(57)【要約】【課題】揮発性有機化合物の溶剤液の安定した気化と、安全性の向上を図った溶剤ガス発生装置を提供する。【解決手段】ポンプ１１８によって供給された溶剤液を加熱気化させる気化管１２１と、気化管を加熱する加熱手段１２２と、気化管の温度を検出し所定温度に制御する温度調節手段１２２ａと、溶剤ガスを噴出する噴出口を有するノズル孔１２９と、ノズル孔の噴出口を開閉するニードル１３１を駆動する駆動手段１３０と、溶剤ガスと混合する希釈気体を供給する希釈気体供給手段１３６と、を備え、加熱手段により加熱した気化管にポンプにより溶剤液を供給し加熱気化させて溶剤ガスとするとともに、ノズル孔を開にして溶剤ガスを噴出させ、ノズルから噴出した溶剤ガスに希釈気体を混合させて希釈溶剤ガスとして溶剤ガス処理装置へ供給する。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
揮発性有機化合物を含む被処理気体を処理する溶剤ガス処理装置の処理能力の評価運転用として揮発性有機化合物の溶剤液を加熱気化させた溶剤ガスを供給する溶剤ガス発生装置であって、揮発性有機化合物の溶剤液を貯蔵するタンクと、前記タンクから溶剤液を吸引吐出するポンプと、前記ポンプによって供給された溶剤液を溶剤ガスとして加熱気化させる気化管と、前記気化管を加熱する加熱手段と、前記気化管の温度を検出して所定温度に制御する温度調節手段と、前記気化管で気化した溶剤ガスを噴出する噴出口を有するノズル孔と、前記ノズル孔を開閉するニードルを駆動する駆動手段と、前記溶剤ガスと混合する希釈気体を供給する希釈気体供給手段と、を備え、前記加熱手段により加熱した気化管にポンプにより溶剤液を供給し加熱気化させて溶剤ガスとするとともに、ニードルを駆動しノズル孔を開にして前記溶剤ガスを噴出させ、前記ノズル孔から噴出した溶剤ガスに希釈気体を混合させて希釈溶剤ガスとし、前記希釈溶剤ガスを溶剤ガス処理装置へ供給することを特徴とする溶剤ガス発生装置。
【請求項２】
ポンプよる溶剤液の気化管への供給量および／または希釈気体の供給手段による希釈気体の供給量を制御して前記希釈溶剤ガス中の溶剤ガスの濃度を調節可能とし、前記希釈溶剤ガスを溶剤ガス処理装置本体へ供給することを特徴とする請求項１に記載の溶剤ガス発生装置。
【請求項３】
複数の種類の溶剤液の内、いずれか一つの溶剤液を選択して気化管に供給し溶剤ガスを発生させることを特徴とする請求項１または２に記載の溶剤ガス発生装置。
【請求項４】
複数の種類の溶剤液を同時に気化管に供給し、前記複数の種類の溶剤液の混合した混合溶剤ガスを発生させることを特徴とする請求項１または２に記載の溶剤ガス発生装置。
【請求項５】
複数の種類の溶剤液の各々の溶剤ガスの成分割合を調節可能にしたことを特徴とする請求項４に記載の溶剤ガス発生装置。
【請求項６】
希釈溶剤ガス中の溶剤ガスの濃度を所定時間内において変化させて希釈溶剤ガスを溶剤ガス処理装置本体へ供給することを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の溶剤ガス発生装置。
【請求項７】
溶剤ガスと空気を混合した希釈溶剤ガス中の溶剤ガスの濃度を爆発限界の下限値以下となるように溶剤液の気化管への供給量または希釈気体の供給量を制御することを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の溶剤ガス発生装置。
【請求項８】
希釈溶剤ガスの温度を検出して所定温度に制御する温度調節手段を備えたことを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の溶剤ガス発生装置。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれかに記載の溶剤ガス発生装置と、揮発性有機化合物を含む被処理気体を処理する溶剤ガス処理装置本体と、揮発性有機化合物を含む被処理気体の溶剤ガス処理装置本体への供給ラインと、前記溶剤ガス発生装置で発生させた希釈溶剤ガスの溶剤ガス処理装置本体への供給ラインと、を備え、前記被処理気体と溶剤ガス発生装置で発生させた希釈溶剤ガスの溶剤ガス処理装置本体への供給を選択可能とし、溶剤ガス発生装置で発生させた希釈溶剤ガスの供給による溶剤ガス処理装置本体の溶剤ガスの処理能力の評価運転と、被処理気体の供給による前記被処理気体の処理運転を行うことを可能としたことを特徴とする溶剤ガス処理装置。
【請求項１０】
溶剤ガスを含まない校正用気体の供給による溶剤ガス処理装置本体の校正運転を行うことを可能としたことを特徴とする請求項９に記載の溶剤ガス処理装置。
【請求項１１】
請求項１〜８のいずれかに記載の溶剤ガス発生装置と、揮発性有機化合物を含む被処理気体を処理する溶剤ガス処理装置本体と、揮発性有機化合物を含む被処理気体の溶剤ガス処理装置本体への供給ラインと、溶剤ガス発生装置で発生させた希釈溶剤ガスの溶剤ガス処理装置本体への供給ラインと、を備え、前記被処理気体と溶剤ガス発生装置で発生させた希釈溶剤ガスの溶剤ガス処理装置本体への供給を選択可能とし、溶剤ガス発生装置で発生させた希釈溶剤ガスの供給による溶剤ガス処理装置本体の処理能力の評価運転と、被処理気体の供給による前記被処理気体の処理運転を行うことを可能とするとともに、溶剤ガス発生装置から希釈溶剤ガスを供給して溶剤ガス処理装置本体の溶剤ガスの処理能力の評価運転を行った後、被処理気体の供給による前記被処理気体の処理運転を行うことを特徴とする溶剤ガス処理装置の運転方法。
【請求項１２】
溶剤ガスを含まない校正気体の供給ラインを備え、校正用気体の供給による溶剤ガス処理装置本体の校正運転を行うことを可能とするとともに、校正用気体を溶剤ガス処理装置本体へ供給した後、溶剤ガス発生装置から溶剤ガスを供給して溶剤ガス処理装置本体部の処理能力の評価運転を行うことを特徴とする請求項１１に記載の溶剤ガス処理装置の運転方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、揮発性有機化合物（ＶＯＣ：Ｖｏｌａｔｉｌｅ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ）等の揮発性化合物を含む溶剤ガス発生装置と、これを用いた排気ガス（被処理気体）を浄化処理する溶剤ガス処理装置およびその運転方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
この種溶剤ガス発生装置代表的な例として、下記のものがある。溶剤液を溶剤供給ポンプ及び溶剤液供給配管を介して、噴霧ノズルに供給する。噴霧ノズルは、熱源ボックス内に溶剤液を噴霧する。噴霧された溶剤液は、熱源ボックス内の熱風によって気化される。熱風によって気化しきれなかった溶剤液は、噴霧方向に設けたプレートヒータに付着するとともに、底面に設けたプレートヒータに落下して付着する。プレートヒータは、付着した溶剤液を加熱して気化する。また、溶剤供給配管は、その内部の溶剤を加熱する溶剤供給用ヒータを備えている（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
近年、生活環境に近接した中小規模事業場や畜産業からの悪臭苦情が増加し、また、苦情の原因となる悪臭の発生源が多様化する傾向がある。中でも、印刷・塗装工場等から排出されるガスに含まれる揮発性有機化合物（溶剤ガス）は悪臭をもたらすだけでなく、浮遊粒子状物質（ＳＰＭ）や光化学オキシダント等の原因物質でもある。このため、個々の事業所における揮発性化合物排出削減に向けた対策が求められている。また、平成１８年に大気汚染防止法が改正され、大規模施設等における揮発性化合物排出基準値等が設定された。
【０００４】
悪臭の脱臭方法として、可燃性を呈する炭化水素などの一般的に揮発性化合物と称されるガスを浄化処理する方法は、分解方式（燃焼、触媒分解など）、除去・分離方式（吸着、冷却凝縮などで、回収方式も含む）、生物脱臭方式に大別される。
【０００５】
前記浄化処理方法、その装置においては、従来から一般的に処理装置の入り口側における発生源からの被処理ガス（被処理気体）中の揮発性化合物成分および処理装置の出口側における処理ガス中の揮発性化合物成分の濃度を濃度計測器で計測し、浄化処理能力の把握および装置の全体的な制御等をおこなっていた。
【０００６】
前記した処理装置の代表的な例として、下記のものがある。揮発性化合物の除去状態を正確に把握するため、排ガス中に含まれる揮発性化合物を除去するとともに再生可能な排ガス処理部の処理機能を監視する排ガス処理監視装置であって、前記排ガス（被処理気体）の流路に沿って前記排ガス処理部に流入する前記揮発性化合物の流入濃度と前記排ガス処理部から排出される前記揮発性化合物の排出濃度とを検出する濃度検出手段と、前記流入濃度及び前記排出濃度に基づいて、前記排ガス処理部の使用時の処理機能の低下状態又は再生時の処理機能の回復状態を検知する状態検知手段とを備えた排ガス処理監視装置、排ガス処理装置としたものである（例えば、特許文献２参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開平１１−２２１９０８号公報
【特許文献２】特開２００８−３０２３４８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、前記した特許文献１に記載されたものは、熱源ボックス内に溶剤液を噴霧するとともに、噴霧した溶剤液を高温の熱風および噴霧方向に設けたプレートヒータ、底面に設けたプレートヒータに付着した溶剤液を加熱して気化させるため、プレートヒータの温度変動、付着した溶剤液の気化遅れ等によって、プレートヒータ面での気化速度の変動を生じやすく、溶剤ガスの発生量が脈動し、さらに、噴霧した溶剤液が供給した熱風によって気化しないまま熱源ボックス外に吐出する場合もあり、溶剤液の安定した気化が課題となる。
【０００９】
また、前記した特許文献２に記載されたものは、揮発性有機化合物成分を含む浄化処理すべき排ガス（被処理気体）の一部および浄化処理後の処理気体を分岐、切換えて、各々の気体の揮発性有機化合物成分の濃度をガスセンサにより計測するものである。
【００１０】
この場合においては、塗装工場や印刷工場、化学工場等の揮発性有機化合物成分含有ガスの発生源から排出される浄化処理すべき排ガス（被処理気体）中の揮発性有機化合物成分の濃度が極めて不安定なものであり、ごく短時間に揮発性有機化合物成分の濃度が常に変動して一定にならず、さらに様々な揮発性有機化合物成分が混入する恐れがある。
【００１１】
また、揮発性有機化合物成分含有ガスの発生源が停止状態で、揮発性有機化合物成分含有ガスの発生が無いときには、処理装置の処理能力の評価ができない。
【００１２】
このため、短時間に揮発性有機化合物成分の濃度の変動（バラツキ）により常に正確で安定した溶剤ガス処理装置の処理能力の評価を行うことができない。また、被処理気体の量または被処理気体中の揮発性有機化合物成分の濃度を任意に様々な条件に変化させて、溶剤ガス処理装置の処理能力の評価を行うことができない。
【００１３】
本発明は、前記従来の課題を解決するもので、溶剤ガス処理装置の処理能力の評価用として、揮発性有機化合物の溶剤液の安定した気化と、安全性の向上を図った溶剤ガス発生装置を提供することを目的とする。また、常に正確で安定した揮発性有機化合物の処理能力の評価を行うことができる溶剤ガス処理装置、溶剤ガス処理装置の運転方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明の溶剤ガス発生装置は、揮発性有機化合物を含む被処理気体を処理する溶剤ガス処理装置の処理能力の評価運転用として揮発性有機化合物の溶剤液を加熱気化させた溶剤ガスを供給する溶剤ガス発生装置であって、揮発性有機化合物の溶剤液を貯蔵するタンクと、前記タンクから溶剤液を吸引吐出するポンプと、前記ポンプによって供給された溶剤液を溶剤ガスとして加熱気化させる気化管と、前記気化管を加熱する加熱手段と、前記気化管の温度を検出して所定温度に制御する温度調節手段と、前記気化管で気化した溶剤ガスを噴出する噴出口を有するノズル孔と、前記ノズル孔を開閉するニードルを駆動する駆動手段と、前記溶剤ガスと混合する希釈気体を供給する希釈気体供給手段と、を備え、前記加熱手段により加熱した気化管にポンプにより溶剤液を供給し加熱気化させて溶剤ガスとするとともに、ニードルを駆動しノズル孔を開にして前記溶剤ガスを噴出させ、前記ノズル孔から噴出した溶剤ガスに希釈気体を混合させて希釈溶剤ガスとし、前記希釈溶剤ガスを溶剤ガス処理装置へ供給することを特徴とするものである。
【００１５】
本発明の溶剤ガス処理装置は、前記溶剤ガス発生装置と、揮発性有機化合物を含む被処理気体を処理する溶剤ガス処理装置本体と、揮発性有機化合物を含む被処理気体の溶剤ガス処理装置本体への供給ラインと、前記溶剤ガス発生装置で発生させた希釈溶剤ガスの溶剤ガス処理装置本体への供給ラインと、を備え、前記被処理気体と溶剤ガス発生装置で発生させた希釈溶剤ガスの溶剤ガス処理装置本体への供給を選択可能とし、溶剤ガス発生装置で発生させた希釈溶剤ガスの供給による溶剤ガス処理装置本体の溶剤ガスの処理能力の評価運転と、被処理気体の供給による前記被処理気体の処理運転を行うことを可能としたしたものである。
【００１６】
また、本発明の溶剤ガス処理装置の運転方法は、前記溶剤ガス発生装置と、揮発性有機化合物を含む被処理気体を処理する溶剤ガス処理装置本体と、揮発性有機化合物を含む被処理気体の溶剤ガス処理装置本体への供給ラインと、溶剤ガス発生装置で発生させた希釈溶剤ガスの溶剤ガス処理装置本体への供給ラインと、を備え、前記被処理気体と溶剤ガス発生装置で発生させた希釈溶剤ガスの溶剤ガス処理装置本体への供給を選択可能とし、溶剤ガス発生装置で発生させた希釈溶剤ガスの供給による溶剤ガス処理装置本体の（溶剤ガスの）処理能力の評価運転と、被処理気体の供給による前記被処理気体の処理運転を行うことを可能とするとともに、溶剤ガス発生装置から希釈溶剤ガスを供給して溶剤ガス処理装置本体の溶剤ガスの処理能力の評価運転を行った後、被処理気体の供給による前記被処理気体の処理運転を行うことを特徴とするものである。
【発明の効果】
【００１７】
本発明の本発明の溶剤ガス発生装置によれば、揮発性有機化合物の溶剤液の安定した気化と、安全性の向上を図ることができる。また、本発明の溶剤ガス処理装置、溶剤ガス処理装置の運転方法によれば、常に正確で安定した揮発性有機化合物の処理能力の評価を行うことができる。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
第１の発明は、揮発性有機化合物を含む被処理気体を処理する溶剤ガス処理装置の処理能力の評価運転用として揮発性有機化合物の溶剤液を加熱気化させた溶剤ガスを供給する溶剤ガス発生装置であって、揮発性有機化合物の溶剤液を貯蔵するタンクと、前記タンクから溶剤液を吸引吐出するポンプと、前記ポンプによって供給された溶剤液を溶剤ガスとして加熱気化させる気化管と、前記気化管を加熱する加熱手段と、前記気化管の温度を検出して所定温度に制御する温度調節手段と、前記気化管で気化した溶剤ガスを噴出する噴出口を有するノズル孔と、前記ノズル孔を開閉するニードルを駆動する駆動手段と、前記溶剤ガスと混合する希釈気体を供給する希釈気体供給手段と、を備え、前記加熱手段により加熱した気化管にポンプにより溶剤液を供給し加熱気化させて溶剤ガスとするとともに、ニードルを駆動しノズル孔を開にして前記溶剤ガスを噴出させ、前記ノズル孔から噴出した溶剤ガスに希釈気体を混合させて希釈溶剤ガスとし、前記希釈溶剤ガスを溶剤ガス処理装置へ供給することを特徴とする溶剤ガス発生装置としたものである。
【００１９】
これによって、ポンプによって供給された溶剤液を加熱気化させる気化管には、溶剤液のみを供給し、空気は供給しないので、気化管自体の小型化と電気ヒータ等による予熱時間が短縮され短時間で溶剤ガスを気化させることができるとともに、空気の存在しない状態で加熱気化させて溶剤ガスとすることによって引火等の恐れが無く安全である。また、溶剤液を加熱気化させた溶剤ガスをノズル孔から噴射させた後、希釈気体を供給して混合するので、溶剤ガスと希釈気体を均一に混合することができる。さらに、ノズル孔を開閉して溶剤ガスの噴出の有無を瞬時に制御することができる。したがって、溶剤ガス処理装置の処理能力の評価用として、揮発性有機化合物の溶剤液の安定した気化と、安全性の向上を図った溶剤ガス発生装置とすることができる。
【００２０】
第２の発明は、第１の発明において、ポンプのよる溶剤液の気化管への供給量および／または希釈気体の供給手段による希釈気体の供給量を制御して前記希釈溶剤ガス中の溶剤ガスの濃度を調節可能とし、前記希釈溶剤ガスを溶剤ガス処理装置本体へ供給することを特徴とする溶剤ガス発生装置としたものである。
【００２１】
これによって、溶剤ガス濃度を任意に様々な条件に変化させた希釈溶剤ガスを溶剤ガス処理装置へ供給することができる。
【００２２】
第３の発明は、第１または第２の発明において、複数の種類の溶剤液の内、いずれか一つの溶剤液を選択して気化手段に供給し溶剤ガスを発生させる溶剤ガス発生装置としたものである。
【００２３】
これによって、複数の種類の溶剤液の溶剤ガスでの溶剤ガス処理装置本体の処理能力の評価を行うことができ、溶剤ガス処理装置本体での溶剤ガスの処理能力の評価条件をより幅広く設定することができる。
【００２４】
第４の発明は、第１または第２の発明において、複数の種類の溶剤液を同時に気化手段に供給し、前記複数の種類の溶剤液の混合した混合溶剤ガスを発生させる溶剤ガス発生装置としたものである。
【００２５】
これによって、複数の種類の溶剤液の混合した混合溶剤ガスでの溶剤ガス処理装置本体の処理能力の評価を行うことができ、溶剤ガス処理装置本体での溶剤ガスの処理能力の評価条件をより幅広く設定することができる。
【００２６】
第５の発明は、第４の発明において、複数の種類の溶剤液の各々の溶剤ガスの成分割合を調節可能にしたことを特徴とする溶剤ガス発生装置としたものである。
【００２７】
これによって、複数の種類の溶剤液の様々な成分割合の溶剤ガスでの溶剤ガス処理装置本体の処理能力の評価を行うことができ、溶剤ガス処理装置本体での溶剤ガスの処理能力の評価条件をより幅広く設定することができる。
【００２８】
第６の発明は、第１〜５のいずれかの発明において、希釈溶剤ガス中の溶剤ガスの濃度を所定時間内において変化させて希釈溶剤ガスを溶剤ガス処理装置本体へ供給することを特徴とする溶剤ガス発生装置としたものである。
【００２９】
これによって、所定時間内における溶剤ガスの濃度の変化による溶剤ガス処理装置本体の処理能力の評価を行うことができ、溶剤ガス処理装置本体での溶剤ガスの処理能力の評価条件をより幅広く設定することができる。
【００３０】
第７の発明は、第１〜６のいずれかの発明において、溶剤ガスと空気を混合した希釈溶剤ガス中の溶剤ガスの濃度を爆発限界の下限値以下となるように溶剤液の気化手段への供給量または希釈気体の供給量を制御することを特徴とする溶剤ガス発生装置としたものである。
【００３１】
これによって、常に安全な状態に維持して希釈溶剤ガスを溶剤ガス処理装置本体へ供給することができる。
【００３２】
第８の発明は、第１〜７のいずれかの発明において、希釈溶剤ガスの温度を検出して所定温度に制御する温度調節手段を備えたことを特徴とする溶剤ガス発生装置としたものである。
【００３３】
これによって、溶剤ガス処理装置本体での溶剤ガスの温度変化における処理能力の評価を行うことができき、溶剤ガス処理装置本体での溶剤ガスの処理能力の評価条件をより幅広く設定することができる。
【００３４】
第９の発明は、前記溶剤ガス発生装置と、揮発性有機化合物を含む被処理気体を処理する溶剤ガス処理装置本体と、揮発性有機化合物の溶剤液を加熱気化させて溶剤ガスとするとともに、前記溶剤ガスと希釈気体と混合させた希釈溶剤ガスを発生させる溶剤ガス発生装置と、揮発性有機化合物を含む被処理気体の溶剤ガス処理装置本体への被処理気体供給ラインと、溶剤ガス発生装置で発生させた希釈溶剤ガスの溶剤ガス処理装置本体への希釈溶剤ガス供給ラインと、を備え、前記被処理気体と溶剤ガス発生装置で発生させた希釈溶剤ガスの溶剤ガス処理装置本体への供給を選択可能とし、溶剤ガス発生装置で発生させた希釈溶剤ガスの供給による溶剤ガス処理装置本体の溶剤ガスの処理能力の評価運転と、被処理気体の供給による前記被処理気体の処理運転を行うことを可能としたことを特徴とする溶剤ガス処理装置としたものである。
【００３５】
これによって、短時間での溶剤ガス濃度の変動（バラツキ）が無く、さらに、希釈溶剤ガスの量または希釈溶剤ガス中の溶剤ガス濃度を任意に様々な条件に変化させて、溶剤ガス処理装置の処理能力の評価を行うことができる。したがって、常に正確で安定した揮発性有機化合物の処理能力の評価を行うことができる。
【００３６】
第１０の発明は、第９の発明において、溶剤ガスを含まない校正気体の供給ラインを備え、校正用気体の供給による溶剤ガス処理装置本体のゼロ校正運転を行うことを可能としたことを特徴とする溶剤ガス処理装置としたものである。
【００３７】
これによって、校正気体の供給によって、溶剤ガス濃度計の計測精度の向上を図ることができる。また、溶剤ガス処理装置本体内の残留溶剤ガスを一旦追い出すことによって、溶剤ガス発生装置からの希釈溶剤ガスによる処理能力の把握をより精度良く行うことがでる。
【００３８】
第１１の発明は、前記溶剤ガス発生装置と、揮発性有機化合物を含む被処理気体を処理する溶剤ガス処理装置本体と、揮発性有機化合物の溶剤液を加熱気化させて溶剤ガスとするとともに、前記溶剤ガスと希釈気体と混合させた希釈溶剤ガスを発生させる溶剤ガス発生装置と、揮発性有機化合物を含む被処理気体の溶剤ガス処理装置本体への被処理気体供給ラインと、溶剤ガス発生装置で発生させた希釈溶剤ガスの溶剤ガス処理装置本体への希釈溶剤ガス供給ラインと、を備え、前記被処理気体と溶剤ガス発生装置で発生させた希釈溶剤ガスの溶剤ガス処理装置本体への供給を選択可能とし、溶剤ガス発生装置で発生させた希釈溶剤ガスの供給による溶剤ガス処理装置本体の溶剤ガスの処理能力の評価運転と、被処理気体の供給による前記被処理気体の処理運転を行うことを可能とするとともに、溶剤ガス発生装置から希釈溶剤ガスを供給して溶剤ガス処理装置本体の溶剤ガスの処理能力の評価運転を行った後、被処理気体の供給による前記被処理気体の処理運転を行うことを特徴とする溶剤ガス処理装置の運転方法としたものである。
【００３９】
これによって、短時間での溶剤ガス濃度の変動（バラツキ）が無く、さらに、希釈溶剤ガスの量または希釈溶剤ガス中の溶剤ガス濃度を任意に様々な条件に変化させて、溶剤ガス処理装置の処理能力の評価を行うことができる。したがって、常に正確で安定した揮発性有機化合物の処理能力の評価を行うことができる。
【００４０】
第１２の発明は、第１１の発明において、溶剤ガスを含まない校正気体の供給ラインを備え、校正用気体の供給による溶剤ガス処理装置本体の校正運転を行うことを可能とするとともに、校正用気体を溶剤ガス処理装置本体へ供給した後、溶剤ガス発生装置から溶剤ガスを供給して溶剤ガス処理装置本体部の処理能力の評価運転を行うことを特徴とする溶剤ガス処理装置の運転方法としたものである。
【００４１】
これによって、校正気体の供給によって、溶剤ガス濃度計の計測精度の向上を図ることができる。また、溶剤ガス処理装置本体内の残留溶剤ガスを一旦追い出すことによって、溶剤ガス発生装置からの希釈溶剤ガスによる処理能力の把握をより精度良く行うことがでる。
【００４２】
以下、本発明の一実施の形態の溶剤ガス処理装置を図１〜図６を参照しながら説明する。図１は、本発明の一実施の形態の溶剤ガス処理装置の基本構成図、図２は、溶剤ガス発生装置の溶剤液供給部および気化混合部の基本構成図、図３は、気化混合部のノズル孔閉塞時の構成図、図４（ａ）、（ｂ）は、溶剤ガス発生装置からの溶剤ガスの供給例を示すグラフ、図５は、溶剤ガス処理装置本体の例を示す基本構成図、図６は、溶剤ガス処理装置本体の他の例を基本構成図である。
【００４３】
先ず本発明の一実施の形態の溶剤ガス発生装置１００および溶剤ガス処理装置の基本的な構成を説明する。溶剤ガス発生装置１００は、主に溶剤液供給部１０１、気化混合部１２０から構成されている。溶剤液供給部１０１は、異なる溶剤液を貯留するタンク１０２、タンク１０３、タンク１０４と、複数の溶剤液を所定の割合で混合して貯留するタンク１０５を備えている。溶剤液としては、トルエン、キシレン、酢酸エチル、酢酸ブチル等の揮発性有機化合物が挙げられる。なお、揮発性有機化合物としてこれに限定するものではない。
【００４４】
また、各々のタンク１０２、１０３、１０４、１０５に各々の供給管１０６、１０７、１０８、１０９を接続してある。さらに、各々の供給管１０６、１０７、１０８、１０９には、各々流量計１１０、１１１、１１２、１１３および、開閉弁１１４、１１５、１１６、１１７を配置している。
【００４５】
各々の供給管１０６、１０７、１０８、１０９の他端は、ポンプ（溶剤液供給手段）１１８に接続してある。ポンプ１１８の吐出側には、吐出管１１９が接続され、この吐出管１１９は気化混合部１２０の気化管１２１に接続されている。また、ポンプ１１８の溶剤液の供給量は、溶剤液供給量制御手段１１８ａによりポンプ１１８を制御して調節可能な構成としている。
【００４６】
気化手段である気化混合部１２０は、一方端を開放した気化管１２１、気化管１２１の外周面には電気ヒータ１２２（加熱手段）を装着ししている。気化管１２１の温度は、気化管１２１の温度を検出し所定温度に制御する温度調節手段１２２ａにより調節されるようになっている。
【００４７】
気化管１２１の気化通路１２３には、吐出管１１９から流入した溶剤液の均一な流れおよび、浸透性を良好にするため気化促進体１２４を充填してある。この気化促進体１２４は、例えば細線からなる金属繊維材、連通性のアある金属発砲材等か構成してある。
【００４８】
気化管１２１の下部には、溶剤液の廃液管１２５を接続し、ここに開閉弁１２６を設けている。
【００４９】
気化管１２１の気化通路１２３と直交する方向に導出管１２７が固定され、導出管１２７の内部は気化通路１２３と導通している。また、気化管１２１には、ノズル孔１２９を形成したノズル体１２８が固定されている。
【００５０】
導出管１２７のノズル体１２８と対向する側には、電磁ソレノイド１３０（駆動手段）を設け、この電磁ソレノイド１３０によって、軸長方向にニードル１３１が移動するように構成されている。ニードル１３１の電磁ソレノイド１３０と対向する側には、テーパ部１３２、ノズル孔１２９に挿入可能な直径とした先端部１３３が形成されている。
【００５１】
また、ノズル体１２８側には、送風筒１３４の設け、ノズル体１２８を囲むように複数の小孔１３５ａを形成した整流板１３５が位置している。送風筒１３４には、ブロアＡ１３６（希釈気体供給手段）の吐出側を接続し、さらに吐出筒１３７を接続してこの吐出筒１３７と開閉弁１３９を配置した希釈溶剤ガス供給ライン１３８を接続している。
【００５２】
さらに、ブロアＡ１３６による空気（希釈気体）の供給量は、ブロアＡ１３６に有するモータの回転数を制御する希釈気体供給量制御手段１３６ａにより調節するように構成している。また、吐出筒１３７の部分に電気ヒータ１４０（加熱手段）を設け、希釈溶剤ガスの温度を検出し所定温度に制御する温度調節手段１４０ａにより吐出筒１３７内を通過する溶剤ガスと空気が混合した希釈溶剤ガスの温度を調節するようになっている。なお、電気ヒータ１４０を設けたが、希釈溶剤ガスを加熱および冷却する手段を設けてもよい。この場合には希釈溶剤ガスの温度をより幅広く調節することができ、溶剤ガス処理装置本体２００での溶剤ガスの処理能力の評価条件をより幅広く設定することができる。
【００５３】
溶剤ガス処理装置本体２００の校正気体、希釈溶剤ガス、被処理気体の入口側には、流量計２０１および溶剤ガス濃度計２０２が設けられており、また溶剤ガス処理装置本体２００の出口側には、溶剤ガス濃度計２０３が設けられている。
【００５４】
溶剤ガス処理装置本体２００は、本発明においてはその溶剤ガス処理方式を限定するものではないが、例として図５および図６に代表的な装置を示す。図６に示す基本構成は、触媒酸化式の溶剤ガス処理装置本体であって、ハニカム形状の触媒体２０５、触媒体２０５に近接配置し、これを加熱する電気ヒータ２０６（加熱手段）を備えたものである。この方式は、酸化触媒を用いてより低温で溶剤ガスを分解処理することができる。
【００５５】
また、図５に示す基本構成は、燃焼蓄熱式の溶剤ガス処理装置本体であって、バーナ２５１、バーナ２５１の燃焼により蓄熱するハニカム形状の蓄熱材２５２ａ、２５２ｂ、流路切替部２５３、接続部材２５４ａ、２５４ｂを備えたものである。この方式は、バーナ２５１の燃焼熱、高温の蓄熱材２５２ａ、２５２ｂにより、溶剤ガスを分解処理することができる。
【００５６】
図１において溶剤ガス処理装置本体２００の入口側には、開閉弁３０２を配置した被処理気体供給ライン３００が接続され、ブロアＢ３０１によって浄化処理すべき被処理気体、校正気体を溶剤ガス処理装置本体２００に供給する。
【００５７】
また、ブロアＢ３０１の吸入側の被処理気体供給ライン３００に開閉弁４０１を配置した校正気体供給ライン４００を接続している。
【００５８】
次に、前記した溶剤ガス処理装置および溶剤ガス発生装置の基本的な運転動作について説明する。先ず、溶剤ガスを含まない所定量の校正気体を溶剤ガス処理装置本体２００に供給する動作を説明する。この動作時においては、溶剤ガス処理装置本体２００、流量計２０１、溶剤ガス濃度計２０２を運転状態とし、開閉弁１３９、３０２を閉、気化混合部１２０の運転を停止状態として、ブロアＢ３０１を運転して溶剤ガスを含まない所定量の校正気体を溶剤ガス処理装置本体２００に供給する。
【００５９】
校正気体は、被処理気体供給ライン３００、流量計２０１、溶剤ガス濃度計２０２を通って溶剤ガス処理装置本体２００に入り、出口側の溶剤ガス濃度計２０３を通って排出される。
【００６０】
この校正気体の供給によって、溶剤ガス濃度計２０２、２０３の零点の校正を行うもので、計測精度の向上を図ることができる。また、溶剤ガス処理装置本体２００内に滞留する校正気体の供給前における残留溶剤ガスを一旦追い出し出口側の溶剤ガス濃度計２０３の零点の校正をより確実に行うことがでるものである。また、溶剤ガス処理装置本体２００内の残留溶剤ガスを一旦追い出すことによって、溶剤ガス発生装置１００からの希釈溶剤ガスによる処理能力の把握をより精度良く行うことがでる。
【００６１】
溶剤ガスを含まない校正気体を溶剤ガス処理装置本体２００に供給する動作を所定時間行い、ブロアＢ３０１の運転停止、開閉弁３０２を閉として校正ステップを終了する。
【００６２】
次に、前記校正ステップを終了した後の溶剤ガス発生装置１００の運転動作を説明する。
【００６３】
先ず、図３に示すように電磁ソレノイド１３０を非通電状態とし、このとき電磁ソレノイド１３０に有するコイルバネ（図示なし）によってニードル１３１はノズル孔１２９側に押し付けられており、先端部１３３がノズル孔１２９内に挿入され、かつテーパ部１３２がノズル孔１２９に当たって前記ノズル孔１２９を閉塞させている。
【００６４】
この状態において、電気ヒータ（加熱手段）１２２に通電し、気化管１２１、気化通路１２３を例えば１２０度Ｃ程度に予熱する。このとき導出管１２７、ノズル体１２８も気化管１２１からの伝導熱によってほぼ同温度レベルに予熱される。
【００６５】
前記した予熱動作の後、ブロアＡ１３６を駆動し、溶剤ガスを含まない大気中の空気を、送風筒１３４内に供給し、整流板１３５の複数の小孔１３５ａからノズル体１２８の近傍に噴出させる。
【００６６】
ブロアＡ１３６の駆動開始後、図４に示すように電磁ソレノイド１３０を通電状態とし、このとき電磁ソレノイド１３０に有するコイルバネ（図示なし）に抗してニードル１３１を電磁ソレノイド１３０側に吸引し、ノズル孔１２９から先端部１３３を抜くと同時にテーパ部１３２をノズル孔１２９から離し、これによってノズル孔１２９を開く。また開閉弁１３９を開とする。
【００６７】
次に、ポンプ１１８を駆動し、例えば開閉弁１１４を開、他の開閉弁１１５、１１６、１１７を閉として、タンク１０２内の溶剤液を、供給管１０６に吸入し、吐出管１１９を介して気化管１２１の気化通路１２３に所定圧力で供給する。この溶剤液は気化管１２１および気化促進体１２４に接触して瞬時に気化し、溶剤ガスとして導出管１２７内に入りノズル孔１２９より勢い良く噴出する。
【００６８】
ノズル孔１２９より噴出した溶剤ガスは、整流板１３５の複数の小孔１３５ａから噴出させた希釈気体である空気と均一に混合し、希釈溶剤ガスとなって吐出筒１３７、希釈溶剤ガス供給ライン１３８を介して溶剤ガス処理装置本体２００に供給され浄化処理を行う。
【００６９】
このとき、溶剤ガス処理装置本体２００の入口側において、流量計２０１による希釈溶剤ガスの流量、および溶剤ガス濃度計２０２よる希釈溶剤ガス中の溶剤ガスの濃度を計測する。さらに、溶剤ガス処理装置本体２００で希釈溶剤ガス中の溶剤ガス成分が浄化処理され浄化空気排出ラインから排出される。このとき溶剤ガス濃度計２０３による浄化空気中の溶剤ガスの濃度を計測する。
【００７０】
溶剤ガス発生装置１００から溶剤ガス処理装置本体２００へ供給された希釈溶剤ガスの量、溶剤ガス濃度等の条件において、溶剤ガス濃度計２０３により計測した溶剤ガス濃度が所定値以下に浄化処理されていることの確認と、溶剤ガス濃度計２０２と溶剤ガス濃度計２０３の各々の溶剤ガス濃度差から溶剤ガス処理装置本体２００の処理能力の基本的な評価を行うものである。
【００７１】
前記溶剤ガス処理装置本体２００の処理能力の基本的な評価を行った後、ポンプ１１８の駆動を停止、電気ヒータ（加熱手段）１２２および電磁ソレノイド１３０を非通電とする。電磁ソレノイド１３０を非通電とすることによって、ニードル１３１はノズル孔１２９側に押し付けられ、先端部１３３がノズル孔１２９内に挿入され、かつテーパ部１３２がノズル孔１２９に当たって前記ノズル孔１２９を閉塞し、溶剤ガスの噴出を瞬時に停止させる。
【００７２】
前記した動作の後、ブロアＡ１３６を所定時間（例えば略３０秒）継続駆動し、大気中の空気を送風筒１３４内に供給し、希釈溶剤ガス供給ライン１３８に至る流路中を、溶剤ガスを含まない空気に置換する。この後、ブロアＡ１３６の駆動を停止し、開閉弁１３９を閉とする。
【００７３】
次に、開閉弁３０２を開、ブロアＢ３０１を駆動し、溶剤ガスの発生源からの溶剤ガスを含む被処理空気（被処理気体）を、被処理気体供給ライン３００を介して溶剤ガス処理装置本体２００に供給するように切替える。これにより溶剤ガスを含む被処理空気の浄化処理を開始するものである。このとき、溶剤ガス処理装置本体２００の入口側において、流量計２０１による被処理空気の流量、および溶剤ガス濃度計２０２よる被処理空気中の溶剤ガスの濃度を計測する。
【００７４】
さらに、溶剤ガス処理装置本体２００で被処理空気中の溶剤ガス成分が浄化処理され浄化空気排出ラインから排出される。このとき溶剤ガス濃度計２０３による浄化空気中の溶剤ガスの濃度を計測する。
【００７５】
溶剤ガスの発生源から溶剤ガス処理装置本体２００へ供給された被処理空気の量、溶剤ガス濃度等の条件において、溶剤ガス濃度計２０３により計測した溶剤ガス濃度が所定値以下に浄化処理されていることの確認と、溶剤ガス濃度計２０２と溶剤ガス濃度計２０３の各々の溶剤ガス濃度差から溶剤ガス処理装置本体２００の処理能力の基本的な確認を行うものである。
【００７６】
溶剤ガス処理装置の全体的な制御は、操作部、報知部、制御装置（図示なし）によって校正用気体の供給運転、溶剤ガス発生装置１００の希釈溶剤ガスの供給運転、被処理気体の供給運転の切り替え制御、および溶剤ガス発生装置１００での溶剤液の選択、希釈溶剤ガス中の濃度等の設定、さらに、溶剤ガス濃度計２０２と溶剤ガス濃度計２０３の各々の溶剤ガス濃度差から溶剤ガス処理装置本体２００の処理能力（浄化度等）のデータ処理と記憶、表示、音声等による報知を行うものである。
【００７７】
校正用気体の供給による溶剤ガス処理装置本体のゼロ校正運転、溶剤ガス発生装置１００で発生させた希釈溶剤ガスの供給による溶剤ガス処理装置本体２００の溶剤ガスの処理能力の評価運転は、溶剤ガス処理装置本体２００の運転開始時、運転停止時、メンテナンス時等、適宜行うことができる。
【００７８】
次に、溶剤ガス発生装置１００から溶剤ガス処理装置本体２００へ供給された希釈溶剤ガスの量、溶剤ガス濃度等の条件の設定方法について説明する。
【００７９】
先ず、複数の溶剤液を選択して気化させ、この選択した溶剤液の溶剤ガスを含む希釈溶剤ガスの溶剤ガス処理装置本体２００へ供給方法を説明する。前記したように基本的動作の説明においては、開閉弁１１４を開、他の開閉弁１１５、１１６、１１７を閉として、タンク１０２内の溶剤液を、ポンプ１１８により供給管１０６に吸入し、吐出管１１９を介して気化管１２１の気化通路１２３に所定圧力で供給し、タンク１０２内の溶剤液の溶剤ガスを発生させたが、さらに、タンク１０２、１０３、１０４に各々対応した開閉弁１１４、１１５、１１６のいずれかを開とし、他を閉とすることによって、開としたタンク内の溶剤液をいずれか一つを選択して気化させ、この選択した溶剤液の溶剤ガスを含む希釈溶剤ガスの溶剤ガス処理装置本体２００へ供給することができる。
【００８０】
また、タンク１０２、１０３、１０４に各々対応した開閉弁１１４、１１５、１１６のいずれか二つを開とし、他を閉とすることによって、開とした二つのタンク内の溶剤液をいずれか二つを選択して気化させ、この選択した溶剤液の溶剤ガスを含む希釈溶剤ガスを溶剤ガス処理装置本体２００へ供給することができる。さらに、同様の手段により、溶剤液をいずれか三つを選択して気化させ、この選択した溶剤液の溶剤ガスを含む希釈溶剤ガスを溶剤ガス処理装置本体２００へ供給することができる。
【００８１】
さらに、開閉弁１１４、１１５、１１６を、閉を含む流量調節弁とすることで、複数の溶剤液の混合割合を任意に選択して気化させ、任意の混合割合の溶剤ガスを含む希釈溶剤ガスを溶剤ガス処理装置本体２００へ供給することができる。
【００８２】
また、複数の溶剤液を予め任意に所定の割合で混合して貯留するタンク１０５を備えているが、この混合した溶剤液を選択して気化させ、この選択した溶剤液の溶剤ガスを含む希釈溶剤ガスを溶剤ガス処理装置本体２００へ供給することができる。
【００８３】
また、気化させた溶剤液の溶剤ガスを含む希釈溶剤ガス中の溶剤ガスの濃度は、ブロアＡ１３６による希釈気体の供給量および／またはポンプ１１８による溶剤液の供給量の調節によって設定することがでる。
【００８４】
ブロアＡ１３６による希釈気体の供給量を一定とした場合は、ポンプ１１８による溶剤液の供給量の調節によって設定することがでる。また、ポンプ１１８による溶剤液の供給量を一定とした場合は、ブロアＡ１３６による希釈気体の供給量の調節によって設定することがでる。さらに、ブロアＡ１３６による希釈気体の供給量およびポンプ１１８による溶剤液の供給量の調節によって設定することがでる。このように希釈溶剤ガスの量、希釈溶剤ガス中の溶剤ガス濃度を任意に変化させることができるものである。
【００８５】
希釈溶剤ガスの量、希釈溶剤ガス中の溶剤ガス濃度は、ブロアＡ１３６による希釈気体の供給量、ポンプ１１８による溶剤液の供給量を変化させる速度を制御することで、任意に設定することができる。さらに、気化させる溶剤液の選択は、開閉弁１１４、１１５、１１６、１１７の開閉制御によってほぼ瞬時に切り替えることができる。
【００８６】
図４に示す（ａ）は、希釈溶剤ガス中の溶剤ガス濃度を無段階に増加または減少方向に変化させて、また、（ｂ）は希釈溶剤ガス中の溶剤ガス濃度を段階的に変化させて、溶剤ガス処理装置本体２００へ供給する例を示す。
【００８７】
また、溶剤ガスと空気を混合した希釈溶剤ガス中の溶剤ガスの濃度を爆発限界の下限値以下となるように溶剤液の気化手段への供給量または希釈気体の供給量を制御するものである。
【００８８】
さらに、溶剤ガス濃度計２０２が溶剤ガスの爆発限界の下限値以上の濃度を検出したときは、溶剤ガスの爆発限界の下限値以下に溶剤液の気化手段への供給量を減少させるか、または溶剤液の気化手段への供給を停止するようにしてもよい。この場合には安全性をより向上させることができる。
【００８９】
また、希釈気体供給量の検出手段（図示なし）を備え、前記希釈気体供給量検出手段が所定値以下の希釈気体の供給量を検出したときは、溶剤液の気化手段への供給を停止させるようにしてもよい。この場合にはブロアＡ１３６の停止時等置ける安全性をより向上させることができる。
【００９０】
なお、図２、図３に示す構成の溶剤ガス発生装置において、特にポンプ（溶剤液供給手段）１１８は、各溶剤液のタンクごとに設けてもよい。
【産業上の利用可能性】
【００９１】
各種溶剤ガスの浄化処理を必要とする広範囲の装置の用途にも適用できる。
【図面の簡単な説明】
【００９２】
【図１】本発明一実施例の溶剤ガス処理装置の基本構成図
【図２】溶剤ガス発生装置の溶剤液供給部および気化混合部の基本構成図
【図３】気化混合部のノズル孔閉塞時の構成図
【図４】（ａ）、（ｂ）溶剤ガス発生装置からの溶剤ガス供給例を示すグラフ
【図５】溶剤ガス処理装置本体の例を示す基本構成図
【図６】溶剤ガス処理装置本体の他の例を基本構成図
【符号の説明】
【００９３】
１００    溶剤ガス発生装置
１０１    溶剤液供給部
１０２    タンク
１０３    タンク
１０４    タンク
１０５    タンク
１０６    供給管
１０７    供給管
１０８    供給管
１０９    供給管
１１０    流量計
１１１    流量計
１１２    流量計
１１３    流量計
１１４    開閉弁
１１５    開閉弁
１１６    開閉弁
１１７    開閉弁
１１８    ポンプ（溶剤液供給手段）
１１８ａ  溶剤液供給量制御手段
１１９    吐出管
１２０    気化混合部（気化手段）
１２１    気化管（気化手段）
１２２    電気ヒータ（加熱手段）
１２２ａ  温度調節手段
１２３    気化通路
１２４    気化促進体
１２５    廃液管
１２６    開閉弁
１２７    導出管
１２８    ノズル体
１２９    ノズル孔
１３０    電磁ソレノイド（駆動手段）
１３１    ニードル
１３２    テーパ部
１３３    先端部
１３４    送風筒
１３５    整流板
１３５ａ  小孔
１３６    ブロアＡ（希釈気体供給手段）
１３６ａ  希釈気体供給量制御手段
１３７    吐出筒
１３８    希釈溶剤ガス供給ライン
１３９    開閉弁
１４０    電気ヒータ（加熱手段）
１４０ａ  温度調節手段
２００    溶剤ガス処理装置本体
２０１    流量計
２０２    溶剤ガス濃度計
２０３    溶剤ガス濃度計
２０４    触媒酸化式溶剤ガス処理装置本体
２０５    触媒体
２０６    電気ヒータ（加熱手段）
２５０    燃焼蓄熱式溶剤ガス処理装置本体
２５１    バーナ
２５２ａ  蓄熱材
２５２ｂ  蓄熱材
２５３    流路切替部
２５４ａ  接続部材
２５４ｂ  接続部材
３００    被処理気体供給ライン
３０１    ブロアＢ
３０２    開閉弁
４００    校正気体供給ライン
４０１    開閉弁
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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