(57)【要約】【課題】反射鏡において、光学設計に忠実で高精度な配光が得られ、かつ、高出力の光源の熱に耐える。【解決手段】反射鏡１は、ポリフェニレンサルファイド系樹脂又はポリエーテルイミド系樹脂のうちの少なくとも一つの樹脂から成る基材１１と、基材１１上に設けられる光学多層膜１３と、を備える。基材１１と光学多層膜１３の間には、基材１１側から順にシリコン層１４、一酸化シリコン層１５、二酸化シリコン層１６が積層される。反射鏡１は、このシリコン層１４、一酸化シリコン層１５、二酸化シリコン層１６が高温耐久性を向上させるので高出力の光源の熱に耐えることができ、かつ、樹脂を射出成形することで光学設計通りの曲線に基材１１が成形されるので、高精度な配光を得ることができる。【選択図】図３
2010164747.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリフェニレンサルファイド系樹脂又はポリエーテルイミド系樹脂のうちの少なくとも一つの樹脂から成る基材と、該基材上に設けられる光学多層膜と、を備える反射鏡であって、
前記基材と光学多層膜の間に、該基材側から順にシリコン層、一酸化シリコン層、二酸化シリコン層が積層されることを特徴とする反射鏡。
【請求項２】
光源と、請求項１に記載の反射鏡とを備えることを特徴とする照明器具。
【請求項３】
光源と、該光源から遠い部分と近い部分とから成る反射鏡と、を備え、
前記光源から遠い部分は、請求項１に記載の反射鏡で形成され、
前記光源から近い部分は、金属又はガラスのうちの少なくとも一つから成る基材と、該基材上に設けられる光学多層膜と、を有する反射鏡で形成されることを特徴とする照明器具。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、可視光線を反射し、赤外線を透過又は吸収することで、光源から照射される赤外線による被照射物の表面温度の上昇を抑制する反射鏡に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、店舗用の照明器具には、被照射物の演色性に優れるハロゲンランプやメタルハライドランプを光源とした照明器具が用いられる。ハロゲンランプやメタルハライドランプは、その照射光の成分中に可視光線や赤外線（熱線）を含む。この赤外線は、被照射物に作用して熱劣化や退色を引き起こす。
【０００３】
そこで、ハロゲンランプやメタルハライドランプを光源としたスポットライトに使用される反射鏡は、光波の干渉を利用して可視光線のみを選択的に反射すると共に、不要な赤外線（熱線）を透過又は吸収するコールドミラー（ダイクロイックミラー）が用いられることが一般的に知られている。このコールドミラーによって構成される反射鏡は、基材と、この基材上に積層して成る光学多層膜と、を備える。光学多層膜は、光学膜厚ｎｄ（ｎ：屈折率、ｄ：膜厚）が可視光波長の４分の１となるように設計された高屈折率物質層と低屈折率物質層が、基材上に交互に１５層から４０層程度積層して成る。
【０００４】
高屈折率物質層の材質は、酸化チタン（ＴｉＯ２）、酸化ジルコン（ＺｒＯ２)、五酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ５)、酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）等が使用される。これらの材質は、要求光学特性に応じて使い分けられ、単独で使用してもよいし、又は複数を混合して使用してもよい。低屈折率物質層の材質は、二酸化珪素（ＳｉＯ２）、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ２)、フッ化カルシウム（ＣａＦ２)、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３)等が使用される。
【０００５】
光学多層膜は、真空蒸着法、イオンプレーティング法、イオンアシスト法、反応性スパッタリング法により成膜される。また近年では、光学多層膜は、膜密度を高めて透過・反射特性、密着強度、耐熱衝撃性を向上させることができるイオンビームアシスト蒸着法、高周波印加型イオンプレーティング蒸着法、プラズマアーク蒸着法などによっても成膜される。
【０００６】
基材は、その材質によって反射鏡の性質が異なるので各材質ごとに説明する。まず、基材の材質に硬質ガラスが用いられたガラス成形反射鏡が知られている（例えば、特許文献１参照）。このガラス成形反射鏡の基材は、溶融した硬質ガラスを所定の金型でプレス成形することによってパラボラ形状に形成される。溶融した硬質ガラスは、プレス成型の際に金型の微細な溝（ｆａｃｅｔ）形状に入り込み難いので金型の転写性が悪い。さらに、ガラス成形反射鏡の表面の曲線は、プレス成形後の徐冷によって基材が収縮することによって変化する。そのため、ガラス成形反射鏡は光学設計に忠実な形状が得られ難い。
【０００７】
次に、基材の材質にアルミニウムが用いられた金型成形反射鏡が知られている。金型成形反射鏡の基材は、高速回転している金型（マンドレル）にヘラでアルミニウム板を押し当てながら成形する、いわゆるスピニング法による絞り加工によって、パラボラ形状に形成される。パラボラ形状となった基材の内面は、羽布研磨による超鏡面仕上げで面粗度Ｒａ０．２μｍ程度の平滑な面に仕上げられ、さらに脱脂、電解研磨、アルマイト処理がされた後に光学多層膜が形成される。金属成形反射鏡は、金型に忠実な曲線が形成されるので、光学設計に忠実な形状が得られる。しかし、金属成形反射鏡は、上記のとおり超鏡面仕上げをしても面粗度Ｒａ０．２μｍ程度が限界であり、かつ、光学多層膜との密着性を確保するためのアルマイト処理（陽極酸化処理）によって、酸化被膜を１．０μｍ程度形成する必要があるので、表面の面粗度が荒れてしまう。金属成形反射鏡は、表面の面粗度が粗れたことによって拡散反射成分が増加するので、光学設計どおりのビーム角が得られ難く、かつ、ガラス成形反射鏡や後述するエンプラ成形反射鏡に比べて中心光度が低い。
【０００８】
そこで、基材の材質にエンジニアプラスチック（以下、エンプラという）が用いられたエンプラ成形反射鏡が知られている（例えば、特許文献２参照）。このような基材の材質にエンプラを用いた反射鏡の概略構成を図９に示す。エンプラ成形反射鏡３１は、射出成型によってパラボラ形状に形成され、材質がエンプラの基材３２と、基材３２上に高屈折率物質層３３と低屈折率物質層３４とが交互に２０層以上積層して成る光学多層膜３５と、を備える。
【０００９】
基材３２の材質は、連続耐熱性が１６０〜１８０℃程度であるポリエーテルイミド樹脂（ＰＥＩ）、バルクモールディングコンパウンド（ＢＭＣ／不飽和ポリエステル樹脂）、ポリフェニレンサルファイド（ＰＰＳ）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）等の樹脂単体が使用される。また、基材３２の材質は、これら樹脂と、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリエステル（ＰＥＴ)、又はＰＣ／ＰＢＴとから成るアロイ材などが使用されてもよい。
【００１０】
なお、図示していないが、エンプラ成形反射鏡３１は、光学多層膜３５に替えて、基材３２の内面に光輝性金属（クロム、ステンレス鋼、アルミニウム、銀、銀合金）から成る反射膜を真空蒸着法やスパッタリング法で成膜してもよい。この反射膜は、鏡面金型を用いて基材３２の射出成形をすることで表面の平滑性が上がった基材３２上に形成されるか、又は平滑性を上げるために基材３２に下塗りされた塗膜上に形成される。また、反射膜は、酸化劣化や腐食を避けて長期耐久性を確保するために、ＳｉＯ２やＡｌ２Ｏ３のような透明無機膜、又はシリコン系、シリコンアクリル系の塗膜がオーバーコートされる。
【００１１】
エンプラ成形反射鏡３１は、射出成形により光学設計通りの曲線が成形されると共に、基材３２の表面が面粗度Ｒａ０．１μ以下に抑えられるので、ガラス成形反射鏡や金属成形反射鏡に比べて光学設計に忠実に再現される。そのため、エンプラ成形反射鏡３１は、高精度な光学設計の再現が求められる医療用の無影灯や自動車用のヘッドライトに使用される。
【００１２】
しかし、エンプラ成形反射鏡３１は、耐熱温度がエンプラの連続耐熱温度（１６０〜１８０℃）で制約されている。そのため、エンプラ成形反射鏡３１は、高出力のハロゲンランプやセラミックメタルハライドランプ（高輝度放電灯ＨＩＤ)を光源として用いる場合、反射鏡全体が高温となるわけではないが、反射鏡の光源近傍が高温となるので使用することができない。また、エンプラ成形反射鏡３１は、１６０℃程度の加熱サイクル試験で光学多層膜３５にクラックが入ったり、剥離してしまうので、高温で長期間使用するときの耐久性に課題がある。そのため、エンプラ成形反射鏡３１は、使用する際に極力温度が上昇しないような設計配慮が必要となるので、光源近傍に反射鏡が接近するスポットライトのような照明器具への展開が難しい。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１３】
【特許文献１】特開平８−２９２３２０号公報
【特許文献２】特開２００４−４５８８３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
本発明は、上記問題を解決するためになされたものであり、光学設計に忠実で高精度な配光が得られ、かつ、高出力の光源の熱に耐えることができる反射鏡及びこれを用いた照明器具を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
上記目的を達成するために請求項１の発明は、ポリフェニレンサルファイド系樹脂又はポリエーテルイミド系樹脂のうちの少なくとも一つの樹脂から成る基材と、該基材上に設けられる光学多層膜と、を備える反射鏡であって、前記基材と光学多層膜の間に、該基材側から順にシリコン層、一酸化シリコン層、二酸化シリコン層が積層されるものである。
【００１６】
請求項２の発明は、光源と、請求項１に記載の反射鏡とを備える照明器具である。
【００１７】
請求項３の発明は、光源と、該光源から遠い部分と近い部分とから成る反射鏡と、を備え、前記光源から遠い部分は、請求項１に記載の反射鏡で形成され、前記光源から近い部分は、金属又はガラスのうちの少なくとも一つから成る基材と、該基材上に設けられる光学多層膜と、を有する反射鏡で形成される照明器具である。
【発明の効果】
【００１８】
請求項１及び請求項２の発明によれば、シリコン層、一酸化シリコン層、二酸化シリコン層が高温耐久性を向上させるので、高出力の光源の熱に耐えることができ、かつ、樹脂を射出成形することで、より光学設計通りの曲線に基材が成形されるので高精度な配光を得ることができる。
【００１９】
請求項３の発明によれば、光源から近い部分の基材の材質が、樹脂よりも高温耐久性のある金属又はガラスであるので、光源から近い部分の温度が樹脂では耐えられない温度（３００℃程度）となっても使用することができる。また、光源から遠い部分の基材が、樹脂を射出成形することで光学設計通りの曲線に成形されるので、高精度な配光を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本発明の一実施形態に係る反射鏡を用いた照明器具の断面図。
【図２】同反射鏡の外観図。
【図３】同反射鏡の断面構成図。
【図４】同反射鏡の波長に対する反射率の特性を示す図。
【図５】同反射鏡の変形例を用いた照明器具の断面図。
【図６】同反射鏡の変形例を示す外観図。
【図７】同反射鏡の変形例の断面構成図。
【図８】同反射鏡の他の変形例を示す外観図。
【図９】従来の反射鏡の断面構成図。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
本発明の一実施形態に係る反射鏡について図面を参照して説明する。図１及び図２は本実施形態の反射鏡１の構成と、それを備える照明器具２の構成を示す。照明器具２は、器具本体３と、器具本体３に設置される反射鏡１と、器具本体３内のソケット４に装着される光源５と、を備える。反射鏡１は、パラボラ形状であり、光源５を挿通するための開口と、光源５から照射される光を照明器具２の外に照射するための開口とを有し、光源５を挿通するための開口の外周面に被保持部６が設けられる。被保持部６は、器具本体３に設けられた保持部７と嵌合することによって、反射鏡１が器具本体３に保持される。
【００２２】
光源５から照射される照射光８は、反射鏡１に当たったときに、可視光線である反射光９と、赤外線である透過光１０とに分かれる。反射光９は、赤外線を含んでいないので被照射物の熱劣化や退色を引き起こすことがない。なお、反射鏡１は、赤外線を透過光１０として出射させるのではなく、後述するように反射鏡１の基材で赤外線を吸収する構成であってもよい。
【００２３】
図３は本実施形態の反射鏡１の構成を示す。反射鏡１は、基材１１と、この基材１１上に、基材１１側から順に緩衝膜１２、光学多層膜１３が積層して成る。緩衝膜１２は、基材１１側から順にシリコン（Ｓｉ）層１４、一酸化シリコン（ＳｉＯ）層１５、二酸化シリコン（ＳｉＯ２）層１６が積層して成る。光学多層膜１３は、緩衝膜１２上に高屈折率物質層１７と低屈折率物質層１８が交互に積層して成る。光源５から照射された照射光８は、照射光８中の可視光線が光学多層膜１３に反射されて反射光９となり、照射光８中の赤外線が光学多層膜１３、緩衝膜１２、基材１１の順に透過して透過光１０となる。
【００２４】
基材１１は、エンプラの中でも表面平滑性（成膜後の鏡面性）及び耐熱性に優れるポリフェニレンサルファイド系樹脂（ＰＰＳ）又はポリエーテルイミド系樹脂（ＰＥＩ）のうちの少なくとも一つの樹脂から成り、射出成形により任意の形に賦形される。そのため、基材１１は、面素度や金型の微細な溝形状の転写性に優れ、材質がガラスの基材では形成が困難な形状も容易に作ることができる。また、照明器具２は、射出成形により光学設計通りの曲線に基材１１を成形できるので、高精度な配光が得られる。
【００２５】
ＰＰＳやＰＥＩは、表面平滑性を阻害しない範囲で炭酸カルシウム、タルク、硫酸バリウムやカーボン等の無機フィラーが添加されても良い。無機フィラーの添加量としては、４０〜５５ｗｔ％が好ましい。無機フィラーの添加量が４０ｗｔ％以下では、基材１１の熱膨張収縮を抑制する効果が薄れ、５５ｗｔ％以上では、光学多層膜１３を成膜した後に表面平滑性の低下や密着性の低下が起こる。
【００２６】
基材１１の材質がＰＥＩの場合、ＰＥＩは、吸湿性が高いので基材１１から水蒸気が発生する。この水蒸気は、真空蒸着法や反応性スパッタリング法によって基材１１に光学多層膜１３を形成することを妨げる。そこで、射出成形前のペレット材や射出成形後の基材１１を、望ましくは２００〜２２０℃で４時間以上の条件で、十分に乾燥させる。乾燥した基材１１は、水蒸気の発生が抑制されるので緩衝膜１２及び光学多層膜１３の成膜が容易となり、かつ、成膜後の光学多層膜１３の耐久性が向上する。
【００２７】
基材１１の材質がＰＰＳの場合、ＰＰＳは、吸湿性が低いのでＰＥＩの場合ほど水分を気にする必要は無い。しかし、反射鏡１が高温に加熱された場合、基材１１から生じた水分の蒸発によって緩衝膜１２や光学多層膜１３が基材１１から剥離しやすくなるので、これを防ぐために、射出成形後の基材１１は吸湿しないようにすることが望ましい。また、射出成形時に発生する未反応モノマーは、基材１１の表面や射出成形金型の表面に付着し、基材１１の表面平滑性を阻害する。そのため、射出成形金型はガス抜きベントを必ず有し、かつ、射出成形条件はせん断発熱によりガスが発生しないように配慮することが必要である。また、基材１１は、光学多層膜１３の成膜前に中性洗剤やイソプロピルアルコール浴中で超音波付加して洗浄することで、基材１１の表面に付着している低分子モノマー成分が取り除かれて表面平滑性が向上する。なお、ＰＰＳは、透明でないためにＰＥＩに比べ赤外線透過性に劣るので、カーボン等の顔料によって黒に着色することで、光学多層膜１３を透過してきた赤外線を透過するのではなく吸収してもよい。
【００２８】
基材１１と光学多層膜１３の間に形成される緩衝膜１２は、同間において傾斜機能的に膨張率を変化させるために、すなわち、光源５の点灯時及び消灯時で発生する基材１１の熱膨張収縮を緩和させるために設けられる。緩衝膜１２のＳｉ層１４、ＳｉＯ層１５、ＳｉＯ２層１６は、プラスチックと誘電体の中間の膨張率を持ち、赤外線透過性を有する材質から成る層である。反射鏡１は、Ｓｉ層１４、ＳｉＯ層１５、ＳｉＯ２層１６によって高温耐久性を向上させるので高出力の光源５の熱に耐えることができる。
【００２９】
緩衝膜１２の成膜方法は、特に限定されるものではないが、真空蒸着法、イオンアシスト蒸着法、プラズマアシスト蒸着法、反応性スパッタリング法などが挙げられる。これら成膜方法の中でも反応性スパッタリング法は、成膜後の光学多層膜１３に圧縮応力がより多く掛かると共に、Ｓｉ層１４、ＳｉＯ層１５、ＳｉＯ２層１６を連続して形成することができるので好ましい。また、緩衝膜１２の成膜は、基材１１を２００℃に加熱してから行うことが好ましい。
【００３０】
光学多層膜１３の高屈折率物質層１７と低屈折率物質層１８は、各層の光学膜厚ｎｄ（ｎ：屈折率、ｄ：膜厚）が可視光波長の４分の１となるように設計され、１５層から４０層程度積層する。高屈折率物質層１７の材質は、酸化チタン（ＴｉＯ２）、五酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ５)、硫化亜鉛（ＺｎＳ）、酸化ジルコン（ＺｒＯ２)、酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）が挙げられ、高温耐久性の面からＴｉＯ２、Ｔａ２Ｏ５、Ｎｂ２Ｏ５が好ましい。低屈折率物質層１８の材質は、二酸化珪素（ＳｉＯ２）、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ２)、フッ化カルシウム（ＣａＦ２)、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３)が挙げられ、高温耐久性の面からＳｉＯ２が好ましい。高屈折率物質層１７と低屈折率物質層１８の組合せは、光学多層膜１３の圧縮応力を高める点からＴａ２Ｏ５／ＳｉＯ２が好ましい。これら光学多層膜１３の材質は、単独で使用してもよいし、又は複数を混合して使用してもよい。
【００３１】
高屈折率物質層１７と低屈折率物質層１８の積層方法は、特に限定されるものではないが、真空蒸着法、イオンアシスト蒸着法、プラズマアシスト蒸着法、反応性スパッタリング法などが挙げられる。また、光学多層膜１３の成膜は、基材１１を２００℃に加熱してから行うことが好ましい。ただし、基材１１の加熱温度は、基材１１の材質の熱変形温度以上にしてはならない。
【００３２】
次に、本実施形態の反射鏡１における実施例１乃至実施例４、及び比較例１について説明する。
【００３３】
（実施例１）
基材１１の材質をＰＥＩ（商品名：ＵＬＴＥＭ、ＳＡＢＩＣ社製）とし、その基材１１上に、基材１１側から順にＳｉ層１４、ＳｉＯ層１５、ＳｉＯ２層１６を積層して緩衝膜１２を形成する。次に、高屈折率物質層１７の材質であるＴｉＯ２及び低屈折率物質層１８の材質であるＳｉＯ２をＳｉＯ２層１６上に交互に２１層積層して光学多層膜１３を形成し、反射鏡１を得た。表１にＳｉ層１４、ＳｉＯ層１５、ＳｉＯ２層１６、高屈折率物質層１７及び低屈折率物質層１８の各光学膜厚を示す。光学膜厚の欄に記載された値は、設計波長λを６００ｎｍとしたときのλ／４の値を１として算出した値である。この値とλ／４との積が光学膜厚を示す。
【００３４】
【表１】
2010164747.tif 000003
【００３５】
次に、反射鏡１における波長に対する反射率を測定した。この反射率の測定結果を図４に示す。図４から分かるように、反射鏡１は波長３８０〜７８０ｎｍの可視光線をほぼ１００％反射する。
【００３６】
（実施例２）
高屈折率物質層１７の材質をＴａ２Ｏ５とした以外は、実施例１と同様にして反射鏡１を得た。
【００３７】
（実施例３）
基材１１の材質をＰＰＳ（商品名：トレリナ、東レ株式会社製）とした以外は、実施例１と同様にして反射鏡１を得た。
【００３８】
（実施例４）
高屈折率物質層１７の材質をＴａ２Ｏ５とした以外は、実施例３と同様にして反射鏡１を得た。
【００３９】
（比較例１）
基材の材質をＰＥＩとし、高屈折率物質層の材質であるＴｉＯ２及び低屈折率物質層の材質であるＳｉＯ２を基材上に交互に２１層積層して光学多層膜を形成し、反射鏡１を得た。高屈折率物質層及び低屈折率物質層の各光学膜厚は、表１に示される４〜２４層と同じ光学膜厚とした。
【００４０】
＜耐熱試験＞
上記のように作製した実施例１乃至実施例４と比較例１のサンプルを、２００℃で３０日間加熱する耐熱試験を行った。反射鏡に異常が無い場合を○、異常が有る場合を×として判定を行い、その判定結果を下記の表２に示す。
【００４１】
【表２】
2010164747.tif 000004
【００４２】
実施例１乃至実施例４と比較例１に係るサンプルに耐光試験を施した結果から明らかなように、本実施形態の反射鏡１は、高温下で長期間使用しても反射鏡に異常が発生していないので、高温耐久性が高い。そのため、本実施形態の反射鏡１は、高出力の光源が設けられた照明器具に用いても、光源から照射される熱に耐えることができる。
【００４３】
図５乃至図７は、反射鏡１の変形例である反射鏡２１の構成を示す。照明器具２２は、光源５と、光源５から遠い部分の反射部２３（以下、第１の反射部という）と光源５から近い部分の反射部２４（以下、第２の反射部という）とから成る反射鏡２１と、を備える。第１の反射部２３は、本実施形態の反射鏡１と同じ構成の反射鏡で形成され、ＰＰＳ又はＰＥＩのうちの少なくとも一つから成る基材１１と、Ｓｉ層１４、ＳｉＯ層１５、ＳｉＯ２層１６から成る緩衝膜１２と、高屈折率物質層１７と低屈折率物質層１８から成る光学多層膜１３と、を有する。
【００４４】
第２の反射部２４は、金属又はガラスのうちの少なくとも一つから成る基材２５と、この基材２５上に設けられる光学多層膜２６と、を有する反射鏡で形成される。特に基材２５は、第２の反射部２４の温度が３００℃以上に上昇する場合、アルミナ珪酸系の結晶化ガラスを材質として用いることが望ましい。光学多層膜２６は、基材２５上に高屈折率物質層２７と低屈折率物質層２８が交互に積層して成る。光学多層膜２６の積層数及び光学膜厚は、第１の反射部２３の光学多層膜１３における積層数及び光学膜厚と同じでもよいし、又は異なっていてもよい。第１の反射部２３と第２の反射部２４はインサート成形によって接合又は嵌合される。
【００４５】
照明器具２２は、第２の反射部２４の材質が樹脂よりも高温耐久性のある金属又はガラスであるので、第２の反射部２４の温度が樹脂では耐えられない温度（３００℃程度）となっても使用することができる。また、アスペクト比の大きなパラボラ形状への均一成膜は、光学多層膜の製法上、非常に困難であるが、反射鏡２１を第１の反射部２３と第２の反射部２４に分割することで容易となる。また、照明器具２２は、第１の反射部２３の基材１１が、射出成形で光学設計通りの曲線に成形されるので高精度な配光を得ることができる。
【００４６】
図８は、反射鏡１の他の変形例である反射鏡３０の構成を示す。反射鏡３０は、第１の反射部２３と第２の反射部２９から成り、上記の反射鏡２１と比較すると、第２の反射部２９の形状が第２の反射部２４の形状と異なる点のみが相違する。このように第２の反射部２９の形状を変えて曲率を変化させることで、照射ビーム角を任意に制御することができる。また、第２の反射部２９の光学多層膜に係る光学膜厚の調整によって可視光域の反射スペクトルを操作することで、反射ビームの色温度や演色性を変えることができる。
【００４７】
なお、本発明は、上記の実施形態の構成に限られず、発明の要旨を変更しない範囲で種々の変形が可能である。例えば、基材の光学多層膜及び緩衝膜が形成されていない面にも光学多層膜などが形成されても構わない。
【符号の説明】
【００４８】
１、２１、３０  反射鏡
２、２２  照明器具
５  光源
１１、２５  基材
１３、２６  光学多層膜
１４  シリコン層（Ｓｉ層）
１５  一酸化シリコン層（ＳｉＯ層）
１６  二酸化シリコン層（ＳｉＯ２層）
２３  光源から遠い部分（第１の反射部）
２４、２９  光源から近い部分（第２の反射部）
【図１】
2010164747.tif 000005
【図２】
2010164747.tif 000006
【図３】
2010164747.tif 000007
【図４】
2010164747.tif 000008
【図５】
2010164747.tif 000009
【図６】
2010164747.tif 000010
【図７】
2010164747.tif 000011
【図８】
2010164747.tif 000012
【図９】
2010164747.tif 000013