(57)【要約】【課題】導電性シーラントの内部の高さの差を除去することにより、ギャップ不良を防止した液晶表示装置及びその製造方法を提供する。【解決手段】液晶表示装置は、画像を表示する表示領域と、表示領域の周辺部である周辺領域とからなる液晶表示装置において、第１基板と、第１基板上の周辺領域に形成される共通パッドと、共通パッド上に形成され、共通パッドを露出する共通コンタクトホールを有する絶縁膜と、周辺領域の絶縁膜上に形成され、共通コンタクトホールによって共通パッドと接触する複数個の補助共通パッドと、第１基板と対向する第２基板と、第２基板上に形成される共通電極と、周辺領域の補助共通パッドと共通電極との間に位置し、補助共通パッドと共通電極とを電気的に接続させる導電性シーラントとを含み、共通コンタクトホールは導電性シーラントと表示領域との間に位置する。【選択図】図２
2010134428.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像を表示する表示領域と、表示領域の周辺部である周辺領域とからなる液晶表示装置において、
第１基板と、
前記第１基板上の周辺領域に形成される共通パッドと、
前記共通パッド上に形成され、前記共通パッドを露出する共通コンタクトホールを有する絶縁膜と、
前記周辺領域の絶縁膜上に形成され、前記共通コンタクトホールによって前記共通パッドと接触する複数個の補助共通パッドと、
前記第１基板と対向する第２基板と、
前記第２基板上に形成される共通電極と、
前記周辺領域の補助共通パッドと前記共通電極との間に位置し、前記補助共通パッドと前記共通電極とを電気的に接続させる導電性シーラントと、
を含み、前記共通コンタクトホールは、前記導電性シーラントと前記表示領域との間に位置し、前記導電性シーラントと重畳しない液晶表示装置。
【請求項２】
平面視において前記導電性シーラントと前記表示領域との間に前記共通コンタクトホールが位置し、前記補助共通パッドと前記共通電極との間の間隔は一定である、請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記共通コンタクトホールは３個乃至５個が形成されている、請求項２に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
平面視した場合の前記共通コンタクトホールの横方向の長さまたは縦方向の長さは、それぞれ前記導電性シーラントの幅より小さい、請求項３に記載の液晶表示装置。
【請求項５】
平面視した場合の前記共通コンタクトホールの横方向の長さは０．２ｍｍ〜０．７ｍｍであり、前記共通コンタクトホールの縦方向の長さは０．２ｍｍ〜０．７ｍｍである、請求項４に記載の液晶表示装置。
【請求項６】
前記補助共通パッドは、前記導電性シーラントと接触する導電部、前記コンタクトホールと接触する接触部、及び前記導電部と前記接触部とを接続する接続部を含み、
前記接続部は平面視した場合の前記接触部の横方向の長さまたは縦方向の長さより３倍以上長い、請求項５に記載の液晶表示装置。
【請求項７】
前記共通パッドは前記画素領域に形成されるゲート線と同一層に形成され、前記補助共通パッドは前記画素領域に形成される画素電極と同一層に形成される、請求項６に記載の液晶表示装置。
【請求項８】
前記導電性シーラントは導電物質からなる複数個の導電ボールを含み、
前記導電ボールは前記補助共通パッド及び前記共通電極と接触する、請求項７に記載の液晶表示装置。
【請求項９】
前記導電ボールは、金（Ａｕ）からなる球状の物質であり、直径は６〜７μｍである、請求項８に記載の液晶表示装置。
【請求項１０】
画像を表示する表示領域と、表示領域の周辺部である周辺領域とからなる液晶表示装置の製造方法において、
第１基板の周辺領域に共通パッドを形成する段階と、
前記共通パッド上に前記共通パッドを露出する共通コンタクトホールを有する絶縁膜を形成する段階と、
前記周辺領域の絶縁膜上に、前記共通コンタクトホールによって前記共通パッドと接触する複数個の補助共通パッドを形成する段階と、
第２基板上に共通電極を形成する段階と、
前記周辺領域の補助共通パッドと前記共通電極との間に位置し、前記補助共通パッドと前記共通電極とを電気的に接続する導電性シーラントを形成する段階と、
を含み、
前記共通コンタクトホールは前記導電性シーラントと前記表示領域との間に位置し、前記補助共通パッドと前記共通電極との間の間隔は一定である液晶表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、現在、最も幅広く使用されている平板表示装置の１つであって、電極が形成されている２枚の基板と、その間に挿入されている液晶層とからなり、電極に電圧を印加して液晶層の液晶分子を再配列させることにより、透過する光の量を調節する表示装置である。
【０００３】
最近では、画像を表示する表示領域を拡張するために、表示領域の外部のフレーム面積を縮小するナローベゼル（ｎａｒｒｏｗ  ｂｅｚｅｌ）の構成とすることが要求されている。そのために、共通電圧の印加及び密封材の役割を同時にする導電性シーラントを使用することで、液晶表示装置のフレームの外周部から表示領域までの距離を単に減らすことが試みられている。
【０００４】
下部基板の共通パッドと上部基板の共通電極とを接続させるために、下部基板の絶縁膜にコンタクトホールが形成される。前述したように、共通電圧の印加及び密封材の役割を同時に行う導電性シーラントを用いる場合には、コンタクトホールの内部に位置する導電性シーラントと、コンタクトホールの外部に位置する導電性シーラントと間に高さの差が発生し易い。このような導電性シーラントの位置による高さの差は、共通パッドと共通電極との間の接触不良を起こしたり、導電性シーラントを損傷させたりして、上部基板と下部基板との間のギャップ（ｇａｐ）不良を生じさせる恐れがある。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の目的は、導電性シーラントの内部の高さの差を除去することにより、ギャップ不良を防止した液晶表示装置及びその製造方法を提供することにある。
【０００６】
また、他の目的は、導電性シーラントと共通電極との間の接触不良を除去した液晶表示装置及びその製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の一実施形態による液晶表示装置は、画像を表示する表示領域と、表示領域の周辺部の周辺領域とからなる液晶表示装置において、第１基板と、前記第１基板上の周辺領域に形成される共通パッドと、前記共通パッドの上に形成され、前記共通パッドを露出する共通コンタクトホールを有する絶縁膜と、前記周辺領域の絶縁膜の上に形成され、前記共通コンタクトホールによって前記共通パッドと接触する複数個の補助共通パッドと、前記第１基板と対向する第２基板と、前記第２基板の上に形成される共通電極と、前記周辺領域の補助共通パッドと前記共通電極との間に位置し、前記補助共通パッドと前記共通電極とを電気的に接続させる導電性シーラントとを含み、前記共通コンタクトホールは前記導電性シーラントと前記表示領域との間に位置する。
【０００８】
前記共通コンタクトホールは、前記導電性シーラントと重畳しないことが好ましい。
【０００９】
平面視する場合に前記導電性シーラントと前記表示領域との間に前記共通コンタクトホールが位置するように構成することが好ましい。
【００１０】
前記補助共通パッドと前記共通電極との間の間隔は一定であることが好ましい。
【００１１】
前記共通コンタクトホールは複数個形成されており、前記補助共通パッドに対応して３個〜５個の共通コンタクトホールを形成することが好ましい。
【００１２】
前記共通コンタクトホールは四角形状であることが好ましい。
【００１３】
平面視した場合に前記共通コンタクトホールの横方向の長さまたは縦方向の長さは各々前記導電性シーラントの幅より小さいことが好ましい。
【００１４】
平面視した場合の前記共通コンタクトホールの横方向の長さは０．２ｍｍ〜０．７ｍｍであり、前記共通コンタクトホールの縦方向の長さは０．２ｍｍ〜０．７ｍｍであることが好ましい。
【００１５】
前記補助共通パッドは、前記導電性シーラントと接触する導電部、前記コンタクトホールと接触する接触部、及び前記導電部と前記接触部とを接続する接続部を含み、前記接続部は平面視した場合の前記接触部の横方向の長さまたは縦方向の長さより３倍以上長いことが好ましい。
【００１６】
前記接触部の形状は、前記共通コンタクトホールの形状に沿った形状であることが好ましい。
【００１７】
前記共通パッドは、前記画素領域に形成されるゲート線と同一層に形成されることが好ましい。
【００１８】
前記補助共通パッドは、前記画素領域に形成される画素電極と同一層に形成されることが好ましい。
【００１９】
前記絶縁膜は、前記ゲート線を覆うゲート絶縁膜、及び前記ゲート絶縁膜を覆う保護膜を含むことが好ましい。
【００２０】
前記導電性シーラントは導電物質からなる複数個の導電ボールを含み、前記導電ボールは前記補助共通パッド及び前記共通電極と接触することが好ましい。
【００２１】
導電ボールは金（Ａｕ）からなる球状の物質であり、直径は６〜７μｍであることが好ましい。
【００２２】
本発明の一実施形態による液晶表示装置の製造方法は、画像を表示する表示領域と、表示領域の周辺部である周辺領域とからなる液晶表示装置の製造方法において、第１基板の周辺領域に共通パッドを形成する段階と、前記共通パッドの上に前記共通パッドを露出する共通コンタクトホールを有する絶縁膜を形成する段階と、前記周辺領域の絶縁膜の上に前記共通コンタクトホールによって前記共通パッドと接触する複数個の補助共通パッドを形成する段階と、第２基板上に共通電極を形成する段階と、前記周辺領域の補助共通パッドと前記共通電極との間に位置し、前記補助共通パッドと前記共通電極とを電気的に接続する導電性シーラントを形成する段階とを含み、前記共通コンタクトホールは前記導電性シーラントと前記表示領域との間に位置することが好ましい。
【００２３】
前記補助共通パッドと前記共通電極との間の間隔は一定であることが好ましい。
【００２４】
前記補助共通パッドに対応して３個〜５個の共通コンタクトホールを形成することが好ましく、前記共通コンタクトホールは四角形状に形成することが好ましい。
【００２５】
平面視する場合に前記共通コンタクトホールの横方向の長さは０．２ｍｍ〜０．７ｍｍに形成し、前記共通コンタクトホールの縦方向の長さは０．２ｍｍ〜０．７ｍｍに形成することが好ましい。
【００２６】
前記共通パッドの形成時、前記画素領域にゲート線を形成することが好ましい。
【００２７】
前記補助共通パッドの形成時、前記画素領域に画素電極を形成することが好ましい。
【発明の効果】
【００２８】
本発明の一実施形態によれば、共通パッドを補助共通パッドと接続させるために、絶縁膜に形成された共通コンタクトホールを導電性シーラントと表示領域との間に位置させ、導電性シーラントが共通コンタクトホールと重畳しないようにすることにより、導電性シーラントの内部に高さの差を発生させない。
【００２９】
これにより、導電性シーラントが損傷することを防止し、上部基板と下部基板との間のギャップ不良を防止する。
【００３０】
また、導電性シーラントの内部に高さの差が生じないので、導電性シーラントと共通パッド及び共通電極間の接触不良を防止することができる。
【００３１】
さらに、接触不良を発生することなく導電性シーラントを使用することができるので、液晶表示装置のフレームの外周部から表示領域までの距離を減らすことができる。
【図面の簡単な説明】
【００３２】
【図１】本発明の一実施形態による液晶表示装置の周辺領域を示した配置図である。
【図２】図１のＩＩ−ＩＩ線に沿った断面図である。
【図３】本発明の他の実施形態による液晶表示装置を示した断面図である。
【図４】本発明の他の実施形態による液晶表示装置を示した断面図である。
【図５】本発明の他の実施形態による液晶表示装置を示した断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００３３】
添付した図面を参照しながら、本発明の実施形態について本発明が属する技術分野における通常の知識を有する者が容易に実施できるように詳細に説明する。本発明は種々の異なる形態で実現でき、ここで説明する実施形態に限定されるものではない。
【００３４】
図面において、種々の層及び領域を明確に表すために厚さを拡大して示した。明細書の全体にわたって類似する部分については同一の図面符号を付けた。層、膜、領域、板などの部分が他の部分の「上」にあるとするとき、これは他の部分の「すぐ上」にある場合だけでなく、その中間にまた他の部分がある場合も含む。一方、ある部分が他の部分の「すぐ上」にあるとするときには、中間に他の部分がないことを意味する。
【００３５】
以下、添付した図面を参照して、本発明の実施形態による液晶表示装置について詳細に説明する。
【００３６】
図１は、本発明の一実施形態による液晶表示装置の周辺領域を示した配置図であり、図２は、図１のＩＩ−ＩＩ線に沿った断面図である。
【００３７】
本発明の一実施形態による液晶表示装置は、画像を表示する表示領域と、表示領域の周辺部である周辺領域とからなる。図１及び図２では液晶表示装置の周辺領域を詳細に示している。透明なガラスなどからなる下部基板１１０の周辺領域には、共通パッド１２５が形成されている。共通パッド１２５は、下部基板１１０の縁部分に沿った方向に延長されており、表示領域の方向に突出した突出部１２６を含む。共通パッド１２５には、上部基板２１０の共通電極２７１に印加される共通電圧Ｖｃｏｍと同一の電圧が印加される。
【００３８】
共通パッド１２５の上には、窒化ケイ素（ＳｉＮｘ）などからなるゲート絶縁膜１４０、及び窒化ケイ素または酸化ケイ素などからなる保護膜１８０が順に形成されている。ゲート絶縁膜１４０及び保護膜１８０には、共通パッド１２５の突出部１２６を露出する共通コンタクトホール１８５が形成されている。このような共通コンタクトホール１８５は、所定間隔で複数個形成され、たとえば３個〜５個の共通コンタクトホール１８５を形成することが好ましい。共通コンタクトホール１８５の数が３個より少ない場合には接触不良を起こす恐れがあり、５個より多い場合には不必要な共通コンタクトホール１８５によって周辺領域の構造が複雑になる。
【００３９】
共通コンタクトホール１８５は四角形状であることが好ましいが、円形、その他の多角形状であっても良く、それぞれの共通コンタクトホールの大きさを互いに異なるように構成することも可能である。
【００４０】
それぞれの共通コンタクトホール１８５の図１における横方向の長さｒ２または縦方向の長さｒ３は、導電性シーラント３１０の幅ｒ１より小さいことが好ましい。導電性シーラント３１０の幅ｒ１が１．２ｍｍの場合、共通コンタクトホール１８５の横方向の長さｒ２は０．２ｍｍ〜０．７ｍｍであり、共通コンタクトホール１８５の縦方向の長さｒ３は０．２ｍｍ〜０．７ｍｍであることが好ましい。
【００４１】
このように、共通コンタクトホール１８５の大きさを小さくし、共通コンタクトホール１８５の数を増加させることにより、接触不良を防止することができる。つまり、製造工程の不良や、使用によるジュール熱（Ｊｏｕｌｅ  Ｈｅａｔ）の発生による断線のために、１つの共通コンタクトホール１８５に接触不良が発生しても、他の共通コンタクトホール１８５によって接触が維持されるので、接触不良を防止することができる。
【００４２】
周辺領域の保護膜１８０の上面及び共通コンタクトホール１８５の内部には、ＩＴＯまたはＩＺＯなどの物質からなる補助共通パッド１９５が形成され、補助共通パッド１９５は共通コンタクトホール１８５によって共通パッド１２５と接触している。したがって、共通パッド１２５に印加された共通電圧が共通コンタクトホール１８５によって補助共通パッド１９５に伝えられる。
【００４３】
補助共通パッド１９５の一部及び保護膜１８０の上には下部配向膜１１が形成されている。
【００４４】
液晶表示装置の周辺領域に沿って導電性シーラント３１０が形成されている。この導電性シーラント３１０は、補助共通パッド１９５の上面及び下部配向膜１１の端部の上面に形成されている。導電性シーラント３１０は、導電物質からなる複数の導電ボール３１１を含む。共通パッド１２５に印加された共通電圧は、補助共通パッド１９５及び導電性シーラント３１０によって上部基板２１０の共通電極２７１に伝えられる。
【００４５】
補助共通パッド１９５は、導電性シーラント３１０と直接接触する導電部１９５ａ、共通コンタクトホール１８５と接触する接触部１９５ｂ、及び導電部１９５ａと接触部１９５ｂとを接続する接続部１９５ｃで形成される。導電部１９５ａは、凹凸なしの平坦な形状に形成されており、接触部１９５ｂの形状は共通コンタクトホール１８５の形状に沿った形状であり、接続部１９５ｃは下部配向膜１１の下に位置し、導電性シーラント３１０の導電ボール３１１と接触しない。接続部１９５ｃは、図１ｂに示すような平面的な横方向長さ及び縦方向長さは、接触部１９５ｂの横方向の長さｒ２または縦方向の長さｒ３より３倍以上長いことが好ましい。これは、補助共通パッド１９５が厚みの薄いＩＴＯまたはＩＺＯなどの物質から形成されるので、ジュール熱によって補助共通パッド１９５の接触部１９５ｂ及び接続部１９５ｃが断線しやすくなり、これを防止するために補助共通パッド１９５の面積を拡張することが好ましいためである。接続部１９５ｃの平面的な横方向の長さ及び縦方向の長さを接触部１９５ｂの横方向の長さｒ２または縦方向の長さｒ３より３倍以上長く形成した場合には、接触部１９５ｂが断線しても接続部１９５ｃが全て断線することは起こり難いので、接触不良が発生しない。
【００４６】
下部基板１１０に対向して上面には上部基板２１０が位置している。上部基板２１０の周辺領域には遮光部材２２０が形成されていて光漏れを防止する。遮光部材２２０の上には蓋膜２５０が形成されている。蓋膜２５０は有機絶縁物で構成することができ、カラーフィルタ２３０（図３参照）が露出することを防止し、平坦面を提供する。蓋膜２５０の上面には、ＩＴＯ、ＩＺＯなどの透明な導電体などからなる共通電極２７１が形成されている。
【００４７】
共通電極２７１の上面には、液晶層３（図３参照）の液晶３３０（図３参照）を所定方向に配向させるための上部配向膜２１が形成されている。
【００４８】
導電性シーラント３１０は、周辺領域の補助共通パッド１９５と共通電極２７１との間に位置し、補助共通パッド１９５と共通電極２７１とを電気的に接続させる。つまり、導電性シーラント３１０の内部にある導電ボール３１１の上部面は補助共通パッド１９５と接触しており、導電性シーラント３１０の内部にある導電ボール３１１の下部面は共通電極２７１と接触していて、導電性シーラント３１０は補助共通パッド１９５と共通電極２７１とを電気的に接続させる。導電ボール３１１は金（Ａｕ−１２０）で構成される球状の物質であり、直径は６〜７μｍであることが好ましい。
【００４９】
共通コンタクトホール１８５は、平面位置として導電性シーラント３１０と表示領域との間に形成される。したがって、共通コンタクトホール１８５は導電性シーラント３１０と重畳しないので、導電性シーラント３１０の内部に高さの差が発生しない。したがって、補助共通パッド１９５と共通電極２７１との間の間隔ｄ１は一定である。
【００５０】
従来は、共通コンタクトホール１８５と導電性シーラント３１０とが一部重畳しているので、導電性シーラント３１０内部に高さの差が発生し、これによって導電性シーラント３１０の内部の導電ボール３１１のうち一部が共通電極２７１と接触せず、接触不良が発生した。そして、接触不良を防止するために導電ボール３１１の大きさを大きくした場合には、上部基板と下部基板と間のギャップが導電ボール３１１の大きさより小さい場合、導電ボール３１１によって導電性シーラント３１０が損傷し、上部基板と下部基板との間のギャップ不良が発生した。
【００５１】
しかし、本願発明の一実施形態のように、導電性シーラント３１０が共通コンタクトホール１８５と重畳しない構造では、導電性シーラント３１０の内部に高さの差が発生しないので、導電性シーラント３１０と共通電極２７１との間の接触不良を防止することができる。そして、導電ボール３１１によって導電性シーラント３１０が損傷することを防止し、上部基板と下部基板との間のギャップ不良を防止できる。したがって、共通パッド１２５から供給される共通電圧は信号の歪みなしに共通電極２７１に伝達することができ、接触不良を招くことなく導電性シーラント３１０を使用することができるので、液晶表示装置の周辺領域の外周部から表示領域までの距離を減少することができる。
【００５２】
前述した例では、液晶表示装置の周辺領域だけを図示して説明したが、以下、図面を参照して表示領域と共に示した液晶表示装置について説明する。
【００５３】
図３は、本発明の他の実施形態による液晶表示装置を示した断面図である。
【００５４】
図３に示すように、本発明の一実施形態による液晶表示装置は、下部基板１１０及び上部基板２１０と、その間に注入されている液晶層３とを含む。このような液晶表示装置は、画像を表示する表示領域Ｂと、表示領域の周辺部である周辺領域Ａとから構成される。
【００５５】
下部基板１１０の上には、ゲート線１２１と、共通パッド１２５とが形成されている。ゲート線１２１は表示領域Ｂに形成され、平面視において横方向に延長されて、ゲート信号を伝達する。共通パッド１２５は周辺領域Ａに形成され、基板の縁部に沿った方向に延長されており、表示領域の方向に突出した突出部１２６を含む。共通パッド１２５には共通電圧Ｖｃｏｍが印加される。
【００５６】
ゲート線１２１と共通パッド１２５は、物理的性質の異なる２つの導電膜（図示せず）を含む多重膜構造とすることもできる。ゲート線１２１及び共通パッド１２５の上には窒化ケイ素（ＳｉＮｘ）などからなるゲート絶縁膜１４０が形成されている。
【００５７】
ゲート絶縁膜１４０の上には、水素化非晶質シリコン（ｈｙｄｒｏｇｅｎａｔｅｄ  ａｍｏｒｐｈｏｕｓ  ｓｉｌｉｃｏｎ）（非晶質シリコンは、略してａ−Ｓｉと記す）または多結晶シリコン（ｐｏｌｙｓｉｌｉｃｏｎ）などからなる半導体１５０が形成されている。
【００５８】
半導体１５０の上面にはそれぞれ複数対のオーミックコンタクト部材（ｏｈｍｉｃ  ｃｏｎｔａｃｔ）１６３、１６５が形成されている。このオーミックコンタクト部材１６３、１６５は、リンなどのｎ型不純物が高濃度にドーピングされているｎ＋水素化非晶質シリコンなどの物質、またはシリサイド（ｓｉｌｉｃｉｄｅ）で形成することができる。
【００５９】
オーミックコンタクト部材１６３、１６５及びゲート絶縁膜１４０の上面には、ソース電極１７３を含むデータ線と、ドレイン電極１７５とが形成されている。データ線はデータ信号を伝達するものであって、平面視において主に縦方向に延長されてゲート線１２１と交差する。ゲート電極、ソース電極１７３、及びドレイン電極１７５は、半導体１５０と薄膜トランジスタ（ｔｈｉｎ−ｆｉｌｍ−ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ、ＴＦＴ）を構成し、薄膜トランジスタのチャネルは、ソース電極１７３とドレイン電極１７５との間の半導体１５０に形成される。
【００６０】
オーミックコンタクト部材１６３、１６５は、その下の半導体１５０と、その上のソース電極１７３及びドレイン電極１７５との間にだけ存在し、これらの間の接触抵抗を低くする。ソース電極１７３とドレイン電極１７５は、耐火性金属膜（図示せず）と低抵抗導電膜（図示せず）とを含む多重膜構造とすることができる。
【００６１】
ソース電極１７３、ドレイン電極１７５、及び露出した半導体１５０部分の上には、窒化ケイ素または酸化ケイ素などからなる保護膜１８０が形成されている。周辺領域Ａにはゲート絶縁膜１４０の上面に保護膜１８０が形成されている。保護膜１８０には、ドレイン電極１７５及び画素電極１９０が接続するコンタクトホール１８１と、共通パッド１２５の突出部１２６を露出する共通コンタクトホール１８５とが形成されている。
【００６２】
保護膜１８０の上面には画素電極１９０が形成され、周辺領域Ａの保護膜１８０の上面及び共通コンタクトホール１８５の内部にはＩＴＯまたはＩＺＯなどの物質からなる補助共通パッド１９５が形成されている。この補助共通パッド１９５は共通コンタクトホール１８５によって共通パッド１２５と接触する。これらは、ＩＴＯまたはＩＺＯなどの透明導電物質や、アルミニウム、銀、またはその合金などの反射性金属で形成できる。
【００６３】
画素電極１９０、補助共通パッド１９５の一部、及び保護膜１８０の上には、液晶層３の液晶３３０を所定方向に配向させるための下部配向膜１１が形成されている。
【００６４】
導電性シーラント３１０は、補助共通パッド１９５の上及び下部配向膜１１の端部の上面に形成されている。導電性シーラント３１０は導電物質からなる複数の導電ボール３１１を含む。共通パッド１２５に印加された共通電圧は、補助共通パッド１９５及び導電性シーラント３１０によって上部基板２１０の共通電極２７１に伝達される。
【００６５】
下部基板１１０の上方に対向する位置に上部基板２１０が設けられる。上部基板２１０の周辺領域Ａには遮光部材２２０が形成されており、この遮光部材２２０により光漏れを防止できる。遮光部材２２０の上面にはカラーフィルタ２３０が形成されている。このカラーフィルタ２３０は、その大部分が遮光部材２２０によって取り囲まれた領域内に存在し、画素電極１９０の列に沿って平面視した場合に縦方向に長く延長されている。各カラーフィルタ２３０は、赤色、緑色、及び青色の三原色などの基本色（ｐｒｉｍａｒｙ  ｃｏｌｏｒ）のうちの１つを表示することができる。
【００６６】
カラーフィルタ２３０及び遮光部材２２０の上面には蓋膜２５０が形成されている。蓋膜２５０は、有機絶縁物で形成され、カラーフィルタ２３０が露出することを防止するとともに平坦面を提供する。蓋膜２５０の上面にはＩＴＯ、ＩＺＯなどの透明な導電体などで構成される共通電極２７１が形成されている。
【００６７】
共通電極２７１の上面には液晶層３の液晶３３０を所定方向に配向させるための上部配向膜２１が形成されている。
【００６８】
導電性シーラント３１０は、周辺領域Ａの補助共通パッド１９５と共通電極２７１との間に位置し、補助共通パッド１９５と共通電極２７１とを電気的に接続させる。つまり、導電性シーラント３１０の内部にある導電ボール３１１の上部面は、補助共通パッド１９５と接触し、導電性シーラント３１０の内部にある導電ボール３１１の下部面は共通電極２７１と接触しており、導電性シーラント３１０は補助共通パッド１９５と共通電極２７１とを電気的に接続する。
【００６９】
共通コンタクトホール１８５は、平面視において導電性シーラント３１０と表示領域Ｂとの間に位置して形成される。したがって、共通コンタクトホール１８５は導電性シーラント３１０と重畳しないので、導電性シーラント３１０の内部に高さの差が発生しない。したがって、補助共通パッド１９５と共通電極２７１との間の間隔ｄ１は一定である。
【００７０】
上述した本発明の一実施形態による液晶表示装置を製造する方法について、図面を参照して詳細に説明する。
【００７１】
図４及び図５は、図３に示した液晶表示装置の製造方法を順に示した断面図である。
【００７２】
最初に、図４に示すように、下部基板１１０の上にアルミニウム−ネオジム（ＡｌＮｄ）、モリブデン（Ｍｏ）などの金属膜を蒸着し、フォトエッチングして、ゲート電極を含むゲート線１２１及び共通パッド１２５を形成する。
【００７３】
そして、ゲート線１２１及び共通パッド１２５の上面に、酸化ケイ素などを蒸着してゲート絶縁膜１４０を形成した後、不純物がドーピングされない非晶質シリコン膜、不純物がドーピングされた非晶質シリコン膜を順に積層した後にパターニングして、オーミックコンタクト層パターン及び半導体１５０を形成する。次に、オーミックコンタクト層パターンの上に導電物質を蒸着した後にパターニングして、ソース電極１７３を含むデータ線及びドレイン電極１７５を形成する。そして、ソース電極１７３及びドレイン電極１７５をマスクとし、これらの間に露出されているオーミックコンタクト層パターンをエッチングして、オーミックコンタクト層１６３、１６５を形成する。
【００７４】
半導体１５０、オーミックコンタクト層１６３、１６５、ソース電極１７３、及びドレイン電極１７５は、それぞれのマスクを用いて形成することができ、スリットマスクなどを用いた厚さの異なる感光パターンを利用して形成することもできる。この場合、オーミックコンタクト層１６３、１６５はデータ線及びドレイン電極１７５と同一の平面パターンを有する。
【００７５】
次に、ソース電極及びドレイン電極１７５の上面にコンタクトホール１８１及び共通コンタクトホール１８５を有する保護膜１８０を形成する。共通コンタクトホール１８５は、表示領域Ｂに隣接した位置に形成する。
【００７６】
そして、保護膜１８０の上面に、コンタクトホール１８１によってドレイン電極１７５と接続する画素電極１９０と、共通コンタクトホール１８５によって共通パッド１２５と接続する補助共通パッド１９５とを形成する。次に、画素電極１９０、補助共通パッド１９５の一部、及び保護膜１８０の上に、下部配向膜１１を形成する。
【００７７】
次に、図５に示すように、補助共通パッド１９５の上及び下部配向膜１１の端部の上面に導電性シーラント３１０を形成する。導電性シーラント３１０は、共通コンタクトホール１８５と重畳しないように、共通コンタクトホール１８５の外部に形成する。
【００７８】
次に、図３に示すように、上部基板２１０の周辺領域Ａ及び表示領域Ｂの一部に遮光部材２２０を形成する。遮光部材２２０及び上部基板２１０の上面にカラーフィルタ２３０を形成し、カラーフィルタ２３０及び遮光部材２２０の上面に蓋膜２５０を形成する。
【００７９】
蓋膜２５０の上面にＩＴＯ、ＩＺＯなどの透明な導電体などからなる共通電極２７１を形成し、共通電極２７１の上面に液晶層３の液晶３３０を所定方向に配向させるための上部配向膜２１を形成する。
【００８０】
このように遮光部材２２０、カラーフィルタ２３０、蓋膜２５０、共通電極２７１、及び上部配向膜２１が形成された上部基板２１０を下部基板１１０と対向して位置させる。そして、導電性シーラント３１０と共通電極２７１とを接触させる。したがって、共通パッド１２５に印加された共通電圧は、補助共通パッド１９５及び導電性シーラント３１０によって上部基板１１０の共通電極２７１に伝達される。
【００８１】
以上、本発明の好ましい実施形態について詳細に説明したが、本発明の権利範囲はこれらに限定されず、次の請求範囲で定義する本発明の基本概念を利用した当業者の種々の変形及び改良形態も本発明の権利範囲に属するものである。
【符号の説明】
【００８２】
１２５  共通パッド
１４０  ゲート絶縁膜
１８０  保護膜
１８５  共通コンタクトホール
１９５  補助共通パッド
２７１  共通電極
３１０  導電性シーラント
３１１  導電ボール
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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