(57)【要約】【課題】簡便に光学調整可能な光学調整用パターンを提供する。【解決手段】光学調整用パターンは、被検査測定物と同一の材料でかつ同一の製法で形成され平面上を延在する基材１の表面と、基材１の表面に、被検査測定物と同一の材料でかつ同一の製法で形成された複数のパターン部２とを備えている。Ｘ方向において、計測すべき最小寸法をＬｍｉｎ＿ｘとし、計測すべき最大寸法をＬｍａｘ＿ｘとする。Ｙ方向において、計測すべき最小寸法をＬｍｉｎ＿ｙとし、計測すべき最大寸法をＬｍａｘ＿ｙとする。全てのパターン部２により、Ｌｍｉｎ＿ｘ、Ｌｍｉｎ＿ｘのＮ倍、Ｌｍａｘ＿ｘ、Ｌｍｉｎ＿ｙ、Ｌｍｉｎ＿ｙのＭ倍、Ｌｍａｘ＿ｙの各寸法が網羅されている。【選択図】図１
2010232746.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被検査測定物を光学系を介して撮像素子に結像させ前記撮像素子で撮像することにより被検査測定物の寸法、外観を測定検査する検査計測装置の前記光学系の調整を行う際に用いる光学調整用パターンであって、
前記被検査測定物と同一の材料でかつ同一の製法で形成され平面上を延在する基材の表面と、
前記基材の表面に、前記被検査測定物と同一の材料でかつ同一の製法で形成された複数のパターン部とを備え、
前記表面上を延在して互いに直交する２方向をＸ方向とＹ方向とし、
Ｘ方向において、計測すべき最小寸法をＬｍｉｎ＿ｘとし、計測すべき最大寸法をＬｍａｘ＿ｘとし、
Ｙ方向において、計測すべき最小寸法をＬｍｉｎ＿ｙとし、計測すべき最大寸法をＬｍａｘ＿ｙとした場合、
前記各パターン部は、
Ｘ方向において前記最小寸法Ｌｍｉｎ＿ｘ、前記最小寸法Ｌｍｉｎ＿ｘのＮ倍（Ｎは自然数）、前記最大寸法Ｌｍａｘ＿ｘのうちの少なくとも１つの寸法を有し、
あるいは、
Ｙ方向において前記最小寸法Ｌｍｉｎ＿ｙ、前記最小寸法Ｌｍｉｎ＿ｙのＭ倍（Ｍは自然数）、前記最大寸法Ｌｍａｘ＿ｙのうちの少なくとも１つの寸法を有し、
前記全てのパターン部により、前記最小寸法Ｌｍｉｎ＿ｘ、前記最小寸法Ｌｍｉｎ＿ｘのＮ倍（Ｎは自然数）、前記最大寸法Ｌｍａｘ＿ｘ、前記最小寸法Ｌｍｉｎ＿ｙ、前記最小寸法Ｌｍｉｎ＿ｙのＭ倍（Ｍは自然数）、前記最大寸法Ｌｍａｘ＿ｙの各寸法が網羅されている、
ことを特徴とする光学調整用パターン。
【請求項２】
前記基材の表面は矩形を呈し、
前記表面の１つの角部の矩形の領域に前記最小寸法Ｌｍｉｎ＿ｘと前記最小寸法Ｌｍｉｎ＿ｙとを直交する２辺とした矩形のパターン部が格子状に配置され、
前記１つの角部の矩形の領域を除いた前記表面の残りの領域に、直交する２辺からなるＶ字状のパターン部がその２辺を前記矩形の領域の２辺に平行させ、前記矩形の領域から離れる方向に間隔をおいて複数設けられ、
各Ｖ字状のパターン部は、前記矩形の領域から離れるにつれて大きな幅で形成され、
前記矩形の領域から最も離れたＶ字状のパターン部の２辺のうちの一辺の幅は前記最小寸法Ｌｍｉｎ＿ｘのＮ倍および前記最小寸法Ｌｍｉｎ＿ｙのＭ倍の一方で形成され、
前記矩形の領域から最も離れたＶ字状のパターン部の２辺のうちの残りの一辺の幅は前記最大寸法Ｌｍａｘ＿ｘおよび前記最大寸法Ｌｍａｘ＿ｙの他方で形成され、
前記矩形の領域から最も離れたＶ字状のパターン部の２辺のうちの一辺の長さは前記最大寸法Ｌｍａｘ＿ｘおよび前記最大寸法Ｌｍａｘ＿ｙの一方で形成され、
前記矩形の領域から最も離れたＶ字状のパターン部の２辺のうちの残りの一辺の長さは前記最大寸法Ｌｍａｘ＿ｘおよび前記最大寸法Ｌｍａｘ＿ｙの他方で形成されている、
ことを特徴とする請求項１記載の光学調整用パターン。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、検査計測装置の光学系を調整するために使用する光学調整用パターンに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
検査計測装置の光学系の調整項目は、対象となる被検査測定物やアプリケーション内容に応じて多種多様あるが、少なくともエリアカメラ、ラインカメラといった撮像素子を使用する場合には、例えば、光軸、ピント、直交、回転、傾き、分解能、シェーディング、取込基準位置、オフセット量などの各種調整設定作業を行う。これら調整作業には当然光学調整用のターゲットが必要であり、例えば解像力チャート（特許文献１参照）、テストチャートなどを利用し、調整検証作業を行う。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０００−２２４６１５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
通常このような解像力、テストチャートはガラス基板上にCr（クロム）などを活用してパターンニングされたものが多く、検査計測装置の実調整作業で使用するためにはフラットなステージが必要となったり、固定方法を検討し、専用の治具などを製作したりとその使用が困難なことが多い。
また、そのパターンも微小パターンをパターンニングしたものが多く、そのようなパターンでは分解能設定を行うことが主となってしまうため、直交、回転、傾きなどの調整までも可能な長寸法パターンを付加することが求められている。
特に複数台のラインカメラを使用した検査計測装置では全視野を網羅するような調整パターンがあるとその作業性も大きく向上する。
本発明の目的は、上述の課題を解消し、簡便に光学調整可能な光学調整用パターンを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の目的は、上述の課題を解消し、簡便に光学調整可能な光学調整用パターンを提供することにある。
そこで、上記の課題を解決するための手段として、請求項１に記載の発明は、被検査測定物を光学系を介して撮像素子に結像させ前記撮像素子で撮像することにより被検査測定物の寸法、外観を測定検査する検査計測装置の前記光学系の調整を行う際に用いる光学調整用パターンであって、前記被検査測定物と同一の材料でかつ同一の製法で形成され平面上を延在する基材の表面と、前記基材の表面に、前記被検査測定物と同一の材料でかつ同一の製法で形成された複数のパターン部とを備え、前記表面上を延在して互いに直交する２方向をＸ方向とＹ方向とし、Ｘ方向において、計測すべき最小寸法をＬｍｉｎ＿ｘとし、計測すべき最大寸法をＬｍａｘ＿ｘとし、Ｙ方向において、計測すべき最小寸法をＬｍｉｎ＿ｙとし、計測すべき最大寸法をＬｍａｘ＿ｙとした場合、前記各パターン部は、Ｘ方向において前記最小寸法Ｌｍｉｎ＿ｘ、前記最小寸法Ｌｍｉｎ＿ｘのＮ倍（Ｎは自然数）、前記最大寸法Ｌｍａｘ＿ｘのうちの少なくとも１つの寸法を有し、あるいは、Ｙ方向において前記最小寸法Ｌｍｉｎ＿ｙ、前記最小寸法Ｌｍｉｎ＿ｙのＭ倍（Ｍは自然数）、前記最大寸法Ｌｍａｘ＿ｙのうちの少なくとも１つの寸法を有し、前記全てのパターン部により、前記最小寸法Ｌｍｉｎ＿ｘ、前記最小寸法Ｌｍｉｎ＿ｘのＮ倍（Ｎは自然数）、前記最大寸法Ｌｍａｘ＿ｘ、前記最小寸法Ｌｍｉｎ＿ｙ、前記最小寸法Ｌｍｉｎ＿ｙのＭ倍（Ｍは自然数）、前記最大寸法Ｌｍａｘ＿ｙの各寸法が網羅されていることを特徴とするものである。
また、請求項２に記載の発明は、前記基材の表面は矩形を呈し、前記表面の１つの角部の矩形の領域に前記最小寸法Ｌｍｉｎ＿ｘと前記最小寸法Ｌｍｉｎ＿ｙとを直交する２辺とした矩形のパターン部が格子状に配置され、前記１つの角部の矩形の領域を除いた前記表面の残りの領域に、直交する２辺からなるＶ字状のパターン部がその２辺を前記矩形の領域の２辺に平行させ、前記矩形の領域から離れる方向に間隔をおいて複数設けられ、各Ｖ字状のパターン部は、前記矩形の領域から離れるにつれて大きな幅で形成され、前記矩形の領域から最も離れたＶ字状のパターン部の２辺のうちの一辺の幅は前記最小寸法Ｌｍｉｎ＿ｘのＮ倍および前記最小寸法Ｌｍｉｎ＿ｙのＭ倍の一方で形成され、前記矩形の領域から最も離れたＶ字状のパターン部の２辺のうちの残りの一辺の幅は前記最大寸法Ｌｍａｘ＿ｘおよび前記最大寸法Ｌｍａｘ＿ｙの他方で形成され、前記矩形の領域から最も離れたＶ字状のパターン部の２辺のうちの一辺の長さは前記最大寸法Ｌｍａｘ＿ｘおよび前記最大寸法Ｌｍａｘ＿ｙの一方で形成され、前記矩形の領域から最も離れたＶ字状のパターン部の２辺のうちの残りの一辺の長さは前記最大寸法Ｌｍａｘ＿ｘおよび前記最大寸法Ｌｍａｘ＿ｙの他方で形成されていることを特徴とするものである。
【発明の効果】
【０００６】
本発明に係る光学調整用パターンは、被検査測定物と同じ材質、同じ製法で製作するので検査計測装置自体のハンドリング方法で搬送することができる。また、全てのパターン部により、最小寸法Ｌｍｉｎ＿ｘ、最小寸法Ｌｍｉｎ＿ｘのＮ倍（Ｎは自然数）、最大寸法Ｌｍａｘ＿ｘ、最小寸法Ｌｍｉｎ＿ｙ、最小寸法Ｌｍｉｎ＿ｙのＭ倍（Ｍは自然数）、最大寸法Ｌｍａｘ＿ｙの各寸法が網羅されているので、光軸、ピント、直交、回転、傾き、分解能、シェーディング、取込基準位置、オフセット量などの各光学調整が簡便に実施することができるようになる。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
【図１】（Ａ）は光学調整用パターンの平面図、（Ｂ）は光学調整用パターンの側面図である。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
本発明の実施の形態に係る光学調整用パターンを図１を参照して説明する。
本実施の形態の光学調整用パターンは、被検査測定物と同じ材質の基材１上に、非検査測定物と同じ製法で検査測定エリアの最大最小サイズを考慮した長短寸法の複数のパターン部２を形成したものである。
例えば、被検査測定物は、リードフレーム、ＢＧＡ／ＣＳＰなどのプリント基板、フォトマスクなどエッチングによって製作されるものである。
各パターン部２は、少なくともX方向においては検査測定エリアの最小寸法Ｌｍｉｎ＿ｘ分のパターン幅、最大寸法Ｌｍａｘ＿ｘ分のパターン幅、最小寸法Ｌｍｉｎ＿ｘのＮ倍分（Ｎは自然数）のパターン幅、Ｙ方向においては、最小寸法Ｌｍｉｎ＿ｙ分のパターン幅、最大寸法Ｌｍａｘ＿ｙ分のパターン幅、最小寸法Ｌｍｉｎ＿ｙ分のＭ倍分（Ｍは自然数）のパターン幅を組み合わせ、ＸＹ方向共に長短寸法を網羅させたパターンとする。
尚、通常Ｌｍｉｎ＿ｘ＝Ｌｍｉｎ＿ｙ、Ｌｍａｘ＿ｘ＝Ｌｍａｘ＿ｙとなることが多い。
また、最大寸法、最小寸法の間のパターン幅を有したパターンも調整作業に必要な分、基材内にパターンニング可能であれば適宜例えばk個分を盛り込むようなパターンとしてもよい。
また、パターン全体をXY方向に複数個配置するようにして撮像視野全域をカバーするようにしてもよい。
また、例えば、Ｌｍｉｎ＿ｘの整数Ｎ倍、Ｌｍｉｎ＿ｙ分の整数Ｍ倍を撮像倍率に対応したラインカメラの視野幅に合わせるようにすることで、画像取込動作の確認、照明やレンズのシェーディング影響確認などにも使える。
また、当然アライメントマークなど検査計測測定物として必要なアクセサリーパターンも配置させておく。
更に、欠け、突起、断線、ショートといったような欠陥パターンや測定パターンなど検査測定対象もパターンとして意図的に盛り込むことで、性能検証への活用もこの調整パターンによってできるようになる。
【０００９】
より詳細に説明すると、光学調整用パターンは、被検査測定物を光学系を介して撮像素子に結像させ撮像素子で撮像することにより被検査測定物の寸法、外観を測定検査する検査計測装置の光学系の調整を行う際に用いるものである。
光学調整用パターンは、被検査測定物と同一の材料でかつ同一の製法で形成され平面上を延在する基材１の表面と、基材１の表面に、被検査測定物と同一の材料でかつ同一の製法で形成された複数のパターン部２とを備えている。
【００１０】
基材１の表面上を延在して互いに直交する２方向をＸ方向とＹ方向とする。
Ｘ方向において、計測すべき最小寸法をＬｍｉｎ＿ｘとし、計測すべき最大寸法をＬｍａｘ＿ｘとする。
Ｙ方向において、計測すべき最小寸法をＬｍｉｎ＿ｙとし、計測すべき最大寸法をＬｍａｘ＿ｙとする。
【００１１】
各パターン部２は、Ｘ方向において最小寸法Ｌｍｉｎ＿ｘ、最小寸法Ｌｍｉｎ＿ｘのＮ倍（Ｎは自然数）、最大寸法Ｌｍａｘ＿ｘのうちの少なくとも１つの寸法を有している。
あるいは、各パターン部２は、Ｙ方向において最小寸法Ｌｍｉｎ＿ｙ、最小寸法Ｌｍｉｎ＿ｙのＭ倍（Ｍは自然数）、最大寸法Ｌｍａｘ＿ｙのうちの少なくとも１つの寸法を有している。
そして、全てのパターン部２により、最小寸法Ｌｍｉｎ＿ｘ、最小寸法Ｌｍｉｎ＿ｘのＮ倍（Ｎは自然数）、最大寸法Ｌｍａｘ＿ｘ、最小寸法Ｌｍｉｎ＿ｙ、最小寸法Ｌｍｉｎ＿ｙのＭ倍（Ｍは自然数）、最大寸法Ｌｍａｘ＿ｙの各寸法が網羅されている。
【００１２】
さらに、図１（Ａ）に示すように、基材１の表面は矩形を呈している。
表面の１つの角部の矩形の領域４に最小寸法Ｌｍｉｎ＿ｘと最小寸法Ｌｍｉｎ＿ｙとを直交する２辺とした矩形のパターン部２が格子状に配置されている。
【００１３】
１つの角部の矩形の領域４を除いた表面の残りの領域に、直交する２辺からなるＶ字状のパターン部２がその２辺を矩形の領域の２辺に平行させ、矩形の領域４から離れる方向に間隔をおいて複数設けられている。
【００１４】
各Ｖ字状のパターン部２は、矩形の領域４から離れるにつれて大きな幅で形成されている。
矩形の領域４から最も離れたＶ字状のパターン部２の２辺のうちの一辺の幅は最小寸法Ｌｍｉｎ＿ｘのＮ倍および最小寸法Ｌｍｉｎ＿ｙのＭ倍の一方で形成されている。
矩形の領域４から最も離れたＶ字状のパターン部の２辺のうちの残りの一辺の幅は最大寸法Ｌｍａｘ＿ｘおよび最大寸法Ｌｍａｘ＿ｙの他方で形成されている。
矩形の領域４から最も離れたＶ字状のパターン部の２辺のうちの一辺の長さは最大寸法Ｌｍａｘ＿ｘおよび最大寸法Ｌｍａｘ＿ｙの一方で形成されている。
矩形の領域４から最も離れたＶ字状のパターン部の２辺のうちの残りの一辺の長さは最大寸法Ｌｍａｘ＿ｘおよび最大寸法Ｌｍａｘ＿ｙの他方で形成されている。
【００１５】
矩形の領域４と、該矩形の領域４から最も離れたＶ字状のパターン部２との間には、ｋ個（ｋは自然数）のＶ字パターン部２が設けられている。
これらｋ個のＶ字パターン部２の２辺のうちの２辺のうちの一辺の幅は最小寸法Ｌｍｉｎ＿ｘのｎ倍（ｎは自然数）および最小寸法Ｌｍｉｎ＿ｙのｍ倍（ｍは自然数）の一方で形成されている。ただし、ｎ＜Ｎ、ｍ＜Ｍ。
また、これらｋ個のＶ字パターン部２の２辺のうちの２辺のうちの残りの一辺の幅は最小寸法Ｌｍｉｎ＿ｘのｎ倍および最小寸法Ｌｍｉｎ＿ｙのｍ倍の他方で形成されている。
【００１６】
本実施の形態によれば、検査計測装置の光学系を調整するために使用する光学調整用パターンとして、被被検査測定物の長短寸法を考慮し、パターンニングした光学調整用パターンを使うことで、光軸、ピント、直交、回転、傾き、分解能、シェーディング、取込基準位置、オフセット量などの各光学調整が簡便にできるようになる。
【符号の説明】
【００１７】
１・・・基材、２・・・パターン部。
【図１】
2010232746.tif 000003