(57)【要約】【課題】液体を除去するためのオーバーフロー構造を有するノズル部材において、液体の蒸発に起因して発生する気化熱による温度低下の影響を抑え、転写精度の良い露光装置を提供する。【解決手段】原版を照明する照明光学系と、原版のパターンを基板５に投影する投影光学系と、更に、投影光学系の最終光学素子２４の周囲に配置され、最終光学素子２４と基板５との間隙に液体ｆを供給するための液体供給部３１、間隙から液体ｆを回収するための液体回収部２６、３２、及び、間隙から液体ｆを溢れさせるためのオーバーフロー部３３を備えたノズル部材２０とを有し、間隙に液体ｆを満たして基板５を露光する露光装置１であって、ノズル部材２０は、オーバーフロー部３３から溢れた液体ｆを受け止める環状流路３９と、該環状流路３９から半径方向外側に向かって液体ｆを導く流路３４とを有し、流路３４は、オーバーフロー部３３から離間した位置に、少なくとも１つの液体吸引口３６を連設する。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
原版を照明する照明光学系と、前記原版のパターンを基板に投影する投影光学系と、更に、前記投影光学系の最終光学素子の周囲に配置され、前記最終光学素子と前記基板との間隙に液体を供給するための液体供給部、前記間隙から前記液体を回収するための液体回収部、及び、前記間隙から前記液体を溢れさせるためのオーバーフロー部を備えたノズル部材とを有し、前記間隙に前記液体を満たして前記基板を露光する露光装置であって、
前記ノズル部材は、前記オーバーフロー部から溢れた前記液体を受け止める環状流路と、該環状流路から半径方向外側に向かって前記液体を導く流路とを有し、
前記流路は、前記オーバーフロー部から離間した位置に、少なくとも１つの液体吸引口を連設することを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記液体吸引口は、前記ノズル部材の外周部に向けて前記液体を導くための陥没部であることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記液体吸引口は、前記ノズル部材の外周部に設置することを特徴とする請求項１又は２に記載の露光装置。
【請求項４】
前記液体吸引口は、前記オーバーフロー部から半径方向に、５０ｍｍ以上、２００ｍｍ以下の間をおいて設置されていることを特徴とする請求項３に記載の露光装置。
【請求項５】
前記流路は、曲部を有することを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項６】
前記液体吸引口は、前記ノズル部材の外側に配置された液体回収部材に設置されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の露光装置。
【請求項７】
前記液体回収部材は、前記ノズル部材から前記液体回収部へ前記液体を導く回収管に設置されていることを特徴とする請求項６に記載の露光装置。
【請求項８】
前記液体回収部材は、前記ノズル部材との間に位置する流路延長部材を介して設置されていることを特徴とする請求項６又は７に記載の露光装置。
【請求項９】
前記流路延長部材は、断熱性を有することを特徴とする請求項８に記載の露光装置。
【請求項１０】
前記オーバーフロー部の頂点高さは、前記液体吸引口の底面部の高さよりも高い位置であることを特徴とする請求項１〜９のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項１１】
前記流路は、平坦、若しくは、前記ノズル部材の外周部に向かって重力方向に傾斜していることを特徴とする請求項１〜１０のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項１２】
前記環状流路の底面部と前記投影光学系の底面部との距離は、５ｍｍ以上、１０ｍｍ以下であることを特徴とする請求項１〜１１に記載の露光装置。
【請求項１３】
前記ノズル部材の前記投影光学系に対向する面の高さ位置は、前記オーバーフロー部の頂点高さよりも高いことを特徴とする請求項１〜１２に記載の露光装置。
【請求項１４】
請求項１〜１３のいずれか１項に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
前記基板を現像する工程と、
を有することを特徴とするデバイスの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光装置、及びそれを用いたデバイスの製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
半導体露光装置は、回路パターンを有する原版（レチクル）を基板（ウエハ）に投影転写する装置である。この投影転写をする際には、原版のパターンを基板上に結像させるために、光学装置である投影光学系が用いられるが、この投影光学系には、高集積な回路を作成するために、高い解像性能が要求される。
【０００３】
そこで、近年、投影光学系の解像性能を向上させるために、液浸露光技術が用いられている。液浸露光は、投影光学系の最終光学素子と基板との間の露光光が通過する位置に、媒質として液体を介させることによって、投影光学系の開口数（ＮＡ）を増加させるものである。ここで、露光光が通過する媒質の屈折率をｎ、基板面への露光光の最大の入射角度をθとすると、開口数は、ｎ×ｓｉｎθで求められる。したがって、媒質が空気（ｎ＝１）の場合に比べて、液浸露光では、開口数をｎ倍（例えば、液体が純水の場合は１．４４倍）にすることができ、高い解像性能を得ることができる。
【０００４】
この液浸露光では、液体の圧力変動や温度変動等が、露光装置の構成要素、例えば、投影光学系、基板ステージ、及びその他のシステムに対して性能面での影響を与えやすいため、これらの影響を可能な限り抑えることが重要である。そこで、例えば、特許文献１は、液体の圧力変動を抑えるため、投影光学系の最終光学素子と基板との間に液体を供給するノズル部材において、液体を常に所定の高さで除去するためのオーバーフロー構造を有する露光装置を開示している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００５−１６７２１１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
オーバーフロー構造を採用するノズル部材において、オーバーフロー部から流出する液体を完全に回収するためには、流出する液体の量以上を回収できる能力を有する液体回収システムが必要である。例えば、液体を回収する方法としては、回収口を低圧チャンバに接続する方法や、一定量の液体を回収できる容積ポンプに接続する方法等がある。しかしながら、この場合、液体回収システムは、液体と一緒に回収口周辺の空気を吸引してしまうため、液体の蒸発に伴う気化熱を発生させる。この気化熱は、液体自体、オーバーフロー部に近接する最終光学素子、該最終光学素子を保持する保持部材、ノズル部材、及びノズル部材周辺の基板や基板ステージ等の構成要素の温度低下を招く原因となる。この温度低下により、結果的に、投影光学系の収差が劣化したり、オーバーレイ精度が悪化したりする可能性がある。
【０００７】
本発明は、このような状況を鑑みてなされたものであり、液体を除去するためのオーバーフロー構造を有するノズル部材において、液体の蒸発に起因して発生する気化熱による温度低下の影響を抑え、転写精度の良い露光装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するために、本発明は、原版を照明する照明光学系と、原版のパターンを基板に投影する投影光学系と、更に、投影光学系の最終光学素子の周囲に配置され、最終光学素子と基板との間隙に液体を供給するための液体供給部、間隙から液体を回収するための液体回収部、及び、間隙から液体を溢れさせるためのオーバーフロー部を備えたノズル部材とを有し、間隙に液体を満たして基板を露光する露光装置であって、ノズル部材は、オーバーフロー部から溢れた液体を受け止める環状流路と、該環状流路から半径方向外側に向かって液体を導く流路とを有し、流路は、オーバーフロー部から離間した位置に、少なくとも１つの液体吸引口を連設することを特徴とする。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、オーバーフロー構造を有するノズル部材において、オーバーフロー部から離間した位置に液体吸引口を備えるので、周囲の気体を一定方向に吸引することができ、気化熱による温度低下の影響を抑えることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明の実施形態に係る露光装置の構成を示す概略図である。
【図２】本発明の第１実施形態に係る液浸ノズル及びその周辺を示す概略図である。
【図３】本発明の第１実施形態に係る液浸ノズルの作用を示す概略図である。
【図４】本発明の第２実施形態の構成及び作用を示す図である。
【図５】本発明の第３実施形態に係る液浸ノズル及びその周辺を示す概略図である。
【図６】本発明の第３実施形態に係る液浸ノズルの作用を示す概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、本発明を実施するための形態について図面等を参照して説明する。
【００１２】
（第１実施形態）
図１は、本発明の第１実施形態に係る露光装置の構成を示す概略図である。なお、本実施形態における露光装置は、液浸法を採用した液浸露光装置であって、被処理基板をウエハとした半導体デバイスの製造に用いるものとして説明する。まず、露光装置１は、照明装置２と、原版（レチクル）３と、投影光学系４と、基板（ウエハ）５と、基板ステージ６とを備える。また、本実施形態における露光装置１は、ステップ・アンド・リピート方式、又はステップ・アンド・スキャン方式を採用するものであり、レチクル３に形成された回路パターンをウエハ５に露光する走査型投影露光装置である。
【００１３】
照明装置２は、光源部７と、照明光学系８とを備え、転写用の回路パターンが形成されたレチクル３を照明する装置である。光源部７において、光源は、例えば、レーザーを使用する。使用可能なレーザーは、波長約１９３ｎｍのＡｒＦエキシマレーザー、波長約２４８ｎｍのＫｒＦエキシマレーザー、又は波長約１５７ｎｍのＦ２エキシマレーザー等である。なお、レーザーの種類は、エキシマレーザーに限定されず、例えば、ＹＡＧレーザーを使用しても良いし、レーザーの個数も限定されない。また、光源部７にレーザーを使用する場合、レーザー光源からの平行光束を所望のビーム形状に整形する光束整形光学系、コヒーレントなレーザーをインコヒーレント化するインコヒーレント光学系を使用することが好ましい。更に、光源部７に使用可能な光源は、レーザーに限定されるものではなく、一又は複数の水銀ランプやキセノンランプ等のランプも使用可能である。
【００１４】
照明光学系８は、レチクル３を照明する光学系である。該光学系は、レンズ、ミラー、ライトインテグレーター、及び絞り等を含む。一般に、光学系は、コンデンサーレンズ、ハエの目レンズ、開口絞り、コンデンサーレンズ、スリット、結像光学系の順で整列する。照明光学系８は、軸上光、軸外光を問わず使用可能である。ライトインテグレーターは、ハエの目レンズや２組のシリンドリカルレンズアレイ板を重ねることによって構成されるインテグレーター等を含む。なお、ライトインテグレーターは、光学ロッドや回折要素に置換される場合もある。また、開口絞りは、円形絞り、変形照明用の輪帯絞り、及び４重極照明絞り等として構成される。
【００１５】
レチクル３は、ウエハ５に転写されるべき回路パターンが形成されたプレートであり、材質は、例えば、石英ガラスである。また、レチクル３は、一定方向に移動可能な矩形のレチクルステージ９の中央に設けられた不図示のレチクルチャック等により保持される。
【００１６】
投影光学系４は、照明光学系８からの投射光で照明されたレチクル３上のパターンを所定倍率（例えば、１／４、若しくは１／５）でウエハ５上に投影露光する。投影光学系４は、複数の光学要素のみから構成される光学系や、複数の光学要素と少なくとも一枚の凹面鏡とから構成される光学系（カタディオプトリック光学系）が採用可能である。更に、投影光学系４として、複数の光学要素と少なくとも一枚のキノフォーム等の回折光学要素とから構成される光学系等も採用可能である。また、投影光学系４は、該投影光学系４内に配置される不図示の光学要素と、光学絞り装置１０と、鏡筒１１とを備える。
【００１７】
ウエハ５は、シリコン製の被処理体であり、表面上にレジスト（感光剤）が塗布されている。基板ステージ６は、ウエハ５を載置、及び保持し、一定方向に移動可能なステージであり、ウエハ５の上下方向（鉛直方向）の位置、回転方向、及び傾きを、調整、変更あるいは制御するための駆動装置を内蔵する。この駆動装置は、露光処理時に、投影光学系４の結像面にウエハ５の露光領域が常に高精度に合致するように基板ステージ６を制御する。基板ステージ６は、ウエハ５を吸着保持するプレートチャック１２と、ウエハ５の周囲に位置するように設置される同面板１６とを備える。なお、基板ステージ６は、投影光学系４と共に、ベースフレーム１５に保持されている。同面板１６は、ウエハ５の表面とほぼ同一な高さを有し、ウエハ５の外周端部付近の領域を露光する際に、ウエハ５の外側の領域でも液体ｆを保持することを可能にするものである。
【００１８】
また、露光装置１は、基板ステージ６、及びレチクルステージ９の二次元的な位置をリアルタイムに計測する参照ミラー１７及びレーザー干渉計１８と、ステージ制御装置１９とを備える。ステージ制御装置１９は、レーザー干渉計１８の計測値に基づいて、基板ステージ６やレチクルステージ９の位置決めや同期制御を行う。なお、不図示であるが、露光装置１は、更にウエハ５上の面の位置（上下方向位置と傾き）を計測する光フォーカスセンサを備え、計測された位置情報は、ステージ制御装置１９に送信される。
【００１９】
なお、露光装置１は、不図示の環境チャンバの中に設置されており、環境チャンバは、露光装置１全体を取り巻く環境を所定の温度に保つ。更に、基板ステージ６、レチクルステージ９、及びレーザー干渉計１８を取り巻く空間や、投影光学系４を取り巻く空間は、個別に温度制御された空調空気が吹き込まれ、環境温度をより高精度に維持している。
【００２０】
本実施形態の露光装置１において、レチクル３から発せられた回折光は、投影光学系４を通過し、ウエハ５上に投影される。該ウエハ５とレチクル３とは、共役の関係にある。走査型の投影露光装置は、レチクル３とウエハ５とを走査することにより、レチクル３のパターンをウエハ５上に転写する。なお、ステッパー（ステップ・アンド・リピート方式の露光装置）の場合は、レチクル３とウエハ５とを静止させた状態で露光が行われる。
【００２１】
次に、本発明の露光装置１における液浸機構について説明する。液浸機構は、ノズル部材である液浸ノズル２０と、液体供給装置２１と、液体回収装置２２と、液浸制御装置２３とから構成される。液浸ノズル２０は、投影光学系４の最終光学素子２４の周囲に配置され、最終光学素子２４とウエハ５との間隙に液体fを満たすものである。液浸ノズル２０は、液体供給ラインである供給管２５を介して液体供給装置２１と接続され、同様に、液体回収ラインである回収管２６を介して液体回収装置２２と接続されている。
【００２２】
液体供給装置２１は、供給する液体ｆを貯めるタンク、液体ｆを送り出す圧送装置、液体ｆの供給流量や、供給及び停止を制御する流量制御装置、及び液体ｆの供給温度を制御するための温度制御装置を含む。また、液体回収装置２２は、回収した液体ｆを貯めるタンク、液体ｆを排出する吸引装置、回収圧力をモニタする圧力センサ、液体ｆの回収流量を制御する流量制御装置を含む。なお、前記吸引装置は、例えば、真空ポンプや容積ポンプ等である。
【００２３】
液浸制御装置２３は、基板ステージ６の現在位置、速度、加速度、目標位置、移動方向等の情報をステージ制御装置１９から取得する。また、液浸制御装置２３は、これらの情報に基づいて、液浸の開始や停止、流量等の制御指令を液体供給装置２１と液体回収装置２２に送信する。更に、液浸制御装置２３は、液体回収装置２２内の圧力センサの圧力情報等を監視し、液体ｆの回収ができない状態となった場合、液体供給装置２１内の流量制御装置を制御し、液体ｆの供給を停止する。
【００２４】
ここで、液浸用の液体ｆは、露光光の吸収が少ないものから選択し、更に、石英や蛍石等の屈折系光学素子とほぼ同程度の屈折率を有することが好ましい。具体的には、液体ｆとしては、純水、機能水、フッ化液（例えば、フルオロカーボン）等を使用する。また、液体ｆは、予め脱気装置を用いて溶存ガスを十分に取り除いたものが好ましい。これにより、気泡の発生を抑制することができ、万が一気泡が発生しても即座に液体ｆ中に吸収できる。この場合、例えば、環境気体中に多く含まれる窒素、及び酸素を対象として、液体ｆに溶存可能なガス量の８０％以上を除去すれば、気泡の発生を抑制することができる。なお、露光装置１に、不図示の脱気装置を備えて、常に液体ｆ中の溶存ガスを取り除きながら液体供給装置２１に液体ｆを供給してもよい。脱気装置としては、例えば、ガス透過性の膜を隔て、一方に液体ｆを流し、他方を真空にして、液体ｆ中の溶存ガスを、膜を介して真空中に追い出すような真空脱気装置が好適である。
【００２５】
次に、液浸ノズル２０、及びその周辺構成について説明する。図２は、液浸ノズル２０及びその周辺の構成を示す概略断面図である。図２において、（ａ）は、断面図であり、（ｂ）は、（ａ）におけるＡ視図である。なお、図１と同一構成については同一の符号を付し、説明を省略する。液浸ノズル２０は、最終光学素子２４の周囲に設置された環状の部材である。まず、液浸ノズル２０には、最終光学素子２４とウエハ５との間隙に液体ｆを供給するための供給口（液体供給部）３１と、液体ｆを回収するための回収口（液体回収部）３２とが貫設されている。供給口３１は、本実施形態では、最終光学素子２４の周囲を取り囲むように、液浸ノズル２０の内径部に半径方向内側に向けて円周状に配置され、供給管２５に接続されている。なお、供給口３１は、液浸ノズル２０の下面に、ウエハ５に対向するように円周状に配置しても良いし、また、供給口３１の設置箇所を２か所以上としても良い。また、回収口３２は、液浸ノズル２０の下面に、ウエハ５に対向するように配置され、回収管２６ａ（２６）に接続されている。これらの液浸ノズル２０、供給口３１、及び回収口３２は、ステンレス鋼、チタン、フッ素樹脂、若しくはセラミック等、化学的に汚染されにくく、清浄度を保ちやすい材質により形成される。
【００２６】
また、液浸ノズル２０は、上部に、液浸ノズル２０と最終光学素子２４との間隙から反重力方向に向けて液体ｆを溢れさせるオーバーフロー部３３を有する。オーバーフロー部３３は、液体ｆの高さを一定に保持することにより、最終光学素子２４の回りの液体ｆの圧力を安定化させるものである。オーバーフロー部３３から溢れた液体ｆは、オーバーフロー部３３を取り囲むように設置した環状流路３９を介して流路３４を流れ、該流路３４に連設され、かつ、液体回収部である回収管２６ｂ（２６）に接続された液体吸引口３６により吸引される。なお、環状流路３９及び流路３４の溝幅は、３〜１０ｍｍ程度が望ましい。
【００２７】
液体吸引口３６は、オーバーフロー部３３から離間し、最終光学素子２４の外径よりも外側、かつ、液浸ノズル２０の外周部に近い位置に設けられた陥没部である。液体吸引口３６とオーバーフロー部３３との距離は、具体的には、５０ｍｍ以上、２００ｍｍ以下が望ましい。
【００２８】
環状流路３９及び流路３４の底面部、更に液体吸引口３６の高さ位置は、オーバーフロー部３３と液体ｆが接する頂点高さよりも、重力方向に低い位置とする。これにより、液体吸引口３６は、オーバーフロー部３３から溢れた液体ｆをスムーズに回収することができる。なお、本実施形態では、流路３４の底面部は、水平となるように形成しているが、液浸ノズル２０の外周側に向かって重力方向に傾斜を付けることにより、液体ｆをより流れやすく形成しても良い。
【００２９】
オーバーフロー部３３の頂点部と環状流路３９の底面部との高さは、最終光学素子２４のｃ面に液体ｆが付着しない程度に設定する。これにより、最終光学素子２４に液体ｆが付着し、オーバーフロー部３３や流路３４を流れる液体ｆの流れが滞ったり、付着した液体ｆの蒸発に伴う気化熱により、最終光学素子２４の温度が低下し、投影光学系４の結像性能を劣化させたりすることを防止できる。具体的には、オーバーフロー部３３の頂点部と最終光学素子２４のｃ面との距離は、３ｍｍ以上が望ましく、また、環状流路３９の底面部と最終光学素子２４のｃ面との距離は、５ｍｍ以上、１０ｍｍ以下が望ましい。
【００３０】
また、液浸ノズル２０の上面と鏡筒１１の底面との間隔は、特に流路３４周辺においては小さいことが望ましい。これにより、この隙間の気体の流れを抑制できる。具体的には、液浸ノズル２０の上面高さは、オーバーフロー部３３よりも高い位置とし、液浸ノズル２０の上面と鏡筒１１の底面との間隔は、３ｍｍ以下、より好ましくは１ｍｍ以下が好適である。なお、本実施形態では、液浸ノズル２０の上面は、平坦面としているが、液浸ノズル２０の上面と、環状流路３９と液体吸引口３６との間の領域に、環状又はそれに準ずる形の突起部（隔壁部）を設け、突起部の上面と鏡筒１１との間隔を小さくしてもよい。
【００３１】
次に、本実施形態の液浸機構の作用、及び効果について説明する。図３は、図２の液浸機構における気体の流れを示す概略図であり、装置構成は、図２と同一である。図３に示すように、液体吸引口３６は、液体ｆと共に周囲の気体（空気）を吸い込むので、図の矢印のような気体の流れを発生させる。一般に、気体の流れが液体ｆの表面上にあると、液体ｆの蒸発が促進され、気化熱が発生し易くなる。特に、オーバーフロー部３３付近にて気化熱が発生すると、最終光学素子２４の表面（Ｌ部）の温度が低下し、最終光学素子２４の屈折率の変化や変形を生じさせ、投影光学系４の結像性能の劣化を招く。本発明によれば、オーバーフロー部３３と液体吸引口３６とが離間した位置にあるため、気体を一定方向に吸引することができるので、上記の影響を抑止できる。また、液浸ノズル２０の上面と鏡筒１１の底面との間隔を小さくし、気体の流れを抑制しているので、更に上記の影響を抑止できる。
【００３２】
（第２実施形態）
図４は、本発明の第２の実施形態に係る液浸機構の概略図であり、（ａ）及び（ｂ）は、それぞれ図２及び図３の（ｂ）に対応した図である。本実施形態の特徴は、第１の実施形態の流路３４に、曲部４０を設けた点にある。曲部４０は、本実施形態では、図４において円周方向右側に９０度曲げた形としているが、円周方向左側に、若しくは略９０度程度曲げた形でも良い。ここで、液体吸引口３６は、第１の実施形態と同様に、気体を一緒に吸い込むため、周囲の気体の流れは、図４（ｂ）に示すように発生する。即ち、気体の流れは、流路３４に沿うような方向となり易い。このように、流路３４に曲部４０を設けることにより、気体は、液浸ノズル２０の円周方向に流れ易く、一方、半径方向に流れにくくなる。したがって、オーバーフロー部３３付近の気体の流れを更に抑制し、気化熱を発生しにくくすることができる。
【００３３】
（第３実施形態）
図５は、液浸ノズル５０及びその周辺の構成を示す概略図である。図５において、（ａ）は、断面図であり、（ｂ）は、（ａ）におけるＡ視図である。なお、図２と同一構成については同一の符号を付し、説明を省略する。本実施形態の特徴は、液浸ノズル５０の流路３４の外側に、流路延長部材３７、及び液体回収部材３８を設置した点にある。ここで、液浸ノズル５０は、第１の実施形態と同様に、供給口３１と、回収口３２と、オーバーフロー部３３と、流路３４と、環状流路３９とを備える。
【００３４】
流路延長部材３７は、流路３４からスムーズに液体ｆを流せるように、流路３４とほぼ同じ高さの底面部を有し、液体回収部材３８に向けて、液体ｆを流し込むものである。また、液体回収部材３８は、流路延長部材３７に連接し、内部には、第１の実施形態で示したような液体吸引口４１、及び回収管２６ｃが設けられる。なお、液体回収部材３８の底面部の高さ位置、及び液体吸引口４１の高さ位置は、重力方向に対し、流路３４と同一、又は低い位置とする。流路延長部材３７の材質は、例えば、熱伝導率の低い樹脂材料、若しくは断熱性の高い材料が好適である。具体的には、流路延長部材３７の材質は、ステンレス鋼等の金属材料を採用し、液浸ノズル５０の半径方向に対して十分な長さを持ち、液浸ノズル５０と液体回収部材３８とが、実質的に断熱されていることが望ましい。なお、本実施形態では、液体回収部材３８は、開放空間に配置されるが、液浸ノズル５０から半径方向に更に離間した位置に配置しても良いし、若しくは、流路延長部材３７と一体構造とし、製作を簡略化させても良い。
【００３５】
次に、本実施形態の液浸機構の作用、及び効果について説明する。図６は、図５の液浸機構における気体の流れを示す概略図であり、装置構成は、図５と同一である。図６に示すように、液体吸引口４１は、第１の実施形態と同様に、液体ｆと共に上方から周囲の気体を吸い込むので、図の矢印のような気体の流れを発生させる。特に、本実施形態では、液体吸引口４１を備える液体回収部材３８が開放空間に配置されているので、気体の流れは、主に液体回収部材３８近辺でのみ発生する。したがって、最終光学素子２４の表面（Ｌ部）付近や、液浸ノズル５０の上面と鏡筒１１の底面との間隔の気体の流れを更に抑制し、これらの領域での気化熱を発生しにくくすることができる。
【００３６】
なお、液体回収部材３８は、気化熱の発生により温度が低下するが、液浸ノズル５０と断熱されているため、熱伝導による液浸ノズル５０の温度変化が生じにくい。また、液体回収部材３８は、液浸ノズル５０、最終光学素子２４、及び鏡筒１１と離間した位置に配置されるため、輻射や対流によるこれらの構成要素の温度変化が生じにくい。更に、液浸ノズル５０の温度が変化しにくいことにより、液浸ノズル５０の周辺に位置するウエハ５、基板ステージ６、及び液体ｆの温度変化も生じにくいという利点がある。
【００３７】
（デバイスの製造方法）
次に、上記露光装置を利用したデバイスの製造方法の実施形態について説明する。
【００３８】
半導体素子、液晶表示素子、撮像素子（ＣＣＤ等）、薄膜磁気ヘッド等のデバイスは、レジストが塗布された基板を、上記露光装置を用いて露光する工程と、露光された前記基板を現像する工程と、その他の周知の工程と、を経ることによって製造される。該周知の工程は、例えば、酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、及びパッケージング等の少なくとも１つの工程を含む。
【００３９】
（その他の実施形態）
本発明は、上記実施形態に限定するものでなく、本発明の目的が達成される範囲において、各構成が代替的に置換されても良い。
【００４０】
上記実施形態では、液浸ノズルにおいて流路及び液体吸引口が１箇所の場合について説明したが、本発明は、これに限定するものではない。例えば、流路及び液体吸引口の個数は、複数であっても良い。また、環状流路は、実質的にその機能を損なわない範囲において、円周方向に複数に分割された形状であっても良い。
【符号の説明】
【００４１】
１    露光装置
３    レチクル
４    投影光学系
５    ウエハ
８    照明光学系
２０  液浸ノズル
２４  最終光学素子
２６  回収管
３１  供給口
３２  回収口
３３  オーバーフロー部
３４  流路
３６  液体吸引口
３７  流路延長部材
３８  液体回収部材
３９  環状流路
４０  曲部
４１  液体吸引口
５０  液浸ノズル
ｆ    液体
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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