(57)【要約】【課題】ガラス基板の反りを低減させたプラズマディスプレイパネルおよびその製造方法を提供する。【解決手段】複数の表示電極１２および誘電体層１３が順次形成されるとともに前記誘電体層１３が保護膜１４で被覆された前面板１０と、前記前面板１０との間に放電空間３０が形成されるように対向配置されかつ前記表示電極１２と直交する方向に形成されたアドレス電極２２を有するとともに前記放電空間３０を区画する隔壁２４間に蛍光体層２５を形成した背面板２０とを備え、前記前面板１０の表示領域内において、前記表示領域を二つ以上の不連続な面からなる領域に分断するように前記誘電体層１３が形成されていない直線状の凹部パターン１５を形成した。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の表示電極および誘電体層が順次形成されるとともに前記誘電体層が保護膜で被覆された第１の基板と、前記第１の基板との間に放電空間が形成されるように対向配置され、かつ前記表示電極と直交する方向に形成されたアドレス電極を有するとともに前記放電空間を区画する隔壁間に蛍光体層を形成した第２の基板とを備え、前記第１の基板の表示領域内において、前記表示領域を二つ以上の不連続な面からなる領域に分断するように前記誘電体層が形成されていない領域を直線状に形成したことを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項２】
前記第１の基板の前記誘電体層が形成されていない領域は、前記第１の基板の複数の表示電極が形成されていない領域であることを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項３】
前記第１の基板の前記誘電体層が形成されていない領域は、前記第１の基板が前記第２の基板の隔壁の頂部と接触する部分であることを特徴とする請求項２に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項４】
複数の表示電極および誘電体層が順次形成されるとともに前記誘電体層が保護膜で被覆された第１の基板と、前記第１の基板との間に放電空間が形成されるように対向配置されかつ前記表示電極と直交する方向に形成されたアドレス電極を有するとともに前記放電空間を区画する隔壁間に蛍光体層を形成した第２の基板とを備えたプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、前記第１の基板の表示領域内において、前記表示領域を二つ以上の不連続な面からなる領域に分断するように前記第１の基板の誘電体層に直線状の凹部パターンを形成する工程を有することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項５】
前記直線状の凹部パターンは、前記第１の基板の複数の表示電極が形成されていない領域に形成することを特徴とする請求項４に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項６】
前記直線状の凹部パターンは、前記第１の基板が前記第２の基板の隔壁の頂部と接触する部分に形成することを特徴とする請求項５に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項７】
前記直線状の凹部パターンは、マスクパターンを用いたエッチングにより形成することを特徴とする請求項４に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項８】
前記直線状の凹部パターンは、前記誘電体層を構成する材料とは異なる材料によるパターンを形成し、前記誘電体層を形成した後、前記異なる材料をリフトオフにより除去することで形成することを特徴とする請求項４に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項９】
前記直線状の凹部パターンは、表面を前記誘電体材料との剥離性がよい材料がコートされたワイヤにより形成し、前記誘電体層を形成した後、前記ワイヤを取り除くことにより形成することを特徴とする請求項４に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイパネルおよびその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、ＥＬ装置、ＳＥＤ装置、液晶表示（ＬＣＤ）装置やプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）等のディスプレイパネルを用いる平板表示装置は、薄型軽量化が可能で低消費電力であることから、大型のテレビジョン受像機や公衆表示用モニタとしての社会的な要望が増大し、注目を集めている。特に、希ガス放電による紫外線で蛍光体を励起発光させて画像・映像表示に利用し、視認性に優れるとされるＰＤＰでは、高性能化、低価格化、最適量産化等を目指して次々と新しい技術が開発されてきている。
【０００３】
ＰＤＰは、基本的には前面板と背面板とで構成されている。前面板は、ガラス基板と、その一方の主面上に形成されたストライプ状の透明電極およびバス電極よりなる走査電極および維持電極とで構成された表示電極と、表示電極を覆ってコンデンサとして働き放電による壁電荷を形成する誘電体層と、誘電体層上に形成された保護膜とで構成されている。
【０００４】
一方、背面板は、ガラス基板と、その一方の主面上に表示電極と交差する方向に形成されたストライプ状のアドレス電極と、アドレス電極を覆う誘電体層と、その上に形成された隔壁と、各隔壁間に形成された赤色、緑色および青色をそれぞれ発光する蛍光体層とで構成されている。
【０００５】
前面板と背面板とはその電極形成面側を対向させて気密封着され、隔壁によって放電セルが形成された放電空間にはＮｅ−Ｘｅなどの放電ガスが４００Ｔｏｒｒ〜６００Ｔｏｒｒの圧力で封入されている。表示電極に映像信号電圧を選択的に印加することによって放電ガスを放電させ、それによって発生した紫外線が各色蛍光体層を励起して赤色、緑色、青色の発光をさせてカラー画像表示を実現している。
【０００６】
ＰＤＰは大画面化、薄型化、軽量化などの要求がさらに高まっており、パネルの耐久性の向上などが要望されている。ＰＤＰの前面板はガラス基板上に電極、誘電体層、保護膜が形成されているが、ガラス基板と誘電体層、保護膜の熱膨張率の違いにより、ガラス基板に対し応力が発生する。このガラス基板に働く応力により保護膜、誘電体層へのクラックやガラス基板の割れ、封止後のパネル強度の低下などを生じる。応力による不良発生などを防止するためガラス基板の厚さを増やす必要があるが、軽量化、薄型化の実現のためにはガラスの厚さを増やすことはできない。
【０００７】
一方、ガラス基板の自重によるたわみが原因となる保護膜のクラックを防止するために、保護膜の蒸着時に開口部にワイヤを張ったトレイを用い、蒸着を行うことで、自重によるたわみを防止した成膜とパターンニングを両立させた製造方法が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２００７−１０３０５３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明はこのような現状に鑑みなされたもので、ガラス基板の反りを低減させたプラズマディスプレイパネルおよびその製造方法を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
このような目的を達成するために本発明は、複数の表示電極および誘電体層が順次形成されるとともに前記誘電体層が保護膜で被覆された第１の基板と、前記第１の基板との間に放電空間が形成されるように対向配置され、かつ前記表示電極と直交する方向に形成されたアドレス電極を有するとともに前記放電空間を区画する隔壁間に蛍光体層を形成した第２の基板とを備え、前記第１の基板の表示領域内において、前記表示領域を二つ以上の不連続な面からなる領域に分断するように前記誘電体層が形成されていない領域を直線状に形成したことを特徴とする。
【００１０】
また、本発明の製造方法は、複数の表示電極および誘電体層が順次形成されるとともに前記誘電体層が保護膜で被覆された第１の基板と、前記第１の基板との間に放電空間が形成されるように対向配置され、かつ前記表示電極と直交する方向に形成されたアドレス電極を有するとともに前記放電空間を区画する隔壁間に蛍光体層を形成した第２の基板とを備えたプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、前記第１の基板の表示領域内において、前記表示領域を二つ以上の不連続な面からなる領域に分断するように前記第１の基板の誘電体層に直線状の凹部パターンを形成する工程を有することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、表示特性や放電特性を犠牲にすることなく、誘電体層の応力を緩和することができるため、パネル強度を維持したＰＤＰを提供することが可能となる。しかも、基板のたわみを抑え、衝撃による割れが発生しにくい強度を向上したパネルをガラス基板の厚みを増やすことなく、実現することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下に、本発明の一実施の形態について、図面を用いて説明する。
【００１３】
図１は本発明の一実施の形態によるＰＤＰの構成を示す断面図であり、図２は前面板１０について、表示面側が下になるように配置して示す断面図である。ＰＤＰは、図１に示すように、第１の基板である前面板１０と、第２の基板である背面板２０とを間に放電空間３０が形成されるように対向配置するとともに、周辺部をガラスフリット等の封着材により封着することにより構成されている。前記放電空間３０には、電子により励起され紫外線が発生するガス、例えばＨｅ、Ｎｅ、Ａｒ、Ｋｒ、Ｘｅ、などの希ガスが単体または混合されて封入されている。
【００１４】
前面板１０は、図２に示すように、ガラス基板１１上に、互いに平行な一対の表示電極１２を複数対形成するとともに、その表示電極１２を覆うように誘電体層１３を形成し、さらに誘電体層１３を覆うように保護膜１４を形成することにより構成されている。
【００１５】
前記表示電極１２は、Ａｕ、Ａｇ、Ａｌ、Ｃｕ、Ｍｏ、Ｗ、Ｔｉなどの金属電極のみ、またはＩＴＯやＺｎＯなどの透明電極とこの透明電極上にＡｕ、Ａｇ、Ａｌ、Ｃｕ、Ｍｏ、Ｗ、Ｔｉなどの金属電極を形成することにより構成することができる。
【００１６】
また、誘電体層１３は厚さが１０〜５０μｍ程度のガラスに金属を混合させた材料からなる層であって、上記表示電極１２を覆いつつガラス基板１１の表面に一様に形成される。ここで、前記前面板１０の表示領域内において、前記表示領域を二つ以上の不連続な面からなる領域に分断するように前記誘電体層１３が形成されていない領域である凹部パターン１５が直線状に形成されている。図３は、前面板１０の放電空間側から見た平面図である。
【００１７】
また、保護膜１４は、凹部パターン１５内にも形成されるように、前記誘電体層１３上に形成されており、前記誘電体層１３を放電時のイオン衝撃によるスパッタリングから保護する役割と、二次電子を放出し、放電開始電圧を低下させる役割が求められ、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）などからなる厚さ１．０μｍ程度の薄膜が用いられる。なお、ＳｒＯ、ＣａＯ、ＣｅＯなどの二次電子放出係数の高い材料、またはＭｇＯと二次電子放出係数の高い材料、またはそれらの材料の混合材料などを用いてもよい。
【００１８】
次に、背面板２０について説明する。背面板２０は、ガラス基板２１上に、前記前面板１０の複数の表示電極１２それぞれと直交するように複数のアドレス電極２２を形成し、そのアドレス電極２２を覆うように誘電体層２３を形成し、そしてその誘電体層２３上に前記放電空間３０を区画するための隔壁２４を形成するとともに、隔壁２４間にＲＧＢの蛍光体層２５を形成することにより構成されている。
【００１９】
ここで、前記前面板１０の誘電体層１３に形成した凹部パターン１５は、放電特性に影響を与えないように、複数の表示電極１２が形成されていない領域で、背面板２０の隔壁２４の頂部と接触する部分に形成されている。
【００２０】
次に、本実施の形態において、凹部パターン１５を形成するための製造方法について、図４、図５を用いて説明する。
【００２１】
まず、図４に示す方法について説明すると、図４に示す方法は、前記誘電体層１３を構成する材料とは異なる材料によるパターンを形成し、前記誘電体層１３を形成した後、前記異なる材料をリフトオフにより除去することで形成する方法である。
【００２２】
図４において、図４（ａ）のようなガラス基板１１上に、電極膜１２ａを形成した後、図４（ｂ）のように電極マスクパターン１６を電極膜１２ａ上に形成する。電極マスクパターン１６は、例えばリソグラフィーによりフォトレジストにより形成される。次に、図４（ｃ）のように電極マスクパターン１６のパターンで電極膜１２ａをエッチングして除去することにより、表示電極１２を形成する。表示電極１２は、ウエットエッチングまたはドライエッチングなどを用い形成し、その後電極マスクパターン１６を除去することにより形成される。次に、図４（ｄ）のように、誘電体層加工用パターン１７を形成し、その後図４（ｅ）のように、誘電体層１３を誘電体層加工用パターン１７のない領域に形成する。次に、図４（ｆ）のように、誘電体層加工用パターン１７を除去することにより、誘電体層１３に直線状の凹部パターン１５を形成する。
【００２３】
ここで、誘電体層１３を構成する材料とは異なる材料による誘電体層加工用パターン１７を用いる以外に、表面を前記誘電体材料との剥離性がよい材料がコートされたワイヤにより形成し、前記誘電体層を形成した後、前記ワイヤを取り除くことにより形成する方法で、表面をＤＬＣやＴｉＣＮでコートした金属製のワイヤなどを用いてもよい。表面をＤＬＣやＴｉＣＮでコートすることにより、誘電体層形成用のペーストを薄膜化させた後に金属製のワイヤを除去する際に、誘電体層との剥離性が向上し、加工が容易となる。誘電体層加工用パターン１７は、金属製のワイヤまたは金属膜などにより形成する場合は、誘電体層１３の膜厚以上の膜厚で形成する、これにより、誘電体層加工用パターン１７上には誘電体層１３が形成されないため、誘電体層加工用パターン１７を除去することにより、誘電体層が形成されない領域が形成される。
【００２４】
次に、図５に示す方法について説明する。図５に示す方法は、マスクパターンを用いたエッチングにより形成する方法であり、図５において、まず図５（ａ）のように、誘電体層１３を形成した後、図５（ｂ）のように直線状の凹部パターン１５を形成する箇所を除いて、誘電体層加工用のパターン１８を形成し、その後そのパターン１８をマスクにして誘電体層１３をエッチングすることにより、図５（ｃ）のように、直線状の凹部パターン１５を形成するものである。
【００２５】
ここで、誘電体層加工用のパターン１８は、金属膜などにより形成されてもよい。金属膜により形成することにより、誘電体層形成用のペーストを薄膜化した後、例えば酸などの薬品などを用い、金属膜のみを除去することができ、誘電体層のパターン形成が可能となる。また、誘電体層加工用のパターンは、リソグラフィーを用いたフォトレジストにより形成されてもよい。フォトレジストにより形成する場合は金属製のワイヤで形成される場合や金属膜などにより形成する場合とは異なり、誘電体層を残す部分にパターンが形成されるようにパターン形成を行う。フォトレジストによるパターンを形成した後、誘電体層１３のない領域をウエットエッチングまたはドライエッチングを用いて形成することにより凹部パターン１５が形成される。
【産業上の利用可能性】
【００２６】
以上のように本発明によれば、パネルの厚みを増やすことなく、パネル強度を向上させることができ、プラズマディスプレイパネルの薄型化が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】本発明の一実施の形態におけるプラズマディスプレイパネルを示す断面図
【図２】同パネルの前面板を示す断面図
【図３】同前面板の平面図
【図４】本発明の一実施の形態におけるプラズマディスプレイパネルの前面板の製造方法を示す断面図
【図５】本発明の他の実施の形態におけるプラズマディスプレイパネルの前面板の製造方法を示す断面図
【符号の説明】
【００２８】
１０  前面板
１１  ガラス基板
１２  表示電極
１３  誘電体層
１４  保護膜
１５  凹部パターン
２０  背面板
２１  ガラス基板
２２  アドレス電極
２４  隔壁
２５  蛍光体層
３０  放電空間
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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