(57)【要約】【課題】使用済み研削液の処理能力を向上させ、異物回収率を高めて、加工機に供給される研削液の清浄度を好適に維持することが可能な研削液供給装置を提供する。【解決手段】磁気ディスク用ガラス基板製造における研削工程に使用する加工機への研削液供給装置であって、加工機１Ａ〜１Ｄへ供給する研削液を収容する貯留タンク２と、該貯留タンク２内の研削液を加工機へ供給する供給経路２２Ａ〜２２Ｄと、加工機から使用済の研削液を排出する排出経路１５Ａ〜１５Ｄと、該排出経路から排出される研削液を溜める回収タンク５Ａ〜５Ｄと、該回収タンク内の研削液を遠心分離機３，４へ導入する導入経路１７，１９と、該導入経路から導入される研削液中に混入している異物を除去する遠心分離機３，４と、該異物除去手段によって異物が除去された研削液を貯留タンク２内へ戻す回収経路２０，２１とを具備する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
磁気ディスク用ガラス基板製造における研削工程で使用する加工機へ研削液を供給するための研削液供給装置であって、
前記加工機へ供給する研削液を収容する貯留タンクと、該貯留タンク内の研削液を前記加工機へ供給する供給経路と、前記加工機から使用済の研削液を排出する排出経路と、該排出経路から排出される研削液を溜める回収タンクと、該回収タンク内の研削液を異物除去手段へ導入する導入経路と、該導入経路から導入される研削液中に混入している異物を除去する異物除去手段と、該異物除去手段によって異物が除去された研削液を前記貯留タンク内へ戻す回収経路とを具備することを特徴とする研削液供給装置。
【請求項２】
前記異物除去手段は遠心分離手段であることを特徴とする請求項１に記載の研削液供給装置。
【請求項３】
複数台の加工機からそれぞれ排出される研削液をそれぞれ溜める複数の回収タンクを連結し、１台の異物除去手段へ処理能力に見合う処理量を導入することを特徴とする請求項１又は２に記載の研削液供給装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はハードディスクドライブ（以下「ＨＤＤ」という）などの磁気ディスク装置に搭載される磁気ディスク用のガラス基板製造における研削工程に使用する加工機への研削液供給装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、情報化社会の高度化に伴い、情報記録技術の進歩は著しい。情報記録デバイスとして最も高い記録密度を実現することができる装置の一つがHDDである。HDDにおいては、１平方インチ当り４００ギガビット程度の記録密度が実現できるまでに到っており、情報記録デバイスの中でもとりわけ高い記録密度が実現可能となっている。１平方インチ当り４００ギガビットの記録密度が実現できると、例えば２．５インチ型（直径６５ｍｍ）の磁気ディスクに２５０ギガバイト程度の情報を収納することが可能になる。
【０００３】
HDDにおいてこのような高記録密度が実現できる理由の一つは、極めて高度な工作精度で搭載部品が製造されている点が挙げられる。磁気ディスクの表面は１０ｎｍ程度の表面精度で精密に平滑化されており、この高度の平滑性により、磁気ヘッドは２０ｎｍ程度の低浮上量で飛行しても安全に記録再生ができるようになっている。
【０００４】
このような高度の平滑性を実現できる基板として磁気ディスク用のガラス基板が知られている。ガラス基板は鏡面研磨により表面を高い平滑性に仕上げることが可能な上、剛性が高いので高速なディスク回転にも耐えうるという利点がある。
【０００５】
この磁気ディスク用のガラス基板の製造は、まず、溶融ガラスからダイレクトプレスによりガラスディスクを成型する。次に、この成型したガラスディスクに寸法精度及び形状精度を向上させるためのラッピングを行う。このラッピング工程は、通常両面ラッピング装置を用い、ダイヤモンド等の硬質砥粒を用いてガラスディスク主表面の研削を行なう。こうしてガラスディスク主表面をラッピングすることにより、所定の板厚、平坦度に加工するとともに、所定の表面粗さを得る。
【０００６】
このラッピング工程の終了後は、高精度な平面を得るための鏡面研磨加工を行っている。
従来の技術として、下記特許文献１には、高い平坦度と平滑性を有するガラス基板を高歩留りで製造できる製造方法を開示している。また、下記特許文献２には、基板表面特性を向上させ情報記録媒体用に好適なガラス基板の加工方法を開示している。
【０００７】
【特許文献１】特開２００１−１９１２４７号公報
【特許文献２】特開２０００−３３９６７２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
前述のラッピング加工は、両面ラッピング装置において、ダイヤモンド砥粒等の硬質砥粒を固定したペレットが貼り付けられた上下定盤の間にキャリアにより保持したガラスディスクを密着させ、さらに上記ガラスディスクを上下定盤によって所定圧で挟圧しながら、ガラスディスクと上下定盤とを相対的に移動させることにより、ガラスディスクの両面を同時に研削するのが一般的である。この際、加工作用面を冷却したり、加工を促進するために研削液（クーラントとも呼ばれている）が供給される。この研削液は、使用後に再度ラッピング装置に供給され、循環使用される。
【０００９】
しかし、ラッピング工程では、大量の研削屑（以下「スラッジ」と呼ぶ）が発生し、研削液中にこのようなスラッジなどの異物が混入したまま循環使用されると、定盤表面の砥粒がガラスディスク主表面に作用するのを妨害し、研削効率を著しく低下させてしまう。そのため従来では、遠心分離機などを用いて研削液中のスラッジを出来るだけ取り除くようにしていた。すなわち、研削機からの排出液を遠心分離機へ導入して異物を除去し、スラッジを殆ど含まない研削液が再び研削機へ供給され、循環利用される。
【００１０】
図３は、従来の研削液供給装置の概略構成図である。
１Ａ〜１Ｄはそれぞれ研削機であり、ここでは一例として４台の研削機が設置されている。各研削機１Ａ〜１Ｄへは貯留タンク２から供給経路１４Ａ〜１４Ｄをそれぞれ通って研削液が供給される。貯留タンク２は各研削機へ供給する研削液を貯留しており、研削液の貯液槽２ａと泡消槽２ｂを有している。一方、研削機１Ａの使用済の研削液は排出経路１１Ａから排出され、研削機１Ｂの使用済み研削液は排出経路１１Ｂから排出され、排出経路１１Ａと排出経路１１Ｂは途中で合流して、使用済み研削液は直接貯留タンク２内の貯液槽２ａへ導入される。また、研削機１Ｃの使用済み研削液は排出経路１１Ｃから排出され、研削機１Ｄの使用済み研削液は排出経路１１Ｄから排出され、排出経路１１Ｃと排出経路１１Ｄは途中で合流して、同じく貯留タンク２内の貯液槽２ａへ直接導入される。そして、ポンプＰによって貯液槽２ａ内の研削液は２台の遠心分離機３，４へそれぞれ送られる。各遠心分離機３，４において研削液中に混入しているスラッジ等の異物が除去された研削液は、回収経路１３を通って再び貯留タンク２内の貯液槽２ａ内へ戻される。
【００１１】
このような従来の研削液供給装置は、各研削機から排出されるスラッジ等を含む研削液（廃液）を貯留タンク２内に直接取り込んでしまうため、廃液中の異物が遠心分離機３，４で処理されるまでに停滞時間が必要であり、使用済み研削液の処理能力の低下を招いていた。また、遠心分離機の異物回収率（異物除去率）は低く、さらに遠心分離機に常時一定量の廃液を供給すると遠心分離機の負荷が大きく、故障も増大する。さらに、上記貯留タンク２内は、新液と、遠心分離機で異物が除去されて回収された研削液と、各研削機から排出されるスラッジ等を含む研削液（廃液）とが常時混在しているため、比較的大きな粒径の異物は遠心分離機で除去されたり、あるいは槽内に沈殿したりするが、小さな粒径の異物は貯留タンク内に浮遊して除去されないまま研削機へ供給されてしまう不具合が発生する。
【００１２】
前述のダイヤモンドペレットやダイヤモンドシートなどを用いた固定砥粒による研削加工は、遊離砥粒を用いた研削加工と比べて、研削量が小さく、高精細の加工を行えるので、加工に伴って排出されるスラッジ等は微細な粒径のものが多く含まれている。従って、上述の従来の研削液供給装置では、このような微細なスラッジ等が十分に除去されないまま研削液の循環供給が行われており、加工機に供給される研削液の清浄度を好適に維持することが困難であった。
【００１３】
本発明は、このような従来の課題に鑑みなされたものであり、その目的は、使用済み研削液の処理能力を向上させ、異物回収率を高めて、加工機に供給される研削液の清浄度を好適に維持することが可能な研削液供給装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明は、上記課題を解決するため、以下の構成を有する。
（構成１）磁気ディスク用ガラス基板製造における研削工程で使用する加工機へ研削液を供給するための研削液供給装置であって、前記加工機へ供給する研削液を収容する貯留タンクと、該貯留タンク内の研削液を前記加工機へ供給する供給経路と、前記加工機から使用済の研削液を排出する排出経路と、該排出経路から排出される研削液を溜める回収タンクと、該回収タンク内の研削液を異物除去手段へ導入する導入経路と、該導入経路から導入される研削液中に混入している異物を除去する異物除去手段と、該異物除去手段によって異物が除去された研削液を前記貯留タンク内へ戻す回収経路とを具備することを特徴とする研削液供給装置。
【００１５】
（構成２）前記異物除去手段は遠心分離手段であることを特徴とする構成１に記載の研削液供給装置。
【００１６】
（構成３）複数台の加工機からそれぞれ排出される研削液をそれぞれ溜める複数の回収タンクを連結し、１台の異物除去手段へ処理能力に見合う処理量を導入することを特徴とする構成１又は２に記載の研削液供給装置。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、使用済み研削液の処理能力を向上させ、異物回収率を高めて、加工機に供給される研削液の清浄度を好適に維持することが可能な研削液供給装置を提供することができる。
また、加工に伴って排出される微細な粒径の異物を多く含む場合であっても、これらの異物を効率良く回収でき、加工機に供給される研削液の清浄度を好適に維持することが可能な研削液供給装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下、図面を参照して、本発明の実施の形態を詳述する。
図１及び図２は、いずれも本発明に係る研削液供給装置の一実施の形態を示す構成図である。
１Ａ〜１Ｄはいずれも磁気ディスク用ガラス基板製造における研削加工工程で使用する研削加工機（以下「加工機」という）であり、ここでは一例として４台の加工機が設置されている。
【００１９】
一般には、溶融ガラスから所定の大きさに成型されたガラスディスクに寸法精度及び形状精度を向上させるためのラッピング工程を行う。このラッピング工程では、先ずガラスディスク主表面の研削を行い、所定の表面粗さに仕上げている。このガラスディスク主表面の研削工程は、例えば両面同時加工機（研削機）を用いて、例えばダイヤモンド砥石を固定した上下の両定盤をガラスディスクに押し付け、研削液を供給しながら前記定盤と前記ガラスディスクとを相対的に移動させてガラスディスク主表面の研削を行う。
【００２０】
本発明は、このようなダイヤモンド砥石（ダイヤモンドペレットやダイヤモンドシートなど）を使用したガラスディスク主表面の研削工程や、ダイヤモンドホイールを使用したゼネレーター研削工程、コアドリルを使用した孔あけ加工工程等で使用する加工機へ研削液を供給する研削液供給装置である。
【００２１】
本実施の形態の研削液供給装置は、各加工機１Ａ〜１Ｄへ供給する研削液を収容する貯留タンク２と、該貯留タンク２内の研削液を各加工機１Ａ〜１Ｄへそれぞれ供給する供給経路２２Ａ〜２２Ｄと、各加工機１Ａ〜１Ｄからそれぞれの使用済の研削液を排出する排出経路１５Ａ〜１５Ｄと、該排出経路１５Ａ〜１５Ｄから排出される研削液をそれぞれ溜める回収タンク５Ａ〜５Ｄと、各回収タンク５Ａ〜５Ｄ内の研削液を２台の遠心分離機３，４へそれぞれ導入する導入経路１７，１９と、該導入経路１７，１９から導入される研削液中に混入している異物を除去する異物除去手段である２台の遠心分離機３，４と、該異物除去手段によって異物が除去された研削液を貯留タンク２内へ戻す回収経路２０，２１とを具備する。
【００２２】
上記貯留タンク２は各加工機へ供給する研削液を収容しており、研削液の貯液槽２ａと泡消槽２ｂとを有している。この貯液層２ａは、本実施の形態でいえば４台の加工機に対し十分な流量の研削液を循環供給させることが可能な容量を有している。貯液槽２ａ内には仕切り２３が設置されており、該仕切り２３は底までは到達していないため、仕切り２３で仕切られた左右の槽は下方で連通している（図２を参照）。また、貯液槽２ａの左右の側壁及び上記仕切り２３の高さはそれぞれ異なっており、本実施の形態では、図２における右側の槽から左側の槽へ順に研削液がオーバーフローするようになっている。
【００２３】
また、上記各回収タンク５Ａ〜５Ｄは、各加工機１Ａ〜１Ｄからそれぞれ排出される使用済の研削液を一時的に溜めておくものであり、各加工機からの排出量に応じた適当な容量を有している。
【００２４】
また、本実施の形態では、上記回収タンク５Ａと５Ｂとは連結し、回収タンク５Ｃと５Ｄも同様に連結している。４台の加工機からそれぞれ排出される研削液をそれぞれ溜める４つの回収タンクを２つずつ連結し、各々から１台の異物除去手段へ処理能力に見合う処理量を導入するようにしている。
【００２５】
以上の構成に係る研削液供給装置によって、各加工機１Ａ〜１Ｄへは貯留タンク２の貯液槽２ａからポンプＰで供給経路２２Ａ〜２２Dをそれぞれ介して研削液が供給される。一方、加工機１Ａの使用済の研削液は排出経路１５Ａから排出され、回収タンク５Ａ内に一時的に溜められる。同様に、加工機１Ｂの使用済み研削液は排出経路１５Ｂから排出され、加工機１Ｃの使用済み研削液は排出経路１５Ｃから排出され、加工機１Ｄの使用済み研削液は排出経路１５Ｄから排出され、それぞれ回収タンク５Ｂ，５Ｃ，５Ｄ内に溜められる。
【００２６】
本実施の形態では、上記回収タンク５Ａと５Ｂとは連結しており、回収タンク５Ｂ内に溜められた研削液は導入経路１６を通じて回収タンク５Ａへ導入され、ここで回収タンク５Ａ内の研削液と一緒にポンプＰで導入経路１７を通じて１台の遠心分離機３へ送られる。また、上記回収タンク５Ｃと５Ｄも連結しており、回収タンク５Ｃ内に溜められた研削液は導入経路１８を通じて回収タンク５Ｄへ導入され、ここで回収タンク５Ｄ内の研削液と一緒にポンプＰで導入経路１９を通じて１台の遠心分離機４へ送られる。
【００２７】
そして、各遠心分離機３，４において研削液中に混入しているスラッジ等の異物が除去され清浄化された研削液は、それぞれの回収経路２０，２１を通じて再び貯留タンク２の貯液槽２ａ内へ戻される。
【００２８】
このような本実施の形態の研削液供給装置によれば、各加工機から排出されるスラッジ等の異物を含む研削液（廃液）を一旦それぞれの回収タンクに溜めてから、遠心分離機の処理能力に見合う処理量の一定量を遠心分離機に導入し、直ちに遠心分離機で異物除去処理を行うため、従来装置のような遠心分離機で処理されるまでの停滞時間がなく、使用済み研削液の処理能力が著しく向上する（例えば従来の３倍以上）。また、遠心分離機の異物回収率（異物除去率）も高まる（例えば従来の３倍以上）。さらに遠心分離機に常時一定量の廃液を供給するため、遠心分離機の負荷が小さく、故障も少なくなる。さらに、上記貯留タンク２内は、新液と、遠心分離機で異物が除去されて回収された研削液だけが常時混在しているため、常に清浄な研削液が各加工機へ供給される。
【００２９】
また、本実施の形態の研削液供給装置は、前述のダイヤモンドペレットやダイヤモンドシートなどを用いた固定砥粒による研削加工に伴って排出される微細な粒径のスラッジ等を多く含む場合であっても、これらの異物を効率良く回収でき、各加工機に供給される研削液の清浄度を好適に維持することが可能である。
【００３０】
なお、本実施の形態では、加工機が４台、遠心分離機が２台の場合をあげて説明したが、本発明は勿論これに限定されるものではない。各加工機の処理能力、各加工機から排出される使用済み研削液の排出量、異物除去手段の処理能力などを考慮して適宜変更することができる。また、本実施の形態では、異物除去手段として遠心分離機を使用した場合を説明したが、本発明は勿論遠心分離機に限定される必要はない。
【図面の簡単な説明】
【００３１】
【図１】本発明の研削液供給装置の構成図である。
【図２】同じく本発明の研削液供給装置の構成図である。
【図３】従来の研削液供給装置の構成図である。
【符号の説明】
【００３２】
１Ａ〜１Ｄ  研削加工機
２  貯留タンク
３，４                    遠心分離機
５Ａ〜５Ｄ  回収タンク
１５Ａ〜１５Ｄ  排出経路
１６，１７，１８，１９  遠心分離機への導入経路
２０，２１  貯留タンクへの回収経路
２２Ａ〜２２Ｄ  研削加工機への供給経路
【図１】
2010076067.tif 000003
【図２】
2010076067.tif 000004
【図３】
2010076067.tif 000005