(57)【要約】      （修正有）【課題】リブ頂部のオーバーハングを低減したＰＤＰ用背面板を、精度良く簡便に形成することができるＰＤＰ用背面板の製造方法を提供する。【解決手段】基板、パターン状のアドレス電極層、誘電体層、リブ材料層および感光性レジスト層がこの順に積層された背面板形成用部材を準備する工程と、ストライプ状リブの形状に応じて、感光性レジスト層を露光する工程と、露光後の感光性レジスト層を現像し、ストライプ状感光性レジストパターンを形成する工程と、平面視上、ストライプ状感光性レジストパターンのストライプ方向と略平行になるように、現像液の流れ方向を制御することにより、ストライプ状感光性レジストパターンのリブ材料層側の端部を除去し、くびれ部を形成する工程と、くびれ部が形成されたストライプ状感光性レジストパターンをマスクとして、リブ材料層のブラスト処理を行うことにより、ストライプ状リブを形成する工程と、を有する。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、前記基板上に形成されたパターン状のアドレス電極層と、前記アドレス電極層を覆うように形成された誘電体層と、前記誘電体層上に形成されたストライプ状リブと、を有するプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法であって、
前記基板、前記パターン状のアドレス電極層、前記誘電体層、リブ材料層および感光性レジスト層がこの順に積層された背面板形成用部材を準備する背面板形成用部材準備工程と、
前記ストライプ状リブの形状に応じて、前記感光性レジスト層を露光する露光工程と、
露光後の前記感光性レジスト層を現像し、ストライプ状感光性レジストパターンを形成する現像工程と、
平面視上、前記ストライプ状感光性レジストパターンのストライプ方向と略平行になるように、現像液の流れ方向を制御することにより、前記ストライプ状感光性レジストパターンのリブ材料層側の端部を除去し、くびれ部を形成するくびれ部形成工程と、
前記くびれ部が形成されたストライプ状感光性レジストパターンをマスクとして、前記リブ材料層のブラスト処理を行うことにより、前記ストライプ状リブを形成するブラスト処理工程と、
を有することを特徴とするプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法。
【請求項２】
前記現像工程および前記くびれ部形成工程を、同一の条件で連続的に行うことを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法。
【請求項３】
前記現像液を吐出するノズルを有する散布手段を用い、
前記ノズルから吐出される現像液の吐出方向を、鉛直下向き方向に対して傾け、平面視上、前記ストライプ状感光性レジストパターンのストライプ方向と略平行の方向に設定することにより、前記くびれ部を形成することを特徴とする請求項１または請求項２に記載のプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法。
【請求項４】
前記ノズルから吐出される現像液の吐出方向を、鉛直下向き方向に対して、２０°〜７０°の範囲内で傾けることを特徴とする請求項３に記載のプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法。
【請求項５】
前記現像液を散布する際に、前記散布手段および前記ストライプ状感光性レジストパターンを、前記現像液の流れ方向の順方向または逆方向に沿って、相対的に水平移動させることを特徴とする請求項３または請求項４に記載のプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法。
【請求項６】
前記ストライプ状感光性レジストパターンの表面上に前記現像液を供給し、
気体を噴射するノズルを有する気体噴射手段を用い、前記ノズルから噴射される気体の噴射方向を、鉛直下向き方向に対して傾け、平面視上、前記ストライプ状感光性レジストパターンのストライプ方向と略平行の方向に設定することにより、前記くびれ部を形成することを特徴とする請求項１または請求項２に記載のプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法。
【請求項７】
前記現像液を吐出するノズルを有する散布手段を用い、
前記散布手段のノズルを、平面視上、前記ストライプ状感光性レジストパターンのストライプ方向と略平行の方向に揺動させることにより、前記くびれ部を形成することを特徴とする請求項１または請求項２に記載のプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法。
【請求項８】
前記ストライプ状感光性レジストパターンの表面上に前記現像液を供給し、
前記ストライプ状感光性レジストパターンを、平面視上、前記ストライプ状感光性レジストパターンのストライプ方向と略平行の方向に揺動させることにより、前記くびれ部を形成することを特徴とする請求項１または請求項２に記載のプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法。
【請求項９】
前記ストライプ状感光性レジストパターンの法線方向を、鉛直上向き方向に対して傾けることにより、前記くびれ部を形成することを特徴とする請求項１または請求項２に記載のプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法。
【請求項１０】
前記現像液を吐出するノズルを有する散布手段を用い、
前記ノズルの吐出角度を、平面視上、前記ストライプ状感光性レジストパターンのストライプ方向と略平行の方向に沿って変化させることにより、前記くびれ部を形成することを特徴とする請求項１または請求項２に記載のプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法。
【請求項１１】
プラズマディスプレイパネル用背面板の製造に用いられる現像装置であって、
リブ材料層と、前記リブ材料層上に形成されたストライプ状感光性レジストパターンの潜像を有する感光性レジスト層、または前記リブ材料層上に形成されたストライプ状感光性レジストパターンと、を有する被処理部材を保持する保持手段と、
前記被処理部材に対して現像液を吐出するノズルを有する散布手段と、を有し、
平面視上、前記ストライプ状感光性レジストパターンのストライプ方向と略平行になるように、現像液の流れ方向が制御できることを特徴とする現像装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、リブ頂部の張出し（オーバーハング）を低減したプラズマディスプレイパネル用背面板（以下、「ＰＤＰ用背面板」と称する場合がある。）を得ることができるＰＤＰ用背面板の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
プラズマディスプレイパネル（以下、「ＰＤＰ」と称する場合がある。）に用いられる背面板は、通常図１５に示すように、基板２１と、基板２１上に形成されたパターン状のアドレス電極層２２と、アドレス電極層２２上に形成された誘電体層２３と、誘電体層２３上に形成されたリブ２４と、リブ２４の間に形成された蛍光体層２５（２５Ｒ、２５Ｇ、２５Ｂ）と、を有する。また、従来のＰＤＰ用背面板は、図１６に示すようにストライプ状のリブ２４を有するものがある。なお、図１６に示されるＰＤＰ用背面板は、ＰＤＰ用背面板全体を示すものではなく、便宜的に一部を示すものである。
【０００３】
このようなパターン状のリブを形成する方法としては、従来から、図１７に示すような方法が知られている。具体的には、まず基板２１、パターン状のアドレス電極層２２、誘電体層２３およびリブ材料層２４ａを有する積層体を準備し（図１７（ａ））、次に、リブ材料層２４ａの表面上に、ドライフィルムレジスト（ＤＦＲ）等の感光性レジスト層２６ａを形成し（図１７（ｂ））、次に、目的とするリブの形状に応じて、露光・現像を行い、感光性レジストパターン２６を形成し（図１７（ｃ））、次に、感光性レジストパターン２６をマスクとしてリブ材料層２４ａを研削するブラスト処理を行うことにより、リブ２４を形成し（図１７（ｄ））、最後に、残った感光性レジストパターン２６を剥離する（図１７（ｅ））方法である。
【０００４】
ここで、従来からブラスト処理により形成されるリブの頂部に、張出し（オーバーハング）が発生することが知られている。具体的には、図１８に記載されているように、ブラスト処理によって、リブ２４の頂部にオーバーハング２７が発生することが知られている。ブラスト処理によりリブ頂部にオーバーハングが発生すると、ＰＤＰの封着を行う際にリブ頂部の欠けが生じるという問題があった。
【０００５】
このような問題に対して、ブラスト処理の際に用いられる感光性レジストパターン（マスクパターン）の形状を工夫する試みがなされている。例えば、特許文献１においては、ブラスト処理の際に、上部幅が底部幅より広い隔壁パターンマスクを用いたプラズマディスプレイパネルの製造方法が開示されている。この特許文献１においては、露光量を適宜設定することにより、上記の隔壁パターンマスクを形成することが開示されている（特許文献１の００２８段落参照）。しかしながら、露光量の調整を行うためには、特殊なフォトマスクを使用することが必要であった。
【０００６】
一方、特許文献２においては、ブラスト処理の際に、上層マスクと、該上層マスクに対して幅の狭い下層マスクとからなる多層マスクを用いたプラズマディスプレイパネルの製造方法が開示されている。この特許文献２においては、隔壁用層（リブ材料層）の表面に、２種類の感光性レジスト層を設けることにより、上記の多層マスクを形成することが開示されている（特許文献２の図１、図２、図４および図５参照）。しかしながら、２種類の感光性レジストを用いるため、作業が煩雑になるという問題、コストが高くなるという問題があった。
【０００７】
【特許文献１】特開２００１−３１９５７０号公報
【特許文献２】特開平１１−９０８２７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、上記実情に鑑みてなされたものであり、リブ頂部のオーバーハングを低減したＰＤＰ用背面板を、容易に形成することができるＰＤＰ用背面板の製造方法を提供することを主目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決するために、本発明においては、基板と、上記基板上に形成されたパターン状のアドレス電極層と、上記アドレス電極層を覆うように形成された誘電体層と、上記誘電体層上に形成されたストライプ状リブと、を有するプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法であって、上記基板、上記パターン状のアドレス電極層、上記誘電体層、リブ材料層および感光性レジスト層がこの順に積層された背面板形成用部材を準備する背面板形成用部材準備工程と、上記ストライプ状リブの形状に応じて、上記感光性レジスト層を露光する露光工程と、露光後の上記感光性レジスト層を現像し、ストライプ状感光性レジストパターンを形成する現像工程と、平面視上、上記ストライプ状感光性レジストパターンのストライプ方向と略平行になるように、現像液の流れ方向を制御することにより、上記ストライプ状感光性レジストパターンのリブ材料層側の端部を除去し、くびれ部を形成するくびれ部形成工程と、上記くびれ部が形成されたストライプ状感光性レジストパターンをマスクとして、上記リブ材料層のブラスト処理を行うことにより、上記ストライプ状リブを形成するブラスト処理工程と、を有することを特徴とするプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法を提供する。
【００１０】
本発明によれば、ストライプ状感光性レジストパターンの底部に、くびれ部を設けることにより、リブ頂部のオーバーハングが低減したＰＤＰ用背面板を容易に得ることができる。
【００１１】
上記発明においては、上記現像工程および上記くびれ部形成工程を、同一の条件で連続的に行うことが好ましい。両者とも現像液を用いる工程であるため、工程数を少なくすることができ、ＰＤＰ用背面板の生産性を向上させることができるからである。
【００１２】
上記発明においては、上記現像液を吐出するノズルを有する散布手段を用い、上記ノズルから吐出される現像液の吐出方向を、鉛直下向き方向に対して傾け、平面視上、上記ストライプ状感光性レジストパターンのストライプ方向と略平行の方向に設定することにより、上記くびれ部を形成することが好ましい。効率的にくびれ部を形成することができるからである。また、この方法（後述する第一の制御方法）は、後述する揺動等の複雑な機構を必要とせずに現像液の流れを制御可能な、より簡便な方法である。
【００１３】
上記発明においては、上記ノズルから吐出される現像液の吐出方向を、鉛直下向き方向に対して、２０°〜７０°の範囲内で傾けることが好ましい。より効率的にくびれ部を形成することができるからである。
【００１４】
上記発明においては、上記現像液を散布する際に、上記散布手段および上記ストライプ状感光性レジストパターンを、上記現像液の流れ方向の順方向または逆方向に沿って、相対的に水平移動させることが好ましい。より効率的にくびれ部を形成することができるからである。
【００１５】
上記発明においては、上記ストライプ状感光性レジストパターンの表面上に上記現像液を供給し、気体を噴射するノズルを有する気体噴射手段を用い、上記ノズルから噴射される気体の噴射方向を、鉛直下向き方向に対して傾け、平面視上、上記ストライプ状感光性レジストパターンのストライプ方向と略平行の方向に設定することにより、上記くびれ部を形成することが好ましい。効率的にくびれ部を形成することができるからである。また、この方法（後述する第二の制御方法）は、従来の現像装置に気体噴射手段を設けることで容易に実現でき、均一な現像液の流れを作ることが可能である。
【００１６】
上記発明においては、上記現像液を吐出するノズルを有する散布手段を用い、上記散布手段のノズルを、平面視上、上記ストライプ状感光性レジストパターンのストライプ方向と略平行の方向に揺動させることにより、上記くびれ部を形成することが好ましい。効率的にくびれ部を形成することができるからである。また、この方法（後述する第三の制御方法）は、ノズルの揺動条件により、現像液の流れ方向を制御することが可能な簡便な方法である。
【００１７】
上記発明においては、上記ストライプ状感光性レジストパターンの表面上に上記現像液を供給し、上記ストライプ状感光性レジストパターンを、平面視上、上記ストライプ状感光性レジストパターンのストライプ方向と略平行の方向に揺動させることにより、上記くびれ部を形成することが好ましい。効率的にくびれ部を形成することができるからである。また、この方法（後述する第四の制御方法）は、基板の揺動条件により、現像液の流れ方向を制御することが可能な簡便な方法である。
【００１８】
上記発明においては、上記ストライプ状感光性レジストパターンの法線方向を、鉛直上向き方向に対して傾けることにより、上記くびれ部を形成することが好ましい。効率的にくびれ部を形成することができるからである。また、この方法（後述する第五の制御方法）は、基板上を現像液が自然に流れ落ちるため、均一な現像液の流れを作ることが可能である。
【００１９】
上記発明においては、上記現像液を吐出するノズルを有する散布手段を用い、上記ノズルの吐出角度を、平面視上、上記ストライプ状感光性レジストパターンのストライプ方向と略平行の方向に沿って変化させることにより、上記くびれ部を形成することが好ましい。効率的にくびれ部を形成することができるからである。また、この方法（後述する第六の制御方法）は、現像液の流れ方向を左右に振ることができるため、ノズルと基板との相対位置に影響されず効率的にくびれ部を形成することが可能である。
【００２０】
また、本発明においては、プラズマディスプレイパネル用背面板の製造に用いられる現像装置であって、リブ材料層と、上記リブ材料層上に形成されたストライプ状感光性レジストパターンの潜像を有する感光性レジスト層、または上記リブ材料層上に形成されたストライプ状感光性レジストパターンと、を有する被処理部材を保持する保持手段と、上記被処理部材に対して現像液を吐出するノズルを有する散布手段と、を有し、平面視上、上記ストライプ状感光性レジストパターンのストライプ方向と略平行になるように、現像液の流れ方向が制御できることを特徴とする現像装置を提供する。
【００２１】
本発明によれば、平面視上、ストライプ状感光性レジストパターンのストライプ方向と略平行になるように、現像液の流れ方向を制御することによって、ストライプ状感光性レジストパターンの底部に、くびれ部を設けることができる。これにより、リブ頂部のオーバーハングが低減したＰＤＰ用背面板を得ることができる。
【発明の効果】
【００２２】
本発明においては、リブ頂部のオーバーハングを低減したＰＤＰ用背面板を、簡便に形成することができるという効果を奏する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
以下、本発明のＰＤＰ用背面板の製造方法およびＰＤＰ用背面板の製造に用いられる現像装置について詳細に説明する。
【００２４】
Ａ．ＰＤＰ用背面板の製造方法
まず、本発明のＰＤＰ用背面板の製造方法について、図１〜図５を用いて説明する。図１は、本発明における背面板形成用部材準備工程、露光工程および現像工程の一例を示す概略断面図である。本発明においては、まず基板１、パターン状のアドレス電極層２、誘電体層３、リブ材料層４ａおよび感光性レジスト層５ａがこの順に積層された背面板形成用部材１０を準備する（図１（ａ）、背面板形成用部材準備工程）。次に、目的とするストライプ状リブの形状に応じて、感光性レジスト層５ａを露光・現像し、ストライプ状感光性レジストパターン５を形成し、部材１１を得る（図１（ｂ）、露光工程および現像工程）。
【００２５】
ここで、図２（ａ）は、図１（ｂ）の概略平面図であり、図２（ｂ）は、図２（ａ）のＹ−Ｙ断面図である。なお、図１（ｂ）は、図２（ａ）のＸ−Ｘ断面図に該当する。また、図２（ａ）および図２（ｂ）に示される部材１１は、部材１１全体を示すものではなく、便宜的に一部を示すものである（図３、図６〜図１３においても同様である）。また、本発明における「ストライプ状感光性レジストパターンのストライプ方向」とは、ストライプ状感光性レジストパターンのストライプに沿った方向をいう。具体的には、図２（ａ）における符号Ｄｓで表される方向をいう。
【００２６】
図３（ａ）は、本発明におけるくびれ部形成工程の一例を示す概略平面図であり、図３（ｂ）は、本発明におけるくびれ部形成工程の一例を示す概略平面図である。本発明においては、図３（ａ）に示すように、平面視上、ストライプ状感光性レジストパターン５のストライプ方向Ｄｓと略平行になるように、現像液の流れ方向を制御する。その制御の一例としては、図３（ｂ）に示すように、現像液を吐出するノズル１２を有する散布手段１３を用い、ノズル１２から吐出される現像液の吐出方向Ｄａを、鉛直下向き方向に対して傾け、平面視上、ストライプ状感光性レジストパターン５のストライプ方向Ｄｓ（図３（ａ）参照）と略平行の方向に設定する方法を挙げることができる。本発明においては、現像液の流れ方向を制御することで、図４に示すように、ストライプ状感光性レジストパターン５のリブ材料層４ａ側の端部を除去し、くびれ部６を形成する。
【００２７】
図５は、本発明におけるブラスト処理工程の一例を示す概略断面図である。図５（ａ）に示すように、本発明においては、くびれ部６が形成されたストライプ状感光性レジストパターン５をマスクとして、リブ材料層４ａのブラスト処理を行う。これにより、図５（ｂ）に示すように、リブ頂部の張出しを低減したストライプ状リブ４が得られる。その後、残ったストライプ状感光性レジストパターン５を剥離し、ストライプ状リブ４を焼成することにより、ＰＤＰ用背面板が得られる。
【００２８】
このように、本発明によれば、ストライプ状感光性レジストパターンの底部に、くびれ部を設けることにより、リブ頂部のオーバーハングが低減したＰＤＰ用背面板を容易に得ることができる。また、本発明においては、現像液の流れを利用して、底部がくびれたストライプ状感光性レジストパターンを得る。上述したように、底部幅が上部幅よりも小さな感光性レジストパターンの形成として、従来から、露光量を調整する方法や２種類の感光性レジストを積層して用いる方法等が知られている。しかしながら、これらの方法は、特殊なフォトマスクを使用する必要があるという問題、作業が煩雑になるという問題、コストが高くなるという問題があった。これに対して、本発明のＰＤＰ用背面板の製造方法は、現像液の流れ方向を制御するだけで、容易に、底部幅が上部幅よりも小さな感光性レジストパターンを形成することができるという利点を有する。
【００２９】
また、本発明においては、平面視上、現像液の流れ方向を、ストライプ状感光性レジストパターンのストライプ方向と略平行になるように制御して、くびれ部を形成する。このくびれ部が形成される理由は、ストライプ状感光性レジストパターンの間を現像液が流れる際に、ストライプ状感光性レジストパターンの底部が、その頂部等と比較して、現像液にさらされやすく、底部において方向性のある溶解がより進むからであると考えられる。また、本発明においては、ネガ型の感光性レジストを用いてストライプ状感光性レジストパターンを形成した場合に、特にくびれ部を形成しやすくなる。これは、ストライプ状感光性レジストパターンのリブ材料層側の端部が、最も硬化しにくい領域であり、現像液によって容易に除去されるからである。なお、ストライプ状感光性レジストパターンのリブ材料層側の端部が最も硬化しにくい領域である理由は、ネガ型の感光性レジストを上方から露光する際に、ストライプ状感光性レジストパターンの頂部側から硬化が進み、かつ、ストライプ状感光性レジストパターンの端部は、中央部よりも硬化しにくいためである。
以下、本発明のＰＤＰ用背面板の製造方法について、工程ごとに説明する。
【００３０】
１．背面板形成用部材準備工程
まず、本発明における背面板形成用部材準備工程について説明する。本発明における背面板形成用部材準備工程は、上記基板、上記パターン状のアドレス電極層、上記誘電体層、リブ材料層および感光性レジスト層がこの順に積層された背面板形成用部材を準備する工程である（図１（ａ）参照）。
【００３１】
本発明に用いられる基板の材料としては、所定の耐熱性を有するものであれば特に限定されるものではなく、一般的なＰＤＰ用背面板に用いられる基板の材料と同様のものを使用することができる。具体的には、ガラス等を挙げることができ、中でも、誘電体やリブ材の焼成時等に生じるひずみが小さい高歪点ガラスが好ましい。
【００３２】
本発明に用いられるアドレス電極層の材料としては、導電性を有するものであれば特に限定されるものではなく、一般的なＰＤＰ用背面板に用いられるアドレス電極層の材料と同様のものを使用することができる。具体的には、Ａｇ等の金属を挙げることができる。また、本発明に用いられるアドレス電極層は、金属薄膜を積層したものであっても良く、具体的には、Ｃｒ／Ｃｕ／Ｃｒ等の３層の金属薄膜を有するもの等を挙げることができる。
【００３３】
基板上にパターン状のアドレス電極層を形成する方法としては、例えばフォトペースト法、印刷法および薄膜法等を挙げることができ、中でもフォトペースト法が好ましい。上記フォトペースト法としては、具体的には、感光性樹脂を含有するＡｇペーストをスクリーン印刷法で基板全面に塗布し、乾燥させ、次に所定のパターンで露光、現像を行い、最後に焼成する方法等を挙げることができる。上記印刷法としては、具体的には、Ａｇペーストを、スクリーン版を用いて電極パターン状に印刷し、乾燥を行った後に、焼成することで所望の電極を得る方法を挙げることができる。一方、上記薄膜法としては、具体的には、スパッタリング法で基板全面にＣｒ／Ｃｕ／Ｃｒの３層の金属薄膜を形成し、その金属薄膜の最表層にレジストを塗布し乾燥させ、次に所定のパターンで露光、現像を行い、露出した金属薄膜をエッチングし、最後にレジストを剥離する方法等を挙げることができる。
【００３４】
本発明に用いられる誘電体層の材料としては、所望の誘電率を有するものであれば特に限定されるものではなく、一般的なＰＤＰ用背面板に用いられる誘電体層の材料と同様のものを使用することができる。
【００３５】
誘電体層を形成する方法としては、例えばスクリーン印刷法、スリットダイコート法等を挙げることができる。さらに、ベースフィルム上に誘電体層が積層されたフィルムを、上記アドレス電極層を覆うようにラミネートするラミネート法を用いても良い。本発明においては、上記誘電体層を形成した後に、通常、乾燥を行うが、さらに必要に応じて、誘電体層の焼成を行っても良い。
【００３６】
本発明に用いられるリブ材料層の材料（リブ材料層形成用材料）としては、例えばガラスペースト等を挙げることができる。さらに、上記ガラスペーストは、通常、ＢｉＯ２、ＺｎＯ、Ｂ２Ｏ３等の平均粒径３μｍ程度のガラスフリット、ＴｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３等の無機成分からなるフィラー、ペーストにするための樹脂成分および溶剤を含有する。また、リブ材料層の膜厚は、乾燥後の状態で、通常１００μｍ〜４００μｍの範囲内であり、中でも２００μｍ〜３００μｍの範囲内であることが好ましい。なお、乾燥後におけるリブ材料層の膜厚は、通常、焼成後に約２／３程度の大きさになる。
【００３７】
リブ材料層を形成する方法としては、例えば、リブ材料層形成用材料をスリットダイコート法により誘電体層上に塗布し、乾燥する方法を挙げることができる。なお、塗布はロールコート法等で行っても良い。
【００３８】
本発明に用いられる感光性レジスト層の材料としては、ブラスト処理により研削されない感光性レジストパターンを得ることができるものであれば特に限定されるものではないが、中でも、後述するくびれ部を形成しやすい材料であることが好ましい。また、上記感光性レジスト層に用いられる感光性レジストは、ドライフィルムレジスト（ＤＦＲ）であっても良く、液状レジストであっても良いが、ドライフィルムレジストであることが好ましい。ブラスト処理により研削されない感光性レジストパターンを容易に形成することができるからである。また、上記感光性レジストは、ポジ型であっても良く、ネガ型であっても良い。感光性レジスト層の膜厚は、通常１０μｍ〜１００μｍの範囲内である。
【００３９】
感光性レジスト層を形成する方法としては、例えば、ドライフィルムレジストをリブ材料層上にラミネートする方法、および、液状レジストをリブ材料層上に塗布し、乾燥する方法等を挙げることができる。
【００４０】
２．露光工程
次に、本発明における露光工程について説明する。本発明における露光工程は、上記ストライプ状リブの形状に応じて、上記感光性レジスト層を露光する工程である（図１（ｂ）参照）。露光工程により、感光性レジスト層に、後述するストライプ状感光性レジストパターンの潜像が形成される。
【００４１】
露光工程における各種条件は、所望のストライプ状感光性レジストパターンを形成することができれば特に限定されるものではなく、一般的なＰＤＰ用背面板の製造における条件と同様である。
【００４２】
露光工程に用いられるフォトマスクは、通常、目的とするストライプ状リブの形状、および用いられる感光性レジストの種類（ポジ型感光性レジストおよびネガ型感光性レジスト）に応じて、適宜選択される。また、露光時の照射量は、特に限定されるものではないが、例えば１００ｍＪ／ｃｍ２〜５００ｍＪ／ｃｍ２の範囲内、中でも１５０ｍＪ／ｃｍ２〜４５０ｍＪ／ｃｍ２の範囲内であることが好ましい。
【００４３】
３．現像工程
次に、本発明における露光工程について説明する。本発明における露光工程は、露光後の上記感光性レジスト層を現像し、ストライプ状感光性レジストパターンを形成する工程である（図１（ｂ）参照）。
【００４４】
本発明においては、現像工程と、後述するくびれ部形成工程を、別々の条件で独立に行っても良く、同一の条件で連続的に行っても良い。中でも、本発明においては、現像工程およびくびれ部形成工程を、同一の条件で連続的に行うことが好ましい。両者とも現像液を用いる工程であるため、工程数を少なくすることができ、ＰＤＰ用背面板の生産性を向上させることができるからである。なお、後述するように、くびれ部形成工程においては、平面視上、ストライプ状感光性レジストパターンのストライプ方向と略平行になるように、現像液の流れ方向を制御する。このような制御を現像工程の段階から行い、現像工程およびくびれ部形成工程を、同一の条件で連続的に行うことが好ましい。
【００４５】
本発明に用いられる現像液としては、露光後のポジ型感光性レジスト層の溶解部、または露光後のネガ型感光性レジスト層の未硬化部を除去できるものであれば特に限定されるものではなく、一般的なＰＤＰ用背面板の製造に用いられる現像液を用いることができる。本発明に用いられる現像液としては、例えば、アルカリ現像液等を挙げることができる。
【００４６】
また、本工程により得られるストライプ状感光性レジストパターンの線幅は、ストライプ状リブの頂部幅を規定する大きな要因となる。ストライプ状感光性レジストパターンの線幅としては、例えば１０μｍ〜２００μｍの範囲内、中でも３０μｍ〜１５０μｍの範囲内であることが好ましい。一方、隣接するストライプの間隔は、現像液が適度に流れる程度に広いことが好ましい。後述するくびれ部を効率良く形成することができるからである。隣接するストライプの間隔としては、例えば２０μｍ〜２００μｍの範囲内、中でも５０μｍ〜１５０μｍの範囲内であることが好ましい。
【００４７】
４．くびれ部形成工程
次に、本発明におけるくびれ部形成工程について説明する。本発明におけるくびれ部形成工程は、平面視上、上記ストライプ状感光性レジストパターンのストライプ方向と略平行になるように、現像液の流れ方向を制御することにより、上記ストライプ状感光性レジストパターンのリブ材料層側の端部を除去し、くびれ部を形成する工程である（図３および図４参照）。
【００４８】
本発明においては、平面視上、ストライプ状感光性レジストパターンのストライプ方向と略平行になるように、現像液の流れ方向を制御する。ここで、「ストライプ状感光性レジストパターンのストライプ方向」とは、上述したように、ストライプ状感光性レジストパターンのストライプに沿った方向をいう。具体的には、図２（ａ）、図３（ａ）における符号Ｄｓで表される方向をいう。また、本発明においては、平面視上、ストライプ状感光性レジストパターンのストライプ方向と、現像液の流れ方向とが略平行になる。本発明における「略平行」とは、２つの方向のなす角度が、４５°以下であることをいう。中でも、略平行である２つの方向のなす角度は、２０°以下であることが好ましく、５°以下であることがより好ましい。また、本工程に用いられる現像液は、上述した現像工程と同一の現像液であっても良く、異なる現像液であっても良い。中でも、本発明においては、現像工程およびくびれ部形成工程に用いられる現像液が同一であることが好ましい。
【００４９】
ここで、現像液は基板上で、後述する揺動方向の切り替わりによる流れの変化や、基板上からの流れ落ちる流れなど、さまざまな外乱をうける。そのため、「現像液の流れ方向を制御する」とは、現像液の主要な流れを制御することを意味する。
【００５０】
本発明において、現像液の流れ方向を制御する方法としては、平面視上、現像液の流れ方向を、ストライプ状感光性レジストパターンのストライプ方向と略平行になるように制御できる方法であって、かつ、くびれ部を形成することができる方法であれば特に限定されるものではない。
【００５１】
現像液の流れ方向を制御する方法の一例としては、現像液を吐出するノズルを有する散布手段を用い、ノズルから吐出される現像液の吐出方向を、鉛直下向き方向に対して傾け、平面視上、ストライプ状感光性レジストパターンのストライプ方向と略平行の方向に設定することにより、くびれ部を形成する方法（以下、「第一の制御方法」と称する場合がある。）を挙げることができる。この制御方法は、現像液の吐出方向を調整することにより、現像液の流れ方向を制御する方法である。なお、略平行の定義等については、上述した記載の通りである。また、第一の制御方法は、後述する揺動等の複雑な機構を必要とせずに現像液の流れを制御可能な、より簡便な方法である。
【００５２】
第一の制御方法は、具体的には図６に示すように、ノズル１２から吐出される現像液の吐出方向Ｄａを、鉛直下向き方向Ｄｂに対して所定の角度で傾けることにより、現像液の流れ方向を制御する方法である。なお、図示しないが、図６における現像液の吐出方向Ｄａは、平面視上、ストライプ状感光性レジストパターン５のストライプ方向と略平行の方向となるように設定されている。また、本発明においては、ノズル１２から吐出される現像液の吐出方向Ｄａを、鉛直下向き方向Ｄｂに対して、２０°〜７０°の範囲内で傾けることが好ましく、３０°〜６０°の範囲内で傾けることがより好ましく、４０°〜５０°の範囲内で傾けることがさらに好ましい。より効率的にくびれ部を形成することができるからである。なお、この角度範囲は、図６における角度範囲Ａに相当するものである。
【００５３】
第一の制御方法において用いられる散布手段は、現像液を吐出するノズルを有するものである。ノズルの吐出口の形状としては、例えばスリット状、円状、楕円状および多角形状等を挙げることができ、中でもスリット状が好ましい。広い面積において均一に現像液を散布することができるからである。また、ストライプ状感光性レジストパターンに対する、ノズルの吐出口の高さは、例えば５０ｍｍ〜３００ｍｍの範囲内であり、中でも１００ｍｍ〜２００ｍｍの範囲内であることが好ましい。また、ノズルから吐出する現像液の吐出量は、例えば０．０１Ｌ／ｍｉｎ〜１０Ｌ／ｍｉｎの範囲内、中でも０．１Ｌ／ｍｉｎ〜２Ｌ／ｍｉｎの範囲内であることが好ましい。
【００５４】
また、第一の制御方法においては、現像液を散布する際に、散布手段およびストライプ状感光性レジストパターンを、現像液の流れ方向の順方向または逆方向に沿って、相対的に水平移動させることが好ましい。より効率的にくびれ部を形成することができるからである。散布手段およびストライプ状感光性レジストパターンを相対的に水平移動させる方法としては、具体的には、散布手段を固定し、ストライプ状感光性レジストパターンを水平移動させる方法、ストライプ状感光性レジストパターンを固定し、散布手段を水平移動させる方法、散布手段およびストライプ状感光性レジストパターンを互いに逆方向に水平移動させる方法等を挙げることができる。また、散布手段およびストライプ状感光性レジストパターンは、現像液の流れ方向の順方向に沿って相対的に水平移動させても良く、現像液の流れ方向の逆方向に沿って相対的に水平移動させても良いが、中でも後者が好ましい。現像液の流れ方向と逆方向に沿って相対的に移動させることで、より効率的にくびれ部を形成することができるからである。このような水平移動の一例としては、図７に示すように、散布手段１３を固定し、ストライプ状感光性レジストパターン５を有する部材１１を、現像液の流れ方向Ｄｃの逆方向に沿って、水平移動させる方法を挙げることができる。
【００５５】
一方、現像液の流れ方向を制御する方法の別の例としては、ストライプ状感光性レジストパターンの表面上に現像液を供給し、気体を噴射するノズルを有する気体噴射手段を用い、ノズルから噴射される気体の噴射方向を、鉛直下向き方向に対して傾け、平面視上、ストライプ状感光性レジストパターンのストライプ方向と略平行の方向に設定することにより、くびれ部を形成する方法（以下、「第二の制御方法」と称する場合がある。）を挙げることができる。この制御方法は、ストライプ状感光性レジストパターンの表面上に供給した現像液を、気体の噴射で移動させることにより、現像液の流れ方向を制御する方法である。なお、略平行の定義等については、上述した記載の通りである。また、第二の制御方法は、従来の現像装置に気体噴射手段を設けることで容易に実現でき、均一な現像液の流れを作ることが可能である。
【００５６】
第二の制御方法は、具体的には図８に示すように、気体噴射手段１５のノズル１４から噴射される気体の噴射方向Ｄｄを鉛直下向き方向Ｄｂに対して所定の角度で傾けることにより、散布手段１３のノズル１２から鉛直下向き方向に吐出された現像液の吐出方向を傾けて、現像液の流れ方向を制御する方法である。なお、図示しないが、図８における気体の噴射方向Ｄｄは、平面視上、ストライプ状感光性レジストパターン５のストライプ方向と略平行の方向となるように設定されている。また、本発明においては、気体噴射手段１５のノズル１４から噴射される気体の噴射方向Ｄｄを、鉛直下向き方向Ｄｂに対して、２０°〜７０°の範囲内で傾けることが好ましく、３０°〜６０°の範囲内で傾けることがより好ましく、４０°〜５０°の範囲内で傾けることがさらに好ましい。現像液の流れをよりスムーズにすることができるからである。なお、この角度範囲は、図８における角度範囲Ｂに相当するものである。また、本発明においては、ストライプ状感光性レジストパターンを有する部材を現像液に浸漬させ、その状態で気体を噴射し現像液を移動させることにより、現像液の流れを制御しても良い。
【００５７】
第二の制御方法において用いられる気体噴射手段は、気体を噴射するノズルを有するものである。噴射する気体は、特に限定されるものではないが、例えば空気等を挙げることができる。ノズルの噴射口の形状としては、例えばスリット状、円状、楕円状および多角形状等を挙げることができ、中でもスリット状が好ましい。広い面積において均一に気体を噴射することができるからである。また、ストライプ状感光性レジストパターンに対する、ノズルの噴射口の高さは、例えば０．１ｍｍ〜３００ｍｍの範囲内であり、中でも０．５ｍｍ〜１００ｍｍの範囲内であることが好ましい。また、ノズルから噴射する気体の噴射量は、例えば１０Ｌ／ｍｉｎ〜１０００Ｌ／ｍｉｎの範囲内、中でも、２００Ｌ／ｍｉｎ〜６００Ｌ／ｍｉｎの範囲内であることが好ましい。
【００５８】
また、第二の制御方法においては、気体噴射手段を、ストライプ状感光性レジストパターンのストライプ方向に沿って、水平移動させても良い。また、第二の制御方法において用いられる散布手段は、上述した第一の制御方法において用いられる散布手段と同様のものを用いることができる。さらに、ノズルから吐出される現像液の吐出方向は、鉛直下向き方向であっても良く、鉛直下向き方向から所定の角度で傾いていても良い。また、この散布手段を用いた散布条件についても、上述した第一の制御方法における散布条件と同様であるので、ここでの説明は省略する。
【００５９】
一方、現像液の流れ方向を制御する方法のさらに別の例としては、現像液を吐出するノズルを有する散布手段を用い、散布手段のノズルを、平面視上、ストライプ状感光性レジストパターンのストライプ方向と略平行の方向に揺動させることにより、くびれ部を形成する方法（以下、「第三の制御方法」と称する場合がある。）を挙げることができる。この制御方法は、散布手段のノズルを揺動させることにより、現像液の流れ方向を制御する方法である。なお、略平行の定義等については、上述した記載の通りである。また、第三の制御方法は、ノズルの揺動条件により、現像液の流れ方向を制御することが可能な簡便な方法である。
【００６０】
第三の制御方法は、具体的には図９に示すように、散布手段１３のノズル１２を、揺動させることにより、現像液の流れ方向を制御する方法である。なお、図示しないが、図９におけるノズル１２の揺動は、平面視上、ストライプ状感光性レジストパターン５のストライプ方向と略平行の方向で行われる。また、第三の制御方法においては、ノズルの揺動に応じて、現像液の流れ方向がその都度逆転する。
【００６１】
第三の制御方法において用いられる散布手段は、上述した第一の制御方法において用いられる散布手段と同様のものを用いることができる。さらに、ノズルから吐出される現像液の吐出方向は、鉛直下向き方向であっても良く、鉛直下向き方向から所定の角度で傾いていても良い。また、この散布手段を用いた散布条件についても、上述した第一の制御方法における散布条件と同様であるので、ここでの説明は省略する。
【００６２】
一方、現像液の流れ方向を制御する方法のさらに別の例としては、ストライプ状感光性レジストパターンの表面上に現像液を供給し、ストライプ状感光性レジストパターンを、平面視上、ストライプ状感光性レジストパターンのストライプ方向と略平行の方向に揺動させることにより、くびれ部を形成する方法（以下、「第四の制御方法」と称する場合がある。）を挙げることができる。この制御方法は、ストライプ状感光性レジストパターンを有する部材を揺動させることにより、現像液の流れ方向を制御する方法である。なお、略平行の定義等については、上述した記載の通りである。また、第四の制御方法は、基板の揺動条件により、現像液の流れ方向を制御することが可能な簡便な方法である。
【００６３】
第四の制御方法は、具体的には図１０に示すように、散布手段１３のノズル１２から鉛直下向き方向に現像液を吐出し、ストライプ状感光性レジストパターン５を有する部材１１を、揺動させることにより、現像液の流れ方向を制御する方法である。なお、図示しないが、図１０におけるストライプ状感光性レジストパターン５の揺動は、平面視上、ストライプ状感光性レジストパターン５のストライプ方向と略平行の方向で行われる。また、第四の制御方法においては、ノズルの揺動に応じて、現像液の流れ方向がその都度逆転する。また、本発明においては、ストライプ状感光性レジストパターンを有する部材を現像液に浸漬させ、その状態でその部材を揺動させることにより、現像液の流れを制御しても良い。
【００６４】
また、第四の制御方法において用いられる散布手段は、上述した第一の制御方法において用いられる散布手段と同様のものを用いることができる。さらに、ノズルから吐出される現像液の吐出方向は、鉛直下向き方向であっても良く、鉛直下向き方向から所定の角度で傾いていても良い。また、この散布手段を用いた散布条件についても、上述した第一の制御方法における散布条件と同様であるので、ここでの説明は省略する。
【００６５】
一方、現像液の流れ方向を制御する方法のさらに別の例としては、ストライプ状感光性レジストパターンの法線方向を、鉛直上向き方向に対して傾けることにより、くびれ部を形成する方法（以下、「第五の制御方法」と称する場合がある。）を挙げることができる。この制御方法は、ストライプ状感光性レジストパターンの法線方向を傾けることにより、現像液の流れ方向を制御する方法である。また、第五の制御方法は、基板上を現像液が自然に流れ落ちるため、均一な現像液の流れを作ることが可能である。
【００６６】
第五の制御方法は、具体的には図１１に示すように、ストライプ状感光性レジストパターン５の法線方向Ｄｅを、鉛直上向き方向Ｄｆに対して傾けることで、現像液の流れ方向を制御する方法である。また、本発明においては、ストライプ状感光性レジストパターン５の法線方向Ｄｅを、鉛直上向き方向Ｄｆに対して、２０°〜７０°の範囲内で傾けることが好ましく、３０°〜６０°の範囲内で傾けることがより好ましく、４０°〜５０°の範囲内で傾けることがさらに好ましい。現像液の流れをよりスムーズにすることができるからである。なお、この角度範囲は、図１１における角度範囲Ｃに相当するものである。
【００６７】
また、第五の制御方法において用いられる散布手段は、上述した第一の制御方法において用いられる散布手段と同様のものを用いることができる。さらに、ノズルから吐出される現像液の吐出方向は、鉛直下向き方向であっても良く、鉛直下向き方向から所定の角度で傾いていても良い。また、この散布手段を用いた散布条件についても、上述した第一の制御方法における散布条件と同様であるので、ここでの説明は省略する。
【００６８】
一方、現像液の流れ方向を制御する方法のさらに別の例としては、現像液を吐出するノズルを有する散布手段を用い、ノズルの吐出角度を、平面視上、ストライプ状感光性レジストパターンのストライプ方向と略平行の方向に沿って変化させることにより、くびれ部を形成する方法（以下、「第六の制御方法」と称する場合がある。）を挙げることができる。この制御方法は、散布手段のノズルの角度を変化させることにより、現像液の流れ方向を制御する方法である。なお、略平行の定義等については、上述した記載の通りである。また、本発明においては、上述した各種の制御方法を組合せて用いても良い。また、第六の制御方法は、現像液の流れ方向を左右に振ることができるため、ノズルと基板との相対位置に影響されず効率的にくびれ部を形成することが可能である。
【００６９】
第六の制御方法は、具体的には図１２に示すように、ノズル１２の吐出角度を連続的に変化させることにより、現像液の流れ方向を制御する方法である。なお、図示しないが、図１２におけるノズル１２の吐出角度は、平面視上、ストライプ状感光性レジストパターン５のストライプ方向と略平行の方向に沿って変化する。また、第六の制御方法においては、ノズルの吐出角度の変化に応じて、現像液の流れ方向が逆転する。また、本発明においては、散布手段１３のノズル１２の吐出角度Ｄｇを、鉛直下向き方向Ｄｂに対して変化させる。その際、ノズルの最大傾斜角度は、鉛直下向き方向に対して、±７０°以下であることが好ましく、±６０°以下であることがより好ましく、±５０°以下であることがさらに好ましい。同様に、ノズルの最大傾斜角度は、鉛直下向き方向に対して、±２０°以上であることが好ましく、±３０°以上であることが好ましく、±４０°以上であることがより好ましい。現像液の流れをよりスムーズにすることができるからである。なお、この角度範囲は、図１２における角度範囲Ｅに相当するものである。また、上記散布手段を用いた散布条件については、上述した第一の制御方法における散布条件と同様であるので、ここでの説明は省略する。
【００７０】
本発明においては、現像液の流れ方向を制御することにより、ストライプ状感光性レジストパターンのリブ材料層側の端部を除去し、くびれ部を形成する。くびれ部が形成された後のストライプ状感光性レジストパターンの底部幅（リブ材料層との界面におけるストライプ状感光性レジストパターン幅）は、くびれ部が形成される前のストライプ状感光性レジストパターンの底部幅と比べて、例えば９９％以下、中でも９８％以下、特に５０％〜９５％の範囲内であることが好ましい。また、くびれ部が形成された後のストライプ状感光性レジストパターンの底部幅は、目的とするストライプリブの頂部幅により異なるものであるが、例えば７０μｍ〜２００μｍの範囲内、中でも５０μｍ〜１２０μｍの範囲内であることが好ましい。また、本発明においては、上記のストライプリブの底部幅が得られる程度の時間で、くびれ部形成工程を行うことが好ましい。
【００７１】
５．ブラスト処理工程
次に、本発明におけるブラスト処理工程について説明する。本発明におけるブラスト処理工程は、上記くびれ部が形成されたストライプ状感光性レジストパターンをマスクとして、上記リブ材料層のブラスト処理を行うことにより、上記ストライプ状リブを形成する工程である（図５参照）。
【００７２】
ブラスト処理工程における各種条件は、所望のストライプ状リブを形成することができれば特に限定されるものではなく、一般的なＰＤＰ用背面板の製造における条件と同様である。
【００７３】
ブラスト処理に用いられる研削材の材料としては、リブ材料層を研削することができるものであれば特に限定されるものではないが、例えばダイアモンド、アルミナ、炭化シリコン、炭酸カルシウム、ガラスビーズ、ステンレス等を挙げることができる。上記研削材の粒径としては、例えば３μｍ〜５０μｍの範囲内、中でも１０μｍ〜３０μｍの範囲内であることが好ましい。
【００７４】
研削材のブラスト圧力としては、例えば０．１ｋｇｆ／ｃｍ２〜３．０ｋｇｆ／ｃｍ２の範囲内、中でも０．３ｋｇｆ／ｃｍ２〜１．０ｋｇｆ／ｃｍ２の範囲内であることが好ましい。上記研削材の噴射量としては、例えば１００ｇ／ｍｉｎ〜６０００ｇ／ｍｉｎの範囲内、中でも１０００ｇ／ｍｉｎ〜５０００ｇ／ｍｉｎの範囲内であることが好ましい。
【００７５】
６．その他の工程
上述したブラスト処理工程の後に、通常は、ストライプ状リブの頂部に残った感光性レジストパターンを除去し、ストライプ状リブを焼成する焼成工程を行う。焼成温度、焼成時間および焼成方法等の条件については、一般的なＰＤＰ用背面板における条件と同様であるので、ここでの説明は省略する。さらに、焼成工程後に、ストライプ状リブの側面に蛍光体層を形成する蛍光体層形成工程を行う。蛍光体層を形成する方法としては、例えばスクリーン印刷法およびディスペンス法等を挙げることができる。また、本発明においては、上述した各工程の後に、表面を洗浄する洗浄工程を行っても良い。
【００７６】
Ｂ．現像装置
次に、本発明の現像装置について説明する。本発明の現像装置は、プラズマディスプレイパネル用背面板の製造に用いられる現像装置であって、リブ材料層と、上記リブ材料層上に形成されたストライプ状感光性レジストパターンの潜像を有する感光性レジスト層、または上記リブ材料層上に形成されたストライプ状感光性レジストパターンと、を有する被処理部材を保持する保持手段と、上記被処理部材に対して現像液を吐出するノズルを有する散布手段と、を有し、平面視上、上記ストライプ状感光性レジストパターンのストライプ方向と略平行になるように、現像液の流れ方向が制御できることを特徴とするものである。
【００７７】
図１３は、本発明の現像装置の一例を示す概略断面図である。本発明の現像装置は、基板１、パターン状のアドレス電極層２、誘電体層３、リブ材料層４ａおよびストライプ状感光性レジストパターン５がこの順に積層された部材（被処理部材）１１を保持する保持機構１６と、部材１１に対して現像液を吐出するノズル１２を有する散布手段１３とを有するものである。さらに、本発明の現像装置は、平面視上、ストライプ状感光性レジストパターンのストライプ方向と略平行になるように、現像液の流れ方向が制御できるものである。
【００７８】
本発明によれば、平面視上、ストライプ状感光性レジストパターンのストライプ方向と略平行になるように、現像液の流れ方向を制御することによって、ストライプ状感光性レジストパターンの底部に、くびれ部を設けることができる。これにより、リブ頂部のオーバーハングが低減したＰＤＰ用背面板を得ることができる。
以下、本発明の現像装置について、構成ごとに説明する。
【００７９】
１．保持手段
本発明における保持手段は、リブ材料層と、リブ材料層上に形成されたストライプ状感光性レジストパターンの潜像を有する感光性レジスト層、またはリブ材料層上に形成されたストライプ状感光性レジストパターンと、を有する被処理部材を保持する手段である。
【００８０】
本発明に用いられる被処理部材は、主に２種類に大別することができる。本発明に用いられる被処理部材の一つ目は、リブ材料層と、リブ材料層上に形成されたストライプ状感光性レジストパターンの潜像を有する感光性レジスト層とを少なくとも有するものである。これは、現像工程およびくびれ形成工程を、連続的に行う際に用いられるものである。一方、本発明に用いられる被処理部材の二つ目は、リブ材料層と、リブ材料層上に形成されたストライプ状感光性レジストパターンとを少なくとも有するものである。これは、現像工程を行うことにより予め形成されたストライプ状感光性レジストパターンに対して、くびれ部を形成する際に用いられるものである。また、本発明に用いられる被処理部材は、通常、基板、パターン状のアドレス電極、および誘電体層を有する。これらの部材については、上記「Ａ．ＰＤＰ用背面板の製造方法」に記載した内容と同様であるので、ここでの記載は省略する。
【００８１】
本発明における保持手段は、被処理部材を保持することができるものであれば特に限定されるものではない。中でも、本発明においては、保持手段が、上記「Ａ．ＰＤＰ用背面板の製造方法」に記載した、現像液の流れ制御を行うことができる機構を有していることが好ましい。特に、本発明においては、保持手段が、水平移動機構、揺動機構および傾斜付与機構の少なくとも一つを有していることが好ましい。
【００８２】
２．散布手段
本発明における散布手段は、被処理部材に対して現像液を吐出するノズルを有するものであれば、特に限定されるものではない。中でも、本発明においては、散布手段が、上記「Ａ．ＰＤＰ用背面板の製造方法」に記載した、現像液の流れ制御を行うことができる機構を有していることが好ましい。特に、本発明においては、散布手段が、吐出方向傾斜機構、水平移動機構および揺動機構の少なくとも一つを有していることが好ましい。さらに、本発明における散布手段は、上述した第二の制御方法に対応した、気体噴射手段の機能を兼ね備えていても良い。また、本発明の現像装置は、気体噴射手段を別途有するものであっても良い。
【００８３】
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と、実質的に同一の構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなる場合であっても本発明の技術的範囲に包含される。
【実施例】
【００８４】
以下、実施例を用いて、本発明をさらに具体的に説明する。なお、実施例中、「部」は重量部、「％」は重量％を示す。
【００８５】
［実施例］
（１）背面板形成用部材準備工程
大きさ２０８０ｍｍ×１２１０ｍｍ、厚さ１．８ｍｍの高歪点ガラス（旭硝子（株）製「ＰＤ２００」）上にアドレス電極として、感光性銀ペースト（太陽インキ製造（株）製ＥＰＨ−２００ＴＲ８６０５）を、乳剤厚５μｍのスクリーン印刷版（東京プロセスサービス（株）製「Ｔ２５０メッシュ」）を用いてベタ印刷し、８０℃で３０分乾燥した。次に、開口幅５０μｍのパターンを有するフォトマスクにより露光し、０．３％炭酸ナトリウム水溶液にて現像圧１．５ｋｇｆ／ｃｍ２でスプレー現像し、銀電極パタ−ンを形成した。次に、６００℃にて焼成し、ガラス基板上に膜厚３μｍ、線幅５０μｍ、ピッチ２００μｍのアドレス電極を形成した。次に、このアドレス電極上に、ＰＬＳ−３７６２Ｄ３（日本電気硝子製）をスクリーン印刷にて印刷し、乾燥、焼成して膜厚１０μｍの誘電体層を形成した。
【００８６】
次に、下記組成のリブ材料層形成用材料の作製を行った。
・ガラスフリット（ＺｎＯ／ＳｉＯ２／Ｂ２Ｏ３／アルカリ金属酸化物、熱膨張係数８０×１０−７／℃、軟化点５５０℃、平均粒径３μｍ）  …６０重量部
・アルミナ（岩谷化学工業（株）製ＲＡ−４０）  …２０重量部
・エチルセルロース（ダウケミカル社製エトセルＳＴＤ−１００ＦＰ）  …２重量部
・ターピネオール  …９重量部
・ブチルカルビトールアセテート  …９重量部
【００８７】
このリブ材料層形成用材料を、誘電体層に対してダイコーターによりコーティング、乾燥を行い、膜厚１５０μｍのリブ材料層を作製した。次に、得られた基板を１００℃に加熱し、リブ材料層上にドライフィルムレジスト（東京応化工業製、ＮＢ−２３５）をラミネートし、背面板形成用部材を得た。
【００８８】
（２）露光工程
得られた背面板形成用部材に対して、フォトマスクを介して露光を行った。露光条件は、照射量２５０ｍＪ／ｃｍ２であった。これにより、ドライフィルムレジストに、ストライプ状感光性レジストパターンの潜像（線幅１００μｍ、ピッチ２００μｍ）を形成した。
【００８９】
（３）現像工程およびくびれ形成工程
露光したドライフィルムレジストに対して、現像工程およびくびれ形成工程を、同一の条件で連続的に行った。具体的には、図３（ｂ）に示すような方法で、現像工程およびくびれ形成工程を行った。なお、図３（ｂ）においては、ストライプ状感光性レジストパターン５が示されているが、本実施例においては、ストライプ状感光性レジストパターンの潜像が形成された感光性レジスト層に対して、現像工程およびくびれ形成工程を、同一の条件で連続的に行った。現像液には、液温３０℃の無水炭酸ナトリウム０．５％水溶液を用い、散布手段のノズルには、スリットノズルを用いた。スリットノズルから吐出される現像液の吐出方向は、鉛直下向き方向に対して４５°傾け、平面視上、ストライプ状感光性レジストパターンの潜像のストライプ方向と平行の方向に設定した。また、ストライプ状感光性レジストパターンの潜像に対する、スリットノズルの吐出口の高さを１５０ｍｍとし、現像液の吐出量を０．８Ｌ／ｍｉｎとし、現像液の散布時間を８７秒とした。これにより、くびれ部を有するストライプ状感光性レジストパターン（底部幅９０μｍ、くびれ部の高さ５μｍ、頂部幅１００μｍ、ピッチ２００μｍ）を得た。
【００９０】
（４）ブラスト処理工程
Ｓ−９（＃１２００）（不二製作所製）を研削材としてサンドブラスト加工により、ストライプ状感光性レジストパターンで被覆されていないリブ材料層を研削し、ストライプ状リブを得た。その後、水酸化ナトリウム２．０％水溶液を用い、液温３０℃にてストライプ状感光性レジストパターンを剥離した。得られた焼成前のストライプ状リブのリブ高さは２２０μｍであり、リブ頂部幅は８０μｍであり、リブピッチは２００μｍであった。その後、ピーク温度５５３℃、保持時間１３分、全焼成時間２時間で焼成を行い、ＰＤＰ用背面板を得た。得られたストライプ状リブのリブ高さは１１０μｍであり、リブ頂部幅は２０μｍであり、リブピッチは２００μｍであった。
【００９１】
［比較例］
図１４に示すように、現像工程およびくびれ形成工程の際に、散布手段１３ａのスリットノズルから吐出される現像液の吐出方向を鉛直下向き方向に変更したこと（図示せず）、平面視上、散布手段１３ａのスリットノズルのスリット方向をストライプ状感光性レジストパターン５のストライプ方向と略平行としたこと、および、平面視上、散布手段１３ａをストライプ状感光性レジストパターン５のストライプ方向とは直交する方向で揺動させたこと以外は、実施例と同様にして、ＰＤＰ用背面板を得た。なお、得られたストライプ状感光性レジストパターンは、底部幅１００μｍ、頂部幅１００μｍ、ピッチ２００μｍであった。
【００９２】
［評価］
実施例および比較例で得られたＰＤＰ用背面板のストライプ状リブの断面を、ＳＥＭで観察した。その結果、比較例で得られたストライプ状リブは、頂部が張出していることが確認された。一方、実施例で得られたストライプ状リブは、頂部の張出しが低減され、丸みを帯びた頂部形状が形成されていることが確認された。これにより、ＰＤＰの封着を行う際にリブ頂部が欠け難くなり、歩留まりが向上する。
【図面の簡単な説明】
【００９３】
【図１】本発明における背面板形成用部材準備工程、露光工程および現像工程の一例を示す概略断面図である。
【図２】現像工程後のストライプ状感光性レジストパターンを説明する説明図である。
【図３】本発明におけるくびれ部形成工程の一例を説明する説明図である。
【図４】本発明におけるくびれ部を説明する概略断面図である。
【図５】本発明におけるブラスト処理工程の一例を示す概略断面図である。
【図６】本発明における、第一の制御方法の一例を示す概略断面図である。
【図７】本発明における、第一の制御方法の他の例を示す概略断面図である。
【図８】本発明における、第二の制御方法の一例を示す概略断面図である。
【図９】本発明における、第三の制御方法の一例を示す概略断面図である。
【図１０】本発明における、第四の制御方法の一例を示す概略断面図である。
【図１１】本発明における、第五の制御方法の一例を示す概略断面図である。
【図１２】本発明における、第六の制御方法の一例を示す概略断面図である。
【図１３】本発明の現像装置の一例を示す概略断面図である。
【図１４】比較例を説明する概略平面図である。
【図１５】従来のＰＤＰ用背面板を示す概略断面図である。
【図１６】従来のＰＤＰ用背面板を示す斜視図である。
【図１７】従来のＰＤＰ用背面板の製造方法の一例を示す概略断面図である。
【図１８】リブ頂部のオーバーハングを説明する概略断面図である。
【符号の説明】
【００９４】
１  …  基板
２  …  アドレス電極層
３  …  誘電体層
４ａ  …  リブ材料層
４  …  ストライプ状リブ
５ａ  …  感光性レジスト層
５  …  ストライプ状感光性レジストパターン
６  …  くびれ部
１０  …  背面板形成用部材
１１  …  ストライプ状感光性レジストパターンを有する部材
１２  …  ノズル
１３  …  散布手段
１４  …  ノズル
１５  …  気体噴射手段
１６  …  保持手段
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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