(57)【要約】【課題】ブラックマトリックス２−３の幅が狭くなってもガラス基板１から剥がれない、また、傾斜搬送して現像を行う現像装置を用いても、剥がれないカラーフィルタの製造方法を提供することを課題とする。【解決手段】ブラックマトリックス２−３を形成する際の露光時に、形成するブラックマトリックスの両側部近傍に対応したフォトレジスト５上に、ブラックマトリックスの両側面の現像を抑制するための補助露光５−１ｂを与えること。該ブラックマトリックスの両側面の現像を抑制するための補助パターン７を設けること。ガラス基板上での現像され易い箇所にあるブラックマトリックスの両側部近傍であること。【選択図】図８
2010145687.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス基板上にフォトレジストを用いブラックマトリックスを形成する際の露光時に、形成するブラックマトリックスの両側部近傍に対応したフォトレジスト上に、該ブラックマトリックスの両側面の現像を抑制するための補助露光を与えることを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
【請求項２】
ガラス基板上にフォトレジストを用いブラックマトリックスを形成する際に、形成するブラックマトリックスの両側部近傍に、該ブラックマトリックスの両側面の現像を抑制するための補助パターンを設けることを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
【請求項３】
前記両側部近傍が、ガラス基板上での現像され易い箇所にあるブラックマトリックスの両側部近傍であることを特徴とする請求項１又は請求項２記載のカラーフィルタの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタの製造方法に関するものであり、特に、ブラックマトリックスの幅が狭くなっても剥がれることのない、また、傾斜状態を保った処理を行う現像装置を用いても、ブラックマトリックスが剥がれることのないカラーフィルタの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置などの表示装置において、カラー表示、反射率の低減、コントラストの改善、分光特性制御などの目的にカラーフィルタを用いることは有用な手段となっている。この表示装置に用いられるカラーフィルタは、多くの場合、画素として形成され用いられる。表示装置に用いられるカラーフィルタの画素を形成する方法として、これまで実用されてきた方法には、印刷法、フォトリソグラフィ法などが挙げられる。
【０００３】
図１は、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタの画素の一例を拡大して示す平面図である。また、図２は、図１に示すカラーフィルタの画素のＡ−Ａ線における断面図である。図１、及び図２に示すように、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタは、ガラス基板（１）上にブラックマトリックス（２）、着色画素（３）、及び透明導電膜（４）が順次に形成されたものである。
【０００４】
上記液晶表示装置に用いられるカラーフィルタの製造方法としては、先ず、ガラス基板（１）上にブラックマトリックスを形成し、次に、ブラックマトリックス（２）が形成されたガラス基板上のブラックマトリックスのパターンに位置合わせして着色画素（３）を形成し、更に透明導電膜（４）を形成するといった方法が広く用いられている。
【０００５】
ブラックマトリックス（２）は遮光性を有し、カラーフィルタの着色画素の位置を定め、大きさを均一なものとし、また、表示装置に用いられた際に、好ましくない光を遮蔽し、表示装置の画像をムラのない均一な、且つコントラストを向上させた画像にする機能を有している。このブラックマトリックス（２）の形成は、例えば、ガラス基板（１）上に、黒色フォトレジストの塗布膜を設け、この塗布膜へのフォトマスクを介した露光、現像によってブラックマトリックスを形成するといったフォトリソグラフィ法がとられている。
【０００６】
また、着色画素（３）は、例えば、赤色、緑色、青色のフィルタ機能を有するものであり、ブラックマトリックスが形成されたガラス基板（１）上に、顔料などの色素を分散させたネガ型の着色フォトレジストの塗布膜を設け、この塗布膜へのフォトマスクを介した露光、現像によって着色画素を形成するといったフォトリソグラフィ法がとられている。また、透明導電膜（４）の形成は、着色画素が形成されたガラス基板上に、例えば、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）を用いスパッタ法によって透明導電膜を形成するといった方法がとられている。
【０００７】
図２は、図１に示すカラーフィルタを製造する際の、ガラス基板（１）上にブラックマトリックス（２）を形成した段階を表した平面図である。図２に示すように、ガラス基板（１）上に形成したブラックマトリックス（２）の幅（Ｗ）は、画素の大きさ（（ａ）×（ｂ））が、１００×３００μｍ程度の場合、１２μｍ程度（＊）のものである。
【０００８】
この１２μｍ程度（＊）の幅は、例えば、画素の微細化に伴い狭いものとなり、５０×１５０μｍ程度の大きさに微細化した画素では、５μｍ程度（＊＊）といった狭い幅のブ
ラックマトリックスとなる。
この際、ブラックマトリックスの幅が狭くなると、幅が狭くなるに従って、ガラス基板（１）からブラックマトリックス（２）が剥がれ易くなるといった問題がある。
【０００９】
図３は、図２に示すブラックマトリックス（２）の、現像後のＢ−Ｂ線での断面を拡大して示す断面図である。図３（ａ）は、ブラックマトリックス（２−１）が、前記１２μｍ程度（＊）の幅（Ｗ１）を有する場合の断面図、図３（ｂ）は、ブラックマトリックス（２−２）が、前記５μｍ程度（＊＊）の幅（Ｗ２）を有する場合の断面図である。
【００１０】
図３（ａ）に示すように、黒色フォトレジストの塗布膜へのフォトマスクを介した露光において、露光光（Ｌ）は、塗布膜の上部（ｄ）から下部（ｅ）に向かって次第に減衰するので、例えば、ネガ型の黒色フォトレジストの場合、下部（ｅ）においては、光重合による硬化の度合いが少なくなり、現像において塗布膜の側部は現像され、傾斜（θ１）を有する側面になる。現像後に、形成されたブラックマトリックス（２−１）は、その側面に傾斜（θ１）を有する逆台形状を呈したものとなる。
【００１１】
図３（ｂ）に幅（Ｗ２）で示すように、ブラックマトリックス（２−２）の幅が狭くなると、元々図３（ａ）に示すブラックマトリックス（２−１）の幅（Ｗ１）より狭いこと（Ｗ１＞Ｗ２）に加え、現像後にはブラックマトリックス（２−２）がガラス基板（１）と密着している幅（ｃ２）は狭くなり（ｃ１＞Ｗ２、ｃ２）、ブラックマトリックス（２−２）はガラス基板（１）から剥がれ易くなる。
【００１２】
尚、現像後にはブラックマトリックスにポストベーク処理が施されるので、この際の熱フローにより逆台形状は、半円形状の方向への変形をする。しかし、この剥がれ易くなる傾向は残存している。
【００１３】
このような、ブラックマトリックスの幅が狭くなることによって、剥がれ易くなるといった問題への対応策としては、例えば、ガラス基板上へ黒色フォトレジストを塗布する前に、ガラス基板に行われるＵＶ洗浄処理を弱める方法が挙げられる。確かに、この方法によりガラス基板への密着は強化されたものとなる。しかし、この方法が過度になると、異物や塗布特性の悪化が懸念されるので、この方法による密着の強化には限界がある。
【００１４】
また、他の対応策としては、例えば、ガラス基板上へ黒色フォトレジストを塗布した後に行われるプリベーク処理を強める方法が挙げられる。確かに、この方法によりガラス基板への密着は強化されたものとなる。しかし、この方法が過度になると、残渣や色残りといった不良が発生するので、この方法による密着の強化には限界がある。
【００１５】
一方、液晶表示装置に用いるカラーフィルタの製造装置の面では、これまで、現像装置としては、ガラス基板を枚葉で水平搬送してウエット処理を行う現像装置が広く用いられてきた。
しかし、ガラス基板のサイズが大型化するにつれ、スプレイノズルの揺動とガラス基板の揺動によって良好な液置換効率、すなわち、ガラス基板上の液をガラス基板外へ払い落とす際に十分な効率を得ることは次第に困難なものとなってきた。
【００１６】
このため、第５世代（ガラス基板のサイズ、例えば、１１００×１３００ｍｍ）以上の大型のガラス基板でのカラーフィルタの製造に用いる現像装置としては、ガラス基板を搬送方向と直角の幅方向に傾斜搬送して、傾斜状態を保ったままでウエット処理を行う現像装置が用いられるようになった。
ガラス基板を傾斜処理すると、重力による液流がガラス基板上に生じ、基本的にはガラス基板上の液滞留がなくなり、現像液の置換効率、及び純水の置換効率が向上したものとな
る。
【００１７】
図４は、傾斜処理を行う現像装置の一例を示す平面図である。図４に示すように、この現像装置（１０）は、現像を行う現像チャンバー（２０）と、水洗を行う水洗チャンバー（３０）で構成されている。
ガラス基板（図示せず）は、図４中、矢印で示すように、現像装置（１０）の左方から搬送され、現像チャンバー（２０）にて現像、水洗チャンバー（３０）にて水洗が行われ、次工程へと搬送される。
【００１８】
図５は、現像チャンバー（２０）の内部における現像スプレイ（２３）とガラス基板（１）の関係を説明する平面図である。また、図６は、図５中、白太矢印で示す方向からの搬送ローラー（２４）と現像スプレイ（２３）とガラス基板（１）の関係を説明する側面図である。図６中、白太矢印で示す方向からの上面が、図５に相当する。
【００１９】
図５及び図６に示すように、搬送ローラー（２４）は、ガラス基板（１）の搬送方向の幅方向に傾斜して設けられている。図５中、左方から搬送ローラー（２４）に搬送されたガラス基板（１）は、搬送されるガラス基板（１）の幅方向の左辺を傾斜上部（山側）（ｇ）とし、右辺を傾斜下部（谷側）（ｈ）として傾斜搬送され、傾斜状態を保ったまま処理が行われる。
【００２０】
現像スプレイ（２３）は、ガラス基板（１）の搬送路の上方に、搬送ローラー（２４）の傾斜角度（θ）と同一の傾斜角度で、すなわち、搬送ローラー（２４）の軸方向と平行に設けられている。現像スプレイ（２３）の幅方向（Ｙ軸方向）には、複数個の現像シャワーノズル（２２）が一直線状に設けられ、この一直線状の列が搬送路の方向（Ｘ軸方向）に複数列設けられている。
現像シャワーノズル（２２）は現像スプレイ（２３）の下面に設けられているが、説明上、図５では実線で表している。
現像スプレイ（２３）は、傾斜搬送されてくるガラス基板（１）の表面に向け、現像シャワーノズル（２２）から現像液を吐出し、現像が行われる。
【００２１】
現像を傾斜処理で行うことによって、図６に矢印で示すように、ガラス基板（１）の表面に吐出された現像液は、ガラス基板上に滞留することはなくなり、現像液は傾斜下部（谷側）（ｈ）へ流れ、ガラス基板の表面には常に新しい現像液が供給される。これにより、現像時間は短縮され、また、面内の現像均一性は向上したものとなる。
しかしながら、依然として、ガラス基板（１）上での、現像され易い箇所ではブラックマトリックスの剥がれが発生し易い状況である。
【特許文献１】特開平９−１８９９０４号公報
【特許文献２】特開２０００−３９５１１号公報
【特許文献３】特開平１１−７４２４８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００２２】
本発明は、上記の問題を解決するためになされたものであり、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタの製造において、ガラス基板上に形成するブラックマトリックスの幅が、例えば、５μｍ程度（＊＊）に狭くなっても、ガラス基板からブラックマトリックスが剥がれることのない、また、現像装置として、ガラス基板を搬送方向と直角の幅方向に傾斜搬送して、傾斜状態を保ったまま現像及び水洗を行う現像装置を用いても、ガラス基板上での、現像され易い箇所でブラックマトリックスの剥がれが発生することのないカラーフィルタの製造方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００２３】
本発明は、ガラス基板上にフォトレジストを用いブラックマトリックスを形成する際の露光時に、形成するブラックマトリックスの両側部近傍に対応したフォトレジスト上に、該ブラックマトリックスの両側面の現像を抑制するための補助露光を与えることを特徴とするカラーフィルタの製造方法である。
【００２４】
また、本発明は、ガラス基板上にフォトレジストを用いブラックマトリックスを形成する際に、形成するブラックマトリックスの両側部近傍に、該ブラックマトリックスの両側面の現像を抑制するための補助パターンを設けることを特徴とするカラーフィルタの製造方法である。
【００２５】
また、本発明は、上記発明によるカラーフィルタの製造方法において、前記両側部近傍が、ガラス基板上での現像され易い箇所にあるブラックマトリックスの両側部近傍であることを特徴とするカラーフィルタの製造方法である。
【発明の効果】
【００２６】
本発明は、ガラス基板上にフォトレジストを用いブラックマトリックスを形成する際の露光時に、形成するブラックマトリックスの両側部近傍に対応したフォトレジスト上に、該ブラックマトリックスの両側面の現像を抑制するための補助露光を与えるので、ブラックマトリックスの幅が狭くなっても、ガラス基板からブラックマトリックスが剥がれることのない、また、現像装置として、ガラス基板を搬送方向と直角の幅方向に傾斜搬送して、傾斜状態を保ったまま現像を行う現像装置を用いても、ガラス基板上での、現像され易い箇所でブラックマトリックスの剥がれが発生することのないカラーフィルタの製造方法となる。
【００２７】
また、本発明は、ガラス基板上にフォトレジストを用いブラックマトリックスを形成する際に、形成するブラックマトリックスの両側部近傍に、該ブラックマトリックスの両側面の現像を抑制するための補助パターンを設けるので、ブラックマトリックスの幅が狭くなっても、ガラス基板からブラックマトリックスが剥がれることのない、また、現像装置として、ガラス基板を搬送方向と直角の幅方向に傾斜搬送して、傾斜状態を保ったまま現像を行う現像装置を用いても、ガラス基板上での、現像され易い箇所でブラックマトリックスの剥がれが発生することのないカラーフィルタの製造方法となる。
【００２８】
また、本発明は、ガラス基板を傾斜搬送しながら現像を行う現像装置に限らず、一般に、現像装置に固有のガラス基板の面内の現像不均一性に適宜、対応させることが可能である。また、現像不均一性に方向性がある場合、その方向性に対応して補助露光を与える開口部、或いは補助パターンを形成する開口部を設けたフォトマスクを採用することが可能である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２９】
以下に、本発明によるカラーフィルタの製造方法を、その実施の形態に基づいて詳細に説明する。
図７は、本発明によるカラーフィルタの製造方法において用いるフォトマスクの一例の平面図である。フォトマスク（ＰＭ１）上の１画素とその周辺が示されている。また、図９は、図７に示すフォトマスク（ＰＭ１）を用いて、ガラス基板（１）上に形成されたブラックマトリックス（２−３）の平面図である。
【００３０】
図７に示すフォトマスク（ＰＭ１）において、符号（Ｋ１）は、図９に示すブラックマトリックス（２−３）の形成に対応した開口部である。また、符号（Ｋ２）は、補助露光に対応した開口部である。
符号（Ｓ）は、斜線で表される部分であり、上記ブラックマトリックス（２−３）の形成に対応した開口部（Ｋ１）、及び補助露光に対応した開口部（Ｋ２）以外の部分の遮光部である。
【００３１】
補助露光に対応した開口部（Ｋ２）は、ブラックマトリックスの両側面の現像を抑制するために設けられたものである。図７に示すように、補助露光に対応した開口部（Ｋ２）は、ブラックマトリックス（２−３）の形成に対応した開口部（Ｋ１）の両側部近傍に設けられている。補助露光に対応した開口部（Ｋ２）は、ブラックマトリックスを形成する際の、開口部（Ｋ１）を経た露光光をフォトレジストに与える露光時に、形成するブラックマトリックスの両側部近傍に対応したフォトレジスト上に与える補助露光の開口部である。
図７に示すフォトマスク（ＰＭ１）は、ネガ型の黒色フォトレジストを用いてブラックマトリックスを形成する際のフォトマスクである。
【００３２】
図８は、本発明によるカラーフィルタの製造方法を説明する断面図である。図８（ａ）は、ガラス基板（１）上に設けられた黒色フォトレジストの塗布膜（５）に、フォトマスク（ＰＭ１）を介しての露光が与えられる状態の断面図である。図７に示すように、黒色フォトレジストの塗布膜（５）が設けられたガラス基板（１）の、図８（ａ）中、上方に、図７に示すフォトマスク（ＰＭ１）が配設されている。フォトマスク（ＰＭ１）は、図７のＣ−Ｃ線での断面を拡大して表している。
【００３３】
露光光（Ｌ）は、フォトマスク（ＰＭ１）の、図８（ａ）中、上方より照射され、開口部を経て黒色フォトレジストの塗布膜（５）に露光される。黒色フォトレジストとしては、ネガ型の黒色フォトレジストが用いられている。
符号（５−１ａ）は、黒色フォトレジストの塗布膜（５）上での、ブラックマトリックス（２−３）が形成される部分であり、右上がり斜線は、開口部（Ｋ１）を経て露光が与えられた状態を表している。この部分は、現像後にブラックマトリックス（２−３）となる。
【００３４】
また、符号（５−１ｂ）は、塗布膜（５）上での、形成するブラックマトリックスの両側部近傍に補助露光を与える部分であり、右上がり斜線は、開口部（Ｋ２）を経て露光が与えられた状態を表している。
この補助露光は、パターンを形成するためのものではなく、露光後の現像時に、形成されるブラックマトリックス（２−３）の両側面の現像を抑制するための補助露光である。
【００３５】
図８（ｂ）は、露光後に現像が施され、現像が終了する直前の状態の断面図である。図８（ｂ）に示すように、上記ブラックマトリックスが形成される部分（５−１ａ）及び補助露光の部分（５−１ｂ）以外の部分の塗布膜（５）は、現像液（Ｍ）により殆ど溶解、除去されている。
符号（６）で示す、ブラックマトリックスが形成される部分（５−１ａ）と、補助露光の部分（５−１ｂ）との間は、この間（６）以外の他の部分、例えば、図８（ｂ）中、符号（ｊ）で示す補助露光の部分（５−１ｂ）の右方側部に比較し、現像液の置換効率が悪い。
【００３６】
このため、ブラックマトリックスが形成される部分（５−１ａ）の両側面が現像される度合いは、前記図３（ａ）に示すブラックマトリックス（２−１）の両側面に比較し抑制されたものとなる。
その結果、図８（ｂ）に示すように、ブラックマトリックスが形成される部分（５−１ａ）の両側面の傾斜は、前記ブラックマトリックス（２−１）の両側面の傾斜（θ１）に比較し緩やかなものとなる。
【００３７】
図８（ｃ）は、現像が終了した段階の断面図である。図８（ｃ）は、図９におけるＤ−Ｄ線での断面を拡大したものに相当する。図８（ｂ）に示す状態から更に現像を施すことにより、補助露光の部分（５−１ｂ）は、その下部が溶解されガラス基板（１）上から離脱し、ブラックマトリックス（２−３）を形成する現像は終了する。
【００３８】
図８（ｃ）に示すように、ガラス基板（１）上に形成されたブラックマトリックス（２−３）の両側面は、傾斜（θ１）より緩やかな傾斜（θ２）となっている（θ１＞θ２）。
また、その両側面で現像の抑制に寄与した補助露光の部分（５−１ｂ）は、パターンとして残存せず、離脱している。
【００３９】
図１０に示すように、この現像の終点は、現像液の置換効率が悪い、ブラックマトリックスが形成される部分（５−１ａ）と、補助露光の部分（５−１ｂ）との間（６）での、ガラス基板（１）上の塗布膜（５）が溶解された時点となるが、この時点で、補助露光の部分（５−１ｂ）の下部（ｋ）は、その両側からの現像によって溶解されガラス基板（１）上から離脱するように、補助露光の部分（５−１ｂ）の幅（Ｗ４）を予め設定しておく。
【００４０】
従って、ブラックマトリックスが形成される部分（５−１ａ）の幅（Ｗ３、Ｗ３＝Ｗ２）が、例えば、前記５μｍ程度（＊＊）の狭いものでも、その両側面の現像は抑制され、ブラックマトリックスが形成される部分（５−１ａ）がガラス基板（１）に密着している部分（ｃ３）は、前記図３（ｂ）に示す密着している部分（ｃ２）より大きなものとなる（ｃ３＞ｃ２）。
【００４１】
具体的には、例えば、ブラックマトリックスが形成される部分（５−１ａ）の幅（Ｗ３）：５μｍ、塗布膜（５）の膜厚（ｔ１）：１．５μｍ、ブラックマトリックスが形成される部分（５−１ａ）と、補助露光の部分（５−１ｂ）との間の距離（ＷＢ）：３μｍ、の際に、補助露光の部分（５−１ｂ）の幅（Ｗ４）を３μｍとすることによって、上記現像の終点で、補助露光の部分（５−１ｂ）を良好に離脱させることができる。
【００４２】
これにより、ブラックマトリックス（２−３）の幅が、例えば、５μｍ程度（＊＊）に狭いものでも、ガラス基板（１）に密着している部分が大きくなるので（ｃ２→ｃ３）、ブラックマトリックス（２−３）がガラス基板（１）から剥がれることがなくなる。
【００４３】
図１１は、請求項２に係わるカラーフィルタの製造方法において用いるフォトマスクの一例の平面図である。フォトマスク（ＰＭ２）上の１画素とその周辺が示されている。また、図１３は、図１１に示すフォトマスク（ＰＭ２）を用いて、ガラス基板（１）上に形成されたブラックマトリックス（２−４）の平面図である。
【００４４】
図１１に示すフォトマスク（ＰＭ２）において、符号（Ｋ１）は、図１３に示すブラックマトリックス（２−４）の形成に対応した開口部である。また、符号（Ｋ３）は、補助パターン（７）の形成に対応した開口部である。
符号（Ｓ）は、斜線で表される部分であり、上記ブラックマトリックス（２−４）の形成に対応した開口部（Ｋ１）、及び補助パターン（７）の形成に対応した開口部（Ｋ３）以外の部分の遮光部である。
【００４５】
補助パターン（７）の形成に対応した開口部（Ｋ３）は、ブラックマトリックスの両側面の現像を抑制する補助パターン（７）を形成するために設けられたものである。図１１に示すように、補助パターン（７）の形成に対応した開口部（Ｋ３）は、ブラックマトリックス（２−４）の形成に対応した開口部（Ｋ１）の両側部近傍に設けられている。補助パターン（７）の形成に対応した開口部（Ｋ３）は、ブラックマトリックスを形成する際の、開口部（Ｋ１）を経た露光光をフォトレジストに与える露光時に、形成するブラックマトリックスの両側部近傍に対応したフォトレジスト上に与える開口部である。
【００４６】
図１２は、請求項２に係わるカラーフィルタの製造方法を説明する断面図である。図１２（ａ）は、ガラス基板（１）上に設けられた黒色フォトレジストの塗布膜（５）に、フォトマスク（ＰＭ２）を介しての露光が与えられる状態の断面図である。図１２（ａ）に示すように、黒色フォトレジストの塗布膜（５）が設けられたガラス基板（１）の、図１２（ａ）中、上方に、図１１に示すフォトマスク（ＰＭ２）が配設されている。フォトマスク（ＰＭ２）は、図１１のＥ−Ｅ線での断面を拡大して表している。
【００４７】
露光光（Ｌ）は、フォトマスク（ＰＭ２）の、図１２（ａ）中、上方より照射され、開口部を経て黒色フォトレジストの塗布膜（５）に露光される。黒色フォトレジストとしては、ネガ型の黒色フォトレジストが用いられている。
符号（５−２ａ）は、黒色フォトレジストの塗布膜（５）上での、ブラックマトリックス（２−４）が形成される部分であり、右上がり斜線は、開口部（Ｋ１）を経て露光が与えられた状態を表している。この部分は、現像後にブラックマトリックス（２−４）となる。
【００４８】
また、符号（５−２ｂ）は、塗布膜（５）上での、形成するブラックマトリックスの両側部近傍に補助パターン（７）が形成される部分であり、右上がり斜線は、開口部（Ｋ３）を経て露光が与えられた状態を表している。
この補助パターンは、露光後の現像時に、形成されるブラックマトリックス（２−４）の両側面の現像を抑制するための補助パターンである。
【００４９】
図１２（ｂ）は、露光後に現像が施され、現像が終了した段階の断面図である。図１２（ｂ）は、図１３におけるＦ−Ｆ線での断面を拡大したものに相当する。図１２（ｂ）に示すように、現像により、ブラックマトリックスが形成される部分（５−２ａ）はブラックマトリックス（２−４）となり、補助パターン（７）が形成される部分（５−２ｂ）は補助パターン（７）となり、また、ブラックマトリックス（２−４）及び補助パターン（７）以外の部分の塗布膜（５）は、現像液（Ｍ）により溶解、除去されている。
符号（６）で示す、ブラックマトリックス（２−４）と、補助パターン（７）との間は、この間（６）以外の他の部分、例えば、図１２（ｂ）中、符号（ｊ）で示す補助パターン（７）の右方側部に比較し、現像液の置換効率が悪い。
【００５０】
このため、ブラックマトリックス（２−４）の両側面が現像される度合いは、前記図３（ａ）に示すブラックマトリックス（２−１）の両側面に比較し抑制されたものとなる。その結果、図１２（ｂ）に示すように、ブラックマトリックス（２−４）の両側面の傾斜は、前記ブラックマトリックス（２−１）の両側面の傾斜（θ１）に比較し緩やかな傾斜（θ３）となる（θ１＞θ３）。
また、その両側面で現像の抑制に寄与した補助パターン（７）は、パターンとして残存している。
【００５１】
これにより、ブラックマトリックス（２−４）の幅が、例えば、５μｍ程度（＊＊）に狭いものでも、ガラス基板（１）に密着している部分が大きくなるので（ｃ２→ｃ４）、ブラックマトリックス（２−４）がガラス基板（１）から剥がれることがなくなる。
【００５２】
上述のように、本発明によるカラーフィルタの製造方法によれば、ガラス基板上に形成するブラックマトリックスの幅が、例えば、５μｍ程度（＊＊）に狭くなっても、ガラス基板からブラックマトリックスが剥がれることはない。
また、ガラス基板を傾斜搬送しながら現像を行う現像装置を用いた際に、ガラス基板上での現像され易い箇所のブラックマトリックスの剥がれを防止することが可能となる。
【００５３】
例えば、ガラス基板の大型化により、傾斜下部（谷側）（ｈ）では、傾斜上部（山側）（ｇ）から流れてくる現像液によって現像液の液膜が厚くなる。これにより、新しい現像液をガラス基板に、特に傾斜下部（谷側）（ｈ）に効率よく供給することができなくなり、現像液の置換効率が悪化し、傾斜下部（谷側）（ｈ）での現像が不足するといった傾向がある。
また、ガラス基板の長さ方向（搬送方向）の先端部（図１４に示す符号（ｑ））から末端部（図１４に示す符号（ｒ））にいくほど先端部からの現像液で液膜が厚くなる。このため、末端部（ｒ）にいくほど新しい現像液が効率よく供給することができなくなり、現像が不足するといった傾向がある。そして傾斜下部（谷側）（ｈ）の末端部（ｒ）においては現像の不足は極大となる（図１４中、×印〜×××印）。
【００５４】
この際、この末端部（ｒ）における現像の不足を正常に保つと、他の部分は現像の過剰、つまり、現像され易い箇所となる。こような場合、本発明によるカラーフィルタの製造方法を上記現像され易い箇所に適用することによって、ブラックマトリックスの剥がれを防止することが可能となる。
【００５５】
本発明によるカラーフィルタの製造方法は、ガラス基板を傾斜搬送しながら現像を行う現像装置に限らず、一般に、現像装置に固有のガラス基板の面内の現像不均一性に適宜、対応させることが可能である。
また、現像不均一性に方向性がある場合、例えば、搬送方向（Ｘ）と直角な方向（Ｙ）にて、現像され易い傾向にある場合には、図１５に示すように、直角な方向（Ｙ）にのみ、補助露光を与える開口部、或いは補助パターンを形成する開口部（Ｋ２２）を設けたフォトマスク（ＰＭ１１）を採用することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【００５６】
【図１】液晶表示装置に用いられるカラーフィルタの画素の一例を拡大して示す平面図である。
【図２】図１に示すカラーフィルタの画素のＡ−Ａ線における断面図である。
【図３】図２に示すブラックマトリックスの現像後のＢ−Ｂ線での断面を拡大して示す断面図である。
【図４】傾斜処理を行う現像装置の一例を示す平面図である。
【図５】現像チャンバーの内部における現像スプレイとガラス基板の関係を説明する平面図である。
【図６】図５中、白太矢印で示す方向からの搬送ローラーと現像スプレイとガラス基板の関係を説明する側面図である。
【図７】本発明によるカラーフィルタの製造方法において用いるフォトマスクの一例の平面図である。
【図８】（ａ）は、黒色フォトレジストの塗布膜にフォトマスクを介しての露光が与えられる状態の断面図である。  （ｂ）は、露光後に現像が施され、現像が終了する直前の状態の断面図である。（ｃ）は、現像が終了した段階の断面図である。
【図９】図７に示すフォトマスクを用いて、ガラス基板上に形成されたブラックマトリックスの平面図である。
【図１０】現像の終点の時点での状態の説明図である。
【図１１】請求項２に係わるカラーフィルタの製造方法において用いるフォトマスクの一例の平面図である。
【図１２】（ａ）は、塗布膜にフォトマスクを介しての露光が与えられる状態の断面図である。（ｂ）は、露光後に現像が施され、現像が終了した段階の断面図である。
【図１３】図１１に示すフォトマスクを用いて、ガラス基板上に形成されたブラックマトリックスの平面図である。
【図１４】ガラス基板上での、現像液の置換効率の説明図である。
【図１５】現像不均一性に方向性がある場合のフォトマスクの平面図である。
【符号の説明】
【００５７】
１・・・透明基板
２、２−１、２−２、２−３、２−４・・・ブラックマトリクス
３・・・着色画素
４・・・透明導電膜
５・・・黒色フォトレジストの塗布膜
５−１ａ、５−２ａ・・・塗布膜上での、ブラックマトリックスが形成される部分
５−１ｂ・・・塗布膜上での、ブラックマトリックスの両側部近傍に補助露光を与える部分
５−２ｂ・・・塗布膜上での、ブラックマトリックスの両側部近傍に補助パターンが形成される部分
６・・・ブラックマトリックスが形成される部分と、補助露光の部分との間
７・・・補助パターン
１０・・・現像装置
２０・・・現像チャンバー
２２・・・現像シャワーノズル
２３・・・現像スプレイ
２４・・・搬送ローラー
３０・・・水洗チャンバー
Ｋ１・・・ブラックマトリックスの形成に対応した開口部
Ｋ２・・・補助露光に対応した開口部
Ｋ３・・・補助パターンの形成に対応した開口部
Ｌ・・・露光光
Ｍ・・・現像液
ＰＭ１、ＰＭ２、ＰＭ１１・・・フォトマスク
Ｓ・・・遮光部
Ｗ、Ｗ１、Ｗ２、Ｗ３、Ｗ５・・・ブラックマトリックスの幅
Ｗ４・・・補助露光の部分の幅
Ｗ６・・・補助パターンの幅
θ・・・搬送ローラーの傾斜角度
θ１、θ２、θ３・・・ブラックマトリックスの側面の傾斜
ｃ１、ｃ２、ｃ３、ｃ４・・・密着の幅
ｄ・・・塗布膜の上部
ｅ・・・塗布膜の下部
ｇ・・・傾斜上部（山側）
ｈ・・・傾斜下部（谷側）
ｊ・・・補助露光の部分の右方側部
ｑ・・・ガラス基板の搬送方向の先端部
ｒ・・・ガラス基板の搬送方向の末端部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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