(57)【要約】【課題】本発明は、ラスタ出力スキャナのバンディングを緩和するためのシステム及び方法を提供する。【解決手段】第１のスワス４１０のうち、点４３０ａ、４３２ａ、４３４ａ、４３６ａ、４３８ａ、４４０ａ、４４２ａ、４４４ａ、４４６ａ、４４８ａ、４５０ａ、４５２ａ、４５４ａ、及び４５６ａが、第２のスワス４２０のうち、対応点４３０ｂ、４３２ｂ、４３４ｂ、４３６ｂ、４３８ｂ、４４０ｂ、４４２ｂ、４４４ｂ、４４６ｂ、４４８ｂ、４５０ｂ、４５２ｂ、４５４ｂ及び４５６ｂによって上書きされる。第１のスワス４１０の回転エラーによる継目は、第２のスワス４２０の一行の中間に書き込まれる。スワス間継目がアレイの回転エラーと一致しない露光エラーの振幅が低減され、継目の相互作用による振幅の増大が防止される。また、残りの露光エラーの周波数が２倍になるため、エラーが目視しにくくなり、ハーフトーンによるビートが低減されやすい。 【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
印刷システム内の受光体へ画像を投射する光走査装置であって、
複数のビーム出力を生成するレーザ光源であって、前記ビーム出力が、略水平な軸と前記水平な軸に垂直な略垂直な軸内の二次元的平行四辺形アレイに配置され、前記二次元的平行四辺形アレイが、各行が同数の偶数のビーム出力を有する奇数行のビーム出力を有しているレーザ光源と、
各々が前記レーザ光源から放出されたビームを偏向する複数の偏向面を含む回転ポリゴンミラーであって、前記ビーム出力アレイが、前記回転ポリゴンミラーを介して受光体へ第１のスワスＮ個を投射し、次に、スワス［（Ｎ＋１）個、（Ｎ＋２）個、・・・］が先行スワスのビーム出力数の半分から下のレベルに配置され、一つのスワスが他のスワスの上に置かれた時に継目が形成され、行間の間隔エラーがスワス間継目エラーと一致しない、回転ポリゴンミラーと、
を含む、光走査装置。
【請求項２】
前記二次元平行四辺形アレイが、垂直配向を有し、前記行数が一列当たりの前記ビーム出力数より大きい、請求項１に記載の光走査装置。
【請求項３】
前記二次元平行四辺形アレイが、水平配向を有し、前記行数が前記ビーム出力数以下である、請求項１に記載の光走査装置。
【請求項４】
前記垂直軸に対して、各行の発光出力間の距離が同一行内の各発光出力の距離に等しい、請求項１に記載の光走査装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、一般に、ラスタ出力スキャナに係り、具体的には、エミッタ（発光体）の回転によって生じるエラーの感度を低減することによって、ラスタ出力スキャナにおけるバンディング（階調割れによる縞模様）の影響度が低減されるラスタ出力スキャナに関する。また、本発明は、他の同様の用途にも対応可能である。
【背景技術】
【０００２】
従来のマルチビームラスタ出力スキャナ（ＲＯＳ）は、中心軸を回転する反射性多面体の多面鏡（以下、ポリゴンミラー）を有している。ポリゴンミラーは、受光体を横切る変調レーザ光源から放出される光線（以下、ビーム）を繰り返し掃引する。受光体は、軸回転するドラム上に設けられてもよいし、又は、ローラ上の閉路に沿って回転するベルトの上に設けられてもよい。いずれの場合も、記録媒体が直交（処理）方向に進行する間、ビームは、線走査方向に移動する。ビームは、ラスタ走査パターンに基づいて、記憶媒体を走査する。ディジタル印刷は、画素（ピクセル）データストリームに基づいて、ビームの一本一本を連続的に強度変調することによって、実行される。したがって、受光体が露光されて、画素データによって表される画像を形成する。
【０００３】
しかしながら、回転ポリゴンミラー光学系の使用は、いくつかの特有の問題を呈する。ポリゴンミラーの回転の不安定の原因となる光学系又はミラーの欠陥及び／又は機械的な不具合の結果として、受光体の表面を横切って走査するビームの撓み（ボウ）やぐらつき（ウォブル）が生じる。これらの問題に対処するには、一般に、光源とポリゴンミラーと受光体表面の間に、複雑で精確なコストの高い光学素子を設けることが必要とされる。また、受光体上の様々な点において撮像する光学系の様々な部分において光学系が変化する「屈折率の変化」を補うために、光学的に複雑な素子も必要とされる。焦点が異なる場合、書込みスポットは、異なる大きさであってよいし、又は、ＲＯＳ（ラスタ出力スキャナ）の撮像用光学系の焦点長さを変化させる所望の位置から移動されてもよい。
【０００４】
いくつかの実施形態において、変調レーザ光源は、垂直共振器面発光レーザ（ＶＣＳＥＬ）アレイを含む。ＶＣＳＥＬアレイは、個々のレーザ光源の一次元又は二次元のアレイである。ＶＣＳＥＬアレイ内の一個一個のレーザ光源は、ＶＣＳＥＬアレイの駆動回路に送られるビデオデータ情報に応答して、受光体の表面上の対応領域を露光すべく、ビームを生成するために使用される対応駆動回路を有している。受光体は、ＶＣＳＥＬアレイから分配されるビーム間露光によって生成される連続走査線の形成によって、所望の画像が提供されるように、処理方向に進行する。本発明に用いられているように、垂直配向アレイの行の数は、エミッタの列より多い。これに対して、水平配向アレイは、エミッタの列数と同じか又はそれより少ない行数を有している。
【０００５】
高解像度のＶＣＳＥＬラスタ出力スキャナ（ＲＯＳ）の主な欠陥は、発光アレイの極めて少ない回転量におけるバンディングの感度である。いくつかの種類のバンディングを上書きにより抑制することはできるが、従来のエミッタジオメトリ（発光体幾何学）に対する発光アレイの回転エラーによるバンディングを抑制することはできない。この抑制不足は、上書きの際、一通過の回転露光エラーが、先行通過の回転露光エラーにぴったり合わせて書き込まれるために発生する。このため、露光エラーは、二つの露光の平均を取るだけでは削減されない。更に、既存のエラー補正方法は、刈幅（以下、スワス）間の継目に行間継目を書き込むものだが、これらの継目が相互作用して、バンディングの振幅が大きくなるという問題があった。
【０００６】
図１は、４列８行で配置された３２個のエミッタを含む垂直配向アレイ１００を用いた回転エラーの一例を示している。図示されているように、行数が列数より多いので、アレイ１００は、垂直配向である。この実施例において、アレイは、わずかな反時計回りの回転エラーを有しており、これが、行間のラスタの間隔が行間隔より大きいラスタ間隔エラーの原因となっている。また、連続スワス間の継目が行間の継目の上にぴったり重なっているため、露光エラーをさらに悪化させる原因となっていた。
【０００７】
図２は、水平配向を有するアレイ２００に対して生じる回転エラーを示している。この実施の形態において、アレイ２００は、アレイ１００が９０°回転されたもので、高速のイメージ・オン・イメージ製品に必要とされるより大きな光学効率を可能とする。しかしながら、水平配向は、行の長さが長く（例えば、２〜３倍）、回転エラーの周波数が、第１のジオメトリ１００の半分に減少するので、バンディングに対する感度が一層高くなるという問題があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】米国特許第５，２３３，３６７号
【特許文献２】米国特許第３，７８１，４６４号
【特許文献３】米国特許第４，４４５，１２６号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
従って、本発明の目的は、ＶＣＳＥＬアレイの配向にかかわらず、ラスタ出力スキャナのバンディングを緩和するためのシステム及び方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の一態様において、光走査装置は、印刷システムの受光体に画像を投射する。レーザ光源は、複数のビーム出力を生成し、ビーム出力は、略水平軸と、この水平軸に垂直な略垂直軸内の二次元的平行四辺形アレイ内に配列される。二次元的平行四辺形アレイは、奇数行のビーム出力を有し、各行は、同数の偶数のビーム出力を有する。回転ポリゴンミラーは、複数の偏向面を含み、偏向面の各々は、レーザ光源から放出されたビームを偏向する。ビーム出力アレイは、回転ミラーを介して第１のスワスＮ個を受光体へ投射し、その後、スワス［（Ｎ＋１）個、（Ｎ＋２）個、・・・］が、先行スワスのビーム出力数の半分から下のレベルに配置される。各スワスは、二次元アレイとして、同数の発光出力を有している。
【００１１】
他の態様において、光走査装置は、印刷システムの受光体に画像を投射する。レーザ光源は、複数のビーム出力を生成し、ビーム出力は、略水平軸と、この水平軸に垂直な略垂直軸内の二次元的平行四辺形アレイ内に配列される。二次元的平行四辺形アレイは、奇数行のビーム出力を有し、各行は、同数の偶数のビーム出力を有する。回転ポリゴンミラーは、複数の偏向面を含み、偏向面の各々は、レーザ光源から放出されたビームを偏向する。ビーム出力アレイは、回転ミラーを介して第１のスワスＮ個を受光体へ投射し、その後、スワス［（Ｎ＋１）個、（Ｎ＋２）個、・・・］が、先行スワスのビーム出力数の半分から下のレベルに配置される。同態様においては、一個のスワスが他のスワスの上に置かれた時に継目ができる。また、行間間隔エラーはスワス間継目エラーと一致しない。
【００１２】
更に他の態様において、光走査装置は、印刷システムの受光体に画像を投射する。レーザ光源は、複数のビーム出力を生成し、ビーム出力は、略水平軸と、この水平軸に垂直な略垂直軸内の二次元的平行四辺形アレイ内に配列される。二次元的平行四辺形アレイは、奇数行のビーム出力を有し、各行は、同数の偶数のビーム出力を有する。回転ポリゴンミラーは、複数の偏向面を含み、偏向面の各々は、レーザ光源から放出されたビームを偏向する。ビーム出力アレイは、回転ミラーを介して第１のスワスＮ個を受光体へ投射し、その後、スワス［（Ｎ＋１）個、（Ｎ＋２）個、・・・］が、先行スワスのビーム出力数の半分から下のレベルに配置される。エミッタ回転エラーによる行間間隔エラーは、連続するスワス間で移動し、この移動が、一個のスワスがその後のスワスの行の中心又はその近傍に来るように位置付けられる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明の例示的な実施の形態による、垂直配向アレイの回転エラーを示す図である。
【図２】本発明の例示的な実施の形態による、水平配向アレイの回転エラーを示す図である。
【図３】本発明の例示的な実施の形態による、ラスタ出力走査装置を用いたプリンタを示す図である。
【図４】本発明の例示的な実施の形態による、発光アレイのジオメトリの一例を示す図である。
【図５】本発明の例示的な実施の形態による、０．４°のアレイ回転エラーから得られた露光の周波数スペクトル全体の成分を示すグラフである。
【図６】本発明の例示的な実施の形態による、１２サイクル／ｍｍの露光エラー時の振幅（ｙ軸）と回転エラー（ｘ軸）を示すグラフである。
【図７】本発明の例示的な実施の形態による、２４周期／ｍｍの露光エラー時の振幅（ｙ軸）と回転エラー（ｘ軸）を示すグラフである。
【図８】本発明の例示的な実施の形態による、画像形成システムにおける１．２３％の拡大エラー時の周波数スペクトル成分を示すグラフである。
【図９】本発明の例示的な実施の形態による、１０回の実験を平均して得られたランダムビーム間パワーが１％の時の基本周波数の振幅を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
図３は、本開示の実施の形態に関する画像形成装置１０の一般的な構造を示す図である。画像形成装置１０は、筐体１２によって覆われている。画像形成部１４は、筐体１２内に設置される。画像形成部１４は、円筒状受光体１６と光走査装置１８を含む。受光体１６は、矢印方向（ａ）に定速回転する。光走査装置１８は、走査しながら、所望の画像データに基づいて、ビームを受光体１６へ方向付ける（図３の矢印方向（ｂ））。
【００１５】
帯電ユニット２０は、受光体１６の周面近傍に配置される。帯電ユニット２０は、受光体１６が矢印方向（ａ）に、所定の速度で回転して、この受光体１６を均一に帯電する。ポリゴンミラー５２の回転が、ビームｂをして、受光体１６の軸に平行な経路に沿って、走査させる。ビームの強度は、走査されながら、像様に変調され、受光体１６を選択的に放電し、この受光体１６上に潜像を形成する。
【００１６】
トナーを受光体１６へ供給する現像ユニット２２は、光走査装置１８からのビーム（又は複数のビーム）によって照射される位置から、受光体１６の周面に対向しながら、受光体１６の回転方向下流側に配置される。現像ユニット２２から供給されるトナーは、光走査装置１８からビームによって既に照射されている部分に付着される。これによって、トナー画像が受光体１６の周面上に形成される。
【００１７】
転写帯電器２４は、現像ユニット２２が配置されている位置から、受光体１６の回転方向の下流側（受光体１６の中心軸の真下の位置）に、受光体１６の周面に対向しながら、配置されている。転写帯電器２４は、受光体１６の周面に形成されたトナー画像を紙３０へ転写し、画像転写後の紙３０は、給紙トレイ２６又は手差し給紙トレイ２８から、受光体１６と転写帯電器２４の間へ、案内される。
【００１８】
クリーナー３２は、転写帯電器２４が配置されている位置から、受光体１６の回転方向の下流側に、受光体１６に対向するように、配置される。転写後、受光体１６の周面に残ったトナーは、クリーナー３２によって除去される。
【００１９】
トナー画像がすでに転写されている紙３０は、矢印方向（ｃ）に排紙される。加圧ローラ３４と加熱ローラ３６を含む定着ユニット３８は、受光体１６より、紙３０の排紙方向の下流側に、配置されている。定着ユニット３８において、トナー画像がすでに転写されており、排紙されつつある紙３０は、加圧、加熱後、トナーは融着によって定着される。即ち、「定着処理」は、定着ユニット３８において行われ、所定の画像が紙３０に記録される。定着処理が終了し、画像が記録された紙３０は、排紙トレイ４０へ排紙される。
【００２０】
光走査装置１８には、アレイ形半導体レーザ（以下、「レーザアレイ」と称する）とポリゴンミラーが設けられている。ポリゴンミラーは、正多角形を成し、側面に複数の反射面を含み、モーター（図示なし）によって高速回転することができる。レーザアレイは、複数の発光スポットが二次元的に配置されるＶＣＳＥＬ（垂直共振器面発光レーザ）であってよい。ＶＣＳＥＬは、複数の発光スポットが二次元的に配置されるマルチスポットレーザダイオードを含むことができる。
【００２１】
一つの配置構成において、マルチスポットレーザダイオードは、所定間隔をおいて二次元的に配置された、主走査方向に７個×副走査方向に４個の合計２８個の発光スポットを有している。他の配置構成において、マルチスポットレーザダイオードは、所定間隔をおいて二次元的に配置された、ある走査方向に６個×他の走査方向に４個の合計２４個の発光スポットを有することができる。これらの例示的な配置構成は、例示目的のために示されるものであり、本発明を限定することを意図しない。他の光学走査素子の低減方法も実行でき、当業者に良く知られている。例えば、発光素子５０は、単一チップに複数のエミッタを有する単一の端放射レーザダイオード、又は複数のダイオードであってよい。走査機能は、回転ポリゴンミラー５２を用いて実行されているものが図示されているが、発振検流計又はマイクロ電気機械システムによっても実行可能である。
【００２２】
図４は、発光源の例示的なジオメトリを含むアレイ４００を示している。アレイ４００は、電子写真式プリンタ内の画像形成システムによって用いられ、上書き（オーバーライト）又は飛越し（インターレース）のいずれかの書き込み方法において書き込むことができる。１つの方法において、アレイ４００は、複数のビームを回転ミラーへ投射し、次に、受光体へ光を投射する。ミラーが回転するにつれて、ミラーは、複数の光通過により受光体へ投射する。ここで、アレイ４００から、第１の通過（パス）により第１のスワス４１０を投射し、第２の通過により第２のスワス４２０を投射する。明確化のために、第１のスワス４１０と第２のスワス４２０は、離間させて、図示されている。しかしながら、実際は、第２のスワス４２０が第１のスワス４１０に部分的に上書きされることが理解されよう。このジオメトリによって、行間継目がスワス間継目の上に書き込まれることが回避され、これらの相互作用する継目によって、バンディングの振幅が低下される。従って、構造が複雑で費用も掛かる発光アレイの回転エラーの補正に代わって、発光アレイのジオメトリによってエラーが緩和される。
【００２３】
アレイ４００のジオメトリは、各行に４つのエミッタを含む７行形成されており、合計２８個のエミッタを含む。従って、この実施の形態において、アレイ４００は、垂直配向に構成されている。しかしながら、行数は、ほぼ任意の奇数（例えば、３、５、７、９、１１等）であってよい。一行当たりのエミッタの数は、ほぼ任意の偶数（例えば、２、４、６、８、１０、１２等）であってよい。各行は、同数のエミッタを含む。このように、行の数によって、垂直配向が維持される。また、行内の偶数のエミッタによって、一個のスワスに対するアレイ回転エラーによる継目が、上書きスワスに対するアレイ回転エラーから、できるだけ遠くに離れて配置されることが可能となる。更に、短い行（例えば、２、４、又は６個のエミッタ）の使用により、発光アレイの回転エラーによるラスタ線のズレを最小限に抑えることもできる。
【００２４】
この実施例は、第１のスワス４１０が書き込まれた後、第２のスワス４２０が書き込まれる、あるレベルの上書きを示している。第２のスワス４２０は、アンカー点４３０ａによって規定される、第１のスワス４１０の発光源の数の半分より下の位置に書き込まれ、この例では、３．５行分（１４個のエミッタ）に相当する。より具体的には、第１のスワス４１０のうち、点４３０ａ、４３２ａ、４３４ａ、４３６ａ、４３８ａ、４４０ａ、４４２ａ、４４４ａ、４４６ａ、４４８ａ、４５０ａ、４５２ａ、４５４ａ、及び４５６ａが、第２のスワス４２０のうち、対応点４３０ｂ、４３２ｂ、４３４ｂ、４３６ｂ、４３８ｂ、４４０ｂ、４４２ｂ、４４４ｂ、４４６ｂ、４４８ｂ、４５０ｂ、４５２ｂ、４５４ｂ及び４５６ｂによって上書きされる。第１のスワス４１０の回転エラーによる継目は、第２のスワス４２０の一行の中間に書き込まれる。したがって、スワス間継目がアレイの回転エラーと一致しない露光エラーの振幅が低減されるため、継目の相互作用による振幅の増大が防止される。また、残りの露光エラーの周波数が２倍になるため、エラーが目視しにくくなり、ハーフトーンによるビートが低減されやすい。
【００２５】
奇数の等長の行アレイ構成は、インターレース書き込みによって、受光体上に書き込むために、使用することができる。受光体が移動するとともにミラーが単一の小面（ファセット）を介して回転するにつれて、発光アレイ４００は、インターレースアルゴリズムに基づいて、多数の走査線を規定する。ミラーの連続ファセットは、受光体の動作によって発光アレイ４００が通過しきるまで、既に規定されている走査線間又はそれらの上部に走査線を位置決めする。一例において、インターレース２本（奇数行：６行４本、１行３本）からなる２７本のビームによる書き込みは、インターレース２本（偶数行：７行４本、３１行３本）からなる３１本のビームによる書き込みより良好な回転継目の平均化を提供する。
【００２６】
本発明では、アレイ回転、拡大、及びビーム間の非均一性などのエラーの種類において模擬実験を行った。図５〜図９に示す結果は、拡大又はビーム間非均一性の感度を増加せずに、アレイ回転感度を低減することを示している。図５は、０．４°のアレイ回転エラーから得られた露光に対する周波数スペクトル全体の成分を示す４つのグラフ５１０、５２０、５５０及び５６０を示す。グラフ５１０及び５５０は、水平配向を示しているが、グラフ５２０及び５６０は、垂直配向を示している。更に、グラフ５１０及び５２０は、偶数行を示しているが、グラフ５５０及び５６０は、奇数行を示している。グラフ５１０、５２０、５５０、及び５６０の各々において、Ｙ軸は、露光振幅のエラーを示しており、Ｘ軸は、空間周波数（周期／ｍｍ（ミリメートル））を示している。
【００２７】
グラフ５１０は、約１２周期／ｍｍ、約２４周期／ｍｍ、及び約３６周期／ｍｍにおける三つの個別の成分を示している。約１２周期／ｍｍの成分の振幅が約１１００露光単位、約２４周期／ｍｍの成分の振幅が約３００露光単位、そして、約３６周期／ｍｍの成分の振幅が約４０露光単位であった。これに対して、グラフ５２０は、約３００露光単位の振幅を有する約２４周期／ｍｍにおいて、一つの明確なエラー成分を示している。したがって、垂直配向を用いることによって、０．４°のアレイ回転エラーに対して、成分の数と振幅が削減されることが分かった。
【００２８】
グラフ５５０は、グラフ５１０と同様、水平配向を示している。しかしながら、グラフ５５０とグラフ５１０の違いは、グラフ５５０の行数が奇数であることにある。ここでは、約３００露光単位の振幅を有する約２４周期／ｍｍにおける単一成分にエラーが限定され削減されている。したがって、偶数行と比較した場合、奇数行を有する水平配向を用いることによって、エラー成分の数が大幅に削減される。グラフ５６０は、奇数行を有する垂直配向を用いた場合、このエラーを完全に除去できることを示している。図示されているように、発光アレイの０．４°の回転エラーの周波数スペクトル内に、目立ったエラー成分はない。
【００２９】
図６は、約１２周期／ｍｍにおける露光エラーに関する四つのグラフ６１０、６２０、６５０、及び６６０を示している。Ｙ軸は、エラーの振幅を露光単位で示しており、Ｘ軸は、発光アレイ回転エラーの程度を示している。図５と同様に、グラフ６１０及びグラフ６５０は、水平配向を示しており、グラフ６２０及びグラフ６６０は、垂直配向を示している。また、グラフ６１０及び６２０は、ジオメトリ内で偶数行を示しており、グラフ６５０及び６６０は、ジオメトリ内で奇数行を示している。
【００３０】
グラフ６１０は、０°回転エラーに対して、略ゼロの露光単位であり、−０．５°回転エラーに対して、約１１００の露光単位、＋０．５°回転エラーに対して、約１２００の露光単位へ、線形的に増加するＶ字型の露光エラーの振幅を示している。グラフ６２０は、偶数行を有する垂直配向を用いた場合、露光エラーは略ゼロであることを示している。グラフ６５０は、奇数行を有する水平矩形ジオメトリを用いた場合にわずかに増加するエラーを示している。グラフ６６０は、奇数行を有する垂直矩形ジオメトリを用いた場合のゼロ露光エラーを示している。したがって、垂直配向を用いることによって、約１２周期／ｍｍにおける露光エラーを有する行数にかかわらず、エラーを最小量に留め得る。
【００３１】
図７は、約２４周期／ｍｍにおける露光エラーに対して、Ｙ軸において露光振幅を示し、Ｘ軸において発光アレイ回転エラーの程度を示す四つのグラフ７１０、７２０、７５０及び７６０を示している。グラフ７１０及び７５０は、水平配向を示しており、グラフ７２０及び７６０は、垂直配向を示している。更に、グラフ７１０及び７２０は、ジオメトリ内の偶数行を示しており、グラフ７５０及び７６０は、ジオメトリ内の奇数行を示している。グラフ７１０、７２０、及び７５０は、一般に、０°〜−０．５°と０°〜＋０．５°の両間で、０〜３００露光単位の範囲で、線形的に増加するＶ字型の露光エラーを示している。一方、グラフ７６０は、回転エラー値にかかわらず、目立った露光エラーを示していない。したがって、奇数行を有する垂直配向を用いることによって、広域スペクトルの回転エラーの割合に対して、最大のエラー補償が提供される。
【００３２】
図８は、画像形成システム内の１．２３％の拡大エラーに対する周波数スペクトル成分を示す４つのグラフ８１０、８２０、８５０及び８６０を示している。各グラフのＹ軸は、エラー振幅を露光単位で示しており、Ｘ軸は、空間周波数を周期／ｍｍで示している。グラフ８１０及び８５０は、水平配向を示しており、グラフ８２０及び８６０は、垂直配向を示している。また、グラフ８１０及び８２０は、ジオメトリ内の偶数行を示し、グラフ８５０及び８６０は、ジオメトリ内の奇数行を示している。
【００３３】
グラフ８１０は、約６周期／ｍｍ、約１２周期／ｍｍ、１８周期／ｍｍ、２４周期／ｍｍ、３０周期／ｍｍ、及び約３６周期／ｍｍにおける６つの離散周波数に対応するさまざまな振幅の６つの成分を示している。グラフ８２０は、ほぼ同一の振幅を有する略同じ場所において成分を有する同様の結果を示している。しかしながら、グラフ８５０は、略８周期／ｍｍ、１６周期／ｍｍ、２４周期／ｍｍ、及び３２周期／ｍｍにおいて四つの成分のみを有する周波数スペクトル内の成分数が、かなり低減されたことを示している。グラフ８６０は、ほぼ同じ場所と振幅において四つの成分を有するグラフ８５０と同様の結果を示している。このように、奇数行を用いることによって、矩形配向のジオメトリにかかわらず、１．２３％の拡大エラーに対して、偶数行を有する発光アレイであっても、かなりのエラー削減が行われる。
【００３４】
図９は、１０個の実施例を平均した１％のランダムなビーム間電力に対する露光の基本的な空間周波数の振幅を示すグラフ９００を示している。標準のエミッタジオメトリを用いた時、水平配向は、略７８個の露光ユニットを示している。この振幅は、水平配向において奇数行を有する２４本のビームのエミッタジオメトリを用いた時、略６８個の露光ユニットに削減される。同様に、垂直配向は、従来のジオメトリを有する１０４個の露光ユニットであり、奇数行において２８本のビームを有する例示的な字を用いて７８個の露光ユニットに減少した。したがって、本実施形態は、非均一性を悪化させずに、現実に、低減された振幅を示すことができる。
【符号の説明】
【００３５】
１０：画像形成装置
１２：筐体
１４：画像形成部
１６：円筒状受光体
１８：光走査装置
２０：帯電ユニット
２２：現像ユニット
２４：転写帯電器
２６：給紙トレイ
２８：手動給紙トレイ
３０：紙
３２：クリーナー
３４：加圧ロール
３６：加熱ロール
３８：定着ユニット
４０：排紙トレイ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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