(57)【要約】      （修正有）【課題】ゲート弁の動的挙動情報により故障予知を事前に行い、動作異常による製品不良を未然に防止する。【解決手段】ウエハが搬入搬出される負圧移載室と、負圧移載室に隣接する処理ユニットおよび予備室と、負圧移載室と処理ユニットおよび予備室との間に設置されたゲート弁４０とを具備するクラスタ装置において、ゲート弁４０に状態検出装置６０を設ける。状態検出装置６０には、ピストン４６と連動するフラップ６１と、ゲート弁４０の弁体４２が搬送口４１を完全に遮蔽する位置でフラップ６１を検出するフォトセンサ６２ａと、完全に開放する位置でフラップ６１を検出するフォトセンサ６２ｋと、フォトセンサ６２ａとフォトセンサ６２ｋとの間でフラップ６１をそれぞれ検出するフォトセンサ６２ｂ〜６２ｊとを設ける。【選択図】図２
2010074073.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板が搬入出される第一の容器と、
前記第一の容器に隣接し、基板が搬入出される第二の容器と、
前記第一の容器と前記第二の容器との間に設置され、前記第一の容器と前記第二の容器を遮蔽又は開放するゲート弁と、
前記ゲート弁が完全に遮蔽する位置で遮蔽状態を検出する遮蔽状態検出部と、
前記ゲート弁が完全に開放する位置で開放状態を検出する開放状態検出部と、
前記遮蔽状態検出部と前記開放状態検出部との間に設置された少なくとも１つ以上の状態検出部と、
を有する基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板処理装置に関する。
例えば、半導体集積回路装置（以下、ＩＣという。）の製造方法において、半導体素子を含む集積回路が作り込まれる半導体ウエハ（以下、ウエハという。）に薄膜を形成する工程に利用して有効なものに関する。
【背景技術】
【０００２】
ＩＣの製造方法において、ウエハ薄膜を形成する工程にクラスタ装置が使用される。
クラスタ装置は大気圧未満の圧力（負圧）に耐える構造に構成された搬送室を備えており、この搬送室に複数の処理室および予備室（ロードロック室）が連結されており、搬送室と各処理室との間および搬送室と予備室との間には、ゲート弁がそれぞれ設置されている。
【０００３】
ゲート弁は搬送口を遮蔽および開放する弁体と、弁体を進退させる駆動装置とを備えており、駆動装置としては、空気のような圧縮媒体（以下、エアという。）を供給して駆動力とするエアシリンダ装置が使用されている。
エアシリンダ装置としては、ロッドが片側から突出したピストンを、２系統のエア供給路を備え一方のエア供給路にエアを供給すると同時に他方のエア排気路からエアを排気して進退させる片ロッド形複動エアシリンダ装置が、一般的に使用されている。
【０００４】
このようなゲート弁において、弁体が遮蔽状態にあるのか開放状態にあるのかを把握するために、エアシリンダ装置には状態検出装置が設けられる。
この状態検出装置としては、シリンダ内のピストンと連動するフラップと、シリンダ両端にそれぞれ配置されフラップによって遮光される一対のフォトセンサとを備えており、遮光されたフォトセンサを判定することにより、弁体が遮蔽状態にあるのか開放状態にあるのかを検出するもの、がある。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、クラスタ装置のゲート弁にエアシリンダ装置がしばしば用いられる理由としては、エアシリンダ装置が比較的安価であり、ゲート弁本来の機能として雰囲気隔離のための遮蔽状態と搬送のための開放状態との単純な２つの状態間を変位させるには手頃な駆動装置だからである。 
しかしながら、前述したエアシリンダ装置によれば、一対のフォトセンサによって検出可能なゲート弁の状態は遮蔽、開放および遮蔽開放のどちらの状態でもない（不定状態）の限られた情報になるため、不定状態中のゲート弁の動的挙動に関する詳細な情報を得ることができないという問題点がある。
【０００６】
近年、半導体製造装置の運用や保守においてＥＥＳ（Equipment Engineering System）の導入により、あらゆる装置状態を電子データ化し、解析によって装置故障を予知し、製品不良の撲滅や適正なタイミングで装置保守を行う等の徹底した生産効率の見直しが粛々と行われている。
【０００７】
このような背景の中、前述したクラスタ装置においては、ゲート弁を複数台使用しており、かつ、一箇所のゲート弁の故障がクラスタ装置全体の不稼動につながる危惧がある。にもかかわらず、ゲート弁の故障予知に関する情報源に乏しい現実があるため、ゲート弁の動的挙動に関する詳細情報を取得し、故障予知によるクラスタ装置の安定稼動への取り組みはますます重要なものとなってきている。
【０００８】
本発明の目的は、駆動系の動的挙動情報により故障予知を事前に行い、動作異常による製品不良を未然に防止することができる基板処理装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
前記した課題を解決するための手段のうち代表的なものは、次の通りである。
（１）基板が搬入出される第一の容器と、
前記第一の容器に隣接し、基板が搬入出される第二の容器と、
前記第一の容器と前記第二の容器との間に設置され、前記第一の容器と前記第二の容器を遮蔽又は開放するゲート弁と、
前記ゲート弁が完全に遮蔽する位置で遮蔽状態を検出する遮蔽状態検出部と、
前記ゲート弁が完全に開放する位置で開放状態を検出する開放状態検出部と、
前記遮蔽状態検出部と前記開放状態検出部との間に設置された少なくとも１つ以上の状態検出部と、
を有する基板処理装置。
（２）前記ゲート弁には前記状態検出部が感知するフラップが設けられ、複数の前記状態検出部が前記フラップを同時に感知することのないように前記状態検出部間の間隔及び前記フラップの幅を設定する（１）に記載の基板処理装置
（３）前記フラップとは遮光用フラップであり、前記状態検出部とは光センサである（１）に記載の基板処理装置。
【発明の効果】
【００１０】
前記の手段によれば、駆動系の動的挙動情報により故障予知を事前に行い、動作異常による製品不良を未然に防止することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、本発明の一実施の形態を図面に即して説明する。
【００１２】
図１は本発明の一実施の形態に係る基板処理装置を示している。
【００１３】
本実施の形態において、本発明に係る基板処理装置は、図１に示されているようにクラスタ装置として構成されている。
なお、本実施の形態に係るクラスタ装置においては、ウエハ２を搬送するためのウエハ搬送用キャリア（基板収納容器）としては、ＦＯＵＰ（front opening unified pod 。以下、ポッドという。）１が使用されている。
【００１４】
図１に示されているように、クラスタ装置１０は大気圧未満の圧力（負圧）に耐える構造に構成された搬送室としての第一ウエハ移載室（以下、負圧移載室という。）１１を備えており、負圧移載室１１の筐体（以下、負圧移載室筐体という。）１２は、平面視が七角形で上下両端が閉塞した箱形状に形成されている。
負圧移載室１１の中央部には負圧下においてウエハ２を移載する搬送装置としてのウエハ移載装置（以下、負圧移載装置という。）１３が設置されており、負圧移載装置１３はスカラ形ロボット（selective compliance assembly robot arm ＳＣＡＲＡ）によって構成されている。
【００１５】
負圧移載室筐体１２の７枚の側壁のうち長い側壁には、搬入用予備室（以下、搬入室という。）１４と搬出用予備室（以下、搬出室という。）１５とがそれぞれ隣接して連結されている。
搬入室１４の筐体と搬出室１５の筐体とはそれぞれ平面視が略菱形で上下両端が閉塞した箱形状に形成されているとともに、負圧に耐え得るロードロックチャンバ構造に構成されている。
【００１６】
搬入室１４および搬出室１５の負圧移載室１１と反対側には、大気圧以上の圧力（以下、正圧という。）を維持可能な構造に構成された第二ウエハ移載室（以下、正圧移載室という。）１６が隣接して連結されており、正圧移載室１６の筐体は平面視が横長の長方形で上下両端が閉塞した箱形状に形成されている。
搬入室１４と正圧移載室１６との境にはゲート弁１７Ａが設置されており、搬入室１４と負圧移載室１１との間にはゲート弁１７Ｂが設置されている。
搬出室１５と正圧移載室１６との境にはゲート弁１８Ａが設置されており、搬出室１５と負圧移載室１１との間にはゲート弁１８Ｂが設置されている。
正圧移載室１６には正圧下でウエハ２を移載する第二ウエハ移載装置（以下、正圧移載装置という。）１９が設置されており、正圧移載装置１９はスカラ形ロボットによって構成されている。
正圧移載装置１９は正圧移載室１６に設置されたエレベータによって昇降されるように構成されているとともに、リニアアクチュエータによって左右方向に往復移動されるように構成されている。
正圧移載室１６の左側端部にはノッチ合わせ装置２０が設置されている。
【００１７】
正圧移載室１６の正面壁には三つのウエハ搬入搬出口２１、２２、２３が、隣合わせに並べられて開設されており、これらのウエハ搬入搬出口２１、２２、２３はウエハ２を正圧移載室１６に対して搬入搬出し得るように設定されている。
これらのウエハ搬入搬出口２１、２２、２３にはポッドオープナ２４がそれぞれ設置されている。
ポッドオープナ２４はポッド１を載置する載置台２５と、載置台２５に載置されたポッド１のキャップを着脱するキャップ着脱機構２６とを備えており、載置台２５に載置されたポッド１のキャップをキャップ着脱機構２６によって着脱することにより、ポッド１のウエハ出し入れ口を開閉するようになっている。
ポッドオープナ２４の載置台２５に対してはポッド１が、図示しない工程内搬送装置（ＲＧＶ）によって供給および排出されるようになっている。
【００１８】
図１に示されているように、負圧移載室筐体１２の７枚の側壁のうち正圧移載室１６と反対側に位置する３枚の側壁には、第一処理ユニット３１と第二処理ユニット３２と第三処理ユニット３３とがそれぞれ隣接して連結されている。
第一処理ユニット３１と負圧移載室１１との間にはゲート弁３１Ａが設置されている。  第二処理ユニット３２と負圧移載室１１との間にはゲート弁３２Ａが設置されている。  第三処理ユニット３３と負圧移載室１１との間にはゲート弁３３Ａが設置されている。  また、負圧移載室筐体１２における７枚の側壁のうちの他の２枚の側壁には、第一クーリングユニット３５と、第二クーリングユニット３６とがそれぞれ連結されており、第一クーリングユニット３５および第二クーリングユニット３６はいずれも処理済みのウエハ２を冷却するように構成されている。
クラスタ装置１０は第一処理ユニット３１、第二処理ユニット３２、第三処理ユニット３３およびゲート弁等々を統括的に制御するためのコントローラ３７を備えている。
【００１９】
各ゲート弁１７Ａ、１７Ｂ、・・・３３Ａは、図２に示されたゲート弁４０と同様に構成されているので、その構成は図２について説明する。
図２に示されたゲート弁４０は、搬送口４１を閉塞可能な弁体４２と、弁体４２を進退させる片ロッド形複動エアシリンダ装置（以下、シリンダ装置という。）４３と、を備えている。シリンダ装置４３はシリンダ４４と、シリンダ４４のシリンダ室４５内に摺動自在に嵌入されたピストン４６と、ピストン４６の片側（以下、上側とする。）に突設されシリンダ４４の上側から突き出されたピストンロッド（以下、ロッドという。）４７と、を備えいてる。ロッド４７の上端部には弁体４２が固定されている。
シリンダ４４の上下両端部には、第一通路４８の一端および第二通路４９の一端がそれぞれ接続されており、第一通路４８はシリンダ室４５のピストン４６の上側室に連通し、第二通路４９はシリンダ室４５のピストン４６の下側室に連通している。第一通路４８の他端はエアコンプレッサ等からなるエア供給装置５０に第一方向制御弁５１および第一流量制御弁５２を介して接続されている。第二通路４９の他端はエア供給装置５０に、第二方向制御弁５３および第二流量制御弁５４を介してそれぞれ接続されている。
両方向制御弁５１、５３および両流量制御弁５２、５４はコントローラ３７によって制御される。
【００２０】
シリンダ装置４３には状態検出装置６０が設けられている。状態検出装置６０はピストン４６と連携してシリンダ４４外面に沿って上下動するフラップ６１と、例えば１１個のフォトセンサ６２ａ〜６２ｋとを備えている。１１個のフォトセンサ６２ａ〜６２ｋはシリンダ４４の外面に沿って等間隔にそれぞれ配置されており、フラップ６１によって遮光されることによりオンし、その結果をコントローラ３７に送信する。
最上段すなわち一番目のフォトセンサ６２ａは、弁体４２が搬送口４１を完全に遮蔽する位置で遮蔽状態を検出する遮蔽状態検出部を構成している。最下段すなわち十一番目のフォトセンサ６２ｋは、弁体４２が搬送口４１を完全に開放する位置で開放状態を検出する開放状態検出部を構成している。遮蔽状態検出部である一番目のフォトセンサ６２ａと、開放状態検出部である十一番目のフォトセンサ６２ｋとの間に設置された二番目から十番目のフォトセンサ６２ｂ〜６２ｊは複数の状態検出部を構成している。
フラップ６１およびフォトセンサ６２ａ〜６２ｋは、複数のフォトセンサがフラップ６１を同時に感知することのないように、間隔およびフラップ６１の幅を設定されている。
なお、各フォトセンサの間隔は全て同じ距離でもよいし、同じ距離でなくてもよい。
【００２１】
ここで、以上の構成に係るゲート弁４０の作用および効果を説明する。
弁体４２が搬送口４１を完全に遮蔽した図２の状態において、第一方向制御弁５１および第二方向制御弁５３が開放側にそれぞれ切り換えられると、エア供給装置５０からのエアが第一流量制御弁５２を経由して第一通路４８からシリンダ室４５の上側室に供給され、シリンダ室４５の下側室のエアは第二方向制御弁５３から排気する。
これにより、ピストン４６がシリンダ室４５内を下方に移動するため、弁体４２は搬送口４１を開放して行く。
この際、フラップ６１がピストン４６と連動して下降するために、図３（ａ）で参照されるように、１１個のフォトセンサ６２ａ〜６２ｋは順次オンして行き、その結果をコントローラ３７に送信する。コントローラ３７はこの送信データに基づき、第一流量制御弁５２をフィードバック制御する。フォトセンサ６２ｋがオンになった時に、完全に開放状態に到達したことを示す。
【００２２】
続いて、弁体４２が搬送口４１を完全に開放した状態から完全に遮蔽する状態に移行する際には、第一方向制御弁５１および第二方向制御弁５３が図２に示された遮蔽側にそれぞれ切り換えられる。すると、エア供給装置５０からのエアが第二流量制御弁５４を経由して第二通路４９からシリンダ室４５の下側室に供給され、シリンダ室４５の上側室のエアは第一方向制御弁５１から排気する。
これにより、ピストン４６がシリンダ室４５内を上方に移動するため、弁体４２は搬送口４１を遮蔽して行く。
この際、フラップ６１がピストン４６と連動して上昇するために、１１個のフォトセンサ６２ａ〜６２ｋは開放の時とは逆の順番でオンして行き、その結果をコントロールラ３７に送信する。コントローラ３７はこの送信データに基づき、第二流量制御弁５４をフィードバック制御する。フォトセンサ６２ａがオンになった時に完全に遮蔽状態に到達したことを示す。
【００２３】
次に、状態検出装置６０から送信されるデータを使用したデータ解析手法を、図３について説明する。
図３（ａ）はゲート弁４０の動作開始から各フォトセンサがオンするまでの時間を、各フォトセンサ毎に取得した結果を棒グラフにしたものである。 
図３（ａ）中、センサ番号「１〜１１」は、遮蔽状態位置検出部である一番目のフォトセンサ６２ａを１番として、開放状態位置検出部である十一番目のフォトセンサ６２ｋまでの間に配置されたフォトセンサ順に、２番、３番・・・と付与している。 
図３（ａ）の棒グラフのデータは、ゲート弁４０の遮蔽状態から開放状態に移行したときの挙動を示したものである。 
【００２４】
図３（ａ）において、各フォトセンサ６２ａ〜６２ｋの設置位置に関しては、ゲート弁４０の動作開始地点を基準に予め設計された値が用いられるため、各フォトセンサ６２ａ〜６２ｋ毎の遮光時間より動作時間と動作距離の関係を示すと、図３（ｂ）に示されたグラフの通りになる。
図３（ｂ）に示されたグラフの波形は、動作時間に対するゲート弁４０の動的挙動を示唆するものである。
本実施形態においては、このグラフを活用することにより、ゲート弁４０の動作途中の解析が可能となるので、ゲート弁４０の故障予知や異常発生時の早期装置復旧に大きく寄与することができる。
ところで、一対のフォトセンサによってゲート弁の動的挙動を検出する従来の状態検出装置によれば、完全な遮蔽や完全な開放および遮蔽または開放のどちらの状態でもない（不定状態）の限定的な状態しか検出することができない。すなわち、従来の状態検出装置によれば、ゲート弁の動的挙動に関する詳細な情報を得ることができない。
これに対して、本実施形態に係る図３（ｂ）のグラフによれば、移動開始期間および移動終了期間において移動速度が緩やかな所謂Ｓ字カーブを呈することが判るので、より具体的および迅速にゲート弁４０の故障や異常を予知することができる。
例えば、予めシーケンスされた基準のＳ字カーブと図３（ｂ）の現実のＳ字カーブとを比較し、現実のＳ字カーブが基準のＳ字カーブに対して閾値を越えて直線に近似した時には速度緩和作用が不足しているので、ゲート弁４０に故障や異常が発生しているものと、判定することができる。
なお、本実施の形態によれば、動作時間設定でタイムアウトエラーを検出するために、圧力変動や摺動抵抗での遅延をも監視することができる。
また、時間−距離のトレースと初期値との偏差監視も可能である。
【００２５】
以上のようにして、ゲート弁４０の故障や異常をいち早く予知することにより、ゲート弁４０の早期復旧に大きく寄与することができるばかりでなく、ゲート弁４０の故障や異常の発生を予測し、未然に防止することができる。
さらには、ＩＣ製造メーカ（クラスタ装置のユーザ）とクラスタ装置サプライヤとが前述した情報（図３のグラフ）を、インターネットや専用回線のような通信網を用いて交換をすることにより、クラスタ装置のリカバリに関するタイムリーで適切な指示が可能となるので、クラスタ装置の稼働率の向上に寄与することができる。
【００２６】
次に、前記構成に係るクラスタ装置１０の作用を、各ゲート弁の作用を主体に説明する。
図１において、クラスタ装置１０の載置台２５に供給されたポッド１のキャップが、キャップ着脱機構２６によって取り外され、ポッド１のウエハ出し入れ口が開放される。
ポッド１が開放されると、正圧移載室１６に設置された正圧移載装置１９はウエハ搬入搬出口を通してポッド１からウエハ２を一枚ずつピックアップし、搬入室１４に投入し、ウエハ２を搬入室用仮置き台に移載して行く。
この移載作業中には、搬入室１４の正圧移載室１６側はゲート弁１７Ａによって開かれており、また、搬入室１４の負圧移載室１１側はゲート弁１７Ｂによって閉じられており、負圧移載室１１内の圧力は、例えば、１００Ｐａに維持されている。
【００２７】
次に、搬入室１４の正圧移載室１６側がゲート弁１７Ａによって閉じられ、搬入室１４が排気装置（図示せず）によって負圧に排気される。
搬入室１４内が予め設定された圧力値に減圧されると、搬入室１４の負圧移載室１１側がゲート弁１７Ｂによって開かれる。
次に、負圧移載室１１の負圧移載装置１３は搬入室用仮置き台からウエハ２を一枚ずつピックアップして負圧移載室１１に搬入する。
その後、搬入室１４の負圧移載室１１側がゲート弁１７Ｂによって閉じられる。
【００２８】
続いて、第一処理ユニット３１のゲート弁３１Ａが開かれ、負圧移載装置１３はウエハ２を第一処理ユニット３１に搬送して、第一処理ユニット３１の処理室へ搬入（ウエハローディング）する。
なお、ウエハの第一処理ユニット３１への搬入に際しては、搬入室１４および負圧移載室１１が真空排気されることによって内部の酸素や水分が予め除去されているため、外部の酸素や水分がウエハの第一処理ユニット３１への搬入に伴って第一処理ユニット３１の処理室に侵入することは確実に防止される。
ゲート弁３１Ａが閉じられた後に、第一処理ユニット３１において、所定の処理がウエハに施される。
【００２９】
所定の処理が終了すると、ゲート弁３１Ａが開かれ、ウエハ２は負圧移載装置１３によって第一処理ユニット３１から負圧に維持された負圧移載室１１に搬出（ウエハアンローディング）される。
続いて、ゲート弁３１Ａが閉じられた後に、例えば第二処理ユニット３２のゲート弁３２Ａが開かれ、負圧移載装置１３はウエハ２を、第二処理ユニット３２に搬送して、第二処理ユニット３２の処理室へ搬入（ウエハローディング）する。
ゲート弁３２Ａが閉じられた後に、第二処理ユニット３２において、所定の処理がウエハに施される。
【００３０】
所定の処理が終了すると、ゲート弁３２Ａが開かれ、ウエハ２は負圧移載装置１３によって第二処理ユニット３２から負圧に維持された負圧移載室１１に搬出（ウエハアンローディング）される。
続いて、ゲート弁３２Ａが閉じられた後に、例えば第三処理ユニット３３のゲート弁３３Ａが開かれ、負圧移載装置１３はウエハ２を第三処理ユニット３３に搬送して、第三処理ユニット３３の処理室へ搬入（ウエハローディング）する。
ゲート弁３３Ａが閉じられた後に、第三処理ユニット３３において、所定の処理がウエハに施される。
【００３１】
所定の処理が終了すると、ゲート弁３３Ａが開かれ、ウエハ２は負圧移載装置１３によって第三処理ユニット３３から負圧に維持された負圧移載室１１に搬出（ウエハアンローディング）される。
続いて、ゲート弁３３Ａが閉じられた後に、搬出室１５のゲート弁１８Ｂが開かれ、負圧移載装置１３はウエハ２を搬出室１５に搬送して、仮置き台に仮置きする。
予めポットからピックアップされた例えば２５枚のウエハ２について一連の所定の処理が完了すると、処理済のウエハ２は搬出室１５の仮置き台に溜められた状態になる。
【００３２】
以上の作動が繰り返されることにより、搬入室１４に一括して搬入された２５枚のウエハ２について、第一処理ユニット３１、第二処理ユニット３２、第三処理ユニット３３により所定の処理が完了する。
なお、先に処理されているウエハ２が第一処理ユニット３１での処理を終了し、第二処理ユニット３２に搬入され後に、次の別のウエハ２を第一処理ユニット３１に搬送し、処理することが可能である。
つまり、一連の処理順序の中で、それぞれの処理ユニットが空き状態になったら、次のウエハ２を搬入して、並列で複数のウエハを処理することが可能である。
【００３３】
ウエハ排出ステップにおいては、負圧に維持された搬出室１５内に窒素ガスが供給され、搬出室１５内が大気圧となった後に、搬出室１５の正圧移載室１６側がゲート弁１８Ａによって開かれる。
次いで、載置台２５に載置された空のポッド１のキャップが、ポッドオープナ２４のキャップ着脱機構２６によって開かれる。
続いて、正圧移載室１６の正圧移載装置１９は搬出室１５からウエハ２をピックアップして正圧移載室１６に搬出し、正圧移載室１６のウエハ搬入搬出口２３を通してポッド１に収納（チャージング）して行く。
処理済みの２５枚のウエハ２のポッド１への収納が完了すると、ポッド１のキャップがポッドオープナ２４のキャップ着脱機構２６によってウエハ出し入れ口に装着され、ポッド１が閉じられる。
【００３４】
クラスタ装置１０における所定の処理が終了したウエハ２は、ポッド１に気密に収納された状態で、次の工程に工程内搬送装置により搬送されて行く。
【００３５】
なお、本発明は前記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において、種々に変更が可能であることはいうまでもない。
【００３６】
例えば、フォトセンサの設置個数や間隔は、ピストンの移動距離を考慮して最適化され、原則的に移動距離が長いほど、設置個数を増やすことによって、より詳細なゲート弁の動的挙動の解析が可能となる。
【００３７】
また、フォトセンサの情報からピストンの位置を容易に解析するため、遮光用フラップが同時に複数のフォトセンサを遮光しないように、あるいは、ゲート弁が如何なる状態にあっても必ずどこか一箇所はフォトセンサによる検出が可能となるように、フォトセンサの設置間隔や遮光用フラップの幅を設計することが望ましい。
前記実施の形態ではフォトセンサを用いたが、代わりにレーザ変位センサで距離を測定してもよい。
また、ピストンはエア駆動ではなく、モータ駆動を用いてもよい。
【００３８】
前記実施の形態においては、成膜工程に使用されるクラスタ装置について説明したが、本発明はこれに限らず、基板処理装置全般に適用することができる。
【００３９】
被処理基板はウエハに限らず、ＬＣＤ装置の製造工程におけるガラス基板や液晶パネル等の基板であってもよい。
【図面の簡単な説明】
【００４０】
【図１】本発明の一実施の形態であるクラスタ装置を示す平面断面図である。
【図２】本発明の一実施の形態に係るゲート弁を示す側面断面図である。
【図３】ゲート弁の作用を説明するためのグラフであり、（ａ）はゲート弁の動作開始から各フォトセンサがオンするまでの時間を各フォトセンサ毎に取得した結果を示しており、（ｂ）は動作時間に対するゲート弁の動的挙動を示している。
【符号の説明】
【００４１】
１…ポッド、２…ウエハ（被処理基板）、
１０…クラスタ装置（基板処理装置）、１１…負圧移載室（基板移載室）、１２…負圧移載室筐体、１３…負圧移載装置（ウエハ移載装置）、１４…搬入室（搬入用予備室）、１５…搬出室（搬出用予備室）、１６…正圧移載室（ウエハ移載室）、１７Ａ、１７Ｂ…ゲート弁、１８Ａ、１８Ｂ…ゲート弁、１９…正圧移載装置（ウエハ移載装置）、２０…ノッチ合わせ装置、２１、２２、２３…ウエハ搬入搬出口、２４…ポッドオープナ、２５…載置台、２６…キャップ着脱機構、
３１…第一処理ユニット、３２…第二処理ユニット、３３…第三処理ユニット、
３１Ａ、３２Ａ、３３Ａ…ゲート弁、
３７…コントローラ、
４０…ゲート弁、４１…搬送口、４２…弁体、４３…シリンダ装置（片ロッド形複動エアシリンダ装置）、４４…シリンダ、４５…シリンダ室、４６…ピストン、４７…ロッド（ピストンロッド）、４８…第一通路、４９…第二通路、５０…エア供給装置、５１…一方向制御弁、５２…第一流量制御弁、５３…第二方向制御弁、５４…第二流量制御弁、
６０…状態検出装置、６１…フラップ、６２ａ〜６２ｋ…フォトセンサ（状態検出部）。
【図１】
2010074073.tif 000003
【図２】
2010074073.tif 000004
【図３】
2010074073.tif 000005