(57)【要約】【課題】電磁波シールド層上に他の機能性層を形成しても、優れた反射防止性を有するディスプレイ用フィルタの製造方法を提供する。【解決手段】メッシュ状の電磁波シールド層１２０を有する透明基材１１０上に、少なくとも合成樹脂を含む第１の機能性層形成用塗工液を塗工する工程（ａ）と、  前記工程（ａ）により得られた塗工層１３０ａ上に平滑化シート１８０を積層した後、前記合成樹脂を硬化させることにより、第１の機能性層１３０ｂを形成する工程（ｂ）とを有することを特徴とするディスプレイ用フィルタの製造方法。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
メッシュ状の電磁波シールド層を有する透明基材上に、合成樹脂組成物を含む第１の機能性層形成用塗工液を塗工する工程（ａ）と、
前記工程（ａ）により得られた塗工層上に平滑化シートを積層した後、前記塗工層を硬化させることにより、第１の機能性層を形成する工程（ｂ）と、
を有することを特徴とするディスプレイ用フィルタの製造方法。
【請求項２】
前記第１の機能性層が、ハードコート層であることを特徴とする請求項１に記載のディスプレイ用フィルタの方法。
【請求項３】
前記合成樹脂組成物が、紫外線硬化性樹脂及び光重合開始剤を含む請求項１又は２に記載のディスプレイ用フィルタの製造方法。
【請求項４】
前記塗工液が、有機溶剤を、前記合成樹脂組成物１００質量部に対して、５０質量部以下含むことを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載のディスプレイ用フィルタの製造方法。
【請求項５】
前記塗工液が、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル、及びメチルハイドロジェンシリコーンオイルよりなる群から選択される少なくとも１種のシリコーンオイルを含むことを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載のディスプレイ用フィルタの製造方法。
【請求項６】
前記塗工層を、７０〜１３０℃で５〜６０秒間、加熱することにより乾燥させた後、平滑化シートを積層することを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載のディスプレイ用フィルタの製造方法。
【請求項７】
前記平滑化シートの表面粗さＲａが、０．０５μｍ以下であることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載のディスプレイ用フィルタの製造方法。
【請求項８】
前記工程（ｂ）において紫外線を照射することにより、前記塗工層を硬化させることを特徴とする請求項３〜７のいずれか１項に記載のディスプレイ用フィルタの製造方法。
【請求項９】
前記ハードコート層上に、反射防止層を形成する工程をさらに有することを特徴とする請求項２〜８のいずれか１項に記載のディスプレイ用フィルタの製造方法。
【請求項１０】
前記ハードコート層上に、前記ハードコート層よりも屈折率の高い高屈折率層と、前記ハードコート層よりも屈折率の低い低屈折率層とを形成する工程をさらに有することを特徴とする請求項９に記載のディスプレイ用フィルタの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、ブラウン管（ＣＲＴ）ディスプレイ、液晶ディスプレイ、有機ＥＬ（電界発光）ディスプレイ、表面電界型ディスプレイ（ＳＥＤ）を含む電界放出型ディスプレイ（ＦＥＤ）等の各種ディスプレイに対して反射防止、近赤外線遮断、電磁波遮蔽等の各種機能を有するフィルタの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、ＥＬディスプレイ等のフラットパネルディスプレイ、及びＣＲＴディスプレイは、近年、大画面表示が主流となり、次世代の大画面表示デバイスとしてＰＤＰが一般的になってきている。しかしながら、このＰＤＰでは画像表示のため発光部に高周波パルス放電を行っているため、不要な電磁波の輻射や赤外線リモコン等の誤動作の原因ともなる赤外線の輻射の恐れがある。
【０００３】
このため、ＰＤＰなどのディスプレイに用いられるフィルタとして、透明基材上に電磁波シールド層が形成されたものなどが知られている。電磁波シールド層には、例えば、（１）金属銀を含む透明導電薄膜、（２）金属線又は導電性繊維を網状にした導電メッシュ、（３）銅箔等の金属箔に開口部を設けたメッシュ状のもの、（４）導電性インクをメッシュ状に印刷したものなどの導電層が用いられる。なかでも、開口部により高い光透過性が得られることから（２）〜（４）のメッシュ状の導電層が好適に用いられている。導電性のメッシュの部分によって電磁波がシールドされ、開口部によって光の透過が確保される。
【０００４】
さらに、従来のディスプレイ用フィルタには、耐傷付き性を付与するためのハードコート層、蛍光灯などの外部光源から照射された光線の反射を抑制して視認性を向上させるための反射防止層が積層される。さらに、赤外線を遮蔽するために、近赤外線遮蔽層が透明基材の一方の面に設けられたディスプレイ用フィルタなども提案されている。
【０００５】
例えば、特許文献１では、１枚の透明基材と、導電性メッシュと、最表層の反射防止フィルムと、近赤外線カットフィルムとが積層一体化されてなる積層体を備えたディスプレイ用フィルタが開示されている。電磁波シールド層、ハードコート層、反射防止層及び近赤外線遮蔽層は、ディスプレイ用フィルタの用途に応じて積層して用いられる。
【０００６】
【特許文献１】国際公開第２００６／３０９６６０号パンフレット
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ディスプレイ用フィルタでは、高い電磁波シールド性が得られることから、透明基板上のメッシュ状の電磁波シールド層が利用者側となるように配置されるのが好ましい。メッシュ状の電磁波シールド層上に反射防止層や近赤外線吸収層などの他の機能性層を作製するには、未硬化の合成樹脂、及び必要に応じて微粒子などを含む塗工液をメッシュ状の電磁波シールド層上に直接塗工し、紫外線などの化学線の照射や加熱により硬化する方法が用いられている。しかしながら、このような方法では、優れた反射防止性を有するディスプレイ用フィルタが得られない問題があった。
【０００８】
したがって、本発明は、電磁波シールド層上に他の機能性層を形成した場合に、優れた反射防止性を有するディスプレイ用フィルタの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
従来のディスプレイ用フィルタでは、メッシュ状の電磁波シールド層の凸部よって他の機能性層表面に大きな凹凸を生じ、この凹凸が光を乱反射させるなどして、反射防止性が低下することが考えられる。本発明者等は、このような実情に着目して種々の検討を行った結果、メッシュ状の電磁波シールド層を有する透明基材上に塗工液を塗布して第１の機能性層を形成する際に、平滑化シートを使用して塗工層を平滑化する工程を実施することにより、著しく向上された反射防止性を有するディスプレイ用フィルタが得られることを見出した。
【００１０】
すなわち、本発明は、メッシュ状の電磁波シールド層を有する透明基材上に、合成樹脂組成物を含む第１の機能性層形成用塗工液を塗工する工程（ａ）と、
前記工程（ａ）により得られた塗工層上に平滑化シートを積層した後、前記塗工層を硬化させることにより、第１の機能性層を形成する工程（ｂ）と、を有することを特徴とするディスプレイ用フィルタの製造方法により上記課題を解決する。
【発明の効果】
【００１１】
本発明の方法によれば、メッシュ状の電磁波シールド層上に平滑化された表面を有する第１の機能性層を形成することが可能となる。これにより、光の乱反射が抑制され、優れた反射防止性を有するディスプレイ用フィルタを製造することが可能となる。したがって、前記ディスプレイ用フィルタは、ディスプレイに表示された画像の視認性に優れ、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、フィールドエミッションディスプレイなどのディスプレイ全面に設置されるディスプレイ用フィルタとして有用である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
図１に本発明のディスプレイ用フィルタの製造方法の一例を説明するための概略断面図を示す。
【００１３】
本発明の方法では、まず、メッシュ状の電磁波シールド層１２０を有する透明基材１１０上に、合成樹脂組成物を含む第１の機能性層形成用塗工液を塗工する工程（ａ）を実施する。次いで、前記工程（ａ）により得られた塗工層１３０ａ上に平滑化シート１８０を積層した後、好ましくは紫外線の照射により前記塗工層を硬化させることにより、第１の機能性層１３０ｂを形成する工程（ｂ）を実施する。このように平滑化シート１１０を積層したまま塗工層１３０ａを硬化させることにより、表面平坦性に優れた第１の機能性層１３０ｂを電磁波シールド層１２０上に形成することが可能となる。
【００１４】
本願発明において、第１の機能性層としては、電磁波シールド層上に形成された何らかの機能を示す合成樹脂を含む層であればどのようなものでも良い。したがって、第１の機能性層は、合成樹脂組成物を含む塗工液を用いて形成される。
【００１５】
第１の機能性層には、近赤外線吸収層、ハードコート層及び／又は反射防止層などが挙げられる。また、反射防止層としては、屈折率の低い低屈折率層及び／又は屈折率の高い高屈折率層が挙げられる。
【００１６】
なかでも、第１の機能性層は、ハードコート層であるのが好ましい。本発明の方法によれば、電磁波シールド層上に表面平坦性に優れるハードコート層を形成でき、高い反射防止性を有するディスプレイ用フィルタが得られる。なお、本発明において、ハードコート層とは、ＪＩＳ５６００−５−４（１９９９）で規定される鉛筆硬度試験でＨ以上の硬度を有するものをいう。
【００１７】
第１の機能性層形成用塗工液に使用される合成樹脂組成物は、少なくとも合成樹脂を含む。前記合成樹脂は、一般に熱硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂であり、紫外線硬化性樹脂が好ましい。紫外線硬化性樹脂は、短時間で硬化させることができ、優れた表面平滑性を有する第１の機能性層を形成することが可能となる。
【００１８】
熱硬化性樹脂としては、フェノール樹脂、レゾルシノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、フラン樹脂、シリコン樹脂などを挙げることができる。
【００１９】
紫外線硬化性樹脂（モノマー、オリゴマー）としては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシルポリエトキシ（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、フェニルオキシエチル（メタ）アクリレート、トリシクロデカンモノ（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルホリン、Ｎ−ビニルカプロラクタム、２−ヒドロキシ−３−フェニルオキシプロピル（メタ）アクリレート、ｏ−フェニルフェニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジプロポキシジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメチロールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、トリス〔（メタ）アクリロキシエチル〕イソシアヌレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレートモノマー類；ポリオール化合物（例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、１，６−ヘキサンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，９−ノナンジオール、２−エチル−２−ブチル−１，３−プロパンジオール、トリメチロールプロパン、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、１，４−ジメチロールシクロヘキサン、ビスフェノールＡポリエトキシジオール、ポリテトラメチレングリコール等のポリオール類、前記ポリオール類とコハク酸、マレイン酸、イタコン酸、アジピン酸、水添ダイマー酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸等の多塩基酸又はこれらの酸無水物類との反応物であるポリエステルポリオール類、前記ポリオール類とε−カプロラクトンとの反応物であるポリカプロラクトンポリオール類、前記ポリオール類と前記、多塩基酸又はこれらの酸無水物類のε−カプロラクトンとの反応物、ポリカーボネートポリオール、ポリマーポリオール等）と有機ポリイソシアネート（例えば、トリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−４，４'−ジイソシアネート、ジシクロペンタニルジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、２，４，４'−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、２，２'−４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等）と水酸基含有（メタ）アクリレート（例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェニルオキシプロピル（メタ）アクリレート、シクロヘキサン−１，４−ジメチロールモノ（メタ）アクリレー��、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート等）の反応物であるポリウレタン（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂等のビスフェノール型エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸の反応物であるビスフェノール型エポキシ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレートオリゴマー類等を挙げることができる。これら化合物は１種又は２種以上、混合して使用することができる。これらの紫外線硬化性樹脂を、熱重合開始剤とともに用いて熱硬化性樹脂として使用してもよい。
【００２０】
上記の紫外線硬化性樹脂（モノマー、オリゴマー）のうち、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の硬質の多官能モノマーを主に使用することが好ましい。
【００２１】
第１の機能性層形成用塗工液に使用される合成樹脂組成物は、さらに、紫外線硬化性樹脂の光重合開始剤を含むのが好ましい。前記光重合開始剤としては、紫外線硬化性樹脂の性質に適した任意の化合物を使用することができる。例えば、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルホリノプロパン−１などのアセトフェノン系、ベンジルジメチルケタールなどのベンゾイン系、ベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノンなどのベンゾフェノン系、イソプロピルチオキサントン、２−４−ジエチルチオキサントンなどのチオキサントン系、その他特殊なものとしては、メチルフェニルグリオキシレートなどが使用できる。特に好ましくは、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルホリノプロパン−１、ベンゾフェノン等が挙げられる。これら光重合開始剤は、必要に応じて、４−ジメチルアミノ安息香酸のごとき安息香酸系叉は、第３級アミン系などの公知慣用の光重合促進剤の１種または２種以上を任意の割合で混合して使用することができる。また、光重合開始剤のみの１種または２種以上の混合で使用することができる。特に１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(チバ・スペシャリティケミカルズ社製、イルガキュア（登録商標）１８４）が好ましい。
【００２２】
光重合開始剤の含有量は、塗工液に対して一般に０．１〜１０質量％、好ましくは０．１〜５質量％である。
【００２３】
第１の機能性層形成用塗工液は、有機溶剤を含んでいてもよい。有機溶剤は、特に制限されないが、合成樹脂組成物を溶解させ且つ乾燥が容易なものが好ましい。具体的には、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤、アルコール系溶剤、セロソルブ系溶剤、石油系溶剤などが挙げられる。これらは、一種単独で用いてもよく、二種以上を混合して用いてもよい。
【００２４】
有機溶剤の含有量は、合成樹脂組成物１００質量部に対して、好ましくは５０質量部以下、好ましくは２０〜４０質量部、特に好ましくは２５〜３５質量部である。このような含有量であれば、塗工層の硬化時に有機溶剤が揮発することによって表面に発生し得る凹凸を抑制することができ、優れた表面平滑性を有する第１の機能性層を形成することが可能となる。
【００２５】
第１の機能性層形成用塗工液に使用される合成樹脂組成物は、さらに、シリコーンオイルを含有するのが好ましい。これにより、塗工液の塗工性を向上させることが可能となる。前記シリコーンオイルとしては、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル、及びメチルハイドロジェンシリコーンオイルなどが好ましく挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよく、２種以上を混合して使用してもよい。また、第１の機能性層が複数種ある場合には、各層ごと含まれるシリコーンオイルは同じであってもよく、異なっていてもよいが、同じであるのが好ましい。シリコーンオイルは、ジメチルシリコーンオイルを使用するのが特に好ましい。
【００２６】
シリコーンオイルの含有量は、合成樹脂１００質量部に対して、好ましくは０．０００５〜０．１質量部、より好ましくは０．００１〜０．０５質量部である。これにより、透明性及び表面平滑性に優れる第１の機能性層が得られる。
【００２７】
第１の機能性層形成用塗工液がハードコート層形成用塗工液として使用される場合、第１の機能性層形成用塗工液は、合成樹脂のみを含んでいてもよいが、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、老化防止剤、塗料加工助剤、着色剤などの他の成分をさらに含んでいても良い。紫外線吸収剤、特にベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤又はベンゾフェノン系紫外線吸収剤を含むことが好ましい。これによりフィルタの黄変などの防止を効率的に行うことができる。他の成分の含有量は、塗工液に対して、一般に０．１〜１０質量％、好ましくは０．１〜５質量％である。
【００２８】
工程（ａ）では、上述した第１の機能性層形成用塗工液を、メッシュ状の電磁波シールド層を有する透明基材上に塗工する。塗工方法は、特に制限はなく、例えば、グラビアコーター、ロールコーター（サイズプレス、ゲートロールコーター等）、バーコーター、エアナイフコーター、ブレードコーターなど、公知の方法を挙げることができる。
【００２９】
前記塗工により得られた塗工層上に平滑化シートを積層する前に、塗工層を乾燥させて有機溶剤を除去するのが好ましい。乾燥は、前記塗工層を、７０〜１３０℃、特に７５〜１２５℃で、５〜６０秒間、特に１０〜３０秒間、加熱することにより行うのが好ましい。
【００３０】
次に、工程（ｂ）では、上述した工程（ａ）において得られた塗工層上に平滑化シートを積層する。
【００３１】
平滑化シートは、高い表面平滑性を有するシートであればよい。平滑化シートは、表面粗さＲａが、０．０５μｍ以下、特に０．０４μｍ以下であるのが好ましい。また、塗工層を紫外線照射により硬化させる場合には、さらに透明性に優れるシートを使用するのが好ましい。
【００３２】
前記平滑化シートは、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、テレフタル酸−イソフタル酸−エチレングリコール共重合体、テレフタル酸−シクロヘキサンジメタノール−エチレングリコール共重合体などのポリエステル系樹脂、ナイロン６などのポリアミド系樹脂、ポリプロピレン、ポリメチルペンテンなどのポリオレフィン系樹脂、ポリメチルメタクリレートなどのアクリル系樹脂、ポリスチレン、スチレン−アクリロニトリル共重合体などのスチレン系樹脂、トリアセチルセルロースなどのセルロース系樹脂、イミド系樹脂、ポリカーボネート樹脂などの、透明樹脂からなるシートが好ましく使用される。なかでも、ポリエチレンテレフタレートからなるシートであるのが好ましい。
【００３３】
平滑化シートの厚さは、通常１２〜５００μｍ程度であるが、好ましくは５０〜２００μｍ、更に好ましくは５０〜１２５μｍである。平滑化シートの厚さは、薄過ぎると機械的強度が不足して反りや弛み、破断などが起こり、厚過ぎると剥離が困難となる。
【００３４】
また、平滑化シートを塗工層上に積層した後、前記平滑化シート層上をローラーなどで加圧するのが好ましい。これにより、第１の機能性層表面を高く平滑化することができる。具体的には、ハンドローラーの使用や、複数のローラーの間に塗工層上に平滑化シートが積層された透明基材を通過させる手段などが用いられる。また、ローラーによる加圧時に塗工層を加熱してもよい。
【００３５】
塗工層上に平滑化シートを積層した後、塗工層を硬化させるには、加熱又は紫外線照射などの手段を用いて行えばよい。優れた表面平滑性を有する第１の機能性層を形成することが可能となることから、紫外線硬化性の合成樹脂組成物を使用し、紫外線照射により塗工層を硬化させるのが好ましい。したがって、紫外線硬化性の合成樹脂組成物は、上述した紫外線硬化性樹脂及び光重合開始剤を含むのが好ましい。
【００３６】
紫外線硬化の場合、光源として紫外〜可視領域に発光する多くのものが採用でき、例えば超高圧、高圧、低圧水銀灯、ケミカルランプ、キセノンランプ、ハロゲンランプ、マーキュリーハロゲンランプ、カーボンアーク灯、白熱灯、レーザー光等を挙げることができる。照射時間は、ランプの種類、光源の強さによって一概には決められないが、数秒〜数分程度である。また、硬化促進のために、予め塗工層を４０〜１２０℃に加熱し、これに紫外線を照射してもよい。
【００３７】
第１の機能性層としてハードコート層を形成する場合、ハードコート層の厚さは、通常は１〜５０μｍ、好ましくは５〜４０μｍ、特に好ましくは５〜３５μｍである。また、ハードコート層は、透明基材より屈折率が低いことが好ましく、上記紫外線硬化性樹脂を用いることにより一般に基板より低い屈折率を得られやすい。したがって、透明基材としてはＰＥＴ等の高い屈折率の材料を用いることが好ましく、ハードコート層は屈折率を、１．６０以下にすることが好ましい。
【００３８】
本発明の方法では、上述の通りに、平滑化シートを用いてメッシュ状の電磁波シールド層を有する透明基材上に第１の機能性層としてハードコート層を形成した後、前記ハードコート層上に反射防止層を形成する工程を実施するのが好ましい。このように反射防止層を形成することによって、反射防止性をさらに向上させることができる。
【００３９】
反射防止層としては、屈折率の低い低屈折率層及び／又は屈折率の高い高屈折率層が挙げられる。反射防止層として、ハードコート層上に、（１）ハードコート層より屈折率の低い低屈折率層のみが形成されてもよく、（２）ハードコート層より屈折率の高い高屈折率層と、ハードコート層より屈折率の低い低屈折率層とがこの順で積層されて形成されてもよい。層が多いほど、より良好な反射防止性が得られる。
【００４０】
低屈折率層を形成するには、合成樹脂の他、シリカ、フッ素樹脂等の微粒子、好ましくは中空シリカを含む塗工液が用いられる。
【００４１】
中空シリカとしては、平均粒径１０〜１００ｎｍ、好ましくは１０〜５０ｎｍ、比重０．５〜１．０、好ましくは０．８〜０．９のものが好ましい。
【００４２】
また、シリカ、好ましくは中空シリカは、シランカップリング剤で処理されていてもよい。これにより安定性、反射防止性を向上させることができる。前記シランカップリング剤としては、一般式：ＲnＳｉＸ(4-n)（式中、Ｒは、炭素数１〜４のアルコキシ基、メタアクリロイルアルキル基、メタアクリロイルオキシ基、アクリロイルオキシ基、又はパーフルオロ（メタ）アクリロイル基を表し、Ｘは、炭素数１〜４のアルコキシ基、シラノール基、ハロゲン原子、又は水素原子を表し、ｎは１〜３、好ましくは１の整数を表す）で示されるものが好ましく挙げられる。
【００４３】
シリカをシランカップリング剤で処理するには、シリカの分散液にシランカップリング剤を添加し、必要に応じて酸又はアルカリを加水分解用触媒として添加して処理する方法など、従来公知の方法を使用することができる。
【００４４】
シリカ、フッ素樹脂などの微粒子の含有量は、塗工液に対して、好ましくは１０〜４０質量％、より好ましくは１０〜３０質量％である。
【００４５】
低屈折率層はシリコーンオイルを含有するのが好ましい。低屈折率層におけるシリコーンオイルの含有量は、低屈折率層に含まれる合成樹脂１００質量部に対して、好ましくは０．０００５〜０．１質量部、より好ましくは０．００１〜０．０５質量部である。
【００４６】
高屈折率層を形成するには、合成樹脂の他、ＩＴＯ、ＡＴＯ、Ｓｂ2Ｏ3、ＺｒＯ2、ＳｂＯ2、Ｉｎ2Ｏ3、ＳｎＯ2、ＺｎＯ、ＡｌをドープしたＺｎＯ、ＴｉＯ2等の金属酸化物微粒子を含む塗工液が用いられる。
【００４７】
金属酸化物微粒子は、平均粒径１０〜１００００ｎｍ、好ましくは１０〜５０ｎｍのものが好ましい。ＩＴＯ、特に平均粒径１０〜５０ｎｍのものが好ましい。
【００４８】
高屈折率層はシリコーンオイルを含有するのが好ましい。高屈折率層におけるシリコーンオイルの含有量は、高屈折率層に含まれる合成樹脂１００質量部に対して、好ましくは０．０００５〜０．１質量部、より好ましくは０．００１〜０．０５質量部である。
【００４９】
低屈折率層及び高屈折率層の形成に使用される塗工液は、それぞれ有機溶剤を含んでいてもよい。前記塗工液に使用される合成樹脂、シリコーンオイル及び有機溶剤としては、第１の機能性層に使用される上述したものと同じものをそれぞれ使用できる。
【００５０】
また、低屈折率層及び高屈折率層は、ハードコート層上に各塗工液を順次、塗工した後、紫外線照射することにより形成することができる。塗工方法、及び紫外線照射条件としては、上述したのと同様に行うことができる。この場合、全層を塗工した後にまとめて硬化させてもよいが、各層を１層ずつ塗工して硬化させるのが好ましい。また、硬化前には塗工層上に平滑化シートを積層してもよい。
【００５１】
低屈折率層の厚さは、通常は１０〜５００ｎｍの範囲、好ましくは２０〜２００ｎｍである。また、低屈折率層の屈折率は、１．３５〜１．４５が好ましい。この屈折率が１．４５超であると、反射防止フィルムの反射防止特性が低下する。
【００５２】
高屈折率層の厚さは、通常は１０〜５００ｎｍ、好ましくは２０〜２００ｎｍである。また、高屈折率層の屈折率は１．６４以上であるのが好適である。高屈折率層の屈折率を１．６４以上とすることにより反射防止層の表面反射率の最小反射率を１．５％以内にすることができ、１．６９以上、好ましくは１．６９〜１．８２とすることにより反射防止層の表面反射率の最小反射率を１．０％以内にすることができる。
【００５３】
本発明の方法に使用される透明基材としては、透明度及び可とう性を備え、その後の処理に耐えるものであれば特に制限はない。透明基材の材質としては、例えば、ガラス、ポリエステル（例、ポリエチレンテレフタレート、（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート）、アクリル樹脂（例、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ））、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリスチレン、セルローストリアセテート、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール、金属イオン架橋エチレン−メタクリル酸共重合体、ポリウレタン、セロファン等を挙げることができる、これらの中で、加工処理（加熱、溶剤、折り曲げ）による劣化が少なく、透明性の高い材料であるＰＥＴ、ＰＣ、ＰＭＭＡが好ましい。なかでも、紫外線吸収性を有することから、ＰＥＴであるのが好ましい。透明基材は、これらの材質からなるシート、フィルム、または板として用いられる。
【００５４】
前記透明基材の厚さは、特に制限されないが、６〜２５０μｍ、特に６〜１５０μｍであるのが好ましい。
【００５５】
また、透明基材上に形成されるメッシュ状の電磁波シールド層は、金属を含み導電性を有する。例えば、（１）銅などの金属からなるもの、（２）バインダ樹脂中に導電性粒子を分散させたもの、等を挙げることができる。
【００５６】
（１）銅などの金属からなる電磁波シールド層において、前記金属としては、銅、ステンレス、アルミニウム、ニッケル、鉄、真鍮、或いはこれらの合金、好ましくは銅、ステンレス、アルミニウムが用いられる。
【００５７】
前記（１）の電磁波シールド層を作製するには、まず、スパッタリング、イオンプレーティング、電子ビーム蒸着、真空蒸着、化学蒸着等の気相製膜法や、印刷、塗工などの方法を用いて透明基材上に前記金属からなる金属箔を形成し、その後、前記金属箔をエッチングして開口部を設けることによりメッシュ状にする方法など、公知の方法を用いて行えばよい。
【００５８】
前記（１）の電磁波シールド層を作製するには、上記方法の他にも、透明基材上に、溶剤に対して可溶な材料によってドットを形成し、フィルム面に溶剤に対して不溶な導電材料からなる導電材料層を形成し、フィルム面を溶剤と接触させてドット及びドット上の導電材料層を除去する方法を用いても良い。このような方法は、例えば、特開２００１−３３２８８９号公報などに記載されている。
【００５９】
（２）バインダ樹脂中に導電性粒子を分散させた電磁波シールド層において、前記導電性粒子としては、例えば、アルミニウム、ニッケル、インジウム、クロム、金、バナジウム、スズ、カドミウム、銀、プラチナ、銅、チタン、コバルト、鉛等の金属、合金；或いはＩＴＯ、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化インジウム−酸化スズ（ＩＴＯ、いわゆるインジウムドープ酸化スズ）、酸化スズ−酸化アンチモン（ＡＴＯ、いわゆるアンチモンドープ酸化スズ）、酸化亜鉛−酸化アルミニウム（ＺＡＯ；いわゆるアルミニウムドープ酸化亜鉛）等の導電性酸化物等を挙げることができる。特に、ＩＴＯが好ましい。
【００６０】
バインダ樹脂の例としては、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、マレイン酸樹脂、メラミン樹脂、ユリア樹脂、ポリイミド樹脂、含ケイ素樹脂等を挙げることができる。さらに、これらの樹脂のうち熱硬化性樹脂であることが好ましい。
【００６１】
（２）の電磁波シールド層を作製するには、導電性粒子をバインダ樹脂に分散させた導電性インクを透明基材上にメッシュ状に印刷する方法を用いることができる。前記導電性インクは導電性粒子及びバインダ樹脂の他に、適度な粘度に調整するため、さらに溶剤を含んでいてもよい。前記溶剤としては、ヘキサノール、オクタノール、ノナノール、デカノール、ウンデカノール、ドデカノール、トリデカノール、テトラデカノール、ペンタデカノール、ステアリルアルコール、セリルアルコール、シクロヘキサノール、テルピネオール等のアルコール；エチレングリコールモノブチルエーテル（ブチルセロソルブ）、エチレングリコールモノフェニルエーテル、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノブチルエーテル（ブチルカルビトール）、セロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、カルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート等のアルキルエーテルが挙げられる。
【００６２】
導電性インクを透明基材上にメッシュ状に印刷するには、グラビア印刷、フレキソ印刷、グラビアオフセット印刷、スクリーン印刷、インクジェット印刷、静電印刷など公知の方法を用いて行えばよい。その後、必要に応じ室温〜１２０℃で乾燥させて硬化させる。
【００６３】
電磁波シールド層としては、防眩性及び導電性に優れることから、上述したもののうち（１）の電磁波シールド層を用いるのが好ましい。
【００６４】
電磁波シールド層の線で囲まれた開口部の形状は、円、楕円、角形（４角形、６角形）など任意の形状とすることができるが、一般に角形であり、特に正方形であることが好ましい。また線は網状であるが、格子状とすることが好ましい。
【００６５】
電磁波シールド層におけるメッシュパターンの形状には特に制限はなく、例えば四角形の開口部が形成された格子状や、円形、六角形、三角形又は楕円形の開口部が形成されたパンチングメタル状などが挙げられる。また、開口部は規則的に並んだものに限らず、ランダムパターンとしても良い。
【００６６】
メッシュ状（格子状を含む）の電磁波シールド層の線幅は、一般に２０μｍ以下、好ましくは５〜１５μｍ、特に５〜１２μｍである。線のピッチは２００μｍ以下が好ましい。また、開口率は７５〜９５％であることが好ましく、特に８０〜９５％である。なお、開口率とはメッシュの線幅と１インチ幅に存在する線の数から計算で求めたものである。
【００６７】
電磁波シールド層をさらに低い抵抗値にして、電磁波シールド効果を向上させたい場合は、電磁波シールド層上に金属メッキ層を形成することが好ましい。
【００６８】
金属メッキ層は、公知の電解メッキ法、無電解メッキ法により形成することができる。メッキに使用される金属としては、一般に銅、銅合金、ニッケル、銀、金、亜鉛又はスズ等を使用することが可能であり、これらは単独で使用しても、２種以上の合金として使用しても良い。なかでも、金属メッキ層は、ニッケル及び亜鉛の合金、又はニッケル及びスズの合金からなる層を用いるのが好ましい。これにより、黒色度合い及び導電性に優れる黒色合金導電層が得られ、電磁波シールド性を向上させるとともに防眩性を付与することができる。
【００６９】
ニッケルと亜鉛又はスズとの合金からなる黒色合金導電層におけるニッケルと亜鉛又はスズとの質量比（Ｎｉ／Ｚｎ）は、０．４〜１．４、特に０．２〜１．２とするのが好ましい。これにより黒色の色調が均質な黒色合金導電層を得ることができ、厚さが薄くても高い防眩性を有する電磁波シールド層を得ることができる。
【００７０】
黒色合金導電層の厚さは、０．００１〜１μｍ、特に０．０１〜０．１μｍとするのが好ましい。黒色合金導電層の厚さが、０．００１μｍ未満では十分な電磁波シールド層に十分な防眩性を付与できない恐れがあり、１μｍを超えると電磁波シールド層の厚さが増加して、ディスプレイ用フィルタ表面の平坦化の観点から望ましくない。
【００７１】
また、電磁波シールド層に防眩性能を付与しても良い。この防眩化処理は、電磁波シールド層の表面に黒化処理を行って、黒化層を設けることにより行っても良い。例えば、金属膜の酸化処理、クロム合金等の黒色メッキ、黒又は暗色系のインクの塗布等により行うことができる。
【００７２】
本発明の方法では、上述の通り、メッシュ状の電磁波シールド層を有する透明基材上に第１の機能性層を形成した後、前記透明基材の電磁波シールド層を形成した面とは反対側の面上に、さらに第２の機能性層を形成する工程を実施するのが好ましい。
【００７３】
第２の機能性層は、透明基材の電磁波シールド層が形成された面とは反対側の面に形成され、何らかの機能を示す合成樹脂を含む層であればどのようなものでも良い。第２の機能性層としては、一般に、近赤外線吸収層又は透明粘着剤層、或いはこれらの組合せである。第２の機能性層として具体的には、（１）近赤外線吸収層のみからなるもの、（２）透明粘着剤層からなるもの、又は（３）近赤外線吸収層及び透明粘着剤層からなるもの（この順で透明基材上に設けられている）からなることが好ましい。
【００７４】
第２の機能性層として用いられる近赤外線吸収層（即ち、近赤外線遮蔽層）は、一般に、透明基材の表面に色素等を含む層を形成することにより得られる。近赤外線吸収層は、例えば色素及びバインダとして紫外線硬化性又は電子線硬化性の合成樹脂を含む塗工液を塗工、必要により乾燥、そして硬化させることにより得られる。塗工方法は、第１の機能性層形成用塗工液として上述した方法と同様の方法が用いられる。フィルムとして使用する場合は、一般に近赤外線カットフィルムであり、例えば色素等を含有するフィルムである。
【００７５】
色素としては、一般に８００〜１２００ｎｍの波長に吸収極大を有するもので、例としては、フタロシアニン系色素、金属錯体系色素、ニッケルジチオレン錯体系色素、シアニン系色素、スクアリリウム系色素、ポリメチン系色素、アゾメチン系色素、アゾ系色素、ポリアゾ系色素、ジイモニウム系色素、アミニウム系色素、アントラキノン系色素、を挙げることができ、特にシアニン系色素又はスクアリリウム系色素が好ましい。これらの色素は、単独又は組み合わせて使用することができる。
【００７６】
バインダとしての合成樹脂の例としては、アクリル樹脂、フッ素樹脂、ポリエステル樹脂、塩化ビニル樹脂、スチレン樹脂、およびノルボルネン樹脂などが好ましく用いられる。これらは、１種単独で用いられてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。
【００７７】
本発明では、近赤外線吸収層に、ネオン発光の吸収機能を付与することにより色調の調節機能を持たせても良い。したがって、近赤外線吸収層形成用塗工液にネオン発光の選択吸収色素を含有させても良い。
【００７８】
ネオン発光の選択吸収色素としては、シアニン系色素、スクアリリウム系色素、アントラキノン系色素、フタロシアニン系色素、ポリメチン系色素、ポリアゾ系色素、アズレニウム系色素、ジフェニルメタン系色素、トリフェニルメタン系色素を挙げることができる。このような選択吸収色素は、５８５ｎｍ付近のネオン発光の選択吸収性とそれ以外の可視光波長において吸収が小さいことが必要であるため、吸収極大波長が５７５〜５９５ｎｍであり、吸収スペクトル半値幅が４０ｎｍ以下であるものが好ましい。
【００７９】
また、近赤外線やネオン発光の吸収色素を複数種組み合わせる場合、色素の溶解性に問題がある場合、混合による色素間の反応ある場合、耐熱性、耐湿性等の低下が認められる場合には、すべての近赤外線吸収色素を同一の層に含有させる必要はなく、別の層に含有させても良い。
【００８０】
また、光学特性に大きな影響を与えない限り、近赤外線吸収層形成用塗工液に、さらに着色用の色素、紫外線吸収剤、酸化防止剤等を加えても良い。
【００８１】
本発明のディスプレイ用フィルタの近赤外線吸収特性としては、８５０〜１０００ｎｍの透過率を、２０％以下、さらに１５％するのが好ましい。また選択吸収性としては、５８５ｎｍの透過率が５０％以下であることが好ましい。特に前者の場合には、周辺機器のリモコン等の誤作動が指摘されている波長領域の透過度を減少させる効果があり、後者の場合は、５７５〜５９５ｎｍにピークを持つオレンジ色が色再現性を悪化させる原因であることから、このオレンジ色の波長を吸収させる効果があり、これにより真赤性を高めて色の再現性を向上させたものである。
【００８２】
近赤外線吸収層の厚さは、特に制限はないが、近赤外線の吸収性及び可視光透過性の点で、０．５〜５０μｍ程度が好ましい。
【００８３】
近赤外線吸収層は、色調補正用の色素を含有していることが好ましい。或いは色調補正用の色素を含む色調補正層を、近赤外線吸収層と同様にして設けても良い。
【００８４】
色調補正用の色素としては、近赤外線遮蔽層の黄褐色〜緑色の色調を中性化してカラーバランスを整えるために、それらの補色となるようなものが好ましい。このような色素としては、無機系顔料、有機系顔料、有機系染料、色素等一般的なものが挙げることができる。無機顔料としては、コバルト化合物、鉄化合物、クロム化合物等を挙げることができ、有機顔料としては、アゾ系、インドリノン系、キナクリドン系、バット系、フタロシアニン系、ナフタロシアニン系等を挙げることができ、前記有機系染料及び色素には、アゾ系、アジン系、アントラキノン系、インジゴイド系、オキサジン系、キノフタロン系、スクワリウム系、スチルベン系、トリフェニルメタン系、ナフトキノン系、ピラロゾン系、ポリメチン系等を挙げることができるが、これらの内で、発色性と耐久性の兼合いから有機系顔料が好適に用いられる。
【００８５】
透明粘着剤層は、本発明のディスプレイ用フィルタをディスプレイに接着するための層であり、接着機能を有するものであればどのような樹脂でも使用することができる。
【００８６】
透明粘着剤層における接着機能を有する樹脂としては、例えば、エチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）、エチレン−アクリル酸メチル共重合体、アクリル樹脂（例、エチレン−（メタ）アクリル酸共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸エチル共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸メチル共重合体、金属イオン架橋エチレン−（メタ）アクリル酸共重合体）、部分鹸化エチレン−酢酸ビニル共重合体、カルボキシル化エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−（メタ）アクリル−無水マレイン酸共重合体、エチレン−酢酸ビニル−（メタ）アクリレート共重合体等のエチレン系共重合体を挙げることができる（なお、「（メタ）アクリル」は「アクリル又はメタクリル」を示す。）。その他、ポリビニルブチラール（ＰＶＢ）樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、シリコン樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、ゴム系粘着剤、ＳＥＢＳ（スチレン／エチレン／ブチレン／スチレン）及びＳＢＳ（スチレン／ブタジエン／スチレン）等の熱可塑性エラストマー等も用いることができるが、良好な接着性が得られやすいのはアクリル樹脂系粘着剤、エポキシ樹脂である。
【００８７】
透明粘着剤層の厚さは、一般に１０〜５０μｍ、好ましくは、２０〜３０μｍの範囲が好ましい。ディスプレイ用フィルタは、一般に上記粘着剤層をディスプレイのガラス板に加熱圧着することによる装備することができる。
【００８８】
前記透明粘着剤層の材料として、ＥＶＡも使用する場合、ＥＶＡとしては酢酸ビニル含有量が５〜５０重量％、好ましくは１５〜４０重量％のものが使用される。酢酸ビニル含有量が５重量％より少ないと透明性に問題があり、また４０重量％を超すと機械的性質が著しく低下する上に、成膜が困難となり、フィルム相互のブロッキングが生じ易い。
【００８９】
ＥＶＡなどを使用する場合、透明粘着剤層はさらに架橋剤を含んでいてもよい。架橋剤としては加熱架橋する場合は、有機過酸化物が適当であり、シート加工温度、架橋温度、貯蔵安定性等を考慮して選ばれる。使用可能な過酸化物としては、例えば２，５−ジメチルヘキサン−２，５−ジハイドロパーオキサイド；２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン−３；ジーｔ−ブチルパーオキサイド；ｔ−ブチルクミルパーオキサイド；２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン；ジクミルパーオキサイド；α，α’−ビス（ｔ−ブチルパーオキシイソプロピル）ベンゼン；ｎ−ブチル−４，４−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）バレレート；２，２−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）ブタン；１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）シクロヘキサン；１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン；ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート；ベンゾイルパーオキサイド；第３ブチルパーオキシアセテート；２，５−ジメチル−２，５−ビス（第３ブチルパーオキシ）ヘキシン−３；１，１−ビス（第３ブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン；１，１−ビス（第３ブチルパーオキシ）シクロヘキサン；メチルエチルケトンパーオキサイド；２，５−ジメチルヘキシル−２，５−ビスパーオキシベンゾエート；第３ブチルハイドロパーオキサイド；ｐ−メンタンハイドロパーオキサイド；ｐ−クロルベンゾイルパーオキサイド；第３ブチルパーオキシイソブチレート；ヒドロキシヘプチルパーオキサイド；クロルヘキサノンパーオキサイド等を挙げることができる。これらの過酸化物は１種を単独で又は２種以上を混合して、通常ＥＶＡ１００重量部に対して、５質量部以下、好ましくは０．５〜５．０質量部の割合で使用される。
【００９０】
有機過酸化物は通常ＥＶＡに対し押出機、ロールミル等で混練されるが、有機溶媒、可塑剤、ビニルモノマー等に溶解し、ＥＶＡのフィルムに含浸法により添加しても良い。
【００９１】
なお、ＥＶＡの物性（機械的強度、光学的特性、接着性、耐候性、耐白化性、架橋速度など）改良のために、各種アクリロキシ基又はメタクリロキシ基及びアリル基含有化合物を透明粘着剤層にさらに添加することができる。この目的で用いられる化合物としてはアクリル酸又はメタクリル酸誘導体、例えばそのエステル及びアミドが最も一般的であり、エステル残基としてはメチル、エチル、ドデシル、ステアリル、ラウリル等のアルキル基の他、シクロヘキシル基、テトラヒドロフルフリル基、アミノエチル基、２−ヒドロキシエチル基、３−ヒドロキシプロピル基、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル基などが挙げられる。また、エチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール等の多官能アルコールとのエステルを用いることもできる。アミドとしてはダイアセトンアクリルアミドが代表的である。
【００９２】
その例としては、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、グリセリン等のアクリル又はメタクリル酸エステル等の多官能エステルや、トリアリルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレート、フタル酸ジアリル、イソフタル酸ジアリル、マレイン酸ジアリル等のアリル基含有化合物が挙げられ、これらは１種を単独で或いは２種以上を混合して、通常ＥＶＡ１００質量部に対して０．１〜２質量部、好ましくは０．５〜５質量部用いられる。
【００９３】
ＥＶＡを光により架橋する場合、透明粘着剤層には、上記過酸化物の代りに光増感剤が通常ＥＶＡ１００質量部に対して５質量部以下、好ましくは０．１〜３．０質量部使用される。
【００９４】
この場合、使用可能な光増感剤としては、例えばベンゾイン、ベンゾフェノン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ジベンジル、５−ニトロアセナフテン、ヘキサクロロシクロペンタジエン、ｐ−ニトロジフェニル、ｐ−ニトロアニリン、２，４，６−トリニトロアニリン、１，２−ベンズアントラキノン、３−メチル−１，３−ジアザ−１，９−ベンズアンスロンなどが挙げられ、これらは１種を単独で或いは２種以上を混合して用いることができる。
【００９５】
また、透明粘着剤層には、接着促進剤としてシランカップリング剤が併用されてもよい。このシランカップリング剤としては、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（β−メトキシエトキシ）シラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルメトキシシラン、ビニルトリクロロシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシランなどが挙げられる。
【００９６】
シランカップリング剤は、一般にＥＶＡ１００質量部に対して０．００１〜１０質量部、好ましくは０．００１〜５質量部の割合で１種又は２種以上が混合使用される。
【００９７】
なお、本発明に係る透明粘着剤層には、その他、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、老化防止剤、塗料加工助剤、着色剤等を少量含んでいてもよく、また、場合によってはカーボンブラック、疎水性シリカ、炭酸カルシウム等の充填剤を少量含んでも良い。
【００９８】
透明粘着剤層は、例えばＥＶＡと上述の添加剤とを混合し、押出機、ロール等で混練した後、カレンダー、ロール、Ｔダイ押出、インフレーション等の成膜法により所定の形状にシート成形することにより製造される。
【００９９】
透明粘着剤層上にはさらに剥離シートが設けられるのが好ましい。剥離シートの材料としては、ガラス転移温度が５０℃以上の透明のポリマーが好ましく、このような材料としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリシクロヘキシレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、ナイロン４６、変性ナイロン６Ｔ、ナイロンＭＸＤ６、ポリフタルアミド等のポリアミド系樹脂、ポリフェニレンスルフィド、ポリチオエーテルサルフォン等のケトン系樹脂、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン等のサルフォン系樹脂の他に、ポリエーテルニトリル、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、トリアセチルセルロース、ポリスチレン、ポリビニルクロライド等のポリマーを主成分とする樹脂を用いることができる。これら中で、ポリカーボネート、ポリメチルメタアクリレート、ポリビニルクロライド、ポリスチレン、ポリエチレンテレフタレートが好適に用いることができる。厚さは１０〜２００μｍが好ましく、特に３０〜１００μｍが好ましい。
【０１００】
本発明の好ましい一実施形態である上述したハードコート層、低屈折率層、及び高屈折率層からなる反射防止層を含む第１の機能性層と、近赤外線吸収層及び透明粘着剤層とを含む第２の機能性層とを有するディスプレイ用フィルタの模式断面図を図２に示す。図２に示すディスプレイ用フィルタは、透明基材２１０と、前記透明基材２１０上に形成されたメッシュ状の電磁波シールド層２２０と、電磁波シールド層２２０上に形成されたハードコート層２３０ｂと、ハードコート層２３０ｂ上に形成された低屈折率層２４０と、前記低屈折率層２４０上に形成された高屈折率層２５０とを有する。さらに、前記ディスプレイ用フィルタは、透明基材２１０の電磁波シールド層２２０が形成された面とは反対側の面に、近赤外線吸収層２６０と、透明粘着剤層２７０とを有する。
【０１０１】
上述した本発明の方法によれば、高い表面平滑性を有する第１の機能性層、好ましくはハードコート層を形成することができる。したがって、このようなハードコート層上に形成された反射防止層は、表面粗さＲａが０．１μｍ以下、好ましくは０．０１〜０．１μｍ、より好ましくは０．０１〜０．０８μｍと高い表面平滑性を有し、これにより、光の乱反射を抑制し、反射防止性が優れるディスプレイ用フィルタが得られる。
【０１０２】
なお、本発明において、反射防止層及び平滑化シートの表面粗さＲａは、ＪＩＳ  Ｂ０６０１−２００１に従って、表面粗さ計（サーフコム４８０Ａ  東京精密株式会社製）を用いて測定することができる。
【０１０３】
本発明の方法により製造されるディスプレイ用フィルタは、特に制限されないが、ディスプレイの画像表示ガラス板の表面に透明粘着層を介して貼合する等の手段を用いて、ディスプレイに適用できる。このようなディスプレイとしては、表面電界型ディスプレイ（ＳＥＤ）を含む電界放出型ディスプレイ（ＦＥＤ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、ＥＬディスプレイ等のフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）、及びＣＲＴディスプレイなどが挙げられる。
【実施例】
【０１０４】
以下、実施例を示して本発明を具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
【０１０５】
（実施例１）
１．メッシュ状電磁波シールド層の形成
ポリエチレンテレフタレートフィルム（厚さ１００μｍ）上に、ポリビニルアルコールの２０％水溶液をドット状に印刷した。ドット１個の大きさは１辺が１５５μｍの正方形状であり、ドット同士間の間隔は２０μｍであり、ドット配列は正方格子状である。印刷厚さは、乾燥後で０．２μｍである。
【０１０６】
その上に、銅を平均膜厚０．４μｍとなるように真空蒸着した。次いで、常温の水に浸漬し、スポンジで擦ることによりドット部分を溶解除去し、次いで水でリンスした後、乾燥してポリエチレンフィルムの全面にメッシュ状の電磁波シールド層を形成した。
【０１０７】
このフィルム表面の電磁波シールド層は、正確にドットのネガパターンに対応した正方格子状のものであり、平均厚さは３．６μｍ、平均線幅は３０μｍ、平均ピッチは１７０μｍ、開口率は１８％であった。
【０１０８】
２．黒色合金導電層の形成
ＰＥＴフィルム上に形成された電磁波シールド層に対して下記条件により亜鉛−ニッケル合金めっきを行うことにより、電磁波シールド層の全面を被覆する黒色合金導電層（厚さ０．２μｍ）を形成した。
【０１０９】
（めっき条件）
めっき液の温度：４０℃
電流密度      ：５〜１０Ａ／ｄｍ2
めっき時間    ：１０秒
めっき液量    ：１２０ｍ3
（めっき液組成）
ＺｎＣｌ2を用いＺｎ2+濃度が２．０ｇ／ｌ、ＮｉＣｌ2・６Ｈ2Ｏを用いてＮｉ2+濃度が０．５ｇ／ｌ、ＫＣｌを用いてＫ+濃度が２５０ｇ／ｌ、ｐＨ１０めっき液を用いた。
【０１１０】
３．ハードコート層の形成
樹脂成分としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート１００質量部に対して、重合開始剤（イルガキュア（登録商標）１８４（チバスペシャリティケミカル社製））５質量部を添加し、固形分Ａを得た。一方、２−プロパノールとシクロヘキサノンとを質量比７：３で混合することにより溶剤Ａを得た。固形分Ａと溶剤Ａとを質量比２：８で混合し、さらにシリコーンオイル（ＫＦ９６−２００ＣＳ  信越シリコーン）を０．０２質量部添加し、室温で１時間撹拌することにより、ハードコート層用塗料を調製した。
【０１１１】
次に、ハードコート層用塗料を、上記電磁波シールド層の全面に、バーコータにより塗布し、得られた塗工層を１２０℃で３０秒間乾燥させた。前記塗工層上に平滑化シートとしてポリエチレンテレフタレートフィルム（テイジン（登録商標）テトロン（登録商標）フィルム３  帝人デュポンフィルム株式会社製、表面粗さＲａ０．００８μｍ）をハンドローラーを使用して積層し、積算光量６００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射した後、前記ポリエチレンテレフタレートフィルムを剥離して、電磁波シールド層上にハードコート層（厚さ１０μｍ、屈折率１．４９）を形成した。
【０１１２】
４．高屈折率層の形成
二酸化チタンと二酸化ジルコニウムの複合コロイドゾル（平均粒子径１３．１μｍ、固形分濃度３０質量％、メタノール溶剤、二酸化チタンと二酸化ジルコニウムの質量比＝８５：１５）２００質量部に対し、樹脂成分としてトリメチロールプロパンアクリレート（ＥＯ３モル付加）５０質量部、重合開始剤（イルガキュア（登録商標）１８００（チバスペシャリティケミカル社製））７質量部、溶剤としてイソプロピルアルコールを５０質量部、さらにシリコーンオイル（ＫＦ９６−５０ＣＳ  信越シリコーン）を０．０１質量部添加し、室温で１時間撹拌した後、孔径１μｍのポリプロピレンフィルターでろ過することにより、高屈折率層用塗料を調製した。
【０１１３】
次に、高屈折率層用塗料を、上記ハードコート層上に、バーコータにより塗布し、８０℃で１０秒間乾燥させた後、積算光量６００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して、ハードコート層上に高屈折率層（厚さ１１０ｎｍ、屈折率１．７０）を形成した。
【０１１４】
５．低屈折率層の形成
シリカ微粒子のメタノール分散液（平均粒子径１５ｎｍ、固形分濃度５０質量％）１００質量部に対し、シランカップリング剤として３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ−５０３  信越シリコーン）３質量部、触媒として１Ｎ塩酸１質量部を添加し、室温で１２時間撹拌した後、５０時間室温で放置することにより、シランカップリング処理したシリカ微粒子分散液を調製した。
【０１１５】
このシリカ微粒子分散液５質量部に対し、樹脂成分としてペンタエリスリトールヘキサアクリレート２５質量部、溶剤としてメチルイソブチルケトン９４質量部及びイソブチルアルコール５質量部、重合開始剤（イルガキュア（登録商標）９０７（チバスペシャリティケミカル社製））２質量部、さらにシリコーンオイル（ＫＦ９６−５０ＣＳ  信越シリコーン）を０．００１質量部添加し、室温で１時間撹拌した後、孔径１μｍのポリプロピレンフィルターでろ過することにより、低屈折率層用塗料を調製した。
【０１１６】
次に、低屈折率調製用塗料を、上記高屈折率層上に、バーコータにより塗布し、８０℃で１０秒間乾燥させた後、積算光量６００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して、ハードコート層上に高屈折率層（厚さ９５ｎｍ、屈折率１．３９）を形成した。これにより、ディスプレイ用フィルタを得た。
【０１１７】
（実施例２）
実施例１のハードコート層用塗料において、樹脂成分をジペンタエリスリトールヘキサアクリレート１００質量部を、ペンタエリスリトールテトラアクリレート５０質量部、及びエトキシカビスフェノールＡジアクリレート（ＥＯ４モル付加）５０質量部に変更し、ハードコート層の厚さを１４μｍとした以外は、実施例１と同様の方法でディスプレイ用フィルタを作製した。
【０１１８】
（比較例１）
ハードコート層の形成において、平滑化シートとしてのポリエチレンテレフタレートフィルムを使用しなかった以外は、実施例１と同様にして、ディスプレイ用フィルタを作製した。
【０１１９】
（比較例２）
ハードコート層の形成において、平滑化シートとしてのポリエチレンテレフタレートフィルムを使用せず、ハードコート層の厚さを２０μｍとした以外は、実施例２と同様にして、ディスプレイ用フィルタを作製した。
【０１２０】
（評価）
１．ハードコート層の厚さ
ハードコート層の厚さは、薄膜測定計Ｆ２０（フィルメトリクス株式会社製）を用いて測定した。結果を表１に示す。
【０１２１】
２．表面粗さＲａ
ディスプレイ用フィルタにおける高屈折率層の表面粗さＲａを、表面粗さ計（サーフコム４８０Ａ  株式会社東京精密製）を用いて、ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１（１９９４）により規定された測定条件、測定長さ４ｍｍ、カットオフ値０．８ｍｍで測定した。結果を表１に示す。
【０１２２】
３．反射率（最低反射率、視感反射率）
ディスプレイ用フィルタの裏面（電磁波シールド層形成面の裏面）に黒ビニールテープをハンドローラーを用いて貼り、分光光度計（Ｕ−４０００  株式会社日立ハイテクノロジーズ製）を用いて、５°正反射率を測定することにより、低反射膜付き透明基材の反射率（最低反射率、視感反射率）を測定した。４００ｎｍ〜７００ｎｍの波長内の最も低い反射率を最低反射率とし、波長４００〜７００ｎｍの範囲における平均反射率を視感反射率とする。結果を表１に示す。
【０１２３】
４．ハードコート層の鉛筆硬度
ＪＩＳ−５６００−５−４に基づいて、作製されたハードコート層について５００ｇ荷重で測定した。ハードコート層上に鉛筆を置き、４５度の角度、上から５００ｇの荷重を掛けて５ｍｍ程度引っかき、傷の付き具合を確認する。結果を表１に示す。
【０１２４】
【表１】
2010002739.tif 000003
【産業上の利用可能性】
【０１２５】
本発明の方法は、ディスプレイに表示された画像の視認性に優れることから、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、フィールドエミッションディスプレイなどのディスプレイ全面に設置されるディスプレイ用フィルタの製造方法として有用である。
【図面の簡単な説明】
【０１２６】
【図１】本発明の製造方法を、各工程に沿って説明した説明図である。
【図２】本発明のディスプレイ用フィルタの断面図を示す。
【符号の説明】
【０１２７】
１１０、２１０        透明基材、
１２０、２２０        メッシュ状の電磁波シールド層、
１３０ａ              塗工層、
１３０ｂ、２３０ｂ    ハードコート層、
１８０                平滑化シート、
２４０                低屈折率層、
２５０                高屈折率層、
２６０                近赤外線吸収層、
２７０                透明粘着剤層。
【図１】
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【図２】
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