(57)【要約】【課題】本発明は、より適切に移動手摺の走行速度の低下を抑えることができるとともに、移動手摺の保守の作業負担を軽減させることができる乗客コンベアの手摺監視装置を提供する。【解決手段】手摺監視部は、水平移動用アクチュエータ１４及び上下移動用アクチュエータ１５に指令を送ることによって、水平移動用アクチュエータ１４及び上下移動用アクチュエータ１５の駆動を制御する。手摺監視部は、エンコーダを介して、移動手摺９の走行速度Ｖを監視する。手摺監視部８ｂは、走行速度Ｖが設定値α未満となったことを検出すると、キャンバス内曲面１１ｃ，１１ｄへの滑剤の塗布を開始する。その後、手摺監視部８ｂは、走行速度Ｖが設定値β以上となったことを検出すると、キャンバス内曲面１１ｃ，１１ｄへの滑剤の塗布を終了する。【選択図】図５
2010037040.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
断面Ｃ字状の移動手摺の内曲面と接触状態になる位置である接触位置と、前記内曲面から離れた位置である非接触位置との間で変位可能であり、前記接触位置に配置されて前記内曲面と接触状態となることによって、前記内曲面の接触箇所に滑剤を塗布する滑剤塗布部と、
外部からの指令に応じて前記滑剤塗布部を前記非接触位置と前記接触位置との一方から他方へ変位させる塗布駆動部と、
前記移動手摺の走行速度に応じた信号を生成する信号生成部と、
前記信号生成部を介して前記移動手摺の走行速度を監視し、その走行速度が所定速度未満になったことに応じて、前記塗布駆動部に指令を送ることにより、前記滑剤塗布部を前記非接触位置から前記接触位置に変位させる手摺監視部と
を備えることを特徴とする乗客コンベアの手摺監視装置。
【請求項２】
前記手摺監視部は、
前記滑剤塗布部を前記非接触位置から前記接触位置に変位させた後、前記移動手摺の走行速度が所定の改善速度以上になるまで、前記滑剤塗布部を前記接触位置に配置した状態を前記塗布駆動部に維持させ、
前記移動手摺の走行速度が前記改善速度以上になったことに応じて、前記塗布駆動部に指令を送ることにより、前記滑剤塗布部を前記接触位置から前記非接触位置に変位させる
ことを特徴とする請求項１記載の乗客コンベアの手摺監視装置。
【請求項３】
前記手摺監視部は、前記移動手摺の走行速度が前記所定速度未満になった時から所定の異常検出基準時間経過後に、前記移動手摺の走行速度が所定の異常検出基準速度未満であれば、前記移動手摺の駆動系に異常が発生したと判断する
ことを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の乗客コンベアの手摺監視装置。
【請求項４】
前記滑剤塗布部は、前記接触位置である前記中間接触位置から、前記内曲面のうちローラ転送面側の面に接触する位置である第１接触位置と、前記内曲面のうち前記ローラ転送面の反対側の面に接触する位置である第２接触位置とのいずれか一方の位置に選択的に変位可能であり、
前記塗布駆動部は、外部からの指令に応じて前記滑剤塗布部を前記非接触位置と前記中間接触位置との一方から他方へ変位させる第１塗布駆動手段と、外部からの指令に応じて前記滑剤塗布部を前記第１接触位置と前記第２接触位置との一方から他方へ変位させる第２塗布駆動手段とを有する
ことを特徴とする請求項１から請求項３までのいずれか１項に記載の乗客コンベアの手摺監視装置。
【請求項５】
前記手摺監視部は、
前記第２塗布駆動手段に指令を送ることにより、前記中間接触位置から前記第１及び第２接触位置のいずれか一方の位置に前記滑剤塗布部を変位させて、前記滑剤塗布部をその一方の位置に配置した状態を前記第２塗布駆動手段に所定の周回時間が経過するまで維持させ、
その後、前記第２塗布駆動手段に指令を送ることにより、前記第１及び第２接触位置の一方の位置からその他方の位置に前記滑剤塗布部を変位させて、前記滑剤塗布部をその他方の位置に配置した状態を前記第２塗布駆動手段に所定の周回時間が経過するまで維持させる
ことを特徴とする請求項４記載の乗客コンベアの手摺監視装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、移動手摺の走行速度を監視し、移動手摺の速度低下を抑える機能を有する乗客コンベアの手摺監視装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来の乗客コンベアの手摺監視装置では、トラス内にワイヤ及びばねを介して、滑剤塗布器（薬剤塗布器）が移動手摺の内側面（断面Ｃ字の端面）に接触した状態で取り付けられている。この滑剤塗布器は、移動手摺の内側面の接触箇所に滑剤（薬剤：例えば、パラフィン等の蝋）を塗布する（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
【特許文献１】特開２００６−１８２５３４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ここで、一般的な乗客コンベアでは、移動手摺の走行経路の往路側において、内曲面と、欄干の往路側手摺ガイドとが接触する。さらに、移動手摺の走行経路の帰路側において、内曲面と、トラス内の帰路側手摺ガイドとが接触する。これにより、移動手摺の走行速度の低下は、手摺ガイドと内側面との接触によるものではなく、主に、往路側手摺ガイドと内曲面との接触箇所、及び帰路側手摺ガイドと内曲面との接触箇所での摩擦抵抗の上昇に起因していた。このため、上記のような従来の乗客コンベアの手摺監視装置では、内側面に滑剤を塗布しても、移動手摺の走行速度の低下を根本的に改善させることはできなかった。
【０００５】
また、従来の乗客コンベアの保守作業において、内曲面に滑剤を塗布するためには、一旦、移動手摺を手摺ガイドから取り外した上で、手作業により内曲面に滑剤を塗布しなければならないため、保守の作業負担が増加していた。
【０００６】
この発明は、上記のような課題を解決するためになされたものであり、より適切に移動手摺の走行速度の低下を抑えることができるとともに、移動手摺の保守の作業負担を軽減させることができる乗客コンベアの手摺監視装置を得ることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
この発明に係る乗客コンベアの手摺監視装置は、断面Ｃ字状の移動手摺の内曲面と接触状態になる位置である接触位置と、内曲面から離れた位置である非接触位置との間で変位可能であり、接触位置に配置されて内曲面と接触状態となることによって、内曲面の接触箇所に滑剤を塗布する滑剤塗布部と、外部からの指令に応じて滑剤塗布部を非接触位置と接触位置との一方から他方へ変位させる塗布駆動部と、移動手摺の走行速度に応じた信号を生成する信号生成部と、信号生成部を介して移動手摺の走行速度を監視し、その走行速度が所定速度未満になったことに応じて、塗布駆動部に指令を送ることにより、滑剤塗布部を非接触位置から接触位置に変位させる手摺監視部とを備えるものである。
【発明の効果】
【０００８】
この発明の乗客コンベアの手摺監視装置によれば、移動手摺の走行速度が所定速度未満になったことに応じて、手摺監視部が、塗布駆動部に指令を送り、滑剤塗布部を非接触位置から接触位置に変位させて、内曲面の滑剤塗布部との接触箇所に滑剤を塗布させるので、内曲面に滑剤が塗布されて内曲面の摩擦抵抗の増加が抑えられることによって、より適切に移動手摺の走行速度の低下を抑えることができる。これとともに、手作業による滑剤の内曲面への塗布工程が不要となることによって、移動手摺の保守の作業負担を軽減させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
以下、この発明を実施するための最良の形態について、図面を参照して説明する。
実施の形態１．
図１は、この発明の実施の形態１によるエスカレータを模式的に示す側面図である。なお、図１の矢示Ａは移動手摺９の往路側を示し、図１の矢示Ｂは移動手摺９の復路側を示す。
図１において、トラス１は、建物の上下階床間に架け渡されている。また、トラス１の上面部には、トラス１の長手方向に沿って、一対の欄干２が立てて設けられている。欄干２の外周には、往路側手摺ガイド３が設けられている。
【００１０】
トラス１の内部には、帰路側手摺ガイド４と、手摺駆動装置５と、信号生成部としてのエンコーダ６と、滑剤塗布器７と、制御盤８と、ステップ駆動機構及び駆動機（ともに図示せず）とが設けられている。往路側手摺ガイド３と帰路側手摺ガイド４とには、無端状の移動手摺９が設けられている。
【００１１】
さらに、トラス１には、無端状に連結された複数のステップ（図示せず）が設けられている。これらのステップは、ステップ駆動機構を介して、駆動機の駆動力を受けることによって走行され、下階側乗降口Ｃと上階側乗降口Ｄとの間で循環移動される。
【００１２】
手摺駆動装置５は、複数の押圧ローラと複数の駆動ローラとを有している。駆動ローラ及び押圧ローラは、互いに組になって、移動手摺９をその両面から挟み込むように配置されている。その駆動ローラは、駆動機から受けた駆動力によって回転される。移動手摺９は、駆動ローラを介して駆動機からの駆動力を受けて走行され、下階側乗降口Ｃと上階側乗降口Ｄとの間で循環移動される。
【００１３】
図２は、移動手摺９を示す断面図である。図２において、移動手摺９は、弾性体からなる芯体１０と、キャンバス（帆布）１１とによって構成されている。芯体１０の断面形状は、Ｃ字状である。キャンバス１１は、芯体１０の乗客掴み面に対する裏面（芯体１０のＣ字の内周面）に設けられている。また、キャンバス１１は、一対のキャンバス内側面１１ａ，１１ｂと、一対のキャンバス内曲面（移動手摺の内曲面）１１ｃ，１１ｄと、手摺駆動装置５の駆動ローラとの接触用のローラ転送面１１ｅとを有している。
【００１４】
図３は、図１のＩＩＩ−ＩＩＩ線に沿う断面図である。図３において、往路側手摺ガイド３は、欄干２の外周に固定されたホルダ１２と、一対のガイド部材１３Ａ，１３Ｂとを有している。ホルダ１２の断面形状は、逆ハット状である。また、ホルダ１２は、中心から水平方向両側へ突出する一対の突出部１２ａ，１２ｂを有している。一対のガイド部材１３Ａ，１３Ｂは、それぞれホルダ１２の突出部１２ａ，１２ｂの先端箇所に取り付けられている。図４は、図１のＩＶ−ＩＶ線に沿う断面図である。図４において、帰路側手摺ガイド４の断面形状は、Ｔ字状となっている。
【００１５】
図５は、図１のＶ−Ｖ線に沿う断面図である。図５において、滑剤塗布器７は、第１塗布駆動手段（塗布駆動部）としての水平移動用アクチュエータ１４と、第２塗布駆動手段（塗布駆動部）としての上下移動用アクチュエータ１５と、第１アーム１６Ａと、第２アーム１６Ｂと、第１滑剤塗布部１７Ａと、第２滑剤塗布部１７Ｂとを有している。水平移動用アクチュエータ１４及び上下移動用アクチュエータ１５は、例えばモータやソレノイド等である。
【００１６】
第１及び第２アーム１６Ａ，１６Ｂの断面形状は、Ｌ字状となっている。また、第１及び第２アーム１６Ａ，１６Ｂは、背面部（Ｌ字の一面部）同士が互いに対向し、かつ先端部（Ｌ字の他面部）が互いに反対方向へ向けて突出するように配置されている。第１及び第２滑剤塗布部１７Ａ，１７Ｂは、第１及び第２アーム１６Ａ，１６Ｂの先端部に固定されている。また、第１及び第２滑剤塗布部１７Ａ，１７Ｂは、例えば、パラフィン等の蝋によって形成されている。
【００１７】
第１及び第２アーム１６Ａ，１６Ｂの背面同士は、水平移動用アクチュエータ１４の駆動によって、互いに接近・開離するように（図５の左右方向へ）変位される。つまり、第１及び第２滑剤塗布部１７Ａ，１７Ｂは、第１及び第２アーム１６Ａ，１６Ｂの水平方向への変位に伴って、キャンバス内曲面１１ｃ，１１ｄと接触状態となる中間接触位置（接触位置）と、キャンバス内曲面１１ｃ，１１ｄから離れた位置である非接触位置との間で変位される。
【００１８】
また、第１及び第２アーム１６Ａ，１６Ｂは、上下移動用アクチュエータ１５の駆動によって、上下方向へ変位される。さらに、第１及び第２滑剤塗布部１７Ａ，１７Ｂは、中間接触位置に配置されている状態において、第１及び第２アーム１６Ａ，１６Ｂの上下方向の変位に伴って、第１接触位置と第２接触位置とのいずれか一方の位置へ変位される。
【００１９】
ここで、第１接触位置とは、キャンバス内曲面１１ｃ，１１ｄのうちローラ転送面１１ｅ側の面にそれぞれ第１及び第２滑剤塗布部１７Ａ，１７Ｂが接触する位置である。また、第２接触位置とは、キャンバス内曲面１１ｃ，１１ｄのうちローラ転送面１１ｅの反対側（キャンバス内側面１１ａ，１１ｂ側）の面にそれぞれ第１及び第２滑剤塗布部１７Ａ，１７Ｂが接触する位置である。
【００２０】
従って、第１及び第２滑剤塗布部１７Ａ，１７Ｂは、非接触位置と中間接触位置との一方から他方へ変位可能となっており、かつ中間接触位置から第１接触位置と第２接触位置とのいずれか一方の位置へ選択的に変位可能となっている。
【００２１】
次に、往路側手摺ガイド３及び帰路側手摺ガイド４のそれぞれと移動手摺９との接触箇所に生じる摩擦力について説明する。キャンバス１１における往路側手摺ガイド３との接触箇所は、図３に示すように、キャンバス内曲面１１ｃ，１１ｄにおけるローラ転送面１１ｅ側の面である。つまり、移動手摺９の走行経路の往路側において、キャンバス内曲面１１ｃ，１１ｄにおけるローラ転送面１１ｅ側の面で主に摩擦力が生じる。
【００２２】
これに対して、キャンバス１１における帰路側手摺ガイド４との接触箇所は、図４に示すように、キャンバス内曲面１１ｃ，１１ｄにおけるキャンバス内側面１１ａ，１１ｂ側の面である。つまり、移動手摺９の走行経路の帰路側において、キャンバス内曲面１１ｃ，１１ｄにおけるキャンバス内側面１１ａ，１１ｂ側の面で主に摩擦力が生じる。従って、キャンバス１１のキャンバス内曲面１１ｃ，１１ｄに生じる摩擦力に起因して、移動手摺９の走行速度の低下が生じる。
【００２３】
図６は、図１の制御盤８を具体的に示すブロック図である。図６において、エンコーダ６は、回転体を有している。エンコーダ６の回転体の外周面は、移動手摺９に接触している。また、エンコーダ６の回転体は、移動手摺９の走行に伴って回転される。さらに、エンコーダ６は、回転体が回転することによって、パルス波を生成する。即ち、エンコーダ６は、移動手摺９の走行速度に応じた電気信号を生成する。
【００２４】
エンコーダ６によって生成された電気信号は、制御盤８に送られる。制御盤８は、主制御部８ａ及び手摺監視部８ｂを有している。主制御部８ａは、ステップ及び移動手摺９の走行を制御する。手摺監視部８ｂは、水平移動用アクチュエータ１４及び上下移動用アクチュエータ１５に指令（駆動電流、駆動信号）を送ることによって、水平移動用アクチュエータ１４及び上下移動用アクチュエータ１５の駆動を制御する。また、手摺監視部８ｂは、エンコーダ６を介して、移動手摺９の走行速度Ｖを監視する。
【００２５】
さらに、手摺監視部８ｂは、所定速度としての設定値αと、所定の改善速度としての設定値βとを予め記憶している。設定値αとは、例えば、移動手摺９の通常走行速度の７０％の値である。設定値βとは、移動手摺９の通常走行速度、即ちステップと同期する移動手摺９の走行速度の値である。また、手摺監視部８ｂは、移動手摺９の周回時間ｔ０を予め記憶している。この周回時間ｔ０とは、移動手摺９の走行速度が設定値αの状態で、移動手摺９上の任意の点が下階側乗降口Ｃと上階側乗降口Ｄとの間で一周循環移動する時間である。
【００２６】
さらに、手摺監視部８ｂは、走行速度Ｖが設定値α未満となったことを検出すると、キャンバス内曲面１１ｃ，１１ｄへの滑剤の塗布を開始する。その後、手摺監視部８ｂは、走行速度Ｖが設定値β以上となったことを検出すると、キャンバス内曲面１１ｃ，１１ｄへの滑剤の塗布を終了する。
【００２７】
より具体的に、手摺監視部８ｂは、走行速度Ｖが設定値α未満となったことを検出すると、水平移動用アクチュエータ１４を駆動させて、第１及び第２滑剤塗布部１７Ａ，１７Ｂを非接触位置から接触位置に変位させる。その後、手摺監視部８ｂは、上下移動用アクチュエータ１５を駆動させて、第１及び第２滑剤塗布部１７Ａ，１７Ｂを、中間接触位置から第１接触位置に変位させる。即ち、手摺監視部８ｂは、上下移動用アクチュエータ１５を駆動させることにより、キャンバス内曲面１１ｃ，１１ｄのうちローラ転送面１１ｅ側の面に第１及び第２滑剤塗布部１７Ａ，１７Ｂを押し当てる。このときに、手摺監視部８ｂは、第１及び第２滑剤塗布部１７Ａ，１７Ｂを第１接触位置に配置した状態を、上下移動用アクチュエータ１５に周回時間ｔ０が経過するまで維持させる。
【００２８】
その後、手摺監視部８ｂは、上下移動用アクチュエータ１５を再度駆動させて、第１及び第２滑剤塗布部１７Ａ，１７Ｂを、第１接触位置から第２接触位置に変位させる。即ち、手摺監視部８ｂは、上下移動用アクチュエータ１５を駆動させることにより、キャンバス内曲面１１ｃ，１１ｄのうちキャンバス内側面１１ａ，１１ｂ側の面に第１及び第２滑剤塗布部１７Ａ，１７Ｂを押し当てる。このときに、手摺監視部８ｂは、第１及び第２滑剤塗布部１７Ａ，１７Ｂを第２接触位置に配置した状態を、上下移動用アクチュエータ１５に周回時間ｔ０が経過するまで維持させる。
【００２９】
そして、手摺監視部８ｂは、走行速度Ｖが設定値β以上となったことを検出すると、水平移動用アクチュエータ１４を駆動させて、第１及び第２滑剤塗布部１７Ａ，１７Ｂを中間接触位置から非接触位置に変位させる。この結果、走行速度Ｖと手摺走行時間ｔとの関係は、図７に示すようになる。
【００３０】
なお、図７において、走行速度Ｖが設定値βから設定値αへ低下する期間が、走行速度Ｖが設定値αから設定値βへ増加する期間（矢示ｔｙの期間）の２倍程度の期間として示されている。しかしながら、図７は、滑剤塗布器７の作動状態を説明するために、走行速度Ｖと手摺走行時間ｔとの関係を模式的に示したものであって、実際には、走行速度Ｖが設定値βから設定値αへ低下する期間が例えば一ヶ月程度であり、走行速度Ｖが設定値αから設定値βへ増加する期間が例えば１０分程度である。また、これらの期間は、エスカレータの設置環境や仕様等によって異なる。
【００３１】
ここで、制御盤８は、演算処理部（ＣＰＵ）、記憶部（ＲＯＭ、ＲＡＭ及びハードディスク等）及び信号入出力部を持ったコンピュータ（図示せず）により構成することができる。制御盤８のコンピュータの記憶部には、主制御部８ａ及び手摺監視部８ｂの機能を実現するためのプログラムが格納されている。
【００３２】
次に、動作について説明する。図８は、図１の手摺監視部８ｂの動作を示すフローチャートである。図８において、手摺監視部８ｂは、移動手摺９の走行速度Ｖが設定値α未満となるかどうかを監視する（ステップＳ１０１）。そして、手摺監視部８ｂは、走行速度Ｖが設定値α未満となったことを検出すると、水平移動用アクチュエータ１４を駆動させ、第１及び第２滑剤塗布部１７Ａ，１７Ｂを接触位置に配置する（ステップＳ１０２）。これにより、第１及び第２滑剤塗布部１７Ａ，１７Ｂがキャンバス内曲面１１ｃ，１１ｄに接触される。
【００３３】
そして、手摺監視部８ｂは、上下移動用アクチュエータ１５を駆動させて、第１及び第２アーム１６Ａ，１６Ｂを下方へ変位させることによって、手摺監視部８ｂは、第１及び第２滑剤塗布部１７Ａ，１７Ｂをそれぞれ第１接触位置に配置する（ステップＳ１０３）。この状態で、手摺監視部８ｂは、周回時間ｔ０が経過するまで待機する（ステップＳ１０４）。
【００３４】
そして、周回時間ｔ０が経過すると、手摺監視部８ｂは、上下移動用アクチュエータ１５を再び駆動させて、第１及び第２アーム１６Ａ，１６Ｂを上方へ変位させることによって、第１及び第２滑剤塗布部１７Ａ，１７Ｂをそれぞれ第２接触位置に配置する（ステップＳ１０５）。この状態で、手摺監視部８ｂは、周回時間ｔ０が経過するまで待機する（ステップＳ１０６）。そして、周回時間ｔ０が経過すると、手摺監視部８ｂは、走行速度Ｖが設定値β以上であるかどうかを確認する（ステップＳ１０７）。
【００３５】
このときに、走行速度Ｖが設定値β以上である場合には、手摺監視部８ｂは、上下移動用アクチュエータ１５を駆動させて、第１及び第２滑剤塗布部１７Ａ，１７Ｂを中間接触位置に配置する。そして、手摺監視部８ｂは、水平移動用アクチュエータ１４を駆動させて、第１及び第２アーム１６Ａ，１６Ｂを変位させることによって、第１及び第２滑剤塗布部１７Ａ，１７Ｂを非接触位置に配置する（ステップＳ１０８）。この後、手摺監視部８ｂは、走行速度Ｖが設定値α未満になるまで待機し（ステップＳ１０１）、同様の動作を繰り返す。
【００３６】
一方、走行速度Ｖが設定値β未満である場合には（ステップＳ１０７のＮＯ方向）、手摺監視部８ｂは、キャンバス内曲面１１ｃ，１１ｄにおけるキャンバス内側面１１ａ，１１ｂ側の面にそれぞれ第１及び第２滑剤塗布部１７Ａ，１７Ｂを接触させ（ステップＳ１０３）、走行速度Ｖが設定値β以上になるまで、同様の動作を繰り返す。
【００３７】
上記のようなエスカレータの手摺監視装置では、移動手摺９の走行速度Ｖが設定値α未満になったことに応じて、手摺監視部８ｂが、水平移動用アクチュエータ１４及び上下移動用アクチュエータ１５に指令を送り、第１及び第２滑剤塗布部１７Ａ，１７Ｂを移動手摺９のキャンバス内曲面１１ｃ，１１ｄにそれぞれ接触させる。この構成により、キャンバス内曲面１１ｃ，１１ｄに滑剤が塗布されて、キャンバス内曲面１１ｃ，１１ｄに生じる摩擦抵抗の増加が抑えられることによって、より適切に移動手摺９の走行速度の低下を抑えることができる。これとともに、手作業による滑剤のキャンバス内曲面１１ｃ，１１ｄへの塗布工程が不要となることによって、移動手摺９の保守の作業負担を軽減させることができる。
【００３８】
また、滑剤塗布器７によってキャンバス内曲面１１ｃ，１１ｄに滑剤が定期的に塗布される。この構成により、移動手摺９の定期保守点検の間隔が比較的長期化した場合でも、キャンバス１１の磨耗を抑制することができ、移動手摺９の耐久性を向上させることができる。これに加えて、キャンバス内曲面１１ｃ，１１ｄに生じる摩擦抵抗の増加が抑えられることにより、摩擦抵抗の増加に起因する駆動機の駆動力の損失を最小限に抑えることができる。
【００３９】
さらに、手摺監視部８ｂが、第１及び第２滑剤塗布部１７Ａ，１７Ｂを第１接触位置に配置させた状態を、上下移動用アクチュエータ１５に周回時間ｔ０が経過するまで維持させる。その後に、手摺監視部８ｂが、第１及び第２滑剤塗布部１７Ａ，１７Ｂを第２接触位置に配置させた状態を、上下移動用アクチュエータ１５に周回時間ｔ０が経過するまで維持させる。この構成により、移動手摺９の全長に渡って万遍なくキャンバス内曲面１１ｃ，１１ｄに滑剤を塗布することができる。
【００４０】
ここで、特許文献１に示すような従来の乗客コンベアの手摺監視装置では、滑剤塗布器が常に内側面と接触することにより、常に滑剤が内側面に塗布され続けるため、必要以上に滑剤を消費するという問題もある。これに対して、実施の形態１のエスカレータの手摺監視装置では、走行速度Ｖが設定値α未満となったことに応じて手摺監視部８ｂが滑剤塗布器７を作動させ、その後、走行速度Ｖが設定値β以上となれば手摺監視部８ｂが滑剤塗布器７の作動を停止させる。この構成により、滑剤の過剰な消費を抑えることができる。
【００４１】
また、特許文献１に示すような従来の乗客コンベアの手摺監視装置では、手摺走行中に薬剤塗布器に加わる引張力が基準よりも低下することにより、実際の移動手摺の走行速度が予め設定された走行速度よりも低下したことが制御盤によって検出される。しかしながら、滑剤塗布器が引っ張られる際に手摺キャンバス内側面と滑剤塗布器との接触箇所に生じる摩擦力は、手摺キャンバス内側面及び滑剤塗布器の両方の表面状態にも左右される。このため、薬剤塗布器が引っ張られる量との関係に基づいて、移動手摺の走行速度の低下を導き出すことは必ずしも正確ではなく、監視の精度が低下していた。これに対して、実施の形態１のようなエスカレータの手摺監視装置では、手摺監視部８ｂがエンコーダ６を介して移動手摺９の走行状態を監視するので、従来の乗客コンベアの手摺監視装置よりも監視の精度を向上させることができる。
【００４２】
実施の形態２．
先の実施の形態１の手摺監視部８ｂは、移動手摺９の走行速度が設定値α未満になったことに応じて、滑剤塗布器７を作動させるのみであった。これに対して、実施の形態２の手摺監視部８ｂは、実施の形態１の手摺監視部８ｂの機能に加えて、移動手摺９の駆動系の異常発生を検出する機能を有する。ここで、手摺監視部８ｂによって検出される移動手摺９の駆動系の異常とは、手摺駆動装置５及び駆動機等の機械系の異常や、滑剤塗布器７における滑剤不足（滑剤切れ）である。
【００４３】
実施の形態２の手摺監視部８ｂは、先の図６における滑剤の塗布時間ｔｙを記憶する。また、手摺監視部８ｂは、記憶している塗布時間ｔｙの平均値の例えば２倍の値を異常検出基準時間ｔ１として算出する。さらに、手摺監視部８ｂは、所定の異常検出基準速度としての設定値γを予め記憶している。設定値γは、設定値βの例えば９０％程度の値である。
【００４４】
また、手摺監視部８ｂは、走行速度Ｖが設定値α未満となった時から、異常検出基準時間ｔ１が経過した時点で、走行速度Ｖが設定値γ未満であれば、移動手摺９の駆動系の異常発生を検出（移動手摺９の駆動系に異常が発生したと判断）し、その異常発生を保守用メモリ（図示せず）に記憶する。
【００４５】
図９は、この発明の実施の形態２によるエスカレータの手摺監視装置の動作を示すフローチャートである。実施の形態２の手摺監視部８ｂの動作は、実施の形態１の手摺監視部８ｂにおける第１及び第２アーム１６Ａ，１６Ｂを下方に変位させて、周回時間ｔ０が経過した後、走行速度Ｖが設定値β未満のときの動作（先の図８におけるステップ１０７のＮＯ方向の動作）が異なっている。ここでは、実施の形態１との違いについてのみ説明する。
【００４６】
図９において、手摺監視部８ｂは、走行速度Ｖが設定値β未満である場合には（ステップＳ１０７のＮＯ方向）、走行速度Ｖが設定値α未満となった時から異常検出基準時間ｔ１が経過したかどうかを確認する（ステップＳ２０１）。このときに、異常検出基準時間ｔ１が経過していない場合には、手摺監視部８ｂは、滑剤塗布器７を継続して作動させる（ステップＳ１０３〜Ｓ１０７）。
【００４７】
一方、異常検出基準時間ｔ１が経過している場合（ステップＳ２０１のＹＥＳ方向）、手摺監視部８ｂは、走行速度Ｖが設定値γ未満であるかどうかを確認する（ステップＳ２０２）。このときに、走行速度Ｖが設定値γ以上である場合、手摺監視部８ｂは、水平移動用アクチュエータ１４を駆動させて、第１及び第２アーム１６Ａ，１６Ｂを変位させることによって、第１及び第２滑剤塗布部１７Ａ，１７Ｂを非接触位置に配置する（ステップＳ１０８）。この後、手摺監視部８ｂは、走行速度Ｖが設定値α未満になるまで待機し（ステップＳ１０１）、同様の動作を繰り返す。
【００４８】
また、走行速度Ｖが設定値γ未満である場合（ステップＳ２０２のＮＯ方向）、手摺監視部８ｂは、移動手摺９の駆動系の異常発生を検出し（ステップＳ２０３）、その異常発生を保守用メモリに記憶する。そして、手摺監視部８ｂは、水平移動用アクチュエータ１４及び上下移動用アクチュエータ１５を駆動させて、第１及び第２滑剤塗布部１７Ａ，１７Ｂを非接触位置に配置する（ステップＳ２０４）。このときに、手摺監視部８ｂは、リセットされるまで待機する（ステップＳ２０５）。そして、手摺監視部８ｂは、リセットされると、走行速度Ｖが設定値α未満になるまで待機し（ステップＳ１０１）、同様の動作を繰り返す。
【００４９】
上記のようなエスカレータの手摺監視装置では、走行速度Ｖが設定値α未満となった時から異常検出基準時間ｔ１が経過したことに応じて、手摺監視部８ｂが移動手摺９の駆動系の異常発生を検出し、その異常を保守用メモリに記憶する。この構成により、保守作業員が制御盤８の保守用メモリの記憶情報を確認することによって、その保守作業員が移動手摺９の駆動系の異常発生を容易に把握することができ、点検作業の効率を向上させることができる。
【００５０】
なお、実施の形態２では、手摺監視部８ｂが、移動手摺９の駆動系の異常発生を検出すると、その異常を保守用メモリに記憶した。しかしながら、この例に限るものではなく、手摺監視部８ｂが、移動手摺９の駆動系の異常発生を検出後に、例えば公衆回線網等を通じて、移動手摺９の駆動系の異常発生を遠隔監視センタに通報してもよい。
【００５１】
また、実施の形態２では、所定の異常検出基準速度としての設定値γを設定値βの例えば９０％程度の値としたが、所定の異常検出基準速度は、設定値β、即ち所定の改善速度と一致する値であってもよい。この場合、図９におけるステップＳ２０２の手摺監視部８ｂの動作を省略してもよい。
【００５２】
さらに、実施の形態１，２では、エスカレータの手摺監視装置について説明したが、この発明は、動く歩道の手摺監視装置にも適用できる。
【００５３】
また、実施の形態１，２では、所定の改善速度としての設定値βを、ステップと同期する移動手摺９の走行速度の値とした。しかしながら、この例に限るものではなく、所定の改善速度は、ステップの走行速度に例えば５％程度の幅をもたせてもよい（ステップの走行速度の９５％〜１０５％程度の値としてもよい）。さらに、手摺監視部８ｂが主制御部８ａからステップの走行速度の測定値又は指令値を、定期的又は常時取得して、ステップの走行速度の測定値又は指令値を基準に、所定の改善速度を相対的に変動させてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００５４】
【図１】この発明の実施の形態１によるエスカレータを模式的に示す側面図である。
【図２】図１の移動手摺を示す断面図である。
【図３】図１のＩＩＩ−ＩＩＩ線に沿う断面図である。
【図４】図１のＶＩ−ＶＩ線に沿う断面図である。
【図５】図１のＶ−Ｖ線に沿う断面図である。
【図６】図１の制御盤を具体的に示すブロック図である。
【図７】図５の滑剤塗布器の動作タイミングを模式的に示すグラフである。
【図８】図６の手摺監視部の動作を示すフローチャートである。
【図９】この発明の実施の形態２によるエスカレータの手摺監視装置の動作を示すフローチャートである。
【符号の説明】
【００５５】
６  エンコーダ（信号生成部）、７  滑剤塗布器、８ｂ  手摺監視部、９  移動手摺、１１ｃ，１１ｄ  キャンバス内曲面（内曲面）、１１ｅ  ローラ転送面、１４  水平移動用アクチュエータ（塗布駆動部、第１塗布駆動手段）、１５  上下移動用アクチュエータ（塗布駆動部、第２塗布駆動手段）、１７Ａ，１７Ｂ  第１及び第２滑剤塗布部。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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