(57)【要約】【課題】本発明は、薄膜封止層を通して有機発光層に水分または酸素が浸透することを効果的に抑制すると共に全体的な厚さを薄型にした有機発光表示装置及びその製造方法を提供する。【解決手段】有機発光表示装置は基板本体１１１と、前記基板本体上に形成された有機発光素子７０と、前記基板本体上に形成されて前記有機発光素子をカバーする吸湿層２２０と、前記基板本体上に形成されて前記吸湿層をカバーする有機バリア層２３０と、前記基板本体上に形成されて前記有機バリア層をカバーする無機バリア層２４０とを含む。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板本体と、
前記基板本体上に形成された有機発光素子と、
前記基板本体上に形成されて前記有機発光素子をカバーする吸湿層と、
前記基板本体上に形成されて前記吸湿層をカバーする有機バリア層と、
前記基板本体上に形成されて前記有機バリア層をカバーする無機バリア層と、
を含むことを特徴とする有機発光表示装置。
【請求項２】
前記吸湿層は、一酸化ケイ素（ＳｉＯ）、一酸化カルシウム（ＣａＯ）、及び一酸化バリウム（ＢａＯ）のうちいずれか一つで形成されることを特徴とする請求項１に記載の有機発光表示装置。
【請求項３】
前記有機バリア層は、ポリマー系の素材で形成されることを特徴とする請求項１または２に記載の有機発光表示装置。
【請求項４】
前記吸湿層と前記有機バリア層は、各々熱蒸着工程を通して連続的に形成されることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の有機発光表示装置。
【請求項５】
前記熱蒸着工程のうち少なくとも１つの工程は、真空気化法を含むことを特徴とする請求項４に記載の有機発光表示装置。
【請求項６】
前記吸湿層と前記有機バリア層とを合わせた厚さは、１ｎｍ乃至１０００ｎｍの範囲内に属することを特徴とする請求項４または５に記載の有機発光表示装置。
【請求項７】
前記吸湿層は、前記有機バリア層が形成される過程で発生した水分が前記有機発光層に浸透するのを防止することを特徴とする請求項４〜６のいずれか１項に記載の有機発光表示装置。
【請求項８】
前記無機バリア層は、Ａｌ２Ｏ３、ＴｉＯ２、ＺｒＯ、ＳｉＯ２、ＡｌＯＮ、ＡｌＮ、ＳｉＯＮ、Ｓｉ３Ｎ４、ＺｎＯ、及びＴａ２Ｏ５のうち一つ以上を含む素材で形成されることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の有機発光表示装置。
【請求項９】
前記無機バリア層は、原子層蒸着（ＡＬＤ）法を用いて形成されることを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載の有機発光表示装置。
【請求項１０】
前記吸湿層、前記有機バリア層、及び前記無機バリア層を全て合わせた厚さは、１０ｎｍ乃至１０，０００ｎｍの範囲内に属することを特徴とする請求項１〜９のいずれか１項に記載の有機発光表示装置。
【請求項１１】
基板本体上に有機発光素子を形成する段階と、
熱蒸着工程を通して前記有機発光素子をカバーする吸湿層を形成する段階と、
熱蒸着工程を通して前記吸湿層をカバーする有機バリア層を形成する段階と、
そして原子層蒸着（ＡＬＤ）法を用いて前記有機バリア層をカバーする無機バリア層を形成する段階と、
を含むことを特徴とする有機発光表示装置の製造方法。
【請求項１２】
前記吸湿層は、一酸化ケイ素（ＳｉＯ）、一酸化カルシウム（ＣａＯ）、及び一酸化バリウム（ＢａＯ）のうちいずれか一つで形成されることを特徴とする請求項１１に記載の有機発光表示装置の製造方法。
【請求項１３】
前記有機バリア層は、ポリマー系の素材で形成されることを特徴とする請求項１１または１２に記載の有機発光表示装置の製造方法。
【請求項１４】
前記熱蒸着工程のうち少なくとも１つの工程は、真空気化法を含むことを特徴とする請求項１１〜１３のいずれか１項に記載の有機発光表示装置の製造方法。
【請求項１５】
前記吸湿層は、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）とケイ素ガスを反応させて形成された一酸化ケイ素（ＳｉＯ）が蒸着されて形成されることを特徴とする請求項１１〜１４のいずれか１項に記載の有機発光表示装置の製造方法。
【請求項１６】
前記熱蒸着工程を通して連続的に前記吸湿層と前記有機バリア層を形成することを特徴とする請求項１１〜１５のいずれか１項に記載の有機発光表示装置の製造方法。
【請求項１７】
前記吸湿層は、前記有機バリア層が形成される過程で発生した水分が前記有機発光層に浸透するのを防止することを特徴とする請求項１６に記載の有機発光表示装置の製造方法。
【請求項１８】
前記吸湿層と前記有機バリア層を合わせた厚さが、１ｎｍ乃至１０００ｎｍの範囲内に属するように形成されることを特徴とする請求項１１〜１７のいずれか１項に記載の有機発光表示装置の製造方法。
【請求項１９】
前記無機バリア層は、Ａｌ２Ｏ３、ＴｉＯ２、ＺｒＯ、ＳｉＯ２、ＡｌＯＮ、ＡｌＮ、ＳｉＯＮ、Ｓｉ３Ｎ４、ＺｎＯ、及びＴａ２Ｏ５のうち一つ以上を含む素材で形成されることを特徴とする請求項１１〜１８のいずれか１項に記載の有機発光表示装置の製造方法。
【請求項２０】
前記吸湿層、前記有機バリア層、及び前記無機バリア層を合わせた厚さが、１０ｎｍ乃至１０，０００ｎｍの範囲内に属するように形成されることを特徴とする請求項１１〜１９のいずれか１項に記載の有機発光表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は有機発光表示装置に関し、より詳しくは薄膜封止された有機発光表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機発光表示装置（ｏｒｇａｎｉｃ  ｌｉｇｈｔ  ｅｍｉｔｔｉｎｇ  ｄｉｏｄｅ  ｄｉｓｐｌａｙ）は、自発光特性を有し、液晶表示装置とは異なって別途の光源を要しないため、厚さと重量を減らすことができる。また、有機発光表示装置は、低い消費電力、高い輝度及び高い反応速度などの高品位特性を有するため、携帯用電子機器の次世代表示装置として注目されている。
【０００３】
有機発光表示装置は、正孔注入電極と、有機発光層と、電子注入電極と有する複数の有機発光素子（Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｌｉｇｈｔ  Ｅｍｉｔｔｉｎｇ  Ｄｉｏｄｅ）を含む。有機発光層内部において電子と正孔とが結合して生成された励起子（ｅｘｃｉｔｏｎ）が、励起状態から基底状態に落ちる時に発生するエネルギーによって発光が行われ、これを利用して有機発光表示装置は画像を表示する。
【０００４】
しかし、有機発光層は、水分または酸素のような外部環境に敏感で、有機発光層が水分及び酸素に露出される場合に有機発光表示装置の品質の低下が生じる問題がある。従って、有機発光素子を保護して有機発光層に水分または酸素が浸透するのを防止するために、有機発光素子が形成された表示基板上に封止基板を追加的なシーリング工程を通して密封合着させるか、または有機発光素子の上に厚い保護層を形成する。
【０００５】
しかし、封止基板を使用するか、または保護層を形成する場合、全ての有機発光層に水分または酸素が浸透するのを完全に防止するためには有機発光表示装置の製造工程が複雑となり、有機発光表示装置の全体的な厚さを薄く形成することが困難である。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は前述した問題を解決するためのものであって、本発明の第１の目的は薄膜封止層を通して有機発光層に水分または酸素が浸透するのを効果的に抑制すると共に、全体的な厚さを薄型にした有機発光表示装置を提供することである。
【０００７】
本発明の第２の目的は、前記薄膜封止層を簡単かつ効率的に形成できる有機発光表示装置の製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の実施形態による有機発光表示装置は、基板本体と、前記基板本体上に形成された有機発光素子と、前記基板本体上に形成されて前記有機発光素子をカバーする吸湿層と、前記基板本体上に形成されて前記吸湿層をカバーする有機バリア層と、そして前記基板本体上に形成されて前記有機バリア層をカバーする無機バリア層とを含む。
【０００９】
前記吸湿層は、一酸化ケイ素（Ｓｉｌｉｃｏｎ  ｍｏｎｏｘｉｄｅ、ＳｉＯ）、一酸化カルシウム（ＣａＯ）、及び一酸化バリウム（ＢａＯ）のうちいずれか一つで形成される。
【００１０】
前記有機バリア層は、ポリマー（ｐｏｌｙｍｅｒ）系の素材で形成できる。
【００１１】
前記吸湿層と前記有機バリア層は、各々熱蒸着工程を通して連続的に形成できる。
【００１２】
前記熱蒸着工程のうち一つ以上は、真空気化法を含むことができる。
【００１３】
前記吸湿層と前記有機バリア層を合わせた厚さは、１ｎｍ乃至１０００ｎｍの範囲内に属することができる。
【００１４】
前記吸湿層は、前記有機バリア層が形成される過程において発生した水分が前記有機発光層に浸透することを防止できる。
【００１５】
前記無機バリア層は、Ａｌ２Ｏ３、ＴｉＯ２、ＺｒＯ、ＳｉＯ２、ＡｌＯＮ、ＡｌＮ、ＳｉＯＮ、Ｓｉ３Ｎ４、ＺｎＯ、及びＴａ２Ｏ５のうち一つ以上を含む素材で形成できる。
【００１６】
前記無機バリア層は、原子層蒸着（ａｔｏｍｉｃ  ｌａｙｅｒ  ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ、ＡＬＤ）法を用いて形成できる。
【００１７】
前記吸湿層、前記有機バリア層、及び前記無機バリア層を全て合わせた厚さは、１０ｎｍ乃至１０，０００ｎｍ範囲内に属する。
【００１８】
また、本発明の実施形態による有機発光表示装置の製造方法は、基板本体上に有機発光素子を形成する段階と、熱蒸着工程を通して前記有機発光素子をカバーする吸湿層を形成する段階と、熱蒸着工程を通して前記吸湿層をカバーする有機バリア層を形成する段階と、そして原子層蒸着（ａｔｏｍｉｃ  ｌａｙｅｒ  ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ、ＡＬＤ）法を用いて前記有機バリア層をカバーする無機バリア層を形成する段階とを含む。
【００１９】
前記吸湿層は、一酸化ケイ素（Ｓｉｌｉｃｏｎ  ｍｏｎｏｘｉｄｅ、ＳｉＯ）、一酸化カルシウム（ＣａＯ）、及び一酸化バリウム（ＢａＯ）のうちいずれか一つで形成できる。
【００２０】
前記有機バリア層は、ポリマー（ｐｏｌｙｍｅｒ）系の素材で形成できる。
【００２１】
前記熱蒸着工程のうち一つ以上は、真空気化法を含むことができる。
【００２２】
前記吸湿層は、二酸化ケイ素（Ｓｉｌｉｃｏｎ  ｄｉｏｘｉｄｅ、ＳｉＯ２）とケイ素ガスを反応させて形成された一酸化ケイ素（ＳｉＯ）が蒸着されて形成できる。
【００２３】
前記熱蒸着工程を通して連続的に前記吸湿層と前記有機バリア層を形成できる。
【００２４】
前記吸湿層は、前記有機バリア層が形成される過程において発生した水分が前記有機発光層に浸透するのを防止することができる。
【００２５】
前記吸湿層と前記有機バリア層を合わせた厚さが、１ｎｍ乃至１０００ｎｍ範囲内に属するように形成できる。
【００２６】
前記無機バリア層は、Ａｌ２Ｏ３、ＴｉＯ２、ＺｒＯ、ＳｉＯ２、ＡｌＯＮ、ＡｌＮ、ＳｉＯＮ、Ｓｉ３Ｎ４、ＺｎＯ、及びＴａ２Ｏ５のうち一つ以上を含む素材で形成される。
【００２７】
前記吸湿層、前記有機バリア層、及び前記無機バリア層を合わせた厚さが、１０ｎｍ乃至１０，０００ｎｍ範囲内に属するように形成される。
【発明の効果】
【００２８】
本発明による有機発光表示装置は、薄膜封止層を通して有機発光層に水分または酸素が浸透するのを効果的に抑制すると共に全体的な厚さを薄型にすることができる。
【００２９】
また、本発明の有機発光表示装置の製造方法によれば、前記薄膜封止層を簡単かつ効率的に形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３０】
【図１】本発明の第１実施形態による有機発光表示装置の断面図である。
【図２】図１の有機発光表示装置の画素回路を示した配置図である。
【図３】図１の有機発光表示装置の部分拡大断面図である。
【図４】本発明の第１実施形態による有機発光表示装置の製造方法を説明するための工程フローチャートである。
【図５】本発明の第１実施形態による有機発光表示装置の製造方法を説明するための工程フローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００３１】
以下、添付図を参照して、本発明の実施形態について本発明が属する技術分野において通常の知識を有する者が容易に実施できるように詳しく説明する。本発明は、多様な形態に具現され、ここで説明する実施形態に限られない。
【００３２】
本発明を明確に説明するために、説明上不要な部分は省略し、明細書全体にわたって同一または類似の構成要素については同じ参照符号を付ける。
【００３３】
また、図面に示された各構成の大きさ及び厚さは、説明の便宜のために任意に示したため、本発明が必ずしも示されたものに限られない。
【００３４】
また、図面に示された各構成の大きさ及び厚さは、説明の便宜のために任意に誇張して示したため、本発明が必ずしも示されたものに限られない。
【００３５】
図面から多様な層及び領域を明確に表現するために厚さを拡大して示した。そして、図面において、説明の便宜のために、一部層及び領域の厚さを誇張して示した。層、膜、領域、板などの部分がある部分の「上」にまたは「上部」にあるという時、これは他の部分の「直ぐ上」にある場合だけでなく、その間に他の部分が介在する場合も含む。一方、ある部分が他の部分の「直ぐ上」にあるという時には、間に他の部分が介在しないことを意味する。
【００３６】
以下、図１乃至図３を参照して本発明の第１実施形態について説明する。
【００３７】
図１に示したように、本発明の第１実施形態による有機発光表示装置１００は、表示基板１１０と薄膜封止層２１０とを含む。
【００３８】
表示基板１１０は、基板本体１１１と、基板本体１１１上に形成された駆動回路部（ＤＣ）と、有機発光素子７０とを含む。有機発光素子７０は、光を放出する有機発光層７２０（図３に図示）を有して画像を表示し、駆動回路部（ＤＣ）は、有機発光素子７０を駆動する。有機発光素子７０及び駆動回路部（ＤＣ）は、図１乃至図３に示された構造に限定されず、有機発光素子７０が光を放出して画像を表示する方向により、当該技術分野の通常の知識を有する者が容易に変形実施できる範囲内で多様な構造で形成できる。
【００３９】
薄膜封止層２１０は、基板本体１１１上に各々順次に形成された吸湿層２２０、有機バリア層２３０、及び無機バリア層２４０を含む。
【００４０】
吸湿層２２０は、有機発光素子７０をカバーして最終的に有機発光素子７０を保護する。吸湿層２２０は、一酸化ケイ素（Ｓｉｌｉｃｏｎ  ｍｏｎｏｘｉｄｅ、ＳｉＯ）、一酸化カルシウム（ＣａＯ）、及び一酸化バリウム（ＢａＯ）のうちいずれか一つで形成される。
【００４１】
また、吸湿層２２０は、真空気化法のような熱蒸着工程を通して形成される。そして吸湿層２２０を形成するための熱蒸着工程は、有機発光素子７０を損傷させない温度範囲内で進められる。つまり、吸湿層２２０を形成する過程で有機発光素子７０が損傷されるのを防止することができる。
【００４２】
有機バリア層２３０は、吸湿層２２０をカバーして２次的に有機発光素子７０を保護する。有機バリア層２３０は、ポリマー（ｐｏｌｙｍｅｒ）系の素材で形成できる。ここで、ポリマー系の素材は、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリイミド、及びポリエチレンなどを含む。
【００４３】
また、有機バリア層２３０も熱蒸着工程を通して形成される。そして、有機バリア層２３０を形成するための熱蒸着工程も有機発光素子７０を損傷させない温度範囲内で進められる。
【００４４】
また、吸湿層２２０と有機バリア層２３０は、各々熱蒸着工程を通して連続的に形成できる。従って、薄膜封止層２１０の全体的な製造が比較的に容易となり、有機発光素子７０の損傷を最少化できる。
【００４５】
また、吸湿層２２０は、ポリマー系の素材を有し、熱蒸着工程を通して有機バリア層２３０を形成する時に発生する水分が有機発光素子７０内部に浸透するのを防止する。
【００４６】
また、熱蒸着工程を通して連続的に形成された吸湿層２２０と有機バリア層２３０を合わせた厚さは、１ｎｍ乃至１０００ｎｍ範囲内に属する。吸湿層２２０と有機バリア層２３０の厚さの合計が１ｎｍより小さい場合には、有機発光素子７０を安定的に保護して水分または酸素の浸透を防止するのが困難である。一方、吸湿層２２０と有機バリア層２３０の厚さの合計が１０００ｎｍより大きい場合には、有機発光表示装置１００の全体的な厚さが必要以上に厚くなる。このような条件を考慮すると、吸湿層２２０と有機バリア層２３０を合わせた厚さが３００ｎｍ乃至５００ｎｍの範囲内に属するのが最も望ましい。
【００４７】
無機バリア層２４０は、有機バリア層２３０をカバーして３次的に有機発光素子７０を保護する。無機バリア層２４０は、Ａｌ２Ｏ３、ＴｉＯ２、ＺｒＯ、ＳｉＯ２、ＡｌＯＮ、ＡｌＮ、ＳｉＯＮ、Ｓｉ３Ｎ４、ＺｎＯ、及びＴａ２Ｏ５のうち一つ以上を含む素材で形成される。
【００４８】
また、無機バリア層２４０は、原子層蒸着（ａｔｏｍｉｃ  ｌａｙｅｒ  ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ、ＡＬＤ）法を用いて形成される。原子層蒸着法によると、有機発光素子７０が損傷されないように摂氏１００度以下の温度で前述した無機物を成長させて形成できる。このように形成された無機バリア層２４０は、薄膜の密度が緻密で、水分または酸素の浸透を効果的に抑制することができる。
【００４９】
また、吸湿層２２０、有機バリア層２３０、及び無機バリア層２４０を全て合わせた厚さは、１０ｎｍ乃至１０、０００ｎｍの範囲内に属するように形成される。
【００５０】
無機バリア層２４０の厚さが厚いほど薄膜封止層２１０の全体的な透湿度は顕著に低くなるが、無機バリア層２４０を過度に厚く形成すると蒸着過程で温度が上昇して有機発光素子７０が損傷され、有機発光表示装置１００の全体的な厚さも必要以上に厚くなる。また、無機バリア層２４０の厚さが過度に薄いと、水分または酸素の浸透を効果的に抑制できなくなる。このような特性を考慮して、無機バリア層２４０は、１０μｍ以下の範囲内で適切な厚さを有するように形成される。
【００５１】
以下、本発明の第１実施形態による有機発光表示装置１００の薄膜封止層２１０が水分または酸素の浸透を防止する作用効果を具体的に説明する。
【００５２】
薄膜の密度が緻密に形成された無機バリア層２４０は、１次的に水分または酸素の浸透を抑制する。大部分の水分及び酸素は、無機バリア層２４０によって有機発光素子７０への浸透が遮断される。
【００５３】
無機バリア層２４０を通過したごく少量の水分及び酸素は、２次的に有機バリア層２３０によって遮断される。有機バリア層２３０は、無機バリア層２４０に比べて相対的に浸透防止効果は少ない。しかし、有機バリア層２３０は、浸透抑制以外に吸湿層２２０と無機バリア層２４０との間で有機発光表示装置１００の撓みによる各層間の応力を減らす緩衝層の役割も同時に果たす。つまり、有機バリア層２３０なしに吸湿層２２０の直ぐ上に無機バリア層２４０が形成されると、有機発光表示装置１００が撓むことにより吸湿層２２０と無機バリア層２４０との間に応力が生じて、この応力により吸湿層２２０または無機バリア層２４０が損傷されて薄膜封止層２１０の浸透防止機能が顕著に低下する。このように、有機バリア層２３０は、浸透抑制と共に緩衝層の役割を果たすことによって、薄膜封止層２１０が安定的に水分または酸素の浸透を防止することができるようにする。
【００５４】
有機バリア層２３０まで通過したさらにごく少量の水分及び酸素は、最終的に吸湿層２２０によって遮断される。吸湿層２２０は、吸湿層２２０自体が低い透湿度を有して水分または酸素の浸透を遮断するが、さらに吸湿層２２０に用いられている成分が、水分または酸素と結合して水分または酸素が有機発光素子の内部に浸透するのを抑制する。つまり、吸湿層２２０の素材として用いられる一酸化ケイ素（Ｓｉｌｉｃｏｎ  ｍｏｎｏｘｉｄｅ、ＳｉＯ）、一酸化カルシウム（ＣａＯ）、及び一酸化バリウム（ＢａＯ）等は、酸素原子と結合して、二酸化物になろうとする傾向が強いため、有機バリア層２３０を通過した水分または酸素と結合して、水分または酸素が有機発光素子７０の内部に浸透するのを完全に抑制することができる。
【００５５】
このような構成により、本発明の第１実施形態による有機発光表示装置１００に用いられる薄膜封止層２１０は、１０−６ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下の透湿率（ｗａｔｅｒ  ｖａｐｏｒ  ｔｒａｎｓｍｉｓｓｉｏｎ  ｒａｔｅ、ＷＷＴＲ）を十分に確保できる。
【００５６】
従って、有機発光表示装置１００は、薄膜封止層２１０を通して有機発光層７２０（図３に図示）に水分または酸素が浸透することを安定的かつ効果的に抑制すると同時に全体的な厚さを薄型にできる。
【００５７】
また、吸湿層２２０は、無機バリア層２４０と比べて相対的に柔軟な性質を有しており、吸湿層２２０も有機発光素子７０に伝えられる応力または衝撃を緩和する役割を遂行できる。
【００５８】
以下、図２及び図３を参照して、有機発光表示装置の内部構造について詳しく説明する。
【００５９】
図２及び図３に示したように、有機発光素子７０は、第１電極７１０、有機発光層７２０、及び第２電極７３０を含む。駆動回路部（ＤＣ）は、少なくとも２つの薄膜トランジスタ（ｔｈｉｎ  ｆｉｌｍ  ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ、ＴＦＴ）（Ｔ１，Ｔ２）と少なくとも一つの保存キャパシタ（Ｃ１）とを含む。薄膜トランジスタは、基本的にスイッチングトランジスタ（Ｔ１）と駆動トランジスタ（Ｔ２）とを含む。
【００６０】
保存キャパシタ（Ｃ１）は、ゲート電極１５５と同じ層に形成された第１蓄電板１５８と、ソース電極１７６及びドレイン電極１７７と同じ層に形成された第２蓄電板１７８とで構成できる。しかし、本発明の第１実施形態が必ずしもこれに限定されるのではない。従って、蓄電板１５８，１７８のうちいずれか一つが半導体層１３２と同じ層に形成でき、保存キャパシタ（Ｃ１）は、当該技術分野の通常の知識を有する者が容易に変更実施できる範囲内で多様な構造を有することができる。
【００６１】
また、図２及び図３では、一つの画素に二つの薄膜トランジスタ（Ｔ１，Ｔ２）と一つの保存キャパシタ（Ｃ１）を備えた２Ｔｒ−１Ｃａｐ構造の能動駆動（ａｃｔｉｖｅ  ｍａｔｒｉｘ、ＡＭ）型有機発光表示装置１００を示しているが、本発明の第１実施形態がこれに限定されるのではない。従って、有機発光表示装置１００は、一つの画素に三つ以上の薄膜トランジスタと二つ以上の蓄電素子を具備でき、別途の配線がさらに形成されて多様な構造を有するように形成できる。ここで、画素は、画像を表示する最小単位を言い、有機発光表示装置１００は、複数の画素を通して画像を表示する。
【００６２】
また、図２において参照符号（ＳＬ１）は、スキャンラインを示し、参照符号（ＤＬ１）は、データラインを示す。そして、参照符号（ＶＤＤ）は、電源ラインを示し、参照符号（ＩＯＬＥＤ）は、出力電流を示す。
【００６３】
以下、図１、図４、及び図５を参照して、本発明の第１実施形態による有機発光表示装置１００の製造方法を薄膜封止層２１０の形成過程を中心に説明する。
【００６４】
図１及び図４に示したように、まず、基板本体１１１上に有機発光素子７０を形成する（Ｓ１００）。次に、有機発光素子７０をカバーする吸湿層２２０を熱蒸着工程で基板本体１１１上に形成する（Ｓ２００）。この時、熱蒸着工程としては、真空気化法が使用される。また、吸湿層２２０は、一酸化ケイ素（Ｓｉｌｉｃｏｎ  ｍｏｎｏｘｉｄｅ、ＳｉＯ）、一酸化カルシウム（ＣａＯ）、及び一酸化バリウム（ＢａＯ）のうちいずれか一つで形成される。
【００６５】
図５を参照して吸湿層２２０を形成する過程を具体的に説明する。以下、吸湿層２２０の素材として一酸化ケイ素（ＳｉＯ）が用いられた場合を一例として説明する。
【００６６】
有機発光素子７０が形成された基板本体１１１を真空状態の反応器に配置する（Ｓ２１０）。また、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）とケイ素（Ｓｉ）ガスを反応器に注入（Ｓ２２０）した後、二酸化ケイ素とケイ素ガスに電気を印加して、予め定められた温度で基板本体１１１をターゲットにして蒸着を始める（Ｓ２３０）。ここで、予め定められた温度は、有機発光素子７０を損傷させない温度範囲内に属する。二酸化ケイ素とケイ素ガスは、互いに反応して一酸化ケイ素（ＳｉＯ）が形成され、この一酸化ケイ素が基板本体１１１上に蒸着されて有機発光素子７０をカバーする吸湿層２２０が形成される（Ｓ２４０）。例えば、この時の蒸着速度は３Å／ｓｅｃであり、反応機内部の真空度は１０−７ｔｏｒｒである。
【００６７】
再び、図４を参照して説明すると、吸湿層２２０をカバーする有機バリア層２３０を熱蒸着工程で基板本体１１１上に形成する（Ｓ３００）。有機バリア層２３０は、ポリマー（ｐｏｌｙｍｅｒ）系の素材で形成される。以下、有機バリア層２３０の素材としてポリイミド（ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ）が使用された場合を例として説明する。
【００６８】
ポリイミドは、熱蒸着工程を通して基板本体１１１上に蒸着されて有機バリア層２３０を形成する。この時の熱蒸着工程も有機発光素子７０を損傷させない温度範囲内で進行する。このように、吸湿層２２０と有機バリア層２３０は、各々熱蒸着工程を通して連続的に形成されるため、薄膜封止層２１０の全体的な製造が相対的に容易となり、有機発光素子７０の損傷を最少化できる。
【００６９】
また、熱蒸着工程を通してポリイミドを蒸着する時に水分が発生するが、この水分は吸湿層２２０によって有機発光素子７０の内部に浸透するのが遮断される。そして、熱蒸着工程を通して連続的に形成された吸湿層２２０と有機バリア層２３０を合わせた厚さは、１ｎｍ乃至１０００ｎｍの範囲内に属し、最も望ましくは３００ｎｍ乃至５００ｎｍの範囲内に属する。
【００７０】
次に、有機バリア層２３０をカバーする無機バリア層２４０を原子層蒸着（ＡＬＤ）法で基板本体１１１上に形成する（Ｓ４００）。無機バリア層２４０は、Ａｌ２Ｏ３、ＴｉＯ２、ＺｒＯ、ＳｉＯ２、ＡｌＯＮ、ＡｌＮ、ＳｉＯＮ、Ｓｉ３Ｎ４、ＺｎＯ、及びＴａ２Ｏ５のうち一つ以上を含む素材で形成できる。また、原子層蒸着法では、有機発光素子７０が損傷しないように摂氏１００度以下の温度で前述した無機物を成長させて形成する。
【００７１】
また、吸湿層２２０、有機バリア層２３０、及び無機バリア層２４０を全て合わせた厚さは、１０ｎｍ乃至１０，０００ｎｍ範囲内に属するように形成される。
【００７２】
このような製造方法によって、有機発光層７２０に水分または酸素が浸透することを安定的かつ効果的に抑制できる薄膜封止層２１０を簡単かつ効率的に形成できる。
【００７３】
また、有機発光表示装置１００の全体的な厚さを相対的に薄型に製造することができる。
【００７４】
以上、本発明を望ましい実施形態を通して説明したが、本発明はこれに限定されず特許請求の範囲の概念と範囲を逸脱しない限り、多様な修正及び変形が可能であることを本発明が属する技術分野に務める者なら簡単に理解できる。
【符号の説明】
【００７５】
１００  有機発光表示装置、
１１０  表示基板、
１１１  基板本体、
１３２  半導体層、
１５５  ゲート電極、
１５８  第１蓄電板、
１７６  ソース電極、
１７７  ドレイン電極、
１７８  第２蓄電板、
２１０  薄膜封止層、
２２０  吸湿層、
２３０  有機バリア層、
２４０  無機バリア層、
７０    有機発光素子、
７２０  有機発光層、
７３０  第２電極、
ＤＣ  駆動回路部、
Ｔ１、Ｔ２  薄膜トランジスタ、
Ｃ１  保存キャパシタ。
【図１】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図２】
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