(57)【要約】      （修正有）【課題】液剤を効率良く対象物に付着させることが可能なミスト発生装置を提供する。【解決手段】ミストＭ１を発生させて噴霧対象物Ｆに噴霧するミスト発生機構１２と、液剤Ｍ２を霧化して前記噴霧対象物に噴霧する液剤噴霧機構１３と、前記ミストと前記液剤とを交互に噴霧させるように前記ミスト発生機構及び前記液剤噴霧機構を制御する制御手段１４とを備え、ミストと液剤とを別々に噴霧させるため、対象物に過剰に付着したミストの水分とともに流れ落ちる液剤の量を抑えた。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ミストを発生させて噴霧対象物に噴霧するミスト発生機構と、
液剤を霧化して前記噴霧対象物に噴霧する液剤噴霧機構と、
前記ミストと前記液剤とを交互に噴霧させるように前記ミスト発生機構及び前記液剤噴霧機構を制御する制御手段と
を備えたことを特徴とするミスト発生装置。
【請求項２】
請求項１に記載のミスト発生装置において、
前記制御手段は、前記ミスト発生機構の駆動と停止を行った後に、前記液剤噴霧機構の駆動と停止を行うまでを１サイクルとして、そのサイクルを所定回数繰り返すように制御することを特徴とするミスト発生装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載のミスト発生装置において、
前記制御手段は、前記ミスト発生機構の駆動時間が予め設定された所定時間に達したときに前記ミスト発生機構を停止することを特徴とするミスト発生装置。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１項に記載のミスト発生装置において、
前記噴霧対象物の表面の水分量を直接又は間接的に検知するための水分量検知手段を備え、
前記制御手段は、前記水分量検知手段で検知した水分量が所定値に達したときに前記ミスト発生機構を停止することを特徴とするミスト発生装置。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１項に記載のミスト発生装置において、
前記噴霧対象物の表面の温度を直接又は間接的に検知するための温度検知手段を備え、
前記制御手段は、前記温度検知手段で検知した温度が所定値に達したときに前記ミスト発生機構を停止することを特徴とするミスト発生装置。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１項に記載のミスト発生装置において、
前記制御手段は、前記液剤噴霧機構の駆動時間が予め設定された所定時間に達したときに前記液剤噴霧機構を停止することを特徴とするミスト発生装置。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか１項に記載のミスト発生装置において、
前記噴霧対象物の表面の前記液剤の濃度を直接又は間接的に検知するための濃度検知手段を備え、
前記制御手段は、前記濃度検知手段で検知した濃度が所定値に達したときに前記液剤噴霧機構を停止することを特徴とするミスト発生装置。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか１項に記載のミスト発生装置において、
前記液剤噴霧機構は、前記液剤を静電霧化して噴霧可能に構成されたことを特徴とするミスト発生装置。
【請求項９】
請求項８に記載のミスト発生装置において、
前記噴霧対象物の表面の帯電量を直接又は間接的に検知するための帯電量検知手段を備え、
前記制御手段は、前記帯電量検知手段で検知した帯電量が所定値に達したときに前記液剤噴霧機構を停止することを特徴とするミスト発生装置。
【請求項１０】
請求項８又は９に記載のミスト発生装置において、
前記液剤噴霧機構に流れる電流値又は電圧値を測定する測定手段を備え、
前記制御手段は、前記測定手段で測定した電流値又は電圧値が所定値に達したときに前記液剤噴霧機構を停止することを特徴とするミスト発生装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ミストを発生させて顔等に向けて噴霧し、肌のケアを行うミスト発生装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、ミスト発生装置において、ミストに霧化した液剤（化粧水成分等）を含ませて噴霧可能に構成したものがある（例えば特許文献１参照）。このようなミスト発生装置では、噴霧するミストに液剤が含まれるため、ミストによる温熱効果の付与及び水分補給と、液剤の供給とを同時に行うことができ、肌のトリートメントを容易に行うことができるようになっている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００２−２６３１６２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上記したようなミスト発生装置では、肌にミストの水分が過剰に付着したときに、その水分とともに液剤が流れ落ちる可能性があり、液剤を効率良くに肌に付着させることができない虞がある。
【０００５】
本発明は、上記課題を解決するためになされたものであって、その目的は、液剤を効率良く対象物に付着させることが可能なミスト発生装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決するために、請求項１に記載の発明は、ミストを発生させて噴霧対象物に噴霧するミスト発生機構と、液剤を霧化して前記噴霧対象物に噴霧する液剤噴霧機構と、前記ミストと前記液剤とを交互に噴霧させるように前記ミスト発生機構及び前記液剤噴霧機構を制御する制御手段とを備えたことを特徴とする。
【０００７】
この発明では、ミストと液剤とを別々に噴霧させるため、対象物に過剰に付着したミストの水分とともに流れ落ちる液剤の量を抑えることが可能となり、その結果、液剤を効率良く対象物に付着させることが可能となる。
【０００８】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載のミスト発生装置において、前記制御手段は、前記ミスト発生機構の駆動と停止を行った後に、前記液剤噴霧機構の駆動と停止を行うまでを１サイクルとして、そのサイクルを所定回数繰り返すように制御することを特徴とする。
【０００９】
この発明では、例えば加熱式で発生させたミストを先に噴霧し、その後に液剤を噴霧することで、ミストによって肌が温められて毛穴が拡がり、液剤の吸収率を向上させることが可能となる。
【００１０】
請求項３に記載の発明は、請求項１又は２に記載のミスト発生装置において、前記制御手段は、前記ミスト発生機構の駆動時間が予め設定された所定時間に達したときに前記ミスト発生機構を停止することを特徴とする。
【００１１】
この発明では、適切な量のミストの噴霧が可能となるため、ミストの過剰な付着が抑制され、液剤の流れ落ちをより抑えることが可能となる。
請求項４に記載の発明は、請求項１〜３のいずれか１項に記載のミスト発生装置において、前記噴霧対象物の表面の水分量を直接又は間接的に検知するための水分量検知手段を備え、前記制御手段は、前記水分量検知手段で検知した水分量が所定値に達したときに前記ミスト発生機構を停止することを特徴とする。
【００１２】
この発明では、適切な量のミストの噴霧が可能となるため、ミストの過剰な付着が抑制され、液剤の流れ落ちをより抑えることが可能となる。また、噴霧対象物の表面の水分量が、水分量検知手段により直接又は間接的に検知されるため、ミストの過剰な付着をより確実に抑制することが可能となる。
【００１３】
請求項５に記載の発明は、請求項１〜４のいずれか１項に記載のミスト発生装置において、前記噴霧対象物の表面の温度を直接又は間接的に検知するための温度検知手段を備え、前記制御手段は、前記温度検知手段で検知した温度が所定値に達したときに前記ミスト発生機構を停止することを特徴とする。
【００１４】
この発明では、適切な量のミストの噴霧が可能となるため、ミストの過剰な付着が抑制され、液剤の流れ落ちをより抑えることが可能となる。
請求項６に記載の発明は、請求項１〜５のいずれか１項に記載のミスト発生装置において、前記制御手段は、前記液剤噴霧機構の駆動時間が予め設定された所定時間に達したときに前記液剤噴霧機構を停止することを特徴とする。
【００１５】
この発明では、適切な量の液剤の噴霧が可能となり、その結果、液剤の浪費を抑えることが可能となる。
請求項７に記載の発明は、請求項１〜６のいずれか１項に記載のミスト発生装置において、前記噴霧対象物の表面の前記液剤の濃度を直接又は間接的に検知するための濃度検知手段を備え、前記制御手段は、前記濃度検知手段で検知した濃度が所定値に達したときに前記液剤噴霧機構を停止することを特徴とする。
【００１６】
この発明では、適切な量の液剤の噴霧が可能となり、その結果、液剤の浪費を抑えることが可能となる。
請求項８に記載の発明は、請求項１〜７のいずれか１項に記載のミスト発生装置において、前記液剤噴霧機構は、前記液剤を静電霧化して噴霧可能に構成されたことを特徴とする。
【００１７】
この発明では、静電霧化によって微細な液剤の噴霧が可能となるため、液剤をより効果的に肌等に供給することができる。
請求項９に記載の発明は、請求項８に記載のミスト発生装置において、前記噴霧対象物の表面の帯電量を直接又は間接的に検知するための帯電量検知手段を備え、前記制御手段は、前記帯電量検知手段で検知した帯電量が所定値に達したときに前記液剤噴霧機構を停止することを特徴とする。
【００１８】
この発明では、静電霧化された液剤の付着により変化する噴霧対象物の表面の帯電量が、帯電量検知手段により直接又は間接的に検知されるため、適切な量の液剤の噴霧が可能となり、その結果、液剤の浪費を抑えることが可能となる。
【００１９】
請求項１０に記載の発明は、請求項８又は９に記載のミスト発生装置において、前記液剤噴霧機構に流れる電流値又は電圧値を測定する測定手段を備え、前記制御手段は、前記測定手段で測定した電流値又は電圧値が所定値に達したときに前記液剤噴霧機構を停止することを特徴とする。
【００２０】
この発明では、液剤噴霧機構に流れる高電流（高電圧）による液剤の過剰供給を抑えることが可能となり、その結果、液剤の浪費を抑えることが可能となる。
【発明の効果】
【００２１】
従って、上記記載の発明によれば、液剤を効率良く対象物に付着させることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本実施形態のミスト発生装置の模式図。
【図２】通常コースにおける制御を説明するためのフローチャート。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
以下、本発明を具体化した一実施形態を図面に従って説明する。
図１に示すように、本実施形態のミスト発生装置は、ケース１１と、該ケース１１内に略収容されたミスト発生機構１２及び液剤噴霧機構１３と、同ケース１１内に収容された制御部１４と、検知センサ１５とを備える。このミスト発生装置は、例えば美顔器として用いられるものであり、ミスト発生機構１２から発生されたミストＭ１、及び液剤噴霧機構１３にて静電霧化された液剤Ｍ２（そのミスト）を噴霧対象物としての顔Ｆに噴霧可能な装置である。
【００２４】
ケース１１には、上方（天方向）に開口したミスト用開口部１１ａと、側方（水平方向）に開口した液剤用開口部１１ｂとが形成されている。尚、ケース１１は、例えば、上方が開口した有底四角筒状のケース本体と、ケース本体の上端開口部を覆う蓋部材等からなるが、図１では、それらを一体的に模式的に図示している。また、本実施形態の液剤用開口部１１ｂは、ケース１１の側面１１ｃから側方（水平方向であって、図１中、左方向）に筒状に突出しケース１１内外を連通する筒部１１ｄの先端に形成されている。
【００２５】
ミスト発生機構１２は、着脱可能なタンク２１から水Ｗが供給される貯水槽２２と、貯水槽２２と連通管２３を介して連通され該貯水槽２２の水ＷからミストＭ１を発生させるミスト発生部２４と、ミスト発生部２４と連通されたミスト移送経路２５を介して発生したミストＭ１を吐出するためのミスト吐出口２６とを備える。
【００２６】
本実施形態のミスト発生部２４は、水Ｗを加熱してミストＭ１を発生させる加熱式のものであって、ヒータ２４ａを備えたものである。また、前記ミスト吐出口２６は、前記ミスト用開口部１１ａからケース１１の外部に突出するとともに略直角に屈曲し、その吐出開口部２６ａが前記液剤用開口部１１ｂと平行な方向（水平方向であって、図１中、左方向）を向くように設けられている。尚、ミスト吐出口２６の吐出開口部２６ａ及び液剤用開口部１１ｂは、その開口軸方向（図１中、左右方向）から見て上下方向に並設され、液剤用開口部１１ｂが吐出開口部２６ａよりも下側に配置されている。
【００２７】
液剤噴霧機構１３は、保湿剤や美白剤等の液剤Ｍ２を前記液剤用開口部１１ｂから噴霧するためのものである。詳しくは、液剤噴霧機構１３は、保湿剤や美白剤等の液剤を貯蔵するための液剤貯蔵部３１と、液剤貯蔵部３１と連通されたノズル３２と、ノズル３２に設けられたポンプ３３と、高圧電源回路３４とを備える。ポンプ３３は、液剤貯蔵部３１内の液剤をノズル３２に送り込むためのものである。ノズル３２は、その先端部３２ａが液剤用開口部１１ｂの内側に位置するように構成されている。高圧電源回路３４は、ノズル先端部３２ａに到達した液剤をコロナ放電により静電霧化するためのものである。高圧電源回路３４にて静電霧化された液剤Ｍ２は微細化されて、前記液剤用開口部１１ｂから噴霧されるようになっている。そして、その液剤Ｍ２を顔Ｆに浴びることで、肌の角質層表面の隙間に浸透させることが可能であり、高い美容作用や健康作用を得ることが可能となっている。また、液剤Ｍ２は、高圧電源回路３４にて静電霧化される際に、プラスに帯電されるようになっている。
【００２８】
検知センサ１５は、顔Ｆの表面の水分量Ｖ（ｍｌ）を間接的に検知するためのものである。詳しくは、検知センサ１５は、ケース１１の側面１１ｃに設けられるとともに、前記制御部１４と電気的に接続されている。そして、検知センサ１５は、顔Ｆの表面から所定距離だけ離れた地点での水分量を検出し、その検出した水分量に基づいて制御部１４は顔Ｆの表面の水分量Ｖを算出する。
【００２９】
制御部１４は、図示しない操作スイッチ等の操作に基づき、ミスト発生機構１２のヒータ２４ａに通電する制御と、液剤噴霧機構１３のポンプ３３及び高圧電源回路３４を駆動する制御とを行う。
【００３０】
例えば、図２に示すように、前記操作スイッチにて、ミストＭ１と液剤Ｍ２を交互にＮ回ずつ噴霧するための通常コースの操作（例えば、通常コースボタンを押す）が行われると、制御部１４は、まず、ミスト発生機構１２を駆動してミストＭ１を噴霧させる（ステップ１）。
【００３１】
次に、制御部１４は、検知センサ１５で検知された水分量Ｖと、予め設定された所定値Ｖ１とを比較する（ステップ２）。そして、水分量Ｖが予め設定された所定値Ｖ１以上となったとき、ミスト発生機構１２の駆動を停止してミストＭ１の噴霧を終了させる（ステップ３）。
【００３２】
次に、制御部１４は、液剤噴霧機構１３を駆動して液剤Ｍ２を噴霧させる（ステップ４）。このとき、タイマ４１の計時時間ｔが０とされる。液剤Ｍ２が顔Ｆに噴霧されて、タイマ４１の計時時間ｔが予め設定された所定時間Ｔに達したとき、制御部１４は液剤噴霧機構１３の駆動を停止して液剤Ｍ２の噴霧を終了させる（ステップ５及びステップ６）。
【００３３】
本実施形態では、ここまでの動作を１サイクルとしており、液剤噴霧機構１３の駆動停止時に、カウンタ４２のカウント値ｎに１が足される（ステップ７）。尚、カウント値ｎは通常コースの開始時において０とされるようになっている。その後、制御部１４は、カウント値ｎと所定の繰り返し回数Ｎとを比較し、カウント値ｎが繰り返し回数Ｎに到達していない場合はステップ１に戻り、到達した場合は通常コースの終了とする（ステップ８）。このようにして、制御部１４は、ミストＭ１と液剤Ｍ２を交互にＮ回ずつ噴霧させるようにミスト発生機構１２及び液剤噴霧機構１３を制御するようになっている。
【００３４】
以上のように、本実施形態の通常コースの動作では、先にミストＭ１が噴霧され、その後に液剤Ｍ２が噴霧されるようになっている。このように、ミストＭ１と液剤Ｍ２と別々に噴霧されることで、顔Ｆの表面に過剰に付着したミストＭ１の水分とともに液剤Ｍ２が流れ落ちてしまうことが抑制可能となっている。その結果、液剤Ｍ２を効率良く顔Ｆの表面に付着させることが可能となり、しいては、液剤貯蔵部３１の小型化及びミスト発生装置全体の小型化に寄与できる。また、先に噴霧されたミストＭ１により顔Ｆの肌の毛穴が拡がり、その後に噴霧される液剤Ｍ２の吸収率が向上するようになっている。
【００３５】
次に、本実施形態の特徴的な作用効果を記載する。
（１）本実施形態では、ミストＭ１と液剤Ｍ２とを交互に噴霧させるようにミスト発生機構１２及び液剤噴霧機構１３を制御する制御部１４とを備える。これにより、ミストＭ１と液剤Ｍ２とが別々に噴霧されるため、顔Ｆに過剰に付着したミストＭ１の水分とともに流れ落ちる液剤Ｍ２の量を抑えることが可能となり、その結果、液剤Ｍ２を効率良く顔Ｆに付着させることが可能となる。
【００３６】
（２）本実施形態では、制御部１４は、ミスト発生機構１２の駆動と停止を行った後に、液剤噴霧機構１３の駆動と停止を行うまでを１サイクルとして、そのサイクルを所定の回数Ｎだけ繰り返すように制御するため、液剤Ｍ２の噴霧の前には必ずミストＭ１が噴霧されるようになっている。このため、先に噴霧されたミストＭ１によって肌が温められて毛穴が拡がり、液剤Ｍ２の吸収率を向上させることが可能となる。
【００３７】
（３）本実施形態では、顔Ｆの表面の水分量Ｖを間接的に検知するための検知センサ１５を備え、制御部１４は、検知センサ１５で検知した水分量Ｖが所定値Ｖ１に達したときにミスト発生機構１２を停止する。これにより、適切な量のミストＭ１の噴霧が可能となるため、ミストＭ１の過剰な付着が抑制され、液剤Ｍ２の流れ落ちをより抑えることが可能となる。また、顔Ｆの表面の水分量Ｖが、検知センサ１５により間接的に検知されるため、ミストＭ１の過剰な付着をより確実に抑制することが可能となる。
【００３８】
（４）本実施形態では、制御部１４は、液剤噴霧機構１３の駆動時間（タイマの計時時間ｔ）が予め設定された所定時間Ｔに達したときに液剤噴霧機構１３を停止するため、適切な量の液剤Ｍ２の噴霧が可能となり、その結果、液剤Ｍ２の浪費を抑えることが可能となる。
【００３９】
（５）本実施形態では、液剤噴霧機構１３は、液剤Ｍ２を静電霧化して噴霧可能に構成される。これにより、静電霧化によって微細な液剤Ｍ２の噴霧が可能となるため、より効果的に液剤Ｍ２を顔Ｆの肌に供給することができる。
【００４０】
尚、本発明の実施形態は、以下のように変更してもよい。
・上記実施形態では、検知センサ１５を顔Ｆの表面の水分量Ｖを間接的に検知するセンサとしたが、これに限定されるものではなく、他に、顔Ｆの表面の温度を直接又は間接的に検知するセンサや、顔Ｆの表面の液剤Ｍ２の濃度を直接又は間接的に検知するセンサや、顔Ｆの表面の帯電量を直接又は間接的に検知するセンサとしてもよい。尚、検知センサ１５が顔Ｆの表面の温度を直接又は間接的に検知する場合では、制御部１４は、検知センサ１５で検知した温度が所定値に達したときにミスト発生機構１２を停止するようになっている。このような構成によれば、適切な量のミストＭ１の噴霧が可能となるため、ミストＭ１の過剰な付着が抑制され、液剤Ｍ２の流れ落ちをより抑えることが可能となる。
【００４１】
また、顔Ｆの表面の液剤Ｍ２の濃度を直接又は間接的に検知する場合では、制御部１４は、検知センサ１５で検知した液剤Ｍ２の濃度が所定値に達したときに液剤噴霧機構１３を停止するようになっている。また、検知センサ１５が顔Ｆの表面の帯電量を直接又は間接的に検知する場合では、制御部１４は、検知センサ１５で検知した帯電量が所定値に達したときに液剤噴霧機構１３を停止するようになっている。このような構成によれば、適切な量の液剤Ｍ２の噴霧が可能となり、その結果、液剤Ｍ２の浪費を抑えることが可能となる。
【００４２】
・上記実施形態では、制御部１４は、検知センサ１５で検知された水分量Ｖに基づいてミスト発生機構１２の駆動を停止したが、これ以外に例えば、ミスト発生機構１２の駆動時間が予め設定された所定時間に達したときにミスト発生機構１２を停止するように制御してもよい。このような構成によっても、本実施形態と略同様の効果を得ることができる。
【００４３】
・上記実施形態において、液剤噴霧機構１３に流れる電流値又は電圧値を測定するための測定手段４３（図１参照）を備え、制御部１４は、測定手段４３で測定した電流値又は電圧値が所定値に達したときに液剤噴霧機構１３を停止するように構成してもよい。このような構成によれば、液剤噴霧機構１３に流れる高電流（高電圧）による液剤Ｍ２の過剰供給を抑えることが可能となり、その結果、液剤Ｍ２の浪費を抑えることが可能となる。
【００４４】
・上記実施形態では、通常コースにおいて先にミストＭ１の噴霧を行い、その後に液剤Ｍ２の噴霧を行うように制御したが、反対に先に液剤Ｍ２の噴霧を行い、その後にミストＭ１の噴霧を行うように制御してもよい。
【００４５】
・上記実施形態では、ミストＭ１が吐出されるミスト吐出口２６と、液剤Ｍ２が噴霧される液剤用開口部１１ｂとが別々に構成されたが、特にこれに限定されるものではなく、ミストＭ１と液剤Ｍ２を同一の噴霧口から噴霧するように構成してもよい。
【００４６】
・上記実施形態では、ミスト発生部２４は加熱式のものであり、発生されるミストＭ１は温ミストであるが、特にこれに限定されるものではなく、冷ミストを発生させるべく、例えば、超音波にて霧化させる超音波式のものや、霧吹き等の原理で知られるベンチュリー効果を用いたものとしてもよい。
【００４７】
・上記実施形態の液剤噴霧機構１３のように元々液状である剤を霧化するだけではなく、例えば、固形状の剤を剤のタンクに入れておき、その固形状の剤を水に溶解させることで液体状の剤を生成するように構成してもよい。
【００４８】
・上記実施形態では、液剤噴霧機構１３は、液剤Ｍ２を静電霧化するものとしたが、これ以外に例えば、液剤を噴霧ノズルの先端開口部から噴霧するものであればよく、例えば、液剤をベンチュリー効果や超音波によって霧化するものに変更してもよい。
【００４９】
・上記実施形態では、噴霧対象物を顔Ｆとしたが、これ以外に例えば、人体の顔Ｆ以外の部位（手や脚）でもよい。
【符号の説明】
【００５０】
１２…ミスト発生機構、１３…液剤噴霧機構、１４…制御手段としての制御部、１５…検知センサ（水分量検知手段、温度検知手段、濃度検知手段、帯電量検知手段）、４３…測定手段、Ｖ…水分量、Ｍ１…ミスト、Ｍ２…液剤。
【図１】
2010273701.tif 000003
【図２】
2010273701.tif 000004