(57)【要約】【課題】表示品位が良好であって、アクティブエリアの面積を縮小することなく見栄えの良好な非矩形状のアクティブエリアを備えた液晶表示装置を提供すること。【解決手段】液晶表示装置は、画像を表示する複数の画素によって構成されたアクティブエリア１２０が非矩形状に形成され、アクティブエリアにおいて同一色を表示する第１画素及び第２画素にそれぞれ配置されたカラーフィルタ層３２０と、アクティブエリアの形状を規定するように配置されるとともにアクティブエリアの周縁の第１画素の一部に重なる周辺遮光層５００と、を備え、第１画素の周辺遮光層に重ならない有効部に配置されたカラーフィルタ層の膜厚は、第１画素の有効部より大きな面積の第２画素の有効部に配置されたカラーフィルタ層の膜厚より薄いことを特徴とする。【選択図】      図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像を表示する複数の画素によって構成されたアクティブエリアが非矩形状に形成された液晶表示装置であって、
前記アクティブエリアにおいて同一色を表示する第１画素及び第２画素にそれぞれ配置されたカラーフィルタ層と、
前記アクティブエリアの形状を規定するように配置されるとともに、前記アクティブエリアの周縁の前記第１画素の一部に重なる周辺遮光層と、を備え、
前記第１画素の前記周辺遮光層に重ならない有効部に配置された前記カラーフィルタ層の膜厚は、前記第１画素の有効部より大きな面積の前記第２画素の有効部に配置された前記カラーフィルタ層の膜厚より薄いことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
アクティブエリアは、実質的に円形状又は楕円形状に形成されたことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
各画素にスイッチング素子を備えた第１基板と、
前記第１基板に対向するように配置された第２基板と、
前記第１基板と前記第２基板との間に保持された液晶層と、を備えた液晶表示パネルにおいて、
前記カラーフィルタ層は、前記第２基板の前記第１基板と対向する側に配置されたことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
各画素に配置されたスイッチング素子と、前記スイッチング素子に接続された画素電極と、を備えた第１基板と、
前記第１基板に対向するように配置された第２基板と、
前記第１基板と前記第２基板との間に保持された液晶層と、を備えた液晶表示パネルにおいて、
前記カラーフィルタ層は、前記第１基板の前記スイッチング素子と前記画素電極との間に配置されたことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項５】
さらに、前記カラーフィルタの表面に配置された有機絶縁膜を備え、
前記第１画素の有効部に配置された前記有機絶縁膜の膜厚は、前記第２画素の有効部に配置された前記有機絶縁膜の膜厚より厚いことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、液晶表示装置に係り、特に、円形状や楕円形状などの非矩形状のアクティブエリアを備えた晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
平面表示装置として代表的な液晶表示装置は、軽量、薄型、低消費電力などの特徴を生かして、パーソナルコンピュータやテレビなどのＯＡ機器などの表示装置として種分野で利用されている。近年では、液晶表示装置は、携帯電話などの携帯端末機器や、カーナビゲーション装置、ゲーム機などの表示装置として利用されるだけでなく、自動車等の計器板（インパネ）などにも利用されている。
【０００３】
このため、画像を表示するアクティブエリアの形状は、従前の矩形状に留まらず、円形状や楕円形状などといった用途に応じた種々の形状への対応が望まれている。
【０００４】
例えば、特許文献１によれば、実質的に楕円形または円形形状に形成された表示エリアを備えた液晶表示装置が提案されている。特に、この特許文献１においては、省スペース化を図るために、縦長矩形状をなしたアレイ基板及びカラーフィルタ基板のそれぞれの隅部が表示エリア近くまでカットされている。
【特許文献１】特開２００６−２７６３５９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
カラー表示タイプの液晶表示装置においては、画素は、例えば、赤色サブピクセル、緑色サブピクセル、及び、青色サブピクセルによって構成されている。画素を構成するサブピクセルの一部がハウジングなどによって遮光された場合、画素の色バランスが崩れ、所望の色とは異なる色に表示されるおそれがある。例えば、赤色サブピクセルの一部のみが遮光された場合、画素全体における赤色の透過率または反射率が低下し、所望の色表示ができなくなる。
【０００６】
このような色ずれを抑制するために、サブピクセルの一部が遮光された画素全体をブラックマトリクスなどの遮光層によって遮光してしまう方法もあるが、その分、アクティブエリアが狭くなってしまう。また、アクティブエリアのエッジがドットパターンによって形成されるため、楕円形状や円形状のアクティブエリアにおけるエッジの滑らかさが不足し、見栄えが悪いといった課題もある。
【０００７】
この発明は、上述した問題点に鑑みなされたものであって、その目的は、表示品位が良好であって、アクティブエリアの面積を縮小することなく見栄えの良好な非矩形状のアクティブエリアを備えた液晶表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
この発明の一態様によれば、
画像を表示する複数の画素によって構成されたアクティブエリアが非矩形状に形成された液晶表示装置であって、
前記アクティブエリアにおいて同一色を表示する第１画素及び第２画素にそれぞれ配置されたカラーフィルタ層と、
前記アクティブエリアの形状を規定するように配置されるとともに、前記アクティブエリアの周縁の前記第１画素の一部に重なる周辺遮光層と、を備え、
前記第１画素の前記周辺遮光層に重ならない有効部に配置された前記カラーフィルタ層の膜厚は、前記第１画素の有効部より大きな面積の前記第２画素の有効部に配置された前記カラーフィルタ層の膜厚より薄いことを特徴とする液晶表示装置が提供される。
【発明の効果】
【０００９】
この発明によれば、表示品位が良好であって、アクティブエリアの面積を縮小することなく見栄えの良好な非矩形状のアクティブエリアを備えた液晶表示装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下、この発明の一実施の形態に係る液晶表示装置、特に非矩形状のアクティブエリアを備えた液晶表示装置について図面を参照して説明する。
【００１１】
図１及び図２に示すように、液晶表示装置は、液晶表示パネル１００を備えている。この液晶表示パネル１００は、一対の基板すなわちアレイ基板（第１基板）２００及び対向基板（第２基板）３００と、アレイ基板２００と対向基板３００との間に保持された液晶層４００と、によって構成されている。このような液晶表示パネル１００は、画像を表示する非矩形状のアクティブエリア１２０を備えている。
【００１２】
ここに示した例では、液晶表示パネル１００は、略円形状のアクティブエリア１２０を備えている。例えば、液晶表示パネル１００を構成するアレイ基板２００及び対向基板３００が共に略円形状に形成され、液晶表示パネル１００自体が略円形状に形成されている。
【００１３】
これらのアレイ基板２００と対向基板３００とは、シール材１１０によって貼り合わせられ、これらの間に液晶層４００を保持するための所定のセルギャップが形成されている。液晶層４００は、アレイ基板２００と対向基板３００との間のセルギャップに封入された液晶組成物によって形成されている。アクティブエリア１２０は、シール材１１０によって囲まれた内側に形成されている。
【００１４】
このようなアクティブエリア１２０は、マトリクス状に配置された複数の画素ＰＸによって構成されている。特に、この実施の形態において説明する液晶表示装置は、カラー表示タイプであって、一画素ＰＸは、互いに異なる色を表示する複数のサブピクセルＳＰＸによって構成されている。例えば、画素ＰＸは、赤色サブピクセルＰＸＲ、緑色サブピクセルＰＸＧ、青色サブピクセルＰＸＢによって構成されている。
【００１５】
アレイ基板２００は、ガラスなどの光透過性を有する略円形状の絶縁基板２１０を用いて形成されている。すなわち、アレイ基板２００は、アクティブエリア１２０において、画素ＰＸの行方向に沿って延在する複数のゲート線Ｙ（１、２、３、…、ｍ）、画素ＰＸの列方向に沿って延在する複数のソース線Ｘ（１、２、３、…、ｎ）、画素ＰＸにおけるソース線Ｘとゲート線Ｙとの交差部に配置されたスイッチング素子２２０、画素ＰＸのそれぞれに配置されスイッチング素子２２０に接続された画素電極２３０などを備えて構成されている。
【００１６】
ゲート線Ｙは、絶縁基板２１０の上に配置されている。ソース線Ｘは、ゲート絶縁膜２４０を介してゲート線Ｙと交差するように配置されている。アクティブエリア１２０に配置されたゲート線Ｙのそれぞれは、アレイ基板上の外周部１３０に引き出され、信号源であるゲートドライバＹＤに接続されている。また、ソース線Ｘのそれぞれも同様に、外周部１３０に引き出され、信号源であるソースドライバＸＤに接続されている。
【００１７】
スイッチング素子２２０は、例えば薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）によって構成されている。
【００１８】
スイッチング素子２２０のゲート電極２２２は、ゲート線Ｙなどとともに絶縁基板２１０の上に配置され、ゲート線Ｙに接続されている（あるいは、ゲート電極２２２は、ゲート線Ｙと一体的に形成されている）。これらのゲート線Ｙ及びゲート電極２２２は、同一材料によって同一工程で形成可能であり、ゲート絶縁膜２４０によって覆われている。このゲート絶縁膜２４０は、例えば、窒化シリコン（Ｓｉ3Ｎ４）などの無機系材料によって形成されている。
【００１９】
スイッチング素子２２０の半導体層２４２は、ゲート電極２２２と対向するようにゲート絶縁膜２４０の上に配置されている。この半導体層２４２は、例えばアモルファスシリコンやポリシリコンなどによって形成可能であるが、ここではアモルファスシリコンによって形成されている。
【００２０】
スイッチング素子２２０のソース電極２２５及びドレイン電極２２７は、ソース線Ｘなどとともにゲート絶縁膜２４０の上に配置されている。ソース電極２２５は、ソース線Ｘに接続されている（あるいは、ソース電極２２５は、ソース線Ｘと一体的に形成されている）とともに、半導体層２４２にコンタクトしている。ドレイン電極２２７は、画素電極２３０に接続されているとともに、半導体層２４２にコンタクトしている。
【００２１】
これらのソース線Ｘ、ソース電極２２５及びドレイン電極２２７は、同一材料によって同一工程で形成可能であり、パッシベーション膜２４４によって覆われている。このパッシベーション膜２４４は、例えば、窒化シリコン（Ｓｉ3Ｎ４）などの無機系材料によって形成されている。
【００２２】
画素電極２３０は、パッシベーション膜２４４の上において画素ＰＸに対応して配置されている。この画素電極２３０は、パッシベーション膜２４４に形成されたコンタクトホールを介してスイッチング素子２２０のドレイン電極２２７と電気的に接続されている。
【００２３】
バックライト光を選択的に透過して画像を表示する透過型の液晶表示パネルにおいては、画素電極２３０は、例えば、インジウム・ティン・オキサイド（ＩＴＯ）やインジウム・ジンク・オキサイド（ＩＺＯ）などの光透過性を有する導電材料によって形成されている。また、外光を選択的に反射して画像を表示する反射型液晶表示パネルにおいては、画素電極２３０は、例えば、アルミニウム（Ａｌ）やモリブデン（Ｍｏ）などの光反射性を有する導電材料によって形成されている。
【００２４】
このようなアレイ基板２００の表面は、液晶層４００に含まれる液晶分子の配向を制御するための配向膜２５０によって覆われている。
【００２５】
対向基板３００は、ガラスなどの光透過性を有する略円形状の絶縁基板３１０を用いて形成されている。すなわち、対向基板３００は、アクティブエリア１２０において、ゲート線Ｙやソース線Ｘなどの他にスイッチング素子２２０を含む配線部Ｗと対向するブラックマトリクスＢＭ、サブピクセルに対応して配置されたカラーフィルタ層３２０などを備えている。
【００２６】
ブラックマトリクスＢＭは、絶縁基板３１０の上において、格子状に配置されている。このブラックマトリクスＢＭは、例えば黒色に着色された樹脂や、クロム（Ｃｒ）などの遮光性の金属材料によって形成されている。
【００２７】
カラーフィルタ層３２０は、ブラックマトリクスＢＭによって囲まれた有効部に配置されている。このカラーフィルタ層３２０は、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、及び青色（Ｂ）にそれぞれ着色された着色樹脂によって形成されている。
【００２８】
すなわち、赤色の主波長の光を透過するように着色された赤色カラーフィルタ層３２０Ｒは赤色サブピクセルＰＸＲに配置されている。緑色の主波長の光を透過するように着色された緑色カラーフィルタ層３２０Ｇは緑色サブピクセルＰＸＧに配置されている。青色の主波長の光を透過するように着色された青色カラーフィルタ層３２０Ｂは青色サブピクセルＰＸＢに配置されている。
【００２９】
画素電極２３０との間の電位差により液晶層４００に電圧を印加するためのコモン電極３３０は、アレイ基板２００に備えられても良いし、対向基板３００に備えられても良い。このようなコモン電極３３０は、ＩＴＯなどの光透過性を有する導電材料によって形成されている。
【００３０】
図２に示した例では、縦電界（基板の主面にほぼ垂直な電界）を主として利用する縦電界モードに対応し、コモン電極３３０は、液晶層４００を介して複数の画素電極２３０に対向するように対向基板３００に備えられている。なお、横電界（基板の主面にほぼ平行な電界）を主として利用する横電界モードでは、コモン電極３３０は、画素電極２３０とは電気的に絶縁され且つ画素電極２３０に対向するようにアレイ基板２００に備えられる。
【００３１】
このような対向基板３００の表面は、液晶層４００に含まれる液晶分子の配向を制御するための配向膜３５０によって覆われている。
【００３２】
反射型の液晶表示パネル１００に対しては、対向基板３００の外面に光学素子３６０が設けられている。また、透過型の液晶表示パネル１００に対しては、アレイ基板２００及び対向基板３００の外面に、それぞれ光学素子２６０及び３６０が設けられている。これらの光学素子２６０及び３６０は、液晶層４００の特性に合わせて偏光方向を設定した偏光板などを含んでおり、必要に応じてさらに位相差板を含んでいても良い。
【００３３】
透過型の液晶表示パネル１００を備えた液晶表示装置においては、さらに、アレイ基板２００の背面側に配置され液晶表示パネル１００を照明する照明ユニットを備えている。
【００３４】
上述したような非矩形状のアクティブエリア１２０を備えた液晶表示パネル１００においては、アクティブエリア１２０を規定するように配置された周辺遮光層５００を備えている。図２に示した例では、周辺遮光層５００は、対向基板３００のアレイ基板２００に対向する内面において、アクティブエリア１２０の周辺に配置されている。この周辺遮光層５００は、黒色に着色された樹脂や遮光性の金属材料によって形成されている。このような周辺遮光層５００は、ブラックマトリクスＢＭと同一材料により同一工程で形成可能である。
【００３５】
なお、周辺遮光層５００は、対向基板３００の外面に配置しても良いし、液晶表示パネル１００とは別に、液晶表示パネル１００の対向基板側に配置されアクティブエリア１２０を露出するような開口部を備えたベゼルであっても良い。
【００３６】
上述したような構成の液晶表示パネル１００においては、図３に示すように、ほぼ円形状のアクティブエリア１２０を構成する画素ＰＸのうち、アクティブエリア１２０の周縁に位置する一部の周縁画素ＰＸＯについては、周辺遮光層５００と重なる。このような周縁画素ＰＸＯは、赤色サブピクセルＰＸＲＯ、緑色サブピクセルＰＸＧＯ、青色サブピクセルＰＸＢＯによって構成されている。周辺遮光層５００に重ならない中央画素ＰＸＩは、赤色サブピクセルＰＸＲＩ、緑色サブピクセルＰＸＧＩ、青色サブピクセルＰＸＢＩによって構成されている。
【００３７】
このような周縁画素ＰＸＯと中央画素ＰＸＩとにおいて、同一色のサブピクセルＰＸ（Ｒ、Ｇ、Ｂ）については、同一サイズに形成され、しかも、それぞれ同一色に着色されたカラーフィルタ層３２０（Ｒ、Ｇ、Ｂ）が配置されている。
【００３８】
周縁画素ＰＸＯのサブピクセルの一部に周辺遮光層５００が重なる場合、より具体的には、周縁画素ＰＸＯを構成するサブピクセルのうち、赤色サブピクセルＰＸＲＯの一部に周辺遮光層５００が重なる場合について検討する。赤色サブピクセルＰＸＲＯにおいて、周辺遮光層５００に重ならない有効部ＲＯｅｆｆの面積は、中央画素ＰＸＩを構成する赤色サブピクセルＰＸＲＩの有効部ＲＩｅｆｆの面積よりも小さい。有効部ＲＯｅｆｆの面積と、有効部ＲＩｅｆｆの面積との差分は、赤色サブピクセルＰＸＲＯにおいて周辺遮光層５００が重なる面積に相当する。
【００３９】
ここで、有効部とは、配線部Ｗで区画された領域、あるいはブラックマトリクスＢＭで区画された領域のうちの実質的に表示に寄与する領域に相当し、透過型の液晶表示パネルについてはバックライト光を透過可能な領域に相当し、反射型の液晶表示パネルについては外光を反射可能な領域に相当する。
【００４０】
したがって、赤色サブピクセルＰＸＲＯ及び赤色サブピクセルＰＸＲＩにおいて、それぞれの有効部に配置したカラーフィルタ層３２０Ｒが同一構成（すなわち、同一膜厚）である場合には、赤色サブピクセルＰＸＲＯは赤色サブピクセルＰＸＲＩよりも暗くなる。すなわち、透過型の液晶表示パネル１００においては、赤色サブピクセルＰＸＲＯの透過率が赤色サブピクセルＰＸＲＩよりも低くなる。また、反射型の液晶表示パネル１００においては、赤色サブピクセルＰＸＲＯの反射率が赤色サブピクセルＰＸＲＩよりも低くなる。
【００４１】
そこで、本実施形態においては、周縁画素ＰＸＯにおいて周辺遮光層５００と重なるサブピクセルについては、その有効部ＲＯｅｆｆに配置されたカラーフィルタ層３２０の膜厚は、中央画素ＰＸＩにおける同一色のサブピクセルの有効部ＲＩｅｆｆに配置されるカラーフィルタ層３２０の膜厚より薄く形成されている。
【００４２】
より具体的には、例えば図４に示すように、赤色サブピクセルＰＸＲＯの有効部ＲＯｅｆｆに配置されたカラーフィルタ層３２０Ｒの膜厚ＴＯは、赤色サブピクセルＰＸＲＩの有効部ＲＩｅｆｆに配置されたカラーフィルタ層３２０Ｒの膜厚ＴＩよりも薄い。なお、図４では、説明に必要な主要部のみを図示している。
【００４３】
すなわち、本実施形態では、サブピクセルの透過率は、カラーフィルタ層の膜厚が薄いほど高くなることに着目し、赤色サブピクセルＰＸＲＯの有効部ＲＯｅｆｆと赤色サブピクセルＰＸＲＩの有効部ＲＩｅｆｆとの面積の差に応じた明るさの差を補償するように、それぞれに配置されるカラーフィルタ層３２０Ｒの膜厚を設定している。
【００４４】
このような本構成によれば、周縁画素ＰＸＯの各サブピクセルにおいても、中央画素ＰＸＩの各サブピクセルと同程度の透過率あるいは反射率を得ることができ、周縁画素ＰＸＯ及び中央画素ＰＸＩにおいて、同様の色バランスを維持することができる。したがって、周縁画素ＰＸＯを含むアクティブエリア１２０の全体において良好な表示品位を得ることが可能となる。
【００４５】
また、周縁画素ＰＸＯがアクティブエリア１２０の画像表示に寄与するため、周辺遮光層５００に重なる周縁画素全体を遮光した場合と比較して、アクティブエリア１２０の面積が縮小することはなく、周縁画素ＰＸＯによって形成されるアクティブエリア１２０のエッジが滑らかとなり、見栄えを改善することが可能となる。
【００４６】
特に、実質的に円形状や楕円形状などのアクティブエリア１２０を形成する場合には、エッジが曲線状となるが、このような場合であってもエッジを滑らかに表示形成することが可能となる。これにより、見栄えの良好な種々の形状のアクティブエリア１２０を用途に応じて実現可能である。
【００４７】
図３及び図４に示した例では、周縁画素ＰＸＯの赤色サブピクセルのみに周辺遮光層５００が重なる場合について説明したが、他の色のサブピクセルに周辺遮光層５００が重なる場合にも同様の構成を適用できる。
【００４８】
上述したような同一色のカラーフィルタ層について、周縁画素ＰＸＯと中央画素ＰＸＩとで膜厚に差を形成するためには、カラーフィルタ層を形成するための材料として、光照射によって分解し現像処理によって除去されるような特性を有するポジティブタイプの感光性樹脂を適用し、グレートーンマスク（ＧＴＭ）あるいはハーフトーンマスク（ＨＴＭ）を用いた露光処理にて一括形成することが可能である。すなわち、これらのマスクは、中央画素ＰＸＩの有効部に対しては透過率がゼロ％（１００％遮光）となるようなパターンを有するとともに、周縁画素ＰＸＯの有効部に対してはその面積に応じて透過率がゼロ％よりは高く１００％未満となるようなパターンを有している。
【００４９】
先に、基板上に感光性樹脂を成膜した後、このようなマスクを介して露光処理することにより、中央画素ＰＸＩの有効部においては感光性樹脂に光が到達せず、また、周縁画素ＰＸＯの有効部においては所望の透過率に相当する光によって感光性樹脂が露光され、現像液に対して可溶性となる。その後、現像処理し、乾燥することにより、中央画素ＰＸＩ及び周縁画素ＰＸＯにおいて、膜厚の異なる同一色のカラーフィルタ層が形成される。
【００５０】
図２に示した例では、カラーフィルタ層３２０（Ｒ、Ｇ、Ｂ）は、対向基板３００のアレイ基板２００と対向する側に配置されたが、この例に限定されるものではなく、アレイ基板２００の対向基板３００と対向する側に配置されても良い（ＣＯＡ；カラーフィルタ・オン・アレイ構造）。
【００５１】
例えば、図５に示すように、アレイ基板２００は、絶縁基板２１０の上に、アンダーコート層ＵＣを備えている。このアンダーコート層ＵＣは、例えば、酸化シリコンや窒化シリコンなどの無機系材料によって形成されている。スイッチング素子２２０の半導体層２４２は、アンダーコート層ＵＣの上に配置されている。この半導体層２４２は、たとえばポリシリコンによって形成されている。
【００５２】
半導体層２４２及びアンダーコート層ＵＣは、ゲート絶縁膜２４０によって覆われている。スイッチング素子２２０のゲート電極２２２は、半導体層２４２に対向するゲート絶縁膜２４０の上に配置されている。このゲート電極２２２及びゲート絶縁膜２４０は、パッシベーション膜２４４によって覆われている。
【００５３】
スイッチング素子２２０のソース電極２２５及びドレイン電極２２７は、パッシベーション膜２４４の上に配置され、ゲート絶縁膜２４０及びパッシベーション膜２４４を貫通するコンタクトホールを介してそれぞれ半導体層２４２のソース領域及びドレイン領域にコンタクトしている。
【００５４】
カラーフィルタ層３２０（Ｒ、Ｇ、Ｂ）は、スイッチング素子２２０を覆うように配置されている。つまり、ソース電極２２５及びドレイン電極２２７や、パッシベーション膜２４４は、カラーフィルタ層３２０（Ｒ、Ｇ、Ｂ）によって覆われている。
【００５５】
画素電極２３０は、カラーフィルタ層３２０の上に配置され、カラーフィルタ層３２０を貫通するスルーホールを介してスイッチング素子２２０のドレイン電極２２７に電気的に接続されている。つまり、カラーフィルタ層３２０（Ｒ、Ｇ、Ｂ）は、スイッチング素子２２０と画素電極２３０との間に配置されている。
【００５６】
このようなＣＯＡ構造を採用した場合においても、周縁画素ＰＸＯにおいて周辺遮光層５００と重なるサブピクセルについては、その有効部に配置されるカラーフィルタ層３２０の膜厚が中央画素ＰＸＩにおける同一色のサブピクセルの有効部に配置されるカラーフィルタ層３２０の膜厚より薄く形成されている。
【００５７】
図５に示した例では、周縁画素ＰＸＯを構成する赤色サブピクセルＰＸＲＯに配置された赤色のカラーフィルタ層３２０Ｒの膜厚ＴＯは、中央画素ＰＸＩを構成する赤色サブピクセルＰＸＲＩに配置された赤色のカラーフィルタ層３２０Ｒの膜厚ＴＩよりも薄く形成されている。
【００５８】
これにより、周辺遮光層５００によって遮光される透過率のロス分が補償され、周縁画素ＰＸＯと中央画素ＰＸＩとでの透過率の差が低減される。このため、周縁画素ＰＸＯ及び中央画素ＰＸＩにおいて、色バランスを合わせることが可能となる。
【００５９】
上述したように、周縁画素ＰＸＯ及び中央画素ＰＸＩにおける同一色のサブピクセルにおいて、カラーフィルタ層の膜厚が異なることに起因して、液晶層４００を保持するためのギャップ（つまり、配向膜２５０と配向膜３５０との間の間隔）に差が生ずる。
【００６０】
そこで、カラーフィルタ層３２０の表面に段差の影響を緩和する（あるいは表面を平坦化する）ようにオーバーコート層として機能する有機絶縁膜を配置することが望ましい。尚、この有機絶縁膜は、カラー表示に影響を及ぼさない程度に透明である。すなわち、図６に示すように、カラーフィルタ層３２０の上に、スピンコートなどの手法により低粘度の有機系材料を塗布した後に硬化処理を行うことにより、その表面が概ね平坦な有機絶縁膜ＯＣが形成される。
【００６１】
例えば、周縁画素ＰＸＯの赤色サブピクセルＰＸＲＯの有効部に配置されたカラーフィルタ層３２０Ｒの膜厚が中央画素ＰＸＩの赤色サブピクセルＰＸＲＩの有効部に配置されたカラーフィルタ層３２０Ｒの膜厚よりも薄い場合、赤色サブピクセルＰＸＲＯの有効部に配置された有機絶縁膜ＯＣの膜厚Ｔ１は、赤色サブピクセルＰＸＲＩの有効部に配置された有機絶縁膜ＯＣの膜厚Ｔ２より厚い。
【００６２】
対向基板３００にカラーフィルタ層３２０を配置した構成においては、透明な有機絶縁膜ＯＣは、例えばカラーフィルタ層３２０と対向電極３３０あるいは配向膜３５０との間に配置される。アレイ基板２００にカラーフィルタ層３２０を配置した構成においては、有機絶縁膜ＯＣは、例えばカラーフィルタ層３２０と画素電極２３０あるいは配向膜２５０との間に配置される。
【００６３】
これにより、アクティブエリア１２０の全体において均一のギャップを形成することができ、局所的なギャップ差による表示不良の発生を抑制できる。
【００６４】
なお、この発明は、実施形態そのままに限定されるものではなく、その実施の段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合わせにより種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。更に、異なる実施形態に亘る構成要素を適宜組み合わせてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００６５】
【図１】図１は、この発明の一実施の形態に係る液晶表示装置の液晶表示パネルの構成を概略的に示す図である。
【図２】図２は、図１に示した液晶表示パネルの構成を概略的に示す断面図である。
【図３】図３は、図１に示した液晶表示パネルにおける周縁画素及び中央画素の構成を概略的に示す図である。
【図４】図４は、図３に示した液晶表示パネルの周縁画素及び中央画素をＩＶ−ＩＶ線で切断した断面図である。
【図５】図５は、他の実施形態（ＣＯＡ）における周縁画素及び中央画素のカラーフィルタ層の膜厚の関係を説明するための断面図である。
【図６】図６は、他の実施形態における周縁画素及び中央画素のカラーフィルタ層及び有機絶縁膜の膜厚の関係を説明するための断面図である。
【符号の説明】
【００６６】
１００…液晶表示パネル
２００…アレイ基板  ３００…対向基板  ４００…液晶層
１２０…アクティブエリア  ＰＸ…画素  ＰＸＯ…周縁画素  ＰＸＩ…中央画素
ＰＸＲ…赤色サブピクセル  ＰＸＧ…緑色サブピクセル  ＰＸＢ…青色サブピクセル
Ｗ…配線部  Ｙ…ゲート線  Ｘ…ソース線  ＢＭ…ブラックマトリクス
２２０…スイッチング素子  ２３０…画素電極
３２０（Ｒ、Ｇ、Ｂ）…カラーフィルタ層  ３３０…対向電極
５００…周辺遮光層
ＯＣ…有機絶縁膜
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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