(57)【要約】【課題】擦れ等の物理的要因により撥水材自体にダメージが生じ封止性能が損なわれることのない、信頼性に優れた高品質な電気光学装置及び電気光学装置の製造方法を提供する。【解決手段】本発明の電気光学装置１００は、一対の基板１０,２０が平面視枠状のシール材５２を介して互いに貼り合わされてなり、一対の基板間においてシール材５２に囲まれる領域に発光素子を備えた電気光学装置１００であって、シール材５２は、シール材５２の外側の側面が一対の基板１０,２０の側面よりも内側に位置するように形成され、シール材５２の外側の側面を覆うように撥水材９０が形成され、撥水材９０は、一対の基板間において撥水材９０の外側の側面が一対の基板１０,２０の側面よりも内側になるように配置されていることを特徴とする。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の基板が平面視枠状のシール材を介して互いに貼り合わされてなり、前記一対の基板間において前記シール材に囲まれる領域に発光素子を備えた電気光学装置であって、
前記シール材は、前記シール材の外側の側面が平面視において前記一対の基板の側面よりも内側に位置するように形成され、前記シール材の前記外側の側面を覆うように撥水材が形成され、
前記撥水材は、前記一対の基板間において前記撥水材の外側の側面が前記一対の基板の側面よりも内側になるように配置されていることを特徴とする電気光学装置。
【請求項２】
前記撥水材は、前記一対の基板間において前記シール材の外側の側面を覆う本体部と、前記シール材の外側の側面と前記シール材に隣り合う前記一対の基板の表面とを跨いで前記一対の基板と前記シール材との間の界面を塞ぐ屈曲部と、を有していることを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項３】
一対の基板が平面視枠状のシール材を介して互いに貼り合わされてなり、前記一対の基板間において前記シール材に囲まれる領域に発光素子を備えた電気光学装置の製造方法であって、
前記シール材の外側の側面が前記一対の基板の側面よりも内側になるように前記シール材の形成材料を配置する工程と、
前記一対の基板を前記シール材の形成材料を介して対向させて貼り合わせる工程と、
前記シール材の形成材料を硬化させて前記シール材を形成する工程と、
前記シール材の外側の側面を覆うように撥水材の材料液を塗布する工程と、
前記撥水材の材料液の溶媒を揮発させて前記撥水材を形成する工程と、を備えていることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項４】
前記撥水材の材料液を塗布する工程において、前記撥水材の材料液の粘度を１０〜１００ｃｐｓの範囲内とすることを特徴とする請求項３に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項５】
前記シール材を形成する工程と、前記撥水材の材料液を塗布する工程との間に、前記シール材の外側の側面が前記一対の基板の側面から所定の寸法で内側になるように前記一対の基板を切断することを特徴とする請求項３または４に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１項に記載の電気光学装置を備えていることを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電気光学装置、電気光学装置の製造方法、電子機器に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶装置や有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏ-Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｔ）装置の製造には、吸湿や水分の侵入が品質低下の原因となることから、一対の基板間の液晶や有機ＥＬ素子等の電気光学物質を封止する技術の開発が盛んに行われている。
【０００３】
封止技術の例として、液晶装置を製造する場合には、配向膜が形成された一対の基板をシール材により貼り合わせ、このシール材に囲まれた領域に液晶を封入する。さらに、信頼性向上の面から、シール材の側面に撥水材を形成する。このように、シール材と撥水材とで封止する二重封止が知られている。例えば、特許文献１及び２では、一対の基板の側面とシール材の側面とを連続的に覆う撥水材を形成することで、基板とシール材との接合部分から内部への水分の侵入を防ぐ技術を開示している。
【特許文献１】特開２００６−３３００５９号公報
【特許文献２】特開２００７−３６７１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
図１６は、従来の液晶装置１０００を示した模式図である。液晶装置１０００は、互いに対向する一対の基板間に、液晶１０５０を挟持した構成を有している。基板１０１０の内面側には、導電膜（画素電極）１００９と、配向膜１０４０とが順次形成されている。一方、基板１０２０の内面側には、導電膜（共通電極）１０２１と、配向膜１０６０とが順次形成されている。基板１０１０,１０２０は、配向膜１０４０,１０６０間でシール材１０５２によって貼り合わされている。このシール材１０５２によって区画された領域内に液晶１０５０が封入・保持されている。基板１０１０,１０２０、導電膜１００９,１０２１、配向膜１０４０,１０６０、及びシール材１０５２の各側面を連続的に、かつ、全周に亘って覆うように、撥水材１０９０が形成されている。
【０００５】
このように、特許文献１及び２に示す液晶装置の側面には、撥水材が形成されている。しかしながら、特許文献１及び２に示すような二重封止では、撥水材が外部に対して剥き出しの構造となっており、擦れ等の物理的要因により撥水材自体にダメージが生じる可能性が高い。この撥水材のダメージにより、撥水材の内側のシール材が損傷を受けたり、基板から剥離したりする場合がある。これらにより、シール材に隙間を生じると、外部から異物が隙間を通って液晶層へ混入したり、外部に液晶が漏れ出したりしてしまう惧れがある。
【０００６】
本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであって、擦れ等の物理的要因により撥水材自体にダメージが生じ封止性能が損なわれることのない、信頼性に優れた高品質な電気光学装置及び電気光学装置の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記の課題を解決するため、本発明の電気光学装置は、一対の基板が平面視枠状のシール材を介して互いに貼り合わされてなり、前記一対の基板間において前記シール材に囲まれる領域に発光素子を備えた電気光学装置であって、前記シール材は、前記シール材の外側の側面が平面視において前記一対の基板の側面よりも内側に位置するように形成され、前記シール材の前記外側の側面を覆うように撥水材が形成され、前記撥水材は、前記一対の基板間において前記撥水材の外側の側面が前記一対の基板の側面よりも内側になるように配置されていることを特徴とする。
この構成によれば、一対の基板間において撥水材の外側の側面が一対の基板の側面よりも内側なので、擦れ等の物理的要因により撥水材自体にダメージが生じることがない。すなわち、撥水材自体にダメージが生じることがないので、撥水材の内側に形成されるシール材が損傷を受けたり、基板から剥離したりして隙間を生じることがない。したがって、外部から異物が隙間を通って液晶層へ混入したり、外部に液晶が漏れ出したりしてしまう等の問題が発生しない。本発明における撥水材の構造は、特許文献１及び２に示すように撥水材が外部に対して剥き出しの構造とはなっておらず、一対の基板間の撥水材が内部に凹んだ構造となっている。これにより、一対の基板間において撥水材の外側の側面が外部からの擦れ等の物理的要因によって撥水材自体にダメージが生じ封止性能が損なわれることのない、信頼性に優れた高品質な電気光学装置が提供できる。
【０００８】
本発明においては、前記撥水材は、前記一対の基板間において前記シール材の外側の側面を覆う本体部と、前記シール材の外側の側面と前記シール材に隣り合う前記一対の基板の表面とを跨いで前記一対の基板と前記シール材との間の界面を塞ぐ屈曲部と、を有していることが望ましい。
一般的に、外部からの異物は、シール材本体から内部に侵入するよりも、一対の基板とシール材との間の界面から内部に侵入しやすい。この構成によれば、一対の基板とシール材との間の界面が十分な厚さの撥水材によって封止されるので、外部からの異物の侵入を確実に防止することができる。その結果、より信頼性に優れた高品質な電気光学装置が提供できる。
【０００９】
本発明の電気光学装置の製造方法は、一対の基板が平面視枠状のシール材を介して互いに貼り合わされてなり、前記一対の基板間において前記シール材に囲まれる領域に発光素子を備えた電気光学装置の製造方法であって、前記シール材の外側の側面が前記一対の基板の側面よりも内側になるように前記シール材の形成材料を配置する工程と、前記一対の基板を前記シール材の形成材料を介して対向させて貼り合わせる工程と、前記シール材の形成材料を硬化させて前記シール材を形成する工程と、前記シール材の外側の側面を覆うように撥水材の材料液を塗布する工程と、前記撥水材の材料液の溶媒を揮発させて前記撥水材を形成する工程と、を備えていることを特徴とする。
この製造方法によれば、撥水材の材料液を塗布を用いて配置するので、毛細管現象を利用して滞ることなく一対の基板間の所定の部位に撥水材の材料液を入り込ませることができる。その結果、一対の基板間において撥水材の外側の側面が一対の基板の側面よりも内側にすることができる。
【００１０】
本製造方法においては、前記撥水材の材料液を塗布する工程において、前記撥水材の材料液の粘度を１０〜１００ｃｐｓの範囲内とすることが望ましい。
この製造方法によれば、撥水材の材料液の粘度が１０〜１００ｃｐｓの範囲内とされるので、毛細管現象を利用して、一対の基板間において撥水材の外側の側面が一対の基板の側面よりも確実に内側にすることができる。一方、撥水材の材料液の粘度が１０ｃｐｓ未満となると、流動性が高すぎて滴り落ちてしまい一度に十分な量の撥水材の材料液を塗布できない惧れがある。また、撥水材の材料液の粘度が１００ｃｐｓを超えると、流動性が低すぎて滞ることなく所定の部位に撥水材の材料液を塗布できない惧れがある。
【００１１】
本製造方法においては、前記シール材を形成する工程と、前記撥水材の材料液を塗布する工程との間に、前記シール材の外側の側面が前記一対の基板の側面から所定の寸法で内側になるように前記一対の基板を切断することが望ましい。
この製造方法によれば、撥水材の材料液を塗布する工程で毛細管現象を好適に利用することができ、一対の基板間において撥水材の外側の側面を一対の基板の側面よりも確実に内側にすることができる。
【００１２】
本発明の電子機器は、前述した本発明の電気光学装置を備えていることを特徴とする。
この構成によれば、上述した電気光学装置を備えているため、擦れ等の物理的要因により撥水材自体にダメージが生じ封止性能が損なわれることのない、高信頼性かつ高性能な電子機器を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、図面を参照して、本発明の実施の形態について説明する。かかる実施の形態は、本発明の一態様を示すものであり、この発明を限定するものではなく、本発明の技術的思想の範囲内で任意に変更可能である。また、以下の図面においては、各構成をわかりやすくするために、実際の構造と各構造における縮尺や数等が異なっている。
【００１４】
本発明の電気光学装置の一例である液晶装置（電気光学装置）１００の全体構成を図１及び図２を参照して説明する。図１は、ＴＦＴアレイ基板１０を含むＴＦＴアレイ基板１０上に形成された各構成要素を対向基板２０の側から見た平面図である。また、図２は、対向基板２０を含めて示す図１のＡ−Ａ線に沿う断面図である。なお、液晶装置１００の各構成部材における液晶（電気光学物質）５０の封入された側を内側と呼び、その反対側を外側と呼ぶことにする。また、本実施形態では、薄膜ダイオード（ＴＦＤ）や薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）等の非線形素子を用いたアクティブマトリクス方式の液晶装置１００を例に挙げて説明する。
【００１５】
図１に示すように、本実施形態の液晶装置１００は、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０とがシール材５２によって貼り合わされている。シール材５２は、ＴＦＴアレイ基板１０上に枠状に形成されている。ここで、液晶装置１００における位置を表す場合に、シール材５２によって囲まれた領域の中心に近い方を内側、遠い方を外側と呼ぶことにする。シール材５２は、シール材５２の外側の側面がＴＦＴアレイ基板１０の側面（破線部）よりも内側になるように形成されている。このシール材５２によって区画された領域内に液晶５０が封入されている。また、シール材５２の外側には、撥水材９０が枠状に形成されている。
【００１６】
図２に示すように、対向基板２０が、シール材５２によりＴＦＴアレイ基板１０に固着されている。ＴＦＴアレイ基板１０の内面側には、導電膜（画素電極）９と、配向膜４０とが順次形成されている。一方、対向基板２０の内面側には、導電膜（共通電極）２１と、配向膜６０とが順次形成されている。一対の基板は、配向膜４０,６０間でシール材５２によって貼り合わされている。このシール材５２によって区画された領域内に液晶５０が封入・保持されている。シール材５２の内側の領域は、画像や動画等を表示する表示領域（発光領域）になっている。表示領域には、画素電極９と、スイッチング素子（図示略）とがマトリクス状に設けられており、各画素電極毎に画素電極９と、共通電極２１と、画素電極９と共通電極２１との間に配置された液晶５０を備えた発光素子を有する。
【００１７】
撥水材９０は、シール材５２の一対の基板間で露出する部位全体を覆うように形成されている。また、撥水材９０は、一対の基板間においてシール材５２の外側の側面を覆う本体部９０ａと、シール材５２の外側の側面とシール材５２に隣り合う一対の基板１０,２０の表面（対向する面）とを連続して跨いで一対の基板１０,２０とシール材５２との間の界面を塞ぐ屈曲部９０ｃとを有している。屈曲部９０ｃは、その表面が弓なりになるように形成されている。また、撥水材９０は、基板１０,２０、導電膜９,２１、及び配向膜４０,６０の各外側の側面を連続的に覆う周縁部９０ｂを有している。撥水材９０は、一対の基板間において撥水材９０の外側の側面の一部が一対の基板１０,２０の側面よりも内側になるように配置されている。具体的には、撥水材９０は、本体部９０ａ及び屈曲部９０ｃが一対の基板１０,２０の側面よりも内側になるように形成されている。
【００１８】
撥水材９０の形成材料は、例えばフッ素系樹脂、ウレタン系樹脂、アクリル系樹脂、シリコン系樹脂を用いることができる。
【００１９】
図３は、図２のＢ部拡大図である。図３に示すように、シール材５２は、一対の基板１０,２０の側面からシール材５２の側面まで所定の寸法を有するように内側に入り込んだ位置に形成されている。ここで、一対の基板１０,２０の側面からシール材５２の側面までの所定の寸法のことを、「シール材深さＬａ」と定義する。また、一対の基板１０,２０は、所定の寸法の隙間を有してシール材５２により貼り合わせ固定されている。そして、一対の基板１０,２０とシール材５２とで、一対の基板間に凹部（隙間）を成している。ここで、一対の基板間に形成された隙間の所定の寸法のことを、「セルギャップＬｂ」と定義する。
【００２０】
シール材深さＬａとセルギャップＬｂは、後述する製造方法において一対の基板間の隙間に、撥水材９０を毛細管現象を利用して効率良く形成できるように、所定の寸法に設定するのがよい。例えば、シール材深さＬａを５００μｍ程度、セルギャップＬｂを１０〜２０μｍの範囲内とするのが望ましい。
【００２１】
撥水材９０が、一対の基板１０,２０の側面よりも外側のみに形成されないように、撥水材９０の形成領域には一対の基板１０，２０とシール材５２とによって形成される凹部を有している。撥水材９０の厚さについて、屈曲部９０ｃの厚さは、本体部９０ａの厚さ以上になっている。本体部９０ａの厚さは、周縁部９０ｂの厚さと略同じ厚さになっている。ここで、撥水材９０の厚さとは、撥水材９０の被着面（内側）と、撥水材９０の側面（外側）との間の距離である。すなわち、撥水材９０の厚さとは、撥水材９０の被着面に沿って延在する方向に対して垂直方向の寸法である。
【００２２】
次に、上記のように構成された液晶装置１００の製造方法について説明する。
図４は、本実施形態の液晶装置１００の製造方法に用いる液晶・シール材塗布装置の概略構成図、図５は、本実施形態の液晶装置１００の製造方法に用いる基板貼り合わせ装置の概略構成図である。図６〜図１１は、液晶装置１００の製造プロセスを順を追って示す工程図、図１２は、液晶装置１００の製造プロセスのフローチャートである。なお、以下の説明では、基板の表面に沿う方向をＸ方向及びＹ方向とし、ＸＹ平面と直交する方向をＺ方向として説明する。また、本製造方法において液晶５０を配置する工程では、ＯＤＦ（Ｏｎｅ  Ｄｒｏｐ  Ｆｉｌｌ）方式を用いる。また、撥水材９０を形成する工程では、浸漬方式を用いる。
【００２３】
図４に示すように、液晶・シール材塗布装置６３は、基板を保持してＸ方向、Ｙ方向およびθ方向（Ｚ軸と平行な軸周りの回転方向）に移動自在なテーブル６５と、テーブル６５の上方に配設されて液晶５０を吐出、滴下する液滴吐出ヘッド６６と、液滴吐出ヘッド６６の近傍に配設されシール材の形成材料５２ａ（図６参照）を塗布するディスペンサノズル６７とを主体に構成されている。ディスペンサノズル６７から塗布されるシール材の形成材料５２ａには、略球形状のギャップ制御材５２ｂ（図６参照）が含まれており、ギャップ制御材５２ｂの直径は基板のセルギャップＬｂと略同じ寸法に形成されている。また、基板給除部６２には、液晶・シール材塗布装置６３と後述する基板貼り合わせ装置６４との間で基板を搬送するキャリアを用いている。
【００２４】
図５に示すように、基板貼り合わせ装置６４は、基板を保持してＸ方向、Ｙ方向およびθ方向に移動自在なテーブル６８と、テーブル６８上に設置された下チャック部６９と、下チャック部６９の上方に配置された真空チャンバ７０と、真空チャンバ７０内に下チャック部６９と対向配置された上チャック部７１と、上チャック部７１をＺ方向に移動自在に支持し、且つ下チャック部６９に向けて加圧する下降機構７２と、から概略構成されている。
【００２５】
真空チャンバ７０には、覗き窓７０ａと排気部７６とが設けられている。覗き窓７０ａの上方には、覗き窓７０ａを介して基板上のアライメントマークを拡大、観測する貼り合わせ用顕微鏡７４が配置されている。貼り合わせ用顕微鏡７４には、拡大されたアライメントマークの画像を取り込むＣＣＤカメラ８１が備えられている。排気部７６には、収容室７０ｂ内の気体を排気（真空引き）するための真空ポンプ等の吸引装置７８が接続されている。また、真空チャンバ７０には、シール材の形成材料５２ａを仮硬化または本硬化させる紫外線を照射する水銀ランプ等のＵＶランプからファイバなどを経路として使用したＵＶ照射ユニット８２が備えられている。
【００２６】
また、基板貼り合わせ装置６４には、ＣＣＤカメラ８１により取り込まれた画像を処理する画像処理部８３と、画像処理部８３により処理されたデータに基づいてテーブル６８と下降機構７２とを制御する制御部８４が設けられている。また、下チャック部６９および上チャック部７１には、互いに対向する保持面６９ａ、７１ａでそれぞれ基板を保持するための保持機構（図示略）が備えられている。
【００２７】
続いて、上記の製造装置を用いてＴＦＴをスイッチング素子としたアクティブマトリクス方式の液晶装置１００を製造する手順について、図６〜１１を用いて説明する。
【００２８】
先ず、ガラス基板上にＴＦＴや配線を形成し、さらに画素電極９及び配向膜４０等を形成してＴＦＴアレイ基板１０を作製する（図１２中のステップＳ１）。一方、ガラス基板上に、対向電極２１、配向膜６０等を形成して対向基板２０を作製する（図１２中のステップＳ２）。
【００２９】
図６（ａ）に示すように、対向基板２０は、基板給除部６２（図４参照）により運搬されて基板貼り合わせ装置６４の上チャック部７１に給材され、保持機構により保持される。一方、図４に示すように、ＴＦＴアレイ基板１０は、基板給除部６２により運搬され、液晶・シール材塗布装置６３のテーブル６５上に給材される。そして、テーブル６５を移動させつつ、ＴＦＴアレイ基板１０上にディスペンサノズル６７からシール材の形成材料５２ａが閉じた枠状に塗布される（図１２中のステップＳ３）。
【００３０】
次に、テーブル６５を移動させつつ液滴吐出ヘッド６６から液晶５０を吐出、滴下して、図６（ｂ）に示すように、ＴＦＴアレイ基板１０上のシール材の形成材料５２ａで囲まれた位置に液晶５０を配置する（図１２中のステップＳ４）。ＴＦＴアレイ基板１０にはセルギャップＬｂを一定に保持するためのギャップ制御材５２ｂが配置されている。
【００３１】
液晶５０が滴下されたＴＦＴアレイ基板１０は基板給除部６２により運搬され、図６（ｃ）に示すように、下チャック部６９に給材され、保持機構により保持される。なお、以下の説明では便宜上、液晶５０及びシール材の形成材料５２ａの図示を省略する。
【００３２】
次に、図７（ａ）に示すように、真空チャンバ７０を下降させて下チャック部６９に当接させ、収容室７０ｂを密封状態に閉塞する。収容室７０ｂが密封状態となったら、排気部７６から負圧吸引して収容室７０ｂ内を略真空状態とする。
【００３３】
次に、図７（ｂ）に示すように、対向基板２０とＴＦＴアレイ基板１０とに形成されたアライメントマーク（図示略）を貼り合わせ用顕微鏡７４を用いて拡大してＣＣＤカメラ８１に取り込む。ＣＣＤカメラ８１に取り込まれたアライメントマークの画像データは、画像処理部８３に入力され、対向基板２０とＴＦＴアレイ基板１０との相対位置が検出される。制御部８４は、画像処理部８３により検出された相対位置に基づき、テーブル６８を駆動して対向基板２０とＴＦＴアレイ基板１０との相対位置のズレが許容範囲以内になるように粗位置決めする。また、上チャック部７１には、貼り合わせ用顕微鏡７４および覗き窓７０ａの直下の位置に貫通孔７１ｂが形成されており、この貫通孔７１ｂを介して各基板１０,２０のアライメントマークを検出することができる。
【００３４】
次に、図７（ｃ）に示すように、下降機構７２により上チャック部７１を下降（相対移動）させて、対向する基板１０,２０を貼り合わせる（図１２中のステップＳ５）。さらに上チャック部７１を下チャック部６９に向けて下降させ、基板１０,２０に加圧してシール材の形成材料５２ａを押しつぶす。基板１０,２０の貼り合わせが完了すると、ＵＶ照射ユニット８２により紫外線を照射してシール材の形成材料５２ａを仮硬化させる（図１２中のステップＳ６）。
【００３５】
次に、収容室７０ｂ内に大気が導入され、略真空状態から大気圧に戻される。真空チャンバ７０の収容室７０ｂが大気圧になると、圧力差により両基板１０,２０は押圧されてシール材の形成材料５２ａはさらに押しつぶされる（図１２中のステップＳ７）。
【００３６】
次に、図８に示すように、上チャック部７１と下チャック部６９との保持を解除し、真空チャンバ７０を上昇させる。そして、下チャック部６９に非保持状態で載置されている基板１０,２０を基板給除部６２により除材する。その後、精密アライメント、ＵＶランプによるシール材の形成材料５２ａの本硬化が行われ、シール材５２が形成される（図１２中のステップＳ８）。
【００３７】
次に、図９に示すように、ＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０（図示略）を所定の位置（切断位置ＤＬ（二点鎖線部））で切断する（図１２中のステップＳ９）。例えば、一対の基板１０,２０は、シール材深さＬａが５００μｍ程度になる切断位置ＤＬで切断されることが望ましい。これにより、シール材５２の外側の側面が一対の基板１０,２０の側面から所定の寸法を有して内側になる。
【００３８】
次に、図１０に示すように、浸漬装置２００を用いて一対の基板間の隙間に撥水材の材料液９１を塗布する（図１２中のステップＳ１０）。浸漬装置２００は、撥水材の材料液９１の貯溜槽２１０と、一対の基板１０,２０を搬送する搬送部２２０（上下矢印）とを有している。そして、搬送部２２０によって一対の基板１０,２０を、貯溜槽２１０内の撥水材の材料液９１に浸漬した後に引き上げることで、一対の基板間の隙間に撥水材の材料液９１を塗布することができる。なお、必要に応じて、撥水材の材料液９１の塗布が不要な部分に予めマスキングを施したり、一対の基板１０,２０の全面に撥水材の材料液９１を塗布した後に不要な部分を除去したりするとよい。
【００３９】
ここで、撥水材の材料液９１の粘度は、１０〜１００ｃｐｓの範囲内に設定されている。これにより、毛細管現象を利用して、撥水材の材料液９１が一対の基板間の隙間に滞りなく隅々まで入り込む。一方、撥水材の材料液９１の粘度が１０ｃｐｓ未満となると、流動性が高すぎて滴り落ちてしまい一度に十分な量の撥水材の材料液９１を塗布することが困難となる。また、撥水材の材料液９１の粘度が１００ｃｐｓを超えると、流動性が低すぎて滞ることなく所定の部位に撥水材の材料液９１を塗布することが困難となる。
【００４０】
そして、図１１に示すように、熱を加えることにより一対の基板間の隙間に塗布された撥水材の材料液９１の溶媒を揮発し（図１２中のステップＳ１１）、撥水材９０を形成することで液晶装置１００の製造が完了する。
【００４１】
本実施形態の液晶装置１００によれば、一対の基板間において撥水材９０の外側の側面が一対の基板１０,２０の側面よりも内側なので、擦れ等の物理的要因により撥水材９０自体にダメージが生じることがない。すなわち、撥水材９０自体にダメージが生じることがないので、撥水材９０の内側に形成されるシール材５２が損傷を受けたり、基板１０,２０から剥離したりして隙間を生じることがない。したがって、外部から異物が隙間を通って液晶５０へ混入したり、外部に液晶５０が漏れ出したりしてしまう等の問題が発生しない。本発明における撥水材９０の構造は、特許文献１及び２に示すように撥水材１０９０が外部に対して剥き出しの構造とはなっておらず、一対の基板間の撥水材９０が内部に凹んだ構造となっている。これにより、一対の基板間において撥水材９０の外側の側面が外部からの擦れ等の物理的要因によって撥水材９０自体にダメージが生じ封止性能が損なわれることのない、信頼性に優れた高品質な液晶装置１００が提供できる。
【００４２】
また、この構成によれば、外部からの異物が侵入しやすい一対の基板１０,２０とシール材５２との間の界面が十分な厚さの撥水材９０によって封止されるので、外部からの異物の侵入を確実に防止することができる。その結果、より信頼性に優れた高品質な液晶装置１００が提供できる。
【００４３】
また、この製造方法によれば、撥水材の材料液９１を塗布を用いて配置するので、毛細管現象を利用して滞ることなく一対の基板間の所定の部位に撥水材の材料液９１を入り込ませることができる。その結果、一対の基板間において撥水材９０の外側の側面が一対の基板１０，２０の側面よりも内側にすることができる。
【００４４】
また、この製造方法によれば、撥水材の材料液９１の粘度が１０〜１００ｃｐｓの範囲内とされるので、毛細管現象を利用して、一対の基板間において撥水材９０の側面が一対の基板１０,２０の側面よりも確実に内側にすることができる。一方、撥水材の材料液９１の粘度が１０ｃｐｓ未満となると、流動性が高すぎて滴り落ちてしまい一度に十分な量の撥水材の材料液９１を塗布できない惧れがある。また、撥水材の材料液９１の粘度が１００ｃｐｓを超えると、流動性が低すぎて滞ることなく所定の部位に撥水材の材料液９１を塗布できない惧れがある。
【００４５】
また、この製造方法によれば、シール材５２の外側の側面が一対の基板１０,２０の側面から所定の寸法を有して内側になる。これにより、撥水材の材料液９１を塗布する工程で好適に毛細管現象を利用することができ、一対の基板間において撥水材９０の外側の側面を一対の基板１０,２０の側面よりも確実に内側にすることができる。
【００４６】
また、この製造方法によれば、加熱によって撥水材の材料液９１の溶媒を揮発させるので、自然乾燥によって撥水材の材料液９１の溶媒を揮発させるよりも早く、撥水材の材料液９１の溶媒の揮発を促進し、効率良く製造することができる。
【００４７】
なお、本製造方法において液晶５０を配置する工程では、ＯＤＦ方式を用いているが、これに限らず、真空注入方式を用いてもよい。真空注入方式を用いる場合、枠状のシール材５２の一部に予め開口部を設けておき、この開口部から液晶５０を注入し、液晶５０の注入後に開口部を接着剤により塞ぐことになる。
【００４８】
なお、本製造方法において撥水材９０を形成する工程では、浸漬方式を用いているが、これに限らず、滴下方式を用いてもよい。滴下方式を用いる場合、例えばインクジェット法やディスペンス法により、ノズルから撥水材の材料液９１を一対の基板間の隙間に吐出することになる。
【００４９】
（変形例１）
図１３は本発明の液晶装置の他の構成例を示す拡大断面図である。本図は、図３に対応した、液晶装置１００の一対の基板１０,２０、シール材５２及び撥水材９０の関係を示した図となっている。図３と同様の要素には同一の記号を付し、詳細な説明を省略する。
【００５０】
本変形例の撥水材９０の厚さは、全体的に略同じ寸法になっている。撥水材９０は、屈曲部９０ｄが上述した屈曲部９０ｃ（図３参照）よりも厚さが小さく略直角になるように形成されている。このような屈曲部９０ｄの形状は、上述した製造方法における撥水材の材料液９１を塗布する工程で、同プロセスを２回、３回と何回も繰り返すことにより形成されやすい。
【００５１】
（変形例２）
図１４は本発明の液晶装置の他の構成例を示す拡大断面図である。本図は、図３に対応した、液晶装置１００の一対の基板１０,２０、シール材５２及び撥水材９０の関係を示した図となっている。図３と同様の要素には同一の記号を付し、詳細な説明を省略する。
【００５２】
本変形例の配向膜４０,６０は、一対の基板１０,２０よりも小さい輪郭で形成されている。撥水材９０は、一対の基板間において配向膜４０,６０の側面と配向膜４０,６０に隣り合う導電膜９,２１の表面とを跨いで導電膜９,２１と配向膜４０,６０との間の界面を塞ぐ屈曲部９０ｅを有している。
【００５３】
なお、本実施形態では電気光学装置の一例として液晶装置を挙げて説明したが、これに限らない。電気光学物質として液晶を用いた液晶装置の他にも、シール材に囲まれた領域に有機ＥＬ素子（発光素子）を備えた有機ＥＬ装置、電気泳動素子（発光素子）を備えた電気泳動装置等に本発明を適用することが可能である。いずれの電気光学装置についても、本発明によれば擦れ等の物理的要因により撥水材自体にダメージが生じ封止性能が損なわれることのない、信頼性に優れた高品質な電気光学装置及び電気光学装置の製造方法を提供することができる。
【００５４】
（電子機器）
次に、本発明に係る電子機器について、携帯電話を例に挙げて説明する。図１５は、携帯電話６００の全体構成を示す斜視図である。携帯電話６００は、筺体６０１、複数の操作ボタンが設けられた操作部６０２、画像や動画、文字等を表示する表示部６０３を有する。表示部６０３には、本発明に係る液晶装置１００が搭載される。
このように、擦れ等の物理的要因により撥水材自体にダメージが生じ封止性能が損なわれることのない、信頼性に優れた高品質な液晶装置１００を備えているので、高信頼性かつ高性能な電子機器（携帯電話）６００を得ることができる。
【００５５】
なお、電子機器としては、上記携帯電話６００以外にも、マルチメディア対応のパーソナルコンピュータ（ＰＣ）、およびエンジニアリング・ワークステーション（ＥＷＳ）、ページャ、ワードプロセッサ、テレビ、ビューファインダ型またはモニタ直視型のビデオテープレコーダ、電子手帳、電子卓上計算機、カーナビゲーション装置、ＰＯＳ端末、タッチパネルなどを挙げることができる。
【図面の簡単な説明】
【００５６】
【図１】本発明の電気光学装置の一例としての液晶装置の概略構成平面図である。
【図２】図１のＡ−Ａ線に沿った断面図である。
【図３】図２のＢ部拡大図である。
【図４】液晶装置の製造方法に用いる液晶・シール材塗布装置の概略構成図である。
【図５】液晶装置の製造方法に用いる基板貼り合わせ装置の概略構成図である。
【図６】液晶装置の製造プロセスを順を追って示す工程図である。
【図７】図６に続く工程図である。
【図８】図７に続く工程図である。
【図９】図８に続く工程図である。
【図１０】図９に続く工程図である。
【図１１】図１０に続く工程図である。
【図１２】液晶装置の製造プロセスのフローチャートである。
【図１３】液晶装置の第１変形例の部分拡大断面図である。
【図１４】液晶装置の第２変形例の部分拡大断面図である。
【図１５】電子機器の一例である携帯電話の概略構成図である。
【図１６】従来の液晶装置の概略構成断面図である。
【符号の説明】
【００５７】
１０…ＴＦＴアレイ基板（基板）、２０…対向基板（基板）、５０…液晶（発光素子）、５２…シール材、５２ａ…シール材の形成材料、９０…撥水材、９０ａ…本体部、９０ｃ…屈曲部、９１…撥水材の材料液、１００…液晶装置（電気光学装置）、６００…携帯電話（電子機器）、Ｌａ…シール材深さ（所定の寸法）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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