(57)【要約】【課題】簡易な方法で大面積化を実現することの可能なカラーフィルタおよびその製造方法、ならびにそのようなカラーフィルタを備えた発光装置を提供する。【解決手段】凹部１２０同士が溝部１３０を介して連結されたパターンを有するパターン形成用版２００と、封止用基板８１とを互いに密着させた状態で、溝部１３０の一端だけ所定のカラーレジスト１４１Ｒ，１４１Ｇ，１４１Ｂに浸す。その後、溝部１３０の他端の圧力が溝部１３０の一端（カラーレジスト１４１Ｒ，１４１Ｇ，１４１Ｂ）の圧力よりも低くなるようにして、カラーレジスト１４１Ｒ，１４１Ｇ，１４１Ｂを、溝部１３０を介して各凹部１２０に流入させ、各凹部１２０内のカラーレジスト１４１Ｒ，１４１Ｇ，１４１Ｂを硬化させる。【選択図】図７
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材の一の面上に、第１色の複数の第１凸部と、前記複数の第１凸部を直列に接続する第１色の第１連結部と、第２色の複数の第２凸部と、前記複数の第２凸部を直列に接続する第２色の第２連結部とを備えた
カラーフィルタ。
【請求項２】
前記複数の第１凸部および前記複数の第２凸部は、前記透明基材の面内の第１方向において交互に配置されている
請求項１に記載のカラーフィルタ。
【請求項３】
前記第１連結部の一端は、前記透明基材の第１端縁に形成され、
前記第１連結部の他端は、前記第１端縁から離れた位置に形成され、
前記第２連結部の一端は、前記透明基材の端縁のうち前記第１方向において対向する第２端縁に形成され、
前記第２連結部の他端は、前記第２端縁から離れた位置に形成されている
請求項２に記載のカラーフィルタ。
【請求項４】
前記透明基材の一の面上に、第３色の複数の第３凸部と、前記複数の第３凸部を直列に接続する第３色の第３連結部とをさらに備えた
請求項１ないし請求項３のいずれか一項に記載のカラーフィルタ。
【請求項５】
前記複数の第１凸部、前記複数の第２凸部および前記複数の第３凸部は、前記透明基材の面内の第１方向において周期的に配置されている
請求項４に記載のカラーフィルタ。
【請求項６】
前記第３連結部の一端は、前記第１端縁に形成され、
前記第３連結部の他端は、前記第１端縁から離れた位置に形成されている
請求項４に記載のカラーフィルタ。
【請求項７】
前記複数の第１凸部、前記複数の第２凸部および前記複数の第３凸部のそれぞれの側面を少なくとも覆う埋め込み層をさらに備えた
請求項１ないし請求項３のいずれか一項に記載のカラーフィルタ。
【請求項８】
支持基材の一の面上に、複数の第１凹部と、前記複数の第１凹部を直列に接続する第１溝部と、複数の第２凹部と、前記複数の第２凹部を直列に接続する第２溝部とを有するパターン形成層を備えたパターン形成用版を用意したのち、前記第１溝部および前記第２溝部のそれぞれの両端部を雰囲気に露出させた状態で、前記パターン形成用版を、前記第１凹部および前記第２凹部側の表面をパターン形成用基材に向けて、前記パターン形成用基材の表面に密着させる第１工程と、
前記第１溝部の一端である第１端部を雰囲気に露出させた状態で、前記第１溝部の他端である第２端部を第１色の第１インクに浸したのち、前記第１端部の圧力が前記第２端部の圧力よりも低くなるようにして、前記第１インクを、前記第１溝部を介して前記各第１凹部に流入させる第２工程と、
前記第２溝部の一端である第３端部を雰囲気に露出させた状態で、前記第２溝部の他端である第４端部を第２色の第２インクに浸したのち、前記第３端部の圧力が前記第４端部の圧力よりも低くなるようにして、前記第２インクを、前記第２溝部を介して前記各第２凹部に流入させる第３工程と、
前記各第１凹部内の第１インクおよび前記各第２凹部内の第２インクを硬化させたのち、前記パターン形成用版のうち少なくとも前記支持基材を剥離する第４工程と
を含むカラーフィルタの製造方法。
【請求項９】
前記第２工程および前記第３工程を同時に実施する
請求項８に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項１０】
支持基板上に複数の発光素子を有する発光パネルと、
前記発光素子側に設けられたカラーフィルタと
を備え、
前記カラーフィルタは、透明基材を有すると共に、前記透明基材のうち前記発光パネル側の面上に、前記複数の発光素子のうち所定の発光素子との対向領域に配置された第１色の複数の第１凸部と、前記複数の第１凸部を直列に接続する第１色の第１連結部と、前記複数の発光素子のうち前記第１凸部との非対向領域に位置する発光素子との対向領域に配置された第２色の複数の第２凸部と、前記複数の第２凸部を直列に接続する第２色の第２連結部とを有する
発光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、特にカラー表示装置に好適に適用可能なカラーフィルタおよびその製造方法、ならびにそのようなカラーフィルタを備えた発光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶ディスプレイに代わる表示装置として、有機ＥＬ（electro-luminescence）素子を用いた有機ＥＬディスプレイが実用化されている。有機ＥＬ素子は自発光型であるので、液晶などに比較して視野角が広く、また、高精細度の高速ビデオ信号に対しても十分な応答性を有するものと考えられている。
【０００３】
有機ＥＬ素子は、例えば、基板上に、第１電極と、発光層を含む有機層と、第２電極とを順に有しており、第１電極と第２電極との間に直流電圧が印加されると発光層において正孔−電子再結合が起こり、光を発生するものである。発生した光は、一般に、第２電極の側から取り出される。
【０００４】
有機ＥＬ素子では、素子内部における屈折率が高いので、空気層との界面において全反射が生じ易く、発光光を外部に十分に取り出すことが困難である。そこで、有機ＥＬ素子の光取り出し側に反射板（リフレクタ）を配設することにより、発光光の放射角を補正して光取り出し効率を高める手法が提案されている。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【０００５】
【非特許文献１】Journal of the Ceramic Society of Japan 114[8] 725-728(2006)
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特許第３７８０７００号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ところで、有機ＥＬディスプレイでは、有機ＥＬ素子を封止する透明基板（例えばガラス基板）が有機ＥＬ素子の光取り出し側に配設されている。この透明基板のうち有機ＥＬ素子側の表面上には、一般に、ＲＧＢ３色のカラーフィルタが設けられている。このＲＧＢ３色のカラーフィルタには、ブラックマトリクスがさらに設けられている場合もある。
【０００８】
上述のカラーフィルタは、通常、リソグラフィ法やインクジェット法などにより作成される。しかし、リソグラフィ法を用いるためには、半導体工場クラスの設備が必要であり、そのような設備を、カラーフィルタを作成するためだけに用意するのはコストとの関係で合理的ではない。また、インクジェット法では、各画素パターンの膜厚の均一性と表面平坦性を実現することが容易ではなく、インクの材料を変えた場合には、製造条件を調整し直すことが必要となる。
【０００９】
これらの問題を解決する方法として、例えば、非特許文献１には、シリコーン型を使用し、毛管力を利用してインクを供給することが記載されている。しかし、この方法では、大面積化が難しいという問題があった。また、その他の解決方法として、例えば、特許文献１には、母型の各画素に貫通孔を設け、その穴にインクジェットでインクを供給することが記載されている。しかし、この方法では、インクジェット法に特有の上記の問題が依然として生じてしまう。
【００１０】
本発明はかかる問題点に鑑みてなされたもので、その目的は、簡易な方法で大面積化を実現することの可能なカラーフィルタおよびその製造方法、ならびにそのようなカラーフィルタを備えた発光装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明のカラーフィルタは、透明基材の一の面上に、第１色の複数の第１凸部と、複数の第１凸部を直列に接続する第１色の第１連結部と、第２色の複数の第２凸部と、複数の第２凸部を直列に接続する第２色の第２連結部とを備えたものである。
【００１２】
本発明の発光装置は、支持基板上に複数の発光素子を有する発光パネルと、発光素子側に設けられたカラーフィルタとを備えたものである。この発光装置に搭載されたカラーフィルタは、上記のカラーフィルタと同一の構成要素を有している。
【００１３】
本発明のカラーフィルタおよび発光装置では、同色の凸部同士が同色の連結部で直列に連結されている。これにより、例えば、凸部を反転させた形状の凹部同士が溝部を介して連結されたパターンを有するパターン形成用版と、パターン形成用基材とを互いに密着させた状態で、溝部の一端だけ所定のインクに浸したのち、溝部の他端の圧力が溝部の一端（インク）の圧力よりも低くなるようにして、インクを、溝部を介して各凹部に流入させ、各凹部内のインクを硬化させることにより、上記のカラーフィルタを製造することが可能である。
【００１４】
本発明のカラーフィルタの製造方法は、以下の４つの工程を含むものである。
（Ａ）支持基材の一の面上に、複数の第１凹部と、複数の第１凹部を直列に接続する第１溝部と、複数の第２凹部と、複数の第２凹部を直列に接続する第２溝部とを有するパターン形成層を備えたパターン形成用版を用意したのち、第１溝部および第２溝部のそれぞれの両端部を雰囲気に露出させた状態で、パターン形成用版を、第１凹部および第２凹部側の表面をパターン形成用基材に向けて、パターン形成用基材の表面に密着させる第１工程
（Ｂ）第１溝部の一端である第１端部を雰囲気に露出させた状態で、第１溝部の他端である第２端部を第１色の第１インクに浸したのち、第１端部の圧力が第２端部の圧力よりも低くなるようにして、第１インクを、第１溝部を介して各第１凹部に流入させる第２工程
（Ｃ）第２溝部の一端である第３端部を雰囲気に露出させた状態で、第２溝部の他端である第４端部を第２色の第２インクに浸したのち、第３端部の圧力が第４端部の圧力よりも低くなるようにして、第２インクを、第２溝部を介して各第２凹部に流入させる第３工程
（Ｄ）各第１凹部内の第１インクおよび各第２凹部内の第２インクを硬化させたのち、パターン形成用版のうち少なくとも支持基材を剥離する第４工程
【００１５】
本発明のカラーフィルタの製造方法では、凹部同士が溝部を介して連結されたパターンを有するパターン形成用版と、パターン形成用基材とを互いに密着させた状態で、溝部の一端だけを所定のインクに浸す。その後、溝部の他端の圧力が溝部の一端（インク）の圧力よりも低くなるようにして、インクを、溝部を介して各凹部に流入させ、各凹部内のインクを硬化させる。これにより、同色の複数の凸部を一括して形成することができる。
【発明の効果】
【００１６】
本発明のカラーフィルタおよび発光装置によれば、同色の凸部同士を同色の連結部で直列に連結するようにしたので、簡易な方法で大面積化を実現することができる。
【００１７】
本発明のカラーフィルタの製造方法によれば、同色の複数の凸部を一括して形成することができるようにしたので、簡易な方法で大面積化を実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本発明の一実施の形態に係る発光装置の概略構成図である。
【図２】画素駆動回路の構成図である。
【図３】図１の発光装置の上面図である。
【図４】図１の発光装置の断面図である。
【図５】図３の発光装置の製造過程の一例を説明するための断面図である。
【図６】図５の製造過程の続きを説明するための断面図である。
【図７】図６の製造過程の続きを説明するための断面図である。
【図８】図７の製造過程の続きを説明するための断面図である。
【図９】図８の製造過程の続きを説明するための断面図である。
【図１０】図９の製造過程の続きを説明するための断面図である。
【図１１】図１の発光装置の他の例の製造過程の一例を説明するための断面図である。
【図１２】図１１の製造過程の続きを説明するための断面図である。
【図１３】図１の発光装置の他の例の上面図である。
【図１４】図１の発光装置のその他の例の上面図である。
【図１５】上記各実施の形態の発光装置を含むモジュールの概略構成を表す平面図である。
【図１６】上記各実施の形態の発光装置の適用例１の外観を表す斜視図である。
【図１７】（Ａ）は適用例２の表側から見た外観を表す斜視図であり、（Ｂ）は裏側から見た外観を表す斜視図である。
【図１８】適用例３の外観を表す斜視図である。
【図１９】適用例４の外観を表す斜視図である。
【図２０】（Ａ）は適用例５の開いた状態の正面図、（Ｂ）はその側面図、（Ｃ）は閉じた状態の正面図、（Ｄ）は左側面図、（Ｅ）は右側面図、（Ｆ）は上面図、（Ｇ）は下面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
以下、発明を実施するための形態について、図面を参照して詳細に説明する。なお、説明は以下の順序で行う。
１．実施の形態（３色のカラーフィルタを備えた発光装置の例）
２．変形例（２色のカラーフィルタを備えた発光装置の例）
３．適用例（デジタルカメラなど）
【００２０】
（概略構成）
図１は、本発明の一実施の形態に係る発光装置１の概略構成を表したものである。この発光装置１は、有機発光カラーディスプレイ装置などに用いられるものである。この発光装置１は、例えば、複数の有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂ（発光素子）がマトリクス状に配置された表示領域２０を備えている。本実施の形態では、例えば、表示領域２０において互いに隣り合う有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂが１つの画素１１を構成している。なお、以下では、有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの総称として有機ＥＬ素子１０を用いるものとする。この発光装置１は、さらに、表示領域２０の周辺に、信号線駆動回路３０、走査線駆動回路４０および電源線駆動回路５０を備えている。
【００２１】
（回路構成）
図２は、表示領域２０内の回路構成の一例を表したものである。表示領域２０内には、例えば、図２に例示したような画素駆動回路６０が形成されている。この画素駆動回路６０は、後述する駆動用基板７１に形成されたものである。この画素駆動回路６０は、例えば、駆動トランジスタＴｒ１、書き込みトランジスタＴｒ２、保持容量Ｃｓおよび有機発光素子１０によって構成されたものであり、２Ｔｒ１Ｃの回路構成となっている。駆動トランジスタＴｒ１および書き込みトランジスタＴｒ２は、例えば、ｎチャネルＭＯＳ型の薄膜トランジスタ（ＴＦＴ（Thin Film Transistor））により形成されている。ＴＦＴの種類は特に限定されるものではなく、例えば、逆スタガー構造（いわゆるボトムゲート型）であってもよいし、スタガー構造（トップゲート型）であってもよい。駆動トランジスタＴｒ１または書き込みトランジスタＴｒ２は、ｐチャネルＭＯＳ型のＴＦＴであってもよい。
【００２２】
画素駆動回路６０において、列方向には信号線ＤＴＬが複数配置され、行方向には走査線ＷＳＬおよび電源線Ｖｃｃが複数配置されている。各信号線ＤＴＬと各走査線ＷＳＬとの交差点が、有機発光素子１０のいずれか一つ（サブピクセル）に対応している。各信号線ＤＴＬは、信号線駆動回路３０に接続され、信号線駆動回路３０から信号線ＤＴＬを介して書き込みトランジスタＴｒ２のソース電極またはドレイン電極（図示せず）に画像信号が供給されるようになっている。各走査線ＷＳＬは走査線駆動回路４０に接続され、走査線駆動回路４０から走査線ＷＳＬを介して書き込みトランジスタＴｒ２のゲート電極（図示せず）に走査信号が順次供給されるようになっている。各電源線Ｖｃｃは電源線駆動回路６０に接続され、電源線駆動回路６０から電源線Ｖｃｃを介して駆動トランジスタＴｒ１のソース電極またはドレイン電極（図示せず）に電源電圧が供給されるようになっている。
【００２３】
（断面構成）
図３は、発光装置１の一部、具体的には表示領域２０の上面構成の一例を表したものである。図４（Ａ）は図３のＡ−Ａ矢視方向の断面構成の一例を、図４（Ｂ）は図３のＢ−Ｂ矢視方向の断面構成の一例をそれぞれ表したものである。発光装置１は、例えば、表示領域２０において、駆動パネル７０（発光パネル、パターン形成用基材）とリフレクタ８０とが埋め込み層９０を介して貼り合わされた構造となっている。
【００２４】
（駆動パネル７０）
駆動パネル７０は、上述した画素駆動回路６０の形成された駆動用基板７１上に、所定のピッチ（例えば２０μｍ〜１００μｍ）でマトリクス状に配置された複数の有機ＥＬ素子１０を有している。本実施の形態では、例えば、マトリクス状に配置された複数の有機ＥＬ素子１０のうち互いに隣接する３つの素子が有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂに対応しており、１つの画素１１を構成している。各有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂは、駆動用基板７１上に第１電極７２を有しており、第１電極の表面上に有機層７３、第２電極７５を駆動用基板７１側から順に有している。
【００２５】
ここで、第１電極７２は、有機層７３へ電流を注入する電極（陽極）としての機能だけでなく、後述の発光層で発生した光を反射する機能も有している。第１電極７２は、例えば、アルミニウムなどの金属によって構成されている。有機層７３は、例えば、有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂごとに異なる材料によって構成されている。有機ＥＬ素子１０Ｒにおける有機層７３（７３Ｒ）は、赤色の発光が生じる材料からなる発光層を含んでいる。有機ＥＬ素子１０Ｇにおける有機層７３（７３Ｇ）は、緑色の発光が生じる材料からなる発光層を含んでいる。有機ＥＬ素子１０Ｂにおける有機層７３（７３Ｂ）は、青色の発光が生じる材料からなる発光層を含んでいる。第２電極７５は、有機層７３および後述の絶縁膜７４の上面を含む表面全体に渡って形成されており、各有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂに対する共通の電極として機能する。第２電極７５は、例えば、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide；酸化インジウムスズ）などの透明導電膜によって構成されている。
【００２６】
駆動パネル７０は、また、互いに隣り合う有機層７３同士の間に絶縁膜７４を有している。絶縁膜７４は、第１電極７２と第２電極７５との絶縁性を確保すると共に、サブピクセルごとの開口を規定するものである。絶縁膜７４は、例えば、感光性樹脂によって構成されている。絶縁膜７４は、第１電極７２との対向領域内に開口７４Ａを有している。従って、有機層７３において、第１電極７２のうち開口７４Ａ内に露出している部分との接触部分が発光領域（図示せず）となる。開口７４Ａは、光取り出し効率の観点から、後述のリフレクタ８０の光入射側の開口８４との対向領域内に形成されていることが好ましい。
【００２７】
なお、図４（Ａ），（Ｂ）では、駆動パネル７０の上面が第２電極７５となっている場合が例示されているが、何らかの層（例えば絶縁性の保護膜）が第２電極７５上に形成されていてもよい。この絶縁性の保護膜は、光取り出し効率の観点から、有機ＥＬ素子１０の上面と後述のリフレクタ８０の開口８４との距離が封止用基板８１の厚さの半分以下となっていることが好ましい。
【００２８】
（リフレクタ８０）
リフレクタ８０は、有機ＥＬ素子１０を封止する封止用基板８１を有している。封止用基板８１は、有機ＥＬ素子１０で発生した光に対して透明なガラスなどの材料により構成されている。リフレクタ８０は、さらに、カラーフィルタ８２を有している。カラーフィルタ８２は、例えば、封止用基板８１の表面のうち有機ＥＬ素子１０の光が入射する側に設けられている。カラーフィルタ８２は、例えば、有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂのそれぞれに対応して、赤色用のフィルタ８２Ｒ、緑色用のフィルタ８２Ｇおよび青色用のフィルタ８２Ｂを有している。
【００２９】
フィルタ８２Ｒ，８２Ｇ，８２Ｂは、有機ＥＬ素子１０と同一の配列ピッチでマトリクス状に形成されており、それぞれ、有機層７３に対向して形成されている。フィルタ８２Ｒ，８２Ｇ，８２Ｂは、面内において規則的に（周期的に）配列されている。例えば、図３、図４（Ａ），（Ｂ）に示したように、フィルタ８２Ｒとフィルタ８２Ｂとが一列に交互に配置されており、さらに、フィルタ８２Ｇとフィルタ８２Ｂとが一列に交互に配置されている。
【００３０】
フィルタ８２Ｒ，８２Ｇ，８２Ｂは、顔料を混入した樹脂によってそれぞれ構成されており、顔料を選択することにより、目的とする赤、緑あるいは青の波長域における光透過率が高く、他の波長域における光透過率が低くなるように調整されている。フィルタ８２Ｒ，８２Ｇ，８２Ｂは、例えば、カラーレジストによって構成されている。
【００３１】
フィルタ８２Ｒ，８２Ｇ，８２Ｂは、さらに、有機ＥＬ素子１０から射出された光の放射角を補正することにより光取り出し効率を高める機能も有している。フィルタ８２Ｒ，８２Ｇ，８２Ｂは、例えば、図４（Ａ），（Ｂ）に示したように、有機ＥＬ素子１０の光が入射する側に突出した凸形状となっており、フィルタ８２Ｒ，８２Ｇ，８２Ｂの光入射側の面８４（有機ＥＬ素子１０側の面）が、例えば平坦面となっている。面８４の横幅（径）は、フィルタ８２Ｒ，８２Ｇ，８２Ｂの光射出側の面８５の横幅（径）よりも狭くなっており、フィルタ８２Ｒ，８２Ｇ，８２Ｂの側面８６が、例えば、放物面状となっている。つまり、フィルタ８２Ｒ，８２Ｇ，８２Ｂは封止用基板８１側から見ると、すり鉢状となっている。フィルタ８２Ｒ，８２Ｇ，８２Ｂの中心軸（図示せず）は、例えば、封止用基板８１の法線と平行となっており、かつ、面８４，８５のそれぞれの中心点（図示せず）を通過していることが好ましい。また、面８４は、面８５と対向する領域内に形成されていることが好ましい。
【００３２】
リフレクタ８０は、さらに、連結部８３を有している。連結部８３は、例えば、封止用基板８１の表面のうち有機ＥＬ素子１０の光が入射する側に設けられている。連結部８３は、例えば、フィルタ８２Ｒ，８２Ｇ，８２Ｂのそれぞれに対応して、赤色用の連結部８３Ｒ、緑色用の連結部８３Ｇおよび青色用の連結部８３Ｂを有している。
【００３３】
連結部８３Ｒは、面内の一の方向に延在して形成されており、複数のフィルタ８２Ｒに連結されている。従って、各フィルタ８２Ｒは連結部８３Ｒを介して互いに直列に接続されている。連結部８３Ｇも、面内の一の方向に延在して形成されており、複数のフィルタ８２Ｇに連結されている。従って、各フィルタ８２Ｇは連結部８３Ｇを介して互いに直列に接続されている。さらに、連結部８３Ｂも、面内の一の方向に延在して形成されており、複数のフィルタ８２Ｂに連結されている。従って、各フィルタ８２Ｂは連結部８３Ｂを介して互いに直列に接続されている。連結部８３Ｒ，８３Ｇ，８３Ｂの両端８３−１は、例えば、図４（Ａ），（Ｂ）に示したように、封止用基板８１の端縁に形成されており、リフレクタ８０の端面（図示せず）に露出している。
【００３４】
リフレクタ８０は、例えば、必要に応じて、フィルタ８２Ｒ，８２Ｇ，８２Ｂの側面８６に光反射膜（図示せず）を有していてもよい。また、リフレクタ８０は、例えば、必要に応じて、封止用基板８１と埋め込み層９０との間に、外光対策などで用いられる光吸収層（ブラックマトリックス）（図示せず）を有していてもよい。
【００３５】
埋め込み層９０は、駆動パネル７０とリフレクタ８０とを互いに貼り合わせるためのものである。この埋め込み層９０は、フィルタ８２Ｒ，８２Ｇ，８２Ｂのそれぞれの側面８６を少なくとも覆うように形成されており、例えば、図４（Ａ），（Ｂ）に示したように、フィルタ８２Ｒ，８２Ｇ，８２Ｂの側面８６および面８４に接して形成されている。埋め込み層９０は、例えば、エネルギー硬化型の透明樹脂によって構成されている。エネルギー硬化型の透明樹脂としては、例えば、熱硬化型樹脂や、紫外線硬化型樹脂などが挙げられる。なお、埋め込み層９０は、光透過層であってもよいし、光吸収層であってもよい。
【００３６】
（製造方法）
次に、本実施の形態の発光装置１の製造方法について説明する。
【００３７】
図５（Ａ）〜（Ｃ）から図１０は、発光装置１の製造方法の一例を工程順に表したものである。まず、支持基材１００の一の面上に、例えばポリイミドなどの樹脂層１１０を形成する（図５（Ａ））。次に、例えば、マスクイメージングレーザー加工法を用いて、複数の凹部１２０（第１凹部、第２凹部）をマトリクス状に形成すると共に、複数の溝部１３０（第１溝部、第２溝部）を形成する（図５（Ｂ），（Ｃ））。複数の凹部１２０は、樹脂層１１０を貫通する深さとなっており、例えば、すり鉢形状となっている。また、複数の溝部１３０は、凹部１２０の深さよりも浅く形成されている。各溝部１３０は、複数の凹部１２０のうち所定の方向に一列に並んだ複数の凹部１２０を直列（一列）に接続している。また、各溝部１３０は、支持基材１００の一の端縁（図示せず）から他の端縁（図示せず）にまで延在して形成されている。このようにして、パターン形成用版２００が形成される。
【００３８】
次に、複数の溝部１３０のそれぞれの両方の端部１３０−１を雰囲気に露出させた状態で、パターン形成用版２００を、凹部１２０側の表面を封止用基板８１（パターン形成用基材）に向けて、封止用基板８１の表面に密着させる（図６（Ａ），（Ｂ））。続いて、互いに密着させたパターン形成用版２００および封止用基板８１（以下、単に「積層基板」と称する。）を、カラーレジスト槽１５０および台座１６０に載置する（図７（Ａ），（Ｂ））。カラーレジスト槽１５０は、互いに仕切られたカラーレジスト槽１４０Ｒ，１４０Ｇ，１４０Ｂを有しており、それぞれのカラーレジスト槽１４０Ｒ，１４０Ｇ，１４０Ｂが一つずつ、溝部１３０の端部１３０−１に対応して配置されている。カラーレジスト槽１５０は、積層基板を支持する役割も有している。カラーレジスト槽１５０は、積層基板を支持しているときに、カラーレジスト槽１４０Ｒ，１４０Ｇ，１４０Ｂを積層基板の雰囲気から分離し、これらの内圧を積層基板の雰囲気の圧力とは別個に制御することが可能な構成となっている。台座１６０は、互いに密着させたパターン形成用版２００および封止用基板８１を支持するものである。
【００３９】
次に、溝部１３０の一方の端部１３０−１を雰囲気に露出させた状態で、カラーレジスト槽１４０Ｒ，１４０Ｇ，１４０Ｂ内に充填されたカラーレジスト１４１Ｒ，１４１Ｇ，１４１Ｂ（インク）に一つずつ溝部１３０の他方の端部１３０−１を浸す（図７（Ａ），（Ｂ））。次に、積層基板の雰囲気（溝部１３０の一方の端部１３０−１の雰囲気）の圧力がカラーレジスト槽１４０Ｒ，１４０Ｇ，１４０Ｂ内の圧力よりも低くなるようにする。例えば、カラーレジスト槽１４０Ｒ，１４０Ｇ，１４０Ｂ内の圧力を常圧としたうえで、積層基板の雰囲気の圧力を下げる。または、例えば、積層基板の雰囲気の圧力を常圧としたうえで、カラーレジスト槽１４０Ｒ，１４０Ｇ，１４０Ｂ内の圧力を上げる。このようにして、カラーレジスト１４１Ｒ，１４１Ｇ，１４１Ｂを、溝部１３０を介して凹部１２０に流入させ、充填する（図７（Ａ），（Ｂ））。
【００４０】
次に、例えば、パターン形成用版２００側から紫外線Ｌを照射し、カラーレジスト１４１Ｒ，１４１Ｇ，１４１Ｂを硬化させる。これにより、凹部１２０内にフィルタ８２Ｒ，８２Ｇ，８２Ｂが形成され、溝部１３０内に連結部８３Ｒ，８３Ｇ，８３Ｂが形成される（図８）。その後、支持基材１００および樹脂層１１０を剥離する（図９（Ａ），（Ｂ））。このようにして、リフレクタ８０が形成される。
【００４１】
最後に、リフレクタ８０と駆動パネル７０とを、埋め込み層９０を介して互いに接着する（図１０）。このようにして、本実施の形態の発光装置１が形成される。
【００４２】
なお、上記の製造方法において、例えば、図１１（Ａ），（Ｂ）に示したように、支持基材１００だけを剥離するようにしてもよい。そのようにした場合には、例えば、図１２に示したように、フィルタ８２Ｒ，８２Ｇ，８２Ｂの側面８６が樹脂層１１０で埋め込まれた状態で、リフレクタ８０と駆動パネル７０とを、埋め込み層９０を介して互いに接着すればよい。
【００４３】
次に、本実施の形態の発光装置１の作用、効果について説明する。
【００４４】
本実施の形態の発光装置１では、各サブピクセルに対して駆動トランジスタＴｒ１がオンオフ制御され、各サブピクセルの有機ＥＬ素子１０に駆動電流が注入されることにより、正孔と電子とが再結合して発光が起こる。この光は、第１電極７２と第２電極７５との間で多重反射し、第２電極７５、光透過部９３、フィルタ８２Ｒ，８２Ｇ，８２Ｂおよび封止用基板８１を透過して取り出される。
【００４５】
ところで、本実施の形態では、凹部１２０同士が溝部１３０を介して連結されたパターンを有するパターン形成用版２００と、封止用基板８１とを互いに密着させた状態で、溝部１３０の他端だけ所定のカラーレジスト１４１Ｒ，１４１Ｇ，１４１Ｂに浸したのち、雰囲気の圧力を下げて、カラーレジスト１４１Ｒ，１４１Ｇ，１４１Ｂを、溝部１３０を介して各凹部１２０に流入させ、各凹部１２０内のカラーレジスト１４１Ｒ，１４１Ｇ，１４１Ｂを硬化させている。これにより、同色の複数のフィルタ８２Ｒ，８２Ｇ，８２Ｂを一括して形成することができる。また、カラーレジスト１４１Ｒ，１４１Ｇ，１４１Ｂの流路に、流体バッファとして作用する凹部１２０が設けられているので、流動損失が少ない。さらに、溝部１３０の一端だけを雰囲気に曝し、雰囲気の負圧を利用して、流路内のカラーレジスト１４１Ｒ，１４１Ｇ，１４１Ｂを溝部１３０内に流入させている。これらの結果、大面積化にも対応することができる。従って、簡易な方法で大面積化を実現することができる。
【００４６】
また、従来のリソグラフィ法や印刷法を用いてフィルタ８２Ｒ，８２Ｇ，８２Ｂを形成した場合には、フィルタ８２Ｒ，８２Ｇ，８２Ｂのエッジ部分が丸みを帯びてしまう。一方、本実施の形態では、型による転写を用いてフィルタ８２Ｒ，８２Ｇ，８２Ｂを形成しているので、型の形状をフィルタ８２Ｒ，８２Ｇ，８２Ｂに効率良く転写することができる。従って、フィルタ８２Ｒ，８２Ｇ，８２Ｂの高さの均一性と、フィルタ８２Ｒ，８２Ｇ，８２Ｂの面８４の平坦性を確保することが可能となる。また、フィルタ８２Ｒ，８２Ｇ，８２Ｂに用いる材料（カラーレジスト１４１Ｒ，１４１Ｇ，１４１Ｂ）の物性を変更した場合であっても、製造条件を容易に調整し直すことができる。
【００４７】
＜変形例＞
上記実施の形態では、リフレクタ８０が、３色のフィルタ８２Ｒ，８２Ｇ，８２Ｂを有している場合が説明されていたが、２色のフィルタだけを有していてもよいし、４色以上のフィルタだけを有していてもよい。例えば図１３に示したように、リフレクタ８０が、フィルタ８２Ｒとフィルタ８２Ｂとを一列に交互に配置して構成されていてもよい。また、リフレクタ８０が、３色のフィルタ８２Ｒ，８２Ｇ，８２Ｂを有している場合に、例えば図１４に示したように、フィルタ８２Ｒ、フィルタ８２Ｇおよびフィルタ８２Ｂが一列に交互に配置されていてもよい。
【００４８】
＜モジュールおよび適用例＞
以下、上述した第１および第２の実施の形態で説明した発光装置の適用例について説明する。上記各実施の形態の発光装置は、テレビジョン装置、デジタルカメラ、ノート型パーソナルコンピュータ、携帯電話等の携帯端末装置あるいはビデオカメラなど、外部から入力された映像信号あるいは内部で生成した映像信号を、画像あるいは映像として表示するあらゆる分野の電子機器の表示装置に適用することが可能である。
【００４９】
（モジュール）
上記各実施の形態の発光装置は、例えば、図１５に示したようなモジュールとして、後述する適用例１〜５などの種々の電子機器に組み込まれる。このモジュールは、例えば、駆動用基板７１の一辺に、封止用基板８１から露出した領域２１０を設け、この露出した領域２１０に、信号線駆動回路３０、走査線駆動回路４０および電源線駆動回路５０の配線を延長して外部接続端子（図示せず）を形成したものである。外部接続端子には、信号の入出力のためのフレキシブルプリント配線基板（ＦＰＣ；Flexible Printed Circuit）２２０が設けられていてもよい。
【００５０】
（適用例１）
図１６は、上記各実施の形態の発光装置が適用されるテレビジョン装置の外観を表したものである。このテレビジョン装置は、例えば、フロントパネル３１０およびフィルターガラス３２０を含む映像表示画面部３００を有しており、この映像表示画面部３００は、上記各実施の形態に係る表示装置により構成されている。
【００５１】
（適用例２）
図１７は、上記各実施の形態の発光装置が適用されるデジタルカメラの外観を表したものである。このデジタルカメラは、例えば、フラッシュ用の発光部４１０、表示部４２０、メニュースイッチ４３０およびシャッターボタン４４０を有しており、その表示部４２０は、上記各実施の形態に係る表示装置により構成されている。
【００５２】
（適用例３）
図１８は、上記各実施の形態の発光装置が適用されるノート型パーソナルコンピュータの外観を表したものである。このノート型パーソナルコンピュータは、例えば、本体５１０，文字等の入力操作のためのキーボード５２０および画像を表示する表示部５３０を有しており、その表示部５３０は、上記各実施の形態に係る表示装置により構成されている。
【００５３】
（適用例４）
図１９は、上記各実施の形態の発光装置が適用されるビデオカメラの外観を表したものである。このビデオカメラは、例えば、本体部６１０，この本体部６１０の前方側面に設けられた被写体撮影用のレンズ６２０，撮影時のスタート／ストップスイッチ６３０および表示部６４０を有しており、その表示部６４０は、上記各実施の形態に係る表示装置により構成されている。
【００５４】
（適用例５）
図２０は、上記各実施の形態の発光装置が適用される携帯電話機の外観を表したものである。この携帯電話機は、例えば、上側筐体７１０と下側筐体７２０とを連結部（ヒンジ部）７３０で連結したものであり、ディスプレイ７４０，サブディスプレイ７５０，ピクチャーライト７６０およびカメラ７７０を有している。そのディスプレイ７４０またはサブディスプレイ７５０は、上記各実施の形態に係る表示装置により構成されている。
【００５５】
以上、実施の形態を挙げて本発明を説明したが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、種々変形が可能である。
【００５６】
例えば、上記実施の形態では、第１電極７２を陽極、第２電極７５を陰極とする場合について説明したが、陽極および陰極を逆にして、第１電極７２を陰極、第２電極７５を陽極としてもよい。
【００５７】
また、上記各実施の形態では、アクティブマトリクス型の表示装置の場合について説明したが、本発明はパッシブマトリクス型の表示装置への適用も可能である。また、アクティブマトリクス駆動のための画素駆動回路の構成は、上記各実施の形態で説明したものに限られず、必要に応じて容量素子やトランジスタを追加してもよい。その場合、画素駆動回路の変更に応じて、上述した信号線駆動回路３０や、走査線駆動回路４０、電源線駆動回路５０のほかに、必要な駆動回路を追加してもよい。
【符号の説明】
【００５８】
１…発光装置、１０，１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂ…有機ＥＬ素子、１１…画素、２０…表示領域、３０…信号駆動回路、４０…走査線駆動回路、５０…電源線駆動回路、６０…画素駆動回路、７０…駆動パネル、７１…駆動用基板、７２…第１電極、７３，７３Ｒ，７３Ｇ，７３Ｂ…有機層、７４…絶縁膜、７５…第２電極、８０…リフレクタ、８１…封止用基板、８２…カラーフィルタ、８２Ｒ，８２Ｇ，８２Ｂ…フィルタ、８３，８３Ｒ，８３Ｇ，８３Ｂ…連結部、８４，８５…面、８６…側面、９０…埋め込み層、１００…支持基材、１１０…樹脂層、１２０…凹部、１３０…溝部、１３０−１…端部、１４０Ｒ，１４０Ｇ，１４０Ｂ，１５０…カラーレジスト槽、１４１Ｒ，１４１Ｇ，１４１Ｂ…カラーレジスト、１６０…台座、２００…パターン形成用版、Ｃｓ…保持容量、ＤＴＬ…信号線、Ｌ…紫外線、Ｔｒ１，Ｔｒ２…トランジスタ、Ｖｃｃ…電源線、Ｗ１，Ｗ２…幅、ＷＳＬ…走査線。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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