(57)【要約】【課題】真空チャンバー内の加熱手段から真空ゲートバルブへの伝熱を防いで真空ゲートバルブを効果的に保護する真空ゲートバルブ保護装置を提供することを目的とする。【解決手段】成膜チャンバー４Ｃと前段バッファチャンバー４Ｂとの間で開閉する真空ゲートバルブ７を保護する真空ゲートバルブ保護装置１０において、成膜チャンバー４Ｃ内に設けられると共に、加熱ヒータ９と成膜チャンバー４Ｃとの間における基板Ｗの経路Ｒｔ上への進出及び経路Ｒｔからの退避が可能であり、基板Ｗの経路Ｒｔ上に進出した状態で加熱ヒータ９側を向いて加熱ヒータ９からの熱線を反射する反射板２３を備える。【選択図】図４
2010199211.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
隣接する複数の真空チャンバー間を通過する基板の経路を開閉する真空ゲートバルブを、前記真空チャンバー内に設けられた加熱手段から保護する真空ゲートバルブ保護装置において、
前記真空ゲートバルブよりも前記加熱手段側に設けられると共に、前記基板の経路上への進出及び前記経路からの退避が可能なシールド部を備え、
前記シールド部は、前記基板の経路上に進出した状態で前記加熱手段側を向いて前記加熱手段からの熱線を反射する反射面を有することを特徴とするゲートバルブ保護装置。
【請求項２】
前記シールド部は、前記基板の経路上に進出した状態で前記真空ゲートバルブ側を向いて前記熱線を吸収する輻射冷却部を更に有することを特徴とする請求項１記載のゲートバルブ保護装置。
【請求項３】
前記シールド部を前記真空チャンバー内にて揺動させることにより、前記基板の経路上への進出及び前記経路からの退避を可能とする揺動機構を更に備えることを特徴とする請求項１または２記載のゲートバルブ保護装置。
【請求項４】
前記真空チャンバーの外壁に回転自在に取り付けられると共に、前記シールド部を前記基板の経路上への進出及び前記経路からの退避が可能となるように揺動自在に支持する軸部を更に備え、
前記輻射冷却部は、冷却媒体が流動する冷却媒体流動管を有し、
前記軸部には、前記冷却媒体流動管に前記冷却媒体を供給する冷却媒体導入部及び冷却媒体を排出する冷却媒体排出部が設けられていることを特徴とする請求項２記載のゲートバルブ保護装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、複数の真空チャンバーを有する成膜装置などに適用され、複数の真空チャンバー間で開閉する真空ゲートバルブを真空チャンバー内の加熱手段から保護する真空ゲートバルブ保護装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、インラインタイプの成膜装置等は基板が通過する複数の真空チャンバーを備えており、隣設の真空チャンバー同士の間には、真空チャンバーそれぞれの真空状態を保持するためにチャンバーゲートバルブ（「真空ゲートバルブ」ともいう）が設けられている。この種の真空ゲートバルブの耐熱仕様は、真空シールの機能を有したＯリングの耐熱温度によって決まり、通常、使用温度の上限は９０℃程度であり、また、水冷機能を備えた真空ゲートバルブであっても３００℃程度が限界であった。
【０００３】
近年、太陽電池発電層などの高温成膜においては、基板温度として４５０℃〜５５０℃の成膜温度を要求されている。基板温度が５５０℃の場合、チャンバー内のヒータ設定温度は、５５０℃〜６００℃にまで達するため、真空チャンバー内の走行装置や真空ゲートバルブについては、この雰囲気に対する耐熱対策が必要である。
【０００４】
ここで、真空ゲートバルブの構造を検証すると、真空ゲートバルブのＯリングは、ゲートバルブの弁体側か、あるいは、弁体を案内するゲートバルブ本体側に取り付けられており、いずれの場合も、Ｏリングの取り付け側とＯリングの当たり面側との双方を冷却する必要がある。従って、どうしても可動体である弁体側に冷却機構が必要になる。しかしながら、真空を維持した上で、さらに、可動体である弁体側で耐熱性を確保するのは難しく、更に、弁体には頻繁な開閉動作に耐え得る耐久性も必要であるため、弁体側に冷却機構を設けることは非常に難しかった。
【０００５】
一方で、特許文献１に記載のように、真空ゲートバルブそのものに冷却構造を設けることなくヒータの熱から真空ゲートバルブを保護する装置が知られている。この種の保護装置は、例えば、真空ゲートバルブに隣接して熱遮蔽用のゲートバルブを設け、熱遮蔽用のゲートバルブでヒータの熱を真空ゲートバルブから遮蔽して真空ゲートバルブを保護する構造である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開平７−３７８２７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、従来の保護装置では、ヒータからの熱線が熱遮蔽用のゲートバルブで吸収されてしまい、その結果、熱遮蔽用のゲートバルブから真空ゲートバルブに伝熱される可能性も高くなる。従って、従来の保護装置では、ヒータ（加熱手段）からの伝熱を防いで真空ゲートバルブの効果的な保護を図ることは難しかった。
【０００８】
本発明は、以上の課題を解決することを目的としており、真空チャンバー内の加熱手段から真空ゲートバルブへの伝熱を防いで真空ゲートバルブを効果的に保護する真空ゲートバルブ保護装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、隣接する複数の真空チャンバー間を通過する基板の経路を開閉する真空ゲートバルブを、真空チャンバー内に設けられた加熱手段から保護する真空ゲートバルブ保護装置において、真空ゲートバルブよりも加熱手段側に設けられると共に、基板の経路上への進出及び経路からの退避が可能なシールド部を備え、シールド部は、基板の経路上に進出した状態で加熱手段側を向いて加熱手段からの熱線を反射する反射面を有することを特徴とする。
【００１０】
真空ゲートバルブは、基板の経路を閉じているときに加熱手段の熱に晒される。真空ゲートバルブ保護装置のシールド部は、真空ゲートバルブよりも加熱手段側に設けられており、真空ゲートバルブが閉じているときに、基板の経路上に進出する。ここでシールド部は、加熱手段側を向いて加熱手段からの熱線を反射する反射面を有するので、熱線を吸収しながら遮蔽する従来の保護装置に比べて確実に真空ゲートバルブへの伝熱を防ぐことができ、真空ゲートバルブを効果的に保護することができる。
【００１１】
さらに、シールド部は、基板の経路上に進出した状態で真空ゲートバルブ側を向いて熱線を吸収する輻射冷却部を更に有すると好適である。加熱手段からの回り込みにより放射される熱線を輻射冷却部で吸収することで真空ゲートバルブの冷却効果は高まり、真空ゲートバルブを、より効果的に保護することができる。
【００１２】
さらに、シールド部を真空チャンバー内にて揺動させることにより、基板の経路上への進出及び経路からの退避を可能とする揺動機構を更に備えると好適である。シールド部の進出及び退避をシールド部の揺動で行うことができるので、例えば、シールド部が基板の経路に直交する方向にスライドして退避する場合に比べて、経路に直交する方向での退避領域が小さくなり、特に、基板の経路に沿った方向に退避領域を形成できるため、真空チャンバー内でのレイアウト上の効率がよくなる。
【００１３】
さらに、真空チャンバーの外壁に回転自在に取り付けられると共に、シールド部を基板の経路上への進出及び経路からの退避が可能となるように揺動自在に支持する軸部を更に備え、輻射冷却部は、冷却媒体が流動する冷却媒体流動管を有し、軸部には、冷却媒体流動管に冷却媒体を供給する冷却媒体導入部及び冷却媒体を排出する冷却媒体排出部が設けられていると好適である。シールド部は、揺動することで経路上に進出及び退出し、その際に、輻射冷却部の冷却媒体流動管も揺動する。冷却媒体流動管への冷却媒体の供給及び排出は、揺動の支点となる軸部に設けられた冷却媒体導入部及び冷却媒体排出部を介して行われる。従って、冷却媒体管の揺動に際して冷却媒体の導入経路または排出経路には回転方向のみ自在とすることで、例えば、冷却媒体流動管を伸縮させる力、あるいは曲げる力は働かない。その結果として、冷却媒体流動管の損傷が防止されて真空ゲートバルブ保護装置の寿命が延び、長期的に安定した状態での真空ゲートバルブの保護が可能になる。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、真空チャンバー内の加熱手段から真空ゲートバルブへの伝熱を防いで真空ゲートバルブを効果的に保護することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明の実施形態に係る成膜装置を模式的に示す説明図である。
【図２】図１のＩＩ−ＩＩ線に沿った断面図である。
【図３】図２のＩＩＩ−ＩＩＩ線に沿った断面図である。
【図４】図２のＩＶ−ＩＶ線に沿った断面図である。
【図５】図２のＶ−Ｖ線に沿った端面図である。
【図６】真空ゲートバルブ保護装置の拡大断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、本発明に係る真空ゲートバルブ保護装置の好適な実施形態について図面を参照しながら説明する。まず、本実施形態に係る真空ゲートバルブ保護装置が適用される成膜装置について説明する。
【００１７】
図１に示されるように、成膜装置１は、基板Ｗに、種々の蒸着法により成膜する装置であり、通称、インラインタイプと呼ばれる搬送形態を採用している。成膜装置１は、架台３上に設置された複数のチャンバー４Ａ，４Ｂ，４Ｃ，４Ｄ，４Ｅを備えており、各チャンバー４Ａ〜４Ｅ内には、所定の経路Ｒｔに沿ってキャリアＲを搬送する駆動ローラ５（図２参照）及び従動ローラ６が設置されている。キャリアＲとは、トレイＴ及び基板Ｗを含む搬送体である。
【００１８】
複数のチャンバー４Ａ〜４Ｅの役割はそれぞれ異なり、キャリアＲが通過する経路Ｒｔの上流側から順番にロードロックチャンバー４Ａ、前段バッファチャンバー４Ｂ、成膜チャンバー４Ｃ、後段バッファチャンバー４Ｄ、アンロードロックチャンバー４Ｅが設けられている。各チャンバー４Ａ〜４Ｅは、それぞれ開閉可能は真空ゲートバルブ７によって区画されている。基板Ｗは、トレイＴに保持された状態で、所定の経路Ｒｔに沿って搬送され、各チャンバー４Ａ〜４Ｅ間を通過する。なお、図１に示される白抜き矢印は、基板Ｗの搬送方向を示している。
【００１９】
ロードロックチャンバー４Ａ及び前段バッファチャンバー４Ｂには、加熱ヒータ（加熱手段）９が取り付けられており、搬送中の基板Ｗは３５０°Ｃ程度にまで加熱される。所例の温度まで加熱された基板Ｗは、成膜チャンバー４Ｃに搬入される。
【００２０】
成膜チャンバー４Ｃは、互いに連通する三つの真空チャンバーからなり、成膜チャンバー４Ｃの天井には、加熱ヒータ（加熱手段）９が設けられており、成膜チャンバー４Ｃ内は、５００°Ｃ〜５５０℃程度の温度雰囲気に保持されている。中央の成膜チャンバー４Ｃの底部には、種々の蒸着法による蒸着装置が設けられ、蒸着粒子によって基板Ｗの成膜が行われる。
【００２１】
成膜後の基板Ｗは、後段バッファチャンバー４Ｄに排出される。後段バッファチャンバー４Ｄには、水冷板が設置されており、基板Ｗは、後段バッファチャンバー４Ｄ内で輻射により徐々に冷却される。その後、基板Ｗは、調圧の後にアンロードロックチャンバー４Ｅを経て成膜装置１外に搬出される。
【００２２】
加熱ヒータ９が設置されているロードロックチャンバー４Ａ、前段バッファチャンバー４Ｂ及び成膜チャンバー４Ｃには、真空ゲートバルブ７を加熱ヒータ９の熱から保護する真空ゲートバルブ保護装置１０（図２参照）が設けられている。各真空ゲートバルブ保護装置１０は、同様の構成からなるため、前段バッファチャンバー４Ｂと成膜チャンバー４Ｃとの間に設けられている真空ゲートバルブ７を保護する真空ゲートバルブ保護装置１０、特に、成膜チャンバー４Ｃの入り口側に配置された真空ゲートバルブ保護装置１０を代表して説明する。
【００２３】
図２及び図４に示されるように、真空ゲートバルブ７は、前段バッファチャンバー４Ｂと成膜チャンバー４Ｃとの間に設置された弁室７ａと、弁室７ａ内を上下方向に移動する弁体７ｂと、弁体７ｂの駆動源となるピストンシリンダ機構７ｃと、弁体７ｂに装着された真空シール機能を有するＯリング７ｄと、を備えている。前段バッファチャンバー４Ｂと成膜チャンバー４Ｃとの対面側の各外壁４ａには、キャリアＲの受け渡しが行われる基板通過口４ｂが設けられており、弁室７ａには、各基板通過口４ｂに連通するように、キャリアＲが通過する開口７ｅが形成されている。弁体７ｂは、弁室７ａの一方の開口７ｅを開閉可能に摺動し、弁体７ｂの周縁に設けられたＯリング７ｄは、弁室７ａの開口７ｅ周りの当り面に当接することで成膜チャンバー４Ｃを真空シールする。弁体７ｂに設けられたＯリング７ｄの耐熱性は１５０℃程度であり、Ｏリング７ｄを加熱ヒータ９から保護するために真空ゲートバルブ保護装置１０が設けられている。
【００２４】
図２、図３及び図６に示されるように、真空ゲートバルブ保護装置１０は、真空ゲートバルブ７よりも加熱ヒータ９側に設けられた長尺な板状の耐熱シールド部（シールド部）１１を備えている。耐熱シールド部１１は、キャリアＲが通過する経路Ｒｔに対して横方向に交差するように配置されている。耐熱シールド部１１の左右の端部は、それぞれアーム１３の先端に固定されている。左右のアーム１３は、キャリアＲの経路Ｒｔに沿って延在し、アーム１３の基端には、揺動の支点となる軸部１５が固定されている。左右の軸部１５は、基板Ｗの経路Ｒｔに直交する同一の軸線Ｌ上に配置されている。
【００２５】
軸部１５は、磁性流体軸受１７を介して成膜チャンバー４Ｃの左右の外壁４ｄ，４ｄに回転自在で、且つ、真空シール性を保持可能に取り付けられている。軸部１５は、更に外壁４ｄを貫通して成膜チャンバー４Ｃの外側に突き出しており、成膜チャンバー４Ｃから突き出した部分には、軸線Ｌに直交する突き出たレバー部１９（図３及び図５参照）が設けられている。レバー部１９には、ピストンシリンダ機構２１のピストンロッド２１ａが取り付けられている。レバー部１９は、ピストンロッド２１ａの往復動によって揺動し、さらに、レバー部１９の揺動に伴って軸部１５が所定の回転角だけ回転往復動する。
【００２６】
軸部１５の回転に伴ってアーム１３が揺動し、その結果、耐熱シールド部１１は揺動する。耐熱シールド部１１は、基板Ｗの経路Ｒｔ上に進出した位置（以下、「シールド位置」という）Ｐ１と、基板Ｗの経路Ｒｔから上方に退避して基板Ｗの通過に干渉しない位置（以下、「退避位置」という）Ｐ２との間での揺動が可能となるように設定されている。なお、シールド位置Ｐ１は、真空ゲートバルブ７の弁体７ｂに対向するように近接した位置である。アーム１３、軸部１５、レバー部１９、ピストンシリンダ機構２１によって耐熱シールド部１１を揺動させる揺動機構２２が構成される。
【００２７】
図６に示されるように、耐熱シールド部１１は、断面略コ字状の二層の反射板２３，２４を有し、内側の反射板２４の更に内側には、冷却板２５が装着されている。二枚の反射板２３，２４は、鏡面処理が施された耐熱性の金属板からなり、所定の隙間を空けて重ねられている。外側の反射板２３は、耐熱シールド部１１がシールド位置Ｐ１に停止している状態で、成膜チャンバー４Ｃの天井部分に固定された加熱ヒータ９側を向く反射面２３ａを有する。一方で、冷却板２５は、銅板などの熱伝導率の高い金属板からなり、耐熱シールド部１１がシールド位置Ｐ１に停止している状態で、真空ゲートバルブ７の弁体７ｂに対面する。
【００２８】
また、耐熱シールド部１１は、冷却板２５に設置された冷却水管（冷却媒体流動管）２７を備えている。冷却水管２７は銅管などの熱伝導率の高い管からなり、左右に蛇行（図３参照）するようにして冷却板２５に固定されている。冷却水管２７内は冷却水（冷却媒体）が流動し、冷却水管２７の上流側の端部は、一方の軸部１５内に形成された冷却水導入孔（冷却媒体導入部）１５ａに接続されている。また、冷却水管２７の下流側の端部は他方の軸部１５内に形成された冷却水排出孔（冷却媒体排出部）１５ｂに接続されている。本実施形態に係る輻射冷却部２８は、冷却板２５及び冷却水管２７を備えて構成される。
【００２９】
図２及び図３に示されるように、成膜チャンバー４Ｃの外側に突き出した一方の軸部１５の先端には、ロータリージョイント２９を介して冷却水導入管（冷却媒体導入管）３１が接続されており、冷却水の大気間導入が行われる。冷却水導入管３１は所定位置に固定されており、低温の冷却水は、冷却水導入管３１から軸部１５の冷却水導入孔１５ａを介して耐熱シールド部１１の冷却水管２７に導入される。
【００３０】
また、成膜チャンバー４Ｃの外側に突き出した他方の軸部１５の先端には、ロータリージョイント２９を介して冷却水排出管（冷却媒体排出管）３３が接続されており、耐熱シールド部１１の冷却水管２７を流動することで加温された冷却水は、軸部１５の冷却水導入孔１５ａを介して冷却水排出管３３に排出される。
【００３１】
次に、真空ゲートバルブ７の開閉動作に伴う真空ゲートバルブ保護装置１０の動作及び作用について説明する。インラインタイプの搬送形態を採用する成膜装置１では、キャリアＲは各チャンバー４Ａ〜４Ｅ間を非常に高速で通過する。そのため、真空ゲートバルブ７の動作形態も、基板Ｗの通過時間に合わせて、入り側及び出側で交互に高速で開閉する態様になる。なお、真空ゲートバルブ７の開閉時間（間隔）はタクトタイムと呼ばれ、通常は、６０秒前後に設定されるため、真空ゲートバルブ７の作動サイクルは、連続運転の場合には、３００００回／月以上にも及び耐久性が重要視される。
【００３２】
前段バッファチャンバー４Ｂと成膜チャンバー４Ｃとの間に設けられた真空ゲートバルブ７の場合、基板Ｗが弁室７ａを通過するタイミングに合わせて弁体７ｂを引き下げ、基板Ｗの経路Ｒｔを開放する。真空ゲートバルブ保護装置１０は、基板Ｗが弁室７ａを通過して成膜チャンバー４Ｃ内に入ると、基板Ｗの経路Ｒｔ上に進出するように耐熱シールド部１１を揺動させて倒し、耐熱シールド部１１をシールド位置Ｐ１にて保持する。
【００３３】
真空ゲートバルブ７は、耐熱シールド部１１の揺動と同じタイミングで、または、耐熱シールド部１１がシールド位置Ｐ１に保持された後で弁体７ｂを上昇させて基板Ｗの経路Ｒｔを閉鎖する。耐熱シールド部１１の反射板２３は、シールド位置Ｐ１に停止した状態で成膜チャンバー４Ｃ内の加熱ヒータ９側を向いている。従って、加熱ヒータ９から照射された近赤外線や遠赤外線などの熱線は、反射板２３に反射されて真空ゲートバルブ７への到達が阻止される。
【００３４】
また、冷却水管２７が配管された冷却板２５は、シールド位置Ｐ１に停止した状態で真空ゲートバルブ７の弁体７ｂ側を向いている。従って、冷却板２５及び冷却水管２７は、真空ゲートバルブ７の弁体７ｂや弁室７ａから放射された熱線を吸収すると共に、加温された冷却水を排出することで輻射冷却が可能になり、真空ゲートバルブ７を効果的に冷却して保護する。
【００３５】
前段バッファチャンバー４Ｂ内で、後続の基板Ｗが近づくと、真空ゲートバルブ７は弁体７ｂを引き下げ、真空ゲートバルブ保護装置１０は、耐熱シールド部１１を持ち上げて基板Ｗの経路Ｒｔを開放する。なお、真空ゲートバルブ７の弁体７ｂが基板Ｗの経路Ｒｔを開放した状態、すなわち、弁室７ａの開口７ｅから外れた状態では、弁体７ｂのＯリング７ｄは弁室７ａ内に隠れてしまい、加熱ヒータ９に晒されることはない。従って、基板Ｗの経路Ｒｔが開放されている状態では、弁体７ｂを保護しなくても足りる。
【００３６】
上述の真空ゲートバルブ保護装置１０によれば、基板Ｗの経路Ｒｔ上に進出した耐熱シールド部１１の反射面２３ａが加熱ヒータ９側を向いて加熱ヒータ９からの熱線を反射する。従って、熱線を遮蔽する際に吸収してしまうような保護装置に比べて効率良く真空ゲートバルブ７への伝熱を防ぐことができ、高温雰囲気（例えば、ヒータの設定温度が５５０℃〜６００℃にも達する温度雰囲気）でも真空ゲートバルブ７に装着されたＯリング７ｄを効果的に保護することができる。その結果、真空の保持や耐久性が要求される真空ゲートバルブ７に、耐熱性を高めるために更に冷却機構を設けるというリスクを負わなくてもよくなり、真空保持の確実性と耐久性の向上との両立を図り易い。
【００３７】
さらに、本実施形態に係る耐熱シールド部１１は、反射面２３ａを有する反射板２３に加えて、加熱ヒータ９からの回り込みにより放射される熱線を吸収する輻射冷却部２８を備えるので、加熱ヒータ９からの熱遮蔽と弁体７ｂ側への冷却輻射の二重の熱遮蔽を行うことが可能になり、真空ゲートバルブ７の冷却効果が高まり、真空ゲートバルブ７を効果的に保護することができる。
【００３８】
また、本実施形態に係る反射板２３は、熱線を反射する反射面２３ａを有しているので熱吸収を抑えることができ、反射板２３の温度上昇も抑えられる。特に、反射板２３の裏側には、冷却板２５との間に別の反射板２４が設けられて二層構造になっており、更に反射板２３と反射板２４との間には隙間が形成されているため、反射板２３から裏側の冷却板２５への伝熱は抑えられる。
【００３９】
また、本実施形態では、耐熱シールド部１１は、成膜チャンバー４Ｃ内で揺動機構２２によって揺動されることで、基板Ｗの経路Ｒｔ上への進出及び経路Ｒｔからの退避が行われる。その結果、例えば、耐熱シールド部１１が基板Ｗの経路Ｒｔに直交する方向にスライドして退避する場合に比べて、経路Ｒｔに直交する方向での退避領域が小さくなり、特に、基板Ｗの経路Ｒｔに沿った方向に退避領域を形成できるため、成膜チャンバー４Ｃ内でのレイアウト上の効率がよくなる。
【００４０】
また、冷却水管２７は、冷却板２５に固定されて反射板２３と一緒に揺動する。冷却水管２７への冷却水の導入及び排出は、揺動の支点となる軸部１５に設けられた冷却水導入孔１５ａ及び冷却水排出孔１５ｂを介して行われる。従って、冷却水管２７の揺動に際して冷却水の導入経路または排出経路には回転方向のみ自在とすることで、例えば、冷却水管２７を伸縮させる力、あるいは曲げる力は働かない。その結果として、冷却水管２７の損傷が防止されて真空ゲートバルブ保護装置１０の寿命が延び、長期的に安定した状態での真空ゲートバルブ７の保護が可能になる。
【００４１】
また、真空ゲートバルブ７と真空ゲートバルブ保護装置１０とは、分離独立しているため、異なる開閉機構の真空ゲートバルブ７の保護装置としても適用可能である。更に、後段バッファチャンバー４Ｄとアンロードロックチャンバー４Ｅとの間に設けられる真空ゲートバルブ７については、加熱ヒータ（加熱手段）９が無いため、真空ゲートバルブ７の対熱対策は不要である。そして、本実施形態では、真空ゲートバルブ７と真空ゲートバルブ保護装置１０とを分離独立して構成できるため、真空ゲートバルブ７自体は総て対熱対策無しの一種類の態様を利用することができ、製造コスト的にも有利である。
【００４２】
以上、本発明をその実施形態に基づき具体的に説明したが、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。例えば、上記実施形態では、可動体である弁体側にＯリングを装着した真空ゲートバルブを保護する形態にて説明したが、弁室側にＯリングを装着した真空ゲートバルブを保護する形態であってもよい。
【符号の説明】
【００４３】
４Ｃ…成膜チャンバー、４Ｂ…前段バッファチャンバー、４ｄ…成膜チャンバーの左右の外壁、７…真空ゲートバルブ、９…加熱ヒータ（加熱手段）、１０…真空ゲートバルブ保護装置、１１…耐熱シールド部（シールド部）、１５…軸部、１５ａ…冷却水導入孔（冷却水導入部）、１５ｂ…冷却水排出孔（冷却水排出部）、２２…揺動機構、２３ａ…反射面、２７…冷却水管（冷却媒体流動管）、２８…輻射冷却部、Ｗ…基板、Ｒｔ…基板の経路。
【図１】
2010199211.tif 000003
【図２】
2010199211.tif 000004
【図３】
2010199211.tif 000005
【図４】
2010199211.tif 000006
【図５】
2010199211.tif 000007
【図６】
2010199211.tif 000008