(57)【要約】【課題】第８世代や第１０世代のガラス基板に対する欠陥検査や欠陥修正に対応できる基板保持装置を実現する。【解決手段】本発明による基板保持装置は、固定端とテンション端との間に張架されると共に第１の方向に沿って延在する支持ワイヤ（７〜１０）を含む複数のワイヤ支持機構（３〜６）と、ワイヤ支持機構の各支持ワイヤに対して第１の方向に沿って移動可能に連結されたステージ（３０）と、ステージを第１の方向に案内するガイド手段（４４）と、ステージを第１の方向に沿って移動させる駆動装置（５１，５３）とを具える。ワイヤ支持機構の各支持ワイヤは、同一の平面内において互いに平行に張架され、複数の支持ワイヤ上に基板が載置された際、当該ステージは、支持ワイヤ上に載置された基板の裏面と直接対向しながら第１の方向に移動する。ステージは、基板の裏面と直接対向しながら第１の方向に移動するので、支持ワイヤによる影響を受けることなく各種処理を行うことができる。【選択図】図２
2010286342.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
同一の平面内において互いに平行に張架された複数の支持ワイヤにより基板を支持する基板保持装置であって、
固定端とテンション端との間に張架されると共に第１の方向に沿って延在する支持ワイヤを含む複数のワイヤ支持機構と、
前記ワイヤ支持機構の支持ワイヤに対して前記第１の方向に沿って移動可能に連結された移動ステージと、
前記移動ステージを第１の方向に案内するガイド手段と、
前記移動ステージを第１の方向に沿って移動させる駆動装置とを具え、
前記移動ステージは、支持ワイヤを部分的に下方に変位させながら第１の方向に沿って移動し、
前記複数の支持ワイヤ上に基板が載置された際、前記移動ステージは、支持ワイヤ上に載置された基板の裏面と直接対向しながら基板に対して相対移動することを特徴とする基板保持装置。
【請求項２】
請求項１に記載の基板保持装置において、前記移動ステージは、前記第１の方向と直交する第２の方向に延在するベース部材と、前記ベース部材に固定され、支持ワイヤ毎に設けられた複数のプーリー機構とを有し、
前記プーリー機構は、対応する支持ワイヤを含むと共に前記ベース部材と直交する面内に位置する複数のプーリーを有し、各プーリーの外周面には支持ワイヤと係合する溝が形成されていることを特徴とする基板保持装置。
【請求項３】
請求項２に記載の基板保持装置において、各プーリー機構は、移動ステージの上側に位置し第１の方向に離間する第１及び第２のプーリーと、移動ステージの下側に位置する第３及び第４のプーリーとを有し、
移動ステージが第１の方向に移動する際、前記支持ワイヤは、上側に位置する第１のプーリー、下側に位置する第３及び第４のプーリー、及び上側に位置する第２のプーリーの順序で移動ステージに対して相対移動することを特徴とする基板保持装置。
【請求項４】
請求項１から３までのいずれか１項に記載の基板保持装置において、前記ベース部材には、前記第２の方向に延在するライン状の光ビームを放出する光源装置が設けられ、移動ステージの移動に伴い、支持ワイヤ上に載置された基板の裏面をライン状光ビームにより直接走査することを特徴とする基板保持装置。
【請求項５】
請求項１から３までのいずれか１項に記載の基板保持装置において、前記ベース部材には、切替弁を介して負圧ポンプ及び正圧ポンプに接続されている真空吸着装置が搭載され、支持ワイヤ上に載置された基板に対して処理を行う際、基板を真空吸着により固定して処理が行われることを特徴とする基板保持装置。
【請求項６】
固定端とテンション端との間に張架されると共に第１の方向に沿って互いに平行に延在し、基板が載置される複数の支持ワイヤと、
支持ワイヤに対して第１の方向に沿って移動可能に連結されると共に、支持ワイヤ上に載置された基板に対して、その裏面と直接対向しながら移動し、基板に対して第１の方向と直交する第２の方向に延在するライン状の照明光を投射する移動ステージと、
前記移動ステージを第１の方向に沿ってガイドするガイド手段と、
前記移動ステージを第１の方向に移動させるステージ駆動機構と、
支持ワイヤ上に載置された基板をはさんで前記移動ステージとは反対側に配置され、前記移動ステージから出射し基板を透過した透過光を受光する光学ヘッドと、
前記光学ヘッドを移動ステージの移動と同期して移動させる光学ヘッド移動機構と、
光学ヘッドからの出力信号に基づいて欠陥検出を行う信号処理装置とを具えることを特徴とする欠陥検査装置。
【請求項７】
請求項６に記載の欠陥検査装置において、前記光学ヘッドは、複数の受光素子が前記第２の方向に沿って配列されたラインセンサを有し、前記信号処理装置は、ラインセンサからの出力信号を基準信号と比較することにより欠陥判定を行うことを特徴とする欠陥検査装置。
【請求項８】
請求項６又は７に記載の欠陥検査装置において、前記ステージの第１の方向における位置を検出する位置検出装置を設け、当該位置検出装置から出力される位置情報を前記信号処理装置に供給し、信号処理装置は、検出された欠陥のアドレス情報として、第１の方向のアドレスとして前記位置検出装置から出力される位置情報を用い、第２の方向のアドレスとしてラインセンサの受光素子の配列情報を用いることを特徴とする欠陥検査装置。
【請求項９】
固定端とテンション端との間に張架されると共に第１の方向に沿って互いに平行に延在し、基板が載置される複数の支持ワイヤと、
支持ワイヤに対して第１の方向に沿って移動可能に連結されると共に、支持ワイヤ上に載置された基板に対して、その裏面と直接対向しながら移動する移動ステージと、
前記移動ステージを第１の方向に沿ってガイドするガイド手段と、
移動ステージを第１の方向に移動させるステージ駆動機構と、
支持ワイヤ上に載置された基板をはさんで前記ステージとは反対側に配置され、前記基板表面に存在する突起欠陥を修正する欠陥修正装置と、
欠陥のアドレス情報に基づいて、前記欠陥修正装置を欠陥のほぼ真上に位置させる欠陥修正装置移動機構とを具え、
前記移動ステージは、支持ワイヤ上に載置された基板を固定する真空吸着手段を有し、突起欠陥を修正する際、第１の方向に沿って欠陥のアドレス位置まで移動し、当該位置において基板を真空吸着し、真空吸着された基板に対して欠陥修正処理が行われることを特徴とする欠陥修正装置。
【請求項１０】
請求項９に記載の欠陥修正装置において、前記欠陥修正装置は、走行する研磨テープにより欠陥を研磨修正するテープ研磨装置を有し、前記基板を移動ステージ上に真空吸着した状態で、テープ研磨処理が行われることを特徴とする欠陥修正装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、各種大型基板を保持するのに好適な基板保持装置、並びに、当該基板保持装置を利用した欠陥検査装置及び欠陥修正装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
カラーフィルタ基板やTFT基板の製造工程においては、その製造工程中に突起欠陥等の欠陥の有無が検査され、欠陥が検出された場合欠陥修正処理が行われている。各種基板についての欠陥検査として、透過照明による欠陥検査と反射照明による欠陥検査が行われている。透明照明による検査を行う場合、基板を透明ステージ上に配置し、基板の裏面側から照明光を照射し、基板の表面側に配置した光学ヘッドにより欠陥の有無が検査されている。また、突起欠陥を修正する場合、処理すべき基板を真空吸着により保持し、表面側から欠陥修正装置を用いて欠陥修正処理が行われている。
【０００３】
カラーフィルタ基板やプラズマディスプレイパネルの製造に用いられるマザーガラスは年々大型化する傾向にあり、第８世代のガラス基板の大きさは２２００ｍｍ×２５００ｍｍであり、１０世代のガラス基板の大きさは２５００ｍｍ×３０００ｍｍである。従って、ガラス基板の大型化に伴い、基板の検査工程や欠陥修正工程において、いかにして大型基板を保持するかが重要な課題となっている。例えば、１０世代のガラス基板に対応できる透明ステージを製造することは事実上困難であり、大型基板を透明ステージ上配置して欠陥検査や欠陥修正を行うことは、１０世代のマザーガラスに対して対応することができないものである。
【０００４】
大型基板の保持装置として、リフトピンを用いる方法が既知である（例えば、特許文献１参照）。この既知の基板保持方法では、定盤上に傾動可能な多数のリフトピンを配置し、多数のリフトピンにより基板を支持している。透過照明により欠陥を検査する場合、リフトピンが配置されている基板の裏面側に照明ヘッドを配置し、照明ヘッドの移動によりリフトピンを倒しながら裏面側からの走査が行われている。
【０００５】
別の大型ワークの保持方法として、ワイヤを用いる方法が既知である（例えば、特許文献２参照）。このワイヤによる支持方法では、プレート枠に複数のワイヤを張架し、複数のワイヤ上にワークを配置し、ワイヤの下側からワークに向けて照明光が照射されている。
【特許文献１】特開２００９−２９２８号公報
【特許文献２】特開２００１−１０８６２９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
大型のガラス基板を多数のリフトピンを用いて支持する保持方法では、照明ヘッドの移動に伴い、リフトピンを倒すため、リフトピンとガラス面との間に生じる摩擦によりガラス基板が損傷する危険性がある。また、ガラス基板が損傷した場合、発塵が生じ処理空間が汚染される不具合が発生する。また、多数の傾動可能なリフトピンを製作するには、多大なコストが必要であり、基板保持装置の製造コストが高価になる欠点があった。さらに、リフトピンが倒れる際に不所望な騒音や振動が発生する欠点も指摘されている。
【０００７】
ワークをワイヤにより保持する方法は、製造コストが安価になる利点がある。しかしながら、透過照明を行う際ワイヤの下側から照明光が入射するため、照明光がワイヤにより遮光され、ワークの全面にわたって均一な照明を行うことができない欠点があった。このように、照明光がワイヤにより遮光されると、欠陥検査における検査精度が低下する不具合が生じてしまう。
【０００８】
本発明の目的は、大型の透明基板、特に第８世代以降のガラス基板に対する欠陥検査や欠陥修正に対応できる基板保持装置、並びに、欠陥検査装置及び欠陥修正装置を実現することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明による基板保持装置は、同一の平面内において互いに平行に張架された複数の支持ワイヤにより基板を支持する基板保持装置であって、
固定端とテンション端との間に張架されると共に第１の方向に沿って延在する支持ワイヤを含む複数のワイヤ支持機構と、
前記ワイヤ支持機構の支持ワイヤに対して前記第１の方向に沿って移動可能に連結された移動ステージと、
前記移動ステージを第１の方向に案内するガイド手段と、
前記移動ステージを第１の方向に沿って移動させる駆動装置とを具え、
前記移動ステージは、支持ワイヤを部分的に下方に変位させながら第１の方向に沿って移動し、
前記複数の支持ワイヤ上に基板が載置された際、前記移動ステージは、支持ワイヤ上に載置された基板の裏面と直接対向しながら基板に対して相対移動することを特徴とする。
【００１０】
本発明では、平面内において互いに平行に延在する複数の支持ワイヤを用いて基板を保持する。保持できるガラス基板の大きさは、支持ワイヤの本数を多くすれば、相当大型のガラス基板を保持することが可能である。従って、８世代及び１０世代のガラス基板の保持に好適な基板保持装置が実現される。さらに、本発明では、支持ワイヤに対して第１の方向に移動可能に連結され、ガラス基板の裏面側から直接対応しながら移動する移動ステージを有するので、移動ステージ上に照明光源や真空吸着装置等の各種装置を搭載することにより、支持ワイヤによる影響を受けることなく、ガラス基板に対して各種処理を行うことが可能になる。
【００１１】
本発明による欠陥検査装置は、固定端とテンション端との間に張架されると共に第１の方向に沿って互いに平行に延在し、基板が載置される複数の支持ワイヤと、
支持ワイヤに対して第１の方向に沿って移動可能に連結されると共に、支持ワイヤ上に載置された基板に対して、その裏面と直接対向しながら移動し、基板に対して第１の方向と直交する第２の方向に延在するライン状の照明光を投射する移動ステージと、
前記移動ステージを第１の方向に沿ってガイドするガイド手段と、
前記移動ステージを第１の方向に移動させるステージ駆動機構と、
支持ワイヤ上に載置された基板をはさんで前記ステージとは反対側に配置され、前記ステージから出射し基板を透過した透過光を受光する光学ヘッドと、
前記光学ヘッドを前記ステージの移動と同期して移動させる光学ヘッド移動機構と、
光学ヘッドからの出力信号に基づいて欠陥検出を行う信号処理装置とを具えることを特徴とする。
【００１２】
本発明による欠陥検査装置では、複数の支持ワイヤ上に載置されたガラス基板の下側からライン状の照明光を投射、支持ワイヤをはさんで上側に配置した光学ヘッドによりガラス基板から出射した透過光を受光するので、移動ステージ及び光学ヘッドを同期して第１の方向に走査するだけで、大型ガラス基板の全面について欠陥検査を行うことが可能である。この結果、第８世代や第１０世代の大型ガラス基板について短時間で欠陥検査を行うことが可能になる。
【００１３】
本発明による欠陥修正装置は、固定端とテンション端との間に張架されると共に第１の方向に沿って互いに平行に延在し、基板が載置される複数の支持ワイヤと、
支持ワイヤに対して第１の方向に沿って移動可能に連結されると共に、支持ワイヤ上に載置された基板に対して、その裏面と直接対向しながら移動する移動ステージと、
前記移動ステージを第１の方向に沿ってガイドするガイド手段と、
前記移動ステージを第１の方向に移動させるステージ駆動機構と、
支持ワイヤ上に載置された基板をはさんで前記ステージとは反対側に配置され、前記基板表面に存在する突起欠陥を修正する欠陥修正装置と、
欠陥のアドレス情報に基づいて、前記欠陥修正装置を欠陥のほぼ真上に位置させる欠陥修正装置移動機構とを具え、
前記移動ステージは、支持ワイヤ上に載置された基板を固定する真空吸着手段を有し、突起欠陥を修正する際、第１の方向に沿って欠陥のアドレス位置まで移動し、当該位置において基板を真空吸着し、真空吸着された基板に対して欠陥修正処理が行われることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１４】
本発明においては、平面内において互いに平行に延在する複数の支持ワイヤにより基板を支持するので、第８世代や第１０世代の大型ガラス基板を支持することができる。さらに、本発明では、支持ワイヤ上に載置された基板の下側を基板と直接対向しながら相対移動する移動ステージを有するので、移動ステージに照明光源や真空吸着装置等の各種装置を搭載することができ、支持ワイヤによる影響を受けることなく、支持ワイヤ上に載置された基板に対して欠陥検査や各種処理を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明による基板保持装置の一例を示す線図的平面図である。
【図２】本発明による基板保持装置の線図的側面図である。
【図３】図１及び図２に示す基板保持装置の後方から見た側面図である。
【図４】移動ステージ及びプーリー機構の一例を示す図である。
【図５】本発明による検査装置の一例を示す図である。
【図６】本発明による欠陥修正装置の一例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
図１〜図３は本発明による基板保持装置の一例を示す図であり、図１は上方から見た線図的平面図、図２は図１の基板保持装置を側方から見た線図的側面図、並びに図３は図１の基板保持装置を後方から見た線図的側面図である。尚、図２に関し、図２Ａは図１のII−II線で切って示す線図的側面図であり、図２ＢはIII−III線で切って示す線図的側面図である。また、図３は、ワイヤ支持機構のテンション端側の構成要素を取り除いて示し、主として移動ステージ及びガイド部材の配置構成を示す。図２及び図３に示すように、本発明による基板保持装置は架台１を有し、架台１上に防振部材を介して基台２を配置する。基台２上に各種の部材を配置する。基台２上に、ガラス基板が載置される第１〜第４のワイヤ支持機構３〜６を設ける。本例では、図面を明瞭にするため、４組のワイヤ支持機構を用いたが、８組や１０組等の多数のワイヤ支持機構を用いてガラス基板を支持することができる。各ワイヤ支持機構３〜６は支持ワイヤ７〜１０をそれぞれ有し、４本の支持ワイヤ上にガラス基板１１が載置される。各支持ワイヤ７〜１０は同一面内において互いに平行になるように張架する。第１〜第４のワイヤ支持機構は、同一構造を有するため、図２Ａに示す第１のワイヤ支持機構３について説明する。
【００１７】
支持ワイヤ７の一端は、プーリー２０を介して固定軸２１に固定し、固定端とする。プーリー２０及び固定軸２１は支持プレート２２に固定され、支持プレート２２は基台２に固定する。支持ワイヤ７の他端は、プーリー２３及び連結バー２４を介してスプリング２５に連結され、スプリング２５の他端を支持プレート２６に固定する。支持プレート２６は基台２に固定する。支持ワイヤ７は、スプリング２５の張力により所定のテンションが作用した状態に維持される。また、各プーリーには、円周溝が形成され、各支持ワイヤは、円周溝内に保持される。従って、支持ワイヤ７は、固定端とテンションが作用するテンション端との間に所定の張力が作用するように張架され、ガラス基板１１を支持する平面内においてほぼ平行に延在する。他の支持ワイヤ８〜１０も同様な構造により張架され、４本の支持ワイヤ７〜１０は、基板を支持する平面内において互いに平行に延在する。ここで、支持ワイヤの延在方向を第１の方向とする。
【００１８】
４本の支持ワイヤ７〜１０に移動ステージ３０を第１の方向に沿って移動可能に連結する。移動ステージ３０は、第１の方向と直交する第２の方向に延在するベース部材３１を有する。ベース部材３１は、検査の目的に応じて、照明光源や定盤等が装着され、検査目的や装着される部材に応じて適切な形状に形成される。ベース部材３１には、各支持ワイヤ７〜１０ごとにそれぞれ連結された第１〜第４のプーリー機構３２〜３５を設ける。各プーリー機構は、支持ワイヤに沿って移動ステージを第１の方向に並進移動させる機能を果たす。４つのプーリー機構は同一の構造であるため、第１のプーリー機構３２について説明し、他のプーリー機構についての説明は省略する。
【００１９】
図４は移動ステージ３０に設けたプーリー機構の一例を示す図であり、図４Ｂは一方の支持プレート４０ａを除いて示す側面図であり、図４Ｂは後方から見た線図的側面図である。プーリー機構は、ベース部材３１に固定した一対の支持プレート４０ａ及び４０ｂを有し、これら支持プレートに４個のプーリー４１ａ〜４１ｄを回転可能に連結する。上側に位置する２個のプーリー４１ａ及び４１ｂは、水平方向の同一の高さに位置すると共に第１の方向に離間する。残りの２個のプーリー４１ｃ及び４１ｄは、下側に位置し、水平方向の同一の高さに位置すると共に第１の方向に離間する。各プーリーには支持ワイヤが挿入されるほぼ半円形の溝が形成され、支持ワイヤはプーリーの溝内に保持される。
【００２０】
２枚の支持プレート４０ａ及び４０ｂは、第１の方向と直交する第２の方向に離間して底板４２に固定される。底板４２には、２個のスライダ４３ａ及び４３ｂを装着する。これらスライダ４３ａ及び４３ｂは、架台１のベース部材２上に配置したガイドレール４４と係合する。すなわち、架台側の基台２には、第１の方向に沿って互いに平行に延在する４本のガイドレール４４〜４７が配置される。そして、第１のプーリー機構３２は、スライダ４３ａ及び４３ｂを介してガイドレール４４に第１の方向に移動可能に連結する。また、第２〜第４のプーリー機構３３〜３５も、スライダを介してガイドレール４５〜４７に移動可能に連結される。従って、移動ステージ３０は、４個のプーリー機構３２〜３５を介して、基台２上に設けた４本のガイドレール４４〜４７に対して第１の方向に沿って移動可能に連結される。
【００２１】
本例では、移動ステージ３０のベース部材３１上にライン状の照明光源４８を装着し、ガラス基板１１に対して下側から透過照明を行う。照明光源４８として、移動ステージ３０の移動方向である第１の方向と直交する第２の方向に沿って複数のLEDをライン状に配置したライン状照明光源を用いる。この場合、照明光源４８から出射したライン状の光ビームは、拡散板４９を介してほぼ均一な輝度分布のライン状照明光に変換され、ガラス基板１１の裏面に直接入射する。すなわち、移動ステージはガラス基板と直接対向するため、照明光源４８から出射した照明光は、支持ワイヤに遮られることなく、ガラス基板に直接入射する。尚、本例では、照明光源としてＬＥＤアレイを用いたが、ハロゲンランプやキセノンランプ等の各種光源をライン状に配置した光源装置を用いることが可能である。さらに、蛍光灯のようなライン状の照明光を放出する光源を用いることも可能である。特に蛍光灯は、その長手方向にほぼ均一な輝度の照明光を放出するので、光源装置として好適である。また、照明光源４８の前面にスリット状の開口部を有する遮光マスクを配置して、検査される基板に向けてライン状の照明光を投射することも可能である。
【００２２】
次に、図４を参照しながら、移動ステージ３０の支持ワイヤ７及びガラス基板１１に対する相対移動について説明する。ステージ３０は矢印ａ方向に移動するものとする。図４において、第２のプーリー４１ｂより右側に位置する支持ワイヤの部分について着目する。支持ワイヤ７に対するステージ３０の相対移動に伴い、支持ワイヤは、第２のプーリー４１ｂに接近し、プーリー４１ｂにより９０°の角度だけ方向転換して下方に向けて変位する。続いて、第４のプーリー４１ｄと接触し、９０°方向転換して水平方向に相対移動する。続いて、第３のプーリー４１ｃと接触し、９０°方向転換して上方に変位する。続いて第１のプーリー４１ａと接触し、９０°方向転換して水平方向に相対移動する。
【００２３】
このように、移動ステージ３０の移動に伴い、支持ワイヤ７は、移動ステージ３０の下側に向けて部分的に変位し、ベース部材３１の下側を水平方向に移動し、その後上側に向けて変位する。この結果、移動ステージが移動しても、ベース部材３１及びベース部材に搭載された各種部材や装置は常時ガラス基板１１と直接対向し、照明光等は支持ワイヤにより遮られることはない。さらに、ステージの移動に伴って支持ワイヤの一部が下側に変位しても、下側に変位した長さ分だけ支持ワイヤのガラス基板と接触する長さが増加するので、移動ステージが移動してもガラス基板は常時一定の長さの支持ワイヤにより支持される。従って、ステージが移動しても、支持ワイヤ上に保持されるガラス基板の保持状態が変わることはない。さらに、移動ステージの移動の際、ガラス基板１１と支持ワイヤ７との接触関係は、ガラス基板と支持ワイヤとが接触状態にある部位は、支持ワイヤが下側に向けて変位するだけである。また、非接触状態にある支持ワイヤの部位は、下側から順次押し上げるだけである。従って、支持ワイヤとガラス基板との接触及び接触解除によりガラス基板と支持ワイヤとの間に摩擦が生じることはない。
【００２４】
次に、移動ステージ３０の移動機構について説明する。図１、図２Ｂ及び図３を参照しながら説明する。ステージ３０のベース部材３１に駆動ベルト５１を装着する。この駆動ベルト５１の移動によりステージを第１の方向に沿って往復移動させる。図１及び図２Ｂに示すように、駆動ベルト５１は、回転プーリー５２とモータ５３の回転軸５４との間に張架する。回転プーリー５２は、２つの支持プレート５５ａ及び５５ｂとの間に回転軸を介して回転自在に装着され、支持プレート５５ａ及び５５ｂは基台２に固定する。また、モータ５３は支持部材を介して基台２に固定する。さらに、モータ５３には、エンコーダ（図示せず）を連結し、エンコーダにより移動ステージ３０の第１の方向の位置が検出される。エンコーダからの出力は、制御回路（図示せず）に供給される。
【００２５】
図２Ｂを参照するに、モータ５３が上側に位置する駆動ベルト５１を右方向に引っ張るように回転駆動すると、移動ステージ３０はスライダを介してガイドレール４４〜４７上を右方向に向けて走行する。またモータ５３が下側に位置する駆動ベルトを右方向に引っ張るように回転駆動すると、移動ステージ３０は左方向に走行する。この際、支持ワイヤ７は局所的に変位するだけであり、ガラス基板を支持する長さは常時一定に維持されるので、ガラス基板の保持状態に影響を与えることなく、移動ステージ３０は第１の方向に沿って往復移動することができる。
【００２６】
次に、本発明による基板保持装置を用いた検査装置について説明する。図５は、本発明による検査装置の一例を示す図であり、図５（Ａ）は線図的平面図、図５（Ｂ）は後方（第１の方向）から見た線図的側面図である。尚、図１〜図４で用いた部材と同一の構成要素については同一符号を付して説明する。本例では、検査すべきガラス基板１１の下側からライン状の照明ビームを投射し、基板の上側に配置した検査ヘッドにより基板１１を透過した透過光を受光してガラス基板１１の異物等の検査を行う例について説明する。ガラス基板１１を４本の支持ワイヤ７〜１０上に載置する。この際、ガラス基板を保持したハンドラをワイヤ支持機構間に挿入することにより、ガラス基板を支持ワイヤ上に載置することができる。
【００２７】
移動ステージ３０は、図４に示す構造のステージを用いる。すなわち、支持ワイヤの延在方向と直交する方向に延在する支持部材３１上に、支持基板上に複数のLEDが第２の方向に沿って配列されたライン状照明光源４８を搭載する。ライン状照明光源４８は、支持ワイヤの延在方向と直交する第２の方向に延在するライン状の照明ビームを放出する。照明光源４８の上側に拡散板４９を配置する。よって、ガラス基板１１の裏面には、ほぼ均一な輝度のライン状照明ビームが入射する。尚、照明光源４８と拡散板４９との間又は拡散板の上側に、ライン状の開口部を有する遮光マスクを配置してもよい。また、第１の方向に集束性を有するシリンドリカルレンズを配置することもできる。
【００２８】
ガラス基板１１の上側にガントリー構造体６０により支持された検査ヘッド６１を配置する。ガントリー構造体６０と対応するように、基台２の両側の側部に第１の方向に延在するリニアモータ６２ａ及び６２ｂ並びにガイドレール６３ａ及び６３ｂを配置する。ガントリー構造体６０は、２つのガイドレール６３ａ及び６３ｂに案内されながらリニアモータ６２ａ及び６２ｂにより第１の方向に沿って往復移動する。検査ヘッド６１は、第２の方向に配列されたラインセンサアレイ６４を有し、ラインセンサアレイ６４によりライン状の照明光源４８から出射しガラス基板１１を透過した透過光を受光する。
【００２９】
欠陥検査に際し、ガラス基板１１の下側に位置する移動ステージ３０と検査ヘッド６１とを同期して第１の方向に移動させる。このステージと検査ヘッドとの同期移動により、ガラス基板１１の全面が照明光により走査される。ガラス基板１１上に異物欠陥等の欠陥が存在する場合、ラインセンサアレイの各受光素子が受光する光量が規定値から低下する。よって、ラインセンサアレイの各受光素子からの出力信号を信号処理装置に供給し、信号処理装置において閾値と比較することにより、ガラス基板に存在する欠陥が検出される。従って、この走査の間に、ラインセンサアレイの各受光素子からの出力信号を閾値と比較し、閾値を下回る出力信号が発生した場合、欠陥検出信号を発生する。同時に、ガントリー構造体の第１の方向（Ｘ方向とする）のアドレス情報とラインセンサの受光素子の位置情報である第２の方向（Ｙ方向とする）のアドレス情報を出力する。この結果、欠陥及びそのアドレス情報を出力することができる。当該検査装置は、移動ステージ３０及び検出ヘッド６１を同期して１方向に走査するだけで、大型ガラス基板の全面について欠陥検査を行うことができる。
【００３０】
次に、本発明による欠陥修正装置について説明する。図６は本発明による基板保持装置を具える欠陥修正装置を示す図であり、図６（Ａ）は線図的平面図、図６（Ｂ）は移動ステージと修正ヘッドとの関係を示す線図的側面図である。尚、図１〜図５で用いた部材と同一の構成要素には同一符号を付して説明する。例えば、カラーフィルタ基板においては、基板表面に存在する突起欠陥を研磨テープを用いて除去ないし修正する欠陥修正装置が実用化されている。本例では、カラーフィルタ基板の表面に存在する突起欠陥を修正するのに好適な欠陥修正装置について説明する。欠陥修正すべき基板１１は、ハンドラにより４本の支持ワイヤ７〜１０上に配置される。ガントリー構造体６０には、突起欠陥を修正する修正ヘッド７０を装着する。修正ヘッド７０は、例えばボールネジのような駆動機構（図示せず）が連結され、支持ワイヤ７〜１０の延在方向であるＸ方向と直交するＹ方向に移動可能に装着する。ガントリー構造体６０は、リニアモータ６２ａ及び６２ｂ並びにガイドレール６３ａ及び６３ｂによりＸ方向に自在に移動することができる。また、ガイドレールに沿ってリニアエンコーダ（図示せず）を配置してガントリー構造体のＸ方向の位置を検出し、コントローラに出力する。従って、修正ヘッド７０は、欠陥検査装置により検出された欠陥のアドレス情報に基づいてＸ及びＹ方向に移動し、欠陥の真上に位置することができる。
【００３１】
突起欠陥の修正に際し、コントローラからガントリー構造体６０の駆動装置に欠陥のＸ方向のアドレス情報が供給され、修正ヘッドを駆動する駆動装置にはＹ方向のアドレス情報が供給される。さらに、移動ステージ３０を駆動する駆動手段には欠陥のＸ方向のアドレス情報が供給される。この結果、図６（Ｂ）に示すように、移動ステージ３０と修正ヘッド７０とは、基板１１をはさんで互いに対向するように位置する。
【００３２】
図６（Ｂ）に示すように、修正ヘッド７０は、光学ヘッド７１及びテープ研磨ヘッド７２を有する。光学ヘッド７１により欠陥を観察することができると共に欠陥の高さを測定することができる。また、テープ研磨ヘッド７２により突起欠陥を除去ないし修正することができる。さらに、修正ヘッド７０は、Ｚ軸方向駆動機構（図示せず）を有し、研磨ヘッドをＺ軸方向に降下させることができる。
【００３３】
移動ステージ３０は、ベース部材３１上に装着した真空吸着手段を有する。すなわち、ベース部材３１にエアー流路が形成された定盤８０を配置する。定盤８０のインレットは、配管８１を介して切替弁８２に接続され、切替弁８２は負圧ポンプ８３及び正圧ポンプ８４に接続する。移動ステージ３０が欠陥のアドレス位置に移動すると、負圧ポンプ８３が作動する。基板１１は負圧により定盤８０に真空吸着され、基板１１は定盤８０上に固定される。基板１１が定盤上に真空保持される間に、基板に対して修正ヘッド７０により所定の修正処理が行われる。
【００３４】
欠陥修正処理について説明する。オペレータが先に検出された欠陥を指定すると、又は欠陥のアドレス情報を入力すると、欠陥のアドレス情報に基づきガントリー構造体６０はＹ方向に移動し修正ヘッド７０はＸ方向に移動し、修正ヘッド７０の光学ヘッド７１が欠陥の真上に位置する。同時に、移動ステージ３０がＸ方向に移動して、基板の欠陥位置の真下に位置する。続いて、負圧ポンプ８３が作動し、基板１１は定盤８０により真空吸着され、基板は静止状態に維持される。基板が定盤に保持され状態において、オペレータは、光学ヘッド７１により欠陥を光学的に観察し、修正の要否を検討する。また、光学ヘッドを用いて欠陥の高さを検出する。
【００３５】
欠陥の修正が必要であると判断された場合、修正ヘッド７０は、テープ研磨ヘッド７２が欠陥の真上に位置するように移動する。例えば、修正処理として、修正ヘッド７０を例えば突起欠陥の高さに相当する距離だけ修正ヘッド７０を降下させ、その間に研磨テープを走行させる。そして、走行する研磨テープにより突起欠陥を研磨し、除去することができる。修正処理が終了した場合、負圧ポンプ８３の作動を停止し、真空吸着を解除する。続いて、正圧ポンプ８４が作動し、定盤８０と基板１１との間にエアー流を供給し、基板を局所的に浮上させる。そして、基板が局所的に浮上した状態で移動ステージ３０を基板に対して相対移動させて、次の欠陥のアドレス位置に移動することができる。尚、正圧ポンプ８４を作動させることなく、移動ステージ３０を欠陥のアドレス位置まで移動させることも可能である。
【００３６】
本発明は上述した実施例だけに限定されず種々の変形や変更が可能である。例えば、上述した実施例では、移動ステージ上に搭載される装置として照明光源及び真空吸着装置を例として挙げたが、目的に応じて種々の装置や手段を搭載することが可能である。
【符号の説明】
【００３７】
１  架台
２  基台
３〜６  ワイヤ支持機構
７〜１０  支持ワイヤ
１１  基板
２０  プーリー
３０  移動ステージ
３１  ベース部材
３２〜３５  プーリー機構
４１ａ〜４１ｄ  プーリー
４３ａ，４３ｂ  スライダ
４４  ガイドレール
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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