(57)【要約】【課題】良質な半導体−酸化物界面を有する電界効果トランジスタおよびその製造方法を提供する。【解決手段】電界効果トランジスタ１００は、半導体基板１０１と、半導体基板１０１上に形成されたチャネル層１０２と、チャネル層１０２上に形成された電子供給層１０３と、電子供給層１０３内に形成され、Ｐｔを含む半導体層１０６と、半導体層１０６上に形成され、ゲート絶縁膜として機能するペロブスカイト型酸化物層１０７と、ペロブスカイト型酸化物層１０７上に形成されたゲート電極１０８とを備える。【選択図】図１
2010287696.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体基板と、
前記半導体基板上に形成されたチャネル層と、
前記チャネル層上に形成された電子供給層と、
前記電子供給層内に形成され、Ｐｔを含む半導体層と、
前記半導体層上に形成され、ゲート絶縁膜として機能するペロブスカイト型酸化物を含む酸化物層と、
前記酸化物層上に形成されたゲート電極とを備える
電界効果トランジスタ。
【請求項２】
前記電界効果トランジスタは、さらに、
前記電子供給層上に、前記ゲート電極を挟むように形成されたオーミックコンタクト層と、
前記電子供給層および前記オーミックコンタクト層上に形成され、前記電子供給層上の領域に第１開口と、前記オーミックコンタクト層上の領域に第２開口とを有する絶縁膜と、
前記オーミックコンタクト層と、前記第２開口を介して電気的に接続するオーミック電極とを備え、
前記半導体層は、前記電子供給層内に前記第１開口に露出するように形成され、
前記酸化物層は、前記第１開口に形成される
請求項１記載の電界効果トランジスタ。
【請求項３】
前記電界効果トランジスタは、さらに、
前記絶縁膜と前記酸化物層との間に形成されたＰｔ層を備える
請求項２記載の電界効果トランジスタ。
【請求項４】
前記半導体基板は、III−Ｖ族化合物半導体基板である
請求項１〜３のいずれか１項に記載の電界効果トランジスタ。
【請求項５】
前記半導体基板は、ＧａＡｓ、ＩｎＰ、又はＧａＮを含む基板である
請求項４記載の電界効果トランジスタ。
【請求項６】
前記酸化物層は、ＳｒＴｉＯ3を含む
請求項１〜５のいずれか１項に記載の電界効果トランジスタ。
【請求項７】
前記半導体層は、さらに、前記電子供給層を構成する物質の原子を含む
請求項１〜６のいずれか１項に記載の電界効果トランジスタ。
【請求項８】
半導体基板上にチャネル層を形成するチャネル層形成ステップと、
前記チャネル層上に電子供給層を形成する電子供給層形成ステップと、
前記電子供給層上に、Ｐｔを含む層であるＰｔ層を形成するＰｔ層形成ステップと、
前記Ｐｔ層上に、ゲート絶縁膜として機能するペロブスカイト型酸化物を含む酸化物層を形成する酸化物層形成ステップと、
熱処理を施し、前記Ｐｔ層に含まれるＰｔを前記電子供給層中に拡散させることで、半導体層を形成する半導体層形成ステップと、
前記酸化物層上にゲート電極を形成するゲート電極形成ステップとを含む
電界効果トランジスタの製造方法。
【請求項９】
前記Ｐｔ層形成ステップでは、膜厚２ｎｍ以下のＰｔ層を形成する
請求項８記載の電界効果トランジスタの製造方法。
【請求項１０】
前記電界効果トランジスタの製造方法は、さらに、
前記電子供給層上の所定の領域を除く領域に、オーミックコンタクト層を形成するコンタクト層形成ステップと、
前記電子供給層の前記領域上および前記オーミックコンタクト層上に絶縁膜を形成し、前記電子供給層上の領域に第１開口と、前記オーミックコンタクト層上の領域に第２開口とを形成する絶縁膜形成ステップと、
前記第２開口に、前記オーミックコンタクト層と電気的に接続するオーミック電極を形成するオーミック電極形成ステップとを含み、
前記Ｐｔ層形成ステップでは、前記電子供給層上の、前記第１開口に露出した領域に前記Ｐｔ層を形成し、
前記酸化物層形成ステップでは、前記第１開口に形成された前記Ｐｔ層上に前記酸化物層を形成する
請求項８又は９記載の電界効果トランジスタの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電界効果トランジスタおよびその製造方法に関し、特に、ＭＯＳ（Ｍｅｔａｌ  Ｏｘｉｄｅ  Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ）構造を有する電界効果トランジスタに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、ＧａＡｓをはじめとする化合物半導体を用いた電界効果トランジスタ（以下、ＦＥＴ（Ｆｉｅｌｄ  Ｅｆｆｅｃｔ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）と称する）は、無線通信、とりわけ携帯電話端末のパワーアンプやＲＦスイッチ（Ｒａｄｉｏ  Ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ  スイッチ）等に広く用いられている。このＦＥＴの中でも特に、ＰＨＥＭＴ（Ｐｓｅｕｄｏｍｏｒｐｈｉｃ  Ｈｉｇｈ  Ｅｌｅｃｔｒｏｎ  Ｍｏｂｉｌｉｔｙ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）は、高周波特性に優れている。また、ＦＥＴなどの能動素子と、半導体抵抗、金属抵抗素子および容量などの受動素子とを集積化したモノリシックマイクロ波集積回路（ＭＭＩＣ：Ｍｏｎｏｌｉｔｈｉｃ  Ｍｉｃｒｏｗａｖｅ  Ｉｎｔｅｇｒａｔｅｄ  Ｃｉｒｃｕｉｔ）などの半導体装置にもＰＨＥＭＴは、広く用いられている。
【０００３】
電界効果トランジスタでは、一般的にリーク電流の低減が求められているが、特にＭＭＩＣに用いられるＰＨＥＭＴでは、今後の高周波技術の進展に従ってリーク電流の低減要求がより厳しくなることが予想される。ＰＨＥＭＴは、ショットキー接合を利用した電界効果トランジスタであるため、ＭＩＳ（金属−絶縁体−半導体）型構造の電界効果トランジスタと比較してリーク電流が大きくなってしまうという問題がある。
【０００４】
この問題に対して、Ｓｉ基板で一般的に用いられているＭＯＳ（金属−酸化物−半導体）構造をＧａＡｓ基板において実現しようという試みは数十年されているが、未だ実用には至っていない。一方、Ｓｉ基板のＭＯＳ構造は酸化物に自然酸化膜を用いたものから、より高誘電率な材料を用いる方向に技術が進んでいる。なかでも、ペロブスカイト型酸化物は、ゲート酸化物に有望な高誘電率材料として注目されている（特許文献１参照）。
【０００５】
ペロブスカイト型酸化物をゲート酸化物に利用する際には、特許文献１に示されるように、ペロブスカイト型酸化物の結晶方位が揃った状態に形成できることが望ましい。ペロブスカイト型酸化物の一例であるチタン酸ストロンチウム（ＳｒＴｉＯ3）は、Ｓｉ上に結晶方位が揃いやすいことが知られている。
【０００６】
しかしながら、同じペロブスカイト型酸化物であってもチタン酸ジルコン酸ランタン鉛（ＰＺＬＴ）などは、Ｓｉ上では結晶方位を揃えて形成することができない。特許文献１では、Ｓｉ上に結晶方位の揃ったＳｒＴｉＯ3を形成し、その上にＰＺＬＴを形成することで、この課題を解決している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開平６−３１４７９４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、上記従来技術では、半導体基板およびゲート酸化膜として利用可能な酸化物の材料が限定されてしまい、良質な半導体−酸化物界面を形成することが困難になるという課題がある。
【０００９】
例えば、特許文献１に記載の技術では、Ｓｉ上に直接、結晶方位の揃ったＰＺＬＴを形成することはできない。
【００１０】
また、ＧａＡｓなどのIII−Ｖ族化合物半導体上においては、Ｓｉ上のＳｒＴｉＯ3のように結晶方位の揃ったペロブスカイト型酸化物を形成することはできない。そのため、ペロブスカイト型酸化物を用いたＭＯＳ構造を形成することも困難なものとなっている。
【００１１】
そこで、本発明は、上記課題を解決するためになされたものであって、良質な半導体−酸化物界面を有する電界効果トランジスタおよびその製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記目的を達成するため、本発明に係る電界効果トランジスタは、半導体基板と、前記半導体基板上に形成されたチャネル層と、前記チャネル層上に形成された電子供給層と、前記電子供給層内に形成され、Ｐｔを含む半導体層と、前記半導体層上に形成され、ゲート絶縁膜として機能するペロブスカイト型酸化物を含む酸化物層と、前記酸化物層上に形成されたゲート電極とを備える。
【００１３】
これにより、本発明に係る電界効果トランジスタは、Ｐｔ上には、結晶方位の揃ったペロブスカイト型酸化物を堆積させることができるので、良質な半導体−酸化物界面を有する。よって、例えば、従来のＭＩＳ型構造の電界効果トランジスタと比べて、リーク電流を低減することができる。
【００１４】
また、前記電界効果トランジスタは、さらに、前記電子供給層上に、前記ゲート電極を挟むように形成されたオーミックコンタクト層と、前記電子供給層および前記オーミックコンタクト層上に形成され、前記電子供給層上の領域に第１開口と、前記オーミックコンタクト層上の領域に第２開口とを有する絶縁膜と、前記オーミックコンタクト層と、前記第２開口を介して電気的に接続するオーミック電極とを備え、前記半導体層は、前記電子供給層内に前記第１開口に露出するように形成され、前記酸化物層は、前記第１開口に形成されてもよい。
【００１５】
また、前記電界効果トランジスタは、さらに、前記絶縁膜と前記酸化物層との間に形成されたＰｔ層を備えてもよい。
【００１６】
また、前記半導体基板は、III−Ｖ族化合物半導体基板であってもよい。
【００１７】
例えば、前記半導体基板は、ＧａＡｓ、ＩｎＰ、又はＧａＮを含む基板であってもよい。
【００１８】
これにより、例えば、ＧａＡｓ、ＩｎＰ、ＧａＮなどのIII−Ｖ族化合物半導体は、高周波特性が優れているので、高速動作可能な半導体デバイスとして利用することができる。
【００１９】
また、前記酸化物層は、ＳｒＴｉＯ3を含んでもよい。
【００２０】
これにより、例えば、ＳｒＴｉＯ3は、高誘電率を有するという特徴を有し、ゲート酸化物として有用な酸化物であるため、本発明に係る電界効果トランジスタは、低リーク電流で高周波応答特性に優れ、かつ、高速動作することができる。
【００２１】
また、前記半導体層は、さらに、前記電子供給層を構成する物質の原子を含んでもよい。
【００２２】
また、本発明に係る電界効果トランジスタの製造方法は、半導体基板上にチャネル層を形成するチャネル層形成ステップと、前記チャネル層上に電子供給層を形成する電子供給層形成ステップと、前記電子供給層上に、Ｐｔを含む層であるＰｔ層を形成するＰｔ層形成ステップと、前記Ｐｔ層上に、ゲート絶縁膜として機能するペロブスカイト型酸化物を含む酸化物層を形成する酸化物層形成ステップと、熱処理を施し、前記Ｐｔ層に含まれるＰｔを前記電子供給層中に拡散させることで、半導体層を形成する半導体層形成ステップと、前記酸化物層上にゲート電極を形成するゲート電極形成ステップとを含んでもよい。
【００２３】
これにより、Ｐｔ層上に結晶方位の揃った良質なペロブスカイト型酸化物を形成することができるとともに、熱処理によりＰｔ層に含まれるＰｔを電子供給層中に拡散させて、半導体層を形成することができる。したがって、良質な半導体−酸化物界面を有し、低リーク電流で、高周波応答特性に優れ、かつ、高速動作可能な電界効果トランジスタを製造することができる。
【００２４】
また、前記Ｐｔ層形成ステップでは、膜厚２ｎｍ以下のＰｔ層を形成してもよい。
【００２５】
これにより、Ｐｔ上には、例えば、結晶方位の揃ったペロブスカイト型酸化物を堆積させることができるので、より良質な半導体−酸化物界面を形成することができる。
【００２６】
また、前記電界効果トランジスタの製造方法は、さらに、前記電子供給層上の所定の領域を除く領域に、オーミックコンタクト層を形成するコンタクト層形成ステップと、前記電子供給層の前記領域上および前記オーミックコンタクト層上に絶縁膜を形成し、前記電子供給層上の領域に第１開口と、前記オーミックコンタクト層上の領域に第２開口とを形成する絶縁膜形成ステップと、前記第２開口に、前記オーミックコンタクト層と電気的に接続するオーミック電極を形成するオーミック電極形成ステップとを含み、前記Ｐｔ層形成ステップでは、前記電子供給層上の、前記第１開口に露出した領域に前記Ｐｔ層を形成し、前記酸化物層形成ステップでは、前記第１開口に形成された前記Ｐｔ層上に前記酸化物層を形成してもよい。
【発明の効果】
【００２７】
本発明によれば、良質な半導体−酸化物界面を有する電界効果トランジスタおよびその製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
【図１】実施の形態１の電界効果トランジスタの構成の一例を示す構造断面図である。
【図２】実施の形態１の電界効果トランジスタの製造工程の一例を示す断面工程図である。
【図３】実施の形態２の電界効果トランジスタの構成の一例を示す構造断面図である。
【図４】実施の形態２の電界効果トランジスタの製造工程の一例を示す断面工程図である。
【発明を実施するための形態】
【００２９】
以下に、図面を参照しながら本発明に係る電界効果トランジスタおよびその製造方法について実施の形態に基づいて説明する。
【００３０】
（実施の形態１）
本実施の形態の電界効果トランジスタは、チャネル層と、電子供給層と、さらに、電子供給層内に形成された半導体層と、酸化物層と、ゲート電極とを備える。具体的には、酸化物層として、ペロブスカイト型酸化物をＰｔ層上に形成し、Ｐｔ層に含まれるＰｔを熱処理により電子供給層内に拡散させることで半導体層を形成している。以下では、まず、本実施の形態の電界効果トランジスタの構成の一例について、図１を用いて説明する。
【００３１】
図１は、本実施の形態の電界効果トランジスタ１００の構成の一例を示す構造断面図である。同図に示す電界効果トランジスタ１００は、ＭＯＳ型電界効果トランジスタであって、半導体基板１０１と、チャネル層１０２と、電子供給層１０３と、オーミックコンタクト層１０４と、絶縁膜１０５と、半導体層１０６と、ペロブスカイト型酸化物層１０７と、ゲート電極１０８と、オーミック電極１０９とを備える。
【００３２】
半導体基板１０１は、III−Ｖ族化合物半導体基板であって、例えば、半絶縁性ＧａＡｓ基板である。なお、半導体基板１０１は、ＩｎＰ又はＧａＮなどの他のIII−Ｖ族化合物半導体基板でもよく、あるいは、II−VI族化合物半導体基板でもよい。さらには、ＳｉなどのIV族半導体基板でもよい。
【００３３】
チャネル層１０２は、半導体基板１０１上に形成され、異なるバンドギャップを有する半導体を組み合わせて構成された二次元電子ガスを有する層である。チャネル層１０２は、例えば、厚さ５ｎｍのＩｎＧａＡｓから構成される。なお、半導体基板１０１とチャネル層１０２との間には、格子不整合を緩和するためのバッファ層が形成されている（図示せず）。例えば、バッファ層は、ＡｌＧａＡｓなどから構成される。
【００３４】
電子供給層１０３は、チャネル層１０２上に形成され、チャネル層１０２にキャリアとなる電子を供給する。電子供給層１０３は、例えば、厚さ２０ｎｍのＡｌＧａＡｓから構成される。なお、電子供給層１０３は、ＡｌＧａＡｓ単層構造ではなく、ＡｌＧａＡｓ、ＧａＡｓ、ＩｎＧａＰなどを組み合わせた積層構造でもよい。また、電子供給層１０３の厚さは、ＦＥＴの閾値電圧に応じて変更させてもよい。
【００３５】
オーミックコンタクト層１０４は、電子供給層１０３上に形成され、かつ、ゲート領域に形成されたリセス開口により２つの領域（ソース領域およびドレイン領域）に分割されている。それぞれの領域には、ＦＥＴのソース電極又はドレイン電極であるオーミック電極１０９が接続される。オーミックコンタクト層１０４は、例えば、電子濃度の高いＧａＡｓ、又はＩｎＧａＡｓから構成される。あるいは、ＧａＡｓとＩｎＧａＡｓとの積層構造でもよい。オーミックコンタクト層１０４の厚さは、例えば、５０〜１００ｎｍである。
【００３６】
絶縁膜１０５は、オーミックコンタクト層１０４上、および、オーミックコンタクト層１０４に形成されたリセス開口内の電子供給層１０３上に形成された絶縁性を有する膜である。絶縁膜１０５には、ゲート領域、ソース領域およびドレイン領域のそれぞれに、電極を形成するための開口が形成されている。絶縁膜１０５は、例えば、厚さ２００〜４００ｎｍの窒化シリコン（ＳｉＮ）である。あるいは、ＳｉＮと酸化シリコン（ＳｉＯ2）とを組み合わせた積層構造でもよい。
【００３７】
半導体層１０６は、電子供給層１０３内に不純物が拡散されて形成された層であり、ＭＯＳＦＥＴの閾値電圧および耐圧などを制御する。例えば、半導体層１０６は、電子供給層１０３を構成する電子濃度の高いＧａＡｓにＰｔが拡散されて形成される。
【００３８】
ペロブスカイト型酸化物層１０７は、半導体層１０６上に形成されたＦＥＴのゲート絶縁膜であり、例えば、厚さ３０〜１００ｎｍのＳｒＴｉＯ3である。なお、ペロブスカイト型酸化物層１０７は、ＰＺＬＴなどの他のペロブスカイト型酸化物でもよいが、高周波動作を目的とする電界効果トランジスタでは、強誘電性を示さない材料（例えば、ＳｒＴｉＯ3）が好ましい。
【００３９】
ゲート電極１０８は、ペロブスカイト型酸化物層１０７上に形成された電極であって、好ましくは、ペロブスカイト型酸化物層１０７に対するリーク電流が少ない材料から構成される。例えば、ゲート電極１０８は、Ｐｔ、ＷＳｉ、又はＷＳｉＮなどで構成される。
【００４０】
オーミック電極１０９は、オーミックコンタクト層１０４上に形成されたＦＥＴのソース電極又はドレイン電極である。例えば、オーミック電極１０９は、Ｔｉ、Ａｌ又はＰｔ、Ａｕなどの積層構造を有する。このとき、Ｔｉは、オーミックコンタクト層１０４との接触抵抗を小さくするために用いられ、Ａｌ又はＰｔ、Ａｕなどは低抵抗化のために用いられる。
【００４１】
以上に示すように、図１の電界効果トランジスタ１００では、電子供給層１０３中でペロブスカイト型酸化物層１０７の直下に半導体層１０６が存在し、半導体層１０６とペロブスカイト型酸化物層１０７とゲート電極１０８とによってＭＯＳ構造を形成している。
【００４２】
次に、図２を用いて、本実施の形態の電界効果トランジスタ１００の製造方法の一例について説明する。図２は、本実施の形態の電界効果トランジスタ１００の製造方法の一例を示す断面工程図である。
【００４３】
まず、図２（ａ）に示すように、例えば、半絶縁性ＧａＡｓ基板などの半導体基板１０１上にバッファ層（図示せず）と、ＩｎＧａＡｓからなるチャネル層１０２と、ＡｌＧａＡｓからなる電子供給層１０３と、ＧａＡｓなどからなるオーミックコンタクト層１０４とを積層する。次に、フォトレジストを用いたフォトリソグラフィーによりパターニングし、ドライエッチング又はウェットエッチングを用いてオーミックコンタクト層１０４のゲート領域を除去することで、電子供給層１０３を露出させるリセス開口を形成する。
【００４４】
次いで、プラズマＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）にて、ＳｉＮからなる絶縁膜１０５を全面に堆積させる。そして、フォトリソグラフィーによりパターニングし、ドライエッチング又はウェットエッチングを用いて絶縁膜１０５の所定の領域を除去することで、電子供給層１０３を露出するゲート電極領域を形成する。
【００４５】
次いで、フォトリソグラフィーによりパターニングし、蒸着およびリフトオフを用いてゲート電極領域に選択的にＰｔを堆積させることで、Ｐｔ層１１０を形成する。その際、Ｐｔ層１１０の膜厚は、２ｎｍ以下であることが望ましい。
【００４６】
次いで、図２（ｂ）に示すように、ＳｒＴｉＯ3などのペロブスカイト型酸化物を、ＲＦスパッタ法、ＭＯＣＶＤ法、又はゾル・ゲル法を用いて全面に堆積させることで、ペロブスカイト型酸化物層１０７を形成する。この時に、Ｐｔ層１１０上において結晶性の揃ったペロブスカイト型酸化物が形成される。
【００４７】
次いで、酸素雰囲気中にて３５０℃以上の熱処理を施す。その際、Ｐｔが電子供給層１０３中に拡散し、図２（ｃ）に示すように新たな半導体層１０６が形成される。
【００４８】
次いで、図２（ｄ）に示すように、ゲート電極金属となるゲート電極材料１１１をペロブスカイト型酸化物層１０７上にスパッタ法を用いて堆積させる。ゲート電極材料１１１は、ペロブスカイト型酸化物に対してリーク電流が少ない材料を選択する必要があり、Ｐｔ、ＷＳｉ、ＷＳｉＮの使用が好ましい。
【００４９】
次いで、図２（ｅ）に示すように、ゲート電極材料１１１とペロブスカイト型酸化物層１０７とをフォトリソグラフィーによりパターニングし、ドライエッチングを用いてエッチングする。これにより、ゲート電極１０８と、ペロブスカイト型酸化物層１０７と、半導体層１０６とから構成されるＭＯＳ構造を形成する。さらに、フォトリソグラフィーによりパターニングし、ドライエッチング又はウェットエッチングを用いて、オーミックコンタクト層１０４を露出するソース電極領域およびドレイン電極領域を形成する。
【００５０】
そして、スパッタ法又は蒸着法によりオーミック電極材料を堆積して、パターニングおよびエッチングすることでソース電極およびドレイン電極となるオーミック電極１０９を形成する。オーミック電極材料は、Ｔｉをオーミックコンタクト層１０４との接触に用い、低抵抗化のためにＡｌやＰｔ、Ａｕ等の積層構造を用いることが多い。
【００５１】
以上の製造方法にて、図１に示すIII−Ｖ族化合物半導体のＭＯＳ型電界効果トランジ
スタを形成することができる。
【００５２】
以上のように、本実施の形態の電界効果トランジスタ１００は、ペロブスカイト型酸化物をＰｔ上に堆積させた場合に、その結晶性が揃うことを利用し、さらには、Ｐｔが約３５０℃以上の温度でＧａＡｓなどのIII−Ｖ族化合物半導体に熱拡散することで半導体層を形成することを利用して形成されたＭＯＳ型電界効果トランジスタである。つまり、上述したように、本実施の形態の電界効果トランジスタ１００は、ゲート絶縁膜としてペロブスカイト型酸化物層１０７を備え、さらに、電子供給層１０３内にＰｔが拡散して形成された半導体層１０６を備える。
【００５３】
これにより、本実施の形態の電界効果トランジスタ１００は、良質な半導体−酸化物界面を有することで、低リーク電流で高周波応答特性に優れ、かつ、高速に動作することができる。
【００５４】
（実施の形態２）
本実施の形態の電界効果トランジスタは、実施の形態１では、Ｐｔ層をゲート電極直下の領域に選択的に形成したのに対して、Ｐｔ層を全面に形成する。このため、本実施の形態の電界効果トランジスタは、実施の形態１の電界効果トランジスタに比べて、さらに、酸化物層と絶縁膜との界面にＰｔ層を備える。以下では、まず、本実施の形態の電界効果トランジスタの構成の一例について、図３を用いて説明する。
【００５５】
図３は、本実施の形態の電界効果トランジスタ２００の構成の一例を示す構造断面図である。同図に示す電界効果トランジスタ２００は、新たにＰｔ層２１０を備える点が、実施の形態１の電界効果トランジスタ１００と異なっている。以下では、実施の形態１と同じ構成には同じ参照符号を付して説明を省略し、異なる点を中心に説明する。
【００５６】
Ｐｔ層２１０は、ゲート電極１０８が形成される領域における、絶縁膜１０５とペロブスカイト型酸化物層１０７との界面に形成されたＰｔ層である。Ｐｔ層２１０の膜厚は、例えば、２ｎｍ以下である。
【００５７】
以上に示すように、図３の電界効果トランジスタ２００では、電子供給層１０３中でペロブスカイト型酸化物層１０７の直下に半導体層１０６が存在し、半導体層１０６とペロブスカイト型酸化物層１０７とゲート電極１０８とによってＭＯＳ構造を形成している。また、本実施の形態では、Ｔ型に形成されたゲート酸化膜であるペロブスカイト型酸化物層１０７と絶縁膜１０５との間の側壁および底面にＰｔ層２１０が形成されている。
【００５８】
次に、図４を用いて、本実施の形態の電界効果トランジスタ２００の製造方法の一例について説明する。図４は、本実施の形態の電界効果トランジスタ２００の製造方法の一例を示す断面工程図である。
【００５９】
まず、図４（ａ）に示すように、実施の形態１と同様にして、半導体基板１０１上に、バッファ層（図示せず）と、チャネル層１０２と、電子供給層１０３と、オーミックコンタクト層１０４と、絶縁膜１０５とを形成する。オーミックコンタクト層１０４は、フォトリソグラフィーによるパターニングおよびエッチングにより所定の領域（ゲート領域）が除去され、２つの領域（ソース領域およびドレイン領域）に分けられる。また、ゲート領域に形成された絶縁膜１０５は、フォトリソグラフィーによるパターニングおよびエッチングにより所定の領域（ゲート電極領域）が除去される。
【００６０】
次いで、スパッタ法又は蒸着法を用いてＰｔを全面に堆積させることで、Ｐｔ層２１０を形成する。その際、Ｐｔの膜厚は、例えば、２ｎｍ以下であることが望ましい。
【００６１】
次いで、図４（ｂ）に示すように、ＳｒＴｉＯ3などのペロブスカイト型酸化物を、ＲＦスパッタ法、ＭＯＣＶＤ法、又はゾル・ゲル法を用いて全面に堆積させることで、ペロブスカイト型酸化物層１０７を形成する。この時に、Ｐｔ層２１０上において結晶性の揃ったペロブスカイト型酸化物が形成される。したがって、本実施の形態では、全面にＰｔ層２１０が形成されているので、ペロブスカイト型酸化物層１０７は、全ての領域において結晶性が揃っている。
【００６２】
次いで、酸素雰囲気中にて３５０℃以上の熱処理を施す。その際、Ｐｔが電子供給層１０３中に拡散し、図４（ｃ）に示すように新たな半導体層１０６が形成される。
【００６３】
次いで、図４（ｄ）に示すように、ゲート電極金属となるゲート電極材料１１１をペロブスカイト型酸化物層１０７上にスパッタ法を用いて堆積させる。ゲート電極材料１１１は、ペロブスカイト型酸化物に対してリーク電流が少ない材料を選択する必要があり、Ｐｔ、ＷＳｉ、ＷＳｉＮの使用が好ましい。
【００６４】
次いで、図４（ｅ）に示すように、ゲート電極材料１１１とペロブスカイト型酸化物層１０７とＰｔ層２１０とを、フォトリソグラフィーによりパターニングし、ドライエッチングを用いてエッチングする。これにより、ゲート電極１０８と、ペロブスカイト型酸化物層１０７と、半導体層１０６とで構成されるＭＯＳ構造を形成する。
【００６５】
次に、実施の形態１と同様にして、絶縁膜１０５のソース電極領域およびドレイン電極領域を除去することで、オーミックコンタクト層１０４を露出させる。そして、スパッタ法又は蒸着法を用いてオーミック電極材料を堆積して、パターニングおよびエッチングすることでソース電極およびドレイン電極となるオーミック電極１０９を形成する。オーミック電極材料はＴｉをオーミックコンタクト層との接触に用い、低抵抗化のためにＡｌやＰｔ、Ａｕ等の積層構造を用いることが多い。
【００６６】
以上の製造方法にて、図１に示すIII−Ｖ族化合物半導体のＭＯＳ型電界効果トランジスタを形成することができる。
【００６７】
以上のように、本実施の形態の電界効果トランジスタ１００は、実施の形態１と同様に、ペロブスカイト型酸化物をＰｔ上に堆積させた場合に、その結晶性が揃うことを利用し、さらには、Ｐｔが約３５０℃以上の温度でＧａＡｓなどのIII−Ｖ族化合物半導体に熱拡散することで半導体層を形成することを利用して形成されたＭＯＳ型電界効果トランジスタである。つまり、上述したように、本実施の形態の電界効果トランジスタ１００は、ゲート絶縁膜としてペロブスカイト型酸化物層１０７を備え、さらに、電子供給層１０３内にＰｔが拡散して形成された半導体層１０６を備える。
【００６８】
なお、実施の形態１ではゲート電極領域のみに堆積させたＰｔ上にペロブスカイト型酸化物を堆積させたのに対して、本実施の形態では、全面に堆積させたＰｔ上にペロブスカイト型酸化物を堆積させる。したがって、堆積したペロブスカイト型酸化物の結晶性をより高めることができる。なお、全面に堆積させたＰｔ層は、ゲート領域において、ペロブスカイト型酸化物層１０７と絶縁膜１０５との界面に残っている。
【００６９】
これにより、本実施の形態の電界効果トランジスタ２００は、良質な半導体−酸化物界面を有することで、低リーク電流で高周波応答特性に優れ、かつ、高速に動作することができる。
【００７０】
以上、本発明に係る電界効果トランジスタ及びその製造方法について、実施の形態に基づいて説明したが、本発明は、これらの実施の形態に限定されるものではない。本発明の趣旨を逸脱しない限り、当業者が思いつく各種変形を当該実施の形態に施したものや、異なる実施の形態における構成要素を組み合わせて構築される形態も、本発明の範囲内に含まれる。
【産業上の利用可能性】
【００７１】
本発明に係る電界効果トランジスタおよびその製造方法は、良質な半導体−酸化物界面を有し、例えば、高速動作可能であるという効果を奏し、例えば、ＭＭＩＣなどの各種半導体デバイスに利用することができる。
【符号の説明】
【００７２】
１００、２００  電界効果トランジスタ
１０１  半導体基板
１０２  チャネル層
１０３  電子供給層
１０４  オーミックコンタクト層
１０５  絶縁膜
１０６  半導体層
１０７  ペロブスカイト型酸化物層
１０８  ゲート電極
１０９  オーミック電極
１１０、２１０  Ｐｔ層
１１１  ゲート電極材料
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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