(57)【要約】【課題】欠陥修正位置の指定を容易に、かつ精度よく行うことができる欠陥修正装置を提供する。【解決手段】基板における欠陥情報に基づいて、基板における欠陥部分を表示し観察する欠陥部分表示観察手段、基板に応じて、基板の機種を認識するための機種レシピの情報を取得する機種レシピ情報取得手段、機種レシピに応じて、基板における欠陥部分を修正するための修正処理レシピの候補を複数個表示する修正処理レシピ候補表示手段、および複数個の修正処理レシピ候補の中から、ユーザが欠陥部分を修正するための修正処理レシピを１つ選択すると、選択された修正処理レシピにしたがって、欠陥修正材料の吐出位置を示す補助画像を表示部上に表示する補助画像表示手段を備えており、補助画像は、表示部上においてユーザが任意に移動させることが可能なように設定されているものである。【選択図】図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の欠陥を修正する欠陥修正装置であって、
基板における欠陥情報を検出したときに、該欠陥情報に基づいて、該基板における欠陥部分を表示し観察する欠陥部分表示観察手段、
上記基板に応じて、該基板の機種を認識するための機種レシピの情報を取得する機種レシピ情報取得手段、
上記機種レシピに応じて、上記基板における欠陥部分を修正するための修正処理レシピの候補を複数個表示する修正処理レシピ候補表示手段、および
上記修正処理レシピ候補表示手段により表示された複数個の修正処理レシピ候補の中から、ユーザが上記欠陥部分を修正するための修正処理レシピを１つ選択すると、選択された修正処理レシピにしたがって、欠陥修正材料の吐出位置を示す補助画像を表示部上に表示する補助画像表示手段
を備えており、
上記補助画像は、上記表示部上においてユーザが任意に移動させることが可能なように設定されているものであることを特徴とする欠陥修正装置。
【請求項２】
上記補助画像表示手段は、さらに、前処理プロセス線幅、後処理プロセス線幅および欠陥修正材料の膜厚保持領域のうちの少なくとも１つの補助画像を表示部上に表示するものであることを特徴とする請求項１に記載の欠陥修正装置。
【請求項３】
上記補助画像表示手段は、さらに、欠陥修正材料の濡れ広がり領域の補助画像を表示部上に表示するものであることを特徴とする請求項１または２に記載の欠陥修正装置。
【請求項４】
上記欠陥部分表示観察手段を搭載して、第１の方向に移動する第１移動手段、
上記第１移動手段を搭載して、上記第１の方向と垂直な方向に移動する第２移動手段、並びに
上記第１移動手段および上記第２移動手段の移動を制御する移動制御手段
を備えていることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の欠陥修正装置。
【請求項５】
上記前処理プロセス線幅および上記後処理プロセス線幅の補助画像を表示部上に表示する状態と表示しない状態との切替えを行うプロセス線幅表示切替手段を備えていることを特徴とする請求項２〜４のいずれか１項に記載の欠陥修正装置。
【請求項６】
基板の欠陥を修正する欠陥修正方法であって、
基板における欠陥情報を検出したときに、該欠陥情報に基づいて、該基板における欠陥部分を表示し観察する欠陥部分表示観察ステップ、
上記基板に応じて、該基板の機種を認識するための機種レシピの情報を取得する機種レシピ情報取得ステップ、
上記機種レシピに応じて、上記基板における欠陥部分を修正するための修正処理レシピの候補を複数個表示する修正処理レシピ候補表示ステップ、および
上記修正処理レシピ候補表示ステップにより表示された複数個の修正処理レシピ候補の中から、ユーザが上記欠陥部分を修正するための修正処理レシピを１つ選択すると、選択された修正処理レシピにしたがって、欠陥修正材料の吐出位置を示す補助画像を表示部上に表示する補助画像表示ステップ
を含んでおり、
上記補助画像は、上記表示部上においてユーザが任意に移動させることが可能なように設定されていることを特徴とする欠陥修正方法。
【請求項７】
上記補助画像表示ステップは、さらに、前処理プロセス線幅、後処理プロセス線幅および欠陥修正材料の膜厚保持領域のうちの少なくとも１つの補助画像を表示部上に表示することを特徴とする請求項６に記載の欠陥修正方法。
【請求項８】
上記補助画像表示ステップは、さらに、欠陥修正材料の濡れ広がり領域の補助画像を表示部上に表示することを特徴とする請求項６または７に記載の欠陥修正方法。
【請求項９】
上記欠陥部分を表示し観察する欠陥部分表示観察部を、第１の方向に移動させる第１移動ステップ、
上記欠陥部分表示観察部を、上記第１の方向と垂直な方向に移動させる第２移動ステップ、並びに
上記欠陥部分表示観察部の移動を制御する移動制御ステップ
を含んでいることを特徴とする請求項６〜８のいずれか１項に記載の欠陥修正方法。
【請求項１０】
上記前処理プロセス線幅および上記後処理プロセス線幅の補助画像を表示部上に表示する状態と表示しない状態との切替えを行うプロセス線幅表示切替ステップを含んでいることを特徴とする請求項７〜９のいずれか１項に記載の欠陥修正方法。
【請求項１１】
請求項１〜５のいずれか１項に記載の欠陥修正装置を動作させる制御プログラムであって、コンピュータを上記の各手段として機能させるための制御プログラム。
【請求項１２】
請求項１１に記載の制御プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板の欠陥を修正するための欠陥修正装置および欠陥修正方法に関するものである。さらに詳しくは、欠陥修正位置の指定を容易に、かつ精度よく行うことを可能とする欠陥修正装置および欠陥修正方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示パネルの製造工場などにおける各プロセス工程、特にＴＦＴ（Thin Film Transistor）製造工程における欠陥修正装置の中で、レーザー加工による切除・排除型の装置、インクジェットなどによる追加プロセス型の装置等については、コンピュータによる自動での欠陥修正処理が困難な部分が存在する。その部分については、作業者（ユーザ）による手動での欠陥修正位置の指定などの操作が必要とされる。
【０００３】
しかし、作業者のスキル、操作ミスなどによる欠陥修正処理の不具合によって、不良品を発生させてしまうケースがある。
【０００４】
そこで、欠陥修正位置の指定における作業者支援機能として、例えば、特許文献１には、マウス操作による位置指定時に作図対象図形に応じた種類の補助線を描画し、正確な位置指定操作を行うことを目的とした作図装置が開示されています。
【０００５】
また、特許文献２には、選択したコマンドに応じてマウスカーソルの形状を変化させ、コマンド選択ミスなどによる作業効率低下を改善することを目的とした図形処理装置が開示されています。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開平４−１９９２７６号公報（１９９２年７月２０日公開）
【特許文献２】特開平５−１０１１５８号公報（１９９３年４月２３日公開）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、上記特許文献１，２に開示されている技術は、ソース線幅を有するガイドライン、膜厚保持領域などを表示するものではないので、欠陥修正処理状態の認識が困難であり、欠陥修正位置の指定操作を十分に行うことができないという問題点を有している。
【０００８】
本発明は、上記従来の問題点に鑑みなされたものであって、その目的は、欠陥修正位置の指定を容易に、かつ精度よく行うことができる欠陥修正装置および欠陥修正方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の欠陥修正装置は、上記の課題を解決するために、基板の欠陥を修正する欠陥修正装置であって、基板における欠陥情報を検出したときに、該欠陥情報に基づいて、該基板における欠陥部分を表示し観察する欠陥部分表示観察手段、上記基板に応じて、該基板の機種を認識するための機種レシピの情報を取得する機種レシピ情報取得手段、上記機種レシピに応じて、上記基板における欠陥部分を修正するための修正処理レシピの候補を複数個表示する修正処理レシピ候補表示手段、および上記修正処理レシピ候補表示手段により表示された複数個の修正処理レシピ候補の中から、ユーザが上記欠陥部分を修正するための修正処理レシピを１つ選択すると、選択された修正処理レシピにしたがって、欠陥修正材料の吐出位置を示す補助画像を表示部上に表示する補助画像表示手段を備えており、上記補助画像は、上記表示部上においてユーザが任意に移動させることが可能なように設定されているものであることを特徴としている。
【００１０】
上記の構成によれば、ユーザが欠陥修正処理後の状態を予測および認識しながら欠陥修正位置の指定を行うことができるため、ユーザによる欠陥修正位置の指定ミスを低減させ、作業効率を向上させることができる。
【００１１】
また、本発明の欠陥修正装置は、上記補助画像表示手段が、さらに後処理プロセス線幅の補助画像を表示部上に表示するものであることが好ましい。
【００１２】
これにより、本発明の欠陥修正装置は、後処理プロセス線（ソース線）を予測および認識しながら欠陥修正位置を合わせることで、位置決めをより一層精度よく行うことができる。
【００１３】
また、本発明の欠陥修正装置は、上記補助画像表示手段が、さらに前処理プロセス線幅の補助画像を表示部上に表示するものであることが好ましい。
【００１４】
これにより、本発明の欠陥修正装置は、前処理プロセス線（ゲート線）を基準に欠陥修正位置を合わせることで、位置決めをより一層容易に行うことができる。
【００１５】
また、本発明の欠陥修正装置は、上記補助画像表示手段が、さらに欠陥修正材料の膜厚保持領域の補助画像を表示部上に表示するものであることが好ましい。
【００１６】
これにより、本発明の欠陥修正装置は、欠陥修正処理後における欠陥修正材料の膜厚の状態を予測および認識しながら欠陥修正位置を合わせることで、欠陥修正処理の不具合を防止することができる。
【００１７】
また、本発明の欠陥修正装置は、上記補助画像表示手段が、さらに欠陥修正材料の濡れ広がり領域の補助画像を表示部上に表示するものであることが好ましい。
【００１８】
これにより、本発明の欠陥修正装置は、隣接する欠陥部分を修正する場合であっても、該欠陥部分が上記膜厚保持領域に入る状態で、かつ隣接する欠陥部分における上記濡れ広がり領域が互いに干渉しないように、欠陥修正位置を合わせることで、欠陥修正処理の不具合を防止することができる。
【００１９】
また、本発明の欠陥修正装置は、上記欠陥部分表示観察手段を搭載して、第１の方向に移動する第１移動手段、上記第１移動手段を搭載して、上記第１の方向と垂直な方向に移動する第２移動手段、並びに上記第１移動手段および上記第２移動手段の移動を制御する移動制御手段を備えていることが好ましい。
【００２０】
これにより、本発明の欠陥修正装置は、上記欠陥部分表示観察手段を自動的に移動させることができるので、位置決めを効率的に行うことができる。
【００２１】
また、本発明の欠陥修正装置は、上記前処理プロセス線幅および上記後処理プロセス線幅の補助画像を表示部上に表示する状態と表示しない状態との切替えを行うプロセス線幅表示切替手段を備えていることが好ましい。
【００２２】
これにより、本発明の欠陥修正装置は、前処理プロセス線（ゲート線）および後処理プロセス線（ソース線）を適宜表示しながら欠陥修正位置を合わせることで、位置決めを適切に行うことができる。
【００２３】
本発明の欠陥修正方法は、上記の課題を解決するために、基板の欠陥を修正する欠陥修正方法であって、基板における欠陥情報を検出したときに、該欠陥情報に基づいて、該基板における欠陥部分を表示し観察する欠陥部分表示観察ステップ、上記基板に応じて、該基板の機種を認識するための機種レシピの情報を取得する機種レシピ情報取得ステップ、上記機種レシピに応じて、上記基板における欠陥部分を修正するための修正処理レシピの候補を複数個表示する修正処理レシピ候補表示ステップ、および上記修正処理レシピ候補表示ステップにより表示された複数個の修正処理レシピ候補の中から、ユーザが上記欠陥部分を修正するための修正処理レシピを１つ選択すると、選択された修正処理レシピにしたがって、欠陥修正材料の吐出位置を示す補助画像を表示部上に表示する補助画像表示ステップを含んでおり、上記補助画像は、上記表示部上においてユーザが任意に移動させることが可能なように設定されていることを特徴としている。
【００２４】
上記の構成によれば、ユーザが欠陥修正処理後の状態を予測および認識しながら欠陥修正位置の指定を行うことができるため、ユーザが上記欠陥修正方法を用いた場合に、欠陥修正位置の指定ミスを低減させ、作業効率を向上させることができる。
【００２５】
また、本発明の欠陥修正方法は、上記補助画像表示ステップが、さらに後処理プロセス線幅の補助画像を表示部上に表示することが好ましい。
【００２６】
これにより、ユーザが上記欠陥修正方法を用いた場合に、後処理プロセス線（ソース線）を予測および認識しながら欠陥修正位置を合わせることができ、位置決めをより一層精度よく行うことが可能となる。
【００２７】
また、本発明の欠陥修正方法は、上記補助画像表示ステップが、さらに前処理プロセス線幅の補助画像を表示部上に表示することが好ましい。
【００２８】
これにより、ユーザが上記欠陥修正方法を用いた場合に、前処理プロセス線（ゲート線）を基準に欠陥修正位置を合わせることができ、位置決めをより一層容易に行うことが可能となる。
【００２９】
また、本発明の欠陥修正方法は、上記補助画像表示ステップが、さらに欠陥修正材料の膜厚保持領域の補助画像を表示部上に表示することが好ましい。
【００３０】
これにより、ユーザが上記欠陥修正方法を用いた場合に、欠陥修正処理後における欠陥修正材料の膜厚の状態を予測および認識しながら欠陥修正位置を合わせることができ、欠陥修正処理の不具合を防止することが可能となる。
【００３１】
また、本発明の欠陥修正方法は、上記補助画像表示ステップが、さらに欠陥修正材料の濡れ広がり領域の補助画像を表示部上に表示することが好ましい。
【００３２】
これにより、ユーザが上記欠陥修正方法を用いて隣接する欠陥部分を修正する場合であっても、該欠陥部分が上記膜厚保持領域に入る状態で、かつ隣接する欠陥部分における上記濡れ広がり領域が互いに干渉しないように、欠陥修正位置を合わせることができ、欠陥修正処理の不具合を防止することが可能となる。
【００３３】
また、本発明の欠陥修正方法は、上記欠陥部分を表示し観察する欠陥部分表示観察部を、第１の方向に移動させる第１移動ステップ、上記欠陥部分表示観察部を、上記第１の方向と垂直な方向に移動させる第２移動ステップ、並びに上記欠陥部分表示観察部の移動を制御する移動制御ステップを含んでいることが好ましい。
【００３４】
これにより、本発明の欠陥修正方法は、上記欠陥部分表示観察部を自動的に移動させることができるので、ユーザが上記欠陥修正方法を用いた場合に、位置決めを効率的に行うことができる。
【００３５】
また、本発明の欠陥修正方法は、上記前処理プロセス線幅および上記後処理プロセス線幅の補助画像を表示部上に表示する状態と表示しない状態との切替えを行うプロセス線幅表示切替ステップを含んでいることが好ましい。
【００３６】
これにより、ユーザが上記欠陥修正方法を用いた場合に、前処理プロセス線（ゲート線）および後処理プロセス線（ソース線）を適宜表示しながら欠陥修正位置を合わせることができ、位置決めを適切に行うことが可能となる。
【００３７】
本発明の制御プログラムは、上記欠陥修正装置を動作させる制御プログラムであって、コンピュータを上記の各手段として機能させるためのものである。また、本発明の記録媒体は、上記制御プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能なものである。
【００３８】
これにより、本発明の欠陥修正装置は、コンピュータによって実現することが可能となる。
【発明の効果】
【００３９】
本発明の欠陥修正装置は、以上のように、基板の欠陥を修正する欠陥修正装置であって、基板における欠陥情報を検出したときに、該欠陥情報に基づいて、該基板における欠陥部分を表示し観察する欠陥部分表示観察手段、上記基板に応じて、該基板の機種を認識するための機種レシピの情報を取得する機種レシピ情報取得手段、上記機種レシピに応じて、上記基板における欠陥部分を修正するための修正処理レシピの候補を複数個表示する修正処理レシピ候補表示手段、および上記修正処理レシピ候補表示手段により表示された複数個の修正処理レシピ候補の中から、ユーザが上記欠陥部分を修正するための修正処理レシピを１つ選択すると、選択された修正処理レシピにしたがって、欠陥修正材料の吐出位置を示す補助画像を表示部上に表示する補助画像表示手段を備えており、上記補助画像は、上記表示部上においてユーザが任意に移動させることが可能なように設定されているものである。
【００４０】
また、本発明の欠陥修正方法は、以上のように、基板の欠陥を修正する欠陥修正方法であって、基板における欠陥情報を検出したときに、該欠陥情報に基づいて、該基板における欠陥部分を表示し観察する欠陥部分表示観察ステップ、上記基板に応じて、該基板の機種を認識するための機種レシピの情報を取得する機種レシピ情報取得ステップ、上記機種レシピに応じて、上記基板における欠陥部分を修正するための修正処理レシピの候補を複数個表示する修正処理レシピ候補表示ステップ、および上記修正処理レシピ候補表示ステップにより表示された複数個の修正処理レシピ候補の中から、ユーザが上記欠陥部分を修正するための修正処理レシピを１つ選択すると、選択された修正処理レシピにしたがって、欠陥修正材料の吐出位置を示す補助画像を表示部上に表示する補助画像表示ステップを含み、上記補助画像は、上記表示部上においてユーザが任意に移動させることが可能なように設定されている方法である。
【００４１】
それゆえ、本発明の欠陥修正装置および欠陥修正方法は、欠陥修正位置の指定を容易に、かつ精度よく行うことができるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【００４２】
【図１】本発明の一実施形態における欠陥修正装置の構成を示す斜視図である。
【図２】本発明の一実施形態における欠陥修正装置の制御部の要部構成を示すブロック図である。
【図３】本発明の一実施形態における欠陥修正方法の要部構成を示すフローチャートである。
【図４】（ａ）は、本発明の一実施形態における前処理後の工程処理状態を示す図であり、（ｂ）は、本発明の一実施形態における後処理後の工程処理状態を示す図である。
【図５】（ａ）は、本発明の一実施形態における欠陥部分の観察状態を示す図であり、（ｂ）は、本発明の一実施形態における欠陥修正材料の吐出位置を表すマウスカーソル（補助画像）の表示状態を示す図である。
【図６】（ａ）は、本発明の一実施形態における複数の欠陥部分の観察状態を示す図であり、（ｂ）は、本発明の一実施形態における欠陥修正材料の複数の吐出位置を表すマウスカーソル（補助画像）の表示状態を示す図である。
【図７】（ａ）〜（ｃ）は、本発明の一実施形態における処理レシピの内容を示す図である。
【図８】（ａ）〜（ｃ）は、本発明の一実施形態における機種レシピの内容を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００４３】
本発明の一実施形態について説明すれば、以下の通りである。なお、本発明はこれに限定されるものではなく、この実施形態に記載されている構成部品の寸法、材質、形状、その相対配置などは、特に限定的な記載がない限り、この発明の範囲をそれのみに限定する趣旨ではなく、単なる説明例に過ぎない。
【００４４】
以下、本発明の一実施形態として、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）工程における絶縁膜修正装置（欠陥修正装置）１０および絶縁膜修正方法（欠陥修正方法）について、図１〜８を用いて詳細に説明する。以下では、絶縁膜修正装置（欠陥修正装置）について主に説明するが、絶縁膜修正方法（欠陥修正方法）にも適用することが可能である。
【００４５】
図１は、本発明における絶縁膜修正装置１０の構成を示す図である。図１において、吸着ステージ２上に搭載された基板１に対して、ガントリーステージ移動方向（第１の方向と垂直な方向）７に沿って移動するガントリーステージ（第２移動手段）５と、ユニット搭載ステージ移動方向（第１の方向）８に沿って移動するユニット搭載ステージ（第１移動手段）６とを移動して、欠陥観察カメラ（欠陥部分表示観察手段）４で欠陥部分を観察し、指定点に応じて欠陥修正処理ユニット３で修正する。ステージ（ガントリーステージ５および／またはユニット搭載ステージ６）の移動は、主制御ＰＣ（Personal Computer）１０１からの指令を受けたステージ制御部（移動制御手段）２０１により行う。
【００４６】
これにより、絶縁膜修正装置１０は、主として、ゲート線とソース線との交差部（クロス部）等、パネル形成時に不良の原因となるプロセス線間のリーク（ショート）を修正することができる。
【００４７】
なお、ユニット搭載ステージ移動方向（第１の方向）８とは、ユーザが任意に選択することができ特に限定されないが、基板１における１つの辺に平行な方向であることが好ましい。また、ガントリーステージ移動方向（第１の方向と垂直な方向）７は、基板１における他の１つの辺に平行な方向であることが好ましい。つまり、絶縁膜修正装置１０において、ステージ制御部２０１は、ガントリーステージ５とユニット搭載ステージ６とを、欠陥観察カメラ４が基板１の表面全体を観察できるように移動させることが好ましい。
【００４８】
図２は、本発明における絶縁膜修正装置１０の制御部の要部構成を示すブロック図である。図２において、ユーザがキーボード１０３とマウス１０４とを使用して主制御ＰＣ１０１を操作し、中央処理装置１０５により欠陥観察カメラ４の画像を表示装置１０２に表示させ、ユーザがマウス１０４による位置決め操作で処理位置（欠陥修正材料の吐出位置）を決定し、主制御ＰＣ１０１の指令によりステージ制御部２０１がステージ（ガントリーステージ５および／またはユニット搭載ステージ６）を移動させ、記憶装置１０６に予め設定された修正処理レシピの内容に応じて欠陥修正処理ユニット３が指定位置に処理（欠陥修正材料の吐出）を行う。なお、中央処理装置１０５は、後述する欠陥部分表示観察部（欠陥部分表示観察手段）、機種レシピ情報取得部（機種レシピ情報取得手段）、修正処理レシピ候補表示部（修正処理レシピ候補表示手段）、補助画像表示部（補助画像表示手段）として機能するものである。
【００４９】
ここで、欠陥部分表示観察部は、基板における欠陥情報を検出したときに、該欠陥情報に基づいて、該基板における欠陥部分を表示し観察するものである。具体的には、ユーザまたは絶縁膜修正装置１０が基板における欠陥情報を検出すると、該欠陥情報に基づいて欠陥の位置まで移動し、該基板における欠陥部分を表示し観察するものである。
【００５０】
また、機種レシピ情報取得部は、上記基板に応じて、該基板の機種を認識するための機種レシピの情報を取得するものである。具体的には、基板の単一または複数の機種ごとに予め設定された機種レシピ番号に対応する機種レシピ情報を取得するものである。
【００５１】
また、修正処理レシピ候補表示部は、上記機種レシピに応じて、上記基板における欠陥部分を修正するための修正処理レシピの候補を複数個表示するものである。具体的には、取得された機種レシピ情報に応じて、機種レシピ番号に属する複数の処理レシピを表示するものである。
【００５２】
また、補助画像表示部は、上記修正処理レシピ候補表示部により表示された複数個の修正処理レシピ候補の中から、ユーザが上記欠陥部分を修正するための修正処理レシピを１つ選択すると、選択された修正処理レシピにしたがって、欠陥修正材料の吐出位置を示す補助画像を表示部上に表示するものである。具体的には、ユーザが選択した修正処理レシピにしたがって、欠陥修正材料の吐出位置を示す補助画像を、ユーザによる位置決めの指標として表示部上に表示するものである。
【００５３】
図３は、本発明における絶縁膜修正方法の要部構成を示すフローチャートである。以下に、図３に示す修正処理フローチャートを用いて、処理（欠陥修正材料の吐出）の流れを説明する。
【００５４】
ユーザが絶縁膜修正装置１０に被処理対象物（基板）を投入後、ユーザまたは絶縁膜修正装置１０が該被処理対象物における欠陥データ（情報）を検出したときに、該欠陥データに応じて、ステップＳ１において欠陥観察カメラ４が欠陥位置観察を行う。
【００５５】
「欠陥データを検出」するという操作は、ユーザが目で見て欠陥データを取得する場合と、絶縁膜修正装置１０が自動的に欠陥データを検出する場合とがある。絶縁膜修正装置１０が自動的に欠陥データを検出する方法としては、例えばパターンマッチングによる欠陥検出方法等が挙げられる。具体的な方法は特に限定されないが、一例を挙げると、繰り返しパターン画像と欠陥観察画像との差分処理を行い、欠陥部分を抽出する方法を挙げることができる。
【００５６】
そして、ユーザが絶縁膜修正装置１０に被処理対象物（基板）を投入後、中央処理装置１０５（機種レシピ情報取得部）が該当する機種情報を認識し、機種レシピを取得する。例えば、図８（ａ）に示す機種レシピ１の場合には、ゲート幅１００［μｍ］、ソース幅５０［μｍ］、ゲート線方向パラメータ０を取得する。ゲート線方向は予め決められており、例えば０の場合は水平方向、１の場合は垂直方向とする。また、図８（ｂ）に示す機種レシピ２の場合には、ゲート幅１５０［μｍ］、ソース幅７５［μｍ］、ゲート線方向パラメータ１を取得する。また、図８（ｃ）に示す機種レシピ３の場合には、ゲート幅５０［μｍ］、ソース幅１５［μｍ］、ゲート線方向パラメータ１を取得する。そして、中央処理装置１０５（補助画像表示部）は、該当する機種レシピに応じて、ゲート線、または、ゲート線およびソース線を、操作画面上に表示する。
【００５７】
なお、水平方向とは、図４〜６に示す欠陥観察カメラ４による表示画像における左右方向、一方、垂直方向とは、図４〜６に示す欠陥観察カメラ４による表示画像における上下方向を意味する。
【００５８】
また、絶縁膜修正装置１０は、ゲート線幅およびソース線幅の補助画像を表示部上に表示する状態と表示しない状態との切替えを行うプロセス線幅表示切替部（プロセス線幅表示切替手段）を備えていてもよい。
【００５９】
ここで、ソース線は、線幅だけでなく、特異点からの距離を表示するものであってもよい。具体的には、特定の機種に対する修正プロセスとして、例えば、ゲート線上の特異点からゲート線方向に５０［μｍ］離れた位置を指定したい場合には、線幅ではなくマウスカーソルの中心から５０［μｍ］離れた位置に、ゲート線方向と垂直な方向に直線を描画することにより指定位置の目安とすることができる。
【００６０】
次に、ステップＳ２において、ユーザにより欠陥修正位置指定を行う。その際には、ユーザが修正処理レシピを選択して、目的の処理（欠陥修正材料の吐出）を行う。例えば、ユーザが図７（ａ）に示す処理レシピ１を選択した場合には、処理回数が３回であり；１回目の塗布液適数が２滴であり、かつ指定位置からのオフセット量が画像上Ｘ方向（例えば水平方向）に＋１［ｍｍ］であり；２回目の塗布液適数が２滴であり、かつ指定位置からのオフセット量が画像上Ｘ方向に−１［ｍｍ］であり；３回目の塗布液適数が中心位置に１滴であり；指定位置に塗布すると膜厚保持領域がＸ方向に２［ｍｍ］であり、Ｙ方向に１．５［ｍｍ］であり、かつ濡れ広がり領域がＸ方向に３［ｍｍ］であり、Ｙ方向に２［ｍｍ］である。また、ユーザが図７（ｂ）に示す処理レシピ２を選択した場合には、処理回数が１回であり；１回目の塗布液適数が中心位置に１滴であり；指定位置に塗布すると膜厚保持領域がＸ方向に１［ｍｍ］であり、Ｙ方向に１［ｍｍ］であり、かつ濡れ広がり領域がＸ方向に１．５［ｍｍ］であり、Ｙ方向に１．５［ｍｍ］である。また、ユーザが図７（ｃ）に示す処理レシピ３を選択した場合には、処理回数が５回であり；１回目の塗布液適数が４滴であり、かつ指定位置からのオフセット量が画像上Ｘ方向（例えば水平方向）に＋０．０５［ｍｍ］であり；２回目の塗布液適数が４滴であり、かつ指定位置からのオフセット量が画像上Ｘ方向に−０．０５［ｍｍ］であり；３回目の塗布液適数が中心位置に１２滴であり；４回目の塗布液適数が中心位置に１２滴であり；５回目の塗布液適数が中心位置に１２滴であり；指定位置に塗布すると膜厚保持領域がＸ方向に０．１５［ｍｍ］であり、Ｙ方向に０．１５［ｍｍ］であり、かつ濡れ広がり領域がＸ方向に０．２４［ｍｍ］であり、Ｙ方向に０．２４［ｍｍ］である。
【００６１】
なお、Ｘ方向とは、図４〜６に示す欠陥観察カメラ４による表示画像における左右方向、一方、Ｙ方向とは、図４〜６に示す欠陥観察カメラ４による表示画像における上下方向を意味する。
【００６２】
「修正処理レシピ」は、被処理対象物（基板）の単一または複数の機種ごとに予め設定された「機種レシピ番号」に紐付けされた、複数の「処理レシピ」の中からユーザが選択する。具体的には、「機種レシピ番号」は、被処理対象物（基板）の「機種番号」などを欠陥修正装置が取得して、予め設定された「機種レシピ番号」を欠陥修正装置が自動的に選択する。その後、欠陥修正装置が「機種レシピ番号」に属する複数の「処理レシピ」を表示し、ユーザがその中から目的の「修正処理レシピ」を選択する。その結果、選択された「修正処理レシピ」にしたがって、欠陥修正材料の吐出位置を示す補助画像が表示部上に表示される。
【００６３】
本実施形態では、本発明の最も好ましい形態として、選択された「修正処理レシピ」にしたがって表示される補助画像は、前処理プロセス線幅、後処理プロセス線幅、欠陥修正材料の膜厚保持領域および欠陥修正材料の濡れ広がり領域を示しているが、これに限定されることはなく、前処理プロセス線幅、後処理プロセス線幅および欠陥修正材料の膜厚保持領域のうちの少なくとも１つを表示するものであればよい。さらに好ましくは、前処理プロセス線幅、後処理プロセス線幅および欠陥修正材料の膜厚保持領域のうちの少なくとも１つと、欠陥修正材料の濡れ広がり領域とを表示するものである。
【００６４】
その中でも、補助画像が後処理プロセス線幅を表示することが最も好ましく、前処理プロセス線幅を表示することがその次に好ましい。
【００６５】
絶縁膜の作製は、一般的に図４（ａ）に示すようにゲート線が描画され、被処理対象物全体に絶縁膜が施された後に、ソース線が描画されて図４（ｂ）に示すようになる。しかし、図５（ａ）に示すように、ゲートとソースとの交差部に絶縁膜欠損部ができてしまった場合には、ゲートとソースとがショートすることによって欠陥が発生する。本発明では、主として、この絶縁膜欠損部に絶縁材料を塗布することにより欠陥を修正することを目的とする。なお、図４〜６は、欠陥観察カメラ４による表示画像を示している。
【００６６】
ここで、修正位置指定をユーザが行う際、図５（ａ）に示すような状態でゲートとソースとの交差部に対して正確に位置決めする必要があるが、ソース線がない状態では正確に位置決めするのが困難である。また、絶縁膜の膜厚が一定量必要であるため、ユーザは欠損領域が膜厚保持領域内におさまるように処理しなければならない。さらには、ユーザが絶縁膜材料の塗布後濡れ広がり状態が把握できないと、例えば近接位置に異物が存在する場合に、塗布材料が異物に引き寄せられることにより膜厚保持が確保できず、修正処理が失敗してしまう危険性がある。
【００６７】
これらの問題点を解消するため、図５（ｂ）に示すように、中央処理装置１０５（補助画像表示部）がマウスカーソルに追従して機種レシピによるゲート線幅およびソース線幅、並びに、修正処理レシピによる膜厚保持領域および濡れ広がり領域を、吐出位置の補助画像として表示部上に表示し、位置決め時の指標とする。上記補助画像は、上記表示部上においてユーザが任意に移動させることが可能なように設定されている。さらに、図６（ａ）に示すように、絶縁膜欠損部が隣接している場合、図６（ｂ）に示すように、位置指定決定時に処理状態表示を継続し、２点目以降の位置決め時に、ユーザが隣接する絶縁膜欠損部の干渉状態を確認しながら操作できるようにする。位置決めが終了したら、ステップＳ３へ進む。
【００６８】
ここで、「マウスカーソルに追従して補助画像を表示する」とは、絶縁膜修正装置（欠陥修正装置）１０において、ユーザが任意に移動させることが可能なマウスカーソルの位置に補助画像を表示することを意味する。
【００６９】
次に、ステップＳ３において、欠陥修正処理ユニット３が指定した位置に対して欠陥修正処理を行う。予め求めておいた欠陥観察カメラ４と欠陥修正処理ユニット３との相対移動量により、欠陥観察カメラ４による表示画像上の指定位置に対して欠陥修正処理ユニット３を移動させ、欠陥修正処理ユニット３が修正処理レシピに応じた処理内容を実行する。
【００７０】
次に、ステップＳ４において、修正処理状態を欠陥観察カメラ４で確認し、追加処理の要否を判断する。欠陥修正終了する場合にはステップＳ５へ進み、一方、追加処理が必要と判断した場合にはステップＳ２へ戻る。追加処理を行う場合、例えば図７（ｂ）に示すような処理レシピ２を適用し、欠陥修正処理ユニット３が指定位置に１滴の塗布を実施した場合、膜厚保持領域はＸＹ各方向にそれぞれ１［ｍｍ］であり、かつ濡れ広がり領域はＸＹ各方向にそれぞれ１．５［ｍｍ］である。
【００７１】
最後に、ステップＳ５において、ユーザまたは絶縁膜修正装置１０が投入された被処理対象物の次の（残りの）欠陥データを確認し、次の欠陥データが無ければ欠陥修正処理終了であり、一方、次の欠陥データがあればステップＳ６へ進む。そして、ステップＳ６において次の欠陥位置へ欠陥観察カメラ４が移動して、ステップＳ１において欠陥を観察し、欠陥修正処理ユニット３が再度欠陥修正処理を行う。
【００７２】
上記構成の絶縁膜修正装置によれば、プロセス処理前のソース線の位置を認識しながらゲート線との交差部の位置を正確に指定することができる。また、膜厚保持領域、濡れ広がり領域、処理位置等を表示し、さらに位置指定操作のためのマウスカーソル形状を変形することにより、隣接処理位置との干渉状態、塗布材料（欠陥修正材料）の広がり状態等を認識しながら処理するため、処理しなければ分からなかったような処理不良を低減することができる。
【００７３】
なお、本発明に係る欠陥修正装置は、例えば、工程処理部と欠陥観察カメラとを搭載して第１の方向に移動するステージと、前記ステージを搭載して第１の方向と直交する第２の方向に移動するガントリーステージと、ステージ移動を制御するステージ制御系とを備え、上流工程で検出された欠陥情報に基づいて主制御装置により欠陥観察カメラで処理対象物を表示観察する手段と、後工程処理プロセス線幅をマウスカーソルに追従して画像上に描画する手段と、観察カメラ撮像画像上で工程処理位置を決定する手段とを備え、指定した工程処理位置に対して工程処理部により処理を行うという構成であってもよい。
【００７４】
また、本発明に係る欠陥修正装置は、例えば、前記後工程プロセス線幅に加え、前記プロセス線と直交する上流工程処理プロセス線幅をマウスカーソルに追従して画像上に描画する手段を備え、作業者による位置決定を支援するという構成であってもよい。
【００７５】
また、本発明に係る欠陥修正装置は、例えば、被処理対象物の機種に応じてプロセス線幅を記憶し、投入する被処理対象物の機種に応じて操作画面上に表示するプロセス線幅を変更するという構成であってもよい。
【００７６】
また、本発明に係る欠陥修正装置は、例えば、主制御操作処理内容に応じて、プロセス線幅の表示／非表示切替えを可能とするという構成であってもよい。
【００７７】
また、本発明に係る欠陥修正装置は、例えば、工程処理レシピ内容に応じて、表示画像上の処理指定位置に処理位置情報を表示し、マウスカーソルに追従して処理位置情報を表示することにより、複数の処理位置を指定する場合に互いの干渉状態を確認しながら位置指定するという構成であってもよい。
【００７８】
また、本発明に係る欠陥修正装置は、例えば、工程処理レシピ内容に応じて、表示画像上の処理指定位置に処理材料の膜厚保持領域情報を表示するという構成であってもよい。
【００７９】
また、本発明に係る欠陥修正装置は、例えば、工程処理レシピ内容に応じて、マウスカーソルに追従して処理材料の膜厚保持領域情報を表示するという構成であってもよい。
【００８０】
また、本発明に係る欠陥修正装置は、例えば、工程処理レシピ内容に応じて、表示画像上の処理指定位置に処理材料の濡れ広がり領域情報を表示するという構成であってもよい。
【００８１】
また、本発明に係る欠陥修正装置は、例えば、工程処理レシピ内容に応じて、マウスカーソルに追従して処理材料の濡れ広がり領域情報を表示するという構成であってもよい。
【００８２】
以上のように、本発明に係る欠陥修正装置は、ユーザによる修正位置決定時に、ユーザ支援機能として、撮像画像上にガイドライン、修正処理後の予測状態等を描画することにより、ユーザの修正位置決定を容易にすることが可能である。
【００８３】
本発明は上述した実施形態に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能である。すなわち、請求項に示した範囲で適宜変更した技術的手段を組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。例えば、ゲート線とソース線との交差部に関係なく欠損部に修正処理を施す場合には、ゲート幅やソース幅を表示する必要はない。また、処理位置に関係なく膜圧保持領域のみを必要とする場合には、膜圧保持領域以外を表示しなくてもよい。修正処理装置（欠陥修正材料吐出装置）については、インクジェット、ディスペンサ等の液滴吐出処理装置が適用できる。
【００８４】
ここで、本発明の欠陥修正装置の各ブロック（構成）は、ハードウェアロジックによって構成してもよいし、次のようにＣＰＵを用いてソフトウェアによって実現してもよい。
【００８５】
すなわち、本発明の欠陥修正装置は、各機能を実現する制御プログラムの命令を実行するＣＰＵ（central processing unit）、上記プログラムを格納したＲＯＭ（read only memory）、上記プログラムを展開するＲＡＭ（random access memory）、上記プログラムおよび各種データを格納するメモリ等の記憶装置（記録媒体）などを備えている。そして、本発明の目的は、上述した機能を実現するソフトウェアである上記欠陥修正装置の制御プログラムのプログラムコード（実行形式プログラム、中間コードプログラム、ソースプログラム）をコンピュータで読み取り可能に記録した記録媒体を、上記欠陥修正装置に供給し、そのコンピュータ（またはＣＰＵやＭＰＵ）が記録媒体に記録されているプログラムコードを読み出し実行することによっても、達成可能である。
【００８６】
上記記録媒体としては、例えば、磁気テープやカセットテープ等のテープ系、フロッピー（登録商標）ディスク／ハードディスク等の磁気ディスクやＣＤ−ＲＯＭ／ＭＯ／ＭＤ／ＤＶＤ／ＣＤ−Ｒ等の光ディスクを含むディスク系、ＩＣカード（メモリカードを含む）／光カード等のカード系、あるいはマスクＲＯＭ／ＥＰＲＯＭ／ＥＥＰＲＯＭ／フラッシュＲＯＭ等の半導体メモリ系などを用いることができる。
【００８７】
また、上記欠陥修正装置を通信ネットワークと接続可能に構成し、上記プログラムコードを、通信ネットワークを介して供給してもよい。この通信ネットワークとしては、特に限定されず、例えば、インターネット、イントラネット、エキストラネット、ＬＡＮ、ＩＳＤＮ、ＶＡＮ、ＣＡＴＶ通信網、仮想専用網（virtual private network）、電話回線網、移動体通信網、衛星通信網等が利用可能である。また、通信ネットワークを構成する伝送媒体としては、特に限定されず、例えば、ＩＥＥＥ１３９４、ＵＳＢ、電力線搬送、ケーブルＴＶ回線、電話線、ＡＤＳＬ回線等の有線でも、ＩｒＤＡやリモコンのような赤外線、Ｂｌｕｅｔｏｏｔｈ（登録商標）、８０２．１１無線、ＨＤＲ、携帯電話網、衛星回線、地上波デジタル網等の無線でも利用可能である。なお、本発明は、上記プログラムコードが電子的な伝送で具現化された、搬送波に埋め込まれたコンピュータデータ信号の形態でも実現され得る。
【産業上の利用可能性】
【００８８】
近年、工場等において装置の自動化が進む中、上述した絶縁膜修正装置のように、ユーザの判断や指示を必要とする工程処理装置が存在する。しかし、ユーザの操作ミスによる生産不良が発生するため、ユーザによる正確な処理内容の選択が求められている。そこで、ユーザの判断や指示を必要とする工程処理装置に対して、本発明のユーザ支援機能は非常に有効である。
【００８９】
本発明の欠陥修正装置は、例えば、液晶表示パネルの製造、カラーフィルタの製造、太陽電池パネルの製造、ＩＣパターンウェハの製造等に利用することができる。
【符号の説明】
【００９０】
１  基板
２  吸着ステージ
３  欠陥修正処理ユニット
４  欠陥観察カメラ（欠陥部分表示観察手段）
５  ガントリーステージ（第２移動手段）
６  ユニット搭載ステージ（第１移動手段）
７  ガントリーステージ移動方向（第１の方向と垂直な方向）
８  ユニット搭載ステージ移動方向（第１の方向）
１０  絶縁膜修正装置（欠陥修正装置）
１０１  主制御ＰＣ
１０２  表示装置
１０３  キーボード
１０４  マウス
１０５  中央処理装置
１０６  記憶装置
２０１  ステージ制御部（移動制御手段）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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