(57)【要約】【課題】配向不良に起因する輝点欠陥と塵埃に起因する輝点欠陥の両方を同時に解決することのできるラビング方法及び装置並びに光学補償フィルムの製造方法を提供する。【解決手段】ラビング用布材１が巻回されると共に回転するラビングローラ７０Ａ，７０Ｂに、連続走行するウエブ１６を巻き掛けて、ラビング用布材１でウエブに形成された配向膜形成層１９をラビングして配向膜を形成するラビング方法において、ラビング用布材１は、地布組織の経糸２及び緯糸３から成る基布５にパイル糸４が織り込まれて形成されると共に、パイル糸４のラビング時の撓み度を、ラビングする前のパイル糸４の全長Ａと、パイル糸４に対してラビング加重が付与されたラビング中の基布５面から配向膜形成層１９面までの長さＢとの比率（Ｂ／Ａ）×１００で表したときに、該比率を６０〜９０％の範囲に設定した状態でラビングする。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ラビング用布材が巻回されると共に回転するラビングローラに、連続走行する支持体を接触させて、前記ラビング用布材で支持体に形成された配向膜形成層をラビングして配向膜を形成するラビング方法において、
前記ラビング用布材は、地布組織の経糸及び緯糸から成る基布にパイル糸が織り込まれて形成されると共に、
前記パイル糸のラビング時の撓み度を、前記ラビングする前の前記パイル糸の全長Ａと、前記パイル糸に対してラビング加重が付与されたラビング中の前記基布面から前記配向膜形成層面までの長さＢとの比率（Ｂ／Ａ）×１００で表したときに、該比率を６０〜９０％の範囲に設定した状態でラビングすることを特徴とするラビング方法。
【請求項２】
前記ラビングを行うラビング室内の相対湿度を調整して前記パイル糸の剛性を変えることにより前記パイル糸の撓み度を前記比率範囲内に設定することを特徴とする請求項１に記載のラビング方法。
【請求項３】
前記ラビング室内の相対湿度を１０〜５０％の範囲に調整することを特徴とする請求項２に記載のラビング方法。
【請求項４】
前記パイル糸の表面に樹脂をコーティングしてパイル糸の剛性を変えることにより前記パイル糸の撓み度を前記比率範囲内に設定することを特徴とする請求項１に記載のラビング方法。
【請求項５】
ラビング用布材が巻回されると共に回転するラビングローラに、連続走行する支持体を接触させて、前記ラビング用布材で支持体に形成された配向膜形成層をラビングして配向膜を形成するラビング方法において、
前記ラビングする前の前室内を加湿して前記支持体に湿気を付与する加湿工程と、
前記ラビングするラビング室内を前記前室内の相対湿度よりも小さくなるように除湿して前記支持体の搬送によって前記前室から前記ラビング室内に持ち込まれる湿気によって前記ラビング用布材の水分が上昇するのを防止する除湿工程と、を備えたことを特徴とするラビング方法。
【請求項６】
前記前室の相対湿度が５５％以上８０％以下になるように加湿すると共に、前記ラビング室の相対湿度が１０〜５０％になるように除湿することを特徴とする請求項５に記載のラビング方法。
【請求項７】
前記前室での加湿工程と前記ラビング室での除湿工程との間には、前記支持体が通過可能な狭隘な隙間だけを残して前記前室と前記ラビング室とを仕切ることにより、前記前室から前記ラビング室内に湿気が持ち込まれるのを防止する湿気持ち込み防止工程を備えることを特徴とする請求項５又は６に記載のラビング方法。
【請求項８】
前記ラビング室内の気圧を前記前室内の気圧よりも高くする気圧制御工程を備えることを特徴とする請求項５〜７の何れか１に記載のラビング方法。
【請求項９】
ラビング用布材が巻回されると共に回転するラビングローラに、連続走行する支持体を接触させて、前記ラビング用布材で支持体に形成された配向膜形成層をラビングして配向膜を形成するラビング装置において、
前記ラビングする前の前室内を加湿する加湿手段と、
前記ラビングするラビング室内を除湿する除湿手段と、を備えたことを特徴とするラビング装置。
【請求項１０】
前記前室と前記ラビング室との間には、前記支持体が通過可能な狭隘な隙間だけを残して前記前室と前記ラビング室とを仕切る仕切り構造が設けられることを特徴とする請求項９に記載のラビング装置。
【請求項１１】
前記前室内の気圧を調整する第１の気圧調整手段と、
前記ラビング室内の気圧を調整する第２の気圧調整手段と、
前記第１及び第２の気圧調整手段の気圧差を制御する制御手段と、を備えたことを特徴とする請求項９又は１０に記載のラビング装置。
【請求項１２】
前記ラビング室には、前記ラビングローラのラビング用布材を直接除湿するラビング用布材除湿手段が設けられることを特徴とする請求項９〜１１の何れか１に記載のラビング装置。
【請求項１３】
請求項１〜８の何れか１に記載のラビング方法によって支持体上に配向膜を形成することを特徴とする配向膜の製造方法。
【請求項１４】
請求項１３に記載の製造方法により形成された配向膜上に液晶層を形成する液晶層形成工程と、
前記形成した液晶層を配向させる液晶配向工程と、
前記配向させた液晶層を固定させる液晶層固定工程と、を備えたことを特徴とする光学部材の製造方法。
【請求項１５】
前記光学部材は、液晶表示装置に使用される光学補償フィルム、輝度向上フィルムの何れかであることを特徴とする請求項１４に記載の光学部材の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ラビング方法及び装置並びに配向膜及び光学部材の製造方法に係り、特に液晶表示装置に使用される光学部材を製造する際に、発塵を抑制しながら配向膜形成層を十分にラビングする技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置には各種の光学部材が使用されており、例えば偏光板用部材として視野角を拡大するための光学補償フィルムが使用されている。この光学補償フィルムは、一般的に、透明樹脂製の帯状可撓性支持体の表面に配向用塗布液を塗布乾燥して配向膜形成層を形成した後、その表面にラビングを施して配向膜を形成する。そして、配向膜の上に液晶性塗布液を塗布乾燥して液晶層を形成し、その後に硬化させることにより製造される。
【０００３】
ラビングとは、液晶分子の配向方法の代表的なものであり、ウエブ表面に配向膜形成層を形成し、この配向膜形成層の表面をラビング用布材が巻回されたラビングローラを高速回転させて擦ることにより行われる。
【０００４】
ところで、近年、液晶表示装置の高輝度化、高精細化により、液晶表示装置の表示品質の低下に影響する輝点数を少なくすると共に、輝点サイズを小さくする必要がある。輝点欠陥の原因としては、ラビングが不足したり不安定になったりすることによる配向不良から生じる表面欠陥に起因する場合や、ラビング時の塵埃に起因する場合がある。
【０００５】
従来、配向膜形成層をラビングする技術としては、例えば特許文献１〜６がある。特許文献１は、配向膜形成層を調湿して配向膜形成層の部分的延伸の痕跡をなくし、これにより配向不良に起因する表面欠陥を低減する。特許文献２は、ラビング装置の上流側に支持体調湿手段を設け、支持体の含水量を制御すると共に、ラビング装置周囲の雰囲気湿度を制御することで配向不良に起因する表面欠陥を低減する。特許文献３は、ラビング時に支持体の裏面側から流体圧を印加し、ラビングローラに対して支持体を押圧することで配向不良に起因する表面欠陥を低減する。特許文献４では、ラビングローラの回転数を２段階で可変することにより、配向膜規制力のバラツキを制御して配向不良に起因する表面欠陥を低減する。特許文献５は、ラビング布のパイル糸を所定傾斜角度（垂直線Ｚに対して２６〜４０°）とすることで、配向不良に起因する表面欠陥を低減する。特許文献６はラビング後のラビング布をイオン風によって除電することでラビング布の除塵を行うことが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００３−３２９８３３号公報
【特許文献２】特開２００６−２５９１５１号公報
【特許文献３】特開２００６−２６７９１９号公報
【特許文献４】特開２００９−００３３６８号公報
【特許文献５】登録実用新案第３０３２８２０号公報
【特許文献６】特開２００９−０３１７３５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
特許文献１〜５から分かるように、従来は配向不良の防止を考慮してラビング技術の改良がなされてきており、ラビング性能の向上により配向不良に起因する表面欠陥を抑制し、これにより光学補償フィルムを製造した際の輝点欠陥を低減することができる。
【０００８】
しかしながら、配向不良を生じないようにラビングを強く行うことでラビング時の発塵が多くなり、塵埃に起因する輝点欠陥が増加するという問題がある。特許文献６のように、ラビング布の除塵を行うことで塵埃に起因する輝点欠陥を多少低減できるが、ラビング時の発塵を抑制しなくては根本的な解決にはならない。
【０００９】
本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであり、配向不良に起因する輝点欠陥と塵埃に起因する輝点欠陥の両方を同時に解決することのできるラビング方法及び装置並びに配向膜及び光学部材の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の請求項１は、前記目的を達成するために、ラビング用布材が巻回されると共に回転するラビングローラに、連続走行する支持体を接触させて、前記ラビング用布材で支持体に形成された配向膜形成層をラビングして配向膜を形成するラビング方法において、
前記ラビング用布材は、地布組織の経糸及び緯糸から成る基布にパイル糸が織り込まれて形成されると共に、前記パイル糸のラビング時の撓み度を、前記ラビングする前の前記パイル糸の全長Ａと、前記パイル糸に対してラビング加重が付与されたラビング中の前記基布面から前記配向膜形成層面までの長さＢとの比率（Ｂ／Ａ）×１００で表したときに、該比率を６０〜９０％の範囲に設定した状態でラビングすることを特徴とするラビング方法を提供する。
【００１１】
発明者は、配向不良に起因する輝点欠陥の抑制とラビング時に発塵する塵埃に起因する輝点欠陥の抑制との両方を両立させるための対策を鋭意研究した。その結果、ラビングローラに巻回するラビング用布材のパイル糸のラビング時における撓み度を適切に設定することで、配向不良が発生せず、且つ発塵を顕著に抑制できるという知見を得た。
【００１２】
ここで、パイル糸のラビング時の撓み度は、ラビングする前のパイル糸の全長Ａと、パイル糸に対してラビング加重が付与されたラビング中のラビング用布材の基布面から配向膜形成層面までの長さＢとの比率（Ｂ／Ａ）×１００であるので、比率が小さくなるほど撓み度が大きいことを示す。
【００１３】
本発明の請求項１によれば、パイル糸のラビング時における撓み度を、ラビングする前のパイル糸の全長Ａと、パイル糸に対してラビング加重が付与されたラビング中の基布面から配向膜形成層面までの長さＢとの比率（Ｂ／Ａ）×１００で表したときに、該比率を６０〜９０％の範囲に設定した状態でラビングするようにしたので、配向不良に起因する輝点欠陥と塵埃に起因する輝点欠陥の両方を同時に解決することができる。
【００１４】
なお、比率が６０％未満では、配向膜形成層に対するパイル糸の接触面積が大きくなるので、配向性能は向上するがラビング時の発塵が急激に増大する。したがって、光学部材を製造したときに、配向不良に起因する輝点欠陥は抑制できても塵埃に起因する輝点欠陥が増大するので、トータル的な輝点欠陥が多くなる。
【００１５】
一方、比率が９０％を超えると、配向膜形成層に対するパイル糸の接触面積が小さくなるので、発塵は抑制されるが配向不良が発生する。したがって、光学部材を製造したときに、塵埃に起因する輝点欠陥は抑制できても配向不良に起因する輝点欠陥が増大するので、トータル的に輝点欠陥が多くなる。
【００１６】
請求項１のラビング方法において、前記ラビングを行うラビング室内の相対湿度を調整して前記パイル糸の剛性を変えることにより前記パイル糸の撓み度を前記比率範囲内に設定することが好ましい。
【００１７】
これは、パイル糸の剛性はパイル糸の水分によって顕著に変動するとの知見を利用したものであり、ラビング室の湿度を大きくしてパイル糸の水分が多くなると撓み易くなり、ラビング室の湿度を小さくしてパイル糸の水分が少なくなると撓み難くなる。したがって、ラビング室の湿度を適切に調整することにより、パイル糸の撓み度を前記比率範囲内に設定することができる。具体的には、ラビング室内の相対湿度を１０〜５０％の範囲に調整することが好ましい。
【００１８】
請求項１のラビング方法において、前記パイル糸の表面に樹脂をコーティングしてパイル糸の剛性を変えることにより前記パイル糸の撓み度を前記比率範囲内に設定することが好ましい。
【００１９】
これは、パイル糸自体の剛性を変えることにより、パイル糸の撓み度を前記比率範囲内に設定するようにしたものである。この方法であれば、ラビング室の湿度環境に影響を受けずに、パイル糸のラビング時における撓み度を適切に設定できる。
【００２０】
本発明の請求項５は、前記目的を達成するために、ラビング用布材が巻回されると共に回転するラビングローラに、連続走行する支持体を接触させて、前記ラビング用布材で支持体に形成された配向膜形成層をラビングして配向膜を形成するラビング方法において、前記ラビングする前の前室内を加湿して前記支持体に湿気を付与する加湿工程と、前記ラビングするラビング室内を前記前室内の相対湿度よりも小さくなるように除湿して前記支持体の搬送によって前記前室から前記ラビング室内に持ち込まれる湿気によって前記ラビング用布材の水分が上昇するのを防止する除湿工程と、を備えたことを特徴とするラビング方法を提供する。
【００２１】
本発明の請求項５によれば、ラビングする前室を加湿して配向膜形成層に湿気を付与することで、配向膜形成層の部分的延伸の痕跡をなくすことができるので、ラビング時の配向不良を抑制できる。しかし、前室で加湿された支持体がそのままラビング室に搬送されると、ラビング室内の相対湿度が上昇する。これにより、ラビングローラに巻回されたラビング用布材の水分が上昇し、パイル糸のラビング時における撓み度が大きくなるので、発塵が多くなる。更には、前室で加湿されたままの配向膜形成層をラビングすると配向膜形成層に傷がつき易くなる。
【００２２】
このことから、本発明では、ラビングするラビング室内を前記前室内の相対湿度よりも小さくなるように除湿して前記前室から前記支持体の搬送によってラビング室内に持ち込まれる湿気によって前記ラビング用布材の水分が上昇するのを防止する除湿工程を設けたので、ラビング時の発塵を効果的に抑制することができる。
【００２３】
これにより、配向不良に起因する輝点欠陥と塵埃に起因する輝点欠陥の両方を同時に解決することができる。
【００２４】
請求項５のラビング方法において、前記前室の相対湿度が５５％以上８０％以下になるように加湿すると共に、前記ラビング室の相対湿度が１０〜５０％になるように除湿することが好ましい。
【００２５】
請求項５のラビング方法において、前記前室での加湿工程と前記ラビング室での除湿工程との間には、前記支持体が通過可能な狭隘な隙間だけを残して前記前室と前記ラビング室とを仕切ることにより、前記前室から前記ラビング室内に湿気が持ち込まれるのを防止する湿気持ち込み防止工程を備えることが好ましい。
【００２６】
請求項５のラビング方法において、前記ラビング室内の気圧を前記前室内の気圧よりも高くする気圧制御工程を備えることが好ましい。
【００２７】
これにより、支持体に湿気を付与する前室からの湿気がラビング室に持ち込まれ難くなり、ラビング室内を精度良く適切な湿度に制御できるので、ラビング時の発塵を一層効果的に抑制することができる。この場合、湿気持ち込み防止工程と気圧制御工程とを併用すれば一層よい。
【００２８】
本発明の請求項９は、前記目的を達成するために、ラビング用布材が巻回されると共に回転するラビングローラに、連続走行する支持体を接触させて、前記ラビング用布材で支持体に形成された配向膜形成層をラビングして配向膜を形成するラビング装置において、前記ラビングする前の前室内を加湿する加湿手段と、前記ラビングするラビング室内を除湿する除湿手段と、を備えたことを特徴とするラビング装置を提供する。
【００２９】
請求項９は、本発明を装置として構成したものである。
【００３０】
本発明のラビング装置において、前記前室と前記ラビング室との間には、前記支持体が通過可能な狭隘な隙間だけを残して前記前室と前記ラビング室とを仕切る仕切り構造が設けられることが好ましい。
【００３１】
本発明のラビング装置において、前記前室内の気圧を調整する第１の気圧調整手段と、前記ラビング室内の気圧を調整する第２の気圧調整手段と、前記第１及び第２の気圧調整手段の気圧差を制御する制御手段と、を備えたことが好ましい。
【００３２】
これにより、支持体に湿気を付与する前室からの湿気がラビング室に持ち込まれ難くなり、ラビング室内を適切な湿度の精度良く制御し易くなるので、ラビング時の発塵を一層効果的に抑制することができる。この場合、仕切り構造と気圧制御とを併用すれば一層よい。
【００３３】
本発明のラビング処理装置において、前記ラビング室には、前記ラビングローラのラビング用布材を直接除湿するラビング用布材除湿手段が設けられることが好ましい。
【００３４】
このように、ラビング室の除湿手段に加えてラビング用布材除湿手段を設けることにより、ラビング用布材の水分を直接制御できるので、ラビング時の発塵を一層効果的に抑制することができる。
【００３５】
本発明の請求項１３は、前記目的を達成するために、請求項１〜８の何れか１に記載のラビング方法によって支持体上に配向膜を形成することを特徴とする配向膜の製造方法を提供する。
【００３６】
請求項１３の発明は、本発明のラビング方法を適用して配向膜を製造するものである。
【００３７】
本発明の請求項１４は、前記目的を達成するために、請求項１３に記載の製造方法により形成された配向膜上に液晶層を形成する液晶層形成工程と、前記形成した液晶層を配向させる液晶配向工程と、前記配向させた液晶層を固定させる液晶層固定工程と、を備えたことを特徴とする光学部材の製造方法を提供する。
【００３８】
請求項１４は、光学部材の製造方法に本発明のラビング方法を適用するようにしたものであり、これにより製造された光学部材、例えば液晶表示装置に使用される光学補償フィルム、輝度向上フィルムの輝点欠陥を顕著に低減することができる。
【発明の効果】
【００３９】
本発明によれば、配向不良に起因する輝点欠陥と塵埃に起因する輝点欠陥の両方を同時に解決することができる。
【図面の簡単な説明】
【００４０】
【図１】本発明のラビング方法及び装置が適用される光学補償フィルムの製造ラインを示す説明図
【図２】ラビング前の加湿手段を備えた前室とラビング時の除湿手段を備えたラビング室を説明する説明図
【図３】ラビング用布材の構成を示す部分拡大斜視図
【図４】パイル糸の撓み度を説明する説明図
【図５】パイル糸の撓み度とラビング室の相対湿度との関係を示すグラフ
【図６】フィラメントに樹脂をコーティングしたパイル糸の説明図
【図７】ラビング用布材の水分調整のための好ましい構成を説明する説明図
【図８】実施例の表図
【図９】パイル糸の撓み度と光学補償フィルムの輝点数との関係を示すグラフ
【図１０】パイル糸の撓み度とラビング時の発塵量との関係を示すグラフ
【図１１】パイル糸の撓み度と傾斜角度との関係を示す表図
【発明を実施するための形態】
【００４１】
以下、本発明のラビング方法及び装置並びに配向膜及び光学部材の製造方法の好ましい実施の形態について詳細に説明する。
【００４２】
図１は、本発明のラビング方法及び装置を適用する光学部材の製造ラインの一例として、光学補償フィルムの製造ラインを示したものである。なお、本実施の形態では、光学補償フィルムの製造の例で説明するが、本発明は輝度向上フィルム等のように、製造ライン中にラビング処理を施して配向膜を形成する工程を含む光学部材の全てに提供できる。
【００４３】
［配向膜形成層の形成工程］
図１に示されるように、送り出し機６６から透明支持体である帯状可撓性支持体（以下、ウエブという）１６が送り出される。ウエブ１６はガイドローラ６８によってガイドされて、除塵機１５Ａを経ることによって、ウエブ１６の表面に付着した塵を取り除く。除塵機１５Ａとしては公知の各種タイプのものが採用できる。たとえば、静電除塵した圧縮エア（窒素ガス）をウエブ１６の表面に吹き付け、ウエブ１６の表面に付着した塵を取り除く構成のものを好適に採用できる。
【００４４】
除塵機１５Ａのウエブ走行方向下流（以下、単に下流という）にはバー塗布装置１１Ａが設けられており、配向膜形成用樹脂を含む塗布液がウエブ１６に塗布される。なお、塗布装置はバー塗布装置に限らず各種の塗布装置、例えばグラビアコータ、ロールコータ（トランスファロールコータ、リバースロールコータ等）、ダイコータ、エクストルージョンコータ、ファウンテンコータ、カーテンコータ、ディップコータ、スプレーコータ又はスライドホッパ等を採用できる。
【００４５】
バー塗布装置１１Ａの下流には乾燥ゾーン７６Ａ、加熱ゾーン７８Ａが順次設けられており、乾燥及び加熱されることによりウエブ１６上に配向膜形成層が形成される。
【００４６】
［配向膜形成層のラビング工程］
配向膜形成用樹脂を含む塗布液の塗布、乾燥後、ウエブ１６はガイドローラ６８によってガイドされて、ラビングする前の前室２０に送り込まれる。図２に示すように前室２０はウエブの入口２０Ａと出口２０Ｂとが開口されたトンネル状に形成される。また、前室２０には加湿手段２１が設けられ、ラビングする前のウエブ１６を加湿する。加湿手段２１は、加湿水分調整装置２１Ａにおいて加湿エアが調整され、加湿ダクト２１Ｂを介して前室２０内に供給される。また、前室２０内のエアは排気ダクト２１Ｃを介して加湿水分調整装置２１Ａに循環する。これにより、前室２０内は相対湿度で５５％以上８０％以下になるように調整される。
【００４７】
このように、ラビングする前の前室２０に加湿手段２１を設けて、前室２０内の相対湿度を５５％以上８０％以下にしてウエブ１６を加湿することにより、配向膜形成層における部分的延伸の痕跡を消して表面欠陥をなくすことができるので、配向不良に起因する輝点欠陥を抑制することができる。
【００４８】
前室２０において加湿されたウエブ１６は、ラビング室２２に送られる。図２に示すようにラビング室２２はウエブの入口２２Ａと出口２２Ｂとが形成されると共に、ラビング室２２内にラビング装置７０が設けられる。
【００４９】
ラビングローラ７２は、配向膜形成層にラビングを施すために設けられる。ラビングローラ７２の上流には除塵機７１が設けられ、ウエブ１６の表面に付着した塵埃を取り除く。
【００５０】
ラビング装置７０は、外周表面に後述するラビング用布材１が巻付けられたラビングローラ７２を回転駆動させ、例えば１０００ｒｐｍ程度まで回転速度を制御することができる。ラビングローラ７２の形状は、例えば外径が１５０ｍｍであり、長さが、ラビング角度（巻掛け角度）をつけた状態でもウエブ１６の幅より若干長くなるローラ状にできる。また、ラビング装置７０は、任意のラビング角度に調整できるように、ウエブ１６の走行方向に対して水平面で回転自在となっている。
【００５１】
ラビングローラ７２の上方には、ローラステージ８４が設けられ、このローラステージ８４の下面にスプリングを介してバックアップローラ８６、８８が回動自在に取り付けられる。バックアップローラ８６、８８には、ウエブ１６のテンションを検出する機構が備えられ、ラビング時のテンション管理を行なうことができる。
【００５２】
更に、バックアップローラ８６、８８は上下の調整が可能であり、ローラを上下に移動させてウエブ１６のラビングローラ７２へのラップ角を調整することができる。
【００５３】
以上の構成により、ウエブ１６がバックアップローラ８６、８８により上部から押えられてラビング加重が付与された状態で、下側より押圧されたラビングローラ７２によりウエブ１６表面（下面）の配向膜形成層の表面がラビングされ、配向性が付与された配向膜が形成される。ラビング装置７０の下流には除塵機１５Ｂが設けられ、ウエブ１６の表面に付着した塵埃を取り除くことができる。
【００５４】
図３に示すように、ラビング用布材１は、地布組織の経糸２と地布組織の緯糸３とが格子状に織られた基布５にパイル糸４が織り込まれることによって形成される。このうち図３（Ａ）に示すラビング用布材１のように、パイル糸４が３本の緯糸３に織り込まれたものをＷ組織と称し、図３（Ｂ）に示すラビング用布材１のように、パイル糸４が１本の緯糸３に織り込まれたものをＶ組織と称している。Ｗ組織及びＶ組織は、パイル糸７の織り込み方が異なるのみで、用いられる材料は同様の材料を使用することができる。
【００５５】
基布５としては、例えばナイロン６・６（登録商標）などのポリアミド系、ポリエチレンテレフタレートなどのポリエステル系、ポリエチレンなどのポリオレフィン系、ポリビニルアルコール系、ポリ塩化ビニリデン系、ポリ塩化ビニル系、ポリアクリロニトリル、アクリルアミド、メタクリルアミドなどのアクリル系、ポリシアン化ビニリデン系、ポリフルオロエチレン系、ポリウレタン系などの合成繊維、絹、綿、羊毛、セルロース系、セルロースエステル系などの天然繊維、再生繊維（レーヨン、アセテートなど）の中から選ばれる１種又は２種以上を組み合わせた繊維が挙げられる。
【００５６】
この基布５の経糸２及び緯糸３は、例えば１．４デニールの繊維が７０本より合わされて約１００デニールのフィラメント（長い連続状の繊維）となっている状態で使用されることが好ましい。このような経糸２及び緯糸３としては、例えば旭化成（株）製のキュプラレーヨン（ベンベルグ）フィラメントを好ましく使用できる。
【００５７】
また、図２に示すように、ラビング室２２にはラビング室２２内の相対湿度を低減するための除湿手段２３が設けられる。除湿手段２３は、ラビング室２２内のエアを除湿水分調整装置２３Ａに吸引ダクト２３Ｂを介して吸引し、除湿水分調整装置２３Ａでエアを除湿した後、給気ダクト２３Ｃを介してラビング室２２内に戻す。これにより、ラビングを行うラビング室２２内の相対湿度を調整してパイル糸４の剛性を変えることにより、ラビング時におけるパイル糸４の撓み度を適切に設定する。
【００５８】
即ち、ラビングする前のパイル糸の全長Ａと、パイル糸に対してラビング加重が付与されたラビング中の基布５面から配向膜形成層面までの長さＢとの比率（Ｂ／Ａ）×１００で表したときに、該比率を６０〜９０％の範囲になるようにパイル糸４の撓み度を設定する。
【００５９】
パイル糸の適切な撓み度ついて更に詳しく説明すると、図４に示すように、ラビングする前のパイル糸４の全長Ａ（図４（ａ））と、パイル糸４に対してラビング加重が付与されたラビング中の基布５面から配向膜形成層１９面までの長さＢ（図４（ｂ），（ｃ），（ｄ））との比率（Ｂ／Ａ）×１００で表したときに、該比率を６０〜９０％の範囲に設定する。これにより、配向不良に起因する輝点欠陥と塵埃に起因する輝点欠陥の両方を同時に解決することができる。
【００６０】
図４（ｂ）は、パイル糸４の全長Ａに対する長さＢ１の比率が９０％を超えてパイル糸４の撓み度が小さ過ぎるために、ラビング時の発塵は少ないが、ラビング不足による配向不良が生じる場合である。符号２５は発塵による塵埃である。
【００６１】
図４（ｃ）は、パイル糸４の全長Ａに対する長さＢ２の比率が６０〜９０％の範囲を満足してパイル糸４の撓み度が適切であり、ラビング時の発塵も少なく且つラビング性能も十分あるので配向不良が生じない場合である。
【００６２】
図４（ｄ）は、パイル糸４の全長Ａに対する長さＢ３の比率６０％未満であり、パイル糸４の撓み度合が大き過ぎるために、ラビング性能が十分で配向不良は生じないが、ラビング時の発塵が多くなる場合である。
【００６３】
ここで、ラビング室２２内の相対湿度と、パイル糸４の撓み度との関係を説明する。
【００６４】
図５に示すように、ラビング室２２内の相対湿度が大きくなるに従ってパイル糸４の撓み度（全長Ａに対する長さＢ）は低下する傾向にあり、１０〜５０％の相対湿度においてパイル糸４の撓み度が６０〜９０％の範囲を満足する。ラビング室２２の相対湿度とパイル糸４の撓み度との関係は、ラビング用布材１に使用する繊維の種類によって吸湿性が多少異なるので、予備試験等によりパイル糸４の撓み度が６０〜９０％の範囲を満足するラビング室２２の相対湿度を予め試験しておくと一層よい。
【００６５】
ラビング室２２内の相対湿度の下限を１０％としたのは、１０％以下までラビング室２２を極めて乾燥した状態に維持すると、配向膜形成層に悪影響があるからである。
【００６６】
ラビング室２２内を除湿手段２３で除湿しなくても１０〜５０％の相対湿度に維持できる場合には、除湿手段２３を運転する必要がないが、前室２０で相対湿度５５％以上８０％以下に加湿されたウエブ１６がそのままラビング室２２に搬送されると、通常はラビング室２２内の相対湿度が５０％を超えて大きくなる。これにより、ラビングローラ７２Ａ（７２Ｂ）に巻回されたラビング用布材１の水分が上昇し、パイル糸４のラビング時における撓み度が大きくなるので、発塵が多くなる。更には、前室２０で加湿されたままの配向膜形成層１９をラビングすると配向膜形成層１９に傷がつき易くなる。
【００６７】
ラビング用布材１の水分を適切に調整するには、ラビング室２２の除湿以外に図７において説明する構成を追加することが好ましい。
【００６８】
図７に示すように、前室２０とラビング室２２とはトンネル状の連通路３１で連結されると共に、連通路３１には、ウエブ１６通過可能な狭隘な隙間だけを残して前室２０とラビング室２２とを仕切る一対のローラ３３、３３が設けられる。これにより、前室２０の湿気がラビング室に２２に持ち込まれるのを防止できる。
【００６９】
前室２０とラビング室２２とを仕切る部材としては、図７に示すように、一対の板状部材３５、３５でもよいが、ローラ３３であればウエブ１６が接触しても回転するので、ウエブ１６に傷がつき難い。
【００７０】
また、前室２０とラビング室２２とには、空調ダクト３７を介して清浄空気が給気されると共に、前室２０に延設される空調ダクト３７Ａとラビング室２２に延設される空調ダクト３７Ｂにはそれぞれ給気量を調整する調整バルブ３９Ａ、３９Ｂが設けられる。
【００７１】
一方、前室２０内とラビング室２２内には、各室２０、２２の気圧（室内圧力）を測定する圧力センサ４１Ａ、４１Ｂが設けられる。
【００７２】
そして、それぞれの圧力センサ４１Ａ、４１Ｂで測定された圧力データは圧力コントローラ４３に入力されると共に、圧力コントローラ４３は入力された圧力データに基づいて前室２０よりもラビング室２２への給気量が多くなるように、各調整バルブ３９Ａ、３９Ｂの開度を制御する。これにより、ラビング室２２の気圧が前室２０の気圧よりも高くなるので、前室２０の湿気がラビング室に２２に持ち込まれるのを防止できる。
【００７３】
前室２０とラビング室２２とを仕切る構造と、前室２０とラビング室２２との気圧制御との両方を併用することが一層好ましい。
【００７４】
更には図７に示すように、ラビングローラ７２に巻回されるラビング用布材１に乾燥エアを吹き付けるエアノズル４５を設けると一層よい。これにより、ラビング用布材１の水分を直接調整することができる。この場合、ラビングローラ７２の回転方向から見て除塵機７１の下流位置にエアノズル４５を設けることが好ましい。これにより、ラビング用布材１に付着したラビング屑を除塵機７１で除去した後、ラビング用布材１に乾燥エアを吹き付けるので、ラビング屑をラビング室２２内に飛散させることがない。
【００７５】
［液晶層の形成工程］
図１に示すように、除塵機１５Ｂの下流にはバー塗布装置１１Ｂが設けられており、ディスコネマティック液晶を含む塗布液がウエブ１６に塗布される。塗布装置１１Ｂとしては、配向膜形成用樹脂を含む塗布液がウエブ１６に塗布したときと同様に、各種の塗布装置を使用できる。
【００７６】
バー塗布装置１１Ｂの下流には、乾燥ゾーン７６Ｂ、加熱ゾーン７８Ｂが順次設けられ、ウエブ１６上に液晶層が形成される。更に、この下流には紫外線ランプ８０が設けられ、紫外線照射により、液晶を架橋させ、所望のポリマーを形成する。そして、検査装置８４で検査され、ラミネート機８８より送り出される保護フィルム８８Ａがウエブ１６にラミネートされ、この下流に設けられた巻取り機８２により、ポリマーが形成されたウエブ１６が巻き取られる。これにより、光学補償フィルムが製造される。
【００７７】
本実施の形態において、光学補償フィルムの製造ライン１０全体、特にバー塗布装置１１Ａ、１１Ｂは、クリーンルーム等の清浄な雰囲気に設置するとよい。その際、清浄度はクラス１０００以下が好ましく、クラス１００以下がより好ましく、クラス１０以下が更に好ましい。
【００７８】
なお、上記の実施の形態では、ラビング時におけるパイル糸４の撓み度をラビング室２２内の相対湿度を調整することによって設定した。しかし、図６に示すように、パイル糸４を構成するフィラメント６（長い連続状の繊維）の表面に樹脂をコーティングして被覆層７を形成して、パイル糸４の剛性を変えることによりパイル糸４の撓み度を前記比率の６０〜９０％の範囲内に設定してもよい。パイル糸４の剛性は、フィラメント６にコーティングする樹脂材料（軟質性樹脂、硬質性樹脂）の選択や、コーティングする樹脂層の厚みを変えることにより任意に設定できる。
【００７９】
フィラメント６としては、たとえば、再生繊維（レーヨン、ポリノジック、キュプラ）、半合成繊維（アセテート、トリアセテート、プロミックス）、合成繊維（ポリエステル、ナイロン、アクリル、ビニロン、ポリウレタン）を好ましく使用することができる。
【実施例】
【００８０】
以下に、光学補償フィルムの例で本発明の実施例を説明するが、本発明はこれらの実施例により限定されるものではない。
【００８１】
［実施例Ａ］
実施例Ａは、パイル糸４の撓み度（全長Ａに対する長さＢの比率）と、光学補償フィルムの検出輝点数（個／ｍ）との関係を調べた試験である。
【００８２】
（光学補償フィルムの製造）
トリアセチルセルロース（フジタック、富士写真フィルム（株）製、厚さ：６００μｍ、幅：１５００ｍｍ、長さ７０００ｍ）の長尺状のウエブ１６の一方の側に、長鎖アルキル変性ポバール（ＭＰ−２０３、クラレ（株）製）５重量％の溶液を塗布し、９０°Ｃで４分間乾燥させた後、ラビングを行って膜厚２．０μｍの配向膜形成層を形成した。ウエブ１６の搬送速度は２０ｍ／分とした。
【００８３】
次に、配向膜形成層１９が形成されたウエブ１６を、相対湿度７０％に加湿調整した前室２０に送ってウエブ１６を加湿してからラビング室２２に送った。そして、ラビング装置７０において、ウエブ１６を連続して２０ｍ／分で搬送しながら、配向膜形成層１９の表面にラビングを施した。ラビングは、ラビングローラ７２の回転数を３００ｒｐｍにて行なった。
【００８４】
かかるラビング室２２でのラビングにおいて、ラビング用布材１のパイル糸４の撓み度を５８％〜１００％の範囲になるようにラビング室２２内の相対湿度を調節し、試験１〜７を実施した。なお、パイル糸４の傾斜角度は１５度で共通である。
【００８５】
試験１は、パイル糸４の撓み度が５８％になるようにラビング室２２の相対湿度を調整した場合である。
【００８６】
試験２は、パイル糸４の撓み度が６０％になるようにラビング室２２の相対湿度を調整した場合である。
【００８７】
試験３は、パイル糸４の撓み度が６８％になるようにラビング室２２の相対湿度を調整した場合である。
【００８８】
試験４は、パイル糸４の撓み度が７８％になるようにラビング室２２の相対湿度を調整した場合である。
【００８９】
試験５は、パイル糸４の撓み度が９０％になるようにラビング室２２の相対湿度を調整した場合である。
【００９０】
試験６は、パイル糸４の撓み度が９２％になるようにラビング室２２の相対湿度を調整した場合である。
【００９１】
試験７は、パイル糸４の撓み度が１００％になるようにラビング室２２の相対湿度を調整した場合である。
【００９２】
そして、試験１〜７のラビング条件で実施したラビングの後、得られた配向膜を有するウエブ１６を、連続して２０ｍ／分で搬送しながら、配向膜上に、ディスコティック化合物ＴＥ−８の（３）とＴＥ−８の（５）の重量比で４：１の混合物に、光重合開始剤（イルガキュア９０７、日本チバガイギー（株）製）を上記混合物に対して１重量％添加した混合物の１０重量％メチルエチルケトン溶液（塗布液）を、バー塗布装置１１Ｂにて、塗布量５ｍｌ／ｍ２で塗布し、次いで、乾燥ゾーン７６Ｂ及び加熱ゾーン７８Ｂを通過させた。
【００９３】
乾燥ゾーン７６Ｂには０．１ｍ／秒の風を送り、加熱ゾーン７８Ｂは１３０°Ｃに調製した。ウエブ１６は、塗布後３秒後に乾燥ゾーン７６Ｂに入り、更に３秒後に加熱ゾーン７８Ｂに入った。ウエブ１６は加熱ゾーン７８Ｂを約３分で通過した。
【００９４】
次いで、この配向膜及び液晶層が塗布されたウエブ１６を、連続して２０ｍ／分で搬送しながら、液晶層の表面に紫外線ランプ８０により紫外線を照射した。即ち、加熱ゾーン７８Ｂを通過したウエブ１６に、紫外線ランプ８０（出力：１６０Ｗ／ｃｍ、発光長：１．６ｍ）により、照度６００ｍＷの紫外線を４秒間照射し、液晶層を架橋させた。
【００９５】
更に、配向膜及び液晶層が形成されたウエブ１６は、検査装置８４により表面の光学特性が測定され、検査され、次いで、液晶層表面に保護フィルム８８Ａがラミネート機８８により積層され、巻取り機８２により巻き取られ、光学補償フィルムが得られた。
【００９６】
【化１】
2010286604.tif 000003
【００９７】
≪輝点数の検出≫
そして、試験１〜７のそれぞれによって製造された光学補償フィルムについて輝点数を調べた。輝点数の検査装置は、ＣＣＤカメラをウエブ１６の配向膜形成層側に配置し、ウエブ１６を挟んでＣＣＤカメラに対向する位置に光源を配置する。検査はクロスニコルの偏光板でフィルムを挟んだ状態で行い、光源から光を当てて、その光の透過状態をＣＣＤカメラによって連続的に監視し、透過率が設定基準以上のものを輝点とする。また、輝点の大きさをＳ印字（５０〜７０μｍ）、及びＭ印字（７０〜１００μｍ）で分類し、Ｓ印字及びＭ印字の輝点数を調べた。
【００９８】
≪発塵量の測定≫
また、ラビング室２２に配置された除塵機７１で除塵された排気管（図示せず）に、発塵量測定装置（LIGHTHOUSE社製：Handheld3016型）を設置し、ラビング時の発塵量を測定した。発塵量は、１分間当たりの測定時間で検出される０．３μｍ以上の塵埃の個数を測定した。測定は１分測定、５秒停止で１０回の連続繰り返し測定を行い、その平均値で示した。
【００９９】
≪試験結果≫
試験結果は、図８の表の通りであり、図８の表のうち輝点数をグラフ化したものが図９であり、ラビング時の発塵状態をグラフ化したものが図１０である。
【０１００】
これらの図から、パイル糸４のラビング時における撓み度が６０％を下回った試験１は、Ｍ印字及びＳ印字の輝点数が共に急激に増加する。即ち、撓み度が６０％を下回ると、配向膜形成層に対するパイル糸４の接触面積が大きくなるので、配向性能は向上するが、ラビング時の発塵が急激に増大する。したがって、光学補償フィルムを製造したときに、配向不良に起因する輝点欠陥は抑制できても塵埃に起因する輝点欠陥が増大するので、トータル的な輝点欠陥が多くなることが分かる。
【０１０１】
一方、パイル糸の撓み度が９０％を超えた試験６及び７は、Ｍ印字及びＳ印字の輝点数が共に急激に増加する。即ち、撓み度が９０％を超えると、配向膜形成層に対するパイル糸４の接触面積が小さくなるので、発塵は抑制されるが配向不良が発生する。したがって、光学補償フィルムを製造したときに、塵埃に起因する輝点欠陥は抑制できても配向不良に起因する輝点欠陥が増大するので、トータル的に輝点欠陥が多くなることが分かる。
【０１０２】
これに対して、パイル糸の撓み度が６０〜９０％の範囲の試験２〜５は、Ｍ印字及びＳ印字の輝点数を共に低減させることができる。これは、パイル糸の撓み度が６０〜９０％の範囲に設定してラビングすることにより、発塵を抑制しつつ配向不良が発生しない十分な配向性能を確保できるためと考察される。
【０１０３】
以上のことから、パイル糸の撓み度を６０〜９０％の範囲に設定してラビングすることにより、配向不良に起因する輝点欠陥と塵埃に起因する輝点欠陥の両方を同時に解決することができる。
【０１０４】
［実施例Ｂ］
実施例Ｂは、配向不良に起因する輝点欠陥と塵埃に起因する輝点欠陥の両方を同時に解決するためには、特許文献５のようにパイル糸４の傾斜角度（２６〜４０°）に本質的な解決策があるのではなく、本発明のようにパイル糸４の撓み度に本質的な解決策があることを実証するための試験である。
【０１０５】
試験方法や測定方法は実施例Ａと同様である。
【０１０６】
≪試験結果≫
試験結果は、図１１の表の通りである。
【０１０７】
試験４は、実施例Ａの結果をそのまま載せたものであり、傾斜角度を１５°でラビング処理した。
【０１０８】
試験８は、パイル糸４の撓み度を本発明の条件を満足する７８％に維持したままパイル糸４の傾斜角度が試験４よりも小さい５°になるように設定してラビング処理した。
【０１０９】
試験９は、パイル糸４の撓み度を本発明の条件を満足する７８％に維持したままパイル糸４の傾斜角度が試験４よりも大きな３５°（特許文献５の範囲を満足）になるように設定してラビング処理した。
【０１１０】
試験１０は、パイル糸４の撓み度を本発明の条件を満足する７８％に維持したままパイル糸４の傾斜角度が試験９よりも更に大きな４０°（特許文献５の範囲を満足）になるように設定してラビング処理した。
【０１１１】
試験１１は、パイル糸４の傾斜角度を３５°に維持したまま、パイル糸４の撓み度が本発明の下限を満足しない５８％になるように設定してラビング処理した。
【０１１２】
試験１２は、パイル糸４の傾斜角度を３５°に維持したまま、パイル糸４の撓み度が本発明の上限を満足しない９２％になるように設定してラビング処理した
図１１の表の試験結果から分かるように、本願発明のパイル糸の撓み度を満足する試験４、８、９、１０はパイル糸の傾斜角度を５〜４０°の範囲で変化させても輝点数及び発塵量ともに良い結果を得ることができた。
【０１１３】
これに対して、試験１１及び１２のように特許文献５のパイル糸の傾斜角度（２６〜４０°）を満足する３５°の場合であっても、パイル糸の撓み度が本願発明の６０〜９０％の範囲を満足しないと、輝点数と発塵量の何れかが悪くなることが分かる。
【符号の説明】
【０１１４】
１…ラビング用布材、２…経糸、３…緯糸、４…パイル糸、５…基布、６…フィラメント、７…被覆層、１０…光学補償フィルムの製造ライン、１１…バー塗布装置、１６…ウエブ、２０…前室、２１…加湿手段、２２…ラビング室、２３…除湿手段、６６…送り出し機、６８…ガイドローラ、７０ラビング装置、７２…ラビングローラ、７６…乾燥ゾーン、７８…加熱ゾーン、８０…紫外線ランプ、８２…巻き取り機、８４…ローラステージ、８６、８８…バックアップローラ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
2010286604.tif 000012
【図１０】
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【図１１】
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