(57)【要約】【課題】光配向膜を用いながらも画素電極を駆動する薄膜トランジスタの特性変動が抑えられ、これにより表示ムラのない表示特性が良好な液晶表示装置を提供する。【解決手段】第１基板１０上に配列された薄膜トランジスタＴｒと、薄膜トランジスタＴｒ上を覆う状態で第１基板１０上に設けられた紫外線カット膜としてのカラーフィルタ層１５と、薄膜トランジスタＴｒに接続された状態で第１基板１０上に配列された画素電極９と、画素電極９を覆う状態で第１基板１０上に設けられた光配向膜１７とを備えた液晶表示装置１ｄの構成である。【選択図】図２
2010169713.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に配列された薄膜トランジスタと、
少なくとも前記薄膜トランジスタ上を覆う状態で前記基板上に設けられた紫外線カット膜と、
前記薄膜トランジスタに接続された状態で前記基板上に配列された画素電極と、
前記画素電極を覆う状態で前記基板上に設けられた光配向膜とを備えた
液晶表示装置。
【請求項２】
前記紫外線カット膜は、前記画素電極の下地層として設けられている
請求項１記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記紫外線カット膜としてカラーフィルタ層が設けられている
請求項２記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記カラーフィルタ層を構成する各色フィルタが前記薄膜トランジスタの上方で積層されている
請求項２または請求項３に記載の液晶表示装置。
【請求項５】
ブラックマトリックス材料からなる前記紫外線カット膜が前記薄膜トランジスタの上方のみを覆っている
請求項１〜４の何れかに記載の液晶表示装置。
【請求項６】
前記基板上には前記画素電極間を覆う位置にブラックマトリックスが配置され、
前記紫外線カット膜と前記ブラックマトリックスとが同一層で構成されている
請求項５に記載の液晶表示装置。
【請求項７】
前記光配向膜は前記基板の表面に対して斜めにプレチルト角が付与されている
請求項１〜６の何れかに記載の液晶表示装置。
【請求項８】
基板上に配列された薄膜トランジスタと、
少なくとも前記薄膜トランジスタ上を覆う状態で前記基板上に設けられた紫外線カット膜と、
前記薄膜トランジスタに接続された状態で前記基板上に配列された画素電極と、
前記画素電極を覆う状態で前記基板上に設けられた光配向膜とを有する液晶パネルを備えた
電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は液晶表示装置および電子機器に関し、特には光配向膜を用いた液晶表示装置およびこの液晶パネルを備えた電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置に設けられている配向膜に配向機能を付与する処理方法の一つに、光配向法がある。光配向法による配向処理（光配向処理）は次のように行われる。先ず、薄膜トランジスタやこれに接続された画素電極が形成された基板上、さらには共通電極が形成された基板上に、有機材料からなる配向膜を成膜する。この配向膜に対して、所定の偏向成分のみとした紫外線を相対的に移動させながら照射する（下記特許文献１参照）。このような光配向処理によれば、配向膜に比接触で配向機能を付与することができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００８−７６９２１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、光配向処理が施された液晶表示装置においては、光配向処理に際して照射される紫外線が配向膜で覆われた画素電極下層の薄膜トランジスタにも照射され、この影響によって薄膜トランジスタの閾値特性が変動する。特に耐光性に劣るアモルファスシリコンを用いた薄膜トランジスタでは、紫外線照射による閾値特性の変動が大きく現れる。このため、紫外線の照射強度や照射量に分布があると、この分布が表示ムラとして現れてしまう。
【０００５】
そこで本発明は、画素電極を駆動する薄膜トランジスタの特性変動が抑えられ、これにより表示ムラのない表示特性が良好な液晶表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
このような目的を達成するための本発明の液晶表示装置は、次のように構成されている。基板上には、薄膜トランジスタが配列されると共に、少なくとも薄膜トランジスタ上を覆う状態の紫外線カット膜が設けられている。基板上には、薄膜トランジスタに接続された状態で画素電極が配列され、これらの画素電極を覆う状態で光配向膜が設けられている。また本発明は、上記構成の液晶表示装置を液晶パネルとして用いた電子機器でもある。
【０００７】
このような構成の液晶表示装置では、光配向膜に対して配向処理のための光照射がなされている場合であっても、紫外線カット膜で覆われた薄膜トランジスタに対しての紫外線照射が防止される。これにより、紫外線照射による薄膜トランジスタの特性変動が抑制される。
【発明の効果】
【０００８】
以上説明したように本発明によれば、光配向処理が施された光配向膜を用いながらも画素電極を駆動する薄膜トランジスタの特性変動が抑えられ、これにより表示ムラのない表示特性が良好な液晶表示装置を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】実施形態の液晶表示装置における回路構成の一例を示す図である。
【図２】第１実施形態の液晶表示装置の特徴的な層構成を示す概略断面図である。
【図３】第２実施形態の液晶表示装置の特徴的な層構成を示す概略断面図である。
【図４】第３実施形態の液晶表示装置の特徴的な層構成を示す概略断面図である。
【図５】第４実施形態の液晶表示装置の特徴的な層構成を示す概略断面図である。
【図６】その他の実施形態の層構成を示す概略断面図である。
【図７】本発明が適用されるテレビを示す斜視図である。
【図８】本発明が適用されるデジタルカメラを示す図であり、（Ａ）は表側から見た斜視図、（Ｂ）は裏側から見た斜視図である。
【図９】本発明が適用されるノート型パーソナルコンピュータを示す斜視図である。
【図１０】本発明が適用されるビデオカメラを示す斜視図である。
【図１１】本発明が適用される携帯端末装置、例えば携帯電話機を示す図であり、（Ａ）は開いた状態での正面図、（Ｂ）はその側面図、（Ｃ）は閉じた状態での正面図、（Ｄ）は左側面図、（Ｅ）は右側面図、（Ｆ）は上面図、（Ｇ）は下面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、本発明の各実施の形態を以下の順序で説明する。
１．第１実施形態（カラーフィルタ層を紫外線カット膜として用いた例）
２．第２実施形態（各色フィルタを積層させた例）
３．第３実施形態（カラーフィルタ層と共にブラックマトリックスを紫外線カット膜として用いた例）
４．第４実施形態（ブラックマトリックスを紫外線カット膜として用いた例）
５．その他の実施形態（ハイブリッド配向を適用した例）
４．第５実施形態（液晶パネルを備えた電子機器の実施形態）
【００１１】
＜１．第１実施形態＞
［液晶表示装置の回路構成］
図１は、本発明が適用される実施形態の液晶表示装置の回路構成の一例を示す図である。先ずこの図に基づいて、液晶表示装置の回路構成を説明する。
【００１２】
図１に示すように、液晶表示装置を構成する第１基板１０上には、表示領域１０ａとその周辺領域１０ｂとが設定されている。表示領域１０ａには、複数の走査線３が第１の方向（ここでは水平方向）に配線され、複数の信号線５が第２の方向（こでは垂直方向に）に配線され、これらの各交点に１つの画素ａが設けられた画素アレイ部を構成している。また表示領域１０ａ内には、走査線５と平行に共通配線７が配線されている。一方、周辺領域１０ｂには、走査線３を走査駆動する走査線駆動回路３ｂと、輝度情報に応じた映像信号（すなわち入力信号）を信号線５に供給する信号線駆動回路５ｂとが配置されている。
【００１３】
各画素ａには、例えばスイッチング素子としての薄膜トランジスタＴｒおよび保持容量Ｃｓからなる画素回路が設けられ、さらにこれらの画素回路に画素電極９が接続された構成となっている。尚、画素電極９は、以降に平面図および断面図を用いて詳細に説明するように、画素回路を覆う層間絶縁膜上に設けられていることとする。
【００１４】
各薄膜トランジスタＴｒは、ゲート電極が走査線３に接続され、ソース電極が信号線５に接続され、ドレイン電極が保持容量Ｃｓと画素電極９とに接続されている。ここで、走査線３を挟んで配置された各画素ａの薄膜トランジスタＴｒは、この走査線３を共有する状態でゲート電極を接続させている。また容量素子Ｃｓのもう一方の電極は、共通配線７に接続されている。尚、共通配線７は、ここでの図示を省略した対向基板側の共通電極に接続されている。
【００１５】
これにより、薄膜トランジスタＴｒを介して信号線５から書き込まれた映像信号が保持容量Ｃｓに保持され、保持された信号量に応じた電圧が各画素電極９に供給される構成となっている。
【００１６】
以上のような画素回路の構成は、あくまでも一例であり、必要に応じて画素回路内に容量素子を設けたり、さらに複数のトランジスタを設けて画素回路を構成しても良い。また、周辺領域２ｂには、画素回路の変更に応じて必要な駆動回路を追加しても良い。
【００１７】
［液晶表示装置の層構成］
図２は、第１実施形態の液晶表示装置１ａの特徴的な層構成を説明する３画素分の概略断面図である。尚、図１と同一の構成要素には同一の符号を付している。
【００１８】
この図に示すように、液晶表示装置１ａは、ガラス基板などからなる第１基板１０と第２基板２０との間に液晶層ＬＣを挟持してなる。このうち第１基板１０上には、図１を用いて説明した回路が形成されている。
【００１９】
先ず、第１基板１０の液晶層ＬＣ側に向かう面上には、薄膜トランジスタＴｒ、図１に示した容量素子（Ｃｓ）、走査線（３）、信号線（５）、および共通配線（７）が設けられている。
【００２０】
これらの層構成をさらに詳しく述べると、第１基板１０上の第１層目には、アルミニウムなどの導電性に優れた材料を用いて構成された走査線３と共通配線７とが、第１の方向（ここでは水平方向）に交互に配線されている。各走査線３は、水平方向に延設され、各画素ａ部分において薄膜トランジスタＴｒのゲート電極３ｇとしてパターニングされている。また、各共通配線５は、水平方向に延設され、各画素ａ部分においては図１に示した容量素子（Ｃｓ）の下部電極として設けられている。
【００２１】
以上のようなゲート電極３ｇを含む走査線３および共通配線７は、断面図のみに図示したゲート絶縁膜１１で覆われている。
【００２２】
このゲート絶縁膜１１上の第２層目には、ゲート電極３ｇに積層される位置に薄膜トランジスタＴｒの活性領域となる半導体層１３が設けられている。
【００２３】
半導体層１３が設けられたゲート絶縁膜１１上には、信号線５、薄膜トランジスタＴｒのソース電極５ｓおよびドレイン電極５ｄが設けられている。このうちソース電極５ｓは信号線５から延設されたものであり、各画素部分において半導体層１３に重ねられている。これらの信号線５、ソース電極５ｓ、およびドレイン電極５ｄは、アルミニウムなどの導電性に優れた材料を用いて構成されている。
【００２４】
以上のような半導体層１３を用いた薄膜トランジスタＴｒ、信号線５、ソース電極５ｓ、およびドレイン電極５ｄを覆う状態で、紫外線カット膜としてカラーフィルタ層１５が設けられている。このカラーフィルタ層（紫外線カット膜）１５は、各画素ａ毎にパターン形成された赤色フィルタ１５ｒ，緑色フィルタ１５ｇ、青色フィルタ１５ｂで構成され、薄膜トランジスタＴｒを含む回路を覆うオーバーコート層や平坦化絶縁膜として機能している。ここでは、各色のフィルタ１５ｒ，１５ｇ，１５ｂが、各画素ａに設けられた薄膜トランジスタＴｒを完全に覆っていることとする。特に、薄膜トランジスタＴｒにおいてチャネル部を構成する半導体層１３が、ソース電極５およびドレイン電極５ｄから露出する部分を完全に覆っていることする。
【００２５】
そして、このカラーフィルタ層（紫外線カット膜）１５上の第３層目には、カラーフィルタ層（紫外線カット膜）１５を下地層とし、ＩＴＯのような透明導電性材料からなる画素電極１９が配列形成されている。各画素電極９は、カラーフィルタ層（紫外線カット膜）１５に設けた接続孔１５ａを介して、薄膜トランジスタＴｒのドレイン電極５ｄに接続されている。
【００２６】
以上のような駆動側の第１基板１０における画素電極９の形成面側は、断面図のみに図示した光配向膜１７で覆われている。この光配向膜１７は、光配向処理が施されたものであり、この光配向処理によってプレチルト角が付与されていることとする。このような光配向膜１７は、光配向処理によってプレチルト角が付与された垂直配向膜または水平配向膜であることとする。
【００２７】
尚、垂直配向膜は、第１基板１０の基板面に対してほぼ垂直に配向させた膜であり、所定の方位角方向に傾くようにプレチルト角が付与されている。一方、水平配向膜は、第１基板１０の基板面に対してほぼ水平の所定方向に配向させた膜であり、配向方向において僅かに基板面に対して傾くようにプレチルト角が付与されている。
【００２８】
プレチルト角の方位角方向は例えば信号線５と平行な方向であることとする。また、プレチルト角の方位角方向は、９０°ずらした４方向としてマルチドメイン化しても良い。
【００２９】
以上のような光配向膜１７は、光配向性基を有する化合物を含んでいるか、またはこの光配向性基が重合性基である場合には光配向性基が重合された状態で含まれていることとする。このような光配向性基としては、下記の構造式（１）〜（４）が例示される。
【００３０】
【化１】
2010169713.tif 000003
【００３１】
一方、液晶層ＬＣを介して第１基板１０と対向配置された第２基板２０の液晶層ＬＣ側に向かう面上には遮光性材料からなるブラックマトリックス２１が設けられている。ブラックマトリックス２１は、画素ａ−ａ間に対応する部分と表示領域１０ａを囲む額縁部分とにパターン形成されている。これにより、ブラックマトリックス２１に設けられた開口が画素開口となる。このブラックマトリックス２１は、好ましくは走査線３、信号線５、および共通配線７を完全に覆うことが好ましい。
【００３２】
ブラックマトリックス２１が形成された第２基板２０上には、絶縁性材料からなるオーバーコート層２３を介して共通電極２５が設けられている。オーバーコート層２３は、表面平坦な平坦化絶縁膜として設けられている。また共通電極２５は全画素に共通な電位をもつベタ膜状に設けられている。
【００３３】
以上のような第２基板２０における共通電極２５の形成面側は、断面図のみに図示した光配向膜２７で覆われている。この光配向膜２７も、第１基板１０側の光配向膜１７と同様に光配向処理によってプレチルト角が付与されていることとする。このような光配向膜２７は、第１基板１０側の光配向膜１７と同様の垂直配向膜または水平配向膜であることとする。
【００３４】
プレチルト角を傾ける方位角方向は、第１基板１０側の光配向膜１７に対して反平行であって、液晶層ＬＣを構成する液晶分子ｍをホモジニアス配向させることとする。尚、第１基板１０側の光配向膜１７が、プレチルト角を９０°ずらした４方向としてマルチドメイン化されている場合、この第２基板２０側の光配向膜２７も、プレチルト角を９０°ずらした４方向としてマルチドメイン化されていることとする。
【００３５】
以上のような第１基板１０上の光配向膜１７と、第２基板２０の光配向膜２７との間に設けられた液晶層ＬＣは、画素電極９のオン／オフによって駆動される液晶分子ｍを含む。この液晶分子ｍは、光配向膜１７，２７が垂直配向膜であれば負の誘電異方性を有するネガ型液晶が用いられる。一方、この液晶分子ｍは、光配向膜１７，２７が水平配向膜であれば正の誘電異方性を有するポジ型液晶が用いられる。
【００３６】
このような液晶層ＬＣの層厚は、第１基板１０−第２基板２０間にスペーサ（図示省略）を挟持させることで、所定の層厚（セルギャップ）に保たれていることとする。ここでは、光配向膜１０のプレチルト角の方位角方向で基板１０，２０と平行にして液晶分子ｍを配向させた状態で、液晶層ＬＣにおよそλ／２の位相差が生じるようにセルギャップが調整されていることとする。
【００３７】
そして以上の第１基板１０および第２基板２０の外側には、ここでの図示を省略した一対の偏向板がクロスニコルに配置され、さらに第１基板１０側の偏向板の外側に、ここでの図示を省略したバックライトが配置されて液晶表示装置１ａを構成している。
【００３８】
［液晶表示装置の製造方法］
以上のような構成の液晶表示装置１ａは次のようにして作製する。
【００３９】
先ず、第１基板１０上に、薄膜トランジスタＴｒを含む回路を形成した後、この上部にカラーフィルタ層（紫外線カット膜）１５を形成する。ここでは、リソグラフィー処理によって各色のフィルタ１５ｒ，１５ｇ，１５ｂを順次形成する。この際、各フィルタ１５ｒ，１５ｇ，１５ｂに接続孔１５ａも同時に形成する。次に、カラーフィルタ層（紫外線カット膜）１５上に画素電極９をパターン形成する。
【００４０】
以上の後、画素電極９を覆う状態で光配向膜１７を形成する。この際、先ず光配向性基を有する化合物溶液を第１基板１０の上方に塗布成膜する。次に、成膜された塗布膜を乾燥させて溶媒を除去した後、光学異方性を有する光ｈを塗布膜に対して照射する光配向処理を施す。この際、光ｈは、光配向膜１７のプレチルト角に対応する入射角度・光量とし、プレチルト角の方位角方向に対応すると方向から照射されることとする。また、塗布膜に対して線形に焦点を成形した光ｈを照射しながら、第１基板１０を線形の延設方向と垂直な方向に相対的に一定速度で移動させても良い。以上のような光配向処理により、光配向性基を一定の方向に向けて配列させてプレチルトを付与する。
【００４１】
また、塗布膜に含有される光配向性基が上記構造式（１）〜（４）の場合には、光ｈを照射した配向処理により、官能基が架橋される。例えば、構造式（３）であれば、下記のように架橋が進められる。
【００４２】
【化２】
2010169713.tif 000004
【００４３】
一方、第２基板２０上には、例えばリソグラフィー法によってブラックマトリックス２１をパターン形成し、これを覆う状態でオーバーコート層２３を成膜する。その後、オーバーコート層２３上に共通電極２５を形成し、この上部に光配向膜２７を形成する。光配向膜２７の形成は、光配向膜１７の形成と同様に行う。
【００４４】
以上の後、光配向膜１７，２７におけるプレチルトの方向が反平行となるように、第１基板１０と第２基板２０とを対向配置し、これらの基板１０−２０間にスペーサ（図示省略）を挟持させて所定間隔に保ち、基板１０−２０間の周囲を封止剤で封止する。この状態で、封止剤の開口部から基板１０−２０間に液晶層ＬＣを充填し、開口部を密閉して液晶表示装置１ａを完成させる。
【００４５】
以上説明した第１実施形態の液晶表示装置１ａでは、薄膜トランジスタＴｒが設けられた第１基板１０側が光配向処理によってプレチルトが付与された光配向膜１７で覆われている。しかしながら、薄膜トランジスタＴｒ上には、紫外線カット膜となるカラーフィルタ層１５を介して光配向膜１７が設けられている。このため、光配向膜１７に対して光配向処理が施されるに際しては、カラーフィルタ層１５で覆われた薄膜トランジスタＴｒに対しての光ｈの照射、特に紫外の線照射が防止される。これにより、紫外線照射による薄膜トランジスタＴｒの特性変動が抑制される。この結果、液晶表示装置１ａにおいては、表示ムラのない特性が良好な表示を行なうことが可能になる。
【００４６】
＜２．第２実施形態＞
図３は、第２実施形態の液晶表示装置１ｂの特徴的な層構成を説明する３画素の概略断面図である。この図に示す本第２実施形態の液晶表示装置１ｂが、第１実施形態の表示装置と異なるところは、カラーフィルタ層（紫外線カット膜）１５の構成にあり、他の構成は同様である。
【００４７】
すなわちカラーフィルタ層（紫外線カット膜）１５は、各画素ａに設けられた薄膜トランジスタＴｒを覆う部分において、各色のフィルタ１５ｒ，１５ｇ，１５ｂ同士が積層配置されていることとする。各色のフィルタ１５ｒ，１５ｇ，１５ｂの積層状態としては、図示したように隣接する画素ａに配置されたフィルタ１５ｒ，１５ｇ，１５ｂ同士を積層させても良い。
【００４８】
また好ましい例としては、赤色のフィルタ１５ｒと青色のフィルタ１５ｂとが隣接して配置される部分の薄膜トランジスタＴｒ上は、赤色のフィルタ１５ｒおよび青色のフィルタ１５ｂ対して緑色のフィルタ１５ｇを積層させた構成とすることが好ましい。緑色フィルタは、青・赤と比べ、紫外に近い青領域波長の透過率が特に低いためであり、これにより、各色のフィルタ１５ｒ，１５ｇ，１５ｂが積層された薄膜トランジスタＴｒ上においての紫外線カットの効果が高められる。
【００４９】
尚、各色のフィルタ１５ｒ，１５ｇ，１５ｂを積層させることによって、積層部のカラーフィルタ層（紫外線カット膜）１５部分が局所的に厚膜化されてセルギャップ（液晶層ＬＣの層厚）に影響を及ぼす。このため、フィルタ１５ｒ，１５ｇ，１５ｂの積層部分は薄膜トランジスタＴｒ上の限られた最小部分に限定されることが好ましい。また第２基板２０上のブラックマトリックス２１は、この積層部分も覆う状態に成形されることが好ましい。
【００５０】
［液晶表示装置の製造方法］
以上のような液晶表示装置１ｂの製造は、第１実施形態で説明した製造手順において、第１基板１０の上方にカラーフィルタ層１５を形成する際、薄膜トランジスタＴｒ上で各色フィルタ１５ｒ，１５ｇ，１５ｂが積層されるようにリソグラフィーを行えば良い。
【００５１】
このような構成の第２実施形態の液晶表示装置１ｂであっても、光配向膜１７に対して光配向処理が施されるに際しては、カラーフィルタ層１５で覆われた薄膜トランジスタＴｒに対しての光ｈの照射、特に紫外の線照射が防止される。しかも、薄膜トランジスタＴｒ上は、各色のフィルタ１５ｒ，１５ｇ，１５ｂ同士が積層配置されているため、第１実施形態と比較して紫外線をカットする効果が高い。これにより、紫外線照射による薄膜トランジスタＴｒの特性変動をさらに確実に抑制することができる。この結果、液晶表示装置１ｂにおいては、さらに表示ムラが抑えられた良好な表示を行なうことが可能になる。
【００５２】
＜３．第３実施形態＞
図４は、第３実施形態の液晶表示装置１ｃの特徴的な層構成を説明する３画素の概略断面図である。この図に示す本第３実施形態の液晶表示装置１ｃが、第１実施形態の表示装置と異なるところは、第１基板１０側にブラックマトリックス３１が設けられている構成にあり、他の構成は同様である。
【００５３】
すなわち、ブラックマトリックス３１は、薄膜トランジスタＴｒが形成された第１基板１０上に設けられている。このブラックマトリックス３１は、画素ａ−ａ間に対応する部分と表示領域１０ａを囲む額縁部分とにパターン形成されている。これにより、ブラックマトリックス３１に設けられた開口が画素開口となる。このブラックマトリックス２１は、好ましくは走査線３、信号線５、および共通配線７を完全に覆うことが好ましい。
【００５４】
そして特に本第３実施形態においてブラックマトリックス３１は、薄膜トランジスタＴｒ部分を覆う状態にまで延設されているところが特徴的である。そして、ブラックマトリックス３１を延設したブラックマトリックス材料からなる部分が、紫外線カット膜として薄膜トランジスタＴｒの上方のみを覆っている。つまりここでは、ブブラックマトリックス材料からなる紫外線カット膜が、ラックマトリックス３１から延設されたブラックマトリックス３１の一部分として、ブラックマトリックス３１と同一層に設けられているのである。
【００５５】
ただし、ブラックマトリックス３１の配置部分は画素開口とならないため、ブラックマトリックス３１の配置部は出来るだけ小さく抑えられることが好ましい。このことからすれば、薄膜トランジスタＴｒを覆う状態で延設された紫外線カット膜として設けられたブラックマトリックス３１部分は、チャネル部を構成する半導体層１３がソース電極５およびドレイン電極５ｄから露出する部分を完全に覆う範囲で出来るだけ小さいことが好ましい。
【００５６】
尚、ブラックマトリックス３１は、画素ａ−ａ間に対応する部分および表示領域１０ａを囲む額縁部分に対して、薄膜トランジスタＴｒを覆う部分が分割されて島状に形成されていても良い。
そして、カラーフィルタ層１５は、ブラックマトリックス３１が形成された第１基板１０上に、平坦化絶縁膜として設けられることとする。このカラーフィルタ層１５も、紫外線カット膜として設けられることは、第１実施形態と同様である。
【００５７】
また、ブラックマトリックス３１を第１基板１０側に形成したことから、第２基板２０側にはブラックマトリックスを配置する必要はない。このような第２基板２０の液晶層ＬＣに向かう面側には、オーバーコート層２３、共通電極２５、および光配向膜２７がこの順に配置されていることとする。
【００５８】
［液晶表示装置の製造方法］
以上のような液晶表示装置１ｃの製造は、第１実施形態で説明した製造手順において、第１基板１０の上方にカラーフィルタ層１５を形成する前に、薄膜トランジスタＴｒが形成された第１基板１０上にブラックマトリックス３１を形成すれば良い。また、第２基板２０上には、ブラックマトリックスを形成せずにオーバーコート層２３、およびさらにその上層を形成すれば良い。
【００５９】
このような構成の第３実施形態の液晶表示装置１ｃでは、光配向膜１７に対して光配向処理が施されるに際しては、カラーフィルタ層１５と共にブラックマトリックス３１で覆われた薄膜トランジスタＴｒに対しての光ｈの照射、特に紫外の線照射を、さらに確実に防止することができる。これにより、紫外線照射による薄膜トランジスタＴｒの特性変動をさらに確実に抑制することができる。この結果、液晶表示装置１ｃにおいても、さらに表示ムラが抑えられた良好な表示を行なうことが可能になる。
【００６０】
尚、本第３実施形態においては、画素ａ−ａ間に対応する部分および表示領域１０ａを囲む額縁部分に対応するブラックマトリックスは、第１実施形態と同様に第２基板２０側に配置しても良い。この場合、薄膜トランジスタＴｒを覆う部分のみをブラックマトリックスと同様の材料で第１基板１０側に島状に設けた構成とすれば良い。
【００６１】
尚、上述した第３実施形態の構成は、図３を用いて説明した第２実施形態と組み合わせることも可能であり、両方を合わせた薄膜トランジスタＴｒの特性変動も抑制効果を得ることができる。この場合、図４に示した第３実施形態の構成において、薄膜トランジスタＴｒの上方でカラーフィルタ層１５を構成する各色フィルタ１５ｒ，１５ｇ，１５ｂを積層させる構成とする。各色フィルタ１５ｒ，１５ｇ，１５ｂの積層状態は、第３実施形態と同様であることとする。
【００６２】
＜４．第４実施形態＞
図５は、第４実施形態の液晶表示装置１ｄの特徴的な層構成を説明する３画素の概略断面図である。この図に示す本第４実施形態の液晶表示装置１ｄは、図４を用いて説明した第３実施形態の変形例であり、第２基板２０側にカラーフィルタ層３５を設けている。そして、ブラックマトリックス（紫外線カット膜）３１が形成された第１基板１０上には、カラーフィルタ層に換えてオーバーコート層３３を設けた構成となっており、他の構成は第４実施形態と同様である。
【００６３】
すなわち、薄膜トランジスタＴｒとこれを覆うブラックマトリックス（紫外線カット膜）３１とが形成された第１基板１０上には、光透過性の絶縁性材料からなるオーバーコート層３３が設けられている。
【００６４】
ブラックマトリックス（紫外線カット膜）３１は、第４実施形態と同様である。つまり、ブラックマトリックス３１は、画素ａ−ａ間に対応する部分と表示領域１０ａを囲む額縁部分とにパターン形成されており、薄膜トランジスタＴｒ部分を覆う状態にまで延設されているところが特徴的である。ただし、ブラックマトリックス３１の配置部分は画素開口とならないため、チャネル部を構成する半導体層１３がソース電極５およびドレイン電極５ｄから露出する部分を完全に覆う範囲で出来るだけ小さいことが好ましい。また、ブラックマトリックス３１は、画素ａ−ａ間に対応する部分および表示領域１０ａを囲む額縁部分に対して、薄膜トランジスタＴｒを覆う部分が分割されて島状に形成されていても良い。
【００６５】
オーバーコート層３３は、可視光に対して透過性を有する絶縁性材料で構成され、表面平坦な平坦化絶縁膜として設けられている。このオーバーコート層３３には、各画素ａに配置された薄膜トランジスタＴｒのドレイン電極７ｄに達する接続孔３３ａが設けられている。
【００６６】
そしてこのオーバーコート層３３上に、ＩＴＯのような透明導電性材料からなる画素電極１９が配列形成されている。各画素電極９は、オーバーコート層３３に設けた接続孔３３ａを介して、薄膜トランジスタＴｒのドレイン電極５ｄに接続されている。またこのような画素電極１９が形成されたオーバーコート層３３上に、他の実施形態と同様の光配向膜１７が設けられている。
【００６７】
一方、第２基板２０上に設けられたカラーフィルタ層３５は、各画素ａ毎にパターン形成された赤色フィルタ３５ｒ，緑色フィルタ３５ｇ、青色フィルタ３５ｂで構成され、平坦化絶縁膜として機能している。このカラーフィルタ層３５上に、共通電極２５を介して光配向膜２７が設けられている。
【００６８】
［液晶表示装置の製造方法］
以上のような液晶表示装置１ｄは次のようにして作製する。
【００６９】
先ず、第１基板１０上に、薄膜トランジスタＴｒを含む回路を形成した後、この上部にオーバーコート層３３を形成する。ここでは、例えばリソグラフィー処理によって、予め接続孔３３ａを有する形状でオーバーコート層３３を形成する。次に、オーバーコート層３３上に画素電極９をパターン形成し、この画素電極９を覆う状態で光配向膜１７を形成する。光配向膜１７の形成方法は、光配向処理を含めて第１実施形態と同様である。
【００７０】
一方、第２基板２０上には、例えばリソグラフィー法によって各色フィルタ３５ｒ，３５ｇ，３５ｂをパターニング形成してなるからフィルタ層３５を形成する。その後、カラーフィルタ層３５上に、共通電極２５を形成し、この上部に光配向膜２７を形成する。光配向膜２７の形成は、光配向膜１７の形成と同様に行う。
【００７１】
以上の後は第１実施形態で説明したと同様であり、光配向膜１７，２７におけるプレチルトの方向が反平行となるように、第１基板１０と第２基板２０とを対向配置し、基板１０−２０間に液晶層ＬＣを充填封止して液晶表示装置１ｄを完成させる。
【００７２】
このような構成の第４実施形態の液晶表示装置１ｄでは、光配向膜１７に対して光配向処理が施されるに際しては、ブラックマトリックス３１で覆われた薄膜トランジスタＴｒに対しての光ｈの照射、特に紫外の線照射を確実に防止することができる。これにより、紫外線照射による薄膜トランジスタＴｒの特性変動を確実に抑制することができる。この結果、液晶表示装置１ｄにおいても、さらに表示ムラが抑えられた良好な表示を行なうことが可能になる。
【００７３】
＜５．その他の実施形態＞
図６は、その他の実施形態としての液晶表示装置１ｅの層構成を説明する３画素の概略断面図である。この図に示す液晶表示装置１ｅは、第１基板１０上の配向膜３７には光配向処理が施されておらず、第２基板２０上の光配向膜２７のみに光配向処理が施されており、液晶分子ｍがハイブリッド配向する構成である。
【００７４】
すなわち、第１基板１０上には薄膜トランジスタＴｒが設けられ、これを覆う状態で第４実施形態と同様のオーバーコート層３３が設けられている。このオーバーコート層３３上に画素電極９が配列形成されており、これを覆う状態で配向膜３７が設けられている。この配向膜３７は、例えば垂直配向膜であって、光配向処理が施されておらず、したがってプレチルトが付与されていない。この点において、上述した第１実施形態〜第４実施形態とは異なる。
【００７５】
尚、オーバーコート層３３は、可視光に対して透過性を有する絶縁性材料で構成され、表面平坦な平坦化絶縁膜として設けられていれば良いが、紫外光をカットする材質で構成されていれば、さらに好ましい。
【００７６】
一方、第２基板２０側には、ブラックマトリックス２１およびカラーフィルタ層３５が設けられ、この上部に共通電極２５を介して光配向膜２７が設けられている。この光配向膜２７は、先の第１実施形態〜第４実施形態と同様に、光配向処理によってプレチルトが付与されていることとする。このような光配向膜１７は、光配向処理によって例えば８９．５°以下のプレチルト角が付与された垂直配向膜であることとする。
【００７７】
［液晶表示装置の製造方法］
以上のような液晶表示装置１ｅは次のようにして作製する。
【００７８】
先ず、第１基板１０上に、薄膜トランジスタＴｒを含む回路を形成した後、この上部にオーバーコート層３３を形成する。ここでは、例えばリソグラフィー処理によって、予め接続孔３３ａを有する形状でオーバーコート層３３を形成する。次に、オーバーコート層３３上に画素電極９をパターン形成し、この画素電極９を覆う状態で配向膜３７を形成する。この配向膜３７の形成は、第１実施形態で説明した光配向膜の形成において光配向処理を省略した手順であって良い。
【００７９】
一方、第２基板２０上には、例えばリソグラフィー法によってブラックマトリックス２１を形成した後、同じくリソグラフィー方によって各色フィルタ３５ｒ，３５ｇ，３５ｂをパターニング形成してなるからフィルタ層３５を形成する。その後、カラーフィルタ層３５上に、共通電極２５を形成し、この上部に光配向膜２７を形成する。光配向膜２７の形成方法は、光配向処理を含めて第１実施形態の光配向膜１７の形成と同様に行う。
【００８０】
以上の後は、配向膜３７と光配向膜２７とを向かい合わせて第１基板１０と第２基板２０とを対向配置し、基板１０−２０間に液晶層ＬＣを充填封止して液晶表示装置１ｅを完成させる。
【００８１】
以上の液晶表示装置１ｅでは、薄膜トランジスタＴｒが設けられた第１基板１０側の配向膜３７は、光配向処理が施されていないものとなる。したがって、基板１０−２０間に挟持された液晶層ＬＣの液晶分子ｍは、画素電極９に電圧を無印加の状態で第２基板２０側はプレチルト角にしたがう角度で配向し、第１基板１０側は例えば垂直に配向する、いわゆるハイブリッド配向となる。
【００８２】
このような構成の第５実施形態の液晶表示装置１ｅでは、薄膜トランジスタＴｒが設けられた第１基板１０側の配向膜３７は、光配向処理が施されていないものである。このため薄膜トランジスタＴｒに対して、光配向処理の影響が及ぼされることはなく、これにより、光配向処理の際の紫外線照射による薄膜トランジスタＴｒの特性変動を確実に抑制することができる。この結果、液晶表示装置１ｅにおいても、表示ムラが抑えられた良好な表示を行なうことが可能になる。しかし、ハイブリッド形態に限定されるため、実施例１−４に比べ充分な応答特性を得難い。
【００８３】
＜６．第５実施形態＞
以上説明した本発明に係る液晶表示装置を液晶パネルとして用いた電子機器の実施形態を、図７〜図１２に基づいて説明する。上述した構成の液晶パネル（液晶表示装置）は、電子機器の表示部に表示パネルとして用いることができる。例えば、デジタルカメラ、ノート型パーソナルコンピュータ、携帯電話等の携帯端末装置、ビデオカメラなど、電子機器に入力された映像信号や電子機器内で生成した映像信号を、画像として表示するあらゆる分野の電子機器の表示部に適用することが可能である。以下に、本発明が適用される電子機器の一例について説明する。
【００８４】
図７は、本発明が適用されるテレビを示す斜視図である。本適用例に係るテレビは、フロントパネル１０２やフィルターガラス１０３等から構成される映像表示画面部１０１を含み、その映像表示画面部１０１として本発明に係る表示装置を用いることにより作成される。 
【００８５】
図８は、本発明が適用されるデジタルカメラを示す図であり、（Ａ）は表側から見た斜視図、（Ｂ）は裏側から見た斜視図である。本適用例に係るデジタルカメラは、フラッシュ用の発光部１１１、表示部１１２、メニュースイッチ１１３、シャッターボタン１１４等を含み、その表示部１１２として本発明に係る表示装置を用いることにより作製される。
【００８６】
図９は、本発明が適用されるノート型パーソナルコンピュータを示す斜視図である。本適用例に係るノート型パーソナルコンピュータは、本体１２１に、文字等を入力するとき操作されるキーボード１２２、画像を表示する表示部１２３等を含み、その表示部１２３として本発明に係る表示装置を用いることにより作製される。 
【００８７】
図１０は、本発明が適用されるビデオカメラを示す斜視図である。本適用例に係るビデオカメラは、本体部１３１、前方を向いた側面に被写体撮影用のレンズ１３２、撮影時のスタート／ストップスイッチ１３３、表示部１３４等を含み、その表示部１３４として本発明に係る表示装置を用いることにより作製される。
【００８８】
図１１は、本発明が適用される携帯端末装置、例えば携帯電話機を示す図であり、（Ａ）は開いた状態での正面図、（Ｂ）はその側面図、（Ｃ）は閉じた状態での正面図、（Ｄ）は左側面図、（Ｅ）は右側面図、（Ｆ）は上面図、（Ｇ）は下面図である。本適用例に係る携帯電話機は、上側筐体１４１、下側筐体１４２、連結部（ここではヒンジ部）１４３、ディスプレイ１４４、サブディスプレイ１４５、ピクチャーライト１４６、カメラ１４７等を含み、そのディスプレイ１４４やサブディスプレイ１４５として本発明に係る表示装置を用いることにより作製される。
【符号の説明】
【００８９】
１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄ，１ｅ…液晶表示装置（液晶パネル）、９…画素電極、１０…基板、１５…カラーフィルタ層（紫外線カット膜）、１５ｒ…赤色フィルタ（色フィルタ）、１５ｇ…緑色フィルタ（色フィルタ）、１５ｂ…青色フィルタ（色フィルタ）、１７，２７…光配向膜、３１…ブラックマトリックス（紫外線カット膜）、Ｔｒ…薄膜トランジスタ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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