(57)【要約】【課題】光学補償機能を有するカラーフィルタ基板の製造方法において、解像度が良好で、さらに精細なパターンを形成することができる製造方法の提供。【解決手段】少なくとも下記の［１］〜［３］の工程をこの順に含むカラーフィルタ基板の製造方法：［１］高さ（ｈ）が５μｍ以下の隔壁によって隔てられた微細領域を複数有する基板を用意する工程；［２］前記微細領域の１つ以上に、膜厚（ｄ）が、数式（ＸＩ）：０．４  ≦  膜厚（ｄ）／隔壁高さ（ｈ）≦  ０．８を満足する光学異方性層（又は着色層）を形成する工程；［３］上記光学異方性層の上に、着色層（又は光学異方性層）を積層する工程。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも下記の［１］〜［３］の工程をこの順に含むカラーフィルタ基板の製造方法：
［１］高さ（ｈ）が５μｍ以下の隔壁によって隔てられた微細領域を複数有する基板を用意する工程；
［２］前記微細領域の１つ以上に、膜厚（ｄ）が下記の数式（ＸＩ）を満足する光学異方性層を形成する工程：
数式（ＸＩ）
０．４  ≦  膜厚（ｄ）／隔壁高さ（ｈ）≦  ０．８；
［３］上記光学異方性層の上に、着色層を積層する工程。
【請求項２】
少なくとも下記の［１］〜［３］の工程をこの順に含むカラーフィルタ基板の製造方法：
［１］高さ（ｈ）が５μｍ以下の隔壁によって隔てられた微細領域を複数有する基板を用意する工程；
［２］前記微細領域の１つ以上に、膜厚（ｄ）が下記の数式（Ｉ）を満足する着色層を形成する工程：
数式（ＸＩ）
０．４  ≦  膜厚（ｄ）／隔壁高さ（ｈ）≦  ０．８；
［３］上記着色層の上に、光学異方性層を積層する工程。
【請求項３】
数式（Ｉ）が下記数式（ＸＩ−１）である請求項１または２に記載の方法。
０．５  ≦  膜厚（ｄ）／隔壁高さ（ｈ）≦  ０．７
【請求項４】
前記光学異方性層が、インクジェット法により形成される請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
前記光学異方性層が、少なくとも一種の液晶性化合物を含有する液状組成物を、インクジェット式の吐出ヘッドから吐出し、乾燥させて、さらに露光を行って形成される請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
前記着色層が、インクジェット法により形成される請求項１〜５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか一項に記載の方法により得られるカラーフィルタ基板。
【請求項８】
請求項７に記載のカラーフィルタ基板を有する液晶表示装置。
【請求項９】
前記液晶表示装置の配向モードがＴＮ、ＶＡ、ＩＰＳ、ＦＦＳ、ＯＣＢのいずれかである請求項８に記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は光学補償機能を有するカラーフィルタ基板の製造方法、及び該製造方法により得られるカラーフィルタ基板に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置の視野角特性の改善のために、従来から光学補償フィルムが用いられてきたが、近年、液晶セル内に設けられた光学異方性層により視野角特性の改善を達成する技術が多く開発されている。例えば、特許文献１、２、及び３においては、隔壁（ブラックマトリックス）が設けられている基板を用いて、インクジェット方式により着色層及び光学異方性層を積層する方法が開示されている。特に、特許文献１には高さが１０μｍのブラックマトリックスで形成された領域に配向膜を１．６μｍ高さとなるように形成したあと、位相差層を２．３〜２．８μｍで形成することが実施例で開示されている。
【特許文献１】特願２００７−２３３３７６号公報
【特許文献２】特開２００７−１８３５９６号公報
【特許文献４】特開２００６−６４８５８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
本発明は、光学補償機能を有するカラーフィルタ基板の製造方法において、解像度が良好で、さらに精細なパターンを形成することができる製造方法を提供することを課題とする。さらに、本発明は前記製造方法により得られるカラーフィルタ基板、及び該カラーフィルタ基板を有する液晶表示装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
すなわち、本発明は下記の（１）〜（９）を提供するものである。
（１）少なくとも下記の［１］〜［３］の工程をこの順に含むカラーフィルタ基板の製造方法：
［１］高さ（ｈ）が５μｍ以下の隔壁によって隔てられた微細領域を複数有する基板を用意する工程；
［２］前記微細領域の１つ以上に、膜厚（ｄ）が下記の数式（ＸＩ）を満足する光学異方性層を形成する工程：
数式（ＸＩ）
０．４  ≦  膜厚（ｄ）／隔壁高さ（ｈ）≦  ０．８；
［３］上記光学異方性層の上に、着色層を積層する工程。
【０００５】
（２）少なくとも下記の［１］〜［３］の工程をこの順に含むカラーフィルタ基板の製造方法：
［１］高さ（ｈ）が５μｍ以下の隔壁によって隔てられた微細領域を複数有する基板を用意する工程；
［２］前記微細領域の１つ以上に、膜厚（ｄ）が下記の数式（Ｉ）を満足する着色層を形成する工程：
数式（ＸＩ）
０．４  ≦  膜厚（ｄ）／隔壁高さ（ｈ）≦  ０．８；
［３］上記着色層の上に、光学異方性層を積層する工程。
【０００６】
（３）数式（Ｉ）が下記数式（ＸＩ−１）である（１）または（２）に記載の方法。
０．５  ≦  膜厚（ｄ）／隔壁高さ（ｈ）≦  ０．７
（４）前記光学異方性層が、インクジェット法により形成される（１）〜（３）のいずれか一項に記載の方法。
（５）前記光学異方性層が、少なくとも一種の液晶性化合物を含有する液状組成物を、インクジェット式の吐出ヘッドから吐出し、乾燥させて、さらに露光を行って形成される（１）〜（３）のいずれか一項に記載の方法。
【０００７】
（６）前記着色層が、インクジェット法により形成される（１）〜（５）のいずれか一項に記載の方法。
（７）（１）〜（６）のいずれか一項に記載の方法により得られるカラーフィルタ基板。
（８）（７）に記載のカラーフィルタ基板を有する液晶表示装置。
（９）前記液晶表示装置の配向モードがＴＮ、ＶＡ、ＩＰＳ、ＦＦＳ、ＯＣＢのいずれかである（８）に記載の液晶表示装置。
【発明の効果】
【０００８】
本発明により、光学補償機能を有するカラーフィルタ基板の製造方法であって、解像度が良好で、さらに精細なパターンを形成することができる製造方法が提供される。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
以下、本発明について詳細に説明する。
なお、本明細書において「〜」とはその前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用される。
【００１０】
また、本明細書において、Ｒｅ（λ）、Ｒｔｈ（λ）は各々、波長λにおける面内のリターデーション及び厚さ方向のリターデーションを表す。Ｒｅ（λ）はＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲ（王子計測機器（株）製）において波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。測定されるフィルムが１軸又は２軸の屈折率楕円体で表されるものである場合には、以下の方法によりＲｔｈ（λ）は算出される。
【００１１】
Ｒｔｈ（λ）は前記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）のフィルム法線方向に対して法線方向から片側５０度まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて全部で６点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。上記において、法線方向から面内の遅相軸を回転軸として、ある傾斜角度にレターデーションの値がゼロとなる方向をもつフィルムの場合には、その傾斜角度より大きい傾斜角度でのレターデーション値はその符号を負に変更した後、ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。尚、遅相軸を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）、任意の傾斜した２方向からレターデーション値を測定し、その値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基に、以下の式（１）及び式（２）よりＲｔｈを算出することもできる。
【００１２】
【数１】
2010145671.tif 000002
【００１３】
Ｒｔｈ＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２  −  ｎｚ）  ｘ  ｄ        −−−  式（２）
注記：
上記のＲｅ（θ）は法線方向から角度θ傾斜した方向におけるレターデーション値を表す。
式におけるｎｘは面内における遅相軸方向の屈折率を表し、ｎｙは面内においてｎｘに直交する方向の屈折率を表し、ｎｚはｎｘ及びｎｙに直交する方向の屈折率を表す。ｄは膜厚を表す。
【００１４】
測定されるフィルムが１軸や２軸の屈折率楕円体で表現できないもの、いわゆる光学軸（ｏｐｔｉｃ  ａｘｉｓ）がないフィルムの場合には、以下の方法によりＲｔｈ（λ）は算出される。
Ｒｔｈ（λ）は前記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して−５０度から＋５０度まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて１１点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。上記の測定において、平均屈折率の仮定値は  ポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ  ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：
【００１５】
セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。
これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲはｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出する。この算出されたｎｘ，ｎｙ，ｎｚよりＮｚ＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）が更に算出される。
【００１６】
また、Ｒｔｈの符号は面内の遅相軸を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して＋２０°傾斜した方向から波長５５０ｎｍの光を入射させて測定した位相差がＲｅを超える場合を正とし、Ｒｅを下回る場合を負とする。但し、｜Ｒｔｈ／Ｒｅ｜が９以上の試料では、回転自由台座付きの偏光顕微鏡を用いて、面内の進相軸を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して＋４０°傾斜した状態で、偏光板の検板を用いて決定できる試料の遅相軸がフィルム平面に平行にある場合を正とし、また遅相軸がフィルムの厚み方向にある場合を負とする。
【００１７】
本明細書におけるλは、Ｒ、Ｇ、Ｂに対してそれぞれ６１１±５ｎｍ、５４５±５ｎｍ、４３５±５ｎｍを指し、特に色に関する記載がなければ５４５±５ｎｍ又は５９０±５ｎｍを指す。
【００１８】
本明細書において、角度について「実質的に」とは、厳密な角度との誤差が±５°未満の範囲内であることを意味する。さらに、厳密な角度との誤差は、４°未満であることが好ましく、３°未満であることがより好ましい。レターデーションについて「実質的に」とは、レターデーションが±５％以内の差であることを意味する。さらに、Ｒｅが０でないとは、Ｒｅの絶対値が５ｎｍ以上であることを意味する。また、屈折率の測定波長は特別な記述がない限り、可視光域の任意の波長を指す。なお、本明細書において、「可視光」とは、波長が４００〜７００ｎｍの光のことをいう。
【００１９】
［液晶表示装置の製造方法］
本発明の液晶表示装置の製造方法の一例としてについて図１を用いて説明する。
なお、以下の説明では特にインクジェット法を用いた例を説明するが、インクジェット法については、公知の方法（例えば、特開２００８−７６６９０号公報［００４０］〜［００７３］に記載の方法）を参照することができる。
【００２０】
まず、ガラス等からなる透明基板１１上へネガ型ブラックマトリクスレジスト材料を使用し、フォトリソ法を用いてドットパターンのブラックマトリクス１２（隔壁）を形成し、隔壁１２によって隔てられた複数の微細領域ａを形成する（図１（ａ））。
本発明方法においては、前記隔壁としては、高さ（ｈ）が５μｍ以下の隔壁を用いる。高さ（ｈ）は2.0μｍ〜5.0μｍであることが好ましく、3.0μｍ〜4.5μｍであることがより好ましい。高さ（ｈ）は基板面から隔壁の最表面までの距離であり、隔壁の厚さに該当する。また、高さ（ｈ）は接触式表面粗さ計等により測定を行って測定することができる。
ブラックマトリクス１２の形成においては、ブラックマトリクスの形成材料及び形成プロセスについては特に限定はなく、レジスト材料によるフォトリソ法を利用する方法以外の方法であっても、ブラックマトリクスパターンが形成できれば問題ない。例えば市販品を用いてもよい。ブラックマトリックス１２のパターンは、ドットパターンに限定されるものではなく、形成するカラーフィルタの配列については特に制限はなく、ドット配列、ストライプ配列、モザイク配列、デルタ配列等いずれであってもよい。
【００２１】
ブラックマトリクス１２は、パターン形成後にＦ原子を含むガス（ＣＦ4等）でプラズマ処理され、その表面が撥インク化処理されるのが好ましい。ブラックマトリクス１２の撥インク化処理は、上記プラズマ処理以外に、ブラックマトリクス材料中に撥インク剤を含有させてもよいし、ブラックマトリクスを、ガラス基板１１に対して撥インク性を示す材料から形成してもよい。
【００２２】
次に、所望により撥インク化処理したブラックマトリクス１２で隔てられた微細領域ａへ、光学異方性層作製用液状組成物１３'を、インクジェット装置を用いて吐出して、微細領域ａ内に前記組成物からなる層（図１（ｂ））を形成する。前記組成物は、少なくとも一種の液晶性化合物を含有していることが好ましく、乾燥後に液晶相を形成するように調製されたものが好ましい。インクジェットにより吐出可能であればよく、液晶性化合物等の材料の一部又は全部が分散した分散液を用いてもよいが、溶液であることが好ましい。前記組成物の吐出が完了した後、該組成物の層の乾燥を行い液晶相を形成し、露光することによって光学異方性層１３を形成する（図１（ｃ））。液晶相を形成するために、所望により加熱してもよく、その場合は、加熱装置を使用してもよい。
【００２３】
このように形成される光学異方性層又は着色層である層（本明細書において「第１層」という場合がある。）は、膜厚（ｄ）が下記数式（ＸＩ）を満足する。
数式（ＸＩ）
０．４  ≦  膜厚（ｄ）／隔壁高さ（ｈ）≦  ０．８；
好ましくは、下記数式（ＸＩ−１）を満足する。
数式（ＸＩ−１）
０．５  ≦  膜厚（ｄ）／隔壁高さ（ｈ）≦  ０．７
さらに好ましくは、下記数式（ＸＩ−２）を満足する。
数式（ＸＩ−２）
０．５  ≦  膜厚（ｄ）／隔壁高さ（ｈ）≦  ０．６
上記のように第１層を形成することによって、第１層、及び第２層（後述のように形成される着色層又は光学異方性層）の膜の平坦性を向上させることができる。
【００２４】
このようにして形成された光学異方性層１３の上に、カラーフィルタ用インク液１４'によって２回目のインク吐出を行い（図１（ｄ））、これを乾燥、及び所望により露光等して、２層目の着色層１４が形成される（（ｅ））。
【００２５】
光学異方性層１３及び着色層１４を形成する際のインク等の射出条件については特に制限されないが、光学異方性層形成用の流体や着色層形成用のインクの粘度が高い場合は、室温あるいは加熱下（例えば、２０〜７０℃）において、インク粘度を下げて射出することが射出安定性の点で好ましい。インク等の粘度変動は、そのまま液滴サイズ、液滴射出速度に大きく影響を与え、画質劣化を起こすため、インク等の温度を出来るだけ一定に保つことが好ましい。
【００２６】
本発明の方法に用いられるインクジェットヘッド（以下、単にヘッドともいう）は、特に制限されず、公知の種々のものを使用することができる。コンティニアスタイプ、ドットオンデマンドタイプが使用可能である。ドットオンデマンドタイプのうち、サーマルヘッドでは、吐出のため、特開平９−３２３４２０号公報に記載されているような稼動弁を持つタイプが好ましい。ピエゾヘッドでは、例えば、欧州特許Ａ２７７，７０３号、欧州特許Ａ２７８，５９０号などに記載されているヘッドを使うことができる。ヘッドは組成物の温度が管理できるよう温調機能を持つものが好ましい。射出時の粘度は５〜２５ｍＰａ・ｓとなるよう射出温度を設定し、粘度の変動幅が±５％以内になるよう組成物温度を制御することが好ましい。また、駆動周波数としては、１〜５００ｋＨｚで稼動することが好ましい。
【００２７】
なお、光学異方性層１３及び着色層１４は、その積層の順序が入れ替わっていてもよく、即ち、着色層１４の上に光学異方性層１３が積層された構成であってもよい。かかる態様は、前記製造方法例において、光学異方性層１３を形成する工程と着色層１４を形成する工程の順番を入れ替えることにより作製することができる。
【００２８】
また、光学異方性層作製用液状組成物を吐出する工程の前に、配向膜となるべきポリビニルアルコールや可溶性ポリイミドなどの材料を塗布、乾燥したのち、必要であればこの表面にラビングなどの配向処理を施して配向層を形成し、ラビング処理面に前記溶液等を吐出して、光学異方性層を形成してもよい。配向層は、光学異方性層と同様インクジェット法を利用して形成してもよいし、他の方法により形成してもよい。
【００２９】
光学異方性層１３は、同一種の光学異方性層作製用液状組成物を用いて形成されていてもよいし、その上に形成される着色層１４の色相に応じて、それぞれ最適な光学異方性を発現するように、互いに異なる材料を含む及び／又は配合量が互いに異なる溶液等の流体を用いて形成されていてもよい。光学異方性層１３の形成時において、着色層の色相に応じて異なる溶液等を用いる場合は、それぞれの溶液を全て吐出した後、同時に乾燥を行ってもよいし、１種ずつ吐出及び乾燥のプロセスを行ってもよい。また、着色層１４の形成時においても、例えば、Ｒ層、Ｇ層、及びＢ層それぞれの形成用のインク液を全て吐出した後、同時に乾燥を行ってもよいし、１種ずつ吐出及び乾燥のプロセスを行ってもよい。また、カラーフィルタの色も、赤、緑、青の３色に限定される必要はなく、多原色のカラーフィルタであってもよい。
【００３０】
このようにして、第一の基板の各画素に相当する、ブラックマトリックス１２で隔てられた領域毎に、光学異方性層作製用液状組成物、及びＲ、Ｇ、及びＢのインク液をそれぞれ吐出及び乾燥して、光学異方性層及び着色層を形成してカラーフィルタ用基板を形成することができる。
【００３１】
液晶表示装置を製造する場合は、上記のように製造したカラーフィルタ用基板を第一の基板とし、この第一の基板と、第二の基板とを貼り合わせる。貼り合わせる前に、着色層１４の上に、透明電極層及び／又は配向層を形成してもよい。例えば、特開平１１−２４８９２１号公報、特許３２５５１０７号公報に記載のように、カラーフィルタを形成する着色樹脂組成物を重ねることで土台を形成し、その上に透明電極を形成し、更に必要に応じて分割配向用の突起を重ねることでスペーサを形成することが、コストダウンの観点で好ましい。
【００３２】
第一の基板と第二の基板の対向面間の空壁に、液晶材料を注入して液晶層を形成して、液晶セルを作製してもよい。第一の基板は、前記光学異方性層と着色層が形成された面を内側にして、即ち、対向面にして配置するのが好ましい。その後、双方の基板の外側表面に、それぞれ偏光板、光学補償フィルム等を貼り付けて、液晶表示装置を作製することができる。
【００３３】
本発明の製造方法において、光学異方性層作製用液状組成物、及び着色層形成用のインク液を所定の位置に配置するにあたって、隔壁であるブラックマトリクスを形成した後、インクジェット方式を利用する場合、第一の基板上の所定の領域に正確に光学異方性層及び着色層を形成することができる。従って、構造を複雑化することなく、少ない工程数で製造することができる。
【００３４】
なお、本発明の方法では、インクジェット法によるインク吐出を利用して、各微細領域に光学異方性層及び着色層を形成する例を説明したが、本発明の液晶表示装置はかかる方法により作製された態様に限定されず、光学異方性層及び／又は着色層の作製方法がインクジェット法以外の、例えば印刷法等を利用して形成された態様についても、勿論本発明に含まれる。
【００３５】
［カラーフィルタ基板］
本発明の製造方法で製造されるカラーフィルタ基板は、液晶セルの視野角補償のためのパターニングされた光学異方性層とカラーフィルタ層（着色層の集合）との積層体を有する。さらに、光学異方性層は、その下又は上に配置されたカラーフィルタ層内の着色層の色相に応じて（例えば、Ｒ、Ｇ、Ｂの色ごとに）、液晶セルの視野角補償に最適な光学特性を有していることが好ましい。かかる基板は、液晶セルの一対の基板のいずれか一方に用いられてもよいし、両方に用いられてもよい。基板の材料としては透明であれば特に限定はないが、複屈折が小さいことが望ましく、ガラスや低複屈折性ポリマー等が用いられる。
【００３６】
図２に、本発明の製造方法で製造されるカラーフィルタ基板の一例の概略断面図をしめす。
図２（ａ）に示すカラーフィルタ基板は、透明基板２１上に、隔壁としてブラックマトリクス２２が形成され、隔壁で隔てられた微細領域内にインクジェット方式により吐出して形成された、パターン状のカラーフィルタ層２３及び光学異方性層２７が形成されている。さらにその上に透明電極層２５と配向層２６とを有する。図２には、Ｒ、Ｇ、Ｂのカラーフィルタ層２３を形成した態様を示したが、最近よくみられる様に、Ｒ、Ｇ、Ｂ、Ｗ（白）の層からなるカラーフィルタ層を形成してもよい。第１の光学異方性層２７はｒ、ｇ、ｂ領域に分割され、Ｒ、Ｇ、Ｂそれぞれのフィルタ層２３の色相に対して、それぞれ最適な位相差特性を有している。
【００３７】
さらに、図２（ｂ）のように光学異方性層を第２の光学異方性層２４とパターニングされた光学異方性層２７の二つに分割してもよい。二つに分割する場合、ベタの光学異方性層２４をパターニングされた光学異方性層２７と同じカラーフィルタ側基板側に形成してもよいし、図は省略するが対向基板側に形成してもよい。対向基板側には一般にＴＦＴアレイなどの駆動用電極が配置されていることが多く、対向基板上であればどの位置に形成されてもよいが、ＴＦＴを有するアクティブ駆動型の場合、光学異方性層の耐熱性からシリコン層よりも上であることが好ましい。
【００３８】
［液晶表示装置］
図３は本発明の液晶表示装置の一例の概略断面図である。
図３（ａ）及び（ｂ）の例はそれぞれ、図２（ａ）及び（ｂ）の基板を上側基板として用い、ＴＦＴ３２付の透明電極層２５及びその上に配向層２６を有するガラス基板２１を対向基板として配置し、その間に液晶３１を挟んだ液晶セル３７を有する液晶表示装置である。液晶セル３７の両側には、セルロースアセテート（ＴＡＣ）フィルム等からなる保護層３４及び３５に挟まれた偏光層３３からなる偏光板３６が配置されている。液晶セル側の保護層３５は光学補償シートとしての光学特性を満足するＴＡＣフィルム等の高分子フィルムであってもよいし、保護層３４と同一の高分子フィルムからなっていてもよい。図には示さないが、反射型液晶表示装置の態様では偏光板は観察側に１枚配置したのみでよく、液晶セルの背面あるいは液晶セルの下側基板の内面に反射膜を設置する。もちろんフロントライトを液晶セル観察側に設けることも可能である。さらに、表示装置の１画素内に、透過部と反射部を設けた半透過型も可能である。本液晶表示装置の表示モードは特に制限がなく、全ての透過型及び反射型液晶表示装置に用いることが可能である。中でも色視野角特性改良が望まれるＶＡモード及びＩＰＳモードに対して、本発明は効果を発揮する。
【００３９】
以下、本態様について、作製に用いられる材料、作製方法等について、詳細に説明するが、本発明はこの態様に限定されるものではない。また、他の態様についても、以下の記載及び従来公知の方法を参考にして作製できる。
【００４０】
［基板］
本発明の製造方法に用いられる隔壁を有する基板における基板については特に制限されず、従来液晶セルの基板として用いられている種々の材料からなる基板を用いることができる。例えば、金属性支持体、金属張り合わせ支持体、ガラス、セラミック、合成樹脂フィルム等を使用することができる。特に好ましくは、透明性で寸度安定性の良好なガラスや合成樹脂フィルムが挙げられる。
【００４１】
［光学異方性層］
本明細書において、「光学異方性層」との用語は、光学異方性を有する層を意味し、１つの微細領域内の光学異方性を有する層（例えば、図１の１３）を示す場合も、複数の微細領域の光学異方性層と隔壁の一部とを含む部分（例えば、図２の２３；「パターニング光学異方性層」という場合もある）を示す場合も、ベタの光学異方性層（例えば、図２の２４）を示す場合もある。
光学異方性層は、位相差を測定したときにＲｅが０でない入射方向が一つでもある、即ち等方性でない光学特性を有していれば特に限定はないが、液晶セル中に用いる、光学特性を制御しやすいなどの観点から、少なくとも一種の液晶性化合物を含有する組成物を、液晶相とした後、紫外線を照射することで硬化させて形成された光学異方性層であることが望ましい。また、紫外線照射によって硬化するために、前記組成物は、ラジカル重合開始剤及び／又はカチオン重合開始剤を含有しているのが好ましい。前記重合開始剤に対して反応性を有する重合性基を含む化合物は、それ自体が液晶性を有しているか、もしくは添加時に光学異方性層を形成する液晶性化合物の液晶性を損なわないもの、及び損なわない添加量であることが好ましい。添加量としては、塗布液の固形分の０．１〜５０重量％であることが好ましく、１．０〜３０重量％であることがさらに好ましい。
【００４２】
本発明では、前記光学異方性層は、上記のように、液晶セルの視野角を補償する光学異方性層として機能する。光学異方性層単独で充分な視野角補償能を有する態様はもちろん、他の層との組み合わせで視野角補償に必要とされる光学特性を満足する態様であってもよい。前記光学異方性層は、少なくとも一つの液晶性化合物を含有する組成物から形成されることが好ましい。また、本発明の製造方法を利用する場合は、前記光学異方性層は、少なくとも一種の液晶性化合物を含有する液状組成物から形成されることが好ましい。液状組成物は、液晶性化合物の溶液であっても分散液であってもよいが、溶液であることが好ましい。
【００４３】
一般的に、液晶性化合物はその形状から、棒状タイプと円盤状タイプに分類できる。さらにそれぞれ低分子と高分子タイプがある。高分子とは一般に重合度が１００以上のものを指す（高分子物理・相転移ダイナミクス，土井 正男 著，２頁，岩波書店，１９９２）。本態様では、いずれの液晶性化合物を用いることもできるが、棒状液晶性化合物又は円盤状液晶性化合物を用いるのが好ましい。２種以上の棒状液晶性化合物、２種以上の円盤状液晶性化合物、又は棒状液晶性化合物と円盤状液晶性化合物との混合物を用いてもよい。温度変化や湿度変化を小さくできることから、反応性基を有する棒状液晶性化合物又は円盤状液晶性化合物を用いて形成するのがより好ましく、混合物の場合少なくとも１つは１液晶分子中の反応性基が２以上あることがさらに好ましい。液晶性化合物は二種類以上の混合物でもよく、その場合少なくとも１つが２以上の反応性基を有していることが好ましい。前記光学異方性層の厚さは、０．１〜２０μｍであることが好ましく、０．５〜１０μｍであることがさらに好ましい。
【００４４】
棒状液晶性化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類及びアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。以上のような低分子液晶性化合物だけではなく、高分子液晶性化合物も用いることができる。上記高分子液晶性化合物は、低分子の反応性基を有する棒状液晶性化合物が重合した高分子化合物である。特に好ましく用いられる上記低分子の反応性基を有する棒状液晶性化合物としては、下記一般式（Ｉ）で表される棒状液晶性化合物である。
【００４５】
一般式（Ｉ）：Ｑ1−Ｌ1−Ａ1−Ｌ3−Ｍ−Ｌ4−Ａ2−Ｌ2−Ｑ2
式中、Ｑ1及びＱ2はそれぞれ独立に、反応性基であり、Ｌ1、Ｌ2、Ｌ3及びＬ4はそれぞれ独立に、単結合又は二価の連結基を表すが、Ｌ3及びＬ4の少なくとも一方は、−Ｏ−又はＯ−ＣＯ−Ｏ−が好ましい。Ａ1及びＡ2はそれぞれ独立に、炭素原子数２〜２０のスペーサ基を表す。Ｍはメソゲン基を表す。
【００４６】
以下に、上記一般式（Ｉ）で表される反応性基を有する棒状液晶性化合物についてさらに詳細に説明する。式中、Ｑ1及びＱ2は、それぞれ独立に、反応性基である。反応性基の重合反応は、付加重合（開環重合を含む）又は縮合重合であることが好ましい。換言すれば、反応性基は付加重合反応又は縮合重合反応が可能な反応性基であることが好ましい。以下に反応性基の例を示す。
【００４７】
【化１】
2010145671.tif 000003
【００４８】
Ｌ1、Ｌ2、Ｌ3及びＬ4で表される二価の連結基としては、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＮＲ2−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ2−、−ＮＲ2−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−ＮＲ2−、−ＮＲ2−ＣＯ−Ｏ−、及びＮＲ2−ＣＯ−ＮＲ2−からなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。上記Ｒ2は炭素原子数が１〜７のアルキル基又は水素原子である。この場合、Ｌ3及びＬ4の少なくとも一方は、−Ｏ−又はＯ−ＣＯ−Ｏ−（カーボネート基）であることが好ましい。前記式（Ｉ）中、Ｑ1−Ｌ1及びＱ2−Ｌ2−は、ＣＨ2＝ＣＨ−ＣＯ−Ｏ−、ＣＨ2＝Ｃ（ＣＨ3）−ＣＯ−Ｏ−及びＣＨ2＝Ｃ（Ｃｌ）−ＣＯ−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−が好ましく、ＣＨ2＝ＣＨ−ＣＯ−Ｏ−が最も好ましい。
【００４９】
Ａ1及びＡ2は、炭素原子数２〜２０を有するスペーサ基を表す。炭素原子数２〜１２の脂肪族基が好ましく、特にアルキレン基が好ましい。スペーサ基は鎖状であることが好ましく、隣接していない酸素原子又は硫黄原子を含んでいてもよい。また、前記スペーサ基は、置換基を有していてもよく、ハロゲン原子（フッ素、塩素、臭素）、シアノ基、メチル基、エチル基が置換していてもよい。
【００５０】
Ｍで表されるメソゲン基としては、すべての公知のメソゲン基が挙げられる。特に下記一般式（ＩＩ）で表される基が好ましい。
一般式（ＩＩ）：−（−Ｗ1−Ｌ5）ｎ−Ｗ2−
式中、Ｗ1及びＷ2は各々独立して、二価の環状脂肪族基、二価の芳香族基又は二価のヘテロ環基を表し、Ｌ5は単結合又は連結基を表し、連結基の具体例としては、前記式（Ｉ）中、Ｌ1〜Ｌ4で表される基の具体例、−ＣＨ2−Ｏ−、及びＯ−ＣＨ2−が挙げられる。ｎは１、２又は３を表す。
【００５１】
Ｗ1及びＷ2としては、１，４−シクロヘキサンジイル、１，４−フェニレン、ピリミジン−２，５−ジイル、ピリジン−２，５ジイル、１，３，４−チアジアゾール−２，５−ジイル、１，３，４−オキサジアゾール−２，５−ジイル、ナフタレン−２，６−ジイル、ナフタレン−１，５−ジイル、チオフェン−２，５−ジイル、ピリダジン−３，６−ジイルが挙げられる。１，４−シクロヘキサンジイルの場合、トランス体及びシス体の構造異性体があるが、どちらの異性体であってもよく、任意の割合の混合物でもよい。トランス体であることがより好ましい。Ｗ1及びＷ2は、それぞれ置換基を有していてもよい。置換基としては、ハロゲン原子（フッ素、塩素、臭素、ヨウ素）、シアノ基、炭素原子数１〜１０のアルキル基（メチル基、エチル基、プロピル基など）、炭素原子数１〜１０のアルコキシ基（メトキシ基、エトキシ基など）、炭素原子数１〜１０のアシル基（ホルミル基、アセチル基など）、炭素原子数１〜１０のアルコキシカルボニル基（メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基など）、炭素原子数１〜１０のアシルオキシ基（アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基など）、ニトロ基、トリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基などが挙げられる。
【００５２】
前記一般式（ＩＩ）で表されるメソゲン基の基本骨格で好ましいものを、以下に例示する。これらに上記置換基が置換していてもよい。
【００５３】
【化２】
2010145671.tif 000004
【００５４】
以下に、前記一般式（Ｉ）で表される化合物の例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、一般式（Ｉ）で表される化合物は、特表平１１−５１３０１９号公報に記載の方法で合成することができる。
【００５５】
【化３】
2010145671.tif 000005
【００５６】
【化４】
2010145671.tif 000006
【００５７】
【化５】
2010145671.tif 000007
【００５８】
【化６】
2010145671.tif 000008
【００５９】
前記棒状液晶化合物は、スメクチックＡ相を示す液晶化合物から選択してもよい。その様な液晶化合物の例を以下に示すが、下記の例に限定されるものではない。
【００６０】
【化７】
2010145671.tif 000009
【００６１】
【化８】
2010145671.tif 000010
【００６２】
本発明の他の態様として、前記光学異方性層にディスコティック液晶を使用した態様がある。前記光学異方性層は、モノマー等の低分子量の液晶性ディスコティック化合物の層又は重合性の液晶性ディスコティック化合物の重合（硬化）により得られるポリマーの層であるのが好ましい。前記ディスコティック（円盤状）化合物の例としては、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．７１巻、１１１頁（１９８１年）に記載されているベンゼン誘導体、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．１２２巻、１４１頁（１９８５年）、Ｐｈｙｓｉｃｓｌｅｔｔ，Ａ，７８巻、８２頁（１９９０）に記載されているトルキセン誘導体、Ｂ．Ｋｏｈｎｅらの研究報告、Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．９６巻、７０頁（１９８４年）に記載されたシクロヘキサン誘導体及びＪ．Ｍ．Ｌｅｈｎらの研究報告、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．，１７９４頁（１９８５年）、Ｊ．Ｚｈａｎｇらの研究報告、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１１６巻、２６５５頁（１９９４年）に記載されているアザクラウン系やフェニルアセチレン系マクロサイクルなどを挙げることができる。上記ディスコティック（円盤状）化合物は、一般的にこれらを分子中心の円盤状の母核とし、直鎖のアルキル基やアルコキシ基、置換ベンゾイルオキシ基等の基（Ｌ）が放射線状に置換された構造であり、液晶性を示し、一般的にディスコティック液晶とよばれるものが含まれる。ただし、このような分子の集合体が一様に配向した場合は負の一軸性を示すが、この記載に限定されるものではない。また、本発明において、円盤状化合物から形成したとは、最終的にできた物が前記化合物である必要はなく、例えば、前記低分子ディスコティック液晶が熱、光等で反応する基を有しており、結果的に熱、光等の反応により重合又は架橋し、高分子量化し液晶性を失ったものも含まれる。
【００６３】
本発明では、下記一般式（ＩＩＩ）で表わされるディスコティック液晶性化合物を用いるのが好ましい。
一般式（ＩＩＩ）： Ｄ（−Ｌ−Ｐ）ｎ
式中、Ｄは円盤状コアであり、Ｌは二価の連結基であり、Ｐは重合性基であり、ｎは４〜１２の整数である。
【００６４】
前記式（ＩＩＩ）中、円盤状コア（Ｄ）、二価の連結基（Ｌ）及び重合性基（Ｐ）の好ましい具体例は、それぞれ、特開２００１−４８３７号公報に記載の（Ｄ１）〜（Ｄ１５）、（Ｌ１）〜（Ｌ２５）、（Ｐ１）〜（Ｐ１８）が挙げられ、同公報に記載される円盤状コア（Ｄ）、二価の連結基（Ｌ）及び重合性基（Ｐ）に関する内容をここに好ましく適用することができる。
【００６５】
上記ディスコティック化合物の好ましい例を下記に示す。
【００６６】
【化９】
2010145671.tif 000011
【００６７】
【化１０】
2010145671.tif 000012
【００６８】
【化１１】
2010145671.tif 000013
【００６９】
【化１２】
2010145671.tif 000014
【００７０】
【化１３】
2010145671.tif 000015
【００７１】
【化１４】
2010145671.tif 000016
【００７２】
【化１５】
2010145671.tif 000017
【００７３】
【化１６】
2010145671.tif 000018
【００７４】
【化１７】
2010145671.tif 000019
【００７５】
【化１８】
2010145671.tif 000020
【００７６】
【化１９】
2010145671.tif 000021
【００７７】
前記光学異方性層は、液晶性化合物を含有する流体（例えば液晶性化合物の溶液）を、ブラックマトリクスによって隔てられた領域内にインクジェット方式で塗布し、所望の液晶相を示す配向状態とした後、該配向状態を熱又は電離放射線の照射により固定することで作製された層であるのが好ましい。前記光学異方性層が二軸性を示すと、種々の液晶セル、特にＶＡモードの液晶セルを正確に視野角補償できるので好ましい。二軸性を示す液晶組成物としては、特開２００５−３３８７４４号公報記載の液晶性組成物が好ましい。また、液晶性化合物として、反応性基を有する棒状液晶性化合物を用いる場合、二軸性を発現させるためにはコレステリック配向もしくは傾斜角が厚み方向に徐々に変化しながらねじれたハイブリッドコレステリック配向を、偏光照射によって歪ませることが必要である。偏光照射によって配向を歪ませる方法としては、二色性液晶性重合開始剤を用いる方法（ＥＰ１３８９１９９ Ａ１）や分子内にシンナモイル基等の光配向性官能基を有する棒状液晶性化合物を用いる方法（特開２００２−６１３８号公報）が挙げられる。本発明においては、いずれも利用できる。
【００７８】
液晶性化合物として、反応性基を有する棒状液晶性化合物及び円盤状液晶性化合物を用いる場合、水平配向、垂直配向、傾斜配向、ハイブリッド配向、及びねじれ配向のいずれの配向状態で固定されていてもよい。水平配向とは円盤状液晶性化合物のコアの円盤面と支持体の水平面が平行であることをいうが、厳密に平行であることを要求するものではなく、本明細書では、水平面とのなす傾斜角が１０度未満の配向を意味するものとする。
【００７９】
液晶性化合物からなる光学異方性層を２層以上積層する場合、液晶性化合物の組み合わせについては特に限定されず、全て円盤状液晶性化合物からなる層の積層体、全て棒状性液晶性化合物からなる層の積層体、円盤状液晶性化合物からなる層と棒状性液晶性化合物からなる層の積層体であってもよい。また、各層の配向状態の組み合わせも特に限定されず、同じ配向状態の光学異方性層を積層してもよいし、異なる配向状態の光学異方性層を積層してもよい。
【００８０】
［Ａ−プレート及びＣ−プレート］
厚さ方向の屈折率が面内の屈折率よりも大きい１軸性の複屈折層を正のＣプレートと呼ぶ。正のＣプレートは重合性液晶の垂直配向などにより実現できる。
面内に光軸を有し、遅相軸の屈折率が厚さ方向の屈折率より大きい１軸性の複屈折層を正のＡプレートと呼ぶ。正のＡプレートは棒状液晶の水平配向によって実現できる。
後述する第２の光学異方性層として、正のＡ−プレートを用いてもよい。第２の光学異方性層として正のＡ−プレートを用いる場合、その作製に用いるネマチック相及び／又はスメクチックＡ相を示す棒状液晶のΔｎは、可視光域において逆分散性を示すことが好ましく、即ち、下記式（Ｉ）及び（ＩＩ）を満足することが好ましく、下記式（Ｉ）−１及び（ＩＩ）−１を満足することがより好ましい。
【００８１】
（Ｉ）：Δｎ（４５０ｎｍ）／Δｎ（５５０ｎｍ）＜１
（ＩＩ）：Δｎ（６５０ｎｍ）／Δｎ（５５０ｎｍ）＞１
（Ｉ）−１：０．６０＜Δｎ（４５０ｎｍ）／Δｎ（５５０ｎｍ）＜０．９９
（ＩＩ）−１：１．０１＜Δｎ（６５０ｎｍ）／Δｎ（５５０ｎｍ）＜１．３５
【００８２】
Δｎが逆分散性の液晶材料を用いると、膜厚などを調整することなしに、逆分散性の正のＡ−プレート及び正のＣ−プレートである第１の光学異方性層を作製できる。但し、膜厚を調整することによって、例えば、Ｒｅ（Ｒ層）＞Ｒｅ（Ｇ層）＞Ｒｅ（Ｂ層）の正のＡ−プレートとすることもでき、かかる場合は、素材である棒状液晶のΔｎは可視光において逆分散性、即ち、上記式（Ｉ）及び（ＩＩ）を満足していなくてもよい。なお、Ｒｅ（Ｒ層）、Ｒｅ（Ｇ層）及びＲｅ（Ｂ層）は、カラーフィルタ層がＲＧＢ、ＲＧＢＷカラーフィルタ等である場合に、カラーフィルタ層のＲ、Ｇ及びＢ領域上もしくは下にそれぞれ配置された前記第１の光学異方性層の領域それぞれの面内レターデーションを意味する。
【００８３】
前記式（Ｉ）及び（ＩＩ）を満足する棒状液晶の例には、特願２００６−３３９２３３号明細書に記載の一般式（１）又は（２）で表される棒状液晶、より具体的には、以下の液晶化合物が含まれる。
【００８４】
【化２０】
2010145671.tif 000022
【００８５】
層の厚さ方向に光軸を有し、厚さ方向の屈折率が面内の屈折率よりも小さい１軸性の複屈折層を負のＣプレートと呼ぶ。負のＣプレートはディスコティック液晶の水平配向や棒状液晶のコレステリック配向によって実現できる。
面内に光軸を有し、遅相軸の屈折率が厚さ方向の屈折率と等しい１軸性の複屈折層を負のＡプレートと呼ぶ。負のＡプレートはディスコティック液晶の垂直配向によって実現できる。
【００８６】
前記第１の光学異方性層は、液晶性化合物及び下記の重合開始剤や他の添加剤を含む塗布液を、インクジェット方式で塗布することで形成することが好ましい。塗布液の調製に使用する溶媒としては、有機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒の例には、アミド（例、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例、ピリジン）、炭化水素（例、ベンゼン、ヘキサン）、アルキルハライド（例、クロロホルム、ジクロロメタン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸ブチル）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン）、エーテル（例、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）が含まれる。アルキルハライド及びケトンが好ましい。二種類以上の有機溶媒を併用してもよい。
【００８７】
［液晶性組成物の配向状態の固定化］
配向させた液晶性組成物は、配向状態を維持して固定する。固定化は、液晶性組成物に導入した反応性基の重合反応により実施することが好ましい。重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる光重合反応とが含まれるが、光重合反応がより好ましい。光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物（米国特許第２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許第２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許第２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許第３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許第３５４９３６７号明細書記載）、アクリジン及びフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許第４２３９８５０号明細書記載）及びオキサジアゾール化合物（米国特許第４２１２９７０号明細書記載）が含まれる。
【００８８】
光重合開始剤の使用量は、塗布液の固形分の０．０１〜２０重量％であることが好ましく、０．５〜５重量％であることがさらに好ましい。液晶性化合物の重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましい。照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ2〜１０Ｊ／ｃｍ2であることが好ましく、１００〜８００ｍＪ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。光重合反応を促進するため、窒素雰囲気下あるいは加熱条件下で光照射を実施してもよい。
【００８９】
前記第１の光学異方性層は、偏光照射による光配向によって面内のレターデーションが発生した層であってもよい。この偏光照射は、上記配向固定化における光重合プロセスと同時に行ってもよいし、先に偏光照射を行ってから非偏光照射でさらに固定化を行ってもよいし、非偏光照射で先に固定化してから偏光照射によって光配向を行ってもよい。なお、偏光照射による光配向によって発生した面内のレターデーションを示す光学異方性層は、特にＶＡモードの液晶表示装置を視野角補償するのに優れている。
【００９０】
［偏光照射による光配向］
前記第１の光学異方性層は、偏光照射による光配向で面内のレターデーションが発現した層であってもよい。大きな面内レターデーションを得るために、偏光照射は液晶化合物層塗布、配向後に最初に行う必要がある。偏光照射は、酸素濃度０．５％以下の不活性ガス雰囲気下で行うのが好ましい。照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ2〜１０Ｊ／ｃｍ2であることが好ましく、１００〜８００ｍＪ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。照度は２０〜１０００ｍＷ／ｃｍ2であることが好ましく、５０〜５００ｍＷ／ｃｍ2であることがより好ましく、１００〜３５０ｍＷ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。偏光照射によって硬化する液晶性化合物の種類については特に制限はないが、反応性基としてエチレン不飽和基を有する液晶性化合物が好ましい。照射波長としては３００〜４５０ｎｍにピークを有することが好ましく、３５０〜４００ｎｍにピークを有することがさらに好ましい。
【００９１】
［偏光照射後の紫外線照射による後硬化］
前記第１の光学異方性層は、最初の偏光照射（光配向のための照射）の後に、偏光もしくは非偏光紫外線をさらに照射することで反応性基の反応率を高め（後硬化）、密着性等を改良すると共に、大きな搬送速度で生産できるようになる。本発明の後硬化は偏光でも非偏光でも構わないが、偏光であることが好ましい。また、２回以上の後硬化をすることが好ましく、偏光のみでも、非偏光のみでも、偏光と非偏光を組み合わせてもよいが、組み合わせる場合は非偏光より先に偏光を照射することが好ましい。紫外線照射は、不活性ガス置換してもしなくてもよいが、酸素濃度０．５％以下の不活性ガス雰囲気下で行うのが好ましい。照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ2〜１０Ｊ／ｃｍ2であることが好ましく、１００〜８００ｍＪ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。照度は２０〜１０００ｍＷ／ｃｍ2であることが好ましく、５０〜５００ｍＷ／ｃｍ2であることがより好ましく、１００〜３５０ｍＷ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。照射波長としては偏光照射の場合は３００〜４５０ｎｍにピークを有することが好ましく、３５０〜４００ｎｍにピークを有することがさらに好ましい。非偏光照射の場合は２００〜４５０ｎｍにピークを有することが好ましく、２５０〜４００ｎｍにピークを有することがさらに好ましい。
【００９２】
なお、前記第１の光学異方性層の光学特性は、Ｒ光、Ｇ光及びＢ光が入射した際の視野角補償に最適な光学特性にそれぞれ調整されているのが好ましい。即ち、着色層を赤色に着色し、カラーフィルタのＲ層形成用とする場合は、光学異方性層の光学特性はＲ光が入射した際の視野角補償に対して最適に調整され、緑色の着色層の場合は、光学異方性層の光学特性はＧ光が入射した際の視野角補償に対して最適に調整され、かつ青色の着色層の場合は、光学異方性層の光学特性はＢ光が入射した際の視野角補償に対して最適に調整されているのが好ましい。光学異方性層の光学特性は、例えば、液晶性化合物の種類や配向制御剤の種類又は添加量、配向膜の種類や配向膜のラビング処理条件、膜厚、又は偏光照射条件等によって好ましい範囲に調整することができる。
【００９３】
［水平配向制御剤］
前記光学異方性層の形成用組成物中に、下記一般式（１）〜（３）で表される化合物の少なくとも一種を含有させることで、液晶性化合物の分子を実質的に水平配向させることができる。尚、本発明で「水平配向」とは、棒状液晶の場合、分子長軸と透明支持体の水平面が平行であることをいい、円盤状液晶の場合、円盤状液晶性化合物のコアの円盤面と透明支持体の水平面が平行であることをいうが、厳密に平行であることを要求するものではなく、本明細書では、水平面とのなす傾斜角が１０度未満の配向を意味するものとする。傾斜角は０〜５度が好ましく、０〜３度がより好ましく、０〜２度がさらに好ましく、０〜１度が最も好ましい。
以下、下記一般式（１）〜（３）について、順に説明する。
【００９４】
一般式（１）
【化２１】
2010145671.tif 000023
【００９５】
式中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は各々独立して、水素原子又は置換基を表し、Ｘ1、Ｘ2及びＸ3は単結合又は二価の連結基を表す。Ｒ1〜Ｒ3で各々表される置換基としては、好ましくは置換もしくは無置換の、アルキル基（中でも、無置換のアルキル基又はフッ素置換アルキル基がより好ましい）、アリール基（中でもフッ素置換アルキル基を有するアリール基が好ましい）、置換もしくは無置換のアミノ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、ハロゲン原子である。Ｘ1、Ｘ2及びＸ3で各々表される二価の連結基は、アルキレン基、アルケニレン基、二価の芳香族基、二価のヘテロ環残基、−ＣＯ−、―ＮＲa−（Ｒaは炭素原子数が１〜５のアルキル基又は水素原子）、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。二価の連結基は、アルキレン基、フェニレン基、−ＣＯ−、−ＮＲa−、−Ｏ−、−Ｓ−及び−ＳＯ2−からなる群より選ばれる二価の連結基又は該群より選ばれる基を少なくとも二つ組み合わせた二価の連結基であることがより好ましい。アルキレン基の炭素原子数は、１〜１２であることが好ましい。アルケニレン基の炭素原子数は、２〜１２であることが好ましい。二価の芳香族基の炭素原子数は、６〜１０であることが好ましい
【００９６】
【化２２】
2010145671.tif 000024
【００９７】
式中、Ｒは置換基を表し、ｍは０〜５の整数を表す。ｍが２以上の整数を表す場合、複数個のＲは同一でも異なっていてもよい。Ｒとして好ましい置換基は、Ｒ1、Ｒ2、及びＲ3で表される置換基の好ましい範囲として挙げてものと同じである。ｍは、好ましくは１〜３の整数を表し、特に好ましくは２又は３である。
【００９８】
【化２３】
2010145671.tif 000025
【００９９】
式中、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8及びＲ9は各々独立して、水素原子又は置換基を表す。Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8及びＲ9でそれぞれ表される置換基は、好ましくは一般式（Ｉ）におけるＲ1、Ｒ2及びＲ3で表される置換基の好ましいものとして挙げたものである。本発明に用いられる水平配向剤については、特願２００３−３３１２６９号公報に記載の化合物を用いることができ、それら化合物の合成法も該明細書に記載されている。
【０１００】
前記一般式（１）〜（３）のいずれかで表される化合物の添加量としては、液晶性化合物の質量の０．０１〜２０質量％が好ましく、０．０１〜１０質量％がより好ましく、０．０２〜１質量％が特に好ましい。なお、前記一般式（１）〜（３）にて表される化合物は、単独で用いてもよいし、二種以上を併用してもよい。
【０１０１】
［垂直配向制御剤］
前記光学異方性層の形成用組成物中に、空気界面及び配向膜界面における液晶性化合物の配向状態を略垂直に制御する添加剤の少なくとも一種を含有させることで、液晶性化合物の分子を実質的に垂直配向させることができる。棒状液晶の垂直配向制御剤については、特開２００６−１０６６６２号公報記載の化合物を用いることができ、円盤状液晶の垂直配向制御については、特開２００５−２２２００４号公報記載の方法、特開２００５−１９６０１５号公報記載の方法、特開２００５−１９６０１６号公報記載の方法、特開２００６−８５０９８号公報記載の方法、特開２００６−１０６６６２号公報記載の方法、特開２００６−１１３５００号公報記載の方法を用いることができる。尚、本発明で「垂直配向」とは、棒状液晶の場合、分子長軸と透明支持体の水平面が垂直であることをいい、円盤状液晶の場合、円盤状液晶性化合物のコアの円盤面と透明支持体の水平面が垂直であることをいうが、厳密に垂直であることを要求するものではなく、本明細書では、水平面とのなす傾斜角が７０〜９０度の配向を意味するものとする。傾斜角は７５〜９０度が好ましく、８０〜９０度が最も好ましい。
【０１０２】
［配向層］
上記した様に、前記光学異方性層の形成には、配向層を利用してもよい。配向層は、一般に透明支持体上又は該透明支持体に塗設されたカラーフィルタ層上に設けられる。配向層は、その上に設けられる液晶性化合物の配向方向を規定するように機能する。配向層は、光学異方性層に配向性を付与できるものであれば、どのような層でもよい。配向層の好ましい例としては、有機化合物（好ましくはポリマー）のラビング処理された層、無機化合物の斜方蒸着層、及びマイクログルーブを有する層、さらにω−トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライド及びステアリル酸メチル等のラングミュア・ブロジェット法（ＬＢ膜）により形成される累積膜、あるいは電場あるいは磁場の付与により誘電体を配向させた層を挙げることができる。
【０１０３】
配向層用の有機化合物の例としては、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸／メタクリル酸共重合体、スチレン／マレインイミド共重合体、ポリビニルアルコール、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、スチレン／ビニルトルエン共重合体、クロロスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル／塩化ビニル共重合体、エチレン／酢酸ビニル共重合体、カルボキシメチルセルロース、ポリエチレン、ポリプロピレン及びポリカーボネート等のポリマー及びシランカップリング剤等の化合物を挙げることができる。好ましいポリマーの例としては、ポリイミド、ポリスチレン、スチレン誘導体のポリマー、ゼラチン、ポリビルアルコール及びアルキル基（炭素原子数６以上が好ましい）を有するアルキル変性ポリビルアルコールを挙げることができる。
【０１０４】
配向層の形成には、ポリマーを使用するのが好ましい。利用可能なポリマーの種類は、液晶性化合物の配向（特に平均傾斜角）に応じて決定することができる。例えば、液晶性化合物を水平に配向させるためには配向層の表面エネルギーを低下させないポリマー（通常の配向用ポリマー）を用いる。具体的なポリマーの種類については液晶セル又は光学補償シートについて種々の文献に記載がある。例えば、ポリビニルアルコールもしくは変性ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸もしくはポリアクリル酸エステルとの共重合体、ポリビニルピロリドン、セルロースもしくは変性セルロース等が好ましく用いられる。配向層用素材には液晶性化合物の反応性基と反応できる官能基を有してもよい。反応性基は、側鎖に反応性基を有する繰り返し単位を導入するか、あるいは、環状基の置換基として導入することができる。界面で液晶性化合物と化学結合を形成する配向層を用いることがより好ましく、かかる配向層としては特開平９−１５２５０９号公報に記載されており、酸クロライドやカレンズＭＯＩ（昭和電工（株）製）を用いて側鎖にアクリル基を導入した変性ポリビニルアルコールが特に好ましい。配向層の厚さは０．０１〜５μｍであることが好ましく、０．０５〜２μｍであることがさらに好ましい。
【０１０５】
また、ＬＣＤの配向層として広く用いられているポリイミド膜（好ましくはフッ素原子含有ポリイミド）も有機配向層として好ましい。これはポリアミック酸（例えば、日立化成（株）製のＬＱ／ＬＸシリーズ、日産化学（株）製のＳＥシリーズ等）を支持体面に塗布し、１００〜３００℃で０．５〜１時間焼成した後、ラビングすることにより得られる。
【０１０６】
また、前記ラビング処理は、ＬＣＤの液晶配向処理工程として広く採用されている処理方法を利用することができる。即ち、配向層の表面を、紙やガーゼ、フェルト、ゴムあるいはナイロン、ポリエステル繊維などを用いて一定方向に擦ることにより配向を得る方法を用いることができる。一般的には、長さ及び太さが均一な繊維を平均的に植毛した布などを用いて数回程度ラビングを行うことにより実施される。
【０１０７】
また、無機斜方蒸着膜の蒸着物質としては、ＳｉＯを代表とし、ＴｉＯ2、ＺｎＯ2等の金属酸化物、あるいやＭｇＦ２等のフッ化物、さらにＡｕ、Ａｌ、等の金属が挙げられる。尚、金属酸化物は、高誘電率のものであれば斜方蒸着物質として用いることができ、上記に限定されるものではない。無機斜方蒸着膜は、蒸着装置を用いて形成することができる。フィルム（支持体）を固定して蒸着するか、あるいは長尺フィルムを移動させて連続的に蒸着することにより無機斜方蒸着膜を形成することができる。
【０１０８】
光学異方性層が、略垂直配向した棒状液晶を固定して形成されている場合、垂直配向制御剤として、特開２００６−１０６６６２号公報記載の化合物を用いることにより、前記光学異方性層は配向層を介さず、直接ガラス基板上に形成することができる。
【０１０９】
［カラーフィルタ層（着色層）］
本発明の製造方法において、着色層は隔壁の一部とともにカラーフィルタ層を形成する。着色層はカラーフィルタ層は、カラーフィルタ用インク液（以下、単に「インクジェットインク」や「インク」と称することがある。）は、着色剤、有機溶剤及びモノマーを少なくとも含有した液である。前記カラーフィルタ用インク液は、平均厚みを１ｍｍとした状態で５ｍｍＨｇ（０．６７ｋＰａ）、４５℃の条件で８時間乾燥して得られたインク残部の粘度が２５℃で４０ｍＰａ・ｓ以上４０００ｍＰａ・ｓ以下であることが、カラーフィルタの平坦性の観点から好ましい。ここで、平均厚みとは、容器底面積とインク容積から計算で求めた厚みである。また、インクの物性値としては、２５℃の粘度は２０〜１００ｍＰａ・ｓが好ましく、２５℃の表面張力としては１０〜５０ｍＮ／ｍが好ましい。本発明のインクジェットインクは、本発明の効果を損なわない範囲内で、分散剤、バインダー、光重合開始剤、熱重合開始剤、界面活性剤、或いは、その他の添加剤を含有してもよい。
【０１１０】
（インク残部の流動性）
前記インク残部の２５℃における粘度は、５０ｍＰａ・ｓ以上３０００ｍＰａ・ｓ以下であることがより好ましく、５０ｍＰａ・ｓ以上２０００ｍＰａ・ｓ以下であることがさらに好ましく、５０ｍＰａ・ｓ以上１０００ｍＰａ・ｓ以下であることが特に好ましい。インク残部の粘度が上記範囲内であると有機溶剤の乾燥後においても、平坦な画素部（着色層）を得ることができる。
【０１１１】
本発明における「インク残部」とは、カラーフィルタ用インク液を、平均厚みを１ｍｍとした状態で５ｍｍＨｇ（０．６７ｋＰａ）、４５℃の条件で８時間乾燥して得られた残渣をいう。粘弾性測定装置を用いてインク残部の粘度を測定する場合、例えば、カラーフィルタ用インク液を平均厚みが１ｍｍとなるようにアルミ製の受け皿に入れ、４５℃で８時間真空乾燥（０．６７ｋＰａ）を行い得られた残渣（インク残部）を、薬サジを用いてアルミ皿から集めて試料に供することができる。粘弾性測定装置を用いた粘度の測定は、例えば、Jasco International Co.Ltd製の粘弾性測定装置DynAlyser DAS-100を用いて温度２５℃、周波数１Ｈｚの条件で測定できる。
【０１１２】
次に、インクジェットインクに含まれる各成分について詳しく述べる。
（着色剤）
インクジェットインクに使用される着色剤は、有機顔料、無機顔料、染料など、公知のものを使用できるが、十分な透過濃度や耐光性、基板への密着性、その他の諸耐性が要求されるため、種々の有機顔料が好適である。また、画素の保存安定性の点から、顔料が特に好ましい。該着色剤の具体例としては、特開２００５−１７７１６号公報［００３８］〜［００５４］に記載の顔料及び染料や、特開２００４−３６１４４７号公報［００６８］〜［００７２］に記載の顔料や、特開２００５−１７５２１号公報［００８０］〜［００８８］に記載の着色剤を好適に用いることができる。
着色剤の含有量は特に限定されるものではないが、所望の色相、濃度を得るという観点から、インク残部に占める着色剤の割合は２０質量％以上が好ましく、２０〜７０質量％がさらに好ましく、２５〜６０質量％がより好ましく、３０〜５０質量％が特に好ましい。
【０１１３】
併用するのが好ましい上記記載の顔料の組み合わせとしては、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド２５４では、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１７７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド２２４、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１３９、又は、Ｃ．Ｉ．ピグメント・バイオレット２３との組み合わせが挙げられ、Ｃ．Ｉ．ピグメント・グリーン３６では、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１５０、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１３９、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１８５、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１３８、又は、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１８０との組み合わせが挙げられ、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：６では、Ｃ．Ｉ．ピグメント・バイオレット２３、又は、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー６０との組み合わせが挙げられる。
このように併用する場合の顔料中のＣ．Ｉ．ピグメント・レッド２５４、Ｃ．Ｉ．ピグメント・グリーン３６、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：６の含有量は、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド２５４は、６０質量％以上が好ましく、特に７０質量％以上が好ましい。Ｃ．Ｉ．ピグメント・グリーン３６は５０質量％以上が好ましく、特に６０質量％以上が好ましい。Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：６は、８０質量％以上が好ましく、特に９０質量％以上が好ましい。
【０１１４】
顔料は、数平均粒径０．００１〜０．１μｍのものが、分散安定性とコントラストの両立の観点で好ましく、更に０．０１〜０．０８μｍのものが好ましい。尚、ここで言う「粒径」とは粒子の電子顕微鏡写真画像を同面積の円とした時の直径を言い、また「数平均粒径」とは多数の粒子について上記の粒径を求め、この１００個平均値を言う。
【０１１５】
上記顔料は分散液として使用することが望ましい。この分散液は、前記顔料と後述する顔料分散剤及び有機溶剤とを予め混合して得られる組成物を、公知の分散機を用いて分散させることによって調製することができる。この際に、顔料の分散安定性を付与するために、少量の樹脂を添加してもよい。また、前記顔料と顔料分散剤とを予め混合して得られる組成物を、後述するモノマーに添加して分散させることによって調製することも可能である。前記顔料を分散させる際に使用する分散機としては、特に制限はなく、例えば、朝倉邦造著、「顔料の事典」、第一版、朝倉書店、２０００年、４３８頁に記載されているニーダー、ロールミル、アトライダー、スーパーミル、ディゾルバ、ホモミキサー、サンドミル等の公知の分散機が挙げられる。更に該文献３１０頁記載の機械的摩砕により、摩擦力を利用し微粉砕してもよい。
【０１１６】
（顔料分散剤）
インクジェットインクには、顔料の分散安定性を得るために、顔料分散剤を添加することが好ましい。
その使用量はインクジェットインク全質量に対して０．１〜１０質量％の範囲で分散剤を含有させるのが好ましく、０．１〜９質量％がより好ましく、０．１〜８質量％での範囲が特に好ましい。
該顔料分散剤として、水酸基含有カルボン酸エステル、長鎖ポリアミノアマイドと高分子量酸エステルの塩、高分子量ポリカルボン酸の塩、長鎖ポリアミノアマイドと極性酸エステルとの塩、高分子量不飽和エステル、高分子共重合物、変性ポリウレタン、変性ポリアクリレート、ポリエーテルエステル型アニオン系活性剤、ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物塩、芳香族スルホン酸ホルマリン縮合物、ポリオキシエチレンアルキルりん酸エステル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ステアリルアミンアセテート、顔料誘導体などを用いることができる。顔料分散剤の具体例としては、特開２００５−１５６７２号公報の段落番号［００２１］〜［００２３］に記載の例が、本発明においても好適なものとして使用できる。
【０１１７】
（モノマー）
インクジェットインクは、モノマーの少なくとも１種を含有することができる。前記インクジェットインクに用いられるモノマーは熱により重合反応可能であれば特に限定されるものではないが、膜減りや、膜の強度や耐溶剤性等の点から多官能であるモノマーがより好ましい。また、活性エネルギー線での重合能をもつことも生産性の観点で好ましい。
重合性基の種類としては特に制限はないが、アクリロイル基、メタクリロイル基、エポキシ基等が挙げられる。このなかでも、インクの経時安定性、インクジェット方式での吐出安定性、膜減りの小ささという観点からアクリロイル基、メタクリロイル基が特に好ましい。
インクの粘度が大きくなりすぎないという観点から、モノマーの分子量は３０００以下が好ましく、２０００以下がより好ましく、１０００以下が特に好ましい。
【０１１８】
モノマーの使用量は、インク固形分中の２０質量％以上が膜強度、透明導電膜を付与する際のレチキュレーション防止、耐溶剤性などの観点で好ましく、３０質量％以上がより好ましく、４０質量％以上がさらに好ましい。
また、該モノマー全量のうちの５０質量％以上が４官能以上モノマーであることが好ましい。インク中のモノマー含有量、官能基数の割合が前記好ましい範囲内であると、インク打滴後のベーク工程での膜減り率が小さくなる。
モノマー全量のうちの、５０質量％以上が４官能以上６官能以下であると、粘度が大きくなりすぎず、インクジェット方式により安定的に吐出でき、且つ膜減り率が小さくなるという観点で好ましい。
さらに、モノマー全量のうちの９０質量％以上が３官能以上であることが、インク打滴後のベーク工程での膜減り率をより小さくする観点から好ましい。
【０１１９】
３官能以上の重合性モノマーの具体例としては特開２００１−３５００１２号公報の段落番号［００６１］〜［００６３］に記載の３官能のエポキシ基含有モノマーや、特開２００２−３７１２１６号公報の段落番号［００１６］に記載の３官能以上のアクリレートモノマー、メタクリレートモノマー及びシーエムシー出版による「反応性モノマーの市場展望」に記載の３官能以上のモノマー等が挙げられる。これらの中で、特に好ましいものとしては、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパンＰＯ（プロピレンオキサイド）変性トリアクリレート、トリメチロールプロパンＥＯ（エチレンオキサイド）変性トリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、グリセロールポリグリシジルエーテル、ジグリセロールポリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンポリグリシジルエーテル、等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。また、前記３官能以上のモノマーを２種以上併用することも可能である。
【０１２０】
４官能以上のモノマーの具体例としては特開２００２−３７１２１６号公報の段落番号［００１６］に記載の４官能以上のアクリレートモノマー、メタクリレートモノマー及びシーエムシー出版による「反応性モノマーの市場展望」に記載の４官能以上のモノマー等が挙げられる。
これら４官能以上のモノマーの中で、特に好ましいものとしては、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ネオペンチルグリコールオリゴアクリレート、１，４−ブタンジオールオリゴアクリレート、１，６−ヘキサンジオールオリゴアクリレート、トリメチロールプロパンオリゴアクリレート、ペンタエリスリトールオリゴアクリレート、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。この他、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートやペンタエリスリトールテトラメタクリレートも特に好ましいモノマーである。
これら特に好ましい４官能以上のモノマーとして、例えば、ＵＡ−３２Ｐ（新中村化学（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ（日本化薬（株）製）、Ｖ＃４００（大阪有機（株）製）等が挙げられる。
【０１２１】
インクおよびインク残部の粘度を低下させる目的で、単官能モノマーや２官能モノマーを適宜併用してもよい。この場合、膜減りが小さいという観点から、２官能モノマーである方がより好ましい。これらの単官能モノマーや２官能モノマーとしては、例えば特開２００１−３５００１２号公報の段落番号［００６５］に記載の単官能のエポキシ基含有モノマーや、特開２００２−３７１２１６号公報の段落番号００１５〜００１６に記載の単官能又は２官能のアクリレートモノマーやメタクリレートモノマー及びシーエムシー出版による「反応性モノマーの市場展望」に記載の１〜２官能のモノマー等が挙げられる。
【０１２２】
また、膜の強度を補ったり、基板との密着を付与したりするために、２５℃での粘度が７００ｍＰａ・ｓ以上の高粘度の多官能モノマーやウレタンアクリレート等の高極性モノマー、オリゴマー等を少量併用しても構わない。併用する上で好ましい多官能モノマー、高極性モノマー及びオリゴマーとしては特に制限はなく、汎用のものを使用可能であるが、例えばジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、イソシアヌル酸ＥＯ変性ジアクリレート、イソシアヌル酸ＥＯ変性トリアクリレート、ε−カプロラクトン変性トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート、ウレタンアクリレート（例えば東亜合成（株）製アロニクスＭ−１０００、Ｍ−１２００、Ｍ−１２１０、Ｍ−１６００）、ポリエステルアクリレート（例えば東亜合成（株）製アロニクスＭ−６１００、Ｍ−６２００、Ｍ−６２５０、Ｍ−６５００、Ｍ−７１００、Ｍ−７３００Ｋ、Ｍ−８０３０、Ｍ−８０６０、Ｍ−８１００、Ｍ−８５３０、Ｍ−８５６０、Ｍ−９０５０）、等が挙げられる。これらの併用モノマーの添加量は、インク残部の粘度が２５℃で４０００ｍＰａ・ｓ以下になる範囲内で適宜調節することができる。
【０１２３】
インク残部の粘度を２５℃で４０ｍＰａ・ｓ以上４０００ｍＰａ・ｓ以下とするには、下記方法が挙げられる。
例えば、使用するモノマーとして、より低粘度のモノマーを使用することが挙げられる。また、バインダー成分として、高分子量や高極性の樹脂の使用量を減らし、インク中の高粘度成分を少なくすることが挙げられる。また、顔料に最適な分散剤を選択し、顔料分散液の粘度を低下させる方法が挙げられる。これらの中で、特に低粘度のモノマーを使用するのが有効である。画素の膜強度を付与する上では、重合性基を３つ以上有するモノマーを使用するのが好ましい。
【０１２４】
（有機溶剤）
有機溶剤としては、アルコール等の水溶性有機溶剤及びエステルやエーテル等の非水溶性有機溶剤が挙げられるが、いずれも使用可能である。
これらの溶剤が本発明のインクジェットインク中に占める割合は、１０質量％以上が画素内インク濡れ広がりの点で好ましく、３０質量％以上がより好ましく、５０質量％以上がさらに好ましい。
非水溶性有機溶剤を用いた場合、用いるモノマー、バインダー、分散剤などに高極性基がなくても溶解させることができるので、インクとしての粘度が高くなりすぎる可能性が小さい点で好ましい。非水溶性有機溶剤としては特に制限はないが、沸点が低くインクジェットインク中からの除去が容易な有機溶剤は、通常インクジェットヘッド上でもすばやく蒸発するため、ヘッド上でのインクの粘度上昇等を容易に引き起こし、吐出性の悪化を伴う場合が多い。インクジェットヘッドでのインクの乾燥を防止するため、常圧での沸点が１６０℃以上の有機溶剤を少なくとも含んでいることが好ましい。
溶剤として水を用いることは、ＶＯＣ削減の観点で好ましい。
【０１２５】
また、インクジェットインクは、含有する溶剤の５０質量％以上が、常温常圧下で（２５℃、７６０ｍｍＨｇ）１６０℃以上の沸点を有する化合物で構成されることが好ましい。該常温下で１６０℃以上の沸点を有する溶剤としては、特開２０００−３１０７０６号公報の段落番号［００３１］〜［００３７］に記載の高沸点溶媒やアルキレングリコールアセテート、アルキレングリコールジアセテート等が挙げられ、中でもジプロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールジアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコール−ｎ−ブチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、トリプロピレングリコールメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、１，３−ブタンジオールジアセテート、ジプロピレングリコール−ｎ−プロピルエーテルアセテート、プロピレンカーボネート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコール−ｎ−ブチルエーテルアセテート等が特に好ましい。
【０１２６】
また、溶剤の沸点の上限は、本発明におけるインクジェットインクを用いてインクジェット方式によりカラーフィルタを製造することができる限り、特に制約されるものではないが、インクの調製工程およびカラーフィルタの製造工程における操作性の観点からみると、沸点が２９０℃以下、好ましくは２８０℃以下の、常温（２０℃）で比較的低粘度の液体である有機溶剤が望ましい。
【０１２７】
（重合開始剤）
インクジェットインクにおいて、モノマーの重合反応を促進する目的で、重合開始剤を併用しても良い。重合開始剤としては、画素部の重合を活性エネルギー線により行う場合には、光重合開始剤が用いられ、画素部の重合を熱により行う場合には、熱重合開始剤が用いられる。光重合開始剤としては、例えば特開２００６−２８４５５号公報の段落番号［００７９］〜［００８８］に記載のものが挙げられ、好ましい具体例としては、２−トリクロロメチル−５−（ｐ−スチリルスチリル）−１，３，４−オキサジアゾールや、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−［４'−Ｎ，Ｎ−ビス（エトキシカルボニルメチル）アミノ−３'−ブロモフェニル］−ｓ−トリアジンが挙げられる。
【０１２８】
また、熱重合開始剤としては、一般に知られている有機過酸化物系化合物やアゾ系の化合物を用いることができる。これにより、画素部の強度を向上させることが可能となる。また、熱重合開始剤の他にイミダゾールなどの硬化触媒を用いることもできる。有機過酸化物系化合物及びアゾ系の化合物は、一種単独で用いる以外に二種以上を併用することができる。ここで有機過酸化物は、過酸化水素（Ｈ−Ｏ−Ｏ−Ｈ）の誘導体であり、分子内に−Ｏ−Ｏ−結合を持つ有機化合物を言う。
【０１２９】
化学構造で分類すると、ケトンパーオキサイド、パーオキシケタール、ハイドロパーオキサイド、ジアルキルパーオキサイド、ジアシルパーオキサイド、パーオキシエステル、パーオキシジカーボネート等が挙げられる。具体的には３，３'，４，４'−テトラキス（ｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、ベンゾイルパーオキサイド、２，２−ビス（４，４−ジ−ｔ−ブチルパーオキシシクロヘキシル）プロパン、１，１−ビス（ｔ−ヘキシルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート、ジ−ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート、ジ−ｔ−ブチルパーオキシイソフタレート、ｔ−ブチルパーオキシアセテート、ｔ−ヘキシルパーオキシベンゾエート、ｔ−ブチルパーオキシ−３，５，５−トリメチルヘキサノエート、ｔ−ブチルパーオキシラウレート、ｔ−ブチルパーオキシイソプロピルモノカルボネート、ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキシルモノカーボネート、２，５−ビス（ｍ−トルイルパーオキシ）ヘキサン、２，５−ジメチル−２，５−ビス（ベンゾイルパーオキシ）ヘキサン、ｔ−ヘキシルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、
【０１３０】
ｔ−ブチルパーオキシイソブチレート、１，１，３，３−テトラメチルブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、ｔ−ヘキシルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、２，５−ジメチル−２，５−ビス（２−エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン、ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、ｔ−ブチルパーオキシマレイックアシッド、シクロヘキサノンパーオキサイド、メチルアセトアセテートパーオキサイド、メチルヘキサノンパーオキサイド、アセチルアセトンパーオキサイド、１，１−ビス（ｔ−ヘキシルパーオキシ）シクロヘキサン、１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）−２−メチルシクロヘキサン、１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）シクロヘキサン、２，２−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）ブタン、２，２−ビス（４，４−ジ−ｔ−ブチルパーオキシシクロヘキシル）プロパン、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、１，１，３，３−テトラメチルブチルハイドロパーオキサイド、キュメンハイドロパーオキサイド、ｔ−ブチルハイドロパーオキサイド等が好ましく、２，２−ビス（４，４−ジ−ｔ−ブチルパーオキシシクロヘキシル）プロパン等のパーオキシケタール系化合物、ベンゾイルパーオキシド等のジアシルパーオキシド系化合物、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート等のパーオキシエステル系化合物が好ましい。
【０１３１】
また、前記アゾ系化合物としては、例えば特開平５−５０１４号公報の段落番号［００２１］〜［００２３］に記載の化合物が挙げられる。これらの化合物の中でも、好ましくは分解温度がある程度高く常温では安定なもので、熱をかけると分解してラジカルを発生し、重合開始剤となる化合物である。有機過酸化物系化合物又はアゾ系化合物（熱重合開始剤）の中でも、半減期温度の比較的高いもの（好ましくは５０℃以上、更に好ましくは８０℃以上）のものを使用すると、組成物の粘度が経時変化することなく好適に構成でき、例えば、アゾビス（シクロヘキサン−１−カルボニトリル）等が挙げられる。
【０１３２】
光重合開始剤及び／又は熱重合開始剤の含有量としては、モノマーの量に対して、０．５〜２０質量％が反応促進性や粘度安定性、着色の観点で好ましく、より好ましくは１〜１５質量％である。
また、膜減り率が小さくなるという観点からは、該開始剤の含有量がインクの全固形分に対して５．０質量％以下であることが好ましい。開始剤の含有量は少ないほど好ましく、下限は０質量％である。
【０１３３】
また、驚くべきことに、開始剤量が少ない程、電圧保持率をより高く保てることが判明した。具体的には開始剤量がインクの全固形分中の５．０質量％以下であると電圧保持率が良好であり、好ましい。
さらに驚くべきことに、開始剤量が少ない程、カラーフィルタを作成した際の膜の平坦性（画素の平坦性）が良いことが判明した。具体的には開始剤量がインクの全固形分中の５．０質量％以下であると、画素が平坦となり好ましい。
これらの開始剤は１種又は２種以上を組み合わせて使用することもできる。
【０１３４】
また、前記成分以外に、本発明の効果を失わない範囲内で、バインダーや界面活性剤やその他の添加剤などを併用してもよい。
併用するバインダーの例として、特開２０００−３１０７０６号公報の段落番号［００１５］〜［００３０］に記載のバインダー樹脂や、特開２００１−３５００１２号公報の段落番号［００４１］〜［００５０］に記載のバインダーなどが挙げられる。
【０１３５】
界面活性剤の例として、特開平７−２１６２７６号公報の段落番号［００２１］や、特開２００３−３３７４２４号公報、特開平１１−１３３６００号公報に開示されている界面活性剤が、好適なものとして挙げられる。界面活性剤の含有量は、インクジェットインク全量に対して５質量％以下が好ましい。
【０１３６】
その他の添加剤としては、特開２０００−３１０７０６号公報の段落番号［００５８］〜［００７１］に記載のその他の添加剤が挙げられる。
【０１３７】
［隔壁］
本発明において、前記基板は各微細領域（例えば、各画素領域）を隔てる隔壁を有する。隔壁はどの様なものでもよいが、ブラックマトリクス（ＢＭ）の機能を持った遮光性を有する隔壁であることが好ましい。該隔壁は公知のカラーフィルタ用ブラックマトリクスと同様の素材、方法により作製することができる。例えば、特開２００５−３８６１号公報の段落番号［００２１］〜［００７４］や、特開２００４−２４００３９号公報の段落番号［００１２］〜［００２１］に記載のブラックマトリクスや、特開２００６−１７９８０号公報の段落番号［００１５］〜［００２０］や、特開２００６−１０８７５号公報の段落番号［０００９］〜［００４４］に記載のインクジェット用ブラックマトリクスなどが挙げられる。
前記公知の作製方法の中でも、コスト削減の観点から感光性樹脂転写材料を用いることが好ましい。感光性樹脂転写材料は、仮支持体上に少なくとも遮光性を有する樹脂層を設けたものであり、基板に圧着して、該遮光性を有する樹脂層を該基板に転写することができる。
【０１３８】
感光性樹脂転写材料は、特開平５−７２７２４号公報に記載されている感光性樹脂転写材料、すなわち一体型となったフィルムを用いて形成することが好ましい。該一体型フィルムの構成の例としては、仮支持体／熱可塑性樹脂層／中間層／感光性樹脂層（本発明において「感光性樹脂層」とは光照射により硬化しうる樹脂をいい、それが遮光性を有するときには「遮光性を有する樹脂層」ともいい、目的の色に着色されているときには「着色樹脂層」ともいう。）／保護フィルムを、この順に積層した構成が挙げられる。
感光性樹脂転写材料を構成する仮支持体、熱可塑性樹脂層、中間層、保護フィルムや、転写材料の作製方法については、特開２００５−３８６１号公報の段落番号［００２３］〜［００６６］に記載のものが好適なものとして挙げられる。
【０１３９】
また、前記隔壁は、上述のように、撥インク処理を施してもよい。該撥インク処理については、例えば、（１）撥インク性物質を隔壁に練りこむ方法（例えば、特開２００５−３６１６０号公報参照）、（２）撥インク層を新たに設ける方法（例えば、特開平５−２４１０１１号公報参照）、（３）プラズマ処理により撥インク性を付与する方法（例えば、特開２００２−６２４２０号公報参照）、（４）隔壁の壁上面に撥インク材料を塗布する方法（例えば、特開平１０−１２３５００号公報参照）、などが挙げられ、特に（３）基板上に形成された隔壁にプラズマによる撥インク化処理を施す方法が好ましい。
【０１４０】
［第２の光学異方性層］
本発明の液晶表示装置は、さらにパターン化されていない第２の光学異方性層を、セル内又はセル外に有していてもよい。第２の光学異方性層には、例えば各種波長板や液晶層の複屈折による着色や視角等の補償を目的としたものなどを使用することができ、また使用目的に応じた適宜な光学異方性を有する２種以上の光学異方性膜を積層して位相差等の光学特性を制御することができる。このような光学異方性膜としては、ポリカーボネート、ノルボルネン系樹脂、ポリビニルアルコール、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリプロピレンやその他のポリオレフィン、ポリアリレート、ポリアミドの如き適宜なポリマーからなるフィルムを延伸処理してなる複屈折性フィルムや液晶ポリマーなどの液晶化合物からなる配向フィルム、液晶材料の配向層をフィルムにて支持したものなどがあげられる。他に二軸延伸処理や直交する二方向に延伸処理等された複屈折を有するフィルム、傾斜配向フィルムのような二方向延伸フィルムなどが用いられる。傾斜配向フィルムとしては、例えばポリマーフィルムに熱収縮フィルムを接着して加熱によるその収縮力の作用下にポリマーフィルムを延伸処理又は／及び収縮処理したものや、液晶ポリマーを斜め配向させたものなどが挙げられる。
【０１４１】
特に、前記第１の光学異方性層と組み合わせることで、より高機能な光学特性を作り出せる光学異方性膜として、以下に説明する透明光学異方性フィルム及びＲｅが小さなセルロースアシレートフィルムが好適に用いられる。
【０１４２】
《透明光学異方性フィルム》
第２の光学異方性層は、面内の位相差（Ｒｅ）が２０ｎｍ〜２５０ｎｍ、厚さ方向の位相差（Ｒｔｈ）が１０ｎｍ〜３５０ｎｍの透明光学異方性フィルムであるのが好ましい。かかるフィルムは、セルロースアシレート及びシクロオレフィンを含有するフィルムであるのが好ましい。
偏光板の斜め方向の光漏れを効果的に低減するためには、Ｒｅは、２０ｎｍ〜２５０ｎｍであるのがより好ましく、２０ｎｍ〜２００ｎｍであるのがさらに好ましい。また斜め方向の光漏れを効果的に低減するためには、Ｒｔｈは、１０ｎｍ〜３００ｎｍであるのがより好ましく、２０ｎｍ〜２５０ｎｍであるのがさらに好ましい。この範囲であれば透明光学異方性フィルムは光学的に一軸性であっても、二軸性であってもよい。
【０１４３】
第２の光学異方性層として正のＡ−プレートフィルムを用いた場合、ＩＰＳ用液晶表示装置のコントラストの改善に適しており、正のＡ−プレートフィルムとしてＲｅ（５５０ｎｍ）が４０〜２５０ｎｍであり、７０〜２３０ｎｍであることが好ましく、１００〜１８０ｎｍであることがさらに好ましい。また、波長分散としてＲｅ（４５０ｎｍ）／Ｒｅ（５５０ｎｍ）＝０．６〜１であり、０．６５〜０．９５であることが好ましく、０．７〜０．９であることが更に好ましい。Ｒｅ（６５０ｎｍ）／Ｒｅ（５５０ｎｍ）＝１〜１．３であり、１．０１〜１．２５であることが好ましく、１．０２〜１．２３であることが更に好ましい。
【０１４４】
《Ｒｅ及びＲｔｈが小さいセルロースアシレートフィルム》
光学異方性（Ｒｅ、Ｒｔｈ）が小さいセルロースアシレートフィルムとしては、波長６３０ｎｍにおける面内の位相差Ｒｅが１０ｎｍ以下（０≦Ｒｅ（６３０）≦１０）でかつ、膜厚方向の位相差Ｒｔｈがー１００ｎｍ〜２５ｎｍであることが好ましい。より好ましくは、０≦Ｒｅ（６３０）≦５、かつ、−６０≦Ｒｔｈ（６３０）≦２０であり、さらに好ましくは、０≦Ｒｅ（６３０）≦２、かつ、−４０≦Ｒｔｈ（６３０）≦１５である。
【０１４５】
さらに、波長分散が小さいセルロースアシレートフィルムが好ましく、｜Ｒｅ（４００）−Ｒｅ（７００）｜≦１０、かつ、｜Ｒｔｈ（４００）−Ｒｔｈ（７００）｜≦３５であることがより好ましい。さらに好ましくは、｜Ｒｅ（４００）−Ｒｅ（７００）｜≦５、かつ、｜Ｒｔｈ（４００）−Ｒｔｈ（７００）｜≦２５であり、最も好ましくは、｜Ｒｅ（４００）−Ｒｅ（７００）｜≦３、かつ、｜Ｒｔｈ（４００）−Ｒｔｈ（７００）｜≦１５である。
前記パターン化した第１の光学異方性層と、このような光学特性を有するパターン化されていない第２の光学異方性層とを組み合せることで、偏光板の視野角を効果的に広げる部材を提供できる。
また、Ｒｅが小さいセルロースアシレートフィルムを偏光板の保護フィルムと使用した場合には、前記第１の光学異方性層の厚さを薄くできる効果がある。
上述のセルロースの水酸基に置換するアシル置換基のうちで、実質的にアセチル基、プロピオニル基及びブタノイル基の少なくとも２種類からなる場合においては、その全置換度が２．５０〜３．００の場合にセルロースアシレートフィルムの光学異方性を低下できることがわかった。より好ましいアシル置換度は２．６０〜３．００であり、さらに好ましくは２．６５〜３．００である。本発明のこれらのセルロースアシレートは、その原料綿や合成方法は発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）７頁〜１２頁に詳細に記載されている。
【０１４６】
上記セルロースアシレートは、単一あるいは異なる２種類以上のセルロースアシレートを混合して用いることができる。
【０１４７】
前記セルロースアシレートフィルムは、セルロースアシレート容液を用いて作製してもよい。セルロースアシレート溶液には、各調製工程において用途に応じた種々の添加剤（例えば、光学異方性を低下させる化合物、波長分散調整剤、紫外線防止剤、可塑剤、劣化防止剤、微粒子、光学特性調整剤など）を加えることができる。またその添加する時期はドープ作製工程において何れでも添加してもよいが、ドープ調製工程の最後の調製工程に添加剤を添加し調製する工程を加えて行ってもよい。
【０１４８】
本発明で用いることができるセルロースアシレートフィルムは、膜厚方向のＲｔｈが下記式（３）及び（４）を満たすようなＲｔｈを低下させる化合物を含有することが好ましい。
（３） （Ｒｔｈ(A)−Ｒｔｈ(0)）／Ａ≦−１．０
（４） ０．０１≦Ａ≦３０
（式（３）及び（４）中、Ｒｔｈ(A)は、Ｒｔｈを低下させる化合物をＡ％含有したフィルムのＲｔｈ（ｎｍ）を表し、Ｒｔｈ(0)は、該フィルムであって、Ｒｔｈを低下させる化合物を含有しないフィルムのＲｔｈ（ｎｍ）を表し、Ａは、フィルム原料ポリマーの重量を１００としたときのＲｔｈを低下させる化合物の重量（％）を表す。）
上記式（３）及び（４）は
（３−Ｉ） （Ｒｔｈ(A)−Ｒｔｈ(0)）／Ａ≦−２．０
（４−Ｉ） ０．１≦Ａ≦２０
であることがさらに好ましい。
セルロースアシレートフィルムの光学異方性を低下させる化合物としては、特開２００６−３０９３７に記載のものを用いることができる。
【０１４９】
前記第２の光学異方性層として２軸性ポリマーフィルムを用いてもよい。斜め方向の光漏れを効果的に低減するためには、該ポリマーフィルムは、レターデーションＲｅ（λ）が２０ｎｍ〜１５０ｎｍであるのが好ましく、４０ｎｍ〜１１５ｎｍであるのがより好ましく、６０ｎｍ〜９５ｎｍであるのがさらに好ましい。また、斜め方向の光漏れを効果的に低減するためには、面内の屈折率ｎｘとｎｙ（ｎｘ＞ｎｙ）、及び厚さ方向の屈折率ｎｚを用いてＮｚ＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）で定義されるＮｚが１．５〜７であるのが好ましく、２．０〜５．５であるのがより好ましく、２．５〜４．５であるのがさらに好ましい。
【０１５０】
前記第２の光学異方性層領域は、前記光学特性を有する限り、基本的にその材料及び形態については特に制限されない。例えば、複屈折ポリマーフィルムからなる位相差膜、透明支持体上に高分子化合物を塗布後に加熱塩した膜、及び透明支持体上に低分子あるいは高分子液晶性化合物を塗布もしくは転写することによって形成された位相差層を有する位相差膜など、いずれも使用することができる。また、それぞれを積層して使用することもできる。
【０１５１】
複屈折ポリマーフィルムとしては、複屈折特性の制御性や透明性、耐熱性に優れるものが好ましい。この場合、用いる高分子材料としては均一な二軸配向が達成できる高分子であれば特に制限はないが、従来公知のもので溶液流延法や押出し成形方式で製膜できるもの好ましく、ノルボルネン系高分子、ポリカーボネート系高分子、ポリアリレート系高分子、ポリエステル系高分子、ポリサルフォン等の芳香族系高分子、セルロースアシレート、又は、それらポリマーの２種又は３種以上を混合したポリマーなどがあげられる。
【０１５２】
フィルムの二軸配向は、押出し成形方式や流延製膜方式等の適宜な方式で製造した当該熱可塑性樹脂からなるフィルムを、例えばロールによる縦延伸方式、テンターによる横延伸方式や二軸延伸方式などにより、延伸処理することにより得られる。前記のロールによる縦延伸方式では加熱ロールを用いる方法や雰囲気を加熱する方法、それらを併用する方法等の適宜な加熱方法を採ることができる。またテンターによる二軸延伸方式では全テンター方式による同時二軸延伸方法や、ロール・テンター法による逐次二軸延伸方法などの適宜な方法を採ることができる。
また、配向ムラや位相差ムラの少ないものが好ましい。その厚さは、位相差等により適宜に決定しうるが、一般には薄型化の点より１〜３００μｍ、就中１０〜２００μｍ、特に２０〜１５０μｍとされる。
【０１５３】
ノルボルネン系高分子としては、ノルボルネン及びその誘導体、テトラシクロドデセン及びその誘導体、ジシクロペンタジエン及びその誘導体、メタノテトラヒドロフルオレン及びその誘導体などのノルボルネン系モノマーの主成分とするモノマーの重合体であり、ノルボルネン系モノマーの開環重合体、ノルボルネン系モノマーとこれと開環共重合可能なその他のモノマーとの開環共重合体、ノルボルネン系モノマーの付加重合体、ノルボルネン系モノマーとこれと共重合可能なその他のモノマーとの付加共重合体、及びの水素添加物などが挙げられる。これらの中でも、耐熱性、機械的強度等の観点から、ノルボルネン系モノマーの開環重合体水素化物が最も好ましい。ノルボルネン系重合体、単環の環状オレフィンの重合体又は環状共役ジエンの重合体の分子量は、使用目的に応じて適宜選択されるが、シクロヘキサン溶液（重合体樹脂が溶解しない場合はトルエン溶液）のゲル・パーミエーション・クロマトグラフィーで測定したポリイソプレン又はポリスチレン換算の重量平均分子量で、通常５，０００〜５００，０００、好ましくは８，０００〜２００，０００、より好ましくは１０，０００〜１００，０００の範囲であるときに、フィルム（Ａ）の機械的強度、及び成形加工性とが高度にバランスされて好適である。代表的なポリマーとして、特開２００３−３２７８００号公報、特開２００４−２３３６０４号公報に記載されたポリマーが挙げられる。
【０１５４】
セルロースアシレートのアシル基としては、脂肪族基でも芳香族基でもよい。その例には、アルキルカルボニル、アルケニルカルボニル、芳香族カルボニル、芳香族アルキルカルボニルなどが含まれる。それらはさらに置換された基を有していてもよい。総炭素数が２２以下のエステル基が好ましい。その好ましい例には、総炭素数が２２以下のアルキルカルボニル基（例えば、アセチル、プロピオニル、ブチロイル、バレル、ヘプタノイル、オクタノイル、デカノイル、ドデカノイル、トリデカノイル、ヘキサデカノイル、オクタデカノイルなど）、アリールカルボニル基（ベンゾイル、ナフタロイルなど）、アリルカルボニル基（アクリル、メタクリルなど）、シンナモイル基が含まれる。これらの中でも、セルロースアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートステアレート、セルロースアセテートベンゾエートなどであり、混合エステルの場合はその比率は特に限定されないが、好ましくはアセテートが総エステルの３０モル％以上であることが好ましい。
【０１５５】
これらの中でも、セルロースアシレートが好ましく、特に写真用グレードのものが好ましく、市販品を用いてもよい。写真用グレードのセルローストリアセテートのメーカーとしては、ダイセル化学工業（株）（例えばＬＴ−２０，３０，４０，５０，７０，３５，５５，１０５など）、イーストマンケミカル社（例えば、ＣＡＢ−５５１−０．０１、ＣＡＢ−５５１−０．０２、ＣＡＢ−５００−５、ＣＡＢ−３８１−０．５、ＣＡＢ−３８１−０２、ＣＡＢ−３８１−２０、ＣＡＢ−３２１−０．２、ＣＡＰ−５０４−０．２、ＣＡＰ−４８２−２０、ＣＡ−３９８−３など）、コートルズ社、ヘキスト社等があり、何れも写真用グレードのセルロースアシレートを使用できる。また、フィルムの機械的特性や光学的な特性を制御する目的で、可塑剤、界面活性剤、レターデーション調節剤、ＵＶ吸収剤などを混合することができる。これらの添加剤の詳細については、例えば、特開２００２−２７７６３２号公報、特開２００２−１８２２１５号公報に記載がある。
【０１５６】
透明樹脂をシート又はフィルム状に成形する方法は、例えば、加熱溶融成形法、溶液流延法のいずれも用いることができる。加熱溶融成形法は、さらに詳細に、押出成形法、プレス成形法、インフレーション成形法、射出成形法、ブロー成形法、延伸成形法などに分類できるが、これらの方法の中でも、機械的強度、表面精度等に優れたフィルムを得るためには、押出成形法、インフレーション成形法、及びプレス成形法が好ましく、押出成形法が最も好ましい。成形条件は、使用目的や成形方法により適宜選択されるが、加熱溶融成形法による場合は、シリンダー温度が、好ましくは１００〜４００℃、より好ましくは１５０〜３５０℃の範囲で適宜設定される。上記シート又はフィルムの厚みは、好ましくは１０〜３００μｍ、より好ましくは３０〜２００μｍである。
【０１５７】
上記シート又はフィルムは延伸処理を施されてもよい。上記シート又はフィルムの延伸は、該透明樹脂のガラス転移温度をＴｇとするとき、好ましくはＴｇ−３０℃からＴｇ＋６０℃の温度範囲、より好ましくはＴｇ−１０℃からＴｇ＋５０℃の温度範囲にて、少なくとも一方向に好ましくは１．０１〜２倍の延伸倍率で行う。延伸方向は少なくとも一方向であればよいが、その方向は、シートが押出成形で得られたものである場合には、樹脂の機械的流れ方向（押出方向）であることが好ましく、延伸方法は自由収縮一軸延伸法、幅固定一軸延伸法、二軸延伸法などが好ましい。光学特性の制御はこの延伸倍率と加熱温度を制御することによって行なうことが出来る。
【０１５８】
［液晶表示装置］
前記パターン化された第１の光学異方性層及び所望によりパターン化されていない第２の光学異方性層を利用することにより、視野角が拡大された液晶表示装置を提供することができる。ＴＮモードの液晶セル用位相差板（光学補償シート）は、特開平６−２１４１１６号公報、米国特許第５５８３６７９号、同５６４６７０３号、ドイツ特許公報３９１１６２０Ａ１号の各明細書に記載がある。また、ＩＰＳモード又はＦＬＣモードの液晶セル用位相差板（光学補償シート）は、特開平１０−５４９８２号公報に記載がある。さらに、ＯＣＢモード又はＨＡＮモードの液晶セル用位相差板（光学補償シート）は、米国特許第５８０５２５３号明細書及び国際公開ＷＯ９６／３７８０４号パンフレットに記載がある。さらにまた、ＳＴＮモードの液晶セル用位相差板（光学補償シート）は、特開平９−２６５７２号公報に記載がある。そして、ＶＡモードの液晶セル用位相差板（光学補償シート）は、特許第２８６６３７２号公報に記載がある。
【０１５９】
本発明は、ＴＮ、ＩＰＳ、ＦＬＣ、ＯＣＢ、ＳＴＮ、ＶＡ及びＨＡＮモードのような様々な表示モードの液晶表示装置に用いることができる。中でも、ＶＡ及びＩＰＳモードの液晶表示装置に適する。
【０１６０】
［ＶＡモード］
本発明の液晶表示装置は、ＶＡモードを利用したものであってもよい。視野角改善の点では、本発明のＶＡモード液晶表示装置は、第１の光学異方性層として、棒状液晶のコレステリック配向を固定して製造した層、Δｎの波長分散が上記式（Ｉ）及び（II）を満たす棒状液晶を用いた正のＡ-プレート、かつ第２の光学異方性層として、負のＣ−プレートを用いる方法、又は可視光域においてΔnが順分散の液晶を用いＲｅ（Ｒ層）＞Ｒｅ（Ｇ層）＞Ｒｅ（Ｂ層）の正のＡ−プレートを用い、且つ第２の光学異方性層として、負のＣ−プレートを用いるのが好ましい。
【０１６１】
［ＩＰＳモード］
本発明の液晶表示装置は、ＩＰＳモードを利用したものであってもよい。視野角改善の点では、本発明のＩＰＳモードの液晶表示装置は、第１の光学異方性層として、正のＣプレート又は負のＡ−プレートを有し、第２の光学異方性層として、正のＡ−プレート又は２軸フィルムを有するのが好ましい。前記第１の光学異方性層として用いられる正のＣ−プレートは、棒状液晶の垂直配向を固定して製造されるのが好ましく、また、Δｎの波長分散が式（Ｉ）及び（II）を満たす棒状液晶を用いて製造されてもよいし、それ以外の棒状液晶を用いて製造してもよい。前記第１の光学異方性層として用いられる負のＡ−プレートは、ディスコティック液晶の垂直配向を固定して製造するのが好ましい。前記第２の光学異方性層として用いられる正のＡ−プレートは、Ｒｅの波長分散が、下記式(III)及び（IV）を満足するポリマーフィルムであるのが好ましい。
（ＩＩＩ） Ｒｅ（４５０ｎｍ）／Ｒｅ（５５０ｎｍ） ＜ １
（Ｉｖ） Ｒｅ（６５０ｎｍ）／Ｒｅ（５５０ｎｍ） ＞ １
【０１６２】
前記第２の光学異方性層として用いられる二軸性フィルムは、面内レターデーション（Ｒｅ）が０でなく、面内の遅相軸を傾斜軸（回転軸）として光学補償シートの法線方向に対して＋４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値、及び面内の遅相軸を傾斜軸（回転軸）として光学補償シートの法線方向に対して−４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値が実質的に等しいのが好ましい。
また、前記第２の光学異方性層として用いられる二軸性フィルムは、波長λｎｍにおけるレターデーションＲｅ（λ）が２０ｎｍ〜１５０ｎｍであり、且つ面内の屈折率ｎｘとｎｙ（ｎｘ＞ｎｙ）、及び厚さ方向の屈折率ｎｚを用いてＮｚ＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）で定義される第２の光学異方性層領域の値Ｎｚが１．５〜７であるのが好ましい。
【実施例】
【０１６３】
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、物質量とその割合、操作等は本発明の趣旨から逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下の具体例に制限されるものではない。
【０１６４】
（実施例１）
（隔壁作製用黒色感光性組成物の製法）
黒色感光性組成物Ｋ１は、まず表１に記載の量のＫ顔料分散物１、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートをはかり取り、温度２４℃（±２℃）で混合して１５０ＲＰＭ、１０分間攪拌し、次いで、表１に記載の量のメチルエチルケトン、バインダ２、ハイドロキノンモノメチルエーテル、ＤＰＨＡ液、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−［４'−（Ｎ，Ｎ−ジエトキシカルボニルメチルアミノ）−３'−ブロモフェニル］−ｓ−トリアジン、界面活性剤１をはかり取り、温度２５℃（±２℃）でこの順に添加して、温度４０℃（±２℃）で１５０ＲＰＭ３０分間攪拌することによって得られる。なお、表１に記載の量は質量部であり、詳しくは以下の組成となっている。
【０１６５】
＜Ｋ顔料分散物１＞
・カーボンブラック（デグッサ社製 Ｎｉｐｅｘ３５） １３．１％
・分散剤（下記化合物１） ０．６５％
・ポリマー（ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７２／２８モル比のランダム共重合物、分子量３．７万） ６．７２％
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ７９．５３％
【０１６６】
【化２４】
2010145671.tif 000026
【０１６７】
＜バインダ２＞
・ポリマー（ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７８／２２モル比のランダム共重合物、分子量３．８万） ２７％
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ７３％
＜ＤＰＨＡ液＞
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（重合禁止剤ＭＥＨＱ ５００ｐｐｍ含有、日本化薬（株）製、商品名：ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ） ７６％
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ２４％
＜界面活性剤１＞
・下記構造物１ ３０％
・メチルエチルケトン ７０％
【０１６８】
【化２５】
2010145671.tif 000027
【０１６９】
【表１】
2010145671.tif 000028
【０１７０】
（遮光性隔壁の形成）
無アルカリガラス基板を、ＵＶ洗浄装置で洗浄後、洗浄剤を用いてブラシ洗浄し、更に超純水で超音波洗浄した。基板を１２０℃３分熱処理して表面状態を安定化させた。
基板を冷却し２３℃に温調後、スリット状ノズルを有するガラス基板用コーター（エフ・エー・エス・アジア社製、商品名：ＭＨ−１６００）にて、上記表１に記載の組成よりなる黒色感光性組成物Ｋ１を塗布した。引き続きＶＣＤ（真空乾燥装置、東京応化工業（株）製）で３０秒間、溶媒の一部を乾燥して塗布層の流動性を無くした後、１２０℃で３分間プリベークして、膜厚４.０μｍの黒色感光層Ｋ１を得た。
【０１７１】
超高圧水銀灯を有するプロキシミティー型露光機（日立ハイテク電子エンジニアリング株式会社製）で、基板とマスク（画像パターンを有す石英露光マスク）を垂直に立てた状態で、露光マスク面と黒色感光層Ｋ１の間の距離を２００μｍに設定し、窒素雰囲気下、露光量３００ｍＪ／ｃｍ2でパターン露光した。
【０１７２】
次に、純水をシャワーノズルにて噴霧して、黒色感光層Ｋ１の表面を均一に湿らせた後、ＫＯＨ系現像液（ＫＯＨ、ノニオン界面活性剤含有、商品名：ＣＤＫ−１、富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製）にて２３℃８０秒、フラットノズル圧力０．０４ＭＰａでシャワー現像しパターニング画像を得た。引き続き、超純水を、超高圧洗浄ノズルにて９．８ＭＰａの圧力で噴射して残渣除去を行い、大気下にて露光量２０００ｍＪ／ｃｍ2にてポスト露光を行って光学濃度３．９の黒色隔壁を得た。ガラス基板表面には、この黒色隔壁により隔てられた微細領域が形成された。
【０１７３】
（撥インク化プラズマ処理）
隔壁を形成した基板に、カソードカップリング方式平行平板型プラズマ処理装置を用いて以下の条件にて撥インク化プラズマ処理を行った
（条件）
使用ガス  ＣＦ4
ガス流量  80ｓｃｃｍ
圧力      40Ｐａ
ＲＦパワー  50Ｗ
処理時間  30sec
【０１７４】
（配向層）
隔壁に囲まれた凹部に、ポリイミド溶液を、ピエゾ方式のヘッドを用いて、打滴、乾燥し、５０ｎｍの厚さの膜を形成した。更に２３０℃で１時間の焼成を行い、ラビング布によりラビング処理を行い、配向膜を形成した。形成した基板上に  ポリイミドを  スピンコートにより５０ｎｍの厚さで成膜し、２３０℃で１時間の焼成を行い、ラビング布によりラビング処理を行い、配向膜を形成した。
【０１７５】
（光学異方性層用塗布液ＬＣ−Ｒ１の調製）
下記の組成物を調製後、孔径０．２μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、光学異方性層用塗布液ＬＣ−Ｒ１として用いた。
ＬＣ−１−１はＴｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ．誌、第４３巻、６７９３頁（２００２）に記載の方法準じて合成した。ＬＣ−１−２はＥＰ１３８８５３８Ａ１，ｐａｇｅ２１に記載の方法により合成した。
──────────────────────────────────――
光学異方性層用塗布液組成（％）
──────────────────────────────────――
棒状液晶（Ｐａｌｉｏｃｏｌｏｒ ＬＣ２４２，ＢＡＳＦジャパン）２８．６２
カイラル剤（Ｐａｌｉｏｃｏｌｏｒ ＬＣ７５６，ＢＡＳＦジャパン）３．４０
４，４'−アゾキシジアニソール                                  ０．５２
水平配向剤（ＬＣ−１−１）                                     ０．１０
光重合開始剤（ＬＣ−１−２）                                   １．３６
メチルエチルケトン                                             ６６．０
──────────────────────────────────――
【０１７６】
【化２６】
2010145671.tif 000029
【０１７７】
（光学異方性層用塗布液ＬＣ−Ｇ１の調製）
下記の組成物を調製後、孔径０．２μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、光学異方性層用塗布液ＬＣ−Ｇ１として用いた。
──────────────────────────────────――
光学異方性層用塗布液組成（％）
──────────────────────────────────――
棒状液晶（Ｐａｌｉｏｃｏｌｏｒ ＬＣ２４２，ＢＡＳＦジャパン）２８．３８
カイラル剤（Ｐａｌｉｏｃｏｌｏｒ ＬＣ７５６，ＢＡＳＦジャパン）３．３４
４，４'−アゾキシジアニソール                                  ０．２７
水平配向剤（ＬＣ−１−１）                                     ０．１０
光重合開始剤（ＬＣ−１−２）                                   １．３４
メチルエチルケトン                                           ６６．５７
──────────────────────────────────――
【０１７８】
（光学異方性層用塗布液ＬＣ−Ｂ１の調製）
下記の組成物を調製後、孔径０．２μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、光学異方性層用塗布液ＬＣ−Ｂ１として用いた。
──────────────────────────────────――
光学異方性層用塗布液組成（％）
──────────────────────────────────――
棒状液晶（Ｐａｌｉｏｃｏｌｏｒ ＬＣ２４２，ＢＡＳＦジャパン）２８．７２
カイラル剤（Ｐａｌｉｏｃｏｌｏｒ ＬＣ７５６，ＢＡＳＦジャパン）３．３６
４，４'−アゾキシジアニソール                                  ０．０３
水平配向剤（ＬＣ−１−１）                                     ０．１０
光重合開始剤（ＬＣ−１−２）                                   １．３４
メチルエチルケトン                                           ６６．４５
─────────────────────────────────────
【０１７９】
（光学異方性層の作製）
Ｒ用光学異方性層Ｒ−１として、上記で得られた光学異方性層用塗布液ＬＣ−Ｒ１をピエゾ方式のヘッドを用いて遮光性隔壁に囲まれた、ポリイミドを塗布して形成された配向層を有する凹部（レッド画素部）に打滴し、９５℃２分間加熱乾燥熟成して均一な液晶相を有する層を形成した。打滴量は、乾燥後の画素中央部の高さが3.2μｍになるように調整した。さらに熟成後直ちにこの層に対して、酸素濃度０．３％以下の窒素雰囲気下において、偏光板の透過軸が透明支持体のＴＤ方向となるようにして偏光ＵＶを照射（照度２００ｍＷ／ｃｍ2、照射量２００ｍＪ／ｃｍ2）して光学異方性層を固定化し、光学異方性層を形成した。同様にグリーン画素部に光学異方性層用塗布液ＬＣ−Ｇ１を打滴しＧ用光学異方性層Ｇ−１、ブルー画素部に光学異方性層用塗布液ＬＣ−Ｂ１を打滴しＢ用光学異方性層Ｂ−１を作製した。
実施例２から５、及び比較例１から３については、上記の乾燥後の画素中央部の高さを、表２記載の値になるように打滴量を調整した以外は、実施例１と同じ条件で光学異方性層を作成した。
【０１８０】
（平坦性評価）
得られた光学異方性層（レッド画素部）の表面のプロファイルを、接触式表面粗さ計（商品名  Ｐ−１０  ケーエルエー・テンコール社製）で測定した。画素中央部の高さが最大となり、隔壁面に接した位置の高さが最小となった。その最大値と最小値の差は0.64μｍであり、画素中央部の高さの２０％（すなわち、(画素中央部の高さ−壁面部の高さ)/画素中央部の高さ  ＝０．２０）に相当し、良好な平坦性を与えた。結果を表１に示す。
実施例２から５、及び比較例１から３についての結果も同様に表２に示す。
【０１８１】
【表２】
2010145671.tif 000030
【０１８２】
−顔料分散液の調製−
ブロム化フタロシアニングリーン（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｇｒｅｅｎ３６、商品名：Ｒｉｏｎｏｌ Ｇｒｅｅｎ ６ＹＫ、東洋インキ製造（株）製）に分散剤（上記化合物１）及び溶剤（１，３−ブタンジオールジアセテート）（以下１，３−ＢＧＤＡと略す。）を下記の表２に示す如く配合し、プレミキシングの後、モーターミルＭ−５０（アイガー・ジャパン社製）で、直径０．６５ｍｍのジルコニアビーズを充填率８０％で用い、周速９ｍ／ｓで２５時間分散し、Ｇ用顔料分散液（Ｇ１）を調製した。Ｇ用顔料分散液（Ｇ１）において、顔料及びその他の成分を表２に示す如く配合した以外はＧ用顔料分散液（Ｇ１）と同様にして、Ｇ用顔料分散液（Ｇ２）、Ｒ用顔料分散液（Ｒ１）、（Ｒ２）、Ｂ用顔料分散液（Ｂ１）、（Ｂ２）を調製した。尚、日機装社製ナノトラックＵＰＡ−ＥＸ１５０を用いて、この顔料分散液の数平均粒径を測定した。結果を表３に示す。
【０１８３】
【表３】
2010145671.tif 000031
【０１８４】
次いで、下記表４に示す処方のとおり、溶剤、モノマー、バインダー、界面活性剤成分を混合して、２５℃で３０分間攪拌したのち、不溶物が無いことを確認し、モノマー溶液を調製した。
次に、Ｇ用顔料分散液（Ｇ１）、Ｇ用顔料分散液（Ｇ２）を撹拌しながら、前記モノマー液をゆっくりと添加し、２５℃で３０分間撹拌し、Ｇ用インクジェットインク（インクＧ−１）を調製した。
以下同様に、Ｒ用インクジェットインク（インクＲ−１）、Ｂ用インクジェットインク（インクＢ−１）各色インクを調製した。
【０１８５】
用いた素材の詳細を示す。
・Ｃ．Ｉ．Ｐ．Ｒ．２５４（商品名：Ｉｒｇａｐｈｏｒ Ｒｅｄ Ｂ−ＣＦ、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）
・Ｃ．Ｉ．Ｐ．Ｒ．１７７（商品名：Ｃｒｏｍｏｐｈｔａｌ Ｒｅｄ Ａ２Ｂ、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株） 製）
・Ｃ．Ｉ．Ｐ．Ｙ．１５０ （商品名：Ｂａｙｐｌａｓｔ Ｙｅｌｌｏｗ ５ＧＮ ０１、バイエル株式会社製）
・Ｃ．Ｉ．Ｐ．Ｂ．１５：６（商品名：Ｒｉｏｎｏｌ Ｂｌｕｅ ＥＳ、東洋インキ製造（株）製）
・Ｃ．Ｉ．Ｐ．Ｖ．２３（商品名：Ｈｏｓｔａｐｅｒｍ Ｖｉｏｌｅｔ ＲＬ−ＮＦ、 クラリアントジャパン（株）製）
・１，３−ＢＧＤＡ（１，３−ブタンジオールジアセテート；沸点２３２℃）
・ＤＰＨＡ（日本化薬(株)製、商品名：ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ）
・界面活性剤：前記界面活性剤１の欄に示した構造物１
【０１８６】
【表４】
2010145671.tif 000032
【０１８７】
−インクジェット方式による画素部の形成―
本実施例では上記で作製したインクジェットインクＲ−１、Ｇ−１、Ｂ−１を用い、インクの打滴を以下の形態で行った。なお、インクジェットインクＲ−１、Ｇ−１、Ｂ−１はそれぞれ上記で形成した光学異方性層Ｒ−１、Ｇ−１、Ｂ−１に該当する部分に打滴した。
図４に示すヘッド部１００は３色のインクジェットヘッドとしてDimatix社製ＳＸ−３を３個具備し、吐出制御装置２００は専用のピエゾ駆動回路およびステージ制御専用回路を用いた。ＳＸ−３はオンデマンド型ピエゾ駆動のヘッドであって、一つのヘッドに１２８のノズルが５０８μｍの間隔で配置されている。
ピエゾを駆動するにあたり、電圧の中心値を５０Ｖ、パルス幅を８マイクロ秒として、前述の飛翔形状観察及び吐出量計測により、各々のノズルからの吐出量の差が２％以内となるようにノズルごとの電圧を調整した。
吐出量の中心値は８ｎｇ／滴であった。
【０１８８】
上記工程で製作した基板を載置する基板台４００は専用自動２次元移動ステージ上に置かれたアルミ製の板であって、移動ステージに固定されている。
ヘッドと基板の間隔は５００μｍに調整されており、ヘッドのピエゾが駆動されてからインク滴が形成され、基板に着弾するまでの時間は約６３μ秒であった。
基板上の画素のサイズは、Ｘ方向が３００μｍ、Ｙ方向が１００μｍであって、Ｘ方向に対してヘッドを５３．８度傾けることにより、Ｙ方向の見かけ上のノズル間隔が３００μｍとなるように調整した。
【０１８９】
ピエゾは連続打滴する場合の駆動周波数を１０ＫＨｚに設定されており、基板を８．２ｃｍ／秒の等速度で移動させて画素のＸ方向２７０μｍの区間内に３３滴２６４ｎｇを打滴した。
更に、基板を移動させて複数の凹部に上記条件でインクを打滴した。
この後、ホットプレートで１００℃２分間加熱乾燥させた後、２３０℃オーブン中で３０分ベークすることで隔壁、画素ともに完全に硬化させカラーフィルタを作製した。
【０１９０】
（第二層の平坦性評価）
得られた着色層の表面のプロファイルを、接触式表面粗さ計（商品名  Ｐ−１０  ケーエルエー・テンコール社製）で測定した。画素中央部の高さが最大となり、隔壁面に接した位置の高さが最小となった。その最大値と最小値の差は0.12μｍであり、画素中央部の高さの15％（すなわち、(画素中央部の高さ−壁面部の高さ)/画素中央部の高さ＝０．１５）に相当し、良好な平坦性を与えた。結果を表２に示す。
実施例２から５、及び比較例１から３についての結果も同様に表２に示す。
【０１９１】
（ムラの評価）
得られた基板を、偏光顕微鏡で、基板の遅送軸の方向に偏光板の透過軸方向にあわせて、クロスニコル下で観察し、各画素からの光漏れの有無を評価した。
結果を表５に示す。実施例の基板には光漏れは発生していなかったが、比較例には、光漏れが発生していた。
【０１９２】
【表５】
2010145671.tif 000033
【０１９３】
（透明電極の形成）
上で作製したカラーフィルタ上に透明電極膜（膜厚２０００Å）をＩＴＯのスパッタリングにより形成した。
【０１９４】
（配向層の形成及び液晶セル形成）
更にその上にポリイミドの配向膜を設けた。次に粒子径５μｍのガラスビーズを散布した。さらにカラーフィルタの画素群の周囲に設けられたブラックマトリックスの外枠に相当する位置に、スペーサ粒子を含有するエポキシ樹脂のシール剤を印刷し、カラーフィルタ基板を対向基板と１０ｋｇ／ｃｍの圧力で貼り合わせた。次いで、貼り合わされたガラス基板を１５０℃、９０分で熱処理し、シール剤を硬化させ、２枚のガラス基板の積層体を得た。このガラス基板積層体を真空下で脱気し、その後大気圧に戻して２枚のガラス基板の間隙に液晶を注入し、液晶セルを得た。この液晶セルの両面に、（株）サンリッツ製の偏光板ＨＬＣ２−２５１８を貼り付けた。
【０１９５】
（ＶＡ−ＬＣＤの作製）
カラー液晶表示装置用冷陰極管バックライトとしては、ＢａＭｇ2Ａｌ16Ｏ27：Ｅｕ，Ｍｎと、ＬａＰＯ4：Ｃｅ，Ｔｂとを重量比５０：５０で混合した蛍光体を緑色（Ｇ）、Ｙ2Ｏ3：Ｅｕを赤色（Ｒ）、ＢａＭｇＡｌ10Ｏ17：Ｅｕを青色（Ｂ）として、任意の色調を持つ白色の三波長蛍光ランプを作製した。このバックライト上に上記偏光板を付与した液晶セルを設置しＶＡ−ＬＣＤを作製した。
【０１９６】
（ＶＡ−ＬＣＤの視野角特性の評価）
作製した液晶表示装置の視野角特性は、黒表示（電圧無印加）時におけるパネル正面より右斜め上４５度方向について、目視で色の変化を評価した。
実施例及び比較例についての結果を表６に示す。
【０１９７】
【表６】
2010145671.tif 000034
【図面の簡単な説明】
【０１９８】
【図１】本発明の製造方法の流れの一例を示す概略模式図である。
【図２】本発明の液晶表示装置が有する基板の一例の概略断面図である。
【図３】本発明の液晶表示装置の一例の概略断面図である。
【図４】実施例で用いたインクジェット法のシステム構成の１例を示す図である
【符号の説明】
【０１９９】
１ 液晶素子画素領域
２ 画素電極
３ 表示電極
４ ラビング方向
５ａ、５ｂ 黒表示時の液晶化合物のダイレクター
６ａ、６ｂ 白表示時の液晶化合物のダイレクター
１１ 透明基板
１２ ブラックマトリックス（隔壁）
１３ 光学異方性層
１４ 着色層
２１ 被転写基板
２２ ブラックマトリクス（隔壁）
２３ カラーフィルタ層
２４ ベタ光学異方性層
２５ 透明電極層
２６ 配向層
２７ パターニング光学異方性層
３１ 液晶
３２ ＴＦＴ
３３ 偏光層
３４ セルロースアセテートフィルム（偏光板保護フィルム）
３５ セルロースアセテートフィルム、又は光学補償シート
３６ 偏光板
３７ 液晶セル
１００ ヘッド部
１０１、１０２、１０３ インクジェットヘッド
１１０ 顕微鏡カメラ
２００ 制御部
３００ 基板
４００ 基板台
５００ ヘッドメンテナンスステーション
【図１】
2010145671.tif 000035
【図２】
2010145671.tif 000036
【図３】
2010145671.tif 000037
【図４】
2010145671.tif 000038