(57)【要約】【課題】位相差膜の外周部における光漏れが低減された見映えのよい半透過反射型の液晶装置、およびその製造方法を提供すること。【解決手段】本適用例の液晶装置１００は、一対の基板である素子基板１０および対向基板２０と、素子基板１０と対向基板２０とに挟持された液晶層５０と、１つのサブ画素ＳＧ内に反射表示領域Ｒおよび透過表示領域Ｔを有する複数の画素と、反射表示領域Ｒに設けられた位相差膜２６とを備え、対向基板２０の液晶層５０側に、位相差膜２６を区画する遮光性の隔壁部６１を設けた。【選択図】図３
2010113372.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の基板と、
前記一対の基板に挟持された液晶層と、
１つの画素領域内に反射表示領域および透過表示領域を有する複数の画素と、
前記反射表示領域に設けられた位相差膜とを備え、
前記位相差膜は、前記一対の基板のうち一方の基板の前記液晶層側に設けられ、
前記一方の基板の前記液晶層側に、前記位相差膜を区画する遮光性の隔壁部を設けたことを特徴とする液晶装置。
【請求項２】
複数色のフィルタエレメントを備えたカラーフィルタが前記一方の基板の前記液晶層側に設けられ、
前記隔壁部は、前記複数色のフィルタエレメントをそれぞれ区画すると共に、前記位相差膜を区画していることを特徴とする請求項１に記載の液晶装置。
【請求項３】
前記一方の基板の前記反射表示領域に設けられた前記フィルタエレメントは、前記液晶層に向かって前記位相差膜の上に積層されていることを特徴とする請求項２に記載の液晶装置。
【請求項４】
前記一方の基板の前記液晶層側に、前記位相差膜の遅相軸の方向を規定する配向膜が設けられていることを特徴とする請求項１または２に記載の液晶装置。
【請求項５】
前記複数の画素の前記フィルタエレメントの少なくとも１色に対応して設けられた前記位相差膜は、他の色の前記フィルタエレメントに対応して設けられた前記位相差膜に対して膜厚が異なっていることを特徴とする請求項２乃至４のいずれか一項に記載の液晶装置。
【請求項６】
前記位相差膜と前記液晶層との間に、前記反射表示領域の前記液晶層の厚みを調整する液晶層厚調整層が前記隔壁部によって区画された前記反射表示領域に設けられていることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一項に記載の液晶装置。
【請求項７】
前記液晶層厚調整層は、前記透過表示領域の前記液晶層の厚みに対して、前記反射表示領域の前記液晶層の厚みが半分となるように設けられていることを特徴とする請求項６に記載の液晶装置。
【請求項８】
１つの画素領域内に反射表示領域および透過表示領域を有する複数の画素を備えた液晶装置の製造方法であって、
一対の基板のうち一方の基板の表面に、複数の前記画素領域をそれぞれ区画すると共に、前記反射表示領域と前記透過表示領域とを仕切るように遮光性の隔壁部を形成する隔壁部形成工程と、
前記隔壁部により区画された前記反射表示領域に位相差膜を形成する位相差膜形成工程と、
前記一対の基板を液晶層を介して接合する組立工程と、を備えることを特徴とする液晶装置の製造方法。
【請求項９】
前記隔壁部で区画された前記複数の画素領域に複数色のフィルタエレメントを有するカラーフィルタを形成するカラーフィルタ形成工程をさらに備え、
前記隔壁部形成工程は、前記フィルタエレメントの膜厚を越える高さで前記隔壁部を形成し、
前記位相差膜形成工程は、前記隔壁部で区画された前記反射表示領域の前記フィルタエレメントに積層するように、前記位相差膜を形成することを特徴とする請求項８に記載の液晶装置の製造方法。
【請求項１０】
前記隔壁部で区画された前記複数の画素領域に複数色のフィルタエレメントを有するカラーフィルタを形成するカラーフィルタ形成工程をさらに備え、
前記隔壁部形成工程は、前記位相差膜の膜厚を越える高さで前記隔壁部を形成し、
前記カラーフィルタ形成工程は、前記隔壁部で区画された前記反射表示領域の前記位相差膜に積層するように、前記フィルタエレメントを形成することを特徴とする請求項８に記載の液晶装置の製造方法。
【請求項１１】
前記カラーフィルタ形成工程は、フィルタエレメント形成材料を含む液状体を液滴として、前記隔壁部で区画された前記複数の画素領域に塗布し、塗布された前記液状体を固化することにより、前記フィルタエレメントを形成することを特徴とする請求項９または１０に記載の液晶装置の製造方法。
【請求項１２】
前記位相差膜を形成する前に前記位相差膜の遅相軸の方向を規定する配向膜を形成する配向膜形成工程をさらに備えたことを特徴とする請求項８乃至１０のいずれか一項に記載の液晶装置の製造方法。
【請求項１３】
前記配向膜形成工程は、光硬化性の配向膜形成材料を含む液状体を液滴として、前記隔壁部で区画された前記反射表示領域に塗布し、塗布された前記液状体を乾燥させた後に光を照射することにより硬化させて、前記配向膜を形成することを特徴とする請求項１２に記載の液晶装置の製造方法。
【請求項１４】
前記位相差膜形成工程は、位相差膜形成材料を含む液状体を液滴として、前記隔壁部で区画された前記反射表示領域に塗布する塗布工程と、塗布された前記液状体を固化して前記位相差膜を形成する成膜工程とを含むことを特徴とする請求項８乃至１３のいずれか一項に記載の液晶装置の製造方法。
【請求項１５】
前記塗布工程は、前記反射表示領域における少なくとも１色の表示色に対応して塗布する前記液状体の塗布量を、他の表示色に対応する前記液状体の塗布量と異ならせることを特徴とする請求項１４に記載の液晶装置の製造方法。
【請求項１６】
前記隔壁部で区画された前記反射表示領域に、前記反射表示領域の前記液晶層の厚みを調整するための液晶層厚調整層を形成する液晶層厚調整層形成工程をさらに備えたことを特徴とする請求項８乃至１５のいずれか一項に記載の液晶装置の製造方法。
【請求項１７】
前記液晶層厚調整層形成工程は、前記透過表示領域の前記液晶層の厚みに対して、前記反射表示領域の前記液晶層の厚みが半分となるように前記液晶層厚調整層を形成することを特徴とする請求項１６に記載の液晶装置の製造方法。
【請求項１８】
前記液晶層厚調整層形成工程は、液晶層厚調整層形成材料を含む液状体を液滴として、前記隔壁部で区画された前記反射表示領域に塗布し、塗布された前記液状体を固化することにより、前記液晶層厚調整層を形成することを特徴とする請求項１６または１７に記載の液晶装置の製造方法。
【請求項１９】
請求項１乃至７のいずれか一項に記載の液晶装置、または請求項８乃至１８のいずれか一項に記載の液晶装置の製造方法を用いて製造された液晶装置を備えたことを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、反射表示領域と透過表示領域とを有する液晶装置および液晶装置の製造方法並びに電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶装置としては、複数の走査線と複数の信号線とは交差するアレイ基板と、該アレイ基板に対し液晶層を挟んで対向する対向基板とを備え、走査線と信号線とが交差する交差部に、外光を反射する手段と位相差膜とを有する反射部をそれぞれ有する赤、青、緑の画素が配置され、赤の画素の位相差膜での位相差値をｒＲ、緑の画素の位相差膜での位相差値をｒＧ、青の画素の位相差膜での位相差値をｒＢとしたときに、ｒＲ＞ｒＧ、ｒＧ＞ｒＢ、ｒＲ＞ｒＢの１つが少なくとも成立し、かつ、１２０ｎｍ＜ｒＲ＜１８０ｎｍ、かつ１１０ｎｍ＜ｒＧ＜１７０ｎｍ、かつ、８０ｎｍ＜ｒＢ＜１４０ｎｍである液晶表示装置が知られている（特許文献１）。
【０００３】
上記液晶表示装置は、赤、青、緑の画素の光学特性を考慮し、これらの画素の位相差値を規定することによって、反射表示時のコントラスト比の低下防止と色付きの低減を図ったものである。
【０００４】
また、他の液晶装置としては、液晶層と、該液晶層を挟持する第１の基板および第２の基板とからなり、一画素内に反射表示部と透過表示部とを有し、反射表示部における液晶層のリタデーションが４分の１波長であり、位相差板のリタデーションが２分の１波長である他の液晶表示装置が知られている（特許文献２）。
【０００５】
上記他の液晶表示装置は、所謂半透過型ＩＰＳ方式を採用しており、上記光学設計とすることにより、透過型ＩＰＳ方式と同等な広視野角を実現できるとしている。
【０００６】
これらの液晶表示装置では、液晶層に面する側に位相差膜（位相差板）が形成されている。このような内蔵型の位相差膜の形成方法として、特許文献１では、高分子液晶ポリマーと感光性樹脂との混合物を基板上に塗布して写真食刻法によりパターニングする例が挙げられている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００６−２９２８４７号公報
【特許文献２】特開２００５−３３８２５６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、上記位相差膜の形成方法では、写真食刻法によりパターニングすると、位相差膜の外周部において、膜厚が変化することがあった。これにより、膜厚変化に起因する位相差値の変化が発生して、実際の表示において、光漏れによるコントラストの低下を招くおそれがあった。
また、赤、青、緑の画素に対応して位相差膜をパターニングする必要があり、製造工程が複雑になるという課題があった。
さらには、写真食刻法によりパターニングする場合、位相差膜形成材料の大半が無駄になってしまうという課題があった。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。
【００１０】
［適用例１］本適用例の液晶装置は、一対の基板と、前記一対の基板に挟持された液晶層と、１つの画素領域内に反射表示領域および透過表示領域を有する複数の画素と、前記反射表示領域に設けられた位相差膜とを備え、前記位相差膜は、前記一対の基板のうち一方の基板の前記液晶層側に設けられ、前記一方の基板の前記液晶層側に、前記位相差膜を区画する遮光性の隔壁部を設けたことを特徴とする。
【００１１】
この構成によれば、遮光性の隔壁部によって位相差膜が区画されているため、位相差膜の外周部における膜厚変化を抑制し、当該外周部の位相差値の変化による光漏れを低減することができる。また、当該光漏れが透過表示領域に漏れることを防止することができる。すなわち、反射表示モードおよび透過表示モードのいずれにおいても所定のコントラストが得られ、見映えのよい液晶装置を提供することができる。
【００１２】
［適用例２］上記適用例の液晶装置において、複数色のフィルタエレメントを備えたカラーフィルタが前記一方の基板の前記液晶層側に設けられ、前記隔壁部は、前記複数色のフィルタエレメントをそれぞれ区画すると共に、前記位相差膜を区画していることが望ましい。
この構成によれば、隔壁部は、フィルタエレメントと位相差膜とを共に区画している。したがって、カラー表示が可能な見映えのよい液晶装置を簡素な構成で提供することができる。
【００１３】
［適用例３］上記適用例の液晶装置において、前記一方の基板の前記反射表示領域に設けられた前記フィルタエレメントは、前記液晶層に向かって前記位相差膜の上に積層されているとしてもよい。
液晶装置おいて、液晶層に面して設けられる各種の機能層は、液晶層に不純物を拡散させない構成を有することが好ましい。この構成によれば、反射表示領域に設けられたフィルタエレメントは、位相差膜を保護することができる。したがって、フィルタエレメントを保護層として機能させることにより、位相差膜からの不純物の拡散を防止することができる。ゆえに、位相差膜を形成する材料の選択の自由度が高められる。
【００１４】
［適用例４］上記適用例の液晶装置において、前記一方の基板の前記液晶層側に、前記位相差膜の遅相軸の方向を規定する配向膜が設けられていることを特徴とする。
この構成によれば、配向膜によって位相差膜の遅相軸の方向が規定され、遅相の乱れが少ない位相差膜とすることができる。また、配向膜によって位相差膜の遅相軸の方向を規定するので、様々な位相差膜形成材料を選択できる。例えば、熱硬化タイプ、光硬化タイプなどが挙げられる。
【００１５】
［適用例５］上記適用例の液晶装置において、前記複数の画素の前記フィルタエレメントの少なくとも１色に対応して設けられた前記位相差膜は、他の色の前記フィルタエレメントに対応して設けられた前記位相差膜に対して膜厚が異なっているとしてもよい。
この構成によれば、フィルタエレメントの吸収波長に応じて、最適な位相差膜の膜厚を設定することができ、より見映えのよい液晶装置を提供することができる。
【００１６】
［適用例６］上記適用例の液晶装置において、前記位相差膜と前記液晶層との間に、前記反射表示領域の前記液晶層の厚みを調整する液晶層厚調整層が前記隔壁部によって区画された前記反射表示領域に設けられているとしてもよい。
この構成によれば、位相差膜形成材料によって所定の位相差値が得られる膜厚が異なっていても、あるいは位相差膜の膜厚がフィルタエレメントの色によって異なっていても、液晶層厚調整層を設けることによって、反射表示領域において所定の液晶層の厚みを確保することができる。
【００１７】
［適用例７］上記適用例の液晶装置において、前記液晶層厚調整層は、前記透過表示領域の前記液晶層の厚みに対して、前記反射表示領域の前記液晶層の厚みが半分となるように設けられていることが好ましい。
この構成によれば、透過表示領域における透過光の位相と、反射表示領域において倍の光路を有する反射光の位相とを位相差膜で補償して同一にすることができる。すなわち、透過光に対する反射光の位相のずれを解消して見映えのよい液晶装置を提供することができる。
【００１８】
［適用例８］本適用例の液晶装置の製造方法は、１つの画素領域内に反射表示領域および透過表示領域を有する複数の画素を備えた液晶装置の製造方法であって、一対の基板のうち一方の基板の表面に、複数の前記画素領域を区画すると共に、前記反射表示領域と前記透過表示領域とを仕切るように遮光性の隔壁部を形成する隔壁部形成工程と、前記隔壁部により区画された前記反射表示領域に位相差膜を形成する位相差膜形成工程と、前記一対の基板を液晶層を介して接合する組立工程と、を備えることを特徴とする。
【００１９】
この方法によれば、位相差膜形成工程では、反射表示領域において、外周部が隔壁部で仕切られた位相差膜を形成することができる。したがって、位相差膜の外周部における膜厚変化を抑制し、当該外周部の位相差値の変化による光漏れを低減することができる。また、当該光漏れが透過表示領域に漏れることを防止することができる。すなわち、反射表示モードおよび透過表示モードのいずれにおいても所定のコントラストが得られ、見映えのよい液晶装置を製造することができる。
【００２０】
［適用例９］上記適用例の液晶装置の製造方法において、前記隔壁部によって区画された前記複数の画素領域に複数色のフィルタエレメントを有するカラーフィルタを形成するカラーフィルタ形成工程をさらに備え、前記隔壁部形成工程は、前記フィルタエレメントの膜厚を越える高さで前記隔壁部を形成し、前記位相差膜形成工程は、前記隔壁部で区画された前記反射表示領域の前記フィルタエレメントに積層するように、前記位相差膜を形成することを特徴とする。
この方法によれば、隔壁部形成工程では、フィルタエレメントと位相差膜とを共に区画するように隔壁部が形成される。したがって、フィルタエレメントおよび位相差膜に対して、別々に隔壁部を形成する場合に比べて、製造工程を簡略化することができる。
【００２１】
［適用例１０］上記適用例の液晶装置の製造方法において、前記隔壁部で区画された前記複数の画素領域に複数色のフィルタエレメントを有するカラーフィルタを形成するカラーフィルタ形成工程をさらに備え、前記隔壁部形成工程は、前記位相差膜の膜厚を越える高さで前記隔壁部を形成し、前記カラーフィルタ形成工程は、前記隔壁部で区画された前記反射表示領域の前記位相差膜に積層するように、前記フィルタエレメントを形成してもよい。
この方法によれば、反射表示領域において、フィルタエレメントは位相差膜の上に積層される。したがって、フィルタエレメントを位相差膜の保護層として形成することができる。
【００２２】
［適用例１１］上記適用例の液晶装置の製造方法において、前記カラーフィルタ形成工程は、フィルタエレメント形成材料を含む液状体を液滴として、前記隔壁部で区画された前記複数の画素領域に塗布し、塗布された前記液状体を固化することにより、前記フィルタエレメントを形成することが好ましい。
この方法によれば、液滴吐出法を用いてフィルタエレメントを形成するので、フォトリソグラフィ法に比べて、マスク類を不要とすると共にフィルタエレメント形成材料の無駄を省いて効率よくフィルタエレメントを形成することができる。
【００２３】
［適用例１２］上記適用例の液晶装置の製造方法において、前記位相差膜を形成する前に前記位相差膜の遅相軸の方向を規定する配向膜を形成する配向膜形成工程をさらに備えることが望ましい。
この方法によれば、配向膜形成工程では、位相差膜の遅相軸の方向を規定する配向膜が形成され、遅相の乱れが少ない位相差膜とすることができる。また、配向膜によって位相差膜の遅相軸の方向を規定するので、様々な位相差膜形成材料を選択できる。
【００２４】
［適用例１３］上記適用例の液晶装置の製造方法において、前記配向膜形成工程は、光硬化性の配向膜形成材料を含む液状体を液滴として、前記隔壁部で区画された前記反射表示領域に塗布し、塗布された前記液状体を乾燥させた後に光を照射することにより硬化させて、前記配向膜を形成することが好ましい。
この方法によれば、液滴吐出法を用いて、反射表示領域のみに選択的に配向膜を形成することができる。すなわち、位相差膜の遅相軸の方向を規定する配向膜を複数の画素領域に亘って形成する場合に比べて、配向膜形成材料の無駄を省くことができる。
【００２５】
［適用例１４］上記適用例の液晶装置の製造方法において、前記位相差膜形成工程は、位相差膜形成材料を含む液状体を液滴として、前記隔壁部で区画された前記反射表示領域に塗布する塗布工程と、塗布された前記液状体を固化して前記位相差膜を形成する成膜工程とを含むことが好ましい。
この方法によれば、液滴吐出法を用いて、反射表示領域のみに選択的に位相差膜を形成することができる。すなわち、位相差膜形成材料を一対の基板のうち一方の基板に対して全面に塗布してパターニングする場合に比べて、製造工程を簡略化すると共に位相差膜形成材料の無駄を省くことができる。
【００２６】
［適用例１５］上記適用例の液晶装置の製造方法において、前記塗布工程は、前記反射表示領域における少なくとも１色の表示色に対応して塗布する前記液状体の塗布量を、他の表示色に対応する前記液状体の塗布量と異ならせるとしてもよい。
この方法によれば、少なくとも１色の表示色に対応して形成された位相差膜の膜厚を、他の表示色に対応して形成された位相差膜の膜厚に対して異ならせることができる。すなわち、表示色の波長に応じて、最適な位相差膜の膜厚を設定することができ、より見映えのよい液晶装置を製造することができる。
【００２７】
［適用例１６］上記適用例の液晶装置の製造方法において、前記隔壁部で区画された前記反射表示領域内の前記位相差膜に積層するように、前記反射表示領域の前記液晶層の厚みを調整するための液晶層厚調整層を形成する液晶層厚調整層形成工程をさらに備えるとしてもよい。
この方法によれば、液晶層厚調整層形成工程を設けることにより、位相差膜形成材料によって所定の位相差値が得られる膜厚が異なっていても、あるいは表示色によって位相差膜の膜厚が異なっていても、液晶層厚調整層を形成することによって、反射表示領域において所定の液晶層の厚みを確保することができる。
【００２８】
［適用例１７］上記適用例の液晶装置の製造方法において、前記液晶層厚調整層形成工程は、前記透過表示領域の前記液晶層の厚みに対して、前記反射表示領域の前記液晶層の厚みが半分となるように前記液晶層厚調整層を形成することが好ましい。
この方法によれば、透過表示領域における透過光の位相と、反射表示領域において倍の光路を有する反射光の位相とを位相差膜で補償して同一にすることができる。すなわち、透過光に対する反射光の位相のずれを解消して見映えのよい液晶装置を製造することができる。
【００２９】
［適用例１８］上記適用例の液晶装置の製造方法において、前記液晶層厚調整層形成工程は、液晶層厚調整層形成材料を含む液状体を液滴として、前記隔壁部で区画された前記反射表示領域に塗布し、塗布された前記液状体を固化することにより、前記液晶層厚調整層を形成することが好ましい。
この方法によれば、液滴吐出法を用いて、反射表示領域のみに選択的に液晶層厚調整層を形成することができる。すなわち、液晶層厚調整層形成材料を一対の基板の一方の基板に対して全面に塗布してパターニングする場合に比べて、製造工程を簡略化すると共に液晶層厚調整層形成材料の無駄を省くことができる。
【００３０】
［適用例１９］本適用例の電子機器は、上記適用例の液晶装置、または、上記適用例の液晶装置の製造方法を用いて製造された液晶装置を備えたことを特徴とする。
この構成によれば、見映えのよく、製造工程が簡略化された液晶装置を備えているので競争力のある電子機器を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３１】
【図１】実施形態１の液晶装置の電気的な構成を示す等価回路図。
【図２】画素の構造を示す概略平面図。
【図３】（ａ）は図２のＡ−Ａ’線で切った液晶装置の構造を示す断面図、（ｂ）は、図２のＢ−Ｂ’線で切った液晶装置の構造を示す断面図。
【図４】液晶装置の光学設計条件の１例を示す概略図。
【図５】液晶装置の製造方法を示すフローチャート。
【図６】（ａ）〜（ｅ）は液晶装置の製造方法を示す概略断面図。
【図７】（ｆ）〜（ｊ）は液晶装置の製造方法を示す概略断面図。
【図８】液状体における溶質の溶解性を評価した結果を示す表。
【図９】液状体の塗布量と膜厚との関係を示すグラフ。
【図１０】実施形態２の液晶装置の構造を示す概略断面図。
【図１１】電子機器としての携帯型電話機を示す概略斜視図
【図１２】（ａ）および（ｂ）は隔壁部の配置を示す概略平面図。
【発明を実施するための形態】
【００３２】
以下、本発明を具体化した実施形態について図面に従って説明する。
【００３３】
（実施形態１）
＜液晶装置＞
まず、本実施形態の液晶装置について説明する。図１は、液晶装置の電気的な構成を示す等価回路図である。
【００３４】
図１に示すように、本実施形態の液晶装置１００は、複数のサブ画素ＳＧを有している。各サブ画素ＳＧは、画素電極９と、共通電極１９と、画素電極９をスイッチング制御するためのＴＦＴ（Thin  Film  Transistor）３０とを有している。画素電極９と共通電極１９との間には液晶層５０が介在している。共通電極１９は走査線駆動回路９０から延びる共通線３ｂと電気的に接続されており、各サブ画素ＳＧにおいて共通の電位に保持されるようになっている。
【００３５】
データ線駆動回路７０から延びるデータ線６ａがＴＦＴ３０のソースと電気的に接続されている。データ線駆動回路７０は、画像信号Ｓ１，Ｓ２，…，Ｓｎを、データ線６ａを介して各サブ画素ＳＧに供給する。前記画像信号Ｓ１〜Ｓｎはこの順に線順次に供給しても構わないし、相隣接する複数のデータ線６ａ同士に対して、グループごとに供給するようにしてもよい。
【００３６】
また、ＴＦＴ３０のゲートには、走査線駆動回路９０から延びる走査線３ａが電気的に接続されている。走査線駆動回路９０から所定のタイミングで走査線３ａにパルス的に供給される走査信号Ｇ１，Ｇ２，…，Ｇｍが、この順に線順次でＴＦＴ３０のゲートに印加されるようになっている。画素電極９は、ＴＦＴ３０のドレインに電気的に接続されている。
【００３７】
スイッチング素子であるＴＦＴ３０が走査信号Ｇ１，Ｇ２，…，Ｇｍの入力により一定期間だけオン状態とされることで、データ線６ａから供給される画像信号Ｓ１，Ｓ２，…，Ｓｎが所定のタイミングで画素電極９に書き込まれるようになっている。画素電極９を介して液晶に書き込まれた所定レベルの画像信号Ｓ１，Ｓ２，…，Ｓｎは、画素電極９と液晶を介して対向する共通電極１９との間で一定期間保持される。
【００３８】
図２は、画素の構造を示す概略平面図である。図２に示すように、液晶装置１００は、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）、３色のカラーフィルタ２２Ｒ，２２Ｇ，２２Ｂに対応する３つのサブ画素ＳＧにより構成された複数の画素を有している。各サブ画素ＳＧには、略梯子状に形成された複数のスリット（隙間）２９を有する矩形の画素電極９が設けられている。画素電極９の外周を取り囲むようにして、走査線３ａと共通線３ｂと複数のデータ線６ａとが配置されている。
走査線３ａとデータ線６ａとの交差部近傍にＴＦＴ３０が形成されており、ＴＦＴ３０はデータ線６ａおよび画素電極９と電気的に接続されている。また、画素電極９と平面視でほぼ重なる位置に矩形状の共通電極１９が形成されている。
【００３９】
画素電極９は、ＩＴＯなどの透明導電材料からなる導電膜である。１つのサブ画素ＳＧの画素電極９に１７本のスリット２９が形成されている。各スリット２９は、走査線３ａおよびデータ線６ａの双方と交差する方向（図中斜め方向）に延びて、Ｙ軸方向において等間隔に配列するように形成されている。各スリット２９は略同一の幅に形成され、互いに平行である。これにより、画素電極９は、複数本（図示では１６本）の帯状電極部９ｃを有することになる。スリット２９が一定の幅を有して等間隔で配列していることから、帯状電極部９ｃも一定の幅を有して等間隔で配列している。本実施形態では、スリット２９の幅と帯状電極部９ｃの幅はいずれも４μｍである。
【００４０】
共通電極１９は、ＩＴＯなどの透明導電材料からなる平面視ほぼ矩形状の透明共通電極１９ｔと、アルミニウムや銀などの光反射性を有する金属材料からなる平面視ほぼ矩形状の反射共通電極１９ｒとからなる。透明共通電極１９ｔと反射共通電極１９ｒとは、互いの辺端部において電気的に接続されている。
反射共通電極１９ｒは、走査線３ａと平行に延びる共通線３ｂと一体に形成されている。したがって、透明共通電極１９ｔと反射共通電極１９ｒとからなる共通電極１９は共通線３ｂと電気的に接続されている。
反射共通電極１９ｒの形成領域が当該サブ画素ＳＧの反射表示領域Ｒを構成しており、透明共通電極１９ｔの形成領域が透過表示領域Ｔを構成している。すなわち、液晶装置１００は、反射共通電極１９ｒが反射層として機能し、各サブ画素ＳＧ内に反射表示領域Ｒと透過表示領域Ｔとを備えている。
【００４１】
なお、共通線３ｂと反射共通電極１９ｒとを別々の導電膜を用いて形成し、これらを電気的に接続してもよい。その方法としては、反射共通電極１９ｒと共通線３ｂとを層間絶縁膜を介して異なる配線層に形成し、層間絶縁膜に開口したコンタクトホールを介して両者を接続する方法が挙げられる。また、透明共通電極１９ｔが反射共通電極１９ｒを覆って形成されていてもよい。
【００４２】
ＴＦＴ３０は、走査線３ａ上に部分的に形成された島状のアモルファスシリコン膜からなる半導体層３５と、データ線６ａを分岐して半導体層３５上に延出されたソース電極３１と、半導体層３５上から画素電極９の形成領域に延びる矩形状のドレイン電極３２とを備えている。
走査線３ａは、半導体層３５と対向する位置でＴＦＴ３０のゲート電極として機能する。ドレイン電極３２と画素電極９とは、両者が平面的に重なる位置に形成された画素コンタクトホール４７を介して電気的に接続されている。
なお、図示のサブ画素ＳＧにおいて、画素電極９と共通電極１９とが平面視で重なる領域が、当該サブ画素ＳＧの容量として機能するので、画像信号を保持するために別途保持容量をサブ画素ＳＧの形成領域内に設ける必要が無く、高い開口率を得ることができる。
【００４３】
図３を参照して、液晶装置１００の構造をさらに詳しく説明する。図３は、液晶装置の構造を示す概略断面図である。詳しくは、同図（ａ）は、図２のＡ−Ａ’線で切った断面図、同図（ｂ）は、図２のＢ−Ｂ’線で切った断面図である。
【００４４】
図３（ａ）に示すように、液晶装置１００は、一対の基板である対向基板２０と、画素電極９および共通電極１９を有する素子基板１０とにより、液晶層５０を挟持している。対向基板２０は、カラーフィルタ２２と、カラーフィルタ２２（フィルタエレメント２２Ｇ）をサブ画素ＳＧごと（色ごと）に区画する隔壁部６１とを備えている。カラーフィルタ２２上（液晶層５０側）には、反射表示領域Ｒに対応して位相差膜２６（２６Ｇ）と液晶層厚調整層としてのセル厚調整層２７（２７Ｇ）とが選択的に形成されている。隔壁部６１は、これらの位相差膜２６、セル厚調整層２７をも区画するように設けられている。したがって、透過表示領域Ｔのセル厚（液晶層５０の厚み）ｄに対して反射表示領域Ｒのセル厚が薄くなっており、本実施形態では、およそｄ／２、すなわち、半分となっている。
【００４５】
このように反射表示を行う液晶装置１００では、光学設計上、反射黒表示を行う際に反射共通電極１９ｒに到達する外光がすべての可視波長域で略円偏光である必要がある。反射共通電極１９ｒに到達した外光が楕円偏光であると黒表示に色付きが生じ、高コントラストな反射表示を得ることが困難になるからである。
そこで本実施形態では、隔壁部６１で区画された反射表示領域Ｒに選択的に位相差膜２６とセル厚調整層２７とを形成し、反射表示領域Ｒにおけるセル厚が透過表示領域Ｔに比して薄くなるように構成している。これにより、上偏光板２４と位相差膜２６と反射表示領域Ｒ内の液晶層５０とで広帯域円偏光を作り出せるようにして反射共通電極１９ｒに到達する外光をすべての可視波長域で円偏光に近づけている。
【００４６】
透明なガラスなどからなる素子基板１０上には、走査線３ａ、共通電極１９および共通線３ｂが形成されている。これらの走査線３ａ、共通電極１９および共通線３ｂを覆って、シリコン酸化物膜などからなる絶縁薄膜１１が形成されている。絶縁薄膜１１上には、ＴＦＴ３０を構成する島状の半導体層３５と、半導体層３５と一部が重なるようにソース電極３１（データ線６ａ）と、ドレイン電極３２とが形成されている。これらの半導体層３５、ソース電極３１およびドレイン電極３２を覆って、シリコン酸化物膜や樹脂膜からなる層間絶縁膜１２が形成されている。層間絶縁膜１２上には、画素電極９が形成され、層間絶縁膜１２を貫通してドレイン電極３２に達する画素コンタクトホール４７を介して、画素電極９とドレイン電極３２とが電気的に接続されている。共通電極１９における透明共通電極１９ｔと反射共通電極１９ｒの境界は、ちょうど透過表示領域Ｔと反射表示領域Ｒとを仕切る隔壁部６１の直下に位置している。
【００４７】
画素電極９を覆って、ポリイミドなどからなる配向膜１８が形成されている。配向膜１８は、ラビング処理などの配向処理を施されて液晶を所定方向に配向させるようになっている。本実施形態では、配向膜１８による配向規制方向は、走査線３ａの延在方向と平行であり、画素電極９のスリット２９の延在方向とは交差する方向である。
【００４８】
素子基板１０と同じく、透明なガラスなどからなる対向基板２０上には、液晶層５０側に向かってカラーフィルタ２２（フィルタエレメント２２Ｇ）と、配向膜２３と、位相差膜２６（２６Ｇ）と、セル厚調整層２７（２７Ｇ）と、これらの各構成要素を区画する隔壁部６１と、配向膜２８とが形成されている。また、対向基板２０の表面（液晶層５０側に対して反対側の表面）には、上偏光板２４が貼り付けられている。上偏光板２４および素子基板１０側の下偏光板１４の光学的な配置は、クロスニコルとなっている。
【００４９】
隔壁部６１は、ブラックマトリクス（ＢＭ）と呼ばれるものである。その形成方法は、例えば、対向基板２０の表面に遮光性材料として黒色顔料などを含む樹脂材料を、オフセットなどの印刷法でパターニングする方法が挙げられる。また、上記樹脂材料として感光性を有するものを選択すれば、全面に塗布された上記樹脂材料をフォトリソグラフィ法でパターニングすることも可能である。本実施形態では、隔壁部６１をカラーフィルタ２２（フィルタエレメント２２Ｇ）と、配向膜２３と、位相差膜２６（２６Ｇ）と、セル厚調整層２７（２７Ｇ）とを区画するように、その高さを調整する。したがって、厚膜となるように、複数回に亘って積層することにより形成してもよい。また、透過表示領域Ｔと反射表示領域Ｒとを仕切る隔壁部６１のＹ軸方向における長さ（言い換えれば幅）は、当該隔壁部６１の直下に透明共通電極１９ｔと反射共通電極１９ｒの境界が位置するように、素子基板１０と対向基板２０との組立時のＹ軸方向の位置精度を考慮して決定することが好ましい。
【００５０】
カラーフィルタ２２は、各色のフィルタエレメント形成材料（着色材料）を含む樹脂材料を、上記隔壁部６１の開口部を埋めるように形成する。形成方法としては、上記樹脂材料を含む液状体を液滴吐出法（インクジェット法）を用いて塗布し、塗布された液状体を乾燥させてカラーフィルタ２２を形成する方法が挙げられる。このような液滴吐出法を用いれば、フォトリソグラフィ法を用いて形成する場合に比べて、隔壁部６１によって区画されたサブ画素領域に必要量の上記液状体を無駄なく塗布することが可能である。また、フォトマスクを必要とせず、露光・現像などの製造工程を省くこともできる。
【００５１】
位相差膜２６は、反射表示領域Ｒに対応してカラーフィルタ２２上に選択的に形成されている。位相差膜２６は、位相差膜２６を透過する光に対して略１／２波長（λ／２）の位相差（リタデーション）を付与するものであり、一対の基板により液晶層５０を狭持したセルの内面側に設けられた所謂内蔵位相差膜である。
係る位相差膜２６は、位相差膜形成材料としての重合性液晶化合物を含む液状体（有機溶液）を液滴吐出法（インクジェット法）を用いて、隔壁部６１で区画された反射表示領域Ｒに形成された配向膜２３上に塗布し、所定方向に配向させた状態で固化する方法により形成する。詳しくは、後述する液晶装置の製造方法にて説明する。
なお、重合性液晶化合物の配向方向（位相差膜２６の遅相軸の方向）を規制する配向膜２３は、液晶層５０に面する配向膜１８，２８と同じ膜材料を用いることができる。その場合には、配向膜２３の表面をラビングして、配向方向（遅相軸の方向）を定める。また、配向膜２３に限らず、カラーフィルタ２２の表面に、シリコン酸化物などを斜め蒸着する方法や、感光性配向膜材料を塗布して、偏光紫外線を照射することにより、光配向させる方法などがある。本実施形態では、隔壁部６１で区画された領域に配向膜２３を選択的に形成することが好ましいので、位相差膜２６の形成方法と同様に、感光性配向膜材料を含む液状体を液滴吐出法を用いて塗布する方法を採用した。
【００５２】
位相差膜２６を透過する光に対して付与する位相差の値（以降、位相差値と呼ぶ）は、その構成材料である重合性液晶化合物の種類や、位相差膜２６の層厚によって調整することができる。本実施形態では、位相差膜２６のねらいの位相差値は、透過表示領域Ｔにおける液晶層５０の位相差値（λ／２）と同等となっている。なお、波長λは５５０ｎｍを基準としており、液晶層５０の位相差値は、液晶分子の複屈折率Δｎにセル厚ｄを乗ずることにより求められる。よって、反射表示領域Ｒの液晶層５０の位相差値は、λ／４となる。
【００５３】
図３（ｂ）に示すように、位相差膜２６およびセル厚調整層２７は、３色（Ｒ，Ｇ，Ｂ）のカラーフィルタ２２に対応する各サブ画素ＳＧの隔壁部６１により区画された反射表示領域Ｒに設けられている。
【００５４】
カラーフィルタ２２における各色のフィルタエレメント２２Ｒ，２２Ｇ，２２Ｂの膜厚は、ほぼ同一であるが、フィルタエレメント２２Ｒ，２２Ｇ，２２Ｂごとに形成された位相差膜２６の膜厚は、この場合、色ごとに異なる。具体的には、位相差膜２６Ｒ＞位相差膜２６Ｇ＞位相差膜２６Ｂの順になっている。これは、フィルタエレメント２２Ｒ，２２Ｇ，２２Ｂごとの吸収波長を考慮して、最適な位相差値が与えられるように、位相差膜２２の膜厚を色ごとに異ならせた。これにより、カラー表示における色純度を改善することができる。
【００５５】
したがって、前述したように反射表示領域Ｒにおけるセル厚をｄ／２とするため、セル厚調整層２７の層厚を色ごとに異ならせる必要がある。具体的には、セル厚調整層２７の層厚は、セル厚調整層２７Ｂ＞セル厚調整層２７Ｇ＞セル厚調整層２７Ｒの順となっている。このような位相差膜２６、セル厚調整層２７の厚みの調整は、少なくとも１色（表示色）のフィルタエレメントに対して行えば、相当の効果を奏する。
【００５６】
セル厚調整層２７は、光透過性かつ等方性を有する樹脂材料が好ましく。位相差膜２６を覆う保護層として物理的な強度を有することが望ましい。例えば、アクリル系の樹脂材料が好適に用いられる。本実施形態では、隔壁部６１で区画された領域にセル厚調整層２７を選択的に形成するので、やはり液滴吐出法を採用することが好ましい。その場合には、セル厚調整層形成材料としての上記樹脂材料を含む液状体を用いる。
【００５７】
次に上記液晶装置１００について、光学設計の条件をまとめて説明する。図４は、液晶装置の光学設計条件の１例を示す概略図である。図４に示すように液晶装置１００の光学設計条件は、上偏光板２４の偏光軸と下偏光板１４の偏光軸とが直交している。反射表示領域Ｒに設けられた位相差膜２６の遅相軸は、上偏光板２４の偏光軸に対して２２．５度の角度で交差している。遅相軸は、画素電極９に設けられたスリット２９（図２参照）に対して４５度の角度で交差するように設定されている。液晶層５０における液晶分子の遅相軸の配向方向は、画素電極９と共通電極１９との間に所定の駆動電圧が印加されないＯＦＦ状態では、下偏光板１４の偏光軸に対して平行な状態となっている。画素電極９と共通電極１９との間に所定の駆動電圧が印加されたＯＮ状態では、上偏光板２４の偏光軸に対して４５度の角度で交差することになる。これにより、ＯＦＦ状態では、下偏光板１４を透過して偏光された透過光（直線偏光）は、液晶層５０でλ／２の位相が与えられ、透過光の振動方向が上偏光板２４の偏光軸と直交する方向に変換される（吸収軸と平行となる）ので遮光される。一方で反射表示領域Ｒにおいて上偏光板２４を透過して偏光した入射光（直線偏光）は、位相差膜２６と液晶層５０とによりそれぞれλ／２とλ／４の位相が与えられ、可視波長のほぼ全域において略円偏光となって反射共通電極１９ｒに入射する。反射共通電極１９ｒで反射した反射光は、再び上偏光板２４に入射する際に上偏光板２４の偏光軸に対して垂直な偏光に変換されるため、光が透過しない。したがって、所謂黒表示状態（ノーマリーブラック）となる。ＯＮ状態では、液晶分子の遅相軸の配向方向が上偏光板２４および下偏光板１４それぞれに対して４５度となるため、カラーフィルタ２２を透過した透過光および反射光の振動方向は上偏光板２４の偏光軸と平行となり上偏光板２４を透過する。よって、フィルタエレメント２２Ｒ，２２Ｇ，２２Ｂの色に対応したカラー表示状態となる。
【００５８】
以上、本実施形態の液晶装置１００は、サブ画素ＳＧごとに透過表示領域Ｔと反射表示領域Ｒとを有し、反射表示領域Ｒに対応してセル内に位相差膜２６を有する所謂ＦＦＳ（Fringe  Field  Switching）方式と呼ばれるものである。光学設計が最適化され、位相差膜２６が隔壁部６１で区画された反射表示領域Ｒに形成されている。したがって、位相差膜２６の外周部における位相差値の変化が抑制され、表示に影響し難い。よって、黒表示時における位相差膜２６の外周部の光漏れによるコントラスト低下が少ない透過表示および反射表示を実現している。
【００５９】
＜液晶装置の製造方法＞
次に、本実施形態の液晶装置の製造方法について説明する。図５は液晶装置の製造方法を示すフローチャート、図６（ａ）〜（ｅ）および図７（ｆ）〜（ｊ）は液晶装置の製造方法を示す概略断面図である。
【００６０】
図５に示すように、本実施形態の液晶装置１００の製造方法は、隔壁部６１を形成する隔壁部形成工程（ステップＳ１）と、隔壁部６１で区画された領域にカラーフィルタ２２を形成するカラーフィルタ形成工程（ステップＳ２）とを備えている。第１配向膜としての配向膜２３を形成する第１配向膜形成工程（ステップＳ３）と、位相差膜形成材料を含む液状体を塗布する塗布工程と、塗布された液状体を乾燥させて位相差膜を形成する位相差膜形成工程（ステップＳ４）とを備えている。また、形成された位相差膜２６上にセル厚調整層２７を形成するセル厚調整層形成工程（ステップＳ５）と、第２配向膜としての配向膜２８を形成する第２配向膜形成工程（ステップＳ６）と、素子基板１０と対向基板２０との間に液晶を充填して組み立てる液晶充填組立工程（ステップＳ７）とを備えている。
【００６１】
図５のステップＳ１は、隔壁部形成工程である。ステップＳ１では、図６（ａ）に示すように、複数の開口部６１ａを有する隔壁部６１を形成する。具体的には、対向基板２０の表面に、遮光性を有する隔壁部形成材料をオフセットなどの印刷法を用いて塗布、パターニングする方法、感光性を有する隔壁部形成材料を所定の膜厚で塗布して、露光・現像することによって隔壁部６１をパターニングする方法が挙げられる。隔壁部６１は、前述のサブ画素ＳＧを区画して開口すると共に、反射表示領域Ｒと透過表示領域Ｔとを仕切るように形成する（図３参照）。隔壁部６１の膜厚すなわち高さｈは、後に形成されるカラーフィルタ２２の各フィルタエレメント２２Ｒ，２２Ｇ，２２Ｂ、配向膜２３、位相差膜２６、セル厚調整層２７を区画可能な高さとなるように調整する。そして、ステップＳ２へ進む。
【００６２】
図５のステップＳ２は、カラーフィルタ形成工程である。ステップＳ２では、まず、図６（ｂ）に示すように、フィルタエレメント形成材料を含む３色の液状体４Ｒ，４Ｇ，４Ｂをそれぞれ所望の開口部６１ａ（言い換えればサブ画素領域）に塗布する。本実施形態では、３色の液状体４Ｒ，４Ｇ，４Ｂをそれぞれ異なる吐出ヘッド１Ｒ，１Ｇ，１Ｂに充填し、各吐出ヘッド１Ｒ，１Ｇ，１Ｂと対向基板２０とを相対的に走査することにより、各吐出ヘッド１Ｒ，１Ｇ，１Ｂに設けられた複数のノズル２から液滴として吐出する。３色の液状体４Ｒ，４Ｇ，４Ｂをほぼ同時に吐出してもよいし、個々に吐出してもよい。吐出ヘッド１Ｒ，１Ｇ，１Ｂとして例えばインクジェットヘッドを用いれば、必要量の液状体４Ｒ，４Ｇ，４Ｂをそれぞれ精度よく、かつ無駄なく所望の開口部６１ａに塗布することができる。
【００６３】
なお、液状体４Ｒ，４Ｇ，４Ｂを塗布する前に、隔壁部６１が形成された対向基板２０の塗布面を親液処理し、隔壁部６１を撥液処理することが好ましい。親液処理の方法としては、酸素ガスを処理ガスとするプラズマ処理が挙げられる。また、撥液処理の方法としては、ＣＦ4を処理ガスとするプラズマ処理が挙げられる。このような表面処理を施すことにより、ムラなく液状体４Ｒ，４Ｇ，４Ｂを開口部６１ａ内に塗布することができる。
【００６４】
次に、塗布された液状体４Ｒ，４Ｇ，４Ｂを乾燥させ、溶媒成分を除去することにより、図６（ｃ）に示すように赤（Ｒ）に対応したフィルタエレメント２２Ｒ、緑（Ｇ）に対応したフィルタエレメント２２Ｇ、青（Ｂ）に対応したフィルタエレメント２２Ｂをそれぞれ所定の膜厚（およそ１．５〜２μｍ）で形成することができる。そして、ステップＳ３へ進む。
【００６５】
図５のステップＳ３は、第１配向膜形成工程である。ステップＳ３では、図６（ｄ）に示すように、まず、感光性配向膜形成材料を含む液状体５を隔壁部６１で区画された反射表示領域Ｒのフィルタエレメント上に塗布する。カラーフィルタ形成工程と同様に、上記液状体５を吐出ヘッド１に充填し、吐出ヘッド１と対向基板２０とを相対的に走査することにより、吐出ヘッド１に設けられた複数のノズル２から液滴として吐出する。図示しないが、隔壁部６１は反射表示領域Ｒと透過表示領域Ｔとを区画しているが、透過表示領域Ｔには、液状体５を吐出する必要はない。
【００６６】
次に、図６（ｅ）に示すように、塗布された液状体５を乾燥させ、偏光紫外線（矢印にて図示）を照射することにより、光配向させつつ硬化させる。これにより、配向膜２３を反射表示領域Ｒに形成する。なお、感光性配向膜材料としては、例えば、ポリイミド系の感光性樹脂材料が挙げられる。そして、ステップＳ４へ進む。
【００６７】
図５のステップＳ４は、位相差膜形成工程である。ステップＳ４では、まず、図７（ｆ）に示すように、位相差膜形成材料を含む液状体６を隔壁部６１で区画された反射表示領域Ｒに塗布する（塗布工程）。この場合も液滴吐出法（インクジェット法）を用い、上記液状体６を吐出ヘッド１に充填し、吐出ヘッド１と対向基板２０とを相対的に走査することにより、吐出ヘッド１に設けられた複数のノズル２から液滴として吐出する。なお、配向膜２３の表面が液状体６に対して撥液性を示すことが考えられるので、前述したような親液処理を施すことが好ましい。
【００６８】
上記塗布工程では、各フィルタエレメント２２Ｒ，２２Ｇ，２２Ｂに対応して液状体６の塗布量を、それぞれ異ならせている。液滴吐出法を用いれば、所望の領域に所望の量の液状体６を液滴として吐出可能である。
【００６９】
次に、図７（ｇ）に示すように、塗布された液状体６を乾燥させ、固化することにより、膜厚が異なる各位相差膜２６Ｒ，２６Ｇ，２６Ｂを形成する（成膜工程）。この場合、膜厚（塗布量）は、位相差膜２６Ｇの位相差値を基準として設定されている。位相差膜２６Ｇの膜厚は、およそ１．５〜２μｍであり、位相差値は、およそ２６５〜２７５ｎｍである。位相差膜２６Ｒの膜厚は、これよりも厚く、位相差膜２６Ｂの膜厚は、これよりも薄く設定されている。なお、これらの膜厚の設定は、位相差膜形成材料の選択によって左右されることは言うまでもない。
【００７０】
位相差膜形成材料として重合性液晶化合物を用いる場合の例としては、ＢＡＳＦ社製のＰａｌｉｏｃｏｌｏｒ  ＬＣ２４２などが挙げられる。ＬＣ２４２は、光重合タイプの材料である。以下、液状体６の組成について上記ＬＣ２４２を用いた実施例を説明する。
【００７１】
（実施例）
位相差膜形成材料；ＬＣ２４２、濃度３０ｗｔ％。
光重合開始剤；２−メチル−１［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モリフォリノプロパン−１−オン、具体的には、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製のイルガキュア９０７、ＬＣ２４２に対する添加量は３ｗｔ％。
溶媒；ＰＧＭＥＡ；２−アセトキシ−１−メトキシプロパン、濃度７０ｗｔ％。
【００７２】
溶質としてのＬＣ２４２は、溶媒であるＰＧＭＥＡに対して、室温では溶解し難い。そこで、およそ７０℃に加温した溶媒に溶質を加えて攪拌し、その溶解性を評価した。図８は、液状体における溶質の溶解性を評価した結果を示す表である。
【００７３】
図８に示すように、溶質濃度が３０〜５０ｗｔ％では、７０℃で溶解させた後に、室温で１００Ｈ（時間）放置しても溶質が析出しない。溶質濃度が６０〜７０ｗｔ％では、７０℃で一旦溶解するも、室温で２４Ｈ放置すると析出する。溶質濃度が８０ｗｔ％では、同様に室温放置８Ｈで析出が起こる。溶質濃度が９０ｗｔ％では、７０℃に加温された溶媒にも溶解しない。したがって、液状体６としての安定性を考慮すると、溶質濃度は、５０ｗｔ％以下が好ましい。液滴吐出法を用いて吐出するには、粘度が３ｍＰａ，ｓ以上２０ｍＰａ，ｓ以下に調整されていることが望ましいので、本実施例では、溶質濃度を３０ｗｔ％とした。このときの粘度は、およそ１０ｍＰａ，ｓである。
【００７４】
このような液状体６を用い、１滴あたりの吐出量をおよそ１０ｎｇとして吐出した。そして、液状体６が塗布された対向基板２０を加熱して、液状体６を乾燥させた。乾燥方法としては、加熱したホットプレート上に対向基板２０を放置する方法や、乾燥炉を用いる方法が挙げられる。例えば、７０℃に加熱したホットプレート上に放置した場合には、数十秒で乾燥させることができる。
【００７５】
乾燥して得られた薄膜に、主たる波長が３６５ｎｍの紫外線を４００ｍＪ／ｃｍ2の条件で照射することにより、光重合が起こり位相差膜２６を成膜することができた。なお、紫外線照射を行う際には、窒素（Ｎ2）雰囲気下で行うことが望ましい。これにより、大気中の酸素（Ｏ2）の影響により光重合が阻害されることを低減することができる。
【００７６】
図９は、液状体の塗布量と膜厚との関係を示すグラフである。図９に示すように、上記実施例の液状体６の塗布量を１．０〜６．０μｇ／ｍｍ2の範囲で塗布すれば、位相差膜２６の膜厚を１．５〜４．５μｍの範囲で制御可能なことがわかった。
【００７７】
このような液状体６を用いれば、塗布量をカラーフィルタの色ごとに調整することによって、図７（ｇ）に示したような膜厚が異なる各位相差膜２６Ｒ，２６Ｇ，２６Ｂを形成できる。位相差値は、位相差膜形成材料の複屈折率Δｎと膜厚ｔとを乗ずることで与えられる。例えば、位相差値をλ／２とする場合、位相差膜形成材料の複屈折率Δｎが０．１４ならば、位相差膜２６Ｒの膜厚を２．３２μｍとすることにより、赤（Ｒ）の波長６５０ｎｍの半分の値の位相差値３２５ｎｍが得られる。同様にして、位相差膜２６Ｇの膜厚を１．９６μｍとすれば、緑（Ｇ）の波長５５０ｎｍの半分の値の位相差値２７５ｎｍが得られる。位相差膜２６Ｂの膜厚を１．６１μｍとすれば、青（Ｂ）の波長４５０ｎｍの半分の値の位相差値２２５ｎｍが得られる。
【００７８】
光重合開始剤は、これに限定されるものではない。紫外線の波長によって、光重合開始剤の紫外線吸収特性が異なるので、紫外線照射装置の波長特性を考慮して光重合開始剤を選ぶと共に、位相差膜形成材料に対する添加量を調整することが望ましい。当然ながら位相差膜形成材料の化学的な構造を考慮して光重合開始剤を選ぶことは言うまでもない。
【００７９】
位相差膜形成材料は、上記光重合タイプの重合性液晶化合物に限定されるものではない。例えば、熱重合タイプを採用してもよい。熱重合タイプの場合、所謂フォトリソグラフィ法で位相差膜２６を形成する場合に比べて、着色し易い感光基を有する感光性材料を用いなくて済むので、成膜後により透明な位相差膜２６を形成することが可能である。一方、熱重合させるため、加熱によって膜厚にばらつきが生ずることを考慮して、加熱条件を設定することが望ましい。そして、ステップＳ５へ進む。
【００８０】
図５のステップＳ５は、セル厚調整層形成工程である。ステップＳ５では、まず、図７（ｈ）に示すように、セル厚調整層形成材料を含む液状体７を隔壁部６１で区画された反射表示領域Ｒに塗布する。この場合も液滴吐出法（インクジェット法）を用い、上記液状体７を吐出ヘッド１に充填し、吐出ヘッド１と対向基板２０とを相対的に走査することにより、吐出ヘッド１に設けられた複数のノズル２から液滴として吐出する。
【００８１】
セル厚調整層形成材料としては、前述したように光硬化型のアクリル系樹脂材料を用いる。液状体７の塗布量は、各開口部６１ａにおいて成膜後に表面が平坦になるように、各位相差膜２６Ｒ，２６Ｇ，２６Ｂごとに異ならせる。
【００８２】
次に、図７（ｉ）に示すように、紫外線を照射して硬化させ、セル厚調整層２７Ｒ，２７Ｇ，２７Ｂをそれぞれ形成する。なお、セル厚調整層２７の厚みは、セル組み立て後の反射表示領域Ｒにおけるセル厚が、透過表示領域Ｔのセル厚ｄの半分となるように設定する。そして、ステップＳ６へ進む。
【００８３】
図５のステップＳ６は、第２配向膜形成工程である。ステップＳ６では、図７（ｊ）に示すように、隔壁部６１とセル厚調整層２７Ｒ，２７Ｇ，２７Ｂとを覆うように第２配向膜としての配向膜２８を形成する。配向膜２８の形成方法としては、配向膜材料としてのポリイミドやポリアミック酸を含む有機溶液を塗布して、溶媒成分を除去する乾燥・焼成を行うことにより成膜化する。塗布方法としては、スピンコート、スリットコートなどの方法や、オフセットなどの印刷法、液滴吐出法が挙げられる。成膜化した配向膜２８は、その表面を一定の方向にラビング処理する。そして、ステップＳ７へ進む。
【００８４】
図５のステップＳ７は、液晶充填組立工程である。ステップＳ７では、図３（ａ）および（ｂ）に示したように、画素構成要素（画素電極９、共通電極１９など）が形成された素子基板１０と、対向基板２０とを所定の位置で対向させ、シール材を介して接合する。素子基板１０と対向基板２０との間に液晶を充填して、液晶層５０とする。液晶を充填する方法としては、一対の基板の一方に印刷法や吐出法で額縁状にシール材を形成する。これを受け皿に見たてて液晶を真空中で必要量滴下した後に、他方の基板と接合する方法が挙げられる。シール材としては、例えば、熱硬化型のエポキシ系接着剤が好適に用いられる。なお、液晶層５０の厚みは、セル組み立て後の反射表示領域Ｒにおける液晶層５０の厚みが、透過表示領域Ｔの液晶層５０の厚みｄの半分となるように設定される。
【００８５】
このようにしてできたセルの表裏面に上偏光板２４と下偏光板１４とを貼り付けることにより液晶装置１００ができあがる。なお、液晶装置１００は、これを駆動する駆動回路と接続され、これを照明するための照明装置を素子基板１０の背面側に備えて用いられる。照明装置は、光源としてのＬＥＤや冷陰極管、光源からの光を液晶装置１００に導く導光板などを備える。
【００８６】
上記液晶装置１００の製造方法によれば、カラーフィルタ形成工程（ステップＳ２）、第１配向膜形成工程（ステップＳ３）、位相差膜形成工程（ステップＳ４）、セル厚調整層形成工程（ステップＳ５）が少なくとも液滴吐出法を用いて製造されている。したがって、これらの工程においてフォトリソグラフィ法を用いる場合に比べて、製造工程を簡略化できる。また、各液状体４，５，６，７をそれぞれ無駄なく使用して、所望の薄膜を形成することができる。さらには、位相差膜２６が遮光性を有する隔壁部６１によって区画されているため、位相差膜２６の外周部における位相差値の変化が抑制され、光漏れが生じ難い、また、当該光漏れが透過表示領域Ｔに漏れることを防止している。ゆえに、見映えのよい液晶装置１００を製造することができる。
【００８７】
（実施形態２）
次に、他の液晶装置について、図１０を参照して説明する。図１０は、実施形態２の液晶装置を示す概略断面図である。なお、実施形態２の液晶装置は、上記実施形態１の液晶装置１００と同じ等価回路の構成と、素子基板１０の構成を有するものであり、対向基板２０の構成が異なるものである。したがって、上記実施形態１と同様な構成の部分は、同じ符号を用いて表わしている。
【００８８】
図１０に示すように、本実施形態の液晶装置２００は、対向基板２０の隔壁部６１により区画された反射表示領域Ｒにおいて、液晶層５０に向かって配向膜２３、位相差膜２６（２６Ｇ）、カラーフィルタ２２（フィルタエレメント２２Ｇ）の順に積層された構成を有する。つまり反射表示領域Ｒの位相差膜２６（２６Ｇ）にフィルタエレメント２２Ｇが積層されている。
【００８９】
位相差膜２６を形成する材料の選択によっては、形成された位相差膜２６の物理的な特性、例えば表面硬度が低くなることが考えられる。その場合には、液晶分子を配向させるためのラビングなどの配向処理に耐えられず、位相差膜２６が削れてしまうなどの不具合が生ずる。また、位相差膜２６中にイオン成分などの不純物が含まれる場合、配向膜２８で覆っても時間経過と伴に不純物が液晶層５０に拡散して、光学特性が変化するおそれがある。上記実施形態１の液晶装置１００では、位相差膜２６を覆うようにセル厚調整層２７を設けた。セル厚調整層２７は、上記のような不具合を防止する保護層としての機能を有している。
【００９０】
液晶装置２００では、位相差膜２６の上にフィルタエレメント２２Ｇを設けることにより、上記保護層としての機能をフィルタエレメント２２Ｇに与えたものである。よって、液晶装置１００に比べてより簡略化された構造となっている。
【００９１】
このような液晶装置２００の製造方法は、上記実施形態１の液晶装置１００の製造方法において、ステップＳ１〜ステップＳ４の順番を変え、ステップＳ５のセル厚調整層形成工程を除けばよい。すなわち、対向基板２０において隔壁部６１を形成した後に、反射表示領域Ｒに配向膜２３を形成する。続いて、反射表示領域Ｒに位相差膜２６を形成した後に、カラーフィルタ２２を形成すればよい。これらの各工程は、いずれも液滴吐出法（インクジェット法）を用いているので、反射表示領域Ｒに選択的に配向膜２３、位相差膜２６、カラーフィルタ２２を形成することができる。位相差膜形成工程では、セル厚調整層２７が不要となるように材料選択と膜厚調整を行うことは言うまでもない。
【００９２】
このような液晶装置２００の製造方法によれば、製造工程を省いてより効率的に半透過反射型の液晶装置２００を製造することができる。
【００９３】
（実施形態３）
次に、液晶装置を備えた電子機器について図１１を参照して説明する。図１１は、電子機器としての携帯型電話機を示す概略斜視図である。
【００９４】
図１１に示すように、本実施形態の電子機器としての携帯型電話機３００は、操作用の入力部と表示部３０１とを備えた本体を有する。表示部３０１には、上記液晶装置１００または上記液晶装置２００とこれを照明する照明装置とが組み込まれている。したがって、照明装置からの透過光を利用した透過表示と、外光などの入射光を利用した反射表示とにより、表示された情報を確認することが可能である。すなわち、屋外など十分な明るさの環境下では、照明装置を駆動せず、反射表示モードにより情報を確認することができる。すなわち、省電力化を実現し、長い電池寿命を有する携帯型電話機３００を実現している。
【００９５】
携帯型電話機３００は、上記実施形態１の液晶装置１００または上記実施形態２の液晶装置２００、あるいは上記実施形態１の液晶装置１００の製造方法を用いて製造された液晶装置１００、または、実施形態２の液晶装置２００の製造方法を用いて製造された液晶装置２００を搭載している。したがって、見映えのよい表示品質を有し、コストパフォーマンスに優れた携帯型電話機３００を提供することができる。
【００９６】
上記実施形態以外にも様々な変形例が考えられる。以下、変形例を挙げて説明する。
【００９７】
（変形例１）上記実施形態１の液晶装置１００において、隔壁部６１の配置は、これに限定されない。図１２（ａ）および（ｂ）は、隔壁部の配置を示す概略平面図である。上記実施形態１においては、図１２（ａ）に示すように、隔壁部６１を格子状に設け、各サブ画素ＳＧ（実質的には各フィルタエレメント２２Ｒ，２２Ｇ，２２Ｂ）を区画すると共に、Ｙ軸方向（同色のフィルタエレメントがストライプ状に配列する方向）において反射表示領域Ｒと透過表示領域Ｔとを仕切った。これに対して、同図（ｂ）に示すように、Ｙ軸方向に直交するＸ軸方向において、反射表示領域Ｒと透過表示領域Ｔとを仕切るように構成してもよい。このように、反射表示領域Ｒと透過表示領域Ｔとを隔壁部６１によってどのように仕切るかは、サブ画素ＳＧの形状や視角特性などを考慮してより効果的な反射表示領域Ｒおよび透過表示領域Ｔの配置を決定すればよい。この他にも、サブ画素ＳＧ内において、島状に反射表示領域Ｒを孤立させて設けることも可能である。
【００９８】
（変形例２）上記実施形態１の液晶装置１００において、隔壁部６１、位相差膜２６、セル厚調整層２７の配置は、これに限定されない。例えば、図３（ａ）および（ｂ）において、対向基板２０側にカラーフィルタ２２を設け、素子基板１０側に、隔壁部６１、位相差膜２６、セル厚調整層２７を配置してもよい。このような構成としても同様な効果が得られる。また、対向基板２０側の構成が簡素になるので、カラーフィルタ２２を備えた原材料基板として、外部メーカーから調達が可能となる。さらには、セル厚調整層２７は必須ではなく、透過表示領域Ｔのセル厚ｄに対して、反射表示領域Ｒのセル厚がｄ／２となるように、λ／２の位相差値を与える位相差膜２６の膜厚を調整すればよい。
【００９９】
（変形例３）上記実施形態１の液晶装置１００において、反射表示領域Ｒを実現するサブ画素ＳＧの構成は、光反射性を有する反射共通電極１９ｒに限定されない。例えば、透明共通電極１９ｔを平面視で画素電極９と同じ大きさで設け、透明共通電極１９ｔの下層に光反射性を有する反射層を形成してもよい。反射層の形成方法は、例えば複数の凹凸を有する樹脂層上にＡｌ、Ａｇなどの金属薄膜を成膜する方法が挙げられる。このような反射層は反射表示領域Ｒに対応して形成する。これによれば、反射層で反射した光の指向性を低減してより明るい反射表示を実現できる。
【０１００】
（変形例４）上記実施形態１の液晶装置１００において、３色のフィルタエレメント２２Ｒ，２２Ｇ，２２Ｂの配置は、ストライプ方式に限定されない。例えば、モザイク方式の配置、デルタ方式の配置においても、上記実施形態１の位相差膜２６の構成を適用することができる。なお、カラーフィルタ２２は、３色に限定されず、Ｒ，Ｇ，Ｂ以外の色を加えた多色構成としてもよい。また、カラーフィルタ２２を設けず、所謂白黒表示のみの半透過反射型の液晶パネルにおいても適用可能である。
【０１０１】
（変形例５）上記実施形態１の液晶装置１００および上記実施形態２の液晶装置２００は、ＦＦＳ方式の半透過反射型に限定されない。例えば、ＩＰＳ方式、ＶＡ（Vertical  Alignment）方式の半透過反射型の液晶装置にも適用可能である。また、スイッチング素子は、ＴＦＴ３０に限らず、ＴＦＤ（Thin  Film  Diode）素子でもよい。さらには、スイッチング素子を備えたアクティブ方式に限定されず、単純マトリクス方式の液晶装置にも適用可能である。
【０１０２】
（変形例６）上記実施形態１の液晶装置１００の製造方法において、カラーフィルタ２２の形成方法は、液滴吐出法を用いることに限定されない。フォトリソグラフィ法でカラーフィルタ２２を形成した後に、隔壁部６１をカラーフィルタ２２上に形成してもよい。
【０１０３】
（変形例７）上記実施形態１の液晶装置１００の製造方法において、位相差膜２６の遅相軸の方向を規定する配向膜２３の形成方法は、液滴吐出法を用いて液状体５を開口部６１ａに塗布し、偏光紫外線を照射して光配向させる方法に限定されない。例えば、配向膜形成材料を含む液状体５をスピンコートやロールコートによって塗布して、パターニングする方法や、オフセットなどの印刷法を用いパターニングする方法も採用可能である。
【０１０４】
（変形例８）上記実施形態１の液晶装置１００の製造方法において、セル厚調整層形成工程（ステップＳ５）は、必須ではない。例えば、セル厚調整が不要となるように、位相差膜形成材料を選んで位相差膜２６の膜厚を調整してもよい。
【０１０５】
（変形例９）上記実施形態１の液晶装置１００の製造方法において、位相差膜２６およびセル厚調整層２７を表示色ごとに膜厚を異ならせる構成は、これに限定されない。例えば、位相差膜２６およびセル厚調整層２７の膜厚が、表示色に関わらず同一としてもよい。これによれば、製造工程における膜厚の調整過程を除いて、より簡素化できる。
【０１０６】
（変形例１０）上記実施形態２の液晶装置２００の製造方法は、これに限定されない。例えば、まず対向基板２０上に配向膜２３を形成し、ラビング処理することによって遅相軸の方向を規制する。その後に、オフセットや転写などの印刷法を用いて隔壁部６１を形成する。続いて、隔壁部６１により区画された反射表示領域Ｒに位相差膜２６を形成する。さらに隔壁部６１により区画されたサブ画素領域にカラーフィルタ２２の各フィルタエレメント２２Ｒ，２２Ｇ，２２Ｂを形成するとしてもよい。これによれば、位相差膜２６の遅相軸の方向を規制する方法として、ラビング処理を用いることができ、隔壁部６１にじゃまされることなく、遅相軸の方向を安定化させることができる。
【０１０７】
（変形例１１）上記実施形態３において、液晶装置１００または液晶装置２００を備えた電子機器は、携帯型電話機３００に限定されない。例えば、ノート型パーソナルコンピュータ、電子手帳、映像情報を表示するビューワーやＤＶＤプレーヤ、携帯型情報端末などの電子機器に搭載すれば、好適である。
【符号の説明】
【０１０８】
４Ｒ，４Ｇ，４Ｂ…フィルタエレメント形成材料を含む液状体、５…配向膜材料を含む液状体、６…位相差膜形成材料を含む液状体、７…セル厚調整層形成材料を含む液状体、１０…一対の基板の一方としての素子基板、２０…一対の基板の一方としての対向基板、２２…カラーフィルタ、２２Ｒ，２２Ｇ，２２Ｂ…フィルタエレメント、２３…配向膜、２６，２６Ｒ，２６Ｇ，２６Ｂ…位相差膜、２７，２７Ｒ，２７Ｇ，２７Ｂ…セル厚調整層、５０…液晶層、６１…隔壁部、６１ａ…隔壁部で区画された領域としての開口部、１００…液晶装置、２００…液晶装置、３００…電子機器としての携帯型電話機、Ｒ…反射表示領域、ＳＧ…サブ画素、Ｔ…透過表示領域。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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