(57)【要約】【課題】有機ＥＬ用マスクに付着した蒸着物を除去するクリーニングを行うときに、基板に対して完全に非接触状態で蒸着物を除去しつつ、高い洗浄度を得ることを目的とする。【解決手段】有機ＥＬ用マスク１に付着した蒸着物質を除去する有機ＥＬ用マスククリーニング装置であって、有機ＥＬ用マスク１の一部または全部の領域に対してレーザ光Ｌを走査させるレーザユニット１３と、レーザ光Ｌの走査部位に向けて斜め方向から吸引を行う吸引ノズル４１と、レーザ光Ｌの走査部位を挟んで吸引ノズル４１の反対側からレーザ光Ｌの走査部位に向けて斜め方向から送風を行う送風ノズル４２と、を備えている。また、吸引ノズル４１と送風ノズル４２とをレーザ光Ｌの走査部位に追従して移動させるノズル移動部１５を備えている。【選択図】  図４
2010218932.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
有機ＥＬ用マスクに付着した蒸着物質を除去する有機ＥＬ用マスククリーニング装置であって、
前記有機ＥＬ用マスクの一部または全部の領域に対してレーザ光を走査させて洗浄を行うレーザ洗浄手段と、
前記レーザ光の走査部位に向けて斜め方向から吸引を行う吸引手段と、
前記レーザ光の走査部位を挟んで前記吸引手段の反対側から前記レーザ光の走査部位に向けて斜め方向から送風を行う送風手段と、
を備えたことを特徴とする有機ＥＬ用マスククリーニング装置。
【請求項２】
前記吸引手段と前記送風手段とを前記レーザ光の走査部位に追従して移動させる追従手段を備えたこと
を特徴とする請求項１記載の有機ＥＬ用マスククリーニング装置。
【請求項３】
前記レーザ洗浄手段は、前記有機ＥＬ用マスクの幅方向に前記レーザ光を走査させる走査ラインを順次奥行き方向にずらすようにして前記領域を走査し、
前記追従手段は、前記幅方向に少なくとも前記走査ラインの長さを持たせた前記吸引手段と前記送風手段とを前記走査ラインごとに追従して前記奥行き方向に移動させる制御を行うこと
を特徴とする請求項２記載の有機ＥＬ用マスククリーニング装置。
【請求項４】
前記有機ＥＬ用マスクに対する前記送風手段の送風方向の角度を、前記有機ＥＬ用マスクに対する前記吸引手段の吸引方向の角度よりも小さくしたこと
を特徴とする請求項１乃至３の何れか１項に記載の有機ＥＬ用マスククリーニング装置。
【請求項５】
前記吸引手段を前記送風手段よりも前記有機ＥＬ用マスクから離間させていること
を特徴とする請求項４記載の有機ＥＬ用マスククリーニング装置。
【請求項６】
前記送風手段はイオン風を送風すること
を特徴とする請求項１記載の有機ＥＬ用マスククリーニング装置。
【請求項７】
請求項１乃至６の何れか１項に記載の有機ＥＬ用マスククリーニング装置を備えていることを特徴とする有機ＥＬディスプレイの製造装置。
【請求項８】
請求項７記載の有機ＥＬディスプレイの製造装置により製造されたことを特徴とする有機ＥＬディスプレイ。
【請求項９】
有機ＥＬ用マスクに付着した蒸着物質を除去する有機ＥＬ用マスククリーニング方法であって、
前記有機ＥＬ用マスクの一部または全部の領域に対してレーザ光を走査させるときに、前記レーザ光の走査部位に向けて斜め方向から送風手段により送風を行い、且つ前記レーザ光の走査部位を挟んだ反対側から前記走査部位に向けて斜め方向から吸引を行い、
前記送風手段と前記吸引手段とを前記レーザ光の走査部位に追従して移動させること
を特徴とする有機ＥＬ用マスククリーニング方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、レーザ光を走査することによりレーザ洗浄を行う有機ＥＬ用マスククリーニング装置、有機ＥＬ用ディスプレイの製造装置、有機ＥＬ用ディスプレイおよび有機ＥＬ用マスククリーニング方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬ（Electro Luminescence）ディスプレイは、バックライトを必要としない低消費電力・軽量薄型の画像表示装置として利用されている。その構造としては、透明性のガラス基板上に有機ＥＬ薄膜層を積層しており、有機ＥＬ薄膜層は発光層を陽極層と陰極層とに挟み込むような構造を採用している。発光層はガラス基板上に有機材料を蒸着させて薄膜として形成させるものが多く用いられており、ディスプレイを構成する各画素の領域を３分割してＲＧＢの３色の有機材料を蒸着させている。従って、各画素の３つの領域に異なる色の有機材料（有機色素材料）を蒸着させるために多数の開口部を形成した有機ＥＬ用マスク（シャドーマスク）を用いて蒸着を行う。
【０００３】
蒸着プロセスを行うときには、ガラス基板だけではなく有機ＥＬ用マスクにも有機材料が付着する。有機ＥＬ用マスクは１つの蒸着プロセスだけに使用されるのではなく繰り返し使用されることから、次の蒸着プロセスを行うときに有機ＥＬ用マスクに蒸着物質が付着していると、ガラス基板上に蒸着物質が落下して汚損させる可能性がある。また、有機ＥＬ用マスクに多数形成した開口部のエッジ部分にも有機材料が蒸着して、開口部の面積を部分的にまたは全面的に閉塞させる。開口部の全部を塞いだ場合はもちろん、部分的に塞ぐことにより開口面積に変化が生じただけでも、当該有機ＥＬ用マスクを用いた場合の蒸着精度は著しく低下し、また使用に耐え得るものではなくなる。従って、有機ＥＬ用マスクを定期的に（好ましくは、１つの蒸着プロセスを完了した後に）クリーニングして、蒸着物質の除去を行っている。
【０００４】
有機ＥＬ用マスクのクリーニングとしては、界面活性剤等を用いたウェットクリーニングが主に行われている。ウェットクリーニングは有機ＥＬ用マスクに対して液体を供給して行うクリーニングである。しかし、クリーニングされる有機ＥＬ用マスクはミクロンオーダー（数十ミクロン程度）の極薄の金属板であり、ウェットクリーニング時に液圧が作用することにより歪みや変形等の大きなダメージが有機ＥＬ用マスクに与えられる。また、界面活性剤等の薬液を用いてウェットクリーニングを行うと、薬液供給機構および使用済みの薬液（排液）を処理する排液処理機構を要するため機構が複雑化し、また排液による環境汚染の問題もある。
【０００５】
一方、ウェットクリーニングの薬液を用いないクリーニングとして、有機ＥＬ用マスクに対してレーザ光を照射して行うクリーニング（レーザクリーニング）に関する技術が特許文献１に開示されている。この技術では、金属素材の有機ＥＬ用マスクにレーザ光を照射することにより、有機ＥＬ用マスクと有機材料との間に剥離力を作用させている。そして、この剥離力により有機ＥＬ用マスクから有機材料を除去してクリーニングを行うものである。
【０００６】
この特許文献１の技術では、有機ＥＬ用マスクにレーザ光を照射して付着した有機材料を剥離させているが、クリーニングを行う槽内或いは大気の汚染を防止するために、剥離後の有機材料が有機ＥＬ用マスクから離間しないようにしている。このため、剥離後の有機材料を除去するために、粘着性のフィルムを用いている。このフィルムには、剥離した有機材料を転写するために粘着力を持たせており、フィルムを有機ＥＬ用マスクに貼り付けた状態でレーザ光を照射し、有機ＥＬ用マスクから剥離した蒸着物質をフィルムに転写させている。そして、有機材料が転写したフィルムを有機ＥＬ用マスクから剥離することにより、クリーニングプロセスを完了する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００６−１６９５７３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
ところで、有機ＥＬ用マスクは極薄の金属板であり、極めて微小な力が作用しただけでも歪みや変形等を生じてダメージが与えられる。しかも、近年の有機ＥＬディスプレイの大画面化に伴い、有機ＥＬ用マスクのサイズも大型になっており、大型且つ極薄の有機ＥＬ用マスクの取り扱いは極めてデリケートでなければならない。特許文献１の技術では、有機ＥＬ用マスクからのフィルムの剥離は粘着力に抗して引き剥がすようにして行なっているため、有機ＥＬ用マスクに過剰な剥離力が作用する。その結果、有機ＥＬ用マスクには歪みや反り等が発生し、甚大なダメージが与えられる。
【０００９】
つまり、特許文献１では、レーザ光により有機ＥＬ用マスクから有機材料を剥離するものの、剥離した有機材料を除去するためにフィルムを有機ＥＬ用マスクに接触させており、結局は非接触でクリーニングが完了するものではない。また、フィルムとしてはレーザ光が透過する素材（ポリエチレンテレフタレート）を用いているが、透過性のフィルムを用いたとしてもレーザ光に減衰は生じる。このため、十分なエネルギーを有機ＥＬ用マスクに対して与えられず、高いクリーニング効果を発揮できなくなるおそれもある。そして、フィルムの貼り付けおよび剥離を行うための専用の機構を要するため、機構が複雑化し、また装置が大型化になるという問題もある。特に、有機ＥＬ用マスクが大型サイズになればフィルムのサイズも大型になり、機構の複雑化・装置の大型化といった問題はより顕著になる。
【００１０】
このため、フィルムを用いることのない完全に非接触状態で有機ＥＬ用マスクのクリーニングを行うことが望ましい。有機ＥＬ用マスク表面に対してレーザ洗浄を行うと、蒸着物質には剥離力が作用するとともに、レーザ光のエネルギーにより蒸着物質は分解されて粉体やガス等の遊離物質として有機ＥＬ用マスクの表面から上方に飛散しようとする。前述のフィルムが有機ＥＬ用マスクに貼り付けられているのであればともかく、有機ＥＬ用マスクに対するダメージ回避の観点からフィルムを用いない場合には、飛散した遊離物質が重力により有機ＥＬ用マスクに落下して再付着する。また、有機ＥＬ用マスクに多数形成してある開口部から有機ＥＬ用マスクの裏面に遊離物質が回り込んで付着するようになる。裏面に遊離物質が付着すると、新たな基板の蒸着を行うときに基板に転写して汚損させてしまい、結果として洗浄度の低下を招来する。
【００１１】
そこで、本発明は、有機ＥＬ用マスクに付着した蒸着物を除去するクリーニングを行うときに、基板に対して完全に非接触状態で蒸着物を除去しつつ、高い洗浄度を得ることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
以上の課題を解決するため、本発明の請求項１の有機ＥＬ用マスククリーニング装置は、有機ＥＬ用マスクに付着した蒸着物質を除去する有機ＥＬ用マスククリーニング装置であって、前記有機ＥＬ用マスクの一部または全部の領域に対してレーザ光を走査させて洗浄を行うレーザ洗浄手段と、前記レーザ光の走査部位に向けて斜め方向から吸引を行う吸引手段と、前記レーザ光の走査部位を挟んで前記吸引手段の反対側から前記レーザ光の走査部位に向けて斜め方向から送風を行う送風手段と、を備えたことを特徴とする。
【００１３】
この有機ＥＬ用マスククリーニング装置によれば、レーザ光の走査部位に向けて斜め方向から吸引と送風とを行っている。レーザ光の走査により飛散した遊離物質は吸引手段により吸引をされるため、遊離物質が有機ＥＬ用マスクに再付着しなくなる。また、吸引しきれなかった遊離物質が再付着し、一部の蒸着物質が有機ＥＬ用マスクに残存することがあるが、送風と吸引とで空気の流れを作ることで、再付着した遊離物質は吸引手段に導くことができる。そして、有機ＥＬ用マスクとの界面に送風を行うことで、残存した蒸着物質を削ぎ取るようにして浮き上がらせることができ、吸引手段に回収させることができるようになる。最終的に蒸着物質や遊離物質を吸引手段に回収させることができるため、完全に非接触でレーザ洗浄を行うことができ、且つ高い洗浄度を得ることができるようになる。
【００１４】
本発明の請求項２の有機ＥＬ用マスククリーニング装置は、請求項１記載の有機ＥＬ用マスククリーニング装置において、前記吸引手段と前記送風手段とを前記レーザ光の走査部位に追従して移動させる追従手段を備えたことを特徴とする。
【００１５】
この有機ＥＬ用マスククリーニング装置によれば、吸引手段と送風手段とをレーザ光の走査部位に追従させている。レーザ洗浄は所定エリアを対象とした面洗浄になるため、走査部位は常に変化している。一方で、吸引手段と送風手段とを固定した状態にしておくと、走査部位との相対位置関係が一定にならず部位によっては均一な洗浄度を得ることができず、走査部位との距離が離れると洗浄度は低下する。このため、吸引手段と送風手段とをレーザ光の走査部位に追従させることで、均一且つ高い洗浄度を得ることができるようになる。
【００１６】
本発明の請求項３の有機ＥＬ用マスククリーニング装置は、請求項２記載の有機ＥＬ用マスククリーニング装置において、前記レーザ洗浄手段は、前記有機ＥＬ用マスクの幅方向に前記レーザ光を走査させる走査ラインを順次奥行き方向にずらすようにして前記領域を走査し、前記追従手段は、前記幅方向に少なくとも前記走査ラインの長さを持たせた前記吸引手段と前記送風手段とを前記走査ラインごとに追従して前記奥行き方向に移動させる制御を行うことを特徴とする。
【００１７】
この有機ＥＬ用マスククリーニング装置によれば、幅方向の走査ラインをずらすのに追従させるように吸引手段と送風手段とを移動させている。吸引手段と送風手段とに幅方向の走査ライン分の長さを持たせているため、幅方向の走査に吸引手段と送風手段とを追従させる必要がなく、奥行き方向だけに追従させればよいため、移動制御が極めて容易になる。
【００１８】
本発明の請求項４の有機ＥＬ用マスククリーニング装置は、請求項１乃至３の何れか１項に記載の有機ＥＬ用マスククリーニング装置であって、前記有機ＥＬ用マスクに対する前記送風手段の送風方向の角度を、前記有機ＥＬ用マスクに対する前記吸引手段の吸引方向の角度よりも小さくしたことを特徴とする。
【００１９】
この有機ＥＬ用マスククリーニング装置によれば、送風方向の角度を吸引方向の角度よりも小さくしている。送風方向の角度を小さくすることで、有機ＥＬ用マスクの走査面に平行な角度に近づけることができ、有機ＥＬ用マスクの界面から蒸着物質を削ぎ取って浮き上がらせやすくなる。これにより、残存した蒸着物質を除去でき、高い洗浄度を得ることができるようになる。また、吸引方向の角度を大きくしていることで、遊離物質の飛散方向（有機ＥＬ用マスクの法線方向）に吸引方向を近づけることができ、回収効率を高くすることができる。送風方向としては有機ＥＬ用マスクに沿うような方向が最も望ましく、吸引方向としてはレーザ光の光路を妨害しない範囲で最大限大きな角度にすることが最も望ましい。
【００２０】
本発明の請求項５の有機ＥＬ用マスククリーニング装置は、請求項４記載の有機ＥＬ用マスククリーニング装置において、前記吸引手段を前記送風手段よりも前記有機ＥＬ用マスクから離間させていることを特徴とする。
【００２１】
この有機ＥＬ用マスククリーニング装置によれば、吸引手段を送風手段よりも有機ＥＬ用マスクから離間させている。有機ＥＬ用マスクから遊離物質は真上に向かって飛散するため、吸引手段を有機ＥＬ用マスクから離間させた位置に配置することで、広範囲にわたって吸引力を作用させている。これにより、無数に分散する遊離物質に対して高い回収効率で吸引回収を行うことができるようになる。
【００２２】
本発明の請求項６の有機ＥＬ用マスククリーニング装置は、請求項１記載の有機ＥＬ用マスククリーニング装置において、前記送風手段はイオン風を送風することを特徴とする。
【００２３】
この有機ＥＬ用マスククリーニング装置によれば、送風手段から送風する風をイオン風としている。飛散した遊離物質は静電気によりプラスまたはマイナスに帯電しており、送風手段から送風する風を逆の極性を持つイオン風とすることにより、遊離物質を効率的に吸風手段に導くようにすることが可能になる。
【００２４】
本発明の請求項７の有機ＥＬ用ディスプレイの製造装置は、請求項１乃至６の何れか１項に記載の有機ＥＬ用マスククリーニング装置を備えていることを特徴とする。また、本発明の請求項８の有機ＥＬディスプレイは、請求項７記載の有機ＥＬディスプレイの製造装置により製造されたことを特徴とする。
【００２５】
本発明の請求項９の有機ＥＬ用マスククリーニング方法は、有機ＥＬ用マスクに付着した蒸着物質を除去する有機ＥＬ用マスククリーニング方法であって、前記有機ＥＬ用マスクの一部または全部の領域に対してレーザ光を走査させるときに、前記レーザ光の走査部位に向けて斜め方向から送風手段により送風を行い、且つ前記レーザ光の走査部位を挟んだ反対側から前記走査部位に向けて斜め方向から吸引を行い、前記送風手段と前記吸引手段とを前記レーザ光の走査部位に追従して移動させることを特徴とする。
【発明の効果】
【００２６】
本発明は、吸引手段の吸引と送風手段の送風とをレーザ光の走査部位に対して斜め方向から作用させており、両者の協働作用により再付着した遊離物質や残存した蒸着物質を有機ＥＬ用マスクから除去しているため、極めて高い洗浄度を得ることができる。しかも、吸引手段と送風手段とをレーザ光の走査部位に追従させていることから、均一且つ高い洗浄度が得られるようになる。レーザ光を有機ＥＬ用マスクに走査させて熱膨張の差により遊離物質を飛散させ、且つ吸引手段により吸引させることによりレーザ洗浄を行っていることから、完全に非接触でレーザ洗浄を完了することができ、有機ＥＬ用マスクに対してダメージを与えることもない。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】有機ＥＬ用マスクの平面図および断面図である。
【図２】有機ＥＬ用マスククリーニング装置の正面図である。
【図３】有機ＥＬ用マスククリーニング装置の上面図である。
【図４】有機ＥＬ用マスククリーニング装置の部分斜視図である。
【図５】遊離物質に対して吸引・送風を行っている状態を説明する図である。
【図６】ノズルユニットを走査部位に追従させた状態を説明する上面図である。
【図７】吸引ノズルと送風ノズルとを走査部位に追従させた状態を説明する図である。
【発明を実施するための形態】
【００２８】
以下、本発明の実施形態について説明する。図１は、本発明の有機ＥＬ用マスククリーニング装置により洗浄される対象となる有機ＥＬ用マスク１を示しており、同図（ａ）と（ｂ）とはそれぞれ平面図と断面図とを示している。有機ＥＬディスプレイを構成するガラス基板に高精度に蒸着物質を蒸着させるために、有機ＥＬ用マスク１をミクロンオーダーの厚みとすることにより、所定領域に正確に蒸着物質（有機材料）を形成することができるようになる。一方で、近年の有機ＥＬディスプレイの大画面化に伴い、ガラス基板も大型サイズ（例えば、１５００×１８００ｍｍ）になっており、有機ＥＬ用マスク１のサイズも大型になっている。従って、極薄（例えば、数十ミクロン）且つ大型の有機ＥＬ用マスク１は単体で平面状を維持することができず、保形性を持たせるために、外周部分に補強枠としての額縁状のマスクフレーム２を取り付けて構成している。なお、保形性を持たせるものであれば、マスクフレーム２以外の手段によるものであってもよい。
【００２９】
有機ＥＬ用マスク１は金属を素材とし、規則的に配列された多数の開口部３を形成した金属マスク板（シャドーマスク）である。有機ＥＬ用マスク１には種々の金属を用いることができるが、ここではコバルトとニッケルとの合金が適用されるものとする。有機ＥＬ用マスク１は、発光層の有機材料を蒸着する図示しない蒸着装置において、前記のガラス基板に密着させた状態で、から蒸着物質を蒸着させるようにしている。発光層の蒸着物質としては種々のものがあるが、例えばアルミニウム錯体（トリスアルミニウム：Ａｌｑ）等の有機金属錯体を適用できる。なお、有機金属錯体以外の有機化合物（金属が含まれているか否かは問わない）を蒸着物質として適用するものであってもよい。から蒸発した蒸着物質は、有機ＥＬ用マスク１の開口部３が形成されている部分から前記のガラス基板に蒸着する。これにより、画素に対応する領域に発光層としての蒸着物質を形成することができるようになる。
【００３０】
蒸着時にはガラス基板だけではなく有機ＥＬ用マスク１にも蒸着物質が付着する。そこで、以下の有機ＥＬ用マスククリーニング装置を用いて、有機ＥＬ用マスク１のレーザ洗浄を行う。レーザ洗浄はドライ洗浄の１つであり、レーザ光を照射することにより有機ＥＬ用マスク１から蒸着物質を除去して洗浄を行うことである。
【００３１】
なお、図１（ａ）に示すように有機ＥＬ用マスク１は６つのエリアＡ１〜Ａ６に分割を行っている。有機ＥＬ用マスク１は広範な領域を有しているため、これを複数のエリアに分割して、エリアごとに洗浄を行うようにしていく。エリアＡ１〜Ａ６は図１（ａ）に示したＸ方向（幅方向）に２つのエリアに分割しており、Ｙ方向（奥行き方向）に３つのエリアに分割している。勿論、分割するエリアの数は任意に設定してもよく、大型の有機ＥＬ用マスク１であれば、さらに多くのエリアに分割する。また、小型の有機ＥＬ用マスク１であれば、エリアを分割する必要はない。
【００３２】
図２、図３、図４はそれぞれ有機ＥＬ用マスク１の正面図、上面図、部分斜視図を示している。図２〜図４において、Ｘ方向、Ｙ方向は図１（ａ）のＸ方向、Ｙ方向であり、Ｚ方向は垂直方向になる。図２および図３に示すように、有機ＥＬ用マスククリーニング装置は、ベース１１とマスク移動部１２とレーザユニット１３とノズルユニット１４とノズル移動部１５とを備えて概略構成しており、所定の洗浄チャンバ内に設置されている。ベース１１は基台であり、このベース１１にマスク移動部１２とノズル移動部１５とが設置されている。
【００３３】
図２に示すように、マスク移動部１２は移動テーブル２１とマスク置き台２２とマスク保持部２３と２本のガイドレール２４とを備えて概略構成している。マスク移動部１２は有機ＥＬ用マスク１をＹ方向に移動させるための機構である。移動テーブル２１はＹ方向に移動する手段であり、マスク置き台２２を搭載している。マスク置き台２２には上部にマスク保持部２３を配置している。マスク保持部２３は極薄の有機ＥＬ用マスク１の相対する２辺を保持しており、有機ＥＬ用マスク１は走査面（レーザ洗浄がされる面であり蒸着物質が付着している面）を上に向けた状態で保持される。２本のガイドレール２４、２４はそれぞれ図２のＹ方向に延在させており、移動テーブル２１のＹ方向の移動をガイドしている。移動テーブル２１には図示しない駆動機構を接続しており、移動テーブル２１は駆動機構により駆動されてガイドレール２４、２４に沿ってＹ方向に移動するようになっている。
【００３４】
レーザユニット１３はレーザ光源３１とガルバノミラー３２とガルバノ駆動部３３とを備えて概略構成されたレーザ洗浄手段であり、有機ＥＬ用マスク１の上部に配置されている。レーザ光源３１は所定波長のレーザ光の発振を行うものであり、有機ＥＬ用マスク１の金属素材が反応するような波長のレーザ光を発振する。有機ＥＬ用マスク１がコバルトとニッケルとの合金である場合には、当該合金が反応する波長域である５３２ｎｍ近傍のレーザ光を発振するように設定する。なお、有機ＥＬ用マスク１が他の金属素材である場合には、当該素材が反応するレーザ光を発振するようにする。
【００３５】
レーザ光源３１からは水平方向にレーザ光が発振され、レーザ光の入射位置にガルバノミラー３２を配置している。ガルバノミラー３２は入射したレーザ光の光路を変換する反射ミラーであり、レーザ光に対して４５度の角度を形成するように配置している。このため、ガルバノミラー３２により反射したレーザ光の光路は９０度変えられて、その光路が下方に向けられて有機ＥＬ用マスク１に入射する。ガルバノミラー３２にはガルバノ駆動部３３が接続されており、このガルバノ駆動部３３によりガルバノミラー３２が微小振動されるようになっている。ガルバノミラー３２が微小振動することによりレーザ光の反射角が微小変化する。この微小振動を高速に行うことにより有機ＥＬ用マスク１におけるレーザ光の照射位置が高速に変化して、レーザ光の走査が行われる。レーザ光源３１から発振したレーザ光は最終的に有機ＥＬ用マスク１の走査面で焦点を結ぶようにしており、このためレーザ光源３１から発振されるレーザ光を収束光とするか、或いは対物レンズ等の光学部品を用いて焦点を結ばせるようにしている。
【００３６】
また、レーザユニット１３は一体的に構成されており、このレーザユニット１３を全体的にＸ方向に移動させる移動機構を備えている。この移動機構によりレーザユニット１３はＸ方向に変位する。前述したように、エリアＡ１〜Ａ６に分割してレーザ洗浄を行うようにしており、エリアＡ１、Ａ３、Ａ５を洗浄するときとエリアＡ２、Ａ４、Ａ６を洗浄するときとで、Ｘ方向におけるレーザユニット１３と有機ＥＬ用マスク１との相対位置関係を変えている。従って、有機ＥＬ用マスク１をＸ方向に移動させる機構を備えれば、レーザユニット１３を移動させるのではなく有機ＥＬ用マスク１をＸ方向に移動させるようにしてもよい。
【００３７】
次に、ノズルユニット１４について説明する。図４に示すように、ノズルユニット１４は吸引ノズル４１と送風ノズル４２と天板４３と天板スライダ４４とを備えて概略構成している。吸引ノズル４１は有機ＥＬ用マスク１の幅（図２のＸ方向の長さ）の半分の長さを持つ細長のノズルから構成される吸引手段である。また、送風ノズル４２も有機ＥＬ用マスク１の幅の半分の長さを持つ細長のノズルから構成される送風手段である。
【００３８】
図５に示すように、吸引ノズル４１には吸引スリット４１Ｓが開口しており、この吸引スリット４１Ｓにより外気の吸引が行われる。また、送風ノズル４２には送風スリット４２Ｓが開口しており、送風スリット４２Ｓから送風がされるようになっている。吸引スリット４１Ｓと送風スリット４２Ｓとはそれぞれ有機ＥＬ用マスク１に対して斜め下方を向いているが、吸引スリット４１Ｓは有機ＥＬ用マスク１に大きな角度（深い角度）で向くようにしており、送風スリット４２Ｓは有機ＥＬ用マスク１に対して小さな角度（浅い角度）で向くようにしている。吸引ノズル４１の吸引方向と有機ＥＬ用マスク１の走査面となす角度をα、送風ノズル４２の送風方向と有機ＥＬ用マスク１の走査面とのなす角度をβとしたときに、α＞βの関係となる。また、吸引ノズル４１は送風ノズル４２よりも有機ＥＬ用マスク１から離間した位置に配置しており、吸引ノズル４１と有機ＥＬ用マスク１との間隔をＨ１、送風ノズル４２と有機ＥＬ用マスク１との間隔をＨ２としたときに、Ｈ１＞Ｈ２となるように配置している。
【００３９】
ここで、送風スリット４２Ｓから送風される風は放電によって生じるイオンの泳動に励起させるイオン風としている。イオン風は空気中に電界を形成し、帯電粒子を直接加速することにより、帯電粒子と空間に存在する空気分子との間の相互作用によって生成される風になる。イオン風とすることで吸引風自体にプラスまたはマイナスの極性を持たせることができるようになる。
【００４０】
図４に戻って、天板４３は中央を開口領域としてレーザ通過空間４３Ａを形成しており、このレーザ通過空間４３Ａをレーザ光が通過する。このレーザ通過空間４３Ａを境にして吸引ノズル４１側を領域４３Ｖとし、送風ノズル４２側を領域４３Ｂとしている。領域４３Ｖの下部には吸引ノズル４１を取り付ける機構の他に天板スライダ４４を設けており、領域４３Ｂの下部には送風ノズル４２を取り付ける機構の他に天板スライダ４４を設けている。天板スライダ４４、４４はノズルユニット１４をＸ方向に移動するための移動部材になる。
【００４１】
レーザ通過空間４３Ａとしては、Ｙ方向に走査ラインを２ライン分以上設けることが望ましい。レーザ通過空間４３Ａには直交方向だけではなく角度をもって入射する場合もあるため、あまりにも狭小な空間に設定すると、有機ＥＬ用マスク１にレーザ光を入射させられなくなるからである。ただし、レーザ通過空間４３ＡのＹ方向の長さを過剰に長く設定すると、吸引ノズル４１と送風ノズル４２とが大きく離間する。従って、両者ともレーザ光の走査部位から離れてしまうため、望ましくない。このため、レーザ光Ｌの最大角度（有機ＥＬ用マスク１の法線方向に対して最大で入射させる角度）を「２０度」としたときに、レーザ通過空間４３ＡのＹ方向の長さは「１４０ｍｍ」程度にすることが望ましい。
【００４２】
次に、図３および図４を用いてノズル移動部１５について説明する。ノズル移動部１５はノズルユニット１４をＹ方向に移動させるための手段であり、ボールネジ５１とモータ５２と軸受５３とボールナット５４とメインスライダ５５とメインスライダガイド５６と２本の架橋レール５７、５７とサブスライダ５８とサブスライダガイド５９とを備えて概略構成している。ボールネジ５１は一端がモータ５２に接続されており、他端が軸受５３に接続されている。ボールネジ５１はＹ方向に延在させており、モータ５２の回転力によりボールナット５４はＹ方向に移動するようになっている。ボールネジ５１とモータ５２と軸受５３とボールナット５４とによりボールネジ手段５０Ｂが構成される。このボールネジ手段５０Ｂはマスク移動部１２よりもＸ方向における外側に設けている。
【００４３】
ボールナット５４にはメインスライダ５５が接続されており、このメインスライダ５５はボールネジ手段５０Ｂによりメインスライダガイド５６に沿ってＹ方向に移動可能になっている。メインスライダ５５には２本の架橋レール５７、５７が取り付けられている。架橋レール５７、５７はマスク移動部１２の上部をＸ方向に架橋するレールであって、２本のレールが並行になるように配置している。架橋レール５７、５７にはそれぞれノズルユニット１４の天板スライダ４４、４４が滑走するようになっており、ノズルユニット１４は架橋レール５７、５７上をＸ方向に移動する。
【００４４】
架橋レール５７、５７は一端においてメインスライダ５５に取り付けられているが、図３に示すように、他端においてサブスライダ５８に取り付けられている。サブスライダ５８はマスク移動部１２の外側に設けたサブスライダガイド５９に沿って滑走するようになっており、架橋レール５７、５７と共にサブスライダ５８が移動する。これにより、ノズルユニット１４がＹ方向に移動する。以上はノズルユニット１４をＸ方向とＹ方向とに移動させるようにしたものの一例であり、これに限定されず任意の移動手段を用いるようにしてもよい。例えば、ボールネジ手段５０Ｂに代えてリニアモータ等を用いるものであってもよい。
【００４５】
以上の構成における動作を説明する。まず、マスク移動部１２のマスク保持部２３に有機ＥＬ用マスク１を保持させて、ガイドレール２４に沿って移動テーブル２１をＹ方向に移動させる。そして、有機ＥＬ用マスク１とレーザユニット１３との相対位置関係を調整する。このとき、ガルバノミラー３２の反射位置（レーザ光を反射する位置）と有機ＥＬ用マスク１のエリアＡ１の中心位置（エリア内のＸ方向およびＹ方向における中間地点）とが一致するように位置調整を行う（この状態で、ガルバノミラー３２で反射したレーザ光ＬがエリアＡ１の中心位置に対して垂直方向から入射する）。初期状態でエリアＡ１の中心位置とガルバノミラー３２の反射位置とはＸ方向において一致するようにレーザユニット１３を配置している。そして、移動テーブル２１をＹ方向に移動させて、前記の位置合わせを完了する。
【００４６】
位置合わせ完了後に、レーザ光Ｌを走査してレーザ洗浄を行っていく。レーザ光の走査はＸ方向に所定長さ分を走査する走査ラインを基本としており、この走査ラインを順次Ｙ方向にずらしていくことで、所定領域の洗浄が行われる。Ｘ方向の走査ラインの長さとしては、各エリアのＸ方向の長さと一致させており、Ｘ方向の走査ラインを順次Ｙ方向にずらしていくことで、１つのエリアの洗浄が完了する。走査ラインをずらすときには前の走査ラインと次の走査ラインとの走査を逆方向にしており、これにより走査方向を交互に入れ替えて走査が行われていく。最初にレーザ洗浄を行う走査ラインをエリアＡ１の先端（移動テーブル２１の進行方向の先端）として順次後端（移動テーブル２１の進行方向の後端）に向けて走査ラインをずらして順次行なうようにしてもよいし、後端から先端に向けて順次行なうようにしてもよい。ここでは、先端から後端に向けて行うようにしている。
【００４７】
以上の走査によりエリアＡ１のレーザ洗浄が完了する。エリアＡ１のレーザ洗浄が終了した後に、移動テーブル２１をＹ方向に移動させて、エリアＡ３の中心位置とガルバノミラー３２の反射位置とをＹ方向に一致させる。そして、エリアＡ１と同様の走査を行って洗浄を完了する。エリアＡ５も同様である。エリアＡ５のレーザ洗浄が完了した後に、エリアＡ６の中心位置とガルバノミラー３２の反射位置とがＸ方向において一致するようにレーザユニット１３を移動させる。このとき、有機ＥＬ用マスク１をＸ方向に移動させる手段を用いる場合には、レーザユニット１３を固定にして有機ＥＬ用マスク１を移動させる。そして、今度は順次後端から先端に向かうようにして走査ラインをずらしてエリアＡ６のレーザ洗浄を行い、順次エリアＡ４、エリアＡ２も同様に走査を行って洗浄を完了する。
【００４８】
なお、前述したように、エリアごとに分割しているのは、有機ＥＬ用マスク１が広範な領域を有するためである。つまり、有機ＥＬ用マスク１の先端から後端までの間隔は極めて長いため、有機ＥＬ用マスク１の全体を１つのエリアとしてレーザ洗浄を行う場合には、ガルバノミラー３２を有機ＥＬ用マスク１の中心位置に配置して、先端から後端まで走査しなければならない。このときの、先端および後端に入射するレーザ光の入射角は極めて大きくなり、光路長も中心位置のものとは大きく異なる。このため、焦点深度に大きな差が生じてしまい、有機ＥＬ用マスク１の走査面で焦点を結ばなくなり、部位によってレーザ光の強度が大きく異なるからである。従って、有機ＥＬ用マスク１が小型の場合には、端部と中心位置とで焦点深度にそれほどの差がないため、エリアごとに分割する必要はなく、移動テーブル２１により有機ＥＬ用マスク１を移動させなくてもよい。
【００４９】
次に、図５を用いて、有機ＥＬ用マスク１のレーザ洗浄について説明する。図５は、中心位置の走査を行っている状態を示しており、レーザ光Ｌは有機ＥＬ用マスク１に対して法線方向から入射している。勿論、エリアの端部の走査を行っているときには法線方向に対して所定角度傾斜してレーザ光Ｌは入射する。前述したように、天板４３にはレーザ通過空間４３Ａを形成しており、このレーザ通過空間４３Ａを通過してレーザ光Ｌは有機ＥＬ用マスク１に入射する。
【００５０】
レーザ光源３１から発振されるレーザ光Ｌは有機ＥＬ用マスク１の金属素材が反応をするような波長を有しており、有機ＥＬ用マスク１がコバルトとニッケルとの合金である場合には波長５３２ｎｍの波長のレーザ光を発振するようにしている。このため、有機ＥＬ用マスク１の走査面でレーザ光Ｌが焦点を結ぶことにより、有機ＥＬ用マスク１の走査面は大きく熱膨張をするが、付着している蒸着物質６１はレーザ光Ｌに反応しないために熱膨張をしない。これにより熱膨張の差により、付着している蒸着物質６１には分解エネルギーが作用する。この分解エネルギーが作用することにより、走査面に膜状となって付着している蒸着物質６１は微粒子状に分解されて遊離物質６２となる。この遊離物質６２は質量を殆ど有しない極めて微小な粉体やガスとなっており、蒸着物質６１が分解されることにより、有機ＥＬ用マスク１の走査面から上方に向けて飛散する。
【００５１】
なお、レーザ光源３１から発振されるレーザ光の強度を過剰に高く設定しないようにする。レーザ光のエネルギーは蒸着物質６１ではなく有機ＥＬ用マスク１に対して作用し、過剰なエネルギーを作用させると有機ＥＬ用マスク１に対してダメージを与えるおそれがあるからである。レーザ光の強度としては、有機ＥＬ用マスク１に付着している蒸着物質を分解して遊離物質６２としてある程度飛散させるものであればよく、勢い良く飛散させなくてもよい。
【００５２】
図５に示すように、有機ＥＬ用マスク１におけるレーザ光Ｌの走査部位に対して近接した位置から吸引ノズル４１の吸引スリット４１Ｓを斜め方向に向けている。これにより、吸引ノズル４１は走査部位に対して吸引力Ｖを作用する。レーザ光Ｌの走査により無数の遊離物質６２が上方に向かって飛散するが、飛散する空間には吸引ノズル４１の吸引力Ｖが作用しており、しかも遊離物質６２は殆ど質量を持たない粉体やガス等であるため、吸引ノズル４１により吸引されて回収される。このため、吸引ノズル４１に回収された遊離物質６２は、有機ＥＬ用マスク１に再付着することがない。
【００５３】
レーザ光Ｌの走査により遊離物質６２は真上（Ｚ方向：有機ＥＬ用マスク１の法線方向）に向けて飛散を行う。このため、吸引ノズル４１の吸引方向の角度αを大きくしている。理想的にはα＝９０度であるが、この角度となるように吸引ノズル４１を配置すると、レーザ光Ｌの光路を妨害する。このため、レーザ光Ｌの光路を妨害しない範囲で大きな角度で吸引ノズル４１を設定する。吸引ノズル４１は斜め方向から吸引を行うが、角度αを大きくすることで、遊離物質６２の飛散方向と吸引方向とを近づけるようにしている。これにより、効率的に遊離物質６２が吸引回収されて、再付着によって洗浄度が低下しないようにしている。
【００５４】
また、遊離物質６２の回収効率の点から、できる限り吸引力Ｖは大きくすることが望ましい。ただし、吸引力Ｖを過剰に大きくすると、極薄の有機ＥＬ用マスク１に対して風圧による変形等のダメージを与えるおそれがあるため、有機ＥＬ用マスク１に影響を与えない程度の吸引力に抑制しなければならない。そこで、吸引ノズル４１を有機ＥＬ用マスク１からある程度の間隔（Ｈ１）を離間させるようにしている。これにより、有機ＥＬ用マスク１にダメージを与えることなく、高い回収効率を得ることができる。
【００５５】
従って、吸引ノズル４１は高い回収効率で遊離物質６２を吸引していくが、遊離物質６２は無数に分散するため、吸引しきれなかった僅かな遊離物質６２有機ＥＬ用マスク１に落下して再付着する可能性がある。また、レーザ光Ｌの走査により蒸着物質６１は遊離物質６２となって飛散するが、一部の蒸着物質６１が完全に分解されずに有機ＥＬ用マスク１に残存して付着したままの可能性もある。これらは、有機ＥＬ用マスク１の洗浄度を低下させる要因となる。
【００５６】
このとき、吸引ノズル４１から有機ＥＬ用マスク１に向けて吸引力Ｖを常時作用させており、残存した蒸着物質６１や再付着した遊離物質６２には吸引力Ｖが作用する。もともと、残存した蒸着物質６１にはレーザ光Ｌにより分解エネルギーが作用していることから、その付着強度は著しく低下しており、また再付着した遊離物質６２は完全に分解されて飛散したものが再付着したものであるため付着強度は殆どない。このため、吸引力Ｖを作用させることにより、再付着した遊離物質６２はそのまま吸引されることは勿論、残存した蒸着物質６１は簡単に引き剥がされて吸引ノズル４１に回収されていく。前述したように、有機ＥＬ用マスク１と蒸着物質６１との熱膨張の差により分解力が作用していることから、有機ＥＬ用マスク１から蒸着物質６１は綺麗に除去された状態になる。
【００５７】
一方で、前述したように極薄の金属板である有機ＥＬ用マスク１に対して強い吸引力Ｖを作用させると金属板に風圧による変形等のダメージを与えるため、強力な吸引力Ｖを作用させることができない。吸引力Ｖが弱い場合には再付着した遊離物質６２はともかく、残存した蒸着物質６１が吸引回収されない可能性がある。このため、送風ノズル４２から風圧Ｂを作用させている。この風圧Ｂは吸引力Ｖとは走査部位を挟んだ反対側から作用させており、送風ノズル４２からの送風と吸引ノズル４１の吸引とにより１つの空気の流れが形成される。この空気の流れにより、殆ど質量を持たない遊離物質６２は吸引力Ｖが作用する部位にまで導かれて吸引される。また、残存している蒸着物質６１は有機ＥＬ用マスク１との界面に風圧を作用させることができることから、蒸着物質６１を削ぎ取るようにして浮き上がらせて、吸引力Ｖが作用する部位にまで導くことができる。つまり、吸引力Ｖだけではなく風圧Ｂがアシストをしているため、両者の協働作用により有機ＥＬ用マスク１に変形等のダメージを与えることなく、吸引ノズル４１に回収させることができるようになる。
【００５８】
ここで、送風ノズル４２の送風方向と有機ＥＬ用マスク１の走査面とのなす角度βは非常に小さな角度となっており、送風方向は殆ど走査面に沿うような方向となっている。このように有機ＥＬ用マスク１に対して斜め方向であり、しかも非常に小さな角度で送風を行っている。このため、風圧Ｂを大きくしたとしても、送風方向は走査面に対して平行に近い角度になるため、有機ＥＬ用マスク１には大きな風圧が作用しない。また、有機ＥＬ用マスク１の走査面に対してより平行な角度で送風を行うことにより、残存した蒸着物質６１と有機ＥＬ用マスク１との界面に対して風圧を作用させることができる。これにより、残存した蒸着物質６１を浮き上がらせることができ、吸引ノズル４１に回収させることができる。
【００５９】
また、遊離物質６２は分解および飛散したときに、摩擦によって静電気を発生しプラスまたはマイナスに帯電をする。いずれの極性に帯電するのかは遊離物質６２の材質、つまり蒸着物質６１に材質により決定される。そして、前述したように、送風ノズル４２からの送風をイオン風としており、このイオン風はプラスまたはマイナスの何れかの極性を有している。そこで、遊離物質６２の材質により帯電する極性と逆の極性を持たせるようにイオン風を発生させる。これにより、イオン風の効果により遊離物質６２の回収効率が飛躍的に向上する。
【００６０】
なお、吸引方向の角度αよりも送風方向の角度βを大きくし、これを満たさないような場合であっても、吸引と送風との協働作用により高い洗浄度を得ることができるようになる。また、Ｈ１＞Ｈ２としているが、吸引ノズル４１の吸引力Ｖを弱くすれば、これを満たさないような場合であっても、吸引と送風との協働作用により高い洗浄度を得ることができるようになる。例えば、Ｈ１＝Ｈ２とすることにより、吸引ノズル４１と送風ノズル４２とを同じ高さ位置に配置することができ、ノズルユニット１４の組み立てが容易になる。ただし、α＞β、Ｈ１＞Ｈ２の条件を満たしたときに最も高い効果が得られる。
【００６１】
以上のように、吸引ノズル４１と送風ノズル４２とにより吸引と送風とを行うことにより、高い洗浄度が得られる。これは、レーザ光Ｌの走査部位に近い位置に吸引ノズル４１と送風ノズル４２とを配置しているからであり、走査部位から離間している場合には吸引・送風の効果はそれほど得られない。一方で、レーザ光Ｌの走査部位はＸ方向とＹ方向とに変化しているため、吸引ノズル４１と送風ノズル４２との位置が固定されていると、相対位置関係が変化する。これにより、走査部位によっては吸引ノズル４１と送風ノズル４２とが大きく離間することになることから洗浄度が低くなり、また相対位置関係の変化により均一な洗浄度が得られなくなる。そこで、吸引ノズル４１と送風ノズル４２とをレーザ光Ｌの走査部位に追従させるように制御している。
【００６２】
レーザ光Ｌは走査ラインをＹ方向にずらしていくことにより走査を行っている。吸引ノズル４１と送風ノズル４２とはそれぞれＸ方向の走査ライン分の長さを有しているため、Ｘ方向においては各ノズルの位置を変化させなくても相対位置関係が変化することはないが、Ｙ方向に走査ラインをずらすときには相対位置関係が変化する。そこで、走査ラインの変化に追従して吸引ノズル４１と送風ノズル４２とをＹ方向に移動させるようにする。
【００６３】
この移動は連続移動であっても、間欠移動であってもよい。連続移動の場合には、Ｘ方向の走査を行う間に、吸引ノズル４１と送風ノズル４２とを走査ライン分だけＹ方向に微小移動させるようにし、間欠移動の場合には、走査ラインをずらすときに吸引ノズル４１と送風ノズル４２とを１ライン分移動させるようにする。間欠移動は移動と停止との繰り返し動作になるため、連続移動の方が制御は容易になる。このため、吸引ノズル４１と送風ノズル４２とを連続移動させるようにする。
【００６４】
前述したように、ボールネジ手段５０Ｂによりノズルユニット１４の位置をＹ方向に変化さている。ボールネジ手段５０Ｂはモータ５２の回転力によりノズルユニット１４を移動させているため、モータ５２の回転数を制御することにより、ノズルユニット１４の移動量の制御を行うことができる。一方で、レーザ光Ｌの走査部位はガルバノミラー３２の振動によって変化し、ガルバノミラー３２はガルバノ駆動部３３により振動制御がなされている。ガルバノ駆動部３３によるレーザ光ＬのＸ方向における１ライン分の走査時間は既知であることから、この走査時間と走査ラインをずらしたときのＹ方向の移動量とに基づいてノズルユニット１４の移動スピードが得られる。このスピードとなるようにモータ５２の回転数を調整することにより、レーザ光Ｌの走査部位に吸引ノズル４１と送風ノズル４２とを追従させることができる。従って、ボールネジ手段５０Ｂを含むノズル移動部１５が追従手段となる。なお、ノズルユニット１４を間欠移動させる場合には、ガルバノ駆動部３３とモータ５２とを接続し、ガルバノ駆動部３３が走査ラインをずらすタイミングでモータ５２を駆動させてノズルユニット１４をＹ方向に移動させるようにする。
【００６５】
図６および図７において、移動する前のノズルユニット１４を実線で示し、この位置から移動した後のノズルユニット１４を二点鎖線で示す。図６および図７に示すように、レーザ光Ｌの走査ライン（図６ではＳＬで示している）のＹ方向の位置は変化するが、吸引ノズル４１と送風ノズル４２とを追従させているため、相対位置関係を常に一定に維持している。これにより、均一且つ高い洗浄度が得られるようになる。
【００６６】
以上により、有機ＥＬ用マスク１の走査面にレーザ光Ｌを走査させ、熱膨張の差により分解エネルギーを作用させて付着した蒸着物質６１を遊離物質６２として飛散させてレーザ洗浄を行う場合に、走査部位に向けて斜めから吸引および送風を行っているため、再付着した遊離物質６２を吸引ノズル４１に吸引回収させることができ、また残存した蒸着物質６１を剥離させることができるようになる。これにより、極めて高い洗浄度を得ることができる。また、吸引ノズル４１と送風ノズル４２とをレーザ光Ｌの走査部位に追従させていることから、均一且つ高い洗浄度を得ることができるようになる。しかも、レーザ光Ｌの走査により飛散した遊離物質６２は吸引ノズル４１に回収させていることから、何等の部材を有機ＥＬ用マスク１に接触させない完全に非接触式のレーザ洗浄を行うことができる。
【００６７】
以上において、吸引ノズル４１と送風ノズル４２とをレーザ光Ｌの走査部位に追従させているが、レーザ光Ｌの走査部位に対して斜め方向から吸引および送風を行うものであれば、吸引ノズル４１と送風ノズル４２とを追従させなくてもよい。エリアＡ１の先端と後端との間隔がそれほど広くなければ、斜め方向から送風を行って削ぎ取るように浮き上がらせて吸引を行うことができる。ただし、吸引ノズル４１および送風ノズル４２と走査部位との相対位置関係は変化するため、追従動作を行う場合の方が均一且つ高い洗浄度を得ることができる。
【００６８】
吸引ノズル４１と送風ノズル４２とにＸ方向の走査ライン以上の長さを持たせているため、Ｘ方向の追従動作を行っていないが、吸引ノズル４１と送風ノズル４２とに走査ラインより短い長さを持たせて、Ｘ方向の追従動作を行うようにしてもよい。この場合には、レーザ光Ｌの走査部位によって吸引ノズル４１と送風ノズル４２とをＸ方向に移動させるように制御する。
【００６９】
また、レーザ光Ｌの走査部位は高速に変化しているため、残存した蒸着物質６１や再付着した遊離物質６２を吸引する場所とレーザ光Ｌの走査する場所とには若干のずれがある。つまり、実際にレーザ光Ｌを照射してから所定時間経過後に残存した蒸着物質６１や再付着した遊離物質６２に対して吸引・送風を行って回収するため、レーザ光Ｌの走査する部位よりも僅かに後方の部位に対して吸引・送風を行うようにする。
【００７０】
このとき、吸引ノズル４１と送風ノズル４２とにＸ方向の走査ライン以上の長さを持たせている場合には、Ｙ方向において１ラインまたは２ライン分程度後方の部位にまで吸引・送風を及ぼすようにする。これにより、Ｘ方向とＹ方向とのそれぞれにおいて、後方の部位の蒸着物質６１や遊離物質６２を吸引回収することができるようになる。また、吸引ノズル４１と送風ノズル４２とにＸ方向の走査ラインより短い長さを持たせている場合には、Ｙ方向だけではなくＸ方向の後方の部位の吸引・送風ができるように構成しておく。例えば、吸引ノズル４１と送風ノズル４２とに後方の部位の吸引・送風を行うことが可能な長さを持たせるようにするか、或いは走査部位よりも僅かに遅れたタイミングで吸引ノズル４１と送風ノズル４２とを追従させるようにする。
【００７１】
また、吸引ノズル４１は飛散した遊離物質６２や引き剥がした蒸着物質６１等の吸引を行うが、吸引ノズル４１にサイクロン等の集塵装置を接続して、遊離物質６２や蒸着物質６１を回収するようにしてもよい。集塵装置を用いることで、蒸着物質６１や遊離物質６２を有機材料として再利用することができ、材料の有効活用を図ることができるようになる。
【符号の説明】
【００７２】
１    有機ＥＬ用マスク            １２    マスク移動部
１３    レーザユニット            １４    ノズルユニット
１５    ノズル移動部                ３１    レーザ光源
３２    ガルバノミラー            ３３    ガルバノ駆動部
４１    吸引ノズル                ４２    送風ノズル
５０Ｂ    ボールネジ手段            ６１    蒸着物質
６２    遊離物質
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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