(57)【要約】 【課題】残像及びムラの発生を防ぐ表示基板の提供。【解決手段】  表示基板及びこれを有する垂直配向モードの表示パネルにおいて、表示パネルは表示基板の一例としてアレイ基板またはアレイ基板と対向する基板を含む。アレイ基板の共通電極には画素領域に斜線方向に向かった延長された複数の第１スリット部が形成される。各第１スリット部の互いに対向するエッジには溝及び突出部が互いに交互的に対向するように形成され、第１スリット部はジグザグの折り曲げパターンの形状を有する。液晶は、突出部の側面、即ち第１スリット部の折り曲げられる部分で陽の特異点を形成し、陽の特異点との間に陰の特異点を形成する。液晶の特異点を常に一定する位置で発生するように誘導されて残像及びムラが防止される。【選択図】図１
2010020317.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下部基板と、前記下部基板上に形成されたスイッチング素子と、前記スイッチング素子に接続された信号線と、前記スイッチング素子の出力電極に接続された画素電極と、を含むアレイ基板と、
横辺及び縦辺を有する画素領域が定義された上部基板と、各前記画素領域に前記横辺及び前記縦辺と交差する斜線方向に延長された複数の第１スリット部が形成された共通電極と、を含む対向基板と、
前記アレイ基板と前記対向基板との間に設けられ、前記アレイ基板及び対向基板に対して垂直に配向された液晶層と、を備え、
各前記第１スリット部の互いに対向するエッジには溝及び突出部が互いに交互に対向するように形成され、前記第１スリット部は前記溝と前記突出部によって定義されるジグザグの折り曲げパターンの形状を有する、表示パネル。
【請求項２】
前記溝及び前記突出部は各々一定の深さ及び高さを有し、
前記溝と前記突出部との間の離隔間隔が実質的に一定である、請求項１に記載の表示基板。
【請求項３】
前記突出部の高さは２μｍ〜４μｍであり、
前記突出部の側面は、前記斜線方向と実質的に９０°または４５°の角度をなす、請求項２に記載の表示パネル。
【請求項４】
前記画素電極には前記第１スリット部の互いに対向する前記エッジ間及び前記斜線方向に前記溝または前記突出部の中央部分に対応する位置に、前記第１スリット部の幅より小さいサイズの第１ホールがさらに形成されている、請求項２に記載の表示パネル。
【請求項５】
前記画素電極上には前記第１スリット部の互いに対向する前記エッジ間及び前記斜線方向に前記溝または前記突出部の中央部分に対応して前記第１スリット部の幅より小さいサイズの第１突起が形成されている、請求項２に記載の表示パネル。
【請求項６】
前記画素電極には、前記第１スリット部の間に対応する位置に、前記斜線方向に延長された第２スリット部が形成されている、請求項２に記載の表示パネル。
【請求項７】
各前記第２スリット部の互いに対向するエッジには溝または前記溝と対向して前記溝より前記斜線方向に長さがより短い突出部が各々交互に形成されている、請求項６に記載の表示パネル。
【請求項８】
前記第１スリット部は前記横辺に沿う中心線に対して線対称に形成されている、請求項７に記載の表示パネル。
【請求項９】
前記第１スリット部及び前記第２スリット部の端部分が前記横辺または前記縦辺に沿うように、前記第1スリット部及び前記第2スリット部が屈曲して形成されている、請求項８に記載の表示パネル。
【請求項１０】
前記第１スリット部及び前記第２スリット部の前記端部分の外側エッジは前記突出部と接続され、前記端部の内側エッジは前記溝と接続されている、請求項９記載の表示パネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示基板及びこれを有する表示パネルに関する。より詳しくは、垂直配向液晶表示パネルの基板として使用される表示基板及びこれを有する垂直配向液晶表示パネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
一般的に、液晶表示装置は、現在最も広く使用されている平板表示装置の１つで、電界生成電極が形成されている２枚の表示板とその間に挿入されている液晶層からなり、電極に電圧を印加して液晶層の液晶分子を再配列させることによって、液晶層を通過する光の透過率を調節する表示装置である。
【０００３】
液晶表示装置のうちでも、現在主に使用されるのは、電界生成電極が両表示板に各々具備されているものである。この中でも、１つの表示板には複数の画素電極が行列の形態に排列されており、また別の表示板には１つの共通電極が表示板の前面を覆っている構造の液晶表示装置が主流である。この液晶表示装置において画像の表示は各画素電極に別途の電圧を印加してなされる。このために、画素電極に印加される電圧をスイッチングするための三端子素子であるスイッチング素子を各画素電極に接続し、このスイッチング素子を制御するための信号を伝達するゲート線と画素電極に印加される電圧を伝達するデータ線を表示板に設置する。
【０００４】
ところが、液晶表示装置は、視野角が狭いことが重要な問題点である。このような問題点を克服するために視野角を広める多様な技術が開発されている。その中でも、液晶分子を上下基板に対して垂直に配向し、画素電極とその対向電極である共通電極に一定のスリット部パターンを形成するかまたは突起パターンを形成して画素を多重ドメインに分割する方法が有力視されている。
【０００５】
しかし、スリットパターンまたは突起パターンを有する垂直配向モードの液晶表示装置では、スリット部パターンまたは突起パターンで残像及びムラが発生するか、或いは画面を擦った際にムラが残留する問題点が頻繁に発生する。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
これに、本発明の技術的課題は、このような従来の問題点を解決することで、本発明は残像及びムラの発生を防ぐ表示基板を提供する。また、本発明は前記表示基板を有する表示パネルを提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
前述の本発明の技術的課題を解決するために、本発明の実施形態による表示基板は、ベース基板及び透明電極を含む。前記ベース基板には横辺及び縦辺を有する画素領域が定義される。前記透明電極には各前記画素領域に前記横辺及び前記縦辺と交差する斜線方向に延長された複数のスリット部が形成される。各前記スリット部の第１エッジには第１溝及び隣接する前記第１溝によって定義される第１突出部が交互に形成され、前記第１エッジと対向する前記スリット部の第２エッジには前記第１溝に対応する第２突出部と前記第１突出部に対応する第２溝が交互に形成される。
【０００８】
本発明の実施形態において、前記第１溝の前記斜線方向への長さは前記第２突出部の長さより長く、前記第２溝の長さは前記第１突出部の長さより長く形成されることができる。前記第１及び第２溝と前記第１及び第２突出部は、各々一定した深さ及び高さに形成され、前記第１溝と前記第２突出部との間の離隔間隔と前記第２溝と前記第１突出部との間の離隔間隔が実質的に同一であることできる。前記第１突出部の側面と前記第１溝が接続される角度及び前記第２突出部の側面と前記第２溝が接続される角度は、実質的に９０°または４５°のうち、選択された何れかの１であってもよい。前記第１突出部及び前記第２突出部は、長方形状、台形状、及び三角形状のうち、選択された１つの形状を有し、前記第１溝及び第２溝は、各々前記第２突出部及び前記第１突出部に沿って形成されることができる。前記第１突出部及び前記第２突出部の高さは、２μｍ〜４μｍであってもよい。前記透明電極には前記横辺と平行する中心線に対して前記スリット部が対称をなすように形成されることができる。
【０００９】
本発明の実施形態において、前記表示基板はカラーフィルタ及びオーバーコーティング層をさらに含むことができる。前記カラーフィルタは、前記画素領域に対応して前記ベース基板と前記透明電極との間に配置される。前記オーバーコーティング層は、前記カラーフィルタと前記透明電極との間に介在される。
【００１０】
本発明の実施形態において、前記表示基板はスイッチング素子、データ線及びゲート線をさらに含むことができる。前記スイッチング素子は前記画素領域に対応して前記ベース基板と前記透明電極との間に配置され、前記透明電極と電気的に接続された出力端子を有する。前記データ線は、前記スイッチング素子の入力端子に接続される。前記ゲート線は、前記スイッチング素子の制御端子に接続される。
【００１１】
前述の本発明の技術的課題を解決するために、本発明の実施形態による表示パネルは、アレイ基板、対向基板、及び液晶層を含む。前記アレイ基板は、下部基板、スイッチング素子、信号線、画素電極を含む。前記スイッチング素子は前記下部基板上に形成され、前記信号線はスイッチング素子に接続される。前記画素電極は前記スイッチング素子の出力電極に接続される。前記対向基板は、上部基板及び透明電極を含む。前記上部基板には、横辺及び縦辺を有する画素領域が定義される。前記透明電極には、前記画素領域に前記横辺及び前記縦辺と交差する斜線方向に延長された複数の第１スリット部が形成される。各前記第１スリット部の対向するエッジには溝及び前記溝によって定義される突出部が互いに交互に対向するように形成されて前記第１スリット部は前記溝と前記突出部によって定義されるジグザグの折り曲げパターンの形状を有する。前記液晶層は前記アレイ基板及び前記対向基板との間で前記アレイ基板と対向基板に対して垂直に配向される。
【００１２】
本発明の実施形態において、前記溝及び前記突出部は各々一定した深さ及び高さに形成され、前記溝と前記突出部との間の離隔間隔が実質的に一定することができる。前記突出部の高さは、２μｍ〜４μｍであることが望ましく、前記突出部の側面は、前記斜線方向と実質的に９０°または４５°の角度をなすように形成されることができる。前記共通電極には前記横辺と平行な中心線に対して前記第１スリット部が対称をなすように形成されることができる。
【００１３】
前記対向基板は、カラーフィルタ及びオーバーコーティング層をさらに含むことができる。前記カラーフィルタは前記画素領域に対応して前記上部基板と前記共通電極との間に配置される。前記オーバーコーティング層は、前記カラーフィルタと前記共通電極との間に介在される。
【００１４】
前記画素電極には、前記第１スリット部の間に対応して前記斜線方向に延長された第２スリット部が形成されることができる。各前記第２スリット部の対向するエッジには溝及び前記溝と対向して前記溝より前記斜線方向へ長さがさらに短い突出部が各々交互に形成されることができる。前記第１スリット部及び前記第２スリット部の端部は、前記横辺または前記縦辺と平行するように折り曲げられて形成されることができる。前記第１スリット部及び前記第２スリット部の前記端部の外側エッジは前記突出部と接続され、前記端部の内側エッジは前記溝と接続されることができる。
【００１５】
前記アレイ基板は、絶縁膜及び維持電極をさらに含むことができる。前記絶縁膜は、前記画素電極と前記スイッチング素子との間に介在される。前記絶縁膜にはコンタクトホールが形成される。前記コンタクトホールは前記スイッチング素子の前記出力電極の一部を露出させ、前記第１スリット部の前記突出部及び前記溝の間に前記斜線方向へ前記突出部または前記溝の中央部分に対応するように配置される。前記絶縁膜には前記交差領域に対応する段差溝がさらに形成されてもよい。
【００１６】
前記維持電極は前記下部基板と前記絶縁膜との間に前記中心線に対応するように配置されて前記画素電極に印加された画素電圧を維持する。
【発明の効果】
【００１７】
前述の表示基板及びこれを有する表示パネルによると、画素領域で液晶の特異点が発生される位置を常に一定するように制御して残像の発生を防止することができる。従って、表示パネルの表示品質が向上される。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】実施形態１による表示パネルの平面図である。
【図２】図１に示した表示パネルＩ−Ｉ’線に沿って切断した断面図である。
【図３】図２に示した対向基板の平面図である。
【図４】図３に示した第１スリット部の拡大図である。
【図５】図３に示した第１スリット部の端部の拡大図である。
【図６】図２に示したアレイ基板の平面図である。
【図７】図２及び図３に示した対向基板の製造工程図である。
【図８】図２及び図３に示した対向基板の製造工程図である。
【図９】図２及び図３に示した対向基板の製造工程図である。
【図１０】実施形態２による表示パネルの平面図である。
【図１１】実施形態３による表示パネルの平面図である。
【図１２】図１１に示したアレイ基板の製造工程図である。
【図１３】図１１に示したアレイ基板の製造工程図である。
【図１４】図１１に示したアレイ基板の製造工程図である。
【図１５】実施形態４による表示パネルの平面図である。
【図１６】実施形態５による表示パネルの平面図である。
【図１７】図１６に示した表示パネルをＩＩ−ＩＩ’線に沿って切断した断面図である。
【図１８】実施形態６による表示パネルの断面図である。
【図１９】実施形態７による表示パネルの断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
以下、図面を参照しつつ、本発明の表示装置の望ましい実施例をより詳しく説明する。
【００２０】
本発明は多様な変更を加えることができ、様々な形態を有することができるため、特定実施例を図面に例示し、本明細書に詳しく説明する。しかし、これは本発明を特定の開示形態に対して限定しようとすることではなく、本発明の思想及び技術範囲に含まれる全ての変更、均等物、ないしは代替物を含むことと理解されるべきである。
【００２１】
各図面を説明しながら類似する参照符号を、類似する構成要素に対して使用した。添付図面において、構造物のサイズは本発明の明確性に基づくために実際より拡大して示した。
【００２２】
第１、第２などの用語は多様な構成要素を説明するにあたって使用することができるが、各構成要素は使用される用語によって限定されるものではない。各用語は１つの構成要素を他の構成要素と区別する目的で使用されるものであって、例えば、明細書中において、第１構成要素を第２構成要素に書き換えることも可能であり、同様に第２構成要素を第１構成要素とすることができる。単数表現は文脈上、明白に異なる意味を有しない限り、複数の表現を含む。
【００２３】
本明細書において、「含む」または「有する」などの用語は、明細書上に記載された特徴、数字、段階、動作、構成要素、部分品、またはこれらを組み合わせたものが存在することを指定しようとすることであって、１つまたはそれ以上の別の特徴、数字、段階、動作、構成要素、部分品、またはこれらを組み合わせたものの存在または付加可能性を予め排除しないことと理解されるべきである。また、層、膜、領域、板などの部分が他の部分の「上に」あるとする場合、これは他の部分の「すぐ上に」ある場合のみでなく、その中間にさらに他の部分がある場合も含む。反対に、層、膜、領域、板などの部分が他の部分の「下に」あるとする場合、これは他の部分の「すぐ下に」ある場合のみでなく、その中間にさらに他の部分がある場合も含む。
【００２４】
また、別に定義しない限り、技術的或いは科学的用語を含んで、ここにおいて使用される全ての用語は本発明が属する技術分野で通常の知識を有する者であれば、一般的に理解されることと同一な意味を有する。一般的に使用される辞書において定義する用語と同じ用語は関連技術の文脈上に有する意味と一致する意味を有することと理解されるべきで、本明細書において明白に定義しない限り、理想的或いは形式的な意味として解釈しない。
【００２５】
＜実施形態１＞
図１は、実施形態１による表示パネルの平面図である。図２は、図１に示した表示パネルＩ−Ｉ’線に沿って切断した断面図である。
【００２６】
図１及び図２を参照すると、表示パネル１００は、アレイ基板１０１、対向基板１０５、及び液晶層１０８を含む。
【００２７】
前記対向基板１０５と前記アレイ基板１０１は、互いに対向するように配置され、前記液晶層１０８は、これらの間に介在される。前記液晶層１０８の液晶分子２０９は、前記対向基板１０５と前記アレイ基板１０１との間に介在されている。前記アレイ基板１０１及び前記対向基板１０５には、各々前記液晶層１０８と接する下部配向膜１０２及び上部配向膜２０２が形成されている。前記下部配向膜１０２及び前記上部配向膜２０２は、前記液晶層１０８に電界が印加されない状態で前記液晶分子２０９の方位が前記アレイ基板１０１及び前記対向基板１０５と実質的に直交するように、即ち、垂直配向されるように誘導される。前記対向基板１０５及び前記アレイ基板１０１の外側面には各々上部及び下部偏光板が付着されている。
【００２８】
本実施形態による表示基板、即ち前記対向基板１０５は、上部基板１０７、上部基板１０７の上に形成された遮光パターン２１０、カラーフィルタ２３０、オーバーコーティング層２５０、及び共通電極２７０を含む。
【００２９】
前記上部基板１０７には光を透過する画素領域ＰＡと前記画素領域ＰＡを取り囲み、光を遮断する遮光領域ＳＡが定義される。前記画素領域ＰＡは、横辺及び縦辺を有し、略長方形状を有する。
【００３０】
前記カラーフィルタ２３０は、前記画素領域ＰＡに形成される。前記カラーフィルタ２３０は、赤色、緑色、及び青色フィルタを含む。横方向（Ｘ）に排列された複数の前記画素領域ＰＡには同一のカラーフィルタが形成され、縦方向（Ｙ）に排列された複数の前記画素領域ＰＡには互いに異なるカラーフィルタが形成される。
【００３１】
前記遮光パターン２１０は、前記遮光領域ＳＡに形成されて前記 赤色、緑色、及び青色フィルタを取り囲む。
【００３２】
前記オーバーコーティング層２５０は、前記遮光パターン２１０及び前記カラーフィルタ２３０を覆う。
【００３３】
図３は、図２に示した対向基板１０５の平面図である。
【００３４】
図１〜図３を参照すると、前記共通電極２７０は前記オーバーコーティング層２５０上に形成される。前記共通電極２７０は、ＩＴＯまたはＩＺＯのような透明伝導性物質からなる。前記共通電極２７０には複数の第１スリット部２７１が形成される。前記第１スリット部２７１は前記共通電極２７０に形成された開口部である。前記第１スリット部２７１の開口幅は、略数μｍ〜数十μｍであってもよい。
【００３５】
前記第１スリット部２７１は、前記画素領域ＰＡの前記横辺及び前記縦辺と交差する斜線方向（Ｚ）へ延長される。前記第１スリット部２７１は互いに離隔されている。前記第１スリット部２７１のうち、あるものはスリット部の端部が前記縦辺が平行に折り曲げられたものもある。前記第１スリット部２７１のうち、また他のあるものは、前記第１スリット部２７１の端部が前記縦辺及び前記横辺と各々平行に折り曲げられたものがある。
【００３６】
前記第１スリット部２７１は前記画素領域ＰＡの前記横辺と平行する中心軸に対して鏡対称をなすように前記共通電極２７０に形成されている。従って、前記画素領域ＰＡに形成された前記第１スリット部２７１は、略Ｖ字形状に配置できる。これとは異なって、他の２つの前記第１スリット部２７１が前記中心線（Ｃ−Ｃ）で互いに会って前記中心線（Ｃ−Ｃ）と平行に一部が延長されて、前記異なる２つの前記第１スリット部２７１は、略Ｙ字形状に配置されることができる。
【００３７】
前記第１スリット部２７１の互いに対向するエッジ（２７２、２７４）には凸凹パターンが形成されている。例えば、前記エッジ（２７２、２７４）には、溝２７３及び突出部２７５が交互に形成されている。前記突出部２７５は、互いに隣接する２つの前記溝２７３によって定義される。従って、前記溝２７３の深さは、前記突出部２７５の高さと実質的に同一である。また、前記突出部２７５の側面は前記溝２７３の側面と実質的に同一である。前記溝２７３の深さ及び前記突出部２７５の高さは一定に、例えば、略２μｍ〜４μｍの深さまたは高さで形成されている。
【００３８】
ここで、前記深さ及び高さは、前記斜線方向（Ｚ）と実質的に直交する前記第１スリット部２７１の幅方向への深さ及び高さを意味する。
【００３９】
本実施形態で、前記溝２７３の側面、即ち前記突出部２７５の側面は、前記斜線方向（Ｚ）と実質的に直交するように形成される。即ち、前記突出部２７５の角は略直角で形成される。
【００４０】
説明の便宜上、１つの前記第１スリット部２７１の互いに対向するエッジ（２７２、２７４）のうちの１つを第１エッジ２７２に、残りの１つを第２エッジ２７４と称する。従って、前記第１エッジ２７２及び第２エッジ２７４には各々前記溝２７３及び突出部２７５が交互に形成されている。
【００４１】
前記第１エッジ２７２に形成された第１溝２７３は、前記第２エッジ２７４に形成された第２突出部２７５と対応し、前記第１エッジ２７２に形成された第１突出部は、前記第２エッジ２７４に形成された第２溝に対応する。
【００４２】
前記第１溝２７３及び前記第２溝の前記斜線方向（Ｚ）への長さは前記第１及び第２突出部２７５の前記斜線方向（Ｚ）への長さより長い。但し、前記第１及び第２突出部２７５は、前記第２及び第１溝２７３に挿入するように配置はされない。これとは異なって、前記第１及び第２突出部２７５は、前記第２及び第１溝２７３に挿入するように配置されてもよい。
【００４３】
前記第１溝２７３及び前記第２溝と前記第１及び第２突出部２７５が前述のように互いに交互に噛み合うように配置されるため、前記第１スリット部２７１は、全体的にみると前記斜線方向（Ｚ）にジグザグの折り曲げパターンの形状を有する。前記第１溝２７３の側面と前記第１溝２７３に対応する前記第２突出部２７５の側面は互いに対向し、前記第１溝２７３の側面と前記第２突出部２７５の側面は前記第１スリット部２７１が折り曲げられる位置に対応する。以下、前記曲がる位置の前記第１スリット部２７１を折り曲げ部と称する。
【００４４】
前記第１スリット部２７１は、前記画素領域ＰＡを複数のドメインに分割する。前記第１スリット部２７１の折り曲げ部は前記ドメインで整列された液晶層１０８で、特異点（Ｓｉｎｇｕｌａｒ  Ｐｏｉｎｔ：ＳＰ）の発生地点を一定にする。
【００４５】
前記特異点は液晶の排列が周辺の液晶分子１０９の方向性と異なって急変し、特定の方向性を有しない特異点と定義される。前記特異点は周辺より電界が強いかまたは弱くなる位置で発生するものと知られている。
【００４６】
電界が周辺より強い地点で液晶の方向子が一ヶ所に集まる陽の特異点（＋ｓｉｎｇｕｌａｒ  ｐｏｉｎｔ）が発生する。また、電界が周辺より弱い所で液晶の方向子が放射形に広がる陰の特異点（−ｓｉｎｇｕｌａｒ  ｐｏｉｎｔ）が発生される。また、陽の特異点と陰の特異点は交互して形成されることと知られている。
【００４７】
特異点では、液晶が光シャッターとしての機能を喪失し、特異点の発生位置が不規則であるため、表示パネル１００が表示する画像に残像及びムラが発生する。本発明の表示装置においては前記特異点が発生する位置が常に前記画素領域ＰＡの一定する位置で発生するように制御して前記残像及びムラの発生を防ぐ。
【００４８】
図４は、図３に示した第１スリット部２７１の拡大図である。
【００４９】
図３及び図４を参照すると、本実施形態による表示パネル１００に対するシミュレーションの結果、前記第１スリット２７１の前記折り曲げ部で電界が周辺より強化されて陽の特異点が形成されることを確認することができる。また、前記折り曲げ部の間、即ち前記溝２７３または前記突出部２７５の前記斜線方向に向かって、中央部分に対応する位置では電界が周辺より弱くなって陰の特異点が形成されることを確認することができる。
【００５０】
従って、画素領域ＰＡ毎に液晶の特異点が発生される位置が均一で一定するため、残像及びムラが視認されない。
【００５１】
一方、前述のように、略Ｙ字形状に配置された前記第１スリット部２７１は、前記中心線（Ｃ−Ｃ）で互いに交差する。前記交差される位置を分岐点と定義する。前記第１スリット部２７１が互いに会う前記分岐点では、大体陰の特異点が発生することがわかる。従って、前記分岐点は液晶の特異点を制御するにおいて前記折り曲げ部の間に対応する位置と実質的に同一機能をすることがわかった。
【００５２】
前記溝２７３と、前記突出部２７５による液晶の特異点の制御を効果的になすために、前記溝２７３及び突出部２７５の前記斜線方向（Ｚ）への長さを適切に調節することができる。
【００５３】
前記溝２７３及び前記突出部２７５の前記斜線方向（Ｚ）への長さは、略６０μｍ〜９０μｍであってもよい。前記長さが、前記６０μｍ〜９０μｍ範囲未満であるかまたは超過する場合、前記液晶の特異点の発生位置が不均一になることがあってもよい。一方、前記溝２７３及び突出部２７５の前記斜線方向（Ｚ）への長さは前記画素領域ＰＡのサイズによって異なることがある。
【００５４】
図５は、図３に示した第１スリット部２７１の端部の拡大図である。
【００５５】
図３及び図５を参照すると、前述のように前記第１スリット部２７１の端部は前記横辺または縦辺と平行に折り曲げられている。図５には前記縦辺と平行する前記第１スリット部２７１の端部が図示されている。
【００５６】
シミュレーションの結果、前記第１スリット部２７１の端部においては、陰の特異点が誘発され、従って、前記第１スリット部２７１の端部は液晶の特異点誘導において前記折り曲げ部の間に対応するものと実質的に同一機能をすることがわかった。
【００５７】
一方、前記第１スリット部２７１の端部から最も近いところの特異点は陽の特異点である。従って、前記折り曲げ部は前記第１スリット部２７１の端部が配置された前記縦辺または横辺に近く配置されることが望ましい。前記折り曲げ部が前記第１スリット部２７１の端部から遠くなると、前記第１スリット部２７１の端部と前記折り曲げ部との間に特異点の発生位置が不均一になることがあってもよい。
【００５８】
図６は、図２に示したアレイ基板１０１の平面図である。
【００５９】
図１、図２、図３、及び図６を参照すると、アレイ基板１０１は下部基板１０３と、下部基板１０３上に形成されたゲート線１１１、データ線１２１、維持電極１３１、スイッチング素子１４０、絶縁膜１６０、及び画素電極１７０を含む。
【００６０】
前記ゲート線１１１は、外部から前記スイッチング素子１４０にゲート信号を伝達する。前記ゲート線１１１は、前記下部基板１０３上に形成され、略前記画素領域ＰＡの前記横辺に沿って伸びている。各前記ゲート線１１１の一部は複数のゲート電極を形成する。前記ゲート線１１１の端部には前記ゲート信号が印加される接触パッドが形成されることができる。これとは異なって、前記ゲート線１１１の端部は、前記下部基板１０３上に配置されたゲート駆動回路部の出力端に直接接続されてもよい。
【００６１】
前記維持電極１３１は、前記ゲート線１１１と同一層で前記下部基板１０３上に形成される。前記維持電極１３１は、略前記対向基板１０５の前記第１スリット部２７１の前記第１スリット部２７１の前記分岐点に対応するように配置され、従って互いに隣接する前記ゲート線１１１の間に配置される。
【００６２】
ゲート絶縁膜１１９は、前記ゲート線１１１及び前記維持電極１３１を覆う。
【００６３】
前記ゲート絶縁膜１１９上には略縦辺に沿って複数の前記データ線１２１及びドレイン電極１４５が形成されている。前記ドメイン電極１４５の端部は前記対向基板１０５の前記第１スリット部２７１に形成された前記溝２７３または突出部２７５の前記斜線方向に向かって、中央部分に対応するように配置される。
【００６４】
前記データ線１２１には前記ドレイン電極１４５に向かってソース電極３４１が突出されている。前記データ線１２１及び前記ドレイン電極１４５の下には前記データ線１２１に沿って主に前記縦方向（Ｙ）に伸びる線形半導体層３４２があり、前記線形半導体層３４２は、前記ゲート電極３１２上に対応して前記ソース電極３４１及び前記ドレイン電極１４５とオーバーラップするチャンネル層を有する。
【００６５】
前記ゲート電極３１２、前記ゲート絶縁膜１１９、前記チャンネル層、前記ソース電極３４１、及び前記半導体層１４２は、前記スイッチング素子１４０を構成する。
【００６６】
前記絶縁膜１６０は、前記スイッチング素子１４０及び前記データ線１２１を覆う。前記絶縁膜１６０には前記ドレイン電極１４５の端部の一部を露出させるコンタクトホール１６１が形成されている。従って、前記コンタクトホール１６１は前記第１スリット部２７１に形成された前記溝２７３または突出部２７５の略前記斜線方向に向かって、中央部分に対応するように配置されることができる。
【００６７】
シミュレーションの結果、前記絶縁膜１６０に形成された段差溝においては陰の特異点が誘発されることがわかる。前記コンタクトホール１６１によって前記絶縁膜１６０は段差が生じるように形成される。
【００６８】
従って、前記コンタクトホール１６１を前記第１スリット部２７１及び前記溝２７３との間に前記第１スリット部２７１の前記溝２７３または突出部２７５の前記斜線方向に向かって略中央部分に対応するように配置すると、前記コンタクトホール１６１においては陰の特異点が固定的に形成されることができて、特異点が安定的に一定する位置に形成されることができる。
【００６９】
前記画素電極１７０は、前記絶縁膜１６０上に形成され、前記コンタクトホール１６１を通じて前記ドレイン電極１４５に接続される。前記画素電極１７０には第２スリット部が形成される。前記第２スリット部は前記斜線方向（Ｚ）へ延長され、前記第１スリット部２７１との間に配置される。その結果、前記画素領域（ＰＡ）は前述のように複数のドメインに分割される。
【００７０】
前記第２スリット部は前記第１スリット部２７１と類似するように前記横方向の前記中心線（Ｃ−Ｃ）に対して鏡対称をなすように配置されることができる。
【００７１】
前記絶縁膜１６０には前記維持電極１３１と前記画素電極１７０との間の距離を減少させて維持容量を増加させるために前記維持電極１３１に対応する段差溝が形成されることができる。
【００７２】
前述のように、前記維持電極１３１は、前記第１スリット部２７１の前記分岐点に対応するように配置されている。前述のように前記絶縁膜１６０に形成された前記段差溝１６５は、陰の特異点を誘発させる。前記分岐点も液晶の陰の特異点を誘発させる。従って、陰の特異点は前記段差溝１６５または前記分岐点により確実に発生することができ、その結果、陽の特異点の位置より一定に制御できる。
【００７３】
前記液晶層１０８は、前記対向基板１０５と前記アレイ基板１０１との間で垂直配向される。前記液晶層（１０８、３００）は、液晶２０９を含む。前記液晶２０９は前記画素電極１７０と前記共通電極ＣＥ２７０との間に形成された電界によって排列角が変化する。
【００７４】
前記共通電極２７０に形成された前記第１スリット部２７１と前記画素電極１７０に形成された前記第２スリット部は電場の方向を歪曲させて前記液晶２０９の方向子（ｄｉｒｅｃｔｏｒ）を再配列させる。従って、複数のドメインで前記液晶２０９の方向子が互いに異なって側面視認性が向上される。
【００７５】
前述のように、各前記画素領域ＰＡで前記液晶２０９の特異点は常に前記第１スリット部２７１の前記折り曲げ部、前記折り曲げ部の間、前記第１スリット部２７１の端部、前記第１スリット部２７１の分岐点で発生される。従って、前記画素間の特異点の不均一発生による差を視認することができず、従って、残像またはムラを視認されないため表示品質が向上される。
【００７６】
本発明の表示基板及び表示パネル１００は、全てのタイプの垂直配向モード液晶表示パネル１００に適用されることができる。即ち、本発明は前記液晶２０９を制御する電極がパターニングされ、前記液晶２０９が垂直に配向された液晶表示パネルであると、前記画素電極１７０の駆動方式または前記カラーフィルタ２３０の位置が前記対向基板１０５であるかまたは前記アレイ基板１０１であるかの可否及び前記アレイ基板１０１に前記絶縁膜１６０が形成されるか否かにかかわらず、何れの場合でも適用することができる。従って、このようは変形例も本発明の技術的範囲内にあることは明らかである。
【００７７】
図７〜図９は、図２及び図３に示した対向基板１０５の製造工程図である。図７〜図９に示した工程によって製造された表示基板は、図１〜図６において説明した対向基板１０５と実質的に同一である。従って、同一の構成要素に対しては同一の参照番号を与える。
【００７８】
前記表示基板１０１、即ち前記対向基板１０５を製造するために、先ず図７に示したように前記上部基板１０７上に光遮断物質層を蒸着し、パターニングして前記遮光領域ＳＡに前記遮光パターン２１０を形成する。
【００７９】
その後、前記遮光パターン２１０によって定義された前記画素領域ＰＡにカラーフォトレジスト層を蒸着し、パターニングする固定を繰り返して前記カラーフィルタ２３０を形成する。その後、前記カラーフィルタ２３０及び前記遮光パターン２１０を覆う樹脂を塗布して前記オーバーコーティング層２５０を形成する。
【００８０】
続いて、前記オーバーコーティング層２５０上にＩＴＯまたはＩＺＯのような透明伝導性物質層を蒸着して前記共通電極層２６１を形成する。その後、前記共通電極層２６１をパターニングして、図８に図示したように、前記第１スリット部２７１を形成して前記共通電極２７０を形成する。
【００８１】
最後に、図９に示したように、前記共通電極２７０を覆う上部配向膜２０２を形成して前記対向基板１０５を完成する。
【００８２】
前記表示パネル１００は、前記のように製造された対向基板と前述のアレイ基板１０１を結合させ、これらの間に前記液晶層１０８を介在させて製造される。
【００８３】
前記アレイ基板１０１の製造方法は、後述の実施形態３においての説明と実質的に同一であるため、ここで詳しい説明は後述する説明に代替する。
【００８４】
＜実施形態２＞
図１０は、実施形態２による表示パネル４００の平面図である。
【００８５】
図１０を参照すると、本実施例の表示パネル４００は、対向基板で第１スリット部５７１に形成される溝５７３及び突出部５７５の形状が変更されたことを除いては図１〜図９で説明した表示パネル１００と実質的に同一である。従って、対応する構成要素に対しては対応する参照番号を使用し、重複する説明は省略する。
【００８６】
本実施形態の表示基板５００、即ち前記対向基板５０１は、第１スリット部５７１に形成された溝５７３及び突起の形状を除いては図１〜図９で説明した前記対向基板と実質的に同一である。従って、対応する構成要素に対しては対応する参照番号を使用し、重複する説明は省略する。
【００８７】
本実施形態において、前記対向基板の前記共通電極５７０には第１スリット部５７１が形成され、前記第１スリット部５７１の互いに対向するエッジには、前述のように、溝５７３及び隣接する溝５７３によって定義される突出部５７５が交互に形成され、互いに対向するエッジで前記溝５７３と前記突出部５７５が互いに交互に対向するように形成される。
【００８８】
本実施形態において、前記溝５７３の側面、即ち前記突出部５７５の側面は前記第１スリット部５７１が延長された前記斜線方向（Ｚ）と実質的に略４５°の角度をなすように形成される。即ち、前記突出部５７５は、略台形状を有してもよい。
【００８９】
前記突出部５７５の側面が前記斜線方向（Ｚ）となす角度が略９０°である実施形態１と本実施形態を比較すると、前記液晶の特異点が一定の位置で発生する安定性は略類似であることがわかった。
【００９０】
ただ、本実施形態の場合、前記溝５７３または前記突出部５７５の側面が前記斜線方向（Ｚ）と略４５°の角度をなすため、前記折り曲げ部の長さが少々より長く、これにより前記液晶の陽の特異点がより容易に形成されることができる。
【００９１】
本実施形態の対向基板の製造方法は、図７〜図９で説明された対向基板の製造方法と実質的に同一である。また、本実施形態の表示パネル４００の製造方法は、実施形態１での説明と実質的に同一である。従って、重複する説明は省略する。
【００９２】
＜実施形態３＞
図１１は、実施形態３による表示パネル６００の平面図である。
【００９３】
図１１を参照すると、本実施形態の表示パネル（５００、６００）はアレイ基板の画素電極６７０に形成された第２スリット部６７１にも溝６７３及び突出部６７５が交互に形成されて凸凹パターン形状を有することを除いては図１〜図９で説明した表示パネル１００と実質的に同一である。従って、対応する構成要素に対しては対応する参照番号を使用し、重複する説明は省略する。
【００９４】
本実施形態の表示基板５００は、前記アレイ基板であり、前記アレイ基板は前述のように、前記画素電極６７０に形成された前記第２スリット部６７１にも溝６７３及び突出部６７５が交互に形成されて凸凹パターン形状を有することを除いては図１〜図６で説明されたアレイ基板１０１と実質的に同一である。従って、対応する構成要素に対しては対応する参照番号を使用し、重複する説明は省略する。
【００９５】
また、前記画素電極６７０に形成された前記第２スリット６７１の互いに対向するエッジに交互に互いに対向するように形成された溝６７３及び突出部６７５は、前記共通電極７７０に形成された前記第１スリット部７７１においてはその方式及び形状が実質的に同一である。従って、重複する説明は省略する。
【００９６】
図１１に示したように、前記第１スリット部７７１に形成された溝７７３と前記第２スリット６７１部に形成された突出部６７５が互いに隣接するように配置されてもよい。これとは異なって、前記第１スリット部７７１に形成された突出部７７５と前記第２スリット部６７１に形成された溝６７３が互いに隣接するように配置されることができる。
【００９７】
図１２〜図１４は、図１１に示したアレイ基板６０１の製造工程図である。
【００９８】
本実施形態において、表示パネルの製造方法のうち、前記対向基板の製造方法は、図７〜図９で説明した対向基板１０５の製造方法と実質的に同一である。従って、重複する説明は省略する。
【００９９】
本実施形態で表示パネルの製造方法のうち、前記アレイ基板６０１の製造方法は、本実施形態の表示基板、即ち前記アレイ基板６０１の製造方法と同一である。
【０１００】
本実施形態の表示基板、即ち前記アレイ基板６０１を製造するために、先ず図１２に示したように、前記下部基板にスパッタリングなどの方式でゲート金属層を蒸着し、フォトリソグラフィー法によって前記ゲート金属層をパターニングし、前記ゲート線６１１、前記ゲート電極、及び前記維持電極を形成する。
【０１０１】
その後、ゲート絶縁膜６６０を前記下部基板上に形成し、半導体層及びソース金属層を蒸着する。続いて、前記半導体層及び前記ソース金属層をパターニングして、前記半導体パターン、前記データ線６２１、前記ソース電極、及び前記ドレイン電極を形成する。
【０１０２】
その後、図１３に示したように、有機物質の絶縁層を前記データ線６２１が形成された下部基板６０３上に形成し、前記絶縁層をパターニングして前記絶縁層に前記ドレイン電極６４５の一部を露出させるコンタクトホール６６１及び前記維持電極に対応する前記段差溝６６５が形成された絶縁膜６６０を形成する。
【０１０３】
続いて、図１４に示したように前記絶縁膜６６０上に透明な伝導性物質を蒸着して画素電極５７０層を形成し、前記画素電極５７０層をパターニングして第２スリット部が形成された前記画素電極５７０を形成する。
【０１０４】
最後に、前記画素電極５７０が形成された前記下部基板６０３上に下部配向膜を形成して前記アレイ基板６０１を完成する。
【０１０５】
その後、図７〜図９の製造方法によって製作された前記対向基板１０５と前記アレイ基板６０１を結合させ、液晶をこれらの間に介在させて前記表示パネル６００を製造する。
【０１０６】
＜実施形態４＞
図１５は、実施形態４による表示パネル８００の平面図である。
【０１０７】
図１５を参照すると、本実施形態の表示パネル、即ち対向基板は、第１スリット部９７１に形成された溝９７３及び突出部９７５の形状を除いては図１〜図９で説明した前記対向基板１０５と実施的に同一である。従って、対応する構成要素に対しては対応する参照番号を使用し、重複する説明は省略する。
【０１０８】
本実施形態で、前記対向基板の共通電極９７０には前記第１スリット部９７１が形成され、前記第１スリット部９７１の互いに対向するエッジには、前述のように三角形状の溝９７３及び前記溝９７３には対応する三角形状の突出部９７５が対に形成される。１つの前記エッジには複数の前記溝９７３が形成され、前記１つのエッジと対向する残りエッジには前記溝９７３と対向する前記突出部９７５が複数個形成されている。これとは異なって、前記１つのエッジに前記溝９７３及び前記突出部９７５が交互に形成され、前記残りエッジにも前記１つのエッジの前記溝９７３及び前記突出部９７５と対になるように前記突出部９７５及び前記溝９７３が交互に形成されることができる。
【０１０９】
本実施形態において、前記溝９７３の側面及び前記突出部９７５の側面は前記第１スリット部９７１が延長された前記斜線方向（Ｚ）と実質的に略４５°の角度をなすように形成される。即ち、前記溝９７３及び前記突出部９７５は、略直角二等辺三角形状を有することができる。
【０１１０】
前記突出部９７５の側面が前記斜線方向（Ｚ）となす角度が略９０°である実施形態１と本実施形態を比べると、前記液晶の特異点が一定する位置で発生する安定性は略類似であることがわかった。
【０１１１】
本実施形態の対向基板の製造方法は、図７〜図９で説明された対抗基板の製造方法と実質的に同一である。また、本実施形態の表示パネルの製造方法は、実施形態１で説明したことと実施的に同一である。従って、重複する説明は省略する。
【０１１２】
本実施形態の表示パネル８００は、図１５で説明された前記対向基板を含むことを除いては図１〜図９で説明された表示パネル１００と実質的に同一である。従って、対応する構成要素に対しては対応する参照番号を使用し、重複する説明は省略する。
【０１１３】
＜実施形態５＞
図１６は、実施形態５による表示パネル１１００の平面図である。図１７は、図１６に示した表示パネル１１００をＩＩ−ＩＩ’線に沿って切断した断面図である。
【０１１４】
図１６及び図１７を参照すると、本実施形態の表示パネル１１００は、アレイ基板１１０１の画素電極１１７０に第１ホール１１７７がさらに形成されたこと及び対向基板１１０５の共通電極１２７０に第２ホール１２７７がさらに形成されることを除いては、図１１〜図１４で説明された表示パネル６００と実質的に同一である。従って、対応する構成要素に対しては対応する参照番号を使用し、重複する説明は省略する。
【０１１５】
本実施形態において、前記画素電極１１７０には前記第１ホール１１７７がさらに形成されている。前記第１ホール１１７７は、前記共通電極１２７０に形成された第１スリット部１２７１の互いに対向する前記エッジ間及び前記斜線方向に前記第１スリット部１２７１の溝１２７３または突出部１２７５の中央部分に対応するように形成されている。前記第１ホール１１７７は、前記第１スリット部１２７１の幅より小さいサイズを有する。
【０１１６】
本実施形態において、前記共通電極１２７０には前記第２ホール１２７７がさらに形成されている。前記第２ホール１２７７は前記画素電極１１７０に形成された第２スリット部１１７１の互いに対向する前記エッジ間及び前記斜線方向に前記第２スリット部１１７１の溝１１７３または突出部１１７５の中央部分に対応するように形成されている。前記第２ホール１２７７は、前記第２スリット部１１７１の幅より小さいサイズを有する。
【０１１７】
本実施形態の対向基板１１０５の製造方法及び表示パネル１１００の製造方法は、前記共通電極１２７０に前記第１スリット部１２７１を形成する際、前記第２ホール１２７７を共に形成すること及び前記画素電極１１７０に前記第２スリット部１１７１を形成する際、前記第１ホール１１７７を共に形成することを除いては、図７〜図９で説明した対向基板１０５の製造方法及び図１２〜図１４で説明したアレイ基板６０１の製造方法は実質的に同一である。従って、重複された説明は省略する。
【０１１８】
本実施形態で、前記第１ホール１１７７及び前記第２ホール１２７７によって上部配向膜１２０２及び下部配向膜１１０２には各々溝が形成されて前記溝によって前記第１ホール１１７７及び前記第２ホール１２７７においては液晶層１１０８に陰の特異点が発生されることがわかった。従って、前記第１スリット部１２７１及び前記第２スリット部１１７１の折り曲げ部分においては陽の特異点が形成され、前記折り曲げ部分の間には前記第１ホール１１７７及び前記第２ホール１２７７によって陰の特異点がより確実に形成される。従って、前記液晶の特異点が一定の位置で発生される安定性がより向上される。
【０１１９】
＜実施形態６＞
図１８は、実施形態６による表示パネル１４００の断面図である。
【０１２０】
図１８を参照すると、本実施形態の表示パネル１４００は、アレイ基板１４０１の画素電極１４７０に第１ホールに代わりに第１突起１４７７が形成されること及び対向基板１４０５の共通電極１５７０に第２ホール１５７７の代わりに第２突起１５７７が形成されることを除いては図１１〜図１４で説明した表示パネル６００と実質的に同一である。従って、対応する構成要素に対しては対応する参照番号を使用し、重複する説明は省略する。
【０１２１】
本実施形態において、前記画素電極１４７０上には前記第１突起１４７７が形成されている。前記第１突起１４７７は前記共通電極１５７０に形成された第１スリット部１５７１の互いに対向する前記エッジ間及び前記斜線方向に前記第１スリット部１５７１の溝または突出部の中央部分に対応するように形成されている。前記第１突起１４７７は前記第１スリット部１５７１の幅より小さいサイズを有する。
【０１２２】
本実施形態において、前記共通電極１５７０上には前記第２突起１５７７が形成されている。前記第２突起１５７７は前記画素電極１４７０に形成された第２スリット部１４７１の互いに対向する前記エッジ間及び前記斜線方向に向かって前記第２スリット部１４７１の溝または突出部の中央部分に対応するように形成されている。前記第２突起１５７７は前記第２スリット部１４７１の幅より小さいサイズを有する。
【０１２３】
本実施形態の対向基板１４０５の製造方法及び表示パネル１４００の製造方法において、ＩＴＯまたはＩＺＯのような透明な導電層をフォトリソグラフィー法でパターニングして前記共通電極１５７０に前記第１スリット部１５７１を、前記画素電極１４７０に前記第２スリット部１４７１を形成する。例えば、前記第１スリット部１５７１及び前記第２スリット部１４７１の形成のためのエッチングマスクが施されたフォトレジスト層のうち、前記第１突起１４７７及び前記第２突起１５７７に形成される部分を残留させて前記第１突起１４７７及び前記第２突起１５７７が形成されることができる。従って、前記第１突起１４７７及び前記第２突起１５７７を形成する工程が別途に追加されなくてもよい。本実施形態の表示パネル１４００の製造方法は前記第１突起１４７７及び前記第２突起１５７７を形成することを除いては図７〜図９に説明された対向基板１０５の製造方法及び図１２〜図１４に説明したアレイ基板６０１の製造方法は実質的に同一である。従って、重複する説明は省略する。
【０１２４】
本実施形態において、前記第１突起１４７７及び前記第２突起１５７７によって液晶層に陰の特異点が発生されることがわかる。従って、前記第１スリット部１５７１及び前記第２スリット部１４７１の折り曲げ部分においては陽の特異点が形成され、前記折り曲げ部分間には前記第１突起１４７７及び前記第２突起１５７７によって陰の特異点がより確実に形成される。従って、前記液晶の特異点が一定する位置で発生する安定性がより向上される。
【０１２５】
＜実施形態７＞
図１９は、実施形態７による表示パネル１７００の断面図である。
【０１２６】
図１９を参照すると、本実施形態の表示パネル１７００及びこれに製造方法は対向基板１７０５の共通電極１８７０に第２突起の代わりに第２ホール１８７７が形成されることを除いては図１８に説明した表示パネル１４００及びこれの製造方法と実質的に同一である。従って、対応する構成要素に対しては対応する参照番号を使用し、重複する説明は省略する。
【０１２７】
本実施形態において、前記アレイ基板１７０１には第１突起１７７７が形成され、前記対向基板１７０５には前記第２ホール１８７７が形成されている。これとは異なって、前記アレイ基板１７０１には第１ホールが形成され、前記対向基板１７０５には第２突起が形成されることができる。また、本実施形態とは異なって、前記画素電極１７７１に第１ホール及び第１突起を交互に形成するかまたは前記共通電極１８７１に前記第２ホール及び第２突起を交互に形成することができる。
【０１２８】
本実施形態において、第１スリット部１８７１及び第２スリット部１７７１の折り曲げ部分においては陽の特異点が形成され、前記折り曲げ部分間には前記画素電極１７７０上には前記第１突起１７７７が形成され、前記対向電極上には前記第２ホール１８７７が形成される。従って、陰の特異点がより確実に形成される。従って、前記液晶の特異点が一定する位置で発生される安定性がより向上される。
【０１２９】
以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について詳細に説明したが、本発明はかかる例に限定されない。本発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者であれば、特徴請求の範囲に記載された技術的思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、これらについても、当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
【産業上の利用可能性】
【０１３０】
本発明の表示基板及び表示パネルは液晶を制御する電極がパターニングされ、液晶が垂直に配向された液晶表示パネルであれば、何れの場合にも適用されることができる。
【０１３１】
従って、本発明は液晶表示装置の表示品質を向上させるのに適用することができる。
【符号の説明】
【０１３２】
１００     表示パネル
１０１アレイ基板
１０３下部基板
１０５対向基板
１０７上部基板
１０８液晶層
１７０画素電極
１７１第２スリット部
２７０共通電極
２７１第１スリット部
２７２第１エッジ
２７４第２エッジ
２７３溝
２７５突出部
【図１】
2010020317.tif 000003
【図２】
2010020317.tif 000004
【図３】
2010020317.tif 000005
【図４】
2010020317.tif 000006
【図５】
2010020317.tif 000007
【図６】
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【図７】
2010020317.tif 000009
【図８】
2010020317.tif 000010
【図９】
2010020317.tif 000011
【図１０】
2010020317.tif 000012
【図１１】
2010020317.tif 000013
【図１２】
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【図１３】
2010020317.tif 000015
【図１４】
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【図１５】
2010020317.tif 000017
【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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