(57)【要約】【課題】簡便かつ連続生産が可能で生産性が高い光学フィルムおよびその製造方法を提供することを目的とする。また、この光学フィルムを用いたバックライトユニットを提供することを目的とする。【解決手段】本発明の光学フィルム１は、可視光を透過する可視光高透過部１１および可視光高透過部１１より可視光透過率が低い可視光低透過部１２からなる光透過率不均一層１０と、光透過率不均一層１０の可視光高透過部１１の片面側に形成され、電離放射線を遮蔽すると共に可視光を透過する電離放射線遮蔽層２０とを備える。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
可視光を透過する可視光高透過部および該可視光高透過部より可視光透過率が低い可視光低透過部からなる光透過率不均一層と、
該光透過率不均一層の可視光高透過部の片面側に形成され、電離放射線を遮蔽すると共に可視光を透過する電離放射線遮蔽層とを備えることを特徴とする光学フィルム。
【請求項２】
可視光低透過部は気泡が多数形成した高発泡部であり、可視光高透過部は可視光低透過部より気泡の形成密度が小さい低発泡部または気泡が形成されていない無発泡部である請求項１に記載の光学フィルム。
【請求項３】
バックライト用輝度分布補正フィルムとして用いられる請求項１または２に記載の光学フィルム。
【請求項４】
電離放射線の照射により可視光透過率が低下する感光性樹脂層の片面側に、電離放射線を遮蔽すると共に可視光を透過する電離放射線遮蔽成分を含む電離放射線遮蔽性インキを所定のパターンで印刷または塗布して、電離放射線遮蔽層を形成する工程と、
感光性樹脂層に、電離放射線遮蔽層が形成された側から電離放射線を照射する工程とを有することを特徴とする光学フィルムの製造方法。
【請求項５】
前記感光性樹脂層は、電離放射線の照射により発泡する発泡性組成物からなる請求項４に記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項６】
光源と、該光源からの光出射側に配置された請求項１〜３のいずれかに記載の光学フィルムとを具備することを特徴とするバックライトユニット。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、バックライト用輝度分布補正フィルムとして好適に使用される光学フィルムおよびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
光学フィルムとして、例えば、樹脂層中に気泡が所定のパターンで形成された光拡散性の発泡フィルムが知られている。そのような発泡フィルムの製造方法として、特許文献１には、放射線エネルギーの作用によって酸を発生する酸発生剤または塩基を発生する塩基発生剤と、酸または塩基と反応して低沸点揮発性物質を分解脱離する分解発泡性官能基を有する分解発泡性化合物とを含有する発泡性組成物をフィルムにした後、該フィルムに放射線エネルギーおよび熱エネルギーを付与して発泡させる方法が開示されている。
この製造方法においてフィルムに放射線エネルギーを付与する際には、フィルムの表面にフォトマスクを配置し、フォトマスクの上から電離放射線をフィルムに照射して露光する。
【特許文献１】特開２００６−１２４４９９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
ところで、フォトマスクを用いる特許文献１に記載の露光方法では、正確なパターンを形成するために、フォトマスクをフィルムの表面に真空密着させる必要がある。しかし、フォトマスクの真空密着は密着および脱着に時間を要するため、パターンを形成する工程の生産性が低かった。
また、フォトマスクの密着および脱着を、フィルムを移動させながら行うことは困難であるため、連続生産に適していなかった。
さらに、フォトマスクを用いる露光方法では、フォトマスクとフィルムとの間に異物が入り込むと、フォトマスクが浮いてしまい、露光欠陥を生じやすくなる。そのため、異物が入り込みにくいように、清浄な環境で露光させなければならず、簡便とはいえなかった。
本発明は、簡便かつ連続生産が可能で生産性が高い光学フィルムおよびその製造方法を提供することを目的とする。また、この光学フィルムを用いたバックライトユニットを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明は、以下の態様を包含する。
［１］  可視光を透過する可視光高透過部および該可視光高透過部より可視光透過率が低い可視光低透過部からなる光透過率不均一層と、
該光透過率不均一層の可視光高透過部の片面側に形成され、電離放射線を遮蔽すると共に可視光を透過する電離放射線遮蔽層とを備えることを特徴とする光学フィルム。
［２］  可視光低透過部は気泡が多数形成した高発泡部であり、可視光高透過部は可視光低透過部より気泡の形成密度が小さい低発泡部または気泡が形成されていない無発泡部である［１］に記載の光学フィルム。
［３］  バックライト用輝度分布補正フィルムとして用いられる［１］または［２］に記載の光学フィルム。
［４］  電離放射線の照射により可視光透過率が低下する感光性樹脂層の片面側に、電離放射線を遮蔽すると共に可視光を透過する電離放射線遮蔽成分を含む電離放射線遮蔽性インキを所定のパターンで印刷または塗布して、電離放射線遮蔽層を形成する工程と、
感光性樹脂層に、電離放射線遮蔽層が形成された側から電離放射線を照射する工程とを有することを特徴とする光学フィルムの製造方法。
［５］  前記感光性樹脂層は、電離放射線の照射により発泡する発泡性組成物からなる［４］に記載の光学フィルムの製造方法。
［６］  光源と、該光源からの光出射側に配置された［１］〜［３］のいずれかに記載の光学フィルムとを具備することを特徴とするバックライトユニット。
【発明の効果】
【０００５】
本発明の光学フィルムは、簡便かつ連続生産が可能で生産性が高い。
本発明の光学フィルムの製造方法は、簡便かつ連続生産が可能で生産性が高い光学フィルムの製造方法である。
本発明のバックライトユニットによれば、均一な面発光が得られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００６】
＜光学フィルム＞
本発明の光学フィルムの一実施形態について説明する。
図１に、本実施形態の光学フィルムを示す。この光学フィルム１は、可視光を透過する可視光高透過性領域１ａと、可視光高透過性領域１ａより可視光透過率が低い可視光低透過性領域１ｂとを有している。ここで、可視光透過率は、ＪＩＳ  Ｋ７１０５に基づいて測定した可視光の全光線透過率である。
可視光高透過性領域１ａと可視光低透過性領域１ｂは、交互にパターン状に形成されている。
【０００７】
図２および図３に、光学フィルム１の可視光低透過性領域１ｂの一部を拡大した図を示す。図２および図３に示すように、光学フィルム１の可視光低透過性領域１ｂは、可視光高透過部１１および可視光低透過部１２からなる光透過率不均一層１０と、光透過率不均一層１０の可視光高透過部１１の片面側に形成された電離放射線遮蔽層２０と、光透過率不均一層１０の電離放射線遮蔽層２０と反対側の面に設けられた支持体３０とを備えている。
【０００８】
本実施形態における光透過率不均一層１０の可視光高透過部１１および可視光低透過部１２は、各々、帯状で交互にパターン状に形成されている。
可視光高透過部１１は可視光を透過する部分であり、可視光低透過部１２は可視光高透過部１１より可視光透過率が低い部分である。ここでいう可視光透過率も、ＪＩＳ  Ｋ７１０５に基づいて測定した可視光の全光線透過率である。
可視光高透過部１１においては、少なくとも一部の波長領域の可視光が透過すればよい。
【０００９】
本実施形態における可視光高透過部１１は気泡が形成されていない無発泡部であり、可視光低透過部１２は気泡１２ａが多数形成した高発泡部である。気泡１２ａは、可視光を拡散させる機能を有している。
気泡１２ａの直径は、光学フィルム１の光拡散性が高くなることから、２０μｍ以下であることが好ましく、１０μｍ以下であることがより好ましい。また、気泡１２ａの直径は、気泡１２ａを容易に形成できることから、０．１μｍ以上であることが好ましい。
【００１０】
可視光高透過性領域１ａにおいても、可視光低透過性領域１ｂと同様に、可視光高透過部１１および可視光低透過部１２からなる光透過率不均一層１０と、光透過率不均一層１０の可視光高透過部１１の片面側に形成された電離放射線遮蔽層２０と、光透過率不均一層１０の電離放射線遮蔽層２０と反対側の面に設けられた支持体３０とを備えている。
ただし、可視光高透過性領域１ａでは、領域全体に対する可視光低透過部１２の面積比率が、可視光低透過性領域１ｂの領域全体に対する可視光低透過部１２の面積比率より小さくなっている。
【００１１】
各領域で可視光低透過部１２の面積比率を変化させるための可視光低透過部１２のパターンは、可視光低透過部１２の幅は一定で、単位面積当たりの可視光低透過部１２の数が変化するＦＭ階調と称されるパターンであってもよいし、単位面積当たりの可視光低透過部１２の数は一定で幅が変化するＡＭ階調と称されるパターンであってもよい。さらには、ＦＭ階調とＡＭ階調が混合したパターンであってもよい。
【００１２】
本発明における電離放射線遮蔽層２０は、電離放射線を吸収して遮蔽すると共に可視光を透過する層である。本発明における電離放射線とは、紫外線、電子線のことである。
電離放射線遮蔽層２０は、少なくとも一部の波長領域の可視光が透過すればよい。ただし、電離放射線遮蔽層２０が透過する可視光の波長領域は、可視光高透過部１１が透過する可視光の波長領域に少なくとも一部が重なっており、少なくとも一部の波長領域の可視光が可視光高透過部１１と電離放射線遮蔽層２０の積層部分を透過できるようになっている。
電離放射線遮蔽層２０は、後述する電離放射線遮蔽性インキから形成されている。また、電離放射線遮蔽層２０には、必要に応じて、着色剤や光拡散性粒子などが含まれていても構わない。例えば、電離放射線遮蔽層２０において、一部の波長領域の可視光を遮蔽したい場合には、その波長領域の可視光を吸収または反射させる着色剤等を含有させればよい。
【００１３】
電離放射線遮蔽層２０の厚さは０．１〜１５μｍが好ましく、０．５〜１５μｍがより好ましい。電離放射線遮蔽層２０の厚さが０．１μｍ以上であれば、充分に電離放射線を吸収でき、１５μｍ以下であれば、可視光透過率の低下を充分に防止できる。
【００１４】
支持体３０としては、例えば、ガラス基板、透明プラスチックシート等の可視光を透過する部材が用いられる。透明プラスチックシートを構成する透明樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリカーボネート、アクリル樹脂などが挙げられる。
また、支持体３０には、可視光を透過する範囲で、着色剤が含まれていてもよいし、光拡散性粒子が均一に含まれていてもよい。
【００１５】
支持体３０は、少なくとも一部の波長領域の可視光が透過すればよい。ただし、支持体３０が透過する可視光の波長領域は、可視光高透過部１１および電離放射線遮蔽層２０が透過する可視光の波長領域に少なくとも一部が重なっており、少なくとも一部の波長領域の可視光が可視光高透過部１１と電離放射線遮蔽層２０と支持体３０の積層部分を透過できるようになっている。かつ、支持体３０が透過する可視光の波長領域は、可視光低透過部１２が透過する可視光の波長領域に少なくとも一部が重なっており、少なくとも一部の波長領域の可視光が可視光低透過部１２と支持体３０の積層部分を透過できるようになっている。
【００１６】
上記光学フィルム１は、後述するように、フォトマスクを使用しなくても、所定のパターンの可視光高透過部１１および可視光低透過部１２を形成できる。そのため、簡便かつ連続生産が可能で生産性が高い。
また、上記光学フィルム１は、液晶表示装置や看板照明等に備え付けられるバックライト用輝度分布補正フィルムとして好適に用いることができる。
【００１７】
なお、本発明の光学フィルムは、上記実施形態に限定されない。
例えば、各領域における可視光高透過部１１の形成パターンは、例えば、丸網点、角網点、チェーンドット、クロス、斜線の平行線などであってもよい。
可視光高透過性領域１ａと可視光低透過性領域１ｂとは明確に分離していないグラデーションで形成されていてもよい。
【００１８】
また、可視光高透過部１１は、可視光低透過部１２より気泡の形成密度が小さい低発泡部であってもよい。
電離放射線遮蔽層２０は、紫外線吸収剤とアクリル樹脂等のバインダとを含有する電離放射線吸収性インキにより形成され、電離放射線により硬化せず、電離放射線を吸収する層であってもよい。紫外線吸収剤としては、例えば、サリチル酸系、ベンゾフェノン系、またはベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤などが挙げられる。さらに、サリチル酸系紫外線吸収剤としては、フェニルサリシレート、ｐ−ｔ−ブチルフェニルサリシレート、ｐ−オクチルフェニルサリシレートなどが挙げられる。ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノンなどが挙げられる。ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−５′−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾールなどが挙げられる。また、微粒子酸化チタン、微粒子酸化亜鉛等の無機紫外線吸収剤を用いてもよい。
また、電離放射線遮蔽層２０は、例えば、モンモリロナイト等の電離放射線反射剤を含有する電離放射線反射性インキにより形成された、電離放射線を反射する層であってもよい。
【００１９】
また、本発明の光学フィルムにおいては、光透過率不均一層が、着色されて可視光の透過率が低くなっている可視光低透過部と、着色されていない又は可視光低透過部より薄く着色されている可視光高透過部とからなるものであってもよい。
【００２０】
また、本発明の光学フィルムは、図４に示すように、電離放射線遮蔽層２０が、支持体３０の光透過率不均一層１０側の面の、可視光高透過部１１に隣接する部分と反対側に設けられていてもよい。
【００２１】
＜光学フィルムの製造方法＞
上記光学フィルム１の製造方法の一実施形態について説明する。
本実施形態の光学フィルム１の製造方法では、まず、支持体３０の片面に感光性樹脂層１０ａを形成する。
ここで、感光性樹脂層１０ａは、電離放射線の照射により可視光透過率が低下する層である。本実施形態では、電離放射線の照射により発泡して可視光透過率が低下する発泡性組成物からなる層である。
【００２２】
感光性樹脂層１０ａの形成方法としては、例えば、支持体３０の片面に発泡性組成物を含む液を塗布する方法、発泡性組成物を押出成形することにより発泡性組成物からなる層を形成し、その層を支持体３０の片面に積層する方法などが挙げられる。塗布により形成される感光性樹脂層１０ａは薄いものとなり、押出成形により形成される感光性樹脂層１０ａは厚いものとなる。
【００２３】
上記発泡性組成物としては、例えば、（Ａ）ジアゾ化合物等を含み、光の照射によって窒素等のガスを発生させて発泡する発泡性化合物（特開平５−７２７２７号公報参照）が挙げられる。
また、発泡性組成物として、例えば、（Ｂ）ラジカル重合性の光重合性化合物と、加熱によりガスを発生する熱発泡性化合物を含み、電離放射線の照射および加熱の両方により発泡するもの（特許第３４２２３８４号公報参照）が挙げられる。
また、発泡性組成物として、（Ｃ）電離放射線の作用によって酸を発生する酸発生剤または塩基を発生する塩基発生剤と、酸または塩基と反応して一種類以上の低沸点揮発性物質を分解脱離する分解発泡性官能基を有する分解発泡性化合物とを含有し、電離放射線の照射、必要に応じて加熱により発泡する発泡性組成物（特開２００４−２８１２号公報、特開２００６−１５５９３７号公報参照）が挙げられる。
とりわけ、気泡１２ａの直径を容易に１０μｍ以下にすることができ、かつ、気泡分布パターンを広範囲に精密制御できることから、（Ｃ）の発泡性組成物が好ましい。
【００２４】
次いで、図５に示すように、感光性樹脂層１０ａの支持体３０とは反対側の面に電離放射線遮蔽性インキを、帯状に一定間隔でパターン状に印刷または塗布して、電離放射線遮蔽層２０を形成する。
【００２５】
電離放射線遮蔽性インキは、電離放射線を遮蔽すると共に可視光を透過する電離放射線遮蔽成分を含む液である。本実施形態では、電離放射線遮蔽性インキとして電離放射線硬化性インキを用いる。電離放射線硬化性インキを用いることにより、電離放射線を吸収して硬化し、可視光を透過する電離放射線遮蔽層２０を形成する。
電離放射線硬化性インキとしては、一般にハードコート層の形成に用いられる公知の硬化性インキを用いることができる。具体的には、有機溶剤中または水中に、紫外線硬化性アクリル成分、電子線硬化性アクリル成分、紫外線硬化性エポキシ成分、電子線硬化性エポキシ成分などが含まれるインキが挙げられる。
電離放射線硬化性インキは、印刷または塗布に適した粘度に調整しておくことが好ましい。粘度の調整方法としては、例えば、メジウムを添加して粘度を上げる方法、レデューサを添加して粘度を下げる方法などが挙げられる。
【００２６】
電離放射線吸収性インキの印刷方法としては、例えば、オフセット印刷、フレキソ印刷、グラビア印刷、スクリーン印刷、インキジェット印刷などが挙げられる。
塗布方法としては、例えば、スリットダイコーティング、ロールコーティング、スプレーコーティング、カーテンコーティングなどが挙げられる。
【００２７】
次いで、図６に示すように、感光性樹脂層１０ａに、電離放射線遮蔽層２０が形成された側から電離放射線を照射し、感光性樹脂層１０ａが前記（Ｂ）または（Ｃ）の発泡性組成物からなる場合には、その後、加熱する。
感光性樹脂層１０ａに照射する電離放射線は、感光性樹脂層１０ａを発泡させると共に電離放射線遮蔽成分により遮蔽される電離放射線である。例えば、感光性樹脂層１０ａが紫外線により発泡すると共に、電離放射線遮蔽成分が紫外線を吸収する場合には、感光性樹脂層１０ａに照射する電離放射線は紫外線である。
【００２８】
このとき、電離放射線遮蔽層２０はフォトマスクと同様の役割を果たす。すなわち、電離放射線の照射により、感光性樹脂層１０ａの電離放射線遮蔽層２０で被覆されていない部分に電離放射線が入射する。そして、感光性樹脂層１０ａの電離放射線が入射した部分が感光して発泡する。これにより、高発泡部である可視光低透過部１２を形成する。
また、電離放射線遮蔽層２０では、照射した電離放射線を吸収する。本実施形態では、電離放射線硬化性インキを用いているため、電離放射線の吸収と共に電離放射線遮蔽層２０が硬化する。電離放射線遮蔽層２０によって電離放射線を吸収した結果、感光性樹脂層１０ａの電離放射線遮蔽層２０で被覆されている部分には、電離放射線が到達しにくくなっている。その結果、電離放射線遮蔽層２０で被覆されている部分は発泡が生じにくいため、無発泡部（ある程度の電離放射線が到達した場合には低発泡部）である可視光高透過部１１になる。
このようにして、図１および図２に示す光学フィルム１が得られる。
【００２９】
以上説明した光学フィルム１の製造方法では、感光性樹脂層１０ａの片面に所定のパターンで形成した電離放射線遮蔽層２０によって、照射した電離放射線を遮蔽することができる。したがって、フォトマスクを用いずに、所定のパターンで可視光高透過部１１および可視光低透過部１２を形成した光学フィルム１を製造することができる。フォトマスクを用いない結果、感光性樹脂層１０ａへのフォトマスクの密着および脱着が不要になる。また、上記製造方法では、感光性樹脂層１０ａを移動させながら電離放射線遮蔽性インキを印刷または塗布し、電離放射線を照射させることができる。よって、上記製造方法は、連続生産が可能で生産性が高い。
また、上記製造方法では、感光性樹脂層１０ａと電離放射線遮蔽層２０との間に異物が入り込んだとしても、電離放射線遮蔽層２０が浮いてしまうことはないから、露光欠陥が防止されている。そのため、清浄な環境で露光させる必要がないため、簡便である。
【００３０】
さらに、上記製造方法では、石英等の高価なフォトマスクを使用しなくてもよく、また、半導体製造に用いるような高価な電離放射線露光機を使用せずに、印刷設備等に付帯されるような安価な電離放射線照射装置を用いることができる。その上、汎用の印刷プロセスを適用できるため、安価に光学フィルムを製造できる。しかも、印刷または塗布のパターンを変更するだけで、可視光高透過部１１および可視光低透過部１２のパターンを変更できる。
また、フォトマスクを感光性樹脂層１０ａに密着させるためには真空排気を行うが、上記製造方法では真空排気をしなくてもよいため、光学フィルムを製造する際のエネルギーが少ない。
また、フォトマスクを使用しないことにより、フォトマスクの保管場所、使用済みフォトマスクの廃棄の必要がない。
【００３１】
また、本実施形態では、電離放射線硬化性インキにより形成した電離放射線遮蔽層を電離放射線により硬化するから、乾燥工程が不要であり、より簡便である。
【００３２】
なお、本発明の光学フィルムの製造方法は、上記実施形態に限定されない。
例えば、気泡形成密度の程度によって光透過率が不均一にされている光透過率不均一層１０の代わりに、着色の程度によって光透過率が不均一にされている光透過率不均一層を適用する場合には、光透過率不均一層を得るために、感光性樹脂層として、銀塩等を含有して電離放射線を照射した部分が変色する層を用いればよい。
また、感光性樹脂層１０ａが厚く、得られる光透過率不均一層１０が自立可能な場合には、支持体３０がなくてもよい。感光性樹脂層１０ａを厚く形成するためには、例えば、発泡性組成物を押出成形すればよい。
【００３３】
また、本発明の光学フィルムの製造方法は、図７に示すように、支持体３０の感光性樹脂層１０ａ側と反対側の面に電離放射線遮蔽層２０を形成し、電離放射線遮蔽層２０を形成した側から電離放射線を感光性樹脂層１０ａに照射してもよい。
【００３４】
＜直下型バックライトユニット＞
本発明の直下型バックライトユニットの一実施形態について説明する。
図８に、本実施形態の直下型バックライトユニットを示す。この直下型バックライトユニット１００ａは、上述した光学フィルム１と、冷陰極管やＬＥＤ等の光源２とを具備し、可視光低透過性領域１ｂが光源２の直上に配置されている。
直下型バックライトユニット１００ａでは、光学フィルム１の、光源２の直上の部分にて、光源２から到達する光の光量が多くなり、光源２から離れた部分にて、光源２から到達する光の光量が少なくなる。
しかし、本実施形態では、可視光低透過部１２が密に形成された可視光低透過性領域１ｂが、光源２の直上に配置されているため、光学フィルム１の、光源２から到達する光の光量が多い部分にて光の拡散性が高くなっている。そのため、光学フィルム１の、光源２から離れた部分に位置する可視光高透過性領域１ａに、光を拡散させることができる。その結果、光源２から出射した光の光量を面方向に均一化するように補正できるため、均一な面発光を得ることができる。
【００３５】
＜サイドライト型バックライトユニット＞
本発明のサイドライト型バックライトユニットの一実施形態について説明する。
図９に、本実施形態のサイドライト型バックライトユニットを示す。このサイドライト型バックライトユニット１００ｂは、光学フィルム３と、光学フィルム３の一側面である第１の側面３ａに隣接した光源２とを具備する。
このサイドライト型バックライトユニット１００ｂで用いる光学フィルム３は、光源２に隣接する第１の側面３ａから、第１の側面３ａに対向する第２の側面３ｂに向かうにつれて、可視光低透過部１２がより密になるように形成されている。したがって、第１の側面３ａから第２の側面３ｂに向かうにつれて、気泡の形成密度が次第に大きくなっており、光の拡散性が高くなっている。
サイドライト型バックライトユニット１００ｂでは、光学フィルム３の第１の側面３ａ側が最も光源２から到達する光の光量が多くなり、第１の側面３ａから離れるにつれて光源２から到達する光の光量が少なくなる。
しかし、本実施形態における光学フィルム３では、第１の側面３ａから第２の側面３ｂに向かうにつれて、気泡の形成密度が大きく、光の拡散性が高くなっているため、第１の側面３ａ側での出光量を抑えることができ、第１の側面３ａから離れるにつれて出光量を増加させることができる。その結果、光源２から出射する光の光量を面方向に均一化するように補正できるため、均一な面発光を得ることができる。
【実施例】
【００３６】
本実施例は、図１〜３に示す光学フィルム１を作製し、その光学フィルム１を用いて図８に示す直下型バックライトユニット１００ａを得る例である。
分解性化合物であるｔｅｒｔ−ブチルアクリレート（６０質量％）とメチルメタクリレート（３０質量％）とメタクリル酸（１０質量％）とが共重合した共重合体１００質量部に対して、ヨードニウム塩系酸発生剤としてビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムパーフルオロブタンスルホネート（商標：ＢＢＩ−１０９、みどり化学（株）製）３質量部を混合し、これを酢酸エチルに溶解して固形分濃度２５質量％の溶液を調製し、この溶液を感光性樹脂層形成用塗布液として用いた。
この感光性樹脂層形成用塗布液を、厚さ１２５μｍの透明ポリエチレンテレフタレートシート（東レ（株）製ルミラーＵ３６）に、アプリケーターバーを用いて塗布し、その後、すぐに、温度１１０℃の恒温乾燥機内に５分間放置して酢酸エチルを蒸発除去した。これにより、発泡性組成物からなる厚さ１０μｍの感光性樹脂層を形成した。
この感光性樹脂層は、紫外線を照射した後に加熱することにより発泡して可視光透過率が低下するものである。
【００３７】
次いで、図５に示すように、感光性樹脂層１０ａの片面に、オフセット印刷により紫外線硬化性インキ（東洋インキ製造（株）製ＵＶ−ＯＰニス）を、厚さ１μｍの電離放射線遮蔽層２０が形成するように印刷した。その際、可視光低透過性領域が一定の間隔で形成されるように、ＡＭ階調のパターンで紫外線硬化性インキを印刷して（すなわち、可視光高透過性領域になる領域では印刷の幅を太くし、可視光低透過性領域になる領域では印刷の幅を細くして）、電離放射線遮蔽層２０を形成した。
次いで、オフセット印刷機にあらかじめ備え付けられた紫外線照射装置を用い、図６に示すように、２００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を、感光性樹脂層１０ａに電離放射線遮蔽層２０が形成された側から照射して、紫外線硬化性インキを硬化させると共に、感光性樹脂層１０ａを感光させた。このとき、感光性樹脂層１０ａ内の紫外線が通過した部分では、酸発生剤から酸が発生する。
その後、オーブンで１２０℃、２分加熱して、分解性化合物である共重合体を酸により分解させ、気体を発生させて、感光性樹脂層１０ａの感光した部分を発泡させた。これにより、図１〜３に示すような、可視光高透過部１１および可視光低透過部１２からなる光透過率不均一層１０と、光透過率不均一層１０の可視光高透過部１１の片面側に形成された電離放射線遮蔽層２０とを備え、可視光高透過性領域１ａおよび可視光低透過性領域１ｂを有する光学フィルム１を得た。
本実施例における光学フィルム１の可視光高透過性領域１ａのＪＩＳ  Ｋ７１０５に基づいて測定された可視光の全光線透過率は９２％であり、可視光低透過性領域１ｂのＪＩＳ  Ｋ７１０５に基づいて測定された可視光の全光線透過率は２８％であった。
【００３８】
得られた光学フィルム１を、図８に示すように、可視光低透過性領域１ｂが冷陰極管からなる光源２の直上に位置するように取り付けて、直下型バックライトユニット１００ａを作製した。
この直下型バックライトユニット１００ａの光源２を発光させて、輝度分布を目視により調べたところ、均一な面発光が得られることを確認できた。
【図面の簡単な説明】
【００３９】
【図１】本発明の光学フィルムの一実施形態を示す上面図である。
【図２】図１に示す光学フィルムの上面を拡大した図である。
【図３】図２のＡ−Ａ’断面図である。
【図４】本発明の光学フィルムの他の実施形態を示す断面図である。
【図５】本発明の光学フィルムの製造方法の一実施形態での一工程を説明する断面図である。
【図６】本発明の光学フィルムの製造方法の一実施形態での一工程を説明する断面図である。
【図７】本発明の光学フィルムの製造方法の他の実施形態での一工程を説明する断面図である。
【図８】図１〜３に示す光学フィルムを用いた直下型バックライトユニットの一実施形態を示す概略図である。
【図９】図１〜３に示す光学フィルムを用いたサイドライト型バックライトユニットの一実施形態を示す概略図である。
【符号の説明】
【００４０】
１，３  光学フィルム
１ａ  可視光高透過性領域
１ｂ  可視光低透過性領域
２  光源
３ａ  第１の側面
３ｂ  第２の側面
１０  光透過率不均一層
１０ａ  感光性樹脂層
１１  可視光高透過部
１２  可視光低透過部
１２ａ  気泡
２０  電離放射線遮蔽層
３０  支持体
１００ａ  直下型バックライトユニット
１００ｂ  サイドライト型バックライトユニット
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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