(57)【要約】【課題】組立調整に時間がかからない構成とし、ウェハ搬送装置とのウェハ受け渡し時間も大幅に短縮したプリアライナ装置によるウェハ搬送システムを提供すること。【解決手段】ウェハを保持して回転させ、センサによって前記ウェハの外周を検出し、前記センサの検出情報を用いて少なくとも前記ウェハを所望の方向へと回転させるプリアライナ装置において、前記ウェハを保持する把持部材１に、前記ウェハの裏面と接触してこれを吸着保持する吸着面１２が形成され、かつ前記ウェハを前記吸着面１２へ搬送するウェハ搬送装置のエンドエフェクタ１３が進入可能な凹部１４が形成されたプリアライナ装置とした。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ウェハを保持して回転させ、センサによって前記ウェハの外周を検出し、前記センサの検出情報を用いて少なくとも前記ウェハを所望の方向へと回転させるプリアライナ装置において、
前記ウェハを保持する把持部材に、前記ウェハの裏面と接触してこれを吸着保持する吸着面が形成され、かつ前記ウェハを前記吸着面へ搬送するウェハ搬送装置のエンドエフェクタが進入可能な凹部が形成されたこと、を特徴とするプリアライナ装置。
【請求項２】
前記凹部は、前記エンドエフェクタの厚みよりも大きい段差と、前記エンドエフェクタの幅よりも大きい幅と、を有する形状であることを特徴とする請求項１記載のプリアライナ装置。
【請求項３】
前記エンドエフェクタは、パドル形状に形成され、前記ウェハの裏面を吸着して前記ウェハを搬送するものであることを特徴とする請求項１記載のプリアライナ装置。
【請求項４】
前記把持部材の周囲に、前記ウェハを支持したとき前記ウェハの裏面が前記吸着面の上面よりも高くなる位置まで上昇可能であって、かつ前記ウェハが前記吸着面に保持されているとき前記ウェハの裏面よりも低い位置まで下降可能なリフタを備えたことを特徴とする請求項１記載のプリアライナ装置。
【請求項５】
前記凹部が、前記把持部材に２箇所以上形成されたことを特徴とする請求項１記載のプリアライナ装置。
【請求項６】
請求項１記載のプリアライナ装置と前記エンドエフェクタを有するウェハ搬送装置とを備えたことを特徴とするウェハ搬送システム。
【請求項７】
請求項６記載のウェハ搬送システムを備えたことを特徴とする半導体製造装置。
【請求項８】
請求項６記載のウェハ搬送システムを備えたことを特徴とする半導体検査装置。
【請求項９】
ウェハを吸着する吸着面を有し、前記吸着面に前記ウェハを搬送可能なウェハ搬送装置のエンドエフェクタよりも大きい凹部が形成された把持部材と、前記ウェハを支持したとき前記ウェハの裏面が前記吸着面の上面よりも高くなる位置まで上昇可能であって前記ウェハが前記吸着面に保持されているとき前記ウェハの裏面よりも低い位置まで下降可能なリフタと、前記把持部材を回転させる旋回機構と、前記把持部材が把持した前記ウェハの外周を検出するセンサと、を備え、前記センサの検出情報を用いて少なくとも前記ウェハを所望の方向へと回転させるプリアライナ装置において前記ウェハをアライメントする方法であって、
前記エンドエフェクタが前記凹部に進入することで前記ウェハを前記吸着面に載置し、
前記吸着面で前記ウェハを吸着し、
前記ウェハを吸着した前記把持部材を回転させ、
前記回転を行ないながら前記センサで前記ウェハの外周を検出し、
前記センサからの前記ウェハの外周の情報をもとに前記ウェハを所望の方向に回転させ、
前記吸着面が前記ウェハの吸着を開放し、
前記リフタで前記ウェハを前記吸着面よりも高く支持し、
前記凹部が前記エンドエフェクタの進入方向に向くよう前記把持部を回転させ、
前記リフタが前記ウェハを前記吸着面に載置し、
前記エンドエフェクタが前記凹部に進入することで前記ウェハを取り去ることを特徴とするウェハのアライメント方法。
【請求項１０】
請求項９記載のウェハのアライメント方法において、前記リフタが前記ウェハを前期吸着面に載置してから、前記エンドエフェクタが前記ウェハを取り去るまでの間、前記吸着面が再び前記ウェハを吸着することを特徴とするウェハのアライメント方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体の製造装置や検査装置に使用され、ウェハのセンタリングやノッチ等の角度合わせを行うプリアライナ装置と、そのプリアライナ装置に対してウェハを搬送するウェハ搬送装置とからなるウェハ搬送システムに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
プリアライナ装置は、半導体製造装置もしくは検査装置において、ウェハの旋回方向の位置決めやウェハ搬送経路におけるウェハ中心位置合わせを行う装置であって、ウェハ搬送装置と組み合わせてウェハ搬送システムとして使用されることが多い。ウェハ搬送装置は、プリアライナ装置でウェハのアライメントを行なってから、所望の位置へとウェハを搬送する。
ウェハ搬送装置からプリアライナ装置にウェハが置かれると、まず、ウェハの把持が行なわれる。プリアライナ装置がウェハを把持する方法としては、把持部材に真空経路を形成し、ウェハ裏面を真空吸着することで把持する方法や、把持部材に電圧を印加し静電気力によりウェハを吸着する方法のほか、把持部材自体が可動し、把持部材がウェハ中心側に移動することでウェハの外周を挟み込んで把持する方法がある。これらのほか、ウェハの裏面に接触する弾性体など埋設した支持台によって、ウェハ自重と、ウェハ裏面の摩擦係数と弾性体との摩擦力だけによる把持方法もある。
プリアライナ装置は、これらいずれかの方法によりウェハを把持してウェハを一回転旋回させる。ウェハの外周にはウェハの結晶方向を示すノッチと呼ばれる切欠きが設けられており、プリアライナ装置に設けてあるノッチ検出センサでノッチ部分を検出する。そして、ウェハのノッチをあらかじめ指定された方向に向けるよう位置決めを行う。
プリアライナ装置によっては、ノッチ検出センサによって得られる情報により、ノッチ位置合わせだけでなく、ウェハの中心ずれ量を検出、演算し、中心合わせを行うものもある。ウェハの中心合わせを行う方法として、把持部材が平面方向に任意に可動できる機構とすることで、中心ずれ量を演算後、ウェハ搬送装置のウェハ受け渡し位置に対して、ウェハが中心位置にくるように把持部材を移動させる方法や、ウェハの中心ずれ量の情報をもとにウェハ搬送装置がプリアライナ装置の旋回中心に対してウェハの受け取り位置をずらして（補正して）、ウェハを受け取ったときに中心位置が合うように搬送装置のエンドエフェクタを動かす方法がある。そのほか、把持部がウェハの外周を挟み込んで把持する方法では、把持したときにウェハの中心位置が所望の位置に機械的に矯正されるように構成されることが多いので、このようなプリアライナ装置の場合、ノッチ検出センサではノッチ部分の位置のみを検出し、所定の位置へノッチを位置決めすることのみを行っている。この場合のプリアライナ装置の例としては、特許文献１などがある。
【０００３】
ところで、半導体素子の基板となるウェハの外形寸法は、製造コストや生産性向上の観点から近年徐々に大口径化してきており、ウェハの外径も具体的には３００ｍｍから４５０ｍｍへと移行してきている。しかし、大口径化してきてはいるものの、ウェハの厚み寸法についてはあまり厚くなっておらず、口径対ウェハ厚みの比率としては、むしろ小さくなってきている。また、大口径化とは直接の関係はないが、半導体製造のプロセスの内容によってはウェハの厚みを切削等により極端に薄くしているウェハもある。
このような大口径ウェハや薄型ウェハは、ウェハを収納するカセット内でウェハの端面しか支持されていないことから、カセット内ではウェハの中央部分が下垂するようにウェハ自重でたわんでいる。この状態でウェハ搬送装置がウェハにダメージを与えずにカセットからウェハを確実に出し入れできる様、ウェハ搬送装置のエンドエフェクタ（ウェハを把持する部分）はウェハ裏面の中央部を吸着するようになっている。この場合、エンドエフェクタの形状はパドル状の略長方形の薄い板形状となっている。また、プリアライナ装置においても、ウェハの中央部分を比較的広い範囲にわたって把持するほうがウェハのたわみに対して有効であることから、ウェハ搬送装置のエンドエフェクタとほぼ同じウェハ裏面領域を吸着保持するよう構成する必要がある。
すると、ウェハ搬送装置のエンドエフェクタとプリアライナ装置の把持部材との機械的な干渉を回避する必要がある。そこでこの干渉を避けるため、プリアライナ装置にはウェハを昇降させるリフタ機構が必要となる。
また、上記のように吸着による把持を行なわず、ウェハの外周を把持するタイプのプリアライナ装置であっても、ウェハ受け渡しの際に、ウェハを把持するグリップ部分とエンドエフェクタの機械的干渉回避のためにリフタ機構を有している。これは、プリアライナ装置に対して、ウェハのノッチは任意の位置で置かれるため、ノッチ合わせ後のウェハを把持するグリップ部分は、エンドエフェクタに対して不確定な位置となってしまう。そこで、ウェハを一旦グリップ部から持ち上げてかわした上で、グリップ部分を所定の位置に移動させるためにリフタ機構が必要となる。もしくは、プリアライナ装置のグリップ部とウェハ搬送装置のエンドエフェクタとが、機械的干渉がない領域までウェハを上昇させるために、リフタ機構が必要となっている。この外周を把持するタイプのプリアライナ装置においては、先述のようにノッチを所定の位置にあわせた後に、グリップ部が不確定の位置となることからグリップ部とリフタ部の機械的干渉の可能性もあり、干渉回避のために様々な工夫が行われている。特に、特許文献１はその欠点を補うために考案されたものである。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００２−１５１５７７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
このように、プリアライナ装置とウェハ搬送装置とのウェハ受け渡しにおいて、プリアライナ装置がリフタ機構を有する場合、特にリフタ機構の上昇位置にてウェハの受け渡しを行う場合は、把持部上でノッチの位置決め、さらにはウェハ中心合わせが完了したウェハを、アライメントの精度確保の観点から把持部上の位置精度を保ったままウェハ搬送装置に受け渡す必要があることから、把持部材の旋回中心と、リフタ機構の上昇位置でのウェハ中心位置とが合うよう、これらの機械的な位置合わせが必要となる。つまりリフタ機構の昇降動作ストロークにおける直進性を精度良く確保することが必要となる。
一方、プリアライナ装置とウェハ搬送装置とのウェハ受け渡しにおいて、ウェハ搬送装置は、エンドエフェクタをプリアライナ装置の把持部の上面とリフタ機構が上昇位置にあるときのウェハの下面とのすき間に挿入する必要があるため、リフタ機構の昇降ストロークは、エンドエフェクタの厚みを配慮した長いストロークが必要となる。
【０００６】
従って、リフタ機構には、直動の精密案内ガイドなどの高価な部品が必要となり、構成が複雑となり部品点数が増えて高価となる欠点があった。また、リフタ機構の昇降の直進性を確保するため、プリアライナ装置の組立調整に時間がかかるという問題があった。
さらに、プリアライナ装置は、ノッチの位置合わせが完了したウェハを把持部からリフタへと受け渡す際や、リフタ上昇位置に到達停止した際に、ウェハ位置をずらさないように昇降速度を制限しないといけなかったので、リフタの昇降ストロークが長いと、リフト動作に時間がかかるという問題もあった。
このような状況をふまえ、本発明は、コストを抑え、組立調整にも時間がかからないプリアライナ装置とし、ウェハ搬送装置とのウェハ受け渡し時間も大幅に短縮したプリアライナ装置によるウェハ搬送システムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記問題を解決するため、本発明は、次のように構成したのである。
請求項１記載の発明は、ウェハを保持して回転させ、センサによって前記ウェハの外周を検出し、前記センサの検出情報を用いて少なくとも前記ウェハを所望の方向へと回転させるプリアライナ装置において、前記ウェハを保持する把持部材に、前記ウェハの裏面と接触してこれを吸着保持する吸着面が形成され、かつ前記ウェハを前記吸着面へ搬送するウェハ搬送装置のエンドエフェクタが進入可能な凹部が形成されたこと、を特徴とするプリアライナ装置とするものである。
請求項２記載の発明は、前記凹部は、前記エンドエフェクタの厚みよりも大きい段差と、前記エンドエフェクタの幅よりも大きい幅と、を有する形状であることを特徴とする請求項１記載のプリアライナ装置とするものである。
請求項３記載の発明は、前記エンドエフェクタは、パドル形状に形成され、前記ウェハの裏面を吸着して前記ウェハを搬送するものであることを特徴とする請求項１記載のプリアライナ装置とするものである。
請求項４記載の発明は、前記把持部材の周囲に、前記ウェハを支持したとき前記ウェハの裏面が前記吸着面の上面よりも高くなる位置まで上昇可能であって、かつ前記ウェハが前記吸着面に保持されているとき前記ウェハの裏面よりも低い位置まで下降可能なリフタを備えたことを特徴とする請求項１記載のプリアライナ装置とするものである。
請求項５記載の発明は、前記凹部が、前記把持部材に２箇所以上形成されたことを特徴とする請求項１記載のプリアライナ装置とするものである。
請求項６記載の発明は、請求項１記載のプリアライナ装置と前記エンドエフェクタを有するウェハ搬送装置とを備えたことを特徴とするウェハ搬送システムとするものである。
請求項７記載の発明は、請求項６記載のウェハ搬送システムを備えたことを特徴とする半導体製造装置とするものである。
請求項８記載の発明は、請求項６記載のウェハ搬送システムを備えたことを特徴とする半導体検査装置とするものである。
請求項９記載の発明は、ウェハを吸着する吸着面を有し、前記吸着面に前記ウェハを搬送可能なウェハ搬送装置のエンドエフェクタよりも大きい凹部が形成された把持部材と、前記ウェハを支持したとき前記ウェハの裏面が前記吸着面の上面よりも高くなる位置まで上昇可能であって前記ウェハが前記吸着面に保持されているとき前記ウェハの裏面よりも低い位置まで下降可能なリフタと、前記把持部材を回転させる旋回機構と、前記把持部材が把持した前記ウェハの外周を検出するセンサと、を備え、前記センサの検出情報を用いて少なくとも前記ウェハを所望の方向へと回転させるプリアライナ装置において前記ウェハをアライメントする方法であって、前記エンドエフェクタが前記凹部に進入することで前記ウェハを前記吸着面に載置し、前記吸着面で前記ウェハを吸着し、前記ウェハを吸着した前記把持部材を回転させ、前記回転を行ないながら前記センサで前記ウェハの外周を検出し、前記センサからの前記ウェハの外周の情報をもとに前記ウェハを所望の方向に回転させ、前記吸着面が前記ウェハの吸着を開放し、前記リフタで前記ウェハを前記吸着面よりも高く支持し、前記凹部が前記エンドエフェクタの進入方向に向くよう前記把持部を回転させ、前記リフタが前記ウェハを前記吸着面に載置し、前記エンドエフェクタが前記凹部に進入することで前記ウェハを取り去ることを特徴とするウェハのアライメント方法とするものである。
請求項１０記載の発明は、請求項９記載のウェハのアライメント方法において、前記リフタが前記ウェハを前期吸着面に載置してから、前記エンドエフェクタが前記ウェハを取り去るまでの間、前記吸着面が再び前記ウェハを吸着することを特徴とするウェハのアライメント方法とするものである。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によると、ウェハ搬送装置とのウェハ受け渡しは、リフタ上ではなく把持部の凹部での受け渡しが可能となるため、リフタは昇降ストロークが非常に短くて済む。つまり、リフタ上昇位置でのウェハの中心位置と把持部の旋回中心位置とを機械的に一致させる必要が実質的になくなり、また、電磁ソレノイドなどの微小ストローク用アクチュエータなどの部品で、比較的シンプルな構成とすることができるので、廉価で組立調整時間もかからないプリアライナ装置を提供することができる。
また、昇降ストロークが極僅かであるために、動作に時間がかからないプリアライナ装置を提供することができる。
さらに、本発明のプリアライナ装置とウェハ搬送装置で構成された廉価で、動作時間の短縮が図れるウェハ搬送システムを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本発明のプリアライナ装置の側断面図
【図２】本発明のプリアライナ装置とウェハ搬送装置のエンドエフェクタとを示す上面図
【図３】本発明のプリアライナ装置においてリフタが上昇してる状態を示した側断面図
【図４】本発明のプリアライナ装置の他の実施例を示す上面図
【図５】図４の実施例の把持部のみを示す斜視図
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、本発明の実施の形態について図を参照して説明する。
【実施例１】
【００１１】
本発明の構成を各図を用いて説明する。図１は、本発明のプリアライナ装置の側断面図であり、図２はその上面図と、ウェハ搬送装置のエンドエフェクタとを含んだ上面図である。
１はプリアライナ装置の把持部であり、２の回転シャフト、３の回転ベース、４のＡプーリとともに、５のベアリングによって、旋回部ベース８に対して回転自在になっている。これらはＡプーリ４にかけられたタイミングベルトを介して６のＢプーリ及び７のＡＣサーボモータに接続されており、回転位置が検出可能な状態で旋回することができる。また、ベアリング５の固定側を保持する旋回部ベース８には、中空穴を設けてロータリ継ぎ手９を接続しており、回転ベース３、回転シャフト２の中空穴を介して、把持部１まで流路が連通している。このロータリ継ぎ手９は後述するソレノイドバルブに接続される。さらに、旋回部ベース８は、平面方向に移動可能なようにＸ−Ｙテーブル１０に接続されている。
【００１２】
把持部１には平面的な部分を有する２箇所のウェハ吸着部１２が設けられていて、これら高さは同一となるよう形成されている。また、これらの間は高さ方向で窪んでいるように形成されている。説明の便宜上、この窪みを凹部１４と呼ぶ。ウェハ吸着部１２まで上記流路が到達していて、上記ロータリ継ぎ手９に接続される図示しないソレノイドバルブが真空源への接続と大気開放を切り換え、ウェハ吸着部１２が、真空吸引力によりウェハ裏面を吸着固定、および大気流入による吸着開放ができるようになっている。
さらに凹部１４について説明すると、凹部１４は、図２のようにウェハ搬送装置のパドル状のエンドエフェクタ１３の幅よりもやや大きい幅を有するよう形成されている。また、凹部１４は、ウェハ吸着部１２がウェハを保持しているときのウェハの下面と凹部１４との底面とでなす高さが、少なくともウェハ搬送装置のエンドエフェクタ１３の厚みｔよりも大きくなるよう形成されている。
つまり凹部１４が形成されることによって、ウェハ搬送装置のパドル状のエンドエフェクタ１３が、ウェハ吸着部１２が吸着したウェハの下面、あるいは後述するリフタ１５が支持したウェハの下面と、接触しないでウェハ吸着部１２の間に侵入できればよい。
【００１３】
ウェハ把持部１の外周には、ウェハを昇降させるためのリフタ１５が３本設けられている。リフタ１５はウェハを支持できるものであればよいが、少なくともウェハ搬送装置のエンドエフェクタ１３が進入してくることを妨げるものであってはならない。リフタ１５の最上端の下降位置は、把持部１のウェハ吸着部１２の面より１ｍｍ程度下方であり、一方、リフタ１５の最上端の上昇位置は、図３が示すようにウェハ吸着部１２の面より１ｍｍ程度上方となっており、リフタ１５の昇降ストロークは従来に比して非常に短くなっている。リフタ１５が必要な昇降ストロークが短いので、リフタ１５の昇降の直進性が問題となることがないため、実施例においては、各リフタ１５をリフタベース１７に固定するとともに、プッシュプル型ソレノイド１６をリフタベース１７に接続し、リフタ１５の下降位置で、リフタベース１７と当接するようにリフタストッパ１８を設けた構成のみとなっている。つまり、従来のように、リフタ１５の昇降の直進性を維持するための精密なリニアガイドは不要になっている。プッシュプル型ソレノイド１６が励磁されていない状態では、リフタ１５は下降位置にあり、プッシュプル型ソレノイド１６を通電することで、リフタが上昇するようにしている。
【００１４】
１１はノッチ検出センサで、ウェハの外周部を検出するセンサである。本実施例では、図示しないプリアライナ装置のコントローラが、ノッチ検出センサ１１の情報とサーボモータ７のエンコーダからの回転位置情報とによって、ノッチの位置とともにウェハの中心位置（中心ずれ量）を算出する。プリアライナ装置のコントローラは、ウェハ搬送装置のコントローラと統合される場合もある。
【００１５】
次に、以上で構成されたプリアライナ装置とウェハ搬送装置の動作について説明する。
ウェハ搬送装置のエンドエフェクタ１３がプリアライナ装置に対してウェハを載置しようとする際は、把持部１は凹部１４がエンドエフェクタ１３の進入側を向くようサーボモータ７によって位置制御されている。
ウェハ搬送装置のエンドエフェクタ１３が上記凹部１４に進入し、ウェハ吸着部１２にウェハを載せると、図示しないソレノイドによって流路が真空状態となり、ウェハはウェハ吸着部１２に吸着固定されるとともに、ウェハ搬送装置はエンドエフェクタ１３を退避させる。
次に、サーボモータ７によって把持部１が一回転しながら、ノッチ検出センサ１１がウェハの外周情報を取得し、サーボモータ７のエンコーダからの回転位置情報とウェハの外周情報とから、コントローラがノッチ位置と中心位置を演算する。この演算結果をもとに、さらに把持部１はサーボモータ７によって回転して、ノッチ位置を所定の位置に合わせる。また、ノッチ位置を合わせると同時に、エンドエフェクタ１３が所望の位置でウェハを把持できるように、Ｘ−Ｙテーブル１０によって把持部１を動かして、ウェハの中心合わせを行う。
その後、ウェハ吸着部１２はウェハを開放し、プッシュプル型ソレノイド１６によってリフタ１５が上昇することで、リフタ１５がウェハ把持部１のウェハ吸着部１２の上平面より極僅かだけウェハを上昇させる。図３は、リフタ１５が上昇してウェハの裏面を支持しているときを示している。
そして、把持部１の凹部１４をエンドエフェクタ１３の進入方向に合わせたのち、リフタ１５を下降させてウェハを把持部１へと再び載置させる。
この後、エンドエフェクタ１３が凹部１４に進入してウェハを受け取ることで一連の動作が完了する。
【００１６】
なお、本実施例では、ウェハのノッチ位置合わせと中心合わせを終え、リフタ１５を上昇させてウェハを支持し、凹部１４がエンドエフェクタ１３の進入方向を向くよう回転させたのち、リフタ１５を下降させてウェハを把持部１へと再び載置させているが、リフタ１５が上昇してウェハの裏面を支持している状態で、把持部１の凹部１４をエンドエフェクタ１３の進入方向に合わせたときに、エンドエフェクタ１３を凹部１４に進入させてウェハを取り去るようにしてもよい。こうすると、一連の動作時間が短縮できる。
一方、一連の動作において、アライメントが終了しているウェハをウェハ搬送装置のエンドエフェクタ１３が取り去るまでに時間がある場合は、リフタ１５でウェハを支持したままでは、せっかくアライメントが終了したウェハがリフタ１５や把持部１に対してずれる可能性があるため、上記のように把持部１の凹部１４をエンドエフェクタ１３の進入方向に合わせたのち、リフタ１５を下降させてウェハを把持部１へと再び載置させ、再びウェハ吸着部１２によってウェハを吸着して待機するようにしてもよい。こうすると、アライメント精度を維持できる。
【実施例２】
【００１７】
図４は、本発明のプリアライナ装置の別の実施例を示した上面図である。図５は、その把持部のみの斜視図である。本実施例では、ウェハの把持部１の凹部１４を２箇所設けている。つまり、ウェハ吸着部１２が４箇所形成されている。この場合、ウェハ搬送装置のエンドエフェクタ１３の進入可能位置が実施例１に比べて２箇所となるため、リフタ１５によってウェハを上昇させているときに、凹部１４がエンドエフェクタ３の進入可能方向に向くよう動作させるのに必要な時間が少なくて済む。
【００１８】
以上の説明のように、本発明によれば、ウェハ把持部１の凹部１４によって、ウェハの裏面中心部を把持するエンドエフェクタ１３とのウェハの受け渡しが可能となるプリアライナ装置となっており、ウェハのアライメントの一連の動作において、リフタ昇降は極めて僅かのストロークで済むから、リフタの昇降機構の構成が簡単で廉価なプリアライナ装置を提供することができる。
また、本プリアライナ装置とウェハ搬送装置を組み合わせることで、スループットが向上する廉価なウェハ搬送システムを提供することができる。
【符号の説明】
【００１９】
１  把持部
２  回転シャフト
３  回転ベース
４  Ａプーリ
５  ベアリング
６  Ｂプーリ
７  旋回用サーボモータ
８  旋回部ベース
９  ロータリ継ぎ手
１０  Ｘ−Ｙテーブル
１１  ノッチ検出センサ
１２  ウェハ吸着部
１３  エンドエフェクタ
１４  凹部
１５  リフタ
１６  プッシュプル型ソレノイド
１７  リフタベース
１８  リフタストッパ
【図１】
2010199245.tif 000003
【図２】
2010199245.tif 000004
【図３】
2010199245.tif 000005
【図４】
2010199245.tif 000006
【図５】
2010199245.tif 000007