(57)【要約】【課題】装置のトラブル発生時における基板回収を速やかに行うこと。【解決手段】  複数枚の基板を収納するキャリアが載置されると共に、受け渡し手段が前記キャリアに対してアクセスする受け渡し用載置部と、前記キャリアが載置される複数の退避用載置部と、これら退避用載置部と前記受け渡し用載置部との間でキャリアの移載を行うキャリア搬送手段とを備えた塗布、現像装置において、当該装置にトラブルが発生したときに、トラブル発生時に前記処理部における各モジュールに置かれている基板を元のキャリアに回収する順序を決定し、前記決定された回収順序に従って、キャリアを前記受け渡し用載置部と退避用載置部との間で移載するように前記キャリア搬送手段を制御して、前記決定された回収順序に従って、当該基板を前記受け渡し用載置部上の元のキャリアに搬送する。【選択図】図１
2010171276.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数枚の基板を収納するキャリアが載置される受け渡し用載置部と、この受け渡し用載置部に載置されたキャリアに対して基板の受け渡しを行う受け渡し手段と、を備えたキャリア載置部と、
このキャリア載置部から前記受け渡し手段により受け渡された基板に対して塗布膜を形成すると共に露光後の基板に対する現像を行うために、基板に対して処理を行うか又は基板が載置される複数のモジュールと、これら複数のモジュールの間で基板の搬送を行う基板搬送手段と、を備えた処理部と、を有し、
ロット毎に用意されたキャリアから前記処理部に払い出された基板に対して当該処理部にて処理を行った後、この基板を元のキャリアに戻すように基板の搬送が行われる塗布、現像装置において、
前記キャリア載置部に設けられ、前記キャリアが載置される複数の退避用載置部と、
これら退避用載置部と前記受け渡し用載置部との間でキャリアの移載を行うキャリア搬送手段と、
前記塗布、現像装置にトラブルが発生したときに、トラブル発生時に前記処理部における各モジュールに置かれている基板を元のキャリアに回収するために、基板の回収順序を決定する回収スケジュール作成手段と、
前記決定された回収順序に従って、キャリアを前記受け渡し用載置部と退避用載置部との間で移載するように前記キャリア搬送手段を制御する手段と、
前記決定された回収順序に従って、当該基板を前記受け渡し用載置部上の元のキャリアに搬送するように前記受け渡し手段及び基板搬送手段を制御する手段と、を備えたことを特徴とする塗布、現像装置。
【請求項２】
基板を保持するための２枚の保持アームを含む基板搬送手段により、各モジュールに置かれている基板を、下流側のモジュールから上流側のモジュールに1枚ずつ移動する一連の操作を搬送サイクルと呼ぶと、搬送サイクル毎にモジュールとこのモジュールに置かれた基板とを対応させた搬送スケジュールを記憶する記憶部を備え、
前記回収スケジュール作成手段は、前記搬送スケジュールに基づいて、前記基板の回収順序を決定することを特徴とする請求項１記載の塗布、現像装置。
【請求項３】
前記基板の回収順序は、キャリア載置部に近いモジュールに置かれた基板が早い順番となるように決定されることを特徴とする請求項１又は２記載の塗布、現像装置。
【請求項４】
前記複数のキャリアを一時的に保管するための保管部を備え、前記退避用載置部はこの保管部に設けられた前記キャリアの載置部を兼用していることを特徴とする請求項1ないし３のいずれか一つに記載の塗布、現像装置。
【請求項５】
前記保管部は前記受け渡し用載置部の上方側又は下方側に設けられることを特徴とする請求項４記載の塗布、現像装置。
【請求項６】
前記保管部は前記受け渡し用載置部の向かい側に設けられることを特徴とする請求項４又は５記載の塗布、現像装置。
【請求項７】
前記退避用載置部は、外部との間でキャリアの受け渡しを行う搬入出用載置部を含み、前記キャリア搬送手段によりこの搬入出用載置部と前記保管部内の他の退避用受け渡し部又は受け渡し用載置部との間でキャリアの移載が行われることを特徴とする請求項４ないし６のいずれか一つに記載の塗布、現像装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば半導体ウエハやＬＣＤ基板（液晶ディスプレイ用ガラス基板）等の基板に対してレジスト液の塗布処理や、露光後の現像処理等を行う塗布、現像装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体デバイスやＬＣＤ基板の製造プロセスにおいては、フォトリソグラフィと呼ばれる技術により、基板に対してレジストパターンの形成が行なわれている。この技術は、例えば半導体ウエハ（以下ウエハという）などの基板に、レジスト液を塗布して当該ウエハの表面に液膜を形成し、フォトマスクを用いて当該レジスト膜を露光した後、現像処理を行なうことにより所望のパターンを得る、一連の工程により行われている。
【０００３】
このような処理は、一般にレジスト液の塗布や現像を行う塗布、現像装置に露光装置を接続したレジストパターン形成装置を用いて行われる。この装置では、例えば図１６に示すように、多数枚のウエハを収納したキャリア１０がキャリア載置部１Ａのキャリアステージ１１に搬入され、キャリア１０内のウエハは受け渡しアーム１２により処理部１Ｂに受け渡される。そして処理部１Ｂ内において、反射防止膜形成モジュール（図示せず）における反射防止膜の形成や、塗布モジュール１３におけるレジスト膜の形成が行われた後、インターフェイス部１Ｃを介して露光装置１Ｄに搬送される。一方露光処理後のウエハは、再び処理部１Ｂに戻されて現像モジュール１４にて現像処理が行われ、この後元のキャリア１０内に戻されるようになっている。前記反射防止膜やレジスト膜の形成処理の前後や現像処理の前後にはウエハの加熱処理や冷却処理が行われ、これら加熱処理を行う加熱モジュールや冷却処理を行う冷却モジュール等は、棚モジュール１５（１５ａ〜１５ｃ）に多段に配列されており、ウエハは処理部１Ｂに設けられたメインアーム１６（１６Ａ，１６Ｂ）により、各モジュール同士の間で搬送されるようになっている。
【０００４】
ここでウエハは上記の処理を施されるにあたり、特許文献１に記載されるように、処理予定の全てのウエハについて、予め各々がどのタイミングでどのモジュールに搬送されるかを定めた搬送スケジュール（図１７参照）に従って搬送される。この搬送スケジュールの縦軸はサイクル、横軸は搬送されるモジュールを夫々示している。なおＦＯＵＰはキャリア、Ｍ１〜Ｍ６はモジュールであり、Ｌ１−１はロット１の１枚目のウエハ、Ｌ２−３はロット２の３枚目のウエハを意味している。この際一つのロットに対して一つのキャリアが割り当てられており、この例では一つのキャリアには３枚のウエハが収納されている。
【０００５】
このように、通常は処理のロット毎にキャリア１０が用意されており、一のキャリアから処理部１Ｂに払い出されたウエハは、当該処理部１Ｂ及び露光装置１Ｄにて所定の処理が行われた後、元のキャリア１０に収納される。この際、前記キャリアステージ１１には複数個例えば４個のキャリア１０が載置され、例えば前記受け渡しアーム１２はこれら全てのキャリア１０にアクセスできるように構成されている。そして処理部１Ｂにウエハを払い出した後の空のキャリア１０は、キャリアステージ１１上でウエハが所定の処理を終了するまで待機し、前記４個のキャリア１０内に処理が終了したウエハＷが戻されてから、処理済みのウエハを収納したキャリアが未処理のウエハを収納したキャリアと交換されるようになっている。一方処理部１Ｂ及び露光装置１Ｄのスループットは１３０枚／時程度であって、処理部１Ｂ及び露光装置１Ｄは例えば同時に例えば１３０枚のウエハに対して夫々処理を行うことができるように構成されている。
【０００６】
ところで近年一台の塗布、現像装置において、他品種少量生産を行うことが求められている。この場合一つの品種に一つのキャリアが割り当てられることから、一つのキャリアに収納されるウエハの枚数が少なくなり、既述のように４個のキャリア１０のウエハＷに対して全ての処理を行ない、処理済みのウエハＷを元のキャリア１０に戻してから、新たなキャリアと交換するという手法では、キャリアステージ１１に載置された全てのキャリア１０から処理部１Ｂへ払い出されるウエハＷの総数が少なくなる。このため処理部１Ｂ及び露光装置１Ｄでは、本来であれば処理を行うことができる状態のモジュールにウエハが行き渡らず、結果としてスループットが低下してしまう。
【０００７】
このため本発明者らは、キャリアステージとは別にキャリアを一時的に保管するストッカを設け、一つのキャリアに収納されるウエハの枚数が少ない場合であっても、一つのキャリアからウエハを払い出した後、当該キャリアをストッカに退避させ、新たなキャリアをキャリアステージに載置してウエハの払い出しを行うことによって、キャリアステージに載置された全てのキャリアから処理部へ払い出されるウエハの総数を多くし、これにより処理部及び露光装置におけるモジュールの稼働率を上げて、スループットの低下を抑えることを検討している。
【０００８】
ところで上述の塗布、現像装置では、モジュールや搬送手段の故障等、上述の搬送スケジュール通りにウエハの搬送を行うことができない場合には、アラームを出力し、ウエハの回収を行った後、装置をシャットダウンさせることが行われている。この際処理部及び露光装置のウエハＷは、トラブル時に置かれているモジュールから直ちに元のキャリア内に回収されるようになっている。
【０００９】
ここで従来のようにストッカが設けられていない場合には、キャリアステージに設けられているキャリアに、処理部及び露光装置にある全てのウエハが収納されるので速やかに回収作業を行うことができるが、キャリアのストッカを設ける構成では、トラブル発生時にウエハＷを戻そうとする元のキャリアがキャリアステージ上に存在しない場合が発生するため、前記回収作業に混乱を生じることが懸念される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特開２００４-１９３５９７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明は、このような事情の下になされたものであり、その目的は、装置のトラブル発生時における基板回収を速やかに行う技術を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
このため本発明の塗布、現像装置は、複数枚の基板を収納するキャリアが載置される受け渡し用載置部と、この受け渡し用載置部に載置されたキャリアに対して基板の受け渡しを行う受け渡し手段と、を備えたキャリア載置部と、
このキャリア載置部から前記受け渡し手段により受け渡された基板に対して塗布膜を形成すると共に露光後の基板に対する現像を行うために、基板に対して処理を行うか又は基板が載置される複数のモジュールと、これら複数のモジュールの間で基板の搬送を行う基板搬送手段と、を備えた処理部と、を有し、
ロット毎に用意されたキャリアから前記処理部に払い出された基板に対して当該処理部にて処理を行った後、この基板を元のキャリアに戻すように基板の搬送が行われる塗布、現像装置において、
前記キャリア載置部に設けられ、前記キャリアが載置される複数の退避用載置部と、
これら退避用載置部と前記受け渡し用載置部との間でキャリアの移載を行うキャリア搬送手段と、
前記塗布、現像装置にトラブルが発生したときに、トラブル発生時に前記処理部における各モジュールに置かれている基板を元のキャリアに回収するために、基板の回収順序を決定する回収スケジュール作成手段と、
前記決定された回収順序に従って、キャリアを前記受け渡し用載置部と退避用載置部との間で移載するように前記キャリア搬送手段を制御する手段と、
前記決定された回収順序に従って、当該基板を前記受け渡し用載置部上の元のキャリアに搬送するように前記受け渡し手段及び基板搬送手段を制御する手段と、を備えたことを特徴とする。
【００１３】
この際、基板を保持するための２枚の保持アームを含む基板搬送手段により、各モジュールに置かれている基板を、下流側のモジュールから上流側のモジュールに1枚ずつ移動する一連の操作を搬送サイクルと呼ぶと、搬送サイクル毎にモジュールとこのモジュールに置かれた基板とを対応させた搬送スケジュールを記憶する記憶部を備え、前記回収スケジュール作成手段は、前記搬送スケジュールに基づいて、前記基板の回収順序を決定するように構成してもよい。また前記基板の回収順序は、キャリア載置部に近いモジュールに置かれた基板が早い順番となるように決定されることが好ましい。
【００１４】
また前記複数のキャリアを一時的に保管するための保管部を備え、前記退避用載置部はこの保管部に設けられた前記キャリアの載置部を兼用するものであってもよい。前記保管部は前記受け渡し用載置部の上方側又は下方側に設けられるものであってもよいし、前記受け渡し用載置部の向かい側に設けられるものであってもよい。
【００１５】
さらに前記退避用載置部は、外部との間でキャリアの受け渡しを行う搬入出用載置部を含み、前記キャリア搬送手段によりこの搬入出用載置部と保管部内の他の退避用受け渡し部又は受け渡し用載置部との間でキャリアの移載が行われるように構成してもよい。
【発明の効果】
【００１６】
本発明では、塗布、現像装置にトラブルが発生したときに、トラブル発生時に前記処理部における各モジュールに置かれている基板を元のキャリアに回収する順序を決定し、この回収順序に従って、キャリアを受け渡し用載置部と退避用載置部との間で移載しているので、装置のトラブル発生時における基板回収を速やかに行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本発明に係るレジストパターン形成装置の実施の形態を示す平面図である。
【図２】前記レジストパターン形成装置を示す斜視図である。
【図３】前記レジストパターン形成装置におけるキャリア載置部を示す斜視図である。
【図４】前記キャリア載置部をキャリア搬送手段側から見た正面図である。
【図５】キャリアを示す正面図である。
【図６】前記レジストパターン形成装置における処理部内のウエハＷの搬送経路を示す平面図である。
【図７】前記レジストパターン形成装置における制御部の一部を示す構成図である。
【図８】前記レジストパターン形成装置の作用を説明するためのフローチャートである。
【図９】前記レジストパターン形成装置の作用を説明するための平面図である。
【図１０】前記レジストパターン形成装置にて用いられる搬送スケジュールの一例を示す説明図である。
【図１１】前記レジストパターン形成装置の作用を説明するための工程図である。
【図１２】本発明の他の実施の形態を示す斜視図である。
【図１３】本発明の他の実施の形態の作用を説明するためのフローチャートである。
【図１４】本発明のさらに他の実施の形態のキャリア載置部を示す斜視図である。
【図１５】本発明のさらに他の実施の形態のキャリア載置部を示す断面図である。
【図１６】従来の塗布、現像装置を示す平面図である。
【図１７】従来の搬送スケジュールの一例を示す構成図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
先ず本発明の塗布、現像装置に露光装置を接続したレジストパターン形成装置２について、図面を参照しながら説明する。図１は、前記装置の一実施の形態の平面図を示し、図２は同概略斜視図である。図中Ｂ１は、基板例えばウエハＷが例えば１３枚密閉収納されたキャリアＣを搬入出するためのキャリア載置部であり、Ｂ２は前記ウエハＷに対して塗布、現像処理を行う処理部、Ｂ３はインターフェイス部、Ｂ４は露光装置である。前記キャリア載置部Ｂ１は例えば図３に示すように、キャリアＣの受け渡し用載置部２１（２１１〜２１４）及び退避用載置部２２（２２１〜２２８）が多段に設けられたキャリアステーション２と、このキャリアステーション２から見て前方の壁面に設けられる開閉部２３と、前記受け渡し用載置部２１に置かれたキャリアＣからウエハＷを取り出し、後述する処理部Ｂ２へ受け渡すための受け渡し手段Ａ１とが設けられている。前記キャリア載置部Ｂ１は例えば筐体２０により、その周囲を囲まれている。
【００１９】
前記キャリアステーション２は、例えば前記受け渡し用載置部２１（２１１〜２１４）が複数個設けられた載置ステージ２４と、この載置ステージ２４の上方側に設けられ、キャリアＣを一時的に保管する保管部をなすストッカ２５とを備えている。このストッカは、複数段例えば２段に亘って設けられた棚部２６，２７を備えている。前記受け渡し用載置部２１は、前記受け渡し手段Ａ１によりアクセスされる載置部であり、前記載置ステージ２４上に図中Ｙ方向に複数個例えば４個並んで配列され、載置されるキャリアＣが固定されると共に、図中Ｘ方向にスライド自在に構成されており、キャリアＣに設けられた図示しないウエハ取り出し口を前記開閉部２３に接続できるようになっている。
【００２０】
この例においては、前記載置ステージ２４上の受け渡し用載置部２１１〜２１４の内、例えば２個の受け渡し用載置部２１１，２１２は、キャリアＣから処理部Ｂ２へウエハＷを受け渡すための搬入用受け渡し用載置部、残りの２個の受け渡し用載置部２１３，２１４が処理部Ｂ２からキャリア内にウエハＷを戻すための搬出用受け渡し用載置部として割り当てられている。そして前記受け渡し手段Ａ１は、これら４個の受け渡し用載置部２１１〜２１４に対してウエハＷの受け渡しを行うために、図中Ｘ方向に移動自在、進退自在及び鉛直軸周りに回転自在に構成されている。
【００２１】
また前記ストッカ２５には、キャリアＣをその上に載置して一時的に保管するための載置部が多数配列されている。この例では、ストッカ２５内の載置部が前記退避用載置部２２を兼用している。前記退避用載置部２２は、前記ストッカ２５内の例えば下段側の棚部２６に、複数個例えば４個の載置部２２１〜２２４が前記Ｙ方向に並んで配列されると共に、上段側の棚部２７に、複数個例えば４個の載置部２２５〜２２８が前記Ｙ方向に並んで配列されている。ここで当該上段側の退避用載置部２２５〜２２８の内、例えば２個の退避用載置部２２５，２２６は外部から当該塗布、現像装置にキャリアＣを搬入するときにキャリアＣが置かれる搬入用載置部として用いられ、残りの２個の退避用載置部２２７，２２８は当該塗布、現像装置から外部へキャリアＣを搬出するときにキャリアＣが置かれる搬出用載置部を兼用している。前記搬入用載置部２２５，２２６及び搬出用載置部２２７，２２８は本発明の搬入出用載置部に相当するものである。またこれら退避用載置部２２１〜２２８は、その上にキャリアＣが載置され、固定されるように構成されている。
【００２２】
前記上段側の棚部２７の上方側には、図４に示すように図中Ｙ方向に伸びるレールＲが配設されており、このレールＲには、当該塗布、現像装置と外部の他の処理装置との間でキャリアＣを搬送する外部キャリア搬送手段２００が設けられている。この外部キャリア搬送手段２００は、キャリアＣを保持する把持部２０１を備えており、この把持部２０１はキャリアＣの側方を左右方向から挟むように支持するように構成されている。また外部キャリア搬送手段２００は、レールＲに沿って移動自在に構成されると共に、昇降手段２０２によって上段側の棚部２７の搬入用載置部２２５，２２６及び搬出用載置部２２７，２２８に対してキャリアＣを載置したり、これら搬入用載置部２２５，２２６及び搬出用載置部２２７，２２８からキャリアＣを受け取ったりするために上下方向に移動自在に構成されている。
【００２３】
さらにキャリア載置部Ｂ１は、図１〜図３に示すように、キャリアステーション２の各載置部２１，２２に対してキャリアＣの受け渡しを行うためのキャリア搬送手段３を備えている。このキャリア搬送手段３は、例えば第１のアーム３１、第２のアーム３２、保持アーム３３よりなる多関節アームであり、進退自在に構成されると共に、回転機構３４により鉛直軸まわりに回転自在に構成されている。
【００２４】
ここでキャリアＣの形状について説明すると、図２〜図５に示すように、当該キャリアＣの上面には支持部４１を介して板状の保持板４２が設けられている。そして前記保持アーム３３は、例えば図５に示すように、前記キャリアＣの保持板４２の周囲を囲み、キャリアＣを吊り下げた状態で支持するように構成されている。
【００２５】
このようなキャリア搬送手段３は、昇降軸３５に沿って昇降自在に構成されると共に、当該昇降軸３５が例えばキャリア載置部Ｂ１の天井部において、図１中Ｙ方向に伸びるように設けられたガイドレール３６に沿って移動自在に構成され、こうしてキャリアステーション２の受け渡し用載置部２１１〜２１４及び退避用載置部２２１〜２２８の各々に対して、キャリアＣの移載を行うように構成されている。またキャリア搬送手段３は、キャリアＣの移載作業を行わないときには退避領域３０に移動するように構成されている。この退避領域３０は、後述するようにオペレータがキャリアステーション２に直接キャリアＣを運び入れて載置する際に、オペレータの移動領域と干渉しない位置に設けられ、例えば図１に示すように、キャリア搬送手段３側からキャリアステーション２を見たときに、キャリアステーション２の左右方向のいずれか一方側に設けられている。
【００２６】
このような受け渡し用載置部２１１〜２１４及び上段の退避用載置部２２５〜２２８には、例えば図３に示すようにキャリアＣの載置位置を確認するための位置センサ２３１及び、キャリアＣの有無を確認するための有無センサ２３２が設けられると共に、中段の退避用載置部２２１〜２２４には前記位置センサ２３１が設けられている。これら位置センサ２３１や有無センサ２３２としては、反射型光センサや、キャリアＣをこれら載置部２１１〜２１４、２２１〜２２８に載置したときに、当該キャリアＣの底部に当たってその位置や有無を検出するストライカーの動きを見るセンサ等が用いられる。
【００２７】
前記キャリア載置部Ｂ１の奥側には処理部Ｂ２が接続されており、この処理部Ｂ２には手前側から順に加熱・冷却系のモジュールを多段化した棚モジュールＵ１〜Ｕ３と、これら棚モジュールＵ１〜Ｕ３及び後述する液処理モジュールＵ４，Ｕ５の各モジュール間のウエハＷの受け渡しを行う基板搬送手段をなすメインアームＡ２，Ａ３とが交互に配列して設けられている。即ち、棚モジュールＵ１，Ｕ２，Ｕ３及びメインアームＡ２，Ａ３はキャリア載置部Ｂ１側から見て前後一列に配列されており、各々の接続部位には図示しないウエハ搬送用の開口部が形成されていて、ウエハＷは処理部Ｂ２内を一端側の棚モジュールＵ１から他端側の棚モジュールＵ３まで自由に移動できるようになっている。
【００２８】
前記棚モジュールＵ１〜Ｕ３は、液処理モジュールＵ４，Ｕ５にて行なわれる処理の前処理及び後処理を行うための各種モジュールを複数段例えば１０段に積層した構成とされており、その組み合わせは、受け渡しモジュールＴＲＳ、ウエハＷを所定温度に調整するための温調モジュールＣＰＬ、ウエハＷの加熱処理を行うための加熱モジュールＣＬＨ、レジスト液の塗布後にウエハＷの加熱処理を行うための加熱モジュールＣＰＨ、現像処理前にウエハＷを加熱処理する加熱モジュールＰＥＢ、現像処理後のウエハＷを加熱処理する加熱モジュールＰＯＳＴ等が含まれている。
【００２９】
また液処理モジュールＵ４，Ｕ５は、例えば図２に示すように、ウエハＷに対して反射防止膜形成用の薬液を塗布する反射防止膜形成モジュールＢＣＴ、ウエハＷにレジスト液を塗布する塗布モジュールＣＯＴ、ウエハＷに現像液を供給して現像処理する現像モジュールＤＥＶ等を複数段、例えば５段に積層して構成されている。
【００３０】
前記処理部Ｂ２における棚モジュールＵ３の奥側には、インターフェイス部Ｂ３を介して露光装置Ｂ４が接続されている。このインターフェイス部Ｂ３は、処理部Ｂ２と露光装置Ｂ４との間に前後に設けられる第１の搬送室５１及び第２の搬送室５２により構成されており、夫々に昇降自在及び鉛直軸周りに回転自在かつ進退自在な第１の搬送アーム５３及び第２の搬送アーム５４を備えている。さらにまた、第１の搬送室５１には、例えば受け渡しモジュール等が上下に積層して設けられた棚モジュールＵ６が設けられている。
【００３１】
前記メインアームＡ（Ａ２，Ａ３）は、前記処理部Ｂ２内の全てのモジュール（ウエハＷが置かれる場所）、例えば棚モジュールＵ１〜Ｕ３の各モジュール、液処理モジュールＵ４，Ｕ５の各モジュールとの間でウエハの受け渡しを行うように構成されている。このために進退自在、昇降自在、鉛直軸回りに回転自在、Ｙ軸方向に移動自在に構成されると共に、ウエハＷの裏面側周縁領域を支持するための２本の保持アームを備えており、これら保持アームが互いに独立して進退できるように構成されている。
【００３２】
このようなレジストパターン形成システムにおけるウエハＷの流れの一例について図６を参照して説明すると、キャリア載置部Ｂ１の載置部２１１（２１２）に載置されたキャリアＣ内のウエハＷは、処理部Ｓ２の棚モジュールＵ１の受け渡しモジュールＴＲＳに受け渡され、ここから温調モジュールＣＰＬ１→反射防止膜形成モジュールＢＣＴ→加熱モジュールＣＬＨ→温調モジュールＣＰＬ２→塗布モジュールＣＯＴ→加熱モジュールＣＰＨ→インターフェイス部Ｂ３→露光装置Ｂ４の経路で搬送されて、ここで露光処理が行われる。一方露光処理後のウエハＷは、処理部Ｂ２に戻されて、加熱モジュールＰＥＢ→温調モジュールＣＰＬ３→現像モジュールＤＥＶ→加熱モジュールＰＯＳＴ→温調モジュールＣＰＬ４の経路で搬送され、ここからキャリア載置部Ｂ１のキャリアＣに戻される。
【００３３】
この際、メインアームＡ２，Ａ３は、処理部Ｂ２内では、棚モジュールＵ１の受け渡しモジュールＴＲＳからウエハを受け取り、当該ウエハを温調モジュールＣＰＬ等を介して、既述の搬送経路に沿って、順次加熱モジュールＣＰＨまで搬送した後、露光処理後のウエハＷをインターフェイス部Ｂ３から受け取り、当該ウエハを加熱モジュールＰＥＢ等を介して、既述の搬送経路に沿って、順次受け渡しモジュールＴＲＳまで搬送するように、各モジュールに置かれているウエハＷを、下流側のモジュールから上流側のモジュールに1枚ずつ移動する一連の操作（搬送サイクル）を行うように制御されている。
【００３４】
そして上述のレジストパターン形成装置は、各処理モジュールのレシピの管理や、ウエハＷの搬送フロー（搬送経路）のレシピの管理、各処理モジュールにおける処理や、外部キャリア搬送手段２００、キャリア搬送手段３、受け渡し手段Ａ１、メインアームＡ２，Ａ３等の駆動制御を行うコンピュータからなる制御部６を備えている。この制御部６は、例えばコンピュータプログラムからなるプログラム格納部を有しており、このプログラム格納部には、レジストパターン形成装置全体の作用、つまりウエハＷに対して所定のレジストパターンを形成するための、各モジュールにおける処理やウエハＷの搬送等が実施されるようにステップ（命令）群を備えた例えばソフトウェアからなるプログラムが格納される。そして、これらプログラムが制御部６に読み出されることにより、制御部６によってレジストパターン形成装置全体の作用が制御される。なおこのプログラムは、例えばフレキシブルディスク、ハードディスク、コンパクトディスク、マグネットオプティカルディスク、メモリーカード等の記憶媒体に収納された状態でプログラム格納部に格納される。
【００３５】
図７はこの制御部の構成を示すものであり、実際にはＣＰＵ（中央処理モジュール）、プログラム及びメモリなどにより構成されるが、本発明では、トラブル発生時のウエハの回収に特徴があるので、ここではそれに関連する構成要素の一部をブロック化して説明するものとする。図７中６０はバスであり、このバス６０にレシピ格納部６１、レシピ選択部６２、搬送スケジュール格納部６３、移載スケジュール格納部６４、アラーム表示部６５、回収制御部６６、搬送制御部６７、入力部６８、退避制御部６９が接続されている。
【００３６】
レシピ格納部６１は、例えばウエハＷの搬送経路が記録されている搬送レシピや、ウエハＷに対して行う処理条件などが記録された複数のレシピが格納されている。搬送スケジュール格納部６２とは記憶部に相当する手段であり、前記搬送レシピに基づいて、ロット内の全てのウエハについてどのタイミングでどのモジュールに搬送するかといった内容のスケジュール、例えばウエハに順番を割り当て、ウエハの順番と各モジュールとを対応づけて搬送サイクルを指定した搬送サイクルデータを時系列に並べて作成された搬送スケジュールを格納する手段である。
【００３７】
移載スケジュール格納部６４とは、キャリアステーション２におけるキャリアＣの移載スケジュールを格納する手段である。ここで前記受け渡し用載置部２１１〜２１４及び退避用載置部２２１〜２２８には夫々アドレスが付されており、キャリアＣにも夫々固有のＩＤが付されているので、この移載スケジュールにはキャリアＣと受け渡し用載置部２２１〜２１４及び退避用載置部２２１〜２２８とを時系列で対応づけ、どのタイミングでとのキャリアＣをどの載置部２１１〜２１４、２２１〜２２８に移載するかが時系列で記載されている。
【００３８】
アラーム表示部６５とは、装置に何らかのトラブルが発生したときにアラームを表示する手段である。前記トラブルとは、各種モジュールや露光装置Ｂ４の異常、メインアームＡ２，Ａ３や受け渡し手段Ａ１の異常等が発生し、搬送スケジュールに従ってウエハＷの搬送を行うことができない場合をいい、アラーム表示とは、アラーム音の発生や、アラームランプの点灯、後述する入力画面へのアラーム表示などがある。
【００３９】
回収制御部６６とは、処理途中のウエハＷを、対応する元のキャリアＣ内に回収するための回収作業を実行する手段であり、前記搬送スケジュールに基づいて、前記トラブル発生時に基板が置かれているモジュールから元のキャリアに回収する順序を決定する回収スケジュール作成手段を備え、例えば装置にトラブルが発生したときに、オペレータの指示に基づいて前記回収作業を実行するように構成されている。この回収作業については後述する。搬送制御部６７は、キャリア搬送手段３や、受け渡し手段Ａ１、メインアームＡ２，Ａ３等を制御する手段であり、搬送スケジュールや移載スケジュール、回収スケジュールを参照して所定の搬送作業を実行するように構成されている。入力部６８とは、入力画面を備え、オペレータによる回収指令やシャットダウン指令等の入力を行うことができるように構成された手段であり、この入力画面にアラーム表示も表示されるようになっている。なお退避制御部６９については後述する。
【００４０】
続いて本実施の形態の作用説明を図８及び図９を参照して行う。先ず基板であるウエハＷに対する処理を開始するのに先立ち、オペレータがレシピの選択を行うが、ここでは既述のように、塗布膜として反射防止膜を形成し、この上にレジスト膜を形成する場合を例にして説明する。先ずオペレータはロットＬ１〜Ｌ８のウエハに対して、反射防止膜とレジスト膜とを備えた塗布膜を形成する場合のレシピと、搬送スケジュール及び移載スケジュールを選択する。このとき、各ロットＬには３枚のウエハが収納されていることとし、ロットＬ１→ロットＬ２→ロットＬ３→ロットＬ４→ロットＬ５→ロットＬ６→ロットＬ７→ロットＬ８の順序で、キャリア載置部Ｂ１に載置されたキャリアＣからウエハＷが処理部Ｂ２へ払い出されることとする。次いで制御部６は選択された搬送スケジュール及び移載スケジュールを参照しながら、各部に指示を出力し、ロットＬ１から順にウエハを処理部Ｂ２に払い出し、処理を実行する。
【００４１】
この際、キャリア載置部Ｂ１では、先ず外部キャリア搬送手段２００により、ロットＬ１のキャリアＣ１から順に、ロットＬ２のキャリアＣ２→ロットＬ３のキャリアＣ３→ロットＬ４のキャリアＣ４→ロットＬ５のキャリアＣ５→ロットＬ６のキャリアＣ６→ロットＬ７のキャリアＣ７→ロットＬ８のキャリアＣ８が搬入用載置部２２５，２２６に順次搬送され、ここからキャリア搬送手段３により、移載スケジュールに従ってキャリアＣ１〜Ｃ８がストッカ２５内における他の退避用載置部２２１〜２２４，２２７，２２８又は搬入用受け渡し用載置部２１１，２１２に移載される。
【００４２】
そしてキャリアＣ１が搬入用受け渡し用載置部２１１に載置され、蓋体が開かれた後、キャリアＣ１内のウエハＬ１−１〜Ｌ１−３が受け渡しアームＡ１により受け取られて、処理部Ｂ２に払い出される。ここでウエハＬ１−１は、ロット１の１枚目のウエハ、ウエハＬ１−３は、ロットＬの３枚目のウエハを意味する。
【００４３】
続いて移載スケジュールに基づいて、キャリア搬送手段３により、次のキャリアＣ２が例えば搬入用受け渡し用載置部２１２上に移載され、キャリアＣ２のウエハＬ２−１〜Ｌ２−３が受け渡しアームＡ１により処理部Ｂ２に払い出される。こうしてキャリアＣ３→キャリアＣ４→キャリアＣ５→キャリアＣ６→キャリアＣ７→キャリアＣ８の順にキャリアＣが搬入用受け渡し用載置部２１１，２１２のいずれかに移載され、受け渡しアームＡ１により順次処理部Ｂ２へと払い出されるが、この際ウエハＷが払い出されて空になったキャリアＣは、予め移載スケジュールにて決められた空いている退避用載置部２２１〜２２８に移載され、搬入用受け渡し用載置部２１１，２１２には次のキャリアが搬入される。
【００４４】
一方処理部Ｂ２では、キャリアＣ１のウエハから順に、前記搬送スケジュールに従って、メインアームＡ２，Ａ３により、所定のモジュールに搬送される。ここでメインアームＡ２，Ａ３では、既述のように２本以上の保持アームにより、下流側のモジュール内のウエハから順次一つ順番が後のモジュールに移し替えることにより、順番の小さいウエハが順番の大きいウエハよりも下流側のモジュールに位置する状態を形成し、これにより一つサイクル（搬送サイクル）を実行し、当該サイクルを終了した後、次のサイクルに移行し、各サイクルを順次実行することにより、既述の経路で順番にウエハが順次搬送されて所定の処理が行われるようになっている。
【００４５】
こうして処理が終了したキャリアＣ１のウエハは、搬出用受け渡し用載置部２１３，２１４に置かれた元のキャリアＣ１内に受け渡し手段Ａ１により戻される。ここでキャリアＣ１は、キャリアステーション２内において、前記移載スケジュールに従ってキャリア搬送手段３により、搬入用受け渡し用載置部２１１→退避用載置部→搬出用受け渡し用載置部２１３（２１４）の経路で移載されている。このようにキャリアＣ２〜Ｃ８のウエハＷについても、処理が終了した後、順次搬出用受け渡し用載置部２１３，２１４に移載された元のキャリアＣ２〜Ｃ８内に戻される。
【００４６】
続いてトラブル発生時におけるウエハＷの回収作業について図８を参照しながら説明する。装置内において何らかのトラブルが発生する（ステップＳ１）と、アラーム表示部６５により所定のアラーム表示がなされ（ステップＳ２）、これに基づいてオペレータが入力部６８により回収制御部６６に対して回収指令を出力する（ステップＳ３）
この回収制御部６６では、回収スケジュール作成手段により例えば搬送スケジュールを参照し、処理部Ｂ２内にあるウエハを、キャリアＣに戻す際の回収スケジュールを作成する。この回収スケジュールの作成は、搬送スケジュールにより、トラブル発生時にどのモジュールにどのロットのウエハが置かれているかが分かるため、例えばキャリア載置部Ｂ１に近いロットのウエハＷから順番にキャリアＣに戻すように回収順序を決定し、回収スケジュールを作成する（ステップＳ４）。
【００４７】
具体的に図９を参照しながら説明する。図９の例では、キャリア載置部Ｂ１には、搬入用受け渡し用載置部２１１，２１２に夫々ロット７のキャリアＣ７及びロット６のキャリアＣ６、搬出用受け渡し用載置部２１３，２１４に夫々ロット１のキャリアＣ１及びキャリアＣ２が載置されており、ＴＲＳモジュールにロットＬ６の２枚目のウエハＬ６−２、ＣＰＬ１モジュールにロットＬ６の１枚目のウエハＬ６−１のウエハ、ＣＰＬ４モジュールにロット１の３枚目のウエハＬ１−３、ＰＯＳＴモジュールにロット２の１枚目のウエハＬ２−１が置かれている状態を示している。このときの搬送スケジュールは例えば図１０に示すとおりであり、この搬送スケジュールにおけるｎサイクル目に相当する。
【００４８】
次の搬送サイクル（ｎ＋１）では、ＣＰＬ４モジュールのウエハＬ１−３はキャリアＣ１に戻され、キャリアＣ６からウエハＬ６−３がＴＲＳモジュールに払い出される。このようにキャリア載置部Ｂ１に近いモジュールは、ＣＰＬ４モジュールや、ＴＲＳモジュールなので、例えばロット１→ロット６→ロット５→ロット２→ロット４→ロット３の順番でウエハの回収を行うように回収順序を決定する。そして使用するメインアームＡ２，Ａ３やメインアームＡ２，Ａ３同士の間でウエハＷの受け渡しがあるときの搬送経路を指定して、回収スケジュールを作成する。
【００４９】
次いで前記回収スケジュールを参照して、ウエハＷを対応する元のキャリアに回収する（ステップＳ５）。このとき移載スケジュールにより、トラブル発生時におけるキャリアステーション２内のキャリアＣの配置が分かっているので、搬入用受け渡し用載置部２１１，２１２又は搬出用受け渡し用載置部２１３，２１４にウエハＷが回収される目的のキャリアＣがある場合には、そのままウエハＷを当該キャリアＣに受け渡し、これら載置部２１１〜２１４に目的のキャリアＣがない場合には、キャリア搬送手段３により目的のキャリアＣをこれら載置部２１１〜２１４に載置するようにキャリアＣの移載作業を行う。
【００５０】
上述の例では、図９及び図１１（ａ）に示すように、ロット１のキャリアＣ１とロット６のキャリアＣ６は搬入用受け渡し用載置部２１２又は搬出用受け渡し用載置部２１３に置かれているので、ロット１のウエハとロット６のウエハについては、キャリアの移載作業を行なわずにそのままキャリアＣ１，キャリアＣ６にウエハＷを戻す。なお図９における載置ステージ２４は処理部Ｂ２側から見た配置を示し、図１２における載置ステージ２４はキャリア搬送手段３側から見た配置を示している。
【００５１】
次いでロット５のウエハを回収するが、当該ロット５のキャリアＣ５は受け渡し用載置部２１１〜２１４に置かれていないので、図１１（ａ）、１１（ｂ）に示すように、例えばキャリアＣ１を空いている退避用載置部２２４に移載し、キャリアＣ５を受け渡し用載置部２１３に移載して、キャリアＣ５内にロット５のウエハＷを回収する。続いてロット２のウエハを回収するが、当該ロット２のキャリアＣ２は受け渡し用載置部２１４にあるので、そのままキャリアＣ２内にロット２のウエハを回収する。
【００５２】
次いでロット４のウエハを回収するが、当該ロット４のキャリアＣ４は受け渡し用載置部２１１〜２１４に置かれていないので、例えば図１１（ｂ）、１１（ｃ）に示すように、ロットＣ６を空いている退避用載置部２２１に移載し、キャリアＣ４を受け渡し用載置部２１２に移載して、キャリアＣ４内にロット４のウエハを回収する。続いてロット３のウエハを回収するが、当該ウエハは受け渡し用載置部２１１〜２１４に置かれていないので、例えば図１１（ｃ）、１１（ｄ）に示すように、ロットＣ５を空いている載置部２２２に移載し、キャリアＣ３を受け渡し用載置部２１３に移載して、キャリアＣ３内にロット３のウエハＷを回収する。このようにウエハＷの回収作業を実行した後、オペレータが装置の電源を落としてシャットダウンを行う（ステップＳ６）。
【００５３】
上述の実施の形態によれば、キャリアステーション２にキャリアＣを一時的に保管するストッカ２５を設け、ここにキャリアＣの載置部を多数配列し、この載置部をキャリアＣを退避させる退避用載置部２２として兼用しているので、ストッカ２５の利用価値が向上する。つまり他品種少量生産により、一つのキャリアＣに収納されるウエハの枚数が少ない場合であっても、受け渡し用載置部２１に置かれたキャリアＣからウエハを払い出した後、当該キャリアＣを退避用載置部２２に退避させ、新たなキャリアＣを受け渡し用載置部２１に移載してウエハの払い出しを行うことによって、キャリア載置部Ｂ１から処理部Ｂ２へ払い出されるウエハの総数を多くすることができる。これにより本来であれば処理を行うことができる状態のモジュールにウエハが行き渡らないという事態の発生が防止され、処理部Ｂ２及び露光装置Ｂ４におけるモジュールの稼働率の低下が抑制されるので、スループットの低下を抑えることができる。
【００５４】
また塗布、現像装置において、モジュールや搬送系の故障等、トラブルが発生した場合に、処理部Ｂ２及び露光装置Ｂ４に置かれたウエハＷを元のキャリアＣに回収するにあたり、キャリア載置部Ｂ１に近いウエハＷから順番に回収するように回収スケジュールを作成し、あるロットのウエハＷを回収する際、当該ロットに対応するキャリアが受け渡し用載置部２１にない場合には、キャリア搬送手段３により、当該キャリアを退避用載置部２２から受け渡し用載置部２１に移載しているので、ウエハＷの回収作業を速やかに確実に行うことができる。
【００５５】
続いて本発明の他の実施の形態について図１２〜図１４を参照して説明する。
図１２に示すように、キャリア載置部Ｂ１は、その側方側の周囲及び天井部は壁部７１により囲まれていて、その天井部には、外部キャリア搬送手段２００が搬入出載置部にアクセスできるように開口部７２が形成されている。また前記壁部７１には、オペレータがキャリア載置部Ｂ１内に入退室するためにドア７３が設けられている。この例では、ドア７３は、キャリアステーション２に対向する壁部７１Ａに設けられており、このドア７３の近傍には、オペレータにより操作される退避スイッチ７４と、ポーズスイッチ７５とが設けられている。
【００５６】
この退避スイッチ７４は、キャリア搬送手段３に対して退避指令を出力する手段であり、制御部６における退避制御部６９ではこの指令に基づいて、キャリアＣの移載作業を行っているキャリア搬送手段３に対して当該移載作業を実行した後、前記退避領域３０に移動するようにキャリア搬送手段３を制御する。そして退避スイッチ７４は、例えばキャリア搬送手段３の退避領域３０への移動が完了したときに、スイッチ７４の色が変化して、移動完了の旨をオペレータに知らせるように構成されている。この例では、退避スイッチ７４と退避制御部６９とにより、キャリアＣの移載作業を行っているキャリア搬送手段３に対して当該移載作業を実行した後、退避領域３０に移動するようにキャリア搬送手段３を制御する手段が構成されている。
【００５７】
続いてこの実施の形態の作用について、図１３を参照しながら説明するが、この実施の形態は、オペレータがドア７３を開いてキャリア載置部Ｂ１に入退室するときに用いられる。ここではオペレータが受け渡し用載置部２１へ直接キャリアＣの搬入を行う場合を例にして説明する。先ずオペレータはドア７３を開く前に、退避スイッチ７４をオンにする（ステップＳ１１）。これにより退避制御部６９に退避指令が出力され、退避制御部６９により、キャリア搬送手段３ではキャリアＣの移載作業を行っているときには、当該キャリアＣの移載動作を完了（ステップＳ１２）してから、退避領域３０への退避動作を開始し（ステップＳ１３）、退避動作を終了すると（ステップＳ１４）、例えば退避スイッチ７４の色を変化させるように制御される。
【００５８】
次いでオペレータは、退避スイッチ７４の色により、キャリア搬送手段３の退避動作完了の旨を確認した後、ドア７４を開いて（ステップＳ１５）、キャリア載置部Ｂ１に入室し、受け渡し用載置部２１にキャリアＣを搬入する（ステップＳ１６）。この後オペレータがキャリア載置部Ｂ１から退室してドア７３を閉め（ステップＳ１７）、退避スイッチ７４をオフする（ステップＳ１８）。この後復帰イニシャライズを行う（ステップＳ１９）。この復帰イニシャライズとは、機械の可動部をホームポジションに戻して、原点位置を再確認させることである。
【００５９】
この際退避制御部６９により、退避スイッチ７４をオンにしてドア７３を開いたときに、キャリア搬送手段３の電源がオフされ、退避スイッチ７４がオフされたときに、キャリア搬送手段３の電源が入るように制御される。またキャリア搬送手段３がキャリアを保持していない場合には、直ちに退避領域３０に退避するように制御される。このようにドア７３を開いたときにキャリア搬送手段３の電源がオフされ、退避スイッチ７４がオフされたときにキャリア搬送手段３の電源が入るように制御するのは、搬送手段であるロボットによる人身事故を防止する必要があり、また速やかな生産活動への復帰を行うための自動化のためである。
【００６０】
この実施の形態によれば、オペレータがキャリア載置部Ｂ１に入室する前に退避スイッチ７４をオン状態にすることで、キャリア搬送手段３が現在の移載動作を終了してから退避領域３０に移動する。これにより退避領域３０にあるキャリア搬送手段３に対して復帰イニシャライズが行なわれるため、復帰イニシャライズを開始するまでの時間が短縮される。これに対して従来では、退避スイッチ７４が設けられていないことから、オペレータがドア７３を開いてキャリア載置部Ｂ１内に入室しようとすると、キャリア搬送手段３がキャリアＣを保持した状態で退避領域３０に移動し、オペレータが退室後、キャリア搬送手段３０が保持したキャリアＣの移載動作を続行し、当該移載動作を終了してから再び退避領域３０に移動していた。そしてこの後前記復帰イニシャライズが行われるため、復帰イニシャライズを開始するまでに時間がかかっていた。この際この実施の形態では、退避スイッチ７４を設ける代わりに、オペレータがドア７３を開こうとしたときに、退避制御部６９に退避指令が出力され、前記キャリア搬送手段３の退避動作を行うようにしてもよい。
【００６１】
以上において本発明では、図１４に示すように、キャリア載置部Ｂ１において、キャリア搬送手段３を挟んで、キャリアステーション２の向かい側にキャリアＣを一時的に保管する保管部をなすキャリアストッカ８を設けるようにしてもよい。このキャリアストッカ８もキャリアステーション２と同様に、例えば棚部８１〜８３が上下方向に３段に設けられており、夫々の棚部８１〜８３には、キャリアＣを載置するための退避用載置部を兼用する載置部８４が４個ずつ図中Ｙ方向に並ぶように配列されていて、このキャリアストッカ８の各載置部８４に対しても、キャリア搬送手段３によりアキャリアＣの移載を行うことができるように構成されている。このキャリアストッカ８に設けられた載置部８４には例えば位置センサ２３１が設けられている。図１４では、図示の便宜上、キャリアストッカ８における棚部８１〜８３を保持する背面壁は省略して描いている。このようにキャリアストッカ８を設ける場合には、例えばドア８５はキャリアステーション２とキャリアストッカ８との間のキャリア搬送手段３の移動領域に開口するように設けられ、このドア８５の近傍には図示しない退避スイッチが設けられている。
【００６２】
さらに図１５に示すように、キャリア載置部Ｂ１において、キャリア搬送手段３を挟んで、キャリアステーション２の向かい側にキャリア搬入出ステージ９を設けるようにしてもよい。このキャリア搬入出ステージ９には、キャリアＣを載置するための複数個の搬入出載置部９１が図中Ｙ方向に並ぶように配列されている。この搬入出載置部９１に対しては、外部キャリア搬送手段２００がアクセスできるように構成されており、キャリア載置部Ｂ１と外部との間でキャリアＣの搬入出が行なわれるようになっている。
【００６３】
本発明は半導体ウエハのみならず液晶ディスプレイ用のガラス基板（ＬＣＤ基板）といった基板を処理する塗布、現像装置にも適用できる。またキャリア搬送手段３の形状は上述の構成に限らず、キャリアを一時的に保管する保管部（ストッカ）の構成も上述の例には限らず、受け渡しステージ２４の下方側にキャリア用の載置部を設けるようにしてもよい。またこの保管部の載置部に対しては、未処理のウエハＷを収納したキャリアＣや処理済みのウエハＷを収納したキャリア、空のキャリア等が一時的に保管され、必ずしも全ての載置部を退避用載置部として用いる必要はない。さらにまた受け渡し用載置部は、キャリア載置部から処理部へウエハＷを搬入するときに用いられる載置部と、処理部Ｂ２からキャリア載置部Ｂ１へウエハＷを搬出するときに用いられる載置部とを兼用させるようにしてもよいし、受け渡し手段によりアクセスする受け渡し用載置部の個数は適宜選択される。
【符号の説明】
【００６４】
Ｗ          半導体ウエハ
Ｃ          キャリア
Ｂ１        キャリア載置部
Ｂ２        処理部
Ｂ３        インターフェイス部
Ｂ４        露光装置
Ａ１        受け渡し手段
Ａ２，Ａ３  メインアーム
２１（２１１〜２１４）        受け渡し用載置部
２２（２２１〜２２８）        退避用載置部
３          キャリア搬送手段
６          制御部
６３        搬送スケジュール格納部
６４        移載スケジュール格納部
６６        回収制御部
６９        退避制御部
【図１】
2010171276.tif 000003
【図２】
2010171276.tif 000004
【図３】
2010171276.tif 000005
【図４】
2010171276.tif 000006
【図５】
2010171276.tif 000007
【図６】
2010171276.tif 000008
【図７】
2010171276.tif 000009
【図８】
2010171276.tif 000010
【図９】
2010171276.tif 000011
【図１０】
2010171276.tif 000012
【図１１】
2010171276.tif 000013
【図１２】
2010171276.tif 000014
【図１３】
2010171276.tif 000015
【図１４】
2010171276.tif 000016
【図１５】
2010171276.tif 000017
【図１６】
2010171276.tif 000018
【図１７】
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