(57)【要約】      （修正有）【課題】段差を有する基材に対する優れた追随塗布性を有し、かつ高屈折率で、パターニング可能な硬化膜を与える、樹脂組成物を提供する。【解決手段】（Ａ）下記一般式（１）で示される構造を有するポリアミック酸、2010037425.tif 000020［Ｒ１＝炭素数１〜３のアルキル基又はシアノ基；ａ＝０〜４の整数；Ｒ＝４価の有機基；ｎ＝１〜４の整数；ｍ＝１〜１０００００の整数］及び一般式（１）のポリアミック酸のイミド化重合体の１種、（Ｂ）第４族元素の酸化物を主成分とする粒子、（Ｃ）成分（Ａ）の貧溶媒、及び（Ｄ）成分（Ａ）の良溶媒の少なくとも１種を含有し、組成物中の全有機溶媒量を１００重量％としたときに、成分（Ｃ）を３０〜８０重量％、及び成分（Ｄ）を２０〜７０重量％含有する樹脂組成物。【選択図】図１
2010037425.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）下記一般式（１）で示される構造を有するポリアミック酸、
【化１】
2010037425.tif 000019
［式（１）中、Ｒ１はそれぞれ独立に炭素数１〜３のアルキル基又はシアノ基であり、ａはそれぞれ独立に０〜４の整数を示し、Ｒは４価の有機基を示し、ｎは１〜４の整数を示し、ｍは１〜１０００００の整数を示す。］
及び該ポリアミック酸のイミド化重合体からなる群から選択される少なくとも１種、
（Ｂ）周期律表第４族元素の酸化物を主成分とする、動的光散乱で測定した粒子径が１〜１００ｎｍの範囲内の粒子、
（Ｃ）１気圧における沸点が１００〜１７０℃であり、成分（Ａ）の貧溶媒である有機溶媒、及び、
（Ｄ）１気圧における沸点が１７０℃を超え２３０℃以下であり、成分（Ａ）の良溶媒である有機溶媒（Ｄ−１）及び１気圧における沸点が１００〜１７０℃であり、成分（Ａ）の良溶媒である有機溶媒（Ｄ−２）からなる群から選択される少なくとも１種の有機溶媒
を含有し、
上記組成物中の全有機溶媒量を１００重量％としたときに、成分（Ｃ）を３０〜８０重量％、及び成分（Ｄ）を２０〜７０重量％含有し、かつ（Ｄ−１）の割合が０〜３０重量％である樹脂組成物。
【請求項２】
前記成分（Ｂ）の割合が、有機溶媒を除く成分の合計量を１００重量％としたときに、３０〜８０重量％である請求項１に記載の樹脂組成物。
【請求項３】
さらに、（Ｅ）キノンジアジド化合物を含有する請求項１又は２に記載の樹脂組成物。
【請求項４】
前記一般式（１）中のＲが、４価の脂環族基からなる群から選択される請求項１〜３のいずれか1項に記載の樹脂組成物。
【請求項５】
前記成分（Ｂ）が、ルチル型酸化チタン粒子である請求項１〜４のいずれか１項に記載の樹脂組成物。
【請求項６】
前記成分（Ｂ）が、酸化珪素被覆されたルチル型酸化チタン粒子である請求項５に記載の樹脂組成物。
【請求項７】
さらに、（Ｆ）界面活性剤を含有する請求項１〜６のいずれか１項に記載の樹脂組成物。
【請求項８】
請求項１〜６のいずれか１項に記載の樹脂組成物を基材に塗布した後、加熱して得られる光学膜。
【請求項９】
波長６３３ｎｍでの屈折率が１．６５以上である請求項８に記載の光学膜。
【請求項１０】
請求項８又は９に記載の光学膜からなる光学用部材。
【請求項１１】
請求項１〜７のいずれか１項に記載の感光性組成物を基材に塗布した後、マスクを介して露光、現像して形成される光学用部材。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、樹脂組成物、それから得られる光学膜及び光学用部材に関する。より詳細には、深さ０．４〜１．２μｍ、幅１〜５ｍｍ程度の段差を有する基材に対して、追随塗布可能な樹脂組成物、それから得られる光学膜及び光学用部材に関する。
【背景技術】
【０００２】
固体撮像素子の受光部への集光効率を向上させるため、透明性の高いポリイミド等の樹脂に屈折率の高い金属酸化物粒子を導入した樹脂組成物を固体撮像素子のレンズに用いることが知られている。例えば、特許文献１には露光部がアルカリ現像により溶解するポジ型の感光性樹脂と酸化チタン粒子等を組合せた高屈折率樹脂組成物を用いる例が記載されている。しかしながら、上記ポジ型感光性高屈折率樹脂組成物では、深さ０．４〜１．２μｍ、幅１〜５ｍｍ程度の段差を有する基材に対して、ストリエーションや膜厚ムラが発生するなど、塗布欠陥なく追随塗布することができないことが問題であった。
【０００３】
【特許文献１】再表２００５／０８８３９６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は上述の問題に鑑みなされたものであり、段差を有する基材に対する優れた追随塗布性を有し、かつ高屈折率の硬化膜を与える樹脂組成物を提供することを目的とする。ここで、「追随塗布性」とは、段差に追随して塗布され、周囲のストリエーションや凹み内に膜厚ムラを生じないという特性をいう。
さらに、本発明は、段差を有する基材上に形成された、高屈折率であり、かつ透明性に優れた光学膜及び光学用部材を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記目的を達成するため、本発明者らは鋭意研究を行い、特定の構造を有するポリアミック酸及び／又はイミド化重合体及び透明性及び屈折率の高い金属酸化物粒子に、ポリアミック酸及び／又はイミド化重合体の、特定の温度範囲の沸点を有する貧溶媒及び良溶媒を特定の割合で配合した組成物が、上記目的を達成し得ることを見出し、本発明を完成させた。
【０００６】
即ち、本発明は下記の樹脂組成物、光学膜及び光学用部材を提供する。
１．（Ａ）下記一般式（１）で示される構造を有するポリアミック酸、
【化２】
2010037425.tif 000003
［式（１）中、Ｒ１はそれぞれ独立に炭素数１〜３のアルキル基又はシアノ基であり、ａはそれぞれ独立に０〜４の整数を示し、Ｒは４価の有機基を示し、ｎは１〜４の整数を示し、ｍは１〜１０００００の整数を示す。］
及び該ポリアミック酸のイミド化重合体からなる群から選択される少なくとも１種、
（Ｂ）周期律表第４族元素の酸化物を主成分とする、動的光散乱で測定した粒子径が１〜１００ｎｍの範囲内の粒子、
（Ｃ）１気圧における沸点が１００〜１７０℃であり、成分（Ａ）の貧溶媒である有機溶媒、及び、
（Ｄ）１気圧における沸点が１７０℃を超え２３０℃以下であり、成分（Ａ）の良溶媒である有機溶媒（Ｄ−１）及び１気圧における沸点が１００〜１７０℃であり、成分（Ａ）の良溶媒である有機溶媒（Ｄ−２）からなる群から選択される少なくとも１種の有機溶媒
を含有し、
上記組成物中の全有機溶媒量を１００重量％としたときに、成分（Ｃ）を３０〜８０重量％、及び成分（Ｄ）を２０〜７０重量％含有し、かつ（Ｄ−１）の割合が０〜３０重量％である樹脂組成物。
２．前記成分（Ｂ）の割合が、有機溶媒を除く成分の合計量を１００重量％としたときに、３０〜８０重量％である上記１に記載の樹脂組成物。
３．さらに、（Ｅ）キノンジアジド化合物を含有する上記１又は２に記載の樹脂組成物。
４．前記一般式（１）中のＲが、４価の脂環族基からなる群から選択される上記１〜３のいずれかに記載の樹脂組成物。
５．前記成分（Ｂ）が、ルチル型酸化チタン粒子である上記１〜４のいずれかに記載の樹脂組成物。
６．前記成分（Ｂ）が、酸化珪素被覆されたルチル型酸化チタン粒子である上記５に記載の樹脂組成物。
７．さらに、（Ｆ）界面活性剤を含有する上記１〜６のいずれかに記載の樹脂組成物。
８．上記１〜６のいずれかに記載の樹脂組成物を基材に塗布した後、加熱して得られる光学膜。
９．波長６３３ｎｍでの屈折率が１．６５以上である上記８に記載の光学膜。
１０．上記８又は９に記載の光学膜からなる光学用部材。
１１．上記１〜７のいずれかに記載の感光性組成物を基材に塗布した後、マスクを介して露光、現像して形成される光学用部材。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、段差を有する基材に対する優れた追随塗布性を有する樹脂組成物を提供できる。
本発明によれば、本発明の組成物は固体撮像素子の高屈折率部材の製造原料として有用な、透明性に優れ、屈折率が１．８０超と非常に高く、さらにパターニング可能な硬化膜を与える硬化性組成物を提供できる。
本発明によれば、透明性に優れ、屈折率の高い光学膜を提供できる。
本発明によれば、さらにパターニングされた光学用部材を提供できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
以下、本発明の樹脂組成物、光学膜及び光学用部材について詳細に説明する。
Ｉ．樹脂組成物
本発明の樹脂組成物（以下、本発明の組成物という）は、下記成分（Ａ）〜（Ｇ）を含み得る。これらの成分のうち、成分（Ａ）〜（Ｄ）は必須成分であり、成分（Ｅ）〜（Ｇ）は、目的に応じて添加される任意成分である。
下記成分（Ａ）〜（Ｄ）：
（Ａ）下記一般式（１）で示される構造を有するポリアミック酸、
【化３】
2010037425.tif 000004
［式（１）中、Ｒ１はそれぞれ独立に炭素数１〜３のアルキル基又はシアノ基であり、ａはそれぞれ独立に０〜４の整数を示し、Ｒは４価の有機基を示し、ｎは１〜４の整数を示し、ｍは１〜１０００００の整数を示す。］
及び該ポリアミック酸のイミド化重合体からなる群から選択される少なくとも１種、
（Ｂ）周期律表第４族元素の酸化物を主成分とする、動的光散乱で測定した粒子径が１〜１００ｎｍの範囲内の粒子、
（Ｃ）１気圧における沸点が１００〜１７０℃であり、成分（Ａ）の貧溶媒である有機溶媒
（Ｄ）１気圧における沸点が１７０℃を超え２３０℃以下であり、成分（Ａ）の良溶媒である有機溶媒（Ｄ−１）及び１気圧における沸点が１００〜１７０℃であり、成分（Ａ）の良溶媒である有機溶媒（Ｄ−２）からなる群から選択される少なくとも１種
（Ｅ）キノンジアジド化合物
（Ｆ）界面活性剤
（Ｇ）添加剤
【０００９】
本発明の組成物は、（Ｃ）所定範囲の沸点を有する成分（Ａ）の貧溶媒である有機溶媒と、（Ｄ）所定範囲の沸点を有する成分（Ａ）の良溶媒である有機溶媒（Ｄ−１）及び有機溶媒（Ｄ−２）からなる群から選択される少なくとも１種とを、組成物中の全有機溶媒量を１００重量％としたときに、成分（Ｃ）及び（Ｄ）を下記割合で含有し、
（Ｃ）：３０〜８０重量％
（Ｄ）：２０〜７０重量％
かつ、成分（Ｄ−１）を、０〜３０重量％の範囲で含有していることにより、追随塗布性及び透明性に優れ、かつパターニング可能な硬化膜を形成することができる。
本発明の組成物は、（Ａ）所定の構造を有するポリアミック酸及び／又はイミド化重合体、並びに（Ｂ）の粒子を含有していることにより、透明性に優れ、かつ高屈折率の硬化膜を形成することができる。
【００１０】
以下、各成分について説明する。
（Ａ）一般式（１）で示される構造を有するポリアミック酸及びイミド化重合体
本発明における成分（Ａ）は、特定の構造を有するポリアミック酸（Ａ−１）及びポリアミック酸（Ａ−１）のイミド化重合体（Ａ−２）からなる群から選択される少なくとも１種である。
【００１１】
（Ａ−１）ポリアミック酸
本発明で用いるポリアミック酸は、下記一般式（１）で示される構造を有し、それ自体の屈折率（２５℃、波長４００〜７００ｎｍ）が非常に高く、高屈折率で、透明性及び耐熱性に優れた硬化物を形成することができる。
【化４】
2010037425.tif 000005
【００１２】
式（１）中、Ｒ１はそれぞれ独立に炭素数１〜３のアルキル基又はシアノ基を示し、ａは基Ｒ１の置換数であり、０〜４の整数を示す。ａは０（即ち、置換基無し）であるか、又はＲ１がシアノ基であり、ａが１であることが好ましい。
Ｒは４価の有機基を示し、具体的には、脂肪族、脂環族又は芳香族テトラカルボン酸二無水物から無水物基を除去した残基に相当し、得られる硬化物が透明性に優れることから、脂環族テトラカルボン酸二無水物又は脂肪族テトラカルボン酸二無水物の残基であることが好ましい。また、Ｒは、高屈折率が得られることから、硫黄原子を含んでいることも好ましい。
ｎは１〜４の整数を示し、２〜４の整数であることが好ましい。
ｍは１〜１０００００の整数を示し、１０〜１００００の整数であることが好ましい。
【００１３】
（ａ）一般式（１）で示される構造を有するポリアミック酸の製造
本発明の成分（Ａ）は、下記一般式（３）で示されるジアミンと、下記一般式（４）で示されるテトラカルボン酸二酸無水物を反応させて得られる。
【化５】
2010037425.tif 000006
上記式（３）及び（４）中、Ｒ１、Ｒ、ａ及びｎは、一般式（１）で説明した通りであるため、ここでは省略する。
【００１４】
（ｂ）一般式（３）で示されるジアミン
一般式（３）で示されるジアミンの例としては、例えば、４，４’−（ｐ−フェニレンジスルファニル）ジアニリン、１，３−ビス（４−アミノフェニルスルファニル）ベンゼン、１，３−ビス（４−アミノフェノールスルファニル）５−シアノベンゼン、４，４’−チオビス［（ｐ−フェニレンスルファニル）アニリン］、４，４’−ビス（４−アミノフェニルスルファニル）−ｐ−ジチオフェノキシベンゼン等が挙げられ、４，４’−チオビス［（ｐ−フェニレンスルファニル）アニリン］等が好ましい。
【００１５】
尚、本発明の組成物には、上記一般式（１）で示される構造を有するポリアミック酸以外のポリアミック酸を含有していてもよい。即ち、上記一般式（３）で示されるジアミンの他に、本発明の効果を損なわない範囲内で、硫黄原子を含有しないジアミンを併用することができる。この硫黄原子を含有しないジアミンとしては、例えば、ｐ−フェニレンジアミン、ｍ−フェニレンジアミン、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノジフェニルエタン、４，４’−ジアミノジフェニルスルフィド、４，４’−ジアミノジフェニルスルホン、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、１，５−ジアミノナフタレン、３，３−ジメチル−４，４’−ジアミノビフェニル、４，４’−ジアミノベンズアニリド、３，４’−ジアミノジフェニルエーテル、３，３’−ジアミノベンゾフェノン、３，４’−ジアミノベンゾフェノン、４，４’−ジアミノベンゾフェノン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス（４−アミノフェニル）ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］スルホン、１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，３−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，３−ビス（３−アミノフェノキシ）ベンゼン、９，９−ビス（４−アミノフェニル）−１０−ヒドロアントラセン、９，９−ビス（４−アミノフェニル）フルオレン、４，４’−メチレン−ビス（２−クロロアニリン）、２，２’，５，５’−テトラクロロ−４，４’−ジアミノビフェニル、２，２’−ジクロロ−４，４’−ジアミノ−５，５’−ジメトキシビフェニル、３，３’−ジメトキシ−４，４’−ジアミノビフェニル、４，４’−（ｐ−フェニレンジイソプロピリデン）ビスアニリン、４，４’−（ｍ−フェニレンジイソプロピリデン）ビスアニリンを挙げることができる。
【００１６】
また、上記の硫黄原子を含有しないジアミンの他、ジアミノテトラフェニルチオフェン等のヘテロ原子を有する芳香族ジアミン；１，１−メタキシリレンジアミン、１，３−プロパンジアミン、テトラメチレンジアミン、ペンタメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ヘプタメチレンジアミン、オクタメチレンジアミン、ノナメチレンジアミン、４，４−ジアミノヘプタメチレンジアミン、１，４−ジアミノシクロヘキサン、イソホロンジアミン、テトラヒドロジシクロペンタジエニレンジアミン、ヘキサヒドロ−４，７−メタノインダニレンジメチレンジアミン、トリシクロ［６，２，１，０２．７］−ウンデシレンジメチルジアミン等の脂肪族又は脂環族ジアミンを併用することもできる。
【００１７】
成分（Ａ）のポリアミック酸の製造に用いるジアミン類のうち、一般式（３）で示されるジアミンの割合は、５０モル％以上であることが好ましく、８０モル％以上であることがより好ましく、高屈折率を達成するためには１００モル％であることが特に好ましい。
【００１８】
（ｃ）一般式（４）で示されるテトラカルボン酸二酸無水物
本発明において用いられる酸無水物は上記一般式（４）で表される。式（４）中、Ｒはテトラカルボン酸二無水物から無水物基を除去した残基に相当する。このような化合物としては、脂肪族、脂環族又は芳香族テトラカルボン酸二無水物が挙げられ、得られる硬化膜が優れた透明性を有することから、脂肪族及び脂環族テトラカルボン酸二無水物が好ましい。
【００１９】
脂肪族及び脂環族テトラカルボン酸二無水物の例としては、例えば、ブタンテトラカルボン酸二無水物、１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、１，２，３，４−シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、４，１０−ジオキサトリシクロ［６．３．１．０２，７］ドデカン−３，５，９，１１−テトラオン、１，２，４，５−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、２，３，５−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二水和物、３，５，６−トリカルボキシノルボルナン−２−酢酸二無水物、２，３，４，５−テトラヒドロフランテトラカルボン酸二無水物、１，３，３ａ，４，５，９ｂ−ヘキサヒドロ−５−テトラヒドロ−２，５−ジオキソ−３−フラニル）−ナフト［１，２−ｃ］−フラン−１，３−ジオン、５−（２，５−ジオキソテトラヒドロフラル）−３−メチル−３−シクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸二無水物、ビシクロ［２，２，２］−オクト−７−エン−２，３，５，６−テトラカルボン酸二無水物等の脂肪族及び脂環族テトラカルボン酸二無水物を挙げることができる。これらのうちではブタンテトラカルボン酸二無水物、１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、４，１０−ジオキサトリシクロ［６．３．１．０２，７］ドデカン−３，５，９，１１−テトラオン、２，３，５−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物、５−（２，５−ジオキソテトラヒドロフラル）−３−メチル−３−シクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸二無水物及び１，３，３ａ，４，５，９ｂ−ヘキサヒドロ−５−テトラヒドロ−２，５−ジオキソ−３−フラニル）−ナフト［１，２−ｃ］−フラン−１，３−ジオンが好ましく、１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、４，１０−ジオキサトリシクロ［６．３．１．０２，７］ドデカン−３，５，９，１１−テトラオン、１，２，４，５−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物が特に好ましい。
【００２０】
芳香族テトラカルボン酸二無水物の具体例としては、例えば、ピロメリット酸二無水物、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ビフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、１，４，５，８−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、２，３，６，７−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ビフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ジメチルジフェニルシランテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−テトラフェニルシランテトラカルボン酸二無水物、１，２，３，４−フランテトラカルボン酸二無水物、４，４’−ビス（３，４−ジカルボキシフェノキシ）ジフェニルスルフィド二無水物、４，４’−ビス（３，４−ジカルボキシフェノキシ）ジフェニルスルホン二無水物、４，４’−ビス（３，４−ジカルボキシフェノキシ）ジフェニルプロパン二無水物、４，４’−（ヘキサフルオロイソプロピリデン）ビス（フタル酸）二無水物、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ビス（フタル酸）フェニルホスフィンオキサイド二無水物、ｐ−フェニレン−ビス（トリフェニルフタル酸）二無水物、ｍ−フェニレン−ビス（トリフェニルフタル酸）二無水物、ビス（トリフェニルフタル酸）−４，４’−ジフェニルエーテル二無水物、ビス（トリフェニルフタル酸）−４，４’−ジフェニルメタン二無水物等の芳香族テトラカルボン酸二無水物を挙げることができる。これらのうちでは、ピロメリット酸二無水物、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ビフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、４，４’−（ヘキサフルオロイソプロピリデン）ビス（フタル酸）二無水物及び３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物が好ましい。
【００２１】
また、より高屈折率のポリアミック酸が得られることから、硫黄原子を含むテトラカルボン酸二無水物を用いることも好ましい。硫黄原子含有酸無水物の例としては、例えば、４，４’−［ｐ−チオビス（フェニレン−スルファニル）］ジフタル酸無水物等が挙げられる。
【００２２】
（ｄ）一般式（３）で示されるジアミンと一般式（４）で示されるテトラカルボン酸二酸無水物の反応
一般に、Ｎ−メチル−２−ピロリドン等の非プロトン性有機溶媒中において、ジアミン化合物と酸二無水物とを攪拌混合することによって、成分（Ａ）のポリアミック酸を溶液として得ることができる。例えば、ジアミン化合物を有機溶媒に溶解し、これに酸二無水物を加えて、攪拌混合してもよく、また、ジアミン化合物と酸二無水物との混合物を有機溶媒に加えて、攪拌混合してもよい。反応は、通常、１００℃以下、好ましくは、８０℃以下の温度で、常圧下に行われる。しかし、反応は、必要に応じて、加圧下又は減圧下に行ってもよい。反応時間は、用いるジアミン化合物と酸二無水物や、有機溶媒、反応温度等によって異なるが、通常、４〜２４時間の範囲である。
【００２３】
本発明の組成物中における成分（Ａ）の配合量は、有機溶媒を除く固形分全量を１００重量％としたときに、通常１０〜１００重量％、好ましくは２０〜８０重量％、より好ましくは３０〜７０重量％の範囲内である。成分（Ａ）の配合量が１０重量％未満では、十分な屈折率や耐熱性が発現できないおそれがある。
尚、本発明の組成物の必須成分は成分（Ａ）のみであるが、通常は、成分（Ａ）の製造に用いられる有機溶媒を含み、組成物の塗工性等の観点からも有機溶媒を含有することが好ましい。
【００２４】
（Ａ−２）イミド化重合体
本発明で用いるイミド化重合体は、下記一般式（２）で示される構造を有し、波長６３３ｎｍにおける屈折率が、通常１．６０以上であり、好ましくは１．６８以上、より好ましくは１．７０以上である。
【化６】
2010037425.tif 000007
式（２）中のＲ１、ａ、Ｒ、ｎ及びｍは、一般式（１）と同様であるためここでは説明を省略する。
【００２５】
イミド化重合体（Ａ−２）は、上記ポリアミック酸（Ａ−１）を、窒素雰囲気下で８０〜１５０℃の温度で、１〜５時間加熱することによって得られる。
【００２６】
成分（Ａ）中のイミド化重合体（Ａ−２）の割合は、イミド化率（％）で表され、２０〜８０％の範囲内であることが好ましく、５０〜７０％の範囲内であることがより好ましい。イミド化率が２０％未満であると、アルカリ現像時にパターンが剥離するおそれがあり、８０％を超えると、アルカリ現像時にパターンを形成出来ないおそれがある。
ここで、イミド化率（％）は、１Ｈ−ＮＭＲを測定し、芳香環部位のプロトンとアミド部位のプロトンの積分値から算出して決定される。
【００２７】
尚、イミド化率（％）は、イミド化触媒の量や加熱温度、反応時間等によって調節できる。
【００２８】
本発明の組成物中における成分（Ａ）の割合は、組成物中の固形分量（有機溶媒を除く成分の合計量）を１００重量％としたときに、１０〜５０重量％の範囲内であることが好ましく、１５〜４０重量％の範囲内であることがより好ましい。成分（Ａ）の割合が１０重量％未満であると、硬化膜の屈折率の低下や、アルカリ現像時にパターンを形成出来ないおそれがあり、５０重量％を超えると、硬化膜の透過率が低下するおそれがある。
【００２９】
（Ｂ）周期律表第４族元素の酸化物を主成分とする、動的光散乱で測定した粒子径が１〜１００ｎｍの範囲内の粒子
本発明における成分（Ｂ）は周期律表第４属元素の酸化物粒子である。屈折率の高い粒子成分を添加することにより、得られる硬化物の屈折率をさらに高めることができる。
成分（Ｂ）の粒子の動的光散乱で測定した粒子径は、１〜１００ｎｍの範囲内であることが必要であり、１〜５０ｎｍの範囲内であることが好ましく、５〜１５ｎｍの範囲内であることがより好ましい。粒子径が１ｎｍ未満であると、二次凝集が起こり易く硬化膜が白化するおそれがあり、１００ｎｍを超えると、薄膜形成時の面均一性が損なわれるおそれがある。
【００３０】
成分（Ｂ）の粒子として用いることができる酸化物粒子としては、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化ハフニウム及びこれらの金属酸化物と酸化ケイ素や酸化スズの複合粒子が挙げられ、得られる硬化物の屈折率を高める効果の点から、酸化チタン及び酸化ジルコニウムが好ましい。
【００３１】
尚、酸化チタンには、結晶型の違いにより、アナターゼ型とルチル型が存在するが、屈折率が高く、耐光性に優れることからルチル型が好ましい。
また、酸化チタンは、光触媒活性が有るため、そのままでは光学用途に用いることは難しいため、粒子表面を酸化ケイ素で被覆されていることが好ましい。
【００３２】
成分（Ｂ）として用いる酸化物粒子は、粉体状であってもよいし、溶媒分散ゾルであってもよい。分散媒としては、例えば、メタノール、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、プロピレングレコールモノメチルエーテル等が挙げられる。
【００３３】
成分（Ｂ）として用いることができる粒子の市販品の例としては、例えば、酸化ケイ素被覆アナターゼ型酸化チタン−メタノール分散ゾル（触媒化成工業社製、オプトレイクシリーズ）、酸化ケイ素被覆−酸化スズ含有ルチル型酸化チタン−メタノール分散ゾル（テイカ社製、ＴＳシリーズ）、酸化ジルコニウム−メチルエチルケトン分散ゾル（大阪セメント社製、ＨＸＵ−１２０ＪＣ）等が挙げられる。
【００３４】
本発明の組成物中における成分（Ｂ）の割合は、有機溶媒を除く成分の合計量を１００重量％としたときに、３０〜８０重量％の範囲内であることが好ましく、５０〜７０重量％の範囲内であることがより好ましい。成分（Ｂ）の割合が３０重量％未満であると、高屈折率な膜が得られないおそれがあり、８０重量％を超えると、製膜性が低下するおそれがある。
尚、成分（Ｂ）が溶媒分散ゾルである場合には、成分（Ｂ）の配合量には分散媒を含まない。
【００３５】
（Ｃ）１気圧における沸点が１００〜１７０℃であり、成分（Ａ）の貧溶媒である有機溶媒
（Ｄ）１気圧における沸点が１７０℃を超え２３０℃以下であり、成分（Ａ）の良溶媒である有機溶媒（Ｄ−１）及び１気圧における沸点が１００〜１７０℃であり、成分（Ａ）の良溶媒である有機溶媒（Ｄ−２）からなる群から選択される少なくとも１種の有機溶媒
本発明の組成物は、上述した通り、特定の温度範囲の沸点を有する、成分（Ａ）の貧溶媒及び良溶媒を所定の割合で配合することにより、段差を有する基材に対する優れた追随塗布性が達成される。
基材への塗布法としてスピンコート法が用いられる。本発明の組成物は、溶媒として特定の溶剤を一定の割合で使用することにより、スピンコート中の乾燥が促進され、塗布中の樹脂の動き、偏りが抑制されることによって、追随塗布性が向上すると考えられる。
【００３６】
成分（Ａ）に対する貧溶媒である成分（Ｃ）と、成分（Ａ）に対する良溶媒である成分（Ｄ）の割合は、本発明の組成物中の全有機溶媒量を１００重量％としたときに、成分（Ｃ）の割合が３０〜８０重量％の範囲内であり、成分（Ｄ）の割合が２０〜７０重量％の範囲内であることが必要である。成分（Ｃ）の割合が８０重量％を超えると、組成物中に不溶物や沈殿物が生じ、塗布性が悪くなり、得られる硬化膜の透過率等の光学的特性が低下するおそれがある。一方、成分（Ｄ）が７０重量％を超えると、成分（Ｂ）の分散性が低下し、組成物中に沈殿物が生じ、塗布性が低下するおそれがある。この様な理由から、全有機溶媒中の、成分（Ｃ）の割合が５０〜８０重量％、成分（Ｄ）の割合が２０〜５０重量％であることが好ましい。
尚、本発明の組成物は、通常、成分（Ａ）のポリアミック酸製造の際に用いる溶媒を含有する。また、成分（Ｂ）の酸化物粒子として粒子の溶媒分散ゾルを用いる場合には、その分散媒も本発明の組成物中に含有される。上記割合はこれらの溶媒を含むものである。
【００３７】
成分（Ｃ）として用いることができる有機溶媒の例としては、プロピレングリコールモノメチルエーテル、乳酸エチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等が挙げられる。
尚、本発明において「良溶媒」とは、溶媒１００ｇに成分（Ａ）１０ｇを均一に溶解させ、不溶物や沈殿等を生じない溶媒を表す。
【００３８】
成分（Ｄ）は、１気圧における沸点が１７０℃超２３０℃以下の有機溶媒（Ｄ−１）と、１気圧での沸点が１００〜１７０℃である有機溶媒（Ｄ−２）からなる群から選択される１種以上であることが必要である。
全有機溶媒中の成分（Ｄ）の割合は上述したとおり２０〜７０重量％であるが、その内、成分（Ｄ−１）は、全溶媒中の０〜３０重量％であることが必要である。高沸点な（Ｄ−１）の割合が３０重量％を超えると溶媒の蒸発が遅くなりすぎ、段差の追随性が返って悪化してしまうおそれがある。
【００３９】
成分（Ｄ−１）の有機溶媒の例としては、γ−ブチロラクトン、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド等が挙げられる。
【００４０】
成分（Ｄ−２）の有機溶媒の例としては、シクロヘキサノン、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド等が挙げられる。
【００４１】
本発明の組成物中における（Ｃ）、（Ｄ）を含む有機溶媒の配合量は、組成物中の有機溶媒を除く成分の合計量１００重量部に対して、２００〜９００重量部の範囲であり、３００〜６００重量部の範囲であることが好ましい。また、全溶媒の２０％を上限として（Ｃ）、（Ｄ）以外の溶媒を含むこともできるが、本発明の効果を得るためには、（Ｃ）、（Ｄ）以外の溶媒を含まないことが好ましい。
【００４２】
（Ｅ）キノンジアジド化合物
本発明の組成物には、キノンジアジド化合物を配合することができる。キノンジアジド化合物は、本発明の組成物にパターン形成性を付与し、本発明の組成物をポジ型感光性にするために配合される。
キノンジアジド化合物に紫外線を照射することでインデンカルボン酸化合物になりアルカリ水溶液に可溶となるためパターニングが可能となる。
【００４３】
キノンジアジドスルホン酸エステル化合物としては、例えば、フェノール性水酸基を有する化合物の１，２−ベンゾキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル及び１，２−ナフトキノンジアジド−６−スルホン酸エステル等が挙げられ、特に、１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステルが好ましい。
【００４４】
キノンジアジドスルホン酸エステル化合物は、例えばポリヒドロキシ化合物とキノンジアジドスルホニルクロリドとを塩基性触媒の存在下で反応させることにより得られる。通常、ポリヒドロキシ化合物の全水酸基に対するキノンジアジドスルホン酸エステルの割合（平均エステル化率）は、２０％〜１００％であり、好ましくは４０％〜９５％である。平均エステル化率が低すぎると、パターン形成が難しく、高すぎると感度の低下を招くことがある。ここで、用いられるポリヒドロキシ化合物としては、特に限定されるものではないが、具体例として下記式に示す化合物が挙げられる。
【００４５】
【化７】
2010037425.tif 000008
［式中、Ｚ１〜Ｚ１５は、独立に、水素原子、Ｃ１〜Ｃ４のアルキル基、Ｃ１〜Ｃ４のアルコキシ基、又は水酸基である。但し、Ｚ１〜Ｚ５及びＺ６〜Ｚ１０の各群において少なくとも１つは水酸基である。また、Ａ１は、水素原子又はＣ１〜Ｃ４のアルキル基である］
【００４６】
【化８】
2010037425.tif 000009
［式中、Ｚ１６〜Ｚ３０は、前記Ｚ１〜Ｚ１５に関して定義した通りである。但し、Ｚ１６〜Ｚ２０、Ｚ２１〜Ｚ２５及びＺ２６〜Ｚ３０の各群において少なくとも１つは水酸基である。また、Ａ２〜Ａ４は、独立に、水素原子又はＣ１〜Ｃ４のアルキル基である］
【００４７】
【化９】
2010037425.tif 000010
［式中、Ｚ３１〜Ｚ４４は、前記Ｚ１〜Ｚ１５に関して定義した通りである。。但し、Ｚ３１〜Ｚ３５及びＺ３６〜Ｚ３９の各群において少なくとも１つは水酸基である。また、Ａ５〜Ａ８は、独立に水素原子又はＣ１〜Ｃ４のアルキル基である］
【００４８】
【化１０】
2010037425.tif 000011
［式中、Ｚ４５〜Ｚ５８は、独立に、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ４のアルキル基、Ｃ１〜Ｃ４のアルコキシ基、又は水酸基である。但し、Ｚ４５〜Ｚ４８及びＺ５４〜Ｚ５８の各群において少なくとも１つは水酸基である。また、Ａ９及びＡ１０は、独立に水素原子、Ｃ１〜Ｃ４のアルキル基である］
【００４９】
【化１１】
2010037425.tif 000012
［式中、Ｚ５９〜Ｚ８０は、前記Ｚ１〜Ｚ１５に関して定義した通りである。但し、Ｚ５９〜Ｚ６３、Ｚ６４〜Ｚ６７、Ｚ７２〜Ｚ７５及びＺ７６〜Ｚ８０の各群において少なくとも１つは水酸基である。また、Ａ１１〜Ａ１８は、独立に水素原子又はＣ１〜Ｃ４のアルキル基である］
【００５０】
【化１２】
2010037425.tif 000013
［式中、Ｚ８１〜Ｚ９８は、前記Ｚ１〜Ｚ１５に関して定義した通りである。但し、Ｚ８１〜Ｚ８５、Ｚ８６〜Ｚ８９、Ｚ９０〜Ｚ９３及びＺ９４〜Ｚ９８の各群において少なくとも１つは水酸基である。また、Ａ１９〜Ａ２４は、独立に水素原子又はＣ１〜Ｃ４のアルキル基である］
【００５１】
【化１３】
2010037425.tif 000014
［式中、Ｚ９９〜Ｚ１２１は、前記Ｚ１〜Ｚ１５に関して定義した通りである。但し、Ｚ９９〜Ｚ１０３、Ｚ１０４〜Ｚ１０８、Ｚ１１２〜Ｚ１１６及びＺ１１７〜Ｚ１２１の各群において少なくとも１つは水酸基である］
【００５２】
キノンジアジド化合物は１種単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００５３】
本発明の組成物における成分（Ｅ）は、組成物中の有機溶媒を除く全成分の合計量を１００重量％としたときに、通常１０〜４０重量％の範囲内で配合され、１０〜２０重量％の範囲内で配合されることが好ましい。成分（Ｅ）の割合が１０重量％未満であると、パターニング性が得られないおそれがあり、４０重量％を超えると、組成物の塗布性が悪くなり、製膜そのものが困難となるおそれがある。
【００５４】
（Ｆ）界面活性剤
本発明の組成物をスピンコートによって基材等に塗布する場合には、均一な塗膜が得られることから、界面活性剤を配合することが好ましい。
本発明で用いることができる界面活性剤の種類としては、ポリジメチルシロキサン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤等が挙げられ、ポリジメチルシロキサン系界面活性剤が好ましい。
【００５５】
ポリジメチルシロキサン系の界面活性剤の例としては、例えば、ＳＨ２８ＰＡ（東レダウコーニング社製、ジメチルポリシロキサンポリオキシアルキレン共重合体）、ペインタッド１９、５４（東レダウコーニング社製、ジメチルポリシロキサンポリオキシアルキレン共重合体）、ＦＭ０４１１（サイラプレーン、チッソ社製）、ＳＦ８４２８（東レダウコーニング社製、ジメチルポリシロキサンポリオキシアルキレン共重合体（側鎖ＯＨ含有））、ＢＹＫ  ＵＶ３５１０（ビックケミー・ジャパン社製、ジメチルポリシロキサン−ポリオキシアルキレン共重合体）、ＤＣ５７（東レ・ダウコーニング・シリコーン社製、ジメチルポリシロキサン−ポリオキシアルキレン共重合体）、ＤＣ１９０（東レ・ダウコーニング・シリコーン社製、ジメチルポリシロキサン−ポリオキシアルキレン共重合体）、サイラプレーンＦＭ−４４１１、ＦＭ−４４２１、ＦＭ−４４２５、ＦＭ−７７１１、ＦＭ−７７２１、ＦＭ−７７２５、ＦＭ−０４１１、ＦＭ−０４２１、ＦＭ−０４２５、ＦＭ−ＤＡ１１、ＦＭ−ＤＡ２１、ＦＭ−ＤＡ２６、ＦＭ０７１１、ＦＭ０７２１、ＦＭ−０７２５、ＴＭ−０７０１、ＴＭ−０７０１Ｔ（チッソ社製）、ＵＶ３５００、ＵＶ３５１０、ＵＶ３５３０（ビックケミー・ジャパン社製）、ＢＹ１６−００４、ＳＦ８４２８（東レ・ダウコーニング・シリコーン社製）、ＶＰＳ−１００１（和光純薬製）等が挙げられる。特にサイラプレーンＦＭ−７７１１、ＦＭ−７７２１、ＦＭ−７７２５、ＦＭ−０４１１、ＦＭ−０４２１、ＦＭ−０４２５、ＦＭ０７１１、ＦＭ０７２１、ＦＭ−０７２５、ＶＰＳ−１００１等を挙げることができる。また、エチレン性不飽和基を有する当該シリコーン化合物の市販品としては、例えば、Ｔｅｇｏ  Ｒａｄ  ２３００、２２００Ｎ、テゴ・ケミー社等を挙げることができる。
【００５６】
フッ素系の界面活性剤の例として、例えば、メガファックＦ−１１４、Ｆ４１０、Ｆ４１１、Ｆ４５０、Ｆ４９３、Ｆ４９４、Ｆ４４３、Ｆ４４４、Ｆ４４５、Ｆ４４６、Ｆ４７０、Ｆ４７１、Ｆ４７２ＳＦ、Ｆ４７４、Ｆ４７５、Ｒ３０、Ｆ４７７、Ｆ４７８、Ｆ４７９、Ｆ４８０ＳＦ、Ｆ４８２、Ｆ４８３、Ｆ４８４、Ｆ４８６、Ｆ４８７、Ｆ１７２Ｄ、Ｆ１７８Ｋ、Ｆ１７８ＲＭ、ＥＳＭ−１、ＭＣＦ３５０ＳＦ、ＢＬ２０、Ｒ０８、Ｒ６１、Ｒ９０（大日本インキ化学工業社製）が挙げられる。
【００５７】
本発明の組成物中における成分（Ｆ）の配合量は、有機溶媒を除く成分全量を１００重量％としたときに、通常０〜１０重量％、好ましくは０．０１〜５重量％、より好ましくは０．０５〜１重量％の範囲内である。成分（Ｅ）の配合量が１０重量％を超えると、屈折率が低下するおそれがある。
【００５８】
（Ｇ）添加剤
本発明の組成物には、本発明の効果を損なわない範囲内で、各種の添加剤を配合することができる。このような添加剤としては、例えば、上記成分以外の硬化性化合物、酸化防止剤等が挙げられる。
【００５９】
硬化性化合物には、熱硬化性化合物及び光硬化性化合物を含む。これらの化合物を配合することにより、得られる硬化物の硬度を高めることができる。
熱硬化性化合物としては、例えば、メラミン化合物、アルコキシシラン等が挙げられる。
光硬化性化合物としては、例えば、（メタ）アクリロイル基を有する化合物、ビニル基を有する化合物等が挙げられる。
【００６０】
本発明の樹脂組成物の調製は、既知の方法で行うことができる。ポリアミック酸及び／又はイミド化重合体溶液とキノンジアジドスルホン酸エステル化合物、γ−ブチロラクトン、ジメチルアセトアミド、乳酸エチル等の溶媒及び界面活性剤とを常温常圧下で撹拌溶解させ、更に本溶液をチタニア粒子の分散液に撹拌しながら添加し、常温常圧下で混合し、樹脂組成物を得ることができる。なお、組成物は感光性を有するため、作業は全て紫外線遮光下で行うことが好ましい。
【００６１】
上記本発明の組成物は、孔径０．０５〜１μｍ程度のフィルター、好ましくは０．５μｍのフィルターで予めろ過しておくことが好ましい。また、本発明の組成物を塗布する基板はＨＭＤＳ（ヘキサメチルジシラザン）で表面処理されていても良い。ＨＭＤＳの処理方法は、例えばＨＭＤＳを基板上に滴下しスピンコータで基板を回転させて余剰のＨＭＤＳを除去する方法や、気化したＨＭＤＳが存在する雰囲気に基板を曝す方法等が挙げられる。本発明の組成物を塗布する方法は、スピンコート、ロールコート、バーコート、大コート、グラビア印刷等が挙げられるが、膜厚の均一性を得やすいことからスピンコートが好ましい。上記、塗布基板は、更にホットプレートやオーブンでベークすることが好ましい。ベークの条件は組成物により適宜調整できるが、例えば５０〜１５０℃、好ましくは８０〜１２０℃のホットプレートで、３０〜３００秒、好ましくは６０〜１２０秒加熱することにより塗膜を作製することができる。更に、照度が１０〜１０００ｍＷ／ｃｍ２、照射光量が１０〜１０００ｍＪ／ｃｍ２程度の条件で露光し、次いで８０〜３００℃、好ましくは１００〜２８０℃のホットプレートで、３０〜５００秒、好ましくは１２０〜３００秒加熱することにより、硬化膜を作製することができる。露光の光源は、本発明の組成物の成分（Ｃ）が感応する波長の光を含んでいれば特に限定されないが、高圧水銀ランプ、紫外線レーザー等が適用できる。
【００６２】
ＩＩ．光学膜
本発明の光学膜は、上記本発明の組成物を基材に塗布した後、加熱して得られる。
基材としては、例えば、イメージセンサが製造された酸化ケイ素や窒化ケイ素基材等が挙げられる。
本発明の光学膜の形成は、上述した通りであるためここでは省略する。
本発明の光学膜は、通常０．１〜２μｍ、好ましくは０．３〜１μｍの膜厚を有し、６３３ｎｍにおける屈折率が、通常1．６５以上であり、好ましくは１．７０以上であり、より好ましくは１．８０以上である。
本発明の光学膜は屈折率が高く、透明性に優れているため、固体撮像素子の高屈折率部材、      等として有用である。
【００６３】
ＩＩＩ．光学用部材
本発明の光学用部材は、上記本発明の光学膜からなり、好ましくは所望のパターンマスクを介して露光、現像して形成された、パターニングされた部材である。
尚、本発明の光学用部材の製造において用いる上記本発明の組成物は、非露光の部分が硬化し、露光した部分が未硬化となるポジ型の光硬化性組成物である。
本発明のパターニングされた光学用部材は、例えば、固体撮像素子のマイクロレンズアレイ等として有用である。
【００６４】
本発明のパターニングされた光学用部材は、次のようにして製造することができる。
上記光学膜の作製と同様にして形成した塗膜に、所望のパターンを有するマスクを介して露光し、パターン形成を行う。露光は、マスクアライナーや縮小投影露光装置等を用いることができる。露光の光源は、本発明の組成物の（Ｃ）成分が感応する波長の光を含んでいれば特に限定されないが、高圧水銀ランプ、紫外線レーザー等が適用できる。露光した膜は続く現像工程で現像される。現像方法は、パドル現像、ディップ現像、シャワー現像等が挙げられる。現像して得られたパターニングざれた光学膜を、更に照度が１０〜１０００ｍＷ／ｃｍ２、照射光量が１０〜１０００ｍＪ／ｃｍ２程度の条件で露光し、次いで８０〜３００℃、好ましくは１００〜２８０℃のホットプレートで、３０〜５００秒、好ましくは１２０〜３００秒加熱することにより、光学用部材を形成することができる。
【００６５】
パターニングに用いる現像液としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド等を溶解したアルカリ水溶液等が好ましい。
本発明で用いることができる現像液の市販品の例としては、ＰＤ５２３、ＰＤ５２３ＡＤ、ＣＤ２００ＣＲ（ＪＳＲ社製）等が挙げられる。
現像液の濃度は、必要に応じて適宜決定すべきであるが、通常は０．０１〜１０重量％の範囲内、好ましくは０．１〜１重量％の範囲内である。
【００６６】
上記に得られるパターニングされた光学用部材の解像性は、例えばＬ／Ｓパターンで確認できる。１Ｌ／１Ｓパターンの解像性は、通常は０．２〜１０００μｍ、好ましくは０．２〜１００μｍ、より好ましくは０．２〜１０μｍのパターンが残渣無く得られる。
【実施例】
【００６７】
以下、実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例によって何ら限定されるものではない。
【００６８】
合成例１
４，４’−チオビス［（ｐ−フェニレンスルファニル）アニリン］（３ＳＤＡ）の合成
【化１４】
2010037425.tif 000015
攪拌機、還流冷却器及び窒素導入管を備えた反応容器に、４，４’−ビス（４−ニトロフェニルスルファニル）ジフェニルスルフィド（１３．７ｇ、０．０２８ｍｏｌ）と脱水エタノール（１００ｍＬ）、そして１０％パラジウム活性炭（１．２０ｇ）、を加え、加熱還流した。その後、ヒドラジン・一水和物（６０ｍＬ）と脱水エタノール（２０ｍＬ）を１．５時間かけ滴下し、反応液を６時間加熱還流した。反応液を熱濾過し、黄色の析出物を濾取しエタノールで洗浄した。得られた黄色の個体はエタノールを用いて再結晶し精製した。
【００６９】
収量：１０．２ｇ
収率：８４．０％
融点：１４２〜１４３℃（ＤＳＣ）
ＦＴ−ＩＲ（ＫＢｒ、ｃｍ−１）：３４２８．８、３３８２．５、１６１９．９、１５９２．９、１４９６．５、１４７３．３、１２９２．０、１１７６．４、１０９９．２、１０１０．５、８２５．４
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＤＭＳＯ−ｄ６、ｐｐｍ）：５．４６（ｓ、４Ｈ）、６．６２−６．６４（ｄ、４Ｈ）、６．９８−７．０１（ｄ、４Ｈ）、７．１５−７．１９（ｍ、８Ｈ）
元素分析：計算値  Ｃ２４Ｈ２０Ｎ２Ｓ３：Ｃ、６６．６３％；Ｈ、４．６６％；Ｎ、６．４８％
測定値  Ｃ、６６．５９％；Ｈ、４．７７％；Ｎ、６．３４％
【００７０】
製造例１
ポリアミック酸／イミド化重合体Ｐ−１（成分（Ａ））の製造
窒素導入管を備えた反応容器に、３ＳＤＡ（４３．１９ｇ、９９．８ｍｍｏｌ）とＮ−メチル−２−ピロリドン（２５０ｇ）を加え、室温で撹拌し完全に溶解させた。次に、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸二無水物（新日本理化社製、ＢＴ−１００）（１９．８１ｇ、１００ｍｍｏｌ）を添加し、６０℃で３時間撹拌して、ポリアミック酸のＮＭＰ溶液を得た。次いでＮＭＰ（３００ｇ）、無水酢酸（１０．２１ｇ、１００ｍｍｏｌ）及びピリジン（７．９１ｇ、１００ｍｍｏｌ）を加え、１１０℃で４時間撹拌して、ポリアミック酸／イミド化重合体Ｐ−１（成分（Ａ））のＮＭＰ溶液を得た。エバポレーターを用いて残留無水酢酸、ピリジン及びＮＭＰを減圧除去し、固形分濃度２０％に濃縮した後、γ−ブチロラクトンを固形分濃度が１０％になるように添加した。濃縮、γ−ブチロラクトンによる希釈を３回繰り返した後、固形分濃度２５％に調整し、ポリアミック酸／イミド化重合体Ｐ−１（成分（Ａ））のγ−ブチロラクトン溶液を得た。本溶液を滴下漏斗を用いてメタノール（６３００ｇ）に撹拌しながら滴下し、析出した白色沈殿物をろ別し、減圧乾燥器を用いて乾燥してポリアミック酸／イミド化重合体Ｐ−１（成分（Ａ））の粉体を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ測定により、芳香環部位（δ６．５〜８．０）とアミド部位（δ９．９〜１０．６）の積分値の比から算出したイミド化率は５０％であった。
【００７１】
合成例２
４，４’−［１−［４−［１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル］フェニル］エチリデン］ビスフェノール（４８重量％）と６−ジアゾ−５，６−ジヒドロ−５−オキソ−ナフタレン−１−スルホン酸（５２重量％）とのエステル（成分（Ｅ））の製造
【化１５】
2010037425.tif 000016
【００７２】
攪拌装置付きの容器に、４，４’−［１−［４−［１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル］フェニル］エチリデン］ビスフェノール（本州化学（株）製、Ｔｒｉｓ−ＰＰＡ）４２．４ｇ（０．１モル）、１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホニルクロリド（東洋合成（株）製、ＮＡＣ−５）５３．７ｇ（０．２モル）をアセトン６００ｍＬに溶解させた。この溶液を氷冷し、トリエチルアミン２２．３ｇ（０．２２モル）をアセトン１００ｍＬに希釈した溶液を内温が３０℃を越えないように３０分掛けて滴下した。滴下終了後、室温で１時間攪拌をした。その後、ろ過でトリエチルアミンの塩酸塩を除き、ろ液を０．１％塩酸水溶液２０Ｌに投入して、反応生成物を析出させ、ついで析出物を濾過し、回収し、真空乾燥器中４０℃で一昼夜乾燥してキノンジアジド化合物を得た。
【００７３】
実施例１
樹脂組成物の製造
製造例１で得たポリアミック酸／イミド化重合体Ｐ−１（成分（Ａ））の粉体（３２ｇ）をγ−ブチロラクトン（１２０．１ｇ）に溶解した後、プロピレングリコールモノメチルエーテル（１６．６ｇ）、ジメチルポリシロキサン−ポリオキシアルキレン共重合体（東レ・ダウコーニング社製  ＤＣ−１９０）（０．１ｇ）を加え、常温常圧下で攪拌混合し、均一溶液とした。次いで酸化ケイ素被覆−酸化スズ含有ルチル型酸化チタンのプロピレングリコールモノメチルエーテル分散液（固形分濃度２０．５％）（テイカ社製、ＴＳ−１０３）（３３１．２ｇ）を加え、常温常圧下で攪拌し、均一に分散させた。
【００７４】
実施例２〜６及び比較例１〜３
下記表１に記載の配合割合とした他は実施例１と同様にして樹脂組成物を製造した。
【００７５】
＜組成物の特性＞
実施例及び比較例で製造した組成物の液外観及び段差追随塗布性について評価を行った。結果を表１に示す。
【００７６】
（１）液外観
液組成物の外観を観察し、不溶物、沈殿物等が無い場合を「○」、ある場合を「×」と評価した。
【００７７】
（２）段差追随塗布性
シリコンウェハ上に、テトラエトキシシランを用いて深さ１．３μｍ、幅５ｍｍサイズの凹みパターンを有する基板を作成した。
上記基板に対して液組成物をスピン塗布した場合に、ストリエーションや膜厚ムラ等なく、凹みパターンに均一に追随して塗布された場合を「○」、均一に追随して塗布されなかった場合を「×」と評価した。
段差部の膜厚を触針式段差測定装置（アルバック社製  Ｄｅｋｔａｋ  ３ＳＴ）を用いて測定した結果を図１に示す。
【００７８】
＜硬化膜の特性＞
実施例及び比較例で製造した組成物を、シリコンウェハ上にスピンコートし、１２０℃で1分間加熱乾燥させた後、照度２０ｍＷ／ｃｍ２、照射光量１Ｊ／ｃｍ２の条件で露光し、次いで２５０℃で５分間加熱し、膜厚０．６μｍの測定試料（硬化膜）を得た。
得られた硬化膜の屈折率及び透過率を測定し、評価した。結果を表１に示す。
【００７９】
（１）屈折率
液組成物を、シリコンウェハ上にスピンコートし、１２０℃で１分間加熱乾燥させ、膜厚０．６μｍの測定試料を得た。
上記測定試料について、メトリコン社製プリズムカップラーを用いて波長６３３ｎｍでの屈折率を測定した。
【００８０】
（２）透過率
ガラスウェハ上に塗布する以外は上記（１）屈折率と同様にして測定試料を作製した。上記測定試料について、日本分光社製分光光度計を用いて透過率を測定し、波長４００ｎｍでの透過率が９０％以上の場合を「○」、９０％未満の場合を「×」と評価した。
【００８１】
【表１】
2010037425.tif 000017
【００８２】
実施例及び比較例で用いた有機溶媒に対する成分（Ａ）であるＰ−１の溶解性及び沸点を下記表２に示す。
【表２】
2010037425.tif 000018
【００８３】
表１及び表２中の成分は下記のものを示す。
成分（Ａ）：
Ｐ−１：製造例１で製造
成分（Ｂ）：
酸化ケイ素被覆−酸化スズ含有ルチル型酸化チタン：テイカ社製、（商品名：ＴＳ−１０３）、粒子径：５〜１５ｎｍ
成分（Ｅ）：
キノジンジアジドスルホン酸エステル化合物：４，４’−［１−［４−［１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル］フェニル］エチリデン］ビスフェノール（４８重量％）と６−ジアゾ−５，６−ジヒドロ−５−オキソ−ナフタレン−１−スルホン酸（５２重量％）とのエステル、合成例２で合成
成分（Ｆ）：
ジメチルポリシロキサン−ポリオキシアルキレン共重合体：東レ・ダウコーニング社製、ＤＣ−１９０
【００８４】
表１の結果から、所定の沸点を有する２種類の有機溶媒（Ｃ）及び（Ｄ）を所定の割合で含有させた実施例の組成物は、段差追随塗布性に優れ、屈折率が１．８５〜１．８７と高く、透明性に優れた硬化膜を与えることがわかる。
【産業上の利用可能性】
【００８５】
本発明の組成物は、段差を有する基材に対して追随塗布可能であり、透明性に優れ、屈折率が１．８０超と非常に高く、さらにパターニング可能な硬化膜を与えることができ、固体撮像素子の高屈折率部材の製造原料として有用である。
本発明の組成物は、追随塗布性を有するため、段差を有する基板上にマイクロレンズを形成する固体撮像素子等に好適に用いることができる。
本発明の光学膜は、透明性に優れ、屈折率が高く、樹脂部材として有用である。
本発明の光学用部材は、所望の形状にパターニングすることができ、例えば、マイクロレズ材料として有用である。
【図面の簡単な説明】
【００８６】
【図１】実施例２及び比較例２の組成物を、それぞれ段差を有する基材に塗布した場合の様子を示す段差形状計測結果を示すグラフである。
【図１】
2010037425.tif 000021