(57)【要約】【課題】スキャン露光方式において、複数の露光パターンを１台の装置で効率良く露光するための手段を提供することであり、特に、異種の２つのカラーフィルタパターンを有するカラーフィルタ基板を、異なる２つの色工程にまたがって、１台のスキャン露光装置により停滞無く引き続いて処理するための露光装置及びそれを用いた異種パターンの露光方法を提供すること。【解決手段】感光層が形成された処理基板に異種パターンを露光する露光装置であって、少なくとも第１の基板搬送手段と、第２の基板搬送手段と、基板受け取りステージと、アライメント手段と、露光部と、基板搬出部と、制御手段と、を具備しており、該露光部が複数の露光ユニットからなる。【選択図】図１
2010211125.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
感光層が形成された処理基板に異種パターンを露光する露光装置であって、少なくとも第１の基板搬送手段と、第２の基板搬送手段と、基板受け取りステージと、アライメント手段と、露光部と、基板搬出部と、制御手段と、を具備しており、該露光部が複数の露光ユニットからなることを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記第１の基板搬送手段及び前記第２の基板搬送手段が、少なくとも位置決めされた処理基板を保持する基板固定具と、前記処理基板を搬送移動する搬送機構と、をそれぞれに備えていることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記アライメント手段が、メカニカルアライメント機構と、カメラアライメント機構とを備えていることを特徴とする請求項１または２に記載の露光装置。
【請求項４】
前記露光部が２つの露光ユニットからなることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の露光装置。
【請求項５】
前記露光ユニットが、光源と、パターンが形成されたフォトマスクを２枚以上収納する収納スペースと、前記フォトマスクを所定の位置に位置決めするアライメント機構と、フォトマスクに形成された各種パターンから露光すべきパターンを選択するシャッター機構とを備えていることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の露光装置。
【請求項６】
少なくとも以下の工程を具備して、異なる色工程に枚葉状の処理基板を連続的に切り換えることにより、異なる２つの色工程にまたがって停滞無く引き続いて露光処理できることを特徴とする異種パターンの露光方法。
（ａ）上流装置より１色目の感光層が形成された１枚目の枚葉状の処理基板を基板受け取りステージで受け取り、アライメント手段を用いて、１枚目の処理基板を基板受け取りステージの所定位置に位置合わせした状態で、第１の基板搬送手段の基板固定具にて１枚目の処理基板を保持する工程。
（ｂ）第１の基板搬送手段にて１枚目の処理基板を下流へ搬送・移動しながら、上流装置より２色目の感光層が形成された２枚目の枚葉状の処理基板を基板受け取りステージで受け取り、アライメント手段を用いて、２枚目の処理基板を基板受け取りステージの所定位置に位置合わせした状態で、第２の基板搬送手段の基板固定具にて２枚目の処理基板を保持する工程。
（ｃ）第１の基板搬送手段にて１枚目の処理基板を露光部へ搬送・移動しながら、露光部の第１露光ユニットにてＡパターンの１色目をＡ１パターンとして選択露光し、引き続いて、露光部の第２露光ユニットにてＢパターンの１色目をＢ１パターンとして選択露光することにより、Ａ１パターン及びＢ１パターンが露光された１枚目の処理基板を作製し、該１枚目の処理基板を第１の基板搬送手段の基板固定具による保持を解除して基板搬出部に排出し、第２の基板搬送手段にて２枚目の処理基板を下流へ搬送・移動しながら、上流装置より２色目の感光層が形成された３枚目の枚葉状の処理基板を基板受け取りステージで受け取り、アライメント手段を用いて、３枚目の処理基板を基板受け取りステージの所定位置に位置合わせした状態で、第１の基板搬送手段の基板固定具にて３枚目の処理基板を保持する工程。
（ｄ）第２の基板搬送手段にて２枚目の処理基板を露光部へ搬送・移動しながら、露光部の第１露光ユニットにてＢパターンの２色目をＢ２パターンとして選択露光し、引き続いて、露光部の第２露光ユニットにてＡパターンの２色目をＡ２パターンとして選択露光することにより、Ａ２パターン及びＢ２パターンが露光された２枚目の処理基板を作製し、該２枚目の処理基板を第２の基板搬送手段の基板固定具による保持を解除して基板搬出部に排出し、第１の基板搬送手段にて３枚目の処理基板を下流へ搬送・移動しながら、上流
装置より２色目の感光層が形成された４枚目の枚葉状の処理基板を基板受け取りステージで受け取り、アライメント手段を用いて、４枚目の処理基板を基板受け取りステージの所定位置に位置合わせした状態で、第２の基板搬送手段の基板固定具にて４枚目の処理基板を保持する工程。
（ｅ）上記（ｄ）の工程を順次積算された処理基板枚数に置き換えて繰り返すことにより、上記（ａ）〜（ｃ）で形成された１色目の感光層からなる１枚目の処理基板から、２色目の感光層からなる２枚目以降の処理基板への切り換えを連続的に行って、異種のパターンを停滞無く引き続いて露光する工程。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、多面付けされたカラーフィルタ基板に面付けフィルタパターンを露光する露光装置及びそれを用いた異種パターンの露光方法に関し、特に、１台の露光ラインで効率よくフィルタパターンを露光できる露光装置及びそれを用いた異種パターンの露光方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、大型カラーテレビ、ノートパソコン、携帯用電子機器の増加に伴い、液晶ディスプレイ、特に、カラー液晶ディスプレイパネルの需要の増加はめざましいものがある。
カラー液晶ディスプレイパネルに用いられるカラーフィルタ基板は、ガラス基板等からなる透明基板上に、ブラックマトリックス、赤色フィルタ、緑色フィルタ、青色フィルタ等からなる着色フィルタ、スペーサー等がフォトマスクを用いたパターン露光、現像等のパターニング処理を行うフォトリソグラフィープロセスを経て形成される。
【０００３】
最近では、カラー液晶ディスプレイパネル自身の大型化が要請されるとともに、生産効率の向上も強く求められるため、用いられるカラーフィルタ基板に関しては、例えば、マザーガラスのサイズを大型化して、大型ディスプレイパネル用のパターンを数多く含む、多面付けされた大型のカラーフィルタ基板を効率良く製造することが特に重要である。
【０００４】
前記フォトリソグラフィープロセスは、前記各色の着色フィルタやスペーサーを形成するプロセスに加えて、液晶の配向制御を行うための突起を形成するプロセスも行う場合が多く、通常合計６回繰り返す露光工程に対しては、特に生産効率を高めることが重要になってきている。
【０００５】
前記露光工程において、従来より、高い生産性を得るために一括露光タイプのフォトマスクを用いて、一括露光処理方式を採用することが多かったが、カラーフィルタ基板のマザーガラスサイズの一層の大型化に伴うフォトマスクの超大型化が進むと、一括露光タイプのフォトマスクの製造技術上の困難が増すとともに高価にもなり、一括露光処理方式の問題点が大きくなってきた。このため、安価で製造の容易な小サイズのフォトマスクを複数枚並べて、フォトマスクの直下にカラーフィルタ基板をスキャンしながら露光する、いわゆるスキャン露光方式の開発が進んでいる。
【０００６】
カラーフィルタ基板上のパターン配列に関しては、カラーフィルタ基板の面付け効率を向上させるために、例えば、図２に示すように、Ａ、Ｂ２種の異なるサイズのカラーフィルタを面付けすることがある。Ａ、Ｂは通常、異なる２種のパターンでもある。マザーガラスサイズの大型化に伴い、面付けされるカラーフィルタのパターン配列の自由度は一層増加する。
【０００７】
しかしながら、前記スキャン露光方式においては、フォトマスクの直下にカラーフィルタ基板をスキャンしながら露光するために、１スキャンの間では、スキャン方向に同一パターンの繰り返し露光しかできないことになり、露光パターンの異なる前記Ａ、Ｂ２種のパターンを１スキャンの間で露光処理することはできない。従って、上記のように、Ａ、Ｂ２種の異なるパターンのカラーフィルタを面付けして、スキャン露光処理する場合は、ＡパターンとＢパターンとを別のスキャン動作において処理する必要があった。
【０００８】
上記の異種パターンが２種混在する場合のスキャン露光処理の例としては、露光装置を２台設置し、異なるパターンをそれぞれ別の装置により露光処理するか、もしくは、フォ
トマスク内の露光エリアのパターンを切り替えて使用することにより、露光装置１台で２パス（２回のスキャン）を行い露光を実施するか、いずれかが行われてきた。前者の場合は、露光装置が２台で、搬送部分を含めた露光系全体が２倍の設備費用と設置面積を要することとなり、生産コストの上昇を招く。
【０００９】
また、後者の場合にも、生産能力が半減して、生産コストの上昇を招く。この改良を目的として、本発明者は、異種パターンが２種混在するカラーフィルタパターンを１台の露光装置で効率良く露光できる露光装置及びそれを用いた異種パターンの露光方法を提案した（特許文献１参照）。
【００１０】
前記提案した露光装置及びそれを用いた異種パターンの露光方法によって、異種パターンが２種混在するカラーフィルタパターンを１台の露光装置で効率良く露光できるので、生産効率を下げることなく多面付け基板に、異種のカラーフィルタパターンを露光することが可能となった。しかし、カラーフィルタ基板のように繰り返しの露光工程の多い製品を、任意の異なる露光工程の処理を１台の露光装置で効率良く露光処理することまでは、困難である。例えば、異種の２つの露光パターンが混在するカラーフィルタ基板を、異なる色工程にまたがって、１台の露光装置により停滞無く引き続いて製造する場合には、スキャン露光のためのフォトマスクパターンは４種類必要になる。また、異種の３つの露光パターンが混在するカラーフィルタ基板を露光処理するには、単一の色工程のみを連続して流す場合であっても、前記提案した露光装置及びそれを用いた異種パターンの露光方法では充分な効果を得ることができない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１１】
【特許文献１】特開２００８−３１０２１７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
本発明は、前記の問題に鑑みて提案するものであり、本発明が解決しようとする課題は、スキャン露光方式において、複数の露光パターンを１台の装置で効率良く露光するための手段を提供することであり、特に、異種の２つのカラーフィルタパターンを有するカラーフィルタ基板を、異なる２つの色工程にまたがって、１台のスキャン露光装置により停滞無く引き続いて処理するための露光装置及びそれを用いた異種パターンの露光方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
上記の課題を解決するための手段として、請求項１に記載の発明は、感光層が形成された処理基板に異種パターンを露光する露光装置であって、少なくとも第１の基板搬送手段と、第２の基板搬送手段と、基板受け取りステージと、アライメント手段と、露光部と、基板搬出部と、制御手段と、を具備しており、該露光部が複数の露光ユニットからなることを特徴とする露光装置である。
【００１４】
また、請求項２に記載の発明は、前記第１の基板搬送手段及び前記第２の基板搬送手段が、少なくとも位置決めされた処理基板を保持する基板固定具と、前記処理基板を搬送移動する搬送機構と、をそれぞれに備えていることを特徴とする請求項１に記載の露光装置である。
【００１５】
また、請求項３に記載の発明は、前記アライメント手段が、メカニカルアライメント機構と、カメラアライメント機構とを備えていることを特徴とする請求項１または２に記載の露光装置である。
【００１６】
また、請求項４に記載の発明は、前記露光部が２つの露光ユニットからなることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の露光装置である。
【００１７】
また、請求項５に記載の発明は、前記露光ユニットが、光源と、パターンが形成されたフォトマスクを２枚以上収納する収納スペースと、前記フォトマスクを所定の位置に位置決めするアライメント機構と、フォトマスクに形成された各種パターンから露光すべきパターンを選択するシャッター機構とを備えていることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の露光装置である。
【００１８】
また、請求項６に記載の発明は、少なくとも以下の工程を具備して、異なる色工程に枚葉状の処理基板を連続的に切り換えることにより、異なる２つの色工程にまたがって停滞無く引き続いて露光処理できることを特徴とする異種パターンの露光方法である。
（ａ）上流装置より１色目の感光層が形成された１枚目の枚葉状の処理基板を基板受け取りステージで受け取り、アライメント手段を用いて、１枚目の処理基板を基板受け取りステージの所定位置に位置合わせした状態で、第１の基板搬送手段の基板固定具にて１枚目の処理基板を保持する工程。
（ｂ）第１の基板搬送手段にて１枚目の処理基板を下流へ搬送・移動しながら、上流装置より２色目の感光層が形成された２枚目の枚葉状の処理基板を基板受け取りステージで受け取り、アライメント手段を用いて、２枚目の処理基板を基板受け取りステージの所定位置に位置合わせした状態で、第２の基板搬送手段の基板固定具にて２枚目の処理基板を保持する工程。
（ｃ）第１の基板搬送手段にて１枚目の処理基板を露光部へ搬送・移動しながら、露光部の第１露光ユニットにてＡパターンの１色目をＡ１パターンとして選択露光し、引き続いて、露光部の第２露光ユニットにてＢパターンの１色目をＢ１パターンとして選択露光することにより、Ａ１パターン及びＢ１パターンが露光された１枚目の処理基板を作製し、該１枚目の処理基板を第１の基板搬送手段の基板固定具による保持を解除して基板搬出部に排出し、第２の基板搬送手段にて２枚目の処理基板を下流へ搬送・移動しながら、上流装置より２色目の感光層が形成された３枚目の枚葉状の処理基板を基板受け取りステージで受け取り、アライメント手段を用いて、３枚目の処理基板を基板受け取りステージの所定位置に位置合わせした状態で、第１の基板搬送手段の基板固定具にて３枚目の処理基板を保持する工程。
（ｄ）第２の基板搬送手段にて２枚目の処理基板を露光部へ搬送・移動しながら、露光部の第１露光ユニットにてＢパターンの２色目をＢ２パターンとして選択露光し、引き続いて、露光部の第２露光ユニットにてＡパターンの２色目をＡ２パターンとして選択露光することにより、Ａ２パターン及びＢ２パターンが露光された２枚目の処理基板を作製し、該２枚目の処理基板を第２の基板搬送手段の基板固定具による保持を解除して基板搬出部に排出し、第１の基板搬送手段にて３枚目の処理基板を下流へ搬送・移動しながら、上流装置より２色目の感光層が形成された４枚目の枚葉状の処理基板を基板受け取りステージで受け取り、アライメント手段を用いて、４枚目の処理基板を基板受け取りステージの所定位置に位置合わせした状態で、第２の基板搬送手段の基板固定具にて４枚目の処理基板を保持する工程。
（ｅ）上記（ｄ）の工程を順次積算された処理基板枚数に置き換えて繰り返すことにより、上記（ａ）〜（ｃ）で形成された１色目の感光層からなる１枚目の処理基板から、２色目の感光層からなる２枚目以降の処理基板への切り換えを連続的に行って、異種のパターンを停滞無く引き続いて露光する工程。
【発明の効果】
【００１９】
本発明の露光装置及びそれを用いた異種パターンの露光方法を用いることにより、スキャン露光方式において、複数の露光パターンを１台の露光装置で効率良く露光でき、異種の２つのカラーフィルタパターンを有する多面付けカラーフィルタ基板を、異なる２つの色工程にまたがって、１台のスキャン露光装置により停滞無く引き続いて処理することができるので、製造装置の色別の専用化が難しい少量生産の場合であっても、比較的生産効率を下げることなく、カラーフィルタ基板を製造できる。また、一般の露光工程を含む工程に共通して、露光処理の対象となる枚葉基板において、単一の露光ユニットが収納及び切り替えできるフォトマスクの枚数を超える複数の異種パターンの形成を効率良く行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本発明の露光装置の一実施形態を示す模式構成図である。
【図２】異種サイズのカラーフィルタパターンの面付け配置例を示す模式平面図である。
【図３】異種パターンのフォトマスクへのパターン配置例を示す模式平面図である。（ａ）は第１露光ユニット用フォトマスク、（ｂ）は第２露光ユニット用フォトマスクのパターン配置例である。
【図４】各露光ユニットへの各フォトマスクの配置例を示す模式平面図である。
【図５】（ａ）〜（ｄ）は、本発明の露光装置を用いて、感光層が形成された処理基板に異種パターンを露光する露光方法を工程順に示す説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
以下、本発明の実施形態について、図面に従って説明する。なお、本説明は、カラーフィルタ基板の形成例に沿って、色工程の切り替えを伴う形態にて説明するが、色工程の切り替えを、一般の複数層形成の場合の他の層形成への移行と置き換えても同様である。
【００２２】
図１は、本発明の露光装置の一実施形態を示す模式構成図である。
本発明の露光装置は、少なくとも第１の基板搬送手段１と、第２の基板搬送手段２と、基板受け取りステージ３と、アライメント手段（図示せず）と、露光部５と、基板搬出部６と、制御手段７と、を具備しており、該露光部５が複数の露光ユニットからなる。基板の搬送方向を図中にブロック矢印で示すが、露光順等の都合によっては、本説明以外に一定区間を逆送させることも可能である。該複数の露光ユニットは簡単のために２つの例について説明するが、３つ以上設けることも可能である。図では、２つの露光ユニットとして第１露光ユニット５１と第２露光ユニット５２を装置全体の上流から下流への並びの順に設ける。
【００２３】
さらに、露光前基板待機部４１を露光部５の上流側に設けることができる。また、露光後基板待機部（図示せず）を露光部５の下流側、基板搬出部６の手前に設けることもできる。上記露光前基板待機部と上記露光後基板待機部との間を折り返し搬送させる機能を付加することで、変則的な露光順での使用も可能になる。
【００２４】
図５（ａ）〜（ｄ）は、本発明の露光装置を用いて、感光層が形成された処理基板に異種パターンを露光する露光方法を工程順に示す説明図であって、カラーフィルタの色工程の切り替えを伴う形態にて説明するが、色工程の切り替えを、一般の複数層形成の場合の他の層形成への移行と置き換えても同様である。図５に示す工程は、図１の本発明の露光装置の一実施形態を示す模式構成図に対応する露光装置を用いており、装置の機能の説明は、図５により補足される。
【００２５】
第１の基板搬送手段１及び第２の基板搬送手段２は、少なくとも位置決めされた処理基板１１等を保持するための基板固定具２１等と、前記処理基板を搬送移動するための移動機構（図示せず）と、をそれぞれが少なくとも一式ずつ備えている。基板固定具２１、２２は、上流装置（例えば、レジスト塗布装置）より感光層が形成された処理基板１１等が基板受け取りステージ３に供給され、アライメント手段（図示せず）にて位置決めされた処理基板を保持するもので、基板固定具に保持された処理基板は、保持された状態で移動しながら露光処理が行われ、基板搬出部６にて保持が解除されて、他の移動機構により、下流装置（例えば、現像装置）に処理基板が供給される。また、処理基板の保持を解除した基板固定具２１、２２は、前記第１の基板搬送手段１及び第２の基板搬送手段２のそれぞれの移動機構とともに、基板受け取りステージ３に原点復帰する。基板固定具２１、２２への処理基板の保持方法としては、各種の保持方法が使用可能であるが、真空吸着方式が好適である。
【００２６】
また、前記処理基板を基板固定具に保持して搬送移動する移動機構は、ボールねじを利用してレール上を固定ジグが移動する方式が好適である。さらに、基板搬送手段１、２の基板固定具２１、２２による保持が解除され、基板搬出部６に排出された後の前記処理基板は、基板搬出部６に別途設けられた搬送ベルト等による一般的な搬送機構（図示せず）により、下流に送られる。
【００２７】
基板受け取りステージ３では、上流装置（例えば、レジスト塗布装置）より感光層が形成された処理基板１１等が基板受け取りステージ３に供給され、アライメント手段（図示せず）にて、露光部５の各露光ユニット５１、５２にセットされた露光用のフォトマスクの特定のアライメントマークに対応する位置が処理基板毎に同位置になるように位置決めされる。
【００２８】
また、アライメント手段としては、通常のメカニカルアライメント機構と、カメラアライメント機構とを有し、メカニカルアライメント機構でラフに位置合わせし、カメラアライメント機構にて正確な位置合わせ精度を確保し、処理基板の基板受け取りステージ３への位置決めを早く、正確に行うようにしている。
【００２９】
露光前基板待機部４１は、露光部５への通過領域となるとともに、次の処理基板を基板受け取りステージ３に受け入れ、位置決め状態に保持するための待機場所ともなる。また、露光順を自由に選択する場合に、処理基板の動きに自由度を与えるためのスペースとして利用することもできる。
【００３０】
ここで、図２、図３、図４を用いて、異種サイズ、異種パターンの複数パターンの面付け配置からなるカラーフィルタ基板の露光工程を例として、フォトマスクの使用例を説明する。
【００３１】
図２は、異種サイズのカラーフィルタパターンの面付け配置例を示す模式平面図であり、異種サイズ、異種パターンのＡ、Ｂ２種のそれぞれ複数パターンを多面付け配置するカラーフィルタ基板８の例であって、面付けカラーフィルタ（Ａパターン）８１を４面と、面付けカラーフィルタ（Ｂパターン）８２を８面と、を製造工程中の１枚のカラーフィルタ基板８上に配置する場合、カラーフィルタを構成する前記着色フィルタ等の複数の色工程の一つずつに上記の複数パターンＡ、Ｂの各色パターンを形成するための露光工程が対応する。
【００３２】
図３は、異種パターンのフォトマスクへのパターン配置例を示す模式平面図であって、（ａ）は第１露光ユニット用フォトマスク、（ｂ）は第２露光ユニット用フォトマスクのそれぞれのパターン配置例である。第１露光ユニット用フォトマスク９には、例えば、上記Ａパターンの１色目のフォトマスクパターン９１が一つの要素として形成され、また、上記Ｂパターンの２色目のフォトマスクパターン９２も一つの要素として形成される。上記二つのパターン要素をそれぞれ、Ａ１パターン、Ｂ２パターンと略称する。また、第２露光ユニット用フォトマスク１０には、例えば、上記Ｂパターンの１色目のフォトマスク
パターン１０１が一つの要素として形成され、また、上記Ａパターンの２色目のフォトマスクパターン１０２も一つの要素として形成される。上記二つのパターン要素をそれぞれ、Ｂ１パターン、Ａ２パターンと略称する。
【００３３】
図４は、各露光ユニットへの各フォトマスクの配置例を示す模式平面図である。基板受け取りステージ３の方からブロック矢印で示す方向に搬送した処理基板１１等を、露光部５に設けた第１露光ユニット５１と第２露光ユニット５２を通過させる際に、それぞれの露光ユニット毎に用意した複数のフォトマスク、即ち、第１露光ユニット用フォトマスク９を配列したフォトマスク群と、第２露光ユニット用フォトマスク１０を配列したフォトマスク群と、を使って、選択的に露光する。
【００３４】
露光部５に含まれる第１露光ユニット５１と第２露光ユニット５２とは、各露光ユニットが、光源（図示せず）と、パターンが形成されたフォトマスクを２枚以上収納する収納スペース（図示せず）と、前記フォトマスクを所定の位置に位置決めするアライメント機構（図示せず）と、フォトマスクに形成された各種パターンから露光されるパターンを選択するシャッター機構（図示せず）とを備えており、フォトマスクに形成されたカラーフィルタパターンをシャッター機構にて選択し、スキャン露光により、感光層が形成された処理基板にパターン露光する。
フォトマスクには、異種のカラーフィルタパターンが形成されているので、シャッター機構のシャッター移動とシャッター開閉動作により、その都度パターン選択を行う。または、シャッター機構の位置を固定して、フォトマスクの移動によりその都度パターン選択を行うこともできる。
【００３５】
本発明の露光装置による上記露光処理が終了した基板は、基板搬出部６にて保持が解除されて、下流装置（例えば、現像装置）に供給されるが、上記一連の動作は、制御手段７にてプログラム制御されて、処理基板が間違いなく、効率良く処理される。
【００３６】
以下、本発明の露光装置を用いて感光層が形成された処理基板に異種パターンを露光する露光方法について、図５を用いて工程順に説明する。
まず、上流装置より１色目の感光層が形成された１枚目の処理基板１１を基板受け取りステージ３で受け取り、アライメント手段を用いて、１枚目の処理基板１１を基板受け取りステージ３の所定位置に位置合わせした状態で、第１の基板搬送手段１の基板固定具２１にて１枚目の処理基板１１を保持する（図５（ａ）参照）。
【００３７】
次に、第１の基板搬送手段１にて１枚目の処理基板１１を下流へ搬送・移動しながら、上流装置より２色目の感光層が形成された２枚目の枚葉状の処理基板１２を基板受け取りステージ３で受け取り、アライメント手段を用いて、２枚目の処理基板１２を基板受け取りステージ３の所定位置に位置合わせした状態で、第２の基板搬送手段２の基板固定具２２にて２枚目の処理基板１２を保持する（図５（ｂ）参照）。なお、新たに基板受け取りステージ３で受け取る処理基板は感光層が形成されているだけでなく、前のパターン形成が既になされていることが多いが、以下の説明における場合も含めて、簡単のために図では表示しない。
【００３８】
次に、第１の基板搬送手段１にて１枚目の処理基板１１を露光部５へ搬送・移動しながら、露光部５の第１露光ユニット５１にてＡパターンの１色目をＡ１パターンとして選択露光し、引き続いて、露光部５の第２露光ユニット５２にてＢパターンの１色目をＢ１パターンとして選択露光することにより、Ａ１パターン及びＢ１パターンが露光された１枚目の処理基板１１を作製し、該１枚目の処理基板１１を第１の基板搬送手段１の基板固定具２１による保持を解除して基板搬出部６に排出し、第２の基板搬送手段２にて２枚目の処理基板１２を下流へ搬送・移動しながら、上流装置より２色目の感光層が形成された３
枚目の枚葉状の処理基板１３を基板受け取りステージ３で受け取り、アライメント手段を用いて、３枚目の処理基板１３を基板受け取りステージ３の所定位置に位置合わせした状態で、前記１枚目の処理基板１１の保持を解除後に基板受け取りステージ３に復帰した第１の基板搬送手段１の基板固定具２１にて３枚目の処理基板１３を保持する（図５（ｃ）参照）。なおここで、放射状のマーク５９は、本工程中の一定時間、露光ユニットが点灯状態にあったことを表示する。
【００３９】
次に、第２の基板搬送手段２にて２枚目の処理基板１２を露光部５へ搬送・移動しながら、露光部５の第１露光ユニット５１にてＢパターンの２色目をＢ２パターンとして選択露光し、引き続いて、露光部５の第２露光ユニット５２にてＡパターンの２色目をＡ２パターンとして選択露光することにより、Ａ２パターン及びＢ２パターンが露光された２枚目の処理基板１２を作製し、該２枚目の処理基板１２を第２の基板搬送手段２の基板固定具２２による保持を解除して基板搬出部６に排出し、第１の基板搬送手段にて３枚目の処理基板１３を下流へ搬送・移動しながら、上流装置より２色目の感光層が形成された４枚目の枚葉状の処理基板１４を基板受け取りステージ３で受け取り、アライメント手段を用いて、４枚目の処理基板１４を基板受け取りステージ３の所定位置に位置合わせした状態で、前記２枚目の処理基板１２の保持を解除後に基板受け取りステージ３に復帰した第２の基板搬送手段２の基板固定具２２にて４枚目の処理基板１４を保持する（図５（ｄ）参照）。なおここで、放射状のマーク５９は、本工程中の一定時間、露光ユニットが点灯状態にあったことを表示する。
【００４０】
上記図５（ｄ）を用いて説明した工程を順次積算された処理基板枚数に置き換えて繰り返すことにより、上記（ａ）〜（ｃ）で形成された１色目の感光層からなる１枚目の処理基板１１から、２色目の感光層からなる２枚目以降の処理基板１２、１３、１４、・・・への切り換えを連続的に行って、異種のパターンを停滞無く引き続いて露光することができる。また、上記一連の動作制御、条件設定等は制御手段７にプログラム化されており、制御手段７にて制御されている。
【００４１】
なお、上述の１色目や１枚目という表現は、単に説明の順番として２色目や２枚目と区別するために、使用するものであり、一連の処理基板全体の製造工程の中での絶対的な順序を指すものではない。
【００４２】
以上、スキャン露光方式において、複数の露光パターンを１台の装置で効率良く露光するための露光装置及びそれを用いた異種パターンの露光方法について述べた。特に、異種の２つのカラーフィルタパターンを有するカラーフィルタ基板を、異なる２つの色工程にまたがって、１台のスキャン露光装置により停滞無く引き続いて処理するための露光装置及びそれを用いた異種パターンの露光方法を提供することができる。しかも、本発明は、色工程の切り替えを、一般の複数層形成の場合の他の層形成への移行に適用することも容易であるばかりでなく、色工程や他の層形成への切り替えを伴わない場合にも、パターンの切り替えを容易にするので、本発明の露光装置が準備作業も含めて露光処理の効率を向上させることは、容易に考えられる。また、パターンの切り替えを伴わない場合であっても、本発明の露光装置は、複数の小型の露光ユニットに機能を分散させて処理できるので、必要とする処理能力に応じて段階的に装置の運用を図ることができ、エネルギーと消耗部品の節約が可能である。
【００４３】
露光ユニット内の切り替え可能なフォトマスクパターンの種類が２を超える場合も含めて、本発明のように複数の露光ユニットを使って独立に同時処理することにより、単一の露光ユニットを繰り返し使ったり、単一の露光装置を複数台並べて並列処理するよりも、さらに効率を高めることができる。また、露光ユニット数を減らせば、装置の負荷を軽くすることはできても、待機位置のスペース等を多く用意する必要が生じたり、搬送・移動
の動きの制御を複雑に設定しなければならなくなるので、好ましくない。
【符号の説明】
【００４４】
１・・・第１の基板搬送手段
２・・・第２の基板搬送手段
３・・・基板受け取りステージ
５・・・露光部
６・・・基板搬出部
７・・・制御手段
８・・・カラーフィルタ基板
９・・・第１露光ユニット用フォトマスク
１０・・・第２露光ユニット用フォトマスク
１１、１２、１３、１４・・・処理基板
２１、２２・・・基板固定具
４１・・・露光前基板待機部
５１・・・第１露光ユニット
５２・・・第２露光ユニット
５９・・・露光ユニットの点灯表示
８１・・・面付けカラーフィルタ（Ａパターン）
８２・・・面付けカラーフィルタ（Ｂパターン）
９１・・・Ａパターンの１色目のフォトマスクパターン（Ａ１パターン）
９２・・・Ｂパターンの２色目のフォトマスクパターン（Ｂ２パターン）
１０１・・・Ｂパターンの１色目のフォトマスクパターン（Ｂ１パターン）
１０２・・・Ａパターンの２色目のフォトマスクパターン（Ａ２パターン）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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