(57)【要約】      （修正有）【課題】相間移動触媒として有用な、軸不斉を有する光学活性な新規４級アンモニウム塩を提供。【解決手段】Ｃ2対称な軸不斉を有する光学活性な新規４級アンモニウム塩とその製法、ならびに該塩を製造するための中間体およびその製法。2010229130.tif 000098【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
式ＶＩＩＩの化合物：
【化９】
2010229130.tif 000091
（式中、Ｒ3およびＲ4は、それぞれ独立に、水素原子；Ｃ1〜Ｃ6の分岐もしくは環を形成していても良いアルキル基；Ｃ2〜Ｃ6の分岐もしくは環を形成していても良いアルケニル基；Ｃ2〜Ｃ6の分岐もしくは環構造を含んでいても良いアルキニル基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いアラルキル基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いヘテロアラルキル基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いアリール基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いヘテロアリール基；（Ｃ1〜Ｃ3アルコキシ）カルボニル基；カルバモイル基；Ｎ−（Ｃ1〜Ｃ4アルキル）カルバモイル基、およびＮ，Ｎ−ジ（Ｃ1〜Ｃ4アルキル）カルバモイル基（ここで、アルキルは互いに同じまたは異なっていても良い）からなる群から選択される基であり、Ｒ3およびＲ4は互いに同じまたは異なっていても良く；Ｘはハロゲン原子を表す）。
【請求項２】
請求項１に記載の化合物であって、Ｒ3およびＲ4がともにフェニルであるか、もしくはＲ3およびＲ4がともにβ−ナフチルであり、Ｘが臭素原子である、化合物。
【請求項３】
式ＸＩの化合物：
【化１３】
2010229130.tif 000092
（式中、Ｒ3およびＲ4は、それぞれ独立に、水素原子；Ｃ1〜Ｃ6の分岐もしくは環を形成していても良いアルキル基；Ｃ2〜Ｃ6の分岐もしくは環を形成していても良いアルケニル基；Ｃ2〜Ｃ6の分岐もしくは環構造を含んでいても良いアルキニル基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いアラルキル基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いヘテロアラルキル基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いアリール基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いヘテロアリール基；（Ｃ1〜Ｃ3アルコキシ）カルボニル基；カルバモイル基；Ｎ−（Ｃ1〜Ｃ4アルキル）カルバモイル基、およびＮ，Ｎ−ジ（Ｃ1〜Ｃ4アルキル）カルバモイル基（ここで、アルキルは互いに同じまたは異なっていても良い）からなる群から選択される基であり、Ｒ3およびＲ4は互いに同じまたは異なっていても良い）。
【請求項４】
Ｒ3およびＲ4がともにフェニルであるか、もしくはＲ3およびＲ4がともにβ−ナフチルである、請求項３に記載の化合物。
【請求項５】
請求項１に記載の化合物を製造する方法であって：
請求項３に記載の化合物に、適切な溶媒中、ラジカル反応開始剤の存在下、ハロゲンラジカルを発生させることのできる適切なハロゲン化剤を作用させ、２−および２’−メチル基をともにハロゲン化する工程を包含する、方法。
【請求項６】
請求項２に記載の化合物を製造する方法であって：
請求項４に記載の化合物に、適切な溶媒中、ラジカル反応開始剤の存在下、臭素ラジカルを発生させることのできる臭素化剤を作用させ、２−および２’−メチル基をともに臭素化する工程を包含する、方法。
【請求項７】
式ＸＩＩの化合物：
【化１４】
2010229130.tif 000093
（式中、Ｒ3およびＲ4は、それぞれ独立に、水素原子；Ｃ1〜Ｃ6の分岐もしくは環を形成していても良いアルキル基；Ｃ2〜Ｃ6の分岐もしくは環を形成していても良いアルケニル基；Ｃ2〜Ｃ6の分岐もしくは環構造を含んでいて良いアルキニル基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いアラルキル基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いアリール基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いヘテロアリール基；（Ｃ1〜Ｃ3アルコキシ）カルボニル基；カルバモイル基；Ｎ−（Ｃ1〜Ｃ3アルキル）カルバモイル基、およびＮ，Ｎ−ジ（Ｃ1〜Ｃ3アルキル）カルバモイル基（ここで、アルキルは互いに同じまたは異なっていても良い）からなる群から選択される基であり、Ｒ3およびＲ4は互いに同じまたは異なっていても良く；Ｔｆはトリフルオロメタンスルフォニル基を表す）。
【請求項８】
Ｒ3およびＲ4がともにフェニルであるか、もしくはＲ3およびＲ4がともにβ−ナフチルである、請求項７に記載の化合物。
【請求項９】
請求項３に記載の化合物を製造する方法であって：
請求項７に記載の化合物に、ニッケル触媒の存在下、適切な溶媒中、式ＸＩＩＩ：
ＭｅＭｇＸ                  ＸＩＩＩ
（式中、Ｘはハロゲン原子を表す）
で示されるメチルマグネシウムハライドを作用させる工程を包含する、方法。
【請求項１０】
請求項４に記載の化合物を製造する方法であって：
請求項８に記載の化合物に、ニッケル触媒の存在下、適切な溶媒中、式ＸＩＩＩ：
ＭｅＭｇＸ          ＸＩＩＩ
（式中、Ｘはハロゲン原子を表す）
で示されるメチルマグネシウムハライドを作用させる工程を包含する、方法。
【請求項１１】
式ＸＩＶの化合物：
【化１５】
2010229130.tif 000094
（Ｔｆはトリフルオロメタンスルフォニル基である）。
【請求項１２】
式ＸＩＩ’の化合物：
【化１６】
2010229130.tif 000095
（式中、Ｒ3’およびＲ4’は、それぞれ独立に、Ｃ1〜Ｃ6の分岐もしくは環
を形成していても良いアルキル基；Ｃ2〜Ｃ6の分岐もしくは環を形成していても良いアルケニル基；Ｃ2〜Ｃ6の分岐もしくは環構造を含んでいて良いアルキニル基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いアラルキル基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いアリール基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いヘテロアリール基；（Ｃ1〜Ｃ3アルコキシ）カルボニル基；カルバモイル基；Ｎ−（Ｃ1〜Ｃ3アルキル）カルバモイル基、およびＮ，Ｎ−ジ（Ｃ1〜Ｃ3アルキル）カルバモイル基（ここで、アルキルは互いに同じまたは異なっていても良い）からなる群から選択される基であり、Ｒ3’およびＲ4
’は互いに同じまたは異なっていても良く；Ｔｆはトリフルオロメタンスルフォニル基を表す）
を製造する方法であって：
請求項１１に記載の化合物の臭素原子を、適切な溶媒中、遷移金属触媒の存在下、Ｒ3’およびＲ4’で置換する工程を包含する、方法。
【請求項１３】
請求項１１に記載の化合物に、適切な溶媒中、塩基とパラジウム触媒の存在下、式ＸＶの化合物：
Ａｒ3Ｂ（ＯＨ）2   ＸＶ
と、式ＸＶＩの化合物：
Ａｒ4Ｂ（ＯＨ）2   ＸＶＩ
（式ＸＶおよびＸＶＩ中、Ａｒ3およびＡｒ4は、Ｃ2〜Ｃ6の分岐もしくは環を形成していても良いアルケニル基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いアリール基；およびＣ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いヘテロアリール基からなる群から選択される基であり、Ａｒ3およびＡｒ4は互いに同じまたは異なっていても良い）
とを、順次もしくは同時に作用させる工程を包含する、式ＸＶＩＩの化合物：
【化１７】
2010229130.tif 000096
（式中、Ａｒ3およびＡｒ4は、Ｃ2〜Ｃ6の分岐もしくは環を形成していても良いアルケニル基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いアリール基；およびＣ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いヘテロアリール基からなる群から選択される基であり、Ａｒ3およびＡｒ4は互いに同じまたは異なっていても良い）を製造する方法。
【請求項１４】
請求項８に記載の化合物を製造する方法であって：
請求項１１に記載の化合物に、適切な溶媒中、塩基とパラジウム触媒の存在下、式ＸＶの化合物：
Ａｒ3Ｂ（ＯＨ）2   ＸＶ
と、式ＸＶＩの化合物：
Ａｒ4Ｂ（ＯＨ）2   ＸＶＩ
（式ＸＶおよびＸＶＩ中、Ａｒ3およびＡｒ4はともにフェニルであるか、もしくはβ−ナフチルである）
とを作用させる工程を包含する、方法。
【請求項１５】
式ＸＶＩＩＩの化合物：
【化１８】
2010229130.tif 000097
に、適切な溶媒中、塩基の存在下、トリフリル化剤を作用させる工程を包含する、請求項１１に記載の化合物を製造する方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、Ｃ2対称な軸不斉を有する光学活性な新規４級アンモニウム塩とその製法、ならびに該塩を製造するための中間体およびその製法に関する。さらに、本発明は、該塩を相間移動触媒として使用して立体選択的アルキル化を実施することを特徴とする、光学活性なα−アミノ酸誘導体の製法に関する。
【背景技術】
【０００２】
式ＸＩＸ：
【０００３】
【化２１】
2010229130.tif 000002
【０００４】
で示されるグリシン誘導体を、有機溶媒と水とからなる２相系中、式ＸＸの化合物：
Ｒ5−Ｗ        ＸＸ
（式中、Ｒ5はＣ1〜Ｃ6の分岐もしくは環を形成していても良いアルキル基；Ｃ3〜Ｃ9の分岐もしくは環を形成していても良いアリル基または置換アリル基；Ｃ1〜Ｃ3のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、ハロゲン原子、あるいはＣ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いアリール基、あるいはＣ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いヘテロアリール基で置換されていても良いアラルキル基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、ハロゲン原子、あるいはＣ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いアリール基、あるいはＣ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いヘテロアリール基で置換されていても良いヘテロアラルキル基；もしくは、Ｃ3〜Ｃ9の分岐していても良いプロパルギル基または置換プロパルギル基である。Ｗは、脱離能を有する官能基である。）で立体選択的にアルキル化して生成される、式ＸＸＩ：
【０００５】
【化２２】
2010229130.tif 000003
【０００６】
（式中、Ｒ5はＣ1〜Ｃ6の分岐もしくは環を形成していても良いアルキル基；Ｃ3〜Ｃ9の分岐もしくは環を形成していても良いアリル基または置換アリル基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、ハロゲン原子、あるいはＣ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いアリール基、あるいはＣ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いヘテロアリール基で置換されていても良いアラルキル基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、ハロゲン原子、あるいはＣ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いアリール基、あるいはＣ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いヘテロアリール基で置換されていても良いヘテロアラルキル基；もしくは、Ｃ3〜Ｃ9の分岐していても良いプロパルギル基または置換プロパルギル基である。＊は新たに生成する不斉中心を表す。）で示される光学活性なα−アミノ酸誘導体の中のいくつかについて、シンコナアルカロイド誘導体を相間移動触媒として使用する製造法が報告されている（Ｃｏｒｅｙ，Ｅ．Ｊ．ら、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１９９７，１１９，１２４１４）。しかしながら、従来の条件では溶媒にハロゲン系の溶媒を使用しなくてはならない上に、高い不斉収率を達成するためには低温条件を必要とし、このため反応に長時間を要し、工業的に実施することは必ずしも容易ではなかった。
【０００７】
さらに、そのような相間移動触媒は、シンコナアルカロイドを原料として調製されるため、触媒構造を自由に改変して望ましい立体選択性を発揮することが、しばしば困難であった。
【０００８】
他方、軸不斉を有する光学活性な４級アンモニウム塩を調製し、相間移動触媒として立体選択的なアルキル化に応用した例はこれまで知られていない。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【０００９】
【非特許文献１】Ｃｏｒｅｙ，Ｅ．Ｊ．ら、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１９９７，１１９，１２４１４
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明は、軸不斉を有する光学活性な新規４級アンモニウム塩、特にそのスピロ型誘導体を相間移動触媒として提供し、グリシン誘導体を立体選択的にアルキル化して光学活性なα−アミノ酸誘導体に変換することを目的とする。さらに、本発明は、そのような新規４級アンモニウム塩を製造するために有用な中間体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明は、式Ｉの化合物：
【００１２】
【化２３】
2010229130.tif 000004
【００１３】
（式中、Ｒ1およびＲ2は、それぞれ独立に、水素原子；Ｃ1〜Ｃ6の分岐もしくは環を形成していても良いアルキル基；Ｃ2〜Ｃ6の分岐もしくは環を形成していても良いアルケニル基；Ｃ2〜Ｃ6の分岐もしくは環構造を含んでいても良いアルキニル基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いアラルキル基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いヘテロアラルキル基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いアリール基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いヘテロアリール基；（Ｃ1〜Ｃ3アルコキシ）カルボニル基；カルバモイル基；Ｎ−（Ｃ1〜Ｃ4アルキル）カルバモイル基、およびＮ，Ｎ−ジ（Ｃ1〜Ｃ4アルキル）カルバモイル基（ここで、アルキルは互いに同じまたは異なっていても良い）からなる群から選択される基であり、Ｒ1およびＲ2は互いに同じまたは異なっていても良く；Ａｒ1およびＡｒ2は、それぞれ独立に、Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いアリール基；およびＣ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いヘテロアリール基から選択される基であり、Ａｒ1およびＡｒ2は互いに同じまたは異なっていても良く；Ｘ-はハロゲン化物アニオンであり；ＹおよびＺは、それぞれ独立に、水素原子；ハロゲン原子；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基；およびＣ1〜Ｃ3のアルコキシ基からなる群から選択される基であり、ＹおよびＺは互いに同じまたは異なっていても良いか、あるいはＹおよびＺは一緒になって単結合を表し得る）である。そのことにより、上記目的が達成される。
【００１４】
なお、本明細書中で「分岐または環を形成しても良い」との記載は、直鎖状であっても良く、分岐鎖状であっても良く、また環状であっても良いことを意味する。
【００１５】
上記化合物は、スピロ型であり、ＹおよびＺが一緒になって単結合を表す、式ＩＩの化合物：
【００１６】
【化２４】
2010229130.tif 000005
【００１７】
であり得る。
【００１８】
上記化合物は、Ａｒ1およびＡｒ2が互いのα−位で結合したβ−ナフチル基であり、Ｘ-が臭化物アニオンである、式ＩＩＩの化合物：
【００１９】
【化２５】
2010229130.tif 000006
【００２０】
であり得る。
【００２１】
上記化合物は、Ｒ1およびＲ2がともにフェニルであるか、もしくはＲ1およびＲ2がともにβ−ナフチルであり得る。
【００２２】
本発明はまた、式Ｉの化合物を製造する方法であって、式ＩＶの化合物：
【００２３】
【化２６】
2010229130.tif 000007
【００２４】
（式中、Ｒ1およびＲ2は、それぞれ独立に、水素原子；Ｃ1〜Ｃ6の分岐もしくは環を形成していても良いアルキル基；Ｃ2〜Ｃ6の分岐もしくは環を形成していても良いアルケニル基；Ｃ2〜Ｃ6の分岐もしくは環構造を含んでいても良いアルキニル基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いアラルキル基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いヘテロアラルキル基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いアリール基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いヘテロアリール基；（Ｃ1〜Ｃ3アルコキシ）カルボニル基；カルバモイル基；Ｎ−（Ｃ1〜Ｃ4アルキル）カルバモイル基、およびＮ，Ｎ−ジ（Ｃ1〜Ｃ4アルキル）カルバモイル基（ここで、アルキルは互いに同じまたは異なっていても良い）からなる群から選択される基であり、Ｒ1およびＲ2は互いに同じまたは異なっていても良い）に、適切な溶媒中、酸捕捉剤の存在下、式Ｖの化合物：
【００２５】
【化２７】
2010229130.tif 000008
【００２６】
と式ＶＩの化合物：
【００２７】
【化２８】
2010229130.tif 000009
【００２８】
（式ＶおよびＶＩ中、Ａｒ1およびＡｒ2は、それぞれ独立に、Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いアリール基；およびＣ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いヘテロアリール基から選択される基であり、Ａｒ1およびＡｒ2は互いに同じまたは異なっていても良く；Ｘはハロゲン原子であり；ＹおよびＺは、それぞれ独立に、水素原子；ハロゲン原子；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基；およびＣ1〜Ｃ3のアルコキシ基からなる群から選択される基であり、ＹおよびＺは互いに同じまたは異なっていても良いか、あるいはＹおよびＺは一緒になって単結合を表し得る）とを、順次もしくは同時に作用させる工程を包含する、方法である。
【００２９】
本発明はまた、式ＩＩの化合物を製造する方法であって、式ＩＶの化合物：
【００３０】
【化２９】
2010229130.tif 000010
【００３１】
（式中、Ｒ1およびＲ2は、それぞれ独立に、水素原子；Ｃ1〜Ｃ6の分岐もしくは環を形成していても良いアルキル基；Ｃ2〜Ｃ6の分岐もしくは環を形成していても良いアルケニル基；Ｃ2〜Ｃ6の分岐もしくは環構造を含んでいても良いアルキニル基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いアラルキル基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いヘテロアラルキル基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いアリール基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いヘテロアリール基；（Ｃ1〜Ｃ3アルコキシ）カルボニル基；カルバモイル基；Ｎ−（Ｃ1〜Ｃ4アルキル）カルバモイル基、およびＮ，Ｎ−ジ（Ｃ1〜Ｃ4アルキル）カルバモイル基（ここで、アルキルは互いに同じまたは異なっていても良い）からなる群から選択される基であり、Ｒ1およびＲ2は互いに同じまたは異なっていても良い）に、適切な溶媒中、酸捕捉剤の存在下、式ＶＩＩの化合物：
【００３２】
【化３０】
2010229130.tif 000011
【００３３】
（式中、Ａｒ1およびＡｒ2は、それぞれ独立に、Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いアリール基；またはＣ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いヘテロアリール基から選択される基であり、Ａｒ1およびＡｒ2は互いに同じまたは異なっていても良く；Ｘはハロゲン原子である）を作用させる工程を包含する、方法である。
【００３４】
本発明はまた、式ＶＩＩＩの化合物：
【００３５】
【化３１】
2010229130.tif 000012
【００３６】
（式中、Ｒ3およびＲ4は、それぞれ独立に、水素原子；Ｃ1〜Ｃ6の分岐もしくは環を形成していても良いアルキル基；Ｃ2〜Ｃ6の分岐もしくは環を形成していても良いアルケニル基；Ｃ2〜Ｃ6の分岐もしくは環構造を含んでいても良いアルキニル基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いアラルキル基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いヘテロアラルキル基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いアリール基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いヘテロアリール基；（Ｃ1〜Ｃ3アルコキシ）カルボニル基；カルバモイル基；Ｎ−（Ｃ1〜Ｃ4アルキル）カルバモイル基、およびＮ，Ｎ−ジ（Ｃ1〜Ｃ4アルキル）カルバモイル基（ここで、アルキルは互いに同じまたは異なっていても良い）からなる群から選択される基であり、Ｒ3およびＲ4は互いに同じまたは異なっていても良く；Ｘはハロゲン原子を表す）である。
【００３７】
上記化合物は、Ｒ3およびＲ4がともにフェニルであるか、もしくはＲ3およびＲ4がともにβ−ナフチルであり、Ｘが臭素原子であり得る。
【００３８】
本発明はまた、式ＩＩＩの化合物を製造する方法であって、式ＩＸ：
【００３９】
【化３２】
2010229130.tif 000013
【００４０】
で示される光学活性な３，５−ジヒドロ−４Ｈ−ジナフト［２，１−ｃ：１’，２’−ｅ］アゼピンに、アルコール系溶媒中、酸捕捉剤として作用する無機塩基の存在下、式Ｘの化合物：
【００４１】
【化３３】
2010229130.tif 000014
【００４２】
（式中、Ｒ1およびＲ2は、それぞれ独立に、水素原子；Ｃ1〜Ｃ6の分岐もしくは環を形成していても良いアルキル基；Ｃ2〜Ｃ6の分岐もしくは環を形成していても良いアルケニル基；Ｃ2〜Ｃ6の分岐もしくは環構造を含んでいても良いアルキニル基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いアラルキル基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いヘテロアラルキル基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いアリール基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いヘテロアリール基；（Ｃ1〜Ｃ3アルコキシ）カルボニル基；カルバモイル基；Ｎ−（Ｃ1〜Ｃ4アルキル）カルバモイル基、およびＮ，Ｎ−ジ（Ｃ1〜Ｃ4アルキル）カルバモイル基（ここで、アルキルは互いに同じまたは異なっていても良い）からなる群から選択される基であり、Ｒ1およびＲ2は互いに同じまたは異なっていても良く；Ｘはハロゲン原子である）を作用させる工程を包含する、方法である。
【００４３】
本発明はまた、項４に記載の化合物を製造する方法であって、式ＩＸの化合物：
【００４４】
【化３４】
2010229130.tif 000015
【００４５】
に、アルコール系溶媒中、酸捕捉剤として作用する無機塩基の存在下、項８に記載の化合物を作用させる工程を包含する、方法である。
【００４６】
本発明はまた、式ＸＩの化合物：
【００４７】
【化３５】
2010229130.tif 000016
【００４８】
（式中、Ｒ3およびＲ4は、それぞれ独立に、水素原子；Ｃ1〜Ｃ6の分岐もしくは環を形成していても良いアルキル基；Ｃ2〜Ｃ6の分岐もしくは環を形成していても良いアルケニル基；Ｃ2〜Ｃ6の分岐もしくは環構造を含んでいても良いアルキニル基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いアラルキル基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いヘテロアラルキル基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いアリール基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いヘテロアリール基；（Ｃ1〜Ｃ3アルコキシ）カルボニル基；カルバモイル基；Ｎ−（Ｃ1〜Ｃ4アルキル）カルバモイル基、およびＮ，Ｎ−ジ（Ｃ1〜Ｃ4アルキル）カルバモイル基（ここで、アルキルは互いに同じまたは異なっていても良い）からなる群から選択される基であり、Ｒ3およびＲ4は互いに同じまたは異なっていても良い）である。
【００４９】
上記化合物は、Ｒ3およびＲ4がともにフェニルであるか、もしくはＲ3およびＲ4がともにβ−ナフチルであり得る。
【００５０】
本発明はまた、式ＶＩＩＩの化合物を製造する方法であって、項１１に記載の化合物に、適切な溶媒中、ラジカル反応開始剤の存在下、ハロゲンラジカルを発生させることのできる適切なハロゲン化剤を作用させ、２−および２’−メチル基をともにハロゲン化する工程を包含する、方法である。
【００５１】
本発明はまた、請求項８に記載の化合物を製造する方法であって、項１２に記載の化合物に、適切な溶媒中、ラジカル反応開始剤の存在下、臭素ラジカルを発生させることのできる臭素化剤を作用させ、２−および２’−メチル基をともに臭素化する工程を包含する、方法である。
【００５２】
本発明はまた、式ＸＩＩの化合物：
【００５３】
【化３６】
2010229130.tif 000017
【００５４】
（式中、Ｒ3およびＲ4は、それぞれ独立に、水素原子；Ｃ1〜Ｃ6の分岐もしくは環を形成していても良いアルキル基；Ｃ2〜Ｃ6の分岐もしくは環を形成していても良いアルケニル基；Ｃ2〜Ｃ6の分岐もしくは環構造を含んでいて良いアルキニル基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いアラルキル基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いアリール基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いヘテロアリール基；（Ｃ1〜Ｃ3アルコキシ）カルボニル基；カルバモイル基；Ｎ−（Ｃ1〜Ｃ3アルキル）カルバモイル基、およびＮ，Ｎ−ジ（Ｃ1〜Ｃ3アルキル）カルバモイル基（ここで、アルキルは互いに同じまたは異なっていても良い）からなる群から選択される基であり、Ｒ3およびＲ4は互いに同じまたは異なっていても良く；Ｔｆはトリフルオロメタンスルフォニル基を表す）である。
【００５５】
上記化合物は、Ｒ3およびＲ4がともにフェニルであるか、もしくはＲ3およびＲ4がともにβ−ナフチルであり得る。
【００５６】
本発明はまた、項１１に記載の化合物を製造する方法であって、項１５に記載の化合物に、ニッケル触媒の存在下、適切な溶媒中、式ＸＩＩＩ：
ＭｅＭｇＸ                  ＸＩＩＩ
（式中、Ｘはハロゲン原子を表す）で示されるメチルマグネシウムハライドを作用させる工程を包含する、方法である。
【００５７】
本発明はまた、項１２に記載の化合物を製造する方法であって、項１６に記載の化合物に、ニッケル触媒の存在下、適切な溶媒中、式ＸＩＩＩ：
ＭｅＭｇＸ          ＸＩＩＩ
（式中、Ｘはハロゲン原子を表す）で示されるメチルマグネシウムハライドを作用させる工程を包含する、方法である。
【００５８】
本発明はまた、式ＸＩＶの化合物：
【００５９】
【化３７】
2010229130.tif 000018
【００６０】
（Ｔｆはトリフルオロメタンスルフォニル基である）である。
【００６１】
本発明はまた、式ＸＩＩ’の化合物：
【００６２】
【化３８】
2010229130.tif 000019
【００６３】
（式中、Ｒ3’およびＲ4’は、それぞれ独立に、Ｃ1〜Ｃ6の分岐もしくは環を形成していても良いアルキル基；Ｃ2〜Ｃ6の分岐もしくは環を形成していても良いアルケニル基；Ｃ2〜Ｃ6の分岐もしくは環構造を含んでいて良いアルキニル基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いアラルキル基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いアリール基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いヘテロアリール基；（Ｃ1〜Ｃ3アルコキシ）カルボニル基；カルバモイル基；Ｎ−（Ｃ1〜Ｃ3アルキル）カルバモイル基、およびＮ，Ｎ−ジ（Ｃ1〜Ｃ3アルキル）カルバモイル基（ここで、アルキルは互いに同じまたは異なっていても良い）からなる群から選択される基であり、Ｒ3’およびＲ4’は互いに同じまたは異なっていても良く；Ｔｆはトリフルオロメタンスルフォニル基を表す）
を製造する方法であって、項１９に記載の化合物の臭素原子を、適切な溶媒中、遷移金属触媒の存在下、Ｒ3’およびＲ4’で置換する工程を包含する、方法である。
【００６４】
本発明はまた、項１９に記載の化合物に、適切な溶媒中、塩基とパラジウム触媒の存在下、式ＸＶの化合物：
Ａｒ3Ｂ（ＯＨ）2   ＸＶ
と、式ＸＶＩの化合物：
Ａｒ4Ｂ（ＯＨ）2   ＸＶＩ
（式ＸＶおよびＸＶＩ中、Ａｒ3およびＡｒ4は、Ｃ2〜Ｃ6の分岐もしくは環を形成していても良いアルケニル基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いアリール基；およびＣ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いヘテロアリール基からなる群から選択される基であり、Ａｒ3およびＡｒ4は互いに同じまたは異なっていても良い）とを、順次もしくは同時に作用させる工程を包含する、式ＸＶＩＩの化合物：
【００６５】
【化３９】
2010229130.tif 000020
【００６６】
（式中、Ａｒ3およびＡｒ4は、Ｃ2〜Ｃ6の分岐もしくは環を形成していても良いアルケニル基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いアリール基；およびＣ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いヘテロアリール基からなる群から選択される基であり、Ａｒ3およびＡｒ4は互いに同じまたは異なっていても良い）を製造する方法である。
【００６７】
本発明はまた、項１６に記載の化合物を製造する方法であって、項１９に記載の化合物に、適切な溶媒中、塩基とパラジウム触媒の存在下、式ＸＶの化合物：
Ａｒ3Ｂ（ＯＨ）2   ＸＶ
と、式ＸＶＩの化合物：
Ａｒ4Ｂ（ＯＨ）2   ＸＶＩ
（式ＸＶおよびＸＶＩ中、Ａｒ3およびＡｒ4はともにフェニルであるか、もしくはβ−ナフチルである）とを作用させる工程を包含する、方法である。
【００６８】
本発明はまた、式ＸＶＩＩＩの化合物：
【００６９】
【化４０】
2010229130.tif 000021
【００７０】
に、適切な溶媒中、塩基の存在下、トリフリル化剤を作用させる工程を包含する、項１９に記載の化合物を製造する方法である。
【００７１】
本発明はまた、軸不斉に関して純粋な項１に記載の化合物を相間移動触媒として用い、式ＸＩＸ
【００７２】
【化４１】
2010229130.tif 000022
【００７３】
（式中、Ｒ6およびＲ7は、同じまたは異なって、水素原子、アリール基（Ｃ1〜Ｃ3アルキル基、Ｃ1〜Ｃ3アルコキシ基、ハロゲン原子で置換されていても良い）を示すが、ただし同時に水素原子であることは除き、Ｒ8は、アリール基（Ｃ1〜Ｃ3アルキル基、Ｃ1〜Ｃ3アルコキシ基、ハロゲン原子で置換されていても良い）、Ｃ1〜Ｃ6アルキル基（分岐または環を形成していても良い）、アラルキル基（Ｃ1〜Ｃ3アルキル基、Ｃ1〜Ｃ3アルコキシ基、ハロゲン原子で置換されていても良い）を示し、Ｒ9は、Ｃ1〜Ｃ4アルキル基を示す）
で示される化合物を適切な媒体中、無機塩基の存在下で、式ＸＸの化合物：
Ｒ5−Ｗ        ＸＸ
（式中、Ｒ5はＣ1〜Ｃ6の分岐もしくは環を形成していても良いアルキル基；Ｃ3〜Ｃ9の分岐もしくは環を形成していても良いアリル基または置換アリル基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、ハロゲン原子、あるいはＣ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いアリール基、あるいはＣ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いヘテロアリール基で置換されていても良いアラルキル基；Ｃ1〜Ｃ3のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、ハロゲン原子、あるいはＣ1〜Ｃ3のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いアリール基、あるいはＣ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いヘテロアリール基で置換されていても良いヘテロアラルキル基；もしくは、Ｃ3〜Ｃ9の分岐していても良いプロパルギル基または置換プロパルギル基であり；Ｗは、脱離能を有する官能基である）でアルキル化する工程を包含する、式ＸＸＩの化合物：
【００７４】
【化４２】
2010229130.tif 000023
【００７５】
（式中、Ｒ5はＣ1〜Ｃ6の分岐もしくは環を形成していても良いアルキル基；Ｃ3〜Ｃ9の分岐もしくは環を形成していても良いアリル基または置換アリル基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、ハロゲン原子、あるいはＣ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いアリール基、あるいはＣ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いヘテロアリール基で置換されていても良いアラルキル基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、ハロゲン原子、あるいはＣ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いアリール基、あるいはＣ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いヘテロアリール基で置換されていても良いヘテロアラルキル基；もしくは、Ｃ3〜Ｃ9の分岐していても良いプロパルギル基または置換プロパルギル基であり、Ｒ6およびＲ7は、同じまたは異なって、水素原子、アリール基（Ｃ1〜Ｃ3アルキル基、Ｃ1〜Ｃ3アルコキシ基、ハロゲン原子で置換されていても良い）を示すが、ただし同時に水素原子であることは除き、Ｒ8は、アリール基（Ｃ1〜Ｃ3アルキル基、Ｃ1〜Ｃ3アルコキシ基、ハロゲン原子で置換されていても良い）、Ｃ1〜Ｃ6アルキル基（分岐または環を形成していても良い）、アラルキル基（Ｃ1〜Ｃ3アルキル基、Ｃ1〜Ｃ3アルコキシ基、ハロゲン原子で置換されていても良い）を示し、Ｒ9は、Ｃ1〜Ｃ4アルキル基を示す）を立体選択的に製造する方法である。
【００７６】
上記方法では、項２に記載の化合物を相間移動触媒として用い得、項３に記載の化合物を相間移動触媒として用い得、そして請求項４に記載の化合物を相間移動触媒として用い得る。
【００７７】
以下、本明細書で用いられる用語を定義する。
【００７８】
用語「Ｃ1〜Ｃ6の分岐もしくは環を形成していても良いアルキル基」は、任意の炭素数１〜６の直鎖、分岐鎖および環状アルキルを意味し、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、シクロプロピル、ｎ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、シクロブチル、ペンチル、シクロペンチル、ヘキシル、シクロヘキシルなどが挙げられる。本発明においては、メチル、イソプロピルおよびｔｅｒｔ−ブチルが好ましい。
【００７９】
用語「Ｃ2〜Ｃ6の分岐もしくは環を形成していても良いアルケニル基」は、任意の炭素数２〜６の直鎖、分岐鎖および環状アルケニルを意味し、例えば、エテニル、プロペニル、イソプロペニル、シクロプロペニル、ブテニル、１−メチル−１−プロペニル、１−メチル−２−プロペニル、２−メチル−１−プロペニル、２−メチル−２−プロペニル、シクロブテニル、ペンテニル、シクロペンテニル、ヘキセニル、シクロヘキセニルなどが挙げられる。本発明においては、プロペニルおよびブテニルが好ましい。
【００８０】
用語「Ｃ2〜Ｃ6の分岐もしくは環構造を含んでいても良いアルキニル基」は、任意の炭素数２〜６の直鎖、分岐鎖および環状アルキニルを意味し、例えば、エチニル、プロピニル、シクロプロピルエチニル、ブチニル、１−メチル−２−プロピニル、ペンチニル、シクロブチルエチニル、ヘキシニル、トリメチルシリルエチニルなどが挙げられる。本発明においては、エチニルおよびトリメチルシリルエチニルが好ましい。
【００８１】
用語「Ｃ3〜Ｃ9の分岐もしくは環を形成していても良いアリル基または置換アリル基」は、アリル基、あるいは１および／または２および／または３位に置換基を有する任意の合計炭素数４〜９の置換アリル基を意味し、例えば、２−ブテニル、１−シクロペンテニルメチル、３−メチル−２−ブテニルなどが挙げられる。本発明においては、アリルが好ましい。
【００８２】
用語「Ｃ3〜Ｃ9の分岐していても良いプロパルギル基または置換プロパルギル基」は、プロパルギル基、あるいは１および／または３位に置換基を有する任意の合計炭素数４〜９の置換プロパルギル基を意味し、例えば、２−ブチニル、３−トリメチルシリル−２−プロピニルなどが挙げられる。本発明においては、プロパルギルおよび３−トリメチルシリル−２−プロピニルが好ましい。
【００８３】
用語「脱離能を有する官能基」は、置換反応あるいは脱離反応などにおいて、反応基質から離れていく原子または原子団、つまり脱離基を意味し、例えば、ハロゲン原子、スルフォニルオキシ基などが挙げられる。
【００８４】
本発明における「アラルキル基」の例としては、ベンジル、フェネチル、ナフチルメチル、アンスラセニルメチルなどが挙げられる。
【００８５】
本発明におけるヘテロアラルキル基の例としては、ピリジルメチル、キノニルメチル、インドリルメチル、フリルメチル、チエニルメチル、ピロリルメチルなどが挙げられる。
【００８６】
本発明における「アリール基」の例としては、フェニル、ビフェニル、ナフチル、アントラセニルなどが挙げられる。
【００８７】
本発明における「ヘテロアリール基」の例としては、ピリジル、キノニル、ピロリル、イミダゾリル、フリル、インドリル、チエニル、オキサゾリル、チアゾリルなどが挙げられる。
【００８８】
本発明における「ハロゲン原子」の例としては、塩素、臭素、ヨウ素などが挙げられる。
【００８９】
本発明における「スルフォニルオキシ基」の例としては、メタンスルフォニルオキシ、ｐ−トルエンスルフォニルオキシ、トリフルオロメタンスルフォニルオキシなどが挙げられる。また、適切な媒体としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルエーテル、イソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンなど、またはこれらの中で、水と混ざらないものと水との二相系媒体を挙げることができる。無機塩基としては、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化ルビジウム、水酸化セシウムなどが挙げられる。
【発明の効果】
【００９０】
本発明によれば、軸不斉を有する光学活性な新規４級アンモニウム塩が得られる。この４級アンモニウム塩は、グリシン誘導体を立体選択的にアルキル化して光学活性なα−アミノ酸誘導体に変換するための相間移動触媒として作用し得る。さらに、本発明によれば、そのような新規４級アンモニウム塩を製造するために有用な中間体が得られる。
【発明を実施するための形態】
【００９１】
以下、本発明を詳細に説明する。
【００９２】
本発明者は、式Ｉ：
【００９３】
【化４３】
2010229130.tif 000024
【００９４】
（式中、Ｒ1およびＲ2は、それぞれ独立に、水素原子；Ｃ1〜Ｃ6の分岐もしくは環を形成していても良いアルキル基；Ｃ2〜Ｃ6の分岐もしくは環を形成していても良いアルケニル基；Ｃ2〜Ｃ6の分岐もしくは環構造を含んでいても良いアルキニル基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いアラルキル基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いヘテロアラルキル基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いアリール基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いヘテロアリール基；（Ｃ1〜Ｃ3アルコキシ）カルボニル基；カルバモイル基；Ｎ−（Ｃ1〜Ｃ4アルキル）カルバモイル基、およびＮ，Ｎ−ジ（Ｃ1〜Ｃ4アルキル）カルバモイル基（ここで、アルキルは互いに同じまたは異なっていても良い）からなる群から選択される基であり、Ｒ1およびＲ2は互いに同じまたは異なっていても良く；Ａｒ1およびＡｒ2は、それぞれ独立に、Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いアリール基；またはＣ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いヘテロアリール基から選択される基であり、Ａｒ1およびＡｒ2は互いに同じまたは異なっていても良く；Ｘ-はハロゲン化物アニオンであり；ＹおよびＺはそれぞれ独立に、水素原子；ハロゲン原子；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基；およびＣ1〜Ｃ3のアルコキシ基からなる群から選択される基であり、ＹおよびＺは互いに同じまたは異なっていても良いか、あるいはＹおよびＺは一緒になって単結合を表し得る）で示されるスピロ構造をとり得る軸不斉を有する光学活性な４級アンモニウム塩が、有機溶媒と水とからなる２相系中、優れた相間移動触媒として作用し、式ＸＩＸ：
【００９５】
【化４４】
2010229130.tif 000025
【００９６】
で示されるグリシン誘導体を、式ＸＸ：
Ｒ5−Ｗ              ＸＸ
（式中、Ｒ5はＣ1〜Ｃ6の分岐もしくは環を形成していても良いアルキル基；Ｃ3〜Ｃ9の分岐もしくは環を形成していても良いアリル基または置換アリル基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、ハロゲン原子、あるいはＣ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いアリール基、あるいはＣ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いヘテロアリール基で置換されていても良いアラルキル基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、ハロゲン原子、あるいはＣ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いアリール基、あるいはＣ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いヘテロアリール基で置換されていても良いヘテロアラルキル基；もしくは、Ｃ3〜Ｃ9の分岐していても良いプロパルギル基または置換プロパルギル基であり；Ｗは、ハロゲン原子、スルフォニルオキシ基等の脱離能を有する官能基である）で示される化合物で立体選択的にアルキル化して、式ＸＸＩ：
【００９７】
【化４５】
2010229130.tif 000026
【００９８】
（式中、Ｒ5はＣ1〜Ｃ6の分岐もしくは環を形成していても良いアルキル基；Ｃ3〜Ｃ9の分岐もしくは環を形成していても良いアリル基または置換アリル基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、ハロゲン原子、あるいはＣ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いアリール基、あるいはＣ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いヘテロアリール基で置換されていても良いアラルキル基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、ハロゲン原子、あるいはＣ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いアリール基、あるいはＣ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いヘテロアリール基で置換されていても良いヘテロアラルキル基；もしくは、Ｃ3〜Ｃ9の分岐していても良いプロパルギル基または置換プロパルギル基である。＊は新たに生成する不斉中心を表す）で示される光学活性なα−アミノ酸誘導体を高い光学純度で与えることを見出した。
【００９９】
式Ｉで示される軸不斉を有する光学活性な４級アンモニウム塩のうち、式ＩＩ：
【０１００】
【化４６】
2010229130.tif 000027
【０１０１】
（式中、Ｒ1およびＲ2は、それぞれ独立に、水素原子；Ｃ1〜Ｃ6の分岐もしくは環を形成していても良いアルキル基；Ｃ2〜Ｃ6の分岐もしくは環を形成していても良いアルケニル基；Ｃ2〜Ｃ6の分岐もしくは環構造を含んでいても良いアルキニル基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いアラルキル基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いヘテロアラルキル基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いアリール基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いヘテロアリール基；（Ｃ1〜Ｃ3アルコキシ）カルボニル基；カルバモイル基；Ｎ−（Ｃ1〜Ｃ4アルキル）カルバモイル基、およびＮ，Ｎ−ジ（Ｃ1〜Ｃ4アルキル）カルバモイル基（ここで、アルキルは互いに同じまたは異なっていても良い）からなる群から選択される基であり、Ｒ1およびＲ2は互いに同じまたは異なっていても良い。Ａｒ1およびＡｒ2は、それぞれ独立に、Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いアリール基；またはＣ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いヘテロアリール基から選択される基であり、Ａｒ1およびＡｒ2は互いに同じまたは異なっていても良い。Ｘ-はハロゲン化物アニオンである。）で示される軸不斉を有する光学活性なスピロ型４級アンモニウム塩を相間移動触媒に用い、上記のアルキル化反応を行なうと、より高い立体選択性が得られる。
【０１０２】
特に、式ＩＩの化合物のうち、Ａｒ1およびＡｒ2が互いのα−位で結合したβ−ナフチル基であり、Ｘ-が臭化物アニオンである、式ＩＩＩ：
【０１０３】
【化４７】
2010229130.tif 000028
【０１０４】
（Ｒ1およびＲ2は、それぞれ独立に、水素原子；Ｃ1〜Ｃ6の分岐もしくは環を形成していても良いアルキル基；Ｃ2〜Ｃ6の分岐もしくは環を形成していても良いアルケニル基；Ｃ2〜Ｃ6の分岐もしくは環構造を含んでいても良いアルキニル基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いアラルキル基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いヘテロアラルキル基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いアリール基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いヘテロアリール基；（Ｃ1〜Ｃ3アルコキシ）カルボニル基；カルバモイル基；Ｎ−（Ｃ1〜Ｃ4アルキル）カルバモイル基、およびＮ，Ｎ−ジ（Ｃ1〜Ｃ4アルキル）カルバモイル基（ここで、アルキルは互いに同じまたは異なっていても良い）からなる群から選択される基であり、Ｒ1およびＲ2は互いに同じまたは異なっていても良い。）で示される化合物、とりわけ、式ＩＩＩ中、Ｒ1およびＲ2が共にフェニル、もしくはＲ1およびＲ2が共にβ−ナフチルである、Ｃ2対称な軸不斉を有する光学活性なスピロ型４級アンモニウム塩は、上記立体選択的アルキル化において極めて有効な相間移動触媒として作用し、９０％ｅｅ以上の立体選択性を達成することができる。
【０１０５】
式Ｉで示されるスピロ構造をとっても良い軸不斉を有する光学活性な４級アンモニウム塩は、式ＩＶ：
【０１０６】
【化４８】
2010229130.tif 000029
【０１０７】
（式中、Ｒ1およびＲ2は、それぞれ独立に、水素原子；Ｃ1〜Ｃ6の分岐もしくは環を形成していても良いアルキル基；Ｃ2〜Ｃ6の分岐もしくは環を形成していても良いアルケニル基；Ｃ2〜Ｃ6の分岐もしくは環構造を含んでいても良いアルキニル基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いアラルキル基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いヘテロアラルキル基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いアリール基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いヘテロアリール基；（Ｃ1〜Ｃ3アルコキシ）カルボニル基；カルバモイル基；Ｎ−（Ｃ1〜Ｃ4アルキル）カルバモイル基、およびＮ，Ｎ−ジ（Ｃ1〜Ｃ4アルキル）カルバモイル基（ここで、アルキルは互いに同じまたは異なっていても良い）からなる群から選択される基であり、Ｒ1およびＲ2は互いに同じまたは異なっていても良い。）で示される軸不斉を有する光学活性なジナフトアゼピン誘導体に、適切な溶媒中、酸捕捉剤の存在下、式Ｖ：
【０１０８】
【化４９】
2010229130.tif 000030
【０１０９】
と式ＶＩ：
【０１１０】
【化５０】
2010229130.tif 000031
【０１１１】
（式ＶおよびＶＩ中、Ａｒ1およびＡｒ2は、それぞれ独立に、Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いフェニル、ビフェニル、ナフチル等のアリール基；またはＣ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いピリジル、キノニルなどのヘテロアリール基から選択される基であり、Ａｒ1およびＡｒ2は互いに同じまたは異なっていても良い。Ｘはハロゲン原子である。ＹおよびＺはそれぞれ独立に、水素原子；ハロゲン原子；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基；およびＣ1〜Ｃ3のアルコキシ基からなる群から選択される基であり、ＹおよびＺは互いに同じまたは異なっていても良いか、あるいはＹおよびＺは一緒になって単結合を表し得る。）で表される化合物とを、順次もしくは同時に作用させることによって製造することができる。
【０１１２】
式ＩＶの化合物は、式ＶＩＩＩの化合物にＨａｗｋｉｎｓ，Ｊ．Ｍ．らの方法（Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，１９９４，５９，６４９）を適用することによって得られる。式Ｖの化合物ならびに式ＶＩの化合物の多くは、市販の試薬として容易に入手することができる。または、これらの化合物として式ＶＩＩＩの化合物を使用することができる。
【０１１３】
本発明に従えば、化合物ＩＶと、化合物ＩＶに対してそれぞれ好ましくは０．８〜１．５当量、より好ましくは１．０〜１．４当量、最も好ましくは１．１〜１．２当量の化合物Ｖと化合物ＶＩとを、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロビルアルコール、ブタノール、ｔｅｒｔ−ブチルアルコール等のアルコール系溶媒中、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム等の酸捕捉剤の存在下に、室温から使用溶媒の沸点までの間の適宜な温度、好ましくは室温〜８０℃で、好ましくは３０分から１２時間、より好ましくは２〜１１時間、最も好ましくは３〜１０時間攪拌することにより化合物Ｉが得られる。この時、上記反応溶媒は、化合物ＩＶに対し、容積（ｍＬ）／重量（ｇ）比で好ましくは５〜５０倍、より好ましくは１０〜４０倍使用し、酸捕捉剤は、化合物ＩＶに対して好ましくは２〜４当量、より好ましくは２〜３当量使用すれば良い。
【０１１４】
式ＩＩで示される軸不斉を有する光学活性なスピロ型４級アンモニウム塩は、式ＩＶで示される化合物に、適切な溶媒中、酸捕捉剤の存在下、式ＶＩＩ：
【０１１５】
【化５１】
2010229130.tif 000032
【０１１６】
（式中、Ａｒ1およびＡｒ2は、それぞれ独立に、Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いフェニル、ビフェニル、ナフチル等のアリール基；またはＣ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いピリジル、キノニルなどのヘテロアリール基から選択される基であり、Ａｒ1およびＡｒ2は互いに同じまたは異なっていても良い。Ｘはハロゲン原子である。）で示される化合物を作用させることによって製造することができる。
【０１１７】
本発明に従えば、化合物ＩＶと、化合物ＩＶに対して好ましくは１〜３当量、より好ましくは１〜２当量、最も好ましくは１〜１．５当量の化合物ＶＩＩとを、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロビルアルコール、ブタノール、ｔｅｒｔ−ブチルアルコール等のアルコール系溶媒中、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム等の酸捕捉剤の存在下に、室温から使用溶媒の沸点までの間の適宜な温度、好ましくは室温〜８０℃で、好ましくは３０分から１２時間、より好ましくは１〜１１時間、最も好ましくは２〜１０時間攪拌することにより化合物ＩＩが得られる。この時、反応溶媒は、化合物ＩＶに対し、容積（ｍＬ）／重量（ｇ）比で好ましくは５〜５０倍、より好ましくは５〜３０倍、最も好ましくは１０〜２５倍使用し、酸捕捉剤は、化合物ＩＶに対して好ましくは２〜４当量、より好ましくは２〜３当量使用すれば良い。
【０１１８】
式ＩＩＩで示される軸不斉を有する光学活性なスピロ型４級アンモニウム塩は、式ＩＸで示される光学活性な３，５−ジヒドロ−４Ｈ−ジナフト［２，１−ｃ：１’，２’−ｅ］アゼピンに、アルコール系溶媒中、酸捕捉剤として作用する無機塩基の存在下、式Ｘ：
【０１１９】
【化５２】
2010229130.tif 000033
【０１２０】
（式中、Ｒ1およびＲ2は、それぞれ独立に、水素原子；Ｃ1〜Ｃ6の分岐もしくは環を形成していても良いアルキル基；Ｃ2〜Ｃ6の分岐もしくは環を形成していても良いアルケニル基；Ｃ2〜Ｃ6の分岐もしくは環構造を含んでいても良いアルキニル基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いアラルキル基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いヘテロアラルキル基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いアリール基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いヘテロアリール基；（Ｃ1〜Ｃ3アルコキシ）カルボニル基；カルバモイル基；Ｎ−（Ｃ1〜Ｃ4アルキル）カルバモイル基、およびＮ，Ｎ−ジ（Ｃ1〜Ｃ4アルキル）カルバモイル基（ここで、アルキルは互いに同じまたは異なっていても良い）からなる群から選択される基であり、Ｒ1およびＲ2は互いに同じまたは異なっていても良い。Ｘはハロゲン原子である。）で示される光学活性な１，１’−ビナフチル誘導体を作用させることによって製造することができる。
【０１２１】
また、この時使用する光学活性な３，５−ジヒドロ−４Ｈ−ジナフト［２，１−ｃ：１’，２’−ｅ］アゼピンＩＸは、Ｈａｗｋｉｎｓらの方法に従って製造することができる（Ｈａｗｋｉｎｓ，Ｊ．Ｍ．ら、Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．１９９４，５９，６４９）。
【０１２２】
本発明に従えば、化合物ＩＸと、化合物ＩＸに対して好ましくは１〜３当量、より好ましくは１〜２当量、最も好ましくは１〜１．５当量の化合物Ｘとを、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロビルアルコール、ブタノール、ｔｅｒｔ−ブチルアルコール等のアルコール系溶媒中、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム等の酸捕捉剤の存在下に、室温から使用溶媒の沸点までの間の適宜な温度、好ましくは室温〜８０℃で、好ましくは３０分から１２時間、より好ましくは１〜１１時間、最も好ましくは２〜１０時間攪拌することにより化合物ＩＩＩが得られる。この時、反応溶媒は、化合物ＩＸに対し、容積（ｍＬ）／重量（ｇ）比で好ましくは５〜５０倍、より好ましくは５〜３０倍使用し、酸捕捉剤は、化合物ＩＸに対して好ましくは２〜４当量、より好ましくは２〜３当量使用すれば良い。
【０１２３】
式Ｘで表される化合物は、式ＸＩ：
【０１２４】
【化５３】
2010229130.tif 000034
【０１２５】
（式中、Ｒ3およびＲ4は、それぞれ独立に、水素原子；Ｃ1〜Ｃ6の分岐もしくは環を形成していても良いアルキル基；Ｃ2〜Ｃ6の分岐もしくは環を形成していても良いアルケニル基；Ｃ2〜Ｃ6の分岐もしくは環構造を含んでいても良いアルキニル基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いアラルキル基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いヘテロアラルキル基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いアリール基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いヘテロアリール基；（Ｃ1〜Ｃ3アルコキシ）カルボニル基；カルバモイル基；Ｎ−（Ｃ1〜Ｃ4アルキル）カルバモイル基、およびＮ，Ｎ−ジ（Ｃ1〜Ｃ4アルキル）カルバモイル基（ここで、アルキルは互いに同じまたは異なっていても良い）からなる群から選択される基であり、Ｒ3およびＲ4は互いに同じまたは異なっていても良い。）で示される光学活性な２，２’−ジメチル−１，１’−ビナフチル誘導体に、適切な溶媒中、ラジカル反応開始剤の存在下、ハロゲンラジカルを発生させることのできる適切なハロゲン化剤（ハロゲンラジカル発生化剤）を作用させ、２−および２’−メチル基をともにハロゲン化することによって製造することができる。
【０１２６】
本発明に従えば、化合物ＸＩと、化合物ＸＩに対して好ましくは２〜３当量、より好ましくは２〜２．５当量のＮ−ブロムコハク酸イミド等のハロゲンラジカル発生化剤とを、へキサン、シクロへキサン、石油エーテル等の炭化水素系溶媒中、過酸化ベンゾイル等のラジカル反応開始剤の存在下に、室温から使用溶媒の沸点までの間の適宜な温度、好ましくは６０〜１００℃で、好ましくは３０分から５時間、より好ましくは１〜５時間、最も好ましくは１〜３．５時間攪拌することにより化合物Ｘが得られる。この時、反応溶媒は、化合物ＸＩに対し、容積（ｍＬ）／重量（ｇ）比で好ましくは５〜２０倍、より好ましくは５〜１５倍、最も好ましくは５〜１０倍使用し、ラジカル発生化剤は、化合物ＩＶに対して好ましくは０．１〜０．６当量、より好ましくは０．２〜０．６当量使用し、ハロゲンラジカル発生化剤は、化合物ＩＶに対して好ましくは１〜５当量、より好ましくは１．５〜３．５当量、最も好ましくは１．８〜２．６当量使用すれば良い。
【０１２７】
化合物ＸＩは、式ＸＩＩ：
【０１２８】
【化５４】
2010229130.tif 000035
【０１２９】
（式中、Ｒ3およびＲ4は、それぞれ独立に、水素原子；Ｃ1〜Ｃ6の分岐もしくは環を形成していても良いアルキル基；Ｃ2〜Ｃ6の分岐もしくは環を形成していても良いアルケニル基；Ｃ2〜Ｃ6の分岐もしくは環構造を含んでいて良いアルキニル基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いアラルキル基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いアリール基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いヘテロアリール基；（Ｃ1〜Ｃ3アルコキシ）カルボニル基；カルバモイル基；Ｎ−（Ｃ1〜Ｃ3アルキル）カルバモイル基、およびＮ，Ｎ−ジ（Ｃ1〜Ｃ3アルキル）カルバモイル基（ここで、アルキルは互いに同じまたは異なっていても良い）からなる群から選択される基であり、Ｒ3およびＲ4は互いに同じまたは異なっていても良い。Ｔｆはトリフルオロメタンスルフォニル基を表す。）で示される光学活性な２，２’−ビストリフルオロメタンスルフォニルオキシ−１，１’−ビナフチル誘導体に、ニッケル触媒の存在下、適切な溶媒中、式ＸＩＩＩ：
ＭｅＭｇＸ            ＸＩＩＩ
（式中、Ｘはハロゲン原子を表す。）で示されるメチルマグネシウムハライドを作用させることによって製造することができる。
【０１３０】
本発明に従えば、化合物ＸＩＩと、化合物ＸＩＩに対して好ましくは２〜７当量、より好ましくは２．５〜６．５当量のＭｅＭｇＣｌ等の化合物ＸＩＩＩとを、エーテル、イソプロピルエーテル、ブチルエーテル、ＴＨＦ、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル系溶媒中、ＮｉＣｌ2（ＰＰｈ3）2等のニッケル触媒の存在下、−１５Ｃから使用溶媒の沸点までの間の適宜な温度、好ましくは０〜５０℃で、好ましくは２時間から５０時間、より好ましくは５〜４０時間攪拌することにより化合物ＸＩが得られる。この時、反応溶媒は、化合物ＸＩＩに対し、容積（ｍＬ）／重量（ｇ）比で好ましくは５〜２０倍、より好ましくは７〜１５倍使用し、ニッケル触媒は、化合物ＸＩＩに対して好ましくは０．０１〜０．１当量、より好ましくは０．０２〜０．０６当量使用すれば良い。
【０１３１】
Ｒ3およびＲ4が水素以外の官能基である化合物ＸＩＩは、式ＸＩＶ：
【０１３２】
【化５５】
2010229130.tif 000036
【０１３３】
（Ｔｆはトリフルオロメタンスルフォニル基である。）で示される光学活性な３，３’−ジブロム−２，２’−ビストリフルオロメタンスルフォニルオキシ−１，１’−ビナフチル誘導体に、適切な溶媒中、パラジウム金属で触媒されるカルボニル化反応、Ｈｅｃｋ反応、Ｓｔｉｌｌｅ反応、薗頭反応、鈴木反応等を適用することによって製造することができる。
【０１３４】
特に、式ＸＶＩＩ：
【０１３５】
【化５６】
2010229130.tif 000037
【０１３６】
（式中、Ａｒ3およびＡｒ4は、Ｃ2〜Ｃ6の分岐もしくは環を形成していても良いアルケニル基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いアリール基；およびＣ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いヘテロアリール基からなる群から選択される基であり、Ａｒ3およびＡｒ4は互いに同じまたは異なっていても良い。）で表される化合物は、適切な溶媒中、塩基とパラジウム触媒の存在下、式ＸＶの化合物：
Ａｒ3Ｂ（ＯＨ）2   ＸＶ
と、式ＸＶＩの化合物：
Ａｒ4Ｂ（ＯＨ）2   ＸＶＩ
（式ＸＶおよびＸＶＩ中、Ａｒ3およびＡｒ4は、Ｃ2〜Ｃ6の分岐もしくは環を形成していても良いアルケニル基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いアリール基；およびＣ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いヘテロアリール基からなる群から選択される基であり、Ａｒ3およびＡｒ4は互いに同じまたは異なっていても良い。）とを、化合物ＸＩＶに対し、順次もしくは同時に作用させることによって製造することができる。
【０１３７】
本発明に従えば、化合物ＸＩＶと、化合物ＸＩＶに対してそれぞれ好ましくは１．２〜３当量、より好ましくは１．２〜２．０当量、最も好ましくは１．２５〜１．７５当量の化合物ＸＶと化合物ＸＶＩとを、エーテル、イソプロピルエーテル、ブチルエーテル、ＴＨＦ、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル系溶媒もしくはＤＭＦ中、化合物ＸＩＶに対して好ましくは０．０１〜０．１当量、より好ましくは０．０２〜０．０８当量、最も好ましくは０．０３〜０．０６当量のパラジウム触媒ならびに炭酸水素ナトリウム、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化タリウム、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、りん酸カリウム（水和物）等の塩基の存在下、室温から使用溶媒の沸点までの間の適宜な温度、好ましくは室温〜１００℃で、好ましくは１時間から２０時間、より好ましくは３〜１５時間、最も好ましくは６〜１２時間攪拌することにより化合物ＸＶＩＩが得られる。この時、反応溶媒は、化合物ＸＩＶに対し、容積（ｍＬ）／重量（ｇ）比で好ましくは５〜２０倍、より好ましくは６〜１２倍使用し、塩基は、化合物ＸＩＶに対して好ましくは２〜５当量、より好ましくは２．５〜３．５当量使用すれば良い。パラジウム触媒としては、Ｐｄ（ＰＰｈ3）4等の０価のパラジウム錯体の他、反応系内でＰｄ（ＯＡｃ）2とＰＰｈ3とから調製したものも使用することができる。後者の場合、Ｐｄ（ＯＡｃ）2とＰＰｈ3との比率は１：４〜１：５である。
【０１３８】
化合物ＸＩＶは、式ＸＶＩＩＩ：
【０１３９】
【化５７】
2010229130.tif 000038
【０１４０】
で示される光学活性な２，２’−ジブロム−１，１’−ビ−２−ナフトールに、トルエン、塩化メチレン、ＴＨＦ、ＤＭＦなどの不活性な溶媒中、化合物ＸＶＩＩＩに対して好ましくは２〜４当量、より好ましくは２．５〜３．３当量の塩基の存在下、化合物ＸＶＩＩＩに対して好ましくは２〜２．５当量、より好ましくは２．２〜２．５当量のトリフルオロメタンスルフォン酸無水物、トリフルオロメタンスルフニルクロリド等のトリフリル化剤を、−７８℃〜０℃にて作用させることによって製造することができる。この時、反応溶媒は、化合物ＸＶに対し、容積（ｍＬ）／重量（ｇ）比で好ましくは５〜２０倍、より好ましくは６〜１５倍使用する。塩基としては、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルイソプロピルアミン、Ｎ−メチルモルフォリンなどの３級アミンを使用することができる。
【０１４１】
上記の方法で製造した式Ｉ〜ＩＩＩで表されるスピロ構造をとり得る軸不斉を有する光学活性な４級アンモニウム塩は、化合物ＩＸの立体選択的アルキル化のための相間移動触媒として有用である。
【０１４２】
式Ｉの化合物は、軸不斉に関して純粋な形態で、相間移動触媒として使用される。「軸不斉に関して純粋」とは、軸不斉に基づいて考えられる各種立体異性体のうち、１つの特定の異性体の存在率が他の異性体より多いことをいう。好ましくは、当該１つの特定の異性体の存在率は、９０％以上、より好ましくは９５％以上、さらにより好ましくは９８％以上である。
【０１４３】
本発明に従えば、炭化水素系溶媒とアルカリ水溶液とからなる二相系混合物中、化合物ＸＩＸと、化合物ＸＩＸに対して好ましくは１〜１．５当量、より好ましくは１．１〜１．３当量、最も好ましくは１．２〜１．２５当量の化合物ＸＸとを、化合物ＸＩＸに対して０．００５〜０．０３当量、より好ましくは０．００７５〜０．０１２５当量の相間移動触媒として作用する化合物Ｉ〜ＩＩＩのいずれかの存在下、−１０℃から室温までの間の適宜な温度、好ましくは−５〜＋５℃で、好ましくは１５分から３時間、より好ましくは０．５〜２時間、最も好ましくは０．５〜１．５時間攪拌することにより、光学活性な化合物ＸＸＩが高収率かつ高光学純度で得られる。
【０１４４】
具体的には、例えば、式ＸＸＩの化合物の（Ｓ）体を合成する場合には、式Ｉの化合物として（Ｓ）の軸不斉を有するものを用いる。また、（Ｒ）体を合成する場合には、式Ｉの化合物として（Ｒ）の軸不斉を有するものを用いる。
【０１４５】
本明細書において、高光学純度とは、好ましくは９０％ｅｅ以上、より好ましくは９５％ｅｅ以上の光学純度をいう。
【０１４６】
この時、炭化水素系溶媒は、水と混和しないものであれば、どのような種類のものでも良く、例えば、へキサン、トルエンなどを化合物ＸＩＸに対し容積（ｍＬ）／重量（ｇ）比で好ましくは５〜３０倍、より好ましくは８〜２５倍使用し得る。アルカリ水溶液としては、水酸化リチウム、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化セシウム、水酸化ルビジウム等のアルカリ金属水酸化物の１０〜６０％水溶液を使用し得、その容量は化合物ＩＸに対し容積（ｍＬ）／重量（ｇ）比で好ましくは４〜２０倍、より好ましくは８〜１５倍であり得る。
【実施例】
【０１４７】
以下に、本発明の実施例を説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されない。
【０１４８】
（実施例１）（Ｓ）−１，１’−ビ−３−ブロム−２−トリフルオロメタンスルフォニルオキシナフチル（２）の調製
【０１４９】
【化５８】
2010229130.tif 000039
【０１５０】
アルゴン雰囲気下、（Ｓ）−１，１’−ビ−３−ブロム−２−ナフトール（１）（６．１９ｇ、１４ｍｍｏｌ）のジクロルメタン溶液（４０ｍＬ）へトリエチルアミン（６．５４ｍＬ、４２ｍｍｏｌ）を室温で加えた後、−７８℃まで冷却した。次いで、トリフルオロメタンスルフォン酸無水物（５．１６ｍＬ、３１ｍｍｏｌ）を滴下して、同冷却条件下に２時間攪拌した。反応混合物を飽和ＮＨ4Ｃｌ水溶液にあけ、ジクロルメタンで抽出した。ジクロルメタン抽出液を乾燥（Ｎａ2ＳＯ4）後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、ジクロルメタン：へキサン（１：５）で溶出して、（Ｓ）−１，１’−ビ−３−ブロム−２−トリフルオロメタンスルフォニルオキシナフチル（２）（９．９０ｇ、１４ｍｍｏｌ）を定量的収率で得た。
【０１５１】
３００ＭＨｚ  1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：δ８．４４（２Ｈ，ｓ，Ａｒ−Ｈ），７．９２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．６１（２Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝１．２，６．９，８．１Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．４１（２Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝１．２，６．９，８．１Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．２２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ）ｐｐｍ。
【０１５２】
（実施例２）（Ｓ）−１，１’−ビ−３−（β−ナフチル）−２−トリフルオロメタンスルフォニルオキシナフチル（３）の調製
【０１５３】
【化５９】
2010229130.tif 000040
【０１５４】
（Ｓ）−１，１’−ビ（３−ブロム−２−トリフルオロメタンスルフォニルオキシ）ナフチル（２）（３．５４ｇ、５．０ｍｍｏｌ）、β−ナフチルボロン酸（２．９４ｇ、１５ｍｍｏｌ）、酢酸パラジウム［Ｐｄ（ＯＡｃ）2；５７．９ｍｇ、５ｍｏｌ％］、トリフェニルフォスフィン（０．２９４ｇ、２２ｍｏｌ％）、りん酸カリウム・水和物（４．２９ｇ、１５ｍｍｏｌ）およびＴＨＦ（２５ｍＬ）の混合物を、加熱下、６５℃で１０時間攪拌した。次いで、反応混合物を飽和ＮＨ4Ｃｌ水溶液にあけた。パラジウム触媒を濾別し、濾液をエーテルで抽出した。エーテル抽出液を、乾燥（Ｎａ2ＳＯ4）後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、エーテル：ジクロルメタン：へキサン（１：２：６０）で溶出して、（Ｓ）−１，１’−ビ−３−（β−ナフチル）−２−トリフルオロメタンスルフォニルオキシナフチル（３）（２．８５ｇ、４．０ｍｍｏｌ）を収率８０％で得た。
【０１５５】
３００ＭＨｚ  1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：δ８．２３（２Ｈ，ｓ，Ａｒ−Ｈ），８．１５（２Ｈ，ｓ，Ａｒ−Ｈ），７．９４−８．０５（８Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），７．７７（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．８，８．４Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．５６−７．６４（６Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），７．３８−７．４６（４Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ）ｐｐｍ。
【０１５６】
（実施例３）（Ｓ）−１，１’−ビ−３−フェニル−２−トリフルオロメタンスルフォニルオキシナフチル（４）の調製
【０１５７】
【化６０】
2010229130.tif 000041
【０１５８】
（Ｓ）−１，１’−ビ−３−ブロム−２−トリフルオロメタンスルフォニルオキシナフチル（２）（３．５４ｇ、５．０ｍｍｏｌ）、フェニルボロン酸（１．８３ｇ、１５ｍｍｏｌ）、酢酸パラジウム［Ｐｄ（ＯＡｃ）2；５７．９ｍｇ、５ｍｏｌ％］、トリフェニルフォスフィン（０．２９４ｇ、２２ｍｏｌ％）、りん酸カリウム・水和物（４．２９ｇ、１５ｍｍｏｌ）およびＴＨＦ（２５ｍＬ）の混合物を、加熱下、６５℃で１０時間攪拌した。次いで、反応混合物を飽和ＮＨ4Ｃｌ水溶液にあけた。パラジウム触媒を濾別し、濾液をエーテルで抽出した。エーテル抽出液を、乾燥（Ｎａ2ＳＯ4）後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、エーテル：ジクロルメタン：へキサン（１：２：６０）で溶出して、（Ｓ）−１，１’−ビ−（３−フェニル−２−トリフルオロメタンスルフォニルオキシ）ナフチル（４）（２．９９ｇ、４．２５ｍｍｏｌ）を収率８５％で得た。
【０１５９】
３００ＭＨｚ  1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：δ８．１２（２Ｈ，ｓ，Ａｒ−Ｈ），７．９９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．３４−７．６６（１６Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ）ｐｐｍ。
【０１６０】
（実施例４）（Ｓ）−１，１’−ビ−２−メチル−３−（β−ナフチル）ナフチル（５）の調製
【０１６１】
【化６１】
2010229130.tif 000042
【０１６２】
アルゴン雰囲気下、（Ｓ）−１，１’−ビ−３−（β−ナフチル）−２−トリフルオロメタンスルフォニルオキシナフチル（３）（１．７３ｇ、２．４ｍｍｏｌ）、ビス（トリフェニルフォスフィン）塩化ニッケル［ＮｉＣｌ2（ＰＰｈ3）2；７８．５ｍｇ、５ｍｏｌ％］およびエーテル（４ｍＬ）の混合物に、ＭｅＭｇＩのエーテル溶液（１．０Ｍ；１４ｍＬ、１４ｍｍｏｌ）を０℃で滴下した。反応混合物を、加熱還流下、３０時間攪拌した後、飽和ＮＨ4Ｃｌ水溶液にあけた。混合物をエーテルで抽出した。エーテル抽出液を濾過してニッケル触媒を除いた後、飽和食塩水で洗い、乾燥（Ｎａ2ＳＯ4）後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、エーテル：へキサン（１：１００）で溶出して、（Ｓ）−１，１’−ビ−２−メチル−３−（β−ナフチル）ナフチル（５）（０．７９３ｇ、１．５ｍｍｏｌ）を収率６２％で得た。
【０１６３】
３００ＭＨｚ  1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：δ７．９１−７．９８（１０Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），７．６３（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．８，８．７Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．５２−７．５５（４Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），７．４６（２Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝１．２，６．９，８．１Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．３０（２Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝１．２，６．９，８．１Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．２０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），２．０３（６Ｈ，ｓ，ＣＨ3）ｐｐｍ。
【０１６４】
（実施例５）（Ｓ）−１，１’−ビ−２−メチル−３−フェニルナフチル（６）の調製
【０１６５】
【化６２】
2010229130.tif 000043
【０１６６】
アルゴン雰囲気下、（Ｓ）−１，１’−ビ−３−フェニル−２−トリフルオロメタンスルフォニルオキシナフチル（４）（１．７２ｇ、２．５ｍｍｏｌ）、ビス（トリフェニルフォスフィン）塩化ニッケル［ＮｉＣｌ2（ＰＰｈ3）2；８０．１ｍｇ、５ｍｏｌ％］およびエーテル（５ｍＬ）の混合物に、ＭｅＭｇＩのエーテル溶液（１．０Ｍ；１５ｍＬ、１５ｍｍｏｌ）を０℃で滴下した。反応混合物を、加熱還流下、３０時間攪拌した後、飽和ＮＨ4Ｃｌ水溶液にあけた。混合物をエーテルで抽出した。エーテル抽出液を濾過してニッケル触媒を除いた後、飽和食塩水で洗い、乾燥（Ｎａ2ＳＯ4）後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、エーテル：へキサン（１：１００）で溶出して、（Ｓ）−１，１’−ビ−２−メチル−３−フェニルナフチル（６）（０．９２５ｇ、２．１ｍｍｏｌ）を収率８７％で得た。
【０１６７】
３００ＭＨｚ  1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：δ７．８５−７．９１（４Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），７．３６−７．５１（１２Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），７．２５（２Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝１．２，８．４，９．９Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．１２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），１．９５（６Ｈ，ｓ，ＣＨ3）ｐｐｍ。
【０１６８】
（実施例６）（Ｓ）−１，１’−ビ−２−（ブロムメチル）−３−（β−ナフチル）ナフチル（７）の調製
【０１６９】
【化６３】
2010229130.tif 000044
【０１７０】
（Ｓ）−１，１’−ビ−２−メチル−３−（β−ナフチル）ナフチル（５）（０．７９３ｇ、１．５ｍｍｏｌ）、Ｎ−ブロムコハク酸イミド（０．６５４ｇ、３．６ｍｍｏｌ）、過酸化ベンゾイル（９６．９ｍｇ、０．３ｍｍｏｌ）およびシクロへキサン（６ｍＬ）の混合物を、加熱還流下、３時間攪拌した。この間、１時間ごとに過酸化ベンゾイル（９６．９ｍｇ、０．３ｍｍｏｌ）を２回追加した。反応混合物を飽和亜硫酸ナトリウム水溶液にあけ、混合物をエーテルで抽出した。エーテル抽出液を飽和食塩水で洗い、乾燥（Ｎａ2ＳＯ4）後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、エーテル：へキサン（１：１００）で溶出して、（Ｓ）−１，１’−ビ−２−（ブロムメチル）−３−フェニルナフチル（７）（０．９８２ｇ、１．４ｍｍｏｌ）を収率９５％で得た。
【０１７１】
３００ＭＨｚ  1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：δ８．１２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．９３−８．０１（１０Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），７．７７（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．８，８．４Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．５２−７．５７（６Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），７．３４（２Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝１．５，６．９，８．１Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．２４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），４．３６（４Ｈ，ｓ，ＣＨ2Ｂｒ）ｐｐｍ。
【０１７２】
（実施例７）（Ｓ）−１，１’−ビ−２−（ブロムメチル）−３−フェニルナフチル（８）の調製
【０１７３】
【化６４】
2010229130.tif 000045
【０１７４】
（Ｓ）−１，１’−ビ−２−メチル−３−フェニルナフチル（６）（０．４０５ｇ、０．９３ｍｍｏｌ）、Ｎ−ブロムコハク酸イミド（０．４０ｇ、２．２ｍｍｏｌ）、過酸化ベンゾイル（６５．０ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）およびシクロへキサン（３ｍＬ）の混合物を、加熱還流下、１時間攪拌した。反応混合物を飽和亜硫酸ナトリウム水溶液にあけ、混合物をエーテルで抽出した。エーテル抽出液を飽和食塩水で洗い、乾燥（Ｎａ2ＳＯ4）後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、エーテル：へキサン（１：１００）で溶出して、（Ｓ）−１，１’−ビ−２−（ブロムメチル）−３−フェニルナフチル（８）（０．５５ｇ、０．９３ｍｍｏｌ）を定量的に得た。
【０１７５】
３００ＭＨｚ  1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：δ７．９２（４Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．６１−７．６５（４Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），７．４５−７．５５（８Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），７．３０（２Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝１．５，６．９，８．４Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．１８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），４．２９（４Ｈ，ｓ，ＣＨ2Ｂｒ）ｐｐｍ。
【０１７６】
（実施例８）スピロビ［（Ｓ）−１，１’−ビナフチル−２，２’−ジメチルアンモニウム］ブロミド（１１）の調製
【０１７７】
【化６５】
2010229130.tif 000046
【０１７８】
（Ｓ）−３，５−ジヒドロ−４Ｈ−［２，１−ｃ：１’，２’−ｅ］アゼピン（９）（０．２９５ｇ、１．０ｍｍｏｌ）のメタノール溶液（３ｍＬ）へ、炭酸カリウム（０．４１７ｇ、３．０ｍｍｏｌ）を加え、室温で３０分間攪拌した後、（Ｓ）−１，１’−ビ−２−（ブロムメチル）ナフチル（１０）（０．４４ｇ、１．０ｍｍｏｌ）を加えた。反応混合物を、加熱還流下に８時間攪拌した後、水にあけた。混合物をジクロルメタンで抽出した。ジクロルメタン抽出液を、乾燥（Ｎａ2ＳＯ4）後、減圧濃縮した。残渣を、シリカゲルクロマトグラフィーに付し、メタノール：ジクロルメタン（１：３０）で溶出して、化合物（１１）（０．４６５ｇ、１．７１ｍｍｏｌ）を収率７１％で得た。
【０１７９】
３００ＭＨｚ  1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：δ８．３８（４Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），８．１７（４Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），８．１１（４Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．６４（４Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝１．４，６．６，８．１Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．２６−７．４４（８Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），４．５２（４Ｈ，ｄ，Ｊ＝１３．２Ｈｚ，ＡｒＣＨ2），３．９２（４Ｈ，ｄ，Ｊ＝１３．２Ｈｚ，ＡｒＣＨ2）ｐｐｍ；ＩＲ（ＫＢｒ）：ν３６４７，３４００，３０５３，２３６１，１６２４，１５９５，１５０８，１４５８，１３４６，１０３０，８６２，８２２，７５６ｃｍ-1；ＭＳ：５７４（Ｍ+）（１００％）。
【０１８０】
（実施例９）［（Ｓ）−３，３’−ジフェニル−１，１’−ビナフチル−２，２’−ジメチルアンモニウム］スピロ［（Ｓ）−１，１’−ビナフチル−２，２’−ジメチルアミン］ブロミド（１２）の調製
【０１８１】
【化６６】
2010229130.tif 000047
【０１８２】
（Ｓ）−３，５−ジヒドロ−４Ｈ−［２，１−ｃ：１’，２’−ｅ］アゼピン（９）（０．１４８ｇ、０．５ｍｍｏｌ）のメタノール溶液（３ｍＬ）へ、炭酸カリウム（０．２０８ｇ、１．５ｍｍｏｌ）を加え、室温で３０分間攪拌した後、（Ｓ）−１，１’−ビ−２−（ブロムメチル）−３−（β−ナフチル）ナフチル（７）（０．３４６ｇ、０．５ｍｍｏｌ）を加えた。反応混合物を、加熱還流下に８時間攪拌した後、水にあけた。混合物をジクロルメタンで抽出した。ジクロルメタン抽出液を、乾燥（Ｎａ2ＳＯ4）後、減圧濃縮した。残渣を、シリカゲルクロマトグラフィーに付し、メタノール：ジクロルメタン（１：３０）で溶出して、化合物（１２）（０．１６２ｇ、０．１７ｍｍｏｌ）を収率３６％で得た。
【０１８３】
３００ＭＨｚ  1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：δ８．４９（２Ｈ，ｓ，Ａｒ−Ｈ），８．１６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），８．１４（２Ｈ，ｂｒ，Ａｒ−Ｈ），７．７９（２Ｈ，ｂｒ，β−Ｎｐ），７．６７（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．３１−７．３９（４Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），７．２０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．０８（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），６．９４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．０−８．６（１２Ｈ，ｂｒ，β−Ｎｐ），５．０５（２Ｈ，ｂｒ，ＡｒＣＨ2），４．５０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝１３．８Ｈｚ，ＡｒＣＨ2），４．２２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２．９Ｈｚ，ＡｒＣＨ2），３．６６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２．９Ｈｚ，ＡｒＣＨ2）ｐｐｍ；ＩＲ（ＫＢｒ）：ν３８５２，３６４９，３３６７，３０５１，１６５３，１５５８，１５０６，１４５６，１３６１，８５３，８３３，７４９ｃｍ-1。
【０１８４】
（実施例１０）［（Ｓ）−３，３’−ジ（β−ナフチル）−１，１’−ビナフチル−２，２’−ジメチルアンモニウム］スピロ［（Ｓ）−１，１’−ビナフチル−２，２’−ジメチルアミン］ブロミド（１３）の調製
【０１８５】
【化６７】
2010229130.tif 000048
【０１８６】
（Ｓ）−３，５−ジヒドロ−４Ｈ−［２，１−ｃ：１’，２’−ｅ］アゼピン（９）（８９ｍｇ、０．３ｍｍｏｌ）のメタノール溶液（３ｍＬ）へ、炭酸カリウム（８３．０ｍｇ、０．６ｍｍｏｌ）を加え、室温で３０分間攪拌した後、（Ｓ）−１，１’−ビ−２−（ブロムメチル）−３−フェニルナフチル（８）（０．１７８ｇ、０．３ｍｍｏｌ）を加えた。反応混合物を、加熱還流下に８時間攪拌した後、水にあけた。混合物をジクロルメタンで抽出した。ジクロルメタン抽出液を、乾燥（Ｎａ2ＳＯ4）後、減圧濃縮した。残渣を、シリカゲルクロマトグラフィーに付し、メタノール：ジクロルメタン（１：３０）で溶出して、化合物（１３）（０．１９６ｇ、０．２４ｍｍｏｌ）を収率８１％で得た。
【０１８７】
３００ＭＨｚ  1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：δ８．３４（２Ｈ，ｓ），８．１１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．８４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．７４（２Ｈ，ｂｒ，Ｐｈ），７．６３（２Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝１．１，７．２，８．０Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．４９（２Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝１．１，７．２，８．０Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．３１−７．３６（４Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），７．０９−７．２２（６Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），７．２−８．２（８Ｈ，ｂｒ，Ｐｈ），６．３２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），５．０１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝１３．７Ｈｚ，ＡｒＣＨ2），４．４０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝１３．２Ｈｚ，ＡｒＣＨ2），４．２４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝１３．７Ｈｚ，ＡｒＣＨ2），３．７１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝１３．２Ｈｚ，ＡｒＣＨ2）ｐｐｍ；ＩＲ（ＫＢｒ）：ν３６４９，３３６７，３０５３，１６５３，１５５８，１４９１，１４５６，８４７，８１２，７５２，７０８ｃｍ-1。
【０１８８】
（実施例１１）臭化（Ｓ）−Ｎ，Ｎ−ジ（β−ナフチル）−３，５−ジヒドロ−４Ｈ−［２，１−ｃ：１’，２’−ｅ］アゼピニウム（１４ａ）の調製
【０１８９】
【化６８】
2010229130.tif 000049
【０１９０】
（Ｓ）−３，５−ジヒドロ−４Ｈ−［２，１−ｃ：１’，２’−ｅ］アゼピン（０．１４８ｇ、０．５ｍｍｏｌ）のメタノール溶液（３ｍＬ）に炭酸カリウム（０．１３９ｇ、１．０ｍｍｏｌ）を加え、室温で３０分撹拌した後、２−（ブロモメチル）ナフタレン（０．２７６ｇ、１．２ｍｍｏｌ）を加えた。反応混合物を、加熱還流下に３時間撹拌した後、水にあけ、混合物をジクロロメタンで抽出した。ジクロロメタン抽出液を乾燥（Ｎａ2ＳＯ4）後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、メタノール：ジクロロメタン（１：３０）で溶出して、化合物（１４ａ）（０．２２０ｇ、０．３４ｍｍｏｌ）を収率６８％で得た。
【０１９１】
３００ＭＨｚ  1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：δ８．０５（２Ｈ，ｓ，Ａｒ−Ｈ），７．８１−７．８６（６Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），７．７５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．４９−７．６６（１０Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），７．２３−７．３１（６Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），６．０７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝１３．２Ｈｚ，ＡｒＣＨ2），５．３８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝１３．２Ｈｚ，ＡｒＣＨ2），４．８５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２．９Ｈｚ，ＡｒＣＨ2），４．４２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２．９Ｈｚ，ＡｒＣＨ2）ｐｐｍ。
【０１９２】
（実施例１２）臭化（Ｓ）−Ｎ，Ｎ−ジ（α−ナフチル）−３，５−ジヒドロ−４Ｈ−［２，１−ｃ：１’，２’−ｅ］アゼピニウム（１４ｂ）の調製
【０１９３】
【化６９】
2010229130.tif 000050
【０１９４】
実施例１１に記載の方法に従って、（Ｓ）−３，５−ジヒドロ−４Ｈ−［２，１−ｃ：１’，２’−ｅ］アゼピンと１−（ブロモメチル）ナフタレンとから化合物（１４ｂ）を収率２４％で得た。
【０１９５】
３００ＭＨｚ  1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：δ７．９６（４Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．１，１８．０Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．８９（４Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．７４−７．６２（６Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），７．５６−７．４６（４Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），７．３９−７．１８（６Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），６．８９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），６．３９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝１３．８Ｈｚ，ＡｒＣＨ2），５．５１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝１３．８Ｈｚ，ＡｒＣＨ2），５．３０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝１３．２Ｈｚ，ＡｒＣＨ2），４．５０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝１３．２Ｈｚ，ＡｒＣＨ2）ｐｐｍ。
【０１９６】
（実施例１３）臭化（Ｓ）−Ｎ，Ｎ−ジベンジル−３，５−ジヒドロ−４Ｈ−［２，１−ｃ：１’，２’−ｅ］アゼピニウム（１５）の調製
【０１９７】
【化７０】
2010229130.tif 000051
【０１９８】
ジベンジルアミン（３９ｍＬ、０．２ｍｍｏｌ）のメタノール溶液（３ｍＬ）に炭酸カリウム（５５ｍｇ、０．４ｍｍｏｌ）を加え、室温で３０分撹拌した後、（Ｓ）−１，１’−ビ−２−（ブロモメチル）ナフチル（８８ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）を加えた。反応混合物を、加熱還流下に４時間撹拌した後、水にあけた。混合物をジクロロメタンで抽出した。ジクロロメタン抽出液を乾燥（Ｎａ2ＳＯ4）後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、メタノール：ジクロロメタン（１：３０）で溶出して、化合物（１５）（５５ｍｇ、０．１ｍｍｏｌ）を収率５０％で得た。
【０１９９】
３００ＭＨｚ  1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：δ７．９５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．８７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．５４−７．６５（８Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），７．２７−７．４３（１０Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），５．７６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝１３．２Ｈｚ，ＡｒＣＨ2），５．２０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２．９Ｈｚ，ＡｒＣＨ2），４．６９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝１３．２Ｈｚ，ＡｒＣＨ2），４．３０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２．９Ｈｚ，ＡｒＣＨ2）ｐｐｍ。
【０２００】
（実施例１４）（Ｓ）−フェニルアラニンｔｅｒｔ−ブチルエステルベンゾフェノンシッフ塩基（１７）の調製
【０２０１】
【化７１】
2010229130.tif 000052
【０２０２】
グリシンｔｅｒｔ−ブチルエステルベンゾフェノンシッフ塩基（１６）（１４８ｍｇ、０．５ｍｍｏｌ）、不斉相間移動触媒（１２）（４５ｍｇ、０．００５ｍｍｏｌ）、トルエン（３．２５ｍＬ）および５０％水酸化カリウム水溶液（１．０５ｍＬ）の混合物に、臭化ベンジル（７２．１μＬ、０．６ｍｍｏｌ）を０℃で滴下した。０℃で３０分間攪拌した後、反応混合物を水にあけた。混合物をエーテルで抽出し、エーテル抽出液を飽和食塩水で洗い、乾燥（Ｎａ2ＳＯ4）後、減圧濃縮した。油状残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、エーテル：へキサン（１：１０）で溶出して、（Ｓ）−フェニルアラニンｔｅｒｔ−ブチルエステルベンゾフェノンシッフ塩基（１７）（１８３ｍｇ、０．４７５ｍｍｏｌ）を収率９５％で得た。このようにして得られた生成物の光学純度は、ＨＰＬＣ分析の結果９６％ｅｅであった；ＤＡＩＣＥＬ  ＣＨＩＲＡＬ  ＯＤ；へキサン：２−プロパノール（１００：１）、０．５ｍＬ／分；（Ｒ）−体：１４．８分、（Ｓ）−体：２８．２分。
【０２０３】
（実施例１５〜２３）
実施例１４に記載の条件に準じて行なった、不斉相間移動触媒（１２）を用いたグリシンｔｅｒｔ−ブチルエステルベンゾフェノンシッフ塩基（１６）の立体選択的アルキル化の他の実施例を以下の表１にまとめた。
【０２０４】
【化７２】
2010229130.tif 000053
【０２０５】
【表１】
2010229130.tif 000054
【０２０６】
表１から、本発明の軸不斉を有する光学活性な４級アンモニウム塩を不斉相間移動触媒として用いると、グリシンｔｅｒｔ−ブチルエステルベンゾフェノンシッフ塩基を高光学純度で立体選択的にアルキル化することができることが分かる。
【０２０７】
（実施例２４〜２６）
実施例１４に記載の条件に準じて行なった、不斉相間移動触媒（１４ａ）、（１４ｂ）、または（１５）を用いた、臭化ベンジルによるグリシンｔｅｒｔ−ブチルエステルベンゾフェノンシッフ塩基（１６）の立体選択的アルキル化の実施例を以下の表２にまとめた。
【０２０８】
【化７３】
2010229130.tif 000055
【０２０９】
【表２】
2010229130.tif 000056
【０２１０】
（実施例２７）（Ｓ）−１，１’−ビ−３−ヒドロキシ−２−メトキシメトキシナフチル（２８）の調製
【０２１１】
【化７４】
2010229130.tif 000057
【０２１２】
アルゴン雰囲気下、化合物２７（７．５０ｇ，２０ｍｍｏｌ；香月らの方法（Ｃｈｅｍ．Ｌｅｔｔ．１９９５，１１１３）に従って調製）のエーテル溶液（１２０ｍｌ）へ、ｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（１．６０Ｍ，３０．０ｍｌ，４８ｍｍｏｌ）を室温で滴下し、４時間攪拌した。次いで、反応混合物を−７８℃まで冷却し、ＴＨＦ（１５０ｍｌ）を加えた後、トリメトキシボラン（６．７３ｍｌ，６０ｍｍｏｌ）を滴下し、室温に昇温して１０時間攪拌した。反応混合物をエバポレーターで減圧濃縮した後、ベンゼン（１００ｍｌ）を加え、０℃に冷却し、次いで過酸化水素水（３０％，１０ｍｌ）を滴下した。反応混合物を加熱環流下、２時間攪拌した後、飽和Ｎａ2ＳＯ3水溶液にあけ、エーテルで抽出した。エーテル抽出液を飽和食塩水で洗い、乾燥（Ｎａ2ＳＯ4）後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、酢酸エチル：ヘキサン（１：２）で溶出し、化合物２８（６．０５ｇ，１５ｍｍｏｌ）を収率７５％で得た。
【０２１３】
３００ＭＨｚ  1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：δ７．７８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．５１（２Ｈ，ｓ，Ａｒ−Ｈ），７．４５（２Ｈ，ｓ，ＡｒＯＨ），７．３４（２Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝１．２，６．９，７．８Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．１２（２Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝１．２，６．９，７．８Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．０４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），４．７２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，ＡｒＯＣＨ2），４．６４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，ＡｒＯＣＨ2），３．４０（６Ｈ，ｓ，ＯＣＨ3）ｐｐｍ。
【０２１４】
（実施例２８）（Ｓ）−１，１’−ビ−３−メトキシ−２−メトキシメトキシナフチル（２９）の調製
【０２１５】
【化７５】
2010229130.tif 000058
【０２１６】
化合物２８（６．０５ｇ，１５ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（６．２５ｇ，４５ｍｍｏｌ）、ヨウ化メチル（４．８６ｍｌ，７５ｍｍｏｌ）、およびアセトン（２００ｍｌ）の混合物を、加熱環流下、６時間攪拌した。次いで反応混合物を水にあけ、エーテルで抽出した。エーテル抽出液を飽和食塩水で洗い、乾燥（Ｎａ2ＳＯ4）後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、酢酸エチル：ヘキサン（１：３）で溶出して、化合物２９（５．６０ｇ，１３ｍｍｏｌ）を収率８６％で得た。
【０２１７】
３００ＭＨｚ  1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：δ７．７６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．３６（２Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝１．２，６．０，８．１Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．３０（２Ｈ，ｓ，Ａｒ−Ｈ），７．１０−７．１８（４Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），４．９７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．７Ｈｚ，ＡｒＯＣＨ2），４．８３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．７Ｈｚ，ＡｒＯＣＨ2），４．０３（６Ｈ，ｓ，ＡｒＯＣＨ3），２．５７（６Ｈ，ｓ，ＯＣＨ3）ｐｐｍ。
【０２１８】
（実施例２９）（Ｓ）−１，１’−ビ−２−ヒドロキシ−３−メトキシナフチル（３０）の調製
【０２１９】
【化７６】
2010229130.tif 000059
【０２２０】
化合物２９（５．６０ｇ，１３ｍｍｏｌ）、１，４−ジオキサン（４０ｍｌ）、および濃塩酸（１ｍｌ）の混合物を加熱下、５０℃で４時間攪拌した。次いで、反応混合物を水にあけ、エーテルで抽出した。エーテル抽出液を水、および飽和食塩水で洗い、乾燥（Ｎａ2ＳＯ4）後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、酢酸エチル：ヘキサン（１：１）で溶出して、化合物３０（４．５０ｇ，１３ｍｍｏｌ）を定量的収率で得た。
【０２２１】
３００ＭＨｚ  1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：δ７．７８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．３２（２Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝２．４，５．７，８．４Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．３０（２Ｈ，ｓ，Ａｒ−Ｈ），７．１２−７．１９（４Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），５．８９（２Ｈ，ｓ，ＡｒＯＨ），４．１０（６Ｈ，ｓ，ＡｒＯＣＨ3），ｐｐｍ。
【０２２２】
（実施例３０）Ｓ−１，１’−ビ−３−メトキシ−２−トリフルオロメタンスルフォニルオキシナフチル（３１）の調製
【０２２３】
【化７７】
2010229130.tif 000060
【０２２４】
アルゴン雰囲気下、化合物３０（４．５０ｇ，１３ｍｍｏｌ）のジクロルメタン溶液（５０ｍｌ）へトリエチルアミン（５．５２ｍｌ，３９ｍｍｏｌ）を室温で加えた後、−７８℃まで冷却した。次いで、トリフルオロメタンスルフォン酸無水物（５．１７ｍｌ，３１ｍｍｏｌ）を滴下した後、反応混合物を室温まで昇温し、２時間攪拌した。反応混合物を飽和ＮＨ4Ｃｌ水溶液にあけ、ジクロルメタンで抽出した。ジクロルメタン抽出液を乾燥（Ｎａ2ＳＯ4）後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ジクロルメタン：ヘキサン（１：３）で溶出して、化合物３１（７．７２ｇ，１３ｍｍｏｌ）を定量的収率で得た。
【０２２５】
３００ＭＨｚ  1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：δ７．８７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．５２（２Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝１．２，６．９，８．４Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．４９（２Ｈ，ｓ，Ａｒ−Ｈ），７．２４（２Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝１．２，６．９，７．８Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．１４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），４．１２（６Ｈ，ｓ，ＡｒＯＣＨ3），ｐｐｍ。
【０２２６】
（実施例３１）（Ｓ）−１，１’−ビ−３−メトキシ−２−メチルナフチル（３２）の調製
【０２２７】
【化７８】
2010229130.tif 000061
【０２２８】
アルゴン雰囲気下、化合物３１（７．７２ｇ，１３ｍｍｏｌ）、［１，３−ビス（ジフェニルフォスフィノ）プロパン］塩化ニッケル［ＮｉＣｌ2（ｄｐｐｐ），３４２ｍｇ，５ｍｏｌ％］、およびエーテル（２０ｍｌ）の混合物に、ＭｅＭｇＩのエーテル溶液（１．０Ｍ，７５ｍｌ，７５ｍｍｏｌ）を０℃で滴下した。反応混合物を室温で３０時間攪拌した後、飽和ＮＨ4Ｃｌ水溶液にあけた。ニッケル触媒を濾別し、濾液をエーテルで抽出した。エーテル抽出液を飽和食塩水で洗い、乾燥（Ｎａ2ＳＯ4）後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、エーテル：ヘキサン（１：１０）で溶出し、化合物３２（３．４０ｇ，９．９ｍｍｏｌ）を７６％の収率で得た。
【０２２９】
３００ＭＨｚ  1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：δ７．８０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．３６（２Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝１．２，６．９，８．１Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．２６（２Ｈ，ｓ，Ａｒ−Ｈ），７．０６（２Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝１．２，６．９，８．１Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），６．９６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），４．０３（６Ｈ，ｓ，ＡｒＯＣＨ3），１．９２（６Ｈ，ｓ，ＡｒＣＨ3）ｐｐｍ。
【０２３０】
（実施例３２）（Ｓ）−１，１’−ビ−３−ヒドロキシ−２−メチルナフチル（３３）の調製
【０２３１】
【化７９】
2010229130.tif 000062
【０２３２】
アルゴン雰囲気下、化合物３２（３．４０ｇ，９．９ｍｍｏｌ）のジクロルメタン溶液（４０ｍｌ）へ、三臭化ホウ素（２．２７ｍｌ，２４ｍｍｏｌ）を０℃で滴下した。反応混合物を室温まで昇温して２時間攪拌した後、再び０℃に冷却して、水を滴下した。ジクロルメタンで抽出し、抽出液を飽和食塩水で洗い、乾燥（Ｎａ2ＳＯ4）後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、酢酸エチル：ヘキサン（１：１）で溶出し、化合物７（３．１３ｇ，９．９ｍｍｏｌ）を定量的収率で得た。
【０２３３】
３００ＭＨｚ  1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：δ７．７４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．３６（２Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝１．５，６．９，８．１Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．２７（２Ｈ，ｓ，Ａｒ−Ｈ），７．０７（２Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝１．５，６．９，８．４Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），６．９６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），５．１４（６Ｈ，ｓ，ＡｒＯＨ），１．９７（６Ｈ，ｓ，ＡｒＣＨ3）ｐｐｍ。
【０２３４】
（実施例３３）Ｓ−１，１’−ビ−２−メチル−３−トリフルオロメタンスルフォニルオキシナフチル（３４）の調製
【０２３５】
【化８０】
2010229130.tif 000063
【０２３６】
アルゴン雰囲気下、化合物３３（３．１３ｇ，９．９ｍｍｏｌ）のジクロルメタン溶液（３０ｍｌ）へトリエチルアミン（４．２０ｍｌ，３０ｍｍｏｌ）を室温で加えた後、−７８℃まで冷却した。次いで、トリフルオロメタンスルフォン酸無水物（４．０４ｍｌ，２４ｍｍｏｌ）を滴下した後、反応混合物を室温まで昇温し、２時間攪拌した。反応混合物を飽和ＮＨ4Ｃｌ水溶液にあけ、ジクロルメタンで抽出した。ジクロルメタン抽出液を乾燥（Ｎａ2ＳＯ4）後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ジクロルメタン：ヘキサン（１：５）で溶出して、化合物３４（５．４４ｇ，９．４ｍｍｏｌ）を９５％の収率で得た。
【０２３７】
３００ＭＨｚ  1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：δ７．９６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．９４（２Ｈ，ｓ，Ａｒ−Ｈ），７．５４（２Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝１．２，６．９，８．４Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．３４（２Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝１．２，６．９，８．４Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），６．９９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），２．０４（６Ｈ，ｓ，ＡｒＣＨ3）ｐｐｍ。
【０２３８】
（実施例３４）（Ｓ）−１，１’−２−メチル−３−（３”，４”，５”−トリフルオロフェニル）ナフチル（３５）の調製
【０２３９】
【化８１】
2010229130.tif 000064
【０２４０】
アルゴン雰囲気下、化合物３４（２８９ｍｇ，０．５０ｍｍｏｌ）、３，４，５−トリフルオロフェニルボロン酸（２１１ｍｇ，１．２ｍｍｏｌ）、テトラキス（トリフェニルフォスフィン）パラジウム（２８．９ｍｇ，５ｍｏｌ％）、リン酸カリウム・水和物（４２９ｍｇ，１．５ｍｍｏｌ）、およびジオキサン（５ｍｌ）の混合物を、加熱下、８０℃で１０時間攪拌した。次いで，反応混合物を飽和食塩水にあけた。パラジウム触媒を濾別し、濾液をエーテルで抽出した。エーテル抽出液を乾燥（Ｎａ2ＳＯ4）後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ジクロルメタン：ヘキサン（１：２０）で溶出して、化合物９（２５３ｍｇ，０．４７ｍｍｏｌ）を収率９４％で得た。
【０２４１】
３００ＭＨｚ  1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：δ７．９１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．８２（２Ｈ，ｓ，Ａｒ−Ｈ），７．４７（２Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝１．２，６．９，８．１Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．２９（２Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝１．２，６．９，８．４Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．０５−７．１４（６Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），１．９１（６Ｈ，ｓ，ＡｒＣＨ3）ｐｐｍ。
【０２４２】
（実施例３５）（Ｓ）−１，１’−ビス−２−ブロモメチル−３−（３”，４”，５”−トリフルオロフェニル）ナフチル（３６）の調製
【０２４３】
【化８２】
2010229130.tif 000065
【０２４４】
化合物３５（２５３ｍｇ，０．４７ｍｍｏｌ）、２，２’−アゾビス（イソブチロニトリル）（７．９ｍｇ，１０ｍｏｌ％）、Ｎ−ブロムコハク酸イミド（１８８ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ）、およびベンゼン（４ｍｌ）の混合物を、加熱環流下、２時間攪拌した。反応混合物を水にあけ、エーテルで抽出した。エーテル抽出液を乾燥（Ｎａ2ＳＯ4）後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、エーテル：ヘキサン（１：２０）で溶出して、化合物３６（３０９ｍｇ，０．４４ｍｍｏｌ）を収率９４％で得た。
【０２４５】
３００ＭＨｚ  1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：δ７．９４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．８９（２Ｈ，ｓ，Ａｒ−Ｈ），７．５７（２Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝１．２，６．９，８．１Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．３４（２Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝１．２，６．９，８．１Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．２５−７．３０（４Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），７．１３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），４．１９（４Ｈ，ｓ，ＣＨ2Ｂｒ）ｐｐｍ。
【０２４６】
（実施例３６）［（Ｓ）−３，３’−ジ（３”，４”，５”−トリフルオロフェニル）−１，１’−ビナフチル−２，２’−ジメチルアンモニウム］スピロ［（Ｓ）−１，１’−ビナフチル−２，２’−ジメチルアミン）ブロミド（３８）の調製
【０２４７】
【化８３】
2010229130.tif 000066
【０２４８】
化合物３７（８８．６ｍｇ，０．３０ｍｍｏｌ）のアセトニトリル溶液（５ｍｌ）へ、炭酸カリウム（６２．５ｍｇ，０．４５ｍｍｏｌ）を加え、室温で３０分攪拌した後、化合物３６（２１０ｍｇ，０．３０ｍｍｏｌ）を加えた。反応混合物を加熱環流下に３時間攪拌した後、水にあけ、ジクロルメタンで抽出した。ジクロルメタン抽出液を乾燥（Ｎａ2ＳＯ4）後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、メタノール：ジクロルメタン（１：２０）で溶出し、化合物３８（２２２ｍｇ，０．２４ｍｍｏｌ）を収率８４％で得た。
【０２４９】
３００ＭＨｚ  1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：δ８．２７（２Ｈ，ｓ，Ａｒ−Ｈ），８．１１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．９６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．６５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．４−７．７（４Ｈ，ｂｒ，Ａｒ−Ｈ），７．５２−７．５８（４Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），７．３５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．２４−７．２９（２Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），７．０９−７．１５（４Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），６．５３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），４．８２（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝１４．１Ｈｚ，ＡｒＣＨ2），４．６２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．１Ｈｚ，ＡｒＣＨ2），４．４６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝１３．２Ｈｚ，ＡｒＣＨ2），３．７４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝１３．２Ｈｚ，ＡｒＣＨ2）ｐｐｍ．；ＩＲ（ＫＢｒ）：ν３６４７，３３６０，３０５５，２９８１，２９５４，１６１４，１５２６，１４５０，１３６０，１２４２，１０４７，８５４，７５０ｃｍ-1；［α］D23＋３３．６°（ＣＯd２，ＣＨＣｌ3），ＭＳ：ｍ／ｚ８３４（Ｍ+）（１００％），２８１，１５４，１３６，８９。
【０２５０】
（実施例３７）
【０２５１】
【化８４】
2010229130.tif 000067
【０２５２】
トルエン２ｍｌ中のｔ−ブチル−グリシネート−ｐ−クロロベンズアルデヒドシッフ塩基（１２７ｍｇ，０．５ｍｍｏｌ）、キラル触媒（実施例３６より得られる化合物３８；４．６ｍｇ，０．００５ｍｍｏｌ）、アリルブロミド（４３．３μｌ，０．５ｍｍｏｌ）の混合物に水酸化セシウム・一水和物（４２０ｍｇ，２．５ｍｍｏｌ）を−１０℃で加え、３．５時間攪拌した。次いでベンジルブロミド（７２．８μｌ，０．６ｍｍｏｌ）を加えた後、０℃にまで温め、混合物を３０分攪拌した。水を加えて、ジクロルメタンで抽出し、溶媒を溜去して、残渣をテトラヒドロフラン５ｍｌに溶かした。０．５モルのクエン酸溶液５ｍｌを加え、室温で混合物を１時間攪拌した。水相を採り、エーテルで洗って、炭酸水素ナトリウムを加えてアルカリ性とし、ジクロロメタンで抽出した。有機層を硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮して油状物を得た。得られた油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにかけ（溶離液  酢酸エチルエステル：ヘキサン＝１：２）、無色油状物であるアルキル化合物（フェニルアラニンのアリル化物のｔ−ブチルエステル）を得た。収量１０５ｍｇ、収率８０％。光学純度９７％（Ｒ）［キラルＨＰＬＣ（ＤＡＩＣＥＬ  ＣＨＩＲＡＬＰＡＫ  ＡＤ）による測定  ヘキサン：イソプロパノール＝１００：１、流量０．５ｍｌ／分、保持時間１４．９分（Ｒ）、２０．２分（Ｓ）］。
【０２５３】
３００ＭＨｚ  1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：δ７．２１−７．３２（５Ｈ，ｍ，Ｐｈ），５．６５−５．７９（１Ｈ，ｍ，ＣＨ＝Ｃ），５．１３−５．２２（２Ｈ，ｍ，Ｃ＝ＣＨ2），３．１７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１３．２Ｈｚ，ＣＨＰｈ），２．７６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１３．２Ｈｚ，ＣＨＰｈ），２．６９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．３，１３．５Ｈｚ，ＣＨＣ＝Ｃ），２．２８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．６，１３．５Ｈｚ，ＣＨＣ＝Ｃ），１．６０（２Ｈ，ｂｒ  ｓ，ＮＨ2），１．４６（９Ｈ，ｓ，tＢｕ）。
【０２５４】
（実施例３８）
【０２５５】
【化８５】
2010229130.tif 000068
【０２５６】
トルエン２ｍｌ中のアラニン−（ｔ）−ブチルエステル−ｐ−クロロベンジルシッフ塩基（１３４ｍｇ，０．５ｍｍｏｌ）、キラル触媒（実施例３６より得られる化合物３８；４．６ｍｇ，０．００５ｍｍｏｌ）、ベンジルブロミド（７２．８μｌ，０．６ｍｍｏｌ）の混合物に水酸化セシウム・一水和物（４２０ｍｇ，２．５ｍｍｏｌ）を０℃で加え、３０分間攪拌した。水を加えて、ジクロルメタンで抽出し，溶媒を留去して、残渣をテトラヒドロフラン５ｍｌに溶かした。０．５モルのクエン酸溶液５ｍｌを加え、室温で混合物を１時間攪拌した。水相をエーテルで洗って、炭酸水素ナトリウムを加えてアルカリ性とし、ジクロロメタンで抽出した。有機層を硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮して油状物を得た。得られた油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにかけ（溶離液  酢酸エチル：ヘキサン＝２：１）、無色油状物であるアルキル化物（ベンジルアラニン（ｔ）−ブチルエステル）を得た。収量１００ｍｇ、収率８５％、光学純度９８％（Ｒ）［キラルＨＰＬＣ（ＤＡＩＣＥＬ  ＣＨＩＲＡＬＰＡＫ  ＡＤ）による測定  ヘキサン：イソプロパノール＝３０：１、流量０．５ｍｌ／分、保持時間１２．９分（Ｒ）、２０．５分（Ｓ）］。
【０２５７】
３００ＭＨｚ  1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：δ７．２０−７．３０（５Ｈ，ｍ，Ｐｈ），３．１２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１３．２Ｈｚ，ＣＨＰｈ），２．７８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１３．２Ｈｚ，ＣＨＰｈ），１．６４（２Ｈ，ｓ，ＮＨ2），１．４６（９Ｈ，ｓ，tＢｕ），１．３５（３Ｈ，ｓ，ＣＨ3）。
【０２５８】
（実施例３９〜４２）
実施例３８に倣って以下のアルキル化物を合成した。
【０２５９】
【表３】
2010229130.tif 000069
【０２６０】
得られたアルキル化化合物のＮＭＲスペクトルおよびＨＰＬＣの分析条件を以下に示す。
【０２６１】
（実施例３９）
３００ＭＨｚ  1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：δ５．６５−５．８０（１Ｈ，ｍ，ＣＨ＝Ｃ），５．１１−５．１７（２Ｈ，ｍ，Ｃ＝ＣＨ2），２．５０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．６，１３．５Ｈｚ，ＣＨＣ＝Ｃ），２．２３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．３，１３．５Ｈｚ，ＣＨＣ＝Ｃ），１．６０（２Ｈ，ｓ，ＮＨ2），１．４６（９Ｈ，ｓ，tＢｕ），１．２９（３Ｈ，ｓ，ＣＨ3）；Ｎ−ベンゾエートのＨＰＬＣ分析：ＤＡＩＣＥＬ  ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ  ＯＤ，ヘキサン：イソプロパノール＝１００：１，流量＝０．５ｍＬ／分，保持時間；１７．６分（Ｒ）および２５．９分（Ｓ）。
【０２６２】
（実施例４０）
３００ＭＨｚ  1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：δ１．６６−１．７９（１Ｈ，ｍ，ＣＨＣＨ3），１．６５（２Ｈ，ｂｒ，ＮＨ2），１．４８−１．６０（１Ｈ，ｍ，ＣＨＣＨ3），１．４６（９Ｈ，ｓ，tＢｕ），１．２７（３Ｈ，ｓ，ＣＨ3），０．８７（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，ＣＨ2ＣＨ3）；Ｎ−ベンゾエートのＨＰＬＣ分析：ＤＡＩＣＥＬ  ＣＨＩＲＡＬＰＡＫ  ＡＤ，ヘキサン：イソプロパノール＝１５０：１，流量＝０．５ｍＬ／分，保持時間；２８．１分（Ｒ）および３１．５分（Ｓ）。
【０２６３】
（実施例４１）
３００ＭＨｚ  1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：δ２．８２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６．８Ｈｚ，ＣＨＣ＝Ｏ），２．４４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６．８Ｈｚ，ＣＨＣ＝Ｏ），１．８６（２Ｈ，ｂｒ  ｓ，ＮＨ2），１．４５（９Ｈ，ｓ，tＢｕ），１．４４（９Ｈ，ｓ，tＢｕ），１．２６（３Ｈ，ｓ，ＣＨ3）；Ｎ−ベンゾエートのＨＰＬＣ分析：ＤＡＩＣＥＬ  ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ  ＯＤ，ヘキサン：イソプロパノール＝１００：１，流量＝０．５ｍＬ／分，保持時間；１４．９分（Ｒ）および２０．６分（Ｓ）。
【０２６４】
（実施例４２）
【０２６５】
【化８６】
2010229130.tif 000070
【０２６６】
３００ＭＨｚ  1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：δ８．１５（１Ｈ，ｍ，Ｐｈ），７．６４（１Ｈ，ｍ，Ｐｈ），７．４５（１Ｈ，ｂｒ  ｓ，Ｃ＝ＣＨ−Ｎ），７．２２−７．３４（２Ｈ，ｍ，Ｐｈ），３．１８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝０．９，１４．１Ｈｚ，ＣＨＣ＝Ｃ−Ｎ），２．９３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝０．６，１４．１Ｈｚ，ＣＨＣ＝Ｃ−Ｎ），１．６５（９Ｈ，ｓ，tＢｕ），１．６２（２Ｈ，ｓ，ＮＨ2），１．４６（９Ｈ，ｓ，tＢｕ），１．４１（３Ｈ，ｓ，ＣＨ3）；ＨＰＬＣ分析：ＤＡＩＣＥＬ  ＣＨＩＲＡＬＰＡＫ  ＡＤ，ヘキサン：イソプロパノール＝３０：１，流量＝０．５ｍＬ／分，保持時間；１２．２分（Ｒ）および１７．７分（Ｓ）。
【０２６７】
（実施例４３）
参考例１によって造った化合物を使用し、実施例３８に倣って、ベンジル化物を得た（収率７５％、光学純度８７％）。また同様にしてアリル化物を得た（収率７２％、光学純度９７％（Ｒ））。各々の化合物の特性値を以下に示す。
【０２６８】
（ベンジル化物）
３００ＭＨｚ  1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：δ７．２０−７．３０（５Ｈ，ｍ，Ｐｈ），３．１２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１３．１Ｈｚ，ＰｈＣＨ），２．７１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１３．１Ｈｚ，ＰｈＣＨ），１．８８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．８，１３．７Ｈｚ，iＰｒＣＨ），１．７５（１Ｈ，ｍ，（ＣＨ3）2ＣＨ），１．５６（２Ｈ，ｂｒ  ｓ，ＮＨ2），１．５３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．３，１３．７Ｈｚ，iＰｒＣＨ），１．４４（９Ｈ，ｓ，tＢｕ），０．９８（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，ＣＨ3），０．９１（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，ＣＨ3）；ＩＲ（リキッドフィルム）２９５７，１７２４，１６０３，１４９７，１４５６，１３９３，１３６７，１２３６，１１５３，１１２８，８４９，７３９，７０２ｃｍ-1．ＭＳ：ｍ／ｚ２７８（［Ｍ＋Ｈ］+），１８６（１００％），１７６，９１，５７．ＨＲＭＳ  Ｃ17Ｈ27ＮＯ2（計算値）：２７８．２１２０（［Ｍ＋Ｈ］+）．（測定値）：２７８．２１３５（［Ｍ＋Ｈ］+）．ＨＰＬＣ分析：ＤＡＩＣＥＬ  ＣＨＩＲＡＬＰＡＫ  ＡＤ，ヘキサン：イソプロパノール＝１００：１，流量＝０．５ｍＬ／分，保持時間；１３．９分（メジャーエナンチオマー）および１５．６分（マイナーエナンチオマー）。
【０２６９】
（アリル化物）
３００ＭＨｚ  1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：δ５．６１−５．７５（１Ｈ，ｍ，ＣＨ＝Ｃ），５．１１−５．１７（２Ｈ，ｍ，Ｃ＝ＣＨ2），２．５２（１Ｈ，ｄｄｔ，Ｊ＝１．２，６．３，１３．５Ｈｚ，ＣＨＣ＝Ｃ），２．１６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．６，１３．５Ｈｚ，ＣＨＣ＝Ｃ），１．６８−１．７９（２Ｈ，ｍ，（ＣＨ3）2ＣＨおよびiＰｒＣＨ），１．５９（２Ｈ，ｂｒ  ｓ，ＮＨ2），１．４４−１．５４（１Ｈ，ｍ，iＰｒＣＨ），１．４７（９Ｈ，ｓ，tＢｕ），０．９５（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，ＣＨ3），０．８８（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，ＣＨ3）；ＩＲ（リキッドフィルム）３０８０，２９５７，２９１８，１７２６，１６４１，１６０３，１４７４，１３９３，１３６７，１２３４，１１４４，９９３，９２０，８５３，７５６，６６４ｃｍ-1．ＭＳ：ｍ／ｚ２２８（［Ｍ＋Ｈ］+）（１００％），２２６，１８６，１７０，８５，５７，３７．ＨＲＭＳ  Ｃ13Ｈ25ＮＯ2（計算値）：２２８．１９６３（［Ｍ＋Ｈ］+）．（測定値）：２２８．１９４８（［Ｍ＋Ｈ］+）．ＨＰＬＣ分析：ＤＡＩＣＥＬ
ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ  ＯＤ，ヘキサン：イソプロパノール＝１５０：１，流量＝０．５ｍＬ／分，保持時間；１２．４分（マイナーエナンチオマー）および１５．８分（メジャーエナンチオマー）。
【０２７０】
（実施例４４）
実施例３７に倣って、ベンジルブロミドの代わりに２−メチルプロピレン−２−ブロミドまたはプロペンブロミドを使用して、ジアルキル化化合物を造った。各々の化合物の特性値は下記の通りである。
【０２７１】
（２−メチルプロピレン−２化物）
３００ＭＨｚ  1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：δ５．６４−５．７８（１Ｈ，ｍ，ＣＨ＝Ｃ），５．１２−５．１９（２Ｈ，ｍ，Ｃ＝ＣＨ2），４．９０（１Ｈ，ｍ，Ｃ（ＣＨ3）＝ＣＨ），４．８０（１Ｈ，ｍ，Ｃ（ＣＨ3）＝ＣＨ），２．６２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．０Ｈｚ，ＣＨＣ（ＣＨ3）＝Ｃ），２．５６（１Ｈ，ｄｄｔ，Ｊ＝１．２，６．６，１３．５Ｈｚ，ＣＨＣ＝Ｃ），２．２４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．０Ｈｚ，ＣＨＣ（ＣＨ3）＝Ｃ），２．２０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．３，１３．５Ｈｚ，ＣＨＣ＝Ｃ），１．７４（３Ｈ，ｓ，ＣＨ3Ｃ＝Ｃ），１．６４（２Ｈ，ｓ，ＮＨ2），１．４３（９Ｈ，ｓ，tＢｕ）；ＩＲ（リキッドフィルム）３０７８，２９７８，２９２４，１７２６，１６４１，１５９７，１４５８，１３９３，１３６９，１２２９，１１５９，１０５３，９９３，８９９，８４３ｃｍ-1．ＭＳ：ｍ／ｚ２２６（［Ｍ＋Ｈ］+）（１００％），１８４，１７０，１２４，５７．ＨＲＭＳ  Ｃ13Ｈ23ＮＯ2（計算値）：２２６．１８０６（［Ｍ＋Ｈ］+）．（測定値）：２２６．１７９５（［Ｍ＋Ｈ］+）．ＨＰＬＣ分析：ＤＡＩＣＥＬ  ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ  ＯＤ，ヘキサン：イソプロパノール＝３００：１，流量＝０．５ｍＬ／分，保持時間；２５．３分（メジャーエナンチオマー）および３５．１分（マイナーエナンチオマー）。
【０２７２】
（プロペン化物）
３００ＭＨｚ  1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：δ５．６５−５．７９（１Ｈ，ｍ，ＣＨ＝Ｃ），５．１２−５．２０（２Ｈ，ｍ，Ｃ＝ＣＨ2），２．６４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．７，１６．５Ｈｚ，ＣＨＣ＝Ｃ），２．５２（１Ｈ，ｄｄｔ，Ｊ＝１．２，６．９，１３．５Ｈｚ，ＣＨＣ＝Ｃ），２．４１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．７，１６．５Ｈｚ，ＣＨＣ＝Ｃ）、２．２９（１Ｈ，ｄｄｔ，Ｊ＝０．９，８．０，１３．５Ｈｚ，ＣＨＣ＝Ｃ），２．０５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．７Ｈｚ，Ｃ＝ＣＨ），１．７５（２Ｈ，ｂｒ  ｓ，ＮＨ2），１．４８（９Ｈ，ｓ，tＢｕ）；ＩＲ（リキッドフィルム）３３７７，３３１０，３０７８，２９８０，２９３２，１７３２，１６４１，１５９７，１４３７，１３９４，１３６９，１３２９，１２３１，１１５９，１０３４，９９７，９２０，８４５，７５２，６４６ｃｍ-1．ＭＳ：ｍ／ｚ２１０（［Ｍ＋Ｈ］+）（１００％），１６８，１０８，５７．ＨＲＭＳ  Ｃ12Ｈ19ＮＯ2（計算値）：２１０．１４９４（［Ｍ＋Ｈ］+）．（測定値）：２１０．１４８５（［Ｍ＋Ｈ］+）．ＧＣ分析：ＧＬ  ＳＣＩＥＮＣＥ  ＣＰ−ＣＨＩＲＡＳＩＬ−ＤＥＸ  ＣＳ，保持時間；１６．１分（マイナーエナンチオマー）および１６．７分（メジャーエナンチオマー）。
【０２７３】
（参考例１）
ロイシンのｔ−ブチルエステルの原料として、通常行われる手順に従い、ｐ−クロロベンズアルデヒドを反応させ、アルディミンシッフ塩基を得た。特性値を次に示す。
【０２７４】
３００ＭＨｚ  1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：δ８．２４（１Ｈ，ｓ，ＣＨ＝Ｎ），７．７３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，ｐ−Ｃｌ−Ｐｈ），７．３９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，ｐ−Ｃｌ−Ｐｈ），３．９６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．２，８．０Ｈｚ，ＣＨＣ＝Ｏ），１．７７−１．８２（２Ｈ，ｍ，iＰｒＣＨ2），１．５６（１Ｈ，ｍ，（ＣＨ3）2ＣＨ），１．４７（９Ｈ，ｓ，tＢｕ），０．９５（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，ＣＨ3），０．８９（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，ＣＨ3）；ＩＲ（ＫＢｒ）２９８０，２９５９，２９３４，１７３６，１６４１，１５９７，１５７３，１４９１，１４６６，１３９３，１３６６，１３３９，１２７５，１２０９，１１４６，１０８８，１０６３，１０１５，８２９，７７２ｃｍ-1．；ＭＳ：ｍ／ｚ３１０（［Ｍ＋Ｈ］+），３０８，２１０，２０８，５７（１００％）．Ｃ17Ｈ24ＣｌＮＯ2（分析計算値）：Ｃ，６５．９０；Ｈ，７．８１；Ｎ，４．５２；Ｃｌ，１１．４４．（測定値）：Ｃ，６５．９２；Ｈ，７．８４；Ｎ，４．５５；Ｃｌ，１１．３９。
【０２７５】
（参考例２）
フェニルアラニンのｔ−ブチルエステルを原料として通常行われる手順に従い、ｐ−クロロベンズアルデヒドを反応させ、アルディミンシッフ塩基を得た。各種物性値を以下に示す。
【０２７６】
３００ＭＨｚ  1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：δ７．８８（１Ｈ，ｓ，ＣＨ＝Ｎ），７．６４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，ｐ−Ｃｌ−Ｐｈ），７．３６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，ｐ−Ｃｌ−Ｐｈ），７．１６−７．２４（５Ｈ，ｍ，Ｐｈ），４．０６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．４，８．７Ｈｚ，ＣＨＣ＝Ｏ），３．３２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．４，１３．５Ｈｚ，ＰｈＣＨ），３．１０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，１３．５Ｈｚ，ＰｈＣＨ），１．４４（９Ｈ，ｓ，tＢｕ）；ＩＲ（ＫＢｒ）２９８４，２８８２，２８０８，１７２４，１６４７，１５９３，１４９１，１３７３，１２７９，１１５５，１０８４，８４７，８２６，７６０，７００ｃｍ-1，ＭＳ：ｍ／ｚ３４３（Ｍ+）（１００％），２７８，２４４，２４２，１８６，９１，５７．Ｃ20Ｈ22ＣｌＮＯ2（分析計算値）：Ｃ，６９．８６；Ｈ，６．４５；Ｎ，４．０７；Ｃｌ，１０．３１．（測定値）：Ｃ，６９．８９；Ｈ，６．５７；Ｎ，４．０５；Ｃｌ，１０．３３。
【産業上の利用可能性】
【０２７７】
本発明によれば、軸不斉を有する光学活性な新規４級アンモニウム塩が得られる。この４級アンモニウム塩は、グリシン誘導体を立体選択的にアルキル化して光学活性なα−アミノ酸誘導体に変換するための相間移動触媒として作用し得る。さらに、本発明によれば、そのような新規４級アンモニウム塩を製造するために有用な中間体が得られる。
本発明の好ましい実施形態によれば、以下の化合物などが提供される。
（項１）  式Ｉの化合物：
【化１】
2010229130.tif 000071
（式中、Ｒ1およびＲ2は、それぞれ独立に、水素原子；Ｃ1〜Ｃ6の分岐もしくは環を形成していても良いアルキル基；Ｃ2〜Ｃ6の分岐もしくは環を形成していても良いアルケニル基；Ｃ2〜Ｃ6の分岐もしくは環構造を含んでいても良いアルキニル基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いアラルキル基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いヘテロアラルキル基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いアリール基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いヘテロアリール基；（Ｃ1〜Ｃ3アルコキシ）カルボニル基；カルバモイル基；Ｎ−（Ｃ1〜Ｃ4アルキル）カルバモイル基、およびＮ，Ｎ−ジ（Ｃ1〜Ｃ4アルキル）カルバモイル基（ここで、アルキルは互いに同じまたは異なっていても良い）からなる群から選択される基であり、Ｒ1およびＲ2は互いに同じまたは異なっていても良く；Ａｒ1およびＡｒ2は、それぞれ独立に、Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いアリール基；およびＣ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いヘテロアリール基から選択される基であり、Ａｒ1およびＡｒ2は互いに同じまたは異なっていても良く；Ｘ-はハロゲン化物アニオンであり；ＹおよびＺは、それぞれ独立に、水素原子；ハロゲン原子；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基；およびＣ1〜Ｃ3のアルコキシ基からなる群から選択される基であり、ＹおよびＺは互いに同じまたは異なっていても良いか、あるいはＹおよびＺは一緒になって単結合を表し得る）。
（項２）  上記項１に記載の化合物であって、スピロ型であり、ＹおよびＺが一緒になって単結合を表す、式ＩＩの化合物：
【化２】
2010229130.tif 000072
。
（項３）  上記項２に記載の化合物であって、Ａｒ1およびＡｒ2が互いのα−位で結合したβ−ナフチル基であり、Ｘ-が臭化物アニオンである、式ＩＩＩの化合物：
【化３】
2010229130.tif 000073
。
（項４）  上記項３に記載の化合物であって、Ｒ1およびＲ2がともにフェニルであるか、もしくはＲ1およびＲ2がともにβ−ナフチルである、化合物。
（項５）  上記項１に記載の化合物を製造する方法であって：
式ＩＶの化合物：
【化４】
2010229130.tif 000074
（式中、Ｒ1およびＲ2は、それぞれ独立に、水素原子；Ｃ1〜Ｃ6の分岐もしくは環を形成していても良いアルキル基；Ｃ2〜Ｃ6の分岐もしくは環を形成していても良いアルケニル基；Ｃ2〜Ｃ6の分岐もしくは環構造を含んでいても良いアルキニル基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いアラルキル基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いヘテロアラルキル基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いアリール基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いヘテロアリール基；（Ｃ1〜Ｃ3アルコキシ）カルボニル基；カルバモイル基；Ｎ−（Ｃ1〜Ｃ4アルキル）カルバモイル基、およびＮ，Ｎ−ジ（Ｃ1〜Ｃ4アルキル）カルバモイル基（ここで、アルキルは互いに同じまたは異なっていても良い）からなる群から選択される基であり、Ｒ1およびＲ2は互いに同じまたは異なっていても良い）に、適切な溶媒中、酸捕捉剤の存在下、式Ｖの化合物：
【化５】
2010229130.tif 000075
と式ＶＩの化合物：
【化６】
2010229130.tif 000076
（式ＶおよびＶＩ中、Ａｒ1およびＡｒ2は、それぞれ独立に、Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いアリール基；およびＣ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いヘテロアリール基から選択される基であり、Ａｒ1およびＡｒ2は互いに同じまたは異なっていても良く；Ｘはハロゲン原子であり；ＹおよびＺは、それぞれ独立に、水素原子；ハロゲン原子；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基；およびＣ1〜Ｃ3のアルコキシ基からなる群から選択される基であり、ＹおよびＺは互いに同じまたは異なっていても良いか、あるいはＹおよびＺは一緒になって単結合を表し得る）とを、順次もしくは同時に作用させる工程を包含する、方法。
（項６）  上記項２に記載の化合物を製造する方法であって：
式ＩＶの化合物：
【化７】
2010229130.tif 000077
（式中、Ｒ1およびＲ2は、それぞれ独立に、水素原子；Ｃ1〜Ｃ6の分岐もしくは環を形成していても良いアルキル基；Ｃ2〜Ｃ6の分岐もしくは環を形成していても良いアルケニル基；Ｃ2〜Ｃ6の分岐もしくは環構造を含んでいても良いアルキニル基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いアラルキル基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いヘテロアラルキル基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いアリール基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いヘテロアリール基；（Ｃ1〜Ｃ3アルコキシ）カルボニル基；カルバモイル基；Ｎ−（Ｃ1〜Ｃ4アルキル）カルバモイル基、およびＮ，Ｎ−ジ（Ｃ1〜Ｃ4アルキル）カルバモイル基（ここで、アルキルは互いに同じまたは異なっていても良い）からなる群から選択される基であり、Ｒ1およびＲ2は互いに同じまたは異なっていても良い）
に、適切な溶媒中、酸捕捉剤の存在下、式ＶＩＩの化合物：
【化８】
2010229130.tif 000078
（式中、Ａｒ1およびＡｒ2は、それぞれ独立に、Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いアリール基；またはＣ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いヘテロアリール基から選択される基であり、Ａｒ1およびＡｒ2は互いに同じまたは異なっていても良く；Ｘはハロゲン原子である）
を作用させる工程を包含する、方法。
（項７）  式ＶＩＩＩの化合物：
【化９】
2010229130.tif 000079
（式中、Ｒ3およびＲ4は、それぞれ独立に、水素原子；Ｃ1〜Ｃ6の分岐もしくは環を形成していても良いアルキル基；Ｃ2〜Ｃ6の分岐もしくは環を形成していても良いアルケニル基；Ｃ2〜Ｃ6の分岐もしくは環構造を含んでいても良いアルキニル基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いアラルキル基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いヘテロアラルキル基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いアリール基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いヘテロアリール基；（Ｃ1〜Ｃ3アルコキシ）カルボニル基；カルバモイル基；Ｎ−（Ｃ1〜Ｃ4アルキル）カルバモイル基、およびＮ，Ｎ−ジ（Ｃ1〜Ｃ4アルキル）カルバモイル基（ここで、アルキルは互いに同じまたは異なっていても良い）からなる群から選択される基であり、Ｒ3およびＲ4は互いに同じまたは異なっていても良く；Ｘはハロゲン原子を表す）。
（項８）  上記項７に記載の化合物であって、Ｒ3およびＲ4がともにフェニルであるか、もしくはＲ3およびＲ4がともにβ−ナフチルであり、Ｘが臭素原子である、化合物。
（項９）  上記項３に記載の化合物を製造する方法であって：
式ＩＸ：
【化１０】
2010229130.tif 000080
で示される光学活性な３，５−ジヒドロ−４Ｈ−ジナフト［２，１−ｃ：１’，２’−ｅ］アゼピンに、アルコール系溶媒中、酸捕捉剤として作用する無機塩基の存在下、式Ｘの化合物：
【化１１】
2010229130.tif 000081
（式中、Ｒ1およびＲ2は、それぞれ独立に、水素原子；Ｃ1〜Ｃ6の分岐もしくは環を形成していても良いアルキル基；Ｃ2〜Ｃ6の分岐もしくは環を形成していても良いアルケニル基；Ｃ2〜Ｃ6の分岐もしくは環構造を含んでいても良いアルキニル基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いアラルキル基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いヘテロアラルキル基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いアリール基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いヘテロアリール基；（Ｃ1〜Ｃ3アルコキシ）カルボニル基；カルバモイル基；Ｎ−（Ｃ1〜Ｃ4アルキル）カルバモイル基、およびＮ，Ｎ−ジ（Ｃ1〜Ｃ4アルキル）カルバモイル基（ここで、アルキルは互いに同じまたは異なっていても良い）からなる群から選択される基であり、Ｒ1およびＲ2は互いに同じまたは異なっていても良く；Ｘはハロゲン原子である）
を作用させる工程を包含する、方法。
（項１０）  上記項４に記載の化合物を製造する方法であって：
式ＩＸの化合物：
【化１２】
2010229130.tif 000082
に、アルコール系溶媒中、酸捕捉剤として作用する無機塩基の存在下、上記項８に記載の化合物を作用させる工程を包含する、方法。
（項１１）  式ＸＩの化合物：
【化１３】
2010229130.tif 000083
（式中、Ｒ3およびＲ4は、それぞれ独立に、水素原子；Ｃ1〜Ｃ6の分岐もしくは環を形成していても良いアルキル基；Ｃ2〜Ｃ6の分岐もしくは環を形成していても良いアルケニル基；Ｃ2〜Ｃ6の分岐もしくは環構造を含んでいても良いアルキニル基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いアラルキル基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いヘテロアラルキル基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いアリール基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いヘテロアリール基；（Ｃ1〜Ｃ3アルコキシ）カルボニル基；カルバモイル基；Ｎ−（Ｃ1〜Ｃ4アルキル）カルバモイル基、およびＮ，Ｎ−ジ（Ｃ1〜Ｃ4アルキル）カルバモイル基（ここで、アルキルは互いに同じまたは異なっていても良い）からなる群から選択される基であり、Ｒ3およびＲ4は互いに同じまたは異なっていても良い）。
（項１２）  Ｒ3およびＲ4がともにフェニルであるか、もしくはＲ3およびＲ4がともにβ−ナフチルである、上記項１１に記載の化合物。
（項１３）  上記項７に記載の化合物を製造する方法であって：
上記項１１に記載の化合物に、適切な溶媒中、ラジカル反応開始剤の存在下、ハロゲンラジカルを発生させることのできる適切なハロゲン化剤を作用させ、２−および２’−メチル基をともにハロゲン化する工程を包含する、方法。
（項１４）  上記項８に記載の化合物を製造する方法であって：
上記項１２に記載の化合物に、適切な溶媒中、ラジカル反応開始剤の存在下、臭素ラジカルを発生させることのできる臭素化剤を作用させ、２−および２’−メチル基をともに臭素化する工程を包含する、方法。
（項１５）  式ＸＩＩの化合物：
【化１４】
2010229130.tif 000084
（式中、Ｒ3およびＲ4は、それぞれ独立に、水素原子；Ｃ1〜Ｃ6の分岐もしくは環を形成していても良いアルキル基；Ｃ2〜Ｃ6の分岐もしくは環を形成していても良いアルケニル基；Ｃ2〜Ｃ6の分岐もしくは環構造を含んでいて良いアルキニル基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いアラルキル基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いアリール基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いヘテロアリール基；（Ｃ1〜Ｃ3アルコキシ）カルボニル基；カルバモイル基；Ｎ−（Ｃ1〜Ｃ3アルキル）カルバモイル基、およびＮ，Ｎ−ジ（Ｃ1〜Ｃ3アルキル）カルバモイル基（ここで、アルキルは互いに同じまたは異なっていても良い）からなる群から選択される基であり、Ｒ3およびＲ4は互いに同じまたは異なっていても良く；Ｔｆはトリフルオロメタンスルフォニル基を表す）。
（項１６）  Ｒ3およびＲ4がともにフェニルであるか、もしくはＲ3およびＲ4がともにβ−ナフチルである、上記項１５に記載の化合物。
（項１７）  上記項１１に記載の化合物を製造する方法であって：
上記項１５に記載の化合物に、ニッケル触媒の存在下、適切な溶媒中、式ＸＩＩＩ：
ＭｅＭｇＸ ＸＩＩＩ
（式中、Ｘはハロゲン原子を表す）
で示されるメチルマグネシウムハライドを作用させる工程を包含する、方法。
（項１８）  上記項１２に記載の化合物を製造する方法であって：
上記項１６に記載の化合物に、ニッケル触媒の存在下、適切な溶媒中、式ＸＩＩＩ：
ＭｅＭｇＸ ＸＩＩＩ
（式中、Ｘはハロゲン原子を表す）
で示されるメチルマグネシウムハライドを作用させる工程を包含する、方法。
（項１９）  式ＸＩＶの化合物：
【化１５】
2010229130.tif 000085
（Ｔｆはトリフルオロメタンスルフォニル基である）。
（項２０）  式ＸＩＩ’の化合物：
【化１６】
2010229130.tif 000086
（式中、Ｒ3’およびＲ4’は、それぞれ独立に、Ｃ1〜Ｃ6の分岐もしくは環
を形成していても良いアルキル基；Ｃ2〜Ｃ6の分岐もしくは環を形成していても良いアルケニル基；Ｃ2〜Ｃ6の分岐もしくは環構造を含んでいて良いアルキニル基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いアラルキル基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いアリール基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いヘテロアリール基；（Ｃ1〜Ｃ3アルコキシ）カルボニル基；カルバモイル基；Ｎ−（Ｃ1〜Ｃ3アルキル）カルバモイル基、およびＮ，Ｎ−ジ（Ｃ1〜Ｃ3アルキル）カルバモイル基（ここで、アルキルは互いに同じまたは異なっていても良い）からなる群から選択される基であり、Ｒ3’およびＲ4
’は互いに同じまたは異なっていても良く；Ｔｆはトリフルオロメタンスルフォニル基を表す）
を製造する方法であって：
上記項１９に記載の化合物の臭素原子を、適切な溶媒中、遷移金属触媒の存在下、Ｒ3’およびＲ4’で置換する工程を包含する、方法。
（項２１）  上記項１９に記載の化合物に、適切な溶媒中、塩基とパラジウム触媒の存在下、式ＸＶの化合物：
Ａｒ3Ｂ（ＯＨ）2 ＸＶ
と、式ＸＶＩの化合物：
Ａｒ4Ｂ（ＯＨ）2 ＸＶＩ
（式ＸＶおよびＸＶＩ中、Ａｒ3およびＡｒ4は、Ｃ2〜Ｃ6の分岐もしくは環を形成していても良いアルケニル基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いアリール基；およびＣ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いヘテロアリール基からなる群から選択される基であり、Ａｒ3およびＡｒ4は互いに同じまたは異なっていても良い）
とを、順次もしくは同時に作用させる工程を包含する、式ＸＶＩＩの化合物：
【化１７】
2010229130.tif 000087
（式中、Ａｒ3およびＡｒ4は、Ｃ2〜Ｃ6の分岐もしくは環を形成していても良いアルケニル基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いアリール基；およびＣ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いヘテロアリール基からなる群から選択される基であり、Ａｒ3およびＡｒ4は互いに同じまたは異なっていても良い）を製造する方法。
（項２２）  上記項１６に記載の化合物を製造する方法であって：
上記項１９に記載の化合物に、適切な溶媒中、塩基とパラジウム触媒の存在下、式ＸＶの化合物：
Ａｒ3Ｂ（ＯＨ）2 ＸＶ
と、式ＸＶＩの化合物：
Ａｒ4Ｂ（ＯＨ）2 ＸＶＩ
（式ＸＶおよびＸＶＩ中、Ａｒ3およびＡｒ4はともにフェニルであるか、もしくはβ−ナフチルである）
とを作用させる工程を包含する、方法。
（項２３）  式ＸＶＩＩＩの化合物：
【化１８】
2010229130.tif 000088
に、適切な溶媒中、塩基の存在下、トリフリル化剤を作用させる工程を包含する、上記項１９に記載の化合物を製造する方法。
（項２４）  軸不斉に関して純粋な上記項１に記載の化合物を相関移動触媒として用い、式ＸＩＸ
【化１９】
2010229130.tif 000089
（式中、Ｒ6およびＲ7は、同じまたは異なって、水素原子、アリール基（Ｃ1〜Ｃ3アルキル基、Ｃ1〜Ｃ3アルコキシ基、ハロゲン原子で置換されていても良い）を示すが、ただし同時に水素原子であることは除き；Ｒ8は、水素原子、アリール基（Ｃ1〜Ｃ3アルキル基、Ｃ1〜Ｃ3アルコキシ基、ハロゲン原子で置換されていても良い）、Ｃ1〜Ｃ6アルキル基（分岐または環を形成していても良い）、アラルキル基（Ｃ1〜Ｃ3アルキル基、Ｃ1〜Ｃ3アルコキシ基、ハロゲン原子で置換されていても良い）を示し；Ｒ9は、Ｃ1〜Ｃ4アルキル基を示す）
で示される化合物を、媒体中、無機塩基の存在下、式ＸＸの化合物：
Ｒ5−Ｗ ＸＸ
（式中、Ｒ5はＣ1〜Ｃ6の分岐もしくは環を形成していても良いアルキル基；Ｃ3〜Ｃ9の分岐もしくは環を形成していても良いアリル基または置換アリル基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、ハロゲン原子、あるいはＣ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いアリール基、あるいはＣ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いヘテロアリール基で置換されていても良いアラルキル基；Ｃ1〜Ｃ3のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、ハロゲン原子、あるいはＣ1〜Ｃ3のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いアリール基、あるいはＣ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いヘテロアリール基で置換されていても良いヘテロアラルキル基；もしくは、Ｃ3〜Ｃ9の分岐していても良いプロパルギル基または置換プロパルギル基であり；Ｗは、脱離能を有する官能基である）でアルキル化する工程を包含する、式ＸＸＩの化合物：
【化２０】
2010229130.tif 000090
（式中、Ｒ5はＣ1〜Ｃ6の分岐もしくは環を形成していても良いアルキル基；Ｃ3〜Ｃ9の分岐もしくは環を形成していても良いアリル基または置換アリル基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、ハロゲン原子、あるいはＣ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いアリール基、あるいはＣ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いヘテロアリール基で置換されていても良いアラルキル基；Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、ハロゲン原子、あるいはＣ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いアリール基、あるいはＣ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ3のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いヘテロアリール基で置換されていても良いヘテロアラルキル基；もしくは、Ｃ3〜Ｃ9の分岐していても良いプロパルギル基または置換プロパルギル基であり；Ｒ6およびＲ7は、同じまたは異なって、水素原子、アリール基（Ｃ1〜Ｃ3アルキル基、Ｃ1〜Ｃ3アルコキシ基、ハロゲン原子で置換されていても良い）を示すが、ただし同時に水素原子であることは除き；Ｒ8は、水素原子、アリール基（Ｃ1〜Ｃ3アルキル基、Ｃ1〜Ｃ3アルコキシ基、ハロゲン原子で置換されていても良い）、Ｃ1〜Ｃ6アルキル基（分岐または環を形成していても良い）、アラルキル基（Ｃ1〜Ｃ3アルキル基、Ｃ1〜Ｃ3アルコキシ基、ハロゲン原子で置換されていても良い）を示し；Ｒ9は、Ｃ1〜Ｃ4アルキル基を示す）を立体選択的に製造する方法。
（項２５）  上記項２に記載の化合物を相間移動触媒として用いる、上記項２４に記載の方法。
（項２６）  上記項３に記載の化合物を相間移動触媒として用いる、上記項２４に記載の方法。
（項２７）  上記項４に記載の化合物を相間移動触媒として用いる、上記項２４に記載の方法。