(57)【要約】【課題】光情報記録媒体（例えばＢＤ−ＲＯＭ）の反射膜として適切な反射率を示すと共に、再生安定性に優れる反射膜を備えた、青色レーザーを使用する読み出し専用光情報記録媒体を提供する。【解決手段】反射膜を有する読み出し専用の光情報記録媒体であって、前記反射膜が、Ｓｉおよび／またはＧｅを５〜４０％（％は、原子％を意味する）含有するＡｌ基合金からなることを特徴とする読み出し専用の光情報記録媒体。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
反射膜を有する読み出し専用の光情報記録媒体であって、前記反射膜が、Ｓｉおよび／またはＧｅを５〜４０％（特記しない限り、成分において％は原子％を意味する。以下同じ。）含有するＡｌ基合金からなることを特徴とする読み出し専用の光情報記録媒体。
【請求項２】
基板上に前記反射膜および光透過層の積層された構造を含み、かつ青色レーザーによって情報の再生が行われる請求項１に記載の読み出し専用の光情報記録媒体。
【請求項３】
請求項１または２に記載の光情報記録媒体に用いられる反射膜形成用のスパッタリングターゲットであって、Ｓｉおよび／またはＧｅを５〜４０％含有するＡｌ基合金からなることを特徴とする光情報記録媒体の反射膜形成用スパッタリングターゲット。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば青色レーザーを使用して再生を行う読み出し専用型のＢＤ（ブルーレイディスク）等の光情報記録媒体、および該光情報記録媒体の反射膜形成用スパッタリングターゲットに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
光情報記録媒体（光ディスク）は、記録再生原理に基づき、読み出し専用型、追記型、書き換え型の３種類に大別される。
【０００３】
図１に、読み出し専用の光情報記録媒体（１層光ディスク）の代表的な構成を模式的に示す。図１に示すように、読み出し専用の光情報記録媒体は、透明プラスチックなどの基板１の上に、Ａｇ、Ａｌ、Ａｕなどを主成分とする反射膜２と、光透過層３とが順次積層された構造を有している。基板１には、ランド・ピットと呼ばれる凹凸の組み合わせによる情報が記録されており、例えば、厚さ１．１ｍｍ、直径１２ｃｍのポリカーボネート製基板が用いられる。光透過層３は、例えば光透過シートの貼り合せまたは光透過性樹脂の塗布・硬化によって形成される。記録データの再生は、光ディスクに照射されたレーザー光の位相差や反射差を検出することによって行われる。
【０００４】
図１には、ランド・ピット（記録データ）の組み合わせによる情報が記録された基板１上に、反射膜２および光透過層３がそれぞれ１層ずつ形成された１層光ディスクを示しているが、例えば図２に示すように、第１の情報記録面１１および第２の情報記録面１２を備えた２層光ディスクも用いられる。詳細には、図２の２層光ディスクは、凹凸のランド・ピット（記録データ）の組み合わせによる情報が記録された基板１上に、第１の反射膜２Ａ、第１の光透過層３Ａ、第２の反射膜２Ｂ、および第２の光透過層３Ｂが順次積層された構成を有しており、第１の光透過層３Ａには、基板１とは別の情報がランド・ピットの組み合わせによって記録されている。
【０００５】
光ディスクに用いられる前記反射膜としては、これまで、Ａｕ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｌ及びこれらを主成分とする合金が汎用されてきた。
【０００６】
このうち、Ａｕを主成分とする反射膜は、化学的安定性に優れ、記録特性の経時変化が少ないという利点を有するが、極めて高価であり、また、例えばＢＤの記録再生に使用される青色レーザー（波長４０５ｎｍ）に対し、十分高い反射率が得られないという問題がある。また、Ｃｕを主成分とする反射膜は安価であるが、従来の反射膜材料のなかで最も化学的安定性に劣っているほか、Ａｕと同様、青色レーザーに対する反射率が低いという欠点があり、用途が制限されている。これに対し、Ａｇを主成分とする反射膜は、実用波長領域である４００〜８００ｎｍの範囲で充分高い反射率を示しており、高い化学的安定性を持つことから、現在、青色レーザーを使用する光ディスクにおいて広く利用されている。
【０００７】
Ａｌは波長４０５ｎｍにおいて十分高い反射率を示し、Ａｇ、Ａｕに比べ価格が安価であるものの、Ａｇ系やＡｕ系の反射膜より化学的安定性に劣っている。よって、耐久性を確保すべく、反射膜の厚みを十分厚くする必要があり、例えばＤＶＤ−ＲＯＭでは、Ａｌ系反射膜の膜厚を十分厚くしている。しかし青色レーザーを使用するＢＤ−ＲＯＭ（読み出し専用型のブルーレイディスク）では、従来のＡｌ系反射膜の膜厚を増加させると、記録信号（再生信号）の精度が低下（すなわち、ジッター値が上昇）し、安定した再生を行うことができないという問題がある。
【０００８】
光ディスクの反射膜にＡｌ系合金を用いた技術として、例えば特許文献１には、添加元素としてＧｅ、Ｔｉ、Ｎｉ、Ｓｉ、Ｔｂ、Ｆｅ、Ａｇのうちの少なくとも１種以上の元素を含むＡｌ合金を反射膜に用いた光情報記録媒体が挙げられている。
【０００９】
しかし、特許文献１は、ＤＶＤに適用することを前提とした技術であり、これを例えば上記ＢＤ−ＲＯＭに適用するには、記録信号の正確性を高めて、安定した再生を実現することが必要となると考えられる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】ＷＯ０１／００８１４５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明は上記の様な事情に着目してなされたものであって、その目的は、光情報記録媒体（例えばＢＤ−ＲＯＭ）の反射膜として適切なディスク反射率（以下、単に反射率という）を示すと共に、再生安定性に優れた反射膜を備えた、光情報記録媒体、および上記反射膜の形成に有用なスパッタリングターゲットを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記課題を解決し得た本発明の光情報記録媒体は、反射膜を有する読み出し専用の光情報記録媒体であって、前記反射膜が、Ｓｉおよび／またはＧｅを５〜４０％（特記しない限り、成分において％は原子％を意味する。また、ＳｉおよびＧｅを含む場合には、これらの合計量をいう。以下同じ）含有するＡｌ基合金からなるところに特徴を有する。
【００１３】
上記光情報記録媒体は、例えば、基板上に前記反射膜および光透過層の積層された構造を含み、かつ青色レーザーによって情報の再生を行う読み出し専用の光情報記録媒体として好適に用いることができる。
【００１４】
本発明には、前記光情報記録媒体に用いられる反射膜形成用のスパッタリングターゲットであって、Ｓｉおよび／またはＧｅを５〜４０％（ＳｉおよびＧｅを含む場合には、これらの合計量をいう。以下同じ）含有するＡｌ基合金からなるところに特徴を有する光情報記録媒体の反射膜形成用スパッタリングターゲットも含まれる。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、光情報記録媒体（例えばＢＤ−ＲＯＭ）の反射膜として適切な反射率を示すと共に再生安定性に優れた反射膜を実現できるため、従来のＡｇ合金を反射膜に使用した光情報記録媒体と比較して、製造コストの抑えられた読み出し専用の光情報記録媒体を提供することができる。
【００１６】
本発明の光情報記録媒体は、特に、青色レーザーを用いて再生を行うＢＤ−ＲＯＭなどの光情報記録媒体に好適に用いられる。
【００１７】
尚、本発明において、上記適切な反射率とは、後述する実施例に示す方法で測定する初期反射率が、４０．０％以上７５％以下の範囲内にあることを意味する。初期反射率は、その下限が５０％であることが好ましい。一方、その上限は６５％であることが好ましく、下記初期ジッター値を容易に達成する観点からは、６０％未満であることがより好ましい。また再生安定性に優れるとは、後述する実施例に示す方法で測定する初期ジッター値が６．５％以下であることを意味する。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】図１は、読み出し専用の光情報記録媒体（１層光ディスク）の円周方向の要部を模式的に示す断面図である。
【図２】図２は、他の読み出し専用の光情報記録媒体（２層光ディスク）の円周方向の要部を模式的に示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
本発明者らは、上記目的を達成すべく、特に光情報記録媒体（例えばＢＤ−ＲＯＭ）の反射膜として適切な反射率を示すと共に、再生安定性に優れた反射膜の素材となり得るＡｌ基合金について様々な角度から検討した。
【００２０】
具体的には、まず前述した特許文献１等に記載の種々の合金元素を含むＡｌ基合金を用いて、これらの合金元素が反射率や再生安定性に及ぼす影響を詳細に検討した。より具体的には、ピット・ランドが形成されたポリカーボネート基板上に、スパッタリング法によって種々のＡｌ合金膜を成膜した後、紫外線硬化樹脂の光透過層を成膜した１層ＢＤ−ＲＯＭを作製し、このＢＤ−ＲＯＭについて初期反射率や初期ジッター値を測定した。その結果、光情報記録媒体（例えばＢＤ−ＲＯＭ）の反射膜として適切な反射率を確保するには、Ａｌ合金膜に含有させる合金元素としていくつか挙げられるが、この適切な反射率と、優れた再生安定性の２特性を同時に達成させるには、種々の合金元素の中でも特に、Ｓｉおよび／またはＧｅを含有させることが大変有効であることを見出し、本発明に想到した。
【００２１】
上記元素が有効に作用する理由については定かではないが、次の様に考えられる。即ち、ＢＤでは、ピットによるレーザー光の反射・干渉を利用し再生を行っているため、レーザー光の反射挙動が再生特性に影響を与えるものと考えられる。本発明では、この反射挙動を左右する反射膜を、Ｓｉおよび／またはＧｅを含むものとすることで、反射膜の光学定数が変化して最適化され、その結果、初期ジッター値上昇の抑制、即ち、再生安定性の向上に有効に作用するものと考えられる。
【００２２】
上記作用効果を十分に発揮させるには、Ｓｉおよび／またはＧｅを５％以上含有させる必要がある。５％未満では上記ジッター値を十分小さくする効果が不十分となる。好ましくは上記元素の含有量を１２％以上とする。一方、上記元素量の上限は４０％とする。Ｓｉ、Ｇｅの含有量を増加させると、反射膜を構成するＡｌ合金膜の吸収率が増加し、相対的に反射率が低下して、再生に必要な信号強度が得られなくなるか、初期ジッター値が高まり、優れた再生安定性を確保できないからである。上記元素量は、好ましくは１７％以下である。
【００２３】
本発明に係る反射膜は、基本的に、Ｓｉおよび／またはＧｅを上記量含み、残部：Ａｌおよび不可避不純物である。
【００２４】
尚、更なる特性向上を目指して、例えば希土類元素であるＮｄ、Ｇｄ、Ｙ等を１〜５％の範囲で更に添加しても良く、これにより耐久性を向上させることができる。
【００２５】
本発明に係る反射膜は、膜厚を１５ｎｍ以上とすることが好ましい。Ａｌは大気中において透明な酸化皮膜（Ａｌ酸化膜）を形成する。酸化皮膜の成長に伴い、実質的なＡｌ合金部分が減少して、反射率が低下しやすくなるためである。より好ましくは３０ｎｍ以上である。一方、反射膜の膜厚が厚すぎると、成膜時間が長くなり製造コストが高くなる。よって、生産性の観点から、膜厚は１００ｎｍ以下とすることが好ましい。
【００２６】
本発明の光情報記録媒体は、前記成分組成を満たすＡｌ基合金からなる反射膜を備えているところに特徴があり、当該反射膜が適用される光ディスクの構成については特に問わない。本発明に係る反射膜は、例えば前記図１の反射膜２や前記図２の第１の反射膜２Ａとして好ましく用いることができる。また、光ディスクにおけるその他の構成部分（光透過層、基板などの種類）についても特に限定されず、通常、用いられるものを採用することができる。
【００２７】
例えば前記図１、２における基板１として、光ディスク用基板に汎用される樹脂、具体的には、例えば紫外線硬化樹脂やポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂などを用いることができる。価格や機械的特性などを考慮すると、ポリカーボネートの使用が好ましい。
【００２８】
基板１の厚さは、おおむね、０．４〜１．２ｍｍの範囲内であることが好ましい。また、基板上に形成されるピットの深さは、おおむね、５０〜１００ｎｍの範囲内であることが好ましい。
【００２９】
前記図１、２における光透過層３、３Ａ、３Ｂの光透過層の種類も限定されず、例えば、紫外線硬化樹脂、ポリカーボネート樹脂等を用いることができる。光透過層の厚さは、１層光ディスクでは約１００μｍ程度であることが好ましく、２層光ディスクでは、第１の光透過層３Ａの厚さは約２５μｍ程度、第２の光透過層３Ｂの厚さは約７５μｍであることが好ましい。
【００３０】
本発明に係る反射膜は、例えば、スパッタリング法、蒸着法などによって成膜することができるが、スパッタリング法が好ましい。スパッタリング法によれば、上記の合金元素がＡｌマトリックス中に均一に分散するので均質な膜が得られ、安定した光学特性や耐久性が得られるからである。
【００３１】
スパッタリング時における成膜条件は特に限定されないが、例えば、以下のような条件を採用することが好ましい。
・基板温度：室温〜５０℃
・到達真空度：１×１０−５Ｔｏｒｒ以下（１×１０−３Ｐａ以下）
・成膜時のガス圧：１〜４ｍＴｏｒｒ
・ＤＣスパッタリングパワー密度（ターゲットの単位面積当たりのＤＣスパッタリングパワー）：１．０〜２０Ｗ／ｃｍ２
【００３２】
上記スパッタリング法で、本発明に係る反射膜を形成するには、用いるスパッタリングターゲットとして、Ｓｉおよび／またはＧｅを５〜４０％含有するＡｌ基合金からなるものであって、所望の成分・組成の反射膜とほぼ同一の成分・組成のＡｌ基合金スパッタリングターゲットを用いれば、組成ズレすることなく、所望の成分・組成の反射膜を形成できるのでよい。
【００３３】
本発明のスパッタリングターゲットのＡｌ基合金の化学成分組成は、上述の通りであり、残部はＡｌおよび不可避不純物である。
【００３４】
上記スパッタリングターゲットは、溶解・鋳造法、粉末焼結法、スプレーフォーミング法などのいずれの方法によっても製造することができる。
【実施例】
【００３５】
以下、実施例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明はもとより下記実施例によって制限を受けるものではなく、前・後記の趣旨に適合し得る範囲で適当に変更を加えて実施することも勿論可能であり、それらはいずれも本発明の技術的範囲に包含される。
【００３６】
まず、ランド・ピットを有するＮｉスタンパーを用い、ポリカーボネートを射出成型することによって厚さ１．１ｍｍの基板を得た。そして得られた基板上に、表１に示す膜厚の純Ａｌ反射膜または各成分組成のＡｌ基合金反射膜を、ＤＣマグネトロンスパッタリング法により形成した。上記反射膜の形成には、純Ａｌスパッタリングターゲット、純Ａｌスパッタリングターゲット上に各種合金添加用の純金属チップを配置した複合スパッタリングターゲット、またはＡｌ基合金スパッタリングターゲットを用いた。
【００３７】
また、スパッタリング装置には、複数のターゲットの同時放電が可能な多元スパッタリング装置（（株）アルバック製  ＣＳ−２００、または（株）アルバック製  ＳＩＨ−Ｓ１００）を用いた。スパッタリング条件は、Ａｒガス流量：２０ｓｃｃｍ、Ａｒガス圧：約０．１Ｐａ、ＤＣスパッタリングパワー密度：２〜５Ｗ／ｃｍ２、到達真空度：２．０×１０−６Ｔｏｒｒ以下とした。成膜したＡｌ基合金反射膜の成分組成（表１）は、ＩＣＰ発光分光法、ＩＣＰ質量分析法、または蛍光Ｘ線分析によって求めた。
【００３８】
次いで、上記の様にして得られた反射膜の上に、スピンコート法により膜厚１００μｍとなるよう紫外線硬化樹脂を塗布し、紫外線を照射して樹脂の硬化を行い、光透過層を形成した。このようにして各種組成の反射膜をもつ１層ＢＤ−ＲＯＭを作製した。
【００３９】
（初期ジッターの測定）
そして、パルステック社製ＯＤＵ−１０００および横河電機社製ＴＡ−８１０を用い、以下の条件でジッター値が最小になるよう、チルト及びフォーカスを調整し、初期ジッター値を測定した。そしてこの初期ジッター値が６．５％以下のものを合格とした。
再生レーザーパワー：０．３５ｍＷ
ディスク回転速度：４．９８ｍ／ｓ
【００４０】
（初期反射率の測定）
また、反射率の測定には、横河電機社製デジタルオシロスコープを用い、反射信号の最大レベルからディスク反射率を算出した。そしてこの反射率が４０．０％以上で７５％以下の範囲内にある場合を合格（適切な反射膜を示す）とした。これらの結果を表１に併記する。
【００４１】
【表１】
2010250888.tif 000002
【００４２】
表１より次の様に考察できる。即ち、本発明で規定する成分を規定量含むＡｌ基合金からなる反射膜は、初期反射率が規定の範囲内にあり、かつ初期ジッター値が低く再生安定性に優れていることがわかる。
【００４３】
これに対し、純Ａｌ膜や、本発明で規定する成分を含まないＡｌ基合金膜、本発明で規定する成分を含むがその含有量が規定範囲を外れているものは、初期反射率が規定の範囲内にないか、初期ジッター値が高く再生安定性が悪いことがわかる。
【００４４】
具体的にＮｏ．１は、純Ａｌ膜であり、またＮｏ．２〜５は、規定の元素であるＳｉおよび／またはＧｅを含むものでないため、初期ジッター値が高くなっている。
【００４５】
Ｎｏ．６、１４は、規定の元素を含む例であるが、その含有量が不足しているため、初期ジッター値が高くなっている。
【００４６】
一方、Ｎｏ．１３および２２は、規定の元素を含む例であるが、その含有量が過剰であるため、初期ジッター値が高いか初期反射率の低いものとなった。
【符号の説明】
【００４７】
１  基板
２  反射膜
３  光透過層
２Ａ  第１の反射膜
２Ｂ  第２の反射膜
３Ａ  第１の光透過層
３Ｂ  第２の光透過層
１１  第１の情報記録面
１２  第２の情報記録面
【図１】
2010250888.tif 000003
【図２】
2010250888.tif 000004