(57)【要約】【課題】アパーチャの熱的影響による変形を抑制することができる光走査装置および画像形成装置を提供する。【解決手段】アパーチャ取付面であるアパーチャ受け面２０５のベース台１０４ａからの高さＨを、光路Ｌのベース台１０４ａからの高さｈよりも高くした。これにより、ベース台１０４ａからアパーチャ受け面２０５までの距離を長くすることができ、アパーチャ固定台２０１から受け面２０５へ熱が導電される過程で、アパーチャ固定台２０１から放出される放熱量を多くできる。よって、受け面２０５の温度上昇を抑えることができ、受け面２０５からアパーチャ１０６へ伝導する熱量を少なくすることができる。その結果、アパーチャ１０６の温度上昇を抑制することができ、アパーチャの熱膨張によるスリット３０１ａ、３０１ｂの変形を抑制することができる。【選択図】図９
2010113194.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源と、前記光源から出射される光ビームを狙いの形状に成形するアパーチャと、該光ビームを偏向走査する偏向走査手段とを収納する光学ハウジングを有し、光源から出射した光ビームによって走査対象物を光走査する光走査装置において、
前記光学ハウジングは、熱伝導性の部材で構成され、前記偏向走査手段が固定されるベース台と、前記ベース台上に設けられ、前記アパーチャが取り付けられるアパーチャ取付面とを有し、
前記アパーチャ取付面の前記ベース台からの高さを、光路の前記ベース台からの高さよりも高くしたことを特徴とする光走査装置。
【請求項２】
請求項１の光走査装置において、
前記アパーチャ取付面は、２次加工で平面度が出された面であることを特徴とする光走査装置。
【請求項３】
請求項２の光走査装置において、
前記アパーチャは、スリットが形成されたスリット面とスリット面から垂直に延びて、前記アパーチャ取付面と当接して、前記アパーチャ取付面が形成された前記アパーチャ固定部に固定されるフランジ面とを有することを特徴とする光走査装置。
【請求項４】
請求項３の光走査装置において、
前記フランジ面にガイド穴を設け、前記アパーチャ固定部に、前記ガイド穴と係合するガイドピンを設けたことを特徴とする光走査装置。
【請求項５】
請求項１乃至４いずれかの光走査装置において、
前記アパーチャ固定部を、前記アパーチャのスリットと対向しない位置に設けたことを特徴とする光走査装置。
【請求項６】
請求項１乃至５いずれかの光走査装置において、
前記ハウジングは、アルミからなることを特徴とする光走査装置。
【請求項７】
請求項１乃至６いずれかの光走査装置において、
前記光源を複数備え、複数の光ビームを射出するマルチビーム光源ユニットを用いたことを特徴とする光走査装置。
【請求項８】
潜像を担持する潜像担持体と、光走査によって該潜像担持体の表面に潜像を形成する光走査手段と、該潜像担持体に担持された潜像を現像する現像手段とを備える画像形成装置において、
上記光走査手段として、請求項１乃至７いずれかの光走査装置を用いたことを特徴とする画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光走査装置および画像形成装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
複写機、プリンタ、ファクシミリ等の画像形成装置の中には、潜像担持体上に画像情報に応じた書込光を偏向走査することにより照射して潜像担持体上に潜像を形成し、この潜像を現像して画像を得るものが知られている（例えば、特許文献１）。書込光を偏向走査する光走査装置は、一般に、レーザーダイオード（ＬＤ）などの光源から照射された光が、光学ハウジングに取り付けられたコリメートレンズやアパーチャによって所定の形状に成形されて回転多面鏡たるポリゴンミラーに入射する。ポリゴンミラーに入射した光は、ポリゴンミラーを備えた偏向走査手段たるポリゴンスキャナによって偏向走査され、結像レンズ等の光学系の部品などを通って、潜像担持体に照射される。光源、アパーチャ、ポリゴンスキャナなどは、光学ハウジングに収納されている。そして、結像レンズなどの光学系の部品にホコリやゴミが付着しないように、光学ハウジングをカバー部材などで覆って光走査装置内を密閉している。光源、アパーチャ、ポリゴンスキャナなどは、光学ハウジングのベース台に取り付けられている。
【０００３】
近年、画像形成速度の高速化や画素密度の高密度化の要求に伴い、ポリゴンミラーを、４００００〜５００００［ｒｐｍ］で高速回転させている。このため、ポリゴンミラーを高速で回転駆動するためのポリゴンモータの軸受部などが発熱する。また、ポリゴンモータの駆動時は、ポリゴンモータを駆動制御するための駆動基板上の電子制御部品も発熱する。光走査装置内は、カバー部材で密閉されているため、ポリゴンモータや駆動基板で発生した熱は、光走査装置内部に篭ってしまい、内部が高温になってしまう。光走査装置内が高温となると、アパーチャなどの光学系の部品が熱変形してしまうおそれがある。光学系の部品が熱変形すると、潜像担持体表面に光を結像できなくなるおそれがある。また、カラー画像形成装置の場合は、各潜像担持体表面への照射位置がずれて、色ずれが生じてしまう。
【０００４】
そこで、従来、光学ハウジングをアルミなどの熱伝導性の高い部材で構成している。これにより、ポリゴンスキャナや駆動基板が取り付けられる光学ハウジングの一部であるベース台が熱伝導性の高い材質となる。その結果、ポリゴンスキャナから発熱した熱が、ベース台へ伝導し、ベース台から光走査装置の外部へ熱を放出させることができる。このように、ポリゴンモータや駆動基板から発生した熱を外部へ放出させることができるので、光走査装置内の温度上昇を抑えることができ、光学系部品の熱変形を抑えることができる。
【特許文献１】特開２００８−１０２２９１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、光学ハウジングのベース台には、ポリゴンスキャナのほか、アパーチャなどが取り付けられている。その結果、ベース台に伝導したポリゴンスキャナなどの熱が、ベース台からアパーチャに伝導して、アパーチャが加熱されてしまう。アパーチャは、樹脂で形成されているため、熱の影響を受けて変形しやすい。このため、ベース台から伝導した熱によってアパーチャが熱変形して光を所定形状に形成するためのスリットの形状が変わってしまう。その結果、アパーチャを通過した光を、狙いの形状に成形することができなくなる。特に、特許文献１に記載のように、アパーチャが、直接ベース台に固定される場合、ベース台からアパーチャに直接熱が伝熱し、アパーチャが早期に加熱されてしまう。その結果、アパーチャが早期に熱変形してしまう。
【０００６】
本発明は以上の問題点に鑑みなされたものであり、その目的は、アパーチャの熱的影響による変形を抑制することができる光走査装置および画像形成装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成するために、請求項１の発明は、光源と、前記光源から出射される光ビームを狙いの形状に成形するアパーチャと、該光ビームを偏向走査する偏向走査手段とを収納する光学ハウジングを有し、光源から出射した光ビームによって走査対象物を光走査する光走査装置において、前記光学ハウジングは、熱伝導性の部材で構成され、前記偏向走査手段が固定されるベース台と、前記ベース台上に設けられ、前記アパーチャが取り付けられるアパーチャ取付面とを有し、前記アパーチャ取付面の前記ベース台からの高さを、光路の前記ベース台からの高さよりも高くしたことを特徴とするものである。
また、請求項２の発明は、請求項１の光走査装置において、前記アパーチャ取付面は、２次加工で平面度が出された面であることを特徴とするものである。
また、請求項３の発明は、請求項２の光走査装置において、前記アパーチャは、スリットが形成されたスリット面とスリット面から垂直に延びて、前記アパーチャ取付面と当接して、前記アパーチャ取付面が形成された前記アパーチャ固定部に固定されるフランジ面とを有することを特徴とするものである。
また、請求項４の発明は、請求項３の光走査装置において、前記フランジ面にガイド穴を設け、前記アパーチャ固定部に、前記ガイド穴と係合するガイドピンを設けたことを特徴とするものである。
また、請求項５の発明は、請求項１乃至４いずれかの光走査装置において、前記アパーチャ固定部を、前記アパーチャのスリットと対向しない位置に設けたことを特徴とするものである。
また、請求項６の発明は、請求項１乃至５いずれかの光走査装置において、前記ハウジングは、アルミからなることを特徴とするものである。
また、請求項７の発明は、請求項１乃至６いずれかの光走査装置において、前記光源を複数備え、複数の光ビームを射出するマルチビーム光源ユニットを用いたことを特徴とするものである。
また、請求項８の発明は、潜像を担持する潜像担持体と、光走査によって該潜像担持体の表面に潜像を形成する光走査手段と、該潜像担持体に担持された潜像を現像する現像手段とを備える画像形成装置において、上記光走査手段として、請求項１乃至７いずれかの光走査装置を用いたことを特徴とするものである。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、アパーチャ取付面のベース台からの高さを、光路のベース台からの高さよりも高くしたので、アパーチャ取付面のベース台からの高さが、光路のベース台からの高さよりも低いものに比べて、ベース台からアパーチャ取付面までの距離を遠くできる。これにより、ベース台から取付面までの熱伝導距離をアパーチャ取付面のベース台からの高さが、光路のベース台からの高さよりも低いものに比べて長くすることができる。その結果、ベース台から取付面へ熱が伝導する過程での放熱量を、アパーチャ取付面のベース台からの高さが、光路のベース台からの高さよりも低いものに比べて、多くでき、アパーチャ取付面に伝導する熱量を低減することができる。その結果、アパーチャ取付面の温度上昇を抑制することができ、アパーチャ取付面からアパーチャに伝導される熱量を低減することができる。よって、アパーチャの温度上昇を抑制することができる。その結果、アパーチャが熱変形するのを抑制することができ、経時にわたりアパーチャを通過した光を、狙いの形状に成形することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
以下、本発明を適用した画像形成装置、光走査装置の実施形態について説明する。
図１は、実施形態に係る画像形成装置を示す概略構成図である。この画像形成装置は、周知の電子写真プロセスによってトナー像を形成するものである。そして、潜像担持体たるドラム状の感光体５０の周りに、帯電装置５１、現像装置５２、転写ローラ５３、クリーニング装置５４等を備えている。感光体５０は、表面に有機感光層が被覆されたものであり、暗中にて図中時計回り方向に回転駆動される。そして、帯電装置５１によって表面が一様帯電せしめられる。一様帯電後の感光体５０表面は、光走査装置１によって光走査されることで、静電潜像を担持する。この静電潜像は、周知の一成分現像方式あるいは二成分現像方式を採用した現像装置５２によって現像されてトナー像になる。
【００１０】
転写ローラ５３は、感光体５０の表面に当接して転写ニップを形成している。この転写ニップにおいては、転写ローラ５３に対して転写バイアスが印加されることで、転写ローラ５３と感光体５０の画像部との間に転写電界が形成される。
【００１１】
画像形成装置の筺体に対しては、記録紙Ｐを複数枚重ねた紙束の状態で収容する給紙カセット５５が着脱されるようになっている。給紙カセット５５内の記録紙Ｐは、給紙ローラ５５ａの回転駆動によって１枚ずつ給紙路に送り出される。そして、給紙路の末端付近に配設されたレジストローラ対５６のレジストニップに挟み込まれる。
【００１２】
レジストローラ対５６は、レジストニップに挟み込んだ記録紙Ｐを、感光体５０上のトナー像に重ね合わせ得るタイミングで、上述した転写ニップに向けて送り出す。転写ニップに挟み込まれた記録紙Ｐには、転写電界やニップ圧の作用により、感光体５０上のトナー像が静電転写される。このようにしてトナー像が転写された記録紙Ｐは、定着装置５７によって表面のトナー像の定着処理が施された後、排紙ローラ対５８を経て、機外のスタックトレイ５９上に排紙される。
【００１３】
転写ニップを通過した後の感光体５０表面には、記録紙Ｐに転写されなかった転写残トナーが付着している。この転写残トナーは、クリーニング装置５４によって感光体５０表面から除去される。その後、感光体５０表面は、図示しない除電ランプによって除電された後、帯電装置５１によって再び一様帯電せしめられる。
【００１４】
図２は、光走査装置１の内部構成を上側から示す構成図であり、図３は、ＬＤユニット周辺の断面図である。本実施形態の光走査装置１は、複数本の光を同時照射して、ポリゴンミラー反射面のほぼ同じ場所に入射させるマルチビーム交差方式の光走査装置である。
光走査装置１は、ＬＤユニット１０３、駆動基板１０２、アパーチャ１０６、シリンドリカルレンズ４０３（図３参照）、ポリゴンスキャナ１０１、ｆθレンズ１０７、湾曲軸型トロイダルレンズ１０８、反射ミラー１１０，１１１などを有し、これらが光学ハウジング１０４に収納されている。
光学ハウジング１０４は、アルミダイキャストで成形されており、上記ＬＤユニット１０３と駆動基板１０２とが取り付けられる光源領域と、ポリゴンスキャナなどが取り付けられる光走査領域とを仕切る仕切り板１０４ｂが設けられている。
【００１５】
マルチビーム光源ユニットたるＬＤユニット１０３は、半導体レーザからなる第１光源４０１ａ及び第２光源４０１ｂ、第１コリメートレンズ４０２ａ、第２コリメートレンズ４０２ｂを有している。ＬＤユニット１０３では、第１光源４０１ａから照射された照射光の光束と第２光源４０１ｂから照射された照射光の光束とが不図示のポリゴンミラー近傍にて交差するように第１光源４０１ａ及び第２光源４０１ｂが装着保持されている。また、第１光源４０１ａ及び第２光源４０１ｂから照射される光は、第１コリメートレンズ４０２ａ及び第２コリメートレンズ４０２ｂによってそれぞれの光軸と焦点とが調節される。ＬＤユニット１０３には第１光源４０１ａと第２光源４０１ｂとが所定の間隔で固定されている。２つの光源が固定されたＬＤユニット１０３は走査光学系に対して回転可能に光学ハウジング１０４に取り付けられており、ＬＤユニット１０３を回転させることによって、感光体５０面上でのビームピッチが調節される。本実施形態においては、１２００[ｄｐｉ]を達成するためにビームピッチが２１．２[μｍ]となるようにＬＤユニット１０３を回転調整してから、光学ハウジング１０４に固定されている。
【００１６】
光源領域に固定されている駆動基板１０２は、ポリゴンモータ１０１ａなどの駆動を制御するもので、光学ハウジング１０４のベース台１０４ａにネジ止めされている。光走査領域には、アパーチャ１０６、シリンドリカルレンズ４０３、ポリゴンスキャナ１０１、ｆθレンズ１０７、湾曲軸型トロイダルレンズ１０８、反射ミラー１１０，１１１などが固定されている。ポリゴンスキャナ１０１は、ポリゴンモータ１０１ａ、回転多面鏡たる不図示のポリゴンミラーなどから構成されており、光学ハウジング１０４のベース台１０４ａに固定されている。アパーチャ１０６には、図４に示すような矩形状のスリットが２つ設けられている。一方のスリット３０１ａ（図８参照）に第１光源４０１ａの光束が通過して、矩形状の光束に整形され、他方のスリット３０１ｂに第２光源４０１ｂの光束が通過して、矩形状の光束に整形される。
【００１７】
図５に示すように、ＬＤユニット１０３に固定された第１光源４０１ａ及び第２光源４０１ｂから出射された光束５０２，５０３は、それぞれコリメートレンズ４０２ａ、４０２ｂを透過した後、ＬＤユニット１０３から出て走査領域内に進入する。そして、アパーチャ１０６で一定の形状に整形された後、シリンドリカルレンズ４０３を透過することで、副走査方向（感光体表面上における感光体表面移動方向に相当する方向）に集光せしめられる。次いで、反射ミラー１１０で反射され、不図示のポリゴンミラー近傍にて交差して、ポリゴンミラーに入射する。ポリゴンミラーに入射した光は、ポリゴンミラーの反射面に反射しながら主走査方向（感光体表面上における軸線方向に相当する方向）に偏向せしめられる。そして、ポリゴンミラーによって一定の角速度で主走査方向に偏向せしめられる光ビームの偏向方向の移動速度を等速に変換するｆθレンズ１０７、面倒れを補正するための湾曲軸型トロイダルレンズ１０８、折り返しミラー１１１を順次経由した後、ハウジング１０４外に放たれて、図示しない感光体の表面に達する。
【００１８】
次に、本実施形態の特徴点について説明する。
ポリゴンスキャナ１０１のポリゴンモータ１０１ａは、光を偏向走査する際、高速で回転するため、軸受部などが発熱する。また、駆動基板１０２上の図示しない電子制御部品も発熱する。このようなポリゴンスキャナ１０１の発熱部たるポリゴンモータ１０１ａや駆動基板１０２上の電子制御部品の発熱によって、光走査装置１内が高温となり、レンズやミラー、アパーチャなどが熱変形し倍率偏差、ビームスポット径、ビームウエスト位置に変化が生じてしまう。ビームウエスト位置の変動は、深度余裕をなくしてしまい感光体像面上で要求されるビームスポット径の仕様を達成するのが難しくなる。このため、本実施形態においては、光学ハウジング１０４をアルミダイキャストで製造し、光学ハウジング１０４を熱伝導性の高いアルミ材料としている。これにより、駆動基板１０２から発生した熱やポリゴンモータ１０１ａで発生した熱が光学ハウジング１０４のベース台１０４ａに伝導し、光学ハウジング１０４から外部へ熱を放熱することができる。その結果、光走査装置１内の温度上昇を抑制することができ、レンズ、ミラー、アパーチャなどの熱変形を抑制することができる。なお、アルミ以外に亜鉛やマグネシウムなど、熱伝導率が１２０〜１６０[W／m℃]の材料で光学ハウジングを形成することで、同様の効果を得ることができる。
ポリゴンモータ１０１ａや駆動基板１０２からベース台１０４ａに伝熱した熱は、図２の矢印のように伝熱する。従来は、図６に示すように、アパーチャ１０６を直接ベース台１０４ａに固定していたため、ポリゴンモータ１０１ａや駆動基板１０２から発生した熱がベース台１０４ａからアパーチャ１０６に伝導し、アパーチャ１０６が加熱されてしまう。アパーチャ１０６は樹脂などの熱変形しやすい材料で成形されるため、アパーチャ１０６が加熱されると、熱膨張によってスリット３０１ａ、３０１ｂの形状が変形してしまう。特に、アパーチャ１０６のスリット３０１ａ、３０１ｂが光軸に対して微小に傾斜していても、スポット径があまり影響を受けないよう、スリット回りをテーパにして薄くしているので、スリット３０１ａ、３０１ｂの回りは、温度上昇しやすく、熱膨張によって変形しやすい。その結果、アパーチャ通過後の光が所望の形状に整形されなくなり、ビームスポット径が変動してしまうなどの不具合が生じてしまう。
そこで、本実施形態の光走査装置１においては、アパーチャ固定台を光学ハウジングに設け、アパーチャ１０６が取り付けられるアパーチャ固定部に設けたアパーチャ取付面たる受け面のベース台１０４ａからの高さを光路のベース台１０４ａからの高さよりも高くしている。以下に、具体的に説明する。
【００１９】
図７は、アパーチャ１０６を光走査装置１に固定する様子を示す斜視図であり、図８は、アパーチャ１０６を装置本体に固定した様子を示す斜視図である。なお、図中のＸ軸方向は、ＬＤユニットからの光進行方向であり、Ｙ軸方向は、上下方向であり、Ｚ軸方向は、Ｘ軸およびＹ軸と直交する方向である。
図７に示すように、仕切り板１０４ｂのＬＤユニット１０３からの光を通過させるための切り欠き部１０４ｃよりもＺ軸方向に離れた位置にアパーチャ固定部たるアパーチャ固定台２０１が設けられている。これにより、アパーチャ固定台２０１がアパーチャ１０６のスリット３０１ａ，３０１ｂと対向することがない。よって、アパーチャ固定台２０１が、スリット３０１ａ，３０１ｂを通過した光を遮ることがない。また、アパーチャ固定台は、図９に示すように、中が空洞となっており、アパーチャ固定台の内周面は、外気と接触している。アパーチャ固定台２０１の上面２０１ａには、アパーチャ取付面たるアパーチャ受け面２０５が設けられている。また、ガイドピン２０２が設けられている。アパーチャ受け面２０５は、２次加工を施して平面度が出された面である。これら受け面２０５の中央には、雌ネジが切られたネジ穴２０６が設けられている。
【００２０】
アパーチャ１０６は、スリット３０１ａ，３０１ｂが形成されたスリット面２０７の上端にフランジ面２０３が設けられており、このフランジ面２０３の両端には、上記ガイドピン２０２が挿入されるガイド穴２０４ａ，２０４ｂが設けられている。第１ガイド穴２０４ａは、図中Ｚ軸方向に延びる長穴となっており、光軸方向（図中Ｘ軸方向）長さは、ガイドピン２０２の直径とほぼ同じ長さとなっている。第２ガイド穴２０４ｂは、ガイドピン２０２の直径とほぼ同じ直径の穴となっている。これらガイド穴２０４ａ，２０４ｂよりも内側には、ネジが貫通するための貫通孔２０８が設けられている。
また、アパーチャ１０６のスリット面２０７の上下方向（図中Ｙ軸方向）の長さは、ベース台１０４ａからアパーチャ受け面２０５までの長さよりも短くなっている。このように構成することで、アパーチャ１０６を固定したとき、アパーチャ１０６のスリット面２０７の下端とベース台１０４ａとの当接を避けることができる（図３参照）。これにより、ベース台１０４ａからアパーチャ１０６へ直接熱が伝熱することがない。また、スリット面２０７のＺ軸方向の長さは、アパーチャ固定台２０１間の長さより短くすることで、アパーチャ固定部２０１からの伝熱がフランジ面２０３のみとなり、アパーチャ１０６の温度上昇を抑制することができる。
【００２１】
アパーチャ１０６の装置本体への固定は、ガイド穴２０４ａ，２０４ｂにガイドピン２０２を挿入して、フランジ面２０３を受け面２０５に当接させる。ガイド穴２０４ａ，２０４ｂにガイドピン２０２を挿入することで、アパーチャ１０６が図中Ｘ軸方向（光軸方向）とＺ軸方向と、Ｙ軸中心の回転方向との位置決めがなされる。すなわち、第２ガイド穴２０４ｂをガイドピン２０２とほぼ同じ直径としているので、第２ガイド穴２０４ｂにガイドピン２０２が差し込まれることによって、Ｚ軸方向の位置決めがなされる。これにより、アパーチャ１０６を通過した光の主走査方向のズレを抑制することができる。また、第１ガイド穴２０４ａのＸ軸方向の長さがガイドピン２０２の直径とほぼ同じになっているので、第１ガイド穴２０４ａと第２ガイド穴２０４ｂとにガイドピン２０２が差し込まれることで、Ｘ軸方向と、Ｙ軸中心の回転方向の位置決めがなされる。Ｙ軸中心の回転方向の位置決めがなされるので、スリット３０１ａ，３０１ｂを光軸に対して直交させることができ、所望のスポット径を得ることができる。
【００２２】
また、受け面２０５は、２次加工によって平面度が出されているため、フランジ面２０３が受け面２０５に当接することで、アパーチャ１０６のＹ軸方向と、Ｘ軸中心の回転方向と、Ｚ軸中心の回転方向との位置決めがなされる。アパーチャ１０６がＹ軸方向に位置決めされることによって、アパーチャ１０６を通過した光の副走査方向のズレが抑制される。また、アパーチャ１０６がＺ軸中心の回転方向に位置決めされることによって、スリット３０１ａ，３０１ｂを光軸に対して直交させることができ、所望のスポット径を得ることができる。さらに、アパーチャ１０６がＸ軸中心の回転方向に位置決めされることで、スリット３０１ａ，３０１ｂが光軸に対して回転方向にずれることがなくなり、アパーチャ通過後の光を所望の形状に整形することができる。
【００２３】
このようにして、アパーチャ１０６が位置決めされたら、図８に示すように、貫通孔２０８にネジ１１３を差し込んで、ネジ穴２０６にネジをねじ込んで、アパーチャ１０６をアパーチャ固定台２０１に固定する。
【００２４】
本実施形態においては、図９に示すように、アパーチャ固定台２０１の内周面は、外気と接触しているため、ベース台１０４ａからアパーチャ固定台２０１に伝導した熱が、アパーチャ固定台２０１から外部へ放出される。しかも、図９に示すように、アパーチャ取付面であるアパーチャ受け面２０５のベース台１０４ａからの高さＨが、光路Ｌのベース台１０４ａからの高さｈよりも高くなっている。これにより、ベース台１０４ａからアパーチャ受け面２０５までの距離を、アパーチャ受け面２０５のベース台１０４ａからの高さＨが、光路Ｌのベース台１０４ａからの高さｈよりも低いものに比べて長くすることができる。これにより、アパーチャ固定台２０１から受け面２０５へ熱が導電される過程で、アパーチャ固定台２０１から放出される放熱量が、アパーチャ受け面２０５のベース台１０４ａからの高さＨが、光路Ｌのベース台１０４ａからの高さｈよりも低いものに比べて多くできる。これにより、受け面２０５の温度上昇を、アパーチャ受け面２０５のベース台１０４ａからの高さＨが、光路Ｌのベース台１０４ａからの高さｈよりも低いものに比べて抑えることができる。その結果、受け面２０５からアパーチャ１０６へ伝導する熱量を少なくすることができ、アパーチャ１０６の温度上昇を抑制することができる。これにより、アパーチャ熱膨張によるスリット３０１ａ、３０１ｂの変形を抑制することができ、アパーチャ通過後の光を所望の形状に整形することができる。
【００２５】
また、本実施形態の光走査装置１によれば、アパーチャ受け面２０５を２次加工で平面度を出しているので、アパーチャ１０６をこの受け面２０４に当接させることで、アパーチャ１０６の位置決めを行うことができる。これにより、アパーチャ１０６が光軸方向に傾いたり、倒れたりしてアパーチャが固定されるのを防止することができる。
【００２６】
また、アパーチャ１０６は、スリット３０１ａ、３０１ｂが形成されたスリット面２０７とスリット面２０７から垂直に延びて、アパーチャ受け面２０５と当接して固定されるフランジ面２０３とを設けている。これにより、受け面２０５にフランジ面２０３を当接させることで、アパーチャ１０６を上下方向（Ｙ軸方向）と、光軸（Ｘ軸）中心の回転方向と、上下方向および光軸方向の両方に直交するＺ軸中心の回転方向との位置決めを行うことができる。これにより、スリット３０１ａ、３０１ｂを通過した光の副走査方向のズレを抑制できるとともに、所望のビーム形状に整形することができる。
【００２７】
また、フランジ面２０３にガイド穴２０４ａ、２０４ｂを設け、アパーチャ固定台上面２０１ａに、ガイド穴２０４ａ、２０４ｂと係合するガイドピン２０２を設けることで、アパーチャ１０６をＸ軸（光軸）方向と、Ｙ軸（上下方向）中心の回転方向とに位置決めすることができる。これにより、スリット３０１ａ、３０１ｂを通過した光の副走査方向のズレを抑制できるとともに、所望のビーム形状に整形することができる。
【００２８】
また、アパーチャ固定部たるアパーチャ固定台２０１を、アパーチャ１０６のスリット３０１ａ，３０１ｂと対向しない位置に設けたことで、アパーチャ固定台２０１が、光束を遮ることがない。
【００２９】
また、光学ハウジング１０４を、アルミで構成することで、光学ハウジング１０４の熱伝導を高めることができる。これにより、偏向手段たるポリゴンスキャナ１０１などから発生した熱が光学ハウジング１０４に伝導し、光学ハウジング１０４から外気へ放熱させることができる。これにより、光走査装置内の温度上昇を抑制することができる。
【００３０】
また、光源を複数備え、複数の光ビームを射出するマルチビーム光源ユニットたるＬＤユニット１０３を用いることによって、副走査方向の高密度化を達成することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３１】
【図１】実施形態に係る画像形成装置を示す概略構成図。
【図２】光走査装置の構成を示す概略断面図。
【図３】ＬＤユニット周辺の断面図。
【図４】スリットの形状を示す図。
【図５】ＬＤユニットからポリゴンミラーへ入射するまでの光の経路について説明する図。
【図６】従来のアパーチャの固定について説明する図。
【図７】アパーチャを光走査装置１に固定する様子を示す斜視図。
【図８】アパーチャを装置本体に固定した様子を示す斜視図
【図９】アパーチャ固定台周辺の斜視図。
【符号の説明】
【００３２】
１：光走査装置
５０：感光体
５１：帯電装置
５２：現像装置
５３：転写ローラ
５４：クリーニング装置
５５：給紙カセット
５６：レジストローラ対
５７：定着装置
５８：排紙ローラ対
５９：スタックトレイ
１０１：ポリゴンスキャナ
１０１ａ：ポリゴンモータ
１０２：駆動基板
１０３：ＬＤユニット
１０４：光学ハウジング
１０４ａ：ベース台
１０６：アパーチャ
２０１：アパーチャ固定台
２０２：ガイドピン
２０３：フランジ面
２０４ａ，２０４ｂ：ガイド穴
２０５：受け面
２０６：ネジ穴
２０７：スリット面
２０８：貫通孔
３０１ａ，３０１ｂ：スリット
ｈ：光路のベース台からの高さ
Ｈ：アパーチャ受け面のベース台からの高さＨ
Ｌ：光路
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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