(57)【要約】【課題】  凸形のスパイラル状接触子を上下二段に重ね合わせ、電気電導性とバネ性を合わせ持ち、スパイラルコンタクタの占有面積を増加させることなく、降伏点が深いスパイラルコンタクタを提供する。【解決手段】  根元から先端中心に向かって渦巻状に形成され、前記渦巻状の中心に先端を有する凸形のスパイラル状接触子（１２、２２）を上下二段に重ね合わせたスパイラルコンタクタ（１）であって、前記スパイラルコンタクタ（１）は、上段に電気電導性に富んだ材料を用いたスパイラル状接触子（１２）、下段にバネ性に富んだ材料を用いたスパイラル状接触子（２２）を設けたスパイラルコンタクタ（１）であって、下段のスパイラル状接触子（２２）の幅は、上段のスパイラル状接触子（１２）の幅より狭く、下段のスパイラル状接触子（２２）の厚さは、上段のスパイラル状接触子（１２）の厚いスパイラルコンタクタ（１）。【選択図】図１
2010257757.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
根元から先端中心に向かって渦巻状に形成され、前記渦巻状の中心に先端を有する凸形のスパイラル状接触子（１２、２２）を上下二段に重ね合わせたスパイラルコンタクタ（１）であって、前記スパイラルコンタクタ（１）は、上段に電気電導性に富んだ材料を用いたスパイラル状接触子（１２）、下段にバネ性に富んだ材料を用いたスパイラル状接触子（２２）を設けたことを特徴とするスパイラルコンタクタ（１）。
【請求項２】
前記下段のスパイラル状接触子（２２）の幅は、前記上段のスパイラル状接触子（１２）の幅より狭いことを特徴とする請求項１に記載のスパイラルコンタクタ（１）。
【請求項３】
前記下段のスパイラル状接触子（２２）の厚さは、前記上段のスパイラル状接触子（１２）の厚さより薄いことを特徴とする請求項１に記載のスパイラルコンタクタ（１）。
【請求項４】
前記上下二段のスパイラル状接触子（１２、２２）の根元を互いに１８０°位相をずらした位置に配置して、前記根元から渦巻きの中心に向けて立ち上がり、前記中心を同一として互いに併行して渦巻状に配設された２個の前記スパイラル状接触子（１２、２２）が先端で合流して一体とした二重渦巻きスパイラルコンタクタ（１）を、前記根元から基部の少なくとも１箇所を上下接合して上下二段に重ね合わせたことを特徴とする請求項１に記載のスパイラルコンタクタ（１）。
【請求項５】
前記上下二段のスパイラル状接触子（３１、３２）の根元を互いに１２０°位相をずらした位置に配置して、前記根元から渦巻きの中心に向けて立ち上がり、前記中心を同一として互いに併行して渦巻状に配設された３個の前記スパイラル状接触子が先端で合流して先端で合流して一体とした三重渦巻きスパイラルコンタクタ（１´）を、前記根元から基部の少なくとも１箇所を上下接合して上下二段に重ね合わせたことを特徴とする請求項１に記載のスパイラルコンタクタ（１´）。
【請求項６】
前記上下二段の前記スパイラル状接触子（３３、３４）において、前記渦巻きの根元を同一として互いに併行して渦巻状に配設された２個の前記スパイラル状接触子（３３、３４）が先端で合流して一体としたスパイラル状接触子（３３、３４）を前記根元から基部の少なくとも１箇所を上下に接合して上下二段に重ね合わせたことを特徴とする請求項１に記載のスパイラルコンタクタ（１´´）。
【請求項７】
前記根元から先端中心に向かって渦巻状に形成され、前記渦巻状の中心に先端を有する凸形のスパイラル状接触子を上下二段に重ね合わせたスパイラルコンタクタ（１、１´、１´´）であって、前記上下二段のスパイラルコンタクタの少なくとも上段に配設されたスパイラル状接触子の先端部平面には、センタ付近に穴が設けられていることを特徴とする請求項１に記載のスパイラルコンタクタ（１、１´、１´´）。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、優れた電気特性とバネ特性の良好な組み合わせを併せ持ったスパイラルコンタクタに関し、特に材質の異なるスパイラル状接触子を上下二段に重ね、上段に電気電導性を強化した低電気抵抗材料、下段にバネ性を強化した材料とで構成し、根元から先端中心に向かって渦巻状に形成されその渦巻状の中心に先端を有する凸形のスパイラル状接触子であって、スパイラル状接触子の根元をスポット溶接によって接合して、二重渦巻き、三重渦巻き、及び巻き始め同一のスパイラル状接触子に適用して上下二段に重ね合わせたスパイラルコンタクタに関する。
【背景技術】
【０００２】
図９は、従来の一重渦巻き二段式スパイラルコンタクタの概略を示す概略図である。図９に示すように、渦巻きの中心に先端を有する凸形のスパイラルコンタクタ１０１は、中心を同一として互いに併行して渦巻状に配設された複数のスパイラル状接触子１１１、１１２が先端で合流して一体としており、このスパイラル状接触子１１１、１１２の根元１１１ｂ、１１２ｂを重ねた位置に配置して、例えばレーザスポット溶接で固定し、根元１１１ｂ、１１２ｂから渦巻きの中心に向けて立ち上がり、渦巻きの中心に先端１１１ａ、１１２ａを備えている。
これによって、さまざまな形状の接続端子にも接続可能であるとともに、スパイラル状接触子が接続端子と接触して、スパイラル状接触子を先端から順に押し下げるときにスパイラル状接触子が接続端子とねじり動作を伴いながら接触し、微小円を描くことによって、優れた電気接続性を有する（特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特願２００８−２０２９０５号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、スパイラル状接触子が接続端子に対し、強く加圧されることによって、さらに電気的接続特性を向上させるために、電気的特性とバネ特性の両方を兼ね備えたスパイラル状接触子が求められていた。
このため、スパイラル状接触子のバネ定数を大きくするとともに、降伏点を深くすることが必要である。また、そのための方法として、スパイラル状接触子のメッキ厚を厚くしたり、板厚自体を厚くするなどの方法があるが、板厚を厚くすることによってバネ定数は大きくなるが、素材としての降伏点が浅くなってしまう。このため、スパイラル状接触子の長さを長くして降伏点を深くする必要がある。
【０００５】
本発明は、前記課題を解決するために創案されたものであり、凸形のスパイラル状接触子を上下二段に重ね合わせ、上段に電気電導性に富んだ材料を用いたスパイラル状接触子、下段にバネ性に富んだ材料を用いたスパイラル状接触子を設けてスパイラルコンタクタとし、このスパイラルコンタクタの占有面積を増加させることなく、降伏点の深いスパイラルコンタクタを提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
請求項１に係る発明のスパイラルコンタクタは、根元から先端中心に向かって渦巻状に形成され、前記渦巻状の中心に先端を有する凸形のスパイラル状接触子（１２、２２）を上下二段に重ね合わせたスパイラルコンタクタ（１）であって、前記スパイラルコンタクタ（１）は、上段に電気電導性に富んだ材料を用いたスパイラル状接触子（１２）、下段にバネ性に富んだ材料を用いたスパイラル状接触子（２２）を設けたことを特徴とする。
【０００７】
請求項２に係る発明は、請求項１に記載のスパイラルコンタクタ（１）であって、前記下段のスパイラル状接触子（２２）の幅は、前記上段のスパイラル状接触子（１２）の幅より狭いことを特徴とする。
【０００８】
請求項３に係る発明は、請求項１に記載のスパイラルコンタクタ（１）であって、前記下段のスパイラル状接触子（２２）の厚さは、前記上段のスパイラル状接触子（１２）の厚さより薄いことを特徴とする。
【０００９】
請求項４に係る発明は、請求項１に記載のスパイラルコンタクタ（１）であって、前記上下二段のスパイラル状接触子（１２、２２）の根元を互いに１８０°位相をずらした位置に配置して、前記根元から渦巻きの中心に向けて立ち上がり、前記中心を同一として互いに併行して渦巻状に配設された２個の前記スパイラル状接触子（１２、２２）が先端で合流して一体とした二重渦巻きスパイラルコンタクタ（１）を、前記根元から基部の少なくとも１箇所を上下接合して上下二段に重ね合わせたことを特徴とする。
【００１０】
請求項５に係る発明は、請求項１に記載のスパイラルコンタクタ（１）であって、前記上下二段のスパイラル状接触子（３１、３２）の根元を互いに１２０°位相をずらした位置に配置して、前記根元から渦巻きの中心に向けて立ち上がり、前記中心を同一として互いに併行して渦巻状に配設された３個の前記スパイラル状接触子が先端で合流して一体とした三重渦巻きスパイラルコンタクタ（１´）を、前記根元から基部の少なくとも１箇所を上下接合して上下二段に重ね合わせたことを特徴とする。
【００１１】
請求項６に係る発明は、請求項１に記載のスパイラルコンタクタ（１）であって、前記上下二段の前記スパイラル状接触子（３３、３４）において、前記渦巻きの根元を同一として互いに併行して渦巻状に配設された２個の前記スパイラル状接触子（３３、３４）が先端で合流して一体としたスパイラル状接触子（３３、３４）を前記根元から基部の少なくとも１箇所を上下に接合して上下二段に重ね合わせたことを特徴とする。
【００１２】
請求項７に係る発明は、請求項１に記載のスパイラルコンタクタ（１、１´、１´´）であって、前記根元から先端中心に向かって渦巻状に形成され、前記渦巻状の中心に先端を有する凸形のスパイラル状接触子を上下二段に重ね合わせたスパイラルコンタクタ（１、１´、１´´）であって、前記上下二段のスパイラルコンタクタの少なくとも上段に配設されたスパイラル状接触子の先端部平面には、センタ付近に穴が設けられていることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１３】
請求項１に係る発明によれば、上下二段のスパイラル状接触子が、接続端子に接触する側の上段に電気電導性に富んだ材料を用い、下段にバネ性に富んだ材料を用いることによって、スパイラル状接触子単体では実現することが難しいが、スパイラル状接触子を上下二段に二枚重ねたことで、降伏点を深くすることができ、さらに接触押圧力を上げることなく電気抵抗を小さくすることができ、必要な降伏点の深さを維持して設置面積の小さいスパイラル状接触子とすることができる。
【００１４】
請求項２に係る発明によれば、上下二段に配設されたスパイラルコンタクタの下側のスパイラル状接触子の幅を上段のスパイラル状接触子の幅より狭くすることによって、上下二段のスパイラルコンタクタが圧縮されるときにも下段のスパイラル状接触子の上面全体が上段のスパイラル状接触子の下面から外れることがなく安定した電気的接続特性が得られ、優れた電気的特性と優れたバネ特性の両方を併せ持ったスパイラル状接触子を実現することができる。
【００１５】
請求項３に係る発明によれば、上下二段に配設されたスパイラル状接触子の下側のスパイラル状接触子の厚さを上段のスパイラル状接触子の厚さより薄くすることによって、下段のスパイラル状接触子の方が断面応力が小さいため、上下二段のスパイラル状接触子が圧縮されるときにも下段のスパイラル状接触子の上面全体が上段のスパイラル状接触子の下面から離れることなく追随し、安定した電気的接続特性が得られ、優れた電気的特性と優れたバネ特性の両方を併せ持ったスパイラル状接触子を実現することができる。
【００１６】
請求項４に係る発明によれば、上下二段のスパイラル状接触子が、接続端子に接触する側の上段に電気電導性に富んだ材料を用い、下段にバネ性に富んだ材料を用いることによって、スパイラル状接触子単体では実現することが難しいが、スパイラル状接触子を上下二段に二枚重ねたことで、降伏点を深くすることができ、さらに接触押圧力を上げることなく電気抵抗を小さくすることができ、必要な降伏点の深さを維持して設置面積の小さいスパイラル状接触子とすることができる。
【００１７】
請求項５に係る発明によれば、上下二段のスパイラル状接触子が、接続端子に接触する側の上段に電気電導性に富んだ材料を用い、下段にバネ性に富んだ材料を用いることによって、スパイラル状接触子単体では実現することが難しいが、スパイラル状接触子を上下二段に二枚重ねたことで、降伏点を深くすることができ、さらに接触押圧力を上げることなく電気抵抗を小さくすることができ、必要な降伏点の深さを維持して設置面積の小さいスパイラル状接触子とすることができる。
【００１８】
請求項６に係る発明によれば、上下二段のスパイラル状接触子が、接続端子に接触する側の上段に電気電導性に富んだ材料を用い、下段にバネ性に富んだ材料を用いることによって、スパイラル状接触子単体では実現することが難しいが、スパイラル状接触子を上下二段に二枚重ねたことで、降伏点を深くすることができ、さらに接触押圧力を上げることなく電気抵抗を小さくすることができ、必要な降伏点の深さを維持して設置面積の小さいスパイラル状接触子とすることができる。
【００１９】
請求項７に係る発明によれば、この上段に配設された鏡面状平面３１ａａには、センタ付近にほぼ円形の穴３１ａａａ（窪み、または貫通孔）が設けられている。この穴３１ａａａによって、面圧が分散せず大きな圧力が掛かり、またその面圧が掛かる半径が大きいため面の動くエリアが大きくなり金属間接合が容易に発生する。また、半田付けを用いる場合、穴と周辺の両方に半田の吸い上がりであるフィレットが形成され、より強固な半田接合を可能とする。このように、スパイラル状接触子を２枚重ねにして二段とし、レーザスポット溶接で根元を固定することによって、スパイラル状接触子の長さを長くするのと同様の効果が生まれた。これによって、二段重ねのスパイラル状接触子のバネ定数が大きくなり、降伏点が深くなるという効果が得られた。したがって、さまざまな形状の接続端子にも接続可能であるとともに、スパイラル状接触子が接続端子と接触して、スパイラル状接触子を先端から順に押し下げるときにスパイラル状接触子の先端部が接続端子とねじり動作を伴いながら接触し、微小円を描くことによって、優れた電気接続性を有するスパイラル状接触子において、優れた電気的特性と優れたバネ特性の両方を併せ持ったスパイラル状接触子を実現することができる。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
以下、本発明に係るスパイラルコンタクタおよびその製造方法の実施の形態を、図面を参照しながら詳細に説明する。
＜第１の実施形態＞
図１は、本発明の第１の実施形態を説明するための二重渦巻き二段式のスパイラル状接触子を示し、（ａ）は二重渦巻き二段式のスパイラル状接触子を示す平面図、（ｂ）は（ａ）に示すＡ―Ａ線の断面図であり、自然体では凸形状の二重渦巻き二段式のスパイラル状接触子の断面図である。
図１（ａ）（ｂ）に示すように、上下二段に配設されたスパイラル状接触子１２、２２は、自然体では凸形状のスパイラル（渦巻き）であるが、根元１２ｂ、２２ｂから先端中心に向かって渦巻状に形成され、先端１２ａ、２２ａを同一として互いに併行して渦巻状に配設され、先端１２ａ、２２ａを一体とした二重渦巻きスパイラル状接触子１２、２２が根元１２ｂ、２２ｂから基部１２ｄ、２２ｄの少なくとも１箇所をレーザスポット溶接によって接合して上下二段に重ね合わせている。
【００２１】
このスパイラル状接触子１２、２２は、根元から先端中心に向かって渦巻状に形成され、渦巻状の中心に先端を有する凸形のスパイラル状接触子１２、２２を上下二段に重ね合わせたスパイラルコンタクタ１であって、スパイラルコンタクタ１は、上段に電気電導性に富んだ材料を用いたスパイラル状接触子１２、下段にバネ性に富んだ材料を用いたスパイラル状接触子２２を設けている。スパイラル状接触子１２を形成するコア材は低電気抵抗材料のニッケル（Ｎｉ）基材であり、上下表面にはＡｕメッキを施している。そしてスパイラル状接触子２２を形成するコア材はバネ特性に優れたタングステンを配合したニッケル合金（Ｎｉ合金）であり、少なくとも上面表面にはＡｕメッキを施している。
【００２２】
このように上下二段のスパイラル状接触子が、接続端子に接触する側の上段に電気電導性に富んだ材料を用い、下段にバネ性に富んだ材料を用いることによって、スパイラル状接触子単体では実現することが難しいが、スパイラル状接触子を上下二段に二枚重ねたことで、降伏点を深くすることができ、さらに接触押圧力を上げることなく電気抵抗を小さくすることができ、必要な降伏点の深さを維持して設置面積の小さいスパイラル状接触子とすることができる。
【００２３】
また、下段のスパイラル状接触子２２の幅は、上段のスパイラル状接触子１２の幅より狭く形成されている。
このように、上下二段に配設されたスパイラル状接触子１２、２２の下側のスパイラル状接触子２２の幅を上段のスパイラル状接触子１２の幅より狭くすることによって、上下二段のスパイラル状接触子１２、２２が圧縮されるときにも下段のスパイラル状接触子２２の上面全体が上段のスパイラル状接触子１２の下面から外れることがなく安定した電気的接続特性が得られ、優れた電気的特性と優れたバネ特性の両方を併せ持ったスパイラル状接触子を実現することができる。
【００２４】
また、下段のスパイラル状接触子２２の厚さは、上段のスパイラル状接触子１２の厚さより薄く形成されている。
このように、上下二段に配設されたスパイラル状接触子の下側のスパイラル状接触子の厚さを上段のスパイラル状接触子の厚さより薄くすることによって、下段のスパイラル状接触子の方が断面応力が小さいため、上下二段のスパイラル状接触子が圧縮されるときにも下段のスパイラル状接触子の上面全体が上段のスパイラル状接触子の下面から離れることなく追随し、安定した電気的接続特性が得られ、優れた電気的特性と優れたバネ特性の両方を併せ持ったスパイラル状接触子を実現することができる。
【００２５】
また、上段のスパイラル状接触子１２の中心に位置する先端１２ａには、柱状の突起（柱）１２ｄが設けられている。この柱１２ｄは、上段のスパイラル状接触子１２の先端１２ａの位置に上方へ向けて設けられた少なくとも１本の柱である。下段のスパイラル状接触子２２には突起は設けられていない。また、上下二段のスパイラル状接触子１２、２２とも、その渦巻きの幅Ｖ（Ｖ１、Ｖ２）は、同一幅で、先端１２ａ、２２ａから根元１２ｂ、２２ｂに近づけば近づく程に広くなっており、根元１２ｂ、２２ｂから先端１２ａ、２２ａに向かって渦巻き部１２ｃ、２２ｃを備えている。なお、幅Ｖは、先端１２ａ、２２ａから根元１２ｂ、２２ｂに行くにしたがって、一定でも構わない。厚さＴ（Ｔ１、Ｔ２）も一定としているが、先端１２ａ、２２ａから根元１２ｂ、２２ｂに行くにしたがって、次第に厚く変化していても構わない。
【００２６】
この二重渦巻き二段式のスパイラルコンタクタ１において、上段のスパイラル状接触子１２は、その根元１２ｂ、１２ｂを互いに１８０度対向した位置に配置して、根元１２ｂ、１２ｂから渦巻きの中心に向けて立ち上がり、渦巻きの中心で互いに合流する先端１２ａを備えている。すなわち、先端１２ａは、左右から支持された二重の渦巻きによって中心に維持されながら、さらに先端１２ａがねじり回動する。同様に、下段のスパイラル状接触子２２の根元２２ｂ、２２ｂを互いに対向した位置に配置して、根元２２ｂ、２２ｂから渦巻きの中心に向けて立ち上がり、渦巻きの中心で互いに合流する先端２２ａを備えている。このように、二重渦巻きスパイラル状接触子１２、２２を上下に重ねて二段とし、これを先端１２ａ、２２ａをフリーにしてレーザスポット溶接で根元１２ｂ、２２ｂから基部１２ｄ、２２ｄの少なくとも１箇所を固定することによって、スパイラル状接触子の長さを長くするのと同様の効果が得られた。これによって、二段重ねのスパイラルコンタクタ１はそのバネ定数が大きくなり、降伏点が深くなるという効果が得られた。したがって、さまざまな形状の接続端子にも接続可能であるとともに、スパイラルコンタクタ１が接続端子（図略）と接触して、スパイラルコンタクタ１を先端から順に押し下げるときに上段に配設されたスパイラル状接触子１２の先端部１２ａが接続端子とねじり動作を伴いながら接触し、微小円を描くことによって、優れた電気的特性と優れたバネ特性の両方を併せ持ったスパイラル状接触子を実現することができる。
【００２７】
図１の（ｂ）に示すように、下段のスパイラル状接触子２２の幅は、上段のスパイラル状接触子１２の幅より狭くしている。上下二段に配設されたスパイラル状接触子１２、２２の下側のスパイラル状接触子２２の幅Ｖ２、Ｗ２を上段のスパイラル状接触子１２の幅Ｖ１、Ｗ１より狭くすることによって、上下二段のスパイラル状接触子１２、２２が圧縮されるときにも下段のスパイラル状接触子２２の上面全体が、上段のスパイラル状接触子１２の下面から外れることがなく安定した電気的接続特性が得られ、優れた電気的特性と優れたバネ特性の両方を併せ持ったスパイラル状接触子を実現することができる。
【００２８】
また、下段のスパイラル状接触子２２の厚さＴ２は、上段のスパイラル状接触子１２の厚さＴ１より薄い。このように、上下二段に配設されたスパイラルコンタクタ１の下側のスパイラル状接触子２２の厚さＴ２を上段のスパイラル状接触子の厚さＴ１より薄くすることによって、上下二段のスパイラルコンタクタ１が圧縮されるときにも下段のスパイラル状接触子２２の上面全体が上段のスパイラル状接触子１２の下面に追随し、安定した電気的接続特性が得られ、優れた電気的特性と優れたバネ特性の両方を併せ持ったスパイラル状接触子を実現することができる。
【００２９】
次に、スパイラルコンタクタの製造方法を説明する。
図２は、本発明に係るスパイラルコンタクタの製造方法の工程図であり、上段のスパイラル状接触子１２の製造工程を示している。図２に示すように、第１工程は、金属板１４を用意し、この金属板１４の表面に少なくとも１つの凹部１４ａをスパイラル状接触子の先端の位置に来るように形成する。なお、金属板１４はＣｕ箔が好適であるので、以下、金属板１４はＣｕ箔１４と記載する。Ｃｕ箔１４の厚みは、箔状であり、例えば、０．０８ｍｍとしたが、これに限定されるものではない。
【００３０】
第２工程（ｂ）は、Ｃｕ箔１４の表面にフォトレジスト１５を塗布、もしくはドライフィルムを貼付する。その上方からスパイラル状接触子１２のパターンを有するフォトマスク１６を被せ、このフォトマスク１６の上方から光を照射して露光する。
このフォトマスク１６の形状は、スパイラル形状接触子１２の部分を黒塗りにした模様になっている。また、白黒逆のパターンを用いた方法でも構わない。
第３工程（ｃ）は、フォトマスク１６のパターンを形成するようにフォトレジスト１５を現像する。
第４工程（ｄ）は、さらに上方からＣｕ箔１４の露出面１４ｂにＡｕメッキ１７ｂ、Ｎｉメッキ１７ａから構成される金属メッキ１７を施し、スパイラル状接触子１２を成形する。ここでの金属メッキ１７は、電気電導性に優れたニッケル合金メッキが好適である。なお、金属メッキは、例えば、ニッケルＮｉ合金メッキを用いたが、これに限定されるものではない。
【００３１】
第５工程（ｅ）は、フォトレジスト１５を除去する。
第６工程（ｆ）は、Ｃｕ箔１４の裏面にフォトレジスト１５を貼付もしくは塗布し、穴を開けるためのフォトマスク１６´を被せ、このフォトマスク１６´に光を照射して露光・現像する。
第７工程（ｇ）は、Ｃｕ箔１４の裏面からＣｕ箔１４にエッチングで穴１４ｃを開ける。
第８工程（ｈ）は、Ｃｕ箔１４の裏面のフォトレジスト１５を除去する。
【００３２】
図３は、本発明に係る製造方法の工程図であり、図２に示す第８工程に続く工程を示している。図３に示すように、第９工程（ｉ）は、上下反転させたスパイラル状接触子１２の渦巻きの中心を一方から凸形工具３０で押し上げて凸形に変形させた状態でアニールフォーミングする。
詳細には、スパイラル状接触子１２の下方に凸形工具３０を配置し、スパイラル状接触子１２を下方から凸形工具３０で押し上げて凸形に変形させた状態でアニールフォーミングして成形を安定させ、すなわち、凸状に変形したスパイラル状接触子１２が加熱及び焼鈍されて凸形状に成形される。このアニールフォーミングは、例えば、２５０℃で加熱し、焼きなまし処理を行い、内部応力を除去する。ここで加熱温度は２５０℃としたが、２５０℃前後を含むものとし、さらにこれに限定されるものではない。
第１０工程（ｊ）は、アニールフォーミングが完了するとともに、凸形工具３０を取り外した状態である。
【００３３】
図４は、本発明に係るスパイラルコンタクタの製造方法の工程図であり、下段のスパイラル状接触子２２の製造工程を示している。図４に示すように、第１１工程（ｋ）は、金属板２４を用意する。なお、金属板２４はＣｕ箔が好適であり、前記した金属板１４と同一材料である。
【００３４】
第１２工程（ｌ）は、Ｃｕ箔２４の表面にフォトレジスト２５を塗布、もしくはドライフィルムを貼付する。その上方からスパイラル状接触子２２のパターンを有するフォトマスク２６を被せ、このフォトマスク２６の上方から光を照射して露光する。
このフォトマスク２６の形状は、スパイラル形状接触子２２の部分を黒塗りにした模様になっている。また、白黒逆のパターンを用いた方法でも構わない。
第１３工程（ｍ）は、フォトマスク２６のパターンを形成するようにフォトレジスト２５を現像する。
第１４工程（ｎ）は、さらに上方からＣｕ箔２４の露出面２４ｂにＡｕメッキ２７ｂ、Ｎｉメッキ２７ａから構成される金属メッキ２７を施し、スパイラル状接触子２２を成形する。ここでの金属メッキ２７は、バネ性に富んだタングステンを配合したニッケル合金メッキが好適である。なお、金属メッキは、例えば、ニッケルＮｉ合金メッキを用いたが、これに限定されるものではない。
【００３５】
第１５工程（ｏ）は、フォトレジスト２５を除去する。
第１６工程（ｐ）は、Ｃｕ箔２４の裏面にフォトレジスト２５を貼付もしくは塗布し、穴を開けるためのフォトマスク２６´を被せ、このフォトマスク２６´に光を照射して露光・現像する。
第１７工程（ｑ）は、Ｃｕ箔２４の裏面からＣｕ箔２４にエッチングで穴２４ｃを開ける。
第１８工程（ｒ）は、Ｃｕ箔２４の裏面のフォトレジスト２５を除去する。
【００３６】
図５は、本発明に係る製造方法の工程図であり、図４に示す第１８工程に続く工程を示している。図５に示すように、第１９工程（ｓ）は、上下反転させたスパイラル状接触子２２の渦巻きの中心を一方から凸形工具３０で押し上げて凸形に変形させた状態でアニールフォーミングする。
詳細には、スパイラル状接触子２２の下方に凸形工具３０を配置し、スパイラル状接触子２２を下方から凸形工具３０で押し上げて凸形に変形させた状態でアニールフォーミングして成形を安定させ、すなわち、凸状に変形したスパイラル状接触子２２が加熱及び焼鈍されて凸形状に成形される。このアニールフォーミングは、例えば、２５０℃で加熱し、焼きなまし処理を行い、内部応力を除去する。ここで加熱温度は２５０℃としたが、２５０℃前後を含むものとし、さらにこれに限定されるものではない。
第２０工程（ｔ）は、表面に導電性のランド２８ａを有する実装基板２８を設け、ランド２８ａの上面に導電性のペースト（半田ペースト）２９を塗布し、ランド２８ａの上面に、スパイラル状接触子２２を位置決めする。
【００３７】
第２１工程（ｕ）は、Ｃｕ箔２４をエッチングで除去する。
第２２工程（ｖ）は、スパイラル状接触子２２の上に、スパイラル状接触子１２を上下二段に重ね合わせ、先端をフリーにしてレーザスポット溶接で根元を接合し、実装基板上２８のランド２８ａにスパイラル状接触子２２を固着し、上段に突起を備えた二重渦巻きスパイラル状接触子１２を、突起のない下段のスパイラル状接触子２２に２枚重ねにした二重渦巻き二段式のスパイラルコンタクタ１を形成する。
また、渦巻きを２本併行にして二重渦巻きとして説明したが、３重渦巻きでも、４重渦巻きでも、さらに複数の渦巻きとしても良い。その渦巻きの根元位置と先端位置をそれぞれ均等にずらすことによって製作可能である。
【００３８】
＜第２の実施形態＞
図６は、本発明の第２の実施形態を説明するための三重渦巻き二段式のスパイラル状接触子を示し、（ａ）は三重渦巻き二段式のスパイラル状接触子を示す平面図、（ｂ）（ｃ）（ｄ）は、（ａ）に示すＢ―Ｂ線の断面図であり、自然体では凸形状の三重渦巻き二段式のスパイラル状接触子の断面図であり、代表的な３種類の二段式形態を示している。
図６（ａ）（ｂ）に示すように、上下二段に配設されたスパイラル状接触子３１、３２は、自然体では凸形状のスパイラル（渦巻き）であるが、根元Ａ３１、根元Ｂ、根元Ｃの符号３１ｂから先端中心に向かって渦巻状に形成され、先端３１ａを同一として互いに併行して渦巻状に配設され、先端３１ａで合流して一体とした三重渦巻きスパイラル状接触子３１、３２を、根元３１ｂ、３１ｂから基部３１ｄ、３２ｄの少なくとも１箇所を接合して上下二段に重ね合わせ、二重渦巻き二段式のスパイラルコンタクタ１´としている。スパイラルコンタクタ１´は、上段に電気電導性に富んだ材料を用いたスパイラル状接触子３１、下段にバネ性に富んだ材料を用いたスパイラル状接触子３２を設けている。スパイラル状接触子３１を形成するコア材はニッケル（Ｎｉ）基材であり、上下表面にはＡｕメッキを施している。スパイラル状接触子３２を形成するコア材はタングステンを配合したニッケル合金（Ｎｉ合金）であり、少なくとも上面表面にはＡｕメッキを施している。
【００３９】
根元Ａ、根元Ｂ、根元Ｃから先端中心に向かって渦巻状に形成され、渦巻状の中心に先端を有する凸形のスパイラル状接触子３１において、スパイラル状接触子３１の根元Ａ、根元Ｂ、根元Ｃを互いに１２０°角度をずらした位置に配置して、根元Ａ、根元Ｂ、根元Ｃから渦巻きの中心に向けて立ち上がり、中心を同一として互いに併行して渦巻状に配設された３個のスパイラル状接触子３１が先端で合流して一体とした３重渦巻きスパイラル状接触子３１の先端部３１ａの上面を鏡面処理した鏡面状平面３１ａａを備えている。この上段に配設された鏡面状平面３１ａａにはほぼ円形のセンタ付近に穴３１ａａａ（窪み、または貫通孔）が設けられている。この穴３１ａａａによって、面圧が分散せず大きな圧力が掛かり、またその面圧が掛かる半径が大きいため面の動くエリアが大きくなり金属間接合が容易に発生する。
【００４０】
また、図１の（ｃ）に示すように、先端部３１ａａの上面には柱３１ａｂを設けても良く、このとき、柱３１ａｂの上面が鏡面処理された鏡面状平面３１ａｂａを備える。なお、柱３１ａｂの形状は、円柱や角柱を用いたが、上面がフラットであれば他の形状の柱でも構わない。
このように、柱の形状を円柱としたことによって、接合相手の接合面と効率的に接合することができるとともに、その接合面が狭くても容易に接合することができる。
また、図６の（ｄ）に示すように、フラットな鏡面状平面３１ａａを設けても構わない。
【００４１】
＜第３の実施形態＞
図７は、本発明の第３の実施形態を説明するための二段式のスパイラルコンタクタを示し、（ａ）は先端及びその近傍に突起を備えたスパイラル状接触子を示す平面図、（ｂ）は（ａ）に示すＣ―Ｃ線の断面図であり、自然体では凸形状の断面図である。
図７（ａ）（ｂ）に示すように、上下二段に配設されたスパイラルコンタクタ１´´は、自然体では凸形状のスパイラル（渦巻き）であるが、根元３３ｂから先端３３ａ中心に向かって渦巻状に形成され、渦巻の中心に先端３３ａを有するスパイラル状接触子３３において、スパイラル状接触子３３の幅方向のセンタにスパイラル状接触子３３の長手方向に沿って溝３３ｄを備え、スパイラル状接触子３３、３４を、根元３３ｂ、３４ｂから基部３３ｄ、３４ｄの少なくとも１箇所を接合して上下二段に重ね合わせ、二重渦巻き二段式のスパイラルコンタクタ１´´としている。
その中心に位置する先端３３ａには、四角錐形状の突起３３ａａが設けられている。渦巻きの幅は、先端３３ａから根元３３ｂに近づけば近づく程に広くなっており、根元３３ｂから先端３３ａに向かって渦巻き部３３ｃを備えている。なお、幅は、先端３３ａから根元３３ｂに行くにしたがって、一定でも構わない。厚さも一定としているが、先端から根元に行くにしたがって、次第に厚く変化していても構わない。スパイラルコンタクタ１´´は、上段に電気電導性に富んだ材料を用いたスパイラル状接触子３３、下段にバネ性に富んだ材料を用いたスパイラル状接触子３４を設けている。スパイラル状接触子３３を形成するコア材はニッケル（Ｎｉ）基材であり、上下表面にはＡｕメッキを施している。スパイラル状接触子３４を形成するコア材はタングステンを配合したニッケル合金（Ｎｉ合金）であり、少なくとも上面表面にはＡｕメッキを施している。なお、突起３３ａａはなくても構わない。
【００４２】
また、この溝３３ｄの長さはスパイラル状接触子３３の根元３３ｂから先端３３ａまでの間の所定の区間に設けられている。区間は適宜、設定可能で有る。
【００４３】
また、スパイラル状接触子３３の溝３３ｄの長さを固定したものとして、次のように定義できる。すなわち、２つのスパイラル状接触子３３、３３の根元３３ｂ、３３ｂを同一としてその根元３３ｂから先端３３ａ中心に向かって渦巻状に形成され、渦巻の中心に先端３３ａを有し、２つのスパイラル状接触子３３が互いに間隔を有して並行に形成され、その間隔を溝３３ｄと称し、２つのスパイラル状接触子３３が先端３３ａで合体している構成としても構わない。
【００４４】
＜その他の実施形態＞
図８は、本発明のスパイラルコンタクタを適用したインターコネクタの概略図であり、（ａ）は全体図、（ｂ）は図中のＤに示す部分の拡大図である。
図８に示すように、基板間、デバイスと基板間などを電気的に接続するインターコネクタとして用いられ、優れた電気特性とバネ特性の良好な組み合わせを併せ持ったスパイラルコンタクタに適用可能である。
【産業上の利用可能性】
【００４５】
基板間、デバイスと基板間などを電気的に接続するインターコネクタとして用いられ、優れた電気特性とバネ特性の良好な組み合わせを併せ持ったスパイラルコンタクタに適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【００４６】
【図１】本発明の第１の実施形態を説明するための二重渦巻き二段式のスパイラル状接触子を示し、（ａ）は二重渦巻き二段式のスパイラル状接触子を示す平面図、（ｂ）は（ａ）に示すＡ―Ａ線の断面図であり、自然体では凸形状の二重渦巻き二段式のスパイラル状接触子の断面図である。
【図２】本発明に係るスパイラルコンタクタの製造方法の工程図であり、上段のスパイラル状接触子の製造工程を示している。
【図３】本発明に係るスパイラルコンタクタの製造方法の工程図であり、図２に示す第８工程に続く工程を示している。
【図４】本発明に係るスパイラルコンタクタの製造方法の工程図であり、下段のスパイラル状接触子の製造工程を示している。
【図５】本発明に係る製造方法の工程図であり、図４に示す第１８工程に続く工程を示している。
【図６】本発明の第２の実施形態を説明するための三重渦巻き二段式のスパイラル状接触子を示し、（ａ）は三重渦巻き二段式のスパイラル状接触子を示す平面図、（ｂ）（ｃ）（ｄ）は、（ａ）に示すＢ―Ｂ線の断面図であり、自然体では凸形状の三重渦巻き二段式のスパイラル状接触子の断面図であり、代表的な３種類の二段式形態を示している。
【図７】本発明の第３の実施形態を説明するための二段式のスパイラルコンタクタを示し、（ａ）は先端及びその近傍に突起を備えたスパイラル状接触子を示す平面図、（ｂ）は（ａ）に示すＤ―Ｄ線の断面図であり、自然体では凸形状の断面図である。
【図８】本発明のスパイラルコンタクタを適用したインターコネクタの概略図であり、（ａ）は全体図、（ｂ）は図中のＥに示す部分の拡大図である。
【図９】従来の一重渦巻き二段式スパイラルコンタクタの概略を示す概略図である。
【符号の説明】
【００４７】
１、１´、１´´  スパイラルコンタクタ
１２、２２、３１、３２、３３、３４  スパイラル状接触子
１４、２４  Ｃｕ箔
１５、２５  フォトレジスト
１６、１６´、２６、２６´  フォトマスク
１７  金属メッキ
２８  実装基板
１９、２９  ペースト
３０  凸形工具
【図１】
2010257757.tif 000003
【図２】
2010257757.tif 000004
【図３】
2010257757.tif 000005
【図４】
2010257757.tif 000006
【図５】
2010257757.tif 000007
【図６】
2010257757.tif 000008
【図７】
2010257757.tif 000009
【図８】
2010257757.tif 000010
【図９】
2010257757.tif 000011