(57)【要約】【課題】電磁波遮蔽性を有し、かつ透過画像鮮明性を低下させずに十分な映り込み防止性能を有する、ディスプレイ用フィルターを低コストで提供する。【解決手段】透明基材上に、導電性メッシュを含む導電層を有し、該導電層上に樹脂層が積層されたディスプレイ用フィルターであって、  該導電性メッシュの厚みが８μｍ以下であり、  該樹脂層が、平均粒子径が１〜２０μｍの粒子（Ａ）と平均粒子径が３００ｎｍ以下の粒子（Ｂ）とを含有し、かつ該樹脂層の中心線平均粗さＲａが１００ｎｍ以上であることを特徴とする、ディスプレイ用フィルター。【選択図】図１
2010134002.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材上に、導電性メッシュを含む導電層を有し、該導電層上に樹脂層が積層されたディスプレイ用フィルターであって、
該導電性メッシュの厚みが８μｍ以下であり、
該樹脂層が、平均粒子径が１〜２０μｍの粒子（Ａ）と平均粒子径が３００ｎｍ以下の粒子（Ｂ）とを含有し、かつ該樹脂層の中心線平均粗さＲａが１００ｎｍ以上であることを特徴とする、ディスプレイ用フィルター。
【請求項２】
前記樹脂層が、少なくともハードコート層を含む、単層もしくは２層以上の積層構成である、請求項１に記載のディスプレイ用フィルター。
【請求項３】
前記ハードコート層が、前記粒子（Ａ）及び前記粒子（Ｂ）を含有する、請求項２に記載のディスプレイ用フィルター。
【請求項４】
前記樹脂層の凹凸平均間隔Ｓｍが、３０〜１２０μｍの範囲である、請求項１〜３のいずれかに記載のディスプレイ用フィルター。
【請求項５】
前記樹脂層が、ハードコート層と反射防止層とを含む積層構成である、請求項１〜４のいずれかに記載のディスプレイ用フィルター。
【請求項６】
更に、近赤外線遮断機能、色調補正機能、紫外線遮断機能、およびＮｅカット機能からなる群より選ばれた少なくとも１つの機能を有する機能層を有する、請求項１〜５のいずれかに記載のディスプレイ用フィルター。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機ＥＬディスプレイ、液晶ディスプレイ、及びプラズマディスプレイ等のディスプレイ装置の画面に装着されるディスプレイ用フィルターに関し、詳しくは、電磁波遮蔽性、映り込み防止性、及び透過画像鮮明性に優れ、かつ低コストであるディスプレイ用フィルターに関する。
【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬディスプレイ、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ（以下、ＰＤＰ）などのディスプレイは、明瞭なフルカラー表示が可能な表示装置である。ディスプレイには、通常、外光の反射や映り込みの防止、ディスプレイから発生する電磁波の遮蔽、ディスプレイの保護などを目的とした前面フィルター（ディスプレイ用フィルター）がディスプレイの視認側に配置される。特にＰＤＰはその構造や動作原理上、強度な電磁波が発生するため、人体や他の機器に与える影響が懸念されており、電磁波遮蔽機能と反射防止機能が付与されたディスプレイ用フィルターが通常用いられている。
【０００３】
一般的なディスプレイ用フィルターは、基材上に反射防止機能、色調整機能、近赤外線遮断機能等を有する光学機能性フィルムと、基材上の導電層（電磁波遮蔽層）が設けられた電磁波遮蔽フィルムとを接着層を介して積層して形成されている。
【０００４】
近年、ディスプレイの低価格化に伴ってディスプレイ用フィルターも低価格化を余儀なくされている。上記したような２枚のフィルムからなるディスプレイ用フィルターに対して、基材を１枚のみにすることによって低価格化が可能となる。
【０００５】
１枚のみの基材からなるディスプレイ用フィルターの１つの構成として、基材上に形成された導電性メッシュを有する導電層を被覆するようにハードコート層や反射防止層等の機能層を配置する態様が挙げられる。上記導電性メッシュは、スパッタや真空蒸着で形成された金属薄膜に比べて、低抵抗の導電層を比較的低コストで得られるということから好ましく用いられている。
【０００６】
上記した、導電性メッシュを有する導電層上に、ハードコート層や反射防止層等の機能層を直接に塗工形成することが、特許文献１に提案されている。
【０００７】
一方、ディスプレイに要求される性能は年々厳しくなっており、ディスプレイ用フィルターに対する要求もより高度になっている。中でも、より画質特性を向上させるため、高コントラスト化、干渉縞抑制、蛍光灯等のディスプレイ表面への映り込みの防止、などが強く求められるようになっている。
【０００８】
映り込みの防止方法としては、基材上に微粒子を含む透明塗料を塗布して表面に微細な凹凸を形成することが知られている（特許文献２、３）。
【特許文献１】特開２００７−２４３１５８号公報
【特許文献２】特開２００５−３１６４５０号公報
【特許文献３】特開２００６−１９５３０５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
導電性メッシュを有する導電層上に、機能層を均一に塗工形成するには、機能層の厚みをある程度大きくする必要がある。映り込みの防止のために、微粒子を含む機能層を導電層上に比較的厚みを大きくして設けた場合、十分な凹凸構造が形成されず、映り込み防止効果が十分に得られないことがある。機能層に十分な凹凸構造を形成するために、比較的大きな微粒子を比較的多量に含有させると、透過画像鮮明性が低下するという問題が新たに発生する。
【００１０】
そこで、本発明の目的は、上記従来技術の問題点を鑑み、電磁波遮蔽性を有し、かつ透過画像鮮明性を低下させずに十分な映り込み防止性能を有する、ディスプレイ用フィルターを低コストで提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明の上記目的は、以下の発明によって基本的に達成された。
１）  透明基材上に、導電性メッシュを含む導電層を有し、該導電層上に樹脂層が積層されたディスプレイ用フィルターであって、
該導電性メッシュの厚みが８μｍ以下であり、
該樹脂層が、平均粒子径が１〜２０μｍの粒子（Ａ）と平均粒子径が３００ｎｍ以下の粒子（Ｂ）とを含有し、かつ該樹脂層の中心線平均粗さＲａが１００ｎｍ以上であることを特徴とする、ディスプレイ用フィルター。
２）  前記樹脂層が、少なくともハードコート層を含む、単層もしくは２層以上の積層構成である、前記１）に記載のディスプレイ用フィルター。
３）  前記ハードコート層が、前記粒子（Ａ）及び前記粒子（Ｂ）を含有する、前記２）に記載のディスプレイ用フィルター。
４）  前記樹脂層の凹凸平均間隔Ｓｍが、３０〜１２０μｍの範囲である、前記１）〜３）のいずれかに記載のディスプレイ用フィルター。
５）  前記樹脂層が、ハードコート層と反射防止層とを含む積層構成である、前記１）〜４）のいずれかに記載のディスプレイ用フィルター。
６）  更に、近赤外線遮断機能、色調補正機能、紫外線遮断機能、およびＮｅカット機能からなる群より選ばれた少なくとも１つの機能を有する機能層を有する、前記１）〜５）のいずれかに記載のディスプレイ用フィルター。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、電磁波遮蔽性を有し、かつ透過画像鮮明性を低下させずに十分な映り込み防止性能を有する、ディスプレイ用フィルターを低コストで提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
本発明のディスプレイ用フィルターは、厚みが８μｍ以下の導電性メッシュを含む導電層上に樹脂層を有する。樹脂層に、平均粒子径が１〜２０μｍの粒子（Ａ）と平均粒子径が３００ｎｍ以下の粒子（Ｂ）とを含有させ、かつ樹脂層の中心線平均粗さＲａを１００ｎｍ以上に調整することによって、透過画像鮮明性を低下させずに映り込みを十分に防止することができる。なお、以下の説明において粒子（Ａ）は微粒子（Ａ）と、粒子（Ｂ）は超微粒子（Ｂ）と記す。
【００１４】
樹脂層に平均粒子径が１〜２０μｍの微粒子（Ａ）のみを含有させることによって、映り込みは低減するが、その反面、透過画像鮮明性が低下する。そこで、本発明は、更に、平均粒子径が３００ｎｍ以下の超微粒子（Ｂ）を樹脂層に含有させることによって、透過画像鮮明性が向上することを見いだした。
【００１５】
比較的平均粒子径が大きい微粒子（Ａ）を含有する樹脂層に、更に平均粒子径の小さい超微粒子（Ｂ）を含有させた場合、微粒子（Ａ）によって形成された樹脂層の凹凸構造の１つ１つが急峻な突起となるため、超微粒子（Ｂ）を含有させない場合と比較して平坦部が多くなる。よって、ディスプレイパネルからの光の散乱が抑えられ、十分な映り込み防止性能を持ちつつ、透過画像鮮明性を維持することができると考えられる。
【００１６】
本発明の特徴である、微粒子（Ａ）と超微粒子（Ｂ）を併用することによって形成された樹脂層の凹凸構造と、微粒子（Ａ）のみによって形成された樹脂層の凹凸構造の違いについて図面を用いて説明する。図１は、本発明の微粒子（Ａ）と超微粒子（Ｂ）を併用することによって形成された樹脂層の凹凸構造の模式拡大断面図であり、図２は、微粒子（Ａ）のみによって形成された樹脂層の凹凸構造の模式拡大断面図である。
【００１７】
図１及び２において、透明基材１上に形成された導電性メッシュ２を被覆するように、樹脂層３が積層されている。図１の樹脂層３には、符号４で示される微粒子（Ａ）と符号５で示される超微粒子（Ｂ）とが含まれており、微粒子（Ａ）によって形成された樹脂層の凸構造は、比較的急峻な形状となっている。これに対して、図２の樹脂層には、超微粒子（Ｂ）は含まれず、符号４で示される微粒子（Ａ）のみによって形成された樹脂層の凸部は、比較的なだらかな形状となっている。
【００１８】
微粒子（Ａ）と超微粒子（Ｂ）を併用することにより、急峻な凸部が形成されるメカニズムは定かではないが、急峻な凸部を形成することによって、凸部と凸部の間の領域における平坦部Ｆの割合が大きくなり、それが透過画像鮮明性の向上に寄与していると考えられる。図２に示されるような比較的なだらかな凸部構造の場合、凸部の傾斜が尾を引いているために、凸部と凸部の間の領域における平坦部Ｆの割合は小さくなっている。
【００１９】
また、導電性メッシュを含む導電層上に、微粒子（Ａ）を含有する樹脂層を積層することによって、導電性メッシュに起因すると考えられる微小異物や外因性異物の存在が引き起こす外観不良を隠蔽（導電性メッシュにかかる欠点隠蔽性）し、生産時における収率を大幅に改善できることを見出した。
【００２０】
更には、樹脂層の塗工工程において、樹脂層用塗工液に超微粒子（Ｂ）を含有させることによって、微粒子（Ａ）の沈降を防止することができ、塗工液の経時安定性が向上し、長時間の連続塗工を安定的に行うことが可能となった。
【００２１】
本発明のディスプレイ用フィルターは、導電層上に積層された樹脂層の表面構造を上記のようにすることによって、透過画像の鮮明性を劣化させずに、映り込みが防止されることを見出したものである。また更に、導電層上に積層される樹脂層が、ハードコート機能や反射防止機能を有する機能層とすることによって、ディスプレイ用フィルターの低コスト化が図られる。
【００２２】
（樹脂層）
本発明のディスプレイ用フィルターに用いられる樹脂層は、厚みが８μｍ以下の導電性メッシュを含む導電層上に配置される。本発明にかかる樹脂層は、ハードコート機能や反射防止機能を有する機能層とすることによって、ディスプレイ用フィルターの低コスト化が図られる。
【００２３】
本発明にかかる樹脂層は、ディスプレイ用フィルターをプラズマディスプレイに装着したときに、視聴者側（観賞側）の最表面となるように、ディスプレイ用フィルターの一方の最表面側に配置することが好ましい。
【００２４】
本発明にかかる樹脂層は、単層であっても、２層以上の積層構成であってもよい。本発明の樹脂層は、少なくともハードコート層を含むことが好ましい。樹脂層が単層の場合は、ハードコート層であることが好ましく、樹脂層が２層以上の積層構成の場合は、ハードコート層と反射防止層の積層構成であることが好ましい。反射防止層は、低屈折率層のみであってもよいし、高屈折率層と低屈折率層（低屈折率層は、ディスプレイ用フィルターの最表面側に配置される。）の積層構成であってもよいし、高屈折率層、中屈折率層、及び低屈折率層（低屈折率層は、ディスプレイ用フィルターの最表面側に配置される。）をこの順に積層した構成であってもよい。ハードコート層と反射防止層の積層構成の場合は、反射防止層がディスプレイ用フィルターの最表面側となるように配置される。なお、本発明のディスプレイ用フィルターは、導電層に対して樹脂層側が鑑賞者側となり、導電層に対して透明基材側がディスプレイ側となるように、ＰＤＰテレビなどに設置して使用される。
【００２５】
樹脂層は、平均粒子径が１〜２０μｍの範囲の微粒子（Ａ）と平均粒子径が３００ｎｍ以下の超微粒子（Ｂ）とを含有する。樹脂層が２層以上の積層構成の場合は、微粒子（Ａ）と超微粒子（Ｂ）は、同一層に含有されることが重要である。また、樹脂層が２層以上の積層構成の場合、樹脂層を構成する複数層の内の１層のみが、微粒子（Ａ）と超微粒子（Ｂ）とを含有すれば、本発明の所期の目的は達成されるが、微粒子（Ａ）と超微粒子（Ｂ）とを含有する層を２層以上積層しても良い。樹脂層が２層以上の積層構成において、微粒子（Ａ）と超微粒子（Ｂ）とを含有する層は、１層のみであることが好ましい。
【００２６】
本発明において好ましい樹脂層の構成は、少なくともハードコート層を含み、かつ該ハードコート層が微粒子（Ａ）と超微粒子（Ｂ）とを含有することである。
【００２７】
本発明にかかる樹脂層の中心線平均粗さＲａ（以降、単にＲａと言う）は、１００ｎｍ以上である。樹脂層のＲａは、樹脂層に含有させる微粒子（Ａ）の平均粒子径や含有量を調整することによって制御することができる。
【００２８】
例えば、樹脂層がハードコート層の単層で構成された場合は、ハードコート層のＲａが樹脂層のＲａとなり、樹脂層がハードコート層と反射防止層（反射防止層は、ディスプレイ用フィルターの最表面側に配置される。）の積層構成の場合は反射防止層のＲａが樹脂層のＲａとなる。
【００２９】
上記した、樹脂層がハードコート層と反射防止層（反射防止層は、ディスプレイ用フィルターの最表面側に配置される。）の積層構成の場合は、ハードコート層が微粒子（Ａ）と超微粒子（Ｂ）を含有し、反射防止層には微粒子（Ａ）が含有されないことが好ましい。反射防止層は、通常、数百ｎｍ以下の極薄膜で積層されるので、ハードコート層上に反射防止層を積層しても、反射防止層のＲａはハードコート層のＲａにほぼ追従するので、ハードコート層のＲａを制御することで樹脂層としてのＲａを制御することができる。
【００３０】
前述したように、本発明にかかる樹脂層は、平均粒子径が１〜２０μｍの範囲の微粒子（Ａ）を含有する。ここで、平均粒子径とは、体積平均であり、例えば、レーザー回折法粒子径測定装置を用いたレーザー散乱法によって測定することができる。上記微粒子（Ａ）は、樹脂層に凹凸構造を形成させ、その中心線平均粗さＲａを１００ｎｍ以上とするために含有させるものである。
【００３１】
本発明にかかる微粒子（Ａ）の平均粒子径は、１〜１０μｍの範囲が好ましく、２〜８μｍの範囲がより好ましく、特に３〜７μｍの範囲が好ましい。微粒子（Ａ）の平均粒子径が１μｍ未満の場合は、映り込み防止性能が十分得られず、一方、１０μｍを超える場合は、透過画像鮮明性が低下する。
【００３２】
本発明にかかる微粒子（Ａ）の含有量は、該微粒子（Ａ）を含有する層の全成分１００質量％に対して、０．５〜２０質量％の範囲が好ましく、１〜１５質量％の範囲がより好ましく、更に２〜１０質量％の範囲が好ましく、特に３〜８質量％の範囲が好ましい。微粒子（Ａ）の含有量が、０．５質量％未満の場合、映り込み防止性能が不十分になることがあり、一方２０質量％を超える場合は、透過画像鮮明性が低下することがある。
【００３３】
また、樹脂層の厚み（Ｈｒ；μｍ）と樹脂層に含有する微粒子（Ａ）の平均粒子径（Ｄ；μｍ）との関係において、好ましい範囲が存在する。即ち、微粒子（Ａ）の平均粒子径（Ｄ）は、０．４×Ｈｒ〜１．５×Ｈｒの範囲が好ましく、０．５×Ｈｒ〜１．３×Ｈｒの範囲がより好ましく、特に０．６×Ｈｒ〜１．２×Ｈｒの範囲が好ましい。
【００３４】
微粒子（Ａ）の平均粒子径（Ｄ）が、０．４×Ｈｒより小さい場合には、映り込み防止効果や導電性メッシュにかかる欠点隠蔽性効果が低下する場合があり、一方、１．５×Ｈｒを越える場合にはフィルターの表面にざらつき感が見られることがあるため、いずれも好ましくない。尚、ここで、樹脂層の厚み（Ｈｒ）とは、樹脂層の全厚み（μｍ）を意味し、樹脂層が積層構成の場合は、複数層の合計厚みを意味する。ここで、樹脂層の厚みとは、図１に示すように、導電性メッシュの１つの開口部（導電性メッシュの細線で囲まれた領域）の断面拡大写真において、樹脂層の最も低い部分における透明基材から樹脂層表面までの距離であり、任意の５つの開口部について測定し平均した値である。
【００３５】
本発明にかかる微粒子（Ａ）の形状は、球状、例えば真球状、楕円状等のものであってもよく、非真球状のものであってもよい。微粒子（Ａ）の好ましい形状は、真球状である。
【００３６】
本発明にかかる微粒子（Ａ）の材質としては、無機系、有機系のものが挙げられるが、好ましくは有機系材料により形成されるものが好ましい。また、透明性に優れるものがよい。微粒子（Ａ）の具体例としては、無機系であればシリカビーズ、有機系であればプラスチックビーズが挙げられる。プラスチックビーズの具体例としては、アクリルビーズ、スチレンビーズ、メラミンビーズ、ポリエチレンビーズ等が挙げられる。本発明では、透明性に優れるアクリルビーズを用いるのが好ましい。
【００３７】
本発明にかかる微粒子（Ａ）の屈折率は、１．３５〜１．７０が好ましく、更に好ましくは１．４０〜１．６５、より好ましくは１．４５〜１．６０がよい。そして、樹脂層を構成する樹脂と微粒子（Ａ）との屈折率差は、透過画像鮮明性の観点から０．１以下が好ましく、０．０７以下がより好ましく、更に０．０５以下が好ましく、０が最も好ましい。このような粒子屈折率、屈折率差とすることにより樹脂層中の微粒子（Ａ）における光散乱が抑制され透過画像の鮮明性をより良好にすることができる。
【００３８】
本発明にかかる微粒子（Ａ）の粒度分布の変動係数は、好ましくは３〜５０％の範囲である。微粒子（Ａ）の粒度分布の変動係数が３％未満の場合、塗布ムラが発生しやすい傾向にあり、５０％を超える場合は、粒径に大きなばらつきが発生し、該微粒子による表面のざらつき感が悪化する。粒度分布の変動係数は、画像解析法、コールターカウンター法、遠心沈降法、動的光散乱法、レーザー回折散乱法などから求めることができる。
【００３９】
本発明にかかる樹脂層は、上記した微粒子（Ａ）とともに、平均粒子径が３００ｎｍ以下の超微粒子（Ｂ）を含有する。本発明にかかる超微粒子（Ｂ）の平均粒子径は、２００ｎｍ以下が好ましく、１４０ｎｍ以下がより好ましく、更に６０ｎｍ以下が好ましく、特に３０ｎｍ以下が好ましい。超微粒子（Ｂ）の平均粒子径の実質的な下限は、１ｎｍ程度である。超微粒子（Ｂ）の平均粒子径が３００ｎｍを超える場合、透過画像鮮明性の向上に寄与せず、むしろ低下させることがある。
【００４０】
本発明にかかる超微粒子（Ｂ）の含有量は、該超微粒子（Ｂ）を含有する層の全成分１００質量％に対して、０．５〜５０質量％の範囲が好ましく、１〜４０質量％の範囲がより好ましく、更に３〜３０質量％の範囲が好ましく、特に５〜２０質量％の範囲が好ましい。上記の超微粒子（Ｂ）の含有量が０．５質量％未満の場合は、透過画像鮮明性の向上効果が小さく、一方、超微粒子（Ｂ）の含有量が５０質量％を超える場合は、樹脂層が脆くなるために好ましくない。
【００４１】
本発明にかかる超微粒子（Ｂ）としては、例えば、シリカ、アルミナ、金属酸化物等が挙げられる。シリカとしては、コロイダルシリカ（シリカゾル）や気相法シリカが挙げられ、金属酸化物としては、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化アンチモン、酸化セリウム、酸化鉄、アンチモン酸亜鉛、酸化錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、アンチモンドープ酸化錫（ＡＴＯ）、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、フッ素ドープ酸化錫等が挙げられる。これらの中でも、シリカ、アルミナ、酸化チタン、酸化アンチモン、酸化ジルコニウム、ＩＴＯ、ＡＴＯが好ましく、特にシリカが好ましく用いられる。
【００４２】
本発明において、超微粒子（Ｂ）の平均粒子径は、透過型電子顕微鏡観察によって求めた平均粒子径である。
【００４３】
本発明にかかる樹脂層のＲａは、１００ｎｍ以上であり、好ましくは１５０ｎｍ以上であり、より好ましくは２００ｎｍ以上であり、特に好ましくは３００μｍ以上である。樹脂層のＲａの上限は１０００ｎｍ以下が好ましく、９００ｎｍ以下がより好ましく、更に８００ｎｍ以下が好ましく、特に７００ｎｍ以下が好ましい。
【００４４】
樹脂層のＲａが１００ｎｍ未満であると、映り込み防止効果がなく、一方、１０００ｎｍを越えると透過画像鮮明性が低下する傾向にある。
【００４５】
また、樹脂層の凹凸平均間隔Ｓｍにおいて、映り込み防止と透過画像鮮明性の観点から好ましい範囲が存在する。具体的には、樹脂層の凹凸平均間隔Ｓｍは、３０〜１２０μｍの範囲が好ましく、４０〜１１０μｍの範囲がより好ましく、更に５０〜１００μｍの範囲が好ましく、特に６０〜９０μｍの範囲が好ましい。樹脂層の凹凸平均間隔Ｓｍが３０μｍ未満の場合は、映り込み像の輪郭が明瞭になり、映り込み像が見えやすくなり、１２０μｍを超える場合は、透過画像鮮明性が低下することがある。
【００４６】
上記の樹脂層の凹凸平均間隔Ｓｍは、微粒子（Ａ）の含有量を調整することによって制御することができる。
（導電層）
ディスプレイフィルターは帯電防止性の観点から各種導電層が設置されるが、特に、プラズマディスプレイパネルでは、その構造や動作原理上パネルから強度の漏洩電磁波が発生し、これを遮蔽する目的で導電性メッシュなどの導電層が用いられる。近年、電子機器からの漏洩電磁波が人体や他の機器に与える影響について取り沙汰されており、例えば日本では、VCCI（voluntary control council for interference by processing equipment electronic office machine）による基準値内におさえることが求められている。具体的には、VCCIにおいては、業務用途の規制値を示すclassＡでは放射電界強度５０ｄBμＶ／ｍ未満であり、民生用途の規制値を示すclassＢでは４０ｄBμＶ／ｍ未満であるが、プラズマディスプレイパネルの放射電界強度は２０〜９０MＨｚ帯域内で５０ｄBμＶ／ｍ（対角４０インチ型の場合）を越えるため、このままの状態では家庭用途には使用できない。このため、プラズマディスプレイパネルには電磁波シールド層（導電層）を配置したディスプレイ用フィルターが用いられる。
【００４７】
前述のように電磁波シールド層が電磁波シールド性能を発揮するためには導電性が必要であり、プラズマディスプレイパネルの電磁波シールドに必要な導電性は、面抵抗で３Ω／□以下、好ましくは１Ω／□以下、更に好ましくは０．５Ω／□以下である。よって導電層を有する本発明のディスプレイ用フィルターにおいては、該導電層の導電性が、面抵抗で３Ω／□以下であることが好ましく、より好ましくは１Ω／□以下、更に好ましくは０．５Ω／□以下である。また、面抵抗は低いほど電磁波シールド性が向上するために好ましいが、現実的な下限は０．０１Ω／□程度と考えられる。
【００４８】
本発明のディスプレイ用フィルターにおいては、導電層として導電性メッシュを用いることで、面抵抗を十分に低くしつつ、ディスプレイ用フィルターの透過率を大きくし、また導電層由来の視認者側への光の反射を抑制することができる。
【００４９】
電磁波シールド性を向上させるためには導電性メッシュの厚みはある程度大きくする必要があるが、逆に厚みが大きくなりすぎると、透過画像鮮明性が低下する傾向にあり、また、樹脂層の塗工性が低下し、塗布筋やムラが発生する場合がある。また、樹脂層としてハードコート層を用いる場合にはカールにより加工が困難となる場合がある。
【００５０】
このような観点から、本発明にかかる導電性メッシュの厚みは、８μｍ以下とすることが重要である。本発明にかかる導電性メッシュの厚みは、７μｍ以下が好ましく、５μｍ以下がより好ましい。導電性メッシュの厚みの下限は、十分な電磁波シールド性を確保するという観点から０．５μｍ以上が好ましく、１μｍ以上がより好ましい。
【００５１】
導電性メッシュの厚みが８μｍを越えると、樹脂層の塗工性が低下するので、面内に均一な表面粗さを有する樹脂層に安定的に形成することが困難になる。
【００５２】
本発明における導電性メッシュのピッチは、５０〜５００μｍの範囲が好ましく、７５〜４５０ｎｍの範囲がより好ましく、１００〜３５０μｍの範囲が更に好ましい。導電性メッシュのピッチが５０μｍ未満の場合、透過率が低下する傾向にあり、５００μｍを超える場合、導電性が低下する傾向があり好ましくない。
【００５３】
ここで、導電性メッシュのピッチとは、導電性メッシュが存在しない部分（導電性メッシュの細線で囲まれた開口部分）の間隔であり、具体的には、１つの開口部と、この開口部と１辺を共有する隣接する開口部との重心間の距離である。
【００５４】
本発明にかかる導電性メッシュの線幅は、３〜３０μｍの範囲が好ましく、５〜２０μｍの範囲がより好ましい。導電性メッシュの線幅が、３μｍ未満の場合、電磁波シールド性が低下する傾向にあり、一方、線幅が３０μｍを超える場合、ディスプレイ用フィルターの透過率が低下する傾向にある。
【００５５】
ディスプレイ用フィルターの透過率には、導電性メッシュの開口率が大きく影響する。導電性メッシュの開口率は、メッシュ部（細線部）の平面視上の総面積と開口部の平面視上の総面積の和に対する開口部の総面積の比率であり、導電性メッシュの開口率は、線幅とピッチによって決定される。本発明において、導電性メッシュの開口率は、６０％以上が好ましく、７０％以上がより好ましく、特に８０％以上が好ましい。開口率の上限は９５％以下が好ましく、９３％以下がより好ましい。
【００５６】
導電性メッシュの開口率は、例えば、以下のようにして測定することができる。
【００５７】
（株）キーエンス製  デジタルマイクロスコープ（ＶＨＸ−２００）を用いて、倍率２００倍で表面観察を行い、その輝度抽出機能（ヒストグラム抽出、輝度レンジ設定０−１７０）を用いて、導電性メッシュが存在しない部分（開口部）と導電性メッシュが存在する部分とに２値化し、次いで、面積計測機能を用いて、全体の面積、および開口部の面積を算出し、開口部面積を全体の面積で除算することによって開口率を求める。
【００５８】
具体的には、２０ｃｍ×２０ｃｍサイズのサンプル１枚から任意の２０箇所について開口率を算出し、その平均値とすることが好ましい。
【００５９】
導電性メッシュのメッシュパターンの形状（開口部の形状）は、例えば、正方形、長方形、菱形等の４角形からなる格子状メッシュパターン、三角形、５角形、６角形、８角形、１２角形のような多角形からなるメッシュパターン、円形、楕円形からなるメッシュパターン、前記の複合形状からなるメッシュパターン、及びランダムメッシュパターンが挙げられる。上記の中でも、４角形からなる格子状メッシュパターン、６角形からなるメッシュパターンが好ましく、更に規則的なメッシュパターンが好ましく用いられる。
【００６０】
メッシュパターンが、例えば格子状メッシュパターンの場合、縦横に並んで配置されたディスプレイの画素との相互作用でモワレを起こさないように、画素が並んだ線に対してメッシュパターンの線がある程度の角度（バイアス角）を有していることが好ましい。モワレを起こさないバイアス角は画素のピッチや、メッシュパターンのピッチ・線幅により変化するので、これらの条件に応じて適宜設定される。
【００６１】
本発明のディスプレイ用フィルターにおいて、導電性メッシュを含む導電層は、透明基材上に形成される。該透明基材としては、溶液製膜法や溶融製膜法により得られる各種フィルムが好ましく用いられるが、透明基材の詳細については後述する。
【００６２】
本発明のディスプレイ用フィルターにおいて、導電性メッシュ層を透明基材などの上に形成する方法は、公知の方法を用いることができる。例えば、１）透明基材上に導電性インキをパターン状に印刷する方法。２）メッキの触媒核を含むインキでパターン印刷した後にメッキを施す方法、３）導電性繊維を用いる方法、４）透明基材上に金属箔を接着剤で貼り合わせた後にパターニングする方法、５）透明基材上に気相製膜法あるいはメッキ法により金属薄膜を形成した後にパターニングする方法、６）感光性銀塩を用いる方法、及び７）金属薄膜をレーザーアブレーションする方法等が挙げられるが、これらに限定されない。
【００６３】
上記の導電性メッシュの製造方法について詳細に説明する。
【００６４】
１）透明基材上に導電性インキをパターン状に印刷する方法は、透明基材上に導電性インキを、スクリーン印刷、グラビア印刷等の公知の印刷法によりパターン状に印刷する方法である。
【００６５】
２）メッキの触媒核を含むインキでパターン印刷した後にメッキを施す方法は、例えば、パラジウムコロイド含有ペーストからなる触媒インクを用いてパターン状に印刷し、これを無電解銅メッキ液中に浸漬して無電解銅メッキを施し、続いて電解銅メッキを施し、さらにＮｉ−Ｓｎ合金の電解メッキを施して導電性メッシュパターンを形成する方法である。
【００６６】
３）導電性繊維を用いる方法は、導電性繊維からなる編布を接着剤または粘着材を介して貼り合わせる方法である。
【００６７】
４）透明基材上に金属箔を接着剤で貼り合わせた後にパターニングする方法は、透明基材上に金属箔（銅、アルミニウム、又はニッケル等）を接着剤または粘着材を介して貼り合わせた後、この金属箔をフォトリソグラフィー法あるいはスクリーン印刷法などを利用してレジストパターンを作製した後、金属箔をエッチングする方法である。上記のレジストパターンを形成する方法としては、フォトリソグラフィー法が好ましく、フォトリソグラフィー法は、金属箔上に感光性レジストを塗工又は感光性レジストフィルムをラミネートし、パターンマスクを密着させて露光後、現像液で現像してエッチングレジストパターンを形成し、さらに適当なエッチング液でパターン部以外の金属を溶出させて所望の導電性メッシュを形成する方法である。
【００６８】
５）透明基材上に気相製膜法あるいはメッキ法により金属薄膜を形成した後にパターニングする方法は、透明基材上に金属薄膜（銅、アルミニウム、銀、金、パラジウム、インジウム、スズ、あるいは銀とそれ以外の金属の合金などからなる金属）を、蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング等の気相製膜法、あるいはメッキ法によって形成し、この金属薄膜をフォトリソグラフィー法あるいはスクリーン印刷法などを利用してレジストパターンを作製した後、金属薄膜をエッチングする方法である。上記のレジストパターンを形成する方法としては、フォトリソグラフィー法が好ましく、フォトリソグラフィー法は、金属薄膜上に感光性レジストを塗工又は感光性レジストフィルムをラミネートし、パターンマスクを密着させて露光後、現像液で現像してエッチングレジストパターンを形成し、さらに適当なエッチング液でパターン部以外の金属を溶出させて所望の導電性メッシュを形成する方法である。この方法では、接着剤や粘着剤を介さずに、透明基材上に金属薄膜を形成することが好ましい。
【００６９】
６）感光性銀塩を用いる方法は、ハロゲン化銀などの銀塩乳剤層を透明基材上にコーティングし、フォトマスク露光あるいはレーザー露光の後、現像処理して銀のメッシュを形成する方法がある。形成された銀メッシュはさらに銅、ニッケルなどの金属でメッキするのが好ましい。この方法は、ＷＯ２００４／７８１０号公報、特開２００４−２２１５６４号公報、特開２００６−１２９３５号公報などに記載されており、参照することができる。
【００７０】
７）金属薄膜をレーザーアブレーションする方法は、上記５）と同様の方法で透明基材上に形成された金属薄膜をレーザーアブレーション方式で、金属薄膜のメッシュパターンを作製する方法である。
【００７１】
レーザーアブレーションとは、レーザー光を吸収する固体表面へエネルギー密度の高いレーザー光を照射した場合、照射された部分の分子間の結合が切断され、蒸発することにより、照射された部分の固体表面が削られる現象である。この現象を利用することで固体表面を加工することが出来る。レーザー光は直進性、集光性が高い為、アブレーションに用いるレーザー光の波長の約３倍程度の微細な面積を選択的に加工することが可能であり、レーザーアブレーション法により高い加工精度を得ることが出来る。
【００７２】
かかるアブレーションに用いるレーザーは金属が吸収する波長のあらゆるレーザーを用いることが出来る。例えばガスレーザー、半導体レーザー、エキシマレーザー、または半導体レーザーを励起光源に用いた固体レーザーを用いることが出来る。また、これら固体レーザーと非線形光学結晶を組み合わせることにより得られる第二高調波光源（ＳＨＧ）、第三高調波光源（ＴＨＧ）、第四高調波光源（ＦＨＧ）を用いることが出来る。
【００７３】
かかる固体レーザーの中でも、プラスチックフィルムを加工しないという観点から、波長が２５４ｎｍから５３３ｎｍの紫外線レーザーを用いることが好ましい。中でも好ましくはＮｄ：ＹＡＧ（ネオジウム：イットリウム・アルミニウム・ガーネット）などの固体レーザーのＳＨＧ（波長５３３ｎｍ）、さらに好ましくはＮｄ：ＹＡＧ などの固体レーザーのＴＨＧ（波長３５５ｎｍ）の紫外線レーザーを用いることが好ましい。
【００７４】
かかるレーザーの発振方式としてはあらゆる方式のレーザーを用いることが出来るが，加工精度の点からパルスレーザーを用い，さらに望ましくはパルス幅がｎｓ以下のＱスイッチ方式のパルスレーザーを用いることが好ましい。
【００７５】
金属薄膜の上（視認側）に更に０．０１〜０．１μｍの金属酸化物層を形成した後に、金属薄膜と金属酸化物層とをレーザーアブレーションするのが好ましい。金属酸化物としては銅、アルミニウム、ニッケル、鉄、金、銀、ステンレス、クロム、チタン、すずなどの金属酸化物を用いることができるが、価格や膜の安定性などの点から銅酸化物が好ましい。金属酸化物の形成方法は、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレート法、化学蒸着法、無電解および電解めっき法等を用いることができる。
【００７６】
上記した導電性メッシュの製造方法の中でも、厚みが比較的小さい導電性メッシュ（例えば厚みが８μｍ以下の導電性メッシュ）を容易に製造することができ、かつ高い電磁波シールド性を確保できるという観点から、上記の２）、５）、６）及び７）の製造方法が好ましく用いられる。
【００７７】
また、樹脂層の塗工性、及び樹脂層と導電層との密着性の観点からは、上記の２）、５）及び７）の製造方法で製造された導電性メッシュが好ましく用いられる。特に、上記５）の製造方法は、樹脂層の塗工性が良好であり、かつ導電性メッシュの製造コストが低いことから、特に好ましく用いられる。
【００７８】
上記５）の製造方法について、更に詳細に説明する。
【００７９】
透明基材上に金属薄膜を形成する方法としては、気相製膜法が好ましい。上記の気相製膜法としては、スパッタリング、イオンプレーティング、電子ビーム蒸着、真空蒸着、化学蒸着等が挙げられるが、これらの中でも、スパッタリング及び真空蒸着が好ましい。金属薄膜を形成するための金属としては、銅、アルミニウム、ニッケル、鉄、金、銀、ステンレス、クロム、チタンなどの金属の内、１種または２種以上を組合せた合金あるいは多層のものを使用することができる。これらの中でも、良好な電磁波シールド性が得られ、メッシュパターン加工が容易で、かつ低価格であるなどの点から、銅が好ましく用いられる。
【００８０】
また、金属薄膜の金属として銅を用いる場合は、透明基材と銅薄膜との間に、５〜１００ｎｍの厚みのニッケル薄膜を用いるのが好ましい。これによって、透明基材と銅薄膜の接着性が向上する。
【００８１】
金属薄膜上にレジストパターンを形成する方法としては、フォトリソグラフィーが好ましく用いられる。かかるフォトリソグラフィー法は、金属薄膜上に感光性レジスト層を積層し、該レジスト層をメッシュパターン状に露光し、現像してレジストパターンを形成し、次いで、金属薄膜をエッチングしてメッシュパターン化し、メッシュ上のレジスト層を剥離除去する方法である。
【００８２】
感光性レジスト層としては、露光部分が硬化するネガレジスト、あるいは逆に露光部分が現像によって溶解するポジレジストを用いることができる。感光性レジスト層は金属薄膜上に直接に塗工して積層してもよいし、あるいはフォトレジストからなるフィルムを貼り合わせてもよい。フォトレジスト層を露光する方法としては、フォトマスクを介して紫外線等で露光する方法、もしくはレーザーを用いて直接に走査露光する方法を用いることができる。
【００８３】
エッチングする方法としては、ケミカルエッチング法等がある。ケミカルエッチングとは、レジストパターンで保護された金属部分以外の金属をエッチング液で溶解し、除去する方法である。エッチング液としては、塩化第二鉄水溶液、塩化第二銅水溶液、アルカリエッチング液等がある。
【００８４】
本発明にかかる導電性メッシュは、黒化処理が施されていることが好ましい。黒化処理を施すことにより、導電性メッシュの金属光沢による視聴者側からの反射やディスプレイ側からの反射も低減することができ、さらに画像視認性の低下を低減することができ、コントラスト・視認性に優れたディスプレイ用フィルターが得られる。
【００８５】
導電性メッシュはディスプレイに設置したときに透光部となる部分以外、つまりは表示部ではない部分や額縁印刷に隠れた部分は、必ずしもメッシュパターンを有している必要がなく、これら部分はパターニングされていない、例えば金属箔ベタであっても良い。加えて、パターニングされていないベタ部分が、黒色であると、そのままディスプレイ用フィルターの額縁印刷として使えて好適である。
【００８６】
（樹脂層の積層）
本発明において、導電性メッシュを含む導電層上に樹脂層が積層されるが、導電層上に直接に樹脂層が積層されることが好ましい。樹脂層の積層方法としては、樹脂層となる塗液（以降、単に塗液と言う）を塗工することが好ましい。
【００８７】
塗工に際し、塗液の粘度（２３℃）を１〜５０ｍＰａ・ｓの範囲にすることが好ましい。塗液の粘度を上記の範囲に制御することによって、映り込み防止、欠点防止に有効な表面構造を樹脂層に形成することができる。塗液の粘度が５０ｍＰａ・ｓを越えると、塗工性が低下し、塗工筋や塗工ムラが発生する場合がある。
【００８８】
また、塗液中の固形分濃度、塗液のウェット塗工量についても、以下の範囲に調整することが好ましい。
【００８９】
塗液中における固形分濃度は、１０〜８０質量％の範囲が好ましく、２０〜７０質量％の範囲がより好ましく、特に３０〜７０質量％の範囲が好ましい。
【００９０】
塗液のウェット塗工量は、１〜５０ｇ／ｍ２の範囲が好ましく、３〜４０ｇ／ｍ２の範囲がより好ましく、特に５〜３０ｇ／ｍ２の範囲が好ましい。
【００９１】
樹脂層用塗液の塗工方法としては、各種の塗工方法、例えば、リバースコート法、グラビアコート法、ロッドコート法、バーコート法、ダイコート法またはスプレーコート法などを用いることができる。これらの中でも、グラビアコート法、ダイコート法が好ましく用いられる。
【００９２】
本発明において、樹脂層はハードコート層を含むことが好ましい。ハードコート層は、ディスプレイ用フィルターに傷等が発生することを防止する働きがあり、その意味において、硬度が十分に高いことが好ましい。
【００９３】
高い硬度を得るためには、ハードコート層の樹脂成分として、多官能重合性モノマーを用いることが好ましく、これによって形成されたハードコート層の硬化後の比重は、１．２以上が好ましく、１．３以上がより好ましく、更に１．４以上が好ましい。ハードコート層の硬化後の比重が高くなるほど、硬度が高くなる傾向にあるので、ハードコート層の硬化後の比重は高い方が好ましい。ハードコート層の比重の上限は１．７程度である。
【００９４】
上記した樹脂層の体積塗工量に上記比重を掛けると、質量塗工量となる。樹脂層の質量塗工量は、塗工前後の単位面積当たりのサンプルの質量を測定することによって簡単に求めることができるために、製造工程を制御、管理する上で好ましい。
【００９５】
例えば、導電性メッシュの厚み（Ａ）が５μｍ、導電性メッシュの開口率（Ｃ）が８５％、ハードコート層の硬化後の比重が１．４とすると、樹脂層の理論体積塗工量（Ｂ）は、
Ｂ＝Ａ×Ｃ＝５×０．８５＝４．２５ｃｍ３／ｍ２、となる。
【００９６】
本発明において、導電性メッシュの厚みは８μｍ以下が好ましいことは、前述したとおりである。導電性メッシュの厚みが８μｍより大きくなると、実際の生産工程において、導電性メッシュ上に樹脂層を塗工するときの塗工性が大きく低下し、樹脂層の塗工面に筋やムラが発生する原因となる。樹脂層に塗工筋やムラが発生すると、ディスプレイ用フィルターとしては致命的である。
【００９７】
導電性メッシュの厚みが８μｍより大きい場合、樹脂層の良好な塗工性を確保するためには、樹脂層の質量塗工量（乾燥後）は、１７ｇ／ｍ２以上、更には２０ｇ／ｍ２以上必要であり、塗工後の乾燥時間や硬化時間の増大により生産性が大幅に低下する。更に、樹脂層にハードコート層を含む場合、上記のように質量塗工量（ハードコート層の場合は硬化後の質量塗工量）が大きくなると、硬化時の重合収縮によりディスプレイ用フィルターにカールが発生するという問題、及びハードコート層にクラックが発生するという問題が起こる。
【００９８】
よって本発明において、樹脂層の質量塗工量は、１６ｇ／ｍ２以下が好ましく、１４ｇ／ｍ２以下が好ましく、更に１０ｇ／ｍ２以下が好ましく、特に９ｇ／ｍ２以下が好ましい。樹脂層の質量塗工量の下限は、樹脂層の硬度を確保するという観点から、１ｇ／ｍ２以上が好ましく、１．５ｇ／ｍ２以上が好ましい。なお、樹脂層が積層構成の場合は、樹脂層の最も導電層側の１層の質量塗工量が上記範囲であることが好ましい。
【００９９】
従って、本発明において、ハードコート層の質量塗工量は、１６ｇ／ｍ２以下が好ましく、１４ｇ／ｍ２以下が好ましく、更に１０ｇ／ｍ２以下が好ましく、特に９ｇ／ｍ２以下が好ましい。ハードコート層の質量塗工量の下限は、ハードコート層の硬度を確保するという観点から、１ｇ／ｍ２以上が好ましく、１．５ｇ／ｍ２以上が好ましい。
【０１００】
また、樹脂層としてハードコート層を用いる場合、樹脂層の中心線平均粗さＲａが１０００ｎｍより大きくなると、ハードコート層の耐擦傷性が低下する場合がある。
【０１０１】
樹脂層の厚みは、樹脂層の塗工量を調整することによって制御することができるが、樹脂層の厚みとしては、生産速度、原材料コスト、ディスプレイ用フィルターのカール性等の観点から、１５μｍ以下が好ましく、１２μｍ以下がより好ましく、特に１０μｍ以下が好ましい。樹脂層の厚みの下限は、樹脂層の皮膜強度、塗工安定性等の観点から１μｍ以上が好ましく、１．５μｍ以上がより好ましく、特に２μｍ以上が好ましい。
【０１０２】
また樹脂層の厚みは、導電性メッシュの厚み１００％に対して、５０〜４００％の範囲が好ましく、７０〜３００％の範囲がより好ましく、この場合、上記の樹脂層の厚みの範囲内において調整することが好ましい。尚、ここで、樹脂層の厚みとは、前述の樹脂層の厚み（Ｈｒ）と同義である。
【０１０３】
（ハードコート層）
前述したように、本発明の樹脂層は、少なくともハードコート層を含むことが好ましい。かかるードコート層は、傷防止のために設けられる層である。ハードコート層は硬度が高いことが好ましく、ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−４（１９９９年）で定義される鉛筆硬度が、１Ｈ以上が好ましく、２Ｈ以上がより好ましい。上限は９Ｈ程度である。
【０１０４】
また、耐擦傷性を簡易的に評価するために、スチールウールによる耐擦傷性試験を用いることができる。この試験方法は、ハードコート層表面を、＃００００のスチールウールに２５０ｇの荷重をかけて、ストローク幅１０ｃｍ、速度３０ｍｍ／ｓｅｃで１０往復摩擦した後、表面を目視で観察し、傷の付き方を次の５段階で評価したものである。
５級：傷が全く付かない。
４級：傷が１本以上５本以下。
３級：傷が６本以上１０本以下。
２級：傷が１１本以上。
１級：全面に無数の傷。
【０１０５】
上記の試験方法において、本発明のハードコート層は、３級以上であることが好ましく、さらに好ましくは４級以上である。
【０１０６】
本発明におけるハードコート層成分としては、アクリル系樹脂、シリコン系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、アルキド系樹脂、フッ素系樹脂等の熱硬化型又は光硬化型樹脂等が挙げられるが、性能、コスト、生産性などのバランスを考慮するとアクリレート系が好ましく適用される。
【０１０７】
アクリレート系ハードコート膜は多官能アクリレートを主成分とする硬化組成物からなるものである。多官能アクリレートは、１分子中に３（より好ましくは４、更に好ましくは５）個以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する単量体もしくはオリゴマー、プレポリマーであって、１分子中に３個以上の（メタ）アクリロイルオキシ基（但し、本明細書において「・・・（メタ）アクリ・・・」とは、「・・・アクリ・・・又は・・・メタアクリ・・・」を略して表示したものである。）を有する単量体、オリゴマー、プレポリマーとしては、１分子中に３個以上のアルコール性水酸基を有する多価アルコールの該水酸基が、３個以上の（メタ）アクリル酸のエステル化物となっている化合物などを挙げることができる。
【０１０８】
具体的な例としては、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンＥＯ変性トリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ペンタエリスリトールトリアクリレートトルエンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ペンタエリスリトールトリアクリレートイソホロンジイソシアネートウレタンプレポリマーなどを用いることができる。これらは、１種または２種以上を混合して使用することができる。
【０１０９】
これらの１分子中に３個以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する単量体、オリゴマー、プレポリマーの使用割合は、ハードコート層構成成分総量１００質量％に対して５０〜９０質量％が好ましく、より好ましくは５０〜８０質量％である。
【０１１０】
上記の化合物以外にハードコート層の剛直性を緩和させたり、硬化時の収縮を緩和させたりする目的で１〜２官能のアクリレートを併用するのが好ましい。１分子中に１〜２個のエチレン性不飽和二重結合を有する単量体としては、ラジカル重合性のある通常の単量体ならば特に限定されずに使用することができる。
【０１１１】
分子内に２個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物としては、下記（ａ）〜（ｆ）の（メタ）アクリレート等を用いることができる。すなわち、
（ａ）炭素数２〜１２のアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類：エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレートなど、
（ｂ）ポリオキシアルキレングリコールの（メタ）アクリレート酸ジエステル類：ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレートなど、
（ｃ）多価アルコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類：ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレートなど、
（ｄ）ビスフェノールＡあるいはビスフェノールＡの水素化物のエチレンオキシド及びプロピレンオキシド付加物の（メタ）アクリル酸ジエステル類：２，２’−ビス（４−アクリロキシエトキシフェニル）プロパン、２，２’−ビス（４−アクリロキシプロポキシフェニル）プロパンなど、
（ｅ）ジイソシアネート化合物と２個以上のアルコール性水酸基含有化合物を予め反応させて得られる末端イソシアネート基含有化合物に、更にアルコール性水酸基含有（メタ）アクリレートを反応させて得られる分子内に２個以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有するウレタン（メタ）アクリレート類など、および、
（ｆ）分子内に２個以上のエポキシ基を有する化合物にアクリル酸又はメタクリル酸を反応させて得られる分子内に２個以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有するエポキシ（メタ）アクリレート類など
を用いることができ、分子内に１個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−及びｉ−プロピル（メタ）アクリレート、ｎ−、ｓｅｃ−、およびｔ−ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、メトキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、Ｎ−ヒドロキシエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニル−３−メチルピロリドン、Ｎ−ビニル−５−メチルピロリドンなどを用いることができる。これらの単量体は、１種または２種以上混合して使用してもよい。
【０１１２】
これらの１分子中に１〜２個のエチレン性不飽和二重結合を有する単量体の使用割合は、ハードコート層構成成分総量１００質量％に対して１０〜４０質量％が好ましく、より好ましくは２０〜４０質量％である。
【０１１３】
また本発明では、ハードコート層の改質剤として、塗布性改良剤、消泡剤、増粘剤、帯電防止剤、有機系潤滑剤、有機高分子化合物、紫外線吸収剤、光安定剤、染料、顔料あるいは安定剤などを用いることができ、これらは活性線または熱による反応を損なわない範囲内でハードコート層を構成する塗布層の組成物成分として使用され、用途に応じてハードコート層の特性を改良することができる。
【０１１４】
本発明において、上記のハードコート組成物を硬化させる方法としては、例えば、活性線として紫外線等を照射する方法や高温加熱法等を用いることができ、これらの方法を用いる場合には、前記ハードコート組成物に、光重合開始剤または熱重合開始剤等を加えることが望ましい。
【０１１５】
光重合開始剤の具体的な例としては、アセトフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、ｐ−ジメチルアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノプロピオフェノン、ベンゾフェノン、２−クロロベンゾフェノン、４，４’−ジクロロベンゾフェノン、４，４’−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、メチルベンゾイルフォメート、ｐ−イソプロピル−α−ヒドロキシイソブチルフェノン、α−ヒドロキシイソブチルフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンなどのカルボニル化合物、テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド、チオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−メチルチオキサントンなどの硫黄化合物などを用いることができる。これらの光重合開始剤は単独で使用してもよいし、２種以上組み合せて用いてもよい。また、熱重合開始剤としては、ベンゾイルパーオキサイドまたはジ−ｔ−ブチルパーオキサイドなどのパーオキサイド化合物などを用いることができる。
【０１１６】
光重合開始剤または熱重合開始剤の使用量は、ハードコート層構成成分総量１００質量％に対して、０．０１〜１０質量％が適当である。電子線またはガンマ線を硬化手段とする場合には、必ずしも重合開始剤を添加する必要はない。また２００℃以上の高温で熱硬化させる場合には熱重合開始剤の添加は必ずしも必要ではない。
【０１１７】
本発明で用いられるハードコート層形成組成物には、製造時の熱重合や貯蔵中の暗反応を防止するために、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテルまたは２，５−ｔ−ブチルハイドロキノンなどの熱重合防止剤を加えることが望ましい。熱重合防止剤の添加量は、ハードコート層構成成分総量１００質量％に対して、０．００５〜０．０５質量％が好ましい。
【０１１８】
また、本発明のディスプレイ用フィルターの樹脂層を、ハードコート層上に更に積層膜を設けた積層構成とする場合には、ハードコート層の上に形成する樹脂層の塗布性、接着性を阻害しない必要があり、その場合にはハードコート層にアクリル系レベリング剤を用いるのが好ましい。このようなレベリング剤としては「ＡＲＵＦＯＮ−ＵＰ１０００シリーズ、ＵＨ２０００シリーズ、ＵＣ３０００シリーズ（商品名）：東亜合成化学（株）製」などを用いるのが好ましい。レベリング剤の添加量はハードコート層構成成分総量１００質量％に対して、０．０１〜５質量％含有させるのが好ましい。このようにハードコート層にレベリング剤を添加することで、例えば樹脂層としてハードコート層と反射防止層の積層膜を用いる場合に、ハードコート層上に形成する反射防止層の塗布姓、接着性が向上することとなる。
【０１１９】
本発明で必要に応じて用いられる活性線としては、紫外線、電子線および放射線（α線、β線、γ線など）などアクリル系のビニル基を重合させる電磁波が挙げられ、実用的には、紫外線が簡便であり好ましい。紫外線源としては、紫外線蛍光灯、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノン灯または炭素アーク灯などを用いることができる。また、活性線を照射するときに、低酸素濃度下で照射を行なうと、効率よく硬化させることができる。また更に、電子線方式は、装置が高価で不活性気体下での操作が必要ではあるが、塗布層中に光重合開始剤や光増感剤などを含有させなくてもよい点で有利である。
【０１２０】
本発明で用いられる熱硬化に必要な熱としては、スチームヒーター、電気ヒーター、赤外線ヒーターあるいは遠赤外線ヒーターなどを用いて温度を少なくとも１４０℃以上に加温された空気、不活性ガスを、スリットノズルを用いて基材、塗膜に吹きあてることにより与えられる熱が挙げられ、中でも２００℃以上に加温された空気による熱が好ましく、更に好ましくは２００℃以上に加温された窒素による熱であることが、硬化速度が早いので好ましい。
【０１２１】
ハードコート層の硬化方法としては、ハードコート層の高い高度を付与するという観点、生産性の観点から、活性線を照射する方法が好ましく、特に紫外線を照射する方法が好ましい。従って、本発明のハードコート層は、紫外線硬化型のハードコート層が好ましい。
【０１２２】
（反射防止層）
反射防止層は、本発明の樹脂層を構成することができる。かかる反射防止層は、反射防止膜を有し、具体的には、可視域において屈折率が１．５以下、好適には１．４以下と低い、フッ素系透明高分子樹脂やフッ化マグネシウム、シリコン系樹脂や酸化珪素の薄膜等を例えば１／４波長の光学膜厚で単層形成したもの、屈折率の異なる、金属酸化物、フッ化物、ケイ化物、窒化物、硫化物等の無機化合物またはシリコン系樹脂やアクリル樹脂、フッ素系樹脂等の有機化合物の薄膜を２層以上多層積層したものなどがあるが、性能とコストのバランスのとれた構成としては、最表層から低屈折率層と高屈折率層を積層した構成が好ましいが、本発明では、反射防止層が積層されていなくても、低屈折率層のみが積層されていても、低屈折率層と高屈折率層の両方が積層されていてもよい。この反射防止層は通常ハードコート層の上に積層される。
【０１２３】
反射防止層の形成方法は特に限定されないが、コストと性能のバランスを考慮すると、ウエットコーティングにより塗料を塗布する方法が好ましい。塗料の塗布方法としては、マイクログラビアコーティング、スピンコーティング、ディップコーティング、カーテンフローコーティング、ロールコーティング、スプレーコーティング、流し塗り法などを好ましく用いることができるが、塗布厚みの均一性の点からマイクログラビアコーティングが好適に用いられる。次いで塗布後に加熱、乾燥および熱または紫外線等の活性線で硬化させることにより各々の被膜を形成する。
【０１２４】
本発明の反射防止層は、例えば樹脂層としてハードコート層と反射防止層からなる積層体を用いた場合には、ディスプレイ用フィルターの最表面に設置される。そのため、反射防止層の表面に付着した粉塵などを布で拭き取ったりした際に傷がつくと困るため、上記したスチールウールによる耐擦傷性が３級以上であることが好ましい。さらに好ましくは４級以上である。
【０１２５】
本発明における反射防止層は反射防止性能を有していれば特に限定されるものではないが、以下に特に好ましい反射防止層の態様、特に好ましい高屈折率層の態様、特に好ましい低屈折率層の態様を示す。
【０１２６】
本発明における特に好ましい反射防止層は、波長４００〜７００ｎｍにおける５°の絶対反射スペクトルにおいて、（１）最低反射率が０．６％以下、（２）最高反射率が２．５％以下、および（３）最高反射率と最低反射率の差が２．５％未満、の３条件を満たす。最低反射率が０．６％を超えると反射防止機能が不十分となり好ましくない。また、最高反射率が２．５％を越えると、４５０ｎｍ近辺または７００ｎｍ近辺の反射率が高くなり、反射光の色調が青みまたは赤みを帯びるため好ましくない。より好ましくは、最低反射率としては、０．５％以下、さらに好ましくは０．３％以下であること、最高反射率としては２．０％以下であること、最高反射率と最低反射率との差が２．０％未満、さらには１．５％未満であることをすべて満たすことで、よりフラットな反射スペクトルとなり、色目もニュートラルになることから好ましい。
【０１２７】
特に好ましい反射防止層において、波長４００〜７００ｎｍにおける絶対反射スペクトルの最低反射率および最高反射率およびその反射率差を前記の範囲とするためには、低屈折率層および高屈折率層の屈折率を以下のように調整する。
【０１２８】
低屈折率層の屈折率（ｎＬ）は、１．２３〜１．４２が好ましく、更に好ましくは１．３４〜１．３８である。さらには、高屈折率層の屈折率（ｎＨ）は１．５５〜１．８０であることが好ましく、更に好ましくは１．６０〜１．７５である。また、低屈折率層と高屈折率層の屈折率差が０．１５以上であることが好ましい。
【０１２９】
また、ハードコート層の屈折率も調整することが好ましい。ハードコート層の屈折率（ｎＧ）は、１．４５〜１．５５が好ましい。ここで、低屈折率層の屈折率（ｎＬ）、および高屈折率層の屈折率（ｎＨ）は、下記式（１）および式（２）を満足することが最低反射率をより低くできるので好ましい。
・（ｎＨ）＝｛（ｎＬ）×（ｎＧ）｝１／２  ±  ０．０２        （１）
・（ｎＬ）＝｛（ｎＨ）／（ｎＧ）｝１／２  ±  ０．０２        （２）
反射防止層がよりフラットな反射スペクトルを得るためには、前記した範囲にある高屈折率層の屈折率（ｎＨ）と高屈折率層の厚さ（ｄＨ）との積（光学厚みに相当する）が、反射を防止したい可視光の波長（λ）の１／４の１．０〜１．７倍となるような厚さ（ｄＨ）にすることが好ましく、さらには１．３〜１．６倍が好ましい。１．０倍を下回ると最高反射率と最低反射率との差も２．５％を越えるので好ましくない。一方、１．７倍を越えると最低反射率が０．６％よりも高くなり、反射防止性能が不十分となるので好ましくない。ここで、反射を防止したい可視光の波長（λ）は、可視光域にあれば任意に選ばれるが、通常は４５０〜６５０ｎｍの範囲にあることが好ましい。
【０１３０】
上述した好ましい高屈折率層の屈折率（ｎＨ）の範囲や、反射を防止したい波長（λ）を考慮すると、反射防止層がよりフラットな反射スペクトルを得ることためには、高屈折率層の厚さ（ｄＨ）は１００〜３００ｎｍの範囲であり、好ましくは１００〜２００ｎｍの範囲である。
【０１３１】
一方、本発明の低屈折率層の厚さ（ｄＬ）の好ましい範囲は、前記した範囲にある低屈折率層の屈折率（ｎＬ）と低屈折率層の厚さ（ｄＬ）との積が、反射を防止したい可視光の波長（λ）の１／４の０．７〜１．０倍となるような厚さ（ｄＬ）にすることが好ましく、さらには０．７５〜０．９５倍が好ましい。これらのことを考慮すると、本発明において、反射防止層がよりフラットな反射スペクトルを得るためには、低屈折率層の厚さ（ｄＬ）は７０〜１６０ｎｍの範囲である。低屈折率層の厚さ（ｄＬ）は好ましくは８０〜１４０ｎｍ、さらには好ましくは８５〜１０５ｎｍの範囲である。
【０１３２】
また、フラットな反射スペクトルを得るためには、高屈折率層の厚さ（ｄＨ）と低屈折率層の厚さ（ｄＬ）の比（ｄＨ／ｄＬ）を、１．０〜１．９とすることが好ましい。１．０を下回る場合は、最高反射率が２．５％よりも高くなり、最高反射率と最低反射率との差も２．５％を越え、反射スペクトルがＶ型となって、赤や青の干渉色が現れる。一方、１．９を越える場合は、フラットな反射スペクトルが得られるものの、最低反射率が０．６％よりも高くなり、反射防止性能が不十分となる。（ｄＨ／ｄＬ）は、より好ましくは１．１〜１．８、さらに好ましくは１．２〜１．７であるとフラットな反射スペクトルで、かつ最低反射率も低くできる。
【０１３３】
本発明における特に好ましい反射防止層において、高屈折率層の構成成分としては、反射防止層表面に帯電防止性を付与するために、樹脂組成物に金属化合物粒子を分散させたものであることが好ましい。樹脂成分には、（メタ）アクリレート化合物が用いられる。（メタ）アクリレート化合物は、活性光線照射によりラジカル重合し、形成される膜の耐溶剤性や硬度を向上させるため好ましく、さらに、（メタ）アクリロイル基が分子内に２個以上の多官能（メタ）アクリレート化合物は、耐溶剤性等が向上するので本発明においては特に好ましい。例えば、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートや、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、グリセロールトリ（メタ）アクリレート、エチレン変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス−（２−ヒドロキシエチル）−イソシアヌル酸エステルトリ（メタ）アクリレート等の３官能（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の４官能以上の（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【０１３４】
樹脂成分は、金属化合物粒子の分散性を向上させるため、カルボキシル基や、リン酸基、スルホン酸基等の酸性官能基を有する（メタ）アクリレート化合物が使用できる。具体的には、酸性官能基含有モノマーとしては、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、２−メタクリロイルオキシエチルコハク酸、２−メタクリロイルオキシエチルフタル酸などの不飽和カルボン酸、モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）アシッドホスフェート、ジフェニル−２−（メタ）アクリロイルオキシエチルホスフェート等のリン酸（メタ）アクリル酸エステル、２−スルホエステル（メタ）アクリレート等が挙げられる。その他、アミド結合、ウレタン結合、エーテル結合などの極性を持った結合を有する（メタ）アクリレート化合物が使用できる。
【０１３５】
ここで用いられる金属化合物粒子としては、導電性の各種金属酸化物粒子が好ましく用いられる。特に好ましくは錫含有酸化アンチモン粒子（ＡＴＯ）、亜鉛含有酸化アンチモン粒子、錫含有酸化インジウム粒子（ＩＴＯ）、酸化亜鉛／酸化アルミニウム粒子、酸化アンチモン粒子等である。さらに好ましくは錫含有酸化インジウム粒子（ＩＴＯ）が用いられる。
【０１３６】
上記導電性の金属酸化物粒子としては、透過型電子顕微鏡観察によって求めた平均粒子径が０．００５〜０．０５μｍの粒子が好適に使用される。この金属酸化物微粒子は、前述の超微粒子（Ｂ）として用いることもできる。
【０１３７】
高屈折率層の構成成分に、導電性の効果をさらに向上させることを目的としてポリピロール、ポリチオフェン、およびポリアニリン等の導電性ポリマー、金属アルコレートおよびキレート化合物などの有機金属化合物を、さらに含有させることもできる。
【０１３８】
高屈折率層を形成する際に、塗布した樹脂成分の硬化を進めるために開始剤を使用してもよい。該開始剤としては、塗布したバインダー成分を、ラジカル反応、アニオン反応、カチオン反応等による重合および／または架橋反応を開始あるいは促進せしめるものであり、従来から公知のチオキサントン誘導体、アゾ化合物、ジアゾ化合物、芳香族カルボニル化合物、ジアルキルアミノ安息香酸エステル、過酸化物、アクリジン誘導体、フェナジン誘導体、キノキサリン誘導体等の各種光重合開始剤が使用可能である。この光重合開始剤の量は、高屈折率層の構成成分総量１００質量部に対して、通常、０．１〜２０質量部、さらには１〜１５質量部の範囲で好ましく添加される。かかる好ましい範囲であると、光重合が十分に早く、硬度および耐擦過性を満足させるために短時間の光照射でよく、一方、塗膜の導電性、耐摩耗性、耐候性等の機能が低下することもない。
【０１３９】
また、高屈折率層を形成する際に、上記開始剤の、酸素阻害による感度の低下を防止するために、光重合開始剤にアミン化合物を共存させてもよい。さらに必要に応じて、例えば、重合禁止剤や、硬化触媒、酸化防止剤、分散剤、レベリング剤、シランカップリング剤等の各種添加剤を含有してもよい。また、表面硬度の向上を目的として、アルキルシリケート類およびその加水分解物、コロイダルシリカ、乾式シリカ、湿式シリカ、酸化チタン等の無機粒子、コロイド状に分散したシリカ微粒子等を、さらに含有させることもできる。
【０１４０】
高屈折率層の構成成分の含有割合は、樹脂成分の含有量（質量）を（ａ）、金属化合物粒子の含有量（質量）を（ｂ）とした際に、樹脂成分と金属化合物粒子との質量割合〔(ａ) ／(ｂ) 〕が１０／９０〜３０／７０であることが好ましく、さらに好ましくは１５／８５〜２５／７５である。金属化合物粒子がかかる好ましい範囲であると、得られる膜は透明性十分で、導電性も良好であり、一方、得られる膜の各種物理的、化学的強度が悪くなることもない。
【０１４１】
プラズマディスプレイパネル用フィルターは、静電気帯電によりホコリが付着しやすく、また、人体が接触したときに放電して電気ショックを受けることがあるため、帯電防止処理されていることが好ましい。高屈折率層によって所望水準の帯電防止性が付与されるためには、該層の表面抵抗値が１×１０１１Ω／□以下になるよう添加量を制御することが好ましく、さらには１×１０１０Ω／□以下になるよう添加量を制御するのが好ましい。
【０１４２】
高屈折率層は、鮮明性、透明性の点から、全光線透過率が好ましくは４０％以上、さらに好ましくは５０％以上の層である。
【０１４３】
高屈折率層は、好ましくは溶媒で分散させた塗布液を調整し、その塗布液をハードコート層上に塗布した後、乾燥・硬化させることによって形成することができる。
【０１４４】
高屈折率層形成において使用される溶剤は、塗布または印刷作業性を改善し、また金属化合物粒子の分散性を改善するために配合するものであり、樹脂成分を溶解するものであれば、従来から公知の各種有機溶媒を使用することができる。特に、本発明においては、組成物の粘度の安定性、乾燥性の観点から沸点が６０〜１８０℃の有機溶媒が好ましく、さらに、そのうち酸素原子を有する有機溶媒が金属化合物粒子との親和性がよいので好適である。かかる有機溶媒としては、具体的には、例えば、メタノールや、エタノール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブタノール、ｔｅｒｔ―ブタノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、１−メトキシ−２−プロパノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、シクロヘキサノン、酢酸ブチル、イソプロピルアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジアセチルアセトン、アセチルアセトン等が好適に挙げられる。これらは単一で使用してもよく、２種類以上を混合して用いてもよい。
【０１４５】
また、有機溶媒の量は、塗布手段や、印刷手段に応じ作業性のよい状態の粘度に組成物がなるように任意の量を配合すればよいが、通常組成物の固形分濃度が６０質量％以下、好ましくは、５０質量％以下になる程度が適当である。
【０１４６】
上記した高屈折率層用組成物の調製としては、任意の方法が採用可能であるが、通常樹脂成分を有機溶媒で溶解させた溶液中に、金属化合物粒子を添加し、ペイントシェーカーや、ボールミル、サンドミル、三本ロール、アトライター、ホモミキサー等の分散機により分散させ、しかる後、光重合開始剤を添加し、均一に溶解させる方法が適当である。
【０１４７】
本発明における特に好ましい反射防止層の態様において、低屈折率層は内部に空洞を有するシリカ微粒子、およびシロキサン化合物、および硬化剤、および溶媒からなる塗料組成物をコーティングして得られたものとすることが、屈折率をより低くし、表面反射率を低くすることができるので好ましい。
【０１４８】
低屈折率層は、表面硬度を向上させ、耐擦傷性を優れたものとするためにマトリックス材料であるシロキサン化合物とシリカ微粒子が強固に結合していることが好ましく、そのためにはコーティング前の塗料組成物の段階で予めシロキサン化合物をシリカ微粒子表面と反応させて結合させることが好ましい。
【０１４９】
そのための塗料組成物は、シリカ微粒子の存在下、シラン化合物を溶媒中、酸触媒により、加水分解することによって、シラノール化合物を形成した後、該シラノール化合物を縮合反応させることによって得ることができる。シラノール化合物としては、下記一般式（１）〜（５）で表されるシラン化合物から選ばれた１種以上のシラン化合物が好ましい。
【０１５０】
得られた塗料は、これらのシラン化合物の縮合物であるシロキサン化合物を含有する。また、これらのシラン化合物が加水分解されており、縮合していないシラノール化合物を含有しても良い。
【０１５１】
Ｒ１Ｓｉ（ＯＲ６）３          （１）
Ｒ１はフッ素が３から１７のフルオロアルキル基を表わす。Ｒ１のフッ素数としては６〜８が好ましい。１分子当りのフッ素原子が多いと、得られた被膜の硬度が低下する傾向にある。Ｒ１の炭素数としては３〜１０が、得られた被膜の耐擦傷性を高くすることができるので好ましい。特に炭素数３が好ましい。Ｒ６はメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基またはアセチル基を表わし、それぞれ、同一でも、異なっていても良い。Ｒ６はメチル基またはエチル基がより好ましい。一般式（１）で表される３官能性シラン化合物を用いると、得られる被膜の屈折率を低くすることができるので好ましい。
【０１５２】
Ｒ２Ｓｉ（ＯＲ７）３          （２）
Ｒ２はビニル基、アリール基、アルケニル基、アクリル基、メタクリル基、メタクリルオキシ基、シアノ基、エポキシ基、グリシドキシ基、アミノ基、およびそれらの置換体から選ばれた基を表す。Ｒ２の炭素数としては２〜１０が、得られた被膜の耐擦傷性を高くすることができるので好ましい。Ｒ７はメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、メトキシエチル基、またはアセチル基を表わし、それぞれ、同一でも、異なっていても良い。Ｒ７はメチル基またはエチル基がより好ましい。一般式（２）で表される３官能性シラン化合物を用いると、得られる被膜の硬度を向上させることができるので、好ましい。
【０１５３】
Ｒ３Ｓｉ（ＯＲ８）３          （３）
Ｒ３は水素、アルキル基、アリール基、およびそれらの置換体から選ばれた基を表す。Ｒ３の炭素数としては１〜６が、得られた被膜の耐擦傷性を高くすることができるので好ましい。Ｒ３が炭素数６を超えると得られた被膜の硬度が低下する傾向にある。Ｒ８はメチル基、エチル基、プロピル基またはブチル基を表わし、それぞれ、同一でも、異なっていても良い。Ｒ８はメチル基またはエチル基がより好ましい。一般式（３）で表される３官能性シラン化合物を用いると、得られる被膜の硬度を向上させることができるので、好ましい。
【０１５４】
Ｒ４Ｒ５Ｓｉ（ＯＲ９）２        （４）
Ｒ４およびＲ５は、それぞれ水素、アルキル基、フルオロアルキル基、アリール基、アルケニル基、メタクリルオキシ基、エポキシ基、グリシドキシ基、アミノ基、およびそれらの置換体から選ばれた基を表わし、それぞれ、同一でも、異なっていても良い。Ｒ４、Ｒ５の炭素数としては１〜６が、得られた被膜の耐擦傷性を高くすることができるので好ましい。Ｒ９はメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基またはアセチル基を表わし、それぞれ、同一でも、異なっていても良い。Ｒ９はメチル基またはエチル基がより好ましい。一般式（４）で表される２官能性シラン化合物を用いると、得られる被膜の可とう性を向上させることができるので好ましい。
【０１５５】
Ｓｉ（ＯＲ１０）４                （５） 
Ｒ１０はメチル基またはエチル基を表わし、それぞれ、同一でも、異なっていても良い。一般式（５）で表される４官能性シラン化合物を用いると、得られる被膜の硬度を向上させることができるので、好ましい。
【０１５６】
これら一般式（１）〜（５）で表されるシラン化合物は、単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いても良い。
【０１５７】
シロキサン化合物の含有量は、被膜を形成した際、被膜の全量に対して、好ましくは、２０質量％〜７０質量％、特に好ましくは３０質量％〜６０質量％である。この範囲でシロキサン化合物を含有することが、被膜の屈折率を低く、かつ被膜の硬度を高めることができるため好ましい。したがって、塗料中におけるシロキサン化合物の含有量は、溶媒を除く全成分に対して前記の範囲であることが好ましい。
【０１５８】
これらの中でも、低屈折率化のためには、一般式（１）で表されるフッ素含有シラン化合物を必須成分として用い、一般式（２）〜（５）で表されるシラン化合物から選ばれた１種以上のシラン化合物を組み合わせて用いることが好ましい。一般式（１）で表されるシラン化合物の量は、全シラン化合物量に対して、好ましくは、２０質量％〜８０質量％、特に好ましくは、３０質量％〜６０質量％である。シラン化合物の量が２０質量％を下回ると、低屈折率化が不十分になることがある。一方、シラン化合物の量が８０質量％を越えると、被膜の硬度が低下する場合がある。
【０１５９】
一般式（１）〜（５）で表されるシラン化合物の具体例を、以下に示す。
【０１６０】
一般式（１）で表される３官能性シラン化合物としては、例えば、トリフルオロメチルトリメトキシシラン、トリフルオロメチルトリエトキシシラン、トリフルオロメチルトリアセトキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリエトキシシラン、トリフルオロプロピルトリアセトキシシラン、トリフルオロアセトキシエチルトリメトキシシラン、トリフルオロアセトキシエチルトリエトキシシラン、トリフルオロアセトキシエチルトリアセトキシシラン、パーフルオロプロピルエチルトリメトキシシラン、パーフルオロプロピルエチルトリエトキシシラン、パーフルオロプロピルエチルトリアセトキシシラン、パーフルオロペンチルエチルトリメトキシシラン、パーフルオロペンチルエチルトリエトキシシラン、パーフルオロペンチルエチルトリアセトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリエトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリプロポキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリイソプロポキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリエトキシシラン、などが挙げられる。これらのうち、得られた被膜の硬度の観点から、トリフルオロメチルトリメトキシシラン、トリフルオロメチルトリエトキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、およびトリフルオロプロピルトリエトキシシランが好ましい。
【０１６１】
一般式（２）で表される３官能性シラン化合物としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、β−シアノエチルトリエトキシシラン、グリシドキシメチルトリメトキシシラン、グリシドキシメチルトリエトキシシラン、α−グリシドキシエチルトリメトキシシラン、α−グリシドキシエチルトリエトキシシラン、β−グリシドキシエチルトリメトキシシラン、β−グリシドキシエチルトリエトキシシラン、α−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、α−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、β−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、β−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリプロポキシシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリブトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシエトキシシラン、α−グリシドキシブチルトリメトキシシラン、α−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、β−グリシドキシブチルトリメトキシシラン、β−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシブチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、δ−グリシドキシブチルトリメトキシシラン、δ−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルトリメトキシシラン、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルトリエトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルトリメトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルトリエトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリプロポキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリブトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシエトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリフェノキシシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）プロピルトリメトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）プロピルトリエトキシシラン、δ−（３，４−エポキシシクロヘキシル）ブチルトリメトキシシラン、δ−（３，４−エポキシシクロヘキシル）ブチルトリエトキシシランなどが挙げられる。これらのうち、得られた被膜の硬度の観点から、ビニルトリアルコキシシラン、および３−メタクリロキシプロピルトリアルコキシシランが好ましい。
【０１６２】
一般式（３）で表される３官能性シラン化合物としては、例えば、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシエトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、オクタデシルトリメトキシシラン、オクタデシルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−（Ｎ，Ｎ−ジグリシジル）アミノプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシシプロピルトリメトキシシラン、などが挙げられる。これらのうち、得られた被膜の硬度の観点から、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシランおよびフェニルトリエトキシシランが好ましい。
【０１６３】
一般式（４）で表される２官能性シラン化合物としては、例えば、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルジアセトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、メチルフェニルジメトキシシラン、メチルビニルジメトキシシラン、メチルビニルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、グリシドキシメチルジメトキシシラン、グリシドキシメチルメチルジエトキシシラン、α−グリシドキシエチルメチルジメトキシシラン、α−グリシドキシエチルメチルジエトキシシラン、β−グリシドキシエチルメチルジメトキシシラン、β−グリシドキシエチルメチルジエトキシシラン、α−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、α−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、β−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、β−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジプロポキシシラン、β−グリシドキシプロピルメチルジブトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジフェノキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジアセトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルエチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルエチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルビニルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルビニルジエトキシシラン、トリフルオロプロピルメチルジメトキシシラン、トリフルオロプロピルメチルジエトキシシラン、トリフルオロプロピルメチルジアセトキシシラン、トリフルオロプロピルエチルジメトキシシラン、トリフルオロプロピルエチルジエトキシシラン、トリフルオロプロピルエチルジアセトキシシラン、トリフルオロプロピルビニルジメトキシシラン、トリフルオロプロピルビニルジエトキシシラン、トリフルオロプロピルビニルジアセトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルメチルジメトキシシラン、３−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、３−クロロプロピルメチルジエトキシシラン、シクロヘキシルメチルジメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルジメトキシシラン、オクタデシルメチルジメトキシシランなどが挙げられる。これらのうち、得られる被膜に可とう性を付与させる目的には、ジメチルジアルコキシシランが好ましく用いられる。
【０１６４】
一般式（５）で表される４官能性シラン化合物としては、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、などが挙げられる。
【０１６５】
低屈折率層で用いられるシリカ微粒子は、数平均粒子径が１ｎｍ〜５０ｎｍである粒子が好適に使用される。数平均粒子径が１ｎｍを下回ると、マトリックス材料との結合が不十分となり、被膜の硬度が低下することがある。一方、数平均粒子径が５０ｎｍを越えると、粒子を多く導入して生じる粒子間の空隙の発生が少なくなり、低屈折率化の効果が十分発現しないことがある。ここで、シリカ微粒子の平均粒子径は、透過型電子顕微鏡観察により求めることができる。
【０１６６】
なお上記シリカ微粒子は、透過型電子顕微鏡観察により求めた平均粒子径が３００ｎｍ以下であれば、前述の超微粒子（Ｂ）として用いることもできる。
【０１６７】
また樹脂層として、ハードコート層と反射防止層の積層構成とした場合（ハードコート層を導電層側とする）で、かつハードコート層のＲａを制御することによって、樹脂層のＲａも制御しようとした場合に、反射防止層の低屈折率層に数平均粒子径が５０ｎｍを越える粒径の大きな粒子を添加すると、ハードコート層のＲａに樹脂層最表面のＲａが追従せず、反射防止層の粒子が樹脂層最表面のＲａに影響を与える場合がある。
【０１６８】
低屈折率層で用いられるシリカ微粒子の数平均粒子径は、形成される被膜の膜厚よりも小さいことが好ましい。被膜の膜厚を上回ると、被膜表面にシリカ微粒子が露出し、反射防止性を損なうばかりでなく、被膜の表面硬度および耐汚染性が低下する。
【０１６９】
低屈折率層で用いられるシリカ微粒子としては、マトリックスのシロキサン化合物と反応しやすくするため、表面にシラノール基を有するシリカ微粒子が好ましい。また、被膜の低屈折率化のために内部に空洞を有するシリカ微粒子が好ましい。内部に空洞を有しないシリカ微粒子は、一般に粒子自体の屈折率は、１．４５〜１．５０であるため、屈折率低下効果が少ない。一方、内部に空洞を有するシリカ微粒子は、粒子自体の屈折率は、１．２０〜１．４０であるため、導入による屈折率低下効果が大きい。内部に空洞を有するシリカ微粒子としては、外殻によって包囲された空洞部を有するシリカ微粒子、多数の空洞部を有する多孔質のシリカ微粒子等が挙げられる。これらのうち、被膜の硬度を考慮した場合、粒子自体の強度が高い多孔質のシリカ微粒子が好ましい。該微粒子の屈折率は、１．２０〜１．４０であり、１．２０〜１．３５であるのがより好ましい。また、内部に空洞を有するシリカ微粒子の数平均粒子径は、１ｎｍ〜５０ｎｍが好ましい。シリカ微粒子の屈折率は、特開２００１−２３３６１１公報［００３４］段落に開示されている方法によって測定できる。内部に空洞を有するシリカ微粒子は、例えば特開２００１−２３３６１１号公報の［００３３］〜［００４６］段落に記載された方法や、特許第３２７２１１１号公報の［００４３］段落に記載された方法で製造することができる。一般に市販されているものも使用することができる。
【０１７０】
低屈折率層で用いられるシリカ微粒子の含有量は、被膜を形成した際、被膜の全量に対して、好ましくは、３０質量％〜８０質量％、特に好ましくは４０質量％〜７０質量％である。したがって、塗料中におけるシリカ微粒子の含有量は、溶媒を除く全成分に対して前記の範囲であることが好ましい。この範囲でシリカ微粒子を被膜中に含有させると、屈折率を低くすることができるだけでなく、被膜の硬度を高めることができる。シリカ微粒子の含有量が３０質量％を下回ると、粒子間の空隙による屈折率低下効果が少なくなる。また、シリカ微粒子の含有量が８０質量％を越えると、コーティング膜中にアイランド現象が多数発生し、被膜の硬度が低下し、また、場所によって、屈折率が不均一になるので好ましくない。
【０１７１】
また、前述のように低屈折率層を形成するための塗料組成物は、シリカ微粒子の存在下、シラン化合物を溶媒中、酸触媒により、加水分解することによって、シラノール化合物を形成した後、該シラノール化合物を縮合反応させることによって得ることができるが、この加水分解反応においては、溶媒中、酸触媒および水を１〜１８０分かけて添加した後、室温〜８０℃で１〜１８０分反応させることが好ましい。このような条件で加水分解反応を行うことにより、急激な反応を抑制することができる。反応温度は、より好ましくは４０〜７０℃である。また、加水分解反応によりシラノール化合物を得た後、そのまま、反応液を、５０℃以上、溶媒の沸点以下で１〜１００時間加熱し、縮合反応を行なうのが好ましい。また、シロキサン化合物の重合度を上げるために、再加熱もしくは塩基触媒の添加を行なうことも可能である。
【０１７２】
加水分解反応に用いる酸触媒としては、塩酸、酢酸、蟻酸、硝酸、蓚酸、塩酸、硫酸、リン酸、ポリリン酸、多価カルボン酸あるいはその無水物、イオン交換樹脂などの酸触媒が挙げられる。特に蟻酸、酢酸またはリン酸を用いた酸性水溶液が好ましい。これら酸触媒の好ましい添加量としては、加水分解反応時に使用される全シラン化合物量に対して、好ましくは、０．０５質量％〜１０質量％、特に好ましくは、０．１質量％〜５質量％である。酸触媒の量が、０．０５質量％を下回ると、加水分解反応が十分進行しないことがあり。また、酸触媒の量が１０質量％を越えると、加水分解反応が暴走する恐れがある。
【０１７３】
溶媒は特に限定されないが、塗料組成物の安定性、濡れ性、揮発性などを考慮して決定される。溶媒は一種類のみならず２種類以上の混合物として用いることも可能である。溶媒の具体例としては、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノール、ｔ−ブタノール、ペンタノール、４−メチル−２−ペンタノール、３−メチル−２−ブタノール、３−メチル−３−メトキシ−１−ブタノール、ジアセトンアルコールなどのアルコール類；エチレングリコール、プロピレングリコールなどのグリコール類；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノ−ｔ−ブチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル、ジエチルエーテルなどのエーテル類；メチルエチルケトン、アセチルアセトン、メチルプロピルケトン、メチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、２−ヘプタノンなどのケトン類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなどのアミド類；エチルアセテート、プロピルアセテート、ブチルアセテート、イソブチルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３−メトキシブチルアセテート、３−メチル−３−メトキシブチルアセテート、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブチルなどのアセテート類；トルエン、キシレン、ヘキサン、シクロヘキサンなどの芳香族あるいは脂肪族炭化水素のほか、γ−ブチロラクトン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ジメチルスルホキシドなどを挙げることができる。
【０１７４】
加水分解反応時に使用される溶媒の量は、全シラン化合物量に対して、５０質量％〜５００質量％の範囲が好ましく、特に好ましくは、８０質量％〜２００質量％の範囲である。溶媒の量が５０質量％を下回ると、反応が暴走し、ゲル化する場合がある。一方、溶媒の量が５００質量％を越えると、加水分解が進行しない場合がある。
【０１７５】
また、加水分解反応に用いる水としては、イオン交換水が好ましい。水の量は任意に選択可能であるが、シラン化合物１モルに対して、１．０〜４．０モルの範囲で用いるのが好ましい。
【０１７６】
また、塗剤を硬化させ低屈折率層を形成する目的で添加する硬化剤としては、塗料組成物の硬化を促進させる、あるいは硬化を容易ならしめる各種の硬化剤あるいは三次元架橋剤が挙げられる。硬化剤の具体例としては、窒素含有有機物、シリコン樹脂硬化剤、各種金属アルコレート、各種金属キレート化合物、イソシアネート化合物およびその重合体、メラミン樹脂、多官能アクリル樹脂、尿素樹脂などがあり、これらを一種類、ないし２種類以上添加しても良い。なかでも、硬化剤の安定性、得られた被膜の加工性などから金属キレート化合物が好ましく用いられる。用いられる金属キレート化合物としてはチタニウムキレート化合物、ジルコニウムキレート化合物、アルミニウムキレート化合物および、マグネシウムキレート化合物が挙げられる。これらの中から、低屈折率化の目的には、屈折率の低いアルミニウムキレート化合物および／またはマグネシウムキレート化合物が好ましい。これらの金属キレート化合物は、金属アルコキシドにキレート化剤を反応させることにより容易に得ることができる。キレート化剤の例としては、アセチルアセトン、ベンゾイルアセトン、ジベンゾイルメタンなどのβ−ジケトン；アセト酢酸エチル、ベンゾイル酢酸エチルなどのβ−ケト酸エステルなどを用いることができる。金属キレート化合物の好ましい具体的な例としては、エチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）、アルキルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムモノアセチルアセテートビス（エチルアセトアセテート）、アルミニウムトリス（アセチルアセトネート）等のアルミニウムキレート化合物、エチルアセトアセテートマグネシウムモノイソプロピレート、マグネシウムビス（エチルアセトアセテート）、アルキルアセトアセテートマグネシウムモノソプロピレート、マグネシウムビス（アセチルアセトネート）等のマグネシウムキレート化合物が挙げられる。これらのうち、好ましくは、アルミニウムトリス（アセチルアセトネート）、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）、マグネシウムビス（アセチルアセトネート）、およびマグネシウムビス（エチルアセトアセテート）である。保存安定性および入手容易さを考慮すると、アルミニウムトリス（アセチルアセトネート）およびアルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）が、特に好ましい。添加される硬化剤の量は、塗料組成物中の全シラン化合物量に対して、好ましくは０．１質量％〜１０質量％であり、特に好ましくは、１質量％〜６質量％である。ここで、全シラン化合物量とは、シラン化合物、その加水分解物およびその縮合物の全てを含んだ量のことを言う。含有量が、０．１質量％を下回ると、得られる被膜の硬度が低下する。一方、含有量が１０質量％を越えると、硬化が十分となり、得られる被膜の硬度は向上するが、屈折率も高くなり、好ましくない。
【０１７７】
さらに塗料組成物には、大気圧下沸点１００〜１８０℃の溶媒と大気圧下沸点１００℃未満の溶媒を混合して用いることが好ましい。大気圧下沸点１００〜１８０℃の溶媒を含むことにより、塗液の塗布性が良くなり、表面が平坦な被膜を得ることができる。また、大気圧下沸点１００℃未満の溶媒を含むことによって、被膜形成時に、溶媒が有効に揮発し、硬度の高い被膜を得ることができる。すなわち、表面が平坦で、かつ、硬度の高い被膜を得ることができる。
【０１７８】
大気圧下沸点１００〜１８０℃の溶媒としては、具体的には、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノ−ｔ−ブチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル等のエーテル類、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピルアセテート、ブチルアセテート、イソブチルアセテート、３−メトキシブチルアセテート、３−メチル−３−メトキシブチルアセテート、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブチル等のアセテート類、アセチルアセトン、メチルプロピルケトン、メチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、２−ヘプタノン等のケトン類、ブタノール、イソブチルアルコール、ペンタノ−ル、４−メチル−２−ペンタノール、３−メチル−２−ブタノール、３−メチル−３−メトキシ−１−ブタノール、ジアセトンアルコール等のアルコール類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類が挙げられる。これらは単独あるいは混合して用いてもかまわない。これらのうち、特に好ましい溶媒の例は、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジアセトンアルコール等である。
【０１７９】
大気圧下沸点１００℃未満の溶媒としては、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｔ−ブタノール、メチルエチルケトン等があげられる。これらは単独あるいは混合して用いてもかまわない。
【０１８０】
塗料組成物における全溶媒の含有量は、全シラン化合物含有量に対して、１３００質量％〜９９００質量％の範囲が好ましく、特に好ましくは、１５００質量％〜６０００質量％の範囲である。全溶媒の含有量が１３００質量％を下回るか、もしくは、９９００質量％を越えると、所定の膜厚の被膜を形成することが困難となる。ここで、全シラン化合物量とは、シラン化合物、その加水分解物およびその縮合物の全てを含んだ量のことを言う。
【０１８１】
（他の機能層）
本発明のディスプレイ用フィルターは、近赤外線遮断機能、色調補正機能、紫外線遮断機能、およびＮｅカット機能からなる群より選ばれた少なくとも１つの機能を有する機能層を有することが好ましい。これらの機能層は、１つの層に複数の機能を有する機能層としてもよい。また機能層は、複数の層を積層してもよい。
【０１８２】
以下に本発明のディスプレイ用フィルターを構成する機能層について述べる。
【０１８３】
（色調補正層）
機能層の一種である、色調補正機能を有する色調補正層は、色調補正能を有する色素を含有する層であり、透過可視光の色調補正を行い、プラズマディスプレイパネルの画像特性の向上、より具体的には高コントラスト化および高鮮明色化を図るものである。また、色調補正層によりディスプレイ用フィルター全体の透過率調整が可能であり、映り込み性能の調整をする役割も担っている。
【０１８４】
色調補正は、ディスプレイ用フィルターを透過する可視光のうち、特定波長の可視光を選択的に吸収することによって達成される。したがって、色調補正層に含有される色素は、特定波長の可視光を選択的に吸収するものであり、色素は染料と顔料のいずれも使用できる。「特定波長の可視光を選択的に吸収する」とは、可視光の波長領域（波長３８０〜７８０ｎｍ）の光のうち、特定波長領域の光を特異的に吸収することを指す。ここで色素によって特異的に吸収される波長領域は、単一の波長領域であってもよく、または複数の波長領域であってもよい。
【０１８５】
このような特定波長を吸収する色素としては、具体的には例えば、アゾ系、縮合アゾ系、フタロシアニン系、アンスラキノン系、インジゴ系、ペリノン系、ペリレン系、ジオキサジン系、キナクリドン系、メチン系、イソインドリノン系、キノフタロン系、ピロール系、チオインジゴ系、金属錯体系などの周知の有機顔料および有機染料、無機顔料が挙げられる。これらの中でも、耐候性が良好であることから、フタロシアニン系、アンスラキノン系色素が特に好ましい。なお、上記した色素のうちいずれか１種類を色調補正層に含有させてもよいし、２種類以上を含有させてもよい。
【０１８６】
また、ディスプレイ用フィルターは、その透過色がニュートラルグレーまたはブルーグレーであることが要求されることがある。これは、プラズマディスプレイパネルの発光特性及びコントラストを維持または向上させる必要がある場合、標準白色より若干高めの色温度の白色が好まれる場合があるからである。このような要求を達成する際にも上記の色素を適用することができる。
【０１８７】
色調補正層は、色調補正能を有する色素を含有する限り様々な態様を取りことができる。色調補正層は、その態様に応じて好適な方法で形成すればよい。例えば、粘着剤中に色調補正能を有する色素を含有させた態様の場合、粘着剤中に色調補正能を有する色素を染料または顔料として添加して、塗布して所望の厚さを有する色調補正層を形成すればよい。粘着剤としては、市販されている粘着剤を使用することができるが、好ましい具体例としては、アクリル酸エステル共重合体、ポリ塩化ビニル、エポキシ樹脂、ポリウレタン、酢酸ビニル共重合体、スチレンーアクリル共重合体、ポリエステル、ポリアミド、ポリオレフィン、スチレンーブタジエン共重合体系ゴム、ブチルゴム、又はシリコン樹脂等の粘着剤を挙げることができる。
【０１８８】
透明基材、透明基板を着色加工して色調補正層を形成する態様の場合、色調補正能を有する色素を染料または顔料として、そのまま、または溶剤に溶解させて、塗布および乾燥させて、所望の厚さを有する色調補正層を形成すればよい。この目的で使用される溶剤としては、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤、エーテル系溶剤、酢酸ブチル等のエステル系溶剤、エチルセロソルブ等のエーテルアルコール系溶剤、ジアセトンアルコール等のケトンアルコール系溶剤、トルエン等の芳香族系溶剤等が挙げられる。
【０１８９】
また、色調補正層が、色調補正能を有する色素を含有する透明基材である場合、透明基材の原料となる熱可塑性樹脂を所望の溶剤に溶解させて、色調補正能を有する色素を染料または顔料として添加して得た溶液を塗布し、乾燥させて所望の厚さを有する色調補正層を形成すればよい。ここで使用する溶剤は、原料となる樹脂を溶解することができ、かつ添加される染料または顔料を溶解または分散することができればよい。この目的で使用される溶剤としては、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤、エーテル系溶剤、酢酸ブチル等のエステル系溶剤、エチルセロソルブ等のエーテルアルコール系溶剤、ジアセトンアルコール等のケトンアルコール系溶剤、トルエン等の芳香族系溶剤等が挙げられる。
【０１９０】
色調補正能を有する色素を含む溶液、または色調補正能を有する色素および透明基材の原料樹脂とを含む溶液を塗布して色調補正層を形成する方法において、塗工法としては、例えばディップコート法、ロールコート法、スプレーコート法、グラビアコート法、コンマコート法、ダイコート法などを選択できる。これらのコート法は連続加工が可能であり、バッチ式の蒸着法などに比べて生産性が優れている。または薄く均一な塗膜を形成できるスピンコート法も採用し得る。
【０１９１】
色調補正層の厚さは、十分な色調補正能を得るために０．５μｍ以上であることが好ましい。また、光透過性、より具体的には可視光線透過性が優れることから４０μｍ以下が好ましく、１〜２５μｍであることが特に好ましい。色調補正層の厚さが４０μｍ以上の場合、所望の染料、顔料、透明樹脂を含む溶液を塗布して色調補正層を形成する際に溶媒が残留しやすく、色調補正層を形成する際の操作性が困難となるため好ましくない。
【０１９２】
色調補正層が、色調補正能を有する色素を含有する粘着剤層または色調補正能を有する色素を含有する透明基材である場合、色素は、粘着剤または熱可塑性樹脂に対して、０．１質量％以上含有されることが好ましく、１質量％以上が特に好ましい。また、粘着剤層または透明基材の物性を保つため、色調補正能を有する色素の量を１０質量％以下に抑えることが好ましい。
【０１９３】
（近赤外線遮断層）
続いて機能層の一種である、近赤外線遮断機能を有する近赤外線遮断層について説明する。プラズマディスプレイパネルから発生する強度の近赤外線は、リモコン、コードレスフォン等の周辺電子機器に作用して誤動作を引き起こすため、近赤外領域の光を実用上問題ないレベルまでカットする必要がある。問題である波長領域は８００〜１０００ｎｍであり、当該波長領域における透過率を２０％以下、好ましくは１０％以下とすることが必要である。近赤外線遮断層は、近赤外線遮断のために、通常、最大吸収波長が７５０〜１１００ｎｍである近赤外線吸収能を有する色素、具体的にはポリメチン系、フタロシアニン系、ナフタロシアニン系、金属錯体系、アミニウム系、イモニウム系、ジイモニウム系、アンスラキノン系、ジチオール金属錯体系、ナフトキノン系、インドールフェノール系、アゾ系、トリアリルメタン系の化合物などが好ましく適用され、金属錯体系、アミニウム系、フタロシアニン系、ナフタロシアニン系、ジイモニウム系が特に好ましい。なお、近赤外線吸収能を有する色素を用いる場合、いずれか１種類を含有させてもよいし、２種以上を含有させてもよい。
【０１９４】
近赤外線吸収層の構造、形成方法、厚さ等については上述した色調補正層と同様である。近赤外線吸収層は、色調補正層と同一の層、すなわち、色調補正層に色調補正能を有する色素と、近赤外線吸収能を有する色素とを含有させたものであってもよいし、色調補正層と別の近赤外線遮断層を設けても良い。近赤外線吸収色素の量はバインダー樹脂に対して、０．１質量％以上含まれることが好ましく、特に２質量％以上が好ましいが、赤外線吸収剤を含有する粘着剤層または透明基材の物性を保つため、色調補正能を有する色素と近赤外線吸収剤の合計量を１０質量％以下に抑えることが好ましい。
【０１９５】
（Ｎｅカット層）
続いて機能層の一種である、Ｎeカット機能を有する機能層について説明する。近赤外線遮断層あるいは色調補正層には、プラズマディスプレイパネル内に封入された放電ガス、例えばネオンとキセノンの二成分ガス、からの余分な発光色（主に５６０〜６１０ｎｍに波長領域）を選択的に吸収・減衰させるための１種類若しくは複数種類の色調補正剤を混合して含有させることが好ましい。このような色素構成とすることによって、プラズマディスプレイパネルの表示画面から発せられる可視光のうち、放電ガスの発光に起因する余分な光が吸収・減衰され、その結果プラズマディスプレイパネルから発する可視光の表示色を表示目標の表示色に近づけることができ、自然な色調を表示し得る。
【０１９６】
（紫外線遮断層）
続いて機能層の一種である、紫外線遮断機能を有する紫外線遮断層について説明する。本発明のディスプレイ用フィルターにおいて、紫外線遮断層はこの層よりもパネル側に位置する色調補正層、赤外線遮断層などに含まれる色素の光劣化を防止する役割を持つ。紫外線遮断層には紫外線吸収剤を含有する透明基材、粘着剤層などが用いられる。
また、紫外線吸収剤を含む層のＴｇは６０℃以上であることが好ましく、８０℃以上であることがより好ましい。Ｔｇが低い熱可塑性樹脂中に紫外線吸収剤を含有させると、紫外線吸収剤が粘着界面または接着界面に移動して、粘着性または接着性を阻害する恐れがある。紫外線吸収剤を含有する熱可塑性樹脂のＴｇが６０℃以上であれば、透明基材中で紫外線吸収剤が移動する可能性が低減され、ディスプレイ用フィルターの他の構成要素、具体的には例えば透明基板、色調補正層または反射防止層の一部をなす他の透明基材と層間接着層を介して接合させる場合に、粘着性が阻害されない。
【０１９７】
透明基材を構成するＴｇが６０℃以上の樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートに代表される芳香族ポリエステル、ナイロン６、ナイロン６６に代表される脂肪族ポリアミド、芳香族ポリアミド、ポリカーボネート等が例示される。これらの中、芳香族ポリエステルが好ましく、特に耐熱性、機械的強度に優れる二軸延伸フィルムを形成し得るポリエチレンテレフタレートが好ましい。
【０１９８】
紫外線吸収剤としては、例えばサリチル酸系化合物、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、シアノアクリレート系化合物、およびベンゾオキサジノン系化合物、環状イミノエステル系化合物などを好ましく例示することができるが３８０ｎｍ〜３９０ｎｍにおける紫外線遮断性、色調などの点からベンゾオキサジノン系化合物が最も好ましい。これらの化合物は１種で用いても良いし、２種以上併用しても良い。またＨＡＬＳ（ヒンダードアミン系光安定剤）や酸化防止剤などの安定剤の併用はより好ましい。
【０１９９】
好ましい材料であるベンゾオキサジノン系化合物の例としては、２−ｐ−ニトロフェニル−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２−（ｐ−ベイゾイルフェニル）−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２−（２−ナフチル）−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２−２´−ｐ−フェニレンビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２´−（２，６−ナフチレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）などを例示することができる。これらの化合物の添加量は基材フィルム中に０．５〜５質量％含有させるのが好ましい。
【０２００】
また更に優れた耐光性を付与するためにシアノアクリレート系４量体化合物を併用することが好ましい。シアノアクリレート系４量体化合物は、基材フィルム中に０．０５〜２質量％含有させることが好ましい。シアノアクリレート系４量体化合物とは、シアノアクリレートの４量体を基本とする化合物であり、例えば１，３−ビス（２´シアノ−３，３−ジフェニルアクリロイルオキシ）−２、２−ビス−（２´シアノ−３，３−ジフェニルアクリロイルオキシメチルプロパン）がある。これと併用する場合には前述の紫外線吸収剤は基材フィルム中に０．３〜３質量％であるのが好適である。
【０２０１】
紫外線遮断層では波長３８０ｎｍにおける透過率が５％以下であるのが好ましく、これにより紫外線から基材や染料色素などを保護することができる。
【０２０２】
紫外線遮断層における紫外線吸収剤の含有量は０．１〜５質量％であることが好ましく、０．２〜３質量％であることがさらに好ましい。紫外線吸収剤の含有量が０．１〜５質量％であると、ディスプレイ用フィルターの観察者側から入射する紫外線を吸収し、色調補正層に含まれる色素の光劣化を防止する効果に優れており、かつ、透明基材あるいは粘着層の強度を阻害しない。
【０２０３】
紫外線遮断層、特に透明基材に紫外線吸収剤を添加する方法は特に限定されないが、熱可塑性樹脂の重合工程、フィルム製膜前の溶融工程での熱可塑性樹脂への練込み、二軸延伸フィルムへの含浸などを例示することができる。特に、熱可塑性樹脂の重合度低下を防止する意味でもフィルム製膜前の溶融工程で熱可塑性樹脂中に練込むことが好ましい。その際の紫外線吸収剤の練込みは、該剤の粉体の直接添加法、該剤を高濃度に含有するマスターポリマーを製膜用ポリマーに添加するマスターバッチ法などにより行うことができる。
【０２０４】
紫外線カット層は、厚さが５〜２５０μｍの範囲であることが好ましく、より好ましくは５０〜２００μｍ、更に好ましくは８０〜２００μｍである。紫外線吸収層の厚さが５〜２５０μｍの範囲であると、ディスプレイ用フィルターの観察者側から入射する紫外線を吸収する効果に優れており、かつ光透過性、具体的には可視光線透過性に優れている。
【０２０５】
（接着層）
本発明において、上記した様々な機能層を貼合するために、あるいはディスプレイ用フィルターをディスプレイに貼合するために、接着性を有する接着層を用いてもよい。このとき用いられる粘着剤としては、２つの物体をその粘着作用により接着させる接着剤であれば特に限定されず、ゴム系、アクリル系、シリコン系あるいはポリビニルエーテル系などからなる接着剤を用いることができる。
【０２０６】
更に、粘着剤は、溶剤型粘着剤と無溶剤型粘着剤の２つに大別される。乾燥性、生産性、加工性において優れた溶剤型粘着剤は依然として主流であるが、近年、公害、省エネルギ、省資源、安全性などの点で無溶剤型粘着剤に移り変わりつつある。中でも、活性線を照射することで秒単位で硬化し、可撓性、接着性、耐薬品性などに優れた特性を有する粘着剤である活性線硬化型粘着剤を使用することが好ましい。
【０２０７】
活性線硬化型アクリル系粘着剤の具体例は、日本接着学会編集、「接着剤データブック」、日刊工業新聞社１９９０年発行、第８３頁から第８８頁を参考とすることができるが、これらに限定されるものではない。市販品として多官能アクリル系紫外線硬化塗料として、日立化成ポリマー株式会社；（商品名  ＸＹ （登録商標）シリーズなど）、東邦化成工業株式会社；（商品名  ハイロック （登録商標）シリーズなど）、株式会社スリーボンド；（商品名  スリーボンド （登録商標）シリーズなど）、東亜合成化学工業株式会社；（商品名  アロンタイト （登録商標）シリーズなど）、セメダイン株式会社；（商品名  セメロックスーパー （登録商標）シリーズなど）などの製品を利用することができるがこれらに限定されるものではない。
【０２０８】
（透明基材）
本発明における透明基材は、通常、反射防止層、ハードコート層、赤外線カット層、導電層などを積層するための基材として用いられる。また、紫外線吸収成分を添加することで紫外線カット層としての役割を担うこともできる。
【０２０９】
本発明における透明基材は、溶融製膜や溶液製膜可能なフィルムである。その具体例としては、ポリエステル、ポリオレフィン、ポリアミド、ポリフェニレンスルフィド、セルロースエステル、ポリカーボネート、アクリレートなどからなるフィルムを挙げることができる。これらのフィルムは本発明における各機能層の基材として好適に用いられるが、うねり構造を形成する面に用いられる透明基材の材料として好ましいものとしては、透明性、機械的強度および寸法安定性などに優れた樹脂が求められ、具体的にはポリエステル、セルロースエステル、アクリル（ポリアクリレート）などが挙げられ、中でも、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−２，６−ナフタレート、トリアセチルセルロースが好適な材料として例示することができる。また、ポリアクリレートの中でも分子内に環状構造を有する樹脂は光学等方性に優れる好適な材料である。分子内に環状構造を有する樹脂としてはグルタル酸無水物単位を１０〜５０質量％含有するアクリル樹脂などを例示することができる。しかし、諸特性のすべてにおいてバランスされた性能を有し、本発明におけるすべての機能層用の基材に適用できるものとしてはポリエステルが特に好ましい。
【０２１０】
このようなポリエステルとしては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリプロピレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレートおよびポリプロピレンナフタレートなどが挙げられるが、ポリエチレンテレフタレートが性能・コスト面で最も好ましい。また、２種以上のポリエステルが混合されたものであってもよい。また、これらと他のジカルボン酸成分やジオール成分が共重合されたポリエステルであってもよいが、この場合は、結晶配向が完了したフィルムにおいて、その結晶化度が好ましくは２５％以上、より好ましくは３０％以上、更に好ましくは３５％以上のフィルムが好ましい。結晶化度が２５％未満の場合には、寸法安定性や機械的強度が不十分となりやすい。結晶化度は、ラマンスペクトル分析法により測定することができる。
【０２１１】
上述したポリエステルを使用する場合には、その極限粘度（ＪＩＳ  Ｋ７３６７に従い、２５℃のｏ−クロロフェノール中で測定）は、０．４〜１．２ｄｌ／ｇが好ましく、より好ましくは０．５〜０．８ｄｌ／ｇである。
【０２１２】
本発明で用いられる透明基材は、２層以上の積層構造の複合体フィルムであっても良い。複合体フィルムとしては、例えば、内層部に実質的に粒子を含有せず、表層部に粒子を含有させた層を設けた複合体フィルム、内層部に粒子を有し、表層部に微細粒子を含有させた積層体フィルムなどが挙げられる。また、上記複合体フィルムは、内層部と表層部が化学的に異種のポリマーであっても同種のポリマーであっても良い。但し、粒子などを適用する場合には透明性に影響しない程度に止める必要がある。
【０２１３】
本発明における透明基材にポリエステルを用いる場合、フィルムの熱安定性、特に寸法安定性や機械的強度を十分なものとし、平面性を良好にする観点から、二軸延伸により結晶配向されたフィルムであることが好ましい。ここで、二軸延伸により結晶配向しているとは、未延伸すなわち結晶配向が完了する前の熱可塑性樹脂フィルムを長手方向および幅方向にそれぞれ好適には２．５〜５倍程度延伸し、その後熱処理により結晶配向を完了させたものであり、広角Ｘ線回折で二軸配向のパターンを示すものをいう。
【０２１４】
本発明で用いられる透明基材の厚みは、使用される用途に応じて適宜選択されるが、機械的強度やハンドリング性などの点から、好ましくは１０〜５００μｍ、より好ましくは２０〜３００μｍである。
【０２１５】
本発明の透明基材中には、本発明の効果、特に光学特性を阻害しない範囲内で各種の添加剤や樹脂組成物、架橋剤などを含有しても良い。例えば酸化防止剤、耐熱安定剤、紫外線吸収剤、有機、無機の粒子（例えば例えばシリカ、コロイダルシリカ、アルミナ、アルミナゾル、カオリン、タルク、マイカ、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、カーボンブラック、ゼオライト、酸化チタン、金属微粉末など）、顔料、染料、帯電防止剤、核剤、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリカーボネート樹脂、アルキッド樹脂、エポキシ樹脂、尿素樹脂、フェノール樹脂、シリコン樹脂、ゴム系樹脂、ワックス組成物、メラミン系架橋剤、オキサゾリン系架橋剤、メチロール化、アルキロール化された尿素系架橋剤、アクリルアミド、ポリアミド、エポキシ樹脂、イソシアネート化合物、アジリジン化合物、各種シランカップリング剤、各種チタネート系カップリング剤などを挙げることができる。
【０２１６】
本発明に用いる透明基材は全光線透過率が９０％以上、ヘイズが１．５％以下であるのが好ましく、このようなものを適用することで画像の視認性や鮮明度を向上させることができる。
【０２１７】
更に本発明に用いる透明基材は透過ｂ値が１．５以下であるのが好ましい。透過ｂ値が１．５を越えると透明基材自体がやや黄ばんで見えるため画像の鮮明さを損なう場合がある。
【０２１８】
ｂ値とは、国際照明委員会（ＣＩＥ）において定められた表色の方法であり、ｂ値は彩度を表しており、正の符号であれば黄色の色相、負の符号で有れば青色の色相を表す。また、絶対値が大きい程その色の彩度が大きく鮮やかな色であることを示し、絶対値が小さい程彩度が小さいことを示す。０である場合には、無彩色であることを示す。表色の調整は例えば、色素を含有させることにより実現できる色素としては、有色無機顔料、有機顔料、染料などを用いることができるが、耐候性に優れることから、カドミウムレッド、べんがら、モリブデンレッド、クロムバーミリオン、サンカクロム、ビリジアン、チタンコバルトグリーン、コバルトグリーン、コバルトクロムグリーン、ビクトリアグリーン、群青、ウルトラマリンブルー、紺青、ベルリンブルー、ミロリブルー、コバルトブルー、セルリアンブルー、コバルトシリカブルー、コバルト亜鉛ブルー、マンガンバイオレット、ミネラルバイオレッド、コバルトバイオレット等の有機顔料が好ましく使用される。
本発明に用いられる透明基材は、導電層、樹脂層、あるいは前述した機能層との密着性（接着強度）を強化するためのプライマー層（易接着層、下引き層）を有する透明基材であることが好ましい。
（透明基板）
本発明における透明基板はプラズマディスプレイパネル本体に機械的強度を付与するものであり、無機化合物成形物や透明な有機高分子成形物が用いられる。
【０２１９】
無機化合物成形物としては、好ましくはガラス、強化もしくは半強化ガラスなどが挙げられ、厚さは通常０．１〜１０ｍｍの範囲であり、より好ましくは１〜４ｍｍである。
【０２２０】
高分子成形物は可視波長領域において透明であればよく、その種類を具体的にあげれば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエーテルサルフォン、ポリスチレン、ポリエチレンナフタレート、ポリアリレート、ポリエーテルエーテルケトン、ポリカーボネート、ポリプロピレン、ポリイミド、トリアセチルセルロース等が挙げられる。これら透明な高分子成形物は、主面が平滑であれば板（シート）状であってもフィルム状であってもよい。シート状の高分子成形物を基材として用いた場合には、基材が寸法安定性と機械的強度に優れているため、寸法安定性と機械的強度に優れる透明積層体が得られ、特にそれが要求される場合には好適に使用できる。
【０２２１】
また、透明な高分子フィルムは可撓性を有しており機能層をロール・ツー・ロール法で連続的に形成することができるため、これを使用した場合には効率よく、また、長尺大面積に機能層の積層体を生産できる。この場合フィルムの厚さは通常１０〜２５０μｍのものが用いられる。フィルムの厚さが１０μｍ未満では、基材としての機械的強度に不足し、厚さが２５０μｍを超えると可撓性が不足するためフィルムをロールで巻きとって利用するのに適さない。
【０２２２】
本発明では、透明基板であるガラスを用いることによって、機械的強度が得られるが、ガラスを用いない場合でも、プラズマディスプレイパネルとのエアーギャップがなくなることから、二重映りが解消されるなどの利点があるため、本発明では透明基板を使用してもしなくてもよい。
【０２２３】
（ディスプレイ用フィルターの構成）
本発明のディスプレイ用フィルターは、上述した複数の層が積層された積層体である。その構成例を具体的に列挙するが、本発明はこれらに限定されない。尚、下記の構成例において、左側に記載の層が、観賞側となるようにディスプレイに設置される。
（１）ハードコート層＋導電層＋透明基材＋紫外線遮断層＋色調補正層＋近赤外線遮断層＋接着層＋透明基板
（２）反射防止層＋ハードコート層＋導電層＋透明基材＋紫外線遮断層＋色調補正層＋近赤外線遮断層＋接着層＋透明基板
（３）ハードコート層＋導電層＋透明基材＋紫外線遮断層＋近赤外線遮断層＋色調補正層＋透明基板
（４）反射防止層＋ハードコート層＋導電層＋透明基材＋紫外線遮断層＋近赤外線遮断層＋色調補正層＋透明基板
（５）ハードコート層＋導電層＋透明基材＋紫外線遮断層＋色調補正層＋近赤外線遮断層＋接着層
（６）反射防止層＋ハードコート層＋導電層＋透明基材＋紫外線遮断層＋色調補正層＋近赤外線遮断層＋接着層
（７）ハードコート層＋導電層＋透明基材＋紫外線遮断層＋近赤外線遮断層＋色調補正層＋接着層
（８）反射防止層＋ハードコート層＋導電層＋透明基材＋紫外線遮断層＋近赤外線遮断層＋色調補正層＋接着層
【実施例】
【０２２４】
以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれにより何ら制限されるものではない。
【０２２５】
（評価方法）
（１）樹脂層の中心線平均粗さＲaの測定
各サンプルの樹脂層の中心線平均粗さＲaを、ＪＩＳ  Ｂ０６０１−１９８２の方法に基づき、表面粗さ測定器ＳＥ−３４００（（株）小坂研究所製）を用いて測定した。
【０２２６】
各サンプルについて、２０ｃｍ×２０ｃｍサイズのフィルター１枚から任意の５箇所以上について計測し、その平均値をディスプレイ用フィルターサンプルの樹脂層のＲaの値および樹脂層の凹凸平均間隔Ｓｍの値とした。尚、上記の計測に際し、測定針の移動方向を、導電性メッシュの細線に平行で、かつ導電性メッシュの開口部のほぼ中心を通るようにセットした。
・測定条件：
送り速さ；０．５ｍｍ／Ｓ
カットオフ値λｃ；
Ｒaが１００ｎｍ以下の場合、λｃ＝０．２５ｍｍ
Ｒaが１００ｎｍより大きく２０００ｎｍ以下の場合、λｃ＝０．８ｍｍ
評価長さ；８ｍｍ
測定に際し、先ず、カットオフ値（λｃ）０．２５ｍｍにて測定する。その結果、Ｒａが１００ｎｍであればその値を採用し、Ｒａが１００ｎｍを越える場合は、カットオフ値（λｃ）０．８ｍｍで測定し、その測定結果を採用する。
（２）樹脂層の凹凸平均間隔Ｓｍの測定
各サンプルの樹脂層の凹凸平均間隔Ｓｍを、ＪＩＳ  Ｂ０６０１−１９８２の方法に基づき、表面粗さ測定器ＳＥ−３４００（（株）小坂研究所製）を用いて測定した。
【０２２７】
各サンプルについて、２０ｃｍ×２０ｃｍサイズのフィルター１枚から任意の５箇所以上について計測し、その平均値をディスプレイ用フィルターサンプルの樹脂層の凹凸平均間隔Ｓｍの値とした。尚、上記の計測に際し、測定針の移動方向を、導電性メッシュの細線に平行で、かつ導電性メッシュの開口部のほぼ中心を通るようにセットした。
（３）導電性メッシュの厚みの測定
ミクロトームにてサンプル断面を切り出し、その断面を電解放射型走査電子顕微鏡（（株）日立製Ｓ―８００、加速電圧２６ｋＶ、観察倍率３０００倍）にて観察し、導電性メッシュの厚みを計測した。
【０２２８】
各実施例・比較例について、２０ｃｍ×２０ｃｍサイズのサンプル１枚から任意の５箇所について計測し、その平均値を導電性メッシュの厚みとした。
（４）導電性メッシュの線幅、ピッチの測定
（株）キーエンス製デジタルマイクロスコープ（ＶＨＸ−２００）を用いて、倍率４５０倍で表面観察を行った。その測長機能を用いて、格子状導電性メッシュのピッチを測長した。
各実施例・比較例について、２０ｃｍ×２０ｃｍサイズのサンプル１枚から、任意の２５箇所について計測し、その平均値を導電性メッシュの線幅、ピッチとした。なお、導電性メッシュのピッチとは、メッシュ構造のある開口部と、この開口部と１辺を共有する隣接する開口部との重心間の距離とする。
（５）粘度の測定
ブルックフィールド製デジタルレオメータ（ＤＶ―Ｅ）を用いて、スピンドルをＬＶ１、回転数を１００ｒｐｍに設定して、２３℃における粘度の測定を行った。各サンプルについて、１０回測定を行い、その平均値をハードコート層塗料の粘度とした。
（６）屈折率の測定
シリコンウエハー上に乾燥膜厚が０．１μｍとなるように、測定対象となる層の原料塗剤を、スピンコーターを用いて塗布する。ついでイナートオーブンＩＮＨ−２１ＣＤ（光洋サーモシステム（株）社製）を用いて、１３０℃で１分間、加熱硬化することにより（低屈折率層の硬化条件）、被膜を得る。形成した被膜について、位相差測定装置（ニコン（株）製：ＮＰＤＭ−１０００）で６３３ｎｍにおける屈折率を測定する。
（７）樹脂層の全厚み（Ｈｒ）の測定
各実施例・比較例について、２０ｃｍ×２０ｃｍサイズのサンプル１枚から任意の開口部５箇所を選び、ミクロトームにてサンプル断面を切り出し、その断面を電解放射型走査電子顕微鏡（（株）日立製Ｓ―８００、加速電圧１５ｋＶ、観察倍率２０００倍）にて観察し、樹脂層の最も低い部分の透明基材から樹脂層表面までの距離を計測し、平均する。
（８）樹脂層の積層厚みの測定
樹脂層の構成における反射防止層などの比較的薄い膜厚の層の厚みは以下のようにして測定する。ディスプレイ用フィルターサンプルの断面を透過型電子顕微鏡（日立製Ｈ−７１００ＦＡ型）で加速電圧１００ｋＶにて観察する。ガラス基板を用いたフィルターの場合はガラスから剥がして評価する。試料調整は超薄切片法を用いる。１０万倍の倍率で観察し、各々の層の厚みを測定する。
（９）視感透過率の測定
ディスプレイ用フィルターサンプルについて、分光光度計（島津製作所製、ＵＶ３１５０ＰＣ）を用いて、観察者側（樹脂層側）からの入射光に対する透過率を波長３００〜１３００ｎｍの範囲で測定し、可視光波長領域（３８０〜７８０ｎｍ）の視感透過率を求める。
（１０）映り込みの評価
ディスプレイ用フィルターサンプルを視認面側（樹脂層側）が上になるように黒紙（王子特殊紙（株）製  ＡＣカード  ＃３００）の上に置き４隅を透明テープで固定する。得られたサンプルを暗室中で、フィルターサンプルの直上５０ｃｍの場所に３波長蛍光灯（ナショナル  パルック  ３波長形昼白色（F.L 15EX-N 15W））を設置する。フィルターの視認面を正面３０ｃｍの距離から肉眼観察し、フィルター視認面に映り込んだ蛍光灯像の輪郭の鮮明性を評価する。
・映り込み像の輪郭が不鮮明        ：  ○
・映り込み像の輪郭が僅かに不鮮明  ：  △
・映り込み像の輪郭が鮮明に見える  ：  ×
評価は５名で各水準について１枚のフィルターを評価して、最も頻度の高い判定結果を採用する。最も頻度の高い判定結果が２つある場合は、悪い方の評価結果を採用する（最も頻度の高い判定結果が「○」と「△」の２つなら「△」、「△」と「×」の２つなら「×」、「○」と「×」の２つなら「×」と判定する。）。
（１１）透過画像鮮明性の評価
ディスプレイ用フィルターサンプルの粘着層側を厚み２．５mmのガラス板に貼り付ける。このサンプルをプラズマテレビ（TH-42PX500、松下電器産業（株）社製。但し、純正のフィルターを取り外したものを使用。）に、ガラス側がプラズマディスプレイパネルに面するようにし、プラズマディスプレイパネル表面からフィルターの視認側最表面（樹脂層最表面）までの距離が２０ｍｍとなる位置にパネル表面とフィルター視認面（樹脂層）が平行になるように設置し、ディスプレイパネルに白地に黒色の格子状のパターン画像を表示する。フィルター越しに横方向斜め４５°の位置からパターン画像を目視評価して、透過画像の鮮明度を判定する。観察はフィルターの視認面の横方向斜め４５°の位置から３０ｃｍの距離で行う。この横方向斜め４５°から観察する本評価方法は、正面（９０°）から観察する方法に比べて、より厳しく透過画像鮮明性を評価する方法である。
・透過像が明瞭に見える  ：  ○
・透過像が僅かに不鮮明  ：  △
・透過像がぼける        ：  ×
評価は５名で各水準について１枚のフィルターを評価して、最も頻度の高い判定結果を採用する。最も頻度の高い判定結果が２つある場合は、悪い方の評価結果を採用する（最も頻度の高い判定結果が「○」と「△」の２つなら「△」、「△」と「×」の２つなら「×」、「○」と「×」の２つなら「×」と判定する。）。
（１２）欠点隠蔽性の評価
ディスプレイ用フィルターサンプル（２０ｃｍ×２０ｃｍ）を視認面側（樹脂層側）が上になるように黒紙（王子特殊紙（株）製  ＡＣカード  ＃３００）の上に貼り付ける。得られたサンプルを暗室中で、フィルターサンプルの直上２００ｃｍの場所に３波長蛍光灯（ナショナル  パルック  ３波長形昼白色（F.L 15EX-N 15W））を設置する。フィルターの視認面を正面３０ｃｍの距離から肉眼観察し、フィルター視認面表面の点状欠点を評価する。評価は２０枚のサンプルについて実施する。
・点状欠点数；０個／２０枚            ：  ○
・点状欠点数；１〜２個／２０枚        ：  △
・点状欠点数；３個／２０枚  以上      ：  ×
評価は５名で各水準について１枚のフィルターを評価して、最も頻度の高い判定結果を採用する。最も頻度の高い判定結果が２つある場合は、悪い方の評価結果を採用する（最も頻度の高い判定結果が「○」と「△」の２つなら「△」、「△」と「×」の２つなら「×」、「○」と「×」の２つなら「×」と判定する。）。
（１３）表面品位の評価
ディスプレイ用フィルターサンプル（２０ｃｍ×２０ｃｍ）を視認面側（樹脂層側）が上になるように黒紙（王子特殊紙（株）製  ＡＣカード  ＃３００）の上に貼り付ける。得られたサンプルを暗室中で、フィルターサンプルの直上２００ｃｍの場所に３波長蛍光灯（ナショナル  パルック  ３波長形昼白色（F.L 15EX-N 15W））を設置する。フィルターの視認面を正面３０ｃｍの距離から肉眼観察し、フィルター視認面表面の品位（ざらつき感）を目視評価する。
・表面形状が均一でざらつき感が見られない    ：  ○
・表面形状均一だが僅かにざらつき感がある    ：  △
・疎らに凸部がありざらつき感がある          ：  ×
評価は５名で各水準について１枚のフィルターを評価して、最も頻度の高い判定結果を採用する。最も頻度の高い判定結果が２つある場合は、悪い方の評価結果を採用する（最も頻度の高い判定結果が「○」と「△」の２つなら「△」、「△」と「×」の２つなら「×」、「○」と「×」の２つなら「×」と判定する。）。
＜微粒子（Ａ）＞
本実施例において、下記の微粒子（Ａ）を用いた。
微粒子Ａ１；平均粒子径６μｍのアクリル系粒子（綜研化学製  ケミスノー（登録商標）ＭＲシリーズ）
微粒子Ａ２；平均粒子径３μｍのアクリル系粒子（綜研化学製  ケミスノー（登録商標）ＭＸシリーズ）
微粒子Ａ３；平均粒子径５μｍのアクリル系粒子（綜研化学製  ケミスノー（登録商標）ＭＸシリーズ）
微粒子Ａ４；平均粒子径１０μｍのアクリル系粒子（綜研化学製  ケミスノー（登録商標）ＭＸシリーズ）
微粒子Ａ５；平均粒子径０．５μｍのシリカ系粒子（日本触媒製  シーホスター（登録商標）ＫＥ−Ｐ５０）
尚、上記微粒子（Ａ）の平均粒子径は、レーザー回折法粒子径測定装置「ＭＡＳＴＥＲＳＩＺＥＲ２０００（ＭＡＬＶＥＲＮ社製）」を用いて測定されたものである。
＜超微粒子（Ｂ）＞
本実施例において、下記の超微粒子（Ｂ）を用いた。
超微粒子Ｂ１；平均粒子径１２ｎｍのシリカ系超微粒子（日産化学製  オルガノシリカゾル（登録商標）ＭＥＫ−ＳＴ）
超微粒子Ｂ２；平均粒子径５０ｎｍのシリカ系超微粒子（日産化学製  オルガノシリカゾル（登録商標）ＩＰＡ−ＳＴ−Ｌ）
超微粒子Ｂ３；平均粒子径１００ｎｍのシリカ系超微粒子（日産化学製  オルガノシリカゾル（登録商標）ＩＰＡ−ＳＴ−ＺＬ）
尚、上記超微粒子（Ｂ）の平均粒子径は、透過型電子顕微鏡（（株）日立製作所製のＨ−７１００ＦＡ型）を用いて、上記のシリカゾルを倍率１０万〜５０万倍で撮影して得られた写真投影図において、任意の５０個の粒子についてそれぞれの最大径を測定し、平均したものである。撮影倍率は、超微粒子（Ｂ）の平均粒子径に応じて適宜選択する。
［実施例１］
以下の要領でディスプレイ用フィルターを作製した。
＜導電層の作製＞
光学用ポリエステルフィルム（東レ（株）製のルミラー（登録商標）、厚み１００μｍ）の片面に、パラジウムコロイド含有ペーストからなる触媒インクを用いて、格子状メッシュパターンにグラビア印刷し、これを無電解銅メッキ液中に浸漬して無電解銅メッキを施し、続いて電解銅メッキを施し、さらにＮｉ−Ｓｎ合金の電解メッキを施すことによって、導電性メッシュを作製した。この導電メッシュは、線幅が２０μｍ、ピッチが３００μｍ、厚みが５μｍ、開口率が８７％であった。
＜ハードコート層の作製＞
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを３５質量部、Ｎ−ビニルピロリドンを１２質量部、メチルメタクリレートを３質量部、メチルエチルケトンを５０質量部含む塗液を作製し、微粒子（Ａ）として平均粒子径が６μｍのアクリル系微粒子（微粒子Ａ１）を、ハードコート層の全成分（溶剤を除く）に対して５質量％添加し、更に、超微粒子（Ｂ）として平均粒子径が１２ｎｍのシリカ系超微粒子（超微粒子Ｂ１）を固形分換算で、ハードコート層の全成分（溶剤を除く）に対して２０質量％添加して、ハードコート層用の塗料を作製した。塗液の粘度は６ｍＰａ・ｓであった。
【０２２９】
この塗料をマイクログラビアコーターを用いて、上記で得られた導電層の導電性メッシュ上に塗工し、８０℃で乾燥後、紫外線１．０Ｊ／ｃｍ２を照射して硬化させ、ハードコート層を形成した。ハードコート層の厚み（Ｈｒ）は、６．１μｍであった。
＜Ｎｅカット機能を有する近赤外線遮断層の作製＞
近赤外線吸収色素として、日本化薬（株）製  ＫＡＹＡＳＯＲＢ（登録商標）  ＩＲＧ−０５０を１４．５質量部、日本触媒（株）製  イーエクスカラー（登録商標）  ＩＲ−１０Ａを８質量部、さらに５９３ｎｍに主吸収ピークを有する有機色素として、山田化学工業（株）製ＴＡＰ−２を２．９質量部、メチルエチルケトン２０００質量部に攪拌混合して溶解させた。この溶液を透明高分子樹脂バインダー溶液として、日本触媒（株）製  ハルスハイブリッド（登録商標）  ＩＲ−Ｇ２０５（固形分濃度２９％溶液）２０００質量部と攪拌混合して塗料を作製した。
【０２３０】
ハードコート層を形成した側と反対側の光学用ポリエステルフィルム面に、ダイコーターを用いて上記塗料を塗工し、１２０℃で乾燥して、厚み１０μｍの近赤外線遮断層を作製した。
＜色補正層の作製＞
アクリル系透明粘着剤中に有機系色補正色素を含有させた。各水準における色素添加量は最終的なフィルターの視感透過率が４０％になるように調整した。この粘着剤を上記の近赤外線遮断層の上に積層した。
［実施例２〜８、比較例１〜４］
ハードコート層に添加する、微粒子（Ａ）及び超微粒子（Ｂ）の種類、添加量、並びにハードコート層の厚み（Ｈｒ）を表１のように変える以外は、実施例１と同様にしてディスプレイ用フィルターを作製した。
［実施例９〜１３、比較例５］
下記の導電層を使用し、ハードコート層に添加する、微粒子（Ａ）及び超微粒子（Ｂ）の種類、添加量、並びにハードコート層の厚み（Ｈｒ）を表１のように変える以外は、実施例１と同様にしてディスプレイ用フィルターを作製した。
＜導電層の作製＞
光学用ポリエステルフィルム（東レ（株）製のルミラー（登録商標）、厚み１００μｍ）の片面に、常温にて３×１０−３Ｐａの真空下で、真空蒸着法によりニッケル層（厚み０．０２μｍ）を形成した。さらにその上に、同じく常温にて３×１０−３Ｐａの真空下で、真空蒸着法により銅層（厚み３μｍ）を形成した。その後、この銅層側の表面にフォトレジスト膜を積層し、格子状メッシュパターンのマスクを介してフォトレジスト膜を露光、現像し、次いでエッチング処理を施して、導電性メッシュを作製した。さらに、導電性メッシュに黒化処理（酸化処理）を施した。この導電性メッシュは、線幅が１３μｍ、ピッチが３００μｍ、厚みが３μｍ、開口率が８９％であった。
［実施例１４、１５］
実施例１のハードコート層の上に下記の反射防止層を積層する以外は、実施例１と同様にして、実施例１４のディスプレイ用フィルターを作製した。
【０２３１】
更に、実施例９のハードコート層の上に下記の反射防止層を積層する以外は、実施例６と同様にして、実施例１５のディスプレイ用フィルターを作製した。
＜反射防止層の作製＞
上記ハードコート層形成面に、市販の高屈折率・帯電防止塗料（ＪＳＲ製  オプスター （登録商標）  ＴＵ４００５）をイソプロピルアルコールで固形分濃度８％に希釈後、マイクログラビアコーターで塗布し、１２０℃で１分間乾燥後、紫外線１．０Ｊ／ｃｍ２を照射して硬化させ、ハードコート層上に屈折率が１．６５、厚みが１３５ｎｍの高屈折率層を形成した。
【０２３２】
次に、上記高屈折率層形成面に、下記の低屈折率層の塗料をマイクログラビアコーターで塗布した。次いで１３０℃で１分間、乾燥および硬化させ、高屈折率層上に屈折率１．３６、厚み９０ｎｍの低屈折率層を形成することで、反射防止層を作製した。
＜低屈折率層用塗料の作製＞
メチルトリメトキシシラン９５．２質量部、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン６５．４質量部を、プロピレングリコールモノメチルエーテル３００質量部、イソプロパノール１００質量部に溶解した。
【０２３３】
この溶液に、数平均粒子径５０ｎｍの外殻の内部に空洞を有するシリカ微粒子分散液（イソプロパノール分散型、固形分濃度２０．５％、触媒化成工業社製）２９７．９質量部、水５４質量部およびギ酸１．８質量部を、撹拌しながら反応温度が３０℃を越えないように滴下した。
【０２３４】
滴下後、得られた溶液をバス温４０℃で２時間加熱し、その後、溶液をバス温８５℃で２時間加熱し、内温を８０℃まで上げて、１．５時間加熱した後、室温まで冷却し、ポリマー溶液を得た。
【０２３５】
得られたポリマー溶液に、アルミニウム系硬化剤として、アルミニウムトリス（アセチルアセテート）（商品名  アルミキレートＡ（Ｗ）、川研ファインケミカル（株）社製）４．８質量部をメタノール１２５質量部に溶解したものを添加し、さらにイソプロパノール  １５００質量部およびプロピレングリコールモノメチルエーテル２５０質量部を添加して、室温にて２時間撹拌し、低屈折率塗料を作製した。
［比較例６］
＜導電層の作製＞
透明基材として光学用ポリエステルフィルム（東レ製  ルミラー （登録商標）、厚み１００μｍ）の片面に、両面黒化処理された銅箔（厚み１０μｍ）を接着剤で貼合した。この銅箔の表面にフォトレジスト膜を積層し、格子状メッシュパターンのマスクを介してフォトレジスト膜を露光、現像し、次いでエッチング処理を施して、導電性メッシュを作製した。得られた導電性メッシュは、線幅が１２μｍ、ピッチが１００μｍ、厚みが１０μｍ、開口率が７５％であった。
＜ハードコート層の作製＞
上記で得られた導電層の導電性メッシュ上に、実施例１と同様にしてハードコート層を塗工形成した。得られたハードコート層の厚み（Ｈｒ）は、１１．７μｍであった。
＜評価＞
上記で作製したそれぞれのサンプルについて、樹脂層の中心線平均粗さＲａ、樹脂層の凹凸平均間隔Ｓｍ、映り込み防止性、透過画像鮮明性、欠点隠蔽性、表面品位について評価した。その結果を表１に示す。
【０２３６】
【表１】
2010134002.tif 000003
【０２３７】
表１から、本発明の実施例は、樹脂層（ハードコート層）が微粒子（Ａ）と超微粒子（Ｂ）とを含有し、かつ樹脂層の中心線平均粗さＲａが１００ｎｍ以上であり、映り込み防止性、透過画像鮮明性、欠点隠蔽性、表面品位のすべてにおいて優れていることが分かる。
【０２３８】
これに対して、比較例１は、樹脂層（ハードコート層）が、微粒子（Ａ）は含有するが、超微粒子（Ｂ）を含有していないので、透過画像鮮明性が低下した。
比較例２は、樹脂層（ハードコート層）に含有する微粒子（Ａ）の平均粒子径が１μｍ未満であるために、樹脂層の中心線平均粗さＲａが小さくなり、映り込み防止性、欠点隠蔽性が低下した。
比較例３は、樹脂層（ハードコート層）が、超微粒子（Ｂ）は含有するが、微粒子（Ａ）を含有していないので、樹脂層の中心線平均粗さＲａが小さくなり、映り込み防止性、欠点隠蔽性が低下した。
【０２３９】
比較例４は、樹脂層（ハードコート層）に微粒子（Ａ）と超微粒子（Ｂ）とを含有するが、樹脂層の厚み（Ｈｒ）が大きく、樹脂層の中心線平均粗さＲａが１００ｎｍ未満となり、映り込み防止性が低下した。
【０２４０】
比較例５は、微粒子（Ａ）を含有するが、超微粒子（Ｂ）の平均粒子径が５００ｎｍと大きいために、透過画像鮮明性が低下した。
【０２４１】
比較例６は、導電性メッシュの厚みが１０μｍと大きいために、樹脂層（ハードコート層）の塗工性の悪化により、塗布面に塗布スジや塗布ムラが発生し、評価用のサンプルを得ることができなかった。
【図面の簡単な説明】
【０２４２】
【図１】本発明の微粒子（Ａ）と超微粒子（Ｂ）を含む樹脂層の一例の模式断面図
【図２】微粒子（Ａ）のみを含む比較例の樹脂層の模式断面図
【符号の説明】
【０２４３】
１  基材
２  導電性メッシュ
３  樹脂層
４  微粒子（Ａ）
５  超微粒子（Ｂ）
Ｈｒ  樹脂層の厚み
Ｆ  平坦部
【図１】
2010134002.tif 000004
【図２】
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