(57)【要約】【課題】導電性層が均一な厚みで形成されることにより、物質を優れた精度で検知することのできる、物質検知センサを提供すること。【解決手段】絶縁層２を形成し、絶縁層２の上に、互いに間隔を隔てて対向配置される１対の電極配線６を備える電極パターン３を形成し、絶縁層２の上に、１対の電極配線６と電気的に接続されるように、ガスの種類および／または量に応じて、膨潤する割合が変化する導電性層４を、１対の電極配線６間において、第１導電性層４Ａおよび第２導電性層４Ｂとに複数分割形成されるように、設ける。【選択図】図１
2010164344.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
絶縁層と、
前記絶縁層の上に、互いに間隔を隔てて対向配置される２つの電極と、
前記絶縁層の上に、２つの前記電極間に、２つの前記電極と電気的に接続されるように形成され、特定の物質の種類および／または量に応じて、膨潤する割合が変化する導電性層とを備え、
前記導電性層は、２つの前記電極間において、複数分割形成されていることを特徴とする、物質検知センサ。
【請求項２】
複数分割形成される前記導電性層を互いに接続するための配線を備えていることを特徴とする、請求項１に記載の物質検知センサ。
【請求項３】
複数分割形成される前記導電性層は、互いに間隔を隔てて配置されており、
前記配線は、隣接する各前記導電性層にそれぞれ接続されていることを特徴とする、請求項２に記載の物質検知センサ。
【請求項４】
複数分割形成される前記導電性層は、互いに重なり合う重複部分を備え、
前記配線は、前記重複部分を挟むように、隣接する各前記導電性層にそれぞれ接続されていることを特徴とする、請求項２に記載の物質検知センサ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、物質検知センサ、詳しくは、主としてガスの種類や量を検知するための物質検知センサに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、気体や液体を検知する物質センサが種々の産業用途に用いられている。このような物質センサは、特定の気体や液体における定性分析や定量分析などに用いられている。
例えば、導電性物質を含むレジスタと、互いに間隔を隔てて配置され、レジスタを介して電気的に接続される第１および第２の導電性リードとを備えるセンサアレイが提案されている（例えば、特許文献１参照。）。
【０００３】
特許文献１のセンサアレイでは、導電性物質を含む溶液を、第１および第２の導電性リードと接触するように塗布（キャスティング）した後、乾燥することにより、レジスタを形成している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００６−１０７０３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかし、特許文献１では、上記した溶液を第１および第２の導電性リードの上に塗布して、レジスタを一度にまとめて形成するので、レジスタが不均一な厚みで形成される場合がある。とりわけ、レジスタを広い面積で形成する場合には、顕著に不均一な厚みとなる場合がある。
その結果、レジスタの不均一な厚みに起因して、物質を精度よく検知することができないという不具合がある。
【０００６】
本発明の目的は、導電性層が均一な厚みで形成されることにより、物質を優れた精度で検知することのできる、物質検知センサを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成するため、本発明の物質検知センサは、絶縁層と、前記絶縁層の上に、互いに間隔を隔てて対向配置される２つの電極と、前記絶縁層の上に、２つの前記電極間に、２つの前記電極と電気的に接続されるように形成され、特定の物質の種類および／または量に応じて、膨潤する割合が変化する導電性層とを備え、前記導電性層は、２つの前記電極間において、複数分割形成されていることを特徴としている。
【０００８】
本発明の物質検知センサによれば、導電性層が、複数に分割して形成されるので、小さいエリアに区画されるため、かかる導電性層の厚みを均一にすることができる。そのため、導電性層全体の厚みを均一にすることができる。
その結果、物質を優れた精度で検知することができる。
また、本発明の物質検知センサでは、複数分割形成される前記導電性層を互いに接続するための配線を備えていることが好適であり、さらには、複数分割形成される前記導電性層は、互いに間隔を隔てて配置されており、前記配線は、隣接する各前記導電性層にそれぞれ接続されていることが好適であり、あるいは、複数分割形成される前記導電性層は、互いに重なり合う重複部分を備え、前記配線は、前記重複部分を挟むように、隣接する各前記導電性層にそれぞれ接続されていることが好適である。
【０００９】
この物質検知センサでは、複数分割形成され、互いに間隔を隔てて配置される導電性層が、１対の電極間において、配線でそれぞれ接続されるので、１対の電極間における接続を確実に図ることができ、精度の高い物質検知を確実に実施することができる。
あるいは、この物質検知センサでは、複数分割形成され、重複部分を備える導電性層が、１対の電極間において、配線によりそれぞれ接続されるので、１対の電極間における接続を確実に図ることができ、精度の高い物質検知を確実に図ることができる。
【発明の効果】
【００１０】
本発明の物質検知センサによれば、物質を優れた精度で検知することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の物質検知センサの一実施形態であるガス検知センサの平面図を示す。
【図２】図１のＡ−Ａ線に沿う断面図を示す。
【図３】図２に示すガス検知センサの製造方法の工程図であり、（ａ）は、絶縁層を用意する工程、（ｂ）は、電極パターンおよびブリッジ配線を形成する工程、（ｃ）は、保護層を形成する工程、（ｄ）は、導電性層を形成する工程を示す。
【図４】本発明のガス検知センサの他の実施形態（３つの導電性層が設けられる態様）の平面図を示す。
【図５】本発明のガス検知センサの他の実施形態（ブリッジ配線が平面視略矩形状に形成される態様）の平面図を示す。
【図６】本発明のガス検知センサの他の実施形態（ブリッジ配線が平面視略矩形枠形状に形成される態様）の平面図を示す。
【図７】本発明のガス検知センサの他の実施形態（ブリッジ配線が平面視略矩形枠形状に形成される態様）の平面図を示す。
【図８】本発明のガス検知センサの他の実施形態（ブリッジ配線が平面視略Ｈ字形状に形成される態様）の平面図を示す。
【図９】本発明のガス検知センサの他の実施形態（２つの導電性層が互いに接触する態様）の平面図を示す。
【図１０】図１のＢ−Ｂ線に沿う断面図を示す。
【図１１】本発明のガス検知センサの他の実施形態（導電性層が重複部分を備える態様）の平面図を示す。
【図１２】図１のＣ−Ｃ線に沿う断面図を示す。
【図１３】比較例１のガス検知センサ（１つの導電性層が連続して形成される態様）の平面図を示す。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
図１は、本発明の物質検知センサの一実施形態であるガス検知センサの平面図、図２は、図１のＡ−Ａ線に沿う断面図、図３は、図２に示すガス検知センサの製造方法の工程図を示す。なお、方向に関する記載は、図１を基準として、紙面左側を「前側」、紙面右側を「後側」、紙面下側を「右側」（一方側）、紙面上側を「左側」（他方側）、紙面手前側を「上側」、紙面奥側を「下側」とする。
【００１３】
図１および図２において、このガス検知センサ１は、絶縁層２と、絶縁層２の上に形成される電極パターン３と、絶縁層２の上に形成される配線としてのブリッジ配線９と、絶縁層２の上に、電極パターン３およびブリッジ配線９と電気的に接続されるように形成される導電性層４とを備えている。
絶縁層２は、例えば、平面視略矩形状のシートから形成されている。
【００１４】
電極パターン３は、絶縁層２の上面において、１対の電極配線６を備えており、１対の電極配線６は、左右方向に互いに間隔を隔てて対向配置され、前後方向に沿って延び、各後端部が互いに対向方向内側に屈曲する配線回路パターン（導体パターン）として形成されている。
具体的には、１対の電極配線６は、右側（左右方向一方側）に配置される第１配線（右側配線）６Ａと、第１電極配線６Ａの左側（左右方向他方側）に間隔を隔てて配置される第２配線（左側配線）６Ｂとを備えている。また、１対の電極配線６は、その後側端部において、電気抵抗検知器１０と接続されている。
【００１５】
ブリッジ配線９は、導電性層４を接続するために設けられ、絶縁層２の上面において、１対の電極配線６の対向方向内側に設けられている。具体的には、ブリッジ配線９は、１対の電極配線６の対向方向内側に、それらと間隔を隔てて配置されており、前側に向かって開く平面視略コ（Ｕ）字形状に形成されている。
詳しくは、ブリッジ配線９は、右側（左右方向一方側）に配置される第１接続配線（右側接続配線）７Ａと、第１接続配線７Ａの左側（左右方向他方側）に間隔を隔てて配置される第２接続配線（左側接続配線）７Ｂと、それらの後端部を接続する第３接続配線（後側接続配線）７Ｃとを一体的に備えている。
【００１６】
また、電極パターン３およびブリッジ配線９には、それらを被覆する保護層１５が形成されている。
保護層１５は、電極パターン３およびブリッジ配線９の表面（上面および側面）に直接形成されている。
導電性層４は、複数（２つ）分割形成されており、左右方向に互いに間隔を隔てて配置されている。各導電性層４は、前後方向に延びる平面視略矩形状に形成されており、右側（左右方向一方側）に配置される第１導電性層４Ａと、第１導電性層４Ａの左側（左右方向他方側）に間隔を隔てて配置される第２導電性層４Ｂとを備えている。
【００１７】
第１導電性層４Ａは、第１電極配線６Ａおよび第１接続配線７Ａの間にわたって設けられ、それらを被覆している。また、第２導電性層４Ｂは、第２電極配線６Ｂおよび第２接続配線７Ｂの間にわたって設けられ、それらを被覆している。
また、各導電性層４と、それに被覆される電極パターン３およびブリッジ配線９とは、ガス検知センサ１において特定のガスを検知する検知部２０を構成している。
【００１８】
検知部２０において、各導電性層４に被覆される電極パターン３の電極配線６（第１電極配線６Ａまたは第２電極配線６Ｂ）が、電極５（第１電極５Ａまたは第２電極５Ｂ）とされ、各導電性層４に被覆されるブリッジ配線９（第１接続配線７Ａまたは第２接続配線７Ｂ）が、接続部８（第１接続部８Ａまたは第２接続部８Ｂ）とされている。
電極５および接続部８は、各導電性層４において、左右方向両端部にそれぞれ配置されている。具体的には、第１電極５Ａが、第１導電性層４Ａの右側端部に配置され、第１接続部８Ａが、第１導電性層４Ａの左側端部に配置されており、第２接続部８Ｂが、第２導電性層４Ｂの右側端部に配置され、第２電極５Ｂが、第２導電性層４Ｂの左側端部に配置されている。
【００１９】
つまり、第１導電性層４Ａは、第１電極５Ａおよび第１接続部８Ａに接続され、第２導電性層４Ｂは、第２電極５Ｂおよび第２接続部８Ｂに接続されている。
これにより、導電性層４（第１導電性層４Ａおよび第２導電性層４Ｂ）は、第１電極５Ａおよび第２電極５Ｂ間において、ブリッジ配線９を介して、第１電極５Ａおよび第２電極５Ｂと電気的に接続されている。
【００２０】
次に、このガス検知センサ１を製造する方法について、図３を参照して説明する。
まず、この方法では、図３（ａ）に示すように、絶縁層２を用意する。
絶縁層２を形成する絶縁材料としては、例えば、液晶ポリマー（ＬＣＰ；芳香族または脂肪族ジヒドロキシ化合物の重合体、芳香族または脂肪族ジカルボン酸の重合体、芳香族ヒドロキシカルボン酸の重合体、芳香族ジアミン、芳香族ヒドロキシアミンまたは芳香族アミノカルボン酸の重合体など）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリイミド（ＰＩ）、ポリエーテルニトリル、ポリエーテルスルホン、ポリエチレンナフタレート、ポリフェニリンサルファイド（ＰＰＳ）、ポリエーテルイミド（ＰＥＩ）、ポリ塩化ビニルなどの合成樹脂などが用いられる。これら絶縁材料は、単独使用または併用することができる。
【００２１】
また、このような絶縁材料としては、好ましくは、吸水率、湿度膨張係数、熱膨張係数およびガス透過率が低い材料が用いられる。
好ましくは、液晶ポリマーまたはポリエチレンテレフタレートが用いられる。液晶ポリマーまたはポリエチレンテレフタレートは、吸水率やガス透過率（酸素透過率など）が低いため、雰囲気中の水蒸気の吸水により絶縁層２が膨潤することを防止でき、また、絶縁層２の下面からガスや水蒸気が透過して、導電性層４に影響を与えることを防止できる。従って、そのような絶縁層２の膨潤に基づく誤検知や、絶縁層２の透過の影響に基づく誤検知を、防止することができる。
【００２２】
絶縁層２を用意するには、例えば、上記した絶縁材料のシートを準備する。また、図示しない剥離板の上に、絶縁材料のワニスをキャスティングにより成膜し、乾燥後、必要により硬化させることにより、用意することもできる。
なお、上記した絶縁材料のシートとしては、市販品を用いることができ、例えば、ベクスターシリーズ（液晶ポリマーシート、クラレ社製）、ＢＩＡＣシリーズ（液晶ポリマーシート、ジャパンゴアテックス社製）、ルミラーシリーズ（ポリエチレンテレフタレートシート、東レ社製）などが用いられる。
【００２３】
このようにして形成される絶縁層２の厚みは、例えば、５〜３０μｍ、好ましくは、５〜２５μｍである。
次いで、この方法では、図３（ｂ）に示すように、絶縁層２の上に、電極パターン３およびブリッジ配線９を同時に形成する。
電極パターン３およびブリッジ配線９を形成する材料としては、例えば、銅、ニッケル、金、錫、ロジウム、はんだ、またはこれらの合金などの導体材料が用いられ、好ましくは、導電性および加工性の観点から、銅が用いられる。
【００２４】
電極パターン３およびブリッジ配線９は、例えば、印刷法、アディティブ法、サブトラクティブ法などの公知のパターンニング法によって、上記したパターンに形成する。
印刷法では、例えば、上記した材料の微粒子を含むペーストを、絶縁層２の上面に、上記したパターンでスクリーン印刷した後、焼結する。これにより、電極パターン３およびブリッジ配線９を、絶縁層２の上面に、直接形成する。
【００２５】
アディティブ法では、例えば、まず、絶縁層２の上面に、図示しない導体薄膜（種膜）を形成する。導体薄膜を形成するには、スパッタリング、好ましくは、クロムスパッタリングおよび銅スパッタリングにより、クロム薄膜と銅薄膜とを順次積層する。
次いで、この導体薄膜の上面に、上記した電極パターン３およびブリッジ配線９のパターンと逆パターンでめっきレジストを形成した後、めっきレジストから露出する導体薄膜の上面に、電解めっきにより、電極パターン３およびブリッジ配線９を形成する。その後、めっきレジストおよびそのめっきレジストが積層されていた部分の導体薄膜を除去する。
【００２６】
サブトラクティブ法では、例えば、まず、絶縁層２の上面に、上記した導体材料からなる導体層が予め積層されている２層基材（銅箔２層基材など）を用意し、その導体層の上に、ドライフィルムレジストを積層した後、露光および現像し、上記した電極パターン３およびブリッジ配線９のパターンと同一のパターンのエッチングレジストを形成する。その後、エッチングレジストから露出する導体層を化学エッチング（ウェットエッチング）した後、エッチングレジストを除去することにより、電極パターン３およびブリッジ配線９を形成する。なお、２層基材の用意において、必要により、絶縁層２と導体層との間に、公知の接着剤層を介在させることもできる。
【００２７】
なお、上記したサブトラクティブ法による電極パターン３およびブリッジ配線９の形成において、銅箔２層基材としては、市販品を用いることができ、例えば、液晶ポリマーからなる絶縁層２の上面に、銅からなら導体層が予め積層されている液晶ポリマー銅張積層板（ＥＳＰＡＮＥＸ  Ｌシリーズ、片面品、標準タイプ／Ｐタイプ、新日鐵化学社製）が用いられる。
【００２８】
これらのパターンニング法において、好ましくは、印刷法が用いられる。この方法によれば、電極パターン３およびブリッジ配線９を、絶縁層２の上面に、確実に直接形成できるので、特定のガスの検知を精度よく実施することができる。
このようにして形成される電極パターン３およびブリッジ配線９の厚みは、例えば、５〜３０μｍ、好ましくは、５〜２０μｍである。
【００２９】
電極配線６の長さ（第１電極配線６Ａおよび第２電極配線６Ｂの前後方向長さ）は、例えば、５〜１００ｍｍ、好ましくは、５〜５０ｍｍであり、ブリッジ配線９の長さ（第１接続配線７Ａおよび第２接続配線７Ｂの前後方向長さ）は、例えば、４．５〜９５．０ｍｍ、好ましくは、４．５〜４５．０ｍｍである。
また、電極配線６の幅（第１電極配線６Ａおよび第２電極配線６Ｂの左右方向長さ）は、例えば、１０〜５００μｍ、好ましくは、２０〜３００μｍであり、電極配線６間の間隔（左右方向の間隔）Ｄ１は、導電性層４の個数や幅によって適宜選択され、例えば、１〜３０ｍｍ、好ましくは、２〜１０ｍｍである。
【００３０】
また、ブリッジ配線９の幅（第１接続配線７Ａおよび第２接続配線７Ｂの左右方向長さと、第３接続配線７Ｃの前後方向長さ）は、例えば、１０〜５００μｍ、好ましくは、２０〜３００μｍであり、第１接続配線７Ａおよび第２接続配線７Ｂ間の間隔Ｄ２は、例えば、０．５〜１０ｍｍ、好ましくは、１〜５ｍｍである。
電極パターン３およびブリッジ配線９間の左右方向における間隔、具体的には、第１電極配線６Ａと第１接続配線７Ａとの間の間隔、および、第２電極配線６Ｂと第２接続配線７Ｂとの間の間隔は、上記した電極配線６間の間隔Ｄ１と、第１接続配線７Ａおよび第２接続配線７Ｂの幅と、それらの間の間隔Ｄ２とにより決定される。
【００３１】
また、電極配線６の後端部（屈曲部）とブリッジ配線９（第３接続配線７）との間隔（前後方向における間隔）Ｄ３は、例えば、０．５〜１０ｍｍ、好ましくは、１〜５ｍｍである。
このような電極パターン３およびブリッジ配線９の形成により、電極パターン３における１対の電極５と、ブリッジ配線９における１対の接続部８とが、同時に形成される。
【００３２】
次いで、この方法では、図３（ｃ）に示すように、保護層１５を、電極パターン３およびブリッジ配線９を被覆するように、形成する。
保護層１５を形成する材料としては、例えば、金などの金属材料が用いられる。保護層１５を、金属材料から形成すれば、検知する特定のガスが酸性ガスであっても、この保護層１５により、電極パターン３およびブリッジ配線９の腐食を確実に防止することができる。
【００３３】
この保護層１５は、例えば、スパッタリング、例えば、無電解めっきや電解めっきなどのめっきなど、公知の薄膜形成法によって、電極パターン３およびブリッジ配線９を被覆するように形成される。
このようにして形成される保護層１５の厚みは、例えば、０．０５〜３μｍ、好ましくは、０．５〜１．５μｍである。
【００３４】
次いで、この方法では、図３（ｄ）に示すように、導電性層４を、絶縁層２の上に、保護層１５を被覆するように、順次、複数分割形成する。
具体的には、第１導電性層４Ａを、絶縁層２の上に、第１電極５Ａおよび第１接続部８Ａに対応する保護層１５を被覆するように形成し、その後、第２導電性層４Ｂを、絶縁層２の上に、第２電極５Ｂおよび第２接続部８Ｂに対応する保護層１５を被覆するように形成する。
【００３５】
導電性層４は、導電性材料から形成され、この導電性材料は、例えば、導電性の導電性粒子と、特定のガスの種類や量（濃度）に応じて膨潤する非導電性物質との混合物から形成される。
導電性粒子としては、例えば、有機導電体、無機導電体、または、有機／無機の混合導電体などが用いられる。
【００３６】
有機導電体としては、例えば、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリピロール、ポリアセチレンなどの導電性ポリマー、例えば、カーボンブラック、グラファイト、コークス、Ｃ６０などの炭素質物質、例えば、テトラメチルパラフェニレンジアミンクロラニル、テトラシアノキノリノジメタン−アルカリ金属錯体、テトラチオフルバレン−ハロゲン錯体などの電荷移動錯体などが用いられる。
【００３７】
無機導電体としては、例えば、銀、金、銅、白金などの金属、例えば、金銅合金などの、上記した金属の合金、例えば、ケイ素、ガリウムヒ素（ＧａＡｓ）、インジウムリン（ＩｎＰ）、硫化モリブデン（ＭｏＳ２）、酸化チタン（ＴｉＯ２）などの高ドーピング半導体、例えば、酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ３）、酸化錫（ＳｎＯ２）、酸化白金ナトリウム（ＮａｘＰｔ３Ｏ４）などの導電性金属酸化物、例えば、ＹＢａ２Ｃｕ３Ｏ７、Ｔｌ２Ｂａ２Ｃａ２Ｃｕ３Ｏ１０などの超導電体などが用いられる。
【００３８】
有機／無機の混合導電体としては、例えば、テトラシアノ−白金錯体、イリジウム−ハロカルボニル錯体、積層大環状錯体などが用いられる。
これら導電性粒子は、単独使用または併用することができる。
非導電性物質としては、例えば、主鎖炭素ポリマー、主鎖非環式複素原子ポリマー、主鎖複素環式ポリマーなどの非導電性有機ポリマーが用いられる。
【００３９】
主鎖炭素ポリマーとしては、例えば、ポリジエン、ポリアルケン、ポリアクリル、ポリメタクリル、ポリビニルエーテル、ポリビニルチオエーテル、ポリビニルアルコール、ポリビニルケトン、ポリビニルハライド、ポリビニルニトリル、ポリビニルエステル、ポリスチレン、ポリ（α−メチルスチレン）、ポリアリーレン、ポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニルなどが用いられる。
【００４０】
主鎖非環式複素原子ポリマーとしては、例えば、ポリオキシド、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリアンハイドライド、ポリウレタン、ポリスルホネート、ポリシロキサン、ポリスルフィド、ポリチオエステル、ポリスルホン、ポリスルホンアミド、ポリアミド、ポリアミドアミン（ポリアミドアミンデンドリマー）、ポリユリア、ポリホスファゼン、ポリシラン、ポリシラザンなどが用いられる。
【００４１】
主鎖複素環式ポリマーとしては、例えば、ポリ（フランテトラカルボン酸ジイミド）、ポリベンズオキサゾール、ポリオキサジアゾール、ポリベンゾチアジノフェノチアジン、ポリベンゾチアゾール、ポリピラジノキノキサリン、ポリピロメリトイミド（ｐｏｌｙｐｉｒｏｍｅｎｉｔｉｍｉｄｅｓ）、ポリキノキサリン、ポリベンズイミダゾール、ポリオキシンドール、ポリオキソイソインドリン、ポリジオキソイソインドリン、ポリトリアジン、ポリピリダジン、ポリピペラジン、ポリピリジン、ポリピペリジン、ポリトリアゾール、ポリピラゾール、ポリピロリジン、ポリカルボラン、ポリオキサビシクロノナン、ポリジベンゾフラン、ポリフタライド、ポリアセタール、ポリビニルピロリドン、ポリビスフェノール、または、その他の炭化水素などが用いられる。
【００４２】
また、非導電性物質としては、例えば、ポリエステルアクリレートオリゴマーなどのオリゴマーを用いることもできる。
これら非導電性物質は、単独使用または併用することができる。
導電性層４を形成するには、例えば、超音波スプレー法による噴付、溶液キャスティング、エアスプレー法、ドロップなどのコーティング方法が用いられる。また、例えば、真空蒸着法、ＣＶＤ法、プラズマ重合法、クラスターイオンビーム蒸着法、エピタキシャル成長法、ラングミュア・ブロジェット（ＬＢ）法などの薄膜製膜法なども用いられる。
【００４３】
好ましくは、超音波スプレー法による噴付が用いられる。
超音波スプレー法による噴付では、有機溶剤、導電性粒子および非導電性物質（またはこれらの前駆物質（モノマー））を含む導電性成分含有液（溶液および／または懸濁液）を調製して、それを超音波スプレー法によって、絶縁層２の上に噴き付ける。
有機溶剤としては、沸点が、４０〜１２０℃のものが好ましく、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類、例えば、メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−プロピルアルコールなどのアルコール類、例えば、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、例えば、塩化メチレンなどのハロゲン化炭化水素類、例えば、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）などのエーテル類、例えば、アセトニトリルなどのニトリル類などが用いられる。
【００４４】
これら有機溶剤は、単独使用または併用することができる。
導電性成分含有液を、溶液として調製する場合には、有機溶剤として、導電性粒子および非導電性物質（またはこれらの前駆物質）を溶解できる有機溶剤（溶媒）を選択し、そのような有機溶剤と、導電性粒子および非導電性物質（またはこれらの前駆物質）とを配合して溶解させる。
【００４５】
また、導電性成分含有液を、懸濁液として調製する場合には、有機溶剤として、導電性粒子を分散できる有機溶剤（分散媒）を選択し、そのような有機溶剤に、導電性粒子を懸濁させる。また、このような場合においては、例えば、強制攪拌機や超音波攪拌機などの公知の攪拌機により、導電性粒子を有機溶剤中に懸濁させる。
導電性成分含有液の調製における、成分の配合割合は、非導電性物質１００重量部に対して、導電性粒子が、例えば、１０〜５０重量部、好ましくは、２０〜３５重量部、有機溶剤が、例えば、２０００〜２００００重量部、好ましくは、５０００〜１５０００重量部である。
【００４６】
また、導電性成分含有液には、必要により、触媒などの公知の添加剤を添加することができる。
また、このように調製される導電性成分含有液の粘度（２５℃）は、例えば、１×１０−４〜０．０５Ｐａ・ｓ、好ましくは、５×１０−４〜０．０１Ｐａ・ｓである。
超音波スプレー法は、超音波を用いたスプレーコーティング法であって、例えば、液体を、超音波振動によって、微細な粒径を有する液滴（霧状）として噴霧する。これにより、塗布液を、対象物に、均一かつ無駄なく塗布することができる。
【００４７】
超音波スプレー法によって、導電性成分含有液を絶縁層２に対して噴き付ければ、導電性成分含有液が、微細な粒径の液滴として噴霧される。そのため、導電性成分含有液の液滴が、絶縁層２に到達するまでに、導電性成分含有液中の有機溶剤が、蒸発する。そのため、超音波スプレー法によれば、導電性成分含有液の濡れ拡がりを抑制することができ、その結果、導電性材料（導電性粒子および非導電性物質）の凝集および／または偏在化を抑制することができる。
【００４８】
超音波スプレー法による導電性成分含有液の噴き付けにおいて、超音波の周波数は、例えば、２０〜１５０ｋＨｚ、好ましくは、６０〜１２０ｋＨｚである。超音波の周波数が上記の範囲にあれば、噴き付けられる導電性成分含有液を、エアスプレー法による液滴よりも、非常に微細な粒径とすることができる。
より具体的には、例えば、６０ｋＨｚの超音波を用いれば、導電性成分含有液の粒径を約３５μｍ以下とすることができ、１２０ｋＨｚの超音波を用いれば、導電性成分含有液の粒径を、約２０μｍ以下とすることができる。
【００４９】
導電性成分含有液の粒径が微細であれば、導電性成分含有液を絶縁層２に、より均一に噴き付けることができ、そのため、得られる導電性層４の厚みを、より均一とすることができる。
なお、超音波スプレー法によって、上記した導電性成分含有液を絶縁層２に噴き付けるには、一般に市販されている超音波スプレー装置を用いることができる。そのような超音波スプレー装置としては、例えば、超音波スプレーノズル（Ｓｏｎｏ−Ｔｅｃ社製）などが用いられる。
【００５０】
導電性成分含有液を絶縁層２に噴き付けるには、より具体的には、例えば、まず、超音波スプレー装置を、その噴射口が絶縁層２に向くように設置し、次いで、その噴射口に対して、例えば、１０〜２００ｍｍ、好ましくは、３０〜１００ｍｍ離間した絶縁層２に、超音波スプレー装置の噴射口より、導電性成分含有液を噴霧する。
このように噴霧すれば、噴射口から噴射された導電性成分含有液が、絶縁層２に到達するまでに、導電性成分含有液中の有機溶剤が、良好に蒸発する。
【００５１】
なお、このような導電性成分含有液の噴き付けにおいては、導電性成分含有液が、微細な粒径を有する液滴として自然落下する場合には、必要により、例えば、アシストガスを導入することもできる。
アシストガスとしては、例えば、窒素、アルゴン、空気などが用いられ、ノズル口径が約１ｍｍの場合、その吐出圧力は、例えば、０．０５〜５．０ｋＰａ、好ましくは、０．３〜１．０ｋＰａである。
【００５２】
また、導電性成分含有液を各導電性層４に対応するパターンで噴き付けるためには、例えば、マスクを用いる。より具体的には、導電性成分含有液を噴き付ける前に、第１導電性層４Ａに対応するパターンの開口部が形成されたマスクによって絶縁層２を覆い、次いで、絶縁層２およびマスクの上方から、マスクの開口部から露出する絶縁層２および保護層１５に、導電性成分含有液を噴き付け、その後、マスクを除去する。これにより、まず、第１導電性層４Ａを形成する。
【００５３】
その後、第２導電性層４Ｂに対応するパターンの開口部が形成されたマスクによって、第１導電性層４Ａが形成された絶縁層２を覆い、次いで、絶縁層２およびマスクの上方から、マスクの開口部から露出する絶縁層２および保護層１５に、導電性成分含有液を吹き付け、その後、マスクを除去する。これにより、第２導電性層４Ｂを形成する。
これにより、導電性成分含有液を、各導電性層４に対応するパターンで順次噴き付けることができる。
【００５４】
また、導電性成分含有液は、例えば、常温（２５℃程度）において噴き付ける。
このように、導電性成分含有液を絶縁層２に、順次、複数（２回）分割して噴き付けることによって、各導電性層４（第１導電性層４Ａおよび第２導電性層４Ｂ）を順次形成することができる。
ここで、一般に、各導電性層４の形成において、例えば、上記した溶液キャスティング、エアスプレー法、ドロップなどのコーティング方法を用いて、導電性成分含有液を絶縁層２に塗布すれば、絶縁層２の上において、塗布された導電性成分含有液が乾燥するまでの間に濡れ拡がりが発生する場合がある。その場合には、導電性成分含有液中の有機溶剤が蒸発する際、導電性粒子の凝集や偏りが発生する場合があり、各導電性層４を、所定の厚みで均一に形成することが困難となる場合がある。
【００５５】
しかし、超音波スプレー法による噴付によれば、噴霧中に有機溶剤を蒸発させることができる。そのため、導電性成分含有液の濡れ拡がりを抑制し、各導電性層４の厚みをより一層均一にすることができる。
また、超音波スプレー法による噴付では、導電性成分含有液を噴き付け、導電性層４を形成しているため、導電性成分含有液のロスが少なく、コスト面において非常に優れている。
【００５６】
上記のように形成された導電性層４には、必要により、ドーピング処理（例えば、ヨウ素への暴露処理）することにより、導電性を付与することもできる。
導電性層４の厚みは、例えば、０．０１〜５０μｍ、好ましくは、０．１〜２０μｍ、さらに好ましくは、０．２〜１０μｍである。
また、各導電性層４の長さ（前後方向長さ）は、例えば、５〜９５ｍｍ、好ましくは、５〜４５ｍｍであり、各導電性層４の幅（左右方向長さ）は、例えば、０．５〜２０ｍｍ、好ましくは、１〜５ｍｍであり、各導電性層４（第１導電性層４Ａおよび第２導電性層４Ｂ）間の間隔は、例えば、０．５〜１０ｍｍ、好ましくは、１〜５ｍｍである。第１導電性層４Ａの面積および第２導電性層４Ｂの面積は、例えば、同一であり、具体的には、２．５〜１９００ｍｍ２、好ましくは、５〜２２５ｍｍ２である。
【００５７】
これにより、導電性層４、電極５および接続部８を備える検知部２０を形成することができる。
このようにして形成される検知部２０における導電性層４では、第１電極５Ａおよび第１接続部８Ａ間と、第２電極５Ｂおよび第２接続部８Ｂ間とにおいて、導電性粒子により形成される電気経路（パス）が、非導電性物質により形成されるギャップにより、電気的な障害となる。この非導電性物質のギャップにより、第１電極５Ａおよび第１接続部８Ａ間と、第２電極５Ｂおよび第２接続部８Ｂ間と（第１電極５Ａおよび第２電極５Ｂ間）に、所定の電気抵抗が付与され、後述する特定のガスの吸収や吸着に基づく導電性層４の膨潤によって、上記した所定の電気抵抗値が変化する。
【００５８】
なお、検知部２０において、導電性層４の種類は、同一または相異なっていてもよい。
また、このガス検知センサ１は、絶縁層２と電極パターン３（配線回路パターン）とを備えていることから、配線回路基板として形成されている。
その後、図１に示すように、１対の電極配線６の後端部を電気抵抗検知器１０に接続する。これにより、ガス検知センサ１を製造することができる。
【００５９】
次に、このガス検知センサ１を用いて、特定のガスを検知する方法について説明する。
まず、この方法では、ガス検知センサ１を、特定のガスを検知したい場所に配置する。
ガス検知センサ１によって検知される特定のガスは、特に限定されず、例えば、アルカン、アルケン、アルキン、アレン、アルコール、エーテル、ケトン、アルデヒド、カルボニル、カルバニオンなどの有機物質、上記した有機物質の誘導体（例えば、ハロゲン化誘導体など）、糖などの生化学分子、イソプレンおよびイソプレノイド、脂肪酸および脂肪酸の誘導体などの化学物質が挙げられる。
【００６０】
その後、この方法では、電気抵抗検知器１０によって、検知部２０における第１電極５Ａおよび第２電極５Ｂ間の電気抵抗を検知する。より具体的には、特定のガスが、各導電性層（導電性材料）４の非導電性物質と接触したときに、この非導電性物質が、特定のガスを吸収または吸着して、特定のガスの種類および／または量（濃度）に応じて、膨潤する。そうすると、各導電性層４も膨潤し、これによって、導電性層４の、第１電極５Ａおよび第２電極５Ｂ間における電気抵抗値が変化する。そして、この電気抵抗値の変化を、電気抵抗検知器１０によって、検知する。
【００６１】
そして、検知された電気抵抗値の変化から、所定のライブラリを有する図示しないコンピュータの解析によって、特定のガスの種類および／または量（濃度）について、定性分析および／または定量分析される。
なお、このような電気抵抗値の変化の解析および分析については、特表平１１−５０３２３１号公報や米国特許５５７１４０１号明細書の記載に準拠して、実施することができる。
【００６２】
そして、このガス検知センサ１では、検知部２０において、特定のガスの種類や量に応じて膨潤する割合が変化する導電性層４の電気抵抗値を、電気抵抗検知器１０によって検知することによって、特定のガスの種類や量（濃度）を確実に検知することができる。
また、導電性層４は、第１導電性層４Ａおよび第２導電性層４Ｂに２分割して形成されている。そのため、第１導電性層４Ａおよび第２導電性層４Ｂは、それぞれ、導電性層４全体に比べて小さいエリア、具体的には、第１導電性層４Ａおよび第２導電性層４Ｂの全面積の半分（１／２）の面積のエリア毎に区画される。そのため、第１導電性層４Ａおよび第２導電性層４Ｂの厚みをそれぞれより一層均一にすることができる。そのため、導電性層４全体の厚みを均一にすることができる。
【００６３】
その結果、特定のガスの種類や量（濃度）を優れた精度で検知することができる。
また、このガス検知センサ１では、２分割形成され、互いに間隔を隔てて配置される第１導電性層４Ａおよび第２導電性層４Ｂが、第１電極５Ａおよび第２電極５Ｂ間において、ブリッジ配線９でそれぞれ接続される。そのため、第１電極５Ａおよび第２電極５Ｂ間における電気的な接続を確実に図ることができ、精度の高いガス検知を確実に実施することができる。
【００６４】
なお、上記した説明では、ガス検知センサ１を例示し、検知する特定の物質がガスであるとして説明したが、本発明のガス検知センサでは、検知する物質の状態は特に限定されず、例えば、検知する特定の物質が液体でもよい。
また、上記した説明では、２つの導電性層４（第１導電性層４Ａおよび第２導電性層４Ｂ）を備える検知部２０を２個設けたが、検知部２０の個数は、特に限定されず、例えば、図示しないが、３個以上設けることもできる。このように検知部２０を設ければ、特定のガスの種類や量（濃度）を、より一層精度よく検知することができる。
【００６５】
また、上記した説明では、導電性層４の形成において、第１導電性層４Ａおよび第２導電性層４Ｂを、順次形成しているが、例えば、同時に形成することもできる。第１導電性層４Ａおよび第２導電性層４Ｂを、超音波スプレー法による噴付によって同時に形成する場合には、第１導電性層４Ａおよび第２導電性層４Ｂに対応するパターンの２つの開口部が形成されたマスクを用いて、導電性成分含有液を一度に噴き付ける。
【００６６】
この方法では、導電性層４を短時間でかつ簡易に形成することができる。
また、上記した説明では、絶縁層２の下面を露出させたが、例えば、図２の仮想線で示すように、金属層１８によって、絶縁層２の下面を被覆することもできる。
この金属層１８は、絶縁層２の下に形成されており、より具体的には、絶縁層２の下面全面に設けられている。
【００６７】
金属層１８を形成する金属材料としては、例えば、ステンレス、４２アロイ、アルミニウム、銅−ベリリウム、りん青銅などが用いられる。好ましくは、耐腐食性の観点から、ステンレスが用いられる。
この金属層１８を設けるには、例えば、上記した金属層１８を予め用意し、その後、絶縁層２を形成する。または、金属層１８および絶縁層２を、金属層１８および絶縁層２が予め順次積層されている２層基材として用意することもできる。さらに、金属層１８、絶縁層２および導体層（電極パターン３およびブリッジ配線９を形成するための導体層）が予め順次積層されている３層基材として用意することもできる。このような３層基材としては、市販品を用いることができ、例えば、銅からなる金属層１８の上面に、液晶ポリマーからなる絶縁層２および銅からなる導体層が予め積層されている液晶ポリマー銅張積層板（ＥＳＰＡＮＥＸ  Ｌシリーズ、両面品、標準タイプ／Ｐタイプ、新日鐵化学社製）が用いられる。
【００６８】
また、金属層１８の厚みは、例えば、０．０５〜５０μｍ、好ましくは、０．１〜２０μｍである。
このような金属層１８を、絶縁層２、とりわけ、ガス透過率の高い絶縁材料からなる絶縁層２の下に設ければ、金属層１８は、下側から絶縁層２に接触しようとするガスを遮断できるため、雰囲気中の水蒸気の吸水により絶縁層２が膨潤することを防止でき、絶縁層２の下面からガスや水蒸気が透過して、導電性層４に影響を与えることを防止できる。従って、そのような絶縁層２の膨潤に基づく誤検知や、絶縁層２の透過の影響に基づく誤検知を、防止することができる。
【００６９】
また、上記した説明では、保護層１５を、電極パターン３およびブリッジ配線９を被覆するように形成したが、例えば、図示しないが、保護層１５を、電極５および接続部８のみを被覆して、検知部２０の領域内に含まれない電極配線６および接続配線７を被覆しないように、形成することができる。
さらに、上記した説明では、保護層１５を形成したが、例えば、図示しないが、保護層１５を形成せず、電極５と導電性層４とを直接接触させることもできる。
【００７０】
図４〜図１２は、本発明のガス検知センサの他の実施形態を示す。なお、上記した部材に対応する部材については、以降の図面において同一の参照符号を付し、その詳細な説明を省略する。
上記した説明では、導電性層４を、２つに分割形成しているが、その分割数は、特に限定されない。例えば、３つ（図４参照）、あるいは、４つ以上に分割して形成することもできる。
【００７１】
図４において、導電性層４は、３つの導電性層、すなわち、第１導電性層４Ａ、第２導電性層４Ｂおよび第３導電性層４Ｃを備え、第１導電性層４Ａ、第３導電性層４Ｃおよび第２導電性層４Ｂが、右側から左側に向かって順次配置されている。
また、ブリッジ配線９は、第１導電性層４Ａおよび第３導電性層４Ｃを接続する第１ブリッジ配線９Ａと、第３導電性層４Ｃおよび第２導電性層４Ｂを接続する第２ブリッジ配線９Ｂとを備えている。
【００７２】
図４に示す３分割して形成される第１導電性層４Ａ、第２導電性層４Ｂおよび第３導電性層４Ｃは、それぞれ、上記した図１に示す第１導電性層４Ａおよび第２導電性層４Ｂのエリアに比べて小さいエリア、具体的には、第１導電性層４Ａ、第２導電性層４Ｂおよび第３導電性層４Ｃの全面積の１／３の面積のエリア毎に区画されるため、第１導電性層４Ａ、第２導電性層４Ｂおよび第３導電性層４Ｃの厚みをそれぞれより一層均一にすることができる。
【００７３】
そのため、導電性層４全体の厚みを均一にすることができる。その結果、特定のガスの種類や量（濃度）をより一層優れた精度で検知することができる。
詳しくは、導電性層４は、導電性層４全体の面積を予め決定しておき、かかる面積が厚みを均一に形成することが困難な程度に広い場合には、上記したように分割数を増加させるように設定する。これとともに、ブリッジ配線９の本数を増加させる。具体的には、導電性層４全体の面積が、例えば、４０ｍｍ２以上で、分割数２以上に設定し、あるいは、導電性層４全体の面積が、例えば、６０ｍｍ２以上で、分割数３以上に設定する。
【００７４】
また、上記した説明では、ブリッジ配線９を、平面視略コ（Ｕ）字形状に形成しているが、その形状は限定されない。例えば、平面視略矩形状（図５）、平面視略矩形枠形状（図６および図７）、平面視略Ｈ字形状（図８）に形成することができる。
図５において、ブリッジ配線９は、平板シート形状に形成されている。
このガス検知センサ１では、ブリッジ配線９が平板形状に形成されているので、第１導電性層４Ａおよび第２導電性層４Ｂ間における抵抗を低減できる。また、このブリッジ配線９は、断線を有効に防止することができ、ガス検知センサ１の歩留まりを向上させることができる。さらに、平板形状のブリッジ配線９が、絶縁層２を支持することができ、ガス検知センサ１の寸法の安定化を図ることができる。
【００７５】
図６において、ブリッジ配線９は、第１接続配線７Ａおよび第２接続配線７Ｂの前端部を接続する第４接続配線（前側接続配線）７Ｄをさらに備えている。
図７において、ブリッジ配線９は、平面視において、前側および後側の両方に向かって開く略Ｈ字形状に形成されており、第１接続配線７Ａおよび第２接続配線７Ｂの前後方向途中を接続する第５接続配線７Ｅをさらに備えている。第５接続配線は、左右方向に延びている。
【００７６】
図８において、ブリッジ配線９は、第１接続配線７Ａと、第２接続配線７Ｂと、第６接続配線（クロス配線）７Ｆとを一体的に備えている。第６接続配線（クロス配線）７Ｆは、第１接続配線７Ａおよび第２接続配線７Ｂの前後方向途中を接続し、左右方向に延びるように形成されている。
また、上記した説明では、ブリッジ配線９を設けているが、例えば、図９および図１０に示すように、ブリッジ配線９を設けず、第１導電性層４Ａおよび第２導電性層４Ｂを接続させることもできる。
【００７７】
図９および図１０において、第１導電性層４Ａおよび第２導電性層４Ｂは、第１導電性層４Ａの左側端面および第２導電性層４Ｂの右側端面において、互いに接触している。これにより、第１導電性層４Ａおよび第２導電性層４Ｂは、電気的に接続されている。
このガス検知センサ１では、ブリッジ配線９を設ける必要がないので、構成を簡略化することができる。また、ブリッジ配線９を設けないので、ブリッジ配線９における抵抗を考慮する必要が無く、より一層精度の高いガス検知を確実に実施することができる。
【００７８】
また、上記した図９および図１０の第１導電性層４Ａおよび第２導電性層４Ｂの形成において、それらを順次分割形成する時に、図１１および図１２に示すように、第１導電性層４Ａの左側端縁の上に、第２導電性層４Ｂの右側端縁が重なってしまう場合がある。そのような場合には、予め、ブリッジ配線９を形成しておき、その後、第１導電性層４Ａおよび第２導電性層４Ｂを順次形成する。
【００７９】
導電性層４において、第１導電性層４Ａの左側端縁と、第２導電性層４Ｂの右側端縁との重なり部分（重複部分）１４は、通常、前後方向に沿って延びるように形成される。
ブリッジ配線９は、第１接続配線７Ａおよび第２接続配線７Ｂが、重複部分１４を左右方向に挟むように、左右方向に隣接する第１導電性層４Ａおよび第２導電性層４Ｂに接続されている。
【００８０】
ガス検知センサ１において、導電性層４に重複部分１４が形成されている場合には、重複部分１４における導電性層４の厚みが、その周囲の厚み比べて、厚くなる。そうすると、重複部分１４の非導電性物質は、ガス検知時に、ガスの吸収または吸着に起因する膨潤の割合が、重複部分１４の周囲の非導電性物質のそれに比べて大きくなる。そのため、重複部分１４の電気抵抗値の変化は、重複部分１４の周囲の電気抵抗値の変化に比べて大きくなる。さらに、ブリッジ配線９が設けられていない場合には、第１電極５Ａおよび第２電極５Ｂ間における電気経路（パス）は、重複部分１４を通過するように形成される。
【００８１】
そのため、重複部分１４による大きな電気抵抗値の変化が、電気抵抗検知器１０によって検知されてしまうため、ガスの検知の精度が低下する場合がある。
しかし、図１１および図１２のガス検知センサ１では、導電性層４に重複部分１４が形成されていても、ブリッジ配線９が設けられているため、第１電極５Ａおよび第２電極５Ｂ間におけるパスが、重複部分１４を迂回して、第３接続配線７Ｃを通過するように形成される。同時に、第１導電性層４Ａおよび第２導電性層４Ｂは、それぞれブリッジ配線９の第１接続配線７Ａおよび第２接続配線７Ｂにより第３接続配線７Ｃを介して確実に接続される。その結果、精度の高いガス検知を確実に図ることができる。
【実施例】
【００８２】
以下に実施例および比較例を示し、本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は、何ら実施例および比較例に限定されることはない。
（ガス検知センサの製造）
実施例１
絶縁層としての厚み２５μｍの液晶ポリマーシートの上面に、導体層としての厚み１２μｍの銅箔が予め積層されている液晶ポリマー銅張積層板（品番：ＥＳＰＡＮＥＸ  Ｌ−１２−２５−００ＮＥ、片面品、標準タイプ、新日鐵化学社製）を用意し、サブトラクティブ法により、上記したパターンの電極パターンおよびブリッジ配線を同時に形成した（図１および図３（ｂ）参照）。
【００８３】
第１電極配線および第２電極配線の長さは２０ｍｍ、それらの幅は０．２５ｍｍであり、第１電極配線および第２電極配線間の間隔（Ｄ１）は５ｍｍであった。また、ブリッジ配線の幅は０．２５ｍｍであり、第１接続配線および第２接続配線の長さは１９ｍｍ、それらの間の間隔（Ｄ２）は２．５ｍｍであった。また、第１電極配線と第１接続配線との間の間隔、および、第２電極配線と第２接続配線との間の間隔は１．３ｍｍであり、電極配線の後端部と第３接続配線との間隔（Ｄ３）は１ｍｍであった。
【００８４】
次いで、保護層としての厚み０．５μｍの金層を、電極パターンおよびブリッジ配線の表面に形成した（図３（ｃ）参照）。
次いで、カーボンブラック（Ｂｌａｃｋ  ｐｅａｒｌ２０００）４０ｍｇ、ポリビニルアルコール１５０ｍｇ、および、ＴＨＦ２０ｍＬを配合し、混合して、導電性成分含有液を調製した。
【００８５】
次いで、上記により得られた導電性成分含有液を、超音波スプレーノズル（ＡｃｃｕＭｉｓｔ  Ｎｏｚｚｌｅ、Ｓｏｎｏ−Ｔｅｃ社製）を用いて、幅（左右方向長さ）１．６７ｍｍ、長さ（前後方向長さ）１８ｍｍの平面視矩形状の開口部（開口面積３０ｍｍ２）を備えるマスクを介して、絶縁層の上に噴き付けた（図３（ｄ）参照）。
詳しくは、導電性成分含有液の吹き付けは、２分割して実施した。具体的には、まず、上記したマスクで絶縁層を、開口部が絶縁層の右側に対向するように覆い、第１導電性層に対応するパターンで吹き付け、次いで、マスクを左側に移動させて、マスクで絶縁層を、開口部が絶縁層の左側に対向するように覆い、第２導電性層に対応するパターンで吹き付けることにより、第１導電性層および第２導電性層を、順次分割形成した。
【００８６】
また、導電性成分含有液の噴き付けは、超音波の周波数を６０ｋＨｚとし、２５℃において、アシストガス（空気ガス、吐出圧力０．４ｋＰａ、ノズル口径約１ｍｍ）を導入した。また、超音波スプレーノズルの先端から絶縁層までの距離は、４ｃｍとした。
実施例２
１本のブリッジ配線に代えて、２本のブリッジ配線を形成し、また、２つの導電性層（第１導電性層および第２導電性層）に代えて、３つの導電性層（第１導電性層、第２導電性層および第３導電性層）を形成した以外は、実施例１と同様にして、ガス検知センサを製造した（図４参照）。
【００８７】
なお、各ブリッジ配線における第１接続配線および第２接続配線間の間隔（Ｄ２）は１．６５ｍｍであり、第１電極配線６Ａおよび第１ブリッジ配線の第１接続配線間の間隔と、第２電極配線および第２ブリッジ配線の第２接続配線間の間隔と、第１ブリッジ配線の第２接続配線および第２ブリッジ配線の第１接続配線間の間隔とは、１．３ｍｍであった。
【００８８】
また、導電性成分含有液の噴き付けでは、３分割して実施し、幅（左右方向長さ）１．１１ｍｍ、長さ（前後方向長さ）１８ｍｍの平面視矩形状の開口部（開口面積２０ｍｍ２）を備えるマスクを用いた。
実施例３
ブリッジ配線の形状を、平面視コ字形状から平面視矩形の平板シート形状に変更した以外は、実施例２と同様にして、ガス検知センサを製造した（図５参照）。
【００８９】
なお、ブリッジ配線は、その外形形状が、実施例２のブリッジ配線の外周端縁と同一となるように形成した。
比較例１
電極パターンを設けず、また、２つの導電性層（第１導電性層および第２導電性層）に代えて、１つの導電性層を連続して形成した以外は、実施例１と同様にして、ガス検知センサを製造した（図１３参照）。
【００９０】
なお、導電性成分含有液の噴き付けでは、幅（左右方向長さ）３．３３ｍｍ、長さ（前後方向長さ）１８ｍｍの平面視矩形状の開口部（開口面積６０ｍｍ２）を備えるマスクを用いて、一度で導電性層を形成した。
（評価）
（電極間の抵抗）
各実施例および比較例により製造したガス検知センサにおける第１電極および第２電極間の抵抗値を、オームテスターにより、１０回繰り返し測定した。その結果を、表１に示す。
【００９１】
（センサ機能）
各実施例および比較例により製造したガス検知センサを用いて、エタノールガスを既知濃度で含有するガス（蒸気）雰囲気に暴露させ、その雰囲気におけるエタノールガスの検知を実施した。
その結果、実施例１〜３および比較例１のガス検知センサで、既知濃度通りのエタノールガスを検知することができた。また、このガス検知を、５回繰り返し測定したところ、実施例１〜３のガス検知センサは、比較例１のガス検知センサに比べて、ばらつき（標準偏差）が小さかった。
【００９２】
【表１】
2010164344.tif 000003
【符号の説明】
【００９３】
１    ガス検知センサ
２    絶縁層
５    電極
４    導電性層
５    ブリッジ配線
１４  重複部分
【図１】
2010164344.tif 000004
【図２】
2010164344.tif 000005
【図３】
2010164344.tif 000006
【図４】
2010164344.tif 000007
【図５】
2010164344.tif 000008
【図６】
2010164344.tif 000009
【図７】
2010164344.tif 000010
【図８】
2010164344.tif 000011
【図９】
2010164344.tif 000012
【図１０】
2010164344.tif 000013
【図１１】
2010164344.tif 000014
【図１２】
2010164344.tif 000015
【図１３】
2010164344.tif 000016