(57)【要約】【課題】圧電セラミックス等の対象物の性能の低下を抑え、載置面の劣化も抑制できる焼成用セッターを提供する。【解決手段】焼成用セッターは、焼成処理が行われるセラミックス成形体で形成された対象物１００が載置される載置面１０をもつセラミックス焼成体を備える。セラミックス焼成体はセリウム酸化物を基材とする。セリウム酸化物は、載置面１０に載置されている対象物との化学的反応性が少ない。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
焼成処理が行われる未焼成または半焼成のセラミックス成形体で形成された対象物が載置される載置面をもつセラミックス焼成体を備える焼成用セッターであって、セリウム酸化物を基材とすることを特徴とする焼成用セッター。
【請求項２】
請求項１において、モル比で、Ａｌ２Ｏ３、Ｃｒ２Ｏ３、Ｆｅ３Ｏ４、ＣａＯ、ＭｇＯ、Ｍｎ３Ｏ４、Ｌａ２Ｏ３、Ｎｄ２Ｏ３、ＳｉＯ２のうちの少なくとも１種を０．１〜３０％含むことを特徴とする焼成用セッター。
【請求項３】
請求項１または２において、前記載置面における平均結晶粒径は、１０〜３００マイクロメートルの範囲内であることを特徴とする焼成用セッター。
【請求項４】
請求項１〜３のうちの一項において、７００〜１７００℃附近において熱伝導度は０．０３ｃａｌ／ｃｍ・ｓｅｃ・℃以下とされていることを特徴とする焼成用セッター。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はセラミックス系の電子材料部品等の対象物を載せて焼成する際に用いられる焼成用セッターに関する。
【背景技術】
【０００２】
圧電セラミックスの焼成を例にとって、従来技術について説明する。ＰＺＴ（ＰｂＺｒＴｉＯ３）等を原料とする圧電セラミックスは、次のように形成されている。即ち、原料粉末を成形して未焼成のセラミックス成形体からなる対象物を形成し、この未焼成の対象物を焼成用セッターの載置面に載置する。そして、対象物を載置した焼成用セッターを焼成炉に装入し、焼成温度（例えば８００〜１４００℃）で所定時間加熱保持して焼成することによって、圧電セラミックスは製造されている。上記した焼成用セッターは、未焼成のセラミックス成形体からなる対象物を載せるための載置面を有する焼成セラミックス体で形成されている。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
産業界では、上記した対象物である圧電セラミックスを焼成するにあたり、圧電セラミックスを焼成する焼成温度はかなり高温であるため、対象物である圧電セラミックスとセッターの載置面との間において拡散、反応が発生するおそれがある。この場合、対象物である圧電セラミックスの性能が低下するおそれがある。更にセッターの載置面も劣化するおそれがある。
【０００４】
本発明は上記した実情に鑑みてなされたものであり、圧電セラミックス等の対象物の性能の低下を抑え、載置面の劣化も抑制できる焼成用セッターを提供することを課題とするにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明に係る焼成用セッターは、焼成処理が行われる未焼成または半焼成のセラミックス成形体で形成された対象物が載置される載置面をもつセラミックス焼成体を備える焼成用セッターであって、セリウム酸化物を基材とすることを特徴とする。セリウム酸化物は、載置面に載置されている対象物との化学的反応性が少ない。殊に、酸化雰囲気においては、載置面に載置されている対象物との化学的反応性が少ない。
【発明の効果】
【０００６】
セリウム酸化物を基材とするため、圧電セラミックス等の対象物とのセッターの載置面との反応性が少なくなる。更に、セッターの載置面における劣化も抑制できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００７】
セリウム酸化物は融点が１９５０℃以上であり、しかも化学的に安定であり、酸化雰囲気中においても極めて安定である。更に硬度は高い。セリウム酸化物はＣｅＯ２であるが、Ｃｅ２Ｏ３が含有されていても良い。ここで、セリウム酸化物を１００モル％とするとき、ＣｅＯ２は９０％以上、９５％以上、９８％以上とすることができる。セッター全体を１００質量％とすると、モル比で、セリウム酸化物（ＣｅＯ２）は８０〜１００％とすることができる。モル比で、Ａｌ２Ｏ３、Ｃｒ２Ｏ３、Ｆｅ３Ｏ４、ＣａＯ、ＭｇＯ、Ｍｎ３Ｏ４、Ｌａ２Ｏ３、Ｎｄ２Ｏ３、ＳｉＯ２、Ｂ２Ｏ３、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２、Ｙ２Ｏ３のうちの少なくとも１種を０．１〜３０％含むことができる。この場合、上記した化合物は焼結助剤としての役割が期待され、セッターの焼結性が確保される。
【０００８】
セッター全体を１００質量％とすると、モル比で、セリウム酸化物（ＣｅＯ２）は８５〜９８％、９０〜９５％とすることができる。この場合、セッターに要請される性質等に応じて、モル比で、Ａｌ２Ｏ３、Ｃｒ２Ｏ３、Ｆｅ３Ｏ４、ＣａＯ、ＭｇＯ、Ｍｎ３Ｏ４、Ｌａ２Ｏ３、Ｎｄ２Ｏ３、ＳｉＯ２、Ｂ２Ｏ３、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２、Ｙ２Ｏ３のうちの少なくとも１種の上限値を２５％、２０％、１５％、１０％、５％、３％、２％含むことができる。
【０００９】
載置面における平均結晶粒径が微細であると、結晶粒界の発生頻度が高まり、結晶粒界が載置面に表出する表出面積および／または表出確率が増加する。結晶粒界は、セリウム酸化物以外の組成を有することが多いため、対象物との反応が促進され、結晶粒界の成分が対象物に拡散し、対象物の本来の性能を低下させるおそれがある。ここで、載置面における平均結晶粒径としては、１０〜３００マイクロメートルの範囲内とすることができる。２０〜２００マイクロメートルの範囲内、３０〜１００マイクロメートルの範囲内とすることができる。あるいは、５０〜３００マイクロメートル、５０〜２００マイクロメートルの範囲内、５０〜１００マイクロメートルの範囲内とすることができる。
【００１０】
ここで、載置面における平均結晶粒径の上限値としては、３００マイクロメートル、２００マイクロメートル、１００マイクロメートル、５０マイクロメートルが例示される。上記した上限値のいずれかと組み合わせ得る平均結晶粒径の下限値としては、１０マイクロメートル、２０マイクロメートル、３０マイクロメートル、４０マイクロメートル、５０マイクロメートルが例示される。なお、平均結晶粒径は出発原料の組成、出発原料の結晶粒径、焼成温度等によって調整できる。
【００１１】
載置面に載置される対象物としては、酸化物系でも、窒化物系でも、炭化物系でも、ホウ化物系でも良い。対象物を焼成する時の雰囲気は適宜洗濯でき、酸化性雰囲気、非酸化性雰囲気、真空雰囲気が例示されるが、酸化性雰囲気が好ましい。
【実施例１】
【００１２】
以下、本発明の実施例１について図１を参照して説明する。焼成用セッターは、焼成処理が行われるセラミックス成形体で形成された対象物１００が載置される載置面１０および載置面１０に背向する裏面１２をもつ平板形状をなすセラミックス焼成体を基材としており、厚みは１〜３ミリメトールの範囲内とされている。載置面１０および裏面１２は平坦な平面状をなし、互いに平行とされている。セッター１は積層可能な突出係合部２を有する。突出係合部２を利用して、対象物１００を載置面１０に載せてセッター１を多段に積層させることができる。セッター１はセリウム酸化物（ＣｅＯ２）を基材としており、セッター圧密成形体を焼成してセッター焼結体を形成するときにおける焼成温度は１４００〜１６００℃、殊に１４５０〜１５５０℃である。セッター１の全体を１００質量％とすると、モル比で、セリウム酸化物（ＣｅＯ２）は９９．９０％以上とされている。載置面１０および裏面１２は、研磨された研磨面とされているが、研磨されていない自然面でも良い。
【００１３】
載置面１０における平均結晶粒径が微細であると、結晶粒界が載置面１０に表出する表出面積および／または表出確率が増加する。結晶粒界は、セリウム酸化物以外の組成を有することが多いため、対象物１００との反応が促進され、結晶粒界の成分が対象物に拡散し、対象物１００の本来の性能を低下させるおそれがある。そこで、載置面１０における平均結晶粒径は、１０〜３００マイクロメートルの範囲内に設定されている。殊に、１０〜２００マイクロメートルの範囲内、３０〜１００マイクロメートルの範囲内に設定されている。ここで、載置面１０における平均結晶粒径の上限値としては、セッター１の用途などによって相違するものの、３００マイクロメートル、２００マイクロメートルが例示され、１００マイクロメートル、５０マイクロメートルが例示される。上記した上限値と組み合わせ得る平均結晶粒径の下限値としては、１０マイクロメートル、２０マイクロメートル、３０マイクロメートル、４０マイクロメートル、５０マイクロメートルが例示される。なお、平均結晶粒径は出発原料の結晶粒径、焼成温度等によって調整できる。
【００１４】
平均結晶粒径については図２に示すように、電子顕微鏡写真（ＳＥＭ）において一直線状をなす１本の対角線を規定し、対角線の長さをＬマイクロメートルとし、その対角線を通る粒子の数をＮとするとき、Ｌ／Ｎ＝平均結晶粒径マイクロメートルとして求めた。
【００１５】
使用時には、焼成処理が行われる未焼成のセラミックス成形体（ＰＺＴ等）で形成された対象物１００をセッター１の載置面１０に載せて状態で、大気雰囲気（酸化性雰囲気）中の焼成炉に装入し、対象物１００を焼成させる。
【００１６】
（試験例）
試験例について説明を加える。先ず、質量比で、セリウム酸化物（ＣｅＯ２）の粉末を９９．９質量部、分散剤（ポリカルボン酸系）を１質量部、有機系のバインダー（ＰＶＡ）を１質量部、溶媒（蒸留水）２０質量部を用意した。これらをボールミルにより所定時間（６時間）混練して混練物であるスラリーを形成した。この場合、粉砕用ボールをミル容量の１／３使用した。
【００１７】
次に、乾燥器としてスプレードライヤーを用い、スラリー供給速度を１リットル／時間とし、アトマイザーの回転数を１００００ｒｐｍ、加熱空気の入口温度１５０℃、加熱空気の出口温度９０℃で造粒した。造粒されたサイズは平均で５０マイクロメートルであった。次に、そのように造粒された粒子を金型のキャビティに投入して常温においてプレス（１ｔｏｎｆ／ｃｍ２）し、板状の圧密成形体（サイズ：１３０ミリメトール×１３０ミリメトール×２ミリメトール）を形成した。この場合、金型のキャビティの投影形状は１２０ミリメートル×１２０ミリメートルである。
【００１８】
次に、大気雰囲気において、圧密成形体を常温から５００℃まで２０℃／時間で昇温させた脱脂し、バインダを除去した。次に、大気雰囲気において、圧密成形体を５００〜１５００℃まで５０℃／時間で昇温させた。その後、酸化雰囲気において圧密成形体を１５００℃において２時間加熱保持して焼成し、焼成体を形成した。その後、焼成体を１００℃／時間で常温附近まで冷却した。セッター１の載置面１０における平均結晶粒径は、１０〜５０マイクロメートルの範囲内であった。
【００１９】
更に、比較例としては、従来より化学的安定性が高いとされているジルコニア（ＰＳＺ）を基材とするセッター１を形成した。実施例１に係るセッター１、比較例に係るセッター１について、高温領域におけるセッター１と対象物１００との反応性を測定した。比較例では、ジルコニア（ＰＳＺ）の載置面１０における平均結晶粒径は１マイクロメートルであった。そして、対象物１００としてＰＺＴを用い、大気雰囲気間焼成炉において対象物１００をセッター１の載置面１０に載置した状態で１０００〜１２００℃で５時間、対象物１００（圧電セラミックス）を加熱して焼成させた。実施例１では、対象物１００（圧電セラミックス）焼成回数が１０回を超えたとしても、セッター１の載置面１０の色変化は無かった。これに対して比較例では、焼成回数が１０回を超えると、セッター１の載置面１０の色変化が認められた。これにより本実施例に係るセッター１は反応性が低いことがわかる。この場合、本実施例に係るセッター１はセリウム酸化物（ＣｅＯ２）を基材とするため、対象物１００を高温領域において加熱して焼成させるときであっても、対象物１００としてのセッター１の載置面１０との反応性が少なくなる。
【実施例２】
【００２０】
以下、本発明の実施例２について説明する。本実施例は実施例１と基本的には同様の構成、作用効果を有するため、図１を準用する。焼成用セッター１は、焼成処理が行われるセラミックス成形体で形成された対象物１００が載置される載置面１０及び裏面１２をもつセラミックス焼成体を基材としている。セリウム酸化物（ＣｅＯ２）を基材とする。モル比で、Ａｌ２Ｏ３、Ｃｒ２Ｏ３、Ｆｅ３Ｏ４、ＣａＯ、ＭｇＯ、Ｍｎ３Ｏ４、Ｌａ２Ｏ３、Ｎｄ２Ｏ３、ＳｉＯ２、Ｂ２Ｏ３、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２、Ｙ２Ｏ３のうちの少なくとも１種を０．１〜３０％含む。焼結助剤として役割を期待できる。セッター圧密成形体を高温で焼成してセッター焼結体を形成するときにおける焼成温度は１４５０〜１５５０℃の範囲内である。セッター１の全体を１００質量％とすると、モル比で、セリウム酸化物（ＣｅＯ２）は９９．９０％以上とされている。載置面１０における平均結晶粒径は実施例１に準じることができる。
【実施例３】
【００２１】
以下、本発明の実施例３について図３を参照して説明する。実施例３は実施例１，２と基本的には同様の構成、作用効果を有する。セッター１は、平らなシート形状またはフィルム形状をなしており、可撓性を有しており、焼成処理が行われるセラミックス成形体で形成された対象物１００が載置される載置面１０及び裏面１２をもつセラミックス焼成体を基材としている。セリウム酸化物（ＣｅＯ２）を基材とする。焼結助剤として、モル比で、Ａｌ２Ｏ３、Ｃｒ２Ｏ３、Ｆｅ３Ｏ４、ＣａＯ、ＭｇＯ、Ｍｎ３Ｏ４、Ｌａ２Ｏ３、Ｎｄ２Ｏ３、ＳｉＯ２、Ｂ２Ｏ３、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２、Ｙ２Ｏ３のうちの少なくとも１種を０．１〜３０％含む。
【００２２】
載置面１０における平均結晶粒径は、実施例１に準じることができ、２〜３０マイクロメートルの範囲内、殊に、６〜２０マイクロメートルの範囲内とすることができる。セッター１の厚みｔ１は対象物１００の厚みｔ２よりも薄く設定されている。但し、場合によっては、セッター１の厚みｔ１は対象物１００の厚みｔ２よりも厚く設定されている。当然ながら、セッター１の厚みｔ１は平均結晶粒径よりも大きいものである。
【００２３】
７００〜１７００℃附近においてセッター１の熱伝導度は、０．０３ｃａｌ／ｃｍ・ｓｅｃ・℃以下、殊に０．０２ｃａｌ／ｃｍ・ｓｅｃ・℃以下と低くされている。このようにセッター１の熱伝導度が低い場合、セッター１の厚みが厚いと、セッター１の均熱化に時間を必要とし、昇温過程時に、セッター１の載置面１０において温度ムラが発生するおそれがある。この場合、セッター１の載置面１０に載せた対象物１００を焼成するとき、対象物１００の温度ムラが誘発され、対象物１００の更なる高品質化には限界がある。
【００２４】
そこで本実施例によれば、セッター１の厚みを１０〜３００マイクロメートルの範囲内、２０〜２００マイクロメートルの範囲内、殊に３０〜１５０マイクロメートルの範囲内に薄く設定している。このようなセッター１は、ドクタブレード法によりブレードの先端とスラリー搬送面との間の隙間を小さくさせることにより形成できる。このようにセッター１の厚みが薄いため、材料コストを低減できる他に、対象物１００をセッター１の載置面１０に載せて対象物１００を焼成させるとき、セッター１において温度ムラが抑制され易くなり、ひいては対象物１００の温度ムラが抑制され易くなり、対象物１００の更なる高品質化を図り得る。更にセッター１の厚みが極薄であるため、セッター１は高い可撓性を有する。このため対象物１００の形状に馴染ませつつ、対象物１００の表面とセッター１の載置面１０とを密着させるのに効果的である。なお、セッター１の熱伝導度は、セッター１の組成、気孔サイズまたは気孔率等によって調整でき、７００〜１７００℃附近においてセッター１の熱伝導度は０．００５ｃａｌ／ｃｍ・ｓｅｃ・℃以下と低くすることもできる。
【実施例４】
【００２５】
以下、本発明の実施例４を説明する。本実施例は実施例１，２，３と基本的には同様の構成、作用効果を有するため、図１〜図３を準用する。セッター１の平坦な載置面１０に載せて焼成させる対象物１００が酸化物系である。この場合、対象物１００をセッター１の載置面１０に載せて焼成させるとき、対象物１００の表面とセッター１の載置面１０とが密着していると、対象物１００が焼成雰囲気中の空気に接触するのが制約され、対象物１００において酸素不足となる部位が発生するおそれがある。この点本実施例によれば、セッター１は、対象物１００の焼成温度に相当する高温領域において酸素イオン伝導性が高いため、セッター１において酸素イオンの拡散が期待され、対象物１００において酸素不足となる部位が低減される。このため酸化物系である対象物１００の焼成品質を高めるのに貢献できる。
【実施例５】
【００２６】
以下、本発明の実施例５について図４を参照して説明する。本実施例は実施例１〜４と基本的には同様の構成、作用効果を有する。セッター１となる圧密成形体は、プレス型４０による加圧成型される。プレス型４０は、成形キャビティ４１をもつ雌型４２と、成形キャビティ４１に装入される雄型４３とを有する。市販の出発原料等のため、セリウム酸化物は緻密体になりにくい傾向がある。そこで、雌型４２の成形キャビティ４１の底面４１ａ、雄型４３のうち底面４１ａに対面する加圧面４３ａは、粗面化処理され、凹凸状の粗面とされている。圧密成形体を加圧成形させるとき、凹凸により空気の排出性が高くなり、圧密成形体の圧縮性および密度比を高めるのに有利であり、ひいてはセッター１の緻密化を図り得、セッター１の強度を更に高めることもできる。このような凹凸の大きさを調整することにより、セッター１の気孔サイズおよび／または気孔率を調整し、セッター１の熱伝導率を調整することも期待できる。従って圧密成形体を焼成したセッター１において、載置面１０および裏面１２には多数の凹凸を有する凹凸部１８が形成される。セッター１の凹凸部１８の表面粗さは、セッター１の厚みにもよるが、Ｒａで、１０〜３００マイクロメートル、２０〜２００マイクロメートル、２０〜１００マイクロメートルにできる。セッター１の厚みは１〜１０ミリメートル程度、２〜５ミリメートル程度にできる。
【実施例６】
【００２７】
以下、本発明の実施例６について図５を参照して説明する。本実施例は実施例１と基本的には同様の構成、作用効果を有する。焼成用セッター１は、未焼成または半焼成のセラミックス成形体で形成された対象物１００（例えばＰＺＴ成形体）が載置される平坦な載置面１０と、載置面１０に背向する平坦な裏面１２とをもつ。セッター１は、対象物１００を載置する載置面１０をもつ焼結セラミックス体で形成された平板状をなしており、載置面１０に設けられた凸状の突出係合部２（セッター１の積層方向における突出高さ：Ｈ１）と、セッター１の裏面１２に設けられ他のセッター１の突出係合部２２の先端部が嵌まって係合する凹状部３（深さ：Ｍ１）とを有する。突出係合部２及び凹状部３は、セッター１に複数個一体的に成形されており、互いに背向して背中合わせとなるように形成されている。突出係合部２はセッター１の長さ方向の縁部に複数個（少なくとも３個）形成されている。凹状部３もセッター１の長さ方向の縁部に複数個（少なくとも３個）形成されている。
【００２８】
図５に示すように、一のセッター１の凸状の突出係合部２と、他のセッタ１の凹状部３との係合により、複数個のセッター１は、上下方向に積層できるようにされている。そしてＰＺＴ成形体等の対象物１００をセッター１の載置面１０に載せた状態で複数個のセッター１を上下方向に積層する。そして、セッター１上の対象物１００を、大気雰囲気を有する焼成炉により高温領域に加熱して焼成処理する。上記したように複数の焼成用セッター１を上下に重ねて使用することにより、上側の焼成用セッター１で、下側の焼成用セッター１の載置面１０上の空間２００は、蓋をされた閉じた空間または閉じた空間に近くなるので、対象物１００がＰｂ等の蒸散しやすい元素を含むセラミックス成形体（例えば未焼成のＰＺＴ成形体）などであっても、その元素の蒸散量が抑えられる利点が期待される。即ち、載置面１０上方の空間２００が狭いので、対象物１００を焼成する際に対象物１００からの僅かの蒸散で、載置面１０上方の空間２００内は飽和蒸気圧に達し易く、それ以上の蒸散が抑制されるので、焼成後の対象物１００（ＰＺＴ）は組成変化が少なく、良好な圧電特性を示すのに有利となる
本実施例では、突出係合部２の突出方向（つまり焼成用セッター１の積層方向）の先端部は、先端に向かうにつれて横断面積（つまり積層方向と直交する方向に沿った断面積）が小さくなるように設定されている。具体的には、突出係合部２は、先端（上端）に向かうにつれて幅狭となるように傾斜する外壁面２０を有すると共に、外壁面２０の先端に設けられ凸状の丸みを帯びる先端丸み部２１を有する。外壁面２０は、円錐形状または疑似円錐形状に沿った形状とされている。凹状部３は、セッター１において、突出係合部２の先端部に係合可能な底面視で円形状をなす凹状空間を有する平坦な凹底面３ｘを備えており、突出係合部２に背向して背中合わせとなるように形成されている。なお、突出係合部２２の製造に際しては、突出係合部２となる部分を有するセッター本体となる圧密体を一体的に成形し、その後、焼成しても良い。あるいは、セッター本体となる圧密体と、突出係合部２となる圧密体とを予め個別に形成し、両者を一体的に加圧圧着し、その後、焼成しても良い。
【００２９】
また突出係合部２２の先端には先端丸み部２１が形成されているため、突出係合部２の先端丸み部２１と他のセッター１との接触面積を小さく抑えることができる。故に、対象物１００を焼成する焼成処理の温度がかなり高温であり、仮に、突出係合部２と他のセッター１とが熱影響で結着するようなときであっても、焼成終了後に突出係合部２を他のセッター１から容易に分離させることができる。
【００３０】
なお、図５に示すように、凹状部の内径Ｄ１は突出係合部２の先端に形成されている先端丸み部２１の外径Ｄ２よりもかなり大きいため、先端丸み部２１をセッター１の載置面１０の面方向（Ｘ１，Ｘ２方向を含む二次元方向）に沿って積極的に位置調整することができる。なお、本実施例によれば、突出係合部２及び凹状部３は互いに背向するように背中合わせで形成されているため、必要に応じて、セッター１を上下逆に反転させて積層させることもできる。
【実施例７】
【００３１】
以下、実施例７について説明する。本実施例は前記した各実施例と基本的には同様の構成、作用効果を有するため、図１〜図５を参照しつつ説明する。セリウム酸化物は酸化雰囲気中では化学的にめて安定しているものの、熱衝撃抵抗性は必ずしも充分ではない。また、セリウム酸化物（ＣｅＯ２）は５００〜１９００℃において比抵抗が低下し、電気伝導体となり易い。このためセッター１の一端部に一方の電極を設置すると共に、セッター１の他端部に他方の電極を設置した状態で、酸化性雰囲気において、電極間に通電してセッター１を発熱させることができる。このため、対象物１００を載せたセッター１を焼成炉に装入して対象物１００を焼成させるにあたり、セッター１自体を通電加熱で所定温度附近まで予熱できるため、セッター１における熱衝撃を緩和できる。ある程度の温度に予熱したセッター１の載置面１０に対象物１００を載せて、酸化性雰囲気をもつ焼成炉において焼成されることもできる。なお文献（焼結セラミックス詳論４，ファインセラミックス，５４８頁，技報堂出版，昭和５１年１月２５日第１刷）によれば、セリア加圧体の比抵抗は空気中において５００℃で５×１０７Ω・ｃｍとされ、１２００℃で２４０Ω・ｃｍとされている。
【実施例８】
【００３２】
以下、実施例８について説明する。本実施例は前記した各実施例と基本的には同様の構成、作用効果を有するため、図１〜図５を参照しつつ説明する。本実施例のセッター１は多数の細孔を有する多孔質体とされている。気孔率は適宜設定できるが、体積比で、１〜１０％とされている。ＣｅＯ２を基材とする圧密成形体を１９５０℃附近において焼成してセッタ１を形成するとき、ＣｅＯ２ が部分解離してＣｅ２Ｏ３と遊離酸素となることがある。この場合、逃げた酸素が気孔の原因となることがある。この場合、セッター１に対象物１００を載せて対象物１００を焼成させるとき、対象物１００等から排出されるガスの排出性を向上させることを期待できる。
【００３３】
（その他）本発明は上記した実施例のみに限定されるものではなく、要旨を逸脱しない範囲内で適宜変更して実施できる。７００〜１７００℃附近においてセッター１の熱伝導度は、０．０１ｃａｌ／ｃｍ・ｓｅｃ・℃以下とすることもできる。
【図面の簡単な説明】
【００３４】
【図１】実施例１に係るセッターを積層した状態を示す断面図である。
【図２】セッターの平均結晶粒径の測定形態を示す説明図である。
【図３】実施例２に係るセッターを積層した状態の要部を示す断面図である。
【図４】実施例５に係るセッターの圧密体を成形する状態の要部を示す断面図である。
【図５】実施例６に係るセッターを積層した状態の要部を示す断面図である。
【符号の説明】
【００３５】
図中、１はセッター、１０は載置面、１２は裏面、１００は対象物を示す。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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