(57)【要約】【課題】保管時や使用時に顔料を初めとする無機充填剤が沈降しにくく、貯蔵安定性、作業性に優れると共に、含浸むらや色むらの発生が抑制され、信頼性に優れる電気・電子部品を得ることのできる絶縁ワニスを提供すること。【解決手段】（Ａ）不飽和ポリエステル樹脂、（Ｂ）直鎖アルコール、（Ｃ）顔料、（Ｄ）シリカ粉、および（Ｅ）アルキルナフタレンスルホン酸塩を必須成分として含有する絶縁ワニス。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）不飽和ポリエステル樹脂、（Ｂ）直鎖アルコール、（Ｃ）顔料、（Ｄ）シリカ粉、および（Ｅ）アルキルナフタレンスルホン酸塩を必須成分として含有することを特徴とする絶縁ワニス。
【請求項２】
請求項１の絶縁ワニスにおいて、
前記（Ｂ）直鎖アルコールは、低級の直鎖アルコールであり、前記絶縁ワニス全体中、０．１質量％以上１０質量％以下含有されていることを特徴とする絶縁ワニス。
【請求項３】
請求項１または２記載の絶縁ワニスにおいて、
前記（Ｃ）顔料は、酸化鉄および黒色酸化チタンからなり、前記黒色酸化チタンは、前記（Ｃ）顔料の合計量中、１０質量％以上６０質量％以下含有されていることを特徴とする絶縁ワニス。
【請求項４】
請求項１ないし３のいずれか１項記載の絶縁ワニスにおいて、
前記（Ｄ）シリカ粉は、体積平均粒径が０．０２μｍ以上３０μｍ以下であることを特徴とする絶縁ワニス。
【請求項５】
請求項１ないし４のいずれか１項記載の絶縁ワニスであって、
前記（Ｅ）アルキルナフタレンスルホン酸塩は、ジノニルナフタレンジスルホン酸ナトリウム塩であることを特徴とする絶縁ワニス。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、不飽和ポリエステル樹脂を主成分とする絶縁ワニスに係り、特に自動車、車両、または産業用機器等の電気機器等における電気・電子部品の電気絶縁用途に好適に用いられる有色の絶縁ワニスに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、電気・電子部品、例えばトランス、ステータ等におけるコイルの絶縁を目的として絶縁ワニスが用いられている。このような絶縁ワニスとしては、電気絶縁性、耐候性、信頼性、耐食性、耐水性等に優れることから、ポリエステル系、エポキシ系、ポリアミドイミド系等の熱硬化性樹脂を主体とする絶縁ワニスが用いられている。また、このような絶縁ワニスに対して、さらに信頼性や遮蔽性を向上させるために、顔料を初めとする無機充填剤を含有させたものも用いられるようになっている。
【０００３】
しかしながら、顔料等の無機充填剤を含有させた場合、樹脂成分に比べて無機充填剤の比重が大きいために、保管時や使用時に無機充填剤が沈降しやすく、コイルに含浸させた場合に含浸むらが発生しやすく、また塗膜に色むら等が発生しやすくなっている。
【０００４】
このような顔料等の無機充填剤の沈降による含浸むらや色むらを抑制する方法として、例えば樹脂成分に無機充填剤を短時間で分散させることができると共に、この分散させた無機充填剤を長時間に渡って沈降させることなく安定して分散させることのできる分散剤を用いる方法が知られている（例えば、特許文献１参照）。また、例えば微細なシリカを必須成分として含有させると共に、比較的少量の水分を必須成分として含有させることで、顔料等の無機充填剤の分散安定性を向上させる方法が知られている（例えば、特許文献２参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０００−２６２８３３号公報
【特許文献２】特開２００６−２９１１２６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、微細なシリカを含有させた場合、絶縁ワニスの粘度が高くなり、コイルへの含浸性が低下すると共に、ボイド等が発生するおそれがある。また、絶縁ワニスに水分を含有させた場合、絶縁ワニスの硬化が不十分となり、コイルの耐熱性や信頼性が低下するおそれがある。さらに、従来の絶縁ワニスについては、仮に無機充填剤の沈降を抑制することができたとしても、比較的短時間に絶縁ワニスの粘度が変化し、貯蔵安定性に優れないものとなるおそれがある。
【０００７】
本発明は、上記課題を解決するためになされたものであって、保管時や使用時における顔料等の無機充填剤の沈降や粘度変化が抑制され、貯蔵安定性、作業性に優れると共に、含浸むらや色むらの発生が抑制され、信頼性に優れる電気・電子部品を得ることのできる絶縁ワニスを提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは、上記目的を達成するために鋭意研究を重ねた結果、特にアルキルナフタレンスルホン酸塩と直鎖アルコールとを併用することで、保管時や使用時における顔料等の無機充填剤の沈降や粘度変化が抑制され、貯蔵安定性、作業性に優れると共に、含浸むらや色むらの発生が抑制され、信頼性に優れる電気・電子部品を得ることのできる絶縁ワニスを見出した。本発明は、かかる知見に基づいて完成されたものである。
【０００９】
すなわち、本発明の絶縁ワニスは、（Ａ）不飽和ポリエステル樹脂、（Ｂ）直鎖アルコール、（Ｃ）顔料、（Ｄ）シリカ粉、および（Ｅ）アルキルナフタレンスルホン酸塩を必須成分として含有することを特徴とする。
【００１０】
前記（Ｂ）直鎖アルコールは、低級の直鎖アルコールであることが好ましく、前記絶縁ワニス全体中、０．１質量％以上１０質量％以下含有されていることが好ましい。前記（Ｃ）顔料は、酸化鉄および黒色酸化チタンからなることが好ましく、前記黒色酸化チタンは、前記（Ｃ）顔料の合計量中、１０質量％以上６０質量％以下含有されていることが好ましい。
【００１１】
前記（Ｄ）シリカ粉は、体積平均粒径が０．０２μｍ以上３０μｍ以下であることが好ましい。また、前記（Ｅ）アルキルナフタレンスルホン酸塩は、ジノニルナフタレンジスルホン酸ナトリウム塩であることが好ましい。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、特にアルキルナフタレンスルホン酸塩と直鎖アルコールとを併用することで、保管時や使用時における顔料等の無機充填剤の沈降や粘度変化が抑制され、貯蔵安定性、作業性に優れると共に、含浸むらや色むらの発生が抑制され、信頼性に優れる電気・電子部品を得ることのできる絶縁ワニスを提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、本発明を実施するための形態について説明する。
本発明の絶縁ワニスは、（Ａ）不飽和ポリエステル樹脂、（Ｂ）直鎖アルコール、（Ｃ）顔料、（Ｄ）シリカ粉、および（Ｅ）アルキルナフタレンスルホン酸塩を必須成分として含有することを特徴とする。
【００１４】
（Ａ）成分の不飽和ポリエステル樹脂は、少なくとも不飽和二塩基酸を含む酸成分と、１以上の水酸基を有するアルコール成分とを反応させて得られるものである。
【００１５】
不飽和ポリエステル樹脂の製造に用いられる酸成分としては、例えばアジピン酸等の脂肪族飽和二塩基酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸等の脂肪族不飽和二塩基酸またはこれらの無水物、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸等の芳香族二塩基酸またはこれらの無水物、テトラヒドロフタル酸や同無水物の脂環式不飽和二塩基酸、ヘキサヒドロフタル酸や同無水物の脂環式飽和二塩基酸が挙げられる。これらの酸成分については、不飽和二塩基酸を必須成分とし、必要に応じて他の酸成分を併用することが好ましく、例えば脂肪族不飽和二塩基酸や芳香族二塩基酸を主成分とし、必要に応じて脂肪族飽和二塩基酸や脂環式二塩基酸を併用することが好ましい。
【００１６】
また、酸成分としては、上記した二塩基酸に加えて一塩基酸を用いることもできる。一塩基酸としては、例えば大豆油脂肪酸、亜麻仁油脂肪酸、ヤシ油脂肪酸、トール油脂肪酸、米ぬか脂肪酸等が挙げられ、これらは単独でまたは２種以上を混合して用いることができる。
【００１７】
また、１以上の水酸基を有するアルコール成分としては、例えばプロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，６−シクロヘキサンジメタノール、グリセリンモノアリルエーテル、トリメチロールプロパンモノアリルエーテル、ペンタエリスリトールジアリルエーテル等の二価アルコール、グリセリン、トリメチロールプロパン、トリス−２−ヒドロキシエチルイソシアヌレート等の三価以上のアルコールが挙げられ、これらは単独でまたは２種以上を混合して用いることができる。
【００１８】
不飽和ポリエステル樹脂は、公知の製造方法を適用して製造することができる。例えば上記したような少なくとも不飽和二塩基酸を含む酸成分と、１以上の水酸基を有するアルコール成分とを縮合反応させ、両成分が反応するときに生じる縮合水を系外に除きながら反応を進めることで製造することができる。この際、酸成分とアルコール成分とは、酸成分のカルボキシル基とアルコール成分の水酸基とのモル比（ＣＯＯＨ基／ＯＨ基）が約１／１となるようにして反応させることが好ましい。
【００１９】
縮合水の系外への除去は、好ましくは不活性気体を通じることによる自然留出または減圧留出により行われる。縮合水の留出を促進するため、トルエン、キシレン等の溶剤を共沸成分として系中に添加することもできる。反応の進行は、一般に反応により生成する留出分量の測定、末端の官能基の定量、反応系の粘度の測定等により知ることができる。
【００２０】
合成反応を行うための反応温度は１５０〜２００℃とすることが好ましい。このことから、反応装置として、ガラス、ステンレス製等のものが選ばれ、攪拌装置、水とアルコール成分の共沸によるアルコール成分の留出を防ぐための分留装置、反応系の温度を高める加熱装置、この加熱装置の温度制御装置等を備える反応装置を用いることが好ましい。また、縮合反応を行うための反応装置内圧力は常圧でも全く問題なく反応を進めることができるが、好ましくは加圧し、アルコール成分の沸点を上げることで、反応を効果的に促進することができる。
【００２１】
（Ｂ）成分の直鎖アルコールは、（Ｅ）成分のアルキルナフタレンスルホン酸塩の添加に伴う絶縁ワニスの貯蔵安定性の低下を抑制するために加えられるものであって、（Ｅ）成分のアルキルナフタレンスルホン酸塩と併用することで、絶縁ワニスにおける（Ｃ）成分の顔料等の沈降を抑制しつつ、貯蔵安定性にも優れるものとすることができる。
【００２２】
この直鎖アルコールとしては、低級の直鎖アルコールが好ましく、例えばメタノール、エタノール、ｎ−プロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール等の炭素数１以上６以下の直鎖アルコールが好適に用いられる。この中でも、絶縁ワニスの貯蔵安定性を効果的に向上させる観点から、特に極性の強い直鎖アルコールであるメタノールが好適に用いられる。
【００２３】
直鎖アルコールの含有量は、絶縁ワニス全体中、０．１質量％以上１０質量％以下とすることが好ましい。絶縁ワニス全体における直鎖アルコールの含有量が０．１質量％未満であると、絶縁ワニスの貯蔵安定性を十分に向上させることができないおそれがあり、１０質量％もあれば絶縁ワニスの貯蔵安定性を十分に向上させることができ、これを超えるとかえって絶縁ワニスを含浸させてコイルを作製したときに、ボイドとして残りやすくなる。
【００２４】
（Ｃ）成分の顔料は、遮蔽性等の観点から加えられるものであり、例えば白色顔料（二酸化チタン、アルミナ、クレー、タルク、硫酸バリウム、炭酸カルシウム）、黒色顔料（酸化亜鉛、酸化クロム、黒色酸化チタン）、赤色顔料（酸化鉄、カドニウムレッド）、青色顔料（コバルトブルー、群青）、黄色顔料（カドニウムイエロー、硫化亜鉛）等が挙げられ、これらは単独でまたは２種以上を混合して用いることができる。
【００２５】
これらの中でも遮蔽性等の観点から、酸化鉄および酸化チタンの中から選ばれる少なくとも一方を用いることが好ましく、特に酸化鉄および酸化チタンの両方を用いることが好ましい。また、酸化チタンとしては、特に黒色酸化チタンを用いることが好ましい。このような酸化鉄、酸化チタンとしては市販されているものを好適に用いることができ、例えば黒色酸化チタン（赤穂化成社製、ティラックＤ  ＴＭ−Ｆ）、酸化チタン／酸化鉄混合物（チタン工業社製、ＥＴＢ−３００）、酸化鉄（ランクロス社製、バイフェロックス１３０Ｍ）等を好適に使用することができる。
【００２６】
酸化鉄および酸化チタンの両方を含有させる場合、遮蔽性の他、絶縁ワニスの粘度を適切なものとし、また貯蔵安定性を良好なものとする観点等から、酸化鉄および酸化チタン（特に黒色酸化チタン）の合計量中、酸化チタンの含有量を１０質量％以上６０質量％以下とすることが好ましい。酸化チタンの含有量が上記範囲外の場合、範囲内のものと比較して、遮蔽性が低下し、また絶縁ワニスの貯蔵安定性や粘度が低下するおそれがある。
【００２７】
顔料は、体積平均粒径が０．１μｍ以上５０μｍ以下であることが好ましく、０．５μｍ以上３０μｍ以下であることが好ましい。顔料の体積平均粒径が０．１μｍ未満の場合、絶縁ワニスの粘度が高くなり、コイルへの含浸性が十分でなくなるおそれがあり、５０μｍを超える場合、絶縁ワニス中での分散安定性が十分でなくなるおそれがある。なお、顔料の体積平均粒径は、例えばＳＫレーザー粒度分布測定機（セイシン企業社製）を用いて測定されるものであり、具体的には分散媒（イオン交換水）１００ｇに顔料を５０〜１００ｍｇ加え、超音波を６０秒間照射して顔料を分散させた後、ＳＫレーザー粒度分布測定機を用いて測定する。
【００２８】
また顔料の含有量は、必ずしも限定されるものではないものの、例えば絶縁ワニス全体中、０．１質量％以上２０質量％以下が好ましく、１質量％以上１０質量％以下がより好ましい。絶縁ワニス全体における顔料の含有量が０．１質量％未満の場合、遮蔽性等が十分でなくなるおそれがあり、また２０質量％程度もあれば遮蔽性等を十分なものとすることができ、これを超えるとかえって絶縁ワニスの粘度が高くなりすぎ、コイルへの含浸性等が低下するおそれがある。
【００２９】
（Ｄ）成分のシリカ粉としては、例えば合成シリカ（湿式法沈殿シリカ、ゲル状シリカ、コロイダルシリカ、および超微粒子状無水シリカ等）、天然シリカ（結晶シリカ、粉砕溶融シリカ、および球状溶融シリカ等）が挙げられ、これらは単独でまたは２種以上を混合して用いることができるが、硬化物の強度、製品価格等の観点から、結晶シリカが好適に用いられる。
【００３０】
シリカ粉は、体積平均粒径が０．０２μｍ以上３０μｍ以下であることが好ましく、０．１μｍ以上１５μｍ以下であることがより好ましい。シリカ粉の体積平均粒径が０．０２μｍ未満の場合、絶縁ワニスの粘度が高くなり、コイルへの含浸性が十分でなくなるおそれがあり、３０μｍを超える場合、絶縁ワニス中での分散安定性が十分でなくなるおそれがある。
【００３１】
なお、シリカ粉の体積平均粒径についても、例えばＳＫレーザー粒度分布測定機（セイシン企業社製）を用いて測定することができ、具体的には分散媒（イオン交換水）１００ｇにシリカ粉を５０〜１００ｍｇ加え、超音波を６０秒間照射してシリカ粉を分散させた後、ＳＫレーザー粒度分布測定機を用いて測定する。
【００３２】
シリカ粉の含有量は、必ずしも限定されるものではないものの、例えば絶縁ワニス全体中、１質量％以上５０質量％以下が好ましく、５質量％以上２０質量％以下が好ましい。シリカ粉の含有量が５質量％未満の場合、（Ｃ）成分の顔料等の分散安定性を向上させてその沈降を抑制する効果が少なく、また５０質量％程度もあれば（Ｃ）成分の顔料等の分散安定性を向上させてその沈降を抑制するには十分であり、これを超えるとかえって絶縁ワニスの粘度が高くなりすぎ、コイルへの含浸性等が低下するおそれがある。
【００３３】
（Ｅ）成分のアルキルナフタレンスルホン酸塩は、分散剤あるいは沈降防止剤として含有されるものであり、（Ｃ）成分の顔料等を絶縁ワニス中に適切に分散させると共に、その沈降を抑制するために含有されている。このアルキルナフタレンスルホン酸塩は、（Ｃ）成分の顔料等に＋（正）の電化を与えることによって、絶縁ワニス中における沈降を抑制することができる。
【００３４】
アルキルナフタレンスルホン酸塩としては、具体的には炭素数が１２〜１６のアルキル基を１〜２個有し、またスルホン酸基を１〜３個有するアルキルナフタレンスルホン酸のナトリウム塩、カルシウム塩、カリウム塩が挙げられ、これらは単独でまたは２種以上を混合して用いることができるが、これらの中でもナトリウム塩が好適に用いられ、特にジノニルナフタレンジスルホン酸のナトリウム塩が好適に用いられる。
【００３５】
このようなものとしては、市販されているものを用いることができ、例えば直鎖型ジノニルナフタレンジスルホン酸のカルシウム塩としてＮＡＣＯＲＲ１３５２（ＫＩＮＧ社製）が挙げられ、また直鎖型ジノニルナフタレンジスルホン酸のナトリウム塩としてＮＡＣＯＲＲ１５５（ＫＩＮＧ社製）が挙げられ、上記したようにこれらの中でも直鎖型ジノニルナフタレンジスルホン酸のナトリウム塩であるＮＡＣＯＲＲ１５５（ＫＩＮＧ社製）が好適に用いられる。
【００３６】
アルキルナフタレンスルホン酸塩の含有量は、例えば絶縁ワニス全体中、０．０５質量％以上１０質量％以下が好ましく、０．５質量％以上５質量％以下がより好ましい。絶縁ワニス全体におけるアルキルナフタレンスルホン酸塩の含有量が０．０５質量％未満の場合、絶縁ワニス中における（Ｃ）成分の顔料等の沈降を十分に抑制することができないおそれがあり、１０質量％もあれば絶縁ワニス中における（Ｃ）成分の顔料等の沈降を十分に抑制でき、これを超えると絶縁ワニスの貯蔵安定性の低下が著しくなり、上記したように（Ｂ）成分の直鎖アルコールを併用したとしても十分な貯蔵安定性を得ることができないおそれがあるために好ましくない。
【００３７】
本発明の絶縁ワニスは、上記した（Ａ）成分の不飽和ポリエステル樹脂、（Ｂ）成分の直鎖アルコール、（Ｃ）成分の顔料、（Ｄ）成分のシリカ粉、および（Ｅ）成分のアルキルナフタレンスルホン酸塩を必須成分とするが、これらの成分に加えて、必要に応じて、かつ本発明の目的に反しない限度において、その他の成分、例えば反応性モノマー、硬化剤、硬化促進剤、重合禁止剤、レベリング剤、着色剤等を含有することが好ましい。
【００３８】
反応性モノマーとしては、不飽和基を１分子中に１個以上有するモノマーであれば特に制限されるものではなく、例えばスチレン、ビニルトルエン、ジビニルベンゼン、芳香族系アクリルモノマー、アルキル（メタ）アクリレート誘導体、およびポリアルキレングリコールのジ（メタ）アクリレート誘導体等が挙げられ、これらは単独でまたは２種以上を混合して用いることができる。反応性モノマーの含有量は、例えば（Ａ）成分の不飽和ポリエステル樹脂１００質量部に対して、１０質量部以上２００質量部以下とすることが好ましい。
【００３９】
硬化剤としては、有機過酸化物、例えばハイドロパーオキサイド、ジアルキルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、アセチルパーオキサイド、アシルパーオキサイド、およびクメンパーオキサイド、１，１−ジ−ｔ−ブチルパーオキシシクロヘキサン等のパーオキシケタール、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート等のパーオキシエステル等、さらにはいわゆる常温硬化型の有機過酸化物、例えばメチルエチルケトンパーオキサイド等が挙げられ、これらは単独でまたは２種以上を混合して用いることができる。硬化剤の含有量は、例えば（Ａ）成分の不飽和ポリエステル樹脂および反応性モノマーの合計量１００質量部に対して、１０質量部以下とすることが好ましい。
【００４０】
硬化促進剤としては、金属石鹸、例えばナフテン酸コバルト、オクチル酸コバルト、ナフテン酸銅、オクチル酸銅、ナフテン酸マンガン、オクチル酸マンガン等のナフテン酸またはオクチル酸等の金属塩が挙げられ、これらは単独でまたは２種以上を混合して用いることができる。硬化促進剤の含有量は、例えば（Ａ）成分の不飽和ポリエステル樹脂および反応性モノマーの合計量１００質量部に対して、１０質量部以下とすることが好ましい。
【００４１】
重合禁止剤としては、ハイドロキノン、メトキノン、ｐ−ｔ−ブチルカテコール、ピロガロール等のキノン類が挙げられ、これらは単独または２種以上混合して用いることができる。重合禁止剤の含有量は、絶縁ワニスの貯蔵安定性、硬化温度、硬化時間により適宜決定することができるが、例えば絶縁ワニス全体中、０．００１質量％以上０．１質量％以下が好ましい。
【００４２】
本発明の絶縁ワニスは、その成分が異なる以外は公知の絶縁ワニスと同様の製造方法によって製造することができ、例えば必須成分である（Ａ）成分の不飽和ポリエステル樹脂、（Ｂ）成分の直鎖アルコール、（Ｃ）成分の顔料、（Ｄ）成分のシリカ粉、および（Ｅ）成分のアルキルナフタレンスルホン酸塩に加えて、必要に応じて加えられる他の成分を配合した後、均一になるまで十分に撹拌混合することにより製造することができる。
【００４３】
このような本発明の絶縁ワニスは、自動車、車両、または産業用機器等の電気機器等における電気・電子部品、例えばトランス、ステータ等におけるコイルの絶縁に好適に用いることができる。本発明の絶縁ワニスを用いたコイルの製造は、従来の絶縁ワニスと同様に浸漬含浸、滴下含浸等により行うことができ、例えば未含浸のコイルに対して浸漬含浸あるいは滴下含浸により本発明の絶縁ワニスを含浸させた後、１００〜２００℃の温度で１〜３時間の加熱処理を行うことにより該絶縁ワニスを硬化させることにより行うことができる。
【００４４】
本発明の絶縁ワニスは、保管時や使用時における顔料等の沈降や粘度変化が抑制されるために貯蔵安定性、作業性に優れ、また含浸むらや色むらの発生も抑制されるために、コイル部品を初めとする電気・電子部品の製造に用いることで、信頼性に優れる電気・電子部品を効率的に製造することができる。
【実施例】
【００４５】
（実施例１）
フラスコ中にテトラヒドロフタル酸（丸善石油化学化学社製）１２ｇ、イソフタル酸（エイ  ジェイ  インターナショナルケミカル）２６ｇ、無水マレイン酸（三井化学社製）１７ｇ、プロピレングリコール（旭電化工業社製）４４ｇ、亜麻仁油脂肪酸（日本油脂社製）５ｇ、トリス−２−ヒドロキシエチルイソシアヌレート（日産化学工業社製）１５ｇ、ハイドロキノン（精工化学社製）０．０１ｇを加え、１８０〜２２０℃で反応させ、酸価１０ｍｇＫＯＨ／ｇの不飽和ポリエステル樹脂を製造した。
【００４６】
そして、この不飽和ポリエステル樹脂にスチレン（東ソー社製）６０ｇを加え、硬化性樹脂を製造した。さらに、この硬化性樹脂に、結晶シリカ（龍森社製、クリスタライト５Ｘ、体積平均粒径１μｍ）２０ｇ、顔料として酸化チタン／酸化鉄混合物（チタン工業社製、ＥＴＢ−３００、酸化チタンの含有量１０質量％）５ｇ、沈降防止剤として直鎖型ジノニルナフタレンジスルホン酸のナトリウム塩（ＫＩＮＧ社製、ＮＡＣＯＲＲ１５５）２ｇ、直鎖アルコールとしてメタノール（日本アルコール販売社製）１ｇを加え、均一になるまで攪拌混合し、不飽和ポリエステル樹脂組成物である絶縁ワニスを得た。
【００４７】
（実施例２）
実施例１の絶縁ワニスの製造において、直鎖アルコールとしてメタノールの代わりにノルマルプロピルアルコール（日本アルコール販売社製）を用いて絶縁ワニスを製造した。
【００４８】
（実施例３）
実施例１の絶縁ワニスの製造において、顔料として酸化チタン／酸化鉄混合物の代わりに酸化鉄（ランクロス社製、バイフェロックス１３０Ｍ）を用いて絶縁ワニスを製造した。
【００４９】
（実施例４）
実施例１の絶縁ワニスの製造において、顔料として酸化チタン／酸化鉄混合物の代わりに黒色酸化チタン（赤穂化成社製、ティラックＤ  ＴＭ−Ｆ）を用いて絶縁ワニスを製造した。
【００５０】
（実施例５）
実施例１の絶縁ワニスの製造において、沈降防止剤として直鎖型ジノニルナフタレンジスルホン酸のナトリウム塩の代わりに直鎖型ジノニルナフタレンジスルホン酸のカルシウム塩（ＫＩＮＧ社製、ＮＡＣＯＲＲ１３５２）を用いて絶縁ワニスを製造した。
【００５１】
（実施例６）
実施例１の絶縁ワニスの製造において、結晶シリカとして体積平均粒径が１μｍのものの代わりに３μｍのもの（龍森社製、クリスタライトＶＸ−ＳＲ）を用いて絶縁ワニスを製造した。
【００５２】
（比較例１）
実施例１の絶縁ワニスの製造において、沈降防止剤としてのジノニルナフタレンジスルホン酸のナトリウム塩を含有させずに絶縁ワニスを製造した。
【００５３】
（比較例２）
実施例１の絶縁ワニスの製造において、直鎖アルコールとしてのメタノールを含有させずに絶縁ワニスを製造した。
【００５４】
（比較例３）
実施例１の絶縁ワニスの製造において、直鎖アルコールとしてのメタノールの代わりに非直鎖アルコールであるイソプロパノール（日本アルコール販売）を用いて絶縁ワニスを製造した。
【００５５】
（比較例４）
実施例１の絶縁ワニスの製造において、顔料として酸化チタン／酸化鉄混合物の代わりに酸化鉄（ランクロス社製、バイフェロックス１３０Ｍ）を用い、また沈降防止剤としてのジノニルナフタレンジスルホン酸のナトリウム塩および直鎖アルコールとしてのメタノールを用いずに絶縁ワニスを製造した。
【００５６】
（比較例５）
実施例１の絶縁ワニスの製造において、顔料として酸化チタン／酸化鉄混合物の代わりに黒色酸化チタン（赤穂化成社製、ティラックＤ  ＴＭ−Ｆ）を用い、また沈降防止剤としてのジノニルナフタレンジスルホン酸のナトリウム塩および直鎖アルコールとしてのメタノールを用いずに絶縁ワニスを製造した。
【００５７】
（比較例６）
実施例１の絶縁ワニスの製造において、顔料として表面処理されていない酸化チタン／酸化鉄混合物をそのまま用いる代わりに同様の酸化チタン／酸化鉄混合物を表面処理剤としてのγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン（日本ユニカー社製、Ａ−１８７）により表面処理したものを用い、また沈降防止剤としてのジノニルナフタレンジスルホン酸のナトリウム塩および直鎖アルコールとしてのメタノールを用いずに絶縁ワニスを製造した。
【００５８】
（比較例７）
実施例１の絶縁ワニスの製造において、沈降防止剤としてのジノニルナフタレンジスルホン酸のナトリウム塩の代わりに有機系沈降防止剤（伊藤製油社製、Ｄ−１０Ａ）を用い、また直鎖アルコールとしてのメタノールを用いずに絶縁ワニスを製造した。
【００５９】
（比較例８）
実施例１の絶縁ワニスの製造において、沈降防止剤としてのジノニルナフタレンジスルホン酸のナトリウム塩の代わりにエアロジル（日本アエロジル社製）を用い、また直鎖アルコールとしてのメタノールを用いずに絶縁ワニスを製造した。
【００６０】
なお、実施例１〜６、比較例１〜８の絶縁ワニスの組成を表１にまとめて示す。なお、表１中の組成を表す数値は質量部を単位として示した。
【００６１】
次に、製造した実施例、比較例の絶縁ワニスおよびその硬化物について以下の評価を行った。結果を表１に示す。
【００６２】
（沈降性）
５００ｍｌ缶に実施例および比較例の絶縁ワニス４００ｇを入れて６０℃で静置し、缶底に堆積物が生じるまでの日数を目視により観察した。
（粘度）
実施例および比較例の絶縁ワニスについてＢ型粘度計を使用して２５℃での粘度を測定した。
（貯蔵安定性）
実施例および比較例の絶縁ワニスを６０℃で静置し、粘度が初期値の９０％になるまでの日数を測定した。
【００６３】
（熱伝導率）
実施例および比較例の絶縁ワニスを注形板に注いで硬化させた厚さ１ｍｍの硬化物について、レーザーフラッシュ法により熱伝導率を測定した。
（曲げ強度）
上記熱伝導率の測定に用いたものと同様のサンプルについて、ＪＩＳ  Ｃ  ２１０５に準拠して測定を行った。
（外観）
上記熱伝導率の測定に用いたものと同様のサンプルについて、目視により外観の色を観察した。
【００６４】
（含浸性）
ステータコアにボビンを介して絶縁被覆を有するステータ巻線を巻線加工し、ステータ巻線付きのステータコアを製造した。なお、絶縁被覆を有するステータ巻線は、直径が０．８ｍｍのものを用い、ステータコアのスロット内の占積率が７０％となるように調整した。なお、ステータ巻線付きのステータコアの重さは２０ｋｇであった。
【００６５】
このステータ巻線付きのステータコアに実施例および比較例の絶縁ワニスを含浸、硬化させた後、コアを切断して含浸性を評価した。結果は、９５％以上含浸されているものを「○」、９０％以上９５％未満含浸されているものを「△」、９０％未満含浸されているものを「×」でそれぞれ示した。
【００６６】
【表１】
2010229355.tif 000002
【００６７】
表１から明らかなように、アルキルナフタレンスルホン酸塩および直鎖アルコールの双方を含有する実施例の絶縁ワニスについては、沈降が有効に抑制されると共に、粘度変化が少なく貯蔵安定性に優れており、また含浸性や硬化物としたときの特性についても良好であることが認められた。
【００６８】
また、アルキルナフタレンスルホン酸塩および直鎖アルコールの双方または一方を含有しない比較例の絶縁ワニスについては全体的に沈降しやすく、特にアルキルナフタレンスルホン酸塩のみを含有し、直鎖アルコールを含有しない絶縁ワニスについては極端に貯蔵安定性が低下することが認められる。