(57)【要約】【課題】耐光性及び反射特性の劣化の抑制された表示媒体、及び表示装置を提供する。【解決手段】一対の電極と、前記一対の電極間に設けられ、照射された露光光の強度分布に応じた電気的特性分布を示す光導電層と、前記一対の電極間に設けられ、該一対の電極に印加された電圧による前記光導電層の電気的特性分布に応じて分布した分圧が印加され、該分圧に応じた光学的特性分布による画像の表示される表示層と、前記光導電層と前記表示層との間に、少なくとも該光導電層に接触して配置され、イオン濃度が５×１０−５Ｃ／ｃｍ３以上１０×１０−５Ｃ／ｃｍ３以下の隔離層と、を備えた表示媒体である。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の電極と、
前記一対の電極間に設けられ、照射された露光光の強度分布に応じた電気的特性分布を示す光導電層と、
前記一対の電極間に設けられ、該一対の電極に印加された電圧による前記光導電層の電気的特性分布に応じて分布した分圧が印加され、該分圧に応じた光学的特性分布による画像の表示される表示層と、
前記光導電層と前記表示層との層間に、少なくとも該光導電層に接触して配置され、イオン濃度が５×１０−５Ｃ／ｃｍ３以上１０×１０−５Ｃ／ｃｍ３以下の隔離層と、
を備えた表示媒体。
【請求項２】
前記隔離層が、水溶性樹脂から構成されることを特徴とする請求項１に記載の表示媒体。
【請求項３】
前記隔離層の含水率が２％以下であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の表示媒体。
【請求項４】
一対の電極と、
前記一対の電極間に設けられ、照射された露光光の強度分布に応じた電気的特性分布を示す光導電層と、
前記一対の電極間に設けられ、該一対の電極に印加された電圧による前記光導電層の電気的特性分布に応じて分布した分圧が印加され、該分圧に応じた光学的特性分布による画像の表示される表示層と、
前記光導電層と前記表示層との層間に、少なくとも該光導電層に接触して配置され、イオン濃度が５×１０−５Ｃ／ｃｍ３以上１０×１０−５Ｃ／ｃｍ３以下の隔離層と、
を備えた表示媒体と、
前記一対の電極に電圧を印加する電圧印加装置と、
前記表示媒体に前記露光光を照射する照射装置と、
を備えた表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示媒体及び表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
紙に代わる表示媒体として、コレステリック液晶と、電場下で光照射されることで内部光電効果による自由電子の移動が発生する光導電層と、を用いた表示媒体が提案されている。
現在、主として開発が進められている表示媒体では、例えば、一対の電極間にコレステリック液晶層である表示層と光導電体層である光導電層とを積層した表示媒体について、一対の電極に電圧を印加した状態で、光導電層を露光することで、所望の記録画像を書き込んでいる。具体的には、一対の電極に電圧を印加した状態で露光を行うことで光導電層に光電流が流れて液晶層の露光領域に係る分圧が増大して、露光領域がホメオトロピックに変化し、電圧が解除されることでプラナー状態に変化する。これによって、画像が書き込まれる。
【０００３】
ここで、電極間に電圧を印加すると、光導電層の電荷発生層で発生した正孔は電界の影響によって電荷輸送層中を移動し、理想的な状態では電圧印加の解除によって正孔は消滅するが、トラップ準位に捕獲された正孔により正孔が消滅せず電荷が残留することにより残留電位が発生する場合がある。
【０００４】
この残留電位を低減させる技術としては、様々な試みがなされており、例えば、特許文献１では、表示媒体へ画像を書き込むための電圧パルスの印加終了直後に、表示媒体に残留する残留電荷を打ち消すように、該電圧パルスに連続した補助パルスを印加する技術が提案されている。
【０００５】
また、表示媒体の感度劣化を抑制する技術として、例えば、特許文献２には、電荷発生層を、電荷発生材、バインダー、及び電荷輸送層に損傷を与えないプロトン系溶媒を含む電荷発生層形成用分散液から作成する技術が提案されている。
【０００６】
また、特許文献３には、光導電層と表示層との層間に、直流成分除去膜を設けることで、交流駆動時の対称性を改善する技術が提案されている。
【特許文献１】特開２００５−１９６０６２号公報
【特許文献２】特開２００２−１９６２９１号公報
【特許文献３】特開２０００−１８０８８８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明の課題は、本発明の構成を有さない場合に比べ、耐光性及び反射特性の劣化の抑制された表示媒体、及び表示装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題は、以下の手段により解決される。即ち、
請求項１に係る発明は、一対の電極と、前記一対の電極間に設けられ、照射された露光光の強度分布に応じた電気的特性分布を示す光導電層と、前記一対の電極間に設けられ、該一対の電極に印加された電圧による前記光導電層の電気的特性分布に応じて分布した分圧が印加され、該分圧に応じた光学的特性分布による画像の表示される表示層と、前記光導電層と前記表示層との層間に、少なくとも該光導電層に接触して配置され、イオン濃度が５×１０−５Ｃ／ｃｍ３以上１０×１０−５Ｃ／ｃｍ３以下隔離層と、を備えた表示媒体である。
【０００９】
請求項２にに係る発明は、前記隔離層が、水溶性樹脂から構成されることを特徴とする請求項１に記載の表示媒体である。
【００１０】
請求項３に係る発明は、前記隔離層の含水率が２％以下であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の表示媒体である。
【００１１】
請求項４に係る発明は、一対の電極と、前記一対の電極間に設けられ、照射された露光光の強度分布に応じた電気的特性分布を示す光導電層と、前記一対の電極間に設けられ、該一対の電極に印加された電圧による前記光導電層の電気的特性分布に応じて分布した分圧が印加され、該分圧に応じた光学的特性分布による画像の表示される表示層と、前記光導電層と前記表示層との層間に、少なくとも該光導電層に接触して配置され、イオン濃度が５×１０−５Ｃ／ｃｍ３以上１０×１０−５Ｃ／ｃｍ３以下の隔離層と、を備えた表示媒体と、前記一対の電極に電圧を印加する電圧印加装置と、前記表示媒体に前記露光光を照射する照射装置と、を備えた表示装置である。
【発明の効果】
【００１２】
請求項１に係る発明によれば、本発明の構成を有さない場合に比べ、耐光性及び反射特性の劣化の抑制された表示媒体が提供される、という効果を奏する。
【００１３】
請求項２に係る発明によれば、本発明の構成を有さない場合に比べて、光導電層への浸食が抑制される、という効果を奏する。
【００１４】
請求項３に係る発明によれば、本発明の構成を有さない場合に比べて、更に耐光性の劣化が抑制される、という効果を奏する。
【００１５】
請求項４に係る発明によれば、本発明の構成を有さない場合に比べ、耐光性及び反射特性の劣化の抑制された表示装置が提供される、という効果を奏する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
本発明の表示装置及び光書き込み方法の一の実施の形態を図面に基づき説明する。
【００１７】
図１に示すように、本実施の形態の表示装置１０は、表示媒体１２と、書込装置１４と、を備えている。
【００１８】
本実施の形態では、表示媒体１２は、表示面側（図１中、Ｘ側）から順に、基板１３、電極１５、液晶層１７、光吸収層１９、ラミネート層１８、隔離層２１、光導電層２０、電極２２、及び基板２４が積層されて構成されている。
【００１９】
基板１３及び基板２４は、各機能層を基板間に保持し、表示媒体１２の構造を維持する目的の部材である。基板１３及び基板２４は、外力に耐える強度を有するシート形状の物体であり、表示面側に設けられた基板１３は少なくとも入射光を、表示面と反対側に設けられた基板２４は、後述する露光光を少なくとも透過する。また、これらの基板１３及び基板２４は、フレキシブル性を有することが好ましい。
【００２０】
基板１３及び基板２４を構成する具体的な材料としては、無機シート（たとえばガラス・シリコン）、高分子フィルム（たとえばＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、ポリスルホン、ＰＥＳ（ポリエーテルスルホン）、ＰＣ（ポリカーボネート）、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリイミド）等が挙げられる。
なお、本実施形態では、光導電層（電荷発生層、電荷輸送層）に有機材料を用いるため、高温で熱処理をする工程がないので、フレキシブル基板が得られること、成形が容易なこと、コストの点などから光透過性の高分子フィルム基板を用いることが有利である。
これらの基板１３、及び基板２４の厚みとしては、５０μｍ以上５００μｍ以下の範囲程度が好適である。
【００２１】
電極１５及び電極２２は、詳細を後述する書込装置１４から印加された電圧を、表示媒体１２内の各機能層へ印加するための部材である。このため、電極１５及び電極２２は、導電性を有し、表示面側に設けられた電極１５は少なくとも入射光を、表示面と反対側に設けられた電極２２は、後述する露光光を少なくとも透過する。なお、本実施の形態において、「導電」及び「導電性」とはシート抵抗が５００Ω/□以下のものを示す。
【００２２】
電極１５及び電極２２としては、金属（たとえば金、アルミニウム）、金属酸化物（たとえば酸化インジウム、酸化スズ、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ））、導電性有機高分子（たとえばポリチオフェン系・ポリアニリン系）などで形成された導電性薄膜が挙げられる。なお、これらの電極１５及び電極２２各々の表面および/または裏面には、密着力改善膜、光反射防止膜、ガスバリア膜など公知の機能性膜を形成してもよい。
【００２３】
また、電極１５及び電極２２は、上記基板１３及び基板２４の各々の上にスパッタリングされて形成されているが、必ずしもスパッタリングによる必要はなく、印刷、ＣＶＤ、蒸着などにより形成してもよい。
【００２４】
光導電層２０は、上記電極１５と電極２２との電極間に設けられ、内部光電効果をもち、露光光の照射強度に応じてインピーダンス特性が変化することにより、該露光光の強度分布に応じた電気的特性分布を示す層である。
【００２５】
本実施の形態では、光導電層２０は、表示面側から順に、電荷発生層（ＣＧＬ）２０Ａ、電荷輸送層（ＣＴＬ）２０Ｂ、電荷発生層（ＣＧＬ）２０Ｃが順に積層されたデュアルＣＧＬ構造とされているとして説明するが、表示面側から順に、少なくとも電荷発生層２０Ａ及び電荷輸送層２０Ｂが積層されて構成されていればよく、この構成に限られない（詳細後述）。
【００２６】
電荷発生層２０Ａは、露光光を吸収して電荷を発生させる機能を有する層である。すなわち、露光光とは、光導電層２０の電荷発生層２０Ａの吸収する吸収波長領域の光を示している。電荷発生層２０Ａとしては、露光光を吸収して励起子（電子とホールの対）を発生させ、電荷発生層２０Ａの内部、または電荷発生層２０Ａと電荷輸送層２０Ｂとの界面で自由キャリアに効率良く分離させられるものが好ましい。
【００２７】
電荷発生層２０Ａとしては、電荷発生材料をバインダー樹脂に分散したものなどが挙げられる。この電荷発生材料としては、金属又は無金属フタロシアニン顔料、スクアリウム顔料、アズレニウム顔料、ペリレン顔料、インジゴ顔料、ビスアゾ顔料、トリスアゾ顔料、キナクリドン顔料、ピロロピロール顔料、ジブロモアントアントロン顔料などの多環キノン顔料、等が適用可能であるが、フタロシアニン顔料である、クロロガリウムフタロシアニン、ヒドロキシガリウムフタロシアニン、あるいはチタニルフタロシアニンの一種類かあるいは混合物を主成分とする電荷発生材料が好ましい。
【００２８】
ヒドロキシガリウムフタロシアニンとしては、Ｘ線回折スペクトルのブラック角（２θ±０．２°）がｉ）７．５°、９．９°、１２．５°、１６．３°、１８．６°、２５．１°及び２８．３°、ｉｉ）７．７°、１６．５°、２５．１°及び２６．６°、ｉｉｉ）７．９°、１６．５°、２４．４°及び２７．６°、ｉｖ）７．０°、７．５°、１０．５°、１１．７°、１２．７°、１７．３°、１８．１°、２４．５°、２６．２°及び２７．１°、ｖ）  ６．８°、１２．８°、１５．８°及び２６．０°又はｖｉ）７．４°、９．９°、２５．０°、２６．２°及び２８．２°に強い回折ピークを有する結晶構造のものが、電荷発生効率が高く、特に好ましい。
【００２９】
クロロガリウムフタロシアニンとしては、Ｘ線回折スペクトルにおいて、ブラッグ角度（２θ±０．２°）が少なくとも７．４°、１６．６°、２５．５°及び２８．３°、又は６．８°、１７．３°、２３．６°及び２６．９°、又は８．７°以上９．２°以下、１７．６°、２４．０°、２７．４°及び２８．８°に強い回折ピークを有する結晶構造のものが、電荷発生効率が高く、特に好ましい。
また、チタニルフタロシアニンとしては、Ｘ線回折スペクトルのブラック角（２θ±０．２°）が、９．５°，９．７°，１１．７°，１５．０°，２３．５°，２４．１°，２７．３°に回折ピークをもつ結晶構造のものが、電荷発生効率が高く、特に好ましい。
【００３０】
電荷発生層２０Ａに用い得るバインダー樹脂としては、ポリビニルブチラール樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合樹脂、カルボキシル変性塩化ビニル−酢酸ビニル共重合樹脂、ポリアミド樹脂（ナイロン樹脂を含む）、アクリル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリビニルピリジン樹脂、セルロール樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂などが適用可能である。特に、ポリビニルブチラール樹脂やカルボキシル変性塩化ビニル−酢酸ビニル共重合樹脂は、電荷発生材料を良好に分散させるため、好ましいバインダー樹脂である。
【００３１】
電荷発生層２０Ａにおける電荷発生材料等（電荷輸送材料を添加する場合はそれも含む）の低分子化合物とバインダー樹脂との混合比（低分子化合物／バインダー樹脂）は、１／１０乃至２０／１の範囲とすることが好ましく、１／１乃至１０／１の範囲とすることがより好ましい。
【００３２】
電荷発生層２０Ａの作製方法としては、真空蒸着法やスパッタ法などドライな膜形成法のほか、溶剤を用いるスピンコート法、ディップ法、ブレードコート法、ロールコート法、スプレーコート法などが適用可能である。いずれの方式も、ａ−Ｓｉやフォトダイオード作製における基板加熱や厳しい工程管理は不要である。ただし、前記電荷輸送材料を混合して用いる場合には、作製の容易性等から溶剤を用いる塗布により作製することが好ましい。この溶剤としては、少なくとも電荷輸送層２０Ｂに損傷（電荷輸送層の膨潤やクラックの発生等）を与えない溶剤が好ましい。このため、電荷発生層２０Ａの形成溶剤として用いられる溶媒としては、電荷輸送層２０Ｂを構成する材料にもよるが、一般に、アルコール系、ケトン系、エーテル系、エステル系などの溶媒が有効である。中でも、アルコール等の分子中に水酸基を有する溶媒は、ポリカーボネート系樹脂をバインダーとした電荷輸送層上に作製する電荷発生層２０Ａ形成塗布液の溶媒として最適である。
【００３３】
電荷発生層２０Ａ形成塗布液の調製については、前記溶剤（またはバインダー樹脂を溶解した溶液）中に、前記電荷発生材料と必要に応じて添加される電荷輸送材料とを前記好ましい混合比率で添加し混合、分散させる。混合／分散方法は、ボールミル、ロールミル、サンドミル、アトライター、超音波等を用いる常法が適用される。分散の際、電荷発生材料の粒子サイズを０．５μｍ以下、望ましくは０．３μｍ以下、さらに望ましくは０．１５μｍ以下にすることが有効である。
電荷発生層２０Ａ形成塗布液の固形分含有量の濃度は、１質量％以上３０質量％以下の範囲とすることが好ましい。１質量％未満では膜厚が薄すぎて電気特性が得られない場合があり、３０質量％を超えると粘度が高すぎて膜形成が困難になる場合がある。また、１質量％未満、あるいは３０質量％を超えると、電荷発生材料粒子の分散安定性が悪く、保存安定性や成膜性が悪化するといった問題が現れる場合がある。
【００３４】
電荷発生層２０Ａの膜厚は、１０ｎｍ以上１μｍ以下の範囲が好ましく、２０ｎｍ以上５００ｎｍ以下の範囲がより好ましい。１０ｎｍより薄いと、光感度が不足しかつ均一またはより均一に近い膜の作製が難しくなる場合があり、また、１μｍより厚くなると、光感度は飽和し、膜内応力によって剥離が生じ易くなる場合がある。
【００３５】
電荷発生層２０Ｃとしては、上記電荷発生層２０Ａと同じように、電荷発生材料をバインダー樹脂に分散したものが挙げられ、上記説明した電荷発生層２０Ａにおいて例示した電荷発生材料が用いられる。
電荷発生層２０Ｃは、上記説明した電荷発生層２０Ａと同じ電荷発生材料であることが製造のしやすさから望ましいが、本実施の形態の表示媒体１２では電荷発生層２０Ｃは、電極２２と共に、電荷輸送層２０Ｂから流入された電荷が該電荷輸送層２０Ｂへ再注入されることを抑制する阻止層（詳細後述）として機能すればよく、材料が異なっていても問題ない。
【００３６】
また、電荷発生層２０Ｃには、上記電荷発生層２０Ａに用い得るバインダー樹脂が使用される。電荷発生層２０Ｃにおける電荷発生材料とバインダー樹脂との混合比、塗布液の調製、形成方法、膜厚等は、上記電荷発生層２０Ａで述べた内容に準ずるため、詳細な説明を省略する。
【００３７】
電荷輸送層２０Ｂは、電荷発生層２０Ａで発生した電荷が注入されて、印加された電場方向にドリフトする機能を有する層である。一般に電荷輸送層２０Ｂは、電荷発生層２０Ａの数１０倍の厚みを有する。このため、電荷輸送層２０Ｂの容量、電荷輸送層２０Ｂの暗電流、および電荷輸送層２０Ｂ内部に流れる電流が、光導電層２０全体の明暗インピーダンスを決定付けている。
【００３８】
電荷輸送層２０Ｂは、電荷輸送材料を含んで構成され、電荷発生層２０Ａからの正孔（ホール）の注入が効率良く発生し（電荷発生層２０Ａとイオン化ポテンシャルが近いことが好ましい）、注入された正孔が高速にホッピング移動するものが好適である。なお、露光光の非露光時のインピーダンスを高くするためには、熱キャリアによる暗電流は低い方が好ましい。
【００３９】
電荷輸送層２０Ｂに含まれる電荷輸送材料としては、ベンジジン系、カルバゾール系、オキサジアゾール系、ヒドラゾン系、スチルベン系、トリフェニルアミン系、トリフェニルメタン系などが適用される。なお、上記電荷輸送性材料は、ほとんど正孔輸送性であり、本実施の形態では電荷輸送層２０Ｂは正孔輸送層であるとして説明するが、この形態に限られず、電子輸送層として機能する層を用いても良い。
また、これら電荷輸送性材料の分子構造を主鎖あるいは側鎖に有する電荷輸送性高分子を用いることもできる。特に、特開２００７−２７９３７１号公報に例示される、主鎖に電荷輸送性の分子構造を有するものが好ましい。電荷輸送性高分子を電荷輸送性材料として使用する場合には、後で述べるバインダー樹脂は必ずしも使用しなくても良い。
【００４０】
電荷輸送層２０Ｂに含まれるバインダー樹脂としては、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、スチレン−アルキッド樹脂等が適用可能である。
特に、ポリカーボネート樹脂は、電荷輸送層のバインダーとした場合、電荷輸送特性が良好である上に、強度や柔軟性、透明性のバランスに優れているため、好ましいものである。
【００４１】
電荷輸送層２０Ｂにおける電荷輸送材料とバインダー樹脂との混合比（電荷輸送材料／バインダー樹脂）は１／１０以上１０／１以下の範囲が好ましく、３／７以上７／３以下の範囲がより好ましい。
【００４２】
電荷輸送層２０Ｂの作製方法としては、真空蒸着法やスパッタ法などドライな膜形成法のほか、溶剤を用いるスピンコート法、ディップ法、ブレードコート法、ロールコート法などが適用可能である。溶剤塗布法の場合には、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロルベンゼン等の芳香族炭化水素類、アセトン、２−ブタノン等のケトン類、塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン等のハロンゲン化脂肪族炭化水素類、テトラヒドロフラン、エチルエーテル等の環状もしくは直鎖状のエーテル類等の通常の有機溶剤を単独あるいは２種以上混合して用いられる。
【００４３】
電荷輸送層２０Ｂの膜厚は、１μｍ以上１００μｍ以下の範囲とすることが好ましく、３μｍ以上２０μｍ以下の範囲とすることがより好ましい。電荷輸送層２０Ｂの膜厚が０．１μｍ以上１００μｍ以下であると、耐電圧が高く信頼性が確保されると共に、機能素子とのインピーダンスマッチングが容易となり設計が容易となる。
【００４４】
液晶層１７は、上記光導電層２０より表示面側に、後述するラミネート層１８及び光吸収層１９を介して設けられている。
【００４５】
液晶層１７としては、コレステリック（カイラルネマチック）液晶の光干渉状態の変化を利用して、電場によって入射光の反射・透過状態を変調する機能を有し、選択した状態が無電場で保持される性質のものが用いられる。この液晶層としては、さらに、曲げや圧力などの外力に対して変形しない構造であることが好ましい。
【００４６】
本実施の形態の液晶層１７としては、コレステリック液晶および透明樹脂から構成される自己保持型液晶複合体の液晶層が形成されてなるものが用いられる。すなわち、本実施の形態の液晶層１７は、複合体として自己保持性を有するためスペーサ等を必要としない液晶層である。本実施形態では、液晶層１７は、高分子マトリックス（透明樹脂）１１中にコレステリック液晶１７Ｂが分散されて構成されている。なお、本実施の形態においては、液晶層１７が自己保持型液晶複合体の液晶層であるとして説明するが、自己保持型液晶複合体であることは必須ではなく、単に液晶のみで液晶層を構成することとしても勿論構わない。
【００４７】
コレステリック液晶１７Ｂは、入射光のうち特定の色光の反射・透過状態を変調する機能を有し、液晶分子がらせん状に捩れて配向しており、らせん軸方向から入射した光のうち、らせんピッチに依存した特定の光を干渉反射する。この液晶分子は、電場によって配向が変化し、反射状態が変化される。このコレステリック液晶１７Ｂは印加電圧に対して反射率が高く表示性能が優れており、またメモリ性を有することから、本実施形態の表示媒体１２に特に有効に用いられる。なお、液晶層１７を、自己保持型液晶複合体とする場合には、ドロップサイズが均一で、単層稠密に配置されていることが好ましい。
【００４８】
コレステリック液晶１７Ｂとして使用可能な具体的な液晶としては、ステロイド系コレステロール誘導体、あるいはネマチック液晶やスメクチック液晶（たとえばシッフ塩基系、アゾ系、アゾキシ系、安息香酸エステル系、ビフェニル系、ターフェニル系、シクロヘキシルカルボン酸エステル系、フェニルシクロヘキサン系、ビフェニルシクロヘキサン系、ピリミジン系、ジオキサン系、シクロヘキシルシクロヘキサンエステル系、シクロヘキシルエタン系、シクロヘキサン系、トラン系、アルケニル系、スチルベン系、縮合多環系）、またはこれらの混合物に、カイラル剤（たとえばステロイド系コレステロール誘導体、シッフ塩基系、アゾ系、エステル系、ビフェニル系）を添加したもの等が挙げられる。
【００４９】
液晶層１７がコレステリック液晶１７Ｂと高分子マトリックス１７Ａからなる自己保持型液晶複合体を形成する形態としては、コレステリック液晶の連続相中に網目状の樹脂を含むＰＮＬＣ（Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｎｅｔｗｏｒｋ  Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ）構造や、高分子の骨格中にコレステリック液晶がドロップレット状に分散されたＰＤＬＣ（Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｄｉｓｐｅｒｓｅｄ  Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ）構造（マイクロカプセル化されたものを含む）が用いられ、ＰＮＬＣ構造やＰＤＬＣ構造とすることによって、コレステリック液晶と高分子の界面にアンカリング効果を生じ、無電界でのプレーナまたはフォーカルコニックの保持状態が、より安定となる。
【００５０】
上記ＰＮＬＣ構造やＰＤＬＣ構造は、高分子と液晶とを相分離させる公知の方法、例えば、アクリル系、チオール系、エポキシ系などの、熱や光、電子線などによって重合する高分子前駆体と液晶を混合し、均一相の状態から重合させて相分離させるＰＩＰＳ（Ｐｏｌｙ  ｍｅｒｉｚａｔｉｏｎ  Ｉｎｄｕｃｅｄ  ＰｈａｓｅＳｅｐａｒａｔｉｏｎ）法、ポリビニルアルコールなどの、液晶の溶解度が低い高分子と液晶とを混合し、攪拌懸濁させて、液晶を高分子中にドロップレット分散させるエマルジョン法、熱可塑性高分子と液晶とを混合し、均一相に加熱した状態から冷却して相分離させるＴＩＰＳ（Ｔｈｅｒｍａｌｌｙ  Ｉｎｄｕｃｅｄ  Ｐｈａｓｅ  Ｓｅｐａｒａｔｉｏｎ）法、高分子と液晶とをクロロホルムなどの溶媒に溶かし、溶媒を蒸発させて高分子と液晶とを相分離させるＳＩＰＳ（Ｓｏｌｖｅｎｔ  Ｉｎｄｕｃｅｄ  Ｐｈａｓｅ  Ｓｅｐａｒａｔｉｏｎ）法などによって形成されるが、特に限定されるものではない。
【００５１】
高分子マトリックス１７Ａは、コレステリック液晶１７Ｂを保持し、表示媒体１２の変形による液晶の流動（画像の変化）を抑制する機能を有するものであり、液晶材料に溶解せず、また液晶と相溶しない液体を溶剤とする高分子材料が好適に用いられる。また、高分子マトリックス１７Ａとしては、外力に耐える強度をもち、少なくとも入射光および露光光に対して高い透過性を示す材料であることが望まれる。
【００５２】
高分子マトリックス１７Ａとして採用可能な材料としては、水溶性高分子材料（例えばゼラチン、ポリビニルアルコール、セルロース誘導体、ポリアクリル酸系ポリマー、エチレンイミン、ポリエチレンオキサイド、ポリアクリルアミド、ポリスチレンスルホン酸塩、ポリアミジン、イソプレン系スルホン酸ポリマー）、あるいは水性エマルジョン化できる材料（例えばフッ素樹脂、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂）等が挙げられる。
【００５３】
この液晶層１７と光導電層２０と層間には、光導電層２０の電荷発生層２０Ａに接する側から順に、隔離層２１、ラミネート層１８及び光吸収層１９が積層されている。
【００５４】
ラミネート層１８は、それぞれ上下基板内面に形成した各機能層を貼り合わせる際に、凹凸吸収および接着の役割を果たす目的で設けられる層である。ラミネート層１８は、ガラス転移点の低い高分子材料からなり、熱や圧力によって貼り合わせる対象となる層（本実施の形態では隔離層２１と液晶層１７）を密着・接着させる材料が選択される。また、本実施の形態では、このラミネート層１８は、絶縁性の層として構成されることが望ましい。なお、本実施の形態において、「絶縁性」及び「絶縁」とは、シート抵抗が１０10Ω/□以上のものを目安とする。
【００５５】
このラミネート層１８に好適な材料としては、粘着性の高分子材料（例えばウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、シリコーン樹脂）が挙げられる。
【００５６】
光吸収層（遮光層）１９とは、露光光と入射光とを光学分離し、相互干渉による誤動作を防ぐとともに、表示時に表示媒体１２の非表示面側から入射する外光と表示画像を光学分離し、画質の劣化を防ぐ目的で設けられる層である。ただし、この目的から、光吸収層１９には、少なくとも電荷発生層２０Ａの吸収波長域の光、および液晶層１７の反射波長域の光を吸収する機能が要求される。
なお、本実施の形態の表示媒体１２は、光吸収層１９の設けられた構成であるとして説明するため、この光吸収層１９の色が、表示される画像の色として視認されるが、光吸収層１９の設けられていない構成であってもよい。この場合には、光導電層２０の色が表示される画像の色として視認される。
【００５７】
この光吸収層１９としては、具体的には、無機顔料（例えばカドミウム系、クロム系、コバルト系、マンガン系、カーボン系）、または有機染料や有機顔料（アゾ系、アントラキノン系、インジゴ系、トリフェニルメタン系、ニトロ系、フタロシアニン系、ペリレン系、ピロロピロール系、キナクリドン系、多環キノン系、スクエアリウム系、アズレニウム系、シアニン系、ピリリウム系、アントロン系）を直接成膜する乾式法か、あるいはこれらを高分子バインダー（たとえばポリビニルアルコール樹脂、ポリアクリル樹脂等）とともに適当な溶剤に分散ないし溶解させて塗布液を調製し、これを塗布し乾燥させて成膜する湿式塗布法等により形成される。光吸収層１９の膜厚としては、１μｍ以上１０μｍ以下とすることが望ましい。
【００５８】
隔離層２１は、直接接して積層されたときに材質によっては光導電層２０にダメージを与える場合のあるラミネート層１８等の各層から、光導電層２０を隔離する機能を有する層である。隔離層２１は、表示層１７と光導電層２０と層間に設けられ、光導電層２０に直接接して積層されて設けられている。
【００５９】
本実施の形態において、この隔離層２１は、イオン濃度が５×１０−５Ｃ／ｃｍ３以上１０×１０−５Ｃ／ｃｍ３以下であり、より望ましくは６×１０−５Ｃ／ｃｍ３以上７×１０−５Ｃ／ｃｍ３以下以下である。
【００６０】
隔離層２１のイオン濃度が上記範囲内であると、表示媒体１２における耐光性の劣化が抑制され、且つ残留電位の抑制により反射特性の劣化が抑制されると考えられる。
すなわち、隔離層２１のイオン濃度が５×１０−５Ｃ／ｃｍ３未満であると、蛍光灯などの照射下で放置すると、反射率が低下する。耐光性が悪化原因については、次のように考える。光劣化した光導電層は、無電界であっても内部電界によって電荷発生層から電荷が少しずつ放出され、光導電層中に電荷が蓄積される。電荷の蓄積が進むと、次の駆動時に過剰な電荷が消失されずに正常な電荷の移動を妨げるため、フォト出力が低下して、反射率特性が劣化する。隔離層中のイオンの作用について必ずしも明かにされたものではないが、イオンの存在により適度に電荷が分散され、過剰な電荷蓄積を防いでいると推測される。
また、隔離層２１のイオン濃度が１０×１０−５Ｃ／ｃｍ３を超えると、やはり反射率が低下する。隔離層のイオン量が何故残留電位に影響を及ぼすかについて、理由は必ずしも推測の域は出ていないが、水分の影響と相互作用が見られることから、イオン電導による注入などの作用が考えられる。
【００６１】
なお、上述のように、表示媒体１２では、電極１５及び電極２２間に電圧を印加し、光導電層２０へ露光光の照射を行うことで光導電層２０の電気特性分布を変化させて、この電気的特性分布の変化に応じて分布した分圧が表示層１７に印加されることで、該分圧に応じて表示層１７のコレステリック液晶の配向が変化して表示層１７に画像が形成される。
このように、この表示媒体１２への露光光の照射及び電圧印加による液晶層１７の反射率の変化によって、表示媒体１２に画像が形成される。
本実施の形態において「反射特性」とは、この液晶層１７の電圧印加による反射率の変化の応答性を示している。すなわち、「反射特性が良好である」とは、特定の電圧値を超える電圧を印加することで、色合いの違いとして視認される程度に液晶層１７の反射率の変化が生じる状態を示しし、「反射特性が不良である」とは、同じ電圧値の電圧を印加しても、色合いの変化として認識される程度の液晶層１７の反射率の変化が生じない状態を示している。
【００６２】
なお、上記イオン濃度は次のように測定される値である。
イオン濃度はインピーダンス測定における０．１Ｈｚにおける容量から求めた。すなわち、容量の周波数依存性の挙動において、１０Ｈｚより低い周波数領域は膜中のイオンの影響が顕著に見られるが、これは１０Ｈｚ以上の高周波電界ではイオンの応答性が低いからである。従って、１０Ｈｚと０．１Ｈｚの差分（ΔＣ）  がイオンによる電荷の働きと定義する。すなわち、ここでは、イオン濃度を電荷濃度として扱っている。本発明の現象はイオンの種類ではなく電荷量が影響するため、このような測定方法を用いた。
【００６３】
隔離層２１のイオン濃度について、隔離層２１単層が得られる場合、ＩＴＯ基板上に隔離層２１を積層し、その上に電極を作製しした後、インピーダンス測定から前述と同じように、イオン分を算出する。また、光導電層２０に隔離層２１を作製する場合、そのインピーダンスを測定後、隔離層２１を剥離し、光導電層２０インピーダンスを測定した上で、積層、それ以外の層のイオン濃度を算出し、隔離層２１のイオン濃度を算出するか、あらかじめ光導電層２０単層のインピーダンスを測定してから、隔離層２１のイオン密度を測定する。
また、もちろん、水溶液の導電率を測定し、イオン濃度と対応させてもよい。同一粘度に調整したインクを用いて、インピーダンスから測定したイオン濃度と導電率は対応するため、導電率から導き出してもよい。
【００６４】
また、隔離層２１の含水率は、２％以下であることが好ましい。反射率の低下が抑制される。水分が多いと、隔離層中に含まれる不純物イオンの働きが活発になり、イオン伝導による注入の影響で、駆動電圧パルス印可直後に残留電位が発生し、この影響で表示層の反射率が低下するのである。隔離層２１の含水率が２％以下であることで、イオンの作用を抑制することができる。なお、含水率は０％に近い方がよいが、２％以下であれば十分に水分がない状態となる。
【００６５】
なお、隔離層２１の含水率とは、下式（１）で定義される値を意味する。
・式（１）  ＭＣ＝１００×（Ｗｄ−Ｗａ）／Ｗｓ
ここで、式（１）中、ＭＣは隔離層２１の含水率（％）、Ｗｄは表示媒体１２中における隔離層２１を構成する材料の質量（ｍｇ）、Ｗａは質量Ｗｄの表示媒体１２中における隔離層２１を構成する材料を完全に乾燥処理した時の絶乾質量（ｍｇ）、Ｗｓは質量Ｗｄの表示媒体１２中における隔離層２１を構成する材料を常温常湿環境（２３℃、４７ＲＨ％以上５０ＲＨ％以下）下において吸湿が飽和状態となった時の質量（ｍｇ）を意味する。
【００６６】
なお、Ｗｄ、Ｗａ、Ｗｓは具体的には以下の手順で測定した値を意味する。まず、表示媒体１２を隔離層２１が露出するように分解した直後、又は、表示媒体１２を組み立てる際に、光導電層２０及び隔離層２１を含む側の部材と、液晶層１７を含む側の部材と、をラミネート層１８により貼り合せる直前に、隔離層２１のみを一定量採取して得られたサンプルの質量を測定する。そして、この時の質量をＷｄとする。
【００６７】
続いて、質量Ｗｄを測り終えたサンプルを、熱変性しない程度の温度で加熱処理する。この加熱処理は、サンプルの質量の減少が停止して、加熱時間に対して変化しなくなるまで続ける。そしてこの時の質量をＷａとする。
なお、加熱温度や加熱時間は、サンプルを構成する材料に応じて選択されるが、一般的な目安としては加熱温度が６０℃以上１２０℃以下、加熱時間が５分以上程度である。例えば、隔離層２１がポリビニルアルコールで構成されている場合には、サンプルを９０℃で１０分以上加熱処理すればよい。
【００６８】
続いて、質量Ｗａを測り終えたサンプルを、吸湿が飽和状態となるまで常温常湿環境（２３℃、４７ＲＨ％以上５０ＲＨ％以下）下に放置する。この吸湿処理は、サンプルの質量の増加が停止して、放置時間に対して変化しなくなるまで続ける。そしてこの時の質量をＷａとする。
なお、放置時間は、サンプルを構成する材料に応じて選択されるが、一般的な目安としては５分以上程度である。例えば、隔離層２１を構成する水溶性樹脂がポリビニルアルコールである場合には、サンプルを常温常湿環境下に１０分以上放置すればよい。
【００６９】
隔離層２１は、下層である光導電層を溶かす溶媒を用いることが出来ない理由から水溶性樹脂から構成されている。水溶性樹脂としては、公知の水溶性樹脂から選択されるが、具体的には温度２０℃における水に対する溶解度が８０ｇ／１００ｇ以上のものが利用される。
【００７０】
上記水溶性樹脂としてはポリビニルアルコールが好ましく、その他にも、例えば、ゼラチン、寒天、カゼイン、ポリアクリル酸ナトリウム、ポリエチレンオキシド等が用いられる。また、水溶性樹脂は２種類以上を組み合わせて用いてもよい。隔離層２１に含まれる水溶性樹脂の含有量としては１質量％以上１０質量％以下であることが好ましく、２質量％以上８質量％以下であることがより好ましい。
水溶性樹脂の含有量が１質量％以上１０質量％以下であると、塗布に最適な濃度の塗液が得られるという効果が得られると考えられる。
【００７１】
この隔離層２１について、上記イオン濃度となるように調整するための具体的な方法としては、隔離層２１を構成する材料について、例えば、イオン交換樹脂を利用した手法、逆浸透膜を利用した手法、電気析出を利用した手法、限外濾過を利用した手法、などの公知の手法を用いて、該隔離層２１を構成する対象となる材料に含まれる不純物イオンを除去することで、好適に上記範囲にイオン濃度が調整される。この隔離層２１として用いられる上記ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）中には、その製造方法に由来して、ナトリウムイオン、酢酸イオン等の多くの不純物イオンが含まれているが、例えば、イオン交換樹脂を用いた脱イオン方法において、イオン交換回数を繰り返すことによって、精製の度合いが高まるため、イオン交換回数によりイオン濃度を制御することができる。
【００７２】
上記構成の表示媒体１２においては、電極１５及び電極２２間に電圧が印加されると、電極１５と電極２２との電極間に積層された各層には、それぞれの分圧が印加される。その状態で光導電層２０に露光光が照射されると、その照射された露光光に応じて光導電層２０の抵抗分布が変化するため、露光光に応じて液晶層１７に印加される分圧が高くなる。液晶層１７に印加される電圧分布が変化すると液晶の配向が変化するので、露光光に応じた情報が液晶層１７に表示・記録される。
【００７３】
本実施の形態の表示媒体１２は、表示面側とされる基板１３、電極１５、液晶層１７、光吸収層１９、及びラミネート層１８の積層された積層体と、背面側とされる基板２４上に、電極２２、光導電層２０、及び隔離層２１の積層された積層体と、を貼り合わせることによって作製される。
【００７４】
そして、この２種類の積層体を貼り合わせる前において、隔離層２１については、上述したイオン濃度となるように調整するための具体的な方法を用いてイオン濃度の調整された材料を塗布することで、上記範囲のイオン濃度に調整された隔離層２１が形成される。
【００７５】
また、これらの積層体を貼り合わせる前に、加熱乾燥処理、減圧乾燥処理、および、低温低湿環境下での脱湿乾燥処理から選択される少なくとも１種類の乾燥処理を施す乾燥処理工程を経ることで、隔離層２１の含水率が上記２％以下となるように調整される。
【００７６】
なお、乾燥処理条件としては、隔離層２１の含水率が２％以下に制御されるように、隔離層２１を構成する材料組成（特に水溶性樹脂の種類や含有量）や、乾燥処理方法に応じて選択される。しかしながら、乾燥処理方法としては、加熱乾燥処理、減圧乾燥処理、および、低温低湿環境下での脱湿乾燥処理の中でも、簡便且つ短時間に隔離層２１の含水率が制御されることから、加熱乾燥処理を採用することが最も望ましい。
【００７７】
加熱乾燥処理条件としては、隔離層２１を構成する材料が熱変性して劣化しない範囲であれば特に限定されないが、一般的には、加熱温度が６０℃以上１２０℃以下の範囲で選択することが望ましく、９０℃以上１００℃以下の範囲で選択することがより望ましい。加熱温度が６０℃未満では、隔離層２１中に取り込まれた水分が揮発されず、隔離層２１の含水率を２％以下に制御することが困難となったり、加熱乾燥処理に長時間を要する場合がある。一方、加熱温度が１２０℃を超えると隔離層２１を構成する材料の熱変性を招きやすくなる場合がある。
【００７８】
また、加熱時間としては、加熱温度等にも依存するが、５分以上であることが望ましく、１０分以上であることがより望ましい。加熱時間が５分未満では隔離層２１の含水率を２％以下に制御することが困難となる場合がある。なお、加熱時間の上限は特に限定されないが、表示媒体の生産性が低下するため、実用上は１０分以下であることが好ましい。
【００７９】
なお、水溶性樹脂としてポリビニルアルコールを用いる場合に特に好適な加熱乾燥条件は、加熱温度については６０℃以上１２０℃以下の範囲内が好ましく、９０℃以上１００℃以下の範囲内がより好ましく、加熱時間については５分以上９０分以下の範囲内が好ましく、１０分以上３０分以下の範囲内が好ましい。
【００８０】
また、減圧乾燥処理条件としては、圧力が−０．１ＭＰａ以下であることが望ましい。
【００８１】
一方、低温低湿環境下での脱湿乾燥処理条件としては、温度４０℃以上６０℃以下で湿度１ＲＨ％以上１０ＲＨ％以下程度の範囲で実施することが望ましい。なお、この処理のみでは、隔離層２１の含水率を０．５％以下に制御することが困難である場合には、他の処理方法と組み合わせて利用してもよい。
【００８２】
上記乾燥処理工程を終えた後は、これら２種類の積層体を貼り合わせる工程を実施する。ここで、乾燥処理工程終了から貼り合わせ工程実施までの時間（待機時間）は５分以内であることが望ましく、２分以内であることがより望ましい。待機時間が５分を超えると、貼り合わせ工程を実施するまでの間に、雰囲気中の水分が再び隔離層２１に取り込まれやすくなるため、表示媒体を構成する隔離層２１の含水率が２％を超えてしまう場合がある。
【００８３】
なお、表示媒体を構成する電極は、基板上にスパッタリング法や真空蒸着法等の公知の成膜法を利用して形成される。また、液晶層１７や光導電層２０、及びその他の層については、これらの層を構成する材料を溶媒に溶解させた溶液を用いてスピンコート法や浸漬塗布法等の公知の液相成膜法が利用されるが、層を構成する材料によっては、真空蒸着法やスパッタリング法も採用される。
液相成膜法に用いることのできる溶媒としては、層を構成する材料を溶解させるものが選択されるが、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロルベンゼン等の芳香族炭化水素類、アセトン、２−ブタノン、シクロペンタノン等のケトン類、塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン等のハロンゲン化脂肪族炭化水素類、テトラヒドロフラン、エチルエーテル等の環状もしくは直鎖状のエーテル類等の通常の有機溶剤が単独あるいは２種以上混合して用いられる。
【００８４】
そして、以上に説明した成膜法を利用して、上記２種類の積層体を準備して、上記乾燥処理を施した後に、これらの２種類の積層体を貼り合わせる。この後、これらの２種類の積層体を貼り合わせたセルの端面をエポキシ系樹脂等の封止材により封止する等の工程を経て、本実施の形態の表示媒体１２が作製される。
【００８５】
本実施の形態の表示装置１０は、この光書込型の表示媒体１２に画像を書き込む装置である。
【００８６】
以下、本実施の形態の表示装置１０について、詳細に説明する。なお、本実施の形態の表示装置１０においては、表示媒体１２としては、図１に示す構成の表示媒体１２を用いる場合を想定して説明する。
【００８７】
書込装置１４は、表示媒体１２に画像を書き込む装置であり、表示媒体１２に対して露光光を走査露光する露光装置３０、表示媒体１２の電極１５と電極２２との電極間に電圧を印加する電圧印加部２６、及び露光装置３０と電圧印加部２６とに電気的に接続され、これらを制御する制御部２８を含んで構成されている。
【００８８】
露光装置３０は表示媒体１２上に、表示媒体１２の光導電層２０の吸収する吸収波長領域の光としての露光光を表示媒体１２へ照射する光源３０Ａと、光源３０Ａを表示媒体１２の全領域に対して走査駆動する駆動部３０Ｂと、を含んで構成されている。
光源３０Ａから照射された露光光の液晶層１７の照射領域は、光源３０Ａが走査駆動されない状態においては、液晶層１７に表示される画像の各画素に対応する領域以下の大きさであることが好ましく、この光源３０Ａの露光及び非露光が調整され且つ、光源３０Ａが駆動部３０Ｂによって走査駆動されることで、液晶層１７に表示する画像の各画素に応じて露光光の露光及び非露光が調整される。
【００８９】
光源３０Ａとしては、制御部２８からの入力信号に基づいて、表示媒体１２の光導電層２０へ所望の露光光（スペクトル・強度・空間周波数）を照射するものであれば、特に制限されるものではない。なお、光源３０Ａにより照射される露光光としては、光導電層２０の吸収波長域のエネルギーが多い光であることが好ましい。
【００９０】
この光源３０Ａとしては、具体的には、冷陰極管、キセノンランプ、ハロゲンランプ、発光ダイオード（ＬＥＤ）、ＥＬ、レーザ等を一次元のアレイ状に配置したものが使用される。また、駆動部３０Ｂとしては、ポリゴンミラーや、光源３０Ａを一次元的あるいは二次元的に走査させる駆動装置等が挙げられる。
なお、さらに、各種光学素子（たとえばマイクロレンズアレイ、セルホックレンズアレイ、プリズムアレイ、視野角調整シート）を組み合わせて用いてもよい。
【００９１】
電圧印加部２６は、制御部２８からの入力信号に基づいて、表示媒体１２の電極１５と電極２２との電極間に、該入力信号に応じた極性及び電圧値の電圧を、該入力信号に応じた時間印加するものであればよい。この電圧印加部２６としては、例えばバイポーラ高電圧アンプ等が用いられる。
【００９２】
この電圧印加部２６による表示媒体１２への電圧印加は、詳細には、接触端子２５を介して、電極１５及び電極２２間になされる。ここで、接触端子２５とは、電圧印加部２６および表示媒体１２の電極１５及び電極２２に接触して、両者の導通を行う部材であり、高い導電性を有し、電極１５、電極２２、および電圧印加部２６との接触抵抗が小さいものが選択される。なお、接触端子２５は、表示媒体１２と書込装置１４とを切りはなせるように、電極１５及び電極２２と、電圧印加部２６と、のどちらか、あるいは両者から分離できる構造であることが好ましい。
【００９３】
接触端子２５としては、金属（たとえば金・銀・銅・アルミ・鉄）、炭素、これらを高分子中に分散させた複合体、導電性高分子（たとえばポリチオフェン系・ポリアニリン系）などでできた端子で、電極を挟持するクリップ・コネクタ形状のものが挙げられる。
【００９４】
制御部２８は、図示を省略するＣＰＵ（Ｃｅｎｔｒａｌ  Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ  Ｕｎｉｔ）、ＲＯＭ（Ｒｅａｄ  Ｏｎｌｙ  Ｍｅｍｏｒｙ）およびＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ  Ａｃｃｅｓｓ  Ｍｅｍｏｒｙ）等から構成されており、ＲＯＭに格納されたプログラムにしたがって書込装置１４の装置各部を制御し、無線回線または有線回線を介して外部装置等から取得した画像データに応じた画像を表示媒体１２に表示するように、電圧印加部２６、及び露光装置３０を制御する。
【００９５】
表示媒体１２は、書込装置１４と一体化された構成であってもよいし、書込装置１４と分離可能に構成されていてもよい。表示媒体１２を書込装置１４に対して分離可能に構成する場合には、例えば、表示媒体１２を、図示を省略するスロット等に装着することで、表示媒体１２の電極１５及び電極２２が電圧印加部２６から電圧印加可能に接続されると共に、表示媒体１２の液晶層１７の露光装置３０及び一括露光装置３２から露光光の照射可能な状態とされるように構成すればよい。
このように、表示媒体１２を書込装置１４に対して分離可能に構成した場合には、表示媒体１２のみを単体で配布することが容易とされると共に、閲覧、回覧、配布等に容易に供される。また、表示媒体１２を再度書込装置１４のスロットに装着することで、新たな画像の書き込みや書き込んだ画像の消去も可能とされる。
【００９６】
上記のように構成された表示装置１０においては、制御部２８の制御によって、書込対象の画像の画像データに応じて電圧印加部２６及び露光装置３０が制御されることによって表示媒体１２に画像が書き込まれる。具体的には、制御部２８の制御によって、電圧印加部２６から電極１５及び電極２２間に電圧が印加されると共に、露光装置３０の駆動部３０Ｂにおいて光源３０Ａを表示媒体１２に表示される画像の各画素に対応する位置へ移動させると共に、移動先において、画像に応じて光源３０Ａから露光光を照射する。これによって、表示媒体１２に画像が書き込まれる。
【実施例】
【００９７】
以下、本発明を、実施例を挙げてさらに具体的に説明する。ただし、これら各実施例は、本発明を制限するものではない。
【００９８】
（実施例１）
（表示媒体の作製）
電極としてＩＴＯ膜（シート抵抗３００Ω/□）を形成したポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）基板（厚さ：１２５μｍ）の前記ＩＴＯ膜上に、電荷発生層を形成した。具体的には、まず、ヒドロキシガリウムフタロシアニン（Ｘ線回折スペクトルのブラック角（２θ±０．２°）が、７．０°、７．５°、１０．５°、１１．７°、１２．７°、１７．３°、１８．１°、２４．５°、２６．２°及び２７．１°に強い回折ピークを有するもの）を電荷発生材料とし、バインダー樹脂としてアルコール可溶性ポリビニルブチラール（積水化学社製、エスレックＢＨ−３）を用い、その質量比率を１：１として、ブタノールを用いてダイノーミルで分散させ、２質量％の分散液（塗布液Ａ）を調製した。これをスピンコート法により基板に塗布後、乾燥させ、波長７８０ｎｍでの光透過率が２０％の電荷発生層を形成した。
【００９９】
次に、前記電荷発生層の上に電荷輸送層を形成した。具体的には、まず、電荷輸送材Ｎ，Ｎ−ビス（３，４−ジメチルフェニル）ビスフェニル−４−アミンと、バインダー樹脂としてポリカーボネート（三菱瓦斯化学社製、Ｚ３００）｛｝とを、質量比率を１：１として混合した後、これをモノクロロベンゼンに溶解させ１０質量％の溶液（塗布液Ｂ）を調製した。これをアプリケーター（Ｇａｐ：１００μｍ）で塗布、乾燥することによって、前記下部電荷発生層上に１６μｍ厚の電荷輸送層を形成した。
【０１００】
更に、前記塗布液Ａに対して固形分濃度を４質量％にした以外は同じ組成の塗布液を用いて、スピンコート法により前記電荷輸送層の上に塗布、乾燥させ、波長７８０ｎｍでの光透過率が８０％の電荷発生層を形成した。以上のようにして、光導電層を形成した。
さらに、形成した光導電層の上に、後工程で調整するラミネート層と光導電層とを隔離するための隔離層を、下記方法により形成した。
【０１０１】
詳細には、光導電層上に以下のようにして隔離層を形成した。
まず、水溶性（溶媒）中にポリビニルアルコール樹脂を溶解した樹脂溶液中に、ジケトピロロピロール顔料（顔料：チバスペシャルティケミカルズ社製「商品名クロモフタル」）を５０重量％分散した材料を準備した。これをイオン交換樹脂（三菱化学社製「商品名ダイヤイオン」）を用いてイオン濃度調整処理を施した（条件：カチオン  ＰＫ２１６Ｈ、アニオン  ＷＡ３０）。このイオン濃度調整済みの材料を、１μｍ厚にアプリケータで塗布した後に、９０℃環境下に１０分放置することにより加熱乾燥させ、イオン濃度及び含水率の調整された隔離層を形成した。
【０１０２】
この隔離層のイオン濃度を、測定したところ、６．５×１０−５Ｃ／ｃｍ３であった。
イオン濃度の具体的な測定方法は、以下の通りである。電極基板上に膜厚１μｍの隔離層を作製し、５μｍの接着層を介して別の電極基板を貼り合した後、インピーダンスの測定を実施した。解析ソフトはインピーダンス・アナライザーＳｏｌａｒｔｒｏｎ１２６０  を用いた。
【０１０３】
また、この隔離層の含水率を測定した。
含水率の測定方法は以下の通りである。ＰＥＴ基板上に隔離層を形成したサンプル（Ｗｓを作製し、初期の重量を測定する。上記サンプルを６０℃〜９０℃のオーブンで乾燥させながら、乾燥温度と時間による重量の低減を測定した。飽和した最低重量をＷａとした。さらにサンプルを２３℃４７％ＲＨ〜５０％ＲＨの環境下に一晩放置した後に重量を測定し、Ｗｓとした。乾燥条件から、実施例１における水分量ＭＣを導いたところ、水分量は２％以下と推定される。
【０１０４】
一方、ネマチック液晶Ｅ７（メルク社製）８４質量部と、カイラル剤Ｒ８１１（メルク社製）１０．８質量部と、カイラル剤Ｒ１０１１（メルク社製）２．７質量部とを混合して、選択反射波長が６５０ｎｍであるコレステリック液晶１００部を得た。このコレステリック液晶と、多価イソシアネートとしてタケネートＤ−１１０Ｎ（武田薬品工業社製）１０質量部と、垂直配向成分の前駆体としてオクタデカノール３部（アルドリッチ社製）とを、酢酸エチル１０００質量部中に溶解して油相組成物を調製した。これをポリビニルアルコール１質量％水溶液１０、０００質量部の中に投入し、ミキサーで撹拌・分散して体積平均粒径が７μｍのエマルジョンを作製した。
これにポリアリルアミン（日東紡社製）の１０％水溶液を１００質量部加え、７０℃で２時間加熱してポリウレアを壁材とするマイクロカプセルを得た。得られたマイクロカプセルを遠沈回収後、その固形成分の質量に対して１／３となる量のポリビニルアルコールを含むポリビニルアルコール１０質量％水溶液を加えることにより塗布液Ｃを調整した。
【０１０５】
ＩＴＯ膜付きのＰＥＴフィルムのＩＴＯ膜面の上に、上記塗布液Ｃをワイヤーバー法にて塗布することにより液晶層（厚さ：５０μｍ）を形成した。次に、カーボンブラックをポリビニルアルコール水溶液中に分散し（固形分：１０質量％）、この分散液を前記表示素子における液晶層面上に塗布し、黒色の光吸収層（厚さ：３μｍ）を形成した。これによって、ＩＴＯ電極、液晶層、及び光吸収層の積層されたＰＥＴフィルムを調整した。
【０１０６】
−表示媒体の調整−
更に、上記調整した、ＰＥＴフィルム上に、ＩＴＯ電極、液晶層、及び光吸収層の積層された積層体上に、ドライラミネート接着剤であるディックドライＷＳ−３２１Ａ／ＬＤ−５５（大日本インキ化学工業製）を塗布し、乾燥させて厚さ５μｍのラミネート層を形成した。このラミネート層の上に、上記乾燥処理を経た積層体（光導電層上に隔離層を形成した積層体）を、互いに基板が最も外側になるように重ね合わせて密着させて貼り合わせ、続いて、９０℃でラミネートを行い、表示媒体を得た。
なお、上記隔離層の乾燥処理の終了から、２つの積層体の貼り合せ終了までの時間は２分であり、その時の雰囲気は温度２３℃、湿度５０ＲＨ％である。
【０１０７】
―反射特性評価―
この表示媒体について、２５℃５０％ＲＨの環境下で、書き込み電圧を印加するとともに１５０μＪの露光量の光を０．２秒間照射した後に、該電圧印加を解除することによって、書き込みを行ない、白表示したときの反射率をミノルタ製ＣＭ−３６００ｄを用いて測定し、経時での加熱初期（イニシャル）に対する反射率変化（つまり、反射率変化率）を求めたところ、図２の線図６０Ａに示す結果が得られた。この結果から、後述する比較例に比べて、本実施例１で調整した表示媒体では、電圧値６５０Ｖ以上の電圧印加を行うことで、４０％以上の反射率の変化が見られ、良好な反射特性がえられた。
【０１０８】
―耐光性評価―
実施例１で調整した表示媒体について、２５℃５０％ＲＨの環境下において、蛍光灯を用いて耐光テストを実施した。照射量は蛍光灯とサンプルの距離を調整し、２万５千Ｌｕｘの照射量が光導電層側を露光するように配置した。露光時間と相対反射率との関係を調べたところ、図４の線図６０Ｂに示す結果が得られた。
【０１０９】
なお、相対反射率とは、光導電層が設けられておらず、実施例１で調整した表示層を、実施例１で用いたＩＴＯ電極の設けられたＰＥＴフィルム上によって挟んだ状態の表示媒体に電圧を印加したときに、印加電圧を変化させて該表示層において得られる最大反射率を測定し、該最大反射率に対する割合を示している。
【０１１０】
このため、２５０時間露光後であっても、後述する比較例の評価結果に比べて、相対反射率の変化が少なく、良好な耐光性が得られていた。
また、隔離層の含水率を２％以上とした後述する実施例２に比べて、良好な耐光性がえられていたといえる。
【０１１１】
（実施例２）
実施例２では、実施例１で調整した表示媒体について、隔離層の形成時の乾燥工程（すなわち、２種類の積層体の貼り合わせ前の乾燥処理）を行わず、隔離層の含水率を
５％となるように調整した以外は、実施例１と同じ方法により表示媒体を作製した。
詳細には、実施例２では、実施例１における、隔離層形成時に行った、イオン濃度調整済みの材料を１μｍ厚にアプリケータで塗布した後における、９０℃環境下の１０分放置による加熱乾燥処理」を行わなかった以外は実施例１と同じ方法を用いて表示媒体を作製した。
【０１１２】
なお、実施例２で調整した表示媒体の隔離層のイオン濃度は、実施例１と同じ６．５×１０−５Ｃ／ｃｍ３であったが、含水率は、５％であった。
【０１１３】
―反射特性評価―
この表示媒体について、実施例１と同様にして書き込み電圧を印加するとともに１５０μＪの露光量の光を０．２秒間照射した後に、該電圧印加を解除することによって、書き込みを行ない、白表示したときの反射率をミノルタ製ＣＭ−３６００ｄを用いて測定し、経時での加熱初期（イニシャル）に対する反射率変化（つまり、反射率変化率）を求めたところ、図３の線図６２Ａに示す結果が得られた。この結果から、後述する比較例に比べて、本実施例２で調整した表示媒体では、電圧値６５０Ｖ以上の電圧印加を行うことで、大きな反射率の変化が見られ、良好な反射特性がえられた。
【０１１４】
―耐光性評価―
実施例２で調整した表示媒体について、実施例１と同様の耐光テストを実施したところ３００時間露光後であっても、反射率の低下が見られなかった。
このため、２５０時間露光後であっても、後述する比較例の評価結果に比べて、相対反射率の変化が少なく、良好な耐光性が得られていた。
【０１１５】
（実施例３〜実施例６、比較例１〜比較例２）
以下、イオン濃度及び含水率を表１に示す値に調整した以外は、実施例１と同様にして表示媒体を作製し、実施例１と同様にして反射特性、耐光性評価を行なった。これらを表１に示した。
【０１１６】
なお、表１中、反射率の評価結果については、電圧値６５０Ｖ以上の電圧印加を行なうことで３５％以上の反射率変化が見られた場合を、問題無しを示す評価「○」とし、３５％未満２５％以上の反射率変化が見られた場合を、許容範囲であることを示す評価「△」とし、２５％未満の反射率変化であった場合を許容不可としての評価「×」として表記した。
【０１１７】
また、表１中、耐光性評価における耐光性時間とは、上記耐光性評価において、相対反射率が８０％以下となったときの暴露時間を示している。
また、耐光性評価においては、該暴露時間が２００分以上であった場合を、問題無しを示す「○」とし、該暴露時間が１００分を超えて且つ２００分未満であった場合を許容範囲内であることを示す「△」とし、該暴露時間が１００分以下であった場合を許容不可を示す「×」として表記した。
【０１１８】
【表１】
2010156774.tif 000003
【図面の簡単な説明】
【０１１９】
【図１】本実施形態の表示装置の一の形態を示す概略構成図である。
【図２】実施例及び比較例における、反射率特性の評価結果を示す線図である。
【図３】実施例及び比較例における、反射率特性の評価結果を示す線図である。
【図４】実施例及び比較例における、耐光性の評価結果を示す線図である。
【符号の説明】
【０１２０】
１０  表示装置
１２  表示媒体
１５  電極
１７  液晶層
１８  ラミネート層
１９  光吸収層
２０  光導電層
２１  隔離層
２２  電極
２６  電圧印加部
２８  制御部
３０  露光装置
３０Ａ  光源
【図１】
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【図２】
2010156774.tif 000005
【図３】
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【図４】
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