(57)【要約】【課題】ポリビニルアルコールからなる偏光子に対する易接着形状が施された、新規なセルロースエステル製の偏光子保護フィルム、及びこのような偏光子保護フィルムを備えた偏光板、並びに液晶表示素子の提供を目的とするものである。【解決手段】本発明は、セルロースエステル製の透明な基材層を備える偏光子保護フィルムであって、上記基材層の内面に形成される微細な凹凸形状を有し、基材層の内面の算術表面粗さ（Ｒａ）が、１μｍ以上１０μｍ以下であることを特徴とする偏光子保護フィルムである。上記基材層の内面の十点平均粗さ（Ｒｚ）としては２μｍ以上６０μｍ以下が好ましく、基材層の内面の算術平均粗さ（Ｒａ）に対する十点平均粗さ（Ｒｚ）の粗さ比（Ｒｚ／Ｒａ）としては１以上１５以下が好ましい。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
セルロースエステル製の透明な基材層を備える偏光子保護フィルムであって、
上記基材層の内面に形成される微細な凹凸形状を有し、
基材層の内面の算術平均粗さ（Ｒａ）が、１μｍ以上１０μｍ以下であることを特徴とする偏光子保護フィルム。
【請求項２】
上記基材層の内面の十点平均粗さ（Ｒｚ）が、２μｍ以上６０μｍ以下である請求項１の偏光子保護フィルム。
【請求項３】
上記基材層の内面の算術平均粗さ（Ｒａ）に対する十点平均粗さ（Ｒｚ）の粗さ比（Ｒｚ／Ｒａ）が、１以上１５以下である請求項１又は請求項２の偏光子保護フィルム。
【請求項４】
上記セルロースエステルが、セルロースアセテートプロピオネートである請求項１、請求項２又は請求項３に記載の偏光子保護フィルム。
【請求項５】
上記基材層の外面側に積層される反射防止層又はハードコート層を備える請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の偏光子保護フィルム。
【請求項６】
上記基材層の内面の反転形状を周囲に有するロール型と他のロールとのニップに溶融状態のセルロースエステルを通し、上記形状を転写する押出シート成形法により形成されている請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の偏光子保護フィルム。
【請求項７】
ポリビニルアルコールを有する偏光子と、
この偏光子の両面側に積層される一対の偏光子保護フィルムと
を備える偏光板であって、
少なくとも一方の偏光子保護フィルムとして、請求項１から請求項６のいずれか１項に記載の偏光子保護フィルムが用いられていることを特徴とする偏光板。
【請求項８】
液晶セルと、
この液晶セルの両面側に積層される一対の偏光板と
を備える液晶表示素子であって、
少なくとも一方の偏光板として、請求項７に記載の偏光板が用いられていることを特徴とする液晶表示素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、偏光子保護フィルム、偏光子保護フィルムを備えた偏光板及び偏光板を備えた液晶表示素子に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶表示装置（ＬＣＤ）が、薄型、軽量であり、消費電力が小さいことからＣＲＴの代わりに広範に使用されている。液晶表示装置の使用分野は、従来の電卓や時計などの小型品から、自動車用計器、ＰＣモニタ、テレビなどといった大型品に至るまで拡大されつつある。
【０００３】
図５に示されるように、液晶表示装置に配置される一般的な液晶表示素子２１は、液晶層２７が両面の透明媒体層２６（例えばガラス）で挟持された液晶セル２５と、偏光能を有する偏光子２４の両面に接着剤を介して偏光子保護フィルム２３が貼り合わせられた偏光板２２とを備え、液晶セル２５が、接着剤層２８を介して偏光板２２によって上下から挟持された構造を有している。このように、偏光子２４は、強度の向上と取扱いの容易化の観点から偏光子保護フィルム２３によって保護されている。
【０００４】
偏光子の材料としては、一般的に、親水性樹脂であるポリビニルアルコール（ＰＶＡ）が用いられており、ＰＶＡフィルムを一軸延伸してから、ヨウ素又は二色性染料で染色するか、あるいは染色してから延伸し、次いでホウ素化合物で架橋することによって偏光子が形成される。また、偏光子保護フィルムとしては、光学的に透明であり複屈折性が小さいこと、ＰＶＡからなる偏光子との接着性が優れていることなどの特性が要求されることから、一般的にトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）が用いられている。トリアセチルセルロースは、アルカリによってケン化処理（エステル基が親水性基である水酸基に置換）された後、親水性樹脂であるポリビニルアルコールで構成された偏光子に水溶性の接着剤を介して接着される。
【０００５】
トリアセチルセルロースフィルムは、通常、溶液流延法により製造される。溶液流延法とは、トリアセチルセルロースをハロゲン系溶媒などの溶媒に溶解したいわゆるドープといわれる溶液を、支持体として回転するエンドレスベルトやドラム上に流延し製膜する製法である。流延の後、溶媒の一部を支持体上で乾燥し、固化して得られたフィルムを支持体より剥離し、残りの溶媒を乾燥してトリアセチルセルロースフィルムが得られる。
【０００６】
このような方法は、成形されたフィルム内部に残存する溶媒を除去しなければならないため、乾燥ラインや蒸発した溶媒の回収及び再生装置等、設備及び製造コストが膨大となる。また、ハロゲン系溶媒を使用しているため、環境問題の面からも代替材料及び他の製造方法の開発が求められている。一方、溶融押出法によってセルロースエステルフィルムを製造する方法も提案されている（例えば、特開２００６−６３１６９号公報、特開２００６−３０６０２７号公報等）。しかし、これらの方法によって得られたセルロースエステルフィルムによれば、表面が平滑に形成されているためＰＶＡからなる偏光子との十分な接着性が得られないという不都合が存在する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００６−６３１６９号公報
【特許文献２】特開２００６−３０６０２７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明はこれらの不都合に鑑みてなされたものであり、ポリビニルアルコールからなる偏光子に対する易接着形状が施された、新規なセルロースエステル製の偏光子保護フィルム、及びこのような偏光子保護フィルムを備えた偏光板、並びに液晶表示素子の提供を目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決するためになされた発明は、
セルロースエステル製の透明な基材層を備える偏光子保護フィルムであって、
上記基材層の内面に形成される微細な凹凸形状を有し、
基材層の内面の算術表面粗さ（Ｒａ）が、１μｍ以上１０μｍ以下であることを特徴とする偏光子保護フィルムである。
【００１０】
当該偏光子保護フィルムは、基材層の内面に、当該内面の表面粗さ（Ｒａ）が１μｍ以上１０μｍ以下となるように微細な凹凸形状を有している。当該偏光子保護フィルムは、このように基材層の内面全面に上記サイズの微細な凹凸形状を有していることにより、基材層内面の表面積が格段に増加している。従って、当該偏光子保護フィルムによれば、偏光子あるいは接着剤層と、基材層内面とが接する面積が格段に増加するために接着性が向上する。また、このように内面が広い表面積を有するセルロースエステル製の基材層をアルカリでケン化すると、内面表面に生じる親水性基である水酸基が通常より増加し、このことによってもポリビニルアルコールで構成される偏光子及び接着剤層との接着性が効果的に向上する。
【００１１】
上記基材層の内面の十点平均粗さ（Ｒｚ）としては２μｍ以上６０μｍ以下であるとよく、基材層の内面の算術平均粗さ（Ｒａ）に対する十点平均粗さ（Ｒｚ）の粗さ比（Ｒｚ／Ｒａ）としては１以上１５以下であるとよい。基材層の内面の十点平均粗さ（Ｒｚ）が上記範囲であることにより、更に内面の表面積が拡大し、接着性が向上する。また、基材層内面の微細な凹凸形状が、粗さ比（Ｒｚ／Ｒａ）が上記範囲となるように全体に一定の粗さを有しかつ略均一に形成されることで、基材層内面の表面積を増大させつつ凹凸のムラを低減することができる。従って当該偏光子保護フィルムによれば、偏光子との接着の均一性が高まるとともに、フィルム上の輝点が減少され、偏光子の保護フィルムとしての品質が向上される。
【００１２】
上記セルロースエステルが、セルロースアセテートプロピオネートであるとよい。セルロースアセテートプロピオネートは、溶融性、成形性に優れるため、基材層内面の凹凸形状を容易かつ経済的に形成することができる。また、セルロースアセテートプロピオネートはケン化処理が容易であり、ケン化によって基材層内面の親水性を容易かつ十分に発揮させることができる。
【００１３】
当該偏光子保護フィルムは、基材層の外面側に積層される反射防止層（例えば、アンチグレア層、反射防止層、低屈折率層と称されるものが含まれる）又はハードコート層を備えていてもよい。反射防止層を備えた偏光子保護フィルムが、液晶表示素子の表示面側に配設される場合には、偏光子の保護と共に反射防止機能を発揮することができる。また、偏光子保護フィルムが更にハードコート層を備えることによって、偏光子の保護機能を強化することが可能となる。
【００１４】
当該偏光子保護フィルムは、上記基材層の内面の反転形状を周囲に有するロール型と他のロールとのニップに溶融状態のセルロースエステルを通し、上記形状を転写する押出シート成形法により形成されているとよい。このような押出シート成形法による、いわゆるエンボス加工で基材層内面の凹凸形状を形成することによると、当該凹凸形状のサイズや具体的形状、及び基材層内面の表面粗さ等の設定及びその調整が容易かつ正確に行うことができる。また、押出シート成形法によってフィルム成形と基材層内面の凹凸形状成形を同時に行うことにより、成形されたフィルムを巻き取る際に、基材層内面の凹凸形状の存在により、フィルム間の密着性を減少させることができるため、長尺巻のフィルムを製造することができる。
【００１５】
ポリビニルアルコールを有する偏光子と、この偏光子の両面側に積層される一対の偏光子保護フィルムとを備える偏光板において、少なくとも一方の偏光子保護フィルムとして基材層内面に微細な凹凸形状を有する当該偏光子保護フィルムが用いられているとよい。このような偏光板においては、偏光子の少なくとも一方の面側に、ポリビニルアルコールに対する易接着形状が施された基材層を備えた当該偏光子保護フィルムを用いることによって、偏光子と当該偏光子保護フィルムとの接着性、接着の耐久性が高められ、ひいては偏光板の強度、取扱い性が向上する。
【００１６】
液晶セルと、この液晶セルの両面側に積層される一対の偏光板とを備える液晶表示素子において、少なくとも一方の偏光板として、基材層内面に微細な凹凸形状を有する偏光子保護フィルムを有する上記偏光板が用いられているとよい。このような液晶表示素子においては、偏光子と偏光子保護フィルムとの接着性、接着耐久性が高く、偏光板の強度、取扱い性が優れているため、液晶表示素子が有する諸特性が長期間に渡って安定的に発揮され、信頼性が向上する。
【００１７】
なお、本発明において「内面」とは、一対の偏光子保護フィルム間に偏光子を挟持してなる偏光板において、中心の偏光子側を意味し、「外面」とはその反対側を意味する。また、「外面側」等、ある「面側」とは、そのある面に直接積層される場合のみならず、他の層を介して積層される場合も含むことを意味する。また、「算術平均粗さ（Ｒａ）」及び「十点平均粗さ（Ｒｚ）」は、ＪＩＳ  Ｂ０６０１−１９９４に準じ、カットオフλｃ２．５ｍｍ、評価長さ１２．５ｍｍでの値である。
【発明の効果】
【００１８】
以上説明したように、本発明の偏光子保護フィルムによれば、内面にポリビニルアルコールからなる偏光子に対する易接着形状、即ち微細な凹凸形状が形成されているため、親水性樹脂であるポリビニルアルコールを有する偏光子との接着性が飛躍的に改善される。更には当該凹凸形状を有することにより、押出シート成形におけるフィルムの長尺化が可能となる。また、偏光板が当該偏光子保護フィルムを備えることによって、このような偏光板の強度、取扱い性が向上する。さらに、液晶表示素子が当該偏光板を備えることによって、所望の特性が長期間に渡って安定的に発揮される。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明の一実施形態に係る偏光子保護フィルムを示す模式的断面図である。
【図２】図１の偏光子保護フィルムを備える偏光板の模式的断面図である。
【図３】図２の偏光板を製造する装置を示す模式図である。
【図４】図２の偏光板を備えた液晶表示素子の模式的断面図である。
【図５】従来技術による一般的な液晶表示素子の構造を示す模式的断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
以下、適宜図面を参照しつつ、本発明の偏光子保護フィルム、偏光子保護フィルムを備えた偏光板及び偏光板を備えた液晶表示素子について詳説する。
【００２１】
図１の偏光子保護フィルム１は、透明な基材層２を備えている。
【００２２】
基材層２は、セルロースエステル製である。基材層２としては、特にセルロースの低級脂肪酸エステル製であることが好ましい。セルロースの低級脂肪酸エステルにおける低級脂肪酸とは、炭素原子数が６以下の脂肪酸を意味し、例えばセルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート等が挙げられ、特に、セルロースアセテートプロピオネートであることが好ましい。なお、後述するように、基材層２には、セルロースアセテートプロピオネート等セルロースエステルに加えて１又は複数の添加剤を加えてもよい。
【００２３】
基材層２は、セルロースエステル製であるため、ケン化処理により表面のエステル基が親水性基である水酸基に置換され、親水性樹脂であるポリビニルアルコールで構成された偏光子に容易に接着される。特に、セルロースアセテートプロピオネートによれば、ケン化処理が工業的手法で容易に行うことが可能であるとともに、後述する基材層２内面の微細な凹凸形状３を正確かつ経済的に形成することができる。また、セルロースアセテートプロピオネートは、溶融性に優れるため押出シート成形法で成形することができるため、ハロゲン化溶媒を不要とし、環境面及び省エネルギーの点からも優れている。
【００２４】
基材層２は、内面に形成された微細な凹凸形状３を有している。この微細な凹凸形状３による基材層２の内面の表面粗さとしては、Ｒａ（算術平均粗さ）の下限値が１μｍ、好ましくは２μｍ、さらに好ましくは３μｍであるとよく、Ｒａの上限値が１０μｍ、好ましくは８μｍ、さらに好ましくは６μｍ、より好ましくは４μｍ、特に好ましくは３μｍであるとよい。当該偏光子保護フィルム１は、基材層２の内面全面に上記サイズの微細な凹凸形状３を有していることにより、基材層２内面の表面積が格段に増大している。従って、当該偏光子保護フィルム１によれば、偏光子あるいは接着剤層と基材層２内面が接する面積が増大しているため、偏光子及び接着剤層との接着性が向上する。また、このように内面が格段に広い表面積を有するセルロースエステル製の基材層２をアルカリでケン化すると、内面表面に親水性基である水酸基が多数生じるため、このことによってもポリビニルアルコールで構成される偏光子及び接着剤層との接着性が効果的に向上する。なお基材層２内面の表面粗さが上記範囲未満であると、内面の表面積が十分に増大しないため接着性の向上が顕著には現れない。また、基材層２内面の表面粗さが上記範囲を超えると、透過する光線の面均一性が低下する。
【００２５】
また、基材層２の内面が上記凹凸形状３を有していることにより、当該基材層２あるいは偏光子保護フィルム１を成形し、ロールで巻き取った際に、フィルム間の密接な接触を当該凹凸形状３によって防止することができる。従って、当該偏光子保護フィルム１によれば、巻き取り後のブロッキングが防止されフィルムの長尺化が可能となる。
【００２６】
基材層２の内面の表面粗さとしては、十点平均粗さ（Ｒｚ）が、２μｍ以上６０μｍ以下、好ましくは２μｍ以上３０μｍ以下であるとよい。基材層２の内面の表面粗さが上記範囲であることにより、内面の表面積が更に拡大し、偏光子及び接着剤層との接着性が向上される。基材層２の内面の十点平均粗さ（Ｒｚ）が上記範囲を超えると、基材層２の厚さが極端に薄い箇所が形成されるため、基材層２の強度が低下する。基材層２の内面の十点平均粗さ（Ｒｚ）が上記範囲未満であると、十分に内面の表面積が増大せず、接着性の向上効果が現れない。
【００２７】
また、基材層２の内面の算術平均粗さ（Ｒａ）に対する十点平均粗さ（Ｒｚ）の粗さ比（Ｒｚ／Ｒａ）としては、１以上１５以下、好ましくは１．５以上１５以下、さらに好ましくは２以上１５以下であるとよい。一般的に偏光子保護フィルムは輝点が少ないものであることが好ましい。輝点とは、２枚の偏光板を直交に配置してこの間にセルロースエステルフィルムを配置し、一方の面からセルロースエステルフィルムを観察したときに、光源の光が漏れて見える点のことである。十点平均粗さ（Ｒｚ）は局所的な凹凸の大きさを表すパラメーターであり、粗さ比（Ｒｚ／Ｒａ）が大きいと局所的に大きい凹凸が多く存在することとなる。この局所的な凹凸が、フィルム上の輝点の一つとなる。従って、基材層２内面の微細な凹凸形状３が、粗さ比（Ｒｚ／Ｒａ）が上記範囲となるよう全体に略均一に形成されることで、内面の凹凸のムラを低減することができるため、輝点を減少させ偏光子の保護フィルムとしての品質が向上する。基材層２内面の粗さ比（Ｒｚ／Ｒａ）が上記範囲を超えると、偏光子と基材層２内面との間に凹凸形状３による微細な隙間が生じうることにより密着性が低下し、接着性が逆に低下することとなる。また、基材層２内面の粗さ比（Ｒｚ／Ｒａ）が上記範囲を超えると、基材層２の厚さが極端に薄い箇所が形成されるため、基材層２の強度が低下する。
【００２８】
基材層２の平均厚さとしては、好ましくは１０μｍ以上２００μｍ以下、さらに好ましくは２０μｍ以上１００μｍ以下である。基材層２の厚みを１０μｍ以上とすることによって、適度な強度及び剛性が得られ、安定かつ容易にフィルム製造を行うことが可能となり、一方、基材層２の厚みを２００μｍ以下とすることによって、製造時のライン速度、生産性、コントロール性等が高められる。
【００２９】
基材層２に用いるセルロースエステルは、セルロースを原料に、水酸基のアシル化によって製造される。本発明に用いられるセルロースエステルにおいて、セルロースの水酸基の置換度については特に限定されないが、セルロースの水酸基への脂肪酸の結合度を測定し、計算によって置換度を得ることができる。置換度の測定は、ＡＳＴＭのＤ−８１７−９１に規定される方法によってすることができる。
【００３０】
本発明に用いるセルロースアセテートプロピオネートとしては、下記式（Ａ）及び（Ｂ）を満たすことが好ましい。
２．０≦Ｘ＋Ｙ≦３．０（Ａ）
１．２≦Ｘ≦２．８（Ｂ）
【００３１】
式中、Ｘは水酸基に対するアセチル基の置換度を表し、Ｙはセルロースの水酸基に対するプロピオニル基の置換度を表す。「置換度」とは、セルロースの２位、３位及び６位のそれぞれの水酸基の水素原子が置換されている割合の合計を意味する。２位、３位及び６位の全ての水酸基がアシル基で置換された場合は置換度が３となる。
【００３２】
本発明で用いるセルロースアセテートプロピオネートは、下記式（Ａ’）及び（Ｂ’）を満たすことがより好ましく、下記式（Ａ’’）及び（Ｂ’’）を満たすことがさらに好ましい。
２．２≦Ｘ＋Ｙ≦２．９（Ａ’）
１．３≦Ｘ≦２．７（Ｂ’）
２．４≦Ｘ＋Ｙ≦２．８（Ａ’’）
１．４≦Ｘ≦２．６（Ｂ’’）
【００３３】
上記式を満たすセルロースアセテートプロピオネートは、アシル基の疎水性と水酸基の親水性を適度にバランスさせることにより、フィルム状への加工成形を容易にすることができる。これらは公知の方法で合成することができる。
【００３４】
本発明で用いられるセルロースエステルは、重量平均分子量Ｍｗ／数平均分子量Ｍｎ比が１．５〜５．５のものが好ましく用いられ、特に好ましくは２．０〜５．０であり、更に好ましくは２．５〜５．０であり、更に好ましくは３．０〜５．０のセルロースエステルが好ましく用いられる。
【００３５】
本発明で用いられるセルロースエステルの原料セルロースは、木材パルプでも綿花リンターでもよく、木材パルプは針葉樹でも広葉樹でもよいが、針葉樹の方がより好ましい。製膜の際の剥離性の点からは綿花リンターが好ましく用いられる。これらから作られたセルロースエステルは適宜混合して、或いは単独で使用することができる。
【００３６】
例えば、綿花リンター由来セルロースエステル：木材パルプ（針葉樹）由来セルロースエステル：木材パルプ（広葉樹）由来セルロースエステルの比率が１００：０：０、９０：１０：０、８５：１５：０、５０：５０：０、２０：８０：０、１０：９０：０、０：１００：０、０：０：１００、８０：１０：１０、８５：０：１５、４０：３０：３０で用いることが出来る。
【００３７】
また、本発明で用いられるセルロースエステルはフィルムにしたときの輝点が少ないものであることが好ましい。輝点はセルロースエステルに含まれる未反応のセルロースがその原因の１つと考えられ、溶融したセルロースエステルを濾過することによって除去し、低減することができる。又、フィルム膜厚が薄くなるほど単位面積当たりの輝点数は少なくなり、フィルムに含まれるセルロースエステルの含有量が少なくなるほど輝点は少なくなる傾向がある。
【００３８】
輝点は、直径０．０１ｍｍ以上のものが２００個／ｃｍ２以下であることが好ましく、１００個／ｃｍ２以下であることがより好ましく、５０個／ｃｍ２以下であることがさらに好ましく、３０個／ｃｍ２以下であることがさらに好ましく、１０個／ｃｍ２以下であることがさらに好ましいく、皆無であることが最も好ましい。また、０．００５〜０．０１ｍｍ以下の輝点についても２００個／ｃｍ２以下であることが好ましく、１００個／ｃｍ２以下であることがより好ましく、５０個／ｃｍ２以下であることがさらに好ましく、３０個／ｃｍ２以下であることがさらに好ましく、１０個／ｃｍ２以下であることがさらに好ましく、皆無であることが最も好ましい。
【００３９】
輝点異物を濾過によって除去する場合、セルロースエステルを単独で溶融させたものを濾過するよりも可塑剤を添加混合した組成物を濾過することが輝点異物の除去効率が高く好ましい。紫外線吸収剤、その他の添加物も適宜混合したものを濾過することができる。濾過はセルロースエステルを含む溶融物の粘度が１００００Ｐ以下で濾過されるこが好ましく、更に好ましくは５０００Ｐ以下が好ましく、１０００Ｐ以下であることが更に好ましく、５００Ｐ以下であることが更に好ましい。濾材としては、ガラス繊維、セルロース繊維、濾紙、四フッ化エチレン樹脂などのフッ素樹脂等の従来公知のものが好ましく用いられるが、特にセラミックス、金属等が好ましく用いられる。絶対濾過精度としては５０μｍ以下のものが好ましく用いられ、３０μｍ以下のものが更に好ましく、１０μｍ以下のものが更に好ましく、５μｍ以下のものが更に好ましく用いられる。これらは適宜組み合わせて使用することもできる。濾材はサーフェースタイプでもデプスタイプでも用いることができるが、デプスタイプの方が比較的目詰まりしにくく好ましく用いられる。
【００４０】
原料のセルロースエステルは少なくとも一度溶媒に溶解させた後、溶媒を乾燥させたセルロースエステルを用いることが好ましい。さらには可塑剤、紫外線吸収剤及びマット剤の少なくとも１つ以上と共に溶媒に溶解させた後、乾燥させたセルロースエステルが好ましい。さらには、溶解の過程で−２０℃以下に冷却したものであることがより好ましい。このようなセルロースエステルを添加することで溶融状態にしたときの各添加物の均一分散性が高まり、光学特性を均一にするためにも優れている。特に、このようなセルロースエステルを全セルロースエステルの１質量％以上、より好ましくは５質量％以上、さらに好ましくは１０質量％以上、さらに好ましくは３０質量％以上、さらに好ましくは５０質量％以上添加することが好ましく、最も好ましくは全てのセルロースエステル原料が一度溶媒で溶解されたものであることが望ましい。
【００４１】
本発明の偏光子保護フィルム１はセルロースエステル以外の高分子成分を適宜混合したものでもよい。混合される高分子成分はセルロースエステルと相溶性に優れるものが好ましく、フィルムにしたときの透過率が８０％以上、より好ましくは９０％以上、さらに好ましくは９２％以上であることが好ましい。
【００４２】
本発明で用いられるセルロースエステルは、一種以上の添加剤を含有していてもよい。添加剤はあらかじめセルロースエステルと混合しておいてもよいし、溶融押出法において押出機の途中で練り込んでもよい。均一に添加するためにスタチックミキサーなどの混合装置を用いることが好ましい。添加剤としては、可塑剤、酸化防止剤、酸捕捉剤、光安定剤、過酸化物分解剤、ラジカル捕捉剤、金属不活性化剤、紫外線吸収剤、マット剤、染料などが挙げられる。また、上記機能を有するものであれば、これに分類されない添加剤も用いられる。
【００４３】
基材層２を構成するセルロースエステルには、可塑剤を含有することが好ましい。基材層２に可塑剤として知られる化合物を添加することは、機械的性質向上、柔軟性付与、耐吸水性付与、水分透過率の低減等のフィルムの改質の観点において好ましい。また、溶融押出法で基材層２を成形する場合においては、用いるセルロースエステル単独のガラス転移温度よりも、可塑剤の添加によりフィルム構成材料の溶融温度を低下させる目的、または同じ加熱温度においてセルロースエステルよりも可塑剤を含むフィルム構成材料の粘度が低下できる目的を含んでいる。ここで、本発明において、フィルム構成材料の溶融温度とは、当該材料が加熱され流動性が発現された状態において、材料が加熱された温度を意味する。
【００４４】
セルロースエステル単独では、ガラス転移温度よりも低いとフィルム化するための流動性は発現されない。しかしながらセルロースエステルは、ガラス転移温度以上において、熱量の吸収により弾性率或いは粘度が低下し、流動性が発現される。フィルム構成材料を溶融させるためには、添加する可塑剤がセルロースエステルのガラス転移温度よりも低い融点またはガラス転移温度をもつことが上記目的を満たすために好ましい。
【００４５】
可塑剤としては、例えばトリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジルフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェート、トリナフチルホスフェート、トリキシリルオスフェート、トリスオルト−ビフェニルホスフェート等のリン酸エステル系の可塑剤、ジエチルフタレート、ジメトキシエチルフタレート、ジメチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ−２−エチルヘキシルフタレート等のフタル酸エステル系の可塑剤、トリアセチン、トリブチリン、ブチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート等のグリコール酸エステル系の可塑剤などが挙げられる。中でも、フタル酸エステル系やグリコール酸エステル系の可塑剤は、セルロースエステルの加水分解を引き起こし難いことから好ましい。又、凝固点が２０℃以下の可塑剤が含まれることが好ましい。このような可塑剤としては、例えばトリクレジルホスフェート、クレジルフェニルホスフェート、トリブチルホスフェート、ジエチルフタレート、ジメチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ−２−エチルヘキシルフタレート、エチルフタリルエチルグリコレートなどが挙げられる。
【００４６】
また、特に可塑剤の中でも不揮発性を有するものが好ましく使用される。不揮発性可塑剤とは、２００℃における蒸気圧が１０ｍｍＨｇ以下の化合物であり、極めて低い蒸気圧を有し、かつ低い揮発度を有する性質のものである。好ましくは５ｍｍＨｇ以下、更に好ましくは１ｍｍＨｇ以下である。具体的には不揮発性燐酸エステルが挙げられ、例えばアリーレンビス（ジアリールホスフェート）エステルが好ましい。
【００４７】
以上の可塑剤の含有量としては、寸法安定性の観点から、セルロースエステルに対して０．１〜３０質量％が好ましく、特に０．５〜１５質量％が好ましい。
【００４８】
なお、含有する可塑剤の凝固点としては、２０℃以下、特に１４℃以下の可塑剤が多い方が好ましい。凝固点が低い可塑剤によって、セルロースエステルフィルムの柔軟性を向上させ、フィルムの加工性が向上される。
【００４９】
基材層２を構成するセルロースエステルには、酸化防止剤が含有されるのが好ましい。酸化防止剤としては、例えば、フェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤、耐熱加工安定剤、酸素スカベンジャー等が挙げられ、これらの中でもフェノール系酸化防止剤、特にアルキル置換フェノール系酸化防止剤が好ましい。これらの酸化防止剤を配合することにより、透明性、耐熱性等を低下させることなく、成形時の熱や酸化劣化等による成形体の着色や強度低下を防止出来る。これらの酸化防止剤は、それぞれ単独で、或いは２種以上を組み合わせて用いることが出来、その配合量は、本発明の目的を損なわない範囲で適宜選択されるが、本発明に係る重合体１００質量部に対して好ましくは０．００１〜５質量部、より好ましくは０．００５〜１質量部である。
【００５０】
基材層２を構成するセルロースエステルには、酸捕捉剤を加えてもよい。酸捕捉剤としては、酸捕捉剤としてのエポキシ化合物を含んでなるのが好ましい。このような酸捕捉剤としてのエポキシ化合物は当該技術分野において既知であり、種々のポリグリコールのジグリシジルエーテル、特にポリグリコール１モル当たりに約８〜４０モルのエチレンオキシドなどの縮合によって誘導されるポリグリコール、グリセロールのジグリシジルエーテルなど、金属エポキシ化合物（例えば、塩化ビニルポリマー組成物において、及び塩化ビニルポリマー組成物と共に、従来から利用されているもの）、エポキシ化エーテル縮合生成物、ビスフェノールＡ（即ち、４，４’−ジヒドロキシジフェニルジメチルメタン）のジグリシジルエーテル、エポキシ化不飽和脂肪酸エステル、及び種々のエポキシ化長鎖脂肪酸トリグリセリドなど（例えば、エポキシ化大豆油などの組成物によって代表されるエポキシ化植物油及び他の不飽和天然油）が含まれる。
【００５１】
基材層２を構成するセルロースエステルには、紫外線吸収剤が含有されるとよい。紫外線吸収剤としては、偏光子や表示装置の紫外線に対する劣化防止の観点から、波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れており、かつ液晶表示性の観点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ないものが好ましい。例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物等を挙げることが出来るが、ベンゾフェノン系化合物や着色の少ないベンゾトリアゾール系化合物が好ましい。
【００５２】
ベンゾトリアゾール系化合物の具体例として、２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−（３″，４″，５″，６″−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２，２−メチレンビス（４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール）、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（直鎖及び側鎖ドデシル）−４−メチルフェノール、オクチル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネートと２−エチルヘキシル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネートの混合物等を挙げることが出来るが、これらに限定されない。
【００５３】
また、市販品として、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）１０９、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）１７１、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）３６０（いずれもチバ−スペシャルティ−ケミカルズ社製）を用いることも出来る。
【００５４】
ベンゾフェノン系化合物の具体例として、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホベンゾフェノン、ビス（２−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−ベンゾイルフェニルメタン）等を挙げることが出来るが、これらに限定されるものではない。
【００５５】
紫外線吸収剤は、セルロースエステルに対して０．１〜２０質量％添加することが好ましく、０．５〜１０質量％添加することが更に好ましく、１〜５質量％添加することが特に好ましい。これらは２種以上を併用してもよい。
【００５６】
基材層２の製造方法は、特に限定されないが、例えば、セルロースエステルのフレーク原料及び可塑剤等の添加剤を公知の混合方法にて混合し、予め熱可塑性樹脂組成物としてから、基材層２を製造することができる。この熱可塑性樹脂組成物は、例えば、オムニミキサー等の混合機でプレブレンドした後、得られた混合物を押出混練することによって得られる。この場合、押出混練に用いる混練機は、特に限定されるものではなく、例えば、単軸押出機、二軸押出機等の押出機や加圧ニーダー等の従来公知の混練機を用いることができる。
【００５７】
基材層２のフィルム成形の方法としては、例えば、溶液キャスト法（溶液流延法）、溶融押出法、カレンダー法、圧縮成形法など公知の方法が挙げられる。これらの中でも、溶液キャスト法（溶液流延法）や溶融押出法が好ましく、溶融押出法が特に好ましい。溶融押出法は、溶媒を使用せずに成形するため、環境面及び省エネルギー面で優れた成形方法である。また、溶媒を使用せずに成形するため、製膜後のセルロースエステルフィルムに含まれる残留有機溶媒量は安定して０．１質量％未満であり、これにより安定したレタデーション値を持つセルロースフィルムの成形が可能である。
【００５８】
溶液キャスト法（溶液流延法）に用いられる溶媒としては、例えば、クロロホルム、ジクロロメタンなどの塩素系溶媒；トルエン、キシレン、ベンゼン、及びこれらの混合溶媒などの芳香族系溶媒；メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、２−ブタノールなどのアルコール系溶媒；メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジオキサン、シクロヘキサノン、テトラヒドロフラン、アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、酢酸エチル、ジエチルエーテル；などが挙げられる。これら溶媒は１種のみ用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。溶液キャスト法（溶液流延法）を行うための装置としては、例えば、ドラム式キャスティングマシン、バンド式キャスティングマシン、スピンコーターなどが挙げられる。
【００５９】
溶融押出法としては、基材層の内面の反転形状を周囲に有するロール型と他のロールとのニップに溶融状態のセルロースエステルを通し上記形状を転写する押出シート成形法、インフレーション法などが挙げられるが、内面への凹凸形状３の形成の容易性から押出シート成形法が好ましい。
【００６０】
押出シート成形法でフィルム成形する場合は、公知の単軸押出機や２軸押出機の先端部にＴダイを取付け、Ｔダイから溶融セルロースエステルをフィルム状に押出し、基材層２の内面の反転形状を周囲に有するロール型と他のロールとのニップに溶融状態のセルロースエステルを通し、上記形状を転写した後、成形されたフィルムを巻き取ることにより行われるとよい。
【００６１】
押出シート成形法における溶融温度としては、１７０℃〜２７０℃が好ましく、１７５℃〜２６５℃がさらに好ましく、１８０℃〜２６０℃が好ましい。さらには、Ｔダイ等から押し出された溶融樹脂の温度が、２３０℃〜２６０℃となるように溶融温度を調整することが好ましい。溶融温度を上記範囲とすることで、セルロース樹脂の劣化及び黄色味（ＹＩ値）の悪化を軽減することができる。
【００６２】
また、基材層２の内面の反転形状を周囲に有するロール型及び他のロールの表面温度としては、６０℃〜１５０℃が好ましく、７０℃〜１４０℃がさらに好ましく、８０℃〜１３５℃がさらに好ましい。両ロールの表面温度を上記範囲とすることで、成形性を向上させることができる。
【００６３】
このような押出シート成形法によれば、いわゆるエンボス加工により基材層２内面の凹凸形状３が成形されるため、凹凸形状３のサイズや形状及び基材層２内面の表面粗さ等の調整が容易かつ正確に行うことができる。また、押出シート成形法によりフィルム成形と基材層２の内面の凹凸形状３成形を同時に行うことにより、成形されたフィルムを巻き取る際に、基材層２の内面の凹凸形状３の存在により、フィルム間の密着性が減少される。従って、当該手段によれば、フィルム巻き取り後のブロッキングが防止され、長尺巻のフィルムを製造することができる。
【００６４】
なお、成形されたフィルムを巻き取る際、巻取ロールの温度を適宜調整して、押出方向に延伸を加えることによって、一軸延伸工程とすることもできる。また、押出方向と垂直な方向にフィルムを延伸する工程を加えることによって、逐次二軸延伸、同時二軸延伸などの工程を加えることもできる。
【００６５】
基材層２は、未延伸フィルムであってもよいし、延伸フィルムであってもよい。延伸する場合は、一軸延伸フィルムでもよいし、２軸延伸フィルムでもよい。２軸延伸フィルムとする場合は、同時２軸延伸したものでもよいし、逐次２軸延伸したものでもよい。２軸延伸した場合は、機械強度が向上しフィルム性能が向上する。
【００６６】
延伸工程を行う場合の延伸温度としては、フィルム原料であるセルロースエステルのガラス転移温度近辺で行うことが好ましく、具体的には（ガラス転移温度−３０）℃〜（ガラス転移温度＋１００）℃で行うことが好ましく、より好ましくは（ガラス転移温度−２０）℃〜（ガラス転移温度＋８０）℃である。延伸温度が（ガラス転移温度−３０）℃よりも低いと、十分な延伸倍率が得られないために好ましくない。延伸温度が（ガラス転移温度＋１００）℃よりも高いと、樹脂の流動（フロー）が起こり安定な延伸が行えなくなるために好ましくない。
【００６７】
面積比で定義される延伸倍率は、好ましくは１．１〜２５倍の範囲、より好ましくは１．３〜１０倍の範囲とすることができる。延伸倍率が１．１倍よりも小さいと、延伸に伴う靭性の向上につながらないために好ましくない。延伸倍率が２５倍よりも大きいと、延伸倍率を上げるだけの効果が認められず、又内面に形成された凹凸形状３の表面粗さが低下する。
【００６８】
延伸速度（一方向）としては、好ましくは１０〜２００００％／分の範囲、より好ましくは１００〜１００００％／分の範囲である。１０％／分よりも遅いと、十分な延伸倍率を得るために時間がかかり、製造コストが高くなるために好ましくない。２００００％／分よりも早いと、延伸フィルムの破断等が起こるおそれがあるために好ましくない。さらに、基材層２の光学等方性や力学特性を安定化させるため、延伸処理後に熱処理（アニーリング）などを行うこともできる。
【００６９】
エンボスロールの表面のロール型（基材層２内面の凹凸形状３の反転形状）の成形方法としては、例えば、エアブラスト、ウェットブラスト、サンドブラスト等のブラスト加工を施すことにより形成することもできる。このような方法によって、より簡便に凹凸形状３の反転形状であるロール型を形成することができる。上述した中でも、サンドブラストによって凹凸形状３の反転形状型を形成した場合、より均一に当該ロール型を形成することができる。このように形成されたロール型によれば、基材層２の内面に粗さ比（Ｒｚ／Ｒａ）の値が小さい凹凸形状３を形成することができる。なお、延伸フィルムの場合は、延伸倍率に応じて、ロール型の形状サイズが適宜調整される。
【００７０】
また、このようなブラスト加工は、複数回行うのが好ましい。当該手段により、より均一なロール型を形成することができる。このように形成されたロール型によれば、偏光子保護フィルム１の基材層２内面の粗さ比（Ｒｚ／Ｒａ）の値を更に下げることができる。また、ブラスト加工においてロール型に対して噴射される微粒子の平均粒径は、未延伸フィルムの場合は１０μｍ以下であるのが好ましく、１〜５μｍであるのがより好ましく、２〜３μｍであるのがさらに好ましい。
【００７１】
なお、当該偏光子保護フィルム１の製造方法としては、上記の方法以外にも例えば、
（ａ）凹凸形状３の反転形状を有するシート型にセルロースアセテートを積層し、そのシート型を剥がすことにより当該偏光子保護フィルム１を形成する方法、
（ｂ）凹凸形状３の反転形状を有する金型に溶融セルロースアセテートを注入する射出成形法、
（ｃ）シート化されたセルロースアセテートを再加熱して前記と同様の金型と金属板との間にはさんでプレスして形状を転写する方法
などがある。
【００７２】
偏光子保護フィルム１において、外面側（微細な凹凸形状３が形成されていない側）の基材層２の表面は、任意に、各種の機能層、例えば、アンチグレア層、反射防止層、防眩層、低屈折率層等の反射防止層、帯電防止層、ハードコート層（硬化樹脂層）、光学補償層などによって被覆されていてよい。例えば、偏光子保護フィルムが更に防眩層（反射防止層）を備えることによって、偏光子の外側に当該偏光子保護フィルム１を積層した際、偏光子に対する保護機能に加えて、防眩機能を発揮することができる。また、偏光子保護フィルムが更にハードコート層を備えることによって、偏光子に対する保護機能が強化される。
【００７３】
このような防眩層としては、例えば、エンボス加工法によりフィルム表面に凹凸形状を形成する技術や、バインダマトリックス形成材料中に粒子を混入させた塗液を膜表面に塗布し、バインダマトリックス中に粒子を分散させることにより凹凸形状を形成する技術を用いることができる。また、ハードコート層としては、例えば活性線硬化樹脂から形成されたものを用いることができる。このような活性線硬化樹脂の例としては、ウレタンアクリレート系樹脂、ポリエステルアクリレート系樹脂、エポキシアクリレート系樹脂、ポリオールアクリレート系樹脂、エポキシ樹脂などが挙げられる。
【００７４】
上述のように、本発明による偏光子保護フィルム１によれば、ポリビニルアルコールを有する偏光子との接着を容易化するように、内面側が微細な凹凸形状３を有する基材層２を備え、このセルロースエステルが後述するアルカリによるケン化処理を経て水酸基を生じることによって、偏光子を構成する親水性樹脂であるポリビニルアルコールとの接着性が効果的に向上する。
【００７５】
図２の偏光板４は、ポリビニルアルコールからなる偏光子５の両面側に、図１の偏光子保護フィルム１を備えた構造を有している。偏光子５と偏光子保護フィルム１とのそれぞれの間は、接着剤層６によって接合されている。
【００７６】
偏光子５は、ポリビニルアルコール樹脂フィルムを二色性物質（例えば、ヨウ素や二色性染料）で染色し一軸延伸したものが用いられる。このポリビニルアルコール樹脂フィルムを構成するポリビニルアルコールの重合度は、好ましくは１００以上５０００以下、より好ましくは１４００以上４０００以下である。ポリビニルアルコール樹脂フィルムは、公知の方法（例として、樹脂を水又は有機溶媒に溶解した溶液を流延成膜する流延法、キャスト法など）で成形することができる。偏光子５の厚みは、偏光板４が用いられるＬＣＤの目的や用途に応じて異なるが、典型的には５μｍ以上１００μｍ以下である。偏光子５は、偏光機能及び光学的透明性を阻害しない限りは、ポリビニルアルコール樹脂及び二色性物質以外の任意成分を含んでいてもよい。
【００７７】
偏光子５の代表的な製造方法としては、ポリビニルアルコール樹脂フィルムを、膨潤、染色、架橋、延伸、水洗及び乾燥工程からなる一連の製造工程が採用される。乾燥工程を除く各処理工程においては、それぞれの工程に用いられる溶液の浴中にポリビニルアルコール樹脂フィルムを浸漬することによって処理を行う。膨潤、染色、架橋、延伸、水洗及び乾燥の各処理の順序、回数及び実施の有無は、目的、使用材料および条件等に応じて適宜設定することができる。例えば、延伸処理は、染色処理の前に行ってもよく、膨潤処理等と同時に行ってもよい。また、架橋処理を延伸処理の前後に行うことは好ましい。
【００７８】
偏光子５の一連の製造工程における膨潤工程は、ポリビニルアルコール樹脂フィルムを水で満たした処理浴中に浸漬することにより行うことができる。この処理浴には、グリセリンやヨウ化カリウム等が適宜添加され得る。典型的には、膨潤工程の処理浴の温度は２０〜６０℃程度であり、処理浴への浸漬時間は０．１〜１０分程度である。染色工程は、ポリビニルアルコール樹脂フィルムを、ヨウ素等の二色性物質を含む処理浴中に浸漬することにより行うことができる。この処理浴の溶液に用いられる溶媒としては、一般的に水が用いられる。二色性物質は、溶媒１００質量部に対して０．１〜１．０質量部の割合で用いられる。典型的には、染色工程の処理浴の温度は２０〜７０℃程度であり、浸漬時間は１〜２０分程度である。
【００７９】
架橋工程は、染色処理されたポリビニルアルコール系樹脂フィルムを、架橋剤を含む処理浴中に浸漬することにより行うことができる。架橋剤の例としては、ホウ酸等のホウ素化合物、グリオキザール、グルタルアルデヒドなどが挙げられる。この処理浴の溶液に用いられる溶媒としては、一般的に水が用いられる。典型的には、架橋工程の処理浴の温度は２０〜７０℃程度、浸漬時間は１秒〜１５分程度である。延伸工程は、いずれの段階で行ってもよい。ポリビニルアルコール樹脂フィルムの延伸倍率は５倍以上にすることが好ましい。延伸方法としては、例えば湿式延伸法を採用することができる。この場合の処理浴の溶液としては、水又は有機溶媒中に、各種金属塩、ヨウ素、ホウ素又は亜鉛の化合物を添加した溶液が好ましい。
【００８０】
水洗工程は、各種処理を施されたポリビニルアルコール樹脂フィルムを、水洗浴中に浸漬することにより行うことができる。この水洗工程により、ポリビニルアルコール樹脂フィルムの不必要な残存物を洗い流すことができる。水洗浴は、純水であってもよく、ヨウ化物（ヨウ化カリウム、ヨウ化ナトリウムなど）の水溶液であってもよい。水洗浴の温度は好ましくは１０〜６０℃である。典型的には、浸漬時間は１秒〜１分である。水洗を行う回数は、１回だけでも複数回でもよい。乾燥工程としては、例えば、自然乾燥、送風乾燥、加熱乾燥を採用することができる。典型的には、乾燥温度は２０〜８０℃であり、乾燥時間は１〜１０分である。上記の各工程を行うことによって、偏光子５を製造することができる。
【００８１】
偏光子保護フィルム１は、偏光子５との接着を行う前に、少なくとも基材層２の内面側（凹凸形状３が形成されている側）３をアルカリによってケン化することが好ましい。このケン化によってセルロースエステルのエステル基が親水性基である水酸基に置換され、これによって、偏光子保護フィルム１と、親水性樹脂であるポリビニルアルコールで形成された偏光子５との化学的な親和性が高められ、相互の接着性が格段に向上する。
【００８２】
ケン化処理のために用いられるアルカリ水溶液として、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化リチウムの水溶液などを用いることができる。これらの金属水酸化物の濃度は、一般的に５質量％以上４０質量％以下とされる。また、ケン化処理の温度は、１０℃以上８０℃以下であることが好ましい。金属水酸化物の濃度が５質量％以下の場合やケン化処理の温度が１０℃以下の場合は、ケン化処理に要する時間が長くなるため好ましくない。ケン化処理は、上記のようなアルカリ水溶液浴に適当な時間にわたって偏光子保護フィルム１を浸積させることによって行われる。
【００８３】
偏光子保護フィルム１の基材層２と偏光子５とを貼り合わせる接着剤層６に使用される接着剤としては、例えばポリビニルアルコール、ポリビニルブチラールなどのポリビニルアルコール系接着剤や、ブチルアクリレートなどビニル系ラテックス等が挙げられる。通常、これらの接着剤は水溶液として用いられる。接着剤の樹脂溶液中の固形分濃度としては、塗工性や放置安定性等を考慮すれば、好ましくは０．１〜１５質量％である。また、接着剤の樹脂溶液の粘度としては、例えば１〜５０ｍＰａ・ｓの範囲が好ましい。
【００８４】
ケン化処理された偏光子保護フィルム１と、ポリビニルアルコールを有する偏光子５とは、図３に模式的に示される偏光板製造装置７によって貼合される。図３に示された複数の膜を貼合するための偏光板製造装置７は、偏光子５がロール状に巻かれている偏光子のロール８、偏光子保護フィルム１がロール状に巻かれている偏光子保護フィルムのロール９、接着剤供給手段１０、及び偏光子５と偏光子保護フィルム１とを接着剤を介して押圧・接合するためのロール１１を備えている。
【００８５】
偏光板製造装置７において、ロール８から供給されるフィルム状の偏光子５と、ロール９から供給されるケン化処理済みの偏光子保護フィルム１とがロール１１へ向かう方向に送出され、これらのフィルム間に挟み込まれるように適量の接着剤が供給され、次いでロール１１で押圧することによって、偏光子５と偏光子保護フィルム１が貼合されて、偏光子５の片面に偏光子保護フィルム１が積層された構造体が得られる。次いで、偏光子保護フィルム１が積層されていない方の偏光子５の面にも、同様の手段を用いて、偏光子保護フィルム１を積層することによって、偏光板４が得られる。偏光板４の厚みは、典型的には１０μｍ以上１００μｍ以下である。
【００８６】
上述のように、本発明による偏光子保護フィルム１を有する偏光板４によれば、ポリビニルアルコールからなる偏光子の両側に配置された偏光子保護フィルム１の内面に微細な凹凸形状３が施されていることから、ポリビニルアルコールからなる偏光子５及び接着剤層６と偏光子保護フィルム１との接着性及び剥離耐久性が高められ、それによって偏光板４の強度や取扱い性が改善される。
【００８７】
図４の液晶表示素子１２は、液晶層１５が透明媒体層１４（例えばガラス）で挟持された液晶セル１３の両面に対して、接着剤層１６を介し、本発明による図２の偏光板４（偏光子保護フィルム１、偏光子５及び接着剤層６からなる）を貼り合わせることによって構成されている。液晶セル１３の液晶層１５及び透明媒体層１４並びに接着剤層１６を構成する材料は、特に限定されず公知のものを用いることができる。なお、液晶表示素子において、液晶セルの一方の面側に図２の偏光板４（本発明による偏光板）を用い、液晶セルの他方の面側に従来技術による他の偏光板を用いてもよい。
【００８８】
本発明による偏光子保護フィルム１が配置された偏光板４を備えた液晶表示素子１２によれば、偏光子保護フィルム１が微細な凹凸形状３が設けられた易接着形状に成形がされているため、偏光子５及び接着剤層６と偏光子保護フィルム１との接着性、剥離に対する耐久性が高く、かつ偏光板４の強度、取扱い性が優れている。従って、液晶表示素子１２が有する諸特性が長期間に渡って継続的かつ安定して発揮されることになり、機器全体への信頼性が高くなる。
【００８９】
なお、本発明の偏光子保護フィルム、偏光板及び液晶表示素子は、上記実施形態に限定されるものではなく、例えば、偏光板において片面側に積層される偏光子保護フィルムは既存のものを用いてもよい。強度な接着性を要しない面側に既存の偏光子保護フィルムを用いることによって製造コストを削減することができる。
【実施例】
【００９０】
以下、実施例に基づき本発明を詳述するが、この実施例の記載に基づいて本発明が限定的に解釈されるものではない。
【００９１】
なお、本実施例において「算術平均粗さ（Ｒａ）」及び「十点平均粗さ（Ｒｚ）」は、ＪＩＳ  Ｂ０６０１−１９９４に準じ、カットオフλｃ２．５ｍｍ、評価長さ１２．５ｍｍとし、株式会社東京精密製の触針式表面粗さ測定器「サーフコム４７０Ａ」を用いて測定した。
【００９２】
［実施例１］
［基材層用の樹脂組成物の調製］
セルロースエステルとして、セルロースアセテートプロピオネート（イーストマンケミカル社製のＣＡＰ４８２−２０）１００質量部、可塑剤として、トリフェニルフォスフェート（大八化学工業社製）１０質量部、及びエチルフタリルエチルグリコレート（大八化学工業社製）２質量部、酸化防止剤として、ＩＲＧＡＮＯＸ−１０１０（ＢＡＳＦジャパン社製）０．０１質量部、紫外線吸収剤として、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）１０９（ＢＡＳＦジャパン社製）０．５質量部、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）１７１（ＢＡＳＦジャパン社製）０．５質量部、及びチヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）３６０（ＢＡＳＦジャパン社製）０．３質量部を２軸混練押出機を用いて２００ ℃ で溶融混合した後、ヌードル状に押出したものを水中で固化し裁断することで樹脂組成物のペレットを得た。
【００９３】
［偏光子保護フィルムの形成］
上記ペレットを押出機に供給し、２５０℃で加熱溶融した。続いて、溶融した樹脂を押出機からシート状に押し出して、微細凹凸形状を有するロール型と他のロールとのニップに通し、微細凹凸形状を転写したのち、移送ロールで移送しつつ冷却固化することにより実施例１の偏光子保護フィルムを得た。なお、押出機から押し出された溶融樹脂の温度は２４０℃であった。また、微細凹凸形状を有するロール型及び他のロールの表面温度は１００℃に調整した。得られた偏光子保護フィルムの内面のＲａは１．０μｍ、Ｒｚは２．０μｍ、平均厚さは８０μｍであった。
【００９４】
［実施例２〜５、比較例１及び２］
微細凹凸形状を有するロール型と他のロールとの間隔をそれぞれ変更したこと以外は、実施例１と同様にして、内面のＲａ及びＲｚがそれぞれ異なる実施例２〜５並びに比較例１及び２の偏光子保護フィルムを得た。これらの偏光子保護フィルムの平均厚さはいずれも８０μｍであった。得られた各偏光子保護フィルムの内面のＲａ及びＲｚの値を表１に示す。
【００９５】
［特性評価］
上記にて得られた各偏光子保護フィルムに対して、以下の方法により接着性及び剥離耐久性に対する特性評価を行った。
【００９６】
［偏光子保護フィルムのケン化］
上記の各偏光子保護フィルムを６０℃、２ｍｏｌ／Ｌ（約８質量％）水酸化ナトリウム水溶液に３分間浸漬することでケン化した。この後、４分間水洗し、３０℃の０．０１ｍｏｌ／Ｌ硝酸水溶液に４分間浸漬することで中和し、その後４分間水洗した。水洗の後９０℃で３分間乾燥し、さらに自然乾燥を１時間行うことで、ケン化済み偏光子保護フィルムとした。  
【００９７】
［偏光子の形成］
膜厚２００μｍのポリビニルアルコールフィルムを、一軸延伸（温度１１０℃、延伸倍率５倍）して、膜厚４０μｍのフィルムを得た。このフィルムを、ヨウ素０．１５ｇ及びヨウ化カリウム１０ｇを含む水溶液１００ｇに６０秒間浸漬し、次いでヨウ化カリウム１２ｇ及びホウ酸７．５ｇを含む６８℃の水溶液に浸漬した。これを水洗、乾燥し、偏光子を得た。
【００９８】
［積層体の作成］
上記ケン化済み偏光子保護フィルム及び偏光子を１８ｃｍ×５ｃｍのサイズに裁断し、固形分濃度が２質量％のポリビニルアルコール水溶液である接着剤を介してこれらを重ね合わせ、ハンドローラーを用いて過剰の接着剤や気泡を取り除きながら貼り合わせた。これを２ｋｇ／ｃｍ２に加圧したラミネーターで加工紙し、さらに８０℃で乾燥させることによって偏光子保護フィルムと偏光子との積層体を得た。この貼合においては、ケン化済み偏光子保護フィルムの内面（微細凹凸形状を付した面）と上記偏光子とが接着されるようにした。  
【００９９】
（１）接着性
積層体の二つの層（偏光子保護フィルム及び偏光子）を手で剥離し、材料破壊の発生の程度により、下記の三段階で評価した。評価結果を表１に示す。
良好（Ａ）：フィルムと偏光子の間の剥がれが生じることなく、材料破壊が起こる。
やや不良（Ｂ）：一部材料破壊が起こるが、フィルムと偏光子の間の剥がれが生じる。
不良（Ｃ）：フィルムと偏光子との間が完全に剥がれる。
【０１００】
（２）剥離耐久性
積層体を、７５℃ｄ、９０％ＲＨの条件下に５００時間放置し、端部からの剥離の幅を測定した。評価基準は以下のとおりした。評価結果を表１に示す。
良好（Ａ）：０．５ｍｍ未満
やや不良（Ｂ）：０．５ｍｍ以上１．５ｍｍ未満
不良（Ｃ）：１．５ｍｍ以上
【０１０１】
【表１】
2010286827.tif 000003
【０１０２】
表１の結果から、実施例１〜５の偏光板は接着性が良好であり、また、厳しい条件下での剥離耐久性も優れていることが分かった。なお、比較例１の偏光子保護フィルムは、製膜時、アルカリ処理時、偏光板作成時において、移送ロール等との密着が生じ、フィルム両端部へのナーリング処理等を施さないと、作業が困難なものであった。
【０１０３】
このように、本発明の偏光子外面用の保護フィルムは、一方の表面が特定の微細な凹凸形状を有する基材層を備えていることによって、そのような形状を有さない基材層からなるフィルムと比較して、ポリビニルアルコールに対する接着力及び剥離耐久性が格段に改善されている。
【産業上の利用可能性】
【０１０４】
本発明による偏光子保護フィルムを備えた偏光板を用いた液晶表示素子は、偏光子保護フィルムと偏光子の間の接着が確実に行われているため、液晶表示素子及びこれを備えた電子機器全体の信頼性が高まる。そのため、このような液晶表示素子は、電卓や時計などの小型品から、自動車用計器、ＰＣモニタ、テレビといった大型品に至るまで様々な分野で用いることが可能である。
【符号の説明】
【０１０５】
１  偏光子保護フィルム
２  基材層
３  凹凸形状
４  偏光板
５  偏光子
６  接着剤層
７  偏光板製造装置
８  ロール
９  ロール
１０  接着剤供給手段
１１  ロール
１２  液晶表示装置
１３  液晶セル
１４  透明媒体層
１５  液晶層
１６  接着剤層
２１  液晶表示素子
２２  偏光板
２３  偏光子保護フィルム
２４  偏光子
２５  液晶セル
２６  透明媒体層
２７  液晶層
２８  接着剤層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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