折素子を製造することができる。また、本発明の偏光性回折素子の製造方法の中で、第三の態様では、前述の［偏光性回折素子］の項で記載した偏光性回折素子とは、別の構造の偏光性回折素子を得ることができる。具体的には、第一の態様における化合物（Ｄ）を含む組成物からなる凹部と凸部とが連続的に形成されたパターンに由来する層および、化合物（Ｃ）を含む組成物に由来する層が、それぞれ前述の［偏光性回折素子］の項で記載した偏光性回折素子の層（ＬＤ）および、層（ＬＣ）に相当する。また、第二の態様における化合物（Ｃ）を含む組成物からなる凹部と凸部とが連続的に形成されたパターンに由来する層および、充填部がそれぞれ前述の［偏光性回折素子］の項で記載した偏光性回折素子の層（ＬＣ）および、層（ＬＤ）に相当する。
【００６２】
なお、（１）透明樹脂（Ａ）からなる基材（ａ）の少なくとも片面に、分子配向能を有する層（Ｂ）を形成し、基材（ｂ）を得る工程を、（１）工程、（２）透明性樹脂（Ｅ）からなる基材（ｅ）の片面に、転写により化合物（Ｄ）を含む組成物からなる凹部と凸部とが連続的に形成されたパターンを形成し、基材（ｆ）を得る工程を、（２）工程、（３）前記基材（ｂ）の分子配向能を有する層（Ｂ）と、基材（ｆ）のパターンを有する面とを化合物（Ｃ）を含む組成物を介して、対向させてラミネートする工程を、（３）工程とも記す。
【００６３】
また、（Ｉ）透明樹脂（Ａ）からなる基材（ａ）の少なくとも片面に、分子配向能を有する層（Ｂ）を形成し、基材（ｂ）を得る工程を、（Ｉ）工程、（ＩＩ）基材（ｂ）の層（Ｂ）に、転写により化合物（Ｃ）を含む組成物からなる凹部と凸部とが連続的に形成されたパターンを形成し、基材（ｃ）を得る工程を、（ＩＩ）工程、（ＩＩＩ）前記基材（ｃ）のパターンを有する面に、化合物（Ｄ）を含む組成物を塗布し、前記凹部を少なくとも化合物（Ｄ）により充填し、充填部を有する基材（ｄ）を得る工程を、（ＩＩＩ）工程、（ｉ）透明樹脂（Ａ）からなる基材（ａ'）の少なくとも片面に、転写により化合物（Ｃ）を含む組成物からなる凹部と凸部とが連続的に形成されたパターンを形成し、基材（ｂ）を得る工程を、（ｉ）工程、（ｉｉ）前記基材（ｂ）のパターンを有する面に、化合物（Ｄ）を含む組成物を塗布し、前記凹部を少なくとも化合物（Ｄ）により充填し、充填部を有する基材（ｃ）を得る工程を、（ｉｉ）工程とも記す。
【００６４】
〔第一の態様〕
本発明の偏光性回折素子の製造方法の、第一の態様は、後述する（１）〜（３）工程を有し、化合物（Ｄ）を含む組成物からなるパターン部分が光学等方性を有し、前記化合物（Ｃ）を含む組成物に由来する部分が光学異方性を有する。
【００６５】
＜（１）工程＞
本発明の第一の態様の偏光性回折素子の製造方法が有する（１）工程とは、（１）透明樹脂（Ａ）からなる基材（ａ）の少なくとも片面に、分子配向能を有する層（Ｂ）を形成し、基材（ｂ）を得る工程である。
【００６６】
すなわち、本発明の（１）工程で得られる基材（ｂ）は、基材（ａ）および該基材（ａ）上に形成された層（Ｂ）を少なくとも一層有する積層体である。
第一の態様の偏光性回折素子の製造方法における透明樹脂（Ａ）としては、本発明の製造方法により得られる偏光性回折素子を使用する際のレーザー波長において透明であれば特に制限無く用いることができる。
【００６７】
前記透明樹脂（Ａ）としては、前述の[偏光性回折素子］の項で記載した透明性樹脂（Ａ）を用いることが好ましい。
また、透明樹脂（Ａ）としては、熱可塑性樹脂が通常用いられるが、構造を適宜調製した紫外線硬化樹脂を用いることもできる。紫外線硬化樹脂としては、例えば化合物（Ｄ）として例示した紫外線硬化型（メタ）アクリル樹脂を用いることができる。
【００６８】
（基材（ａ））
第一の態様の偏光性回折素子の製造方法における基材（ａ）は、前記透明樹脂（Ａ）からなる。
【００６９】
前記基材（ａ）は、枚葉の形態でもよく、長手方向に長尺の形態を有してもよい。長手方向に長尺の形態を有する所謂ロール形状とした場合が、連続生産性の観点からより好ましいが、ロール形状とした後に枚葉の形態に裁断を施すことも好ましい。なお、基材（ａ）は、前記透明樹脂（Ａ）からなる基材であるため、ガラス基板や結晶基板と比べて、柔らかく、容易にロール形状とすることができるため好ましく、また所望の形状に打ち抜く等の加工が容易であるために好ましい。
【００７０】
基材（ａ）としては、連続生産性の観点からロール形状の基材であることが好ましく、長手方向に少なくとも３ｍ以上連続したロール形状の基材であることがより好ましく、長手方向に５０ｍ以上連続したロール形状の基材であることが特に好ましい。長さの上限は、工業的な取り扱い性を鑑みると、好ましくは３０００ｍ以下、さらに好ましくは２０００ｍ以下とするのがよい。３０００ｍより長くなると、ロール径やロール重量が増加して製造に用いる装置が大型化するために実生産としては非効率的となるために好ましくない。
【００７１】
基材（ａ）がロール形状である場合、基材（ａ）の幅には特に制限は無いが、工業的な取り扱い性を鑑みると、好ましくは３００〜２２００ｍｍ、さらに好ましくは５００〜１５００ｍｍとするのがよい。３００ｍｍより幅が狭くなると、経済的な生産性の観点から好ましくなく、２２００ｍｍより幅が広くなると製造に用いる装置が大型化するために実生産としては非効率的となるために好ましくない。また、基材（ａ）の厚みは光学部品としての形態を保持できれば特に制限はないが、ロール形状とする場合には１０〜５００μｍとすることが好ましく、さらに好ましくは５０〜３００μｍであり、最も好ましくは８０〜２００μｍである。厚みが３０μｍ未満では基材としての剛性が弱いために好ましくなく、厚みが３００μｍを超えるとロール形状とするのが困難なことに加えて、ロール形状としたときの巻き長さが短くなってしまうために、連続生産性が落ちるため好ましくない。また厚みが３００μｍを超えると、打ち抜きなどの加工を行なう際にバリが発生したり、クラックが発生したりし易くなるという観点からも好ましくない。
【００７２】
基材（ａ）を枚葉の形態とする場合には、工業的な取り扱い性を鑑みると、幅および長さが３〜１００ｃｍとすることが好ましく、さらに好ましくは５〜８０ｃｍとするのがよい。なお、幅と長さは一致する必要はなく、適宜加工しやすい大きさに設定すればよい。例えば、Ａ４サイズをもって枚葉の形態とする場合には、２１ｃｍ×３０ｃｍの大きさとなる。枚葉の場合には、幅と長さが３ｃｍ未満とすると工業的に生産性が欠けるために好ましくなく、幅と長さが１００ｃｍを超える場合には、装置が大型化して加工性に欠け、かえって生産性が乏しくなるために好ましくない。
【００７３】
（層（Ｂ）の形成）
（Ｉ）工程においては、前記基材（ａ）の少なくとも片面に、分子配向能を有する層（Ｂ）を形成する。
【００７４】
なお、分子配向能を有する層（Ｂ）とは、通常（メタ）アクリル系化合物、ポリイミド、ポリビニルアルコールおよびポリウレタンより選ばれる少なくとも１種を含む組成物や、下記式（Ｉ）で表わされる構造を有する重合体を含む組成物からなる。
【００７５】
【化３】
2010156956.tif 000005
[式（Ｉ）中、Ｒ１は−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−ＣＯＮＨ−、−ＣＯ−Ｅ−、非置換またはハロゲン基、シアノ基およびニトロ基から選ばれる基を有する１,４-フェニレン、あるいはピリジン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、２，５−チオフェンジイル、２，５−フラニレン、１，４−ナフチレン、または２，６−ナフチレンを表し、
Ｅは非置換またはハロゲン基、シアノ基およびニトロ基から選ばれる基を有する１,４-フェニレン、あるいはピリジン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、２，５−チオフェンジイル、２，５−フラニレン、１，４−ナフチレン、または２，６−ナフチレンを表し、
Ｚ1は単結合、非置換またはハロゲン基、シアノ基およびニトロ基から選ばれる基を有する１,４-フェニレン、あるいはピリジン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、２，５−チオフェンジイル、２，５−フラニレン、トランス−１，４−シクロヘキシレン、トランス−１，３−ジオキサン−２，５−ジイルまたは１，４−ピペリジルを表し、
Ａｒ1は芳香族環を有する１価の基を表す。]
【００７６】
前記（メタ）アクリル系化合物、ポリイミド、ポリビニルアルコールおよびポリウレタンとしては、前述の[偏光性回折素子］の項で記載したものを用いることが好ましい。
【００７７】
また、（メタ）アクリル系化合物、ポリイミド、ポリビニルアルコールおよびポリウレタンより選ばれる少なくとも１種を含む組成物に含まれる他の成分としては、目的の物性を損なわない範囲内で、基材（ａ）の表面に対する接着性を向上させる観点から、官能性シラン含有化合物、エポキシ化合物などが含有されていてもよい。
【００７８】
前記式（Ｉ）で表わされる構造を有する重合体を含む組成物に含まれる、前記式（Ｉ）で表わされる構造を有する重合体としては、前述の[偏光性回折素子］の項で記載したものを用いることが好ましい。
また、式（Ｉ）で表わされる構造を有する重合体を含む組成物に含まれる他の成分としては、目的の物性を損なわない範囲内で、基材（ａ）の表面に対する接着性を向上させる観点から、官能性シラン含有化合物、エポキシ化合物などが含有されていてもよい。
【００７９】
分子配向能を有する層（Ｂ）の厚みは１〜５０００ｎｍが好ましく、さらに好ましくは５〜５００ｎｍ、最も好ましくは１０〜２００ｎｍである。
分子配向能を有する層（Ｂ）は、ラビング処理によって分子配向能が付与されていてもよい。具体的に分子配向能を有する層（Ｂ）が（メタ）アクリル系化合物、ポリイミド、ポリビニルアルコールおよびポリウレタンより選ばれる少なくとも１種を含む組成物からなる場合には、ラビング処理によって分子配向能が付与されることが好ましい。
【００８０】
ラビング処理は、公知の方法により行うことができるが、例えば基材（ａ）に、（メタ）アクリル系化合物、ポリイミド、ポリビニルアルコールおよびポリウレタンより選ばれる少なくとも１種を含む組成物を塗布し、基材（ａ）上に塗布膜を形成し、金属製ロールの表面に、コットンやレーヨンなどのラビング布を巻きつけ、当該ロールを回転させながら、前記塗布膜の表面に接触させ、分子配向能を有する層（Ｂ）を形成する処理が挙げられる。ラビング処理の処理条件としては特に限定されるものではないが、ロール回転数は１００〜２０００ｒｐｍが好ましく、さらに好ましくは２００〜１５００ｒｐｍ、最も好ましくは３００〜９００ｒｐｍである。塗布膜を形成した基材（ａ）の搬送速度は、１〜５０ｍ／分が好ましく、さらに好ましくは３〜３０ｍ／分である。ロール押し込み量は０．１〜０．５ｍｍが好ましく、さらに好ましくは０．２〜０．４ｍｍである。
【００８１】
上記処理条件で行うと、前記塗布膜の全面にわたって均一なラビング処理ができるため分子配向を有する層（Ｂ）を好適に形成することができる。ラビングの方向は、ラビングロールの回転軸方向とフィルム（塗布膜を形成した基材（ａ））長手方向のなす角によって決定されるが、ラビングロールがフィルム幅全体をカバーできる範囲であれば、特に制限はない。ラビング方向は液晶分子の配向方向を決定するため、所望の方向に設定して、ラビング処理を実施すればよい。
【００８２】
なお、前記ラビング処理は、一般に異物発生を伴う。これは、ラビング布の繊維が脱落したものや、ラビングに供したフィルム表面の材質が削られて脱落するものや、発生する静電気によって周囲の環境異物が付着することに由来する。従って、これら異物を除去することが必要となり、異物を吹き飛ばして吸引したり、洗浄をしたりすることが好ましい。なかでも、水による洗浄が好ましく用いられる。特に、ポリイミドを含む組成物を塗布することにより形成した塗布膜から形成された層（Ｂ）は、ポリイミドの構造に由来して水に対する耐性が高く、水洗を行ってもラビング効果を損なうことなく後述する光学異方性材料を配向させることができるために好ましい。また、ポリビニルアルコール、ポリウレタンより選ばれる少なくとも１種を含む組成物を塗布することにより形成した塗布膜から形成された層（Ｂ）は、水洗を行うとポリビニルアルコールおよびポリウレタンが水への耐性が低いため、後述する光学異方性材料を配向させることができなくなるため、水洗を行うことは好ましくない。なお、ポリビニルアルコールとして、架橋構造を有する変性ポリビニルアルコールを用いた場合やポリウレタンとして架橋構造を有するポリエーテルポリオールとポリイソシアネートを反応させてなる重合体などの変性ポリウレタンを用いた場合には架橋構造により水への耐性が発現するため、ポリビニルアルコールおよびポリウレタンを含む組成物を塗布することにより形成した塗布膜から形成された層（Ｂ）は、水洗が行われても、ラビング効果を損なうことなく、後述する光学異方性材料を配向させることができる。
【００８３】
前記分子配向能を有する層（Ｂ）が、上記式（Ｉ）で表わされる構造を有する重合体を含む組成物からなる場合には、放射線の照射によって分子配向能が付与されることが好ましい。
【００８４】
放射線の照射は、公知の方法により行うことができるが、例えば基材（ａ）に、上記式（Ｉ）で表わされる構造を有する重合体を含む組成物を塗布し、基材（ａ）上に塗布膜を形成し、該塗布膜に直線偏光ないしは部分偏光された放射線または無偏光の放射線を照射し、場合によってはさらに１５０〜２５０℃の温度で加熱処理を行い、塗布膜に配向能を付与することにより、分子配向能を有する層（Ｂ）を形成することができる。放射線としては、１５０ｎｍ〜８００ｎｍの波長を有する紫外線および可視光線を用いることができるが、３２０ｎｍ〜４５０ｎｍの波長を有する紫外線が好ましい。
【００８５】
また、第一の態様の偏光性回折素子の製造方法においては、工程（１）において、層（Ｂ）を形成する際に、延伸処理が行われてもよい。
具体的には、前記基材（ａ）の少なくとも片面に、前記（メタ）アクリル系化合物、ポリイミド、ポリビニルアルコールおよびポリウレタンより選ばれる少なくとも１種を含む組成物や、下記式（Ｉ）で表わされる構造を有する重合体を含む組成物を塗布したのちに、前記基材（ａ）および塗布により形成される塗布膜を延伸処理することにより、分子配向能を有する層（Ｂ）を基材（ａ）上に形成することができ、基材（ｂ）が得られる。
【００８６】
前記基材（ａ）および塗布により形成される塗布膜に延伸処理を行う際には、通常は加熱延伸処理により行われる。加熱延伸は、ラビング処理と比較して異物などの発生が少なく、また歩留まり良く生産することができるため好ましい。
【００８７】
前記基材（ａ）および塗布により形成される塗布膜を延伸する方法としては、（１）加熱下で前記基材（ａ）および塗布により形成される塗布膜の長手方向に一軸延伸する方法（以下（１’）の方法とも記す）、（２）加熱下で、前記基材（ａ）および塗布により形成される塗布膜の幅方向に一軸延伸する方法（以下（２’）の方法とも記す）が好ましい。
【００８８】
前記基材（ａ）および塗布により形成される塗布膜を延伸する際には、延伸時の加熱温度が、前記基材（ａ）および塗布により形成される塗布膜の延伸部位全体において精密に制御されていることが好ましい。
【００８９】
上記（１’）の方法で前記基材（ａ）および塗布により形成される塗布膜を延伸する場合には、前記基材（ａ）および塗布により形成される塗布膜を長手方向に一軸延伸することにより、基材（ｂ）が得られる。例えば、上記（１’）の方法における長手方向の一軸延伸、すなわち縦一軸延伸は、温度分布が設定温度±０．６℃以内、好ましくは設定温度±０．４℃以内、より好ましくは設定温度±０．２℃以内にコントロールされたオーブン中で行うのが望ましい。
【００９０】
ここで、設定温度は、オーブン中の全領域で等しい温度であってもよく、段階的にあるいは勾配的に分布を設けた温度であってもよい。設定温度が分布を設けた温度である場合には、オーブン中の実際の温度分布と、設定された温度分布とが、±０．６℃以内、好ましくは±０．４℃以内、より好ましくは±０．２℃以内であるのが望ましい。
【００９１】
長手方向一軸延伸の設定温度は、前記基材（ａ）および塗布により形成される塗布膜を原料の種類、延伸倍率および延伸速度、前記基材（ａ）および塗布により形成される塗布膜の厚み、延伸後の光学異方性材料の所望位相差などにより設定すればよく、特に限定されるものではないが、たとえば、基材（ａ）のガラス転移温度（Ｔｇ）を基準として、（Ｔｇ＋０）℃〜（Ｔｇ＋３０）℃の範囲である。このような温度範囲では、前記基材（ａ）および塗布により形成される塗布膜の熱劣化が起きることなく、また破断することなく延伸できるため好ましい。
【００９２】
上記（１’）の方法においては、長手方向一軸延伸の延伸倍率は、たとえば１．１〜２．５倍、好ましくは１．１〜２．０倍、特に好ましくは１．２〜１．５倍の範囲である。延伸倍率が１．１倍未満となると前記化合物（Ｃ）の配向が上手く均一に発現しないために好ましくなく、延伸倍率が２．５倍を超えると、加工の際に基材の破断が生じるなどの不具合が生じるために好ましくない。
【００９３】
また、上記（１’）の方法における長手方向一軸延伸の延伸速度は、たとえば２〜１００ｍ／分、好ましくは５〜５０ｍ／分の範囲である。
上記（２’）の方法で前記基材（ａ）および塗布により形成される塗布膜を延伸する場合には、前記基材（ａ）および塗布により形成される塗布膜を幅方向に一軸延伸することにより、基材（ｂ）が得られる。
【００９４】
この幅方向の一軸延伸、すなわち横一軸延伸を、長手方向の一軸延伸よりもさらに精密な温度制御下で行うことにより、全面において均質な偏光性回折素子を好適に得ることができる。たとえば、幅方向の一軸延伸は、温度分布が設定温度±０．５℃以内、好ましくは設定温度±０．３℃以内、より好ましくは設定温度±０．２℃以内にコントロールされたオーブン中で行うのが望ましい。
【００９５】
ここで、幅方向一軸延伸の設定温度は、長手方向一軸延伸の場合と同様、オーブン中の全領域で等しい温度であってもよく、段階的にあるいは勾配的に分布を設けた温度であってもよい。設定温度が分布を設けた温度である場合には、オーブン中の実際の温度分布と、設定された温度分布とが、±０．５℃以内、好ましくは±０．３℃以内、より好ましくは±０．２℃以内であるのが望ましい。この幅方向一軸延伸の設定温度は、長手方向一軸延伸の工程における設定温度と同様であってもよく、異なっていてもよい。
【００９６】
幅方向一軸延伸の設定温度は、長手方向一軸延伸の場合と同様に特に限定されるものではないが、例えば基材（ａ）のガラス転移温度（Ｔｇ）を基準として、（Ｔｇ＋０）℃〜（Ｔｇ＋３０）℃の範囲である。
【００９７】
幅方向一軸延伸の延伸倍率は、製造する偏光性回折素子の所望特性に応じて決定すればよいが、上記（２’）の方法による場合には、たとえば１．５〜５倍、好ましくは１．７〜４倍、特に好ましくは２〜３．５倍の範囲である。延伸倍率が１．５倍未満となると前記化合物（Ｃ）の配向が上手く均一に発現しないために好ましくなく、延伸倍率が５倍を超えると、加工の際に基材の破断が生じるなどの不具合が生じるために好ましくない。
上記幅方向一軸延伸の延伸速度は、たとえば２〜１００ｍ／分、好ましくは５〜５０ｍ／分の範囲である。
【００９８】
＜（２）工程＞
本発明の第一の態様の偏光性回折素子の製造方法が有する（２）工程とは、（２）透明性樹脂（Ｅ）からなる基材（ｅ）の片面に、転写により化合物（Ｄ）を含む組成物からなる凹部と凸部とが連続的に形成されたパターンを形成し、基材（ｆ）を得る工程である。なお、第一の態様の製造方法により得られる偏光性回折素子において、前記化合物（Ｄ）を含む組成物からなる凹部と凸部とが連続的に形成されたパターンに由来する層が、前述の［偏光性回折素子］の項で記載した偏光性回折素子の層（ＬＤ）に相当する。
【００９９】
該工程で得られる基材（ｆ）は、化合物（Ｄ）を含む組成物からなる凹部と凸部とが連続的に形成されたパターンを、透明性樹脂（Ｅ）からなる基材（ｅ）上に有する基材である。基材（ｆ）の模式図を図５（ａ）に示す。
【０１００】
（２）工程に用いる透明性樹脂（Ｅ）としては、前述の透明樹脂（Ａ）で例示した樹脂を用いることができ、透明樹脂（Ａ）と透明樹脂（Ｅ）が同様の樹脂であることが好ましい。また、基材（ｅ）としては、基材（ａ）で例示した基材を用いることができる。
【０１０１】
（パターン形成方法）
（２）工程においては、基材（ｅ）の片面に、転写により化合物（Ｄ）を含む組成物からなる凹部と凸部とが連続的に形成されたパターンを形成し、基材（ｆ）を得る。
【０１０２】
なお（２）工程においては、通常凹部と凸部とが連続的に形成されたパターンが、前記基材（ｅ）上に、化合物（Ｄ）を含む組成物により形成された塗膜に転写されて形成される。
【０１０３】
前記基材（ｅ）上に、転写により化合物（Ｄ）を含む組成物からなる凹部と凸部とが連続的に形成されたパターンを形成する方法としては、例えば前記基材（ｅ）上に化合物（Ｄ）を含む組成物を塗布し、該化合物（Ｄ）を含む組成物により形成された塗膜に凹部と凸部とが連続的に形成されたパターンを転写する方法（以下、転写法Ａ’という）が挙げられる。
【０１０４】
転写法Ａ’
転写法Ａ’では、まず前記基材（ｅ）上に化合物（Ｄ）を含む組成物を塗布し、必要に応じて加熱などの処理を行い乾燥して化合物（Ｄ）を含む塗膜を得る。この時、塗布する手法としては公知のコーティング方法を制限なく採用することができる。具体的な塗工方法としては、たとえば、スピンコート法、リップコート法、コンマコート法、ロールコート法、ダイコート法、ブレードコート法、ディップコート法、バーコート法、流延成膜法、グラビアコート法、プリント法等が挙げられる。中でも、厚み精度と量産性の観点から、コンマコート法やグラビアコート法などが好ましく用いられる。
【０１０５】
化合物（Ｄ）を含む塗膜の厚みとしては、所望するパターンが付与できれば特に制限はないが、厚み精度を確保する目的から、好ましくは１〜３０μｍ、さらに好ましくは１〜２０μｍ、最も好ましくは１〜１５μｍである。パターンの凹部深さとしては、使用するレーザーの波長や使用する材料種によって設計が異なるが、一般には１〜１０μｍの範囲である。従って、前述の範囲で塗布した材料の厚みを制御することで、厚み精度を確保しつつ、不要な材料を使用することも無く経済性に優れた設計とできるために好ましい。また、パターンの凸部と凹部の幅は、凸部の幅をＬで表し、凹部の幅をＳで表したときに、Ｌ／（Ｌ＋Ｓ）の値が０．４≦｛Ｌ／（Ｌ＋Ｓ）｝≦０．６であることが好ましく、さらに好ましくは０．４５≦｛Ｌ／（Ｌ＋Ｓ）｝≦０．５５である。なかでもＬ＝Ｓの場合、すなわち凸部の幅と凹部の幅が一致する場合が特に好ましい。さらに凸部の幅Ｌは、１μｍ≦Ｌ≦１０μｍであることが好ましく、さらに好ましくは１μｍ≦Ｌ≦５μｍ、最も好ましくは１μｍ≦Ｌ≦３μｍである。凹部の幅Ｓについても１μｍ≦Ｓ≦１０μｍであることが好ましく、さらに好ましくは１μｍ≦Ｓ≦５μｍ、最も好ましくは１μｍ≦Ｓ≦３μｍである。このような凸部の幅Ｌと凹部の幅Ｓを選択した場合に、所望の偏光回折能が得られるために好ましい。
【０１０６】
前記化合物（Ｄ）を含む組成物により形成された塗膜に凹部と凸部とが連続的に形成されたパターンを付与する方法としては、凹部と凸部とが連続的に形成されたモールドが好ましく用いられる。凹部と凸部とが連続的に形成されたモールドの材質としては、所望のパターンが作製できれば特に制限はないが、ニッケルなどの金属製のものやシリコン製のもの、あるいは合成石英などの透明なものなどが好ましく用いられる。また、形状を付与するために塗膜と密着させた後の型離れを良くするために、凹部と凸部とが連続的に形成されたモールド表面には、フッ素系やシリコーン系の離経済をコーティングするなどして離型処理を行うことも好ましい。凹部と凸部とが連続的に形成されたモールドの形状としては、平板状やロール形状など、所望のパターンが作製できれば特に制限はなく、基材が枚葉の形態の場合には、平板状のモールドを、基材がロールの形態の場合には、平板状あるいはロール形状のモールドを使用すればよい。
【０１０７】
なお、モールド等を用いて、前記化合物（Ｄ）を含む組成物により形成された塗膜に、パターンを付与するのと同時または付与後、速やかに、化合物（Ｄ）を含む組成物を硬化させることが好ましい。具体的には、化合物（Ｄ）として、紫外線硬化型（メタ）アクリル樹脂を用いる場合には、パターンを付与するのと同時または付与後、速やかに、紫外線を照射し、該樹脂を硬化させることが好ましい。紫外線を発生させる光源の例としては、メタルハライドランプや高圧水銀ランプが挙げられる。なお、紫外線照射は、パターンの上面から行ってもよく、基材（ｅ）を介して行ってもよい。連続的にパターンを形成する場合には、前記モールドの反対側から照射、すなわち基材（ｅ）を介してパターンに紫外線を照射することが好ましい。
【０１０８】
化合物（Ｄ）を含む組成物としては、光学異方性を有する組成物を用いる。なお、通常は化合物（Ｄ）として、光学等方性材料が用いられる。
前述の光学等方性材料としては、光学的に等方性を有する樹脂であれば特に制限はないが、連続的に経済的に偏光性回折素子を生産するという観点から、紫外線硬化型樹脂を含むことが好ましく、透明性や光学的な等方性を得やすい面から紫外線硬化型（メタ）アクリル樹脂を含むことがより好ましい。紫外線硬化型（メタ）アクリル樹脂としては、前述の[偏光性回折素子］の項で記載した紫外線硬化型（メタ）アクリル樹脂を用いることが好ましい。
【０１０９】
化合物（Ｄ）として、紫外線硬化型（メタ）アクリル樹脂を用いる場合には、化合物（Ｄ）を含む組成物には、光重合開始剤（光ラジカル発生剤）が含有されることが好ましい。該組成物中に光重合開始剤（光ラジカル発生剤）が含有されると、紫外線硬化型（メタ）アクリル樹脂を好適に重合（硬化）することができるため好ましい。
【０１１０】
光重合開始剤（光ラジカル発生剤）の具体例としては、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２，２'−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、キサントン、フルオレン、フルオレノン、ベンズアルデヒド、アントラキノン、トリフェニルアミン、カルバゾール、３−メチルアセトフェノン、４−クロロベンゾフェノン、４，４'−ジメトキシベンゾフェノン、４，４'−ジアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾイルプロピルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、チオキサントン、ジエチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）ブタン−１−オン、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オンなどが挙げられる。これらの光重合開始剤（光ラジカル発生剤）は、１種単独で、または２種以上を組み合わせて用いることができる。
【０１１１】
これらの光重合開始剤（光ラジカル発生剤）の中でも、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンが好ましい。
【０１１２】
また、このような光重合開始剤（光ラジカル発生剤）は、市販品を用いることができる。たとえば、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オンは、イルガキュア９０７（チバスペシャルティケミカルズ（株）製）として、また、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンは、イルガキュア１８４（チバスペシャルティケミカルズ（株）製）として入手することができる。
【０１１３】
光重合開始剤（光ラジカル発生剤）の添加量は、十分に硬化反応が進行する量であれば特に制限されないが、前記紫外線硬化型（メタ）アクリル樹脂１００重量部に対して、通常０．１〜２０重量部、好ましくは０．５〜１０重量部であることが望ましい。光重合開始剤（光ラジカル発生剤）の添加量が上記下限未満になると前記紫外線硬化型（メタ）アクリル樹脂の硬化反応が充分に進行せず、充分な硬度が得られないことがある。また、光重合開始剤（光ラジカル発生剤）の添加量が上記上限を超えると、紫外線硬化型（メタ）アクリル樹脂の保存安定性が低下することがある。
【０１１４】
前述のような化合物（Ｄ）を含む組成物を用いることにより、基材（ｆ）を得ることができる。また、基材（ｆ）を用いることにより、本発明の製造方法により得られる偏光性回折素子は、化合物（Ｄ）を含む組成物から形成されるパターン部分が光学等方性を有する。
【０１１５】
＜（３）工程＞
本発明の第一の態様の偏光性回折素子の製造方法が有する（３）工程とは、（３）前記基材（ｂ）の分子配向能を有する層（Ｂ）と、基材（ｆ）のパターンを有する面とを化合物（Ｃ）を含む組成物を介して、対向させてラミネートする工程である。
【０１１６】
前記（３）工程としては、化合物（Ｃ）を含む組成物を介して基材（ｂ）と、基材（ｆ）とがラミネートされるが、化合物（Ｃ）を含む組成物は、基材（ｂ）の層（Ｂ）に塗布してもよく、基材（ｆ）のパターンを有する面に塗布してもよい。
【０１１７】
具体的には、前記（３）工程が、化合物（Ｃ）を含む組成物を前記基材（ｂ）の層（Ｂ）に塗布し、該塗布面と前記基材（ｆ）のパターンを有する面と対向させてラミネートする工程である態様、前記（３）工程が、化合物（Ｃ）を含む組成物を前記基材（ｆ）のパターンを有する面に塗布し、該塗布面と前記基材（ｂ）の層（Ｂ）面と対向させてラミネートする工程である態様を例示することができる。
【０１１８】
なお、第一の態様の製造方法により得られる偏光性回折素子において、化合物（Ｃ）を含む組成物に由来する層が、前述の［偏光性回折素子］の項で記載した偏光性回折素子の層（ＬＣ）に相当する。
【０１１９】
該工程によって、偏光性回折素子が形成される。第一の態様の偏光性回折素子の製造方法により得られる偏光性回折素子の模式図を図６に示す。また、基材（ｆ）の構造を図５（ａ）に示し、化合物（Ｃ）を含む組成物が塗布された基材（ｂ）の構造を図５（ｂ）に示す。
【０１２０】
化合物（Ｃ）および化合物（Ｃ）を含む組成物としては、前述の[偏光性回折素子］の項で記載した化合物（Ｃ）および化合物（Ｃ）を含む組成物を用いることが好ましい。
前記（３）工程が、化合物（Ｃ）を含む組成物を前記基材（ｂ）の層（Ｂ）に塗布し、該塗布面と前記基材（ｆ）のパターンを有する面と対向させてラミネートする工程である場合には、図５に示すように、化合物（Ｃ）が塗布された面と、基材（ｆ）のパターンを有する面とが対向した状態でラミネートされる。
【０１２１】
ラミネートを行う際には２本のロール間でニップしてラミネートする方法でもよいし、支持基盤上に片方の基材を置いて、他方の基材を重ねながらロールでラミネートする方法でもよい。ラミネート時の圧力は、通常０．１〜２ＭＰａの範囲で適宜選択される。圧力が０．１ＭＰａより小さいと、気泡を噛む等して外観の不良が発生するために好ましくなく、圧力が２ＭＰａを越えると形成した凹凸が破壊される不具合があるために好ましくない。また、ラミネートの速度は、０．１〜３０ｍ／ｓが好ましく、さらに好ましくは０．３〜１０ｍ／ｓである。速度が０．１未満では生産性の観点から好ましくなく、逆に速度が３０ｍ／ｓより大きいと液晶の配向が乱れる不具合が生じるために好ましくない。さらに、ラミネート後、速やかに、化合物（Ｃ）を含む組成物を硬化させることが好ましい（前記層（ＬＣ）に相当する層が形成される）。具体的には、化合物（Ｃ）として、紫外線硬化型液晶を用いる場合には、ラミネート後速やかに、紫外線を照射し、該樹脂を硬化させることが好ましい。紫外線を発生させる光源の例としては、メタルハライドランプや高圧水銀ランプが挙げられる。なお、紫外線照射は、基材（ｅ）を介して行ってもよいし、基材（ｆ）を介して行ってもよい。
【０１２２】
なお、前述の透明樹脂（Ａ）、（メタ）アクリル系化合物、ポリイミド、ポリビニルアルコールおよびポリウレタンより選ばれる少なくとも１種を含む組成物、上記式（Ｉ）で表わされる構造を有する重合体を含む組成物、化合物（Ｃ）を含む組成物、化合物（Ｄ）を含む組成物および透明樹脂（Ｅ）には、必要に応じて、酸化防止剤、熱安定剤、光安定剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、消泡剤、界面活性剤（離型剤）などの公知の添加剤を発明の効果が損なわれない範囲で添加することができる。
【０１２３】
〔第二の態様〕
本発明の偏光性回折素子の製造方法の、第二の態様は、後述する（Ｉ）〜（ＩＩＩ）工程を有し、凸部に由来する部分が光学異方性を有し、充填部に由来する部分が光学等方性を有することを特徴とする。
【０１２４】
＜（Ｉ）工程＞
本発明の第二の態様の偏光性回折素子の製造方法が有する（Ｉ）工程とは、（Ｉ）透明樹脂（Ａ）からなる基材（ａ）の少なくとも片面に、分子配向能を有する層（Ｂ）を形成し、基材（ｂ）を得る工程である。前記工程（Ｉ）は、前述の第一の態様の偏光性回折素子の製造方法の、（１）工程と同様に行うことができる。
また、第二の態様の偏光性回折素子の製造方法においても、前記第一の態様と同様に、工程（Ｉ）において、層（Ｂ）を形成する際に、延伸処理が行われてもよい。
【０１２５】
＜（ＩＩ）工程＞
本発明の第二の態様の偏光性回折素子の製造方法が有する（ＩＩ）工程とは、（ＩＩ）基材（ｂ）の層（Ｂ）に、転写により化合物（Ｃ）を含む組成物からなる凹部と凸部とが連続的に形成されたパターンを形成し、基材（ｃ）を得る工程である。
【０１２６】
なお、第二の態様の製造方法により得られる偏光性回折素子において、前記化合物（Ｃ）を含む組成物からなる凹部と凸部とが連続的に形成されたパターンに由来する層が、前述の［偏光性回折素子］の項で記載した偏光性回折素子の層（ＬＣ）に相当する。
【０１２７】
該工程で得られる基材（ｃ）は、化合物（Ｃ）を含む組成物からなる凹部と凸部とが連続的に形成されたパターンを層（Ｂ）上に有する基材である。基材（ｃ）の模式図を図１に示す。
【０１２８】
（パターン形成方法）
（ＩＩ）工程においては、基材（ｂ）の層（Ｂ）に、転写により化合物（Ｃ）を含む組成物からなる凹部と凸部とが連続的に形成されたパターンを形成し、基材（ｃ）を得る。
【０１２９】
なお（ＩＩ）工程においては、通常凹部と凸部とが連続的に形成されたパターンが、前記基材（ｂ）上に、化合物（Ｃ）を含む組成物により形成された塗膜に転写されて形成される。
【０１３０】
前記基材（ｂ）の層（Ｂ）に、転写により化合物（Ｃ）を含む組成物からなる凹部と凸部とが連続的に形成されたパターンを形成する方法としては、例えば前記基材（ｂ）の層（Ｂ）上に化合物（Ｃ）を含む組成物を塗布し、該化合物（Ｃ）を含む組成物により形成された塗膜に凹部と凸部とが連続的に形成されたパターンを転写する方法（以下、転写法Ａという）が挙げられる。
【０１３１】
転写法Ａ
転写法Ａでは、まず前記基材（ｂ）の層（Ｂ）上に化合物（Ｃ）を含む組成物を塗布し、加熱などの処理を行い乾燥して化合物（Ｃ）を含む塗膜を得る。この時、塗布する手法としては公知のコーティング方法を制限なく採用することができる。具体的な塗工方法としては、たとえば、スピンコート法、リップコート法、コンマコート法、ロールコート法、ダイコート法、ブレードコート法、ディップコート法、バーコート法、流延成膜法、グラビアコート法、プリント法等が挙げられる。中でも、厚み精度と量産性の観点から、コンマコート法やグラビアコート法などが好ましく用いられる。
【０１３２】
化合物（Ｃ）を含む塗膜の厚みとしては、所望するパターンが付与できれば特に制限はないが、厚み精度を確保する目的から、好ましくは１〜３０μｍ、さらに好ましくは１〜２０μｍ、最も好ましくは１〜１５μｍである。パターンの凹部深さとしては、使用するレーザーの波長や使用する材料種によって設計が異なるが、一般には１〜１０μｍの範囲である。従って、前述の範囲で塗布した材料の厚みを制御することで、厚み精度を確保しつつ、不要な材料を使用することも無く経済性に優れた設計とできるために好ましい。また、パターンの凸部と凹部の幅は、凸部の幅をＬで表し、凹部の幅をＳで表したときに、Ｌ／（Ｌ＋Ｓ）の値が０．４≦｛Ｌ／（Ｌ＋Ｓ）｝≦０．６であることが好ましく、さらに好ましくは０．４５≦｛Ｌ／（Ｌ＋Ｓ）｝≦０．５５である。なかでもＬ＝Ｓの場合、すなわち凸部の幅と凹部の幅が一致する場合が特に好ましい。さらに凸部の幅Ｌは、１μｍ≦Ｌ≦１０μｍであることが好ましく、さらに好ましくは１μｍ≦Ｌ≦５μｍ、最も好ましくは１μｍ≦Ｌ≦３μｍである。凹部の幅Ｓについても１μｍ≦Ｓ≦１０μｍであることが好ましく、さらに好ましくは１μｍ≦Ｓ≦５μｍ、最も好ましくは１μｍ≦Ｓ≦３μｍである。このような凸部の幅Ｌと凹部の幅Ｓを選択した場合に、所望の偏光回折能が得られるために好ましい。
【０１３３】
前記化合物（Ｃ）を含む組成物により形成された塗膜に凹部と凸部とが連続的に形成されたパターンを付与する方法としては、凹部と凸部とが連続的に形成されたモールドが好ましく用いられる。凹部と凸部とが連続的に形成されたモールドの材質としては、所望のパターンが作製できれば特に制限はないが、ニッケルなどの金属製のものやシリコン製のもの、あるいは合成石英などの透明なものなどが好ましく用いられる。また、形状を付与するために塗膜と密着させた後の型離れを良くするために、凹部と凸部とが連続的に形成されたモールド表面には、フッ素系やシリコーン系の離経済をコーティングするなどして離型処理を行うことも好ましい。凹部と凸部とが連続的に形成されたモールドの形状としては、平板状やロール形状など、所望のパターンが作製できれば特に制限はなく、基材が枚葉の形態の場合には、平板状のモールドを、基材がロールの形態の場合には、平板状あるいはロール形状のモールドを使用すればよい。
【０１３４】
なお、化合物（Ｃ）を含む組成物からなる凹部と凸部とが連続的に形成されたパターンを得るためには、化合物（Ｃ）を含む組成物により形成された塗膜に、パターンを形成するのと同時または形成後、速やかに紫外線を照射し、前記紫外線硬化型液晶の紫外線硬化を行い、前記紫外線硬化型液晶の硬化物（重合体）を得ることが好ましい（ここで、前記層（ＬＣ）に相当する層が形成される）。
【０１３５】
また、前述のように化合物（Ｃ）を含む組成物を塗布した後、塗膜を得るために加熱を行う。該加熱は、液晶を配向させるために行なうが、化合物（Ｃ）を含む組成物として溶剤を添加した場合には、溶剤を揮発させるためにも行なう。加熱の温度としては、使用する液晶の種類にもよるが、通常液晶転移温度よりも高い温度に上げることが好ましく、透明樹脂（Ａ）や層（Ｂ）の耐熱性も鑑みると４０〜１５０℃とすることが好ましく、さらに好ましくは５０〜１４０℃である。加熱温度が１５０℃を超えると基材（ｂ）が変形する恐れがあり好ましくなく、逆に加熱温度が４０℃未満では、所望の配向が得られないため好ましくなく、溶剤が添加された場合には溶剤が揮発せずに残留してしまうために好ましくない。また、上記温度範囲であれば、加熱温度は段階的に上げてもよい。
【０１３６】
紫外線硬化を行う際の光源の例としては、メタルハライドランプや高圧水銀ランプが挙げられる。尚、紫外線照射は、パターンを有する面側から行ってもよく、パターンを有さない面側から行ってもよいが、連続的にパターンを形成する場合には、モールドが化合物（Ｃ）を含む組成物に接触した状態で、パターンを有さない面側から照射を行なってもよい。
【０１３７】
化合物（Ｃ）を含む組成物としては、光学異方性を有する組成物を用いる。なお、通常は化合物（Ｃ）として、光学異方性材料が用いられる。
前記化合物（Ｃ）として、後述するように紫外線硬化型液晶を含むことが好ましい。
【０１３８】
化合物（Ｃ）および化合物（Ｃ）を含む組成物としては、前述の[偏光性回折素子］の項で記載した化合物（Ｃ）および化合物（Ｃ）を含む組成物を用いることが好ましい。前述のような化合物（Ｃ）を含む組成物を用いることにより、本発明の製造方法により得られる偏光性回折素子の凸部に由来する部分が光学異方性を有する。
【０１３９】
＜（ＩＩＩ）工程＞
本発明の第二の態様の偏光性回折素子の製造方法が有する（ＩＩＩ）工程とは、（ＩＩＩ）前記基材（ｃ）のパターンを有する面に、化合物（Ｄ）を含む組成物を塗布し、前記凹部を少なくとも化合物（Ｄ）により充填し、充填部を有する基材（ｄ）を得る工程である。
【０１４０】
なお、第二の態様の製造方法により得られる偏光性回折素子において、前記化合物（Ｄ）を含む組成物から形成される、前記充填部は、前述の［偏光性回折素子］の項で記載した偏光性回折素子の層（ＬＤ）に相当する。
【０１４１】
（ＩＩＩ）工程で得られる基材（ｄ）の模式図を図２に示す。なお、図２においては、前記凹部のみに充填されているが、実際には、凹部への充填と同時に、凸部の上部にも化合物（Ｄ）を含む組成物が塗布され、凸部の上部にも化合物（Ｄ）が存在する場合がある。
【０１４２】
（ＩＩＩ）工程は、化合物（Ｄ）を含む組成物を、前記凹部を埋めるように塗布し、前記凹部を少なくとも化合物（Ｄ）により充填することにより達成される。化合物（Ｄ）を含む組成物を塗布する際の方法としては、特に限定はなく、公知のコーティング方法を制限なく採用することができる。具体的な塗工方法としては、たとえば、スピンコート法、リップコート法、コンマコート法、ロールコート法、ダイコート法、ブレードコート法、ディップコート法、バーコート法、流延成膜法、グラビアコート法、プリント法等が挙げられる。中でも、厚み精度と量産性の観点から、コンマコート法やグラビアコート法などが好ましく用いられる。また、前記凹部への化合物（Ｄ）の充填をよりし易くするために減圧環境下で塗工してもよい。
【０１４３】
化合物（Ｄ）を含む組成物としては、光学等方性を有する組成物を用いる。なお、通常は化合物（Ｄ）として、光学等方性材料が用いられる。
前記化合物（Ｄ）として、紫外線硬化型樹脂を含むことが好ましく、紫外線硬化型（メタ）アクリル樹脂を含むことが、連続的に経済的に偏光性回折素子を生産するという観点からより好ましい。前記化合物（Ｄ）として、紫外線硬化型樹脂を含む場合には、通常基材（ｄ）を得る際に、凹部を少なくとも化合物（Ｄ）により充填し、その後に紫外線照射を行い、該紫外線硬化樹脂を硬化することにより基材（ｄ）を得る（ここで、前記層（ＬＤ）に相当する層が形成される。
【０１４４】
化合物（Ｄ）を含む組成物としては、前述の第一の態様の偏光性回折素子の製造方法の項（〔第一の態様〕）で記載した化合物（Ｄ）を含む組成物を用いることが好ましい。
なお、本発明に用いることが可能な紫外線硬化型（メタ）アクリル樹脂は、紫外線によって硬化するが、紫外線を発生させる光源の例としては、メタルハライドランプや高圧水銀ランプが挙げられる。なお、紫外線照射は、基材（ａ）のパターンを形成する面側から行ってもよく、基材（ａ）のパターンを形成しない面側から行ってもよい。また、連続的にパターンを形成する場合には、前記モールドの反対側、すなわち基材（ａ）のパターンを形成しない面側から紫外線の照射を行うことが好ましい。
【０１４５】
前述のような化合物（Ｄ）を含む組成物を用いることにより、本発明の製造方法により得られる偏光性回折素子の充填部に由来する部分が光学等方性を有する。
また、第二の態様の偏光性回折素子の製造方法では、前記偏光性回折素子の充填部を有する面に、更に透明性樹脂（Ｅ）からなる基材（ｅ）を配設する工程を任意に設けることができる。該工程を設けることにより偏光性回折素子の最外層が、基材（ａ）および基材（ｅ）となり、得られる偏光性回折素子の耐久性や平滑性の点で好ましい。
【０１４６】
透明性樹脂（Ｅ）としては、前述の透明樹脂（Ａ）で例示した樹脂を用いることができ、透明樹脂（Ａ）と透明樹脂（Ｅ）が同様の樹脂であることが好ましい。また、基材（ｅ）としては、基材（ａ）で例示した基材を用いることができる。
【０１４７】
なお、前述の透明樹脂（Ａ）、（メタ）アクリル系化合物、ポリイミド、ポリビニルアルコールおよびポリウレタンより選ばれる少なくとも１種を含む組成物、上記式（Ｉ）で表わされる構造を有する重合体を含む組成物、化合物（Ｃ）を含む組成物、化合物（Ｄ）を含む組成物および透明樹脂（Ｅ）には、必要に応じて、酸化防止剤、熱安定剤、光安定剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、消泡剤、界面活性剤（離型剤）などの公知の添加剤を発明の効果が損なわれない範囲で添加することができる。
【０１４８】
〔第三の態様〕
本発明の偏光性回折素子の製造方法の、第三の態様は、後述する（ｉ）および（ｉｉ）工程を有し、基材（ａ'）のパターンが形成される面が、分子配向能を有し、凸部に由来する部分が光学異方性を有し、充填部に由来する部分が光学等方性を有することを特徴とする。
【０１４９】
なお、第三の態様の偏光性回折素子の製造方法で得られる偏光性回折素子は、前述の[偏光性回折素子］の項で記載した偏光性回折素子とは異なる構造の素子である。具体的には、第三の態様の偏光性回折素子の製造方法で得られる偏光性回折素子の構造は、[偏光性回折素子］の項で記載した偏光性回折素子において、基材（ａ）を、後述の基材（ａ’）に置き換え、層（Ｂ）を有さない構造である。
【０１５０】
＜（ｉ）工程＞
本発明の第三の態様の偏光性回折素子の製造方法が有する（ｉ）工程とは、（ｉ）透明樹脂（Ａ）からなる基材（ａ'）の少なくとも片面に、転写により化合物（Ｃ）を含む組成物からなる凹部と凸部とが連続的に形成されたパターンを形成し、基材（ｂ）を得る工程である。
【０１５１】
すなわち、本発明の（ｉ）工程で得られる基材（ｂ）は、基材（ａ'）および該基材（ａ'）上に形成された化合物（Ｃ）を含む組成物からなる凹部と凸部とが連続的に形成されたパターンを有する基材である。基材（ｂ）の模式図を図３に示す。
【０１５２】
（透明樹脂（Ａ））
第三の態様の偏光性回折素子の製造方法における透明樹脂（Ａ）とは、前述の第二の態様の偏光性回折素子の製造方法における透明樹脂（Ａ）と同様である。
【０１５３】
（基材（ａ'））
第三の態様の偏光性回折素子の製造方法における基材（ａ'）とは、前述の第二の態様の偏光性回折素子の製造方法における基材（ａ）の少なくとも片面に分子配向能を付与した基材である。また、基材（ａ'）としては、長手方向に少なくとも３ｍ以上連続したロール形状のものを用いてもよい。
【０１５４】
前述の第二の態様の偏光性回折素子の製造方法における基材（ａ）の少なくとも片面に分子配向能を付与する方法としては、特に限定はないが、基材（ａ）にラビング処理を行い、得られる基材（ａ'）に分子配向能を付与する方法や、基材（ａ）に延伸処理を行い、得られる基材（ａ'）に分子配向能を付与する方法が挙げられる。
【０１５５】
なお、前記基材（ａ）にラビング処理を行い、得られる基材（ａ'）とは、ラビング処理が施された面が、分子配向能を有する面であり、該面が、化合物（Ｃ）を含む組成物によりパターンが形成される面である。また、基材（ａ）に延伸処理を行い、得られる基材（ａ'）とは、延伸処理が施された、位相差を有する基材であり、得られる基材（ａ'）の両面が分子配向能を有する。
【０１５６】
ラビング処理は、公知の方法により行うことができるが、例えば金属製ロールの表面に、コットンやレーヨンなどのラビング布を巻きつけ、当該ロールを回転させながら、基材（ａ）の表面に接触させ、分子配向能を付与する処理が挙げられる。ラビング処理の処理条件としては特に限定されるものではないが、ロール回転数は１００〜２０００ｒｐｍが好ましく、さらに好ましくは２００〜１５００ｒｐｍ、最も好ましくは３００〜９００ｒｐｍである。基材（ａ）の搬送速度は、１〜５０ｍ／分が好ましく、さらに好ましくは３〜３０ｍ／分である。ロール押し込み量は０．１〜０．５ｍｍが好ましく、さらに好ましくは０．２〜０．４ｍｍである。
【０１５７】
上記処理条件で行うと、前記基材（ａ）の全面にわたって均一なラビング処理ができるため分子配向を有する基材（ａ'）を好適に形成することができる。ラビングの方向は、ラビングロールの回転軸方向とフィルム（基材（ａ））長手方向のなす角によって決定される。ラビング方向は液晶分子の配向方向を決定するため、所望の方向に設定して、ラビング処理を実施すればよい。
【０１５８】
なお、前記ラビング処理は、一般に異物発生を伴う。これは、ラビング布の繊維が脱落したものや、ラビングに供したフィルム表面の材質が削られて脱落するものや、発生する静電気によって周囲の環境異物が付着することに由来する。従って、これら異物を除去することが必要となり、異物を吹き飛ばして吸引したり、洗浄をしたりするが、特に水洗処理が好適に用いられる。
【０１５９】
基材（ａ）に延伸処理を行う際には、通常は基材（ａ）を加熱延伸することにより行われる。加熱延伸する方法は、異物などの発生が少なく、また歩留まり良く生産することができるため好ましい。
【０１６０】
前記基材（ａ）を延伸する方法としては、（１）加熱下で、基材（ａ）の長手方向に一軸延伸する方法（以下（１）の方法とも記す）、（２）加熱下で、基材（ａ）の幅方向に一軸延伸する方法（以下（２）の方法とも記す）が好ましい。
【０１６１】
基材（ａ）を延伸する際には、延伸時の加熱温度が、基材（ａ）の延伸部位全体において精密に制御されていることが好ましい。たとえば、上記（１）の方法における長手方向の一軸延伸、すなわち縦一軸延伸は、温度分布が設定温度±０．６℃以内、好ましくは設定温度±０．４℃以内、より好ましくは設定温度±０．２℃以内にコントロールされたオーブン中で行うのが望ましい。
【０１６２】
ここで、設定温度は、オーブン中の全領域で等しい温度であってもよく、段階的にあるいは勾配的に分布を設けた温度であってもよい。設定温度が分布を設けた温度である場合には、オーブン中の実際の温度分布と、設定された温度分布とが、±０．６℃以内、好ましくは±０．４℃以内、より好ましくは±０．２℃以内であるのが望ましい。
【０１６３】
長手方向一軸延伸の設定温度は、基材（ａ）を構成する透明樹脂（Ａ）の種類、延伸倍率および延伸速度、基材（ａ）の厚み、延伸後の光学異方性材料の所望位相差などにより設定すればよく、特に限定されるものではないが、たとえば、透明樹脂（Ａ）が熱可塑性樹脂の場合には、熱可塑性樹脂の熱変形温度の指標としてガラス転移温度（Ｔｇ）を基準とすることができる。設定温度は、このＴｇを基準として、通常、（Ｔｇ−１０℃）〜（Ｔｇ＋７０℃）の範囲であり、好ましくは（Ｔｇ±０℃）〜（Ｔｇ＋５０℃）の範囲である。このような温度範囲では、基材（ａ）の熱劣化が起きることなく、また破断することなく延伸できるため好ましい。
【０１６４】
上記（１）の方法においては、長手方向一軸延伸の延伸倍率は、たとえば１．１〜２．５倍、好ましくは１．１〜２．０倍、特に好ましくは１．２〜１．５倍の範囲である。延伸倍率が１．１倍未満となると前記化合物（Ｃ）の配向が上手く均一に発現しないために好ましくなく、延伸倍率が２．５倍を超えると、加工の際に基材の破断が生じるなどの不具合が生じるために好ましくない。
【０１６５】
また、上記（１）の方法における長手方向一軸延伸の延伸速度は、たとえば２〜１００ｍ／分、好ましくは５〜５０ｍ／分の範囲である。
上記（１）の方法では、基材（ａ'）は位相差を有しており、具体的には面内位相差Ｒ０が通常１００〜１０００ｎｍ、好ましくは１５０〜８００ｎｍの範囲にある。
【０１６６】
基材（ａ'）の面内位相差Ｒ０のばらつきは、通常±３ｎｍ以内、好ましくは±２ｎｍ以内、より好ましくは±１ｎｍ以内である。また、基材（ａ'）面内の最大屈折率方向は、基材（ａ'）長手方向に対して通常０±３度の範囲、好ましくは０±２度の範囲、より好ましくは０±１度、最も好ましくは０±０．５度の範囲にある。
【０１６７】
上記（２）の方法で基材（ａ'）を得る場合は、基材（ａ）を幅方向に一軸延伸する。
この幅方向の一軸延伸、すなわち横一軸延伸を、長手方向の一軸延伸よりもさらに精密な温度制御下で行うことにより、全面において均質な偏光性回折素子を好適に得ることができる。たとえば、幅方向の一軸延伸は、温度分布が設定温度±０．５℃以内、好ましくは設定温度±０．３℃以内、より好ましくは設定温度±０．２℃以内にコントロールされたオーブン中で行うのが望ましい。
【０１６８】
ここで、幅方向一軸延伸の設定温度は、長手方向一軸延伸の場合と同様、オーブン中の全領域で等しい温度であってもよく、段階的にあるいは勾配的に分布を設けた温度であってもよい。設定温度が分布を設けた温度である場合には、オーブン中の実際の温度分布と、設定された温度分布とが、±０．５℃以内、好ましくは±０．３℃以内、より好ましくは±０．２℃以内であるのが望ましい。この幅方向一軸延伸の設定温度は、長手方向一軸延伸の工程における設定温度と同様であってもよく、異なっていてもよい。
【０１６９】
幅方向一軸延伸の設定温度は、長手方向一軸延伸の場合と同様に特に限定されるものではないが、例えば、透明樹脂（Ａ）が熱可塑性樹脂の場合には、熱可塑性樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）を基準として、通常、（Ｔｇ−１０℃）〜（Ｔｇ＋７０℃）の範囲であり、好ましくは（Ｔｇ±０℃）〜（Ｔｇ＋５０℃）の範囲である。
【０１７０】
幅方向一軸延伸の延伸倍率は、製造する偏光性回折素子の所望特性に応じて決定すればよいが、上記（２）の方法による場合には、たとえば１．５〜５倍、好ましくは１．７〜４倍、特に好ましくは２〜３．５倍の範囲である。延伸倍率が１．５倍未満となると前記化合物（Ｃ）の配向が上手く均一に発現しないために好ましくなく、延伸倍率が５倍を超えると、加工の際に基材の破断が生じるなどの不具合が生じるために好ましくない。
【０１７１】
上記幅方向一軸延伸の延伸速度は、たとえば２〜１００ｍ／分、好ましくは５〜５０ｍ／分の範囲である。
上記（２）の方法では、基材（ａ'）は位相差を有しており、具体的には面内位相差Ｒ０が通常５０〜８００ｎｍ、好ましくは１００〜５００ｎｍの範囲にある。
【０１７２】
基材（ａ'）の面内位相差Ｒ０のばらつきは、通常±３ｎｍ以内、好ましくは±２ｎｍ以内、より好ましくは±１ｎｍ以内である。また、基材（ａ'）面内の最大屈折率方向は、基材（ａ'）の幅方向に対して通常０±３度の範囲、好ましくは０±２度の範囲、より好ましくは０±１度、最も好ましくは０±０．５度の範囲にある。
【０１７３】
このような基材（ａ'）の延伸工程においては、基材（ａ'）を構成する透明樹脂（Ａ）の種類を、ポリマー種、共重合比率、分子量分布、熱変形温度（ガラス転移温度）などの特性を考慮しながら選択し、長手方向の一軸延伸ならびに幅方向の一軸延伸の各工程における、オーブン中の設定温度の選択、延伸倍率および延伸速度の選択などにより、化合物（Ｃ）からなる光学異方性材料の配向特性を制御することができる。
【０１７４】
（パターン形成方法）
（ｉ）工程においては、基材（ａ'）の少なくとも片面に、転写により化合物（Ｃ）を含む組成物からなる凹部と凸部とが連続的に形成されたパターンを形成し、基材（ｂ）を得る。
【０１７５】
なお（ｉ）工程においては、通常凹部と凸部とが連続的に形成されたパターンが、前記基材（ａ'）上に、化合物（Ｃ）を含む組成物により形成された塗膜に転写されて形成される。
【０１７６】
前記基材（ａ'）の少なくとも片面に、転写により化合物（Ｃ）を含む組成物からなる凹部と凸部とが連続的に形成されたパターンを形成する方法としては、例えば前記基材（ａ'）上に化合物（Ｃ）を含む組成物を塗布し、該化合物（Ｃ）を含む組成物により形成された塗膜に凹部と凸部とが連続的に形成されたパターンを転写する方法（以下、転写法Ａという）が挙げられる。
【０１７７】
転写法Ａ
転写法Ａでは、まず前記基材（ａ'）上に化合物（Ｃ）を含む組成物を塗布した後、加熱などの工程により乾燥した塗膜を得る。この時、塗布する手法としては公知のコーティング方法を制限なく採用することができる。具体的な塗工方法としては、たとえば、スピンコート法、リップコート法、コンマコート法、ロールコート法、ダイコート法、ブレードコート法、ディップコート法、バーコート法、流延成膜法、グラビアコート法、プリント法等が挙げられる。中でも、厚み精度と量産性の観点から、コンマコート法やグラビアコート法などが好ましく用いられる。
【０１７８】
塗布した化合物（Ｃ）を含む塗膜の厚みとしては、所望するパターンが付与できれば特に制限はないが、厚み精度を確保する目的から、好ましくは１〜３０μｍ、さらに好ましくは１〜２０μｍ、最も好ましくは１〜１５μｍである。パターンの凹部深さとしては、使用するレーザーの波長や使用する材料種によって設計が異なるが、一般には１〜１０μｍの範囲である。従って、前述の範囲で塗布した材料の厚みを制御することで、厚み精度を確保しつつ、不要な材料を使用することも無く経済性に優れた設計とできるために好ましい。また、パターンの凸部と凹部の幅は、凸部の幅をＬで表し、凹部の幅をＳで表したときに、Ｌ／Ｓの値が０．４≦（Ｌ／Ｓ）≦０．６であることが好ましく、さらに好ましくは０．４５≦（Ｌ／Ｓ）≦０．５５である。なかでもＬ＝Ｓの場合、すなわち凸部の幅と凹部の幅が一致する場合が特に好ましい。さらに凸部の幅Ｌは、１μｍ≦Ｌ≦１０μｍであることが好ましく、さらに好ましくは１μｍ≦Ｌ≦５μｍ、最も好ましくは１μｍ≦Ｌ≦３μｍである。凹部の幅Ｓについても１μｍ≦Ｓ≦１０μｍであることが好ましく、さらに好ましくは１μｍ≦Ｓ≦５μｍ、最も好ましくは１μｍ≦Ｓ≦３μｍである。このような凸部の幅Ｌと凹部の幅Ｓを選択した場合に、所望の偏光回折能が得られるために好ましい。
【０１７９】
凹部と凸部とが連続的に形成されたパターンを前記化合物（Ｃ）を含む組成物により形成された塗膜に付与する方法としては、凹部と凸部とが連続的に形成されたモールドが好ましく用いられる。凹部と凸部とが連続的に形成されたモールドの材質としては、所望のパターンが作製できれば特に制限はないが、ニッケルなどの金属製のものやシリコン製のもの、あるいは合成石英などの透明なものなどが好ましく用いられる。また、形状を付与するために塗膜と密着させた後の型離れを良くするために、凹部と凸部とが連続的に形成されたモールド表面には、フッ素系やシリコーン系の離経済をコーティングするなどして離型処理を行うことも好ましい。凹部と凸部とが連続的に形成されたモールドの形状としては、平板状やロール形状など、所望のパターンが作製できれば特に制限はないが、基材が枚葉の形態の場合には、平板状のモールドを、基材がロールの形態の場合には、ロール形状のモールドを使用すればよい。
【０１８０】
化合物（Ｃ）を含む組成物としては、光学異方性を有する組成物を用いる。なお、通常は化合物（Ｃ）として、光学異方性材料が用いられる。
前記化合物（Ｃ）として、紫外線硬化型液晶を含むことが連続的に経済的に偏光性回折素子を生産するという観点から好ましい。
【０１８１】
（化合物（Ｃ）を含む組成物）
第三の態様の偏光性回折素子の製造方法における化合物（Ｃ）を含む組成物とは、第二の態様の偏光性回折素子の製造方法における化合物（Ｃ）を含む組成物と同様である。溶剤に関しても第二の態様の偏光性回折素子の製造方法における揮発や添加量と同じである。
【０１８２】
なお、化合物（Ｃ）を含む組成物からなる凹部と凸部とが連続的に形成されたパターンを得るためには、化合物（Ｃ）を含む組成物により形成された塗膜に、紫外線を照射し、前記紫外線硬化型液晶の紫外線硬化を行い、前記紫外線硬化型液晶の硬化物（重合体）を得ることが好ましい。紫外線硬化を行う際の加熱の温度および光源としては、第二の態様の偏光性回折素子の製造方法における、化合物（Ｃ）を含む組成物により形成された塗膜に、紫外線を照射し、紫外線硬化を行う際の温度および光源と同様である。
【０１８３】
また、化合物（Ｃ）を含む組成物は光重合開始剤（光ラジカル発生剤）が添加されてなることが好ましい。該光重合開始剤（光ラジカル発生剤）およびその量は、第二の態様の偏光性回折素子の製造方法における、化合物（Ｃ）を含む組成物に添加される光重合開始剤（光ラジカル発生剤）およびその量と同様である。
このような化合物（Ｃ）を含む組成物を用いることにより、本発明の製造方法により得られる偏光性回折素子の凸部に由来する部分が光学異方性を有する。
【０１８４】
＜（ｉｉ）工程＞
本発明の第三の態様の偏光性回折素子の製造方法が有する（ｉｉ）工程とは、（ｉｉ）前記基材（ｂ）のパターンを有する面に、化合物（Ｄ）を含む組成物を塗布し、前記凹部を少なくとも化合物（Ｄ）により充填し、充填部を有する基材（ｃ）を得る工程である。
【０１８５】
（ｉｉ）工程で得られる基材（ｃ）の模式図を図４に示す。なお、図４においては、前記凹部のみに充填されているが、実際には、凹部への充填と同時に、凸部の上部にも化合物（Ｄ）を含む組成物が塗布され、凸部の上部にも化合物（Ｄ）が存在する場合がある。
【０１８６】
（ｉｉ）工程は、化合物（Ｄ）を含む組成物を、前記凹部を埋めるように塗布し、前記凹部を少なくとも化合物（Ｄ）により充填することにより達成される。化合物（Ｄ）を含む組成物を塗布する際の方法としては、特に限定はなく、公知のコーティング方法を制限なく採用することができる。具体的な塗工方法としては、たとえば、スピンコート法、リップコート法、コンマコート法、ロールコート法、ダイコート法、ブレードコート法、ディップコート法、バーコート法、流延成膜法、グラビアコート法、プリント法等が挙げられる。中でも、厚み精度と量産性の観点から、コンマコート法やグラビアコート法などが好ましく用いられる。また、前記凹部への化合物（Ｄ）の充填をよりし易くするために減圧環境下で塗工してもよい。
【０１８７】
化合物（Ｄ）を含む組成物としては、光学等方性を有する組成物を用いる。なお、通常は化合物（Ｄ）として、光学等方性材料が用いられる。
前記化合物（Ｄ）として、紫外線硬化型樹脂を含むことが好ましく、紫外線硬化型（メタ）アクリル樹脂を含むことが、経済面から偏光性回折素子を連続的に生産するという観点からより好ましい。前記化合物（Ｄ）として、紫外線硬化型樹脂を含む場合には、通常基材（ｃ）を得る際に、凹部を少なくとも化合物（Ｄ）により充填し、その後に紫外線照射を行い、該紫外線硬化樹脂を硬化することにより基材（ｃ）を得る。
【０１８８】
なお、第三の態様の偏光性回折素子の製造方法における化合物（Ｄ）を含む組成物とは、第二の態様の偏光性回折素子の製造方法における化合物（Ｄ）を含む組成物と同様である。
【０１８９】
このような化合物（Ｄ）を含む組成物を用いることにより、本発明の製造方法により得られる偏光性回折素子の充填部に由来する部分が光学等方性を有する。
また、第三の態様の偏光性回折素子の製造方法では、前記偏光性回折素子の充填部を有する面に、更に透明性樹脂（Ｅ）からなる基材（ｅ）を配設する工程を任意に設けることができる。該工程を設けることにより偏光性回折素子の最外層が、基材（ａ’）および基材（ｅ）となり、得られる偏光性回折素子の耐久性や平滑性の点で好ましい。
【０１９０】
透明性樹脂（Ｅ）としては、前述の透明樹脂（Ａ）で例示した樹脂を用いることができ、透明樹脂（Ａ）と透明樹脂（Ｅ）が同様の樹脂であることが好ましい。また、基材（ｅ）としては、基材（ａ）で例示した基材を用いることができる。
【０１９１】
なお、前述の透明樹脂（Ａ）、化合物（Ｃ）を含む組成物、化合物（Ｄ）を含む組成物および透明樹脂（Ｅ）には、必要に応じて、酸化防止剤、熱安定剤、光安定剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、消泡剤、界面活性剤（離型剤）などの公知の添加剤を発明の効果が損なわれない範囲で添加することができる。
【０１９２】
本発明の製造方法により得られる偏光性回折素子は、光ピックアップ装置などに組み込まれる光学部品として好適に使用される。このようなレーザー光が通過する光学部品においては、レーザー光が通過する際にレーザー光がゆがまないために、部品の平滑性が求められる。このような平滑性の指標としては、透過波面収差（全面ＲＭＳ、λｒｍｓ）が用いられているが、本発明の製造方法により得られる偏光性回折素子においては、平滑な基材（ａ）または基材（ａ'）を用いて、その上に材料を塗布して表面平滑性を得るため、十分な平滑性が確保できている。本発明の製造方法により得られる偏光性回折素子の透過波面収差としては、例えばＤＶＤ波長における光径２ｍｍφの場合の全面ＲＭＳ値で好ましくは２５ｍλ以下、さらに好ましくは２０ｍλ以下、最も好ましくは１５ｍλ以下である。全面ＲＭＳ値で２５ｍλを超える場合は、出射レーザー光がゆがみ、光ピックアップ装置の読み書き性能が低下するために好ましくない。
【０１９３】
＜反射防止処理＞
本発明の第一〜三の態様の製造方法により得られる、偏光性回折素子は、（３）工程で得られる偏光性回折素子、（ＩＩＩ）工程で得られる基材（ｄ）（第二の態様）、（ｉｉ）工程で得られる基材（ｃ）（第三の態様）でもよいが、通常は、さらに反射防止層を有する。
【０１９４】
本発明の製造方法により得られる偏光性回折素子は、反射防止層を有することが好ましい。反射防止層は、熱硬化性樹脂組成物あるいは光硬化性樹脂組成物をグラビアコート、ダイコート、スロットコート等公知の塗工方法で塗工し、必要に応じて乾燥させた後、硬化して形成することができる。また、スパッタリングや蒸着等により形成することもできる。これらの層は、（３）工程で得られる偏光性回折素子（第一の態様）、基材（ｄ）（第二の態様）や基材（ｃ）（第三の態様）の片面に設けてもよいし、両面に設けてもよい。また、あらかじめ基材（ａ）（第一、第二の態様）や基材（ａ'）（第三の態様）のパターンを形成しない側に設けてもよく、基材（ｂ）の層（Ｂ）を有さない面（第二の態様）、基材（ｃ）（第二の態様）や基材（ｂ）（第三の態様）のパターンを有さない面に設けてもよい。また、基材（ｅ）のパターンを形成しない側に設けてもよい。
【０１９５】
反射防止層は通常、低屈折率層からなり、さらに反射防止性能を高めるために、低屈折率層と高屈折率層との積層構造を有していてもよく、またさらに耐擦傷性を確保するため、ハードコート層を有していてもよい。積層順は、偏光素子の最外層側から、好ましくは、ハードコート層／高屈折率層／低屈折率層の順に積層される。また必要に応じて、低屈折率層と高屈折率層の間、あるいはハードコート層と高屈折率層の間に中屈折率層を有してもよい。
【０１９６】
低屈折率層および高屈折率層を形成するための組成物としては、公知の硬化性組成物が挙げられる。例えば、バインダー樹脂として、エポキシ系樹脂、フェノール系樹脂、メラミン系樹脂、アルキド系樹脂、シアネート系樹脂、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、シロキサン樹脂等を１種以上含有し、さらに、低屈折率層形成用組成物はフッ素含有化合物を含有し、高屈折率層形成用組成物は高屈折率の無機粒子、例えばシリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、セリア、スカンジア、フッ化マグネシウム等金属酸化物粒子を含有する。
【０１９７】
低屈折率層および高屈折率層の屈折率および厚みは公知の範囲で用いられるが、使用する波長における反射防止効果を高めるため、低屈折率層の屈折率（２５℃、波長５８９ｎｍでの平均屈折率）は、１．４５以下であることが好ましく、低屈折率層の厚みは５０〜３００ｎｍであることが好ましい。また、高屈折率層の屈折率（２５℃、波長５８９ｎｍでの平均屈折率）は、低屈折率層の屈折率より０．０５以上大きい屈折率であることが好ましく、厚みは５０〜１０，０００ｎｍであることが好ましい。
【実施例】
【０１９８】
以下、実施例に基づいて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。なお、各性状は次のようにして測定し、評価した。
【０１９９】
（１）常光透過率および異常光透過率
大塚電子社製ＲＥＴＳ−１２００ＶＡを用い、光径５ｍｍφの条件で、光線を偏光性回折素子に対して垂直に入射することにより、常光透過率と異常光透過率をそれぞれ測定した。ここで、入射する光は直線偏光とし、直線偏光の偏波面が異方性材料である紫外線硬化型液晶材料の常光屈折率に平行な方向を常光として、また異常光屈折率に平行な方向を異常光として透過率を測定した。すなわち、以下の実施例において、フィルム長手方向に対して連続的に形成された凹部と凸部のパターンにおいて、フィルム長手方向に対して直線偏光の偏波面を垂直に入射した場合を常光、フィルム長手方向に対して直線偏光の偏波面を平行に入射した場合を異常光として透過率を測定した。
【０２００】
（２）波面収差
フジノン社製レーザー干渉計Ｒ−１０を用い、波長６５６ｎｍ、光径２ｍｍφのレーザー光を用いて、偏光性回折素子の波面収差として全面ＲＭＳ（λｒｍｓ）を測定した。
【０２０１】
（３）反射率
反射率を測定する面の反対側の表面を黒色スプレーで塗装し、分光反射率測定装置（大型試料室積分球付属装置１５０−０９０９０を組み込んだ分光光度計Ｕ−３４１０、日立製作所（株）製）により、偏光性回折素子の波長６６０ｎｍおよび７８５ｎｍにおける反射率を測定した。具体的には、アルミの蒸着膜における反射率を基準（１００％）として、反射率を６６０ｎｍおよび７８５ｎｍにて測定した。
【０２０２】
（４）ガラス転移温度（Ｔｇ）
セイコーインスツルメンツ社製ＤＳＣ６２００を用いて、昇温速度を毎分２０℃、窒素気流下で測定を行った。樹脂のＴｇは、微分示差走査熱量の最大ピーク温度（Ａ点）及び最大ピーク温度より−２０℃の温度（Ｂ点）を示差走査熱量曲線上にプロットし、Ｂ点を起点とするベースライン上の接線とＡ点を起点とする接線との交点として求めた。紫外線硬化型アクリル樹脂のＴｇは、強制共振振動型の動的粘弾性測定装置を用いて、硬化フィルムとしてのガラス転移温度を測定した。具体的には、硬化フィルムに周波数１０Ｈｚの振動を与えながら、昇温速度３℃／分で、損失正接を測定した。損失正接が最大値を示した温度をガラス転移温度（Ｔｇ）とした。
【０２０３】
（５）水素添加率
核磁気共鳴分光計（ＮＭＲ）はＢｒｕｋｅｒ社製ＡＶＡＮＣＥ５００を用い、測定溶媒はｄ−クロロホルムで1Ｈ−ＮＭＲを測定した。５．１〜５．８ｐｐｍのビニレン基、３．７ｐｐｍのメトキシ基、０．６〜２．８ｐｐｍの脂肪族プロトンの積分値より、単量体の組成を算出後、樹脂の水素添加率を算出した。
【０２０４】
（６）重量平均分子量（Ｍｗ）および分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）
ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（東ソー（株）製ＨＬＣ−８２２０ＧＰＣ、カラム：東ソー（株）製ガードカラムＨXL−Ｈ、ＴＳＫ ｇｅｌ Ｇ７０００ＨXL、ＴＳＫｇｅｌ ＧＭＨXL２本、ＴＳＫ ｇｅｌ Ｇ２０００ＨXLを順次連結、溶媒：テトラヒドロフラン、流速：１ｍＬ／ｍｉｎ、サンプル濃度：０．７〜０．８質量％、注入量：７０μＬ、測定温度：４０℃とし、検出器：ＲＩ（４０℃）、標準物質：東ソー（株）製ＴＳＫスタンダードポリスチレン）を用い、樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）および分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）を測定した。なお、前記Ｍｎは数平均分子量である。
【０２０５】
（７）残留溶媒量
サンプル（フィルム）を塩化メチレンに溶解し、得られた溶液をガスクロマトグラフィー（島津製作所製ＧＣ−７Ａ）を用いて分析した。
【０２０６】
（８）対数粘度
ウベローデ型粘度計を用いて、環状オレフィン樹脂についてはクロロホルム中（試料濃度：０．５ｇ/ｄＬ）、３０℃で測定した。可溶性ポリイミドについては、Ｎ−メチル−２−ピロリドン中（試料濃度：０．５ｇ/ｄＬ）、３０℃で測定した。
【０２０７】
（９）飽和吸水率
ＡＳＴＭ  Ｄ５７０に準拠し、２３℃の水中に１週間サンプル（樹脂）を浸漬し、浸漬前後の質量変化を測定して求めた。
【０２０８】
（１０）全光線透過率、ヘイズ
スガ試験機社製ヘイズメーター（ＨＧＭ−２ＤＰ型）を使用してフィルムの全光線透過率を測定した。
【０２０９】
［合成例１］（樹脂（Ａ−１）（環状オレフィン系樹脂）の合成）
８−メチル−８−メトキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン（ＤＮＭ）２２５質量部と、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン（ノルボルネン）２５質量部とを単量体として用い、１−ヘキセン（分子量調節剤）２７質量部と、トルエン（開環重合反応用溶媒）７５０質量部とともに、窒素置換した反応容器に仕込み、この溶液を６０℃に加熱した。次いで、反応容器内の溶液に、重合触媒として、トリエチルアルミニウムのトルエン溶液（１．５ｍｏｌ／リットル）０．６２質量部と、ｔｅｒｔ−ブタノールおよびメタノールで変性した六塩化タングステン（ｔｅｒｔ−ブタノール：メタノール：タングステン＝０．３５ｍｏｌ：０．３ｍｏｌ：１ｍｏｌ）のトルエン溶液（濃度０．０５ｍｏｌ／リットル）３．７質量部とを添加し、この溶液を８０℃で３時間加熱攪拌することにより開環重合反応させて開環重合体溶液を得た。この重合反応における重合転化率は９７％であった。
【０２１０】
このようにして得られた開環重合体溶液１，０００質量部をオートクレーブに仕込み、この開環重合体溶液に、ＲｕＨＣｌ（ＣＯ）［Ｐ（Ｃ6Ｈ5）3］3を０．１２質量部添加し、水素ガス圧１００ｋｇ／ｃｍ2、反応温度１６５℃の条件下で、３時間加熱撹拌して水素添加反応を行った。
【０２１１】
得られた反応溶液（水素添加重合体溶液）を冷却した後、水素ガスを放圧した。この反応溶液を大量のメタノール中に注いで凝固物を分離回収し、これを乾燥して、水素添加重合体（以下、「樹脂（Ａ−１）」という。）を得た。
【０２１２】
このようにして得られた樹脂（Ａ−１）の1Ｈ−ＮＭＲにより測定した水素添加率は９９．９％、ＤＳＣ法により測定したＴｇは１３０℃、ＧＰＣ法により測定したポリスチレン換算によるＭｎは２０，８００、Ｍｗは６２，０００およびＭｗ／Ｍｎは３．００、２３℃における飽和吸水率は０．２１％ならびに３０℃におけるクロロホルム中での対数粘度は０．５１ｄｌ／ｇであった。
【０２１３】
［合成例２］（樹脂（Ａ−２）（環状オレフィン系樹脂）の合成）
ＤＮＭ７１質量部、ジシクロペンタジエン（トリシクロ[４．３．０．１2,5]デカ−３，７−ジエン）（ＤＣＰ）１５質量部、およびノルボルネン（ＮＢ）１質量部を単量体として用い、分子量調節剤の１−へキセン １８質量部、およびトルエン ２００質量部とともに、窒素置換した反応容器に仕込んで１００℃に加熱した。
【０２１４】
これにトリエチルアルミニウム ０．００５質量部、メタノール変性ＷＣｌ6（無水メタノール：ＰｈＰＯＣｌ2：ＷＣｌ6＝１０３：６３０：４２７ 質量比）０．００５質量部を加えて１分反応させ、次いで、ＤＣＰ １０質量部とＮＢ３質量部を５分で追加添加して、さらに４５分反応させることにより、ＤＮＭに由来する構成単位／ＤＣＰに由来する構成単位／ＮＢに由来する構成単位＝６９．７７／２６．０１／４．２３（ｗｔ％）の共重合体を得た。
【０２１５】
次いで、得られた共重合体の溶液をオートクレーブに入れ、さらにトルエンを２００部加えた。次に、反応調整剤としてオクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネートを１質量部と水素添加触媒であるＲｕＨＣｌ(ＣＯ)[Ｐ(Ｃ6Ｈ5)]3を０．００６質量部添加し、１５５℃まで過熱した後、水素ガスを反応器へ投入し、圧力を１０ＭＰａとした。その後、圧力を１０ＭＰａに保ったまま、１６５℃、３時間の反応を行った。反応終了後、トルエン１００質量部、蒸留水３質量部、乳酸０．７２質量部、過酸化水素０．００２１４質量部を加え６０℃で３０分加熱した。その後、メタノール２００質量部を加え６０℃で３０分加熱し、これを２５℃まで冷却すると２層に分離した。上澄み液５００質量部を除去し、再びトルエン３５０質量部、水３質量部を加え６０℃で３０分加熱し、その後メタノール２４０質量部を加え６０℃で３０分加熱して２５℃まで冷却し、２層に分離した。上澄み液５００質量部を除去し、さらにトルエン３５０質量部、水３質量部を加え６０℃で３０分加熱し、その後メタノール２４０質量部を加え６０℃で３０分加熱して２５℃まで冷却し、２層に分離した。最後に上澄み液５００質量部を除去後、残ったポリマー溶液を、２．０μｍ、１．０μｍ、０．２μｍのそれぞれのフィルターを用いて濾過した。その後、ポリマー固形分量を５５％まで濃縮し、２５０℃、４ｔｏｒｒ、滞留時間１時間で脱溶媒処理を行い、１０μｍのポリマーフィルターを通過させて、共重合体を得た（以下、「樹脂（Ａ−２）」という）。
【０２１６】
このようにして得られた樹脂（Ａ−２）の1Ｈ−ＮＭＲにより測定した水素添加率は９９．９％、ＤＳＣ法により測定したＴｇは１３１℃、ＧＰＣ法により測定したポリスチレン換算によるＭｎは１６，０００、Ｍｗは６１，０００およびＭｗ／Ｍｎは３．８１、２３℃における飽和吸水率は０．１８％ならびに３０℃におけるクロロホルム中での対数粘度は０．５２ｄｌ／ｇであった。
【０２１７】
［合成例３］（樹脂（Ａ−５）（環状オレフィン系樹脂）の合成）
テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン５３質量部と、８−エチリデンテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン４６質量部と、トリシクロ［４．３．０．１2,5］−デカ−３，７−ジエン６６質量部とを使用し、１−ヘキセン（分子量調節剤）の添加量を２２質量部とし、開環重合反応用溶媒としてトルエンの代わりにシクロヘキサンを使用したこと以外は、合成例１と同様にして水素添加重合体（以下、「樹脂（Ａ−５）」という）を得た。
【０２１８】
得られた樹脂（Ａ−５）について、水素添加率は９９．９％、ガラス転移温度（Ｔｇ）は１２５℃、Ｍｎは３０，０００、Ｍｗは１２２，０００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は４．０７、対数粘度は０．６３ｄｌ／ｇであった。
【０２１９】
［合成例４］（ポリイミドの合成）
テトラカルボン酸二無水物として、２，３，５−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物２２．４ｇ（０．１モル）、ジアミン化合物として４，４'−ジアミノジフェニルメタン１９．８ｇ（０．１モル）を、Ｎ−メチル−２−ピロリドン８００ｇに溶解させ、６０℃で４時間反応させた。次いで、反応溶液を大過剰のメチルアルコールに注いで反応生成物を沈澱させた。その後、メチルアルコールで洗浄し、減圧下４０℃で１５時間乾燥させることにより、対数粘度０．３２ｄｌ／ｇのポリアミック酸３９０ｇを得た。得られたポリアミック酸２５ｇをＮ−メチル−２−ピロリドン４７５ｇに溶解させ、ピリジン３９．５ｇおよび無水酢酸３０．６ｇを添加し１１０℃で４時間脱水閉環させ、上記と同様にして沈殿、洗浄、減圧を行い、対数粘度０．６４ｄｌ／ｇ、イミド化率９２％のポリイミド１９．５ｇを得た。
【０２２０】
［合成例５］（ポリアミック酸エステルの合成）
２,３,５−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物０.１モル（２２.４ｇ）とｐ−フェニレンジアミン０.１モル（１０.８ｇ）をＮ−メチル−２−ピロリドン３００ｇに溶解させ、６０℃で６時間反応させた。次いで、反応混合物を大過剰のメタノールに注ぎ、反応生成物を沈澱させた。その後、メタノールで洗浄し、減圧下４０℃で１５時間乾燥させて、ポリアミック酸２７.４ｇを得た。得られたポリアミック酸１６．６ｇにＮ−メチル−２−ピロリドン３５０ｇ、１−ブロモ−６−（４−カルコニルオキシ）ヘキサン３８．７ｇおよび炭酸カリウム１３.８ｇを添加し、１２０℃で４時間反応させた。次いで、反応混合液を水に注ぎ、反応生成物を沈澱させた。得られた沈殿物を水で洗浄し減圧下で１５時間乾燥させて、ポリアミック酸エステル３５．４ｇを得た。
【０２２１】
［合成例６］（ウレタンアクリレートの合成）
攪拌機を備えた反応容器に、２−フェノキシエチルアクリレートを４９．９６質量部、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾールを０．０１質量部、ジラウリル酸ジ−ｎ−ブチル錫０．０４質量部、トリレンジイソシアネートを１７．７４質量部加え、５〜１５℃に冷却した。温度が１０℃以下になったところで、２−ヒドロキシエチルアクリレート１１．８４質量部を攪拌しながら滴下し、液温度を２０〜３５℃で制御しながら１時間攪拌した。その後、ビスフェノールＡのアルキレンオキサイド付加ジオール（日油（株）製  ＤＡ−４００）を２０．４０質量部仕込み、５５〜６５℃で３時間反応を続け、残留イソシアネートが０．１質量％以下になった時を反応終了とし、ウレタンアクリレートを得た。
【０２２２】
［調製例１］（紫外線硬化型アクリル樹脂（Ｄ−１）の調製）
攪拌機を備えた反応容器に、次に示す配合比（質量部）で各成分を仕込み、５０℃で１時間攪拌混合して、液状組成物を得た。具体的な配合比は、合成例６で得たウレタンアクリレート９．８質量部、トリメチロールプロパントリアクリレート１３．７質量部、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌル酸アクリル酸エステル２９．４質量部、ポリオキシアルキレンビスフェノールＡジアクリレート３２．３質量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート／ジペンタエリスリトールペンタアクリレートの混合物４．９質量部、Ｎ−ビニル−２−ピロリドン７．８質量部、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン１．５質量部、チオジエチレンビス（３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート）０．３質量部、ジエチルアミン０．１質量部、ポリオキシアルキレンアルキルエーテルリン酸エステル０．３質量部、以上合計で１００．１質量部とした。得られた液状組成物としての紫外線硬化型アクリル材料の粘度は、ＪＩＳ  Ｋ７１１７に従い、回転粘度計を用いて２５℃における値で５４０ｍＰａ・ｓであり、紫外線硬化後のアクリル樹脂（Ｄ−１）のＴｇは１２０℃であった。
【０２２３】
［調製例２］（配向膜組成物（Ｂ−１）の調製）
ポリビニルアルコールの水酸基を置換基−ＯＣＯＰｈＯ（ＣＨ2）4ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ2で０．２ｍｏｌ％、置換基−ＯＣＯＣＨ３で１１．８ｍｏｌ％置換した構造を有する、ケン化度８８ｍｏｌ％、重合度３００の変性ポリビニルアルコールの粉体を、蒸留水１００重量部に対して５重量部混合し、メタノールを３５重量部加えて溶解させた。この溶液を孔径１μｍのフィルターを用いて濾過し、配向膜組成物（Ｂ−１）を調製した。
【０２２４】
［調製例３］（配向膜組成物（Ｂ−２）の調製）
合成例４で得たポリイミドを、γ−ブチロラクトンに溶解させて、Ｎ−エトキシカルボニル−３−アミノプロピルトリエトキシシランを重合体１００重量部に対して０．７５重量部溶解させ、固形分濃度４重量％の溶液とした。この溶液を孔径１μｍのフィルターを用いて濾過し、配向膜組成物（Ｂ−２）を調製した。
【０２２５】
［調製例４］（配向膜組成物（Ｂ−３）の調製）
合成例５で得たポリアミック酸エステルを、γ−ブチロラクトンに溶解させて、Ｎ−エトキシカルボニル−３−アミノプロピルトリエトキシシランを重合体１００重量部に対して０．７５重量部溶解させ、固形分濃度４重量％の溶液とした。この溶液を孔径１μｍのフィルターを用いて濾過し、配向膜組成物（Ｂ−３）を調製した。
【０２２６】
［調製例５］（配向膜用紫外線硬化型アクリル樹脂（Ｂ−４）の調製）
攪拌機を備えた反応容器に、次に示す配合比（質量部）で各成分を仕込み、室温で１時間攪拌混合して、液状組成物を得た。具体的な配合比は、ジシクロペンテニルオキシエチルアクリレート９０．１質量部、イソシアヌレートトリアクリレート７．２質量部、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン２．７質量部、以上合計で１００．０質量部とした。得られた液状組成物としての紫外線硬化型アクリル材料の粘度は、ＪＩＳ  Ｋ７１１７に従い、回転粘度計を用いて２５℃における値で２４ｍＰａ・ｓであり、紫外線硬化させてアクリル樹脂（Ｂ−４）を得た。
【０２２７】
［調製例６］（紫外線硬化型アクリル樹脂（Ｄ−２）の調製）
攪拌機を備えた反応容器に、次に示す配合比（質量部）で各成分を仕込み、室温で１時間攪拌混合して、液状組成物を得た。具体的な配合比は、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート６１．２質量部、２−フェノキシエチルアクリレート２６．２質量部、イソシアヌレートトリアクリレート９．７質量部、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン２．９質量部、以上合計で１００．０質量部とした。得られた液状組成物としての紫外線硬化型アクリル材料の粘度は、ＪＩＳ  Ｋ７１１７に従い、回転粘度計を用いて２５℃における値で１７ｍＰａ・ｓであり、紫外線硬化させてアクリル樹脂（Ｄ−２）を得た。
【０２２８】
［製造例１］（基材（ａ−１）の製造）
合成例１で得た樹脂（Ａ−１）と酸化防止剤としてペンタエリスリチルテトラキス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］を、二軸押出機（東芝機械株式会社製；ＴＥＭ−４８）を用いて押出し、ストランドダイより流出させた樹脂ストランドを冷却水槽で冷却の後、ストランドカッターに送り込み、米粒状に裁断し、造粒樹脂（透明樹脂（Ａ−１））を得た。酸化防止剤添加量は、樹脂１００質量部に対して０．１質量部とした。
【０２２９】
この造粒樹脂を窒素雰囲気下、１００℃で４時間乾燥した後、単軸押出機（９０ｍｍΦ）に送り込み、２６０℃で溶融しながら、ギアポンプで定量押出を実施し、公称の目開きを１０μｍとした日本精線製の金属繊維焼結フィルターを用いて、溶融ろ過を行い、コートハンガー型のダイ（１７００ｍｍ幅）を用いて、コートハンガーダイ出口の間隙を０．５ｍｍとして２６０℃で膜状に押出した。このときに用いたダイのダイランド長（ダイ出口の平行部分の長さ）は、２０ｍｍであった。ダイ出口からロール圧着点までの距離を６５ｍｍとして、押出したフィルムを、表面粗さが０．１Ｓの２５０ｍｍΦの鏡面ロールと、０．３ｍｍ厚の金属ベルトの間に挟んで、フィルムの表面を光沢面に転写した。金属ベルト（幅１６５０ｍｍ）は、ゴム被覆のロール（保持するロールの径は１５０ｍｍΦ）と、冷却ロール（ロール径１５０ｍｍ）により保持したもので、市販のスリーブ式転写ロール（千葉機械工業製）を用いて、転写した。転写するときのロール間隔は、０．３５ｍｍであり、転写圧力は、０．３５ＭＰａであった。
【０２３０】
このときの、鏡面ロールの外周の周速度を１０ｍ／ｍｉｎとした。このときの鏡面ロールの温度は、オイル温調機を用いて１２５℃、ゴム被覆ロールの温度は、１１５℃に設定した。
【０２３１】
鏡面ロールの下流側には、２５０ｍｍΦの冷却ロールを配置し、鏡面ロールから剥ぎ取ったフィルムは、１１５℃に設定した冷却ロールに圧着するまでの時間を２．１秒間として冷却した。その後フィルムを、剥離張力０．４ＭＰａ・ｃｍで剥離して、片面にマスキングフィルムを貼合して、巻き取り機で巻き取り、厚み１３０μｍの樹脂フィルムを得た（以下、「基材（ａ−１）」という）。得られたフィルムの残留溶媒量は０．１％であり、全光線透過率は９３％で、ガラス転移温度（Ｔｇ）は１３０℃であった。
【０２３２】
［製造例２］（基材（ａ−２）の製造）
製造例１において、樹脂（Ａ−１）に代えて、合成例２で得た樹脂（Ａ−２）を用いたこと以外は、製造例１と同様にして、厚み１３０μｍの樹脂フィルムを得た（以下、「基材（ａ−２）」という）。得られたフィルムの残留溶媒量は０．１％であり、全光線透過率は９３％で、ガラス転移温度（Ｔｇ）は１３１℃であった。
【０２３３】
［製造例３］（基材（ａ−５）の製造）
製造例１において、樹脂（Ａ−１）に代えて、合成例３で得た樹脂（Ａ−５）を用いたこと以外は、製造例１と同様にして、厚み１００μｍの樹脂フィルムを得た（以下、「基材（ａ−５）」という）。得られたフィルムの残留溶媒量は０．１％であり、全光線透過率は９３％で、ガラス転移温度（Ｔｇ）は１２４℃であった。
【０２３４】
［実施例１］
製造例１で得た基材（ａ−１）の片面に、株式会社飯沼ゲージ製作所製ラビング機でロール回転数を６００ｒｐｍ、フィルム搬送速度を３ｍ／分、ロール押し込み量を０．３ｍｍとしてラビング処理をラビング方向がフィルム長手方向に平行となるように行い基材（ａ'−１）を得た。次いで、井上金属工業製ＩＮＶＥＸラボコーターにて２００メッシュの小径グラビアロールを用いて、メルク株式会社製の紫外線硬化型液晶材料であるＲＭＭ７２７が１００質量部に対して溶剤であるアセトンを３０質量部添加したものを５０℃条件下で基材（ａ'−１）に塗布して乾燥、配向させ厚み４μｍとした。次いで、凹部と凸部とが連続的に形成されたパターンが転写されるように調製した転写ロールを用いて、塗布面に凹部と凸部とが連続的に形成されたパターンを転写させた。なお、転写ロール表面の凹部と凸部は、ロールの円周方向に沿って凹凸の溝が形成されるように調製した。
【０２３５】
転写するのと同時に高圧水銀ランプを用いて紫外線を基材（ａ'−１）のパターンを有さない面側から５００ｍＪ／ｃｍ2のエネルギー量で照射して凹部と凸部とが連続的に形成されたパターンを形成し、基材（ｂ−１）を得た。凸部の幅は２．５μｍ、凹部の幅は２．５μｍとし、凹部の深さは２．６μｍとした。次に、形成された凹部へ、井上金属工業製ＩＮＶＥＸラボコーターにて３００メッシュの小径グラビアロールを用いて、調製例１で得た紫外線硬化型アクリル材料を塗布し、高圧水銀ランプを用いて紫外線を、パターンを有さない側から５００ｍＪ／ｃｍ2のエネルギー量で照射して硬化させることで、紫外線硬化型アクリル樹脂（Ｄ−１）からなる充填部を形成し、基材（ｃ−１）を得た。紫外線硬化型アクリル樹脂の厚みは、凹部の底部から最表層までが４μｍであった。
【０２３６】
基材（ｃ−１）の両面に反射防止処理を行い、偏光性回折素子（１）を得た。得られた偏光性回折素子（１）の常光透過率は、波長６６０ｎｍにおいて９９．２％、波長７８５ｎｍにおいて９９．０％であり、異常光透過率は、波長６６０ｎｍにおいて１．３％、波長７８５ｎｍにおいて３．２％であった。反射率は、パターンおよび充填部を有する側（パターン側）の面で６６０ｎｍにおいて０．１％、波長７８５ｎｍにおいて０．１％であり、基材（ａ'−１）側（基材側）の面で６６０ｎｍにおいて０．２％、波長７８５ｎｍにおいて０．２％であった。また、波面収差を測定した結果、λｒｍｓ＝１０ｍλであり、平坦な面ができていることが分かった。
【０２３７】
［実施例２］
製造例２で得た基材（ａ−２）を、延伸機炉内温度１５５℃の槽内にて、延伸速度５．０ｍ／ｍｉｎ、延伸倍率３．５倍でテンター横延伸を行い、厚さ３７μｍのロール状の延伸フィルム（基材（ａ'−２））を得た。次いで、実施例１と同様にして紫外線硬化型液晶材料を用いて延伸フィルム（基材（ａ'−２））の片面に、凹部と凸部を形成、基材（ｂ−１）を得た。凸部の幅は２．５μｍ、凹部の幅は２．５μｍとし、凹部の深さは２．６μｍとした。次に、実施例１と同様にして、紫外線硬化型アクリル材料（Ｄ−１）を用いて充填部を形成し、基材（ｃ−２）を得た。充填部の厚みは、凹部の底部から最表層までが４μｍであった。
【０２３８】
基材（ｃ−２）の両面に反射防止処理を行い、偏光性回折素子（２）を得た。得られた偏光性回折素子（２）の常光透過率は、波長６６０ｎｍにおいて９８．９％、波長７８５ｎｍにおいて９８．９％であり、異常光透過率は、波長６６０ｎｍにおいて１．５％、波長７８５ｎｍにおいて３．１％であった。反射率は、パターンおよび充填部を有する側（パターン側）の面で６６０ｎｍにおいて０．２％、波長７８５ｎｍにおいて０．１％であり、基材（ａ'−２）側（基材側）の面で６６０ｎｍにおいて０．２％、波長７８５ｎｍにおいて０．２％であった。また、波面収差を測定した結果、λｒｍｓ＝９ｍλであり、平坦な面ができていることが分かった。
【０２３９】
［実施例３］
厚み８０μｍのトリアセチルセルロース製フィルム（基材（ａ−３））上に、井上金属工業製ＩＮＶＥＸラボコーターにて２００メッシュの小径グラビアロールを用いて、調製例２で得た配向膜組成物（Ｂ−１）を塗工した。塗工に際しては、０．２μｍのＰＴＦＥ製フィルターでろ過を行い、塗工後にドライヤーを通過させて溶剤を揮発乾燥し、配向膜層を形成した。乾燥は、１００℃で３０秒の後、１２０℃で３０秒と段階的な条件下で行った。引き続き、形成した配向膜層の表面を株式会社飯沼ゲージ製作所製ラビング機でロール回転数を８００ｒｐｍ、フィルム搬送速度を３ｍ／分、ロール押し込み量を０．３ｍｍとしてラビング処理をラビング方向がフィルム長手方向に平行となるように行い基材（ｂ−３）を得た。次いで、実施例１と同様にして、紫外線硬化型液晶材料を用いて凹凸の溝が形成された基材（ｃ−３）を得た（層（ＬＣ）の形成）。凸部の幅は２．５μｍ、凹部の幅は２．５μｍとし、凹部の深さは２．６μｍとした。次に、実施例１と同様にして紫外線硬化型アクリル材料（Ｄ−１）を用いて充填部を形成し（層（ＬＤ）の形成）、基材（ｄ−３）を得た。充填部の厚みは、凹部の底部から最表層までが４μｍであった。
【０２４０】
基材（ｄ−３）の両面に反射防止処理を行い、偏光性回折素子（３）を得た。得られた偏光性回折素子（３）の常光透過率は、波長６６０ｎｍにおいて９８．７％、波長７８５ｎｍにおいて９８．７％であり、異常光透過率は、波長６６０ｎｍにおいて１．８％、波長７８５ｎｍにおいて３．８％であった。反射率は、パターンおよび充填部を有する側（パターン側）の面で６６０ｎｍにおいて０．２％、波長７８５ｎｍにおいて０．３％であり、基材（ａ−３）側（基材側）の面で６６０ｎｍにおいて０．３％、波長７８５ｎｍにおいて０．２％であった。また、波面収差を測定した結果、λｒｍｓ＝９ｍλであり、平坦な面ができていることが分かった。
【０２４１】
［実施例４］
厚み９０μｍのポリカーボネート製フィルム（基材（ａ−４））上に、井上金属工業製ＩＮＶＥＸラボコーターにて２００メッシュの小径グラビアロールを用いて、調製例３で得た配向膜組成物（Ｂ−２）を塗工した。塗工に際しては、０．２μｍのＰＴＦＥ製フィルターでろ過を行い、塗工後にドライヤーを通過させて溶剤を揮発乾燥し、配向膜層を形成した。乾燥は、１００℃で３０秒の後、１２０℃で３０秒と段階的な条件下で行った。
引き続き、形成した配向膜層の表面を株式会社飯沼ゲージ製作所製ラビング機でロール回転数を８００ｒｐｍ、フィルム搬送速度を３ｍ／分、ロール押し込み量を０．３ｍｍとしてラビング処理をラビング方向がフィルム長手方向に平行となるように行い基材（ｂ−４）を得た。次いで、実施例１と同様にして、紫外線硬化型液晶材料を用いて凹凸の溝が形成された基材（ｃ−４）を得た（層（ＬＣ）の形成）。凸部の幅は２．５μｍ、凹部の幅は２．５μｍとし、凹部の深さは２．６μｍとした。次に、実施例１と同様にして紫外線硬化型アクリル材料（Ｄ−１）を用いて充填部を形成し（層（ＬＤ）の形成）、基材（ｄ−４）を得た。充填部の厚みは、凹部の底部から最表層までが４μｍであった。
【０２４２】
基材（ｄ−４）の両面に反射防止処理を行い、偏光性回折素子（４）を得た。得られた偏光性回折素子（４）の常光透過率は、波長６６０ｎｍにおいて９８．５％、波長７８５ｎｍにおいて９８．６％であり、異常光透過率は、波長６６０ｎｍにおいて１．９％、波長７８５ｎｍにおいて４．２％であった。反射率は、パターンおよび充填部を有する側（パターン側）の面で６６０ｎｍにおいて０．３％、波長７８５ｎｍにおいて０．３％であり、基材（ａ−４）側（基材側）の面で６６０ｎｍにおいて０．４％、波長７８５ｎｍにおいて０．３％であった。また、波面収差を測定した結果、λｒｍｓ＝９ｍλであり、平坦な面ができていることが分かった。
【０２４３】
［実施例５］
製造例３で得た基材（ａ−５）上に、井上金属工業製ＩＮＶＥＸラボコーターにて２００メッシュの小径グラビアロールを用いて、調製例４で得た配向膜組成物（Ｂ−３）を塗工した。塗工に際しては、０．２μｍのＰＴＦＥ製フィルターでろ過を行い、塗工後にドライヤーを通過させて溶剤を揮発乾燥し、配向膜層を形成した。乾燥は、１００℃で３０秒の後、１２０℃で３０秒と段階的な条件下で行った。引き続き、形成した配向膜層の表面を、Ｈｇ−Ｘｅランプを用いて、パイレックス（登録商標）ガラス製偏光板ＳＰＦ−５０Ｃ−３２（シグマ光機製）を通して、３６５ｎｍの波長を主とする直線偏光した紫外線０.５Ｊ／ｃｍ2を照射し、基材（ｂ−５）を得た。直線偏光の偏波面方向はフィルム長手方向に平行となるように行った。さらに、実施例１と同様にして紫外線硬化型液晶材料を用いて凹凸の溝が形成された基材（ｃ−５）を得た（層（ＬＣ）の形成）。凸部の幅は２．５μｍ、凹部の幅は２．５μｍとし、凹部の深さは２．６μｍとした。次に、実施例１と同様にして紫外線硬化型アクリル材料（Ｄ−１）を用いて充填部を形成した（層（ＬＤ）の形成）、基材（ｄ−５）を得た。充填部の厚みは、凹部の底部から最表層までが４μｍであった。
【０２４４】
基材（ｄ−５）の両面に反射防止処理を行い、偏光性回折素子（５）を得た。得られた偏光性回折素子（５）の常光透過率は、波長６６０ｎｍにおいて９８．２％、波長７８５ｎｍにおいて９８．３％であり、異常光透過率は、波長６６０ｎｍにおいて１．７％、波長７８５ｎｍにおいて３．６％であった。反射率は、パターンおよび充填部を有する側（パターン側）の面で６６０ｎｍにおいて０．２％、波長７８５ｎｍにおいて０．２％であり、基材（ａ−５）側（基材側）の面で６６０ｎｍにおいて０．３％、波長７８５ｎｍにおいて０．２％であった。また、波面収差を測定した結果、λｒｍｓ＝１０ｍλであり、平坦な面ができていることが分かった。
【０２４５】
［実施例６］
製造例１で得た基材（ａ−１）の片面に、ポリエーテルポリウレタン材料であるハイドランＷＬＳ−２０１（大日本インキ化学工業（株）製）をメタノールにて３％になるよう希釈したものを、井上金属工業製ＩＮＶＥＸラボコーターにて２００メッシュの小径グラビアロールを用いて塗布し、８０℃で５分間加熱乾燥させ、ポリウレタン層を有する基材を得た。株式会社飯沼ゲージ製作所製ラビング機でロール回転数を６００ｒｐｍ、フィルム搬送速度を３ｍ／分、ロール押し込み量を０．３ｍｍとしてラビング処理をラビング方向がフィルム長手方向に平行となるように行い基材（ｂ−６）を得た。次いで、実施例１と同様にして紫外線硬化型液晶材料を用いて凹部と凸部とが連続的に形成された基材（ｃ−６）を得た（層（ＬＣ）の形成）。凸部の幅は２．５μｍ、凹部の幅は２．５μｍとし、凹部の深さは２．６μｍとした。次に、実施例１と同様にして紫外線硬化型アクリル材料（Ｄ−１）を用いて充填部を形成し（層（ＬＤ）の形成）、基材（ｄ−６）を得た。充填部の厚みは、凹部の底部から最表層までが４μｍであった。
【０２４６】
基材（ｄ−６）の両面に反射防止処理を行い、偏光性回折素子（６）を得た。得られた偏光性回折素子（１）の常光透過率は、波長６６０ｎｍにおいて９９．１％、波長７８５ｎｍにおいて９９．１％であり、異常光透過率は、波長６６０ｎｍにおいて１．１％、波長７８５ｎｍにおいて３．０％であった。反射率は、パターンおよび充填部を有する側（パターン側）の面で６６０ｎｍにおいて０．１％、波長７８５ｎｍにおいて０．１％であり、基材（ａ−１）側（基材側）の面で６６０ｎｍにおいて０．２％、波長７８５ｎｍにおいて０．２％であった。また、波面収差を測定した結果、λｒｍｓ＝１２ｍλであり、平坦な面ができていることが分かった。
【０２４７】
［実施例７］
製造例１で得た基材（ａ−１）の片面に、調製例５で得た配向膜用紫外線硬化樹脂（Ｂ−４）を、井上金属工業製ＩＮＶＥＸラボコーターにて２００メッシュの小径グラビアロールを用いて塗布し、高圧水銀ランプを用いて紫外線を７００ｍＪ／ｃｍ2のエネルギー量で照射して基材を得た。次に、株式会社飯沼ゲージ製作所製ラビング機でロール回転数を６００ｒｐｍ、フィルム搬送速度を３ｍ／分、ロール押し込み量を０．３ｍｍとしてラビング処理をラビング方向がフィルム長手方向に平行となるように行い基材（ｂ−７）を得た。次いで、実施例１と同様にして紫外線硬化型液晶材料を用いて基材（ｂ−７）に凹凸の溝を形成し（層（ＬＣ）の形成）、基材（ｃ−７）を得た。凸部の幅は２．５μｍ、凹部の幅は２．５μｍとし、凹部の深さは２．６μｍとした。
【０２４８】
調製例６で得られた紫外線硬化型アクリル材料（Ｄ−２）を使用した以外は実施例１と同様にして充填部を形成し（層（ＬＤ）の形成）、基材（ｄ−７）を得た。充填部の厚みは、凹部の底部から最表層までが４μｍであった。
【０２４９】
基材（ｄ−７）の両面に反射防止処理を行い、偏光性回折素子（７）を得た。得られた偏光性回折素子（７）の常光透過率は、波長６６０ｎｍにおいて９８．５％、波長７８５ｎｍにおいて９９．０％であり、異常光透過率は、波長６６０ｎｍにおいて１．７％、波長７８５ｎｍにおいて３．２％であった。反射率は、パターンおよび充填部を有する側（パターン側）の面で６６０ｎｍにおいて０．３％、波長７８５ｎｍにおいて０．２％であり、基材（ａ−１）側（基材側）の面で６６０ｎｍにおいて０．２％、波長７８５ｎｍにおいて０．２％であった。また、波面収差を測定した結果、λｒｍｓ＝９ｍλであり、平坦な面ができていることが分かった。
【０２５０】
［実施例８］
製造例２で得た基材（ａ−２）の片面に、調製例５で得た配向膜用紫外線硬化樹脂（Ｂ−４）を、井上金属工業製ＩＮＶＥＸラボコーターにて２００メッシュの小径グラビアロールを用いて塗布し、高圧水銀ランプを用いて紫外線を７００ｍＪ／ｃｍ2のエネルギー量で照射して基材を得た。次に、延伸機炉内温度１５５℃の槽内にて、延伸機炉内に速度５．０ｍ／ｍｉｎで搬送しながら延伸倍率１．５倍で縦延伸を行い、厚さ１０７μｍのロール状の延伸フィルム（基材（ｂ−８））を得た。次いで、実施例１と同様にして紫外線硬化型液晶材料を用いて基材（ｂ−８）に凹凸の溝を形成し（層（ＬＣ）の形成）、基材（ｃ−８）を得た。凸部の幅は２．５μｍ、凹部の幅は２．５μｍとし、凹部の深さは２．６μｍとした。調製例６で得た紫外線硬化型アクリル材料（Ｄ−２）を使用した以外は、実施例１と同様にして充填部を形成し基材（ｄ−８）を得た（層（ＬＤ）の形成）。充填部の厚みは、凹部の底部から最表層までが４μｍであった。
【０２５１】
基材（ｄ−８）の両面に反射防止処理を行い、偏光性回折素子（８）を得た。得られた偏光性回折素子（８）の常光透過率は、波長６６０ｎｍにおいて９８．３％、波長７８５ｎｍにおいて９９．３％であり、異常光透過率は、波長６６０ｎｍにおいて１．６％、波長７８５ｎｍにおいて３．４％であった。反射率は、パターンおよび充填部を有する側（パターン側）の面で６６０ｎｍにおいて０．２％、波長７８５ｎｍにおいて０．３％であり、基材（ａ−２）側（基材側）の面で６６０ｎｍにおいて０．３％、波長７８５ｎｍにおいて０．３％であった。また、波面収差を測定した結果、λｒｍｓ＝１２ｍλであり、平坦な面ができていることが分かった。
【０２５２】
［実施例９］
実施例１で得た基材（ｂ−１）に形成された凹部へ、井上金属工業製ＩＮＶＥＸラボコーターにて３００メッシュの小径グラビアロールを用いて、調製例１で得た紫外線硬化型アクリル材料（Ｄ−１）を塗布し、次いでその上に製造例１で得た基材（ａ−１）を基材（ｅ−１）としてラミネートした。さらに高圧水銀ランプを用いて紫外線を、パターンを有さない側（基材（ｂ−１）側）から５００ｍＪ／ｃｍ2のエネルギー量で照射して硬化させることで、充填部を形成し、基材（ｇ−１）を得た。充填部の厚みは、凹部の底部からラミネートした基材（ｅ−１）に接する層までが４μｍであった。
【０２５３】
基材（ｇ−１）の両面に反射防止処理を行い、偏光性回折素子（９）を得た。得られた偏光性回折素子（９）の常光透過率は、波長６６０ｎｍにおいて９８．７％、波長７８５ｎｍにおいて９８．８％であり、異常光透過率は、波長６６０ｎｍにおいて１．６％、波長７８５ｎｍにおいて４．０％であった。反射率は、基材（ｅ−１）側（ラミネート側）の面で６６０ｎｍにおいて０．３％、波長７８５ｎｍにおいて０．２％であり、基材（ａ'−１）側（基材側）の面で６６０ｎｍにおいて０．２％、波長７８５ｎｍにおいて０．２％であった。また、波面収差を測定した結果、λｒｍｓ＝１０ｍλであり、平坦な面ができていることが分かった。
【０２５４】
［実施例１０］
基材（ｂ−１）を実施例２で得た基材（ｂ−２）、基材（ａ−１）（基材（ｅ−１））を基材（ａ−２）（基材（ｅ−２））に代えた以外は実施例９と同様に行い、基材（ｇ−２）を得た。充填部の厚みは、凹部の底部からラミネートした基材（ｅ−２）に接する層までが４μｍであった。
【０２５５】
基材（ｇ−２）の両面に反射防止処理を行い、偏光性回折素子（１０）を得た。得られた偏光性回折素子（１０）の常光透過率は、波長６６０ｎｍにおいて９８．７％、波長７８５ｎｍにおいて９８．７％であり、異常光透過率は、波長６６０ｎｍにおいて１．６％、波長７８５ｎｍにおいて３．８％であった。反射率は、基材（ｅ−２）側（ラミネート側）の面で６６０ｎｍにおいて０．２％、波長７８５ｎｍにおいて０．２％であり、基材（ａ'−２）側（基材側）の面で６６０ｎｍにおいて０．３％、波長７８５ｎｍにおいて０．２％であった。また、波面収差を測定した結果、λｒｍｓ＝９ｍλであり、平坦な面ができていることが分かった。
【０２５６】
［実施例１１］
基材（ｂ−１）を実施例３で得た基材（ｃ−３）、基材（ａ−１）（基材（ｅ−１））を厚み８０μｍのトリアセチルセルロース製フィルム（基材（ｅ−３））に代えた以外は実施例９と同様に行い、基材（ｇ−３）を得た。充填部の厚みは、凹部の底部からラミネートした基材（ｅ−３）に接する層までが４μｍであった。
【０２５７】
基材（ｇ−３）の両面に反射防止処理を行い、偏光性回折素子（１１）を得た。得られた偏光性回折素子（１１）の常光透過率は、波長６６０ｎｍにおいて９８．２％、波長７８５ｎｍにおいて９９．１％であり、異常光透過率は、波長６６０ｎｍにおいて１．２％、波長７８５ｎｍにおいて３．７％であった。反射率は、基材（ｅ−３）側（ラミネート側）の面で６６０ｎｍにおいて０．２％、波長７８５ｎｍにおいて０．３％であり、基材（ａ−３）側（基材側）の面で６６０ｎｍにおいて０．２％、波長７８５ｎｍにおいて０．３％であった。また、波面収差を測定した結果、λｒｍｓ＝１０ｍλであり、平坦な面ができていることが分かった。
【０２５８】
［実施例１２］
基材（ｂ−１）を実施例４で得た基材（ｃ−４）、基材（ａ−１）（基材（ｅ−１））を厚み９０μｍのポリカーボネート製フィルム（基材（ｅ−４））に代えた以外は実施例９と同様に行い、基材（ｇ−４）を得た。充填部の厚みは、凹部の底部からラミネートした基材（ｅ−４）に接する層までが４μｍであった。
【０２５９】
基材（ｇ−４）の両面に反射防止処理を行い、偏光性回折素子（１２）を得た。得られた偏光性回折素子（１２）の常光透過率は、波長６６０ｎｍにおいて９８．６％、波長７８５ｎｍにおいて９８．７％であり、異常光透過率は、波長６６０ｎｍにおいて１．４％、波長７８５ｎｍにおいて４．２％であった。反射率は、基材（ｅ−４）側（ラミネート側）の面で６６０ｎｍにおいて０．３％、波長７８５ｎｍにおいて０．２％であり、基材（ａ−４）側（基材側）の面で６６０ｎｍにおいて０．３％、波長７８５ｎｍにおいて０．２％であった。また、波面収差を測定した結果、λｒｍｓ＝９ｍλであり、平坦な面ができていることが分かった。
【０２６０】
［実施例１３］
基材（ｂ−１）を実施例５で得た基材（ｃ−５）、基材（ａ−１）（基材（ｅ−１））を製造例３で得た基材（ａ−５）（基材（ｅ−５））に代えた以外は実施例９と同様に行い、基材（ｇ−５）を得た。充填部の厚みは、凹部の底部からラミネートした基材（ｅ−５）に接する層までが４μｍであった。
【０２６１】
基材（ｇ−５）の両面に反射防止処理を行い、偏光性回折素子（１３）を得た。得られた偏光性回折素子（１３）の常光透過率は、波長６６０ｎｍにおいて９８．２％、波長７８５ｎｍにおいて９８．７％であり、異常光透過率は、波長６６０ｎｍにおいて１．３％、波長７８５ｎｍにおいて４．１％であった。反射率は、基材（ｅ−５）側（ラミネート側）の面で６６０ｎｍにおいて０．２％、波長７８５ｎｍにおいて０．３％であり、基材（ｃ−５）中の基材（ａ−５）側（基材側）の面で６６０ｎｍにおいて０．３％、波長７８５ｎｍにおいて０．３％であった。また、波面収差を測定した結果、λｒｍｓ＝９ｍλであり、平坦な面ができていることが分かった。
【０２６２】
［実施例１４］
基材（ｂ−１）を実施例６で得た基材（ｃ−６）に代えた以外は実施例９と同様に行い、基材（ｇ−６）を得た。充填部の厚みは、凹部の底部からラミネートした基材（ｅ−１）に接する層までが４μｍであった。
【０２６３】
基材（ｇ−６）の両面に反射防止処理を行い、偏光性回折素子（１４）を得た。得られた偏光性回折素子（１４）の常光透過率は、波長６６０ｎｍにおいて９８．７％、波長７８５ｎｍにおいて９８．９％であり、異常光透過率は、波長６６０ｎｍにおいて１．５％、波長７８５ｎｍにおいて３．１％であった。反射率は、基材（ｅ−１）側（ラミネート側）の面で６６０ｎｍにおいて０．３％、波長７８５ｎｍにおいて０．２％であり、基材（ｃ−６）中の基材（ａ−１）側（基材側）の面で６６０ｎｍにおいて０．２％、波長７８５ｎｍにおいて０．２％であった。また、波面収差を測定した結果、λｒｍｓ＝８ｍλであり、平坦な面ができていることが分かった。
【０２６４】
［実施例１５］
基材（ｂ−１）を実施例７で得た基材（ｃ−７）、紫外線硬化型アクリル材料（Ｄ−１）を調製例６で得られた紫外線硬化型アクリル材料（Ｄ−２）に代えた以外は実施例９と同様に行い、基材（ｇ−７）を得た。充填部の厚みは、凹部の底部からラミネートした基材（ｅ−１）に接する層までが４μｍであった。
【０２６５】
基材（ｇ−７）の両面に反射防止処理を行い、偏光性回折素子（１５）を得た。得られた偏光性回折素子（１５）の常光透過率は、波長６６０ｎｍにおいて９８．６％、波長７８５ｎｍにおいて９８．９％であり、異常光透過率は、波長６６０ｎｍにおいて１．７％、波長７８５ｎｍにおいて４．２％であった。反射率は、基材（ｅ−１）側（ラミネート側）の面で６６０ｎｍにおいて０．２％、波長７８５ｎｍにおいて０．３％であり、基材（ｃ−７）中の基材（ａ−１）側（基材側）の面で６６０ｎｍにおいて０．３％、波長７８５ｎｍにおいて０．２％であった。また、波面収差を測定した結果、λｒｍｓ＝９ｍλであり、平坦な面ができていることが分かった。
【０２６６】
［実施例１６］
基材（ｂ−１）を実施例８で得た基材（ｃ−８）、紫外線硬化型アクリル材料（Ｄ−１）を調製例６で得られた紫外線硬化型アクリル材料（Ｄ−２）、基材（ａ−１）（基材（ｅ−１））を製造例２で得た基材（ａ−２）（基材（ｅ−２））に代えた以外は実施例９と同様に行い、基材（ｇ−８）を得た。充填部の厚みは、凹部の底部からラミネートした基材（ｅ−２）に接する層までが４μｍであった。
【０２６７】
基材（ｇ−８）の両面に反射防止処理を行い、偏光性回折素子（１６）を得た。得られた偏光性回折素子（１６）の常光透過率は、波長６６０ｎｍにおいて９８．６％、波長７８５ｎｍにおいて９８．８％であり、異常光透過率は、波長６６０ｎｍにおいて１．６％、波長７８５ｎｍにおいて３．５％であった。反射率は、基材（ｅ−２）側（ラミネート側）の面で６６０ｎｍにおいて０．２％、波長７８５ｎｍにおいて０．２％であり、基材（ｃ−８）中の基材（ａ−２）側（基材側）の面で６６０ｎｍにおいて０．３％、波長７８５ｎｍにおいて０．３％であった。また、波面収差を測定した結果、λｒｍｓ＝１０ｍλであり、平坦な面ができていることが分かった。
【０２６８】
［実施例１７］
製造例１で得た基材（ａ−１）の片面に、井上金属工業製ＩＮＶＥＸラボコーターにて３００メッシュの小径グラビアロールを用いて、調製例６で得た紫外線硬化型アクリル材料（Ｄ−２）を厚みが４μｍとなるように塗布し、凹部と凸部とが連続的に形成されたパターンが転写されるように調製した転写ロールを用いて、塗布面に凹部と凸部とが連続的に形成されたパターンを転写させた。なお、転写ロール表面の凹部と凸部は、ロールの円周方向に沿って凹凸の溝が形成されるように調製した。転写するのと同時に高圧水銀ランプを用いて紫外線を基材のパターンを有さない面側から５００ｍＪ／ｃｍ2のエネルギー量で照射して紫外線硬化型アクリル樹脂（Ｄ−２）からなる凹部と凸部とが連続的に形成されたパターンを形成し（層（ＬＤ）の形成）、基材（ｆ−１）を得た。凸部の幅は２．５μｍ、凹部の幅は２．５μｍとし、凹部の深さは２．６μｍとした。
【０２６９】
一方、実施例７で得た基材（ｂ−７）に、井上金属工業製ＩＮＶＥＸラボコーターにて２００メッシュの小径グラビアロールを用いて、メルク株式会社製の紫外線硬化型液晶材料であるＲＭＭ７２７が１００質量部に対して溶剤であるアセトンを３０質量部添加したものを５０℃条件下で塗布して乾燥、配向させ厚み４μｍとした。次いで、基材（ｆ−１）の凹凸面と基材（ｂ−７）の紫外線硬化型液晶材料塗布面とが合わさるように両基材をラミネートし、ラミネート直後に高圧水銀ランプを用いて紫外線を基材（ｂ−７）側から５００ｍＪ／ｃｍ2のエネルギー量で照射して、紫外線硬化型液晶を硬化させることで、基材（ｈ−１）を得た（層（ＬＣ）の形成）。
【０２７０】
基材（ｈ−１）の両面に反射防止処理を行い、偏光性回折素子（１７）を得た。得られた偏光性回折素子（１７）の常光透過率は、波長６６０ｎｍにおいて９８．１％、波長７８５ｎｍにおいて９８．６％であり、異常光透過率は、波長６６０ｎｍにおいて１．４％、波長７８５ｎｍにおいて３．６％であった。反射率は、基材（ｆ−１）側（パターン側）の面で６６０ｎｍにおいて０．２％、波長７８５ｎｍにおいて０．３％であり、基材（ｂ−７）中の基材（ａ−１）側（基材側）の面で６６０ｎｍにおいて０．２％、波長７８５ｎｍにおいて０．２％であった。また、波面収差を測定した結果、λｒｍｓ＝８ｍλであり、平坦な面ができていることが分かった。
【０２７１】
［実施例１８］
基材（ａ−１）を製造例２で得た基材（ａ−２）に代えた以外は実施例１７と同様に行い、凹部と凸部とが連続的に形成された基材（ｆ−２）を得た。凸部の幅は２．５μｍ、凹部の幅は２．５μｍとし、凹部の深さは２．６μｍとした。
【０２７２】
基材（ｂ−７）を実施例８で得た基材（ｂ−８）に代え、基材（ｆ−１）を基材（ｆ−２）に代えた以外は、実施例１７と同様に行い、基材（ｆ−２）の凹凸面と基材（ｂ−８）の紫外線硬化型液晶材料塗布面とが対向してラミネートされた基材（ｈ−２）を得た。
【０２７３】
基材（ｈ−２）の両面に反射防止処理を行い、偏光性回折素子（１８）を得た。得られた偏光性回折素子（１８）の常光透過率は、波長６６０ｎｍにおいて９８．５％、波長７８５ｎｍにおいて９９．０％であり、異常光透過率は、波長６６０ｎｍにおいて１．６％、波長７８５ｎｍにおいて３．３％であった。反射率は、基材（ｆ−２）側（パターン側）の面で６６０ｎｍにおいて０．２％、波長７８５ｎｍにおいて０．２％であり、基材（ｂ−８）中の基材（ａ−２）側（基材側）の面で６６０ｎｍにおいて０．２％、波長７８５ｎｍにおいて０．２％であった。また、波面収差を測定した結果、λｒｍｓ＝８ｍλであり、平坦な面ができていることが分かった。
【０２７４】
［実施例１９］
実施例１７で得た基材（ｆ−１）の凹凸パターン面に、井上金属工業製ＩＮＶＥＸラボコーターにて２００メッシュの小径グラビアロールを用いて、メルク株式会社製の紫外線硬化型液晶材料であるＲＭＭ７２７が１００質量部に対して溶剤であるアセトンを３０質量部添加したものを５０℃条件下で塗布して乾燥させて基材（ｊ−１）を得た。次いで、実施例７で得た基材（ｂ−７）の紫外線硬化樹脂面と基材（ｊ−１）の紫外線硬化型液晶材料塗布面とが合わさるように両基材をラミネートして５０℃条件下で加熱処理して液晶材料を配向させ、加熱直後に高圧水銀ランプを用いて紫外線を基材（ｊ−１）側から５００ｍＪ／ｃｍ2のエネルギー量で照射して、紫外線硬化型液晶を硬化させることで、基材（ｋ−１）を得た（層（ＬＣ）の形成）。紫外線硬化型液晶層の厚みは、凹部の底部から基材（ｂ−７）と接する面までが４μｍであった。
【０２７５】
基材（ｋ−１）の両面に反射防止処理を行い、偏光性回折素子（１９）を得た。得られた偏光性回折素子（１９）の常光透過率は、波長６６０ｎｍにおいて９８．３％、波長７８５ｎｍにおいて９８．７％であり、異常光透過率は、波長６６０ｎｍにおいて１．６％、波長７８５ｎｍにおいて３．７％であった。反射率は、基材（ｊ−１）側（パターン側）の面で６６０ｎｍにおいて０．２％、波長７８５ｎｍにおいて０．３％であり、基材（ｂ−７）中の基材（ａ−１）側（基材側）の面で６６０ｎｍにおいて０．２％、波長７８５ｎｍにおいて０．３％であった。また、波面収差を測定した結果、λｒｍｓ＝９ｍλであり、平坦な面ができていることが分かった。
【０２７６】
［実施例２０］
実施例１８で得た基材（ｆ−２）の凹凸パターン面に、井上金属工業製ＩＮＶＥＸラボコーターにて２００メッシュの小径グラビアロールを用いて、メルク株式会社製の紫外線硬化型液晶材料であるＲＭＭ７２７が１００質量部に対して溶剤であるアセトンを３０質量部添加したものを５０℃条件下で塗布して乾燥させて基材（ｊ−２）を得た。
【０２７７】
次いで、実施例８で得た基材（ｂ−８）の紫外線硬化樹脂面と基材（ｊ−２）の紫外線硬化型液晶材料塗布面とが合わさるように両基材をラミネートして液晶材料を５０℃条件下で加熱処理して配向させ、加熱直後に高圧水銀ランプを用いて紫外線を基材（ｊ−２）側から５００ｍＪ／ｃｍ2のエネルギー量で照射して、紫外線硬化型液晶を硬化させることで、基材（ｋ−２）を得た（層（ＬＣ）の形成）。紫外線硬化型液晶層の厚みは、凹部の底部から基材（ｂ−８）と接する面までが４μｍであった。
【０２７８】
基材（ｋ−２）の両面に反射防止処理を行い、偏光性回折素子（２０）を得た。得られた偏光性回折素子（２０）の常光透過率は、波長６６０ｎｍにおいて９８．４％、波長７８５ｎｍにおいて９８．８％であり、異常光透過率は、波長６６０ｎｍにおいて１．４％、波長７８５ｎｍにおいて３．４％であった。反射率は、基材（ｆ−２）側（パターン側）の面で６６０ｎｍにおいて０．３％、波長７８５ｎｍにおいて０．２％であり、基材（ｂ−８）中の基材（ａ−２）側（基材側）の面で６６０ｎｍにおいて０．３％、波長７８５ｎｍにおいて０．２％であった。また、波面収差を測定した結果、λｒｍｓ＝８ｍλであり、平坦な面ができていることが分かった。
【０２７９】
【表１】
2010156956.tif 000006
【符号の説明】
【０２８０】
１・・・基材（ａ）
３・・・層（Ｂ）
５・・・化合物（Ｃ）を含む組成物からなる凹部と凸部とが連続的に形成されたパターン７・・・凸部
９・・・凹部
１１・・・充填部
１３・・・基材（ａ'）
１５・・・化合物（Ｄ）を含む組成物からなる凹部と凸部とが連続的に形成されたパターン
１７・・・基材（ｅ）
１９・・・化合物（Ｃ）を含む組成物から形成される塗布面
２１・・・化合物（Ｃ）を含む組成物に由来する部分
【図１】
2010156956.tif 000008
【図２】
2010156956.tif 000009
【図３】
2010156956.tif 000010
【図４】
2010156956.tif 000011
【図５】
2010156956.tif 000012
【図６】
2010156956.tif 000013