(57)【要約】【課題】２つの直交する方向における倍率補正を個別に行うことを可能にする。【解決手段】投影光学系ＰＯは、物体面Ｏから像面Ｉに至る光路に第１凹反射面Ｍ１、凸反射面Ｍ２、第２凹反射面Ｍ３が順に配置され、物体面Ｏに配置された物体の像を像面Ｉに投影する。投影光学系ＰＯは、前記光路に配置された第１屈折光学ユニットＡおよび第２屈折光学ユニットＢを備える。第１屈折光学ユニットＡおよび第２屈折光学ユニットＢは、それぞれ、２以上のシリンドリカル面を有する。第１屈折光学ユニットＡは、第１方向における投影光学系ＰＯの投影倍率を調整可能に構成され、第２屈折光学ユニットは、前記第１方向に直交する第２方向における前記投影光学系の投影倍率を調整可能に構成されている。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
物体面から像面に至る光路に第１凹反射面、凸反射面、第２凹反射面が順に配置され、前記物体面に配置された物体の像を前記像面に投影する投影光学系であって、
前記光路に配置された第１屈折光学ユニットおよび第２屈折光学ユニットを備え、
前記第１屈折光学ユニットおよび前記第２屈折光学ユニットは、それぞれ、２以上のシリンドリカル面を有し、
前記第１屈折光学ユニットは、第１方向における前記投影光学系の投影倍率を調整可能に配置され、前記第２屈折光学ユニットは、前記第１方向に直交する第２方向における前記投影光学系の投影倍率を調整可能に構成されている、
ことを特徴とする投影光学系。
【請求項２】
前記第１屈折光学ユニットの前記２以上のシリンドリカル面の母線は、前記投影光学系の光軸に直交する第３方向に平行であり、前記第２屈折光学ユニットの前記２以上のシリンドリカル面の母線は、前記光軸および前記第３方向に直交する第４方向に平行である、
ことを特徴とする請求項１に記載の投影光学系。
【請求項３】
前記第１屈折光学ユニットおよび前記第２屈折光学ユニットの少なくとも一方は、第１面および第２面を有する屈折光学素子を含み、前記第１面はシリンドリカル面であり、前記第２面は球面又は非球面である、
ことを特徴とする請求項１又は２に記載の投影光学系。
【請求項４】
前記第１方向における投影倍率が第１目標投影倍率になるように前記第１屈折光学ユニットを駆動する第１アクチュエータと、
前記第２方向における投影倍率が第２目標投影倍率になるように前記第２屈折光学ユニットを駆動する第２アクチュエータとを更に備える、
ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の投影光学系。
【請求項５】
前記第１屈折光学ユニットは、前記物体面と前記第１凹反射面との間に配置され、前記第２屈折光学ユニットは、前記第２凹反射面と前記像面との間に配置されている、
ことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の投影光学系。
【請求項６】
前記物体面と前記像面との間において前記投影光学系の光軸を折り曲げるミラーを更に備える、
ことを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の投影光学系。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれか１項に記載の投影光学系を備え、前記投影光学系によって原版のパターンを基板に投影して該基板を露光することを特徴とする露光装置。
【請求項８】
デバイス製造方法であって、
感光剤が塗布された基板を請求項７に記載の露光装置によって露光する工程と、
該感光剤を現像する工程と、
を含むことを特徴とするデバイス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、投影光学系、該投影光学系を備える露光装置および該露光装置を用いてデバイスを製造するデバイス製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
フラットパネルディスプレイ（以下、ＦＰＤ）は、フォトリソグラフィー工程によって製造される。フォトリソグラフィー工程では、感光剤が塗布された基板（ＦＰＤの製造においては、一般的にガラスプレート）に対して投影光学系によって原版のパターンを投影して該基板を露光する。基板を露光するための露光装置では、重ね合わせ誤差の低減が重要である。重ね合わせ誤差は、例えば、アライメント誤差、収差（ディストーション）、倍率誤差によって生じる。これらのうち、アライメント誤差は、原版と基板との相対位置を高精度に調整することで低減することができるが、収差と倍率誤差は、アラメントでは補正しきれない。
【０００３】
倍率誤差は、生産プロセスによって発生する熱等の要因によりガラスプレート等の基板の伸縮が発生することによって起こりうる。基板の収縮によって、セカンドプロセス以降の重ね合わせ精度が悪化してしまう。また、走査露光における走査方向とそれに垂直な方向とで異なる伸縮が生じうる。基板の伸縮に伴う誤差を低減するために、走査方向の伸縮に対しては、原版と基板との間に相対的な速度差を与えて露光する方法が考えられる。また、走査方向に垂直な方向の伸縮に対しては、平行平板ガラスを原版又は基板の近傍に配置し、その平行平板ガラスを曲げることで光線を屈折させて倍率の微調整を行う方法が考えられている。
【０００４】
特許文献１、２において、倍率補正方法が開示されている。特許文献１には、投影光学系中に光軸に対して回転対称な２枚のレンズを互いに近接して配置し、その一方を光軸方向に駆動することが開示されている。特許文献２には、投影光学系の光軸に対して回転非対称な少なくとも２つのトーリック型光学部材の少なくとも１つを光軸に対して回転させ又は光軸方向に移動させることが開示されている。
【特許文献１】特開昭６２−３５６２０号公報
【特許文献２】特登録３３４１２６９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかし、基板の走査方向における倍率を補正するために、原版と基板との間に相対的に速度差を与える方法では、良像域が円弧状である場合に、特有の非対称ディストーション収差が発生しうる。それを補正するためには、別の収差補正用の光学部材を駆動する必要がある。これにより、メカニカル機構の複雑化と駆動収差残渣が発生してしまう。
【０００６】
また、基板の走査方向と直交する方向における倍率を補正するために、平行平板ガラスを曲げる方法では、平行平板ガラスを目標形状に精度よく曲げることが難しく、非線形な収差誤差成分が発生してしまう。しかも、近年の基板の大型化に対応するためには、平行平板ガラスも大型化しなければならず、これが誤差をもたらしうる。
【０００７】
特許文献１、２に記載された方法では、走査方向に対する倍率補正とそれに直交する方向に対する倍率補正とを個別に行うことができない。
【０００８】
本発明は、上記の背景に鑑みてなされたものであり、例えば、２つの直交する方向における倍率補正を個別に行うことを可能にすることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の第１の側面は、物体面から像面に至る光路に第１凹反射面、凸反射面、第２凹反射面が順に配置され、前記物体面に配置された物体の像を前記像面に投影する投影光学系に係り、前記投影光学系は、前記光路に配置された第１屈折光学ユニットおよび第２屈折光学ユニットを備え、前記第１屈折光学ユニットおよび前記第２屈折光学ユニットは、それぞれ、２以上のシリンドリカル面を有し、前記第１屈折光学ユニットは、第１方向における前記投影光学系の投影倍率を調整可能に構成され、前記第２屈折光学ユニットは、前記第１方向に直交する第２方向における前記投影光学系の投影倍率を調整可能に構成されている。
【００１０】
本発明の第２の側面は、露光装置に係り、前記露光装置は、上記の投影光学系を備え、前記投影光学系によって原版のパターンを基板に投影して該基板を露光する。
【００１１】
本発明の第３の側面は、デバイス製造方法に係り、前記デバイス製造方法は、光剤が塗布された基板を請求項７に記載の露光装置によって露光する工程と、該感光剤を現像する工程とを含む。
【発明の効果】
【００１２】
本発明は、例えば、２つの直交する方向における倍率補正を個別に行うことが可能になる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態を説明する。
【００１４】
［第１実施形態］
図１は、本発明の好適な実施形態の露光装置ＥＸの概略構成を示す図である。図２は、図１に示す露光装置ＥＸの投影光学系ＰＯの構成を模式的に示す図である。なお、図２では、投影光学系ＰＯの光軸ＡＸを折り曲げるための折り曲げミラー（パワーがゼロのミラー）ＭＤが省略されている。折り曲げミラーＭＤは、光路を折り曲げると考えてもよい。折り曲げミラーＭＤは、例えば、原版Ｍが配置される物体面Ｏと第１凹反射面Ｍ１との間で反射面ＭＡによって光軸ＡＸを９０度折り曲げ、第２凹反射面Ｍ３と基板Ｐが配置される像面Ｉとの間で反射面ＭＢによって光軸ＡＸを９０度折り曲げるように配置されうる。
【００１５】
現実の構成においては、投影光学系ＰＯの小型化のために折り曲げミラーＭＤが設けられることが有利であるが、折り曲げミラーＭＤは必須ではない。この明細書では、空間的な方向を説明するために、折り曲げミラーＭＤが取り除かれた状態における光軸ＡＸに対して平行にＺ方向を定義したＸＹＺ座標系が用いられる。
【００１６】
露光装置ＥＸは、例えば、液晶ディスプレイ等のフラットパネルディスプレイのように大面積を有するデバイスの製造のために好適であるが、ＬＳＩ等の半導体デバイスや他のデバイスの製造にも適用可能である。
【００１７】
露光装置ＥＸは、原版（マスク又はレチクルとも呼ばれうる）Ｍを照明する照明光学系ＩＬ、原版Ｍを保持する原版ステージＭＳＴ、投影光学系ＰＯ、基板（例えば、ガラスプレート等のプレート）Ｐを保持する基板ステージＰＳＴを備えうる。原版Ｍは、投影光学系ＰＯの物体面Ｏに配置され、基板Ｐは、投影光学系ＰＯの像面Ｉに配置される。
【００１８】
露光装置ＥＸは、典型的には、走査露光装置として構成される。露光装置ＥＸは、照明光学系ＩＬによって原版Ｍを帯状（例えば、円弧状、矩形スリット状）に成形された光で照明しながら原版Ｍおよび基板Ｐが走査されるように原版ステージＭＳＴおよび基板ステージＰＳＴを走査駆動する。これによって、原版Ｍのパターンが基板Ｐの上の感光剤に転写される。
【００１９】
投影光学系ＰＯは、光軸ＡＸからずれた位置に良像域を有し、当該良像域が原版Ｍのパターンを基板Ｐに投影するために使用される。投影光学系ＰＯは、物体面Ｏから像面Ｉに至る光路に、第１屈折光学ユニットＡ、第１凹反射面Ｍ１、凸反射面Ｍ２、第２凹反射面Ｍ３、第２屈折光学ユニトＢが順に配置されるように構成されている。第１屈折光学ユニットＡと第１凹反射面Ｍ１との間には、折り曲げミラーＭＤの反射面ＭＡが配置されうる。第２凹反射面Ｍ３と第２屈折光学ユニットＢとの間には、折り曲げミラーＭＤの反射面ＭＢが配置されうる。
【００２０】
第１屈折光学ユニットＡおよび第２屈折光学ユニトＢは、上記の位置に限られず、物体面Ｏから像面Ｉに至る光路の中に配置されうる。第１凹反射面Ｍ１と第２凹反射面Ｍ３とは、典型的には、同一の曲率中心を有する反射面である。第１凹反射面Ｍ１は、正のパワーを有し、凸反射面Ｍ２は、負のパワーを有し、第２凹反射面は、正のパワーを有する。
【００２１】
第１屈折光学ユニットＡおよび第２屈折光学ユニトＢは、投影光学系ＰＯの投影倍率を補正する光学ユニットである。より具体的には、第１屈折光学ユニットＡは、第１方向（（折り曲げミラーＭＤを有する場合にはそれを取り除いた状態におけるＸ方向）における投影光学系ＰＯの投影倍率を調整可能に配置される。また、第２屈折光学ユニットＡは、第１方向に直交する第２方向（折り曲げミラーＭＤを有する場合にはそれを取り除いた状態におけるＹ方向）における投影光学系ＰＯの投影倍率を調整可能に配置されている。
【００２２】
第１屈折光学ユニットＡおよび第２屈折光学ユニットＢは、それぞれ、２以上のシリンドリカル面を有する。第１屈折光学ユニットＡは、第１方向（折り曲げミラーＭＤを有する場合にはそれを取り除いた状態におけるＸ方向。）における投影倍率が第１目標投影倍率になるように第１アクチュエータＡＡによって駆動されうる。第２屈折光学ユニットＢは、第２方向（折り曲げミラーＭＤを有する場合にはそれを取り除いた状態におけるＹ方向。）における投影倍率が第２目標投影倍率になるように第２アクチュエータＢＡによって駆動されうる。ここで、第１目標投影倍率、第２目標投影倍率は、例えば、不図示のアライメントスコープ等の計測ユニットによって、基板Ｐ上に既に形成されているアライメントマークの位置を検出することによって決定することができる。
【００２３】
第１屈折光学ユニットＡは、典型的には、２つのシリンドリカル面を有しうる。２つのシリンドリカル面の特性（パワー）の組み合わせとしては、凸および凸、凹および凹、凸および凹が考えられる。ここで、フォーカス位置の変動に対する投影倍率の変化を鈍感にするためには、投影光学系ＰＯをテレセントリックな構成にすること好ましい。よって、２つのシリンドリカル面の特性（パワー）の組み合わせは、凸および凹の組み合わせであることが好ましい。第１屈折光学ユニットＡに含まれるシリンドリカル面の母線は、典型的には互いに平行である。
【００２４】
第２屈折光学ユニットＢもまた、典型的には、２つのシリンドリカル面を有し、その特性（パワー）の組み合わせは、凸および凹の組み合わせであることが好ましい。また、第２屈折光学ユニットＢに含まれるシリンドリカル面の母線は、典型的には互いに平行である。
【００２５】
第１屈折光学ユニットＡに含まれる２以上のシリンドリカル面の母線は、（折り曲げミラーＭＤを有する場合にはそれを取り除いた状態における）投影光学系ＰＯの光軸ＡＸに直交する第３方向（Ｙ方向）に平行である。第２屈折光学ユニットＢに含まれる２以上のシリンドリカル面の母線は、（折り曲げミラーＭＤを有する場合にはそれを取り除いた状態における）投影光学系ＰＯの光軸ＡＸおよび第３方向に直交する第４方向（Ｘ方向）に平行である。
【００２６】
図３、図４は、第１屈折光学ユニットＡの構成例を示す図である。ここで、図３は、第１屈折光学ユニットＡをＸＺ面で切断した断面図であり、図４は、第１屈折光学ユニットＡをＹＺ面で切断した断面図である。第１屈折光学ユニットＡは、物体面Ｏの側に配置された屈折光学素子Ａ１１と、像面Ｉの側に配置された屈折光学素子Ａ１２とを含む。屈折光学素子Ａ１１は、像面Ｉの側に凸のシリンドリカル面ＣＡ１１を有し、全体で凸のパワーを有する。屈折光学素子Ａ１２は、物体面Ｏの側に凹のシリンドリカル面ＣＡ１２を有し、全体で凹のパワーを有する。第１屈折光学ユニットＡは、更に多くのシリンドリカル面を有しうる。即ち、第１屈折光学ユニットＡは、２以上のシリンドリカル面を有しうる。第１屈折光学ユニットＡの２以上のシリンドリカル面ＣＡ１１、ＣＡ１２の母線は、（折り曲げミラーＭＤを有する場合にはそれを取り除いた状態における）投影光学系ＰＯの光軸ＡＸに直交する第３方向（Ｙ方向）に平行である。投影光学系ＰＯの第１方向（折り曲げミラーＭＤを有する場合にはそれを取り除いた状態におけるＸ方向。）における投影倍率を補正するためには、２以上のシリンドリカル面ＣＡ１１、ＣＡ１２のうちの少なくとも１つが第１アクチュエータＡＡによって光軸ＡＸ方向に駆動される。
【００２７】
図５、図６は、第２屈折光学ユニットＢの構成例を示す図である。ここで、図５は、第２屈折光学ユニットＢをＸＺ面で切断した断面図であり、図６は、第２屈折光学ユニットＢをＹＺ面で切断した断面図である。第２屈折光学ユニットＢは、物体面Ｏの側に配置された屈折光学素子Ｂ１１と、像面Ｉの側に配置された屈折光学素子Ｂ１２とを含む。屈折光学素子Ｂ１１は、像面Ｉの側に凹のシリンドリカル面ＣＢ１１を有し、全体で凹のパワーを有する。屈折光学素子Ｂ１２は、物体面Ｏの側に凸のシリンドリカル面ＣＢ１２を有し、全体で凸のパワーを有する。第２屈折光学ユニットＢは、更に多くのシリンドリカル面を有しうる。即ち、第２屈折光学ユニットＢは、２以上のシリンドリカル面を有しうる。第２屈折光学ユニットＢの２以上のシリンドリカル面ＣＢ１１、ＣＢ１２の母線は、（折り曲げミラーＭＤを有する場合にはそれを取り除いた状態における）投影光学系ＰＯの光軸ＡＸに直交する第４方向（Ｘ方向）に平行である。投影光学系ＰＯの第２方向（折り曲げミラーＭＤを有する場合にはそれを取り除いた状態におけるＹ方向。）における投影倍率を補正するためには、２以上のシリンドリカル面ＣＢ１１、ＣＢ１２のうちの少なくとも１つが第２アクチュエータＡＢによって光軸ＡＸ方向に駆動される。
【００２８】
この実施形態によれば、２つの直交する方向、例えば、走査方向およびそれに直交する方向における投影倍率の補正を個別に行うことが可能になる。これにより、例えば、基板に既に形成されているパターンに応じて走査方向およびそれに直交する方向における投影倍率を個別に補正することができ、セカンドプロセス以降の像の重ね合わせ精度を向上させることができる。
【００２９】
［第２実施形態］
以下、本発明の第２実施形態について説明する。ここで特に言及しない事項は、第１実施形態に従いうる。
【００３０】
図７、図８は、第２実施形態における第１屈折光学ユニットＡの構成例を示す図である。ここで、図７は、第１屈折光学ユニットＡをＸＺ面で切断した断面図であり、図８は、第１屈折光学ユニットＡをＹＺ面で切断した断面図である。
【００３１】
第１屈折光学ユニットＡは、物体面Ｏの側に配置された屈折光学素子Ａ２１と、像面Ｉの側に配置された屈折光学素子Ａ２２とを含む。屈折光学素子Ａ２１は、像面Ｉの側の面である第１面として凸のシリンドリカル面ＣＡ１１を有し、物体面Ｏの側の面である第２面として曲面（球面又は非球面）Ｓ１１を有し、全体で凸のパワーを有する。屈折光学素子Ａ２２は、物体面Ｏの側に凹のシリンドリカル面ＣＡ１２を有し、全体で凹のパワーを有する。第１屈折光学ユニットＡは、更に多くのシリンドリカル面を有しうる。即ち、第１屈折光学ユニットＡは、２以上のシリンドリカル面を有しうる。第１屈折光学ユニットＡの２以上のシリンドリカル面ＣＡ１１、ＣＡ１２の母線は、（折り曲げミラーＭＤを有する場合にはそれを取り除いた状態における）投影光学系ＰＯの光軸ＡＸに直交する第３方向（Ｙ方向）に平行である。投影光学系ＰＯの第１方向（折り曲げミラーＭＤを有する場合にはそれを取り除いた状態におけるＸ方向。）における投影倍率を補正するためには、２以上のシリンドリカル面ＣＡ１１、ＣＡ１２のうちの少なくとも１つが第１アクチュエータＡＡによって光軸ＡＸ方向に駆動される。
【００３２】
図９、図１０は、第２屈折光学ユニットＢの構成例を示す図である。ここで、図９は、第２屈折光学ユニットＢをＸＺ面で切断した断面図であり、図１０は、第２屈折光学ユニットＢをＹＺ面で切断した断面図である。第２屈折光学ユニットＢは、物体面Ｏの側に配置された屈折光学素子Ｂ２１と、像面Ｉの側に配置された屈折光学素子Ｂ２２とを含む。屈折光学素子Ｂ２１は、像面Ｉの側に凹のシリンドリカル面ＣＢ１１を有し、全体で凹のパワーを有する。屈折光学素子Ｂ２２は、物体面Ｏの側の面である第１面として凸のシリンドリカル面ＣＢ１２を有し、像面Ｉの側の面である第２面として曲面（球面又は非球面）Ｓ２２を有し、全体で凸のパワーを有する。第２屈折光学ユニットＢは、更に多くのシリンドリカル面を有しうる。即ち、第２屈折光学ユニットＢは、２以上のシリンドリカル面を有しうる。第２屈折光学ユニットＢの２以上のシリンドリカル面ＣＢ１１、ＣＢ１２の母線は、（折り曲げミラーＭＤを有する場合にはそれを取り除いた状態における）投影光学系ＰＯの光軸ＡＸに直交する第４方向（Ｘ方向）に平行である。投影光学系ＰＯの第２方向（折り曲げミラーＭＤを有する場合にはそれを取り除いた状態におけるＹ方向。）における投影倍率を補正するためには、２以上のシリンドリカル面ＣＢ１１、ＣＢ１２のうちの少なくとも１つが第２アクチュエータＡＢによって光軸ＡＸ方向に駆動される。
【００３３】
上記の例では、第１屈折光学ユニットＡおよび第２屈折光学ユニットＢの双方がシリンドリカル面の裏面に曲面を有するが、第１屈折光学ユニットＡおよび第２屈折光学ユニットＢのいずれか一方がシリンドリカル面の裏面に曲面を有してもよい。
【００３４】
この実施形態によれば、シリンドリカル面の裏面を曲面（球面又は非球面）とすることによって、小型で高性能の投影光学系を構成することができる。特に、当該曲面を非球面形状とすることで、軸外光学性能（非点隔差、像面湾曲）の性能を保ったまま帯状（例えば、円弧状）の良像域を拡大することができる。なお、第１、第２屈折光学ユニットのほかに球面又は非球面レンズを配置して所望の軸外光学性能（非点隔差、像面湾曲）を実現しようとすると、投影光学系中の屈折光学素子の増加する。したがって、露光のスループットを上げるために露光波長を広帯域化すると、投影光学系中の屈折光学素子の増加による色収差の増加が無視できなくなりうる。そこで、上記のように、倍率補正のためのシリンドリカル面の裏面に曲面を設けることが好ましく、これによって、小型で高性能の投影光学系を構成することができる。
【００３５】
［その他］
第１、第２実施形態において、投影光学系ＰＯの全体の結像倍率を１倍（等倍）とする場合、第１凹反射面Ｍ１と第２凹反射面Ｍ３とは、同一の曲率半径を有するように構成される。投影光学系ＰＯの結像倍率を１倍以外にする場合には、第１凹反射面Ｍ１の曲率半径と第２凹反射面Ｍ３の曲率半径とは、結像倍率に応じて決定されうる。
【００３６】
［デバイス製造方法］
本発明の好適な実施形態のデバイス製造方法は、例えば、液晶デバイス、半導体デバイスの製造に好適であり、感光剤が塗布された基板の該感光剤に上記の露光装置を用いて原版のパターンを転写する工程と、該感光剤を現像する工程とを含みうる。さらに、他の周知の工程（エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等）を経ることによりデバイスが製造される。
【図面の簡単な説明】
【００３７】
【図１】本発明の好適な実施形態の露光装置の概略構成を示す図である。
【図２】図１に示す露光装置の投影光学系の構成を模式的に示す図である。
【図３】第１実施形態の第１屈折光学ユニットのＸＺ平面の断面図である。
【図４】第１実施形態の第１屈折光学ユニットのＹＺ平面の断面図である。
【図５】第１実施形態の第２屈折光学ユニットのＸＺ平面の断面図である。
【図６】第１実施形態の第２屈折光学ユニットのＹＺ平面の断面図である。
【図７】第２実施形態の第１屈折光学ユニットのＸＺ平面の断面図である。
【図８】第２実施形態の第１屈折光学ユニットのＹＺ平面の断面図である。
【図９】第２実施形態の第２屈折光学ユニットのＸＺ平面の断面図である。
【図１０】第２実施形態の第２屈折光学ユニットのＹＺ平面の断面図である。
【符号の説明】
【００３８】
ＩＬ：照明光学系
ＰＯ：投影光学系
Ｍ：原版
ＭＳＴ：原版ステージ
Ｐ：基板
ＰＳＴ：基板ステージ
Ｍ１：第１凹反射面
Ｍ２：凸反射面
Ｍ３：第２凹反射面
Ａ：第１屈折光学ユニット
Ｂ：第１屈折光学ユニット
Ｏ：物体面
Ｉ：像面
【図１】
2010020017.tif 000003
【図２】
2010020017.tif 000004
【図３】
2010020017.tif 000005
【図４】
2010020017.tif 000006
【図５】
2010020017.tif 000007
【図６】
2010020017.tif 000008
【図７】
2010020017.tif 000009
【図８】
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【図９】
2010020017.tif 000011
【図１０】
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