(57)【要約】【課題】被処理基板への入熱量を適正化して無駄な加熱をなくすると共に、無駄な処理をなくして処理時間を短縮することができる異物除去方法を提供する。【解決手段】被処理基板に外径寸法測定用のレーザ光を照射する測定用レーザ光照射ステップと、測定用のレーザ光のうち、基板の端部に遮られたレーザ光を除く残りのレーザ光を受光してレーザ光の出力を検出する出力検出ステップと、回転する基板の回転角を検出する回転角検出ステップと、出力検出ステップで検出したデータと回転角検出ステップで検出したデータとに基づいて基板の外径寸法を算出する算出ステップと、算出した外径寸法に基づいて、基板の外周端から所定範囲の基板表面に対し、照射断面が矩形の異物洗浄用のレーザ光を照射すると共に異物と反応する処理ガスを噴射して所定範囲の基板表面に付着した異物を分解、除去する分解ステップと、を有する。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を載置して回転する載置台と、該載置台に載置されて回転する前記基板に異物洗浄用のレーザ光を照射して前記基板の表面に付着した異物を除去するレーザ光照射部と、を備えた異物除去装置において、
前記レーザ光照射部は、前記基板表面に照射断面が矩形のレーザ光を照射することを特徴とする異物除去装置。
【請求項２】
前記レーザ光における矩形の照射断面は、前記レーザ光の走査方向が長辺となるように形成されることを特徴とする請求項１記載の異物除去装置。
【請求項３】
前記レーザ光における矩形の照射断面は、前記レーザ光の走査方向が短辺となるように形成されることを特徴とする請求項１記載の異物除去装置。
【請求項４】
基板を載置して回転する載置台と、該載置台に載置されて回転する前記基板に異物洗浄用のレーザ光を照射して前記基板の表面に付着した異物を除去するレーザ光照射部と、を備えた異物除去装置を用いた基板に付着した異物除去方法において、
前記レーザ光照射部から前記基板表面に対して照射断面が矩形のレーザ光を照射する照射ステップを有することを特徴とする異物除去方法。
【請求項５】
前記レーザ光における矩形の照射断面は、前記レーザ光の走査方向が長辺となるように形成されることを特徴とする請求項４記載の異物除去方法。
【請求項６】
前記レーザ光における矩形の照射断面は、前記レーザ光の走査方向が短辺となるように形成されることを特徴とする請求項４記載の異物除去方法。
【請求項７】
基板を載置して回転する載置台と、該載置台に載置されて回転する前記基板に異物洗浄用のレーザ光を照射して前記基板の表面に付着した異物を除去するレーザ光照射部と、該レーザ光照射部から照射されたレーザ光の出力を検出するレーザ光受光部とを備えた異物除去装置を用いた基板に付着した異物除去方法において、
前記レーザ光照射部から前記載置台に載置されて回転する前記基板の端部に前記基板の外径寸法測定用のレーザ光を照射する測定用レーザ光照射ステップと、
前記照射された外径寸法測定用のレーザ光のうち、前記基板の端部に遮られたレーザ光を除く残りのレーザ光を前記レーザ光受光部によって受光してレーザ光の出力を検出する出力検出ステップと、
前記回転する基板の回転角を検出する回転角検出ステップと、
前記出力検出ステップで検出した前記外径寸法測定用のレーザ光の出力データと前記回転角検出ステップで検出した回転角データとに基づいて前記基板の外径寸法を算出する算出ステップと、
前記算出した外径寸法に基づいて前記基板の外周端から所定範囲の基板表面に対し、前記レーザ光照射部から照射断面が矩形の異物洗浄用のレーザ光を照射すると共に前記異物と反応する処理ガスを噴射して前記所定範囲の基板表面に付着した異物を分解、除去する分解ステップと、
を有することを特徴とする基板表面に付着した異物除去方法。
【請求項８】
前記異物洗浄用のレーザ光における矩形の照射断面は、該レーザ光の走査方向が長辺となるように形成されることを特徴とする請求項７記載の異物除去方法。
【請求項９】
前記異物洗浄用のレーザ光における矩形の照射断面は、該レーザ光の走査方向が短辺となるように形成されることを特徴とする請求項７記載の異物除去方法。
【請求項１０】
前記所定範囲は、少なくとも前記基板のベベル部及び裏面平面部であり、各部ごとに前記異物洗浄用のレーザ光の照射条件を変更させることを特徴とする請求項７乃至９のいずれか１項に記載の異物除去方法。
【請求項１１】
前記ベベル部への前記異物洗浄用のレーザ光の照射方向を、前記ベベル部の断面円弧状の法線に沿った方向とし、前記裏面平面部への前記異物洗浄用のレーザ光の照射方向を、前記裏面平面部に対して垂直の方向とすることを特徴とする請求項１０記載の異物除去方法。
【請求項１２】
前記ベベル部における前記異物洗浄用のレーザ光の走査速度を、前記裏面平面部における前記異物洗浄用のレーザ光の走査速度よりも遅くするか、又は前記ベベル部における前記異物洗浄用のレーザ光の出力を、前記裏面平面部における前記異物洗浄用のレーザ光の出力よりも大きくすることを特徴とする請求項１１記載の異物除去方法。
【請求項１３】
基板を載置して回転する載置台と、該載置台に載置されて回転する前記基板に異物洗浄用のレーザ光を照射して前記基板の表面に付着した異物を除去するレーザ光照射部と、を備えた異物除去装置を用いた基板に付着した異物除去方法をコンピュータに実行させるプログラムを格納したコンピュータで読み取り可能な記憶媒体であって、
前記異物除去方法は、
前記レーザ光照射部から前記基板表面に対して照射断面が矩形のレーザ光を照射する照射ステップを有することを特徴とする記憶媒体。
【請求項１４】
基板を載置して回転する載置台と、該載置台に載置されて回転する前記基板に異物洗浄用のレーザ光を照射して前記基板の表面に付着した異物を除去するレーザ光照射部と、該レーザ光照射部から照射されたレーザ光の出力を検出するレーザ光受光部とを備えた異物除去装置を用いた基板に付着した異物除去方法をコンピュータに実行させるプログラムを格納するコンピュータで読み取り可能な記憶媒体であって、
前記異物除去方法は、
前記レーザ光照射部から前記載置台に載置されて回転する前記基板の端部に前記基板の外径寸法測定用のレーザ光を照射する測定用レーザ光照射ステップと、
前記照射された外径寸法測定用のレーザ光のうち、前記基板の端部に遮られたレーザ光を除く残りのレーザ光を前記レーザ光受光部によって受光してレーザ光の出力を検出する出力検出ステップと、
前記回転する基板の回転角を検出する回転角検出ステップと、
前記出力検出ステップで検出した前記外径寸法測定用のレーザ光の出力データと前記回転角検出ステップで検出した回転角データとに基づいて前記基板の外径寸法を算出する算出ステップと、
前記算出した基板の外径寸法に基づいて前記基板の外周端から所定範囲の基板表面に対し、前記レーザ光照射部から照射断面が矩形の異物洗浄用のレーザ光を照射すると共に前記異物と反応する処理ガスを噴射して前記所定範囲の基板表面に付着した異物を分解、除去する分解ステップと、
を有することを特徴とする記憶媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、異物除去装置、異物除去方法及び記憶媒体に関し、特に、プラズマエッチング処理後の半導体基板に付着した異物を除去する異物除去装置及び異物除去方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＣＦ系処理ガスから生成されたプラズマを用いて基板としてのウエハにプラズマ処理、例えばプラズマエッチング処理を施すと、ＣＦ系処理ガスに起因するＣＦ系デポがウエハ表面に付着することがある。ウエハ表面に付着したＣＦ系デポはプラズマ（陽イオン）によるスパッタによって除去されるが、ウエハの周縁部（以下、「ベベル部」という）はプラズマによってスパッタされ難いために、付着したＣＦ系デポが除去されない。
【０００３】
そこで、後処理装置を用いてベベル部に付着したＣＦ系デポを除去することが行われている。具体的には、後処理装置においてウエハのベベル部へ、例えば、φ０．６のレーザ光スポットを照射してベベル部を加熱すると共に、このベベル部に向けてオゾンガスを供給し、化学反応によってＣＦ系デポをＣＯ、ＣＯ２やＦ２に分解して除去する。
【０００４】
このようにレーザ光を用いてウエハ周縁部に付着した異物を除去、洗浄する後処理装置において、高速で異物除去処理を行うと、急激な温度上昇のためにウエハ表面から有機物以外の物質が剥離する虞がある。一方、ゆっくりとした処理を行うと処理時間が長くなるだけでなく、ウエハの周縁部から表面への熱伝達量が増加し、ウエハ表面のチップに悪影響を与えることにもなる。従って、無駄な処理を排除して処理時間をできる限り短くすると共に、被処理基板であるウエハへの入熱量を適正化して効率よくウエハに付着した異物を除去することができる技術の開発が望まれている。
【０００５】
一方、被処理基板であるウエハに対するレーザ光源の位置を調節して処理の適正化を図る従来技術が開示された公知文献として特許文献１が挙げられる。特許文献１には、ウエハＷをほぼ水平に保持して回転するバキュームチャックと、バキュームチャックに保持されたウエハＷの周縁部及び周端面にレーザ光を照射する光エッチング装置とを備え、ウエハの外径寸法に応じて位置合わせされたエッチング装置からバキュームチャックに支持されて回転するウエハＷの周縁部にＸｅレーザ光を照射してウエハＷの周縁部及び周端面に付着した銅薄膜を除去する基板処理装置が記載されている。
【特許文献１】特開２００３−１９７５７０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、上記従来技術は、基板処理用のレーザ光照射装置とは別に、被処理基板の外径を検出するための専用の検出手段が必要になり、装置が複雑且つ大型化する虞があるうえ、被処理基板に対する入熱量の適正化が図られておらず、被処理対象面以外の基板表面を必要以上に加熱するという虞がある。
【０００７】
本発明の目的は、所定の処理が施された基板に付着した異物を除去する異物除去装置であって、被処理基板への入熱量を適正化して無駄な加熱をなくすると共に、無駄な処理をなくして処理時間を短縮することができる異物除去装置、この装置を用いた異物除去方法及び記憶媒体を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的を達成するために、請求項１記載の異物除去装置は、基板を載置して回転する載置台と、該載置台に載置されて回転する前記基板に異物洗浄用のレーザ光を照射して前記基板の表面に付着した異物を除去するレーザ光照射部と、を備えた異物除去装置において、前記レーザ光照射部は、前記基板表面に照射断面が矩形のレーザ光を照射することを特徴とする。
【０００９】
請求項２記載の異物除去装置は、請求項１記載の異物除去装置において、前記レーザ光における矩形の照射断面は、前記レーザ光の走査方向が長辺となるように形成されることを特徴とする。
【００１０】
請求項３記載の異物除去装置は、請求項１記載の異物除去装置において、前記レーザ光における矩形の照射断面は、前記レーザ光の走査方向が短辺となるように形成されることを特徴とする。
【００１１】
上記目的を達成するために、請求項４記載の異物除去方法は、基板を載置して回転する載置台と、該載置台に載置されて回転する前記基板に異物洗浄用のレーザ光を照射して前記基板の表面に付着した異物を除去するレーザ光照射部と、を備えた異物除去装置を用いた基板に付着した異物除去方法において、前記レーザ光照射部から前記基板表面に対して照射断面が矩形のレーザ光を照射する照射ステップを有することを特徴とする。
【００１２】
請求項５記載の異物除去方法は、請求項４記載の異物除去方法において、前記レーザ光における矩形の照射断面は、前記レーザ光の走査方向が長辺となるように形成されることを特徴とする。
【００１３】
請求項６記載の異物除去方法は、請求項４記載の異物除去方法において、前記レーザ光における矩形の照射断面は、前記レーザ光の走査方向が短辺となるように形成されることを特徴とする。
【００１４】
上記目的を達成するために、請求項７記載の異物除去方法は、基板を載置して回転する載置台と、該載置台に載置されて回転する前記基板に異物洗浄用のレーザ光を照射して前記基板の表面に付着した異物を除去するレーザ光照射部と、該レーザ光照射部から照射されたレーザ光の出力を検出するレーザ光受光部とを備えた異物除去装置を用いた基板に付着した異物除去方法において、前記レーザ光照射部から前記載置台に載置されて回転する前記基板の端部に前記基板の外径寸法測定用のレーザ光を照射する測定用レーザ光照射ステップと、前記照射された外径寸法測定用のレーザ光のうち、前記基板の端部に遮られたレーザ光を除く残りのレーザ光を前記レーザ光受光部によって受光してレーザ光の出力を検出する出力検出ステップと、前記回転する基板の回転角を検出する回転角検出ステップと、前記出力検出ステップで検出した前記外径寸法測定用のレーザ光の出力データと前記回転角検出ステップで検出した回転角データとに基づいて前記基板の外径寸法を算出する算出ステップと、前記算出した外径寸法に基づいて前記基板の外周端から所定範囲の基板表面に対し、前記レーザ光照射部から照射断面が矩形の異物洗浄用のレーザ光を照射すると共に前記異物と反応する処理ガスを噴射して前記所定範囲の基板表面に付着した異物を分解、除去する分解ステップと、を有することを特徴とする。
【００１５】
請求項８記載の異物除去方法は、請求項７記載の異物除去方法において、前記異物洗浄用のレーザ光における矩形の照射断面は、該レーザ光の走査方向が長辺となるように形成されることを特徴とする。
【００１６】
請求項９記載の異物除去方法は、請求項７記載の異物除去方法において、前記異物洗浄用のレーザ光における矩形の照射断面は、該レーザ光の走査方向が短辺となるように形成されることを特徴とする。
【００１７】
請求項１０記載の異物除去方法は、請求項７乃至９のいずれか１項に記載の異物除去方法において、前記所定範囲は、少なくとも前記基板のベベル部及び裏面平面部であり、各部ごとに前記異物洗浄用のレーザ光の照射条件を変更させることを特徴とする。
【００１８】
請求項１１記載の異物除去方法は、請求項１０記載の異物除去方法において、前記ベベル部への前記異物洗浄用のレーザ光の照射方向を、前記ベベル部の断面円弧状の法線に沿った方向とし、前記裏面平面部への前記異物洗浄用のレーザ光の照射方向を、前記裏面平面部に対して垂直の方向とすることを特徴とする。
【００１９】
請求項１２記載の異物除去方法は、請求項１１記載の異物除去方法において、前記ベベル部における前記異物洗浄用のレーザ光の走査速度を、前記裏面平面部における前記異物洗浄用のレーザ光の走査速度よりも遅くするか、又は前記ベベル部における前記異物洗浄用のレーザ光の出力を、前記裏面平面部における前記異物洗浄用のレーザ光の出力よりも大きくすることを特徴とする。
【００２０】
上記目的を達成するために、請求項１３記載の記憶媒体は、基板を載置して回転する載置台と、該載置台に載置されて回転する前記基板に異物洗浄用のレーザ光を照射して前記基板の表面に付着した異物を除去するレーザ光照射部と、を備えた異物除去装置を用いた基板に付着した異物除去方法をコンピュータに実行させるプログラムを格納したコンピュータで読み取り可能な記憶媒体であって、前記異物除去方法は、前記レーザ光照射部から前記基板表面に対して照射断面が矩形のレーザ光を照射する照射ステップを有することを特徴とする。
【００２１】
上記目的を達成するために、請求項１４記載の記憶媒体は、基板を載置して回転する載置台と、該載置台に載置されて回転する前記基板に異物洗浄用のレーザ光を照射して前記基板の表面に付着した異物を除去するレーザ光照射部と、該レーザ光照射部から照射されたレーザ光の出力を検出するレーザ光受光部とを備えた異物除去装置を用いた基板に付着した異物除去方法をコンピュータに実行させるプログラムを格納するコンピュータで読み取り可能な記憶媒体であって、前記異物除去方法は、前記レーザ光照射部から前記載置台に載置されて回転する前記基板の端部に前記基板の外径寸法測定用のレーザ光を照射する測定用レーザ光照射ステップと、前記照射された外径寸法測定用のレーザ光のうち、前記基板の端部に遮られたレーザ光を除く残りのレーザ光を前記レーザ光受光部によって受光してレーザ光の出力を検出する出力検出ステップと、前記回転する基板の回転角を検出する回転角検出ステップと、前記出力検出ステップで検出した前記外径寸法測定用のレーザ光の出力データと前記回転角検出ステップで検出した回転角データとに基づいて前記基板の外径寸法を算出する算出ステップと、前記算出した基板の外径寸法に基づいて前記基板の外周端から所定範囲の基板表面に対し、前記レーザ光照射部から照射断面が矩形の異物洗浄用のレーザ光を照射すると共に前記異物と反応する処理ガスを噴射して前記所定範囲の基板表面に付着した異物を分解、除去する分解ステップと、を有することを特徴とする。
【発明の効果】
【００２２】
請求項１記載の異物除去装置、請求項４記載の異物除去方法及び請求項１３記載の記憶媒体によれば、レーザ光照射部から基板表面に対して照射断面が矩形のレーザ光を照射するようにしたので、基板表面の加熱したい部分のみにレーザ光を照射して加熱することができ、これによって加熱の適正化を図り、加熱制御性が向上する。
【００２３】
請求項２記載の異物除去装置及び請求項５記載の異物除去方法によれば、レーザ光における矩形の照射断面が、レーザ光の走査方向が長辺となるように形成されるので、被処理基板の必要回転数が減少し、これによって、処理時間を短縮することができる。
【００２４】
請求項３記載の異物除去装置及び請求項６記載の異物除去方法によれば、レーザ光における矩形の照射断面が、レーザ光の走査方向が短辺となるように形成されるので、被処理基板の回転速度を高めて処理時間を短縮することができる。
【００２５】
請求項７記載の異物除去方法及び請求項１４記載の記憶媒体によれば、レーザ光照射部から載置台に載置されて回転する基板の端部に基板の外径寸法測定用のレーザ光を照射し、照射された外径寸法測定用のレーザ光のうち、基板の端部に遮られたレーザ光を除く残りのレーザ光をレーザ光受光部によって受光してレーザ光の出力を検出し、回転する基板の回転角を検出し、検出した外径寸法測定用のレーザ光の出力データと回転角データとに基づいて基板の外径寸法を算出し、算出した外径寸法に基づいて、基板の外周端から所定範囲の基板表面に対し、レーザ光照射部から照射断面が矩形の異物洗浄用のレーザ光を照射すると共に異物と反応する処理ガスを噴射して所定範囲の基板表面に付着した異物を分解、除去するので、基板表面の必要な面にのみ処理を施して異物を除去することができ、これによって、無駄な処理を極力なくして処理時間を短縮することができる。
【００２６】
請求項８記載の異物除去方法によれば、異物洗浄用のレーザ光における矩形の照射断面が、レーザ光の走査方向が長辺となるように形成されるので、被処理基板の必要回転数が減少し、これによって、処理時間を短縮することができる。
【００２７】
請求項９記載の異物除去方法によれば、異物洗浄用のレーザ光における矩形の照射断面が、レーザ光の走査方向が短辺となるように形成されるので、被処理基板の回転速度を高めて処理時間を短縮することができる。
【００２８】
請求項１０記載の異物除去方法によれば、所定範囲は、少なくとも基板のベベル部及び裏面平面部であり、各部ごとに異物洗浄用のレーザ光の照射条件を変更させるので、基板の各部に応じた適正温度によって、基板を溶融することなく、適性な後処理を行うことができる。
【００２９】
請求項１１記載の異物除去方法によれば、ベベル部への異物洗浄用のレーザ光の照射方向を、ベベル部の断面円弧状の法線に沿った方向とし、裏面平面部への異物洗浄用のレーザ光の照射方向を、裏面平面部に対して垂直の方向とするので、処理対象面に異物洗浄用のレーザ光を正確に照射して効率よく発熱させることができ、これによって異物の分解効率が向上する。
【００３０】
請求項１２記載の異物除去方法によれば、ベベル部における異物洗浄用のレーザ光の走査速度を、裏面平面部における異物洗浄用のレーザ光の走査速度よりも遅くするか、又はベベル部における異物洗浄用のレーザ光の出力を、裏面平面部における異物洗浄用のレーザ光の出力よりも大きくするので、各処理対象面を加熱し過ぎることなく、異物の分解温度まで加熱して効率よく異物を分解、除去することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３１】
本発明は、被処理基板であるウエハＷの表面に付着した異物にレーザ光を照射すると共に、異物であるデポと反応する処理ガスを噴射してデポをＣＯ、ＣＯ２、Ｆ２等に分解、除去する装置及び方法において、必要以上の加熱によるウエハＷへの悪影響をなくし、処理の効率化を図ることを目的としてなされたものであり、本発明者は、上記目的を達成するために、レーザ光のスポット形状（以下、「照射断面形状」という。）とウエハＷの処理表面温度との関係等について鋭意研究した結果、レーザ光の照射断面形状を円形ではなく、スリット状の矩形にすることによって、ウエハＷの処理対象面を効果的に加熱することができるようになり、その周辺部分への影響を無視できることを見いだし、本発明に到達した。すなわち、本発明に係る異物除去装置及び方法は、レーザ光照射部から被処理基板に対して照射断面が矩形のレーザ光を照射するものである。
【００３２】
図１は、本発明の原理を示す説明図である。
【００３３】
図１において、従来技術におけるレーザ光の照射断面は、円形照射面１（図１（Ａ））となり、円形照射面１全体がデポの分解温度である、例えば、３５０℃に加熱される。一方、レーザ光の照射断面を矩形照射面２とすると（図１（Ｂ））、円形照射面１から矩形照射面２を差し引いた部分（図１（Ｃ）中、斜線部分）３だけ照射面積が狭くなり無駄な加熱を回避することができる。
【００３４】
すなわち、載置台に支持されて回転する円盤状のウエハＷに対し、例えばその円形形状の法線方向に沿って移動するように、図１中、右方向に走査されるレーザ光照射面における有効部分は、ウエハＷ表面に対して相対的に移動するレーザ光照射面における移動方向に直角の長さ（幅）であり、レーザ光の走査方向に平行な照射幅は必ずしも有効に作用していない。従って、図１（Ｃ）における斜線部分は、レーザ光の走査方向を図１中、右方向とすると、余剰照射面となる。この余剰照射面は、照射されたレーザ光が無駄であるだけでなく、適正照射面（図１（Ｂ）の符号２で表される部分）に照射され、ウエハＷの被洗浄面を適正温度に加熱したレーザ光に起因する余剰の熱量の放散を妨害し、適正照射面及びその周辺部の過熱を助長することになる。
【００３５】
本発明は、このようなレーザ光の余剰照射面をできる限りなくしてウエハＷ表面への入熱量を適正化するものである。本発明において、レーザ光の矩形の照射断面における長辺は、例えば１．２ｍｍ、短辺は、例えば０．６ｍｍである。なお、本発明における矩形とは、数学的に厳密な意味の矩形を意味するものではなく、一見して長四角と呼ばれるような形状をいう。また、レーザ光の照射断面形状は、矩形に限られるものではなく、矩形の４つの角が丸くなったような楕円形状であってもよい。
【００３６】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照しながら詳述する。
【００３７】
図２は、本発明の実施の形態に係る異物除去装置としてのベベル部洗浄装置を備えた基板処理システムの概略構成を示す図である。
【００３８】
図２において、この基板処理システム１０は、平面視五角形状のトランスファモジュール１１と、該トランスファモジュール１１の一側面に接続された２つのプロセスモジュール１２、１３と、該２つのプロセスモジュール１２、１３に対向するようにトランスファモジュール１１の他側面に接続された２つのプロセスモジュール１４、１５と、矩形状の搬送室としてのローダーモジュール１６と、トランスファモジュール１１及びローダーモジュール１６の間に配置されてこれらを連結する２つのロード・ロックモジュール１７、１８とを備える。
【００３９】
トランスファモジュール１１はその内部に配置された屈伸及び回転自在な搬送アーム１９を有し、搬送アーム１９は、プロセスモジュール１２〜１５やロード・ロックモジュール１７、１８の間においてウエハＷを搬送する。
【００４０】
プロセスモジュール１２はウエハＷを収容する処理室容器（チャンバ）を有し、該チャンバ内部に処理ガスとしてＣＦ系デポ性ガス、例えば、ＣＨＦ３ガス及びハロゲン系ガス、例えば、ＨＢｒガスの混合ガスを導入し、チャンバ内部に電界を発生させることによって導入された処理ガスからプラズマを発生させ、該プラズマによってウエハＷにエッチング処理を施す。
【００４１】
トランスファモジュール１１、プロセスモジュール１２〜１５の内部は減圧状態に維持され、トランスファモジュール１１と、プロセスモジュール１２〜１５のそれぞれとは真空ゲートバルブ（図示省略）を介して接続される。
【００４２】
また、ローダーモジュール１６の内部圧力が大気圧に維持される一方、トランスファモジュール１１の内部圧力は真空に維持される。そのため、各ロード・ロックモジュール１７、１８は、それぞれトランスファモジュール１１との連結部に真空ゲートバルブ（図示省略）を備えると共に、ローダーモジュール１６との連結部に大気ドアバルブ（図示省略）を備えることによって、その内部圧力を調整可能な真空予備搬送室として構成される。また、各ロード・ロックモジュール１７、１８はローダーモジュール１６及びトランスファモジュール１１の間において受渡されるウエハＷを一時的に載置するためのウエハ載置台１７ａ及び１８ａを有する。
【００４３】
ローダーモジュール１６には、ロード・ロックモジュール１７、１８の他、例えば２５枚のウエハＷを収容する容器としてのフープ（Front Opening Unified Pod）２０がそれぞれ載置される３つのフープ載置台２１と、フープ２０から搬出されたウエハＷの位置をプリアライメントするオリエンタ２３と、後処理装置としての、ベベル部洗浄装置２４とが接続されている。オリエンタ２３はローダーモジュール１６の長手方向に関する一端に配置され、ベベル部洗浄装置２４は、他端に配置されている。
【００４４】
ローダーモジュール１６は、内部に配置された、ウエハＷを搬送するスカラ型デュアルアームタイプの搬送アーム２５を有する。搬送アーム２５は、フープ載置台２１に載置されたフープ２０からウエハＷを取り出し、取り出したウエハＷをロード・ロックモジュール１７、１８、オリエンタ２３又はベベル部洗浄装置２４へ搬出入する。
【００４５】
図３は、図２におけるベベル部洗浄装置２４の概略構成を示す断面図である。
【００４６】
図３において、ベベル部洗浄装置２４は、所定の処理が施され後処理の対象となるウエハＷを収容する筺体状のチャンバ３１と、該チャンバ３１内に配置され、且つチャンバ３１の下部から立設されたシャフト３２に支持される円板状のステージ３３とを備える。ステージ３３はウエハＷを載置するが、ステージ３３の直径は、ウエハＷの直径よりも小さく設定されているので、ウエハＷのベベル部は、ステージ３３から突出し、ベベル部の表面だけでなく裏面もチャンバ３１内の空間に露出される。
【００４７】
ステージ３３は、ウエハＷを吸着する機構、例えば、静電チャック又は真空チャックを有し、シャフト３２は、その中心軸回りに回転してステージ３３に載置されたウエハＷを回転可能に支持する。チャンバ３１には、ウエハＷのベベル部における裏面に対向するように配置されたレーザ光照射部３４と、該レーザ光照射部３４とウエハＷのベベル部を介して相対するレーザ光の受光部としてのパワーメータ３５とを有し、また、ウエハＷのベベル部に向けてオゾン含有ガスとしての処理ガスを吹きつけて供給するガス供給ノズル３６と、ベベル部周辺のガスを吸引して除去するガス吸引ノズル３７とを有する。
【００４８】
ベベル部洗浄装置２４では、ウエハＷのベベル部に付着したＣＦ系デポに向けて処理ガスを供給すると共に、洗浄用のレーザ光を照射して熱エネルギを付与する。レーザ光照射部３４は、照射断面形状が矩形のレーザ光を照射するものであり、レーザ光照射部３４からウエハＷの表面に向かって照射される洗浄用のレーザ光の照射断面形状は、矩形である。処理ガス中のオゾンガスはＣＦ系デポ３８と化学反応してこれをＣＯ、ＣＯ２、Ｆ２等に分解する。洗浄用のレーザ光によって付与された熱エネルギは化学反応を促進させる。分解生成ガスとしてのＣＯ、ＣＯ２、Ｆ２の大部分はガス吸引ノズル３７が吸引して除去する。なお、ウエハＷに照射する洗浄用のレーザ光の出力とウエハＷの回転速度に基づいてウエハＷのベベル部の温度が決定される。ここで、ウエハＷは、水平面内において回転するので、ウエハＷにおける全てのベベル部がレーザ光照射部３４やガス供給ノズル３６の前を通過し、全てのベベル部からＣＦ系デポ３８が除去される。
【００４９】
ベベル部洗浄装置２４は、チャンバ３１の上方に配置されたファンフィルタユニット（図示しない）と、チャンバ３１の下方に配置された排気装置（図示しない）とを備え、ファンフィルタユニットは、チャンバ３１内において上方から下方へ流れるダウンフローを発生させる。ダウンフローは、ガス吸引ノズル３７が吸引できなかったＣＯ、ＣＯ２やＦ２を巻き込んでチャンバ３１内から除去するだけでなく、シャフト３２又はステージ３３の回転に起因して生じたパーティクルや、不意にベベル部から剥離したＣＦ系デポ３８がチャンバ３１内を舞い上がってウエハＷの上方へ回り込むのを防止する。
【００５０】
また、ベベル部洗浄装置２４は処理ガス供給系３９を備える。処理ガス供給系３９は、図示省略した酸素ガス供給系に接続されて酸素ガスの流量を測定・制御する酸素ガス用マスフローコントローラ４０と、図示省略した窒素ガス供給部に接続されて窒素ガスの流量を測定・制御する窒素ガス用マスフローコントローラ４１と、酸素ガス用マスフローコントローラ４０及び窒素ガス用マスフローコントローラ４１に接続される処理ガス生成器４２と、この処理ガス生成器４２及びガス供給ノズル３６の間に介在し、且つ処理ガスの流量を測定・制御する処理ガス用マスフローコントローラ４３と、主として処理ガス生成器４２の動作を制御するコントローラ４４とを有する。
【００５１】
処理ガス生成器４２は、酸素ガス用マスフローコントローラ４０によって流量が所定量に調整された酸素ガスと窒素ガス用マスフローコントローラ４１によって流量が微量に調整された窒素ガスを含む原料ガスから処理ガスとしてのオゾンガス含有ガスを生成する。
【００５２】
次に、このような構成のベベル部洗浄装置２４を用いた本発明の実施の形態に係る異物除去方法について、図４〜６を用いて詳細に説明する。
【００５３】
図４は、本実施の形態における異物除去方法のフローチャートである。
【００５４】
図４において、基板表面に付着した異物を除去する異物除去処理を開始すると、先ず、図２のプロセスモジュール１２内で、所定のプラズマ処理が施された被処理基板としてのウエハＷを搬送アーム１９によってプロセスモジュール１２のチャンバから搬出し（ステップＳ１）、例えばロード・ロックモジュール１８を介してローダーモジュール１６に搬入する。次いで、ローダーモジュール１６に搬入したウエハＷを搬送アーム２５によってベベル部洗浄装置２４に搬入し、該ベベル部洗浄装置２４のチャンバ３１内のステージ３３上に載置する（ステップＳ２）。
【００５５】
次いで、ベベル部洗浄装置２４のステージ３３に載置したウエハＷの外径寸法を検出し（ステップＳ３）、検出した外径寸法に応じて異物であるデポを洗浄、除去するための適正条件を設定する（ステップＳ４）。ウエハＷの外径寸法の検出及び洗浄のための適正条件の設定については、後述する。その後、設定した適正条件に従ってウエハＷに対して照射断面形状が矩形の洗浄用のレーザ光を照射し、ベベル部に付着した異物としてのベベル部ポリマーを分解、除去して本処理を終了する（ステップＳ５）。
【００５６】
図５は、ウエハＷの外径寸法を検出する際に使用するレーザ光出力（％）とウエハのエッジ位置（ｍｍ）との関係を予め求めたグラフである。
【００５７】
ベベル部洗浄装置２４において、レーザ光照射部３４から照射されたウエハＷの外径寸法測定用のレーザ光がウエハＷによって全く遮られない場合は、照射されたレーザ光が１００％パワーメータ３５に到達するが、照射された外径寸法測定用のレーザ光の一部が、ウエハＷの端部で遮られ、残りのレーザ光がパワーメータ３５に到達する場合、回転するウエハＷの端部によって、レーザ光を遮る量が変化すると、パワーメータ３５によってウエハＷの所定位置、例えば予め設定した見かけ上の外径寸法と、実際の外径寸法との差に応じたレーザ光の受光出力を測定することができる。従って、予めパワーメータ３５における外径寸法測定用のレーザ光の受光出力と、ウエハＷの見かけ上の外径寸法とその近傍の実外径寸法との差（エッジ位置）の関係を求めておくことにより、パワーメータ３５におけるレーザ光の受光出力に基づいてウエハＷの径方向の見かけ上の外径寸法と実際の外径寸法との差を検出することができ、これに基づいてウエハＷの実外径寸法を求めることができる。
【００５８】
このとき、ベベル部洗浄装置２４におけるレーザ光照射部３４は、該レーザ光照射部３４から照射された外径寸法測定用のレーザ光の一部、例えば半分がウエハＷの端部によって遮られ、残りの一部、例えば半分がウエハＷの端部を通過してパワーメータ３５に到達する位置に配置される。これによって、パワーメータの位置を変化させることなくウエハＷの実外径寸法を求めることができる。
【００５９】
図５において、縦軸はパワーメータ３５によって受光された外径寸法測定用のレーザ光の出力（レーザ光照射部３４から照射されたレーザ光出力に対するウエハＷの端部で遮られたレーザ光の出力を除く残りのレーザ光の出力の割合（％））を示し、横軸はウエハＷにおける所定位置、例えば見かけの外径寸法と実際の外径寸法との差（ウエハＷのエッジ位置）（ｍｍ）を示す。レーザ光の出力が１０％〜９０％の範囲内においては、レーザ光出力とウエハＷのエッジ位置とがリニアに対応しており、パワーメータ３５によって受光された外径寸法測定用のレーザ光の出力に基づいて、ウエハＷの実外径寸法（見かけ外径寸法＋ウエハＷのエッジ位置）を求めることができる。また、このとき、ウエハＷの回転角θをロータリエンコーダなどの回転角検出器（図示しない）で検出することにより、ウエハＷのエッジ位置と、回転角θとの関係が求められる。
【００６０】
パワーメータ３５で受光した外径寸法測定用のレーザ光の出力データと、回転角検出器で求めたウエハＷの回転角データとをベベル部洗浄装置２４の制御装置（図示しない）に入力する。データが入力された制御装置は、入力データと、図５に示したレーザ光の出力データとウエハＷのエッジ位置との関係を示す検量線、見かけ外径寸法等に基づいてウエハＷの外径寸法を求める。
【００６１】
このようにしてウエハＷの外径寸法を求めた後、求めたウエハＷの外径寸法に基づいて、ウエハＷに対して適正な異物除去（洗浄）条件を設定し、適正な条件で異物除去処理を実行する。
【００６２】
すなわち、求めたウエハＷの外径寸法をウエハＷの洗浄開始位置にフィードバックし、ウエハＷのベベル部及び裏面平面部、又はベベル部、裏面平面部及びベベル部と裏面平面部との中間部（以下、単に「中間部」という）に対し、適正な異物除去条件を設定し、異物を除去する。
【００６３】
図６は、本実施の形態における適正条件設定及び異物除去方法を示す説明図である。
【００６４】
ウエハＷのベベル部に対しては、洗浄用のレーザ光をできるだけ断面湾曲形状の法線方向から照射させるために、図６（Ａ）に示したように、斜め方向（ｄ１方向）から、例えばレーザ光の走査方向に沿った辺が長辺となるような照射断面が矩形の異物洗浄用のレーザ光を照射する。このとき照射されるレーザ光とベベル部表面とが垂直となる部分が裏面平面部に比べて少ないので、レーザ光の走査速度を、裏面平面部を走査する場合よりも遅くして異物であるベベル部ポリマーの分解に必要な温度を確保する。
【００６５】
一方、ウエハＷの裏面平面部に対しては、照射断面が矩形の異物洗浄用のレーザ光を洗浄面に対して垂直となる方向（ｄ３方向）から照射する。この場合、裏面平面部に対するレーザ光照射角度を容易に垂直にすることができるので、レーザ光の走査速度を、ベベル部におけるレーザ光の走査速度と同じ速度に設定すると裏面平面部の温度が上がりすぎてウエハＷの変質又は溶融を招くことにもなる。従って、裏面平面部においては照射断面が矩形の異物洗浄用のレーザ光の走査速度をベベル部の走査速度よりも速くして、余剰の加熱を回避する。なお、裏面平面部における照射断面が矩形の異物洗浄用のレーザ光の照射出力を、ベベル部におけるレーザ光の照射出力よりも小さくすることによって異物の分解に必要な適正温度を確保するようにしてもよい。また、中間部における照射断面が矩形の異物洗浄用のレーザ光の照射条件は、ベベル部における条件と裏面平面部における条件との間の条件が適宜選択され、例えばレーザ光の照射方向は、図６中、ｄ２方向となる。
【００６６】
このようにしてウエハＷの各洗浄領域に対応した適正なレーザ光照射条件を設定した後、ウエハＷを回転させ、ベベル部に向けて処理ガスとしてのオゾン含有ガスを供給すると共に、レーザ光照射部３４からレーザ光の走査方向に沿った辺が長辺となるような照射断面が矩形の洗浄用のレーザ光を照射して熱エネルギを付与し、これによって、ベベル部、中間部及び裏面平板部に付着したＣＦ系デポ３８を、オゾンガスとの化学反応によって分解、除去する。分解生成ガスとしてのＣＯ、ＣＯ２、Ｆ２等はガス吸引ノズル３７で吸引、除去する。
【００６７】
ところで、従来は、ウエハＷの正確な外径寸法を測定することなく、例えは３００φのウエハＷに対して、例えば０．２ｍｍの誤差を見込んだ外径寸法を考慮し（図６（Ｃ）参照）、且つ各レーザ光照射領域（以下、「洗浄領域」ともいう。）の境界部においてレーザ光の照射不良を防ぐために、洗浄領域の境界部において重複部分を加味した処理を行っていた（図６（Ｄ）参照）。従って、ウエハＷの実外径寸法と、誤差を見込んだ外径寸法との差６Ａ（図６（Ｃ））に対応する面積、及びベベル部洗浄領域６１と中間部洗浄領域６２との重複部分６Ｂに対応する面積、中間部洗浄領域６２と裏面平面部洗浄領域６３との重複部分６Ｃに対応する面積に対して重複して洗浄用のレーザ光を走査させることになり、処理面積の増加に伴って処理時間が長くなるという問題があった。
【００６８】
これに対して本実施の形態においては、ウエハＷの実外径寸法を測定することによって、図６（Ｂ）に示したように、ウエハＷのベベル部洗浄領域６１、中間部洗浄領域６２及び裏面平面部洗浄領域６３を正確に把握して各洗浄領域に対応した適正な条件で異物の洗浄処理を行うことができる。
【００６９】
本実施の形態によれば、洗浄用のレーザ光の照射断面形状を、レーザ光の走査方向に沿った辺が長辺となるような矩形としたことにより、被洗浄面のみを効率よく加熱し、ウエハＷに対する入熱量を適性化すると共に、適正温度で異物とオゾン含有ガスとを反応させることができ、これによって異物を効率よくＣＯ、ＣＯ２、Ｆ２等に分解、除去することができる。また、レーザ光の走査方向に沿った照射幅が広くなるので、ウエハの必要回転数が減少し、処理時間を短縮することができる。
【００７０】
また、本実施の形態によれば、被処理基板であるウエハＷの外径寸法を正確に把握した後、ウエハＷのベベル洗浄領域６１、中間部洗浄領域６２、及び裏面平面部洗浄領域６３を正確に区別して、各部位に対して最適な処理条件を設定し、設定した条件によって異物除去処理を施すことができるので、無駄な処理をなくし、処理時間を短縮することができる。
【００７１】
また、本実施の形態によれば、既存の設備を使用してウエハＷの端部に対して、ウエハＷの外径寸法測定用のレーザ光を照射してウエハＷの外径寸法を実測するようにしたので、改めてウエハＷの外径寸法測定用の装置を追加することなく、既存の装置の機能を有効利用することができる。従って、後処理装置の小型化、及びコストダウンを図ることができる。
【００７２】
また、本実施の形態によれば、予め作成した、外径寸法測定用のレーザ光出力とウエハＷのエッジ位置のずれ量との関係を示す検量線を利用するので、ウエハＷの外径寸法を正確に検出することができる。
【００７３】
本実施の形態において、洗浄用のレーザ光の照射断面形状を、レーザ光走査方向に沿った辺が長辺となるような矩形形状としたが、レーザ光の走査方向に沿った辺が短辺となるような矩形形状とすることもできる。これによって、ウエハＷに対する入熱量の適正化を図ると共に、レーザ光の走査方向に直角の照射幅が広がるので、被処理基板であるウエハＷの回転速度を高めて処理時間を短縮することができる。なお、このとき、レーザ光は、円形平板状のウエハＷに対し、円形形状の法線方向に沿って走査される。
【００７４】
本実施の形態において、レーザの光の照射断面を矩形にする方法として、レーザ光照射部と被照射物体（ウエハＷ）との間にスリット状に開口した邪魔板を配置し、これによって、レーザ光の照射断面形状を矩形又は楕円形状にする方法が挙げられる。また、レーザ光照射部と被照射物体（ウエハＷ）との間にシリンドリカルレンズを介在させることによって、レーザ光の照射断面形状を矩形に又は楕円形状することもできる。
【００７５】
本実施の形態において、外径寸法測定用のレーザ光の出力及び照射断面が矩形の異物洗浄用のレーザ光の出力は、特に限定されるものではなく、所期の目的を達成でき、且つウエハＷを加熱し過ぎない程度に調整される。加熱し過ぎによるウエハＷの変質、熔解等を回避するためである。
【００７６】
次に、本実施の形態に係る異物除去方法の変形例を説明する。
【００７７】
本実施の形態は、図４の異物除去処理フローにおけるステップＳ３に代えて、パワーメータ３５によって受光した外径寸法測定用のレーザ光の出力データに基づいてウエハＷの外径寸法を算出すると共にウエハＷの位置ずれ量を求める（ステップＳ６）。レーザ光照射部３４から照射された外径寸法測定用のレーザ光のうち、回転するウエハＷの端部によって一部が遮られた残りの一部がパワーメータ３５によって受光される場合、ウエハＷの中心Ｗ０がウエハＷの回転中心であるシャフト３２の中心３２ａに対してずれていると、回転するウエハＷの図５におけるエッジ位置は、サインカーブを描いて変動する。従って、このサインカーブに基づいてウエハＷの位置ずれを求めることができる。
【００７８】
ウエハＷの外径寸法及びずれ量を算出した後、先ずウエハＷのずれ補正を行い（ステップＳ７）、その後、算出したウエハＷの外径寸法をウエハＷの洗浄開始位置にフィードバックし、ウエハＷのベベル部及び裏面平面部、又はベベル部、中間部及び裏面平面部に対し、最適条件を設定し（ステップＳ４）、適正な条件で異物除去処理を施す（ステップＳ５）。
【００７９】
以下、図７を用いて本実施の形態におけるウエハＷの位置ずれ量の検出及びずれ補正方法について説明する。
【００８０】
図７は、ウエハＷの位置ずれ量を検出し、ずれ補正を行う方法を示す説明図である。
【００８１】
図７（Ａ）、（Ｂ）において、ウエハＷを載置するステージ３３は、該ステージ３３の基板載置面から所定間隔だけ上方に突出する複数のピン部材４５を備えており、チャンバ３１に搬入されたウエハＷは、ピン部材４５によって支持される。このとき、シャフト３２の中心３２ａと、ステージ３３の中心３３ａとのずれ量は幅ａとして現れ、ステージ３３の中心３３ａとウエハＷの中心Ｗ０とのずれ量は幅ｂとして現れる。従って、シャフト３２の中心３２ａとウエハＷの中心Ｗ０とのずれ量は、（ａ＋ｂ）となる（図７（Ｃ））。
【００８２】
ウエハＷをチャンバ３１に搬入した当初は、図７（Ａ）に示したように、ウエハＷの中心Ｗ０とシャフト３２の中心３２ａとが幅（ａ＋ｂ）だけずれた状態のまま、ピン４５がピンダウンし、ウエハＷはステージ３３上に載置される（図７（Ｄ））。
【００８３】
次に、ウエハＷの中心Ｗ０とシャフト３２の中心３２ａとが幅（ａ＋ｂ）だけずれた状態のままステージ３３上のウエハＷを回転させながら、ウエハＷの端部裏面側（図７中、下方）に配置されたレーザ光照射部３４（図３参照）から、回転するウエハＷの外周部に向けて、例えば長辺が１．２ｍｍ、短辺が０．６ｍｍである照射断面が矩形のレーザ光を照射し、該照射されたレーザ光のうちウエハＷの端部で遮られたレーザ光を除く残りのレーザ光をウエハＷを介して対向配置されたパワーメータ３５で受光し、レーザ光の出力を検出する。
【００８４】
パワーメータ３５で受光したレーザ光の出力データ、回転角検出器で別途求めたウエハＷの回転角データをベベル部洗浄装置２４の制御装置（図示しない）に入力し、制御装置は、入力データに基づいてステージ３３のピン部材４５を制御する。すなわち、ピン部材４５はウエハＷを載置したまま一旦上昇し、Ｘ−Ｙステージ上でずれ量に対応する所定幅だけ移動してずれ量を相殺し、これによってウエハＷのずれを補正した後、ピンダウンしてウエハＷを、図７（Ｅ）、（Ｆ）に示す正規の位置にセンタリングする。
【００８５】
本実施の形態によれば、レーザ光照射部３４及びパワーメータ３５を利用してウエハＷの位置ずれを検出し、ずれ補正（センタリング）を行うことができるので、ベベル部ポリマーを除去する際、ウエハＷのベベル部に正確に洗浄用のレーザ光を照射して確実にベベル部ポリマーを分解、除去することができ、処理時間を短縮することができる。すなわち、位置ずれしたままのウエハＷに対してベベル部ポリマーを除去する場合に比べて、無駄な処理を確実になくすことができ、必要最小限のウエハ表面に洗浄用のレーザ光を適正に走査することができるので、処理時間の短縮及びコストの削減を図ることができる。
【００８６】
本実施の形態において、ウエハＷの位置ずれを検出した後、位置ずれを補正し、ずれ補正後のウエハＷについて適正洗浄領域にレーザ光を照射してベベル部ポリマーを洗浄するようにしたが、ウエハＷの位置ずれを補正する代わりに、洗浄用のレーザ光を照射するレーザ光照射部を、ウエハＷの位置ずれ量に対応する方向に対応する幅だけ移動させ、これによって、ウエハＷの適正洗浄領域にレーザ光が照射されるようにしてベベル部ポリマーを洗浄、除去することもできる。
【００８７】
本実施の形態において、ベベル部洗浄装置２４のチャンバ３１に搬入されるウエハＷのずれ量は、例えばプロセスチャンバ内の静電チャック（ＥＳＣ）等に起因して発生する各ウエハＷにおいて固有のものであり、搬送アームのティーチングによっても解消できない場合がある。従って、搬送アームの座標に対するフィードバック制御によって個別にずれ補正を行うことが好ましい。
【００８８】
本実施の形態において、ウエハＷの端部にノッチが存在すると、ノッチの大きさに従ってレーザ分散光が得られるので、この分散光を別のレーザ光受光部によって測定することにより、ウエハＷの位置ずれの検出と共に、又はこれとは別に、ベベル部に形成されたノッチを検出することもできる。また、ノッチ検出後の各ウエハＷのノッチを位置合わせしつつ、フープ等に収容することもできる。
【００８９】
また、本実施の形態によれば、位置ずれの測定対象であるウエハＷの端部を直接監視してずれ量を測定することにより、従来技術のように、位置合わせを複数回繰り返すことによるずれ量の積算を回避することができ、且つ校正が不要となる。また、後処理装置の小型化及び工数削減にも繋がる。
【００９０】
本実施の形態において、ウエハＷの外径寸法の検出と同時にウエハＷのずれ量を検出するようにしたが、ウエハＷのずれ量を検出し、ずれ補正を行った後、ウエハＷを回転させ、回転するウエハＷの端部に対して改めて外径寸法測定用のレーザ光を照射することによってウエハＷの外径寸法を検出するようにしてもよい。
【００９１】
本実施の形態において、主としてウエハＷのベベル部における異物を洗浄、除去する場合について説明したが、本発明は、ウエハＷのベベル部以外、例えば裏面の全範囲に付着した異物（ＢＳＰ）を除去する場合にも同様に適用できる。
【００９２】
上述した各実施の形態において、異物除去処理が施される基板は半導体デバイス用のウエハに限られず、ＬＣＤ（Liquid  Crystal  Display）やＦＰＤ（Flat  Panel  Display）等に用いる各種基板や、フォトマスク、ＣＤ基板、プリント基板等であってもよい。
【００９３】
また、本発明の目的は、上述した各実施の形態の機能を実現するソフトウェアのプログラムコードを記憶した記憶媒体を、システム或いは装置に供給し、そのシステム或いは装置のコンピュータ（またはＣＰＵやＭＰＵ等）が記憶媒体に格納されたプログラムコードを読み出し実行することによっても達成される。
【００９４】
この場合、記憶媒体から読み出されたプログラムコード自体が上述した各実施の形態の機能を実現することになり、そのプログラムコード及び該プログラムコードを記憶した記憶媒体は本発明を構成することになる。
【００９５】
また、プログラムコードを供給するための記憶媒体としては、例えば、フロッピー（登録商標）ディスク、ハードディスク、光磁気ディスク、ＣＤ−ＲＯＭ、ＣＤ−Ｒ、ＣＤ−ＲＷ、ＤＶＤ−ＲＯＭ、ＤＶＤ−ＲＡＭ、ＤＶＤ−ＲＷ、ＤＶＤ＋ＲＷ等の光ディスク、磁気テープ、不揮発性のメモリカード、ＲＯＭ等を用いることができる。または、プログラムコードをネットワークを介してダウンロードしてもよい。
【００９６】
また、コンピュータが読み出したプログラムコードを実行することにより、上述した各実施の形態の機能が実現されるだけではなく、そのプログラムコードの指示に基づき、コンピュータ上で稼動しているＯＳ（オペレーティングシステム）等が実際の処理の一部または全部を行い、その処理によって上述した各実施の形態の機能が実現される場合も含まれる。
【００９７】
さらに、記憶媒体から読み出されたプログラムコードが、コンピュータに挿入された機能拡張ボードやコンピュータに接続された機能拡張ユニットに備わるメモリに書き込まれた後、そのプログラムコードの指示に基づき、その拡張機能を拡張ボードや拡張ユニットに備わるＣＰＵ等が実際の処理の一部または全部を行い、その処理によって上述した各実施の形態の機能が実現される場合も含まれる。
【図面の簡単な説明】
【００９８】
【図１】本発明の原理を示す説明図である。
【図２】本発明の実施の形態に係る異物除去装置としてのベベル部洗浄装置を備えた基板処理システムの概略構成を示す図である。
【図３】図２におけるベベル部洗浄装置の概略構成を示す断面図である。
【図４】本発明の実施の形態における異物除去方法のフローチャートである。
【図５】受光部で受光される外径寸法測定用のレーザ光の出力とウエハＷのエッジ位置のずれ量との関係を求めた図（検量線）である。
【図６】本実施の形態における適正条件設定及び異物除去方法を示す説明図である。
【図７】ウエハの位置ずれを検出し、ずれ補正を行う方法を示す説明図である。
【符号の説明】
【００９９】
１０    基板処理システム
１１    トランスファモジュール
１２    プロセスモジュール
１６    ローダーモジュール
２０    フープ
２３    オリエンタ
２４    ベベル部洗浄装置
３２    シャフト
３３    ステージ
３４    レーザ光照射部
３５    パワーメータ
３６    ガス供給ノズル
３７    ガス吸引ノズル
６１    ベベル部洗浄領域
６２    中間部洗浄領域
６３    裏面平面部洗浄領域
【図１】
2010141238.tif 000003
【図２】
2010141238.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
2010141238.tif 000009