(57)【要約】【課題】アルミニウム粉末と感光性成分とを混合してもゲル化を起こさず、安価で高精度かつ低抵抗なパターンを形成可能な材料を提供すること。【解決手段】アルミニウム粉末（Ａ）、アルミニウムの標準電極電位よりも低い標準電極電位を有する金属の酸化物を１０〜５０重量％含有し、軟化点が３５０〜７００℃であるガラス粉末（Ｂ）、アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）、多官能（メタ）アクリレート（Ｄ）、および光重合開始剤（Ｅ）を含有する感光性ペースト組成物。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
アルミニウム粉末（Ａ）、
アルミニウムの標準電極電位よりも低い標準電極電位を有する金属の酸化物を１０〜５０重量％含有し、軟化点が３５０〜７００℃であるガラス粉末（Ｂ）、
アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）、
多官能（メタ）アクリレート（Ｄ）、および
光重合開始剤（Ｅ）を含有する感光性ペースト組成物。
【請求項２】
前記アルミニウム粉末（Ａ）と前記ガラス粉末（Ｂ）とを合計２０〜７０重量％の割合で含有する請求項１に記載の感光性ペースト組成物。
【請求項３】
前記アルミニウム粉末（Ａ）と前記ガラス粉末（Ｂ）との合計１００重量％に対して、前記ガラス粉末（Ｂ）を５〜５０重量％の割合で含有する請求項１または２に記載の感光性ペースト組成物。
【請求項４】
フラットパネルディスプレイ用電極形成材料である請求項１〜３の何れかに記載の感光性ペースト組成物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、感光性ペースト組成物に関する。より詳細には、フラットパネルディスプレイ、電子部品の高度実装材料および太陽電池材料などにおいて、高精度のパターンを形成する場合に好適に使用することができる感光性ペースト組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、プラズマディスプレイパネル（以下、「ＰＤＰ」ともいう。）やフィールドエミッションディスプレイ（以下、「ＦＥＤ」ともいう。）などのフラットパネルディスプレイ（以下、「ＦＰＤ」ともいう。）、電子部品の高度実装材料および太陽電池材料などに用いられる、電極を有する回路基板におけるパターン加工に対して、高密度化および高精細化の要求が高まっている。
【０００３】
上記パターン加工においては、フォトリソグラフィー法である感光性ペースト法が従来知られている（例えば、特許文献１参照）。感光性ペースト法は、（１）導電性粉末を含有する感光性ペーストを基板上に塗布して感光性樹脂層を形成し、（２）該樹脂層を露光・現像してパターニングを行い、（３）得られたパターンを焼成して有機物質を揮発させるとともに導電性粉末を基板に密着させて、電極パターンを形成する技術である。
【０００４】
上記感光性ペースト法における導電性粉末としては主に銀が用いられているが、銀は貴金属であり高価であるため、安価な代替材料が望まれている。
【特許文献１】特開平１１−３１４１６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明者らは銀に代わる安価な導電性粉末として、アルミニウム粉末に着目した。しかしながら、アルミニウム粉末と感光性成分とを混合するとゲル化を起こしやすく、ペースト化が困難であるという問題が発生した。
【０００６】
また、電極パターンはガラス基板上に形成されることが多いが、上記焼成工程においてガラス基板に歪みなどを発生させないために５００〜６００℃程度の温度でパターンを焼成する必要がある。このような温度領域でパターンを焼成すると、低抵抗な電極パターンを得ることが困難であるという問題も発生した。
【０００７】
本発明は上記問題を解決しようとするものであって、アルミニウム粉末と感光性成分とを混合してもゲル化を起こさず、安価で高精度かつ低抵抗なパターンを形成することができ、かつガラス基板に対して薄膜で接着強度が高いパターンを形成することができる材料を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは上記課題を解決するため鋭意検討を行った。その結果、特定のガラス粉末をアルミニウム粉末とともに用いることによって、上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。すなわち、本発明は以下の［１］〜［４］に関する。
【０００９】
［１］アルミニウム粉末（Ａ）、アルミニウムの標準電極電位よりも低い標準電極電位を有する金属の酸化物を１０〜５０重量％含有し、軟化点が３５０〜７００℃であるガラス粉末（Ｂ）、アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）、多官能（メタ）アクリレート（Ｄ）、および光重合開始剤（Ｅ）を含有する感光性ペースト組成物。
【００１０】
［２］前記アルミニウム粉末（Ａ）と前記ガラス粉末（Ｂ）とを合計２０〜７０重量％の割合で含有する前記［１］に記載の感光性ペースト組成物。
［３］前記アルミニウム粉末（Ａ）と前記ガラス粉末（Ｂ）との合計１００重量％に対して、前記ガラス粉末（Ｂ）を５〜５０重量％の割合で含有する前記［１］または［２］に記載の感光性ペースト組成物。
【００１１】
［４］フラットパネルディスプレイ用電極形成材料である前記［１］〜［３］の何れかに記載の感光性ペースト組成物。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、アルミニウム粉末と感光性成分とを混合してもゲル化を起こさず、安価で高精度かつ低抵抗なパターンを形成することができ、かつガラス基板に対して薄膜で接着強度が高いパターンを形成することができる材料が提供される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、本発明の感光性ペースト組成物について、詳細に説明する。なお、以下の説明では、前記組成物を用いて形成される露光前の層を「感光性樹脂層」、該感光性樹脂層を露光・現像して得られたパターンを「硬化パターン」ともいう。また、前記硬化パターンを焼成して得られたパターンとして、「電極パターン」を例示することがある。
【００１４】
〔感光性ペースト組成物〕
本発明の感光性ペースト組成物は、無機粒子と、感光性樹脂と、任意成分である有機溶剤その他の添加剤とから構成される。前記無機粒子は、アルミニウム粉末（Ａ）およびガラス粉末（Ｂ）などから構成される。前記感光性樹脂は、アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）、多官能（メタ）アクリレート（Ｄ）および光重合開始剤（Ｅ）から構成される。
【００１５】
＜アルミニウム粉末（Ａ）＞
本発明で用いられるアルミニウム粉末（Ａ）としては、例えば、アルミニウム金属およびアルミニウム合金などの粉末が挙げられる。アルミニウム粉末（Ａ）の形状は特に限定されず、例えば、球状およびフレーク状の粉末を用いることができる。
【００１６】
アルミニウム粉末（Ａ）の平均粒径（Ｄ５０）は、通常は１．０〜２０．０μｍ、好ましくは３．０〜１５．０μｍの範囲にある。平均粒径（Ｄ５０）が前記範囲にあると、感光性樹脂層を露光して現像する際に、アルミニウム粉末（Ａ）の残渣を生じないため、高精細な硬化パターンを形成することができる。
【００１７】
なお、本発明において、平均粒径はレーザー回折法によって測定される値である。例えば、この値は日機装社製の粒度分布測定装置（ナノトラック粒度分布測定装置  ＵＰＡ−１５０）によって測定できる。さらに、本明細書においてＤ５０とは小粒径側よりの積算粒径分布（個数基準）が５０％となる粒径のことを示す。
【００１８】
＜導電性粉末（ａ）＞
本発明の感光性ペースト組成物は、アルミニウム粉末（Ａ）とともに、アルミニウム粉末以外の導電性粉末（ａ）を含有してもよい。導電性粉末（ａ）としては、例えば、Ａｕ、Ａｇ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｃｕなどの金属粉末や合金粉末が挙げられる。
【００１９】
導電性粉末（ａ）は、アルミニウム粉末（Ａ）１００重量部に対して、好ましくは０．１〜１００重量部、より好ましくは１〜５０重量部となる量で用いることができる。
＜ガラス粉末（Ｂ）＞
本発明で用いられるガラス粉末（Ｂ）は、アルミニウムの標準電極電位よりも低い標準電極電位を有する金属の酸化物（以下、「特定金属酸化物」ともいう。）を１０〜５０重量％、好ましくは２０〜５０重量％含有する。
【００２０】
特定金属酸化物の含有量が上記範囲にあるガラス粉末を用いることにより、電極パターンの抵抗値を低くすることができる。また、基板との密着性に優れた電極パターンを得ることができる。これは、アルミニウム粉末（Ａ）の表面に酸化により形成されるアルミナ（融点：２０２０℃）の形成が抑えられ、硬化パターンを焼成する際にアルミニウム粉末（Ａ）同士の結着が促進されるためであると考えられる。
【００２１】
なお、標準電極電位とは、ある電気化学反応について、標準状態（反応に関与する全ての化学種の活量が１。）かつ平衡状態となっているときの電極電位である。その値は標準水素電極と測定対象の電極とを組み合わせて作製した電池の標準状態における起電力を測定することにより得られる。表１に主な物質の標準電極電位を示す。
【００２２】
従って、上記特定金属酸化物は、Ｌｉ、Ｒｂ、Ｋ、Ｂａ、Ｓｒ、Ｃａ、Ｎａ、ＭｇおよびＢｅからなる群から選ばれる少なくとも１種の金属の酸化物であることが好ましい。具体的には、Ｎａ2Ｏ、Ｋ2Ｏ、Ｌｉ2Ｏ、ＢａＯ、ＣａＯなどが挙げられる。
【００２３】
【表１】
2010044313.tif 000002
【００２４】
ガラス粉末（Ｂ）に含まれるその他の成分としては、例えば、Ｂ2Ｏ3、Ａｌ2Ｏ3、ＳｉＯ2、ＺｒＯ2などが挙げられる。なお、ガラス粉末（Ｂ）は、環境に対する配慮から鉛を含有しないことが好ましい。
【００２５】
ガラス粉末（Ｂ）の軟化点は、３５０〜７００℃、好ましくは４００〜６００℃の範囲にある。ガラス粉末（Ｂ）の軟化点が前記範囲よりも低いと、硬化パターンの焼成工程において、有機物質が完全に分解除去されない段階でガラス粉末（Ｂ）が溶融することがあ
る。このため、電極パターン中に有機物質の一部が残留し、その結果、抵抗値が増大する、または泡噛みが発生する傾向にある。一方、ガラス粉末（Ｂ）の軟化点が前記範囲を超えると、高温で硬化パターンを焼成する必要があるために、基板に歪みなどが発生しやすい。
【００２６】
ガラス粉末（Ｂ）の平均粒径（Ｄ５０）は、電極パターンの形状を考慮して適宜選択することができるが、好ましくは０．２〜４．０μｍ、より好ましくは０．５〜３．８μｍの範囲にある。さらに、ガラス粉末（Ｂ）の平均粒径（Ｄ１０）が０．０５〜０．５μｍ、平均粒径（Ｄ９０）が５．０〜２０．０μｍの範囲にあることがより好ましい。ガラス粉末（Ｂ）の平均粒径（Ｄ５０）が前記範囲にあると、露光時の放射線が感光性樹脂層の底部まで充分到達し、高精細な硬化パターンを得ることができる。
【００２７】
本発明の感光性ペースト組成物におけるガラス粉末（Ｂ）の含有量は、アルミニウム粉末（Ａ）とガラス粉末（Ｂ）との合計１００重量％に対して、好ましくは５〜５０重量％、より好ましくは７〜３０重量％の範囲にある。ガラス粉末（Ｂ）の含有量が前記範囲にあると、前記組成物のゲル化を抑制することができ、また、低抵抗でかつ形状が良好な電極パターンを得ることができる。
【００２８】
また、アルミニウム粉末（Ａ）とガラス粉末（Ｂ）との含有量の合計は、本発明の感光性ペースト組成物１００重量％に対して、好ましくは２０〜７０重量％、より好ましくは４０〜６０重量％の範囲にある。これら無機粒子の含有量が前記範囲にあると、前記組成物のゲル化を抑制することができ、また、低抵抗でかつ形状が良好な電極パターンを得ることができる。
【００２９】
＜アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）＞
本発明で用いられるアルカリ可溶性樹脂（Ｃ）としては、アルカリ可溶性であれば特に限定されず、種々の樹脂を用いることができる。なお、本発明において「アルカリ可溶性」とは、目的とする現像処理が可能な程度に、アルカリ性現像液に溶解する性質をいう。
【００３０】
アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）としては、後述するアルカリ可溶性官能基含有モノマー（Ｃ１）と（メタ）アクリル酸誘導体（Ｃ２）との共重合体が好ましい。
アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）の重量平均分子量（Ｍｗ）は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定したポリスチレン換算で、好ましくは５０００〜１５００００、より好ましくは１００００〜１０００００の範囲にある。Ｍｗが前記範囲よりも低いと、現像後の膜荒れが発生しやすくなる。また、Ｍｗが前記範囲を超えると、アルカリ性現像液に対するアルカリ可溶性樹脂（Ｃ）の溶解性が低下し、解像度が低下する場合がある。Ｍｗは後述するモノマーの共重合割合、組成、重合温度、連鎖移動剤などの条件を適宜選択することにより制御することができる。
【００３１】
アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）のガラス転移温度（Ｔｇ）は、好ましくは−１０〜１２０℃、より好ましくは０〜１００℃の範囲にある。Ｔｇが前記範囲よりも低いと、塗膜にタックを生じやすく、ハンドリングがしにくい傾向にある。また、Ｔｇが前記範囲を超えると、電極パターンと支持体であるガラス基板などどの密着性が悪くなることがある。なお、Ｔｇは、アルカリ可溶性官能基含有モノマー（Ｃ１）および（メタ）アクリル酸誘導体（Ｃ２）の量を変更することによって、適宜調節することができる。
【００３２】
アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）の酸価は、好ましくは２０〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇ、より好ましくは３０〜１６０ｍｇＫＯＨ／ｇの範囲にある。酸価が前記範囲よりも低いと、露光後の未露光部分がアルカリ性現像液で速やかに除去しにくく、高精細なパターン形成が困難となる傾向にある。また、酸価が前記範囲を超えると、露光によって硬化した部分もア
ルカリ性現像液に侵食されやすくなり、高精細なパターン形成が困難となる傾向にある。
【００３３】
本発明の感光性ペースト組成物におけるアルカリ可溶性樹脂（Ｃ）の含有量は、無機粒子１００重量部に対して、通常は１０〜５００重量部、好ましくは３０〜４００重量部、より好ましくは５０〜２００重量部の範囲にある。アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）の含有量が前記範囲にあると、前記組成物のゲル化を抑制することができ、また、形状が良好なパターンを形成することができる。
【００３４】
≪アルカリ可溶性官能基含有モノマー（Ｃ１）≫
アルカリ可溶性官能基含有モノマー（Ｃ１）としては、例えば、（メタ）アクリル酸、マレイン酸、フマル酸、クロトン酸、イタコン酸、シトラコン酸、メサコン酸、ケイ皮酸、コハク酸モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）、２−メタクリロイロキシエチルフタル酸、２−メタクリロイロキシエチルコハク酸、２−メタクリロイロキシエチルマレイン酸、２−メタクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタル酸、２−アクリロイルオキシエチルハイドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキシプロピルハイドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキシプロピルヘキサヒドロハイドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキシプロピルテトラヒドロハイドロゲンフタレート、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレートなどのカルボキシル基含有モノマー類；
２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、（α−ヒドロキシメチル）アクリレートなどの水酸基含有モノマー類；
ｏ−ヒドロキシスチレン、ｍ−ヒドロキシスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレンなどのフェノール性水酸基含有モノマー類などのアルカリ可溶性官能基と不飽和結合とを有するモノマーが挙げられる。
【００３５】
これらの中では、（メタ）アクリル酸、２−メタクリロイロキシエチルフタル酸、２−アクリロイルオキシエチルハイドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキシプロピルハイドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキシプロピルヘキサヒドロハイドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキシプロピルテトラヒドロハイドロゲンフタレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートが好ましい。
【００３６】
アルカリ可溶性官能基含有モノマー（Ｃ１）を共重合させることにより、樹脂にアルカリ可溶性を付与することができる。アルカリ可溶性官能基含有モノマー（Ｃ１）由来の構成単位の含有量は、アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）の全構成単位中、通常は５〜９０重量％、好ましくは１０〜８０重量％、より好ましくは１５〜７０重量％である。
【００３７】
≪（メタ）アクリル酸誘導体（Ｃ２）≫
（メタ）アクリル酸誘導体（Ｃ２）としては、アルカリ可溶性官能基含有モノマー（Ｃ１）と共重合可能な（メタ）アクリル酸誘導体であれば特に限定されないが、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、トリチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボロニル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレートなどの上記モノマー（Ｃ１）以外の（メタ）アクリレート類が挙げられる。
【００３８】
また、（メタ）アクリル酸誘導体（Ｃ２）の代わりに、あるいは（メタ）アクリル酸誘導体（Ｃ２）とともに、例えば、スチレン、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレートなどから得られるポリマーの一方の鎖末
端に、（メタ）アクリロイル基、アリル基、ビニル基などの重合性不飽和基を有するマクロモノマーを用いてもよい。
【００３９】
≪ラジカル重合開始剤≫
上記共重合の際、ラジカル重合開始剤を用いることが好ましい。前記ラジカル重合開始剤としては、ビニル単量体の重合に用いられるラジカル重合開始剤を用いることができる。例えば、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビス（２−メチルブチルニトリル）、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、１，１’−アゾビス（１−シクロヘキサンカルボニトリル）、ジメチルー２，２’−アゾビスイソブチレート、４，４’−アゾビス（４−シアノバレリック酸）などのアゾ化合物；ｔ−ブチルパーオキシビバレート、ｔ−ブチルパーオキシ２−エチルヘキサノエート、クミルパーオキシ２−エチルヘキサノエートなどのパーオキシエステル類の有機過酸化物が挙げられる。前記ラジカル重合開始剤は１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００４０】
上記ラジカル重合開始剤の使用量は、上記共重合に使用する全モノマー（マクロモノマーを含む。以下同じ。）１００重量部に対して、通常は０．１〜１０重量部程度である。
≪連鎖移動剤≫
上記共重合の際、連鎖移動剤を用いてもよい。前記連鎖移動剤としては、例えば、α−メチレンスチレンダイマー、ｔ−ドデシルメルカプタン、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオン酸）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトブチレート）、１，４−ビス（３−メルカプトブチリルオキシ）ブタンが挙げられる。
【００４１】
上記連鎖移動剤の使用量は、上記共重合に使用する全モノマー１００重量部に対して、通常は０．１〜１０重量部程度である。
＜多官能（メタ）アクリレート（Ｄ）＞
本発明で用いられる多官能（メタ）アクリレート（Ｄ）としては、例えば、アリル化シクロヘキシルジ（メタ）アクリレート、２，５−ヘキサンジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，３−ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、グリセロールジ（メタ）アクリレート、メトキシ化シクロヘキシルジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリグリセロールジ（メタ）アクリレートなどのジ（メタ）アクリレート類；
ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパン（プロピレンオキサイド変性）トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパン（エチレンオキサイド変性）トリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ベンジルメルカプタントリ（メタ）アクリレートなどの３官能以上の（メタ）アクリレート類；
上記化合物中の芳香環の水素原子のうち、１〜５個を塩素または臭素原子に置換したモノマーが挙げられる。多官能（メタ）アクリレート（Ｄ）は１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００４２】
また、多官能（メタ）アクリレート（Ｄ）とともに、本発明の目的を損なわない範囲で、スチレン、ｏ−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、塩素化スチレン、臭素化スチレン、α−メチルスチレン、塩素化α−メチルスチレン、臭素化α−メチルスチレン、クロロメチルスチレン、ヒドロキシメチルスチレン、カルボシキメチル
スチレン、ビニルナフタレン、ビニルアントラセン、ビニルカルバゾール、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、１−ビニル−２−ピロリドンなどを用いてもよい。
【００４３】
本発明の感光性ペースト組成物における多官能（メタ）アクリレート（Ｄ）の含有量は、感光性樹脂層の露光感度の点から、アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）１００重量部に対して、通常は１０〜５００重量部、好ましくは１０〜４００重量部の範囲にある。
【００４４】
＜光重合開始剤（Ｅ）＞
本発明で用いられる光重合開始剤（Ｅ）としては、例えば、ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、４，４−ビス（ジメチルアミン）ベンゾフェノン、４，４−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４−ジクロロベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４−メチルジフェニルケトン、ジベンジルケトン、フルオレノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニル−２−フェニルアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、ｐ−ｔ−ブチルジクロロアセトフェノン、チオキサントン、２−メチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、４−イソプロピルチオキサントン、１−クロロー４−プロピルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、ベンジルジメチルケタノール、ベンジルメトキシエチルアセタール、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、アントラキノン、２−ｔ−ブチルアントラキノン、２−アミルアントラキノン、β−クロルアントラキノン、アントロン、ベンズアントロン、ジベンゾスベロン、メチレンアントロン、４−アジドベンザルアセトフェノン、２，６−ビス（ｐ−アジドベンジリデン）シクロヘキサノン、２，６−ビス（ｐ−アジドベンジリデン）−４−メチルシクロヘキサノン、２−フェニル−１，２−ブタジオン−２−（ｏ−メトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１，３−ジフェニル−プロパントリオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−３−エトキシ−プロパントリオン−２−（ｏ−ベンゾイル）オキシム、ミヒラーケトン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−１−プロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタノン−１、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン、２，２’−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルーペンチルフォスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイド、ナフタレンスルホニルクロライド、キノリンスルホニルクロライド、Ｎ−フェニルチオアクリドン、４，４−アゾビスイソブチロニトリル、ジフェニルジスルフィド、ベンズチアゾールジスルフィド、トリフェニルホルフィン、カンファーキノン、四臭素化炭素、トリブロモフェニルスルホン、過酸化ベンゾイン、および、エオシンやメチレンブルーなどの光還元性の色素とアスコルビン酸やトリエタノールアミンなどの還元剤との組み合わせが挙げられる。前記光重合開始剤は１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００４５】
また、上記光重合開始剤とともに、感光性樹脂層の露光感度を向上させるために、増感剤を用いてよい。前記増感剤としては、例えば、２−メチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、４−イソプロピルチオキサントン、１−クロロ−４−プロピルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，３−ビス（４−ジエチルアミノベンザル）シクロペンタノン、２，６−ビス（４−ジメチルアミニベンザル）シクロヘキサノン、２，６−ビス（４−ジメチルアミノベンザル）−４−メチルシクロヘキサノン、ミヒラーケトン、４，４−ビス（ジエチルアミノ）−ベンゾフェノン、４，４−ビス（ジメチルアミノ）カルコン、４，４−ビス（ジエチルアミノ）カルコン、ｐ−ジメチルアミノシンナミリデンインダノン、ｐ−ジメチルアミノベンジリデンインダノン、２−（ｐ−ジメチルアミノフェニルビニレン）−イソナフトチアゾール、
１，３−ビス（４−ジメチルアミノベンザル）アセトン、１，３−カルボニル−ビス（４−ジエチルアミノベンザル）アセトン、３，３−カルボニル−ビス（７−ジエチルアミノクマリン）、Ｎ−フェニル−Ｎ−エチルエタノールアミン、Ｎ−フェニルエタノールアミン、Ｎ−トリルジエタノールアミン、Ｎ−フェニルエタノールアミン、ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、ジエチルアミノ安息香酸イソアミル、３−フェニル−５−ベンゾイルチオテトラゾール、１−フェニル−５−エトキシカルボニルチオテトラゾールが挙げられる。前記増感剤は１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。なお、前記増感剤の中には光重合開始剤としても作用するものがある。
【００４６】
本発明の感光性ペースト組成物における光重合開始剤（Ｅ）（増感剤も用いる場合は、光重合開始剤と増感剤との合計）の含有量は、多官能（メタ）アクリレート（Ｄ）１００重量部に対して、通常は１〜５０重量部、好ましくは２〜４０重量部の範囲にある。光重合開始剤（Ｅ）の含有量が前記範囲を超えると、電極パターンの形状が劣化することがある。
【００４７】
＜添加剤＞
本発明の感光性ペースト組成物には、任意成分として、有機溶剤、密着助剤、紫外線吸収剤、重合禁止剤、酸化防止剤、溶解促進剤、増粘剤、沈殿防止剤その他の添加剤を配合してもよい。
【００４８】
≪有機溶剤≫
上記有機溶剤は、感光性ペースト組成物に適当な流動性や可塑性などの塗膜形成性を付与するために用いられる。前記有機溶剤としては、上記無機粒子との親和性、およびアルカリ可溶性樹脂（Ｃ）の溶解性が良好で、感光性ペースト組成物の粘度を調整することが可能であり、乾燥することにより容易に蒸発する有機溶剤が好ましい。
【００４９】
上記有機溶剤としては、例えば、標準沸点（１気圧における沸点）が１００〜３００℃の範囲にあるケトン類、アルコール類、エステル類が挙げられる。例えば、ターピネオール、メチルジグリコールエーテル、エチルジグリコールエーテル、ブチルジグリコールエーテル、エチルジグリコールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、メトキシプロピルアセテート、ジオキサン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、イソブチルアルコール、イソプロピルアルコール、ジメチルスルフォキシド、γ−ブチロラクトンが挙げられる。前記有機溶剤は１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００５０】
本発明の感光性ペースト組成物における有機溶剤の含有量は、適当な流動性や可塑性などの塗膜形成性が得られる範囲において適宜選択することができるが、上記無機粒子１００重量部に対して、好ましくは１〜１０００重量部の範囲にある。
【００５１】
≪密着助剤≫
本発明の感光性ペースト組成物には、電極パターンと支持体との密着性を向上させるために、密着助剤を添加してもよい。前記密着助剤としては、シラン化合物が好適に用いられる。
【００５２】
上記シラン化合物としては、例えば、ｎ−プロピルジメチルメトキシシラン、ｎ−ブチルジメチルメトキシシラン、ｎ−デシルジメチルメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジメチルメトキシシラン、ｎ−イコサンジメチルメトキシシラン、ｎ−プロピルジエチルメトキシシラン、ｎ−ブチルジエチルメトキシシラン、ｎ−デシルジエチルメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジエチルメトキシシラン、ｎ−イコサンジエチルメトキシシラン、ｎ−
ブチルジプロピルメトキシシラン、ｎ−デシルジプロピルメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジプロピルメトキシシラン、ｎ−イコサンジプロピルメトキシシラン、ｎ−プロピルジメチルエトキシシラン、ｎ−ブチルジメチルエトキシシラン、ｎ−デシルジメチルエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジメチルエトキシシラン、ｎ−イコサンジメチルエトキシシラン、ｎ−プロピルジエチルエトキシシラン、ｎ−ブチルジエチルエトキシシラン、ｎ−デシルジエチルエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジエチルエトキシシラン、ｎ−イコサンジエチルエトキシシラン、ｎ−ブチルジプロピルエトキシシラン、ｎ−デシルジプロピルエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジプロピルエトキシシラン、ｎ−イコサンジプロピルエトキシシラン、ｎ−プロピルジメチルプロポキシシラン、ｎ−ブチルジメチルプロポキシシラン、ｎ−デシルジメチルプロポキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジメチルプロポキシシラン、ｎ−イコサンジメチルプロポキシシラン、ｎ−プロピルジエチルプロポキシシラン、ｎ−ブチルジエチルプロポキシシラン、ｎ−デシルジエチルプロポキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジエチルプロポキシシラン、ｎ−イコサンジエチルプロポキシシラン、
【００５３】
ｎ−ブチルジプロピルプロポキシシラン、ｎ−デシルジプロピルプロポキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジプロピルプロポキシシラン、ｎ−イコサンジプロピルプロポキシシラン、ｎ−プロピルメチルジメトキシシラン、ｎ−ブチルメチルジメトキシシラン、ｎ−デシルメチルジメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルメチルジメトキシシラン、ｎ−イコサンメチルジメトキシシラン、ｎ−プロピルエチルジメトキシシラン、ｎ−ブチルエチルジメトキシシラン、ｎ−デシルエチルジメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルエチルジメトキシシラン、ｎ−イコサンエチルジメトキシシラン、ｎ−ブチルプロピルジメトキシシラン、ｎ−デシルプロピルジメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルプロピルジメトキシシラン、ｎ−イコサンプロピルジメトキシシラン、ｎ−プロピルメチルジエトキシシラン、ｎ−ブチルメチルジエトキシシラン、ｎ−デシルメチルジエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルメチルジエトキシシラン、ｎ−イコサンメチルジエトキシシラン、ｎ−プロピルエチルジエトキシシラン、ｎ−ブチルエチルジエトキシシラン、ｎ−デシルエチルジエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルエチルジエトキシシラン、ｎ−イコサンエチルジエトキシシラン、ｎ−ブチルプロピルジエトキシシラン、ｎ−デシルプロピルジエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルプロピルジエトキシシラン、ｎ−イコサンプロピルジエトキシシラン、ｎ−プロピルメチルジプロポキシシラン、ｎ−ブチルメチルジプロポキシシラン、ｎ−デシルメチルジプロポキシシラン、ｎ−ヘキサデシルメチルジプロポキシシラン、ｎ−イコサンメチルジプロポキシシラン、ｎ−プロピルエチルジプロポキシシラン、ｎ−ブチルエチルジプロポキシシラン、ｎ−デシルエチルジプロポキシシラン、ｎ−ヘキサデシルエチルジプロポキシシラン、ｎ−イコサンエチルジプロポキシシラン、ｎ−ブチルプロピルジプロポキシシラン、ｎ−デシルプロピルジプロポキシシラン、ｎ−ヘキサデシルプロピルジプロポキシシラン、ｎ−イコサンプロピルジプロポキシシラン、ｎ−プロピルトリメトキシシラン、
【００５４】
ｎ−ブチルトリメトキシシラン、ｎ−デシルトリメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルトリメトキシシラン、ｎ−イコサントリメトキシシラン、ｎ−プロピルトリエトキシシラン、ｎ−ブチルトリエトキシシラン、ｎ−デシルトリエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルトリエトキシシラン、ｎ−イコサントリエトキシシラン、ｎ−プロピルトリプロポキシシラン、ｎ−ブチルトリプロポキシシラン、ｎ−デシルトリプロポキシシラン、ｎ−ヘキサデシルトリプロポキシシラン、ｎ−イコサントリプロポキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（１，３−ジメチルブチリデン）−３−（トリエトキシシリル）−１−プロパンアミ
ン、Ｎ，Ｎ’−ビス−［３−（トリメトキシシリル）プロピル］エチレンジアミンが挙げられる。前記シラン化合物は１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００５５】
本発明の感光性ペースト組成物における上記密着助剤の含有量は、無機粒子１００重量部に対して、好ましくは０．０５〜１５重量部、より好ましくは０．１〜１０重量部の範囲にある。
【００５６】
≪紫外線吸収剤≫
本発明の感光性ペースト組成物には、高アスペクト比、高精細、高解像度な電極パターンを形成するために、紫外線吸収剤を添加してもよい。
【００５７】
上記紫外線吸収剤としては、有機系染料または無機系顔料を用いることができ、中でも３５０〜４５０ｎｍの波長範囲で高い吸収係数を有する有機系染料または無機系顔料が好ましく用いられる。
【００５８】
上記有機系染料としては、例えば、アゾ系染料、アミノケトン系染料、キサンテン系染料、キノリン系染料、アミノケトン系染料、アントラキノン系染料、ベンゾフェノン系染料、ジフェニルシアノアクリレート系染料、トリアジン系染料、ｐ−アミノ安息香酸系染料が挙げられる。また、上記無機系顔料としては、例えば、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化セリウムが挙げられる。
【００５９】
これらの中では、有機系染料は焼成工程により消失して電極パターンに残存しないため、電極特性の低下を少なくできるため好ましいが、ＦＰＤの信頼性の観点から、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化セリウムなどの無機系顔料がより好ましい。
【００６０】
本発明の感光性ペースト組成物における上記無機系顔料の含有量は、ガラス粉末（Ｂ）１００重量部に対して、好ましくは０．００１〜５重量部、より好ましくは０．０１〜１重量部の範囲にある。無機系顔料の含有量が前記範囲より低いと、紫外線吸収剤の添加効果が減少する傾向にある。また、無機系顔料の含有量が前記範囲を超えると、紫外線吸収剤の効果が大きく膜の下部まで光が届かなくなり、パターンを形成できなくなることや成膜強度が保てないことがある。
【００６１】
≪重合禁止剤≫
本発明の感光性ペースト組成物には、該組成物の保存時の熱安定性を向上させるために、重合禁止剤を添加してもよい。
【００６２】
上記重合禁止剤としては、例えば、ヒドロキノン、ヒドロキノンのモノエステル化物；Ｎ−ニトロソジフェニルアミン、フェノチアジン、ｐ−ｔ−ブチルカテコール、Ｎ−フェニルナフチルアミン、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−メチルフェノール、クロラニール、ピロガロールが挙げられる。
【００６３】
本発明の感光性ペースト組成物における上記重合禁止剤の含有量は、上記無機粒子１００重量部に対して、好ましくは０．００１〜１重量部の範囲にある。
≪酸化防止剤≫
本発明の感光性ペースト組成物には、保存時における感光性樹脂の酸化を防ぐために、酸化防止剤を添加してもよい。
【００６４】
上記酸化防止剤としては、例えば、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ブチル化ヒドロキシアニソール、２，６−ジ−ｔ−４−エチルフェノール、２，２−メチレン−ビス−（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２−メチレン−ビス−（４−エ
チル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４−ビス−（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、１，１，３−トリス−（２−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、１，１，３−トリス−（２−メチル−４−ヒドロキシ−ｔ−ブチルフェニル）ブタン、ビス［３，３−ビス−（４−ヒドロキシ−３−ｔ−ブチルフェニル）ブチリックアシッド］グリコールエステル、ジラウリルチオジプロピオナート、トリフェニルホスファイトなどが挙げられる。
【００６５】
本発明の感光性ペースト組成物における上記重合禁止剤の含有量は、上記無機粒子１００重量部に対して、好ましくは０．００１〜１重量部の範囲にある。
≪溶解促進剤≫
本発明の感光性ペースト組成物は、アルカリ性現像液への充分な溶解性を発現させる目的で、溶解促進剤を含有することが好ましい。前記溶解促進剤としては、界面活性剤が好ましく用いられる。前記界面活性剤としては、例えば、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、脂肪酸が挙げられる。
【００６６】
上記フッ素系界面活性剤の市販品としては、例えば、ＢＭ  ＣＨＩＭＩＥ社製「ＢＭ−１０００」、「ＢＭ−１１００」、大日本インキ化学工業（株）社製「メガファックＦ１４２Ｄ」、「同Ｆ１７２」、「同Ｆ１７３」、「同Ｆ１８３」、住友スリーエム（株）社製「フロラードＦＣ−１３５」、「同ＦＣ−１７０Ｃ」、「同ＦＣ−４３０」、「同ＦＣ−４３１」、旭硝子（株）社製「サーフロンＳ−１１２」、「同Ｓ−１１３」、「同Ｓ−１３１」、「同Ｓ−１４１」、「同Ｓ−１４５」、「同Ｓ−３８２」、「同ＳＣ−１０１」、「同ＳＣ−１０２」、「同ＳＣ−１０３」、「同ＳＣ−１０４」、「同ＳＣ−１０５」、「同ＳＣ−１０６」が挙げられる。
【００６７】
上記シリコーン系界面活性剤の市販品としては、例えば、東レ・ダウコーニング・シリコーン（株）社製「ＳＨ−２８ＰＡ」、「ＳＨ−１９０」、「ＳＨ−１９３」、「ＳＺ−６０３２」、「ＳＦ−８４２８」、「ＤＣ−５７」、「ＤＣ−１９０」、信越化学工業（株）社製「ＫＰ３４１」、新秋田化成（株）社製「エフトップＥＦ３０１」、「同ＥＦ３０３」、「同ＥＦ３５２」が挙げられる。
【００６８】
上記ノニオン系界面活性剤としては、例えば、ポリプロピレングリコール、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテルなどのポリオキシエチレンアルキルエーテル類；ポリオキシエチレンジスチレン化フェニルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテルなどのポリオキシエチレンアリールエーテル類；ポリオキシエチレンジラウレート、ポリオキシエチレンジステアレートなどのポリオキシエチレンジアルキルエステル類が挙げられる。
【００６９】
上記ノニオン系界面活性剤の市販品としては、例えば、花王（株）社製「エマルゲンＡ−６０」、「Ａ−９０」、「Ａ−５５０」、「Ｂ−６６」、「ＰＰ−９９」、共栄社化学（株）社製「（メタ）アクリル酸系共重合体ポリフローＮｏ．５７」、「同Ｎｏ．９０」が挙げられる。
【００７０】
上記脂肪酸としては、例えば、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ぺラルゴン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、パルミトイル酸、マルガリン酸、ステアリン酸、オレイン酸、バクセン酸、リノール酸、リノレン酸、ノナデカン酸、アラキジン酸、アラキドン酸、ベヘン酸、リグノセレン酸、ネルボン酸、セロチン酸、モンタン酸、メリシン酸が挙げられる。
【００７１】
上記界面活性剤の中では、現像時に未露光部の感光性樹脂層の除去が容易であることか
ら、ノニオン系界面活性剤が好ましく、ポリオキシエチレンアリールエーテル類がより好ましく、下記式（１）で表される化合物が特に好ましい。
【００７２】
【化１】
2010044313.tif 000003
【００７３】
上記式（１）中、Ｒ1は炭素数１〜５のアルキル基、好ましくはメチル基であり、ｐは１
〜５の整数であり、ｓは１〜５の整数、好ましくは２であり、ｔは１〜１００の整数、好ましくは１０〜２０の整数である。
【００７４】
本発明の感光性ペースト組成物における上記溶解促進剤の含有量は、アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）１００重量部に対して、好ましくは０．００１〜２０重量部、より好ましくは０．０１〜１５重量部、特に好ましくは０．１〜１０重量部の範囲にある。溶解促進剤の含有量が前記範囲にあると、アルカリ性現像液への溶解性に優れた組成物が得られる。
【００７５】
〔感光性ペースト組成物の調製〕
本発明の感光性ペースト組成物は、上述の各成分を所定の組成比となるように調合した後、３本ロールや混練機で均質に混合分散して調製することができる。
【００７６】
本発明の感光性ペースト組成物の粘度は、上記無機粒子、有機溶剤、増粘剤、沈殿防止剤などの配合量によって適宜調整することができるが、通常は１００〜５０００００ｃｐ、好ましくは１０００〜５０００００ｃｐの範囲にある。本発明においては、上述のようにアルミニウム粉末（Ａ）とともに、特定のガラス粉末（Ｂ）を用いることにより、アルミニウム粉末（Ａ）と感光性樹脂とを混合してもゲル化を起こすことなく、前記粘度を有する感光性ペースト組成物を調製することができる。
【００７７】
以上の感光性ペースト組成物は、これを用いて安価で高精度かつ低抵抗な電極パターンを形成することができ、かつセラミック、シリコンおよびガラス基板に対して薄膜で接着強度が高いパターンを形成することができることから、ＦＰＤ用電極形成材料として好適に用いられる。
【００７８】
〔パターンの形成〕
以下、上記感光性ペースト組成物を用いて、パターンを形成する方法の一例を示す。パターンの形成方法は、例えば、上記感光性ペースト組成物からなる感光性樹脂層を基板上に形成する工程（感光性樹脂層形成工程）、該樹脂層を露光処理してパターンの潜像を形成する工程（露光工程）、該樹脂層を現像処理して硬化パターンを形成する工程（現像工程）、および該硬化パターンを焼成処理する工程（焼成工程）を含む。
【００７９】
＜感光性樹脂層形成工程＞
本工程では、上記感光性ペースト組成物からなる感光性樹脂層を基板上に形成する。感光性樹脂層の形成方法としては、例えば、（i）上記感光性ペースト組成物を基板上に塗
布して塗膜を形成し、該塗膜を乾燥させて形成する方法、（ii）上記感光性ペースト組成物を支持フィルム上に塗布して塗膜を形成し、該塗膜を乾燥させて得られる感光性樹脂層を有する転写フィルムを用いて、基板上に該樹脂層を転写する方法が挙げられる。
【００８０】
（i）上記感光性ペースト組成物を基板上に塗布する方法としては、膜厚が大きく（例
えば２０μｍ以上）、かつ均一性に優れた塗膜を効率よく形成することができる方法であれば特に限定されない。例えば、ナイフコータによる塗布方法、ロールコータによる塗布方法、ドクターブレードによる塗布方法、カーテンコータによる塗布方法、ダイコータによる塗布方法、ワイヤーコータによる塗布方法、スクリーン印刷装置によるスクリーン印刷法が挙げられる。
【００８１】
塗膜の乾燥条件は、乾燥後における有機溶剤の残存割合が２重量％以内となるように適宜調整すればよく、例えば、乾燥温度が５０〜１５０℃で、乾燥時間が０．５〜６０分間程度である。
【００８２】
上記のようにして形成された感光性樹脂層の膜厚は、通常は３〜３００μｍ、好ましくは５〜２００μｍである。なお、上記感光性ペースト組成物の塗布をｎ回繰り返すことで、ｎ層（ｎは２以上の整数を示す）の感光性樹脂層を有する積層体を形成してもよい。
【００８３】
（ii）上記感光性樹脂層を有する転写フィルムを用いた転写工程の一例を以下に示す。基板表面に感光性樹脂層表面が当接するように転写フィルムを重ね合わせ、該転写フィルムを加熱ローラなどにより熱圧着した後、該樹脂層から支持フィルムを剥離除去する。これにより、基板表面に感光性樹脂層が転写されて密着した状態となる。
【００８４】
上記支持フィルムは、耐熱性および耐溶剤性を有するとともに可撓性を有する樹脂フィルムであることが好ましい。支持フィルムを形成する樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレートなどのポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリフロロエチレンなどの含フッ素樹脂、ナイロン、セルロースが挙げられる。
【００８５】
転写条件としては、例えば、加熱ローラの表面温度が１０〜２００℃、加熱ローラによるロール圧が０．５〜１０ｋｇ／ｃｍ2、加熱ローラの移動速度が０．１〜１０ｍ／分で
ある。また、上記基板は予熱されていてもよく、予熱温度は、例えば４０〜１４０℃である。
【００８６】
上記基板材料としては、例えば、ガラス、シリコーン、ポリカーボネート、ポリエステル、芳香族アミド、ポリアミドイミド、ポリイミドなどの絶縁性材料からなる板状部材が挙げられる。これらの中では、耐熱性を有するガラス基板を用いることが好ましい。
【００８７】
＜露光工程＞
上記感光性樹脂層形成工程により基板上に感光性樹脂層を形成した後、露光装置を用いて露光を行う。具体的には、感光性樹脂層の表面に、露光用マスクを介して、紫外線などの放射線を選択的に照射して、該樹脂層にパターンの潜像を形成する。
【００８８】
露光は通常のフォトリソグラフィーで行われるように、フォトマスクを用いてマスク露光する方法を採用することができる。前記フォトマスクの露光パターンは、目的によって異なるが、例えば１０〜５００μｍ幅のストライプまたは格子である。
【００８９】
また、フォトマスクを用いずに、赤色や青色の可視光レーザー光、Ａｒイオンレーザーなどで直接描画する方法を用いてもよい。
露光装置としては、例えば、平行光露光機、散乱光露光機、ステッパー露光機、プロキシミティ露光機が挙げられる。また、大面積の露光を行う場合は、ガラス基板などの基板上に感光性樹脂層を形成した後に、これを搬送しながら露光を行うことによって、小さな
露光面積の露光機で、大きな面積を露光することができる。
【００９０】
露光の際に使用される放射線としては、例えば、可視光線、近紫外線、紫外線、電子線、Ｘ線、レーザー光が挙げられるが、これらの中では紫外線が好ましい。また、その放射線源としては、例えば、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、ハロゲンランプが挙げられるが、これらの中では超高圧水銀灯が好適である。
【００９１】
露光条件は、塗布厚みによって異なるが、通常は１〜１００ｍＷ／ｃｍ2出力の超高圧
水銀灯を用いて０．０５〜１分間露光を行う。この場合、波長フィルターを用いて光の波長領域を狭くすることによって、光の散乱を抑制し、パターン形成性を向上させることができる。具体的には、ｉ線（３６５ｎｍ）の光をカットするフィルター、あるいは、ｉ線およびｈ線（４０５ｎｍ）の光をカットするフィルターを用いて、パターン形成性を向上させることができる。
【００９２】
＜現像工程＞
上記露光後、現像液に対する感光部分と非感光部分との溶解度差を利用して、感光性樹脂層を現像して該樹脂層の硬化パターンを形成する。現像方法（例えば、浸漬法、揺動法、シャワー法、スプレー法、パドル法、ブラシ法など）および現像処理条件（例えば、現像液の種類・組成・濃度、現像時間、現像温度など）などは、感光性樹脂層の組成に応じて適宜選択、設定すればよい。
【００９３】
現像工程で用いられる現像液としては、感光性樹脂層中の上記感光性樹脂を溶解可能な有機溶媒が使用できる。また、前記有機溶媒にその溶解力が失われない範囲で水を添加してもよい。感光性樹脂層中にカルボキシル基などの酸性基を持つ化合物が存在する場合、アルカリ水溶液で現像できる。
【００９４】
本発明においては、感光性樹脂層に無機粒子が含まれているが、無機粒子はアルカリ可溶性樹脂（Ｃ）により均一に分散されているため、該樹脂（Ｃ）を現像液で溶解させて洗浄することにより、無機粒子も同時に除去される。
【００９５】
上記アルカリ水溶液としては、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、リン酸水素ナトリウム、リン酸水素二アンモニウム、リン酸水素二カリウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸二水素アンモニウム、リン酸二水素カリウム、リン酸二水素ナトリウム、ケイ酸リチウム、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、ホウ酸リチウム、ホウ酸ナトリウム、ホウ酸カリウム、アンモニア水溶液、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルヒドロキシエチルアンモニウムヒドロキシド、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミンが挙げられる。
【００９６】
上記アルカリ水溶液の濃度は、通常は０．０１〜１０重量％、より好ましくは０．１〜５重量％である。アルカリ濃度が低すぎると可溶部が除去されず、アルカリ濃度が高すぎると、パターン部を剥離させ、また非可溶部を腐食させるおそれがあることから好ましくない。また、現像時の現像温度は、２０〜５０℃で行うことが工程管理上好ましい。
【００９７】
上記アルカリ水溶液には、上述のノニオン系界面活性剤や有機溶剤が含有されていてもよい。なお、アルカリ性現像液による現像処理がなされた後は、通常は水洗処理が施される。
【００９８】
＜焼成工程＞
本工程では、上記現像工程により得られる硬化パターンに含まれる有機物質を焼失させるために、焼成炉にて該硬化パターンを焼成処理する。
【００９９】
焼成雰囲気は、感光性ペースト組成物や基板の種類によって異なるが、空気、オゾン、窒素、水素などの雰囲気中で焼成する。焼成炉としては、バッチ式の焼成炉やベルト式の連続型焼成炉を用いることができる。
【０１００】
焼成処理条件は、硬化パターン中の有機物質が焼失されることが必要であるため、通常は焼成温度が３００〜１０００℃、焼成時間が１０〜９０分間である。例えば、ガラス基板上にパターン形成する場合は、３５０〜６００℃の温度で１０〜６０分間保持して焼成を行う。上記組成を有する本発明の感光性ペースト組成物を用いることにより、前記範囲で焼成しても、低抵抗な電極パターンを得ることができる。
【０１０１】
＜加熱工程＞
上記感光性樹脂層形成、露光、現像、焼成の各工程中に、乾燥または予備反応の目的で、５０〜３００℃の加熱工程を導入してもよい。
【０１０２】
〔ＦＰＤ用電極の製造方法〕
上記工程を含むパターンの形成方法により、例えば該パターンからなるＦＰＤ用電極を形成することができる。このようなＦＰＤ用電極の製造方法は、特にＰＤＰの製造に適している。
【実施例】
【０１０３】
以下、実施例に基づいて本発明をより具体的に説明するが、本発明は、これらの実施例により何ら限定されるものではない。なお、実施例および比較例における「部」および「％」は、特に断りのない限り、それぞれ「重量部」および「重量％」を示す。
【０１０４】
まず、物性の測定方法および評価方法について説明する。
〔重量平均分子量（Ｍｗ）および重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ）（以下、Ｍｗ／Ｍｎともいう。）の測定方法〕
ＭｗおよびＭｗ／Ｍｎは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）（東ソー（株）製「ＨＬＣ−８２２０ＧＰＣ」）により測定したポリスチレン換算の値である。なお、ＧＰＣ測定は、ＧＰＣカラムとして東ソー（株）製「ＴＳＫｇｕａｒｄｃｏｌｕｍｎ  ＳｕｐｅｒＨＺＭ−Ｍ」を用い、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）溶媒、測定温度４０℃の条件で行った。
【０１０５】
〔現像後および焼成後のパターンの評価方法〕
現像後および焼成後の試験片（パターンが形成されたガラス基板）を切断して、パターン切断面を走査型電子顕微鏡（日立製作所製「Ｓ４２００」）で観察してパターンの幅および高さを計測し、それぞれを下記基準で評価した。なお、所望の規格は、パターンの幅が５０μｍ、高さが１０μｍ、パターン間隔が１００μｍである。
【０１０６】
（パターンの幅）
Ａ：所望の規格のもの。
Ｂ：所望の規格±３μｍ以内のもの。
Ｃ：所望の規格±３μｍを超えて±５μｍ以内のもの。
Ｄ：所望の規格±５μｍを超えるもの。
−：評価不能であるもの。
【０１０７】
（パターンの高さ）
Ａ：所望の規格のもの。
Ｂ：所望の規格±２μｍ以内のもの。
Ｃ：所望の規格±２μｍを超えて±４μｍ以内のもの。
Ｄ：所望の規格±４μｍを超えるもの。
−：評価不能であるもの。
【０１０８】
〔粘度の測定方法〕
感光性ペースト組成物の粘度は、東機産業（株）社製の「ＶＩＳＣＯＭＡＴＥ  ＶＭ−１５０III  ＴＶ−３３型粘度計コーンプレートタイプ、測定レンジＵ（フルスケールト
ルク：５７４９．６１μＮ・ｍ）、ロータ名称：３°×Ｒ１２」によりサンプル量１ｍｌで測定した値である。
【０１０９】
〔体積抵抗の測定〕
体積抵抗［μΩ・ｃｍ］は、支持体であるガラス基板上に感光性ペースト組成物を塗布して焼成することにより、該ガラス基板上に膜厚１０μｍの膜を形成して、これをＮＰＳ社製の「Ｒｅｓｉｓｔｉｖｉｔｙ  Ｐｒｏｃｃｅｓｓｏｒ  ＭｏｄｅｌΣ−５」により測定した値である。
【０１１０】
〔電極パターンの密着性評価〕
焼成後の試験片を用いて、電極パターンと支持体であるガラス基板との密着性を、以下のようにして評価した。先ず、セロテープ（登録商標）（ニチバン社製）を加熱ローラにより、試験片を構成する支持体に熱圧着した。圧着条件は、加熱ローラの表面温度を２３℃、ロール圧を４ｋｇ／ｃｍ2、加熱ローラの移動速度を０．５ｍ／分とした。これによ
り、支持体の表面にセロテープ（登録商標）が転写されて密着した状態となった。次いで、セロテープ（登録商標）を支持体より剥離することで、電極パターンと支持体との密着性を以下の基準により評価した。
○：パターン剥れなし。
×：パターン剥れあり。
【０１１１】
〔アルミニウム粉末（Ａ）〕
アルミニウム粉末（Ａ）として、表２に示すアルミニウム粉末Ａ１を用いた。
【０１１２】
【表２】
2010044313.tif 000004
【０１１３】
〔ガラス粉末（Ｂ）〕
ガラス粉末（Ｂ）として、表３に示すガラス粉末Ｂ１〜Ｂ５を用いた。なお、表中、特定金属酸化物の含有量は、Ｎａ2Ｏ、Ｋ2Ｏ、Ｌｉ2Ｏ、ＢａＯおよびＣａＯの合計量であ
る。
【０１１４】
【表３】
2010044313.tif 000005
【０１１５】
〔アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）〕
アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）として、以下のアルカリ可溶性樹脂Ｃ１を用いた。
メタクリル酸１５ｇ、２−ヒドロキシエチルメタクリレート２０ｇ、ベンジルメタクリレート６５ｇ、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）０．５ｇ、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオン酸）（堺化学工業（株）製）１ｇを攪拌機付きオートクレーブに仕込み、窒素雰囲気下において、ターピネオール１２０ｇ中で均一になるまで攪拌した。
【０１１６】
次いで、７０℃で３時間重合させ、さらに１００℃で１時間重合反応を継続させた後、室温まで冷却してアルカリ可溶性樹脂Ｃ１を得た。このアルカリ可溶性樹脂Ｃ１の重合率は９８％であり、アルカリ可溶性樹脂Ｃ１のＭｗは３００００、Ｍｗ／Ｍｎは２．０、Ｔｇは７２℃、酸価は４４ｍｇＫＯＨ／ｇであった。
【０１１７】
［実施例１］
アルミニウム粉末（Ａ）として表２に示すアルミニウム粉末Ａ１（４５ｇ）、ガラス粉末（Ｂ）として表３に示すガラス粉末Ｂ１（５ｇ）、アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）として上記アルカリ可溶性樹脂Ｃ１（１５ｇ）、多官能（メタ）アクリレート（Ｄ）としてトリメチロールプロパン（ＰＯ変性）（ｎ＝１）トリアクリレート（ＴＭＰ３Ａと略記する。）（５ｇ）、光重合開始剤（Ｅ）として２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−１−プロパン−１−オン（ＭＴＰＭＰと略記する。）（１ｇ）、および２，４−ジエチルチオキサントン（ＤＥＴＸと略記する。）（０．２５ｇ）、有機溶剤としてターピネオール（ＴＮＯＬと略記する。）（２８．７５ｇ）を混練機で混練して、感光性ペースト組成物（１）を調製した。前記組成物（１）の粘度を上記方法に従って測定した。結果を表６に示す。
【０１１８】
上記感光性ペースト組成物（１）を３２５メッシュのスクリーンを用いて試験片であるガラス基板（１５０ｍｍ×１５０ｍｍ×２．８ｍｍ）上に１００ｍｍ角の大きさに印刷し、１２０℃で２０分間保持して乾燥した。得られた感光性樹脂層の厚みは、１０μｍ±１μｍの範囲にあった。
【０１１９】
次に、ネガ型クロムマスク（パターン幅５０μｍ、パターン間隔１００μｍ）を用いて、２５ｍＷ／ｃｍ2出力の超高圧水銀灯により、上面から感光性樹脂層を紫外線露光した
。露光量は２００ｍＪ／ｃｍ2であった。
【０１２０】
次に、露光後の感光性樹脂層に、２３℃に保持した炭酸ナトリウムの０．５％水溶液を
シャワーで６０秒間かけることにより該樹脂層を現像した。その後、シャワースプレーを用いて水洗浄し、光硬化していない部分を除去してガラス基板上に格子状の硬化パターンを形成した。この現像後の硬化パターンを上記評価方法に従って評価した。結果を表６に示す。
【０１２１】
次に、得られた硬化パターンを５８０℃で３０分間焼成して電極パターンを形成した。この焼成後の電極パターンを上記評価方法に従って評価した。結果を表６に示す。また、体積抵抗および支持体との密着性を上記評価方法に従って評価した。結果を表６に示す。
【０１２２】
［実施例２〜８］
実施例１において、表４に示す組成の感光性ペースト組成物（２）〜（８）を調製したこと以外は実施例１と同様にして、ガラス基板上に感光性樹脂層、硬化パターンおよび電極パターンを順次形成した。得られた硬化パターンおよび電極パターンを上記評価方法に従って評価した。また、体積抵抗および支持体との密着性を上記評価方法に従って評価した。結果を表６に示す。
【０１２３】
［比較例１〜２］
実施例１において、表５に示す組成の感光性ペースト組成物（９）〜（１０）を調製したこと以外は実施例１と同様にして、ガラス基板上に感光性樹脂層、硬化パターンおよび電極パターンを順次形成した。得られた硬化パターンおよび電極パターンを上記評価方法に従って評価した。また、体積抵抗および支持体との密着性を上記評価方法に従って評価した。結果を表６に示す。
【０１２４】
【表４】
2010044313.tif 000006
【０１２５】
【表５】
2010044313.tif 000007
【０１２６】
【表６】
2010044313.tif 000008
【０１２７】
表６に示すように、実施例１〜８における現像後の硬化パターン評価では、実施例１〜７が特に優れていた。実施例８は良好であった。また、焼成後の電極パターン評価では実施例１〜６が特に優れていた。実施例７はやや良好であった。実施例８は良好であった。
【０１２８】
実施例１〜８において、焼成後の電極パターンの欠けや剥がれなどは見られなかった。実施例１〜８における体積抵抗の評価では、実施例１〜８は８０〜１５０μΩ・ｃｍの範囲に入った。実施例１〜８における粘度の評価では、実施例１〜８は２５０００〜４００
００ｃｐの範囲に入った。
【０１２９】
表６に示すように、比較例２は感光性ペースト組成物を調製した後にゲル化したため、上記評価は実施できなかった。比較例１は焼成後の電極パターンの欠けや剥がれなどが見られた。