(57)【要約】      （修正有）【課題】クラックの発生が抑制され、フィルミングの発生がない電子写真方式の画像形成装置に使用する高耐久性の中間転写体を提供する。【解決手段】電子写真感光体の表面に担持されたトナー像を中間転写体７０に一次転写した後、該中間転写体から該トナー像を転写材に二次転写する手段を有する画像形成装置に用いる中間転写体において、基材ユニット７０ａ上に、大気圧プラズマＣＶＤ法により形成された少なくとも１層の無機化合物層７０ｄを有し、該基材ユニットは、基材上に少なくとも１層の弾性層７０ｂを有し、該基材ユニット表面の表面粗さをＲｚ１とし、該無機化合物層表面の表面粗さをＲｚ２としたとき、Ｒｚ２／Ｒｚ１が、０．９以上、５．０以下であることを特徴とする中間転写体。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子写真感光体の表面に担持されたトナー像を中間転写体に一次転写した後、該中間転写体から該トナー像を転写材に二次転写する手段を有する画像形成装置に用いる中間転写体において、基材ユニット上に、大気圧プラズマＣＶＤ法により形成された少なくとも１層の無機化合物層を有し、該基材ユニットは、基材上に少なくとも１層の弾性層を有し、該基材ユニット表面の表面粗さをＲｚ１とし、最表面に位置する該無機化合物層表面の表面粗さをＲｚ２としたとき、Ｒｚ２／Ｒｚ１が、０．９以上、５．０以下であることを特徴とする中間転写体。
【請求項２】
前記Ｒｚ２／Ｒｚ１が、１．０以上、３．５以下であることを特徴とする請求項１に記載の中間転写体。
【請求項３】
前記基材ユニットが、更に樹脂層を有することを特徴とする請求項１または２に記載の中間転写体。
【請求項４】
原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）を用い、１０μｍ□の条件で測定した前記基材ユニット表面の表面粗さＲｚ１が、５０ｎｍ以上、５００ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の中間転写体。
【請求項５】
前記無機化合物層が２層以上から構成され、最表層の無機化合物層の表面硬度が８．０ＧＰａ以下で、膜厚が５ｎｍ以上、２００ｎｍ以下であり、かつ最表層を除く無機化合物層の表面硬度が１．０ＧＰａ以下で、膜厚が１００ｎｍ以上、１０００ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の中間転写体。
【請求項６】
前記無機化合物層が、金属酸化物、金属窒化物及び金属酸化窒化物から選ばれる少なくとも１種から形成されていることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の中間転写体。
【請求項７】
前記無機化合物層が、Ａｌ、Ｓｉ及びＴｉから選ばれる少なくとも１種の金属酸化物、金属窒化物もしくは金属酸化窒化物から形成されていることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の中間転写体。
【請求項８】
前記無機化合物層が無機化合物から構成され、該無機化合物が酸化珪素または炭素を含有する酸化珪素であることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の中間転写体。
【請求項９】
前記２層以上で構成される無機化合物層は、下層の無機化合物層の炭素含有率が、隣接する上層の該無機化合物層の炭素含有率よりも高いことを特徴とする請求項５〜８のいずれか１項に記載の中間転写体。
【請求項１０】
前記弾性層が、クロロプレンゴム、ニトリルゴム、スチレン−ブタジエンゴム、シリコーンゴム、ウレタンゴム及びエチレン−プロピレン共重合体から選ばれる少なくとも１種から形成された層であることを特徴とする請求項１〜９のいずれか１項に記載の中間転写体。
【請求項１１】
前記基材が、ポリイミド、ポリカーボネート、ポリフェニレンサルファイド及びポリエチレンテレフタレートから選ばれる少なくとも１種であることを特徴とする請求項１〜１０のいずれか１項に記載の中間転写体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子写真方式の画像形成装置に使用する中間転写体に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
複写機、レーザープリンタなどの画像形成装置における画像形成方法として、感光ドラム上に小径トナーを用い形成されたトナー画像を、中間転写体へ一次転写後、中間転写体から転写材（例えば紙）へ二次転写する転写方式が知られている。
【０００３】
又、近年ではカラー化が進められており、特にカラー画像形成装置では、イエロー、マゼンタ、シアン、ブラックの４色のトナーを使用し、感光体に形成された各トナー画像を中間転写体へ一次転写し形成させた４色のトナー画像を、４色同時に転写材（例えば紙）へ二次転写するため、高画質化、高速化が求められている。中間転写体としては、基材に無端のベルトを使用した中間転写体ベルト及び、基材に金属ロールを使用した中間転写体ロールが知られている。
【０００４】
転写方式の場合、中間転写体は高画質化、高速化を達成するための代表的な項目として以下に示す項目が知られている。
【０００５】
１）中間転写体の表面に感光体から転写されて形成されたトナー画像の転写材への高転写率が要求されている。
【０００６】
転写率とは、中間転写体の表面に形成されたトナー画像の転写材への割合を言う。転写率が低いと転写材へ転写された画像に抜けが生じ、濃度ムラが発生し高画質化が出来ない。
【０００７】
２）中間転写体の高耐久性が要求されている。
【０００８】
耐久性とは、長時間の転写材への転写が可能となる性能を言う。中間転写体の表面は転写材（例えば、紙等）へ二次転写した後、残存するトナーを除去するためクリーニングブレードで擦りクリーニングされるのである、クリーニングブレードとの接触で表面の平滑性がなくなり、ヒビ割れが発生し感光体からの安定したトナー画像の転写が出来なくなる。又、中間転写体が無端のベルトの場合は、引き回しでクラック（ヒビ割れ）が発生する。
【０００９】
３）フィルミングが発生しないことが要求されている。
【００１０】
フィルミングとは、転写材（例えば紙）へ二次転写した後、中間転写体の表面をクリーニングブレードでクリーニングを行うのであるが、除去されずに残るトナーが徐々に集積される現象を言う。トナーが残る原因としては、中間転写体の表面に発生したクラックにトナーが入り込む、クリーニングブレードとの接触等で表面に出来た凹部に溜まったトナーが残る。フィルミングが発生した場所では転写率が低下し、画像スジやムラが発生し高画質化が出来ない。更に、省エネルギーという観点から、近年、低温定着トナーが用いられるようになってきた。低温定着トナーはガラス転移点が低いことからよりフィルミングが発生し易く、フィルミング発生が大きな問題となってきている。フィルミングが発生した場所では転写率が低下し、画像スジやムラが発生し問題となる。
【００１１】
４）ブリードが発生しないことが要求されている。
【００１２】
ブリードとは、中間転写体を構成している下層に含まれている親油性分（例えば、可塑剤等）が表面層に浸み出してくる現象を言う。中間転写体の表面に親油性分が浸み出した場合、中間転写体と接触している感光体へ親油性分が転写し、感光体のトナー像形成に影響が出る。又、中間転写体にクラック発生した場合は、クラックに沿って親油性分が浸み出してくる。
【００１３】
中間転写体は感光体から感光体の表面に形成されているトナー画像を中間転写体表面に転写される時及び、中間転写体表面に形成されているトナー画像を転写材（例えば紙）へ転写する時の転写率を上げ、トナー画像を均一に転写するためトナー画像への集中荷重が掛けられることで発生する像抜けを防止するため、集中荷重防止策が採られている。集中荷重防止策は、クリーニングブレードによるクリーニング時の中間転写体表面への応力分散、中間転写ベルトの引き回し時に中間転写ベルトに掛かる応力分散にも効果を示すとされている。
【００１４】
集中荷重防止策としては、例えば中間転写体ベルトの場合は基材に弾性体を使用したり、基材の上に弾性層を設けたりする方法、中間転写体ロールの場合は基材の上に弾性層を設ける方法が知られている。
【００１５】
中間転写体への１）〜４）の要求に対してこれまでに多くの検討が成されて来た。
【００１６】
例えば、ブリードの発生防止、高耐久性、高品質の画像形成のため、ベルト基材に弾性材であるクロロプレンゴム（ＣＲ）とエチレン−プロピレンゴムに第３成分としてジエン系モノマーを添加したＥＰＤＭ（Ｅｔｈｙｌｅｎｅ  Ｐｒｏｐｙｌｅｎｅ  Ｄｉｅｎｅ  Ｍｏｎｏｍｅｒ）を使用し、表層にダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）膜を形成した中間転写体が知られている（例えば、特許文献１参照。）。
【００１７】
特許文献１の中間転写体は、確かに短時間の間ではブリードの発生防止、高耐久性、高品質の画像形成には効果を示すが、特許文献１の中間転写体が中間転写体ベルトの場合では、表層が硬いため基材との間に中間層を設けても長時間（例えば、３０万枚コピー）使用した場合、表層にクラックが発生し、発生したクラックが原因でフィルミング、ブリードが発生し高品質の画像形成が出来ないことが判った。
【００１８】
基材としてポリアミド系樹脂を使用し、その上に弾性層／酸化ケイ素を設けてトナー離型性を向上させる中間転写ベルトが知られている（例えば、特許文献２参照。）。
【００１９】
特許文献２の中間転写ベルトは、表面層を酸化ケイ素層で構成することで、中間転写ベルトから転写材へのトナー画像の転写率はよいが、表層が硬いため長時間使用した場合、表層にクラックが発生し、発生したクラックが原因でフィルミング、ブリードが発生し高品質の画像形成が出来ないことが判った。
【００２０】
この様な状況から、長時間の使用で、クラックの発生、クリーニングブレードによる表面の劣化がなく、フィルミングの発生がない高転写効率、高耐久性の電子写真方式の画像形成装置に使用する中間転写体高耐久性を有する中間転写体を開発することが望まれている。
【特許文献１】特開２００６−２５９５８１号公報
【特許文献２】特開２００１−３４７５９３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００２１】
本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、その目的は、クラックの発生が抑制され、フィルミングの発生がない電子写真方式の画像形成装置に使用する高耐久性の中間転写体を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００２２】
本発明の上記目的は、以下の構成により達成される。
【００２３】
１．電子写真感光体の表面に担持されたトナー像を中間転写体に一次転写した後、該中間転写体から該トナー像を転写材に二次転写する手段を有する画像形成装置に用いる中間転写体において、基材ユニット上に、大気圧プラズマＣＶＤ法により形成された少なくとも１層の無機化合物層を有し、該基材ユニットは、基材上に少なくとも１層の弾性層を有し、該基材ユニット表面の表面粗さをＲｚ１とし、最表面に位置する該無機化合物層表面の表面粗さをＲｚ２としたとき、Ｒｚ２／Ｒｚ１が、０．９以上、５．０以下であることを特徴とする中間転写体。
【００２４】
２．前記Ｒｚ２／Ｒｚ１が、１．０以上、３．５以下であることを特徴とする前記１に記載の中間転写体。
【００２５】
３．前記基材ユニットが、更に樹脂層を有することを特徴とする前記１または２に記載の中間転写体。
【００２６】
４．原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）を用い、１０μｍ□の条件で測定した前記基材ユニット表面の表面粗さＲｚ１が、５０ｎｍ以上、５００ｎｍ以下であることを特徴とする前記１〜３のいずれか１項に記載の中間転写体。
【００２７】
５．前記無機化合物層が２層以上から構成され、最表層の無機化合物層の表面硬度が８．０ＧＰａ以下で、膜厚が５ｎｍ以上、２００ｎｍ以下であり、かつ最表層を除く無機化合物層の表面硬度が１．０ＧＰａ以下で、膜厚が１００ｎｍ以上、１０００ｎｍ以下であることを特徴とする前記１〜４のいずれか１項に記載の中間転写体。
【００２８】
６．前記無機化合物層が、金属酸化物、金属窒化物及び金属酸化窒化物から選ばれる少なくとも１種から形成されていることを特徴とする前記１〜５のいずれか１項に記載の中間転写体。
【００２９】
７．前記無機化合物層が、Ａｌ、Ｓｉ及びＴｉから選ばれる少なくとも１種の金属酸化物、金属窒化物もしくは金属酸化窒化物から形成されていることを特徴とする前記１〜６のいずれか１項に記載の中間転写体。
【００３０】
８．前記無機化合物層が無機化合物から構成され、該無機化合物が酸化珪素または炭素を含有する酸化珪素であることを特徴とする前記１〜７のいずれか１項に記載の中間転写体。
【００３１】
９．前記２層以上で構成される無機化合物層は、下層の無機化合物層の炭素含有率が、隣接する上層の該無機化合物層の炭素含有率よりも高いことを特徴とする前記５〜８のいずれか１項に記載の中間転写体。
【００３２】
１０．前記弾性層が、クロロプレンゴム、ニトリルゴム、スチレン−ブタジエンゴム、シリコーンゴム、ウレタンゴム及びエチレン−プロピレン共重合体から選ばれる少なくとも１種から形成された層であることを特徴とする前記１〜９のいずれか１項に記載の中間転写体。
【００３３】
１１．前記基材が、ポリイミド、ポリカーボネート、ポリフェニレンサルファイド及びポリエチレンテレフタレートから選ばれる少なくとも１種であることを特徴とする前記１〜１０のいずれか１項に記載の中間転写体。
【００３４】
本発明者は、高転写率性を有する無機化合物層を表面層に有する中間転写体を使いこなすために検討した結果、以下のことが判明した。高転写率性を有する無機化合物層を表面層に有する中間転写体を使用し、長時間する時に発生するフィルミング、ブリード等は、何れも無機化合物層に発生するクラックによるものであると推定した。
【００３５】
クラックが何故発生するのか更に検討した結果、中間転写ロールの場合は転写後のクリーニングブレードの押圧による応力集中、又中間転写ベルトの場合はクリーニングブレードの押圧による応力集中と引き回しによる圧縮・延ばしによる応力集中に起因してクラックが発生することが判明した。
【００３６】
本発明者は、耐久性（クラック耐性）を向上させるための具体的な手段について検討を進めた結果、基材ユニットとそれに密着する無機化合物層との界面領域の表面粗さを比較的粗い状態に設計し、層間の接着界面、接着面積を高めることにより、クラック発生の要因とされている界面応力集中を緩和し、クラックの発生を抑制できた。
【００３７】
一般的には、表面の凹凸状態（表面粗さ）を粗くすると、クリーニング性能は劣化するといわれているが、本願発明では、フィルミング耐性とクリーニング性能の最適条件について精査検討を進めた結果、フィルミング耐性に影響を及ぼす基材ユニットと無機化合物層との界面領域の表面粗さ（言い換えると、基材ユニット表面の表面粗さＲｚ１）と、中間転写体表面の表面粗さ（言い換えると、最表面に位置する無機化合物層表面の表面粗さＲｚ２）との比Ｒｚ２／Ｒｚ１を特定の範囲に規定することにより、フィルミング耐性とクリーニング性能の両立を図ることができ、本願発明の目的効果を達成できることを見出し、本発明にいった次第である。
【発明の効果】
【００３８】
本発明により、クラックの発生が抑制され、フィルミングの発生がない電子写真方式の画像形成装置に使用する高耐久性の中間転写体を提供することができた。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３９】
以下、本発明を実施するための最良の形態について詳細に説明する。
【００４０】
はじめに、本発明の中間転写体を組み入れた電子写真方式の画像形成装置について、図を参照しながら説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
【００４１】
図１は、中間転写体として中間転写ベルトを使用した電子写真方式の画像形成装置の一例を示す概略断面構成図である。尚、本図はフルカラー画像形成装置の場合を示している。
【００４２】
図中、１はフルカラー画像形成装置を示す。フルカラー画像形成装置１は、複数組の画像形成ユニット１０Ｙ、１０Ｍ、１０Ｃ、１０Ｋと、転写部としての無端ベルト状中間転写体形成ユニット７と、記録媒体Ｐを搬送する無端ベルト状の給紙搬送手段２１及び定着手段としてのベルト式定着装置２４とを有する。フルカラー画像形成装置１の本体Ａの上部には、原稿画像読み取り装置ＳＣが配置されている。
【００４３】
各感光体１Ｙ、１Ｍ、１Ｃ、１Ｋに形成される異なる色のトナー像の１つとして、イエロー色の画像を形成する画像形成ユニット１０Ｙは、第１の像担持体としてのドラム状の感光体１Ｙ、感光体１Ｙの周囲に配置された帯電手段２Ｙ、露光手段３Ｙ、現像手段４Ｙ、一次転写手段としての一次転写ローラ５Ｙ、クリーニング手段６Ｙを有する。
【００４４】
又、別の異なる色のトナー像の１つとして、マゼンタ色の画像を形成する画像形成ユニット１０Ｍは、第１の像担持体としてのドラム状の感光体１Ｍ、感光体１Ｍの周囲に配置された帯電手段２Ｍ、露光手段３Ｍ、現像手段４Ｍ、一次転写手段としての一次転写ローラ５Ｍ、クリーニング手段６Ｍを有する。
【００４５】
又、更に別の異なる色のトナー像の１つとして、シアン色の画像を形成する画像形成ユニット１０Ｃは、第１の像担持体としてのドラム状の感光体１Ｃ、感光体１Ｃの周囲に配置された帯電手段２Ｃ、露光手段３Ｃ、現像手段４Ｃ、一次転写手段としての一次転写ローラ５Ｃ、クリーニング手段６Ｃを有する。
【００４６】
又、更に他の異なる色のトナー像の１つとして、黒色画像を形成する画像形成ユニット１０Ｋは、第１の像担持体としてのドラム状の感光体１Ｋ、感光体１Ｋの周囲に配置された帯電手段２Ｋ、露光手段３Ｋ、現像手段４Ｋ、一次転写手段としての一次転写ローラ５Ｋ、クリーニング手段６Ｋを有する。
【００４７】
無端ベルト状中間転写体ユニット７は、複数のローラにより巻回され、回動可能に支持された半導電性エンドレスベルト状の第２の像担持体として無端の中間転写ベルト７０を有する。
【００４８】
画像形成ユニット１０Ｙ、１０Ｍ、１０Ｃ、１０Ｋより形成された各色の画像は、一次転写ローラ５Ｙ、５Ｍ、５Ｃ、５Ｋにより、回動する無端の中間転写ベルト７０上に逐次転写されて、合成されたカラー画像が形成される。給紙カセット２０内に収容された記録媒体として用紙等の記録媒体Ｐは、給紙搬送手段２１により給紙され、複数の中間ローラ２２Ａ、２２Ｂ、２２Ｃ、２２Ｄ、レジストローラ２３を経て、二次転写手段としての二次転写ローラ５Ａに搬送され、記録媒体Ｐ上にカラー画像が一括転写される。
【００４９】
カラー画像が転写された記録媒体Ｐは、熱ローラ定着器２７０が装着された定着装置２４により定着処理され、排紙ローラ２５に挟持されて機外の排紙トレイ２６上に載置される。
【００５０】
一方、二次転写ローラ５Ａにより記録媒体Ｐにカラー画像を転写した後、記録媒体Ｐを曲率分離した無端の中間転写ベルト７０は、クリーニング手段６Ａにより残留トナーが除去される。
【００５１】
画像形成処理中、一次転写ローラ５Ｋは常時、感光体１Ｋに圧接している。他の一次転写ローラ５Ｙ、５Ｍ、５Ｃはカラー画像形成時にのみ、それぞれ対応する感光体１Ｙ、１Ｍ、１Ｃに圧接する。
【００５２】
二次転写ローラ５Ａは、ここを記録媒体Ｐが通過して二次転写が行われる時にのみ、無端ベルト状中間転写体７０に圧接する。
【００５３】
又、装置本体Ａから筐体８を支持レール８２Ｌ、８２Ｒを介して引き出し可能にしてある。筐体８は、画像形成ユニット１０Ｙ、１０Ｍ、１０Ｃ、１０Ｋと、無端ベルト状中間転写体形成ユニット７とを有する。
【００５４】
画像形成ユニット１０Ｙ、１０Ｍ、１０Ｃ、１０Ｋは、垂直方向に縦列配置されている。感光体１Ｙ、１Ｍ、１Ｃ、１Ｋの図示左側方には無端ベルト状中間転写体ユニット７が配置されている。無端ベルト状中間転写体ユニット７は、ローラ７１、７２、７３、７４、７６を巻回して回動可能な無端の中間転写ベルト７０、一次転写ローラ５Ｙ、５Ｍ、５Ｃ、５Ｋ及びクリーニング手段６Ａを有している。
【００５５】
筐体８の引き出し操作により、画像形成ユニット１０Ｙ、１０Ｍ、１０Ｃ、１０Ｋと、無端ベルト状中間転写体ユニット７とは、一体となって、本体Ａから引き出される。
【００５６】
この様に感光体１Ｙ、１Ｍ、１Ｃ、１Ｋの外周面上を帯電、露光し外周面上に潜像を形成した後、現像によりトナー像（顕像）を形成し、無端ベルト状の中間転写体７０上で各色のトナー像を重ね合わせ、一括して記録媒体Ｐに転写し、ベルト式定着装置２４で加圧及び加熱により固定して定着する。尚、本発明で像形成時とは潜像形成、トナー像（顕像）を記録媒体Ｐに転写し最終画像を形成することを含む。
【００５７】
トナー像を記録媒体Ｐに転移させた後の感光体１Ｙ、１Ｍ、１Ｃ、１Ｋは、各感光体１Ｙ、１Ｍ、１Ｃ、１Ｋに配設されたクリーニング手段６Ｙ、６Ｍ、６Ｃ、６Ｋで転写時に感光体に残されたトナーを清掃した後、上記の帯電、露光、現像のサイクルに入り、次の像形成が行われる。
【００５８】
上記カラー画像形成装置では、中間転写体をクリーニングするクリーニング手段６Ａのクリーニング部材として、弾性ブレードを用いる。又、各感光体に脂肪酸金属塩を塗布する手段（１１Ｙ、１１Ｍ、１１Ｃ、１１Ｋ）を設けている。尚、脂肪酸金属塩としては、トナーで用いたと同じものを用いることが出来る。
【００５９】
図２は、中間転写体として中間転写ロールを使用した電子写真方式の画像形成装置の一例を示す概略断面構成図である。
【００６０】
１′はフルカラー画像形成装置を示す。フルカラー画像形成装置１′は、現像ユニット２′と、感光体３′と、転写ユニット４′と、定着器５′と、給紙カセット６′とを有している。現像ユニット２′はマゼンタトナーＭを有するマゼンタ現像ユニット２′Ｍと、シアントナーＣを有するシアン現像ユニット２′Ｃと、イエロートナーＹを有するイエロー現像ユニット２′Ｙと、ブラックトナーＫを有するブラック現像ユニット黒２′Ｋとを有し、感光体３′の周囲に配設されている。
【００６１】
感光体３′は矢示の方向に所定の周速度で回転駆動される様に配設されている。感光体３′は回転過程で、感光体３′の周囲に配設された一次帯電器（コロナ放電器）７′により所定の極性・電位に一様に帯電処理され、次いで画像露光手段（不図示）による画像露光８′を受けることにより目的のカラー画像の第１の色成分像、例えばマゼンタ成分像に対応した静電潜像が形成される。次いでその静電潜像がマゼンタ現像ユニット２′Ｍにより第１色であるマゼンタトナーＭにより現像される。
【００６２】
転写ユニット４′は中間転写ローラ４０１′と、中間転写ローラクリーナ４０２と、転写ローラ４０３とを有している。中間転写ローラ４０１′は感光体３′と逆方向（図中の矢印方向）に感光体３′と同じ周速度をもって回転駆動される様になっている。
【００６３】
感光体３′の上に形成担持された上記第１色のマゼンタトナー画像は、感光体３′と中間転写ローラ４０１′とのニップ部Ｎ１（一次転写部）を通過する過程で、電源（不図示）から中間転写ローラ４０１′に印加される一次転写バイアスにより形成される電界により、中間転写ローラ４０１′の外周面に順次中間転写されていく。
【００６４】
中間転写ローラ４０１′に対する第１色のマゼンタトナー画像の転写を終えた感光体３′表面は、感光体３′の周囲に配設されたクリーニング装置（不図示）により清掃される。以下同様に、第２色目のシアントナー画像、第３色目のイエロートナー画像、第４色目のブラックトナー画像が感光体３′に順次に形成され、それらのナトー画像が順次に中間転写ローラ４０１′の上に重畳転写され、中間転写ローラ４０１′の上に第１〜第４色のトナー画像が重ね合わせられ、目的のカラー画像に対応した合成カラートナー画像が形成される。
【００６５】
中間転写ローラ４０１′の上に重畳転写された合成カラートナー画像の、転写材９′への転写（二次転写）は、それまで離間していた転写ローラ４０２′がシフト手段（不図示）により中間転写ローラ４０１′に当接されると共に、給紙カセット６′から転写材９′が給紙ローラ６０１′により１枚分離給送され、レジストローラ６０２′により中間転写ローラ４０１′と転写ローラ４０３′との当接ニップ部Ｎ２（二次転写部）に所定のタイミングで給送され、同時に二次転写バイアスがバイアス電源（不図示）から転写ローラ４０３′に印加される。この二次転写バイアスにより中間転写ローラ４０１′から転写材９′へ合成カラートナー画像が転写される。
【００６６】
合成カラートナー画像が転写された転写材９′は中間転写ローラ４０１′から分離されてガイドで定着器５′へ導入され熱ローラ５０１′と加圧ローラ５０２′により加熱定着される。
【００６７】
転写材９′への合成カラートナー画像が転写終了後、中間転写ローラ４０１′の上の転写残トナーは中間転写ローラ４０１′に対して中間転写ローラクリーナ４０２′がシフト手段（不図示）により当接（図中の矢印方向）されることで除去される。
【００６８】
本発明において中間転写体とは図１に示す無端の中間転写ベルト７０及び図２に示す中間転写ロール４０１′を言い、本発明は図１に示す無端の中間転写ベルト７０及び図２に示す中間転写ロール４０１′に関するものである。
【００６９】
図３は、図１に示す中間転写体の中間転写ベルトの拡大概略断面図である。
【００７０】
図中、７０は中間転写体を示す。本発明の中間転写体においては、基材ユニットが、基材及び弾性層と共に、樹脂層を有することが好ましい態様である。
【００７１】
図３に示す中間転写体は、基材７０ａの上に順次弾性層７０ｂと、樹脂層７０ｃと、無機化合物層７０ｄとを積層した構成を一例として示してある。Ｅは基材７０ａの厚さを示す。厚さＥは、機械的強度、画質、製造コスト等を考慮し、５０μｍ〜１０００μｍが好ましい。Ｆは弾性層の厚さを示す。厚さＦは、５０μｍ〜５００μｍが好ましい。また１００〜３００μが更に好ましい。
【００７２】
〈表面粗さＲｚ（１０点平均高さ）〉
本発明では、基材上に少なくとも１層の弾性層を有する基材ユニット表面の表面粗さをＲｚ１とし、該無機化合物層表面の表面粗さをＲｚ２としたとき、Ｒｚ２／Ｒｚ１が、０．９以上、５．０以下であることを特徴とし、更に好ましくは、Ｒｚ２／Ｒｚ１が、１．０以上、３．５以下である。
【００７３】
また、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）を用い、１０μｍ□の条件で測定した基材ユニット表面の表面粗さＲｚ１としては、５０ｎｍ以上、５００ｎｍ以下であることが好ましい。
【００７４】
基材ユニット表面の基材ユニットが基材及び弾性層のみで構成されている場合には、弾性層表面が基材ユニット表面となり、図３に示すように、更にその上に樹脂層を有する場合には、樹脂層表面が基材ユニット表面となる。
【００７５】
本発明に係る基材ユニット表面の表面粗さＲｚ１及び無機化合物層表面の表面粗さＲｚ２は、原子間力顕微鏡で測定した１０μｍ四方の１０点平均表面粗さＲｚ（ｎｍ）を、本発明においては表面粗さＲｚとして定義する。
【００７６】
本発明でいう１０点平均表面粗さＲｚ（ｎｍ）とは、ＪＩＳ  Ｂ６０１に準じて求めた値であり、微小面積における微小な凹凸状態を表すもので、本発明では、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）で求めた値を用いる。
【００７７】
原子間力顕微鏡（Ａｔｏｍｉｃ  Ｆｏｒｃｅ  Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｙ：ＡＦＭ）は、セイコーインスツルメンツ社製ＳＰＩ３８００ＮプローブステーションおよびＳＰＡ４００多機能型ユニットを使用し、約１ｃｍ角の大きさに切り取った試料を、ピエゾスキャナー上の水平な試料台上にセットし、カンチレバーを試料表面にアプローチし、原子間力が働く領域に達したところで、ＸＹ方向にスキャンし、その際の試料の凹凸をＺ方向のピエゾの変位でとらえる。ピエゾスキャナーは、ＸＹ２０μｍ、Ｚ２μｍが走査可能なものを使用する。カンチレバーは、セイコーインスツルメンツ社製シリコンカンチレバーＳＩ−ＤＦ２０で、共振周波数１２０〜１５０ｋＨｚ、バネ定数１２〜２０Ｎ／ｍのものを用い、ＤＦＭモード（Ｄｙｎａｍｉｃ  Ｆｏｒｃｅ  Ｍｏｄｅ）で測定する。測定領域１０μｍ角を、１（ｏｒ２）視野、走査周波数１Ｈｚで測定する。
【００７８】
上記測定結果において、本発明における十点平均粗さ（Ｒｚ）は、断面曲線から基準長さだけ抜き取り、抜き取り部分を、平均線に平行、且つ断面曲線を横切らない直線から縦倍率の方向に測定した最高から５番目までの山頂の標高の平均値と最深から５番目までの谷底の標高の平均値との差をナノメータ（ｎｍ）で表したものをＲｚという。
【００７９】
〈表面硬度（弾性率）〉
また、本発明の中間転写体においては、無機化合物層が２層以上から構成されている場合、最表層の無機化合物層の表面硬度が８．０ＧＰａ以下であることが好ましい、また、最表層を除く無機化合物層の表面硬度としては１．０ＧＰａ以下であることが好ましい。
【００８０】
本発明に係る無機化合物層の表面硬度は、公知の測定方法により求めることができるが、本発明に係る表面硬度は、ナノインデンテーションによる測定した値を用いる。
【００８１】
ナノインデンテーションとは、試料に対して超微小な荷重で圧子を連続的に負荷、除荷し、得られた荷重−変位曲線から硬さ（Ｈａｒｄｎｅｓｓ、以下、Ｈと略記）や弾性率（Ｒｅｄｕｃｅｄ  Ｍｏｄｕｌｕｓ、以下、Ｅｒと略記）を測定する方法である。
【００８２】
ナノインデンテーションの硬さ（Ｈ）と弾性率（Ｅｒ）の違いについては、試料の直接的な表面の硬さの値が（Ｈ）であり、弾性率（Ｅｒ）は試料の変形度合いを表している。したがって、ナノインデンテーションの硬さ（Ｈ）が表面硬度の指標として適している。
【００８３】
本発明に係る無機化合物層の硬度は、基材Ｅに対してそれぞれ直接弾性層、樹脂層、無機化合物層を積層するときと同じ条件で形成し、ナノインデンテーション法によって測定した値を示す。
【００８４】
ナノインデンテーション法によるヤング率の測定方法は、微小なダイヤモンド圧子を薄膜に押し込みながら荷重と押し込み深さ（変位量）の関係を測定し、測定値から塑性変形硬さを算出する方法である。
【００８５】
測定条件
測定機：ＮＡＮＯ  Ｉｎｄｅｎｔｅｒ  ＸＰ／ＤＣＭ（ＭＴＳ  Ｓｙｓｔｅｍｓ社製）
測定圧子：先端形状が正三角形のダイヤモンドＢｅｒｋｏｖｉｃｈ圧子
測定環境：２０℃、６０％ＲＨ
測定試料：５ｃｍ×５ｃｍの大きさに中間転写体を切断して測定試料を作製
最大荷重設定：２５μＮ
押し込み速度：最大荷重２５μＮに５ｓｅｃで達する速度で、時間に比例して加重を印加する
尚、測定は各試料ともランダムに１０点測定し、その平均値をナノインデンテーション法により測定した表面硬度とする。なお、弾性率も上記と同様の方法で求めることができる。
【００８６】
〈無機化合物層の炭素含有率〉
また、本発明の中間転写体においては、無機化合物層が２層以上で構成される場合、下層の無機化合物層の炭素含有率が、隣接する上層の該無機化合物層の炭素含有率よりも高い構成をとることが好ましく、更には最表層を除く無機化合物層の炭素含有率（炭素原子数濃度）としては０．５原子数濃度％〜１０原子数濃度％、最表層の炭素含有率（炭素原子数濃度）は０．１原子数濃度％以下であることが好ましい。
【００８７】
本発明でいう炭素含有率を示す原子数濃度とは、下記のＸＰＳ法によって算出されるもので、以下に定義される。
【００８８】
原子数濃度％（ａｔｏｍｉｃ  ｃｏｎｃｅｎｔｒａｔｉｏｎ）＝炭素原子の個数／全原子の個数×１００
ＸＰＳ表面分析装置は、本発明では、ＶＧサイエンティフィックス社製ＥＳＣＡＬＡＢ−２００Ｒを用いた。具体的には、Ｘ線アノードにはＭｇを用い、出力６００Ｗ（加速電圧１５ｋＶ、エミッション電流４０ｍＡ）で測定した。エネルギー分解能は、清浄なＡｇ３ｄ５／２ピークの半値幅で規定したとき、１．５ｅＶ〜１．７ｅＶとなるように設定した。
【００８９】
測定としては、先ず、結合エネルギー０ｅＶ〜１１００ｅＶの範囲を、データ取り込み間隔１．０ｅＶで測定し、いかなる元素が検出されるかを求めた。
【００９０】
次に、検出された、エッチングイオン種を除く全ての元素について、データの取り込み間隔を０．２ｅＶとして、その最大強度を与える光電子ピークについてナロースキャンをおこない、各元素のスペクトルを測定した。
【００９１】
得られたスペクトルは、測定装置、あるいは、コンピュータの違いによる含有率算出結果の違いを生じせしめなくするために、ＶＡＭＡＳ−ＳＣＡ−ＪＡＰＡＮ製のＣＯＭＭＯＮ  ＤＡＴＡ  ＰＲＯＣＥＳＳＩＮＧ  ＳＹＳＴＥＭ  （Ｖｅｒ．２．３以降が好ましい）上に転送した後、同ソフトで処理をおこない、各分析ターゲットの元素（炭素、酸素、ケイ素、チタン等）の含有率の値を原子数濃度（ａｔｏｍｉｃ  ｃｏｎｃｅｎｔｒａｔｉｏｎ：ａｔ％）として求めた。
【００９２】
定量処理を行う前に、各元素についてＣｏｕｎｔ  Ｓｃａｌｅのキャリブレーションを行い、５ポイントのスムージング処理を行った。定量処理では、バックグラウンドを除去したピークエリア強度（ｃｐｓ＊ｅＶ）を用いた。バックグラウンド処理には、Ｓｈｉｒｌｅｙによる方法を用いた。このＳｈｉｒｌｅｙ法については、Ｄ．Ａ．Ｓｈｉｒｌｅｙ，Ｐｈｙｓ．Ｒｅｖ．，Ｂ５，４７０９（１９７２）を参考にすることができる。
【００９３】
図３において、Ｈは無機化合物層の厚さを示す。厚さＨは、耐久性、表面強度、樹脂層との密着性、屈曲耐性、成膜時間等を考慮し、５０ｎｍ〜１０００ｎｍが好ましい。より好ましくは２００ｎｍ〜５００ｎｍである。
【００９４】
〈膜厚測定〉
又、無機化合物層の膜厚は、「ＭＸＰ２１」（マックサイエンス社製）を用いて測定して得られた値である。具体的な膜厚の測定は、以下の方法で行うことができる。Ｘ線源のターゲットには銅を用い、４２ｋＶ、５００ｍＡで作動させる。インシデントモノクロメータには多層膜パラボラミラーを用いる。入射スリットは０．０５ｍｍ×５ｍｍ、受光スリットは０．０３ｍｍ×２０ｍｍを用いる。２θ／θスキャン方式で０から５°をステップ幅０．００５°、１ステップ１０秒のＦＴ法にて測定を行う。得られた反射率曲線に対し、マックサイエンス社製Ｒｅｆｌｅｃｔｉｖｉｔｙ  Ａｎａｌｙｓｉｓ  Ｐｒｏｇｒａｍ  Ｖｅｒ．１を用いてカーブフィッティングを行い、実測値とフィッティングカーブの残差平方和が最小になるように各パラメータを求める。各パラメータから積層膜の膜厚を求める。
【００９５】
無機化合物層は少なくとも２層で形成してもよい。２層の場合、最表層の厚さは、５ｎｍ以上、２００ｎｍ以下であることが好ましく、更には１０ｎｍ以上、１００ｎｍ以下であることが好ましい。また、最表層を除く無機化合物層の膜厚は１００ｎｍ以上、１０００ｎｍ以下であることが好ましく、更には２００ｎｍ以上、７００ｎｍ以下であることが好ましい。この様にすることで、更なる耐久効果が得られる。
【００９６】
次に本発明の中間転写体を構成している材料と製造方法に付き説明する。
【００９７】
《中間転写ベルトの基材》
本発明に用いられる基材としては、特に制限はないが、樹脂基材に導電剤を分散させて構成されるシームレスのベルトを用いることが好ましい。
【００９８】
〔樹脂基材〕
樹脂基材は、クリーニング部材であるクリーニングブレードから中間転写ベルトに加わる負荷で中間転写体が変形することを回避し、転写部への影響を低減させる剛性を有するものである。樹脂基材は、ナノインデンテーション法により測定したヤング率が５．０ＧＰａ〜１５．０ＧＰａの範囲内の材料を用いて形成することが好ましく、８．０ＧＰａ〜１５．０ＧＰａの範囲内の材料がより好ましい。
【００９９】
この様な性能を発現する材料として、例えば、ポリカーボネート、ポリフェニレンサルファイド、ポリフッ化ビニリデン、ポリイミド、ポリエーテル、エーテルケトン、エチレンテトラフルオロエチレン共重合体、ポリアミド及びポリフェニレンサルファイド等のいわゆるエンジニアリングプラスチック材料を用いることが出来、等の樹脂材料が挙げられ、これらの中ではポリイミド、ポリカーボネート、ポリフェニレンサルファイド及びポリエチレンテレフタレートから選ばれる少なくとも１種が好ましい。これらの樹脂材料のナノインデンテーション法により測定したヤング率は５．０ＧＰａを超えるものであり、厚み５０〜２００μｍで、樹脂基材としての機械特性を満足する。更に、前述の樹脂材料と下記の弾性材料とをブレンドした材料を使用することも可能である。前記弾性材料としては、例えば、ポリウレタン、塩素化ポリイソプレン、ＮＢＲ、クロロピレンゴム、ＥＰＤＭ、水素添加ポリブタジエン、ブチルゴム、シリコーンゴム等が挙げられる。これらは１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
【０１００】
この中でも、ポリフェニレンサルファイド或いはポリイミド樹脂を含有することが好ましい。ポリイミド樹脂は、ポリイミド樹脂の前駆体であるポリアミック酸の加熱により形成される。又、ポリアミック酸は、テトラカルボン酸二無水物や、その誘導体とジアミンのほぼ等モル混合物を有機極性溶媒に溶解させ、溶液状態で反応させることにより得られる。
【０１０１】
尚、本発明では、樹脂基材にポリイミド系樹脂を使用する場合、樹脂基材におけるポリイミド系樹脂の含有率が５１％以上であることが好ましい。
【０１０２】
本発明に係る樹脂基材は、樹脂材料に導電性物質を添加して、電気抵抗値（体積抵抗率）を１０５Ω・ｃｍ〜１０１１Ω・ｃｍに調整したシームレスベルトやドラムが好ましい。
【０１０３】
樹脂材料に添加する導電性物質としては、カーボンブラックを使用することが出来る。カーボンブラックとしては、中性又は酸性カーボンブラックを使用することが出来る。導電性物質の使用量は、使用する導電性物質の種類によっても異なるが中間転写体の体積抵抗値及び表面抵抗値が所定の範囲になるように添加すればよく、通常、樹脂材料１００質量部に対して１０質量部〜２０質量部、好ましくは１０質量部〜１６質量部である。
【０１０４】
本発明に用いられる基材は、従来公知の一般的な方法により作製することが可能である。例えば、材料となる樹脂を押出機により溶融し、環状ダイを使用したインフレーション法により筒状に成形した後、輪切りにすることで環状の無端ベルト状の基材を作製することが出来る。
【０１０５】
《弾性層》
本発明に係る基材ユニットにおいては、基材上に少なくとも１層の弾性層を有することを特徴の一つとする。
【０１０６】
〔弾性層の構成材料〕
弾性層はＪＩＳ  Ａ硬度で４０°〜７０°、弾性率は、基材あるいは好ましい態様の１つである樹脂層の弾性率にもよるが、強度およびニップ性等を考慮し、引張り弾性率１×１０５〜１×１０７Ｐａ（ＪＩＳ  Ｋ７１６１）であることが好ましい。
【０１０７】
弾性層としては、特に限定されるものではなく、任意のゴム材料、熱可塑性エラストマーを用いることができる。例えばスチレン−ブタジエンゴム（ＳＢＲ）、ハイスチレンゴム、ポリブタジエンゴム（ＢＲ）、ポリイソプレンゴム（ＩＩＲ）、エチレン−プロピレン共重合体、ニトリルブタジエンゴム、クロロプレンゴム（ＣＲ）、エチレン−プロピレン−ジエンゴム（ＥＰＤＭ）、ブチルゴム、シリコーンゴム、フッ素ゴム、ニトリルゴム、ウレタンゴム、アクリルゴム（ＡＣＭ、ＡＮＭ）、エピクロロヒドリンゴム及びノルボルネンゴム等から選ぶことができるが、その中でも、クロロプレンゴム、ニトリルゴム、スチレン−ブタジエンゴム、シリコーンゴム、ウレタンゴム及びエチレン−プロピレン共重合体から選ばれる少なくとも１種であること好ましい。これらは１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
【０１０８】
一方、熱可塑性エラストマーとしては、ポリエステル系、ポリウレタン系、スチレン−  ブタジエントリブロック系、ポリオレフィン系などを用いることができる。
【０１０９】
又、弾性層は基材に使用する樹脂材料と弾性材料とをブレンドした材料を用いて形成した層でもよい。
【０１１０】
例えばシリコーンゴムの素材としては、ビニル基を含有したポリオルガノシロキサン組成物が用いられる。シリコーンゴムとしては、付加反応触媒により硬化可能な２液性の液状シリコーンゴムや過酸化物からなる加硫剤により加硫（硬化）可能な熱加硫型シリコーンゴムが用いられる。又、弾性体層には、シームレスベルトの使用目的、設計目的などに応じて、充填剤、増量充填剤、加硫剤、着色剤、導電性物質、耐熱剤、顔料等の種々の配合剤を添加することができる。また、配合剤の添加量などにより合成樹脂の可塑度は変化するが、硬化前の剛性樹脂の可塑度としては、１２０以下のものが好適に用いられる。
【０１１１】
弾性層は、弾性材料に導電性物質を分散させて、電気抵抗値（体積抵抗率）を１０５〜１０１１Ω・ｃｍに調製することができる。
【０１１２】
弾性層に添加する導電性物質としては、カーボンブラック、酸化亜鉛、酸化スズ、炭化ケイ素等を使用することができる。カーボンブラックとしては、中性又は酸性カーボンブラックを使用することができる。導電性物質の使用量は、使用する導電性物質の種類によっても異なるが弾性層の体積抵抗値及び表面抵抗値が所定の範囲になるように添加すれば良く、通常、弾性材料１００質量部に対して１０〜２０質量部、好ましくは１０〜１６質量部である。
【０１１３】
〔弾性体層の形成方法〕
弾性体層は、公知の塗布方法、例えば特開２００６−２５５６１５号公報に記載の浸漬塗布、特開平１０−１０４８５５号公報に記載の円形量規制型塗布、特開２００７−１３６４２３号公報に記載の環状塗布方法、或いは浸漬塗布と円形量規制型塗布を組み合わせて塗膜を設けて作製することが出来るが、これに限定されるものではない。
【０１１４】
具体的には、無端ベルト状の樹脂基材の上に弾性体層を形成する方法としては、例えば弾性層用の塗布液が収容されている槽中に、円筒の芯材に環状の無端ベルト状の樹脂基材をセットし、垂直に立てた状態で入れて浸漬させる。この時、浸漬を数回繰り返して所定の厚さの塗膜を形成させた後、塗布液中から引上げる。次に、乾燥し溶剤を除去した後、加熱処理（例えば６０〜１５０℃×６０分間）を行い、弾性層を作製する。
【０１１５】
金属円筒状の基材の上に弾性体層を形成する方法も無端ベルト状の樹脂基材の場合と同様に、ゴム、エラストマー、樹脂等を金属ロール上に溶融成形、注入成形、浸漬塗工あるいはスプレー塗工等により成形することによって設けることが可能である。
【０１１６】
《樹脂層》
本発明に係る基材ユニットにおいては、基材上に弾性層と共に樹脂層を設けることが好ましい態様の１つである。
【０１１７】
樹脂層としては、上記弾性層よりも高い弾性率を有する樹脂であれば特に限定はなく、例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレン、ポリエステル、ポリウレタン、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、アルコール可溶性ナイロン、ポリカーボネート、ポリアリレート、フェノール、ポリオキシメチレン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリホスファゼン、ポリサルフォン、ポリエーテルサルファイド、ポリフェニレンオキサイド、ポリフェニレンエーテル、ポリパラバン酸、ポリアリルフェノール、フッ素、ポリ尿素、アイオノマー、シリコーン等の熱可塑性樹脂および熱硬化性樹脂、およびこれら２種以上からなる混合物または共重合体等を挙げることが出来る。特にフッ素樹脂、ウレタン樹脂、シリコーン樹脂等が好ましい。
【０１１８】
フッ素樹脂としては、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、テトラフルオロエチレン・パーフルオロアルキビニルエーテル（ＰＦＡ）、フッ化エチレンプロピレン（ＦＥＰ）、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、ビニリデンフロライドの共重合体（ＴＨＶ）、ポリビニリデンフロライド（ＰＶＤＦ）などを使用することができる。上記フッ素樹脂は、１種を単独で用いても２種以上を混合して用いてもよい。
【０１１９】
ウレタン樹脂としては塗料の分野において公知のポリウレタン樹脂が使用可能である。特に水系ポリウレタン樹脂が好ましい。ポリウレタン樹脂を構成するポリオール化合物としては、ポリエステル系ポリオール、ポリエーテル系ポリオール、ポリカーボネート系ポリオール、ポリオレフィン系ポリオール（ポリジエン系ポリオールを水素添加したポリオールを含む。）、ポリブタジエン系ポリオール、ポリイソプレン系ポリオール、アクリル樹脂系ポリオールなどがある。
【０１２０】
ウレタン樹脂の硬化剤としては、ウレタン樹脂の原料として一般的に用いられているイソシアネート化合物を用いることができる。この場合、イソシアネート化合物とは、分子中に２個以上のイソシアネート基を持つ化合物であり、このようなイソシアネート化合物として具体的には、トリレンジイソシアネート（ＴＤＩ）、ジフェニルメタンジイソシアネート（ＭＤＩ）、ナフタレンジイソシアネート（ＮＤＩ）、トリジンジイソシアネート（ＴＯＤＩ）、ヘキサメチレンジイソシアネート（ＨＤＩ）、イソホロンジイソシアネート（ＩＰＤＩ）、フェニレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート（ＸＤＩ）、テトラメチルキシリレンジイソシアネート（ＴＭＸＤＩ）、シクロヘキサンジイソシアネート、リジンエステルジイソシアネート、リジンエステルトリイソシアネート（ＬＤＩ）、ウンデカントリイソシアネート、ヘキサメチレントリイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート、および上記イソシアネート化合物の重合体、誘導体、変性体、水素添加体等が挙げられる。
【０１２１】
シリコーン樹脂としては、２官能性（Ｄ単位）、３官能性（Ｔ単位）のシロキサン単位を１０ｍｏｌ％以上、好ましくは主骨格として構成している公知の樹脂で、フェニル系シリコーン樹脂、メチル系シリコーン樹脂、メチルフェニル系シリコーン樹脂などが用いられるが、これらに限定されるものではない。さらに硬化機構も加熱硬化型，室温硬化型に限定されるものではない。さらにシリコーンゴムからなる層を用いることもできる。シリコーンゴム層としては、公知のメチルシリコーンゴム、メチルフェニルシリコーンゴム、メチルビニルシリコーンゴムなどが用いられるが、これらに限定されるものではない。さらにシリコーンゴムと添加物による過酸化反応、縮合反応、付加反応物を行うことによって、架橋構造を持たせても良い。さらにシリカなどの添加剤によって補強することも可能である。
【０１２２】
アクリル系樹脂としては、エチレン性不飽和二重結合を有するモノマーを含む成分が好ましく用いられ、紫外線や電子線のような活性エネルギー線を照射することによって硬化させて形成される。特にバインダーとしてアクリル系の活性エネルギー線硬化樹脂を主成分とすることが好ましい。活性エネルギー線硬化アクリレート系樹脂としては、例えば、アクリルウレタン系樹脂、ポリエステルアクリレート系樹脂、エポキシアクリレート系樹脂、ポリオールアクリレート系樹脂等が挙げられる。
【０１２３】
アクリルウレタン系樹脂は、一般にポリエステルポリオールにイソシアネートモノマー、またはプレポリマーを反応させて得られた生成物に更に２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート（以下アクリレートにはメタクリレートを包含するものとしてアクリレートのみを表示する）、２−ヒドロキシプロピルアクリレート等の水酸基を有するアクリレート系のモノマーを反応させることによって容易に得ることができる。例えば、特開昭５９−１５１１１０号公報に記載のものを用いることができる。例えば、ユニディック１７−８０６（大日本インキ（株）製）１００部と、コロネートＬ（日本ポリウレタン（株）製）１部との混合物等が用いられる。
【０１２４】
紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂としては、一般にポリエステルポリオールに２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシアクリレート系のモノマーを反応させると容易に形成されるものを挙げることができ、特開昭５９−１５１１１２号公報に記載のものを用いることができる。
【０１２５】
紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂の具体例としては、エポキシアクリレートをオリゴマーとし、これに反応性希釈剤、光反応開始剤を添加し、反応させて生成するものを挙げることができ、特開平１−１０５７３８号公報に記載のものを用いることができる。
【０１２６】
紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂の具体例としては、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等を挙げることができる。
【０１２７】
樹脂モノマーとしては、例えば、不飽和二重結合が一つのモノマーとして、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、ベンジルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、酢酸ビニル、スチレン等の一般的なモノマーを挙げることができる。また不飽和二重結合を二つ以上持つモノマーとして、エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ジビニルベンゼン、１，４−シクロヘキサンジアクリレート、１，４−シクロヘキシルジメチルアジアクリレート、前出のトリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリルエステル等を挙げることができる。
【０１２８】
これらの中で、バインダーの主成分として、１，４−シクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパン（メタ）アクリレート、トリメチロールエタン（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレートから選択されるアクリル系の活性エネルギー線硬化樹脂が好ましい。
【０１２９】
活性光線硬化樹脂層の塗布組成物は、固形分濃度は１０質量％〜１００質量％であることが好ましく、塗布方法により適当な濃度が選ばれる。例えば、炭化水素類、アルコール類、ケトン類、エステル類、グリコールエーテル類、その他の溶媒の中から適宜選択し、または混合して使用できる。好ましくは、プロピレングリコールモノ（Ｃ１〜Ｃ４）アルキルエーテルまたはプロピレングリコールモノ（Ｃ１〜Ｃ４）アルキルエーテルエステルを５質量％以上、さらに好ましくは５質量％〜８０質量％含有する溶媒が用いられる。
【０１３０】
樹脂層には、必要に応じて樹脂または無機の微粒子を含有させることができる。これら微粒子には各種の材料を使用することができる。たとえばフッ素ゴム、フッ素エラストマー、および、ＰＴＦＥ、ＰＶＤＦ、ＥＴＦＥ、ＰＦＡ等のフッ素樹脂微粒子、シリコーン樹脂粒子、ＰＥ、ＰＰ、ＰＳ、アクリル樹脂、ナイロン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂等の樹脂微粒子、シリカ、アルミナ、酸化チタン、酸化マグネシウム、酸化スズ、酸化鉄などの無機粉体などであり、これらを単独または複数混合して使用することもできる。
【０１３１】
微粒子の形状や粒径も特に限定されるものではなく球状、繊維状、板状、不定型などどのような形状でも使用できる。微粒子の粒径は制限はないものの分散性や諸特性を考慮すると０．０１μｍ〜３０μｍの範囲が望ましい。また、諸特性に問題を与えない範囲で分散剤を使用することもできる。
【０１３２】
樹脂層には導電剤を含んでいても良い。導電剤としては、例えば、カーボンブラック、グラファイト等の導電性炭素系物質：アルミニウム、銅合金等の金属または合金：更には酸化錫、酸化亜鉛、酸化アンチモン、酸化インジウム、チタン酸カリウム、酸化アンチモン−酸化錫複合酸化物（ＡＴＯ）、酸化インジウム−酸化錫複合酸化物（ＩＴＯ）等の導電性金属酸化物等の少なくとも１種の微粉末が用いられる。
【０１３３】
これらの樹脂層形成材料の中で、後述する無機化合物層との密着性および弾性率の面からフッ素樹脂またはウレタン樹脂またはシリコーン樹脂あるいはこれらの混合物が好ましい樹脂として挙げられる。好ましくは、少なくともフッ素樹脂粒子を含んでなるウレタン系樹脂塗料組成物であり、樹脂層中に含まれるフッ素樹脂の含有量は特に限定されないが、ウレタン樹脂１００質量部に対して３０質量部〜７０質量部の範囲内にあることが好ましく、４０質量部〜６０質量部の範囲内にあることがより好ましい。また樹脂層中には、フッ素樹脂以外からなる他の樹脂成分も含まれてもよい。
【０１３４】
フッ素樹脂としては、先にあげたポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、テトラフルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体（ＰＦＡ）、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体（ＦＥＰ）、ポリビニリデンフルオライド（ＰＶＤＦ）、テトラフルオロエチレン−エチレン共重合体（ＥＴＦＥ）、ポリクロロトリフルオロエチレン（ＰＣＴＦＥ）、クロロトリフルオロエチレン−エチレン共重合（ＥＣＴＦＥ）、ポリビニルフルオライド（ＰＶＦ）、フルオロオレフィン−ビニルエーテル共重合体、フッ化ビニリデン−四フッ化エチレン共重合体及びフッ化ビニリデン−六フッ化プロピレン共重合体などの樹脂を挙げることができる。これらを単独、又は二種以上組み合わせて用いてもよい。
【０１３５】
樹脂層の膜厚は、１μｍ〜１００μｍが好ましく、更に２μｍ〜３０μｍが好ましい。樹脂層の弾性率は弾性層よりも高く、０．１ＧＰａ〜５ＧＰａであることが好ましい。樹脂層には弾性率の調整、あるいは後述する無機化合物との密着性向上のために樹脂粒子及び／又は無機微粒子を５質量％〜３００質量％含有してもよい。
【０１３６】
〔樹脂層の形成方法〕
無端ベルト状の基材の上に形成された弾性体層の上に樹脂層を形成する方法としては、弾性体層の形成方法と同じ方法で形成することが可能である。例えば樹脂層用の塗布液が収容されている槽中に、円筒の芯材に弾性層までが形成された環状の無端ベルト状の樹脂基材をセットし、垂直に立てた状態で入れて浸漬させる。この時、浸漬を数回繰り返して所定の厚さの塗膜を形成させた後、塗布液中から引上げる。次に、乾燥し溶剤を除去した後、加熱処理（例えば６０℃×６０分間〜１５０℃×６０分間）を行い、樹脂層を作製する。
【０１３７】
金属円筒状の基材の上に樹脂層を形成する方法も無端ベルト状の樹脂基材の場合と同じ方法で樹脂層を形成することが可能である。
【０１３８】
《無機化合物層》
本発明の中間転写体においては、基材ユニット上に大気圧プラズマＣＶＤ法により形成された少なくとも１層の無機化合物層を有することを特徴とする。
【０１３９】
本発明に係る無機化合物層は、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｃｄ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｓｂ、Ｇｅ、Ｗ、Ｍｏ、Ｓｉ、Ｚｒ、Ｃｅ、Ｍｇ、Ｔｉから選ばれる少なくとも１種の金属酸化物、金属窒化物もしくは金属酸化窒化物から形成されていることが好ましく、特にＡｌ、Ｓｉ、Ｔｉが好ましい。具体的には、酸化ケイ素、窒化ケイ素、酸化窒化ケイ素、酸化チタン、酸化窒化チタン、窒化チタン、酸化アルミニウム等が挙げられる。更に酸化珪素または炭素を含有する酸化珪素が最も好ましい。
【０１４０】
無機化合物層は、弾性層あるいは樹脂層との密着性の観点から、大気圧プラズマＣＶＤ法により形成することを特徴の一つとする。
【０１４１】
以下、本発明の中間転写体に係る無機化合物層を大気圧プラズマＣＶＤ法により形成する装置について、その詳細を説明する。
【０１４２】
本発明でいう大気圧もしくはその近傍の圧力というのは、２０ｋＰａ〜２００ｋＰａの圧力を表すが、本発明に記載の効果を好ましく得るためには９０ｋＰａ〜１１０ｋＰａ程度であり、特に９３ｋＰａ〜１０４ｋＰａが好ましい。
【０１４３】
図４は、ベルト状の中間転写体である中間転写ベルトの無機化合物層を大気圧プラズマＣＶＤ法により形成する大気圧プラズマ処理装置の模式図である。
【０１４４】
図４において、無機化合物層の大気圧プラズマ処理装置１０２（放電空間と薄膜堆積領域が略同一なダイレクト方式）は基材上に無機化合物層を形成するもので、エンドレスベルト状の中間転写体の基材１７５を巻架して矢印方向に回転するロール電極１２０と従動ローラ２０１、及び、基材表面に無機化合物層を形成する成膜装置であるプラズマＣＶＤ装置１０３より構成されている。
【０１４５】
プラズマＣＶＤ装置１０３は、ロール電極１２０の外周に沿って配列された少なくとも１式の固定電極１２１と、固定電極１２１とロール電極１２０との対向領域で且つ放電が行われる放電空間１２３と、少なくとも原料ガスと放電ガスとの混合ガスＧを生成して放電空間１２３に混合ガスＧを供給する混合ガス供給装置１２４と、放電空間１２３等に空気の流入することを軽減する放電容器１２９と、ロール電極１２０に接続された第１の電源１２５と、固定電極１２１に接続された第２の電源１２６と、使用済みの排ガスＧ′を排気する排気部１２８を有している。
【０１４６】
混合ガス供給装置１２４は無機化合物層を形成する原料ガスと、窒素ガス或いはアルゴンガス等の希ガスを混合した混合ガスを放電空間１２３に供給する。
【０１４７】
又、従動ローラ２０１は張力付勢手段２０２により矢印方向に付勢され、基材１７５に所定の張力を掛けている。張力付勢手段２０２は基材１７５の掛け替え時等は張力の付勢を解除し、容易に基材１７５の掛け替え等を可能としている。
【０１４８】
第１の電源１２５は周波数ω１の電圧を出力し、第２の電源１２６は周波数ω２の電圧を出力し、これらの電圧により放電空間１２３に周波数ω１とω２とが重畳された電界Ｖを発生する。そして、電界Ｖにより混合ガスＧをプラズマ化して混合ガスＧに含まれる原料ガスに応じた膜（無機化合物層）が基材１７５の表面に堆積される。
【０１４９】
尚、複数の固定電極の内、ロール電極の回転方向下流側に位置する複数の固定電極と混合ガス供給装置で無機化合物層を積み重ねるように堆積し、無機化合物層の厚さを調整するようにしても良い。
【０１５０】
又、複数の固定電極の内、ロール電極の回転方向最下流側に位置する固定電極と混合ガス供給装置で無機化合物層を堆積し、より上流に位置する他の固定電極と混合ガス供給装置で、例えば無機化合物層と基材との接着性を向上させる接着層等、他の層を形成しても良い。
【０１５１】
又、無機化合物層と基材との接着性を向上させるために、無機化合物層を形成する固定電極と混合ガス供給装置の上流に、アルゴンや酸素などのガスを供給するガス供給装置と固定電極を設けてプラズマ処理を行い、基材の表面を活性化させるようにしても良い。
【０１５２】
ここで、周波数ω１と周波数ω２の関係、及び、電界強度Ｖ１と電界強度Ｖ２及び放電ガスの放電を開始する電界強強度ＩＶとの関係が、ω１＜ω２で、Ｖ１≧ＩＶ＞Ｖ２、又は、Ｖ１＞ＩＶ≧Ｖ２を満たし、前記第２の高周波電界の出力密度が１Ｗ／ｃｍ２以上となっている。
【０１５３】
窒素ガスの放電を開始する電界強強度ＩＶは３．７ｋＶ／ｍｍのため、少なくとも第１の電源２５から印可する電界強度Ｖ１は３．７ｋＶ／ｍｍ、又はそれ以上とし、第２の高周波電源６０から印可する電界強度Ｖ２は３．７ｋＶ／ｍｍ、又はそれ未満とすることが好ましい。
【０１５４】
又、第１のプラズマＣＶＤ装置１０３に利用可能な第１の電源１２５（高周波電源）としては、
印加電源記号    メーカー            周波数            製品名
Ａ１        神鋼電機            ３ｋＨｚ    ＳＰＧ３−４５００
Ａ２        神鋼電機            ５ｋＨｚ    ＳＰＧ５−４５００
Ａ３        春日電機          １５ｋＨｚ    ＡＧＩ−０２３
Ａ４        神鋼電機          ５０ｋＨｚ    ＳＰＧ５０−４５００
Ａ５        ハイデン研究所  １００ｋＨｚ＊  ＰＨＦ−６ｋ
Ａ６        パール工業      ２００ｋＨｚ    ＣＦ−２０００−２００ｋ
Ａ７        パール工業      ４００ｋＨｚ    ＣＦ−２０００−４００ｋ
等の市販のものを挙げることができ、何れも使用することができる。
【０１５５】
又、第２の電源１２６（高周波電源）としては、
印加電源記号    メーカー            周波数            製品名
Ｂ１        パール工業      ８００ｋＨｚ    ＣＦ−２０００−８００ｋ
Ｂ２        パール工業          ２ＭＨｚ    ＣＦ−２０００−２Ｍ
Ｂ３        パール工業  １３．５６ＭＨｚ    ＣＦ−５０００−１３Ｍ
Ｂ４        パール工業        ２７ＭＨｚ    ＣＦ−２０００−２７Ｍ
Ｂ５        パール工業      １５０ＭＨｚ    ＣＦ−２０００−１５０Ｍ
等の市販のものを挙げることができ、何れも使用することができる。
【０１５６】
尚、上記電源の内、＊印はハイデン研究所インパルス高周波電源（連続モードで１００ｋＨｚ）である。それ以外は連続サイン波のみ印加可能な高周波電源である。
【０１５７】
本発明において、第１及び第２の電源から対向する電極間に供給する電力は、固定電極１２１に１Ｗ／ｃｍ２以上の電力（出力密度）を供給し、放電ガスを励起してプラズマを発生させ、薄膜を形成する。固定電極１２１に供給する電力の上限値としては、好ましくは５０Ｗ／ｃｍ２、より好ましくは２０Ｗ／ｃｍ２である。下限値は、好ましくは１．２Ｗ／ｃｍ２である。尚、放電面積（ｃｍ２）は、電極において放電が起こる範囲の面積のことを指す。
【０１５８】
又、ロール電極１２０にも、１Ｗ／ｃｍ２以上の電力（出力密度）を供給することにより、高周波電界の均一性を維持したまま、出力密度を向上させることができる。これにより、更なる均一高密度プラズマを生成でき、更なる製膜速度の向上と膜質の向上が両立できる。好ましくは５Ｗ／ｃｍ２以上である。ロール電極１２０に供給する電力の上限値は、好ましくは５０Ｗ／ｃｍ２である。
【０１５９】
ここで高周波電界の波形としては、特に限定されない。連続モードと呼ばれる連続サイン波状の連続発振モードと、パルスモードと呼ばれるＯＮ／ＯＦＦを断続的に行う断続発振モード等があり、そのどちらを採用してもよいが、少なくともロール電極２０に供給する高周波は連続サイン波の方がより緻密で良質な膜が得られるので好ましい。
【０１６０】
以上説明したように、エンドレスベルトである基材を１対のローラに張架し、１対のローラの内一方を１対の電極の一方の電極とし、一方の電極としたローラの外周面の外側に沿って他方の電極である少なくとも１の固定電極を設け、これら１対の電極間に大気圧又は大気圧近傍下で電界を発生させプラズマ放電を行わせ、基材表面に薄膜を堆積・形成する。
【０１６１】
更に他の形態として、ロール電極及び固定電極の内、一方の電極をアースに接続して、他方の電極に電源を接続しても良い。この場合の電源は第２の電源を使用することが緻密な薄膜形成を行える点で好ましく、特に放電ガスにアルゴン等の希ガスを用いる場合に好ましい。
【０１６２】
図４に示す大気圧プラズマＣＶＤ法により形成する製造装置で使用する放電ガスとは上記のような条件においてプラズマ励起される気体をいい、窒素、アルゴン、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノン等及びそれらの混合物などが挙げられる。これらの中でも窒素、ヘリウム、アルゴンが好ましく用いられ、特に窒素がコストも安く好ましい。
【０１６３】
又、無機層を形成するための原料ガスとしては、常温で気体又は液体の有機金属化合物、特にアルキル金属化合物や金属アルコキシド化合物、有機金属錯体化合物が用いられる。これら原料における相状態は常温常圧において必ずしも気相である必要はなく、混合ガス供給装置で加熱或いは減圧等により溶融、蒸発、昇華等を経て気化し得るものであれば、液相でも固相でも使用可能である。
【０１６４】
原料ガスとしては、放電空間でプラズマ状態となり、薄膜を形成する成分を含有するものであり、有機金属化合物、有機化合物、無機化合物等である。
【０１６５】
例えば、ケイ素化合物として、シラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ）、テトラｎ−プロポキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラｎ−ブトキシシラン、テトラｔ−ブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジエチルジメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、（３，３，３−トリフルオロプロピル）トリメトキシシラン、ヘキサメチルジシロキサン、ビス（ジメチルアミノ）ジメチルシラン、ビス（ジメチルアミノ）メチルビニルシラン、ビス（エチルアミノ）ジメチルシラン、Ｎ，Ｏ−ビス（トリメチルシリル）アセトアミド、ビス（トリメチルシリル）カルボジイミド、ジエチルアミノトリメチルシラン、ジメチルアミノジメチルシラン、ヘキサメチルジシラザン、ヘキサメチルシクロトリシラザン、ヘプタメチルジシラザン、ノナメチルトリシラザン、オクタメチルシクロテトラシラザン、テトラキスジメチルアミノシラン、テトライソシアナートシラン、テトラメチルジシラザン、トリス（ジメチルアミノ）シラン、トリエトキシフルオロシラン、アリルジメチルシラン、アリルトリメチルシラン、ベンジルトリメチルシラン、ビス（トリメチルシリル）アセチレン、１，４−ビストリメチルシリル−１，３−ブタジイン、ジ−ｔ−ブチルシラン、１，３−ジシラブタン、ビス（トリメチルシリル）メタン、シクロペンタジエニルトリメチルシラン、フェニルジメチルシラン、フェニルトリメチルシラン、プロパルギルトリメチルシラン、テトラメチルシラン、トリメチルシリルアセチレン、１−（トリメチルシリル）−１−プロピン、トリス（トリメチルシリル）メタン、トリス（トリメチルシリル）シラン、ビニルトリメチルシラン、ヘキサメチルジシラン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、テトラメチルシクロテトラシロキサン、ヘキサメチルシクロテトラシロキサン、Ｍシリケート５１などが挙げられるがこれらに限定されない。
【０１６６】
チタン化合物としては、テトラジメチルアミノチタンなどの有機金属化合物、モノチタン、ジチタンなどの金属水素化合物、二塩化チタン、三塩化チタン、四塩化チタンなどの金属ハロゲン化合物、テトラエトキシチタン、テトライソプロポキシチタン、テトラブトキシチタンなどの金属アルコキシドなどが挙げられるがこれらに限定されない。
【０１６７】
アルミニウム化合物としては、アルミニウムｎ−ブトキシド、アルミニウムｓ−ブトキシド、アルミニウムｔ−ブトキシド、アルミニウムジイソプロポキシドエチルアセトアセテート、アルミニウムエトキシド、アルミニウムヘキサフルオロペンタンジオネート、アルミニウムイソプロポキシド、４−ペンタンジオネート、ジメチルアルミニウムクロライドなどが挙げられるがこれらに限定されない。
【０１６８】
又、これらの原料は、単独で用いてもよいが、２種以上の成分を混合して使用するようにしてもよい。
【実施例】
【０１６９】
以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において「部」あるいは「％」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量部」あるいは「質量％」を表す。
【０１７０】
実施例１
《基材ユニットの作製》
〔基材ユニットＡの作製〕
（無端ベルト状の基材１の準備）
厚さ１００μｍの導電性物質を含有するポリイミド（ＰＩ）からなるシームレスレスベルトを準備し、これを無端ベルト状の基材１とした。
【０１７１】
（弾性層の作製）
上記無端ベルト状の基材１の外周に、ニトリルゴムからなる厚さ１３０μｍの弾性層をディッピング塗布法によりを形成した。
【０１７２】
（樹脂層の形成）
上記弾性層を形成した無端ベルト状の基材１の弾性層上に、下記樹脂層形成用塗布液を乾燥膜厚が５μｍとなるようにワイヤーバーで塗布し、８０℃にて５分間乾燥した。次に８０Ｗ／ｃｍ高圧水銀灯を１２ｃｍの距離から４秒間照射して硬化させ、樹脂層を形成して、基材ユニットＡを作製した。
【０１７３】
〈樹脂層形成用塗布液の調製〉
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート単量体                    ６０質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２量体                    ２０質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート３量体以上の成分          ２０質量部
ジエトキシベンゾフェノン（ＵＶ光開始剤）                            ２質量部
メチルエチルケトン                                                ５０質量部
酢酸エチル                                                        ５０質量部
イソプロピルアルコール                                            ５０質量部
上記組成物を撹拌しながら溶解して、樹脂層形成用塗布液を調製した。
【０１７４】
（表面粗さＲｚ１の測定）
作製した基材ユニットＡの樹脂層形成面側の表面粗さＲｚ１を、原子間力顕微鏡（Ａｔｏｍｉｃ  Ｆｏｒｃｅ  Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｙ：ＡＦＭ）として、セイコーインスツルメンツ社製ＳＰＩ３８００Ｎプローブステーション及びＳＰＡ５００多機能型ユニットを用いて、前述の条件で測定した結果、１７ｎｍであった。
【０１７５】
〔基材ユニットＢの作製〕
上記基材ユニットＡの作製において、基材（ポリイミド）の膜厚を９５ｎｍに変更し、更に、弾性層の形成にニトリルゴムに代えてウレタンゴムを用い、膜厚を２５０μｍに変更した以外は同様にして、基材ユニットＢを作製した。
【０１７６】
作製した基材ユニットＢの樹脂層形成面側の表面粗さＲｚ１を、上記と同様の方法で測定した結果、１４４ｎｍであった。
【０１７７】
〔基材ユニットＣの作製〕
上記基材ユニットＡの作製において、基材（ポリイミド）の膜厚を８０ｎｍに変更し、更に、弾性層の形成にニトリルゴムに代えてクロロプレンゴムを用い、膜厚を１５０μｍに変更した以外は同様にして、基材ユニットＣを作製した。
【０１７８】
作製した基材ユニットＣの樹脂層形成面側の表面粗さＲｚ１を、上記と同様の方法で測定した結果、２００ｎｍであった。
【０１７９】
〔基材ユニットＤの作製〕
上記基材ユニットＢの作製において、樹脂層を設けなかった以外は同様にして、基材ユニットＤを作製した。
【０１８０】
作製した基材ユニットＤの弾性層形成面側の表面粗さＲｚ１を、上記と同様の方法で測定した結果、２３８ｎｍであった。
【０１８１】
〔基材ユニットＥの作製〕
（無端ベルト状の基材２の準備）
厚さ１００μｍの導電性物質を含有するポリエチレンテレフタレート（以下、ＰＥＴと略記する）からなるシームレスレスベルトを準備し、これを無端ベルト状の基材２とした。
【０１８２】
（弾性層の作製）
上記無端ベルト状の基材２の外周に、シリコンゴムからなる厚さ１００μｍの弾性層をディッピング塗布法によりを形成して基材ユニットＥを作製した。
【０１８３】
作製した基材ユニットＥの弾性層形成面側の表面粗さＲｚ１を、上記と同様の方法で測定した結果、３８３ｎｍであった。
【０１８４】
〔基材ユニットＦの作製〕
上記基材ユニットＣの作製において、樹脂層を設けなかった以外は同様にして、基材ユニットＦを作製した。
【０１８５】
作製した基材ユニットＦの弾性層形成面側の表面粗さＲｚ１を、上記と同様の方法で測定した結果、４１７ｎｍであった。
【０１８６】
各基材ユニットの主な構成を、表１に示す。
【０１８７】
【表１】
2010113118.tif 000003
【０１８８】
《中間転写体の作製》
〔中間転写体１の作製〕
上記作製した基材ユニットＡの弾性層上に、図４に記載の大気圧プラズマ処理装置を用いて、無機化合物層１（下層（第１層）及び上層（最表層、第２層））を形成して、中間転写体１を作製した。
【０１８９】
（第１層：下層の形成）
第１層（下層）の形成材料としては、下記の第１層混合ガス組成物を用い、第１層の形成は、下記の膜形成条件で行った。この時の大気圧プラズマ処理装置の各電極を被覆する誘電体は対向する両電極共に、セラミックス溶射加工により片肉で１ｍｍ厚のアルミナを被覆したものを使用した。被覆後の電極間隙は、１ｍｍに設定した。又誘電体を被覆した金属母材は、冷却水による冷却機能を有するステンレス製ジャケット仕様であり、放電中は冷却水による電極温度コントロールを行いながら実施し、第１層（ＳｉｘＯｙ）を形成した。
【０１９０】
第１層の炭素原子数濃度は、前述のＶＧサイエンティフィックス社製のＥＳＣＡＬＡＢ−２００Ｒを用いたＸＰＳ法で測定した結果、２．０原子数％であった。
【０１９１】
〈第１層混合ガス組成物〉
放電ガス：窒素ガス                                          ９４．９３体積％
膜形成（原料）ガス：テトラエトキシシラン                      ０．０７体積％
反応ガス：酸素ガス                                            ５．００体積％
各原料ガスは、加熱することで蒸気を生成し、あらかじめ原料が凝集しないように余熱を行った放電ガス及び反応ガスと混合・希釈した後、放電空間への供給を行った。
【０１９２】
〈第１層形成条件〉
第１電極側電源類
応用電機社製高周波電源
周波数        ８０ｋＨｚ
出力密度      １０Ｗ／ｃｍ２
第２電極側電源類
パール工業社製高周波電源
周波数        １３．５６ＭＨｚ
出力密度      １０Ｗ／ｃｍ２
（第２層：最表層の形成）
次に、上記形成した第１層上に、図４に記載の大気圧プラズマ処理装置を用いて、無機化合物層である第２層（最表層）を形成した。
【０１９３】
第２層の形成材料としては、下記の第２層混合ガス組成物を用い、第２層の形成は、下記の膜形成条件で行った。この時の大気圧プラズマ処理装置の各電極を被覆する誘電体は対向する両電極共に、セラミックス溶射加工により片肉で１ｍｍ厚のアルミナを被覆したものを使用した。被覆後の電極間隙は、１ｍｍに設定した。又誘電体を被覆した金属母材は、冷却水による冷却機能を有するステンレス製ジャケット仕様であり、放電中は冷却水による電極温度コントロールを行いながら実施し、第２層（ＳｉＯ２）を形成した。
【０１９４】
第２層の炭素原子数濃度は、前述のＶＧサイエンティフィックス社製のＥＳＣＡＬＡＢ−２００Ｒを用いたＸＰＳ法で測定した結果、０．２原子数％であった。
【０１９５】
〈第２層混合ガス組成物〉
放電ガス：窒素ガス                                          ８１．９５体積％
膜形成（原料）ガス：テトラエトキシシラン                      ０．０５体積％
反応ガス：酸素ガス                                          １８．００体積％
各原料ガスは、加熱することで蒸気を生成し、あらかじめ原料が凝集しないように余熱を行った放電ガス及び反応ガスと混合・希釈した後、放電空間への供給を行った。
【０１９６】
〈第２層形成条件〉
第１電極側電源類
応用電機社製高周波電源
周波数        ８０ｋＨｚ
出力密度      １０Ｗ／ｃｍ２
第２電極側電源類
パール工業社製高周波電源
周波数        １３．５６ＭＨｚ
出力密度      １０Ｗ／ｃｍ２
〔中間転写体２の作製〕
上記中間転写体１の作製において、基材ユニットＡに代えて、表面粗さＲｚ１が２００ｎｍの基材ユニットＣを用い、下記の無機化合物層２（下層（第１層）及び上層（最表層、第２層））の混合ガス組成及び形成条件に変更した以外は同様にして、中間転写体２を作製した。
【０１９７】
［無機化合物層２の成膜条件］
（第１層：下層の形成）
〈第１層混合ガス組成物〉
放電ガス：窒素ガス                                          ９４．９１体積％
膜形成（原料）ガス：テトラエトキシシラン                      ０．０９体積％
反応ガス：酸素ガス                                            ５．００体積％
各原料ガスは、加熱することで蒸気を生成し、あらかじめ原料が凝集しないように余熱を行った放電ガス及び反応ガスと混合・希釈した後、放電空間への供給を行った。
【０１９８】
〈第１層形成条件〉
第１電極側電源類
応用電機社製高周波電源
周波数        ８０ｋＨｚ
出力密度      １０Ｗ／ｃｍ２
第２電極側電源類
パール工業社製高周波電源
周波数        １３．５６ＭＨｚ
出力密度      １０Ｗ／ｃｍ２
第１層の炭素原子数濃度は、前述のＶＧサイエンティフィックス社製のＥＳＣＡＬＡＢ−２００Ｒを用いたＸＰＳ法で測定した結果、４．０原子数％であった。
【０１９９】
（第２層：最表層の形成）
〈第２層混合ガス組成物〉
放電ガス：窒素ガス                                          ８４．９５体積％
膜形成（原料）ガス：テトラエトキシシラン                      ０．０５体積％
反応ガス：酸素ガス                                          １５．００体積％
各原料ガスは、加熱することで蒸気を生成し、あらかじめ原料が凝集しないように余熱を行った放電ガス及び反応ガスと混合・希釈した後、放電空間への供給を行った。
【０２００】
〈第２層形成条件〉
第１電極側電源類
応用電機社製高周波電源
周波数        ８０ｋＨｚ
出力密度      １０Ｗ／ｃｍ２
第２電極側電源類
パール工業社製高周波電源
周波数        １３．５６ＭＨｚ
出力密度      １０Ｗ／ｃｍ２
第２層の炭素原子数濃度は、前述のＶＧサイエンティフィックス社製のＥＳＣＡＬＡＢ−２００Ｒを用いたＸＰＳ法で測定した結果、０．３原子数％であった。
【０２０１】
〔中間転写体３、４の作製〕
上記中間転写体２の作製において、基材ユニットＣに代えて、基材ユニットＤ（Ｒｚ１：２３８ｎｍ）、基材ユニットＥ（Ｒｚ１：３８３ｎｍ）をそれぞれ用いた以外は同様にして、中間転写体３、４を作製した。
【０２０２】
〔中間転写体５の作製〕
上記中間転写体１の作製において、無機化合物層１の混合ガス組成及び形成条件を、下記の無機化合物層３（下層（第１層）及び上層（最表層、第２層））の混合ガス組成及び形成条件に変更した以外は同様にして、中間転写体５を作製した。
【０２０３】
［無機化合物層３の成膜条件］
（第１層：下層の形成）
〈第１層混合ガス組成物〉
放電ガス：窒素ガス                                          ９４．９０体積％
膜形成（原料）ガス：テトラエトキシシラン                      ０．１０体積％
反応ガス：酸素ガス                                            ５．００体積％
各原料ガスは、加熱することで蒸気を生成し、あらかじめ原料が凝集しないように余熱を行った放電ガス及び反応ガスと混合・希釈した後、放電空間への供給を行った。
【０２０４】
〈第１層形成条件〉
第１電極側電源類
応用電機社製高周波電源
周波数        ８０ｋＨｚ
出力密度      １０Ｗ／ｃｍ２
第２電極側電源類
パール工業社製高周波電源
周波数        １３．５６ＭＨｚ
出力密度      １０Ｗ／ｃｍ２
第１層の炭素原子数濃度は、前述のＶＧサイエンティフィックス社製のＥＳＣＡＬＡＢ−２００Ｒを用いたＸＰＳ法で測定した結果、５．０原子数％であった。
【０２０５】
（第２層：最表層の形成）
〈第２層混合ガス組成物〉
放電ガス：窒素ガス                                          ８７．９５体積％
膜形成（原料）ガス：テトラエトキシシラン                      ０．０５体積％
反応ガス：酸素ガス                                          １２．００体積％
各原料ガスは、加熱することで蒸気を生成し、あらかじめ原料が凝集しないように余熱を行った放電ガス及び反応ガスと混合・希釈した後、放電空間への供給を行った。
【０２０６】
〈第２層形成条件〉
第１電極側電源類
応用電機社製高周波電源
周波数        ８０ｋＨｚ
出力密度      １０Ｗ／ｃｍ２
第２電極側電源類
パール工業社製高周波電源
周波数        １３．５６ＭＨｚ
出力密度      １０Ｗ／ｃｍ２
第２層の炭素原子数濃度は、前述のＶＧサイエンティフィックス社製のＥＳＣＡＬＡＢ−２００Ｒを用いたＸＰＳ法で測定した結果、０．４原子数％であった。
【０２０７】
〔中間転写体６〜１０の作製〕
上記中間転写体５の作製において、基材ユニットＡに代えて、基材ユニットＢ〜基材ユニットＦをそれぞれ用いた以外は同様にして、中間転写体６〜１０を作製した。
【０２０８】
〔中間転写体１１の作製〕
上記中間転写体１の作製において、無機化合物層１の混合ガス組成及び形成条件を、下記の無機化合物層４（下層（第１層）及び上層（最表層、第２層））の混合ガス組成及び形成条件に変更した以外は同様にして、中間転写体１１を作製した。
【０２０９】
［無機化合物層４の成膜条件］
（第１層：下層の形成）
〈第１層混合ガス組成物〉
放電ガス：窒素ガス                                          ９４．９５体積％
膜形成（原料）ガス：テトラエトキシシラン                      ０．０８体積％
反応ガス：酸素ガス                                            ５．００体積％
各原料ガスは、加熱することで蒸気を生成し、あらかじめ原料が凝集しないように余熱を行った放電ガス及び反応ガスと混合・希釈した後、放電空間への供給を行った。
【０２１０】
〈第１層形成条件〉
第１電極側電源類
応用電機社製高周波電源
周波数        ８０ｋＨｚ
出力密度      １０Ｗ／ｃｍ２
第２電極側電源類
パール工業社製高周波電源
周波数        １３．５６ＭＨｚ
出力密度      ８Ｗ／ｃｍ２
第１層の炭素原子数濃度は、前述のＶＧサイエンティフィックス社製のＥＳＣＡＬＡＢ−２００Ｒを用いたＸＰＳ法で測定した結果、７．０原子数％であった。
【０２１１】
（第２層：最表層の形成）
〈第２層混合ガス組成物〉
放電ガス：窒素ガス                                          ９１．９５体積％
膜形成（原料）ガス：テトラエトキシシラン                      ０．０５体積％
反応ガス：酸素ガス                                            ８．００体積％
各原料ガスは、加熱することで蒸気を生成し、あらかじめ原料が凝集しないように余熱を行った放電ガス及び反応ガスと混合・希釈した後、放電空間への供給を行った。
【０２１２】
〈第２層形成条件〉
第１電極側電源類
応用電機社製高周波電源
周波数        ８０ｋＨｚ
出力密度      １０Ｗ／ｃｍ２
第２電極側電源類
パール工業社製高周波電源
周波数        １３．５６ＭＨｚ
出力密度      １０Ｗ／ｃｍ２
第２層の炭素原子数濃度は、前述のＶＧサイエンティフィックス社製のＥＳＣＡＬＡＢ−２００Ｒを用いたＸＰＳ法で測定した結果、１．０原子数％であった。
【０２１３】
〔中間転写体１２〜１６の作製〕
上記中間転写体１１の作製において、基材ユニットＡに代えて、基材ユニットＢ〜基材ユニットＦをそれぞれ用いた以外は同様にして、中間転写体１２〜１６を作製した。
【０２１４】
〔中間転写体１７の作製〕
上記中間転写体２の作製において、無機化合物層２の混合ガス組成及び形成条件を、下記の無機化合物層５（下層（第１層）及び上層（最表層、第２層））の混合ガス組成及び形成条件に変更した以外は同様にして、中間転写体１３を作製した。
【０２１５】
［無機化合物層５の成膜条件］
（第１層：下層の形成）
〈第１層混合ガス組成物〉
放電ガス：窒素ガス                                          ９４．９０体積％
膜形成（原料）ガス：テトラエトキシシラン                      ０．１０体積％
反応ガス：酸素ガス                                            ５．００体積％
各原料ガスは、加熱することで蒸気を生成し、あらかじめ原料が凝集しないように余熱を行った放電ガス及び反応ガスと混合・希釈した後、放電空間への供給を行った。
【０２１６】
〈第１層形成条件〉
第１電極側電源類
応用電機社製高周波電源
周波数        ８０ｋＨｚ
出力密度      １０Ｗ／ｃｍ２
第２電極側電源類
パール工業社製高周波電源
周波数        １３．５６ＭＨｚ
出力密度      ８Ｗ／ｃｍ２
第１層の炭素原子数濃度は、前述のＶＧサイエンティフィックス社製のＥＳＣＡＬＡＢ−２００Ｒを用いたＸＰＳ法で測定した結果、１２．０原子数％であった。
【０２１７】
（第２層：最表層の形成）
〈第２層混合ガス組成物〉
放電ガス：窒素ガス                                          ９４．９３体積％
膜形成（原料）ガス：テトラエトキシシラン                      ０．０７体積％
反応ガス：酸素ガス                                            ５．００体積％
各原料ガスは、加熱することで蒸気を生成し、あらかじめ原料が凝集しないように余熱を行った放電ガス及び反応ガスと混合・希釈した後、放電空間への供給を行った。
【０２１８】
〈第２層形成条件〉
第１電極側電源類
応用電機社製高周波電源
周波数        ８０ｋＨｚ
出力密度      １０Ｗ／ｃｍ２
第２電極側電源類
パール工業社製高周波電源
周波数        １３．５６ＭＨｚ
出力密度      １０Ｗ／ｃｍ２
第２層の炭素原子数濃度は、前述のＶＧサイエンティフィックス社製のＥＳＣＡＬＡＢ−２００Ｒを用いたＸＰＳ法で測定した結果、２．０原子数％であった。
【０２１９】
〔中間転写体１８〜２０の作製〕
上記中間転写体１７の作製において、基材ユニットＣに代えて、基材ユニットＤ〜基材ユニットＦをそれぞれ用いた以外は同様にして、中間転写体１８〜２０を作製した。
【０２２０】
〔中間転写体２１の作製〕
上記中間転写体４の作製において、無機化合物層の形成を、大気圧プラズマ処置方法に代えて、下記のプラズマＣＶＤ法を用いた以外は同様にして、中間転写体２１を作製した。
【０２２１】
薄膜形成装置として、サムコ社製プラズマＣＶＤ装置Ｍｏｄｅｌ  ＰＤ−２７０ＳＴＰを用いて製膜を行った。
【０２２２】
製膜条件は以下の通りである。
【０２２３】
酸素圧力：４０Ｐａ
反応ガス：テトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ）５ｓｃｃｍ（ｓｔａｎｄａｒｄ  ｃｕｂｉｃ  ｃｅｎｔｉｍｅｔｅｒ  ｐｅｒ  ｍｉｎｕｔｅ）
電力：１３．５６ＭＨｚで１００Ｗ
基材保持温度：１２０℃
〔中間転写体２２の作製〕
上記中間転写体１５の作製において、無機化合物層の形成に用いる原料として、テトラエトキシシランに代えて、チタンテトライソプロポキシドを用いて、酸化チタン膜に変更した以外は同様にして、中間転写体２２を作製した。
【０２２４】
〔中間転写体２３の作製〕
上記中間転写体１５の作製において、無機化合物層の形成に用いる原料として、テトラエトキシシランに代えて、アルミニウムエトキシドを用いて、酸化アルミニウム膜に変更した以外は同様にして、中間転写体２３を作製した。
【０２２５】
上記中間転写体１〜２３の作製に用いた各無機化合物層の詳細を、表２に示す。
【０２２６】
【表２】
2010113118.tif 000004
【０２２７】
なお、表２に記載の表面硬度は、明細書に記載のナノインデーション方により測定した値である。また、膜厚は、ＭＸＰ２１（マックサイエンス社製）を用いて測定した。
【０２２８】
《中間転写体の評価》
上記作製した各中間転写体について、下記の方法に従って、転写効率、耐久性（クラック耐性）及びフィルミングを評価した。
【０２２９】
〔転写効率の評価〕
プリンタ（コニカミノルタビジネステクノロジーズ社製のｍａｇｉｃｏｌｏｒ５４４０ＤＬ）を用い、内部の中間転写ベルトを外し、上記作製した各中間転写体をそれぞれ装着した。このプリンタに、平均粒径が６．５μｍの重合トナーをセットし、イエロー、マゼンタ、シアン、ブラック各色を最大トナー濃度でコニカミノルタＣＦペーパー（コニカミノルタビジネステクノロジーズ社製）へ、プリントを行った。プリント紙上へ転写されたトナー付着量及びベルト上の残留トナー量を光学（反射）濃度測定し、測定結果を予め求めた光学濃度とトナー量との関係式に従ってトナー量へ換算し、下式によりトナー転写率（％）を求めた。
【０２３０】
転写率（％）＝（テストプリント紙上へ転写されたトナー量／（テストプリント紙上へ転写されたトナー量＋ベルト上の残留トナー量））×１００
◎：転写率が９８％以上であった
○：転写率が９５％以上、９８％未満であった
△：転写率が９０％以上、９５％未満であった
×：転写率が９０％未満であった
〔クラック耐性の評価〕
上記作製した各中間転写体について、４０φ、２５φ、１５φの金属棒に、無機化合物層面が外側になるように巻き付けた後、５秒後に開放し、この操作を１０回繰り返して行った後、未処理の中間転写体を含めて、拡大ルーペ（１００倍）を用いてクラックの発生の有無を観察し、下記の基準に従ってクラック耐性の評価を行った。
【０２３１】
◎：１５φの金属棒においても、全くクラックの発生は認められない
○：２５φの金属棒においてはクラックの発生は認められないが、１５φの金属棒で極微小のクラックの発生が僅かに認められる
△：４０φの金属棒においてはクラックの発生は認められないが、２５φの金属棒で極微小のクラックの発生が認められる
×：４０φの金属棒において、多数のクラックの発生が認められる
××：未処理試料にて、多数のクラックの発生が認められる
〔フィルミング耐性の評価〕
プリンタ（コニカミノルタビジネステクノロジーズ社製のｍａｇｉｃｏｌｏｒ５４４０ＤＬ）を用い、内部の中間転写ベルトを外し、上記作製した各中間転写体をそれぞれ装着した。このプリンタに、平均粒径が６．５μｍの重合トナーをセットし、イエロー、マゼンタ、シアン、ブラック各色を最大トナー濃度でコニカミノルタＣＦペーパー（コニカミノルタビジネステクノロジーズ社製、Ａ４サイズ）に各トナー色とも５％イメージ率のテストパターンで、２３℃、５０％ＲＨの環境下で３０万枚プリントを行った後、中間転写ベルトを取り出し、その表面のフィルミング状態を目視で観察し、下記の基準に従ってフィルミング耐性を評価した。
【０２３２】
◎：中間転写体に、全くフィルミングの発生が認められない
○：中間転写体に、ほぼフィルミングの発生が認められない
△：中間転写体に、弱いフィルミングの発生が認められるが、実用上問題ないレベル
×：中間転写体の一周にフィルミングの発生が認められ、実用上問題となるレベル
以上により得られた各評価結果を、表３に示す。なお、表３に記載の無機化合物層の表面粗さＲｚ２は、最表層における表面粗さを表す。
【０２３３】
【表３】
2010113118.tif 000005
【０２３４】
表３に記載の結果より明らかなように、大気圧プラズマＣＶＤ法により形成された無機化合物層を有し、基材ユニット表面の表面粗さＲｚ１と、最表面に位置する無機化合物層表面の表面粗さＲｚ２との比（Ｒｚ２／Ｒｚ１）が、０．９〜５．０の範囲にある中間転写体は、比較例に対し、転写効率、フィルミング耐性に優れ、かつ耐久性（クラック耐性）が高いことが分かる。
【図面の簡単な説明】
【０２３５】
【図１】中間転写体として中間転写ベルトを使用した電子写真方式の画像形成装置の一例を示す概略断面構成図である。
【図２】中間転写体として中間転写ロールを使用した電子写真方式の画像形成装置の一例を示す概略断面構成図である。
【図３】図１に示す中間転写ベルトの拡大概略断面図である。
【図４】ベルト状の中間転写体である中間転写ベルトの無機化合物層を大気圧プラズマＣＶＤ法により形成する大気圧プラズマ処理装置の模式図である。
【符号の説明】
【０２３６】
１、１′  フルカラー画像形成装置
１０Ｙ、１０Ｍ、１０Ｃ、１０Ｋ  画像形成ユニット
４′  転写ユニット
４０１′  中間転写ローラ
７  無端ベルト状中間転写体ユニット
７０  中間転写ベルト
７０ａ  基材
７０ｂ  弾性層
７０ｃ  樹脂層
７０ｄ  無機化合物層
１０２  大気圧プラズマ処理装置
１０３  プラズマＣＶＤ装置
１２０  ロール電極
１２１  固定電極
１２５  第１の電源
１２６  第２の電源
１７５  中間転写体の基材
２０１  従動ローラ
【図１】
2010113118.tif 000006
【図２】
2010113118.tif 000007
【図３】
2010113118.tif 000008
【図４】
2010113118.tif 000009