(57)【要約】【課題】その成長位置が制御された状態で、基板上で一方向に高密度に配向成長したカーボンナノチューブを製造する方法を提供する。【解決手段】表面の結晶面がＲ面であるサファイア単結晶基板の表面に、カーボンナノチューブ生成用金属系触媒からなる所定のパターン構造を形成し、ＣＶＤ法により前記パターン構造から前記Ｒ面における正のｃ軸投影方向の１８０°反対方向を主体にカーボンナノチューブを配向成長させることを特徴とするカーボンナノチューブの製造方法。【選択図】図８
2010052961.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面の結晶面がＲ面であるサファイア単結晶基板の表面に、カーボンナノチューブ生成用金属系触媒からなる所定のパターン構造を形成し、ＣＶＤ法により前記パターン構造から前記Ｒ面における正のｃ軸投影方向の１８０°反対方向を主体にカーボンナノチューブを配向成長させることを特徴とするカーボンナノチューブの製造方法。
【請求項２】
前記パターン構造が、Ｒ面における正のｃ軸投影方向に交差するように一定の間隔を設けて形成されたスリット構造または一定の間隔を設けて形成されたドット構造である請求項１記載のカーボンナノチューブの製造方法。
【請求項３】
前記パターン構造が、金属膜を熱処理して形成したものである請求項１または２記載のカーボンナノチューブの製造方法。
【請求項４】
前記金属膜の膜厚が、０．１ｎｍ以上５ｎｍ以下である請求項３記載のカーボンナノチューブの製造方法。
【請求項５】
前記パターン構造が、金属系触媒の前駆体を熱分解して形成したものである請求項１または２記載のカーボンナノチューブの製造方法。
【請求項６】
表面の結晶面がＲ面であるサファイア単結晶基板の表面に形成されたカーボンナノチューブ生成用金属系触媒からなる所定のパターン構造から前記Ｒ面における正のｃ軸投影方向の１８０°反対方向を主体に配向成長したカーボンナノチューブ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、カーボンナノチューブの製造方法及びカーボンナノチューブに関する。より詳しくは、サファイア単結晶基板の特定の結晶面にカーボンナノチューブを一方向に配向成長させるカーボンナノチューブの製造方法及び該結晶面に配向成長したカーボンナノチューブに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
カーボンナノチューブは、グラフェンシート（炭素六員環からなる層）を円筒状に丸めた、直径が０．４ｎｍから数十ｎｍ程度のチューブ状の物質であり、熱的・化学的安定性、力学的強度、電子伝導性、熱伝導性、近赤外域まで伸びた分光特性を有する優れたナノマテリアルとして注目されている。
カーボンナノチューブには、前記グラフェンシートが１層である単層カーボンナノチューブ（ＳＷＮＴ）、グラフェンシートが２層である２層カーボンナノチューブ（ＤＷＮＴ）、グラフェンシートが２層以上の多層カーボンナノチューブ（ＭＷＮＴ）があるが、この中でも特にＳＷＮＴやＤＷＮＴが注目されている。
【０００３】
また、カーボンナノチューブは、そのカイラリティ（螺旋度）の違いによってアームチェア型、ジグザグ型及びカイラル型に分類することができ、直径などの構造変化が生じると共に、その電気的特性（バンドギャップ、電子準位など）はカイラリティに依存して変化することが知られている。このような物性を利用して、金属性カーボンナノチューブは、希少金属を用いた透明導電材料の代替品として液晶ディスプレイや太陽電池パネル用の透明電極への利用が期待されており、また、半導体性カーボンナノチューブは、高性能トランジスタや超短光パルス発生、光スイッチなどの材料として期待されている。
【０００４】
ところで、電子デバイス用途への使用には、基板上にカーボンナノチューブを高密度に配向成長した材料が有用である。一方、サファイアと水晶などの単結晶基材を使用すると、高配向なＳＷＮＴが製造可能であることが報告されている。
例えば、特許文献１には、サファイア単結晶基板に触媒金属膜を形成した基材を使用したＳＷＮＴの製造方法が開示されている。また、非特許文献１には、金属系触媒の前駆体を含む溶液に、サファイア単結晶基材を含浸し、該単結晶基材上に金属系触媒を析出させた基材を使用したＳＷＮＴの製造方法が開示されている。
【０００５】
【特許文献１】特開２００３−２９２３１３号公報
【非特許文献１】エイチ  アゴウ（H. Ago)、ケミカル・フィジックス・レターズ（Chemical Physics Letters）、２００６年、Ｖｏｌ.４２１、３９９−４０３
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところで、カーボンナノチューブが配向成長した基板をより高度な電子デバイスへ応用するためには、成長位置を制御した状態で配向成長したカーボンナノチューブ（その集合体を含む）を直接トランジスタなどの電子素子として使用することが望まれている。
しかしながら、基板全面にカーボンナチューブを固着する特許文献１及び非特許文献１の方法では、カーボンナノチューブの成長位置が制御されておらず、カーボンナノチューブが基板全面から成長するため、成長したカーボンナノチューブを直接トランジスタなどの電子素子として使用することはできない。さらに、基板全面からカーボンナノチューブが成長した場合、密度が高くなるとカーボンナノチューブ同士が接触し、成長が抑制される。その結果、カーボンナノチューブの品質（長さ、密度の不均一性、炭素複生成物の発生）が低下する場合がある。
【０００７】
このような状況下、本発明の目的は、その成長位置が制御された状態で、基板上で一方向に高密度に配向成長したカーボンナノチューブを製造する方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは、カーボンナノチューブの製造方法について鋭意研究を重ねた結果、サファイア単結晶基板のＲ面にカーボンナノチューブを一方向に成長させる作用があり、適当な金属系触媒からなる規則的なパターン構造を形成することで、該金属系触媒パターン構造の特定の一方向を主体に高密度にカーボンナノチューブを配向成長させることが可能であることを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００９】
すなわち本発明は、次の発明に係るものである。
＜１＞  表面の結晶面がＲ面であるサファイア単結晶基板の表面に、カーボンナノチューブ生成用金属系触媒からなる所定のパターン構造を形成し、ＣＶＤ法により前記パターン構造から前記Ｒ面における正のｃ軸投影方向の１８０°反対方向を主体にカーボンナノチューブを配向成長させるカーボンナノチューブの製造方法。
＜２＞  前記パターン構造が、Ｒ面における正のｃ軸投影方向に交差するように一定の間隔を設けて形成されたスリット構造または一定の間隔を設けて形成されたドット構造である前記＜１＞記載のカーボンナノチューブの製造方法。
＜３＞  前記パターン構造が、金属膜を熱処理して形成したものである前記＜１＞または＜２＞記載のカーボンナノチューブの製造方法。
＜４＞  前記金属膜の膜厚が、０．１ｎｍ以上５ｎｍ以下である前記＜２＞記載のカーボンナノチューブの製造方法。
＜５＞  前記パターン構造が、金属系触媒の前駆体を熱分解して形成したものである前記＜１＞または＜２＞記載のカーボンナノチューブの製造方法。
＜６＞  表面の結晶面がＲ面であるサファイア単結晶基板の表面に形成されたカーボンナノチューブ生成用金属系触媒からなる所定のパターン構造から前記Ｒ面における正のｃ軸投影方向の１８０°反対方向を主体に配向成長したカーボンナノチューブ。
【発明の効果】
【００１０】
本発明の製造方法によれば、表面の結晶面がＲ面であるサファイア単結晶基板にカーボンナノチューブをＲ面における正のｃ軸投影方向の１８０°反対方向を主体に配向成長したカーボンナノチューブが容易に製造できる。このカーボンナノチューブは、長尺で、直径が制御された状態で高密度に配向成長しており、電界効果型トランジスタ（ＦＥＴ）や高周波トランジスタなどの電子デバイスへ好適に適用可能であるため、工業的に極めて有用である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、本発明につき詳細に説明する。
本願発明は、表面の結晶面がＲ面であるサファイア単結晶基板（以下、単に「基板」と呼ぶ場合がある。）の表面に、カーボンナノチューブ生成用金属系触媒からなる所定のパターン構造を形成し、ＣＶＤ(Chemical Vapor Deposition)法により前記所定のパターン構造から前記Ｒ面における正のｃ軸投影方向の１８０°反対方向を主体にカーボンナノチューブを配向成長させるカーボンナノチューブの製造方法に係るものである。
なお、本願発明において、「カーボンナノチューブ」とは、単層のＳＷＮＴだけでなく、２層のＤＷＮＴ、複層のＭＷＮＴ及びこれらの混合物を含む概念であるが、本発明の製造方法は、特にＳＷＮＴとＤＷＮＴの製造に適するものである。
【００１２】
本発明の基板として使用されるサファイア単結晶は、コランダム構造を持つ六方晶系の酸化アルミニウム（Ａｌ2Ｏ3）の単結晶であり多数の結晶面を持つ。その代表的な結晶面は図１（ａ）に示すＲ面、Ａ面、Ｃ面がある。本発明の特徴の一つは、表面の結晶面がＲ面であるサファイア単結晶基板を使用することがあるが、このＲ面は、ｃ軸のユニット長の半分の位置を３２．４°の傾きを有して通過する面である（図１（ｂ））。なお、本発明では、Ｒ面の方向において、ｃ軸の正の方向（[0 0 0 1]方向）をＲ面へ投影した方向を、「正のｃ軸投影方向」あるいは単に「ｃ軸投影方向」と呼ぶ。
【００１３】
特許文献１などで開示されているように、Ｒ面及びＡ面にカーボンナノチューブの水平配向成長を促進する性質があることは従来知られているが、上述のように、本発明者らはさらにＲ面には、正のｃ軸投影方向の１８０°反対方向、という特定の一方向にカーボンナノチューブが配向成長する性質があることを発見した。以下において、特にカーボンナノチューブの成長方向の説明では「Ｒ面における正のｃ軸投影方向の１８０°反対方向」を「順方向」、「Ｒ面における正のｃ軸投影方向」を「逆方向」とよぶ場合がある。
なお、正のｃ軸投影方向の１８０°反対方向を結晶方向で表現すると、
2010052961.tif 000003
と表現される。
【００１４】
Ｒ面における正のｃ軸投影方向の１８０°反対方向という特定の一方向へのカーボンナノチューブの配向成長が起こる理由について、完全に明らかになっているわけではないが、本発明者らはサファイアのＲ面におけるＯ原子とＡｌ原子の原子配列に起因して、Ｒ面ではカーボンナノチューブ（特にＳＷＮＴ）は本質的に正のｃ軸投影方向の１８０°反対方向（順方向）に成長しやすいと推測している。一方で、カーボンナノチューブは、単にカーボンナノチューブ生成用金属系触媒を固着した、表面の結晶面がＲ面であるサファイア単結晶基板を使用しても順方向を主体に高密度にカーボンナノチューブを成長させることができない。これは、基板の結晶面以外にも、使用する触媒（種類、大きさ、密度など）や、カーボンナノチューブの合成方法（炭素源、供給方法、温度）など様々な要素に依存して成長するためであり、その結果、カーボンナノチューブが順方向以外の方向（逆方向、その他の方向）に成長したり、また、成長したカーボンナノチューブ同士が衝突したりすることなどにより、基板表面でのカーボンナノチューブの配向性や密度が不均一になりやすい。
【００１５】
これに対し、本発明の製造方法における特徴のひとつは、その基板表面上に金属系触媒からなる所定のパターン構造をカーボンナノチューブの順方向への一方向配向成長を抑制せずに、順方向を主体としてカーボンナノチューブが配向成長するように形成している点にある。ここで、「順方向（Ｒ面における正のｃ軸投影方向の１８０°反対方向）を主体としてカーボンナノチューブが配向成長する」とは、具体的には順方向及び逆方向への配向成長していないカーボンナノチューブの割合が、全体の１０％以下（好適には５％以下）であって、かつ、順方向に配向成長したカーボンナノチューブの割合が全体の６０％以上（好適には７０％以上）となるようにカーボンナノチューブが配向成長することを意味する。なお、成長したカーボンナノチューブの割合は、例えば、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）で観察した任意の本数（好適には１００本以上）のカーボンナノチューブから求めることができる。
【００１６】
上記金属系触媒からなる所定のパターン構造は、カーボンナノチューブの順方向への一方向配向成長を抑制しない形状であればよいが、高配向性のカーボンナノチューブを高密度に、形成できるという点では、具体的にはＲ面における正のｃ軸投影方向に交差（好適には直交）するように一定の間隔を設けて形成されたスリット構造または一定の間隔を設けて形成されたドット構造であることが好ましい。なお、本発明において「ドット構造」とは、所定の間隔・形状・サイズを有する島状のパターン構造を意味する。
【００１７】
ここで、スリット構造の場合には、Ｒ面におけるカーボンナノチューブの配向成長方向であるｃ軸投影方向の１８０°反対方向（順方向）とスリット方向が平行であると、順方向に成長できるカーボンナノチューブの数が少なくなるため好ましくない。スリットの形状は特に限定されず、カーボンナノチューブを順方向に高密度に成長させるという観点からは、Ｒ面における正のｃ軸投影方向と直交する形状が好適である。
ここで、スリットの幅及びスリットの間隔については、基板の大きさ、成長させるカーボンナノチューブの長さ、密度などを勘案して適宜決定されるが、カーボンナノチューブを順方向に高密度に成長させるという観点からは、好適なスリットの幅は１〜１００μｍ、スリットの間隔は、２０〜５００μｍ程度である。
【００１８】
また、ドット構造の場合において、一つのドットの大きさは、特に制限がなく、一つのドット（金属触媒からなる島）からカーボンナノチューブが１〜５０本程度成長可能な大きさがあればよい。具体的には円形のドットで直径０．５〜５０μｍ程度である。ドットを形成する数は、基板の大きさ、カーボンナノチューブの収率などを勘案して適宜決定される。
【００１９】
次に本発明の製造方法に使用されるカーボンナノチューブ生成用金属系触媒について説明する。
本発明における、「カーボンナノチューブ生成用金属系触媒」とは、カーボンナノチューブを構成するグラフェンシートの形成に対しての触媒作用を有する金属系触媒を意味する。前記金属系触媒としては、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｒｕ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ａｇ、Ａｕ、Ｃｕ、Ｉｒなどの第４〜１１族の遷移金属元素からなる金属やその金属化合物（例えば金属酸化物、金属ホウ化物、塩化物、硝酸塩）を用いることができる。また、これらはいずれか１種、またはこれらの２種以上の合金あるいは混合物として用いることもできる。これらの中でも、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｍｏあるいはこれらを含む合金は、特にカーボンナノチューブの生成に対する触媒活性が高く、また、カーボンナノチューブ以外の炭素複生成物が生成しにくいため、好適に用いられる。
【００２０】
この金属系触媒は、所定のパターン構造として、表面の結晶面がＲ面であるサファイア単結晶基板の表面に固着される。固着する方法は、定法を適宜選択できるが、スパッタリング、蒸着などの方法で金属膜を形成する方法や金属系触媒の前駆体を含む溶液に前記基板を接触させる方法などがある。上記金属系触媒からなる所定のパターン構造を再現性よく形成可能であるという点では、金属膜から形成されることが好ましい。一方で、微細な金属系触媒微粒子を形成するという観点からは、金属前駆体を使用する方法が好ましい。  以下、それぞれの方法について具体的に説明する。
【００２１】
金属膜の製法は特に制限はなく、上述のように公知の方法、例えば、蒸着法、スパッタ法などを適宜選択することができるが、均一な膜厚の金属系触媒膜を得られる点ではスパッタ法が好適である。具体的には、レジスト法（例えば、特開２００２−２８５３３５号公報）などの定法によってスリットなどのパターン構造が形成されたマスクを基板上に形成し、上記の金属系触媒を構成する金属の一種あるいは２種以上をスパッタ法などで成膜後、前記マスクを除去することで作製できる。この金属膜を熱処理することで基板上に金属系触媒からなる所定のパターン構造を得ることができる。なお、金属膜は、熱処理することで凝集して粒子化し、カーボンナノチューブ生成用触媒作用が向上する。
熱処理温度は、適宜決定されるが、通常、２００〜１０００℃であり、粒径をその好適な範囲である０．４ｎｍ以上２０ｎｍ以下とする観点からは、２００〜９００℃が好適である。なお、熱処理を行う雰囲気は、特に限定されないが、この熱処理は通常は、後述するカーボンナノチューブの合成工程の前段階で行われるため、通常、窒素、アルゴンなどの不活性雰囲気もしくは水素などの還元雰囲気で行われる。
【００２２】
金属系触媒膜の膜厚は、０．１ｎｍ以上５ｎｍ以下（特に０．３ｎｍ以上２ｎｍ以下）が好適である。膜厚が０．１ｎｍ未満であると触媒量が足りずにカーボンナノチューブの収率が著しく低下し、５ｎｍを超えるとカーボンナノチューブの順方向と逆方向との成長の選択性がほとんどなくなり、順方向と逆方向以外へ成長する、配向性のないカーボンナノチューブの割合が増加する。ここで、カーボンナノチューブの順方向への一方向配向成長性という観点からでの好適な膜厚は２ｎｍ以下であり、その膜厚以下では７０％以上の順方向へ一方向配向成長性を得ることができる。
【００２３】
次に、金属系触媒の前駆体を使用して、上記所定のパターン構造を形成する方法について説明する。金属系触媒の前駆体としては、酸化物、水酸化物、ハロゲン化物、硝酸塩、硫酸塩、炭酸塩、シュウ酸塩、酢酸塩、金属カルボニルなどが挙げられ、これらは１種単独で使用してもよく、あるいは２種以上を組み合わせて使用してもよい。なお、金属系触媒の前駆体を分散あるいは溶解させる溶媒は特に限定されず、具体的に、水；メタノール、エタノール等のアルコール類；テトラヒドロフラン(ＴＨＦ)等のエーテル類；Ｎ,Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド類、シクロヘキサノン等のケトン類；酢酸ｎ−ブチル等のエステル類；ヘキサン、ヘプタン、シクロペンタン、シクロヘキサン等の炭化水素類などが挙げられる。この方法では、まず、レジスト法などの定法によってスリットなどのパターンが形成されたマスクを基板上に形成したのちに、金属系触媒の前駆体を含む溶液に前記基板を接触させて、基板上に所定のパターンに金属系触媒の前駆体を固着する。この所定のパターンに金属系触媒の前駆体が固着した基板を加熱して前駆体を熱分解することで、基板上に金属系触媒からなる所定のパターン構造を得ることができる。
【００２４】
金属系触媒の前駆体を含む溶液を、基板に接触させる方法としては、前記基材上に分散溶液を滴下する方法、分散溶液中に前記基材を浸漬する方法などが挙げられ、通常は後者である。なお、浸漬時の温度は、０℃〜１００℃、好ましくは２０℃〜４０℃であり、通常、室温である。浸漬時間は、前記基材に金属系触媒微粒子の前駆体が十分に吸着できる時間であればよく、通常、数分から２４時間程度である。なお、前記基材と金属系触媒微粒子の前駆体とを接触させた後に、金属系触媒微粒子の前駆体を含まない溶媒で洗浄してもよい。
【００２５】
熱処理温度は、使用する金属系触媒微粒子の前駆体の分解温度を勘案して、適宜決定されるが、通常、２００〜１０００℃である。なお、熱処理を行う雰囲気は、特に限定されないが、窒素、アルゴンなどの不活性雰囲気もしくは酸素を混入させた酸化雰囲気が好ましい。また、熱分解により形成した金属系触媒微粒子は、酸化物の状態であることが多く、後述するカーボンナノチューブの形成工程において、還元・活性化される。なお、還元の際の温度は、粒径をその好適な範囲である０．４ｎｍ以上２０ｎｍ以下とする観点からは、２００〜９００℃が好適である。
【００２６】
以下、本発明のカーボンナノチューブの製造方法では、上述の金属系触媒からなる所定のパターン構造を形成した基板を使用して、ＣＶＤ法によってカーボンナノチューブ（特にＳＷＮＴ、ＤＷＮＴ）を正のｃ軸投影方向の１８０°反対方向を主体に配向成長させることができる。ここで、ＣＶＤ法としては、熱ＣＶＤ法またはプラズマＣＶＤ法などのいずれのＣＶＤ法でもよいが、装置の簡便性、制御性の点で熱ＣＶＤ法が好適に用いられる。
【００２７】
ＣＶＤ法における、カーボンナノチューブの炭素源としては、メタン、エタン、プロパン、ブタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキサン、軽油などの炭化水素、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノールなどのアルコール類が挙げられる。これらの炭素源は、単独であるいは、アルゴンなどのキャリアを加えた混合物として使用される。
この中でも、メタンは、カーボンナノチューブ以外の炭素複生成物の生成が少なく、収率よくカーボンナノチューブを合成できるため、好適に用いられる。また、アルコール類、特にメタノール、エタノールを炭素源として使用すると、炭化水素を炭素源として利用した場合と比べて、低温でも高品質のカーボンナノチューブを成長させることができる。
【００２８】
以下において、炭素源としてメタンを使用した、熱ＣＶＤ法を参照して具体的に説明する。
【００２９】
熱ＣＶＤ法の場合の好適な条件は、合成温度が７５０〜９５０℃、合成時間が５〜６０分、合成圧力が０．０１〜１気圧である。また、ガス供給速度は、反応容器の大きさ、ガス濃度などを勘案して適宜され、一例を挙げるとメタン９００ｓｃｃｍ、水素１００ｓｃｃｍである。上記条件の中でも、合成温度は、生成するカーボンナノチューブの直径、配向性などに影響を及し、合成温度が７５０℃未満であると、カーボンナノチューブの成長速度が小さくなり、収率が低下することがあり、９５０℃を超えると、金属系触媒微粒子が凝集して、その粒径が不均一になるため、生成するカーボンナノチューブの直径、配向性が不均一化したり、カーボンナノチューブの収率が低下したりすることがある。
【００３０】
上述した本発明の基板上に金属系触媒からなる所定のパターン構造が形成されたカーボンナノチューブ形成用基材を使用することで、本発明の本発明の表面の結晶面がＲ面であるサファイア単結晶基板の表面に形成されたカーボンナノチューブ生成用金属系触媒からなる所定のパターン構造から前記Ｒ面における正のｃ軸投影方向の１８０°反対方向（順方向）を主体に配向成長した、本発明のカーボンナノチューブを好適に製造することができる。なお、製造したカーボンナノチューブの配向性、長さ、密度、成長位置は、ラマン分光法、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）などで確認することができる。
【００３１】
本発明のカーボンナノチューブは、上述のようにサファイア単結晶（Ｒ面）基板上の所定のパターン構造から、Ｒ面における正のｃ軸投影方向の１８０°反対方向を主体に配向成長した、１本または２本以上からなる集合体である。本発明において、カーボンナノチューブの長さ、直径、密度及び基板上に形成したパターン構造については特に制限はなく、基板の大きさや基板上に形成したパターン構造やその使用目的に応じて適宜決定可能であるが、上述した電子デバイスへの応用を考えると好適な範囲を例示すると、その長さが、１〜３００μｍ、その直径が０．４ｎｍ〜３０ｎｍであり、密度が０．５〜１０本／μｍである。なお、長さなどがこの範囲であれば、上述した本発明の製造方法によって、効率よく製造することが可能である。
また、サファイア単結晶（Ｒ面）基板上にファンデルワールス力などによってサファイア単結晶表面に適度な力で固着している。そのため、物理的力で容易に除去することが可能であり、必要に応じて基板上のすべてのカーボンナノチューブを除去したり、または、一部のカーボンナノチューブを除去したりして、その使用目的（例えば、電子素子）に適するようなカーボンナノチューブ（の集合体）の形状にしたりすることできる。
なお、本発明の基板上に成長したカーボンナノチューブの用途としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、電界効果型トランジスタ（ＦＥＴ）や高周波トランジスタなどの電子デバイスをはじめ、偏光板、ケミカルセンサなど様々な用途に使用することができる。
【実施例】
【００３２】
以下、本発明を実施例によりさらに詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００３３】
実施例１
（Ａ）サファイア基板上へのレジストパターンの作製
１０×１０ｍｍ、厚さ約０．３ｍｍのサファイア単結晶基板（京セラ株式会社製、表面結晶面：Ｒ面）を、ＩＰＡ中で、超音波洗浄（４５Ｗ、５分間）した後に、サファイア基板をスピンコーター（ミカサ製；１Ｈ−Ｄ７）に設置し、サファイア基板に反転ポジレジスト（ＡＺエレクトロニックマテリアルズ製、ＡＺ５２１４−Ｅ）を均等に基板に滴下し、スピンコーター３８００ｒｐｍ、２０秒の条件でスピンコートを行った。その後、１１５℃、６０秒間 プリベークを行うことで、サファイア基板上にレジスト膜（膜厚：約３００ｎｍ）を形成した。
次に、このレジスト膜に対して、その下地であるサファイア基板における表面（Ｒ面）の正のｃ軸投影方向の１８０°反対方向に直交するような所定のスリットパターンを形成した。次にマスクアライナー（共和理研製、Ｋ−３０９ＰＷ９５）を用いてフォトマスクを介して１秒間、紫外線を照射し、さらにマスクを外して６秒間全面露光を行った。最後に現像液（東京応化製、ＮＭＤ−３）でレジストを除去し、純水で洗浄し、１２０℃、１２０秒間 ポストベークを行うことで、レジストパターン（スリット型：スリット幅１０μｍ，スリット間隔３００μｍ）を形成したレジストパターン基板１を得た。
【００３４】
（Ｂ）Ｆｅスリットパターン膜の作製
レジストパターンを形成したサファイア基板（レジストパターン基板１）に、スパッタ装置（芝浦メカトロニクス製、ＣＦＳ−４ＥＳ）を使用して、（Ｆｅ：ＦＰ３００Ｗ、ＲＰ０Ｗ、Ａｒ０．６Ｐａ）の条件でスパッタリングを行った。
スパッタリング後の基板を、アセトン中で超音波洗浄することでレジストを除去し、サファイア基板表面（Ｒ面）上に正のｃ軸投影方向の１８０°反対方向に直交するＦｅスリットパターン膜が形成されたカーボンナノチューブ形成用基材を得た。なお、カーボンナノチューブのスパッタリング時間を適宜調整し、膜厚が０．３〜５ｎｍとなるようにしたＦｅ膜厚の異なる複数のカーボンナノチューブ形成用基材を作製した。なお、膜厚は、ＡＦＭにより測定した。
【００３５】
（Ｃ）熱ＣＶＤ法によるカーボンナノチューブの合成
作製したカーボンナノチューブ形成用基材を使用して、以下の方法でカーボンナノチューブの合成を行った。なお、ＣＶＤ法には石英ガラス製の反応容器を備えたガス流通式のＣＶＤ装置（図示せず）を使用した。まず、カーボンナノチューブ形成用基材を反応容器に入れ、アルゴン流通下（３５０ｓｃｃｍ）で９００℃まで昇温した後に、水素を１００ｓｃｃｍ、１０分間供給した。次に、９００℃でメタン／水素混合ガス（メタン：９００ｓｃｃｍ、水素１００ｓｃｃｍ）メタン濃度：９０体積％，全流量：１０００ｓｃｃｍ）を１０分間流通させることでカーボンナノチューブを合成した。
【００３６】
それぞれの基材で合成したカーボンナノチューブについて、ＳＥＭを用いて評価を行った。図２に代表例として膜厚１ｎｍのＳＥＭ像を示すが、それぞれのスリットから正のｃ軸投影方向の１８０°反対方向（順方向）にカーボンナノチューブが配向成長していることがわかる。図３〜７にＦｅ膜厚がそれぞれ０．３、０．５、１、２、４．５ｎｍについて、スリットにおける１本のパターンを拡大したＳＥＭ像を示す。
【００３７】
膜厚が０．３ｎｍのサンプル（図３）では、カーボンナノチューブが明らかに順方向に配向成長（順方向に略平行に成長）していることがわかる。一方、逆方向へ配向成長したカーボンナノチューブも確認される。なお、パターンの逆方向側へ成長したカーボンナノチューブには、配向性が認められないものも存在した。同サンプルにおいて、任意のパターン３００μｍの範囲において、順方向に配向成長したカーボンナノチューブは９０％以上であり、カーボンナノチューブの密度（単位長さ（μｍ）を交差するカーボンナノチューブの本数）は、２．０本／μｍであった。また、順方向に成長したカーボンナノチューブの平均長さは順方向で２５μｍ、逆方向で１０μｍであった。
【００３８】
膜厚が０．５ｎｍのサンプル（図４）でも、カーボンナノチューブに順方向に配向成長しているが、膜厚が０．３ｎｍのサンプルと比較して、明らかに逆方向に配向成長しているカーボンナノチューブが増加していることがわかる。同サンプルにおいて、任意のパターン３００μｍの範囲において、順方向に配向成長したカーボンナノチューブは８０％以上であり、カーボンナノチューブの密度は、４．５本／μｍであった。また、順方向に成長したカーボンナノチューブの平均長さは順方向で３０μｍ、逆方向で２０μｍであった。
【００３９】
膜厚が１ｎｍのサンプル（図５）では、カーボンナノチューブに順方向に配向成長しているが、膜厚が０．３，０．５ｎｍのサンプルと比較して、逆方向に配向成長しているカーボンナノチューブが増加していることがわかる。同サンプルにおいて、任意のパターン３００μｍの範囲において、順方向に配向成長したカーボンナノチューブは７０％以上であり、カーボンナノチューブの密度は、４．８本／μｍであった。また、順方向に成長したカーボンナノチューブの平均長さは順方向で４０μｍ、逆方向で３２．５μｍであった。
【００４０】
膜厚が２ｎｍのサンプル（図６）では、カーボンナノチューブに順方向に配向成長しているが、逆方向に配向成長しているカーボンナノチューブも膜厚が１ｎｍのサンプルと同程度存在した。同サンプルにおいて、任意のパターン３００μｍの範囲において、順方向に配向成長したカーボンナノチューブは７５％以上であり、カーボンナノチューブの密度は、４．５本／μｍであった。また、順方向に成長したカーボンナノチューブの平均長さは順方向で４０μｍ、逆方向で３０μｍであった。
【００４１】
膜厚が４．５ｎｍのサンプル（図７）では、カーボンナノチューブに順方向に配向成長しているが、逆方向に配向成長しているカーボンナノチューブ及び配向成長が確認されないカーボンナノチューブの量が明らかに増加した。この傾向は、膜厚が３ｎｍ以上から確認され、膜厚が５ｎｍを超えると配向性がさらに悪化すると思われる。
同サンプルにおいて、任意のパターン３００μｍの範囲において、順方向に配向成長したカーボンナノチューブは６０％程度であった。
【００４２】
ＳＥＭ観察の結果から、カーボンナノチューブが順方向へ７０％以上の割合で配向成長している膜厚が２ｎｍ以下のサンプルでは、順方向のカーボンナノチューブの長さが、逆方向のカーボンナノチューブの長さより長い傾向にあった。なお、膜厚２ｎｍ以上のサンプルでは、Ｆｅ膜のパターンが明確に確認されたが、膜厚１ｎｍ以下のサンプルではＦｅ膜のパターンが明確に確認できず、パターン内でもナノチューブが成長していた。
さらに、膜厚５ｎｍ以下の基材から配向成長したカーボンナノチューブについて、サンプル数５０でラマン分光法により、直径を算出した結果、ほとんどのカーボンナノチューブ直径は、１〜２ｎｍの範囲であり、膜厚による直径選択性は確認されなかった。
【００４３】
実施例２
（Ａ）サファイア基板上へのレジストパターンの作製
上述の実施例１と同様な方法で、以下のレジストパターンを形成したサファイア基板を得た。
・レジストパターン基板２（スリット型：スリット幅１０μｍ，スリット間隔１００μｍ）
【００４４】
（Ｂ）ＣｏＭｏスリットパターンの作製
レジストパターンを形成したサファイア基板（レジストパターン基板２）に、１０-5Ｍの硝酸コバルト(ＩＩ)六水和物（和光純薬工業株式会社）と５×１０-7Ｍのビスアセチルアセトナート二酸化モリブデン（Aldrich）とを含むエタノール溶液に１０分間浸漬し、１ｍｍ／ｍｉｎのスピードで引き上げたのちに、大気雰囲気下、室温で自然乾燥することで、基板上にＣｏ及びＭｏの前駆体を固着させた。なお、この前駆体は以下に示す熱ＣＶＤにおける昇温過程で分解して、金属系触媒粒子となる。前駆体を固着後の基板を、アセトン中で超音波洗浄することでレジストを除去し、サファイア基板表面（Ｒ面）上に正のｃ軸投影方向の１８０°反対方向に直交するＣｏＭｏスリットパターンが形成されたカーボンナノチューブ形成用基材を得た。
【００４５】
（Ｃ）熱ＣＶＤ法によるカーボンナノチューブの合成
作製したカーボンナノチューブ形成用基材を用いて、上記実施例１と同様な方法でカーボンナノチューブを合成した。
【００４６】
合成したカーボンナノチューブについて、ＳＥＭを用いて評価を行った。図８から明らかなように、この基板で作製したカーボンナノチューブは、ほとんどすべてが順方向に配向成長していることがわかる。一方で、成長したカーボンナノチューブの密度は２本／μｍ以下であり、その長さは数μｍから１００μｍ程度で広く分布し、特に１０μｍ程度の短いカーボンナノチューブが少なからず存在した。
【００４７】
実施例３
（Ａ）サファイア基板上へのレジストパターンの作製
スリット型フォトマスクの代わりに、所定のドット型フォトマスクを使用したこと以外は、上述の実施例１と同様な方法で、以下のレジストパターンを形成したサファイア基板を得た。
・レジストパターン基板３（ドット型：ドット１０×１０μｍ、間隔１００μｍ）
【００４８】
（Ｂ）ＣｏＭｏドットパターンの作製
レジストパターン基板２の代わりに、レジストパターン基板３を使用したこと以外は実施例２と同様にして、ＣｏＭｏドットパターンが形成されたカーボンナノチューブ形成用基材を得た。
【００４９】
（Ｃ）熱ＣＶＤ法によるカーボンナノチューブの合成
作製したカーボンナノチューブ形成用基材を用いて、上記実施例１と同様な方法でカーボンナノチューブを合成した。
【００５０】
合成したカーボンナノチューブについて、ＳＥＭを用いて評価を行った。図９及びその拡大図である図１０から明らかなようにこの基板で作製したカーボンナノチューブは、このように実施例２のスリット型パターンと同様にほとんどすべてが順方向に配向成長しており、その配向性は極めてよく、正のｃ軸投影方向の１８０°反対方向（順方向）とほぼ平行であり、配向性のないカーボンナノチューブはほとんど存在しなかった。
成長したカーボンナノチューブの密度は１本／μｍ以下であり、その長さは数μｍから８０μｍ程度であった。
【産業上の利用可能性】
【００５１】
本発明の製造方法によれば、表面がＲ面のサファイア単結晶基板表面に長尺で高密度に配向成長したカーボンナノチューブが容易に製造でき、この基板に配向成長したカーボンナノチューブは電界効果型トランジスタ（ＦＥＴ）や高周波トランジスタなどの電子デバイスをはじめ、偏光板、ケミカルセンサなど様々な用途に使用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００５２】
【図１】サファイアの結晶構造の説明図であり、（ａ）結晶格子における結晶面の説明図、（ｂ）Ｒ面における方向の説明図である。
【図２】スパッタ法によって作製したＦｅパターン（スリット型，膜厚１ｎｍ）を形成したサファイア基板（Ｒ面）で合成したカーボンナノチューブのＳＥＭ像である。
【図３】スパッタ法によって作製したＦｅパターン（スリット型，膜厚０．３ｎｍ）を形成したサファイア基板（Ｒ面）で合成したカーボンナノチューブのＳＥＭ像である。
【図４】スパッタ法によって作製したＦｅパターン（スリット型，膜厚０．５ｎｍ）を形成したサファイア基板（Ｒ面）で合成したカーボンナノチューブのＳＥＭ像である。
【図５】スパッタ法によって作製したＦｅパターン（スリット型，膜厚１ｎｍ）を形成したサファイア基板（Ｒ面）で合成したカーボンナノチューブのＳＥＭ像である。
【図６】スパッタ法によって作製したＦｅパターン（スリット型，膜厚２ｎｍ）を形成したサファイア基板（Ｒ面）で合成したカーボンナノチューブのＳＥＭ像である。
【図７】スパッタ法によって作製したＦｅパターン（スリット型，膜厚４．５ｎｍ）を形成したサファイア基板（Ｒ面）で合成したカーボンナノチューブのＳＥＭ像である。
【図８】金属系触媒の前駆体から作製したＣｏＭｏパターン（スリット型）を形成したサファイア基板（Ｒ面）で合成したカーボンナノチューブのＳＥＭ像である。
【図９】金属系触媒の前駆体から作製したＣｏＭｏパターン（ドット型）を形成したサファイア基板（Ｒ面）で合成したカーボンナノチューブのＳＥＭ像である。
【図１０】図９の拡大ＳＥＭ像である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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