(57)【要約】【課題】第１部材と第２部材とを締結部材を用いて締結する際にこれらの間に介在された部材（すなわち絶縁フランジ）が破壊されるのを防止する。【解決手段】真空成膜装置１０の一部を構成する絶縁フランジ構造Ｆ１は、「第１部材」としての中間電極４８と「第２部材」としての第１筒状部２６とを絶縁性を確保しつつ接合するものであり、絶縁性を有し、中間電極４８と第１筒状部２６との間に配設された環状の絶縁フランジ５６と、絶縁フランジ５６よりも弾性が高く、かつ、靭性が高い材料によって形成され、中間電極４８および第１筒状部２６のそれぞれと絶縁フランジ５６との間に隙間Ｇを確保するようにしてこれらの間に配設された環状の弾性フランジ５８ａ，５８ｂと、中間電極４８と第１筒状部２６とを絶縁フランジ５６を介して締結するボルト６２とを備えている。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１部材と第２部材とを絶縁性を確保しつつ接合する絶縁フランジ構造において、
絶縁性を有し、前記第１部材と前記第２部材との間に配設された環状の絶縁フランジと、
前記絶縁フランジよりも弾性が高く、かつ、靭性が高い材料によって形成され、前記第１部材および前記第２部材のそれぞれと前記絶縁フランジとの間に隙間を確保するようにしてこれらの間に配設された環状の第１弾性フランジおよび第２弾性フランジと、
前記第１部材と前記第２部材とを前記絶縁フランジを介して締結する締結部材とを備えることを特徴とする、絶縁フランジ構造。
【請求項２】
前記第１部材および前記第２部材のそれぞれと前記絶縁フランジとの間における前記第１弾性フランジおよび前記第２弾性フランジよりも内側に配設され、前記隙間を封止する第１オーリングおよび第２オーリングをさらに備える、請求項１に記載の絶縁フランジ構造。
【請求項３】
前記第１部材または前記絶縁フランジの少なくとも一方には、前記第１弾性フランジが配設される第１凹部が形成されており、前記第２部材または前記絶縁フランジの少なくとも一方には、前記第２弾性フランジが配設される第２凹部が形成されている、請求項１または２に記載の絶縁フランジ構造。
【請求項４】
前記絶縁フランジは、前記第１弾性フランジおよび前記第２弾性フランジよりも耐熱性が高く、かつ、ガス放出量が小さい絶縁性材料によって形成されている、請求項１ないし３のいずれかに記載の絶縁フランジ構造。
【請求項５】
プラズマを発生させるための放電空間と、プラズマを用いてターゲットをスパッタリングすることにより基板の表面にターゲット粒子の膜を成膜するための成膜空間とを含む減圧空間を備え、
前記減圧空間の一部を構成する第１部材と前記減圧空間の他の一部を構成する第２部材とが請求項１ないし４のいずれかに記載の絶縁フランジ構造を用いて接合されている、真空成膜装置。
【請求項６】
前記第１部材は、前記放電空間において補助放電を維持する環状の中間電極であり、前記第２部材は、前記放電空間の一部を構成する筒状部である、請求項５に記載の真空成膜装置。
【請求項７】
前記第１部材および前記第２部材のそれぞれは、前記放電空間において補助放電を維持する環状の中間電極である、請求項５に記載の真空成膜装置。
【請求項８】
前記第１部材は、真空ポンプにより減圧される減圧室であり、前記第２部材は、前記放電空間の一部を構成する筒状部である、請求項５に記載の真空成膜装置。
【請求項９】
前記第１部材は、プラズマを回収するアノード電極であり、前記第２部材は、前記成膜空間に連通するプラズマ通路を構成する筒状部である、請求項５に記載の真空成膜装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、２つの部材を絶縁性を確保しつつ接合する絶縁フランジ構造、およびそのような絶縁フランジ構造を用いた真空成膜装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来の真空成膜装置の一例が、特許文献１に開示されている。この真空成膜装置は、図８に示すように、シートプラズマを成形するシートプラズマ成形室（１２）と、プラズマを輸送するための電界を発生させる中間電極（１５）と、ターゲットをスパッタリングするスパッタリング室（１６）とを有しており、中間電極（１５）とシートプラズマ成形室（１２）とが「第１絶縁フランジ構造Ａ」を介して接続されており、かつ、スパッタリング室（１６）と中間電極（１５）とが「第２絶縁フランジ構造Ｂ」を介して接続されている。
【０００３】
「第１絶縁フランジ構造Ａ」は、中間電極（１５）とシートプラズマ成形室（１２）とを絶縁性を確保しつつ接続するものであり、絶縁性を有し、かつ、中間電極（１５）とシートプラズマ成形室（１２）との間に配設された環状のＦＲＰスペーサ（３７）と、絶縁性を有し、かつ、中間電極（１５）とシートプラズマ成形室（１２）との間におけるＦＲＰスペーサ（３７）よりも内側に配設された甲丸リング（３５）と、中間電極（１５）とシートプラズマ成形室（１２）とをＦＲＰスペーサ（３７）を介して締結する捩子（３８）とを備えている。
【０００４】
一方、「第２絶縁フランジ構造」は、スパッタリング室（１６）と中間電極（１５）とを絶縁性を確保しつつ接続するものであり、絶縁性を有し、かつ、スパッタリング室（１６）と中間電極（１５）との間に配設された環状のＦＲＰスペーサ（３７）と、絶縁性を有し、かつ、スパッタリング室（１６）と中間電極（１５）との間におけるＦＲＰスペーサ（３７）よりも内側に配設された甲丸リング（３５）と、スパッタリング室（１６）と中間電極（１５）とをＦＲＰスペーサ（３７）を介して締結する捩子（３８）とを備えている。
【０００５】
なお、上記括弧付数字は、特許文献１で用いられている参照番号に対応するものである。
【特許文献１】特開平７−２９６９８８号公報（図２）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
従来の真空成膜装置（特許文献１）では、シートプラズマ成形室（１２）およびスパッタリング室（１６）のそれぞれと中間電極（１５）とを「第１絶縁フランジ構造Ａ」および「第２絶縁フランジ構造Ｂ」を用いて接合しているので、中間電極（１５）に与えられた電流がその周辺部へ漏洩するのを防止することができ、電流ロスによる成膜性能の低下を防止することができる。
【０００７】
しかし、この真空成膜装置における「第１絶縁フランジ構造Ａ」では、ＦＲＰスペーサ（３７）が、中間電極（１５）およびシートプラズマ成形室（１２）のそれぞれに直接接触された状態で、捩子（３８）により締め付けられるため、捩子（３８）の締結力によってＦＲＰスペーサ（３７）が破壊されるおそれがあった。また、締結の際には、中間電極（１５）またはシートプラズマ成形室（１２）のエッジ部がＦＲＰスペーサ（３７）に対して片当りするおそれがあるため、当該片当りで発生する過大な面圧によって、ＦＲＰスペーサ（３７）が破壊されるおそれがあった。一方、「第２絶縁フランジ構造」においても、「第１絶縁フランジ構造Ａ」とほぼ同様に構成されているため、「第１絶縁フランジ構造Ａ」と同様の問題を生じるおそれがあった。
【０００８】
本発明は、上記課題を解決するためになされたものであり、第１部材と第２部材とを締結部材を用いて締結する際にこれらの間に介在された部材（すなわち絶縁フランジ）が破壊されるのを防止することができる、絶縁フランジ構造、およびそのような絶縁フランジ構造を用いた真空成膜装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
前記課題を解決するために、本発明に係る絶縁フランジ構造は、第１部材と第２部材とを絶縁性を確保しつつ接合する絶縁フランジ構造において、絶縁性を有し、前記第１部材と前記第２部材との間に配設された環状の絶縁フランジと、前記絶縁フランジよりも弾性が高く、かつ、靭性が高い材料によって形成され、前記第１部材および前記第２部材のそれぞれと前記絶縁フランジとの間に隙間を確保するようにしてこれらの間に配設された環状の第１弾性フランジおよび第２弾性フランジと、前記第１部材と前記第２部材とを前記絶縁フランジを介して締結する締結部材とを備えている。
【００１０】
この構成において、締結部材を用いて第１部材と第２部材とを締結する際には、締結部材の締結力を、第１弾性フランジおよび第２弾性フランジを圧縮する力として用いることができるので、過大な締結力が絶縁フランジに作用するのを防止することができる。また、第１部材および第２部材のそれぞれと絶縁フランジとの間に第１弾性フランジおよび第２弾性フランジによって隙間を確保することができるので、第１部材または第２部材のエッジ部が絶縁フランジに対して片当りするのを防止することができ、片当りで発生する過大な面圧が絶縁フランジに作用するのを防止することができる。さらに、第１部材と第２部材とを接合した状態では、第１部材および第２部材のそれぞれと絶縁フランジとの間に確保された隙間によって、第１部材、絶縁フランジおよび第２部材のそれぞれの内面の連続性を断つことができるので、これらの内面に導電性の膜が付着した場合でも、当該膜が連続するのを防止することができ、当該膜による短絡を防止することができる。
【００１１】
前記第１部材および前記第２部材のそれぞれと前記絶縁フランジとの間における前記第１弾性フランジおよび前記第２弾性フランジよりも内側に配設され、前記隙間を封止する第１オーリングおよび第２オーリングをさらに備えていてもよい。
【００１２】
この構成では、第１部材および第２部材のそれぞれと絶縁フランジとの間に確保された隙間を第１オーリングおよび第２オーリングによって封止することができるので、絶縁フランジの内側の空間が真空状態に減圧される場合でも、所望の真空度を保持することができる。
【００１３】
前記第１部材または前記絶縁フランジの少なくとも一方には、前記第１弾性フランジが配設される第１凹部が形成されており、前記第２部材または前記絶縁フランジの少なくとも一方には、前記第２弾性フランジが配設される第２凹部が形成されている構成であってもよい。
【００１４】
この構成では、第１凹部および第２凹部のそれぞれに第１弾性フランジおよび第２弾性フランジを配設しているので、「第１部材および第２部材のそれぞれと絶縁フランジとの間に確保された隙間の幅を小さくしながら、第１弾性フランジおよび第２弾性フランジの厚さを大きくする」といった設計が可能であり、設計の自由度を高めることができる。また、第１凹部および第２凹部のそれぞれに予め第１弾性フランジおよび第２弾性フランジを装着しておくことが可能になり、組付性を向上することができる。
【００１５】
前記絶縁フランジは、前記第１弾性フランジおよび前記第２弾性フランジよりも耐熱性が高く、かつ、ガス放出量が小さい絶縁性材料によって形成されていてもよい。
【００１６】
この構成では、絶縁フランジが、耐熱性が高く、かつ、ガス放出量が小さい絶縁性材料によって形成されているので、プラズマを用いたスパッタリング成膜装置に適用した場合でも、プラズマの熱による絶縁フランジの損傷を防止することができるとともに、真空中に放出されるガスの量を少なくすることができる。
【００１７】
前記課題を解決するために、本発明に係る真空成膜装置は、プラズマを発生させるための放電空間と、プラズマを用いてターゲットをスパッタリングすることにより基板の表面にターゲット粒子の膜を成膜するための成膜空間とを含む減圧空間を備え、前記減圧空間の一部を構成する第１部材と前記減圧空間の他の一部を構成する第２部材とが上記絶縁フランジ構造を用いて接合されている。
【００１８】
この構成は、上記絶縁フランジ構造を用いた真空成膜装置に関するものであり、さらに以下のように構成されてもよい。
【００１９】
前記第１部材は、前記放電空間において補助放電を維持する環状の中間電極であり、前記第２部材は、前記放電空間の一部を構成する筒状部であってもよい。
【００２０】
前記第１部材および前記第２部材のそれぞれは、前記放電空間において補助放電を維持する環状の中間電極であってもよい。
【００２１】
前記第１部材は、真空ポンプにより減圧される減圧室であり、前記第２部材は、前記放電空間の一部を構成する筒状部であってもよい。
【００２２】
前記第１部材は、プラズマを回収するアノード電極であり、前記第２部材は、前記成膜空間に連通するプラズマ通路を構成する筒状部であってもよい。
【発明の効果】
【００２３】
本発明の絶縁フランジ構造および真空成膜装置によれば、締結部材の締結力を、第１弾性フランジおよび第２弾性フランジを圧縮する力として用いることができるので、過大な締結力が絶縁フランジに作用するのを防止することができる。また、第１部材または第２部材のエッジ部が絶縁フランジに対して片当りするのを防止することができるので、片当りで発生する過大な面圧が絶縁フランジに作用するのを防止することができる。したがって、過大な締結力または面圧によって絶縁フランジが破壊されるのを防止することができる。
【００２４】
また、第１部材および第２部材のそれぞれと絶縁フランジとの間に確保された隙間によって、第１部材、絶縁フランジおよび第２部材のそれぞれの内面の連続性を断つことができるので、これらの内面に付着した導電性の膜が連続するのを防止することができ、これらの部材間の短絡を防止するとができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
以下に、本発明の好ましい実施形態に係る「真空成膜装置」について図面を参照しながら説明する。本発明の好ましい実施形態に係る「絶縁フランジ構造」については、「真空成膜装置」の構成部分であることから、「真空成膜装置」の説明の中で言及することにする。
【００２６】
なお、以下の各実施形態では、本発明を「シートプラズマを用いたスパッタリング成膜装置」に適用しているが、本発明は、「イオンビームスパッタリング（ＩＳＢ）成膜装置」や「電子ビーム加熱方式の真空蒸着装置」等のような他の方式の真空成膜装置にも適用可能である。
【００２７】
また、以下の説明で用いる「Ｚ方向」とは「プラズマの輸送方向」、「Ｙ方向」とは「シートプラズマＳＰに対して直交する方向」、「Ｘ方向」とは「Ｚ方向およびＹ方向の両方に対して直交する方向」、「前」とは「プラズマの進行方向」、「後」とは「プラズマの進行方向とは反対の方向」をいうものとする。
【００２８】
（第１実施形態）
図１は、本発明の第１実施形態に係る真空成膜装置１０の構成を示す概略図であり、図１中の矢印が上述の「ＸＹＺ方向」を示している。
【００２９】
真空成膜装置１０は、シートプラズマＳＰを構成するイオンを用いてターゲット（ＣｕまたはＳｉ等）１２をスパッタリングするとともに、スパッタリングにより弾き出されたターゲット１２の粒子（以下、「ターゲット粒子」という。）を基板１４の表面に膜状に付着させる「シートプラズマを用いたスパッタリング成膜装置」であり、プラズマ発生部１６、シートプラズマ生成部１８、成膜部２０、プラズマ回収部２２および電力発生部２４を備えている。
【００３０】
［プラズマ発生部の構成］
プラズマ発生部１６は、放電プラズマを高密度に発生させるとともに、当該放電プラズマから円柱プラズマＣＰを生成するものであり、図１に示すように、第１筒状部２６、第２筒状部２８、カソードユニット３０、中間電極ユニット３２および電磁コイル３４を有している。そして、第１筒状部２６、中間電極ユニット３２および第２筒状部２８が、これらの中心軸がＺ方向へ連続するようにして、後方から前方へ向けてこの順に接合されており、これによって、プラズマを発生させるための放電空間Ｓ１が構成されている。
【００３１】
第１筒状部２６は、図１に示すように、耐熱ガラス等からなり、かつ、放電空間Ｓ１の一部を構成する円筒状の部材であり、第１筒状部２６における軸方向一方端部（前端部）の外周部には、フランジ３６が形成されており、第１筒状部２６の軸方向他方端部（後端部）には、放電空間Ｓ１の後端部を閉塞する円盤状の蓋３８が気密的に接合されている。そして、フランジ３６には、ボルト６２の雄ねじ部６２ａが螺合される複数のねじ穴３６ａが周方向へ間隔を隔てて形成されている。
【００３２】
第２筒状部２８は、図１に示すように、耐熱ガラス等からなり、かつ、放電空間Ｓ１の他の一部を構成する円筒状の部材であり、第２筒状部２８における軸方向一方端部（前端部）の外周部には、フランジ４０が形成されており、第２筒状部２８における軸方向他方端部（後端部）の外周部には、フランジ４２が形成されている。そして、フランジ４０，４２には、ボルト６２の雄ねじ部６２ａが挿通される複数の貫通孔４０ａ，４２ａが周方向へ間隔を隔てて形成されている。
【００３３】
カソードユニット３０は、図１に示すように、タンタル（Ｔａ）からなり、「放電ガス」としてのアルゴン（Ａｒ）ガスを放電空間Ｓ１内へ導入する円筒状の補助陰極４４と、六ホウ化ランタン（ＬａＢ6）からなり、放電誘発用の熱電子を放電空間Ｓ１内へ放出する円環状の主陰極４６とを有しており、第１筒状部２６に接合された蓋３８の中央部に補助陰極４４が取り付けられており、補助陰極４４の前端部外周面に主陰極４６が取り付けられている。そして、主陰極４６には、蓋３８を介して電力発生部２４の陰極が接続されている。
【００３４】
中間電極ユニット３２は、放電空間Ｓ１においてカソードユニット３０により発生させられた補助放電（グロー放電）を維持するものであり、銅、ステンレス鋼またはアルミニウム等のような導電性材料からなる円環状の一対の第１中間電極４８および第２中間電極５０（以下、「中間電極４８，５０」と略す。）を有しており、中間電極４８，５０のそれぞれには、ボルト６２の雄ねじ部６２ａが挿通される複数の貫通孔４８ａ，５０ａ（図２）が周方向へ間隔を隔てて形成されている。そして、この中間電極ユニット３２が第１筒状部２６と第２筒状部２８との間に配設されており、中間電極４８，５０のそれぞれが、抵抗素子５２，５４を介して電力発生部２４の陽極に接続されている。
【００３５】
電磁コイル３４は、磁力の強さをコントロール可能な環状コイルであり、この電磁コイル３４が第２筒状部２８の周囲に配設されている。電力発生部２４から中間電極４８，５０にプラス電圧を印加するとともに、電磁コイル３４に電流を流すと、放電空間Ｓ１内には、中間電極４８，５０による電界と電磁コイル３４による磁界とによって、磁束密度のＺ方向の勾配が形成される。したがって、プラズマを構成する荷電粒子は、磁力線の回りを旋回しながらＺ方向へ輸送され、円柱プラズマＣＰとなって、シートプラズマ生成部１８へ与えられる。
【００３６】
円柱プラズマＣＰを安定的に生成するためには、中間電極４８，５０に付与された電流がこれらの周辺部分に漏洩するのを防止する必要がある。そこで、本実施形態では、図１に示すように、中間電極４８と第１筒状部２６とを絶縁フランジ構造Ｆ１を用いて接合し、中間電極４８，５０間を絶縁フランジ構造Ｆ２を用いて接合し、中間電極５０と第２筒状部２８とを絶縁フランジ構造Ｆ３を用いて接合している。
【００３７】
＜絶縁フランジ構造Ｆ１の構成＞
絶縁フランジ構造Ｆ１は、図２に示すように、「第１部材」としての中間電極４８と「第２部材」としての第１筒状部２６とを絶縁性を確保しつつ接合するものであり、中間電極４８と第１筒状部２６との間に配設された環状の絶縁フランジ５６と、中間電極４８および第１筒状部２６のそれぞれと絶縁フランジ５６との間に配設された環状の第１弾性フランジ５８ａおよび第２弾性フランジ５８ｂ（以下、「弾性フランジ５８ａ，５８ｂ」と略す。）と、中間電極４８および第１筒状部２６のそれぞれと絶縁フランジ５６との間における弾性フランジ５８ａ，５８ｂよりも内側に配設された環状の第１オーリング６０ａおよび第２オーリング６０ｂ（以下、「オーリング６０ａ，６０ｂ」と略す。）と、「締結部材」としてのボルト６２と、絶縁カラー６４とを有している。
【００３８】
絶縁フランジ５６は、中間電極４８と第１筒状部２６との間の絶縁性を確保するものであり、セラミック（アルミナまたは窒化珪素等）のような弾性フランジ５８ａ，５８ｂよりも「耐熱性」が高く、かつ、「ガス放出量」が小さい絶縁性材料によって円環状に形成されている。そして、絶縁フランジ５６の外周部には、ボルト６２の雄ねじ部６２ａが挿通される複数の貫通孔５６ａが周方向へ間隔を隔てて形成されている。絶縁フランジ５６の内径は、オーリング６０ａ，６０ｂが当接される当接面を確保できるように、オーリング６０ａ，６０ｂの直径よりも十分に小さく設計されており、絶縁フランジ５６の外径は、弾性フランジ５８ａ，５８ｂが当接される当接面を確保できるように、弾性フランジ５８ａ，５８ｂの内径よりも十分に大きく設計されている。
【００３９】
なお、絶縁フランジ５６の形状は、環状である限り、特に限定されるものではなく、中間電極（第１部材）４８および第１筒状部（第２部材）２６の形状に応じて、楕円環状または四角環状等に設計されてもよい。
【００４０】
弾性フランジ５８ａ，５８ｂは、ボルト６２の締結力を吸収するとともに、中間電極４８および第１筒状部２６のそれぞれと絶縁フランジ５６との間に所定の隙間Ｇを確保するものであり、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、ポリアセタール（ＰＯＭ）、ナイロンまたは合成ゴム等のような絶縁フランジ５６よりも「靭性」が高く、かつ、「弾性」が高い合成樹脂材料等によって円環状に形成されている。そして、弾性フランジ５８ａ，５８ｂには、取付ボルト６８ａ，６８ｂの雄ねじ部が挿通され、かつ、それらの頭部が収容される複数の２段孔７０ａ，７０ｂと、ボルト６２の雄ねじ部６２ａが挿通される複数の貫通孔７２ａ，７２ｂとが周方向に間隔を隔てて形成されている。弾性フランジ５８ａ，５８ｂの内径は、それらの内側にオーリング６０ａ，６０ｂを配設できるように、オーリング６０ａ，６０ｂの直径よりも十分に大きく設計されており、弾性フランジ５８ａ，５８ｂの外径は、絶縁フランジ５６の外周付近の主面を面で受けることができるように、絶縁フランジ５６の外径とほぼ同じか、それよりも大きく設計されている。そして、弾性フランジ５８ａ，５８ｂの厚さは、中間電極４８および第１筒状部２６のそれぞれと絶縁フランジ５６との間に隙間Ｇを確保できるように設計されている。隙間Ｇの幅は、ターゲット粒子等の塵埃が詰まることによる短絡を防止する観点からは、０．１ｍｍ以上であることが望ましく、隙間Ｇ内において対向する対向面に当該塵埃が付着するのを抑制する観点からは、０．５ｍｍ以下であることが望ましい。つまり、隙間Ｇの幅は、０．１〜０．５ｍｍの範囲内であることが望ましい。
【００４１】
弾性フランジ５８ａ，５８ｂは、ボルト６２の締結力を吸収することによって絶縁フランジ５６の破損を防止するとともに、締結後には、隙間Ｇを確保することによって塵埃の付着による短絡を防止する機能を有しているが、弾性フランジ５８ａ，５８ｂの厚さが小さ過ぎると、これらの機能を有効に発揮することができなくなる。そこで、本実施形態では、中間電極４８および第１筒状部２６（フランジ３６）の外周部における絶縁フランジ５６と対向する箇所に所定深さの第１凹部７４ａおよび第２凹部７４ｂ（以下、「凹部７４ａ，７４ｂ」と略す。）を形成するとともに、これらの凹部７４ａ，７４ｂに弾性フランジ５８ａ，５８ｂを取付ボルト６８ａ，６８ｂで取り付けることによって、弾性フランジ５８ａ，５８ｂの厚さを大きく確保しつつ、隙間Ｇの幅を最適に設計できるようにしている。
【００４２】
なお、弾性フランジ５８ａ，５８ｂの形状は、環状である限り、特に限定されるものではなく、中間電極（第１部材）４８および第１筒状部（第２部材）２６の形状に応じて、楕円環状または四角環状等に設計されてもよいが、ボルト６２の締結力を面で受けることができる点において、一定の厚さを有する板状であることが望ましい。また、弾性フランジ５８ａ，５８ｂを凹部７４ａ，７４ｂに取り付ける取付手段としては、取付ボルト６８ａ，６８ｂに代えて、接着剤、粘着剤または粘着テープ等が用いられてもよいし、嵌合構造または係止構造が用いられてもよい。
【００４３】
オーリング６０ａ，６０ｂは、合成ゴム等の弾性材料からなり、弾性フランジ５８ａ，５８ｂの内側において隙間Ｇを封止する環状部材であり、オーリング６０ａ，６０ｂの外径は、弾性フランジ５８ａ，５８ｂの内径よりも小さく設計されている。そして、これらのオーリング６０ａ，６０ｂが、中間電極４８および第１筒状部２６のそれぞれに形成されたオーリング溝７６ａ，７６ｂに装着されている。
【００４４】
ボルト６２は、絶縁フランジ構造Ｆ１〜Ｆ３に共通に用いられる「締結部材」であり、棒状の雄ねじ部６２ａと、雄ねじ部６２ａの一方端部外周に形成された頭部６２ｂとを有している。そして、ボルト６２の雄ねじ部６２ａが、フランジ４２に形成された貫通孔４２ａ、中間電極４８に形成された貫通孔４８ａ、第１弾性フランジ５８ａに形成された貫通孔７２ａ、絶縁フランジ５６に形成された貫通孔５６ａおよび第２弾性フランジ５８ｂに形成された貫通孔７２ｂに挿通されて、フランジ３６に形成されたねじ穴３６ａに螺合されている。
【００４５】
絶縁カラー６４は、合成樹脂等のような絶縁性材料からなり、かつ、ボルト６２の周囲を絶縁するものであり、円筒状のカラー本体６４ａと、カラー本体６４ａの一方端部外周に形成された鍔部６４ｂとを有している。そして、絶縁カラー６４のカラー本体６４ａが、上記貫通孔４２ａ，４８ａ，７２ａ，５６ａのそれぞれに挿通されるとともに、鍔部６４ｂがフランジ４２の前端面に係止されている。また、カラー本体６４ａの内部にボルト６２の雄ねじ部６２ａが挿通されており、ボルト６２の頭部６２ｂが鍔部６４ｂの前端面に係止されている。
【００４６】
＜絶縁フランジ構造Ｆ２の構成＞
絶縁フランジ構造Ｆ２は、図２に示すように、「第１部材」としての中間電極５０と「第２部材」としての中間電極４８とを絶縁性を確保しつつ接合するものであり、中間電極５０，４８間に配設された環状の絶縁フランジ５６と、中間電極５０，４８のそれぞれと絶縁フランジ５６との間に配設された環状の弾性フランジ５８ａ，５８ｂと、中間電極５０，４８のそれぞれと絶縁フランジ５６との間における弾性フランジ５８ａ，５８ｂよりも内側に配設された環状のオーリング６０ａ，６０ｂと、「締結部材」としてのボルト６２と、絶縁カラー６４とを有している。
【００４７】
このように、絶縁フランジ構造Ｆ２は、絶縁すべき対象物が異なる以外は、上述した絶縁フランジ構造Ｆ１と同様に構成されているため、絶縁フランジ構造Ｆ１の構成要素と対応する箇所には、当該構成要素と同じ番号を付し、重複する説明は省略する。
【００４８】
＜絶縁フランジ構造Ｆ３の構成＞
絶縁フランジ構造Ｆ３は、図２に示すように、「第１部材」としての第２筒状部２８と「第２部材」としての中間電極５０とを絶縁性を確保しつつ接合するものであり、第２筒状部２８と中間電極５０との間に配設された環状の絶縁フランジ５６と、第２筒状部２８および中間電極５０のそれぞれと絶縁フランジ５６との間に配設された環状の弾性フランジ５８ａ，５８ｂと、第２筒状部２８および中間電極５０のそれぞれと絶縁フランジ５６との間における弾性フランジ５８ａ，５８ｂよりも内側に配設された環状のオーリング６０ａ，６０ｂと、「締結部材」としてのボルト６２と、絶縁カラー６４とを有している。
【００４９】
このように、絶縁フランジ構造Ｆ３は、絶縁すべき対象物が異なる以外は、上述した絶縁フランジ構造Ｆ１およびＦ２と同様に構成されているため、絶縁フランジ構造Ｆ１およびＦ２の構成要素と対応する箇所には、当該構成要素と同じ番号を付し、重複する説明は省略する。
【００５０】
［シートプラズマ生成部の構成］
シートプラズマ生成部１８は、図１に示すように、円柱プラズマＣＰをシート状に成形することによってシートプラズマＳＰを生成する部分であり、成形空間Ｓ２を構成する「減圧室」としての成形室８２、一対の永久磁石８４ａ，８４ｂおよび電磁コイル８６を有している。
【００５１】
成形室８２は、アルミナ合金等からなり、かつ、Ｚ方向へ延びる中心軸を有する円筒状の成形室本体８８を有しており、成形室本体８８の軸方向両端部（前後方向両端部）は、円盤状の側壁９０，９２によって閉塞されており、プラズマ発生部１６側（後側）の側壁９０の中央部には、円柱プラズマＣＰを導入する円形のプラズマ導入口９０ａが形成されており、成膜部２０側の側壁９２の中央部には、シートプラズマＳＰを導出する長孔状のプラズマ導出口９２ａがＸ方向へ長く延びて形成されている。また、成形室本体８８の周壁８８ａには、調整弁９４によって開閉可能な排気口９６が形成されており、排気口９６には、成形空間Ｓ２を真空状態に減圧する真空ポンプ（図示省略）が接続されている。
【００５２】
永久磁石８４ａ，８４ｂは、円柱プラズマＣＰに磁界を作用させることによって、円柱プラズマＣＰをシート状に変形させる角形棒状磁石であり、一対の永久磁石８４ａ，８４ｂが、成形室８２をＹ方向から挟むようにして、かつ、同極どうしが対向するようにして、Ｘ方向へ延びて配設されている。
【００５３】
電磁コイル８６は、磁力の強さをコントロール可能な環状コイルであり、この電磁コイル８６が、永久磁石８４ａ，８４ｂよりもプラズマ発生部１６側における成形室８２の周囲に配設されている。電磁コイル８６に電流を流すと、成形空間Ｓ２内には、永久磁石８４ａ，８４ｂによる磁界と共に電磁コイル８６による磁界が作用し、これらの磁界の相互作用によって、円柱プラズマＣＰがＸＺ方向へ延びるシート状に成形されるとともに、シートプラズマＳＰとして成膜部２０へ与えられる。
【００５４】
シートプラズマＳＰを安定的に生成するためには、プラズマ発生部１６の中間電極４８，５０へ与えられた電流が成形室８２へ伝わるのを防止する必要がある。そこで、本実施形態では、図１に示すように、成形室８２とプラズマ発生部１６の第２筒状部２８とを絶縁フランジ構造Ｆ４を用いて接合している
＜絶縁フランジ構造Ｆ４の構成＞
絶縁フランジ構造Ｆ４は、図３に示すように、「第１部材」としての成形室８２と「第２部材」としての第２筒状部２８とを絶縁性を確保しつつ接合するものであり、成形室８２と第２筒状部２８との間に配設された環状の絶縁フランジ５６と、成形室８２および第２筒状部２８のそれぞれと絶縁フランジ５６との間に配設された環状の弾性フランジ５８ａ，５８ｂと、成形室８２および第２筒状部２８のそれぞれと絶縁フランジ５６との間における弾性フランジ５８ａ，５８ｂよりも内側に配設された環状のオーリング６０ａ，６０ｂと、「締結部材」としてのボルト６２と、絶縁カラー６４とを有している。そして、ボルト６２の雄ねじ部６２ａが、フランジ４０に形成された貫通孔４０ａ、第２弾性フランジ５８ｂに形成された貫通孔７２ｂ、絶縁フランジ５６に形成された貫通孔５６ａおよび第１弾性フランジ５８ａに形成された貫通孔７２ａに挿通されて、成形室８２に形成されたねじ穴８２ａに螺合されている。
【００５５】
このように、絶縁フランジ構造Ｆ４は、絶縁すべき対象物が異なる以外は、上述した絶縁フランジ構造Ｆ１〜Ｆ３と同様に構成されているため、絶縁フランジ構造Ｆ１〜Ｆ３の構成要素と対応する箇所には、当該構成要素と同じ番号を付し、重複する説明は省略する。
【００５６】
［成膜部の構成］
成膜部２０は、図１に示すように、シートプラズマＳＰを構成するイオンを用いてターゲット１２をスパッタリングするとともに、基板１４の表面にターゲット粒子を膜状に付着させる部分であり、成膜空間Ｓ３を構成する成膜室９８、成膜室９８内においてターゲット１２を保持するターゲットホルダ１００、成膜室９８内において基板１４を保持する基板ホルダ１０２、バイアス電源１０４および電磁コイル１０６，１０８を有している。
【００５７】
成膜室９８は、アルミ合金等からなり、かつ、Ｙ方向へ延びる中心軸を有する円筒状の成膜室本体１１０を有しており、成膜室本体１１０の軸方向両端部（上下方向両端部）は、円盤状の天井部１１２および底部１１４によって閉塞されている。また、成膜室本体１１０のシートプラズマ生成部１８側の側壁には、シートプラズマＳＰを導入する長孔状のプラズマ導入口１１０ａがＸ方向へ長く延びて形成されており、プラズマ回収部２２側の側壁には、シートプラズマＳＰを導出する長孔状のプラズマ導出口１１０ｂがＸ方向へ長く延びて形成されている。また、天井部１１２には、調整弁１１６によって開閉可能な排気口１１８が形成されており、排気口１１８には、成膜空間Ｓ３を真空状態に減圧する真空ポンプ（図示省略）が接続されている。そして、成膜室９８のプラズマ導入口１１０ａと、シートプラズマ生成部１８における成形室８２のプラズマ導出口９２ａとが筒状の連結部１２０を介して接続されている。
【００５８】
ターゲットホルダ１００は、ターゲット１２を保持する導電性の保持部１００ａと、保持部１００ａを成膜空間Ｓ３内で支持する棒状の支持部１００ｂとを有しており、基板ホルダ１０２は、基板１４を保持する導電性の保持部１０２ａと、保持部１０２ａを成膜空間Ｓ３内で支持する棒状の支持部１０２ｂとを有しており、保持部１００ａ，１０２ａが、シートプラズマＳＰを挟んだ両側に、互いに対向するように配設されている。また、支持部１００ｂ，１０２ｂの少なくとも一方には、アクチュエータ（図示省略）が接続されており、当該アクチュエータには、保持部１００ａ，１０２ａ間の間隔を調整するための制御装置（図示省略）が接続されている。そして、ターゲットホルダ１００の保持部１００ａが、支持部１００ｂを介してバイアス電源１０４に接続されており、基板ホルダ１０２の保持部１０２ａが、支持部１０２ｂを介してグランド電位に接地されている。
【００５９】
バイアス電源１０４は、ターゲット１２に対して直流のバイアス電圧（マイナス電圧）を印加するものである。バイアス電圧の大きさは、バイアス電源１０４によって調整可能であり、成膜に適したバイアス電圧がターゲット１２に対して印加される。
【００６０】
電磁コイル１０６，１０８は、磁力の強さをコントロール可能な環状コイルであり、これらの電磁コイル１０６，１０８が、成膜室９８における軸方向両側（前後方向両側）の外周部近傍に異極同士が対向するようにして配設されている。
【００６１】
バイアス電源１０４からターゲット１２にバイアス電圧（マイナス電圧）を印加すると、シートプラズマＳＰ中のＡｒ+によってターゲット１２がスパッタリングされ、ターゲット粒子が基板１４の表面に膜状に付着される。また、電磁コイル１０６，１０８に電流を流すと、成膜空間Ｓ３内には、電磁コイル１０６，１０８による磁界が作用し、シートプラズマＳＰは、これらの磁界によって幅方向（Ｘ方向）への拡散が抑制されつつ、プラズマ回収部２２へ与えられる。
【００６２】
［プラズマ回収部の構成］
プラズマ回収部２２は、図１に示すように、シートプラズマＳＰを回収する部分であり、プラズマ通路Ｓ４を構成する筒状部１２２とアノードユニット１２４とを有している。
【００６３】
筒状部１２２は、Ｚ方向へ延びる中心軸を有する円筒状の部材であり、筒状部１２２における軸方向一方端部（前端部）の外周部には、フランジ１２６が形成されており、筒状部１２２の軸方向他方端部（後端部）には、プラズマ通路Ｓ４を閉塞する円盤状の蓋１２８が気密的に接合されている。また、蓋１２８の中央部には、シートプラズマＳＰを導入する長孔状のプラズマ導入口１２８ａがＸ方向へ長く延びて形成されており、プラズマ導入口１２８ａと、成膜部２０における成膜室本体１１０のプラズマ導出口１１０ｂとが筒状の連結部１３０を介して接続されている。そして、筒状部１２２の前端部にアノードユニット１２４が接合されている。
【００６４】
アノードユニット１２４は、合成樹脂等のような絶縁性材料からなり、かつ、筒状部１２２の前端部においてプラズマ通路Ｓ４を閉塞する円盤状の蓋１３２と、銅、ステンレス鋼またはアルミニウム等のような導電性材料からなり、かつ、プラズマ発生部１６の主陰極４６と対になる円盤状のアノード電極１３４と、プラズマ通路Ｓ４内に磁界を作用させる永久磁石１３６とを有しており、アノード電極１３４が、蓋１３２のプラズマ通路Ｓ４側の面（後端面）に配設されており、永久磁石１３６が、当該面とは反対側の面（前端面）に配設されている。そして、アノード電極１３４が電力発生部２４の陽極に接続されている。
【００６５】
アノード電極１３４にプラス電圧を印加すると、プラズマ発生部１６においてプラズマが発生されるとともに、このプラズマが、シートプラズマ生成部１８および成膜部２０を経て、シートプラズマＳＰとしてアノード電極１３４に回収される。このとき、プラズマ通路Ｓ４内には、永久磁石１３６の磁界が作用しているので、この磁界によってシートプラズマＳＰの幅方向（Ｘ方向）への拡散が抑制される。
【００６６】
シートプラズマＳＰを安定的に生成するためには、アノード電極１３４に付与された電流がこれらの周辺部分に漏洩するのを防止する必要がある。そこで、本実施形態では、図４に示すように、絶縁性材料からなる蓋１３２の後端面にアノード電極１３４を配設するとともに、アノード電極１３４と筒状部１２２とを絶縁フランジ構造Ｆ５を用いて接合している。
【００６７】
＜絶縁フランジ構造Ｆ５の構成＞
絶縁フランジ構造Ｆ５は、図４に示すように、「第１部材」としてのアノード電極１３４と「第２部材」としての筒状部１２２とを絶縁性を確保しつつ接合するものであり、アノード電極１３４と筒状部１２２との間に配設された環状の絶縁フランジ５６と、アノード電極１３４および筒状部１２２のそれぞれと絶縁フランジ５６との間に配設された環状の弾性フランジ５８ａ，５８ｂと、アノード電極１３４および筒状部１２２のそれぞれと絶縁フランジ５６との間における弾性フランジ５８ａ，５８ｂよりも内側に配設された環状のオーリング６０ａ，６０ｂと、「締結部材」としてのボルト６２と、絶縁カラー６４とを有している。そして、ボルト６２の雄ねじ部６２ａが、蓋１３２に形成された貫通孔１３２ａ、アノード電極１３４に形成された貫通孔１３４ａ、第１弾性フランジ５８ａに形成された貫通孔７２ａ、絶縁フランジ５６に形成された貫通孔５６ａおよび第２弾性フランジ５８ｂに形成された貫通孔７２ｂに挿通されて、フランジ１２６に形成されたねじ穴１２６ａに螺合されている。
【００６８】
このように、絶縁フランジ構造Ｆ５は、絶縁すべき対象物が異なる以外は、上述した絶縁フランジ構造Ｆ１〜Ｆ４と同様に構成されているため、絶縁フランジ構造Ｆ１〜Ｆ４の構成要素と対応する箇所には、当該構成要素と同じ番号を付し、重複する説明は省略する。
【００６９】
［真空成膜装置の動作］
真空成膜装置１０を用いて基板１４の表面に成膜する際には、ターゲットホルダ１００の保持部１００ａにターゲット１２を装着するとともに、基板ホルダ１０２の保持部１０２ａに基板１４を装着し、排気口９６，１１８に接続された真空ポンプ（図示省略）を駆動して、放電空間Ｓ１、成形空間Ｓ２、成膜空間Ｓ３およびプラズマ通路Ｓ４を真空状態に減圧する。そして、カソードユニット３０の補助陰極４４から放電空間Ｓ１内へ放電ガスとしてのアルゴン（Ａｒ）ガスを導入し、電力発生部２４から中間電極４８，５０およびアノード電極１３４に対してプラス電圧を印加する。また、電磁コイル３４，８６，１０６，１０８のそれぞれに対して電流を付与する。
【００７０】
すると、上述したように、プラズマ発生部１６においてプラズマが発生されるとともに、円柱プラズマＣＰが生成され、シートプラズマ生成部１８においてシートプラズマＳＰが生成され、成膜部２０において基板１４の表面にターゲット粒子の膜が成膜され、プラズマ回収部２２においてシートプラズマＳＰが収束される。
【００７１】
［真空成膜装置の作用および効果］
真空成膜装置１０においては、放電空間Ｓ１、成形空間Ｓ２、成膜空間Ｓ３およびプラズマ通路Ｓ４が互いに連通されることによって１つの「減圧空間」が構成されているため、成膜空間Ｓ３でスパッタリングされたターゲット１２の粒子（ターゲット粒子）が、放電空間Ｓ１またはプラズマ通路Ｓ４にまで移動するおそれがあり、中間電極４８，５０またはアノード電極１３４の近傍においてターゲット粒子からなる膜が形成されるおそれがある。しかし、本実施形態では、当該「減圧空間」の一部を構成する「第１部材」と他の一部を構成する「第２部材」とを絶縁フランジ構造Ｆ１〜Ｆ５を用いて接合しているので、これらの部材間における短絡を防止することができる。
【００７２】
つまり、絶縁フランジ構造Ｆ１〜Ｆ５においては、「第１部材」および「第２部材」のそれぞれと絶縁フランジ５６との間に弾性フランジ５８ａ，５８ｂによって隙間Ｇが確保されており、当該隙間Ｇによって「第１部材」、「絶縁フランジ５６」および「第２部材」のそれぞれの内面の連続性が断たれているので、これらの内面にターゲット粒子の膜が形成されたとしても、当該膜が連続することはなく、当該膜による短絡が生じることはない。
【００７３】
また、絶縁フランジ構造Ｆ１〜Ｆ５においては、絶縁性を確保するための絶縁フランジ５６が、セラミック（アルミナまたは窒化珪素等）のような耐熱性が高く、かつ、ガス放出量が小さい材料によって形成されているので、プラズマの熱によって絶縁フランジ５６が損傷されたり、真空中にガスが放出されたりするのを防止することができる。
【００７４】
そして、絶縁フランジ構造Ｆ１〜Ｆ５を組み立てる際には、「締結部材」としてのボルト６２を用いて、「第１部材」と「第２部材」との間で絶縁フランジ５６を締め付けることになるが、「第１部材」および「第２部材」のそれぞれと絶縁フランジ５６との間には、弾性フランジ５８ａ，５８ｂが配設されているので、弾性フランジ５８ａ，５８ｂによって過剰な締結力を吸収することができ、絶縁フランジ５６が破壊されるのを防止することができる。
【００７５】
さらに、ボルト６２による締結の際には、「第１部材」および「第２部材」のそれぞれと絶縁フランジ５６との間に弾性フランジ５８ａ，５８ｂによって隙間Ｇを確保することができるので、「第１部材」または「第２部材」のエッジ部が絶縁フランジ５６に対して片当りするのを防止することができ、片当りで発生する過大な面圧によって絶縁フランジ５６が破壊されるのを防止することができる。
【００７６】
（第２実施形態）
図５は、本発明の第２実施形態に係る真空成膜装置１４０の要部を示す部分拡大断面図である。真空成膜装置１４０は、真空成膜装置１０（図１）における絶縁フランジ構造Ｆ５について、弾性フランジ５８ａ，５８ｂの取付態様を変形したものである。
【００７７】
つまり、真空成膜装置１０では、図４に示すように、アノード電極（第１部材）１３４および筒状部（第２部材）１２２のそれぞれに凹部７４ａ，７４ｂが形成されるとともに、これらの凹部７４ａ，７４ｂに弾性フランジ５８ａ，５８ｂが配設されているのに対し、真空成膜装置１４０では、図５に示すように、絶縁フランジ５６の両面に凹部７４ａ，７４ｂが形成されるとともに、これらの凹部７４ａ，７４ｂに弾性フランジ５８ａ，５８ｂが配設されている。
【００７８】
なお、第２実施形態では、絶縁フランジ構造Ｆ５についての変形例を示しているが、絶縁フランジ構造Ｆ１〜４についても同様の変形が可能である。
【００７９】
（第３実施形態）
図６は、本発明の第３実施形態に係る真空成膜装置１５０の要部を示す部分拡大断面図である。真空成膜装置１５０は、真空成膜装置１０（図１）における絶縁フランジ構造Ｆ５について、弾性フランジ５８ａ，５８ｂの取付態様を変形したものである。
【００８０】
つまり、真空成膜装置１０では、図４に示すように、アノード電極（第１部材）１３４および筒状部（第２部材）１２２のそれぞれに凹部７４ａ，７４ｂが形成されるとともに、これらの凹部７４ａ，７４ｂに弾性フランジ５８ａ，５８ｂが配設されているのに対し、真空成膜装置１５０では、図６に示すように、絶縁フランジ５６および筒状部（第２部材）１２２のそれぞれに凹部７４ａ，７４ｂが形成されるとともに、これらの凹部７４ａ，７４ｂに弾性フランジ５８ａ，５８ｂが配設されている。
【００８１】
なお、第３実施形態では、絶縁フランジ５６および筒状部（第２部材）１２２のそれぞれに凹部７４ａ，７４ｂが形成されているが、アノード電極（第１部材）１３４および絶縁フランジ５６のそれぞれに凹部７４ａ，７４ｂが形成されてもよい。また、第３実施形態では、絶縁フランジ構造Ｆ５についての変形例を示しているが、絶縁フランジ構造Ｆ１〜４についても同様の変形が可能である。
【００８２】
（第４実施形態）
図７は、本発明の第４実施形態に係る真空成膜装置１６０の要部を示す部分拡大断面図である。真空成膜装置１６０は、真空成膜装置１０（図１）における絶縁フランジ構造Ｆ５について、オーリング６０ａ，６０ｂの取付態様を変形したものである。
【００８３】
つまり、真空成膜装置１０では、図４に示すように、アノード電極（第１部材）１３４および筒状部（第２部材）１２２のそれぞれにオーリング溝７６ａ，７６ｂが形成されるとともに、オーリング溝７６ａ，７６ｂのそれぞれにオーリング６０ａ，６０ｂが装着されているのに対し、真空成膜装置１６０では、図７に示すように、絶縁フランジ５６の両面にオーリング溝７６ａ，７６ｂが形成されるとともに、これらのオーリング溝７６ａ，７６ｂにオーリング６０ａ，６０ｂが装着されている。
【００８４】
なお、第４実施形態では、絶縁フランジ構造Ｆ５についての変形例を示しているが、絶縁フランジ構造Ｆ１〜４についても同様の変形が可能であり、また、図５および図６に示した変形例についてもさらなる同様の変形が可能である。
【図面の簡単な説明】
【００８５】
【図１】第１実施形態に係る真空成膜装置の構成を示す概略図である。
【図２】第１実施形態に係る真空成膜装置における絶縁フランジ構造Ｆ１〜Ｆ３を示す部分拡大断面図である。
【図３】第１実施形態に係る真空成膜装置における絶縁フランジ構造Ｆ４を示す部分拡大断面図である。
【図４】第１実施形態に係る真空成膜装置における絶縁フランジ構造Ｆ５を示す部分拡大断面図である。
【図５】第２実施形態に係る真空成膜装置の要部（絶縁フランジ構造Ｆ５を含む。）を示す部分拡大断面図である。
【図６】第３実施形態に係る真空成膜装置の要部（絶縁フランジ構造Ｆ５を含む。）を示す部分拡大断面図である。
【図７】第４実施形態に係る真空成膜装置の要部（絶縁フランジ構造Ｆ５を含む。）を示す部分拡大断面図である。
【図８】従来の真空成膜装置の要部を示す部分拡大断面図である。
【符号の説明】
【００８６】
Ｆ１〜Ｆ５…  絶縁フランジ構造
１０…  真空成膜装置
１２…  ターゲット
１４…  基板
１６…  プラズマ発生部
１８…  シートプラズマ生成部
２０…  成膜部
２２…  プラズマ回収部
２４…  電力発生部
２６…  第１筒状部（第２部材）
２８…  第２筒状部（第１部材または第２部材）
３０…  カソードユニット
３２…  中間電極ユニット
４８…  中間電極（第１部材または第２部材）
５０…  中間電極（第１部材または第２部材）
５６…  絶縁フランジ
５８ａ，５８ｂ…  弾性フランジ
６０ａ，６０ｂ…  オーリング
６２…  ボルト（締結部材）
６４…  絶縁カラー
６８ａ，６８ｂ…  取付ボルト
７４ａ，７４ｂ…  凹部
７６ａ，７６ｂ…  オーリング溝
８２…  成形室（第１部材）
１２２…  筒状部（第２部材）
１３４…  アノード電極（第１部材）
【図１】
2010144185.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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