(57)【要約】【課題】電極の電気的な抵抗が大きくなるのを抑制することが可能な照明装置を提供する。【解決手段】この表示装置１００は、基板１２と、基板１２の表示領域１２ａの略全面を覆うように形成される単一の膜からなる陽極１５と、平面的に見て、陽極１５と重なり、表示領域１２ａの略全面を覆うように形成される単一の膜からなる陰極１８と、陽極１５と陰極１８との間に配置され、陽極１５と陰極１８とに電気的に接続される複数の島状の発光素子１７とを備える。【選択図】図１
2010205634.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
前記基板の表示領域の略全面を覆うように形成される単一の膜からなる第１透明電極と、
平面的に見て、前記第１透明電極と重なり、前記表示領域の略全面を覆うように形成される単一の膜からなる第２透明電極と、
前記第１透明電極と前記第２透明電極との間に配置され、複数の島状の発光素子とを備える、照明装置。
【請求項２】
前記第１透明電極および前記第２透明電極は略矩形であり、
前記第１透明電極は、平面的に見て、前記第２透明電極の一方の辺側において前記第２透明電極からはみ出した部分を有し、
前記第１透明電極の前記第２透明電極からはみ出した部分に正電圧または負電圧の一方が接続されるとともに、前記第２透明電極は、前記第２透明電極の一方の辺と対向する他方の辺が前記第１透明電極からはみ出し、前記第２透明電極の第１透明電極からはみ出した部分は、正電圧または負電圧の他方が接続されている、請求項１に記載の照明装置。
【請求項３】
前記第１透明電極と、前記第２透明電極との間に設けられる絶縁膜をさらに備え、
前記発光素子は、前記絶縁膜に設けられる穴部を介して、前記第１透明電極と前記第２透明電極とに直接接触するように形成されている、請求項１または２に記載の照明装置。
【請求項４】
前記発光素子は、前記第１透明電極および前記第２透明電極のうち一方の電極に直接接触するように形成されているとともに、前記第１透明電極および前記第２透明電極のうち他方の電極と前記発光素子との間には島状の電極が形成されている、請求項１または２に記載の照明装置。
【請求項５】
前記絶縁膜は、平面的に見て、前記第１透明電極と前記第２透明電極との重なり部分の前記第１透明電極と前記第２透明電極との間に加えて、前記第１透明電極の側面と前記第２透明電極とが対向する部分の前記第１透明電極と前記第２透明電極との間に配置されている、請求項３または４に記載の照明装置。
【請求項６】
平面的に見て前記発光素子と重なるように設けられる遮光膜および反射膜をさらに備え、
前記遮光膜は、前記基板の表面上に直接接触するように形成されているとともに、前記反射膜は、前記遮光膜の前記発光素子と対向する側の表面上に設けられている、請求項１〜５のいずれか１項に記載の照明装置。
【請求項７】
平面的に見て前記発光素子と重なるように設けられる遮光膜および反射膜をさらに備え、
前記反射膜は、前記第２透明電極の表面上に設けられるとともに、前記遮光膜は、前記反射膜の表面上に設けられている、請求項１〜５のいずれか１項に記載の照明装置。
【請求項８】
反射型あるいは半透過型の表示パネルの観察者側に、請求項１〜７のいずれか１項に記載の照明装置を備える、表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、照明装置および表示装置に関し、特に、一対の電極と発光素子とを備える照明装置および表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、一対の電極と発光素子とを備える照明装置が知られている（たとえば、特許文献１参照）。上記特許文献１に記載の照明装置では、１つの幹部と複数のライン状の枝部とを有する櫛歯状の透明電極からなる陽極と、櫛歯状の陽極と交差するように配置される１つの幹部と複数のライン状の枝部とを有する櫛歯状の透明電極からなる陰極とが設けられている。そして、陽極の枝部と陰極の枝部との間で、かつ、陽極の枝部と陰極の枝部とが交差する位置に発光素子（有機エレクトロルミネッセンス素子）が設けられている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００８−７７８６４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上記特許文献１に記載の照明装置では、陽極の枝部と陰極の枝部とがそれぞれライン状に形成されている分、陽極（電極）および陰極（電極）の電気的な抵抗が大きくなるという問題点がある。
【０００５】
この発明は、上記のような課題を解決するためになされたものであり、この発明の１つの目的は、電極の電気的な抵抗が大きくなるのを抑制することが可能な照明装置および表示装置を提供することである。
【課題を解決するための手段および発明の効果】
【０００６】
上記目的を達成するために、この発明の第１の局面における照明装置は、基板と、基板の表示領域の略全面を覆うように形成される単一の膜からなる第１透明電極と、平面的に見て、第１透明電極と重なり、表示領域の略全面を覆うように形成される単一の膜からなる第２透明電極と、第１透明電極と第２透明電極との間に配置され、複数の島状の発光素子とを備える。
【０００７】
この第１の局面による照明装置では、上記のように、第１透明電極と第２透明電極とを表示領域の略全面を覆うように形成される単一の膜からなるように構成することによって、たとえば第１透明電極と第２透明電極とがライン状の複数の電極からなる場合と比べて、第１透明電極および第２透明電極が単一の膜からなる分、第１透明電極および第２透明電極の電気的な抵抗が大きくなるのを抑制することができる。
【０００８】
また、第１透明電極および第２透明電極を表示領域の略全面を覆うように形成される単一の膜からなるように構成することによって、たとえば第１透明電極および第２透明電極がライン状の複数の電極からなることにより発生するモアレ（周期的な縞状のパターン）を抑制することができる。また、第１透明電極および第２透明電極を、表示領域の略全面を覆うように形成される単一の膜からなるように構成することによって、第１透明電極および第２透明電極を微細なパターンに加工する必要がないので、第１透明電極および第２透明電極の形成を容易にすることができる。また、第１透明電極および第２透明電極を、表示領域の略全面を覆うように形成される単一の膜からなるように構成することによって、たとえば第１透明電極および第２透明電極をライン状の複数の電極から形成する場合と異なり、電極のパターンが顕在化（視覚化）されるのを抑制することができる。
【０００９】
上記第１の局面による照明装置において、好ましくは、第１透明電極および第２透明電極は略矩形であり、第１透明電極は、平面的に見て、第２透明電極の一方の辺側において第２透明電極からはみ出した部分を有し、第１透明電極の第２透明電極からはみ出した部分に正電圧または負電圧の一方が接続されるとともに、第２透明電極は、第２透明電極の一方の辺と対向する他方の辺が第１透明電極からはみ出し、第２透明電極の第１透明電極からはみ出した部分は、正電圧または負電圧の他方が接続されている。このように構成すれば、第１透明電極の第２透明電極からはみ出した部分は、第１透明電極の第２透明電極からはみ出した領域の略全面を覆うように形成されているので、第１透明電極の第２透明電極からはみ出した部分が複数のライン状の電極から形成され、複数のライン状の電極に正電圧または負電圧の一方が接続される場合と比べて、第１透明電極と正電圧または負電圧の一方との間の電気的な抵抗が大きくなるのを抑制することができる。
【００１０】
上記第１の局面による照明装置において、好ましくは、第１透明電極と、第２透明電極との間に設けられる絶縁膜をさらに備え、発光素子は、絶縁膜に設けられる穴部を介して、第１透明電極と第２透明電極とに直接接触するように形成されている。このように構成すれば、照明装置を簡単な構成で実現することができるため、工程およびコストの削減につながる。
【００１１】
この場合、好ましくは、発光素子は第１透明電極および第２透明電極のうち一方の電極に直接接触するように形成されているとともに、第１透明電極および第２透明電極のうち他方の電極と発光素子との間には島状の電極が形成されている。このように構成すれば、発光素子の一方の電極が第１透明電極となり、他方の電極を発光素子と第２透明電極との間に形成された島状の電極とすることができるので、発光素子の発光効率を高くすることができる。
【００１２】
上記第１透明電極と第２透明電極との間に絶縁膜が設けられる照明装置において、好ましくは、絶縁膜は、平面的に見て、第１透明電極と第２透明電極との重なり部分の第１透明電極と第２透明電極との間に加えて、第１透明電極の側面と第２透明電極とが対向する部分の第１透明電極と第２透明電極との間に配置されている。このように構成すれば、第１透明電極と第２透明電極とが接触して電気的にショートするのを確実に抑制することができる。
【００１３】
上記第１の局面による照明装置において、好ましくは、平面的に見て発光素子と重なるように設けられる遮光膜および反射膜をさらに備え、遮光膜は、基板の表面上に直接接触するように形成されているとともに、反射膜は、遮光膜の発光素子と対向する側の表面上に設けられている。このように構成すれば、遮光膜を基板の表面上に直接接触するように形成することにより、フォトリソグラフィプロセスを使い、遮光膜を所望の大きさに容易にパターニングすることができるので、遮光膜が所望の大きさよりも大きく形成されることに起因して、開口率（光が透過する領域）が小さくなるのを抑制することができる。また、平面的に見て発光素子とオーバーラップするように遮光膜を設けることにより、発光素子から第２透明電極側（遮光膜とは反対側）に光が出射されるトップエミッション型の発光素子において、発光素子から光が出射される側とは反対側に光が漏れるのを遮光膜により抑制することができる。
【００１４】
上記第１の局面による照明装置において、好ましくは、平面的に見て発光素子と重なるように設けられる遮光膜および反射膜をさらに備え、反射膜は、第２透明電極の表面上に設けられるとともに、遮光膜は、反射膜の表面上に設けられている。このように構成すれば、発光素子から第１透明電極側（遮光膜とは反対側）に光が出射されるボトムエミッション型の発光素子において、発光素子から光が出射される側とは反対側に光が漏れるのを遮光膜により抑制することができる。
【００１５】
この発明の第２の局面による表示装置は、上記のいずれかの構成を有する照明装置を備える。このように構成すれば、照明装置を反射型あるいは半透過型の表示パネルを観察者側から照明することが可能となり、表示パネルのパターンと照明装置のパターンとの干渉によるモアレの発生を防ぐことができるとともに、照明装置の電極の電気的な抵抗が大きくなるのを抑制することが可能な表示装置を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明の第１実施形態による照明装置の断面図である。
【図２】本発明の第１実施形態による照明装置の平面図である。
【図３】本発明の第１実施形態による照明装置の断面図である。
【図４】本発明の第１実施形態による表示装置の断面図である。
【図５】本発明の第２実施形態による表示装置の断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。
【００１８】
（第１実施形態）
図１〜図３を参照して、本発明の第１実施形態による表示装置１００の構成について説明する。
【００１９】
本発明の第１実施形態による表示装置１００は、図１に示すように、照明装置２００と、反射型液晶表示装置３００とから構成されている。
【００２０】
照明装置２００は、図１に示すように、ガラスなどの透明の部材からなる基板１１と、ガラスなどの透明の部材からなる基板１２とが対向するように配置されている。ここで、第１実施形態では、基板１２の反射型液晶表示装置３００側（Ｚ１方向側）の表面上には、クロム（Ｃｒ）や酸化クロム（ＣｒＯ２）などからなる遮光膜１３が設けられている。なお、遮光膜１３は、後述する発光素子１７から出射された光が、Ｚ２方向側に漏れるのを抑制する機能を有する。また、遮光膜１３は、基板１２の表面上にクロム（Ｃｒ）や酸化クロム（ＣｒＯ２）などからなる膜を形成した後に、この膜をパターニングすることにより、基板１２の表面上に直接設けられている。また、図２に示すように、遮光膜１３は、略矩形形状に形成されるとともに、複数設けられている。また、複数の遮光膜１３は、基板１２の表面上にマトリクス状に島状に配置されている。なお、遮光膜１３は、図２に示すように、発光素子１７とオーバーラップする（重なる）ように設けられている。
【００２１】
また、第１実施形態では、図１に示すように、複数の遮光膜１３のそれぞれの反射型液晶表示装置３００側（Ｚ１方向側）の表面上には、Ａｌなどの金属からなる反射膜１４が形成されている。なお、反射膜１４は、図２に示すように、略矩形形状に形成されている。また、反射膜１４は、後述する発光素子１７から出射された光のうち、Ｚ２方向側に漏れる光をＺ１方向側に反射する機能を有する。また、反射膜１４は、図２に示すように、平面的に見て、発光素子１７とオーバーラップするように設けられている。なお、遮光膜１３は、平面的に見て、反射膜１４よりも大きく形成されており、遮光膜１３は、反射膜１４からはみ出すように配置されている。
【００２２】
また、第１実施形態では、図１に示すように、基板１２、遮光膜１３および反射膜１４の表面を覆うように、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）、ＩＺＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｚｉｎｃ  Ｏｘｉｄｅ）、ＳｎＯ２（酸化スズ）などの透明電極からなり、単一の膜（開口部の無い膜）からなる略矩形形状の陽極１５が形成されている。なお、陽極１５は、本発明の「第１透明電極」の一例である。また、陽極１５は、約３０ｎｍ以上２００ｎｍ以下の厚みｔ１を有する。
【００２３】
また、第１実施形態では、図２に示すように、陽極１５は、平面的に見て、基板１２の表示領域１２ａ（画像が表示される領域）の略全面、および、表示領域１２ａのＸ２方向側の非表示領域１２ｂを覆うように形成されている。また、陽極１５は、平面的に見て、マトリクス状に配置される複数の遮光膜１３（反射膜１４）を覆うように略矩形形状に形成されている。
【００２４】
また、図１に示すように、陽極１５の表面上には、シリコン酸化膜（ＳｉＯ２）やシリコン窒化膜（ＳｉＮ）からなる絶縁膜１６が設けられている。ここで、第１実施形態では、絶縁膜１６は、陽極１５と後述する陰極１８とがオーバーラップする部分の陽極１５と陰極１８との間に設けられている。また、絶縁膜１６は、陽極１５のＸ１方向側の側面１５ａと陰極１８とが対向する部分の陽極１５と陰極１８との間にも設けられている。
【００２５】
また、第１実施形態では、絶縁膜１６には、複数のコンタクトホール１６ａが形成されており、絶縁膜１６のコンタクトホール１６ａには、陽極１５と後述する陰極１８とに直接接触するように、有機層からなる発光素子１７が形成されている。なお、コンタクトホール１６ａは、本発明の「穴部」の一例である。また、発光素子１７は、電子輸送層、発光層および正孔輸送層からなる。なお、第１実施形態では、発光素子１７の一方端１７ａ（発光素子１７のＺ２方向側の表面）の略全面が陽極１５に直接接触するように形成されているとともに、発光素子１７の他方端１７ｂ（発光素子１７のＺ１方向側の表面）の略全面が陰極１８に直接接触するように形成されている。
【００２６】
また、絶縁膜１６のＺ１方向側の表面上と、発光素子１７のＺ１方向側の表面上には、ＩＴＯ、ＩＺＯ、ＳｎＯ２などの透明電極からなり、開口部を有しない単一の膜からなる略矩形形状の陰極１８が形成されている。なお、陰極１８は、本発明の「第２透明電極」の一例である。陰極１８は、約３０ｎｍ以上２００ｎｍ以下の厚みｔ２を有する。また、図３に示すように、陰極１８のＸ１方向側の部分は、絶縁膜１６のＸ１方向側の側面１６ｂを覆うように形成されるとともに、基板１２の表面上を覆うように形成されている。また、第１実施形態では、陰極１８は、陽極１５とオーバーラップするように設けられ、平面的に見て表示領域１２ａの略全面および、表示領域１２ａのＸ１方向側に位置する非表示領域１２ｂを覆うように形成される。
【００２７】
なお、陽極１５または陰極１８を、アルミニウム層（Ａｌ層）や、マグネシウム銀層（ＭｇＡｇ層）や銀層（Ａｇ層）や金層(Ａｕ)などの半透過金属から形成する場合では、光透過性を確保するため半透過金属を２０ｎｍ以下の薄膜に形成する必要があり、半透過金属が段差部に形成された場合、段差部で半透過金属が切断されることが考えられる一方、陽極１５と陰極１８とを約３０ｎｍ以上２００ｎｍ以下の厚みを有する透明電極から形成することにより、陽極１５と陰極１８とが段差部で切断されるの抑制することが可能となる。
【００２８】
また、第１実施形態では、図１〜図３に示すように、陽極１５は、平面的に見て、陰極１８からはみ出した（露出した）部分１５ｂを有している。そして、陽極１５の陰極１８からはみ出した部分１５ｂは、陽極１５の陰極１８からはみ出した領域（Ｘ２方向側の非表示領域１２ｂ）の略全面を覆うように形成されている。つまり、陽極１５の部分１５ｂは、開口部の無い膜状に形成されている。また、陽極１５の陰極１８からはみ出した部分１５ｂに正電圧が接続されている。また、陽極１５の部分１５ｂとは反対側（Ｘ１方向側）に対応する陰極１８の領域に負電圧が接続されている。
【００２９】
そして、陽極１５と陰極１８とに、それぞれ、正電圧および負電圧を印加することにより、発光素子１７からＺ１方向側に光が出射されるように構成されている。つまり、陽極１５、発光素子１７および陰極１８により、トップエミッション型の有機エレクトロルミネッセンス素子（有機ＥＬ素子）１９が構成される。
【００３０】
また、図１に示すように、基板１１と、基板１２とは、シール層２０によって接合されている。なお、シール層２０は、図２に示すように、基板１１および基板１２の四辺を取り囲むように設けられている。これにより、有機ＥＬ素子１９は、基板１１と、基板１２と、シール層２０とに囲まれた空間に封入されている。また、基板１１と、基板１２と、シール層２０とに囲まれた空間は、窒素が充填されていてもよいし、基板１１と屈折率の略等しい部材（樹脂など）を充填してもよい。
【００３１】
また、図４に示すように、反射型液晶表示装置３００では、ガラスからなる基板３１の表面上に画素選択用の薄膜トランジスタ３２が設けられている。なお、反射型液晶表示装置３００には、複数の画素３３が設けられており、薄膜トランジスタ３２は、画素３３ごとに設けられている。薄膜トランジスタ３２は、層間絶縁膜３４によって覆われており、層間絶縁膜３４の表面上には、薄膜トランジスタ３２のそれぞれに接続するように、アルミニウム（Ａｌ）などの反射材料からなる画素電極３５が形成されている。画素電極３５は、層間絶縁膜３４に形成されるコンタクトホール３４ａを介して薄膜トランジスタ３２に接続されている。
【００３２】
また、基板３１と対向するように、ガラスからなる基板４１が配置されている。基板４１の基板３１側（Ｚ１方向側）の表面上には、ＩＴＯなどの透明電極からなる共通電極４２が形成されている。なお、共通電極４２は、複数の画素３３に跨るように形成されている。また、画素電極３５と共通電極４２との間には、液晶層４３が封入されている。また、基板４１のＺ２方向側の表面上には、拡散粘着層からなる光散乱層４４と、偏光板４５とがこの順で積層されている。光散乱層４４は、照明装置２００から出射される光を反射型液晶表示装置３００に略均一に散乱させる機能を有する。
【００３３】
また、照明装置２００と反射型液晶表示装置３００とは、樹脂層４６を介して接合されている。なお、樹脂層４６は、たとえばガラスからなる基板１１と略同じ屈折率を有するＵＶ硬化樹脂層または可視光硬化樹脂層からなる。これにより、樹脂層４６と基板１１との界面において光が反射されるのが抑制される。
【００３４】
次に、図４を参照して、本発明の第１実施形態による表示装置１００の動作について説明する。
【００３５】
まず、陽極１５に正電圧が印加されるとともに、陰極１８に負電圧が印加される。これにより、発光素子１７からＺ１方向側に光が出射される。発光素子１７から出射された光は、偏光板４５によって所定の方向に偏光されるとともに、光散乱層４４によって散乱される。光散乱層４４によって散乱された光は、ガラスからなる基板４１および透明電極からなる共通電極４２を通過して、液晶層４３に入射される。液晶層４３に入射した光は、アルミニウム（Ａｌ）などの反射材料からなる画素電極３５によってＺ２方向側に反射される。そして、画素電極３５によって反射された光は、反射型液晶表示装置３００に入射した経路と逆の経路を進むとともに、照明装置２００に入射する。照明装置２００に入射した光は、基板１１、透明電極からなる陰極１８、絶縁膜１６、透明電極からなる陽極１５および基板１２を介して、観察者に観察される。これにより、反射型液晶表示装置３００に表示される画像が観察者に観察される。
【００３６】
第１実施形態では、上記のように、陽極１５と陰極１８とを表示領域１２ａの略全面を覆うように形成される単一の膜からなるように構成することによって、たとえば陽極１５と陰極１８とがライン状の複数の電極からなる場合と比べて、陽極１５および陰極１８が単一の膜からなる分、陽極１５および陰極１８の電気的な抵抗が大きくなるのを抑制することができる。
【００３７】
また、第１実施形態では、上記のように、陽極１５と陰極１８とを表示領域１２ａの略全面を覆うように形成される単一の膜からなるように構成することによって、たとえば陽極１５と陰極１８とがライン状の複数の電極からなることにより発生するモアレ（周期的な縞状のパターン）を抑制することができる。また、陽極１５と陰極１８とを、表示領域１２ａの略全面を覆うように形成される単一の膜からなるように構成することによって、陽極１５と陰極１８とを微細なパターンに加工する必要がないので、陽極１５と陰極１８との形成を容易にすることができる。また、陽極１５と陰極１８とを、表示領域１２ａの略全面を覆うように形成される単一の膜からなるように構成することによって、たとえば陽極１５と陰極１８とをライン状の複数の電極から形成する場合と異なり、電極のパターンが顕在化（視覚化）されるのを抑制することができる。
【００３８】
また、第１実施形態では、上記のように、複数の発光素子１７をマトリクス状に島状に配置して、マトリクス状に配置される複数の発光素子１７を表示領域１２ａの略全面を覆う陽極１５と表示領域１２ａの略全面を覆う陰極１８との間に配置することによって、たとえばマトリクス状に島状に配置される複数の発光素子１７を複数のライン状の電極で電気的に接続する場合と異なり、単一の膜からなる陽極１５および陰極１８によって複数の発光素子１７が電気的に接続されるので、陽極１５および陰極１８の電気的な抵抗が大きくなるのを抑制することができる。
【００３９】
また、第１実施形態では、上記のように、陽極１５が、平面的に見て、陰極１８からはみ出した部分１５ｂを有し、陽極１５の陰極１８からはみ出した部分１５ｂが陽極１５の陰極１８からはみ出した領域の略全面を覆うように形成して、陽極１５の陰極１８からはみ出した部分１５ｂに正電圧を接続するとともに、陽極１５の陰極１８からはみ出した部分１５ｂとは反対側に対応する陰極１８の領域に負電圧を接続する。これにより、陽極１５の陰極１８からはみ出した部分１５ｂが、陽極１５の陰極１８からはみ出した領域の略全面を覆うように形成されているので、陽極１５の陰極１８からはみ出した部分１５ｂが複数のライン状の電極から形成され、複数のライン状の電極に正電圧が接続される場合と比べて、陽極１５と正電圧との間の電気的な抵抗が大きくなるのを抑制することができる。
【００４０】
また、第１実施形態では、上記のように、陽極１５と陰極１８とは、基板１２から陽極１５、陰極１８の順番で積層されている一方、基板１２から陰極１８、陽極１５の順番で積層してもよい。また、陽極１５と陰極１８とを同一の材料によって形成してもよいし、異なる材料によって形成してもよい。
【００４１】
また、第１実施形態では、上記のように、発光素子１７は陽極１５に直接接触するように形成されているとともに、陰極１８と発光素子１７との間に島状の金属等よりなる電極を形成することによって、発光素子１７の発光効率を高くすることができる。また、この場合に島状の電極を金属等よりなる反射性の膜とすることにより、反射膜１４を省略することができる。
【００４２】
また、第１実施形態では、上記のように、絶縁膜１６を、平面的に見て、陽極１５と陰極１８とがオーバーラップする部分の陽極１５と陰極１８との間に加えて、陽極１５の側面１５ａと陰極１８とが対向する部分の陽極１５と陰極１８との間に配置することによって、陽極１５と陰極１８とが接触して電気的にショートするのを確実に抑制することができる。
【００４３】
また、第１実施形態では、上記のように、遮光膜１３を基板１２の表面上に直接接触するように形成することにより、たとえば遮光膜１３を透明電極の表面上に形成する場合と異なり、フォトリソグラフィプロセスを使い、遮光膜１３を所望の大きさに容易にパターニングすることができるので、遮光膜１３が所望の大きさよりも大きく形成されることに起因して、開口率（光が透過する領域）が小さくなるのを抑制することができる。また、平面的に見て発光素子１７とオーバーラップするように遮光膜１３を設けることにより、発光素子１７から陰極１８側（遮光膜１３とは反対側）に光が出射されるトップエミッション型の発光素子１７において、発光素子１７から光が出射される側とは反対側（図４のＺ２方向側）に光が漏れるのを遮光膜１３により抑制することができる。
【００４４】
（第２実施形態）
次に、図５を参照して、本発明の第２実施形態について説明する。この第２実施形態では、上記第１実施形態と異なり、ボトムエミッション型の発光素子５３を有する表示装置１１０について説明する。
【００４５】
本発明の第２実施形態による表示装置１１０は、図５に示すように、照明装置２１０と、反射型液晶表示装置３００とから構成されている。
【００４６】
照明装置２１０は、ガラスなどの透明の部材からなる基板１１と、ガラスなどの透明の部材からなる基板１２とが対向するように配置されている。また、基板１１のＺ２方向側の表面上には、ＩＴＯ、ＩＺＯ、ＳｎＯ２などの透明電極からなり、単一の膜からなる陽極５１が形成されている。なお、陽極５１は、本発明の「第１透明電極」の一例である。
【００４７】
また、陽極５１の表面上には、シリコン酸化膜やシリコン窒化膜からなる絶縁膜５２が設けられている。絶縁膜５２には、複数のコンタクトホール５２ａが形成されており、絶縁膜５２のコンタクトホール５２ａには、陽極５１と後述する陰極５４とに直接接触するように、有機層からなる発光素子５３が形成されている。なお、コンタクトホール５２ａは、本発明の「穴部」の一例である。また、第２実施形態では、発光素子５３の一方端５３ａ（発光素子５３のＺ１方向側の表面）の略全面が陽極５１に直接接触するように形成されるとともに、発光素子５３の他方端５３ｂ（発光素子５３のＺ２方向側の表面）の略全面が陰極５４に直接接触するように形成されている。また、第２実施形態では、発光素子５３の上面５３ｃ（発光素子５３のＺ２方向側の表面）と、上面５３ｃに接続される側面５３ｄとが陰極５４に直接接触するように形成されている。
【００４８】
また、絶縁膜５２のＺ２方向側の表面上と、発光素子５３のＺ２方向側の表面上には、ＩＴＯ、ＩＺＯ、ＳｎＯ２などの透明電極からなり、開口部を有しない単一の膜からなる陰極５４が形成されている。なお、陰極５４は、本発明の「第２透明電極」の一例である。また、陰極５４は、図２に示す上記第１実施形態の陰極１８と同様に、表示領域１２ａの略全面および、表示領域１２ａのＸ１方向側に位置する非表示領域１２ｂを覆うように形成される。
【００４９】
また、第２実施形態では、陰極５４の表面上には、平面的に見て、発光素子５３とオーバーラップするように、アルミニウム（Ａｌ）などの金属からなる反射膜５５が形成されている。また、反射膜５５のＺ２方向側の表面上には、クロムや酸化クロムなどからなる遮光膜５６が設けられている。なお、遮光膜５６は、平面的に見て、反射膜５５よりも大きく形成されており、遮光膜５６は、図２に示す上記第１実施形態の遮光膜１３と同様に、反射膜５５からはみ出すように配置されている。
【００５０】
そして、陽極５１と陰極５４とに、それぞれ、正電圧および負電圧を印加することにより、発光素子５３からＺ１方向に光が出射されるように構成されている。つまり、陽極５１、発光素子５３および陰極５４により、ボトムエミッション型の有機ＥＬ素子５７が構成される。
【００５１】
なお、第２実施形態のその他の構成は、上記第１実施形態と同様である。
【００５２】
第２実施形態では、上記のように、反射膜５５を陰極５４の表面上に設けるとともに、遮光膜５６を反射膜５５の表面上に設けることによって、発光素子５３から陽極５１側（遮光膜５６とは反対側）に光が出射されるボトムエミッション型の発光素子５３において、発光素子５３から光が出射される側とは反対側（図５のＺ２方向側）に光が漏れるのを遮光膜５６により抑制することができる。
【００５３】
なお、第２実施形態のその他の効果は、上記第１実施形態と同様である。
【００５４】
なお、今回開示された実施形態は、すべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は、上記した実施形態の説明ではなく特許請求の範囲によって示され、さらに特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれる。
【００５５】
たとえば、上記第１および第２実施形態では、有機層からなる発光素子を用いる例を示したが、本発明はこれに限らず、有機層以外の発光素子を用いてもよい。
【００５６】
また、上記第１および第２実施形態では、複数の発光素子がマトリクス状に配置される例を示したが、本発明はこれに限らず、発光素子を規則的なマトリクス状ではなく、不規則に配置してもよい。
【００５７】
また、上記第１および第２実施形態では、基板の表面上に陽極が形成され、絶縁膜を挟んで陽極と対向するように陰極が形成される例を示したが、本発明はこれに限らず、基板の表面上に陰極を形成して、絶縁膜を挟んで陰極と対向するように陽極を形成してもよい。
【００５８】
また、上記第１および第２実施形態では、発光素子の一方端の全面と他方端の全面とがそれぞれ、陽極と陰極とに直接接触するように形成される例を示したが、本発明はこれに限らず、発光素子の一方端の一部分と他方端の一部分とにそれぞれ、陽極と陰極とを直接接触するように形成してもよい。
【００５９】
また、上記第１および第２実施形態では、陽極が平面的に見て、陰極からはみ出した部分を有する例を示したが、本発明はこれに限らず、陽極と陰極とを略同一の大きさに形成するとともに、陽極が陰極からはみ出さないように陽極と陰極とを配置してもよい。
【００６０】
また、上記第１および第２実施形態では、反射型の液晶表示装置が用いられる例を示したが、本発明はこれに限らず、半透過型の液晶表示装置を用いてもよい。
【符号の説明】
【００６１】
１１、１２  基板
１２ａ  表示領域
１３、５６  遮光膜
１４、５５  反射膜
１５、５１  陽極（第１透明電極）
１６、５２  絶縁膜
１６ａ、５２ａ  コンタクトホール（穴部）
１７、５３  発光素子
１８、５４  陰極（第２透明電極）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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