(57)【要約】【課題】反射率が低く、かつ入射光の波長による反射防止性能のばらつきが少ない反射防止積層体を提供する。【解決手段】基材フィルムと、前記基材フィルム上に設けられた反射防止層とを含む反射防止積層体であって、前記反射防止層は、数平均粒子径が２００〜６００ｎｍの微粒子と、バインダーとを含み、前記反射防止層は、その面の法線方向から観察した場合において、微粒子が存在しない平坦領域と、微粒子が突出することにより形成された凸部領域とを有し、前記平坦領域から前記微粒子が前記凸部として突出している高さは、前記微粒子の粒子径の４０〜８０％である、反射防止積層体。【選択図】        図１
2010164823.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材フィルムと、前記基材フィルム上に設けられた反射防止層とを含む反射防止積層体であって、
前記反射防止層は、数平均粒子径が２００〜６００ｎｍの微粒子と、バインダーとを含み、
前記反射防止層は、その面の法線方向から観察した場合において、微粒子が存在しない平坦領域と、微粒子が突出することにより形成された凸部領域とを有し、
前記平坦領域から前記微粒子が前記凸部として突出している高さは、前記微粒子の粒子径の４０〜８０％である、反射防止積層体。
【請求項２】
前記反射防止層において、（（前記反射防止層の単位面積に含まれる前記微粒子の数）／（前記単位面積に１層の前記微粒子を格子配列した場合の前記微粒子の数））×１００（％）で表される粒子割合が、２５〜８０％である、請求項１に記載の反射防止積層体。
【請求項３】
請求項１または２に記載の反射防止積層体の製造方法であって、
前記微粒子、前記バインダー及び溶媒を含む反射防止層材料を調製し、
前記反射防止層材料を、前記基材フィルム上に塗布して塗膜を形成し、
前記塗膜中の溶媒を揮発させて反射防止層を得る
ことを含む製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、反射防止積層体に関し、特に、液晶表示装置等の表示装置の表示面の光の反射を防止するために表示面上に設けられる反射防止積層体に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置等の表示装置の表示面においては、室内の蛍光管などの外部光源から照射された光の反射が大きいと、表示装置の視認性及び美観が損なわれることがある。例えば、表示面の表面で反射した光と、表示装置内の複数の層中の界面で反射した光とが干渉することにより、干渉縞によるムラが発生し視認性及び美観を損ねることがある。従って、表示装置の視認性及び美観の向上のため、表示装置の最外層の表示面に、そのような反射や干渉を低減する層を表示面に設けることが、従来より行なわれている。
【０００３】
かかる層としては、透明基材フィルムと、その上に設けられた防眩層との積層体が種々提案されている。例えば、特許文献１には、かかる防眩層として、粒子径０．５〜２．０μｍ透光性微粒子を含む層を用い、微粒子が防眩層表面から０．１〜０．３μｍ突出した防眩フィルムが開示されている。このような防眩フィルムは、微粒子による反射方向の散乱により干渉等を低減させるものであるが、入射光の波長による防眩性能にばらつきがあるという問題があり、また反射防止性能が未だ不十分である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０００−１２１８０９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の目的は、反射率が低く、かつ入射光の波長による反射防止性能のばらつきが少ない反射防止積層体を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者は上記課題を解決するため検討した結果、反射方向の散乱を起こし得ず、従って反射防止効果が得られるとも考えられていなかった、可視光の波長に対して小さい所定範囲の大きさの微粒子を、特定の態様で含んだ積層体が、意外にも従来の防眩フィルムよりも良好な性能を有することを見出し、本発明を完成した。
即ち、本発明によれば、下記〔１〕〜〔３〕が提供される。
【０００７】
〔１〕  基材フィルムと、前記基材フィルム上に設けられた反射防止層とを含む反射防止積層体であって、
前記反射防止層は、数平均粒子径が２００〜６００ｎｍの微粒子と、バインダーとを含み、
前記反射防止層は、その面の法線方向から観察した場合において、微粒子が存在しない平坦領域と、微粒子が突出することにより形成された凸部領域とを有し、
前記平坦領域から前記微粒子が前記凸部として突出している高さは、前記微粒子の粒子径の４０〜８０％である、反射防止積層体。
〔２〕  前記反射防止層において、（（前記反射防止層の単位面積に含まれる前記微粒子の数）／（前記単位面積に１層の前記微粒子を格子配列した場合の前記微粒子の数））×１００（％）で表される粒子割合が、２５〜８０％である、〔１〕に記載の反射防止積層体。
〔３〕  〔１〕〜〔２〕に記載の反射防止積層体の製造方法であって、
前記微粒子、前記バインダー及び溶媒を含む反射防止層材料を調製し、
前記反射防止層材料を、前記基材フィルム上に塗布して塗膜を形成し、
前記塗膜中の溶媒を揮発させて反射防止層を得る
ことを含む製造方法。
【発明の効果】
【０００８】
本発明の反射防止積層体は、反射率が低く、かつ入射光の波長による反射防止性能のばらつきが少ないため、液晶表示装置等の各種の表示装置の表示面等における反射防止フィルムとして有用である。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】図１は、本発明の一実施形態にかかる反射防止積層体を、その面に垂直な面で切断した断面を概略的に示す縦断面図である。
【図２】図２は、微粒子の格子配列の態様を説明する上面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
本発明の反射防止積層体は、基材フィルムと、前記基材フィルム上に設けられた反射防止層とを有する。
【００１１】
前記基材フィルムを構成する材料としては、各種の透明樹脂を用いることができる。かかる透明樹脂とは、１ｍｍ厚で全光線透過率が８０%以上の樹脂である。例えば、脂環式構造を有する樹脂、ポリエステル樹脂、セルロース樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂等が挙げられる。
【００１２】
基材フィルムは、透明樹脂の他に、他の配合剤を含んでいてもよい。配合剤としては、格別限定は無いが、無機微粒子；酸化防止剤、熱安定剤、光安定剤、耐候安定剤、紫外線吸収剤、近赤外線吸収剤等の安定剤；滑剤、可塑剤などの樹脂改質剤；染料や顔料などの着色剤；帯電防止剤等が挙げられる。これらの配合剤は、単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができ、その配合量は本発明の目的を損なわない範囲で適宜選択され、透明樹脂１００重量部に対して、通常０〜５重量部、好ましくは０〜３重量部である。
【００１３】
基材フィルムは、単層であっても複数の層からなる積層体であってもよい。基材フィルムの厚みは、合計の厚みとして、好ましくは２０〜３００μｍである。
【００１４】
基材フィルムの、反射防止層を設ける側の表面には、反射防止層を設けるのに先立ち、表面改質処理をすることができる。表面改質処理としては、エネルギー線照射処理や薬品処理等が挙げられる。また、基材表面に凹凸構造を有していてもよい。
【００１５】
エネルギー線照射処理としては、コロナ放電処理、プラズマ処理、電子線照射処理、紫外線照射処理等が挙げられ、処理効率の点等から、コロナ放電処理、プラズマ処理が好ましい。
【００１６】
薬品処理としては、重クロム酸カリウム溶液、濃硫酸などの酸化剤水溶液中に、浸漬し、その後十分に水で洗浄する方法が挙げられる。浸漬した状態で振とうすると短時間で処理できるが、処理しすぎると表面が溶解したり、透明性が低下したりするので、適宜条件を調整することが好ましい。
【００１７】
本発明の反射防止積層体が有する反射防止層は、微粒子と、バインダーとを含む。
前記微粒子は、その数平均粒子径が２００〜６００ｎｍであり、好ましくは３００〜５００ｎｍである。かかる粒子径の微粒子を用いることにより、良好な反射防止効果を得ることができる。
【００１８】
本発明において、微粒子の粒径はなるべく均一であることが好ましい。具体的にはＣＶ値（標準偏差／平均粒径）が２０％以内であることが好ましい。
本発明において、前記微粒子の形状は、球形であることが好ましい。球形であることにより、微粒子の製造が容易となり、且つ良好な反射防止効果を得ることができる。ここで、球形であるとは、完全な球形のみならず、歪んだ球形であってもよく、その場合の長径と短径との比は１：１〜１．３：１の範囲とすることができる。
【００１９】
前記微粒子を構成する材料は、特に限定されず、各種の有機又は無機の材料を用いることができる。前記有機材料としては、アクリル樹脂、スチレン樹脂等を挙げることができる。また前記無機材料としては、二酸化珪素、酸化アンチモン（Ｖ）（Ｓｂ２Ｏ５）、ジルコニア、酸化アルミニウム、ＰＴＯ、酸化チタン等を挙げることができる。
【００２０】
本発明において、反射防止層を形成する方法は、特に限定されないが、特に好ましい方法としては、
工程(i)：微粒子、バインダー材料及び溶媒を含む反射防止層材料を調製する工程。
工程(ii)：工程(i)で得た反射防止層材料を、基材フィルム上に塗布して塗膜を形成する工程。
工程(iii)：工程(ii)で得た塗膜中の溶媒を揮発させて反射防止層を得る工程。
を含む製造方法を挙げることができる。
【００２１】
前記工程(i)において、バインダー材料とは、反射防止層のバインダーを構成しうる材料であり、バインダーを構成する樹脂、又は後の工程において重合することによりバインダーを構成しうる重合性モノマー、及びこれらの混合物を用いることができる。バインダーを構成する樹脂としては、熱硬化型樹脂、熱可塑性樹脂、電離放射線硬化型樹脂が挙げられるが、皮膜の強度、加工性の点で、熱硬化型樹脂又は電離放射線硬化型樹脂が好ましい。
【００２２】
熱硬化型樹脂としては、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン-尿素共縮合樹脂、シリコーン樹脂、ポリシロキサン樹脂が挙げられる。また、これらの熱硬化性樹脂には、架橋剤、重合開始剤等の硬化剤、重合促進剤、溶剤、粘度調整剤等を必要に応じて加えてもよい。
【００２３】
電離放射線硬化型樹脂は、分子中に重合性不飽和結合またはエポキシ基を有するプレポリマー、オリゴマーおよび／またはモノマーが、電離放射線の照射により硬化する樹脂である。電離放射線は、電磁波又は荷電粒子線のうち分子を重合又は架橋し得るエネルギー量子を有するものを指し、通常は紫外線又は電子線を用いる。
紫外線または電子線により硬化する樹脂としては特に制限はなく、従来から使用されているものの中から、適宜選択して用いることができる。紫外線硬化型樹脂としては、光重合性プレポリマー、又は光重合性モノマーと光重合開始剤や光増感剤を含有するもの、また、電子線硬化型樹脂としては、光重合性プレポリマー又は光重合性モノマーを含有するものが挙げられる。
【００２４】
前記光重合性プレポリマーとしては、例えばポリエステルアクリレート系、エポキシアクリレート系、ウレタンアクリレート系、ポリオールアクリレート系等が挙げられる。これらの光重合性プレポリマーは１種用いても良いし、２種以上を組み合わせて用いても良い。また，光重合性モノマーとしては、例えばポリメチロールプロパントリアクリレート、ポリメチロールプロパントリメタクリレート、ヘキサンジオールアクリレート、ヘキサンジオールメタクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート等が挙げられる。
本発明においては、プレポリマーとしてウレタンアクリレート系、モノマーとしてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート若しくはジペンタエリスリトールヘキサメタクリレートを用いることが好ましい。
【００２５】
光重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、α−アミロキシムエステル、テトラメチルチュウラムモノサルファイド、チオキサントン類等が挙げられる。また、光増感剤としては、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−ｎ−ブチルホスフィン等を単独又は混合して用いることができる。
【００２６】
反射防止層材料における、前記微粒子と前記バインダーとの割合、ならびに溶媒と固形分（微粒子及びバインダー等の、溶媒を揮発した後に残留する溶媒以外の成分）との割合は、後述する所定の形態を有する反射防止層が得られるよう適宜調整することができるが、バインダーに対する粒子割合が３０〜７０％であることが特に好ましい。また、溶媒と固形分との割合は粒子粒径の突出高さとの関係および塗工方式に応じて適宜調整しうる。例えば、マイクログラビアコータにより塗工する場合、おおむね固形分割合を重量比で０．１〜１０％に調整すると塗工しやすい。
【００２７】
使用される溶媒としては、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｎ-ブタノール、イソブタノール等のアルコール類；エチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、酢酸エチレングリコールモノエチルエーテル等のグリコール類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；ｎ-ヘキサン、ｎ-ヘプタン等の脂肪族炭化水素；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類；及びこれらの２種以上からなる組み合わせ；等が挙げられる。
【００２８】
反射防止層材料は、上記成分に加え、必要に応じて任意成分を含むことができる。具体的には例えば、バインダー材料の重合のための重合開始剤、架橋のための架橋剤、レベリングのためのレベリング剤等を含むことができる。レベリング剤としては、フッ素系界面活性剤やシリコーン系界面活性剤が挙げられる。フッ素系の界面活性剤としては、スリーエム社製のフロラードＦＣ-４３１等のパーフルオロアルキルスルホン酸アミド基含有ノニオン、大日本インキ社製のメガファックＦ-１７１、Ｆ-１７２、Ｆ-１７３、Ｆ-１７６ＰＦ、Ｆ-４７０、Ｆ-４７１等のパーフルオロアルキル基含有オリゴマー等が挙げられる。シリコーン系界面活性剤としては、エチレングリコール、プロピレングリコール等のオリゴマー等の各種の置換基で側鎖や主鎖の末端が変性されたポリジメチルシロキサン等が挙げられる。重合開始剤としては、公知の光重合開始剤が挙げられ、具体的にはアリールケトン系光重合開始剤（例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、アルキルアミノベンゾフェノン類、ベンジル類、ベンゾイン類、ベンゾインエーテル類、ベンジルジメチルケタール類、ベンゾイルベンゾエート類、α−アシロキシムエステル類など）；含硫黄系光重合開始剤（例えば、スルフィド類、チオキサントン類など）；アシルホスフィンオキシド系光重合開始剤；その他の光重合開始剤がある。また、光重合開始剤はアミン類などの光増感剤と組み合わせても使用できる。
光重合開始剤の含有量は、電離放射線硬化樹脂１００重量部に対して０．０１〜２０重量部、好ましくは０．１〜１０重量部である。
【００２９】
前記工程(ii)における反射防止層材料の塗布は、ダイコータ、マイクログラビアコータ、グラビアコータ、スプレーコータ等により行なうことができる。
【００３０】
前記工程(iii)における溶媒の揮発は、加熱、乾燥等の任意の方法により行なうことができる。また、バインダー材料が重合性のモノマーである場合や、ポリマーを架橋させる場合は、溶媒の揮発と同時又は前若しくは後に、加熱、エネルギー線照射等により重合及び／又は架橋の反応を行い、バインダー材料を硬化させることができる。
【００３１】
前記反射防止層は、その面の法線方向から観察した場合において、微粒子が存在しない平坦領域と、微粒子が突出することにより形成された凸部領域とを有する。
【００３２】
ここで、反射防止層を「その面の法線方向」から観察するとは、反射防止層の、基材フィルムと反対側の面を、反射防止層の法線方向から観察することを意味する。
【００３３】
この特徴を、図１を参照して説明する。図１は、本発明の一実施形態にかかる反射防止積層体を、その面に垂直な面で切断した断面を概略的に示す縦断面図である。なお、以下の反射防止積層体の構造に関する説明においては、別に断らない限り、反射防止積層体を、図１に示すように、その反射防止機能を有する面である反射防止層側を水平に上に向けた状態で説明する。従って、反射防止層を上側から観察することにより、反射防止層の面の法線方向から観察することとなる。
【００３４】
図１において、反射防止積層体１０は、基材フィルム１１と、その上面に設けられた反射防止層１２とを有し、反射防止層１２は、バインダー１７と、微粒子１５とを有している。反射防止層１２を上側から観察すると、領域１６は、微粒子が突出することにより形成された凸部により占められる凸部領域となり、その他の領域は、微粒子が存在しない平坦領域となる。
【００３５】
微粒子１５の粒径は矢印Ｈ２１で示され、平坦部分の厚さは矢印Ｈ２３で示され、平坦領域から微粒子１５が凸部として突出している高さは、矢印Ｈ２２で示される。本発明の反射防止積層体においては、（Ｈ２２／Ｈ２１）×１００で求められる値が４０〜８０（％）となる。このような突出の割合を有することにより、反射防止層表面において反射防止効果が得られる。
【００３６】
本発明では、反射防止層に含まれる微粒子の数は特に限定されないが、特に、反射防止層の単位面積に含まれる前記微粒子の数（以下において、「現実粒子数」という場合がある。）と、前記単位面積に１層の前記微粒子を格子配列した場合の前記微粒子の数（以下において「理想粒子数」という場合がある。）との比が、（現実粒子数／理想粒子数）×１００（％）で表される粒子割合として、２５〜８０％であることが特に好ましい。
【００３７】
ここで微粒子の格子配列とは、図２に示すように、微粒子を縦横に隙間無く並べた配列である。微粒子の粒子径にばらつきがある場合は、その数平均粒子径と同一の粒子径を有するものを単位面積に格子配列した場合の微粒子の数を、理想粒子数とすることができる。
【００３８】
理想粒子数は、その数平均粒子径から容易に計算することができる。現実粒子数は、得られた反射防止層を観察して求めることができる。または、反射防止層の形成に用いた反射防止層材料中の各成分の含有割合から計算することもできる。
【００３９】
本発明において、反射防止層の厚みは、微粒子の粒子径及び突出の割合に応じた所望の厚みとすることができる。
【００４０】
本発明の反射防止積層体は、基材フィルム及び反射防止層のうちの反射防止層側の表面において、反射防止効果を有する。即ち、反射防止層側の面に入射した光の反射率が低い。反射率の具体的な値としては、好ましくは０〜１．５％、より好ましくは０〜１％とすることができる。ここで反射率の測定は、分光光度計（紫外可視近赤外光光度計Ｖ−５５０、日本分光社製）を用いて入射角５°で測定した値である。
【００４１】
このような反射防止効果が得られる理由は、特に限定されないが、特定の凸部を有することにより、フィルムの厚み方向の屈折率が連続的に光の波長に比べて短い周期で変化するためであると考えられる。本発明の反射防止積層体においては、従来技術における粒子とバインダーとを含む反射防止層を有する防眩フィルムに比べて、粒子とバインダーとの屈折率の差について特段の制限が無いため、屈折率差にかかわらず、その他の所望の条件において有利な微粒子及びバインダーを適宜選択して構成することができる。従って、例えば、製造コストが低い材料を選択することにより、製造コストを低減することが可能となる。また、フィルムの物性を、反射防止以外の目的、例えば表示装置の保護に適した物性に調整、そのような目的に適った物性を兼ね備えるフィルムとすることも容易に行なうことができる。
【００４２】
本発明の反射防止積層体は、より好ましくは、波長３５０〜８００ｎｍにおいて測定波長間隔１ｎｍで測定した反射率の最大値と最小値との差が、好ましくは０．６以内、より好ましくは０．３以内とすることができる。かかる反射率の差が少ない反射防止積層体は、粒子の突出している高さを、前記微粒子の粒子径の４０〜８０％にすることにより得ることができる。かかる反射率の差が少ない反射防止積層体とすることにより、外観における色つきなどを防止し、より良好な外観を得ることができる。
【００４３】
本発明の反射防止積層体の用途は、特に限定されないが、液晶表示装置、プラズマ表示装置、エレクトロルミネッセンス表示装置、陰極管表示装置、フィールドエミッション表示装置、電子ペーパー、タッチパネル等の表示装置の表示面の部材として好ましく用いることができる。本発明の反射防止積層体は、これらの表示装置に貼付して用いることもでき、また、従来の表示装置の最外層に位置する偏光板保護フィルム、前面板などの部材を置換するものとしてこれらの表示装置に組み込み用いることもできる。
【実施例】
【００４４】
以下、実施例に基づき、本発明についてさらに詳細に説明する。なお、本発明は下記実施例に限定されるものではない。以下において、成分の量比に関する「部」及び「％」は、別に断らない限り重量部を表す。
【００４５】
＜製造例１：基材フィルムの作製＞
２種３層の多層共押出装置を使用して、最表層を構成するためのポリメチルメタクリレート樹脂（スミペックスＨＴ２０Ｙ、住友化学社製）、及び中間層を構成するための耐熱性の高いポリメチルメタクリレート樹脂（スミペックスＭＨ、住友化学社製）をそれぞれ、２０ｋｇ／ｈｒ、１０ｋｇ／ｈｒの押出量でＴ型ダイスより吐出させ、冷却し、基材フィルムを得た。得られた基材フィルムの各層の厚さは、最表層４０μｍ、中間層４０μｍ、及び最裏層４０μｍ、であり、総厚は１２０μｍであった。また、屈折率は１．４９であった。
【００４６】
＜実施例１＞
（１−１：反射防止層材料の調製）
バインダー材料（商品名「ＵＶ７０００Ｂ」、日本合成化学工業社製）１００部と、微粒子（ＳｉＯ２、シーアイ化成社製、数平均粒子径５００ｎｍ、短径に対する長径の比率１．２以下、ＣＶ値１０％）  ２２０部と、溶媒（メチルイソブチルケトン）７９３０部と重合開始剤（ｉｒｕｇａｃｕｒｅ９０７  ｃｉｂａ社製）２部を混合し、反射防止層材料を調製した。
【００４７】
（１−２：反射防止積層体の作製及び評価）
製造例１で得た基材フィルムをＡ４サイズに裁断し、その面上に、上記（１−１）で得た反射防止層材料５ｍｌをバーコータで塗布して塗膜を形成し、塗膜をオーブンで７０℃１分間乾燥後、紫外線（ピーク照度１００ｍＷ／ｃｍ２、積算光量２００ｍＪ／ｃｍ２）をあて塗膜を硬化させ、反射防止層を形成し、基材−反射防止層の層構成を有する反射防止積層体を作製した。形成された反射防止層をその面の法線方向から観察すると、微粒子が存在しない平坦領域と、微粒子が突出することにより形成された凸部領域とが存在していた。反射防止層の縦断面を観察すると、数平均粒子径である５００ｎｍの粒子径を有する微粒子が平坦領域から凸部として突出している高さは４００ｎｍであり、即ち数平均粒子径の８０％であった。反射防止層において、理想粒子数に対する現実粒子数の粒子割合は３０％であった。
【００４８】
得られた反射防止積層体について、分光光度計（紫外可視近赤外光光度計Ｖ−５５０、日本分光社製）を用いて、波長４３０〜７００ｎｍにおける入射角５°での反射率を測定し（測定波長間隔は１ｎｍ）、前記波長領域における反射率を測定した。測定された反射率の最大値及び最小値を、表１に示す。
【００４９】
＜実施例２＞
工程（１−１）において、反射防止層材料中の微粒子の量を３９５部、溶媒の量を１２１５０部に変更した他は、実施例１と同様に操作し、反射防止積層体を作製した。
形成された反射防止層をその面の法線方向から観察すると、微粒子が存在しない平坦領域と、微粒子が突出することにより形成された凸部領域とが存在していた。反射防止層の縦断面を観察すると、数平均粒子径である５００ｎｍの粒子径を有する微粒子が平坦領域から凸部として突出している高さは４００ｎｍであり、即ち数平均粒子径の８０％であった。反射防止層において、理想粒子数に対する現実粒子数の粒子割合は５０％であった。
得られた反射防止層について、実施例１と同様に反射率を測定した。測定された反射率の最大値及び最小値を、表１に示す。
【００５０】
＜実施例３＞
工程（１−１）において、反射防止層材料中の微粒子の量を３６５部、溶媒の量を４２８０部に変更した他は、実施例１と同様に操作し、反射防止積層体を作製した。
形成された反射防止層をその面の法線方向から観察すると、微粒子が存在しない平坦領域と、微粒子が突出することにより形成された凸部領域とが存在していた。反射防止層の縦断面を観察すると、数平均粒子径である５００ｎｍの粒子径を有する微粒子が平坦領域から凸部として突出している高さは２５０ｎｍであり、即ち数平均粒子径の５０％であった。反射防止層において、理想粒子数に対する現実粒子数の粒子割合は３０％であった。
得られた反射防止層について、実施例１と同様に反射率を測定した。測定された反射率の最大値及び最小値を、表１に示す。
【００５１】
＜比較例１＞
工程（１−１）において、反射防止層材料中の微粒子を、数平均粒子径１５０ｎｍのもの（ＳｉＯ２、シーアイ化成社製、短径に対する長径の比率１．２以下、ＣＶ値１０％）に変え、反射防止層材料中の微粒子の量を６９．３部、溶媒の量を５８３０部に変更し、工程（１−２）において塗膜の厚さを変更した他は、実施例１と同様に操作し、反射防止積層体を作製した。
形成された反射防止層をその面の法線方向から観察すると、微粒子が存在しない平坦領域と、微粒子が突出することにより形成された凸部領域とが存在していた。反射防止層の縦断面を観察すると、数平均粒子径である１５０ｎｍの粒子径を有する微粒子が平坦領域から凸部として突出している高さは７５ｎｍであり、即ち数平均粒子径の５０％であった。反射防止層において、理想粒子数に対する現実粒子数の粒子割合は３０％であった。
得られた反射防止層について、実施例１と同様に反射率を測定した。測定された反射率の最大値及び最小値を、表１に示す。
【００５２】
＜比較例２＞
工程（１−１）において、反射防止層材料中の微粒子を、数平均粒子径８０ｎｍのもの（ＳｉＯ２、シーアイ化成社製、短径に対する長径の比率１．２以下、ＣＶ値１０％）に変え、反射防止層材料中の微粒子の量を３４．４部、溶媒の量を８９１５部に変更し、工程（１−２）において塗膜の厚さを変更した他は、実施例１と同様に操作し、反射防止積層体を作製した。
形成された反射防止層をその面の法線方向から観察すると、微粒子が存在しない平坦領域と、微粒子が突出することにより形成された凸部領域とが存在していた。反射防止層の縦断面を観察すると、数平均粒子径である８０ｎｍの粒子径を有する微粒子が平坦領域から凸部として突出している高さは４０ｎｍであり、即ち数平均粒子径の５０％であった。反射防止層において、理想粒子数に対する現実粒子数の粒子割合は３０％であった。
得られた反射防止層について、実施例１と同様に反射率を測定した。測定された反射率の最大値及び最小値を、表１に示す。
【００５３】
【表１】
2010164823.tif 000003
【００５４】
表１の結果から明らかな通り、数平均粒子径及びその突出している高さの割合が本発明の規定の範囲内である実施例１〜３においては、それらのいずれかが本発明の規定の範囲外である比較例１〜２に比べて、反射率が低く且つ波長４３０〜７００ｎｍの領域において均一であることが分かる。
【符号の説明】
【００５５】
１０  反射防止積層体
１１  基材フィルム
１２  反射防止層
１５  微粒子
１６  凸部領域
１７  バインダー
【図１】
2010164823.tif 000004
【図２】
2010164823.tif 000005