(57)【要約】  【課題】  活性が低下した塩素製造用触媒を効果的に賦活し、その触媒活性を良好に回復することができる塩素製造用触媒の賦活方法を提供することにある。  【解決手段】  本発明の塩素製造用触媒の賦活方法は、塩化水素を酸素で酸化する反応に使用される塩素製造用触媒の賦活方法であって、活性が低下した塩素製造用触媒を塩基性液に接触させることを特徴とする。前記塩基性液のｐＨは８以上であることが好ましく、前記塩基性液は無機塩基が溶解している水溶液であることが好ましい。また、本発明において、前記塩素製造用触媒は酸化ルテニウムを含有する触媒であることが好ましい。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
塩化水素を酸素で酸化する反応に使用される塩素製造用触媒の賦活方法であって、活性が低下した塩素製造用触媒を塩基性液に接触させることを特徴とする塩素製造用触媒の賦活方法。
【請求項２】
前記塩基性液のｐＨが８以上である請求項１に記載の塩素製造用触媒の賦活方法。
【請求項３】
前記塩基性液が、無機塩基が溶解している水溶液である請求項１又は２に記載の塩素製造用触媒の賦活方法。
【請求項４】
前記塩素製造用触媒が、酸化ルテニウムを含有する触媒である請求項１〜３のいずれかに記載の塩素製造用触媒の賦活方法。
【請求項５】
触媒の存在下に塩化水素を酸素で酸化する塩素の製造方法であって、前記触媒として、請求項１〜４のいずれかに記載の賦活方法により賦活した触媒を用いることを特徴とする塩素の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、活性が低下した塩素製造用触媒を賦活する方法、およびこの方法で賦活した塩素製造用触媒を用いて塩素を製造する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
塩素は、塩化ビニルやホスゲンなどの原料として有用であり、従来より塩素製造用触媒の存在下で塩化水素を酸素で酸化する反応によって製造されている。ところが、上述した反応で用いる塩素製造用触媒は、例えば、定常または非定常の条件下で熱負荷を受けたりすると、触媒活性が低下することがあった。
そこで、活性が低下した塩素製造用触媒（以下「劣化触媒」と称することもある）を賦活する方法として、劣化触媒を実質的に酸素および／または不活性ガスのみからなるガスと接触させる方法（特許文献１）や、劣化触媒を一酸化炭素および／または水素を含有する還元性ガスと接触処理させる方法（特許文献２）が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００７−７５２１号公報
【特許文献２】特開２００９−２２９１７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上述した従来の賦活方法で賦活した塩素製造用触媒では、充分に満足しうる触媒活性が得られないことがあった。
【０００５】
そこで、本発明の課題は、活性が低下した塩素製造用触媒を効果的に賦活し、その触媒活性を良好に回復することができる塩素製造用触媒の賦活方法と、該方法によって賦活した触媒を用いた塩素の製造方法とを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者等は、前記課題を解決するべく鋭意検討を行った。その結果、活性が低下した触媒を塩基性液に接触させるという簡便な方法によって、触媒活性を効果的に回復させることができることを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００７】
すなわち、本発明は以下の構成からなる。
（１）塩化水素を酸素で酸化する反応に使用される塩素製造用触媒の賦活方法であって、活性が低下した塩素製造用触媒を塩基性液に接触させることを特徴とする塩素製造用触媒の賦活方法。
（２）前記塩基性液のｐＨが８以上である前記（１）に記載の塩素製造用触媒の賦活方法。
（３）前記塩基性液が、無機塩基が溶解している水溶液である前記（１）又は（２）に記載の塩素製造用触媒の賦活方法。
（４）前記塩素製造用触媒が、酸化ルテニウムを含有する触媒である前記（１）〜（３）のいずれかに記載の塩素製造用触媒の賦活方法。
（５）触媒の存在下に塩化水素を酸素で酸化する塩素の製造方法であって、前記触媒として、前記（１）〜（４）のいずれかに記載の賦活方法により賦活した触媒を用いることを特徴とする塩素の製造方法。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、活性が低下した塩素製造用触媒を効果的に賦活し、その触媒活性を良好に回復することができる。これにより、活性が低下した塩素製造用触媒を賦活して塩化水素を酸素で酸化する反応に再使用することが可能になり、触媒コストを低減できる点で有利に塩素を製造することができる、という効果も得られる。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
本発明の塩素製造用触媒の賦活方法において、賦活の対象とする触媒は、塩化水素を酸素で酸化する反応（以下、単に「酸化反応」と称することもある）によって塩素を製造する際に使用される触媒（すなわち、塩素製造用触媒）であればよく、特に制限されないが、例えば、銅触媒、クロム触媒、ルテニウム触媒などが挙げられる。具体的には、銅触媒としては、一般にＤｅａｃｏｎ触媒と称される、塩化銅と塩化カリウムに第三成分として種々の化合物を添加してなる触媒が好ましく挙げられる。クロム触媒としては、特開昭６１−１３６９０２号公報、特開昭６１−２７５１０４号公報、特開昭６２−１１３７０１号公報、特開昭６２−２７０４０５号公報に示される如き、酸化クロムを含有する触媒が好ましく挙げられる。ルテニウム触媒としては、特開平９−６７１０３号公報、特開平１０−３３８５０２号公報、特開２０００−２８１３１４号公報、特開２００２−７９０９３号公報、特開２００２−２９２２７９号公報に示される如き、酸化ルテニウムを含有する触媒が好ましく挙げられる。
【００１０】
本発明の塩素製造用触媒の賦活方法において、賦活の対象とする塩素製造用触媒は、上述した触媒の中でも、ルテニウム触媒、特に酸化ルテニウムを含有する触媒であることが好ましい。酸化ルテニウムを含有する触媒は、例えば、実質的に酸化ルテニウムのみからなるものであってもよいし、酸化ルテニウムが、アルミナ、チタニア、シリカ、ジルコニア、酸化ニオブ、活性炭などの担体に担持されてなる担持酸化ルテニウムであってもよいし、酸化ルテニウムと、アルミナ、チタニア、シリカ、ジルコニア、酸化ニオブなどの他の酸化物とからなる複合酸化物であってもよい。
【００１１】
本発明の塩素製造用触媒の賦活方法において、賦活の対象とする触媒は、活性が低下した塩素製造用触媒（劣化触媒）であるが、その触媒活性がどの程度低下しているかについては、特に制限されない。
また、塩化水素を酸素で酸化する反応（酸化反応）に使用した塩素製造用触媒の触媒活性の低下は、例えば以下に述べるように様々な場合に起こるのであり、本発明において賦活の対象とする触媒の活性がどのような原因で低下したものであるかについては、特に制限されない。ただし、触媒活性を回復させるという本発明の効果がより顕著に現れる点では、後述するｉｉｉ）の場合、すなわち原料ガス中に硫黄分が含まれている場合に、この硫黄分によって触媒が被毒されて活性低下した劣化触媒を賦活対象とすることが好ましい。
【００１２】
塩化水素を酸素で酸化する反応（酸化反応）に使用した塩素製造用触媒の触媒活性の低下は、通常、酸化反応の反応時間（すなわち、触媒の使用時間）の経過とともに徐々に起こる。これに加えて、例えば、ｉ) 機器の不具合などにより反応温度の制御が困難になって、触媒が長時間、高温に曝された場合、ｉｉ）機器の不具合などにより酸素の供給が停止して、触媒が酸素不在下に長時間、塩化水素と接触した場合、ｉｉｉ）原料ガス中に硫黄分が含まれている場合（具体的には、例えば、酸化反応で生じたガスを濃硫酸で洗浄脱水した後、塩素を分離し、残ったガスを回収して、再度、酸化反応の原料ガスとして再利用する場合や、アミンをホスゲンと反応させてイソシアネートを生成させる際などに副生する、硫黄分含有不純物（ホスゲン由来の硫化カルボニル、硫化水素、二硫化炭素、酸化硫黄など）を含む塩化水素ガスを酸化反応の原料ガスとして利用する場合など）、ｉｖ）原料ガス中に微量の有機物が含まれ、これが酸化反応で完全に燃焼されなかった場合、ｖ）反応管や配管等が原料ガスや生成水に腐食され、生じた金属が触媒に付着した場合、ｖｉ）担持触媒の担体成分が一部飛散し触媒の活性点を覆ってしまった場合、などにも熱負荷や触媒の被毒により触媒活性が低下することがある。
【００１３】
本発明の塩素製造用触媒の賦活方法においては、活性が低下した塩素製造用触媒（劣化触媒）を塩基性液に接触させる。このように塩基性液に接触させる接触処理を施すことにより、例えば熱負荷や触媒の被毒により活性が低下した塩素製造用触媒を効果的に賦活し、その触媒活性を良好に回復することができるのである。
【００１４】
前記塩基性液は、例えば、水酸化ナトリウム、炭酸カルシウム、アンモニアなどの無機塩基が溶解している水溶液であってもよいし、ピリジン、トリエチルアミン、アニリンなどの有機塩基が溶解している水溶液であってもよいし、あるいは、劣化触媒との接触時の温度下および圧力下において液体の状態である塩基を単独で塩基性液として用いることもできる。これらの中でも、後に水洗する場合における洗浄効率の点で、無機塩基が溶解している水溶液であることが好ましい。なお、水溶液を塩基性液として使用する場合には、溶媒として超純水の如き純度の高い水を使用することが好ましい。
前記塩基性液のｐＨは、好ましくは８以上、より好ましくは１０以上である。塩基性液のｐＨが８未満となり中性領域に近づくと、賦活効果が不充分となり、触媒活性を充分に回復することができないおそれがある。
【００１５】
劣化触媒を塩基性液に接触させる方法としては、特に制限はなく、例えば、固定床形式で行ってもよいし、バッチ回分式で行ってもよい。固定床形式で行う場合、塩基性液の供給速度は、触媒の体積あたりの塩基性液の体積供給速度（すなわち、ＬＨＳＶ）で表して、通常０．０１〜１００ｈ-1程度であり、接触処理時間は、通常０．５〜１００時間程度である。なお、固定床形式の場合、塩基性液を循環させることもできる。他方、バッチ回分方式で行う場合、塩基性液の使用量は、触媒１重量部に対して、通常１〜１００重量部程度であり、接触処理時間は、通常０．５〜１２０時間程度である。また、いずれの形式で接触させる場合にも、接触処理温度は、通常０〜１００℃、好ましくは１０〜９０℃であるのがよく、接触処理回数は通常１〜１０回程度である。
【００１６】
本発明の塩素製造用触媒の賦活方法においては、劣化触媒を塩基性液に接触させた後、さらに水洗を行うことが好ましい。水洗に使用する水の量は、先に接触させた塩基性液の１重量倍以上とするのが好ましく、３重量倍以上とするのがより好ましい。水洗の回数には、特に制限はなく、通常１〜１０回程度であるが、水洗後の排水のｐＨが水洗に用いた水と同等のｐＨになったことが確認されるまで行うことが好ましい。なお、水洗に使用する水も超純水の如き純度の高い水が好ましい。
【００１７】
さらに、本発明の塩素製造用触媒の賦活方法においては、劣化触媒を塩基性液に接触させた後に、もしくはその後洗浄した後に、乾燥を行ってもよい。乾燥の方法等については、特に制限されない。
【００１８】
かくして賦活された塩素製造用触媒は、塩化水素を酸素で酸化する反応において優れた触媒活性を示すものであり、かかる酸化反応に再使用することができる。これにより、触媒コストを低減することができ、塩素をコスト的に有利に製造することができる。
【００１９】
本発明の塩素の製造方法は、上述した本発明の賦活方法により賦活した触媒の存在下に塩化水素を酸素で酸化する方法である。
賦活した触媒を用いて塩化水素を酸素で酸化する反応（酸化反応）は、通常、触媒が充填された固定床反応器または触媒を流動させた流動床反応器中に、塩化水素（塩化水素を含むガス）および酸素（酸素を含むガス）からなる原料ガスを供給しながら、気相条件下に連続式で行われる。その際、例えば特開２００１−１９４０５号公報に示される如く、塩化水素および酸素に加えて、水蒸気を供給すると、触媒層の温度分布を平滑化できて有利である。
【００２０】
前記塩化水素を含むガスとしては、特に制限はなく、例えば、水素と塩素との反応により生成するガスや、塩酸の加熱により発生するガスのほか、塩素化合物の熱分解反応や燃焼反応、ホスゲンによる有機化合物のカルボニル化反応、塩素による有機化合物の塩素化反応、クロロフルオロアルカンの製造等により発生する各種副生ガス、さらには焼却炉から発生する燃焼排ガスなど、塩化水素を含むあらゆるガスを使用することができる。
【００２１】
前記塩化水素を含むガスを得る際の上述した各種反応については、具体的には、例えば、塩素化合物の熱分解反応として、１，２−ジクロロエタンから塩化ビニルが生成する反応、クロロジフルオロメタンからテトラフルオロエチレンが生成する反応などが挙げられ、ホスゲンによる有機化合物のカルボニル化反応として、アミンからイソシアネートが生成する反応、ヒドロキシ化合物から炭酸エステルが生成する反応などが挙げられ、塩素による有機化合物の塩素化反応として、プロピレンから塩化アリルが生成する反応、エタンから塩化エチルが生成する反応、ベンゼンからクロロベンゼンが生成する反応などが挙げられる。また、クロロフルオロアルカンの製造としては、例えば、四塩化炭素とフッ化水素との反応によるジクロロジフルオロメタンおよびトリクロロモノフルオロメタンの製造、メタンと塩素とフッ化水素との反応によるジクロロジフルオロメタンおよびトリクロロモノフルオロメタンの製造などが挙げられる。
【００２２】
前記酸素を含むガスとしては、空気を使用してもよいし、純酸素を使用してもよい。なお、純酸素は、空気の圧力スイング法や深冷分離などの通常の工業的な方法によって得ることができる。
【００２３】
前記酸化反応において、塩化水素（塩化水素を含むガス）と酸素（酸素を含むガス）との比率は、塩化水素を完全に塩素に酸化するためには理論上、塩化水素１モルに対し酸素１／４モルとする必要があるが、通常、この理論量の０．１〜１０倍の酸素が使用される。
【００２４】
前記酸化反応において、塩化水素を含むガスの供給速度は、触媒層の体積あたりのガスの体積供給速度（０℃、１気圧換算）、すなわちＧＨＳＶで表して、通常１０〜２００００ｈ-1程度である。他方、酸素を含むガスの供給速度は、触媒層の体積あたりのガスの体積供給速度（０℃、１気圧換算）、すなわちＧＨＳＶで表して、通常１０〜２００００ｈ-1程度である。
前記酸化反応における反応条件等は特に制限されないが、反応温度は、通常１００〜５００℃、好ましくは２００〜４００℃であり、反応圧力は、通常０．１〜５ＭＰａ程度である。
【００２５】
本発明の塩素の製造方法においては、上述した本発明の賦活方法により賦活する賦活処理と、前記酸化反応とを繰り返し行うことが好ましい。例えば、前記酸化反応を固定床形式で行う場合には、触媒を充填した反応器中に塩化水素および酸素からなる原料ガスを供給しながら酸化反応を行い、運転の継続が困難になる程度に触媒の活性が低下したら、原料ガスの供給を停止し、次いで、触媒を反応器中に充填したままの状態で前記賦活処理を施した後、原料ガスの供給を再開して前記酸化反応を行い、以後、必要により賦活処理と酸化反応とを繰り返し行えばよい。他方、前記酸化反応を流動床形式で行う場合には、前記酸化反応を行いながら、反応器から触媒の一部を連続的または間歇的に抜き出し、別の容器内で前記賦活処理を施した後、反応器に戻すようにして、触媒を反応器と賦活処理用の容器の間で循環させることにより、触媒が賦活処理および酸化反応に交互に供されるようにすればよい。
【実施例】
【００２６】
以下、実施例により本発明をより詳細に説明するが、本発明はかかる実施例により限定されるものではない。
なお、以下、ガスの供給速度（ｍＬ／分）は、特に断りのない限り、０℃、１気圧における換算値で示した。
【００２７】
（参考例１−活性が低下した触媒（劣化触媒）の調製）
まず、酸化チタン（堺化学（株）製「ＳＴＲ−６０Ｒ」；１００％ルチル型）５０重量部、α−アルミナ（住友化学（株）製「ＡＥＳ−１２」）１００重量部、チタニアゾル（堺化学（株）製「ＣＳＢ」；チタニア含有量３８重量％）１３．２重量部、およびメチルセルロース（信越化学（株）製「メトローズ６５ＳＨ−４０００」）２重量部を混合し、次いでイオン交換水を加えて混練した。この混練物を直径３．０ｍｍφの円柱状に押出成形し、乾燥した後、長さ４〜６ｍｍ程度に破砕した。得られた成形体を、空気中８００℃で３時間焼成し、酸化チタンとα−アルミナとの混合物からなる担体を得た。次に、この担体に、所定の担持率となる量の塩化ルテニウムの水溶液を含浸させ、乾燥した後、空気中２５０℃で２時間焼成することにより、酸化ルテニウムが２重量％の担持率で上記担体に担持されてなる青灰色の担持酸化ルテニウム触媒（新品触媒）を得た。
この担持酸化ルテニウム（新品触媒）をＩＣＰ発光分析法により分析したところ、硫黄含有量は０．０２重量％であった。
【００２８】
次いで、得られた担持酸化ルテニウム触媒（新品触媒）を反応器に充填し、該反応器に塩化水素ガス（硫黄分を１３０体積ｐｐｂ含む）と酸素ガスとからなる原料ガスを供給しながら、２８０〜３９０℃で長期間にわたって酸化反応を行うことにより、劣化触媒を調製した。
かかる劣化触媒をＩＣＰ発光分析法により分析したところ、硫黄含有量は０．１３重量％であった。
【００２９】
（実施例１）
参考例１で得た劣化触媒５ｇと、２．５％水酸化ナトリウム水溶液（和光純薬工業（株）製の１ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液２８．１２５ｇをイオン交換水１６．８７５ｇで希釈して調製した）４５ｇとを容器に入れて混合し、２５℃で２４時間静置することにより両者を接触させた。その後、上澄み液をデカンテーションにより除去し、得られた固形物を５０ｇのイオン交換水を用いて３回洗浄した。次いで、上記と同様にして、２．５％水酸化ナトリウム水溶液と混合し、２５℃で静置し、上澄み液をデカンテーションにより除去した後、得られた固形物をイオン交換水で洗浄する操作を２回繰返した。このとき、静置時間は１回目は２４時間、２回目は７２時間とした。その後、６０℃で恒量になるまで（２時間以上）乾燥して、本発明の賦活方法で賦活した触媒（賦活触媒）を得た。なお、ここで使用した２．５％水酸化ナトリウム水溶液のｐＨを測定したところ、１３．５であった。
次に、得られた賦活触媒を用いて塩化水素を酸素で酸化する反応を行ったときの触媒活性を、下記の方法で評価した。結果を表１に示す。
また、得られた賦活触媒をＩＣＰ発光分析法により分析したところ、硫黄含有量は０．０２３重量％であった。この結果より、本発明の賦活方法によって硫黄含有量を新品触媒のそれと同水準にまで減少できることがわかる。
【００３０】
＜触媒活性評価＞
得られた触媒１ｇを、内径１３ｍｍのニッケル製反応管に充填し、さらに触媒層のガス入口側に予熱層として、α−アルミナ球（ニッカトー（株）製「ＳＳＡ９９５」）１２ｇを充填した。この反応管内に窒素ガスを８０ｍＬ／分の速度で供給しながら、溶融塩（硝酸カリウム／亜硝酸ナトリウム＝１／１（重量比））を熱媒体とする塩浴に反応管を浸して、触媒層の温度を２８１〜２８２℃にした。次いで、窒素ガスの供給を停止した後、塩化水素ガス（硫黄分を１９体積ｐｐｂ含む）および酸素ガスを、塩化水素ガスは８０ｍＬ／分（０．２１ｍｏｌ／ｈ）の速度で、酸素ガスは４０ｍＬ／分（０．１１ｍｏｌ／ｈ）の速度で供給し、触媒層温度２８１〜２８２℃で酸化反応を行った。反応開始から１．５時間後の時点で、反応管出口のガスを２０分間、３０重量％ヨウ化カリウム水溶液に流通させることによりサンプリングし、ヨウ素滴定法により塩素の生成量を測定して、塩素の生成速度（ｍｏｌ／ｈ）を求めた。この塩素の生成速度と上記塩化水素の供給速度（ｍｏｌ／ｈ）から、下式により塩化水素の転化率（％）を算出した。
【００３１】
塩化水素の転化率（％）
＝〔塩素の生成速度（ｍｏｌ／ｈ）×２÷塩化水素の供給速度（ｍｏｌ／ｈ）〕×１００
【００３２】
（実施例２）
実施例１において用いた２．５％水酸化ナトリウム水溶液に代えて、２．５％炭酸ナトリウム水溶液（和光純薬工業（株）製の炭酸ナトリウム１．１２５ｇをイオン交換水４３．８７５ｇに溶解させて調製した）を用いたこと以外、実施例１と同様にして、本発明の賦活方法で賦活した触媒（賦活触媒）を得た。なお、ここで使用した２．５％炭酸ナトリウム水溶液のｐＨを測定したところ、１１．１５であった。
次に、得られた賦活触媒を用いて塩化水素を酸素で酸化する反応を行ったときの触媒活性を、下記の方法で評価した。結果を表１に示す。
また、得られた賦活触媒をＩＣＰ発光分析法により分析したところ、硫黄含有量は０．０３５重量％であった。この結果より、本発明の賦活方法によって硫黄含有量を新品触媒のそれとほぼ同水準にまで減少できることがわかる。
【００３３】
（比較例１）
参考例１で得た劣化触媒を用いて塩化水素を酸素で酸化する反応を行ったときの触媒活性を、実施例１と同様の方法で評価した。結果を表１に示す。
【００３４】
（比較例２）
参考例１で得た劣化触媒５ｇとイオン交換水４５ｇとを容器に入れて混合し、２５℃で２４時間静置することにより両者を接触させた。その後、上澄み液をデカンテーションにより除去して固形物を得、引き続き、この固形物を再びイオン交換水４５ｇとともに容器に入れ、２５℃で静置し、上澄み液をデカンテーションにより除去する操作を２回繰返した。このとき、静置時間は１回目は２４時間、２回目は７２時間とした。その後、６０℃で恒量になるまで（２時間以上）乾燥して、水処理した触媒を得た。
次に、得られた触媒を用いて塩化水素を酸素で酸化する反応を行ったときの触媒活性を、実施例１と同様の方法で評価した。結果を表１に示す。また、得られた触媒をＩＣＰ発光分析法により分析したところ、硫黄含有量は０．０８８重量％であった。
【００３５】
（比較例３）
参考例１で得た劣化触媒１ｇを、内径１３ｍｍのニッケル製反応管に充填し、さらに触媒層のガス入口側に予熱層として、α−アルミナ球（ニッカトー（株）製「ＳＳＡ９９５」）１２ｇを充填した。この反応管内に窒素ガスを８０ｍＬ／分の速度で供給しながら、溶融塩（硝酸カリウム／亜硝酸ナトリウム＝１／１（重量比））を熱媒体とする塩浴に反応管を浸して、触媒層の温度を３５０℃にした。次いで、窒素ガスの供給を停止した後、一酸化炭素ガスおよび窒素ガスを、一酸化炭素ガスは３．２ｍＬ／分（０．００９ｍｏｌ／ｈ）の速度で、窒素ガスは２８．８ｍＬ／分（０．０８ｍｏｌ／ｈ）の速度で供給し、３５０℃で２時間保持することにより、還元性ガスによる接触処理を行った。
【００３６】
次いで、上記還元性ガスによる接触処理に引き続き、酸化性ガスによる接触処理を行った。すなわち、一酸化炭素ガスの供給を停止した後、酸素ガスおよび窒素ガスを、酸素ガスは４０ｍＬ／分（０．００９ｍｏｌ／ｈ）の速度で、窒素ガスは１６０ｍＬ／分（０．４３ｍｏｌ／ｈ）の速度で供給し、３５０℃で２時間保持することにより、酸化性ガスによる接触処理を行い、還元性ガスによる接触処理の後、酸化性ガスによる接触処理を施した触媒を得た。
【００３７】
次に、得られた触媒を反応管から取り出すことなく、上記酸化性ガスによる接触処理に引き続き、塩化水素を酸素で酸化する反応を行ったときの触媒活性を評価した。すなわち、酸素ガスの供給を停止し、窒素ガスの供給速度を８０ｍＬ／分（０．２１ｍｏｌ／ｈ）とした後、触媒層の温度を２８１〜２８２℃にした。次いで、これ以降は実施例１の触媒活性評価と同様にして、窒素ガスの供給を停止した後、塩化水素ガスおよび酸素ガスを供給して酸化反応を行い、塩素の生成量を測定し、塩化水素の転化率（％）を算出した。結果を表１に示す。
【００３８】
【表１】
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