(57)【要約】【課題】ガス流量調節器検定処理に伴う生産性低下の虞のないプラズマ処理装置を提供すること。【解決手段】処理室１０３に、処理ガス供給源２０８からガス流量計測器２１０により計測した処理用ガスを供給して試料のプラズマ処理を行ない、処理室１０３に、パージガス供給源２０１からパージ用ガスを供給してガス流量計測器２１０の流量検定を行うようにしたプラズマ処理装置において、ガス流量調節ユニット２００の下流側からバルブ２１３を介して処理室１０３に連通するガス供給ラインに、真空排気ポンプ２１５の吸入側に連通したバルブ２１２を設けて処理室１０３を迂回する分岐ラインとし、ガス流量調節器検定を行うとき、このバルブ２１２を開くことにより、ガス流量計測器２１０を流れたパージ用ガスが、処理室１０３を通らずに排気されるようにしたもの。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
流量計測器で計測した処理用ガスを減圧した処理容器に供給して試料のプラズマ処理を行い、前記処理容器にパージ用ガスを供給して前記流量計測器の流量検定を行う方式のプラズマ処理装置において、
前記処理容器を迂回する分岐ラインを設け、
前記パージ用ガスを前記分岐ラインに通流させることにより、前記流量計測器の流量検定が得られるように構成したことを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項２】
請求項１に記載の発明において、
前記分岐ラインは、前記処理容器のメンテナンス時に開かれ、
前記流量計測器の流量検定が、前記処理容器のメンテナンス時に実施されることを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項３】
請求項１に記載の発明において、
前記分岐ラインは、前記処理容器によるプラズマ処理時に開かれ、
前記流量計測器の流量検定が、前記処理容器によるプラズマ処理時に並行して実施されることを特徴とするプラズマ処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体ウェハなどの被処理物にプラズマ加工を施す処理装置に係り、特に、減圧した処理室の中に被処理物を格納し、内部にガス流量調節器によって流量調節された処理用ガスを導入して処理物にエッチング処理などの処理を施すプラズマ処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
プラズマ処理装置では、真空ポンプによって減圧された真空容器内に１種類のガス、或いは複数種類のガスを所定の比率で混合したガスを導入し、真空容器内部の気体(ガス)をプラズマ化して被処理物にエッチングなどの加工を行うので、プラズマ処理室に導入されるガスの流量がプラズマ処理性能に大きく影響する。
ところで、このときのプラズマ処理に使用する処理用ガスは、ガス流量調節器によって流量調節され、プラズマ処理室内部に導入される。従って、安定したプラズマ処理性能を維持するためには、このときのガス流量調節器の精度を高精度に維持する必要がある。
【０００３】
しかし、ガス流量調節器は、そのセンサ特性のドリフトや、ガス流路の目詰まりなどの要因により、経時的に特性変化を起こす場合がある。
そこで、従来から、ガス流量調節器により調節されている流量が設定流量どおりに正しく調節されているか否かを検査する処理、つまりガス流量調節器検定と呼ばれている処理を定期的に実施し、常に必要なプラズマ処理性能が維持されるようにしている(例えば、特許文献１、２を参照)。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００６−１２８７２号公報
【特許文献２】特開平０６−１１９０５９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上記従来技術は、ガス流量調節器検定処理の実施に伴うプラズマ処理室の占有に配慮がされておらず、ガス流量調節器検定処理の実施に際してプラズマ処理装置の生産性が低下するという問題があった。
プラズマ処理装置の場合、ガス流量調節器は１個の処理室に対して数個から１０数個、実装されているのが一般的であり、従って、実装される総てのガス流量調節器に対してガス流量調節器検定を実施し、且つ、各ガス流量調節器について複数流量の検定を実施した場合、ガス流量調節器検定には数１０分から数時間を必要とする。
【０００６】
ところで、このガス流量調節器検定は、処理室を利用しているので、この間はプラズマ処理が中断され、中断時間は、検定に費やられる時間と同等に増加する。
従って、従来技術では、ガス流量調節器検定処理によりプラズマ処理装置の生産性が低下してしまうのである。
また、処理室は１基のプラズマ処理装置に対して数個実装されているのが通例であり、この場合、実装されている総ての処理室に対してガス流量調節器検定用の流量検定器も同数必要になり、従って、従来技術では、設置スペースとコストが増大するという問題も生じてしまうことになる。
【０００７】
本発明の目的は上記課題を解決し、ガス流量調節器検定処理に伴う生産性低下の虞のないプラズマ処理装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的は、流量計測器で計測した処理用ガスを減圧した処理容器に供給して試料のプラズマ処理を行い、前記処理容器にパージ用ガスを供給して前記流量計測器の流量検定を行う方式のプラズマ処理装置において、前記処理容器を迂回する分岐ラインを設け、前記パージ用ガスを前記分岐ラインに通流させることにより、前記流量計測器の流量検定が得られるようにして達成される。
【０００９】
このとき、前記分岐ラインが前記処理容器のメンテナンス時に開かれ、前記流量計測器の流量検定が、前記処理容器のメンテナンス時に実施されるようにしても上記目的が達成され、前記分岐ラインが前記処理容器によるプラズマ処理時に開かれ、前記流量計測器の流量検定が、前記処理容器によるプラズマ処理時に並行して実施されるようにしても上記目的が達成される。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、処理室を使用しないでガス流量調節器検定処理が実施できるので、処理室の定期メンテナンス時間やメンテナンス後の真空引き時間を利用してガス流量調節器検定が行えるようになり、従って、ガス流量調節器検定処理に伴う生産性の低下を抑えることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明に係るプラズマ処理装置の一例を示す全体的構成図である。
【図２】本発明に係るプラズマ処理装置の一例における処理容器の構成の概略を示す縦断面図である。
【図３】本発明に係るプラズマ処理装置の一実施形態におけるガスラインの概略を示す構成図である。
【図４】本発明に係るプラズマ処理装置の一実施形態によるガス流量調節器検定処理を示すフローチャートである。
【図５】本発明に係るプラズマ処理装置の他の一実施形態におけるガスラインの概略を示す構成図である。
【図６】本発明に係るプラズマ処理装置の他の一実施形態によるガス流量調節器検定処理を示すフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、本発明に係るプラズマ処理装置の実施の形態について説明する。
図１は、本発明に係るプラズマ処理装置が適用対象とする装置の一例を示したもので、図１(a)は上方から見た断面図で、図１(b)は斜視図であり、従って、ここに示したプラズマ処理装置１００は、大気側ブロック１０１と真空側ブロック１０２に大別することができる。
そして、まず、大気側ブロック１０１は、大気圧下でウェハを搬送し、収納位置決めなどをする部分で、次に、真空側ブロック１０２は、大気圧から減圧された圧力下でウェハ等の基板状の試料(被処理物)を搬送し、予め定められた処理容器内において必要な処理を行うブロックである。
【００１３】
このため、これら大気側ブロック１０１と真空側ブロック１０２には、試料を内部に有した状態で、内部の圧力を大気圧と真空圧との間で上下させるのに必要な装置が備えられている。
そして、まず、大気側ブロック１０１は、内部に大気側搬送ロボット１０９を備えた略直方体形状の筐体１０６を有し、この筐体１０６の図では右側になっている前面側に取付けられ、処理用又はクリーニング用の試料が収納されているカセットがその上に載せられる複数のカセット台１０７を備えている。
【００１４】
次に、真空側ブロック１０２は、平面形状が略多角形状(この実施形態では５角形状)の真空搬送室１０４の側壁面の周囲に、内部に試料を搬送し減圧下で処理するための真空容器からなる４基の処理室１０３(１０３ａ、１０３ｂ、１０３ｃ、１０３ｄ)と、真空搬送室１０４と大気側ブロック１０１の間に配置され、試料を大気側と真空側の間でやりとりするための２基のロック室１０５を備えたものであり、従って、真空側ブロック１０２は、全体が減圧されて高い真空度の圧力に維持可能な処理容器として構成されていることになる。
【００１５】
真空搬送室１０４内には、処理容器１０３内の処理室とロック室１０５の間で、試料を真空下で搬送する真空搬送ロボット１０８が中央に配置されている。
そして、この真空搬送ロボット１０８のアーム上に試料が載せられ、各処理容器１０３の処理室内に配置された試料台上と、何れかのロック室１０５内の試料台の間で、試料の搬入、搬出が行われる。
これら処理容器１０３及びロック室１０５と、真空搬送室１０４内の搬送室の間は、各々気密に閉塞、開放可能なバルブにより連通する通路が設けられ、必要に応じて通路が開閉されるようになっている。
【００１６】
カセット台１０７の上には、複数の半導体ウェハ等の試料が収納されているカセットが載置され、これらの試料の処理は、真空処理装置１００の動作を調節する制御装置(図示してない)の判断により、或いは真空処理装置１００が設置される製造ラインの制御装置等からの指令に応じて開始され、制御装置からの指令を受けた大気側搬送ロボット１０９がカセット内の特定の試料をカセットから取り出し、それを２基のロック室の何れかに搬送する。
ロック室１０５では、搬送された試料を収納した状態でバルブを閉塞し、内部を密封する。
【００１７】
そして、所定の圧力まで減圧した上で真空搬送室１０４内の搬送室に面した側のバルブが開放され、ロック室１０５内と搬送室内を連通させ、真空搬送ロボット１０８のアームがロック室１０５内に伸張させて、内部の試料の搬出を行う。
ここで、真空搬送ロボット１０８上のアームに載せられた試料は、カセットから取り出される際に予め定められた処理容器１０３の何れかの中で、真空にされている処理室内に搬入される。
【００１８】
試料が何れかの処理容器１０３内の処理室に搬送された後、この処理室内と搬送室との間を開閉するバルブが閉じられて処理室が封止される。
この後、処理室内に処理用のガスが導入され、プラズマが処理室内に形成されて試料が処理される。
試料の処理が終了したことが検出されると、前述のバルブが開放され、真空搬送ロボット１０８により、試料は、処理室内に搬入された場合と反対にロック室１０５へ向けて搬出される。
【００１９】
ロック室１０５の何れかに試料が搬送されると、このロック室１０５内と搬送室とを連通する通路を開閉するバルブが閉じられて内部が密封され、ロック室１０５内の圧力が大気圧まで上昇させられる。
この後、筐体１０６内側のバルブが開放され、ロック室１０５内と筐体１０６内の大気搬送室とが連通され、大気側搬送ロボット１０９によりロック室１０５から元のカセットに試料が搬送され、カセット内の元の位置に戻される。
【００２０】
図２は、処理容器１０３の構成の概略を示す縦断面図で、この図において、処理容器１０３は、その上部に配置された高周波電源２１９と、下方に配置された高真空排気ポンプ２１８とを備え、内部にはプラズマ処理室が配置されている。
そして、真空容器２０１と高真空排気ポンプ２１８の間にはコンダクタンス可変バルブ２１７が配置されている。
これら構成部品は、それぞれ０リング等のシール手段により相互に気密に接続され、内側の空間と外部の空間とを高い気圧差に維持可能に構成されている。
このとき、高真空排気ポンプ２１８の吐出側は、バルブ２１４を介して別の真空排気ポンプ２１５の吸気側に接続され、２段式の排気系として動作するようになっている。
【００２１】
そして、ウェハなどの試料は、処理室１０３の中に設置してある試料台２１６の上に積載され、プラズマ処理されるが、このときコンダクタンス可変バルブ２１７は、図示してないモータなどの駆動手段により回動され、任意の開き角度に制御でき、従って、このコンダクタンス可変バルブ２１７の開き角度を制御することにより、処理室１０３内の気体の排気速度を制御することができる。
このときガス流量調節ユニット２００は、ガス流量調節器２１０を備え、ボンベなどの処理ガス供給源２０８から、処理室１０３に処理ガスを供給するガス供給系の一部を構成している。
【００２２】
そして、このガス流量調節ユニット２００の下流側はバルブ２１３を介して処理室１０３の入口近傍から内部に連通され、他方は、バルブ２１２を介して、そのまま真空排気ポンプ２１５の吸気側に接続され、これにより処理室１０３迂回する分岐ラインを形成している。
ここで、図２には、処理用ガスの供給系が１系統しか示されていないが、実際は更に複数(例えば、１２系統以上)のガス供給系が設けられている。
ところで、このプラズマ処理装置には、ガス流量調節器２１０の交換などに際して、ガス流量調節器２１０内の処理ガスのガス溜りを置換し排気するため、パージガス供給ラインを備えている。
【００２３】
このため、ガス流量調節ユニット２００のガス流量調節器２１０の上流側にはバルブ２０９が設置され、下流側にはバルブ２１１が設置されていて、これによりガス流量調節器２１０とバルブ２０９の間にパージガスの供給が可能にしてある。そして、このときのパージガス供給系は、パージガス供給源２０１とバルブ２０２、レギュレータ２０３、圧力計２０４、真空容器２０５、それにバルブ２０６により構成されている。
【００２４】
このときパージガス供給源２０１は、図示してない別の建屋に設置されるのが通例であり、従って、パージガスの供給を必要とするプラズマ処理装置が多くなると、パージガス供給源２０１の設置数も多くなり、この結果、プラズマ処理装置と建屋の間でのガスラインの取り合いが複雑化する。
そこで、建屋に設置されるパージガス供給源２０１を１基に絞り、パージガス供給源２０１の下流側とバルブ２０２の上流側を、図示しないコネクタにより連結し、装置内で分岐する手法をとるのが一般的である。
【００２５】
次に、図３は、このプラズマ処理装置の第１の実施形態におけるガスラインの構成を示したもので、この場合、プラズマ処理装置は、図１に示したように、複数基(４基)の処理室１０３(１０３ａ、１０３ｂ、１０３ｃ、１０３ｄ)を備えている。従って、図３のガスラインも、処理室１０３と同数の４系統のガス流量調節ユニット２００(２００ａ、２００ｂ、２００ｃ、２００ｄ)で構成されている。
ところで、ここでは、プラズマ処理に１２種類のガスを使用する場合で、従って、処理用ガスの供給系が１２系統の場合が示されており、従って、ガス流量調節ユニット２００内の機器も１２系統に対応した個数(１２個)になっている。そこで、各々には、例えば−１ａなどの枝記号を付して区別してある。
【００２６】
そして、まず、真空容器２０５の下流側の配管は、処理室のガス調節ユニット２００へと分岐し、分岐された配管は、各ガス流量調節ユニット２００内のガス流量調節器２１０とバルブ２０９の間に連結されている。
このとき、プラズマ処理に用いられるガスは、ガス供給源２０８(２０８−１からガス２０８−１２)までの単数あるいは複数の任意のガスをそれぞれガス流量調節器２１０によって制御可能な任意の設定流量に高精度に制御され、プラズマ処理用の処理室１０３内に導入されるようになっている。
【００２７】
そこで、次に、図３に示す本発明の第１の実施形態による動作について、図４のフローチャートにより説明する。
ここで、このフローチャートによる処理は、前述した真空処理装置１００の動作を調節する制御装置により実行されるもので、図４の符号４０１〜４２３は、このとき制御装置に備えられているコンピュータにより実行される処理ステップを表している。
そして、この第１の実施形態の場合、予め設定してある所定の枚数のウェハを試料としてエッチング処理すると、自動的に処理室を定期メンテナンスするモードになり、このときガス流量調節器検定処理を実施するようにした場合の一実施の形態であり、ここでは、一例として、図３のモジュールａ内のガス流量調節器２１０−１ａを対象として、ガス流量調節器検定処理を行う際の動作について説明する。なお、以下では、ガス流量調節器検定のことを検定と略記する。
【００２８】
図４において、いま、モジュールａの処理室１０３ａによりプラズマ処理されたウェハ(試料)が予め設定してある所定の枚数に達したとする。
そうすると、ここで、モジュールａはメンテナンスモードに移行し(ステップ４０１、４０２)、処理室１０３ａの定期メンテナンス処理に入る。
そして、このメンテナンスモードでは、まず、モジュールａの全バルブを閉じる(ステップ４０３)。このとき、バルブ２０２は閉じた状態にされている。
この後、ステップ４０４からステップ４０９による処理と、ステップ４１０からステップ４２３による処理の２系統の処理に分岐し、これら２系統の処理が並行して実行されることになる。
【００２９】
そして、ステップ４０４からステップ４０９の処理においては、まず、通常の定期メンテナンスが実行され(ステップ４０４〜ステップ４０７)、次いでオート処理が実行され(ステップ４０８、ステップ４０９)、この後、最初のステップ４０１に戻る。
ここで、ステップ４０４〜ステップ４０７による定期メンテナンスは、通常、行われている処理室のメンテナンスなので、詳しい説明は省略する。
一方、ステップ４０８、ステップ４０９によるオート処理とは、減圧した処理室の中に被処理物を格納し、内部にガス流量調節器によって流量調節された処理用ガスを導入して処理物にエッチング処理などの処理を自動的に施すプラズマ処理装置としての通常の動作のことで、後述する第２の実施形態にも説明があり、従って、ここでの説明は省略する。
【００３０】
次に、ステップ４１０からステップ４２３の処理においては、まず、ガス流量調節器２１０−１ａについての検定フラグをＯＮにし(ステップ４１０)、バルブ２０２、２０６−１ａを開にする(ステップ４１１)。そして、圧力計２０４が規定値内となることを確認する(ステップ４１２)。
その上でバルブ２０２を閉じ(ステップ４１３)、次いでバルブ２１１−１ａ、２１２ａを開き(ステップ４１４)、ガス流量調節器２１０−１ａの流量を任意の流量値に設定してから(ステップ４１５)、流量測定を開始し(ステップ４１６)、流量測定結果が得られるのを待つ(ステップ４１７)。
【００３１】
このときの流量測定は、ガス流量調節器２１０−１ａにより任意の流量に調節しながら圧力計２０４により真空容器２０５及びガスライン内の圧力の測定を行うもので、このときの圧力減少の時間変化率を計算することによりガス流量調節器２１０−１ａの流量が基準内となっているか否かが判り、ここで時間変化率が基準値以下の場合、当該ガス流量調節器、つまりガス流量調節器２１０−１ａは検定にパスしたことになる。このとき、制御器２０７により設定値のズレ補正を行うことにより、高精度な流量を維持することが可能となる。
【００３２】
ステップ４１７の処理が終わったら、流量測定結果が基準値以下か否かを調べ(ステップ４１８)、結果がｎｏ、つまり検定にパスしなかった場合、検定エラーとなり、検定エラーが発信され、所定の態様で報知されることになる(ステップ４１９)。
一方、ステップ４１８の処理において、結果がｙｅｓ、つまり検定にパスした場合には、次いでガス流量調節器２１０−１ａを閉じ(ステップ４２０)、更にバルブ２０６−１ａ、２１１−１ａ、２１２ａを閉じ(ステップ４２１)、ガス流量調節器２１０−１ａのガス流量調節器検定のフラグをＯＦＦにする(ステップ４２２)。
【００３３】
その後、同じガス流量調節器２１０−１ａの設定流量出力を変更してガス流量検定を行なうのか、ガス流量調節器２１０−１ａとは異なる他のガス流量調節器２１０−ｎ(ｎ＝２、３、……、１２)のガス流量検定を行なうのか否かを調べ(ステップ４２３)、結果がｙｅｓのときはステップ４１０に戻り、ガス流量調節器２１０−１ａとは異なる他のガス流量調節器２１０−ｎ(ｎ＝２、３、……、１２)のガス流量検定を行うことになる。
このとき、他のガス流量調節器２１０−ｎ(ｎ＝２、３、……、１２)のガス流量検定を行なうのか否かについては、予めユーザなどにより設定されているものとする。
【００３４】
一方、ステップ４２３での結果がｎｏの場合は、ステップ４０８に移行し、モジュールａについてのオート処理の実行に進むことになる。
ここで、以上は、モジュールａの場合を例にして説明したが、同じ処理はモジュールａだけに限らず、他のモジュールでも同様に行えることはいうまでもなく、従って、あるモジュールでオート処理を行っている場合でも、他のモジュールではガス流量の検定を行うことができ、この結果、プラズマが検定により中断されてしまう時間を効果的に減少させることが可能になる。
【００３５】
従って、この第１の実施形態においては、ガス流量の検定に処理室が使用されないため、処理室の定期メンテナンス中に、又はメンテナンス後の真空引き時間を利用して検定が可能になり、この結果、検定によりプラズマ処理が中断されてしまう虞がなく、ガス流量調節器検定処理の実施に伴うプラズマ処理装置の生産性低下の抑止に大きく寄与することができる。
【００３６】
次に、本発明の第２の実施形態について、図５と図６により説明する。
まず、図５は、この第２の実施形態におけるガスラインの構成を示したもので、この場合、図３に示した第１の実施形態と相違している部分は、各ガス流量調節器２１０とバルブ２１１の間でラインが分岐され、且つ、バルブ２１２は、バルブ２１１とバルブ２１３の間から切り離され、その上で分岐されたラインは、分岐点の近傍でバルブ５０１に接続され、バルブ５０１を介して一括されてから、バルブ２１２を介してバルブ２１４の下流側の排気配管に連結されている点であり、その他の点では同じである。
従って、この第２の実施形態の場合、バルブ５０１とバルブ２１２を通るラインが処理室１０３迂回する分岐ラインを形成していることになる。
【００３７】
次に、この図５の本発明の第２の実施形態による動作について、図６のフローチャートにより説明する。
ここで、このフローチャートによる処理も、前述したコンピュータにより実行されるが、この第２の実施形態の場合、モジュール内でプラズマ処理と同時にガス流量検定が行えるようにした場合の一実施の形態であり、ここでは、一例として、図５のモジュールａ内のガス流量調節器２１０−１ａを対象として、モジュールａ内でガス流量調節器２１０−１ａのガス流量検定をプラズマ処理と並行して実施する場合の処理が示されている。
【００３８】
まず、制御装置のコンピュータによりガス流量調節器２１０−１ａ以外のガス流量調節器２１０−ｍａ（ｍ＝２、３、……、１２）を使用し、処理室１０３ａにおいてウェハ処理が開始される(ステップ６０１)。
本実施例では、ガス流量調節器２１０−１ａの検定を行う例を示しているが、ウェハ処理に用いられるもの以外のガス流量調節器２１０−ｎａ(ｎ≠ｍ)の少なくとも一つを検定する場合にも適用できることは言うまでもない。
そうすると、まず、モジュールａ内のバルブ２１４ａ以外の全バルブが閉じられ(ステップ６０２)、この後、ステップ６０３からステップ６１１による処理と、ステップ６１２からステップ６２５による処理の２系統の処理に分岐し、これら２系統の処理が並行して実行されることになる。
【００３９】
そして、ステップ６０３からステップ６１１の処理においては、通常のウェハ処理、すなわち、減圧した処理室の中に被処理物を格納し、内部にガス流量調節器によって流量調節された処理用ガスを導入して処理物にエッチング処理などの処理を自動的に施すプラズマ処理装置としての通常の動作が実行される。
このときのウェハ処理は、プラズマ処理装置における一般的な動作であるから、簡単に説明する。
【００４０】
まず、バルブ２０９ａを開き(ステップ６０３)、次いで、ガス流量調節器２１０−１ａの流量を設定してから(ステップ６０４)、バルブ２１１ａ、２１３ａを開き(ステップ６０５)、プラズマを点火し(ステップ６０６)、プラズマ処理を開始する(ステップ６０７)。
そして、この後、プラズマ処理の終了を待ち(ステップ６０８)、まず、ガス流量調節器２１０−１ａを閉じ(ステップ６０９)、次いでバルブ２０９ａ、２１１ａ、２１３ａを閉じ(ステップ６１０)、処理室１０３ａによるウェハ処理を終了するのである(ステップ６１１)。
【００４１】
次に、ステップ６１２からステップ６２５の処理は、図４の第１の実施形態の場合と同じであるから、これも簡単に説明する。
まず、ガス流量調節器２１０−１ａについての検定フラグをＯＮにし(ステップ６１２)、バルブ２０２、２０６−１ａを開にし(ステップ６１３)、圧力計２０４が規定値内となることを確認する(ステップ６１４)。
その上でバルブ２０２を閉じ(ステップ６１５)、バルブ２１１−１ａ、２１２ａを開き(ステップ６１６)、ガス流量調節器２１０−１ａの流量を任意の流量値に設定して(ステップ６１７)、流量測定を開始し(ステップ６１８)、流量測定結果が得られるのを待つ(ステップ６１９)。
【００４２】
このときの流量測定も、図４の場合と同じで、ガス流量調節器２１０−１ａにより任意の流量に調節しながら圧力計２０４により真空容器２０５及びガスライン内の圧力の測定を行うもので、このときの圧力減少の時間変化率を計算することによりガス流量調節器２１０−１ａの流量が基準内となっているか否かが判り、ここで時間変化率が基準値以下の場合、当該ガス流量調節器、つまりガス流量調節器２１０−１ａは検定にパスしたことになる。そして、このとき、制御器２０７により設定値のズレ補正を行うことにより、高精度な流量を維持することが可能になる点も同じである。
【００４３】
そして、流量測定結果が基準値以下か否かを調べ(ステップ６２０)、検定にパスしなかった場合は検定エラーが発信され、所定の態様で報知される(ステップ６２２)。
一方、検定にパスした場合にはガス流量調節器２１０−１ａを閉じ(ステップ６２１)、バルブ２０６−１ａ、２１１−１ａ、２１２ａを閉じ(ステップ６２３)、ガス流量調節器２１０−１ａのガス流量調節器検定のフラグをＯＦＦにする(ステップ６２４)。
その後、同じガス流量調節器２１０−１ａの設定流量出力を変更してガス流量検定を行なうのか、ガス流量調節器２１０−１ａとは異なる他のガス流量調節器２１０−ｎ(ｎ＝２、３、……、１２)のガス流量検定を行なうのか否かを調べる(ステップ６２５)。
【００４４】
このとき、他のガス流量調節器２１０−ｎ(ｎ＝２、３、……、１２)のガス流量検定を行なうのか否かについては、予めユーザなどにより設定されているものとする。
そして、他のガス流量調節器２１０−ｎのガス流量検定を行う場合はステップ６１２に戻り、そうでなければ、ここで処理を終了するのである。
ここでも、モジュールａの場合を例にして説明したが、同じ処理はモジュールａだけに限らず、他のモジュールでも同様に行えることはいうまでもない。
【００４５】
以上のように、この第２の実施形態においては、各ガス流量調節器２１０とバルブ２１１の間でラインが分岐され、バルブ２１２は、バルブ２１１とバルブ２１３の間から切り離されている。
そして、分岐されたラインは、分岐点の近傍でバルブ５０１に接続され、バルブ５０１を介して一括されてから、バルブ２１２を介してバルブ２１４の下流側の排気配管に連結されており、この結果、ガス流量調節ユニット２００内の配管が、ガス流量計測器２１０の下流で処理室と排気ラインに分岐されていることになる。
【００４６】
従って、この第２の実施形態によれば、ウェハ処理とガス流量検定を同時に実施することができ、この結果、検定によりプラズマ処理が中断されてしまう虞がなく、ガス流量調節器検定処理の実施に伴うプラズマ処理装置の生産性低下の抑止に大きく寄与することができる。
【符号の説明】
【００４７】
１０１  大気側ブロック
１０２  真空側ブロック
１０３  処理室
１０４  真空搬送室
１０５  ロック室
１０６  筐体
１０７  カセット
１０８  真空搬送ロボット
１０９  大気側搬送ロボット
２００  ガス流量調節ユニット
２０１  パージガス供給源
２０２  バルブ
２０３  レギュレータ
２０４  圧力計
２０５  真空容器
２０６  バルブ
２０７  制御器
２０８  処理ガス供給源
２０９  バルブ
２１０  ガス流量計測器
２１１〜２１４  バルブ
２１５  真空排気ポンプ
２１６  試料台
２１７  コンダクタンス可変バルブ
２１８  高真空排気ポンプ
２１９  高周波電源
２２０  高周波バイアス電源
２２１  ソレノイドコイル
５０１  バルブ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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