(57)【要約】      （修正有）【課題】製造方法が簡単で、且つ最終的に外部からキラルを導入することで単一構造の二元金属軸不斉化合物を得ることができ、さらに、複数種の不斉触媒反応に用いることができ、高い反応活性及び立体選択性を有する新規な配位子及びその合成方法を提供する。【解決手段】下式（１）で表される２，２’，６，６’−テトラヒドロキシ−３，３’，５，５’−四置換ビフェニル配位子、及びＳｕｚｕｋｉカップリングまたはＵｌｌｍａｎｎカップリング反応を用いて合成したエーテル基含有ビフェニル誘導体と脱アルキル化剤を反応させることによる該２，２’，６，６’−テトラヒドロキシ−３，３’，５，５’−四置換ビフェニル配位子の製造方法。2010059159.tif 000012（式中、Ｒはアルキル基、アリール基、シクロアルキル基、アラルキル基又はハロゲン原子を示す。）【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（１）で表されることを特徴とする新規な２，２’，６，６’−テトラヒドロキシ−３，３’，５，５’−四置換ビフェニル配位子。
【化１】
2010059159.tif 000007
（式中、Ｒはアルキル基、アリール基、シクロアルキル基、アラルキル基又はハロゲン原子を示す。）
【請求項２】
前記一般式（１）中のＲがフェニル基、ｐ−トリフルオロメチルフェニル基、ｐ−ｔ−ブチルフェニル基、メチル基又は臭素を示すことを特徴とする請求項１記載の２，２’，６，６’−テトラヒドロキシ−３，３’，５，５’−四置換ビフェニル配位子。
【請求項３】
前記２，２’，６，６’−テトラヒドロキシ−３，３’，５，５’−四置換ビフェニル配位子が、一般式（２）で表される２，２’，６，６’−テトラアルコキシ−３，３’，５，５’−四置換ビフェニルと脱アルキル化剤とを反応させて得るものであることを特徴とする請求項１又は２に記載の２，２’，６，６’−テトラヒドロキシ−３，３’，５，５’−四置換ビフェニル配位子。
【化２】
2010059159.tif 000008
（式中、Ｒ’はアルキル基を示す。Ｒは前記と同義。）
【請求項４】
前記一般式（２）で表される２，２’，６，６’−テトラアルコキシ−３，３’，５，５’−四置換ビフェニルが、下記一般式（３）で表される２，２’，６，６’−テトラアルコキシ−３，３’，５，５’−テトラハロゲン化ビフェニルと、一般式：Ｒ−Ｂ（ＯＨ）２で表されるホウ酸化合物とを反応させて得るものであることを特徴とする請求項３記載の２，２’，６，６’−テトラヒドロキシ−３，３’，５，５’−四置換ビフェニル配位子。
【化３】
2010059159.tif 000009
（式中、Ｘはハロゲン原子を示す。Ｒ’は前記と同義。前記一般式：Ｒ−Ｂ（ＯＨ）２で表されるホウ酸化合物のＲは前記と同義。）
【請求項５】
下記一般式（１）で表される新規な２，２’，６，６’−テトラヒドロキシ−３，３’，５，５’−四置換ビフェニル配位子の合成方法であって、
【化１】
2010059159.tif 000010
（式中、Ｒはアルキル基、アリール基、シクロアルキル基、アラルキル基又はハロゲン原子を示す。）
２，２’，６，６’−テトラアルコキシビフェニルを出発原料とし、ハロゲンと反応させて２，２’，６，６’−テトラアルコキシ−３，３’，５，５’−テトラハロゲン化ビフェニルを得る工程（Ａ１）と、
２，２’，６，６’−テトラアルコキシ−３，３’，５，５’−テトラハロゲン化ビフェニルと、一般式Ｒ−Ｂ（ＯＨ）２（Ｒは前記と同義。）で表されるホウ酸化合物とをＳｕｚｕｋｉカップリング反応させて、２，２’，６，６’−テトラアルコキシ−３，３’，５，５’−四置換ビフェニルを得る工程（Ａ２）と、
２，２’，６，６’−テトラアルコキシ−３，３’，５，５’−四置換ビフェニルを脱アルキル化剤と反応させて脱アルキル化し、前記一般式（１）で表される２，２’，６，６’−テトラヒドロキシ−３，３’，５，５’−四置換ビフェニルを得る工程（Ａ３）と、
を含むことを特徴とする新規な２，２’，６，６’−テトラヒドロキシ−３，３’，５，５’−四置換ビフェニル配位子の合成方法。
【請求項６】
前記Ｒがフェニル基、ｐ−トリフルオロメチルフェニル基又はｐ−ｔ−ブチルフェニル基を示すことを特徴とする請求項５記載の２，２’，６，６’−テトラヒドロキシ−３，３’，５，５’−四置換ビフェニル配位子の合成方法。
【請求項７】
４，６−ジハロゲン化−１，３−ジアルコキシベンゼンを出発原料とし、一般式Ｒ−Ｂ（ＯＨ）２（Ｒは前記と同義。）で表されるホウ酸化合物とのＳｕｚｕｋｉカップリング反応により、４，６−二置換−１，３−ジアルコキシベンゼンを得る工程（Ｂ１）と、
４，６−二置換−１，３−ジアルコキシベンゼンをリチオ化してヨード化し、一般式（４）で表される２−ヨード−４，６−二置換−１，３−ジアルコキシベンゼンを得る工程（Ｂ２）と、
【化４】
2010059159.tif 000011
（式中、Ｒ’及びＲは前記と同義。）
２−ヨード−４，６−二置換−１，３−ジアルコキシベンゼンをＵｌｌｍａｎｎカップリング反応させて、２，２’，６，６’−テトラアルコキシ−３，３’，５，５’−四置換ビフェニルを得る工程（Ｂ３）と、
２，２’，６，６’−テトラアルコキシ−３，３’，５，５’−四置換ビフェニルと脱アルキル化剤とを反応させて脱アルキル化し、２，２’，６，６’−テトラヒドロキシ−３，３’，５，５’−四置換ビフェニル配位子を得る工程（Ｂ４）と、
を含むことを特徴とする請求項６記載の２，２’，６，６’−テトラヒドロキシ−３，３’，５，５’−四置換ビフェニル配位子の合成方法。
【請求項８】
前記一般式Ｒがメチル基を示すことを特徴とする請求項５記載の２，２’，６，６’−テトラヒドロキシ−３，３’，５，５’−四置換ビフェニル配位子の合成方法。
【請求項９】
２，２’，６，６’−テトラアルコキシビフェニルをクロロメチル化反応させて、２，２’，６，６’−テトラアルコキシ−３，３’，５，５’−テトラクロロメチルビフェニルを得る工程（Ｃ１）と、
２，２’，６，６’−テトラアルコキシ−３，３’，５，５’−テトラクロロメチルビフェニルを還元反応させて、２，２’，６，６’−テトラアルコキシ−３，３’，５，５’−テトラメチルビフェニルを得る工程（Ｃ２）と、
２，２’，６，６’−テトラアルコキシ−３，３’，５，５’−テトラメチルビフェニルを脱アルキル化反応させて、２，２’，６，６’−テトラヒドロキシ−３，３’，５，５’−テトラメチルビフェニルを得る工程（３）と、
を含むことを特徴とする請求項８記載の２，２’，６，６’−テトラヒドロキシ−３，３’，５，５’−四置換ビフェニル配位子の合成方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は新規な配位子及びその合成方法に関し、具体的には不斉触媒反応に用いる２，２’，６，６’−テトラヒドロキシ−３，３’，５，５’−四置換ビフェニル配位子及びその合成方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
キラル薬物製造業の急速な成長は、主に不斉合成に関する研究の大きな発展に繋がっている。不斉触媒反応は単一光学異性体のキラルな薬物を得る最も理想的な手法であり、少量の不斉触媒から大量のキラル化合物が得られ、廃棄物の発生を低減ないし回避でき、環境調和性に優れている上に、原子効率が高く、更にラセミ体の煩雑な分割を避けることができる。
【０００３】
高選択性及び高触媒活性の不斉触媒の設計及び合成は不斉触媒合成の重要なキーとなる。遷移金属触媒による不斉反応において、金属に配位したキラルな配位子は反応活性及びエナンチオ選択性にとって決定的な役割を果たしている。
【０００４】
軸不斉配位子のＢＩＮＡＰが開発されて以来、ビフェニル又はビナフチル骨格を有する配位子が人々に注目されるようになり、それから誘導された触媒系もこの分野でかなりよい効果を得られた。
【０００５】
多くの不斉触媒反応系はただ１つの触媒中心を持ち、基質及び試薬との配位結合により活性化され、配位子の不斉環境の影響で、熱力学的に安定な遷移状態を形成し、最終的に不斉誘導を達成する。最近、二元金属配位子も大きな注目を集めている。二元金属配位子は有機金属の新しい骨格として、２つの金属の調整により役割を果たすことができ、多くの反応に対して良好な化学選択性及びエナンチオ選択性を提供している。従って、二元金属軸不斉配位子の開発は学術界及び産業界が関心を寄せている重要な研究領域になっている。
【０００６】
本発明はこのような二元金属配位子に関するものであり、他の二金属配位子とは異なるのは、この配位子自体がアキラル化合物であり、製造方法が簡単で、且つ最終的に外部からキラルを導入することで単一構造の二元金属軸不斉化合物を得ることができる。従来技術の文献を検索した結果、現時点では本発明の主旨と同一又は類似のものは一報もなかった。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は２，２’，６，６’−テトラヒドロキシ−３，３’，５，５’−四置換ビフェニル配位子及びその合成方法を提出し、この配位子は複数種の金属触媒による不斉反応に用いることができ、高い反応活性及び立体選択性を有し、他の二元金属配位子とは異なるのは、この配位子自体がアキラル化合物であり、製造方法が簡単で、且つ最終的に外部からキラルを導入することで単一構造の二元金属軸不斉化合物を得ることができる。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、前記知見に基づきなされたものであり、下記一般式（１）で表されることを特徴とする新規な２，２’，６，６’−テトラヒドロキシ−３，３’，５，５’−四置換ビフェニル配位子を提供するものである。
【０００９】
【化１】
2010059159.tif 000002
（式中、Ｒはアルキル基、アリール基、シクロアルキル基、アラルキル基又はハロゲン原子を示す。）
【００１０】
また本発明は、２，２’，６，６’−テトラアルコキシビフェニルを出発原料とし、ハロゲンと反応させて２，２’，６，６’−テトラアルコキシ−３，３’，５，５’−テトラハロゲン化ビフェニルを得る工程（Ａ１）と、２，２’，６，６’−テトラアルコキシ−３，３’，５，５’−テトラハロゲン化ビフェニルと、一般式Ｒ−Ｂ（ＯＨ）２（Ｒは前記と同義。）で表されるホウ酸化合物とをＳｕｚｕｋｉカップリング反応させて、２，２’，６，６’−テトラアルコキシ−３，３’，５，５’−四置換ビフェニルを得る工程（Ａ２）と、２，２’，６，６’−テトラアルコキシ−３，３’，５，５’−四置換ビフェニルを脱アルキル化剤と反応させて脱アルキル化し、前記一般式（１）で表される２，２’，６，６’−テトラヒドロキシ−３，３’，５，５’−四置換ビフェニルを得る工程（Ａ３）と、を含むことを特徴とする前記一般式（１）で表される新規な２，２’，６，６’−テトラヒドロキシ−３，３’，５，５’−四置換ビフェニル配位子の合成方法を提供するものである。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、製造方法が簡単で、且つ最終的に外部からキラルを導入することで単一構造の二元金属軸不斉化合物を得ることができる。そして、複数種の不斉触媒反応に用いることができ、高い反応活性及び立体選択性を有する配位子を得ることができる。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
本発明は以下の技術案により達成されている。本発明による２，２’，６，６’−テトラヒドロキシ−３，３’，５，５’−四置換ビフェニル配位子は、下記一般式（１）で表される。
【００１３】
【化１】
2010059159.tif 000003
【００１４】
式（１）中のＲは置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基を示す。この中、Ｒは好ましくはフェニル基、ｐ−トリフルオロメチルフェニル基、ｐ−ｔ−ブチルフェニル基、メチル基又はハロゲン原子である。
【００１５】
本発明の前記一般式（１）で表される２，２’，６，６’−テトラヒドロキシ−３，３’，５，５’−四置換ビフェニル配位子は、一般式（２）で表される２，２’，６，６’−テトラアルコキシ−３，３’，５，５’− 四置換ビフェニルと脱アルキル化剤とを反応させて得ることができる。
【００１６】
【化２】
2010059159.tif 000004
（式中、Ｒ’はアルキル基を示す。Ｒは前記と同義。）
【００１７】
なお、本発明で使用する脱アルキル化剤は、前記一般式（２）中の−ＯＲ’のＲ’を脱離させて−ＯＨにするものである。このような脱アルキル化剤としては、例えば、濃硫酸、濃塩酸、濃硝酸、臭化水素酸（ＨＢｒ）水溶液、ヨウ化水素酸（ＨＩ）水溶液、三臭化ホウ素（ＢＢｒ3）、三塩化ホウ素（ＢＣｌ3）、水酸化ナトリウムなどが挙げられる。
【００１８】
前記一般式（２）中のアルキル基は、好ましくは炭素数１〜７、より好ましくは１〜５のアルキル基である。
【００１９】
前記一般式（２）で表される２，２’，６，６’−テトラアルコキシ−３，３’，５，５’− 四置換ビフェニルは、以下の方法により製造されるものが好ましい。
【００２０】
方法（Ａ）：下記一般式（３）で表される２，２’，６，６’−テトラアルコキシ−３，３’，５，５’−テトラハロゲン化ビフェニルと、一般式：Ｒ−Ｂ（ＯＨ）２で表されるホウ酸化合物とをＳｕｚｕｋｉカップリング反応させて、前記一般式（２）で表される２，２’，６，６’−テトラアルコキシ−３，３’，５，５’− 四置換ビフェニルを得る。
【００２１】
【化３】
2010059159.tif 000005
（一般式（３）中、Ｘはハロゲン原子を示す。Ｒ’及びＲは前記と同義。一般式：Ｒ−Ｂ（ＯＨ）２で表されるホウ酸化合物のＲは前記と同義。）
【００２２】
方法（Ｂ）：一般式（４）で表される２−ヨード−４，６−二置換−１，３−ジフェニルアルキルエーテルをＵＩＩｍａｎｎカップリング反応させて前記一般式（２）で表される２，２’，６，６’−テトラアルコキシ−３，３’，５，５’− 四置換ビフェニルを得る。
【００２３】
方法（Ｃ）：２，２’，６，６’−テトラアルコキシビフェニルをクロロメチル化反応を経由して、前記一般式（２）で表される２，２’，６，６’−テトラアルコキシ−３，３’，５，５’− 四置換ビフェニルを得る。
【００２４】
方法（Ａ）で使用する一般式（３）で表される２，２’，６，６’−テトラアルコキシ−３，３’，５，５’−テトラハロゲン化ビフェニルにおいて、Ｘで表されるハロゲン原子は、臭素が好ましい。
【００２５】
前記方法（Ａ）は、以下の工程（Ａ１）、（Ａ２）を有することが好ましい。工程（Ａ３）を更に有することにより一般式（１）で表される２，２’，６，６’−テトラヒドロキシ−３，３’，５，５’−四置換ビフェニル配位子を製造することができる。
【００２６】
工程（Ａ１）：好ましくは２，２’，６，６’−テトラアルコキシビフェニルを出発原料とし、好ましくは酢酸の触媒作用で、好ましくはハロゲンと反応させて２，２’，６，６’−テトラアルコキシ−３，３’，５，５’−テトラハロゲン化ビフェニルを得る。
【００２７】
工程（Ａ２）：２，２’，６，６’−テトラアルコキシ−３，３’，５，５’−テトラハロゲン化ビフェニルと、一般式Ｒ−Ｂ（ＯＨ）２（Ｒは前記一般式（１）と同義。Ｒは好ましくはフェニル基、ｐ−トリフルオロメチルフェニル基、ｐ−ｔ−ブチルフェニル基である。）で表されるホウ酸化合物とをＳｕｚｕｋｉカップリング反応させて、２，２’，６，６’−テトラアルコキシ−３，３’，５，５’− 四置換ビフェニルを得る。
【００２８】
工程（Ａ３）：好ましくは２，２’，６，６’−テトラアルコキシ−３，３’，５，５’− 四置換ビフェニルを脱アルキル化剤と反応させて脱アルキル化し、前記一般式（１）（ただし、Ｒは好ましくはフェニル基、ｐ−トリフルオロメチルフェニル基、ｐ−ｔ−ブチルフェニル基である。）で表される２，２’，６，６’−テトラヒドロキシ−３，３’，５，５’−四置換ビフェニルを得る。
【００２９】
前記方法（Ｂ）は、以下の工程（Ｂ１）〜（Ｂ３）を有することが好ましい。工程（Ｂ４）を更に有することにより一般式（１）で表される２，２’，６，６’−テトラヒドロキシ−３，３’，５，５’−四置換ビフェニル配位子を製造することができる。一般式（１）、（２）及び（４）中のＲは好ましくはフェニル基、ｐ−トリフルオロメチルフェニル基又はｐ−ｔ−ブチルフェニル基、より好ましくはｐ−トリフルオロメチルフェニル基又はｐ−ｔ−ブチルフェニル基である。
【００３０】
工程（Ｂ１）：好ましくは４，６−ジハロゲン化−１，３−ジアルコキシベンゼンを出発原料とし、一般式Ｒ−Ｂ（ＯＨ）２（Ｒは好ましくは、ｐ−トリフルオロメチルフェニル基又はｐ−ｔ−ブチルフェニル基である。）で表されるホウ酸化合物とのＳｕｚｕｋｉカップリング反応により、４，６−二置換−１，３−ジアルコキシベンゼンを得る。
【００３１】
工程（Ｂ２）：４，６−二置換−１，３−ジアルコキシベンゼンをリチオ化してヨード化し、２−ヨード−４，６−二置換−１，３−ジアルコキシベンゼンを得る。
【００３２】
工程（Ｂ３）：２−ヨード−４，６−二置換−１，３−ジアルコキシベンゼンをＵＩＩｍａｎｎカップリング反応させて、２，２’，６，６’−テトラアルコキシ−３，３’，５，５’−四置換ビフェニルを得る。
【００３３】
工程（Ｂ４）：好ましくは２，２’，６，６’−テトラアルコキシ−３，３’，５，５’−四置換ビフェニルと脱アルキル化剤とを反応させて、２，２’，６，６’−テトラアルコキシ−３，３’，５，５’−四置換ビフェニルを脱アルキル化し、２，２’，６，６’−テトラヒドロキシ−３，３’，５，５’−四置換ビフェニル配位子を得る。
【００３４】
前記方法（Ｃ）は、以下の工程（Ｃ１）〜（Ｃ２）を有することが好ましい。工程（Ｃ３）を更に有することにより一般式（１）で表される２，２’，６，６’−テトラヒドロキシ−３，３’，５，５’−四置換ビフェニル配位子を製造することができる。一般式（１）、（２）中のＲはメチル基である。
【００３５】
方法（Ｃ１）：２，２’，６，６’−テトラアルコキシビフェニルをクロロメチル化反応させて、２，２’，６，６’−テトラアルコキシ−３，３’，５，５’−テトラクロロメチルビフェニルを得る。
【００３６】
方法（Ｃ２）：２，２’，６，６’−テトラアルコキシ−３，３’，５，５’−テトラクロロメチルビフェニルを還元反応させて、２，２’，６，６’−テトラアルコキシ−３，３’，５，５’−テトラメチルビフェニルを得る。
【００３７】
方法（Ｃ３）：２，２’，６，６’−テトラアルコキシ−３，３’，５，５’−テトラメチルビフェニルを脱アルキル化反応させて、２，２’，６，６’−テトラヒドロキシ−３，３’，５，５’−テトラメチルビフェニルを得る。
【００３８】
本発明の方法（Ａ）、方法（Ｂ）又は方法（Ｃ）の反応式の一例は、それぞれ以下の通りである。
【化５】
2010059159.tif 000006
【００３９】
方法（Ａ）による工程（Ａ１）は具体的には、好ましくは、ジクロロメタンを溶媒とし、２，２’，６，６’−テトラメトキシビフェニルに、２〜１０当量、好ましくは３〜５当量の液体臭素を入れて、酢酸の触媒作用で反応させ、２，２’，６，６’−テトラメトキシ−３，３’，５，５’−テトラブロムビフェニルを得る。
【００４０】
方法（Ａ）による工程（Ａ２）は、Ｒがフェニルの場合に、具体的には、好ましくは、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを溶媒とし、炭酸カリウムを塩基とし、２，２’，６，６’−テトラメトキシ−３，３’，５，５’−テトラブロムビフェニルを、トリフェニルホスフィン、酢酸パラジウムの触媒作用で、４〜２０当量、好ましく６〜１０当量のＲがフェニルである前記ホウ酸化合物（フェニルボロン酸）とＳｕｚｕｋｉカップリング反応を行い、５０〜１５０℃、好ましくは８０〜１２０℃で１時間以上、好ましくは３〜３０時間反応させて、２，２’，６，６’−テトラメトキシ−３，３’，５，５’−テトラフェニルビフェニルを得る。
【００４１】
Ｒがｐ−トリフルオロメチルフェニル基又はｐ−ｔ−ブチルフェノール基の場合に、工程（Ａ２）の反応は好ましくは、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を塩基とし、トルエンを溶媒とし、２，２’，６，６’−テトラメトキシ−３，３’，５，５’−テトラブロムビフェニルを、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウムの触媒作用で、１０〜３０当量、好ましくは１２〜１８当量のｐ−トリフルオロメチルフェニルボロン酸又は１０〜３０当量、好ましくは１２〜１８当量のｐ−ｔ−ブチルフェニルボロン酸とＳｕｚｕｋｉカップリング反応を行い、１時間以上、好ましくは１６〜３０時間還流撹拌して、２，２’，６，６’−テトラメトキシ−３，３’，５，５’−テトラ−ｐ−トリフルオロメチルフェニルビフェニル又は２，２’，６，６’−テトラメトキシ−３，３’，５，５’−テトラ−ｐ−ｔ−ブチルフェニルビフェニルを得る。
【００４２】
方法（Ａ）により、目的生成物である一般式（１）で表される２，２’，６，６’−テトラヒドロキシ−３，３’，５，５’−四置換ビフェニル配位子を製造する工程（Ａ３）は具体的には、好ましくは、ジクロロメタンを溶媒とし、２，２’，６，６’−テトラメトキシ−３，３’，５，５’−テトラアリールビフェニルを三臭化ホウ素の作用で反応させ、２，２’，６，６’−テトラヒドロキシ−３，３’，５，５’−テトラアリールビフェニル（ただし、Ｒはフェニル基、ｐ−トリフルオロメチルフェニル基又はｐ−ｔ−ブチルフェニル基である）を得る。
【００４３】
方法（Ｂ）による工程（Ｂ１）は具体的には、好ましくは４，６−ジブロモ−１，３−ジメトキシベンゼンを出発原料とし、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを溶媒とし、トリフェニルホスフィン、酢酸パラジウムの触媒作用で、１〜１０当量、好ましくは３〜８当量のｐ−トリフルオロメチルフェニルボロン酸又はｐ−ｔ−ブチルフェニルボロン酸とＳｕｚｕｋｉカップリング反応を行い、５０〜１５０℃、好ましくは８０〜１２０℃で、１時間以上、好ましくは３〜３０時間反応させて、４，６−二置換−１，３−ジメトキシベンゼン（ただし、一般式中のＲは好ましくは、ｐ−トリフルオロメチルフェニル基又はｐ−ｔ−ブチルフェニル基である）を得る。
【００４４】
方法（Ｂ）による工程（Ｂ２）は具体的には、好ましくは、テトラヒドロフランを溶媒とし、１．０〜２．０当量、好ましくは１．０〜１．３当量のｎ−ブチルリチウムを塩基とし、０℃以下、好ましくは−２０〜−１００℃にて、ｍ−４，６−二置換−１，３−ジメトキシベンゼンをリチオ化し、次いで、１．０〜２．０当量、好ましくは１．０〜１．３当量のヨウ素のテトラヒドロフラン溶液を添加して、０〜４０℃で一晩反応させ、飽和亜硫酸ナトリウム水溶液を入れて余分なヨウ素を除去し、回転蒸発してテトラヒドロフランを除去し、ジクロロメタンを用いて３回抽出し、有機層を合併し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、ろ過、回転蒸発し、２−ヨード−４，６−二置換−１，３−ジメトキシベンゼン（ただし、一般式中のＲは好ましくはｐ−トリフルオロメチルフェニル基又はｐ−ｔ−ブチルフェニル基である）を得る。
【００４５】
方法（Ｂ）による工程（Ｂ３）は具体的には、好ましくは、固相反応法により、２−ヨード−４，６−二置換−１，３−ジメトキシベンゼンと１〜１０当量、好ましくは２〜８当量の銅粉とを混合し、１００〜３００℃、好ましくは１５０〜２３０℃で１時間以上、好ましくは３〜２０時間反応させ、得られた固体をジクロロメタンで洗浄し、ろ液を回転乾燥させ、ジクロロメタン：石油エーテル＝１：２の混合溶媒で再結晶させ、２，２’，６，６’−テトラメトキシ−３，３’，５，５’−四置換ビフェニル（ただし、一般式中のＲは好ましくはｐ−トリフルオロメチルフェニル基又はｐ−ｔ−ブチルフェニル基である）を得る。
【００４６】
方法（Ｂ）により、目的生成物である一般式（１）で表される２，２’，６，６’−テトラヒドロキシ−３，３’，５，５’−四置換ビフェニル配位子を製造する工程（Ｂ４）は具体的には、好ましくは、ジクロロメタンを溶媒とし、２，２’，６，６’−テトラメトキシ−３，３’，５，５’−四置換ビフェニルを三臭化ホウ素の作用で反応させ、２，２’，６，６’−テトラヒドロキシ−３，３’，５，５’−四置換ビフェニル（ただし、一般式中のＲはｐ−トリフルオロメチルフェニル基又はｐ−ｔ−ブチルフェニル基である）を得る。
【００４７】
方法（Ｃ）による工程（Ｃ１）は具体的には、濃塩酸、濃リン酸、硫酸の体積比１：１：１の混合液を溶媒（０．１Ｍ）とし、１〜３０当量、好ましくは２０〜３０当量のパラホルムアルデヒドと混合し、５０〜１００℃、好ましくは８０〜１００℃で１時間以上、好ましくは３〜１０時間反応させて、得られた生成物をジクロロメタン、水で抽出し、酢酸エチル／石油エーテル＝１：１０でカラムクロマトグラフィーを行い、２，２’，６，６’−テトラメトキシ−３，３’，５，５’−テトラクロロメチルビフェニルを得る。ただし、一般式中のＲはメチル基である。
【００４８】
方法（Ｃ）による工程（Ｃ２）は具体的には、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）を溶媒とし、２，２’，６，６’−テトラメトキシ−３，３’，５，５’−テトラクロロメチルビフェニルを、１〜３０当量、好ましく１０〜２０当量の水素化ホウ素ナトリウムと混合し、反応終了後、水を入れて、エーテルで抽出し、２，２’，６，６’−テトラメトキシ−３，３’，５，５’−テトラメチルビフェニルを得る。ただし、一般式中のＲはメチル基である。
【００４９】
方法（Ｃ）による工程（Ｃ３）は具体的には、ジクロロメタンを溶媒とし、２，２’，６，６’−テトラメトキシ−３，３’，５，５’−テトラメチルビフェニルを三臭化ホウ素の作用で反応させて、２，２’，６，６’−テトラヒドロキシ−３，３’，５，５’−テトラメチルビフェニルを得る。ただし、一般式中のＲはメチル基である。
【００５０】
本発明による２，２’，６，６’−テトラヒドロキシ−３，３’，５，５’−四置換ビフェニルは４つの配位中心を含む。この種の配位子は、ヘテロDiels-Alder反応、carbonylene反応などの各種の金属触媒による不斉反応に用いることができ、高い反応活性及び立体選択性を有し、良好な応用価値がある。
【実施例】
【００５１】
以下、本発明の技術内容に合わせて実施例を提供する。
【００５２】
〔実施例１〕
（１）２，２’，６，６’−テトラメトキシ−３，３’，５，５’−テトラブロムビフェニルの製造
２５０ｍｌの二口フラスコに、テトラメトキシビフェニル（２．７４ｇ、１０ｍｍｏｌ）、１００ｍｌのジクロロメタン、酢酸（０．１８ｍｌ、３ｍｍｏｌ）、液体臭素（２．３ｍｌ、４４ｍｍｏｌ）を順次入れて、２時間撹拌して、反応を終了した。１００ｍｌの飽和亜硫酸ナトリウム水溶液を入れて、２０分間撹拌して、分液を行い、水層をジクロロメタンで抽出し、有機層を合併し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、ろ過、回転蒸発し、薄い赤橙色の固体を得て、収率が９７％であった。
１Ｈ  ＮＭＲ（４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）：  δ  ７．８４（ｓ，  ２Ｈ，  ＡｒＨ），  ３．６４（ｓ，  １２Ｈ，  ＯＣＨ３）。
【００５３】
（２）２，２’，６，６’−テトラメトキシ−３，３’，５，５’−テトラフェニルビフェニルの製造
２５０ｍｌの二口フラスコに、２，２’，６，６’−テトラメトキシ−３，３’，５，５’−テトラブロムビフェニル（１４．６４ｇ、２５ｍｍｏｌ）、フェニルボロン酸（２４．３９ｇ、２００ｍｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン（５．２５ｇ、２０ｍｍｏｌ）、酢酸パラジウム（１ｍｇ、５ｍｍｏｌ）、無水炭酸カリウム（３４．５３ｇ、２５０ｍｍｏｌ）を順次入れてから、１５０ｍｌのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを入れて、窒素ガス雰囲気中にて、１００℃で１６時間撹拌して、反応を終了した。収率が８６％であった。
１Ｈ  ＮＭＲ（４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）：  δ  ７．６３−７．６５（ｍ，  ８Ｈ，  ＡｒＨ），  ７．３９−７．４３（ｍ，  １０Ｈ，  ＡｒＨ），  ７．３１−７．３５（ｍ，  ４Ｈ，  ＡｒＨ），３．３９（ｓ，  １２Ｈ，  ＯＣＨ３）。
【００５４】
（３）２，２’，６，６’−テトラヒドロキシ−３，３’，５，５’−テトラフェニルビフェニルの製造
２５０ｍｌの二口フラスコに、２，２’，６，６’−テトラメトキシ−３，３’，５，５’−テトラフェニルビフェニル（１６．７７ｇ、２９ｍｍｏｌ）を添加し、窒素ガス雰囲気中にて、１５０ｍｌの精製ジクロロメタンを入れて、１２ｍｌの三臭化ホウ素を３０ｍｌの精製ジクロロメタンで希釈し、−７８℃にて前記溶液に一滴ずつ滴加し、徐々に室温まで昇温し、一晩撹拌し、反応を終了した。氷浴下で１００ｍｌの水を一滴ずつ滴加し、酸含有水層をエーテルで３回抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、ろ過、回転蒸発し、収率が９５％であった。
１Ｈ  ＮＭＲ（４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）：  δ  ７．５７−７．５９（ｍ，  ８Ｈ，  ＡｒＨ），  ７．４４−７．４８（ｍ，  ８Ｈ，  ＡｒＨ），  ７．４３（ｓ，  ２Ｈ，  ＡｒＨ），  ７．３４−７．３６（ｍ，  ４Ｈ，  ＡｒＨ），５．５２（ｓ，  ４Ｈ，  ＯＨ）。
【００５５】
〔実施例２〕
（１）２，２’，６，６’−テトラメトキシ−３，３’，５，５’−テトラブロムビフェニルの製造（実施例１と同じである）
【００５６】
（２）２，２’，６，６’−テトラメトキシ−３，３’，５，５’−テトラ−ｐ−トリフルオロメチルフェニルビフェニルの製造
２５０ｍｌの二口フラスコに、テトラブロモテトラメトキシビフェニル（２．３４ｇ、４ｍｍｏｌ）、ｐ−トリフルオロメチルフェニルボロン酸（１１．４ｇ、６０ｍｍｏｌ）、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム（２．３１ｇ、２ｍｍｏｌ）、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液６０ｍｌ、トルエン６０ｍｌを順次入れて、液体窒素で冷凍して酸素を除去し、１６時間還流撹拌して、反応を終了し、水洗し、石油エーテルでカラムクロマトグラフィーを行い、収率が７４．９％であった。
１Ｈ  ＮＭＲ（４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）：  δ  ７．７２（ｄｄ，  １６Ｈ，  Ｊ＝８．０Ｈｚ，Ｊ＝１４Ｈｚ，  ＡｒＨ），  ７．４３（ｓ，  ２Ｈ，  ＡｒＨ），  ３．３９（ｓ，  １２Ｈ，  ＯＣＨ３）。
【００５７】
（３）２，２’，６，６’−テトラヒドロキシ−３，３’，５，５’−テトラ−ｐ−トリフルオロメチルフェニルビフェニルの製造
２５０ｍｌの二口フラスコに、２，２’，６，６’−テトラメトキシ−３，３’，５，５’−テトラ−ｐ−トリフルオロメチルフェニルビフェニル（８５２ｍｇ、１ｍｍｏｌ）を入れて、窒素ガス雰囲気中にて、５０ｍｌの精製ジクロロメタンを入れて、三臭化ホウ素（０．４１ｍｌ、４．４ｍｍｏｌ）を２０ｍｌの精製ジクロロメタンで希釈し、−７８℃にて前記溶液に一滴ずつ滴加し、徐々に室温まで昇温し、一晩撹拌し、反応を終了した。氷浴下で１００ｍｌの水を一滴ずつ滴加し、酸含有水層をエーテルで３回抽出し、有機層を合併し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、ろ過、回転蒸発し、収率が９７％であった。
１Ｈ  ＮＭＲ（４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）：  δ  ７．７２（ｓ，  １６Ｈ，  ＡｒＨ），  ７．４９（ｓ，  ２Ｈ，  ＡｒＨ），  ５．４５（ｓ，  ４Ｈ，  ＯＨ）。
【００５８】
〔実施例３〕
（１）２，２’，６，６’−テトラメトキシ−３，３’，５，５’−テトラブロムビフェニルの製造（実施例１と同じである）
【００５９】
（２）２，２’，６，６’−テトラメトキシ−３，３’，５，５’−テトラ−ｐ−ｔ−ブチルフェニルビフェニルの製造
２５０ｍｌの二口フラスコに、テトラブロモテトラメトキシビフェニル（２．３４ｇ、４ｍｍｏｌ）、ｐ−ｔ−ブチルフェニルボロン酸（１０．６９ｇ、６０ｍｍｏｌ）、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム（２．３１ｇ、２ｍｍｏｌ）、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液６０ｍｌ、トルエン６０ｍｌを順次入れて、液体窒素で冷凍して酸素を除去し、１６時間還流撹拌して、反応を終了した。石油エーテルでカラムクロマトグラフィーを行い、収率が６９．９％であった。
１Ｈ  ＮＭＲ（４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）：  δ  ７．５６（ｄ，  ８Ｈ，  Ｊ＝８．４Ｈｚ，  ＡｒＨ），  ７．４２（ｓ，  ２Ｈ，  ＡｒＨ），  ７．４１（ｄ，  ８Ｈ，  Ｊ＝８．４Ｈｚ，  ＡｒＨ），  ３．３７（ｓ，  １２Ｈ，  ＯＣＨ３）。
【００６０】
（３）２，２’，６，６’−テトラヒドロキシ−３，３’，５，５’−テトラ−ｐ−ｔ−ブチルフェニルビフェニルの製造
２５０ｍｌの二口フラスコに、２，２’，６，６’−テトラメトキシ−３，３’，５，５’−テトラ−ｐ−ｔ−ブチルフェニルビフェニル（８０５ｍｇ、１ｍｍｏｌ）を入れて、窒素ガス雰囲気中にて、５０ｍｌの精製ジクロロメタンを入れて、三臭化ホウ素（０．４１ｍｌ、４．４ｍｍｏｌ）を２０ｍｌの精製ジクロロメタンで希釈し、−７８℃にて前記溶液に一滴ずつ滴加し、徐々に室温まで昇温し、一晩撹拌し、反応を終了した。氷浴下で１００ｍｌの水を一滴ずつ滴加し、酸含有水層をエーテルで３回抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、ろ過、回転蒸発し、収率が９８％であった。
１Ｈ  ＮＭＲ（４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）：  δ  ７．５０（ｄｄ，  １６Ｈ，  Ｊ＝８．４Ｈｚ，  Ｊ＝１６．４Ｈｚ  ＡｒＨ），  ７．４４（ｓ，  ２Ｈ，  ＡｒＨ），  ５．５２（ｓ，  ４Ｈ，  ＯＨ），１．３７（ｓ，  ３６Ｈ，  ＣＨ３）。
【００６１】
〔実施例４〕
（１）４，６−ジ−ｐ−トリフルオロメチルフェニル−１，３−ジメトキシベンゼンの製造
２５０ｍｌの二口フラスコに、４，６−ジブロモ−１，３−ジメトキシベンゼン（５９２ｍｇ、２ｍｍｏｌ）、ｐ−トリフルオロメチルフェニルボロン酸（１．９３ｇ、１０ｍｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン（４２０ｍｇ、１．６ｍｍｏｌ）、酢酸パラジウム（９０ｍｇ、０．４ｍｍｏｌ）、無水炭酸カリウム（２．７６ｇ、２０ｍｍｏｌ）を順次添加し、１５０ｍｌのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを入れて、窒素ガス雰囲気中にて、１００℃で１６時間撹拌して、反応を終了した。ろ過し、石油エーテルでカラムクロマトグラフィーを行い、収率が８６％であった。
１Ｈ  ＮＭＲ（４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）：  δ  ７．６６（ｓ，  ８Ｈ，  ＡｒＨ），  ７．３２（ｓ，  １Ｈ，  ＡｒＨ），  ６．６９（ｓ，  １Ｈ，  ＡｒＨ），３．９２（ｓ，  ６Ｈ，  ＯＣＨ３）。
【００６２】
（２）２−ヨード−４，６−ジ−ｐ−トリフルオロメチルフェニル−１，３−ジメトキシベンゼンの製造
２５ｍｌの二口丸底フラスコに、窒素ガス雰囲気中にて、４，６−ジ−ｐ−トリフルオロメチルフェニル−１，３−ジメトキシベンゼン（４２６ｍｇ、１ｍｍｏｌ）を６ｍｌの新たに蒸留したテトラヒドロフランに溶解して、−７８℃にてｎ−ブチルリチウム（０．８０ｍｌ、２．５Ｍ）を一滴ずつ滴加し、徐々に室温まで昇温し、更に２時間反応させ、ヨウ素（２７９ｍｇ、１．１ｍｍｏｌ）を２０ｍｌの新たに蒸留したテトラヒドロフランに溶解して、−７８℃にて前記溶液に一滴ずつ滴加し、滴加終了後、徐々に室温まで昇温し、室温で一晩反応させた。飽和亜硫酸ナトリウム水溶液を入れて余分なヨウ素を除去し、回転蒸発してテトラヒドロフランを除去し、ジクロロメタンで抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、回転蒸発し、固体をアセトンで再結晶させ、収率が８５％であった。
１Ｈ  ＮＭＲ（４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）：  δ  ７．７０（ｓ，  ８Ｈ，  ＡｒＨ），  ７．３２（ｓ，  １Ｈ，  ＡｒＨ），３．４６（ｓ，  ６Ｈ，  ＯＣＨ３）。
【００６３】
（３）２，２’，６，６’−テトラメトキシ−３，３’，５，５’−テトラ−ｐ−トリフルオロメチルフェニルビフェニルの製造
５０ｍｌの二口フラスコに、２−ヨード−４，６−ジ−ｐ−トリフルオロメチルフェニル−１，３−ジメトキシベンゼン（２７６ｍｇ、０．５ｍｍｏｌ）と銅粉（６４０ｍｇ、５ｍｍｏｌ）を均一に混合し、窒素ガス雰囲気中にて、油浴で１８０℃に加熱して５時間撹拌した。反応終了後、フラスコ内の固体を粉砕し、２０ｍｌのジクロロメタンで溶解させ、固体をろ過し、ろ液を収集し、回転蒸発した。ジクロロメタン：石油エーテル＝１：３の混合溶媒で再結晶させ、白色の針状固体を析出させ、ろ過し、固体を収集し、生成物を得たが、収率が８３％であった。
１Ｈ  ＮＭＲ（４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）：  δ  ７．７２（ｄｄ，  １６Ｈ，  Ｊ＝８．０Ｈｚ，  Ｊ＝２２Ｈｚ，  ＡｒＨ），  ７．４３（ｓ，  ２Ｈ，  ＡｒＨ），  ３．３９（ｓ，  １２Ｈ，  ＯＣＨ３）。
【００６４】
（４）２，２’，６，６’−テトラヒドロキシ−３，３’，５，５’−テトラ−ｐ−トリフルオロメチルフェニルビフェニルの製造（実施例２と同じである）
【００６５】
〔実施例５〕
（１）４，６−ジ−ｐ−ｔ−ブチルフェニル−１，３−ジメトキシベンゼンの製造
２５０ｍｌの二口フラスコに、４，６−ジブロモ−１，３−ジメトキシベンゼン（５９２ｍｇ、２ｍｍｏｌ）、ｐ−ｔ−ブチルフェニルボロン酸（１．８２ｇ、１０ｍｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン（４２０ｍｇ、１．６ｍｍｏｌ）、酢酸パラジウム（９０ｍｇ、０．４ｍｍｏｌ）、無水炭酸カリウム（２．７６ｇ，２０ｍｍｏｌ）を順次添加し、１５０ｍｌのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを入れて、窒素ガス雰囲気中にて、１００℃で１６時間撹拌して、反応を終了した。ろ過し、石油エーテルでカラムクロマトグラフィーを行い、収率が８６％であった。
１Ｈ  ＮＭＲ（４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）：  δ  ７．５１（ｄ，  ４Ｈ，  Ｊ＝８Ｈｚ，  ＡｒＨ），  ７．４４（ｄ，  ４Ｈ，  Ｊ＝８Ｈｚ，  ＡｒＨ），  ７．３８（ｓ，  １Ｈ，  ＡｒＨ），  ６．６７（ｓ，  １Ｈ，  ＡｒＨ），３．９０（ｓ，  ６Ｈ，  ＯＣＨ３），  １．３８（ｓ，  １８Ｈ，  ＣＨ３）。
【００６６】
（２）２−ヨード−４，６−ジ−ｐ−ｔ−ブチルフェニル−１，３−ジメトキシベンゼンの製造
２５ｍｌの二口丸底フラスコに、窒素ガス雰囲気中にて、４，６−ジ−ｐ−ｔ−ブチルフェニル−１，３−ジメトキシベンゼン（４０３ｍｇ、１ｍｍｏｌ）を６ｍｌの新たに蒸留したテトラヒドロフランに溶解して、−７８℃にてｎ−ブチルリチウム（０．８０ｍｌ、２．５Ｍ）を一滴ずつ滴加し、徐々に室温まで昇温し、更に２時間反応させ、ヨウ素（２７９ｍｇ、１．１ｍｍｏｌ）を２０ｍｌの新たに蒸留したテトラヒドロフランに溶解して、−７８℃にて前記溶液に一滴ずつ滴加し、滴加終了後、徐々に室温まで昇温し、室温で一晩反応させた。飽和亜硫酸ナトリウム水溶液を入れて余分なヨウ素を除去し、回転蒸発してテトラヒドロフランを除去し、ジクロロメタンで抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、回転蒸発し、固体をアセトンで再結晶させ、収率が７９％であった。
１Ｈ  ＮＭＲ（４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）：  δ  ７．５１（ｄ，  ４Ｈ，  Ｊ＝８Ｈｚ，  ＡｒＨ），  ７．４２（ｄ，  ４Ｈ，  Ｊ＝８Ｈｚ，  ＡｒＨ），  ７．３５（ｓ，  １Ｈ，  ＡｒＨ），３．４５（ｓ，  ６Ｈ，  ＯＣＨ３），  １．３６（ｓ，  １８Ｈ，  ＣＨ３）。
【００６７】
（３）２，２’，６，６’−テトラメトキシ−３，３’，５，５’−テトラ−ｐ−ｔ−ブチルフェニルビフェニルの製造
５０ｍｌの二口フラスコに、２−ヨード−４，６−ジ−ｐ−ｔ−ブチルフェニル−１，３−ジメトキシベンゼン（２６４ｍｇ、０．５ｍｍｏｌ）と銅粉（６４０ｍｇ、５ｍｍｏｌ）を均一に混合し、窒素ガス雰囲気中にて、油浴で１８０℃に加熱して５時間撹拌した。反応終了後、フラスコ内の固体を粉砕し、２０ｍｌのジクロロメタンで溶解させ、固体をろ過し、ろ液を収集し、回転蒸発した。ジクロロメタン：石油エーテル＝１：３で再結晶させ、白色の針状固体を析出させ、ろ過し、固体を収集し、生成物を得たが、収率が７５％であった。
１Ｈ  ＮＭＲ（４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）：  δ  ７．５６（ｄ，  ８Ｈ，  Ｊ＝８．４Ｈｚ，ＡｒＨ），  ７．４２（ｓ，  ２Ｈ，  ＡｒＨ），  ７．４１（ｄ，  ８Ｈ，  Ｊ＝８．４Ｈｚ，ＡｒＨ），  ３．３７（ｓ，  １２Ｈ，  ＯＣＨ３）。
（４）２，２’，６，６’−テトラヒドロキシ−３，３’，５，５’−テトラ−ｐ−ｔ−ブチルフェニルビフェニルの製造（実施例３と同じである）。
【００６８】
〔実施例６〕
（１）２，２’，６，６’−テトラメトキシ−３，３’，５，５’−テトラクロロメチルビフェニルの製造
５０ｍｌの二口フラスコに、テトラメトキシビフェニル（０．５０ｇ、１．８ｍｍｏｌ）を入れて、室温で精製パラホルムアルデヒド１ｇ、濃塩酸１５ｍｌ、濃リン酸７ｍｌ、酢酸６ｍｌを添加した。１００℃で１０時間撹拌し、水を入れて、ジクロロメタンで抽出し、酢酸エチル／石油エーテル＝１：１０でカラムクロマトグラフィーを行い、収率が９４％であった。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：７．５７（ｓ，２Ｈ，ＡｒＨ），４．６７（ｓ，８Ｈ，ＣＨ），３．６１（ｓ，１２Ｈ，ＯＣＨ３）。
（２）２，２’，６，６’−テトラメトキシ−３，３’，５，５’−テトラメチルビフェニルの製造
５０ｍｌの二口フラスコに、２，２’，６，６’−テトラメトキシ−３，３’，５，５’−テトラクロロメチルビフェニル（２．３２ｇ、５ｍｍｏｌ）、水素化ホウ素ナトリウム（１．９５ｇ、５０ｍｍｏｌ）を入れ、Ｎ２雰囲気にて、ＤＭＳＯ２０ｍｌを添加して室温で１０時間撹拌し、ＴＬＣでモニタリングし、反応終了後、水を入れて、エーテルで抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、収率が９９％であった。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：７．０３（ｓ，２Ｈ，ＡｒＨ），３．４９（ｓ，１２Ｈ，ＯＣＨ３），２．２７（ｓ，８Ｈ，ＣＨ）。
（３）２，２’，６，６’−テトラヒドロキシ−３，３’，５，５’−テトラメチルビフェニルの製造
２５０ｍｌの二口フラスコに、２，２’，６，６’−テトラメトキシ−３，３’，５，５’−テトラメチルビフェニル（３３０ｍｇ、１ｍｍｏｌ）を入れ、窒素ガス雰囲気にて、５０ｍｌの精製ジクロロメタンを添加し、三臭化ホウ素（０．４１ｍｌ、４．４ｍｍｏｌ）を２０ｍｌの精製ジクロロメタンで希釈し、−７８℃にて前記溶液に一滴ずつ滴加し、徐々に室温まで昇温し、一晩撹拌し、反応を終了した。氷浴下で水１００ｍｌを一滴ずつ滴加し、酸含有水層をエーテルで３回抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、ろ過、回転蒸発し、収率が１００％であった。
白色固体で、収率が１００％であった。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：  ７．０４（ｓ，２Ｈ，ＡｒＨ），４．７１（ｓ，４Ｈ，ＯＨ），２．２１（ｓ，１２Ｈ，  ＣＨ３）。