(57)【要約】【課題】液晶表示素子用プラスチック基板、カラーフィルター用プラスチック基板、有機ＥＬ表示素子用プラスチック基板等の、各種エレクトロニクス表示素子に対して要求される、薄膜化、軽量化、任意形状化、及び曲面表示が可能な透明基板を提供する。【解決手段】アッベ数が３０以上４５未満の透明樹脂、ガラス組成がＥガラスであるガラスフィラー及びガラス組成がＥガラスであるガラスクロスから構成される透明基板を提供する。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
アッベ数が３０以上４５未満の透明樹脂中に、Ｅガラス組成を有するガラスクロスとＥガラス組成を有するガラスフィラーとからなる補強材が全面にわたって充填されてなることを特徴とする透明基板。
【請求項２】
前記ガラスクロスが平均フィラメント径５μｍ以下のガラス糸から構成され、前記ガラスクロスの厚さが１０μｍ以上５０μｍ以下であり、かつ前記ガラス糸に扁平化加工が施されている、請求項１に記載の透明基板。
【請求項３】
前記ガラスフィラーが粒子形状である、請求項１又は２に記載の透明基板。
【請求項４】
前記ガラスフィラーが、ガラスパウダー又はガラスビーズである、請求項３に記載の透明基板。
【請求項５】
前記ガラスフィラーの平均粒径が５μｍ以下である、請求項３又は４に記載の透明基板。
【請求項６】
前記ガラスフィラーがシランカップリング剤で表面処理されている、請求項１〜５のいずれかに記載の透明基板。
【請求項７】
厚さが１００μｍ以下である、請求項１〜６のいずれかに記載の透明基板。
【請求項８】
波長４００ｎｍから７００ｎｍの全領域における光線透過率が８０％以上であり、最大表面粗度（Ｒｍａｘ）が１．５μｍ以下であり、かつ熱膨張率が２０ｐｐｍ／℃以下である、請求項１〜７のいずれかに記載の透明基板。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれかに記載の透明基板を製造する方法であって、
アッベ数が３０以上４５未満の透明樹脂とガラス組成がＥガラスであるガラスフィラーとを含む樹脂ワニスに、ガラス組成がＥガラスであるガラスクロスを浸漬する工程（Ｉ）、
前記浸漬したガラスクロスを乾燥させてプリプレグを形成する工程（ＩＩ）、及び
前記プリプレグを加熱成型する工程（ＩＩＩ）
を含む、透明基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば液晶表示素子用プラスチック基板、カラーフィルター用プラスチック基板、有機ＥＬ表示素子用プラスッチック基板等の、各種エレクトロニクス表示素子に用いられる透明基板及びその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
一般に、液晶表示素子用や有機ＥＬ表示素子用の表示素子基板、カラーフィルター基板、太陽電池用基板等には、ガラス板が多く用いられている。これらの基板の用途において、最近、軽量化や屈曲性付与等の改善が求められているが、ガラス板では、割れ易いこと、曲げ難いこと、また比重が大きく軽量化が困難であることなどの問題があり、ガラス板に替わる材料の選択が必要となっている。近年その代替として透明性を有するプラスチック基板が検討されている。
【０００３】
例えば、特許文献１にはエポキシ樹脂組成物を硬化して得られる透明樹脂基板が記載されている。しかし、従来のガラス板に比べて熱膨張率が大きく、表示素子基板の製造工程での反りの発生や形成される配線パターンのダメージ等の問題が生じ得る。このように透明性を有して且つ熱膨張率の小さい材料が必要となっている。
【０００４】
上記特許文献１、及び特許文献２ではガラスフィラーあるいはガラスクロスを樹脂中に配置させ、且つ樹脂とガラスフィラーあるいはガラスクロスとの屈折率を合わせて透明性を満足させる透明基板が記載されている。これら以外にも、ガラスフィラーあるいはガラスクロスを基材として用いた透明基板に関する多数の提案がされている。しかし、樹脂とガラスフィラーとの複合化あるいは樹脂とガラスクロスとの複合化のみでは、効果的な熱膨張率の低減が達成できなかった。また、通常のガラスクロスを用いた場合、表示素子の使用時に、基板特性として特に重要な表面粗度において、ガラス糸のうねりの影響により基板の表面粗度が大きくなってしまう課題が残る。
【０００５】
また、樹脂との屈折率の調整を容易にさせるためのガラス組成としては、Ｅガラスに比べて屈折率が低いＳガラスやＴガラス等が用いられている。しかし、Ｓガラス等のガラス組成のガラスフィラーあるいはガラスクロスは非常に高価であり、また溶融粘度が高いためにフィラメント径の小さいガラス繊維の生産が困難であるため、商業的に不向きである。
【０００６】
特許文献３には、樹脂と、融点が３００℃から１０００℃の粉体状の無機充填材と、繊維状の無機充填材とによる透明基板の提案があるが、粉体状無機充填材と繊維状無機充填材との組成が異なり、粉体状無機充填材と繊維状無機充填材との屈折率をほぼ等しくすることが困難であるため優れた透明性を実現することが出来ない。また、繊維状の無機充填材と粉体状の無機充填材との熱膨張率の違いから生じる耐熱性等の性能の低下も懸念される。
【０００７】
【特許文献１】特開２００４−２３１９３４号公報
【特許文献２】特開２００４−２３３８５１号公報
【特許文献３】特開２００５−０２９６６７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明の目的は、液晶表示素子用プラスチック基板、カラーフィルター用プラスチック基板、有機ＥＬ表示素子用プラスチック基板等の、各種エレクトロニクス表示素子用基板に対して要求される、薄膜化及び軽量化が可能で、任意形状化及び曲面表示を可能とするフレキシブル性を有し、かつ高光線透過率、低表面粗度及び低熱膨張率である透明基板を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者は、上記課題について鋭意検討した結果、透明樹脂を特定のガラスクロスとガラスフィラーとで補強することにより、従来のガラス基板と比較して薄く軽量でフレキシブル性に優れ、かつ高光線透過率、低表面粗度及び低熱膨張率である透明基板が得られることを見出し、本発明を完成するに至った。
【００１０】
即ち、本発明は以下の通りである。
【００１１】
［１］アッベ数が３０以上４５未満の透明樹脂中に、Ｅガラス組成を有するガラスクロスとＥガラス組成を有するガラスフィラーとからなる補強材が全面にわたって充填されてなることを特徴とする透明基板。
【００１２】
［２］前記ガラスクロスが平均フィラメント径５μｍ以下のガラス糸から構成され、前記ガラスクロスの厚さが１０μｍ以上５０μｍ以下であり、かつ前記ガラス糸に扁平化加工が施されている、上記［１］に記載の透明基板。
【００１３】
［３］前記ガラスフィラーが粒子形状である、上記［１］又は［２］に記載の透明基板。
【００１４】
［４］前記ガラスフィラーが、ガラスパウダー又はガラスビーズである、上記［１］〜［３］のいずれかに記載の透明基板。
【００１５】
［５］前記ガラスフィラーの平均粒径が５μｍ以下である、上記［３］又は［４］に記載の透明基板。
【００１６】
［６］前記ガラスフィラーがシランカップリング剤で表面処理されている、上記［１］〜［５］のいずれかに記載の透明基板。
【００１７】
［７］厚さが１００μｍ以下である、上記［１］〜［６］のいずれかに記載の透明基板。
【００１８】
［８］波長４００ｎｍから７００ｎｍの全領域における光線透過率が８０％以上であり、最大表面粗度（Ｒｍａｘ）が１．５μｍ以下であり、かつ熱膨張率が２０ｐｐｍ／℃以下である、上記［１］〜［７］のいずれかに記載の透明基板。
【００１９】
［９］上記［１］〜［８］のいずれかに記載の透明基板を製造する方法であって、
アッベ数が３０以上４５未満の透明樹脂とガラス組成がＥガラスであるガラスフィラーとを含む樹脂ワニスに、ガラス組成がＥガラスであるガラスクロスを浸漬する工程（Ｉ）、
前記浸漬したガラスクロスを乾燥させてプリプレグを形成する工程（ＩＩ）、及び
前記プリプレグを加熱成型する工程（ＩＩＩ）
を含む、透明基板の製造方法。
【発明の効果】
【００２０】
本発明によれば、薄く軽量でフレキシブル性に優れるとともに高光線透過率、低表面粗度及び低熱膨張率である透明基板を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の透明基板は、使用される波長領域で透明であるものである。具体的には、本明細書において「透明」とは、波長４００ｎｍから７００ｎｍの全領域において、光線透過率が８０％以上であることを意味するものとする。本発明の透明基板は、所謂可視光領域である３８０ｎｍから８００ｎｍの全領域において光線透過率が８０％以上であることがより好ましい。
【００２２】
本発明では、アッベ数が３０以上４５未満の透明樹脂を用いる。ここでいうアッベ数（νd）とは、屈折率の波長依存性を示すもので、νd＝（ηD−１）／（ηF−ηC）で求められる。ここでηC、ηD、ηFは、それぞれＣ線（波長６５６ｎｍ）、Ｄ線（波長５８９ｎｍ）及びＦ線（波長４８６ｎｍ）に対する屈折率である。一般に、アッベ数は、ガラスのような無機材料では比較的大きく、プラスチックのような有機材料では比較的小さい。アッベ数が非常に小さい場合には、屈折率の波長依存性が大きく、得られる材料の透明性が劣る傾向がある。
【００２３】
本発明で用いる透明樹脂のアッベ数は３０以上４５未満である。本発明においては、無機充填物として、安価で実用性の高いＥガラス組成のガラスクロス及びガラスフィラーを用いる。よって、これらガラスクロス及びガラスフィラーと組合せて用いる透明樹脂においては、屈折率の波長依存性及び透明性確保の観点からアッベ数が３０以上である必要がある。また後述するようにＥガラスの屈折率１．５６と屈折率を近接させて高い透明性を得る観点から、透明樹脂のアッベ数は４５未満である。
【００２４】
本発明の透明基板は、透明樹脂とガラスフィラーとガラスクロスとから構成される。２種以上の材料からなる複合材料を透明にするためには、構成材料のそれぞれの屈折率が互いにほぼ等しいことが必要である。より具体的には、優れた透明性を得るためには複合材料を構成する材料間の屈折率の差が０．０２以下であることが好ましく、さらに０．０１以下が好ましい。屈折率の差が０．０２より大きい場合は透明性が劣る基板となる傾向がある。Ｅガラスの屈折率（ナトリウムＤ線波長での値をいう）としては１．５６（日本電気硝子株式会社カタログ値）が知られている。本発明においては、Ｅガラスと屈折率が近接する樹脂、より典型的には屈折率が１．５４から１．５８の範囲内である樹脂を透明樹脂として用いることが好ましい。
【００２５】
なおアッベ数及び屈折率の値は、例えば多波長アッベ屈折計を用いて屈折率を測定し、測定波長と屈折率の測定値とから上述の式に従ってアッベ数を算出することによりそれぞれ得ることができる。
【００２６】
本発明で用いる透明樹脂の種類は、アッベ数が３０以上４５未満の樹脂であれば特に限定されないが、屈折率はＥガラスに近い程好ましく、また耐熱性や耐薬品性に優れていることがより好ましい。
【００２７】
透明樹脂の好適な例としては、エポキシ系樹脂、イソシアネート系樹脂、アクリレート系樹脂、オレフィン系樹脂、シクロオレフィン系樹脂、ジアリルフタレート系樹脂、ジアリルカーボネート系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、シルセスキオキサン縮合物等が挙げられる。Ｅガラスと屈折率が近接していること、及び耐熱性、耐薬品性等の性能を考慮すれば、エポキシ系樹脂あるいはイソシアネート系樹脂あるいはジアリルフタレート系樹脂が好ましい。
【００２８】
透明樹脂は１種の樹脂からなるものでもよいが、Ｅガラスとの屈折率の差をより小さくする目的等で２種以上の樹脂を組合せてもよい。また、樹脂以外の他の成分として、例えば無機系材料、各種屈折率調整剤等を組合せたものを本発明における透明樹脂として用いてもよい。例えばエポキシ樹脂を用いる場合では、屈折率を調整する目的で、２種以上のエポキシ樹脂、エポキシ樹脂以外の樹脂、無機系材料、各種屈折率調整剤などを用いて透明樹脂を構成することができる。
【００２９】
屈折率調整剤の使用態様としては、例えば樹脂の屈折率がガラスより高い場合はエチレングリシジルメタクリレートの共重合体やポリプレングリコールジグリシジルエーテルなどを添加し、樹脂の屈折率がガラスより低い場合は芳香環や環状脂肪族構造を有する化合物、又は臭素等のハロゲン元素やイオウを導入した化合物などを添加して、屈折率を調整できる。
【００３０】
エポキシ樹脂としては、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、臭素化エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、エポキシアクリレート樹脂等が挙げられる。
【００３１】
イソシアネート系樹脂としては、芳香族系のトリレンジイソシアネート、４，４’ジフェニルメタンジイソシアネートや脂肪族系のヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート等が挙げられ、特に限定されるものではないが、その中でもトリレンジイソシアネート系のものが好ましく、これらの樹脂を単独あるいは２種類以上併用して用いることができる。
【００３２】
ジアリルフタレート系樹脂としては、ジアリルオルソフタレートプレポリマー、ジアリルイソフタレートプレポリマー、ジアリルテレフタレートプレポリマーなどが挙げられ、これらを単独あるいは２種以上併用して用いることができる。
【００３３】
本発明で用いるガラスフィラーとは、本発明で用いるガラスクロス、すなわち織布及び不織布である布状ガラスを除くガラス全般を意味し、特に例えばガラス粒子やガラスチョップ等の不連続状のものを意味する。ガラスフィラーは、典型的には粒子形状、より具体的には、ガラスパウダー又はガラスビーズであることができる。粒子形状のガラスフィラーとしては、これに限定されないが例えばガラス繊維を微粉砕したもの等を例示できる。
【００３４】
粒子形状のガラスフィラーの形状は、砕状、球状等であることができ、特に限定しないが、透明樹脂中への均一分散性を考慮すればフィラー粒径のバラツキは出来るだけ小さくしておくことが好ましい。またガラスフィラーの平均粒径としては、５μｍ以下が好ましく、１μｍ以上３μｍ以下がより好ましい。なお平均粒径は、レーザー回折／散乱式粒径分布測定器により測定される数平均で定義するものとする。
【００３５】
また、ガラスフィラーと透明樹脂との接着性を向上させて透明基板の透明性を向上させることができる点で、ガラスフィラーの表面がシランカップリング剤等の表面処理剤で処理されていることが好ましい。好ましいシランカップリング剤としては、例えばＮ−β−（Ｎ−ビニルベンジルアミノエチル）−γ−アミノプロピルメトキシシランの塩酸塩（東レダウコーニング株式会社製；ＳＺ６０３２）等を例示できる。
【００３６】
本発明で用いるＥガラス組成からなるガラスクロスは、Ｅガラス組成のガラス原糸を用いて製造されたガラスクロスであればよい。しかし、例えば液晶表示素子用基板等に使用される透明基板の場合、特に表面粗度が小さいことが要求されている。また、屈曲性等の特性も要求されている。表面粗度の低減及び屈曲性の向上に対しては、ガラスクロスを構成するガラス糸の平均フィラメント径をできるだけ細くすることが有効である。本発明において用いるガラスクロスは、Ｅガラス組成であるため低溶融粘度での加工が可能であり、平均フィラメント径を細くすることが容易であるという利点を有する。
【００３７】
ナトリウムＤ線波長での値で、Ｓガラスの屈折率は１．５３、ＮＥガラスの屈折率は１．５１、Ｄガラスの屈折率は１．４７である。これらのガラス組成のガラス繊維を作製する紡糸工程においては、ガラスの溶融粘度がＥガラスよりも高いため、生産性が劣り、商業化が困難である。よって、Ｅガラスを用いて透明基板を作製することは極めて有効である。
【００３８】
平均フィラメント径としては５μｍ以下が好ましく、４．５μｍ以下がさらに好ましい。なお、平均フィラメント径は、電子顕微鏡で得られた断面観察写真により測定される数平均で定義するものとする。
【００３９】
また、ガラスクロスが織布である場合に、織物構造によって透明基板の表面粗度を小さくする手段としては、織物のバスケットホールを小さくすること、すなわち織物の面方向においてガラス糸が分布していない面積が出来るだけ少なくすることが有効である。バスケットホールを小さくすることは、ガラス糸の扁平化加工により達成できる。また、より高い透明性を得るためには、ガラスクロスにおいて複屈折が生じないことが好ましい。ガラスクロスを構成するガラス糸のうねりが大きい場合、及びガラスクロスの粗密不均一が大きい場合には複屈折が大きくなり透明性の発現が困難になることを発明者は既に見出している。ガラス糸のうねりを小さくするためには、厚さ１０μｍ以上５０μｍ以下のガラスクロスを用いることが好ましく、厚さ１０μｍ以上４０μｍ以下のガラスクロスを用いることがより好ましい。また、ガラス糸には扁平化加工が施されていることが好ましい。さらに、ガラスクロスを構成するタテ糸とヨコ糸が、上記扁平化加工等によって十分に拡幅され、糸−糸間の隙間の距離が平均フィラメント径の５倍以内であることが好ましい。
【００４０】
厚み方向のフィラメント分布の重なりが少なくガラス糸が十分に拡幅されたガラスクロスを得るためには、タテ糸及びヨコ糸を構成するフィラメントの本数が少ない方が好ましい。よってタテ糸及びヨコ糸を構成するフィラメント数は、それぞれ５０本から２０４本であることが好ましく、５０本から１００本であることがより望ましい。また使用されるガラス糸の扁平化をより効率良く行うため、通常使用される撚り数（０．７から１．０回／ｉｎｃｈ）を有するガラス原糸を使用してもよいが、撚り数を少なくしたガラス糸を使用することが好ましい。すなわち、ガラス糸の撚り数は０（ゼロ）から０．５回／ｉｎｃｈであることが好ましい。このように低撚糸化することにより、扁平化加工を行った際、径断面から見た糸形状が楕円形から平板形状になり、より高度に扁平化されたガラス糸形状を実現でき、ガラスクロスの面方向におけるガラス糸分布が高い、すなわち面方向における隙間が少ないガラスクロスが得られる。
【００４１】
扁平化加工の方法については特に限定はしないが、高圧水流による加工、液体を媒体とした高周波の振動による加工等が好適である。
【００４２】
本発明の透明基板には、必要に応じて、透明性、耐熱性、耐薬品性を損なわないレベルで、酸化防止剤、難燃剤、紫外線吸収剤等を含有させてもよく、またガラスフィラー以外のフィラーを含有させてもよい。
【００４３】
透明樹脂１００質量部に対するガラスフィラーの含有量は、薄く軽量で且つフレキシブル性に優れる透明基板が得られる点で、例えば５質量部以上１５０質量部以下であることが好ましく、２０質量部以上８０質量部以下であることがより好ましい。また上記の点で、透明樹脂１００質量部に対するガラスクロスの含有量は、例えば１０質量部以上８０質量部以下であることが好ましく、２０質量部以上６０質量部以下であることがより好ましい。
【００４４】
本発明の透明基板の厚さとしては、例えば１００μｍ以下、より典型的には２０μｍ以上６０μｍ以下を例示できる。
【００４５】
本発明の透明基板においては、Ｅガラスのガラスクロスを用いているため低表面粗度を容易に達成できる。透明基板の表面粗度は、最大表面粗度（Ｒｍａｘ）で１．５μｍ以下が好ましく、１．０μｍ以下がさらに好ましい。表面粗度が低減された透明基板は、液晶表示材料等に使用する場合において特に好適である。表面粗度は表面粗度計（商品名：ＳＵＦＣＯＭ  Ｅ−ＭＤ  東京精密株式会社製）により測定された最大表面粗度（Ｒｍａｘ）で定義するものとする。
【００４６】
また、本発明の透明基板を例えば表示素子用プラスチック基板の用途に使用する場合、ＩＴＯ膜等の薄膜製膜等、透明基板が加熱される工程が入る。この加熱の際、透明基板の熱膨張率が高いと、ＩＴＯ膜等の劣化の発生による実使用時の問題が生じる場合がある。しかし本発明の透明基板においては、透明樹脂中に、Ｅガラス組成を有するガラスフィラーとＥガラス組成を有するガラスクロスとからなる補強材が全面にわたって充填されていることにより、透明樹脂を補強しているため、低い熱膨張率を得ることができる。透明基板の熱膨張率は２０ｐｐｍ／℃以下であることが好ましく、１５ｐｐｍ／℃以下であることがより好ましい。なお上記熱膨張率は、熱機械分析装置（ＴＭＡ）による熱膨張率測定方法で測定される値である。
【００４７】
本発明の透明基板は、例えば、上述の透明樹脂と上述のガラスフィラーとを含む樹脂ワニスに上述のガラスクロスを浸漬する工程（Ｉ）と、該浸漬したガラスを乾燥させてプリプレグを形成する工程（ＩＩ）と、該プリプレグを加熱成型する工程（ＩＩＩ）とを含む方法により製造できる。
【００４８】
樹脂ワニスは、透明樹脂とガラスフィラーとの他に、溶媒、屈折率調整剤、色差調整剤等を含むことができる。溶媒としては、特に限定されるものではないが例えば２−ブタノンやアセトン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、メチルセロソルブ、キシレン、トルエン、シクロヘキサノン等を例示できる。なお溶媒を含有してもよいが、含有量が少ないと環境面や安全性等が向上することから無溶媒での適応も可能である。
【００４９】
上記工程（Ｉ）においては、樹脂ワニスがガラスクロスに含浸されるが、該樹脂ワニスは、掻き落としバーにより付着量を制御しつつガラスクロスに含浸させることが好ましい。ガラスクロスを形成するガラス糸のうねりによる光沢ムラを解消できる点で、透明基板の表面に透明樹脂とガラスフィラーとからなる層が厚さ５μｍ以上で形成されるように樹脂ワニスをガラスクロスに含浸させることが好ましく、上記層が厚さ１０μｍ以上で形成されることがより好ましい。
【００５０】
なお、透明基板の表面に透明樹脂とガラスフィラーとからなる層を所望の厚さで形成する方法としては、透明樹脂のガラスクロスへの含浸量を増加させる方法の他、上記工程（Ｉ）において一度透明樹脂を含浸させたガラスクロスに再度透明樹脂を塗布する方法、又は硬化させた後の透明基板に再度透明樹脂を塗布する方法等を例示できる。
【００５１】
上記工程（ＩＩ）では、上記浸漬したガラスクロスを乾燥させてプリプレグを形成する。乾燥条件は用いる透明樹脂、溶媒等の種類によって適宜選択できるが、例えば乾燥温度１００〜２００℃、乾燥時間３０秒〜３分等の条件とすることができ、その他乾燥機内風量等の条件を適宜選択することができる。
【００５２】
上記工程（ＩＩＩ）では、該プリプレグを加熱することによって加熱成型を行う。加熱成型条件は用いる透明樹脂、溶媒等の種類によって適宜選択できるが、例えば、加熱温度１００〜２５０℃、加熱時間３０分〜３時間、成型圧力５〜１００ｋｇｆ／ｃｍ2等の条件とすることができる。上記により本発明の透明基板を好ましく製造できる。
【００５３】
本発明の透明基板を例えば表示素子用プラスチック基板の用途に使用する場合、表面平滑性を向上させるため、透明基板両面にさらに樹脂のコーティング層を形成しても良い。コーティングに用いる樹脂としては、透明性、耐熱性、耐薬品性に優れるものを好ましく使用できる。具体的にはガラスクロスに含浸させた透明樹脂と同じ樹脂が好ましく、エポキシ系樹脂、イソシアネート系樹脂、ジアリルフタレート系樹脂等が好ましい。コーティング層の厚さは０．１μｍから５０μｍが好ましく、１．０μｍから２０μｍがより好ましい。
【００５４】
本発明の透明基板を例えば表示素子用プラスチック基板の用途で用いる場合、水蒸気あるいは酸素に対するガスバリア層や透明電極層をさらに設けても良い。ガスバリア層の形成方法としては、酸化ケイ素等からなる誘電体層の蒸着、あるいは塩化ビニリデン系ポリマーやビニルアルコール系ポリマー等の比較的ガスバリア性の高い材料の塗布等を例示できる。透明電極層の形成方法としては、酸化インジウム、酸化スズ、スズ−インジウム合金の酸化膜等の半導体膜や、金、銀、パラジウムあるいはそれらの合金等の金属膜等を、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の公知な物理的膜形成方法により形成する方法を例示できる。
【実施例】
【００５５】
以下、本発明を実施例によりさらに具体的に説明するが、本発明はこれらにより限定されるものではない。透明基板の作製方法及び試験方法は、特記がない限り以下の通りである。また以下で配合において示す「部」は「質量部」を意味する。
【００５６】
（１）−１．プリプレグの作製
透明樹脂を含む樹脂ワニスに、基材となるガラスクロスを浸漬し、０．１００ｍｍのスリットで余分な樹脂ワニスを掻き落とし、１６０℃で２分間乾燥し、プリプレグを得た。
【００５７】
（１）−２．基板の成型
（１）―１で得られたプリプレグを１枚用いて、１９５℃、４０ｋｇｆ／ｍ2の条件で６０分間加熱成型し、透明基板を得た。
【００５８】
（１）−３．透明基板の光線透過率測定
測定装置として日本分光株式会社製；Ｖ−５５０を用いて波長４００ｎｍ及び５５０ｎｍの光線透過率を測定した。
【００５９】
（１）−４．表面粗度の測定
測定装置として東京精密株式会社製；ＳＵＦＫＯＭ  Ｅ―ＭＤを用い、表面粗度の指標として最大表面粗度（Ｒｍａｘ）を測定した。
【００６０】
（１）−５．熱膨張率の測定
測定装置としてセイコーインスツルメンツ株式会社製；ＴＭＡ  ＳＳ６０００を用いてタテ糸繊維方向(ＴＤ方向)の熱膨張率を引っ張りモードで測定した。
【００６１】
［実施例１］
以下の配合の樹脂ワニスを作製した。
透明樹脂：ジアリルイソフタレート樹脂      １００部
（ダイソー株式会社製  製品名ダイソーイソダップ  アッベ数：４０  屈折率：１．５５）
ガラスフィラー：Ｅガラス組成フィラー      ５０部  平均粒径：１．８μｍ
ガラスクロス  ：１０２７ＭＳ、樹脂１００部に対して２５部となるよう樹脂を塗工した。
【００６２】
ガラスフィラー製造方法：シランカップリング剤処理されたガラスクロスを、加熱温度：４００℃、加熱時間：２４時間で加熱し、下記に示す横型ボールミル粉砕機によりガラスクロスを粉砕し、ガラスパウダーを得た。
【００６３】
装置  ：横型ボールミル粉砕機（浅田鉄工株式会社製３００Ｌ−ＳＥＭ）
ドラム回転数  ：３３ｒｐｍ
ボール形状  ：直径２０ｍｍ及び直径３０ｍｍ（材質：ジルコニア）
投入粉砕ドラム容積  ：３００ｌ
粉砕時間  ：３時間
【００６４】
ガラスクロスは以下旭化成エレクトロニクス株式会社製１０２７ＭＳクロスを使用した。該ガラスクロスは扁平化加工を行うことによって糸は拡幅され、面方向でほぼ隙間無くガラス糸が配置しているものである。（ガラス糸の平均フィラメント径４．０μｍ、フィラメント本数１００本）
【００６５】
使用糸種       ＥＣＣ１５００  １／０  １Ｚ  Ｅガラス組成
織り密度       タテ方向：７５本／ｉｎｃｈ  ヨコ方向：７５本／ｉｎｃｈ
厚さ          １９μｍ
布重量        １９ｇ／ｍ2
【００６６】
前記の透明基板作製方法により実施例１の透明基板（基板厚さ０．０５ｍｍ）を作製し、前記の評価を行った。
光線透過率は波長４００ｎｍで８８％、波長５５０ｎｍで８９％、４００ｎｍ〜７００ｎｍの領域で８０％以上の光線透過率を得た。
表面粗度（最大表面粗度Ｒｍａｘ）は０．５μｍであった。
熱膨張率は１５ｐｐｍ／℃であった。
【００６７】
［実施例２］
以下の配合の樹脂ワニスを作製した。
透明樹脂：ジアリルイソフタレート樹脂  １００部  
（ダイソー株式会社製  製品名ダイソーイソダップ
アッベ数：４０  屈折率：１．５５）
ガラスフィラー：Ｅガラス組成フィラー      ５０部    平均粒径：１．８μｍ
ガラスクロス  ：１０００、樹脂１００部に対して２０部となるよう樹脂を塗工した。
【００６８】
ガラスフィラー製造方法：シランカップリング剤処理されたガラスクロスを、加熱温度：４００℃、加熱時間：２４時間で加熱し、下記に示す横型ボールミル粉砕機によりガラスクロスを粉砕し、ガラスパウダーを得た。
装置  ：横型ボールミル粉砕機（浅田鉄工株式会社製３００Ｌ−ＳＥＭ）
ドラム回転数  ：３３ｒｐｍ
ボール形状  ：直径２０ｍｍ及び直径３０ｍｍ（材質：ジルコニア）
投入粉砕ドラム容積  ：３００ｌ
粉砕時間  ：３時間
【００６９】
ガラスクロスは以下旭化成エレクトロニクス株式会社製１０００クロスを使用した。該ガラスクロスは扁平化加工を行うことによって糸は拡幅され、面方向でほぼ隙間無くガラス糸が配置しているものである。（ガラス糸の平均フィラメント径４．０μｍ、フィラメント本数５０本）
【００７０】
使用糸種  ＥＣＣ３０００  １／０  １Ｚ  Ｅガラス組成
織り密度  タテ方向：８５本／ｉｎｃｈ  ヨコ方向：８５本／ｉｎｃｈ
厚さ  １０μｍ
布重量  １１ｇ／ｍ2
【００７１】
前記の透明基板作製方法により実施例２の基板（基板厚さ０．０４ｍｍ）を作製し、前記の評価を行った。
光線透過率は波長４００ｎｍで９０％、波長５５０ｎｍで９１％、４００ｎｍ〜７００ｎｍの領域で８０％以上の光線透過率を得た。
表面粗度（最大表面粗度Ｒｍａｘ）は０．４μｍであった。
熱膨張率は１７ｐｐｍ／℃であった。
【００７２】
［実施例３］
以下の配合の樹脂ワニスを作製した。
透明樹脂：ジアリルイソフタレート樹脂  １００部  
（ダイソー株式会社製  製品名ダイソーイソダップ
アッベ数：４４  屈折率：１．５５）
ガラスフィラー：Ｅガラス組成フィラー      ５０部    平均粒径：１．８μｍ
ガラスクロス  ：１０００、樹脂１００部に対して２０部となるよう樹脂を塗工した。
【００７３】
ガラスフィラー製造方法：シランカップリング剤処理されたガラスクロスを、加熱温度：４００℃、加熱時間：２４時間で加熱し、下記に示す横型ボールミル粉砕機によりガラスクロスを粉砕し、ガラスパウダーを得た。
【００７４】
装置  ：横型ボールミル粉砕機（浅田鉄工株式会社製３００Ｌ−ＳＥＭ）
ドラム回転数  ：３３ｒｐｍ
ボール形状  ：直径２０ｍｍ及び直径３０ｍｍ（材質：ジルコニア）
投入粉砕ドラム容積  ：３００ｌ
粉砕時間  ：３時間
【００７５】
ガラスクロスは以下旭化成エレクトロニクス株式会社製１０００クロスを使用した。該ガラスクロスは扁平化加工を行うことによって糸は拡幅され、面方向でほぼ隙間無くガラス糸が配置しているものである。（ガラス糸の平均フィラメント径４．０μｍ、フィラメント本数５０本）
【００７６】
使用糸種  ＥＣＣ３０００  １／０  １Ｚ  Ｅガラス組成
織り密度  タテ方向：８５本／ｉｎｃｈ  ヨコ方向：８５本／ｉｎｃｈ
厚さ  １０μｍ
布重量  １１ｇ／ｍ2
【００７７】
前記の透明基板作製方法により実施例３の基板（基板厚さ０．０４ｍｍ）を作製し、前記の評価を行った。
光線透過率は波長４００ｎｍで９０％、波長５５０ｎｍで９１％、４００ｎｍ〜７００ｎｍの領域で８０％以上の光線透過率を得た。
表面粗度（最大表面粗度Ｒｍａｘ）は０．４μｍであった。
熱膨張率は１７ｐｐｍ／℃であった。
【００７８】
［実施例４］
以下の配合の樹脂ワニスを作製した。
透明樹脂：ジアリルイソフタレート樹脂  １００部
（ダイソー株式会社製  製品名ダイソーイソダップ
アッベ数：４０  屈折率：１．５５）
ガラスフィラー：Ｅガラス組成フィラー  ５０部    平均粒径：３．０μｍ
ガラスクロス  ：１０００、樹脂１００部に対して２０部となるよう樹脂を塗工した。
【００７９】
ガラスフィラー製造方法：シランカップリング剤処理されたガラスクロスを、加熱温度：４００℃、加熱時間：２４時間で加熱し、下記に示す横型ボールミル粉砕機によりガラスクロスを粉砕し、ガラスパウダーを得た。
【００８０】
装置  ：横型ボールミル粉砕機（浅田鉄工株式会社製３００Ｌ−ＳＥＭ）
ドラム回転数  ：３３ｒｐｍ
ボール形状  ：直径２０ｍｍ及び直径３０ｍｍ（材質：ジルコニア）
投入粉砕ドラム容積  ：３００ｌ
粉砕時間  ：２時間
【００８１】
ガラスクロスは以下旭化成エレクトロニクス株式会社製１０００クロスを使用した。該ガラスクロスは扁平化加工を行うことによって糸は拡幅され、面方向でほぼ隙間無くガラス糸が配置しているものである。（ガラス糸の平均フィラメント径４．０μｍ、フィラメント本数５０本）
【００８２】
使用糸種  ＥＣＣ３０００  １／０  １Ｚ  Ｅガラス組成
織り密度  タテ方向：８５本／ｉｎｃｈ  ヨコ方向：８５本／ｉｎｃｈ
厚さ  １０μｍ
布重量  １１ｇ／ｍ2
【００８３】
前記の透明基板作製方法により実施例４の基板（基板厚さ０．０４ｍｍ）を作製し、前記の評価を行った。
光線透過率は波長４００ｎｍで９０％、波長５５０ｎｍで９１％、４００ｎｍ〜７００ｎｍの領域で８０％以上の光線透過率を得た。
表面粗度（最大表面粗度Ｒｍａｘ）は０．５μｍであった。
熱膨張率は１７ｐｐｍ／℃であった。
【００８４】
［実施例５］
以下の配合の樹脂ワニスを作製した。
透明樹脂：ジアリルイソフタレート樹脂  １００部
（ダイソー株式会社製  製品名ダイソーイソダップ  アッベ数：４０  屈折率：１．５５）
ガラスフィラー：Ｅガラス組成フィラー      ５０部    平均粒径：５．０μｍ
ガラスクロス  ：１０００、樹脂１００部に対して２０部となるよう樹脂を塗工した。
【００８５】
ガラスフィラー製造方法：シランカップリング剤処理されたガラスクロスを、加熱温度：４００℃、加熱時間：２４時間で加熱し、下記に示す横型ボールミル粉砕機によりガラスクロスを粉砕し、ガラスパウダーを得た。
【００８６】
装置  ：横型ボールミル粉砕機（浅田鉄工株式会社製３００Ｌ−ＳＥＭ）
ドラム回転数  ：３３ｒｐｍ
ボール形状  ：直径２０ｍｍ及び直径３０ｍｍ（材質：ジルコニア）
投入粉砕ドラム容積  ：３００ｌ
粉砕時間  ：１時間
【００８７】
ガラスクロスは以下旭化成エレクトロニクス株式会社製１０００クロスを使用した。該ガラスクロスは扁平化加工を行うことによって糸は拡幅され、面方向でほぼ隙間無くガラス糸が配置しているものである。（ガラス糸の平均フィラメント径４．０μｍ、フィラメント本数５０本）
【００８８】
使用糸種  ＥＣＣ３０００  １／０  １Ｚ  Ｅガラス組成
織り密度  タテ方向：８５本／ｉｎｃｈ  ヨコ方向：８５本／ｉｎｃｈ
厚さ  １０μｍ
布重量  １１ｇ／ｍ2
【００８９】
前記の透明基板作製方法により実施例５の基板（基板厚さ０．０４ｍｍ）を作製し、前記の評価を行った。
光線透過率は波長４００ｎｍで９０％、波長５５０ｎｍで９１％、４００ｎｍ〜７００ｎｍの領域で８０％以上の光線透過率を得た。
表面粗度（最大表面粗度Ｒｍａｘ）は０．７μｍであった。
熱膨張率は１８ｐｐｍ／℃であった。
【００９０】
［実施例６］
以下の配合の樹脂ワニスを作製した。
透明樹脂：ジアリルイソフタレート樹脂  １００部
（ダイソー株式会社製  製品名ダイソーイソダップ  アッベ数：４０  屈折率：１．５５）
ガラスフィラー：Ｅガラス組成フィラー  ５０部    平均粒径：５．０μｍ
ガラスクロス  ：２１１６、樹脂１００部に対して５０部となるよう樹脂を塗工した。
【００９１】
ガラスフィラー製造方法：シランカップリング剤処理されたガラスクロスを、加熱温度：４００℃、加熱時間：２４時間で加熱し、下記に示す横型ボールミル粉砕機によりガラスクロスを粉砕し、ガラスパウダーを得た。
【００９２】
装置  ：横型ボールミル粉砕機（浅田鉄工株式会社製３００Ｌ−ＳＥＭ）
ドラム回転数  ：３３ｒｐｍ
ボール形状  ：直径２０ｍｍ及び直径３０ｍｍ（材質：ジルコニア）
投入粉砕ドラム容積  ：３００ｌ
粉砕時間  ：１時間
【００９３】
ガラスクロスは以下旭化成エレクトロニクス株式会社製２１１６ＭＳクロスを使用した。
【００９４】
使用糸種  ＥＣＥ２２５  １／０  １Ｚ  平均フィラメント径７．０μｍ、フィラメント本数２００本  扁平化加工有り
Ｅガラス組成
織り密度  タテ方向：６０本／ｉｎｃｈ  ヨコ方向：５８本／ｉｎｃｈ
厚さ  １００μｍ
布重量  １０４ｇ／ｍ2
【００９５】
前記の透明基板作製方法により実施例６（基板厚さ０．１２ｍｍ）の基板を作製し、前記の評価を行った。
光線透過率は波長４００ｎｍで８３％、波長５５０ｎｍで８４％、４００ｎｍ〜７００ｎｍの領域で８０％以上の光線透過率を得た。
表面粗度（最大表面粗度Ｒｍａｘ）は２．０μｍであった。
熱膨張率は１６ｐｐｍ／℃であった。
【００９６】
［実施例７］
以下の配合の樹脂ワニスを作製した。
透明樹脂：ジアリルイソフタレート樹脂  １００部
（ダイソー株式会社製  製品名ダイソーイソダップ  アッベ数：４０  屈折率：１．５５）
ガラスフィラー：Ｅガラス組成フィラー      ５０部    平均粒径：５．０μｍ
ガラスクロス  ：２１１６、樹脂１００部に対して２０部となるよう樹脂を塗工した。
【００９７】
ガラスフィラー製造方法：シランカップリング剤処理されたガラスクロスを、加熱温度：４００℃、加熱時間：２４時間で加熱し、下記に示す横型ボールミル粉砕機によりガラスクロスを粉砕し、ガラスパウダーを得た。
【００９８】
装置  ：横型ボールミル粉砕機（浅田鉄工株式会社製３００Ｌ−ＳＥＭ）
ドラム回転数  ：３３ｒｐｍ
ボール形状  ：直径２０ｍｍ及び直径３０ｍｍ（材質：ジルコニア）
投入粉砕ドラム容積  ：３００ｌ
粉砕時間  ：１時間
【００９９】
ガラスクロスは以下旭化成エレクトロニクス株式会社製２１１６クロスを使用した。
【０１００】
使用糸種  ＥＣＥ２２５  １／０  １Ｚ  平均フィラメント径７．０μｍ、フィラメント本数２００本  扁平化加工無し
Ｅガラス組成
織り密度  タテ方向：６０本／ｉｎｃｈ  ヨコ方向：５８本／ｉｎｃｈ
厚さ  １００μｍ
布重量  １０４ｇ／ｍ2
【０１０１】
前記の透明基板作製方法により実施例７の基板（基板厚さ０．１２ｍｍ）を作製し、前記の評価を行った。
光線透過率は波長４００ｎｍで８０％、波長５５０ｎｍで８１％、４００ｎｍ〜７００ｎｍの領域で８０％以上の光線透過率を得た。
表面粗度（最大表面粗度Ｒｍａｘ）は１．５μｍであった。
熱膨張率は１６ｐｐｍ／℃であった。
【０１０２】
［実施例８］
以下の配合の樹脂ワニスを作製した。
透明樹脂：ポリカーボネート  １００部
（帝人化成株式会社製  製品名パンライト  アッベ数：３１      屈折率：１．５９）
ガラスフィラー：Ｅガラス組成フィラー      ５０部    平均粒径：５．０μｍ
ガラスクロス  ：１０２７ＭＳ、樹脂１００部に対して２５部となるよう樹脂を塗工した。
【０１０３】
ガラスフィラー製造方法：シランカップリング剤処理されたガラスクロスを、加熱温度：４００℃、加熱時間：２４時間で加熱し、下記に示す横型ボールミル粉砕機によりガラスクロスを粉砕し、ガラスパウダーを得た。
【０１０４】
装置  ：横型ボールミル粉砕機（浅田鉄工株式会社製３００Ｌ−ＳＥＭ）
ドラム回転数  ：３３ｒｐｍ
ボール形状  ：直径２０ｍｍ及び直径３０ｍｍ（材質：ジルコニア）
投入粉砕ドラム容積  ：３００ｌ
粉砕時間  ：１時間
【０１０５】
ガラスクロスは以下旭化成エレクトロニクス株式会社製１０２７ＭＳクロスを使用した。該ガラスクロスは扁平化加工を行うことによって糸は拡幅され、面方向でほぼ隙間無くガラス糸が配置しているものである。（ガラス糸の平均フィラメント径４．０μｍ、フィラメント本数１００本）
【０１０６】
使用糸種  ＥＣＣ１５００  １／０  １Ｚ  Ｅガラス組成
織り密度  タテ方向：７５本／ｉｎｃｈ  ヨコ方向：７５本／ｉｎｃｈ
厚さ  １９μｍ
布重量  １９ｇ／ｍ2
【０１０７】
前記の透明基板作製方法により実施例８の基板（基板厚さ０．０５ｍｍ）を作製し、前記の評価を行った。
光線透過率は波長４００ｎｍで８０％、波長５５０ｎｍで８２％、４００ｎｍ〜７００ｎｍの領域で８０％以上の光線透過率を得た。
表面粗度（最大表面粗度Ｒｍａｘ）は０．５μｍであった。
熱膨張率は１７ｐｐｍ／℃であった。
【０１０８】
［比較例１］
以下の配合の樹脂ワニスを作製した。
透明樹脂：ジアリルイソフタレート樹脂  １００部
（ダイソー株式会社製  製品名ダイソーイソダップ  アッベ数：４０  屈折率：１．５５）
ガラスクロス：１０２７ＭＳ、樹脂１００部に対して２５部となるよう樹脂を塗工した。
【０１０９】
ガラスクロスは以下旭化成エレクトロニクス株式会社製１０２７ＭＳクロスを使用した。該ガラスクロスは扁平化加工を行うことによって糸は拡幅され、面方向でほぼ隙間無くガラス糸が配置しているものである。（ガラス糸の平均フィラメント径４．０μｍ、フィラメント本数１００本）
【０１１０】
使用糸種  ＥＣＣ１５０００  １／０  １Ｚ  Ｅガラス組成
織り密度  タテ方向：７５本／ｉｎｃｈ  ヨコ方向：７５本／ｉｎｃｈ
厚さ  １９μｍ
布重量  １９ｇ／ｍ2
【０１１１】
前記の透明基板作製方法により比較例１の基板（基板厚さ０．０５ｍｍ）を作製し、前記の評価を行った。
光線透過率は波長４００ｎｍで８８％、波長５５０ｎｍで８９％であった。
表面粗度（最大表面粗度Ｒｍａｘ）は１．４μｍであった。
熱膨張率は２５ｐｐｍ／℃であった。
【０１１２】
［比較例２］
以下の配合の樹脂ワニスを作製した。
透明樹脂：ジアリルイソフタレート樹脂  １００部
（ダイソー株式会社製  製品名ダイソーイソダップ  アッベ数：４０  屈折率：１．５５）
ガラスクロス：１０００、樹脂１００部に対して２０部となるよう樹脂を塗工した。
【０１１３】
ガラスクロスは以下旭化成エレクトロニクス株式会社製１０００クロスを使用した。該ガラスクロスは扁平化加工を行うことによって糸は拡幅され、面方向でほぼ隙間無くガラス糸が配置しているものである。（ガラス糸の平均フィラメント径４．０μｍ、フィラメント本数５０本）
【０１１４】
使用糸種  ＥＣＣ３０００  １／０  １Ｚ  Ｅガラス組成
織り密度  タテ方向：８５本／ｉｎｃｈ  ヨコ方向：８５本／ｉｎｃｈ
厚さ  １０μｍ
布重量  １１ｇ／ｍ2
【０１１５】
前記の透明基板作製方法により比較例２の基板（基板厚さ０．０４ｍｍ）を作製し、前記の評価を行った。
光線透過率は波長４００ｎｍで８９％、波長５５０ｎｍで９０％であった。
表面粗度（最大表面粗度Ｒｍａｘ）は１．１μｍであった。
熱膨張率は２６ｐｐｍ／℃であった。
【０１１６】
［比較例３］
以下の配合の樹脂ワニスを作製した。
透明樹脂：ジアリルイソフタレート樹脂  １００部
（ダイソー株式会社製  製品名ダイソーイソダップ  アッベ数：４０  屈折率：１．５５）
ガラスクロス：２１１６、樹脂１００部に対して５０部となるよう樹脂を塗工した。
【０１１７】
ガラスクロスは以下旭化成エレクトロニクス株式会社製２１１６クロスを使用した。
使用糸種  ＥＣＥ２２５  １／０  １Ｚ  平均フィラメント径７．０μｍ、フィラメント本数２００本  扁平化加工無し
Ｅガラス組成
織り密度  タテ方向：６０本／ｉｎｃｈ  ヨコ方向：５８本／ｉｎｃｈ
厚さ  １００μｍ
布重量  １０４ｇ／ｍ2
【０１１８】
前記の透明基板作製方法により比較例３の基板（基板厚さ０．１２ｍｍ）を作製し、前記の評価を行った。
光線透過率は波長４００ｎｍで８０％、波長５５０ｎｍで８１％であった。
表面粗度（最大表面粗度Ｒｍａｘ）は２．３μｍであった。
熱膨張率は２３ｐｐｍ／℃であった。
【０１１９】
［比較例４］
以下の配合の樹脂ワニスを作製した。
透明樹脂：ジアリルイソフタレート樹脂  １００部
（ダイソー株式会社製  製品名ダイソーイソダップ  アッベ数：４０  屈折率：１．５５）
ガラスフィラー：Ｅガラス組成フィラー      ５０部    平均粒径：５．０μｍ
ガラスクロス：２１１６、樹脂１００部に対して５０部となるよう樹脂を塗工した。
【０１２０】
ガラスフィラー製造方法：シランカップリング剤処理されたガラスクロスを、加熱温度：４００℃、加熱時間：２４時間で加熱し、下記に示す横型ボールミル粉砕機によりガラスクロスを粉砕し、ガラスパウダーを得た。
【０１２１】
ガラスクロスは以下旭化成エレクトロニクス株式会社製２１１６クロスを使用した。
使用糸種  ＳＣＥ２２５  １／０  １Ｚ  平均フィラメント径７．０μｍ、フィラメント本数２００本  扁平化加工無し
Ｓガラス組成
織り密度  タテ方向：６０本／ｉｎｃｈ  ヨコ方向：５８本／ｉｎｃｈ
厚さ  １００μｍ
布重量  １０４ｇ／ｍ2
【０１２２】
前記の透明基板作製方法により比較例４の基板（基板厚さ０．１２ｍｍ）を作製し、前記の評価を行った。
光線透過率は波長４００ｎｍで７０％、波長５５０ｎｍで７１％であった。
表面粗度（最大表面粗度Ｒｍａｘ）は２．５μｍであった。
熱膨張率は１５ｐｐｍ／℃であった。
【０１２３】
［比較例５］
以下の配合の樹脂ワニスを作製した。
透明樹脂：ジアリルイソフタレート樹脂  １００部
（ダイソー株式会社製  製品名ダイソーイソダップ  アッベ数：４０  屈折率：１．５５）
ガラスフィラー：Ｅガラス組成フィラー      ５０部    平均粒径：５．０μｍ
【０１２４】
ガラスフィラー製造方法：シランカップリング剤処理されたガラスクロスを、加熱温度：４００℃、加熱時間：２４時間で加熱し、下記に示す横型ボールミル粉砕機によりガラスクロスを粉砕し、ガラスパウダーを得た。
【０１２５】
装置  ：横型ボールミル粉砕機（浅田鉄工株式会社製３００Ｌ−ＳＥＭ）
ドラム回転数  ：３３ｒｐｍ
ボール形状  ：直径２０ｍｍ及び直径３０ｍｍ（材質：ジルコニア）
投入粉砕ドラム容積  ：３００ｌ
粉砕時間  ：１時間
【０１２６】
透明樹脂及びフィラーを混合した樹脂ワニスをＰＥＴフィルムの離形処理された面に塗布し、１６０℃で２分間乾燥した後、ＰＥＴフィルムを剥がして除去して得る方法により比較例５の基板（基板厚さ０．０５ｍｍ）を作製し、前記の評価を行った。
光線透過率は４００ｎｍで７０％、５５０ｎｍで７１％であった。
表面粗度（最大表面粗度Ｒｍａｘ）は２．５μｍであった。
熱膨張率は３８ｐｐｍ／℃であった。
【０１２７】
［比較例６］
以下の配合の樹脂ワニスを作製した。
透明樹脂：ポリカーボネート  １００部
（帝人化成株式会社製  製品名パンライト  アッベ数：２９      屈折率：１．５９）
ガラスフィラー：Ｅガラス組成フィラー      ５０部    平均粒径：５．０μｍ
ガラスクロス：１０２７ＭＳ、樹脂１００部に対して２５部となるよう樹脂を塗工した。
【０１２８】
ガラスフィラー製造方法：シランカップリング剤処理されたガラスクロスを、加熱温度：４００℃、加熱時間：２４時間で加熱し、下記に示す横型ボールミル粉砕機によりガラスクロスを粉砕し、ガラスパウダーを得た。
【０１２９】
装置  ：横型ボールミル粉砕機（浅田鉄工株式会社製３００Ｌ−ＳＥＭ）
ドラム回転数  ：３３ｒｐｍ
ボール形状  ：直径２０ｍｍ及び直径３０ｍｍ（材質：ジルコニア）
投入粉砕ドラム容積  ：３００ｌ
粉砕時間  ：１時間
【０１３０】
ガラスクロスは以下旭化成エレクトロニクス株式会社製１０２７ＭＳクロスを使用した。該ガラスクロスは扁平化加工を行うことによって糸は拡幅され、面方向でほぼ隙間無くガラス糸が配置しているものである。（ガラス糸の平均フィラメント径４．０μｍ、フィラメント本数１００本）
【０１３１】
使用糸種  ＥＣＣ１５００  １／０  １Ｚ  Ｅガラス組成
織り密度  タテ方向：７５本／ｉｎｃｈ  ヨコ方向：７５本／ｉｎｃｈ
厚さ  １９μｍ
布重量  １９ｇ／ｍ2
【０１３２】
前記の透明基板作製方法により比較例６の基板（基板厚さ０．０５ｍｍ）を作製し、前記の評価を行った。
光線透過率は波長４００ｎｍで６５％、波長５５０ｎｍで６０％であった。
表面粗度（最大表面粗度Ｒｍａｘ）は０．５μｍであった。
熱膨張率は１７ｐｐｍ／℃であった。
【０１３３】
［比較例７］
以下の配合の樹脂ワニスを作製した。
透明樹脂：メタクリレート  １００部
（製品名Ｋ−５５（プラスチック補修材）  アッベ数：４７      屈折率：１．５１）
ガラスクロス：１０２７ＭＳ、樹脂１００部に対して２５部となるよう樹脂を塗工した。
【０１３４】
ガラスクロスは以下旭化成エレクトロニクス株式会社製１０２７ＭＳクロスを使用した。該ガラスクロスは扁平化加工を行うことによって糸は拡幅され、面方向でほぼ隙間無くガラス糸が配置しているものである。（ガラス糸の平均フィラメント径４．０μｍ、フィラメント本数１００本）
【０１３５】
使用糸種  ＥＣＣ１５００  １／０  １Ｚ  Ｅガラス組成
織り密度  タテ方向：７５本／ｉｎｃｈ  ヨコ方向：７５本／ｉｎｃｈ
厚さ  １９μｍ
布重量  １９ｇ／ｍ2
【０１３６】
前記の透明基板作製方法により比較例７の基板（基板厚さ０．０５ｍｍ）を作製し、前記の評価を行った。
光線透過率は波長４００ｎｍで６５％、波長５５０ｎｍで６０％であった。
表面粗度（最大表面粗度Ｒｍａｘ）は０．５μｍであった。
熱膨張率は１７ｐｐｍ／℃であった。
【０１３７】
［比較例８］
以下の配合の樹脂ワニスを作製した。
透明樹脂：メタクリレート  １００部
（製品名Ｋ−５５（プラスチック補修材）  アッベ数：４７      屈折率：１．５１）
ガラスフィラー：Ｅガラス組成フィラー      ５０部    平均粒径：５．０μｍ
ガラスクロス：１０２７ＭＳ、樹脂１００部に対して２５部となるよう樹脂を塗工した。
【０１３８】
ガラスフィラー製造方法：シランカップリング剤処理されたガラスクロスを、加熱温度：４００℃、加熱時間：２４時間で加熱し、下記に示す横型ボールミル粉砕機によりガラスクロスを粉砕し、ガラスパウダーを得た。
装置  ：横型ボールミル粉砕機（浅田鉄工株式会社製３００Ｌ−ＳＥＭ）
ドラム回転数  ：３３ｒｐｍ
ボール形状  ：直径２０ｍｍ及び直径３０ｍｍ（材質：ジルコニア）
投入粉砕ドラム容積  ：３００ｌ
粉砕時間  ：１時間
【０１３９】
ガラスクロスは以下旭化成エレクトロニクス株式会社製１０２７ＭＳクロスを使用した。該ガラスクロスは扁平化加工を行うことによって糸は拡幅され、面方向でほぼ隙間無くガラス糸が配置しているものである。（ガラス糸の平均フィラメント径４．０μｍ、フィラメント本数１００本）
【０１４０】
使用糸種  ＥＣＣ１５００  １／０  １Ｚ  Ｅガラス組成
織り密度  タテ方向：７５本／ｉｎｃｈ  ヨコ方向：７５本／ｉｎｃｈ
厚さ  １９μｍ
布重量  １９ｇ／ｍ2
【０１４１】
前記の透明基板作製方法により比較例８の基板（基板厚さ０．０５ｍｍ）を作製し、前記の評価を行った。
光線透過率は波長４００ｎｍで５５％、波長５５０ｎｍで５３％であった。
表面粗度（最大表面粗度Ｒｍａｘ）は１．３μｍであった。
熱膨張率は１５ｐｐｍ／℃であった。
【０１４２】
［比較例９］
以下の配合の樹脂ワニスを作製した。
透明樹脂：ジアリルイソフタレート樹脂  １００部
（ダイソー株式会社製  製品名ダイソーイソダップ  アッベ数：４０  屈折率：１．５５）
石英組成フィラー（パウダー）  ５０部    平均粒径：２．５μｍ
（株式会社龍森  製  ＶＸ−ＳＲ）
ガラスクロス：１０２７ＭＳ、樹脂１００部に対して２５部となるよう樹脂を塗工した。
【０１４３】
ガラスクロスは以下旭化成エレクトロニクス株式会社製１０２７ＭＳクロスを使用した。該ガラスクロスは扁平化加工を行うことによって糸は拡幅され、面方向でほぼ隙間無くガラス糸が配置しているものである。（ガラス糸の平均フィラメント径４．０μｍ、フィラメント本数１００本）
【０１４４】
使用糸種  ＥＣＣ１５００  １／０  １Ｚ  Ｅガラス組成
織り密度  タテ方向：７５本／ｉｎｃｈ  ヨコ方向：７５本／ｉｎｃｈ
厚さ  １９μｍ
布重量  １９ｇ／ｍ2
【０１４５】
前記の透明基板作製方法により比較例９の基板（基板厚さ０．０５ｍｍ）を作製し、前記の評価を行った。
光線透過率は波長４００ｎｍで７１％、波長５５０ｎｍで７２％であった。
表面粗度（最大表面粗度Ｒｍａｘ）は０．５μｍであった。
熱膨張率は１３ｐｐｍ／℃であった。
【０１４６】
【表１】
2010043199.tif 000002
【産業上の利用可能性】
【０１４７】
本発明の透明基板は、例えば、透明板、光学レンズ、液晶表示素子用プラスチック基板、カラーフィルター用プラスチック基板、有機ＥＬ表示素子用プラスチック基板、太陽電池基板、タッチパネル、光学素子、光導波路、ＬＥＤ封止材等に好適に使用される。