(57)【要約】【課題】画像品質の向上、または、タッチ動作の検出性の向上を実現する。【解決手段】一対の基板２０１，２０２が対面する液晶パネル２００において液晶層２０３が接触する面に、溝ＴＲを形成する。これにより、液晶パネル２００が外圧によって変形して、液晶層２０３が流動した際に、その溝ＴＲが、その流動した液晶層２０３の流路になる。【選択図】図５
2010250550.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の画素が間を隔てて配列された表示領域において画像を表示する液晶パネル
を有し、
前記液晶パネルは、
第１基板と、
前記第１基板に間を隔てて対面している第２基板と、
前記第１基板と前記第２基板との間に設けられた液晶層と
を含み、前記液晶パネルにおいて前記液晶層に接触する面に、溝が前記複数の画素の間に介在するように形成されている
液晶表示装置。
【請求項２】
前記液晶パネルは、前記第１基板側において前記液晶層に接触する面と、前記第２基板側において前記液晶層に接触する面との両面に、前記溝が形成されている、
請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記液晶パネルは、
前記複数の画素が前記表示領域において第１方向と前記第１方向に垂直な第２方向とのそれぞれに並ぶように配列されており
前記第１方向に並ぶ複数の画素の間において、前記第２方向に延在する第１配線が前記表示領域に形成されていると共に、
前記第２方向に並ぶ複数の画素の間において、前記第１方向に延在する第２配線が前記表示領域に形成されており、
前記溝は、前記第１配線の上方において前記第２方向に延在する部分を少なくとも含むように形成されている、
請求項２に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記液晶パネルは、前記表示領域に複数のタッチセンサスイッチが内蔵されている、
請求項３に記載の液晶表示装置。
【請求項５】
前記タッチセンサスイッチは、
前記第１基板にて前記第２基板に対面する面に設けられている第１タッチ電極と、
前記第２基板にて前記第１基板に対面する面に、前記第１タッチ電極から間を隔てて対面している第２タッチ電極と
を有し、前記液晶パネルが外圧によって変形することによって、前記第１タッチ電極と前記第２タッチ電極とが接触するように構成されている、
請求項４に記載の液晶表示装置。
【請求項６】
前記液晶パネルは、
前記第１基板と前記第２基板との間に設けられている構造体
を含み、
前記構造体は、前記液晶層に接触する面に凹凸が形成されている、
請求項１から５のいずれかに記載の液晶表示装置。
【請求項７】
前記構造体は、前記液晶パネルにおいて入射光を遮光する遮光領域に設けられており、
前記液晶パネルは、前記遮光領域において前記液晶層に接触する面にて前記構造体の周囲に位置する領域に、凹凸が形成されている、
請求項６に記載の液晶表示装置。
【請求項８】
複数の画素が間を隔てて配列された表示領域において画像を表示する液晶パネル
を有し、
前記液晶パネルは、
第１基板と、
前記第１基板に間を隔てて対面している第２基板と、
前記第１基板と前記第２基板との間に設けられた液晶層と、
前記第１基板と前記第２基板との間に設けられている構造体と
を含み、
前記構造体は、前記液晶層に接触する面に凹凸が形成されている
液晶表示装置。
【請求項９】
複数の画素が間を隔てて配列された表示領域において画像を表示する液晶パネル
を有し、
前記液晶パネルは、
第１基板と、
前記第１基板に間を隔てて対面している第２基板と、
前記第１基板と前記第２基板との間に設けられた液晶層と、
前記第１基板と前記第２基板との間に設けられている構造体と
を含み、
前記構造体は、前記液晶パネルにおいて入射光を遮光する遮光領域に設けられており、
前記液晶パネルは、前記遮光領域において前記液晶層に接触する面にて前記構造体の周囲に位置する領域に、凹凸が形成されている、
液晶表示装置。
【請求項１０】
第１基板と、前記第１基板に間を隔てて対面している第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間に設けられた液体層とを含み、タッチセンサスイッチが設けられているタッチパネル
を有し、
前記タッチパネルにおいて前記液体層に接触する面に溝が形成されている
情報入力装置。
【請求項１１】
前記タッチパネルは、
前記第１基板と前記第２基板との間に設けられている構造体
を含み、
前記構造体は、前記液体層に接触する面に凹凸が形成されており、
請求項１０に記載の情報入力装置。
【請求項１２】
前記構造体は、前記タッチパネルにおいて入射光を遮光する遮光領域に設けられており、
前記タッチパネルは、前記遮光領域において前記液体層に接触する面にて前記構造体の周囲に位置する領域に、凹凸が形成されている、
請求項１０または１１に記載の情報入力装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置，情報入力装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置，有機ＥＬ表示装置などの表示装置は、薄型、軽量、低消費電力といった利点を有する。このため、携帯電話、デジタルカメラなどのモバイル用途の電子機器にて多く使用されている。
【０００３】
このような表示装置において、液晶表示装置は、一対の基板の間に液晶層が封入された液晶パネルを、表示パネルとして有している。液晶パネルは、たとえば、透過型であって、液晶パネルの背面に設けられたバックライトなどの照明装置が出射した照明光を変調して透過させる。そして、その変調した照明光によって画像の表示が、液晶パネルの正面にて実施される。
【０００４】
液晶パネルは、たとえば、アクティブマトリクス方式であり、画素スイッチング素子として機能する薄膜トランジスタ（ＴＦＴ：Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）が、複数形成されているＴＦＴアレイ基板を含む。そして、液晶パネルにおいては、そのＴＦＴアレイ基板に対向するように対向基板が配置されており、ＴＦＴアレイ基板および対向基板の間のスペースに液晶層が封入されている。このアクティブマトリクス方式の液晶パネルにおいては、画素スイッチング素子を介して画素電極に映像信号を入力することによって、液晶層に電圧を印加して、その画素を透過する光の透過率を制御することで、画像の表示が実施される。
【０００５】
上記のような表示装置においては、表示パネルの画面に表示されたアイコン等の画像を利用して、ユーザーが操作データの入力を可能にするために、タッチパネルが情報入力装置として表示パネル上に設けられる場合がある。
【０００６】
しかし、表示パネル上にタッチパネルを外付けによって設置した場合には、全体の厚みが厚くなり、薄型の利点が損なわれる場合がある。また、タッチパネルによって、表示領域において透過する光が減少する場合や、その光が干渉される場合があるために、表示画像の品質が低下する場合がある。さらに、製造効率の低下や、製造コストの上昇などの不具合が生ずる場合がある。
【０００７】
このため、タッチパネル機能が表示パネルに内蔵された表示装置が提案されている。
【０００８】
たとえば、電極間の接触による電圧変化で読み出しを行う「接触式」等のタッチセンサを液晶パネルに内蔵した液晶表示装置が提案されている。ここでは、液晶パネルを構成する一対の基板のそれぞれにタッチ電極が設けられており、液晶パネルが押されて変形したときに、その一対のタッチ電極が電気的に接続するように構成されている。この液晶パネルにおいては、小さな外圧によって一対のタッチ電極が電気的に接続するように、凸状に突出している弾性部材上にタッチ電極を設けている（例えば、特許文献１、特許文献２、特許文献３参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開２００１−７５０７４号公報
【特許文献２】特開２００７−５２３６８号公報
【特許文献３】特開２００７−９５０４４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
図２４は、液晶表示装置において、液晶パネルをタッチしたときの様子を示す図である。
【００１１】
液晶パネルをタッチした際には、液晶パネルの表示面が押されて変形する。このため、液晶パネルにおいては、図２４に示すように、水面に石を投げたときに生ずる波紋のように、タッチ位置Ｔｃを中心にして、液晶の流れＦＬが放射状に進行する。よって、液晶パネルにおいては、液晶層の配向状態が変化して、画像の表示が乱れる場合がある。
【００１２】
たとえば、タッチパネルが外付けされた液晶パネルにおいて、表示面が押されて変形したときには、画像の表示が乱れて、画像品質が低下する。特に、タッチパネル機能が液晶パネルに内蔵された場合には、この不具合が顕在化する。これは、主に、液晶の流動性が低いことに起因する。
【００１３】
また、タッチパネル機能が液晶パネルに内蔵された場合においては、内部の構造体によって液晶の流動性が、さらに低下する場合があり、これに起因して、タッチ動作の検出が的確に実施されない場合が生ずる。特に、速くタッチした場合には、遅くタッチした場合と比較して、タッチセンサの作動開始圧が高くなるために、この不具合が顕在化する。また、スライタスペンよりも指腹のように、タッチ時の接触面積が大きい場合には、この不具合が顕著に現れる。
このような不具合は、液体封入型タッチセンサのような情報入力装置においても、同様に発生する場合がある。
【００１４】
よって、本発明は、画像品質の向上、または、タッチ動作の検出性の向上を実現可能な液晶表示装置，情報入力装置を提供する。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明の液晶表示装置は、複数の画素が間を隔てて配列された表示領域において画像を表示する液晶パネルを有し、前記液晶パネルは、第１基板と、前記第１基板に間を隔てて対面している第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間に設けられた液晶層とを含み、前記液晶パネルにおいて前記液晶層に接触する面に、溝が前記複数の画素の間に介在するように形成されている。
【００１６】
本発明の液晶表示装置は、複数の画素が間を隔てて配列された表示領域において画像を表示する液晶パネルを有し、前記液晶パネルは、第１基板と、前記第１基板に間を隔てて対面している第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間に設けられた液晶層と、前記第１基板と前記第２基板との間に設けられている構造体とを含み、前記構造体は、前記液晶層に接触する面に凹凸が形成されている。
【００１７】
本発明の液晶表示装置は、複数の画素が間を隔てて配列された表示領域において画像を表示する液晶パネルを有し、前記液晶パネルは、第１基板と、前記第１基板に間を隔てて対面している第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間に設けられた液晶層と、前記第１基板と前記第２基板との間に設けられている構造体とを含み、前記構造体は、前記液晶パネルにおいて入射光を遮光する遮光領域に設けられており、前記液晶パネルは、前記遮光領域において前記液晶層に接触する面にて前記構造体の周囲に位置する領域に、凹凸が形成されている。
【００１８】
本発明の情報入力装置は、第１基板と、前記第１基板に間を隔てて対面している第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間に設けられた液体層とを含み、タッチセンサスイッチが設けられているタッチパネルを有し、前記タッチパネルにおいて前記液体層に接触する面に溝が形成されている。
【００１９】
本発明においては、一対の基板が対面する液晶パネルなどのパネルにおいて液晶層などの液体層が接触する面に、溝を形成する。これにより、液晶パネル等のパネルが外圧によって変形して、液晶層などの液体層が流動した際に、溝が、その流動した液晶層などの流体層の流路になる。
【発明の効果】
【００２０】
本発明によれば、画像品質の向上、または、タッチ動作の検出性の向上を実現可能な液晶表示装置，情報入力装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】図１は、本発明の実施形態１にかかる液晶表示装置１００の全体構成の概略を示す断面図である。
【図２】図２は、本発明の実施形態１にかかる液晶パネル２００を示す平面図である。
【図３】図３から図７は、本発明にかかる実施形態１において、液晶パネル２００の詳細構成を示す図である。
【図４】図４は、本発明にかかる実施形態１において、液晶パネル２００の詳細構成を示す図である。
【図５】図５は、本発明にかかる実施形態１において、液晶パネル２００の詳細構成を示す図である。
【図６】図６は、本発明にかかる実施形態１において、液晶パネル２００の詳細構成を示す図である。
【図７】図７は、本発明にかかる実施形態１において、液晶パネル２００の詳細構成を示す図である。
【図８】図８は、本発明にかかる実施形態１において、液晶表示装置１００を動作させる際に、制御部が、各部に供給する制御信号の波形図である。
【図９】図９は、本発明にかかる実施形態１において、被検知体Ｆが液晶パネル２００の表示領域ＰＡに接触した際の様子を示す断面図である。
【図１０】図１０は、本発明にかかる実施形態１において、被検知体Ｆが液晶パネル２００の表示領域ＰＡに接触した際の様子を示す平面図である。
【図１１】図１１は、本発明にかかる実施形態１において、溝ＴＲの内部の位置と、その内部を流れる流体の流速との関係を示す図である。
【図１２】図１２は、本発明にかかる実施形態２において、弾性部材の部分を拡大して示す図である。
【図１３】図１３は、本発明にかかる実施形態２において、表面に凹凸が形成された弾性部材の作用を示す図である。
【図１４】図１４は、本発明にかかる実施形態２において、弾性部材の変形例を示す図である。
【図１５】図１５は、本発明にかかる実施形態２において、弾性部材の変形例を示す図である。
【図１６】図１６は、本発明にかかる実施形態３において、弾性部材が形成された部分を拡大して示す図である。
【図１７】図１７は、本発明にかかる実施形態３において、弾性部材が形成された部分に設けられた凹凸面の変形例を示す図である。
【図１８】図１８は、本発明にかかる実施形態３において、弾性部材が形成された部分に設けられた凹凸面の変形例を示す図である。
【図１９】図１９は、本発明にかかる実施形態の液晶表示装置１００を適用した電子機器を示す図である。
【図２０】図２０は、本発明にかかる実施形態の液晶表示装置１００を適用した電子機器を示す図である。
【図２１】図２１は、本発明にかかる実施形態の液晶表示装置１００を適用した電子機器を示す図である。
【図２２】図２２は、本発明にかかる実施形態の液晶表示装置１００を適用した電子機器を示す図である。
【図２３】図２３は、本発明にかかる実施形態の液晶表示装置１００を適用した電子機器を示す図である。
【図２４】図２４は、液晶表示装置において、液晶パネルをタッチしたときの様子を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
本発明にかかる実施形態の一例について説明する。
【００２３】
説明は、下記の手順で行う。
１．実施形態１（画素間に溝を形成する場合）
２．実施形態２（構造体の表面に凹凸を形成する場合）
３．実施形態３（構造体の周辺に凹凸を形成する場合）
４．その他
【００２４】
＜１．実施形態１＞
（Ａ．液晶表示装置の構成）
図１は、本発明の実施形態１にかかる液晶表示装置１００の全体構成の概略を示す図である。図１では、液晶表示装置１００の全体構成の断面を示している。
【００２５】
本実施形態の液晶表示装置１００は、図１に示すように、液晶パネル２００と、バックライト３００と、データ処理部４００とを有する。各部について順次説明する。
【００２６】
液晶パネル２００は、たとえば、アクティブマトリクス方式であり、図１に示すように、ＴＦＴアレイ基板２０１と対向基板２０２と液晶層２０３とを有する。
【００２７】
図１に示すように、液晶パネル２００においては、ＴＦＴアレイ基板２０１と対向基板２０２とが、互いにスペースを隔てて対向している。具体的には、ＴＦＴアレイ基板２０１と対向基板２０２との間には、スペーサ（図示なし）が介在しており、シール材（図示無し）で貼り合わされている。そして、そのＴＦＴアレイ基板２０１と対向基板２０２との間に挟まれるように、液晶層２０３が封入されている。
【００２８】
また、図１に示すように、液晶パネル２００においては、ＴＦＴアレイ基板２０１にて、対向基板２０２に対向する面に対して反対側の面には、第１の偏光板２０６が配置されている。そして、対向基板２０２において、ＴＦＴアレイ基板２０１に対向する面に対して反対側の面には、第２の偏光板２０７が配置されている。
【００２９】
そして、図１に示すように、液晶パネル２００においては、ＴＦＴアレイ基板２０１の側に、バックライト３００が配置されている。バックライト３００から出射された照明光Ｒは、ＴＦＴアレイ基板２０１において対向基板２０２に対面している面に対して反対側の面に照射される。
【００３０】
この液晶パネル２００は、複数の画素（図示無し）が配置されている表示領域ＰＡを含む。この表示領域ＰＡにおいては、液晶パネル２００の背面側に設置されたバックライト３００が出射した照明光Ｒを、第１の偏光板２０６を介して背面から受け、その背面から受けた照明光Ｒを、その表示領域ＰＡにおいて変調する。
【００３１】
ここでは、ＴＦＴアレイ基板２０１において画素に対応するように、複数のＴＦＴが画素スイッチング素子（図示無し）として設けられており、その画素スイッチング素子が制御されることによって、背面から受けた照明光を変調する。そして、その変調された照明光Ｒが、第２の偏光板２０７を介して、正面側に出射し、表示領域ＰＡにおいて画像が表示される。たとえば、液晶パネル２００の正面の側においてカラー画像が表示される。つまり、本実施形態において、液晶パネル２００は、透過型である。
【００３２】
また、詳細については後述するが、本実施形態においては、この液晶パネル２００は、電極間の接触による電圧変化で読み出しを行う「接触式」のタッチセンサ（図示なし）が形成されている。このタッチセンサは、液晶パネル２００においてバックライト３００が設置された背面に対して反対側となる正面に、ユーザーの指などの被検知体Ｆが接触した位置に応じて異なる電位の信号を出力する。
【００３３】
バックライト３００は、図１に示すように、液晶パネル２００の背面に対面しており、その液晶パネル２００の表示領域ＰＡに照明光Ｒを出射する。
【００３４】
具体的には、バックライト３００は、液晶パネル２００を構成するＴＦＴアレイ基板２０１と対向基板２０２とにおいて、ＴＦＴアレイ基板２０１の側に位置するように配置されている。そして、ＴＦＴアレイ基板２０１において対向基板２０２に対面している面に対して反対側の面に、照明光Ｒを照射する。つまり、バックライト３００は、ＴＦＴアレイ基板２０１の側から対向基板２０２の側へ向かうように照明光Ｒを照明する。ここでは、バックライト３００は、液晶パネル２００の面の法線方向ｚに沿うように照明光Ｒを出射する。
【００３５】
データ処理部４００は、図１に示すように、制御部４０１と、位置検出部４０２とを有する。データ処理部４００は、コンピュータを含み、プログラムによってコンピュータが各部として動作するように構成されている。
【００３６】
データ処理部４００の制御部４０１は、液晶パネル２００とバックライト３００との動作を制御するように構成されている。制御部４０１は、液晶パネル２００に制御信号を供給することによって、液晶パネル２００に設けられた複数の画素スイッチング素子（図示無し）の動作を制御する。たとえば、線順次駆動を実行させる。また、制御部４０１は、バックライト３００に制御信号を供給することによって、バックライト３００の動作を制御し、バックライト３００から照明光Ｒを照射する。このように、制御部４０１は、液晶パネル２００とバックライト３００との動作を制御することによって、液晶パネル２００の表示領域ＰＡに画像を表示する。
【００３７】
このほかに、制御部４０１は、液晶パネル２００に制御信号を供給することによって、液晶パネル２００に設けられたタッチセンサの動作を制御し、そのタッチセンサからデータを収集する。
【００３８】
データ処理部４００の位置検出部４０２は、液晶パネル２００の正面側において、表示領域ＰＡに接触した人体の指などの被検知体Ｆの位置を検出するように構成されている。本実施形態においては、位置検出部４０２は、液晶パネル２００に設けられたタッチセンサから得たデータに基づいて、位置の検出を実施する。
【００３９】
（Ｂ．液晶パネルの全体構成）
液晶パネル２００の全体構成について説明する。
【００４０】
図２は、本発明の実施形態１にかかる液晶パネル２００の全体構成を示す図である。図２は、液晶パネル２００の平面図である。
【００４１】
図２に示すように、液晶パネル２００は、表示領域ＰＡと、周辺領域ＣＡとを有する。
【００４２】
液晶パネル２００において表示領域ＰＡには、図２に示すように、複数の画素Ｐが面に沿って配置されている。具体的には、表示領域ＰＡにおいては、複数の画素Ｐが水平方向ｘと垂直方向ｙとのそれぞれにマトリクス状に並ぶように配置されており、画像が表示される。
【００４３】
詳細については後述するが、画素Ｐは、画素スイッチング素子（図示無し）を含む。そして、この複数の画素Ｐに対応するように、複数のタッチセンサ（図示無し）が設けられている。
【００４４】
液晶パネル２００において周辺領域ＣＡは、図２に示すように、表示領域ＰＡの周辺を囲うように位置している。この周辺領域ＣＡにおいては、図２に示すように、垂直駆動回路１１と、水平駆動回路１２とが形成されている。たとえば、上記の画素スイッチング素子（図示無し）などと同様にして形成された半導体素子によって、この各回路が構成されている。
【００４５】
そして、画素Ｐに対応するように設けられた画素スイッチング素子を、垂直駆動回路１１および水平駆動回路１２が駆動し、表示領域ＰＡにおいて画像表示を実行する。
【００４６】
また、これと共に、表示領域ＰＡに設けられたタッチセンサ（図示なし）を、垂直駆動回路１１および水平駆動回路１２が駆動し、タッチセンサからデータの取得を実行する。そして、液晶パネル２００の表示領域ＰＡにユーザーの指などの被検知体が接触した位置を、そのタッチセンサから取得したデータに基づいて、位置検出部４０２が検出する。
【００４７】
（Ｃ．液晶パネルの詳細構成）
液晶パネル２００の詳細な構成について説明する。
【００４８】
図３から図７は、本発明にかかる実施形態１において、液晶パネル２００の詳細構成を示す図である。
【００４９】
ここで、図３は、画素Ｐの概略を模式的に示す上面図である。図４は、図３のＸ１−Ｘ２部分の断面について示している。図５は、図３のＸ３−Ｘ４部分の断面について示している。また、図６は、図３のＹ１−Ｙ２部分について示している。そして、図７は、表示領域ＰＡに設けられた画素Ｐの概略を示す回路図である。
【００５０】
液晶パネル２００は、図４〜図６に示すように、ＴＦＴアレイ基板２０１と対向基板２０２とを有する。ＴＦＴアレイ基板２０１と対向基板２０２との間には、スペーサ（図示なし）が介在しており、シール材（図示無し）で貼り合わされている。そして、そのＴＦＴアレイ基板２０１と対向基板２０２との間には、液晶層２０３が封入されている。
【００５１】
また、本実施形態においては、図３〜図７に示すように、液晶パネル２００は、タッチセンサＳＷｓが内蔵されている。このタッチセンサＳＷｓは、図３〜図７に示すように、一対のタッチ電極６２ｔ，２５によって構成されている。
【００５２】
液晶パネル２００を構成する各部について下記に説明する。
【００５３】
液晶パネル２００を構成するＴＦＴアレイ基板２０１について示す。
【００５４】
ＴＦＴアレイ基板２０１は、光を透過する絶縁体の基板であり、たとえば、ガラスにより形成されている。このＴＦＴアレイ基板２０１においては、図４〜図６に示すように、対向基板２０２に対向する側の面に、画素スイッチング素子３１と、画素電極６２ｐと、タッチセンサＳＷｓを構成する一方のタッチ電極６２ｔとが形成されている。
【００５５】
ＴＦＴアレイ基板２０１に設けられた各部について示す。
【００５６】
ＴＦＴアレイ基板２０１において、画素スイッチング素子３１は、図４に示すように、ＴＦＴアレイ基板２０１にて対向基板２０２に対向する側の面に設けられている。画素スイッチング素子３１は、たとえば、ボトムゲート型ＴＦＴとして形成されている。
【００５７】
画素スイッチング素子３１において、ゲート電極４５は、図７に示すように、ゲート線ＧＬに電気的に接続されている。
【００５８】
ここでは、図３，図４，図６，図７に示すように、ゲート線ＧＬは、ｘ方向に沿うように、延在しており、画素スイッチング素子３１のゲート電極４５は、たとえば、このゲート線ＧＬと一体になるように形成されている。ゲート電極４５およびゲート線ＧＬは、光を遮光する導電性材料によって形成されている。具体的には、ゲート電極４５およびゲート線ＧＬは、モリブデンなどの金属材料を用いて形成されており、液晶パネル２００において、光を透過せずに遮光する遮光領域を構成している。
【００５９】
また、ゲート線ＧＬは、図７に示すように、垂直駆動回路１１に電気的に接続されており、画素スイッチング素子３１のゲート電極４５は、垂直駆動回路１１からゲート線ＧＬを介して、走査信号Ｖｇａｔｅが垂直駆動回路１１から供給される。
【００６０】
画素スイッチング素子３１において、半導体層４８は、図４に示すように、ゲート絶縁膜（図示なし）を介してゲート電極４５に対面する部分を含むように形成されている。たとえば、半導体層４８は、ポリシリコンなどの半導体材料を用いて形成されている。半導体層４８においては、ゲート絶縁膜（図示なし）を介してゲート電極４５が対面する領域が、チャネル形成領域（図示なし）であり、そのチャネル形成領域を挟むように、ソース・ドレイン領域（図示なし）が一対で形成されている。
【００６１】
そして、半導体層４８において、一方のソース・ドレイン領域（図示なし）は、図７に示すように、信号線ＳＬに電気的に接続されている。
【００６２】
ここでは、信号線ＳＬ（図５では図示なし）は、図５に示すように、画素スイッチング素子３１を被覆するようにＴＦＴアレイ基板２０１上に形成された層間絶縁膜Ｓｚ内に設けられている。信号線ＳＬは、光を遮光する導電性材料によって形成されている。具体的には、信号線ＳＬは、金属材料を用いて形成されており、液晶パネル２００において、光を透過せずに遮光する遮光領域を構成している。この信号線ＳＬは、図３に示すように、ｙ方向に延在するように形成されている。そして、層間絶縁膜Ｓｚ内に設けられた導電層（図示なし）を介して、上記の一方のソース・ドレイン領域（図示なし）は、図７に示すように、信号線ＳＬに電気的に接続されている。
【００６３】
なお、信号線ＳＬは、図７に示すように、画素スイッチング素子３１の他に、水平駆動回路１２に電気的に接続するように構成されている。本実施形態では、水平駆動回路１２は、書き込み回路ＷＣと、読み出し回路ＲＣとを含む。信号線ＳＬは、書き込み回路ＷＣとの間に、スイッチＳＷｗが介在しており、スイッチＳＷｗがオン状態になったときに、書き込み回路ＷＣに電気的に接続する。また、信号線ＳＬは、読み出し回路ＲＣとの間に、スイッチＳＷｒが介在しており、スイッチＳＷｒがオン状態になったときに、読み出し回路ＲＣに電気的に接続する。
【００６４】
詳細については後述するが、この２つのスイッチＳＷｗ，ＳＷｒは、差動的に動作し、同時にオン状態にならないように、動作が制御される。このため、スイッチＳＷｗがオン状態にされたときには、信号線ＳＬは、書き込み回路ＷＣに電気的に接続し、書き込み回路ＷＣからライト信号（ＷＲＩＲＨＴ）が供給される。そして、スイッチＳＷｒがオン状態になったときには、信号線ＳＬは、読み出し回路ＲＣに電気的に接続し、読み出し回路ＲＣからリード信号（ＲＥＡＤ）が供給される。
【００６５】
一方で、半導体層４８において、他方のソース・ドレイン領域（図示なし）は、図７に示すように、画素電極６２ｐに電気的に接続されている。また、これと共に、半導体層４８において、他方のソース・ドレイン領域（図示なし）は、図７に示すように、タッチセンサＳｗｓを構成する一対のタッチ電極２５，６２ｔのうち、一方のタッチ電極６２ｔに電気的に接続されている。
【００６６】
詳細については後述するが、図３と図６に示すように、画素電極６２ｐと一方のタッチ電極６２ｔとは、ＴＦＴアレイ基板２０１の層間絶縁膜Ｓｚ上において、一体的に形成されている。このため、他方のソース・ドレイン領域（図示なし）は、この層間絶縁膜Ｓｚ内に設けられたコンタクト（図示なし）を介して、画素電極６２ｐと一方のタッチ電極６２ｔとのそれぞれに電気的に接続されている。
【００６７】
ＴＦＴアレイ基板２０１において、画素電極６２ｐとタッチ電極６２ｔとのそれぞれは、図３と図６とに示すように、ＴＦＴアレイ基板２０１にて対向基板２０２に対面する面上に、層間絶縁膜Ｓｚを介して設けられている。画素電極６２ｐとタッチ電極６２ｔのそれぞれは、いわゆる透明電極であって、たとえば、ＩＴＯを用いて形成されている。そして、画素電極６２ｐとタッチ電極６２ｔのそれぞれは、一体になるように形成されており、互いに電気的に接続している。
【００６８】
ここでは、画素電極６２ｐは、図３に示すように、ｘｙ面において、ゲート線ＧＬと信号線ＳＬとによって区画される領域に対応するように、矩形パターンで形成されている。
【００６９】
そして、この画素電極６２ｐは、図７に示すように、画素スイッチング素子３１の一方の端子に電気的に接続されており、液晶層２０３に電位を与えるように構成されている。
【００７０】
これに対して、タッチ電極６２ｔは、図３に示すように、ｘｙ面において、矩形形状であるが、画素電極６２ｐよりも、ｘ方向における幅が、狭くなるように形成されている。そして、このタッチ電極６２ｔは、図４と図６とに示すように、弾性部材６３の表面を被覆するように設けられている。
【００７１】
図４と図６とに示すように、弾性部材６３は、ゲート線ＧＬの上方において、層間絶縁膜Ｓｚを介在して設けられている。つまり、ゲート線ＧＬによって構成された遮光領域に、弾性部材６３が形成されている。たとえば、弾性部材６３は、アクリル系樹脂を用いて形成されている。そして、弾性部材６３は、この層間絶縁膜Ｓｚ上において、対向基板２０２へ向かう方向へ、凸状に突出するように設けられている。ここでは、弾性部材６３は、セルギャップを保持する柱スペーサ（図示なし）よりも、高さが低くなるように形成されている。
【００７２】
そして、タッチ電極６２ｔは、図６に示すように、弾性部材６３において、画素電極６２ｐが設けられている側面とは反対側の側面を被覆しないように形成されている。
【００７３】
このタッチ電極６２ｔは、図７に示すように、スイッチであるタッチセンサＳＷｓの一方の端子として機能するように、構成されている。
【００７４】
この他に、ＴＦＴアレイ基板２０１においては、図４から図６に示すように、液晶配向膜ＨＭ１が画素電極６２ｐ上に設けられている。
【００７５】
本実施形態においては、この液晶配向膜ＨＭ１は、タッチ電極６２ｔの表面が露出するように形成されている。たとえば、この液晶配向膜ＨＭ１は、ポリイミドによって形成されている。
【００７６】
液晶パネル２００を構成する対向基板２０２について下記に示す。
【００７７】
対向基板２０２は、ＴＦＴアレイ基板２０１と同様に、光を透過する絶縁体の基板であり、たとえば、ガラスにより形成されている。この対向基板２０２は、図４〜図６に示すように、ＴＦＴアレイ基板２０１に対して間を隔てて対面している。そして、対向基板２０２において、ＴＦＴアレイ基板２０１に対応する面においては、図４〜図６に示すように、カラーフィルタ層２１と、対向電極２３と、タッチ電極２５とが形成されている。
【００７８】
対向基板２０２に設けられた各部について示す。
【００７９】
対向基板２０２において、カラーフィルタ層２１は、図４から図６に示すように、対向基板２０２にてＴＦＴアレイ基板２０１に対向する側の面に形成されている。図示を省略しているが、カラーフィルタ層２１は、赤と緑と青の３原色のフィルタを１組として、画素Ｐごとに設けられており、それぞれの色が、ｘ方向に並ぶように形成されている。カラーフィルタ層２１は、たとえば、顔料や染料などの着色剤を含有するポリイミド樹脂を用いて形成されている。このカラーフィルタ層２１においては、バックライト３００から照射された白色光が着色されて出射される。
【００８０】
そして、図４〜図６に示すように、カラーフィルタ層２１において、ＴＦＴアレイ基板２０１に対向する側の面には、平坦化膜２２が被覆されている。この平坦化膜２２は、光透過性の絶縁材料によって形成されており、対向基板２０２にてＴＦＴアレイ基板２０１に対面する面側を平坦化している。
【００８１】
対向基板２０２において、対向電極２３は、図４から図６に示すように、対向基板２０２にてＴＦＴアレイ基板２０１に対面する側の面に形成されている。ここで、対向電極２３は、平坦化膜２２を被覆するように形成されている。対向電極２３は、いわゆる透明電極であって、たとえば、ＩＴＯを用いて形成されている。そして、対向電極２３は、図７に示すように、Ｖｃｏｍ線ＣＬに電気的に接続されており、共通電位が印加される。つまり、対向電極２３は、表示領域ＰＡにおいて、複数の画素Ｐに対応するように形成された複数の画素電極６２ｐのそれぞれに対向しており、各画素Ｐにおいて共通な共通電極として機能するように構成されている。
【００８２】
そして、対向電極２３上においては、図４〜図６に示すように、液晶配向膜ＨＭ２が設けられている。ここでは、対向電極２３の表面全面を被覆するように、液晶配向膜ＨＭ２が設けられている。たとえば、液晶配向膜ＨＭ２は、ポリイミドによって形成されている。
【００８３】
対向基板２０２において、タッチ電極２５は、図４，図６に示すように、液晶配向膜ＨＭ２上に設けられている。タッチ電極２５は、対向基板２０２において、ＴＦＴアレイ基板２０１に設けられた弾性部材６３に対向する部分に設けられている。
【００８４】
そして、このタッチ電極２５は、図７に示すように、Ｖｃｏｍ線ＣＬに電気的に接続されている。ここでは、図３に示すように、Ｖｃｏｍ線ＣＬは、ゲート線ＧＬの上方において、ｘ方向に沿うように延在しており、タッチ電極２５は、このＶｃｏｍ線ＣＬと一体になるように形成されている。
【００８５】
また、このタッチ電極２５は、図３〜図７に示すように、ＴＦＴアレイ基板２０１に設けられたタッチ電極６２ｔと共に、タッチセンサＳＷｓとして機能するように構成されている。
【００８６】
具体的には、タッチセンサＳＷｓは、図７に示すように、２端子のスイッチであり、等価回路上において、液晶層２０３を誘電体としたキャパシタに対して、並列になるように設けられている。そして、タッチセンサＳＷｓは、たとえば、人の指が対向基板２０２を押して変形し、一対のタッチ電極６２ｔ，２５が互いに接触することで、オン状態になるように構成されている。
【００８７】
液晶層２０３について示す。
【００８８】
液晶層２０３は、図４〜図６に示すように、ＴＦＴアレイ基板２０１と対向基板２０２との間にて挟持されている。
【００８９】
ここでは、液晶層２０３は、ＴＦＴアレイ基板２０１に形成された液晶配向膜ＨＭ１と、対向基板２０２に形成された液晶配向膜ＨＭ２とによって、液晶分子（図示なし）が配向されている。たとえば、液晶分子が垂直配向するように液晶層２０３が形成されている。
【００９０】
この液晶層２０３は、図６に示すように、ＴＦＴアレイ基板２０１の画素電極６２ｐと、対向基板２０２の対向電極２３とによって、キャパシタを構成している。
【００９１】
本実施形態の液晶パネル２００においては、図３と図５に示すように、液晶層２０３に接触する面に、溝ＴＲが複数の画素Ｐの間に介在するように形成されている。詳細については後述するが、液晶パネル２００が外圧によって変形して液晶層２０３が流動した際に、この溝ＴＲが、その流動した液晶層の流路になる。
【００９２】
ここでは、図３と図５とに示すように、溝ＴＲは、信号線ＳＬの上方においてｙ方向に延在する部分を含むように形成されている。
【００９３】
具体的には、この溝ＴＲとして、図５に示すように、ＴＦＴアレイ基板２０１側において液晶層２０３に接触する面に、第１の溝ＴＲ１が形成されている。この第１の溝ＴＲ１は、ＴＦＴアレイ基板２０１の層間絶縁膜Ｓｚの上面が凹状に凹むように、層間絶縁膜Ｓｚにおいて複数の画素Ｐの間の境界部分が除去されることで形成されている。
【００９４】
また、図５に示すように、対向基板２０２側において液晶層２０３に接触する面に、第２の溝ＴＲ２が形成されている。この第２の溝ＴＲ２は、対向基板２０２の平坦化膜２２の下面が凹状に凹むように、平坦化膜２２において複数の画素Ｐの間の境界部分が除去されることで形成されている。
【００９５】
（Ｄ．動作）
以下より、上記の液晶表示装置１００において、ユーザーの指などの被検知体Ｆが液晶パネル２００の表示領域ＰＡに接触した位置を検出する際の動作について説明する。
【００９６】
図８は、本発明にかかる実施形態１において、液晶表示装置１００を動作させる際に、制御部４０１が、各部に供給する制御信号の波形図である。
【００９７】
図８において、（Ａ）は、ゲート線ＧＬに供給する走査信号（Ｖｇａｔｅ）を示している。（Ｂ）は、信号線ＳＬに供給するデータ信号（Ｖｓｉｇ）を示している。（Ｃ）は、Ｖｃｏｍ線ＣＬに供給する共通電圧（Ｖｃｏｍ）の波形図である。（Ｄ）は、スイッチＳＷｗに供給するライト信号（Ｗｒｉｔｅ）を示している。（Ｅ）は、スイッチＳＷｒに供給するリード信号（Ｒｅａｄ）を示している。
【００９８】
まず、Ｔ１においては、図８の（Ｂ）と（Ｄ）とに示すように、データ信号（Ｖｓｉｇ）とライト信号（Ｗｒｉｔｅ）とが、ローレベルからハイレベルになる。
【００９９】
このため、ハイレベルのライト信号（Ｗｒｉｔｅ）によって、スイッチＳＷｗがオンになり、ハイレベルのデータ信号（Ｖｓｉｇ）が、スイッチＳＷｗを介して、書き込み回路ＷＣから信号線ＳＬへ供給される（図７参照）。
【０１００】
つぎに、Ｔ２においては、図８の（Ｄ）に示すように、ライト信号（Ｗｒｉｔｅ）がローレベルになって、スイッチＳＷｗがオフになり、信号線ＳＬが、フローティング状態になる。そして、この状態で、Ｔ２においては、図８の（Ａ）に示すように、走査信号（Ｖｇａｔｅ）が、ローレベルからハイレベルになる。
【０１０１】
このため、画素スイッチング素子３１のゲートがオン状態になり、画素スイッチング素子３１においては、チャネルが形成されて、データ信号（Ｖｓｉｇ）の電荷の放電経路が生ずる（図７参照）。
【０１０２】
このとき、タッチセンサＳＷｓがオン状態にされた場合には、大きな容量のＶｃｏｍ線ＣＬに、フローティング状態の信号線ＳＬの電荷が放電される。このため、図８の（Ｂ）にて実線で示すように、データ信号（Ｖｓｉｇ）の電位が、大きく低下する。
【０１０３】
一方で、タッチセンサＳＷｓがオフ状態である場合には、図８の（Ｂ）にて破線で示すように、データ信号（Ｖｓｉｇ）の電位は、ほぼ保持されて、変化が少ない。
【０１０４】
つぎに、Ｔ３においては、図８の（Ｅ）に示すように、リード信号（Ｒｅａｄ）が、ローレベルからハイレベルになる。
【０１０５】
このため、ハイレベルのリード信号（Ｒｅａｄ）によって、スイッチＳＷｒがオンになり、データ信号（Ｖｓｉｇ）が、スイッチＳＷｒを介して、信号線ＳＬから読み出し回路ＲＣへ読み出される（図７参照）。
【０１０６】
ここで、タッチセンサＳＷｓがオン状態である場合には、図８の（Ｂ）にて実線で示したように、低い電位のデータ信号（Ｖｓｉｇ）が読み出される。
【０１０７】
一方で、タッチセンサＳＷｓがオフ状態である場合には、図８の（Ｂ）にて破線で示したように、高い電位のデータ信号（Ｖｓｉｇ）が読み出される。
【０１０８】
そして、このとき、この読み出したデータ信号（Ｖｓｉｇ）の電位に基づいて、データ処理部４００の位置検出部４０２（図１参照）が、位置検出を行う。
【０１０９】
具体的には、位置検出部４０２は、読み出したデータ信号（Ｖｓｉｇ）の電位と参照電位との比較処理を実行し、参照電位よりも大きい場合には、タッチセンサＳＷｓがオフ状態であると判断する。
【０１１０】
一方で、読み出したデータ信号（Ｖｓｉｇ）の電位が、参照電位に対して小さい場合には、タッチセンサＳＷｓがオン状態であると判断する。
【０１１１】
そして、位置検出部４０２は、タッチセンサＳＷｓがオン状態であると判断した画素Ｐの位置を、指などの被検知体Ｆが接触した位置として検出する。
【０１１２】
つまり、位置検出部４０２は、タッチセンサＳＷｓがオン状態の場合と、オフ状態の場合との間において、変化する電位に基づいて、液晶パネル２００にて、指などの被検知体Ｆが接触した位置を検出する。
【０１１３】
つぎに、Ｔ４においては、図８の（Ｅ）に示すように、リード信号（Ｒｅａｄ）を、ローレベルにし、スイッチＳＷｒをオフ状態にする。そして、ライト信号（Ｗｒｉｔｅ）を、ローレベルからハイレベルとして、スイッチＳＷｗをオン状態にすると共に、信号線ＳＬにハイレベルのデータ信号（Ｖｓｉｇ）を印加する。その後、共通電圧Ｖｃｏｍの電位を反転して、表示の制御を続行する。
【０１１４】
図９は、本発明にかかる実施形態１において、被検知体Ｆが液晶パネル２００の表示領域ＰＡに接触した際の様子を示す断面図である。図９では、要部を示しており、一部の部材については、表示を省略している。
【０１１５】
図９に示すように、対向基板２０２において液晶層２０３とは反対側の面に被検知体Ｆが接触して、対向基板２０２が押された場合には、対向基板２０２が変形してＴＦＴアレイ基板２０１の側へ移動する。このとき、この対向基板２０２の変形に伴って、対向基板２０２において液晶層２０３側の面に設けられたタッチ電極２５が、ＴＦＴアレイ基板２０１の側へ移動される。そして、このタッチ電極２５は、ＴＦＴアレイ基板２０１に設けられたタッチ電極６２ｔに接触する。このように、対向基板２０２に設けられたタッチ電極２５が、ＴＦＴアレイ基板２０１に設けられたタッチ電極６２ｔに接触することで、タッチセンサＳＷｓがオン状態になる。
【０１１６】
図１０は、本発明にかかる実施形態１において、被検知体Ｆが液晶パネル２００の表示領域ＰＡに接触した際の様子を示す平面図である。図１０においては、液晶パネル２００にて、溝ＴＲが形成された部分を拡大して示している。
【０１１７】
図９にて示したように、被検知体Ｆが接触し対向基板２０２が押されて変形した場合には、対向基板２０２がＴＦＴアレイ基板２０１の側へ移動する。このため、ＴＦＴアレイ基板２０１と対向基板２０２との間に挟まれた液晶層２０３が、その間において流動する。
【０１１８】
液晶層２０３による流体ＦＬは、図１０に示すように、溝ＴＲの内部に進入して流れる。このため、溝ＴＲを設けない場合と比較して、液晶層２０３の流量を増加させることができる。
【０１１９】
図１１は、本発明にかかる実施形態１において、溝ＴＲの内部の位置と、その内部を流れる流体の流速との関係を示す図である。図１１において、縦軸は、溝ＴＲの内部の位置ｄを示しており、横軸は、流体の流速ｖを示している。ここでは、図１０に示す溝ＴＲにおいて、下面の位置を０としたときの上面の位置を、ｄとして示している。図１１においては、溝ＴＲの幅が、ｄ１の場合と、ｄ１よりも広いｄ２の場合とを示している。
【０１２０】
図１１に示すように、液晶層２０３の流れは、溝ＴＲの内部における界面抵抗によって、界面部分が低速であって、中心部分が高速になる。このため、図１１に示すように、溝ＴＲの幅を広くした場合（ｄ２の場合）の方が、狭い場合（ｄ１の場合）と比較して、溝ＴＲの中心部分において、より高速になる。よって、液晶層２０３の流量を増加させるためには、溝ＴＲの幅を広げた方が、より好適である。
【０１２１】
（まとめ）
以上のように、本実施形態において、液晶パネル２００は、電極間の接触による電圧変化で読み出しを行う「接触式」のタッチセンサＳＷｓが内蔵されている。ここでは、タッチセンサＳＷｓは、ＴＦＴアレイ基板２０１にて弾性部材６３上に形成されたタッチ電極６２ｔと、対向基板２０２に設けられたタッチ電極２５とを、一対の電極として含む。このタッチセンサＳＷｓは、液晶パネル２００が外圧によって変形されて、その一対のタッチ電極６２ｔ，２５が互いに接触するように構成されている。
【０１２２】
そして、本実施形態では、液晶パネル２００において液晶層２０３に接触する面に、溝ＴＲが形成されている。このため、本実施形態では、溝ＴＲは、上述したように、液晶パネル２００が外圧によって変形し、流動する液晶層２０３の流路として機能するので、液晶層２０３の流量を増加させることができる。
【０１２３】
よって、本実施形態では、液晶層２０３の流動性を向上させることができるので、液晶層２０３の配向状態の変化を迅速に戻して、画像の表示の乱れを、好適に改善することができる。さらに、溝ＴＲは、複数の画素Ｐの間に介在するように形成されているので、液晶パネル２００の開口率が低下しない、このため、画像品質を向上させることができる。
【０１２４】
また、本実施形態では、液晶層２０３の流動性を向上させることができるので、液晶パネルに内蔵されたタッチパネル機能について、タッチ動作の検出を的確に実施可能である。
【０１２５】
なお、上記の実施形態においては、ＴＦＴアレイ基板２０１側と対向基板２０２側とのそれぞれにおいて、液晶層２０３に接触する面の両面に、溝ＴＲを形成する場合について説明したが、これに限定されない。ＴＦＴアレイ基板２０１側と対向基板２０２側とにおいて、液晶層２０３に接触する面のいずれかのみに、溝ＴＲを形成してもよい。
【０１２６】
また、上記の実施形態においては、信号線ＳＬの上方において、信号線ＳＬと同様に延在させるように、溝ＴＲを形成する場合について説明したが、これに限定されない。ゲート線ＧＬの上方において、ゲート線ＧＬと同様に延在させるように、溝ＴＲを形成してもよい。
【０１２７】
＜２．実施形態２＞
以下より、本発明にかかる実施形態２について説明する。
【０１２８】
（Ａ．液晶パネルの詳細構成など）
図１２は、本発明にかかる実施形態２において、弾性部材の部分を拡大して示す図である。図１２は、弾性部材６３ｂの側面を示している。
【０１２９】
図１２に示すように、本実施形態は、弾性部材６３ｂの形状が、実施形態１の弾性部材６３の形状と異なる。この点、および、これに関連する点を除き、実施形態１と同様である。このため、重複する個所については、説明を省略する。
【０１３０】
弾性部材６３ｂは、図１２に示すように、表面に凹凸が形成されている。
【０１３１】
この凹凸は、円形であって、その径がサブミクロンオーダーである。たとえば、凹凸は、サンドブラスト処理の実施によって形成される。これにより、径が１００〜１０００ｎｍ程度になるように、弾性部材６３ｂの表面に凹凸を形成することができる。なお、より好ましくは、径が４００〜６００ｎｍになるように、弾性部材６３ｂの表面に凹凸を形成する。
【０１３２】
この他に、弾性部材６３ｂ中に、微粒子を混在させることで、表面に凹凸を形成することができる。たとえば、シリカ等の無機化合物の粒子や、プラスチック粒子を混在した感光性樹脂膜を成膜後、フォトリソグラフィ技術によって、その感光性樹脂膜についてパターン加工することで形成することができる。この場合には、微粒子の直径が、１００〜１０００ｎｍ程度、より好ましくは、４００〜６００ｎｍ程度のものを用いることが好適である。
【０１３３】
上記の弾性部材６３ｂにおいては、図１２に示すように、その表面の一部にタッチ電極６２ｔｂが被覆されている。このため、タッチ電極６２ｔｂの表面にも凹凸が形成される。つまり、タッチ電極６２ｔｂが被覆された弾性部材６３ｂにおいて、液晶層２０３に接触する面には、凹凸が形成されている。
【０１３４】
よって、本実施形態においては、液晶パネルが外圧によって変形して、液晶層２０３が流動した際の液晶層２０３の流動性を向上させることができる。
【０１３５】
図１３は、本発明にかかる実施形態２において、表面に凹凸が形成された弾性部材６３ｂの作用を示す図である。
【０１３６】
図１３に示すように、液晶層２０３が弾性部材６３ｂへ流れた際には、その流れは、弾性部材６３ｂの前方に衝突した後、その後方へ回り込む。このとき、その後方においては、渦が生じて、低圧部が発生するので、液晶の流れが阻害される。
【０１３７】
しかし、本実施形態では、弾性部材６３ｂの表面に凹凸が形成されているので、液晶の流れが、その表面に沿って進行し、流れの乱れが生ずることを防止できる。このため、弾性部材６３ｂの後方に発生する低圧部を小さくすることができる。これは、ゴルフボールにディンプルを付与することによって、ゴルフボールにおける空気抵抗を減少させる作用と同様である。
【０１３８】
よって、本実施形態は、液晶の流れを引き戻そうとする抗力が弱まるので、液晶の流動性を向上させることができる。
【０１３９】
一般に、流れ方向に対応するように流線型の形状にすることで流体の抵抗を減少させているが、本実施形態のように、さまざまな方向から弾性部材６３ｂへ液晶層２０３が流れ込む場合には、全ての方向において、流体の抵抗を減少させることができない。
【０１４０】
しかし、本実施形態のように、弾性部材６３ｂの表面に凹凸を形成することで、さまざまな方向から弾性部材６３ｂへ液晶層２０３が流れ込む場合でも、液晶の流動性を向上させることができる。
【０１４１】
（Ｂ．まとめ）
以上のように、本実施形態においては、タッチ電極６２ｔｂが被覆された弾性部材６３ｂにおいて、液晶層２０３に接触する面に凹凸が形成されている。このため、本実施形態では、上述したように、流動する液晶層２０３の流動性を向上させることができる。
【０１４２】
よって、本実施形態では、液晶層２０３の配向状態の変化を迅速に戻して、画像の表示の乱れを、好適に改善することができる。また、本実施形態では、液晶パネルに内蔵されたタッチパネル機能について、タッチ動作の検出を的確に実施可能である。
【０１４３】
なお、上記においては、弾性部材６３ｂに形成した凹凸が、円形状である場合について説明したが、これに限定されない。
【０１４４】
図１４と図１５は、本発明にかかる実施形態２において、弾性部材の変形例を示す図である。図１４と図１５は、図１２と同様に、弾性部材の側面を示している。
【０１４５】
図１４（ａ）に示すように、弾性部材６３ｂに形成した凹凸が、楕円形状であって、その長軸方向が一定の方向に向くように形成しても良い。また、図１４（ｂ）に示すように、弾性部材６３ｂに形成した凹凸が、楕円形状であって、その長軸方向がランダムな方向に向くように形成しても良い。このような形状は、たとえば、感光性樹脂等の材料や、製造条件を適宜調整することによって、表面にシワを入れることで形成することができる。
【０１４６】
この他に、図１５（ａ）に示すように、上下方向ｚに沿う溝を弾性部材６３ｂの表面に設けることで、凹凸を形成しても良い。また、図１５（ｂ）に示すように、左右方向ｘに沿う溝を弾性部材６３ｂの表面に設けることで、凹凸を形成しても良い。このような形状は、たとえば、エッチングレートが異なる材料の薄膜を交互に並ぶように形成後、エッチング処理を実施することで、形成することができる。
【０１４７】
また、上記においては、タッチ電極６２ｔｂが設けられる弾性部材６３ｂの表面に、凹凸が形成される場合について説明したが、これに限定されない。
【０１４８】
上記のほかに、液晶パネルを構成する一対の基板の間に設けるスペーサにおいて、液晶層に接触する面に、凹凸を形成した場合においても、同様な作用・効果を得ることができる。また、パネル強度を向上させるために、液晶パネルを構成する一対の基板の間に設ける「浮き柱」の表面に、凹凸を形成した場合においても、同様な作用・効果を得ることができる。
【０１４９】
このように、ＴＦＴアレイ基板と対向基板との間に設けられている構造体において、液晶層に接触する面に凹凸を形成することで、上記と同様な作用・効果を得ることができる。
【０１５０】
＜３．実施形態３＞
以下より、本発明にかかる実施形態３について説明する。
【０１５１】
（Ａ．液晶パネルの詳細構成など）
図１６は、本発明にかかる実施形態３において、弾性部材が形成された部分を拡大して示す図である。図１６において、（ａ）は、弾性部材の側面を示しており、（ｂ）は、弾性部材の上面を示している。
【０１５２】
図１６に示すように、本実施形態は、凹凸面６００が設けられている。この点、および、これに関連する点を除き、実施形態１と同様である。このため、重複する個所については、説明を省略する。
【０１５３】
凹凸面６００は、図１６に示すように、ゲート線ＧＬの上方において、弾性部材６３の周辺に位置するように設けられている。上述したようにゲート線ＧＬは、遮光材料で形成されており、液晶パネルにおいて入射光を遮光する遮光領域を構成している。このため、凹凸面６００は、この遮光領域において液晶層２０３に接触する面に形成されている。
【０１５４】
ここでは、図１６（ａ）に示すように、凹凸面６００においては、層間絶縁膜Ｓｚの表面において、凸状に突出する凸部を含む。そして、凸部は、弾性部材６３よりも高さが低くなるように形成されている。また、図１６（ｂ）に示すように、凸部は、平面形状が矩形である弾性部材６３の周囲において、矩形を描くように形成されている。凸部は、複数が形成されている。
【０１５５】
液晶パネルが外圧によって変形して、液晶層２０３が流動した際において、その流れが弾性部材６３などの構造体へ進行したときは、凹凸面６００によって、弾性部材６３の手前で、小さな乱流が生ずる。このため、弾性部材６３の後方において、大きな乱流が生ずることを防止し、低圧部の発生を抑制することができる。よって、この結果、液晶の流動性を向上することができる。
【０１５６】
（Ｂ．まとめ）
以上のように、本実施形態においては、凹凸面６００が、弾性部材６３の周辺に位置するように設けられている。このため、本実施形態では、上述したように、流動する液晶層２０３の流動性を向上させることができる。また、凹凸面６００が、遮光領域を構成するゲート線ＧＬの上方に設けられているので、透過光に対して影響が生じない。
【０１５７】
よって、本実施形態では、液晶層２０３の配向状態の変化を迅速に戻して、画像の表示の乱れを、好適に改善することができる。また、本実施形態では、液晶パネルに内蔵されたタッチパネル機能について、タッチ動作の検出を的確に実施可能である。
【０１５８】
なお、上記においては、凸部を形成することで、凹凸面６００を設ける場合について説明したが、これに限定されない。
【０１５９】
図１７は、本発明にかかる実施形態３において、弾性部材が形成された部分に設けられた凹凸面の変形例を示す図である。図１７において、（ａ）は、弾性部材の側面を示しており、（ｂ）は、弾性部材の上面を示している。
【０１６０】
図１７に示すように、凹部を弾性部材６３の周辺に形成することで、凹凸面６００を設けてもよい。
【０１６１】
また、上記においては、平面形状が矩形である弾性部材６３の周囲において、矩形を描くように、凸部または凹部を形成することで、凹凸面６００を形成する場合について説明したが、これに限定されない。
【０１６２】
図１８は、本発明にかかる実施形態３において、弾性部材が形成された部分に設けられた凹凸面の変形例を示す図である。図１８においては、弾性部材の上面を示している。
【０１６３】
図１８（ａ）に示すように、平面形状が円形である弾性部材６３の周囲において、円を描くように、凸部または凹部を形成することで、凹凸面６００を形成してもよい。
【０１６４】
また、図１８（ｂ）に示すように、平面形状が円形である弾性部材６３の周囲において、円形の点を対称に配置するように、凸部または凹部を形成することで、凹凸面６００を形成してもよい。
【０１６５】
また、図１８（ｃ）に示すように、平面形状が円形である弾性部材６３の周囲において、楕円形の点を対称に配置するように、凸部または凹部を形成することで、凹凸面６００を形成してもよい。
【０１６６】
また、図１８（ｄ）に示すように、平面形状が円形である弾性部材６３の周囲において、円形の点をランダムに配置するように、凸部または凹部を形成することで、凹凸面６００を形成してもよい。
【０１６７】
＜４．その他＞
本発明の実施に際しては、上記の実施形態に限定されるものではなく、種々の変形形態を採用することができる。
【０１６８】
上記の実施形態においては、タッチ電極６２ｔを、画素電極６２ｐと一体になるように形成する場合について説明したが、これに限定されない。タッチ電極６２ｔと画素電極６２ｐとを分離して形成しても良い。そして、この場合には、画素スイッチング素子３１の他に、ＴＦＴ（図示なし）を設け、そのＴＦＴの動作を画素スイッチング素子の動作と独立させて駆動させることで、タッチセンサの検出動作を制御するように回路を構成してもよい。
【０１６９】
また、上記の実施形態においては、弾性部材をＴＦＴアレイ基板側に設ける場合について説明したが、これに限定されない。対向基板側に、弾性部材を形成しても良い。
【０１７０】
また、上記の実施形態においては、対向基板側においてタッチ電極を液晶配向膜上に形成する場合について説明したが、これに限定されない。タッチ電極を液晶配向膜の下層に形成してもよい。そして、この場合には、タッチ電極の表面部分が露出するように、液晶配向膜の一部を除去しても良い。
【０１７１】
また、上記の実施形態においては、互いに対面する一対のタッチ電極が接触することで位置検出が行われる一点接触方式のタッチスイッチに適用する場合について説明したが、これに限定されない。たとえば、二点接触方式のタッチスイッチの場合に適用してもよい。
【０１７２】
また、上記の実施形態においては、対向基板側において、タッチ電極２５と対向電極２３とのそれぞれを、独立に形成する場合について示したが、これに限定されない。たとえば、タッチ電極２５と対向電極２３とを一体的に同一層で形成しても良い。
【０１７３】
また、上記のほかに、ＩＰＳ方式，ＦＦＳ方式などのように、横電界方式の液晶パネルに適用しても良い。
【０１７４】
また、表示パネルにタッチセンサ機能を内蔵する場合以外に、一対の基板の間に液体が封入された液体封入型タッチセンサに適用しても、同様な効果を奏することができる（http://www.matsunami-glass.co.jp/electron/tokushyu/usu_tenkai/next1.htmlを参照）。つまり、一対の基板の間に液体層が設けられており、その一対の基板の間にタッチセンサスイッチが設けられているタッチパネルにおいて、その液体層に接触する面に溝を形成してもよい。また、一対の基板の間に設けられた構造体において、液体層に接触する面に凹凸を形成してもよい。さらに、タッチパネルの遮光領域において、液体層に接触する面にて構造体の周囲に位置する領域に、凹凸面を形成してもよい。
【０１７５】
また、上記においては、「接触式」のタッチセンサに、本発明を適用する場合について説明したが、これに限定されない。「抵抗膜式」，「容量式」など、他の方式の場合に、適用してもよい。
【０１７６】
また、液晶パネルにおいて液晶層に接触する面の全体が微細な凹凸面になるように、構成しても良い。つまり、上述した弾性部材のように、液晶層の流動性を阻害する構造体の表面以外の面に凹凸を形成しても良い。
【０１７７】
また、本実施形態の液晶表示装置１００は、さまざまな電子機器の部品として適用することができる。
【０１７８】
図１９から図２３は、本発明にかかる実施形態の液晶表示装置１００を適用した電子機器を示す図である。
【０１７９】
図１９に示すように、テレビジョン放送を受信し表示するテレビにおいて、その受信した画像を表示画面に表示すると共に、オペレータの操作指令が入力される表示装置として液晶表示装置１００を適用することができる。
【０１８０】
また、図２０に示すように、デジタルスチルカメラにおいて、その撮像画像などの画像を表示画面に表示すると共に、オペレータの操作指令が入力される表示装置として液晶表示装置１００を適用することができる。
【０１８１】
また、図２１に示すように、ノート型パーソナルコンピュータにおいて、操作画像などを表示画面に表示すると共に、オペレータの操作指令が入力される表示装置として液晶表示装置１００を適用することができる。
【０１８２】
また、図２２に示すように、携帯電話端末において、操作画像などを表示画面に表示すると共に、オペレータの操作指令が入力される表示装置として液晶表示装置１００を適用することができる。
【０１８３】
また、図２３に示すように、ビデオカメラにおいて、操作画像などを表示画面に表示すると共に、オペレータの操作指令が入力される表示装置として液晶表示装置１００を適用することができる。
【０１８４】
なお、上記の実施形態において、タッチ電極２５は、本発明の第２タッチ電極に相当する。また、上記の実施形態において、タッチ電極６２ｔ，６２ｔｂは、本発明の第１タッチ電極に相当する。また、上記の実施形態において、弾性部材６３，６３ｂは、本発明の構造体に相当する。また、上記の実施形態において、液晶表示装置１００は、本発明の液晶表示装置および情報入力装置に相当する。また、上記の実施形態において、液晶パネル２００は、本発明の液晶パネルに相当する。また、上記の実施形態において、ＴＦＴアレイ基板２０１は、本発明の第１基板に相当する。また、上記の実施形態において、対向基板２０２は、本発明の第２基板に相当する。また、上記の実施形態において、液晶層２０３は、本発明の液晶層に相当する。また、上記の実施形態において、画素Ｐは、本発明の画素に相当する。また、上記の実施形態において、表示領域ＰＡは、本発明の表示領域に相当する。また、上記の実施形態において、タッチセンサＳＷｓは、本発明のタッチセンサスイッチに相当する。また、上記の実施形態において、溝ＴＲは、本発明の溝に相当する。
【符号の説明】
【０１８５】
１１：垂直駆動回路、１２：水平駆動回路、２１：カラーフィルタ層、２２：平坦化膜、２３：対向電極、２５：タッチ電極、３１：画素スイッチング素子、４５：ゲート電極、４８：半導体層、６２ｐ：画素電極、６２ｔ，６２ｔｂ：タッチ電極、６３，６３ｂ：弾性部材、１００：液晶表示装置、２００：液晶パネル、２０１：ＴＦＴアレイ基板、２０２：対向基板、２０３：液晶層、２０６：第１の偏光板、２０７：第２の偏光板、３００：バックライト、４００：データ処理部、４０１：制御部、４０２：位置検出部、６００：凹凸面、ＣＡ：周辺領域、ＧＬ：ゲート線、ＨＭ１：液晶配向膜、ＨＭ２：液晶配向膜、Ｐ：画素、ＰＡ：表示領域、Ｒ：照明光、ＲＣ：読み出し回路、ＳＬ：信号線、ＳＷｒ，ＳＷｗ：スイッチ、ＳＷｓ：タッチセンサ、Ｓｚ：層間絶縁膜、ＴＲ：溝、ＴＲ１：第１の溝、ＴＲ２：第２の溝、Ｔｃ：タッチ位置、ＷＣ：書き込み回路
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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