(57)【要約】【課題】輻射による熱と高周波のどちらか一方ずつを供給するのではなく、同時に供給することことが出来る加熱調理器を提供する。【解決手段】被加熱物Ｍを収容する加熱室１１に加熱源である輻射熱供給部１５と高周波供給部１３と高周波が照射されることにより発熱する高周波吸収体３３を備えた受け皿３１を有し、輻射熱供給部１５と高周波供給部１３から同時に熱を供給することにより、被加熱物の種類や大きさによる焼き時間の自由度が増すと共に加熱時間の短縮および被加熱物の焼き性能向上が可能になる。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
被加熱物を収納する加熱室に、輻射による熱と高周波と高周波が照射されることにより発熱する高周波吸収体を備えた受け皿を有し、前記輻射による熱と前記高周波の両方を同時に供給することにより被加熱物を加熱処理する加熱調理器であって、前記加熱室へ前記輻射熱と前記高周波の供給を制御する制御手段を有する加熱調理器。
【請求項２】
制御手段が、被加熱物の種類によって前記輻射熱と前記高周波の供給量を制御することを特徴とする請求項１に記載の加熱調理器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、被加熱物を収納する加熱室に輻射による熱と高周波を供給して被加熱物を加熱処理する加熱調理器に関し、加熱室に同時に電力を供給することを可能にした改良技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、被加熱物を収納する加熱室内において輻射による熱と高周波を照射することにより発熱する高周波吸収体を備えた受け皿により加熱調理を行う調理器がある（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
下記特許文献１に開示される加熱調理器は、輻射による熱や高周波による加熱を適宜組み合わせて加熱調理することが可能となっている。
【特許文献１】特開２００７−１５５３３１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上記のような加熱調理器では、輻射による熱かあるいは高周波のどちらか一方しか供給していないため、被加熱物の加熱開始後、まず高周波照射により高周波吸収体を備えた受け皿を発熱させることにより被加熱物の底面を焼き、次に輻射熱の供給により被加熱物の上面を焼くことになる。このため操作者が焼き時間を一旦設定してしまうとその時点で高周波と輻射による熱の供給量の比率が確定されてしまい被加熱物の種類や大きさによって焼き時間を加熱開始時点で間違いなく設定しなければいけないという課題を有していた。
【０００５】
また被加熱物の片面ずつを順番に焼くため時間がかかり、さらには被加熱物の底面が焼き終わった後に被加熱物の上面を焼くことになるが、このとき上面はまだ生が残った状態のため上面を焼き始めることで被加熱物のたんぱく質の保水性が損なわれることで流出した水分によって既に焼き終わった被加熱物の底面の香ばしさやパリッと感が損なわれてしまうという課題を有していた。
【０００６】
本発明は、前記従来の課題を解決するもので、被加熱物を収納する加熱室に輻射による熱と高周波を一方だけ供給するのではなく、同時に供給することが出来る加熱調理器の制御方法および、加熱調理器を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
前記従来の課題を解決するために、第１の発明は、被加熱物を収納する加熱室に、輻射による熱と高周波と高周波が照射されることにより発熱する高周波吸収体を備えた受け皿を有し、前記輻射による熱と前記高周波の両方を同時に供給することにより被加熱物を加熱処理する加熱調理器であって、前記加熱室へ前記輻射熱と前記高周波の供給を制御する制御手段を有するものである。
【０００８】
これによれば、輻射による熱と高周波の両方を同時に供給することにより、被加熱物の種類や大きさによる焼き時間の自由度が増し、さらに効率的な電力供給が行われることで、加熱時間の短縮および被加熱物の焼き性能向上が可能になる。
【０００９】
第２の発明は、第１の発明において、制御手段が、被加熱物の種類によって輻射熱と高周波の供給量を制御するものである。これによれば、輻射熱と高周波の供給量を制御する
ことで、被加熱物の種類や大きさや味付けなどの条件に対応することが可能になる。
【発明の効果】
【００１０】
本発明に係る加熱調理器によれば、輻射による熱と高周波の両方を同時に供給することにより、被加熱物の種類や大きさによる焼き時間の自由度が増し、さらに効率的な電力供給が行われることで、加熱時間の短縮および被加熱物の焼き性能向上が可能になる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、本発明の好適な形態について、図面を参照して詳細に説明する。
【００１２】
図１は本発明に係る加熱調理器の構成例を示す概略ブロック図、図２は概略断面図である。
【００１３】
この加熱調理器１００は、被加熱物Ｍを収納する加熱室１１に輻射による熱と高周波と高周波が照射されることにより発熱する高周波吸収体を備えた受け皿を有し、前記輻射による熱と前記高周波の両方を同時に供給することにより被加熱物を加熱処理する加熱調理器であって、主に高周波供給部１３と、輻射熱供給部１５と、加熱室温度検出手段である加熱室温度センサ２１と、加熱源選択手段であるスイッチ１９と、各種情報を表示する表示部２３と、電源部２７と、加熱調理器１００全体を制御する制御部２５を備えている。
【００１４】
表示部２３及びグリルスイッチ１９は操作パネル１７上に設けられている。表示部２３には、動作モード（グリル強、グリル弱など）、設定時間や経過時間などの情報が表示される。
【００１５】
加熱室温度センサ２１は、サーミスタで構成され、加熱室１１の温度を測定する。加熱室温度センサ２１による温度検出値は制御部２５に入力される。
【００１６】
制御部２５は、図示しないＣＰＵ（Ｃｅｎｔｒａｌ  Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ  Ｕｎｉｔ）とＲＯＭ（Ｒｅａｄ  Ｏｎｌｙ  Ｍｅｍｏｒｙ）とを備えている。ＣＰＵは、ＲＯＭに格納されているプログラムおよびデータに従って制御を行う。
【００１７】
また図２に示すように、本加熱調理器１００の高周波供給部１３はマグネトロン３５と、マグネトロン３５から出力された高周波を加熱室１１全体に分散させる高周波撹拌用スタラ羽根３７とを有する。輻射熱供給部１５は、電熱ヒータからなる輻射ヒータ３９を有する。また被加熱物Ｍが載置される受け皿３１は、高周波吸収体３３を備えている。高周波供給部１３から照射された高周波が高周波吸収体３３に吸収されると、高周波吸収体３３が発熱し、この熱が被加熱物Ｍに伝熱されるようになる。
【００１８】
図示の例では、高周波供給部１３は加熱室１１の底面下方に、輻射熱供給部１５は加熱室１１の上方にそれぞれ配置されているが、これ以外の配置としても良い。またスタラ羽根３７の代わりにターンテーブルを備えた構成としても良い。
【００１９】
図３に加熱調理器１００の前面部の構成例を示す。加熱調理器１００の前面には、加熱室１１内を視認するための透光窓４１と操作パネル１７とが設けられている。操作パネル１７には表示部２３や加熱開始を指示するスタートスイッチ、マニュアル操作を行うためのマニュアルスイッチ、加熱時間を設定するタイマ４３などが設けられている。  
【００２０】
上記マニュアルスイッチにはグリル強とグリル弱が設けられていて、焼き魚やハンバーグなどを焼くときはグリル強を選択し、照り焼きやスペアリブや焼豚などたれを塗って焦げやすい食品を焼くときはグリル弱を選択する。
【００２１】
次に、本実施形態の加熱調理器１００による作用を説明する。この加熱調理器１００を使用して調理を行う場合、被加熱物Ｍを置いた受け皿３１を加熱室１１に設置し、所望のマニュアルスイッチを押下し、タイマ４３を回して加熱時間を設定し、スタートスイッチを押下する。
【００２２】
図４はグリルモード選択時の表示例を示している。グリルスイッチ１９を一回押下すると（ａ）に示すようなグリル強が表示部２３に表示される。さらにグリルスイッチ１９を押下すると（ｂ）に示すようなグリル弱が表示部２３に表示される。このスイッチを押下する度に、グリル強とグリル弱を繰り返す。グリルモードの確定は、タイマ４３を回した時点で確定する。
【００２３】
次に調理の具体例について説明する。図５はグリルモードを選択したときの加熱室１１の温度変化を示した図である。図６と図７は加熱供給部への給電パターンを例示したタイミング図である。
【００２４】
グリル強を選択した場合、図６に示すように調理が開始されると輻射ヒータ３９と高周波供給部１３が同時に動作する。被加熱物Ｍが加熱された後、被加熱物Ｍが過加熱状態にならないようにするために、加熱室温度センサ２１によってあらかじめ設定されていた温度に到達すると、加熱源のオンオフ制御を行い、加熱室１１の温度が設定温度付近になるように加熱制御される。
【００２５】
またグリル弱を選択した場合は、図７に示すように調理が開始されると輻射ヒータ３９と高周波供給部１３が同時に動作する。この場合、急な電力の供給によって被加熱物Ｍの表面が焦げないように加熱源のオンオフ制御を行う。
【００２６】
さらに図５に示すようにグリル弱の加熱切り替え温度があらかじめ設定されていて、加熱室温度センサ２１がグリル弱の加熱切り替え温度を検出すると、加熱源のオン時間を短縮し、被加熱物Ｍの昇温速度を遅らせることで表面温度と内部温度の差が縮まり、加熱ムラを防止することが出来る。
【産業上の利用可能性】
【００２７】
以上のように、本発明は電子レンジ等の加熱調理器に適用できるものであり、輻射による熱と高周波の両方を同時に供給することにより、被加熱物の種類や大きさによる焼き時間の自由度が増し、さらに効率的な電力供給が行われることで、加熱時間の短縮および被加熱物の焼き性能向上が可能になる。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
【図１】本発明に係る加熱調理器の構成例を示す概略ブロック図
【図２】本発明に係る加熱調理器の構成例を示す概略断面図
【図３】本発明に係る加熱調理器の全面部の構成例を示す正面図
【図４】グリル調理時の表示例を示す説明図
【図５】グリル調理時の加熱室の温度変化を示す説明図
【図６】グリル強の場合における加熱部への給電パターンを例示したタイミング図
【図７】グリル弱の場合における加熱部への給電パターンを例示したタイミング図
【符号の説明】
【００２９】
１１  加熱室
１３  高周波供給部（加熱源）
１５  輻射熱供給部（加熱源）
１７  操作パネル
１９  グリルスイッチ（加熱源選択手段）
２１  加熱室温度センサ（加熱室温度検出手段）
２３  表示部
２５  制御部（制御手段）
２７  電源部
３１  受け皿
３３  高周波吸収体
３５  マグネトロン
３７  高周波撹拌用スタラ羽根
３９  輻射ヒータ
４１  透光窓
４３  タイマ
１００  加熱調理器
Ｍ  被加熱物
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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