(57)【要約】【課題】加熱室および機械室の状態を判断することで、各状態に合わせた判定条件によって最適な加熱パターン・加熱時間を決定しホットサインによる自動調理の禁止時間を減らして使いやすい高周波加熱装置を提供する。【解決手段】記憶手段により、直前に実施した加熱調理を呼び出し、加熱パターンを判定し、加熱室および機械室が高温になる加熱パターンの場合、第１の温度検出手段により検出された所定の検出点の温度と、第２の温度検出手段により検出した温度によって、直前の加熱後の放置状態を判断し、第３の温度検出手段により検出した温度が所定の温度以上である場合は、蒸気発生装置を動作させ、短時間経過したと判断し、所定温度より低い場合は、蒸気発生装置が動作していないか、蒸気発生装置が動作してから長時間経過したと判断して、直前の加熱パターンと加熱後放置中の状態、経過時間を判断・分類し、最適な加熱パターン・加熱時間を決定する。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
被加熱物を収納する加熱室と、前記被加熱物を加熱する高周波加熱手段と蒸気発生手段、加熱パターンおよび加熱時間を制御する制御手段と、実施した加熱パターンを蓄積する記憶手段と、前記加熱室に収納した被加熱物の表面温度を検出する第１の温度検出手段と、前記加熱室内の温度を検出する第２の温度検出手段と前期蒸気発生手段を制御するための第３の温度検出手段と前記温度検出手段および制御手段などが設置されている機械室を備え、前記記憶手段により、直前に実施した加熱調理を呼び出し、加熱パターンを判定し、加熱室および機械室が高温になる加熱パターンの場合、前記第１の温度検出手段により検出された所定の検出点の温度と、前記第２の温度検出手段により検出した温度によって、直前の加熱後の放置状態を判断し、前記第３の温度検出手段により検出した温度が所定の温度以上である場合は、蒸気発生装置を動作し、短時間経過したと判断し、所定の温度より低い場合は、蒸気発生装置が動作していないか、蒸気発生装置が動作してから長時間経過したと判断することにより、直前の加熱パターンと加熱後放置中の状態、経過時間を判断・分類し、加熱パターン・加熱時間を決定することを特徴とした高周波加熱装置。
【請求項２】
被加熱物の重量を検出する重量検出手段をさらに備え、被加熱物重量を考慮して加熱パターン・加熱時間を決定することを特徴とした請求項１に記載の高周波加熱装置。
【請求項３】
時間測定機能をさらに備え、記憶媒体に経過時間を記憶し、経過時間を考慮して加熱パターンおよび加熱時間を決定することを特徴とした請求項１に記載の高周波加熱装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はオーブンおよびスチーム機能を備えた高周波加熱装置の自動キー制御に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、この種の加熱装置は繰り返し加熱を行って、加熱室および機械室が高温になっている場合、温度検出手段の状態が常温の場合と異なり、誤動作する可能性があるため、高温状態を表示装置で表示（以下、ホットサインと呼ぶ）しておき、加熱室および機械室が冷却されるまでのある一定期間自動調理が出来ないような構造になっている（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
図４は、特許文献１に記載された従来の加熱装置の制御内容を示すものである。図４に示すように、例えば「スチームあたため」などの自動キーを選択する（Ｓ１０１）。直前の調理がオーブンまたはグリル機能の場合（Ｓ１０２）、１５分間（Ｓ１０３）はホットサインを表示し、スタートキーを受け付けない（Ｓ１０４）。
【０００４】
また、１５分経過後も第２の温度検出手段で検出した温度が所定の温度以上の場合（Ｓ１０５）、ホットサインを表示しスタートキーを受け付けない（Ｓ１０６）。このようにすることで、常温の場合のみ自動調理が動作する。
【特許文献１】特開平３−８７５１９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、従来の高周波加熱装置では、以下の課題を有していた。例えば、ユーザーが高周波加熱とスチーム機能を組み合わせた加熱を行う場合、自動キーまたは手動キーを使用することができる。
【０００６】
手動キーの場合、スチーム機能によって乾燥を防ぐことができることは予想できても、最適な加熱時間を判断するのは容易ではない。この種の加熱装置に付属される取り扱い説明書には、手動で加熱する場合の目安時間が記載されているが、所定分量の目安時間であるため、重量を測定するなどして所定分量と異なる場合はユーザーの判断で時間設定する必要がある。
【０００７】
自動キーの場合、センサ情報によって初期温度や分量など被加熱物の状態を判断して最適な加熱パターンおよび加熱時間が設定されるため、ユーザーは特別な知識を持たなくても、最適な加熱を実現することができる。しかし、前記従来の構成では、加熱室および機械室が冷却されるまでは長時間にわたり自動キーが使用できないという不便さが生じる。
【０００８】
本発明は、前記従来の課題を解決するもので、加熱室および機械室の状態を判断することで、各状態に合わせた判定条件によって最適な加熱パターンおよび加熱時間を決定しホットサインによる自動調理の禁止時間を減らして使いやすい高周波加熱装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
前記従来の課題を解決するために、本発明の高周波加熱装置は、前記記憶手段により、直前に実施した加熱調理を呼び出し、加熱パターンを判定し、加熱室および機械室が高温になる加熱パターンの場合、前記第１の温度検出手段により検出された所定の検出点の温
度と、前記第２の温度検出手段により検出した温度によって、直前の加熱後の放置状態を判断し、前記第３の温度検出手段により検出した温度が所定の温度以上である場合は、蒸気発生装置を動作し、短時間経過したと判断し、所定の温度より低い場合は、蒸気発生装置が動作していないか、蒸気発生装置が動作してから長時間経過したと判断することにより、直前の加熱パターンと加熱後放置中の状態、経過時間を判断・分類するようにした。
【００１０】
これによって、加熱室および機械室の状態を判断することで、各状態に合わせた判定条件によって最適な加熱パターンおよび加熱時間を決定することができる。また、本発明の高周波加熱装置は、被加熱物の重量を検出する重量検出手段を備えることで被加熱物の重量によって最適な加熱パターンおよび加熱時間を決定することができる。
【発明の効果】
【００１１】
本発明の高周波加熱装置は、直前の加熱パターンと加熱後放置中の状態および加熱後の経過時間を判断することで、自動キーを受け付けて最適な加熱パターンおよび加熱時間で加熱することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
第１の発明は前記記憶手段により、直前に実施した加熱調理を呼び出し、加熱パターンを判定し、加熱室および機械室が高温になる加熱パターンの場合、前記第１の温度検出手段により検出された所定の検出点の温度と、前記第２の温度検出手段により検出した温度によって、直前の加熱後の放置状態を判断し、前記第３の温度検出手段により検出した温度が所定の温度以上である場合は、蒸気発生装置を動作し、短時間経過したと判断し、所定の温度より低い場合は、蒸気発生装置が動作していないか、蒸気発生装置が動作してから長時間経過したと判断することにより、直前の加熱パターンと加熱後放置中の状態、経過時間を判断・分類することにより、加熱室および機械室の状態を判断することで、各状態に合わせた判定条件によって最適な加熱パターンおよび加熱時間を決定することができる。
【００１３】
第２の発明は、第１の発明において、被加熱物の重量を検出する重量検出手段をさらに備え、被加熱物重量を考慮してより最適な加熱パターン・加熱時間を決定することができる。
【００１４】
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照しながら説明する。なお、この実施の形態によって本発明が限定されるものではない。
【００１５】
図１は、本発明の実施の形態における高周波加熱装置の外観構成図を示すものである。
【００１６】
図１において、食品等の被加熱物１０は加熱室１内に載置される。高周波電磁波を発生するマグネトロン７は導波管１２を介して加熱室１に結合し、給電される構成となっている。マグネトロン７は制御手段５に接続するインバータ６によって出力の変更を行う。
【００１７】
機械室１３の上部には温度検出手段である赤外線センサ３ａが設けられている。赤外線センサ３ａは８個の検出素子を有し、各検出素子は壁面に設けられた孔を介して加熱室１内の表面の赤外線量あるいは被加熱物１０が載置された状態では被加熱物１０の表面の赤外線量を検出し、検出した信号は制御手段５に入力させている。赤外線センサ３ａは駆動手段３ｂとを組み合わせた構成とし、一定速度でスイング駆動しながら、少なくとも皿受け台１１全面の赤外線量を検出できる構成としたものである。
【００１８】
加熱室１の奥底の外側には蒸気発生手段９が設けられ、蒸気発生手段９に接してスチームサーミスタ８が設けられている。また、加熱室１の上部には温度検出手段であるサーミ
スタ２が設けられている。これらサーミスタにより検出した信号はそれぞれ制御手段５に入力させている。上壁面の加熱室１の外側には輻射加熱用のヒータ（図示せず）、奥壁面の加熱室１の外側には対流加熱用のヒータ（図示せず）を設けている。
【００１９】
また、操作部には、自動加熱制御をする「あたため」キーや「スチームあたため」キー、使用者の意図に基づいて加熱を実行する「加熱パターン選択部」や「加熱時間入力部」「加熱温度入力部」、加熱中の被加熱物温度や調理残り時間を表示する表示部、加熱開始を入力する「スタート」キー、および入力条件をクリアしたり加熱を中断する場合に使用する「取消」キーなどを備えている。
【００２０】
以上のように構成された高周波加熱装置の操作手順と制御内容について、図２，３を用いて説明する。
【００２１】
図３は加熱パターンおよび加熱時間を判定するための表であり、直前の調理、その調理後の放置状態および放置時間によりパターン分けすることを表している。
【００２２】
まず、使用者は被加熱物１０を加熱室１内に収納載置した後、操作部上の「スチームあたため」キーを選択する（Ｓ１０１）。次に「スタート」キーを押す（Ｓ１０２）ことでスチームあたためが開始される。
【００２３】
調理開始後、制御手段５はまず、記憶媒体４に記憶されている直前に行った加熱についての情報を呼び出す。呼び出した情報から、直前に行った加熱が輻射加熱用および対流加熱用のヒータを用いたオーブンまたはグリル調理だったかどうかを判断し（Ｓ１０３）、直前に行った加熱がオーブンまたはグリル調理の場合、制御手段５は、赤外線センサ３ａの検出信号の取り込みを行う。赤外線センサ３ａの８素子の取り込みは駆動手段３ｂによりスウィング駆動しながら、０．３５秒間隔で行われ、１９回行うとちょうど加熱室１の皿受け台全面分のデータ（１５２ポイント）を取り込むことができる（これを１スキャンと呼ぶ）。１スキャンめの１５２ポイントのうち予め設定した複数ポイントの温度を皿受け台温度とする（Ｓ１０４）。
【００２４】
同時に制御手段５は、サーミスタ２およびスチームサーミスタ８の検出信号の取り込みを行う（Ｓ１０５、Ｓ１０６）。
【００２５】
前記皿受け台温度およびサーミスタ２およびスチームサーミスタ８の検出信号を元に、判断を行う（Ｓ１０７）。判断（Ｓ１０７）の詳細については後述するが、この判断に基づき最適な加熱パターンおよび加熱時間を決定し（Ｓ１０８）、加熱を行う（Ｓ１０９）。
【００２６】
以下、判断（Ｓ１０７）の内容を説明する。赤外線センサ３ａで取り込んだ複数の検出信号から皿受け台温度が予め設定していた温度Ｉ以上の場合は、直前の加熱により加熱室１が高温状態であると推定する。
【００２７】
このときサーミスタ２で検出した温度が予め設定した温度II以上の場合、皿受け台温度のみでなく加熱室上部も高温であることから直前の加熱からの時間が短い（パターン１６、２２など）、または、やや長い場合でもドアが閉じられた状態で放置されていた（パターン２０、２６など）と判断する。
【００２８】
このとき、赤外線センサ３ａで検出した被加熱物１０の表面温度は、雰囲気温度の影響で実際の温度よりも高めになっているため、加熱室１の温度が常温の場合とは異なる条件（１）で加熱パターンおよび加熱時間を決定する。
【００２９】
サーミスタ２で検出した温度が予め設定した温度IIより低い場合は、加熱室上部の温度は低いが、皿受け台１１は熱容量のあるセラミック製のため温度が高めになっていると考えられ、ドアを開けた状態でしばらく放置された（パターン１７など）と判断する。
【００３０】
このとき、加熱室１内の温度は低いが、開放されていない機械室１３内の温度は高いため、常温の場合とは異なる条件（２）で加熱パターンおよび加熱時間を決定する。
【００３１】
皿受け台温度およびサーミスタ２で検出した温度がそれぞれ予め設定された温度より低い場合は、長時間放置（パターン１８、２４など）されて加熱室１および機械室１３の温度が室温に戻り、直前の加熱の影響がないと判断し、常温の場合と同じ条件で加熱パターンおよび加熱時間を決定する。
【００３２】
スチームサーミスタ８の検出温度が予め設定していた温度III以上の場合は、直前の加熱で蒸気発生装置が動作し、余熱がある（パターン１，４，７，１０など）と判断できる。予め設定していた温度IIIより低い場合は、直前の加熱で蒸気発生装置を動作させていない。または、放置されていたために余熱がない状態に戻っていると判断する。
【００３３】
本実施例の予め設定された判定温度や過熱パターンおよび加熱時間を決める条件は、実験により設定した値を記憶媒体４に予め記憶してある。
【００３４】
以上、述べたように加熱室１および機械室１３の状態を判別することで、各状態に合わせた条件によって最適な加熱パターンおよび加熱時間を決定することができる。
【００３５】
なお、本実施例では被加熱物１０および皿受け台１１の温度を検出する温度手段３は赤外線を検出する複数の素子を８個のものについて説明したが８個に限定するものではなく皿受け台１１の大きさなどから最適な個数の素子を選択すればよく、温度が検出できるものであれば赤外線センサ以外のセンサを使用してもよい。
【００３６】
なお、被加熱物１０の重量を検出する重量検出手段をさらに備えることにより、Ｓ１０７の後に被加熱物１０の重量を考慮して、さらに最適な加熱パターンおよび加熱時間を決定することができる。
【００３７】
また、本実施例では直前の調理が終了してからの経過時間がわからないという前提で説明したが、時間測定機能をさらに備え、記憶媒体４に経過時間を記憶することで正確な経過時間を用いて判断（Ｓ１０７）し、加熱パターンおよび加熱時間を決定してもよい。
【産業上の利用可能性】
【００３８】
以上のように、本発明は電子レンジ等の高周波加熱装置に適応できるもので、直前の加熱パターンと加熱後放置中の状態および加熱後の経過時間を判断することで、最適な加熱パターンおよび加熱時間で加熱することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３９】
【図１】本発明の実施の形態における高周波加熱装置の外観構成図
【図２】同高周波加熱装置の制御内容を示すフローチャート
【図３】同高周波加熱装置の加熱パターンおよび加熱時間の判定表を示す図
【図４】従来の高周波加熱装置の制御内容を示すフローチャート
【符号の説明】
【００４０】
１  加熱室
２  サーミスタ（温度検出手段）
３ａ  赤外線センサ（温度検出手段）
３ｂ  駆動手段
４  記憶媒体
５  制御手段
６  インバータ（駆動用電源）
７  マグネトロン
８  スチームサーミスタ（温度検出手段）
９  蒸気発生手段
１０  被加熱物
１１  皿受け台
１２  導波管
１３  機械室
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図１】
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