(57)【要約】【課題】  本体構造体の小型化を図ることで、露光装置全体の小型化を図る。【解決手段】  本発明のステージ装置は、基板または原版を保持する保持部を有し、平面内を移動する可動体と、前記可動体に設けられ、前記保持部に基板または原版が保持された際に前記基板または原版よりも前記平面に垂直な方向に突出する反射面と、前記反射面に光を照射し、その反射光を用いて前記可動体の位置を計測する干渉計と、を備え、前記光は、前記反射面に対して、前記保持部が設けられた側から前記反射面に照射される。【選択図】  図１
2010283020.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板または原版を保持する保持部を有し、平面内を移動する可動体と、
前記可動体に設けられ、前記保持部に基板または原版が保持された際に前記基板または原版よりも前記平面に垂直な方向に突出する反射面と、
前記反射面に光を照射し、その反射光を用いて前記可動体の位置を計測する干渉計と、を備え、
前記光は、前記反射面に対して、前記保持部が設けられた側から前記反射面に照射されることを特徴とするステージ装置。
【請求項２】
原版のパターンを基板に投影して露光する露光装置であって、
投影光学系と、
前記原版または前記基板を保持する請求項１に記載のステージ装置と、
を備えることを特徴とする露光装置。
【請求項３】
デバイス製造方法であって、
請求項２に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
前記露光された基板を現像する工程と、
を含むことを特徴とするデバイス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光装置等で用いられるステージ装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、特許文献１のように、ステージ計測用のミラーは、ウエハと干渉計との間に設けられていた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開昭６０−２１９７４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
例えば、図４に示すように、このような構成では、干渉計２１３はウエハステージ２０７が＋Ｙ方向に最も移動した位置よりもさらにその外側に配置されなくてはならない。しかし、干渉計２１３は本体構造体２０５またはステージ定盤２０８と結合されているため、干渉計２１３が投影レンズ２０４から遠くに配置されればされるほど、本体構造体２０５やステージ定盤２０８の大型化をまねいてしまう。その結果、露光装置全体を大型化させてしまう。
【０００５】
そこで、本発明は、ステージに設けられたミラーの配置を工夫することにより本体構造体の小型化を図ることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明のステージ装置は、基板または原版を保持する保持部を有し、平面内を移動する可動体と、前記可動体に設けられ、前記保持部に基板または原版が保持された際に前記基板または原版よりも前記平面に垂直な方向に突出する反射面と、前記反射面に光を照射し、その反射光を用いて前記可動体の位置を計測する干渉計と、を備え、前記光は、前記反射面に対して、前記保持部が設けられた側から前記反射面に照射されることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、ステージに設けられたミラーの配置を工夫することにより本体構造体の小型化を図ることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】本発明の第１実施形態に係るステージ装置を用いた露光装置を示す図である。
【図２】本発明の第１実施形態に係るステージ装置を用いた露光装置を示す図である。
【図３】本発明の第２実施形態に係るステージ装置を用いた露光装置を示す図である。
【図４】従来のステージ装置を用いた露光装置の図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下、図面を用いて本発明の実施形態を説明する。
【００１０】
（第１実施形態）
図１は、本発明の第１実施形態に係るステージ装置を用いた露光装置の構成を示す。
【００１１】
露光装置は、不図示の光源、照明光学系９、レチクルステージ（可動体）２、投影光学系４、本体構造体５、ウエハステージ（可動体）７、ステージ定盤８、バーミラー１１、干渉計１３を有する。レチクルステージ２は、レチクル（原版）１を保持するためのレチクルチャック（保持部）３を備え、ウエハステージ７は、ウエハ（基板）６を保持するためのウエハチャック（保持部）１０を備える。
【００１２】
露光装置は、レチクルに形成された回路パターンをウエハに投影露光するものであり、ステップアンドリピート投影露光方式またはステップアンドスキャン投影露光方式であってもよい。
【００１３】
光源は、例えば、レーザを使用する。レーザは、波長約１９３ｎｍのＡｒＦエキシマレーザ、波長約２４８ｎｍのＫｒＦエキシマレーザ、波長約１５７ｎｍのＦ２エキシマレーザなどを使用することができる。しかし、レーザの種類はエキシマレーザに限定されず、ＹＡＧレーザを使用してもよいし、その個数も限定されない。光源にレーザが使用される場合、レーザ光源からの平行光束を所望のビーム形状に整形する光束整形光学系、コヒーレントなレーザ光束をインコヒーレント化するインコヒーレント化光学系を使用することが好ましい。また、使用可能な光源はレーザに限定されるものではなく、一又は複数の水銀ランプやキセノンランプなどのランプも使用可能である。
【００１４】
照明光学系９は、レチクルを照明する光学系であり、レンズ、ミラー、ライトインテグレーター、絞り等を含み、光源からの光をレチクル１に対して、整形照射する機能をもつ。
【００１５】
レチクルステージ２およびウエハステージ７は、たとえばリニアモータによって移動可能である。ステップアンドスキャン投影露光方式の場合には、それぞれのステージは同期して移動する。また、レチクル１のパターンをウエハ６上に位置合わせするためにウエハステージ７およびレチクルステージ２の少なくともいずれかに別途アクチュエータを備える。
【００１６】
投影光学系４は、レチクル１のパターンをウエハ６に投影する。投影光学系４は、複数のレンズ素子のみからなる光学系、複数のレンズ素子と少なくとも一枚の凹面鏡とを有する光学系（カタディオプトリック光学系）を使用することができる。また、複数のレンズ素子と少なくとも一枚のキノフォームなどの回折光学素子とを有する光学系、全ミラー型の光学系等を使用することもできる。
【００１７】
本体構造体５は、干渉計１３、投影光学系４等を支持する。
【００１８】
ステージ定盤８は、ウエハステージ７を支持ガイドする。
【００１９】
ミラー１１はステージ測長用のレーザ光を反射するためのもので、ウエハステージ７及びウエハ６に対し、ステージの走査平面に垂直な方向に突出した形状をしている。ミラー１１は、ウエハチャック１０の側からステージ測長用のレーザが照射される構成となっている。
【００２０】
干渉計１３は、ウエハステージ７の位置を計測するもので、複数の干渉計を用いて最大６自由度方向の計測を行う。
【００２１】
干渉計１３から出射した光はミラー１１の反射面に対し垂直に入射する。ミラー１１からの反射光は干渉計に再び入射し、基準となる光と重ね合わせられ、その干渉信号を取り出すことによりステージの相対位置変化量を計測している。
【００２２】
次に、本実施形態におけるステージ走査動作を説明する。
【００２３】
ウエハステージ７はウエハ６の広範な領域に露光動作および計測動作を行うために、二次元平面内において直交する２方向に走査動作を行う。
【００２４】
図２は、ウエハステージ７が走査し、＋Ｙ方向に最大距離移動した状態を表す。
【００２５】
ミラー１１がウエハステージ７の上方に出っ張った形状になっているため、干渉計１３はウエハステージ７と上下方向にずれた位置に配置することが可能である。そのため図に示すように、ステージ走査平面内において、ステージ走査領域と干渉計配置位置のオーバーラップが可能となり、干渉計１３を投影光学系４の方へ近づけることが可能となる。その結果、干渉計１３を保持している本体構造体５を小型にすることが可能となる。
【００２６】
ミラーは、ステージの上部で支持されても良いし、ステージの側面で支持されてもよい。
【００２７】
また、本発明のステージ装置は、露光エリアとアライメント計測エリアとを備え、複数のウエハステージが前記露光エリアと前記アライメント計測エリアを交互に移動するような露光装置においても適用することが可能である。
【００２８】
（第２実施形態）
図３は、本発明の第２実施形態に係るステージ装置を用いた露光装置の構成を示す。図１および図２と同一の符号については、その説明を省略する。
【００２９】
本実施形態では、第１実施形態のウエハステージ７の構成をレチクルステージ２側にも適用したものである。レチクルステージ２上にミラー２１が設けられ、構造体２４にレチクルステージ２の位置を計測する干渉計２３が設けられている。ミラー２１は、レチクルチャック３の側から測長光が照射されるように配置されている。本実施形態によれば、レチクルステージ側の干渉計を支持する構造体も小型化を図ることが可能となる。
【００３０】
図３（ａ）は、干渉計によって平面（Ｘ−Ｙ平面）内の位置を計測する構成である。図３（ｂ）は、垂直な方向（Ｚ方向）の位置を計測する構成である。図３（ｂ）では、本体構造体５と構造体２４に、それぞれミラー２５および２６が設けられている。また、ミラー１１および２１は、その反射面に対して測長光が４５°の角度で照射される構成になっている。これにより、ウエハステージ８およびレチクルステージ２の平面と垂直な方向の位置を計測することが可能となる。
【００３１】
第１実施形態ではウエハステージのみ、第２実施形態ではウエハステージとレチクルステージに本発明を用いた実施形態を示したが、レチクルステージのみに適応してもよい。
【００３２】
（第３実施形態）
デバイス製造方法を以下に説明する。半導体集積回路素子、液晶表示素子等のデバイスは、前述のいずれかの実施例の露光装置を使用して感光剤を塗布した基板（ウエハ、ガラス基板等）を露光する工程と、その基板を現像する工程と、他の周知の工程と、を経ることにより製造される。
【００３３】
以上、本発明の実施形態を説明したが、これは本発明を限定する意図のものではない。
【符号の説明】
【００３４】
１  レチクル
２  レチクルステージ
３  レチクルチャック
４  投影光学系
５  本体構造体
６  ウエハ
７  ウエハステージ
８  ステージ定盤
９  照明光学系
１０  ウエハチャック
１１  ミラー
１３  干渉計
２１  ミラー
【図１】
2010283020.tif 000003
【図２】
2010283020.tif 000004
【図３】
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【図４】
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