(57)【要約】      （修正有）【課題】表示素子のパッケージに適用される無気泡のパッケージ方法を提供する。【解決手段】無気泡のパッケージ方法は、まず、第一基板２０及び第一保護層２１を提供する。その内、第一保護層は、前記第一基板の表面上に形成される。次に、第二基板３０及び第二保護層３１を提供する。その内、第二保護層３１は、前記第二基板３０の表面上に形成される。続いて、第一保護層２１と第二保護層３１の表面に対して、プラズマ処理を行う。その後、プラズマ処理を行った後の第一基板２０と第二基板３０を、水溶液４０内に浸す。水溶液４０内では、第一基板２０と第二基板３０を圧接処理する。圧接する時、第一保護層２１と第二保護層３１は互いに向き合わせる。最後に、圧接した後の第一基板２０と第二基板３０を溶液内から取り出す。【選択図】図２Ｆ
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示素子のパッケージに適用される無気泡のパッケージ方法であって、
その第一保護層は、その第一基板の表面上に形成され、且つ、前記第一保護層全体は、前記表面上を覆い、且つ、少なくとも一つの凹刻パターンを具える、第一基板及び第一保護層を提供する工程と、
その第二保護層はその第二基板の表面上に形成される、第二基板及び第二保護層を提供する工程と、
前記第一保護層と前記第二保護層の表面に対してプラズマ処理を行う工程と、
プラズマ処理を行った後の前記第一基板と前記第二基板を水溶液内に浸す工程と、
前記水溶液内で、前記第一基板と前記第二基板を圧接処理し、圧接する時、前記第一保護層と前記第二保護層は互いに向き合わせる工程と、
圧接した後の前記第一基板と前記第二基板を容器内から取り出す工程とを含むことを特徴とする、無気泡のパッケージ方法。
【請求項２】
前記水溶液は、光学結合液体であることを特徴とする、請求項１に記載のパッケージ方法。
【請求項３】
前記プラズマは酸素プラズマであることを特徴とする、請求項１に記載のパッケージ方法。
【請求項４】
前記第一基板はＩＴＯガラスであることを特徴とする、請求項１に記載のパッケージ方法。
【請求項５】
前記第二基板はＩＴＯガラスであることを特徴とする、請求項１に記載のパッケージ方法。
【請求項６】
前記表示素子は電気泳動表示装置或いは極性化表示装置であることを特徴とする、請求項１に記載のパッケージ方法。
【請求項７】
前記第一保護層の材料はポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）又は、Ｎ−タイプ厚膜フォトレジスト（ＳＵ８）であることを特徴とする、請求項１に記載のパッケージ方法。
【請求項８】
前記第二保護層の材料はポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）又は、Ｎ−タイプ厚膜フォトレジスト（ＳＵ８）であることを特徴とする、請求項１に記載のパッケージ方法。
【請求項９】
前記第一保護層と前記第二保護層はスペーサ（ＳＰＡＣＥＲ）として使用することで、前記第一基板と前記第二基板の間の間隙を保持することができることを特徴とする、請求項１に記載のパッケージ方法。
【請求項１０】
前記プラズマ処理工程の後、更に、前記凹刻パターンの頂部に接着剤を添加する工程を含むことを特徴とする、請求項１に記載のパッケージ方法。
【請求項１１】
前記圧接処理工程の後、更に、前記第一基板と前記第二基板の連結箇所の周囲に密封剤を添加する工程を含むことを特徴とする、請求項１に記載のパッケージ方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はパッケージ方法に関し、特に無気泡のパッケージ方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
典型的な表示装置の例としては、液晶ディスプレイが挙げられる。液晶ディスプレイ（ＬＣＤｓ，Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｄｉｓｐｌａｙｓ）は、節電できる、重量が軽い、電磁波が発生しない、携帯可能である等の利点をもち、次第に、従来の表示装置に取って代わってきている。又、薄膜トランジスタ液晶ディスプレイ（ＴＦＴ−ＬＣＤｓ，Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ  Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｄｉｓｐｌａｙｓ）は、高解析度、高反応速度、高画質等の利点をもち、動画の表示に適用され、すでに、車のナビゲーションシステム、ノート型パソコン、ビデオカメラ等、幅広く使用されている。近年では、広視野角化技術の発展により、従来のＣＲＴテレビに取って代わって、ワイドテレビや大画面テレビが使用される流れになってきている。
【０００３】
一般的に言えば、液晶ディスプレイパネルの主な構造は、簡単に分けると、前端のカラーフィルター（ＣＦ，Ｃｏｌｏｒ  Ｆｉｌｔｅｒ）と後端のＴＦＴパネルに区分される。又、二枚のガラス基板の中間には、光を伝達することができる液晶（ＬＣ，Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ）を挟む。
【０００４】
従来の液晶滴下方式では、まず、ＴＦＴ部分のガラスとＣＦ部分のガラスを先に組合せ、次に、真空抽気方式で密閉室の空気を取り除き、その後、それを液晶溝内に浸し、更に、毛細管現象を利用してゆっくり液晶を滴下し、滴下が完成したら液晶滴下孔の密閉を行う。
【０００５】
もう一つの液晶滴下方式は、ＯＤＦ方式と呼ばれる。ＯＤＦ方式は、サイズの大きいパネルの生産に対応する製造方法である。まず、ＣＦパネル上で、ＴＦＴとＣＦパネルを組み合わせるのに必要なシーラントディスペンス（Ｓｅａｌａｎｔ  Ｄｉｓｐｅｎｓｅ）を行い、次に、ＣＦパネル上で必要な液晶量を滴上し、更に、真空環境下で、下基板と上基板の組合せを行い、その後  位置決め、オーブン等の方法を行う。
【０００６】
しかしながら、上述の方式の操作環境は、気泡が液晶層内で生じるのを避けるために、真空環境下で行う必要があり、使用上の欠陥を引き起こす。その他、真空抽気を添加する生産手順は、余分で高価な器具を必要とし、製造コストが高くなってしまう。
【０００７】
また、市場のＬＣＤパッケージ技術を現在の電子ペーパー産業のパッケージに応用する際に、水溶液類のパッケージ物（水と粒子）は依然としてＬＣＤ技術では適用性に乏しく、粒子と水はサイホン式を用いるため流動性が異なり、これにより分布が不均等となる問題を引き起こしてしまう。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明の目的は、無気泡パッケージの効果を有するパッケージ方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明が提供する、表示素子のパッケージに適用される無気泡のパッケージ方法は、まず、第一基板及び第一保護層を提供する。その内、第一保護層は第一基板の表面上に形成され、且つ、第一保護層全体は、前記表面上を覆い、少なくとも一つの凹刻パターンを具える。次に、第二基板及び第二保護層を提供する。その内、第二保護層は前記第二基板の表面上に形成される。続いて、第一保護層と第二保護層の表面に対してプラズマ処理を行う。その後、プラズマ処理を行った後の第一基板と第二基板を、水溶液内に浸す。水溶液内で、第一基板と第二基板を圧接処理し、圧接した時に第一保護層と第二保護層は互いに向き合わせる。最後に、圧接した後の第一基板と第二基板を、容器内から取り出す。
【００１０】
上述の発明の実施例において、水溶液は光学結合液体であり、プラズマは酸素プラズマであり、第一基板はＩＴＯガラスであり、第二基板はＩＴＯガラスであり、表示素子は、電気泳動表示装置或いは極性化表示装置であり、第一保護層の材料はポリジメチルシロキサン（Ｐｏｌｙｄｉｍｅｔｈｙｌｓｉｌｏｘａｎｅ，ＰＤＭＳ）又はＮ−タイプ厚膜フォトレジスト（ＳＵ８）であり、第二保護層の材料はポリジメチルシロキサン（Ｐｏｌｙｄｉｍｅｔｈｙｌｓｉｌｏｘａｎｅ，ＰＤＭＳ）又は、Ｎ−タイプ厚膜フォトレジスト（ＳＵ８）であり、第一保護層と第二保護層は、スペーサ（ＳＰＡＣＥＲ）として使用することで、前記第一基板と前記第二基板の間の間隙を保持することができる。
【００１１】
上述した発明の実施例の工程において、プラズマ処理工程の後、凹刻パターンの頂部に接着剤を添加する工程を更に含む。
【００１２】
上述した発明の実施例の工程において、圧接処理工程の後、第一基板と第二基板の連結箇所の周囲に密封剤を添加する工程を更に含む。
【発明の効果】
【００１３】
保護層の材料は、ポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）又はＮ−タイプ厚膜フォトレジスト（ＳＵ８）という疎水性高分子材料であるため、酸素プラズマ処理方式によって、保護層表面の性質を疎水性から親水性に変化させることができる。こうすると、水溶液は自動的に保護層の表面を覆うようになり、ひいては気泡を排除し、パッケージと無気泡の効果を同時に達成することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明の表示素子の断面図である。
【図２Ａ】図１における表示素子のパッケージ方法の概略図である。
【図２Ｂ】図１における表示素子のパッケージ方法の概略図である。
【図２Ｃ】図１における表示素子のパッケージ方法の概略図である。
【図２Ｄ】図１における表示素子のパッケージ方法の概略図である。
【図２Ｅ】図１における表示素子のパッケージ方法の概略図である。
【図２Ｆ】図１における表示素子のパッケージ方法の概略図である。
【図２Ｇ】図１における表示素子のパッケージ方法の概略図である。
【発明を実施するための形態】
【実施例】
【００１５】
本発明の上述の特徴と利点を一層理解できるよう、以下に実施例を挙げ、添付図面を参照しながら、詳細説明を行う。
【００１６】
図１は本発明の表示素子の断面図である。図１に示すように、表示素子１０は、第一基板２０、第一保護層２１、第二基板３０及び第二保護層３１を含む。
【００１７】
第一保護層２１は前記第一基板２０の表面上に形成され、且つ、前記第一保護層２１全体は前記表面上を覆う。従って、第一基板は、決して日光にさらされることはない。その他、第一保護層２１は、少なくとも一つの凹刻パターンを具える。第一基板２０の材料は酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）ガラスにすることができ、第一保護層２１の材料は、ポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）又はＮ−タイプ厚膜フォトレジスト（ＳＵ８）である。
【００１８】
第二保護層３１は第二基板３０の表面上に形成される。その内、第二基板３０の材料は、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）ガラスにすることができ、第二保護層３１の材料はポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）  又はＮ−タイプ厚膜フォトレジスト（ＳＵ８）である。
【００１９】
ここで、本実施例の第一保護層２１と第二保護層３１の材料に、ポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）を選択する。ポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）は、シロキサンを有するため、光学的透明性、耐熱性、及び機械特性上、傑出したパフォーマンスを発揮し、表示素子のパッケージに応用される時、スペーサ  （ＳＰＡＣＥＲ）として使用することで、第一基板２０と第二基板３０の間の間隙を保持することができる。
【００２０】
上述の発明の実施例において、表示素子は、電気泳動表示装置或いは極性化表示装置である。
【００２１】
以上は、表示素子１０の構造を説明しただけにすぎず、表示素子１０のパッケージ方法に関しては、以下に、図２Ａから図２Ｅを参照しながら詳細に説明を行う。
【００２２】
図２Ａから図２Ｅは、図１における表示素子のパッケージ方法の概略図である。図２Ａに示すように、まず、第一基板２０及び第一保護層２１を提供する。第一保護層２１は、前記第一基板２０の表面上に形成され、且つ、第一保護層２１全体は第一基板２０表面上を覆い、少なくとも一つの凹刻パターンを具える。次に、図２Ｂに示すように、第二基板３０及び第二保護層３１を提供し、第二保護層３１は第二基板３０の表面上に形成される。
【００２３】
基板上に保護層を形成させる方法は、従来の方法と同様であり、ここでは記載を省略する。
【００２４】
続いて、図２Ｃに示すように、第一基板２０上に形成された第一保護層２１に対してプラズマ処理を行う。その内、プラズマは酸素プラズマである。
【００２５】
その他、図２Ｄに示すように、第二基板３０上に形成された第二保護層３１に対してプラズマ処理を行う。その内、プラズマは酸素プラズマである。
【００２６】
例を挙げると、上述の酸素プラズマ処理の操作条件は以下の通りである。まず、真空を３５ｍｔｏｒｒまで抽気し、更に、酸素を７５ｍｔｏｒｒまで注入する。そのＲＦ源のパワーは１００Ｗである。酸素プラズマ処理によって、ポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）の表面は、疎水性から親水性に変化する。
【００２７】
続いて、図２Ｅに示すように、プラズマ処理を行った後の第一基板２０と第二基板３０を水溶液４０内に浸す。その内、水溶液４０は光学結合液体にすることができる。ポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）の表面は、既に酸素プラズマによって
親水性に変化しているため、水溶液４０は自動的にポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）材料の表面を覆い、その間には気泡が生じない。
【００２８】
その後、図２Ｆに示すように、水溶液４０内で、第一基板２０と第二基板３０を圧接処理する。その内、圧接する際は、第一保護層２１と第二保護３１層を互いに向き合わせる。ポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）はシロキサンを具えているため、光学的透明性、耐熱性、及び機械特性上、優れたパフォーマンスを発揮し、表示素子１０のパッケージに応用する時、スペーサ（ＳＰＡＣＥＲ）として使用することで、第一基板２０と第二基板３０の間の間隙を保持することができる。また、その第一基板２０と第二基板３０の間の間隙は、水溶液４０を充填することができる。
【００２９】
最後に、図２Ｇに示すように、圧接した後の第一基板２０と前記第二基板３０を容器内から取り出し、これにより、表示素子のパッケージ方法は完成する。
【００３０】
説明が必要なこととして、上述の保護層の材料は、ポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）だけを例に挙げて説明しているが、これをもって本発明を限定するものではない。
【００３１】
注意する必要があるのは、これらの表示素子１０は、その他のパッケージ工程を更に含むことができ、これにより、パッケージの効果を高めることができる。例を挙げると、プラズマ処理した後、接着剤を凹刻パターンの頂部に添加する工程を更に含むことができ、接着剤の作用によって、第一保護層２１と第二保護層３１の連結関係を強化できる。その他、圧接処理工程の後、密封剤を第一基板２０と第二基板３０連結箇所の周囲に添加する工程を更に含むことができ、密封剤は硬化樹脂にすることができる。
【００３２】
上述したように、本発明のパッケージ方法は、表示素子上に応用することができる。ポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）は疎水性の高分子材料であるため、ポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）に対して表面処理を行い、しかも、酸素プラズマ処理方式によってその局部を一時的に親水領域として定義させることで、充填液は自動的にポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）材料の表面を覆うことになり、ひいては気泡を排除し、パッケージと無気泡の効果を同時に達成することができる。
【００３３】
上述したように、本発明ではいくつかの実施例を開示しているが、本発明の特許範囲を限定するものではない。当該技術分野を熟知する者が、本発明の主旨及び範囲を逸脱せずに行う各種の改良又は変更は、後述の請求項に当然含まれるものとする。
【符号の説明】
【００３４】
１０    表示素子
２０    第一基板
２１    第一保護層
３０    第二基板
３１    第二保護層
４０    水溶液
【図１】
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【図２Ａ】
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【図２Ｂ】
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【図２Ｃ】
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【図２Ｄ】
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【図２Ｅ】
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【図２Ｆ】
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【図２Ｇ】
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