(57)【要約】【課題】  光学材料用のポリマー原料としても有用である新規ジチオカルバメート化合物と、その高収率で、工業的に安価で簡便な製法を提供すること。【解決手段】  下記式（１）で表されるジチオカルバメート化合物とする。（式中、Ｒは、置換基を有していてもよいアリーレン基、複数のこれらアリーレン基が直接又はヘテロ原子或いは炭素数１〜１０の炭化水素基（環式構造や分岐構造も含み、更に低級炭化水素基の中にヘテロ原子を含む。）を介してつながっていても良い。Ｚ及びＺ’は独立にＮ、ＮＨ又はＮＲ1を表し、Ｒ１は環構造を有していてもよい炭素数１〜１０の炭化水素基を表し、ｎ及びｍは独立に１又は２を表す。）アリルアミンと二硫化炭素とジハライドとを反応させることにより下記式（１）で表されるジチオカルバメートを製造することができる。2010229125.tif 000007【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（１）で表されるジチオカルバメート化合物。
【化１】
2010229125.tif 000006
（式中、Ｒは、アリーレン基、複数のこれらアリーレン基が直接又はヘテロ原子或いは炭素数１〜１０の炭化水素基（環式構造や分岐構造も含み、更に低級炭化水素基の中にヘテロ原子を含む。）を介してつながっていても良い。Ｚ及びＺ’は独立にＮ、ＮＨ又はＮＲ1を表し、Ｒ１は環構造を有していてもよい炭素数１〜１０の炭化水素基を表し、ｎ及びｍは独立に１又は２の整数を表す。）
【請求項２】
下記一般式（２）で表されるアリルアミンに二硫化炭素を反応させた後、下記一般式（３）で表されるジハライドと反応させることを特徴とする、請求項１に記載のジチオカルバメート化合物の製造方法。
［化２］
（ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＨ２）ｐＹ      （２）
（式中、ＹはＮＨ２、ＮＨ又はＮＨＲ1を表し、Ｒ１は環構造を有していてもよい炭素数１〜１０の炭化水素基を表し、ｐは１又は２の整数を表す。）
［化３］
Ｘ−ＣＨ２−Ｒ−ＣＨ２−Ｘ      （３）
（式中、Ｒは、アリーレン基、複数のこれらアリーレン基が直接又はヘテロ原子或いは炭素数１〜１０の炭化水素基（環式構造や分岐構造も含み、更に低級炭化水素基の中にヘテロ原子を含む。）を介してつながっていても良い。Ｘはハロゲン原子を表す。）
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、その屈折率の高さから光学材料として有用なポリマーの原料となる新規ジチオカルバメート化合物及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ジチオカルバメート化合物は、特許文献１に記載されているように殺菌、殺虫作用を有することから医薬、農薬の原料として有用であるだけでなく、ポリマー原料、特に光学材料用のポリマー原料としても有用である。
従来プラスチックレンズ材料は数多くの種類が開発され、実際にも使用されているが、屈折率１．６５を超える超高屈折率樹脂材料と呼ばれるものは、非常に限られていた。
例えばポリチオールとポリイソシアネートとの反応により得られる屈折率１．６７に代表されるチオウレタン樹脂やポリエピスルフィド化合物の開環重合により得られる屈折率１．７を超える樹脂が知られている。しかし何れも熱硬化であるため、成形に時間がかかるだけでなく、低温での成形も困難である等の問題点があった。
特許文献１には、３，３´−チオビス（プロパン−１，２−ジチオール）及び１種以上のエン化合物、光ラジカル重合開始剤を含有する組成物を光硬化させることで高屈折率な光硬化を得ている。しかしこれらの硬化物の屈折率は１．５９８〜１．６６３とそれほど高いものではなかった。
また、ジチオカルバメート化合物の合成方法としては、以下の方法が知られている。
特許文献２には、エタンジチオールとアリルイソチオシアネートからのカルバモジチオ酸２−プロペニル−１，２−エタンジイルエステルの合成方法が記載されている。しかし生産性の低い光反応であるだけでなく、収率は２２％と低く、悪臭のエタンジチオールを用いるため工業的な製法としては不充分であった。
特許文献３には、ジアリルアミンと二硫化炭素とを水酸化ナトリウム水溶液中で反応させた後、１，４−ジクオロロ−２−ブテンと反応させる２−ブテン−１，４−ジチオール  ビス（ジアリルジチオカルバメート）の合成方法が記載されている。
また、特許文献４には、ビス（ハロメチル）ピリジンにモノアリルアミンと二硫化炭素を反応させるジチオカルバメートの合成方法が記載されている。しかしアリーレン基を有するジチオカルバメートの合成は無かった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】米国特許第３８８４９５１号
【特許文献２】米国特許第２９１９１８２号
【特許文献３】特公昭５６−３５６６５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は、光学材料用のポリマー原料としても有用である新規ジチオカルバメート化合物と、その高収率で、工業的に安価で簡便な製法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者らは、前記課題を解決するため、鋭意研究を行った結果、光学材料用のポリマー原料としても有用である新規ジチオカルバメート化合物と、その高収率で、工業的に安価で簡便な製法を見出し、本発明を完成するに至った。
即ち、本発明の課題は、一般式（１）
【０００６】
【化１】
2010229125.tif 000002
（式（１）中、Ｒは、アリーレン基、複数のこれらアリーレン基が直接又はヘテロ原子或いは炭素数１〜１０の炭化水素基（環式構造や分岐構造も含み、更に低級炭化水素基の中にヘテロ原子を含む。）を介してつながっていても良い。Ｚ及びＺ’は、独立にＮ、ＮＨ又はＮＲ1を表し、Ｒ１は環構造を有していてもよい炭素数１〜１０の炭化水素基を表し、ｎ及びｍは独立に１又は２の数を表す。）で表されるジチオカルバメート化合物によって解決される。
【０００７】
本発明は、また、一般式（２）
【０００８】
［化２］
（ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＨ２）ｐＹ    （２）
【０００９】
（式中、ＹはＮＨ２、ＮＨ又はＮＨＲ1を表し、Ｒ１は前記と同義であり、ｐは１又は２の数を表す。）で表されるアリルアミンに二硫化炭素を反応させた後、一般式（３）
【００１０】
［化３］
Ｘ−ＣＨ２−Ｒ−ＣＨ２−Ｘ      （３）
【００１１】
（式中、Ｒは、前記と同義で有り、Ｘはハロゲン原子を表す。）で表されるジハライドと反応させることを特徴とする、前記一般式（１）で表されるジチオカルバメート化合物の製造方法によっても解決される。
【発明の効果】
【００１２】
本発明により、殺菌、殺虫作用を有するため医薬、農薬の原料として有用であり、特に光学材料用のポリマーとしても有用である新規なチオカルバメート化合物を、悪臭のチオール化合物を用いることなく、ワンポットで、高収率、且つ工業的に安価で簡便に製造することができるのであり、経済的、工業的価値は高い。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
一般式（１）で表されるジチオカルバメート化合物のＲ及び、一般式（３）で表されるジハライドのＲは、置換基を有していてもよいアリーレン基、複数のこれらアリーレン基が直接又はヘテロ原子或いは炭素数１〜１０の炭化水素基（環式構造や分岐構造も含み、更に炭化水素基の中にヘテロ原子を含む。）を介してつながっていても良い。
本発明において、環式構造とは、脂環構造、芳香環構造、複素環構造等を含むものである。
前記アリーレン基、複数のこれらアリーレン基が直接又はヘテロ原子或いは炭素数１〜１０の炭化水素基（環式構造や分岐構造も含み、更に炭化水素基の中にヘテロ原子を含む。）としては、例えば、１，２−フェニレン基、１，３−フェニレン基、１，４−フェニレン基、１，２−キシリレン基、１，３−キシリレン基、１，４−キシリレン基、１，４−ナフチレン基、４，４‘−ビフェニレン基、４，４’−ビフェニルエーテル基、４，４’−ビフェニルチオエーテル基、４，４’−ビフェニルスルホニル基等である。前記の置換基としては特に限定はされないが、例えば、炭素原子数１〜１０個（特に炭素原子数１〜５個）である直鎖状または分岐状のアルキル基が好ましく、例えばメチル基、エチル基、プロピル基（異性体を含む）、ブチル基（異性体を含む）、ペンチル基（異性体を含む）、ヘキシル基（異性体を含む）、ヘプチル基（異性体を含む）、オクチル基（異性体を含む）、ノニル基（異性体を含む）、デシル基（異性体を含む）等を挙げることができ、好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基（異性体を含む）、ブチル基（異性体を含む）、ペンチル基（異性体を含む）、ヘキシル基（異性体を含む）、ヘプチル基（異性体を含む）、オクチル基（異性体を含む）であり、特に好ましくはメチル基、エチル基、プロピル基（異性体を含む）、ブチル基（異性体を含む）、ペンチル基（異性体を含む）が挙げられる。
【００１４】
前記炭素数１〜１０の炭化水素基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、メチルメチレン基、トリメチレン基、プロピレン基、２−プロピレン基、ジメチルメチレン基、テトラメチレン基、１−メチルトリメチレン基、２−メチルトリメチレン基、３−メチルトリメチレン基、１−エチルエチレン基、２−エチルエチレン基、２，２−ジメチルエチレン基、１，１−ジメチルエチレン基、エチルメチルメチレン基、プロピルメチレン基、ペンタメチレン基、１−メチルテトラメチレン基、２−メチルテトラメチレン基、３−メチルテトラメチレン基、４−メチルテトラメチレン基、１，１−ジメチルトリメチレン基、２，２−ジメチルトリメチレン基、３，３−ジメチルトリメチレン基、１，３−ジメチルトリメチレン基、２，３−ジメチルトリメチレン基、１，２−ジメチルトリメチレン基、１−エチルトリメチレン基、１，１，２−トリメチルエチレン基、ジエチルメチレン基、１−プロピルエチレン基、２−プロピルエチレン基、ブチルメチレン基、ヘキサメチレン基、１−メチルペンタメチレン基、１，１−ジメチルテトラメチレン基、２，２−ジメチルテトラメチレン基、３，３−ジメチルテトラメチレン基、４，４−ジメチルテトラメチレン基、１，１，３−トリメチルトリメチレン基、１，１，２−トリメチルトリメチレン基、１，１，２，２−テトラメチルエチレン基、１，１−ジメチル−２−エチルエチレン基、１，１−ジエチルエチレン基、１−プロピルトリメチレン基、２−プロピルトリメチレン基、３−プロピルトリメチレン基、１−ブチルエチレン基、２−ブチルエチレン基、１−メチル−１−プロピルエチレン基、２−メチル−２−プロピルエチレン基、１−メチル−２−プロピルエチレン基、２−メチル−１−プロピルエチレン基、ペンチルメチレン基、ブチルメチルメチレン基、エチルプロピルメチレン基等のアルキレン基；ヘキサン−１，６−ジイル基、シクロヘキサン−１，１−ジイル基、シクロヘキサン−１，２−ジイル基、シクロヘキサン−１，４−ジイル基等のアルキレン基や、２−メチルプロパン−１，３−ジイル基、３−メチルペンタン−１，５−ジイル基、ジメチルメチレン基、２，２−ジメチルプロパン−１，３−ジイル基等の置換基を有するアルキレン基や、シクロへキサン−１，４−ジメチレン基（位置異性体を含む）等の炭素鎖中に環構造を有するアルキレン基；２−チアプロパン−１，３−ジイル基、３−チアペンタン−１，５−ジイル基、４−チアヘプタン−１，７−ジイル基、１，３−ジチアプロパン−１，３−ジイル基、２，４−ジチアペンタン−１，５−ジイル基、２，３−ジチアブタン−１，４−ジイル基、３，４−ジチアヘキサン−１，６−ジイル基、３，５−ジチアヘプタン−１，７−ジイル基、２，５−ジチアヘキサン−１，６−ジイル基、３，６−ジチアオクタン−１，８−ジイル基、４，５−ジチアオクタン−１，８−ジイル基、４，６−ジチアノナン−１，９−ジイル基、４，７−ジチアデカン−１，１０−ジイル基、３，７−ジチアノナン−１，９−ジイル基、４，８−ジチアウンデカン−１，１１−ジイル基、２−オキサプロパン−１，３−ジイル基、３−オキサペンタン−１，５−ジイル基、４−オキサヘプタン−１，７−ジイル基、１，３−ジオキサプロパン−１，３−ジイル基、２，４−ジオキサペンタン−１，５−ジイル基、３，５−ジオキサヘプタン−１，７−ジイル基、２，５−ジオキサヘキサン−１，６−ジイル基、３，６−ジオキサオクタン−１，８−ジイル基、４，６−ジオキサノナン−１，９−ジイル基、４，７−ジオキサデカン−１，１０−ジイル基、３，７−ジオキサノナン−１，９−ジイル基、４，８−ジオキサウンデカン−１，１１−ジイル基、１，４−ジチアン−２，５−ジイル基、１，４−ジオキサン−２，５−ジイル基等の炭素鎖中にへテロ原子を有するアルキレン基；１，４−ジチアン−２，５−ジメチル基（位置異性体を含む）、１，４−ジオキサン−２，５−ジメチル基（位置異性体を含む）等の炭素鎖中にヘテロ原子及び環構造を有するアルキレン基等が挙げられる。
【００１５】
一般式（１）で表されるジチオカルバメート化合物中のＺ及びＺ’は、独立にＮ、ＮＨ又はＮＲ1を表し、Ｒ１は環構造を有していてもよい炭素数１〜１０の炭化水素基、好ましくは炭素数１〜７の炭化水素基を表す。
前記低級炭化水素基は、直鎖でも分岐鎖でもよく、環構造を有していてもよい。
また、一般式（１）で表されるジチオカルバメート化合物中のｎ及びｍは独立に１又は２の数を表す。
【００１６】
本発明で用いられる一般式（２）で表されるアリルアミンとしては、モノアリルアミン、ジアリルアミン、アリルメチルアミン、アリルエチルアミン、アリルｎ−プロピルアミン、アリルｎ−ブチルアミン、アリルフェニルアミン、アリルベンジルアミン、アリルシクロヘキシルアミン等が挙げられ、好ましくはジアリルアミン、アリルメチルアミン、アリルエチルアミン、アリルｎ−プロピルアミン、アリルｎ−ブチルアミン又はアリルベンジルアミンであり、特に好ましくはジアリルアミンである。このアリルアミンの添加量としては、一般式（３）で表されるジハライド１モルに対して、２〜２０倍モル、好ましくは２〜１０倍モルである。
アリルアミンの添加量が少なすぎると、収率が低下する場合があり、アリルアミンの添加量が多すぎてもアリルアミンを多量に添加する割には反応収率の向上は見られない。
【００１７】
一般式（２）で表されるジハライドのハロゲン原子Ｘとしては、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子又はフッ素原子であり、好ましくは塩素原子、臭素原子である。
【００１８】
ジチオカルバメート化合物の製造方法に係る本発明では、上記一般式（２）で表されるアリルアミンに二硫化炭素を反応させた後、上記一般式（３）で表されるジハライドを反応させる。
【００１９】
ジチオカルバメートの製造方法に係る本発明では、アリルアミンと二硫化炭素とをまず反応させる。
本発明で使用される二硫化炭素の添加量は、一般式（３）で表されるジハライド１モルに対して、２〜５０倍モル、好ましくは３〜２０倍モルである。本発明のジチオカルバメートの製造方法において、二硫化炭素はアリルアミンとの反応剤としてだけではなく、溶媒としても機能できるため、過剰量に添加してもよい。
ジハライドに対する二硫化炭素の添加量が少なすぎると収率が低下したり、攪拌困難になる場合があり、多すぎると反応液の濃度が薄くなることで反応速度が低下する場合がある。
【００２０】
本発明のジチオカルバメートの製造方法において、前記アリルアミンと前記二硫化炭素とを反応させるに際して、塩基を添加してもよい。
この時使用される塩基は特に限定されないが、例えば、トリエチルアミン、ピリジン、１，８−ジアザビシクロ［５，４，０］−７−ウンデセン、１，５−ジアザビシクロ［４，３，０］−５−ノネン、１，４−ジアザビシクロ［２，２，２］オクタン等の有機塩基；炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸ルビジウム、炭酸セシウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の無機塩基であり、好ましくは無機塩基である。使用する塩基は、一般式（３）で表されるジハライド１モルに対して、２〜２０倍モル、好ましくは２〜１０倍モルである。
ジハライドに対する塩基の添加量が少なすぎると収率が低下する場合があり、多すぎると生産効率が低下する場合がある。
【００２１】
カルバーメートのアミン塩が固体として析出して攪拌困難となる場合や、無機塩基を併用する場合等には溶媒を添加してもよい。
前記溶媒としては反応の進行を妨げない限り特に制限はなく、例えば水、アルコール（メタノール、エタノール等）、脂肪族炭化水素（ヘキサン、ヘプタン等）、芳香族炭化水素（トルエン、キシレン等）、脂肪族エーテル（ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン等）、脂肪族アミド（Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン等）、脂肪族スルホキシド（ジメチルスルホキシド等）などが挙げられる。またこれらの溶媒は単一又は２種以上を混合して用いてもよい。これらの溶媒を添加量としては、一般式（３）で表されるジハライド１ｇに対して０〜５０ｍｌであり、好ましくは０〜２０ｍｌである。
溶媒の添加量が多すぎると生産効率が低下する場合がある。
【００２２】
前記溶媒の添加等により、反応液が複数の相に分かれる場合には、反応を促進するために相間移動触媒を添加してもよく、添加する場合の相間移動触媒としては、１５−クラウン−５−エーテル、１８−クラウン−６−エーテルなどの環状ポリエーテル類；ポリエチレングリコールジアルキルエーテルなどの非環状ポリエーテル類；テトラブチルホスホニウムクロリド、テトラフェニルホスホニウムクロリド、テトラフェニルホスホニウムブロミドなどのホスホニウム塩、クリプタンド〔２．２．１〕、クリプタンド〔２．２．２〕等の環状ポリエーテルアミン類；テトラメチルアンモニウムクロリド、テトラエチルアンモニウムクロリド、テトラブチルアンモニウムブロミド、テトラブチルアンモニウムヨーダイド、ベンジルトリメチルアンモニウムクロリド、アリコート３３６などの四級アンモニウム塩などが挙げられ、好ましくは、四級アンモニウム塩である。使用する相間移動触媒は、一般式（３）で表されるジハライド１モルに対して、０．００１〜０．５倍モル、好ましくは、０．００５〜０．１モルである。
ジハライドに対する相間移動触媒の添加量が少なすぎると反応収率が悪くなる場合があり、多すぎるとジチオカルバメートの品質を低下させる場合がある。
【００２３】
本発明における反応温度は、−２０℃〜１００℃、更には０℃〜６０℃の範囲が好ましい。反応温度が低すぎると反応速度が低下して生産効率が悪くなる傾向がある。また反応温度が高すぎると選択性が低下する場合がある。
反応後、生成した一般式（１）で表されるジチオカルバメート化合物は、ろ過、カラムクロマトグラフィー、再結晶等の常法により反応混合物から分離できる。
得られた一般式（１）で表されるジチオカルバメート化合物は、例えば、１，２，３−トリメルカプトプロパンなどのチオールと混合し、これに２−メチル−１［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オンなどの光重合開始剤を添加し、光重合を行うことで、例えば１．７を超えるような高屈折率の樹脂が得られる。
【実施例】
【００２４】
以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明は、これら実施例に制限されるものではない。
【００２５】
［実施例１］
ジアリルアミン（３．６９ｇ、４０ｍｍｏｌ）に二硫化炭素（５．０５ｇ、６６．３ｍｍｏｌ）を１０℃以下で加え、これに同温度でｐ−キシリレンジクロライド（１．７６ｇ、１０ｍｍｏｌ）を加えた後、２５℃で１０時間攪拌した。得られた反応混合液に水１０ｍｌと酢酸エチル２０ｍｌを加え、分離した有機層に１ｍｏｌ／ｌ−塩酸１０ｍｌを加えた。再び分離した有機層を減圧濃縮して、薄黄色油状物４．２０ｇを得た。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒；ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１０／1（容量比））で精製し、無色粉末として、下記構造式の１，４−ビス（ジアリルアミノチオカルボニルスルファニルメチル）ベンゼン（３．１０ｇ、６．９ｍｍｏｌ）を得た（ｐ−キシリレンジクロライド基準の単離収率；６９％）。また、１Ｈ−ＮＭＲにより構造の確認をした。
【００２６】
【化４】
2010229125.tif 000003
【００２７】
1H-NMR(CDCl3,δ(ppm));4.30(4H,brs),4.53(4H,s),4.66(4H,brs),5.16〜5.28(8H,m),5.78〜5.90(4H,m),7.32(4H,s)
【００２８】
［実施例２］
ジアリルアミン（３．６９ｇ、４０ｍｍｏｌ）に二硫化炭素（５．０５ｇ、６６．３ｍｍｏｌ）を１０℃以下で加え、これに更に同温度で４，４’−ビス(クロロメチル)ビフェニル（２．５２ｇ、１０ｍｍｏｌ）を加えた後、２５℃で２．５時間攪拌した。得られた反応混合液に水１０ｍｌと酢酸エチル２０ｍｌを加え、分離した有機層に１ｍｏｌ／ｌ−塩酸１０ｍｌを加えた。再び分離した有機層を減圧濃縮して、薄黄色固体４．７７ｇを得た。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒；ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１０／1（容量比））で精製し、無色粉末として、下記構造式の１，４−ビス（ジアリルアミノチオカルボニルスルファニルメチル）ビフェニル（３．３３ｇ、６．４ｍｍｏｌ）を得た（４，４’−ビス(クロロメチル)ビフェニル基準の単離収率；６４％）。また、１Ｈ−ＮＭＲにより構造の確認をした。
【００２９】
【化５】
2010229125.tif 000004
【００３０】
1H-NMR(CDCl3,δ(ppm));4.32(4H,brs),4.60(4H,s),4.68(4H,brs),5.16〜5.29(8H,m),5.80〜5.91(4H,m),7.41〜7.53(8H,m)
【００３１】
［実施例３］
Ｎ−ベンジルアリルアミン（３．６９ｇ、２５ｍｍｏｌ）に二硫化炭素（１．９１ｇ、２５ｍｍｏｌ）をＴＨＦ２ｍｌで希釈した溶液を１０℃以下で加えたものを２５℃で１．５時間攪拌した。これに同温度でｐ−キシリレンジクロライド（１．７６ｇ、１０ｍｍｏｌ）をＴＨＦ８ｍｌに溶解させた溶液を加えた後、２５℃で５０時間攪拌した。得られた反応混合物を減圧濃縮し、残渣に酢酸エチル６０ｍｌと水１０ｍｌを加え、分離した有機層を減圧濃縮して、薄黄色の液体と無色針状物の混合物４．５ｇを得た。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒；ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝４０／1〜２０／１（容量比））で精製し、無色粘性物として、下記構造式の１，４−ビス（Ｎ−ベンジルアリルアミノチオカルボニルスルファニルメチル）ベンゼン（２．１ｇ、３．８ｍｍｏｌ）を得た（ｐ−キシリレンジクロライド基準の単離収率；３８％）。また、１Ｈ−ＮＭＲにより構造の確認をした。
【００３２】
【化６】
2010229125.tif 000005
（式中、Ｂｎはベンジル基を表す。）
【００３３】
1H-NMR(CDCl3,δ(ppm));4.21(2H,brs),4.57(4H,s),4.66(2H,brs),5.15(2H,brs),5.16〜5.28(4H,m), 5.35(2H,brs),5.60〜6.00(2H,m),7.10〜7.40(14H,m)
【００３４】
［参考例１］  
実験例１と同様の方法で合成した１，４−ビス（ジアリルアミノチオカルボニルスルファニルメチル）ベンゼン（３３６ｍｇ、０．７５ｍｍｏｌ）と１，２，３−トリメルカプトプロパン０．１４ｍｇ、１ｍｍｏｌ）、及び２−メチル−１［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン（１．１ｍｇ）を混合したものを、８０℃で１分間加温して均一溶液としたものを、２枚の石英ガラス板とシリコンラバーから構成される厚さ０．４ｍｍの隙間に注入した。これを１５００Ｗ（７０００J／ｃｍ２）のメタルハライドランプ光の光源から１０ｃｍの距離で２５秒間照射し、これを３回行って硬化させた。得られた薄黄色フィルム状の硬化物を取り出し、その屈折率を測定したところ、屈折率は１．７２であった。なお、屈折率の測定は、ＡＴＡＧＯ社製、多波長アッベ屈折計（ＤＲ＝Ｍ４）を用いて、２５℃での５８９（Ｄ）ｎｍでの屈折率を測定した。