(57)【要約】【課題】配向能を有するカラーフィルタを作製するための組成物、特に表面に凹凸があるカラーフィルタを作製した場合でも表面に均一な配向能を生じさせることが可能なカラーフィルタ作製用組成物を提供すること【解決手段】顔料又は染料と光反応性化合物とを含有するカラーフィルタ作製用組成物、ならびに、基板、該基板上に前記組成物から形成されたカラーフィルタ層、及び該カラーフィルタ層上に直接積層された光学異方性層を含む液晶表示装置用基板。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
顔料又は染料と光反応性化合物とを含有するカラーフィルタ作製用組成物。
【請求項２】
基板、
請求項１に記載の組成物から形成されたカラーフィルタ層、及び
該カラーフィルタ層上に直接積層された光学異方性層をこの順に含む液晶表示装置用基板。
【請求項３】
前記カラーフィルタ層が、前記基板上に形成された隔壁の一部を含み、かつ該隔壁が前記カラーフィルタ層を複数の領域に分割している請求項２に記載の液晶表示装置用基板。
【請求項４】
前記光学異方性層が、前記隔壁により複数の領域に分割されている請求項３に記載の液晶表示装置用基板。
【請求項５】
前記隔壁が、マトリクス状に形成されている請求項３または４に記載の液晶表示装置用基板。
【請求項６】
前記光学異方性層が、少なくとも一つの反応性基を有する液晶性化合物を含有する組成物から液晶相を形成した後、該液晶相を熱又は光照射により固定化して形成した層である請求項２〜５のいずれか一項に記載の液晶表示装置用基板。
【請求項７】
前記光照射が、紫外線照射である請求項６に記載の液晶表示装置用基板。
【請求項８】
前記反応性基が、エチレン性不飽和基である請求項６又は７に記載の液晶表示装置用基板。
【請求項９】
前記組成物が、ラジカル重合開始剤の少なくとも一種をさらに含有する請求項６〜８のいずれか１項に記載の液晶表示装置用基板。
【請求項１０】
前記液晶性化合物が、棒状液晶である請求項６〜９のいずれか１項に記載の液晶表示装置用基板。
【請求項１１】
請求項２〜１０のいずれか一項に記載の液晶表示装置用基板を含む液晶表示装置。
【請求項１２】
前記光学異方性層が正のＡプレートである請求項２〜１０のいずれか１項に記載の液晶表示装置用基板。
【請求項１３】
請求項１２に記載の液晶表示装置用基板を含む液晶表示装置。
【請求項１４】
前記光学異方性層とは別に第２の光学異方性層を含み、
第２の光学異方性層は負のＣプレートであり、
かつ表示モードがＶＡモードである請求項１３に記載の液晶表示装置。
【請求項１５】
少なくとも次の［１］〜［４］の工程をこの順に含む液晶表示装置用基板の製造方法：
［１］表面に隔壁と、該隔壁により形成された微細領域を有する基板を用意する工程；
［２］顔料又は染料と光反応性化合物とを含有するインク液を、インクジェット方式で前記微細領域に吐出及び乾燥させる工程；
[３]工程［２］の後に得られた基板に偏光照射を施す工程；及び
［４］前記微細領域に、少なくとも一種の液晶性化合物を含有し、且つ所定の光学異方性を発現する流体を、インクジェット式の吐出ヘッドから吐出及び乾燥して液晶相を形成した後、露光して、光学異方性層を形成する工程。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は配向能を有するカラーフィルタを作製するための組成物に関する。より詳しくは、本発明は光反応により配向能を付与することができるカラーフィルタ作製用組成物、該組成物から作製されたカラーフィルタ、該カラーフィルタを含む液晶表示装置用基板、及び該基板を含む液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置には、液晶セルの駆動用液晶分子、又は視野角補償のための光学異方性層に重合して用いられる液晶分子を配向させるために、通常配向膜が含まれているが、この配向膜の機能をカラーフィルタに兼用させる試みが特許文献１〜４に開示されている。これらの文献に記載の技術においてはいずれも、カラーフィルタは、ラビング手法を用いて液晶セルの駆動用液晶分子のための配向能が付与されている。
しかし、カラーフィルタ層が着色層を分離するブラックマトリックスを有することによって表面に凹凸を有する場合などにおいては、この隔壁部分においてラビングが不十分となって、表面の配向能が不均一になってしまう可能性がある。
なお、樹脂層に配向膜の機能を付与する方法としては、光反応により配向する光配向膜（特許文献５、６）が挙げられるが、これをカラーフィルタ層に応用した例は無い。
【特許文献１】特開平８−７６１０６号公報
【特許文献２】特開平８−１２２７９１
【特許文献３】特開平９−２７４１０５号公報
【特許文献４】特開平１０−１０４６０６号公報
【特許文献５】特開２００７−２５２０３号公報
【特許文献６】特開２００７−７１９５２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
本発明は、配向能を有するカラーフィルタを作製するための組成物を提供することを課題とする。本発明は、特に表面に凹凸があるカラーフィルタを作製した場合でも表面に均一な配向能を生じさせることが可能であるカラーフィルタ作製用組成物を提供することを課題とし、さらに、このような組成物を用いて製造されたカラーフィルタ、該カラーフィルタを含む液晶表示装置用基板さらに液晶表示装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
すなわち、本発明は下記の（１）〜（１５）を提供するものである。
（１）顔料又は染料と光反応性化合物とを含有するカラーフィルタ作製用組成物。
（２）基板、（１）に記載の組成物から形成されたカラーフィルタ層、及び該カラーフィルタ層上に直接積層された光学異方性層をこの順に含む液晶表示装置用基板。
（３）前記カラーフィルタ層が、前記基板上に形成された隔壁の一部を含み、かつ該隔壁が前記カラーフィルタ層を複数の領域に分割している（２）に記載の液晶表示装置用基板。
（４）前記光学異方性層が、前記隔壁により複数の領域に分割されている（３）に記載の液晶表示装置用基板。
（５）前記隔壁が、マトリクス状に形成されている（３）または（４）に記載の液晶表示装置用基板。
【０００５】
（６）前記光学異方性層が、少なくとも一つの反応性基を有する液晶性化合物を含有する組成物から液晶相を形成した後、該液晶相を熱又は光照射により固定化して形成した層である（２）〜（５）のいずれか一項に記載の液晶表示装置用基板。
（７）前記光照射が、紫外線照射である（６）に記載の液晶表示装置用基板。
（８）前記反応性基が、エチレン性不飽和基である（６）又は（７）に記載の液晶表示装置用基板。
（９）前記組成物が、ラジカル重合開始剤の少なくとも一種をさらに含有する（６）〜（８）のいずれか１項に記載の液晶表示装置用基板。
（１０）前記液晶性化合物が、棒状液晶である（６）〜（９）のいずれか１項に記載の液晶表示装置用基板。
【０００６】
（１１）（２）〜（１０）のいずれか一項に記載の液晶表示装置用基板を含む液晶表示装置。
（１２）前記光学異方性層が正のＡプレートである（２）〜（１０）のいずれか１項に記載の液晶表示装置用基板。
（１３）（１２）に記載の液晶表示装置用基板を含む液晶表示装置。
（１４）前記光学異方性層とは別に第２の光学異方性層を含み、
第２の光学異方性層は負のＣプレートであり、
かつ表示モードがＶＡモードである（１３）に記載の液晶表示装置。
【０００７】
（１５）少なくとも次の［１］〜［４］の工程をこの順に含む液晶表示装置用基板の製造方法：
［１］表面に隔壁と、該隔壁により形成された微細領域を有する基板を用意する工程；
［２］顔料又は染料と光反応性化合物とを含有するインク液を、インクジェット方式で前記微細領域に吐出及び乾燥させる工程；
[３]工程［２］の後に得られた基板に偏光照射を施す工程；及び
［４］前記微細領域に、少なくとも一種の液晶性化合物を含有し、且つ所定の光学異方性を発現する流体を、インクジェット式の吐出ヘッドから吐出及び乾燥して液晶相を形成した後、露光して、光学異方性層を形成する工程。
【発明の効果】
【０００８】
本発明により、配向能を有するカラーフィルタ作製用組成物が提供される。本発明の組成物を用いて、カラーフィルタ層上に重合性液晶分子からなる光学異方性層を、別途配向膜を設ける手間なく、簡便に設けることができる。また本発明の組成物を用いることによって、カラーフィルタ層と光学異方性層が積層された微細構造を容易に作製することが可能であるため、液晶セルを色ごとに光学的に補償することができる液晶表示装置の設計をより簡便に行うことができる。
【発明の実施の形態】
【０００９】
以下、本発明について詳細に説明する。
なお、本明細書において「〜」とはその前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用される。
【００１０】
また、本明細書において、Ｒｅ（λ）、Ｒｔｈ（λ）は各々、波長λにおける面内のリターデーション及び厚さ方向のリターデーションを表す。Ｒｅ（λ）はＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲ（王子計測機器（株）製）において波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。測定されるフィルムが１軸又は２軸の屈折率楕円体で表されるものである場合には、以下の方法によりＲｔｈ（λ）は算出される。
Ｒｔｈ（λ）は前記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）のフィルム法線方向に対して法線方向から片側５０度まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて全部で６点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。上記において、法線方向から面内の遅相軸を回転軸として、ある傾斜角度にレターデーションの値がゼロとなる方向をもつフィルムの場合には、その傾斜角度より大きい傾斜角度でのレターデーション値はその符号を負に変更した後、ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。尚、遅相軸を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）、任意の傾斜した２方向からレターデーション値を測定し、その値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基に、以下の式（１）及び式（２）よりＲｔｈを算出することもできる。
【００１１】
【数１】
2010044276.tif 000002
【００１２】
Ｒｔｈ＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２  −  ｎｚ）  ｘ  ｄ        −−−  式（２）
注記：
上記のＲｅ（θ）は法線方向から角度θ傾斜した方向におけるレターデーション値をあらわす。
式におけるｎｘは面内における遅相軸方向の屈折率を表し、ｎｙは面内においてｎｘに直交する方向の屈折率を表し、ｎｚはｎｘ及びｎｙに直交する方向の屈折率を表す。ｄは膜厚を表す。
【００１３】
測定されるフィルムが１軸や２軸の屈折率楕円体で表現できないもの、いわゆる光学軸（ｏｐｔｉｃ  ａｘｉｓ）がないフィルムの場合には、以下の方法によりＲｔｈ（λ）は算出される。
Ｒｔｈ（λ）は前記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して−５０度から＋５０度まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて１１点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。上記の測定において、平均屈折率の仮定値は  ポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ  ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：
【００１４】
セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。
これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲはｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出する。この算出されたｎｘ，ｎｙ，ｎｚよりＮｚ＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）が更に算出される。
【００１５】
また、Ｒｔｈの符号は面内の遅相軸を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して＋２０°傾斜した方向から波長５５０ｎｍの光を入射させて測定した位相差がＲｅを超える場合を正とし、Ｒｅを下回る場合を負とする。但し、｜Ｒｔｈ／Ｒｅ｜が９以上の試料では、回転自由台座付きの偏光顕微鏡を用いて、面内の進相軸を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して＋４０°傾斜した状態で、偏光板の検板を用いて決定できる試料の遅相軸がフィルム平面に平行にある場合を正とし、また遅相軸がフィルムの厚み方向にある場合を負とする。
本明細書におけるλは、Ｒ、Ｇ、Ｂに対してそれぞれ６１１±５ｎｍ、５４５±５ｎｍ、４３５±５ｎｍを指し、特に色に関する記載がなければ５４５±５ｎｍ又は５９０±５ｎｍを指す。
【００１６】
本明細書において、角度について「実質的に」とは、厳密な角度との誤差が±５°未満の範囲内であることを意味する。さらに、厳密な角度との誤差は、４°未満であることが好ましく、３°未満であることがより好ましい。レターデーションについて「実質的に」とは、レターデーションが±５％以内の差であることを意味する。さらに、Ｒｅが０でないとは、Ｒｅの絶対値が５ｎｍ以上であることを意味する。また、屈折率の測定波長は特別な記述がない限り、可視光域の任意の波長を指す。なお、本明細書において、「可視光」とは、波長が４００〜７００ｎｍの光のことをいう。
【００１７】
［カラーフィルタ作製用組成物］
本発明のカラーフィルタ作製用組成物は光反応性化合物を含むことを特徴とする。カラーフィルタ作製用組成物として光反応性化合物を含む組成物を用い、このような組成物から形成した層に、光照射を行うことによって、この層の表面に異方性を形成し、その上に設けられた層の液晶を配向させることが可能になる。
光反応性化合物としては光異性化反応、光二量化反応、および光分解反応の少なくとも１つを起こす化合物が挙げられる。本発明においては光異性化反応を起こす化合物又は光二量化反応を起こす化合物を用いることが好ましい。
【００１８】
光異性化反応を起こす化合物は光異性化基を有する化合物であればよい。また、光二量化反応を起こす化合物は光二量化基を有する化合物であればよい。本発明のカラーフィルタ作製用組成物は光異性化反応を起こす化合物及び光二量化反応を起こす化合物の双方を含んでいてもよいが、いずれか一方を含んでいることが好ましく、光二量化反応を起こす化合物を含んでいることが特に好ましい。
光異性化反応を起こす化合物又は光二量化反応を起こす化合物は、低分子化合物又は高分子化合物のいずれでもよいが、低分子化合物の場合、液晶性を有していることが好ましい
【００１９】
光異性化反応を起こす化合物とは、光の作用で立体異性化または構造異性化を起こす化合物をいう。光異性化化合物には、アゾベンゼン化合物（K. Ichimura et al., Langmuir,vol. 4, page 1214 (1988)；K. Aoki et al., Langmuir, vol. 8, page 1007 (1992)；Y. Suzuki et al., Langmuir, vol. 8, page 2601 (1992)；K. Ichimuraet al., Appl. Phys. Lett., vol. 63, No. 4, page 449 (1993)；N. Ishizuki, Langmuir, vol. 9, page 3298 (1993) ；N. Ishizuki, Langmuir, vol. 9, page 857 (1993)）、ヒドラゾノ−β−ケトエステル化合物（S. Yamamura et al., Liquid Crystals, vol. 13, No. 2, page 189 (1993)）、スチルベン化合物（市村國宏他、高分子論文集、第４７巻、１０号、７７１頁(1990)）およびスピロピラン化合物（K. Ichimura et al., Chemistry Letters, page 1063 (1992) ；K.Ichimura et al., Thin Solid Films, vol. 235, page 101 (1993) ）、及びこれらの化合物のうち低分子化合物については、その残基を主鎖又は側鎖に有するポリマーが含まれる。その中で、Ｃ＝Ｃ、またはＮ＝Ｎからなる二重結合構造を含む光異性化化合物が好ましく、Ｎ＝Ｎからなる二重結合構造を含むアゾベンゼン化合物が特に好ましい。
【００２０】
光二量化反応を起こす化合物とは、光の照射によって、二つの基の間に付加反応を起こして環化する化合物をいう。光二量化化合物には、桂皮酸誘導体（M. Schadt et al., J. Appl. Phys., vol. 31, No. 7, page 2155 (1992)）、クマリン誘導体（M. Schadt et al., Nature., vol. 381, page 212 (1996)）、カルコン誘導体(小川俊博他、液晶討論会講演予稿集，2AB03(1997))、ベンゾフェノン誘導体（Y. K. Jang et al.,, SID Int. Symposium Digest, P-53(1997).）、及びこれらの誘導体の残基を主鎖又は側鎖に有する化合物が含まれる。中でも、桂皮酸誘導体、クマリン誘導体、及びこれらの残基を側鎖に有するポリマーが好ましく、桂皮酸誘導体及びこれらの残基を側鎖に有するポリマーがより好ましい。
【００２１】
本発明のカラーフィルタ作製用組成物に用いられる光反応性化合物としては、下記一般式  （１）で表される繰り返し単位を少なくとも一種有するポリマーが特に好ましい。
【化１】
2010044276.tif 000003
【００２２】
式（１）中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4およびＲ5はそれぞれ独立に、水素原子または置換基を表し；Ｌは下記の連結基群から選ばれる２価の連結基または下記の連結基群から選ばれる２つ以上を組み合わせて形成される２価の連結基を表し、ｎ１は０〜４の整数を表し、及びｎ２は０〜５の整数を表す。
（連結基群）
単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＲ6−（Ｒ6は水素原子、アルキル基、アリール基、またはアラルキル基を表す）、−Ｓ−、−ＳＯ2−、−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲ7）−（Ｒ7はアルキル基、アリール基、またはアラルキル基を表す）、アルキレン基およびアリーレン基。
【００２３】
更に詳細に説明すると、上記一般式（１）中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4およびＲ5はそれぞれ独立に、下記に例示した置換基群から選ばれる置換基を表す。
（置換基群）
アルキル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８のアルケニル基であり、例えば、ビニル基、アリール基、２−ブテニル基、３−ペンテニル基などが挙げられる）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８のアルキニル基であり、例えば、プロパルギル基、３−ペンチニル基などが挙げられる）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２のアリール基であり、例えば、フェニル基、ｐ−メチルフェニル基、ナフチル基などが挙げられる）、アラルキル基（好ましくは炭素数７〜３０、より好ましくは炭素数７〜２０、特に好ましくは炭素数７〜１２のアラルキル基であり、例えば、ベンジル基、フェネチル基、３−フェニルプロピル基などが挙げられる）、置換もしくは無置換のアミノ基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１０、特に好ましくは炭素数０〜６のアミノ基であり、例えば、無置換アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、アニリノ基などが挙げられる）、
【００２４】
アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１０のアルコキシ基であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基などが挙げられる）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは２〜１０のアルコキシカルボニル基であり、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは２〜１０のアシルオキシ基であり、例えば、アセトキシ基、ベンゾイルオキシ基などが挙げられる）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０のアシルアミノ基であり、例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などが挙げられる）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２のアルコキシカルボニルアミノ基であり、例えば、メトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１２のアリールオキシカルボニルアミノ基であり、例えば、フェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のスルホニルアミノ基であり、例えば、メタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１６、特に好ましくは炭素数０〜１２のスルファモイル基であり、例えば、スルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基などが挙げられる）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のカルバモイル基であり、例えば、無置換のカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基などが挙げられる）、
【００２５】
アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のアルキルチオ基であり、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基などが挙げられる）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２のアリールチオ基であり、例えば、フェニルチオ基などが挙げられる）、スルホニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のスルホニル基であり、例えば、メシル基、トシル基などが挙げられる）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のスルフィニル基であり、例えば、メタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基などが挙げられる）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のウレイド基であり、例えば、無置換のウレイド基、メチルウレイド基、フェニルウレイド基などが挙げられる）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のリン酸アミド基であり、例えば、ジエチルリン酸アミド基、フェニルリン酸アミド基などが挙げられる）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは１〜１２のヘテロ環基であり、例えば、窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を有するヘテロ環基であり、例えば、イミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基などが挙げられる）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜４０、より好ましくは炭素数３〜３０、特に好ましくは、炭素数３〜２４のシリル基であり、例えば、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられる）が含まれる。これらの置換基はさらにこれらの置換基によって置換されていてもよい。また、置換基を二つ以上有する場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに結合して環を形成していてもよい。
【００２６】
Ｒ1、Ｒ2およびＲ3はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等）、または後述する−Ｌ−Ｑで表される基であることが好ましく、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、塩素原子、−Ｌ−Ｑで表される基であることがより好ましく、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基であることがさらに好ましく、水素原子、炭素数１〜２のアルキル基であることが特に好ましく、Ｒ２およびＲ３が水素原子で、Ｒ１が水素原子またはメチル基であることが最も好ましい。該アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基等が挙げられる。該アルキル基は、適当な置換基を有していても良い。該置換基としては、ハロゲン原子、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシル基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アシル基、ヒドロキシル基、アシルオキシ基、アミノ基、アルコキシカルボニル基、アシルアミノ基、オキシカルボニル基、カルバモイル基、スルホニル基、スルファモイル基、スルホンアミド基、スルホリル基、カルボキシル基などが挙げられる。なお、アルキル基の炭素数は、置換基の炭素原子を含まない。以下、他の基の炭素数についても同様である。
【００２７】
Ｒ4およびＲ5はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等）であることが好ましく、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜１２のヘテロ環基、塩素原子であることが特に好ましく、Ｒ4が水素原子で、Ｒ5がフェニル基であることが最も好ましい。
ｎ１およびｎ２が２以上の整数を表す場合、複数個のＲ4およびＲ5は同一であっても異なっていてもよい。
【００２８】
Ｌは、上記連結基群から選ばれる２価の連結基、またはそれらの２つ以上を組み合わせて形成される２価の連結基を表す。上記連結基群中、−ＮＲ6−のＲ6は、水素原子、アルキル基、アリール基又はアラルキル基を表し、好ましくは水素原子又はアルキル基である。また、−ＰＯ（ＯＲ7）−のＲ7はアルキル基、アリール基又はアラルキル基を表し、好ましくはアルキル基である。Ｒ6およびＲ7がアルキル基、アリール基又はアラルキル基を表す場合の炭素数は「置換基群」で説明したものと同じである。Ｌとしては、単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＲ6−、−Ｓ−、−ＳＯ2−、アルキレン基またはアリーレン基を含むことが好ましく、単結合、−ＣＯ−、−Ｏ−、−ＮＲ6−、アルキレン基又はアリーレン基を含んでいることが特に好ましく、−ＣＯ−、−Ｏ−、−ＮＲ6−又はアルキレン基を含んでいることが最も好ましい。Ｌがアルキレン基を含む場合、アルキレン基の炭素数は好ましくは１〜１０、より好ましくは１〜８、特に好ましくは１〜６である。特に好ましいアルキレン基の具体例として、メチレン、エチレン、トリメチレン、テトラブチレン、ヘキサメチレン基等が挙げられる。Ｌが、アリーレン基を含む場合、アリーレン基の炭素数は、好ましくは６〜２４、より好ましくは６〜１８、特に好ましくは６〜１２である。特に好ましいアリーレン基の具体例として、フェニレン、ナフタレン基等が挙げられる。Ｌが、アルキレン基とアリーレン基を組み合わせて得られる２価の連結基（即ちアラルキレン基）を含む場合、アラルキレン基の炭素数は、好ましくは７〜３４、より好ましくは７〜２６、特に好ましくは７〜１６である。特に好ましいアラルキレン基の具体例として、フェニレンメチレン基、フェニレンエチレン基、メチレンフェニレン基等が挙げられる。Ｌとして挙げられた基は、適当な置換基を有していてもよい。このような置換基としては先にＲ1〜Ｒ5における置換基として挙げた置換基と同様なものを挙げることができる。
以下にＬの具体的構造を例示するが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。
【００２９】
【化２】
2010044276.tif 000004
【００３０】
前記光反応性化合物は、前記一般式（１）で表される繰り返し単位を１種含んでいてもよいし、２種以上含んでいてもよい。また、前記光反応性化合物は、上記各繰り返し単位以外の他の繰り返し単位を１種または２種以上有していてもよい。前記他の繰り返し単位については特に制限されず、通常のラジカル重合反応可能なモノマーから誘導される繰り返し単位が好ましい例として挙げられる。以下、他の繰り返し単位を誘導するモノマーの具体例を挙げる。前記光反応性化合物は、下記モノマー群から選ばれる１種または２種以上のモノマーから誘導される繰り返し単位を含有していてもよい。
【００３１】
モノマー群
（１）アルケン類
エチレン、プロピレン、１−ブテン、イソブテン、１−ヘキセン、１−ドデセン、１−オクタデセン、１−エイコセン、ヘキサフルオロプロペン、フッ化ビニリデン、クロロトリフルオロエチレン、３，３，３−トリフルオロプロピレン、テトラフルオロエチレン、塩化ビニル、塩化ビニリデンなど；
（２）ジエン類
１，３−ブタジエン、イソプレン、１，３−ペンタジエン、２−エチル−１，３−ブタジエン、２−ｎ−プロピル−１，３−ブタジエン、２，３−ジメチル−１，３−ブタジエン、２−メチル−１，３−ペンタジエン、１−フェニル−１，３−ブタジエン、１−α−ナフチル−１，３−ブタジエン、１−β−ナフチル−１，３−ブタジエン、２−クロロ−１，３−ブタジエン、１−ブロモ−１，３−ブタジエン、１−クロロブタジエン、２−フルオロ−１，３−ブタジエン、２，３−ジクロロ−１，３−ブタジエン、１，１，２−トリクロロ−１，３−ブタジエン及び２−シアノ−１，３−ブタジエン、１，４−ジビニルシクロヘキサンなど；
【００３２】
（３）α，β−不飽和カルボン酸の誘導体
（３ａ）アルキルアクリレート類
メチルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−プロピルアクリレート、イソプロピルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、ｓｅｃ−ブチルアクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート、アミルアクリレート、ｎ−ヘキシルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、２−エチルへキシルアクリレート、ｎ−オクチルアクリレート、ｔｅｒｔ−オクチルアクリレート、ドデシルアクリレート、フェニルアクリレート、ベンジルアクリレート、２−クロロエチルアクリレート、２−ブロモエチルアクリレート、４−クロロブチルアクリレート、２−シアノエチルアクリレート、２−アセトキシエチルアクリレート、メトキシベンジルアクリレート、２−クロロシクロヘキシルアクリレート、フルフリルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、２−メトキシエチルアクリレート、ω−メトキシポリエチレングリコールアクリレート（ポリオキシエチレンの付加モル数：ｎ＝２ないし１００のもの）、３−メトキシブチルアクリレート、２−エトキシエチルアクリレート、２−ブトキシエチルアクリレート、２−（２−ブトキシエトキシ）エチルアクリレート、１−ブロモ−２−メトキシエチルアクリレート、１，１−ジクロロ−２−エトキシエチルアクリレート、グリシジルアクリレートなど）；
【００３３】
（３ｂ）アルキルメタクリレート類
メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、ｎ−プロピルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、ｎ−ブチルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、ｓｅｃ−ブチルメタクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルメタクリレート、アミルメタクリレート、ｎ−ヘキシルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート、ｎ−オクチルメタクリレート、ステアリルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、フェニルメタクリレート、アリルメタクリレート、フルフリルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、クレジルメタクリレート、ナフチルメタクリレート、２−メトキシエチルメタクリレート、３−メトキシブチルメタクリレート、ω−メトキシポリエチレングリコールメタクリレート（ポリオキシエチレンの付加モル数：ｎ＝２ないし１００のもの）、２−アセトキシエチルメタクリレート、２−エトキシエチルメタクリレート、２−ブトキシエチルメタクリレート、２−（２−ブトキシエトキシ）エチルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、３−トリメトキシシリルプロピルメタクリレート、アリルメタクリレート、２−イソシアナトエチルメタクリレートなど；
【００３４】
（３ｃ）不飽和多価カルボン酸のジエステル類
マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジブチル、イタコン酸ジメチル、タコン酸ジブチル、クロトン酸ジブチル、クロトン酸ジヘキシル、フマル酸ジエチル、フマル酸ジメチルなど；
【００３５】
（３ｄ）α、β−不飽和カルボン酸のアミド類
Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアクリルアミド、Ｎ−ｎ−プロピルアクリルアミド、Ｎ−ｔｅｒｔブチルアクリルアミド、Ｎ−ｔｅｒｔオクチルメタクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド、Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−（２−アセトアセトキシエチル）アクリルアミド、Ｎ−ベンジルアクリルアミド、Ｎ−アクリロイルモルフォリン、ジアセトンアクリルアミド、Ｎ−メチルマレイミドなど；
【００３６】
（４）不飽和ニトリル類
アクリロニトリル、メタクリロニトリルなど；
（５）スチレンおよびその誘導体
スチレン、ビニルトルエン、エチルスチレン、ｐ−ｔｅｒｔブチルスチレン、ｐ−ビニル安息香酸メチル、α−メチルスチレン、ｐ−クロロメチルスチレン、ビニルナフタレン、ｐ−メトキシスチレン、ｐ−ヒドロキシメチルスチレン、ｐ−アセトキシスチレンなど；
（６）ビニルエステル類
酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、イソ酪酸ビニル、安息香酸ビニル、サリチル酸ビニル、クロロ酢酸ビニル、メトキシ酢酸ビニル、フェニル酢酸ビニルなど；
【００３７】
（７）ビニルエーテル類
メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、ｎ−プロピルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、ｎ−ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルビニルエーテル、ｎ−ペンチルビニルエーテル、ｎ−ヘキシルビニルエーテル、ｎ−オクチルビニルエーテル、ｎ−ドデシルビニルエーテル、ｎ−エイコシルビニルエーテル、２−エチルヘキシルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、フルオロブチルビニルエーテル、フルオロブトキシエチルビニルエーテルなど；および
（８）その他の重合性単量体
Ｎ−ビニルピロリドン、メチルビニルケトン、フェニルビニルケトン、メトキシエチルビニルケトン、２−ビニルオキサゾリン、２−イソプロペニルオキサゾリンなど。
【００３８】
前記光反応性化合物中、一般式（１）で表される繰り返し単位の量は、該ポリマーの構成モノマー総量の５０質量％以上であるのが好ましく、６０質量％以上であるのがより好ましく、７０質量％以上であるのが特に好ましい。
【００３９】
前記一般式（１）で表される繰り返し単位を有するポリマーの製造方法については、特開2007-25203号公報の［００４６］〜［００５１］の記載を参照することができる。
【００４０】
以下に、前記一般式（１）で表される繰り返し単位を有するポリマーの具体例を示すが、本発明はこれらの具体例によってなんら限定されるものではない。ここで式中の数値は、それぞれ各モノマーの組成比を示す質量百分率であり、ＭｗはＧＰＣにより測定されたPS換算の質量平均分子量である。ａ、ｂの数値は質量比を表す。
【００４１】
【化３】
2010044276.tif 000005
【００４２】
【化４】
2010044276.tif 000006
【００４３】
【化５】
2010044276.tif 000007
【００４４】
光反応性化合物の添加量は、カラーフィルタ作製用組成物(溶媒含む)に対し、0.5質量％〜20質量％が好ましく、1質量％〜10質量％がさらに好ましい。また、カラーフィルタ作製用組成物中の着色剤の質量に対して、光反応性化合物の添加量が20質量％〜70質量％であることが好ましく、30質量％〜60質量％であることがさらに好ましい。
【００４５】
本発明のカラーフィルタ作製用組成物はさらに染料又は顔料のような着色剤を含有する。着色剤は、公知の着色剤（染料、顔料）であればよい。該公知の着色剤のうち顔料を用いる場合には、着色樹脂組成物中に均一に分散されていることが望ましく、そのため粒径が０．１μｍ以下、特には０．０８μｍ以下であることが好ましい。
上記公知の染料ないし顔料としては、特開２００７-２３３３７６号公報の段落番号「０１０７」〜「０１０９」に記載のものが挙げられる。
【００４６】
本発明における着色剤としては、上記の着色剤の中でも、（ｉ）Ｒ（レッド）の着色樹脂組成物においてはＣ．Ｉ．ピグメント・レッド２５４が、（ｉｉ）Ｇ（グリーン）の着色樹脂組成物においてはＣ．Ｉ．ピグメント・グリーン３６が、（ｉｉｉ）Ｂ（ブルー）の着色樹脂組成物においてはＣ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：６が好適なものとして挙げられる。更に上記顔料は組み合わせて用いてもよい。
【００４７】
本発明において、併用するのが好ましい上記記載の顔料の組み合わせは、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド２５４では、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１７７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド２２４、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１３９、又は、Ｃ．Ｉ．ピグメント・バイオレット２３との組み合わせが挙げられ、Ｃ．Ｉ．ピグメント・グリーン３６では、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１５０、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１３９、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１８５、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１３８、又は、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１８０との組み合わせが挙げられ、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：６では、Ｃ．Ｉ．ピグメント・バイオレット２３、又は、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー６０との組み合わせが挙げられる。
【００４８】
このように併用する場合の顔料中のＣ．Ｉ．ピグメント・レッド２５４、Ｃ．Ｉ．ピグメント・グリーン３６、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：６の含有量は、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド２５４は、８０質量％以上が好ましく、特に９０質量％以上が好ましい。Ｃ．Ｉ．ピグメント・グリーン３６は５０質量％以上が好ましく、特に６０質量％以上が好ましい。Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：６は、８０質量％以上が好ましく、特に９０質量％以上が好ましい。
【００４９】
上記顔料は分散液として使用することが望ましい。この分散液は、前記顔料と顔料分散剤とを予め混合して得られる組成物を、後述する有機溶媒（又はビヒクル）に添加して分散させることによって調製することができる。前記ビビクルとは、塗料が液体状態にある時に顔料を分散させている媒質の部分をいい、液状であって前記顔料と結合して塗膜を固める部分（バインダ）と、これを溶解希釈する成分（有機溶媒）とを含む。前記顔料を分散させる際に使用する分散機としては、特に制限はなく、例えば、朝倉邦造著、「顔料の事典」、第一版、朝倉書店、２０００年、４３８項に記載されているニーダー、ロールミル、アトライダー、スーパーミル、ディゾルバ、ホモミキサー、サンドミル等の公知の分散機が挙げられる。更に該文献３１０項記載の機械的摩砕により、摩擦力を利用し微粉砕してもよい。
【００５０】
本発明で用いる着色剤（顔料）は、数平均粒径０．００１〜０．１μｍのものが好ましく、更に０．０１〜０．０８μｍのものが好ましい。顔料数平均粒径が０．００１μｍ未満であると、粒子表面エネルギーが大きくなり凝集し易くなり、顔料分散が難しくなると共に、分散状態を安定に保つのも難しくなり好ましくない。また、顔料数平均粒径が０．１μｍを超えると、顔料による偏光の解消が生じ、コントラストが低下し、好ましくない。なお、本明細書において「粒径」とは粒子の電子顕微鏡写真画像を同面積の円とした時の直径を意味し、また「数平均粒径」とは多数の粒子について上記の粒径を求めたこの１００個平均値を意味する。
【００５１】
着色画素のコントラストは、分散されている顔料の粒径を小さくすることで向上させることができる。粒径を小さくするには、顔料分散物の分散時間を調節することで達成できる。分散には、上記記載の公知の分散機を用いることができる。分散時間は好ましくは１０〜３０時間であり、更に好ましくは１８〜３０時間、最も好ましくは２４〜３０時間である。分散時間が１０時間未満であると、顔料粒径が大きく、顔料による偏光の解消が生じ、コントラストが低下することがある。一方、３０時間を越えると、分散液の粘度が上昇し、塗布が困難になることがある。また、２色以上の着色画素のコントラストの差を６００以内にするには、顔料粒径を調節して、所望のコントラストとすればよい。
【００５２】
前記カラーフィルタ層より形成されるカラーフィルタの各着色画素のコントラストは、２０００以上が好ましく、より好ましくは２８００以上、更に好ましくは３０００以上であり、最も好ましくは３４００以上である。カラーフィルタを構成する各着色画素のコントラストが２０００以下だと、これを有する液晶表示装置の画像を観察すると、全体に白っぽい印象となり、見難く好ましくない。また、各着色画素のコントラストの差が、好ましくは６００以内であり、より好ましくは４１０以内であり、更に好ましくは３５０以内、最も好ましくは２００以内である。各着色画素のコントラストの差が６００以内であると、黒表示時における各着色画素部からの光漏れ量が大きく相違しないため、黒表示の色バランスが良く好ましい。
【００５３】
本発明のカラーフィルタ作製用組成物はさらにモノマー又はオリゴマーを含んでいてもよい。使用されるラジカル重合性モノマー又はオリゴマーとしては、エチレン性不飽和二重結合を２個以上有し、光の照射によって付加重合するモノマー又はオリゴマーであることが好ましい。そのようなモノマー及びオリゴマーとしては、分子中に少なくとも１個の付加重合可能なエチレン性不飽和基を有し、沸点が常圧で１００℃以上の化合物を挙げることができる。その例としては、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート及びフェノキシエチル（メタ）アクリレートなどの単官能アクリレートや単官能メタクリレート；ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテル、トリ（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、トリ（アクリロイルオキシエチル）シアヌレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート；トリメチロールプロパンやグリセリン等の多官能アルコールにエチレンオキシド又はプロピレンオキシドを付加した後（メタ）アクリレート化したもの等の多官能アクリレートや多官能メタクリレートを挙げることができる。
【００５４】
更に特公昭４８−４１７０８号公報、特公昭５０−６０３４号公報及び特開昭５１−３７１９３号公報に記載されているウレタンアクリレート類；特開昭４８−６４１８３号公報、特公昭４９−４３１９１号公報及び特公昭５２−３０４９０号公報に記載されているポリエステルアクリレート類；エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸の反応生成物であるエポキシアクリレート類等の多官能アクリレー卜やメタクリレートを挙げることができる。
これらの中で、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートが好ましい。
また、この他、特開平１１−１３３６００号公報に記載の「重合性化合物Ｂ」も好適なものとして挙げることができる。
これらのモノマー又はオリゴマーは、単独でも、２種類以上を混合して用いてもよく、着色樹脂組成物の全固形分に対する含有量は５〜５０質量％が一般的であり、１０〜４０質量％が好ましい。
【００５５】
前記カラーフィルタ層に使用されるカチオン重合性モノマー又はオリゴマーとしては、環状エーテル、環状ホルマール、アセタール、ビニルアルキルエーテル、チイラン基を含む化合物、ビスフェノール型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、エポキシ化不飽和脂肪酸、エポキシ化ポリブタジエンなどのエポキシ化合物を挙げることができる。そのようなモノマー又はオリゴマーの例としては、垣内弘編著「新エポキシ樹脂」昭晃堂（１９８５年刊）、橋本邦之編著「エポキシ樹脂」日刊工業新聞社（１９６９年刊）等に記載された化合物類の他、３官能グリシジルエーテル類（トリメチロールエタントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、グリセロールトリグリシジルエーテル、トリグリシジルトリスヒドロキシエチルイソシアヌレートなど）、４官能以上のグリシジルエーテル類（ソルビトールテトラグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグリシルエーテル、クレゾールノボラック樹脂のポリグリシジルエーテル、フェノールノボラック樹脂のポリグリシジルエーテルなど）、３官能以上の脂環式エポキシ類（エポリードＧＴ−３０１、エポリードＧＴ−４０１、ＥＨＰＥ（以上、ダイセル化学工業（株）製）、フェノールノボラック樹脂のポリシクロヘキシルエポキシメチルエーテルなど）、３官能以上のオキセタン類（ＯＸ−ＳＱ、ＰＮＯＸ−１００９（以上、東亞合成（株）製）など）などが挙げられる。
【００５６】
なお、上記で説明したモノマー又はオリゴマーは、光学異方性層に含まれていてもよい。
【００５７】
本発明のカラーフィルタ作製用組成物は光等で硬化させる場合はさらに光重合開始剤を含んでいてもよい。前記カラーフィルタ層に使用される光重合開始剤又は光重合開始剤系としては、米国特許第２３６７６６０号明細書に開示されているビシナルポリケタルドニル化合物、米国特許第２４４８８２８号明細書に記載されているアシロインエーテル化合物、米国特許第２７２２５１２号明細書に記載のα−炭化水素で置換された芳香族アシロイン化合物、米国特許第３０４６１２７号明細書及び同第２９５１７５８号明細書に記載の多核キノン化合物、米国特許第３５４９３６７号明細書に記載のトリアリールイミダゾール２量体とｐ−アミノケトンの組み合わせ、特公昭５１−４８５１６号公報に記載のベンゾチアゾール化合物とトリハロメチル−ｓ−トリアジン化合物、米国特許第４２３９８５０号明細書に記載されているトリハロメチル−トリアジン化合物、米国特許第４２１２９７６号明細書に記載されているトリハロメチルオキサジアゾール化合物等を挙げることができる。特に、トリハロメチル−ｓ−トリアジン、トリハロメチルオキサジアゾール及びトリアリールイミダゾール２量体が好ましい。
また、この他、特開平１１−１３３６００号公報に記載の「重合開始剤Ｃ」も好適なものとしてあげることができる。感光性樹脂組成物の全固形分に対する光重合開始剤又は光重合開始剤系の含有量は、０．５〜２０質量％が一般的であり、１〜１５質量％が好ましい。
【００５８】
カチオン重合開始剤としては、エトラフルオロボレート、ヘキサフルオロホスフェノールなどルイス酸のアリールジアゾニウム塩、ジアリールヨードニウム塩、トリアリールスルホニウム艶などの複塩、ベンジルシリルエーテル、ｏ−ニトロベンジルシリルエーテル、トリフェニル（ｔ−ブチル）ペルオキシシランなどのシラノール発生性シラン化合物とトリス（エチルアセト酢酸）アルミニウムなどのアルミニウム錯体との混合系などを挙げることができる。感光性樹脂組成物の全固形分に対するカチオン重合開始剤の含有量は、０．５〜２０質量％が一般的であり、１〜１５質量％が好ましい。
【００５９】
本発明においては、これらの光重合開始剤は、２種類以上の異なる光反応機構を有するものを併用してもよい。
【００６０】
本発明のカラーフィルタ作製用組成物はさらに膜物性を制御するためにバインダを含んでもよい。バインダとしては、側鎖にカルボン酸基やカルボン酸塩基などの極性基を有するポリマーが好ましい。その例としては、特開昭５９−４４６１５号公報、特公昭５４−３４３２７号公報、特公昭５８−１２５７７号公報、特公昭５４−２５９５７号公報、特開昭５９−５３８３６号公報、及び特開昭５９−７１０４８号公報に記載の、メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体、等を挙げることができる。
また、側鎖にカルボン酸基を有するセルロース誘導体も挙げられる。さらに、水酸基を有するポリマーに環状酸無水物を付加したものも好ましく使用できる。
特に好ましい例として、米国特許第４１３９３９１号明細書に記載のベンジル（メタ）アクリレートと（メタ）アクリル酸との共重合体や、ベンジル（メタ）アクリレートと（メタ）アクリル酸と他のモノマーとの多元共重合体を挙げることができる。これらの極性基を有するバインダは、一種単独で用いてもよいし、通常の膜形成性のポリマーと併用する組成物の状態で使用するようにしてもよい。
バインダの濃色組成物中における含有量としては、層又は組成物の全固形分（質量）に対して、２０〜５０質量％が好ましく、２４〜４５質量％がより好ましい。
【００６１】
本明細書において、「着色画素のコントラスト」とは、カラーフィルタを構成するＲ、Ｇ、Ｂについて、色毎に個別に評価されるコントラストを意味する。コントラストの測定方法は次の通りである。被測定物の両側に偏光板を重ねて、偏光板の偏光方向を互いに平行にした状態で、一方の偏光板の側からバックライトを当てて、他方の偏光板を通過した光の輝度Ｙ１を測定する。次に偏光板を互いに直交させた状態で、一方の偏光板の側からバックライトを当てて、他方の偏光板を通過した光の輝度Ｙ２を測定する。得られた測定値を用いて、コントラストはＹ１／Ｙ２で算出される。尚、コントラスト測定に用いる偏光板は、該カラーフィルタを使用する液晶表示装置に用いる偏光板と同一のものとする。
【００６２】
本発明のカラーフィルタ作製用組成物においては、表示ムラ（膜厚変動による色ムラ）を効果的に防止するという観点から、適切な界面活性剤を含有させることが好ましい。界面活性剤としては、特開２００７−１２１９８６号公報の［００９５］〜［０１０５］の記載を参照することができる。
【００６３】
本発明の組成物には溶剤を含有させることも可能であり、溶剤として、水、アルコール類、ケトン類、など、「新版溶剤ポケットブック（有機合成科学協会編、オーム社発行）」記載の溶剤を指し、組成物中の質量が５０％以下であることが好ましく、３０％以下がより好ましい。
溶液状態の本発明の組成物は、公知の方法（例、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法）により、基板等に塗布するか、下記で詳細に説明するようにインクジェット方式により基板等に吐出され、その後、水あるいは極性有機溶媒を除去（乾燥）することによって層を形成することができる。
【００６４】
乾燥させた層は、後述のカラーフィルタへの配向能の付与工程における光照射により硬化させることができる。また、光照射後にさらに熱処理を行って硬化させることも好ましい。熱処理は、１２０℃〜２６０℃程度、好ましくは１５０℃〜２５０℃、より好ましくは１８０℃〜２３０℃での加熱により行えばよい。熱処理の時間は特に限定されないが、１分以上５時間以内が好ましく、３分以上３時間以内がより好ましく、５分以上２時間以内が特に好ましい。
形成される層の厚さは、１〜８μｍであることが好ましく、２〜６μｍであることが特に好ましい。
【００６５】
［カラーフィルタへの配向能の付与］
上述のように、本発明のカラーフィルタ作製用組成物から形成した層は、その表面に光照射を行うことによって、該表面上の層における液晶分子を配向させることができる。
上記液晶分子は液晶セルにおける駆動用液晶分子でもよいが、光照射によるカラーフィルタの配向能の安定性の観点から、重合して固定化されるための液晶分子であることが好ましい。すなわち、本発明のカラーフィルタ作製用組成物から形成したカラーフィルタ層上には液晶性化合物を重合することにより形成される光学異方性層を設けることが好ましい。
【００６６】
上記光照射における照射光としてはＸ線、電子線、紫外線、可視光線または赤外線（熱線）が用いられ、紫外線を用いることが特に好ましい。紫外線の波長は４００ｎｍ以下であることが好ましく、１８０〜３６０ｎｍであることがさらに好ましい。光源としては低圧水銀ランプ、高圧放電ランプ、あるいはショートアーク放電ランプが好ましく用いられる。光は可能な限り単一方向に揃えて層に照射することが好ましい。この「単一方向」とは、膜平面（光の方向を膜平面に投影した向き）において単一の方向であることを意味し、膜平面に対して水平または垂直の方向も含む。
【００６７】
本発明のカラーフィルタ作製用組成物から形成されたカラーフィルタ層を液晶セル駆動用液晶分子の配向に用いる場合はこの液晶層を設けてから光照射を実施してもよいが、光学異方性層形成のための液晶性分子の配向に用いる場合は、光学異方性層の作製前（光学異方性層作製用組成物を表面に付与する前）に光照射を実施することが好ましい。よって、基板（支持体）側からではなく、直接、カラーフィルタ層に対して光照射を実施することができる。また、光照射は偏光照射でも非偏光の光照射であってもよく、好ましくは直線偏光照射である。照射量は１０ｍＪ／ｃｍ2〜３００００ｍＪ／ｃｍ2が好ましく、２０ｍＪ／ｃｍ2〜６０００ｍＪ／ｃｍ2であることが最も好ましい。
【００６８】
［隔壁］
本発明のカラーフィルタ作製用組成物が好ましく使用できる態様として、隔壁を有する基板を用いてカラーフィルタ層と光学異方性層とを設ける場合が挙げられる。
隔壁は微細領域（例えば、各画素領域）を形成していればよい。隔壁が遮光性であると、ブラックマトリックスとして利用することができ（以下、ブラックマトリックスとしても機能する隔壁を「遮光性隔壁」という）、構成及び製法等が簡略化できるので好ましい。
隔壁の形成については、特開２００７−２３３３７６号公報の［０１３３］〜［０１７６］の記載を参照することができる。
【００６９】
［液晶表示装置用基板］
本発明のカラーフィルタ作製用組成物を利用して作製される液晶表示装置用基板は、カラーフィルタ層と液晶セルの視野角補償のための光学異方性層との積層体を有することが好ましい。光学異方性層は、隔壁等の別の構成を含まず、層全体にわたって同一の組成を有するベタの層であってもよく、以下で詳細に説明するように、隔壁で分割された領域を含むパターニング光学異方性層であってもよい。例えば、その下（基板側）に配置されたカラーフィルタ層の色相に応じて（例えば、Ｒ、Ｇ、Ｂの色ごとに）、液晶セルの視野角補償に最適な光学特性を有していることが好ましい。かかる液晶表示装置用基板は、液晶セルの一対の基板のいずれか一方に用いられてもよいし、両方に用いられてもよい。
【００７０】
［液晶表示装置用基板の製造方法］
液晶表示装置用基板の製造方法の一例として、隔壁を形成した基板を用いる例であって、隔壁から形成される部位（微細領域）にカラーフィルタ層の一部領域と光学異方性層の一部領域からなる積層構造が形成されている例について図１を用いて説明する。
【００７１】
まず、基板１１上に隔壁を形成する。隔壁としては特に限定されないが、典型的にはネガ型ブラックマトリクスレジスト材料から形成したブラックマトリックスを用いることができる。ネガ型ブラックマトリクスレジスト材料を用いてフォトリソ法によりドットパターンのブラックマトリクス１２（隔壁）を形成し、隔壁１２によって隔てられた複数の微細領域ａを形成すればよい（図１（ａ））。尚、ブラックマトリクス１２の形成において、形成材料及び形成プロセスについては特に限定はなく、マトリクス状のパターンが形成できればレジスト材料によるフォトリソ法を利用する方法以外の方法であってよい。また、ブラックマトリックス１２のパターンは、ドットパターンに限定されず、形成するカラーフィルタの配列については特に制限はない。例えば、ドット配列、ストライプ配列、モザイク配列、デルタ配列等のいずれであってもよい。
【００７２】
ブラックマトリクス１２は、パターン形成後にＦ原子を含むガス（ＣＦ4等）でプラズマ処理され、その表面が撥インク化処理されるのが好ましい。ブラックマトリクス１２の撥インク化処理は、上記プラズマ処理以外に、ブラックマトリクス材料中に撥インク剤を含有させてもよいし、ブラックマトリクスを、ガラス基板１１に対して撥インク性を示す材料から形成してもよい。
【００７３】
次に、所望により撥インク化処理したブラックマトリクス１２で隔てられた微細領域ａへ、カラーフィルタ用インク液１３’によって１回目のインク吐出を行い（図１（ｂ））、これを乾燥、及び必要に応じて露光、偏光露光等の処理を施して、カラーフィルタの一部領域１３が形成される（図１（ｃ））。
【００７４】
このようにして形成されたカラーフィルタの一部領域１３の上に、所定の光学異方性を発現する溶液等の流体１４’を、インクジェット装置を用いて吐出して、微細領域ａ内に前記流体からなる層を形成する（図１（ｄ））。前記流体は、少なくとも一種の液晶性化合物を含有していることが好ましく、乾燥後に液晶相を形成するように調製されたものが好ましい。インクジェットにより吐出可能であればよく、液晶性化合物等の材料の一部又は全部が分散した分散液を用いてもよいが、溶液であるのが好ましい。前記溶液の吐出が完了した後、該溶液の層の乾燥を行い液晶相を形成し、露光することによって光学異方性層の一部領域１４を形成する（図１（ｅ））。液晶相を形成するために、必要に応じて加熱してもよく、その場合は、加熱装置を使用してもよい。
【００７５】
カラーフィルタの一部領域１３及び光学異方性層の一部領域１４を形成する際のインク等の射出条件については特に制限されないが、光学異方性層形成用の流体やカラーフィルタ層形成用のインクの粘度が高い場合は、室温あるいは加熱下（例えば、２０〜７０℃）において、インク粘度を下げて射出することが射出安定性の点で好ましい。インク等の粘度変動は、そのまま液滴サイズ、液滴射出速度に大きく影響を与え、画質劣化を起こすため、インク等の温度を出来るだけ一定に保つことが好ましい。
【００７６】
液晶表示装置用基板の製造方法に用いられるインクジェットヘッド（以下、単にヘッドともいう）は、特に制限されず、公知の種々のものを使用することができる。コンティニアスタイプ、ドットオンデマンドタイプが使用可能である。ドットオンデマンドタイプのうち、サーマルヘッドでは、吐出のため、特開平９−３２３４２０号公報に記載されているような稼動弁を持つタイプが好ましい。ピエゾヘッドでは、例えば、欧州特許Ａ２７７，７０３号、欧州特許Ａ２７８，５９０号などに記載されているヘッドを使うことができる。ヘッドは組成物の温度が管理できるよう温調機能を持つものが好ましい。射出時の粘度は５〜２５ｍＰａ・ｓとなるよう射出温度を設定し、粘度の変動幅が±５％以内になるよう組成物温度を制御することが好ましい。また、駆動周波数としては、１〜５００ｋＨｚで稼動することが好ましい。
【００７７】
光学異方性層中の各領域１４は、互いに同一種の溶液等の流体を用いて形成されていてもよいし、例えばカラーフィルタ層１３の色相に応じて、それぞれ最適な光学異方性を発現するように、互いに異なる材料を含む及び／又は配合量が互いに異なる溶液等の流体を用いて形成されていてもよい。光学異方性層の一部領域１４の形成時において、カラーフィルタ層の色相に応じて異なる溶液等を用いる場合は、それぞれの溶液を全て吐出した後、同時に乾燥を行ってもよいし、１種ずつ吐出及び乾燥のプロセスを行ってもよい。また、カラーフィルタ層の一部領域１３の形成時においても、例えば、Ｒ層、Ｇ層、及びＢ層それぞれの形成用のインク液を全て吐出した後、同時に乾燥を行ってもよいし、１種ずつ吐出及び乾燥のプロセスを行ってもよい。また、カラーフィルタの色も、赤、緑、青の３色に限定される必要はなく、多原色のカラーフィルタであってもよい。
【００７８】
このようにして、基板の各画素に相当する、ブラックマトリックス１２で隔てられた領域毎に、例えばＲ、Ｇ、及びＢのインク液をそれぞれ吐出及び乾燥させ、その上にさらに所定の光学異方性を発現するように調製された流体をそれぞれ吐出及び乾燥させて、各領域内にカラーフィルタパターン及び光学異方性層パターンからなるパターン層を形成することができる。そして、複数のカラーフィルタパターン及び隔壁の一部によってカラーフィルタ層が形成され、複数の光学異方性層パターン及び隔壁の一部によって光学異方性層が形成される。光学異方性層の上には、透明電極層及び／又は配向層を形成してもよい。例えば、特開平１１−２４８９２１号公報、特許３２５５１０７号公報に記載のように、カラーフィルタを形成する着色樹脂組成物を重ねることで土台を形成し、その上に透明電極を形成し、更に必要に応じて分割配向用の突起を重ねることでスペーサを形成することが、コストダウンの観点で好ましい。
【００７９】
上記のように作製される液晶装置用基板と、対向基板としてもう一つの液晶表示装置用基板を用意して、これらを貼り合わせる。さらにこれらの対向面間の空壁に、液晶材料を注入して液晶層を形成して、液晶セルを作製することができる。第一の基板は、前記光学異方性層とカラーフィルタ層が形成された面を内側にして、即ち、対向面にして、配置することが好ましい。その後、双方の基板の外側表面に、それぞれ偏光板、光学補償フィルム等を貼り付けて、液晶表示装置を作製することができる。
【００８０】
本発明の液晶装置用基板をインクジェット方式で製造することにより、構造を複雑化することなく、少ない工程数で製造することができる。すなわち、カラーフィルタ層形成用のインク液および光学異方性層形成用の流体、及びを所定の位置に配置するにあたって、隔壁であるブラックマトリクスをまず形成しているので、第一の基板上の所定の領域に正確に光学異方性層及びカラーフィルタ層を形成することができる。
【００８１】
なお、本発明の方法では、インクジェット法によるインク吐出を利用して、各微細領域に光学異方性層及びカラーフィルタ層を形成する例を説明したが、本発明の液晶表示装置はかかる方法により作製された態様に限定されず、光学異方性層及び／又はカラーフィルタ層の作製方法がインクジェット法以外の、例えば印刷法等を利用して形成された態様についても、勿論本発明に含まれる。
【００８２】
図２に、本発明の液晶表示装置に利用可能な基板の一例の概略断面図をしめす。
図２（ａ）に示す液晶セル用基板は、透明基板２１上に、隔壁としてブラックマトリクス２２が形成され、隔壁で隔てられた微細領域内にインクジェット方式により吐出して形成された、パターン状のカラーフィルタ層２３及び光学異方性層２７が形成されている。さらにその上に透明電極層２５と配向層２６とを有する。図２には、Ｒ、Ｇ、Ｂのカラーフィルタ層２３を形成した態様を示したが、最近よくみられる様に、Ｒ、Ｇ、Ｂ、Ｗ（白）の層からなるカラーフィルタ層を形成してもよい。第１の光学異方性層２７はｒ、ｇ、ｂ領域に分割され、Ｒ、Ｇ、Ｂそれぞれのフィルタ層２３の色相に対して、それぞれ最適な位相差特性を有している。
【００８３】
さらに、図２（ｂ）のように光学異方性層を第２の光学異方性層２４とパターニングされた光学異方性層２７の二つに分割してもよい。二つに分割する場合、ベタの光学異方性層２４をパターニングされた光学異方性層２７と同じカラーフィルタ側基板側に形成してもよいし、図は省略するが対向基板側に形成してもよい。対向基板側には一般にＴＦＴアレイなどの駆動用電極が配置されていることが多く、対向基板上であればどの位置に形成されてもよいが、ＴＦＴを有するアクティブ駆動型の場合、光学異方性層の耐熱性からシリコン層よりも上であることが好ましい。
【００８４】
［液晶表示装置］
図３は本発明の液晶表示装置の一例の概略断面図である。
図３（ａ）及び（ｂ）の例はそれぞれ、図２（ａ）及び（ｂ）の基板を上側基板として用い、ＴＦＴ３２付の透明電極層２５及びその上に配向層２６を有するガラス基板２１を対向基板として配置し、その間に液晶３１を挟んだ液晶セル３７を有する液晶表示装置である。液晶セル３７の両側には、セルロースアセテート（ＴＡＣ）フィルム等からなる保護層３４及び３５に挟まれた偏光層３３からなる偏光板３６が配置されている。液晶セル側の保護層３５は光学補償シートとしての光学特性を満足するＴＡＣフィルム等の高分子フィルムであってもよいし、保護層３４と同一の高分子フィルムからなっていてもよい。図には示さないが、反射型液晶表示装置の態様では偏光板は観察側に１枚配置したのみでよく、液晶セルの背面あるいは液晶セルの下側基板の内面に反射膜を設置する。もちろんフロントライトを液晶セル観察側に設けることも可能である。さらに、表示装置の１画素内に、透過部と反射部を設けた半透過型も可能である。本液晶表示装置の表示モードは特に制限がなく、全ての透過型及び反射型液晶表示装置に用いることが可能である。中でも色視野角特性改良が望まれるＶＡモードに対して、本発明は効果を発揮する。
【００８５】
以下、本態様について、作製に用いられる材料、作製方法等について、詳細に説明するが、本発明はこの態様に限定されるものではない。また、他の態様についても、以下の記載及び従来公知の方法を参考にして作製できる。
【００８６】
［基板］
液晶表示装置において、カラーフィルタ層及び光学異方性層が設けられる基板については特に制限されず、従来液晶セルの基板として用いられている種々の材料からなる基板を用いることができる。例えば、金属性支持体、金属張り合わせ支持体、ガラス、セラミック、合成樹脂フィルム等を使用することができる。特に好ましくは、透明性で寸度安定性の良好なガラスや合成樹脂フィルムが挙げられる。
【００８７】
［光学異方性層］
本発明のカラーフィルタ作製用組成物から形成したカラーフィルタ層上に設けられる光学異方性層（本明細書において第一の光学異方性層と呼ぶ場合がある）は、少なくとも一種の液晶性化合物を含有する組成物を、液晶相とした後、紫外線を照射することで硬化させて形成された光学異方性層であることが望ましい。また、紫外線照射によって硬化するために、前記組成物は、ラジカル重合開始剤及び／又はカチオン重合開始剤を含有しているのが好ましい。前記重合開始剤に対して反応性を有する重合性基を含む化合物は、それ自体が液晶性を有しているか、もしくは添加時に光学異方性層を形成する液晶性化合物の液晶性を損なわないもの、及び損なわない添加量であることが好ましい。添加量としては、塗布液の固形分の０．１〜５０質量％であることが好ましく、１．０〜３０質量％であることがさらに好ましい。
【００８８】
前記光学異方性層は、上記のように、液晶セルの視野角を補償する光学異方性層として機能する。光学異方性層単独で充分な視野角補償能を有する態様はもちろん、他の層との組み合わせで視野角補償に必要とされる光学特性を満足する態様であってもよい。なお、第一の光学異方性層の複屈折性は特に限定されないが、Ａ−プレートの光学異方性層として機能することが好ましい。
【００８９】
一般的に、液晶性化合物はその形状から、棒状タイプと円盤状タイプに分類できる。さらにそれぞれ低分子と高分子タイプがある。高分子とは一般に重合度が１００以上のものを指す（高分子物理・相転移ダイナミクス，土井  正男  著，２頁，岩波書店，１９９２）。本態様では、いずれの液晶性化合物を用いることもできるが、棒状液晶性化合物又は円盤状液晶性化合物を用いるのが好ましい。２種以上の棒状液晶性化合物、２種以上の円盤状液晶性化合物、又は棒状液晶性化合物と円盤状液晶性化合物との混合物を用いてもよい。温度変化や湿度変化を小さくできることから、反応性基を有する棒状液晶性化合物又は円盤状液晶性化合物を用いて形成するのがより好ましく、混合物の場合少なくとも１つは１液晶分子中の反応性基が２以上あることがさらに好ましい。液晶性化合物は二種類以上の混合物でもよく、その場合少なくとも１つが２以上の反応性基を有していることが好ましい。前記光学異方性層の厚さは、０．１〜２０μｍであることが好ましく、０．５〜１０μｍであることがより好ましく、１〜４μｍであることがさらに好ましい。
【００９０】
棒状液晶性化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類及びアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。以上のような低分子液晶性化合物だけではなく、高分子液晶性化合物も用いることができる。上記高分子液晶性化合物は、低分子の反応性基を有する棒状液晶性化合物が重合した高分子化合物である。特に好ましく用いられる上記低分子の反応性基を有する棒状液晶性化合物としては、下記一般式（Ｉ）で表される棒状液晶性化合物である。
【００９１】
一般式（Ｉ）：Ｑ1−Ｌ1−Ａ1−Ｌ3−Ｍ−Ｌ4−Ａ2−Ｌ2−Ｑ2
式中、Ｑ1及びＱ2はそれぞれ独立に、反応性基であり、Ｌ1、Ｌ2、Ｌ3及びＬ4はそれぞれ独立に、単結合又は二価の連結基を表すが、Ｌ3及びＬ4の少なくとも一方は、−Ｏ−又はＯ−ＣＯ−Ｏ−が好ましい。Ａ1及びＡ2はそれぞれ独立に、炭素原子数２〜２０のスペーサ基を表す。Ｍはメソゲン基を表す。
【００９２】
以下に、上記一般式（Ｉ）で表される反応性基を有する棒状液晶性化合物についてさらに詳細に説明する。式中、Ｑ1及びＱ2は、それぞれ独立に、反応性基である。反応性基の重合反応は、付加重合（開環重合を含む）又は縮合重合であることが好ましい。換言すれば、反応性基は付加重合反応又は縮合重合反応が可能な反応性基であることが好ましい。以下に反応性基の例を示す。
【００９３】
【化６】
2010044276.tif 000008
【００９４】
Ｌ1、Ｌ2、Ｌ3及びＬ4で表される二価の連結基としては、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＮＲ2−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ2−、−ＮＲ2−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−ＮＲ2−、−ＮＲ2−ＣＯ−Ｏ−、及びＮＲ2−ＣＯ−ＮＲ2−からなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。上記Ｒ2は炭素原子数が１〜７のアルキル基又は水素原子である。この場合、Ｌ3及びＬ4の少なくとも一方は、−Ｏ−又はＯ−ＣＯ−Ｏ−（カーボネート基）であることが好ましい。前記式（Ｉ）中、Ｑ1−Ｌ1及びＱ2−Ｌ2−は、ＣＨ2＝ＣＨ−ＣＯ−Ｏ−、ＣＨ2＝Ｃ（ＣＨ3）−ＣＯ−Ｏ−及びＣＨ2＝Ｃ（Ｃｌ）−ＣＯ−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−が好ましく、ＣＨ2＝ＣＨ−ＣＯ−Ｏ−が最も好ましい。
【００９５】
Ａ1及びＡ2は、炭素原子数２〜２０を有するスペーサ基を表す。炭素原子数２〜１２の脂肪族基が好ましく、特にアルキレン基が好ましい。スペーサ基は鎖状であることが好ましく、隣接していない酸素原子又は硫黄原子を含んでいてもよい。また、前記スペーサ基は、置換基を有していてもよく、ハロゲン原子（フッ素、塩素、臭素）、シアノ基、メチル基、エチル基が置換していてもよい。
【００９６】
Ｍで表されるメソゲン基としては、すべての公知のメソゲン基が挙げられる。特に下記一般式（ＩＩ）で表される基が好ましい。
一般式（ＩＩ）：−（−Ｗ1−Ｌ5）ｎ−Ｗ2−
式中、Ｗ1及びＷ2は各々独立して、二価の環状脂肪族基、二価の芳香族基又は二価のヘテロ環基を表し、Ｌ5は単結合又は連結基を表し、連結基の具体例としては、前記式（Ｉ）中、Ｌ1〜Ｌ4で表される基の具体例、−ＣＨ2−Ｏ−、及びＯ−ＣＨ2−が挙げられる。ｎは１、２又は３を表す。
【００９７】
Ｗ1及びＷ2としては、１，４−シクロヘキサンジイル、１，４−フェニレン、ピリミジン−２，５−ジイル、ピリジン−２，５ジイル、１，３，４−チアジアゾール−２，５−ジイル、１，３，４−オキサジアゾール−２，５−ジイル、ナフタレン−２，６−ジイル、ナフタレン−１，５−ジイル、チオフェン−２，５−ジイル、ピリダジン−３，６−ジイルが挙げられる。１，４−シクロヘキサンジイルの場合、トランス体及びシス体の構造異性体があるが、どちらの異性体であってもよく、任意の割合の混合物でもよい。トランス体であることがより好ましい。Ｗ1及びＷ2は、それぞれ置換基を有していてもよい。置換基としては、ハロゲン原子（フッ素、塩素、臭素、ヨウ素）、シアノ基、炭素原子数１〜１０のアルキル基（メチル基、エチル基、プロピル基など）、炭素原子数１〜１０のアルコキシ基（メトキシ基、エトキシ基など）、炭素原子数１〜１０のアシル基（ホルミル基、アセチル基など）、炭素原子数１〜１０のアルコキシカルボニル基（メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基など）、炭素原子数１〜１０のアシルオキシ基（アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基など）、ニトロ基、トリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基などが挙げられる。
【００９８】
前記一般式（ＩＩ）で表されるメソゲン基の基本骨格で好ましいものを、以下に例示する。これらに上記置換基が置換していてもよい。
【００９９】
【化７】
2010044276.tif 000009
【０１００】
以下に、前記一般式（Ｉ）で表される化合物の例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、一般式（Ｉ）で表される化合物は、特表平１１−５１３０１９号公報に記載の方法で合成することができる。
【０１０１】
【化８】
2010044276.tif 000010
【０１０２】
【化９】
2010044276.tif 000011
【０１０３】
【化１０】
2010044276.tif 000012
【０１０４】
【化１１】
2010044276.tif 000013
【０１０５】
前記光学異方性層は、液晶性化合物を含有する流体（例えば液晶性化合物の溶液）を、ブラックマトリクスによって隔てられた領域内にインクジェット方式で塗布し、所望の液晶相を示す配向状態とした後、該配向状態を熱又は電離放射線の照射により固定することで作製された層であるのが好ましい。
【０１０６】
液晶性化合物として、反応性基を有する棒状液晶性化合物を用いる場合、水平配向、傾斜配向、ハイブリッド配向、及びねじれ配向のいずれの配向状態で固定されていてもよい。水平配向とは、本明細書では、水平面とのなす傾斜角が１０度未満の配向を意味するものとする。
【０１０７】
液晶性化合物からなる光学異方性層を２層以上積層する場合、液晶性化合物の組み合わせについては特に限定されず、全て円盤状液晶性化合物からなる層の積層体、全て棒状性液晶性化合物からなる層の積層体、円盤状液晶性化合物からなる層と棒状性液晶性化合物からなる層の積層体であってもよい。また、各層の配向状態の組み合わせも特に限定されず、同じ配向状態の光学異方性層を積層してもよいし、異なる配向状態の光学異方性層を積層してもよい。
【０１０８】
［Ａ−プレート］
上記のように第１の光学異方性層は正のＡプレートであることが好ましい。面内に光軸を有し、遅相軸の屈折率が厚さ方向の屈折率より大きい１軸性の複屈折層を正のＡプレートと呼ぶ。正のＡプレートは棒状液晶の水平配向によって実現できる。
【０１０９】
前記第１の光学異方性層は、液晶性化合物及び下記の重合開始剤や他の添加剤を含む塗布液を、インクジェット方式で塗布することで形成することが好ましい。塗布液の調製に使用する溶媒としては、有機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒の例には、アミド（例、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例、ピリジン）、炭化水素（例、ベンゼン、ヘキサン）、アルキルハライド（例、クロロホルム、ジクロロメタン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸ブチル）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン）、エーテル（例、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）が含まれる。アルキルハライド及びケトンが好ましい。二種類以上の有機溶媒を併用してもよい。
【０１１０】
［液晶性組成物の配向状態の固定化］
配向させた液晶性組成物は、配向状態を維持して固定する。固定化は、液晶性組成物に導入した反応性基の重合反応により実施することが好ましい。重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる光重合反応とが含まれるが、光重合反応がより好ましい。光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物（米国特許第２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許第２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許第２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許第３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許第３５４９３６７号明細書記載）、アクリジン及びフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許第４２３９８５０号明細書記載）及びオキサジアゾール化合物（米国特許第４２１２９７０号明細書記載）が含まれる。
【０１１１】
光重合開始剤の使用量は、塗布液の固形分の０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．５〜５質量％であることがさらに好ましい。液晶性化合物の重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましい。照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ2〜１０Ｊ／ｃｍ2であることが好ましく、１００〜８００ｍＪ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。光重合反応を促進するため、窒素雰囲気下あるいは加熱条件下で光照射を実施してもよい。
【０１１２】
なお、前記第１の光学異方性層の光学特性は、Ｒ光、Ｇ光及びＢ光が入射した際の視野角補償に最適な光学特性にそれぞれ調整されているのが好ましい。即ち、カラーフィルタ層を赤色に着色し、カラーフィルタのＲ層形成用とする場合は、光学異方性層の光学特性はＲ光が入射した際の視野角補償に対して最適に調整され、緑色に着色した場合は、光学異方性層の光学特性はＧ光が入射した際の視野角補償に対して最適に調整され、かつ青色に着色した場合は、光学異方性層の光学特性はＢ光が入射した際の視野角補償に対して最適に調整されているのが好ましい。光学異方性層の光学特性は、例えば、液晶性化合物の種類や配向制御剤の種類又は添加量、配向膜の種類や配向膜のラビング処理条件、膜厚、又は偏光照射条件等によって好ましい範囲に調整することができる。
【０１１３】
［水平配向制御剤］
前記光学異方性層の形成用組成物中に、特開２００７−１２１９８６号公報の［００６８］〜［００７２］に記載の一般式（１）〜（３）で表される化合物および下記一般式（４）のモノマーを用いた含フッ素ホモポリマーまたはコポリマーの少なくとも一種を含有させることで、液晶性化合物の分子を実質的に水平配向させることができる。
【０１１４】
【化１２】
2010044276.tif 000014
【０１１５】
式中、Ｒは水素原子またはメチル基を表し、Ｘは酸素原子、硫黄原子を表し、Ｚは水素原子またはフッ素原子を表し、ｍは１以上６以下の整数、ｎは１以上１２以下の整数を表す。一般式（４）を含む含フッ素ポリマー以外にも、塗布におけるムラ改良ポリマーとして特開２００５−２０６６３８および特開２００６−９１２０５に記載の化合物を水平配向剤として用いることができ、それら化合物の合成法も該明細書に記載されている。
水平配向剤の添加量としては、液晶性化合物の質量の０．０１〜２０質量％が好ましく、０．０１〜１０質量％がより好ましく、０．０２〜１質量％が特に好ましい。なお、前記一般式（１）〜（４）にて表される化合物は、単独で用いてもよいし、二種以上を併用してもよい。
【０１１６】
［第２の光学異方性層］
液晶表示装置は、本発明の組成物から形成したカラーフィルタ層上の第１の光学異方性層以外に、第２の光学異方性層を、セル内又はセル外に有していてもよい。第１の光学異方性層がパターン化された光学異方性層である場合は第２の光学異方性層がパターン化されていない光学異方性層であることも好ましい。例えば各種波長板や液晶層の複屈折による着色や視角等の補償を目的としたものなどを使用することができ、また使用目的に応じた適宜な光学異方性を有する２種以上の光学異方性膜を積層して位相差等の光学特性を制御することができる。このような光学異方性膜としては、ポリカーボネート、ノルボルネン系樹脂、ポリビニルアルコール、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリプロピレンやその他のポリオレフィン、ポリアリレート、ポリアミドの如き適宜なポリマーからなるフィルムを延伸処理してなる複屈折性フィルムや液晶ポリマーなどの液晶化合物からなる配向フィルム、液晶材料の配向層をフィルムにて支持したものなどがあげられる。他に二軸延伸処理や直交する二方向に延伸処理等された複屈折を有するフィルム、傾斜配向フィルムのような二方向延伸フィルムなどが用いられる。傾斜配向フィルムとしては、例えばポリマーフィルムに熱収縮フィルムを接着して加熱によるその収縮力の作用下にポリマーフィルムを延伸処理又は／及び収縮処理したものや、液晶ポリマーを斜め配向させたものなどが挙げられる。
【０１１７】
前記第２の光学異方性層領域は、前記光学特性を有する限り、基本的にその材料及び形態については特に制限されない。例えば、複屈折ポリマーフィルムからなる位相差膜、透明支持体上に高分子化合物を塗布後に加熱塩した膜、及び透明支持体上に低分子あるいは高分子液晶性化合物を塗布もしくは転写することによって形成された位相差層を有する位相差膜など、いずれも使用することができる。また、それぞれを積層して使用することもできる。
【０１１８】
複屈折ポリマーフィルムとしては、複屈折特性の制御性や透明性、耐熱性に優れるものが好ましい。この場合、用いる高分子材料としては均一な二軸配向が達成できる高分子であれば特に制限はないが、従来公知のもので溶液流延法や押出し成形方式で製膜できるもの好ましく、ノルボルネン系高分子、ポリカーボネート系高分子、ポリアリレート系高分子、ポリエステル系高分子、ポリサルフォン等の芳香族系高分子、セルロースアシレート、又は、それらポリマーの２種又は３種以上を混合したポリマーなどがあげられる。
【０１１９】
フィルムの二軸配向は、押出し成形方式や流延製膜方式等の適宜な方式で製造した当該熱可塑性樹脂からなるフィルムを、例えばロールによる縦延伸方式、テンターによる横延伸方式や二軸延伸方式などにより、延伸処理することにより得られる。前記のロールによる縦延伸方式では加熱ロールを用いる方法や雰囲気を加熱する方法、それらを併用する方法等の適宜な加熱方法を採ることができる。またテンターによる二軸延伸方式では全テンター方式による同時二軸延伸方法や、ロール・テンター法による逐次二軸延伸方法などの適宜な方法を採ることができる。
また、配向ムラや位相差ムラの少ないものが好ましい。その厚さは、位相差等により適宜に決定しうるが、一般には薄型化の点より１〜３００μｍが好ましく、１０〜２００μｍがより好ましく、特に２０〜１５０μｍが好ましい。
【０１２０】
透明樹脂をシート又はフィルム状に成形する方法は、例えば、加熱溶融成形法、溶液流延法のいずれも用いることができる。加熱溶融成形法は、さらに詳細に、押出成形法、プレス成形法、インフレーション成形法、射出成形法、ブロー成形法、延伸成形法などに分類できるが、これらの方法の中でも、機械的強度、表面精度等に優れたフィルムを得るためには、押出成形法、インフレーション成形法、及びプレス成形法が好ましく、押出成形法が最も好ましい。成形条件は、使用目的や成形方法により適宜選択されるが、加熱溶融成形法による場合は、シリンダー温度が、好ましくは１００〜４００℃、より好ましくは１５０〜３５０℃の範囲で適宜設定される。上記シート又はフィルムの厚みは、好ましくは１０〜３００μｍ、より好ましくは３０〜２００μｍである。
【０１２１】
上記シート又はフィルムは延伸処理を施されてもよい。上記シート又はフィルムの延伸は、該透明樹脂のガラス転移温度をＴｇとするとき、好ましくはＴｇ−３０℃からＴｇ＋６０℃の温度範囲、より好ましくはＴｇ−１０℃からＴｇ＋５０℃の温度範囲にて、少なくとも一方向に好ましくは１．０１〜２倍の延伸倍率で行う。延伸方向は少なくとも一方向であればよいが、その方向は、シートが押出成形で得られたものである場合には、樹脂の機械的流れ方向（押出方向）であることが好ましく、延伸方法は自由収縮一軸延伸法、幅固定一軸延伸法、二軸延伸法などが好ましい。光学特性の制御はこの延伸倍率と加熱温度を制御することによって行なうことが出来る。
【０１２２】
［液晶表示装置］
前記パターン化された第１の光学異方性層及び所望によりパターン化されていない第２の光学異方性層を利用することにより、視野角が拡大された液晶表示装置を提供することができる。ＴＮモードの液晶セル用位相差板（光学補償シート）は、特開平６−２１４１１６号公報、米国特許第５５８３６７９号、同５６４６７０３号、ドイツ特許公報３９１１６２０Ａ１号の各明細書に記載がある。また、ＩＰＳモード又はＦＬＣモードの液晶セル用位相差板（光学補償シート）は、特開平１０−５４９８２号公報に記載がある。さらに、ＯＣＢモード又はＨＡＮモードの液晶セル用位相差板（光学補償シート）は、米国特許第５８０５２５３号明細書及び国際公開ＷＯ９６／３７８０４号パンフレットに記載がある。さらにまた、ＳＴＮモードの液晶セル用位相差板（光学補償シート）は、特開平９−２６５７２号公報に記載がある。そして、ＶＡモードの液晶セル用位相差板（光学補償シート）は、特許第２８６６３７２号公報に記載がある。
【０１２３】
本発明は、ＴＮ、ＩＰＳ、ＦＬＣ、ＯＣＢ、ＳＴＮ、ＶＡ及びＨＡＮモードのような様々な表示モードの液晶表示装置に用いることができる。中でも、ＶＡモードの液晶表示装置に適する。
【０１２４】
［ＶＡモード］
ＶＡモード液晶表示装置としては、視野角改善の点から、第１の光学異方性層として、可視光域においてＲｅが順分散の正のＡ−プレートを用い、且つ第２の光学異方性層として、負のＣ−プレートを用いるのが好ましい。なお、厚さ方向の屈折率が面内の屈折率よりも小さい１軸性の複屈折層を負のＣプレートと呼ぶ。
【実施例】
【０１２５】
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、物質量とその割合、操作等は本発明の趣旨から逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下の具体例に制限されるものではない。
【０１２６】
（実施例１）
（隔壁作製用黒色感光性組成物の製法）
黒色感光性組成物Ｋ１は、まず表１に記載の量のＫ顔料分散物１、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートをはかり取り、温度２４℃（±２℃）で混合して１５０ＲＰＭ、１０分間攪拌し、次いで、表１に記載の量のメチルエチルケトン、バインダ２、ハイドロキノンモノメチルエーテル、ＤＰＨＡ液、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−［４’−（Ｎ，Ｎ−ジエトキシカルボニルメチルアミノ）−３’−ブロモフェニル］−ｓ−トリアジン、界面活性剤１をはかり取り、温度２５℃（±２℃）でこの順に添加して、温度４０℃（±２℃）で１５０ＲＰＭ３０分間攪拌することによって得られる。なお、表１に記載の量は質量部であり、詳しくは以下の組成となっている。
【０１２７】
＜Ｋ顔料分散物１＞
・カーボンブラック（デグッサ社製  Ｎｉｐｅｘ３５）              １３．１％
・分散剤（下記化合物１）                                        ０．６５％
・ポリマー（ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７２／２８モル比のランダム共重合物、分子量３．７万）                                          ６．７２％
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート            ７９．５３％
【０１２８】
【化１３】
2010044276.tif 000015
【０１２９】
＜バインダ２＞
・ポリマー（ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７８／２２モル比のランダム共重合物、分子量３．８万）                                              ２７％
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート                  ７３％
＜ＤＰＨＡ液＞
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（重合禁止剤ＭＥＨＱ  ５００ｐｐｍ含有、日本化薬（株）製、商品名：ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ）            ７６％
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート                  ２４％
＜界面活性剤１＞
・下記構造物１                                                      ３０％
・メチルエチルケトン                                                ７０％
【０１３０】
【化１４】
2010044276.tif 000016
【０１３１】
【表１】
2010044276.tif 000017
【０１３２】
（遮光性隔壁の形成）
無アルカリガラス基板を、ＵＶ洗浄装置で洗浄後、洗浄剤を用いてブラシ洗浄し、更に超純水で超音波洗浄した。基板を１２０℃３分熱処理して表面状態を安定化させた。
基板を冷却し２３℃に温調後、スリット状ノズルを有するガラス基板用コーター（エフ・エー・エス・アジア社製、商品名：ＭＨ−１６００）にて、上記表１に記載の組成よりなる黒色感光性組成物Ｋ１を塗布した。引き続きＶＣＤ（真空乾燥装置、東京応化工業（株）製）で３０秒間、溶媒の一部を乾燥して塗布層の流動性を無くした後、１２０℃３分間プリベークして膜厚１０μｍの黒色感光層Ｋ１を得た。
【０１３３】
超高圧水銀灯を有するプロキシミティー型露光機（日立ハイテク電子エンジニアリング株式会社製）で、基板とマスク（画像パターンを有す石英露光マスク）を垂直に立てた状態で、露光マスク面と黒色感光層Ｋ１の間の距離を２００μｍに設定し、窒素雰囲気下、露光量３００ｍＪ／ｃｍ2でパターン露光した。
【０１３４】
次に、純水をシャワーノズルにて噴霧して、黒色感光層Ｋ１の表面を均一に湿らせた後、ＫＯＨ系現像液（ＫＯＨ、ノニオン界面活性剤含有、商品名：ＣＤＫ−１、富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製）にて２３℃８０秒、フラットノズル圧力０．０４ＭＰａでシャワー現像しパターニング画像を得た。引き続き、超純水を、超高圧洗浄ノズルにて９．８ＭＰａの圧力で噴射して残渣除去を行い、大気下にて露光量２０００ｍＪ／ｃｍ２にてポスト露光を行って光学濃度３．９の黒色隔壁を得た。ガラス基板表面には、この黒色隔壁により隔てられた微細領域が形成された。
【０１３５】
カラーフィルタ用組成物
表２にそれぞれの各ＲＧＢ画素用組成物の組成を示す。
【０１３６】
【表２】
2010044276.tif 000018
【０１３７】
表２中の組成物の組成は以下の通りである。
［Ｒ顔料分散物−１組成］
──────────────────────────────────――――――
Ｒ顔料分散物−１組成（％）
──────────────────────────────────――――――
Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド２５４                                ８．０
５−［３−オキソ−２−［４−［３，５−ビス（３−ジエチルアミノプロピルアミノカル
ボニル）フェニル］アミノカルボニル］フェニルアゾ］−ブチロイルアミノベンズイミダゾロン                                                          ０．８
ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７２／２８モル比のランダム共重合物、（重量平均分子量３．７万）                                            ４．０
上記化合物P-2                                                   ４．０
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート              ８３．２
────────────────────────────────────────
【０１３８】
［Ｒ顔料分散物−２組成］
──────────────────────────────────――
Ｒ顔料分散物−２組成（％）
──────────────────────────────────――
Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１７７                            １８．０
ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７２／２８モル比のランダム共重合物、
（重量平均分子量３．７万）                                    ６．０
上記化合物P-2                                                 ６．０
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート            ７０．０
──────────────────────────────────――
【０１３９】
［Ｇ顔料分散物組成］
──────────────────────────────────――
Ｇ顔料分散物組成（％）
──────────────────────────────────――
Ｃ．Ｉ．ピグメント・グリーン３６                            １８．０
ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７２／２８モル比のランダム共重合物、
（重量平均分子量３．７万）                                    ４．０
上記化合物P-2                                                 ８．０
シクロヘキサノン                                            ３５．０
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート            ３５．０
──────────────────────────────────――
【０１４０】
［バインダ１組成］
──────────────────────────────────――
バインダ１組成（％）
──────────────────────────────────――
ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７８／２２モル比のランダム共重合物
（重量平均分子量４万）                                        ２７．０
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート              ７３．０
──────────────────────────────────――
【０１４１】
［バインダ２組成］
──────────────────────────────────――
バインダ２組成（％）
──────────────────────────────────――
ベンジルメタクリレート／メタクリル酸／メチルメタクリレート＝
３８／２５／３７モル比のランダム共重合物（重量平均分子量３万）２７．０
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート              ７３．０
──────────────────────────────────――
【０１４２】
［バインダ３組成］
──────────────────────────────────――
バインダ３組成（％）
──────────────────────────────────――
ベンジルメタクリレート／メタクリル酸／メチルメタクリレート＝
３６／２２／４２モル比のランダム共重合物（重量平均分子量３万）    ４．０
上記化合物P-2                                                   ２３．０
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート                ７３．０
──────────────────────────────────――
【０１４３】
［ＤＰＨＡ組成］
──────────────────────────────────――
ＤＰＨＡ溶液組成（％）
──────────────────────────────────――
ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ（日本化薬（株）製）                  ７６．０
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート              ２４．０
──────────────────────────────────――
【０１４４】
（Ｒ層形成用液ＰＰ−Ｒ１の調製）
Ｒ層形成用液ＰＰ−Ｒ１は、まず表２に記載の量のＲ顔料分散物１、Ｒ顔料分散物２、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートをはかり取り、温度２４℃（±２℃）で混合して１５０ｒｐｍで１０分間攪拌し、次いで、表２に記載の量のメチルエチルケトン、バインダ２、ＤＰＨＡ溶液、２−トリクロロメチル−５−（ｐ−スチリルメチル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−［４−（Ｎ，Ｎ−ジエトキシカルボニルメチル）−３−ブロモフェニル］−ｓ−トリアジン、フェノチアジンをはかり取り、温度２４℃（±２℃）でこの順に添加して１５０ｒｐｍ１０分間攪拌し、次いで、表２に記載の量のＥＤ１５２をはかり取り、温度２４℃（±２℃）で混合して１５０ｒｐｍ２０分間攪拌し、更に、表２に記載の量のメガファックＦ−１７６ＰＦをはかり取り、温度２４℃（±２℃）で添加して３０ｒｐｍ３０分間攪拌し、ナイロンメッシュ＃２００で濾過することによって得られた。
【０１４５】
（Ｇ層形成用液ＰＰ−Ｇ１の調製）
Ｇ層形成用液ＰＰ−Ｇ１は、まず表２に記載の量のＧ顔料分散物、ＣＦイエローＥＸ３３９３、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートをはかり取り、温度２４℃（±２℃）で混合して１５０ｒｐｍ１０分間攪拌し、次いで、表２に記載の量のメチルエチルケトン、シクロヘキサノン、バインダ１、ＤＰＨＡ溶液、２−トリクロロメチル−５−（ｐ−スチリルメチル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−［４−（Ｎ，Ｎ−ジエトキシカルボニルメチル）−３−ブロモフェニル］−ｓ−トリアジン、フェノチアジンをはかり取り、温度２４℃（±２℃）でこの順に添加して１５０ｒｐｍ３０分間攪拌し、更に、表２に記載の量のメガファックＦ−１７６ＰＦをはかり取り、温度２４℃（±２℃）で添加して３０ｒｐｍ５分間攪拌し、ナイロンメッシュ＃２００で濾過することによって得られた。
【０１４６】
（Ｂ層形成用液ＰＰ−Ｂ１の調製）
Ｂ層形成用液ＰＰ−Ｂ１は、まず表２に記載の量のＣＦブルーＥＸ３３５７、ＣＦブルーＥＸ３３８３、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートをはかり取り、温度２４℃（±２℃）で混合して１５０ｒｐｍ１０分間攪拌し、次いで、表２に記載の量のメチルエチルケトン、バインダ３、ＤＰＨＡ溶液、２−トリクロロメチル−５−（ｐ−スチリルメチル）−１，３，４−オキサジアゾール、フェノチアジンをはかり取り、温度２５℃（±２℃）でこの順に添加して、温度４０℃（±２℃）で１５０ｒｐｍ３０分間攪拌し、更に、表２に記載の量のメガファックＦ−１７６ＰＦをはかり取り、温度２４℃（±２℃）で添加して３０ｒｐｍ５分間攪拌し、ナイロンメッシュ＃２００で濾過することによって得られた。
【０１４７】
（光学異方性層用塗布液の調製）
下記の組成物を調製後、孔径０．２μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、光学異方性層用塗布液として用いた。
ＬＣ−１−１はＴｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ  Ｌｅｔｔ．誌、第４３巻、６７９３頁（２００２）に記載の方法準じて合成した。
──────────────────────────────────――
光学異方性層用塗布液組成（％）
──────────────────────────────────――
・重合性液晶  例示化合物Ｉ−２                            ２０．０質量％
・１．４−ブタンジオールジアセテート                    ７９．２８質量％
・下記構造式で表される水平配向剤（ＬＣ−１−１）          ０．０２質量％
・Ｉｒｇ−９０７（チバスペシャリティーケミカルズ社製）      ０．５質量％
・ＤＥＴＸ（日本化薬社製）                                  ０．２質量％
──────────────────────────────────――
【０１４８】
【化１５】
2010044276.tif 000019
【０１４９】
（カラーフィルタ層の作製）
上記で得られたＲ、Ｇ及びＢ層形成用液である、ＰＰ−Ｒ１、ＰＰ−Ｇ１及びＰＰ−Ｂ１を、ピエゾ方式のヘッドを用いて遮光性隔壁に囲まれた凹部に、下記のように打滴を行った。
ヘッドは２５．４ｍｍあたり１５０のノズル密度で、３１８ノズルを有しており、これを２個ノズル列方向にノズル間隔の１／２ずらして固定することにより、基板上にはノズル配列方向に２５．４ｍｍあたり３００滴打滴される。ヘッド及びインクは、ヘッド内に温水を循環させることにより吐出部分近辺が４０±０．５℃となるように制御されている。
【０１５０】
ヘッドからのインク吐出は、ヘッドに付与されるピエゾ駆動信号により制御され、一滴あたり６〜４２ｐｌの吐出が可能であって、本実施例ではヘッドの下１ｍｍの位置でガラス基板が搬送されながらヘッドより打滴される。搬送速度は５０〜２００ｍｍ／ｓの範囲で設定可能である。またピエゾ駆動周波数は最大４．６ＫＨｚまでが可能であって、これらの設定により打滴量を制御することができる。
【０１５１】
本実施例では、Ｒ、Ｇ、Ｂ各画素に対応する部分にＲ、Ｇ、Ｂそれぞれ、顔料の塗設量が、１．１、１．８、０．７５ｇ／ｍ2なるように、搬送速度、駆動周波数を制御し、所望するＲ、Ｇ、Ｂに対応する凹部に各Ｒ、Ｇ及びＢ層形成用液ＰＰ−Ｒ１、ＰＰ−Ｇ１及びＰＰ−Ｂ１を打滴した。
その後、１００℃にて乾燥させ、偏光照射を施し、さらに２００℃にて１時間熱処理を実施し、カラーフィルタ画素を形成した
【０１５２】
（光学異方性層の作製）
Ｒ用光学異方性層（光学異方性層パターン）Ｒ−2として、上記で得られた光学異方性層用塗布液をピエゾ方式のヘッドを用いて遮光性隔壁に囲まれたカラーフィルタ層の上に打滴し、９５℃２分間加熱乾燥熟成して均一な液晶相を有する層を形成した。さらに熟成後直ちにこの層に対して、ＵＶを照射（照度２００ｍＷ／ｃｍ2、照射量２００ｍＪ／ｃｍ2）して光学異方性層を固定化し、厚さ２．８μｍの光学異方性層を形成した。
同様にして、Ｇ用、Ｂ用光学異方性層（光学異方性層パターン）Ｇ−2、Ｂ−2を形成した。Ｇ−2、Ｂ−2の光学異方性層はそれぞれ２．７５μｍ、２．３μｍであった。
【０１５３】
（位相差測定）
ファイバ型分光計を用いた平行ニコル法により、任意の波長λにおける正面レターデーションＲｅ（０）及び遅相軸を回転軸として±４０度サンプルを傾斜させたときのレターデーションＲｅ（４０）、Ｒｅ（−４０）を測定した。Ｒ、Ｇ、Ｂに対してλはそれぞれ６１１ｎｍ、５４５ｎｍ、４３５ｎｍのレターデーションを測定した。本発明の光学異方性層の位相差は、あらかじめ測定した光学異方性層のない基板の透過率データで較正を行うことにより、光学異方性層の位相差のみを求めた。位相差測定結果を表３に示す。
【０１５４】
【表３】
2010044276.tif 000020
【０１５５】
（透明電極の形成）
上で作製したカラーフィルタ上に透明電極膜（膜厚２０００Å）をＩＴＯのスパッタリングにより形成した。
【０１５６】
（配向層の形成及び液晶セル形成）
更にその上にポリイミドの配向膜を設けた。次に粒子径５μｍのガラスビーズを散布した。さらにカラーフィルタの画素群の周囲に設けられたブラックマトリックスの外枠に相当する位置に、スペーサ粒子を含有するエポキシ樹脂のシール剤を印刷し、カラーフィルタ基板を対向基板と１０ｋｇ／ｃｍの圧力で貼り合わせた。次いで、貼り合わされたガラス基板を１５０℃、９０分で熱処理し、シール剤を硬化させ、２枚のガラス基板の積層体を得た。このガラス基板積層体を真空下で脱気し、その後大気圧に戻して２枚のガラス基板の間隙に液晶を注入し、液晶セルを得た。
この液晶セルの上側偏光板（観察者側）には、特開２００５−１７３５６７号公報に記載の方法に従い作製した負のＣ−プレート付き偏光板を用いた。下側偏光板（バックライト側）には、サンリッツ製の偏光板ＨＬＣ２−２５１８を貼り付けた。負のＣ−プレートのＲｅは０ｎｍ、Ｒｔｈは２００ｎｍであった。
【０１５７】
（ＶＡ−ＬＣＤの作製）
カラー液晶表示装置用冷陰極管バックライトとしては、ＢａＭｇ２Ａｌ１６Ｏ２７：Ｅｕ，Ｍｎと、ＬａＰＯ４：Ｃｅ，Ｔｂとを重量比５０：５０で混合した蛍光体を緑色（Ｇ）、Ｙ２Ｏ３：Ｅｕを赤色（Ｒ）、ＢａＭｇＡｌ１０Ｏ１７：Ｅｕを青色（Ｂ）として、任意の色調を持つ白色の三波長蛍光ランプを作製した。このバックライト上に上記偏光板を付与した液晶セルを設置しＶＡ−ＬＣＤを作製した。
【０１５８】
（比較例１のＶＡ−ＬＣＤの作製）
（配向層用塗布液ＡＬ−１の調製）
下記の組成物を調製し、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、配向層用塗布液ＡＬ−１として用いた。
──────────────────────────────────――
配向層用塗布液組成（％）
──────────────────────────────────――
ポリビニルアルコール（ＰＶＡ２０５、クラレ（株）製）            ３．２１
ポリビニルピロリドン（Ｌｕｖｉｔｅｃ  Ｋ３０、ＢＡＳＦ社製）    １．４８
蒸留水                                                        ５２．１
メタノール                                                    ４３．２１
──────────────────────────────────――
【０１５９】
実施例１における偏光照射工程の後、熱処理工程の前に、上記で得られた配向層用塗布液ＡＬ−１をピエゾ方式のヘッドを用いて、遮光性隔壁に囲まれたカラーフィルタ層の上部に打滴し、その後、ラビング処理した。それ以外は実施例１と同様にして、比較例１のVA-LCDを作製した。
【０１６０】
（ＶＡ−ＬＣＤの評価）
作製した液晶表示装置の視野角特性を視野角測定装置（ＥＺ  Ｃｏｎｔｒａｓｔ  １６０Ｄ、ＥＬＤＩＭ社製）で測定した。実施例及び比較例について目視で評価した結果を表４に示す。
【０１６１】
【表４】
2010044276.tif 000021
【図面の簡単な説明】
【０１６２】
【図１】液晶表示装置用基板の製造方法の流れの一例を示す概略模式図である。
【図２】液晶表示装置用基板の一例の概略断面図である。
【図３】液晶表示装置の一例の概略断面図である。
【符号の説明】
【０１６３】
１１  透明基板
１２  ブラックマトリックス（隔壁）
１３  カラーフィルタ層の一部領域
１４  光学異方性層の一部領域
２１  基板
２２  ブラックマトリクス（隔壁）
２３  カラーフィルタ層
２４  ベタ光学異方性層（第二の光学異方性層）
２５  透明電極層
２６  配向層
２７  パターニング光学異方性層（第一の光学異方性層）
３１  液晶
３２  ＴＦＴ
３３  偏光層
３４  セルロースアセテートフィルム（偏光板保護フィルム）
３５  セルロースアセテートフィルム、又は光学補償シート
３６  偏光板
３７  液晶セル
【図１】
2010044276.tif 000022
【図２】
2010044276.tif 000023
【図３】
2010044276.tif 000024