(57)【要約】      （修正有）【課題】半導体製造装置データを、指定されたデータ定義に従う表現に変換してユーザーに提供する。【解決手段】情報処理システムは、随時更新されうるデータ定義に従ってデータベースに記録された装置データを利用するように構成され、データ定義バージョンと当該データ定義が使用された期間とが対応付けられたデータ定義履歴の保持部と、データ定義ライブラリと、ユーザーインターフェースを通して装置データを抽出する抽出部と、前記装置データを指定されたデータ定義に従う表現にする変換部とを備える。前記装置データは、半導体製造装置が発生またはそれを処理したデータである。前記変換部は、前記データ定義履歴を参照することによりデータ定義バージョンを特定し、更に、前記データ定義ライブラリを参照することにより、データ定義を特定し、当該装置データを前記指定されたデータ定義に従う表現に変換して前記ユーザーインターフェースに提供する。【選択図】図２
2010211532.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
随時更新されうるデータ定義に従ってデータベースに記録された装置データを利用する情報処理システムであって、
データ定義バージョンと当該データ定義バージョンにおけるデータ定義が使用された期間とが対応付けられたデータ定義履歴を保持する保持部と、
データ定義バージョンと当該データ定義バージョンにおけるデータ定義とが対応付けて登録されたデータ定義ライブラリと、
ユーザーインターフェースを通して指定された抽出期間を含む抽出条件に合致する装置データを前記データベースから抽出する抽出部と、
前記抽出部によって抽出された装置データの表現を前記ユーザーインターフェースを通して指定されたデータ定義に従う表現に変換して前記ユーザーインターフェースに提供する変換部とを備え、
前記装置データは、半導体製造装置が発生したデータまたはそれを処理したデータであり、
前記変換部は、
前記データ定義履歴を参照することにより前記抽出期間において使用されたデータ定義のデータ定義バージョンを特定し、更に、前記データ定義ライブラリを参照することにより、前記抽出部によって抽出された装置データのデータ定義として、当該特定されたデータ定義バージョンにおけるデータ定義を特定し、
当該装置データの表現を前記指定されたデータ定義に従う表現に変換する、
ことを特徴とする情報処理システム。
【請求項２】
装置データの表現を変換するための変換ルールを含む変換テーブルを更に備え、前記変換部は、前記変換テーブルを参照することにより装置データの表現を変換する、
ことを特徴とする請求項１に記載の情報処理システム。
【請求項３】
前記変換テーブルは、変換元の単位に従う装置データを変換先の単位に従う装置データに変換するための変換ルール、および、変換元の数値表現に従う装置データを変換先の数値表現に従う装置データに変換するための変換ルールの少なくとも一方を含む、
ことを特徴とする請求項２に記載の情報処理システム。
【請求項４】
データ定義の変更に応じて前記データ定義履歴を更新するデータ定義管理部を更に備える、
ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の情報処理システム。
【請求項５】
前記データ定義管理部は、データ定義の変更に応じて、新たなデータ定義を当該新たなデータ定義のデータ定義バージョンと対応付けて前記データ定義ライブラリに登録する、
ことを特徴とする請求項４に記載の情報処理システム。
【請求項６】
前記データ定義管理部は、前記半導体製造装置の制御ソフトウエアの変更に応じて前記データ定義履歴を更新する、
ことを特徴とする請求項４に記載の情報処理システム。
【請求項７】
随時更新されうるデータ定義に従ってデータベースに記録された装置データを利用する情報処理システムにおける情報処理方法であって、
前記情報処理システムは、データ定義バージョンと当該データ定義バージョンにおけるデータ定義が使用された期間とが対応付けられたデータ定義履歴を保持する保持部と、データ定義バージョンと当該データ定義バージョンにおけるデータ定義とが対応付けて登録されたデータ定義ライブラリとを備え、
前記装置データは、半導体製造装置が発生したデータまたはそれを処理したデータであり、
前記情報処理方法は、
ユーザーインターフェースを通して指定された抽出期間を含む抽出条件に合致する装置データを前記データベースから抽出する抽出ステップと、
前記データ定義履歴を参照することにより前記抽出期間において使用されたデータ定義のデータ定義バージョンを特定し、更に、前記データ定義ライブラリを参照することにより、前記抽出ステップで抽出された装置データのデータ定義として、当該特定されたデータ定義バージョンにおけるデータ定義を特定する特定ステップと、
前記抽出ステップで抽出された装置データの表現を前記ユーザーインターフェースを通して指定されたデータ定義に従う表現に変換して前記ユーザーインターフェースに提供する変換ステップとを含む、
ことを特徴とする情報処理方法。
【請求項８】
随時更新されうるデータ定義に従ってデータベースに記録された装置データを利用するための処理を情報処理システムに実行させるプログラムであって、
前記情報処理システムは、データ定義バージョンと当該データ定義バージョンにおけるデータ定義が使用された期間とが対応付けられたデータ定義履歴を保持する保持部と、データ定義バージョンと当該データ定義バージョンにおけるデータ定義とが対応付けて登録されたデータ定義ライブラリとを備え、
前記装置データは、半導体製造装置が発生したデータまたはそれを処理したデータであり、
前記プログラムは、前記情報処理システムに、
ユーザーインターフェースを通して指定された抽出期間を含む抽出条件に合致する装置データを前記データベースから抽出する抽出ステップと、
前記データ定義履歴を参照することにより前記抽出期間において使用されたデータ定義のデータ定義バージョンを特定し、更に、前記データ定義ライブラリを参照することにより、前記抽出ステップで抽出された装置データのデータ定義として、当該特定されたデータ定義バージョンにおけるデータ定義を特定する特定ステップと、
前記抽出ステップで抽出された装置データの表現を前記ユーザーインターフェースを通して指定されたデータ定義に従う表現に変換して前記ユーザーインターフェースに提供する変換ステップとを含む処理を実行させる、
ことを特徴とするプログラム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、情報処理システム、情報処理方法およびプログラムに関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体デバイスを製造するための半導体製造装置では、半導体デバイスの製造のための処理の過程で多量の装置データが生成されうる。当該装置データには、例えば、半導体製造装置で発生するイベントに関するデータや計測結果を示すデータが含まれうる。装置データは、共有データベースに記録され、半導体製造装置の異常検知、状態診断、異常の原因分析などに使われうる。
【０００３】
半導体製造装置では、常にパターンの微細化が求められるため、半導体製造装置を制御する制御ソフトウエアの改良などによる精度の向上が頻繁に行なわれうる。それに伴い、半導体製造装置に搭載された計測ユニットによる計測値の単位や、有効数字の桁数が変更されうる。このような変更が起こると、半導体製造装置から出力された装置データを分析する際に、単位や有効数字の系多数の変更箇所を見つけて修正する手間が掛かっていた。
【０００４】
特許文献１には、数値データをその数値を表す単位と対として管理すること、および、単位変換の指示が与えられたときに数値データの単位を他の単位に変換することが開示されている。特許文献２には、データ変換ライブラリに登録された変換処理内容と項目変換マップにおいて定義されている変換関係とに従ってデータ抽出元のデータをデータ抽出先のデータの仕様に合うように変換することが開示されている。
【０００５】
しかしながら、特許文献１、２は、データ定義およびそのバージョンを当該データ定義に従って装置データが記録された期間と対応付けて管理し、それを利用することについては開示も示唆もしていない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開平７-１３８１９号公報
【特許文献２】特開２００４-１１０１８２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、随時更新されうるデータ定義に従ってデータベースに記録された装置データを利用する情報処理システムにおいて、データベースから抽出された装置データを指定されたデータ定義に従う表現に変換してユーザーに提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の１つの側面は、随時更新されうるデータ定義に従ってデータベースに記録された装置データを利用する情報処理システムに係り、前記情報処理システムは、データ定義バージョンと当該データ定義バージョンにおけるデータ定義が使用された期間とが対応付けられたデータ定義履歴を保持する保持部と、データ定義バージョンと当該データ定義バージョンにおけるデータ定義とが対応付けて登録されたデータ定義ライブラリと、ユーザーインターフェースを通して指定された抽出期間を含む抽出条件に合致する装置データを前記データベースから抽出する抽出部と、前記抽出部によって抽出された装置データの表現を前記ユーザーインターフェースを通して指定されたデータ定義に従う表現に変換して前記ユーザーインターフェースに提供する変換部とを備え、前記装置データは、半導体製造装置が発生したデータまたはそれを処理したデータであり、前記変換部は、前記データ定義履歴を参照することにより前記抽出期間において使用されたデータ定義のデータ定義バージョンを特定し、更に、前記データ定義ライブラリを参照することにより、前記抽出部によって抽出された装置データのデータ定義として、当該特定されたデータ定義バージョンにおけるデータ定義を特定し、当該装置データの表現を前記指定されたデータ定義に従う表現に変換する。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、随時更新されうるデータ定義に従ってデータベースに記録された装置データを利用する情報処理システムにおいて、データベースから抽出された装置データを指定されたデータ定義に従う表現に変換してユーザーに提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】半導体製造装置の一例としての露光装置の概略構成を例示する図。
【図２】本発明の第１実施形態の情報処理システムの概略構成を示す図。
【図３】ログに基づいてデータ処理部によって生成されうる装置データを例示する図。
【図４】第１実施形態の情報処理装置或いはそれを含む情報処理システムにおける情報処理の流れを例示するフローチャート。
【図５】データ定義履歴を例示する図。
【図６】データ定義を例示する図。
【図７】抽出された装置データを例示する図。
【図８】検出されたデータ定義履歴を例示する図。
【図９】変換テーブルを例示する図。
【図１０】本発明の第２実施形態の情報処理システムの概略構成を示す図。
【図１１】制御ソフトウエアのバージョンとデータ定義バージョンとの対応を例示する図。
【図１２】第１実施形態における変換前後の装置データを例示する図。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態を説明する。
【００１２】
（第１実施形態）
図２を参照して本発明の第１実施形態の情報処理システムを説明する。本発明の第１実施形態の情報処理システムは、随時更新されうるデータ定義に従ってデータベースに記録された装置データを利用するように構成される。該情報処理システムは、情報処理装置２００を含み、典型的には、更に、１または複数の端末２３０を含みうる。端末２３０は、ユーザーインターフェースとして機能する。情報処理装置２００がユーザーインターフェース機能を有する場合には、端末２３０は、必ずしも必要でない。情報処理装置２００は、１又は複数のコンピュータによって構築されうる。情報処理システムと半導体製造装置とを含むシステムを半導体製造システムと呼ぶことができる。
【００１３】
情報処理装置２００或いは情報処理システムには、通信インターフェース（不図示）及び通信網（又は通信線）を介して１又は複数の半導体製造装置（ここでは、露光装置１００）から装置データが提供される。装置データは、露光装置１００に代表される半導体製造装置において発生しうるデータまたはそれを処理したデータでありうる。半導体製造装置の例としては、以下で詳細を例示する露光装置１００のほか、例えば、成膜装置（例えば、プラズマ成膜装置）、エッチング装置、アニール装置、イオン注入装置、洗浄装置、コータデベロッパ（塗布現像装置）、検査装置を挙げることができる。
【００１４】
図１を参照して説明する。露光装置１００は、レチクル（原版）のパターンを投影光学系によってウエハ或いはプレートのような基板に投影して該ウエハを露光するように構成される。図１に示す例では、露光装置１００は、走査露光装置として構成されている。なお、ここで示す露光装置１００は、露光装置の一例に過ぎないこと、更には、半導体製造装置の一例に過ぎないことを理解されたい。
【００１５】
露光装置１００において、光源１から出力される光束は、照明光学系２で形状、光量分布が調整され、レチクルステージ６に保持されたレチクル（原版）３を照明する。レチクル３のパターンは、投影光学系４によって、ウエハステージ７上のウエハチャック８に保持された感光剤（レジスト）が塗布されたウエハ（基板）５に投影光学系４によって投影される。これにより、ウエハ５のショット領域が露光されて、感光剤には、レチクル３のパターンに対応する潜像パターンが形成（転写）される。ウエハ５の全ショット領域に潜像パターンが形成された後に、潜像パターンが現像工程において現像されて、レジストパターンが形成される。
【００１６】
照明光学系２には、例えば、コヒーレンスファクタσ値を設定するための円形開口面積が異なる複数の開口絞りが備えられうる。照明光学系２には、更に、輪帯照明用のリング形状絞り、４重極絞り、照明光量を調整するための機構（例えば、複数のＮＤフィルタ及びそれを切り替える機構）が備えられうる。照明光学系２には、更に、光量を計測する光量検出器、光束の形状を決めるスリット、照明範囲を確保するためにレチクル３と共役な位置に載置されたブラインド及びそれを駆動する駆動機構が備えられうる。光源１と照明光学系２は、照明系制御系２１の指示によって動作が制御される。
【００１７】
投影光学系４には、開口数を設定するための開口数設定機構や、収差を補正するためのレンズ駆動機構が備えられうる。投影光学系４は、投影光学系制御系２４によってその動作が制御される。
【００１８】
レチクルステージ６の位置は、レチクルステージ計測系１０によって、投影光学系４の光軸（Ｚ方向）に直交する面内における直交する２つの軸方向（Ｘ、Ｙ方向）の位置、並びに、これらの軸周り回転が計測され、レチクルステージ制御系２２によって制御される。
【００１９】
また、照明光学系２とレチクルステージ６の間には、ＴＴＲ（Ｔｈｒｏｕｇｈ  Ｔｈｅ  Ｒｅｔｉｃｌｅ）観察光学系９が配置されうる。ＴＴＲ観察光学系９は、レチクル３上のマーク、または、レチクルステージ６に設置されるステージ基準マークと、ウエハステージ７上のステージ基準マークを投影光学系４を介して同時に観測することができるように構成されうる。ＴＴＲ観察光学系９によって、レチクルステージ６、レチクル３、ウエハステージ７の投影光学系４の光軸方向（Ｚ方向）の位置、該光軸に直交する面内における直交する２つの軸方向（Ｘ、Ｙ方向）の位置、並びに、これらの軸周りの回転を計測することができる。
【００２０】
ウエハ５の位置は、ウエハステージ計測系１２及びアライメント計測系３０よって計測されうる。ウエハステージ計測系１２は、例えば、投影光学系４の光軸方向（Ｚ方向）、該光軸に直交する面内における直交する２つの軸方向（Ｘ、Ｙ方向）の位置、並びに、これらの軸周り回転を計測する。アライメント計測系３０は、投影光学系４の光軸方向（Ｚ方向）におけるウエハ５の表面位置を計測できる。ウエハステージ制御系２５は、ウエハステージ計測系１２及びアライメント計測系３０から提供される情報に基づいてウエハステージ７の位置を制御する。
【００２１】
露光装置１００、ウエハ５表面を非露光光で観察及び計測することが可能なオフアクシス観察光学系１１を備えうる。オフアクシス観察光学系１１は、ウエハ５上の複数のマークを観察して、ウエハ５上のパターン位置と形状を計測する。オフアクシス観察光学系１１はまた、ウエハステージ７上のステージ基準マークを観察して、該ステージ基準マークの位置を計測する。
【００２２】
ウエハ５の露光時は、レチクルステージ６によって保持されたレチクル３は、図１に示された"走査方向"に駆動される。それと同期して、ウエハステージ７によって保持されたウエハ５も、図１に示された"走査方向"に駆動される。ここで、レチクル３とウエハ５は、投影光学系４の投影倍率に応じた速度比で駆動される。レチクル３とウエハ５との相対位置がずれると、ウエハ５のショットには変形したパターンが転写される。そこで、主制御系２７は、レチクル３とウエハ５との相対位置ずれを計算し、その相対位置ずれがゼロになるようにレチクルステージ制御系２２およびウエハステージ制御系２５を制御する。
【００２３】
露光装置１００は、レチクルライブラリ１４、レチクルロボット１３を含むレチクル搬送ユニット、および、レチクル３の位置をレチクルステージ６上のマークに合わせるレチクルアライメントユニット２９を備えうる。レチクル搬送ユニットは、レチクル搬送制御系１９からの指示に従って動作する。また、露光装置１００は、ウエハカセットエレベータ１６およびウエハ搬入出ロボット１５を含むウエハ搬送ユニットを備えうる。ウエハ搬送ユニットは、ウエハ搬送制御系２６からの指示に従って動作する。
【００２４】
チャンバ環境制御部３１は、例えば、露光装置１００の本体部分が収納されたチャンバ内部の空気の温度を一定に維持するとともに、微小異物をフィルタによって除去する。チャンバ環境制御部３１は、チャンバ制御系１８からの指示に従って動作する。
【００２５】
主制御系２７は、露光装置１００の構成要素、例えば、チャンバ制御系１８、レチクル搬送制御系１９、ウエハ搬送制御系２６、レチクルステージ制御系２２、ウエハステージ制御系２５、照明系制御系２１、投影光学系制御系２４等を制御する。主制御系２７は、通信インターフェース１７を介して、露光装置１００の露光動作を定義する設定パラメータ、又は動作指示を取得し、それに基づいて露光装置１００の各構成要素を制御することができる。
【００２６】
露光処理は、露光装置１００の動作を定義するジョブパラメータに従って実行される。ジョブパラメータは、例えば、工程名（ジョブ名）、ロットID、ショット範囲、ショット配列、各ショット番号、露光量、露光走査速度、露光走査方向、露光装置を構成するユニットのキャリブレーション項目、ウエハ及びショットのアライメント方式、等を含む。
【００２７】
主制御系２７は、一枚もしくは複数枚のウエハを一ロットとして、ロット単位でジョブパラメータに基づいて露光装置１００の各構成要素を制御しながら露光処理を実行する。まず、ロット処理開始と共に、露光処理に使用されるレチクル及びウエハが露光装置１００内に供給される。レチクル及びウエハの供給が完了すると、露光装置１００の構成要素のうちジョブパラメータで指定された構成要素のキャリブレーションと、レチクル及びウエハのアライメント用の計測を行なう。主制御系２７は、その結果に基づいて各構成要素を制御しながらウエハ上の各ショット領域をステップ・アンド・スキャン方式で露光する。
【００２８】
露光処理と同時に、主制御系２７は、当該露光処理中の露光装置１００の動作を記録したログを生成する。ログは、例えば、各構成要素の動作の開始・終了イベント、処理の設定値、キャリブレーション及びアライメント計測の結果、ショット領域の露光量結果、スキャン動作制御結果、露光装置で発生したエラー等のイベントであり、それらの発生時刻も記録される。主制御系２７は、実行するべき処理を定義する制御ソフトウエアに従って処理を実行し、ログに記録される内容も制御ソフトウエアにより定義されうる。制御ソフトウエアには、変更される毎にバージョン識別子が付けられる。
【００２９】
以下、随時更新されために時期毎にデータ定義が異なりうるデータベース２２１から装置データの抽出時に、抽出期間に基づいて装置データのデータ定義を特定し、データベース２２１から抽出された装置データを当該データ定義に従って変換する方法を説明する。
【００３０】
情報処理装置２００は、露光装置１００から提供される装置データを処理するように構成されうる。情報処理装置２００は、例えば、汎用のコンピュータにコンピュータプログラムをインストールすることによって構成されうる。情報処理装置２００は、該コンピュータプログラムがインストールされることによって通信インターフェース（不図示）、変換部２０１、抽出部２０２、データ定義管理部２０３、記憶部２０４、データベース２２１、データ処理部２２２を備える装置として動作する。或いは、情報処理装置２００は、該コンピュータプログラムがインストールされることによって通信ステップ、変換ステップ、抽出ステップ、データ定義管理ステップ、記憶ステップ等を実行する装置として動作する。
【００３１】
抽出部２０２は、端末２３０より要求される抽出条件に該当する装置データをデータベース２２１から抽出し、端末２３０へ送信或いは提供する。ここで、抽出条件には、少なくとも抽出期間が含まれ、その他、装置データ項目名等が含まれうる。
【００３２】
変換部２０１は、端末２３０より要求される抽出条件に含まれる抽出期間（装置データを抽出すべき期間）に含まれる１又は複数の期間のそれぞれにおけるデータ定義バージョンを記憶部２０４内のデータ定義履歴２０５に基づいて特定する。また、変換部２０１は、端末２３０より要求される抽出条件に含まれる抽出期間に含まれる１又は複数の期間のそれぞれにおけるデータ定義をデータ定義ライブラリ２０６を参照して特定する。また、変換部２０１は、装置データをそれがデータベース２２１に記録されたときのデータ定義に従う表現から端末２３０から要求されたデータ定義に従うように表現に変換して端末２３０に送信或いは提供する。
【００３３】
データ定義管理部２０３は、データ処理部２２２より得られるデータ定義変更情報２０８に基づいてデータ定義履歴２０５を生成或いは更新して記憶部２０４内に領域が定義された保持部２１０に記録する。データ定義履歴２０５は、個々の露光装置毎に生成されてもよい。ここで、データ定義履歴の生成に関して説明する。データ定義履歴の生成のため、データ処理部２２２は、データ定義が変更される度に、変更後のデータ定義２２３の定義バージョン番号と使用を開始した日時をデータ定義変更情報２０８としてデータ定義管理部２０３に提供する。データ定義管理部２０３は、データ定義変更情報２０８に基づいて図５に例示するようなデータ定義履歴２０５を生成或いは更新し、記憶部２０４に記録する。この実施形態では、記憶部２０４は、データ定義履歴２０５を保持する保持部２１０のほか、データ定義バージョンと当該データ定義バージョンにおけるデータ定義とが対応付けて登録されたデータ定義ライブラリ２０６を含む。データ定義ライブラリ２０６は、データ定義管理部２０３によって更新されうる。データ定義管理部２０３は、例えば、データ定義の変更（データ定義２２３の入力）に応じて、新たなデータ定義２２３を当該新たなデータ定義２２３のデータ定義バージョンと対応付けてデータ定義ライブラリ２０６に登録しうる。
【００３４】
データ処理部２２２は、露光装置１００（主制御系２７）が発生し情報処理装置２００に提供するログをデータ定義２２３に従って処理して装置データを生成し、それをデータベース２２１に記録する。ここで、露光装置１００（主制御系２７）が発生し情報処理装置２００に提供するログがそのまま装置データとしてデータベース２２１に記録されてもよい。この場合には、露光装置１００が生データをデータ定義２２３に従うフォーマットのログに変換し、データ処理部２２２は、情報処理装置２００から供給される当該ログをそのままデータベース２２１に記録することができる。ここでは、露光装置１００（主制御系２７）が発生し情報処理装置２００に提供するログをデータ処理部２２２がデータ定義２２３に従って処理して装置データを生成する例を説明する。
【００３５】
データ定義２２３は、例えば、主制御系２７が発生するログに含まれるイベントや計測値を示すデータのそれぞれに対して与えられる項目名、それぞれを記録すべきフォーマット、それぞれの単位を定義している。データ定義２２３には、それが変更される度にバージョン番号が付けられる。図３は、ログに基づいてデータ処理部２２２によって生成されうる装置データを例示している。ログ３１０Ａ、３１０Ｂは主制御系２７が生成したログの例であり、処理時刻３０１、動作記録識別子３０２、記録内容３０３を含んでいる。データ定義は、例えば、動作記録識別子３０２に対応する項目のデータを格納するべきデータ格納配列３２０、処理時刻３０１を格納するべき日時フィールド３２１、記録内容３０３を加機能すべき内容フィールド３２２を定義する。
【００３６】
ログ３１０Ａは、主制御系２７が実行する制御ソフトウエアが「Tool Type OO Control Ver.1」であるときに主制御系２７によって生成されたログであるものとする。データ処理部２２２は、「データ定義バージョン１」というデータ定義バージョンにおけるデータ定義に従って、ログ３１０Ａ内の情報３３０を装置データ３４０としてデータベース２２１に記録する。
【００３７】
時期が変わり、制御ソフトウエアが「Tool Type OO Control Ver.2」に変更されたものとする。ログ３１０Ｂは、「Tool Type OO Control Ver.2」で定義されるフォーマットに従う装置データとしてデータベース２２１に記録される。制御ソフトウエア「Tool Type OO Control Ver.1」と制御ソフトウエア「Tool Type OO Control Ver.2」との差は、ウエハＸ位置、ウエハＹ位置の単位がumからnmに変更されたことである。データ定義バージョンは、この差に対応するために、「データ定義バージョン２」に変更される。データ処理部２２２は、データ定義バージョン２に従って、ログ３１０Ｂを構成する情報３３１を装置データ３４１としてデータベース２２１に記録する。
【００３８】
データ処理部２２２が生成した装置データは、露光装置１００を特定する情報、例えば装置認識ＩＤと伴にデータベース２２１に記録される。また、データ定義履歴を生成するために、データ処理部２２２は、データ定義が変更されると、それに応じて、その定義バージョン番号と使用が開始された日時を記録したデータ定義変更情報２０８をデータ定義管理部２０３に提供する。データ定義は、露光装置毎に異なってもよく、露光装置を特定する情報と伴にデータ定義変更情報２０８がデータ定義管理部２０３に提供されてもよい。
【００３９】
図４を参照して第１実施形態の情報処理装置２００或いはそれを含む情報処理システムにおける情報処理の流れを説明する。ステップＳ４０１では、端末２３０から、目的とする露光装置１００の装置データをデータベース２２１から抽出するための抽出条件２０７として、装置認識ＩＤと、抽出すべき装置データの項目名と抽出すべき期間とが情報処理装置２００に提供される。抽出すべき装置データの項目名としては、例えば、各処理動作の開始・終了イベントやエラーイベントなどのイベント、動作結果または計測結果などを指定することができる。例えば、抽出すべき露光装置１００として装置認識ＩＤが"Ｔｏｏｌ  Ａ"である装置、抽出すべき項目名として「ウエハＸ位置」、「ウエハＹ位置」を指定することができる。また、抽出すべき期間として、例えば、２００８年５月１日から２００８年５月１０日までの期間を指定することができる。また、ステップＳ４０１では、目的とするデータ定義（例えば、単位、フォーマット）が端末２３０から入力される。目的とするデータ定義としては、例えば、抽出するべき装置データの項目名ごとに指定してもよいし、データ定義バージョンを指定してもよい。ここでは、一例として、「データ定義バージョン１」というデータ定義バージョンが指定されるものとして説明する。
【００４０】
ステップＳ４０２（抽出ステップ）では、抽出部２０２は、ステップＳ４０１で指定された期間における指定された装置データ項目名に合致する装置データをデータベース２２１から抽出する。図７は、抽出された装置データ７０１を例示している。
【００４１】
ステップＳ４０３（特定ステップ）では、変換部２０１は、記憶部２０４に記録されている"装置Ｔｏｏｌ  Ａ"に関するデータ定義履歴２０５を参照して、指定された抽出期間におけるデータ定義バージョンを特定する。図５は、データ定義履歴２０５を例示している。例えば、抽出期間として２００８年５月１日から２００８年５月１０日までの期間が指定された場合を考える。この場合、２００８年５月１日から２００８年５月４日までの期間については、データ定義バージョンとして「データ定義バージョン１」が特定される。また、２００８年５月５日から２００８年５月１０日までの期間については、データ定義バージョンとして、「データ定義バージョン２」が特定される。図８は、抽出期間として２００８年５月１日から２００８年５月１０日までの期間が指定された場合に検出される時期毎のテータ定義バージョンの変更履歴を例示している。また、ステップＳ４０３では、変換部２０１は、特定した時期毎のデータ定義バージョンにおける抽出対象の装置データ項目名についてのデータ定義をデータ定義ライブラリ２０６参照して特定する。
【００４２】
図６は、データ定義を例示している。データ定義ライブラリ２０６には、データ定義２２３Ａ〜Ｃのようなデータ定義が登録されている。特定した時期毎のデータ定義バージョンである「データ定義バージョン１」と「データ定義バージョン２」に基づいて装置データ項目名「ウエハＸ位置」および「ウエハＹ位置」の単位とフォーマットが特定される。この例では、「データ定義バージョン１」では、「ウエハＸ位置」および「ウエハＹ位置」の単位が「ｕｍ」であり、フォーマットが「少数点第１位までの値」であることが特定される。また、「データ定義バージョン２」では、「ウエハＸ位置」および「ウエハＹ位置」の単位が「ｎｍ」であり、フォーマットが「整数」であることが特定される。
【００４３】
ステップＳ４０４（変換ステップ）では、変換部２０１は、ステップＳ４０２で抽出部２０２によって抽出された装置データの表現をステップＳ４０１で指定されたデータ定義（例えば、単位、フォーマット）に従う表現に変換する。このとき、変換先（変換後）のデータ定義がデータ定義バージョンによって指定されている場合は、データ定義ライブラリ２０６を参照することにより当該データ定義バージョンに該当するデータ定義が抽出対象の装置データ項目名のそれぞれについて特定される。この例では、前述の通り「データ定義バージョン１」が変換先に指定されており、抽出された装置データの表現は、「ウエハＸ位置」、「ウエハＹ位置」の単位が「ｕｍ」となり、フォーマット（表示形式）が「少数点第１位までの値」となるように変換される。この変換は、変換ルールが記述された変換テーブル２０９を参照してなされうる。変換テーブル２０９は、変換元の単位に従う装置データを変換先の単位に従う装置データに変換するための変換ルール及び変換元の有効桁数等の数値表現に従う装置データを変換先の数値表現に従う装置データに変換するための変換ルールの少なくとも一方を含みうる。図９は、変換元の単位に従う装置データを変換先の単位に従う装置データに変換するための変換ルールを含む変換テーブル２０９を例示している。図１２は、第１実施形態における変換前後の装置データを例示している。抽出された装置データ７０１は、変換結果１２０１のように変換される。
【００４４】
変換部２０１は、抽出結果７０１に対して、装置データが記録された時期毎のデータ定義（例えば、単位、フォーマット）の情報を追加してもよい。この場合、装置データの単位やフォーマット変換は行なわなくてよい。その結果、抽出結果７０１は、結果１２０２のように情報が追加される。
【００４５】
（第２実施形態）
以下、本発明の第２実施形態を説明するが、ここで言及しない事項は、第１実施形態に従いうる。図１０を参照しながら第２実施形態の情報処理システムについて説明する。本発明の第２実施形態の情報処理システムは、装置情報生成装置２２０および情報処理装置２４０を含み、典型的には、更に、１または複数の端末２３０を含みうる。端末２３０は、ユーザーインターフェースとして機能する。情報処理装置２４０がユーザーインターフェース機能を有する場合には、端末２３０は、必ずしも必要でない。情報処理装置２４０は、１又は複数のコンピュータによって構築されうる。情報処理システムと半導体製造装置とを含むシステムを半導体製造システムと呼ぶことができる。情報処理装置２００或いは情報処理システムには、通信インターフェース（不図示）及び通信網（又は通信線）を介して１又は複数の半導体製造装置（ここでは、露光装置１００）から装置データが提供される。
【００４６】
第２実施形態では、データ定義履歴２０５は、主制御系２７の制御ソフトウエアのバージョン変更情報に基づいてデータ定義管理部２０３によって生成或いは更新される。装置情報生成装置２２０は、図２に示す第１実施形態の情報処理システムにおける情報処理装置２００の通信インターフェース（不図示）、データベース２２１、データ処理部２２２に相当する機能を備える装置として構成される。そして、装置情報生成装置２２０は、露光装置１００から送信されるログより装置データを生成しデータベース２２１に記録する。情報処理装置２４０は、図２に示す第１実施形態の情報処理システムにおける情報処理装置２００における通信インターフェース（不図示）、変換部２０１、抽出部２０２、データ定義管理部２０３、記憶部２０４に相当する機能を備える装置として構成される。そして、情報処理装置２４０は、装置情報生成装置２２０のデータベース２２１に記録されている装置データを処理する。
【００４７】
主制御系２７は、それが実行する制御ソフトウエアのバージョンが変更されると、そのバージョンを特定する情報と、そのバージョンで運用を始めた日時を制御ソフトウエアバージョン変更情報２１２としてデータ定義管理部２０３に提供する。装置情報生成装置２２０は、主制御系２７の制御ソフトウエアのバージョン変更に合わせて、新たな制御ソフトウエアのバージョンに適合するデータ定義バージョンのデータ定義に従って装置データを生成する。記憶部２０４には、制御ソフトウエアのバージョンとデータ定義バージョンとの対応を記述したテーブル２１３が記録される。制御ソフトウエアのバージョンに適合するデータ定義バージョンのデータ定義は、例えば、露光装置１００の主制御系２７から情報処理装置２４０に提供されてもよいし、情報処理装置２４０に設けられた入力装置を介して情報処理装置２４０に提供されてもよい。
【００４８】
データ定義管理部２０３は、そのテーブル２１３に基づいてデータ定義履歴２０５を生成する。図１１は、制御ソフトウエアのバージョンとデータ定義バージョンとの対応を例示している。例えば、制御ソフトウエア「Tool Type OO Control Ver.3」は、データ定義バージョン３に対応するものとする。制御ソフトウエアが「Tool Type OO Control Ver.2」から「Tool Type OO Control Ver.3」に変更された場合を考える。この場合、その変更の日時をデータ定義管理部２０３がデータ定義バージョン３の開始日時としてデータ定義履歴２０５に記録する。制御ソフトウエアが「Tool Type OO Control Ver.3」から「Tool Type OO Control Ver.4」に変更された場合を考える。データ定義バージョン３は「Tool Type OO Control Ver.3」と「Tool Type OO Control Ver.4」に対応するのでデータ定義バージョンの変更は行なわれず、データ定義履歴２０５にも記録されない。
【００４９】
データベース２１１から抽出された装置データを指定されたデータ定義に従う表現に変換してユーザーに提供する方法は、図４を参照して説明した方法と同様である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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