(57)【要約】      （修正有）【課題】接続端子の間隔を小さくすることなく接続端子数を増加させることが可能な配線基板及び表示装置。【解決手段】絶縁層の第１の配線層側に形成され、保護層が開口され信号線がそれぞれ接続される接続端子が並設される開口領域と、開口領域よりも基材の先端側領域に形成され、絶縁膜の一方の面と他方の面の信号線を電気的に接続する貫通孔が形成される貫通孔領域とを有し、開口領域の少なくとも一辺に沿って複数の第１の接続端子が並設される第１端子領域と、第１の接続端子から離間した領域であり、複数の第２の接続端子が並設される第２端子領域とが前記開口領域に形成され、第１及び第２の接続端子は絶縁層の第１の配線層側にそれぞれ形成されると共に、第１の接続端子は、同層に形成される第１の配線層の信号線とそれぞれ電気的に接続され、第２の接続端子は、貫通孔領域に形成される貫通孔を介して第２の配線層の信号線とそれぞれ電気的に接続される。【選択図】図２
2010199500.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材上に複数の信号線が並設される配線層と、前記配線層を保護する保護層とを有する配線基板であって、
絶縁層を介して形成される第１の配線層と第２の配線層とが形成される配線領域と、
前記絶縁層の第１の配線層側に形成され、前記保護層が開口され前記信号線がそれぞれ接続される接続端子が並設される開口領域と、
前記開口領域よりも前記基材の先端側領域に形成され、前記絶縁膜の一方の面と他方の面の信号線を電気的に接続する貫通孔が形成される貫通孔領域とを有し、
前記開口領域の少なくとも一辺に沿って複数の第１の接続端子が並設される第１端子領域と、前記第１の接続端子から離間した領域であり、複数の第２の接続端子が並設される第２端子領域とが前記開口領域に形成され、
前記第１及び第２の接続端子は前記絶縁層の第１の配線層側にそれぞれ形成されると共に、
前記第１の接続端子は、同層に形成される前記第１の配線層の信号線とそれぞれ電気的に接続され、
前記第２の接続端子は、前記貫通孔領域に形成される貫通孔を介して前記第２の配線層の信号線とそれぞれ電気的に接続されてなる
ことを特徴とする配線基板。
【請求項２】
請求項１に記載の配線基板において、
前記第１の配線層の信号線数は前記第２の配線層の信号線数よりも多いことを特徴とする配線基板。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の配線基板において、
前記基材は柔軟性を備える樹脂材料からなることを特徴とする配線基板。
【請求項４】
請求項１乃至３の内のいずれかに記載の配線基板において、
前記貫通孔毎に形成される導体と、
前記絶縁層に対して第２の配線層側において、前記配線領域から前記開口領域を超えて前記貫通孔領域にまで伸延され前記貫通孔に至る第２の配線層と、
前記絶縁層に対して第１の配線層側に形成され、前記貫通孔から前記第２の接続端子に至る複数の信号線が並設される第３の配線層とを有し、
前記第２の配線層の信号線と前記第２の接続端子との電気的接続がなされることを特徴とする配線基板。
【請求項５】
請求項１乃至４の内のいずれかに記載の配線基板において、
前記第１の接続端子は前記開口領域の一辺に沿って並設され、前記第２の接続端子は前記第１の接続端子が並設される一辺と対向する辺に沿って並設されることを特徴とするフレキシブル配線基板。
【請求項６】
請求項５に記載の配線基板において、
前記第１の接続端子の延在方向の延長位置に前記第２の接続端子が形成され、前記第２の接続端子の並設ピッチが前記第１の接続端子の並設ピッチの整数倍であることを特徴とする配線基板。
【請求項７】
請求項１乃至６の内のいずれかに記載の配線基板において、
前記基材を絶縁材料で形成し、該基材を介して前記第１及び第２の配線層が対向する位置に形成されることを特徴とする配線基板。
【請求項８】
複数本のドレイン線と、前記ドレイン線と交差する複数本のゲート線と、複数の薄膜トランジスタを有し、外部から前記ドレイン線又は／及び前記ゲート線に駆動信号を入力する電極端子と、
前記電極端子に接続され、制御信号を入力する請求項１乃至７の内のいずれかに記載の配線基板と、
を備え、
前記ドレイン線と前記ゲート線とに囲まれた領域を画素の領域とする表示装置。
【請求項９】
請求項８に記載の表示装置において、
前記電極端子は、前記第１の接続端子に接続される第１の電極端子と、該第１の電極端子と絶縁膜を介して対向配置され、前記第２の接続端子に接続される第２の電極端子とを有することを特徴とする表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、配線基板及び表示装置に係り、特に表示装置の駆動信号を外部から供給するための配線基板に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、液晶を挟持する一対の樹脂製の透明基板を外囲器とし、液晶の広がり方向に画素が形成されて構成されている。該画素はそれぞれ独立に液晶の分子を駆動させる電界を生じさせるように構成され、該液晶の分子の駆動に対応した光透過率を得るようになっている。
【０００３】
一方の基板（以下、第１基板と記す）には、例えばＸ方向に延在しＹ方向に並設された複数のゲート線とＹ方向に延在しＸ方向に並設された複数のドレイン線とで囲まれた領域に、少なくとも、ゲート線からの走査信号によってオンされる薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）と、該オンされた薄膜トランジスタを介してドレイン線からの映像信号が供給される画素電極を備えて画素を構成している。これにより、各画素を独立に駆動させる構成としている。また、他方の基板（以下、第２基板と記す）にはブラックマトリクスと各画素に対応したＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）のカラーフィルタが形成されており、カラーフィルタを透過した透過光量に応じたカラー表示を行う構成となっている。
【０００４】
一方、各ドレイン線に供給される映像信号やゲート線に供給される走査信号は、外部機器から入力される制御信号に基づいて生成されるのが一般的である。このため、ガラス基板を用いた液晶表示装置では、映像信号を生成する映像信号駆動回路（ドレインドライバ）や走査信号駆動回路（ゲートドライバ）は、ＡＣＦ（(ａｎｉｓｏｔｒｏｐｉｃ  ｃｏｎｄｕｃｔｉｖｅ  ｆｉｌｍ；異方導電フィルム）テープを用いて、第１基板上に熱圧着される構成が一般的である。
【０００５】
これに対して、樹脂製の基板を用いた液晶表示装置では、映像信号駆動回路や走査信号駆動回路を熱圧着で搭載しようとした場合、熱応力により、薄膜トランジスタのゲート絶縁膜等の無機材料で形成される薄膜にクラック等が生じてしまうことが指摘されている。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
前述する問題を解決する手段として、薄膜トランジスタと共に樹脂製の第１基板上に映像信号駆動回路や走査信号駆動回路を形成することが提案されている。しかしながら、薄膜トランジスタをアモルファスシリコンＴＦＴで形成する場合、薄膜トランジスタに要求される特性から走査信号駆動回路の形成は可能であるが、走査線駆動回路を形成することが出来ないという問題がある。
【０００７】
このため、従来の液晶表示では、走査線駆動回路を液晶表示装置に接続されるフレキシブル配線基板上に搭載し、フレキシブル配線基板の信号線を介して各ドレイン線に走査信号を供給するＣＯＦ（Ｃｈｉｐ  Ｏｎ  Ｆｉｌｍ）技術が用いられている。
【０００８】
しかしながら、近年の携帯電話に代表される携帯機器の高精細化の進展により、携帯機器の大きさの制約から液晶表示装置本体の大きさの進展よりも画素数の増加の方が大きく、ドレイン線数も大幅に増加することとなっている。このために液晶表示装置の一辺側から液晶表示に必要な映像信号及び走査線駆動回路の制御信号等を入力するための電極端子数も大幅に増加する一方で、これらの信号を入力する電極端子が形成される領域の増加は小さなものとなっているので、電極端子の配置間隔（ピッチ）が非常に狭いものとなり、電極端子と接続端子との位置合わせが非常に困難であるという問題がある。
【０００９】
この問題を解決する方法として、電極端子の配置間隔を大きくすることが考えられるが、配置間隔を大きくした場合、フレキシブル配線基板の幅が大きくなってしまい、液晶表示装置の一辺側から当該フレキシブル配線基板を接続することが困難になってしまうという問題がある。
【００１０】
本発明はこれらの問題点に鑑みてなされたものであり、本発明の目的は、接続端子の間隔を小さくすることなく接続端子数を増加させることが可能な配線基板及び表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
前記課題を解決すべく、基材上に複数の信号線が並設される配線層と、前記配線層を保護する保護層とを有する配線基板であって、絶縁層を介して形成される第１の配線層と第２の配線層とが形成される配線領域と、前記絶縁層の第１の配線層側に形成され、前記保護層が開口され前記信号線がそれぞれ接続される接続端子が並設される開口領域と、前記開口領域よりも前記基材の先端側領域に形成され、前記絶縁膜の一方の面と他方の面の信号線を電気的に接続する貫通孔が形成される貫通孔領域とを有し、前記開口領域の少なくとも一辺に沿って複数の第１の接続端子が並設される第１端子領域と、前記第１の接続端子から離間した領域であり、複数の第２の接続端子が並設される第２端子領域とが前記開口領域に形成され、前記第１及び第２の接続端子は前記絶縁層の第１の配線層側にそれぞれ形成されると共に、前記第１の接続端子は同層に形成される前記第１の配線層の信号線とそれぞれ電気的に接続され、前記第２の接続端子は前記貫通孔領域に形成される貫通孔を介して前記第２の配線層の信号線とそれぞれ電気的に接続されてなる配線基板である。
【００１２】
また、前記課題を解決すべく、複数本のドレイン線と、前記ドレイン線と交差する複数本のゲート線と、複数の薄膜トランジスタを有し、外部から前記ドレイン線又は／及び前記ゲート線に駆動信号を入力する電極端子と、前記電極端子に接続され、制御信号を入力する請求項１乃至７の内のいずれかに記載の配線基板とを備え、前記ドレイン線と前記ゲート線とに囲まれた領域を画素の領域とする表示装置である。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、接続端子の間隔を小さくすることなく接続端子数を増加させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明の実施形態１の液晶表示装置の概略構成を説明するための平面図である。
【図２】本発明の実施形態１の液晶表示装置に接続される配線基板の構成を説明するための図である。
【図３】本発明の実施形態１の液晶表示装置に接続される配線基板の構成を説明するための断面図である。
【図４】本発明の実施形態１の液晶表示装置に接続される配線基板の構成を説明するための断面図である。
【図５】本発明の実施形態２の液晶表示装置における配線基板の概略構成を説明するための平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、本発明が適用された実施形態の例について、図面を用いて説明する。ただし、以下の説明において、同一構成要素には同一符号を付し繰り返しの説明は省略する。
【００１６】
〈実施形態１〉
〈全体構成〉
図１は本発明の実施形態１の液晶表示装置の概略構成を説明するための平面図である。ただし、図１に示す液晶表示装置は、その液晶表示領域の対角が比較的小型のものを示している。また、実施形態１では液晶表示装置に本願発明を適用した場合について説明するが、これに限定されることはなく、ＥＬ表示装置や他の電子機器等であってもよい。
【００１７】
図１に示すように、実施形態１の液晶表示装置は画素電極等が形成される半導体素子側基板（ＴＦＴ側基板、第１基板）ＳＵＢ１と、カラーフィルタやブラックマトリクス（遮光膜）が形成され、第１基板ＳＵＢ１に対向して配置されるカラーフィルタ側基板（ＣＦ側基板、第２基板）ＳＵＢ２と、該第１基板ＳＵＢ１と第２基板ＳＵＢ２とで挟持される図示しない液晶とで構成される液晶表示パネルを有し、該液晶表示パネルと光源となる図示しないバックライトユニットとを組み合わせることにより、液晶表示装置ができる。第１基板ＳＵＢ１と第２基板ＳＵＢ２との固定（固着）及び２枚の基板ＳＵＢ１、ＳＵＢ２で挟持される液晶の封止は、表示領域ＡＲの周辺に形成されるシール材ＳＬで固定され、液晶も封止される構成となっている。なお、以下の説明では、液晶表示パネルの説明においても、液晶表示装置と記す。
【００１８】
第１基板ＳＵＢ１及び第２基板ＳＵＢ２としては、周知の透明な樹脂基板を用いている。この樹脂基板で第１基板ＳＵＢ１及び第２基板ＳＵＢ２を形成し液晶表示装置を構成する。なお、第１基板ＳＵＢ１及び第２基板ＳＵＢ２としては前述の樹脂基板に限定されることはなく、ガラス基板でもよく、さらには石英ガラス等の他の絶縁性基板であってもよい。たとえば、石英ガラスを用いれば、プロセス温度を高くできるため、ゲート絶縁膜を緻密化できるので、後述する薄膜トランジスタＴＦＴの信頼性を向上することができる。ただし、実施形態１の液晶表示装置では、プラスチック（樹脂）基板を用いる構成となっているので、軽量で、耐衝撃性に優れた液晶表示装置を提供できる。
【００１９】
また、実施形態１の液晶表示装置では、液晶が封入された領域の内で表示画素（以下、画素と略記する）の形成される領域が表示領域ＡＲであり、該表示領域ＡＲの最も外側を適宜表示領域の最外周と記す。また、液晶が封入されている領域内であっても、画素が形成されておらず表示に係わらない領域は表示領域ＡＲとはならない。
【００２０】
さらには、実施形態１の液晶表示装置では、薄膜トランジスタＴＦＴとしてアモルファスシリコンＴＦＴを用いており、アモルファスシリコンでも形成することが可能な走査信号駆動回路（ゲートドライバ）ＧＤＲのみが第１基板ＳＵＢ１上に形成される構成となっている。一方、アモルファスシリコンで形成することが困難な映像信号駆動回路（ドレインドライバ）ＤＤＲは配線基板（フレキシブル配線基板）ＦＰＣに搭載される構成となっており、電極端子部ＣＮＡに接続されるフレキシブル配線基板ＦＰＣを介して入力されるゲートドライバＧＤＲの制御信号と共に、映像信号が入力される構成となっている。なお、フレキシブル配線基板ＦＰＣ及び電極端子部ＣＮＡの構成については、後に詳述する。また、以下の説明においては、ドレインドライバとゲートドライバとを特に区別する必要がない場合には、単に駆動回路（ドライバ）と略記する。
【００２１】
図１に示すように実施形態１の液晶表示装置では、第１基板ＳＵＢ１の液晶側の面であって表示領域ＡＲ内には、図中Ｘ方向に延在しＹ方向に並設される走査信号線（ゲート線）ＧＬが形成されている。また、図中Ｙ方向に延在しＸ方向に並設される映像信号線（ドレイン線）ＤＬが形成されている。
【００２２】
ドレイン線ＤＬとゲート線ＧＬとで囲まれる矩形状の領域は画素が形成される領域を構成し、これにより、各画素は表示領域ＡＲ内においてマトリックス状に配置される構成となっている。各画素は、例えば図１中丸印Ａの部分において、その拡大図Ａ’に示すように、ゲート線ＧＬからの走査信号によってオンされる薄膜トランジスタＴＦＴと、このオンされた薄膜トランジスタＴＦＴを介してドレイン線ＤＬからの映像信号が供給される画素電極ＰＸと、コモン線ＣＬに接続され映像信号の電位に対して基準となる電位を有する基準信号が供給される共通電極ＣＴとを備えている。画素電極ＰＸと共通電極ＣＴとの間には、第１基板ＳＵＢ１の面に平行な成分を有する電界が生じ、この電界によって液晶の分子を駆動させるようになっている。このような液晶表示装置は、いわゆる広視野角表示ができるものとして知られ、液晶への電界の印加の特異性から、ＩＰＳ方式、あるいは横電界方式と称される。
【００２３】
なお、拡大図Ａ’に示す共通電極ＣＴの構成では、画素毎に独立して形成される共通電極ＣＴにコモン線ＣＬを介して基準信号を入力する構成としたが、これに限定されることはなく、例えばＸ軸方向に隣接配置される画素の共通電極ＣＴが直接に接続されるように当該共通電極ＣＴを形成し、Ｘ軸方向の左右（第１基板ＳＵＢ１の端部）の一端から、又は両側からコモン線ＣＬを介して基準信号を入力する構成でもよい。
【００２４】
また、実施形態１では、各ドレイン線ＤＬ及び各ゲート線ＧＬはその端部においてシール材ＳＬを越えてそれぞれ延在され、ゲート線ＧＬはゲートドライバＧＤＲに接続され、ドレイン線ＤＬは電極端子部ＣＮＡまで延在される構成となっている。
【００２５】
〈配線基板の構成〉
図２は本発明の実施形態１の液晶表示装置に接続される配線基板の構成を説明するための図であり、図３及び図４は本発明の実施形態１の液晶表示装置に接続される配線基板の構成を説明するための断面図である。特に、図２は図１に示す配線基板の一部を拡大した図であり、説明を簡単にするために後述する第２の配線層の配線（信号線、信号配線）を省略した図である。また、図３は図２に示すＢ−Ｂ’線における断面図であり、図４は図２に示すＣ−Ｃ’線における断面図である。
【００２６】
実施形態１の配線基板ＦＰＣは、例えば柔軟性を有する絶縁体（ベースフィルム）であるポリイミド系や液晶ポリマー（ＬＣＰ）系の樹脂材を基材ＢＦとしており、該基材ＢＦの両面に銅等の導電性の物質で配線を形成し、該配線を基材ＢＦの幅方向に複数本並設した構成となっている。特に、実施形態１の配線基板ＦＰＣでは、接続相手である液晶表示パネルの電極端子と接続する側の面には、５０μｍ間隔で第１の配線ＣＯ１が並設される構成となっている（以下の説明では、こちら側の配線層を第１の配線層と記す）。また、基材ＢＦを介して第１の配線層と対向する側であり電極端子と接続されない側の面には、２００μｍ間隔で第２の配線ＣＯ２が並設される構成となっている。特に、実施形態１の配線基板ＦＰＣでは、第２の配線層に並設される各第２の配線ＣＯ２は第１の配線層に並設される第１の配線ＣＯ１の内のいずれかと、基材ＢＦを介して対向する位置に形成される構成となっている。実施形態１の配線基板ＦＰＣでは、第１の配線層に並設される第１の配線ＣＯ１に対して、第２の配線層に並設される第２の配線ＣＯ２は３本おきに形成される構成となっている。
【００２７】
また、実施形態１の配線基板では、前述するように第１及び第２の配線ＣＯ１、ＣＯ２が形成される配線形成領域ＣＯＡ（ただし、本願明細書中においては、ドレインドライバＤＤＲが搭載される領域も配線形成領域に含む）と、接続相手である液晶表示パネルの電極端子とを接続するための端子である接続端子が形成される接続端子領域ＯＰＡと、基材ＢＦに貫通孔（孔）ＴＨ１が形成され第２の配線ＣＯ２と第３の配線ＣＯ３とを電気的に接続するための領域である貫通孔領域ＴＨＡとから構成されている。特に、実施形態１の配線基板ＦＰＣでは、当該配線基板ＦＰＣの端部側すなわち第１及び第２の配線ＣＯ１、ＣＯ２の延在方向の端部側に貫通孔領域ＴＨＡが形成され、該貫通孔領域ＴＨＡと配線形成領域ＣＯＡとの間の領域に接続端子領域（開口領域）ＯＰＡが形成される構成となっている。このような構成とすることによって、第１の配線層に形成される第１の配線ＣＯ１の間隔に影響を与えることなく、貫通孔ＴＨ１を介して第２の配線ＣＯ２を第１の配線層側に形成される第３の配線ＣＯ３にそれぞれ接続する構成としている。
【００２８】
また、実施形態１の配線基板ＦＰＣでは、図３に示すように、配線形成領域ＣＯＡにおいては厚さ１５μｍの基材ＢＦの一方の面（図３中の下面側）に厚さ１５μｍの第１の配線ＣＯ１が形成され、該第１の配線ＣＯ１の表面が厚さ８μｍの周知のソルダーレジストＳＲ（カバーフィルム等であってもよい）で被われる構成となっている。一方、基材ＢＦの他方の面（図３中の上面側）には厚さ１５μｍの第２の配線ＣＯ２が形成され、該第２の配線ＣＯ２の表面には周知の接着剤ＡＤＨの層が厚さ１８μｍで形成され、厚さ１２．５μｍの周知のカバーフィルムＣＦが接着されている。
【００２９】
該配線形成領域ＣＯＡに連続する接続端子領域ＯＰＡにおいては、ソルダーレジストＳＲが除去された構成となっており、配線形成領域ＣＯＡから延在して形成された第１の配線ＣＯ１の露出部分に例えば周知の金メッキを施すことにより、各第１の配線ＣＯ１に対応する第１接続端子ＣＮ１を形成する構成となっている。また、実施形態１の配線基板ＦＰＣでは、貫通孔ＴＨ１を介して第２の配線ＣＯ２と電気的に接続される第３の配線ＣＯ３が接続端子領域ＯＰＡに延在し、該接続端子領域ＯＰＡに延在し露出する部分に周知の金メッキを施すことにより、各第３の配線ＣＯ３（すなわち、第２の配線ＣＯ２）に対応する第２接続端子ＣＮ２を形成する構成としている。ただし、図２から明らかなように、実施形態１の配線基板ＦＰＣにおいては、第１接続端子ＣＮ１と第２接続端子ＣＮ２とは同一直線上に形成される。従って、第２の配線ＣＯ２すなわち第３の配線ＣＯ３が形成されない部分では、第１接続端子ＣＮ１の延長線上に第２接続端子ＣＮ２は形成されない構成となっている。さらには、第１接続端子ＣＮ１と第２接続端子ＣＮ２とはその延在方向に対しても所定間隔を設けて形成され、図３に示すように、周知の異方性導電膜ＡＣＦを介して液晶表示パネル側の電極端子と第１及び第２電極端子ＣＮ１、ＣＮ２とを電気的に接続した場合であっても、第１接続端子ＣＮ１と第２接続端子ＣＮ２とが電気的に接続されない（短絡しない）構成としている。
【００３０】
貫通孔領域ＴＨＡにおいては、図２に示すように、基材ＢＦに形成した貫通孔（孔）ＴＨ１の内周面に沿って第２の配線ＣＯ２と同じ導電材料である銅の薄膜が形成されると共に、該貫通孔ＴＨ１の周縁部には直径０．２５ｍｍのスルーホールランドＴＨＬが形成され、貫通孔ＴＨ１による第２の配線層側と第３の配線層側との接続信頼性を確保している。さらには、貫通孔ＴＨ１の中心部分には導電材料が形成されず、導電材料の内周面が開口し貫通する直径０．０３ｍｍのスルーホールＴＨ２が形成される構成となっている。
【００３１】
このように実施形態１の配線基板ＦＰＣでは、スルーホールランドＴＨＬが形成される構成となっているので、該スルーホールランドＴＨＬが貫通孔ＴＨ１や配線幅よりも大きな領域を占めてしまうこととなる。このため、実施形態１の配線基板ＦＰＣでは、各第２の配線ＣＯ２の延在方向にずらした（移動させた）位置にスルーホールランドＴＨＬを含む貫通孔ＴＨ１を形成すると共に、該各配線ＣＯ１、ＣＯ２、ＣＯ３の並設方向に貫通孔ＴＨ１を含むスルーホールランドＴＨＬをずらした（移動させた）構成とすることにより、各配線ＣＯ１、ＣＯ２、ＣＯ３の並設方向に対するスルーホールランドＴＨＬの配置間隔すなわち第２の配線層の配線間隔を小さくすることが可能な構成としている。
【００３２】
さらには、図３から明らかなように、実施形態１の配線基板ＦＰＣでは、基材ＢＦの他方の面側（図３中に示す基材ＢＦの上側）に形成され、配線形成領域ＣＯＡから接続端子領域ＯＰＡを超えて貫通孔領域ＴＨＡに至る各第２の配線ＣＯ２は、それぞれ一つの貫通孔ＴＨ１のスルーホールランドＴＨＬに接続される構成となっている。また、基材ＢＦの一方の面側（図３中に示す基材ＢＦの下側）においても、図２及び図３に示すように、一つの貫通孔ＴＨ１のスルーホールランドＴＨＬは第３の配線ＣＯ３の内のいずれか一つに接続され、第２接続端子ＣＮ２に接続される構成となっている。
【００３３】
一方、接続端子領域ＯＰＡにおいて、第１接続端子ＣＮ１の延在方向の延長上に第２接続端子ＣＮ２が形成されない部分は、図４に示すように、基材ＢＦの一方の面側（図４中に示す基材ＢＦの下側）に第１の配線ＣＯ１のみが形成される構成となっている。すなわち、基材ＢＦの他方の面側（図４中に示す基材ＢＦの上側）には、第２の配線ＣＯ２は形成されず、接着剤ＡＤＨで周知のカバーフィルムＣＦが接着される構成となっている。
【００３４】
〈液晶表示パネルの電極端子構造及び配線基板との接続〉
液晶表示パネルの側においては、周知のホトリソグラフィ技術を用いて、表示領域内においては全てのドレイン線ＤＬを同一層に形成する構成としているが、表示領域ＡＲ外においてドレイン線ＤＬを二層構造とする構成となっている。例えば、二層構造としたドレイン線ＤＬの内で、配線基板の第１の配線層の配線に接続される第１のドレイン線ＤＬ１は従来のドレイン線ＤＬと同じ層に形成し、図３中の第１のドレイン線ＤＬ１の上層に形成される層間絶縁膜ＩＮの上層に、第２の配線ＣＯ２に接続される第２のドレイン線ＤＬ２が形成される構成となっている。このような二層構造とすることによって、第１接続端子ＣＮ１及び第２接続端子ＣＮ２と、第１及び第２ドレイン線ＤＬ１、ＤＬ２とのそれぞれの接続が、異方性導電膜ＡＣＦを用いて容易に行える構成となる。また、第１接続端子ＣＮ１のみが形成される部分においても、異方性導電膜ＡＣＦを用いた第１接続端子ＣＮ１と第１ドレイン線ＤＬ１との接続が容易に行える。
【００３５】
なお、実施形態１の配線基板ＦＰＣは、基材ＢＦの厚さが１５μｍであり接続端子の厚さが１５μｍ以上と比較的厚く段差が大きい構成となっているので、基材ＢＦの一方の面側に第１及び第２接続端子ＣＮ１、ＣＮ２を形成する構成としている。しかしながら、実施形態１の液層表示パネルの層間絶縁膜ＩＮの厚さは０．４μｍ、ドレイン線ＤＬに接続される配線ＤＬ１、ＤＬ２の厚さはそれぞれ０．２μｍであり、各薄膜による段差が小さいので、実施形態１の液晶表示パネル側の電極端子部ＣＮＡにおいては、図３に示すように第１及び第２ドレイン線ＤＬ１、ＤＬ２の保護膜ＰＡＳ及び層間絶縁膜ＩＮを除去し、図示しないＩＴＯ膜による被服等を行う構成としている。
【００３６】
このように、実施形態１の液晶表示装置では、絶縁材である基材ＢＦを介して形成される第１の配線ＣＯ１と第２の配線ＣＯ２とが形成される配線領域を備える配線基板ＦＰＣは、基材ＢＦの第１の配線層ＣＯ１側にソルダーレジストＳＲの開口領域が形成される接続端子領域ＯＰＡと、この開口領域よりも基材ＢＦの先端側領域に形成され、第２の配線ＣＯ２と第３の配線ＣＯ３とを接続する貫通孔ＴＨ１が形成される貫通孔領域とを有する構成となっている。この開口領域内には、複数の第１の接続端子ＣＮ１が並設される第１端子領域（図２中にＹで示す）と、複数の第２の接続端子ＣＮ２が並設される第２端子領域（図２中にＸで示す）とがそれぞれ形成され、第１及び第２の接続端子ＣＮ１、ＣＮ２は基材ＢＦの第１の配線層ＣＯ１側にそれぞれ形成される構成となっている。さらには、第１の接続端子ＣＮ１は同層に形成される第１の配線層ＣＯ１の配線とそれぞれ電気的に接続され、第２の接続端子ＣＮ２は貫通孔ＴＨ１及び第３の配線ＣＯ３を介して第２の配線層ＣＯ２の信号線とそれぞれ電気的に接続される構成となっているので、第１及び第２接続端子ＣＮ１、ＣＮ２の間隔を小さくすることなく接続端子数を増加させることができる。
【００３７】
その結果、配線基板にドレインドライバＤＤＲを搭載した場合であっても、配線基板ＦＰＣの幅を広げることなく容易に液晶表示パネルと配線基板ＦＰＣの接続を行うことができるという格別の効果を得ることができる。
【００３８】
〈実施形態２〉
図５は本発明の実施形態２の液晶表示装置における配線基板の概略構成を説明するための平面図である。ただし、実施形態２の配線基板は、第２及び第３の配線層ＣＯ２、ＣＯ３の配線形状、貫通孔ＴＨ１の形成位置、及び第２接続端子ＣＮ２の数を除く他の構成は実施形態１の配線基板と同様の構成である。従って、以下の説明では、第２及び第３の配線層ＣＯ２、ＣＯ３の配線形状、貫通孔ＴＨ１の形成位置、及び第２接続端子ＣＮ２の数についてのみ詳細に説明する。
【００３９】
図５から明らかなように、実施形態２の配線基板ＦＰＣでは、外周の大きさ（直径）０．２５μｍのスルーホールランドＴＨＬが第１及び第２の配線層に形成される各配線の延在方向には実質的な間隔が０（ゼロ）となるように、基材ＢＦの幅方向にホールランドＴＨＬ（貫通孔ＴＨ１）が形成される構成となっている。さらには、実施形態１の配線基板では、第１及び第２の配線層に形成される各配線の延在方向に２列のスルーホールランドＴＨＬ（貫通孔ＴＨ１）を形成する構成としたが、実施形態２の配線基板ＦＰＣにおいては３列で形成すると共に、第２接続端子ＣＮ２と各スルーホールランドＴＨＬとを接続する第３の配線層の各配線がスルーホールランドＴＨＬを迂回する形状としている。このような構成とすることによって、配線基板ＦＰＣの幅方向に対するスルーホールランドＴＨＬすなわち貫通孔ＴＨ１の形成数（第２の配線ＣＯ２及び第２接続端子ＣＮ２の数）を増加させると共に、配線方向への貫通孔領域ＴＨＡの突出量を抑える構成としている。その結果、実施形態２では、第１の配線層の配線ＣＯ１間隔及び第１接続端子ＣＮ１を５０μｍで形成した場合であっても、該第１の接続端子ＣＮ１の２本おきの間隔１５０μｍで第２接続端子ＣＮ２が形成可能となる。
【００４０】
前述する構成とした場合、図５中のＬ１で示す４５０μｍの範囲すなわち図５中の右上から左下に向かって整列配置される３個のスルーホールランドＴＨＬを１組とした場合における領域には、第１接続端子ＣＮ１が９個と第２接続端子ＣＮ２が３個との合計で１２個の接続端子を形成することが可能となる。この場合、従来の構成ではＹ列側の第１接続端子ＣＮ１のみとなるので、実施形態２の配線基板ＦＰＣでは当該配線基板の幅を変化させることなく、且つ第１接続端子ＣＮ１の端子ピッチを５０μｍとしたままで、接続端子数すなわち配線数（接続端子数）を４／３倍に増加させることが可能となる。
【００４１】
実施形態２の配線基板ＦＰＣの場合、接続端子領域ＯＰＡとスルーホールランドＴＨＬとの間隔を０．１ｍｍ以上、基材ＢＦすなわち当該配線基板ＦＰＣの先端からスルーホールランドＴＨＬとの間隔を０．２ｍｍ以上とした場合であっても、貫通孔領域ＴＨＡの配線ＣＯ１、ＣＯ２方向の長さを０．１＋０．２５×３＋０．２＝１．０５ｍｍで形成することが可能となる。一方、実施形態２の配線基板ＦＰＣでは、第１接続端子ＣＮ１の長さを０．８ｍｍ、第２接続端子の長さを０．５ｍｍ、第１接続端子ＣＮ１と第２接続端子ＣＮ２との延在方向の間隔を０．２ｍｍとしているので、接続端子領域ＯＰＡと貫通孔領域ＴＨＡとの合計長は２．５５ｍｍとなり、小型の液晶表示装置にも適用可能である。
【００４２】
特に、携帯電話等に用いられる小型の液晶表示装置では、表示装置の短辺に電極端子を形成することが一般的となるので、高精細な小型液晶表示装置に本願発明を適用することは特に有効である。
【００４３】
以上、本発明者によってなされた発明を、前記発明の実施形態に基づき具体的に説明したが、本発明は、前記発明の実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない
【符号の説明】
【００４４】
ＡＲ・・・表示領域、ＳＵＢ１・・・第１基板、ＳＵＢ２・・・第２基板
ＤＬ・・・ドレイン線、ＧＬ・・・ゲート線、ＣＬ・・・コモン線
ＤＴ・・・ドレイン電極、ＴＦＴ・・・薄膜トランジスタ、ＰＸ・・・画素電極
ＣＴ・・・共通電極、ＳＬ・・・シール材、ＣＮＡ・・・電極端子部
ＤＤＲ・・・ドレインドライバ、ＧＤＲ・・・ドレインドライバ
ＦＰＣ・・・配線基板、ＴＨＡ・・・貫通孔領域、ＯＰＡ・・・接続端子領域
ＣＯＡ・・・配線領域、ＣＯ１〜３・・・第１〜第３の配線層（配線）
ＣＮ１・・・第１接続端子、ＣＮ２・・・第２接続端子、ＴＨ１・・・貫通孔
ＴＨ２・・・スルーホール、ＴＨＬ・・・スルーホールランド
ＣＦ・・・カバーフィルム、ＡＤＨ・・・接着剤、ＢＦ・・・基材
ＳＲ・・・ソルダーレジスト、ＡＣＦ・・・異方性導電膜、ＰＡＳ・・・保護膜
ＩＮ・・・層間絶縁膜、ＤＬ１、ＤＬ２・・・信号線
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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