(57)【要約】【課題】レンズの光軸位置を迅速かつ高精度で取得できるレンズ光軸位置検出方法と、外形中心と光軸位置との間の偏芯情報を迅速かつ高精度で取得できるレンズ偏芯測定方法を提供する。【解決手段】レンズ光軸位置検出方法は、レンズの光軸に沿って同軸落射照明を行い、レンズの裏面で全反射し、Ｎ回反射（Ｎは２以上の整数）を経由して、光軸に沿って戻る光の分布形状（リング像）を計測することにより、レンズの光軸位置を検出する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
レンズの光軸に沿って同軸落射照明を行い、レンズの裏面で全反射して光軸に沿って戻る光の分布形状を計測することにより、レンズの光軸位置を検出することを特徴とするレンズ光軸位置検出方法。
【請求項２】
レンズ周囲の媒質の屈折率をｎ１、レンズ材料の屈折率をｎ２とし、
ｓｉｎ（θｃ）＝ｎ１／ｎ２  
を満たす臨界角θｃ以上の反射角で反射する光の分布形状を計測することを特徴とする請求項１記載のレンズ光軸位置検出方法。
【請求項３】
レンズの光軸に沿って同軸落射照明を行い、レンズの裏面で全反射して光軸に沿って戻る光の分布形状を計測することにより、レンズの光軸位置を検出するステップと、
レンズの外形中心を検出するステップと、
検出した光軸位置と外形中心との間の偏芯情報を求めるステップと、を含むことを特徴とするレンズ偏芯測定方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば、光ピックアップ等の光学装置に用いられるレンズ光軸位置検出方法に関する。また本発明は、外形中心と光軸位置との間の偏芯情報が得られるレンズ偏芯測定方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、光学記録媒体として、ＣＤ、ＤＶＤの他に、次世代ＤＶＤ（例えば、Blu-ray（登録商標）等）が開発されており、異なる種類の記録媒体への記録／再生が可能な互換性のある光ピックアップ装置が求められている。光ピックアップ装置は、一般に、複数の光学素子を組み付けて構成されている。従って、複数のレンズで単一波長の結像スポットを形成するだけでなく、複数のレンズで二波長以上の結像スポットを形成することが望まれている。
【０００３】
光学素子は、予め外形加工（例えば、芯取り加工）され、単レンズ構成または複数レンズ構成で鏡枠に組み込まれる。その際、レンズの外形中心を基準として、レンズ鏡枠に組み込まれるが、レンズの光学面中心と外形中心が偏芯していると、所定の性能が得られない。特に、複数のレンズを組み合わせる場合、偏芯の影響は大きくなる。
【０００４】
従来、レンズの光学性能を用いて光学面中心を検出して組み立てる方法が提案されている（例えば、特許文献１）。この特許文献１には、複数の透過型光学素子を精度よく芯合わせ可能な光ピックアップ装置及びその調芯方法が開示されている。一方のレンズ（回折光学素子）には、軸芯上に芯合わせ用マークが形成されており、もう一方のレンズ（対物レンズ）には芯合わせ用マークが形成されていない。組み立ての際、対物レンズに対して照明光を照射し、その結像スポットを光学顕微鏡などで観察しながら、結像スポットの位置と回折光学素子の芯合わせ用マークとを一致させている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００６−１２０２５９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
特許文献１では、一方のレンズ（対物レンズ）を通った光は、もう一方のレンズ（回折光学素子）の表面ではない部分に結像スポットを形成するため、結像スポットの位置と芯合わせ用マークとは光軸方向に沿って一定距離だけ離れている。そのため、観察の焦点合わせの際、光学顕微鏡を光軸方向に移動させる必要がある。
【０００７】
この場合、１）光学的に影響のない程度まで芯合わせ用マークを小さくすると、成形での転写が困難になる。２）光学的に影響のない程度まで芯合わせ用マークを小さくすると、高倍率での観察が必要であることから、焦点深度が浅くなり、また視野も狭くなるため、結像スポットと芯合わせ用マークの２つを見つけるまでに時間がかかる。３）焦点合わせの移動方向を光軸方向に合わせる手段が別途必要になる。
【０００８】
本発明の目的は、芯合わせ用マークを用いることなく、レンズの光軸位置を迅速かつ高精度で取得できるレンズ光軸位置検出方法を提供することである。
【０００９】
また本発明の目的は、外形中心と光軸位置との間の偏芯情報を迅速かつ高精度で取得できるレンズ偏芯測定方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記目的を達成するために、本発明に係るレンズ光軸位置検出方法は、レンズの光軸に沿って同軸落射照明を行い、レンズの裏面で全反射して光軸に沿って戻る光の分布形状を計測することにより、レンズの光軸位置を検出することを特徴とする。
【００１１】
本発明において、レンズ周囲の媒質の屈折率をｎ１、レンズ材料の屈折率をｎ２とし、
ｓｉｎ（θｃ）＝ｎ１／ｎ２  
を満たす臨界角θｃ以上の反射角で反射する光の分布形状を計測することが好ましい。
【００１２】
また本発明に係るレンズ偏芯測定方法は、レンズの光軸に沿って同軸落射照明を行い、レンズの裏面で全反射して光軸に沿って戻る光の分布形状を計測することにより、レンズの光軸位置を検出するステップと、
レンズの外形中心を検出するステップと、
検出した光軸位置と外形中心との間の偏芯情報を求めるステップと、を含むことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、レンズ裏面で全反射した光の進行方向は照明光の進行方向と平行に維持されるため、全反射した光の分布形状を計測することにより、レンズの光軸位置を迅速かつ高精度で検出することが可能になる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明が適用可能な光学系の一例を示す構成図である。
【図２】被検レンズＭＬの第２面で全反射した光の分布形状を示す平面図である。
【図３】披検レンズＭＬをレンズ鏡枠６１に組み込む様子を示すもので、図３（ａ）は断面図であり、図３（ｂ）は平面図である。
【図４】レンズの光学性能を測定する干渉計装置の一例を示す構成図である。
【図５】検出したレンズ光軸を干渉計の光束に対して略同じ位置に置く方法を示すフローチャートである。
【図６】ステージ１５または参照凹面ミラー３１の退避動作を示す説明図である。
【図７】エア吸着によるレンズ固定を示す構成図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
図１は、本発明が適用可能な光学系の一例を示す構成図である。光学系は、光源（不図示）、ビームスプリッタ５５、撮像レンズ５６、ＣＣＤカメラ等の撮像素子５７等で構成される。被検レンズＭＬは、ビームスプリッタ５５の下方に配置され、被検レンズＭＬの光軸が光学系の光軸とほぼ一致するように位置決めされる。本発明が適用可能な被検レンズＭＬは、ＣＤ、ＤＶＤ、次世代ＤＶＤ（例えば、Blu-ray（登録商標）等）の光ピックアップに好適に用いられる高ＮＡのレンズ、即ち、光学面の曲率がかなり大きいレンズである。
【００１６】
光源から平行な照明光が供給され、光軸に対して４５°の角度に配置されたビームスプリッタ５５によって反射して、被検レンズＭＬの光軸に沿って同軸落射照明を行う。照明光束のサイズは、被検レンズＭＬの光学加工面より大きな直径を有することが好ましい。
【００１７】
照明光は、被検レンズＭＬの第１面を通過して第２面に到達する。このとき照明光の一部について全反射条件が成立し、第２面でＮ回反射（Ｎは２以上の整数）を経た後、最終の反射光は入射光と平行に出射されるようになる。
【００１８】
第２面での全反射条件として、レンズ周囲の媒質の屈折率をｎ１、レンズ材料の屈折率をｎ２とし、ｓｉｎ（θｃ）＝ｎ１／ｎ２  を満たす臨界角θｃが定義される。このとき第２面の法線方向に対する光の入射角をθｉ、反射角をθｏとして、θｉ＝θｏ≧θｃが成立する。例えば、図１に示すように、２回反射の場合はθｉ＝θｏ＝４５°、３回反射の場合はθｉ＝θｏ＝６０°、４回反射の場合はθｉ＝θｏ＝６７．５°、５回反射の場合はθｉ＝θｏ＝７２°となる。一般に、Ｎ回反射（Ｎは２以上の整数）の場合、θｉ＝θｏ＝９０°×（Ｎ−１）／Ｎとして計算できる。
【００１９】
第２面で全反射した光は、被検レンズＭＬの第１面から出射し、ビームスプリッタ５５を通過して、撮像レンズ５６によって結像され、撮像素子５７で画像信号に変換される。
【００２０】
図２は、被検レンズＭＬの第２面で全反射した光の分布形状を示す平面図である。レンズ中心の周りに、２回反射のリング像と３回反射のリング像が現れていることが判る。３回反射のリング像は、４回以上反射のリング像と重なっているため、太い線幅のリング像になる。
【００２１】
本発明では、こうした全反射のリング像に画像処理を施すことによって、リング像の中心を算出し、この中心位置を被検レンズＭＬの光軸位置として検出している。画像処理は任意の手法が採用でき、例えば、レンズ平面画像を適当な閾値で２値化し、リング像の外形を輪郭検出し、その重心から光軸位置を算出する。外形を輪郭検出する際、パターンマッチング手法で算出してもよい。重心から光軸位置を算出する際、あらかじめ設定したテンプレートの輪郭形状に対して、最小自乗法等による数学的な手法で算出してもよい。なお、これらの処理の前後や途中に、平滑化や膨張・収縮処理等によるノイズ除去・エッジ強調・コントラスト強調・フィルタ処理等を行ってもよい。さらには、すべての画像範囲（画素）において上記検出処理を行ってもよいし、全反射光が戻ると想定される範囲だけの画像を切り出して、画像の一部だけに処理を行ってもよい。
【００２２】
さらに、図２に示すレンズ平面画像には、被検レンズＭＬの外形も見えている。従って、被検レンズＭＬの外形についても、上述と同様に、２値化、輪郭検出、重心検出等を行うことにより、レンズの外形中心を算出できる。
【００２３】
そこで、全反射のリング像から求めた光軸位置と、レンズ外形から求めた外形中心とを比較し、両方の差分を演算することによって、両者間の偏芯情報を迅速かつ高精度で取得することができる。
【００２４】
図３は、披検レンズＭＬをレンズ鏡枠６１に組み込む様子を示すもので、図３（ａ）は断面図であり、図３（ｂ）は平面図である。被検レンズＭＬは、レンズ鏡枠６１の載置面に当接した状態で、レンズ位置調整手段６０により、載置面と同一面内で位置決め可能である。よって、光軸方向に移動することなく、同一平面画像から、被検レンズＭＬのリング像から求めた光軸位置６１Ｃを、レンズ鏡枠６１の外形中心に正確に一致させることが可能になる。その後、接着剤を用いて被検レンズＭＬを固定する。
【００２５】
こうして組み立てたレンズユニットは、レンズの外形中心と光軸位置の偏芯による影響がキャンセルされており、レンズの光軸位置とレンズ鏡枠の外形中心が正確に一致しているため、装置にレンズ鏡枠の外形基準で組み込んだ際、所望の光学性能を達成できる。また、複数のレンズを、同一鏡枠に組み込む場合も、同じ手順にて行うことが可能である。
【００２６】
また、上述の位置決めを行う際、被検レンズＭＬに事前に形成された、レンズの方向を識別するためのマークＫを検出してもよい。マークは、レンズ成形時に形成してもよく、あるいは光軸位置検出前にレンズに加工してもよい。またマークは、塗料等を塗布（インクジェット等）してもよい。
【００２７】
図３（ｂ）では、マークＫは線状であるが、また、マークの位置に特に制限はないが、光学性能に与える影響が小さく、組立の際に障害とならない位置に設けることが好ましい。例えば、図３（ｂ）のようにフランジ部に設けてもよい。また、その形状に制限はなく、例えば、図３（ｂ）のように線状でもよく、あるいは点状（不図示）でもよい。マークＫはレンズ鏡枠に対して、常に一定方向にレンズを組み込むことに利用可能である。
【００２８】
また、平面画像から求めた、レンズ外形と光軸位置との偏芯方向の目印としても用いることが可能である。
【００２９】
図４は、レンズの光学性能を測定する干渉計装置の一例を示す構成図である。この干渉計装置は、トワイマン・グリーン型の干渉計からなり、光学系として、光源１２と、コリメータレンズ１３と、光分割合成手段であるビームスプリッタ１４と、被検対象用ステージ１５と、参照平面ミラー１６と、撮像レンズ１７と、ＣＣＤセンサ１８とを備える。また、この干渉計装置は、駆動制御系として、光源駆動回路２１と、ステージ駆動装置２３と、参照ミラー走査用のＤ／Ａ変換回路２４と、参照ミラー移動用のモータドライバ２５と、画像処理装置２６と、これらの動作を統括的に制御するコンピュータ２７とを備える。
【００３０】
光源１２は、半導体レーザなどのコヒーレント光源として構成され、所定波長の検査光を出射する。光源１２は、波長可変型の光源を用いてもよく、あるいは、異なる波長の光を放射する複数の光源を切り替えるように構成してもよい。
【００３１】
光源１２は、光源駆動回路２１によって制御される。光源１２が半導体レーザである場合、光源駆動回路２１は、高周波重畳回路２１ａを内蔵しており、ＤＣ電流に高周波電流を重畳したものを供給することで、光源１２から出射する検査光のコヒーレンス長を所望の値に調整することができる。
【００３２】
コリメータレンズ１３は、光源１２からの出射光を平行光束に変換する。異なる波長の検査光を使用する場合、コリメータレンズ１３として色消しレンズを用いたり、あるいはコリメータレンズ１３を波長毎に対応するものに交換する。平行化された検査光は、ミラー３０を経由してビームスプリッタ１４に入射する。
【００３３】
ビームスプリッタ１４は、平行平板状の透明プレートであり、ビーム分割面１４ａに例えば半透鏡膜を形成している。ビームスプリッタ１４は、これに入射した検査光の一部をビーム分割面１４ａで反射して参照光とし、残りの検査光を透過させて被検光とする。
【００３４】
被検対象用ステージ１５は、手動機構（不図示）またはステージ駆動装置２３によって駆動可能であり、被検対象を３次元的に移動させて適所に保持する。図示の場合、被検対象用ステージ１５には、被検対象である被検レンズＭＬが固定されている。なお、被検対象が図示のようにレンズでありその結像特性を計測する場合、被検レンズＭＬの後方に参照凹面ミラー３１を配置し、被検レンズＭＬを通過した光を反射し、再び被検レンズＭＬを通過させてほぼ平行光束にしてビームスプリッタ１４に戻し、参照光と干渉させる。被検レンズＭＬが、光ディスク用対物レンズ等の、所定の平行平面基板を介して集光するように設計されたレンズの場合、参照凹面ミラー３１と被検レンズＭＬとの間にカバーガラス３２を配置する。
【００３５】
参照平面ミラー１６は、入射面１６ａに例えば反射膜を形成している。参照平面ミラー１６は、圧電素子４１を介してアライメント装置４２に固定されている。圧電素子４１は、位相送り機構として、Ｄ／Ａ変換回路２４からの制御電圧に応じて伸縮し、参照ミラーを光軸ＯＡの方向に波長オーダで精密に往復移動させることができる。アライメント装置４２は、手動機構やモータドライバ２５に駆動されて、参照平面ミラー１６の光軸方向の位置や姿勢を適切な状態に保つ。
【００３６】
撮像レンズ１７は、ビームスプリッタ１４を経て合成された、被検レンズＭＬからの被検光と参照平面ミラー１６からの参照光とを合成光として集光する。なお、図示を省略しているが、撮像レンズ１７には、これを光軸ＯＡ方向等に変位させる駆動機構を付設しており、かかる駆動機構等の調節によってフォーカス状態を調整することができる。
【００３７】
ＣＣＤセンサ１８には、撮像レンズ１７によって一旦集光された合成光が干渉縞として投影される。この干渉縞のパターンは、電気信号として画像処理装置２６に出力される。この電気信号は、ＣＣＤセンサ１８に投影された干渉パターンに対応する画像信号としてコンピュータ２７に出力される。なお、図示を省略しているが、ＣＣＤセンサ１８には、これを光軸ＯＡ方向に移動させる駆動機構を付設しており、かかる駆動機構等の調節によってＣＣＤセンサ１８による撮像倍率を調整することができる。また、ＣＣＤセンサ１８は、画像処理装置２６側から制御されるカメラシャッタを有する。このカメラシャッタは、内蔵するフォトダイオードの蓄積時間を調節するものであり、入射する光強度にかかわらず適切な輝度分布の画像信号を与える。
【００３８】
コンピュータ２７は、光源駆動回路２１を制御して、光源１２を点灯させるとともに、出射する検査光のコヒーレンス長を調整する。また、コンピュータ２７は、Ｄ／Ａ変換回路２４を制御して、参照平面ミラー１６を光軸方向に移動させることによって、ＣＣＤセンサ１８に投影される干渉縞の移動を制御することができ、干渉縞の位置制御が行える。位相制御された最低３枚以上の干渉縞から測定対象の波面や形状を高精度に測定できる。
【００３９】
また、コンピュータ２７は、モータドライバ２５を制御してアライメント装置４２を駆動し、参照平面ミラー１６の光軸方向の位置を調整する。つまり、コンピュータ２７、モータドライバ２５、及びアライメント装置４２は、光路差制御手段を構成する。これにより、ＣＣＤセンサ１８に投影される干渉縞の明暗強度差に相当するビジビリティを調整することができ、被検対象による波面変化の計測精度を一定以上に保つことができる。
【００４０】
次に、干渉計装置の動作について説明する。まず、被検対象用ステージ１５上に被検対象である被検レンズＭＬをセットする。次に、アライメント装置４２を手動または電動で動作させることにより、光軸ＯＡに沿って参照平面ミラー１６を移動させて距離Ｌ１を調節することができ、参照光路長及び被検光路長を実質的に等しくすることができる。
【００４１】
次に、光源駆動回路２１を動作させて、光源から特定波長の検査光を出射させる。この際、光源駆動回路２１は、光源１２に対してＤＣ電流に高周波電流を重畳したものを供給して検査光のコヒーレンス長を調節する。つまり、光源駆動回路２１やコンピュータ２７は、コヒーレンス調整手段として機能する。これにより、必要な被検光のみを選択して参照光との干渉縞を発生させることができる。
【００４２】
次に、アライメント装置４２を微動させて、ＣＣＤセンサ１８に投影される干渉縞のビジビリティを調整する。これにより、画像処理装置２６で検出する干渉パターンのコントラストを所望の値に設定することができる。これと相前後して、ＣＣＤセンサ１８のカメラシャッタを適宜調節して、画像処理装置２６で検出する干渉パターンの輝度を調節する。具体的には、ＣＣＤセンサ１８の蓄積時間を調節して、干渉パターンの輝度を干渉パターンの計測に適する値にする。この際、ＣＣＤセンサ１８のカメラシャッタの調節を自動化することができる。例えば、画像処理装置２６で検出した画像をコンピュータ２７で解析して画像の平均輝度等からＣＣＤセンサ１８の蓄積時間を設定して画像処理装置２６に指令信号を出力する。次に、コンピュータ２７からＤ／Ａ変換回路２４に制御信号を出力して圧電素子４１を変化させる。これにより、参照平面ミラー１６を位相送りする走査が可能になり、高精度な波面計測が可能になる。
【００４３】
さらに本実施形態では、被検対象用ステージ１５に戴置した被検レンズＭＬの平面画像を撮像するための撮像カメラ５１と、撮像カメラ５１からの画像信号を処理するための画像処理装置５２とが設置される。画像処理装置５２で処理された信号はコンピュータ２７に伝送され、必要に応じてスクリーン上に表示される。撮像カメラ５１は、図１に示したように、被検レンズＭＬの第２面で全反射したリング像を取り込むための光学系として構成することが可能である。
【００４４】
干渉測定の際、干渉計の光束に対してレンズを置く位置が毎回異なって、光軸方向に垂直な平面内（Ｘ，Ｙ）でばらつくと、参照凹面ミラー３１の位置も測定毎に異なることとなる。特に、次世代ＤＶＤ用のピックアップレンズ等として用いられる高ＮＡレンズにおいては、ヌルフリンジに追い込む為に数ｎｍ〜数十ｎｍの精度で調整を行っており、前回測定レンズからその凹面原器位置が大きく外れるとそのままでは干渉縞がでずに、再度干渉縞を出すための調整に時間がかかる。
【００４５】
そこで、検出したレンズ光軸を干渉計の光束に対して常に略同じ位置に置くことで、連続して測定しても、鮮明な干渉縞が毎回得られ、参照凹面ミラー３１の調整量も少なくてすむため、測定タクトタイムを短縮できる。さらには、測定毎に干渉縞の領域を抽出し、マスクを毎回設定する必要がなく、固定のマスクで測定可能となる。
【００４６】
検出したレンズの光軸を干渉計の光束に対して略同じ位置に置く方法としては、下記の手法が考えられる。図５のフローチャートに示すように、まず、ステージ１５の平面画像から、内径１５ａの中心を算出し、干渉計の光束の中心と設定する（ｓ１）。
【００４７】
次に、レンズＭＬの平面画像から、リング像の中心を算出し、レンズの光軸と設定する（ｓ２）。これらを合わせることで、検出したレンズの光軸を干渉計の光束に対して略同じ位置に置く（ｓ３）。
【００４８】
図４に戻って、ステージ内径の中心検出や、レンズのリング像の中心検出を行う場合、撮像カメラ５１がレンズ台１５や被検レンズＭＬに直接対向するように、参照凹面ミラー３１を移動させる必要がある。
【００４９】
図６は、ステージ１５または参照凹面ミラー３１の退避動作を示す説明図であり、図６（ａ）（ｃ）（ｅ）（ｇ）は、図４の干渉計装置を上から見た平面図であり、図６（ｂ）（ｄ）（ｆ）（ｈ）はその正面図である。
【００５０】
図６（ａ）〜（ｄ）は、ステージ１５は固定した状態で、参照凹面ミラー３１を移動する態様を示す。図６（ａ）（ｂ）において、参照凹面ミラー３１を側方に移動した状態で、ステージ１５の上方に配置した撮像カメラ５１がステージ１５や披検レンズＭＬの平面画像を撮像する。得られた平面画像からステージ内径の中心検出や、レンズのリング像の中心検出を行う。その後、図６（ｃ）（ｄ）に示すように、参照凹面ミラー３１を元の位置に戻している。
【００５１】
一方、図６（ｅ）〜（ｈ）は、参照凹面ミラー３１は固定した状態で、ステージ１５を移動する態様を示す。図６（ｅ）（ｆ）において、ステージ１５を側方に移動した状態で、その上方に配置した撮像カメラ５１がステージ１５や披検レンズＭＬの平面画像を撮像する。得られた平面画像からステージ内径の中心検出や、レンズのリング像の中心検出を行う。その後、図６（ｇ）（ｈ）に示すように、参照凹面ミラー３１を元の位置に戻している。
【００５２】
こうした退避動作を行うためには、参照凹面ミラー３１及び／又はステージ１５の側方移動を可能にする直線移動機構（不図示）が干渉計装置の内部に設置される。なお、ステージ１５を移動させる場合、載せたレンズがずれないようにレンズ固定が必要になる。レンズの固定は、機械的に固定してもよいし、エア吸着で固定してもよい。
【００５３】
エア吸着で固定する方法としては、下記の手法が考えられる。図７に示すように、ステージ１５の貫通孔には、気密性の内部空間を形成するための封止窓１５ｂが設けられる。封止窓１５ｂは、透明材料で形成され、迷光を防ぐために測定光の光軸に対して斜めに固定される。ステージ１５の内部空間は管路１５ｃを経由して吸引することにより、被検レンズＭＬをステージ１５に密着させて固定することができ、ステージ１５を移動させる場合、載せたレンズがずれることを防ぐことができる。
【産業上の利用可能性】
【００５４】
本発明は、レンズの光軸位置を迅速かつ高精度で取得できる点で、産業上極めて有用である。
【符号の説明】
【００５５】
１  光学加工面
２  フランジ部
１２  光源
１３  コリメータレンズ
１４  ビームスプリッタ
１５  被検対象用ステージ
１６  参照平面ミラー
１７  撮像レンズ
１８  ＣＣＤセンサ
２１  光源駆動回路
２３  ステージ駆動装置
２４  Ｄ／Ａ変換回路
２５  モータドライバ
２６，５２  画像処理装置
２７  コンピュータ
３１  参照凹面ミラー
４２  アライメント装置
５１  撮像カメラ
５５  ビームスプリッタ
５６  撮像レンズ
５７  撮像素子
ＭＬ  被検レンズ
【図１】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図２】
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