(57)【要約】【課題】低コストで、かつ導電性メッシュの金属光沢に起因する表示画像の視認性の低下が抑制されたディスプレイ用フィルターを提供する。【解決手段】基材上に、導電性メッシュを有し、該導電性メッシュ上に表面層を有するディスプレイ用フィルターであって、前記導電性メッシュは、前記基材側から順に、特定金属からなる金属層（Ａ）と、前記特定金属とは異種の金属、もしくは金属化合物からなる金属層（Ｂ）で構成され、かつ前記金属層（Ａ）の厚みが０．５〜４μｍ、前記金属層（Ｂ）の厚みが０．００５〜０．１μｍであり、前記表面層は、前記導電性メッシュの凹凸構造に由来する凹凸構造を有し、かつ着色剤を含有することを特徴とする、ディスプレイ用フィルター。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材上に、導電性メッシュを有し、該導電性メッシュ上に表面層を有するディスプレイ用フィルターであって、
前記導電性メッシュは、前記基材側から順に、特定金属からなる金属層（Ａ）と、前記特定金属とは異種の金属、もしくは金属化合物からなる層（Ｂ）とで構成され、
かつ前記金属層（Ａ）の厚みが０．５〜４μｍ、前記層（Ｂ）の厚みが０．００５〜０．１μｍであり、
前記表面層は、前記導電性メッシュの凹凸構造に由来する凹凸構造を有し、かつ着色剤を含有することを特徴とする、ディスプレイ用フィルター。
【請求項２】
前記表面層の凹凸構造の高低差（Ｄ）が、０．３〜７μｍである、請求項１に記載のディスプレイ用フィルター。
【請求項３】
前記表面層の中心線平均粗さＲａが、８０〜８００ｎｍである、請求項１又は２に記載のディスプレイ用フィルター。
【請求項４】
前記金属層（Ａ）を構成する特定金属が、金、銀、銅、アルミニウム、及びニッケルからなる群より選ばれる少なくとも１種である、請求項１〜３のいずれかに記載のディスプレイ用フィルター。
【請求項５】
前記層（Ｂ）が金属化合物で構成され、該金属化合物が、金属酸化物、金属硫化物、及び金属窒化物からなる群より選ばれる少なくとも１種である、請求項１〜４のいずれかに記載のディスプレイ用フィルター。
【請求項６】
前記表面層が、少なくともハードコート層を含み、該ハードコート層が着色剤を含有する、請求項１〜５のいずれか１項に記載のディスプレイ用フィルター。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＣＲＴ、有機ＥＬディスプレイ、液晶ディスプレイ、及びプラズマディスプレイ等のディスプレイ装置の画面に装着されるディスプレイ用フィルターに関する。
【背景技術】
【０００２】
ディスプレイ装置には、通常、外光の反射の防止、ディスプレイから発生する電磁波の遮蔽、ディスプレイの保護などを目的としたディスプレイ用フィルターがディスプレイの視認側に配置される。特にＰＤＰはその構造や動作原理上、強度な電磁波が発生するため、人体や他の機器に与える影響が懸念され、日本ではＶＣＣＩ（情報処理装置等電波障害自主規制協議会）、米国ではＦＣＣ（米国連邦通信委員会）等の基準値内に抑えることが規格化されている。
【０００３】
一方、プラズマディスプレイの低価格化に伴って、ディスプレイ用フィルターも年々低価格化しており、コストダウンの要求も厳しくなっている。一般的なディスプレイ用フィルターは、プラスチックフィルム等の基材上に、ハードコート層、反射防止層、防眩層等の機能層を有する光学機能性フィルムと、プラスチックフィルム等の基材上に導電層（電磁波遮蔽層）が形成された電磁波遮蔽フィルムとを接着層を介して積層して製造されているが、この２枚の基材からなるディスプレイ用フィルターに対して、１枚のみの基材で構成することによって低価格化が可能となる。
【０００４】
１枚のみの基材からなるディスプレイ用フィルターの１つの構成として、基材上に形成された導電性メッシュからなる導電層を被覆するようにハードコート層や反射防止層等の機能層を配置する態様が挙げられる。導電性メッシュは、スパッタや真空蒸着で形成された金属薄膜に比べて、低抵抗の導電層を比較的低コストで得られるということから好ましく用いられている。
【０００５】
導電性メッシュからなる導電層を機能層で被覆したディスプレイ用フィルターが知られている。例えば、導電性メッシュ上にハードコート、防眩層あるいは反射防止層等の硬化層が直接に配置された透明導電性ハードコートフィルムが特許文献１に記載されており、また、導電性メッシュ上にハードコート層、あるいはハードコート層と反射防止層を積層したディスプレイ用フィルターが特許文献２に記載されており、また、金属パターン層（導電性メッシュ）の凹凸を平坦化するための平坦化層と反射防止層を積層した光学フィルターが特許文献３に記載されている。
【０００６】
ディスプレイ用フィルターを構成する導電性メッシュは、通常、金属で形成されているために、その金属光沢が、ディスプレイの表示画像の視認性を低下させるという問題がある。即ち、蛍光灯などの外光の映り込み像が鮮明になって表示画像の視認性が低下するという問題がある。従って、導電性メッシュの金属光沢を抑制するために、導電性メッシュの表面に黒化層を設けることが一般に行われている。黒化層の形成方法として、導電性メッシュを構成する金属層表面を酸化処理して黒化する方法（例えば特許文献４）、導電性メッシュを構成する金属層の表面に黒色の金属酸化物層を蒸着法やメッキ法で形成する方法（例えば特許文献５、６）、あるいは導電性メッシュを構成する金属層（例えば銅メッキ層）上にＮｉ−Ｓｎ合金のメッキを施して黒色化する方法（例えば特許文献７）が知られている。
【０００７】
一方、ハードコート層に顔料、染料、色素等の遮光材料を含有させることが知られている（例えば、特許文献８）。
【特許文献１】特開２００７−１４０２８２号公報
【特許文献２】特開２００７−２４３１５８号公報
【特許文献３】特開平１１−３３７７０２号公報
【特許文献４】特開２００６−１９１０１０号公報
【特許文献５】特開２０００−２２３８８６号公報
【特許文献６】特開２００１−１２７４８５号公報
【特許文献７】特開２００６−１７３１８９号公報
【特許文献８】特開２００７−１２１６０８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
上記した、特許文献４の方法（導電性メッシュを構成する金属層表面を酸化処理する方法）は、導電性メッシュの金属光沢を抑制するという意味では有効であるが、その反面、酸化処理液は高アルカリであるために基材と導電性メッシュの密着性を低下させるという問題があり、特に本発明のディスプレイ用フィルターに用いられる金属層の製法として好適な気相製膜法で形成された金属層を用いた導電性メッシュは、その影響を受けやすいという問題がある。また、酸化処理で形成された黒化層は脆弱であるために脱離しやすく、ディスプレイ用フィルターの製造工程の中の導電性メッシュ上に表面層を塗工する工程で、黒化層の一部が脱離して、異物としてディスプレイ用フィルター上に残留したり、ロール等の搬送経路を汚染するという問題がある。また更に、黒化層として十分な性能を得るためには１μｍ程度の厚みが必要であり、その黒化層の厚み分、金属層の厚みが目減りし、電磁波遮蔽性が低下するという問題がある。
【０００９】
一方、上記の特許文献５〜７の方法（蒸着法やメッキ法で黒化層を形成する方法）は、導電性メッシュの金属光沢を抑制するのに十分な黒化層（実際は黒色を呈しない場合が多い）を形成することは難しいという問題がある。しかし、その反面、特に蒸着法等の気相製膜法で黒化層を形成する方法は、前述の酸化処理のような湿式処理を必要としないので、作業環境の面で好ましく、また、０．１μｍ以下という薄膜の形成が容易にできるという利点があり、厚みが小さい導電性メッシュを作成する上で有益である。
【００１０】
上述した、従来から一般的に採用されている、２枚基材のディスプレイ用フィルターの場合は、導電性メッシュに対して視認側（観賞側）には、粘着剤層、近赤外線遮蔽層、色補正層、プラスチックフィルム等からなる基材、あるいは反射防止層等の表面層が配置されているので、上記した後者の方法（蒸着法やメッキ法で黒化層を形成する方法）で形成された黒化層であっても、導電性メッシュの金属光沢を抑制するという観点からはあまり問題にはならなかった。
【００１１】
しかしながら、本発明が対象とするディスプレイ用フィルターは、導電性メッシュに対して視認側には、プラスチックフィルム基材や粘着剤層等の導電性メッシュの金属光沢を軽減する層が存在しないので、上記した後者の方法（蒸着法やメッキ法で黒化層を形成する方法）で形成された黒化層では、導電性メッシュの金属光沢を抑制することは不十分であり、表示画像の視認性の低下を招くという問題のあることが新たに判明した。
【００１２】
一方、特許文献８に開示されているように、ハードコート層に顔料、染料、色素等の遮光材料を含有させることが知られている。しかしながら、同文献は、導電性メッシュの金属光沢が起因する表示画像の視認性の低下を抑制することを目的としたものではない。
【００１３】
また、上述した導電性メッシュを被覆するように機能層を積層したディスプレイ用フィルターに関する特許文献１〜３についても、導電性メッシュの金属光沢が起因する表示画像の視認性の低下を抑制するために機能層（ハードコート層、反射防止層、防眩層等）に着色剤を含有させることは記載されていない。
【００１４】
そこで、本発明は、上記した問題に鑑み、低コストで、かつ導電性メッシュの金属光沢に起因する表示画像の視認性の低下が抑制されたディスプレイ用フィルターを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明の上記目的は、以下の発明によって基本的に達成された。
１）基材上に、導電性メッシュを有し、該導電性メッシュ上に表面層を有するディスプレイ用フィルターであって、
前記導電性メッシュは、前記基材側から順に、特定金属からなる金属層（Ａ）と、前記特定金属とは異種の金属、もしくは金属化合物からなる層（Ｂ）とで構成され、
かつ前記金属層（Ａ）の厚みが０．５〜４μｍ、前記層（Ｂ）の厚みが０．００５〜０．１μｍであり、
前記表面層は、前記導電性メッシュの凹凸構造に由来する凹凸構造を有し、かつ着色剤を含有することを特徴とする、ディスプレイ用フィルター。
２）前記表面層の凹凸構造の高低差（Ｄ）が、０．３〜７μｍである、前記１）に記載のディスプレイ用フィルター。
３）前記表面層の中心線平均粗さＲａが、８０〜８００ｎｍである、前記１）又は２）に記載のディスプレイ用フィルター。
４）前記金属層（Ａ）を構成する特定金属が、金、銀、銅、アルミニウム、及びニッケルからなる群より選ばれる少なくとも１種である、前記１）〜３）のいずれかに記載のディスプレイ用フィルター。
５）前記層（Ｂ）が金属化合物で構成され、該金属化合物が、金属酸化物、金属硫化物、及び金属窒化物からなる群より選ばれる少なくとも１種である、前記１）〜４）のいずれかに記載のディスプレイ用フィルター。
６）前記表面層が、少なくともハードコート層を含み、該ハードコート層が着色剤を含有する、前記１）〜５）のいずれかに記載のディスプレイ用フィルター。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、低コストで、かつ導電性メッシュの金属光沢に起因する表示画像の視認性の低下が抑制されたディスプレイ用フィルターを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
本発明のディスプレイ用フィルターは、基材上に導電性メッシュを有し、該導電性メッシュ上に表面層を有する。ここで導電性メッシュ上の表面層は、該導電性メッシュを被覆するように表面層が形成される。また表面層とは、ディスプレイ用フィルターをディスプレイに装着したときに、視認側（鑑賞者側）の最表面となる層である。表面層の詳細については後述する。
【００１８】
（導電性メッシュ）
本発明にかかる導電性メッシュは、基材側から順に、特定金属からなる金属層（Ａ）と、前記特定金属とは異種の金属、もしくは金属化合物からなる層（Ｂ）で構成される。
【００１９】
ここで、金属層（Ａ）を構成する特定金属は、導電性が高い金属が好ましく、例えば、金、銀、銅、アルミニウム、及びニッケルからなる群より選ばれる少なくとも１種の金属が好ましく、更に、銀、銅、アルミニウムの中のいずれかの金属が好ましく、特に、銅が好ましい。
【００２０】
層（Ｂ）には、金属層（Ａ）の特定金属とは異種の金属、もしくは金属化合物が用いられる。異種の金属としては、金、白金、銀、水銀、銅、アルミニウム、ニッケル、クロム、鉄、スズ、亜鉛、インジウム、パラジウム、イリジウム、コバルト、タンタル、アンチモン、及びチタン等からなる群より選ばれる少なくとも1種の金属が挙げられ、金属層（Ａ）の特定金属とは異なる金属が選択される。また金属化合物としては、上記の異種金属で例示された金属の酸化物、窒化物、硫化物、炭化物、及びフッ化物からなる群より選ばれる少なくとも１種が挙げられる。これらの中でも、金属酸化物、金属窒化物、金属硫化物が好ましく用いられる。なお、金属層（Ａ）の特定金属と、層（Ｂ）の金属化合物の金属としては同じ金属であってもよく、例えば、金属層（Ａ）が銅で構成されている場合に、層（Ｂ）が酸化銅で構成される態様などは、本発明に含まれる。
【００２１】
上記の金属酸化物としては、ＩＴＯ、ＡＴＯ、酸化銅、酸化クロム、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化銀、酸化コバルト、酸化水銀、酸化金、酸化イリジウム等が好ましく用いられる。
【００２２】
上記の金属窒化物としては、窒化アルミニウム、窒化チタン等が好ましく用いられる。
【００２３】
上記の金属硫化物としては、硫化クロム、硫化銅、硫化パラジウム、硫化ニッケル、硫化コバルト、硫化鉄、硫化タンタル、硫化チタン等が好ましく用いられる。
【００２４】
本発明にかかる導電性メッシュを構成する金属層（Ａ）の厚みは、０．５〜４μｍである。金属層（Ａ）は導電性メッシュの電磁波遮蔽性能を発現する層であり、十分な電磁波遮蔽性能を確保するためには、厚みが０．５μｍ以上必要であり、厚みが１μｍ以上であることが好ましい。一方、導電性メッシュの厚みは、金属層（Ａ）の厚みに大きく依存するので、金属層（Ａ）の厚みが４μｍより大きくなると、導電性メッシュの合計厚みが大きくなり、表面層の塗工性が低下し、また、導電性メッシュのコスト、加工性の点で不利となる。
【００２５】
本発明の導電性メッシュには、従来の一般的な黒化処理（酸化処理）は必ずしも施す必要はない。つまり、この黒化処理に代えて、層（Ｂ）を金属層（Ａ）の上に積層し、さらに着色剤を含有した表面層を設けることによって、金属層（Ａ）の金属光沢を低減することができるからである。なお、層（Ｂ）は導電性メッシュの最表面に配置することが好ましい。
【００２６】
導電性メッシュを構成する層（Ｂ）は、金属層（Ａ）の金属光沢を低減するため、あるいは、金属層（Ａ）の色目を変化させるための層である。本発明において、層（Ｂ）は、０．１μｍ以下の極薄膜である。層（Ｂ）の厚みが０．１μｍより大きくなると、コスト、加工性の点で不利である。また、金属層（Ａ）と層（Ｂ）の屈折率差で金属層（Ａ）の色目を変化させるためには、層（Ｂ）は光透過性が必要であり、層（Ｂ）の厚みが０．１μｍより大きくなると、光透過性が低下し、上記目的を達成できなくなる。
【００２７】
例えば、金属層（Ａ）として銅を用いた場合、その赤味がかった色合いを、異種金属で構成される層（Ｂ）を積層することによって、所望する色目に変更することができる。
【００２８】
上記した層（Ｂ）の目的を達成するためには、層（Ｂ）の厚みは、０．００５μｍ以上必要であり、好ましくは０．０１μｍ以上である。
【００２９】
本発明にかかる、導電性メッシュの厚み（金属層（Ａ）と層（Ｂ）を含む導電性メッシュの合計厚み）は、４μｍが好ましく、３．５μｍ以下がより好ましく、特に３μｍ以下が好ましい。一方、導電性メッシュの合計厚みの下限としては、０．６μｍ以上が好ましく、０．８μｍ以上がより好ましく、特に１μｍ以上が好ましい。
【００３０】
本発明にかかる導電性メッシュの製造方法について、以下に説明する。
【００３１】
導電性メッシュを製造するに際し、予め、基材上に特定金属からなる金属層（Ａ）と該特定金属とは異種の金属もしくは金属化合物からなる層（Ｂ）が、基材側から金属層（Ａ）、層（Ｂ）の順に積層される。金属層（Ａ）と層（Ｂ）の積層方式としては、気相製膜法を用いることが好ましい。気相製膜法は、層（Ｂ）のような極薄膜を均一に精度よく製膜するのに適しており、また、金属層（Ａ）と層（Ｂ）を気相製膜法で、連続的に製膜することができ、生産性の面で有利である。また、気相製膜法は、湿式メッキ法に比べて、作業環境面で好ましい。
【００３２】
気相製膜法としては、スパッタリング、イオンプレーティング、電子ビーム蒸着、真空蒸着、化学蒸着等が挙げられるが、これらの中でも、スパッタリング及び真空蒸着が好ましい。
【００３３】
基材上に気相製膜法で積層された、金属層（Ａ）と層（Ｂ）のパターン加工方法について、２つの好ましい加工方法を説明する。以下の説明において、金属層（Ａ）と層（Ｂ）が積層されたものを、単に含金属積層膜と言う。
【００３４】
１つのパターン加工方法は、含金属積層膜をエッチング法によってメッシュパターン状に加工する方法である。もう１つの加工方法は、予め基材上に、溶剤に可溶な樹脂を用いて導電性メッシュのパターンとは逆パターンを形成し、次いで、基材のパターン形成面に気相製膜法で含金属積層膜を積層し、溶剤にて逆パターンの樹脂とその上の金属層を除去することによって、メッシュパターンの含金属積層膜を形成する方法である。
【００３５】
前者のパターン加工方法について詳細に説明する。かかる加工方法は、基材上に気相製膜法で積層された含金属積層膜の上に、フォトリソグラフィー法あるいはスクリーン印刷法などを利用してレジストパターンを作製した後、含金属積層膜をエッチングする方法である。上記のレジストパターンを形成する方法としては、フォトリソグラフィー法が好ましく用いられる。かかるフォトリソグラフィー法は、含金属積層膜上に感光性レジスト層を積層し、該レジスト層をメッシュパターン状に露光し、現像してレジストパターンを形成し、次いで、含金属積層膜をエッチングしてメッシュパターン化し、メッシュ上のレジスト層を剥離除去する方法である。
【００３６】
感光性レジスト層としては、露光部分が硬化するネガレジスト、あるいは逆に露光部分が現像によって溶解するポジレジストを用いることができる。感光性レジスト層は含金属積層膜上に直接に塗工して積層してもよいし、あるいはフォトレジストからなるフィルムを貼り合わせてもよい。フォトレジスト層を露光する方法としては、フォトマスクを介して紫外線等で露光する方法、もしくはレーザーを用いて直接に走査露光する方法を用いることができる。
【００３７】
エッチングする方法としては、ケミカルエッチング法等がある。ケミカルエッチングとは、レジストパターンで保護された含金属積層膜部分以外の金属をエッチング液で溶解し、除去する方法である。エッチング液としては、塩化第二鉄水溶液、塩化第二銅水溶液、アルカリエッチング液等がある。
【００３８】
後者のパターン加工方法について詳細に説明する。このパターン加工方法は、一般にリフトオフと呼ばれる方法であり、基材上に予め剥離可能な樹脂を用いて導電性メッシュとは逆パターンの樹脂層を形成し、その上から含金属積層膜を設け、次いで、前記逆パターンの樹脂層を剥離する方法である。前記の逆パターンの樹脂層を剥離するときに、同時に樹脂層上の含金属積層膜も一緒に剥離されるため、樹脂層を形成しなかった部分にのみ金属層のパターンが形成される。従って、この加工方法は、剥離可能な樹脂層は導電性メッシュとは逆パターンに形成する必要がある。
【００３９】
基材上に、予め、導電性メッシュパターンとは逆パターンに形成される、剥離可能な樹脂層に用いられる樹脂としては、溶剤に可溶な樹脂が好ましく用いられる。かかる樹脂としては、水溶性樹脂、有機溶剤に可溶な樹脂、及びアルカリに可溶な樹脂を用いることができる。これらの樹脂の中でも、作業環境等の観点から、水溶性樹脂が好ましく、特に水溶性の高分子樹脂が好ましく用いられる。
【００４０】
水溶性高分子樹脂としては、ポリビニルピロリドン、ポリビニルアルコール、ポリビニルアルコールの部分ケン化物、可溶性デンプン、カルボキシメチルデンプン、酢酸ビニル−マレイン酸交互共重合体、ヒドロキシプロピルセルロースが挙げられ、これらの水溶性高分子樹脂の１種もしくは２種以上の混合物を用いることができる。
【００４１】
有機溶剤に可溶な樹脂としては、例えば、ポリイミドエーテル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリベンゾイミダゾール樹脂、ポリヒダントイン樹脂、ポリパラバン樹脂や溶剤可溶型ポリイミド樹脂などがある。またシリコーングリースや油性インクなどを用いることもできる。
【００４２】
アルカリに可溶な樹脂としては一般的なレジストを用いることが可能である。レジストを構成するバインダポリマーとしては、以下に示すものが挙げられる。天然ゴム、ポリイソプレン、ポリ−１,２−ブタジエン、ポリイソブテン、ポリブテン、ポリ−２−ヘプチル−１，３ −ブタジエン、ポリ−２−ｔ−ブチル−１,３−ブタジエン、ポリ−１,３−ブタジエンなどの（ジ）エン類、ポリオキシエチレン、ポリオキシプロピレン、ポリビニルエチルエーテル、ポリビニルヘキシルエーテル、ポリビニルブチルエーテルなどのポリエーテル類、ポリビニルアセテート、ポリビニルプロピオネートなどのポリエステル類、ポリウレタン、エチルセルロース、ポリ塩化ビニル、ポリアクリロニトリル、ポリメタクリロニトリル、ポリスルホン、ポリスルフィド、ポリエチルアクリレート、ポリブチルアクリレート、ポリ−２−エチルヘキシルアクリレート、ポリ−ｔ−ブチルアクリレート、ポリ−３−エトキシプロピルアクリレート、ポリオキシカルボニルテトラメタクリレート、ポリメチルアクリレート、ポリイソプロピルメタクリレート、ポリドデシルメタクリレート、ポリテトラデシルメタクリレート、ポリ−ｎ−プロピルメタクリレート、ポリ−３，３ ，５−トリメチルシクロヘキシルメタクリレート、ポリエチルメタクリレート、ポリ−２−ニトロ−２−メチルプロピルメタクリレート、ポリ−１，１−ジエチルプロピルメタクリレート、ポリメチルメタクリレートなどのポリ（メタ）アクリル酸エステルを使用することができる。 さらにアクリル樹脂とアクリル以外との共重合可能なモノマーとしては、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエーテルアクリレート、ポリエステルアクリレートなども使用できる。
【００４３】
剥離可能な樹脂を用いて、基材上に導電性メッシュとは逆パターンの樹脂層を形成する方法としては、印刷法やフォトリソグラフィー法などを用いることができる。印刷法としては、例えば、スクリーン印刷、インクジェット、凹版印刷、凸版印刷、オフセット印刷、グラビア印刷、フレキソ印刷など様々な方法を用いることができる。
【００４４】
フォトリソグラフィー法は、前述のエッチング法によるパターン加工方法で説明したフォトリソグラフィー法を用いることができる。
【００４５】
本発明にかかる導電性メッシュにおいて、金属層（Ａ）として、銅を用いる場合は、金属層（Ａ）と基材との接着性を向上させるために、基材と金属層（Ａ）との間に、５〜１００ｎｍの厚みのニッケル層を配置するのが好ましい。このニッケル層は、前述した気相製膜法で形成することが好ましい。このニッケル層は、含金属積層膜をパターン加工するときに、同じようにパターン加工され、導電性メッシュの一部を構成する。
【００４６】
本発明において、導電性メッシュの線幅は３〜３０μｍの範囲が好ましく、５〜２０μｍの範囲がより好ましく、特に５〜１２μｍの範囲が好ましい。
【００４７】
導電性メッシュのピッチは、５０〜５００μｍの範囲が好ましく、８０〜４００μｍの範囲がより好ましく、特に１００〜３００μｍの範囲が好ましい。ここで、導電性メッシュのピッチとは、導電性メッシュの開口部のピッチを意味し、具体的には、１つの開口部と、この開口部と１辺を共有する隣接する開口部との重心間の距離である。導電性メッシュとして、開口部が正方形の格子状のメッシュパターンが一般的に用いられているが、開口部が正方形の格子状の導電性メッシュの場合は、そのピッチは、隣接する細線間の距離（正方形の向かい合う２辺の距離）となる。
【００４８】
導電性メッシュのメッシュパターンの形状（開口部の形状）は、例えば、正方形、長方形、菱形等の４角形からなる格子状メッシュパターン、三角形、５角形、６角形、８角形、１２角形のような多角形からなるメッシュパターン、円形、楕円形からなるメッシュパターン、前記の複合形状からなるメッシュパターン、及びランダムメッシュパターンが挙げられる。上記の中でも、４角形からなる格子状メッシュパターン、６角形からなるメッシュパターンが好ましく、更に規則的なメッシュパターンが好ましく用いられる。
（表面層）
次に、導電性メッシュ上に積層される表面層について説明する。本発明にかかる表面層は、光学機能及び／または表面保護機能を有する層であることが好ましい。光学機能としては、反射防止機能、防眩機能等があり、表面保護機能としては、ハードコート機能、防汚機能等がある。
【００４９】
また、本発明の表面層は、導電性メッシュの金属光沢に起因する表示画像の視認性の低下を抑制するための層である。上述したように、導電性メッシュを構成する金属層（Ａ）の金属光沢を防止し、表示画像の視認性の低下を抑制するには、極薄膜の層（Ｂ）のみでは不十分であり、それを補うために本発明の表面層が配置される。
【００５０】
本発明にかかる表面層は、単一層で構成されてもよいし、複数層で構成されていてもよい。また、複数の機能を併せ持つ層で構成されてもよい。
【００５１】
本発明にかかる表面層は、少なくともハードコート層を含むことが好ましい。この場合、ハードコート層のみで構成されていてもよいし、他の機能層、例えば反射防止層、防眩層、防汚層等との積層構成であってもよい。表面層が複数の積層構成の場合は、ハードコート層は、導電性メッシュに最も近い位置に配置されることが好ましい（つまり、導電性メッシュを被覆するようにハードコート層を形成することが好ましい。）。また、表面層として、ハードコート層と上記した他の機能層を積層する場合、他の機能層の厚みは、ハードコート層に形成された凹凸構造を実質的に変化させない程度に、薄膜（０．５μｍ以下）とすることが好ましい。なお、ハードコート層に形成された凹凸構造とは、例えば、導電性メッシュ上にハードコート層を形成した場合（導電性メッシュを被覆するようにハードコート層を形成した場合）、該導電性メッシュの凹凸構造に由来してハードコート層に形成される凹凸構造のことである。
【００５２】
本発明にかかる表面層は、着色剤を含有する。かかる着色剤としては、表面層にニュートラルな色味を付けることができる、顔料、染料、色素などを用いることが好ましい。着色剤としては、黒色系のものが好ましく、例えば、カーボンブラック、黒鉛、黒色クロム、チタンブラック等が好ましく用いられる。また、下記の赤色顔料、緑色顔料、青色顔料を、２種以上混合して用いることもできる。
【００５３】
赤色顔料としてはＣｏｌｏｒ  Ｉｎｄｅｘ  Ｎｏ．ピグメントレッド（以下、ＰＲと略す）９、９７、１２２、１２３、１４９、１６８、１７７、１８０、１９２、２１５、２５４等が、緑色顔料としてはＣｏｌｏｒ  Ｉｎｄｅｘ  Ｎｏ．ピグメントグリーン（以下、ＰＧと略す）７、３６等が、青色顔料としてはＣｏｌｏｒ  Ｉｎｄｅｘ  Ｎｏ．ピグメントブルー（以下、ＰＢと略す）１５：３、１５：４、１５：６、２１、２２、６０、６４等が挙げられる。
【００５４】
上記した、黒色、赤色、緑色、及び青色の顔料の粒子径としては、平均一次粒子径が５〜４００ｎｍの範囲のものが好ましく、１０〜２００ｎｍの範囲のものがより好ましく、特に１０〜１００ｎｍの範囲のものが好ましい。ここで、平均一次粒子径は、動的光散乱法を用いて測定することができる。具体的には、日機装（株）製の「ナノトラック」を用いて測定することができる。
【００５５】
また、着色剤として、平均粒子径が０．５〜１０μｍ程度の合成樹脂からなる粒子を用いることができる。ここで、上記の平均粒子径はコールターカウンター法で測定することができる。かかる粒子としては、メラミン・ホルムアルデヒド縮合物、ベンゾグアナミン・ホルムアルデヒド縮合物、ベンゾグアナミン・メラミン・ホルムアルデヒド縮合物、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、アクリル・ウレタン樹脂、フッ素樹脂が挙げられる。これらの合成樹脂からなる粒子には、樹脂そのものが黒みを帯びているものもあるが、着色していない粒子は、上記した顔料等で予め着色する必要がある。
【００５６】
上記の着色剤の含有量は、表面層の全成分１００質量％に対して０．０１〜１０質量％の範囲が適当であり、０．０５〜８質量％の範囲が好ましく、特に０．０５〜５質量％の範囲が好ましい。なお、表面層が複数層で構成される場合も、表面層を構成する全ての層の全成分合計１００質量％に対して、上述の量範囲が好ましい。また表面層が複数層で構成され、さらに複数層の一部の層にのみ着色剤が含有され、他の層には着色剤が含有されていない場合であっても、表面層を構成する全ての層の全成分の合計１００質量％に対して、上述の量範囲が好ましい。
【００５７】
本発明において、ディスプレイ用フィルター全体の可視光の視感透過率を、２５〜６５％の範囲に調整することが好ましく、特に３０〜６０％の範囲に調整することが好ましい。従って、表面層への着色剤の添加量についても、ディスプレイ用フィルター全体の視感透過率が上記の範囲になるように調整することが好ましい。
【００５８】
着色剤は、表面層を構成するいずれかの層に含有させることができ、表面層が複数構成の場合は、複数の層に含有させることができる。着色剤は、ハードコート層に含有させることが好ましい。
【００５９】
ハードコート層に着色剤を含有させる場合の着色剤の含有量は、ハードコート層の全成分１００質量％に対して０．０１〜１０質量％の範囲が適当であり、０．０５〜８質量％の範囲が好ましく、特に０．０５〜５質量％の範囲が好ましい。
【００６０】
本発明にかかる表面層は、導電性メッシュの凹凸構造に由来する凹凸構造を有する。表面層が、導電性メッシュの凹凸構造に由来する凹凸構造を有するとは、導電性メッシュの凹凸構造、即ち、導電性メッシュを構成する細線（凸部）と、細線と細線で囲まれた開口部（凹部）を利用して、導電性メッシュの細線上に表面層の凸部を形成し、導電性メッシュの開口部に表面層の凹部を形成することを意味する。
【００６１】
着色剤を含有する表面層に、導電性メッシュの凹凸構造に由来する凹凸構造を形成することによって、導電性メッシュの金属光沢に起因する表示画像の視認性の低下を抑制することができる。
【００６２】
本発明において、表面層の凹凸構造が、導電性メッシュの凹凸構造に由来するかどうかは、表面層の表面形状を観察もしくは測定することによって判定することができる。例えば、１つの判定方法として、表面層の２次元の表面形状プロファイルをレーザー顕微鏡（例えば、（株）キーエンスのＶＫ−９７００）で測定し、導電性メッシュの細線上に表面層の凸部が形成され、導電性メッシュの開口部に表面層の凹部が形成されているかどうかで判定することができる。
【００６３】
本発明において、導電性メッシュの金属光沢に起因する表示画像の視認性の低下を抑制するという観点から、表面層の中心線平均粗さＲａは、８０ｎｍ以上が好ましく、１００ｎｍ以上がより好ましく、１５０ｎｍ以上が更に好ましい。表面層の中心線平均粗さＲａの上限は、８００ｎｍ以下が好ましく、７００ｎｍ以下がより好ましい。
【００６４】
以下、表面層に上記した本発明の凹凸構造を形成する方法について、本発明の表面層の代表例であるハードコート層を例にとって説明するが、下記の内容は、ハードコート層以外の表面層にも適用することができる。
【００６５】
導電性メッシュ上に直接に、表面層を構成するハードコート層を塗工し、更にハードコート層の塗工液の粘度、固形分濃度、ウェット塗工量等を以下のように調整することによって、導電性メッシュ上に塗工形成されたハードコート層に、上記した本発明の凹凸構造を形成することができる。
【００６６】
ハードコート層の塗工液の粘度は、比較的小さい方が、ハードコート層に導電性メッシュの凹凸構造に由来する凹凸構造を形成するのに好ましい。ハードコート層の塗工液の粘度（２３℃）としては、１〜５０ｍＰａ・ｓの範囲にすることが好ましい。更に、ハードコート層の塗工液の粘度は、１〜４０ｍＰａの範囲が好ましく、より好ましくは１〜３０ｍＰａ・ｓの範囲であり、特に１〜２０ｍＰａ・ｓの範囲が好ましい。
【００６７】
ハードコート層の塗工液の固形分濃度としては、塗工液１００質量％に対して、１０〜８０質量％の範囲が好ましく、２０〜７０質量％の範囲がより好ましく、特に３０〜７０質量％の範囲が好ましい。ここで、塗工液中の固形分としては、樹脂成分及び着色剤と、必要に応じてその他の固形分（例えば、重合開始剤、塗布性改良剤等）を含む。樹脂成分としては、ポリマー、モノマー、オリゴマーを含む。塗工液中の全固形分１００質量％に対して樹脂成分と着色剤の合計量が５０質量％以上が好ましく、６０質量％以上がより好ましい。上限は１００質量％である。
【００６８】
ハードコート層の塗工液のウェット塗工量は、１〜５０ｇ／ｍ２の範囲が好ましく、３〜４０ｇ／ｍ２の範囲がより好ましく、特に５〜３０ｇ／ｍ２の範囲が好ましい。
【００６９】
ハードコート層用塗工液の塗工方法としては、各種の塗工方法、例えば、リバースコート法、グラビアコート法、ロッドコート法、バーコート法、ダイコート法またはスプレーコート法などを用いることができる。これらの中でも、グラビアコート法、ダイコート法が好ましく用いられる。
【００７０】
また、ハードコート層に上記した本発明の凹凸構造を形成するのに、ハードコート層にレベリング剤を含有させることが有効である。かかるレベリング剤としては、シリコーン系レベリング剤、フッ素系レベリング剤、アクリル系レベリング剤が挙げられる。上記レベリング剤は、単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００７１】
上記のレベリング剤の中でも、ハードコート層に凹凸構造を形成するという観点から、シリコーン系レベリング剤、フッ素系レベリング剤が好ましい。本来、レベリング剤は、塗工された塗工液を平滑化するために用いられるものであるが、導電性メッシュ上に直接にハードコート層を塗工する場合、レベリング剤は導電性メッシュの凹凸構造に由来する凹凸構造をハードコート層に形成するのに有効に作用する。
【００７２】
前記シリコーン系レベリング剤としては、例えば、ポリエーテル変性シリコーン、ポリエステル変性シリコーン、パーフルオロ変性シリコーン、反応性シリコーン、ポリジメチルシロキサン、ポリメチルアルキルシロキサン等があげられる。
【００７３】
かかるシリコーン系レベリング剤としては、日本ユニカー（株）製の「ＳＩＬＷＥＴシリーズ」、「ＳＵＰＥＲＳＩＬＷＥＴシリーズ」、「ＡＢＮ ＳＩＬＷＥＴシリーズ」、信越化学社製の「ＫＦシリーズ」、「Ｘ−２２シリーズ」、ビックケミー・ジャパン（株）製の「ＢＹＫ−３００シリーズ」、共栄社化学（株）製の「グラノールシリーズ」、東レダウコーニング（株）製の「ＳＨシリーズ」、「ＳＴシリーズ」、「ＦＺシリーズ」、チッソ（株）製の「ＦＭシリーズ」、ＧＥ東芝シリコーン（株）製の「ＴＳＦシリーズ」（以上商品名）等が市販されている。
【００７４】
フッ素系レベリング剤としては、フルオロアルキル基を有する化合物が好ましい。かかるフルオロアルキル基としては、炭素数１〜２０の直鎖あるいは分岐構造、脂環式構造（好ましくは５員環または６員環）であっても良く、エーテル結合を有していても良い。上記のフッ素系レベリング剤は、ポリマーであっても、オリゴマーであってもよい。
【００７５】
また、フッ素系レベリング剤としては、疎水基がパーフルオロカーボンチェインをもつレベリング剤が挙げられる。具体的には、フルオロアルキルカルボン酸、Ｎ−パーフルオロオクタンスルホニルグルタミン酸ジナトリウム、３−（フルオロアルキルオキシ）−１−アルキルスルホン酸ナトリウム、３−（ω−フルオロアルカノイル−Ｎ−エチルアミノ）−１−プロパンスルホン酸ナトリウム、Ｎ−（３−パーフルオロオクタンスルホンアミド）プロピル−Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−カルボキシメチレンアンモニウムベタイン、パーフルオロアルキルカルボン酸、パーフルオロオクタンスルホン酸ジエタノールアミド、パーフルオロアルキルスルホン酸塩、Ｎ−プロピル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）パーフルオロオクタンスルホンアミド、パーフルオロアルキルスルホンアミドプロピルトリメチルアンモニウム塩、パーフルオロアルキル−Ｎ−エチルスルホニルグリシン塩、リン酸ビス（Ｎ−パーフルオロオクチルスルホニル−Ｎ−エチルアミノエチル）等が挙げられる。      
【００７６】
かかるフッ素系レベリング剤はとしては、例えば、共栄社化学（株）製の「ポリフロー６００」、ダイキン化学工業（株）製の「Ｒ−２０２０、Ｍ−２０２０、Ｒ−３８３３、Ｍ−３８３３」、大日本インキ（株）製の「メガファックＦ−１７１、Ｆ−１７２Ｄ、Ｆ−１７９Ａ、Ｆ−４７０、Ｆ−４７５、Ｒ−０８、ディフェンサＭＣＦ−３００」（以上商品名）などが挙げられる。
【００７７】
アクリル系レベリング剤としては、東亜合成化学（株）製の「ＡＲＵＦＯＮ−ＵＰ１０００シリーズ」、「ＵＨ２０００シリーズ」、「ＵＣ３０００シリーズ」、共栄社化学（株）製の「ポリフロー７７」（以上商品名）等が市販されている。
【００７８】
ハードコート層へのレベリング剤の含有量が少なすぎると、ハードコート層の凹凸構造の形成に寄与しなくなり、レベリング剤の含有量が多すぎると、ヘイズ値が高くなり透明性が低下する傾向にある。
【００７９】
上記の観点から、ハードコート層におけるレベリング剤の含有量は、ハードコート層の全成分（有機溶剤を除く）１００質量％に対して、０．０５〜３質量％の範囲が好ましく、０．１〜２質量％の範囲がより好ましく、特に０．２〜１質量％の範囲が好ましい。
【００８０】
ハードコート層に形成される凹凸構造の大きさの程度は、導電性メッシュの厚み（金属層（Ａ）と層（Ｂ）を含む合計の厚み）と、ハードコート層の塗工量（乾燥、硬化後の塗工量）の影響を受ける。即ち、導電性メッシュの厚みを大きくすると、ハードコート層に形成された凹凸構造は大きくなる傾向にあり、導電性メッシュの厚みを小さくすると、ハードコート層に形成された凹凸構造は小さくなる傾向にある。一方、ハードコート層の塗工量を大きくすると、ハードコート層に形成された凹凸構造は小さくなる傾向にあり、ハードコート層の塗工量を小さくすると、ハードコート層に形成された凹凸構造は大きくなる傾向にある。
【００８１】
本発明にかかる導電性メッシュの厚みは、前述したように、４μｍ以下が好ましく、この厚みは、従来の一般的な導電性メッシュの厚み（１０μｍ程度）に比べて、小さいものである。従って、比較的大きな凹凸構造を、ハードコート層に形成するためには、ハードコート層の塗工量を比較的小さくすることが好ましい。具体的には、ハードコート層の質量塗工量（乾燥、硬化後）は、１〜１２ｇ／ｍ２の範囲が好ましく、１．５〜１０ｇ／ｍ２の範囲がより好ましい。
【００８２】
図１は、導電性メッシュ上に、表面層としてハードコート層が積層された状態の一例を示す模式断面図であるが、導電性メッシュの細線（凸部）２の上に、ハードコート層３の凹凸構造の中の凸部が形成され、導電性メッシュの開口部（細線と細線の間）にハードコート層３の凹凸構造の中の凹部が形成されている。符号１は、基材である。
【００８３】
本発明のディスプレイ用フィルターの表面層は、表面層の凹凸構造の高低差、即ち、凸部の頂点４と凹部の最低点５との垂直距離（Ｄ）が、０．３〜７μｍの範囲が好ましく、０．５〜５μｍの範囲がより好ましく、更に０．５〜４μｍの範囲が好ましく、特に１〜３μｍの範囲が好ましい。表面層の凸部の頂点４は、導電性メッシュの細線上に存在することが好ましい。
【００８４】
（ハードコート層）
本発明にかかる表面層は、少なくともハードコート層を含むことが好ましい。以下、本発明に用いることができるハードコート層について詳細に説明する。
【００８５】
本発明において、ハードコート層は、ディスプレイ用フィルターの耐擦傷性を高めると言う観点から、硬度が高いことが好ましい。ハードコート層の硬度は、ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−４（１９９９年）で定義される鉛筆硬度が、Ｈ以上が好ましく、２Ｈ以上がより好ましい。上限は９Ｈ程度である。
【００８６】
本発明におけるハードコート層は、樹脂成分としては、モノマー、オリゴマー、ポリマーを含むことができる。かかる樹脂成分として、例えば、アクリル系樹脂、シリコン系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、アルキド系樹脂、フッ素系樹脂等の熱硬化型樹脂または光硬化型樹脂等が挙げられるが、性能、コスト、生産性などのバランスを考慮するとアクリレート系樹脂が好ましく適用される。
【００８７】
上記のアクリレート系の硬化性樹脂としては、多官能アクリレートを主成分とする硬化組成物であることが好ましい。多官能アクリレートとしては、１分子中に３個以上（好ましくは４個以上、更に好ましくは５個以上）の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する単量体もしくはオリゴマー、プレポリマーを挙げることができる。ここで、（メタ）アクリロイルオキシ基とは、アクリロイルオキシ基と（メタ）アクリロイルオキシ基を略して表示したものである。以降、「（メタ）・・・」は、上記と同義である。
【００８８】
具体的な例としては、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンＥＯ変性トリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ペンタエリスリトールトリアクリレートトルエンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ペンタエリスリトールトリアクリレートイソホロンジイソシアネートウレタンプレポリマーなどを用いることができる。これらは、１種または２種以上を混合して使用することができる。
【００８９】
これらの１分子中に３個以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する単量体、オリゴマー、プレポリマーの使用割合は、ハードコート層の全成分（有機溶剤を除く）１００質量％に対して５０〜９０質量％の範囲が好ましく、５０〜８０質量％の範囲がより好ましい。
【００９０】
上記の化合物以外にハードコート層の剛直性を緩和させたり、硬化時の収縮を緩和させたりする目的で１〜２官能のアクリレートを併用するのが好ましい。１分子中に１〜２個のエチレン性不飽和二重結合を有する単量体としては、ラジカル重合性のある通常の単量体ならば特に限定されずに使用することができる。
【００９１】
分子内に２個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物としては、下記（ａ）〜（ｆ）の（メタ）アクリレート等を用いることができる。
【００９２】
（ａ）炭素数２〜１２のアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類：エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート。
【００９３】
（ｂ）ポリオキシアルキレングリコールの（メタ）アクリレート酸ジエステル類：ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート。
【００９４】
（ｃ）多価アルコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類：ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート。
【００９５】
（ｄ）ビスフェノールＡあるいはビスフェノールＡの水素化物のエチレンオキシド及びプロピレンオキシド付加物の（メタ）アクリル酸ジエステル類：２，２’−ビス（４−アクリロキシエトキシフェニル）プロパン、２，２’−ビス（４−アクリロキシプロポキシフェニル）プロパン。
【００９６】
（ｅ）ジイソシアネート化合物と２個のアルコール性水酸基含有化合物を予め反応させて得られる末端イソシアネート基含有化合物に、更にアルコール性水酸基含有（メタ）アクリレートを反応させて得られる分子内に２個の（メタ）アクリロイルオキシ基を有するウレタン（メタ）アクリレート類。
【００９７】
（ｆ）分子内に２個のエポキシ基を有する化合物にアクリル酸又はメタクリル酸を反応させて得られる分子内に２個の（メタ）アクリロイルオキシ基を有するエポキシ（メタ）アクリレート類。
【００９８】
分子内に１個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−及びｉ−プロピル（メタ）アクリレート、ｎ−、ｓｅｃ−、およびｔ−ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、メトキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、Ｎ−ヒドロキシエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニル−３−メチルピロリドン、Ｎ−ビニル−５−メチルピロリドンなどを用いることができる。これらの単量体は、１種または２種以上混合して使用してもよい。
【００９９】
これらの１分子中に１〜２個のエチレン性不飽和二重結合を有する単量体の使用割合は、ハードコート層の全成分１００質量％に対して１０〜４０質量％の範囲が好ましく、２０〜４０質量％の範囲がより好ましい。
【０１００】
また、ハードコート層の改質剤として、消泡剤、増粘剤、帯電防止剤、有機高分子化合物、紫外線吸収剤、光安定剤、染料、顔料あるいは安定剤などを用いることができ、これらは活性線または熱による反応を損なわない範囲内でハードコート層に含有させることができる。
【０１０１】
本発明において、上記のハードコート層を硬化させる方法としては、例えば、活性線として紫外線等を照射する方法や高温加熱法等を用いることができ、これらの方法を用いる場合には、ハードコート層に、光重合開始剤または熱重合開始剤等を加えることが望ましい。
【０１０２】
光重合開始剤の具体的な例としては、アセトフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、ｐ−ジメチルアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノプロピオフェノン、ベンゾフェノン、２−クロロベンゾフェノン、４，４’−ジクロロベンゾフェノン、４，４’−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、メチルベンゾイルフォメート、ｐ−イソプロピル−α−ヒドロキシイソブチルフェノン、α−ヒドロキシイソブチルフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンなどのカルボニル化合物、テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド、チオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−メチルチオキサントンなどの硫黄化合物などを用いることができる。これらの光重合開始剤は単独で使用してもよいし、２種以上組み合せて用いてもよい。また、熱重合開始剤としては、ベンゾイルパーオキサイドまたはジ−ｔ−ブチルパーオキサイドなどのパーオキサイド化合物などを用いることができる。
【０１０３】
光重合開始剤または熱重合開始剤の使用量は、ハードコート層の全成分１００質量％に対して、０．０１〜１０質量％の範囲が適当である。電子線またはガンマ線を硬化手段とする場合には、必ずしも重合開始剤を添加する必要はない。また２００℃以上の高温で熱硬化させる場合には熱重合開始剤の添加は必ずしも必要ではない。
【０１０４】
ハードコート層には、製造時の熱重合や貯蔵中の暗反応を防止するために、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテルまたは２，５−ｔ−ブチルハイドロキノンなどの熱重合防止剤を加えることができる。熱重合防止剤の添加量は、ハードコート層の全成分１００質量％に対して、０．００５〜０．０５質量％の範囲が好ましい。
【０１０５】
本発明で必要に応じて用いられる活性線としては、紫外線、電子線および放射線（α線、β線、γ線など）などアクリル系のビニル基を重合させる電磁波が挙げられ、実用的には、紫外線が簡便であり好ましい。紫外線源としては、紫外線蛍光灯、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノン灯または炭素アーク灯などを用いることができる。また、活性線を照射するときに、低酸素濃度下で照射を行なうと、効率よく硬化させることができる。また更に、電子線方式は、装置が高価で不活性気体下での操作が必要ではあるが、塗布層中に光重合開始剤や光増感剤などを含有させなくてもよい点で有利である。
【０１０６】
本発明で用いられる熱硬化に必要な熱としては、スチームヒーター、電気ヒーター、赤外線ヒーターあるいは遠赤外線ヒーターなどを用いて温度を少なくとも１４０℃以上に加温された空気、不活性ガスを、スリットノズルを用いて基材、塗膜に吹きあてることにより与えられる熱が挙げられ、中でも２００℃以上に加温された空気による熱が好ましく、更に好ましくは２００℃以上に加温された窒素による熱であることが、硬化速度が早いので好ましい。
【０１０７】
ハードコート層の硬化方法としては、ハードコート層に高い硬度を付与するという観点、生産性の観点から、活性線を照射する方法が好ましく、特に紫外線を照射する方法が好ましい。従って、本発明のハードコート層は、紫外線硬化型のハードコート層が好ましい。
【０１０８】
また、ハードコート層は、高屈折率化することによって、後述する高屈折率層を兼ねることができる。ハードコート層を高屈折率化する手段としては、ハードコート層に、平均一次粒子径が１〜５０ｎｍ程度の金属酸化物微粒子を含有させること、あるいは高屈折率成分の分子や原子を含んだ樹脂を含有させる方法が挙げられる。上記の金属酸化物微粒子としては、錫含有酸化アンチモン粒子（ＡＴＯ）、亜鉛含有酸化アンチモン粒子、錫含有酸化インジウム粒子（ＩＴＯ）、酸化亜鉛／酸化アルミニウム粒子、酸化アンチモン粒子等が挙げられる。
【０１０９】
本発明において、表面層としてハードコート層を少なくとも含むことが好ましく、ハードコート層に導電性メッシュの凹凸構造に由来する凹凸構造を形成することが好ましい。ハードコート層に、導電性メッシュの凹凸構造に由来する凹凸構造を形成することによって、外光の映り込み防止機能を発現する。即ち、防眩層としての機能を併せ持つハードコート層となる。
【０１１０】
また、ハードコート層の映り込み防止機能を更に高めるために、ハードコート層に粒子を含有させることができる。かかる粒子としては、平均粒子径が０．５〜５μｍの粒子を用いるのが好ましく、特に平均粒子径が１〜３μｍの粒子を用いるのが好ましい。
【０１１１】
ここで、粒子の平均粒子径は、コールターカウンター法で測定することができる。
【０１１２】
ハードコート層に上記の粒子を含有させる場合の粒子の含有量は、ハードコート層の全成分１００質量％に対して６質量％以下が好ましく、４質量％以下がより好ましく、更に３質％以下が好ましい。ハードコート層に粒子を含有させる場合の下限の含有量は、ハードコート層の全成分１００質量％に対して０．１質量％程度である。
【０１１３】
ハードコート層に含有させることができる粒子としては、無機系、有機系のものが挙げられるが、有機系材料により形成されるものが好ましい。また、透明性に優れるものがよい。粒子の具体例としては、無機系であればシリカビーズ、有機系であればプラスチックビーズが挙げられる。さらに、そのプラスチックビーズの中でも、好ましくは透明性が優れているものが挙げられ、具体例としては、アクリル系、スチレン系、メラミン系、等が挙げられる。本発明では、透明性に優れるアクリル系を用いるのが好ましい。
【０１１４】
また、粒子の形状は球状（真球状、楕円状、など）のものが好ましく、より好ましくは真球状のものである。
（表面層を構成する他の機能層）
前述したように、本発明の表面層は、反射防止層、防汚層等の他の機能層を、ハードコート層上に積層することができる。また、ハードコート層に反射防止機能、防汚機能を付与することもできる。
（反射防止層）
反射防止層は、具体的には、可視域において屈折率が１．５以下、好適には１．４以下と低い、フッ素系透明高分子樹脂やフッ化マグネシウム、シリコーン系樹脂や酸化珪素の薄膜等を、例えば１／４波長の光学膜厚で単層形成したもの、または、屈折率の異なる、金属酸化物、フッ化物、ケイ化物、窒化物、硫化物等の無機化合物あるいはシリコーン系樹脂やアクリル樹脂、フッ素系樹脂等の有機化合物の薄膜を２層以上多層積層したものなどが挙げられる。
【０１１５】
反射防止性能とコストのバランスのとれた構成としては、最表層から低屈折率層と高屈折率層を積層した構成が好ましいが、本発明においては、高屈折率層は積層されていなくてもよく、その場合は低屈折率層のみとなる。
【０１１６】
上記した高屈折率層の屈折率としては、１．５〜１．８の範囲が好ましく、１．５５〜１．７の範囲がより好ましい。低屈折率層の屈折率としては、１．２５〜１．４５の範囲が好ましく、１．３〜１．４の範囲がより好ましい。
【０１１７】
尚、上記屈折率は、シリコンウエハー上に乾燥膜厚が０．１μｍとなるように、測定対象となる層の塗料を塗布、乾燥、必要に応じて硬化して被膜を形成した後、位相差測定装置（ニコン（株）製：ＮＰＤＭ−１０００）で６３３ｎｍにおける屈折率を測定することによって求めることができる。
【０１１８】
（高屈折率層）
高屈折率層は、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、メラミン系樹脂、有機シリケート化合物、シリコーン系樹脂、含リン系樹脂、含スルフィド樹脂、含ハロゲン樹脂などの樹脂成分を単体または混合系で用いることが出来るが、特に、硬度と耐久性などの点から、シリコーン系樹脂やアクリル系樹脂を用いるのが好ましい。さらに、硬化性、可撓性および生産性の点から、活性エネルギー線硬化型のアクリル系樹脂、または熱硬化型のアクリル系樹脂が好ましい。特に、（メタ）アクリレート系樹脂は、活性エネルギー線照射によって容易にラジカル重合が起こり、形成される膜の耐溶剤性や硬度が向上するので好ましい。
【０１１９】
かかる（メタ）アクリレート系樹脂として、例えばペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、グリセロールトリ（メタ）アクリレート、エチレン変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス−（２−ヒドロキシエチル）−イソシアヌル酸エステルトリ（メタ）アクリレート等の３官能（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の４官能以上の（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【０１２０】
高屈折率層には、更にカルボキシル基、リン酸基、スルホン酸基等の酸性官能基を有する（メタ）アクリレート化合物（モノマー）を使用することができる。具体的には、酸性官能基含有モノマーとしては、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルコハク酸、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルフタル酸などの不飽和カルボン酸、モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）アシッドホスフェート、ジフェニル−２−（メタ）アクリロイルオキシエチルホスフェート等のリン酸（メタ）アクリル酸エステル、２−スルホエステル（メタ）アクリレート等が挙げられる。その他、アミド結合、ウレタン結合、エーテル結合などの極性を持った結合を有する（メタ）アクリレート化合物を使用することができる。
【０１２１】
高屈折率層には、塗布した樹脂成分の硬化を進めるために開始剤を含有させてもよい。該開始剤としては、塗布した樹脂成分を、ラジカル反応、アニオン反応、カチオン反応等による重合および／または架橋反応を開始あるいは促進せしめるものであり、従来から公知の各種光重合開始剤が使用可能である。
【０１２２】
かかる光重合開始剤としては、具体的には、ソジウムメチルジチオカーバメイトサルファイド、ジフェニルモノサルファイド、ジベンゾチアゾイルモノサルファイド及びジサルファイド等のサルファイド類や、チオキサントン、２−エチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン等のチオキサントン誘導体や、ヒドラゾン、アゾビスイソブチロニトリル等のアゾ化合物や、ベンゼンジアゾニウム塩等のジアゾ化合物や、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾフェノン、ジメチルアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンジルアントラキノン、ｔ−ブチルアントラキノン、２−メチルアントラキノン、２−エチルアントラキノン、２−アミノアントラキノン、２−クロロアントラキノン等の芳香族カルボニル化合物や、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸メチル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル、Ｄ−ジメチルアミノ安息香酸ブチル、ｐ−ジエチルアミノ安息香酸イソプロピル等のジアルキルアミノ安息香酸エステルや、ベンゾイルパーオキサイド、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド等の過酸化物や、９−フェニルアクリジン、９−ｐ−メトキシフェニルアクリジン、９−アセチルアミノアクリジン、ベンズアクリジン等のアクリジン誘導体や、９，１０−ジメチルベンズフェナジン、９−メチルベンズフェナジン、１０−メトキシベンズフェナジン等のフェナジン誘導体や、６，４’，４”−トリメトキシ−２、３−ジフェニルキノキサリン等のキノキサリン誘導体や、２，４，５−トリフェニルイミダゾイル二量体、２−ニトロフルオレン、２，４，６−トリフェニルピリリウム四弗化ホウ素塩、２，４，６−トリス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、３，３’−カルボニルビスクマリン、チオミヒラーケトン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシド、オリゴ（２−ヒドロキシ−２−メチル−１−（４−（１−メチルビニル）フェニル）プロパノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン等が挙げられる。
【０１２３】
また、高屈折率層には、上記開始剤の酸素阻害による感度の低下を防止するために、光重合開始剤にアミン化合物を共存させてもよい。このようなアミン化合物としては、例えば、脂肪族アミン化合物や、芳香族アミン化合物等の不揮発性のものであれば、特に限定されないが、例えば、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン等が好ましい。
【０１２４】
また、高屈折率層には、屈折率が１．６以上の金属酸化物微粒子を含有することが好ましい。これによって高屈折率化が図られ、また帯電防止効果も得られる。
金属酸化物微粒子としては錫含有酸化アンチモン粒子（ＡＴＯ）、亜鉛含有酸化アンチモン粒子、錫含有酸化インジウム粒子（ＩＴＯ）、酸化亜鉛／酸化アルミニウム粒子、酸化アンチモン粒子等が好ましく、より好ましくは錫含有酸化インジウム粒子（ＩＴＯ）、錫含有酸化アンチモン粒子（ＡＴＯ）である。
【０１２５】
高屈折率層中の金属酸化物微粒子の含有量は、樹脂成分１００質量部に対して、０．１〜２０質量部の範囲が好ましい。
【０１２６】
上記金属酸化物微粒子の平均一次粒子径は１〜５０ｎｍの粒子が好適に使用される。ここで、平均一次粒子径は、動的光散乱法を用いて測定することができる。具体的には、日機装（株）製の「ナノトラック」を用いて測定することができる。
【０１２７】
高屈折率層の厚みは、２００ｎｍ以下が好ましく、１５０ｎｍ以下がより好ましい。厚みの下限は、２０ｎｍ程度である。
【０１２８】
（低屈折率層）
低屈折率層は、含フッ素ポリマー、（メタ）アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル、含フッ素シリコーン等の有機系材料、ＭｇＦ2 、ＣａＦ2 、ＳｉＯ2 等の無機系材料で構成することができる。以下に低屈折率層の好ましい態様を例示する。
【０１２９】
低屈折率層の１つの好ましい態様として、ＭｇＦ2やＳｉＯ2等の薄膜を真空蒸着法やスパッタリング、プラズマＣＶＤ法等の気相法により形成する方法、或いはＳｉＯ2ゾルを含むゾル液からＳｉＯ2ゲル膜を形成する方法等が挙げられる。
【０１３０】
低屈折率層の他の好ましい態様として、シリカ系微粒子と結合してなるシロキサンポリマーを主成分とする構成を採用することができる。なお、ここで言う「結合」とは、シリカ系微粒子のシリカ成分とマトリックスのシロキサンポリマーが反応して均質化している状態を意味する。シリカ系微粒子と結合してなるシロキサンポリマーは、該シリカ系微粒子の存在下、多官能性シラン化合物を溶剤中、酸触媒により、公知の加水分解反応によって、一旦シラノール化合物を形成し、公知の縮合反応を利用することによって得ることができる。
【０１３１】
かかる多官能性シラン化合物としては、多官能性フッ素含有シラン化合物を含むことが低屈折率化、防汚性の点から好ましく、トリフルオロメチルメトキシシラン、トリフルオロメチルエトキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリエトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリエトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリエトキシシランなどの３官能性フッ素含有シラン化合物、ヘプタデカフルオロデシルメチルジメトキシシランなどの２官能性フッ素含有シラン化合物などが挙げられ、いずれも好適に用いられるが、表面硬度の観点から、トリフルオロメチルメトキシシラン、トリフルオロメチルエトキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリエトキシシランが、より好ましい。
【０１３２】
多官能性シラン化合物として多官能性フッ素非含有シラン化合物を用いることができる。かかる多官能性フッ素非含有シラン化合物としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、オクタデシルトリメトキシシラン、オクタデシルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−（Ｎ，Ｎ−ジグリシジル）アミノプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシシプロピルトリメトキシシランなどの３官能性シラン化合物、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、メチルフェニルジメトキシシラン、メチルビニルジメトキシシラン、メチルビニルジエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、３−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、３−クロロプロピルメチルジエトキシシラン、シクロヘキシルメチルジメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルジメトキシシラン、オクタデシルメチルジメトキシシランなどの２官能性シラン化合物、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシランなどの４官能性シラン化合物などが挙げられ、いずれも好適に用いられるが、表面硬度の観点からビニルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシランが、より好ましい。
【０１３３】
また、上述のシリカ系微粒子としては、平均粒子径１ｎｍ〜５０ｎｍのシリカ系微粒子であることが好ましい。さらに、かかるシリカ系微粒子の中でも、内部に空洞を有する構造のものが、屈折率を低下させるために、特に好ましく使用される。
【０１３４】
かかる内部に空洞を有するシリカ系微粒子とは、外殻によって包囲された空洞部を有するシリカ系微粒子、多数の空洞部を有する多孔質のシリカ系微粒子等が挙げられ、いずれも好適に用いられる。このような例としては例えば、特許第３２７２１１１号公報に開示されている方法によって製造でき、微粒子内部の空洞の占める体積、すなわち微粒子の空隙率としては、５％以上が好ましく、３０％以上がさらに好ましい。空隙率は、例えば、水銀ポロシメーター（商品名：ボアサイザー９３２０−ＰＣ２、（株）島津製作所製）を用いて測定することができる。また、該微粒子自体の屈折率は、１．２０〜１．４０であるのが好ましく、１．２０〜１．３５であるのがより好ましい。このようなシリカ系微粒子としては、例えば特開２００１−２３３６１１号公報に開示されているものや、特許第３２７２１１１号公報等の一般に市販されているものを挙げることができる。
【０１３５】
低屈折率層の厚みは、２００ｎｍ以下が好ましく、１５０ｎｍ以下がより好ましい。厚みの下限は２０ｎｍ程度である。
【０１３６】
（防汚層）
本発明にかかる表面層には、防汚機能を付与することができる。防汚機能は、ハードコート層あるいは反射防止層に付与されてもよいし、防汚層を新たに積層してもよい。
防汚機能は、ディスプレイ用フィルターに、人が指で触ることによって油脂性物質が付着するのを防止したり、大気中のごみや埃が付着するのを防止したり、あるいはこれらの付着物が付着しても除去しやすくするための層である。かかる防汚層としては、例えば、フッ素系コート剤、シリコーン系コート剤、シリコン・フッ素系コート剤等が用いられる。防汚層を新たに設ける場合の防汚層の厚みは、１〜１０ｎｍの範囲が好ましい。
【０１３７】
（基材）
本発明のディスプレイ用フィルターには、基材が用いられるが、該フィルターは１枚のみの基材で構成されることが好ましい。本発明にかかる基材としては、プラスチックフィルムが好ましく用いられる。
【０１３８】
かかるプラスチックフィルムを構成する樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル樹脂、トリアセチルセルロース等のセルロース樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブチレン等のポリオレフィン樹脂、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、アートン樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリスルフォン樹脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂、ポリエーテルスルフォン樹脂等が挙げられる。これらの中でも、ポリエステル樹脂、ポリオレフィン樹脂及びセルロース樹脂が好ましく、特にポリエステル樹脂が好ましく用いられる。プラスチックフィルムの厚みとしては、５０〜３００μｍの範囲が適当であるが、コストの観点及びディスプレイ用フィルターの剛性を確保するという観点から８０〜２５０μｍの範囲が特に好ましい。またプラスチックフィルムとしては、複数の層を積層した積層フィルムを用いることもできる。
【０１３９】
本発明に用いられるプラスチックフィルムは、導電性メッシュ、表面層あるいは後述する近赤外線遮蔽層との密着性（接着強度）を強化するためのプライマー層（易接着層、下引き層）を設けておくのが好ましい。
【０１４０】
（ディスプレイ用フィルター）
本発明のディスプレイ用フィルターには、更に近赤外線遮蔽機能、色調調整機能、あるいは可視光透過率調整機能の中から選ばれる少なくとも一つの機能を有する層を付与するのが好ましい。
【０１４１】
近赤外線遮蔽機能は、波長８００〜１１００ｎｍの範囲における光線透過率の最大値が１５％以下となるように調整するのが好ましい。近赤外線遮蔽機能は、プラスチックフィルムや機能層、あるいは後述する接着層に近赤外線吸収剤を混錬、分散することによって付与してもよいし、近赤外線遮蔽層を新たに設けてもよい。近赤外線遮蔽機能は、近赤外線吸収剤を用いることによって、あるいは導電性薄膜のような金属の自由電子によって近赤外線を反射する層を設けることによって付与することができる。
【０１４２】
本発明においては、近赤外線吸収剤を樹脂バインダー中に分散もしくは溶解した塗料を塗布乾燥して形成した近赤外線遮蔽層を用いること、あるいはハードコート層や後述する接着層に上記近赤外線吸収剤を含有させる態様が好ましく用いられる。
【０１４３】
近赤外線吸収剤としては、フタロシアニン系化合物、アントラキノン系化合物、ジチオール系化合物、ジイモニウム系化合物等の有機系近赤外線吸収剤、あるいは酸化チタン、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化錫、硫化亜鉛、セシウム含有酸化タングステン等の無機系近赤外線吸収剤を用いることができる。
【０１４４】
上記した近赤外線遮蔽層を新たに設ける場合は、基材と導電性メッシュとの間、もしくは基材に対して導電性メッシュとは反対面に、基材に塗工形成して設けることができる。
【０１４５】
近赤外線遮蔽機能を基材より視認側に付与する場合は、耐光性に優れる無機系近赤外線吸収剤を用いるのが好ましい。
【０１４６】
色調調整機能は、ディスプレイから発光される特定波長の光を吸収して色純度や白色度を向上させるための機能である。特に赤色発光の色純度を低下させるオレンジ光を遮蔽するのが好ましく、波長５８０〜６２０ｎｍの範囲に吸収極大を有する色素を含有させるのが好ましい。更に、白色度を向上させるために波長４８０〜５００ｎｍに吸収極大を有する色素を含有させるのが好ましい。色調調整機能は、上記した波長の光を吸収する色素を含有する層を新たに設けてもよいし、上述の近赤外線遮蔽層、ハードコート層あるいは後述する接着層に色素を含有させてもよい。
【０１４７】
可視光透過率調整機能は、可視光の透過率を調整するための機能であり、染料や顔料を含有させて調整することができる。可視光透過率調整機能は、基材、近赤外線遮蔽層、ハードコート層、あるいは後述する接着層に付与してもよいし、新たに透過率調整層を設けてもよい。
【０１４８】
上述した色調調整機能を有する層及び可視光透過率調整機能を有する層をそれぞれ新たに設ける場合、これらの層は基材と導電性メッシュとの間、もしくは基材に対して導電性メッシュとは反対面に設けることができる。
【０１４９】
本発明のディスプレイ用フィルターは、ディスプレイに直接、あるいはガラス板、アクリル板、ポリカーボネート板等の公知の高剛性基板を介して装着することができる。本発明のディスプレイ用フィルターには、ディスプレイあるいは高剛性基板に貼り付けるための接着層を設けるのが好ましい。
上記の高剛性基板は、通常、０．５〜５ｍｍの厚みを有する基板であって、かかる高剛性基板は、本発明のディスプレイ用フィルターを構成する基材には含まれない。
【０１５０】
接着層には、前述したように近赤外線遮蔽機能、色調調整機能、あるいは可視光透過率調整機能を付与することができる。また、接着層に、ディスプレイを衝撃から保護するための衝撃緩和機能を付与することは好ましい態様である。接着層に衝撃緩和機能を付与するには、接着層の厚みを１００μｍ以上にすることが好ましく、３００μｍ以上がより好ましい。上限の厚みは、接着層のコーティング適性を考慮して３０００μｍ以下が好ましい。
【０１５１】
接着層には、公知の接着材あるいは粘着材を用いることができる。粘着材としては、アクリル、シリコーン、ウレタン、ポリビニルブチラール、エチレン−酢酸ビニルなどが挙げられる。接着材としては、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、テトラヒドロキシフェニルメタン型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、レゾルシン型エポキシ樹脂、ポリオレフィン型エポキシ樹脂などのエポキシ樹脂、天然ゴム、ポリイソプレン、ポリ−１、２−ブタジエン、ポリイソブテン、ポリブテン、ポリ−２−ヘプチル−１、３−ブタジエン、ポリ−１、３−ブタジエンなどの（ジ）エン類、ポリオキシエチレン、ポリオキシプロピレン、ポリビニルエチルエーテル、ポリビニルヘキシルエーテルなどのポリエーテル類、ポリビニルアセテート 、ポリビニルプロピオネートなどのポリエステル類、ポリウレタン、エチルセルロース、ポリ塩化ビニル、ポリアクリロニトリル、ポリメタクリロニトリル、ポリスルフォン、フェノキシ樹脂などが挙げられる。
【０１５２】
以下に、本発明のディスプレイ用フィルターの構成例のいくつかを例示するが、本発明はこれらに限定されることはない。尚、下記構成の中で、接着層側がディスプレイ側となる。
１）接着層／近赤外線遮蔽層／基材／導電性メッシュ／ハードコート層
２）接着層／近赤外線遮蔽層／基材／導電性メッシュ／ハードコート層／反射防止層
３）接着層／基材／導電性メッシュ／ハードコート層
４）接着層／基材／導電性メッシュ／ハードコート層／反射防止層
上記１）及び２）の近赤外線遮蔽層は、色調調整機能を併せ持つものであり、上記３）及び４）の接着層は、近赤外線遮蔽機能と色調調整機能を併せ持つものである。また、上記１）及び３）のハードコート層は、防眩機能を併せ持つことができる。
【実施例】
【０１５３】
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。尚、本実施例で作製されたディスプレイ用フィルターの各サンプルの評価方法を以下に示す。
（１）表面層の２次元の表面形状プロファイルの測定
レーザー顕微鏡ＶＫ−９７００（（株）キーエンス）を用いて測定する。まず、観察・測定ソフトウェアＶＫ−Ｈ１Ｖ１を用いて、５ｃｍ×５ｃｍサイズのサンプルを導電性メッシュの任意のメッシュの細線が画面の中央に垂直になるようにセットし、測定する。
【０１５４】
次に、得られた測定データを解析ソフトウェアＶＫ−Ｈ１Ａ１を用いて解析する。まず、測定データの画像ノイズを自動で除去し、測定時に対象物が微妙に傾いていた場合などの傾きを補正する。その後、中央のメッシュの細線に対して垂直な方向にプロファイル解析を行う。得られたプロファイルから、メッシュの細線上に表面層の凸部が存在するかどうか、及び導電性メッシュの開口部に表面層の凹部が存在するかどうかを確認する。
（２）表面層の中心線平均粗さＲa
表面層の中心線平均粗さＲaを、表面粗さ測定器ＳＥ−３４００（（株）小坂研究所製）を用いて測定した。
【０１５５】
２０ｃｍ×２０ｃｍサイズのサンプル１枚から任意の５箇所以上について計測し、その平均値を表面層のＲa値とした。尚、上記の計測に際し、測定針の移動方向を、導電性メッシュの細線に平行で、かつ導電性メッシュの開口部のほぼ中心を通るようにセットし、測定によって得られた波形のピッチが導電性メッシュのピッチとほぼ同じように表れている計測値を５つ採用し、平均した。
・測定条件：
送り速さ；０．５ｍｍ／Ｓ
カットオフ値λｃ；０．８ｍｍ
評価長さ；８ｍｍ
・Ｒａ：表面粗さ測定器ＳＥ−３４００（（株）小坂研究所製）でＲaと定義されたパラメータ。ＪＩＳ  Ｂ０６０１−１９８２の方法に基づいて測定した。
【０１５６】
（３）表面層の凹凸構造の高低差（Ｄ）
高低差（Ｄ）を、レーザー顕微鏡ＶＫ−９７００（（株）キーエンス）を用いて測定した。２０ｃｍ×２０ｃｍサイズのサンプル１枚から任意の１０箇所について計測し、その平均値を高低差（Ｄ）とした。
【０１５７】
測定方法としては、観察・測定ソフトウェアＶＫ−Ｈ１Ｖ１を用いて、まず５ｃｍ×５ｃｍサイズのサンプルを導電性メッシュの開口部の上辺と下辺が画面に平行になるように設置する。倍率は、導電性メッシュの少なくとも１つの開口部が入るように設定する。焦点を合わせ、測定高さ範囲を設定した後、測定を開始する。
【０１５８】
次に、測定データを解析ソフトウェアＶＫ−Ｈ１Ａ１を用いて解析する。まず、測定データの画像ノイズを自動で除去し、測定時に対象物が微妙に傾いていた場合などの傾きを補正する。その後に、線粗さを測定する。このとき、少なくとも導電性メッシュの開口部１つを含む画面に対して平行な直線で解析する。
【０１５９】
各種補正（高さスムージング→±１２単純平均、傾き補正→直線（自動））を行い、カットオフ値λｃ＝０．０８ｍｍ、λｓ、λｆはなしで、うねり曲線を算出し、ＪＩＳ  Ｂ０６３３−２００１の規格に基づき算出される最大高さＷｚを高低差（Ｄ）とした。
【０１６０】
（４）  導電性メッシュの厚み
ミクロトームにてサンプル断面を切り出し、その断面を電解放射型走査電子顕微鏡（（株）日立製Ｓ―８００、加速電圧２６ｋＶ、観察倍率３０００倍）にて観察し、導電性メッシュの厚みを計測した。
【０１６１】
２０ｃｍ×２０ｃｍサイズのサンプル１枚から任意の５箇所について計測し、その平均値を導電性メッシュの厚みとした。
【０１６２】
（５）  導電性メッシュの線幅及びピッチ
（株）キーエンス製デジタルマイクロスコープ（ＶＨＸ−２００）を用いて、倍率４５０倍で表面観察を行った。その測長機能を用いて、格子状導電性メッシュのピッチを測長した。２０ｃｍ×２０ｃｍサイズのサンプル１枚から、任意の２５箇所について計測し、その平均値を導電性メッシュの線幅、ピッチとした。なお、導電性メッシュのピッチとは、メッシュ構造のある開口部と、この開口部と１辺を共有する隣接する開口部との重心間の距離とする。
【０１６３】
（６）表示画像の視認性の評価
プラズマテレビ（松下電器産業（株）社製のＴＨ−４２ＰＸ５００）のディスプレイパネルから純正の全面フィルターを取り外した後、以下の実施例及び比較例で作製したサンプルを、表面層が観賞側となるようにパネルに直に設置した。さらに、外光として３波長蛍光灯（東芝ライテック（株）製のネオラインラピッドマスター；３波長形昼白色ＦＬＲ４０Ｓ  Ｎ−ＥＤＬ／Ｍ）を、パネルの鉛直照度と水平照度がそれぞれ１００ルクスと７０ルクスとなるように設置した。
【０１６４】
次に、パネル点灯の状態で、パネルから１．３ｍ離れた位置で、表示画像の視認性を目視で、以下の基準で評価した。
○：表示画像への蛍光灯の映り込み像の輪郭が不鮮明である（良）
×：表示画像への蛍光灯の映り込み像の輪郭が鮮明に見える（不可）
（７）視感透過率
ディスプレイ用フィルターサンプルについて、分光光度計（島津製作所製、ＵＶ３１５０ＰＣ）を用いて、観察者側（樹脂層側）からの入射光に対する透過率を波長３００〜１３００ｎｍの範囲で測定し、可視光波長領域（３８０〜７８０ｎｍ）の視感透過率を求める。
（実施例１）
以下の要領でディスプレイ用フィルターを作製した。
＜導電性メッシュの作製＞
光学用ポリエステルフィルム（東レ（株）製のルミラー（登録商標）ＱＴ９６、厚み１００μｍ）の片面に、常温にて３×１０−３Ｐａの真空下で、真空蒸着法によりニッケル層（厚み０．０２μｍ）を形成した。さらにその上に、同じく常温にて３×１０−３Ｐａの真空下で、真空蒸着法により、金属層（Ａ）となる銅層（厚み２．５μｍ）を形成した。更に、上記銅層の上に、同じく常温にて３×１０−３Ｐａの真空下で、真空蒸着法により、金属層（Ｂ）となる窒化銅層（０．０２μｍ）を形成した。
【０１６５】
続いて、上記窒化銅の表面にフォトレジスト層を塗工形成し、格子状メッシュパターンのマスクを介してフォトレジスト層を露光、現像し、次いでエッチング処理を施して、導電性メッシュを作製した。この導電性メッシュは、線幅が１０μｍ、ピッチが１５０μｍであった。また、導電性メッシュを構成する、銅からなる金属層（Ａ）の厚みは２．５μｍであり、窒化銅からなる金属層（Ｂ）の厚みは０．０２μｍであり、ニッケル層、金属層（Ａ）、及び金属層（Ｂ）からなる導電性メッシュの厚みは、２．５４μｍであった。
＜ハードコート層の塗工＞
市販のハードコート剤（ＪＳＲ製  オプスター（登録商標）Ｚ７５３４；固形分濃度６０質量％）を、固形分濃度が４０質量％となるようにメチルエチルケトンで希釈し、更に、共栄社化学（株）製のシリコーン系レベリング剤「グラノール４４０」を前記ハードコート層の固形分に対して０．５質量％添加し、更に着色剤としてカーボンブラック（御国色素（株）＃２０１）を前記ハードコート層の固形分に対して０．２質量％になるように添加して、ハードコート層用の塗工液を作製した。
【０１６６】
この塗工液の粘度は、２．５ｍＰａ・ｓであった。この塗工液をマイクログラビアコーターで塗工し、８０〜９０℃の熱風で乾燥後、紫外線１．０Ｊ／ｃｍ２を照射して硬化させ、ハードコート層を形成した。
【０１６７】
ハードコート層の乾燥・硬化後の質量塗工量が５ｇ／ｍ２となるように塗工した。
＜ディスプレイ用フィルターの作製＞
＜Ｎｅカット機能を有する近赤外線遮蔽層の積層＞
近赤外線吸収色素として、日本化薬（株）製  ＫＡＹＡＳＯＲＢ（登録商標）  ＩＲＧ−０６８を１４．５質量部、日本触媒（株）製  イーエクスカラー（登録商標）  ＩＲ−１０Ａを８質量部、さらに５９３ｎｍに主吸収ピークを有する有機色素として、山田化学工業（株）製ＴＡＰ−２を２．９質量部、メチルエチルケトン２０００質量部に攪拌混合して溶解させた。この溶液を透明高分子樹脂バインダー溶液として、日本触媒（株）製  ハルスハイブリッド（登録商標）  ＩＲ−Ｇ２０５（固形分濃度２９％溶液）２０００質量部と攪拌混合して塗料を作製した。
【０１６８】
ハードコート層を形成した側と反対側の光学用ポリエステルフィルム面に、ダイコーターを用いて上記塗料を塗工し、１２０℃で乾燥して、厚み１０μｍの近赤外線遮蔽層を積層した。
＜粘着剤層の積層＞
厚みが２５μｍのアクリル系透明粘着剤からなる粘着剤層を上記の近赤外線遮蔽層の上に積層した。尚、ディスプレイ用フィルター全体の可視光視感透過率が３５％となるように、上記粘着剤層にカーボンブラックを含有させた。
（比較例１）
以下に示す金属層（Ｂ）を有しない導電性メッシュに変更する以外は、実施例１と同様にしてディスプレイ用フィルターを作製した。
＜導電性メッシュの作製＞
光学用ポリエステルフィルム（東レ（株）製のルミラー（登録商標）ＱＴ９６、厚み１００μｍ）の片面に、常温にて３×１０−３Ｐａの真空下で、真空蒸着法によりニッケル層（厚み０．０２μｍ）を形成した。さらにその上に、同じく常温にて３×１０−３Ｐａの真空下で、真空蒸着法により、金属層（Ａ）となる銅層（厚み２．５μｍ）を形成した。金属層（Ｂ）は形成しなかった。
【０１６９】
続いて、上記銅層の表面にフォトレジスト層を塗工形成し、格子状メッシュパターンのマスクを介してフォトレジスト層を露光、現像し、次いでエッチング処理を施して、導電性メッシュを作製した。この導電性メッシュは、線幅が１０μｍ、ピッチが１５０μｍであった。また、導電性メッシュを構成する、銅からなる金属層（Ａ）の厚みは２．５μｍであり、ニッケル層及び金属層（Ａ）からなる導電性メッシュの厚みは、２．５２μｍであった。
（比較例２）
以下に示す着色剤を含有しないハードコート層に変更する以外は、実施例１と同様にしてディスプレイ用フィルターを作製した。
＜ハードコート層の塗工＞
市販のハードコート剤（ＪＳＲ製  オプスター（登録商標）Ｚ７５３４；固形分濃度６０質量％）を、固形分濃度が４０質量％となるようにメチルエチルケトンで希釈し、更に、共栄社化学（株）製のシリコーン系レベリング剤「グラノール４４０」を前記ハードコート層の固形分に対して０．５質量％添加して、ハードコート層用の塗工液を作製した。
この塗工液の粘度は、２．５ｍＰａ・ｓであった。この塗工液をマイクログラビアコーターで塗工し、８０〜９０℃の熱風で乾燥後、紫外線１．０Ｊ／ｃｍ２を照射して硬化させ、ハードコート層を形成した。
【０１７０】
ハードコート層の乾燥・硬化後の質量塗工量が５ｇ／ｍ２となるように塗工した。
（実施例２）
以下の導電性メッシュに変更する以外は、実施例１と同様にしてディスプレイ用フィルターを作製した。
＜導電性メッシュの作製＞
光学用ポリエステルフィルム（東レ（株）製のルミラー（登録商標）ＱＴ９６、厚み１００μｍ）の片面に、常温にて３×１０−３Ｐａの真空下で、真空蒸着法によりニッケル層（厚み０．０２μｍ）を形成した。さらにその上に、同じく常温にて３×１０−３Ｐａの真空下で、真空蒸着法により、金属層（Ａ）となる銅層（厚み３．５μｍ）を形成した。更に、上記銅層の上に、同じく常温にて３×１０−３Ｐａの真空下で、真空蒸着法により、金属層（Ｂ）となる酸化銅層（０．０２μｍ）を形成した。
【０１７１】
続いて、上記酸化銅の表面にフォトレジスト層を塗工形成し、格子状メッシュパターンのマスクを介してフォトレジスト層を露光、現像し、次いでエッチング処理を施して、導電性メッシュを作製した。この導電性メッシュは、線幅が１０μｍ、ピッチが１５０μｍであった。また、導電性メッシュを構成する、銅からなる金属層（Ａ）の厚みは３．５μｍであり、酸化銅からなる金属層（Ｂ）の厚みは０．０２μｍであり、ニッケル層、金属層（Ａ）、及び金属層（Ｂ）からなる導電性メッシュの厚みは、３．５４μｍであった。
（実施例３）
実施例１と同様にして、導電性メッシュ上にハードコート層を積層し、更にハードコート層上に下記の反射防止層を積層した。その他は、実施例１と同様にしてディスプレイ用フィルターを作製した。
＜反射防止層の作製＞
上記ハードコート層形成面に、市販の高屈折率・帯電防止塗料（ＪＳＲ製  オプスター （登録商標）  ＴＵ４００５）をイソプロピルアルコールで固形分濃度８質量％に希釈後、マイクログラビアコーターで塗布し、１２０℃で１分間乾燥後、紫外線１．０Ｊ／ｃｍ２を照射して硬化させ、ハードコート層上に屈折率が１．６５、厚みが１３５ｎｍの高屈折率層を形成した。
【０１７２】
次に、上記高屈折率層形成面に、下記の低屈折率層の塗料をマイクログラビアコーターで塗布した。次いで１３０℃で１分間、乾燥および硬化させ、高屈折率層上に屈折率１．３６、厚み９０ｎｍの低屈折率層を形成することで、反射防止層を作製した。
【０１７３】
＜低屈折率層用塗料の作製＞
メチルトリメトキシシラン９５．２質量部、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン６５．４質量部を、プロピレングリコールモノメチルエーテル３００質量部、イソプロパノール１００質量部に溶解した。
【０１７４】
この溶液に、数平均粒子径５０ｎｍの外殻の内部に空洞を有するシリカ微粒子分散液（イソプロパノール分散型、固形分濃度２０．５％、触媒化成工業社製）２９７．９質量部、水５４質量部およびギ酸１．８質量部を、撹拌しながら反応温度が３０℃を越えないように滴下した。
【０１７５】
滴下後、得られた溶液をバス温４０℃で２時間加熱し、その後、溶液をバス温８５℃で２時間加熱し、内温を８０℃まで上げて、１．５時間加熱した後、室温まで冷却し、ポリマー溶液を得た。
【０１７６】
得られたポリマー溶液に、アルミニウム系硬化剤として、アルミニウムトリス（アセチルアセテート）（商品名  アルミキレートＡ（Ｗ）、川研ファインケミカル（株）社製）４．８質量部をメタノール１２５質量部に溶解したものを添加し、さらにイソプロパノール  １５００質量部およびプロピレングリコールモノメチルエーテル２５０質量部を添加して、室温にて２時間撹拌し、低屈折率塗料を作製した。
（評価）
上記で作製したそれぞれのサンプルについて、表面層の凹凸構造の高低差（Ｄ）、表面層の中心線平均粗さＲａ、表示画像の視認性について評価した。その結果を表１に示す。
【０１７７】
尚、表面層の凹凸構造が、導電性メッシュの凹凸構造に由来するかどうかについて、表面層の２次元の表面形状プロファイルから評価した結果、実施例及び比較例のいずれのサンプルも、導電性メッシュの凹凸構造に由来する凹凸構造が表面層に形成されていた。
【０１７８】
【表１】
2010048843.tif 000003
【０１７９】
表１の結果から、本発明の実施例は、表示画像の視認性に優れていることが分かる。
【０１８０】
一方、導電性メッシュが金属層（Ｂ）を有しない比較例１、及び表面層が着色剤を含有しない比較例２は、表示画像の視認性が劣っている。
【図面の簡単な説明】
【０１８１】
【図１】本発明の表面層（ハードコート層）の凹み構造の一例の模式断面図。
【符号の説明】
【０１８２】
１  基材
２  導電性メッシュの細線
３  ハードコート層
４  頂点
５  最低点
Ｄ  ハードコート層の凹凸構造の高低差
【図１】
2010048843.tif 000004