(57)【要約】      （修正有）【課題】簡便に部分的、段階的、または連続的に光学濃度を変更するＮＤフィルター及びその製造方法を提供する。また、可視領域の波長全域にわたり均一な透過率特性を有し、低へイズ値、薄肉化、軽量化、成形容易性、耐衝撃性に優れ、かつ透明樹脂基板と、光減衰層との密着性が良好なＮＤフィルター及びその製造方法を提供する。【解決手段】透明樹脂基板上１に、顔料および／または染料を含む硬化性樹脂組成物から形成されてなる光減衰層２を有し、前記光減衰層２が、少なくとも２種の厚みを有することを特徴とするＮＤフィルター。【選択図】図１
2010156765.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明樹脂基板上に、顔料および／または染料を含む硬化性樹脂組成物から形成されてなる光減衰層を有し、
前記光減衰層が、少なくとも２種の厚みを有することを特徴とするＮＤフィルター。
【請求項２】
前記光減衰層の厚みが、部分的、段階的または連続的に変化したものであることを特徴とする請求項１に記載のＮＤフィルター。
【請求項３】
前記透明樹脂基板が、略一定の厚みを有することを特徴とする請求項１または２に記載のＮＤフィルター。
【請求項４】
前記透明樹脂基板が少なくとも２種の厚みを有することを特徴とする請求項１または２に記載のＮＤフィルター。
【請求項５】
前記透明樹脂基板の厚みが、部分的、段階的または連続的に変化したものであることを特徴とする請求項４に記載のＮＤフィルター。
【請求項６】
前記透明樹脂基板の少なくとも一方の面が、さらに反射防止処理されていることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載のＮＤフィルター。
【請求項７】
前記透明樹脂基板が、下記式（１）で表される化合物を少なくとも１種含む単量体から導かれる構造単位を有する環状オレフィン系重合体からなることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載のＮＤフィルター。
【化１】
2010156765.tif 000007
〔式（１）中、ｘは、０または１〜３の整数を表し、ｙは、０または１を表す。
Ｒ1〜Ｒ4は、それぞれ独立に、下記（ｉ）〜（ｖ）より選ばれるものを表すか、（ｖｉ）、または（ｖｉｉ）を表す。
（ｉ）水素原子、
（ｉｉ）ハロゲン原子、
（ｉｉｉ）極性基、
（ｉｖ）酸素原子、窒素原子、イオウ原子またはケイ素原子を含む連結基を有する、置換または非置換の炭素原子数１〜１５の炭化水素基、
（ｖ）置換または非置換の炭素原子数１〜１５の炭化水素基、
（ｖｉ）Ｒ1とＲ2と、またはＲ3とＲ4とが、相互に結合して形成されたアルキリデン基を表し、該結合に関与しないＲ1〜Ｒ4は、相互に独立に、該（ｉ）〜（ｖ）より選ばれるものを表す、
（ｖｉｉ）Ｒ1とＲ2と、Ｒ3とＲ4と、またはＲ2とＲ3とが、相互に結合して形成された芳香環あるいは非芳香環の単環もしくは多環の炭素環または複素環を表し、該結合に関与しないＲ1〜Ｒ4は、相互に独立に、該（ｉ）〜（ｖ）より選ばれるものを表す。〕
【請求項８】
任意の一点において、波長４５０〜６５０ｎｍにおける光線透過率の平均値をＴave（％）、光線透過率の最小値をＴmin（％）、光線透過率の最大値をＴmax（％）とした時、これらが下記式（２）、（３）および（４）を満たすことを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載のＮＤフィルター。
Ｔave≦７０            ・・・（２）
０．８５×Ｔave≦Ｔmin  ・・・（３）
１．１５×Ｔave≧Ｔmax  ・・・（４）
【請求項９】
前記顔料が、カーボンブラック、金属酸化物、金属窒化物、および金属窒酸化物から選ばれる少なくとも１種の無機粒子を含むことを特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載のＮＤフィルター。
【請求項１０】
前記顔料が、銅、鉄およびマンガンの酸化物より構成される金属複合酸化物であることを特徴とする請求項１〜９のいずれかに記載のＮＤフィルター。
【請求項１１】
前記硬化性樹脂組成物が活性エネルギー線により硬化する組成物であることを特徴とする請求項１〜１０のいずれかに記載のＮＤフィルター。
【請求項１２】
前記硬化性樹脂組成物が脂環式構造を有する（メタ）アクリレートを含有することを特徴とする請求項１〜１１のいずれかに記載のＮＤフィルター。
【請求項１３】
透明樹脂基板上に、顔料および／または染料を含む硬化性樹脂組成物からなる硬化性層を形成する工程（１）と、
前記硬化性層を硬化させて、少なくとも２種の厚みを有する光減衰層を形成する工程（２）とを、
有することを特徴とするＮＤフィルターの製造方法。
【請求項１４】
前記工程（２）が、硬化性層を形成した後、非平滑面を有するロールを用いて、該ロールの表面形状を前記硬化性層に転写する際に前記硬化性層を硬化することを特徴とする請求項１３に記載のＮＤフィルターの製造方法。
【請求項１５】
前記工程（２）が、硬化性層を形成した後、その硬化性層上に、予め厚みに変化を与えた第二の透明樹脂層を厚みに変化がある側を前記硬化性層に向けて重ね合せ、その重ね合せた状態で前記硬化性層を硬化することを特徴とする請求項１３に記載のＮＤフィルターの製造方法。
【請求項１６】
請求項１３〜１５のいずれかに記載の製造方法により製造されることを特徴とするＮＤフィルター。
【請求項１７】
請求項１〜１２および１６のいずれかに記載のＮＤフィルターを用いて、光の透過率を調節する方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＮＤフィルターに関する。詳しくは、顔料および／または染料を含む硬化性樹脂組成物から形成されてなる光減衰層を有し、前記光減衰層が、少なくとも２種の厚みを有することを特徴とするＮＤフィルター、その製造方法およびそれらを用いた光の透過率の調節方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＮＤフィルター（Neutral Density Filter）は、フィルターを透過する光量を減少させるフィルターであり、デジタルスチルカメラ、デジタルビデオカメラ等の固体撮像装置に用いられ、可視領域の波長全域にわたり均一な透過率特性、低へイズ値、シェーディング現象や解像度低下の防止等が要求されている。
【０００３】
このようなＮＤフィルターとして、従来では、ガラスに光吸収材料を添加したガラスフィルター等が用いられていた。しかし、このガラスフィルターは、可視光領域において分光特性が均一となっておらず、また、軽量化、成形容易性、耐衝撃性に劣る等の問題があった。
【０００４】
そこで、上記問題点を解決するため、最近では、ガラスフィルターに変わって、基板に樹脂を用いたフィルターも開発されるようになった。
一般的な樹脂製のＮＤフィルターは、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、塩化ビニル等からなる基板が用いられ、基板上に光吸収能を有する金属膜および透過・反射能を制御するために、金属酸化物等からなる誘電体膜を真空中で蒸着加工した反射吸収型ＮＤフィルター、透明材料に染料、および顔料を均一分散させることにより作製される光吸収型ＮＤフィルターに大別される。
【０００５】
しかしながら、前者は真空蒸着による多層コーティングが必須となるためＮＤフィルターの製造の再現性、フィルター面内の光学特性の均一性を確保するためには、蒸着源からの距離を一定にすべく基板サイズを小型化する必要があり、基板と、誘電体膜との密着性等に劣るものが多かった。一方、後者の光吸収型ＮＤフィルターでは、用いる染料または顔料の性質によっては可視領域の波長全域にわたり均一な透過率特性が得られない場合が多かった。
【０００６】
昨今のデジタルカメラ、ビデオカメラ等の撮像機器においてはその高機能化、小型化に伴い、単一のＮＤフィルターにおいて、その光線透過位置を変化させることで光学濃度を変化させたＮＤフィルターが強く求められるようになった。
【０００７】
これに対して、特許文献１では蒸着法により複数のマスクを用いて、基体表面に光学濃度が段階的に異なる領域を形成したＮＤフィルターが、特許文献２では蒸発源の蒸発飛来方向と直交する平面に対して所定角度傾斜させて基板を固定配置し、更にマスクを基板と蒸着源の間に所定の角度を設けて蒸着することにより、光学濃度が連続的に変化するＮＤフィルターの製造方法が提案されている。
【０００８】
しかしながら、前記従来の方法では開口部の大きさが異なるマスクを複数枚重ね合わせて、蒸着厚みを制御するため、それぞれのマスクについて洗浄を十分に行わないと、マスク同士の重ね合わせ時に以前の蒸着で付着した蒸着物質が剥離し、それが結果的に異物として基体に付着し、画像の質が低下してしまう、または基体およびマスクを傾斜配置するため、ＮＤフィルターの設計変更に容易に対応できず、且つ傾斜角度のわずかな変化により製品の特性がばらつくといったいわゆるバッチ間の再現性に乏しいなどの課題があった。
【特許文献１】特開２００４−３７５４８号
【特許文献２】特開平１１−３８２０６号
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は可視領域の波長全域にわたり均一な透過率特性を有し、基板と光減衰層の密着性が良好な、部分的、段階的、または連続的に異なる光学濃度を有するＮＤフィルター及びその製造方法を提供することを課題としている。また、低ヘイズ値を有し、シェーディング現象の防止や、解像度低下、画像のゴースト、フレアーを防止する反射防止特性を有し、薄肉化、軽量化、成形容易性、耐衝撃性に優れるＮＤフィルター及びその製造方法を提供することを課題としている。
【００１０】
また、本発明は、真空蒸着における多層成膜の再現性の乏しさ、工程の煩雑さとそれに伴う歩留の低下、および形状、光学濃度の設計変更に対する不自由さを解消し、かつ再現性よく、かつ簡便に部分的、段階的、または連続的に光学濃度を変更するＮＤフィルター及びその製造方法を提供することを課題としている。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明のＮＤフィルターは、  透明樹脂基板上に、顔料および／または染料を含む硬化性樹脂組成物から形成されてなる光減衰層を有し、前記光減衰層が、少なくとも２種の厚みを有することを特徴としている。
【００１２】
本発明のＮＤフィルターは、前記光減衰層の厚みが、部分的、段階的または連続的に変化したものであることが好ましい。
本発明のＮＤフィルターは、前記透明樹脂基板が、略一定の厚みを有することが好ましい。
【００１３】
本発明のＮＤフィルターは、前記透明樹脂基板が少なくとも２種の厚みを有することが好ましい。
本発明のＮＤフィルターは、該透明樹脂基板の厚みが部分的、段階的または連続的に変化したものであることが好ましい。
【００１４】
本発明のＮＤフィルターは、前記透明樹脂基板の少なくとも一方の面が、さらに反射防止処理されていることが好ましい。
本発明のＮＤフィルターは、前記透明樹脂基板が下記式（１）で表される化合物を少なくとも１種含む単量体から導かれる構造単位を有する環状オレフィン系重合体からなることが好ましい。
【００１５】
【化１】
2010156765.tif 000003
【００１６】
〔式（１）中、ｘは、０または１〜３の整数を表し、ｙは、０または１を表す。
Ｒ1〜Ｒ4は、それぞれ独立に、下記（ｉ）〜（ｖ）より選ばれるものを表すか、（ｖｉ）、または（ｖｉｉ）を表す。
【００１７】
（ｉ）水素原子、
（ｉｉ）ハロゲン原子、
（ｉｉｉ）極性基、
（ｉｖ）酸素原子、窒素原子、イオウ原子またはケイ素原子を含む連結基を有する、置換または非置換の炭素原子数１〜１５の炭化水素基、
（ｖ）置換または非置換の炭素原子数１〜１５の炭化水素基、
（ｖｉ）Ｒ1とＲ2と、またはＲ3とＲ4とが、相互に結合して形成されたアルキリデン基を表し、該結合に関与しないＲ1〜Ｒ4は、相互に独立に、該（ｉ）〜（ｖ）より選ばれるものを表す、
（ｖｉｉ）Ｒ1とＲ2と、Ｒ3とＲ4と、またはＲ2とＲ3とが、相互に結合して形成された芳香環あるいは非芳香環の単環もしくは多環の炭素環または複素環を表し、該結合に関与しないＲ1〜Ｒ4は、相互に独立に、該（ｉ）〜（ｖ）より選ばれるものを表す。〕
本発明のＮＤフィルターは、任意の一点において、波長４５０〜６５０ｎｍにおける光線透過率の平均値をＴave（％）、光線透過率の最小値をＴmin（％）、光線透過率の最大値をＴmax（％）とした時、これらが下記式（２）、（３）および（４）を満たすことが好ましい。
【００１８】
Ｔave≦７０            ・・・（２）
０．８５×Ｔave≦Ｔmin  ・・・（３）
１．１５×Ｔave≧Ｔmax  ・・・（４）
本発明のＮＤフィルターは、前記顔料が、カーボンブラック、金属酸化物、金属窒化物、および金属窒酸化物から選ばれる少なくとも１種の無機粒子を含むことが好ましい。
【００１９】
本発明のＮＤフィルターは、前記顔料が、銅、鉄およびマンガンの酸化物より構成された金属複合酸化物であることが好ましい。
本発明のＮＤフィルターは、前記顔料が、さらに、銅、鉄、マンガンより構成される金属複合酸化物であることが好ましい。
【００２０】
本発明のＮＤフィルターは、前記硬化性樹脂組成物が活性エネルギー線により硬化する組成物であることが好ましい。
本発明のＮＤフィルターは、前記硬化性樹脂組成物が脂環式構造を有する（メタ）アクリレートを含有することが好ましい。
【００２１】
本発明のＮＤフィルターの製造方法は、透明樹脂基板上に、顔料および／または染料を含む硬化性樹脂組成物からなる硬化性層を形成する工程（１）と、前記硬化性層を硬化させて、少なくとも２種の厚みを有する光減衰層を形成する工程（２）とを、有することを特徴とする。
【００２２】
本発明のＮＤフィルターの製造方法は、前記工程（２）が、硬化性層を形成した後、非平滑面を有するロールを用いて、該ロールの表面形状を前記硬化性層に転写する際に前記硬化性層を硬化することが好ましい。
【００２３】
本発明のＮＤフィルターの製造方法は、前記工程（２）が、硬化性層を形成した後、その硬化性層上に、予め厚みに変化を与えた第二の透明樹脂層を厚みに変化がある側を前記硬化性層に向けて重ね合せ、その重ね合せた状態で前記硬化性層を硬化することが好ましい。
【００２４】
本発明のＮＤフィルターは、上記の製造方法により製造されることが好ましい。
さらに、本発明は、本発明のＮＤフィルターを用いて、光の透過率を調節する方法に関する。
【発明の効果】
【００２５】
本発明によれば、可視領域の波長全域にわたり均一な透過率特性を有し、基板と光減衰層の密着性が良好な、部分的、段階的、または連続的に異なる光学濃度を有するＮＤフィルター及びその製造方法を提供することができる。また、低ヘイズ値を有し、シェーディング現象の防止や、解像度低下、画像のゴースト、フレアーを防止する反射防止特性を有し、薄肉化、軽量化、成形容易性、耐衝撃性に優れるＮＤフィルター及びその製造方法を提供することができる。
【００２６】
また、本発明は、真空蒸着における多層成膜の再現性の乏しさ、工程の煩雑さとそれに伴う歩留の低下、および形状、光学濃度の設計変更に対する不自由さを解消し、かつ再現性よく、かつ簡便に部分的、段階的、または連続的に光学濃度を変更するＮＤフィルター及びその製造方法を提供することができる。
【００２７】
さらに、本発明のＮＤフィルターは、その光減衰層の厚みが部分的、段階的または連続的に変化しているため、単一のＮＤフィルター内において、減光性能の面内可変能を与えることができ、光線透過率を調節することが可能である。そのため、低コストでデジタルカメラ、デジタルスチルカメラといった撮像機器の性能を飛躍的に向上させることが可能である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２８】
以下、本発明について具体的に説明する。
〔ＮＤフィルター〕
本発明のＮＤフィルターは、透明樹脂基板上に、顔料および／または染料を含む硬化性樹脂組成物から形成されてなる光減衰層を有し、前記光減衰層が、少なくとも２種の厚みを有する。
【００２９】
前記光減衰層の厚みは、部分的、段階的または連続的に変化したもの、いずれでもかまわない。
さらに、透明樹脂基板は、略一定の厚みを有してもよいし、少なくとも２種の厚みを有していてもよい。
【００３０】
前記透明樹脂基板の厚みは、部分的、段階的または連続的に変化したもの、いずれでもかまわない。
このような、透明樹脂基板、光減衰層の厚みまたはその変化の程度は、求められるＮＤフィルターの形状、機能よって変更することができる。
【００３１】
本発明のＮＤフィルターは、任意の一点において、波長４５０〜６５０ｎｍにおけるＮＤフィルターの厚み０．１ｍｍでの光線透過率の平均値をＴave（％）、光線透過率の最小値をＴmin（％）、光線透過率の最大値をＴmax（％）とした時、これらが下記式（２）、（３）および（４）を満たすことを特徴とする
Ｔave≦７０            ・・・（２）
０．８５×Ｔave≦Ｔmin  ・・・（３）
１．１５×Ｔave≧Ｔmax  ・・・（４）
上記式（２）は、本発明のＮＤフィルターが、波長４５０〜６５０ｎｍにおいて最低でも３０％以上光をカットする必要であることを示し、上記式（３）、（４）は、ＮＤフィルターの光線透過率が波長４５０〜６５０ｎｍにおいてほぼ均一、つまり、分光透過率曲線が平坦性を有し、バラツキが小さいことを示す。
【００３２】
分光透過率曲線が平坦性を有すると、透過光の色のバランスが保たれ、シェーディング現象を防止することができるなどの特徴を有するため好ましい。
波長４５０〜６５０ｎｍにおける光線透過率の平均値Ｔave（％）が７０％以下、好ましくは５０％以下、さらに好ましくは４０％以下の値をとることが望ましい。
【００３３】
波長４５０〜６５０ｎｍにおける光線透過率の最小値Ｔmin（％）がＴaveの０．８５倍以上、好ましくは０．９０倍以上、さらに好ましくは０．９２倍以上の値をとることが望ましい。また、光線透過率の最小値Ｔmin（％）は、Ｔaveの１倍以下である。
【００３４】
波長４５０〜６５０ｎｍにおける光線透過率の最大値Ｔmax（％）がＴaveの１．１５倍以下、好ましくは１．１０倍以下、さらに好ましくは１．０８倍以下の値をとることが望ましい。また、光線透過率の最大値Ｔmax（％）は、Ｔaveの１倍以上である。
【００３５】
ＮＤフィルターの波長４５０〜６５０ｎｍにおける光線透過率の最小値、最大値が上記範囲にあることによって、波長４５０〜６５０ｎｍにおいて均一な透過率特性を有するＮＤフィルターを得ることができる。
【００３６】
このような分光透過率曲線の平坦性は、透明樹脂基板上に特定の顔料および／または染料を含む硬化性樹脂組成物からなる光減衰層を形成することによって達成することができる。
【００３７】
具体的には、波長４５０〜６５０ｎｍにおいて、分光透過率曲線がほぼ均一な顔料または染料を用いることによって達成することができる。
透明樹脂基板上に形成する光減衰層に特定の顔料を含有したのみでＮＤフィルターの分光透過率曲線が平坦にならない場合には、可視光領域における光線透過率の最大値（Ｔmax）付近の波長領域（図７のＡ部分の波長領域）に吸収を持つ特定の染料を顔料とともに用いることによって、ＮＤフィルターの分光透過率曲線を平坦にすることができる。
【００３８】
また、透明樹脂基板上に形成する光減衰層に特定の顔料および／または染料を含有したのみでＮＤフィルターの分光透過率曲線が平坦にならない場合には、可視光領域における光線透過率の最小値（Ｔmin）付近の波長領域（図７のＢ部分の波長領域）での反射率が低くなるようにＮＤフィルターの少なくとも一方の面を反射防止処理することで、ＮＤフィルターの分光透過率曲線を平坦にすることもできる。
≪透明樹脂基板≫
本発明における透明樹脂基板は、透明樹脂フィルムであってもよく、透明樹脂シートであってもよい。ここで、フィルムとシートの違いには、厳密な規定はないが、一般的に、２００μｍ以下の厚みを有するものをフィルム、それ以上の厚みを有するものをシートと呼び、材質による区別はない。
【００３９】
このような、透明樹脂基板は、透明樹脂から形成されているため、可視光領域において分光特性が均一となっており、また、薄肉化、軽量化、成形容易性、耐衝撃性に優れるため、好ましい。
【００４０】
本発明における透明樹脂基板は、略一定の厚みを有してもよいし、少なくとも２種の厚みを有していてもよい。
また、透明樹脂基板の厚みは、部分的、段階的または連続的に変化したもの、いずれでもかまわない。
【００４１】
このような、透明樹脂基板の厚みまたはその変化の程度は、求められるＮＤフィルターの形状、機能によって変更することができる。
本発明において、透明樹脂基板の厚みは、特に限定されるものではないが、最も薄い部分と、最も厚い部分が１〜２０００μｍ、好ましくは、１０〜５００μｍの範囲にあることが望ましい。
【００４２】
透明樹脂基板の厚みが上記範囲にあると、可視光領域における透明性が良好であり、基板強度を維持することができる点で好ましい。
＜透明樹脂＞
本発明で用いる透明樹脂としては、本発明の効果を損なわないものである限り特に制限されないが、例えば、ガラス転移温度（Ｔｇ）が１００〜５００℃であり、かつ厚さ１００μｍでの全光線透過率が７５％以上である樹脂を用いることができる。
【００４３】
本発明で用いる透明樹脂としては、ガラス転移温度（Ｔｇ）は、熱的安定性および基板への成形性を確保するため、通常１００〜３８０℃、好ましくは１００〜３７０℃、さらに好ましくは１２０〜３６０℃である。また、透明樹脂のガラス転移温度が、１２０℃以上、好ましくは１３０℃以上、さらに好ましくは１４０℃以上であれば、熱的安定性に優れる基板が得られるため望ましい。
【００４４】
本発明で用いる透明樹脂としては、厚さ０．１ｍｍでの全光線透過率は、通常７５〜９４％であり、好ましくは７８〜９３％であり、更に好ましくは８０〜９２％である。全光線透過率がこのような範囲であれば、透明樹脂基板が良好な透明性を示し、ヘイズ値の小さい透明樹脂基板が得られるため好ましい。
【００４５】
このような透明樹脂としては例えば、ノルボルネン系樹脂等の環状オレフィン系樹脂、ポリアリレート樹脂（ＰＡＲ）、ポリサルホン樹脂（ＰＳＦ）、ポリエーテルサルホン樹脂（ＰＥＳ）、ポリパラフェニレン樹脂（ＰＰＰ）、ポリアリーレンエーテルフォスフィンオキシド樹脂（ＰＥＰＯ）、ポリイミド樹脂（ＰＰＩ）、ポリエーテルイミド樹脂（ＰＥＩ）、ポリアミドイミド樹脂（ＰＡＩ）、（変性）アクリル樹脂、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、有機−無機ナノハイブリッド材料をあげることができる。
【００４６】
上記透明樹脂を用いると、良好な透明性を示す基板が得られ、また、硬化性樹脂組成物との密着性に優れるため好ましい。
本発明では、これらの内、環状オレフィン系樹脂を用いるのが特に好ましい。
【００４７】
＜環状オレフィン系樹脂＞
本発明に用いられる環状オレフィン系樹脂として、特に環状オレフィン系化合物を少なくとも１種含む単量体組成物を重合し、また必要に応じてさらに水素添加して得られた樹脂が好ましい。
【００４８】
環状オレフィン系樹脂は、可視光領域における透明性、高耐熱性、低吸水性、低比重性、成形性、金属膜との密着性、耐薬品性等に優れているため、本発明の透明樹脂基板として好ましい。
【００４９】
《単量体組成物》
前記単量体組成物に用いる環状オレフィン系化合物としては、例えば、下記一般式（１）で表される環状オレフィン系化合物を挙げることができる。
【００５０】
【化２】
2010156765.tif 000004
【００５１】
〔式（１）中、ｘは、０または１〜３の整数を表し、ｙは、０または１を表す。
Ｒ1〜Ｒ4は、それぞれ独立に、下記（ｉ）〜（ｖ）より選ばれるものを表すか、（ｖｉ）、または（ｖｉｉ）を表す。
【００５２】
（ｉ）水素原子、
（ｉｉ）ハロゲン原子、
（ｉｉｉ）極性基、
（ｉｖ）酸素原子、窒素原子、イオウ原子またはケイ素原子を含む連結基を有する、置換または非置換の炭素原子数１〜１５の炭化水素基、
（ｖ）置換または非置換の炭素原子数１〜１５の炭化水素基、
（ｖｉ）Ｒ1とＲ2と、またはＲ3とＲ4とが、相互に結合して形成されたアルキリデン基を表し、該結合に関与しないＲ1〜Ｒ4は、相互に独立に、該（ｉ）〜（ｖ）より選ばれるものを表す、
（ｖｉｉ）Ｒ1とＲ2と、Ｒ3とＲ4と、またはＲ2とＲ3とが、相互に結合して形成された芳香環あるいは非芳香環の単環もしくは多環の炭素環または複素環を表し、該結合に関与しないＲ1〜Ｒ4は、相互に独立に、該（ｉ）〜（ｖ）より選ばれるものを表す。〕
一般式（１）で表される環状オレフィン系化合物の具体例としては、例えば、以下に示す化合物が例示できるが、これらの例示に限定されるものではない。
・ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン（ノルボルネン）
・５−メチル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン
・５−エチル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン
・５−プロピルビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−エン
・５−ブチルビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−エン
・５−ｔ−ブチルビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−エン
・５−イソブチルビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−エン
・５−ペンチルビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−エン
・５−ヘキシルビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−エン
・５−ヘプチルビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−エン
・５−オクチルビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−エン
・５−デシルビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−エン
・５−ドデシルビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−エン
・５−シクロヘキシル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン
・５−フェニル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン
・５−（４−ビフェニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン
・５−メトキシカルボニル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン
・５−フェノキシカルボニル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン
・５−フェノキシエチルカルボニル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン
・５−フェニルカルボニルオキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン
・５−メチル−５−メトキシカルボニル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン
・５−メチル−５−フェノキシカルボニル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン
・５−メチル−５−フェノキシエチルカルボニル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン
・５−ビニル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン
・５−エチリデン−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン
・５−トリメトキシシリル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン
・５−トリエトキシシリル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン
・５，５−ジメチル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン
・５，６−ジメチル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン
・５−フルオロ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン
・５−クロロ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン
・５−ブロモ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン
・５，６−ジフルオロ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン
・５，６−ジクロロ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン
・５，６−ジブロモ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン
・５−ヒドロキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン
・５−ヒドロキシエチル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン
・５−シアノ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン
・５−アミノ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン
・トリシクロ［４．３．０．１2,5］デカ−３−エン
・トリシクロ［４．４．０．１2,5］ウンデカ−３−エン
・７−メチル−トリシクロ［４．３．０．１2,5］デカ−３−エン
・７−エチル−トリシクロ［４．３．０．１2,5］デカ−３−エン
・７−シクロヘキシル−トリシクロ［４．３．０．１2,5］デカ−３−エン
・７−フェニル−トリシクロ［４．３．０．１2,5］デカ−３−エン
・７−（４−ビフェニル）−トリシクロ［４．３．０．１2,5］デカ−３−エン
・７，８−ジメチル−トリシクロ［４．３．０．１2,5］デカ−３−エン
・７，８，９−トリメチル−トリシクロ［４．３．０．１2,5］デカ−３−エン
・８−メチル−トリシクロ［４．４．０．１2,5］ウンデカ−３−エン
・８−フェニル−トリシクロ［４．４．０．１2,5］ウンデカ−３−エン
・７−フルオロ−トリシクロ［４．３．０．１2,5］デカ−３−エン
・７−クロロ−トリシクロ［４．３．０．１2,5］デカ−３−エン
・７−ブロモ−トリシクロ［４．３．０．１2,5］デカ−３−エン
・７，８−ジクロロ−トリシクロ［４．３．０．１2,5］デカ−３−エン
・７，８，９−トリクロロ−トリシクロ［４．３．０．１2,5］デカ−３−エン
・７−クロロメチル−トリシクロ［４．３．０．１2,5］デカ−３−エン
・７−ジクロロメチル−トリシクロ［４．３．０．１2,5］デカ−３−エン
・７−トリクロロメチル−トリシクロ［４．３．０．１2,5］デカ−３−エン
・７−ヒドロキシ−トリシクロ［４．３．０．１2,5］デカ−３−エン
・７−シアノ−トリシクロ［４．３．０．１2,5］デカ−３−エン
・７−アミノ−トリシクロ［４．３．０．１2,5］デカ−３−エン
・テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］ドデカ−３−エン
・ペンタシクロ［７．４．０．１2,5．１8,11．０7,12］ペンタデカ−３−エン
・ヘキサシクロ［８．４．０．１2,5．１7,14．１9,12．０8,13］ヘプタデカ−３−エン
・８−メチル−テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］ドデカ−３−エン
・８−エチル−テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］ドデカ−３−エン
・８−シクロヘキシル−テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］ドデカ−３−エン
・８−フェニル−テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］ドデカ−３−エン
・８−（４−ビフェニル）−テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］ドデカ−３−エン
・８−メトキシカルボニル−テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］ドデカ−３−エン
・８−フェノキシカルボニル−テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］ドデカ−３−エン
・８−フェノキシエチルカルボニル−テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］ドデカ−３−エン
・８−フェニルカルボニルオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］ドデカ−３−エン
・８−メチル−８−メトキシカルボニル−テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］ドデカ−３−エン
・８−メチル−８−フェノキシカルボニル−テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］ドデカ−３−エン
・８−メチル−８−フェノキシエチルカルボニル−テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］ドデカ−３−エン
・８−ビニル−テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］ドデカ−３−エン
・８−エチリデン−テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］ドデカ−３−エン
・８，８−ジメチル−テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］ドデカ−３−エン
・８，９−ジメチル−テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］ドデカ−３−エン
・８−フルオロ−テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］ドデカ−３−エン
・８−クロロ−テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］ドデカ−３−エン
・８−ブロモ−テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］ドデカ−３−エン
・８，８−ジクロロ−テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］ドデカ−３−エン
・８，９−ジクロロ−テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］ドデカ−３−エン
・８，８，９，９−テトラクロロ−テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］ドデカ−３−エン
・８−ヒドロキシ−テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］ドデカ−３−エン
・８−ヒドロキシエチル−テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］ドデカ−３−エン
・８−メチル−８−ヒドロキシエチル−テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］ドデカ−３−エン
・８−シアノ−テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］ドデカ−３−エン
・８−アミノ−テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］ドデカ−３−エン
なお、これら環状オレフィン系化合物は１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００５３】
本発明で用いる環状オレフィン系化合物の種類および量は、得られる樹脂に求められる特性により適宜選択される。
これらのうち、その分子内に酸素原子、窒素原子、イオウ原子もしくはケイ素原子から選ばれた少なくとも１種の原子を少なくとも１個含む構造（以下、「極性構造」という。）を有する化合物を用いると、吸収剤の分散性に優れ、また、他素材との接着性や密着性に優れるなどの利点がある。特に、前記式（１）中、Ｒ1およびＲ3が水素原子、または炭素数１〜３の炭化水素基、好ましくは水素原子、またはメチル基であり、Ｒ2またはＲ4のいずれか一つが極性構造を有する基であって他が水素原子または炭素数１〜３炭化水素基である化合物は、樹脂の吸水（湿）性が低く好ましい。さらに、極性構造を有する基が下記一般式（５）で表わされる基である環状オレフィン系化合物は、得られる樹脂の耐熱性と吸水（湿）性とのバランスがとりやすく、好ましく用いることができる。
【００５４】
−（ＣＨ2）zＣＯＯＲ      …（５）
（式（５）中、Ｒは置換又は非置換の炭素原子数１〜１５の炭化水素基を表し、ｚは０または１〜１０の整数を表す。）
前記一般式（５）において、ｚの値が小さいものほど得られる水素添加物のガラス転移温度が高くなり耐熱性に優れるので、ｚが０または１〜３の整数であることが好ましく、更に、ｚが０である単量体はその合成が容易である点で好ましい。また、前記一般式（５）におけるＲは、炭素数が多いほど得られる重合体の水素添加物の吸水（湿）性が低下する傾向にあるが、ガラス転移温度が低下する傾向もあるので、耐熱性を保持する観点からは炭素数１〜１０の炭化水素基が好ましく、特に炭素数１〜６の炭化水素基であることが好ましい。
【００５５】
なお、前記一般式（１）において、前記一般式（５）で表される基が結合した炭素原子に炭素数１〜３のアルキル基、特にメチル基が結合していると、耐熱性と吸水（湿）性のバランスの点で好ましい。さらに、前記一般式（１）において、ｘが０でありｙが０または１である化合物は、反応性が高く、高収率で重合体が得られること、また、耐熱性が高い重合体水素添加物が得られこと、さらに工業的に入手しやすいことから好適に用いられる。
【００５６】
本発明に用いる環状オレフィン系樹脂を得るにあたっては、本発明の効果を損なわない範囲で前記環状オレフィン系化合物と共重合可能な単量体を単量体組成物に含ませて重合することができる。
【００５７】
これら共重合可能な単量体として、例えば、シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘプテン、シクロオクテン、シクロドデセンなどの環状オレフィンや１，４−シクロオクタジエン、ジシクロペンタジエン、シクロドデカトリエンなどの非共役環状ポリエンを挙げることができる。
【００５８】
これらの共重合性単量体は、１種単独で用いてもよいし２種以上を併用してもよい。
《重合方法》
前記環状オレフィン系化合物を含む単量体組成物の重合方法については、単量体組成物の重合が可能である限り特に制限されるものではないが、例えば、開環重合、もしくは付加重合によって重合することができる。
【００５９】
《水素添加反応》
前記開環重合反応により得られる重合体は、その分子中にオレフィン性不飽和結合を有している。また、前記付加重合反応においても、重合体がその分子中にオレフィン性不飽和結合を有する場合がある。このように、重合体分子中にオレフィン性不飽和結合が存在すると、係るオレフィン性不飽和結合が経時着色やゲル化等劣化の原因となる場合があるので、このオレフィン性不飽和結合を飽和結合に変換する水素添加反応を行うことが好ましい。
【００６０】
水素添加反応は、通常の方法、すなわちオレフィン性不飽和結合を有する重合体の溶液に公知の水素添加触媒を添加し、これに常圧〜３００気圧、好ましくは３〜２００気圧の水素ガスを０〜２００℃、好ましくは２０〜１８０℃で作用させることによって行うことができる。
【００６１】
水素添加重合体の水素添加率は、５００ＭＨｚ、1Ｈ−ＮＭＲで測定した値が通常５０％以上、好ましく７０％以上、より好ましくは９０％以上、特に好ましくは９８％以上、最も好ましくは９９％以上である。水素添加率が高いほど、熱や光に対する安定性が優れたものとなり、成形体として使用した場合に長期にわたって安定した特性を得ることができるため好ましい。
【００６２】
≪透明樹脂基板の製造方法≫
厚みの均一な透明樹脂基板は、上記の透明樹脂を用いてキャスト法、押出し成形法等の任意の方法で成形することができる。
【００６３】
厚みの異なる透明樹脂基板の製造方法としては、例えば、下記（ｉ）〜（ｉｖ）をあげることができる。
（ｉ）積層部分を有する透明樹脂基板
前記の製造方法で作成した厚みの均一な透明樹脂基板上の任意の場所に、任意の面積で厚みの均一な透明樹脂基板を１つ以上積層することにより、基板の厚みが異なる部位を部分的または段階的に有する透明樹脂基板を製造する。
【００６４】
（ｉｉ）射出成型により形成される透明樹脂基板
厚みの異なる部位を任意の場所に、任意の面積で有する形状に合わせた金型を用いて、射出成形により、厚みが異なる部位を部分的、段階的または連続的に有する透明樹脂基板を製造する。
【００６５】
（ｉｉｉ）ホットプレス法により形成される透明樹脂基板
前記厚みの均一な透明樹脂基板をホットプレス等の方法にて、任意の厚みとなるよう制御した後、公知の打ち抜きの方法により厚みの異なる部位を部分的、段階的または連続的に有する透明樹脂基板を製造する。
【００６６】
（ｉｖ）ロール押圧法により形成される透明樹脂基板
前記透明樹脂基板を押出し成型する際に、非平滑面を有するロールを押圧することにより、任意の厚みが得られるよう制御した後、公知の打ち抜きの方法により厚みの異なる部位を部分的、段階的または連続的に有する透明樹脂基板を製造する。
【００６７】
特に、金型を準備し、所定の形状を得る前記製造方法（ｉｉｉ）を用いてＮＤフィルターを作成すると、基板の薄肉化が容易になり、生産量の調整、透明樹脂基板のデザイン変更等への順応性が高く、かつ工程数が少ないため、生産性、歩留を向上させることができるため特に好ましい。
【００６８】
≪光減衰層≫
本発明の光減衰層は、透明樹脂基板上に顔料および／または染料を含む硬化性樹脂組成物を硬化させて得られる層であるが、透明樹脂基板との密着性に優れるものが好ましい。
【００６９】
光減衰層は、透明樹脂基板の片面に形成されてもよく、両面に形成されてもよいが、単一のＮＤフィルター中に異なる厚みの光減衰層を有する必要がある。
前記光減衰層の厚みは、部分的、段階的または連続的に変化したもの、いずれでもかまわない。
【００７０】
このような、透明樹脂基板、光減衰層の厚みまたはその変化の程度は、求められるＮＤフィルターの形状、機能よって変更することができる。
本発明において、光減衰層の厚みは、特に限定されるものではないが、最も薄い部分と、最も厚い部分が０．１〜１０００μｍ、好ましくは、１〜２００μｍの範囲にあることが望ましい。
【００７１】
光減衰層の厚みが上記範囲にあれば、ＮＤフィルターは、可視光領域において適度に光を吸収するため、所望の光学濃度を有するＮＤフィルターを容易に製造することができる。
【００７２】
光減衰層は、液状又は懸濁液状の硬化性樹脂組成物を透明樹脂基板上に塗布し、必要ならば乾燥し、加熱および／または活性エネルギー線を照射することにより形成することができる。
【００７３】
光減衰層は、前記特性を有する本発明のＮＤフィルターを構成するものであれば良いが、任意の一点において、波長４５０〜６５０ｎｍにおける光減衰層の厚み０．１ｍｍでの光線透過率の平均値をＴave（％）、光線透過率の最小値をＴmin（％）、光線透過率の最大値をＴmax（％）とした時、これらが下記式（２）、（３）および（４）を満たすことが好ましい。
【００７４】
Ｔave≦７０            ・・・（２）
０．８５×Ｔave≦Ｔmin  ・・・（３）
１．１５×Ｔave≧Ｔmax  ・・・（４）
上記式（２）は、光減衰層が、波長４５０〜６５０ｎｍにおいて最低でも３０％以上光をカットする必要であることを示し、上記式（３）、（４）は、光減衰層の光線透過率が波長４５０〜６５０ｎｍにおいてほぼ均一、つまり、分光透過率曲線が平坦性を有し、バラツキが小さいことを示す。
【００７５】
分光透過率曲線が平坦性を有すると、透過光の色のバランスが保たれるなどの特徴を有するため好ましい。
波長４５０〜６５０ｎｍにおける光線透過率の平均値Ｔave（％）が７０％以下、好ましくは５０％以下、さらに好ましくは４０％以下の値をとることが望ましい。
【００７６】
波長４５０〜６５０ｎｍにおける光線透過率の最小値Ｔmin（％）がＴaveの０．８５倍以上、好ましくは０．９０倍以上、さらに好ましくは０．９２倍以上の値をとることが望ましい。また、光線透過率の最小値Ｔmin（％）は、Ｔaveの１倍以下である。
【００７７】
波長４５０〜６５０ｎｍにおける光線透過率の最大値Ｔmax（％）がＴaveの１．１５倍以下、好ましくは１．１０倍以下、さらに好ましくは１．０８倍以下の値をとることが望ましい。また、光線透過率の最大値Ｔmax（％）は、Ｔaveの１倍以上である。
【００７８】
光減衰層の波長４５０〜６５０ｎｍにおける光線透過率の最小値、最大値が上記範囲にあることによって、波長４５０〜６５０ｎｍにおいて均一な透過率特性を有するＮＤフィルターを得ることができる。
【００７９】
＜硬化性樹脂組成物＞
本発明に用いられる硬化性樹脂組成物は、顔料および／または染料と硬化性樹脂成分等からなる。
【００８０】
硬化性樹脂組成物の混合は、通常、液状又は懸濁状の硬化性樹脂成分中に、顔料および／または染料を混合し、均一に顔料および／または染料が分散するように攪拌・混合されることによって行われる。この際、攪拌方法、攪拌速度、攪拌力、攪拌時間等を調整することにより、粒子の分布や凝集状態をコントロールすることができる。
【００８１】
なお、顔料および／または染料の分散／攪拌は、当該分野で知られている方法のいずれをも使用することができる。
《硬化性樹脂成分》
硬化性樹脂成分は、加熱および／または活性エネルギー線を照射することにより硬化して樹脂を形成する。
【００８２】
硬化性樹脂成分は、硬化の容易性、光減衰層の成形容易性等の理由から、光硬化性樹脂、熱硬化性樹脂からなることが好ましい。
本発明で用いられる硬化性樹脂成分は、前記透明樹脂との屈折率の差が小さい樹脂成分が好ましい。
【００８３】
さらに、アッベ屈折計で測定した５８９ｎｍにおける屈折率の差が０．１以内、好ましくは、０．０５以内、より好ましくは０．０２以内であることが望ましい。
このような硬化性樹脂成分を用いたＮＤフィルターは、解像度低下、画像のゴースト、フレアーを防止することができるため好ましい。
【００８４】
樹脂成分を構成する材料としては、例えば、エポキシ系材料、オキセタン系材料、シリコーン系材料、メラミン系材料、（メタ）アクリル系材料を好適に用いることができる。
本発明に用いられる硬化性樹脂成分として、特に、活性エネルギー線硬化性樹脂成分を用いることが硬化の容易性、光減衰層の成形容易性等の理由から好ましい。
【００８５】
活性エネルギー線硬化性樹脂成分を構成する材料としては、好ましくは（メタ）アクリル系材料を用いることができる。
（メタ）アクリル系材料は、（Ａ）ウレタン（メタ）アクリレートおよび（Ｂ）前記（Ａ）成分以外のエチレン性不飽和基含有化合物からなることが好ましい。この場合において、（メタ）アクリル系材料は、（メタ）アクリル系材料全体量に対し、（Ａ）ウレタン（メタ）アクリレート５〜７０重量％、および（Ｂ）前記（Ａ）成分以外のエチレン性不飽和基含有化合物１０〜８０重量％を配合してなることが好ましい。
【００８６】
さらに好ましくは、（メタ）アクリル系材料が前記（Ａ）および（Ｂ）成分の混合体において、（Ｂ）成分の一部として特に、（Ｃ）成分として脂環式構造を有する（メタ）アクリレートが含まれていることが好ましい。
【００８７】
この場合において、（メタ）アクリル系材料は、（メタ）アクリル系材料全体量に対し、（Ｃ）成分として脂環式構造を有する（メタ）アクリレートを８０〜２０重量％配合してなることが好ましい。
（Ａ）成分は特に（ａ）水酸基含有（メタ）アクリレート、（ｂ）脂肪族ポリイソシアネート、および（ｃ）ポリオールの反応物であることが好ましい。（Ａ）成分をこの反応物とすることで、活性エネルギー線硬化性樹脂成分の屈折率制御を容易とし、硬化時に適度な硬度を与え、更に過度の硬化収縮を抑制することができるため、光学的な歪みを少なくすることが可能となる。また、ＮＤフィルターを長期使用する際の光によるＮＤフィルターの黄変を低減することも可能となる。
【００８８】
（ａ）成分として用いられる水酸基含有（メタ）アクリレートとしては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェニルオキシプロピル（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールモノ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシアルキル（メタ）アクリロイルフォスフェート、４−ヒドロキシシクロヘキシル（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールモノ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールモノ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタンジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートが挙げられる。
【００８９】
この中でも、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートが好ましい。
これら水酸基含有（メタ）アクリレートは一種であるいは二種以上を組合せて使用することができる。
【００９０】
（ｂ）成分として用いられる脂肪族ポリイソシアネートは、芳香環構造を含まない、イソシアネート基を２個以上含む化合物である。（Ａ）ウレタン（メタ）アクリレートの原料として、通常用いられる芳香環構造を有するポリイソシアネートに替えて、（ｂ）脂肪族ポリイソシアネートを用いることにより、ＮＤフィルターを長期使用する際の光によるＮＤフィルターの黄変を低減することができる。
【００９１】
（ｂ）脂肪族ポリイソシアネートとしては、例えば、テトラメチレンジイソシアネート、ペンタメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ヘプタメチレンジイソシアネート、オクタメチレンジイソシアネート、デカメチレンジイソシアネート、ドデカメチレンジイソシアネート、２−メチル−１，５−ペンタンジイソシアネート、３−メチル−１，５−ペンタンジイソシアネート、２，２，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、２，４，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、ビス（２−イソシアナトエチル）フマレート；イソホロンジイソシアネート、メチレンビス（４−シクロヘキシルイソシアネート）、ノルボルナンジイソシアネート、シクロヘキシルジイソシアネート等の脂環族ジイソシアネート等が挙げられる。
【００９２】
この中でも、テトラメチレンジイソシアネート、ペンタメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ヘプタメチレンジイソシアネート、オクタメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ノルボルナンジイソシアネート、シクロヘキシルジイソシアネートが好ましい。
これらのポリイソシアネート化合物は一種であるいは二種以上を組合せて使用することができる。
【００９３】
（ｃ）成分として用いられるポリオールとしては、エチレングリコール、プロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，３−ブタンジオール、シクロヘキサンジメチロール、トリシクロデカンジメチロール、１，６−ヘキサンジオール、２−ブチル−２−エチル−プロパンジオール；アルキレンオキシ構造を有するポリエーテルポリオール；ビスフェノール構造を有するポリオール；ポリカプロラクトンジオール；ポリエステルジオール；ポリカーボネートジオール；等を挙げることができる。
【００９４】
この中でも、アルキレンオキシ構造を有するポリエーテルポリオール、ビスフェノール構造を有するポリオールが好ましい。
前記アルキレンオキシ構造を有するポリエーテルポリオールとしては、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリブチレングリコール、ポリエチレンブチレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、ポリヘキサメチレングリコール、ポリヘプタメチレングリコール、ポリデカメチレングリコール；エチレンオキシド、プロピレンオキシド、ブテン−１−オキシド、イソブテンオキシド、３，３−ビスクロロメチルオキセタン、テトラヒドロフラン、２−メチルテトラヒドロフラン、３−メチルテトラヒドロフラン、ジオキサン、トリオキサン、テトラオキサン、シクロヘキセンオキシド、スチレンオキシド、エピクロルヒドリン、グリシジルメタクリレート、アリルグリシジルエーテル、アリルグリシジルカーボネート、ブタジエンモノオキシド、イソプレンモノオキシド、ビニルオキセタン、ビニルテトラヒドロフラン、ビニルシクロヘキセンオキシド、フェニルグリシジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、安息香酸グリシジルエステル等のイオン重合性環状化合物の２種以上を開環共重合させて得られるポリエーテルジオール；等が挙げられる。これらのうち、ポリプロピレングリコール、ポリブチレングリコール、ポリエチレンブチレングリコール、ポリテトラメチレングリコールが好ましい。
【００９５】
なお、（ｃ）成分として用いられるアルキレンオキシ構造を有するポリエーテルポリオールは、ポリスチレン換算で求められる数平均分子量が５００以上であることが好ましく、９００以上であることが好ましい。
前記ビスフェノール構造を有するポリオールとしては、ビスフェノールＡポリエトキシグリコール、ビスフェノールＡポリプロポキシグリコール、ビスフェノールＡポリエトキシプロポキシグリコール、ビスフェノールＦポリエトキシグリコール、ビスフェノールＦポリプロポキシグリコール、ビスフェノールＦポリエトキシプロポキシグリコール、ビスフェノールＳポリエトキシグリコール、ビスフェノールＳポリプロポキシグリコール、ビスフェノールＳポリエトキシプロポキシグリコール等が挙げられる。
【００９６】
（Ａ）成分のウレタン（メタ）アクリレートは、例えば、以下の（１）〜（４）の方法によって製造される。
（１）（ｃ）ポリオール及び（ｂ）脂肪族ポリイソシアネートを反応させ、次いで（ａ）水酸基含有（メタ）アクリレートを反応させる方法。
（２）（ｂ）脂肪族ポリイソシアネート及び（ａ）水酸基含有（メタ）アクリレートを反応させ、次いで（ｃ）ポリオールを反応させる方法。
（３）（ｃ）ポリオール、（ｂ）脂肪族ポリイソシアネート、及び（ａ）水酸基含有（メタ）アクリレートを一括に仕込んで反応させる方法。
（４）（ｂ）脂肪族ポリイソシアネート及び（ａ）水酸基含有（メタ）アクリレートを反応させ、次いで（ｃ）ポリオールを反応させ、最後にまた（ａ）水酸基含有（メタ）アクリレートを反応させる方法。
【００９７】
これらのうち、上記（２）の方法が好ましく用いられる。
（Ａ）成分のウレタン（メタ）アクリレートを製造する際、通常、ナフテン酸銅、ナフテン酸コバルト、ナフテン酸亜鉛、ジラウリル酸ジ−ｎ−ブチル錫、トリエチルアミン、トリエチレンジアミン−２−メチルトリエチレンアミン等のウレタン化触媒が、反応原料の総量に対して０.０１〜１質量％の量で用いられる。尚、反応温度は通常、１０〜９０℃、特に３０〜８０℃で行うのが好ましい。
【００９８】
（Ａ）ウレタン（メタ）アクリレートの数平均分子量は、好ましくは５００〜２０，０００、より好ましくは１，０００〜１５，０００である。該数平均分子量が５００未満であると、硬化性樹脂組成物を硬化して得られる光減衰層の基板への密着性が低下し、逆に数平均分子量が２０，０００を超えると、硬化性樹脂組成物の粘度が高くなり、取り扱いにくくなる等の問題が生じる場合がある。
【００９９】
本発明の放射線硬化性樹脂組成物に用いられる（Ｂ）成分は、（Ａ）成分以外の脂環式構造を含まないエチレン性不飽和基含有化合物である。（Ｂ）成分の例としては、（メタ）アクリロイル基又はビニル基を含有する化合物（以下、「不飽和モノマー」という。）等が挙げられる。
【０１００】
該不飽和モノマーとしては、単官能モノマー、及び多官能モノマーを使用することができる。
単官能モノマーとしては、例えばＮ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカプロラクタム、ビニルイミダゾール、ビニルピリジン等のビニルモノマー；フェノキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシ−２−メチルエチル（メタ）アクリレート、フェノキシエトキシエチル（メタ）アクリレート、３−フェノキシ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２ーフェニルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、４−フェニルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、３−（２−フェニルフェニル）−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、エチレンオキシドを反応させたｐ−クミルフェノールの（メタ）アクリレート、２−ブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレート、２，４−ジブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレート、２，４，６−トリブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレート、エチレンオキサイドやプロピレンオキサイドを複数モル変性させたフェノキシ（メタ）アクリレート、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、アミル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、イソアミル（メタ）アクリレート、へキシル（メタ）アクリレート、ヘプチル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ウンデシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、メトキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ジアセトン（メタ）アクリルアミド、イソブトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、ｔ−オクチル（メタ）アクリルアミド、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、７−アミノ−３，７−ジメチルオクチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリルアミド、ヒドロキシブチルビルエーテル、ラウリルビニルエーテル、セチルビニルエーテル、２−エチルヘキシルビニルエーテル等が挙げられる。
【０１０１】
これらの中で、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル（メタ）アクリレート等が好ましい。
多官能モノマーとしては、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−へキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリオキシエチル（メタ）アクリレート、トリス（２−ヒドキシエチル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、トリス（アクリロイルオキシ）イソシアヌレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡのポリエチレンオキサイド又はプロピレンオキサイドの付加体であるジオールのジ（メタ）アクリレート、水添ビスフェノールＡのエチレンオキサイド又はプロピレンオキサイドの付加体であるジオールのジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡのジグリシジルエーテルに（メタ）アクリレートを付加させたエポキシ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジビニルエーテル等が挙げられる。
【０１０２】
これらの中で、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡのポリエチレンオキサイド又はプロピレンオキサイドの付加体であるジオールのジ（メタ）アクリレート等が好ましい。
【０１０３】
なお、（Ｂ）成分としては、単官能モノマーと多官能モノマーとを併用して用いることにより、硬度と屈折率を適宜、調整することが可能となる。
（Ｃ）成分として脂環式構造を有する（メタ）アクリレートは、単官能モノマーとしてイソボルニル（メタ）アクリレート、ボルニル（メタ）アクリレート、トリシクロデカニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、４−ブチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルホリン、イミドアクリレート等が挙げられる。また多官能モノマーとしては、ＥＣＨ変性ヘキサヒドロフタル酸ジアクリレート、ビス（ヒドロキシメチル）トリシクロデカンジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールアクリレート等が挙げられる。
（Ｃ）成分は、特に透明樹脂基板として脂環骨格を有する樹脂を用いた場合に良好な密着性を得ることができる。
【０１０４】
（Ａ）〜（Ｃ）成分以外に、活性エネルギー線として紫外線を用いる場合には光重合開始剤を更に添加することも好ましい。光重合開始剤としては、光（活性エネルギー線）によりラジカルを発生して重合を開始せしめるものであればいずれでもよく、例えば、アセトフェノン、アセトフェノンベンジルケタール、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、キサントン、フルオレノン、べンズアルデヒド、フルオレン、アントラキノン、トリフェニルアミン、カルバゾール、３−メチルアセトフェノン、４−クロロベンゾフェノン、４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、４，４’−ジアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、チオキサントン、ジエチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノ−プロパン−１−オン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス−（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルフォスフィンオキシド等が挙げられる。
【０１０５】
本発明において好適な硬化性樹脂成分の市販品としては、オプスターＫＺ９４５７（ＪＳＲ社製）が好ましい。オプスターＫＺ９４５７は、透明樹脂基板、特に環状オレフィン系樹脂基板との密着性が良く、また、硬化時の収縮率が小さく、前記透明樹脂との屈折率の差が小さいため、ＮＤフィルターの形状安定性、成形容易性に優れ、解像度低下、画像のゴースト、フレアーを防止することができるため好ましい。
【０１０６】
なお、上記活性エネルギー線とは、例えば赤外線、可視光線、紫外線及びＸ線、電子線、α線、β線、γ線のような電離放射線等を意味し、通常は紫外線等の光が簡便に用いられる場合が多い。
【０１０７】
光重合開始剤の添加量は硬化性樹脂組成物の全量を１００重量％として、好ましくは０．０１〜１０重量％、特に好ましくは０．５〜７重量％である。光重合開始剤の配合割合が０．０１質量％未満であると、硬化速度が低下して反応効率が低くなることがある。一方、光重合開始剤の配合割合が１０質量％を超えると、硬化性樹脂組成物の硬化特性及び取り扱い性や、硬化物の力学特性及び光学特性の点で劣ることがある。
【０１０８】
なお、本発明の樹脂組成物には、必要に応じて、光重合開始剤とともに光増感剤を配合することができる。
光増感剤としては、例えばトリエチルアミン、ジエチルアミン、Ｎ−メチルジエタノールアミン、エタノールアミン、４−ジメチルアミノ安息香酸、４−ジメチルアミノ安息香酸メチル、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル等が挙げられる。
【０１０９】
さらにまた、上記成分以外に必要に応じて各種添加剤として、例えば酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、シランカップリング剤、塗面改良剤、熱重合禁止剤、レベリング剤、界面活性剤、着色剤、保存安定剤、可塑剤、滑剤、離型剤、溶媒、フィラー、老化防止剤、濡れ性改良剤等を必要に応じて配合することができる。
【０１１０】
《顔料》
本発明に用いられる顔料は、可視光領域に吸収をもつ顔料であって、可視光領域において、均一な吸収をもつ顔料であれば特に制限はないが、カーボンブラック、金属酸化物、金属窒化物、および金属窒酸化物から選ばれる少なくとも１種以上の無機粒子が好ましく、無機粒子が無機超微粒子であることがより好ましい。
【０１１１】
顔料は、光減衰層において、硬化性樹脂組成物１００重量％に対して０．０１〜５重量％、好ましくは０．０５〜３重量％程度含まれることが望ましい。
光減衰層に顔料が上記の割合で含まれていると可視光領域において適度に光を吸収し、所望の光学濃度を有するＮＤフィルターを容易に製造することができるため好ましい。
【０１１２】
可視光領域に吸収をもつ金属酸化物、金属窒化物、および金属窒酸化物は、いずれの金属の酸化物、窒化物、および窒酸化物でもよいが、元素周期表の第４周期の３〜１１族に属する金属の酸化物、窒化物、および窒酸化物により構成されているのが好ましい。元素周期表の第４周期の３〜１１族には、スカンジウム（Ｓｃ）、チタン（Ｔｉ）、バナジウム（Ｖ）、クロム（Ｃｒ）、マンガン（Ｍｎ）、鉄（Ｆｅ）、コバルト（Ｃｏ）、ニッケル（Ｎｉ）及び銅（Ｃｕ）が属しており、これらの中では、Ｔｉ、Ｍｎ、Ｆｅ及びＣｕが好ましい。さらに金属酸化物は２種以上の金属により構成された複合酸化物が好ましく、特に銅、鉄、マンガンより構成される金属複合酸化物が好ましい。これら銅、鉄、マンガンより構成される金属複合酸化物の組成比は特に限定されないが、銅、鉄、マンガンより構成される金属複合酸化物を１００重量％としたときに、銅酸化物は５〜３０重量％、鉄酸化物は２５〜７０重量％、マンガン酸化物は  ２５〜７０重量％となる組成比を有する金属複合酸化物が好ましい。
【０１１３】
上記のような組成比の、銅、鉄、マンガンの酸化物より構成される金属複合酸化物の可視光領域における分光透過率曲線は、平坦性を有するため、上記のような組成比の、銅、鉄、マンガンの酸化物より構成される金属複合酸化物を用いたＮＤフィルターは、可視光領域において、平坦な分光透過率曲線を示すことになり、好ましい。
【０１１４】
上記カーボンブラック、金属酸化物、金属窒化物、金属窒酸化物および金属複合酸化物の一次粒子径は５〜１００ｎｍ，好ましくは２０〜７０ｎｍである。一次粒子径をこの範囲とすることにより、ＮＤフィルターの散乱光を抑制する効果がある。これにより、ＮＤフィルターの解像度低下、画像のゴースト、フレアーを防止することができるため好ましい。
【０１１５】
本発明において、硬化性層中における顔料の一次粒子はそのまま分散した形態であってもよく、添加した一次粒子が凝集して、二次、三次以上の凝集粒子として分散した形態であってもよく、一次粒子と二次粒子以上の凝集粒子が混在して分散した形態であってもよい。いずれの場合においても、光減衰層中における粒子の平均粒径は、５０〜６００ｎｍ程度であることが好ましく、特に５０〜４００ｎｍ程度、さらに５０〜２００ｎｍ程度であることがより好ましい。このような平均粒径を有する顔料を用いると、ＮＤフィルターのヘイズ値を低下させることができるため好ましい。
【０１１６】
≪染料≫
本発明に用いられる染料は、可視光領域に吸収をもつ染料であれば特に制限はない。
有機物からなる染料を用いる場合は、その化学構造に起因する特定波長の吸収を有する。そのため、本発明において、特定の顔料を光減衰層に含有したのみではＮＤフィルターの分光透過率曲線が平坦にならない場合に、分光透過率曲線の一例を示す図７のＡ部分の波長領域に吸収を持つ特定の染料を顔料とともに光減衰層に含有することによって、ＮＤフィルターの分光透過率曲線を平坦にすることができる。
【０１１７】
このような、可視光領域に吸収をもつ染料としてはフタロシアニン系、チオール金属錯体系、アゾ系、ポリメチン系、ジフェニルメタン系、トリフェニルメタン系、キノン系、アントラキノン系又はジイモニウム塩系等の色素化合物がある。
【０１１８】
本発明において好適な可視光領域に吸収をもつ染料の市販品としては、ＳＤＡ４１３７、ＳＤＡ４４２８、ＳＤＡ９８００、ＳＤＡ９８１１，ＳＤＢ３５３５（以上ＳＡＮＤＳ社製）、ＫＡＹＡＳＯＲＢシリーズ、Ｋａｙａｓｅｔシリーズ（以上日本化薬社製）が挙げられる。
【０１１９】
≪その他の成分≫
また、本発明の目的を損なわない範囲において、硬化性樹脂組成物中にさらに、酸化防止剤、紫外線吸収剤等の添加剤を添加することができる。
【０１２０】
上記酸化防止剤としては、例えば、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール、２，２'−ジオキシ−３，３'−ジ−ｔ−ブチル−５，５'−ジメチルジフェニルメタン、テトラキス［メチレン−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタン等が挙げられる。
【０１２１】
上記紫外線吸収剤としては、例えば、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン等が挙げられる。また、後述する溶液キャスティング法によりＮＤフィルターを製造する場合には、レベリング剤や消泡剤を添加することにより、その製造を容易にすることができる。
【０１２２】
これら添加剤の添加量は、所望の特性に応じて適宜選択されるものであるが、硬化性樹脂組成物１００重量％に対して、通常０．０１〜５．０重量％、好ましくは０．０５〜２．０重量％であることが望ましい。
≪ＮＤフィルターの構造≫
本発明のＮＤフィルターは、単一のＮＤフィルター中に異なる厚みの光減衰層を有することにより、単一のＮＤフィルター中に異なる光学濃度を有する構造である限り特に制限されないが、例えば以下の図に示すような構造をとることができる。
【０１２３】
ここで、「光学濃度」とは、ＮＤフィルターを通る光の透過率の尺度のことを言う。
ＮＤフィルターが、下記図のような構造を有する場合には、所望の光学濃度を有するＮＤフィルターを容易に製造することができる点で好ましい。
【０１２４】
（ア）図１は、光減衰層２の厚みが部分的または段階的に変化する場合のＮＤフィルターの一例を図示したものであり、図２は、光減衰層２の厚みが連続的に変化する場合のＮＤフィルターの一例を図示したものである。
【０１２５】
ＮＤフィルターが、上記図１，２のような構造を有する場合には、特に、所望の光学濃度を有するＮＤフィルターを容易に設計、製造することができる点で好ましい。
（イ）図３は、透明樹脂基板１の厚みが部分的または段階的に変化する場合のＮＤフィルターの一例を図示したものであり、図４は、透明樹脂基板１の厚みが連続的に変化する場合のＮＤフィルターの一例を図示したものである。
【０１２６】
ＮＤフィルターが、上記図３，４のような構造を有する場合には、特に、その表面に凹凸が少ないため、ＮＤフィルター自体の傷付きや、本発明のＮＤフィルターを撮像機器に用いた場合に該ＮＤフィルターとともに用いられる他の部材を傷付けることを防止できる点で好ましい。
【０１２７】
（ウ）図５は、透明樹脂基板１上に顔料および／または染料を含む硬化性樹脂組成物を塗布し硬化性層３を形成した後、非平滑面を有するロール４を用いて、該ロール４の表面形状を硬化性層３に転写する際に、透明樹脂基板１側から活性エネルギー線等を照射し、硬化性層３を硬化させることによって形成したＮＤフィルターである。
【０１２８】
ここで、「硬化性層」とは、透明樹脂基板上に顔料および／または染料を含む硬化性樹脂組成物を塗布して形成された層のことを言い、硬化させる前の層のことを言う。なお、硬化性層を硬化させた層のことを光減衰層と言う。
【０１２９】
「非平滑面を有するロール」とは、エンボスロール等のように、対象物に凹凸模様等を転写する機能を有するロールのことを言う。
ＮＤフィルターが、上記図５のような構造を有する場合には、特に、成形と、硬化を同時に行うことができ、ＮＤフィルター製造の効率化、量産化の面で優れている。
【０１３０】
（エ）図６は、透明樹脂基板１上に顔料および／または染料を含む硬化性樹脂組成物を塗布し硬化性層３を形成した後、予め厚みに変化を与えた第二の透明樹脂層６を厚みに変化がある側を硬化性層３に向けて重ね合せ、その重ね合せた状態で透明樹脂基板１側から活性エネルギー線等を照射し、硬化性層３を硬化させることによって形成したＮＤフィルターである。
【０１３１】
ここで、「第２の透明樹脂層」とは、透明樹脂基板とは異なる層であって、同一層内において、少なくとも２種以上の異なる厚みを有する層であって、透明樹脂からなっている。該透明樹脂は、基板に用いられている透明樹脂と同じであってもよく、異なった樹脂でもかまわない。
【０１３２】
また、活性エネルギー線等の照射は透明樹脂基板１側からでもよく、第二の透明樹脂層６側からでもよい。
ＮＤフィルターが、上記図６のような構造を有する場合には、上記（イ）と同様の特徴を有するとともに、特に、ＮＤフィルターのそり等の防止、耐久性に優れるなどの点で好ましい。
【０１３３】
［ＮＤフィルターの製造方法］
本発明においてＮＤフィルターの製造方法は特に制限されるものではないが例えば以下にあげる方法でＮＤフィルターを製造することができる。
【０１３４】
本発明に係るＮＤフィルターは、上記製造方法で製造した透明樹脂基板に、顔料および／または染料を含む硬化性樹脂組成物を塗布し、活性エネルギー線を照射することでＮＤフィルターを製造することができる。
【０１３５】
略一定の厚みを有する透明樹脂基板および、少なくとも２種の厚みを有する透明樹脂基板上に顔料および／または染料を含む硬化性樹脂組成物からなる硬化性層を形成する工程（１）としては、バーコーター塗工、エアナイフ塗工、グラビア塗工、グラビアリバース塗工、リバースロール塗工、リップ塗工、ダイ塗工、ディップ塗工、オフセット印刷、フレキソ印刷、スクリーン印刷など種々の方法を採用することができる。
【０１３６】
また、略一定の厚みを有する透明樹脂基板上に厚みの異なる光減衰層を形成する工程（２）として、プレス法、キャスト法等の方法を用いることができる。
プレス法としては、例えば、硬化性樹脂組成物を平板石英上に滴下し、その上に厚みの異なる透明樹脂基板の厚みの異なる側を平板石英側に向けて硬化性樹脂組成物の上に載せ、更に平板石英を厚みの異なる透明樹脂基板の厚みの変化がない面に載せ（以下、挟み込み方法という。）、水平を保ったまま、熱、光をかけた後、上下の平板石英を取り除き少なくとも２種の厚みの光減衰層を有するＮＤフィルターを得ることができる。
【０１３７】
このような方法でＮＤフィルターを製造すると、ＮＤフィルターの薄肉化が容易になり、生産量の調整、デザイン変更等への順応性が高く、かつ工程数が少ないため、生産性、歩留を向上させることができるため特に好ましい。
【０１３８】
さらに前記工程（２）としては、所望の光減衰層の形状を有する金型を用い、該金型と透明樹脂基板との間に硬化性樹脂組成物を流し込み、活性エネルギー線等を照射し、該硬化性樹脂組成物を硬化させることもできる。このような方法で光減衰層を形成する場合には、短時間で光減衰層を製造することができ、また、生産性に優れる等の点から好ましい。
【０１３９】
また、前記工程（２）として、上記塗布方法で透明樹脂基板上に硬化性樹脂組成物を塗布、硬化させた後、その光減衰層上の一部にさらに硬化性樹脂組成物を塗布、硬化させることによって、透明樹脂基板上に部分的に厚みの異なる光減衰層を形成することもできる。このような工程を繰り返し行うことで、段階的に厚みの異なる光減衰層を形成することができる。
【０１４０】
この他にも、前記工程（２）として、透明樹脂基板上に硬化性樹脂組成物を塗布し、硬化性層を形成した後、非平滑面を有するロールを用いて、該ロールの表面形状を前記硬化性層に転写する際に前記硬化性層を硬化することによりＮＤフィルターを製造する方法がある（図５）。
【０１４１】
このような製造方法は、成形と、硬化を同時に行うことができ、ＮＤフィルター製造の効率化、量産化の面で優れている。
また、前記工程（２）として、透明樹脂基板上に前記硬化性樹脂組成物を塗布し、硬化性層を形成した後、その硬化性層上に、予め厚みに変化を与えた第二の透明樹脂層を厚みに変化がある側を前記硬化性層に向けて重ね合せ、その重ね合せた状態で前記硬化性層を硬化させてＮＤフィルターを製造する方法を用いてもよい（図６）。
【０１４２】
このような製造方法で製造されたＮＤフィルターは、傷つきにくく、そり等の防止、耐久性に優れるなどの点で好ましい。
なお、透明樹脂基板と光減衰層との密着性を向上させるために透明樹脂基板の表面を予め処理しておいてもよい。該表面処理としては、薬品処理、機械的処理、コロナ処理、火炎処理、紫外線照射処理、高周波処理、グロー放電処理、活性プラズマ処理、レーザー処理、混酸処理およびオゾン酸化処理が含まれる。
【０１４３】
硬化性層の硬化は、特に限定されず、用いる硬化性樹脂組成物の組成、硬化性樹脂組成物の厚み等に応じて、当該分野で公知の方法によって、適宜調整して行うことができる。
≪反射防止能処理≫
ＮＤフィルターの少なくとも一方の面に反射防止処理をすると、ＮＤフィルターの迷光・ゴースト等を防ぐことができるため好ましい。また、ＮＤフィルターの少なくとも一方の面に反射防止処理をすることで、可視光領域の波長全域にわたり均一な透過率特性を有するＮＤフィルター得ることができるため好ましい。
【０１４４】
具体的には公知の誘電体多層膜による方法に加え、ホットスタンプによるナノインプリントにて可視域の反射防止性能を付与することや、該成形体の表層から０．１マイクロメートルをフッ素ガス中でフッ素化反応させる方法、さらには蒸着にて形成する誘電体多層膜、ウェットコーティングによりフッ素化合物または中空シリカ等からなる単一の反射防止層、更には屈折率の異なる複数の層からなる反射防止層を積層し反射防止性能を付与することが好ましく用いられる。
【０１４５】
該成形物を打ち抜き加工等によりチップ化して撮像機器等に組み込む際には、カット時に発生する切粉の発生が大きな問題となる場合も多いが、上述の反射防止性能を付与する手段として真空蒸着法を用いることで、切粉の発生を低減することが可能である。更に生産性を考慮した場合には該成形体の表裏を同時処理が可能な表層フッ素化法、または、再現性に優れ、かつ加工速度の速い、ウェットコートによる単層からなる反射防止層による処理がより好ましい。
【０１４６】
≪段差および非垂直面での反射光の処理≫
ＮＤフィルターにて非連続的に厚みに変化をつけて光学濃度を変化させる場合、その境界は段差を有することとなってしまうため、場合によってはこの段差の部分が受光素子へ影響を与える場合があるため、適宜、この段差部位に撮像機器への影響を少なくするための処理を施すことも好ましい。
【０１４７】
具体的には、段差の部分の断面が単純な直角形状以外の形状を付与すること、段差の部分を直上からみた場合に直線以外の例えば曲線からなる波型、あるいはノコ刃様の形状を与えること、さらには段差部分の形状変化を連続的にする方法がある。あるいは段差を無くするために、可視域で透明な樹脂を用いて段差を含むＮＤフィルター全面をコーティングし、段差のエッジ部分に透明樹脂を充填すること、更にはコーティング量をより増やして、機械的な段差を全く無くしてしまう方法がある。
【０１４８】
更には、ＮＤフィルターの段差形状と対をなす形状からなる透明な成形体を別途準備し、段差が全く無くなるよう、段差のある面同士を貼り合わせることが好ましく用いられる。
【０１４９】
また、本発明のＮＤフィルターは、該ＮＤフィルターの入射面のうち、少なくとも光の入射軸に対して垂直とはなりえない（この面を以下、非垂直面という）部分を有する場合がある。
【０１５０】
空気中を通って、該ＮＤフィルターの非垂直面に達した光は、透過光は屈折を受け、また反射光は入射光とは異なる方向に反射されることとなり、それぞれ光軸のズレと、反射による迷光を発生させる問題が生じてくる。
【０１５１】
そこで、解決策として、非垂直面に前述の透明樹脂を成形加工したものを貼り合わせ、且つその透明樹脂の形状を適宜調整することにより、透明樹脂を貼り合わせた後のＮＤフィルターの入射面および出射面を、共に入射光に対して垂直とすることができる。
［光の透過率を調節する方法］
本発明の光の透過率を調節する方法としては、特に制限はないが、光学濃度の異なる単一のＮＤフィルターを入射光に対して、直交方向に移動させることにより、ＮＤフィルターを透過した光の透過率を調節すること、または円の形状を有し円周方向に光学濃度を変化させたＮＤフィルターをその中心を軸として回転させることにより、ＮＤフィルターを透過した光の透過率を調節することができる。
【０１５２】
さらに、本発明のＮＤフィルターを、デジタルカメラ、デジタルスチルカメラといった撮像機器に用いると、本発明のＮＤフィルターは、単一のＮＤフィルター内において異なる光学濃度を有するため、減光性能の面内可変能を与えることができ、光線透過率を調節することが可能である。そのため、低コストでデジタルカメラ、デジタルスチルカメラといった撮像機器の性能を飛躍的に向上させることが可能である。
［実施例］
以下、実施例に基づいて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
【０１５３】
波長別透過特性
波長４５０〜６５０ｎｍの範囲の波長別の光線透過率を日立分光光度計Ｕ−３３１０（日立製作所社製）を用いて測定した。
【０１５４】
密着性
ＪＩＳＫ５４００に準拠し、５×５の碁盤目剥離試験を実施し、以下の基準にて密着性を判定した。
◎；２５マスすべてで硬化後の硬化性樹脂組成物の剥離が観察されなかった  
○；２５マス中１〜５マスで硬化後の硬化性樹脂組成物の一部剥離が観察  された
×；２５マス中１マス以上の完全剥離、もしくは６マス以上の一部剥離が観察された。
【０１５５】
環境試験
下記条件の冷熱衝撃試験を２００サイクル実施した。
低温条件；−４０℃×３０分間
高温条件；＋８５℃×３０分間
［調製例１］硬化性樹脂組成物（１）の調製
ポリ瓶に顔料としてカーボンブラックであるケッチェンブラックＥＣ−６００ＪＤ（ケッチェン・ブラック・インターナショナル社製）０．１２重量部とシリコーンレジンＬＰＳ−Ｌ５００（信越化学工業社製）１００重量部と、更にジルコニアビーズ（直径０．１ｍｍ）を５０重量部添加し、ペイントシェイカー（レッドデビル社製）を用いて、２時間振とうし、カーボンブラックをシリコーンレジンに均一分散させた。
【０１５６】
分散後の分散液をステンレス製メッシュ（穴数が１インチ角あたり２００個）を通過させ、ジルコニアビーズを除き、更にジルコニアビーズを除いたろ液をＰＴＦＥ製の５ミクロンのメンブレンフィルターでろ過し、硬化性樹脂組成物（１）を得た。
【０１５７】
［調製例２］硬化性樹脂組成物（２）の調製
顔料として金属複合酸化物（金属種は銅、鉄、マンガンからなる）であるダイピロキサイドＴＭブラック＃３５５０（大日精化工業社製）０．４重量部を用いた以外は調製例１と同様にして、硬化性樹脂組成物（２）を得た。
【０１５８】
［調製例３］硬化性樹脂組成物（３）の調製
顔料として窒化チタンであるＴＢＸ−０２（石原産業社製）０．２２重量部を用いた以外は調製例１と同様にして、硬化性樹脂組成物（３）を得た。
【０１５９】
［調製例４］硬化性組成物（４）の調製
顔料として酸化チタンであるＴｉｌａｃｋ  Ｄ（赤穂化成社製）０．２５重量部を用いた以外は調製例１と同様にして、硬化性樹脂組成物（４）を得た。
【０１６０】
［調製例５］硬化性組成物（５）の調製
ポリ瓶に分散剤であるＤｉｓｐｅｒＢＹＫ−１６７（ビックケミー社製  有効成分52％）を１．３ｇとり、ここにメチルエチルケトン（ＭＥＫ）を２４．２ｇ加えて、よく混合し、顔料として前述のダイピロキサイドＴＭブラック＃３５５０を４．５ｇ入れ、更にジルコニアビーズ（直径０．１ｍｍ）を１０ｇ加え、ペイントシェイカー（レッドデビル社製）にて６時間分散処理したのちステンレスメッシュ（１インチ角あたり５００個の穴が開いたもの）を用いて、ジルコニアビーズを除き、更にジルコニアビーズを除いたろ液をＰＴＦＥ製の５ミクロンのメンブレンフィルターでろ過し、固形分濃度２１重量％の金属酸化物分散液を得た。この金属酸化物分散液０．１６ｇとオプスターＫＺ９４５７（ＪＳＲ社製）５．８４ｇを褐色瓶に入れ７０℃の水浴中にてマグネチックスターラーで２時間攪拌し、硬化性樹脂組成物（５）を得た。
【０１６１】
［調製例６］硬化性組成物（６）の調製
オプスターＫＺ９４５７（ＪＳＲ社製）５．８４ｇを用いた代わりに、オプスターＫＺ９４５７（ＪＳＲ社製）２．９２ｇと脂環式構造を有するアクリレートであるＮＫエステルＡ−ＤＣＰ（新中村化学工業社製）２．９２ｇの混合物を用いた以外は調製例５と同様にして、硬化性樹脂組成物（６）を得た。
【０１６２】
[調製例７]硬化性組成物（７）の調製
調整例６で得た硬化性組成物（６）２０ｇを褐色瓶に秤量し、これに染料としてＫａｙａｓｅｔ  Ｏｒａｎｇｅ−Ａ−Ｎ（日本化薬社製）  ０．００６ｇを添加し、７０℃の水浴中にてマグネチックスターラーで２時間攪拌し、硬化性樹脂組成物（７）を得た。
【０１６３】
［作成例１］段差フィルム（１）の作成
アクリルフィルムであるテクノロイＳ−０１３（住友化学社製；厚み１２５ミクロン）に断面形状が凸型（段差７０ミクロン）のニッケル金型を用いてフィルムに対して平行に金型を押し込むホットプレス法にて、７０ミクロンの凹型の段差をフィルム表面に付与した。フィルムに転写された段差形状は金型への追従性が良好であった。凹部分を含むようにフィルムを２ｃｍ角で切り出した後、大気下で０．１Ｗ／ｍ2／ｍｉｎの条件で段差を有する面にコロナ処理を行い、段差フィルム（１）を得た。
【０１６４】
［作成例２］段差フィルム（２）の作成
環状オレフィン系重合体からなる透明フィルムであるＡＲＴＯＮ  Ｒ５０（ＪＳＲ社製；厚み１５０ミクロン）に断面形状が凸型（段差７０ミクロン）のニッケル金型を用いてフィルムに対して平行に金型を押し込むホットプレス法にて、７０ミクロンの凹型の段差をフィルム表面に付与した。フィルムに転写された段差形状は金型への追従性が良好であった。凹部分を含むようにフィルムを２ｃｍ角で切り出した後、大気下で０．２Ｗ／ｍ2／ｍｉｎの条件で段差を有する面にコロナ処理を行い、段差フィルム（２）を得た
【０１６５】
［作成例３］楔状厚み変化フィルム（３）の作成
前述のＡＲＴＯＮ  Ｒ５０（厚み１５０ミクロン）に断面形状が楔形（一方が段差なし、段差のある側は高さ７０ミクロン）のニッケル金型を用いてホットプレス法にて楔状の厚み変化をフィルム表面に付与した。フィルムに転写された楔型の形状は金型への追従性が良好であった。楔形の形状を有する部分を含むようにフィルムを２ｃｍ角で切り出した後、大気下で０．２Ｗ／ｍ2／ｍｉｎの条件で楔状の厚み変化を有する面にコロナ処理を行い、楔状厚み変化フィルム（３）を得た。
【０１６６】
［実施例１］ＮＤフィルター（１）の製造
調製例１で調製した硬化性樹脂組成物（１）を平板石英上に０．１ミリリットル滴下し、その上に作成例１作成した段差フィルム（１）の段差を有する面を平板石英側に向けて硬化性樹脂組成物の上に載せて、更に２ｃｍ角サイズ（厚さ２ｍｍ）の平板石英を段差フィルムの段差のない面に載せ（以下、挟み込み方法という。）、水平を保ったまま、８０℃で２０時間保持した後、上下の平板石英を取り除き２種の厚みの光減衰層を有するＮＤフィルター（１）を得た。
ＮＤフィルター（１）の評価結果を表１に示した。
【０１６７】
［実施例２〜８］ＮＤフィルター（２）〜（８）の製造
表２に示す硬化性樹脂組成物、基板を用い、実施例１と同様にして、ＮＤフィルター（２）〜（８）を得た。
なお、実施例（２）、（４）、（６）、（８）においては１３０℃で５時間保持した。
ＮＤフィルター（２）〜（８）の評価結果を表１に示した。
【０１６８】
［実施例９］ＮＤフィルター（９）の製造
調製例５で調製した硬化性樹脂組成物（５）を作成例（２）で作成した段差フィルム（２）の段差の高い面に対して、７０ミクロンの塗布厚となるようにマイクロメーター付フィルムアプリーケーターを用いて塗布した後、高圧水銀灯（ピーク照度０．２５Ｗ／ｃｍ2、積算光量０．５Ｊ／ｃｍ2）を照射し硬化し、２種の厚みの光減衰層を有するＮＤフィルター（９）を得た。ＮＤフィルター（９）の評価結果を表１に示した。
【０１６９】
［実施例１０］ＮＤフィルター（１０）の製造
硬化性樹脂組成物（５）と段差フィルム（２）の組合せにて実施例１と同様の挟み込み方法で硬化性層を作成し、実施例９と同様の硬化条件にて硬化させることで２種の厚みの光減衰層を有するＮＤフィルター（１０）を得た。ＮＤフィルター（１０）の評価結果を表１に示した。
【０１７０】
［実施例１１］ＮＤフィルター（１１）の製造
硬化性樹脂組成物（６）と段差フィルム（２）の組合せにて実施例１と同様の挟み込み方法で硬化性層を作成し、実施例９と同様の硬化条件にて硬化させることで２種の厚みの光減衰層を有するＮＤフィルター（１１）を得た。ＮＤフィルター（１１）の評価結果を表１に示した。
【０１７１】
［実施例１２］ＮＤフィルター（１２）の製造
硬化性樹脂組成物（６）と楔状厚み変化フィルム（３）の組合せにて実施例１と同様の挟み込み方法で硬化性層を作成し、実施例９と同様の条件にて硬化させることで厚みが連続的に変化した光減衰層を有するＮＤフィルター（１２）を得た。ＮＤフィルター（１２）の評価結果を表１に示した。
【０１７２】
［実施例１３］ＮＤフィルター（１３）の製造
調製例６で調製した硬化性樹脂組成物（６）をＡ４サイズの平滑面を有する透明樹脂基板（厚み１００ミクロンのＡＲＴＯＮ  Ｒ５０）に１１０ミクロン厚となるようマイクロメーター付フィルムアプリーケーターを用いて塗布し、この塗布面が、断面が歯車様の形状を有する非平滑面を有するロールと接し、非塗布面が平滑面を有するロールに接するよう、ロール間のギャップを１６０ミクロンとしてラミネートした。この歯車様ロールを通過させる際に高圧水銀灯（ピーク照度０．５Ｗ／ｃｍ2、積算光量１Ｊ／ｃｍ2）を照射し硬化性層を硬化し、２種の厚みの光減衰層を有するフィルム状のＮＤフィルター（１３）を得た。ＮＤフィルター（１３）の評価結果を表１に示した。
【０１７３】
［実施例１４］反射防止（ＡＲ）処理したＮＤフィルター（１４）の製造
実施例１１で得られたＮＤフィルターに以下の条件で、フィルム両面に真空蒸着にてＡＲ処理を施し（ＡＲ層を設け）、ＮＤフィルター（１４）を得た。ＮＤフィルター（１４）の評価結果を表１に示した。ＡＲ処理後のＮＤフィルター（１４）の反射率を図８に示した。ＮＤフィルター（１１）に反射防止処理を行ったＮＤフィルター（１４）では、ＮＤフィルター（１１）と比べ、反射率は低下し、可視光領域においてより均一な透過率特性を示した。
【０１７４】
ＡＲ処理条件
イオンアシストを行いながら、電子銃にて蒸着源を溶融させて真空蒸着にてＡＲ膜を成膜した。
各層の厚みは断面ＴＥＭにより確認したところ以下の値であった。
（光減衰層側から）
高屈折率層（ＴｉＯ2層）；０．０２μｍ
低屈折率層（ＳｉＯ2層）；０．０３μｍ
高屈折率層（ＴｉＯ2層）；０．１１μｍ
低屈折率層（ＳｉＯ2層）；０．０８μｍ
（透明樹脂基板側から）
高屈折率層（ＴｉＯ2層）；０．０６μｍ
低屈折率層（ＳｉＯ2層）；０．０１μｍ
高屈折率層（ＴｉＯ2層）；０．１０μｍ
低屈折率層（ＳｉＯ2層）；０．０９μｍ
【０１７５】
[実施例１５]顔料と染料を併用し、ＡＲ処理したＮＤフィルター（１５）の製造
硬化性樹脂組成物（７）を用いた以外は実施例１と同様の挟み込み方法で硬化性層を作成し、実施例９と同様の硬化条件にて硬化させることで２種の厚みの光減衰層を有するＮＤフィルターを作成し、このＮＤフィルターに実施例１４と同様にして両面にＡＲ処理を施し、ＮＤフィルター（１５）を得た。ＮＤフィルター（１５）の評価結果を表１に示した。
顔料と染料を併用し、ＡＲ処理したＮＤフィルター（１５）は、低い反射率を示し、可視光領域においてより均一な透過率特性を示した。
【０１７６】
［実施例１６］チップ状のＮＤフィルター（１６）の製造
実施例１４で得られたＮＤフィルター（９）に以下の条件で、打ち抜き機による切り出しをおこなったところ、端面に割れ、欠けのほとんどみられない、きれいな切断面を有するチップ状のＮＤフィルター（１６）を得た。切り出し後のＮＤフィルター（１６）の模式図を図９に、ＮＤフィルター（１６）の断面写真を図１０に示した。
【０１７７】
打ち抜き条件
打ち抜き機ＭＰ−２５０ＳＬ（曙機械工業社製）を用いて、トムソン刃で打ち抜きをおこなった。
【０１７８】
［実施例１７］２種の厚みの光減衰層を有するＮＤフィルターを用いた光量調節
実施例１６で得られたＮＤフィルター（１６）をカメラモジュールに組み込んだ。
該カメラモジュールは、ＮＤフィルターを介さずに、受光素子にそのまま光を当てる、もしくはＮＤフィルターの光減衰層の厚みが薄い部位を透過させた光を受光素子に当てる、更にはＮＤフィルターの光減衰層の厚みが厚い部位を透過させた光を受光素子に当てることで、適宜、外光の明るさの変化に応じた、適正な露光量で撮像することが可能となった。
【０１７９】
［比較例１］光減衰層の厚みが１種のみのＮＤフィルターを用いた光量調節
実施例１６で得られたＮＤフィルター（１６）の光減衰層の厚みが薄い部位を切り落として、カメラモジュールに組み込んだ。
【０１８０】
該カメラモジュールは、ＮＤフィルターを介さずに、受光素子にそのまま光を当てる、もしくはＮＤフィルターを透過させた光を受光素子に当てることで撮像をおこなったが、一部、外光の明るさが中程度の場合において、適正な露光量で撮像することができなかった。
【０１８１】
表１は、実施例１−１５のＮＤフィルターの光線透過率および密着性を示す表である。
表１において、光学濃度低とは、各実施例のＮＤフィルターの光減衰層の厚みが薄い部分の任意の一点で波長４５０〜６５０ｎｍにおける光線透過率を測定した時の透過率を示し、光学濃度高とは、各実施例のＮＤフィルターの光減衰層の厚みが厚い部分の任意の一点で波長４５０〜６５０ｎｍにおける光線透過率を測定した時の透過率を示す。
表２は、実施例１−１５のＮＤフィルターの製造条件を示す表である。
【０１８２】
【表１】
2010156765.tif 000005
【０１８３】
【表２】
2010156765.tif 000006
【図面の簡単な説明】
【０１８４】
【図１】図１は、光減衰層２の厚みが部分的または段階的に変化する場合のＮＤフィルターの一例を図示したものである。
【図２】図２は、光減衰層２の厚みが連続的に変化する場合のＮＤフィルターの一例を図示したものである。
【図３】図３は、透明樹脂基板１の厚みが部分的または段階的に変化する場合のＮＤフィルターの一例を図示したものである。
【図４】図４は、透明樹脂基板１の厚みが連続的に変化する場合のＮＤフィルターの一例を図示したものである。
【図５】図５は、透明樹脂基板１上に顔料および／または染料を含む硬化性樹脂組成物を塗布し硬化性層３を形成した後（左図）、非平滑面を有するロール４を用いて、該ロール４の表面形状を硬化性層３に転写する際に、透明樹脂基板１側から活性エネルギー線を照射し、硬化性層３を硬化させることによって形成したＮＤフィルターである（右図）。
【図６】図６は、透明樹脂基板１上に顔料および／または染料を含む硬化性樹脂組成物を塗布し硬化性層３を形成した後（左図）、予め厚みに変化を与えた第二の透明樹脂層６を厚みに変化がある側を硬化性層３に向けて重ね合せ、その重ね合せた状態で透明樹脂基板１側から活性エネルギー線を照射し、硬化性樹脂３を硬化させることによって形成したＮＤフィルターである（右図）。
【図７】図７は分光透過率曲線の一例を示すものである。
【図８】図８はＮＤフィルター（１４）の波長別の反射率を示す図である。
【図９】図９はＮＤフィルター（１６）の模式図である。
【図１０】図１０はＮＤフィルター（１６）の段差部分の断面写真である。
【符号の説明】
【０１８５】
１：透明樹脂基板
２：光減衰層
３：硬化性層
４：非平滑面を有するロール
５：第二の透明樹脂層
Ａ：可視光領域における可視光領域における光線透過率の最大値（Ｔmax）付近の波長領域
Ｂ：可視光領域における光線透過率の最小値（Ｔmin）付近の波長領域
７：ＮＤフィルター（１６）において、光減衰層の厚みが厚い部分
８：ＮＤフィルター（１６）において、光減衰層の厚みが薄い部分
９：ＡＲ層
１０：光減衰層
１１：透明樹脂基板
【図１】
2010156765.tif 000008
【図２】
2010156765.tif 000009
【図３】
2010156765.tif 000010
【図４】
2010156765.tif 000011
【図５】
2010156765.tif 000012
【図６】
2010156765.tif 000013
【図７】
2010156765.tif 000014
【図８】
2010156765.tif 000015
【図９】
2010156765.tif 000016
【図１０】
2010156765.tif 000017