(57)【要約】【課題】大型ガラス基板の洗浄において、基板の裏面に機械的な接触が発生することなく、基板の表面洗浄を行なうことが可能な大型ガラス洗浄装置を提供する。【解決手段】ガラス基板４０を所定の位置に設定するための基板設定支持部１０と、ガラス基板４０を噴水流５０により浮上させる基板浮上槽３０と、浮上したガラス基板４０を回転させる基板回転部２０と、回転しているガラス基板４０の表面を洗浄する洗浄手段とを有する。【選択図】      図１
2010046645.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
大型ガラス基板の洗浄を行なう大型ガラス洗浄装置であって、
前記ガラス基板を所定の位置に設定するための基板設定支持部と、
前記ガラス基板を噴水流により浮上させる基板浮上槽と、
前記浮上したガラス基板を回転させる基板回転部と、
前記回転している基板の表面を洗浄する洗浄手段とを有し、
前記基板設定支持部は、前記基板浮上槽から溢れ出る前記噴水流上に前記ガラス基板をセットし、前記基板回転部は、前記セットされて浮上したガラス基板を回転させ、前記洗浄手段は、前記回転しているガラス基板の洗浄を行なうことを特徴とする大型ガラス洗浄装置。
【請求項２】
前記基板設定支持部は、前記ガラス基板の４角を前記ガラス基板の下側のエッジで支える位置決めコマと、前記位置決めコマを支持する位置決めコマ支持具と、前記位置決めコマ支持具を上下させる上下駆動モータとを具備することを特徴とする請求項１に記載の大型ガラス洗浄装置。
【請求項３】
前記基板浮上槽は、下方から清浄水を前記噴水流として溢れさせる内槽と、溢れ出た前記清浄水を貯留して前記内槽にフィードバックする外槽とを具備することを特徴とする請求項１に記載の大型ガラス洗浄装置。
【請求項４】
前記基板回転部は、前記浮上したガラス基板を回転させる基板回転駆動ピンと、前記基板回転駆動ピンを配置して回転する回転ギアと、前記回転ギアに回転駆動力を伝達する回転伝達ギアと、前記回転伝達ギアを回転させる回転駆動モータとを具備することを特徴とする請求項１に記載の大型ガラス洗浄装置。
【請求項５】
前記基板浮上槽の内槽は、前記ガラス基板を浮上させやすくするため、水平度の高い板に、一定の間隔で、一定の穴を空けた構造を有することを特徴とする請求項１又は請求項３のいずれかに記載の大型ガラス洗浄装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガラス基板の洗浄に係り、詳しくは、大型ガラス基板の洗浄において、基板の裏面に機械的な接触が発生することなく、基板の表面洗浄を行なうことが可能な大型ガラス洗浄装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
大型ガラス基板と称されるものは、１．５ｍ角、厚さ２０ｍｍに達し、重量も、一人で作業するには困難な重さとなっている。ところが、基板の洗浄における清浄度の管理はますます厳しくなり、洗浄面以外の部分には、機械的な接触が生じない洗浄方法が求められている。
【０００３】
図５は、特許文献１に記載の基板洗浄ラインの全体図である。図５において、基板洗浄ライン１００は、全体受け槽１０１とブラシ洗浄装置１０２と超音波シャワー装置１０３と基板洗浄装置１０４と純水シャワー装置１０５とで構成されている。ブラシ洗浄装置１０２と超音波シャワー装置１０３と基板洗浄装置１０４と純水シャワー装置１０５とが、搬送方向に順に並ぶ。基板９０が、全体受け槽１０１の上方を搬送方向に搬送される。基板９０は、ブラシ洗浄装置１０２と超音波シャワー装置１０３と基板洗浄装置１０４と純水シャワー装置１０５とを順にくぐり、洗浄される。
【０００４】
ブラシ洗浄装置１０２は、ブラシにより基板の表面を洗浄する装置である。超音波シャワー装置１０３は、ＭＨｚレバルの超音波を乗せた洗浄水で基板の表面を洗浄する装置である。純水シャワー装置１０５は、純水を基板の表面にかけて基板の表面を洗浄する装置である。
【０００５】
基板洗浄装置１０４は、基板支持装置７０と貯留槽７５と超音波発信装置８５と下部液体供給装置及び上部液体供給装置（何れも図示されず）とで構成される。基板９０は基板支持装置７０の搬送ローラにより搬送され、貯留槽７５に溜められた液体に接触し、液体は貯留槽７５と基板９０との隙間から溢れ出ているため、気体が貯留槽７５に混入することはない。このため超音波発振装置８５からの超音波により基板９０が振動し、基板９０に付着した異物が除去される。下部液体供給装置は、貯留槽７５に液体を供給し、上部液体供給装置は、基板９０の上面に液体を供給し、共に、除去された異物を洗い流している。
【特許文献１】特開２００６−１９８５２５号公報
【０００６】
このように基板９０は、下方の基板面の一部が基板支持装置７０の搬送ローラに接触することで搬送されているため、洗浄面以外の部分には機械的な接触が生じない洗浄方法という要求を満たさない。また、基板９０は、基板洗浄装置１０４の位置に搬送されると、貯留槽７５に溜められた液体に接触し、気体が貯留槽７５に混入するのを防止する。これにより、超音波発振装置８５の超音波は、基板９０に効率よく作用する。しかし、貯留槽７５と基板９０との隙間から溢れ出ている液体は、基板９０が搬送ローラから浮き上がり、接触が開放される程には強く溢れ出ていない。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、このような問題を解決するためになされたものであり、その目的は、大型ガラス基板の洗浄において、基板の裏面に機械的な接触が発生することなく、基板の表面洗浄を行なうことが可能な大型ガラス洗浄装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の大型ガラス洗浄装置は、大型ガラス基板の洗浄を行なう大型ガラス洗浄装置であって、ガラス基板を所定の位置に設定するための基板設定支持部と、ガラス基板を噴水流により浮上させる基板浮上槽と、浮上したガラス基板を回転させる基板回転部と、回転している基板の表面を洗浄する洗浄手段とを有し、基板設定支持部は、基板浮上槽から溢れ出る噴水流上にガラス基板をセットし、基板回転部は、セットされて浮上したガラス基板を回転させ、洗浄手段は、回転しているガラス基板の洗浄を行なうことを特徴とする。
【０００９】
本発明の大型ガラス洗浄装置の基板設定支持部は、ガラス基板の４角をガラス基板の下側のエッジで支える位置決めコマと、位置決めコマを支持する位置決めコマ支持具と、位置決めコマ支持具を上下させる上下駆動モータとを具備することを特徴とする。
【００１０】
本発明の大型ガラス洗浄装置の基板浮上槽は、下方から清浄水を噴水流として溢れさせる内槽と、溢れ出た清浄水を貯留して内槽にフィードバックする外槽とを具備することを特徴とする。
【００１１】
本発明の大型ガラス洗浄装置の基板回転部は、浮上したガラス基板を回転させる基板回転駆動ピンと、基板回転駆動ピンを配置して回転する回転ギアと、回転ギアに回転駆動力を伝達する回転伝達ギアと、回転伝達ギアを回転させる回転駆動モータとを具備することを特徴とする。
【００１２】
本発明の大型ガラス洗浄装置の基板浮上槽の内槽は、ガラス基板を浮上させやすくするため、水平度の高い板に、一定の間隔で、一定の穴を空けた構造を有することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、大型ガラス基板を水流により浮上させることができるため、基板の裏面に機械的な接触が発生することなく、任意の洗浄手段を用いて基板の表面洗浄を行なうことが可能な大型ガラス洗浄装置を提供することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
本発明の実施の形態について、図を用いて説明する。図１は、本発明による大型ガラス洗浄装置の概略構成図である。図１において、大型ガラス洗浄装置１１０は、ガラス基板４０を所定の位置に設定するための基板設定支持部１０と、ガラス基板４０を噴水流５０により浮上させる基板浮上槽３０と、浮上したガラス基板４０を回転させる基板回転部２０とを有している。
【００１５】
ガラス基板投入位置に停止している基板設定支持部１０にガラス基板４０が置かれると、基板設定支持部１０は降下を開始する。基板設定支持部１０は、基板浮上槽３０から溢れ出る噴水流５０上にガラス基板４０が浮上した後も降下を続け、基板回転部２０の回転に支障のない位置まで降下して停止する。噴水流５０上に浮上したガラス基板４０は、基板回転部２０から回転駆動力を受けて回転を開始する。続いて洗浄手段（図示されず）は、回転しているガラス基板４０の上方表面の洗浄を開始する。洗浄手段は、ブラシ洗浄、ジェットシャワー洗浄、超音波流体（メガソニック）シャワー洗浄等、洗浄条件に対応した周知の洗浄手段を単独又は組み合わせて用いることができる。
【００１６】
洗浄が終了すると、基板回転部２０は、基板設定支持部１０がガラス基板４０を受け取れる位置に停止する。基板設定支持部１０は上昇を開始し、ガラス基板４０を受け取ると噴流水５０は停止する。その後、ガラス基板４０の払い出し位置まで上昇して停止する。基板設定支持部１０が停止すると、ガラス基板４０は払い出される。
【００１７】
図２は、基板設定支持部の詳細を示す構成図である。図２において、基板設定支持部１０は、ガラス基板４０の４角をガラス基板４０の下側のエッジで支える位置決めコマ１１と、位置決めコマを支持して上下する位置決めコマ支持具１２と、位置決めコマ支持具１２を上下させる上下駆動モータ１３とを具備する。また上下駆動モータ１３は、位置決めコマ支持具１２が上下するための上下ガイド１４を具備している。位置決めコマ１１は、ガラス基板４０の下側のエッジにのみ接触するよう、テーパーをつけた構造となっているが、この構造に限定されるものではない。上下駆動モータ１３による上下動の制御は、ステップモータのパルス制御により上下の高さを制御することができるが、モータの形式及び個数は、これに限定されるものではない。また上下ガイド１４の設置条件及びその構成についても、周知技術により適宜選択される。
【００１８】
基板洗浄開始前において、基板設定支持部１０の位置決めコマ１１は、ガラス基板投入位置に停止している。ガラス基板４０が位置決めコマ１１に置かれると、上下駆動モータ１３は回転を開始し、位置決めコマ支持具１２を降下させる。位置決めコマ１１は、基板浮上槽３０から溢れ出る噴水流５０上にガラス基板４０が浮上した位置まで降下した後も降下を続ける。位置決めコマ１１が、基板回転部２０の回転に支障のない位置まで降下すると、上下駆動モータ１３は回転を止め、降下は停止する。洗浄が終了すると、上下駆動モータ１３は回転を開始し、位置決めコマ支持具１２は上昇を開始し、位置決めコマ１１がガラス基板４０を受け取ると、ガラス基板４０の払い出し位置まで上昇して停止する。
【００１９】
図３は、基板浮上槽の詳細を示す構成図である。図３において、基板浮上槽３０は、内槽３１及び外槽３２を具備している。また内槽３１は、ポンプＰおよびフィルタＦを介して外槽３２にパイプ接続されている。外槽３２の清浄水はポンプＰによりフィルタＦを介して内槽３１に供給される。ポンプＰは、内槽３１に供給された清浄水が大型基板である重いガラス基板４０を槽上に浮上させるに足りる排水量を有している。このため内槽３１に供給された清浄水は、噴水流５０となって勢いよく内槽３１から溢れ出し、ガラス基板４０を浮上させることができる。溢れ出した噴水流５０は外槽３２に貯留され、再び内槽３１へ循環供給される。基板浮上槽３０の形状は、丸型をしているが、この形状に限定されるものではない。また、内槽３１の上面に、天板３３を具備している。天板３３は、水平度の高い研磨面を成し、且つ、一定の間隔で孔を開けた構造（例えばパンチング構造）となっている。穴のサイズは、φ１〜１０ｍｍで、穴の間隔（ピッチ）は、１〜１００ｍｍとなっている。これにより、天板３３とガラス基板４０との間に約１ｃｍ程度の噴流水５０の水の層が形成され、ガラス基板４０を浮上させる。穴のサイズ及び穴の間隔は、上記数値に限定されるものではない。
【００２０】
図４は、基板回転部の詳細を示す構成図である。図３において、基板回転部２０は、浮上したガラス基板を回転させる基板回転駆動ピン２１と、基板回転駆動ピン２１を配置して回転する回転ギア２２と、回転ギア２２に回転駆動力を伝達する回転伝達ギア２３と、回転伝達ギア２３を回転させる回転駆動モータ２４とを具備している。回転ギア２２は、回転支持台２５により支えられ、安定した回転運動を行なうことができる。また、回転ギア２２と回転伝達ギア２３とにより基板回転駆動ピン２１を回転させているが、このギアによる回転駆動に限定されるものではない。
【００２１】
基板設定支持部１０が、ガラス基板４０の４角が基板回転駆動ピン２１に納まるように降下し、且つ、ガラス基板４０が基板浮上槽３０上に浮上した後も降下を続け、基板回転駆動ピン２１の回転に支障のない位置まで降下して停止すると、回転駆動モータ２４が回転を開始する。回転駆動モータ２４の回転駆動力は、回転伝達ギア２３を介して回転ギア２２に伝達され、回転ギア２２は、回転支持台２５により支えられ安定した回転運動を行なう。これにより、基板回転駆動ピン２１に納まっているガラス基板４０は、基板浮上槽３０上に浮上した状態で回転することができる。
【００２２】
以上説明したように本発明によれば、大型ガラス基板を水流により浮上させ、モータとギアにより回転させることにより、任意の洗浄手段を用いて基板表面を洗浄することができる。このため、基板の裏面に機械的な接触が発生することなく、基板の表面洗浄を行なうことが可能な大型ガラス洗浄装置を提供することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】本発明による大型ガラス洗浄装置の概略構成図。
【図２】本発明による基板設定支持部の詳細を示す構成図。
【図３】本発明による基板浮上槽の詳細を示す構成図。
【図４】本発明による基板回転部の詳細を示す構成図。
【図５】従来の基板洗浄ラインの全体図。
【符号の説明】
【００２４】
１０  基板設定支持部
１１  位置決めコマ
１２  位置決めコマ支持具
１３  上下駆動モータ
１４  上下ガイド
２０  基板回転部
２１  基板回転駆動ピン
２２  回転ギア
２３  回転伝達ギア
２４  回転駆動モータ
２５  回転支持台
３０  基板浮上槽
３１  内槽
３２  外槽
３３  天板
４０  ガラス基板
５０  噴水流
Ｐ  ポンプ
Ｆ  フィルタ
【図１】
2010046645.tif 000003
【図２】
2010046645.tif 000004
【図３】
2010046645.tif 000005
【図４】
2010046645.tif 000006
【図５】
2010046645.tif 000007