(57)【要約】      （修正有）【課題】表面処理装置において、電流値を上げたり処理時間を長引かせたりしなくても、表面被膜を一層分厚くさせることができ、また膜厚を一層均一化させることができるようにする。【解決手段】バスケット５と、バスケット５を正立姿勢のまま回転自在に保持するバスケット保持手段３と、バスケット保持手段３をバスケット５の正立回転姿勢と側方へ横倒した横倒回転姿勢との間で揺動させる揺動手段と、バスケット保持手段３に対してバスケット回転用の駆動を伝える回転駆動部と、バスケット保持手段３を全体として収容した状態で定置設置される処理槽２とを有している。【選択図】図４
2010031335.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透水性を有する周壁（１２）とこの周壁（１２）の下部内方を閉鎖する底部（１３）とで被処理物を収容可能にするバスケット（５）と、
このバスケット（５）を正立姿勢のまま着脱自在とし且つバスケット中心（Ｐ）を通る回転軸心まわりでバスケット（５）を回転自在に保持するバスケット保持手段（３）と、
このバスケット保持手段（３）をバスケット（５）の正立回転姿勢と側方へ横倒した横倒回転姿勢との間で揺動させる揺動手段（１０）と、
上記バスケット保持手段（３）が少なくとも横倒回転姿勢のときに当該バスケット保持手段（３）に対してバスケット回転用の駆動を伝えることが可能な回転駆動部（７）と、
上記バスケット保持手段（３）を全体として収容した状態で定置設置され槽内に処理液を貯留可能にする処理槽（２）と
を有していることを特徴とする表面処理装置。
【請求項２】
前記処理槽（２）には、バスケット保持手段（３）が横倒回転姿勢のときに当該バスケット保持手段（３）に保持されたバスケット（５）の下方側の周壁（１２）より高くなる水位であって且つバスケット（５）の回転軸心より低くなる水位を保持するように溢流口（９７）を配置したオーバーフロー部（９５）が設けられていることを特徴とする請求項１記載の表面処理装置。
【請求項３】
前記バスケット（５）には、周壁（１２）の上端に形成される被処理物の出し入れ口（５ａ）と周壁（１２）との間に、周壁（１２）による内径を出し入れ口（５ａ）へ向けて徐々に径小化することによって形成した傾斜肩部（１５）が形成されていることを特徴とする請求項１又は請求項２記載の表面処理装置。
【請求項４】
前記バスケット（５）の周壁（１２）は、バスケット保持手段（３）による横倒回転姿勢に保持されたときに処理槽（２）内の処理液水面と平行する扁平面として形成されていることを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載の表面処理装置。
【請求項５】
前記バスケット（５）の周壁（１２）は、底部（１３）下面に対して直交する方向に起立形成されていることを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれか１項に記載の表面処理装置。
【請求項６】
前記バスケット保持手段（３）は、バスケット（５）を横倒回転姿勢にしたときにバスケット（５）の回転軸心が水平となるように保持することを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載の表面処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、処理品の表面被膜について品質向上を図ることに重点をおいた表面処理装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
めっき等の表面処理に関し、処理時間の短縮化を目指して種々の装置が提案されている。例えば図１６に示すように、籠型のバレル５００を用い、工程間の移送時にはバレル５００を水平に保持させるが、めっき処理などを行う場合には、バレル５００を収容した処理槽５０１ごと、全体を斜めに傾斜させ、もってバレル５００を斜めに傾斜させるようにし、この傾斜状態のまま更にバレル５００を回転させるようにした装置が提案されている（例えば、特許文献１等参照）。
このようにバレル５００を処理槽５０１ごと傾斜状態にし、且つバレル５００を回転させることで、バレル５００内の被処理物５０２に攪拌作用を促進させるというものである。
【０００３】
なお、図１６中には陽極５０５、集電子５０６、陰極接点５０７、通電バー５０８、従動歯車５１０、駆動歯車５１１、回転駆動用モータ５１２が描かれている。
【特許文献１】特開２００３−１４７５９３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
バレル５００を処理槽５０１ごと斜めに傾斜させる方式では、処理槽５０１を傾けても処理槽５０１内に貯留された処理液の水面は水平を維持するので、処理槽５０１において傾きの下側となる槽上縁から処理液が溢れないことが、処理槽５０１を傾ける限度となる。
このように処理槽５０１の傾き（傾斜角）に制限があるため、同様にバレル５００の傾斜角も制限されたものとなっており、その結果、傾斜したバレル５００の底部において最も低位となる周方向の一部に被処理物５０２が集まり、山高な山積状態を生起させることになる。
【０００５】
そのため、バレル５００を回転させて被処理物５０２を攪拌しても、個々の被処理物５０２に転がりがうまく発生せず、また被処理物５０２相互間に浸透している処理液が被処理物５０２の全表面との間で動きにくい（活性化し難い）ということがあった。場合によっては、山積状態の被処理物５０２がバレル５００の回転を受けて山高さを高めるようになり（盛り上がり）、山頂部分が処理液の水面上に露出してしまうということもあった。
これらのことから、処理後に得られた被処理物５０２として、表面被膜を一層分厚くさせようとする場合や、膜厚を一層均一化させようとする場合には不満の残るものとなっていた。表面被膜を分厚くさせたり、膜厚を均一化させたりするには、電流値を上げ、処理時間を長引かせることで幾らかの対応は図れるものの、これらの対応はいずれもコスト高に繋がり、好適ではなかった。
【０００６】
なお、処理槽５０１内で被処理物５０２を収容する籠型の入れ物について、上記特許文献１では「バレル」と呼んでいるが以下では「バスケット」と言う。
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであって、電流値を上げたり処理時間を長引かせたりしなくても、表面被膜を一層分厚くさせることができ、また膜厚を一層均一化させることができるようにした表面処理装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
前記目的を達成するために、本発明は次の手段を講じた。
即ち、本発明に係る表面処理装置は、透水性を有する周壁とこの周壁の下部内方を閉鎖する底部とで被処理物を収容可能にするバスケットと、このバスケットを正立姿勢のまま着脱自在とし且つバスケット中心を通る回転軸心まわりでバスケットを回転自在に保持するバスケット保持手段と、このバスケット保持手段をバスケットの正立回転姿勢と側方へ横倒した横倒回転姿勢との間で揺動させる揺動手段と、上記バスケット保持手段が少なくとも横倒回転姿勢のときに当該バスケット保持手段に対してバスケット回転用の駆動を伝えることが可能な回転駆動部と、上記バスケット保持手段を全体として収容した状態で定置設置され槽内に処理液を貯留可能にする処理槽とを有している。
【０００８】
このような構成であると、処理槽を傾けなくともバスケットを姿勢変更（傾斜）させることができる。そのため、バスケットの傾斜角度は、バスケットを横倒させるほどの角度（例えば９０°）とさせることができるものである。バスケットをこれだけ傾斜させたところで、処理槽から処理液が溢れることは決してない。
バスケットを横倒させた状態で回転させると、バスケットの周壁は略水平な状態になるから、バスケット内の被処理物はこの水平な周壁の内面で低い丘状に均され、広げられることになる。そのため、被処理物は高効率で攪拌されることになり、個々の被処理物に対してその全表面に処理液が接触する状態になるから、表面被膜が分厚く且つ均一膜厚で形成されるようになる。
【０００９】
なお、上記したようにバスケット内で被処理物は低い丘状に均され、広げられるので、処理液の水面上に露出してしまうということはない。このことも、表面被膜を均一膜厚にさせるうえで有益となる。言うまでもなく、電流値を上げたり処理時間を長引かせたりしなくてもよいので、低コスト化も可能となる。
処理槽には、バスケット保持手段が横倒回転姿勢のときに、当該バスケット保持手段に保持されたバスケットの下方側の周壁より高くなる水位であって、且つバスケットの回転軸心より低くなる水位を保持するように、溢流口を配置したオーバーフロー部を設けておくとよい。
【００１０】
このようにすることで、横倒状態に保持されたバスケットに対する処理液の水位が所定範囲内に保たれるようになり、安定した表面処理が保障されるようになる。
バスケットには、周壁の上端に形成される被処理物の出し入れ口と周壁との間に、周壁による内径を出し入れ口へ向けて徐々に径小化することによって形成した傾斜肩部が形成されている。
このようにすることで、横倒状態に保持されたバスケットから被処理物がこぼれ落ちることを防止できる。
【００１１】
バスケットの周壁は、バスケット保持手段による横倒回転姿勢に保持されたときに処理槽内の処理液水面と平行する扁平面として形成されたものとするのが好ましい。
このようにすることで、横倒回転姿勢時にはバスケットの周壁内面（処理液水面と平行する扁平面）で被処理物が広がりやすくなる。即ち、山高な山積状態になり難いので、それだけバスケットの回転に伴った攪拌作用が高効率で得られることになる。その結果、表面被膜が一層、分厚く且つ一層、均一膜厚となって形成されるようになる。
バスケットの周壁は、底部下面に対して直交する方向に起立形成されたものとすればよい。
【００１２】
またバスケットを横倒回転姿勢にしたときにバスケットの回転軸心が水平となるように保持するものとすればよい。なお、ここにおいて「水平」とは厳密な水平を言うものではなく、プラスマイナス１０°程度の誤差であれば許容するものとする。
なお、水平としない場合もあり得る。
【発明の効果】
【００１３】
本発明に係る表面処理装置では、電流値を上げたり処理時間を長引かせたりしなくても、表面被膜を一層分厚くさせることができ、また膜厚を一層均一化させることができるようになる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、本発明の実施の形態を、図面に基づき説明する。
［全体構成］
図１乃至図１３は、本発明に係る表面処理装置１の一実施形態を示している。この表面処理装置１は、脱脂、酸洗、電解、めっき（亜鉛めっき等）、硝酸、三価（白）などの各種表面処理工程のメイン設備（核となる装置）として採用される。なお、表面処理工程だけでなく、水洗や脱水などの各工程を構築する際のメイン設備（核となる装置）としても採用可能である。
【００１５】
図１乃至図４に示すように、本発明に係る表面処理装置１は、処理液を貯留可能な処理槽２と、この処理槽２内に設けられたバスケット保持手段３とを有している。バスケット保持手段３は、被処理物を収容するバスケット５を正立姿勢のまま保持可能にするものであって、必要に応じてバスケット５を着脱自在としている。
バスケット５は、例えば上方軌道（図示略）に沿って移動する昇降型ハンドリング装置等により処理槽２に対する出し入れ（バスケット保持手段３へ向けた昇降）や工程間移動が行われる。なお、被処理物は例えばボルトやナット等、種々様々である。
【００１６】
処理槽２は定置設置されるものであり、図例では処理槽２の下部に管理槽６が設けられたものとしている。すなわち、処理槽２は管理槽６を基礎としてその上部に二階建て状に固定されている。この管理槽６は、処理槽２よりも側方へ張り出す大きさに形成されている。
処理槽２は上部が開放されてバスケット５の出し入れが可能になっている。なお、刺激臭を伴った処理ガスの放散を防止したり、塵埃や害虫等が処理液に混入するのを防止したりするために、処理槽２に対して開閉自在な蓋を設けてもよい。
【００１７】
バスケット保持手段３は、保持したバスケット５を、バスケット中心Ｐを通る回転軸心まわりで回転自在に保持するようになっている。これに伴い、本発明に係る表面処理装置１は、バスケット保持手段３に対し、バスケット回転用の駆動を付与させるための回転駆動部７を有している。
また処理槽２の槽内で、バスケット保持手段３により保持されたバスケット５は、図３に示すように正立した姿勢（バスケット５の出し入れ口５ａが上方を向いた姿勢）と、図４に示すように側方へ横倒した姿勢（バスケット５の出し入れ口５ａが横を向いた姿勢）とに姿勢変更可能とされている。横倒した姿勢とは、例えばバスケット中心Ｐが水平（横倒角度θ＝９０°）になる姿勢である。
【００１８】
この姿勢変更を可能にするため、本発明に係る表面処理装置１は、バスケット５を保持したバスケット保持手段３を、その全体として揺動させるようにした揺動手段１０を有したものとなっている。
バスケット保持手段３は、揺動手段１０による姿勢変更とは無関係にバスケット５を回転自在な状態に保持するので、以下ではバスケット５が正立した姿勢を、バスケット保持手段３に関しての「正立回転姿勢」と言い、側方へ横倒した姿勢を、同じく「横倒回転姿勢」と言うことにする。これら「正立回転姿勢」及び「横倒回転姿勢」は、処理槽２内でバスケット５が保持された姿勢を表現する場合にも、一部で流用することにする。
【００１９】
なお、上記した回転駆動部７は、バスケット保持手段３が少なくとも横倒回転姿勢とされたときに、バスケット保持手段３に対してバスケット回転用の駆動を付与できるようになっていれば足りる。
すなわち、本発明に係る表面処理装置１は、処理槽２を不動としたまま（従来の表面処理装置とは異なり処理槽を全体として傾斜動作させる必要はない）、バスケット保持手段３と共にバスケット５を横倒回転姿勢にさせ、この横倒回転姿勢にさせたままでバスケット５を回転させることができるものである。更に言えば、バスケット５を横倒させた状態のままで表面処理を実施できるようになっている。
【００２０】
なお、本実施形態において回転駆動部７は、バスケット保持手段３が正立回転姿勢とされたときも、バスケット保持手段３に対してバスケット回転用の駆動を付与できるようにしてある。しかも、この正立回転姿勢時には、横倒回転姿勢時よりも高速回転となる駆動を付与できるようにしてある。従って、表面処理が終わった後にバスケット５を正立させ、この状態（正立回転姿勢）でバスケット５を高速回転させて脱水乃至乾燥を実施できるようになっている。
［バスケット］
図５及び図７に示すように、バスケット５は、周壁１２とこの周壁１２の下部内方を閉鎖する底部１３とを有する籠型とされ、周壁１２の上端側に被処理物用の出し入れ口５ａが設けられたものとなっている。少なくとも周壁１２は多孔板や網構造材等により形成されて透水性を有している。
【００２１】
後述するように、バスケット保持手段３が陽極機能を有しているため、このバスケット５（周壁１２及び底部１３）はＰＶＣ、ＰＰ、ＰＥの樹脂材で形成された非導体とされている。なお、鉄やステンレス等の金属材を芯材としてその内外面全体を上記樹脂材等によりコーティングすることにより、非導体化することもできる。
底部１３の下面には、バスケット５の回転軸心（バスケット中心Ｐ）から径方向に離れた位置であって、且つ周方向に等配分布となる複数箇所（図例では３等配位置）に凸部脚１４が設けられている。この凸部脚１４は、バスケット５をバスケット保持手段３に保持させたときに、これら両者を周方向で凹凸係合させるためのものである。この凹凸係合によりバスケット５の位置決めと、バスケット保持手段３からバスケット５への回転駆動力の伝達、即ち、両者の一体回転とを可能にする。
【００２２】
出し入れ口５ａと周壁１２との間には、周壁１２による内径を出し入れ口５ａへ向けて徐々に径小化することによって形成した傾斜肩部１５が形成されている。また出し入れ口５ａのまわりには、径方向外方へ向けて全周的に張り出すフランジ１６が設けられている。このフランジ１６は、バスケット５を処理槽２に対して出し入れするときや、バスケット５を工程間移動させる場合に、昇降型ハンドリング装置等によって係止させる部分となっている。
周壁１２は、バスケット５が横倒回転姿勢とされたときに（図４参照）処理槽２内の処理液水面と平行する（即ち、水平となる）扁平面として形成されている。
【００２３】
本実施形態では、バスケット５の横倒回転姿勢を、バスケット中心Ｐが９０°横向きになる状態（横倒角度θ＝９０°）としている。また本実施形態においてバスケット５の底部１３は、正立回転姿勢で底部下面が水平となるようにしてある。そのため、周壁１２は、バスケット５が正立回転姿勢とされているときには（図３参照）、底部１３の下面に対して直交する方向、即ち、垂直の起立姿勢で起立形成されていることになる。
これらのことから、バスケット５が正立回転姿勢から横倒回転姿勢へと姿勢変更されると、被処理物は周壁１２の内面で低い丘状（扁平状態）に広がりやすく、山高な山積状態とはなり難くなる。
【００２４】
従って、バスケット５の回転に伴い、それだけ被処理物の攪拌作用が高効率で得られ、結果として、被処理物に対する表面被膜が分厚く且つ均一膜厚となって形成されるようになる。また被処理物は傾斜肩部１５で跳ね返されて出し入れ口５ａからこぼれ落ちることはない。
但しこれらのことは一例であって、バスケット５の横倒回転姿勢を、バスケット中心Ｐが９０°以外となるように設定する（例えば、図１４に示すように横倒角度θ＝６０°にする）ことも可能である。このような場合では、バスケット５が横倒回転姿勢とされたとき、周壁１２と処理液とは平行するが、バスケット５が正立回転姿勢とされたとき、必ずしも周壁１２と底部１３の下面とは直交関係とはならない。また周壁１２は垂直の起立姿勢とならない。
【００２５】
周壁１２と底部１３の下面とを直交関係にすることや、周壁１２を垂直の起立姿勢とさせることは、バスケット５を他の工程で取り扱う際の載置安定性や、バスケット５の構造上の簡潔化を図る点、更には、バスケット５を正立回転姿勢とさせて高速回転させるとき（脱水乃至乾燥を行うとき）の被処理物の状態を考慮してのことである。
底部１３は正多角形に形成するのが好適であり、周壁１２は、この底部１３の形状に合わせた正多角形筒として形成すればよい。このようにすることで、バスケット５を横倒回転姿勢にして回転させたとき、内部の被処理物を効率よく攪拌させることができる。また、バスケット５としての製作も容易で低コスト化できる。
【００２６】
図例は底部１３を正八角形とした場合であるが（図７参照）、この他、正方形、正五角形、正六角形などとしてもよい。なお、長方形はじめ、円形や楕円形などとしてもよい。
一方、バスケット５には、周壁１２や底部１３の内面で露出する陰極部２０と、この陰極部２０に導通した状態で底部下面へ配される導電部２１とが設けられている。
陰極部２０は、バスケット中心Ｐで底部上面から上方（バスケット５内）へ突出する円筒状の中央缶部２２と、この中央缶部２２の下端外周から径方向外方へ向けて全周的に張り出して設けられたフランジ板部２３とを有している。
【００２７】
このフランジ板部２３は、底部１３の上面（バスケット５内を向く面）で回転軸心（バスケット中心Ｐ）まわりの同心円形を呈しており、このフランジ板部２３の上面が陰極部２０としての露出部分を形成していることになる。即ち、このフランジ板部２３の上面に、バスケット５内へ収容される被処理物が接触することで、被処理物が陰極部２０と導通するものである。
中央缶部２２は、その上端部が上蓋２２ａによって閉塞されており、この上蓋２２ａの中央部から下方へ向けて突出する状態で、上記した導電部２１が設けられている。この中央缶部２２には半球ドーム形のキャップ部を有するカバー２５が外嵌されており、このカバー２５により、上蓋２２ａと導電部２１との結合部が処理液や被処理物との接触から隔離（保護）されるようになっている。
【００２８】
また中央缶部２２の内部には、その内周面及び内部天井面を内張状に覆うように非導電性の内部隔壁２６が設けられている。この内部隔壁２６は、底部１３の中央部、即ち、バスケット５の回転軸心（バスケット中心Ｐ）を中心として上部突出状に設けられた状態になっている。すなわち、この内部隔壁２６によってその内側に、下向きに開放した円柱状の凹部が形成されるようになる。
この凹部は、後述するバスケット保持手段３（回転台３６）との間で相対的な位置決めをしつつ、当該バスケット５を支持するための軸受部２７となる。要するに、この軸受部２７内の中心部に、導電部２１が収容状態で設けられていることになる。この導電部２１は外径が一定の丸棒部として形成されており、下端部には、下方へゆくほど尖るテーパ部２１ａが形成されている。
【００２９】
陰極部２０や導電部２１は、導電性を有する素材であれば特にその材質が限定されるものではなく、例えば銅や鉄、ステンレスなどとすればよい。
なお、上記したようにバスケット５は全体として非導体化されているので、陽極を兼ねるバスケット保持手段３と陰極部２０（フランジ板部２３の上面）との間での短絡は可及的に防止され、被処理物に対する表面処理が十分に優先される。
［バスケット保持手段］
図１乃至図４に示すように、バスケット保持手段３はブランコ枠３５を有しており、このブランコ枠３５の上部でバスケット５を保持するようになっている。このブランコ枠３５は、バスケット５を着脱自在な状態で受載可能にする回転台３６と、この回転台３６を回転自在に支持する支持床３７と、この支持床３７の両端部に起立状態に設けられた一対の立枠３８とで形成されている。
【００３０】
なお、本実施形態では、一度に二つのバスケット５を保持できるようにしたものを示してあり、そのために支持床３７上には２台の回転台３６が並んで設けられている。
図６及び図８に示すように、回転台３６は平面視して円形に形成されており、回転台３６の下部中心位置には、回転軸４０が突設されている。この回転軸４０は回転台３６と一体回転可能とされ、支持床３７に対しては軸受け具４１等を介して回転自在に保持されている。言うまでもなく、回転軸４０の軸心はこの回転台３６上に保持されるバスケット５の回転軸心（バスケット中心Ｐ）と同軸の関係にある。
【００３１】
回転台３６の上面にはバスケット５を保持するための構造として、回転台３６の上部中心位置（回転軸４０と同軸位置）で突出した支持軸４３と、この支持軸４３のまわりを取り囲むように配置された複数の脚受け凹部４４とが設けられている。すなわち、脚受け凹部４４は、回転軸４０の軸心（バスケット５の回転軸心）から径方向に離れた位置であって、且つ周方向に等配分布となる配置で設けられている。
脚受け凹部４４は、バスケット５をバスケット保持手段３に保持させたときに、バスケット５の凸部脚１４を受け入れ、周方向の凹凸係合をさせる部分である。これら脚受け凹部４４と凸部脚１４とが凹凸係合状態になることで、バスケット保持手段３の回転時におけるバスケット５の一体回転（回転駆動力の伝達）が可能になる。
【００３２】
本実施形態では、バスケット５の凸部脚１４が周方向の３等配位置に設けられている（図７参照）ことに対応して、脚受け凹部４４も周方向の３等配位置に設けられている。個々の脚受け凹部４４は扇形状（正確には円錐台の斜面部分を展開した形状）に形成されたものとしてある。また互いに隣接する脚受け凹部４４同士は、回転軸４０の軸心から放射状に延びる区画条４５によって区画されている。
なお図９に示すように、区画条４５は、その断面形状が山形に形成されている。そのため、バスケット保持手段３（回転台３６）にバスケット５を載せたとき、バスケット５の凸部脚１４が区画条４５の上に乗り上げるようになったとしても、この区画条４５の斜面に導かれて凸部脚１４が脚受け凹部４４に落ち込み、脚受け凹部４４と凸部脚１４とが確実に凹凸係合するようにしてある。
【００３３】
本実施形態では、脚受け凹部４４の開口形状に対して凸部脚１４の突出形状（平面視形状）が小さく、両者は周方向での遊嵌状態となるが、回転台３６が一方向へ回転を始めることで脚受け凹部４４内の回転方向後方側に凸部脚１４が係合し、この状態で回転駆動力が伝達されるから、何ら問題はない。むしろ、このような遊嵌状態は、回転台３６に対するバスケット５の着脱が容易となる点で好適とされる。
支持軸４３は、バスケット５をバスケット保持手段３に保持させたときに、バスケット５の軸受部２７（内部隔壁２６の内側）が被さり、ガタツキなく嵌合する部分である。この嵌合により、バスケット保持手段３が横倒回転姿勢とされたときのバスケット５の荷重（バスケット５内の被処理物の荷重を含む）や、バスケット５を回転させたときの遠心力を、支持軸４３で支持できるようになっている。
【００３４】
なお、軸受部２７との嵌合を容易且つ円滑化するため、支持軸４３の上端部外周面には先細りのテーパ４３ａが付されている。
一方、回転台３６には、処理槽２に貯留される処理液に対して陽極電流を印加できるようにした通電部５０（以下、説明の便宜上、「第１通電部５０」と言う）と、バスケット５の陰極部２０と導通させるようにした通電部５１（以下、説明の便宜上、「第２通電部５１」と言う）とが設けられている。
第１通電部５０は、回転台３６の外周部に沿うようにして包囲壁５２を設けることによって実現されている。この包囲壁５２は、回転台３６上にバスケット５が保持されたときに、その周壁１２を取り囲むようになっており、ＳＳ材などの導体により形成されている。また回転台３６自体もＳＳ材やＳＵＳ等の導体で形成されており、この回転台３６を通じて包囲壁５２に陽極電流が印加される。
【００３５】
包囲壁５２は、多数本の柱材５４が互いに所定間隔をおいて立設されることによって形成されている。柱材５４は、丸棒、角棒又はパイプ等で形成してある。その他、回転台３６の回転中心から径方向外方へ延びる方向で板面を沿わすように細帯状の板片を並べるものとしてもよい。
このように多数本の柱材５４の集合体として包囲壁５２が形成されているため、各柱材５４の相互間によって透水性も十分に確保され、そのうえで処理液との接触面積も十分に確保されている。すなわち、包囲壁５２としての表面積（陽極面積）を可及的に拡大できるので、陰極対陽極のデシ比を１対１、又は陰極より陽極を大きくできるといった利点に繋がる。従って表面処理時間の短縮や、良質の表面処理を施す点で極めて有益なものとなっている。
【００３６】
第２通電部５１は支持軸４３によって実現されている。すなわち、支持軸４３は軸心部に筒孔５３が形成された筒軸とされており、この筒孔５３に対し、バスケット５の軸受部２７内に設けられた導電部２１（丸棒部とされた部分）がガタツキなく挿入可能になっている。
支持軸４３は、少なくとも筒孔５３の内周面が導電性を有したものとされており、ここに導電部２１が挿入されることによって、バスケット５の導電部２１とバスケット保持手段３の第２通電部５１とが通電接触するものである。
【００３７】
本実施形態において、支持軸４３は、樹脂などの非導体によって形成された外装筒５５と、銅や鉄、ステンレス等の導体によって形成された核軸５６との内外二重軸構造となっており、この核軸５６の中心部に筒孔５３が形成されたものとなっている。
外装筒５５は回転台３６から上方へ突出する範囲（バスケット５の軸受部２７が被さる範囲）で核軸５６の外側を被覆する状態となっており、核軸５６は回転台３６を貫通して下方へ突出するようになっている。
核軸５６は、回転台３６の下方へ突出することによって回転軸４０の内部をも貫通し、更に回転軸４０の下端からも突き出す長さを有している。すなわち、この回転軸４０も内外二重軸構造になっている。核軸５６において回転軸４０の下端から突き出した部分には、回転シュー５７が取り付けられており、この回転シュー５７に対して陰極ブラシ５８が摺接されている。
【００３８】
核軸５６が回転台３６を貫通する部分には、外装筒５５の下端部を支持した状態でこの外装筒５５とボルト結合されたボス部６０が外嵌されている。このボス部６０は、樹脂などの非導体によって形成されており、これによって回転台３６（陽極側）と核軸５６（陰極側）との間が電気的に絶縁されている。
また回転軸４０も樹脂などの非導体によって形成されており、この回転軸４０を回転自在に保持している軸受け具４１と核軸５６との間も、電気的に絶縁された状態となっている。
【００３９】
このような構造の第２通電部５１であるため、バスケット５の回転時に作用する遠心力が導電部２１と第２通電部５１との通電接触を強めるように作用し、導電性が一層、確実で安定する利点を有している。そのため、この導電部２１と第２通電部５１との間の通電接触がバスケット５の回転を理由として脅かされることはなく（導電性が安定しなかったり接触不良が起こったりすることはない）、導電性に確実性が得られる。
なお、バスケット５の荷重や回転時の遠心力などの負荷は、上記したようにバスケットの軸受部２７とバスケット保持手段３の支持軸４３との間で支持される。また、バスケット５の凸部脚１４とバスケット保持手段３の脚受け凹部４４との周方向凹凸係合により、導電部２１と第２通電部５１との接触部分に回転駆動力が負荷として作用することもない。これらのことから、導電部２１と第２通電部５１との接触部分が、変形、摩耗、破損などすることはない。
【００４０】
ところで、第２通電部５１には、バスケット５の導電部２１との接触部分へ向けて水を供給する給水手段６５が設けられている。この給水手段６５は、例えば核軸５６の下端部にロータリーバルブ６６を連結し、このロータリーバルブ６６へ給水チューブ６７を通じて給水することにより、核軸５６内の通水路６８から筒孔５３内へと水を供給できるようにしてある。
そのため、導電部２１と第２通電部５１との接触部分では、給水された水（水膜）によって抵抗値が下がり、それだけ導電性が良好となる。従って、処理用の印加電圧を低く抑えることができ（例えば３０％減にできる）、低コスト化に繋がる利点がある。
【００４１】
また、このように抵抗値が下がることで発熱を抑えることが可能になる（冷却効果と同等の効果がある）。このことは、導電部２１の熱膨張を防止できることに繋がる。
そのため、処理後においてバスケット保持手段３（回転台３６）からバスケット５を取り出す際に、導電部２１と第２通電部５１との接触部分が離脱し難くなる、といった障害を防止できることになる。
なお、導電部２１と第２通電部５１との間に水膜ができることで、これら両者間の潤滑効果としても作用し、導電部２１と通電部との離脱は一層容易になるという効果もある。
［揺動手段］
図１及び図２（図２のＤ部を拡大した図１０をも参照）に示すように、揺動手段１０は、バスケット保持手段３が有するブランコ枠３５の各立枠３８に対し、互いに一軸配置の位置関係を保持して揺動自在に支持する両側の枢軸７０を有している。
【００４２】
すなわち、図１及び図２中の左側に示した立枠３８にはその左方へ延びるように左側の枢軸７０が設けられ、同右側に示した立枠３８には右方へ延びるように右側の枢軸７０が設けられている。各枢軸７０は、処理槽２に対し、側壁などを介して固定された軸支持部７１によって保持されている。
またこの揺動手段１０は、両側の枢軸７０を支点としつつ、ブランコ枠３５に対して揺動駆動を伝える揺動駆動部７２を有している。この揺動駆動部７２は、一方の枢軸７０（図例では図１、図２の各右側のものとした）に対して同心軸配置で設けられた揺動ギヤ７３と、この揺動ギヤ７３を駆動させる揺動モータ７５とを有している。
【００４３】
揺動ギヤ７３は、バスケット保持手段３（立枠３８）に対して固定関係に設けられている。すなわち、立枠３８に対して回転不能な状態（一体回転する状態）となっている。また、揺動モータ７５は処理槽２の外部に設けられており、そのモータ軸７５ａが枢軸７０より高位となる高さで処理槽２の側壁を貫通している。
本実施形態では、処理槽２の内部へ突出している揺動モータ７５のモータ軸７５ａに駆動ギヤ７４を設け、この駆動ギヤ７４を揺動ギヤ７３に噛合させた状態にすることにより、揺動ギヤ７３を揺動モータ７５で駆動させる構造とした。
【００４４】
なお、例えばモータ軸７５ａに減速機や伝動手段などを連結させ、これら減速機や伝動手段の出力軸に駆動ギヤ７４を設けてもよい。また、この減速機や伝動手段などは、処理槽２の外部に配置することも可能である。このようなことから、駆動ギヤ７４の回転中心となる軸（駆動軸）は、揺動モータ７５のモータ軸７５ａ自体であってもよいし、それ以外でもよい。
このような構成の揺動手段１０では、揺動モータ７５によって駆動ギヤ７４を回転駆動させることで、この駆動ギヤ７４と揺動ギヤ７３との間に相対回転を生じさせ、結果、この揺動ギヤ７３と一緒にバスケット保持手段３の立枠３８を枢軸７０まわりに揺動させるものとなる。
【００４５】
揺動モータ７５は、モータ軸７５ａが枢軸７０より高位とされていることで、処理槽２内に貯留される処理液よりも高位となるように考慮され、結果、揺動モータ７５は腐食などを原因とした故障や破損から防御することができる。
［回転駆動部］
図１及び図２（図２のＥ部を拡大した図１１をも参照）に示すように、回転駆動部７は、枢軸７０と同心軸上であって、且つバスケット保持手段３に対して回転自在な状態として設けられた従動ギヤ７７と、この従動ギヤ７７の回転をバスケット保持手段３に保持されたバスケット５に伝える槽内伝動手段７８と、従動ギヤ７７に回転力を伝える回転用モータ７９とを有している。
【００４６】
従動ギヤ７７は、揺動駆動部７２の揺動ギヤ７３が設けられたのとは反対側の枢軸７０（図例では図１、図２の各左側のものとした）に対して設けられている。またこの従動ギヤ７７にはベベルギヤを採用してある。
槽内伝動手段７８は、バスケット保持手段３が有するブランコ枠３５の支持床３７に対し、その床上面と平行しつつ噛合並設された横歯車列８０を有している。この横歯車列８０は、入力位置（従動ギヤ７７に近い位置）に設けられた第１ギヤ８１から第２ギヤ８２、第３ギヤ８３、第４ギヤ８４がこの順番で互いに噛合しつつ並んで設けられて成る。第１ギヤ８１に対してベベルギヤ８５が一体回転可能な状態で連結されており、このベベルギヤ８５が従動ギヤ７７と噛合されている。
【００４７】
第２ギヤ８２は、バスケット保持手段３の一つめの回転台３６に対してその下面に一体回転可能に結合され（図６参照）、回転軸４０と同軸で回転するようになっている。同様に、第４ギヤ８４は、二つめの回転台３６に対してその下面に一体回転可能に結合され、回転軸４０と同軸で回転するようになっている（図示略）。第２ギヤ８２と第４ギヤ８４との間に第３ギヤ８３が設けられていることで、第２ギヤ８２と第４ギヤ８４（即ち、二つの回転台３６）の回転方向が同じになっている。
なお、第２ギヤ８２の下面とブランコ枠３５における支持床３７の上面とに対し、回転軸４０の軸心を中心とする同径の周溝が形成されており、この周溝に対して転動ボール８６が嵌め入れられている。この連動ボール８６により、第２ギヤ８２の回転が安定され、ひいては回転台３６、すなわちバスケット保持手段３の全体としての回転安定性が確保されている。これらのことは、第４ギヤ８４についても同様である。
【００４８】
回転用モータ７９は処理槽２の外部に設けられており、そのモータ軸７９ａが枢軸７０より高位となる高さで処理槽２の側壁を貫通している。
本実施形態では、処理槽２の内部へ突出している回転用モータ７９のモータ軸７９ａに減速用歯車列９０を連結し、この減速用歯車列９０の出力軸９１を枢軸７０の軸心部へ二重軸構造にして回転自在に貫通させ、そのうえで、この出力軸９１に対して従動ギヤ７７を一体回転可能な状態で設けることにより、従動ギヤ７７を回転用モータ７９で駆動させる構造とした。
【００４９】
なお、減速用歯車列９０は処理槽２の外部に配置することが可能である。また、減速用歯車列９０を省略し、モータ軸７９ａに対して直接に従動ギヤ７７を設けるようにしてもよい。すなわち、従動ギヤ７７の回転中心となる軸（駆動軸）は、回転用モータ７９のモータ軸７９ａ自体であってもよいし、それ以外でもよい。
このような構成の回転駆動部７では、回転用モータ７９によって減速用歯車列９０を介して従動ギヤ７７を回転駆動させることで、この従動ギヤ７７から横歯車列８０を駆動させ、結果、この横歯車列８０の第２ギヤ８２及び第４ギヤ８４を介してバスケット保持手段３の回転台３６を回転させるものとなる。
【００５０】
また、このような構成の回転駆動部７は、バスケット保持手段３が横倒回転姿勢のときだけでなく、バスケット保持手段３が正立回転姿勢となったときも、回転台３６に対してバスケット回転用の駆動を伝えることができる。
回転用モータ７９は、モータ軸７９ａが枢軸７０より高位とされていることで、処理槽２内に貯留される処理液よりも高位となるように考慮され、結果、揺動モータ７５は腐食などを原因とした故障や破損から防御することができる。
この回転駆動部７は、バスケット保持手段３の回転速度を「表面処理に適した処理速度」と「脱水に適した脱水速度」とに切り替え可能になっている。処理速度は２ｒｐｍ以上１２ｒｐｍ以下の範囲（好ましくは３ｒｐｍ以上１０ｒｐｍ以下）とすればよく、脱水速度は１８０ｒｐｍ以上６００ｒｐｍ以下の範囲（好ましくは２００ｒｐｍ以上５００ｒｐｍ以下）とすればよい。
【００５１】
具体的には、回転用モータ７９をインバータ制御する。そのため、回転用モータ７９の加速や減速は、緩やかな増減傾向で制御されるものとなる。これによりバスケット保持手段３に対するバスケット５の保持状態やバスケット５内に収容された被処理物に対し、慣性的な衝撃（瞬発的な始動や急停止等）が起こることはない。
［処理槽］
図１乃至図４に示すように、処理槽２には、槽内に貯留される処理液を予め設定した水位に保持させるためのオーバーフロー部９５が設けられている。このオーバーフロー部９５は、管理槽６に連通した状態として処理槽２内で立ち上がる排水樋部９６を有したものであって、この排水樋部９６に対して設定水位に合わせて溢流口９７が設けられている。
【００５２】
溢流口９７が設けられる位置（高さ）は、バスケット保持手段３が横倒回転姿勢とされたときに（図４参照）、このバスケット保持手段３に保持されたバスケット５の下方側の周壁１２よりも処理液の水面が高くなる（処理液が流れ込まない）高さであって、且つ、バスケット５の回転軸心（バスケット中心Ｐ）よりも処理液の水面が低くなる（処理液が流れ込む）高さに、決められている。
本実施形態では、バスケット保持手段３が横倒回転姿勢とされたとき、処理液の水面が支持軸４３に接触しない程度（支持軸４３が沈まない状態）となるように、溢流口９７の位置（高さ）を決めてある。
【００５３】
このようなオーバーフロー部９５を有していることにより、処理槽２内では横倒状態に保持されたバスケット５に対する処理液の水位が所定範囲内に保たれるようになり、安定した表面処理が保障される。
本実施形態では、バスケット保持手段３の二つの回転台３６に対して等距離となるように、それらの中間位置となる処理槽２の槽内壁面に沿わせて排水樋部９６が立ち上がるようにしてある。また管理槽６の槽内へ突出させるように垂下管９８を連結させてある。
［管理槽］
管理槽６は、処理槽２を空にしたい場合などに処理槽２から排水した処理液を暫時的に貯留したり、また貯留した処理液を必要に応じて濃度調整したりする部分である。従ってこの管理槽６には、図２に示すように、処理槽２との間に処理液送給手段１００や、処理液の濃度調整部（例えば亜鉛等の溶解材を投入する部分など）が設けられている。
【００５４】
本実施形態では、管理槽６の槽内が第一室１０１と第二室１０２の二室に区画されたものとしてある。これに伴い、処理液送給手段１００は、第一室１０１から処理槽２へ処理液を送る第１供給管１０３と、第二室１０２から処理槽２へ処理液を送る第２供給管１０４とが設けられている。これら第１供給管１０３及び第２供給管１０４にはそれぞれポンプ１０５が設けられている。
また処理槽２から第一室１０１へ処理液を戻す第１回収管１０６と、処理槽２から第二室１０２へ処理液を戻す第２回収管１０７とが設けられている。
【００５５】
このような処理液送給手段１００を有しているため、第一室１０１に貯留させる処理液と第二室１０２に貯留させる処理液とを別種のものとして使い分けるような処理を行うことができる。
例えば、第一室１０１から第１供給管１０３を介して処理槽２へ処理液（Ｘ）を供給し、処理槽２内に保持されるバスケット５を処理液への浸漬状態にし、処理液（Ｘ）による表面処理を行う。その後、この処理液（Ｘ）を第１回収管１０６から第一室１０１へ回収する。次に、第二室１０２から第２供給管１０４を介して処理槽２へ処理液（Ｙ）を供給して処理槽２内に保持されるバスケット５を処理液への浸漬状態にし、処理液（Ｙ）による表面処理を行った後、この処理液（Ｙ）を第２回収管１０７から第二室１０２へ回収する。
【００５６】
第一室１０１に貯留する処理液（Ｘ）をめっき液とし、第二室１０２に貯留する処理液（Ｙ）を水とする場合であれば、処理液（Ｘ）を第１回収管１０６から第一室１０１へ回収後、第二室１０２から処理槽２へ処理液（Ｙ）を供給するまでの間に、バスケット保持手段３を正立回転姿勢に姿勢変更させるようにすればよい。
［給電］
回転駆動部７（図１及び図２参照）が具備する槽内伝動手段７８の横歯車列８０や、減速用歯車列９０、従動ギヤ７７などは金属製とされており、いずれも導体である。そこで、陽極用の配線１１０から導電ブラシ１１１により、減速用歯車列９０の出力軸９１（従動ギヤ７７用の駆動軸）を軸支する部分などに陽極電流を印加する構造を採用してある。
【００５７】
すなわち、陽極用の配線１１０から導電ブラシ１１１、減速用歯車列９０、従動ギヤ７７、横歯車列８０が導通状態となり、この横歯車列８０の第２ギヤ８２（図６参照）や第４ギヤ８４を介して、バスケット保持手段３の回転台３６及び包囲壁５２へと陽極電流が印加可能な状態が作られる。
一方、陰極用の配線１１２は処理槽２の側壁内面に設けたスライド接点部１１３に接続してある。バスケット保持手段３の正立回転姿勢時を示す図１２及びバスケット保持手段３の横倒回転姿勢を示す図１３に示すように、ブランコ枠３５の立枠３８には、このスライド接点部１１３に接触する状態で扇形のブラシ台１１５が設けられている。
【００５８】
このブラシ台１１５には、バスケット保持手段３が姿勢変更する際の枢軸７０を中心とする円弧帯形を呈した２本のブラシ１１６が貼り付けられており、このブラシ１１６がブラシ台１１５ごと、バスケット保持手段３と一体となって枢軸７０まわりを揺動するようになっている。
そのため、スライド接点部１１３とブラシ１１６との間は、ブラケット保持手段３の姿勢の如何に関わらず、常に導通状態に保持されている。
そして、図１及び図２に示すように、このブラシ台１１５からは、二つの回転台３６の横を通過するようにして配線用ステー１１７が設けられている。またこの配線用ステー１１７には、各回転台３６の下方へ向けて分電用ステー１１８が分岐接続されている。
【００５９】
図６に関して既に説明したように、回転台３６の下方へ突出する核軸５６に対して回転シュー５７が取り付けられ、この回転シュー５７に陰極ブラシ５８が摺接するようになっているが、この陰極ブラシ５８に対して、上記配線用ステー１１７及び分電用ステー１１８によって導かれる陰極用配線が接続されている。
このようにして、バスケット保持手段３の核軸５６と陰極用の配線１１２との間が導通状態とされ、バスケット保持手段３にバスケット５が保持されれば、必然的に、このバスケット５の陰極部２０も陰極用の配線１１２と導通状態となる。
［動作］
本実施形態の表面処理装置１についてその動作状況の一例を説明する。まず被処理物が収容されたバスケット５を処理槽２内へ搬入し、バスケット保持手段３の各回転台３６上に載せる。その後、揺動手段１０の作動によりバスケット保持手段３を横倒回転姿勢とさせる。
【００６０】
次に、管理槽６の第一室１０１で濃度調整済みの処理液を第１供給管１０３から処理槽２へ供給し、処理槽２内を所定水位にする。この状態で、回転駆動部７により回転台３６を回転駆動させる。このとき、回転駆動部７の回転用モータ７９はインバータ制御によって鈍速回転（処理モード）とさせる。なお、処理槽２へ処理液を供給させた後に、バスケット保持手段３を横倒回転姿勢とさせるようにしてもよい。
かくしてバスケット５内の被処理物は、横倒回転姿勢とされたバスケット５の下位側の周壁１２内面で低い丘状に均されて、処理液内に浸漬された状態になる。また被処理物は、バスケット５内で露出状態とされた陰極部２０と接触した状態になる。
【００６１】
この状態でバスケット保持手段３の包囲壁５２（陽極）と陰極部２０との間へ処理電流を印加することにより、バスケット５内の被処理物に対する表面処理が開始される。表面処理に必要な所定時間の経過後（１２分以内で十分である）、処理電流を遮断し、回転駆動部７を停止させる。
次に、処理槽２内の処理液を第１回収管１０６から管理槽６の第一室１０１へ回収し、揺動手段１０によってバスケット保持手段３を正立回転姿勢に戻す。これら処理液の回収とバスケット保持手段３の姿勢変更とはどちらが先行してもよいし、同時に行ってもよい。
【００６２】
この後、管理槽６の第二室１０２から第２供給管１０４を介して処理槽２へ処理液（例えば水）を供給し、バスケット５が処理液に浸漬する状態にさせたまま、回転駆動部７の回転用モータ７９により回転台３６を回転駆動させる。このときも鈍速回転とすればよい。必要に応じて、正逆に交互切替しつつ回転台３６を回転駆動させてもよい。これにより、バスケット５内の被処理物は処理液（めっき液など）のすすぎがされる。
処理槽２内の処理液を第２回収管１０７から管理槽６の第二室１０２へ回収し、回転駆動部７の回転用モータ７９をインバータ制御で高速回転に切り替える。これにより、バスケット５内の被処理物は脱水乃至乾燥されるようになる。
【００６３】
なお、この高速回転時において、バスケット５内の被処理物は底部１３上の外周寄り乃至周壁１２の内周面へ全周的に均一に散らばるようになり、安定的でバランスのよい高速回転（遠心力）を受けることになる。そのため、確実で迅速な脱水乃至乾燥が実施されることになる。
脱水乃至乾燥の終了後、回転駆動部７を停止させて処理槽２からバスケット５を搬出することで表面処理工程の１サイクルが完了する。
［まとめ］
以上詳説したところから明かなように、本発明に係る表面処理装置１では、処理槽２を傾けなくともバスケット５を正立回転姿勢と横倒回転姿勢との間で姿勢変更（傾斜）させることができるので、バスケット５の傾斜角度は、バスケット５を横倒させるほどの角度（例えば、横倒角度θ＝９０°）とさせることができるものである。バスケット５をこれだけ傾斜させたところで、処理槽２から処理液が溢れることは決してない。
【００６４】
バスケット５を横倒させた状態で回転させると、バスケット５の周壁１２は略水平な状態になるから、バスケット５内の被処理物はこの水平な周壁１２の内面で低い丘状に均され、広げられることになる。そのため、被処理物は高効率で攪拌されることになり、個々の被処理物に対してその全表面に処理液が接触する状態になるから、表面被膜が分厚く且つ均一膜厚で形成されるようになる。
またバスケット５内の被処理物が処理液の水面上に露出してしまうこともないので、この点でも表面被膜を分厚く且つ均一膜厚にさせるうえで有益となる。電流値を上げたり処理時間を長引かせたりしなくてもよいので、低コスト化にも有益となる。
【００６５】
バスケット５内の被処理物に対する陰極の印加を、バスケット５の底部下面に設けた導電部２１で行うようにすることで、この部分を空気中に露出させず、アルカリなどの腐食雰囲気から防御することが可能になる。従って、この接点部分を腐食し難くし、導電性の悪化を防止することができる（抵抗値が高くなるのを防止できる）。
また、バスケット５において、その底部下面（バスケット５を正立させたときに底部１３において下向きとなる面）に導電部２１が設けられているので、バスケット５の取り扱い時（被処理物の出し入れ時等）に導電部２１が変形や破損することも殆どない。従って、このような導電部２１の変形や破損を原因とする導電性の低下も防止できる。
【００６６】
一方、本発明に係る表面処理装置１において、処理を行う都度、揺動を繰り返し行わせるのはバスケット保持手段３であり、処理槽２ではないので、バスケット回転用モータ７９を処理槽２又は処理槽２の外部へ設置固定したとしても、このバスケット回転用モータ７９の荷重がバスケット保持手段３の揺動時に負担となることはない。
従って、揺動手段１０に装備させる揺動モータ７５は、コンパクトなものを選択できる。また、揺動手段１０自体も、構造的に簡潔化できることになる。
また、バスケット保持手段３を揺動させるときに、処理槽２は揺動させる必要がないため、処理槽２内の処理液に無用な慣性（波立ちの発生原因となる）が生じることはない。その結果、バスケット保持手段３の揺動を迅速に行うことが可能となり、動作効率を上げる（サイクルタイムを短縮する）ことが可能になる。
［その他］
ところで、本発明は、上記実施形態に限定されるものではなく、実施の形態に応じて適宜変更可能である。
【００６７】
バスケット保持手段３によるバスケット５の保持構造としては、支持軸４３と軸受部２７との嵌合によるものに限定されず、バスケット５の底部１３に支持軸４３が設けられ、回転台３６にこの支持軸４３と嵌合離脱自在な軸受部が設けられたものとしてもよい。
また、バスケット５の導電部２１とバスケット保持手段３の第２通電部５１とを接触させる構造で、「支持軸４３と軸受部２７との嵌合状態」を兼用させるようにしてもよい。
すなわち、図１５に示すように、バスケット保持手段３の第２通電部５１は、バスケット５の回転軸心（バスケット中心Ｐ）を中心として突出形成された凸部２００を有して形成されたものとし、これに対してバスケット５の導電部２１は、上記凸部２００に嵌合離脱自在となる凹部２０１を有して形成されたものとする。そして、これら凸部２００と凹部２０１との嵌合で、導電部２１と第２通電部５１との通電接触が可能となる構成を採用することも可能である。
【００６８】
ここにおいて、凸部２００は支持軸４３としての作用を兼ねていることになり、また凹部２０１は軸受部２７としての作用を兼ねていることになる。
なお、バスケット５の導電部２１として凸部２００を有したものとし、バスケット保持手段３の第２通電部５１が、この凸部２００に嵌合離脱自在な凹部２０１を有したものとしてもよい。
図１５に示したバスケット５では、陰極部２０が有するフランジ板部２３に対し、周壁１２の内周面に沿うように筒体部２０２を設けてあり、この筒体部２０２でも被処理物との接触（導通）をさせるようにしている。すなわち、陰極部２０は、周壁１２の内周面で露出させるような構成である。このような陰極部２０としてもよい。
【００６９】
カバー２５についても、半球ドーム形のキャップ部に変えて円錐形のキャップ部としたり、コップ底のようなキャップ部にしたりすることが可能である。このカバー２５を多角形の筒形に形成することも可能である。
バスケット保持手段３において、二つの回転台３６を有した例を説明したが、この場合、各回転台３６ごとに回転用モータ７９付きの回転駆動部７を設けるようにしてもよい。このようにすると、各回転台３６ごとにバスケット５の回転タイミングや回転数などを独自制御できるので、それぞれに被処理品の種類、大きさ、収容量、処理程度（処理時間）、脱水や乾燥の程度（処理時間）を変えるといったことができる。
【００７０】
表面処理の種類は何ら限定されるものではない。例えば、亜鉛めっき、ニッケルめっき、クロムめっき等のめっきはもとより、着色処理、化成処理、アルカリ洗浄なども含まれる。また、被処理物についても何ら限定されるものではない。
【図面の簡単な説明】
【００７１】
【図１】本発明に係る表面処理装置の一実施形態を示した平面図である。
【図２】図１のＡ−Ａ線断面図である。
【図３】図１のＢ−Ｂ線断面図である。
【図４】図３からの動作説明図（正立回転姿勢から横倒回転姿勢へ姿勢変更させた様子を示した図）である。
【図５】バスケットの側断面図である。
【図６】図１のＣ−Ｃ線断面図である。
【図７】バスケットの底面図である。
【図８】バスケット保持手段の一部破砕平面図である。
【図９】バスケット保持手段の脚受け凹部に対してバスケットの凸部脚が乗る状況を説明した側断面図（図８のＧ−Ｇ線断面図に相当）である。
【図１０】図２のＤ部拡大図である。
【図１１】図２のＥ部拡大図である。
【図１２】図１のＦ−Ｆ線断面図である。
【図１３】図１２からの動作説明図（正立回転姿勢から横倒回転姿勢へ姿勢変更させた様子を示した図）である。
【図１４】バスケットの別例を示した側断面図である。
【図１５】バスケットに設ける陰極部の別例を示した側断面図である。
【図１６】従来の表面処理装置を示した側断面図である。
【符号の説明】
【００７２】
Ｐ    バスケット中心
１    表面処理装置
２    処理槽
３    バスケット保持手段
５    バスケット
５ａ    出し入れ口
７    回転駆動部
１０    揺動手段
１２    周壁
１３    底部
１５    傾斜肩部
２０    陰極部
２１    導電部
２７    軸受部
３５    ブランコ枠
３６    回転台
３７    支持床
３８    立枠
４３    支持軸
５１    通電部
５３    筒孔
６５    給水手段
７０    枢軸
７２    揺動駆動部
７３    揺動ギヤ
７５    揺動モータ
７５ａ    モータ軸
７７    従動ギヤ
７８    槽内伝動手段
７９    回転用モータ
７９ａ    モータ軸
８０    横歯車列
９５    オーバーフロー部
９７    溢流口
２００    凸部
２０１    凹部
【図１】
2010031335.tif 000003
【図２】
2010031335.tif 000004
【図３】
2010031335.tif 000005
【図４】
2010031335.tif 000006
【図５】
2010031335.tif 000007
【図６】
2010031335.tif 000008
【図７】
2010031335.tif 000009
【図８】
2010031335.tif 000010
【図９】
2010031335.tif 000011
【図１０】
2010031335.tif 000012
【図１１】
2010031335.tif 000013
【図１２】
2010031335.tif 000014
【図１３】
2010031335.tif 000015
【図１４】
2010031335.tif 000016
【図１５】
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【図１６】
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