(57)【要約】      （修正有）【課題】光学ガラス部材の光学性能への影響が実用上十分なレベルまで低減された光学ガラス部材上へのマーキング形成方法を提供すること。【解決手段】光学ガラス部材１上に、前記光学ガラス部材の内部透過率が９９．９％／ｃｍ以上となる波長において０．１％／ｃｍ以上の吸収を有する透光性微粒子を媒体に分散させた分散物の皮膜１５を形成させ、前記皮膜が形成された面のマーキング形成領域に、前記波長のレーザ光９を照射して前記透光性微粒子を前記光学ガラス部材に融着させる、光学ガラス部材のマーキング形成方法。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学ガラス部材上に、
前記光学ガラス部材の内部透過率が９９．９％／ｃｍ以上となる波長において０．１％／ｃｍ以上の吸収を有する透光性微粒子を媒体に分散させた分散物の皮膜を形成させ、
前記皮膜が形成された面のマーキング形成領域に、前記波長のレーザ光を照射して前記透光性微粒子を前記光学ガラス部材に融着させる、光学ガラス部材のマーキング形成方法。
【請求項２】
前記透光性微粒子が、２０００℃以下の融点を有する、請求項１記載のマーキング形成方法。
【請求項３】
前記透光性微粒子が、金属酸化物を含む結晶からなる、請求項１又は２に記載のマーキング形成方法。
【請求項４】
金属酸化物を含む前記結晶が、酸化ビスマス又は酸化モリブデンを含む、請求項３記載のマーキング形成方法。
【請求項５】
前記透光性微粒子が、ケイ素を含む非晶体からなる、請求項１記載のマーキング形成方法。
【請求項６】
前記媒体が、水溶性高分子及び水を含有する、請求項１〜５のいずれか一項に記載のマーキング形成方法。
【請求項７】
前記波長が、ＹＡＧレーザ若しくはＹＶＯ４レーザの基本波長、２倍波長又は３倍波長である、請求項１〜６のいずれか一項に記載のマーキング形成方法。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか一項に記載のマーキング形成方法によってマーキングが形成された、マーキング付光学ガラス部材。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学ガラス部材のマーキング形成方法及びマーキング付光学ガラス部材に関する。
【背景技術】
【０００２】
製品管理や意匠の目的で、ガラス部材上へマーキングを施すことがある。マーキングを形成する方法としては、スキャニングレーザによるダイレクトマーキングなどが広く用いられる。ここで、ダイレクトマーキングとは、マーキング対象の部材の表面にレーザビームを走査して、レーザアブレーションさせることで当該部材にマーキングを施す方法を意味する。
【０００３】
上記以外のマーキング形成方法としては、例えば、金属粉体及び／又は無機顔料を着色源としてペースト中に混練した着色ペーストを塗布被覆したガラス面にレーザ走査することで、レーザ走査部にペーストを硬化させてなる着色ペーストパターンを形成した後、レーザ走査部を除く未硬化の着色ペーストを有機溶剤に溶解させて除去した後で焼成することで、上記着色ペーストパターンを焼成してなる描画パターンをガラス表面上に形成する方法（特許文献１参照）などが開示されている。
【特許文献１】特開２００４−３５１７４６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明の目的は、光学ガラス部材の光学性能への影響が実用上十分なレベルまで低減された光学ガラス部材上へのマーキング形成方法を提供することにある。本発明の目的はまた、当該マーキング形成方法によりマーキングが形成されたマーキング付光学ガラス部材を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、光学ガラス部材上に、当該光学ガラス部材の内部透過率が９９．９％／ｃｍ以上となる波長において０．１％／ｃｍ以上の吸収を有する透光性微粒子（光の波長を変化させ光学ガラス部材の内部透過率を測定して、９９．９％／ｃｍ以上の内部透過率を示す波長を選択し、選択された波長において０．１％／ｃｍ以上の吸収を有する透光性微粒子）を媒体に分散させた分散物の皮膜を形成させ、当該皮膜が形成された面のマーキング形成領域に、上記波長のレーザ光を照射して上記透光性微粒子を上記光学ガラス部材に融着させる、光学ガラス部材のマーキング形成方法を提供する。
【０００６】
透光性微粒子としては、２０００℃以下の融点を有するものがよく、透光性微粒子は、金属酸化物を含む結晶、又はケイ素を含む非晶体からなることが好ましい。金属酸化物を含む結晶としては、酸化ビスマス又は酸化モリブデンを含むものが好適である。
【０００７】
媒体としては、水溶性高分子及び水を含有するものが適用できる。また、皮膜が形成された面に照射されるレーザ光の波長は、ＹＡＧレーザ若しくはＹＶＯ４レーザの基本波長、２倍波長又は３倍波長であることが好ましい。
【０００８】
上述のマーキング形成方法を適用すれば、光学ガラス部材上にマーキングが形成された、マーキング付光学ガラス部材を得ることができる。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、光学ガラス部材の光学性能への影響が実用上十分なレベルまで低減された光学ガラス部材上へのマーキング形成方法並びにマーキング付光学ガラス部材が提供される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下、場合により図面を参照して、本発明の好適な実施形態について説明する。なお、図面の説明において、同一又は同等の要素には同一符号を用い、重複する説明を省略する。
【００１１】
図１は、実施形態に係る光学ガラス部材のマーキング形成方法を説明する断面図である。本実施形態のマーキング形成方法を実施するためにはまず、光学性能を発揮する光学ガラス部材として、レンズ形状の光学ガラス部材１を準備する。次に、準備した光学ガラス部材１上に、透光性微粒子を水溶性高分子及び水からなる媒体に分散させて得られる分散物（塗布材料）を塗布し、揮発成分を除去して、皮膜１５を形成させる。そして、形成された皮膜１５に対して、レーザ装置８から生じるレーザ光９を照射し、皮膜１５が形成された面のマーキング形成領域（マーキングを形成しようとする領域）の皮膜１５を加熱して、皮膜１５に含まれる透光性微粒子を光学ガラス部材１に融着（溶融及び固着）させる。
【００１２】
以上により光学ガラス部材のマーキング形成方法が実施されるが、レーザ光９の照射により、透光性微粒子１つずつが光学ガラス部材１に融着してもよいし、透光性微粒子同士が融着した状態で光学ガラス部材１に融着してもよい。なお、レーザ光９の波長は、光学ガラス部材１の内部透過率が９９．９％／ｃｍ以上となる波長であり、この波長において、透光性微粒子は０．１％／ｃｍ以上の吸収を有している。
【００１３】
融着後、光学ガラス部材１を洗浄（水洗）することが好ましい。洗浄により、皮膜１５のうち融着した部分（すなわち、マーキング形成領域）のみが光学ガラス部材１上に残留する。本実施形態では媒体として水溶性高分子が溶解された水を用いているため、レーザ光９が照射されていない部分の皮膜は、洗浄（水洗）により容易に除去することができる。一方、レーザ光９が照射された部分は発生する熱により水溶性高分子が燃焼し除去されており、完全除去されていない場合でも、洗浄（水洗）時に除去される。
【００１４】
図２は、このようなマーキング形成方法により得られるマーキング付光学ガラス部材の断面図である。図２に示すマーキング付光学ガラス部材１００は、光学ガラス部材１とこの上に形成されたマーキング１０（透光性微粒子の融着物）とを備えている。なお、マーキング１０の形状としては、例えば、バーコード形状や文字形状が挙げられる。
【００１５】
透光性微粒子は、例えば、透光性材料を粉砕して作製することができる。透光性微粒子の平均粒径は、通常０．１〜１０μｍであるが、形成されたマーキングによる表面散乱を抑制して、マーキングを目立たなくする観点からは、０．１〜０．５μｍであることが好ましい。
【００１６】
透光性微粒子としては、光学ガラス部材の内部透過率が９９．９％／ｃｍ以上となる波長に０．１％／ｃｍ以上の吸収を有するものを用いる。このような透光性微粒子としては、例えば、金属酸化物を含む結晶からなるもの、ケイ素を含む非晶体が挙げられる。
【００１７】
皮膜１５の融着に用いられるレーザ光９としては、例えば、ＹＡＧレーザ、ＹＶＯ４レーザ、ＣＯ２レーザが挙げられる。皮膜１５へ照射するレーザ光９の波長は、光学ガラス部材１の内部透過率が９９．９％／ｃｍ以上（好ましくは、９９．９５％以上、更には９９．９９％以上）となる波長とする。光学ガラス部材１の内部透過率が９９．９％／ｃｍ未満である波長のレーザ光を照射した場合、光学ガラス部材１にクラックが発生する不具合が生じ得る。皮膜１５へ照射するレーザ光９の波長としては、例えば、上述のＹＶＯ４レーザの基本波長（１０６０ｎｍ）、第二高調波（５３０ｎｍ）、第三高調波（３５３ｎｍ）が挙げられる。
【００１８】
光学ガラス部材の内部透過率が９９．９％／ｃｍ以上となる波長において、０．１％／ｃｍ以上の吸収を有する透光性微粒子は、上述のレーザ波長において吸収を生じる。したがって、上述の波長のレーザ光を、透光性微粒子を含む皮膜１５へ照射すると、当該透光性微粒子がレーザ光を吸収し発熱する。そして透光性微粒子は発熱することにより溶融し、光学ガラス部材１表面に固着する。一方、上記レーザ光は、光学ガラス部材１にはほとんど吸収されないため、光学ガラス部材へのクラックの発生などを防止しつつ、光学ガラス部材１上に所望の形状のマーキングを形成できる。
【００１９】
マーキングの種類としては、例えば、可視光において肉眼で容易に認識可能なマーキングや、特定手段により可視光において肉眼での認識が容易となるマーキングがある。
【００２０】
可視光において肉眼で容易に認識可能なマーキングを形成する場合には、透光性微粒子として、金属酸化物を含む結晶からなるものを用いることが好ましい。このような透光性微粒子は、通常、光学ガラス部材との屈折率差が０．１以上のものである。したがって、このような透光性微粒子を用いて形成したマーキングは、可視光において肉眼で認識可能となる。
【００２１】
上述の金属酸化物としては、例えば、酸化ビスマス、酸化モリブデン、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化ハフニウム、酸化スズ、酸化インジウム、酸化鉛、酸化亜鉛などが挙げられる。
【００２２】
また、金属酸化物を含む結晶は、２０００℃以下の融点を有することが好ましい。このような融点を有する上記結晶を用いると、皮膜１５の光学ガラス部材１上への固着が容易になり、剥がれ難いマーキングを形成することができる。このような観点からは、金属酸化物を含む結晶の融点は、１０００℃以下であることが更に好ましい。
【００２３】
なお、上述の金属酸化物のうち１０００℃以下の融点を有するものとしては、例えば、酸化ビスマス、酸化モリブデン、酸化鉛などが挙げられる。
【００２４】
また、上述の金属酸化物として酸化ビスマスを用いれば、後工程でマーキングが不要になった場合でも、塩酸や硫酸などの酸により容易にマーキングが除去できる。酸化ビスマスは、酸に可溶であり、例えば、濃度１０ｗｔ％の塩酸に１μｍ／分程度の速度で溶解する。したがって、光学ガラス部材が耐酸性の場合には、形成されたマーキング上への酸の塗布などにより、光学ガラス部材の光学性能低下などを生じさせずに、光学ガラス部材上からマーキングを除去することが可能である。
【００２５】
特定手段により可視光において肉眼での認識が容易となるマーキングを形成する場合には、透光性微粒子として、ケイ素を含む非晶体からなるものを用いることが好ましい。このような透光性微粒子は、通常、光学ガラス部材との屈折率差が０．１以内のものである。したがって、このような透光性微粒子を用いて形成したマーキングは、光学ガラス部材の光軸方向にマーキングを見ても認識が困難であるが、光軸から所定角度をなす方向から観察すれば認識が可能になる。また、集光灯からに光を光軸から所定角度をなす方向から照射し、光軸方向から観察することによっても認識が可能になる。
【００２６】
ケイ素を含む非晶体としては、例えば、ホウ珪酸系ガラス、ホウ酸ランタン系ガラス、フッ化物リン酸系ガラスが挙げられる。形成されたマーキングによる表面散乱を抑制して、マーキングを目立たなくする観点からは、ケイ素を含む非晶体として、気泡や脈理などの光学的欠陥が少ない光学ガラスを用いることが好ましい。なお、ケイ素を含む非晶体は、１０００℃以下の融点を有することが好ましい。
【００２７】
ケイ素を含む非晶体の、光学ガラス部材の内部透過率が９９．９％／ｃｍ以上となる波長に対する吸収が、０．１％／ｃｍ未満である場合には、当該吸収が０．１％／ｃｍ以上となるように着色剤を加えてもよい。着色剤としては、例えば、鉄、コバルト、ニッケル、クロム、マンガン、バナジウム、セレン、銅、金、銀、硫黄、チタン及びネオジウムが挙げられる。
【００２８】
なお、ケイ素を含む非晶体及び光学ガラス部材１は、その組成やガラス転移温度が近いことが好ましい。その組成やガラス転移温度が近い材料同士は、互いに固着しやすい。
【００２９】
透光性微粒子を分散させる媒体としては、洗浄により洗い流せるものが好ましい。洗浄方法は、透光性微粒子及び光学ガラス部材を変質させない限りにおいて、どのような洗浄方法を選択してよく、例えば、光学部材の機械的強度などにより適宜選択すればよい。洗浄方法としては、例えば、超音波洗浄、浸漬洗浄、噴射洗浄などが挙げられる。
【００３０】
媒体としては、例えば、水；メタノールやエタノールなどのアルコール類が挙げられる。塗布層の塗布厚みの制御などの成形性の観点からは、媒体は、バインダポリマーと、バインダポリマーを溶解、膨潤又は分散できる溶媒とを含有することが好ましい。バインダポリマーとしてはポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）が挙げられ、上記溶媒としては、それぞれ、水；メタノールやエタノールなどのアルコール類などが挙げられる。
【００３１】
なお、工程の簡略化の観点からは、媒体は水で洗浄できることが好ましい。このような観点からは、バインダポリマーが水溶性高分子であり、溶媒が水であることが好ましい。水溶性高分子としては、デンプン、ゼラチン、セルロース誘導体（カルボキシメチルセルロース、メチルセルロース等）、ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸、ポリアクリルアミド、ポリエチレンオキシド等が挙げられ、水溶性や分子量の調整が容易で種々の分散物が得られることから、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）が好ましい。なお、ＰＶＡは、通常７００℃以上で分解し揮発するため、レーザ走査した後に残渣として残らない。このことからもバインダポリマーとして用いるのに好適である。
【００３２】
透光性微粒子を媒体に分散させた分散物の合計重量に対する、バインダポリマーの含有量は、１〜１０重量％であることが好ましく、１〜５重量％であることが更に好ましい。
【００３３】
分散物の光学ガラス部材１上への塗布に特に制限はないが、例えば、エアブラシによる噴霧、筆及びスタンプなどを用いた塗布、ディップコーティング、スピンコーティングが挙げられる。また、塗布は、乾燥後の厚み、すなわち、皮膜１５の厚みが、５〜５０μｍとなるように行うことが好ましい。皮膜１５の厚みは、５〜２０μｍであれば特に好ましい。皮膜１５の厚みが５０μｍより大きいと、レーザによる焼付が困難になる傾向にあり、５μｍより小さいと、マーキングが読み出し難くなる傾向にある。
【００３４】
上述のようなマーキング形成方法によれば、光学ガラス部材１上に、光学ガラス部材の光学性能への影響が小さいマーキング１０を形成することができる。このように形成されたマーキング付光学ガラス部材は、クラックや光学有効部の形状の変形などが少なく、光学性能の低下が十分に抑制されたものとなる。
【００３５】
なお、ダイレクトマーキングによりマーキングを施す場合、以下のような問題が生じていた。光学ガラス部材は、通常、脆性材料であるため、レーザの波長での吸収を高めるとクラックが発生し、光学ガラス部材の光学性能が低下するという問題があった。一方、クラックの発生を抑えるためレーザの波長での吸収を小さくするとアブレーション自体が困難になっていた。具体的には、ＹＡＧレーザやＹＶＯ４レーザの基本波長（１０６０ｎｍ）及びその第二高調波（５３０ｎｍ）を用いて光学ガラス部材にダイレクトマーキングを施した場合、光学ガラス部材のアブレーション自体が困難である。第三高調波（３５３ｎｍ）では、アブレーションは可能だがクラックが避けられない。なお、ガラスの吸収波長域である赤外域の炭酸ガスレーザを用いれば、アブレーションは可能であるが、波長が１０．６μm程度と長いためにｍｍサイズ以下の微細なマーキングが難しい。
【００３６】
また、上述の方法以外のマーキング形成方法としては、例えば、透明部材の内部にレーザビームを集光して透明部材の内部に描画を行う方法が知られているが、このような方法によって光学ガラス部材にマーキングを施した場合、光学ガラス部材内部に歪みが発生し、光学性能が低下してしまう。
【００３７】
また、レーザ走査を行う従来法では、レーザ走査による硬化だけでは十分な付着力が得られず、レーザ走査によるパターン形成後に、電気炉等で７５０℃の高温で加熱し、焼成する必要がある。しかしながら、このような高い焼成温度は、光学ガラス部材の光学有効部の精密な形状を変形させる原因となり、光学ガラス部材の光学性能を低下させる原因となる。
【００３８】
しかしながら、本発明のマーキング形成方法によれば、このような問題をも回避できる。
【００３９】
本実施形態においては光学ガラス部材１として、レンズ形状の部材（光学レンズ）を用いた例を示したが、本実施形態の効果を発揮する限りにおいて如何なる光学ガラス部材も使用できる。このような光学ガラス部材としては、プリズム、ミラー、光学フィルター、ビームスプリッター、偏光素子などが挙げられる。
【００４０】
次に、本実施形態において形成したマーキングを読み出す方法について説明する。
【００４１】
図３は、マーキング読み出し方法の好適な一例を説明するための図である。マーキング読み出し方法に用いられる光学部材１００は、光学ガラス部材１及び光学ガラス部材１上に形成されたマーキング１０を備える。ここで、光学部材１００においてマーキング１０が形成された面を上面、上面に対向する方向を下面と呼ぶ。
【００４２】
マーキングを読み出す場合には、例えば、光学部材１００の上面側からマーキング１０に向けて斜めに可視光５を照射し、可視光５を照射した側（光学部材１００の上面側）からマーキング１０を見ることにより、マーキングを読み出すことができる。可視光５の照射には、例えば、集光灯を用いることができる。
【００４３】
以上、本実施形態における好適なマーキング形成方法及びマーキングの読み出し方法の好適な一例を説明したが、本発明はこれに限定されるものではない。
【実施例】
【００４４】
（実施例１）
（塗布材料の作製）
透光性微粒子として、平均粒径１μｍ程度の酸化ビスマス粉を準備した。なお、酸化ビスマスの融点は約８００℃である。そして、準備した酸化ビスマス粉１ｇに対して、純水５ｇ及びポリビニルアルコール１０重量％水溶液（和光純薬製）１０ｇを混合して、塗布材料（ガラスペースト）を作製した。
【００４５】
（光学ガラス部材上へのマーキングの形成）
光学ガラス部材として、ホウ珪酸ガラスであるショット社製ＢＫ７から形成された光学レンズを準備した。そして上述のように作製した塗布材料を、エアブラシを用いて光学レンズに噴霧して、厚みが１０μｍ程度の塗布材料層を形成した。
【００４６】
その後、塗布材料層を乾燥させ、塗布層を形成した後、図１に示すようにスキャニングレーザを用いて、光学部材表面にガラスを溶融・固着させた。使用したレーザはＹＶＯ４レーザの第二高調波（ミヤチテクノス社製、ＭＬ−９００１Ａ、波長５３２ｎｍ）を光源とするレーザマーカーであった。このようなレーザは、１ｍｍ以下の小さな文字やバーコードを印字することが可能である。また、レーザの照射条件は、電流２３Ａ、周波数２０ｋＨｚ、走査速度１００ｍｍ／ｓであった。なお、この波長において、光学ガラス部材（光学レンズ）の内部透過率は９９．９％／ｃｍ以上であり、酸化ビスマス粉の吸収は１０％／ｃｍ以上であった。
【００４７】
酸化ビスマスを含む塗布層は、レーザ照射により酸化ビスマスの融点である約８００℃以上に昇温されることで溶融し、光学ガラスの表面に焼き付いた。なお、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）は７００℃以上で分解し揮発するため、レーザ走査した後には存在しないと思われる。
【００４８】
そして、パターンを形成するために、焼き付けられなかった余分な塗布層を洗浄・除去するため、純水で超音波洗浄した。洗浄後、光学部材を乾燥させた。以上のように、光学レンズ上にレーザ走査部にマーキングを形成した。また、マーキングが形成されたことによる光学ガラス部材の光学性能低下はほとんどなかった。
【００４９】
（マーキングの読み出し）
集光灯を用い、作製した光学部材の上面側から１００００ルーメンの白色光を照射し、図３に示す方法によりマーキングを観察した。その結果、明瞭に文字を視認することができた。
【００５０】
（マーキングの除去）
マーキング上へ、濃度１０ｗｔ％の塩酸を塗布したところ、２分間経過後に焼き付けられた酸化ビスマスは全て溶解した。なお、ショット社製ＢＫ７は、塩酸に対して不溶であるため、マーキングの除去したことによる光学ガラス部材の光学性能低下などは起こらなかった。
【００５１】
（実施例２）
透光性微粒子として、酸化亜鉛粉を使用したこと以外は、実施例１と同様の方法によりマーキングを形成した。なお、酸化亜鉛の融点は約１９８０℃である。また、照射したレーザ波長において、酸化亜鉛粉の吸収は１０％／ｃｍ以上であった。
【００５２】
本実施例においても、マーキングが形成されたことによる光学ガラス部材の光学性能低下はほとんどなかった。但し、実施例１と比較し、光学ガラス部材へのマーキングの付着強度が不十分であるなど、焼き付き状態が悪いものであった。
【００５３】
（実施例３）
透光性微粒子として、酸化モリブデン粉を使用したこと以外は、実施例１と同様の方法によりマーキングを形成した。なお、酸化モリブデンの融点は約８００℃である。また、照射したレーザ波長において、酸化モリブデン粉の吸収は１０％／ｃｍ以上であった。
【００５４】
本実施例においても、マーキングが形成されたことによる光学ガラス部材の光学性能低下はほとんどなかった。また、光学ガラス部材へのマーキングの焼き付き状態は、実施例１とほぼ同等であった。
【００５５】
（実施例４）
透光性微粒子として、ＴｅＯ２を１０ｍｏｌ％以上含むテルライトガラスを使用したこと、レーザ波長を、ＹＶＯ４レーザの基本波（ミヤチテクノス社製、波長１０６４ｎｍ）としたこと以外は、実施例１と同様の方法によりマーキングを形成した。また、照射したレーザ波長において、上記テルライトガラスの吸収は０．２％／ｃｍであった。
【００５６】
本実施例においても、マーキングが形成されたことによる光学ガラス部材の光学性能低下はほとんどなかった。また、光学ガラス部材へのマーキングの焼き付き状態は、実施例１とほぼ同等であった。
【００５７】
（マーキングの読み出し）
集光灯を用い、作製した光学部材の上面側から１００００ルーメンの白色光を照射し、図３に示す方法によりマーキングを観察した。その結果、明瞭に文字を視認することができた。
【００５８】
（実施例５）
粉砕したＨＯＹＡ社製ＬＡＦ２ガラスと、酸化ネオジウムとを混合した。酸化ネオジウムの添加量は、ＬＡＦ２ガラスと酸化ネオジウムの合計量に対して、０．５ｍｏｌ％であった。得られた混合物を熔解して、ガラスを作製し、さらに、作製したガラスを粉砕し、透光性微粒子とした。
【００５９】
このようなガラスを透光性微粒子として用いたこと以外は、実施例１と同様の方法により、マーキングを形成した。また、照射したレーザ波長において、上記透光性微粒子の吸収は０．５％／ｃｍであった。
【００６０】
このような条件において、透光性微粒子のレーザ波長の吸収は十分あり、レーザ照射によって温度が融点以上に上昇した。これにより、塗布層は、良好に溶融・固着された。
【００６１】
本実施例においても、マーキングが形成されたことによる光学ガラス部材の光学性能低下はほとんどなかった。
【００６２】
（マーキングの読み出し）
集光灯を用い、作製した光学部材の上面側から１００００ルーメンの白色光を照射し、図３に示す方法によりマーキングを観察した。その結果、明瞭に文字を視認することができた。
【００６３】
（比較例１）
粉砕したＨＯＹＡ社製ＬＡＦ２ガラスを透光性微粒子としたこと、レーザ波長を、ＹＶＯ４レーザの基本波（ミヤチテクノス社製、ＭＬ−７１１１Ａ、波長１０６４ｎｍ）としたこと以外は、実施例１と同様の方法によりマーキングを形成した。ここで、照射したレーザ波長において、上記透光性微粒子の吸収は０．１％／ｃｍ未満であった。
【００６４】
このような条件においては、塗布層の、溶融・固着ができず、マーキング自体が形成できなかった。透光性微粒子のレーザ波長の吸収が不十分であり、レーザ照射によっても温度が融点以上に上昇しなかったためと思われる。
【図面の簡単な説明】
【００６５】
【図１】本実施形態における好適なマーキング形成方法を説明する断面図である。
【図２】マーキング付光学ガラス部材の断面図である。
【図３】マーキング読み出し方法の好適な一例を説明するための図である。
【符号の説明】
【００６６】
１…光学ガラス部材、８…レーザ装置、９…レーザ光、１０…マーキング、１５…皮膜、１００…マーキング付光学ガラス部材。
【図２】
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【図３】
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【図１】
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