(57)【要約】【課題】被処理物の加工精度のバラツキの影響を受けず、設備の複雑化ないしコストの増大を招かず、常に安定的かつ容易に、電気メッキのメッキ皮膜の厚みを均一化する。【解決手段】メッキ槽１１内のメッキ液１２に浸漬した電極１３と被処理物１４との間に通電することにより被処理物１４の表面をメッキする電気メッキ方法において、メッキ槽１１内で、電極１３を指向する被処理物１４のメッキ面１４ａを開放しつつ、被処理物１４の周囲を所定の間隙を空けて非導電性の囲繞部材１６で囲み、この囲繞部材１６の電極１３側の先端部を被処理物１４のメッキ面１４ａより電極１３側に突出させ、この状態で、電極１３と被処理物１４との間に通電して電気メッキを行う。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
メッキ槽内のメッキ液に浸漬した電極と被処理物との間に通電することにより被処理物の表面をメッキする電気メッキ方法であって、
前記メッキ槽内において、電極を指向する被処理物のメッキ面を開放しつつ、該被処理物の周囲を所定の間隙を空けて非導電性の囲繞部材で囲み、該囲繞部材の電極側の先端部を被処理物のメッキ面より電極側に突出させた状態で、電極と被処理物との間に通電することを特徴とする電気メッキ方法。
【請求項２】
前記請求項１に記載の電気メッキ方法であって、
電極を、被処理物のメッキ面の全域と対向させて配置することを特徴とする電気メッキ方法。
【請求項３】
前記請求項１又は２に記載の電気メッキ方法であって、
前記メッキ槽内において、前記囲繞部材で囲まれた空間と、その外側の空間との間で、メッキ液を流通させながら電気メッキを行うことを特徴とする電気メッキ方法。
【請求項４】
前記請求項３に記載の電気メッキ方法であって、
前記メッキ槽内においてメッキ液を循環させながら電気メッキを行うと共に、
前記メッキ液の流通の経路は、このメッキ液の循環の経路の一部であることを特徴とする電気メッキ方法。
【請求項５】
メッキ槽内のメッキ液に浸漬した電極と被処理物との間に通電することにより被処理物の表面をメッキするための電気メッキ装置であって、
前記メッキ槽内に、電極を指向する被処理物のメッキ面を開放しつつ、該被処理物の周囲を所定の間隙を空けて囲み、電極側の先端部が被処理物のメッキ面より電極側に突出した非導電性の囲繞部材が設けられていることを特徴とする電気メッキ装置。
【請求項６】
前記請求項５に記載の電気メッキ装置であって、
電極は、被処理物のメッキ面の全域と対向して配置されていることを特徴とする電気メッキ装置。
【請求項７】
前記請求項５又は６に記載の電気メッキ装置であって、
前記囲繞部材の反電極側の端部は、被処理物を支持する支持部材で閉じられていると共に、
前記囲繞部材及び／又は前記支持部材に開口が設けられていることを特徴とする電気メッキ装置。
【請求項８】
前記請求項７に記載の電気メッキ装置であって、
メッキ槽内においてメッキ液を循環させるための循環装置が設けられ、
この循環装置におけるメッキ液の噴出口が、前記囲繞部材で囲まれた空間の外側の空間から、前記囲繞部材及び／又は前記支持部材に設けられた開口に向けられていることを特徴とする電気メッキ装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電気メッキ方法及びその装置に関し、金属材料の表面処理の技術分野に属する。
【背景技術】
【０００２】
従来、メッキ槽内において、メッキ金属のイオンを含むメッキ液に電極と被処理物とを浸漬し、これらの電極と被処理物と間に電気を通電することにより被処理物の表面にメッキ金属の皮膜を析出させる電気メッキが周知である。
【０００３】
特に、近年では、例えばレシプロエンジンのピストンリングやロータリーエンジンのサイドハウジング等、自動車のエンジン周りの部品が軽量化のためアルミニウム等の軽合金部材で製造され、その軽合金部材の耐摩耗性や潤滑性あるいは耐食性を向上させるために、ニッケル系メッキやクロム系メッキが電気メッキで施されることが多くなっている。
【０００４】
ここで、一般に、電気メッキでは、被処理物のメッキ面の全域に電流が到達するように、図８に示すように、電極は被処理物のメッキ面より広い面積を有している。すると、被処理物のメッキ面より外側の電極の部分から発出された電流は、なるべく距離の短い箇所に到達しようとしてメッキ面の周縁部に集中し、この結果、メッキ金属がメッキ面に均一に電着せず、メッキ面の周縁部でメッキ皮膜が厚くなり、メッキ面の中央部でメッキ皮膜が薄くなるという、メッキ皮膜の厚みの不均一化の問題が生じる。
【０００５】
そこで、図９に示すように、被処理物を導電性のホルダに嵌め込んで収容し、被処理物のメッキ面とホルダの前面とを面一にした状態で電極と対峙させて電気メッキを行うことが提案される。こうすれば、被処理物のメッキ面だけでなく、その外側のホルダの前面にもメッキ金属が電着することとなり、その場合に、被処理物のメッキ面ないしホルダ前面より外側の電極の部分から発出された電流はホルダ前面の周縁部に集中するから、メッキ後に被処理物をホルダから取り出したときには、被処理物のメッキ面には厚みが均一なメッキ皮膜が生成していることになる。
【０００６】
また、特許文献１には、メッキ皮膜の厚みの不均一化の原因がメッキ液の循環の流速ムラや電極からの電流の密度ムラであるとして、メッキ液中に浸漬した被処理物のメッキ面を、回転駆動手段に連結したシャフト及び被処理物を支持する支持部材を介して回転させながら電気メッキを行うことにより、前記メッキ液の循環流速ムラや電流密度ムラを抑制する技術が記載されている。
【０００７】
【特許文献１】特開２００４−３００４６２（段落０００７、０００８、００２２）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかし、被処理物を導電性ホルダに収容して電気メッキをする方法では、被処理物の加工精度のバラツキにより、被処理物のメッキ面とホルダの前面とを常に面一とすることが困難であるという問題がある。その結果、被処理物のメッキ面がホルダ前面より電極側に突出したときは、図１０（ａ）に示すように、電極から発出された電流が到達距離の短い被処理物のメッキ面の周縁部に集中して、該部分でメッキ皮膜が厚くなってしまう。逆に、被処理物のメッキ面がホルダ前面より電極側から後退したときには、図１０（ｂ）に示すように、電極から発出された電流が到達距離の短いホルダ前面の内側の周縁部に集中して、その分、被処理物のメッキ面の周縁部で電流が欠乏し過疎となりメッキ皮膜が薄くなってしまう。さらに、ホルダ前面に析出したメッキ皮膜を除去する手間が増え、生産性が低下するという不具合もある。
【０００９】
また、被処理物のメッキ面を回転させて電気メッキをする方法では、設備の複雑化ないしコストの増大の問題が生じる。
【００１０】
そこで、本発明者等は、被処理物の加工精度のバラツキの影響を受けず、設備の複雑化ないしコストの増大を招かず、常に安定的かつ容易に、電気メッキのメッキ皮膜の厚みを均一化することを課題として、鋭意研究検討を重ねたところ、所定条件の下で、被処理物の周囲を非導電性の囲繞部材で囲んだ状態で電気メッキを行った場合に、十分満足な結果が得られるという知見を得て、本発明を完成したものである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
前記課題を解決するため、本発明では次のような手段を用いる。なお、以下の本発明の開示において、後述する発明の実施形態で相当する符号を参考までに付記する。
【００１２】
本願の請求項１に記載の発明は、メッキ槽１１内のメッキ液１２に浸漬した電極１３と被処理物１４との間に通電することにより被処理物１４の表面をメッキする電気メッキ方法であって、前記メッキ槽１１内において、電極１３を指向する被処理物１４のメッキ面１４ａを開放しつつ、該被処理物１４の周囲を所定の間隙αを空けて非導電性の囲繞部材１６で囲み、該囲繞部材１６の電極１３側の先端部を被処理物１４のメッキ面１４ａより電極１３側に突出させた状態で、電極１３と被処理物１４との間に通電することを特徴とする。
【００１３】
ここで、囲繞部材１６と被処理物１４との間隙αとしては、５ｍｍ〜１０ｍｍが好ましく、囲繞部材１６の電極１３側の先端部の突出長さ（β−Ｈ）としては、被処理物１４の軸方向長さＨの２０％〜１５０％が好ましい。
【００１４】
本願の請求項２に記載の発明は、前記請求項１に記載の電気メッキ方法であって、電極１３を、被処理物１４のメッキ面１４ａの全域と対向させて配置することを特徴とする。
【００１５】
本願の請求項３に記載の発明は、前記請求項１又は２に記載の電気メッキ方法であって、前記メッキ槽１１内において、前記囲繞部材１６で囲まれた空間と、その外側の空間との間で、メッキ液１２を流通させながら電気メッキを行うことを特徴とする。
【００１６】
本願の請求項４に記載の発明は、前記請求項３に記載の電気メッキ方法であって、前記メッキ槽１１内においてメッキ液１２を循環させながら電気メッキを行うと共に、前記メッキ液１２の流通の経路は、このメッキ液１２の循環の経路の一部であることを特徴とする。
【００１７】
一方、本願の請求項５に記載の発明は、メッキ槽１１内のメッキ液１２に浸漬した電極１３と被処理物１４との間に通電することにより被処理物１４の表面をメッキするための電気メッキ装置１であって、前記メッキ槽１１内に、電極１３を指向する被処理物１４のメッキ面１４ａを開放しつつ、該被処理物１４の周囲を所定の間隙αを空けて囲み、電極１３側の先端部が被処理物１４のメッキ面１４ａより電極１３側に突出した非導電性の囲繞部材１６が設けられていることを特徴とする。
【００１８】
ここでも、囲繞部材１６と被処理物１４との間隙αとしては、５ｍｍ〜１０ｍｍが好ましく、囲繞部材１６の電極１３側の先端部の突出長さ（β−Ｈ）としては、被処理物１４の軸方向長さＨの２０％〜１５０％が好ましい。
【００１９】
本願の請求項６に記載の発明は、前記請求項５に記載の電気メッキ装置１であって、電極１３は、被処理物１４のメッキ面１４ａの全域と対向して配置されていることを特徴とする。
【００２０】
本願の請求項７に記載の発明は、前記請求項５又は６に記載の電気メッキ装置１であって、前記囲繞部材１６の反電極側の端部は、被処理物１４を支持する支持部材１５で閉じられていると共に、前記囲繞部材１６及び／又は前記支持部材１５に開口１７，１５ａが設けられていることを特徴とする。
【００２１】
本願の請求項８に記載の発明は、前記請求項７に記載の電気メッキ装置１であって、メッキ槽１１内においてメッキ液１２を循環させるための循環装置２１−２３が設けられ、この循環装置２１−２３におけるメッキ液１２の噴出口２３が、前記囲繞部材１６で囲まれた空間の外側の空間から、前記囲繞部材１６及び／又は前記支持部材１５に設けられた開口１７，１５ａに向けられていることを特徴とする。
【発明の効果】
【００２２】
本願の請求項１、５に記載の発明によれば、電気メッキにおいて、電極を指向する被処理物のメッキ面を開放しつつ、該被処理物の周囲を囲む非導電性の囲繞部材をメッキ槽内に設け、この状態で電気メッキを行うことになる。ここで、囲繞部材は非導電性であるから、この囲繞部材にメッキ皮膜が析出することがない。したがって、囲繞部材に析出したメッキ皮膜を除去する手間が増え、生産性が低下するというような不具合は生じない。
【００２３】
また、囲繞部材の電極側の先端部は被処理物のメッキ面より電極側に突出しているので、被処理物のメッキ面が囲繞部材の電極側の先端部より電極側に突出することがない。したがって、被処理物のメッキ面の周縁部に電流が集中して、該部分でメッキ皮膜が厚くなる問題が防止される。しかも、このとき、囲繞部材の電極側の先端部にメッキ皮膜が析出してこれを除去しなければならないという不具合も解消されることは前述の通りである。また、被処理物のメッキ面と囲繞部材の電極側の先端部とを面一にする必要もない。
【００２４】
併せて、囲繞部材と被処理物との間には所定の間隙を空けているので、前記囲繞部材と前記被処理物とを当接ないし近接させて、被処理物の周囲を囲繞部材で囲んだ場合に生じる問題、すなわち、囲繞部材が非導電性であることの影響を受けて、被処理物のメッキ面の周縁部で電流が欠乏し過疎となりメッキ皮膜が薄くなる問題が防止される。
【００２５】
このように、本発明は、基本的に、被処理物の周囲を非導電性の囲繞部材で囲み、あとはこの状態で通常通りに電気メッキを行えばよいものであり、被処理物の加工精度のバラツキの影響を受けることなく、設備の複雑化ないしコストの増大を招くことなく、常に安定的かつ容易に、電気メッキのメッキ皮膜の厚みの均一化を実現するものである。
【００２６】
本願の請求項２、６に記載の発明によれば、被処理物のメッキ面の全域が電極でカバーされ、かつ被処理物のメッキ面と電極とが平行になるから、電極から発出された電流が被処理物のメッキ面の全域に密度ムラなく均一に到達し、これにより、メッキ皮膜の厚みがより一層均一化することとなる。
【００２７】
本願の請求項３、７に記載の発明によれば、メッキ槽内において、囲繞部材で囲まれた空間と、その外側の空間との間で、メッキ液が流通した状態で電気メッキが行われることになるから、被処理物の周囲を囲繞部材で囲むことに起因して生じる問題、すなわち、メッキが進むにつれて被処理物のメッキ面の周囲のメッキ液の組成が変化して析出したメッキ皮膜の性質が変動する問題が解消される。その結果、被処理物のメッキ面の周囲には常に均等な組成のメッキ液が安定的に供給されて、常に均質なメッキ皮膜が安定的に得られることとなる。
【００２８】
本願の請求項４、８に記載の発明によれば、メッキ槽内においてメッキ液が循環した状態で電気メッキが行われることになるから、メッキ槽全体としてメッキ液の均等化が図られ、その結果、被処理物のメッキ面の周囲に常に均等な組成のメッキ液を安定供給することが確保されることとなる。以下、発明の最良の実施の形態及び実施例を通して本発明をさらに詳しく説述する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２９】
図１は、本発明の最良の実施の形態に係る電気メッキ装置１の概略全体図である。基本的構造は、従来の電気メッキ装置と同様であり、メッキ槽１１内にメッキ金属のイオンを含むメッキ液１２が貯留されている。メッキ液１２に鉛（Ｐｂ）電極１３と被処理物１４とが浸漬されている。被処理物１４は、導電性の支持部材１５に支持されている。メッキ時には、Ｐｂ電極１３が陽極（＋）とされ、被処理物１４が陰極（−）とされて、これらの電極１３と被処理物１４と間に電気が通電される。その場合に、電極１３と被処理物１４のメッキ面１４ａとは対向して配置されており、かつ電極１３から発出された電流がメッキ面１４ａの全域に到達するように、電極１３はメッキ面１４ａより広い面積を有している。
【００３０】
また、メッキ槽１１内には、メッキ液１２を矢印で示すように循環させるための循環装置、すなわち、ポンプ２１と誘導管２２と噴出口２３とが設けられている。
【００３１】
そして、本実施形態では、本発明の特徴である囲繞部材１６がメッキ槽１１内に設けられている。
【００３２】
この囲繞部材１６は、図２にも示すように、被処理物１４が円柱状であることに対応して円筒状であり、例えば合成樹脂（塩化ビニル樹脂や耐熱性塩素化塩化ビニル樹脂など）やゴム等の非導電性の材料で製造されている。
【００３３】
囲繞部材１６は、被処理物１４の周囲を所定の間隙（囲繞部材１６の内周面と被処理物１４の外周面との距離）αを空けて囲んでいる。ここで、間隙αとしては、５ｍｍ〜１０ｍｍが好ましい。ただし、囲繞部材１６は、電極１３を指向する被処理物１４のメッキ面１４ａを開放している。
【００３４】
囲繞部材１６の電極１３側の先端部は、被処理物１４のメッキ面１４ａより電極１３側に突出している。一方、囲繞部材１６の反電極１３側の端部は、被処理物１４を支持する支持部材１５に連結し、該支持部材１５で閉じられている。ここで、囲繞部材１６の電極１３側の先端部の突出長さ（β−Ｈ）としては、被処理物１４の軸方向長さＨの２０％〜１５０％が好ましい。ここで、βは、囲繞部材１６の軸方向長さである。
【００３５】
図１に示すように、電極１３及び被処理物１４のメッキ面１４ａは縦に配置されており、これに対応して囲繞部材１６は軸方向が横に配置されている。そして、囲繞部材１６で囲まれた空間と、その外側の空間との間でメッキ液１２を流通させるための複数の開口１７…１７が囲繞部材１６に設けられている。そして、循環装置の噴出口２３は、囲繞部材１６ないし被処理物１４の直下方に位置しており、かつ前記噴出口２３は、囲繞部材１６で囲まれた空間の外側の空間から、囲繞部材１６に設けられた前記開口１７…１７に向けられている。その結果、囲繞部材１６に設けられた開口１７…１７を介してのメッキ液１２の流通の経路は、循環装置（ポンプ２１、誘導管２２、噴出口２３）を介してのメッキ液１２の循環の経路の一部となる。
【００３６】
なお、前記開口１７…１７は、メッキ金属の電着と同時に被処理物１４のメッキ面１４ａで発生する気体の抜け穴としても機能する。
【００３７】
以上のような構成を有する本実施形態に係る電気メッキ装置１で電気メッキを実行すれば、図３に示すように、電極１３から発出された電流は、被処理物１４のメッキ面１４ａの全域に密度ムラなく均一に到達し、メッキ皮膜Ｐの厚みが均一化する。
【００３８】
このとき、被処理物１４のメッキ面１４ａから支持部材１５までの深さ、換言すれば、被処理物１４の軸方向長さＨ（図２（ｂ）参照）は、５ｍｍ〜２０ｍｍが好ましい。被処理物１４の軸方向長さＨが２０ｍｍを超えるときは、被処理物１４のメッキ面１４ａから５ｍｍ〜２０ｍｍの位置に、囲繞部材１６と同様の非導電性の材料で、間隙αの部分に底を形成すればよい。
【００３９】
ここで、電気メッキの条件としては、例えば、ニッケル（Ｎｉ）メッキの場合、浴組成（メッキ液１２の組成）が、ＮｉＳＯ４：２５０ｇ／Ｌ及び（ＮＨ４）２・ＳＯ４：８０ｇ／Ｌ、浴温が６０℃、電流密度が６０Ａ／ｄｍ２、コバルト（Ｃｏ）メッキの場合、浴組成（メッキ液１２の組成）が、ＣｏＳＯ４・７Ｈ２Ｏ：２００ｇ／Ｌ及び（ＮＨ４）２・ＳＯ４：１５０ｇ／Ｌ、浴温が４０℃、電流密度が４０Ａ／ｄｍ２等である。
【００４０】
これに対し、囲繞部材１６と被処理物１４との間隙αが過度に狭い場合は、図４（ａ）に示すように、囲繞部材１６が非導電性であることの影響を受けて、被処理物１４のメッキ面１４ａの周縁部で電流が欠乏し過疎となりメッキ皮膜Ｐが薄くなる問題が生じる。
【００４１】
逆に、囲繞部材１６と被処理物１４との間隙αが過度に広い場合は、図４（ｂ）に示すように、被処理物１４のメッキ面１４ａの周縁部に電流が集中して、該部分でメッキ皮膜Ｐが厚くなる問題が生じる。
【００４２】
このように、本実施形態によれば、電気メッキにおいて、電極１３を指向する被処理物１４のメッキ面１４ａを開放しつつ、該被処理物１４の周囲を囲む非導電性の囲繞部材１６をメッキ槽１１内に設け、この状態で電気メッキを行うことになる。ここで、囲繞部材１６は非導電性であるから、この囲繞部材１６にメッキ皮膜が析出することがない。したがって、囲繞部材１６に析出したメッキ皮膜を除去する手間が増え、生産性が低下するというような不具合は生じない。
【００４３】
また、囲繞部材１６の電極１３側の先端部は被処理物１４のメッキ面１４ａより電極１３側に突出しているので、被処理物１４のメッキ面１４ａが囲繞部材１６の電極１３側の先端部より電極１３側に突出することがない。したがって、被処理物１４のメッキ面１４ａの周縁部に電流が集中して、該部分でメッキ皮膜が厚くなる問題が防止される。しかも、このとき、囲繞部材１６の電極１３側の先端部にメッキ皮膜が析出してこれを除去しなければならないという不具合も解消されることは前述の通りである。また、被処理物１４のメッキ面１４ａと囲繞部材１６の電極１３側の先端部とを面一にする必要もない。
【００４４】
併せて、囲繞部材１６と被処理物１４との間には所定の間隙αを空けているので、前記囲繞部材１６と前記被処理物１４とを当接ないし近接させて、被処理物１４の周囲を囲繞部材１６で囲んだ場合に生じる問題、すなわち、囲繞部材１６が非導電性であることの影響を受けて、被処理物１４のメッキ面１４ａの周縁部で電流が欠乏し過疎となりメッキ皮膜が薄くなる問題が防止される。
【００４５】
このように、本実施形態によれば、基本的に、被処理物１４の周囲を非導電性の囲繞部材１６で囲み、あとはこの状態で通常通りに電気メッキを行えばよいものであり、被処理物１４の加工精度のバラツキの影響を受けることなく、設備の複雑化ないしコストの増大を招くことなく、常に安定的かつ容易に、電気メッキのメッキ皮膜Ｐの厚みの均一化を実現することができる。
【００４６】
また、被処理物１４のメッキ面１４ａの全域が電極１３でカバーされ、かつ被処理物１４のメッキ面１４ａと電極１３とが平行になるから、電極１３から発出された電流が被処理物１４のメッキ面１４ａの全域に密度ムラなく均一に到達し、これにより、メッキ皮膜Ｐの厚みがより一層均一化することとなる。
【００４７】
また、メッキ槽１１内において、囲繞部材１６で囲まれた空間と、その外側の空間との間で、囲繞部材１６に設けられた開口１７…１７を介して、メッキ液１２が流通した状態で電気メッキが行われることになるから、被処理物１４の周囲を囲繞部材１６で囲むことに起因して生じる問題、すなわち、メッキが進むにつれて被処理物１４のメッキ面１４ａの周囲のメッキ液１２の組成が変化して析出したメッキ皮膜Ｐの性質が変動する問題が解消される。その結果、被処理物１４のメッキ面１４ａの周囲には常に均等な組成のメッキ液１２が安定的に供給されて、常に均質なメッキ皮膜Ｐが安定的に得られることとなる。
【００４８】
また、メッキ槽内１１においてメッキ液１２が循環装置（ポンプ２１、誘導管２２、噴出口２３）を介して循環した状態で電気メッキが行われることになるから、メッキ槽１１全体としてメッキ液１２の均等化が図られ、その結果、被処理物１４のメッキ面１４ａの周囲に常に均等な組成のメッキ液１２を安定供給することが確保されることとなる。
【００４９】
次に、図５は、電極１３、被処理物１４及び囲繞部材１６の配置を変えた、本発明の第２の実施形態に係る、前記図１と類似の概略全体図である。
【００５０】
この場合、電極１３及び被処理物１４のメッキ面１４ａは横に配置されており、これに対応して囲繞部材１６は軸方向が縦に配置されている。また、囲繞部材１６の反電極１３側の端部は閉じられておらず、電極１３側の先端部と同様、開放されている。したがって、囲繞部材１６に開口を設けなくても、このままの状態で、囲繞部材１６で囲まれた空間と、その外側の空間との間でメッキ液１２を流通させることができる。
【００５１】
次に、図６は、本発明の第３の実施形態に係る被処理物としてのロータリーエンジンのサイドハウジングＷの概略全体図である。ロータリーエンジンのサイドハウジングＷは、燃費改善のため、鋳鉄からアルミ合金に代替され軽量化が進んでいる。図中、鎖線で示すロータのサイドシールとの摺動面Ｗ１を低摩耗で焼き付きし難い表面とする必要があり、該摺動面Ｗ１の表面改質が有効である。そして、摺動面Ｗ１の表面改質としては、硬質なメッキ処理が効果的であり、特に燃費改善の要求が高いロータリーエンジンにおいては、摺動面Ｗ１に、ＮｉＰＣｏ−Ｓｉ３Ｎ４や、高速ＣｒＭｏ合金メッキ等が好適である。
【００５２】
なお、図６において、摺動面Ｗ１はメッキ面であり、符号Ｗ２は、エキセントリックシャフトが挿通する開口である。
【００５３】
そして、図７（ａ）は、前記サイドハウジングＷに適する囲繞部材３３及び支持部材３１の平面図、図７（ｂ）は、前記図７（ａ）の符号ＩＩＩによる矢視図である。サイドハウジングＷの輪郭形状は相対的に複雑であり、大型の樹脂ブロックから囲繞部材３３を削り出すことは基本的に困難であるから、囲繞部材３３は、複数の薄い樹脂プレート（塩化ビニル製など）３３ａ…３３ａの積み上げ構造としている。
【００５４】
ここで、図中、符号３１は、導電性の支持部材である。符号３２は、支持部材３１に立設された導電性のピンであり、このピン３２はサイドハウジングＷのエキセントリックシャフト用開口Ｗ２を挿通する。符号３３は、サイドハウジングＷに適する囲繞部材３３、符号３４は、サイドハウジングＷを収容するための開口である。ここで、このサイドハウジング収容開口３４とサイドハウジングＷの外周面との間に所定の間隙αが空くことになる。符号３５は、メッキ槽１１内において、囲繞部材３３で囲まれた空間と、その外側の空間との間で、メッキ液１２を流通させるための開口である。そして、符号３６は、囲繞部材３３の電極側の面、すなわち前面である。
【００５５】
なお、前記実施形態において、図２（ａ）、図２（ｂ）に鎖線で示すように、囲繞部材１６で囲まれた空間と、その外側の空間との間で、メッキ液１２を流通させるための開口１５ａ…１５ａを、囲繞部材１６の開口１７…１７と共に、あるいは囲繞部材１６の開口１７…１７に代えて、支持部材１５に設けても構わない。
【実施例】
【００５６】
被処理物として、直径が６０ｍｍ、厚みが８ｍｍのアルミ合金製円板を用い、塩化ビニル製の囲繞部材との間隙αを３ｍｍ（実施例１）、５ｍｍ（実施例２）、１０ｍｍ（実施例３）、１５ｍｍ（実施例４）に変化させた場合の、メッキ面における周縁部から５ｍｍ（周縁部）、１５ｍｍ（過渡部）、２５ｍｍ（中央部）の位置のメッキ皮膜の厚みを計測した。
【００５７】
電気メッキの条件は、浴組成を、ＣｒＯ３：２６０ｇ／Ｌ、Ｈ２ＳＯ４：３．５ｇ／Ｌ、Ｎａ２ＭｏＯ４・２Ｈ２Ｏ：６０ｇ／Ｌ及び触媒としてのメタンジスルホン酸：３０ｍｌ／Ｌ、浴温を５５℃、電流密度を４０Ａ／ｄｍ２、通電時間を５時間とした。
【００５８】
結果は、実施例１では、周縁部のメッキ皮膜が過渡部及び中央部に比べてやや薄くなり、実施例４では、逆に、周縁部のメッキ皮膜が過渡部及び中央部に比べてやや厚くなっていた。そして、実施例２及び３では、周縁部、過渡部及び中央部においてメッキ皮膜の厚みがほぼ均一化していた。このことから、囲繞部材と被処理物との間隙αとしては、５ｍｍ〜１０ｍｍが特に好ましいことがわかる。
【産業上の利用可能性】
【００５９】
以上、具体例を挙げて詳しく説明したように、本発明は、被処理物の加工精度のバラツキの影響を受けず、設備の複雑化ないしコストの増大を招かず、常に安定的かつ容易に、電気メッキのメッキ皮膜の厚みを均一化することが可能な技術であるから、金属材料の表面処理の技術分野において広範な産業上の利用可能性を有する。
【図面の簡単な説明】
【００６０】
【図１】本発明の最良の実施の形態に係る電気メッキ装置の概略全体図である。
【図２】前記電気メッキ装置の要部を拡大して示す図であって、（ａ）は、前記図１の符号Ｉによる矢視図、（ｂ）は、前記図１の符号ＩＩによる断面図である。
【図３】前記電気メッキ装置の原理を説明するための、前記図２（ｂ）と類似の断面図である。
【図４】（ａ）は、囲繞部材と被処理物との間隙が過度に狭い場合の問題を説明するため、（ｂ）は、囲繞部材と被処理物との間隙が過度に広い場合の問題を説明するための、前記図３と類似の断面図である。
【図５】電極、被処理物及び囲繞部材の配置を変えた、本発明の第２の実施形態に係る、前記図１と類似の概略全体図である。
【図６】本発明の第３の実施形態に係る被処理物としてのロータリーエンジンのサイドハウジングの概略全体図である。
【図７】（ａ）は、前記サイドハウジングに適する囲繞部材及び支持部材の平面図、（ｂ）は、前記図７（ａ）の符号ＩＩＩによる矢視図である。
【図８】従来技術の問題点の説明図である。
【図９】別の従来技術の説明図である。
【図１０】（ａ）、（ｂ）共、前記図９の従来技術の問題点の説明図である。
【符号の説明】
【００６１】
１        電気メッキ装置
１１      メッキ槽
１２      メッキ液
１３      電極
１４      被処理物
１４ａ    メッキ面
１５      支持部材
１５ａ    開口
１６      囲繞部材
１７      開口
２１      循環装置（ポンプ）
２２      循環装置（誘導管）
２３      循環装置（噴出口）
３１      支持部材
３２      導電性ピン
３３      囲繞部材
３４      サイドハウジング収容開口
３５      開口
３６      囲繞部材前面
α        間隙
β        囲繞部材の軸方向長さ
Ｈ        被処理物の軸方向長さ
Ｐ        メッキ皮膜
Ｗ        被処理物（サイドハウジング）
Ｗ１      メッキ面
Ｗ２      エキセントリックシャフト用開口
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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