(57)【要約】【課題】ＯＤＦ法により製造された液晶表示装置において、シール材の塗布始点と塗布終点の重なる接続部が太くなることを抑制した液晶表示装置を提供すること。【解決手段】対向する一対の基板１１、３１が、表示領域５０周辺の額縁領域５１に閉ループ状で配置されたシール材４０により貼り合わされ、液晶が、ＯＤＦ法により一対の基板１１、３１間に封入されている液晶表示装置１０において、一方の基板１１で、液晶が存在する側の額縁領域５１には、絶縁性の膜からなる層間膜が配置され、他方の基板３１で、液晶が存在する側の額縁領域５１には、絶縁性の膜からなるオーバーコート層が配置され、閉ループ状で配置されたシール材４０には、塗布始点と塗布終点との接続部４０ａが存在し、層間膜及びオーバーコート層の少なくとも一方には、接続部４０ａと平面視で重畳する位置に、切り欠き部３５ａが設けられている。【選択図】図１
2010145897.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
対向する一対の基板が、表示領域周辺の額縁領域に閉ループ状で配置されたシール材に
より貼り合わされ、
液晶が、液晶滴下法により前記一対の基板間に封入されている液晶表示装置において、
前記一対の基板の一方の基板で、前記液晶が存在する側の前記額縁領域には、絶縁性の
膜からなる層間膜が配置され、
前記一対の基板の他方の基板で、前記液晶が存在する側の前記額縁領域には、絶縁性の
膜からなるオーバーコート層が配置され、
前記閉ループ状で配置されたシール材には、塗布始点と塗布終点との接続部が存在し、
前記層間膜及び前記オーバーコート層の少なくとも一方には、前記接続部と平面視で重
畳する位置に、切り欠き部が設けられていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
前記切り欠き部は、層間膜及びオーバーコート層の両方に形成されていることを特徴と
する請求項1に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記切り欠き部は、平面視で前記シール材の接続部より大きく形成されていることを特
徴とする、請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記切り欠き部は、シール材の接続部より大きく形成され且つ複数のスリット状に形成
されていることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項５】
前記切り欠き部は、前記液晶表示装置の外周側が開放端側とされていることを特徴とす
る請求項１〜４のいずれかに記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は液晶滴下（One Drop Fill：以下、「ＯＤＦ」という）法を用いて製造される
液晶表示装置に関し、特に、シール材の接続部と平面視で重畳する位置の各基板の樹脂層
に切り欠き部を設けることで、両基板を貼り合せた時に部分的なシール材の太りすぎを抑
制できる液晶表示装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置に液晶を封入する方法としてＯＤＦ法がある。ＯＤＦ法は、各種配線等が
形成された二つの基板、例えばアレイ基板とカラーフィルター基板とを貼り合わせる前に
、どちらか一方の下側となった基板にシール材を閉ループ状に塗布し、その内側に液晶を
滴下し、その後、もう一方の上側となった基板を覆い被せて貼り合わせ、紫外線の照射等
によりシール材を硬化させる方法である。
【０００３】
ＯＤＦ法では、閉ループ状に塗布したシール材の内側に液晶を直接滴下して封入するた
め、液晶注入口を形成する必要がなくなる。そのため、液晶表示装置の額縁領域を狭くし
て表示領域を大きくすることができ、さらに製造工程数の簡易化を図ることができる。
【０００４】
ＯＤＦ法による液晶表示装置のシール材を塗布する際、ディスペンサーにより閉ループ
状にシール材を形成することになるが、シール材の塗布始点および塗布終点については、
他の部分に比べ吐出されるシール材の量が多くなりやすい。さらに、シール材の量が多い
この始点と終点が重なるシール材の接続部分は、両基板を貼り合せる際の圧力により、シ
ール材の幅が押し広げられ太くなってしまう。その結果、部分的にシール材の太さが大き
くなり過ぎてしまい、基板内の液晶がその周辺に溜まりやすくなり、セル厚ムラを発生さ
せ、外観不良となってしまう。
【０００５】
ＯＤＦ法を用いて製造されるシール信頼性を高めた液晶表示装置に関する発明が下記特
許文献１に開示されている。下記特許文献１に開示されている液晶表示装置は、それぞれ
の中央部に表示部が形成された２枚の基板を互いに対向して配置し、各基板とこれらの基
板間の表示部を囲むように閉ループ状に形成されたシール材とによって形成される空間内
に液晶が配置された液晶表示装置であって、シール材は、表示部の周辺を巡って閉ループ
状に、その終点端部が始点端部と交差するように形成されている。このシール材の終点端
部が始点端部と交差する部分は方形基板の４つのコーナー部の内の１つに形成され、また
、シール材の始点端部と終点端部とは互いに閉ループの外側へ延びていると共にほぼ直角
に交差するように形成されている。
【特許文献１】特開２００３−３４４８６３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上記特許文献１に開示されている液晶表示装置によれば、シール材の終点端部と始点端
部との交差部が基板のコーナー部に形成されているため、一応、シール材の重なり不足に
よるシールパンクやシール材の盛りすぎによるギャップ不良が発生せず、シール信頼性の
高い液晶表示装置が得られるとされている。しかしながら、上記特許文献１に開示された
液晶表示装置では、シール材の交差部が基板のコーナー部に形成されていても、シール材
の量がコーナー部の許容量を超えていた場合は、シール材の盛りすぎによるギャップ不良
が発生するおそれがある。また、シール材が表示領域にまで溢れ出し表示不良を起こすお
それもある。加えて、液晶表示装置のコーナー部ではシール材を塗布するディスペンサー
の制御が困難となるため、シール材の接続部をコーナー部分に形成するとシール材の接続
の確実性に欠け、シール材塗布不良の原因となるおそれが生じる。
【０００７】
本発明者らは、上記のような従来技術の問題点を解決すべく種々検討を重ねた結果、意
図的にシール材の接続部と平面視で重畳する位置の樹脂膜（例えばオーバーコート層、層
間膜など）を切り欠くことによって段差を作製すると、基板貼り合せ時のシール材の逃げ
場となるため、シール材の接続部が太くなることを抑制することができることを見出し、
本発明を完成するに至ったものである。すなわち、本発明は、ＯＤＦ法により製造された
液晶表示装置において、シール材の塗布始点と塗布終点の重なる接続部が太くなることを
抑制した液晶表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的を達成するため、本発明の液晶表示装置は、対向する一対の基板が、表示領域
周辺の額縁領域に閉ループ状で配置されたシール材により貼り合わされ、液晶が、液晶滴
下法により前記一対の基板間に封入されている液晶表示装置において、前記一対の基板の
一方の基板で、前記液晶が存在する側の前記額縁領域には、絶縁性の膜からなる層間膜が
配置され、前記一対の基板の他方の基板で、前記液晶が存在する側の前記額縁領域には、
絶縁性の膜からなるオーバーコート層が配置され、前記閉ループ状で配置されたシール材
には、塗布始点と塗布終点との接続部が存在し、前記層間膜及び前記オーバーコート層の
少なくとも一方には、前記接続部と平面視で重畳する位置に、切り欠き部が設けられてい
ることを特徴とする。
【０００９】
従来例のＯＤＦ法により液晶が注入される液晶表示装置では、シール材の塗布終点の端
部と塗布始点の端部との接続部は、シール材の塗布時に厚さが他の部分よりも厚く盛り上
がるため、二つの基板を貼り合せたときに圧力が掛かってシール材が変形しシール材の幅
が太くなってしまう。この太くなったシール材の接続部により両基板間のセルギャップム
ラの原因となったり、シール材が表示領域まで溢れだし、表示不良の原因となる。
【００１０】
しかし、本発明にかかる液晶表示装置においては、予め一対の基板に形成された層間膜
及びオーバーコート層の少なくとも一方に切り欠き部が設けられ、シール材の接続部はこ
の切り欠き部と平面視で重畳する位置に形成されている。そのため、本発明の液晶表示装
置によれば、シール材の接続部の余分な部分はこの切り込み部に流れ込むことができるの
で、シール材の部分的な太りすぎを抑制することができ、両基板間のセルギャップムラや
、表示不良を抑制することができる。なお、本発明におけるシール材の接続部とはシール
材塗布部分の始点と終点が重なる部分のことをいう。
【００１１】
また、本発明にかかる液晶表示装置においては、前記切り欠き部は、層間膜及びオーバ
ーコート層の両方に形成されていることが好ましい。
【００１２】
本発明にかかる液晶表示装置においては、余分なシール材が流れ込む切り欠き部が、一
対の基板の両側に設けられている。そのため本発明の液晶表示装置によれば、よりシール
材の太りすぎを抑制することができ、また、それぞれの切り込み部の深さを浅くできるの
で、基板に配設された配線等への影響を極力抑えることができる
【００１３】
また、本発明にかかる液晶表示装置においては、前記切り欠き部は、平面視で前記シー
ル材の接続部より大きく形成されていることが好ましい。
【００１４】
本発明にかかる液晶表示装置においては、切り欠き部は、シール材の接続部より大きく
形成されているので、余分なシール材が流れ込む場所を大きくすることができる。そのた
め、本発明の液晶表示装置によれば、切り欠き部により多くのシール材を流し込むことが
でき、基板間のセルギャップムラや表示ムラを抑制することができる。
【００１５】
また、本発明にかかる液晶表示装置においては、前記切り欠き部は、シール材の接続部
より大きく形成され且つ複数のスリット状に形成されていることが好ましい。
【００１６】
本発明にかかる液晶表示装置においては、スリット状の切り込み部がシール材の接続部
と重畳する位置に広範囲に形成されているので、シール材の接続部の形成が設定した位置
とずれてもシール材は切り込み部に流れ込むことができる。従って、本発明の液晶表示装
置によれば、シール材の接続部の形成が設定とずれが生じても、シール材の接続部の太り
すぎを抑制することができ、不良品の発生を抑制することができる。
【００１７】
また、本発明にかかる液晶表示装置においては、前記切り欠き部は、前記液晶表示装置
の外周側が開放端側とされていることが好ましい。
【００１８】
本発明の液晶表示装置では、切り欠き部は液晶表示装置の外周側が開放端側とされてい
る。液晶表示装置の製造工程には、一対の基板の一方にシール材を塗布した後、他方の基
板を貼り合わせる工程がある。この工程ではシール材の接続部は押し潰されて広がるが、
広がったシール材は、閉鎖端側はコモン配線の厚さによって堰き止められて開放端側に移
動し易くなるため、表示領域の内側に入り込み難くなる。そのため、本発明の液晶表示装
置によれば、シール材の接続部の存在によって表示画質に悪影響が生じ難くなる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、図面を参照して本発明の最良の実施形態を説明する。但し、以下に示す実施形態
は、本発明の技術思想を具体化するための液晶表示装置を例示するものであって、本発明
をこの液晶表示装置に特定することを意図するものではなく、特許請求の範囲に含まれる
その他の実施形態のものも等しく適応し得るものである。なお、この明細書における説明
のために用いられた各図面においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさ
とするため、各層や各部材毎に縮尺を異ならせて表示しており、必ずしも実際の寸法に比
例して表示されているものではない。
【００２０】
図１は本発明の実施形態１〜４にかかる液晶表示装置の平面図である。図２は１画素領
域を拡大して示した拡大平面図である。図３は図２のIII−III線で切断した要部断面図で
ある。図４は図１のIV−IV線で切断した要部断面図である。図５Ａはシール材の塗布を開
始し始めた状態を示した概略斜視図であり、図５Ｂはシール材の始点と終点を接続させた
状態を示した概略斜視図であり、図５Ｃは図５ＢのＶＣ部分の拡大図である。図６Ａは実
施形態1の液晶表示装置において図１のVI部をカラーフィルター基板を下にしてアレイ基
板を透過した拡大平面図であり、図６Ｂは図６ＡのVIB−VIB線で切断した要部断面図であ
る。図７は実施形態２の液晶表示装置における図４に対応する要部断面図である。図８Ａ
は実施形態２の液晶表示装置においてアレイ基板を下にしてカラーフィルター基板を透過
して見た図６Ａに対応する拡大平面図であり、図８Ｂは図７ＡのVIII−VIII線で切断した
図６Ｂに対応する要部断面図である。図９は実施形態３の液晶表示装置における図４に対
応する要部断面図である。図１０Ａは実施形態３の液晶表示装置においてカラーフィルタ
ー基板を下にしてアレイ基板を透過して見た図６Ａに対応する拡大平面図であり、図１０
Ｂは図８ＡのＸ−Ｘ線で切断した図６Ｂに対応する要部断面図である。図１１Ａは実施形
態４の液晶表示装置においてカラーフィルター基板を下にしてアレイ基板を透過して見た
図６Ａに対応する拡大平面図であり、図１１Ｂは図９ＡのXI−XI線で切断した図６Ｂに対
応する要部断面図である。
【００２１】
ちなみに、以下に述べるアレイ基板及びカラーフィルター基板の「表面」とは各種配線
が形成された面を示すものとする。なお、本発明に於ける液晶表示装置は、ＴＮ（Twiste
d Nematic）モード、ＶＡ（Vertical Alignment）モードあるいはＭＶＡ（Multi-domain 
Vertical Alignment）モードで駆動するいわゆる縦電界方式の液晶表示装置や、ＩＰＳ（
In-Plane Switching）モード、ＦＦＳ（Fringe Field Switching）モード等の横電界方式
の液晶表示装置にも適用可能であるが、以下においてはＴＮモードの液晶表示装置に代表
させて各実施形態の液晶表示装置を説明する。
【００２２】
［実施形態１］
実施形態１にかかる液晶表示装置１０は、図１に示すように、アレイ基板１１及びカラ
ーフィルター基板３１と、両基板１１、３１を貼り合わせるシール材４０と、アレイ基板
１１、カラーフィルター基板３１及びシール材４０により囲まれた領域に液晶ＬＣが封入
された構成を備えた、いわゆるＣＯＧ（Chip On Glass）型の液晶表示装置である。この
液晶表示装置１０においては、シール材４０により囲まれた領域が表示領域５０を形成し
ており、この表示領域５０の外周側が額縁領域５１となっている。また、実施形態１にか
かる液晶表示装置１０はＯＤＦ法で製造されたものであるため、液晶注入口は形成されて
いない。
【００２３】
アレイ基板１１は、図１〜図４に示すように、矩形状のガラス基板等からなる透明基板
１２の表面に液晶駆動用の各種配線等が形成されたものである。このアレイ基板１１は対
向配置されるカラーフィルター基板３１よりもその長手方向の長さが長く、両基板１１、
３１を貼り合わせた際に外部に延在する延在部１２ａが形成されるようになっている。こ
の延在部１２ａには駆動信号を出力するＩＣチップあるいはＬＳＩ等からなるドライバー
Ｄｒが設けられている。
【００２４】
アレイ基板１１の表示領域５０内には、図２及び図３に示すように、マトリクス状に複
数本の走査線１３及び信号線１４が形成されており、この複数本の走査線１３及び信号線
１４は、表示領域５０外まで延出され引回されてドライバーＤｒに接続されている。
【００２５】
さらに、アレイ基板の表示領域５０内には、複数本の走査線１３及び信号線１４に加え
て、複数本の走査線１３間にこの走査線１３と平行な複数本の補助容量線１５が設けられ
、この走査線１３と補助容量線１５と露出している透明基板１２を覆うようにゲート絶縁
膜１８が設けられる。そして、ソース電極Ｓ、ゲート電極Ｇ、ドレイン電極Ｄ、及び半導
体層１６からなるスイッチング素子としての薄膜トランジスター（ＴＦＴ：Thin Film Tr
ansistor）１７がゲート絶縁膜１８上に形成されている。
【００２６】
さらに、これらを覆うように表面の安定化のための無機絶縁材料からなるパッシベーシ
ョン膜１９が成膜され、さらに、アレイ基板１１の表面を平坦化するための有機絶縁材料
からなる層間膜２０が成膜されている。なお、この層間膜２０及びパッシベーション膜１
９の補助容量電極上に位置する部分には、走査線１３及び信号線１４によって囲まれた１
画素領域ＰＡごとに例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）またはＩＺＯ（Indium Zinc Oxid
e）からなる画素電極２１が設けられ、ドレイン電極Ｄと電気的に接続するためのコンタ
クトホールＣＨが設けられている。そして、これらの表面には不図示の配向膜が設けられ
、この配向膜に対してラビング処理することにより実施形態１のアレイ基板１１が形成さ
れる。なお、複数本の走査線１３及び信号線１４により囲まれた領域が１サブ画素領域Ｐ
Ａとなる。
【００２７】
また、カラーフィルター基板３１は、図３に示したように、ガラス基板等からなる第２
の透明基板３２の表面に、アレイ基板１１の走査線１３、信号線１４、コンタクトホール
ＣＨ及びＴＦＴ１７に対応する位置を被覆するように遮光膜３３が形成されている。さら
に、遮光膜３３で囲まれた第２の透明基板３２の表面には、所定の色、例えば赤（Ｒ）、
緑（Ｇ）、青（Ｂ）等のカラーフィルター層３４が形成されている。また、遮光膜３３及
びカラーフィルター層３４の表面を被覆するようにオーバーコート層３５が形成されてい
る。このオーバーコート層３５は絶縁性の透明な樹脂膜からなるものである。そしてカラ
ーフィルター基板３１の表面をできるだけ平坦にするために設けられているものである。
なお、オーバーコート層３５には一部分が切り欠かれた切り欠き部３５ａ（図６Ｂ参照）
が形成されている。
【００２８】
この切り欠き部３５ａは、後述するシール材４０の接続部４０ａと平面視で重畳する位
置に形成されているものである。図４に示すように、シール材が塗布されるカラーフィル
ター基板３１の額縁領域５１は、透明基板３２、遮光膜３３、オーバーコート層３５、配
向膜（不図示）がそれぞれ表示領域５０から延在されて積層形成されている。このオーバ
ーコート層３５の切り欠き部３５ａは公知のフォトリソグラフィー法によって形成するこ
とができる。そして、不図示の配向膜にはラビング処理が施されて実施形態１のカラーフ
ィルター基板３１が形成される。
【００２９】
次に、シール材４０の塗布について説明するが、本実施形態１では、カラーフィルター
基板３１にシール材４０を塗布する場合について説明する。シール材４０は、ディスペン
サー４１を用いてカラーフィルター基板３１上に塗布される。本実施形態１にかかる液晶
表示装置１０では、液晶注入口が形成されないので、シール材４０は閉ループ状に塗布さ
れる。そのため、このシール材４０には始点４０ｂと終点４０ｃが存在し、さらにこれら
の接合部分に接続部４０ａが形成される。なお、このシール材４０の塗布は、複数個のカ
ラーフィルター基板領域が形成されたマザー基板に対して行われるが、説明の都合上、こ
こでは１個のカラーフィルター基板領域についてのみ図示している。
【００３０】
そして、このシール材４０の接続部４０ａは上述したオーバーコート層３５の切り欠き
部３５ａと平面視で重畳する位置に形成されるようする。すなわち、図５Ａに示すように
、シール材４０の塗布始点４０ｂをオーバーコート層３５の切り欠き部３５ａ上になるよ
うにディスペンサー４１を制御して塗布を開始する。その後、表示領域５０を囲むように
閉ループ上にシール材４０を塗布し、シール材４０の終点４０ｃがオーバーコート層３５
の切り欠き部３５ａ上になるようにディスペンサー４１を制御し、図５Ｂに示すように、
シール材４０の始点４０ｂと終点４０ｃが合わさるところでシール材４０の塗布を終了さ
せる。このとき、図５Ｃに示すようにシール材４０の始点４０ｂと終点４０ｃが重なって
厚さが厚くなっている部分が接続部４０ａとなる。なお、シール材４０の接続部４０ａは
ある程度の大きさを有するため、オーバーコート層３５の切り欠き部３５ａの大きさはこ
の接続部４０ａの全てが納まるように、接続部４０ａより大きめに形成されている。
【００３１】
シール材４０の塗布が終了した後、ＯＤＦ法により液晶ＬＣを封入し、カラーフィルタ
ー基板３１を重ね、紫外線照射等によりシール材４０を硬化させて両基板１１、３１を貼
り合せる。このとき、シール材４０の始点４０ｂと終点４０ｃが重なっている接続部４０
ａが押し潰されるため、この接続部４０ａは他のシール材の部分よりも太くなる。シール
材４０に部分的に太くなった部分が存在すると、基板内の液晶がその周辺に溜まりやすく
なり、セル厚ムラを発生させ、外観不良となるおそれがある。
【００３２】
しかし、本実施形態１の液晶表示装置１０では、切り欠き部３５ａは、図６Ａに示すよ
うに、シール材４０の接続部４０ａがオーバーコート層３５の切り欠き部３５ａに全て入
り込むように大きめに形成されている。これにより、シール材４０の接続部４０ａの余分
なシール材はオーバーコート層３５の切り欠き部３５ａに流し込むことができ、さらに、
図６Ｂに示すように、接続部４０ａのシール材４０は、オーバーコート層３５の切り欠き
部３５ａに入り込んでいるので、シール材が太くなることを抑制することができる。
【００３３】
また、第１実施形態の液晶表示装置１０では、切り欠き部３５ａは液晶表示装置１０の
外周側が開放端側となるように形成されている。そのため、押し潰されて広がったシール
材４０は、閉鎖端側は切り欠かれたオーバーコート層３５の段差によって堰き止められて
開放端側に移動し易くなるので、表示領域５０の内側に入り込み難くなり、表示画質に悪
影響が生じ難くなる。
【００３４】
その後、マザー基板を個別の液晶表示装置パネルに分断し、アレイ基板１１の延在部１
２ａにドライバーＤｒ等を設置し、本実施形態にかかる液晶表示装置１０が完成する。
【００３５】
以上より、実施形態１にかかる液晶表示装置によれば、ＯＤＦ法により製造される液晶
表示装置において、意図的にシール量の多くなるシール材の接続部と平面視で重畳する位
置のオーバーコート層に切り欠き部を設け段差を作り、両基板貼り合せ時のシール材の逃
げ場を作製したので、オーバーコート層を切り欠いた箇所とそれ以外の箇所のシール材の
潰れ具合に差が出るようになる。このようにすることで、シール材の塗布始点と塗布終点
の重なる接続部が太くなることを抑制することができ、シール材の接続部の太りすぎを抑
制して不良品の発生が少ない液晶表示装置を提供することができるようになる。
【００３６】
［実施形態２］
次に、図７、図８Ａ及び図８Ｂを参照して、実施形態２にかかる液晶表示装置１０Ａに
ついて説明する。なお、実施形態２にかかる液晶表示装置１０Ａは、実施形態１にかかる
液晶表示装置１０では切り欠き部３５ａがカラーフィルター基板３１のオーバーコート層
３５に形成されているのに対し、切欠部２０ａがアレイ基板１１の層間膜２０に形成され
ていること以外は共通するので、実施形態１にかかる液晶表示装置１０と同一の構成につ
いては同一の参照符号を付与してその詳細な説明は省略する。
【００３７】
この切り欠き部２０ａは、シール材４０の接続部４０ａと平面視で重畳する位置の層間
膜２０を切り欠くことで形成されている。図７に示すように、シール材４０が塗布される
アレイ基板１１の額縁領域５１は、透明基板１２、ゲート絶縁膜１８、パッシベーション
膜１９、層間膜２０、配向膜（不図示）がそれぞれ表示領域５０から延在されて積層形成
されている。なお、図示省略するが、アレイ基板１１の額縁領域５１にはコモン配線が引
き回されている。この層間膜２０の切り欠き部２０ａは公知のフォトリソグラフィー法に
よって形成される。
【００３８】
なお、実施形態２にかかる液晶表示装置１０Ａでは、シール材４０の塗布方法は上記実
施形態１にかかる液晶表示装置１０の場合と同様であるが、シール材４０はアレイ基板１
１に塗布され、層間膜２０の切り欠き部２０ａと平面視で重畳する位置がシール材４０の
始点４０ｂ及び終点４０ｃとなり、この部分に接続部４０ａが形成される（図５Ａ〜図５
Ｃ参照）。
【００３９】
切り欠き部２０ａは、図８Ａに示すように平面図で見るとシール材４０の接続部４０ａ
が層間膜２０の切り欠き部２０ａに全て入り込むように大きめに形成されている。これに
より、シール材４０の接続部４０ａの余分なシール材は層間膜２０の切り欠き部２０ａに
流し込むことができ、さらに、図８Ｂに示す断面図によれば、切り欠き部２０ａは、層間
膜２０の切り欠き部２０ａにシール材４０が入り込んでいるので、シール材４０の太りす
ぎを抑制することができる。また、第２実施形態にかかる液晶表示装置１０Ａでは、切り
欠き部２０ａは液晶表示装置１０Ａの外周側が開放端側となるように形成されている。そ
のため、押し潰されて広がったシール材４０は、閉鎖端側は切り欠かれた層間膜２０の段
差によって堰き止められて開放端側に移動し易くなるので、表示領域５０の内側に入り込
み難くなり、表示画質に悪影響が生じ難くなる。
【００４０】
このように、実施形態２にかかる液晶表示装置でも、実施形態１にかかる液晶表示装置
と同様に、シール材の塗布始点と塗布終点の重なる接続部が太くなることを抑制すること
ができ、シール材の接続部の太りすぎを抑制して不良品の発生が少ない液晶表示装置を提
供することができるようになる。
【００４１】
［実施形態３］
次に、図９、図１０Ａ及び図１０Ｂを参照して、実施形態３にかかる液晶表示装置１０
Ｂについて説明する。なお、実施形態３にかかる液晶表示装置１０Ｂは、実施形態１にか
かる液晶表示装置１０では切り欠き部３５ａがカラーフィルター基板３１のオーバーコー
ト層３５に形成されているのに対し、実施形態２にかかる液晶表示装置１０Ｂのように、
切欠部がアレイ基板１１の層間膜２０にも形成されていること以外は共通するので、実施
形態１及び実施形態２にかかる液晶表示装置１０、１０Ａと同一の構成については同一の
参照符号を付与してその詳細な説明は省略する。
【００４２】
この実施形態３にかかる液晶表示装置１０Ｂでは、アレイ基板１１に切欠部２０ａが、
カラーフィルター基板３１に切り欠き部３５ａが形成されている。この切り欠き部２０ａ
、３５ａは、上記実施形態１及び実施形態２で述べたのと同様にシール材４０の接続部４
０ａと平面視で重畳する位置のオーバーコート層３５及び層間膜２０を切り欠くことで形
成される。額縁領域５１の各基板１１、３１の構造は図９に示すとおりである。また、こ
のオーバーコート層３５及び層間膜２０の切り欠き部２０ａ、３５ａは公知のフォトリソ
グラフィー法等によって形成される。
【００４３】
なお、シール材４０の塗布は上記実施形態１及び実施形態２と同様であるが、実施形態
３にかかる液晶表示装置１０Ｂでは、シール材４０を塗布するのは、カラーフィルター基
板３１及びアレイ基板１１のどちらか一方でよく、オーバーコート層３５及び層間膜２０
の切り欠き部２０ａ、３５ａと平面視で重畳する位置がシール材４０の始点４０ｂ及び終
点４０ｃとなり接続部４０ａが形成される（図５Ａ〜図５Ｃ参照）。
【００４４】
実施形態３にかかる液晶表示装置１０Ｂの切り欠き部３５ａ、２０ａは、図１０Ａに示
すように、シール材４０の接続部４０ａがオーバーコート層３５及び層間膜２０の切り欠
き部２０ａ、３５ａに全て入り込むように大きめに形成されている。これにより、シール
材４０の接続部４０ａの余分なシール材はオーバーコート層３５及び層間膜２０を切り欠
くことによってできた切り欠き部３５ａ、２０ａに流れ込むことができる。さらに、図１
０Ｂに示すように、オーバーコート層３５及び層間膜２０の切り欠き部３５ａ、２０ａに
シール材が入り込んでいるので、シール材の太りすぎを抑制することができる。さらに、
第３実施形態の液晶表示装置１０Ｂでは、切り欠き部２０ａ、３５ａは、液晶表示装置１
０Ｂの外周側が開放端側となるように形成されている。そのため、押し潰されて広がった
シール材４０は、閉鎖端側は切り欠かれたオーバーコート層３５及び層間膜２０の段差に
よって堰き止められて開放端側に移動し易くなるので、表示領域５０の内側に入り込み難
くなり、表示画質に悪影響が生じ難くなる。
【００４５】
すなわち、実施形態３にかかる液晶表示装置では実施形態１の液晶表示装置と同様に、
シール材の塗布始点と塗布終点の重なる接続部が太くなることを抑制することができ、シ
ール材の接続部の太りすぎを抑制して不良品の発生が少ない液晶表示装置を提供すること
ができるようになる。また、実施形態３にかかる液晶表示装置１０Ｂでは、切り欠き部３
５ａ、２０ａが両方の基板３１、１１に形成されているため、各切り欠き部３５ａ、２０
ａの深さを浅くすることができるので、特にアレイ基板にコモン配線が形成されている場
合、このコモン配線に大きな影響を与えずに済む。さらに、シール材４０の塗布は、カラ
ーフィルター基板３１及びアレイ基板１１のどちらに行ってもいいので、設計の幅が広が
り、また、製造工程の自由度が増す。
［実施形態４］
次に、図１１Ａ及び図１１Ｂを参照して、実施形態４にかかる液晶表示装置１０Ｃにつ
いて説明する。なお、実施形態４にかかる液晶表示装置１０Ｃでは、切欠部３５ｂは、実
施形態１にかかる液晶表示装置１０の切り欠き部３５ａの場合と同様に、カラーフィルタ
ー基板３１のオーバーコート層３５に形成されているが、その形状がスリット状となって
いる以外は共通するので、実施形態１にかかる液晶表示装置と同一の構成については同一
の参照符号を付与してその詳細な説明は省略する。
【００４６】
この実施形態４にかかる液晶表示装置１０Ｃの切り欠き部３５ｂは、上記実施形態１で
述べたのと同様に、シール材４０の接続部４０ａと平面視で重畳する位置のオーバーコー
ト層３５を切り欠くことで形成されるが、スリット状になっており、形成される範囲が広
く取られている。
【００４７】
この切り欠き部３５ｂが形成される額縁領域５１のカラーフィルター基板３１の構造は
、図４に示すように、上記実施形態１で述べたとおりであるので図示は省略する。また、
このオーバーコート層３５のスリット状の切り欠き部３５ｂは公知のフォトリソグラフィ
ー法等によって形成される。
【００４８】
なお、シール材４０の塗布は上記実施形態１と同様であるが、実施形態４にかかる液晶
表示装置１０Ｃでは、シール材４０はカラーフィルター基板３１に塗布され、オーバーコ
ート層３５のスリット状の切り欠き部３５ｂと平面視で重畳する位置がシール材４０の始
点４０ｂ及び終点４０ｃとなり、この部分に接続部４０ａが形成される（図５Ａ〜図５Ｃ
参照）。
【００４９】
実施形態４にかかる液晶表示装置１０Ｃに形成される切り欠き部３５ｂは、図１１Ａに
示すように、シール材４０の接続部４０ａがオーバーコート層３５のスリット状の切り欠
き部３５ｂの一部と重なるように形成されている。これにより、シール材４０の接続部４
０ａの余分なシール材４０はオーバーコート層３５に形成されたスリット状の切り欠き部
３５ｂに流し込むことができる。さらに、図１１Ｂに示すように、シール材４０は、オー
バーコート層３５のスリット状の切り欠き部３５ｂに入り込んでいるので、シール材が太
くなりすぎることを抑制することができる。また、このスリット状の切り欠き部３５ｂは
、広範囲に形成されているので、シール材４０の接続部４０ａがずれて形成されても余分
なシール材４０をスリット状の切り欠き部３５ｂに流し込むことができる。
【００５０】
さらに、第４実施形態にかかる液晶表示装置１０Ｃでは、スリット状の切り欠き部３５
ｂは液晶表示装置１０Ｃの外周側が開放端側となるように形成されている。そのため、押
し潰されて広がったシール材４０は、閉鎖端側は切り欠かれた層間膜の段差によって堰き
止められて開放端側に移動し易くなるので、表示領域５０の内側に入り込み難くなり、表
示画質に悪影響が生じ難くなる。
【００５１】
なお、実施形態４にかかる液晶表示装置１０Ｃの場合、スリット状の切り欠き部３５ｂ
にシール材４０の接続部４０ａ以外の部分が塗布されるが、シール材４０に比べて切り欠
き部３５ｂの厚さは非常に薄く、また、シール材４０にはある程度伸縮性があるので、問
題なく接着される。
【００５２】
すなわち、実施形態４の液晶表示装置では実施形態１の液晶表示装置と同様に、シール
材の塗布始点と塗布終点の重なる接続部が太くなることを抑制することができ、シール材
の接続部の太りすぎを抑制して不良品の発生が少ない液晶表示装置を提供することができ
るようになる。
【００５３】
なお、上記実施形態１〜４に述べた以外にも、例えば、両基板３１、１１にスリット状
の切り欠き部を形成することもできるし、この両基板３１、１１に形成されたスリット状
の切り欠き部の各切り欠きを平面視で重畳する位置に形成してもよく、ずらして形成して
もよい。
【００５４】
また、切り欠く樹脂層は、実施形態１〜４でのオーバーコート層及び層間膜に限らず、
他の層を切り欠いてもよく、また、各層全てについて薄く切り欠くようにしてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００５５】
【図１】本発明の実施形態１〜４にかかる液晶表示装置の平面図である。
【図２】１画素領域を拡大して示した拡大平面図である。
【図３】図２のIII−III線で切断した要部断面図である。
【図４】図１のIV−IV線で切断した要部断面図である。
【図５】図５Ａはシール材の塗布を開始し始めた状態を示した概略斜視図であり、図５Ｂはシール材の始点と終点を接続させた状態を示した概略斜視図であり、図５Ｃは図５ＢのＶC部分の拡大図である。
【図６】図６Ａは実施形態1の液晶表示装置において図１のVI部をカラーフィルター基板を下にしてアレイ基板を透過した拡大平面図であり、図６Ｂは図６ＡのVIB−VIB線で切断した要部断面図である。
【図７】実施形態２の液晶表示装置における図４に対応する要部断面図である。
【図８】図８Ａは実施形態２の液晶表示装置においてアレイ基板を下にしてカラーフィルター基板を透過して見た図６Ａに対応する拡大平面図であり、図８Ｂは図７ＡのVIII−VIII線で切断した図６Ｂに対応する要部断面図である。
【図９】実施形態３の液晶表示装置における図４に対応する要部断面図である。
【図１０】図１０Ａは実施形態３の液晶表示装置においてカラーフィルター基板を下にしてアレイ基板を透過して見た図６Ａに対応する拡大平面図であり、図１０Ｂは図８ＡのＸ−Ｘ線で切断した図６Ｂに対応する要部断面図である。
【図１１】図１１Ａは実施形態４の液晶表示装置においてカラーフィルター基板を下にしてアレイ基板を透過して見た図６Ａに対応する拡大平面図であり、図１１Ｂは図９ＡのXI−XI線で切断した図６Ｂに対応する要部断面図である。
【符号の説明】
【００５６】
１０、１０Ａ、１０Ｂ、１０Ｃ…液晶表示装置  １１…アレイ基板  １２…透明基板  
１２ａ…延在部  １３…走査線  １４…信号線  １５…補助容量線  １６…半導体層  １
７…薄膜トランジスター  １８…ゲート絶縁膜  １９…パッシベーション膜  ２０…層間
膜  ２０ａ…切り欠き部  ２１…画素電極  ３１…カラーフィルター基板  ３２…透明基
板  ３３…遮光膜  ３４…カラーフィルター層  ３５…オーバーコート層  ３５ａ…切り
欠き部  ３５ｂ…切り欠き部  ４０…シール材  ４０ｂ…始点  ４０ｃ…終点  ４０ａ…
接続部  ４１…ディスペンサー  ５０…表示領域  ５１…額縁領域  ＣＨ…コンタクトホ
ール  Ｄ…ドレイン電極  Ｇ…ゲート電極  Ｓ…ソース電極  Ｄｒ…ドライバー  ＬＣ…
液晶  ＰＡ…画素領域  
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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