(57)【要約】【課題】ユーザが指定した期間内にユーザが必要とする装置データに取りこぼしが発生しないよう、抽出期間を適正な期間に修正する情報処理方法を提供する。【解決手段】産業用装置が生成する装置データを抽出する抽出期間を指定し、該抽出期間内に発生時刻を有する装置データに基づいて、産業用装置の状況を分析する情報処理方法であって、抽出期間内に前記状況の分析に必要な装置データが含まれない場合には、状況の分析に必要な装置データが含まれるように、抽出期間を変更する期間変更工程Ｓ４０２を有する。【選択図】図４
2010232291.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
産業用装置が生成する装置データを抽出する抽出期間を指定し、該抽出期間内に発生時刻を有する前記装置データに基づいて、前記産業用装置の状況を分析する情報処理方法であって、
前記抽出期間内に前記状況の分析に必要な装置データが含まれない場合には、前記状況の分析に必要な装置データが含まれるように、前記抽出期間を変更する期間変更工程を有することを特徴とする情報処理方法。
【請求項２】
前記抽出期間内に、前記産業用装置が生成する装置データから、前記状況の分析に必要な装置データを抽出する抽出工程を有し、
前記抽出工程は、更に、第１情報と、該第１情報と対となる第２情報とを抽出し、
前記期間変更工程は、前記抽出期間の開始時刻、若しくは終了時刻と、前記第１情報及び前記第２情報の発生時刻に基づいて、前記抽出期間を変更することを特徴とする請求項１に記載の情報処理方法。
【請求項３】
前記期間変更工程は、前記抽出期間の開始時刻より後で、最寄りの前記第１情報との間に前記第２情報がない場合は、前記開始時刻の変更を決定し、
予め前記開始時刻を遅らせるとの期間変更条件を設定した場合、前記開始時刻より後の最寄りの前記第１情報の発生時刻に前記開始時刻を変更し、
一方、予め前記開始時刻を早めるとの前記期間変更条件を設定した場合、前記抽出工程は、新たに前記開始時刻より一定の時間内で前記第２情報を抽出し、前記開始時刻より前の最寄りの前記第２情報の発生時刻に前記開始時刻を変更することを特徴とする請求項１及び２に記載の情報処理方法。
【請求項４】
前記期間変更工程は、前記抽出期間の終了時刻より前で、最寄りの前記第１情報との間に前記第２情報がない場合は、前記終了時刻の変更を決定し、
予め前記終了時刻を早めるとの前記期間変更条件を設定した場合、前記終了時刻より前の最寄りの前記第１情報の発生時刻に前記終了時刻を変更し、
一方、予め前記終了時刻を遅らせるとの前記期間変更条件を設定した場合、前記抽出工程は、新たに前記終了時刻より一定の時間内で前記第２情報を抽出し、前記終了時刻より後の最寄りの前記第２情報の発生時刻に前記終了時刻を変更することを特徴とする請求項１及び２に記載の情報処理方法。
【請求項５】
前記産業用装置は、露光装置であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の情報処理方法。
【請求項６】
露光装置を有する露光処理システムであって、
前記露光装置による露光処理に際し、請求項１〜５のいずれか１項に記載の情報処理方法を採用することを特徴とする露光処理システム。
【請求項７】
請求項６に記載の露光処理システムを用いて基板を露光する工程と、
前記基板を現像する工程と、
を有することを特徴とするデバイスの製造方法。
【請求項８】
産業用装置が生成する装置データを抽出する抽出期間を指定し、該抽出期間内に発生時刻を有する前記装置データに基づいて、前記産業用装置の状況を分析する情報処理装置であって、
前記抽出期間内に前記状況の分析に必要な装置データが含まれない場合には、前記状況の分析に必要な装置データが含まれるように、前記抽出期間を変更する期間変更部を有することを特徴とする情報処理装置。
【請求項９】
産業用装置が生成する装置データを抽出する抽出期間を指定し、該抽出期間内に発生時刻を有する前記装置データに基づいて、前記産業用装置の状況を分析するためにコンピュータに処理を実行させる情報処理プログラムであって、
前記コンピュータに、前記抽出期間内に前記状況の分析に必要な装置データが含まれない場合には、前記状況の分析に必要な装置データが含まれるように、前記抽出期間を変更する期間変更手段として機能させることを特徴とする情報処理プログラム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、情報処理方法、それを用いた露光処理システム、デバイスの製造方法、情報処理装置、及び情報処理プログラムに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
半導体露光装置に代表される半導体デバイス等を製造するためのデバイス製造装置等の産業用装置は、製造処理過程において、処理開始及び終了イベント、エラーイベント、及び計測結果等の多量の装置情報をデータとして生成する。産業用装置は、これらのデータに基づいて、装置の異常検知、状態診断、及び異常の原因分析等を実施している。
【０００３】
一般に、産業用装置が生成する装置情報は、発生時刻の情報と伴にデータベースに記録され、装置の状況分析には、ユーザが装置情報を抽出する期間を指定し、その期間中に発生時刻を有する装置情報を抽出している。
【０００４】
しかしながら、装置の状況分析に必要な装置情報は、指定した時間範囲内に全て揃う訳ではない。例えば、半導体製造装置は、複数のウエハを１ロットとし、ロット単位で処理を行う。このロットの状況分析は、処理開始から終了までの全てのイベントや計測結果を用いて行う必要がある。１ロットの処理時間は、通常数十分に及び、仮に１日分のデータを抽出して各ロットの状況分析を実施すると、１日の最初と最後のロット処理は、前後の日に跨ぐ可能性があり、この場合、それらのロット処理情報は、一部が抽出されない。したがって、ロット処理情報の取りこぼしを確認した場合には、新たに期間を設定し直して、再度情報を抽出しなければならない等、手間が掛かっていた。また、ロット処理情報の取りこぼしを防ぐために、抽出期間を余剰に広げる等の対策も施されていたが、情報量が多くなり、情報の送信及び分析に余分な時間がかかるという問題があった。
【０００５】
そこで、例えば、エラー分析で必要な情報を取得する方法として、特許文献１は、露光装置等に採用される基板処理装置において、エラー発生前の情報を記録するエラー処理方法を開示している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００５−７２２５９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、特許文献１は、エラー発生前の情報をどこまで記録するか定義しておらず、装置情報の取りこぼしや余剰情報を防ぐ手段としては不十分である。
【０００８】
本発明は、このような状況を鑑みてなされたものであり、ユーザが指定した期間内にユーザが必要とする装置データに取りこぼしが発生しないよう、抽出期間を適正な期間に修正する情報処理方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決するために、産業用装置が生成する装置データを抽出する抽出期間を指定し、該抽出期間内に発生時刻を有する装置データに基づいて、産業用装置の状況を分析する情報処理方法であって、抽出期間内に前記状況の分析に必要な装置データが含まれない場合には、状況の分析に必要な装置データが含まれるように、抽出期間を変更する期間変更工程を有することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、産業用装置の状態診断、異常の原因分析等で必要な装置データを、抽出期間を指定して抽出する際に、抽出期間外でも必要な装置データを取りこぼすことなく抽出でき、作業効率を向上させることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の実施形態に係る露光装置の構成を示す概略図である。
【図２】本発明の実施形態に係る露光処理システムの構成を示す概略図である。
【図３】データベースに蓄積される装置データの一例である。
【図４】本発明の実施形態に係る情報処理方法を示すフローチャートである。
【図５】抽出開始時刻を決定する情報処理方法を示すフローチャートである。
【図６】本発明の第１実施形態に係る抽出期間及び判定情報抽出期間における抽出対象の装置データと判定装置データの発生状況を示す図である。
【図７】抽出終了時刻を決定する情報処理方法を示すフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、本発明を実施するための形態について図面等を参照して説明する。
【００１３】
（露光装置）
図１は、本発明の実施形態に係る露光装置の構成を示す概略図である。以下、本発明の露光装置は、半導体デバイスを製造するための走査型露光装置に適用するものとして説明する。また、以下の図において、露光装置を構成する投影光学系の光軸に平行にＺ軸を取り、該Ｚ軸に垂直な平面内で走査露光時のレチクル（原版）及びウエハ（基板）の走査方向にＹ軸を取り、該Ｙ軸に直交する非走査方向にＸ軸を取って説明する。
【００１４】
露光装置１００は、まず、照明光学系１と、露光パターンが形成されたレチクル２と、該レチクル２を載置するレチクルステージ３と、投影光学系４と、被処理基板であるウエハ５と、該ウエハ５を載置するウエハステージ６とを備える。
【００１５】
照明光学系１は、光源７から導入される光束の形状及び光量分布を調整し、レチクル２を照明する装置である。照明光学系１は、例えば、コヒーレンスファクタ（σ値）を設定するための円形開口面積が異なる複数の開口絞り、輪帯照明用のリング形状絞り、４重極絞り、照明光量を調整するための機構（例えば、複数のＮＤフィルタ及びそれを切り替える機構）等を備える。更に、照明光学系１は、光量を計測する光量検出器、光束の形状を決定するスリット、照明範囲を確保するための、レチクル２と共役な位置に設置されたブラインド、及び該ブラインドを駆動する駆動機構等を備える。なお、照明光学系１及び光源７は、照明光学系制御系８の指令により制御される。
【００１６】
レチクルステージ３は、レチクル２を載置及び保持しつつ、光軸に直交する面内における直交する２つの軸方向（Ｘ、Ｙ方向）に移動可能なステージ装置である。なお、レチクルステージ３のＸ、Ｙ方向の位置、及び該Ｘ、Ｙ方向の軸周り回転は、レチクルステージ計測系９により計測される。そして、レチクルステージ３は、レチクルステージ計測系９から提供される情報に基づいて、レチクルステージ制御系１０の指令により制御される。
【００１７】
更に、照明光学系１とレチクルステージ３との間には、ＴＴＲ（Through The Reticle）観察光学系１１を備える。ＴＴＲ観察光学系１１は、レチクル２上のマーク、又はレチクルステージ３に設置されるステージ基準マークと、ウエハステージ６上のステージ基準マークとを、投影光学系４を介して同時に観測及び計測可能な方式を採用した観察光学系である。ＴＴＲ観察光学系１１は、レチクル２、レチクルステージ３、及びウエハステージ６のＸ、Ｙ、Ｚの３方向の位置、及びＸ、Ｙ、Ｚ方向の軸周り回転を計測する。
【００１８】
投影光学系４は、レチクル２のパターンをウエハ５に所定の倍率（例えば４：１）で縮小投影するための装置である。投影光学系４は、開口数を設定するための開口数設定機構や、収差を補正するためのレンズ駆動機構等を備える。なお、投影光学系４は、投影光学系制御系１２の指令により制御される。
【００１９】
ウエハステージ６は、ウエハ５を載置及び保持しつつ、投影光学系４の光軸方向（Ｚ方向）と、光軸に直交する面内における直交する２つの軸方向（Ｘ、Ｙ方向）に移動可能なステージ装置である。なお、ウエハ５の位置は、ウエハステージ計測系１３及びアライメント計測系１４により計測される。この場合、ウエハステージ計測系１３は、例えば、Ｘ、Ｙ、Ｚ方向の位置、及び該Ｘ、Ｙ、Ｚ方向の軸周り回転を計測する。また、アライメント計測系１４は、Ｚ方向におけるウエハ５の表面位置を計測する。そして、ウエハステージ６は、ウエハステージ計測系１３及びアライメント計測系１４から提供される情報に基づいて、ウエハステージ制御系１５の指令により制御される。
【００２０】
更に、ウエハステージ６の近傍には、ウエハ５の表面を非露光光で観察及び計測することが可能なオフアクシス観察光学系１６を備える。オフアクシス観察光学系１６は、ウエハ５上に配置されたマークを複数観察し、レチクル２のパターンをウエハ５上のパターン位置に併せて転写できるように、ウエハ５上のパターン位置と形状を計測する装置である。また、オフアクシス観察光学系１６は、ウエハステージ６上のステージ基準マークを観察し、ステージ基準マークの位置の計測も可能である。
【００２１】
また、露光装置１００は、レチクル搬送ユニット１７と、レチクルアライメントユニット１８と、ウエハ搬送ユニット１９と、チャンバ２０と、主制御系２１とを備える。
【００２２】
レチクル搬送ユニット１７は、レチクルライブラリ２２、レチクルロボット２３等から構成される、レチクル２を搬送するための搬送系である。また、レチクルアライメントユニット１８は、レチクル２の位置をレチクルステージ３上のマークに合わせるための装置である。なお、レチクル搬送ユニット１７は、レチクル搬送制御系２４の指令により制御される。また、ウエハ搬送ユニット１９は、ウエハカセットエレベータ２５、ウエハ搬入出ロボット２６等から構成される、ウエハ５を搬送するための搬送系である。なお、ウエハ搬送ユニット１９は、ウエハ搬送制御系２７の指令により制御される。また、チャンバ２０は、主に、空気の温度調整と、微小異物を濾過する空気清浄とを実施し、露光装置１００の内部環境温度を一定に保つための空洞装置である。なお、チャンバ２０は、チャンバ制御系２８の指令により制御される。
【００２３】
主制御系２１は、露光装置１００を構成する各制御系、例えば、照明光学系制御系８、レチクルステージ制御系１０、投影光学系制御系１２、ウエハステージ制御系１５、レチクル搬送制御系２４、ウエハ搬送制御系２７、チャンバ制御系２８等を制御する。主制御系２１は、通信インターフェイス２９を介して、露光装置１００の露光動作を定義する設定パラメータ又は動作指令を取得し、それらの情報に基づいて、露光装置１００を構成する各構成要素を制御することが可能である。また、主制御系２１は、通信インターフェイス２９を介して、後述の外部記憶装置１５０に対して、上記設定パラメータ及び動作指令、加えて、動作状態、動作結果、計測結果、及びエラーイベント等の情報と、それらの発生時刻等の情報とを送信する機能を有する。
【００２４】
次に、露光装置１００における走査露光処理の動作について説明する。
【００２５】
光源７から提供される光束は、照明光学系１で形状及び光量分布が調整され、レチクルステージ３に載置されたレチクル２を照明する。レチクル２のパターンは、投影光学系４を介して、ウエハステージ６上のウエハ吸着チャック３０に保持された、感光剤（レジスト）が塗布されたウエハ５上の予め決められた露光範囲（ショット領域）に転写される。これにより、ウエハ５上の感光剤に潜像パターンが形成される。露光処理（転写処理）は、ウエハ５上に配列されたショット毎に実施され、ウエハ５の全面に潜像パターンが形成される。潜像パターンは、別途現像工程において現像されて、マスクパターン（レジストパターン）となる。
【００２６】
この露光処理において、スリット状の照明光束でレチクル２の全てのパターン範囲をウエハ５に配列されたショット領域に転写するために、レチクルステージ３は、図１に示す「走査方向」に駆動する。それと同時に、ウエハステージ６も、図１に示す「走査方向」に駆動する。この場合、レチクルステージ３とウエハステージ６は、それぞれ投影光学系４の投影倍率に応じた速度比に基づいて駆動する。ここで、レチクル２とウエハ５との相対位置にズレが生じると、ウエハ５のショット領域には変形したパターンが転写される。そこで、主制御系２１は、レチクル２とウエハ５との相対位置ズレを計算し、該相対位置ズレがゼロになるように、レチクルステージ制御系１０及びウエハステージ制御系１５を制御する。
【００２７】
また、露光処理は、露光装置１００の露光動作を定義する設定パラメータ（ＪＯＢパラメータ）に基づいて実行される。ＪＯＢパラメータは、例えば、工程名（ジョブ名）、ロット認識ＩＤ、ショット領域位置、ショット領域範囲（領域の寸法）、ショット領域配列、各ショット領域番号、露光量、露光走査速度、露光走査方向等を含む。更に、ＪＯＢパラメータは、露光装置を構成するユニットのキャリブレーション項目、キャリブレーション計測の実施タイミング及び計測回数、ウエハ及びショットのアライメント方式、アライメント計測のサンプルショット数及び計測回数等を含む。
【００２８】
このとき、主制御系２１は、一枚、若しくは複数枚のウエハを１ロットとして、ロット単位にＪＯＢパラメータに基づいて露光装置１００を構成する各制御系を制御し、露光処理を実施する。具体的には、まず、ロット処理開始に伴い、露光処理に使用されるレチクル２及びウエハ５が露光装置１００内に供給される。該レチクル２及びウエハ５の供給が完了すると、露光装置１００の構成要素のうち、ＪＯＢパラメータで指定されたユニットのキャリブレーションと、レチクル２及びウエハ５のアライメントが実施される。そして、主制御系２１は、その情報結果に基づいて、各ユニット、レチクル２、ウエハ５をそれぞれ補正駆動し、ウエハ５上の各ショット領域は、ステップ・アンド・スキャン方式で露光される。
【００２９】
この露光処理において、各ユニットの処理動作の開始及び終了、処理に対する設定値、キャリブレーションやアライメントの各計測値、ショットの露光量結果、スキャン動作制御結果、装置で発生したエラー等のイベント、それらの発生時刻の情報が生成される。以下、これらの情報を、露光装置の処理動作により生成されるため、「装置生成情報」と定義する。この露光処理は、ＪＯＢパラメータによりロット単位に行われるため、処理を定義したジョブ名、及び処理されたロット認識ＩＤで特定できる。更に、ウエハやショットに対する処理では、ウエハ番号、ショット番号、及びダイ認識ＩＤで特定できる。主制御系２１は、ジョブ名、ロット認識ID、ウエハ番号、ショット番号、ダイ認識ＩＤ等を属性情報として、装置情報である処理、イベント、計測結果、及び発生時刻の情報に付加し、外部記憶装置１５０に送信する。
【００３０】
（露光処理システム）
次に、本発明の実施形態に係る露光処理システムについて説明する。図２は、露光処理システムの構成を示す概略図である。露光処理システム２８０は、上記露光装置１００と、外部記憶装置１５０と、情報処理装置２００とを備える。露光処理システム２８０を構成する各装置は、通信インターフェイスを介して接続されている。
【００３１】
外部記憶装置１５０は、露光装置１００から通信インターフェイス１５１を介して、図３に示すような装置データを収集し、該装置データをデータベース１５２に格納する装置である。図３は、装置データの一例である。装置データは、露光動作を定義する設定パラメータ、処理動作の開始及び終了、動作結果、計測結果、エラー等のイベント、及びそれらの発生時刻の装置生成情報と、ジョブ名、ロット認識ＩＤ、ウエハ番号、ショット番号、ダイ認識ＩＤ等の属性情報とからなる。
【００３２】
情報処理装置２００は、外部記憶装置１５０内に蓄積された装置情報から、通信インターフェイス２１０を介して適宜データを抽出し、該データを処理する機能を有する情報処理プログラムを備えた装置である。情報処理装置２００は、例えば、汎用のコンピュータに情報処理プログラムをインストールすることにより構成される。情報処理装置２００は、情報処理プログラムをインストールされることによって、抽出部２３０と、期間変更部２５０とを備える装置として動作する。あるいは、情報処理装置２００は、抽出手段、期間変更手段等を実行する装置として動作する。なお、情報処理装置２００は、本実施形態では、露光装置１００を設置した場所とは別の場所に設置する構成としたが、露光装置１００の内部に設置されても良い。
【００３３】
情報処理装置２００は、通信インターフェイス２１０と、管理部２２０と、抽出部２３０と、入力部２４０と、期間変更部２５０と、出力部２６０とを備える。管理部２２０は、通信インターフェイス２１０、抽出部２３０、入力部２４０、期間変更部２５０、及び出力部２６０を管理（制御）する処理部である。また、抽出部２３０は、外部記憶装置１５０内のデータベース１５２に格納されている装置データから、指定された期間の、指定された装置データを抽出する処理部である。また、入力部２４０は、情報処理に必要な諸条件を、抽出部２３０及び期間変更部２５０に入力する処理部である。入力部２４０は、抽出部２３０に対する入力条件として、抽出期間２４１、抽出装置データ項目名２４２、判定装置データ項目名２４３、及び判定情報抽出期間２４４を有し、更に、期間変更部２５０に対する入力条件として、期間変更条件２４５を有する。また、期間変更部２５０は、抽出期間２４１の変更を判断し、新たな抽出期間を決定する処理部である。このとき、期間変更部２５０は、抽出期間変更を判断のために、判定装置データ項目名２４３としての第１情報と、該第１情報と対となる第２情報とを指定し、更に、判定情報抽出期間２４４として時間幅を指定する。これにより、抽出部２３０は、抽出期間から時間幅の範囲分を加えた期間で、判定装置データ項目名２４３に該当する装置データを抽出する。そして、期間変更部２５０は、抽出期間開始若しくは終了前後で、これら２つの発生タイミングにより期間変更が必要かどうかを判断する。ここで、抽出期間を短縮するか延長するかの判定条件は、期間変更条件２４５で指定され、期間変更部２５０は、期間変更条件２４５の指定に基づいて、第１情報若しくは第２情報の発生時間を、抽出期間の開始若しくは終了時刻と設定する。更に、出力部２６０は、変更された期間で抽出された装置データを出力する処理部である。
【００３４】
（情報処理方法の第１実施形態）
次に、データベース１５２に格納された装置データに基づいて、情報抽出のために指定された期間を、必要な情報が含まれるような適切な期間に変更する情報処理方法について説明する。なお、本実施形態では、１日で処理したロットに関わる装置データを抽出する場合を仮定して説明する。
【００３５】
図４は、本発明の第１の実施形態である情報処理方法の一例を示すフローチャートである。まず、ユーザは、入力部２４０より、必要な装置データをデータベース１５２から抽出するため、情報抽出する抽出期間２４１と、抽出装置データ項目名２４２とを指定する（ステップＳ４０１）。ここで、指定する抽出装置データ項目名は、図３に示すような各処理動作の開始及び終了、動作結果、計測結果、及びエラー等のイベントとする。また、抽出期間２４１は、例えば、所定の日の０時０分から２４時０分未満までとする。
【００３６】
次に、ユーザは、入力部２４０より、抽出期間変更を決めるための条件として、判定装置データ項目名２４３と、判定情報抽出期間２４４と、期間変更条件２４５とを指定する（ステップＳ４０２）。ここで、判定装置データ項目名２４３は、第１情報及び第２情報を指定する。該第１情報及び第２情報は、例えば、本実施形態ではロット処理中の装置データを必要とするため、ロット処理開始及びロット処理終了のいずれかを指定する。
【００３７】
次に、期間変更部２５０は、抽出開始時刻を決定する（ステップＳ４０３：期間変更工程）。この抽出開始時刻の決定処理について、図５及び図６を用いて説明する。図５は、抽出開始時刻の決定処理の流れを説明するフローチャートである。また、図６は、抽出期間及び判定情報抽出期間における、抽出対象の装置データと判定装置データの発生状況とを時系列で示す一覧である。
【００３８】
まず、抽出部２３０は、抽出期間内の第１情報及び第２情報の判定装置データ項目名２４３に該当する装置データをデータベース１５２より抽出する（ステップＳ５０１）。次に、期間変更部２５０は、抽出期間２４１で定めた抽出開始時刻Ｔｓ０以降で、最寄りの第１情報を検出し、その発生時刻をＴｓ１と認定する（ステップＳ５０２）。次に、期間変更部２５０は、抽出開始時刻Ｔｓ０から第１情報発生時刻Ｔｓ１までの時間内で第２情報を検出する（ステップＳ５０３）。ここで、該時間内で第２情報が検出されなかった場合は、抽出開始時刻を変更し（ステップＳ５０４）、一方、第２情報が検出された場合は、抽出開始時刻を変更しない（ステップＳ５０５）。なお、本実施形態では、抽出開始時刻変更の判定装置データ項目として、ロット処理終了を第１情報とし、ロット処理開始を第２情報とする。即ち、抽出開始時刻Ｔｓ０に最寄りのロット処理終了の装置データ（第１情報）が検出され、抽出開始時刻Ｔｓ０からロット処理終了時刻Ｔｓ１までにロット処理開始（第２情報）がない場合、抽出開始時刻は、変更の対象となる。次に、期間変更部２５０は、抽出開始時刻が変更となった場合、開始時間を繰り上げるか、若しくは繰り下げるかを判断する（ステップＳ５０６）。繰り上げ、若しくは繰り下げの判断は、ユーザが指定する期間変更条件２４５を参照する。ここで、開始時間を繰り下げる場合、第１情報発生時刻Ｔｓ１が抽出開始時刻となる（ステップＳ５０７）。一方、開始時間を繰り上げる場合、抽出部２３０は、抽出開始時刻Ｔｓ０以前で判定情報抽出期間２４４として指定した時間幅の範囲で、第２情報をデータベース１５２より抽出する（ステップＳ５０８）。そして、期間変更部２５０は、抽出開始時刻Ｔｓ０に最寄りの第２情報発生時刻Ｔｓ２を検出し（ステップＳ５０９）、第２情報発生時刻Ｔｓ２が抽出開始時刻となる（ステップＳ５１０）。
【００３９】
次に、期間変更部２５０は、抽出終了時刻を決定する（ステップＳ４０４：期間変更工程）。この抽出終了時刻の決定処理について、図６及び図７を用いて説明する。図７は、抽出終了時刻の決定処理の流れを説明するフローチャートである。
【００４０】
まず、抽出部２３０は、抽出期間内の第１情報及び第２情報の判定装置データ項目名２４３に該当する装置データをデータベース１５２より抽出する（ステップＳ７０１）。このとき、装置データとしては、図５のステップＳ５０１で抽出した装置データを使用しても良い。次に、期間変更部２５０は、抽出期間２４１で定めた抽出終了時刻Ｔｅ０以降で、最寄りの第１情報を検出し、その発生時刻をＴｅ１と認定する（ステップＳ７０２）。次に、期間変更部２５０は、抽出終了時刻Ｔｅ０から第１情報発生時刻Ｔｅ１までの時間内で第２情報を検出する（ステップＳ７０３）。ここで、該時間内で第２情報が検出されなかった場合は、抽出終了時刻を変更し（ステップＳ７０４）、一方、第２情報が検出された場合は、抽出終了時刻を変更しない（ステップＳ７０５）。なお、本実施形態では、抽出終了時刻変更の判定装置データ項目として、ロット処理開始を第１情報とし、ロット処理終了を第２情報とする。即ち、抽出終了時刻Ｔｅ０に最寄りのロット処理開始の装置データ（第１情報）が検出され、抽出終了時刻Ｔｅ０からロット処理開始時刻Ｔｅ１までにロット処理終了（第２情報）がない場合、抽出終了時刻は、変更の対象となる。次に、期間変更部２５０は、抽出終了時刻が変更となった場合、終了時間を繰り上げるか、若しくは繰り下げるかを判断する（ステップＳ７０６）。繰り上げ、若しくは繰り下げの判断は、ユーザが指定する期間変更条件２４５を参照する。ここで、終了時間を繰り上げる場合、第１情報発生時刻Ｔｅ１が抽出終了時刻となる（ステップＳ７０７）。一方、終了時間を繰り下げる場合、抽出部２３０は、抽出終了時刻Ｔｅ０以前で判定情報抽出期間２４４として指定した時間幅の範囲で、第２情報をデータベース１５２より抽出する（ステップＳ７０８）。そして、期間変更部２５０は、抽出終了時刻Ｔｅ０に最寄りの第２情報発生時刻Ｔｓ２を検出し（ステップＳ７０９）、第２情報発生時刻Ｔｅ２が抽出終了時刻となる（ステップＳ５１０）。
【００４１】
そして、抽出部２３０は、期間変更部２５０により決定された新たな抽出期間に基づいて、指定された抽出装置データ項目名の情報をデータベース１５２より抽出し、出力部２６０は、上記情報を出力して処理を終了する（ステップＳ４０５）。
【００４２】
なお、ステップＳ５０９、Ｓ７０９において、判定情報抽出期間の範囲内で第２情報が検出されない場合は、一旦、ステップＳ５０８、Ｓ７０８の戻り、前回の判定情報抽出期間以前、若しくは、以降の判定情報抽出期間で第２情報の抽出を行うことも可能である。また、このような抽出処理を繰り返す回数を指定しても良い。このとき、指定回数の最後の判定情報抽出期間で第２情報が検出できない場合は、最後の判定情報抽出期間までを変更した抽出期間とする。
【００４３】
また、本実施形態では、判定情報項目として装置生成情報を指定したが、更に属性情報を付加しても良い。この場合、抽出期間の開始、若しくは終了の時刻に、最寄りの第１情報として検出された情報の属性情報を条件として用いて、第２情報の検出条件に属性情報を持つことを加えても良い。これにより、例えば、複数のロットが並列処理される装置において、第１情報をロット処理開始、又は第２情報をロット処理終了としたときなど、並列処理中の他のロットの開始と終了とを区別することができる。
【００４４】
以上のように、本発明によれば、露光装置等の産業用装置の状態診断、異常の原因分析等で必要な装置データを、抽出期間を指定して抽出する際に、抽出期間外でも必要な装置データを取りこぼすことなく抽出でき、作業効率を向上させることが可能となる。したがって、情報データの取りこぼしが発生するような状況下でも、新たに抽出期間を設定し直して、再度情報を抽出しなければならないような手間を省くことができる。また、装置データの取りこぼしを防ぐために、抽出期間を余剰に広げる等の対策を実施する必要がなく、情報の送信及び分析に余分な時間がかかるという問題も解消される。
【００４５】
（情報処理方法の第２実施形態）
次に、本発明の情報処理方法の第２の実施形態について説明する。本実施形態の特徴は、第１の実施形態では第１情報と対となる第２情報が１つであることに対して、複数の第２情報を指定する点にある。
【００４６】
まず、抽出開始時刻の変更決定の例として、抽出期間１日の間に発生した、装置のリセットを必要とする不具合の原因分析に必要な装置データを抽出する場合について説明する。情報処理装置２００は、装置リセットの発生信号を検出し、例えば、直前に処理されたロット、ウエハ、若しくは、装置リセットシーケンスで処理中に発生した装置リセット発生前のイベント、処理結果、及び計測結果から原因分析を実施する。この場合、ユーザは、判定装置データ項目名として、装置リセット処理開始の情報を第１情報に、また、ロット処理開始、ウエハ処理開始、リセット処理開始等、各処理の開始を示す複数の装置データ項目名を第２情報に指定する。これにより、期間変更部２５０は、抽出開始時刻Ｔｓ０の最寄りの装置リセット処理開始の情報（第１情報）を検出し、抽出開始時刻Ｔｓ０から装置リセット処理開始時刻Ｔｓ１の間に、第２情報がいずれもない場合は、抽出開始時刻を変更する。
【００４７】
一方、抽出終了時刻の変更決定の例として、第１実施形態では、ロット処理開始を第１情報とし、ロット処理終了を第２情報としたが、ロット処理が正常に終了せず、不具合発生のためロット処理中に装置リセットが発生した場合について説明する。この場合、ユーザは、装置データとしてロット処理終了が記録されない場合は、ロット処理終了と装置リセット処理開始とを第２情報に指定する。
【００４８】
（情報処理方法の第３実施形態）
次に、本発明の情報処理方法の第３の実施形態について説明する。本実施形態の特徴は、第１及び第２の実施形態では１つの第１情報に基づいて抽出期間の変更を決定したが、複数の第１情報から抽出期間の変更を決定する点にある。即ち、第１の実施形態では、１日のロット処理内容に対する分析が目的であり、また、第２の実施形態では、１日の間に発生した装置のリセットを必要とする不具合の原因分析が目的であった。これに対して、本実施形態では、期間変更部２５０は、１日の装置状況を分析する場合、第１の実施形態と第２の実施形態とを合わせた方法で、抽出期間の変更を実施する。この場合、ユーザは、第１及び第２の実施形態で指定した判定装置データ項目名を第１情報に指定する。これにより、抽出部２３０は、ロット処理、リセット処理中のいずれの装置データも欠けることなく抽出することができる。
【００４９】
（デバイスの製造方法）
次に、上記の露光装置を利用したデバイスの製造方法の実施形態について説明する。半導体素子、液晶表示素子、撮像素子（ＣＣＤ等）、薄膜磁気ヘッド等のデバイスは、レジスト（感光剤）が塗布された基板（ウエハ、ガラスプレート等）を、上記の露光装置を用いて露光する工程を経る。続いて、露光された前記基板を現像する工程と、その他の周知の工程と、を行うことによってデバイスが製造される。該周知の工程は、例えば、酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、及びパッケージング等の少なくとも１つの工程を含む。
【００５０】
尚、本発明は、その精神、又はその主要な特徴から逸脱することなく、様々な形で実現する事ができる。したがって、前述の実施形態はあらゆる点に於いて単なる例示に過ぎず、限定的に解釈してはならない。
【符号の説明】
【００５１】
１００    露光装置
２００    情報処理装置
Ｓ４０３、Ｓ４０４  期間変更工程
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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