(57)【要約】【課題】本発明は、埃やトナーが侵入した場合においても、従来のものに比較して出射される光ビームの光量の低下が少ないマルチビーム光走査装置、およびそれを用いた画像形成装置の提供。【解決手段】複数のレーザ光源４Ｙ等と、レーザ光源４Ｙ等から出射されたレーザ光を所定の方向に沿って走査するポリゴンミラー６と、ポリゴンミラー６によって走査されたレーザ光を収束させて感光ドラム２０Ｙ等の表面に導く光学系８と、を備え、光学系８においては、反射鏡１５、１６からなる反射鏡群１４Ｙ等が各レーザ光源４Ｙ等毎に設けられ、画像形成装置に装着された状態において、一の反射鏡群１４のほうが他の反射鏡群１４よりも反射面が上向き反射鏡１６の数が多くなるように反射鏡１５、１６が配置され、一の光学系に光ビームを出射するレーザ光源は、他の光学系に光ビームを出射するレーザ光源よりも、光強度を高く設定可能であるマルチビーム光走査装置。【選択図】図２
2010002682.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の光ビームを出射する１または複数の光源と、前記光源から出射された複数の光ビームを夫々所定の方向に沿って走査する光ビーム走査手段と、光ビーム走査手段によって走査された光ビームを収束させて感光体の表面に導く光学系と、を備え、
前記光学系においては、１または２以上の反射鏡からなる反射鏡群が光ビーム毎に設けられ、前記感光体を備える画像形成装置に装着された状態において、一の反射鏡群のほうが他の反射鏡群よりも反射面が上向き反射鏡の数が多くなるように前記反射鏡が配置され、
前記光源においては、前記一の反射鏡群に出射される一の光ビームの光強度が、前記他の反射鏡群に光ビームを出射する他の光ビームの光強度よりも高くなるように各光ビームの光強度を設定可能である
マルチビーム光走査装置。
【請求項２】
複数の光ビームを出射する１または複数の光源と、前記光源から出射された複数の光ビームを夫々所定の方向に沿って走査する光ビーム走査手段と、光ビーム走査手段によって走査された光ビームを収束させて感光体の表面に導く光学系と、を備え、
前記光学系においては、１または２以上の反射鏡からなる反射鏡群が光ビーム毎に設けられ、前記感光体を備える画像形成装置に装着された状態において、全ての光学系において反射面が上向き反射鏡の数が同一になるように前記反射鏡が配置されているマルチビーム光走査装置。
【請求項３】
複数の光ビームを出射する１または複数の光源と、前記光源から出射された複数の光ビームを夫々所定の方向に沿って走査する光ビーム走査手段と、光ビーム走査手段によって走査された光ビームを収束させて感光体の表面に導く光学系と、を備え、
前記光学系においては、１または２以上の反射鏡からなる反射鏡群が光ビーム毎に設けられ、前記反射鏡は、前記感光体を備える画像形成装置に装着された状態において、全ての反射鏡は反射面が下向きであるマルチビーム光走査装置。
【請求項４】
１本の光ビームを出射する複数の光源が設けられ、前記一の反射鏡群に光ビームを出射する一の光源は、前記他の反射鏡群に光ビームを出射する他の光源よりも、光強度を高く設定可能である請求項１に記載のマルチビーム光走査装置。
【請求項５】
１本の光ビームを出射する複数の光源が設けられている請求項２または３に記載のマルチビーム光走査装置。
【請求項６】
前記一の光源および他の光源はレーザ素子であり、前記一の光源のレーザ素子は、前記他の光源のレーザ素子よりも同一の制御電圧に対して高いレーザ出力を有する請求項４に記載のマルチビーム光走査装置。
【請求項７】
前記一の光源および他の光源は、同一の制御電圧に対するレーザ出力が同一であるレーザ素子であり、前記一の光源においては、前記他の光源よりも最大制御電圧が高く設定されている請求項４に記載のマルチビーム光走査装置。
【請求項８】
前記一の光源および他の光源は、同一の制御電圧に対するレーザ出力が同一であるレーザ素子と、前記レーザ素子からレーザ光が透過する透過率可変のフィルタとを有し、前記一の光源においては、前記他の光源よりもフィルタの最大透過率が高くなるようにフィルタの透過率が制御される請求項４に記載のマルチビーム光走査装置。
【請求項９】
複数の感光体と、
前記感光体を夫々異なる光ビームで照射して前記感光体の表面に潜像を形成する請求項１〜８の何れか１項に記載のマルチビーム光走査装置と、
前記マルチビーム光走査装置で前記感光体の表面に形成された潜像をトナーで現像してトナー像を形成する現像装置と、
前記現像装置によって感光体の表面に形成されたトナー像を記録媒体に転写、定着させる転写定着装置と、
を有する画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、マルチビーム光走査装置および画像形成装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、電子写真式のフルカラー画像形成装置が広く使用されているが、電子写真式のフルカラー画像形成装置においては、イエロー（Ｙ）、マゼンタ（Ｍ）、シアン（Ｃ）、およびクロ（Ｋ）の各色について感光ドラムのような感光体を設けることが一般的である。そして、前記感光体は、夫々別個の光ビームで独立に照射される。そこで、フルカラー画像形成装置においては、感光体を照射するのにマルチビーム光走査装置が使用される。
【０００３】
マルチビーム光走査装置は、光ビームを出射する複数の光源と、光ビームを所定の方向に沿って走査するポリゴンミラーのような光ビーム走査手段と、光ビーム走査手段で走査された光ビームを収束させて所定の感光体の表面に導く光学系とを備えている。
【０００４】
ここで、フルカラー画像形成装置のような電子写真式の画像形成装置においては、外部から進入した埃やトナー交換時にトナーカートリッジから漏れたトナーが画像形成中に内部を浮遊することがある。
【０００５】
画像形成装置の内部を浮遊する埃やトナーがマルチビーム光走査装置の内部に侵入すると、埃やトナーは、前記マルチビーム光走査装置の光学系を構成する反射鏡などに付着し、マルチビーム光走査装置から出射する光ビームの出力が低下する。しかも、前記埃やトナーは、全ての光学系に均等に付着するわけでないから、光ビームの強度の低下の度合いは、光学系ごとに異なる。したがって、フルカラー画像を形成する際に、画像の濃度が低下するだけでなく、Ｙ、Ｍ、Ｃ，Ｋの各色間のバランスが悪くなると言う問題もある。
【０００６】
そこで、マルチビーム光走査装置全体を筐体に収納し、筐体の本体と蓋とをシーリングして埃やトナーが侵入しないようにしたり、マルチビーム光走査装置の中の重要部品をそれ以外の部品から隔離したりしていた。
【０００７】
このようなマルチビーム光走査装置としては、偏向器および光学系を収納する光学箱と、光学箱のカバー部材とを備えた光学偏向装置において、光学箱に光学箱リブを形成し、カバー部材にはカバー部材リブを形成し、光学箱リブとカバー部材リブとを互いに重なり合うように近接して設けたものがある（特許文献１）。
【特許文献１】特開平７−６８８３６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、マルチビーム光走査装置を収納する筐体の本体と蓋との隙間から埃やトナーが侵入しないようにするためには、接着剤や粘着テープで厳重に目張りを行う必要がある。
【０００９】
また、光学箱とそのカバーとにリブを設けて両者が互いに重なり合うようにしても、リブの間の隙間を完全にゼロにすることは殆ど不可能である。
【００１０】
また、マルチビーム光走査装置を外部に電気的に接続するハーネスを通すための開口部、光ビームが出射する窓部と筐体との間の隙間、筐体の蓋のアンダーカット部など、筐体や蓋には空気が流れる隙間が多数存在している。そして、前記隙間を完全に目張りすることは殆ど不可能である。
【００１１】
更に、近年は、低コスト化の観点から、マルチビーム光走査装置を収納する筐体そのものを廃止することも検討されている。
【００１２】
本発明は、上記問題を解決すべく成されたもので、埃やトナーが侵入した場合においても、従来のものに比較して出射される光ビームの光量の低下が少ないマルチビーム光走査装置、およびそれを用いた画像形成装置の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
請求項１に記載の発明は、複数の光ビームを出射する１または複数の光源と、前記光源から出射された複数の光ビームを夫々所定の方向に沿って走査する光ビーム走査手段と、光ビーム走査手段によって走査された光ビームを収束させて感光体の表面に導く光学系と、を備え、前記光学系においては、１または２以上の反射鏡からなる反射鏡群が光ビーム毎に設けられ、前記感光体を備える画像形成装置に装着された状態において、一の反射鏡群のほうが他の反射鏡群よりも反射面が上向き反射鏡の数が多くなるように前記反射鏡が配置され、前記光源においては、前記一の反射鏡群に出射される一の光ビームの光強度が、前記他の反射鏡群に光ビームを出射する他の光ビームの光強度よりも高くなるように各光ビームの光強度を設定可能であるマルチビーム光走査装置に関する。
【００１４】
請求項２に記載の発明は、複数の光ビームを出射する１または複数の光源と、前記光源から出射された複数の光ビームを夫々所定の方向に沿って走査する光ビーム走査手段と、光ビーム走査手段によって走査された光ビームを収束させて感光体の表面に導く光学系と、を備え、前記光学系においては、１または２以上の反射鏡からなる反射鏡群が光ビーム毎に設けられ、前記感光体を備える画像形成装置に装着された状態において、全ての光学系において反射面が上向き反射鏡の数が同一になるように前記反射鏡が配置されているマルチビーム光走査装置に関する。
【００１５】
請求項３に記載の発明は、複数の光ビームを出射する１または複数の光源と、前記光源から出射された複数の光ビームを夫々所定の方向に沿って走査する光ビーム走査手段と、光ビーム走査手段によって走査された光ビームを収束させて感光体の表面に導く光学系と、を備え、前記光学系においては、１または２以上の反射鏡からなる反射鏡群が光ビーム毎に設けられ、前記反射鏡は、前記感光体を備える画像形成装置に装着された状態において、全ての反射鏡は反射面が下向きであるマルチビーム光走査装置に関する。
【００１６】
請求項４に記載の発明は、請求項１に記載のマルチビーム光走査装置において、１本の光ビームを出射する複数の光源が設けられ、前記一の反射鏡群に光ビームを出射する一の光源は、前記他の反射鏡群に光ビームを出射する他の光源よりも、光強度を高く設定可能であるものに関する。
【００１７】
請求項５の発明は、請求項２または３に記載のマルチビーム光走査装置において、１本の光ビームを出射する複数の光源が設けられているものに関する。
【００１８】
請求項６に記載の発明は、請求項１に記載のマルチビーム光走査装置において、前記一の光源および他の光源がレーザ素子であり、前記一の光源のレーザ素子が、前記他の光源のレーザ素子よりも同一の制御電圧に対して高いレーザ出力を有するものに関する。
【００１９】
請求項７に記載の発明は、請求項４に記載のマルチビーム光走査装置において、前記一の光源および他の光源が同一の制御電圧に対するレーザ出力が同一であるレーザ素子であり、前記一の光源においては、前記他の光源よりも最大制御電圧が高く設定されているものに関する。
【００２０】
請求項８に記載の発明は、請求項４に記載のマルチビーム光走査装置において、前記一の光源および他の光源が、同一の制御電圧に対するレーザ出力が同一であるレーザ素子と、前記レーザ素子からレーザ光が透過する透過率可変のフィルタとを有し、前記一の光源においては、前記他の光源よりもフィルタの最大透過率が高くなるようにフィルタの透過率が制御されるものに関する。
【００２１】
請求項９に記載の発明は、複数の感光体と、前記感光体を夫々異なる光ビームで照射して前記感光体の表面に潜像を形成する請求項１〜８の何れか１項に記載のマルチビーム光走査装置と、前記マルチビーム光走査装置で前記感光体の表面に形成された潜像をトナーで現像してトナー像を形成する現像装置と、前記現像装置によって感光体の表面に形成されたトナー像を記録媒体に転写、定着させる転写定着装置と、を有する画像形成装置に関する。
【発明の効果】
【００２２】
請求項１に記載の発明においては、一の光学系のほうが他の光学系よりも反射面が上向き反射鏡の数が多くなるが、反射面が上方を向いている反射鏡は、反射面が下方を向いている反射鏡よりも、反射面に付着する埃やトナーの量が多くなり、反射面における反射率が低下する。このような場合には、前記一の光ビームの光強度が前記他の光ビームの光強度よりも高くなるように光源を設定することにより、一の光学系における反射率の低下を相殺して、一の光学系を通って一の感光体に出射される光の強度と、他の光学系を通って他の感光体に出射される光の強度とが実質的に同一になるように光強度が補償される。
【００２３】
これにより、マルチビーム光走査装置を収納する筐体が不要になり、また、マルチビーム光走査装置を筐体に収納する場合においても、従来のマルチビーム光走査装置の場合と比較して筐体の本体と蓋との間の目張りの厳重さの度合いを緩やかにすることができる。したがって、コストダウンが可能になる。
【００２４】
請求項２に記載の発明においては、全ての光学系において反射面が上向き反射鏡の数を同一としているから、全ての光学系から同一の強度の光が出射される。
【００２５】
請求項３の発明においては、全ての光学系において、反射鏡は反射面が下向きように配設されているから、光学系において反射鏡の反射面が上方を向いている場合と比較して反射面への埃やトナーの付着が少なくなる。したがって、マルチビーム光走査装置において、反射鏡の反射面に埃やトナーが付着することによる反射率の低下を抑えることができるから、マルチビーム光走査装置を収納する筐体が不要になり、また、マルチビーム光走査装置を筐体に収納する場合においても、従来のマルチビーム光走査装置の場合と比較して筐体の本体と蓋との間の目張りの厳重さの度合いを緩やかにすることができる。したがって、コストダウンが可能になる。
【００２６】
請求項４の発明によれば、請求項１の発明において光ビーム毎に光源が設けられているから、各光源の光出力を調整することにより、各光ビームの光強度の高低を設定できる。
【００２７】
請求項５の発明によれば、請求項２または３の発明において光ビーム毎に光源が設けられているから、各光源の光出力を調整することにより、各光ビームの光強度が同一になるように各光ビームの光強度を調節できる。
【００２８】
請求項６の発明によれば、一の光源では、他の光源よりも、同一の制御電圧に対応するレーザ出力の高いレーザ素子を用いているから、出射光の光強度をより高区設定できる。したがって、一の光学系から出射される光ビームの強度が低下したときは、一の光源における光出力が他の光源における光出力よりも高くなるように前記一の光源と他の光源とを制御することにより、一の光学系を通って出射される光ビームの強度の低下を補償することができる。
【００２９】
請求項７の発明においては、一の光源および他の光源として同一の制御電圧に対するレーザ出力が同一であるレーザ素子を使用しているが、レーザ素子においては、制御電圧とレーザ光との強度とは通常正比例する。そして、一の光源においては他の光源よりも最大制御電圧が高く設定されているから、光ビームの強度もより高く設定できる。したがって、一の光源から一の光学系を通って出射される光ビームの強度が低下したときは、一の光源における制御電圧を他の光源よりも高く設定することにより、前記光ビームの強度低下を補償できる。
【００３０】
請求項８の発明によれば、一の光源と他の光源として同一の制御電圧に対するレーザ素子の出力は同一なレーザ素子を用いているが、透過率の可変菜フィルタを用いて光ビームの強度が変えられるようになっている。そして、前記一の光源においては、前記他の光源よりもフィルタの最大透過率が高くなるようにフィルタの透過率が制御される。
【００３１】
したがって、一の光源から光学系を通って出射される光ビームの強度が低下したときは、前記一の光源におけるフィルタの透過率を他の光源のフィルタの透過率よりも高くなるように制御することにより、一の光学系から出射される光ビームの強度低下を補償できる。
【００３２】
請求項９の発明によれば、長期間に亘る使用によって一の感光体に照射される光強度の低下が、他の感光体に比べて極端に大きくなることが抑止されるから、得られる画像の色彩バランスが大きく崩れることが効果的に防止される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３３】
１．実施形態１
【００３４】
以下、本発明のマルチビーム光走査装置の一例について説明する。
【００３５】
実施形態１に係るマルチビーム光走査装置１００は、図１および図２に示すように、Ｙ、Ｃ、Ｍ、Ｋの各色に対応する光源であるレーザ光源４Ｙ、４Ｍ、４Ｃ、４Ｋと、軸線の回りに回転してレーザ光源４Ｙ、４Ｍ、４Ｃ、４Ｋの夫々から出射されたレーザ光Ｌｙ、Ｌｍ、Ｌｃ、Ｌｋを水平方向に走査する光ビーム走査手段であるポリゴンミラー６と、ポリゴンミラー６で走査されたレーザ光Ｌｙ、Ｌｍ、Ｌｃ、Ｌｋを収束させて画像形成装置の感光ドラム２０Ｙ、２０Ｃ、２０Ｍ、２０Ｋ（感光体）の表面に導く光学系８と、レーザ光源４Ｙ、４Ｍ、４Ｃ、４Ｋ、ポリゴンミラー６、および光学系８が固定された基台２と、基台２上に固定されたレーザ光源４Ｙ、４Ｍ、４Ｃ、４Ｋ、ポリゴンミラー６、および光学系８を覆蓋する筐体１０とを備える。基台２には、レーザ光Ｌｙ、Ｌｍ、Ｌｃ、Ｌｋが透過するためのスリット２Ｙ、２Ｍ、２Ｃ、２Ｋが設けられている。
【００３６】
光学系８は、レーザ光Ｌｙ、Ｌｍ、Ｌｃ、Ｌｋを収束させるｆ-θレンズ系１２と、ｆ-θレンズ系１２で収束されたレーザ光Ｌｙを感光ドラム２０Ｙ表面に導く反射鏡群１４Ｙと、ｆ-θレンズ系１２で収束されたレーザ光Ｌｍを感光ドラム２０Ｍ表面に導く反射鏡群１４Ｍと、ｆ-θレンズ系１２で収束されたレーザ光Ｌｃを感光ドラム２０Ｃ表面に導く反射鏡群１４Ｃと、ｆ-θレンズ系１２で収束されたレーザ光Ｌｋを感光ドラム２０Ｙ表面に導く反射鏡群１４Ｋとを備える。なお、図１においては、反射鏡群１４Ｙ、１４Ｍ、１４Ｃ、１４Ｋは省略されている。
【００３７】
反射鏡群１４Ｙ、反射鏡群１４Ｍ、反射鏡群１４Ｃは、マルチビーム光走査装置１００を画像形成装置に装着した状態で反射面が下向きになる反射鏡１５が１枚と前記状態で反射面が上向きになる反射鏡１６が１枚とで構成されている。そして反射鏡群１４Ｋは前記状態において反射面が下向きになる１枚の反射鏡１５のみからなる。ここで、図５の（Ａ）、（Ｂ）、および図６に示すように、直上方を向いた面の位置を０度とし、反時計回り方向の角度を正の角度とするとき、直上方を向いた面に対して反射面の角度が９０より大きく２７０度より小さな反射鏡を「下向き」の反射鏡といい、反射鏡の角度が−９０度より大きく＋９０度より小さな反射鏡を「上向き」の反射鏡という。なお、マルチビーム光走査装置１００は、図２に示すように基台２が水平且つ下側になるように画像形成装置に装着される。
【００３８】
このように、反射鏡群１４Ｙ、反射鏡群１４Ｍ、反射鏡群１４Ｃは夫々上向きの反射鏡１６を１枚ずつ有するのに対し、反射鏡群１４Ｋは上向きの反射鏡１６を有しないので、反射鏡群１４Ｙ、反射鏡群１４Ｍ、反射鏡群１４Ｃにレーザ光を出射するレーザ光源４Ｙ、４Ｍ、４Ｃは、何れも反射鏡群１４Ｋにレーザ光を出射するレーザ光源４Ｋよりも出力光の強度を高く設定できるように構成されている。
【００３９】
具体的には、例えば図７に示すように、レーザ光源４Ｙ、４Ｍ、４Ｃ、４Ｋとして、制御電圧と光出力との関係が同一であるレーザ素子を用い、レーザ光源４Ｙ、４Ｍ、４Ｃについては最大制御電圧を５Ｖに設定し、レーザ光源４Ｋについては最大制御電圧を２．５Ｖに設定する。そして、通常は、レーザ光源４Ｙ、４Ｍ、４Ｃ、４Ｋのいずれも０．５〜２．５Ｖの範囲の制御電圧で駆動するが、レーザ光源４Ｙ、４Ｃ、４Ｍの光出力が低下したときには制御電圧の制御範囲を０．５〜５Ｖに増大させて光出力を回復させる。これにより、レーザ光源４Ｙ、４Ｃ、４Ｍ、４Ｋとして制御電圧が２Ｖのときの光出力が２ｍＷのものを用いた場合において、長期に亘る使用によって、レーザ光源４Ｙ、４Ｃ、４Ｍにおいて制御電圧２Ｖのときの出射光の強度が２ｍＷから１．５ｍＷに低下したときは、制御電圧の制御幅を０．５〜２．５Ｖから０．５〜５Ｖに増大させることにより、図９に示すように、制御電圧を２．５Ｖよりも高い２．６６Ｖに増大させてレーザ光源４Ｙ、４Ｃ、４Ｍの光出力をレーザ光源４Ｋと同様の２ｍＷまで回復させることができる。なお、レーザ光源４Ｙ、４Ｃ、４Ｍからの出射光の強度は、前記出射光の強度を光ダイオードなどによって直接に測定することによって求めてもよいが、感光ドラム２０Ｙ、２０Ｍ、２０Ｃの表面に付着するトナーの量を求め、前記トナーの量が減少したことを以って前記出射光の強度が低下したものと判定してもよい。
【００４０】
レーザ光源４Ｙ、４Ｍ、４Ｃの出力光の光強度をレーザ光源４Ｋの出力光の光強度よりも高く設定できるようにした例としては、他に、レーザ光源４Ｙ、４Ｍ、４Ｃとして、レーザ光源４Ｋとして使用されたレーザ素子に比較して同一の制御電圧に対する光強度が高いレーザ素子を用いた構成がある。前記構成の例としては、図８に示すようにレーザ光源４Ｙ、４Ｍ、４Ｃとして制御電圧５Ｖに対する光出力が５ｍＷのレーザ素子を、レーザ光源４Ｋとして制御電圧５Ｖに対する光出力が２．５ｍＷのレーザ素子を用い、何れも制御電圧を０．５〜５Ｖの範囲に設定した構成がある。図８に示す構成においては、通常は、レーザ光源４Ｙ、４Ｍ、４Ｃは制御電圧の制御範囲を０．５〜１．２５Ｖの範囲に設定し、レーザ光源４Ｋについては制御電圧の範囲を０．５〜２．５Ｖの範囲に設定する。これにより、レーザ光源４Ｙ、４Ｍ、４Ｃにおける光強度とレーザ光源４Ｋにおける光強度とが等しくなる。そして、レーザ光源４Ｙ、４Ｃ、４Ｍからの出力光の強度が図９に示すように２ｍＷから１．５ｍＷに低下したときには、レーザ光源４Ｙ、４Ｃ、４Ｍの制御電圧を２Ｖから２．６６Ｖに増大させて出力光の強度を２ｍＷまで回復させる。
【００４１】
更に、レーザ光源４Ｙ、４Ｍ、４Ｃ、４Ｋを、光出力の同一なレーザ素子と、前記レーザ素子からのレーザ光が透過するフィルタとを有する構成とすることも可能である。
【００４２】
前記フィルタは、レーザ素子からのレーザ光の光路に交差するとともに、面方向に沿って移動可能に設けられている。そして、移動方向の一端から他端に向かってレーザ光の透過率が１００％から０％まで連続的に低下するように形成されている。
【００４３】
前記レーザ光源４Ｙ、４Ｍ、４Ｃ、４Ｋにおいては、レーザ光の透過率が増大する方向
にフィルタを移動させることによって、出射されるレーザ光の光強度を増大させ、レーザ光の透過率が減少する方向にフィルタを移動させることによって、出射されるレーザ光の光強度を減少させることができる。
【００４４】
２．実施形態２
【００４５】
以下、本発明のマルチビーム光走査装置の別の例について説明する。
【００４６】
実施形態２に係るマルチビーム光走査装置１０２においては、図３に示すように、光学系８を構成する反射鏡群１４Ｙ、１４Ｍ、１４Ｃ、１４Ｋの何れも、上向きの反射鏡１６と下向きの反射鏡１５とを夫々１枚ずつ有している。また、レーザ光源４Ｙ、４Ｍ、４Ｃ、４Ｋとして、制御電圧と光出力との関係が同一のレーザ素子を用いている。
【００４７】
上記の点を除いては、マルチビーム光走査装置１０２は、実施形態１に係るマルチビーム光走査装置と同一の構成を有している。
【００４８】
３．実施形態３
【００４９】
以下、本発明のマルチビーム光走査装置の更に別の例について説明する。
【００５０】
実施形態2に係るマルチビーム光走査装置１０４においては、図４に示すように、光学系８を構成する反射鏡群１４Ｙ、１４Ｍ、１４Ｃ、１４Ｋの何れも、下向きの反射鏡１５のみから構成されている。また、レーザ光源４Ｙ、４Ｍ、４Ｃ、４Ｋとして、制御電圧と光出力との関係が同一のレーザ素子を用いている。
【００５１】
上記の点を除いては、マルチビーム光走査装置１０２は、実施形態１に係るマルチビーム光走査装置と同一の構成を有している。
【００５２】
以上、レーザ光Ｌｙ、Ｌｍ、Ｌｃ、Ｌｋ毎にレーザ光源４Ｙ、４Ｍ、４Ｃ、４Ｋを設けたマルチビーム光走査装置について説明したが、本願発明は、前記形態のマルチビーム光走査装置には限定されない。
本願発明のマルチビーム光走査装置としては、他に、１個のレーザ光源から４本のレーザ光Ｌｙ、Ｌｍ、Ｌｃ、Ｌｋを出射する形態や、レーザ光源を２つ備え、一のレーザ光源からはレーザ光Ｌｙ、Ｌｍ、Ｌｃを、他のレーザ光源からはレーザ光Ｌｋを出射する形態、レーザ光源を２つ備え、一のレーザ光源からはレーザ光Ｌｙ、Ｌｍを、他のレーザ光源からはレーザ光Ｌｃ、Ｌｋを出射する形態を包含する。
更に、レーザ光源を３つ備え、第１のレーザ光源からはレーザ光Ｌｙ、Ｌｍを、第２のレーザ光源からはレーザ光Ｌｃを、第３のレーザ光源からはレーザ光Ｌｋを出射する形態も本発明のマルチビーム光走査装置に包含される。
【図面の簡単な説明】
【００５３】
【図１】図１は、実施形態１に係るマルチビーム光走査装置の内部の構成の概略を示す略平面図である。
【図２】図２は、実施形態１に係るマルチビーム光走査装置を基台に垂直な面に沿って切断した断面を示す概略断面図である。
【図３】図３は、実施形態２に係るマルチビーム光走査装置を基台に垂直な面に沿って切断した断面を示す概略断面図である。
【図４】図４は、実施形態３に係るマルチビーム光走査装置を基台に垂直な面に沿って切断した断面を示す概略断面図である。
【図５】図５は、実施形態１〜３に係るマルチビーム光走査装置における反射鏡の上向きの定義を示す説明図である。
【図６】図６は、実施形態１〜３に係るマルチビーム光走査装置における反射鏡の下向きの定義を示す説明図である。
【図７】図７は、実施形態１に係るマルチビーム光走査装置のＹ、Ｃ、Ｍに対応するレーザ光源において、Ｋに対応するレーザ光源よりも制御電圧の制御幅を広く設定することにより、出射されるレーザ光の光強度を高く設定可能とすることを示すグラフである。
【図８】図８は、実施形態１に係るマルチビーム光走査装置のＹ、Ｃ、Ｍに対応するレーザ光源において、Ｋに対応するレーザ光源よりも、同一の制御電圧に対するレーザ光の強度の高いレーザ素子を用いることにより、出射されるレーザ光の光強度を高く設定可能とすることを示すグラフである。
【図９】図９は、Ｙ、Ｃ、Ｍに対応するレーザ光源において、出射光の強度が低下したときに、制御電圧を上昇させて出射光の強度を回復させる手順を示す説明図である。
【符号の説明】
【００５４】
２    基台
２Ｙ  スリット
２Ｍ  スリット
２Ｃ  スリット
２Ｋ  スリット
４Ｙ  レーザ光源
４Ｍ  レーザ光源
４Ｃ  レーザ光源
４Ｋ  レーザ光源
６    ポリゴンミラー
８    光学系
１０  筐体
１２  レンズ系
１４Ｙ      反射鏡群
１４Ｍ      反射鏡群
１４Ｃ      反射鏡群
１４Ｋ      反射鏡群
１５  反射鏡
１６  反射鏡
２０Ｙ      感光ドラム
２０Ｍ      感光ドラム
２０Ｃ      感光ドラム
２０Ｋ      感光ドラム
１００      マルチビーム光走査装置
１０２      マルチビーム光走査装置
１０４      マルチビーム光走査装置
【図１】
2010002682.tif 000003
【図２】
2010002682.tif 000004
【図３】
2010002682.tif 000005
【図４】
2010002682.tif 000006
【図５】
2010002682.tif 000007
【図６】
2010002682.tif 000008
【図７】
2010002682.tif 000009
【図８】
2010002682.tif 000010
【図９】
2010002682.tif 000011