(57)【要約】【課題】改善された画像品質及びロバスト性、並びに改善された画像性能を示す相変化インクを得ることが可能な、インク・キャリアを提供する。【解決手段】疎水基で表面修飾されたシリカ・ナノ粒子、又は疎水基で表面修飾された金属酸化物ナノ粒子のうちの少なくとも１つの分散であって、その内部で離散的に分布したナノ粒子の実質的に均一な分布を示す分散を含み、その内部に分布したナノ粒子の実質的な凝集に対する抵抗性を有する、インク・キャリア。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
インク・キャリアであって、
疎水基で表面修飾されたシリカ・ナノ粒子、又は疎水基で表面修飾された金属酸化物ナノ粒子のうちの少なくとも１つの分散であって、その内部で離散的に分布した前記ナノ粒子の実質的に均一な分布を示す分散を含み、
前記インク・キャリアはその内部に分布した前記ナノ粒子の実質的な凝集に対する抵抗性を有する、
ことを特徴とするインク・キャリア。
【請求項２】
着色料及び請求項１に記載のインク・キャリアを含むことを特徴とする、相変化インク。
【請求項３】
前記疎水基はアルキル基、アリールアルキル基又はアルキルアリール基であり、
或いは、
前記疎水基は、少なくとも１つのヘテロ原子を有するアルキル基、アリールアルキル基又はアルキルアリール基である、
ことを特徴とする、請求項１に記載のインク・キャリア。
【請求項４】
前記疎水基はポリジメチルシロキサン又はヘキサジメチルシランであることを特徴とする、請求項１に記載のインク・キャリア。
【発明の詳細な説明】
【背景技術】
【０００１】
一般に、相変化インク（時には「ホットメルト・インク」と呼ばれる）は室温においては固相であるが、インクジェット印刷機の高温動作温度においては液相で存在する。ジェット動作温度において、液体インクの液滴が印刷機から噴出され、インク液滴が記録基材の表面に接触するとき、それらは、直接に又は中間の熱転写ベルト若しくはドラムを介して急速に凝固し、凝固インク液滴の所定のパターンを形成する。相変化インクはまた、グラビア印刷のような他の印刷技術にも用いられている。
【０００２】
カラー印刷用の相変化インクは、通常、相変化インク適合性着色料と結合させた相変化インク・キャリア組成物を含む。特定の実施形態において、インク・キャリア組成物を適合性の減法混色の原色着色料と結合することにより一連の着色相変化インクを形成することができる。減法混色の原色着色相変化インクは、４つの成分色素、即ち、シアン、マゼンタ、イエロー及びブラックを含むことができるが、インクはこれら４つの色に限定されない。これらの減法混色の原色着色インクは、単一の染料又は染料の混合物を用いて形成することができる。
着色料はまた顔料を含むことができる。
【０００３】
インクジェット印刷プロセスには、室温で固体であり高温で液体となるインクを用いることができる。そのようなインクはホットメルト・インク又は相変化インクと呼ぶことができる。ホットメルト・インクを用いるサーマル・インクジェット印刷プロセスにおいて、固体インクは印刷装置内のヒータで溶融され、従来のサーマル・インクジェット印刷と同様の方式で液体として用いられる（即ち、ジェット噴出される）。印刷基材に接触すると、溶融インクは急速に凝固し、着色料が毛管作用により基材内に浸入せずに実質的に基材の表面にとどまることを可能にし、それにより、一般に液体インクで得られるよりも高い印刷密度を可能にする。従って、インクジェット印刷における相変化インクの利点は、取り扱い中のインクの可能性のある零れの除去、広範囲の印刷密度及び品質、最小限の紙のしわ又はゆがみ、及び、ノズルにキャップをしなくてもノズル詰りの危険性のない無限の非印刷期間を可能にすること、である。
【０００４】
本明細書における相変化インクの例は、２３℃乃至２７℃の温度、例えば室温で固体の、特に６０℃以下の温度で固体のインク・ビヒクルを含むインクである。しかし、このインクは加熱により相変化し、ジェット噴出温度では溶融状態になる。従って、このインクはインクジェット印刷に適した高温、例えば６０℃乃至１５０℃において、１乃至２０センチポアズ（ｃｐ）、例えば５乃至１５ｃｐ、又は８乃至１２ｃｐの粘度を有する。
【０００５】
この点で、本明細書におけるインクは低エネルギー・インク又は高エネルギー・インクとすることができる。低エネルギー・インクは４０℃以下の温度で固体であり、６０℃乃至１００℃、８０℃乃至１００℃、又は９０℃乃至１００℃のジェット噴出温度において、１乃至２０センチポアズ、例えば、５乃至１５センチポアズ、又は８乃至１２ｃｐの粘度を有する。高エネルギー・インク４０℃以下の温度で固体であり、１００℃乃至１８０℃、１２０℃乃至１６０℃、又は１２５℃乃至１５０℃のジェット噴出温度において、５乃至１５センチポアズの粘度を有する。
【０００６】
Ｎｏｌｔｅ他による「被覆配合物中のスクラッチ耐性を改善するためのナノ金属酸化物を含有する添加剤」と題する非特許文献１を参照されたい。また、Ｅｔｉｅｎｎｅ他による「修飾シリカ・ナノ粒子の組込みのＰＭＭＡの機械的及び熱的特性に対する効果」と題する非特許文献２を参照されたい。また、Ｊ．Ｈａｊａｓ他による「溶媒塗布被覆のスクラッチ耐性を改善するための表面修飾シリカ・ナノ粒子」と題する非特許文献３を参照されたい。また、Ｒ．Ｐ．Ｂａｇｗｅ他による「凝集及び非特異的結合を減少させるためのシリカ・ナノ粒子の表面修飾」と題する非特許文献４を参照されたい。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】米国特許第６，９０６，１１８号明細書
【特許文献２】米国特許第６，８６０，９３０号明細書
【特許文献３】米国特許第６，７０２，８８４号明細書
【特許文献４】米国特許第６，８４１，５９０号明細書
【特許文献５】米国特許第３，９９６，０５９号明細書
【特許文献６】米国特許第６，８５８，０７０号明細書
【特許文献７】米国特許第５，６２１，０２２号明細書
【特許文献８】米国特許第５，２３１，１３５号明細書
【特許文献９】米国特許第６，４７２，５２３号明細書
【特許文献１０】米国特許第６，７２６，７５５号明細書
【特許文献１１】米国特許第６，４７６，２１９号明細書
【特許文献１２】米国特許第６，５７６，７４７号明細書
【特許文献１３】米国特許第６，７１３，６１４号明細書
【特許文献１４】米国特許第６，６６３，７０３号明細書
【特許文献１５】米国特許第６，７５５，９０２号明細書
【特許文献１６】米国特許第６，５９０，０８２号明細書
【特許文献１７】米国特許第６，６９６，５５２号明細書
【特許文献１８】米国特許第６，５７６，７４８号明細書
【特許文献１９】米国特許第６，６４６，１１１号明細書
【特許文献２０】米国特許第６，６７３，１３９号明細書
【特許文献２１】米国特許第６，９５８，４０６号明細書
【特許文献２２】米国特許第７，０５３，２２７号明細書
【特許文献２３】米国特許第５，１９５，４３０号明細書
【特許文献２４】米国特許第５，３８９，９５８号明細書
【非特許文献】
【０００８】
【非特許文献１】Nolte他、NSTI-Nanotech 2007, Vol. 4, pp. 199-201.
【非特許文献２】Etienne他、Journal of Thermal Analysis and Calorimetry, 2007, 87, pp. 101-104.
【非特許文献３】J. Hajas他、European Coatings, 2006, 82(46), pp. 19-23.
【非特許文献４】R.P. Bagwe他、Langmuir, Vol. 22, No. 9, 2006, pp. 4357-4362.
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
既知の組成物及びプロセスは、それらの意図した目的には適するが、改良された相変化インク、より具体的には、改善された画像品質及びロバスト性、即ち、実質的によごれがない、スクラッチ、しわ及び剥離に対する耐性、並びに、改善された画像性能を示す相変化インクに対する必要性が存在する。さらに、紙及び透明フィルムに首尾よく印刷される相変化インクに対する必要性がある。さらに、自動原稿送り装置内で良好な性能を有する印刷を生成する相変化インクに対する必要性がある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
相変化インク組成物の形成に用いるインク・キャリアが開示され、このインク・キャリアは、疎水基で表面修飾されたシリカ・ナノ粒子、又は疎水基で表面修飾された金属酸化物ナノ粒子のうちの少なくとも１つの分散を含み、その内部に離散的に分布したナノ粒子の実質的に均一な分布を示し、その内部に分布したナノ粒子の実質的な凝集に対する抵抗性を有する。
【００１１】
さらに、上記のインク・キャリアを含む低エネルギー固体インクが開示される。このインクは、ナノ粒子の実質的に高い均一性を示し、ナノ粒子の実質的に低い凝集性を示す。
【００１２】
さらに開示されるのは、インク・キャリアを生成する方法であって、疎水基で表面修飾されたシリカ・ナノ粒子及び疎水性基で表面修飾された金属酸化物ナノ粒子のうちの少なくとも１つの分散を形成するステップと、そのナノ粒子の分散を含み、内部に離散的に分分布するナノ粒子の実質的に均一な分布を示し、内部に分布したナノ粒子の凝集に対する実質的に向上した抵抗性を有するインク・キャリアを形成するステップとを含む方法である。この方法は、インク成分を溶融混合し、インクを激しく攪拌しながら溶融溶液にシリカをゆっくり添加してナノ粒子の分散を容易にするステップをさらに含む。有利なことに、表面修飾ナノ粒子はインク・ビヒクル内に分散し、それによりロバスト性がもたらされ、また凝集及びプリント・ヘッドの詰りの問題が低減又は完全に除去される。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
開示されるのは、表面修飾シリカ・ナノ粒子及び表面修飾金属酸化物ナノ粒子のうちの少なくとも１つの分散を含むインク・キャリアである。本明細書における相変化インクは上記のインク・キャリア及び着色料を含むことができる。着色料は、顔料着色料及び染料ベースの着色料を含む任意の適切な着色料を含むことができる。相変化インクは実質的に低い表面エネルギーを有することができる。
【００１４】
ナノメートル寸法の粒子を、通常はナノ粒子の分散の形態で加えて、インクのロバスト性を改善することができる。ナノ粒子の分散はインク・キャリアと結合し、その結果インク・マトリクス内にナノ粒子の実質的に均一な分布が存在する。このインクは、ナノ粒子の実質的に低減された凝集性により形成され、その結果ナノ粒子が離散的に分布する。
【００１５】
表面修飾シリカ・ナノ粒子は、固体インク印刷のスクラッチ耐性を改善するためにインク・キャリア内に加えられる。スクラッチ耐性は、固体インクの表面エネルギーを変更して、表面修飾シリカ・ナノ粒子が基材の表面に出て内部のワックス・イメージを保護することを容易にすることによって改善される。大きな表面積及び疎水性表面を有するように修飾された表面、を有する表面修飾金属酸化物ナノ粒子を組み込むことは、ナノ粒子が種々の化学種及び基材と結合及び／又は相互作用することを容易にし、インク・ビヒクルとの適合性を向上させる。インク・ビヒクルとの適合性のより大きな相互作用を与えることにより、低い粒子添加レベルでスクラッチ耐性における大きな改善が達成される。ワックス・ベースのインクの機械的特性は、ヒュームド・シリカの物理的特性又は性質を利用して改善される。ワックスが基材上に堆積して冷える際に、シリカの疎水基は表面に向って整列してより大きなロバスト性及びスクラッチ耐性をもたらす。低レベルの金属酸化物又はシリカ・ナノ粒子を用いることは、粘度のようなインク特性に対する悪影響を伴わずに改善されたスクラッチ耐性を可能にする。インク・ビヒクルとの適合性を向上させるように表面修飾されたナノ粒子を用いることは、実質的に低減された凝集度で良好に分散されたナノ粒子をもたらす。
【００１６】
無機ナノ粒子の適切な表面修飾は、フィラー粒子と有機マトリクスの間の適合性及び付着力を向上させる。例えば、Ｓ．Ｅｔｉｅｎｎｅ他による非特許文献２を参照されたい。非修飾（親水性）ナノ・シリカ粒子は透明度は高いが、透明被覆のスクラッチ耐性向上を付与する点では劣ることが見出されている。ナノ金属酸化物粒子表面の化学修飾は、付加的な分散ステップを必要とせずにナノ粒子の分散を容易にする。
【００１７】
修飾ナノ粒子は以下の一般式によって表すことができる。
【化１】
2010037559.tif 000002
式中、Ｒ基の数は、選択されたシリカ・ナノ粒子の型に応じて選択される。Ｒ基は、所望の表面修飾を付与するのに、例えば疎水性を付与するのに十分な数、付けられる。実施形態において、少なくとも４つのＲ基が付けられる。上に示した構造体（１）において、Ｒ基はナノ粒子に共有結合されており、共有結合は波線で示されている。
【００１８】
Ｒは、（ｉ）少なくとも１個の炭素原子、少なくとも４個の炭素原子、そして、５０個以下の炭素原子、又は２０個以下の炭素原子を有するが、炭素原子の個数はこれらの範囲外でもよい、アルキル基（直鎖及び分岐、環状及び非環状、並びに置換及び非置換のアルキル基を含み、酸素、窒素、イオウ、シリコン、リン、ホウ素などのようなヘテロ原子がアルキル基内にあってもなくてもよい）、（ｉｉ）少なくとも６個の炭素原子、少なくとも７個の炭素原子、そして、５０個以下の炭素原子、又は２０個以下の炭素原子を有するが、炭素原子の個数はこれらの範囲外でもよい、アリールアルキル基（置換及び非置換アリールアルキル基を含み、ここでアリールアルキル基のアルキル部分は直鎖又は分岐、環状又は非環状、及び置換又は非置換とすることができ、また、酸素、窒素、イオウ、シリコン、リン、ホウ素などのようなヘテロ原子がアリールアルキル基のアリール部分又はアルキル部分内にあってもなくてもよい）、又は（ｉｉｉ）少なくとも６個の炭素原子、少なくとも７個の炭素原子、そして、５０個以下の炭素原子、又は２０個以下の炭素原子を有するが、炭素原子の個数はこれらの範囲外でもよい、アルキルアリール基（置換及び非置換アルキルアリール基を含み、ここでアルキルアリール基のアルキル部分は直鎖又は分岐、環状又は非環状、及び置換又は非置換とすることができ、また、酸素、窒素、イオウ、シリコン、リン、ホウ素などのようなヘテロ原子がアルキルアリール基のアリール部分又はアルキル部分内にあってもなくてもよい）であり、ここで置換型の場合には、置換アルキル、アリールアルキル、及びアルキルアリール基の置換基は、水素原子、エーテル基、アルデヒド基、ケトン基、エステル基、アミド基、カルボニル基、チオカルボニル基、硫酸基、スルホナート基、スルホン酸基、スルフィド基、スルホキシド基、ホスフィン基、ホスホニウム基、リン酸基、ニトリル基、メルカプト基、ニトロ基、ニトロソ基、スルホン基、アシル基、酸無水物基、アジド基、アゾ基、シアナト基、イソシアナト基、チオシナナト基、イソチオシナナト基、カルボキシレート基、カルボン酸基、ウレタン基、ウレア基、及びこれらの混合物を含むことができ、ここで、２つ又はそれ以上の置換基は互いに結合して環を形成することができる。
【００１９】
Ｒは、（ｉ）少なくとも１つのエチレン型不飽和結合を有し、少なくとも２個の炭素原子、少なくとも４個の炭素原子、そしえ、５０個以下の炭素原子、又は２０個以下の炭素原子を有するが、炭素原子の個数はこれらの範囲外でもよい、アルキル基（直鎖及び分岐、環状及び非環状、並びに置換及び非置換のアルキル基を含み、ここで、酸素、窒素、イオウ、シリコン、リン、ホウ素などのようなヘテロ原子がアルキル基内にあってもなくてもよい）、（ｉｉ）少なくとも１つのエチレン型不飽和結合を有し、少なくとも８個の炭素原子、少なくとも９個の炭素原子、そして、５０個以下の炭素原子、又は２０個以下の炭素原子を有するが、炭素原子の個数はこれらの範囲外でもよい、アリールアルキル基（置換及び非置換アリールアルキル基を含み、ここでアリールアルキル基のアルキル部分は直鎖又は分岐、環状又は非環状、及び置換又は非置換型とすることができ、また、酸素、窒素、イオウ、シリコン、リン、ホウ素などのようなヘテロ原子がアリールアルキル基のアリール部分又はアルキル部分内にあってもなくてもよい）、又は（ｉｉｉ）少なくとも１つのエチレン型不飽和結合を有し、少なくとも８個の炭素原子、少なくとも９個の炭素原子、そして、５０個以下の炭素原子、又は２０個以下の炭素原子を有するが、炭素原子の個数はこれらの範囲外でもよい、アルキルアリール基（置換及び非置換アルキルアリール基を含み、ここでアルキルアリール基のアルキル部分は直鎖又は分岐、環状又は非環状、及び置換又は非置換型とすることができ、また、酸素、窒素、イオウ、シリコン、リン、ホウ素などのようなヘテロ原子がアルキルアリール基のアリール部分又はアルキル部分内にあってもなくてもよい）であり、ここで置換型の場合には、置換アルキル、アリールアルキル、及びアルキルアリール基の置換基は、水素原子、エーテル基、アルデヒド基、ケトン基、エステル基、アミド基、カルボニル基、チオカルボニル基、硫酸基、スルホナート基、スルホン酸基、スルフィド基、スルホキシド基、ホスフィン基、ホスホニウム基、リン酸基、ニトリル基、メルカプト基、ニトロ基、ニトロソ基、スルホン基、アシル基、酸無水物基、アジド基、アゾ基、シアナト基、イソシアナト基、チオシナナト基、イソチオシナナト基、カルボキシレート基、カルボン酸基、ウレタン基、ウレア基、及びこれらの混合物を含むことができ、ここで、２つ又はそれ以上の置換基は互いに結合して環を形成することができる。
【００２０】
疎水基は、アルキル基、アリールアルキル基、又はアルキルアリール基である。アルキル基、アリールアルキル基、又はアルキルアリール基は、少なくとも１つのヘテロ原子を含むことができる。特定のＲ基の例は、ジメチルポリシロキサン（共有結合する）を含み、これは有機溶媒中に分散されるとき、凝集及びフロキュレーションを防止する。他の適切な基には、ヘキサジメチルシラン及びポリジメチルシロキサンが含まれる。
【００２１】
表面修飾は、用いられる有機マトリックスとの適合相互作用をもたらし、特性に対する所望の影響を有するように選択される。ナノ粒子の表面修飾は周囲との相互作用を決定する。ナノ粒子のコアは、所望の機械的、化学的、及び／又は電気的特性を付与するように設計される。シェルは、所望の溶解性、反応性、及び適合性特性を付与するように設計される。例えば、シリコン、チタン、又はアルミニウムのようなナノ粒子コアは硬い金属であり、機械的特性に大きな影響を有する。これらの材料を用いる場合、表面処理は、用いる媒質に調和する適合性、溶解性及び反応性を可能にするように選択される。このプロセスは、例えば、インクのジェット噴出特性を妨げないであろう低い添加量を用いることができる利点をもたらす。選択された実施形態において、ナノ粒子はインク中に均一に分散する。
【００２２】
静電反発又は立体障害に基づく安定化の機構が、シリカ・ナノ粒子の凝集を防ぐのに利用される。幾つかのナノ粒子表面設計は、最小限のナノ粒子凝集を実現してナノ粒子の非特異的結合を低減するための、不活性及び活性表面官能基の間の最適バランスを含む。例えば、カルボキシレート基は、より大きな静電的又は立体的環境により、ナノ粒子上のオクタデシル基のせん断面又は滑り面を増加させる助けとして用いられる。
【００２３】
非極性固体インク・システムと適合することになる任意の適切な又は所望の表面修飾シリカ・ナノ粒子を、本明細書のインク・キャリアに対して選択することができる。例には、ＮＡＮＯＢＹＫ（登録商標）−３６５０が含まれる。表面修飾シリカ・ナノ粒子ＮＡＮＯＢＹＫ（登録商標）−３６５０は、光沢、ぼやけ又は他の被覆特性を損なわずに溶媒塗布被覆のスクラッチ耐性を増加させる。この粒子はポリジメチルシロキサン（ＰＭＤＳ）と共有結合される。他の例には、それらに限定されないが、８乃至５０ナノメートルの範囲の粒径を有する、ＰＭＤＳ修飾シリカ粒子、ＨＯ５ＴＤ、Ｈ１３ＴＤ、Ｈ２０ＴＤ、Ｈ３０ＴＤ、ヘキサジメチルシラン（ＨＭＳ）修飾シリカ粒子、ＨＯ５ＴＭ、Ｈ１３ＴＭ、Ｈ２０ＴＭ、Ｈ３０ＴＭ、及び、ＨＤＭＳ／ＰＤＭＳ修飾粒子、ＨＯ５ＴＸ、Ｈ１３ＴＸ、Ｈ２０ＴＸ、Ｈ３０ＴＸが含まれる。
【００２４】
表面修飾粒子は、粉末粒子をインク組成物の幾つか又は全てを含むことができる溶融インク溶液にゆっくり添加することによって、分散させることができる。粒子は溶液にエネルギーを加えることにより分散させることができる。
【００２５】
表面修飾ナノ粒子は、低沸点溶媒のような溶媒内に分散させることができ、次に溶媒相からインク・ビヒクルに移動させることができ、そこでナノ粒子はインク・キャリア内及び低エネルギー相変化インク内で均一に散布される。溶媒内に浮遊した粒子をインクに添加し、次いで溶媒を蒸発させる。溶媒は、有機溶媒、又は低沸点有機溶媒とすることができる。これらの溶媒は、１４０℃に等しいか又はそれ以下、１３０℃に等しいか又はそれ以下、或いは、１２０℃に等しいか又はそれ以下の沸点を有するが、沸点はこれらの範囲外であっても良い。これらの溶媒は、低沸点アルコール、グリコール、グリコール・エーテル、酢酸グリコール、ケトン、アセトアミド、又はこれらの組合せとすることができる。これらの溶媒は、メタノール、イソプロパノール、エチレングリコール、エチレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、酢酸プロピレングリコールモノメチルエーテル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、又はこれらの混合物とすることができる。
【００２６】
溶媒内へのシリカの添加量は少なくとも１５重量％、少なくとも２０重量％、少なくとも２５重量％、そして、４５重量％に等しいか又はそれ以下、４０重量％に等しいか又はそれ以下、或いは、３５重量％に等しいか又はそれ以下であるが、添加量はこれらの範囲外であってもよい。実施形態において、表面修飾ナノ粒子はインク・キャリア中に、インク・キャリアの全重量に基づいて、４０重量％に等しいか又はそれ以下の量で存在する。
【００２７】
表面修飾ナノ粒子は任意の所望の又は効果的な粒径を有し、３００ナノメートルに等しいか又はそれ以下、１００ナノメートルに等しいか又はそれ以下、或いは、５０ナノメートルに等しいか又はそれ以下の粒径を有するが、粒径はこれらの範囲外であってもよい。
【００２８】
表面修飾ナノ粒子（乾燥重量）はインク・キャリア中に任意の所望の又は効果的な量で存在し、一実施形態において、インクの少なくとも０．５重量％、少なくとも５重量％、少なくとも１０重量％、そして、４０重量％に等しいか又はそれ以下、３５重量％に等しいか又はそれ以下、或いは、２５重量％に等しいか又はそれ以下の量で存在するが、その量はこれらの範囲外であってもよい。
【００２９】
適切なビヒクルは、パラフィン、マイクロ結晶ワックス、ポリエチレン・ワックス、エステル・ワックス、アミド、脂肪酸及び他のワックス質材料、脂肪酸アミド含有材料、スルホンアミド材料、種々の天然源から作られる樹脂材料（例えば、トールオイル・ロジン及びロジンエステル）、及び多くの合成樹脂、オリゴマー、ポリマー、さらに以下に論じるようなコポリマー、を含むことができる。
【００３０】
インク・キャリアはさらに低融点ワックスを含むことができる。低融点ワックスはポリアルキレン・ワックス、機能性ワックス、又はそれらの組合せである。用語「機能性ワックス」は当業者には既知のものであり、本明細書では、例えば、アルコール、アミド、エステル、ウレタンなどの極性基を有するワックスを含む任意の適切な機能性ワックスを意味することができる。本明細書で用いられる用語「低融点ワックス」は、１２０℃未満の融点を有するワックスを含んだ任意の適切な低融点ワックスを含む。
【００３１】
適切なアミドには、ジアミド、トリアミド、テトラアミド、環状アミドなどが含まれる。適切な他のアミドには、モノアミド、テトラアミド、及びこれらの混合物を含む脂肪酸アミドが含まれる。
【００３２】
実施形態において、低融点ワックスはインク・キャリア中に、インク・キャリアの全重量に基づいて２５重量％以上６５重量％未満の量で存在する。
【００３３】
固体インク組成物中に用いることができる他の適切なキャリア材料には、イソシアネート誘導樹脂及びワックス、例えばウレタンイソシアネート誘導材料、ウレアイソシアネート誘導材料、ウレタン／ウレアイソシアネート誘導材料、及びそれらの混合物が含まれる。
【００３４】
適切なインク・ビヒクルの例には、エチレン／プロピレン・コポリマーがある。
他の型のインク・ビヒクルは、ｎパラフィン炭化水素、分岐パラフィン炭化水素、及び／又はナフテン炭化水素とすることができる。
【００３５】
通常、オレフィン重合よって調製される高分岐炭化水素を用いることもできる。さらに、インク・ビヒクルは以下の一般式を有するエトキシル化アルコールとすることができる。
【化２】
2010037559.tif 000003
式中、ｘは、１乃至５０、５乃至４０、又は１１乃至２４の整数であり、ｙは、１乃至７０、１乃至５０、又は１乃至４０の整数である。材料は、６０℃乃至１５０℃、７０℃乃至１２０℃、又は８０℃乃至１１０℃の融点、及び、１００乃至５，０００、５００乃至３，０００、又は５００乃至２，５００の範囲の分子量（Ｍｎ）を有することができる。
【００３６】
インク・ビヒクルはモノアミド、テトラアミド、又はこれらの混合物のような脂肪アミドから作ることができる。適切なモノアミドは、少なくとも５０℃、又は５０℃乃至１５０℃の融点を有することができるが、融点はこれらに範囲外であってもよい。適切なモノマーの特定の例には、１級モノアミド及び２級モノアミドが含まれる。ステアルアミド、ベヘン酸アミド／アラキドアミド、オレアミド、工業グレードのオレアミド、及びエルカミドは、適切な１級アミドの幾つかの例である。ベヘニルベヘン酸アミド、ステアリルステアルアミド、ステアリルエルカミド、エルシルエルカミド、オレイルパルミタミド、及びエルシルステアルアミドは、適切な２級アミドの幾つかの例である。付加的な適切なアミド材料には、Ｎ，Ｎ’−エチレンビスステアルアミド、オレイルパルミタミド、及びＮ，Ｎ’−エチレンビスオレアミドが含まれる。
【００３７】
以下の一般式を有する高分子量直鎖アルコールをインク・ビヒクルとして用いることもできる。
【化３】
2010037559.tif 000004
式中、ｘは、１乃至５０、５乃至３５、又は１１乃至２３の整数である。これらの材料は、５０℃乃至１５０℃、７０℃乃至１２０℃、又は７５℃乃至１１０℃の融点、及び、１００乃至５，０００、２００乃至２，５００、又は３００乃至１，５００の範囲の分子量（Ｍｎ）を有することができる。
【００３８】
さらに別の例は、以下の一般式を有するポリエチレンのホモポリマーのような炭化水素ベースのワックスを含む。
【化４】
2010037559.tif 000005
式中、ｘは、１乃至２００、５乃至１５０、又は１２乃至１０５の整数である。これらの材料は、６０℃乃至１５０℃、７０℃乃至１４０℃、又は８０℃乃至１３０℃の融点、及び、１００乃至５，０００、２００乃至４，０００、又は４００乃至３，０００の分子量（Ｍｎ）を有することができる。
【００３９】
別の例には、グラフト共重合により調製されたポリオレフィンの修飾無水マレイン酸炭化水素付加化合物であって、以下の一般式
【化５】
2010037559.tif 000006
（式中、Ｒは、１乃至５０個、５乃至３５個、又は６乃至２８個の炭素原子を含むアルキル基であり、Ｒ’は、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、又は、５乃至５００個、１０乃至３００個、若しくは２０乃至２００個の炭素原子を有するアルキル基であり、ｘは９乃至１３の整数であり、ｙは、１乃至５０、５乃至２５、又は９乃至１３の整数である）を有し、５０℃乃至１５０℃、６０℃乃至１２０℃、又は７０℃乃至１００℃の融点を有する材料と、以下の一般式を有し、７０℃乃至１５０℃、８０℃乃至１３０℃、又は９０℃乃至１２５℃の融点を有することができる材料と、が含まれる。
【化６】
2010037559.tif 000007
式中、Ｒ1及びＲ3は炭化水素基であり、Ｒ2は以下の一般式
【化７】
2010037559.tif 000008
の何れか又はそれらの混合物であり、Ｒ’はイソプロピル基である。
【００４０】
適切なインク・ビヒクルの付加的な例には、ロジンエステル、ポリアミド、ダイマー酸アミド、ＡＲＡＭＩＤ  Ｃを含む脂肪酸アミド、ＥＰＯＴＵＦ  ３７００１のようなエポキシ樹脂、流動パラフィン・ワックス、流動マイクロ結晶ワックス、フィッシャー・トロプス・ワックス、ポリビニルアルコール樹脂、ポリオール、セルロース、エステル、セルロースエーテル、ポリビニルピリジン樹脂、脂肪酸、脂肪酸エステル、ポリスルホンアミド、ベンゾエートエステル、フタル酸エステル系可塑剤、クエン酸エステル系可塑剤、マレイン酸エステル系可塑剤、ジフェニルスルホン、ｎデシルスルホン、ｎアルニルスルホン、クロロフェニルメチルスルホンのようなスルホン、ポリビニルピロリジノン共重合体、ポリビニルピロリドン／ポリ酢酸ビニル共重合体、ノボラック樹脂、及び、蜜蝋、モントン(monton)・ワックス、キャンデリラ(candelilla)・ワックス、ＧＩＬＳＯＮＩＴＥのような天然物ワックス、並びに、プロピレングリコールモノヒドロキシステアレート、グリセロールモノヒドロキシステアレート、エチレングリコールモノヒドロキシステアレート、Ｎ（２−ヒドロキシエチル）−１２−ヒドロキシステアルアミド、Ｎ，Ｎ’−エチレン−ビス−１２−ヒドロキシステアルアミド、Ｎ，Ｎ’−エチレン−ビス−リシノールアミドを含む、６乃至２４個の炭素原子を有する、直鎖１級アルコールと鎖状長鎖アミド又は脂肪酸アミドとの混合物が含まれる。さらに４乃至１６個の炭素原子を含む鎖状長鎖スルホン、例えば、ｎ−プロピルスルホン、ｎ−ペンチルスルホン、ｎ−ヘキシルスルホン、ｎ−へプチルスルホン、ｎ−オクチルスルホン、ｎ−ノニルスルホン、ｎ−デシルスルホン、ｎ−ウンデシルスルホン、ｎ−ドデシルスルホン、ｎ−トリデシルスルホン、ｎ−テトラデシルスルホン、ｎ−ペンタデシルスルホン、ｎ−ヘキサデシルスルホン、は適切なインク・ビヒクル材料である。
【００４１】
特許文献１に記載されたインク・ビヒクルを用いることもできる。インク・ビヒクルは特許文献２に記載された下記の一般式を有する分岐トリアミドを含むことができる。
【化８】
2010037559.tif 000009
式中、ｎは３４乃至４０の平均値を有し、ｘ、ｙ、及びｚはそれぞれゼロ又は整数であり、ここで、ｘ、ｙ、及びｚの和は５又は６である。
【００４２】
フタル酸ベンジル、トリアリールリン酸エステル、ペンタエリスリトールテトラベンゾエート、アジピン酸ジアルキル、フタル酸ジアルキル、セバシン酸ジアルキル、フタル酸アルキルベンジル、モノステアリン酸エチレングリコール、モノステアリン酸グリセロール、モノステアリン酸プロピレングリコール、フタル酸ジシクロへキシル、イソフタル酸ジフェニル、リン酸トリフェニル、イソフタル酸ジメチル、及びこれらの混合物、のような固体又は液体可塑剤とすることができる可塑剤もまたインク・キャリアに含めることができる。可塑剤はインク・キャリア中に任意の所望の又は有効な量で存在することができ、一実施形態において、インク・キャリアの少なくとも０．０５重量％、少なくとも１重量％、少なくとも２重量％、そして、一実施形態においてインク・キャリアの１５重量％に等しいか又はそれ以下、１０重量％に等しいか又はそれ以下、或いは、５重量％に等しいか又はそれ以下の量で存在する。
【００４３】
ヒンダード・アミン抗酸化剤はインク中に任意の所望の又は有効な量で存在し、一実施形態において、インク・キャリアの少なくとも０．００１重量％、少なくとも０．０５重量％、又は少なくとも０．１重量％、そして一実施形態においてインク・キャリアの０．５０重量％に等しいか又はそれ以下、０．２５重量％に等しいか又はそれ以下、或いは、０．１５重量％に等しいか又はそれ以下の量で存在するが、その量はこれらの範囲外であってもよい。
【００４４】
適切なヒンダード・アミン抗酸化剤の例は、以下の一般式を有するものを含む。
【化９】
2010037559.tif 000010
式中、Ｒ1及びＲ2の各々は、互いに独立に、水素原子、又は、直鎖、分岐、飽和、不飽和、環状、置換、及び非置換のアルキル基を含むアルキル基とすることができ、また、酸素、窒素、イオウ、シリコン、リン、ホウ素のようなヘテロ原子が、一実施形態において少なくとも１個の炭素原子を有するアルキル基内に存在しても存在しなくてもよく、置換型である場合、置換基はアルキル又はフェニル基とすることができる。
【００４５】
ヒンダード・フェノール抗酸化剤もまた加えることができる。一実施形態においてヒンダード・フェノールは比較的高濃度で存在する。高濃度のヒンダード・フェノール抗酸化剤は、酸化自体の開始を遅らせることにより長期の熱安定性を最大にする。ヒンダード・フェノール抗酸化剤はインク中に任意の所望の又は有効な量で存在し、インク・キャリアの少なくとも０．０１重量％、少なくとも０．５重量％、少なくとも１．５重量％、そして、インク・キャリアの４．０重量％に等しいか又はそれ以下、３．０重量％に等しいか又はそれ以下、或いは、２．５重量％に等しいか又はそれ以下の量で存在する。これらのヒンダード・フェノール抗酸化剤の２つ又はそれ以上の混合物を用いることもできる。
【００４６】
分散剤は、顔料、及びインク・ビヒクル中に存在するシリカ又は替りのナノ粒子を分散させ安定化させるために、インク中に任意の所望の又は有効な量で存在することができる。分散剤はインク・キャリアの少なくとも０．１重量％、又は少なくとも１重量％、そして、インク・キャリアの３０重量％に等しいか又はそれ以下、又は２０重量％に等しいか又はそれ以下の量で存在する。適切な分散剤の特定の例は、特許文献３及び特許文献４に開示されたようなポリエステル分散剤である。適切なポリエステル分散剤は特許文献５に開示されている。ここで、分散剤は以下の一般式を有するポリエステルである。
【化１０】
2010037559.tif 000011
式中、各Ｒ1は、直鎖、分岐、飽和、不飽和、環状、置換、及び非置換アルキル基であり、少なくとも８個の炭素原子、例えば８乃至４０個、又は８乃至３０個、又は８乃至２０個の炭素原子を含み、しかし炭素原子の個数はこれらの範囲外であってもよく、置換型の場合、置換基は（それらに限定されないが）水素原子、エーテル基、アルデヒド基、ケトン基、エステル基、アミド基、カルボニル基、チオカルボニル基、硫酸基、スルホナート基、スルホン酸基、スルフィド基、スルホキシド基、ホスフィン基、ホスホニウム基、リン酸基、ニトリル基、メルカプト基、ニトロ基、ニトロソ基、スルホン基、アシル基、酸無水物基、アジド基、アゾ基、シアナト基、イソシアナト基、チオシナナト基、イソチオシナナト基、カルボキシレート基、カルボン酸基、ウレタン基、ウレア基、及びこれらの混合物を含むことができ、ここで、２つ又はそれ以上の置換基は互いに結合して環を形成することができる。
【００４７】
Ｘは（ｉ）酸素原子、又は（ｉｉ）少なくとも２個の炭素原子を含み、酸素又は窒素原子を介してカルボニル基に結合したアルキレン基である。Ｒ2は（ｉ）水素原子、（ｉｉ）１級、２級若しくは３級アミン基又はそれらと酸の塩、又は４級アンモニウム塩基である。ｎは、繰り返す基の数、例えば２乃至２０、又は２乃至１０、を表す。
【００４８】
別の種類の適切な分散剤は、下記の一般式を有する酸化された合成又は石油ワックスのウレタン誘導体を含むもので、これもまたインク・ビヒクルとして用いることができる。
【化１１】
2010037559.tif 000012
式中、Ｒ1は一般式ＣＨ3（ＣＨ2）nのアルキル基で、ｎは５乃至２００、例えば１０乃至１５０又は１０乃至１００の整数であり、Ｒ２はアリーレン基である。これらの材料は、６０℃乃至１２０℃、７０℃乃至１００℃、又は７０℃乃至９０℃の融点を有することができる。そのような材料の市販品の例には、例えば、Ｂａｋｅｒ  Ｐｅｔｒｏｌｉｔｅ  ＣＡ−１１（Ｍｎ＝７９０、Ｍｗ／Ｍｎ＝２．２）、Ｐｅｔｒｏｌｉｔｅ  ＷＢ−５（Ｍｎ＝６５０、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．７）、Ｐｅｔｒｏｌｉｔｅ  ＷＢ−１７（Ｍｎ＝７３０、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．８）が含まれる。
適切な分散剤の他の例は、特許文献６に開示されているようなポリアルキレンスクシンイミド分散剤である。
【００４９】
ロジンエステル樹脂、又はそれらの混合物などもまたインク・キャリア中に含めることができる。ロジンエステル樹脂はインク・キャリア中に任意の所望の又は有効な量で存在し、インク・キャリアの少なくとも０．５重量％、少なくとも２重量％、又は少なくとも３重量％、そしてインク・キャリアの２０重量％に等しいか又はそれ以下、１５重量％に等しいか又はそれ以下、或いは、１０重量％に等しいか又はそれ以下の量で存在する。
【００５０】
本明細書で開示されるインクは、表面修飾シリカ分散系をインク成分中に、均一分散を最大化して実質的な凝集を防ぐような仕方で、分散させることによって得ることができる。これは、エネルギーを加えながら溶融インク中にナノ粒子をゆっくり添加するステップを含むことができる。別の方法は、溶媒−シリカ・ナノ粒子から溶媒の実質的な部分を除去し、インク・キャリア成分内にシリカ分散系を広く行き渡らせるステップを含むことができる。より具体的には、低エネルギー相変化インク組成物を生成する方法は、溶媒及びワックス中のナノ粒子を含むナノ粒子の分散液を含むインク・キャリアを混ぜ合せるステップを含むことができる。インク・キャリアは、内部に離散的に分布するナノ粒子の実質的に均一の分布を示し、内部に分布したナノ粒子の凝集に対する実質的に向上した抵抗性を示す。
【００５１】
インク・キャリアは調製された相変化インク中に任意の所望の又は有効な量で存在することができ、インクの少なくとも５０重量％、少なくとも７０重量％、又は少なくとも９０重量％、そして、インクの９９重量％に等しいか又はそれ以下、９８重量％に等しいか又はそれ以下、或いは、９５重量％に等しいか又はそれ以下の量で存在することができる。
一つの特定の実施形態において、インク・キャリアは、１１０℃未満、又は１００℃未満の融点を有することができる。
【００５２】
相変化インクはまた着色料を含む。着色料がインク・ビヒクル中に溶解又は分散できるという条件で、染料、顔料、それらの混合物などを含む任意の所望の又は有効な着色料を用いることができる。相変化キャリア組成物は、色指数（Ｃ．Ｉ．）油溶性染料、分散染料，修飾酸性及び直接染料、塩基性染料、硫化染料、バット染料などのような従来の相変化インク着色料材料と組み合せて用いることができる。特許文献７及び特許文献８に開示されているような高分子染料を用いることもできる。
顔料もまた、相変化インク用の適切な着色料である。
特許文献９乃至特許文献２２に開示されている着色料もまた適している。
【００５３】
着色料は相変化インク中に、所望の色又は色合いを得るように任意の所望の又は有効な量で存在し、インク組成物の少なくとも０．１重量％又は少なくとも０．２重量％、或いは、インク組成物の１５重量％以下又は８重量％以下の量で存在する。
【００５４】
本明細書で開示されたインク組成物は、一実施形態において１３０℃に等しいか又はそれ以下、１２０℃に等しいか又はそれ以下、１１０℃に等しいか又はそれ以下、或いは、１００℃に等しいか又はそれ以下の融点を有する。
【００５５】
本明細書で開示されたプロセスにより調製されるインク組成物は、１４５℃に等しいか又はそれ以下、１３０℃に等しいか又はそれ以下、１２０℃に等しいか又はそれ以下、１１０℃に等しいか又はそれ以下、或いは、８０℃に等しいか又はそれ以下の、しかしこれらの範囲外であってもよいジェット噴出温度において、一実施形態において３０ｃｐｓに等しいか又はそれ以下、２５ｃｐｓに等しいか又はそれ以下、２０ｃｐｓに等しいか又はそれ以下の、そして２ｃｐｓを下回らない、３ｃｐｓを下回らない、或いは、約４ｃｐｓを下回らない溶融粘度を一般に有する。
【００５６】
本明細書において透き通し（showthrough）は、紙の裏面上のベタ領域画像の存在に起因する紙の光学密度（ＯＤ）（バックグラウンドが差し引かれた）の増加と定義される。
本発明の対象のインクに関しては、透き通しは実質的に低減することができ、その結果、印刷画像は、光学密度単位で０．０７に等しいか又はそれ以下、０．０６に等しいか又はそれ以下、０．０５に等しいか又はそれ以下、或いは、０．０４に等しいか又はそれ以下になる。
【００５７】
本明細書で開示されたインクは、直接印刷インクジェット・プロセス用の装置内で、又は間接（オフセット）印刷インクジェット用途に用いることができる。別の実施形態は、本明細書で開示されたインクをインクジェット印刷装置内に組み込み、インクを溶融させ、溶融インクの液滴を記録基材上に像様のパターンで噴出させるステップを含むプロセスに向けられる。直接印刷プロセスはまた、特許文献２３に開示されている。本明細書に開示されたように調製されたインクは、間接印刷インクジェット用の装置内で用いることができる。別の実施形態は、本明細書で開示されたように調製されたインクをインクジェット印刷装置内に組み込み、インクを溶融させ、溶融インクの液滴を中間転写部材上に像様のパターンで噴出させ、そして像様パターン内のインクを中間転写部材から最終記録基材に転写するステップを含むプロセスに向けられる。特定の実施形態において、中間転写部材は、最終記録シートの温度よりも高く且つ印刷装置内の溶融インクの温度よりも低い温度に加熱される。オフセット又は間接印刷プロセスは特許文献２４に開示されている。一つの特定の実施形態において、印刷装置には、インクの液滴が圧電振動素子の振動によって像様パターンに噴出される圧電式印刷プロセスが用いられる。
【００５８】
ＸＥＲＯＸ（登録商標）４０２４紙のような普通紙、ＸＥＲＯＸ（登録商標）イメージ連続紙、Ｃｏｕｒｔｌａｎｄ４０２４ＤＰ紙、罫線入りノートブック紙、ボンド紙、シャープ株式会社のシリカ・コート紙のようなシリカ・コート紙、十條紙、Ｈａｍｍｅｒｍｉｌｌ  レーザープリント紙、透明材料、布、織物製品、プラスチック、高分子膜、金属のような無機基材、及び木材を含む、任意の適切な基材又は記録シートを用いることができる。
【実施例１】
【００５９】
初めにインク・ベースを、下記の成分を６００ミリリットルのビーカ内でオーバーヘッド・スターラを用いて１２０℃において溶融し均一に混和して混合することにより調製した。その成分は、１１８．５グラムの蒸留ポリエチレン・ワックス（ＰＥ５００、米国オクラホマ州タルサ所在のＢａｋｅｒ  Ｐｅｔｒｏｌｉｔｅ（登録商標）から入手、Ｃ−３６の平均鎖長を有するポリエチレン・ホモポリマー）、２９．７グラムのトリアミド・ワックス（特許文献２の実施例ＩＩに記載されたように調製された）、０．３グラムのＮａｕｇａｒｄ（登録商標）４４５（抗酸化剤、Ｃｒｏｍｐｔｏｎ社から市販）、及び２．２３グラムのＳｏｌｓｐｅｒｓｅ（登録商標）１７０００高分子分散剤（Ｎｏｖｅｎ  Ｉｎｃ．から市販）である。溶液は、１２０℃に予備加熱された１８００ｇ  １／８”  ４４０Ｃグレードのステンレス・スチール・ボールを有する加熱された０１  Ｓｚｅｇｖａｒｉ磨砕機に移された。Ｃｌａｒｉａｎｔ社からのＰｅｒｍａｎｅｎｔ  Ｒｕｂｉｎｅ  Ｌ５Ｂ  ０１（ＰＲ５７：１）顔料７．８２グラムを溶融インク・ベースにゆっくり添加した。分散液は１５０ＲＰＭで４時間混合させて粒子の湿潤を可能にした。
【実施例２】
【００６０】
下記の成分を２５０ミリリットルのビーカ内で溶融し混合した。それらは、Ｂａｋｅｒ  Ｐｅｔｒｏｌｉｔｅからの蒸留ポリエチレン・ワックス３２．１３グラム、トリアミド・ワックス（特許文献２に記載されたように調製された）３．０７グラム、Ｃｒｏｍｐｔｏｎ社から市販のＳ−１８０（ステアリルステアルアミド）４０．８９グラム、荒川化学工業株式会社から市販の水素化アビエチン（ロジン）酸のグリセロールエステルであるＫＥ−１００樹脂２３．５１グラム、Ｃｒｏｍｐｔｏｎ社から市販のＮａｕｇａｒｄ−４４５（抗酸化剤）０．２４グラムである。Ｈ３０ＴＤ（Ｗａｃｋｅｒ−Ｃｈｅｍｉｅ  ＧｍｂＨから市販のＰＤＭＳ表面修飾シリカ・ナノ粒子）３．６８グラムを溶融溶液中に、インクをＣｏｗｌｅｓ型ブレードを用いて４０００ＲＰＭにおいて攪拌しながら、６０分間かけてゆっくり添加し、ナノ粒子の分散を容易にした。
【００６１】
実施例１からの、結果として得られた顔料インク濃縮液１２７．８グラムを、加熱した６００ミリリットルのビーカに移し、そこに上記の溶融インク成分を添加し手で攪拌した。次にインクを、Ｃｏｗｌｅｓ型ブレードを用いて４０００ＲＰＭにおいて４時間混合させて、ＰＲ５７：１粒子及びシリカ・ナノ粒子の高品質の分散を容易にした。この顔料インクの処方を表１に与える。インクは、Ｐａｌｌ社から市販の１ミクロンのフィルターを用いてろ過した。インクは、コーン・プレート配置（５０ｍｍ）におけるＲｈｅｏｍｅｔｒｉｃｓ  Ｆｌｕｉｄ  Ｓｐｅｃｔｒｏｍｅｔｅｒ  ＲＦＳ３上のレオロジーを測定することにより特徴付けた。シリカ・ナノ粒子及びＰＲ５７：１粒子の結果として得られた分散は、ジェット噴出性及び得られた印刷の印刷品質の評価を可能にするのに十分に安定であった。
【００６２】
表１
2010037559.tif 000013
*特許文献２の実施例ＩＩに記載のように調製された。
【実施例３】
【００６３】
シリカ・ナノ粒子を有する顔料インクを、Ｈ３０ＴＤの代りにＨ３０ＴＸ（ＨＭＤＳ／ＰＤＭＳ表面修飾シリカ・ナノ粒子）を用いることを除いて、実施例２と同様に調整した。
【実施例４】
【００６４】
シリカ・ナノ粒子を有する顔料インクを、Ｈ３０ＴＤの代りにＮＡＮＯＢＹＫ−３６５０（それぞれ酢酸メトキシプロピル及びメトキシプロパノールの６／１混合物中の３１％分散）を用いることを除いて、実施例２と同様に調整した。次に混合装置に攪拌機を取り付け、インクを１２０℃で２時間攪拌して溶媒を蒸発させた。
【実施例５】
【００６５】
Ｘｅｒｏｘ  Ｐｈａｓｅｒ（登録商標）８８６０シアン・インク（１４８．５ｇ）を６００ミリリットルのビーカ内で、オーブン中１２０℃で２時間溶融させた。ＮＡＮＯＢＹＫ−３６５０（３ｇ、それぞれ酢酸メトキシプロピル及びメトキシプロパノールの６／１混合物中の３１％分散、ＢＹＫ  Ｃｈｅｍｉｅより入手）を、Ｃｏｗｌｅｓ型ブレードを用いて４０００ＲＰＭでインクを攪拌しながら６０分間かけて滴下添加して、ナノ粒子の分散を容易にした。次に混合装置に攪拌機を取り付け、インクを１２０℃で２時間攪拌して溶媒を蒸発させた。インクは、Ｐａｌｌ社から市販の１ミクロンのフィルターを用いてろ過した。インクは、コーン・プレート配置（５０ミリメートル）におけるＲｈｅｏｍｅｔｒｉｃｓ  Ｆｌｕｉｄ  Ｓｐｅｃｔｒｏｍｅｔｅｒ  ＲＦＳ３上のレオロジーを測定することにより特徴付けた。結果として得られたシリカ・ナノ粒子の分散は、ジェット噴出性及び得られた印刷の印刷品質の評価を可能にするのに十分に安定であった。
【実施例６】
【００６６】
シリカ・ナノ粒子を有する染料ベースのインクを、ＮＡＮＯＢＹＫ−３６５０の代りにＨ３０ＴＸ（１．５ｇ、ＨＭＤＳ／ＰＤＭＳ表面修飾シリカ・ナノ粒子）を用いること、及びＨ３０ＴＸが粉末であるので溶媒蒸発プロセスがないことを除いて、実施例５と同様に調製した。
【実施例７】
【００６７】
シリカ・ナノ粒子を有する染料ベースのインクを、ＮＡＮＯＢＹＫ−３６５０の代りにＨ３０ＴＤ（１．５ｇ、ＰＤＭＳ表面修飾シリカ・ナノ粒子）を用いること、及びＨ３０ＴＤが粉末であるので溶媒蒸発プロセスがないことを除いて、実施例５と同様に調製した。