(57)【要約】【課題】煩雑な工程を必要とせずに、かつ、高Ｔｇで液晶表示の画質改善に有効な光学補償用のフィルムを提供し、さらには、そのフィルムを用いて製造した偏光板、液晶表示装置を提供することである。【解決手段】セルロース  Ｎ−置換カーバメートを含有するフィルムを延伸して得られるセルロース  Ｎ−置換カーバメート含有延伸フィルムを光学補償層とすることで、厚み方向の位相差が負である好適なフィルム、さらにはそのフィルムを用いた偏光板、液晶表示装置が提供される。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
セルロース  Ｎ−置換カーバメートを含有してなる延伸フィルム。
【請求項２】
フィルムの面内位相差をＲｅ（ｎｍ）、厚み位相差をＲｔｈ（ｎｍ）とした時に、以下の数式１及び数式２を満たすことを特徴とする請求項１に記載の延伸フィルム。
１≦Ｒｅ≦６００    （数式１）
−１０００≦Ｒｔｈ≦−１    （数式２）
【請求項３】
前記セルロース  Ｎ−置換カーバメートは、セルロースの水酸基の少なくとも一つがＮ−置換カーバメート化されており、かつ、カーバメート基の窒素原子に結合した水素原子の少なくとも一つが下記一般式（１）〜（３）から選ばれる基で置換されており（Ｎに結合した置換基）、かつ、複数のＮ−置換カーバメート基の該Ｎに結合した置換基は同一または異なって下記一般式（１）〜（３）から選ばれる基であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の延伸フィルム。
【化１】
2010211058.tif 000009
（式中Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５は、同一または異なって、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数６〜２０のアリールオキシ基、炭素数７〜２０のアラルキル基、炭素数７〜２０のアラルキルオキシ基、炭素数１〜２１のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基を表す。）
【化２】
2010211058.tif 000010
（式中Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２は、同一または異なって、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜２１のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基を表す。）
【化３】
2010211058.tif 000011
（式中Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８、Ｒ１９は、同一または異なって、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜２１のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基を表す。）
【請求項４】
偏光子の少なくとも片面に、請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の延伸フィルムを偏光子の保護材として装着したことを特徴とする偏光板。
【請求項５】
請求項１から請求項３に記載の延伸フィルム、請求項４に記載の偏光板から選ばれる１以上の構成を備えた液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置等の光学装置に好適に用いることが可能なフィルムに関するものである。または、これを用いた偏光板、液晶表示装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置等の各種光学装置には、液晶セル、偏光子等と共に、各種膜が用いられている。なお、本願明細書において膜とは、他の基材上に直接形成した層、これを基材から剥離して取り出したフィルム、更には直接溶液キャスティング、溶融キャスティング等により単独で形成したフィルム等が含まれるものとする。
【０００３】
特に、装置中の他の構成により生じる複屈折を補償するための光学補償用のフィルムが一般的に用いられている。このような光学補償用のフィルムの用途としては、例えば、視野角の拡大、黒表示時の光漏れ防止等がある。また、このような光学補償用のフィルムを形成するための材料としては、例えば、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリスチレン、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルスルホン等のポリマーが用いられ、一般的には、製膜工程（フィルム化）、延伸工程（位相差付与）、貼り合わせ工程を経て各種装置に組み込まれている。
【０００４】
装置構成としては、例えば、ネマティック液晶、コレステリック液晶またはスメクティック液晶を使った液晶表示の表示画面の着色と視角が狭いという問題の解決のために、〔ηＴＨ−（ηＭＤ＋ηＴＤ）／２〕＞０（ηＴＨはフィルムの法線方向の屈折率、ηＭＤはフィルムの長手方向の屈折率、ηＴＤはフィルムの幅方向の屈折率を表す）を満たす少なくとも１枚の光透過性を有するフィルム（Ａ）と正の固有複屈折値を有すると共に光透過性を有する高分子から形成される少なくとも１枚の一軸延伸フィルム（Ｂ）とを液晶セルと偏光板の間に挿入してなる液晶表示装置が挙げられる。フィルム（Ａ）としては、上記関係式を満たせばフィルム面の垂直方向のレターデーションがゼロでないものも含まれることが述べられている（例えば、特許文献１参照）。
【０００５】
また、液晶セルがＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モードの場合、表示パネルを特定の斜め方向から見た際に生じる階調反転あるいは着色、その方向での視野角の低下を改善するために、液晶セルと少なくとも一方の偏光板との間に、光学的に負の一軸性を有し、かつ、その光軸がシート面に対して平行である光学補償シートを備えた液晶表示装置の例も挙げられる。該光学補償シートとしては、ｎｘ≒ｎｚ＞ｎｙ（ｎｘ、ｎｙはシートの面内の主屈折率（ｎｘとｎｙは垂直の関係にある）、ｎｚはシートの法線方向の主屈折率を表す。）の関係を満たすことが述べられている（例えば、特許文献２参照）。
【０００６】
さらに、液晶セルがＩＰＳモードの場合において、黒表示時に斜め方向から見た際、光漏れが起こることによるコントラスト低下や画面が色味変化することを改善するために、膜厚方向の屈折率をより大きくし、膜厚方向のレターデーションＲｔｈが負である光学補償フィルムを用いた液晶表示装置の例も挙げられる。該光学補償フィルムとしては、フィルムを形成する原料ポリマーがらせん構造をもち、らせん構造の内側または外側にらせん軸と平行ではない分極率異方性を有する側鎖成分をもつような構造的特徴をもつポリマーから形成されたものであることが述べられている（例えば、特許文献３参照）。
【０００７】
また、特許文献４では、セルロース  Ｎ−置換カーバメート及び可塑剤を含有して形成されることを特徴とする光学補償用塗工膜を用いた光学素子を備えた液晶表示装置が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開平２−２５６０２３号公報
【特許文献２】特開平１０−５４９８２号公報
【特許文献３】特開２００７−１７９０２６号公報
【特許文献４】特開２００８−１０７６５９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
例示した上記のいずれの液晶表示装置にも、厚み位相差（Ｒｔｈ＝〔（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ〕×ｄ，ｎｘはフィルムまたはシートの面内の屈折率のうち最大のもの、ｎｙはフィルムまたはシートの面内の屈折率のうち最小のもの、ｎｚは厚み方向の屈折率、ｄは膜厚を表す）が負であるフィルムまたはシートを装着することが画質改善に有効であることが述べられているが、特許文献１には、ポリスチレン系重合体、アクリル酸エステル系重合体、メタクリル酸エステル系重合体、アクリロニトリル系重合体、メタクリロニトリル系重合体が例示されているのみである。これらは必ずしもガラス転移温度（以下、Ｔｇと称する）が高くはなく、例えば、液晶表示装置に適する透明性が得られる構造のポリスチレンの場合、Ｔｇは１００℃程度しかなく、その重合体も耐熱性（例えばＴｇが１２０℃以上）を満足しない場合がある。また、メタクリル酸エステル系重合体の一つであるポリメタクリル酸メチルのＴｇも１０５℃程度である。
【００１０】
また、特許文献２には、スチレン系ポリマー、液晶性ディスコティック化合物が例示されているのみである。液晶性ディスコティック化合物を用いる場合は、その配向の固定化処理等が必要であり、煩雑である。
【００１１】
さらに、特許文献３には、ＤＮＡ分子、セルロースエステル等が例示されているのみである。ＤＮＡ分子を用いる場合は、魚介類等からのＤＮＡの抽出、非水溶性処理等が必要であり、煩雑である。
【００１２】
特許文献４は、光学補償用塗工膜の厚み位相差の制御による光学補償を目的としており、セルロース  Ｎ−置換カーバメートの自己配向を利用するため、縦１軸延伸等の延伸工程を併用することはない。
【００１３】
本発明は、上記の問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、煩雑な工程を必要とせずに、かつ、高Ｔｇで液晶表示の画質改善に有効な光学補償用のフィルムを提供し、さらには、そのフィルムを用いて製造した偏光板、液晶表示装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
このような課題を解決するために本発明者は鋭意研究の結果、セルロース  Ｎ−置換カーバメートが高Ｔｇを有し、該セルロース  Ｎ−置換カーバメートを含有してなるフィルムを延伸してなるフィルムにより、上記課題を解決できることを見出し、本発明に至った。
【００１５】
すなわち本発明は、
セルロース  Ｎ−置換カーバメートを含有してなる延伸フィルム（請求項１）であり、
フィルムの面内位相差をＲｅ（ｎｍ）、厚み位相差をＲｔｈ（ｎｍ）とした時に、以下の数式１及び数式２を満たすことを特徴とする請求項１に記載の延伸フィルム（請求項２）であり、
１≦Ｒｅ≦６００    （数式１）
−１０００≦Ｒｔｈ≦−１    （数式２）
前記セルロース  Ｎ−置換カーバメートは、セルロースの水酸基の少なくとも一つがＮ−置換カーバメート化されており、かつ、カーバメート基の窒素原子に結合した水素原子の少なくとも一つが下記一般式（１）〜（３）から選ばれる基で置換されており（Ｎに結合した置換基）、かつ、複数のＮ−置換カーバメート基の該Ｎに結合した置換基は同一または異なって下記一般式（１）〜（３）から選ばれる基であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の延伸フィルム（請求項３）であり、
【００１６】
【化１】
2010211058.tif 000002
【００１７】
（式中Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５は、同一または異なって、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数６〜２０のアリールオキシ基、炭素数７〜２０のアラルキル基、炭素数７〜２０のアラルキルオキシ基、炭素数１〜２１のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基を表す。）
【００１８】
【化２】
2010211058.tif 000003
【００１９】
（式中Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２は、同一または異なって、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜２１のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基を表す。）
【００２０】
【化３】
2010211058.tif 000004
【００２１】
（式中Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８、Ｒ１９は、同一または異なって、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜２１のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基を表す。）
偏光子の少なくとも片面に、請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の延伸フィルムを偏光子の保護材として装着したことを特徴とする偏光板（請求項４）であり、
請求項１から請求項３に記載の延伸フィルム、請求項４に記載の偏光板から選ばれる１以上の構成を備えた液晶表示装置（請求項５）である。
【発明の効果】
【００２２】
本発明によれば、煩雑な工程を必要とせずに、かつ、高Ｔｇで液晶表示の画質改善に有効な光学補償用のフィルムを提供することができ、さらには、そのフィルムを用いて製造した偏光板、液晶表示装置を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
以下、本発明を詳細に説明する。
【００２４】
本発明において炭素数１から２０のアルキル基とは例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる。
【００２５】
炭素数１〜２０のアルコキシ基としてはメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基などが挙げられる。
【００２６】
炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基としては、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、クロロメチル基、ジクロロメチル基、トリクロロメチル基、ブロモメチル基、ジブロモメチル基、トリブロモメチル基、２−フルオロエチル基、２，２−ジフルオロエチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、２−クロロエチル基、２，２−ジクロロエチル基、２，２，２−トリクロロエチル基、２−ブロモエチル基、２，２−ジブロモエチル基、２，２，２−トリブロモエチル基などが挙げられる。
【００２７】
炭素数６〜２０のアリール基とは例えばフェニル基、２−トリル基、３−トリル基、４−トリル基、キシリル基、ナフチル基、ビフェニリル基などが挙げられる。
【００２８】
炭素数６〜２０のアリールオキシ基としては、例えば、フェノキシ基、２−トリルオキシ基、３−トリルオキシ基、４−トリルオキシ基、キシリルオキシ基、ナフチルオキシ基、ビフェニリルオキシ基などが挙げられる。
【００２９】
炭素数７〜２０のアラルキル基としては、例えば、ベンジル基、フェネチル基などが挙げられる。
【００３０】
炭素数７〜２０のアラルキルオキシ基としては、例えば、ベンジルオキシ基、フェネチルオキシ基などが挙げられる。
【００３１】
炭素数１〜２１のアシルオキシ基としては、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、ベンゾイルオキシ基などが挙げられる。
【００３２】
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
【００３３】
本発明において使用するセルロース  Ｎ−置換カーバメートは、例えば、各種木材パルプ、綿リンター、綿リント等から得られるセルロースを原料とし、ピリジン、トリエチルアミン等の塩基触媒存在下でイソシアネート系化合物を反応させる既知の方法により製造することができる（例えば、特開昭６２−６４８０１参照）。また、反応生成物を水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリにより部分加水分解することによって、Ｎ−置換カーバメート化率の制御されたものを製造することもできる。尚、前記の反応時に使用する塩基触媒は溶媒としても使用することができる。その他の合成時の溶媒としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒を好適に用いることができる。更に、セルロースの溶媒に対する溶解性を向上させるために塩化リチウム等の無機塩を添加することもできる。また、イソシアネート系化合物の例としては、下記一般式（４）〜（６）で表される化合物が挙げられる。
【００３４】
【化４】
2010211058.tif 000005
【００３５】
（式中Ｒ２０、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２４は、同一または異なって、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数６〜２０のアリールオキシ基、炭素数７〜２０のアラルキル基、炭素数７〜２０のアラルキルオキシ基、炭素数１〜２１のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基を表す。）
【００３６】
【化５】
2010211058.tif 000006
【００３７】
（式中Ｒ２５、Ｒ２６、Ｒ２７、Ｒ２８、Ｒ２９、Ｒ３０、Ｒ３１は、同一または異なって、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜２１のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基を表す。）
【００３８】
【化６】
2010211058.tif 000007
【００３９】
（式中Ｒ３２、Ｒ３３、Ｒ３４、Ｒ３５、Ｒ３６、Ｒ３７、Ｒ３８は、同一または異なって、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜２１のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基を表す。）
これらのイソシアネート系化合物は、単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
【００４０】
本発明では、上記イソシアネート系化合物の入手性の観点から、Ｒ２０、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２４が、同一または異なって、水素原子、炭素数１〜１６のアルキル基、炭素数１〜１６のアルコキシ基、炭素数１〜１６のハロゲン化アルキル基、炭素数６〜１６のアリール基、炭素数６〜１６のアリールオキシ基、炭素数７〜１６のアラルキル基、炭素数７〜１６のアラルキルオキシ基、炭素数１〜１７のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基である、一般式（４）で表されるイソシアネート系化合物を反応させ、前記セルロースの水酸基の少なくとも一つがＮ−置換カーバメート化されたセルロース  Ｎ−置換カーバメートまたはＲ２５、Ｒ２６、Ｒ２７、Ｒ２８、Ｒ２９、Ｒ３０、Ｒ３１、Ｒ３２、Ｒ３３、Ｒ３４、Ｒ３５、Ｒ３６、Ｒ３７、Ｒ３８が、同一または異なって、水素原子、炭素数１〜１６のアルキル基、炭素数１〜１６のアルコキシ基、炭素数１〜１６のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜１７のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基である、一般式（５）、（６）で表されるイソシアネート系化合物を反応させ、前記セルロースの水酸基の少なくとも一つがＮ−置換カーバメート化されたセルロース  Ｎ−置換カーバメートを用いることが好ましい。Ｒ２０、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２４が、同一または異なって、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数１〜１２のハロゲン化アルキル基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数６〜１２のアリールオキシ基、炭素数７〜１２のアラルキル基、炭素数７〜１２のアラルキルオキシ基、炭素数１〜１３のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基である、一般式（４）で表されるイソシアネート系化合物を反応させ、前記セルロースの水酸基の少なくとも一つがＮ−置換カーバメート化されたセルロース  Ｎ−置換カーバメートを用いることがより好ましい。またはＲ２５、Ｒ２６、Ｒ２７、Ｒ２８、Ｒ２９、Ｒ３０、Ｒ３１、Ｒ３２、Ｒ３３、Ｒ３４、Ｒ３５、Ｒ３６、Ｒ３７、Ｒ３８が、同一または異なって、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数１〜１２のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜１３のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基である、一般式（５）、（６）で表されるイソシアネート系化合物を反応させ、前記セルロースの水酸基の少なくとも一つがＮ−置換カーバメート化されたセルロース  Ｎ−置換カーバメートを用いることがより好ましい。
【００４１】
一般式（４）〜（６）で表されるイソシアネート系化合物を具体的に例示すると、フェニルイソシアネート、ｏ−トリルイソシアネート、ｍ−トリルイソシアネート、ｐ−トリルイソシアネート、２−エチルフェニルイソシアネート、３−エチルフェニルイソシアネート、４−エチルフェニルイソシアネート、２−プロピルフェニルイソシアネート、３−プロピルフェニルイソシアネート、４−プロピルフェニルイソシアネート、２−ブチルフェニルイソシアネート、３−ブチルフェニルイソシアネート、４−ブチルフェニルイソシアネート、２，３−ジメチルフェニルイソシアネート、２，４−ジメチルフェニルイソシアネート、２，５−ジメチルフェニルイソシアネート、２，６−ジメチルフェニルイソシアネート、３，４−ジメチルフェニルイソシアネート、３，５−ジメチルフェニルイソシアネート、２，３−ジエチルフェニルイソシアネート、２，４−ジエチルフェニルイソシアネート、２，５−ジエチルフェニルイソシアネート、２，６−ジエチルフェニルイソシアネート、３，４−ジエチルフェニルイソシアネート、３，５−ジエチルフェニルイソシアネート、２，４，６−トリメチルフェニルイソシアネート、２−メトキシフェニルイソシアネート、３−メトキシフェニルイソシアネート、４−メトキシフェニルイソシアネート、２−エトキシフェニルイソシアネート、３−エトキシフェニルイソシアネート、４−エトキシフェニルイソシアネート、２−（フルオロメチル）フェニルイソシアネート、３−（フルオロメチル）フェニルイソシアネート、４−（フルオロメチル）フェニルイソシアネート、２−（クロロメチル）フェニルイソシアネート、３−（クロロメチル）フェニルイソシアネート、４−（クロロメチル）フェニルイソシアネート、２−（ブロモメチル）フェニルイソシアネート、３−（ブロモメチル）フェニルイソシアネート、４−（ブロモメチル）フェニルイソシアネート、２−（ヨードメチル）フェニルイソシアネート、３−（ヨードメチル）フェニルイソシアネート、４−（ヨードメチル）フェニルイソシアネート、２−（ジフルオロメチル）フェニルイソシアネート、３−（ジフルオロメチル）フェニルイソシアネート、４−（ジフルオロメチル）フェニルイソシアネート、２−（ジクロロメチル）フェニルイソシアネート、３−（ジクロロメチル）フェニルイソシアネート、４−（ジクロロメチル）フェニルイソシアネート、２−（ジブロモメチル）フェニルイソシアネート、３−（ジブロモメチル）フェニルイソシアネート、４−（ジブロモメチル）フェニルイソシアネート、２−（ジヨードメチル）フェニルイソシアネート、３−（ジヨードメチル）フェニルイソシアネート、４−（ジヨードメチル）フェニルイソシアネート、２−（トリフルオロメチル）フェニルイソシアネート、３−（トリフルオロメチル）フェニルイソシアネート、４−（トリフルオロメチル）フェニルイソシアネート、２−（トリクロロメチル）フェニルイソシアネート、３−（トリクロロメチル）フェニルイソシアネート、４−（トリクロロメチル）フェニルイソシアネート、２−（トリブロモメチル）フェニルイソシアネート、３−（トリブロモメチル）フェニルイソシアネート、４−（トリブロモメチル）フェニルイソシアネート、２−（トリヨードメチル）フェニルイソシアネート、３−（トリヨードメチル）フェニルイソシアネート、４−（トリヨードメチル）フェニルイソシアネート、２−ビフェニリルイソシアネート、３−ビフェニリルイソシアネート、４−ビフェニリルイソシアネート、２−フェノキシフェニルイソシアネート、３−フェノキシフェニルイソシアネート、４−フェノキシフェニルイソシアネート、２’−ベンジルフェニルイソシアネート、３’−ベンジルフェニルイソシアネート、４’−ベンジルフェニルイソシアネート、２−ベンジルオキシフェニルイソシアネート、３−ベンジルオキシフェニルイソシアネート、４−ベンジルオキシフェニルイソシアネート、２−アセトキシフェニルイソシアネート、３−アセトキシフェニルイソシアネート、４−アセトキシフェニルイソシアネート、２−フルオロフェニルイソシアネート、３−フルオロフェニルイソシアネート、４−フルオロフェニルイソシアネート、２−クロロフェニルイソシアネート、３−クロロフェニルイソシアネート、４−クロロフェニルイソシアネート、２−ブロモフェニルイソシアネート、３−ブロモフェニルイソシアネート、４−ブロモフェニルイソシアネート、２−ヨードフェニルイソシアネート、３−ヨードフェニルイソシアネート、４−ヨードフェニルイソシアネート、２，４−ジフルオロフェニルイソシアネート、２，５−ジフルオロフェニルイソシアネート、２，６−ジフルオロフェニルイソシアネート、３，４−ジフルオロフェニルイソシアネート、３，５−ジフルオロフェニルイソシアネート、２，４−ジクロロフェニルイソシアネート、２，５−ジクロロフェニルイソシアネート、２，６−ジクロロフェニルイソシアネート、３，４−ジクロロフェニルイソシアネート、３，５−ジクロロフェニルイソシアネート、２，４−ジブロモフェニルイソシアネート、２，５−ジブロモフェニルイソシアネート、２，６−ジブロモフェニルイソシアネート、３，４−ジブロモフェニルイソシアネート、３，５−ジブロモフェニルイソシアネート、２，４−ジヨードフェニルイソシアネート、２，５−ジヨードフェニルイソシアネート、２，６−ジヨードフェニルイソシアネート、３，４−ジヨードフェニルイソシアネート、３，５−ジヨードフェニルイソシアネート、２，３，４−トリフルオロフェニルイソシアネート、２，３，４−トリクロロフェニルイソシアネート、２，３，４−トリブロモフェニルイソシアネート、２，３，４−トリヨードフェニルイソシアネート、２−フルオロ−５−メチルフェニルイソシアネート、２−フルオロ−６−メチルフェニルイソシアネート、３−フルオロ−２−メチルフェニルイソシアネート、３−フルオロ−４−メチルフェニルイソシアネート、４−フルオロ−２−メチルフェニルイソシアネート、４−フルオロ−３−メチルフェニルイソシアネート、５−フルオロ−２−メチルフェニルイソシアネート、２−クロロ−５−メチルフェニルイソシアネート、２−クロロ−６−メチルフェニルイソシアネート、３−クロロ−２−メチルフェニルイソシアネート、３−クロロ−４−メチルフェニルイソシアネート、４−クロロ−２−メチルフェニルイソシアネート、４−クロロ−３−メチルフェニルイソシアネート、５−クロロ−２−メチルフェニルイソシアネート、２−ブロモ−５−メチルフェニルイソシアネート、２−ブロモ−６−メチルフェニルイソシアネート、３−ブロモ−２−メチルフェニルイソシアネート、３−ブロモ−４−メチルフェニルイソシアネート、４−ブロモ−２−メチルフェニルイソシアネート、４−ブロモ−３−メチルフェニルイソシアネート、５−ブロモ−２−メチルフェニルイソシアネート、２−ヨード−５−メチルフェニルイソシアネート、２−ヨード−６−メチルフェニルイソシアネート、３−ヨード−２−メチルフェニルイソシアネート、３−ヨード−４−メチルフェニルイソシアネート、４−ヨード−２−メチルフェニルイソシアネート、４−ヨード−３−メチルフェニルイソシアネート、５−ヨード−２−メチルフェニルイソシアネート、２−ニトロフェニルイソシアネート、３−ニトロフェニルイソシアネート、４−ニトロフェニルイソシアネート、１−ナフチルイソシアネート、２−ナフチルイソシアネート、１−メチル−２−ナフチルイソシアネート、２−メチル−１−ナフチルイソシアネート、１−メトキシ−２−ナフチルイソシアネート、２−メトキシ−１−ナフチルイソシアネート、１−（トリフルオロメチル）−２−ナフチルイソシアネート、２−（トリフルオロメチル）−１−ナフチルイソシアネート、１−（トリクロロメチル）−２−ナフチルイソシアネート、２−（トリクロロメチル）−１−ナフチルイソシアネート、１−（トリブロモメチル）−２−ナフチルイソシアネート、２−（トリブロモメチル）−１−ナフチルイソシアネート、１−（トリヨードメチル）−２−ナフチルイソシアネート、２−（トリヨードメチル）−１−ナフチルイソシアネート、１−アセトキシ−２−ナフチルイソシアネート、２−アセトキシ−１−ナフチルイソシアネート、１−フルオロ−２−ナフチルイソシアネート、２−フルオロ−１−ナフチルイソシアネート、１−クロロ−２−ナフチルイソシアネート、２−クロロ−１−ナフチルイソシアネート、１−ブロモ−２−ナフチルイソシアネート、２−ブロモ−１−ナフチルイソシアネート、１−ヨード−２−ナフチルイソシアネート、２−ヨード−１−ナフチルイソシアネート、１−ニトロ−２−ナフチルイソシアネート、２−ニトロ−１−ナフチルイソシアネート等が挙げられる。これら及び前記イソシアネート系化合物を反応して得られるセルロース  Ｎ−置換カーバメートは、単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
【００４２】
また、セルロースはその構成単位であるグルコース残基当たり３個の水酸基を有している。したがって、これらの水酸基を置換する場合に、グルコース残基当たりの置換度（以下、ＤＳと称する）は最大３になる。本発明においては、ＤＳの下限は好ましくは０．０５、より好ましくは１．０、さらに好ましくは１．９であり、上限は３がより好ましい。ＤＳが０．０５より低いと、例えば、溶液キャスティングによって延伸前のフィルムを形成する際、溶媒に溶け難くなる傾向がある。本発明では、ＤＳが異なるセルロース  Ｎ−置換カーバメートの２種以上を併用してもよく、単独で使用してもよい。
【００４３】
さらに、セルロース  Ｎ−置換カーバメートの数平均分子量の下限は好ましくは５０００、より好ましくは８０００、さらに好ましくは１００００であり、上限は好ましくは１００００００、より好ましくは５０００００、さらに好ましくは３０００００である。数平均分子量が５０００より小さいとフィルムの強度が低下する傾向があり、数平均分子量が１００００００より大きいと製膜時の加工性が劣る傾向がある。なお、当該数平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）法により測定した値である。本発明では、数平均分子量が異なるセルロース  Ｎ−置換カーバメートの２種以上を併用してもよく、単独で使用してもよい。
【００４４】
以下、本発明の延伸フィルム（本願明細書においてフィルムとは、厚さに関わらず、薄板状のものを指すものとする）について説明する。
【００４５】
初めに、本発明の延伸フィルムの製造方法について説明する。
【００４６】
製造方法としては、溶融キャスティング法または溶液キャスティング法を用いることができる。溶融キャスティング法を用いる場合、溶融押出してフィルム状に成形後、縦１軸延伸、横１軸延伸、縦横同時２軸延伸、縦横逐次２軸延伸、斜め延伸等の延伸を行うことにより、本発明の延伸フィルムとすることができる。また、溶液キャスティング法を用いる場合、前記セルロース  Ｎ−置換カーバメートが溶解可能な溶媒に溶かし、この溶液を剥離性基板上に塗布・乾燥した後、形成したフィルムを剥がして、縦１軸延伸、横１軸延伸、縦横同時２軸延伸、縦横逐次２軸延伸、斜め延伸等の延伸を行うことにより本発明の延伸フィルムとすることができる。剥離性基板上に形成したフィルムを剥がさずに剥離性基板といっしょに、縦１軸延伸、横１軸延伸、縦横同時２軸延伸、縦横逐次２軸延伸、斜め延伸等の延伸を行い、その後、剥離性基板から剥がして本発明の延伸フィルムとすることもできる。
【００４７】
上記溶液キャスティング時の溶媒としては、セルロース  Ｎ−置換カーバメートが可溶であれば特に限定されるものではないが、具体的な例としては、ベンゼン、トルエン、ｏ−キシレン、ｍ−キシレン、ｐ−キシレン、エチルベンゼン、イソプロピルベンゼン、ジエチルベンゼンの異性体混合物等の炭化水素系溶媒；メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、２−メチル−１−プロパノール、フルフリルアルコール、ベンジルアルコール等のアルコール系溶媒；エチルエーテル、イソプロピルエーテル、１，３−ジオキソラン、１，４−ジオキサン、テトラヒドロピラン、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル等のエーテル系溶媒；アセトン、２−ブタノン、４−メチル−２−ペンタノン、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒；塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン、１，１，１−トリクロロエタン、１，１，２−トリクロロエタン、１，１，１，２−テトラクロロエタン、１，１，２，２−テトラクロロエタン、ペンタクロロエタン、ヘキサクロロエタン、１−クロロプロパン、２−クロロプロパン、１，１−ジクロロプロパン、１，２−ジクロロプロパン、１，３−ジクロロプロパン、２，２−ジクロロプロパン、１，２，３−トリクロロプロパン、クロロベンゼン、１，２−ジクロロベンゼン、１，３−ジクロロベンゼン、１，４−ジクロロベンゼン、１，２，３−トリクロロベンゼン、１，２，４−トリクロロベンゼン、１，３，５−トリクロロベンゼン等のハロゲン系溶媒；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸イソブチル、酢酸ｓｅｃ−ブチル、酢酸ｔｅｒｔ−ブチル、酢酸ｎ−ペンチル、酢酸ｎ−ヘキシル、酢酸ｎ−ヘプチル、酢酸ｎ−オクチル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート等のエステル系溶媒；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、１−メチル−２−ピロリジノン等のアミド系溶媒；ピロリジン、ピペリジン、ピロール等のアミン系溶媒等が挙げられる。これらの中でも乾燥性の観点から、ベンゼン、トルエン、エチルエーテル、イソプロピルエーテル、１，３−ジオキソラン、１，４−ジオキサン、テトラヒドロピラン、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、アセトン、２−ブタノン、４−メチル−２−ペンタノン、シクロヘキサノン、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン、１，１，１−トリクロロエタン、１，１，２−トリクロロエタン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸イソブチル、酢酸ｓｅｃ−ブチル、酢酸ｔｅｒｔ−ブチル、酢酸ｎ−ペンチル、酢酸ｎ−ヘキシルが好ましい。���れらの溶媒は、単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
【００４８】
溶媒量は、前記セルロース  Ｎ−置換カーバメートと溶媒の総重量に対する前記セルロース  Ｎ−置換カーバメートの割合が下限１重量％、上限７０重量％の範囲で用いるのが好ましく、下限２重量％、上限６０重量％の範囲で用いるのがより好ましく、下限３重量％、上限５０重量％の範囲で用いるのがさらに好ましい。前記セルロース  Ｎ−置換カーバメートの割合が１重量％より小さい場合はキャスティング時の膜厚が薄くなり、必要な膜厚が得られ難くなる傾向があり、７０重量％より大きい場合はキャスティング時の溶液の粘度が高くなり、作業性が劣る傾向がある。
【００４９】
また、上記剥離性基板としては、塗布・乾燥後のフィルムまたは延伸後のフィルムの剥離性を有するものであり、フィルム形成時に該基板の物性が損なわれるものでなければ特に限定されるものではない。剥離性基板を形成する具体的な化合物の例としては、ポリカーボネート系重合体；ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のポリアクリル酸エステル；アジピン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、１，４−ナフタレンジカルボン酸、２，３−ナフタレンジカルボン酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸等の２塩基酸とエチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、テトラメチレングリコール、ネオペンチルグリコール等のグリコールとの縮合体又はラクトン類の開環重合で得られるポリエステル系重合体；ポリスチレン、ポリ（α−メチルスチレン）等のスチレン系重合体；アクリル酸エステルとスチレンとの共重合体；ポリエチレン、ポリプロピレン、ノルボルネン系樹脂、シクロオレフィンポリマー、ポリイソプレンの水素添加物、ポリブタジエンの水素添加物等のポリオレフィン系重合体；ナイロン６、ナイロン６６等のポリアミド；ポリイミド；ポリアミドイミド；ポリエーテルイミド；ポリビニルアルコール；ポリ塩化ビニル；ポリスルホン；ポリエーテルスルホン；ポリエーテルケトン；ポリエーテルエーテルケトン；ポリフェニレンサルファイド；ポリフェニレンオキシド；ポリアリレート；ポリアセタール；エポキシ樹脂；フェノール樹脂；シリコーン樹脂；鉄、アルミニウム、銅等の金属、ガラス等が挙げられる。
【００５０】
これらの材料は、例えば溶液流延法、溶融流延法、押出法、カレンダー法、圧延、溶融成型等によりシート状に成形し、無延伸、または一軸延伸法、二軸延伸法等により延伸し、剥離性基板として用いることができる。前記化合物の中では、成形品の高温使用時の熱収縮率が低い、または比較的低く、安定性がよいことから、ポリエチレンテレフタレート（テレフタル酸とエチレングリコールの縮合体）、ポリエチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレート（２，６−ナフタレンジカルボン酸とエチレングリコールの縮合体）、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルケトン；ポリエーテルエーテルケトン；ポリフェニレンサルファイド；ポリアリレート；エポキシ樹脂；フェノール樹脂；鉄、アルミニウム、銅等の金属、ガラス等が好ましい。
【００５１】
また、剥離性基板作製後、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤、アルキル四級アンモニウム塩、リン酸エステル、流動パラフィン、ワックス、高級脂肪酸及び高級脂肪酸の金属塩、高級脂肪酸エステル、高級脂肪酸アルコール、ビスアミド類、ポリシロキサン類、脂肪族アミンエチレンオキシド付加物等の外部離型剤を片面又は両面に塗布し、形成したフィルムの剥離性を向上させた剥離性基板とすることができる。さらに、前記剥離性基板作製用化合物に、該外部離型剤を内部離型剤として添加した後、上記成形を行うことにより、膜の剥離性を向上させた剥離性基板とすることもできる。
【００５２】
また、前記セルロース  Ｎ−置換カーバメートを溶かした溶液を剥離性基板上に塗布してフィルムを形成する方法としては、グラビヤロールコート法、マイヤーバーコート法、ドクターブレードコート法、リバースロールコート法、ディップコート法、エアーナイフコート法、カレンダーコート法、スキーズコート法、キスコート法、バーコート法、スロットダイコート法、スピンコート法等が挙げられる。
【００５３】
また、この塗布後の乾燥方法としては、例えば空気中または窒素等の不活性ガス中に放置（風乾）する方法、熱風オーブン、赤外線加熱炉等で加熱乾燥する方法、真空乾燥機等で減圧乾燥する方法等により、あるいはこれらを組み合わせて行うことができる。
【００５４】
乾燥温度条件としては、定温、多段階昇温のいずれも用いることができる。定温の場合、下限−３０℃、上限３００℃の温度範囲が好ましく、下限０℃、上限２８０℃がより好ましく、下限１０℃、上限２６０℃がさらに好ましい。乾燥温度が−３０℃より低いと乾燥時間が長くなる傾向があり、３００℃より高いと形成したフィルムや剥離性基板の熱劣化が生じ易くなる傾向がある。このような定温乾燥を用いることができるが、効果的に乾燥させるためには多段階に温度を上げることが好ましく、経済的観点から１次乾燥、２次乾燥の２段乾燥が特に好ましい。
【００５５】
２段乾燥を行う場合、１次乾燥は、下限０℃、上限４０℃の温度範囲が好ましく、下限５℃、上限３５℃がより好ましく、下限１０℃、上限３０℃がさらに好ましい。また、その乾燥時間は３分以上であることが好ましい。１次乾燥温度が０℃より低いと形成したフィルムが発泡しないようにするための初期乾燥時間が長くなる傾向があり、４０℃より高いと発泡し易くなる傾向がある。
【００５６】
２次乾燥においては、下限６０℃、上限３００℃の温度範囲が好ましく、下限７０℃、上限２８０℃がより好ましく、下限８０℃、上限２６０℃がさらに好ましい。２次乾燥温度が６０℃より低いと乾燥時間が長くなる傾向があり、３００℃より高いと形成したフィルムや剥離性基板の熱劣化が生じ易くなる傾向がある。
【００５７】
さらに、前記セルロース  Ｎ−置換カーバメートを溶かした溶液を剥離性基板に塗布後、溶媒の蒸気にさらして形成したフィルムをアニーリングした後、上記の乾燥を行うことにより延伸前のフィルムの形成方法とすることもできる。
【００５８】
次に、本発明の延伸フィルムの特性を改質する目的で添加することが可能な樹脂について説明する。当該添加することが可能な樹脂としては、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリアリレート樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、フェノール樹脂、ウレタン樹脂等が例示されるが、これらは本発明の目的及び効果を損なわない範囲において添加することができる。
【００５９】
次に、本発明の延伸フィルムの特性を改質する目的で加えることが可能な添加剤について説明する。添加剤としては、酸化防止剤（例えば、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製ＩＲＧＡＮＯＸ  １０１０、ＩＲＧＡＮＯＸ  １１３５、ＩＲＧＡＮＯＸ  １３３０等のヒンダードフェノール類）、加工安定剤（例えば、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製ＨＰ−１３６、ＩＲＧＡＮＯＸ  Ｅ２０１、ＩＲＧＡＦＯＳ  １６８等）、光安定剤（例えば、三共ライフテック製サノールＬＳ−７６５、サノールＬＳ−７７０等のヒンダードアミン類）、紫外線吸収剤（例えば、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製ＴＩＮＵＶＩＮ  Ｐ、ＴＩＮＵＶＩＮ  ２１３、ＴＩＮＵＶＩＮ  ３２６等のベンゾトリアゾール類）、接着性改良剤（例えば、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン等のシランカップリング剤）、シラノール縮合触媒（例えば、川研ファインケミカル製アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）、アルミキレートＭ等のアルミニウムキレート類）、可塑剤（例えば、アジピン酸ジメチル、アジピン酸ジエチル、アジピン酸ジプロピル、アジピン酸ジブチル、アジピン酸ビス（２−エチルヘキシル）、フタル酸ジメチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジプロピル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジペンチル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジヘプチル、フタル酸ジｎ−オクチル、フタル酸ビス（２−エチルヘキシル）等のエステル類が挙げられる。これらの中でも、フタル酸ジメチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジプロピル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジペンチル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジヘプチル、フタル酸ジｎ−オクチル、フタル酸ビス（２−エチルヘキシル）等の芳香族エステル系可塑剤が延伸フィルムの厚み位相差の絶対値を大きくしやすい理由で特に好ましい。）、界面活性剤（例えば、住友スリーエム製Ｆｌｕｏｒａｄ  ＦＣ−４３０、Ｆｌｕｏｒａｄ  ＦＣ−４４３０等のフッ素系化合物）、帯電防止剤（例えば、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製ＩＲＧＡＳＴＡＴ  Ｐ１８、ＩＲＧＡＳＴＡＴ  Ｐ２２等）等が挙げられ、これらは本発明の目的及び効果を損なわない範囲において添加することができる。
【００６０】
次に、本発明の延伸フィルムの特性について説明する。
【００６１】
初めに、特性を表す用語について定義する。
【００６２】
高分子フィルムの１軸延伸品を例に挙げて具体的に説明すると、フィルム面内の屈折率のうち最大のものをｎｘ、最小のものをｎｙとし（ｎｘとｎｙの方向は直交）、厚み方向の屈折率をｎｚ、膜厚をｄ（ｎｍ）とした時、フィルム面内の複屈折はｎｘ−ｎｙであり、面内位相差：Ｒｅは（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ（ｎｍ）で表され、フィルム厚み方向の複屈折は（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚであり、厚み位相差：Ｒｔｈは〔（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ〕×ｄ（ｎｍ）で表される。また、延伸方向とフィルム面内の屈折率が最大となる方向（以下、遅相軸と称する場合あり。）の角度を配向角とし、延伸方向を０度方向としてこの配向角を測定すると、フィルム面内の屈折率が最大となる方向がわかる。すなわち、延伸方向（高分子主鎖の配向方向）とフィルム面内の屈折率が最大となる方向がおよそ平行な場合、配向角はほぼ０度となり、延伸方向（高分子主鎖の配向方向）とフィルム面内の屈折率が最大となる方向がおよそ垂直な場合、配向角はほぼ９０度、または、ほぼ−９０度となる（延伸方向から左回りの角度を正の値とし、右回りの角度を負の値として表す。）。
【００６３】
例えば、ＩＰＳモードの液晶セル等の複屈折による位相差を光学補償する場合、上記面内位相差は５９０ｎｍの光による測定において、下限１ｎｍ、上限６００ｎｍが好ましく、下限１０ｎｍ、上限５００ｎｍがより好ましく、下限２０ｎｍ、上限４００ｎｍがさらに好ましい。面内位相差が１ｎｍより小さい、または、６００ｎｍより大きいと液晶セル等の複屈折による位相差の補償が困難になる傾向がある。また、同様にＩＰＳモードの液晶セル等の複屈折による位相差を光学補償する場合、上記厚み位相差は５９０ｎｍの光による測定において、下限−１０００ｎｍ、上限−１ｎｍが好ましく、下限−８００ｎｍ、上限−１０ｎｍがより好ましく、下限−６００ｎｍ、上限−２０ｎｍがさらに好ましい。厚み位相差が−１０００ｎｍより小さい、または、−１ｎｍより大きいと液晶セル等の複屈折による位相差の補償が困難になる傾向がある。
【００６４】
さらに、偏光板の透過軸または吸収軸と必要な相対的位置関係が得やすいという観点から、延伸フィルムの配向角は前記それぞれの角度の±５度以内の振れの範囲にあることが好ましく、±３度以内の範囲にあることがより好ましく、±１度以内の範囲にあることがさらに好ましい。
【００６５】
次に、本発明の偏光板について説明する。偏光板としては、例えば、偏光子の両面にポリエステル系接着剤、ポリアクリル系接着剤、エポキシ系接着剤、シアノアクリル系接着剤、ポリウレタン系接着剤等の接着剤を用いて保護材を貼り合わせたもの等が挙げられる。偏光子の例としては、親水性高分子フィルムにヨウ素及び／または二色性染料を吸着配向して作製した偏光子、ポリビニルアルコール系フィルムを脱水処理してポリエンを形成させ、配向して作製した偏光子、ポリ塩化ビニルフィルムを脱塩酸処理してポリエンを形成させ、配向して作製したものが挙げられる。偏光子に使用される親水性高分子フィルムとしては、ポリビニルアルコール系フィルム、部分ホルマール化ポリビニルアルコール系フィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体のケン化物フィルム等が挙げられる。保護材としては、両面に本発明の延伸フィルムを用いることもできるし、片面に本発明の延伸フィルムを使用し、反対の面には他の透光性フィルムを用いることもできる。
【００６６】
透光性フィルムとしては、透明であれば各種のものが使用可能である。透光性フィルムを形成する具体的な化合物の例としては、ポリカーボネート系重合体；ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のポリアクリル酸エステル；アジピン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、１，４−ナフタレンジカルボン酸、２，３−ナフタレンジカルボン酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸等の２塩基酸とエチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、テトラメチレングリコール、ネオペンチルグリコール等のグリコールとの縮合体またはラクトン類の開環重合で得られるポリエステル系重合体；ポリスチレン、ポリ（α−メチルスチレン）等のスチレン系重合体；アクリル酸エステルとスチレンとの共重合体；ポリエチレン、ポリプロピレン、ノルボルネン系樹脂、シクロオレフィンポリマー、ポリイソプレンの水素添加物、ポリブタジエンの水素添加物等のポリオレフィン系重合体；アセチル基による置換度が２から３のセルロースアセテート等のセルロースエステル系樹脂；ナイロン６、ナイロン６６等のポリアミド；ポリイミド；ポリアミドイミド；ポリビニルアルコール；ポリ塩化ビニル；ポリスルホン；ポリエーテルスルホン；ポリアリレート；エポキシ樹脂；シリコーン樹脂；国際公開第０１／３７００７号パンフレットに記載される化合物等が挙げられる。
【００６７】
また、これらの偏光板、または、両面に透光性フィルムが保護材として用いられた偏光板に本発明の延伸フィルムを別途、設けることもできる。
【００６８】
次に、本発明の液晶表示装置について説明する。液晶表示装置としては、例えば、光源／導光板／光拡散フィルム／レンズフィルム／輝度向上フィルム／偏光板／液晶セル／偏光板の順に構成された表示装置等が挙げられるが、液晶セルの入射光側及び／または出射光側に本発明の延伸フィルムを装着すること及び／または液晶セルの入射光側及び／または出射光側の偏光板に本発明の偏光板を装着することにより本発明の液晶表示装置とすることができる。液晶セルの方式としては、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）方式、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）方式、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）方式、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ  Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）方式等挙げられる。
【００６９】
なお、本発明の延伸フィルム、該延伸フィルムを用いて製造した偏光板は、ＴＮ方式、ＶＡ方式、ＩＰＳ方式、ＯＣＢ方式等の液晶セルを用いた液晶表示装置の視野角拡大、黒表示時の光漏れ防止用途に使用できる。本発明における延伸フィルムの光学特性の性能を十分に発揮するためには、ＩＰＳ方式が特に好ましい。また、本発明の延伸フィルム、該延伸フィルムを用いて製造した偏光板は、ビデオ、カメラ、携帯電話、パソコン、テレビ、モニター、自動車のインパネ等の液晶表示装置作製部品等に好適に使用できる。
【実施例】
【００７０】
以下に、本発明をより詳細に説明するために実施例を示すが、本発明はこれら実施例によって限定されるものではない。
【００７１】
（１）面内位相差、厚み位相差の測定
王子計測機器製自動複屈折計ＫＯＢＲＡ−ＷＲを用いて、２５℃下で５９０ｎｍの光による測定を行い、３次元屈折率を算出した。得られた結果から、面内位相差：Ｒｅを（ｎｘ−ｎｙ）×ｄにより求めた。また、厚み位相差：Ｒｔｈを〔（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ〕×ｄにより求めた。
【００７２】
（２）配向角の測定
サンプルの延伸方向が測定装置の０度方向となるように、王子計測機器製自動複屈折計ＫＯＢＲＡ−ＷＲに装着し、波長５９０ｎｍの光により、配向角（０度方向とサンプルの遅相軸のなす角度）を測定した。尚、配向角は０度方向から左回りの角度を正の値とし、右回りの角度を負の値として表した。
【００７３】
（３）Ｔｇの測定
アイティー計測制御製動的粘弾性測定装置ＤＶＡ−２００により、周波数１０Ｈｚ、昇温速度５℃／ｍｉｎで測定した。
【００７４】
（４）フィルム厚みの測定
アンリツ製電子マイクロメータを用い、延伸後の下記塗布基板全体の厚みを測定し、その後、剥離したポリエチレンテレフタレートフィルムの厚みを測定して、その差より延伸フィルムの厚みを求めた。
【００７５】
（合成例１）セルロース  Ｎ−フェニルカーバメート（１）の合成
冷却管、窒素導入管、攪拌機、温度計を備えた５００ｍｌの４つ口フラスコに、６０℃で７時間真空乾燥したセルロース（旭化成ケミカルズ製アビセルＴＧ−Ｆ２０）３．０ｇを入れ、ピリジン３００ｍｌを加えて懸濁液とした後、さらにフェニルイソシアネート（東京化成工業製）２３．１ｇを加えた。窒素を導入し、攪拌しながら１１０℃に昇温した後、７時間反応させた。その後、２５℃まで放冷した後、反応液をエタノール１２００ｍｌ中に滴下して沈殿を生成させた。濾別後、得られたポリマーにアセトン９０ｍｌを加えて溶解した後、純水１２００ｍｌ中に滴下して沈殿を生じさせた。濾別後水洗し、６０℃で８時間真空乾燥した後、ポリマーをソックスレー抽出器に入れた。メタノールによるソックスレー抽出を２０回行った後、２５℃で８時間真空乾燥することによって、５．７ｇのセルロース  Ｎ−フェニルカーバメート（１）を得た（以下、合成品（１）と呼ぶことがある。）。合成品（１）のＤＳはプロトンＮＭＲ分析の結果、３であった。なお、ＤＳは、セルロース骨格由来のプロトンの化学シフト（３．４〜５．５ｐｐｍ）面積とフェニル基のプロトンの化学シフト（６．７〜７．８ｐｐｍ）面積を比較することによって決定した。また、Ｔｇは２１５℃であった。
【００７６】
（実施例１）
合成品（１）０．３６ｇに４−メチル−２−ペンタノン５．１１１ｇ及びフタル酸ビス(２−エチルヘキシル)０．０７２ｇを加え、２５℃下で溶解した。次に、この塗布液をバーコーターを用いて５０μｍ厚のポリエチレンテレフタレートフィルムに塗布し、塗布基板とした。その後、この塗布基板を２５℃で１７時間、空気中で静置乾燥し、続いて６０℃で５分間、更に、１２０℃で３０分間、空気中で乾燥した。その後、１７０℃で２分予熱後、１７０℃で１．５５倍、ポリエチレンテレフタレートフィルムといっしょに自由端縦１軸延伸した。次に、形成された延伸フィルム上にアクリル系感圧性接着剤層を形成して、この感圧性接着剤層を介して圧着によってガラス基板（平均屈折率：１．５２，面内位相差：０ｎｍ，厚み位相差：１ｎｍ）に貼り合わせた後、ポリエチレンテレフタレートフィルムを剥離することにより、ガラス基板上に延伸フィルムが積層されたサンプルを作製した。このサンプルの面内位相差、厚み位相差及び配向角を測定した結果を表１に示す。
【００７７】
（実施例２）
合成品（１）０．７２ｇに４−メチル−２−ペンタノン４．８１８ｇ及びフタル酸ビス(２−エチルヘキシル)０．１４４ｇを加え、２５℃下で溶解した。次に、この塗布液をバーコーターを用いて５０μｍ厚のポリエチレンテレフタレートフィルムに塗布し、塗布基板とした。その後、この塗布基板を２５℃で１７時間、空気中で静置乾燥し、続いて６０℃で５分間、更に、１２０℃で３０分間、空気中で乾燥した。その後、１７０℃で２分予熱後、１７０℃で１．５５倍、ポリエチレンテレフタレートフィルムといっしょに自由端縦１軸延伸した。次に、形成された延伸フィルム上にアクリル系感圧性接着剤層を形成して、この感圧性接着剤層を介して圧着によってガラス基板（平均屈折率：１．５２，面内位相差：０ｎｍ，厚み位相差：１ｎｍ）に貼り合わせた後、ポリエチレンテレフタレートフィルムを剥離することにより、ガラス基板上に延伸フィルムが積層されたサンプルを作製した。このサンプルの面内位相差、厚み位相差及び配向角を測定した結果を表１に示す。
【００７８】
（実施例３）
合成品（１）０．７２ｇに酢酸ｎ−ペンチル２．３４７ｇ、酢酸ｎ−ヘキシル２．３４７ｇ、エチレングリコールモノブチルエーテル０．５８７ｇ及びフタル酸ビス(２−エチルヘキシル)０．１４４ｇを加え、２５℃下で溶解した。次に、この塗布液をバーコーターを用いて５０μｍ厚のポリエチレンテレフタレートフィルムに塗布し、塗布基板とした。その後、この塗布基板を２５℃で１５分間、風速０．５ｍ／ｓｅｃの空気を送風しながら乾燥し、続いて１８０℃で６分間、空気中で乾燥した。その後、１８０℃で２分予熱後、１８０℃で１．５倍、ポリエチレンテレフタレートフィルムといっしょに自由端縦１軸延伸した。次に、形成された延伸フィルム上にアクリル系感圧性接着剤層を形成して、この感圧性接着剤層を介して圧着によってガラス基板（平均屈折率：１．５２，面内位相差：０ｎｍ，厚み位相差：１ｎｍ）に貼り合わせた後、ポリエチレンテレフタレートフィルムを剥離することにより、ガラス基板上に延伸フィルムが積層されたサンプルを作製した。このサンプルの面内位相差、厚み位相差及び配向角を測定した結果を表１に示す。
【００７９】
（実施例４）
合成品（１）０．７２ｇに酢酸ｎ−ペンチル２．３４７ｇ、酢酸ｎ−ヘキシル２．３４７ｇ、エチレングリコールモノブチルエーテル０．５８７ｇ及びフタル酸ビス(２−エチルヘキシル)０．１４４ｇを加え、２５℃下で溶解した。次に、この塗布液をバーコーターを用いて５０μｍ厚のポリエチレンテレフタレートフィルムに塗布し、塗布基板とした。その後、この塗布基板を２５℃で１５分間、風速０．５ｍ／ｓｅｃの空気を送風しながら乾燥し、続いて１８０℃で６分間、空気中で乾燥した。その後、１８０℃で２分予熱後、１８０℃で１．１倍、ポリエチレンテレフタレートフィルムといっしょに自由端縦１軸延伸した。次に、形成された延伸フィルム上にアクリル系感圧性接着剤層を形成して、この感圧性接着剤層を介して圧着によってガラス基板（平均屈折率：１．５２，面内位相差：０ｎｍ，厚み位相差：１ｎｍ）に貼り合わせた後、ポリエチレンテレフタレートフィルムを剥離することにより、ガラス基板上に延伸フィルムが積層されたサンプルを作製した。このサンプルの面内位相差、厚み位相差及び配向角を測定した結果を表１に示す。
【００８０】
（実施例５）
合成品（１）０．７２ｇに酢酸ｎ−ペンチル２．３４７ｇ、酢酸ｎ−ヘキシル２．３４７ｇ、エチレングリコールモノブチルエーテル０．５８７ｇ及びフタル酸ジブチル０．１４４ｇを加え、２５℃下で溶解した。次に、この塗布液をバーコーターを用いて５０μｍ厚のポリエチレンテレフタレートフィルムに塗布し、塗布基板とした。その後、この塗布基板を２５℃で１５分間、風速０．５ｍ／ｓｅｃの空気を送風しながら乾燥し、続いて１８０℃で６分間、空気中で乾燥した。その後、１８０℃で２分予熱後、１８０℃で１．１倍、ポリエチレンテレフタレートフィルムといっしょに自由端縦１軸延伸した。次に、形成された延伸フィルム上にアクリル系感圧性接着剤層を形成して、この感圧性接着剤層を介して圧着によってガラス基板（平均屈折率：１．５２，面内位相差：０ｎｍ，厚み位相差：１ｎｍ）に貼り合わせた後、ポリエチレンテレフタレートフィルムを剥離することにより、ガラス基板上に延伸フィルムが積層されたサンプルを作製した。このサンプルの面内位相差、厚み位相差及び配向角を測定した結果を表１に示す。
【００８１】
【表１】
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【００８２】
（実施例６）
ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を含浸させ、延伸することにより偏光子を作製した。この偏光子の片面にポリアクリル系接着剤を用いてアセチル基による置換度が２．５のセルロースアセテートフィルム（８０μｍ厚）を貼り合わせた。さらに、偏光子の反対の面に実施例２で作製した延伸フィルムをアクリル系感圧性接着剤を用いて貼り合わせ、光学補償層を有する偏光板を作製した。
【００８３】
（実施例７）
ＩＰＳ方式の液晶セルを装着した液晶表示装置を用意し、実施例２で作製した延伸フィルムを液晶セルの出射光側にアクリル系感圧性接着剤を用いて貼り合わせた表示装置を作製した。表示画面を観察した結果、正面から見ても斜め方向から見ても黒表示時の光もれはなく、色表示が変わることもなく、良好な画像が得られた。
【００８４】
（実施例８）
ＩＰＳ方式の液晶セルを装着した液晶表示装置を用意し、出射光側の偏光板をはずして代わりに実施例６で作製した偏光板を延伸フィルム装着面が液晶セルの出射光側になるように液晶セルに貼り合わせた表示装置を作製した。表示画面を観察した結果、正面から見ても斜め方向から見ても黒表示時の光もれはなく、色表示が変わることもなく、良好な画像が得られた。
【００８５】
（比較例１）
実施例２で作製した延伸フィルムを使用しないこと以外は実施例７と同様の操作を行った。その結果、斜め方向から見た際、黒表示時に光もれがみられた。
【００８６】
（比較例２）
実施例６で作製した偏光板を使用せず、出射光側に、厚み位相差が６０ｎｍのセルロースアセテートフィルムが保護材として両面に装着された偏光板を用いたこと以外は実施例８と同様の操作を行った。その結果、斜め方向から見た際、黒表示時に光もれがみられた。