(57)【要約】【課題】被研磨物表面をより平坦にすることが可能で、かつ被研磨物表面の欠点（スクラッチ）発生率を低減させることが可能な研磨布用布帛およびその製造方法を提供する。【解決手段】単繊維径５０〜１５００ｎｍのポリエステルマルチフィラメント糸Ａを含み、伸度がタテ方向およびヨコ方向ともに２００％以下である編物を用いて研磨布用布帛とする。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
単繊維径５０〜１５００ｎｍのポリエステルマルチフィラメント糸Ａを含む研磨布用布帛であって、該布帛が、伸度がタテ方向およびヨコ方向ともに２００％以下である編物であることを特徴とする研磨布用布帛。
【請求項２】
前記ポリエステルマルチフィラメント糸Ａのフィラメント数が１０００本以上である、請求項１に記載の研磨布用布帛。
【請求項３】
前記ポリエステルマルチフィラメント糸Ａが、海成分と島成分とからなる海島型複合繊維の海成分を溶解除去して得られた糸条である、請求項１または請求項２に記載の研磨布用布帛。
【請求項４】
他糸条として、単繊維径が１５００ｎｍより大のポリエステルマルチフィラメント糸Ｂが含まれる、請求項１〜３のいずれかに記載の研磨布用布帛。
【請求項５】
布帛が経編物である、請求項１〜４のいずれかに記載の研磨布用布帛。
【請求項６】
編物の密度が、３０コース／２．５４ｃｍ以上かつ２０ウエール／２．５４ｃｍ以上である、請求項１〜５のいずれかに記載の研磨布用布帛。
【請求項７】
単繊維径５０〜１５００ｎｍのポリエステルマルチフィラメント糸Ａを含む編物を巾だし率１．０５倍以上で巾だししながら経方法に走行させ、温度１３０〜２１０℃、かつ時間０．５〜３分で熱セットすることにより、編物の伸度をタテ方向およびヨコ方向ともに２００％以下とする、請求項１に記載の研磨布用布帛の製造方法。
【請求項８】
請求項１〜６のいずれかに記載の研磨布用布帛を用いてなる、記録媒体のテキスチャリング用研磨布、記録媒体のポリッシング用研磨布、電子部品の仕上げ用研磨布、および電子部品のバフ研磨用研磨布からなる群より選択されるいずれかの研磨布。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、被研磨物表面の欠点（スクラッチ）発生率を低減させることが可能であり、かつ研磨能率に優れた研磨布用布帛およびその製造方法および研磨布に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、各種情報機器の進展に伴い、磁気デイスク等の磁気記録媒体やシリコンウエハーは、さらなる記録容量の増大が望まれており、記録容量の増大につながる記録の高密度化を実現するべく、基板表面加工の一層の高精度仕上げが要求されている。例えば、ハードディスク装置に用いられる磁気記録媒体の基板としては、従来の長手磁気記録方式に代えて、現在磁気記録方式は、垂直磁気記録方式に移行しつつあり、基板となるアルミニウム、ガラスなどの表面をより高度に平滑化することが要求されており、そこで用いられる研磨布に対する要求もますます高くなってきている。用いる研磨布の特性に起因し、研磨した際に基板表面に欠点（うねりやスクラッチ傷など）を生じると、情報のリード／ライト時にエラーが発生してしまうおそれがある。
【０００３】
このため、被研磨物表面の欠点（スクラッチ）発生率を低減させるため、極細繊維を用いた研磨布用織物が提案されている（例えば、特許文献１、特許文献２参照）。
しかしながら、かかる研磨布用織物では、被研磨物表面の欠点（スクラッチ）発生率を低減させることが可能ではあるが、研磨能率の点で十分とはいえなかった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００８−０００７５１号公報
【特許文献２】特開２００８−１７３７５９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は上記の背景に鑑みなされたものであり、その目的は、被研磨物表面の欠点（スクラッチ）発生率を低減させることが可能であり、かつ研磨能率に優れた研磨布用布帛およびその製造方法および研磨布を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者は上記の課題を達成するため鋭意検討した結果、低伸度の編物を用いて研磨布を構成すると、被研磨物表面をより平坦にすることが可能で、かつ被研磨物表面の欠点（スクラッチ）発生率を低減させることが可能であり、かつ研磨能率に優れることを見出し、さらに鋭意検討を重ねることにより本発明を完成するに至った。
【０００７】
かくして、本発明によれば「単繊維径５０〜１５００ｎｍのポリエステルマルチフィラメント糸Ａを含む研磨布用布帛であって、該布帛が、伸度がタテ方向およびヨコ方向ともに２００％以下である編物であることを特徴とする研磨布用布帛。」が提供される。
【０００８】
その際、前記ポリエステルマルチフィラメント糸Ａのフィラメント数が１０００本以上であることが好ましい。また、前記ポリエステルマルチフィラメント糸Ａが、海成分と島成分とからなる海島型複合繊維の海成分を溶解除去して得られた糸条であることが好ましい。また、他糸条として、単繊維径が１５００ｎｍより大のポリエステルマルチフィラメント糸Ｂが含まれることが好ましい。また、布帛が経編物であることが好ましい。また、編物の密度が、３０コース／２．５４ｃｍ以上かつ２０ウエール／２．５４ｃｍ以上であることが好ましい。
【０００９】
また、本発明によれば、単繊維径５０〜１５００ｎｍのポリエステルマルチフィラメント糸Ａを含む編物を巾だし率１．０５倍以上で巾だししながら経方法に走行させ、温度１３０〜２１０℃、かつ時間０．５〜３分で熱セットすることにより、編物の伸度をタテ方向およびヨコ方向ともに２００％以下とする前記の研磨布用布帛の製造方法が提供される。
【００１０】
また、本発明によれば、前記の研磨布用布帛を用いてなる、記録媒体のテキスチャリング用研磨布、記録媒体のポリッシング用研磨布、電子部品の仕上げ用研磨布、および電子部品のバフ研磨用研磨布からなる群より選択されるいずれかの研磨布が提供される。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、被研磨物表面をより平坦にすることが可能で、かつ被研磨物表面の欠点（スクラッチ）発生率を低減させることが可能な研磨布用布帛およびその製造方法および研磨布が得られる。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、本発明の実施の形態について詳細に説明する。
まず、本発明の研磨布用布帛において、ポリエステルマルチフィラメント糸Ａはその単繊維径（単繊維の直径）が５０〜１５００ｎｍ（好ましくは１００〜１０００ｎｍ、特に好ましくは４００〜８００ｎｍ）の範囲内であることが肝要である。かかる単繊維径を単糸繊度に換算すると、０．００００２〜０．０２２ｄｔｅｘに相当する。ここで、単繊維径が５０ｎｍ未満の場合には製造が困難となるだけでなく、繊維強度が低くなるため実用上好ましくない。逆に、単繊維径が１５００ｎｍを超える場合には、研磨布用布帛を研磨布として使用する際、被研磨物表面を高度に平坦化することができず好ましくない。なお、単繊維の断面形状が丸断面以外の異型断面である場合には外接円の直径を単繊維径とする。また、単繊維径は、透過型電子顕微鏡で繊維の横断面を撮影することにより測定が可能である。
【００１３】
かかるポリエステルマルチフィラメント糸Ａにおいて、フィラメント数は特に限定されないが、１０００以上（より好ましくは２０００〜１００００）であることが好ましい。また、ポリエステルマルチフィラメント糸Ａの総繊度（単繊維繊度とフィラメント数との積）としては、５〜２００ｄｔｅｘの範囲内であることが好ましい。
【００１４】
かかるポリエステルマルチフィラメント糸Ａを形成するポリマーは、艶消し剤の含有率がポリエステル重量対比１．０重量％以下（より好ましくは０．５重量％以下、特に好ましくは０重量％）のポリエステルであることが好ましい。艶消し剤がポリエステル重量対比１．０重量％より多くポリエステル中に含まれていると、研磨布を用いて被研磨物を研磨した際に、被研磨物表面に欠点（スクラッチ）が発生しやすくなるおそれがある。また、ポリエステルの種類としては、ポリエチレンテレフタレートやポリトリメチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ステレオコンプレックスポリ乳酸、ポリ乳酸、第３成分を共重合させたポリエステルなどが好ましく例示される。なお、前記の艶消し剤とは二酸化チタンのことであり、二酸化チタンは無機微粒子の１種である。かかる二酸化チタンの含有量は、蛍光Ｘ線（例えば、リガク電機工業（株）社製ＺＳＸ１００ｅ）を用いる方法や、溶媒を用いてポリエステルを溶かす方法などにより測定をすることができる。
【００１５】
また、前記ポリマー中には、本発明の目的を損なわない範囲内で必要に応じて、カチオン染料可染剤、着色防止剤、熱安定剤が１種または２種以上含まれていてもよいが無機微粒子の含有率がポリエステル重量対比１．０重量％以下であることが好ましい。
【００１６】
前記ポリエステルマルチフィラメント糸Ａの繊維形態は特に限定されず、通常の空気加工、仮撚捲縮加工が施されていてもさしつかえない。また、空気混繊または合撚糸または複合仮撚により他の糸条との複合糸として織物に含まれていてもよい。
【００１７】
本発明の研磨布用布帛は前記ポリエステルマルチフィラメント糸Ａのみで構成されていてもよいが、前記ポリエステルマルチフィラメント糸Ａ以外に他糸条として、単繊維径が１５００ｎｍより大のポリエステルマルチフィラメント糸Ｂが含まれることが好ましい。その際、該ポリエステルマルチフィラメント糸Ｂはその単繊維径が３μｍ以上（より好ましくは３〜３０μｍ）の範囲内であることが好ましい。該単繊維径が３μｍよりも小さいと、布帛の圧縮剛さが小さくなるため、被研磨物表面の欠点（スクラッチ）が発生しやすくなるおそれがある。ここで、単繊維の断面形状が丸断面以外の異型断面である場合には、外接円の直径を単繊維径とする。なお、単繊維径は、前記と同様、透過型電子顕微鏡で繊維の横断面を撮影することにより測定が可能である。
【００１８】
前記ポリエステルマルチフィラメント糸Ｂにおいて、フィラメント数は特に限定されないが、１０〜３００本（好ましくは３０〜１５０本）の範囲内であることが好ましい。また、かかるポリエステルマルチフィラメント糸Ｂの繊維形態は特に限定されないが、長繊維（マルチフィラメント糸）であることが好ましい。単繊維の断面形状も特に限定されず、丸、三角、扁平、中空など公知の断面形状でよい。また、通常の空気加工、仮撚捲縮加工が施されていてもさしつかえない。
【００１９】
前記ポリエステルマルチフィラメント糸Ｂを形成するポリマー形成するポリマーは、艶消し剤の含有率がポリエステル重量対比１．０重量％以下（より好ましくは０．５重量％以下、特に好ましくは０重量％）のポリエステルであることが好ましい。艶消し剤がポリエステル重量対比１．０重量％より多くポリエステル中に含まれていると、研磨布を用いて被研磨物を研磨した際に、被研磨物表面に欠点（スクラッチ）が発生しやすくなるおそれがある。また、ポリエステルの種類としては、ポリエステル系ポリマーであれば特に限定されず、ポリエチレンテレフタレートやポリトリメチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ステレオコンプレックスポリ乳酸、ポリ乳酸、第３成分を共重合させたポリエステルなどが好ましく例示される。かかるポリエステルとしては、マテリアルリサイクルまたはケミカルリサイクルされたポリエステルであってもよい。さらには、特開２００４−２７００９７号公報や特開２００４−２１１２６８号公報に記載されているような、特定のリン化合物およびチタン化合物を含む触媒を用いて得られたポリエステルでもよい。該ポリマー中には、本発明の目的を損なわない範囲内で必要に応じて、カチオン染料可染剤、着色防止剤、熱安定剤が１種または２種以上含まれていてもよいが、無機微粒子の含有率がポリエステル重量対比１．０重量％以下であることが好ましい。
【００２０】
本発明の研磨布用布帛は、前記ポリエステルマルチフィラメント糸Ａを含む、伸度がタテ方向およびヨコ方向ともに２００％以下（好ましくはともに１００％以下）である編物である。このように、編物の伸度を低くすることにより、被研磨物表面の欠点（スクラッチ）発生率を低減させることができる。編物の伸度が該範囲よりも大きいと、研磨布を使用する際に布にたわみシワが発生し、被研磨物表面にうねりや研磨不足の箇所が発生し、好ましくない。また、布帛が織物の場合は布帛表面の摩擦係数が小さくなるため、研磨能率が低下し好ましくない。
【００２１】
本発明の研磨布用布帛において、編物の編組織は特に限定されず、例えば、よこ編組織としては、平編、ゴム編、両面編、パール編、タック編、浮き編、片畔編、レース編、添え毛編等が例示され、たて編組織としては、シングルデンビー編、シングルアトラス編、ダブルコード編、ハーフ編、ハーフベース編、サテン編、ハーフトリコット編、裏毛編、ジャガード編等などが例示される。層数も単層でもよいし、２層以上の多層でもよい。なかでも、前記のような伸度を得る上で、たて編組織が好ましい。また、層数を２層以上の多層構造とし、多層のうち１層または２層を前記ポリエステルマルチフィラメント糸Ａで構成し、他の層を前記ポリエステルマルチフィラメント糸Ｂを構成することは好ましいことである。
【００２２】
また、前記編物において、編密度は特に限定されないが、前記の伸度を得る上で、編物の密度が、３０コース／２．５４ｃｍ以上（より好ましくは３０〜１４０コース／２．５４ｃｍ）かつ２０ウエール／２．５４ｃｍ以上（より好ましくは２０〜１１０ウエール／２．５４ｃｍ）であることが好ましい。
【００２３】
また、前記編物において、厚みが０．１５〜１．０ｍｍ（より好ましくは０．１７〜０．９０ｍｍ）の範囲内であることが好ましい。該厚みが０．１５ｍｍよりも小さいと、クッション性が低くなり被研磨物表面に欠点（スクラッチ）を発生させやすくなるおそれがある。逆に厚みが１．０ｍｍよりも大きいと作業性が低下するおそれがある。
【００２４】
本発明の研磨布用布帛は、例えば、以下の製造方法により製造することができる。まず、海成分と、ポリエステルからなりその径が１０〜１５００ｎｍである島成分とで形成される海島型複合繊維（ポリエステルマルチフィラメント糸Ａ用繊維）を用意する。かかる海島型複合繊維としては、特開２００７−２３６４号公報に開示された海島型複合繊維マルチフィラメント（島数１００〜１５００）が好ましく用いられる。
【００２５】
すなわち、海成分ポリマーとしては、繊維形成性の良好なポリエステル、ポリアミド、ポリスチレン、ポリエチレンなどが好ましい。例えば、アルカリ水溶液易溶解性ポリマーとしては、ポリ乳酸、超高分子量ポリアルキレンオキサイド縮合系ポリマー、ポリエチレングルコール系化合物共重合ポリエステル、ポリエチレングリコール系化合物と５−ナトリウムスルホン酸イソフタル酸の共重合ポリエステルが好適である。なかでも、５−ナトリウムスルホイソフタル酸６〜１２モル％と分子量４０００〜１２０００のポリエチレングルコールを３〜１０重量％共重合させた固有粘度が０．４〜０．６のポリエチレンテレフタレート系共重合ポリエステルが好ましい。
【００２６】
一方、島成分ポリマーは、繊維形成性の良好なポリエチレンテレフタレートやポリトリメチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ乳酸、第３成分を共重合させたポリエステルなどのポリエステルが好ましい。該ポリマー中には、本発明の目的を損なわない範囲内で必要に応じて、微細孔形成剤、カチオン染料可染剤、着色防止剤、熱安定剤、蛍光増白剤、艶消し剤、着色剤、吸湿剤、無機微粒子が１種または２種以上含まれていてもよい。
【００２７】
上記の海成分ポリマーと島成分ポリマーからなる海島型複合繊維は、溶融紡糸時における海成分の溶融粘度が島成分ポリマーの溶融粘度よりも大きいことが好ましい。また、島成分の径は、１０〜１５００ｎｍの範囲とする必要がある。その際、島成分の形状が真円でない場合は外接円の直径を求める。前記の海島型複合繊維において、その海島複合重量比率（海：島）は、４０：６０〜５：９５の範囲が好ましく、特に３０：７０〜１０：９０の範囲が好ましい。
【００２８】
かかる海島型複合繊維マルチフィラメント糸は、例えば以下の方法により容易に製造することができる。すなわち、前記の海成分ポリマーと島成分ポリマーとを用い溶融紡糸する。溶融紡糸に用いられる紡糸口金としては、島成分を形成するための中空ピン群や微細孔群を有するものなど任意のものを用いることができる。吐出された海島型断面複合繊維マルチフィラメント糸は、冷却風によって固化され、好ましくは４００〜６０００ｍ／分で溶融紡糸された後に巻き取られる。得られた未延伸糸は、別途延伸工程をとおして所望の強度・伸度・熱収縮特性を有する複合繊維とするか、あるいは、一旦巻き取ることなく一定速度でローラーに引き取り、引き続いて延伸工程をとおした後に巻き取る方法のいずれでも構わない。かかる海島型複合繊維マルチフィラメント糸において、単糸繊維繊度、フィラメント数、総繊度としてはそれぞれ単糸繊維繊度０．５〜１０．０ｄｔｅｘ、フィラメント数５〜７５本、総繊３０〜１７０ｄｔｅｘの範囲内であることが好ましい。また、かかる海島型複合繊維マルチフィラメント糸の沸水収縮率としては５〜３０％の範囲内であることが好ましい。
【００２９】
一方、必要に応じて、単繊維繊度が０．１ｄｔｅｘ以上（好ましくは０．１〜５０ｄｔｅｘ）であるポリエステルマルチフィラメントＢを用意する。最終的に得られる生地内のフィラメント糸Ｂの単繊維径を１５００ｎｍより大とする上で、単繊維繊度を前記の範囲内とすることが好ましい。
【００３０】
次いで、前記海島型複合繊維マルチフィラメント糸と、必要に応じてポリエステルマルチフィラメント糸Ｂとを用いて編物を編成する。その際、前記海島型複合繊維フィラメント糸とポリエステルマルチフィラメント糸Ｂとの総繊度比としては、９０：１０〜２０：８０の範囲内であることが好ましい。なお、製編する際に用いる編機を限定されず通常のものでよい。
【００３１】
次いで、前記の編物にアルカリ水溶液処理を施し、前記海島型複合繊維の海成分をアルカリ水溶液で溶解除去することにより、海島型複合繊維フィラメント糸を単繊維径が１０〜１５００ｎｍのフィラメント糸Ａとする。その際、アルカリ水溶液処理の条件としては、濃度３〜４％のＮａＯＨ水溶液を使用し５５〜６５℃の温度で処理するとよい。
【００３２】
次いで、該編物を巾だし率１．０５倍以上（より好ましくは１．０５〜１．５倍）で巾だししながら経方法に走行させ、温度１３０〜２１０℃、かつ時間０．５〜３分で熱セットすることにより、本発明の研磨布用布帛が得られる。
【００３３】
ここで、前記アルカリ水溶液による溶解除去の前および／または後に、あるいは、前記熱セットの前および／または後に編物に染色加工を施してもよい。カレンダー加工（加熱加圧加工）やエンボス加工を施してもよい。さらに、常法の起毛加工、撥水加工、さらには、紫外線遮蔽あるいは制電剤、抗菌剤、消臭剤、防虫剤、蓄光剤、再帰反射剤、マイナスイオン発生剤等の機能を付与する各種加工を付加適用してもよい。
【００３４】
かくして得られた研磨布用布帛は低伸度であるため、研磨布として用いた際に、被研磨物表面をより平坦にすることができるだけでなく、欠点（スクラッチ）の発生を低減することができる。さらには、編物組織を有しているため、織物に比べて表面摩擦係数が高く研磨能率に優れる。
【００３５】
次に、本発明の研磨布は、研磨布用布帛を用いてなる、磁気デイスクや光デイスクなど記録媒体のテキスチャリング用研磨布、記録媒体のポリッシング用研磨布、電子部品の仕上げ用研磨布、および電子部品のバフ研磨用研磨布からなる群より選択されるいずれかの研磨布である。かかる研磨布によれば、被研磨物表面をより平坦にすることが可能で、かつ被研磨物表面の欠点（スクラッチ）発生率を低減させることが可能となる。
【実施例】
【００３６】
（１）単繊維径と繊維径の均一性
透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）で繊維の横断面を撮影することにより測定した。ｎ数５で測定しその平均値を求め、その最大値と最小値の幅が平均値の５０％より小さいものを「繊維径の均一性良好」とした。
（２）伸度
ＪＩＳ  Ｌ  １０９６  ８．１２に従って測定した。
（３）表面平均粗さ
原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）により測定した。表面平均粗さＲａが２Å以下であれば合格とする。
（４）研磨能率
研磨剤として０．０３５μｍのコロイダルシリカ砥粒を含んでいるスラリーを２．４ｍｌ／ｍｉｎで滴下しながら、定盤回転数３０ｒｐｍ、加圧４．５ｋＰａで６分間ポリッシュ加工を実施した。研磨能率が０．０５μｍ／ｍｉｎ以上であれば合格とする。
【００３７】
［実施例１］
島成分としてポリエチレンテレフタレート、海成分として５−ナトリウムスルホイソフタル酸９モル％と数平均分子量４０００のポリエチレングリコール３重量％を共重合したポリエチレンテレフタレートを用い、海：島＝３０：７０、島数＝８３６の海島型複合未延伸繊維を、紡糸温度２８０℃、紡糸速度１５００ｍ／分で溶融紡糸して一旦巻き取った。得られた未延伸糸を、延伸温度８０℃、延伸倍率２．５倍でローラー延伸し、次いで１５０℃で熱セットして巻き取り、海島型複合延伸糸（ポリエステルマルチフィラメント糸Ａ用糸条）を得た。得られた海島型複合延伸糸は５６ｄｔｅｘ／１０ｆｉｌであり、透過型電子顕微鏡ＴＥＭによる繊維横断面を観察したところ、島の形状は丸形状でかつ島の径は７００ｎｍであった。
【００３８】
次いで、２８ゲージの通常の経編機を使用して、前述の海島型複合延伸糸をフロント筬とミドル筬に用い、通常のポリエチレンテレフタレートからなるマルチフィラメント（３３ｄｔｅｘ／１２ｆｉｌ、帝人ファイバー（株）製）をバック筬に用い、サテン組織（バック：１０／２１、ミドル：１０／３４、フロント：１０／３４による編方）によりサテン組織の経編生機を得た。次いで、該編物を５０℃にて湿熱処理した後、海島型複合延伸糸の海成分を除去するために、２．５％ＮａＯＨ水溶液で、５５℃にて２５％減量（アルカリ減量）した。その後、常法の湿熱加工を行い、その後、通常のタンター（（株）ヒラノテクシード製）を使用して、１８０℃で１分間熱セット（巾だし率１．１倍）を行った。
【００３９】
得られた編物において、フィラメント糸Ａの平均単繊維径は７００ｎｍ、最大値と最小値の幅は平均繊維径に対し１５％（繊維径の均一性良好）であった。伸度はタテ方向６１％、ヨコ方向９７％であった。
該編物を直径３００ｍｍの円形に裁断し、アルミハードディスク基板のポリッシュ加工に適した研磨パッドとした。該研磨パッドを用い、研磨剤として０．０３５μｍのコロイダルシリカ砥粒を含んでいるスラリーを２．４ｍｌ／ｍｉｎで滴下しながら、定盤回転数３０ｒｐｍ、加圧４．５ｋＰａで６分間ポリッシュ加工を実施した。ポリッシュ加工後の基板の表面平均粗さＲａ=１．５Å、研磨能率は０．０７μｍ／ｍｉｎと良好であり、さらに、スクラッチ傷などの欠点が非常に少ない上、ハードディスク媒体としての収率は９８％と安定した加工が行われた。
【００４０】
［比較例１］
実施例１と同様に経編生機を得た後、該編物を５０℃にて湿熱処理した後、海島型複合延伸糸の海成分を除去するために、２．５％ＮａＯＨ水溶液で、５５℃にて２５％減量（アルカリ減量）した。その後、常法の湿熱加工を行い、その後、乾燥のみで仕上げた。
得られた編物において、フィラメント糸Ａの平均単繊維径は７００ｎｍ、最大値と最小値の幅は平均繊維径に対し１５％であった。伸度はタテ方向９１％、ヨコ方向２３０％であった。
該編物を直径３００ｍｍの円形に裁断し、アルミハードディスク基板のポリッシュ加工に適した研磨パッドとした。該研磨パッドを用い、実施例１と同様の方法でポリッシュ加工を実施した。ポリッシュ加工後の基板の表面平均粗さＲａ=１．９Å、研磨能率は０．０９μｍ／ｍｉｎと良好であったが、微小なうねりやスクラッチ傷などの欠点が多発し、ハードディスク媒体としての収率は５０％と低かった。
【００４１】
［比較例２］
実施例１と同様に海島型複合延伸糸５６ｄｔｅｘ／１０ｆｉｌを得た。次いで、該延伸糸２本と通常のポリエチレンテレフタレートからなるマルチフィラメント（３３ｄｔｅｘ／１２ｆｉｌ）とインターレース加工にて混繊糸を得た。
該混繊糸を３００回／ｍ（Ｓ方向）にて撚糸し、経糸に全量配し、一方、通常のポリエチレンテレフタレートからなるマルチフィラメント仮撚捲縮加工糸（５６ｄｔｅｘ／１４４ｆｉｌ）を２本引き揃え３００回／ｍ（Ｓ方向）にて合撚後、緯糸に全量配し、経密度１７１本／２．５４ｃｍ、緯密度６７本／２．５４ｃｍの織密度にて、通常の製織方法により５枚サテン組織の織物生機を得た。次いで、該織物を５０℃にて湿熱処理した後、海島型複合延伸糸の海成分を除去するために、２．５％ＮａＯＨ水溶液で、５５℃にて２０％減量（アルカリ減量）した。その後、常法の湿熱加工を行い、その後、通常のタンター（（株）ヒラノテクシード製）を使用して、１８０℃で１分間熱セットを行った。
【００４２】
得られた織物において、フィラメント糸Ａの平均単繊維径は７００ｎｍ、最大値と最小値の幅は平均繊維径に対し２０％であった。伸度はタテ方向６５％、ヨコ方向４０％であった。
該織物を直径３００ｍｍの円形に裁断し、アルミハードディスク基板のポリッシュ加工に適した研磨パッドとした。該研磨パッドを用い、実施例１と同様の方法でポリッシュ加工を実施した。ポリッシュ加工後の基板の表面平均粗さＲａ=１．６Åと良好であり、また、スクラッチ傷などの欠点が少なくハードディスク媒体としての収率は９５％と安定した加工が行われたが、研磨能率が０．０３μｍ／ｍｉｎと不良であった。
【産業上の利用可能性】
【００４３】
本発明によれば、被研磨物表面をより平坦にすることが可能で、かつ被研磨物表面の欠点（スクラッチ）発生率を低減させることが可能な研磨布用布帛およびその製造方法が提供され、その工業的価値は極めて大である。