(57)【要約】【課題】高ＳＮＲを有する塗布型の磁気記録媒体を提供する。【解決手段】非磁性支持体上に、１０以上の透磁率を有する軟磁性層と、厚さが５〜１５０ｎｍであり、実質的に長手方向に磁化容易軸を有し、且つ長手方向に２５５ｋＡ／ｍ以上の保磁力を有する強磁性層とをこの順で備え、軟磁性層の長手方向の飽和磁化膜厚積（Ｍｓｔｕ）と、強磁性層の長手方向の飽和磁化膜厚積（Ｍｓｔｓ）との比（Ｍｓｔｓ／Ｍｓｔｕ）が１．０〜６．０である磁気記録媒体。上記磁気記録媒体によれば、記録時の磁界の印加により強磁性層に形成される磁気クラスタサイズを低減することができる。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
非磁性支持体と、前記非磁性支持体上に、軟磁性層と、強磁性層とをこの順で備える磁気記録媒体であって、
前記強磁性層の厚さは５〜１５０ｎｍであり、前記強磁性層は、強磁性粉末及び結合剤を含有し、且つ実質的に長手方向に磁化容易軸を有するとともに、長手方向に２５５ｋＡ／ｍ以上の保磁力を有し、
前記軟磁性層は、軟磁性粉末及び結合剤を含有し、且つ１０以上の透磁率を有しており、
前記軟磁性層の長手方向の飽和磁化膜厚積（Ｍｓｔｓ）と、前記強磁性層の長手方向の飽和磁化膜厚積（Ｍｓｔｕ）との比（Ｍｓｔｓ／Ｍｓｔｕ）が１．０〜６．０である磁気記録媒体。
【請求項２】
前記軟磁性層は、Ｆｅ−Ｃｏ系軟磁性粉末、フェライト系軟磁性粉末、マグネタイト軟磁性粉末、及びＦｅ系軟磁性粉末からなる群から選ばれる少なくとも１種の軟磁性粉末を含有する請求項１に記載の磁気記録媒体。
【請求項３】
前記Ｆｅ−Ｃｏ系軟磁性粉末は、Ａｌを含有する請求項２に記載の磁気記録媒体。
【請求項４】
前記強磁性層は、窒化鉄系磁性粉末、及び六方晶系フェライト磁性粉末からなる群から選ばれる１種の強磁性粉末を含有する請求項１〜３のいずれか１項に記載の磁気記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は高密度記録特性に優れた塗布型の磁気記録媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
磁性粉末が結合剤中に分散された磁性層を有する塗布型の磁気記録媒体は、アナログ方式からデジタル方式への記録再生方式の移行に伴い、記録密度の一層の向上が要求されている。特に、高密度デジタルビデオテープやコンピュータバックアップテープなどに用いられる磁気記録媒体においては、この要求が年々高まってきている。
【０００３】
磁気記録媒体の記録密度向上のためには高いＳＮＲ（Ｓｉｇｎａｌ  Ｎｏｉｓｅ  Ｒａｔｉｏ）が必要とされる。高出力化の観点からは、記録時の厚み損失を小さくすることを目的として薄層の磁性層を形成した磁気記録媒体が市場に供されている。例えば、コンピュータバックアップテープであるＬＴＯ（Ｌｉｎｅａｒ  Ｔａｐｅ  Ｏｐｅｎ）やＤＬＴ（Ｄｉｇｉｔａｌ  Ｌｉｎｅａｒ  Ｔａｐｅ）などでは、下層に非磁性層を設け、上層に０．２μｍ程度の厚さを有する磁性層を設けた重層構成の磁気記録媒体が実用化されており、今後の記録波長の短波長化に伴って磁性層もさらに薄層化することが求められている。
【０００４】
また、磁性粉末に関しては、短波長記録に対応するため、一般に、高充填の磁性層を形成することを目的として磁性粉末の粒子サイズをできるだけ小さく設計することや、記録減磁や短波長記録した際の自己減磁を抑制することを目的として保磁力を高く設定することが検討されている。特に、長手記録方式の磁気テープにおいては、減磁による出力低下を防止するため、磁気ヘッドで信号の記録消去が可能な範囲で保磁力はできる限り高い方が好ましい。
【０００５】
上記の観点から年々磁性粉末の微粒子化が図られており、現在では０．１μｍ程度の長軸長を有する針状の鉄系金属磁性粉末が実用化されている。また、短波長記録時の減磁による出力低下を防止するため、年々磁性粉末の高保磁力化が図られてきている。例えば、鉄−コバルト合金化により、１９９．０ｋＡ／ｍ程度の保磁力を有する鉄系金属磁性粉末が実現されている（例えば、特許文献１）。しかしながら、上記のような針状の磁性粉末を用いる磁気記録媒体においては、上記長軸長からのさらに大幅な微粒子化は困難になってきている。これは、針状の金属鉄系磁性粉末はその形状を針状とすることによる形状磁気異方性に基づき高保磁力を発現しており、それゆえ微粒子化に伴い、必然的に針状比（長軸長／単軸長）が小さくなり、保磁力が低下するためである。
【０００６】
そこで、上記のような針状の金属鉄系磁性粉末に代わって、磁化の発現が結晶磁気異方性に由来し、高保磁力で微粒子化が可能である窒化鉄系磁性粉末や六方晶系フェライト磁性粉末などの強磁性粉末を用いて高保磁力を有する磁性層を形成した磁気記録媒体が提案されている（例えば、特許文献２，３）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開平３−４９０２６号公報
【０００８】
【特許文献２】特開２００４−２７３０９４号公報
【０００９】
【特許文献３】特開２００３−１９７４１３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
ところで、コンピュータ用データ記録システムには、記録情報の再生を行う際に用いる磁気ヘッドとして、従来の誘導型ヘッドに代わり、磁気抵抗効果型磁気ヘッド（ＭＲヘッド）、異方性磁気抵抗効果型磁気ヘッド（ＡＭＲヘッド）、巨大磁気抵抗効果型磁気ヘッド（ＧＭＲヘッド）、あるいはトンネル磁気抵抗効果型磁気ヘッド（ＴＭＲヘッド）などの高感度の磁気ヘッド（以下、総称してＭＲ系ヘッドという）の適用が検討されてきている。このようなＭＲ系ヘッドを使用したシステムにおいてはシステムに起因するノイズの大幅な低減が可能であることから、磁気記録媒体に由来する媒体ノイズがシステムのＳＮＲを支配する。従って、上記のような高密度記録に好適な磁性粉末を用いた磁気記録媒体も高出力化と同時に、低ノイズ化を図る必要がある。
【００１１】
塗布型の磁気記録媒体において、媒体ノイズは磁性粉末の充填量で比較すると、記録ビット内に存在する磁性粉末の個数が多くなるほど低くなる。従って、媒体ノイズを低減するためには、微粒子の磁性粉末を使用して磁性層中の磁性粉末の充填性を向上することが有効である。上記のような六方晶系フェライト磁性粉末や窒化鉄系磁性粉末は微粒子の磁性粉末であるため、上記の点からも好ましい。
【００１２】
しかしながら、近年、塗布型磁気記録媒体用の記録ヘッドとしては、耐久性や加工精度の観点から、ヘッド磁性体の飽和磁束密度が０．８〜１．２Ｔと比較的低いＣｏアモルファスのような材料を使い、書き込みギャップが０．３〜０．９μｍと広くなる磁気ヘッドが使用されてきている。本発明者等の検討によれば、上記のような高保磁力で微粒子の強磁性粉末を用いて出力を向上させても、このような磁気ヘッドを使用すると、磁性粉末の体積及び粒子数から期待されるノイズレベルよりもノイズが大きくなり、ＳＮＲの十分な向上が図れないことが明らかとなった。これは、上記のような磁気ヘッドを用いた場合、高保磁力の磁気記録媒体の特性を十分に活かすことができず、書き込み信号のバラツキが大きくなり、その結果ノイズが上昇することが原因と考えられる。
【００１３】
本発明は上記課題を解決するためになされたものであり、本発明の目的は、高密度記録を達成するために磁性層の薄層化及び高保磁力化により出力の向上を図るとともに、媒体ノイズを低減し、もって優れたＳＮＲを有する磁気記録媒体を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明は、非磁性支持体と、前記非磁性支持体上に、軟磁性層と、強磁性層とをこの順で備える磁気記録媒体であって、
前記強磁性層の厚さは５〜１５０ｎｍであり、前記強磁性層は、強磁性粉末及び結合剤を含有し、且つ実質的に長手方向に磁化容易軸を有するとともに、長手方向に２５５ｋＡ／ｍ以上の保磁力を有し、
前記軟磁性層は、軟磁性粉末及び結合剤を含有し、且つ１０以上の透磁率を有しており、
前記軟磁性層の長手方向の飽和磁化膜厚積（Ｍｓｔｓ）と、前記強磁性層の長手方向の飽和磁化膜厚積（Ｍｓｔｕ）との比（Ｍｓｔｓ／Ｍｓｔｕ）が１．０〜６．０の磁気記録媒体である。
【００１５】
上記磁気記録媒体は、高保磁力で薄層の強磁性層を有するため、自己減磁損失や厚み損失が低減され、短波長記録においても高出力を得ることができる。また、上記磁気記録媒体は、上記強磁性層の下に、高透磁率を有する軟磁性層を有するとともに、強磁性層の長手方向の飽和磁化膜厚積（Ｍｓｔｕ）と、軟磁性層の長手方向の飽和磁化膜厚積（Ｍｓｔｓ）との比（Ｍｓｔｓ／Ｍｓｔｕ）が一定範囲に設定されているため、軟磁性層からの磁気的な相互作用により記録時に強磁性層に形成される磁気クラスタの増大を抑えることができる。
【発明の効果】
【００１６】
以上のように、本発明によれば、記録時に高保磁力で薄層の強磁性層に形成される磁気クラスタの増大を抑えることができる。これにより、再生出力に優れ、媒体ノイズが低減された高ＳＮＲを有する磁気記録媒体を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
上記した記録ヘッドを用いて、高保磁力の強磁性層を有する磁気記録媒体に信号を記録した場合に、微粒子の強磁性粉末を使用しているにも拘らず媒体ノイズ低減の効果が十分に得られない理由は、記録時に強磁性層に形成される磁気クラスタが増大しやすいためと考えられる。すなわち、信号の記録時には磁気ヘッドからの磁界が磁性層に印加されるが、このとき隣接する磁性粉末が磁気的に結合した状態となり、複数の磁性粉末からなる凝集体が１つの磁区、つまり１つの磁化反転する最小単位（磁気クラスタ）として挙動する。そのため、磁界の印加によって形成される磁気クラスタが本来形成されるべき磁区よりも大きくなると、磁性粉末の凝集体として振舞う領域が広がり、且つ磁化遷移幅が広がって、その結果、ノイズが増加することとなる。磁性粉末が高保磁力となるほどこの磁性粉末間の磁気的な相互作用により、外部磁界をかけた場合に磁性粉末が周囲の磁性粉末と一斉に反転する傾向が大きくなり、磁気クラスタが増大しやすくなると考えられる。また、微粒子の磁性粉末ほど高充填の強磁性層が形成できる反面、それによって磁性粉末間の距離が狭まるため、上記の磁気的な相互作用もより大きくなると考えられる。
【００１８】
上記観点から、本実施の形態の磁気記録媒体は、高保磁力を有する強磁性層の下に１０以上、好ましくは２０以上の高透磁率を有する軟磁性層が隣接して形成される。すなわち、信号の記録時には記録ヘッドからの磁界が強磁性層に印加されるが、このとき磁界は強磁性層の磁化に誘導されて一方のヘッド先端から強磁性層に入り込み、強磁性層から他方のヘッド先端に戻る。このため、強磁性層の下に高透磁率を有する軟磁性層を形成すれば、磁気ヘッドからの磁界を強磁性層に円滑に導くことができ、磁束のループが形成されやすくなる。このため、磁化遷移幅の広がりが抑えられ、強磁性層に形成される磁化の立ち上がりがシャープになり、それによってノイズを低減することができる。軟磁性層の透磁率が１０未満では、磁気ヘッドからの磁界を導く作用が低下し、ノイズ低減の効果が十分に得られない。なお、軟磁性層の透磁率は高い程好ましいが、軟磁性粉末の選択の幅が狭まるため、１００以下が好ましく、５０以下がより好ましい。
【００１９】
また、上記のような高透磁率の軟磁性層を形成することによりある程度のノイズを低減することはできるが、高保磁力化に起因する記録時の磁界の印加によって強磁性層に形成される磁気クラスタのサイズの低減には十分でない。このため、微粒子の強磁性粉末を用いてもその効果は低くなってしまう。磁化反転単位を小さくするには、記録時の磁界が印加されたときの強磁性粉末の磁気的な相互作用を弱めることが必要と考えられるが、本発明者等の検討によれば、軟磁性層の長手方向の飽和磁化膜厚積（Ｍｓｔｓ）と、強磁性層の長手方向の飽和磁化膜厚積（Ｍｓｔｕ）との比（Ｍｓｔｓ／Ｍｓｔｕ）が１．０〜６．０、好ましくは２．４〜４．９の範囲にあれば、記録時に上層の強磁性層に形成される磁気クラスタサイズを低減することができ、媒体ノイズが格段に低減されることを見出した。この理由は明らかではないが、下層の軟磁性層と上層の強磁性層との磁気的な作用により記録時の磁界が印加されたときの強磁性粉末の磁気的な結合が弱められるためと推測される。前記比が１．０未満であると、軟磁性層による磁気クラスタサイズの低減効果が少なく、むしろ軟磁性層を形成しない場合よりもノイズが増加する傾向がある。一方、前記比が６．０より大きいと、軟磁性層から発生する磁束が再生に寄与し、強磁性層の出力と逆位相の出力を発生させ、磁気記録媒体全体としての出力が低下する。なお、本明細書において、磁性層の磁気特性は、試料振動型磁力計により求めることができる。具体的には、まず、温度２５℃、印加磁界１２７３．３ｋＡ／ｍの条件で、磁気記録媒体全体のヒステリシス曲線を取得する。このとき、得られたヒステリシス曲線を磁場で微分したカーブは、２つのローレンツ曲線の重ね合わせになり、それぞれのローレンツ曲線が軟磁性層と強磁性層の磁気成分に該当する。従って、磁気記録媒体全体のヒステリシス曲線から得られる微分カーブのデータを一般的なピーク分離ソフト（例えば、Ｍｉｃｒｏｓｏｆｔ  Ｅｘｃｅｌ（商標））を用いて分離し、各微分カーブを得て、その各微分カーブを磁場で積分することにより、軟磁性層及び強磁性層それぞれのヒステリシス曲線を得ることができる。そして、各ヒステリシス曲線から得られる測定値を基準試料で補正すれば、各磁性層の磁気特性を求めることができる。軟磁性層の透磁率は、上記のようにして得られる軟磁性層のヒステリシス曲線の０磁場付近（−４ｋＡ／ｍ〜＋４ｋＡ／ｍ）の傾きから求めた値である。なお、膜厚は、走査型電子顕微鏡（倍率：５〜２０万倍）で複数個所の磁気記録媒体の断面（５０μｍ長）を観察したときの平均値である。
【００２０】
軟磁性層の長手方向の飽和磁化膜厚積（Ｍｓｔｓ）は、使用する軟磁性粉末の種類及び充填量と軟磁性層の膜厚とによって調整することができる。軟磁性層の長手方向の飽和磁化は、０．０６〜０．８Ｔが好ましい。前記飽和磁化の範囲であれば、軟磁性層の厚みを厚くしすぎることなく、上記比（Ｍｓｔｓ／Ｍｓｔｕ）を一定範囲に容易に調整することができる。また、同様の理由から軟磁性層の厚みは、２０ｎｍ〜１．２μｍが好ましく、９０〜５２０ｎｍがより好ましい。
【００２１】
軟磁性層の保磁力は２〜１２ｋＡ／ｍが好ましい。上記範囲の保磁力を有する軟磁性層であれば、配向時に強磁性粉末の配向性を乱す磁気的な影響を抑えることができる。また、記録時に強磁性層の磁化が妨げられず、再生時に軟磁性層の磁化による信号の歪を防止することができる。
【００２２】
軟磁性層に使用される軟磁性粉末としては、Ｆｅ−Ｃｏ系軟磁性粉末、フェライト系軟磁性粉末、マグネタイト軟磁性粉末、及びＦｅ系軟磁性粉末からなる群から選ばれる少なくとも１種の軟磁性粉末が好ましく、これらの中でもＦｅ−Ｃｏ系軟磁性粉末がより好ましい。特に、Ａｌを含有するＦｅ−Ｃｏ系軟磁性粉末は、高透磁率を有する軟磁性層を形成できるため、好ましい。Ｆｅ−Ｃｏ系軟磁性粉末がＡｌを含有する場合、Ａｌの含有量はＡｌ／（Ｆｅ＋Ｃｏ）原子比で２〜３５原子％が好ましく、２〜３１原子％がより好ましく、２〜１３原子％がさらに好ましい。
【００２３】
軟磁性粉末の粒径は、２〜３０ｎｍが好ましい。粒径が２ｎｍ未満では軟磁性粉末の分散性が低下する傾向がある。粒径が３０ｎｍより大きいと、強磁性層と軟磁性層との界面の変動が大きくなる傾向がある。また、軟磁性粉末の軸比は、１〜２が好ましい。このような異方性の小さい粒状の軟磁性粉末を使用することにより、配向処理を行った場合の軟磁性層の表面性の低下を抑えることができ、それによって優れた表面性を有する強磁性層を得ることができる。また、軟磁性粉末の保磁力は２〜１０ｋＡ／ｍが好ましく、飽和磁化は５０〜１９０Ａｍ２／ｋｇが好ましい。さらに、軟磁性層中の軟磁性粉末の含率は６５〜９０質量％が好ましく、７０〜８５質量％がより好ましい。なお、本明細書において、磁性粉末の磁気特性は、試料振動型磁力計を使用して、２５℃、印加磁界１２７３．３ｋＡ／ｍで測定したときの基準試料による補正後の値である。
【００２４】
本実施の形態の磁気記録媒体では、上記の軟磁性層上に、高出力化のために、厚さが５〜１５０ｎｍで、実質的に長手方向に磁化容易軸を有し、且つ長手方向に２５５ｋＡ／ｍ以上の保磁力を有する強磁性層が形成される。このような薄層で高保磁力の強磁性層を形成することにより、厚み損失及び自己減磁損失を低減することができる。強磁性層の厚さが１５０ｎｍより厚いと、短波長記録において厚み損失が大きくなり、再生出力が低下する。また、強磁性層の残留磁化が大きくなりすぎ、再生時にＭＲ系ヘッドが飽和する。一方、強磁性層の厚さが５ｎｍより薄いと、均一な強磁性層を形成することが困難となり、強磁性層にピンホールなどの欠陥が生じやすくなる。また、強磁性層からの漏れ磁界が小さくなるため、出力が低下する。強磁性層の厚みは、より好ましくは、２０〜１４５ｎｍである。強磁性層の長手方向の保磁力が２５５ｋＡ／ｍ未満では、自己減磁損失が大きくなりすぎ、出力が低下する。このため、強磁性層の保磁力は可能な限り高い方が好ましい。一方、余りに強磁性層の保磁力が高すぎると、磁気ヘッドでの記録が困難となるため、４５０ｋＡ／ｍ以下が好ましく、３２０ｋＡ／ｍ以下がより好ましい。
【００２５】
強磁性層の長手方向の飽和磁化膜厚積（Ｍｓｔｕ）は、使用する強磁性粉末の種類及び充填量と、強磁性層の角型及び膜厚とによって調整することができる。強磁性層の長手方向の飽和磁化は、０．０７〜０．４Ｔが好ましい。前記飽和磁化の範囲であれば、高出力化のために５〜１５０ｎｍの薄い強磁性層を形成しても、上記比（Ｍｓｔｓ／Ｍｓｔｕ）を一定範囲に容易に調整することができる。また、強磁性層の長手方向の角型は、０．６０〜０．９８が好ましく、０．８０〜０．９８がより好ましい。上記角型であれば、高残留磁化を有する強磁性層を形成することができ、さらに出力を向上することができる。なお、強磁性層の長手方向の角型は１、すなわち全ての強磁性粉末の磁化容易軸が長手方向に向いていることが好ましいが、強磁性粉末として粒状の窒化鉄系磁性粉末や板状の六方晶系フェライト磁性粉末を用いた場合、その形状に起因して強磁性層の垂直方向にも若干の磁化成分が発生する。このため、本実施の形態の強磁性層は長手方向の角型が０．６０〜０．９８の範囲にある実質的に長手方向に磁化容易軸を有している。さらに、強磁性層中の強磁性粉末の含率は４０〜９０質量％が好ましく、４５〜８１質量％がより好ましい。このような高充填の強磁性層を形成することにより、さらにノイズを低減することができる。
【００２６】
強磁性層に使用される強磁性粉末としては、上記の高保磁力を発現できるものであれば特に限定されないが、微粒子で高保磁力を有する窒化鉄系磁性粉末、及び六方晶系フェライト磁性粉末からなる群から選ばれる１種が好ましく、窒化鉄系磁性粉末がより好ましい。これらの強磁性粉末は、優れた結晶磁気異方性を有するため、異方性の小さい粒状あるいは板状の形状を有する強磁性粉末であっても、高保磁力を有している。
【００２７】
強磁性粉末は５〜５０ｎｍの粒径を有することが好ましい。このような微粒子の強磁性粉末を用いることにより強磁性層の充填性を向上することができる。強磁性粉末の粒径は、粒状の窒化鉄系磁性粉末の場合、直径または長軸径を、板状の六方晶系フェライト磁性粉末の場合、最も長い板径をそれぞれ意味する。
【００２８】
強磁性粉末のＢＥＴ比表面積は４０〜２００ｍ２／ｇが好ましく、５０〜２００ｍ２／ｇ以上がより好ましく、６０〜２００ｍ２／ｇ以上がさらに好ましい。ＢＥＴ比表面積が４０ｍ２／ｇより小さいと、保磁力が低下しやすい。ＢＥＴ比表面積が２００ｍ２／ｇを超えると、塗料分散性が低下したり、化学的に不安定になったりする場合がある。
【００２９】
強磁性粉末の保磁力は２２０〜４２０ｋＡ／ｍが好ましく、飽和磁化は４０〜１６０Ａｍ２／ｋｇが好ましい。上記のような高保磁力、高飽和磁化の強磁性粉末を用いることにより、短波長記録において高い再生出力を得ることができる。
【００３０】
本実施の形態において、強磁性粉末として窒化鉄系磁性粉末を用いる場合、Ｆｅ１６Ｎ２相を主相として含有する窒化鉄系磁性粉末が好ましい。結晶性の高いＦｅ１６Ｎ２相を主相として含有させることにより、保磁力及び飽和磁化を向上することができる。このようなＦｅ１６Ｎ２相を主相として含有する粒状の窒化鉄系磁性粉末は、例えば特開２０００−２７７３１１号公報に記載されている。また、このような窒化鉄系磁性粉末の中でも、鉄に対して窒素を１〜２０原子％含有する窒化鉄系磁性粉末が好ましい。窒化鉄系磁性粉末は、鉄の一部が他の遷移金属元素で置換されていてもよい。このような他の遷移金属元素としては、具体的には、例えば、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｃｏなどが挙げられる。これらは単独でまたは複数含有されていてもよい。これらの中でも、Ｃｏ、Ｎｉが好ましく、特にＣｏは飽和磁化を最も向上できるので、好ましい。ただし、Ｃｏの含有量は鉄に対して１０原子％以下が好ましい。Ｃｏの含有量が多くなりすぎると、窒化に長時間を要する傾向がある。また、窒化鉄系磁性粉末は希土類元素を含有してもよい。特に、Ｆｅ１６Ｎ２相を主相とする窒化鉄を主として含有する内層部分と上記希土類元素を主として含有する外層部分とを有する２層構成の窒化鉄系磁性粉末は、高保磁力でありながら、高い分散性や優れた形状維持性を示すため好ましい。このような希土類元素としては、具体的には、例えば、イットリウム、イッテルビウム、セシウム、プラセオジウム、ランタン、ユーロピウム、ネオジウムなどが挙げられる。これらは単独でまたは複数含有されていてもよい。これらの中でも、イットリウム、サマリウム、及びネオジウムは還元時の粒子形状の維持効果が大きいため、好ましい。希土類元素の含有量は、鉄に対し総含有量で、０．０５〜２０原子％が好ましく、０．１〜１５原子％がより好ましく、０．５〜１０原子％が最も好ましい。希土類元素が少なすぎると、分散性の向上効果が少なくなり、また還元時の粒子形状維持効果が小さくなる。希土類元素が多すぎると、未反応の希土類元素部分が多くなり、分散、塗布工程での障害となったり、保磁力や飽和磁化の過度な低下を引き起こしやすい。また、窒化鉄系磁性粉末は、ホウ素、シリコン、アルミニウム、リンを含有してもよい。このような元素を含有することにより、高分散性の窒化鉄系磁性粉末が得られる。これらの元素は、希土類元素に比べて安価であるため、コスト的にも有利である。これらの元素の含有量は、鉄に対し、ホウ素、シリコン、アルミニウム及びリンの総含有量で０．１〜２０原子％が好ましい。これらの元素が少なすぎると、形状維持効果が少ない。一方、これらの元素が多すぎると、飽和磁化が低下しやすい。なお、窒化鉄系磁性粉末は、必要により、炭素、カルシウム、マグネシウム、ジルコニウム、バリウム、ストロンチウムなどを含有してもよい。これら元素と希土類元素とを併用することにより、より高い形状維持性と分散性能を得ることができる。
【００３１】
窒化鉄系磁性粉末の製造方法は、特に限定されるものではないが、例えば特開２００４−２７３０９４号公報等に記載の方法により製造することができる。具体的には、出発原料としては、鉄系酸化物または鉄系水酸化物が用いられる。鉄系酸化物、鉄系水酸化物としては、例えば、ヘマタイト、マグネタイト、ゲータイトなどが挙げられる。出発原料の粒径は、特に限定されないが、５〜８０ｎｍが好ましく、５〜５０ｎｍがより好ましく、５〜３０ｎｍがさらに好ましい。粒径が小さすぎると、還元時に粒子間焼結が生じやすい。粒径が大きすぎると、還元処理が不均質となりやすく、得られる窒化鉄系磁性粉末の粒径や磁気特性の制御が困難となる。また、出発原料の軸比は、特に限定されないが、１．０〜３．０が好ましく、１．０〜２．５がより好ましい。
【００３２】
上記の出発原料には既述した希土類元素を被着させてもよい。被着処理の方法としては、例えば、アルカリまたは酸の水溶液中に出発原料を分散させ、これに希土類元素の塩を溶解させた後、中和反応などにより出発原料に希土類元素を含む水酸化物や水和物を沈殿析出させる方法が挙げられる。また、上記の出発原料にはホウ素、シリコン、アルミニウム、リンなどの元素を被着させてもよい。これらの元素の被着処理の方法としては、例えば、上記元素を含有する化合物を溶解させた溶液を調製し、この溶液に出発原料を浸漬して、出発原料にホウ素、シリコン、アルミニウム、リンなどを被着させる方法が挙げられる。これらの被着処理を効率良く行うために、溶液には還元剤、ｐＨ緩衝剤、粒径制御剤などの添加剤をさらに添加してもよい。さらに、被着処理において、希土類元素と、ホウ素、シリコン、アルミニウム、リンなどの元素とを同時にあるいは交互に出発原料に被着させるようにしてもよい。
【００３３】
次に、上記の出発原料を水素気流中で加熱還元する。還元ガスは特に限定されず、水素ガス以外に、一酸化炭素ガスなどの還元性ガスを使用してもよい。還元温度は、３００〜６００℃が望ましい。還元温度が３００℃より低いと、還元反応が十分進まなくなる。還元温度が６００℃より高いと、焼結が起こりやすくなる。
【００３４】
上記のような加熱還元後、窒化処理を施すことにより、鉄と窒素とを構成元素として有する窒化鉄系磁性粉末が得られる。窒化処理としては、アンモニアを含むガスを用いて行うのが望ましい。また、アンモニアガス単体のほかに、水素ガス、ヘリウムガス、窒素ガス、アルゴンガスなどをキャリアーガスとした混合ガスを使用してもよい。窒素ガスは安価なため、特に好ましい。窒化処理温度は１００〜３００℃が好ましい。窒化処理温度が低すぎると窒化が十分進まず、保磁力増加の効果が少ない。窒化処理温度が高すぎると窒化が過剰に促進され、Ｆｅ４Ｎ相やＦｅ３Ｎ相等の割合が増加し、保磁力がむしろ低下し、さらに飽和磁化の過度な低下を引き起こしやすい。窒化処理に際しては、鉄に対する窒素の含有量が１〜２０原子％となるように、窒化処理の条件を選択することが望ましい。窒素の量が少なすぎると、Ｆｅ１６Ｎ２相の生成量が少なくなり、保磁力向上の効果が少なくなる。窒素の量が多すぎると、Ｆｅ４Ｎ相やＦｅ３Ｎ相等が形成されやすくなり、保磁力がむしろ低下し、さらに飽和磁化の過度な低下を引き起こしやすい。
【００３５】
強磁性粉末として六方晶系フェライト磁性粉末を用いる場合、六方晶バリウムフェライト磁性粉末や六方晶ストロンチウムフェライト磁性粉末が好ましい。上記六方晶系フェライト磁性粉末は、所定の元素以外にＡｌ、Ｓｉ、Ｓ、Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｙ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｈｇ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｂ、Ｇｅ、Ｎｂなどの元素を含んでいてもよい。六方晶系フェライト磁性粉末の製造方法としては、従来公知の製造方法を使用することができる。例えば、酸化バリウム、酸化鉄、鉄を置換する金属酸化物、及びガラス形成物質として酸化ホウ素などを所望のフェライト組成になるように混合し、該混合物を溶融し、急冷して非晶質体とし、次いで再加熱処理した後、洗浄・粉砕してバリウムフェライト結晶粉末を得るガラス結晶化法などを挙げることができる。
【００３６】
強磁性層の平均表面粗さ（Ｒａ）は２．５ｎｍ以下が好ましく、１．０〜２．３ｎｍがより好ましい。上記平均表面粗さであれば、強磁性層と磁気ヘッドとのコンタクトが良くなり、高い再生出力が得られる。なお、平均表面粗さは、ＺＹＧＯ社製の汎用三次元表面構造解析装置「ＮｅｗＶｉｅｗ５０００」で、走査型白色光干渉法によりＳｃａｎ  Ｌｅｎｇｔｈ５μｍ、測定視野３５０μｍ×２６０μｍで強磁性層の表面を測定したときの値である。
【００３７】
本実施の形態において、強磁性層及び軟磁性層に使用される結合剤としては、例えば、塩化ビニル系樹脂、ニトロセルロース系樹脂、エポキシ系樹脂及びポリウレタン系樹脂からなる群から選ばれる少なくとも１種が挙げられる。塩化ビニル系樹脂としては、具体的には、塩化ビニル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合樹脂、塩化ビニル−ビニルアルコール共重合樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合樹脂、塩化ビニル−水酸基含有アルキルアクリレート共重合樹脂などが挙げられる。これらの中でも、塩化ビニル系樹脂とポリウレタン系樹脂との併用が好ましく、塩化ビニル−水酸基含有アルキルアクリレート共重合樹脂とポリウレタン系樹脂との併用がより好ましい。また、これらの結合剤は、粉末の分散性を向上し、充填性を上げるために、官能基を有するものが好ましい。このような官能基としては、具体的には、例えば、ＣＯＯＭ、ＳＯ３Ｍ、ＯＳＯ３Ｍ、Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）３、Ｏ−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）２（Ｍは水素原子、アルカリ金属塩またはアミン塩）、ＯＨ、ＮＲ１Ｒ２、ＮＲ３Ｒ４Ｒ５（Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４及びＲ５は、水素または炭化水素基であり、通常その炭素数が１〜１０である）、エポキシ基などが挙げられる。２種以上の樹脂を併用する場合、官能基の極性が一致した樹脂を用いることが好ましく、中でも、−ＳＯ３Ｍ基を有する樹脂の組み合わせが好ましい。これらの結合剤は、強磁性粉末あるいは軟磁性粉末１００質量部に対して、７〜５０質量部、好ましくは１０〜３５質量部の範囲で用いられる。特に、塩化ビニル系樹脂５〜３０質量部と、ポリウレタン系樹脂２〜２０質量部との併用が好ましい。
【００３８】
また、上記の結合剤とともに、結合剤中に含まれる官能基等と結合し架橋構造を形成する熱硬化性の架橋剤を併用することが好ましい。架橋剤としては、具体的には、例えば、トリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート等のイソシアネート化合物；イソシアネート化合物とトリメチロールプロパン等の水酸基を複数個有する化合物との反応生成物；イソシアネート化合物の縮合生成物などの各種のポリイソシアネートが挙げられる。架橋剤は、結合剤１００質量部に対して、通常１０〜５０質量部の範囲で用いられる。
【００３９】
強磁性層及び軟磁性層は、導電性と表面潤滑性の向上を目的に、カーボンブラック及び潤滑剤を含有することが好ましい。カーボンブラックとしては、具体的には、例えば、アセチレンブラック、ファーネスブラック、サーマルブラックなどが挙げられる。カーボンブラックの平均粒子径は５〜２００ｎｍが好ましく、１０〜１００ｎｍがより好ましい。強磁性層の場合、カーボンブラックの含有量は、強磁性粉末１００質量部に対して、０．２〜５質量部が好ましく、０．５〜４質量部がより好ましい。軟磁性層の場合、カーボンブラックの含有量は、軟磁性粉末１００質量部に対して、１５〜３５質量部が好ましく、２０〜３０質量部がより好ましい。潤滑剤としては、具体的には、例えば、１０〜３０の炭素数を有する脂肪酸、脂肪酸エステル、脂肪酸アミドなどが挙げられる。これらは単独でまたは複数使用してもよい。強磁性層の場合、潤滑剤の含有量は、強磁性粉末１００質量部に対して、０．２〜３質量部が好ましい。軟磁性層の場合、潤滑剤の含有量は、軟磁性粉末１００質量部に対して、０．７〜７質量部が好ましい。
【００４０】
また、強磁性層及び軟磁性層は、耐久性、走行性を改善するため、アルミナ、シリカ等の非磁性粉末をさらに含有してもよい。非磁性粉末の含有量は、強磁性粉末あるいは軟磁性粉末１００質量部に対して、１〜２０質量部が好ましい。
【００４１】
非磁性支持体としては、従来から使用されている磁気記録媒体用の非磁性支持体を使用できる。例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル類、ポリオレフィン類、セルローストリアセテート、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリスルフオン、アラミド、芳香族ポリアミド等からなる厚さが通常２〜８μｍ、特に２〜７μｍのプラスチックフィルムが好適に用いられる。
【００４２】
強磁性層用塗料及び軟磁性層用塗料の調製にあたっては、従来から磁気記録媒体の製造で使用されている塗料製造方法を使用できる。具体的には、ニーダ等による混練工程と、サンドミル、ピンミル等による一次分散工程との併用が好ましい。特に、高透磁率の軟磁性層を形成するためには、混練工程において、狭ギャップの混練装置を用い、混練物に段階的に結合剤を添加することが好ましい。具体的には、第１段階として、混練装置に軟磁性粉末を投入し、これに最終組成における結合剤の一部を含有する結合剤溶液を添加して軟磁性粉末を湿潤させ、固形分濃度が５０〜７０質量％の範囲で混練物を混練してペーストを調製する。その後、混練装置の加温あるいは減圧によりペーストの固形分濃度を７０〜９０質量％まで上げながら、混練を継続する。固形分濃度が上記範囲まで上がった時点で、第２段階として、混練物に次の結合剤溶液を投入し、第１段階と同様の混練を行う。このプロセスを繰り返すことにより、高透磁率を有する軟磁性層を形成することができる。このような混練工程に用いられる装置としては、具体的には、例えば、モリヤマ社製の加圧ニーダ、トーシン社製の加圧ニーダなどが挙げられる。
【００４３】
また、非磁性支持体上に、強磁性層用塗料及び軟磁性層用塗料を塗布するにあたっては、グラビア塗布、ロール塗布、ブレード塗布、エクストルージヨン塗布等の従来から磁気記録媒体の製造で使用されている塗布方法を使用できる。強磁性層用塗料及び軟磁性層用塗料の塗布は、逐次重層塗布方法、同時重層塗布方法（ウェットオンウェット法）のいずれを使用してもよい。
【００４４】
また、上記の塗布工程においては、塗料が未乾燥の状態で長手方向に磁界を印加して、強磁性層の磁化容易軸が実質的に長手方向になるように配向処理が行なわれる。この配向処理では、ソレノイド磁石、永久磁石等を使用することができる。磁界の強さは、強磁性層の表面粗さの劣化を抑えるため、０．０５〜１Ｔが好ましい。
【００４５】
本実施の形態の磁気記録媒体は、表面性の向上や、塗料粘度、テープ剛性等の制御を目的として、非磁性支持体と軟磁性層との間に、非磁性粉末及び結合剤を含有する非磁性層をさらに有してもよい。非磁性層の厚さは、０．１〜３．０μｍが好ましく、０．１５〜２．５μｍがより好ましい。非磁性粉末としては、具体的には、例えば、酸化チタン、酸化鉄、酸化アルミニウム等の非磁性粉末を使用することができる。これらは単独でまたは複数混合して用いてもよい。また、導電性を付与するため、アセチレンブラック、ファーネスブラック、サーマルブラック等のカーボンブラックを用いてもよい。結合剤としては、強磁性層に用いられる結合剤と同様の結合剤を用いることができる。結合剤の含有量は、非磁性粉末１００質量部に対して、７〜５０質量部が好ましく、１０〜３５質量部がより好ましい。非磁性層は、軟磁性層及び強磁性層と同時に塗布してもよいし、非磁性層及び軟磁性層を逐次または同時に形成した後に、強磁性層を軟磁性層上に逐次に塗布してもよい。
【００４６】
本実施の形態の磁気記録媒体は、バックコート層をさらに有してもよい。バックコート層の厚さは、０．２〜０．８μｍが好ましく、０．３〜０．８μｍがより好ましい。バックコート層は、アセチレンブラック、ファーネスブラック、サーマルブラックなどのカーボンブラックを含有することが好ましい。バックコート層の結合剤としては、強磁性層の結合剤と同様の結合剤を用いることができる。中でも、摩擦係数を低減し走行性を向上するため、セルロース系樹脂とポリウレタン系樹脂とを併用することが好ましい。結合剤の含有量は、粉末１００質量部に対して、４０〜１５０質量部が好ましく、５０〜１２０質量部がより好ましい。バックコート層は、軟磁性層及び強磁性層が形成される前に形成されてもよいし、軟磁性層及び強磁性層が形成された後に形成されてもよい。
【００４７】
本実施の形態の磁気記録媒体に信号を記録するための記録ヘッドとしては、ヘッド磁性体の飽和磁束密度が０．８〜１．２Ｔと比較的低いＣｏアモルファスのような材料を使い、書き込みギャップが０．３〜０．９μｍと広くなる磁気ヘッドを使用することができる。このような磁気ヘッドを使用する場合でも、本実施の形態の磁気記録媒体であれば、高保磁力の強磁性層の特性が十分に発揮されるとともに、書き込み信号のバラツキを抑えることができ、ノイズを低減することができる。
【００４８】
以下に、実施例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものでない。なお、以下において、「部」とあるのは「質量部」を意味する。
【実施例】
【００４９】
［実施例１］
（非磁性層用塗料の調製）
下記表１の非磁性層用塗料成分をニーダで混練したのち、サンドミルで分散処理（滞留時間：６０分）を行い、これにポリイソシアネート６部を加え、撹拌し、ろ過して、非磁性層用塗料を調製した。
【００５０】
【表１】
2010205332.tif 000002
【００５１】
（軟磁性層用塗料の調製）
Ｆｅ−Ｃｏ系軟磁性粉末（Ａｌ含有，Ａｌ／（Ｆｅ＋Ｃｏ）：１３原子％，Ｃｏ／Ｆｅ：４３原子％，粒径：９ｎｍ，飽和磁化：１８０Ａｍ２／ｋｇ，保磁力：８ｋＡ／ｍ，形状：略球状）８５部をニーダに投入し、これに第１段階として、下記表２に示す結合剤溶液（１）を添加して、混練した後（固形分濃度：６４質量％）、加温により固形分濃度を７５質量％に増加させた。次に、固形分濃度が７５質量％になった時点で、第２段階として、下記表３の結合剤溶液（２）を投入し、混練した後（固形分濃度：５５質量％）、加温により固形分濃度を７５質量％に増加させた。更に、固形分濃度が７５質量％になった時点で、第３段階として、下記表４の結合剤溶液（３）を投入し混練を行った。得られた混練物をサンドミルで分散処理（滞留時間：６０分）を行い、これに下記表５の配合溶液を加え、撹拌し、ろ過して、軟磁性層用塗料を調製した。
【００５２】
【表２】
2010205332.tif 000003
【００５３】
【表３】
2010205332.tif 000004
【００５４】
【表４】
2010205332.tif 000005
【００５５】
【表５】
2010205332.tif 000006
【００５６】
（強磁性層用塗料の調製）
下記表６の強磁性層用塗料成分（１）をニーダで混練したのち、混練物をサンドミルで分散処理（滞留時間：６０分）を行い、これに下記表７の強磁性層用塗料成分（２）を加え、撹拌し、ろ過して、強磁性層用塗料を調製した。
【００５７】
【表６】
2010205332.tif 000007
【００５８】
【表７】
2010205332.tif 000008
【００５９】
（塗布・配向処理）
ポリエチレンテレフタレートフィルム（厚さ：６μｍ）の非磁性支持体上に、上記の非磁性層用塗料及び軟磁性層用塗料を、乾燥及びカレンダ処理後の非磁性層及び軟磁性層の厚さがそれぞれ、１０００ｎｍ及び９０ｎｍとなるように同時重層塗布した。得られた原反を、５段カレンダ（温度：７０℃、線圧：１５０ｋｇ／ｃｍ）で鏡面化処理し、これをシートコアに巻いた状態で、６０℃，４０％ＲＨ下、４８時間エージングした。この原反上に、強磁性層用塗料を、乾燥及びカレンダ処理後の強磁性層の厚さが４０ｎｍとなるように塗布した。なお、強磁性層用塗料の塗布時に、同極を対向させた一対の永久磁石及びソレノイド磁石を用いて長手配向処理を行った（配向磁界：０．８Ｔ）。
【００６０】
（バックコート層の作製）
下記表８のバックコート層用塗料成分を、サンドミルで分散処理（滞留時間：４５分）を行い、これにポリイソシアネート８．５部を加え、撹拌し、ろ過して、バックコート層用塗料を調製した。
【００６１】
【表８】
2010205332.tif 000009
【００６２】
上記のバックコート層用塗料を、非磁性支持体の磁性層が形成された面の反対面に、乾燥及びカレンダ処理後の厚さが７００ｎｍとなるように塗布した。
【００６３】
（カレンダ及び裁断処理）
上記のように非磁性支持体の片面に非磁性層、軟磁性層、及び強磁性層を、他面にバックコート層を形成した磁気シートを、５段カレンダ（温度：７０℃、線圧：１５０ｋｇ／ｃｍ）で鏡面化処理し、これをシートコアに巻いた状態で、６０℃，４０％ＲＨ下、４８時間エージングした。その後、磁気シートを１／２インチ幅に裁断し、磁気テープを作製した。
【００６４】
［実施例２］
実施例１の軟磁性層用塗料の調製において、軟磁性粉末として、Ｍｎ−Ｚｎフェライト系軟磁性粉末（粒径：４０ｎｍ，飽和磁化：３０Ａｍ２／ｋｇ，保磁力：８ｋＡ／ｍ，形状：略球状）を用い、塗布・配向処理において、軟磁性層の厚さを５２０ｎｍとした以外は、実施例１と同様にして磁気テープを作製した。
【００６５】
［実施例３］
実施例１の軟磁性層用塗料の調製において、軟磁性粉末として、マグネタイト軟磁性粉末（粒径：９ｎｍ，飽和磁化：４５Ａｍ２／ｋｇ，保磁力：８ｋＡ／ｍ，形状：略球状）を用い、塗布・配向処理において、軟磁性層の厚さを３５０ｎｍとした以外は、実施例１と同様にして磁気テープを作製した。
【００６６】
［実施例４］
実施例１の軟磁性層用塗料の調製において、軟磁性粉末として、Ｆｅ系軟磁性粉末（粒径：１２ｎｍ，飽和磁化：１２５Ａｍ２／ｋｇ，保磁力：８ｋＡ／ｍ，形状：略球状）を用い、塗布・配向処理において、軟磁性層の厚さを１３０ｎｍとした以外は、実施例１と同様にして磁気テープを作製した。
【００６７】
［実施例５］
実施例１の軟磁性層用塗料の調製において、軟磁性粉末として、マグネタイト軟磁性粉末（粒径：９ｎｍ，飽和磁化：４５Ａｍ２／ｋｇ，保磁力：８ｋＡ／ｍ，形状：略球状）を用い、塗布・配向処理において、軟磁性層の厚さを１２００ｎｍ、強磁性層の厚さを１４５ｎｍとした以外は、実施例１と同様にして磁気テープを作製した。
【００６８】
［実施例６］
実施例１の軟磁性層用塗料の調製において、軟磁性粉末として、マグネタイト軟磁性粉末（粒径：９ｎｍ，飽和磁化：４５Ａｍ２／ｋｇ，保磁力：８ｋＡ／ｍ，形状：略球状）を用い、塗布・配向処理において、軟磁性層の厚さを１７０ｎｍ、強磁性層の厚さを２０ｎｍとした以外は、実施例１と同様にして磁気テープを作製した。
【００６９】
［実施例７］
実施例１の軟磁性層用塗料の調製において、軟磁性粉末として、マグネタイト軟磁性粉末（粒径：９ｎｍ，飽和磁化：４５Ａｍ２／ｋｇ，保磁力：８ｋＡ／ｍ，形状：略球状）を用い、強磁性層用塗料の調製において、強磁性粉末として、窒化鉄系磁性粉末（Ｙ及びＡｌ含有，主相：Ｆｅ１６Ｎ２相，粒径：１７ｎｍ，飽和磁化：１１０Ａｍ２／ｋｇ，保磁力：３００ｋＡ／ｍ，形状：略球状）を用い、塗布・配向処理において、軟磁性層の厚さを３５０ｎｍとした以外は、実施例１と同様にして磁気テープを作製した。
【００７０】
［実施例８］
実施例１の軟磁性層用塗料の調製において、軟磁性粉末として、マグネタイト軟磁性粉末（粒径：９ｎｍ，飽和磁化：４５Ａｍ２／ｋｇ，保磁力：８ｋＡ／ｍ，形状：略球状）を用い、強磁性層用塗料の調製において、強磁性粉末として、バリウムフェライト磁性粉末（粒径：２２ｎｍ，飽和磁化：３９Ａｍ２／ｋｇ，保磁力：１４４ｋＡ／ｍ，形状：板状）を用い、塗布・配向処理において、軟磁性層の厚さを３５０ｎｍとした以外は、実施例１と同様にして磁気テープを作製した。
【００７１】
［実施例９］
実施例１の塗布・配向処理において、軟磁性層の厚さを４０ｎｍとした以外は、実施例３と同様にして磁気テープを作製した。
【００７２】
［実施例１０］
実施例１の軟磁性層用塗料の調製において、各段階における加温による混練物の固形分濃度を７０質量％とした以外は、実施例１と同様にして磁気テープを作製した。
【００７３】
［実施例１１］
実施例１の軟磁性層用塗料の調製において、各段階における加温による混練物の固形分濃度を８０質量％とした以外は、実施例１と同様にして磁気テープを作製した。
【００７４】
［実施例１２］
実施例１の軟磁性層用塗料の調製において、軟磁性粉末として、マグネタイト軟磁性粉末（粒径：２５ｎｍ，飽和磁化：６０ｍ２／ｋｇ，保磁力：６ｋＡ／ｍ，形状：略球状）を用い、塗布・配向処理において、軟磁性層の厚さを２６０ｎｍとした以外は、実施例１と同様にして磁気テープを作製した。
【００７５】
［比較例１］
実施例１の軟磁性層用塗料の調製において、軟磁性粉末として、マグネタイト軟磁性粉末（粒径：９ｎｍ，飽和磁化：４５Ａｍ２／ｋｇ，保磁力：８ｋＡ／ｍ，形状：略球状）を用い、強磁性層用塗料の調製において、強磁性粉末として、窒化鉄系磁性粉末（Ｙ及びＡｌ含有，主相：Ｆｅ１６Ｎ２相，粒径：１７ｎｍ，飽和磁化：１１０Ａｍ２／ｋｇ，保磁力：１８０ｋＡ／ｍ，形状：略球状）を用い、塗布・配向処理において、軟磁性層の厚さを３５０ｎｍとした以外は、実施例１と同様にして磁気テープを作製した。
【００７６】
［比較例２］
実施例１の軟磁性層用塗料の調製において、軟磁性粉末として、マグネタイト軟磁性粉末（粒径：９ｎｍ，飽和磁化：４５Ａｍ２／ｋｇ，保磁力：８ｋＡ／ｍ，形状：略球状）を用い、塗布・配向処理において、軟磁性層の厚さを１４００ｎｍとし、強磁性層の厚さを１６５ｎｍとした以外は、実施例１と同様にして磁気テープを作製した。
【００７７】
［比較例３］
実施例１の塗布・配向処理において、軟磁性層を形成せず、非磁性層上に直接強磁性層を形成した以外は、実施例１と同様にして磁気テープを作製した。
【００７８】
［比較例４］
実施例１の強磁性層用塗料の調製において、強磁性粉末として、窒化鉄系磁性粉末（Ｙ及びＡｌ含有，主相：Ｆｅ１６Ｎ２相，粒径：１７ｎｍ，飽和磁化：１１０Ａｍ２／ｋｇ，保磁力：３００ｋＡ／ｍ，形状：略球状）を用い、塗布・配向処理において、軟磁性層を形成せず、非磁性層上に直接強磁性層を形成した以外は、実施例１と同様にして磁気テープを作製した。
【００７９】
［比較例５］
実施例１の塗布・配向処理において、軟磁性層の厚さを１２０ｎｍとした以外は、実施例１と同様にして磁気テープを作製した。
【００８０】
［比較例６］
実施例１の塗布・配向処理において、軟磁性層の厚さを２０ｎｍとした以外は、実施例１と同様にして磁気テープを作製した。
【００８１】
［比較例７］
実施例１の軟磁性層用塗料の調製において、各段階における加温による混練物の固形分濃度を６５質量％とした以外は、実施例１と同様にして磁気テープを作製した。
【００８２】
上記のようにして作製した実施例及び比較例の各磁気テープについて強磁性層の飽和磁化、長手方向の角型、及び長手方向の飽和磁化膜厚積（Ｍｓｔｕ）と、軟磁性層の透磁率、及び長手方向の飽和磁化膜厚積（Ｍｓｔｓ）とを測定した。また、これらの各磁気テープについて、以下の電磁変換特性、及び磁気クラスタサイズを測定した。表９はこれらの結果を示す。
【００８３】
＜電磁変換特性＞
電磁変換特性の評価には、記録ヘッドとしてＭＩＧ（Ｍｅｔａｌ−Ｉｎ−Ｇａｐ）ヘッド（トラック幅：１２μｍ，ギャップ長：０．５μｍ，Ｂｓ：１．０Ｔ）と、再生ヘッドとしてスピンバルブタイプのＧＭＲヘッド（トラック幅：２．５μｍ，ＳＨ−ＳＨ幅：０．１５μｍ）とが装着されたドラムテスターを用いた。このドラムテスターの回転ドラムに磁気テープを巻きつけ、３．４ｍ／ｓの相対速度で磁気テープを走行させながら、スペクトルアナライザを使用して１６９ｋｆｃｉの記録密度における再生出力（Ｓ）、ブロードバンドノイズ（Ｎ）、及びＳＮＲを測定した。なお、再生出力、ノイズ、及びＳＮＲは比較例３のそれらを基準（０ｄＢ）とした相対値で評価した。
【００８４】
＜磁気クラスタサイズ＞
電磁変換特性の評価と同様のドラムテスターを用い、磁気テープに記録波長λが１０μｍの信号を書き込んだ。書き込んだ信号の磁化遷移部分２０点の漏れ磁界像を磁気力顕微鏡（デジタルインスツルメント社製，Ｎａｎｏ  Ｓｃｏｐｅ  III）を用い、周波数検出法により観察した。観察されたそれぞれの磁化遷移部分の強度を数値化し、中心線に対する標準偏差を求め、これの２０点平均を磁気クラスタサイズとした。なお、測定プローブには、コバルトアロイコートを有するプローブ（先端曲率半径：２５〜４０ｎｍ，保磁力：約４００Ｏｅ，磁気モーメント：約１×１０−１３ｅｍｕ）を用い、走査範囲は５μｍ四方、走査速度は５μｍ／ｓｅｃとした。
【００８５】
【表９】
2010205332.tif 000010
【００８６】
上記表に示すように、厚さが２０〜１４５ｎｍで、保磁力が２５５〜３１８ｋＡ／ｍの強磁性層の下に、透磁率が１１〜４８で、軟磁性層の飽和磁化膜厚積（Ｍｓｔｓ）と強磁性層の飽和磁化膜厚積（Ｍｓｔｕ）との比（Ｍｓｔｓ／Ｍｓｔｕ）が２．４〜４．９となる軟磁性層を形成することにより、記録時の強磁性層に形成される磁気クラスタサイズを低減できることが分かる。このため、これら実施例の磁気テープは比較例の磁気テープに比べて高出力であるとともに、ノイズが低減されていることが分かる。特に、Ａｌを含有するＦｅ−Ｃｏ系軟磁性粉末を用いて形成された軟磁性層は厚みが薄くても、ノイズが極めて低減されることが分かる。
【００８７】
これに対して、軟磁性層を形成しなかった比較例の磁気テープでは、記録時に大きな磁気クラスタが形成されることが分かる。これは高保磁力化により、強磁性粉末の磁気的な相互作用が大きくなるためと考えられる。また、これらの磁気テープは強磁性層の保磁力を高くしても、出力が向上しないことが分かる。これは、下層に高透磁率を有する軟磁性層が形成されていないため、記録磁界が印加されたときに、磁界が通りにくく、そのため強磁性層が十分磁化されないためと考えられる。このため、ＳＮＲが低下する。また、軟磁性層を形成しても、軟磁性層の透磁率が低すぎたり、Ｍｓｔｓ／Ｍｓｔｕの比が小さすぎるあるいは大きすぎる場合、磁気クラスタサイズの低減効果が少なく、ノイズが十分に低減されないことが分かる。なお、強磁性層の保磁力が低すぎるあるいは強磁性層の膜厚が厚すぎる場合、出力が顕著に低下し、高ＳＮＲが得られなかった。