(57)【要約】【課題】比較的簡易な方法により、プラスチックレンズ表面の硬化膜とこの上に形成する膜との密着性を改善することを目的とする。【解決手段】プラスチックより成るレンズ基材の上に硬化膜を形成する工程と、硬化膜の表面を研磨シートの擦過により粗面化する工程と、粗面化した硬化膜の表面に反射防止膜を形成する工程と、を含む。粗面化処理の際に硬化膜表面の１０μｍ×１０μｍあたりの最大高さＲmax を、１５ｎｍ≦Ｒmax ≦３５ｎｍとすることで、この上の反射防止膜との密着性を高めることができる。【選択図】図４
2010113090.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラスチックより成るレンズ基材の上に硬化膜を形成する工程と、
前記硬化膜の表面を研磨シートの擦過により粗面化する工程と、
前記粗面化した硬化膜の表面に反射防止膜を形成する工程と、を含む
プラスチックレンズの製造方法。
【請求項２】
前記研磨シートにより前記硬化膜の表面を粗面化する工程において、前記硬化膜の表面粗さは、１０μｍ×１０μｍあたりにおける最大高さＲmaxを、
１５ｎｍ≦Ｒmax ≦３５ｎｍ
とする請求項１に記載のプラスチックレンズの製造方法。
【請求項３】
前記硬化膜の組成液にレベリング剤を含ませる請求項１又は２に記載のプラスチックレンズの製造方法。
【請求項４】
前記研磨シートとして、織布又は不織布に砥粒が固定されている研磨布を使用する請求項１〜３のいずれか１項に記載のプラスチックレンズの製造方法。
【請求項５】
プラスチックより成るレンズ基材と、
前記レンズ基材の表面上に形成され、表面の１０μｍ×１０μｍあたりの最大高さＲmax が、
１５ｎｍ≦Ｒmax ≦３５ｎｍ
とされる硬化膜と、
前記硬化膜の上に形成される反射防止膜と、を有する
プラスチックレンズ。
【請求項６】
前記硬化膜にレベリング剤が含まれる請求項５に記載のプラスチックレンズ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば眼鏡用のプラスチックレンズなどの、プラスチックレンズの表面に硬化膜（ハードコート）を有するプラスチックレンズの製造方法及びプラスチックレンズに関する。
【背景技術】
【０００２】
プラスチックレンズはガラスレンズと比較すると軽量であるため、眼鏡用レンズを始めとして種々のレンズに用いられている。しかしながらプラスチックレンズはガラスレンズと比べて耐摩擦性に劣るため、傷が付きやすいという欠点がある。このためプラスチックレンズにおいては、レンズ基材の表面に、耐摩擦性を向上させるための硬化膜、いわゆるハードコートが一般的に形成されている。
【０００３】
このような硬化膜を成膜する材料である組成液には、有機ケイ素化合物等から成るシランカップリング剤と溶媒、更にコロイド状に分散している無機微粒子とが主として含まれている。組成液にはこの他、組成液の保存期間を長く確保することや、無機微粒子の分散性を向上させること、またレンズ面への塗工性を向上させること等を目的として、種々の微量成分が添加されている。
【０００４】
例えば特許文献１には、レンズ面への塗工性を向上させるために、フッ素系レベリング剤を添加する技術が開示されている。
また、特許文献２には、硬化膜の上に反射防止膜を形成する際に、その前処理としてイオン銃によりイオンビームを硬化膜表面に照射する技術が開示されている。
【０００５】
【特許文献１】特開２０００−２８１９７０号公報
【特許文献２】特開２００６−２１５３０４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上述した硬化膜は、レンズ面との親和性や塗布方法により表面特性が異なることが知られている。例えば塗布方法によって、また主要な構成成分であるシランカップリング剤の種類によっては、硬化膜の上面に乾式法（例えば真空成膜法）により蒸着層を成膜する際に、その蒸着層と硬化膜との密着性が悪くなる場合がある。十分な密着性が得られない場合は、蒸着層に剥がれが生じてレンズが損傷し易くなり、不良品発生率が上昇してしまう。
【０００７】
また、硬化膜用の組成液に上述したような微量成分が添加されている場合には、前記微量成分が硬化膜の表面に硬化残渣として析出する恐れがある。特に上述したようなレベリング剤を添加した硬化膜では析出が顕著となる場合があり、この析出した微量成分が蒸着物質と硬化膜との密着性を悪くするという問題がある。
【０００８】
更に、硬化膜の表面にイオン銃によりイオンビームを照射する場合は、硬化膜の表面に化学変化が生じるため、プラスチックレンズとして完成した後に、レンズ表面にアバタ不良（レンズが局所的にくすんで見える現象）が生じてしまうという問題がある。またイオン銃を備えない蒸着装置を用いている場合は、イオン銃を備える装置が別途必要となってしまうという問題がある。
【０００９】
以上の問題に鑑みて、本発明は、比較的簡易な方法により、硬化膜とこの上に形成する膜との密着性を改善することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記課題を解決するため、本発明によるプラスチックレンズの製造方法は、プラスチックより成るレンズ基材の上に硬化膜を形成する工程と、硬化膜の表面を研磨シートの擦過により粗面化する工程と、粗面化した硬化膜の表面に反射防止膜を形成する工程と、を含むものである。
【００１１】
また本発明によるプラスチックレンズは、プラスチックより成るレンズ基材と、レンズ基材の表面上に形成され、表面の１０μｍ×１０μｍあたりの最大高さＲmax が、
１５ｎｍ≦Ｒmax ≦３５ｎｍ・・・・（１）
とされる硬化膜と、この硬化膜の上に形成される反射防止膜と、を有する構成とする。
【００１２】
上述したように本発明のプラスチックレンズの製造方法においては、プラスチックより成るレンズ基材の上に硬化膜を形成した後、硬化膜の表面を研磨布紙等の研磨シートにより擦過するものである。研磨シートとしては、布や紙等に砥粒が固定された研磨布紙が利用可能である。このように、研磨シートを用いて硬化膜の表面を擦過することによって、硬化膜の表面が粗面化され、硬化膜の表面積が実質的に増大する。その結果、蒸着等により硬化膜の上に形成する反射防止膜とこの硬化膜との接触面積が増えるので、アンカー効果により密着性を向上することができる。
【００１３】
またこのように硬化膜の表面を研磨シートで擦過する場合、研磨シートの砥粒の粒度（メッシュ番号＃）を適切に選定することによって、粗面化した表面の最大表面高さを適切に制御することが可能である。
【００１４】
粗面化した硬化膜の表面粗さとしては、１０μｍ×１０μｍあたりにおける最大高さＲmax を、上記式（１）の範囲とすることによって、確実にこの上に形成する反射防止膜等との密着性を改善することができる。なおこの範囲の最大高さとすることで、プラスチックレンズとして完成後に視認可能な程度の傷が形成されることなく、耐擦過性に優れたプラスチックレンズとして構成することができる。また研磨シートにより表面を擦過することから、硬化膜の表面に析出物が存在する場合においても、同時にこの析出物を除去することが可能である。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、研磨シートを用いて擦過するという極めて簡易な方法をもって、硬化膜とこの上に形成する膜との密着性を改善することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下本発明を実施するための最良の形態の例を説明するが、本発明は以下の例に限定されるものではない。本発明によるプラスチックレンズの製造方法及びプラスチックレンズは、眼鏡用のプラスチックレンズに好ましく適用できるが、その他のプラスチックレンズにも適用可能である。
【００１７】
本発明の実施の形態に係るプラスチックレンズの製造方法は、プラスチックより成るレンズ基材の上に硬化膜を形成した後、硬化膜の表面を研磨シートの擦過により粗面化する。そしてその後、硬化膜の表面に反射防止膜を形成するものである。特に、研磨シートにより硬化膜の表面を粗面化する工程において、硬化膜の表面粗さとして、１０μｍ×１０μｍ（１０μｍ□）あたりにおける最大高さＲmax が、上記式（１）の範囲となるように擦過することが好ましい。
【００１８】
このような表面粗さとなるように擦過することが可能な研磨シートとしては、織布又は不織布より成るシートに砥粒が固定された研磨シートを用いることが好ましい。砥粒が固定されている研磨シートを用いる場合は、硬化膜表面に砥粒が残ることが抑制され、その後の浄化工程を省略又は簡略化することが可能である。例えば、ダイヤモンド等の砥粒が織布又は不織布に固定された粒度６０００番（＃６０００）以上１００００番（＃１００００）以下の研磨シートを用いる場合に、後述の実施例において詳細に説明するように、硬化膜とその上に形成する反射防止膜との密着性を確実に向上させることができる。
【００１９】
＜レンズ基材の材料＞
本発明のプラスチックレンズ及びその製造方法に用いるレンズ基材としては、以下の材料を用いることができる。例えばメチルメタクリレート単独重合体、メチルメタクリレートと一種以上の他のモノマーとをモノマー成分とする共重合体、アリルジグリコールカーボネート（例えば、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート単独重合体、ジエチレングリコールビスアリルカーボネートと一種以上の他のモノマーとをモノマー成分とする共重合体）、イオウ含有共重合体、ハロゲン含有共重合体、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、不飽和ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート、ポリウレタン、ポリチオウレタン、スルフィド結合を有するモノマーの単独重合体、ポリスルフィドと一種以上の他のモノマーとをモノマー成分とする共重合体、ポリジスルフィドと一種以上の他のモノマーとをモノマー成分とする共重合体等である。これらを単独又は複数混合して用いることができる。
【００２０】
またレンズ基材のプラスチックの屈折率は、特に限定されるものではなく、屈折率が比較的低い１．５程度のプラスチックを使用することも可能であり、逆に屈折率が比較的高い１．８程度のプラスチックも使用可能である。
【００２１】
＜硬化膜の材料＞
硬化膜の材料は、干渉縞の発生を抑えるために、レンズ基材と同程度の屈折率を備えることが必要である。即ち、レンズ基材に高屈折率の素材を用いた場合には硬化膜も高い屈折率とし、レンズ基材に低屈折率の素材を用いた場合には硬化膜も低い屈折率とする。
【００２２】
このように屈折率が調整された硬化膜の材料としては、無機微粒子がコロイド状に分散している有機ケイ素化合物を用いることができる。この有機ケイ素化合物としては、例えば各種アルコキシシランが挙げられる。好ましいアルコキシシランとして、テトラアルコキシシラン、トリアルコキシシランが挙げられる。有機ケイ素化合物は、単体で、又は、二種以上を混合した状態で用いられる。例えば、プラスチック基材との接着性が要求されるときには、アルコキシシランにエポキシ基（グリシドキシ基）を導入したものを含有させてもよい。
【００２３】
＜硬化膜に含有させる無機微粒子の材料＞
硬化膜に含有させる微粒子状無機物としては、酸化チタン、酸化ケイ素、酸化ジルコニウム、酸化アルミニウム、酸化鉄、酸化アンチモン、酸化スズ、酸化タングステン、酸化ベリリウム、又はこれらの複合体等を使用することができる。微粒子状無機物の種類や量によって、硬化膜の屈折率を調整することが可能であり、屈折率を比較的高くする場合は、酸化チタン、酸化ケイ素、酸化ジルコニウム、酸化スズを用いることが好ましい。一方、比較的低い屈折率とする場合は、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）を使用することができる。低い屈折率を達成するために、中空シリカを使用することも可能である。レンズ基材の屈折率に応じて１種、又は２種以上の酸化物が適宜選択される。
【００２４】
＜硬化膜組成液に含有させる材料＞
硬化膜を形成する際に調製される組成液は、必要に応じて、溶媒で希釈することができる。用いる溶媒としては、メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、等のアルコール類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、エチルメチルケトン等のケトン類、ジエチルエーテル、イソプロピルエーテル等のエーテル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類等が挙げられる。更に必要に応じて、レベリング剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、染料、顔料、フィラー、安定剤、界面活性剤等を添加してもよい。これらを添加することによって、組成液の塗布性、硬化条件、塗膜の性質等を調整することができる。
【００２５】
これら添加剤の中で、レベリング剤を添加する場合、レベリング剤の材料によっては、無機成分と親和性をあまり有さないものがある。レベリング剤としては、フッ素系レベリング剤やケイ素系レベリング剤が挙げられる。特に、フッ素系レベリング剤は無機成分と親和性が得られにくい。このため、硬化膜に取り込まれない、又は取り込まれにくい場合がある。このような場合、硬化後の硬化膜の表面にレベリング剤が残渣として残ってしまう。レベリング剤は一般に添加量が微量であるため、残渣が生じる場合に均一に析出するとは限らない。そしてこのような析出物が残っていると、硬化膜とこの上に形成する反射防止膜等との密着性が阻害され、反射防止膜が剥がれてしまう恐れがある。界面活性剤も、材料によってはこのような析出を生じる場合がある。
しかしながら本発明においては上述したように研磨シートにより硬化膜の表面を擦過することから、表面に浮き出たこのようなレベリング剤等の残渣は除去される。したがって、レベリング剤等の残渣の偏在が回避又は十分に抑制されるので、硬化膜の表面状態を適切に均質にすることができ、蒸着斑が発生することを抑制することができる。
【００２６】
＜硬化膜の形成方法＞
硬化膜の形成方法としては、例えば上述した有機ケイ素化合物にゾル状等の無機微粒子を混合した組成液を調製し、この組成液をディッピング法やスピンコート法、スプレー法、ローラ塗膜、刷毛塗り塗膜等により塗布した後、加熱や光線照射等により硬化する方法を利用することができる。
【００２７】
＜反射防止膜の材料＞
硬化膜の上に設ける反射防止膜としては、無機材料、有機材料いずれも使用可能であり、レンズ基材を高屈折率材料とする場合はその光学特性に影響を及ぼさない材料であればよく、単層又は多層構造とすることができる。無機材料より成る場合は真空蒸着法、スパッタ法、イオンプレーティング法、イオンアシスト法等によって形成する。有機材料より成る場合はディッピング法、スピンコーティング法、スプレー法等により塗布した後、加熱や光線照射等によって硬化して形成することができる。有機材料より構成する場合、硬化膜と同様に無機微粒子を含有させることができ、無機微粒子として酸化物を用いる場合は上述の各酸化物より成る微粒子を用いることができる。
【００２８】
＜プライマー層の材料＞
レンズ基材と硬化膜との間に耐衝撃性を高める下地層（いわゆるプライマー層）を設けることが可能である。プライマー層を設ける場合その材料としては、一般的なプライマー層を用いることができる。すなわちレンズ基材と硬化膜との密着性及び耐衝撃性を高め、またレンズ基材を高屈折率材料より構成する場合は、光学特性に影響を及ぼさない材料であればよい。一般的には、例えば、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、又は、ポリウレタンアクリレート樹脂を使用することができる。好ましいプライマー層の材質としては、成膜時にポリエステルポリオールとポリエーテルポリオールとイソシアネートを反応重合させたポリウレタン樹脂が挙げられる。また、レンズ基材や硬化膜との屈折率差をなくすために、プライマー層は、上記ポリマー成分中に酸化物等の無機微粒子を分散させた構成のものを適用することもできる。プライマー層の形成方法としては、ディッピング法やスピンコート法、スプレー法等により塗布した後、加熱や光線照射等により硬化して形成する方法が挙げられる。
【００２９】
＜硬化膜の表面を擦過する研磨シートの種類＞
硬化膜の表面を擦過する研磨シートとしては、研磨紙（紙ヤスリ）や研磨布（布ヤスリ）等の研磨布紙の他、研磨パッド、研磨スポンジ等を用いることができる。特に、織布又は不織布に砥粒が接着剤等によって固定されている研磨布を用いることによって、砥粒が硬化膜の表面に残る事態を確実に防止することができる。織布又は不織布により硬化膜に残る切り子（研磨カス）を拭い取ることで、このような切り子の残留を最小限に抑えることができるためである。
【実施例】
【００３０】
次に、実施例に基づいて本発明のプラスチックレンズの製造方法を更に詳細に説明するが、本発明はこれらによって制限されるものではない。以下の製造方法によりプラスチックレンズを作製し、硬化膜の上に形成した反射防止膜の密着性について評価を行った。
【００３１】
[実施例１]
（１）レンズ基材
この例においては、レンズ基材としてＣＲ３９（アリルジグリコールカーボネート、屈折率ｎｄ＝１．５０）より成るレンズ基材を用いた。
【００３２】
（２）硬化膜の形成
硬化膜の材料である組成液は、ＳＤＣ technologies社製「ＣＲＹＳＴＡＬＣＯＡＴ（登録商標）ＰＲ−１１６５」と、ＳＤＣ technologies社製「ＣＲＹＳＴＡＬＣＯＡＴ（登録商標）ＭＰ−１１５４Ｄ」の混合液を用いた。
硬化膜の塗布は、上記材料の組成液にレンズ基材を浸漬して引き上げるディッピング法により行った。その後熱硬化処理を行って硬化膜を形成した。
【００３３】
（３）硬化膜の擦過処理
（２）で形成した硬化膜の表面を、ダイヤモンド砥粒が布に固定されて成る研磨布（株式会社ノリタケカンパニーリミテド社製、「ダイヤ研磨布紙（商品名）」（＃６０００）を使用して、硬化膜の表面を擦過処理し、粗面化した。擦過処理はプラスチックレンズ基板表面の全体が擦過されるように行った。擦過時の荷重は３００Ｇから４００Ｇの範囲とした。
【００３４】
（４）硬化膜表面の浄化処理
（３）の擦過処理で生じた硬化膜の表面を浄化処理した。浄化処理は、アセトンを保持した軟らかい布で基板表面を拭き取った。浄化処理に使用したアセトンは、硬化膜成分との反応性、硬化膜への浸透性、及び、硬化膜成分の溶解能を実質的に有さない溶剤である。ここでの浄化処理は、付着している汚れを落とす目的ではなく、アセトンを使用して硬化膜の研磨による切り子を拭うことを目的としている。
【００３５】
（５）反射防止膜の形成
（４）の浄化処理の後、硬化膜の上に多層構造の反射防止膜を成膜して、プラスチックレンズを作製した。反射防止膜の成膜方法はイオンアシストを伴わない真空蒸着処理とした。そしてこの例においては、図１に示す７層構成の反射防止膜を形成した。図１に示すように、この例では、ＣＲ３９より成るレンズ基材１０の上に硬化膜１１が形成され、その上に、低屈折率層２１、高屈折率層２２、低屈折率層２３、高屈折率層２４、低屈折率層２５、高屈折率層２６、低屈折率層２７をこの順に蒸着して反射防止膜２０を形成し、プラスチックレンズ１を作製した。なお、各層の材料及び膜厚は下記の通りである。
【００３６】
第１層（低屈折率層２１）：ＳｉＯ２、膜厚１５８．４ｎｍ
第２層（高屈折率層２２）：Ｎｂ２Ｏ３、膜厚１２．１ｎｍ
第３層（低屈折率層２３）：ＳｉＯ２、膜厚１９．９ｎｍ
第４層（高屈折率層２４）：Ｎｂ２Ｏ３、膜厚２８．３ｎｍ
第５層（低屈折率層２５）：ＳｉＯ２、膜厚１８．１ｎｍ
第６層（高屈折率層２６）：Ｎｂ２Ｏ３、膜厚３８．８ｎｍ
第７層（低屈折率層２７）：ＳｉＯ２、膜厚９１．９ｎｍ
【００３７】
［比較例１］
上記実施例１と同様のレンズ基材の材料、硬化膜の材料及び形成方法、反射防止膜の材料、構成及び形成方法としたが、硬化膜表面の擦過処理とその後のアセトン拭きによる浄化処理を行わずに、プラスチックレンズを作製した。
【００３８】
［比較例２］
上記実施例１と同様のレンズ基材の材料、硬化膜の材料及び形成方法、反射防止膜の材料、構成及び形成方法としたが、硬化膜表面の擦過処理を行わずに、アセトン拭きによる浄化処理は行って、プラスチックレンズを作製した。
【００３９】
［密着性の評価］
上記実施例１、比較例１及び比較例２により作製したプラスチックレンズの表面（凹面及び凸面）に、１．５ｍｍ間隔で１００目のクロスカットを行い、このクロスカットした箇所に、粘着テープ（セロファンテープ、ニチバン株式会社製）を強く貼り付けて、その後、粘着テープを急速に剥がして、硬化膜の剥離の有無を調べた。
測定箇所は、図２に示すように、レンズの上部１ａ、中央部１ｂ、下部１ｃの３箇所として、レンズの凹面及び凸面（即ち、表裏両面）について、それぞれ３箇所ずつ測定した。なお、レンズの上下は、硬化膜をディッピング法により浸漬し引き上げる際の上側を上部、下側を下部とした。この結果を下記の表１に示す。
【００４０】
【表１】
2010113090.tif 000003
【００４１】
表１の結果から、本発明による実施例１においては、研磨布紙による擦過処理を行わない比較例１及び２と比べて格段に硬化膜とこの上の蒸着膜（反射防止膜）との密着性を向上することができることがわかる。
【００４２】
［実施例２］
この例においては、実施例１と同様のレンズ基材の材料、硬化膜の材料及び形成方法、擦過条件、浄化処理条件、反射防止膜の材料及び構成とした。反射防止膜の形成方法のみ、イオンアシストを伴う真空蒸着法とした。
【００４３】
［比較例３］
実施例２と同様の条件とするものの、硬化膜表面の擦過処理とアセトン浄化処理とを行わずに硬化膜上に反射防止膜を形成した。
【００４４】
［比較例４］
実施例２と同様の条件とするものの、硬化膜表面の擦過処理を行わず、アセトン拭きによる浄化処理のみを実施例２（すなわち実施例１）と同様に行って、硬化膜上に反射防止膜を形成した。
【００４５】
以上の結果を下記の表２に示す。
【００４６】
【表２】
2010113090.tif 000004
【００４７】
表２の結果から、硬化膜の表面を擦過する本発明によれば、確実に反射防止膜の密着性を高めることができることがわかる。また、イオンアシストを伴う真空蒸着によって反射防止膜を形成する場合は、イオンアシストなしの場合と比べて密着性は向上するが、比較例３の結果から、レンズの凸面については、ディッピングの引き上げ方向によって密着性の悪い領域が残ることがわかる。また、アセトン拭きによる浄化処理のみを行う比較例４では、レンズ凸面においては密着性向上の効果が全く見られない。
【００４８】
これに対し、硬化膜表面を擦過する場合は、実施例２において実施例１と同等程度の密着性が得られる。したがって本発明によれば、反射防止膜の形成方法によらずに、またレンズの位置によらずに密着性を向上する効果が得られることがわかる。
【００４９】
以上の実施例１及び２においては、硬化膜の表面の擦過処理を＃６０００の研磨布を用いて行った。これに対し、研磨布の粒度を変えて硬化膜の表面に擦過処理を行った場合について、硬化膜の表面粗度（最大高さＲmax ）をＡＦＭ（原子間力顕微鏡）により測定した。以下の例では、レンズ基材として屈折率ｎｄ＝１．６７のレンズ基材（ＨＯＹＡ株式会社製、商品名「ＥＹＥＮＯＡ」）を用いて、硬化膜の材料は実施例１及び２と同様とし、実施例１と同様にディッピング法により塗布して、同様の熱硬化条件により形成した。以上の条件で作製した硬化膜に対し、＃６０００、＃８０００及び＃１００００の研磨布を用いて擦過処理を行った。これらの１０μｍ×１０μｍの領域のＡＦＭ像を、擦過処理を行わない例と共に図３〜図６に示す。図３においては、擦過処理を行わない場合、図４〜図６においてはそれぞれ、＃６０００、＃８０００、＃１００００のダイヤモンド砥粒が固定された研磨布により擦過を行った場合を示す。
【００５０】
また、他の比較例として、硬化膜の表面に対して擦過処理を行わず、イオン銃によってイオンを照射した場合についてもＡＦＭにより観察した。この場合のＡＦＭ像を図７及び図８に示す。イオン銃の条件としては、図７においては２１０ｍＡ／３５０Ｖで１２０秒、図８においては２４０ｍＡ／４８０Ｖで１２０秒イオン照射を行った状態の表面を示す。
【００５１】
以上の各例における１０μｍ×１０μｍあたりの最大高さＲmax を下記の表３に示す。
【００５２】
【表３】
2010113090.tif 000005
【００５３】
表３の結果から、未処理の場合やイオン銃処理による場合は、１０μｍ×１０μｍあたりの最大高さＲmax が１１．３ｎｍ以下であり、比較的小さい。なお、これらの例においては、硬化膜の上に真空蒸着法により実施例１と同様の構成の反射防止膜を形成した場合に、十分な密着性が得られなかった。
【００５４】
一方、表面を＃６０００〜＃１００００の研磨シートにより擦過して表面の最大高さＲmax を１８．７５７ｎｍ〜３１．５５０ｎｍとする例では、硬化膜の上に同様の構成の反射防止膜を真空蒸着法によって形成した場合に、良好な密着性を得ることができた。この結果から、硬化膜の表面を研磨シートによって１５ｎｍ以上３５ｎｍ以下の最大高さＲmax とするときに、硬化膜の上に形成する膜との密着性を十分高めることができるといえる。
したがって、本発明においては、擦過処理によって、硬化膜の表面の最大高さＲmax を１５ｎｍ以上３５ｎｍ以下とすることが好ましい。
【００５５】
なお、参考のために、図３〜図８と同様の条件の硬化膜表面における２μｍ×２μｍの領域のＡＦＭ像を、それぞれ図９〜図１４に示す。これらのＡＦＭ像から、未処理の場合においても表面は凹凸を有することがわかる。しかしながら凹凸の最大高さが十分ではないため、良好な密着性が得られないと考えられる。これに対し、図４〜図６、又は図１０〜図１２のＡＦＭ像からわかるように、表面に形成する凹凸の密度は比較的疎であっても、十分な最大高さの凹凸が形成される場合は、良好な密着性が得られるものと考えられる。
【００５６】
なお、本発明は上述の実施形態例において説明した構成に限定されるものではなく、その他本発明構成を逸脱しない範囲において種々の変形、変更が可能である。
【図面の簡単な説明】
【００５７】
【図１】本発明の実施例によるプラスチックレンズの概略断面構成図である。
【図２】プラスチックレンズの評価方法の説明図である。
【図３】比較例（擦過未処理）によるプラスチックレンズの硬化膜表面１０μｍ□の電子顕微鏡による写真図である。
【図４】本発明の実施例（擦過処理＃６０００）によるプラスチックレンズの硬化膜表面１０μｍ□の電子顕微鏡による写真図である。
【図５】本発明の実施例（擦過処理＃８０００）によるプラスチックレンズの硬化膜表面１０μｍ□の電子顕微鏡による写真図である。
【図６】本発明の実施例（擦過処理＃１００００）によるプラスチックレンズの硬化膜表面１０μｍ□の電子顕微鏡による写真図である。
【図７】比較例（イオン銃前処理、標準）によるプラスチックレンズの硬化膜表面１０μｍ□の電子顕微鏡による写真図である。
【図８】比較例（イオン銃前処理、強め）によるプラスチックレンズの硬化膜表面１０μｍ□の電子顕微鏡による写真図である。
【図９】比較例（擦過未処理）によるプラスチックレンズの硬化膜表面２μｍ□の電子顕微鏡による写真図である。
【図１０】本発明の実施例（擦過処理＃６０００）によるプラスチックレンズの硬化膜表面２μｍ□の電子顕微鏡による写真図である。
【図１１】本発明の実施例（擦過処理＃８０００）によるプラスチックレンズの硬化膜表面２μｍ□の電子顕微鏡による写真図である。
【図１２】本発明の実施例（擦過処理＃１００００）によるプラスチックレンズの硬化膜表面２μｍ□の電子顕微鏡による写真図である。
【図１３】比較例（イオン銃前処理、標準）によるプラスチックレンズの硬化膜表面２μｍ□の電子顕微鏡による写真図である。
【図１４】比較例（イオン銃前処理、強め）によるプラスチックレンズの硬化膜表面２μｍ□の電子顕微鏡による写真図である。
【符号の説明】
【００５８】
１．プラスチックレンズ、１０．レンズ基材、１１．硬化膜、２０．反射防止膜、２１，２３，２５，２７．低屈折率層、２２，２４，２６．高屈折率層
【図１】
2010113090.tif 000006
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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