(57)【要約】【課題】  従来は不良品とみなされていたガラス基板を再生することが可能なガラス基板の製造方法を提供する。【解決手段】本発明のガラス基板１の製造方法においては、ガラス基材１ａを検査する工程において、ガラス基材１ａの検査で主表面７ａ、７ｂの両面が磁気記録媒体形成の条件を満たしていない場合に主表面７ａ、７ｂをテープテクスチャで研磨し、その後に再度検査を行い、磁気記録媒体形成の条件を満たす場合に出荷している。【選択図】      図７
2010218635.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
磁気ディスク用基板の両主表面が磁気記録媒体形成の条件を満たしているか否か判定するための表面検査を行い、両方の前記主表面が前記条件を満たす場合に前記磁気ディスク用基板を両面品の良品として取り扱う工程（ａ）と、
前記工程（ａ）で少なくとも一方の前記主表面が前記条件を満たさないと判断された場合に、前記主表面の少なくとも一方が研磨により前記条件を満たすように再生可能か否かを判断する工程（ｂ）と、
前記工程（ｂ）で再生可能と判断された場合に、再生可能と判断された前記主表面を研磨する工程（ｃ）と、
研磨した前記主表面が前記条件を満たしているか否か判定するための表面検査を行い、前記条件を満たす場合に両面品の良品として取り扱うと共に、片面品の良品としても取り扱う工程（ｄ）と、
を有することを特徴とする磁気ディスク用基板の製造方法。
【請求項２】
前記工程（ｃ）は、再生可能と判断された前記主表面の全面を研磨する工程であることを特徴とする請求項１記載の磁気ディスク用基板の製造方法。
【請求項３】
前記工程（ｂ）は、
磁気ディスク用基板の一方の主表面が磁気記録媒体形成の条件を満たしているか否かを判断する工程を有し、
前記工程（ｃ）は、
少なくとも磁気記録媒体形成の条件を満たしている前記主表面を研磨する工程を有することを特徴とする請求項２記載の磁気ディスク用基板の製造方法。
【請求項４】
前記工程（ｂ）は、
前記主表面が前記条件を満たさないと判断された場合に、前記条件を満たさない理由がパーティクルの付着であるか否かを判断する工程を有し、
前記工程（ｃ）は、少なくともパーティクルの付着した前記主表面を研磨する工程を有することを特徴とする請求項２記載の磁気ディスク用基板の製造方法。
【請求項５】
前記工程（ｂ）は、
磁気ディスク用基板の一方の主表面が磁気記録媒体形成の条件を満たしているか否かを判断し、かつ、他の主表面が前記条件を満たさない理由がパーティクルの付着であるか否かを判断する工程を有し、
前記工程（ｃ）は、一方の前記主表面が磁気記録媒体形成の条件を満たしており、かつ、他の前記主表面が前記条件を満たさない理由がパーティクルの付着である場合、前記主表面の両面を研磨する工程を有することを特徴とする請求項２記載の磁気ディスク用基板の製造方法。
【請求項６】
前記工程（ｂ）は、
磁気ディスク用基板の主表面の両面が前記条件を満たさない理由がパーティクルの付着であるか否かを判断する工程を有し、
前記工程（ｃ）は、前記主表面の両面が前記条件を満たさない理由がパーティクルの付着である場合、前記主表面の両面を研磨する工程を有することを特徴とする請求項２記載の磁気ディスク用基板の製造方法。
【請求項７】
前記工程（ｃ）は、前記主表面をテープテクスチャにより研磨する工程であることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の磁気ディスク用基板の製造方法。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれかに記載の磁気ディスク用基板の製造方法により製造されたことを特徴とする磁気ディスク用基板。
【請求項９】
請求項８記載の磁気ディスク用基板と、
前記磁気ディスク用基板の表面に設けられた下地層、磁性層、保護層、潤滑層を有することを特徴とする磁気記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はガラス基板の製造方法、ガラス基板の製造方法により製造されたガラス基板、および磁気記録媒体に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、情報化技術の高度化に伴い、情報記録技術、特に磁気記録技術は著しく進歩している。
【０００３】
このような磁気記録技術のひとつであるＨＤＤ（ハードディスクドライブ）は、ディスク状の基板の表面に磁性体薄膜からなる磁気記録層を有した磁気ディスクと、磁気ディスクを高速で回転させるスピンドルモータと、スイングアームの先端に取り付けられ磁気ディスクの磁気記録層に磁気データを読み書きする磁気ヘッドと、磁気ヘッドを磁気ディスク上の半径方向に移動する位置決め装置とを主な構成要素としている（特許文献１）。
【０００４】
磁気ディスクの両主表面に形成された磁気記録層に対してそれぞれ磁気ヘッドが対向配置されるので、１つの磁気ディスクにつき２つの磁気ヘッドを備えているのが、一般的な構成である。ここで、磁気記録媒体用基板としては、かつてはアルミニウム基板が広く用いられてきた。
【０００５】
しかしながら、磁気ディスクの小型化、薄板化、および高密度記録化に伴い、近年は、アルミニウム基板に比べ基板表面の平坦性及び基板強度に優れたガラス基板の需要が高まっている。
【０００６】
ガラス基板は、従来、例えば、特許文献２の段落〔０００４〕に示すように、ガラスを円盤状に形成して面取りを行い、端面および主表面を研磨し、その後に耐衝撃性や耐振動性を向上させるための化学強化処理を施すことにより製造されていた（特許文献２）。
【０００７】
このようにして製造されたガラス基板は、両面に磁性層等の記録層を設けることにより、磁気記録媒体として利用されてきた。
【０００８】
一方で、最近はディスク容量が拡大されてきたので、高価な磁気ヘッドは磁気ディスクの片側にだけ設置し、磁気ディスクの片側にのみ磁気記録層を設けて読み書きする片面品のＨＤＤが登場している。
【０００９】
これにより、高価な磁気ヘッドの個数を減らすことで、ＨＤＤの低コスト化を図ることができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特開２００１−２４３７３５号公報
【特許文献２】特開２０００−０７６６５２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
ここで、ガラス基板の製造工程においては、最後に検査工程で主表面の欠陥の有無を検査し、スペックに収まらない欠陥が検出された磁気ディスク用ガラス基板は不良品として廃棄される。
【００１２】
特に、近年では高記録密度化に伴い、磁気ヘッドの基板（磁気ディスク）からの浮上量が狭くなったことにより、検査条件が厳しくなっており、従来よりも不良品が発生しやすくなっている。
【００１３】
そのため、不良品を再生する技術が求められている。
【００１４】
しかしながら、従来は、不良品を欠陥の内容によって両面品または片面品のいずれとしても再生可能な技術は確立されていない。
【００１５】
本発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、従来は不良品とみなされていたガラス基板を必要な形態にて再生することが可能なガラス基板の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
上記課題を解決するため、本発明は以下の構成を有する。
【００１７】
（構成１）磁気ディスク用基板の両主表面が磁気記録媒体形成の条件を満たしているか否か判定するための表面検査を行い、両方の前記主表面が前記条件を満たす場合に前記磁気ディスク用基板を両面品の良品として取り扱う工程（ａ）と、前記工程（ａ）で少なくとも一方の前記主表面が前記条件を満たさないと判断された場合に、前記主表面の少なくとも一方が研磨により前記条件を満たすように再生可能か否かを判断する工程（ｂ）と、前記工程（ｂ）で再生可能と判断された場合に、再生可能と判断された前記主表面を研磨する工程（ｃ）と、研磨した前記主表面が前記条件を満たしているか否か判定するための表面検査を行い、前記条件を満たす場合に両面品の良品として取り扱うと共に、片面品の良品としても取り扱う工程（ｄ）と、を有することを特徴とする磁気ディスク用基板の製造方法。
【００１８】
（構成２）前記工程（ｃ）は、再生可能と判断された前記主表面の全面を研磨する工程であることを特徴とする構成１記載の磁気ディスク用基板の製造方法。
【００１９】
（構成３）前記工程（ｂ）は、磁気ディスク用基板の一方の主表面が記録層形成の条件を満たしているか否かを判断する工程を有し、前記工程（ｃ）は、少なくとも磁気記録媒体形成の条件を満たしている前記主表面を研磨する工程を有することを特徴とする構成２記載の磁気ディスク用基板の製造方法。
【００２０】
（構成４）前記工程（ｂ）は、前記主表面が前記条件を満たさないと判断された場合に、前記条件を満たさない理由がパーティクルの付着であるか否かを判断する工程を有し、前記工程（ｃ）は、少なくともパーティクルの付着した前記主表面を研磨する工程を有することを特徴とする構成２記載の磁気ディスク用基板の製造方法。
【００２１】
（構成５）前記工程（ｂ）は、磁気ディスク用基板の一方の主表面が磁気記録媒体形成の条件を満たしているか否かを判断し、かつ、他の主表面が前記条件を満たさない理由がパーティクルの付着であるか否かを判断する工程を有し、前記工程（ｃ）は、一方の前記主表面が磁気記録媒体形成の条件を満たしており、かつ、他の前記主表面が前記条件を満たさない理由がパーティクルの付着である場合、前記主表面の両面を研磨する工程を有することを特徴とする構成２記載の磁気ディスク用基板の製造方法。
【００２２】
（構成６）前記工程（ｂ）は、磁気ディスク用基板の主表面の両面が前記条件を満たさない理由がパーティクルの付着であるか否かを判断する工程を有し、前記工程（ｃ）は、前記主表面の両面が前記条件を満たさない理由がパーティクルの付着である場合、前記主表面の両面を研磨する工程を有することを特徴とする構成２記載の磁気ディスク用基板の製造方法。
【００２３】
（構成７）前記工程（ｃ）は、前記主表面をテープテクスチャにより研磨する工程であることを特徴とする構成１〜６のいずれかに記載の磁気ディスク用基板の製造方法。
【００２４】
（構成８）構成１〜７のいずれかに記載の磁気ディスク用基板の製造方法により製造されたことを特徴とする磁気ディスク用基板。
【００２５】
（構成９）構成８記載の磁気ディスク用基板と、前記磁気ディスク用基板上に下地層、磁性層、保護層、潤滑層を有することを特徴とする磁気記録媒体。
【発明の効果】
【００２６】
本発明によれば、従来は不良品とみなされていたガラス基板を必要な形態にて再生することが可能なガラス基板の製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】図１（ａ）はガラス基板１の平面図、図１（ｂ）は図１（ａ）のＡ−Ａ断面図、図１（ｃ）は磁気記録媒体１００を示す断面図である。
【図２】ガラス基板１の製造方法の概略を示す図である。
【図３】ガラス基板１の製造方法の詳細を示すフローチャートである。
【図４】研削装置２１を示す断面図である。
【図５】化学強化装置５１を示す斜視図である。
【図６】研磨装置２１ａを示す断面図である。
【図７】図３のステップ１０９の詳細を示すフローチャートである。
【図８】図３のステップ１０９の詳細を示すフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００２８】
以下、図面に基づき、本発明の実施形態を詳細に説明する。
【００２９】
まず、図１を参照して、本実施形態に係るガラス基板１の製造方法を用いて製造されるガラス基板１の構造について簡単に説明する。
【００３０】
図１（ａ）に示すように、ガラス基板１は、円板形状を有する本体３を有し、本体３の中心には内孔５が形成されている。
【００３１】
図１（ｂ）に示すように、本体３は、実質的に平滑な主表面７ａ、７ｂを有している。
【００３２】
主表面７ａ、７ｂは、情報を記録再生するための層が形成される面であり、例えば図１（ｃ）に示すように、主表面７ａ、７ｂの一方または両方に、下地層１８ａ、磁性層１８ｂ、保護層１８ｃ、潤滑層１８ｄを設けることにより、ガラス基板１は、磁気記録媒体１００となる(少なくとも磁性層１８ｂは記録層として必要)。
【００３３】
また、図１（ｂ）に示すように、本体３は主表面７ａ、７ｂに対して直交している内周端面１１および外周端面９を有している。
【００３４】
内周端面１１および外周端面９は面取されており、それぞれ内周面取面１３および外周面取面１５が設けられている。
【００３５】
さらに、本体３は表面に化学強化層１７が形成されている。
【００３６】
化学強化層１７の詳細については後述するが、例えば、ガラス基板１の原料となるガラスのイオンの一部を、よりイオン半径の大きいイオンに置換し、圧縮応力層とした層である。
【００３７】
次に、図２〜図６を参照して、本実施形態に係るガラス基板１の製造方法について説明する。
【００３８】
なお、以下の説明では、製造工程中におけるガラスを「ガラス基材１ａ」と称し、完成品を「ガラス基板１」と称することにする。
【００３９】
まず、製造方法の概略について、図２を参照して簡単に説明する。
【００４０】
まず、原料となるガラスを加工して図２に示すような円板状のガラス基材１ａを製造する。
【００４１】
次に、ガラス基材１ａに化学強化を行い、表面に圧縮応力層を形成する。
【００４２】
次に、化学強化を行ったガラス基材１ａの主表面７ａ、７ｂを研磨して、実質的に平滑にする。
【００４３】
ここで、図２から明らかなように、本実施形態では、ガラス基材１ａに化学強化を行った後に主表面７ａ、７ｂを研磨しており、化学強化後に研磨を行う製造方法であるが、研磨後に化学強化を行っても良く、また必要に応じて研磨工程（端面および表面研磨）を２段、３段に分けて実施しても良い。
【００４４】
次に、図３〜図６を参照して、具体的な製造方法について説明する。
【００４５】
まず、図３に示すように、原料となるガラスを円板状に成形してガラス基材１ａを製造する（ステップ１０１）。
【００４６】
原料となるガラスとしては例えばフロート法、ダウンドロー法、リドロー法又はプレス法で製造されたソーダライムガラス、アルミノシリケートガラス、ボロシリケートガラス、結晶化ガラス等が挙げられる。
【００４７】
なお、以下の実施形態ではプレス法で製造されたガラスを例に説明する。
【００４８】
次に、図３および図４に示すように、ガラス基材１ａの板厚調整のため、研削装置２１を用いて主表面７ａ、７ｂを研削（第１ラッピング）する（ステップ１０２）。
【００４９】
ここで、研削に用いる研削装置２１の構造および研削の方法の一例について、図４を参照して簡単に説明する。
【００５０】
図４に示すように、研削装置２１は、太陽歯車２３と、その外方に同心円状に配置される内歯歯車２５と、太陽歯車２３及び内歯歯車２５に噛み合い、太陽歯車２３や内歯歯車２５の回転に応じて公転及び自転するキャリア２７と、このキャリア２７に保持されたガラス基材１ａを挟持可能な上定盤２９及び下定盤３１と、上定盤２９と下定盤３１との間に研磨液を供給する研磨液供給部（図示せず）とを備えている。
【００５１】
研削装置２１は、研削加工時には、キャリア２７に保持されたガラス基材１ａを上定盤２９及び下定盤３１とで挟持し、上定盤２９及び下定盤３１とガラス基材１ａとの間に研磨液を供給しながら、太陽歯車２３や内歯歯車２５の回転に応じてキャリア２７が公転及び自転することにより、ガラス基材１ａの上下両面（主表面７ａ、７ｂ）が研削加工される。
【００５２】
また、研磨液は、例えば、アルミナ等の砥粒を水に分散させてスラリーとしたものが用いられる。
【００５３】
次に、図３に示すように、ガラス基材１ａの中心に内孔５（図１参照）を形成する（ステップ１０３）。
【００５４】
内孔５の形成は、例えばコアドリルを用いて行う。
【００５５】
なお、シートガラスを用いた場合は、ステップ１０１〜１０３は行わず、代わりに、カッターを用いてシート形状から円板形状にガラスを切り出し、さらに内孔５を切り出す工程（カッティング工程）を行う。
【００５６】
次に、図３に示すように、ガラス基材１ａの端面のクラックを除去するため、内周端面１１および外周端面９の面取を行う（ステップ１０４）。面取は、例えばダイヤモンド砥粒が付着した砥石を用いて行う。
【００５７】
なお、面取後に主表面７ａ、７ｂを研削（第２ラッピング）する工程を追加してもよい。これにより、内孔５の形成や面取によって生じた凹凸を研削でき、研磨の際の負担を軽減できる。
【００５８】
次に、図３に示すように、ガラス基材１ａの内周端面１１および外周端面９の研磨、即ち端面研磨を行う（ステップ１０５）。
【００５９】
端面研磨は例えば回転ブラシを用いて行う。
【００６０】
次に、図３に示すように、ガラス基材１ａに化学強化を行い、化学強化層１７を形成する（ステップ１０６）。
【００６１】
ここで、化学強化に用いる化学強化装置５１の構造および化学強化の方法の一例について、図５を参照して簡単に説明する。
【００６２】
図５に示すように、化学強化装置５１は、ガラス基材１ａを保持するホルダ５３と、化学強化液５９で満たされた処理槽５７を有している。
【００６３】
ホルダ５３にはガラス基材１ａを保持するための保持部５５が設けられている。
【００６４】
化学強化装置５１を用いてガラス基材１ａを化学強化する場合は、まず、保持部５５にガラス基材１ａを引っ掛けることによりホルダ５３にガラス基材１ａを収納し、ホルダ５３ごと処理槽５７内の化学強化液５９にガラス基材１ａを浸漬する。
【００６５】
化学強化液５９の組成は例えば、硝酸カリウム、硝酸ナトリウム、硝酸銀等をそれぞれ単独、あるいは少なくとも２種を混合したものである。
【００６６】
化学強化液５９の温度は、ガラス基材１ａの材質の歪点よりも好ましくは５０〜１５０℃程度低い温度であり、より好ましくは化学強化液５９自体の温度が３５０〜４００℃程度である。
【００６７】
化学強化液５９にガラス基材１ａを浸漬すると、化学強化液５９に含まれているイオンと、ガラス基材１ａに含まれているイオンとがイオン交換される。
【００６８】
具体的には、例えばガラス基材１ａに含まれているリチウムイオン、ナトリウムイオンが、それぞれ、化学強化液５９に含まれているナトリウムイオン、カリウムイオンと交換される。
【００６９】
この際、ガラス基材１ａに含まれているイオンよりもイオン半径が大きいイオンとイオン交換が生じることにより、化学強化層１７は圧縮応力層となり、ガラス基材１ａの表面の強度が上昇する。
【００７０】
次に、化学強化が終わると、ガラス基材１ａを洗浄して表面の化学強化液を除去した後、図３に示すように、ガラス基材１ａの主表面７ａ、７ｂの平坦度と表面粗さを調整する（実質的に平滑にする）ため、主表面７ａ、７ｂを研磨する（ステップ１０７）。
【００７１】
ここで、研磨に用いる研磨装置２１ａの構造について図６を参照して説明する。
【００７２】
研磨装置２１ａの構造は、研削装置２１と同様であるが、図６に示すように、上定盤２９及び下定盤３１に研磨パッド３３が貼り付けられている。
【００７３】
研磨装置２１ａは、研磨加工時には、キャリア２７に保持されたガラス基材１ａを上定盤２９及び下定盤３１とで挟持し、研磨パッド３３とガラス基材１ａとの間に研磨液を供給しながら、太陽歯車２３や内歯歯車２５の回転に応じてキャリア２７が公転及び自転することにより、ガラス基材１ａの上下両面（主表面７ａ、７ｂ）が研磨加工される。
【００７４】
研磨パッド３３としては、軟質ポリッシャの研磨パッドであることが好ましい。研磨パッド３３の硬度はアスカーＣ硬度で、６０以上８０以下とすることが好適である。研磨パッド３３のガラス基材１ａとの当接面は、発泡ポアが開口した発泡樹脂、特に発泡ポリウレタンとすることが好ましい。このようにして研磨を行うと、ガラス基材１ａの主表面７ａ、７ｂを平滑な鏡面状に研磨することができる。
【００７５】
また、研磨液は、例えば、酸化セリウムや酸化ランタン等の砥粒を水に分散させてスラリーとしたものが用いられる。
【００７６】
また、研磨は２段階に分けて行っても良い。
【００７７】
具体的には、例えば、研磨液に含まれる砥粒として、粒径が異なる２種類の砥粒を用い、まず粒径が相対的に大きい砥粒を用いて第１研磨を行い、次に粒径が相対的に小さい砥粒を用いて第２研磨を行う。
【００７８】
研磨が終了すると、ガラス基材１ａを洗浄し、製造中に表面に付着した研磨剤や不純物を除去する（ステップ１０８）。
【００７９】
具体的にはスクラブ洗浄、超音波洗浄等の物理的な洗浄や、フッ化物、有機酸、過酸化水素、界面活性剤等を用いた薬液洗浄が挙げられる。
【００８０】
最後に、製品検査（例えば主表面７ａ、７ｂの表面粗さやパーティクルの量の検査）を行う（ステップ１０９）。
【００８１】
ここで、ステップ１０９の詳細について、図７を参照して説明する。
【００８２】
まず、主表面７ａ、７ｂをＡＯＩ（Automatic Optical Inspection）等で検査を行い、欠陥を検出する（ステップ２０１）。
【００８３】
次に、ステップ２０１で検出された欠陥の大きさ、個数等が主表面７ａ、７ｂ両面ともに所定のスペック内に収まっているか否か、即ち、磁気記録媒体形成の条件を満たしているか否かを判定し、満たしている場合はステップ２０３に進み、満たしていない場合はステップ２０４に進む（ステップ２０２）。
【００８４】
満たしている場合は、ガラス基材１ａを両面品のガラス基板１の良品として取り扱い、出荷する（ステップ２０３）。
【００８５】
満たしていない場合は、主表面７ａ、７ｂを例えばレーザ散乱法、レーザ干渉法、ビジュアル検査やレーザードップラー法で検査し、欠陥の内容（条件を満たさない理由がどんな欠陥によるものか）を判定し、研磨により条件を満たすように再生可能かを判断する（ステップ２０４）。
【００８６】
研磨により再生可能な場合とは、片面が条件を満たしている場合や、欠陥がパーティクルなどの欠陥（凸欠陥）である場合であり、研磨により再生が困難な場合とは、欠陥がキズ（凹状欠陥）の場合である。
【００８７】
具体的には条件を満たさない理由が以下のいずれに該当するかを判定する。
【００８８】
（１）片面のみ条件を満たさない（一方の面は条件を満たす）
【００８９】
（２）両面に（スペックに収まらない）パーティクルなど（凸状欠陥）が付着している。
【００９０】
（３）両面に（スペックに収まらない）キズ（凹状欠陥）がある。
【００９１】
前述の通り、上記（１）〜（３）において、研磨により再生可能にし易いのは（１）と（２）の場合である。
【００９２】
ここで、（１）の場合はステップ２０５に進み、（２）の場合はステップ２０６に進み、（３）の場合はステップ２１０に進む。
【００９３】
（１）の場合は、研磨により再生可能であるため、研磨により片面品としての再生を試みる。具体的には条件を満たす面をテープテクスチャ等で研磨する（ステップ２０５）。研磨量は例えば１０ｎｍ以下である。
【００９４】
なお、条件を満たす面を研磨する理由は、ＡＯＩやビジュアル検査等で捕獲しきれていない付着物などの凸欠陥をさらに除去し、磁気記録媒体としての諸特性に対しマージンを持たせるためである。
【００９５】
（２）の場合は、研磨により再生可能であるため、研磨により片面品としての再生を試みる。具体的にはパーティクルのある面のいずれか一方をテープテクスチャ等で研磨する（ステップ２０６）。
【００９６】
これは、パーティクルを除去すると共に、ＡＯＩやビジュアル検査等で捕獲しきれていない付着物などの凸欠陥をさらに除去し、磁気記録媒体としての諸特性に対しマージンを持たせるためである。研磨量は例えば１０ｎｍ以下である。
【００９７】
（３）の場合は研磨による再生が困難なので、不良品（ＮＧ品）として処理する（ステップ２１０）。具体的には廃棄する。
【００９８】
次に、ステップ２０５、ステップ２０６で研磨した主表面を検査し、磁気記録媒体形成の条件を満たしているか否かを判定し、満たしている場合はステップ２０９に進み、満たしていない場合はステップ２１０に進む（ステップ２０８）。
【００９９】
満たしている場合は、ガラス基材１ａを片面品のガラス基板１の良品として取り扱い、出荷する（ステップ２０９）。
【０１００】
満たしていない場合は、ガラス基材１ａを不良品（ＮＧ品）として処理する（ステップ２１０）。具体的には廃棄する。
【０１０１】
以上の工程により、ガラス基板１が完成する。
【０１０２】
このように、本実施形態に係るガラス基板１の製造方法よれば、ガラス基材１ａの検査で主表面７ａ、７ｂの両面が磁気記録媒体形成の条件を満たしていない場合に主表面７ａ、７ｂをテープテクスチャで研磨し、片面品として再生している。
【０１０３】
そのため、従来は不良品とみなされて廃棄されていたガラス基板を必要な形態にて再生することが可能である。
【０１０４】
次に、第２の実施形態について、図８を参照して説明する。
【０１０５】
第２の実施形態は、第１の実施形態において、不良品の一部を両面品として再生したものである。
【０１０６】
なお、ステップ１０８（図３参照）までの工程は第１の実施形態と同様であるため、説明を省略する。
【０１０７】
以下、第２の実施形態におけるステップ１０９の詳細について、図８を参照して説明する。
【０１０８】
まず、主表面７ａ、７ｂをＡＯＩ（Automatic Optical Inspection）等で検査を行い、欠陥を検出する（ステップ３０１）。
【０１０９】
次に、ステップ３０１で検出された欠陥の大きさ、個数等が主表面７ａ、７ｂ両面ともに所定のスペック内に収まっているか否か、即ち、磁気記録媒体形成の条件を満たしているか否かを判定し、満たしている場合はステップ３０３に進み、満たしていない場合はステップ３０４に進む（ステップ３０２）。
【０１１０】
満たしている場合は、ガラス基材１ａを両面品のガラス基板１の良品として取り扱い、出荷する（ステップ３０３）。
【０１１１】
満たしていない場合は、主表面７ａ、７ｂを例えばレーザ散乱法、レーザ干渉法、ビジュアル検査やレーザードップラー法で検査し、欠陥の内容（条件を満たさない理由がどんな欠陥によるものか）を判定する（ステップ３０４）。
【０１１２】
具体的には条件を満たさない理由が以下のいずれに該当するかを判定する。
【０１１３】
（ａ）片面は条件を満たすが、他の面に（スペックに収まらない）キズ（凹状欠陥）がある。
【０１１４】
（ｂ）片面にパーティクル（凸状欠陥）が付着しており、他の面に（スペックに収まらない）キズ（凹状欠陥）がある。
【０１１５】
（ｃ）片面は条件を満たすが、他の面に（スペックに収まらない）パーティクル（凸状欠陥）が付着している。
【０１１６】
（ｄ）両面に（スペックに収まらない）パーティクル（凸状欠陥）が付着している。
【０１１７】
（ｅ）両面に（スペックに収まらない）キズ（凹状欠陥）がある。
【０１１８】
ここで、（ａ）（ｂ）の場合はステップ３０５に進み、（ｃ）（ｄ）の場合はステップ３１０に進み、（ｅ）の場合はステップ３０９に進む。
【０１１９】
（ａ）（ｂ）の場合は、ガラス基材１ａを片面品として再生を試みる。これは、キズ（凹状欠陥）は研磨で除去できないため、スペックに収まらないキズのある面は再生するのが困難なためである。
【０１２０】
具体的にはキズのない面をテープテクスチャ等で研磨する（ステップ３０５）。研磨量は例えば１０ｎｍ以下である。
【０１２１】
次に、研磨した面の表面検査を行い（ステップ３０６）、研磨面が条件を満たすか否か判断する（ステップ３０７）。条件を満たす場合は片面品として扱い（ステップ３０８）、満たさない場合はＮＧ品として扱う（ステップ３０９）。
【０１２２】
（ｃ）（ｄ）の場合は、ガラス基材１ａを両面品として再生を試みる。具体的には両面をテープテクスチャ等で研磨する（ステップ３１０）。
【０１２３】
次に、研磨した面の表面検査を行い（ステップ３１１）、両面が条件を満たすか否か判断する（ステップ３１２）。条件を満たす場合は両面品として扱い（ステップ３０３）、満たさない場合はＮＧ品として扱う（ステップ３０９）。
【０１２４】
（ｅ）の場合は再生するのが困難なので、不良品（ＮＧ品）として処理する（ステップ３０９）。具体的には廃棄する。
【０１２５】
以上の工程により、ガラス基板１が完成する。
【０１２６】
このように、第２の実施形態に係るガラス基板１の製造方法よれば、ガラス基材１ａの検査で主表面７ａ、７ｂの両面が記録層形成の条件を満たしていない場合に主表面７ａ、７ｂをテープテクスチャで研磨し、再生している。
【０１２７】
そのため、第１の実施形態と同様の効果を奏する。
【０１２８】
また、第２の実施形態では、両主表面に所定のスペック内に収まらないようなキズのないガラス基材１ａの両面を研磨することにより、両面品として再生している。
【０１２９】
そのため、片面品としても、両面品としてもガラス基板を再生することが可能である。
【産業上の利用可能性】
【０１３０】
上述した実施形態では、本発明を磁気記録媒体用のガラス基板１を製造する製造方法に適用した場合について説明したが、本発明は何らこれに限定されることなく、化学強化後に研磨を行う必要がある全てのガラスの製造方法に適用できる。
【符号の説明】
【０１３１】
１……………ガラス基板
１ａ…………ガラス基材
３……………本体
５……………内孔
７ａ…………主表面
１７…………化学強化層
１８ｂ………磁性層
２１…………研削装置
２１ａ………研磨装置
５１…………化学強化装置
５９…………化学強化液
【図１】
2010218635.tif 000003
【図２】
2010218635.tif 000004
【図３】
2010218635.tif 000005
【図４】
2010218635.tif 000006
【図５】
2010218635.tif 000007
【図６】
2010218635.tif 000008
【図７】
2010218635.tif 000009
【図８】
2010218635.tif 000010