(57)【要約】【課題】  画素構造、光学素子、立体画像／広視野角液晶表示装置とその製造方法を提供する。【解決手段】  画素構造は、主に第１基板、第１基板に平行して設ける第２基板、第１基板と第２基板に挟んで設ける液晶層、反射構造と、光角制御機構を含める。反射機構は第１基板に設け、光角制御機構は第２基板に設ける。光角制御機構は、第１基板に入射する光線を反射機構に回折し、反射機構は光角制御機構に入射する光線を回折して、光線を所定方向に従って画素構造を離れる。【選択図】      図４Ａ
2010113327.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
立体画像／広視野角液晶表示装置の画素構造において、
第１基板を備え、
第２基板は、
前記第１基板に平行して、前記第１基板上に設け、
液晶層は、
前記第１基板と前記第２基板との間に挟んで設け、
反射構造は、
前記第１基板に設け、
光角制御機構は、
前記第２基板に設け、
前記光角制御機構は、
前記第１基板に入射する光線を前記反射構造に回折し、前記反射構造は前記光角制御機構に入射した前記光線を回折して、前記光線を所定方向に従って前記画素構造を離れることを特徴とする画素構造。
【請求項２】
前記光角制御機構は、
表面を有し、前記表面と前記第２基板との間に第１角度θＡを成立し、
前記所定方向は、
前記第１角度θＡとなることを特徴とする請求項１に記載の画素構造。
【請求項３】
前記所定方向と前記第２基板との間が第２角度θＢを成立し、かつ前記第２角度θＢは（９０°−２θＡ）に近い角度を形成することを特徴とする請求項２に記載の画素構造。
【請求項４】
前記光角制御機構は、
反射金属層を前記表面に設け、
前記反射金属層は、
銀、アルミ、またはその合金であることを特徴とする請求項２に記載の画素構造。
【請求項５】
前記反射構造は、
アルミ、銀、アルミ銀合金、またはアルミと酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）合金であることを特徴とする請求項１に記載の画素構造。
【請求項６】
整合式画素構造において、
前記第１基板は、
トランジスターアレイ基板であり、
前記第２基板はカラーフィルター基板であって、
前記整合式画素構造はさらに以下を含める、
複数のトランジスターと複数の記憶キャパシタは、前記トランジスターアレイ基板上に設け、
複数のブラックマトリクスは、前記複数のトランジスターに対応して、前記カラーフィルター基板に設け、および
複数のカラーフィルター層を、前記カラーフィルター基板上に設けることを特徴とする請求項１に記載の整合式画素構造。
【請求項７】
整合式画素構造において、
前記第１基板は、
トランジスターアレイ基板であり、
前記第２基板は、
カラーフィルター基板であって、
前記整合式画素構造はさらに以下を含め、
複数のトランジスターと複数の記憶キャパシタは、
前記トランジスターアレイ基板上に設け、
複数のブラックマトリクスは、
前記複数のトランジスターに対応して、前記トランジスターアレイ基板上に設け、
複数のカラーフィルター層は、
前記トランジスターアレイ基板上に設けることを特徴とする請求項１に記載の整合式画素構造。
【請求項８】
トランジスターアレイ基板、カラーフィルター基板、および液晶層によって形成された画素構造において、
光角制御機構を有し、
反射構造を有し、
前記光角制御機構は、
光線を前記反射構造に回折し、前記反射構造は前記光角制御機構に入射した前記光線を回折して、前記光線を所定方向に従って前記画素構造を離れることを特徴とする画素構造。
【請求項９】
前記光角制御機構は、
表面を有し、前記表面と前記カラーフィルター基板との間は第１角度θＡを成立し、
前記所定方向は、
前記第１角度θＡによることを特徴とする請求項８に記載の画素構造。
【請求項１０】
前記所定方向と前記カラーフィルター基板との間は、第２角度θＢを成立し、前記第２角度θＢは（９０°−２θＡ）に近い角度を形成することを特徴とする請求項９に記載の画素構造。
【請求項１１】
前記光角制御機構は、
反射金属層を前記表面に設け、
前記反射金属層は、
銀、アルミ、またはその合金であることを特徴とする請求項９に記載の画素構造。
【請求項１２】
前記反射構造は、
アルミ、銀、アルミ銀合金、またはアルミと酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）合金であることを特徴とする請求項８に記載の画素構造。
【請求項１３】
前記トランジスターアレイ基板は、
薄膜トランジスターアレイ基板、相補型金属酸化膜半導体（ＣＭＯＳ）、トランジスターアレイ基板のいずれかであることを特徴とする請求項８に記載の整合式画素構造。
【請求項１４】
トランジスターアレイ基板、カラーフィルター基板、および液晶層によって形成された画素構造の光学素子において、
前記光学素子は、
光角制御機構を有し、
反射構造を有し、
前記光角制御機構は、
光線を前記反射構造に回折し、前記反射構造は前記光角制御機構に入射した前記光線を回折して、前記光線を所定方向に従って前記画素構造を離れることを特徴とする光学素子。
【請求項１５】
前記光角制御機構は、
表面を有し、前記表面と前記カラーフィルター基板との間は第１角度θＡを成立し、
前記所定方向は、
前記第１角度θＡによることを特徴とする請求項１４に記載の光学素子。
【請求項１６】
前記所定方向と前記カラーフィルター基板との間は、第２角度θＢを成立し、かつ前記第２角度θＢは（９０°−２θＡ）に近い角度を形成することを特徴とする請求項１５に記載の光学素子。
【請求項１７】
前記反射構造は、
アルミ、銀、アルミ銀合金またはアルミと酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）合金であることを特徴とする請求項１４に記載の光学素子。
【請求項１８】
立体画像／広視野角液晶表示装置の画素構造において、
第１サブピクセル素子は、
第１トランジスターと第１記憶キャパシタを備え、
第１光学素子は、
前記第１サブピクセル素子に設け、
前記第１光学素子は、
第１光線を第１所定方向へ導き、
第２サブピクセル素子は、
第２トランジスターと第２記憶キャパシタを備え、
第２光学素子は、
前記第２サブピクセル素子に設け、前記第２光学素子は第２光線を第１所定方向と異なる第２所定方向へ導くことを特徴とする画素構造。
【請求項１９】
前記第１光学素子は、
第１光角制御機構を有し、
第１反射構造を有し、
前記第１光角制御機構は、
前記第１光線を前記第１反射構造に回折し、かつ前記第１反射構造は前記第１光角制御機構に入射した前記第１光線を回折して、前記第１光線を前記第１所定方向に従って前記画素構造を離れることを特徴とする請求項１８に記載の画素構造。
【請求項２０】
立体画像／広視野角液晶表示装置において、
液晶パネルは、
複数の請求項１に記載の画素構造、複数本のゲート電極線と、複数本のデータ線を含め、
表示コントローラーは、
画像信号の受信および処理を行い、
ゲート電極駆動回路は、
前記表示コントローラーに連結し、前記ゲート電極駆動回路は処理された画像信号によって、複数本の前記ゲート電極線を選択して駆動する場合と、駆動しない場合があり、
データ駆動回路は、
前記表示コントローラーに連結し、前記データ駆動回路は処理された画像信号によって、複数本の前記データ電極線を選択して駆動する場合と、駆動しない場合があることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２１】
以下のプロセスを含めたカラーフィルター基板の製造方法において、
透明基板を提供し、
ブラックマトリクスを前記透明基板上に形成し、
凸状構造を前記透明基板上に形成し、
反射金属層を前記凸状構造の表面に形成し、
カラーフィルター層を前記透明基板上に形成した上、前記ブラックマトリクスと前記凸状構造を被せることを特徴とするカラーフィルター基板の製造方法。
【請求項２２】
請求項２１に記載の方法において、
前記凸状構造を形成するプロセスはさらに、
有機感光膜を前記透明基板上に蒸着させ、
中間調式（ｈａｌｆ−ｔｏｎｅ）フォトマスクでマスクし、前記有機感光膜にて各種感光程度を形成し、
前記有機感光膜を現像し、前記凸状構造を形成することを特徴とする凸状構造を形成することを特徴とするカラーフィルター基板の製造方法。
【請求項２３】
請求項２１に記載の方法はさらに、
コモン電極を前記カラーフィルター層に形成することを特徴とするカラーフィルター基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、画素構造、光学素子、立体画像／広視野角液晶表示装置とその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般的に人の左右両眼の間隔は約６５センチあるため、両眼に入射する外部画像は若干の差が生じる。この２つ画像を脳内に伝送した後、一つの立体画像に融合され、立体感を発生する。このような両眼の視差による立体画像の原理は、３次元（３Ｄ）画像表示装置で多く応用されている。
【０００３】
現在の３次元画像表示装置は、大きく分別すれば、２種類がある。そのうち、一種の表示装置は利用者が立体めがねを着用してから立体画像を表示することができるようになってくる（図１Ａと１Ｂに示す）。もう一種の表示装置は、立体めがね着用が不要な裸眼直視型立体画像表示装置である（図２Ａと２Ｂに示す）。図１Ａは先行技術の投影型立体表示システムであり、一般的には３Ｄ立体フィルムの再生に応用されている。プロジェクター１１０とプロジェクター１２０より、偏光方向が垂直な２種類の画像を同時にスクリーン１３０上に投射させ、看者が立体めがね（シャッター式または偏光レンズ）を着用すれば、それぞれの画像は左右両眼に入射し、脳内にて立体画像に整合される。図１Ｂに示すものは２枚液晶パネルにより組み合わせた立体画像表示装置である、そのうち、第１液晶パネル１４０は同じ偏光方向の左右両眼の画像を提供し、第２液晶パネル１５０は左右両眼に入射する画像の偏光方向制御を提供する。偏光レンズ１６０によって、異なる偏光方向の画像をそれぞれ濾過した上、左目と右目に入射し脳内にて立体像を形成する。
【０００４】
立体めがね不要な裸眼立体表示技術、あるいは（自動立体表示、Ａｕｔｏ  ｓｔｅｒｅｏ  ｓｃｏｐｉｃ  ３Ｄ  Ｄｉｓｐｌａｙ）は、看者の左右両眼のわずかな視角差を利用してみられる差異画像を利用し、適当な観察角度と距離にて、片目はある画像の視野角に入り、もう一つの目はもう一つの視野角に入ることで、脳内にて二つの画像は立体奥行きを持った立体表示画像に融合し生成される。よく見かける裸眼立体表示装置は、視差バリア表示装置とレンチキュラーレンズ表示装置の２種類があり、図２Ａと２Ｂに示すとおりである。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００１−９１８９８公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、視差バリア表示装置は、光が通り抜けない視差バリアが光線の出射を遮ってしまうため、パネル全体の輝度が暗くなる欠点が残る。
【０００７】
図２Ｂのレンチキュラーレンズ表示装置の稼働原理の態様図は、主に液晶パネル２３０とレンチキュラーレンズ層２４０を含める。レンチキュラーレンズ層２４０は液晶パネル２３０の左、右画素（Ｌ、Ｒ）を看者の左目と右目にそれぞれ回折させ、立体画像を生成する。コンピュータのサポートにより、必要なレンチキュラーレンズ層２４０のアレイ密度、傾斜角度、アレイ配置角度などのシミュレーションができる。通常、レンチキュラーレンズ層２４０のアレイ密度が高いほど、画像の解像度もよくなってくる。これに対して、立体感効果は劣る傾向を示す。さらに、液晶パネル２３０とレンチキュラーレンズ層２４０との境界場所は、画像の干渉と色むら（ｃｏｌｏｒ  ｎｏｎｕｎｉｆｏｒｍｉｔｙ）などの課題が残る。
【０００８】
なお、視差バリア表示装置またはレンチキュラーレンズ表示装置とも表示パネルの外部に視差バリアシートまたはレンチキュラーレンズ層を追加設置しなければならないため、全体の重量と厚度とも増大する。
【０００９】
よって、軽量、薄型、かつ信頼性の高い整合型立体表示装置および／または広視野角表示装置の提供が要求されている。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明はさらに、一種の画素構造を提供する。この画素構造は、主に第１基板、第１基板に平行して設ける第２基板、と第１基板と第２基板に挟んで設ける液晶層、反射構造、光角制御機構を含む。反射構造は第１基板に設け、光角制御機構は第２基板に設ける。光角制御機構は、第１基板に入射する光線を反射構造に回折し、反射構造は光角制御機構に入射する光線を回折して、光線を所定方向に従って画素構造を離れる。
【００１１】
本発明はさらに、一種のトランジスターアレイ基板、カラーフィルター基板と、液晶層によって形成された画素構造を提供する。この画素構造は、光角制御機構と反射構造を含む。光角制御機構は、第１基板に入射する光線を反射構造に回折し、反射構造は光角制御機構に入射する光線を回折して、光線を所定方向に従って画素構造を離れる。
【００１２】
本発明は、また一種のトランジスターアレイ基板、カラーフィルター基板と、液晶層によって形成された光学素子を提供する。この光学素子は、光角制御機構と反射構造を含む。光角制御機構は、第１基板に入射する光線を反射構造に回折し、反射構造は光角制御機構に入射する光線を回折して、光線を所定方向に従って画素構造を離れる。
【００１３】
本発明はさらに、一種の画素構造を提供する。この画素構造は、第１サブピクセル素子、第１光学素子、第２サブピクセル素子と、第２光学素子を含む。第１サブピクセル素子は、第１トランジスターと第１記憶キャパシタを備える。第１光学素子は、第１サブピクセル素子に設け、第１光線を第１所定方向へ導く。第２サブピクセル素子は、第２トランジスターと第２記憶キャパシタを備える。第２光学素子は、第２サブピクセル素子に設け、第２光線を第１所定方向と異なった第２所定方向へ導く。
【００１４】
本発明はさらに、一種の液晶表示装置を提供する。この液晶表示装置は、液晶パネル、表示コントローラー、ゲート電極駆動回路と、データ駆動回路を含む。液晶パネルは、複数の前記画素構造、複数本のゲート電極線と、複数本のデータ線を含める。表示コントローラーは、画像信号を受信して処理を行う。ゲート電極駆動回路は、表示コントローラーに連結し、処理対象の画像により、複数本のゲート電極線を選択して駆動する場合と、駆動しない場合がある。データ駆動回路は、表示コントローラーに連結し、処理された画像信号に従い、複数本のデータ電極線を選択して駆動する場合と、駆動しない場合がある。
【００１５】
本発明はさらに、一種のカラーフィルター基板の製造方法を提供する。この方法は、以下のプロセスを含む。まずは透明基板を提供し、ブラックマトリクスを透明基板に形成し、凸状構造を透明基板に形成し、反射金属層を凸状構造の一表面に形成し、カラーフィルター層を透明基板の表面に形成した上、ブラックマトリクスと凸状構造を被せる。
【００１６】
本発明の他の技術内容の一部は、この後に説明するものとし、その一部は説明によって容易に知ることができるか、または本発明の実施例によって知ることができる。なお、本発明の内容は前述の特許請求範囲に掲げた素子と組み合わせにより理解でき、かつ実現できるものとする。ただし、前述の発明内容および以下に述べる詳細説明は例示の目的であり、本発明に何らの制限を加わるものでない。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１Ａ】先行技術の立体表示システム。
【図１Ｂ】先行技術の立体表示システム。
【図２Ａ】先行技術の視差バリア表示装置。
【図２Ｂ】先行技術のレンチキュラーレンズ表示装置。
【図３】本発明の一実施例による液晶表示装置内の整合式画素構造の回路図。
【図４Ａ】本発明の実施例による図３の整合式画素構造の構造断面図。
【図４Ｂ】本発明の実施例による図３の整合式画素構造の構造断面図。
【図５Ａ】本発明の実施例による整合式画素構造の回路レイアウト図。
【図５Ｂ】本発明の実施例による整合式画素構造の回路レイアウト図。
【図６】本発明の一実施例の整合式画素構造による光路態様図。
【図７】光線による視野角態様図。
【図８】図４Ａ、４Ｂ内の光角制御機構の各種異なった構造。
【図９Ａ】本発明のカラーフィルター基板と光角制御機構による製造プロセスの断面態様図。
【図９Ｂ】本発明のカラーフィルター基板と光角制御機構による製造プロセスの断面態様図。
【図９Ｃ】本発明のカラーフィルター基板と光角制御機構による製造プロセスの断面態様図。
【図９Ｄ】本発明のカラーフィルター基板と光角制御機構による製造プロセスの断面態様図。
【図９Ｅ】本発明のカラーフィルター基板と光角制御機構による製造プロセスの断面態様図。
【図９Ｆ】本発明のカラーフィルター基板と光角制御機構による製造プロセスの断面態様図。
【図１０Ａ】本発明の画素構造の稼働原理態様図。
【図１０Ｂ】本発明の画素構造の稼働原理態様図。
【図１１Ａ】本発明の各実施例による各画素素子配置の概略図。
【図１１Ｂ】本発明の各実施例による各画素素子配置の概略図。
【図１１Ｃ】本発明の各実施例による各画素素子配置の概略図。
【図１２】本発明の一実施例による立体液晶表示装置の回路構造。
【図１３】図１２の回路の各ゲート電極線と各データ線によるクロック信号図。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
１．実施例１
本発明による立体画像／広視野角液晶表示装置とその製造方法は、光学バリアあるいはレンズを取り付ける必要がなく、２Ｄ／３Ｄ表示切り替えおよび狭／広視野角表示切り替え機能を有する。本発明をより詳しく、より完全にするため、以下の説明と図３から図１３までの図式と併せさせて説明する。ただし、以下の実施例に示す装置、素子および方法とプロセスは、本発明の説明を目的であり、本発明の範囲に何らの制限を加わるものでない。
【００１９】
図３に本発明の一実施例による液晶表示装置の整合式画素構造３００の回路図を示す。整合式画素構造３００は右サブピクセル素子３１０、左サブピクセル素子３２０と、中間サブピクセル素子３３０を含め、画像をそれぞれ独立に表示できる。右サブピクセル素子３１０は、薄膜トランジスター（ＴＦＴ）  ＭＲ、記憶キャパシタＣｓｔ（Ｒ）と、ＬＣキャパシタＣＬＣ（Ｒ）を含める。そして、ＴＦＴ  ＭＲのドレイン電極はデータ線ＤＲに、ゲート電極はゲート電極線Ｇに、ソース電極は記憶キャパシタＣｓｔ（Ｒ）とＬＣキャパシタＣＬＣ（Ｒ）にそれぞれと接続し、そのうち、記憶キャパシタＣｓｔ（Ｒ）の一端は共通接地線３４０に接続する。ゲート電極線Ｇにより、ＴＦＴ ＭＲを起動すると、データ線ＤＲで持つ電圧はＴＦＴ ＭＲを介して、ＬＣキャパシタＣＬＣ（Ｒ）に伝送するとともに、記憶キャパシタＣｓｔ（Ｒ）によってある期間内の電圧値が維持される。このほか、左サブピクセル素子３２０はＴＦＴ ＭＬ、記憶キャパシタＣｓｔ（Ｌ）と、ＬＣキャパシタＣＬＣ（Ｌ）を含め、中間サブピクセル素子３３０はＴＦＴ  ＭＭ、記憶キャパシタＣｓｔ（Ｍ）、と、ＬＣキャパシタＣＬＣ（Ｍ）を含め、そのなか、左サブピクセル素子３２０と中間サブピクセル素子３３０にある各素子の作用とその構造は右サブピクセル素子３１０にある各素子に類似するため、ここでの説明を省略する。
【００２０】
２．実施例２
本発明の一実施例において、整合式画素構造３００の右サブピクセル素子３１０と左サブピクセル素子３２０に各自の光学素子（後述する）を設け、右サブピクセル素子３１０と左サブピクセル素子３２０を通り抜けた光線を右、左両側へとそれぞれに導くことによって、立体画像または広視野角画像が形成される。一方、中間サブピクセル素子３３０を通り抜けた光線は、通常では回折されない。従って、右サブピクセル素子３１０、左サブピクセル素子３２０と、中間サブピクセル素子３３０を組み合わせた設計では、２Ｄ／３Ｄ切り替え可能な（ｓｗｉｔｃｈａｂｌｅ）構造または狭／広視野角画像切り替え表示可能な構造ができる。
【００２１】
図４Ａと４Ｂに、図３の整合式画素構造３００が各実施例により、構造断面図を示す。図４Ａに示す通り、整合式画素構造４００はＴＦＴアレイ基板４４０、カラーフィルター基板４６０と、両基板の間に挟んで設ける液晶層４５０によって形成される、この整合式画素構造４００は右サブピクセル素子４１０、左サブピクセル素子４２０と、中間サブピクセル素子４３０を含める。ＴＦＴアレイ基板４４０において、まず透明基板４４２上にゲート電極線４１４、４２４、と４３４、並びに共通接地線４１６、４２６と、４３６を形成した後に、ゲート電極絶縁層４４４を形成して透明基板４４２、各ゲート電極線４１４、４２４、と４３４、並びに各共通接地線４１６、４２６、と４３６を被せる。それで、ゲート電極線４１４、４２４と、４３４の両側にドレイン電極４１７、４２７と、４３７、並びにソース電極４１８、４２８と、４３８を形成させ、図３に示すＴＦＴ  ＭＲ、ＭＬ、ＭＭを仕上げる。最後に、ドレイン電極４１７、４２７と、４３７は、それぞれ図３のデータ線ＤＲ、ＤＬと、ＤＭの一部分の構造であり、ソース電極４１８、４２８と、４３８は、それぞれ導通電極４１９、４２９と、４３９に接続し、そのなか、導通電極４１９、４２９と、４３９はそれぞれ共通接地線４１６、４２６と、４３６、並びにこれらに挟まれた一部のゲート電極絶縁層４４４は図３の記憶キャパシタＣｓｔ（Ｒ）、Ｃｓｔ（Ｌ）、Ｃｓｔ（Ｍ）を構成する。各電極の部材はモリブデン（Ｍｏ）などの低抵抗金属部材を使用することが可能である。さらに、中間サブピクセル素子４３０において、記憶キャパシタＣｓｔ（Ｍ）と電気導通の透明導通層（ＩＴＯなど）４３２を形成する。右サブピクセル素子４１０と左サブピクセル素子４２０に備える導通電極４１９と４２９上にて、アルミ、銀、アルミ銀合金、アルミと酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）合金、あるいはほかの反射係数が高い金属または複合式材料の反射構造４１２、４２２をそれぞれ形成する。
【００２２】
カラーフィルター基板４６０は透明基板４６２、ブラックマトリクス４６８、ＲＧＢカラーフィルター層４６４、コモン電極４６６と、光角制御機構４７０を含める。この実施例において、光角制御機構４７０の取り付け場所は、右サブピクセル素子４１０と左サブピクセル素子４２０との境界場所に対応し、右サブピクセル素子４１０と左サブピクセル素子４２０に共用させる。右サブピクセル素子４１０と左サブピクセル素子４２０において、ＴＦＴアレイ基板４４０下部の光源（背光モジュールなど、参考図示を省略する）が形成する光線がＴＦＴアレイ基板４４０、液晶層４５０を通り抜けて、光角制御機構４７０に入射する。それに伴い、光角制御機構４７０より光線を反射構造４１２、４２２に導いた後、前記反射構造４１２と４２２によって左右両側に回折し、看者の右目、左目（あるいは右側と左側の看者）はそれぞれ独立した画像を観察でき、立体画像（または広視野角画像）を形成する。一般的には、中間サブピクセル素子４３０を通り抜けた光線は回折されず、直接看者の右目と左目に伝送される。このほか、整合式画素構造４００にはさらに偏光板（ｐｏｌａｒｉｚｅｒ）４４１と４６１がこの構造両側に設けられる。通常、偏光板４４１と４６１との偏光角は９０度を設定する。
【００２３】
この実施例において、右サブピクセル素子４１０と左サブピクセル素子４２０とは一つの光角制御機構４７０を共通使用しているが、他の実施例において、右サブピクセル素子４１０と左サブピクセル素子４２０はそれぞれの光角制御機構が設けられることが可能である。反射構造４１２、または４２２を設計する際には、光角制御機構４７０と組み合わせて、光線を所定方向に導ければよい、本発明は反射構造４１２、または４２２の形状は限定しない。一例として、図４Ａに示す実施例において、反射構造４１２の表面は透明基板４４２に平行しているが、他の実施例において、反射構造４１２の表面は透明基板４４２との間に所定のはさみ角をもたせてもよい。このほか、導通電極４１９と４２９は高反射係数部材を使用することによって、導通電極４１９と４２９は光線の回折のために設計できるため、反射構造４１２と４２２を予め設ける必要がない。注意すべきことは、製品の必要解像度（Ｒｅｓｏｌｕｔｉｏｎ）と横縦比（Ａｓｐｅｃｔ  Ｒａｔｉｏ）に従い、右サブピクセル素子４１０、左サブピクセル素子４２０と、中間サブピクセル素子４３０の配置を改変できる。たとえば、右サブピクセル素子４１０と左サブピクセル素子４２０に中間サブピクセル素子４３０との組み合わせ、または二つの右サブピクセル素子４１０と二つの左サブピクセル素子４２０に一つの中間サブピクセル素子４３０との組み合わせができる。このほか、もし３Ｄ表示のみ、２Ｄ表示画面が不要な場合は、右サブピクセル素子４１０と左サブピクセル素子４２０だけを設け、中間サブピクセル素子４３０を省略してもよい。
【００２４】
３．実施例３
本発明もう一つの実施例において、図４Ｂに示すようにブラックマトリクス４６８、ＲＧＢカラーフィルター層４６４をＴＦＴアレイ基板４４０上に設けてもよい。図４Ａの構造に対して、カラーフィルター基板４６０の生産プロセスが比較的に単純で、通常、図４Ｂに示す構造は、カラーフィルター部に発生する光ロスが低い。
【００２５】
図５Ａと５Ｂに、本発明のさまざまな実施例による整合式画素構造５００の回路レイアウトを示す。主にＴＦＴアレイ基板５１０とカラーフィルター基板５２０を含める。図５Ａに示す整合式画素構造５００は右サブピクセル素子５０２、左サブピクセル素子５０４と、中間サブピクセル素子５０６を含める。そのうち、ＴＦＴアレイ基板５１０の右サブピクセル素子５０２はＴＦＴ  ＭＲと記憶キャパシタＣST（Ｒ）を含め、左サブピクセル素子５０４はＴＦＴ  ＭＬと記憶キャパシタＣST（Ｌ）を含める。一方、中間サブピクセル素子５０６はＴＦＴ  ＭＭと記憶キャパシタＣST（Ｍ）を含める。右サブピクセル素子５０２と左サブピクセル素子５０４それぞれ反射構造（または反射電極）５１２と５１４を含め、中間サブピクセル素子５０６では透明電極構造（参考図示を省略する）を使用する。カラーフィルター基板５２０はカラーフィルター層区域５５０、ブラックマトリクス区域５６０と、光角制御機構５７０を含める。整合式画素構造５００の等効果回路図は、図３に示す回路図を参照する。図５Ａに示す実施例において、右サブピクセル素子５０２と左サブピクセル素子５０４は光角制御機構５７０を共通使用する。一般的に、光角制御機構５７０はＴＦＴアレイ基板５１０のうち、反射構造５１２、５１４に覆われていない箇所の対策として設けるものであり、ＴＦＴアレイ基板５１０の光線を光角制御機構５７０に到達させ、反射構造５１２と５１４に回折させる。このほか、カラーフィルター基板５２０のブラックマトリクス５６０は、ＴＦＴ  ＭＲ、ＴＦＴ  ＭＬとＴＦＴ  ＭＭの位置にそれぞれ対応させ、液晶表示の品質を確保するため、光を通過させない部分を遮って取り付けられる。
【００２６】
４．実施例４
もう一つの実施例は図５Ｂに示す通り、右サブピクセル素子５０２と左サブピクセル素子５０４はそれぞれ独立した光角制御機構５７２と５７４を有し、各自にＴＦＴアレイ基板５１０にまだ反射構造５１２、５１４に覆われていない位置に対応して設ける。この実施例において、光角制御機構５７２と５７４はそれぞれ反射構造５１２と５１４との組み合わせて、光線を同じ方向に導く、ただし、光角制御機構５７２と５７４の角度設計では若干の差異を設ける。図５Ｂに示す整合式画素構造５００は、たとえばパネルの縁部にあるとする、そのゆえ右サブピクセル素子５０２と左サブピクセル素子５０４は、光線を同じ方向（ただし、若干角度の差異を設ける）に導いて、看者の右目と左目に伝達する。
【００２７】
５．実施例５
図６に、本発明の一実施例において、右サブピクセル素子６１０、左サブピクセル素子６２０と中間サブピクセル素子６３０を備えた整合式画素構造６００における光路態様図を示す。右サブピクセル素子６１０において、光線６０２は基板に垂直方向に従って光角制御機構６７０に入射する。基礎光学原理に基づき、入射角θ１は光角制御機構６７０底辺の角度θ２に等しい。引き続き、光線６０２は反射構造６１２に反射し、反射構造６１２に対する入射角度θ３は２倍のθ２に等しい。光線６０２はふたたび反射構造６１２によって回折され、画素構造６００を離れて、看者の右目（または右側の看者）に届く、パネルを離れる際の出射角度θ４は、およそθ３（二つの角度は層間部材の回折により、若干の差異が生じる）となる。よって、光線６０２のパネルから出射する角度θ４は、約光角制御機構６７０底辺角度θ２の２倍となる。換言すれば、光線６０２の進行方向は光角制御機構６７０の底辺角度θ２を改変することによって調節できる。このほか、中間サブピクセル素子６３０において、光線６０４は基板に垂直方向に従って入射し、透明導電層６３２を通り抜けた後に、ふたたび基板に垂直方向に従って画素構造６００を離れてゆく。
【００２８】
表示装置にとって、進行方向が違う光線では、異なる視野角が形成される。図７にしめすものは出射角度θ４でパネル７００を離れた光線７０２、７０３の視野角概略図を示す。その視野角は、図７の斜線区域によって表示する。図７を参照し、出射角度θ４は初期設定の視距ｈおよび両眼の距離ｄ（または左、右の看者において距離）によって決める。通常、θ４は約ｔａｎ−１（ｄ／ｈ）である。
【００２９】
図８には図４Ａと４Ｂの光角制御機構４７０の各種機構、光角制御機構８１０、８２０と、８３０を含めて示す。一実施例において、光角制御機構８１０の底辺８１２は矩形であり、その断面８１４は底角θＡの二等辺三角形である。通常、右と左サブピクセル素子は光角制御機構８１０によって、光線をそれぞれ左右方向に向かって２倍θＡの出射角度にて、パネル（前記図６の説明を参照する）を離れてゆく。もう一つの実施例において、光角制御機構８２０の底辺８２２は台形であり、その断面８２４、８２６とも二等辺三角形である。ただし、図θＢ、θＣに示すように位置によって異なる二等辺三角形の底角を有する。構造８１０に比べれば、光角制御機構８２０は光線を２倍θＢから２倍θＣの出射角度で、パネルを離れてゆく。そういうわけて形成される視野角（図７を参照する）がより大きいほうである。またもう一つ実施例において、光角制御機構８３０の底辺８３２は矩形であり、その断面８３４は底角θＤ、θＥの三角形である。通常、光角制御機構８３０はその外側面８３６のみを使用して光線を回折している。もう一つの外側面８３７はそれと違って、図５Ｂを示すような光角制御機構５７２と５７４のように、左サブピクセル素子または右サブピクセル素子にのみ使用される。
【００３０】
図９Ａから９Ｆまでに、本発明によるカラーフィルター基板と光角制御機構による製造プロセスの断面態様図を示す。まず、図９Ａを参照し、ガラス基板などの透明基板９００を提供する。それから、図９Ｂを参照し、透明基板９００上の所定位置にブラックマトリクス９１０を形成する。部材の一例として、酸化クロム／クロムなどの金属または有機部材を使用する。最後にブラックマトリクス９１０の形成手段は、たとえば蒸着またはスパッターリング手段により、酸化クロム／クロム層を形成した上、先行技術のリソグラフィーとエッチングプロセスにより、必要なパターンを形成する。通常では、最初に透明基板９００上に複数のブラックマトリクス９１０を設け、その配置方法は応用内容によって異なる。引き続き、図９Ｃを参照し、有機性感光膜９２０を沈積した上、中間調式（ｈａｌｆ−ｔｏｎｅ）またはグレートーン（ｇｒａｙ−ｔｏｎｅ）フォトマスク９５０により、有機性感光膜９２０を露光する。フォトマスク９５０上のパターン設計により、フォトマスク９５０上の光線強度分布を制御し、有機性感光膜９２０に違い程度な露光を行う。それから、露光された有機性感光膜９２０は現像とベーキング工程を経て、図９Ｄに示すような所定形状の凸状構造９２５を形成する。さらに、凸状構造９２５の表面に反射金属層９２６を形成し、その部材は高反射係数を持つ各種の金属（銀、アルミ、銀アルミ合金など）を使用する。そのうち、凸状構造９２５と反射金属層９２６は、前記光角制御機構（図４Ａの４７０または図６の６７０に当たる）となる。引き続き、図９Ｅを参照し、透明基板９００上に複数の所定マトリクス配置された赤、緑、青３色のカラーフィルター部を形成し、たとえば、緑色カラーフィルター部９３０と青色カラーフィルター部９３５を形成する。違う色のカラーフィルター部の部材は、たとえば型番が違うフォトレジストを使用する。その形成手段は、たとえば印刷方式、電着方式、染色方式や顔料分散方式などの先行技術の標準プロセスが可能である。次いで、図９Ｆに示す通り透明導電部材（酸化インジウムスズなど）により、コモン電極９４０を形成する。その形成手段は、たとえば蒸着、スパッターリングもしくはその他の先行技術の半導体沈積手段を使用可能である。
【００３１】
図１０Ａと１０Ｂに、本発明による画素構造の稼働原理態様図を示す。図１０Ａにおいて、画素構造１０００は右サブピクセル素子１０１０、左サブピクセル素子１０２０と、中間サブピクセル素子１０３０を含める。画素構造１０００各層の構造は前記図４Ａの整合式画素構造４００の説明を参照する。前記通り、偏光板１０４１と１０６１は画素構造１０００の両側に設け、かつその偏光角度は９０度の差を設ける。偏光板１０４１と１０６１に設けられた偏光角度の違いと合わせて、液晶層１０５０における液晶分子の配列は上から下へ自動的に９０度を回転する。中間サブピクセル素子１０３０において、光線１００６が液晶層１０５０を通過するときに、液晶層１０５０の液晶分子がすでに合計９０度に回転させたため、光線１００６は偏光板１０４１から１０６１までに伝送された際、光線１００６の偏光方向も９０度を回転させていた。されに加えて、偏光板１０４１と１０６１との間に９０度の偏光角度差があるため、光線１００６は無理なく画素構造１０００を通過できる。一方、右サブピクセル素子１０１０と左サブピクセル素子１０２０において、光線１００２と１００４は２回の回折を経て、それぞれ液晶層１０５０を３回通り抜けているため、光線１００２と１００４が偏光板１０４１から１０６１までに伝送されたとき、光線１００２と１００４の偏光方向も２７０度に回転される。それに加えて、偏光板１０４１と１０６１との間に９０度の偏光角度差が設けられているため、光線１００２と１００４は無理なく画素構造１０００を通過できる。注意すべきところは、光線１００２と１００４は２回の回折を経てから画素構造１０００を離れるため、その強度は光線１００６に比べて若干低めになる。
【００３２】
図１０Ｂを参照する。画素構造１０００の上下に電圧を印加すると、液晶層１０５０の液晶分子は電場の影響を受けて、その配列方向は電場に平行方向に傾けられる。つまり、電場の働きにより、液晶分子のねじれは発生しない。よって、光線が液晶分子を通過するときに偏光方向の変化が起きない。それに伴い、光線１００２、１００４と、１００６は偏光板１０４１によって、単一方向の偏光波になった後は、図１０Ｂに示す通り、ふたたび偏光板１０６１を通過できない。
【００３３】
図１１Ａから１１Ｃまでに、本発明の各実施例による各画素素子配置の概略図を示す。図１１Ａを参照する。画素素子配置状態１１１０において、ＲＬ、ＲＲと、ＲＭはそれぞれ赤色（Ｒ）の左サブピクセル素子、右サブピクセル素子と、中間サブピクセル素子を表し、ＧＬ、ＧＲと、ＧＭは緑色（Ｇ）の左サブピクセル素子、右サブピクセル素子と、中間サブピクセル素子を表す。一方、ＢＬ、ＢＲと、ＢＭはそれぞれ青色（Ｂ）の左サブピクセル素子、右サブピクセル素子と、中間サブピクセル素子を表す。画素素子配置状態１１１０において、各色の左サブピクセル素子と右サブピクセル素子を横並びに配置されているため、光角制御機構を共用でき、光角制御機構の数を軽減できる。このほか、左サブピクセル素子と右サブピクセル素子の面積は中間サブピクセル素子の面積より大きく設計され、左と右サブピクセル素子の光強度を向上させ、光線の液晶層の３回通過による形成させたロスを補う。なお、２Ｄまたは狭視野角モードに切り替えたとき、左、右と、中間サブピクセル素子は同じ画像が表示される。その画素素子配置状態は１１１５に示す通りである。図１１Ｂはもう一つの画素素子配置状態１１２０が示されている。そのうち、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）と、青色（Ｂ）３つのサブピクセル素子は交差に配置されている。画素素子配置状態１１２５は２Ｄまたは狭視野角モードに切り替えられたときの配置状態である。画素素子配置状態１１１０と１１２０を比べれば、画素素子配置状態１１１０のカラーフィルター層の生産プロセスがより単純で、コストもより低くなる。一方、画素素子配置状態１１２０は２Ｄモードに切り替えた後の画素配置がより自然的である。図１１Cはほかの画素素子配置状態１１３０が示されている。そのうち、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）と、青色（Ｂ）３つのサブピクセル素子は横向き、かつ交差に配置されている。画素素子配置状態１１３５は２Ｄまたは狭視野角表示モードに切り替えられたときの配置状態である。図１１Ａから１１Ｃまでを参照する。画素素子配置状態１１１０と１１２０のうち、一つのＲＧＢ画素の幅がより広く、画素素子配置状態１１３０の一つのＲＧＢ画素の長さがより長い。よって、パネル応用に必要な縦横比（Ａｓｐｅｃｔ  Ｒａｔｉｏ）に従い、画素の配置方式を選択することができる。このほか、製品おのおのの規格に従い、左、右と、中間サブピクセル素子の数と配置を相応に調節できる。たとえば、２つの右サブピクセル素子と２つの左サブピクセル素子と、一つの中間サブピクセル素子との組み合わせで、左、右サブピクセル素子の輝度が中間サブピクセル素子より低い課題を解決できる。このほか、２Ｄ表示画面が不要であれば、中間サブピクセル素子を省いてもよい。
【００３４】
６．実施例６
図１２に、本発明の一実施例による立体液晶表示装置の回路構造１２００を示す。主に、液晶パネル１２１０、ゲート電極駆動回路１２２０、データ駆動回路１２３０と、表示コントローラー１２４０を含める。液晶パネル１２１０は複数本のゲート電極線Ｇ（１）−Ｇ（ｎ）および複数本のデータ線ＤＬ（１）−ＤＬ（ｍ）、ＤＲ（１）−ＤＲ（ｍ）とＤＭ（１）−ＤＭ（ｍ）を含める。この実施例において、一つの画素構造１２１５はそれぞれ一つの右サブピクセル素子、一つの左サブピクセル素子と、一つの中間サブピクセル素子からなり、かつ１本のゲート電極線と３本のデータ線によって駆動される。ゲート電極駆動回路１２２０は、液晶パネル１２１０の各画素素子を制御するため、制御信号をゲート電極線Ｇ（１）−Ｇ（ｎ）に入力する。データ駆動回路１２３０は各データ線ＤＬ（１）−ＤＬ（ｍ）、ＤＲ（１）−ＤＲ（ｍ）と、ＤＭ（１）−ＤＭ（ｍ）を媒介して、表示データを各画素素子に伝送する。ゲート電極駆動回路１２２０とデータ駆動回路１２３０の駆動によって、液晶パネル１２１０のすべての画素構造の表示データが更新される。表示コントローラー１２４０は、画像ソース１２５０の原始画像（ｒａｗ  ｉｍａｇｅ）信号を受信および処理を行う。そのうち、原始画像信号は、左目画像信号、右目画像信号および正常画像信号の３種類を含め、３Ｄ／２Ｄ画像表示に提供する。他の実施例において、原始画像信号は左側画像信号、右側画像信号と、中間画像信号の３種類を含め、狭／広視野角画像表示に提供する。表示コントローラー１２４０は時間管理（ｔｉｍｅ  ｃｏｎｔｒｏｌ）、フレームバッファー（ｆｒａｍｅ  ｂｕｆｆｅｒ）、画像ミキサー（ｖｉｅｗ  ｍｉｘｅｒ）と、画像作成エンジン（ｉｍａｇｅ  ｅｎｇｉｎｅ）などの機能を含む。バッファー、アンプ、アナログデジタルコンバーター、ラインインターレース除去装置（ｌｉｎｅ  ｄｅｉｎｔｅｒｌａｃｅｒ）、スケーラー（ｓｃａｌｅｒ）およびフィルターなど先行技術の回路素子からなる。表示コントローラー１２４０はゲート電極駆動回路１２２０とデータ駆動回路１２３０とそれぞれ連結し、処理後の画像信号に従い、ゲート電極駆動回路１２２０とデータ駆動回路１２３０の出力を制御した上、各画素素子の表示画像を制御する。
【００３５】
図１３は、図１２の回路各ゲート電極線と各データ線によるクロック信号図を示す。図１２と図１３を合わせて参照する。各タイムフレーム（ｔｉｍｅ  ｆｒａｍｅ）プロセスにおいて、ゲート電極駆動回路１２２０は順番にｎ個のパルスをゲート電極線Ｇ（１）−Ｇ（ｎ）に入力することにより、各画素構造内のトランジスターを順番に起動する。この実施例において、ＮとＮ＋１タイムフレームは３Ｄ表示モードであり、Ｎ＋２とＮ＋３タイムフレームは２Ｄ表示モードである。ＮとＮ＋１タイムフレームにおいて、データ駆動回路１２３０は表示コントローラー１２４０によって処理された左目画像信号、右目画像信号と、正常画像信号をデータ線ＤＬ（１）−ＤＬ（ｍ）、ＤＲ（１）−ＤＲ（ｍ）と、ＤＭ（１）−ＤＭ（ｍ）に伝送し、各画素素子内の表示データを更新する。注意すべきところは、３Ｄ表示モードにおいて、データ駆動回路１２３０はデータ線ＤＬ（１）−ＤＬ（ｍ）とＤＲ（１）−ＤＲ（ｍ）のみが駆動される。ＤＭ（１）−ＤＭ（ｍ）では駆動されていない。またはＤＬ（１）−ＤＬ（ｍ）、ＤＲ（１）−ＤＲ（ｍ）と、ＤＭ（１）−ＤＭ（ｍ）を併せて駆動した上、ＤＭ（１）−ＤＭ（ｍ）によって伝送された画像信号を立体画像の背景信号とする。そこで、Ｎ＋２とＮ＋３のタイムフレームにおいて、データ駆動回路１２３０はデータ線ＤＭ（１）−ＤＭ（ｍ）のみを駆動して、処理された正常画像信号をデータ線ＤＭ（１）−ＤＭ（ｍ）に伝送する。もう一つの実施例の２Ｄ表示モードにおいて、データ駆動回路１２３０はすべてのデータ線ＤＬ（１）−ＤＬ（ｍ）、ＤＲ（１）−ＤＲ（ｍ）と、ＤＭ（１）−ＤＭ（ｍ）を駆動するという選択肢があり、そこで処理された正常画像信号を同時にデータ線ＤＬ（１）−ＤＬ（ｍ）、ＤＲ（１）−ＤＲ（ｍ）と、ＤＭ（１）−ＤＭ（ｍ）に伝送して、左、右と、中間サブピクセル素子に同じ画像を表示させる。
【００３６】
前記に説明した回路構造とクロックチャートは本発明の例示であって、本発明に何らの制限を加わるものでない。一例として、図１３のＮとＮ＋１タイムフレームを広視野角表示モードにし、Ｎ＋２とＮ＋３タイムフレームを狭視野角表示モードにすることができる。ＮとＮ＋１タイムフレームプロセスにおいて、データ駆動回路１２３０は左側画像信号、右側画像信号と、中間画像信号をそれぞれデータ線ＤＬ（１）−ＤＬ（ｍ）、ＤＲ（１）−ＤＲ（ｍ）、とＤＭ（１）−ＤＭ（ｍ）に伝送することにより、左側、右側と、中間部の看者はそれぞれ異なる画面を観察することができる。Ｎ＋２とＮ＋３タイムフレームプロセスにおいて、データ駆動回路１２３０は中間画像信号をＤＭ（１）−ＤＭ（ｍ）に伝送するか、または中間画像信号を同時にデータ線ＤＬ（１）−ＤＬ（ｍ）、ＤＲ（１）−ＤＲ（ｍ）と、ＤＭ（１）−ＤＭ（ｍ）伝送して左側、右側と、中間部の看者とも同じ画面を観察することができるようになる。このほか、さまざまな光角制御機構と反射構造の違う設計を使用するにより、本発明は４つ以上の異なる視野角の表示装置も応用できる。本発明による反射構造と光角制御機構の組み合わせ使用により、光線を所定方向に導き、両者の形状は応用内容によって変更できる。このほか、薄膜トランジスターアレイ基板は、他種のトランジスターまたはスイッチ素子に取り替わることができる。たとえば、相補型金属酸化膜半導体（ＣＭＯＳ）トランジスターアレイ基板に取り替わることができる。
【００３７】
本発明は、左と右サブピクセル素子内にあるそれぞれの光学素子（すなわち、前記光角制御機構と反射構造）を設けることにより、他の光学構造の追加設置が不要で、立体表示および／または広視野角表示機能を実現できる。よって、本発明による表示装置の全体モジュールの厚度と重量とも先行技術の製品より薄く、かつ軽量であるほか、空間の隙間または色むらの問題が発生しない。さらに、軽量、薄型と信頼性高いなどの長所を同時に有する。
【００３８】
本発明の一実施例によれば、液晶表示装置とその製造方法を提供し、この表示装置は立体画像または広視野角画像を表示できるほか、軽量、薄型、かつ信頼性が高いという長所を有する。
【００３９】
以上に申し述べたものは、本発明の好ましい実施例に過ぎない。本発明の特許出願内容に何らの制限を加わるものでない。よって、本発明の趣旨を逸脱しない範囲における等効果な改変または修飾などは、下記の特許請求範囲に含まれるものとする。
【符号の説明】
【００４０】
１１０、１２０  プロジェクター、１３０  スクリーン、１４０、１５０  液晶パネル、
１６０  偏光レンズ、２１０  液晶パネル、２２０  視差バリアシート、
２３０  液晶パネル、２４０  レンチキュラーレンズ層、３００  整合式画素構造、
３１０  右サブピクセル素子、３２０  左サブピクセル素子、
３３０  中間サブピクセル素子、３４０  共通接地線、４００  整合式画素構造、
４１０  右サブピクセル素子、４２０  左サブピクセル素子、
４３０  中間サブピクセル素子、４１２、４２２  反射構造、
４１４、４２４、４３４  ゲート電極線、４１６、４２６、４３６  共通接地線、
４１７、４２７、４３７  ドレイン電極、４１８、４２８、４３８  ソース電極、
４１９、４２９、４３９  導通電極、４３２  透明導通層、４４０  ＴＦＴアレイ基板、
４４１、４６１  偏光板、４４２  透明基板、４４４  ゲート電極絶縁層、
４５０  液晶層、４６０  カラーフィルター基板、４６２  透明基板、
４６４  ＲＧＢカラーフィルター層、４６６  コモン電極、
４６８  ブラックマトリクス、４７０  光角制御機構、５００  整合式画素構造、
５０２  右サブピクセル素子、５０４  左サブピクセル素子、
５０６  中間サブピクセル素子、５１０  ＴＦＴアレイ基板、
５１２、５１４  反射構造、５２０  カラーフィルター基板、
５５０  カラーフィルター層区域、５６０  ブラックマトリクス区域、
５７０、５７２、５７４  光角制御機構、６００  画素構造、６０２、６０４  光線、
６１０  右サブピクセル素子、６１２  反射構造、６２０  左サブピクセル素子、
６３０  中間サブピクセル素子、６７０  光角制御機構、７００  パネル、
７０２、７０３  光線、８１０、８２０、８３０  光角制御機構、
８１２、８２２、８３２  底辺、８１４、８２４、８２６、８３４  断面、
８３６、８３７  外側面、９００透明基板、９１０  ブラックマトリクス、
９２０  有機性感光膜、９２５  凸状構造、９２６  反射金属層、
９３０、９３５  カラーフィルター部、９４０  コモン電極、９５０  フォトマスク、
１０００  画素構造、１００２、１００４、１００６  光線、
１０１０  右サブピクセル素子、１０２０  左サブピクセル素子、
１０３０  中間サブピクセル素子、１０４１、１０６１  偏光板、１０５０  液晶層、
１１１０、１１１５、１１２０、１１２５、１１３０、１１３５  画素素子配置状態、
１２００  回路構造、１２１０  液晶パネル、１２１５  画素構造、
１２２０  ゲート電極駆動回路、１２３０  データ駆動回路、
１２４０  表示コントローラー、１２５０  画像ソース
【図１Ａ】
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【図１Ｂ】
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【図３】
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【図４Ａ】
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【図４Ｂ】
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【図５Ａ】
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【図５Ｂ】
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【図６】
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【図８】
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【図９Ａ】
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【図９Ｂ】
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【図９Ｃ】
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【図９Ｄ】
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【図９Ｅ】
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【図９Ｆ】
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【図１０Ａ】
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【図１０Ｂ】
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【図１２】
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【図２Ａ】
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【図２Ｂ】
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【図７】
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【図１１Ａ】
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【図１１Ｂ】
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【図１１Ｃ】
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【図１３】
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