(57)【要約】【課題】処理効率がよく、しかもコストが嵩むおそれのないガス処理装置とする。【解決手段】ガス処理装置１０は、被処理ガスＧが通されるバグフィルター２０と、このバグフィルター２０に被処理ガスＧを供給するガス供給路３０と、このガス供給路３０に機能性粉体Ｆを供給する粉体供給手段４０とを有する。そして、ガス供給路３０の途中には、機能性粉体Ｆを含む被処理ガスＧを攪拌するガス攪拌手段５０が設けられている。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
被処理ガスが通されるバグフィルターと、このバグフィルターに前記被処理ガスを供給するガス供給路と、このガス供給路に機能性粉体を供給する粉体供給手段と、を有するガス処理装置であって、
前記ガス供給路の途中に、前記機能性粉体を含む被処理ガスを攪拌するガス攪拌手段が設けられている、
ことを特徴とするガス処理装置。
【請求項２】
前記ガス攪拌手段は、
前記機能性粉体を含む被処理ガスが供給される攪拌槽と、この攪拌槽の底部に備えられた上下方向を軸として回転する回転羽根と、この回転羽根の回転軸に沿って下方に延び前記攪拌槽内に前記機能性粉体を含む被処理ガスを供給する内管と、を有し、
この内管の先端縁よりも上方に前記機能性粉体を含む被処理ガスの排気口が形成されている、
請求項１記載のガス処理装置。
【請求項３】
前記ガス攪拌手段は、
前記機能性粉体を含む被処理ガスが供給される筒体と、この筒体内に備えられた当該筒体の軸方向を軸として回転する回転羽根と、を有し、
前記筒体の一端開口が前記機能性粉体を含む被処理ガスの供給口とされ、前記筒体の他端開口が前記機能性粉体を含む被処理ガスの排気口とされている、
請求項１記載のガス処理装置。
【請求項４】
２以上の前記攪拌手段が、前記筒体の軸方向に連接されている、
請求項３記載のガス処理装置。
【請求項５】
前記連接をされた攪拌手段は、筒体の両端部にそれぞれ前記回転羽根が備えられ、
一の回転羽根と、これに隣接する他の攪拌手段の回転羽根と、が相互に逆方向に回転する構成とされている、
請求項４記載のガス処理装置。
【請求項６】
前記筒体の内壁面から内方に突出する固定羽根が、
最も上流側に位置する回転羽根の上流側において当該最上流回転羽根と隣接するように、及び／又は、最も下流側に位置する回転羽根の下流側において当該最下流回転羽根と隣接するように、設けられている、
請求項５記載のガス処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、吸着剤等の機能性粉体を利用して、ガスの中和、除湿、脱臭等の処理を行うガス処理装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
現在、この種のガス処理装置・方法としては、バグフィルターの上流において、有害成分等の被処理成分を含む排ガス等の被処理ガス中に、吸着剤等の機能性粉体を供給し、被処理成分を機能性粉体に吸着させることにより、あるいは被処理成分と機能性粉体とを反応させることにより、ガスの中和、除湿、脱臭等の処理を行う装置・方法がある（例えば、特許文献１等参照。）。
【０００３】
この装置・方法によると、被処理成分と機能性粉体との接触時間が長くなり、吸着・反応効率が向上すると考えられていた。しかしながら、本発明者がバグフィルター上流のダクト内に機能性粉体を供給する試験を行ったところによると、風速条件やダクト長等を変化させても、吸着・反応効率の向上は１０％以下にとどまった。この試験においては、被処理ガスと機能性粉体とが同じ速度でダクト内を流れており、両者の接触時間が長くなったことは確かである。したがって、この試験から、単に被処理ガスと機能性粉体との接触時間を長くしても、吸着・反応効率は、それほど向上しないことが分かった。
【０００４】
また、この種のガス処理装置・方法としては、バグフィルターの表面に機能性粉体を付着させ、被処理成分を機能性粉体に吸着させることにより、あるいは被処理成分と機能性粉体とを反応させることにより、ガスの中和、除湿、脱臭等の処理を行う装置・方法もある（例えば、特許文献１等参照。）。
【０００５】
この装置・方法においては、機能性粉体の付着層が薄いと吸着・反応効率が悪くなるため、機能性粉体の付着層を厚くする必要があり、一般的には約１ｍｍ以上の厚さが必要とされている。しかしながら、機能性粉体の付着層厚を厚くすると、通気抵抗が大きくなるため、ブロワ等による吸引圧力を大きくするか、単位面積当たりの通気量が少なくなるよう、例えば、フィルター面積を通常より１５０〜２００％大きくする必要がある。
【０００６】
また、バグフィルターに付着した機能性粉体は、吸着・反応によってすぐに劣化してしまうため、新たな機能性粉体と置き換える必要があり、例えば、パルスジェットなどの逆洗クリーニングによって劣化した機能性粉体を払い落し、新たな機能性粉体を付着させる必要がある。しかしながら、新たな機能性粉体が所定の付着層厚となるまでの間は、吸着・反応が不十分になり、総合的な吸着・反応効率も低下してしまうため、装置の性能保証等もできなくなってしまう。
【０００７】
さらに、機能性粉体の付着層厚を厚くするといっても、付着した機能性粉体が重力等によって自己剥離してしまうため、約２〜３ｍｍが限界である。そして、この付着層厚の限界が吸着・反応容量の上限でもあり、被処理成分の濃度が急上昇した場合などに大きな問題が生じる。例えば、燃焼排ガス中の塩化水素ガスの濃度は、数百ｐｐｍから２０００ｐｐｍを超える高濃度に急上昇する場合があることが知られているが、この場合は、吸着・反応容量の限界を超えてしまうため、バグフィルター通過前の塩化水素ガス濃度の上昇に比例して、バグフィルター通過後の塩化水素ガス濃度も上昇してしまう。しかも、この場合は、短時間の間に機能性粉体が劣化してしまうため、逆洗クリーニングが間に合わず、高濃度の塩化水素ガスが流出し、場合によっては環境濃度の許容値をオーバーするおそれがある。
【０００８】
一方、この種のガス処理装置・方法としては、機能性粉体をペレット状に固め、このペレットを充填した充填層にガスを通気させ、もって被処理成分を機能性粉体に吸着させることにより、あるいは被処理成分と機能性粉体とを反応させることにより、ガスの中和、除湿、脱臭等の処理を行う装置・方法もある（例えば、特許文献２等参照。）。
【０００９】
しかしながら、機能性粉体のペレットは、粉体状の機能性粉体に比べて、単位重量当りの単価が数倍以上と高価であり、コストが嵩む。また、機能性粉体のペレットは、機能性粉体をバインダー等によって固めて得たものであるため、被処理成分との接触効率が悪く（ペレット表面での吸着・反応になる。）、充填量を多くし、あるいは通気時間を長くする必要がある。さらに、機能性粉体のペレットは、水蒸気、ダスト、共存ガス等によってマスキングされてしまい、粉体状の機能性粉体の場合と比べて、吸着・反応性能（容量）が、１／３〜１／５にまで低下してしまうため、劣化が早く、ランニングコストが嵩む。さらに、機能性粉体と被処理成分との中和反応が起こると、潮解作用によってペレットが崩れてしまい、充填層の閉塞、居付き等の問題が生じる。このほか、充填層は、通気抵抗が大きいため、ブロワの通風圧力を大きくする必要があり、動力コストが嵩む。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特開２０００−２６２８４２号公報
【特許文献２】特開平２−１４９３１１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明が解決しようとする主たる課題は、処理効率がよく、しかもコストが嵩むおそれのないガス処理装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
この課題を解決した本発明は、次のとおりである。
〔請求項１記載の発明〕
被処理ガスが通されるバグフィルターと、このバグフィルターに前記被処理ガスを供給するガス供給路と、このガス供給路に機能性粉体を供給する粉体供給手段と、を有するガス処理装置であって、
前記ガス供給路の途中に、前記機能性粉体を含む被処理ガスを攪拌するガス攪拌手段が設けられている、
ことを特徴とするガス処理装置。
【００１３】
〔請求項２記載の発明〕
前記ガス攪拌手段は、
前記機能性粉体を含む被処理ガスが供給される攪拌槽と、この攪拌槽の底部に備えられた上下方向を軸として回転する回転羽根と、この回転羽根の回転軸に沿って下方に延び前記攪拌槽内に前記機能性粉体を含む被処理ガスを供給する内管と、を有し、
この内管の先端縁よりも上方に前記機能性粉体を含む被処理ガスの排気口が形成されている、
請求項１記載のガス処理装置。
【００１４】
〔請求項３記載の発明〕
前記ガス攪拌手段は、
前記機能性粉体を含む被処理ガスが供給される筒体と、この筒体内に備えられた当該筒体の軸方向を軸として回転する回転羽根と、を有し、
前記筒体の一端開口が前記機能性粉体を含む被処理ガスの供給口とされ、前記筒体の他端開口が前記機能性粉体を含む被処理ガスの排気口とされている、
請求項１記載のガス処理装置。
【００１５】
〔請求項４記載の発明〕
２以上の前記攪拌手段が、前記筒体の軸方向に連接されている、
請求項３記載のガス処理装置。
【００１６】
〔請求項５記載の発明〕
前記連接をされた攪拌手段は、筒体の両端部にそれぞれ前記回転羽根が備えられ、
一の回転羽根と、これに隣接する他の攪拌手段の回転羽根と、が相互に逆方向に回転する構成とされている、
請求項４記載のガス処理装置。
【００１７】
〔請求項６記載の発明〕
前記筒体の内壁面から内方に突出する固定羽根が、
最も上流側に位置する回転羽根の上流側において当該最上流回転羽根と隣接するように、及び／又は、最も下流側に位置する回転羽根の下流側において当該最下流回転羽根と隣接するように、設けられている、
請求項５記載のガス処理装置。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によると、処理効率がよく、しかもコストが嵩むおそれのないガス処理装置となる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】ガス処理装置の形態例である。
【図２】ガス攪拌手段の形態例である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
次に、本発明の実施の形態を説明する。
〔用途等〕
本形態のガス処理装置は、有害成分等の被処理成分を含む燃焼排ガス等の被処理ガスに、吸着剤等の機能性粉体を供給し、被処理成分を機能性粉体に吸着させることにより、あるいは被処理成分と機能性粉体とを反応させることにより、被処理ガスの中和等の処理を行うものである。
【００２１】
本形態のガス処理装置において、処理の対象となるガス（被処理ガス）は、特に限定されず、燃焼排ガスのほか、例えば、悪臭ガス、発酵ガス、化学合成ガス等のガスを例示することができる。また、このガスに含まれる被処理成分も、特に限定されず、例えば、揮発性有機化合物（ＶＯＣ）、塩化水素、水分、アンモニア等の臭気成分、二酸化炭素等を例示することができる。さらに、  本形態のガス処理装置が行う処理の内容も、特に限定されず、中和処理のほか、例えば、除湿処理、脱臭処理、香り付け処理、酸化反応処理等を例示することができる。
【００２２】
一方、本形態のガス処理装置において利用する機能性粉体とは、被処理ガス中の被処理成分を吸着し、あるいは被処理ガス中の被処理成分と反応する粉体であり、その種類は特に限定されない。機能性粉体としては、例えば、塩化水素等を含む酸性ガスの中和処理を行うのであれば、消石灰等の強アルカリ粉体を例示することができ、除湿処理を行うのであれば（被処理成分が水分）、シリカゲル、ゼオライト等の吸湿性粉体を例示することができ、脱臭処理を行うのであれば、活性炭、ゼオライト等の多孔質吸着粉体を例示することができる。
【００２３】
〔ガス処理装置〕
図１に示すように、本形態のガス処理装置１０は、被処理ガスＧが通されるバグフィルター２０と、このバグフィルター２０に被処理ガスＧを供給するガス供給路３０と、このガス供給路３０に機能性粉体Ｆを供給する粉体供給手段４０と、を有し、ガス供給路３０の途中に、機能性粉体Ｆが供給された後の被処理ガス（機能性粉体Ｆを含む被処理ガスであり、以下、「粉体ガス」と略す。）ＧＦを攪拌するガス攪拌手段５０が設けられている。
このように本形態のガス処理装置１０においては、バグフィルター２０の前段にガス攪拌手段５０が設けられており、このガス攪拌手段５０おいて、粉体ガスＧＦが攪拌されるため、被処理成分と機能性粉体Ｆとの吸着・反応効率が高まり、被処理ガスＧの処理効率が向上する。
【００２４】
この点をより詳細に説明すると、被処理成分と機能性粉体Ｆとの吸着・反応効率が高まるのは、粉体ガスＧＦの攪拌によって、機能性粉体Ｆの表面を覆う境界層が剥離されるためである。
すなわち、粉体ガスＧＦが単に流れている状態、つまり、機能性粉体Ｆと被処理ガスＧ（被処理成分）とが随伴移動している状態においては、機能性粉体Ｆの周りに位置する被処理ガスＧが分子間引力によって当該機能性粉体Ｆに引き寄せられ、当該機能性粉体Ｆの周りを覆うように境界層を形成する。そして、この境界層によって他の被処理ガスＧ中の被処理成分が機能性粉体Ｆと接触し難くなるため（接触阻害）、例えば、前述したように風速条件やダクト長等を変化させても、吸着・反応効率が向上しないことになる。これに対し、本形態においては、粉体ガスＧＦの攪拌によって、機能性粉体Ｆと被処理ガスＧとの相対速度差が高まるため、剪（せん）断応力等によって、境界層が剥離され、吸着・反応効率が著しく向上する。また、この吸着・反応効率の向上により、被処理成分と機能性粉体Ｆとの吸着・反応は、ほとんどがガス攪拌手段５０及びバグフィルター２０への移動過程で行われることになり、バグフィルター２０における吸着・反応は、補助的なものとなる。結果、バグフィルター２０の処理負荷が減り、例えば、バグフィルター２０を小型化すること、バグフィルター２０の腐食対策を軽減すること、バグフィルター２０の目詰まりによる圧力損失を軽減することなどができる。また、本形態のガス処理装置１０によると、吸着・反応容量がバグフィルター２０に依存しなくなるため、被処理成分の濃度が急上昇した場合においても、例えば、被処理成分の検出濃度に応じて機能性粉体Ｆの供給量を調節することなどによって、被処理成分の流出（バグフィルター２０を通り抜けること）を防止することができ、総合的な処理効率の低下を防止することができる。さらに、境界層の剥離によって機能性粉体Ｆの吸着・反応能力が限界まで利用されるようになるため、機能性粉体Ｆが短時間で使用不能になるということがなく、ランニングコストを大幅に削減することができる。しかも、被処理成分と機能性粉体Ｆとの吸着・反応は、ほとんどがガス攪拌手段５０で行われ、バグフィルター２０における吸着・反応は、補助的なものとなり、また、ガス攪拌手段５０は、中和、除湿、脱臭等の処理いずれにも共通して使用することができるため、これらの各種処理を複合的に行うことができる。加えて、機能性粉体Ｆを粉体のまま利用し、ペレット化するものではないため、潮解作用によるトラブルが生じない。このほか、ガス攪拌手段５０がバグフィルター２０の前段に設けられており、バグフィルター２０に対してガス攪拌手段５０が押込みファンの機能を発揮するため、バグフィルター２０にガスＧを通気させるための通気手段を小型化することができる。
【００２５】
本形態のガス処理装置１０において用いることができるガス攪拌手段５０の具体的な形態は、特に限定されるものではないが、図示例のガス攪拌手段５０を推奨する。
本形態のガス攪拌手段５０は、粉体ガスＧＦが供給される好ましくは円筒状の攪拌槽５１と、この攪拌槽５１の底部に備えられた上下方向を軸として、特に図示例では攪拌槽５１の軸を軸として回転する回転羽根５２と、この回転羽根５２の回転軸に沿って下方に延び攪拌槽５１内に粉体ガスＧＦを供給する内管５３と、を主に有する。
【００２６】
この内管５３の形状は、特に限定されるものではないが、図示例では、攪拌槽５１の天面から回転羽根５２に向かって一直線に延びる、攪拌槽５１と同軸の円筒とされている。そして、この内管５３の先端縁５３ａよりも上方に粉体ガスＧＦの排気口５４が形成されている。
【００２７】
このようにしてなるガス攪拌手段５０においては、内管５３の先端縁５３ａ開口から粉体ガスＧＦが回転羽根５２向かって噴出され、この噴出された粉体ガスＧＦが回転羽根５２によって攪拌される。この攪拌は、内管５３の先端縁５３ａよりも上方に粉体ガスＧＦの排気口５４が形成されているため、少なくとも当該先端縁５３ａから排気口５４に至るまでの間、継続して行われる。しかも、本形態においては、内管５３が回転羽根５２の回転軸に沿って下方に延びているため、粉体ガスＧＦは、内管５３を中心に旋回上昇しながら排気口５４に至ることになり、攪拌時間が長くなる。
【００２８】
この粉体ガスＧＦの攪拌時間（滞留時間）は、もちろん先端縁５３ａから排気口５４までの距離や、攪拌槽５１の径、内管５３の径、排気口５４の径等を変化させて、適宜調整することもできる。この攪拌時間は、通常０．１〜２秒、好ましくは０．５〜１秒である。攪拌時間が短過ぎると、機能性粉体Ｆから境界層を確実に剥離することができないおそれがあり、他方、攪拌時間を必要以上に長くしても、途中で吸着・反応が限界に達し、また、処理時間の長期化や攪拌槽５１の大型化につながるため、設備・処理コストが増加する。
【００２９】
本形態において、攪拌槽５１の内壁面は、フッ素樹脂等をコーティングしておくのが好ましい。このコーティングによって、機能性粉体Ｆが潮解作用によって攪拌槽５１の内壁面に付着したとしても、この付着物は回転羽根５２による攪拌作用（風圧等）によって剥離される。また、回転羽根５２の駆動源たるモーター５２Ｍは、潮解作用によって機能性粉体Ｆが付着しないよう、図示例のように、攪拌槽５１外に配置するのが好ましい。
【００３０】
一方、本形態においては、前述したように粉体供給手段４０によってガス供給路３０に機能性粉体Ｆが供給されるが、この機能性粉体Ｆを供給する粉体供給手段４０の形態は、特に限定されない。図示例の粉体供給手段４０は、上端側が円筒状、下端側が下方に先細りの円錐状とされた粉体タンク４１と、この粉体タンク４１の下端部開口に接続されたロータリーフィーダ、テーブルフィーダー等からなる定量フィーダ４２と、この定量フィーダ４２から切り出された機能性粉体Ｆを、粉体供給路４３を通してガス供給路３０に向けて空気圧送するブロワ４４と、を主に有する。
【００３１】
この粉体供給手段４０を用いて、機能性粉体Ｆをガス供給路３０に向けて供給するにあたっては、例えば、濃度計９１によって、ガス供給路３０内を通る被処理ガスＧ中の被処理成分の濃度を測定すると好適である。この測定値は、調節計９２等を介して、インバーター９３を制御するのに利用する。このインバーター９３は、定量フィーダ４２の駆動源であるモーター４２Ｍを制御するものであり、したがって、本形態によると、被処理成分の濃度に基づいて、機能性粉体Ｆの切出し量、つまりガス供給路３０に供給する機能性粉体Ｆの量を調節することができる。なお、本形態においては、内管５３がガス供給路３０を兼ねており、粉体供給路４３の先端縁開口は、内管５３（兼ガス供給路３０）の途中において、内管５３内と連通している。
【００３２】
一方、ガス攪拌手段５０の排気口５４から排気された粉体ガスＧＦは、ガス供給路３０を通してバグフィルター２０に空気圧送される。このバグフィルター２０の形態は、特に限定されるものではないが、図示例では、上端側が円筒状、下端側が下方に先細りの円錐状とされた収容槽２１と、この収容槽２１内に配置された適宜の数の、図示例では２つのフィルター２２と、収容槽２１の下端部に接続された粉体回収ボックス２３と、各フィルター２２の上方に配置されたパルスジェット２４と、を主に有する。
【００３３】
本形態のガス処理装置１０において、粉体ガスＧＦは、収容槽２１内に供給された後、例えば、円筒状とされたフィルター２２の外周面に付着する等して、更に吸着・反応が進む。もっとも、この吸着・反応は、補助的なものに過ぎず、従来のバグフィルター等におけるように、フィルター２２の外周面に機能性粉体Ｆを積極的に付着させる必要はなく、また、この付着層を厚いものとする必要もない。したがって、フィルター２２の通気抵抗が大きなものとはらならず、ブロワ等による吸引圧力を大きくする必要や、フィルター２２の面積を通常より大きくする必要がない。
【００３４】
本形態のバグフィルター２０において、被処理成分が吸着された、あるいは被処理成分と反応した機能性粉体Ｆは、重力等によって収容槽２１の底部に落下し、粉体回収ボックス２３内に回収される。この粉体回収ボックス２３内に回収された機能性粉体Ｆは、適宜の再生処理を施す等した後、粉体タンク４１内に投入する機能性粉体Ｆなどとして、再利用することができる。また、フィルター２２に付着した機能性粉体Ｆは、パルスジェット２４から適宜の間隔をおいてエアを噴出し、円筒状とされたフィルター２２の中心側から外方に向かってエアを吹き出すことにより、払い落すことができる。この点、本形態において、バグフィルター２０における吸着・反応は、補助的なものに過ぎず、機能性粉体Ｆの付着層を厚く形成するものではないため、新たな機能性粉体Ｆが所定の付着層厚となるまでの吸着・反応効率の低下等は問題とならない。
【００３５】
他方、フィルター２２によって機能性粉体Ｆが取り除かれた後の清浄ガスＧＣは、そのまま排風ファン７０によって吸引され、例えば、大気中に放風することができる。
【００３６】
〔他の形態〕
図２に、ガス攪拌手段５０の別の形態を示した。
本形態のガス攪拌手段５０は、２以上の単位ガス攪拌手段６０が、次いで説明する筒体６１の軸方向に連接されて構成されている。単位ガス攪拌手段６０は、粉体ガスＧＦが供給される、例えば円筒状の筒体６１と、この筒体６１内に配置された筒体６１の軸方向を軸として回転する回転羽根６２Ａ，６２Ｂと、この回転羽根６２Ａ，６２Ｂを回転駆動するモーター６０Ｍとを有し、筒体６１の一端開口が、粉体ガスＧＦの供給口６１Ａとされ、筒体６１の他端開口が、粉体ガスＧＦの排気口６１Ｂとされている。
【００３７】
この単位ガス攪拌手段６０においては、ガス供給口６１Ａから筒体６１内に供給された粉体ガスＧＦが、回転羽根６２Ａ，６２Ｂによって攪拌され、そのままガス排出口６１Ｂから排出される。このように本形態の単位ガス攪拌手段６０においては、粉体ガスＧＦが滞留せず、単に筒体６１内を通り抜ける構成とされているため、ガス処理装置１０を小型化することができる（なお、筒体６１の直径は、例えば、４０〜１２０ｃｍとすることができる。）。また、粉体ガスＧＦを滞留させないとすると、攪拌時間は短くなるが、本形態のように単位ガス攪拌手段６０を直列的に連接することによって、攪拌時間を長くすることができる。
【００３８】
もっとも、単位ガス攪拌手段６０の連接数を変えるのみであると、必要になる攪拌時間によっては、単位ガス攪拌手段６０の連接数が多くなり過ぎる可能性がある。そこで、図示例のように、単位ガス攪拌手段６０を２以上連接する場合においては、筒体６１の両端部（ガス供給口６１Ａ側端部及びガス排出口６１Ｂ側端部）にそれぞれ回転羽根６２Ａ，６２Ｂが備えられ、しかも一の回転羽根６２Ｂと、これに隣接する他の単位ガス攪拌手段６０の回転羽根６２Ａとが、好ましくは一の回転羽根６２Ｂと、これに隣接する同一の単位ガス攪拌手段６０の回転羽根６２Ａとも、相互に逆方向に回転する構成とされているのが好ましい。この形態によると、相互に隣接する回転羽根６２Ａ，６２Ｂが逆方向に回転するため、各回転羽根６２Ａ，６２Ｂの相対的な回転速度が増し、機能性粉体Ｆが有する境界層の剥離性能が向上する。結果、機能性粉体Ｆと被処理成分との吸着・反応効率が向上する。
【００３９】
また、図示例のように、筒体６１の内壁面から内方に突出する固定羽根６３が、最も上流側に位置する回転羽根６２Ｘの上流側において当該最上流回転羽根６２Ｘと隣接するように、及び／又は、最も下流側に位置する回転羽根６２Ｙの下流側において当該最下流回転羽根６２Ｙと隣接するように、設けられていると、より好ましいものとなる。この形態によると、最上流回転羽根６２Ｘや最下流回転羽根６２Ｙの相対的な回転速度も増すため、機能性粉体Ｆと被処理成分との吸着・反応効率が向上する。
【実施例】
【００４０】
次に、試験例について説明する。
〔試験例１〕
ソルベントを加熱して発生させた被処理ガスに、機能性粉体としてチャコール（三菱カルゴン社製  ダイアホープｐｘｏ（粉末チャコール））を供給し、得られた粉体ガスをガス攪拌手段及びバグフィルター（ＣＦ−６０）に、この順に通して、アンモニアの除去率（ガス除去率）を調べる試験を行った。ガス攪拌装置としては、前述した粉体ガスが供給される攪拌槽（容量０．６ｍ3）と、この攪拌槽内に配置された回転羽根とが備わる形態の装置を使用した。結果を表１に示した。なお、試験時の気温は１２℃、湿度は９０％であった。
【００４１】
【表１】
2010247096.tif 000003
【００４２】
表１に示すように、３０分経過後にバグフィルターに付着したチャコールを払い落すパルス打ちを行ったが、その後のガス除去率に影響がなかった。このことから、主としてガス攪拌装置（攪拌槽内）において吸着脱臭が行われていることが分かる。
【００４３】
〔試験例２〕
アンモニア水を加熱して発生させた被処理ガスに機能性粉体としてゼオライト（日東ゼオライト工業用  ＳＰ♯６００）を供給し、得られた粉体ガスをガス攪拌手段及びバグフィルター（ＣＦ−６０）に、この順に通して、アンモニアの除去率（ガス除去率）を調べる試験を行った。ガス攪拌装置としては、試験例１と同様のものを使用した。結果を表２に示した。なお、試験時の気温は１４℃、湿度は３０％であった。
【００４４】
【表２】
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【００４５】
表２から、吸込濃度が大きく変化しても十分なガス除去率となることが分かる。また、４０分経過後から１０分間隔でパルス打ちを行ったが、ガス除去率に影響がなく、この試験からも、主としてガス攪拌装置（攪拌槽内）において吸着脱臭が行われていることが分かる。なお、経過時間５０分の排出濃度及びガス除去率は、「パルス前／パルス後」を示している。
【産業上の利用可能性】
【００４６】
本発明は、吸着剤等の機能性粉体を利用して、ガスの中和、除湿、脱臭等の処理を行う装置として、適用可能である。
【符号の説明】
【００４７】
１０…ガス処理装置、２０…バグフィルター、２１…収容槽、２２…フィルター、２３…粉体回収ボックス、２４…パルスジェット、３０…ガス供給路、４０…粉体供給手段、４１…粉体タンク、４２…定量フィーダ、４２Ｍ…モーター、４３…粉体供給路、４４…ブロワ、５０…ガス攪拌手段、５１…攪拌槽、５２…回転羽根、５２Ｍ…モーター、５３…ガス供給管、５４…排気口、６０…単位ガス攪拌手段、６０Ｍ…モーター、６１…筒体、６２Ａ，６２Ｂ，６２Ｘ，６２Ｙ…回転羽根、６３…固定羽根、７０…排風ファン、９１…濃度計、９２…調節計、９３…インバーター、Ｆ…機能性粉体、Ｇ…ガス、ＧＦ…粉体ガス、ＧＣ…清浄ガス。
【図１】
2010247096.tif 000005
【図２】
2010247096.tif 000006