(57)【要約】【課題】ハードディスクとのクラッシュを防止するための磁気ヘッドを提供する。【解決手段】下面が浮上面９ａとなるスライダー９と、スライダー９の先端面９ｂ上に形成する記録再生素子１０と、少なくとも記録再生素子１０及び先端面９ｂの上に形成され、撥水性、撥油性の少なくとも一方を有する樹脂膜１２とを有し、ハードディスク３上の潤滑層３ｅのスライダー９への付着を防止する。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
下面が浮上面となるスライダーと、
前記スライダーの先端面に形成する記録再生素子と、
少なくとも前記記録再生素子及び前記先端面の上に形成され、撥水性、撥油性の少なくとも一方を有する樹脂膜と、
を有することを特徴とする磁気ヘッド。
【請求項２】
前記樹脂膜は、前記浮上面上にも形成され、
前記浮上面上の前記樹脂膜は、前記先端面上の前記樹脂膜よりも薄いことを特徴とする請求項１に記載の磁気ヘッド。
【請求項３】
前記先端面上の前記樹脂膜の厚さは０．５ｎｍ以上であることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の次記ヘッド。
【請求項４】
前記浮上面上の樹脂膜は０．７ｎｍ以下であることを特徴とする請求項２に記載の次ヘッド。
【請求項５】
前記先端面上の前記樹脂膜の表面自由エネルギーは、前記浮上面上の前記樹脂膜の表面自由エネルギーよりも小さいことを特徴とする請求項２乃至請求項４のいずれか１項に記載の磁気ヘッド。
【請求項６】
下面が浮上面となるスライダーと、前記スライダーの先端面に形成する記録再生素子と、前記記録再生素子及び前記先端面の上に形成され、撥水性、撥油性の少なくとも一方を有する樹脂膜とを有する磁気ヘッドと、
記録再生時に前記磁気ヘッドに対向する面の上に潤滑層を有する磁気ディスクと、
を有することを特徴とする磁気記録装置。
【請求項７】
磁気ディスクに対向して配置される磁気ヘッドのスライダーの少なくとも先端面に樹脂膜を付着する工程と、
前記先端面上の前記樹脂膜に高エネルギー線を照射して前記先端面に固着するする工程と、
を有することを特徴とする磁気記録装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気ヘッド、磁気記録装置及び磁気記録装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
磁気記録装置は、例えば、情報を記録する磁性層を有するハードディスクと、記録再生素子を備えた磁気ヘッドとを有している。記録再生素子は、磁気ヘッドのスライダーの先端に取り付けられ、記録又は再生時にハードディスクの上に配置される。また、スライダーはハードディスクの回転により生じる気流により浮上走行し、その状態で記録再生素子は磁性層に対して情報を記録し、再生する。
【０００３】
近年、ハードディスクの磁性層の記録密度の向上を目的として、ハードディスクに対するスライダーの浮上高さの低減が進み、浮上高さは１０ｎｍ以下になっている。ハードディスクの磁性層とスライダーの記録再生素子との距離は、磁気スペーシングと呼ばれている。
【０００４】
一方、浮上高さが低くなると、スライダーとハードディスクが接触するおそれがあり、接触により互いに破損が生じる。そのような破損の防止のために、ハードディスクの表面には潤滑膜が１ｎｍ程度の厚さに塗布され、これにより磁気記録装置の信頼性を高めている。
【０００５】
しかし、磁気スペーシングが狭くなるにしたがって、ハードディスク表面の潤滑剤がスライダーとの間欠的接触や蒸発等によりスライダーに付着し易くなる。潤滑剤がスライダーに蓄積すると、潤滑剤を介してスライダーとハードディスクが吸着し易くなり、最終的にはヘッドクラッシュを引き起こす。
【０００６】
このため、スライダー表面における潤滑剤の付着を防止する必要がある。潤滑剤の付着防止方法として、スライダーのうちのハードディスクとの対向面、即ち浮上面の上に固体状の樹脂膜を形成することにより、浮上面の表面自由エネルギーを低下させて潤滑剤の付着を抑制することが知られている。なお、浮上面は、空気軸受面（ＡＢＳ面）とも呼ばれる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００６−１２３７７号公報
【特許文献２】特開平７−３１２０５１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかし、ＡＢＳ面を樹脂膜で覆う構造を採用すると、樹脂膜と膜厚程度の浮上高さの増大が生じ、記録密度向上を目的とするスライダーの低浮上化に支障をきたす。
また、本発明者の分析によれば、ＡＢＳ面だけに樹脂膜を形成しても、スライダー浮上累積時間が長くなるにつれて、潤滑剤の蓄積の防止が十分に図れなくなってくる。
【０００９】
本発明の目的は、ハードディスクとのクラッシュを防止するための磁気ヘッドと、ハードディスクと磁気ヘッドのクラッシュを防止するための磁気記録装置及びその製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の１つの観点によれば、下面が浮上面となるスライダーと、前記スライダーの先端面に形成する記録再生素子と、少なくとも前記記録再生素子及び前記先端面の上に形成され、撥水性、撥油性の少なくとも一方を有する樹脂膜と、を有することを特徴とする磁気ヘッドが提供される。
また、本発明の別の観点によれば、下面が浮上面となるスライダーと、前記スライダーの先端面に形成する記録再生素子と、前記記録再生素子及び前記先端面の上に形成され、撥水性、撥油性の少なくとも一方を有する樹脂膜とを有する磁気ヘッドと、記録再生時に前記磁気ヘッドに対向する面の上に潤滑層を有する磁気ディスクと、を有することを特徴とする磁気記録装置が提供される。
さらに、本発明のさらに別の観点によれば、磁気ディスクに対向して配置される磁気ヘッドのスライダーの少なくとも先端面に樹脂膜を付着する工程と、前記先端面上の前記樹脂膜に高エネルギー線を照射して前記先端面に固着するする工程と、を有することを特徴とする磁気記録装置の製造方法が提供される。
発明の目的および利点は、請求の範囲に具体的に記載された構成要素および組み合わせによって実現され達成される。
前述の一般的な説明および以下の詳細な説明は、典型例および説明のためのものであって、本発明を限定するためのものではない、と理解すべきである。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、磁気ヘッドのスライダーのうち記録再生素子が形成される先端面の上に、樹脂膜を形成したので、先端面上で潤滑剤等の付着を防止することにより、クラッシュを有効に防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】図１は、本発明の実施形態に係る磁気記録装置の内部を示す平面図である。
【図２】図２（ａ）は、本発明の実施形態に係る磁気ヘッドを示す側面図、図２（ｂ）は、本発明の実施形態に係る磁気ヘッドを示す平面図である。
【図３】図３は、本発明の実施形態に係る磁気ヘッドのスライダー上に形成した樹脂膜の膜厚分布を示す図である。
【図４】図４は、本発明の実施形態に係る磁気ヘッドと従来の磁気ヘッドのそれぞれの浮上走行後の潤滑剤等の付着膜厚分布を示す図である。
【図５】図５は、比較例に係る磁気ヘッドのスライダー上に形成した樹脂膜の膜厚分布を示す図である。
【図６】図６は、比較例に係る磁気ヘッドと従来の磁気ヘッドのそれぞれの浮上走行後の潤滑剤等の付着膜厚分布を示す図である。
【図７】図７（ａ）〜（ｃ）は、本発明の磁気ヘッドのスライダー上に樹脂膜を形成する工程を示す側面図である。
【図８】図８は、本発明の実施形態に係る磁気ヘッドと比較例に係る磁気ヘッドのそれぞれのスライダーのＡＢＳ面と先端面の表面自由エネルギーを示す図である。
【図９】図９は、本発明の実施形態に係る磁気ヘッドと比較例に係る磁気ヘッドのそれぞれのＡＢＳ面と先端面における潤滑剤等の付着膜厚を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下に、図面を参照して本発明の好ましい実施形態を説明する。図面において、同様の構成要素には同じ参照番号が付されている。
図１は、本発明の実施形態に係る磁気記録装置の内部を示す平面図である。
【００１４】
磁気記録装置１の筐体２内には、磁気記録媒体である磁気ディスク３がスピンドルモータ４によって回転可能に配置されている。さらに、筐体２内には、ロータリーアクチュエ
ータ５に支持されたサスペンションアーム６が磁気ディスク３上で回動可能に取り付けられている。サスペンションアーム６の先端には、板ばね状のサスペンション７が接続されている。
【００１５】
サスペンション７の先端部には、図２（ａ）に示すように、Ｃ字状の孔７ａに囲まれたジンバル７ｂが片持ち梁状に形成され、ジンバル７ｂの下には磁気ヘッド８が取り付けられている。
図２（ａ）に示す磁気ヘッド８は、回転している磁気ディスク３から浮上した状態を示し、その後端よりも先端が磁気ディスク３に近づくように傾斜している。
【００１６】
磁気ディスク３は、非磁性基板３ａ、例えばガラス基板の上に、クロム下地層３ｂ、磁性層３ｃ、保護層３ｄを順に形成し、さらに保護層３ｄの上に潤滑層３ｅを形成した構造を有している。潤滑層３ｅは、例えば両分子末端が水酸基となっているパーフロロポリエーテルを用いて形成され、例えば１ｎｍ〜２ｎｍの厚さを有している。
【００１７】
磁気ディスク３の回転が停止した状態で磁気ヘッド８を記録面から退避させる方式としては、磁気ディスク３上の非記録面に停止させるＣＳＳ方式と、磁気ディスク３の外側のランプロード機構部（不図示）に移動させるロード／アンロード方式がある。
磁気記録装置１は、磁気ヘッド８の一部が磁気ディスク３に接触し、一部が浮上している気液混合潤滑方式、又は、磁気ヘッド８と磁気ディスク３が常時接触しているコンタクト方式であってもよい。
【００１８】
磁気ヘッド８は、図２（ｂ）に例示するように平面形状が四角のスライダー９を有し、スライダー９の下面はＡＢＳ面（浮上面）９ａである。ＡＢＳ面９ａのうち先端面９ｂ寄りの領域には、高さ数μｍの第１〜第３の突起９ｃ、９ｄ、９ｅが形成され、後端面９ｇ寄りの領域には高さ数μｍの第４の突起９ｆが形成されている。
【００１９】
第１〜第３の突起９ｃ、９ｄ、９ｅにおいて前部は後部よりも肉厚であり、さらに、第４の突起９ｆにおいて後部及び中央部のＴ字状領域は他の部分よりも肉厚に形成されている。第１〜第４の突起９ｃ〜９ｆの表層部９ｈは、それぞれダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）から形成されている。
【００２０】
スライダー９の先端面９ｂ上には、記録再生素子１０が形成されている。記録再生素子１０は、記録用の誘導コイルとヨークを備えた記録素子と、再生用の磁気抵抗効果素子を有している。磁気抵抗効果素子としては、例えばＭＲ素子、ＴＭＲ素子、ＧＭＲ素子等が使用される。なお、先端面９ｂは、ＡＢＳ面９ａに対して実質的に垂直な面となっている。
【００２１】
スライダー９の先端面９ｂの上には、記録再生素子１０を覆う保護膜１１として例えばアルミナ膜が形成されている。また、先端面９ｂを覆う保護膜１１上には樹脂膜１２が形成されている。樹脂膜１２は、さらに、スライダー９のＡＢＳ面９ａ及び突起９ｃ〜９ｆの上に形成されている。樹脂膜１２は、０．７ｎｍ以下の厚みを有している。なお、本実施形態における膜厚の値は所定領域の平均値を示している。
【００２２】
樹脂膜１２の材料として、撥水性、発油性の少なくとも一方の性質を有する樹脂、例えばフッ素系樹脂を適用する。フッ素系樹脂として、例えば、パーフルオロポリエーテル、又は、炭素数が１〜１０のパーフルオロアルカン、又は炭素数が１〜１０のパーフルオロアルケン、又は、そのようなパーフルオロアルカン又はパーフルオロアルケンの炭素間に酸素が介在するエーテル類がある。
【００２３】
例えば、パーフルオロポリエーテルは次の一般式（１）で示される。
式（１）において、エーテル結合のＲは末端基であり、例えばトリフロロメチル（−ＣＦ３）がある。また、ｍ、ｎはそれぞれゼロ以上の実数であって同時にゼロにならない数である。式（１）において、（Ｏ−ＣＦ２−ＣＦ２）の構造単位と（Ｏ−ＣＦ２）の構造単位とが互いにランダムな配列になってもよいし、互いにブロック化した配列になってもよい。
【００２４】
【化１】
2010218606.tif 000003
【００２５】
パーフルオロポリエーテルの末端基Ｒは、例えば次の式（２）又は（３）に示すように、水酸基を含む極性官能基であってもよい。水酸基は、スライダー９の表面との吸着性を高める分子である。
【００２６】
【化２】
2010218606.tif 000004
【００２７】
【化３】
2010218606.tif 000005
【００２８】
パーフルオロポリエーテルは、ホスファゼン環を有する高分子であってもよい。
パーフルオロアルカンは次の式（４）で示され、また、パーフルオロアルケンは次の式（５）で示される。
【００２９】
【化４】
2010218606.tif 000006
【００３０】
【化５】
2010218606.tif 000007
【００３１】
樹脂膜１２の材料として、また、上記のパーフルオロアルカン、パーフルオロアルケン、エーテルのいずれかの混合物からなる群から選ばれた有機フッ素化合物を適用してもよい。そのような有機フッ素化合物は、水素を含んでもよい。
【００３２】
上記したように本実施形態によれば、スライダー９のＡＢＳ面９ａと先端面９ｂに樹脂膜１２を形成している。これにより、磁気ディスク３の潤滑層３ｅとの短時間の接触、或いは潤滑層３ｅからの潤滑剤の蒸発などが生じても、樹脂膜１２によってスライダー９上での潤滑剤等の付着が抑制される。
【００３３】
スライダー９のＡＢＳ面９ａと先端面９ｂと突起９ｃ〜９ｆのそれぞれの上に、図３に
示すような０．７ｎｍ以下の膜厚分布を有する樹脂膜１２が形成された磁気ヘッド８を用意する。さらに、スライダー９上に樹脂膜を形成していない従来の磁気ヘッドを用意する。
【００３４】
図３において、領域Ａは、図２（ｂ）に示すスライダー９の後端面９ｇ寄りの第４の突起９ｆの頂面を示している。領域Ｂは、スライダー９の先端面９ｂ寄りの第１〜第３の突起９ｃ、９ｄ，９ｅの周囲のＡＢＳ面９ａを示している。領域Ｃは、第１〜第３の突起９ｃ、９ｄ、９ｅの頂面を示している。また、領域Ｄは、スライダー９の先端面９ｂ、特に記録再生素子１０の上（図中横方向）の領域を示している。なお、以下の説明でも領域Ａ〜Ｄについては同じ位置を示している。
【００３５】
それら２種の磁気ヘッド８をそれぞれ磁気ディスク３上に６６時間、浮上走行させた後に、磁気ヘッド８上の潤滑剤等の付着膜厚を調べたところ、図４に示す結果が得られた。
【００３６】
図４によれば、本実施形態に係る磁気ヘッド８の領域Ｂ、Ｃ、Ｄでは、従来の磁気ヘッドの領域Ｂ、Ｃ、Ｄに比べて、潤滑剤等の付着膜厚が約３０％〜６０％まで薄くなっていた。また、本実施形態の磁気ヘッド８と従来の磁気ヘッドのそれぞれの領域Ａを比べると、ほぼ同じ程度の潤滑剤等の付着膜厚となっていて、その厚さは５ｎｍ以下と薄く、クラッシュには殆ど影響を及ぼさない。
従って、スライダー９の領域Ａ〜Ｄに樹脂膜１２を形成することは、潤滑剤等の付着防止に有効であることが解る。
【００３７】
次に、比較例として、スライダー９のＡＢＳ面９ａと先端面９ｂと突起９ｃ〜９ｆのそれぞれの上に図５に示すように０．８ｎｍ以上の厚さの樹脂膜を有する磁気ヘッド８を用意する。その他に、スライダー９上に樹脂膜を形成していない従来の磁気ヘッドを用意する。
【００３８】
そして、それら２種の磁気ヘッドをそれぞれ磁気ディスク３上に２４時間、浮上走行させた後に、それらの磁気ヘッド上での潤滑剤等の付着膜厚を調べたところ、図６に示す結果が得られた。図６によれば、比較例に係る磁気ヘッドの領域Ａ、Ｂ、Ｃでは、樹脂膜の無い従来の磁気ヘッドの領域Ａ、Ｂ、Ｃに比べて、潤滑剤等の付着膜厚が薄くなっていた。
【００３９】
一方、比較例に係る磁気ヘッドの領域Ｄ、即ちスライダー９の先端面９ｂ上では、従来の磁気ヘッドの領域Ｄに比べて、潤滑剤等の付着膜が厚くなっていた。先端部９ｂでの付着量は、ＡＢＳ面９ａ及び第１〜第３の突起９ａ、９ｂ、９ｃ上の樹脂膜の厚さも影響している。
従って、スライダー９上に厚さが０．８ｎｍ以上の樹脂膜１２の形成は、磁気ヘッドのクラッシュの発生原因になり易いことがわかる。
【００４０】
以上のことから、磁気ヘッド８と磁気ディスク３のクラッシュを防止するために、スライダー９のＡＢＳ面９ａ、先端面９ｂ、突起９ｃ〜９ｅの上に形成する樹脂膜１２の厚さは、浮上面であるＡＢＳ面９ａ上で０．７ｎｍ以下にすることが好ましい。
【００４１】
ただし、樹脂膜１２の膜厚が０．５ｎｍよりも薄くなると、後述する表面自由エネルギーが大きくなるので、長期の使用によって潤滑剤等が付着し易くなる。特に、先端面９ｂ上での樹脂膜１２の厚さは、０．５ｎｍ以上が好ましい。
【００４２】
ところで、図４、図６によれば、潤滑剤等の付着膜厚が厚い領域は、領域Ｂ、領域Ｄである。
しかし、領域Ｂでは、潤滑剤等の付着膜厚が厚くなっても磁気ヘッドのクラッシュの原因とはならない。領域Ｂは、スライダー９のうち第１〜第３の突起９ｃ〜９ｅの周囲の領域であって第１〜第３の突起９ｃ〜９ｅよりも数μｍ、窪んでいるので、ここに数ｎｍの厚さで潤滑剤等が付着しても、その潤滑剤等が磁気ディスク３と接触することはないからである。
【００４３】
これに対し、領域Ｄ、即ちスライダー９の先端面９ｂ、特に記録再生素子１０の上は磁気ディスク３に最も近い領域であり、潤滑剤等の付着量を低減する必要がある。スライダー９の先端面９ｂで潤滑剤等の付着が容易になると、付着物が成長し、さらにＡＢＳ面９ａ側に回り込んでクラッシュを発生させ易くする。
【００４４】
一方、ＡＢＳ面９ａ及び突起９ｃ〜９ｅにおいても潤滑剤等の付着が見られるために、ＡＢＳ面９ａ及び突起９ｃ〜９ｅの表面にも樹脂膜１２を覆うことが好ましい。しかし、ＡＢＳ面９ａ及び突起９ｃ〜９ｅの表面に樹脂膜１２を厚く形成すると、スライダー９と磁気ディスク３の間の磁気スペーシングを狭くする際に支障をきたし、さらに先端面９ｂ上で付着物量を増やす原因にもなる。
【００４５】
そこで、スライダー９におけるＡＢＳ面９ａ及び突起９ｃ〜９ｅの上の樹脂膜１２の厚さを、先端面９ｂの上の樹脂膜１２の厚さよりも薄く形成することが好ましい。その膜厚は、次の方法によって調整される。
【００４６】
まず、図７（ａ）に示すように、磁気ヘッド８のスライダー９のＡＢＳ面９ａ、先端面９ｂ、突起９ｃ〜９ｆ、後端面９ｇ及び側面に樹脂膜１２を塗布する。なお、先端面９ｂ上には、記録再生素子１０、保護膜１１を介して樹脂膜１２が塗布される。
【００４７】
樹脂膜１２の塗布方法としては、樹脂液中にスライダー９を浸漬して引き上げる浸漬法と、毛細管等の細孔を通してスライダー９の先端面９ｂ等に樹脂液を直接に噴出する噴出法がある。その他の塗布方法として、樹脂蒸気にスライダー９を暴露する方法がある。樹脂蒸気を発生させる樹脂として、例えば、Ｃ４Ｆ９ＯＣＨ３がある。
【００４８】
樹脂膜１２の膜厚を制御する方法として、例えば樹脂膜１２の種類を変えて積層する方法がある。また、浸漬法を用いる場合には、樹脂溶液の濃度、浸漬時間、浸漬溶液からのスライダー９の引き上げ速度の少なくとも１つを変更する方法により膜厚を制御してもよいし、次に示す高エネルギー線照射量を制御する方法により膜厚を制御してもよい。
【００４９】
液状の樹脂を用いる場合には、次工程の高エネルギー線の照射前に、樹脂膜１２を１００℃〜２００℃の温度で加熱し、これにより樹脂分子の配向状態を変化させ、高エネルギー照射後の樹脂層の膜厚や密度を変えてもよい。
なお、上記方法により樹脂をスライダー９に付着させる際には、スライダー９をサスペンション７に取り付けた状態で行ってもよい。
【００５０】
次に、図７（ｂ）に示すように、スライダー９の先端面９ｂに垂直な方向から高エネルギー線、例えば紫外線又は電子ビームを樹脂膜１２に照射し、これにより樹脂膜１２を保護膜１１に固着させる。なお、図７（ｂ）では、照射向きを先端面９ｂに対して垂直な方向からＡＢＳ面９ａ側に少し傾け、これにより、高エネルギー線を僅かにスライダー９のＡＢＳ面９ａ及び突起９ｃ〜９ｆに照射している。
【００５１】
次に、図７（ｃ）に示すように、スライダー９のＡＢＳ面９ａ、先端面９ｂ、突起９ｃ〜９ｆ上で、スライダー９及び保護膜１１に結合していない樹脂を溶媒により洗い流し、これにより強固に固着した樹脂分子のみを樹脂膜１２とする。
【００５２】
以上の方法により形成された樹脂膜１２の表面自由エネルギー（ＳＦＥ）は、例えば図８の斜線の棒グラフに示すように、スライダー９のＡＢＳ面９ａ、突起９ｃ〜９ｆ上では約２６ｍＮ／ｍとなる。一方、スライダー９の先端面９ｂ上の樹脂膜１２のＳＦＥは、約２３ｍＮ／ｍとなる。なお、ＳＦＥは、低い値ほど樹脂膜１２が厚いことを意味している。
【００５３】
比較例として、スライダー９のＡＢＳ面９ａに垂直な方向から高エネルギー線をＡＢＳ面９ａ上の樹脂膜１２に照射した磁気ヘッドを作成する。比較例の磁気ヘッドでは、例えば図８の白抜き棒グラフに示すように、ＡＢＳ面９ａ、突起９ｃ〜９ｆ上の樹脂膜１２のＳＦＥは約１５ｍＮ／ｍとなり、先端面９ｂ上の樹脂膜１２のＳＦＥは約３０ｍＮ／ｍとなる。
【００５４】
ここで、スライダー９を覆う樹脂膜の膜厚とＳＦＥについて本実施形態と比較例を対比すると次の表１のようになる。なお、表１の浮上面は突起９ｃ〜９ｆを含む。
【００５５】
【表１】
2010218606.tif 000008
【００５６】
表１に示す本実施形態の磁気ヘッド８を磁気ディスク３上で６６時間、浮上走行させた後に、スライダー９上の潤滑剤等の付着膜厚を測定したところ、図９の斜線の棒グラフに示すように約１．５ｎｍの厚さとなった。
【００５７】
一方、表１に示す比較例の磁気ヘッドについて磁気ディスク上を２４時間、浮上走行させた後に、スライダー上での潤滑剤等の付着膜厚を測定した。この結果、図９に示す白抜きの棒グラフのように、本実施形態の磁気ヘッド８よりも走行時間が１／３と短いにもかかわらず、付着膜厚は約４．０ｎｍと厚くなった。
【００５８】
以上により、スライダー９の樹脂膜１２について、先端面９ｂ上の厚さをＡＢＳ面９ａ及び突起９ｃ〜９ｆ上の厚さよりも厚くすることにより、磁気ヘッド８上での潤滑剤等の付着量を少なくし、磁気スペーシングも狭くすることができる。一方、樹脂膜１２が薄すぎるとＳＦＥが大きくなって潤滑剤等が付着し易くなるので、樹脂膜１２のＳＦＥは２５ｍＮ／ｍ以下にすることが好ましい。ＳＦＥを考慮すると、先端面９ｂ上の樹脂膜１２の厚さを０．５ｎｍ以上にすることがすることが好ましい。
【００５９】
なお、ＳＦＥは、２種以上の液体の接触角を測定し、接着仕事の値を求めた後に、それらの値に基づいてＦｏｗｋｅｓ式により表面自由エネルギーを求めることができる。液体の接触角は、例えばＺｉｓｍａｎ法により求める。
【００６０】
ところで、図６に示す潤滑剤等の付着膜厚を考慮すると、領域Ｄである先端面９ｂ上に樹脂膜１２を形成する一方、領域Ａ〜Ｃ、即ちＡＢＳ面１９ａ、突起９ｃ〜９ｆ上には樹
脂膜１２を形成しなくてもよい。
【００６１】
ここで挙げた全ての例および条件的表現は、発明者が技術促進に貢献した発明および概念を読者が理解するのを助けるためのものであり、ここで具体的に挙げたそのような例および条件に限定することなく解釈すべきであり、また、明細書におけるそのような例の編成は本発明の優劣を示すこととは関係ない。本発明の実施形態を詳細に説明したが、本発明の精神および範囲から逸脱することなく、それに対して種々の変更、置換および変形を施すことができると理解すべきである。
【符号の説明】
【００６２】
１  磁気記録装置
３  磁気ディスク
７  サスペンション
８  磁気ヘッド
９  スライダー
９ａ  ＡＢＳ面（浮上面）
９ｂ  先端面
９ｃ〜９ｆ  突起
９ｇ  後端面
１０  記録再生素子
１１  保護膜
１２  樹脂膜
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
2010218606.tif 000015
【図８】
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【図９】
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