(57)【要約】【課題】玉軸受の製造コストの上昇を避けつつ、軸及びハウジングに生じるアキシアル方向の伸縮を玉軸受が吸収する性能を高める。【解決手段】内輪１と、外輪２と、内外輪１，２の軌道３，４間に介在する複数の玉５とを備え、軸６とハウジング７間に生じる伸縮を吸収する玉軸受において、内輪１により玉５のアキシアル方向の移動範囲を制限し、外輪２の軌道４を軸受中心軸が円筒中心軸となる円筒面状に形成することにより横断面上でアキシアル方向に沿った直線を成す横断面平坦状とし、内外輪１，２間に、玉５と外輪２の軌道４の接触点Ｐが軌道４の両端Ｐ３，Ｐ４いずれの端上にも位置することが可能な環状空間８を形成することにより、接触点Ｐが前記伸縮に伴って軌道４の両端Ｐ３，Ｐ４間に亘る幅Ｗ内で任意のアキシアル方向位置に移動可能とし、軌道４の幅Ｗ全域を利用して軸受で前記伸縮を吸収できるようにした。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
内輪と、外輪と、これら内外輪の軌道間に介在する複数の玉とを備え、軸とハウジング間に生じる伸縮を吸収する玉軸受において、
前記内外輪のうち、一方の軌道輪により前記玉のアキシアル方向の移動範囲を制限し、他方の軌道輪の軌道を横断面平坦状に形成し、前記内外輪間に、前記玉と前記他方の軌道の接触点が該軌道の両端いずれの端上にも位置することが可能な環状空間を形成したことを特徴とする玉軸受。
【請求項２】
前記他方の軌道を軸受中心軸が円筒中心軸となる円筒面状に形成した請求項１に記載の玉軸受。
【請求項３】
前記一方の軌道輪の軌道を、前記玉の直径の０．５１倍〜０．５５倍の値の溝半径を有する軌道溝とした請求項１又は２に記載の玉軸受。
【請求項４】
前記溝半径を前記玉の直径の０．５２倍の値とした請求項３に記載の玉軸受。
【請求項５】
前記他方の軌道輪を前記外輪とした請求項１〜４のいずれか１項に記載の玉軸受。
【請求項６】
前記他方の軌道輪を自己潤滑性をもった材料で形成した請求項１〜５のいずれか１項に記載の玉軸受。
【請求項７】
前記他方の軌道に自己潤滑性をもった被膜を形成した請求項１〜５のいずれか１項に記載の玉軸受。
【請求項８】
前記玉をセラミックスで形成した請求項１〜７のいずれか１項に記載の玉軸受。
【請求項９】
前記玉に自己潤滑性をもった被膜を形成した請求項１〜７のいずれか１項に記載の玉軸受。
【請求項１０】
前記被膜としてセラミックスの溶射層を形成した請求項９に記載の玉軸受。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、玉軸受に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、玉軸受は、ころ軸受よりも低トルク性を要求される場合に採用されている。軸及びハウジングは、それぞれ温度変化、外力の負荷等の要因によって膨張、収縮することがあり、個々にアキシアル方向の伸縮を生じ得る。前記伸縮を玉軸受内で吸収するため、正規の接触角のとき、内外輪の軌道と玉間にアキシアル方向のすきまを有するものが利用されている。この種の玉軸受は、内外輪のうち、一方の軌道輪を固定したとき、他方の固定されていない軌道輪が荷重を加えないでアキシアル方向に動きうる寸法関係に製造されている。このため、この種の玉軸受は、内外輪間でアキシアル方向の相対移動を許すように軸及びハウジングに組み込むことにより、前記伸縮に伴って内外輪間にアキシアル方向の相対移動を生じても運転することができる、すなわち前記伸縮を吸収することができる。
【０００３】
通常、玉軸受のラジアル内部すきまは、日本工業標準規格（ＪＩＳ１５２０−１９９５：転がり軸受のラジアル内部すきま  非特許文献１）に基いて決定される。深溝玉軸受に代表されるように、通常、玉軸受の内外輪は、横断面形状が玉の直径の半分より僅かに大きい半径の円弧を成す軌道溝をもつ。軌道溝の溝半径は、通常、内輪の溝半径が０．５２Ｄｗ（Ｄｗは玉の直径）の値を超えず、かつ外輪の溝半径が玉径Ｄｗの０．５３Ｄｗの値を超えない（日本工業標準規格（ＪＩＳ１５１８−１９９２：転がり軸受の動定格荷重及び定格寿命の計算方法の４．１における値  非特許文献２））。両標準規格に従う標準的な玉軸受は、内外輪の軌道と玉間のアキシアル方向のすきまが僅かである。
【０００４】
このような標準的な玉軸受だと前記伸縮の吸収が不十分になる場合、玉軸受の嵌め合い面と軸やハウジングの嵌め合い面とを緩く嵌合し、両嵌め合い面間でアキシアル方向の相対移動を許すことにより前記伸縮を逃がすようにしている。このような使用条件の玉軸受は、アキシアル荷重を負荷しないことが前提の純ラジアル荷重用となる。例えば、内輪回転荷重、外輪静止荷重の条件下で一対の軸受により軸を支持するとき、対一方の軸受を軸及びハジングに対してアキシアル方向に位置固定し、対他方の軸受の外輪をハウジングに対してアキシアル方向に位置固定し、内輪を軸に緩み嵌めし、一対の軸受の外輪間及び内輪間のアキシアル方向間隔をそれぞれ間座等で一定に保ち、内輪と軸の両嵌め合い面間で前記伸縮を逃がすことが行われている。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【０００５】
【非特許文献１】日本工業標準規格（ＪＩＳ１５２０−１９９５：転がり軸受のラジアル内部すきま）
【非特許文献２】日本工業標準規格（ＪＩＳ１５１８−１９９２：転がり軸受の動定格荷重及び定格寿命の計算方法）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、使用条件によっては、前記両嵌め合い面間で前記伸縮を逃がすことができない場合がある。例えば、前記対他方の軸受の内輪を軸に対してアキシアル方向に位置固定する絞まり嵌めにした場合、前記伸縮を逃がすことができない。さらに、標準的な玉軸受では、前記伸縮を吸収することができないと、運転中に玉軸受の内部すきまを正規の範囲に維持することができない。単純に内外輪の軌道と玉間のアキシアル方向のすきまを大きくすると、超仕上げにする内外輪の軌道の幅がそれぞれ長くなるため、製造コストの点で不利になる。
【０００７】
前記の事情に鑑み、この発明の課題は、玉軸受の製造コストの上昇を避けつつ、軸及びハウジングに生じるアキシアル方向の伸縮を玉軸受が吸収する性能を高めることにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
前記の課題を解決するため、この発明は、内輪と、外輪と、これら内外輪の軌道間に介在する複数の玉とを備え、軸及びハウジングに生じるアキシアル方向の伸縮を吸収する玉軸受において、前記内外輪のうち、一方の軌道輪により前記玉のアキシアル方向の移動範囲を制限し、他方の軌道輪の軌道を横断面平坦状に形成し、前記内外輪間に、前記玉と前記他方の軌道の接触点が該軌道の両端いずれの端上にも位置することが可能な環状空間を形成した構成を採用する。
【０００９】
この発明において、「アキシアル」の概念は、軸受中心軸に基く。「横断面」とは、アキシアル平面上における他方の軌道輪の切断面をいう。「軌道」とは、玉が転送する軌道輪の表面部分であって、超仕上げされた部分をいう。「幅」とは、アキシアル方向に亘る長さをいう。「軌道を横断面平坦状に形成する」とは、他方の軌道の横断面視における形状を、アキシアル方向に沿った直線状にすること、及び幾何学的には曲率を有しても前記伸縮の力により接触点が前記軌道の端に移動し得る曲線状にすることの双方を含む意味である。
【００１０】
純ラジアル荷重用の玉軸受は、内外輪の軌道と玉の接触角９０°での運転を前提にすればよく、内外輪の軌道の両方を軌道溝にする必要はない。したがって、内外輪の軌道間に介在する玉のアキシアル方向の移動範囲を一方の軌道輪により制限すれば、他方の軌道輪の軌道を含む周面の横断面形状を自由に決定することができる。他方の軌道を横断面平坦状に形成すれば、一方の軌道輪に制限された玉に対して、他方の軌道と玉の接触点のアキシアル方向位置が前記伸縮に伴って自然に移動するようになる。内外輪間に、玉と他方の軌道の接触点が該軌道の両端いずれの端上にも位置することが可能な環状空間を形成すれば、他方の軌道と玉の接触点は、前記伸縮に伴って他方の軌道の両端間に亘る幅内で任意のアキシアル方向位置に移動することができる。したがって、この発明に係る玉軸受は、他方の軌道の幅全域を利用して前記伸縮を吸収することができ、幅全域を利用できない標準的な玉軸受と比して、前記伸縮の吸収性能が高い。
【００１１】
また、他方の軌道の横断面平坦化によって全幅利用で吸収性能を高められるため、一方の軌道輪の軌道と玉間では、アキシアル方向のすきまを拡大する必要がない。したがって、この発明に係る玉軸受は、単純に内外輪の軌道と玉間のアキシアル方向のすきまを拡大する場合と比して、製造コストの上昇を避けつつ上記伸縮の吸収性能を高めることができる。
【００１２】
なお、標準的な深溝玉軸受のように内外輪の軌道の幅を同一にした場合でも、他方の軌道の全幅利用により吸収性能を高められるが、他方の軌道の幅は、他方の軌道輪の幅内で適宜に拡大することによりさらに吸収性能を高めることができる。
【００１３】
内輪の軌道を含む周面の横断面形状、及び外輪の軌道を含む周面の横断面形状は、それぞれ一方の軌道輪で玉のアキシアル方向位置を制限し、かつ接触点のアキシアル方向位置が幅全域に亘って移動可能である可能な限り適宜に決定することができる。
【００１４】
前記他方の軌道は、軸受中心軸が円筒中心軸となる円筒面状に形成することが好ましい。他方の軌道の横断面形状がアキシアル方向に沿った直線状となるため、幾何学的に横断面円弧状の軌道と比して、接触点が前記伸縮によってアキシアル方向位置に移動し易い。
【００１５】
一方、前記一方の軌道は、前記玉の直径の０．５１倍〜０．５５倍の値の溝半径を有する軌道溝とすることができる。一方の軌道と玉が一点で接触するので、ころ軸受に比して有利な玉軸受の低トルク特性を確保することができる。
【００１６】
前記溝半径を前記玉の直径の０．５２倍の値にすれば、接触面圧を最適にすることができる。
【００１７】
前記他方の軌道と前記玉の接触点では、前記伸縮を吸収するときにアキシアル方向の滑りを生じる。内外輪の軌道周方向の曲率差のみを考えると、内輪の軌道と玉の接触点は、外輪の軌道と玉の接触点よりも接触楕円の面積が小さくなるから、内輪の軌道と玉の接触面圧は外輪側よりも大きくなる。
【００１８】
前記他方の軌道輪を前記外輪とすれば、接触面圧の小さい外輪の軌道と玉間で前記アキシアル方向の滑りを生じさせるので、内輪側で生じさせる場合と比して、接触面圧の大きな内輪側の負荷を軽減することができる。
【００１９】
また、他方の軌道と玉の接触点で前記アキシアル方向の滑りを生じるため、他方の軌道や玉の表面において表面起点形の損傷を防止することが好ましい。
【００２０】
具体的には、前記他方の軌道側で行う損傷防止手段として、他方の軌道輪を自己潤滑性をもった材料で形成することができる。軌道輪全体を自己潤滑性をもった材料で形成するため、接触点での潤滑を継続的に確保し、前記損傷を防ぐことができる。
【００２１】
また、前記他方の軌道側で行う別の損傷防止手段として、他方の軌道に自己潤滑性をもった被膜を形成することができる。既存の軌道輪の軌道に被膜処理を追加するだけで簡単に前記損傷を防止することができる。
【００２２】
前記玉側で行う損傷防止手段として、玉をセラミックスで形成することができる。軸受鋼、マルテンサイト系ステンレス鋼等の鋼と比して、耐摩耗性、自己潤滑性に優れたセラミックスで玉全体を形成するため、前記損傷を防止することができる。
【００２３】
また、前記玉側で行う別の損傷防止手段として、玉に自己潤滑性をもった被膜を形成することができる。既存の玉に被膜処理を追加するだけで簡単に前記損傷を防止することができる。また、軌道に被膜処理を施す場合と比して、大掛かりな表面処理槽を用意する必要がない。
【００２４】
例えば、前記被膜としてセラミックスの溶射層を形成することができる。セラミックス溶射法で被膜を形成すれば、玉の表面という必要最小限の部位にセラミックスを存在させることができ、製造コストを低減するのに有利である。
【発明の効果】
【００２５】
上述のように、この発明は、内外輪のうち、一方の軌道輪により玉のアキシアル方向の移動範囲を制限し、他方の軌道輪の軌道を横断面平坦状に形成し、内外輪間に、玉と他方の軌道の接触点が該軌道の両端いずれの端上にも位置することが可能な環状空間を形成したことにより、一方の軌道と玉間でアキシアル方向のすきまを拡大することなく、軸及びハウジングに生じるアキシアル方向の伸縮を他方の軌道の幅全域を利用して吸収することが可能なため、製造コストの上昇を避けつつ前記伸縮を玉軸受が吸収する性能を高めることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】第１実施形態に係る玉軸受を示す横断面図
【図２】（ａ）は第１実施形態の内外輪間にアキシアル方向一方側へ相対移動が生じる様子を示す作用図、（ｂ）は前記（ａ）と反対側へ相対移動が生じる様子を示す作用図
【図３】第１実施形態における外輪の軌道の変形例を示す横断面図
【発明を実施するための形態】
【００２７】
この発明の第１実施形態に係る玉軸受を図１、図２に基いて説明する。図示のように、第１実施形態に係る玉軸受は、内輪１と、外輪２と、これら内外輪１，２の軌道３，４間に介在する複数の玉５とを備えている。内輪１は軸６に対してアキシアル方向に位置固定され、外輪２はハウジング７に対してアキシアル方向に位置固定されている。したがって、軸６及びハウジング７に生じるアキシアル方向の伸縮は、第１実施形態に係る玉軸受と軸６及びハウジング７との嵌め合い面で吸収されず、玉軸受が吸収することになる。なお、固定手段は、図示省略するが、間座、軸やハウジングの肩、蓋等を適宜に採用すればよい。
【００２８】
内輪１の軌道３は、溝半径Ｒを有する軌道溝とされている。ころ軸受に比して有利な玉軸受の低トルク特性を確保する目的から、溝半径Ｒは、玉５の直径Ｄｗの０．５１倍〜０．５５倍の値の中から適宜に決定することが好ましい。特に、玉５の直径Ｄｗの０．５２倍の値にすれば、軌道３と玉５の接触点における接触面圧を最適にすることができる。
【００２９】
外輪２の軌道４は、軸受中心軸が円筒中心軸となる円筒面状に形成されている。その結果、軌道４の横断面は、任意のアキシアル平面上において、アキシアル方向に沿った直線を成す横断面平坦状に形成されている。軸受運転中、外輪２が玉５をアキシアル方向に支持する能力は実質的に期待できない。したがって、第１実施形態は、純ラジアル荷重支持用の玉軸受となる。なお、軸受中心軸は、内外輪１，２の中心軸、軸６の回転中心軸、並びに軸６及びハウジング７の各嵌め合い面の中心軸に一致すると考えてよい。
【００３０】
内外輪１，２の軌道３，４の幅Ｗは、同幅とされている。幅Ｗは、横断面円弧状を成す軌道３と両肩を繋ぐ横断面上の変曲点Ｐ１，Ｐ２間のアキシアル方向長さである。軌道３，４の幅Ｗを同幅にするのは、軌道４を形成するための超仕上げ幅の拡大を避けるためである。
【００３１】
軌道４の両端は、横断面上における軌道４の幅Ｗを規定する点Ｐ３，Ｐ４であり、超仕上げ面の両端となっている。軌道４の両側は、軌道４と同一円筒面を成すように形成されている。外輪２と玉５の接触点Ｐでアキシアル荷重を支持する必要がないので、従来のように軌道４の両側に肩部を形成する必要がない。
【００３２】
軌道４が前記の円筒面状に形成されているため、軌道３，４間に介在する玉５の内輪１に対するアキシアル方向の移動範囲は、軌道３と玉５の接触で内輪１により制限される。内輪１は、前記移動範囲を軌道３の略幅中央に制限する。なお、第１実施形態では、正規の軸受取付位置における軸受幅の中央が幅Ｗの幅中央に一致している。正規の軸受取付位置は、内外輪１，２の幅中央位置が同一ラジアル平面上にあり、かつ軌道３，４と玉５の接触角が９０°になる位置である。前記移動範囲の制限は、玉５を軌道３，４間に留めることが可能な限り適宜に行えばよく、この制限が得られる限り、軌道３を含む内輪１の横断面形状を適宜に決定することができる。前記移動範囲の制限は、玉５の転動を安定させるため、なるべく軌道３，４と玉５の接触角が９０°から狂わないようにすることが好ましい。また、前記移動範囲の制限は、玉５と軌道３の接触楕円が肩部に至らないように行い、玉５と軌道３間の接触面圧の上昇を防止することが好ましい。これら制限目的は、軌道３の幅Ｗを標準的な内輪の軌道幅から拡大することなく実現することができる。
【００３３】
内外輪１，２間には、環状空間８が形成されている。この環状空間８は、図２（ａ），（ｂ）から明らかなように、軌道３，４間に介在する玉５と外輪２の軌道４の接触点Ｐが軌道４の両端Ｐ３，Ｐ４いずれの端上にも位置することが可能なように形成されている。したがって、接触点Ｐは、前記伸縮に伴って内外輪１，２間にアキシアル方向の相対移動が生じたとき、軌道４の両端Ｐ３，Ｐ４間に亘る幅Ｗ内で任意のアキシアル方向位置に移動することができる。
【００３４】
一例として、図２（ａ）のように軸６がハウジング７よりもアキシアル方向に長く伸びる場合を説明する。この場合、軸６の伸びにより内輪１が外輪２に対してアキシアル方向に移動する。その結果、軌道３，４間に介在する玉５は、ハウジング７に対してアキシアル方向に位置固定された外輪２の軌道４によって擦られ、軌道３上で伸び方向側へ片寄ろうとする。この玉５の片寄りは、横断面円弧状とした軌道３をもつ内輪１により軌道３の略幅中央に制限される。その結果、外輪２の軌道４と玉５の接触点Ｐのアキシアル方向位置は、軸６の伸び量に応じて移動する。玉５が軌道３，４間に介在することができるのは、接触点Ｐが軌道４の端Ｐ３又はＰ４に達するまでであり、この限りで軸６の伸びを許したまま運転することができる、すなわち軸６の伸びを吸収することができる。図２（ｂ）のように軸６が縮むときは、接触点Ｐは逆側に移動するだけであり、同じように軸６の縮みを吸収することができる。ハウジング７が軸６よりもアキシアル方向に長く伸縮する場合も、外輪２が内輪１に対してアキシアル方向に移動するだけのことであり、軸６の場合と同じように伸縮を吸収することができる。
【００３５】
上述の関係から明らかなように、第１実施形態に係る玉軸受は、軸６及びハウジング７に生じる前記伸縮を外輪２の軌道４の幅Ｗ全域を利用して吸収することができるので、標準的な玉軸受と比して、前記伸縮の吸収性能を高めることができる。さらに、第１実施形態に係る玉軸受は、内輪１の軌道３と玉５間でアキシアル方向のすきまを拡大することなく吸収性能を高められるので、製造コストの上昇を避けることができる。
【００３６】
軌道４の幅を軌道３の幅Ｗよりも大きくすれば、さらに吸収性能を高めることも可能である。
【００３７】
伸び側の吸収性能と縮み側の吸収性能を同じにするか、いずれか一方側を優先するかは、運転前に外輪２をハウジング７に対してアキシアル方向に位置固定する位置関係で適宜に調整することができる。図１の例では、伸び側の吸収性能と縮み側の吸収性能を同じにするため、正規の軸受取付位置で接触点Ｐが軌道４の幅中央に位置している。
【００３８】
外輪２の内径面を円筒面としたため、第１実施形態に係る玉軸受のアキシアルすきまは無限大となり、外輪２は分離形になる。内輪１、複数の玉５と、玉５をポケットに保持する保持器（図示省略）とで軌道輪アセンブリを構成すれば、外輪２が分離形になっても玉軸受の取扱いが不便になることはない。
【００３９】
外輪２の軌道４は、図３に変形例を示すように、前記伸縮の力により接触点Ｐが軌道４の両端Ｐ３，Ｐ４の各端まで移動可能な限り、幾何学的に横断面円弧状にすることもできる。
【００４０】
第１実施形態に係る玉軸受は、図１、図２に示すように、軌道４の横断面形状がアキシアル方向に沿った直線状としたため、図３の変形例と比して、接触点Ｐが前記伸縮によってアキシアル方向位置に移動し易い。
【００４１】
第１実施形態は前記他方の軌道輪を外輪２とした例であるが、内外輪１，２の軌道３，４を含む周面の横断面形状を逆転すれば、前記伸縮を内輪１の軌道３の幅Ｗ全域を利用して吸収することができる。
【００４２】
外輪２の軌道４と玉５の接触点Ｐでは、前記伸縮を吸収するときにアキシアル方向の滑りが生じる。第１実施形態に係る玉軸受は、接触面圧の小さい軌道４と玉５間で前記アキシアル方向の滑りを生じさせるので、内輪１側で生じさせる場合と比して、接触面圧の大きな内輪１側の負荷を軽減することができる。
【００４３】
また、外輪２の軌道４や玉５の表面において表面起点形の損傷を防止するため、係る損傷の防止手段を適宜に採用することができる。
【００４４】
例えば、軌道４側で行う損傷防止手段として、外輪２を自己潤滑性をもった材料で形成することができる。外輪２の全体を自己潤滑性をもった材料で形成するため、接触点Ｐでの潤滑を継続的に確保し、被膜処理よりも長期間に亘って前記損傷を防ぐことができる。
【００４５】
また、軌道４側で行う別の損傷防止手段として、軌道４に自己潤滑性をもった被膜を形成することができる。既存の外輪２の軌道に被膜処理を追加するだけで簡単に前記損傷を防止することができる。
【００４６】
玉５側で行う損傷防止手段として、玉５をセラミックスで形成することができる。軸受鋼、マルテンサイト系ステンレス鋼等の鋼と比して、耐摩耗性、自己潤滑性に優れたセラミックスで玉５の全体を形成するため、被膜処理よりも長期間に亘って前記損傷を防止することができる。
【００４７】
また、玉５側で行う別の損傷防止手段として、玉５に自己潤滑性をもった被膜を形成することができる。既存の玉５に被膜処理を追加するだけで簡単に前記損傷を防止することができる。
【００４８】
玉５の被膜形成には、軌道４の場合と同様の材料、方法を採用することができる。軌道４に被膜処理を施す場合と比して、大掛かりな表面処理槽を用意する必要がない。
【００４９】
玉５の前記被膜としてセラミックスの溶射層を形成することができる。このように溶射法を採用すれば、玉５の表面という必要最小限の部位にセラミックスを存在させることができ、玉全体をセラミックス製にするよりも製造コストを低減するのに有利である。
【００５０】
外輪２や玉５を形成する自己潤滑性材料、軌道４や玉５に形成する被覆材料及び被覆処理法は従来周知の技術を適宜に採用すればよい。自己潤滑性をもった材料として、例えば、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、エチレン−テトラフルオロエチレン共重合体（ＥＴＦＥ）、テトラフルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体（ＰＦＡ）を代表としたフッ素系樹脂、黒鉛、二硫化モリブデン、セラミックスなどが挙げられる。セラミックスとして、アルミナ、ジルコニア、炭化ケイ素、窒化ケイ素等を用いることができる。特に、窒化ケイ素は、軸受鋼やマルテンサイト系ステンレス鋼と比して、耐熱性に優れ、高強度で耐摩耗性が良好である。被膜処理方法として、例えば、上述の溶射法の他に、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の薄膜形成法が知られている。例えば、前記自己潤滑性材料として、二硫化モリブデンのような固体潤滑剤又はＰＴＦＥ等の潤滑性のある重合体などを、スパッタリング（イオンプレーティング、蒸着など）等の手段によって、被覆することができる。また、ＰＴＦＥの潤滑特性をそのまま利用する方法として、この重合体粉末をポリアミドイミド、ポリイミド、フェノール樹脂等を結合剤として被覆することもできる。
【００５１】
前記の各損傷防止手段は、適宜に単独で、又はこれらを組み合わせて採用すればよい。内輪１を他方の軌道輪とする場合も、同様に各損傷防止手段を適宜に採用することができる。
【００５２】
この発明の範囲は、上述の実施形態に限定されず、特許請求の範囲の記載と均等の範囲内での全ての変更を含むものである。
【符号の説明】
【００５３】
１  内輪
２  外輪
３，４  軌道
５  玉
６  軸
７  ハウジング
８  環状空間
【図１】
2010270819.tif 000003
【図２】
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【図３】
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