(57)【要約】【課題】無機光学補償板を有する電気光学装置において、無機光学補償板が液状体との接触により光学的品質が低下するのを防止する。【解決手段】液晶パネルと、液晶パネルの入射側または出射側の光学的な位相差を補償する無機光学補償板と、を有する液晶装置において、無機光学補償板５６０はガラス基板５６２の一方の表面に複数の柱状突起５６４を有し、無機光学補償板５６０の端面に、隣り合う柱状突起５６４の間隙５６６を覆う薄膜５６８が設けられている。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
電気光学パネルと、前記電気光学パネルの入射側または出射側の光学的な位相差を補償する無機光学補償板と、を有する電気光学装置であって、
前記無機光学補償板は、透光性基板の一方の表面に複数の柱状突起を有し、
前記無機光学補償板の端面に、隣り合う前記柱状突起の間隙を覆う保護部材が設けられたことを特徴とする電気光学装置。
【請求項２】
請求項１に記載の電気光学装置において、
前記保護部材は、薄膜からなることを特徴とする電気光学装置。
【請求項３】
請求項２に記載の電気光学装置において、
前記薄膜は、顔料系インクを塗布して形成されていることを特徴とする電気光学装置。
【請求項４】
請求項３に記載の電気光学装置において、
前記顔料系インクに含有されている色素の粒径は、隣り合う前記柱状突起の間隙よりも大きいことを特徴とする電気光学装置。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか一項に記載の電気光学装置において、
前記保護部材に前記柱状突起の傾き方向を識別する識別マークが形成されていることを特徴とする電気光学装置。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれか一項に記載の電気光学装置において、
前記柱状突起は、無機物の斜方蒸着膜から形成されていることを特徴とする電気光学装置。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれか一項に記載の電気光学装置において、
前記柱状突起は、タンタルオキサイドＴａ2Ｏ5からなることを特徴とする電気光学装置。
【請求項８】
請求項１乃至７のいずれか一項に記載の電気光学装置を備えたことを特徴とする電子機器。
【請求項９】
透光性基板と、
前記透光性基板の一方の表面に設けられた複数の柱状突起と、を有し、
無機光学補償板の端面に、隣り合う前記柱状突起の間隙を覆う保護部材が設けられたことを特徴とする無機光学補償板。
【請求項１０】
請求項９に記載の無機光学補償板において、
前記保護部材は、薄膜からなることを特徴とする無機光学補償板。
【請求項１１】
請求項１０に記載の無機光学補償板において、
前記薄膜は、顔料系インクを塗布して形成されていることを特徴とする無機光学補償板。
【請求項１２】
請求項１１に記載の無機光学補償板において、
前記顔料系インクに含有されている色素の粒径は、隣り合う前記柱状突起の間隙よりも大きいことを特徴とする無機光学補償板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電気光学装置、電気光学装置を備えた電子機器、および無機光学補償板に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、液晶装置などの電気光学装置を用い、光変調された光をスクリーンに投射して画像を表示する投射型表示装置がある。例えば、投射型表示装置としての液晶プロジェクターでは、液晶装置の入射側または出射側の光学的な位相差を補償する光学補償層が備えられている。
一般に光学補償層として、有機材料系の光学補償フィルム（位相差フィルム）が利用されているが、光学補償フィルムを用いた場合には、光またはその熱エネルギーにより光学補償フィルムが変色（黄変あるいは炭化）して光学特性が劣化する問題がある。
この光および熱の影響を回避する光学補償層として、特許文献１に示すような無機材料で作成された構造性複屈折体を透過性基板上に設けた無機光学補償板（位相差補償板）が利用されている。
【０００３】
【特許文献１】特開２００４−１０２２００号公報（図８〜図１２参照）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
例えば、無機光学補償板は図９（ａ）に示すように、ガラス基板などの透光性基板６２の表面に透光性の柱状突起６４を複数配列した構造を備えている。図９（ｂ）は無機光学補償板６０を横から見た模式図であり、柱状突起６４は、無機材料で形成され一方向に傾斜して配列されている。無機光学補償板６０の端面には、隣り合う柱状突起６４の間の間隙６６が現れている。
そして、この無機光学補償板６０は透光性基板６２の面が照明光軸または投影光軸と垂直になるように配置される。
【０００５】
しかしながら、上記のような構造の無機光学補償板６０において、例えば図１０に示すように、枠体などに無機光学補償板６０を固定するために、無機光学補償板６０の端面に接着剤６１を塗布することがある。この接着剤６１の塗布により、間隙６６に毛細管現象で溶剤などの液状体が流れ込み、その状態で乾燥が行われ、偏光板をクロスニコル配置した状態で観察すると滲みが生ずることがある。この滲みの生じた部分は特性劣化部６３となる。つまり、構造の隙間に物質が入り込むことで、その部分の屈折率が変わり、位相差、透過率など光学特性が変化することになり、所望の特性が得られなくなる。
また、このような端面に油脂、溶剤などの流動性があり揮発しにくい液状体が接触したときにも同様に、液状体が間隙に進入して特性劣化部が生ずることがあり、無機光学補償板６０を備えた電気光学装置の品質を低下させる原因となっている。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は上記課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。
【０００７】
［適用例１］本適用例にかかる電気光学装置は、電気光学パネルと、前記電気光学パネルの入射側または出射側の光学的な位相差を補償する無機光学補償板と、を有する電気光学装置であって、前記無機光学補償板は、透光性基板の一方の表面に複数の柱状突起を有し、前記無機光学補償板の端面に、隣り合う前記柱状突起の間隙を覆う保護部材が設けられたことを特徴とする。
【０００８】
この構成によれば、電気光学装置を構成する無機光学補償板において、隣り合う柱状突起との間隙が現れる端面に、この間隙を覆う保護部材が設けられている。
このため、無機光学補償板の端面における接着剤の接触または油脂などの接触において、これらの成分の液状体が柱状突起と柱状突起との間隙に進入することがない。そして、これらの液状体が間隙に進入することに起因する位相差、透過率など光学特性の変化がなく、特性の良好な電気光学装置を提供することができる。
【０００９】
［適用例２］上記適用例にかかる電気光学装置において、前記保護部材は、薄膜からなることが望ましい。
【００１０】
この構成によれば、保護部材が薄膜であることから、無機光学補償板の形状が大きくなることがなく、新たに電気光学装置の設計を変更せずに利用することが可能である。
【００１１】
［適用例３］上記適用例にかかる電気光学装置において、前記薄膜は、顔料系インクを塗布して形成されていることが望ましい。
【００１２】
この構成によれば、薄膜を形成するために顔料系インクを塗布すればよく、薄膜の形成が容易である。
【００１３】
［適用例４］上記適用例にかかる電気光学装置において、前記顔料系インクに含有されている色素の粒径は、隣り合う前記柱状突起の間隙よりも大きいことが望ましい。
【００１４】
この構成によれば、顔料系インクに含有されている色素の粒径が、隣り合う柱状突起の間の間隙よりも大きいことから、色素が間隙に進入することがない。
【００１５】
［適用例５］上記適用例にかかる電気光学装置において、前記保護部材に前記柱状突起の傾き方向を識別する識別マークが形成されていることが望ましい。
【００１６】
この構成によれば、無機光学補償板の端面に保護部材が形成されていることから、この保護部材の上に識別マークをつければ識別マークが認識し易くなり、電気光学装置の組み立て性を向上させることができる。
【００１７】
［適用例６］上記適用例にかかる電気光学装置において、前記柱状突起は、無機物の斜方蒸着膜から形成されていることが望ましい。
【００１８】
この構成によれば、柱状突起は無機物の斜方蒸着により形成された膜から作成されているので、膜の成長方向と柱状突起の傾斜とをあわせることができ、特性の優れた無機光学補償板が得られる。
【００１９】
［適用例７］上記適用例にかかる電気光学装置において、前記柱状突起は、タンタルオキサイドＴａ2Ｏ5からなることが望ましい。
【００２０】
この構成によれば、柱状突起の材質として高屈折率材料のタンタルオキサイドＴａ2Ｏ5を利用できることから、容易に特性の優れた無機光学補償板が得られる。
【００２１】
［適用例８］本適用例にかかる電子機器は、上記の電気光学装置を備えたことを特徴とする。
【００２２】
この構成によれば、電子機器に上記の特性の良好な電気光学装置を備えており、表示特性の優れた電子機器を提供することができる。
【００２３】
［適用例９］本適用例にかかる無機光学補償板は、透光性基板と、前記透光性基板の一方の表面に設けられた複数の柱状突起と、を有し、無機光学補償板の端面に、隣り合う前記柱状突起の間隙を覆う保護部材が設けられたことを特徴とする。
【００２４】
この構成によれば、無機光学補償板において、隣り合う柱状突起の間隙が現れる端面に、前記間隙を覆う保護部材が設けられている。
このため、無機光学補償板の端面における接着剤の接触または油脂などの接触において、これらの成分の液状体が柱状突起と柱状突起との間隙に進入することがない。そして、これらの液状体が間隙に進入することに起因する位相差、透過率など光学特性の変化がない無機光学補償板を提供できる。
【００２５】
［適用例１０］上記適用例にかかる無機光学補償板において、前記保護部材は、薄膜からなることが望ましい。
【００２６】
この構成によれば、保護部材が薄膜であることから、無機光学補償板の形状が大きくなることがない。
【００２７】
［適用例１１］上記適用例にかかる無機光学補償板において、前記薄膜は、顔料系インクを塗布して形成されていることが望ましい。
【００２８】
この構成によれば、薄膜を形成するために顔料系インクを塗布すればよく、薄膜の形成が容易である。
【００２９】
［適用例１２］上記適用例にかかる無機光学補償板において、前記顔料系インクに含有されている色素の粒径は隣り合う前記柱状突起の間隙よりも大きいことが望ましい。
【００３０】
この構成によれば、顔料系インクに含有されている色素の粒径が隣り合う柱状突起の間の間隙よりも大きいことから、色素が間隙に進入することがない。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３１】
以下、本発明を具体化した実施形態について図面に従って説明する。なお、以下の説明に用いる各図面では、各部材を認識可能な大きさとするため、各部材の寸法の割合を適宜変更している。
（実施形態）
【００３２】
〔液晶装置〕
以下、本実施形態の電気光学装置として液晶装置を例にとり説明する。
図１は本実施形態の液晶装置の概略構成を示す断面図である。
液晶装置６００は、透過型の液晶装置６００であり、光の入射側から順に、入射側の偏光板５７０と、電気光学パネルとしての液晶パネル５００と、無機光学補償板５６０と、出射側の偏光板５８０とを有している。
液晶パネル５００の液晶装置６００の各光学要素における光の入射面および出射面は光軸５５と直交している。
【００３３】
液晶パネル５００は、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間に液晶層５０がシール材５２にて封止されている。例えば液晶層５０は、ネマチック液晶が用いられ、液晶がねじれた状態で封入されている。
入射側の偏光板５７０と出射側の偏光板５８０は、入射した光のうち、所定の方向の直線偏光光のみを透過するように構成されている。
無機光学補償板５６０は、液晶パネル５００内の液晶層における光の入射側領域または出射側領域の液晶分子によって生ずる光学的な位相差を補償している。
【００３４】
なお、無機光学補償板５６０の配置位置は図１に示した位置に限定されず、液晶パネル５００と偏光板５７０または偏光板５８０との間であれば、任意の位置に配置可能である。また、図１では無機光学補償板５６０が他の光学要素と離間した状態となっているが、一部またはそれぞれが密着した状態となっていても良い。例えば、無機光学補償板５６０と液晶パネル５００とが密着していても良い。
【００３５】
〔無機光学補償板〕
次に無機光学補償板について詳しく説明する。光学補償板としては、無機材料で作成された構造性の複屈折体を利用している。
図２は無機光学補償板の概略を示す平面図である、図３は無機光学補償板の部分拡大斜視図である。
【００３６】
無機光学補償板５６０は、透光性基板としてのガラス基板５６２にタンタルオキサイドＴａ2Ｏ5などの高屈折率材料で形成された透光性の柱状突起５６４が設けられている。柱状突起５６４はガラス基板５６２の一方の表面に、所定の角度に傾斜し、かつ隣り合う柱状突起５６４に並行に配列した構造を備えている。また、隣り合う柱状突起５６４の間には間隙５６６が形成されている。
このように、無機光学補償板５６０は端面において、柱状突起５６４と間隙５６６とが現れる構造になっている。
無機光学補償板５６０はガラス基板５６２の面が光軸と垂直になるように配置される。このようにして、光軸に対して無機光学補償板５６０は間隙５６６における空気層と柱状突起５６４の高屈折率層が交互に分布する構造となり、複屈折体を形成している。
柱状突起５６４の厚み、高さおよび配列間隔は光の波長λに対して充分に小さく設定されている。例えば、柱状突起５６４の厚みは、λ／５〜λ／３０程度である。
【００３７】
このような構造の柱状突起５６４は、ガラス基板５６２上に斜方蒸着によりタンタルオキサイドＴａ2Ｏ5などの高屈折率を有する無機材料にて成膜される。
斜方蒸着は蒸着材料の蒸着源に対してガラス基板を斜めに配置して行う蒸着方法であり、成膜された膜を基板表面に対して斜めに成長させることができる。
なお、柱状突起５６４の材料として、タンタルオキサイドＴａ2Ｏ5の他にＴｉＯ2、ＺｒＯ2、ＣｅＯ2、ＳｎＯ2などの高屈折率材料を利用することができる。
【００３８】
さらに、無機光学補償板５６０には、柱状突起５６４と間隙５６６とが現れる端面に、間隙５６６を覆う保護部材としての薄膜５６８が設けられている。
柱状突起５６４の側面と間隙５６６とが現れる４辺の端面には、ガラス基板５６２から間隙５６６を覆うように薄膜５６８が形成されている。
この薄膜５６８は、顔料系インクが塗布されて形成されている。例えば、マーキングペンなどを用いて、インクを塗布して薄膜５６８を形成してもよい。また、薄膜の材料としてシランカップリング材を用いることもできる。
【００３９】
このように、無機光学補償板５６０には、柱状突起５６４と間隙５６６とが現れる端面に、間隙５６６を覆う薄膜５６８が設けられている。
このため、無機光学補償板５６０の端面における接着剤の接触または油脂などの流動性があり揮発しにくい液状体の接触において、これらの成分の液状体が柱状突起５６４と柱状突起５６４との間隙５６６に進入することがない。そして、これらの液状体が間隙５６６に進入することに起因する、位相差および透過率などの変化がない無機光学補償板５６０を得ることができる。
【００４０】
また、顔料系インクに含有される色素の粒径が柱状突起５６４の間の間隙５６６よりも大きいことが好ましい。このようにすれば、色素が間隙５６６に進入することを防止できる。
さらに、端面に形成した薄膜５６８上に柱状突起５６４の傾き方向を認識するための認識マーク５６９を形成しても良い。このように、薄膜５６８の上に認識マーク５６９を形成できるので、認識し易くなる。
なお、薄膜５６８は端面の間隙５６６を覆えばよく、柱状突起５６４およびガラス基板５６２の端面が露出していても良い。
また、端面の間隙５６６を薄膜ではなく充分厚さのある部材で覆っても良い。
【００４１】
〔液晶パネル〕
次に、電気光学パネルとしての液晶パネルの詳細な構成を説明する。
図４は、ＴＦＴアレイ基板をその上に形成された各構成要素と共に対向基板の側から見た液晶パネルの平面図であり、図５は、図４のＨ−Ｈ’断面図である。ここでは、液晶パネルの一例として駆動回路内蔵型のＴＦＴアクティブマトリクス駆動方式の液晶パネルについて説明する。
【００４２】
図４及び図５において、本実施形態に係る液晶パネル５００では、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０とが対向配置されている。ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間に液晶層５０が封入されており、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０とは、画像表示領域１０ａの周囲に位置するシール領域に設けられたシール材５２により相互に接着されている。
【００４３】
シール材５２が配置されたシール領域の内側に並行して、画像表示領域１０ａの額縁領域を規定する遮光性の額縁遮光膜５３が、対向基板２０側に設けられている。なお、このような額縁遮光膜５３の一部又は全部は、ＴＦＴアレイ基板１０側に内蔵遮光膜として設けられてもよい。
【００４４】
シール材５２が配置されたシール領域の外側に位置する領域には、データ線駆動回路１０１及び外部回路接続端子１０２がＴＦＴアレイ基板１０の一辺に沿って設けられている。また、走査線駆動回路１０４は、この一辺に隣接する２辺に沿い、且つ、前記額縁遮光膜５３に覆われるようにして設けられている。更に、このように画像表示領域１０ａの両側に設けられた二つの走査線駆動回路１０４間をつなぐため、ＴＦＴアレイ基板１０の残る一辺に沿い、且つ、前記額縁遮光膜５３に覆われるようにして複数の配線１０５が設けられている。
【００４５】
また、対向基板２０上の４つのコーナー部には、両基板間の上下導通端子として機能する上下導通材１０６が配置されている。他方、ＴＦＴアレイ基板１０上にはこれらのコーナー部に対向する領域において上下導通端子が設けられている。上下導通材１０６及び上下導通端子によって、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間の電気的な導通がなされる。
【００４６】
図５において、ＴＦＴアレイ基板１０上には、画素スイッチング用のＴＦＴや走査線、データ線等の配線が形成された後の画素電極９ａ上に、配向膜１６が形成されている。他方、対向基板２０上には、対向電極２１の他、格子状又はストライプ状の遮光膜２３が設けられており、更には最上層部分に配向膜２２が形成されている。また、液晶層５０は、例えば一種又は数種類のネマチック液晶を混合した液晶からなり、これら一対の配向膜間で、所定の配向状態をとる。
【００４７】
次に、液晶パネル５００の画素部における構成について、図６を参照して説明する。ここに図６は、液晶パネルの画像表示領域を構成するマトリクス状に形成された複数の画素における各種素子、配線等の等価回路である。図７は、画素部における積層構造を説明するための概略断面図である。
【００４８】
図６において、本実施形態における液晶パネルの画像表示領域を構成するマトリクス状に形成された複数の画素には、それぞれ、画素電極９ａと画素電極９ａをスイッチング制御するためのスイッチング素子であるＴＦＴ３０とが形成されており、画像信号が供給されるデータ線６ａがＴＦＴ３０のソースに電気的に接続されている。データ線６ａに書き込む画像信号Ｓ１、Ｓ２、…、Ｓｎは、この順に供給しても構わないし、相隣接する複数のデータ線６ａ同士に対して、グループ毎に供給するようにしてもよい。
【００４９】
また、ＴＦＴ３０のゲートにゲート電極３ａが電気的に接続されており、所定のタイミングで、走査線１１ａ及びゲート電極３ａにパルス的に走査信号Ｇ１、Ｇ２、…、Ｇｍを、この順に印加するように構成されている。画素電極９ａは、ＴＦＴ３０のドレインに電気的に接続されており、スイッチング素子であるＴＦＴ３０を一定期間だけそのスイッチを閉じることにより、データ線６ａから供給される画像信号Ｓ１、Ｓ２、…、Ｓｎが所定のタイミングで選択された走査線１１ａの画素に書き込まれる。
【００５０】
画素に書き込まれた所定レベルの画像信号Ｓ１、Ｓ２、…、Ｓｎは、画素電極９ａと対向基板に形成された対向電極との間で一定期間保持される。液晶は、印加される電圧レベルにより分子集合の配向や秩序が変化することにより、光を変調し、階調表示を可能とする。ノーマリーホワイトモードであれば、各画素の単位で印加された電圧に応じて入射光に対する透過率が減少し、ノーマリーブラックモードであれば、各画素の単位で印加された電圧に応じて入射光に対する透過率が増加され、全体として電気光学装置からは画像信号に応じたコントラストをもつ光が出射する。
【００５１】
ここで保持された画像信号がリークするのを防ぐために、画素電極９ａと対向電極との間に形成される液晶容量と並列に容量素子７０を付加する。この容量素子７０は、走査線１１ａに並んで設けられ、固定電位側容量電極が、一定電位に固定された容量配線４００に電気的に接続されている。
【００５２】
以下に、データ線６ａ、走査線１１ａ、ゲート電極３ａ及びＴＦＴ３０等からなる、上述のような回路動作が実現される液晶パネルの具体的な構成について、図７を参照して説明する。
【００５３】
まず、画素電極９ａは、ＴＦＴアレイ基板１０上に、マトリクス状に複数設けられており、画素電極９ａの縦横の境界に各々沿ってデータ線６ａ及び走査線１１ａが設けられている。データ線６ａは、後述するようにアルミニウム膜等を含む積層構造からなり、走査線１１ａは、例えば導電性のポリシリコン膜等からなる。平面的に見て走査線１１ａとデータ線６ａとが交差する箇所において、走査線１１ａとデータ線６ａとの間の層に、半導体層１ａとゲート電極３ａを有して構成されるＴＦＴ３０が設けられている。また、走査線１１ａは、ゲート電極３ａとコンタクトホール１２ｃｖを介して電気的に接続されている。
【００５４】
ＴＦＴアレイ基板１０の側には画素電極９ａが設けられており、その上側にはラビング処理等の所定の配向処理が施された配向膜１６が設けられている。画素電極９ａは、例えばＩＴＯ膜等の透明導電性膜からなる。対向基板２０の側には、その全面に渡って対向電極２１が設けられており、その上層側には、ラビング処理等の所定の配向処理が施された配向膜２２が設けられている。対向電極２１は、上述の画素電極９ａと同様に、例えばＩＴＯ膜等の透明導電性膜からなる。
【００５５】
このように対向配置されたＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０間には、前述のシール材５２（図４及び図５参照）により囲まれた空間に液晶が封入され、液晶層５０が形成される。液晶層５０は、電圧が印加されていない状態においては配向膜１６及び２２により所定の配向状態をとる。
【００５６】
一方、ＴＦＴアレイ基板１０上には、画素電極９ａ及び配向膜１６の他、これらを含む各種の構成が積層構造をなして備えられている。この積層構造は、図７に示すように、下から順に、走査線１１ａを含む第１層、ゲート電極３ａを含むＴＦＴ３０等を含む第２層、容量素子７０を含む第３層、データ線６ａ等を含む第４層、容量配線４００等を含む第５層、前記の画素電極９ａ及び配向膜１６等を含む第６層（最上層）からなる。また、第１層及び第２層間には下地絶縁膜１２が、第２層及び第３層間には第１層間絶縁膜４１が、第３層及び第４間には第２層間絶縁膜４２が、第４層及び第５層間には第３層間絶縁膜４３が、第５層及び第６層間には第４層間絶縁膜４４が、それぞれ設けられており、前述の各要素間が短絡することを防止している。また、これら各種の絶縁膜１２、４１、４２、４３及び４４には、例えば、ＴＦＴ３０の半導体層１ａ中の高濃度ソース領域１ｄとデータ線６ａとを電気的に接続するコンタクトホール等もまた設けられている。以下では、これらの各要素について、下層側から順に説明を行う。
【００５７】
まず、第１層には、例えば、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｗ、Ｔａ、Ｍｏ等の高融点金属のうちの少なくとも一つを含む、金属単体、合金、金属シリサイド、ポリシリサイド、これらを積層したもの、或いは導電性ポリシリコン等からなる走査線１１ａが設けられている。
【００５８】
次に、第２層として、ゲート電極３ａを含むＴＦＴ３０が設けられている。ＴＦＴ３０は、ＬＤＤ（Lightly  Doped  Drain）構造を有しており、その構成要素としては、上述したゲート電極３ａ、例えばポリシリコン膜からなりゲート電極３ａからの電界によりチャネルが形成される半導体層１ａのチャネル領域１ａ’、ゲート電極３ａと半導体層１ａとを絶縁するゲート絶縁膜を含む絶縁膜２、半導体層１ａにおける低濃度ソース領域１ｂ及び低濃度ドレイン領域１ｃ並びに高濃度ソース領域１ｄ及び高濃度ドレイン領域１ｅを備えている。
【００５９】
また、本実施形態では、この第２層に、上述のゲート電極３ａと同一膜として中継電極７１９が形成されている。中継電極７１９とゲート電極３ａとは同一膜として形成されており、後者が例えば導電性ポリシリコン膜等からなる場合においては、前者もまた、導電性ポリシリコン膜等からなる。
走査線１１ａの上、かつ、ＴＦＴ３０の下には、例えばシリコン酸化膜等からなる下地絶縁膜１２が設けられている。
【００６０】
前述の第２層上の第３層には、容量素子７０が設けられている。容量素子７０は、ＴＦＴ３０の高濃度ドレイン領域１ｅ及び画素電極９ａに電気的に接続された画素電位側容量電極としての下部電極７１と、固定電位側容量電極としての上部電極である容量電極３００とが、誘電体層７５を介して対向配置されることにより形成されている。
【００６１】
より詳細には、下部電極７１は、例えば金属、合金、導電性のポリシリコン又は導電性の金属シリサイド（例えばＷＳｉ）等からなる単層膜もしくは多層膜から構成される。ここでは、一具体例として、下部電極７１は、リン（Ｐ）がイオン注入されたポリシリコンから構成され、その膜厚は約１５０ｎｍである。なお、下部電極７１は、画素電位側容量電極としての機能を持つ他、画素電極９ａとＴＦＴ３０の高濃度ドレイン領域１ｅとを中継接続する機能を持ち、中継電極７１９を介して画素電極９ａと電気的に接続されている。
【００６２】
誘電体層７５は、約５〜３０ｎｍ程度の膜厚を有する高温酸化膜（ＨＴＯ（High  Temperature  Oxide）膜）、高密度プラズマ酸化膜（ＨＤＰ（High  Density  Plasma）膜）等の酸化シリコン膜、あるいは窒化シリコン膜等の絶縁性材料から構成される。ここでは、一例として、誘電体層７５は、下層に酸化シリコン膜、上層に窒化シリコン膜を積層した二層構造を有する。なお、誘電体層７５は、例えば酸化シリコン膜、窒化シリコン膜及び酸化シリコン膜等というような三層構造、或いはそれ以上の積層構造やＨｆＯ2、Ｔａ2Ｏ5、ＴｉＯ2、ＭｇＯ等の金属酸化膜を少なくとも１つ有するように構成されてもよい。また、誘電体層７５は、単層構造としてもよい。
【００６３】
容量電極３００は、容量素子７０の固定電位側容量電極として機能する。本実施形態において、容量電極３００を固定電位とするために、容量電極３００は、固定電位とされた後述する容量配線４００と電気的に接続されている。また、容量電極３００は、ＴＦＴ３０に上側から入射しようとする光を遮る機能を有している。この容量電極３００の構成材料は、下部電極７１と同様に、例えば金属、合金、導電性のポリシリコン又は導電性の金属シリサイド（例えばＷＳｉ）等からなる単層膜もしくは多層膜から構成される。ここでは、一具体例として、容量電極３００は、上層から順に、ＷＳｉ層及びポリシリコン層という二層構造により構成され、その膜厚は約１５０ｎｍである。ＷＳｉ層及びポリシリコン層からなる二層構造を有する容量電極３００は、ＷＳｉ層の存在によりＴＦＴ３０に対する遮光性を有し、ポリシリコン層の存在により良好な電気伝導性を有する。また、このＷＳｉ層は、他に、アルミニウム等の金属からなる層とすることもできる。
【００６４】
以上説明したＴＦＴ３０ないしゲート電極３ａ及び中継電極７１９の上、かつ、容量素子７０の下には、例えば、窒化シリコン膜又は酸化シリコン膜等からなる第１層間絶縁膜４１が形成されている。
そして、この第１層間絶縁膜４１には、ＴＦＴ３０の高濃度ソース領域１ｄと後述するデータ線６ａとを電気的に接続するコンタクトホール８１が、後述する第２層間絶縁膜４２を貫通して形成されている。また、第１層間絶縁膜４１には、ＴＦＴ３０の高濃度ドレイン領域１ｅと容量素子７０を構成する下部電極７１とを電気的に接続するコンタクトホール８３が形成されている。さらに、この第１層間絶縁膜４１には、容量素子７０を構成する画素電位側容量電極としての下部電極７１と中継電極７１９とを電気的に接続するためのコンタクトホール８８１が形成されている。また、第１層間絶縁膜４１には、中継電極７１９と後述する第２中継電極６ａ２とを電気的に接続するためのコンタクトホール８８２が、後述する第２層間絶縁膜４２を貫通して形成されている。
【００６５】
前述の第３層の上層である第４層には、データ線６ａが設けられている。このデータ線６ａは、例えば、下層より順に、アルミニウム層４１Ａ、窒化チタン層４１ＴＮ、窒化シリコン層４０１の三層構造を有する膜として形成されている。
また、この第４層には、データ線６ａと同一膜として、容量配線用中継層６ａ１及び第２中継電極６ａ２が形成されている。
【００６６】
また容量素子７０の上、かつ、データ線６ａの下には、窒化シリコン膜や酸化シリコン膜等からなる第２層間絶縁膜４２が形成されている。この第２層間絶縁膜４２には、ＴＦＴ３０の高濃度ソース領域１ｄとデータ線６ａとを電気的に接続する、前記のコンタクトホール８１が形成されているとともに、前記容量配線用中継層６ａ１と容量素子７０の上部電極たる容量電極３００とを電気的に接続するコンタクトホール８０１が形成されている。さらに、第２層間絶縁膜４２には、第２中継電極６ａ２と中継電極７１９とを電気的に接続するための、前記のコンタクトホール８８２が形成されている。
【００６７】
前述の第４層の上層である第５層には、容量配線４００が形成されている。容量配線４００は、画素電極９ａが配置された図４に示す画像表示領域１０ａからその周囲に延設され、定電位源と電気的に接続されることで、固定電位とされている。
また、第５層には、容量配線４００と同一膜として、第３中継電極４０２が形成されている。第３中継電極４０２は、後述のコンタクトホール８０４及び８９を介して、第２中継電極６ａ２と画素電極９ａとを電気的に接続する機能を有する。
容量配線４００及び第３中継電極４０２は、下層にアルミニウムからなる層、上層に窒化チタンからなる層の二層構造を有している。
【００６８】
データ線６ａの上、かつ、容量配線４００の下には、窒化シリコン膜や酸化シリコン膜等からなる第３層間絶縁膜４３が形成されている。この第３層間絶縁膜４３には、前記の容量配線４００と容量配線用中継層６ａ１とを電気的に接続するためのコンタクトホール８０３、及び、第３中継電極４０２と第２中継電極６ａ２とを電気的に接続するためのコンタクトホール８０４がそれぞれ形成されている。
【００６９】
第６層には、上述したように画素電極９ａがマトリクス状に形成され、画素電極９ａ上に配向膜１６が形成されている。そして、この画素電極９ａ下には、窒化シリコン膜や酸化シリコン膜等からなる第４層間絶縁膜４４が形成されている。この第４層間絶縁膜４４には、画素電極９ａ及び前記の第３中継電極４０２間を電気的に接続するためのコンタクトホール８９が形成されている。
【００７０】
すなわち、画素電極９ａとＴＦＴ３０の高濃度ドレイン領域１ｅとの間は、このコンタクトホール８９、第３中継電極４０２、コンタクトホール８０４、第２中継電極６ａ２、コンタクトホール８８２、中継電極７１９、コンタクトホール８８１、下部電極７１及びコンタクトホール８３を介して、電気的に接続されることとなる。
【００７１】
以上、液晶装置６００を構成する無機光学補償板５６０において、柱状突起５６４と間隙５６６とが現れる端面に、間隙５６６を覆う薄膜５６８が設けられている。
このため、無機光学補償板５６０の端面における接着剤の接触または油脂などの接触において、これらの成分の液状体が柱状突起５６４と柱状突起５６４との間隙５６６に進入することがない。そして、これらの液状体が間隙５６６に進入することに起因する位相差、透過率など光学特性の変化がなく、特性の良好な液晶装置６００を提供することができる。
【００７２】
〔液晶プロジェクター〕
次に電子機器として電気光学装置を利用した投射型表示装置について説明する。本実施形態では、投射型表示装置として液晶プロジェクターを例にとり説明する。
図８は液晶プロジェクターの概略構成を示す構造図である。
液晶プロジェクター２００には透過型の３枚の液晶装置６００Ｒ，６００Ｇ，６００Ｂが組み込まれ、フルカラーで画像投影をすることができる。
【００７３】
液晶プロジェクター２００のハウジング（図示せず）内には、光源２１０と、照明光学系２２０と、ダイクロイックミラー２３０Ｒ，２３０Ｇと、全反射ミラー２３０Ｂ，２４０，２５０と、合成プリズム２６０、液晶装置６００Ｒ，６００Ｇ，６００Ｂとが設置されている。
液晶装置６００Ｒは、図１で説明したように光の入射側の偏光板５７０Ｒ、液晶パネル５００Ｒ、無機光学補償板５６０Ｒ、光の出射側の偏光板５８０Ｒから構成されている。液晶装置６００Ｇ，６００Ｂについても同様であり説明を省略する。
光源２１０は、例えばハロゲンランプ、メタルハライドランプ、キセノンランプなどを用いることができる。
【００７４】
光源２１０からの放射光は、照明光学系２２０を通過して紫外線および赤外線がカットされ、赤色光、緑色光、青色光を含む白色光となる。また、この白色光は平行光となってダイクロイックミラー２３０Ｒに入射する。ダイクロイックミラー２３０Ｒは赤色光だけを透過し、他の白色光は反射される。この透過した赤色光は全反射ミラー２４０で反射して液晶装置６００Ｒを照明する。
また、ダイクロイックミラー２３０Ｒで反射された緑色光と青色光は、緑色光だけを反射するダイクロイックミラー２３０Ｇで２光束に分割される。ダイクロイックミラー２３０Ｇで反射された緑色光は、液晶装置６００Ｇを照明する。
ダイクロイックミラー２３０Ｇ透過した青色光は全反射ミラー２３０Ｂおよび全反射ミラー２５０で反射され、液晶装置６００Ｂを照明する。
【００７５】
各液晶装置６００Ｒ，６００Ｇ，６００Ｂの液晶パネル５００Ｒ，５００Ｇ，５００Ｂには、フルカラー画像を構成する赤色画像、緑色画像、青色画像の濃度パターン画像が表示される。これらの液晶パネル５００Ｒ，５００Ｇ，５００Ｂから光学的に等距離となる位置に中心がくるように合成プリズム２６０が配置され、合成プリズム２６０の出射面に対面して投影レンズ２７０が設けられている。
合成プリズム２６０では、液晶パネル５００Ｒ，５００Ｇ，５００Ｂを透過してきた赤色光、緑色光、青色光が合成されて投影レンズ２７０に入射させる。
そして、投影レンズ２７０を通して合成されたフルカラー画像はスクリーン２８０に結像する。
【００７６】
以上のような液晶プロジェクター２００において、液晶装置６００Ｒ，６００Ｇ，６００Ｂに無機光学補償板５６０Ｒ，５６０Ｇ，５６０Ｂが備えられている。そして、これらの無機光学補償板５６０Ｒ，５６０Ｇ，５６０Ｂには、前述した柱状突起と間隙とが現れる端面に、前記間隙を覆う保護部材が設けられている。
このため、無機光学補償板の端面における接着剤の接触または油脂などの接触において、これらの成分の液状体が柱状突起と柱状突起との間隙に進入することがなく、これらの液状体が間隙に進入することに起因する位相差、透過率など光学特性の変化がない。この結果、液晶装置６００Ｒ，６００Ｇ，６００Ｂを液晶プロジェクター２００に用いることで、良好なフルカラー画像を投射することができる。
【００７７】
さらに、本発明は上記のような液晶プロジェクター等の投射型表示装置に限らず、電気光学装置を備えた電子機器にも適用可能であり、例えば表示部として電気光学装置を備えた携帯型もしくはディスクトップ型の情報機器等に適用することができる。具体的には、携帯電話、腕時計、ワープロ、コンピューター、ＰＤＡ、電子ブック、テレビ、カメラ、カーナビゲーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末などの各種電子機器に適用できる。
【００７８】
また本発明は、上述の実施形態で説明した電気光学装置以外にも、例えばシリコン基板上に素子を形成する反射型液晶装置（ＬＣＯＳ）、プラズマディスプレー（ＰＤＰ）、電界放出型ディスプレー（ＦＥＤ，ＳＥＤ）、有機ＥＬディスプレー等の電気光学装置にも適用可能であり同様の作用効果が得られる。
【００７９】
なお、本明細書に開示の発明は、前記の課題解決手段での各発明の構成を一部変更したもの、或いは各発明の構成を一部削除して上位概念化したものを包含するものであり、例えば上記実施形態等に種々の変更を加えたものも包含する。
【図面の簡単な説明】
【００８０】
【図１】本実施形態における電気光学装置としての液晶装置の概略構成を示す断面図。
【図２】本実施形態の無機光学補償板の概略を示す平面図。
【図３】本実施形態の無機光学補償板の部分拡大斜視図。
【図４】本実施形態のＴＦＴアレイ基板をその上に形成された各構成要素と共に対向基板の側から見た液晶パネルの平面図。
【図５】図４のＨ−Ｈ’断面図。
【図６】本実施形態の画像表示領域を構成するマトリクス状に形成された複数の画素における各種素子、配線等の等価回路。
【図７】本実施形態の画素部における積層構造を説明するための概略断面図。
【図８】本実施形態の投射型表示装置として液晶プロジェクターの概略構成を示す構造図。
【図９】従来の無機光学補償板の構造を示す概略斜視図。
【図１０】従来の無機光学補償板における特性の劣化する状態を説明する説明図。
【符号の説明】
【００８１】
１０…ＴＦＴアレイ基板、２０…対向基板、５０…液晶層、５２…シール材、５５…光軸、２００…投射型表示装置としての液晶プロジェクター、２１０…光源、２２０…照明光学系、２３０Ｒ，２３０Ｇ…ダイクロイックミラー、２４０，２５０…全反射ミラー、２６０…合成プリズム、２７０…投影レンズ、２８０…スクリーン、５００…電気光学パネルとしての液晶パネル、５６０…無機光学補償板、５６２…透光性基板としてのガラス基板、５６４…柱状突起、５６６…間隙、５６８…保護部材としての薄膜、５６９…認識マーク、５７０，５８０…偏光板、６００…電気光学装置としての液晶装置。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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