(57)【要約】【課題】低抵抗の配線を形成するための積層構造体の製造方法を提供する。【解決手段】基板上に、高表面エネルギー領域と低表面エネルギー領域が形成されている濡れ性変化層を形成する工程と、高表面エネルギー領域を覆うように、濡れ性変化層から所定の間隔を隔て対向基板を設置する工程と、高表面エネルギー領域上に導電性材料を含む溶液を供給する工程と、導電性材料を含む溶液を乾燥または硬化させることにより、高表面エネルギー領域上に導電層を形成する工程を有することを特徴とする積層構造体の製造方法を提供することにより上記課題を解決する。【選択図】  図３
2010141048.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に、高表面エネルギー領域と低表面エネルギー領域が形成されている濡れ性変化層を形成する工程と、
前記高表面エネルギー領域を覆うように、前記濡れ性変化層から所定の間隔を隔て対向基板を設置する工程と、
前記高表面エネルギー領域上に導電性材料を含む溶液を供給する工程と、
前記導電性材料を含む溶液を乾燥または硬化させることにより、前記高表面エネルギー領域上に導電層を形成する工程と、
を有することを特徴とする積層構造体の製造方法。
【請求項２】
基板上にエネルギーの付与により表面エネルギーが変化する濡れ性変化材料を含む濡れ性変化層を形成する工程と、
前記濡れ性変化層の表面に前記エネルギーを付与することにより、高表面エネルギー領域を形成する工程と、
前記高表面エネルギー領域を覆うように、前記濡れ性変化層から所定の間隔を隔て対向基板を設置する工程と、
前記高表面エネルギー領域上に導電性材料を含む溶液を供給する工程と、
前記導電性材料を含む溶液を乾燥または硬化させることにより、前記高表面エネルギー領域上に導電層を形成する工程と、
を有することを特徴とする積層構造体の製造方法。
【請求項３】
前記高表面エネルギー領域は、幅の広い第１の領域と、前記第１の領域から延設された前記第１の領域よりも幅の狭い第２の領域から構成されており、
前記対向基板は、前記第２の領域の上方を覆うものであって、
前記導電性材料を含む溶液は、前記第１の領域より供給されるものであることを特徴とする請求項１又は２に記載の積層構造体の製造方法。
【請求項４】
前記高表面エネルギー領域への前記導電性材料を含む溶液の供給は、インクジェット法であることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の積層構造体の製造方法。
【請求項５】
前記導電層を形成する工程の後、前記対向基板を除去することを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載の積層構造体の製造方法。
【請求項６】
前記濡れ性変化層から所定の間隔は、１００ｎｍ〜１５０μｍであることを特徴とする請求項１から５のいずれかに記載の積層構造体の製造方法。
【請求項７】
前記対向基板において、前記基板の濡れ性変化層に対向する側における表面エネルギーは、前記濡れ性変化層における高表面エネルギー領域の表面エネルギーよりも低いことを特徴とする請求項１から６のいずれかに記載の積層構造体の製造方法。
【請求項８】
前記対向基板には、前記基板の濡れ性変化層が形成されている側に、対向基板濡れ性変化層が形成されており、
前記対向基板濡れ性変化層の表面には対向基板高表面エネルギー領域が形成されており、
前記濡れ性変化層における高表面エネルギー領域に対向する位置に、前記対向基板高表面エネルギー領域が配置されていることを特徴とする請求項１から７のいずれかに記載の積層構造体の製造方法。
【請求項９】
前記濡れ性変化層高表面エネルギー領域の幅は、前記高表面エネルギー領域における幅と同じであるか、又は狭いものであることを特徴とする請求項８に記載の積層構造体の製造方法。
【請求項１０】
前記対向基板は、前記基板の濡れ性変化層が形成されている側に、突起部が形成されており、
前記濡れ性変化層における高表面エネルギー領域に対向する位置に、前記突起部が配置されており、
前記突起部と前記濡れ性変化層の間隔は略一定であることを特徴とする請求項１から７のいずれかに記載の積層構造体の製造方法。
【請求項１１】
前記突起部は、前記対向基板面内に一次元または二次元的に延設され、突起部の延設方向に垂直な断面における突起部の幅は、前記濡れ性変化層における高表面エネルギー領域の幅と同じであるか、又は狭い幅であり、その断面形状は矩形、半円形、角形の一次元状の突起部であることを特徴とする請求項１０に記載の積層構造体の製造方法。
【請求項１２】
基板上にゲート電極が形成し、前記ゲート電極上にゲート絶縁膜が形成し、前記ゲート絶縁膜上に、隔てて形成されたソース電極及びドレイン電極を形成し、前記ソース電極と前記ドレイン電極との間に有機半導体層を形成し、前記ゲート電極に電圧を印加することにより動作する有機トランジスタの製造方法において、
前記ゲート電極、前記ソース電極及び前記ドレイン電極のいずれかは、請求項１から１１に記載されている積層構造体の製造方法により形成された導電層であることを特徴とする有機薄膜トランジスタの製造方法。
【請求項１３】
請求項１から１１のいずれかに記載の積層構造体の製造方法により、電極又は配線層を形成する工程と、
前記電極のうちソース電極とドレイン電極との間に有機半導体層を形成する工程と、
を有することを特徴とする有機薄膜トランジスタアレイの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、積層構造体の製造方法、有機薄膜トランジスタの製造方法及有機薄膜トランジスタアレイの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイや有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏ  Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）ディスプレイ等のアクティブマトリックスＴＦＴ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）電極の作製方法の主流はフォトリソグラフィー法によるものである。近年、材料利用効率の高さ工程数の少なさから、フォトリソグラフィー法に代わる方法として、電極となる導電性材料を溶解・分散させた電極材料溶液（導電性材料を含む機能液）を直接インクジェット法で描画する方法が注目されている。例えば、粒径１〜１００ｎｍ程度の金属微粒子を有機溶媒中に一様に分散させたナノメタルインクを用いて直接描画により約５０μｍ幅の配線が可能であることが知られている。
【０００３】
このインクジェット装置による導電性材料を含む機能液の直接描画による微細配線の課題として、微小液滴化や着弾精度の改善が挙げられる。現在、インクジェット装置のヘッドからの液適量は１ピコリットル（ｐＬ）からサブフェムトリットル（ｆＬ）程度で達成されている。例えば、１ｐＬから計算される液滴サイズは、直径１２．４μｍであり、液滴着弾後に接触角３０°で濡れ広がると仮定すると、着弾後の液滴径は２６．５μｍとなる。更には、高濃度・高密度の導電性材料を含む機能液の場合には、液滴の自重により接触角が低くなること、インクジェット装置より吐出される液滴は、運動エネルギーを有していることを考慮すると、着弾後の液滴サイズは更に大きくなる。また、不良吐出やインクジェットヘッドの位置精度等を考慮すると、インクの着弾精度は数１０から数１００μｍと見積もられる。
【０００４】
このため、特許文献１及び２では、液滴の被着弾面に親液・撥液パターンを形成することで着弾後の液滴の濡れ広がりを制御する方法が開示されている。
【０００５】
また、特許文献３では、被着弾面に液滴が漏れないように撥液性バンクを形成する方法が開示されている。
【０００６】
また、特許文献４には、毛細管現象を利用したパターン形成の方法が開示されている。
【特許文献１】特開２００５−３１０９６２号公報
【特許文献２】特開２００６−２７８５３４号公報
【特許文献３】特開２００５−１２１８１号公報
【特許文献４】特開２００４−８００２６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ところで、導電性材料を含む機能液を用いてインクジェット法により微細配線や電極を形成するためには様々な課題がある。１つには、微細配線の抵抗の問題がある。これは、一般的に、電極配線が細かくなればなる程、電気抵抗は大きくなり、これに伴い、電極配線での電圧降下、電極特性のバラツキ、配線抵抗のための発熱、更には大きな消費電力が問題となっている。このため、電極配線の厚膜化が必要となる。
【０００８】
電極配線を厚膜化するためには、機能液中の導電性材料の分量比を大きくする方法がある。しかしながら、高濃度化に伴って粘度が大きくなり、インクジェット装置から液滴を安定して吐出することが困難となる。
【０００９】
本発明は、上記に鑑みてなされたものであり、導電性材料を含む機能液を用いて、簡単に電極を厚く形成することができ、電極配線の抵抗を低減した積層構造体の製造方法、有機薄膜トランジスタの製造方法及有機薄膜トランジスタアレイの製造方法を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明は、基板上に、高表面エネルギー領域と低表面エネルギー領域が形成されている濡れ性変化層を形成する工程と、前記高表面エネルギー領域を覆うように、前記濡れ性変化層から所定の間隔を隔て対向基板を設置する工程と、前記高表面エネルギー領域上に導電性材料を含む溶液を供給する工程と、前記導電性材料を含む溶液を乾燥または硬化させることにより、前記高表面エネルギー領域上に導電層を形成する工程と、を有することを特徴とする。
【００１１】
また、本発明は、基板上にエネルギーの付与により表面エネルギーが変化する濡れ性変化材料を含む濡れ性変化層を形成する工程と、前記濡れ性変化層の表面に前記エネルギーを付与することにより、高表面エネルギー領域を形成する工程と、前記高表面エネルギー領域を覆うように、前記濡れ性変化層から所定の間隔を隔て対向基板を設置する工程と、前記高表面エネルギー領域上に導電性材料を含む溶液を供給する工程と、前記導電性材料を含む溶液を乾燥または硬化させることにより、前記高表面エネルギー領域上に導電層を形成する工程と、を有することを特徴とする。
【００１２】
また、本発明は、前記高表面エネルギー領域は、幅の広い第１の領域と、前記第１の領域から延設された前記第１の領域よりも幅の狭い第２の領域から構成されており、前記対向基板は、前記第２の領域の上方を覆うものであって、前記導電性材料を含む溶液は、前記第１の領域より供給されるものであることを特徴とする。
【００１３】
また、本発明は、前記高表面エネルギー領域への前記導電性材料を含む溶液の供給は、インクジェット法であることを特徴とする。
【００１４】
また、本発明は、前記導電層を形成する工程の後、前記対向基板を除去することを特徴とする。
【００１５】
また、本発明は、前記濡れ性変化層から所定の間隔は、１００ｎｍ〜１５０μｍであることを特徴とする。
【００１６】
また、本発明は、前記対向基板において、前記基板の濡れ性変化層に対向する側における表面エネルギーは、前記濡れ性変化層における高表面エネルギー領域の表面エネルギーよりも低いことを特徴とする。
【００１７】
また、本発明は、前記対向基板には、前記基板の濡れ性変化層が形成されている側に、対向基板濡れ性変化層が形成されており、前記対向基板濡れ性変化層の表面には対向基板高表面エネルギー領域が形成されており、前記濡れ性変化層における高表面エネルギー領域に対向する位置に、前記対向基板高表面エネルギー領域が配置されていることを特徴とする。
【００１８】
また、本発明は、前記濡れ性変化層高表面エネルギー領域の幅は、前記高表面エネルギー領域における幅と同じであるか、又は狭いものであることを特徴とする。
【００１９】
また、本発明は、前記対向基板は、前記基板の濡れ性変化層が形成されている側に、突起部が形成されており、前記濡れ性変化層における高表面エネルギー領域に対向する位置に、前記突起部が配置されており、前記突起部と前記濡れ性変化層の間隔は略一定であることを特徴とする。
【００２０】
また、本発明は、前記突起部は、前記対向基板面内に一次元または二次元的に延設され、突起部の延設方向に垂直な断面における突起部の幅は、前記濡れ性変化層における高表面エネルギー領域の幅と同じであるか、又は狭い幅であり、その断面形状は矩形、半円形、角形の一次元状の突起部であることを特徴とする。
【００２１】
また、本発明は、基板上にゲート電極が形成し、前記ゲート電極上にゲート絶縁膜が形成し、前記ゲート絶縁膜上に、隔てて形成されたソース電極及びドレイン電極を形成し、前記ソース電極と前記ドレイン電極との間に有機半導体層を形成し、前記ゲート電極に電圧を印加することにより動作する有機トランジスタの製造方法において、前記ゲート電極、前記ソース電極及び前記ドレイン電極のいずれかは、前記積層構造体の製造方法により形成された導電層であることを特徴とする有機薄膜トランジスタの製造方法。
【００２２】
また、本発明は、前記積層構造体の製造方法により、電極又は配線層を形成する工程と、前記電極のうちソース電極とドレイン電極との間に有機半導体層を形成する工程と、を有することを特徴とする。
【発明の効果】
【００２３】
本発明によれば、導電性材料を含む機能液を用いて、簡単に電極を厚く形成することができ、電極配線の抵抗を低減した積層構造体の製造方法、有機薄膜トランジスタの製造方法及有機薄膜トランジスタアレイの製造方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
本発明を実施するための最良の形態について、以下に説明する。
【００２５】
最初に、本発明に至った経緯について説明する。
【００２６】
電極を厚く形成するためには、導電性材料を含む機能液（導電性材料を含む溶液）量を多くする必要がある。導電性材料を含む機能液は液体であるがゆえ、その被着弾面のある配線幅に対して描画できる液滴量は自ずと定まる。このことを、図１に基づき説明する。例えば、図１（ａ）に示されるように、基板２０上に濡れ性変化層３０が形成され、濡れ性変化層３０の表面に高表面エネルギー領域４０と低表面エネルギー領域５０とが形成されたものについて、高表面エネルギー領域４０に導電性材料を含む機能液６０を供給した場合、高表面エネルギー領域４０により形成される配線幅が５０μｍであり、導電性材料を含む機能液６０の高表面エネルギー領域４０と低表面エネルギー領域５０との境界で許容できる接触角が３０°であり、導電性材料を含む機能液６０の断面が円形であるものと仮定した場合、表面張力により自己的に保持される液滴断面の最大の高さは６．７μｍとなる。更に、この許容高さを超えて液滴を供給すると、図１（ｂ）に示されるように、低表面エネルギー領域５０に導電性材料を含む機能液６０が溢れてしまう。
【００２７】
このため、本発明においては、導電性材料を含む機能液と、基板上に形成された濡れ性変化層の高表面エネルギー領域に対向して、対向基板を設けることにより、高表面エネルギー領域と対向基板の間に導電性材料を含む機能液を毛細管現象により効果的に注入し、液体架橋（メニスカス）現象を利用することにより、電極を厚く形成することを可能とするものである。このことを、図２に基づき説明する。
【００２８】
図２（ａ）は、図１（ａ）と同様に、対向基板を用いない構成のものであり、基板２０上に濡れ性変化層３０を形成し、高表面エネルギー領域４０と低表面エネルギー領域５０とを形成し、高表面エネルギー領域４０上に、導電性材料を含む機能液６０を供給した場合を示す。この場合は、前述のとおり、一定の高さ以上に導電性材料を含む機能液６０を供給することができず、従って、形成される電極の厚さも限られたものとなる。
【００２９】
一方、図２（ｂ）は、高表面エネルギー領域４０に対向して、対向基板７０を設けた構成のものである。このような構成にすることにより、前述したメニスカス現象により高表面エネルギー領域４０と対向基板７０との間に、導電性材料を含む機能液６０をより多く供給することができ、これにより、後に形成される電極を厚くすることが可能となるのである。
【００３０】
また、図２（ｃ）は、対向基板７０の表面に濡れ性変化層７１を形成し、この濡れ性変化層７１の表面に、高表面エネルギー領域７２と低表面エネルギー領域７３とを形成したものを用いた場合を示す。このような構成において、基板２０上の濡れ性変化層３０に形成される高表面エネルギー領域４０と、対向基板７０上の濡れ性変化層７１に形成される高表面エネルギー領域７２との間に、導電性材料を含む機能液６０を供給することにより、形成される電極を厚くすることが可能となる。
【００３１】
また、図２（ｄ）は、対向基板７０上の濡れ性変化層７１において、高表面エネルギー領域７２の幅を狭くした場合を示す。このようなパターンの高表面エネルギー領域７２により、供給される導電性材料を含む機能液６０の形状を変化させることができ、形成される電極の形状を変えることができる。
【００３２】
また、図２（ｅ）は、対向基板７０に突起部の延設方向と垂直な方向における断面が矩形状の突起部７４を設けた構造の場合である。導電性材料を含む機能液６０の表面張力により、基板２０上の濡れ性変化層３０の高表面エネルギー領域４０と、対向基板７０に断面が矩形状の突起部７４の表面との間に、電性材料を含む機能液６０が広がり、導電性材料を含む機能液６０の供給量を増やすことができ、形成される電極を厚くすることが可能となる。
【００３３】
また、図２（ｆ）は、対向基板７０に設けられた突起部の延設方向と垂直な方向における断面が矩形状の突起部７４の幅が高表面エネルギー領域の幅と比べて狭い構成のものを示す。このような形状の突起部７４により、供給される導電性材料を含む機能液６０の形状を変化させることができ、形成される電極の形状を変えることができる。
【００３４】
また、図２（ｇ）は、対向基板７０に突起部の延設方向と垂直な方向における断面が半円形である突起部７５を設けた場合であり、図２（ｈ）は、対向基板７０に突起部の延設方向と垂直な方向における断面が角形である突起部７６を設けたものである。このような断面形状の突起部７５又は突起部７６により、供給される導電性材料を含む機能液６０の形状を変化させることができ、最適な形状の導電層を得ることができる。
【００３５】
尚、図２（ｂ）〜（ｄ）に示す対向基板７０の形成方法等については後に詳しく説明する。また、図２（ｅ）〜（ｈ）に示す対向基板７０の突起部７４、７５、７６は、金属表面をフォトエッチング加工したステンレス、Ｎｉ、Ｆｅ、合金等の金属材料、レーザー照射等によって表面に凹凸を形成したガラス、シリコン等の無機材料や、微細射出（圧縮）成型（マイクロモールディング）法等の凹凸を形成したＰＤＭＳ（ポリジメチルシロキサン）等の高分子材料により形成することができる。
【００３６】
ところで、毛細管現象とは、細い管状物体の内側で液体が管の中を上昇する現象である。この現象は、管状物体壁面に働く液体の表面張力が液体自身を上方に引張ることにより生じるものである。この現象は、管状物体のみに観測されるものではなく、狭く一定の距離を隔てた２枚の基板間においても同様に生じる。
【００３７】
液体架橋（メニスカス）現象とは、物体間の微小間隙にできる液体架橋のことであり、液体が物体表面と接するときに両者の分子間に働く付着力と液体分子間の凝縮力の大小関係で生じる湾曲した液体表面のことである。この現象は物体表面の表面エネルギーが高い場合に、より顕著となる。
【００３８】
（積層構造体の製造方法）
次に、本実施の形態における積層構造体の製造方法について図３及び図４に基づき説明する。
【００３９】
最初に、ステップ１０２（Ｓ１０２）において、濡れ性機能材料を含む溶液を基板上に塗布し、その後乾燥させて濡れ性変化層を形成する。具体的には、図４（ａ）に示すように、基板１２０上に濡れ性変化層１３０を形成する。濡れ性機能材料を含む溶液の塗布方法は、スピンコート法、ドクターブレード法、キャスト法、スプレー法、浸漬法等が挙げられ、均一な膜質が得られる塗布法が好ましい。
【００４０】
濡れ性機能材料としては、側鎖に疎水性基を有する高分子材料、特に主鎖がポリイミドである材料が、耐熱性、絶縁性の観点から好ましい。特に、ポリイミドとしては、ポリアミック酸の加熱脱水縮合反応で生じる熱硬化型ポリイミド又は、ＮＭＰ等の特定の溶媒に可溶な可溶性ポリイミドが好ましい。前者は、ポリイミドの脱水縮合反応率（イミド化率）を高めるために２００℃以上で焼成する必要があるのに対し、後者は、溶媒を揮発させるために２００℃以下での焼成も可能である。これらポリイミド等の高分子材料を塗布した状態では、濡れ性変化層１３０の表面は低表面エネルギー状態（全面に低表面エネルギー領域１５０が広がった状態）となっている。
【００４１】
基板１２０としては、ガラス基板、シリコン基板、ステンレス基板、ポリマー材料基板を用いることができる。ポリマー材料基板としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリイミド（ＰＩ）、ポリエーテルサルフォン（ＰＥＳ）等からなるものを用いることができる。
【００４２】
次に、ステップ１０４（Ｓ１０４）において、フォトマスクを用いて濡れ性変化層１３０の表面に紫外線を照射する。この紫外線照射により、濡れ性変化層１３０において、疎水基を有する側鎖の一部又は主鎖の一部が切断され、露光された領域が低表面エネルギー状態から高表面エネルギー状態へと変化し、高表面エネルギー領域１４０が形成される。これにより、図４（ｂ）に示すように、濡れ性変化層１３０の表面には、高表面エネルギー領域１４０と低表面エネルギー領域１５０からなるパターンが形成される。
【００４３】
高表面エネルギー領域１４０における後述する機能液の接触角は１０°以下であり、低表面エネルギー領域１５０における後述する機能液の接触角は２５°以上であることが好ましい。また、高表面エネルギー領域１４０と低表面エネルギー領域１５０における機能液の接触角の差は、本実施の形態では少なくとも１５°以上あることが好ましい。
【００４４】
更に、エネルギーの付与によって形成された高表面エネルギー領域１４０の幅は、１μｍから１ｍｍ程度であることが好ましい。また、エネルギーを付与する方法としては、紫外光の他、熱、電子線、プラズマ等、材料に応じた手法を用いることが好ましい。特に、側鎖に疎水性基を有するポリイミド材料を濡れ性変化層１３０として用いる場合には、紫外光又は可視光による光照射が効果的である。
【００４５】
後述する濡れ性変化層１３０の表面に形成される高表面エネルギー領域１４０において、その幅の異なる領域が存在している場合、各々の幅の比は１に近いほど好ましい。具体的には、図５に示すように、高表面エネルギー領域１４０において、導電性材料を含む機能液が着弾する幅Ｗ１の第１の領域１４０ａと、着弾した導電性材料を含む機能液が流動する幅Ｗ２の第２の領域１４０ｂが存在している場合には、幅の比Ｗ１／Ｗ２は１に近いほど好ましい。これは、高表面エネルギー領域の第１の領域１４０ａ上に供給された導電性材料を含む機能液の内部圧力（いわゆるラプラス圧）と第２の領域１４０ｂ上に自己流動した導電性材料を含む機能液の内部圧力の差が小さい方が好ましいからである。但し、インクジェット装置から吐出された導電性材料を含む機能液の着弾精度の観点からは、第１の領域１４０ａの幅Ｗ１は広くする必要があり、微細配線の観点からは、第２の領域１４０ｂの幅Ｗ２は第１の領域１４０ａの幅Ｗ１よりも狭い方が好ましい。
【００４６】
次に、ステップ１０６（Ｓ１０６）において、基板１２０表面の濡れ性変化層１３０の高表面エネルギー領域１４０に対向して対向基板を設置する。これは、図４（ｃ）に示すように、高表面エネルギー領域１４０の表面の少なくとも一部を覆うように対向基板１７０を併設するものである。濡れ性変化層１３０と対向基板１７０との距離は、ビーズやフィルム等のスペーサーを設置する方法や、上方より機械的に対向基板１７０を支持する方法により設定される。図６は、このような対向基板１７０を併設するための治具を示す。この治具を用いて、ステージ１９１上に基板１２０を濡れ性変化層１３０が上になるように設置し、対向基板１７０を支持棒１９２により固定し、支持棒１９２の高さを調節するための微動Ｚ軸調整手段１９３により、基板１２０と対向基板１７０との間隔Ｗを調整することができる。また、このような治具を用いることにより、高表面エネルギー領域１４０上に導電性材料を含む機能液を供給する際には、間隔Ｗを狭くした状態とし、導電性材料を含む機能液が対向基板１７０に接触した後には、次第に間隔Ｗを広げることにより、より多くの導電性材料を含む機能液を供給することが可能となる。
【００４７】
基板１２０上の濡れ性変化層１３０表面から対向基板１７０までの最初に設定される距離は、濡れ性変化層１３０に形成される高表面エネルギー領域の幅と、導電性材料を含む機能液と高表面エネルギー領域との界面の相互作用、導電性材料を含む機能液の物性等に依存して定まる。即ち、濡れ性変化層１３０に形成される高表面エネルギー領域１４０が保持できる導電性材料を含む機能液の高さを超えて、基板１２０上の濡れ性変化層１３０と対向基板１７０との間隔を設定することはできない。言い換えれば、高表面エネルギー領域１４０の幅と、高表面エネルギー領域１４０と低表面エネルギー領域１５０との境界での導電性材料を含む機能液の許容できる接触角より、導電性材料を含む機能液の高さの最大値が定まり、基板１２０上の濡れ性変化層１３０表面から対向基板１７０までの距離は、この最大値を超えて設定すると、本実施の形態を実現することができなくなってしまうのである。
【００４８】
しかしながら、導電性材料を含む機能液を供給し、メニスカス現象により導電性材料を含む機能液により、高表面エネルギー領域１４０と対向基板１７０との間で液体架橋を形成すると、基板１２０上の濡れ性変化層１３０表面から対向基板１７０までの距離は、上記最大値を超えて設定することが可能となる。
【００４９】
本実施の形態では、基板１２０上の濡れ性変化層１３０表面から対向基板１７０までの距離は、１００ｎｍ〜１５０μｍ程度であることが好ましい。
【００５０】
対向基板１７０を構成する材料の材質は、剛性を有するガラス基板やステンレス等の金属基板又は、剛性を有する部材に固定された柔軟性を有する基板、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリイミド（ＰＩ）、ポリエーテルサルフォン（ＰＥＳ）、ポリシリコーン等のポリマー基板材料が好ましい。
【００５１】
また、対向基板１７０において撥液（撥水）性を付与する加工方法としては、ガラス基板表面に撥水性基を有するシランカップリング剤等の表面処理剤を用いる方法やフルオロ基を有する高分子材料を含む撥水コート剤を用いる方法が挙げられる。また、親液（親水）性を付与する加工方法としては、酸素・アルゴンガス等のプラズマ表面改質処理、ＵＶオゾン照射処理等が挙げられる。
【００５２】
また、対向基板１７０の表面に対向して対向基板濡れ性変化層を形成してもよい。図５に基づき説明すると、基板１２０上の濡れ性変化層１３０には、高表面エネルギー領域１４０が形成されており、高表面エネルギー領域１４０は、幅Ｗ１の第１の領域１４０ａと幅Ｗ２の第２の領域１４０ｂにより構成されている。第１の領域１４０ａの幅Ｗ１は、第２の領域１４０ｂの幅Ｗ２よりも広く形成されている。尚、第１の領域１４０ａと接続される第２の領域１４０ｂは複数であってもよい。対向基板１７０は、対向濡れ性変化層１７１の形成されており、この面が基板１２０における濡れ性変化層１３０と向き合うように設置される。対向基板１７０における対向基板濡れ性変化層１７１には予め紫外線照射により、対向基板高表面エネルギー領域１７２が形成されており、基板１２０上の濡れ性変化層１３０の高表面エネルギー領域１４０の第２の領域１４０ａと、対向基板１７０の対向基板濡れ性変化層１７０における対向基板高表面エネルギー領域１７２とが対向するように配置される。
【００５３】
対向基板濡れ性変化層１７１は、ガラス基板等からなる対向基板１７０上に、基板１２０上に濡れ性変化層１３０を形成した場合と同様に、濡れ性機能材料を含む溶液をスピンコート法により塗布することにより形成する。対向基板高表面エネルギー領域１７２は、この後、フォトマスクを用いて紫外光を照射することにより、紫外光が照射された領域が高表面エネルギー状態となり、対向基板高表面エネルギー領域１７２が形成される。また、対向基板１７０としてガラス基板の表面にシランカップリング剤等により撥水性発現する表面改良処理を施し、フォトマスク等を用いてエネルギー照射を行ない、エネルギー照射された領域の親水化処理がなされ、これにより対向基板高表面エネルギー領域１７２を形成してもよい。
【００５４】
次に、ステップ１０８（Ｓ１０８）において、導電性材料を含む機能液を供給する。具体的には、対向基板１７０で覆われていない基板１２０上の濡れ性変化層１３０の高表面エネルギー領域１４０に導電性材料を含む機能液を滴下する。これにより、図４（ｄ）に示されるように、導電性材料を含む機能液１６０は、基板１２０上の濡れ性変化層１３０の高表面エネルギー領域１４０と対向基板１７０との間で液体架橋を形成する。導電性材料を含む機能液としては、Ａｇ、Ａｕ、Ｃｏ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｉｎ、Ｉｒ、Ｍｎ、Ｍｏ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｒｈ、Ｒｕ、Ｓｎ、Ｗ、Ｚｎ等の金属微粒子が分散されたナノ微粒子インク又はポリアニリン（ＰＡＮＩ）、ポリエチレンジオキシチオフェンをポリスチレンスルホネートに溶解させたＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ等の導電性高分子分散インク等を用いることが可能である。導電性材料を含む機能液を供給する方法としては、インクジェット法やマイクロディスペンス法等による滴下が挙げされる。これらの方法は、所望量の導電性材料を含む溶液を滴下することができるため適している。特に、インクジェット法は、微細な配線を形成するために導電性材料を含む機能液の供給量の微調整が可能であることから好ましい。インクジェット法を用いた場合には、インクジェット装置の液滴吐出ヘッドからの吐出の安定のため、導電性材料を含む機能液の表面張力は２０ｍＮ／ｍ以上、５０ｍＮ／ｍ以下、粘度は２ｍＰａ・ｓ以上、５０ｍＰａ・ｓ以下であることが好ましい。
【００５５】
次に、ステップ１１０（Ｓ１１０）において、導電性材料を含む機能液を乾燥させる。このように、導電性材料を含む機能液１６０を乾燥させることにより導電層１８０が形成される。尚、導電性材料を含む機能液が硬化剤を含むものである場合には、熱や光を与えることにより生じる反応により導電性材料を含む機能液を硬化させることができる。硬化剤としては、２液混合型エポキシ系樹脂等の熱硬化型や光硬化型ポリイミド系樹脂等の耐熱性を有しているものが好ましい。乾燥又は加熱による硬化の方法としては、オーブン等による対流伝熱方式、ホットプレート等を利用した伝導伝熱方式、遠赤外線やマイクロ波を用いた輻射伝熱方式等を用い、選択した材料に応じた温度により乾燥又は加熱することが可能である。また、導電性材料を含む機能液の乾燥を促進するために、対向基板１７０において、基板１２０上の濡れ性変化層１３０の高表面エネルギー領域１４０に対向していない部分に、通気のための複数の貫通する穴や溝を設けることが好ましい。
【００５６】
次に、ステップ１１２（Ｓ１１２）において、対向基板１７０を除去する。図４（ｆ）に対向基板１７０が除去された後の状態を示す。基板１２０上の濡れ性変化層１３０の高表面エネルギー領域１４０上に導電層１７０が形成される。
【００５７】
これにより、本実施の形態における積層構造体が作製される。
【実施例】
【００５８】
以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されて解釈されるものではない。
【００５９】
（実施例１）
実施例１として本実施の形態に係る積層構造体を作製した。本実施例について図７及び図８に基づき説明する。図７（ａ）は、実施例１の積層構造体の製造工程の一部を示す上面図であり、図７（ｂ）は、破線７Ａ１−７Ａ２において切断した断面図であり、図７（ｃ）は、破線７Ｂ１−７Ｂ２において切断した断面図であり、図７（ｄ）は、破線７Ｃ１−７Ｃ２において切断した断面図である。また、図８（ａ）は、実施例１の積層構造体の製造工程の一部を示す上面図であり、図８（ｂ）は、破線８Ａ１−８Ａ２において切断した断面図であり、図８（ｃ）は、破線８Ｂ１−８Ｂ２において切断した断面図であり、図８（ｄ）は、破線８Ｃ１−８Ｃ２において切断した断面図である。
【００６０】
ガラス基板２２０上に濡れ性機能材料を含むＮＭＰ溶液をスピンコート法により塗布し、１００℃で前焼成、２００℃で１時間本焼成を行なうことにより厚さ５００ｎｍの濡れ性変化層２３０を形成した。尚、濡れ性機能材料としては、側鎖に疎水基を有するポリイミド材料を用いた。
【００６１】
このように形成した濡れ性変化層２３０表面において露光を行なった。具体的には、超高圧水銀灯を光源として、可視光吸収色ガラスフィルター、所定のパターンの形成されたフォトマスクを介して、波長３００ｎｍ以下の紫外光を照射することにより行なった。これにより、濡れ性変化層２３０の紫外光の照射された領域においては、側鎖の一部が分断されることにより親液性を示す高表面エネルギー領域２４０が形成され、濡れ性変化層２３０の表面には高表面エネルギー領域２４０と低表面エネルギー領域２５０からなるパターンが形成される。
【００６２】
濡れ性変化層２３０の表面の高表面エネルギー領域２４０は、幅が２ｍｍで形成された第１の領域２４０ａと、幅が１ｍｍで形成された第２の領域２４０ｂにより構成されている。
【００６３】
次に、対向基板２７０となるガラス基板を準備し、中性洗剤を用いた超音波洗浄を行なうとともに十分に水洗いし、更に１２０℃のオーブンでガラス基板の表面に吸着している水分を除去した後、酸素プラズマ処理により対向基板２７０の表面の有機物を除去した。
【００６４】
次に、基板２２０上の濡れ性変化層２３０の高表面エネルギー領域２４０の第２の領域２４０ｂの一部を覆うように５０μｍの距離を隔てて対向基板２７０を設置した。基板２２０と対向基板２７０との距離の制御には、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）からなるフィルムスペーサー２８０を用いた。
【００６５】
次に、図８に示すように、導電性材料を含む機能液２６０として、ナノ銀インクを塗れ性変化層２３０の高表面エネルギー領域２４０の第１の領域２４０ａ上にマイクロディスペンサー２９０を用いて、０．１マイクロリットル（μＬ）ずつ滴下した。滴下量は濡れ性変化層２３０の高表面エネルギー領域２４０の面積より算出し、ナノ銀インクが低表面エネルギー領域２５０上に溢れない量とした。ナノ銀インクが十分に濡れ広がるまで室温で保持した後、大気中１００℃のオーブンで前焼成し、その後、大気中２００℃のオーブンで１時間本焼成を行なった。
【００６６】
この後、対向基板２７０を除去した。
【００６７】
以上の方法により、実施例１となる積層構造体を作製した。
【００６８】
（実施例２）
実施例２として本実施の形態に係る積層構造体を作製した。
【００６９】
本実施例は、対向基板２７０として、ガラス基板の表面にフルオロ基を有する高分子材料を含む撥水コート剤を浸漬処理により均一に塗布し、室温大気中で溶媒を揮発させたものを作製したものを用いた。この対向基板２７０を用いて、実施例１と同様の方法により実施例２となる積層構造体を作製した。
【００７０】
（実施例３）
実施例３として本実施の形態に係る積層構造体を作製した。本実施例について図９に基づき説明する。図９（ａ）は、本実施例の積層構造体の製造工程を示す上面図であり、図９（ｂ）は、破線９Ａ１−９Ａ２において切断した断面図であり、図９（ｃ）は、破線９Ｂ１−９Ｂ２において切断した断面図であり、図９（ｄ）は、破線９Ｃ１−９Ｃ２において切断した断面図である。
【００７１】
本実施例は、ガラス基板２２０上に濡れ性機能材料を含むＮＭＰ溶液をスピンコート法により塗布し、１００℃で前焼成、２００℃で１時間本焼成を行なうことにより厚さ５００ｎｍの濡れ性変化層２３０を形成した。尚、濡れ性機能材料としては、側鎖に疎水基を有するポリイミド材料を用いた。
【００７２】
このように形成した濡れ性変化層２３０表面において露光を行なった。具体的には、超高圧水銀灯を光源として、可視光吸収色ガラスフィルター、所定のパターンの形成されたフォトマスクを介して、波長３００ｎｍ以下の紫外光を照射することにより行なった。これにより、濡れ性変化層２３０の紫外光の照射された領域においては、側鎖の一部が分断されることにより親液性を示す高表面エネルギー領域２４０が形成され、濡れ性変化層２３０の表面には高表面エネルギー領域２４０と低表面エネルギー領域２５０からなるパターンが形成される。
【００７３】
濡れ性変化層２３０の表面の高表面エネルギー領域２４０は、幅が２ｍｍで形成された第１の領域２４０ａと、幅が１ｍｍで形成された第２の領域２４０ｂにより構成されている。
【００７４】
また、対向基板２７０となるガラス基板上に、実施例１において濡れ性変化層２３０を形成する際に用いたものと同じ濡れ性機能材料を含むＮＭＰ溶液をスピンコート法により塗布し、１００℃で前焼成、２００℃で１時間本焼成を行ない、対向基板２７０上に厚さ５００ｎｍの対向基板濡れ性変化層２７１を形成した。
【００７５】
この対向基板濡れ性変化層２７１の表面に、超高圧水銀灯を光源とし、可視光吸収色ガラスフィルター、所定のパターンの形成されたフォトマスクを介して、波長３００ｎｍ以下の紫外光を照射し露光を行なうことにより、紫外光が照射された領域に対向基板高表面エネルギー領域２７２を形成した。これにより、対向基板２７０上の濡れ性変化層２７１の表面に、対向基板高表面エネルギー領域２７２と対向基板低表面エネルギー領域２７３が形成された。尚、対向基板濡れ性変化層２７１に形成された対向基板高表面エネルギー領域２７２の幅は１ｍｍである。
【００７６】
次に、図９に示すように対向基板２７０と基板２２０の濡れ性変化層２３０との間隔が５０μｍになるよう設置した。具体的には、基板２２０上の濡れ性変化層２３０の高表面エネルギー領域２４０の第２の領域２４０ｂと対向基板２７０上の対向基板濡れ性変化層２７１の対向基板高表面エネルギー領域２７２とが対向するように設置した。この際、基板２２０上の濡れ性変化層２３０の高表面エネルギー領域２４０の第２の領域２４０ｂの一部を覆うように対向基板２７０を設置した。尚、基板２２０と対向基板２７０との距離の制御には、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムスペーサーを用いた。
【００７７】
上記以外については、実施例１と同様の方法により実施例３となる積層構造体を作製した。
【００７８】
（実施例４）
実施例４として本実施の形態に係る積層構造体を作製した。本実施例について図１０に基づき説明する。図１０（ａ）は、本実施例の積層構造体の製造工程の一部を示す上面図であり、図１０（ｂ）は、本実施例に用いられる対向基板の斜視図であり、
図１０（ｃ）は、破線１０Ａ１−１０Ａ２において切断した断面図であり、図１０（ｄ）は、破線１０Ｂ１−１０Ｂ２において切断した断面図であり、図１０（ｅ）は、破線１０Ｃ１−１０Ｃ２において切断した断面図である。
【００７９】
本実施例は、図１０（ｂ）に示すように、対向基板２７０としてガラス基板の表面に少なくとも３本以上の０．９ｍｍ角のガラス角棒を対向基板２７０に対し先端が同じ高さになるように２液硬化型エポキシ接着剤により接着し、大気中８０℃のオーブンで焼成し硬化させた。その後、中性洗剤を用いて超音波洗浄を施し十分に水洗した。更に、１２０℃のオーブンにより吸着した水分を乾燥させ、突起部となる矩形の凸部２７４を有する対向基板２７０を作製した。
【００８０】
次に、対向基板２７０の矩形の凸部２７４と基板２２０の濡れ性変化層２３０との間隔が５０μｍになるよう設置した。具体的には、基板２２０上の濡れ性変化層２３０の高表面エネルギー領域２４０の第２の領域２４０ｂと対向基板２７０に形成された矩形の凸部２７４とが対向するように設置した。この際、基板２２０上の濡れ性変化層２３０の高表面エネルギー領域２４０の第２の領域２４０ｂの一部を覆うように対向基板２７０を設置した。尚、基板２２０と対向基板２７０との距離の制御には、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムスペーサーを用いた。
【００８１】
上記以外については、実施例１と同様の方法により実施例４となる積層構造体を作製した。
【００８２】
（実施例５）
実施例５として本実施の形態に係る積層構造体を作製した。本実施例について図１１に基づき説明する。図１１（ａ）は、本実施例の積層構造体の製造工程の一部を示す上面図であり、図１１（ｂ）は、本実施例に用いられる対向基板の斜視図であり、
図１１（ｃ）は、破線１１Ａ１−１１Ａ２において切断した断面図であり、図１１（ｄ）は、破線１１Ｂ１−１１Ｂ２において切断した断面図であり、図１１（ｅ）は、破線１１Ｃ１−１１Ｃ２において切断した断面図である。
【００８３】
本実施例は、図１１（ｂ）に示すように、対向基板２７０としてガラス基板の表面に少なくとも３本以上の金属からなる三角柱状の棒を、対向基板２７０に対し先端が同じ高さになるように２液硬化型エポキシ接着剤により接着し、大気中８０℃のオーブンで焼成し硬化させた。その後、中性洗剤を用いて超音波洗浄を施し十分に水洗した。更に、１２０℃のオーブンにより吸着した水分を乾燥させ、突起部となる三角柱状の凸部２７６を有する対向基板２７０を作製した。
【００８４】
次に、対向基板２７０の三角柱状の凸部２７６と基板２２０の濡れ性変化層２３０との間隔が５０μｍになるよう設置した。具体的には、基板２２０上の濡れ性変化層２３０の高表面エネルギー領域２４０の第２の領域２４０ｂと対向基板２７０に形成された三角柱状の凸部２７６の稜線とが対向するように設置した。この際、基板２２０上の濡れ性変化層２３０の高表面エネルギー領域２４０の第２の領域２４０ｂの一部を覆うように対向基板２７０を設置した。尚、基板２２０と対向基板２７０との距離の制御には、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムスペーサーを用いた。
【００８５】
上記以外については、実施例１と同様の方法により実施例５となる積層構造体を作製した。
【００８６】
（実施例６）
実施例６として本実施の形態に係る積層構造体を作製した。
【００８７】
本実施例は、実施例３と同様の方法により、基板２２０上の濡れ性変化層２３０に形成される高表面エネルギー領域２４０の第２の領域２４０ｂの幅が２５０μｍとなるものを作製し、対向基板２７０として、対向基板２７０上の対向基板濡れ性変化層２７１に形成された対向基板高表面エネルギー領域２７２の幅は２５０μｍとしたものである。
【００８８】
上記以外については、実施例３と同様の方法により実施例６となる積層構造体を作製した。
【００８９】
（比較例１）
比較例１として、下記の方法により積層構造体を作製した。比較例１について図１２に基づき説明する。図１２（ａ）は、比較例１の積層構造体の製造工程の一部を示す上面図であり、図１２（ｂ）は、破線１２Ａ１−１２Ａ２において切断した断面図であり、図１２（ｃ）は、破線１２Ｂ１−１２Ｂ２において切断した断面図であり、図１２（ｄ）は、破線１２Ｃ１−１２Ｃ２において切断した断面図である。
【００９０】
図１２に示すように、ガラス基板３２０上に濡れ性機能材料を含むＮＭＰ溶液をスピンコート法により塗布し、１００℃で前焼成、２００℃で１時間本焼成を行なうことにより厚さ５００ｎｍの濡れ性変化層３３０を形成した。尚、濡れ性機能材料としては、側鎖に疎水基を有するポリイミド材料を用いた。
【００９１】
このように形成した濡れ性変化層３３０表面において露光を行なった。具体的には、超高圧水銀灯を光源として、可視光吸収色ガラスフィルター、所定のパターンの形成されたフォトマスクを介して、波長３００ｎｍ以下の紫外光を照射することにより行なった。これにより、濡れ性変化層３３０の紫外光の照射された領域においては、側鎖の一部が分断されることにより親液性を示す高表面エネルギー領域３４０が形成され、濡れ性変化層３３０の表面には高表面エネルギー領域３４０と低表面エネルギー領域３５０からなるパターンが形成される。
【００９２】
濡れ性変化層３３０の表面の高表面エネルギー領域３４０は、幅が２ｍｍで形成された第１の領域３４０ａと、幅が１ｍｍで形成された第２の領域３４０ｂにより構成されている。
【００９３】
次に、導電性材料を含む機能液３６０として、ナノ銀インクを塗れ性変化層３３０の高表面エネルギー領域３４０の第１の領域３４０ａ上にマイクロディスペンサー３９０を用いて、０．１マイクロリットル（μＬ）ずつ滴下した。滴下量は濡れ性変化層２３０の高表面エネルギー領域３４０の面積より算出し、ナノ銀インクが低表面エネルギー領域３５０上に溢れない量とした。ナノ銀インクが十分に濡れ広がるまで室温で保持した後、大気中１００℃のオーブンで前焼成し、その後、大気中２００℃のオーブンで１時間本焼成を行なった。
【００９４】
以上の方法により、比較例１となる積層構造体を作製した。
【００９５】
以上、実施例１〜５、比較例１の積層構造体について、導電性材料を含む機能液の流動現象の評価を行なった。具体的には、ナノ銀インクのパターン性（高表面エネルギー領域全体に導電性材料を含む機能液が広がるまでの時間）、供給したナノ銀インクの供給量、ナノ銀インクの乾燥後の膜厚について評価し、この結果を表１に示す。
【００９６】
【表１】
2010141048.tif 000003
ナノ銀インクのパターン性は、導電性材料を含む機能液の供給速度や濡れ性変化層の表面エネルギー差がある部分でのナノ銀インクの保持性能より比較、評価を行なった。また、ナノ銀インクの供給量については、高表面エネルギー領域からナノ銀インクが低表面エネルギー領域に溢れることなく、高表面エネルギー領域に保持可能なナノ銀インク量より比較、評価を行なった。更に、ナノ銀インクの乾燥後の膜厚については、乾燥後のナノ銀インクの厚さを実測し比較、評価を行なった。
【００９７】
この結果を表１に示す。表１において、×は不良、△はやや良好、○は良好、◎は最良を示す。これより、ナノ銀インクのパターン性については、比較例１の積層構造体の場合は不良であるのに対して、実施例１〜６の積層構造体の場合は、やや良好、良好または最良であった。特に、実施例３〜５の積層構造体の場合においては、比較例の積層構造体の場合に比べて、ナノ銀インクが高表面エネルギー領域全体に広がる時間は、１／１０程度であった。このことは、実施例１〜５の積層構造体の場合においては、高表面エネルギー領域と対向基板との間隙で、導電性材料を含む機能液に効果的に毛細管現象が働いていたことを示すものである。
【００９８】
また、ナノ銀インクの供給量については、比較例１の積層構造体の場合は不良であるのに対して、実施例１〜６の積層構造体の場合は、良好または最良であった。特に、実施例３〜５の積層構造体の場合においては、比較例の積層構造体の場合に比べて、１０倍程度のナノ銀インクを供給することが可能であった。このことは、実施例１〜５の積層構造体の場合においては、対向基板を設けることにより、ナノ銀インクのメニスカス現象により、導電性材料を含む機能液を多く供給することが可能であることを示すものである。
【００９９】
また、導電性材料を含む機能液より形成される導電層は、対向基板を設けることによって、ナノ銀インクのパターン性を高め、ナノ銀インクの供給量を増やすことができることから、厚い導電層を形成することができ、配線抵抗を低減することができる。即ち、膜厚に関しては、比較例１の積層構造体の場合は不良となるのに対して、実施例１〜６の積層構造体の場合は、良好または最良となる。
【０１００】
尚、実施例３と実施例６は、基板２２０の濡れ性変化層２３０の高表面エネルギー領域２４０の第２の領域２４０ａの幅と、対向基板２７０の対向基板濡れ性変化層２７１の対向基板高表面エネルギー領域２７２の幅がともに異なる場合であり、実施例３の積層構造体では１ｍｍとし、実施例６の積層構造体は２５０μｍとしたものであるが、実施例３の積層構造体に対し、実施例６の積層構造体の方は若干劣るものの、良好な結果が得られており、高表面エネルギー領域２４０の第２の領域２４０ａの幅を狭めても良好な結果を得ることができることが確認された。
【０１０１】
以上より、実施例１〜６については、比較例１に対し良好である旨の効果が確認された。
【０１０２】
（実施例７）
実施例７は、有機薄膜トランジスタの形成方法に関するものである。図１３に基づき本実施例について説明する。
【０１０３】
最初に、図１３（ａ）に示すように、ガラス基板４２０上にゲート電極４２１を形成する。具体的には、ガラス基板４２０を、中性洗剤を用いて超音波洗浄を施し十分に水洗した。この後、１２０℃のオーブンによりガラス基板に吸着している水分を乾燥させ除去した後、酸素プラズマ処理により基板表面の有機物を除去した。この後、ガラス基板４２０上にステンレス製のシャドーマスクを用いてアルミニウムを蒸着源として、幅が５．５ｍｍ、長さが４０ｍｍ、膜厚が１００ｎｍのゲート電極４２１を形成した。
【０１０４】
次に、図１３（ｂ）に示すように、濡れ性機能材料を含むＮＭＰ溶液をガラス基板４２０のゲート電極４２１の形成されている面にスピンコート法により塗布し、１００℃で前焼成し、２００℃で１時間本焼成を行ない５００ｎｍの厚さの濡れ性変化層４３０を形成した。この濡れ性機能材料には側鎖に疎水性基を有するポリイミド材料を用いており、高絶縁性のゲート絶縁膜を兼ねるものである。
【０１０５】
次に、図１３（ｃ）に示すように、濡れ性変化層４３０の表面に高表面エネルギー領域４４０と低表面エネルギー領域４５０とを形成した。具体的には、超高圧水銀灯を光源とし、可視光吸収色ガラスフィルター及び所定のパターンが形成されたフォトマスクを介して、波長３００ｎｍ以下の紫外光を照射し露光を行なった。濡れ性変化層４３０の表面の紫外光の照射された領域は、側鎖の一部が分断されて親液性を示す高表面エネルギー状態となる。これにより、濡れ性変化層４３０の表面には、高表面エネルギー領域４４０と低表面エネルギー領域４５０からなるパターンが形成される。図１４に示すように、高表面エネルギー領域４４０には、幅の異なる２つの領域により形成される。即ち、幅が２ｍｍで形成された第１の領域４４０ａと、長さが５ｍｍ、幅が２５０μｍで形成された第２の領域４４０ｂにより構成されている。また、隣接する高表面エネルギー領域４４０間の最短の間隔Ｓは、１００μｍである。
【０１０６】
次に、図１３（ｄ）に示すように、対向基板４７０を設置した。尚、図１３（ｄ）は、図１４における破線１４Ａ１−１４Ａ２において切断した断面の様子を示すものである。この対向基板４７０は、ガラス基板に少なくとも４本以上の長さ５ｍｍの金属製三角柱を対向基板４７０面より高さが同じとなるように２液硬化型エポキシ接着剤で接着し、大気中で８０℃のオーブンで焼成し硬化させたものである。その後、中性洗剤を用いた超音波洗浄を施し十分に水洗した。さらに、１２０℃のオーブンで吸着した水分を乾燥させて除去し、三角柱状の凸部４７６を有する対向基板４７０を作製したものである。このように形成された対向基板４７０をガラス基板４２０上の濡れ性変化層４３０の高表面エネルギー領域４４０の第２の領域４４０ｂと、対向基板４７０に形成された三角柱状の凸部４７６の稜線が対向するように設置した。この際、濡れ性変化層４３０の高表面エネルギー領域４４０の第２の領域４４０ｂの一部を覆うように対向基板４７０を設置した。
【０１０７】
次に、図１３（ｅ）に示すように、導電性材料を含む機能液４６０であるナノ銀インクを塗れ性変化層４３０の高表面エネルギー領域４４０の第１の領域４４０ａにマイクロディスペンサーを用いて、０．１μＬずつ滴下した。滴下量は濡れ性変化層４３０における高表面エネルギー領域４４０の面積により算出し、ナノ銀インクが低表面エネルギー領域４５０に溢れない量とした。導電性材料を含む機能液４６０であるナノ銀インクが高表面エネルギー領域４４０の全体に濡れ広がるまで室温で保持した後、大気中１００℃のオーブンで前焼成し、この後、２００℃のオーブンで１時間本焼成を行なった。
【０１０８】
次に、図１３（ｆ）に示すように、対向基板４７０を除去した。これにより、ガラス基板４２０の表面に導電層であるソース電極４８１及びドレイン電極４８２が形成される。
【０１０９】
次に、図１３（ｇ）に示すように、有機半導体材料を溶解したトルエン溶液を一対のソース電極４８１とドレイン電極４８２の間にインクジェット法により供給し、溶媒を乾燥させることにより、有機半導体層４８３を形成した。
【０１１０】
以上の方法により、実施例７となる有機薄膜トランジスタを作製した。
【０１１１】
実施例７の有機トランジスタの動作の確認を行なったところ、金蒸着によりソース電極及びドレイン電極を形成した場合と比較して同等のトランジスタ特性が確認された。
【０１１２】
また、本発明の実施に係る形態について説明したが、上記内容は、発明の内容を限定するものではない。
【図面の簡単な説明】
【０１１３】
【図１】本実施の形態を説明するための説明図
【図２】本実施の形態の原理を説明するための説明図
【図３】本実施の形態に係る積層構造体の製造方法のフローチャート
【図４】本実施の形態に係る積層構造体の製造方法の工程図
【図５】本実施の形態に係る積層構造体の製造方法の状態を示す斜視図
【図６】本実施の形態に係る積層構造体の製造方法に用いられる治具の斜視図
【図７】実施例１における積層構造体の製造方法を説明するための概念図（１）
【図８】実施例１における積層構造体の製造方法を説明するための概念図（２）
【図９】実施例３における積層構造体の製造方法を説明するための概念図
【図１０】実施例４における積層構造体の製造方法を説明するための概念図
【図１１】実施例５における積層構造体の製造方法を説明するための概念図
【図１２】比較例１における積層構造体の製造方法を説明するための概念図
【図１３】実施例７における薄膜有機トランジスタの製造方法の工程図
【図１４】実施例７における薄膜有機トランジスタの製造工程における上面図
【符号の説明】
【０１１４】
１２０    基板
１３０    濡れ性変化層
１４０    高表面エネルギー領域
１５０    低表面エネルギー領域
１６０    導電性材料を含む機能液（導電性材料を含む溶液）
１７０    対向基板
１８０    導電層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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