(57)【要約】【課題】  属性情報を持たない情報の参照または利用を簡便に行えるようにすること。【解決手段】  基板を露光する露光装置により生成されて記憶部に記憶された情報を処理する情報処理装置（２００）であって、基板に対応して露光装置が実施した第１の処理の期間に含まれる時刻の情報を含む第１の情報と、記憶部から第２の情報を抽出する上記時刻に関する条件の情報とが入力される入力部（２４０）と、入力部から入力された第１の情報と条件の情報とに基づいて、第２の情報を記憶部から抽出する抽出部（２３０）と、抽出部により抽出された第２の情報を第１の情報と対応させて出力する出力部（２５０）と、を有する情報処理装置とする。【選択図】  図２
2010109273.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を露光する露光装置により生成されて記憶部に記憶された情報を処理する情報処理装置であって、
前記基板に対応して前記露光装置が実施した第１の処理の期間に含まれる時刻の情報を含む第１の情報と、前記記憶部から第２の情報を抽出する前記時刻に関する条件の情報とが入力される入力部と、
前記入力部から入力された前記第１の情報と前記条件の情報とに基づいて、前記第２の情報を前記記憶部から抽出する抽出部と、
前記抽出部により抽出された前記第２の情報を前記第１の情報と対応させて出力する出力部と、
を有することを特徴とする情報処理装置。
【請求項２】
前記第１の情報は、前記基板に対応して前記露光装置が実施した第１の処理の内容を特定する情報と前記第１の処理が実施された時刻の情報とを含み、
前記第２の情報は、前記基板に対応せずに前記露光装置が実施した第２の処理に関する情報を含む、
ことを特徴とする請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項３】
前記第１の処理は、前記基板に対応して前記露光装置が実施した、前記露光装置に含まれるユニットのキャリブレーションを含み、
前記第２の処理は、前記露光装置がリセットされて又は前記露光装置がキャリブレーションコマンドに応じて実施したキャリブレーションを含む、
ことを特徴とする請求項２に記載の情報処理装置。
【請求項４】
前記第２の情報は、前記露光装置がリセットされて又は前記露光装置がキャリブレーションコマンドに応じて実施したキャリブレーションの結果の情報を含む、
ことを特徴とする請求項３に記載の情報処理装置。
【請求項５】
前記第２の情報は、前記第１の処理の属性情報を含む、
ことを特徴とする請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項６】
前記第１の処理は、前記基板に対して前記露光装置が実施した計測処理を含み、
前記第２の情報は、前記基板を特定する情報と、前記計測処理の開始時刻および終了時刻の少なくとも一方の情報とを含む、
ことを特徴とする請求項１又は５に記載の情報処理装置。
【請求項７】
前記抽出する条件は、前記時刻に最も近い過去の時刻および前記時刻に最も近い未来の時刻の少なくとも一方に前記第２の情報に対応する時刻を制限するものである、ことを特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載の情報処理装置。
【請求項８】
前記出力部は、前記第１の処理に関する、時間軸を有するグラフを表示し、
前記入力部は、前記出力部に表示された前記グラフ上の位置の指定により前記時刻の情報が入力される、
ことを特徴とする請求項１および５乃至７のいずれかに記載の情報処理装置。
【請求項９】
基板を露光する露光装置であって、
請求項１乃至８のいずれかに記載の情報処理装置
を有することを特徴とする露光装置。
【請求項１０】
請求項８に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
前記工程で露光された基板を現像する工程と、
を有することを特徴とするデバイスの製造方法。
【請求項１１】
基板を露光する露光装置により生成されて記憶部に記憶された情報を処理する情報処理方法であって、
前記基板に対応して前記露光装置が実施した第１の処理の期間に含まれる時刻の情報を含む第１の情報と、前記記憶部から第２の情報を抽出する前記時刻に関する条件の情報とが入力される入力工程と、
前記入力工程で入力された前記第１の情報と前記条件の情報とに基づいて、前記第２の情報を前記記憶部から抽出する抽出工程と、
前記抽出工程で抽出された前記第２の情報を前記第１の情報と対応させて出力する出力工程と、
を有することを特徴とする情報処理方法。
【請求項１２】
基板を露光する露光装置により生成されて記憶部に記憶された情報を処理する請求項１１に記載の情報処理方法の各工程をコンピュータに実行させることを特徴とするプログラム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光装置で生成された情報を処理する情報処理に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体デバイスなどの微細デバイスを製造するために、露光装置は高い解像力や重ね合わせ精度が要求される。そのため、露光装置は、ユニットのキャリブレーションや、レチクルとウエハ上のショットとの高精度なアライメントが必要である。キャリブレーションは、露光処理を行なう前等に、露光装置の状態変化に対応すべく実施される。
【０００３】
近年、情報処理技術が進み、露光処理過程で生成される情報が収集しやすくなったことで、その情報により、装置の異常検知や状態診断、異常の原因分析などを行うことが求められている。このような情報分析を行なう際は、関連する様々な情報を照らし合わせて分析を行なう。関連する情報を抽出しやすくする為、属性情報を付けて記録することが行なわれている。露光装置は、一枚のウエハに複数のショットを設定し、パターンの転写をショット単位で行なう。このプロセスを１または複数のウエハで構成されるロットを単位として実施する。そのため、プロセス・ロット・ウエハ・ショット・品名などを特定する情報を属性情報として記録することが一般的に行なわれている。
【０００４】
露光装置の時系列情報の分析においては、属性情報を参照したり、属性情報から関連する情報を参照したりすることが行なわれている。また、露光装置に限らず、時系列情報の分析において、関連する情報を検索する技術が知られている（特許文献１）。さらに、表示されたグラフ中の各要素に関連する情報を効率的に表示する技術が知られている（特許文献２）。
【特許文献１】特開２０００−１８１７５９号公報
【特許文献２】特開２００５−２５８５４８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかし、露光装置において、全ての情報が上述の属性情報を持つとは限らない。このため、属性情報を持たない情報の参照または利用を簡便に行えなかった。例えば、露光装置を構成するユニット同士の位置関係の、設計上の位置関係からのズレを示すオフセット値がそうである。当該オフセット値は、露光処理に影響を与えるが、特定のプロセス・ロット・ウエハ・ショットに対応して設定するものではないため、それらを属性情報として付されていない。そのため、当該オフセット値は、属性情報と対応させて参照できなかった。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記の課題を考慮してなされた本発明の第１の側面は、基板を露光する露光装置により生成されて記憶部に記憶された情報を処理する情報処理装置であって、
前記基板に対応して前記露光装置が実施した第１の処理の期間に含まれる時刻の情報を含む第１の情報と、前記記憶部から第２の情報を抽出する前記時刻に関する条件の情報とが入力される入力部と、
前記入力部から入力された前記第１の情報と前記条件の情報とに基づいて、前記第２の情報を前記記憶部から抽出する抽出部と、
前記抽出部により抽出された前記第２の情報を前記第１の情報と対応させて出力する出力部と、
を有することを特徴とする情報処理装置である。
【０００７】
また、本発明の第２の側面は、基板を露光する露光装置であって、
上記の情報処理装置
を有することを特徴とする露光装置である。
【０００８】
また、本発明の第３の側面は、上記の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
前記工程で露光された基板を現像する工程と、
を有することを特徴とするデバイスの製造方法である。
【０００９】
また、本発明の第４の側面は、基板を露光する露光装置により生成されて記憶部に記憶された情報を処理する情報処理方法であって、
前記基板に対応して前記露光装置が実施した第１の処理の期間に含まれる時刻の情報を含む第１の情報と、前記記憶部から第２の情報を抽出する前記時刻に関する条件の情報とが入力される入力工程と、
前記入力工程で入力された前記第１の情報と前記条件の情報とに基づいて、前記第２の情報を前記記憶部から抽出する抽出工程と、
前記抽出工程で抽出された前記第２の情報を前記第１の情報と対応させて出力する出力工程と、
を有することを特徴とする情報処理方法である。
【００１０】
さらに、本発明の第５の側面は、基板を露光する露光装置により生成されて記憶部に記憶された情報を処理する上記の情報処理方法の各工程をコンピュータに実行させることを特徴とするプログラムである。
【００１１】
本発明の他の側面は、『特許請求の範囲』や、『発明を実施するための最良の形態』、添付した図面等に記載したとおりである。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、例えば、属性情報を持たない情報の参照または利用を簡便に行うことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
［第１の実施形態］
露光装置により生成される情報の分析において、指定した情報に関連する情報を抽出する機能を有するシステム（情報処理装置）の第１の実施形態を説明する。
【００１４】
図１は、本発明の好適な実施形態の露光装置の構成を示す図である。この実施形態の露光装置１００は、走査露光装置とし構成されている。露光装置１００において、光源１から提供される光束は、照明光学系２で形状・光量分布が調整され、レチクルステージ６に保持されたレチクル（原版）３を照明する。レチクル３のパターンは、感光剤（レジスト）が塗布されてウエハステージ７上のウエハチャック８に保持されたウエハ（基板）５に、投影光学系４を介して投影され、転写される。これにより、感光剤に潜像パターンが形成される。潜像パターンは、現像工程において現像されて、マスクパターン（レジストパターン）となる。
【００１５】
照明光学系２には、例えば、コヒーレンスファクタ（σ値）を設定するための開口面積が異なる複数の円形開口絞りが備えられうる。照明光学系２には、更に、輪帯照明用のリング形状絞りや、４重極絞り、照明光量を調整するための機構（例えば、複数のＮＤフィルタ及びそれを切り替える機構）が備えられうる。照明光学系２には、更に、光量を計測する光量検出器や、光束の形状を決めるスリット、照明範囲を制限するためにレチクル３と共役な位置に載置されたブラインド及びそれを駆動する駆動機構が備えられうる。光源１と照明光学系と２は、光源制御系２１の指示によって動作が制御される。
【００１６】
投影光学系４には、開口数を設定するための開口数設定機構や、収差を調整するためのレンズ（光学素子）駆動機構が備えられうる。投影光学系４は、投影光学系制御系２４によって動作が制御される。
【００１７】
レチクルステージ６の位置は、レチクルステージ計測系１０によって、投影光学系の光軸（Ｚ軸）に直交する面内における直交する２つの軸（即ちＸ軸・Ｙ軸）方向の位置、並びに、各軸周りの回転角が計測され、レチクルステージ制御系１１によって制御される。
【００１８】
また、照明光学系２とレチクルステージ６との間には、レチクル３上のマーク、または、レチクルステージ６上の基準マークと、ウエハステージ７上の基準マークとを、投影光学系４を介して同時に撮像及び計測することができる計測系９が構成されている。当該計測系は、ＴＴＲ（Ｔｈｒｏｕｇｈ  Ｔｈｅ  Ｒｅｔｉｃｌｅ）方式であり、ＴＴＲ計測計９と呼ぶことにする。これにより、Ｘ軸・Ｙ軸・Ｚ軸方向それぞれの位置、並びに、各軸周りの回転角に関して、レチクルステージ６上のレチクル３とウエハステージ７上のウエハ５との間の位置決めが可能となる。
【００１９】
ウエハ５上のショットの位置は、ウエハステージ計測系１２及びフォーカス計測系３０よって計測されうる。ウエハステージ計測系１２は、例えば、レーザ干渉計を含み、ウエハステージ７のＸ軸・Ｙ軸・Ｚ軸方向それぞれの位置、並びに、各軸周りの回転角を計測する。フォーカス計測系３０は、投影光学系４の光軸方向（Ｚ軸方向）におけるウエハ５の表面の位置を計測できる。ウエハステージ制御系１３は、ウエハステージ計測系１２及びフォーカス計測系３０から提供される情報に基づいてウエハステージ７の位置を制御する。また、ウエハ５上のアライメントマークを非露光光で撮像し、その位置を計測することが可能なオフアクシス計測系１１が構成される。オフアクシス計測系１１は、ウエハ５上の複数のマークの位置を計測し、レチクル３のパターンをウエハ５上のショットに重ねて転写できるよう、ウエハ５上のショットの位置と形状とを計測する。また、オフアクシス計測系１１は、自身のベースライン値の計測のため、ウエハステージ７上の基準マークの位置を計測する。
【００２０】
スリット状の照明光束でレチクル３上のパターン全体をウエハ５に転写するため、レチクルステージ６は、図１に示された『走査方向』に駆動される。それと同時に、ウエハステージ７も、図１に示された『走査方向』に駆動される。ここで、レチクルステージ６とウエハステージ７とは、投影光学系４の投影倍率に応じた速度比で駆動される。レチクル３とウエハ５との相対位置がずれると、ウエハ５に変形したパターンが転写される。そこで、主制御系１６は、レチクル３とウエハ５との相対位置ずれを計算し、その相対位置ずれがゼロになるようにレチクルステージ制御系１１及びウエハステージ制御系１３を制御する。
【００２１】
また、露光装置１００は、レチクルライブラリ１４や、レチクル搬送ロボット１３、レチクル３上のマークの位置をレチクルステージ６上のマークの位置に合わせるレチクルアライメントユニット２９などから構成されるレチクル搬送ユニットを備える。レチクル搬送ユニットは、レチクル搬送制御系１９の指示により動作する。また、また、露光装置１００は、ウエハカセットエレベータ１６やウエハ搬送ロボット１５などから構成されるウエハ搬送ユニットを備える。ウエハ搬送ユニットは、ウエハ搬送制御系２６の指示により動作する。
【００２２】
コンディショナ３１は、主に雰囲気の温度調整と、塵や化学物質の除去（雰囲気の清浄化）とを行ない、装置１００のチャンバ内の環境を一定に保つ。コンディショナ３１は、チャンバ制御系１８の指示により動作する。
【００２３】
主制御系１６は、露光装置１００の構成要素、例えば、チャンバ制御系１８や、レチクル搬送制御系１９、ウエハ搬送制御系２６、レチクルステージ制御系２２、ウエハステージ制御系２５、照明光学系２１、投影光学制御系２４等を制御する。主制御系１６は、通信インターフェイス１７を介して、露光装置１００の動作を設定すするパラメータ、又は動作の指示を取得し、それに基づいて露光装置１００の各構成要素を制御することができる。主制御系１６は、通信インターフェイス１７を介して、当該設定パラメータ、当該動作指示内容、動作状態、動作結果、計測結果、エラーイベントなどの情報と、それらの発生時刻などの情報とを含むログ情報を後述の外部記憶装置に送信する機能を有する。
【００２４】
ここで、本発明の第１の実施形態として、入力された情報に含まれる時刻の情報に基づき、関連情報を抽出する例を説明する。
【００２５】
まず、本発明が適用される露光システムの構成例を説明する。図２は、露光システムの構成例を示す図である。露光システムは、露光装置１００と、外部記憶装置３００と、情報処理装置２００とを備え、それらは通信インターフェースを介して接続される。なお、外部記憶装置３００と情報処理装置２００とを合わせて情報処理装置として構成してもよい。また、露光装置１００・外部記憶装置３００・情報処理装置２００を合わせて露光装置として構成してもよい。
【００２６】
外部記憶装置３００は、通信インターフェース３１１を介して、露光装置１００の動作を設定するパラメータ、動作指示内容、動作状態、動作結果、計測結果、エラーイベントの情報を発生時刻の情報と共に露光装置１００から収集する。そして、それらをデータベース３１１に格納する。
【００２７】
情報処理装置２００は、露光装置１００から提供される上記情報を処理するように構成されうる。情報処理装置２００は、例えば、汎用のコンピュータにコンピュータプログラムをインストールすることによって構成されうる。情報処理装置２００は、該コンピュータプログラムがインストールされることによって、通信インターフェース２１０、管理部２２０、フィルタリング部２３０、入力部２４０、および出力部２５０を備える装置として動作する。外部記憶装置３００を含む場合には、外部記憶装置３００（記憶部）をも備える装置として動作する。または、情報処理装置２００は、該コンピュータプログラムがインストールされることによって、通信ステップ、管理ステップ、フィルタリングステップ、入力ステップ、出力ステップを実行する装置として動作する。外部記憶装置３００を含む場合には、記憶ステップをも実行する装置として動作する。
【００２８】
フィルタリング部２３０（抽出部ともいう）は、入力部２４０により、関連情報条件の情報と、抽出方向条件の情報と、主情報と、主情報に対応づけされた時刻の情報とが提供される。主情報に対応づけされた時刻の情報より、その時刻での関連情報を外部記憶装置３００に格納されている情報から抽出し、出力部２５０に出力しうるようにする。
【００２９】
ここで、露光装置１００を構成するユニットのキャリブレーションと、レチクル３のパターンをウエハ５に転写する露光処理とについて説明する。
【００３０】
まず、ユニットのキャリブレーションは、露光装置１００を電源遮断状態から動作可能状態にする時（露光装置リセット時）や、通信インターフェイス１７からキャリブレーション実施指示（キャリブレーションコマンド）が入力された時に行われる。また、露光処理時にも行われる。
【００３１】
露光装置リセット時は、各ユニットの初期位置への駆動が行なわれ、ユニット間の相対位置関係を反映したキャリブレーションが行なわれる。例えば、ウエハステージ７は、定盤等を介してウエハステージ７を支持する気体ばねを含む支持装置により初期位置へ駆動した後、ウエハステージ７上の基準マークをＴＴＲ計測系９で計測される。これにより、レチクルまたはレチクルステージ上の（基準）マークの投影光学系４による像とウエハステージ７上の基準マークとをＸ軸・Ｙ軸・Ｚ軸それぞれの方向の位置および各軸周りの回転角に関して位置合せする。この状態を基準にして、フォーカス計測系３０やオフアクシス計測系１１のキャリブレーションが行われる。その結果、フォーカス計測系３０やオフアクシス計測系１１によってウエハ上のショットに対する計測を行えば、レチクル上のパターンの投影像に対してショットを正確に位置合わせすることができる。キャリブレーションコマンドが入力された時は、上述の初期位置への駆動以外は同様の処理が行われ、露光装置内の環境変動に起因した位置合わせ誤差を低減させるためのキャリブレーション値（オフセット値）が設定される。
【００３２】
露光処理時は、露光装置１００の動作を設定するパラメータ（ジョブ（ＪＯＢ）パラメータ）に従い、ユニットのキャリブレーションが行なわれる。また、レチクルのパターンとウエハのショットとのアライメントも、ＪＯＢパラメータに従って行なわれる。ここで、ＪＯＢパラメータは、例えば、工程名（ジョブ名）、ロット名（ロットＩＤ）、ウエハステージ走査速度、ウエハステージ走査方向、等を含みうる。さらに、キャリブレーション項目、キャリブレーションの実施タイミング、キャリブレーションのための計測回数、アライメント方式、アライメント計測におけるサンプルショット数及び計測回数、等を含みうる。なお、ＪＯＢパラメータにしたがったキャリブレーションにおいては、上述の初期位置へのユニット駆動は行われない。
【００３３】
主制御系１６は、１枚もしくは複数枚のウエハを含む１ロット単位で、上記のＪＯＢパラメータに基づいて露光装置１００の各構成要素を制御し露光処理を行なう。まず、ロット処理開始にあたり、露光処理に使用されるレチクル及びウエハの露光装置内への供給が開始される。レチクル及びウエハの供給が完了すると、露光装置を構成するユニットのうちＪＯＢパラメータで指定されたユニットのキャリブレーションと、レチクルとウエハのショットとをアライメントするための計測処理を行なう。このキャリブレーションは、温度・気圧などの環境状態や、照明条件、投影光学系の絞りなどの露光条件により変動するユニットの位置関係を反映するためのものである。そして、事前に装置リセット時やキャリブレーションコマンド実施時に行なわれたキャリブレーションの結果を基準として実施される。
【００３４】
主制御系１６は、キャリブレーションおよびアライメント計測の結果に基づいて、各ユニットの動作を制御し、ステップ・アンド・スキャン方式でウエハを露光する。
【００３５】
外部記憶装置３００は、露光装置リセット時やキャリブレーションコマンド実施時のキャリブレーション結果（計測値または補正値）・時刻を、通信インターフェース３１２を介して露光装置から受信し、データベース（ＤＢ）３１１に記憶しておく。また、露光処理時の（すなわち、ＪＯＢパラメータにしたがった）キャリブレーションの結果を時刻とロット名・ウエハ番号と伴にデータベース（ＤＢ）３１１に記憶しておく。
【００３６】
以下、データベース（ＤＢ）３１１に記憶された上記情報から関連する情報を抽出するための情報処理方法（手順）を説明する。例として、任意の期間において露光処理時にＪＯＢパラメータにしたがって行なわれたフォーカス計測系３０のキャリブレーション（フォーカスキャリブレーション）に関する情報を分析する場合を説明する。図３は、データベース（ＤＢ）３１１より抽出できるフォーカスキャリブレーションの情報であり、計測値・計測時刻、及び、属性情報である計測が実施されたロット名・ウエハ番号を含む。ここで、属性情報は、ウエハ（基板）を特定する情報である。この情報から、ウエハ毎等に実施されたフォーカスキャリブレーション時の計測値がわかる。
【００３７】
ここで、フォーカスキャリブレーション時の計測値について説明する。まず、フォーカス計測は、ウエハ５上のショット内の計測点に対するフォーカス計測系３０の計測値（Ｆ）と、当該計測時のウエハステージ７のＺ軸方向位置（Ｚ）とに基づいてなされる。そして、フォーカス制御は、ウエハステージ７上の基準マークが投影光学系４の像面にあるときのウエハステージ７のＺ軸方向位置（Ｚ０）とフォーカス計測系３０の計測値（Ｆ０）との双方を基準値としてなされる。すなわち、フォーカス制御は、Ｚ０・Ｚ・Ｆ０・Ｆの４つの値（例えば、Ｚ−Ｚ０およびＦ−Ｆ０）に基づいてなされる。ところが、前述のように、装置リセット時は、ステージを支持する定盤の位置が変動しうるため、それに伴ってフォーカス計測系３０の基準値Ｚ０も変動しうることになる。したがって、ＪＯＢパラメータにしたがってなされたフォーカスキャリブレーションの計測値としての基準値Ｚ０の情報を分析する場合、装置リセット時になされたフォーカスキャリブレーションの計測値としての基準値Ｚ０が有効な情報（関連情報）となりうる。
【００３８】
図３を参照すると、ロット名ＡＡの最終ウエハにおける計測値（Ｚ０）と、ロット名ＢＢＢの第１ウエハの計測値（Ｚ０）との間に大きな差があることがわかる。この大きな差は、装置リセットに起因したものであれば、たとえば、装置に異常はないとすることができる。そこで、この大きな差が装置リセットに起因したものであるか否かを確認するため、装置リセットの時刻やそのときの計測値（Ｚ０）を関連情報として抽出する例を説明する。
【００３９】
図４は、露光システム（情報処理装置２００）で実行される情報処理の一例を示すフローチャートである。
【００４０】
ステップＳ４０１で、入力部２４０は、ユーザーの操作により主情報・時刻情報（第１の情報）を入力される。本例では、ＪＯＢパラメータにしたがったフォーカスキャリブレーション（第１の処理）の計測値・計測時刻、及び、計測が実施されたロット名・ウエハ番号の情報（図３）が入力される。ここで、主情報は、第１の処理の内容（種類）を特定する情報である。また、不図示だが、主情報の種類としての「フォーカスキャリブレーション」と抽出する期間とがフィルタリング条件として指示されることによって主情報・時刻情報が入力されてもよい。すなわち、当該フィルタリング条件に基づきデータベース（ＤＢ）３１１からフィルタリング部により抽出された結果が主情報・時刻情報として入力されてもよい。
【００４１】
ステップＳ４０２で、入力部２４０は、前記主情報に関連する関連情報（第２の情報）の種別の情報がユーザーの操作により入力される。本例では、装置リセットの時刻とそのときのフォーカスキャリブレーションの計測値が関連情報の種別として入力される。
【００４２】
ステップＳ４０３で、入力部２４０は、関連情報を抽出する条件（抽出条件）の情報がユーザーの操作により入力される。ここでは、関連情報を抽出する方向に関する条件（抽出方向条件）の情報が入力される。この抽出方向は、時間的な方向であり、過去方向および未来方向の一方または両方を選択することができる。ここで、当該条件は、外部記憶装置３００（記憶部）から第２の情報を抽出する条件（第１の情報に含まれる時刻に関する条件）となる。
【００４３】
本例では、主情報項目である、ＪＯＢパラメータにしたがったフォーカスキャリブレーションの計測値は、事前に行なわれた装置リセット時のフォーカスキャリブレーション（第２の処理）の計測値と対比したい。そのため、関連情報の抽出方向として過去方向が選択される。
【００４４】
ステップＳ４０４で、フィルタリング部は、主情報に対応づけされた時刻に、入力された抽出方向において最も時間的に近い時刻を有する関連情報を抽出する。本例では、図５に示すように、装置リセット時のフォーカスキャリブレーションの時刻および計測値の情報がデータベース（ＤＢ）３１１に記録されている。フィルタリング部は、ＪＯＢパラメータにしたがったフォーカスキャリブレーションの各計測時刻に過去方向で最も時間的に近い装置リセット時のフォーカスキャリブレーションの情報を関連情報として抽出する。
【００４５】
ステップＳ４０５で、出力部は、主情報と、抽出された関連情報とを対応させて出力する。その後、処理を終了する。
【００４６】
本実施形態では、図６に示すように、ＪＯＢパラメータにしたがったフォーカスキャリブレーションの各計測値に関連した装置リセット時のフォーカスキャリブレーションの計測値を提示する。提示された情報は、ＪＯＢパラメータにしたがったフォーカスキャリブレーションの計測値が変化した原因を分析するのに役立てることができる。例えば、原因が装置リセットによるものか否かを判断することができる。
【００４７】
以上、第１の処理の内容をＪＯＢパラメータにしたがったフォーカスキャリブレーションとし、第２の情報の内容を装置リセット時のフォーカスキャリブレーションの時刻・計測値とし、抽出条件（抽出方向条件）の内容を過去方向とした例を説明した。しかし、これは単なる一例に過ぎず、第１の処理・第２の情報・抽出条件の各内容の組合せは、他にも種々考えられる。例えば、第１の処理の内容は、露光装置の他の処理であってもよく、第２の情報の内容は、露光装置の処理に関するユーザーによる設定値であってもよい。
【００４８】
例えば、第１の処理がＸＹ平面内におけるウエハ５上のショットの配置（形状を含んでもよい）の計測処理（アライメント計測処理）の場合、第２の情報は、ユーザーが設定したアライメント計測値に対するオフセット値とし、抽出方向条件は過去方向としてもよい。これにより、アライメント計測値の変化がオフセット値の変更を原因とするものであるか否かを容易に分析することができる。
【００４９】
また、第２の情報の内容は、露光装置の動作状態や動作結果を対象としてもよい。例えば、第１の処理は、ウエハ露光処理であるとする。この場合、第２の情報は、露光処理に含まれる各サブ処理シーケンスの開始・終了の少なくとも一方を示す情報や、ウエハ露光処理および各サブ処理の少なくとも１つが正常終了したか異常終了したかを示す情報とし、抽出方向条件は、過去方向としてもよい。このようにすると、例えば、ウエハ露光処理にエラーイベントが発生した場合、正常終了したサブ処理や、実施中のサブ処理、異常終了したサブ処理を知ることができ、ウエハ露光処理のエラー分析に役立てることができる。
【００５０】
また、第１の処理は、レチクルステージとウエハステージとの同期走査中における両者の相対位置の誤差（同期誤差）を計測する処理であるとする。この場合、第２の情報は、両者の少なくとも一方の制御系のパラメータ（例えば、ゲイン）の設定時刻・設定値を示す情報とし、抽出方向条件は、過去方向としてもよい。これにより、同期誤差の変化が制御系の設定値の変更を原因とするものであるか否かを容易に分析することができる。
【００５１】
［第２の実施形態］
以下、本発明の第２の実施形態として、指定した時刻に関する第２の情報（関連情報）を抽出する例を説明する。図７は、第２の実施形態の情報処理装置２００の構成例を示す。第１の実施形態における構成要素と同一の構成要素は、第１の実施形態におけるものと同一の符号を付し、説明を省略する。グラフ表示部２６０（出力部ともいう）は、時間軸を有するグラフ（時系列グラフ）を表示し、入力部は、表示されたグラフ上から時刻情報が入力される。情報処理装置２００のフィルタリング部２３０は、時刻情報・関連情報条件・抽出方向条件を入力部から受け取り、データベース（ＤＢ）３１１から関連情報を抽出する。
【００５２】
図８は、露光装置１００の露光処理におけるウエハのアライメント計測（ウエハ計測）処理（第１の処理）シーケンス・露光（ウエハ露光）処理シーケンスのタイミングチャート（時間軸を有するグラフの一例）である。当該タイミングチャートがグラフ表示部２６０により表示される。第２の実施形態として、タイミングチャート上で指示した任意の時刻における関連情報を表示する例を説明する。例えば、タイミングチャートでは、処理シーケンスの開始・終了のタイミングがグラフィカルに把握できる。しかし、それらの正確な時刻やウエハ番号・ロット名の情報は、チャートからは確認できない。チャートから確認できない情報を、チャート上の位置を指定することで抽出し表示するする情報処理方法（手順）を説明する。
【００５３】
図９は、露光システム（情報処理装置２００）で実行される情報処理の一例を示すフローチャートである。
【００５４】
ステップＳ９０１で、入力部２４０は、データベース（ＤＢ）３１１から抽出したい関連情報（第２の情報）の種別の情報がユーザーの操作により入力される。本例では、ウエハ計測の開始時刻・終了時刻、及び、ウエハ計測の開始時刻情報の属性情報である計測対象のウエハ番号・ロット名が当該種別として入力される。ここで、属性情報は、ウエハ（基板）を特定する情報である。ウエハ計測の開始時刻・終了時刻の双方が第２の情報に含まれるようにしたが、そのいずれか一方のみでもよく、すなわち、その少なくとも一方が含まれればよい。
【００５５】
ステップＳ９０２で、入力部２４０は、関連情報を抽出する方向の条件（抽出方向条件）の情報が入力される。本例では、ウエハ計測の開始時刻は、過去方向が入力される。ウエハ計測の終了時刻は、未来方向が入力される。
【００５６】
ステップＳ９０３で、入力部２４０は、グラフ表示部２６０からユーザーの操作により指示されたグラフ上の位置が入力される。それにより、入力部２４０は、グラフ上でその位置に対応する時刻の情報（第１の情報）が、関連情報を抽出するための時刻の情報として、入力される。本例では、タイミングチャート上に表示された線カーソルで任意の位置をポイントすることにより、時刻の情報が入力されうる。
【００５７】
ステップＳ９０４で、フィルタリング部は、入力された時刻情報に、入力された抽出方向で最も時間的に近い関連情報をデータベース（ＤＢ）３１１から抽出する。本例では、ウエハ計測の開始時刻・終了時刻が抽出され、また、ウエハ計測の開始時刻の属性情報であるウエハ番号・ロット名の情報も抽出される。
【００５８】
ステップＳ９０５で、グラフ表示部２６０は、ステップＳ９０４で抽出された第２の情報（関連情報）を第１の情報に対応させてグラフ画面に表示する。その後、処理を終了する。
【００５９】
本実施形態では、図１０のように、タイミングチャートに並べ、線カーソルに対応させて、ウエハ計測の開始時刻・終了時刻、及び、計測対象のウエハ番号・ロット名が表示される。このように関連する情報を迅速に提示できることで、効率的な分析作業を支援することができる。
【００６０】
［デバイス製造方法の実施形態］
デバイス（半導体集積回路素子、液晶表示素子等）は、前述の露光装置を用いて、感光剤が塗布された基板（ウエハ、ガラスプレート等）を露光する工程と、その工程で露光された基板を現像する工程と、他の周知の工程と、を経ることにより製造される。他の周知の工程は、例えば、酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等を例示することができる。
【図面の簡単な説明】
【００６１】
【図１】露光装置の構成例に示す図
【図２】第１の実施形態のシステム構成例を示す図
【図３】フォーカスキャリブレーションの情報を示す図
【図４】第１の実施形態における情報処理の流れを示す図
【図５】フォーカスキャリブレーション基準値・計測時刻を示す図
【図６】フォーカスキャリブレーションとフォーカスキャリブレーション基準値との対応づけを示す図
【図７】第２の実施形態のシステム構成例を示す図
【図８】ウエハ計測処理シーケンス・ウエハ露光処理シーケンスのタイミングチャート
【図９】第２の実施形態における情報処理の流れを示す図
【図１０】タイミングチャート上の線カーソルと関連情報との対応づけを示す図
【符号の説明】
【００６２】
２００  情報処理装置
２３０  フィルタリング部（抽出部）
２４０  入力部
２５０  出力部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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