(57)【要約】【課題】蒸着マスクの開口部に補強用の梁を形成することにより、精密なパターンの形成を実現すると共に、前記梁による蒸着材料の遮蔽領域を少なくし、蒸着パターンの膜厚均一性を最大限高めることができるようにした蒸着マスクを提供する。【解決手段】本発明の蒸着マスク１は、被成膜基板１０上に蒸着を用いて形成される薄膜パターン１５に対応して、蒸着材料４０を通過させるための開口部３が設けられ、開口部３が平行に所定の間隔をもって複数配列された薄板状の蒸着マスク１において、開口部３を横切る位置に複数の補強梁４ａ，４ｂ，４ｃ，４ｄ，４ｅが形成され、複数の補強梁４ａ，４ｂ，４ｃ，４ｄ，４ｅは、開口部３の中央部で相対的に密に形成され、開口部３の端部で相対的に粗に形成されていることを特徴とする。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
被成膜基板上に蒸着を用いて形成される薄膜パターンに対応して、蒸着材料を通過させるための開口部が設けられ、前記開口部が平行に所定の間隔をもって複数配列された薄板状の蒸着マスクにおいて、
前記開口部を横切る位置に複数の補強梁が形成され、
前記複数の補強梁は、前記開口部の中央部で相対的に密に形成され、前記開口部の端部で相対的に粗に形成されていることを特徴とする蒸着マスク。
【請求項２】
前記複数の補強梁の厚さは、前記開口部の中央部で相対的に厚く形成され、前記開口部の端部で相対的に薄く形成されていることを特徴とする請求項１に記載の蒸着マスク。
【請求項３】
互いに平行に配列された複数の前記開口部には、第１補強梁が形成された第１開口部と、第２補強梁が形成された第２開口部とが含まれ、前記第１開口部と前記第２開口部とが、前記開口部の配列方向において隣り合う位置に配置され、前記第１補強梁と前記第２補強梁とが、前記開口部の配列方向と直交する方向において異なる位置に配置されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の蒸着マスク。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、蒸着マスクに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来より、ディスプレイや半導体集積回路等の分野では、蒸着マスクを用いて基板上に選択的に薄膜パターンを形成する技術が知られている。蒸着マスクを用いたパターン形成技術は、ウェットプロセスによるパターン形成技術が原理的に難しい場合に好適である。例えば、近年活発に研究が行われている低分子有機ＥＬ素子の製造プロセスでは、有機発光層や陰極等の形成材料が水分や薬液に対して十分な耐久性を備えていないため、蒸着マスクによるパターン形成技術が必須となっている。
【０００３】
蒸着マスクは、メタルや単結晶シリコン等からなるシート状部材に、蒸着パターンに対応した開口部を設けたものである。開口部以外の領域は、蒸着材料を遮蔽する遮蔽パターンとなる。近年では、薄膜パターンの微細化に伴って、遮蔽パターンの微細化が進んでおり、それに応じて、遮蔽パターンの捩れや撓み等の変形が問題となってきている（特許文献１，２参照）。
【０００４】
例えば、有機ＥＬ装置をプリンタの露光ヘッド（プリンタヘッド）として利用する場合には、ライン状に配列された数千から数万もの有機ＥＬ素子に対して共通の陰極を形成することになるが、このような陰極は、幅数μｍ、長さ数ｃｍ〜数十ｃｍの細長い帯状の膜となり、それに対応する遮蔽パターンも細長い帯状のパターンとなる。
【０００５】
このような問題を解決するために、特許文献１，２では、蒸着マスクの開口部に細い補強用の梁（補強梁）を設けることが提案されている。このような蒸着マスクでは、補強梁の配置された部分に蒸着材料が形成されないため、特許文献１では、補強梁と基板との間に隙間を形成し、補強梁の裏面側に蒸着材料を回り込ませることによって、補強梁の部分に蒸着材料を成膜している。
【特許文献１】特開平１０−３３０９１１号公報
【特許文献２】特開２００４−２２５０７１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、補強梁の裏面側への回り込みは僅かであるため、補強梁の裏面側には十分な膜厚を形成することができない。そのため、補強梁の配置された部分だけ膜厚が薄くなってしまう。例えば、ライン状に配列された複数の有機ＥＬ素子に対して共通の陰極を形成する場合、陰極の途中に膜厚の薄い部分が存在すると、その部分で抵抗が大きくなる。抵抗の増加が僅かであれば問題は生じないが、補強梁の数が多くなり、膜厚の薄い部分が多数形成されるようになると、抵抗の増加によって電圧降下が発生し、各有機ＥＬ素子において均一な発光特性が得られなくなる。
【０００７】
したがって、補強梁を形成する場合には、その配置を工夫し、補強梁の数を最小限に抑えることが必要であるが、特許文献１，２では、そのような配置の工夫については全く開示がなく、必ずしも補強梁の数を適切に制御することができなかった。例えば、特許文献１では、補強梁を一定の間隔で形成しているが、この構造では、特に剛性の高いマスク基板の外枠部近傍（開口部の端部）で補強梁の数が必要以上に多くなってしまう可能性がある。
【０００８】
本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであって、遮光パターンの捩れや撓みを防止しつつ蒸着パターンの膜厚均一性を高めることが可能な蒸着マスクを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記の課題を解決するため、本発明の蒸着マスクは、被成膜基板上に蒸着を用いて形成される薄膜パターンに対応して、蒸着材料を通過させるための開口部が設けられ、前記開口部が平行に所定の間隔をもって複数配列された薄板状の蒸着マスクにおいて、前記開口部を横切る位置に複数の補強梁が形成され、前記複数の補強梁は、前記開口部の中央部で相対的に密に形成され、前記開口部の端部で相対的に粗に形成されていることを特徴とする。
この構成によれば、遮蔽パターンの捩れや撓み等の変形が起こり易い開口部の中央部で開口部の形状を確実に保持することができる。剛性の高いマスク基板の外枠部に近い開口部の端部では、遮蔽パターンの剛性が高いので補強梁の数を減らしても捩れや撓みは発生しにくい。むしろ補強梁の数を減らすことで、補強梁の影になる部分を最小限に抑えることができる。その結果、精密かつ膜厚が均一な薄膜パターンを形成することができる。
【００１０】
本発明においては、前記複数の補強梁の厚さは、前記開口部の中央部で相対的に厚く形成され、前記開口部の端部で相対的に薄く形成されていることが望ましい。
この構成によれば、遮蔽パターンの捩れや撓み等の変形が起こり易い開口部の中央部で遮蔽パターンの捩れや撓み等の変形を確実に防止することができる。また、最も剛性の高いマスク基板の外枠部に近い開口部の端部で、飛来してきた蒸着材料が補強梁の影になる部分にも回り込み易くなる。その結果、精密かつ膜厚が均一な薄膜パターンを形成することができる。
【００１１】
本発明においては、互いに平行に配列された複数の前記開口部には、第１補強梁が形成された第１開口部と、第２補強梁が形成された第２開口部と、が含まれ、前記第１開口部と前記第２開口部とが、前記開口部の配列方向において隣り合う位置に配置され、前記第１補強梁と前記第２補強梁とが、前記開口部の配列方向と直交する方向において異なる位置に配置されていることが望ましい。
この構成によれば、蒸着マスク全体としての剛性バランスが安定し、遮蔽パターンの捩れや撓み等の変形を防止することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、図面を参照して、本発明の実施の形態について説明する。かかる実施の形態は、本発明の一態様を示すものであり、この発明を限定するものではなく、本発明の技術的思想の範囲内で任意に変更可能である。また、以下の図面においては、各構成をわかりやすくするために、実際の構造と各構造における縮尺や数等が異なっている。
【００１３】
図１は本発明の蒸着マスク１の概略平面図である。蒸着マスク１は、例えば有機ＥＬ素子を構成する薄膜パターン１４（図３参照）を形成する際に用いられるメタルマスクであって、図示上下方向に長手を有するマスク基板２を基体として形成されている。
【００１４】
マスク基板２は、例えば金属材料で形成されており、図示上下方向に長手を有する細長い矩形状の開口部３が複数形成されている。これら開口部３の長手方向（図示上下方向）の長さは、例えば１００ｍｍ以上５００ｍｍ以下となっている。また、開口部３の短手方向（図示左右方向）の長さは、例えば１ｍｍ以上１０ｍｍ以下となっている。
【００１５】
これら複数の開口部３は、マスク基板２に形成された貫通孔であって、平行に所定の間隔をもって形成されている。また、複数の開口部３は、図３に示す被成膜基板１０における薄膜パターン１５に対応する形状を有している。また、開口部３はマスク基板２にエッチング処理を施すことにより形成されている。
【００１６】
マスク基板２の蒸着材料４０（図３参照）を遮蔽する遮蔽パターン２Ｂの間には、開口部３を横切るように複数の補強梁４が形成されている。これら複数の補強梁４は、遮蔽パターン２Ｂが捩れや撓み等の変形によって所定の位置から動き、開口部３の形状が変化するのを防ぐためのものである。
【００１７】
また、複数の補強梁４は、開口部３の中央部で相対的に密に形成され、開口部４の端部で相対的に粗に形成されている。これら複数の補強梁４は、マスク基板２と同じマスク部材をエッチングすることにより、マスク基板２と一体化して形成されている。
【００１８】
マスク基板２は、複数の開口部３の最外周を囲むように外枠部２Ａを有している。外枠部２Ａの幅は、遮蔽パターン２Ｂの幅よりも広く形成されている。外枠部２Ａは、遮蔽パターン２Ｂよりも幅広のため高剛性を有しているので、外枠部２Ａに近いところに位置する開口部３は、その形状が変形しにくい。
【００１９】
ここで、開口部３に横切るように形成される複数の補強梁４の粗密の度合いについて説明する。複数の第１補強梁５は、外枠部２Ａから最も離れる開口部３の中央部で相対的に密に形成され、外枠部２Ａに最も近い開口部３の端部で相対的に粗に形成されている。より具体的には、補強梁４の間隔ＬｃまたはＬｄが最も小さく形成され、補強梁４と外枠部２Ａの間隔ＬａまたはＬｆが最も大きく形成されている。
【００２０】
また、その他の補強梁４の間隔の大小関係を併せて示すと、補強梁４の間隔ＬｃまたはＬｄよりも補強梁４の間隔ＬｂまたはＬｅのほうが大きく、補強梁４の間隔ＬｂまたはＬｅよりも補強梁４と外枠部２Ａの間隔ＬａまたはＬｆのほうが大きくなるように形成されている。
【００２１】
図２は、図１に示したＡ−Ａ線に沿った断面構成を示している。ここでは、開口部３に横切るように形成された補強梁４の厚さの度合いについて、ある一列の開口部３の断面を挙げて説明する。
【００２２】
開口部３は、複数の補強梁４（４ａ，４ｂ，４ｃ，４ｄ，４ｅ）を有している。これら複数の補強梁４は、外枠部２Ａから最も離れる開口部３の中央部で相対的に厚く形成され、外枠部２Ａに最も近い開口部３の端部で相対的に薄く形成されている。より具体的には、補強梁４ｃの厚さＳｃが最も厚く形成され、補強梁４ａの厚さＳａまたは補強梁４ｅの厚さＳｅが最も薄く形成されている。
【００２３】
また、その他の補強梁４の厚さの大小関係を併せて示すと、補強梁４ａの厚さＳａまたは補強梁４ｅの厚さＳｅよりも補強梁４ｂの厚さＳｂまたは補強梁４ｄの厚さＳｄのほうが大きく、補強梁４ｂの厚さＳｂまたは補強梁４ｄの厚さＳｄよりも補強梁４ｃの厚さＳｃのほうが大きくなるように形成されている。
【００２４】
なお、補強梁４の厚さＳａ，Ｓｂ，Ｓｃ，Ｓｄ，Ｓｅは、外枠部２Ａの厚さＳＡよりも薄く形成されている。すなわち、蒸着マスク１の少なくとも一方の面と補強梁４との間に隙間が存在している。
【００２５】
図３は、本発明の蒸着マスク１を用いて蒸着によって薄膜をパターン加工する様子を示した図である。また、図３は、図１に示したＡ−Ａ線に沿った断面に対応している。
【００２６】
蒸着マスク１は被成膜基板１０との間に隙間が存在するように設置される。これにより、補強梁４側（図示下側）から飛来してきた蒸着材料４０は、補強梁４の影になる部分にも回りこんで堆積し、薄膜パターン１５が形成される。したがって、薄膜パターン１５は、補強梁４よって分断されることなく、開口部３と同じ形状に形成される。
【００２７】
また、補強梁４は、外枠部２Ａから最も離れる開口部３の中央部で相対的に密に形成され、外枠部２Ａに最も近い開口部３の端部で相対的に粗に形成されている。すなわち、開口部３の中央部よりも端部のほうが、補強梁４のピッチ（隣り合う補強梁４の間隔）が大きいので、蒸着材料４０は補強梁４の影になる部分に、より回りこみ易くなっている。
【００２８】
また、補強梁４の厚さは、外枠部２Ａから最も離れる開口部３の中央部で相対的に厚く形成され、外枠部２Ａに最も近い開口部３の端部で相対的に薄く形成されている。すなわち、開口部３の中央部よりも端部のほうが、補強梁４と被成膜基板１０との間の隙間が大きいので、蒸着材料４０は補強梁４の影になる部分に、より回りこみ易くなっている。
【００２９】
薄膜パターン１５の補強梁４の影になる部分には、補強梁４ａ，４ｂ，４ｃ，４ｄ，４ｅのそれぞれに対応する位置に、凹部１５ａ，１５ｂ，１５ｃ，１５ｄ，１５ｅが形成される。補強梁４ｃの影になる部分の凹部１５ｃが最も大きく形成され、補強梁４ａの影になる部分の凹部１５ａまたは補強梁４ｅの影になる部分の凹部１５ｅが最も小さく形成されている。
【００３０】
また、その他の補強梁４の影になる部分の凹部１５ａ，１５ｂ，１５ｃ，１５ｄ，１５ｅの大きさの大小関係を併せて示すと、補強梁４ａの影になる部分の凹部１５ａまたは補強梁４ｅの影になる部分の凹部１５ｅよりも補強梁４ｂの影になる部分の凹部１５ｂまたは補強梁４ｄの影になる部分の凹部１５ｄのほうが大きく、補強梁４ｂの影になる部分の凹部１５ｂまたは補強梁４ｄの影になる部分の凹部１５ｄよりも補強梁４ｃの影になる部分の凹部１５ｃのほうが大きくなるように形成されている。
【００３１】
なお、薄膜パターン１５の補強梁４の影になる部分には複数の凹部１５ａ，１５ｂ，１５ｃ，１５ｄ，１５ｅが形成されているが、薄膜パターン１５の膜厚の誤差内におさまる程度の微小なものであり、薄膜パターン１５の品質には影響しない。
【００３２】
（製造方法）
図４及び図５は、蒸着マスク１の製造方法の一実施形態を示す断面工程図である。なお、本実施形態に係る製造方法では、図１に示す遮蔽パターン２Ｂと補強梁４を同一のマスク部材で一体的に形成することが比較的容易に可能であるエッチングを用いている。また、図４及び図５は、図１に示したＡ−Ａ線に沿った断面に対応している。
【００３３】
先ず、図４（ａ）に示すように、シート状基板２ａの上面に、図１に示すマスク基板２の外枠部２Ａのパターンに対応するレジスト１１を形成する。なお、図示はしないが、レジスト１１には図１に示す遮蔽パターン２Ｂに対応するレジストが一体化して形成されている。
【００３４】
次に、図４（ｂ）に示すように、エッチャント２１を用いてシート状基板２ａの上面をエッチングしていき、凹状基板２ｂを形成する。
【００３５】
次に、図４（ｃ）に示すように、凹状基板２ｂの上面に、図１に示す補強梁４のパターンに対応するレジスト１２を形成する。次に、エッチャント２１を用いて凹状基板２ｂの上面をエッチングしていく。
【００３６】
次に、図４（ｄ）に示すように、補強梁４のパターンに対応するレジスト１２を除去する。レジスト１２を用いたエッチングによって、外枠部２Ａと、凹状基板２ｂの上面と下面を貫通する開口部３と、複数の補強梁４ａ，４ｂ，４ｃ，４ｄ，４ｅが形成される。ここで、複数の補強梁４ａ，４ｂ，４ｃ，４ｄ，４ｅの厚さは、それらの厚さがほぼ同じくなるように形成されている。
【００３７】
次に、図５（ａ）に示すように、補強梁４ｃの上面に、補強梁４ｃのパターンに対応するレジスト１３を形成する。次に、エッチャント２１を用いて各補強梁４ａ，４ｂ，４ｄ，４ｅの上面をエッチングしていく。
【００３８】
ここで、図５（ｂ）に示すように、レジスト１３を用いたエッチングによって、各補強梁４ａ，４ｂ，４ｄ，４ｅの厚さは、各々の厚さがほぼ同じくなるように形成される。
【００３９】
次に、図５（ｃ）に示すように、各補強梁４ｂ，４ｃ，４ｄの上面に、各補強梁４ｂ，４ｃ，４ｄのパターンに対応するレジスト１４を形成する。次に、エッチャント２１を用いて各補強梁４ａ，４ｅの上面をエッチングしていく。
【００４０】
ここで、図５（ｅ）に示すように、レジスト１４を用いたエッチングによって、各補強梁４ａ，４ｅの厚さは、各々の厚さがほぼ同じくなるように形成される。このようにして、複数の補強梁４ａ，４ｂ，４ｃ，４ｄ，４ｅは、外枠部２Ａから最も離れる開口部３の中央部で相対的に厚く形成され、外枠部２Ａに最も近い開口部３の端部で相対的に薄く形成される。
【００４１】
本実施形態の蒸着マスク１によれば、遮蔽パターン２Ｂの捩れや撓み等の変形が起こり易い開口部３の中央部における補強梁４の数が相対的に多くなるように配置を工夫しているので、遮蔽パターン２Ｂの捩れや撓み等の変形が起こり易い開口部３の中央部で開口部３の形状を確実に保持することができる。剛性の高いマスク基板２の外枠部２Ａに近い開口部３の端部では、遮蔽パターン２Ｂの剛性が高いので補強梁４の数を減らしても捩れや撓みは発生しにくい。むしろ補強梁４の数を減らすことで、補強梁４の影になる部分を最小限に抑えることができる。その結果、精密かつ膜厚が均一な薄膜パターン１５を形成することができる。
【００４２】
また、この構成によれば、補強梁４が一定の厚さで形成される場合に比べて、遮蔽パターンの捩れや撓み等の変形が起こり易い開口部３の中央部における補強梁４の厚さが相対的に厚く形成されるので、遮蔽パターン２Ｂの捩れや撓み等の変形が起こり易い開口部３の中央部で遮蔽パターン２Ｂの捩れや撓み等の変形を確実に防止することができる。また、最も剛性の高いマスク基板２の外枠部２Ａに近い開口部３の端部で、飛来してきた蒸着材料４０が補強梁４の影になる部分にも回り込み易くなる。その結果、精密かつ膜厚が均一な薄膜パターン１５を形成することができる。
【００４３】
また、この構成によれば、複数の補強梁４は、蒸着マスク１の基体のマスク基板２と同一のマスク部材をエッチングすることによって形成されてなるので、高精度で剛性の強い蒸着マスク１が提供できる。
【００４４】
（蒸着マスクの変形例１）
図６は、本発明の蒸着マスクの他の例の蒸着マスク１Ａを示した概略平面図である。マスク基板２には、互いに平行に配列された複数の開口部が配置されている。これら複数の開口部には、複数の第１補強梁７が形成された第１開口部５と、複数の第１補強梁７の形成された位置と異なる位置に複数の第２補強梁８が形成された第２開口部６と、が含まれている。そして、複数の第１開口部５と第２開口部６とが、図示左右方向（開口部の配列方向）において隣り合う位置に配置され、第１補強梁７と第２補強梁８とが、前記開口部の配列方向と直交する方向において異なる位置に配置されている。
【００４５】
これら複数の第１補強梁７及び第２補強梁８は、遮蔽パターン２Ｂが捩れや撓み等の変形によって所定の位置から動き、第１開口部５及び第２開口部６の形状が変化するのを防ぐためのものである。ここで、複数の第１補強梁７は、第１開口部５の中央部で相対的に密に形成され、第１開口部５の端部で相対的に粗に形成されている。また、複数の第２補強梁８は、第２開口部６の中央部で相対的に密に形成され、第２開口部６の端部で相対的に粗に形成されている。これら複数の第１補強梁５及び第２補強梁６は、マスク基板２と同じマスク部材をエッチングすることにより一体化して形成されている。また、第１開口部５及び第２開口部６は遮蔽パターン２Ｂを介して隣り合う位置に設けられている。
【００４６】
なお、本実施形態では、第１開口部５と第２開口部６は遮蔽パターン２Ｂを介して隣り合う位置に設けているが、これに限らない。例えば、第１開口部５の遮蔽パターン２Ｂを介して、一方の隣り合う位置に第２開口部６を設け、他方の隣り合う位置に第１開口部５や第２開口部６とは異なる配置の補強梁が形成された開口部を設けても良い。すなわち、補強梁が、開口部の中央部で相対的に密に形成され、開口部の端部で相対的に粗に形成されてさえいれば良い。
【００４７】
図７（ａ）は、図６に示したＢ−Ｂ線に沿った断面構成を示している。ここでは、第１開口部５の第１補強梁７（図６参照）が形成されていないところを補強する第２補強梁８の補強の度合いについて、第２開口部６（図６参照）を横切るように形成される第２補強梁８の断面を挙げて説明する。
【００４８】
第２補強梁８は、第１開口部５の第１補強梁７のピッチ（隣り合う第１補強梁７の間隔）を補強するように、すなわち、第１補強梁７が形成されていないところを補強するように形成されている。また、第２補強梁８は、遮蔽パターン２Ｂの間に第２開口部６を横切るように、マスク部材と一体化して矩形状に形成されている。これにより遮蔽パターン２Ｂの剛性を高くし、外枠部２Ａの内側に設けられる複数の第１開口部５の遮蔽パターン２Ｂの捩れや撓み等による変形を防止する構造となっている。
【００４９】
図７（ｂ）は、図６に示したＣ−Ｃ線に沿った断面構成を示している。ここでは、図６に示す第１補強梁７及び第２補強梁８が形成されていない第１開口部５及び第２開口部６を補強する外枠部２Ａの補強の度合いについて、第１補強梁７及び第２補強梁８が形成されていない第１開口部５及び第２開口部６のうち外枠部２Ａ（点線部）に近いところの断面を挙げて説明する。
【００５０】
第１開口部５及び第２開口部６は、遮蔽パターン２Ｂを介して、図示左側から第１開口部５、第２開口部６、第１開口部５と続く順に交互に形成されている。これら第１開口部５と第２開口部６は、遮蔽パターン２Ｂの間を横切るように第１補強梁７及び第２補強梁８が形成されていないところを補強するように、外枠部２Ａが近くに設けられている。すなわち、第１開口部５と第２開口部６は、図示左右両端に位置する外枠部２Ａと、複数の遮蔽パターン２Ｂと重なるように位置する外枠部２Ａ（点線部）により補強されている。
【００５１】
この構成によれば、第１開口部５に形成される第１補強梁７のピッチ間を補強するように第２補強梁８が第１開口部５と隣り合う第２開口部６に設けられるので、蒸着マスク１Ａ全体としての剛性バランスが安定し、遮蔽パターン２Ｂの捩れや撓み等の変形を防止することができる。
【００５２】
図８は、本発明の蒸着マスクの他の例の蒸着マスク１Ｂを示した概略平面図である。マスク基板２には、互いに平行に配列された複数の開口部１３が配置されている。これら複数の開口部１３には、遮蔽パターン２Ｂの間を横切るように複数の補強梁１４が形成されている。これら複数の補強梁１４は、外枠部２Ａから最も離れる開口部１３の中央部で相対的に幅（図示上下方向の長さ）が小さく形成され、外枠部２Ａに最も近い開口部１３の端部で相対的に幅が大きく形成されている。なお、図８に示される開口部１３及び補強梁１４を除いた構成は、上記実施形態に係る構成（図１参照）と同一となっている。
【００５３】
複数の開口部１３は、複数の補強梁１４で区切られた複数の領域１３ａ（点線部）が全て同一の矩形状になるように形成されている。複数の開口部１３には、これら複数の領域１３ａを開口部１３の端部から中央部にかけて段階的に密になるように形成されている。
【００５４】
より具体的には、開口部１３の中央部では、開口部１３の補強部材は補強梁１４のみであるが、開口部１３の中央部から端部に近づくにつれて開口部１３の補強用の補強梁１４のみならず領域１３ａが埋められることで補強部材の役割をしている。この開口部１３の最端部では、外枠部２Ａ及び２つの補強梁１４、さらに２つの領域１３ａが埋められることで開口部１３の補強部材の役割をしている。
【００５５】
なお、本変形例では、開口部１３の端部から中央部にかけて、領域１３ａが埋められる箇所を、順に２箇所、１箇所として補強部材の役割をする例を挙げたが、これに限らず、複数の領域１３ａが開口部１３の端部から中央部にかけて段階的に密になるように形成されていれば良い。
【００５６】
（電子機器）
次に、本発明の蒸着マスク１を用いて形成された有機ＥＬ素子を有するラインヘッド（有機ＥＬ装置）を備えた画像形成装置（電子機器）について説明する。図９は、画像形成装置４００を示す概略構成図である。
【００５７】
画像形成装置４００は、転写媒体４２２の走行経路の近傍に、像担持体としての感光体ドラム４１６を備えている。感光体ドラム４１６の周囲には、感光体ドラム４１６の回転方向（図中に矢印で示す）に沿って、露光装置４１５、現像装置４１８及び転写ローラ４２１が順次配設されている。感光体ドラム４１６は、回転軸４１７の周りに回転可能に設けられており、その外周面には、回転軸方向中央部に感光面４１６Ａが形成されている。
露光装置４１５及び現像装置４１８は感光体ドラム４１６の回転軸４１７に沿って長軸状に配置されており、その長軸方向の幅は、感光面４１６Ａの幅と概ね一致している。
【００５８】
この画像形成装置４００では、まず、感光体ドラム４１６が回転する過程において、露光装置４１５の上流側に設けられた図示略の帯電装置により感光体ドラム４１６の表面（感光面４１６Ａ）が例えば正に帯電され、次いで露光装置４１５により感光体ドラム４１６の表面が露光されて表面に静電潜像ＬＡが形成される。さらに、現像装置４１８の現像ローラ４１９により、トナー（現像剤）４３０が感光体ドラム４１６の表面に付与され、静電潜像ＬＡの電気的吸着力によって静電潜像ＬＡに対応したトナー像が形成される。なお、トナー粒子は正に帯電されている。
【００５９】
現像装置４１８によるトナー像の形成後は、感光体ドラム４１６の更なる回転によりトナー像が転写媒体４２２に接触し、転写ローラ４２１により転写媒体４２２の背面からトナー像のトナー粒子とは逆極性の電荷（ここでは負電荷）が付与され、これに応じて、トナー像を形成するトナー粒子が感光体ドラム４１６の表面から転写媒体４２２に吸引され、トナー像が転写媒体１２２の表面に転写される。
【００６０】
露光装置４１５は、複数の発光素子４５０を有するラインヘッド４１０と、ラインヘッド４１０から放射された光Ｌを正立等倍結像させる複数のレンズ素子４１３を有する結像光学素子４１２とを備えている。ラインヘッド４１０と結像光学素子４１２とは、互いにアライメントされた状態で図示略のヘッドケースによって保持され、感光体ドラム４１６上に固定されている。
【００６１】
ラインヘッド４１０は、複数の発光素子４５０を感光体ドラム４１６の回転軸４１７に沿って配列してなる発光素子列４２０と、発光素子４５０を駆動させる図示略の駆動素子からなる駆動素子群と、これら駆動素子（駆動素子群）の駆動を制御する制御回路群４１１とを備えている。発光素子４５０、駆動素子群及び制御回路群４１１は長細い矩形の素子基板（基体）４１０Ａ上に一体形成されている。
【００６２】
結像光学素子４１２は、日本板硝子株式会社製のセルフォック（登録商標）レンズ素子と同様の構成からなるレンズ素子４１３を感光体ドラム４１６の回転軸４１７に沿って千鳥状に２列配列（配置）してなるレンズ素子列４１４を備えている。
【００６３】
この画像形成装置４００は、ラインヘッド４１０が本発明の蒸着マスク１を用いて形成された有機ＥＬ素子で構成されている。本発明の蒸着マスク１を用いて形成された有機ＥＬ素子は正確な薄膜パターンに形成されているので、高精細な画像を形成することが可能な画像形成装置となっている。
【００６４】
なお、電子機器としては、上記画像形成装置４００以外にも、携帯電話、マルチメディア対応のパーソナルコンピュータ（ＰＣ）、およびエンジニアリング・ワークステーション（ＥＷＳ）、ページャ、あるいは投射型液晶表示装置、ワードプロセッサ、テレビ、ビューファインダ型またはモニタ直視型のビデオテープレコーダ、電子手帳、電子卓上計算機、カーナビゲーション装置、ＰＯＳ端末、タッチパネルなどを挙げることができる。
【図面の簡単な説明】
【００６５】
【図１】本発明の蒸着マスクの概略平面図である。
【図２】開口部の断面構成図である。
【図３】本発明の蒸着マスクを用いて薄膜をパターン加工する様子を示した図である。
【図４】本発明の蒸着マスクの製造工程を示す図である。
【図５】図４に続く蒸着マスクの製造工程を示す図である。
【図６】蒸着マスクの第１変形例の概略平面図である。
【図７】第２補強梁の断面構成図である。
【図８】蒸着マスクの第２変形例の概略平面図である。
【図９】電子機器の一例であるラインヘッドを示す概略構成図である。
【符号の説明】
【００６６】
１，１Ａ，１Ｂ…蒸着マスク、２…マスク基板、３…開口部、４…補強梁、５…第１開口部、６…第２開口部、７…第１補強梁、８…第２補強梁、１０…被成膜基板、１５…薄膜パターン、４０…蒸着材料
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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