(57)【要約】【課題】ブルー用途に対応可能であって短波長の光に対する透過率の低下や変形を抑制することができる。【解決手段】対物レンズ３７は、ブルー用光ピックアップ装置１に用いられる光学素子であって、所定形状を有する熱可塑性樹脂製の成形部５０と、成形部５０上に形成されたフッ素層５５と、フッ素層５５上に形成された無機材料製の反射防止膜６０と、を備える。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ブルー用光ピックアップ装置に用いられる光学素子であって、
所定形状を有する熱可塑性樹脂製の成形部と、
前記成形部上に形成されたフッ素層と、
前記フッ素層上に形成された無機材料製の反射防止膜と、
を備えることを特徴とする光学素子。
【請求項２】
請求項１に記載の光学素子において、
前記フッ素層の層厚が１０〜５０００ｎｍであることを特徴とする光学素子。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の光学素子において、
前記フッ素層のｄ線に対する屈折率が１．３５〜１．４５であることを特徴とする光学素子。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項に記載の光学素子において、
前記熱可塑性樹脂が環状オレフィンであることを特徴とする光学素子。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか一項に記載の光学素子において、
前記反射防止膜が、低屈折率材料から構成される低屈折率層と高屈折率材料から構成される高屈折率層とを少なくとも２層以上積層した積層構造を有することを特徴とする光学素子。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか一項に記載の光学素子において、
像側の開口数ＮＡが０．７以上であることを特徴とする光学素子。
【請求項７】
ブルー光を出射する光源と、
請求項１〜６のいずれか一項に記載の光学素子とを備え、
前記光学素子が対物レンズとして使用されていることを特徴とする光ピックアップ装置。
【請求項８】
ブルー用光ピックアップ装置に用いられる光学素子の製造方法であって、
熱可塑性樹脂製の成形部をフッ素ガスに晒してフッ素化し、前記成形部上にフッ素層を形成する工程と、
前記フッ素層上に無機材料から構成される反射防止膜を形成する工程と、
を備えることを特徴とする光学素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は光学素子、光ピックアップ装置及び光学素子の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
光ピックアップ装置に用いられている光学素子の構成材料として、透明なガラスや熱可塑性樹脂などが挙げられるが、成形性やコストの観点から熱可塑性樹脂を用いることが多い。このような光学素子においては、光線透過率を高くしたいという要望が強く、表面反射を抑えることが望ましい。一般的には、ＳｉＯ２やＭｇＦ２のような低屈折率材料と、ＴｉＯ２やＴａ２Ｏ３のような高屈折率材料とを積層した無機材料製の反射防止膜を形成することで広波長領域での反射防止を可能にしているが、当該反射防止膜は剥離したり膜自体に皺が形成されたりする場合がある。
【０００３】
これに対し、特許文献１に開示された技術のように、熱可塑性樹脂製の基材（成形部）に対してフッ素層と炭化水素層とを積層し、有機材料製の反射防止膜を形成することも可能となっている。すなわち、特許文献１に開示された技術のように反射防止膜を有機材料製とすることで、無機材料製の反射防止膜で問題視される膜の剥離や皺の発生などを防止することができる。
【特許文献１】特開２００５−２７４７４８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、フッ素層と炭化水素層とを積層した有機材料製の反射防止膜は、短波長の光を受けると、その膜中の炭化水素膜が白濁して光線透過率が低下したり、有機材料製であるが故に光線エネルギーの影響で変形したりする可能性があり、近年注目を集めているブルー用の光ピックアップ装置（Blu-ray Disc用の光）に対応できないことが想定される。
【０００５】
したがって、本発明の主な目的は、ブルー用途に対応可能な光学素子であって特には短波長の光に対する透過率の低下や変形を抑制することができる光学素子を提供することにあり、併せて、当該光学素子を使用する光ピックアップ装置とその製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の一態様によれば、
ブルー用光ピックアップ装置に用いられる光学素子であって、
所定形状を有する熱可塑性樹脂製の成形部と、
前記成形部上に形成されたフッ素層と、
前記フッ素層上に形成された無機材料製の反射防止膜と、
を備えることを特徴とする光学素子が提供される。
【０００７】
本発明の他の態様によれば、
ブルー光を出射する光源と上記光学素子とを備え、
前記光学素子が対物レンズとして使用されていることを特徴とする光ピックアップ装置が提供される。
【０００８】
本発明の他の態様によれば、
ブルー用光ピックアップ装置に用いられる光学素子の製造方法であって、
熱可塑性樹脂製の成形部をフッ素ガスに晒してフッ素化し、前記成形部上にフッ素層を形成する工程と、
前記フッ素層上に無機材料から構成される反射防止膜を形成する工程と、
を備えることを特徴とする光学素子の製造方法が提供される。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、成形部上にフッ素層が形成されている（又は形成する）から、ブルー用途に対応可能であって短波長の光に対する透過率の低下や変形を抑制することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下、図面を参照しながら本発明の好ましい実施形態について説明する。
【００１１】
図１に示す通り、光ピックアップ装置３０には、光源としての半導体レーザ発振器３２が具備されている。半導体レーザ発振器３２は、ＢＤ（Blu-ray Disc）用として波長３８０〜４２０ｎｍの特定波長（例えば４０５ｎｍ）のブルーレーザ（青紫色レーザ）を出射するようになっている。半導体レーザ発振器３２から出射される青紫色光の光軸上には、半導体レーザ発振器３２から離間する方向に向かって、コリメータ３３、ビームスプリッタ３４、１／４波長板３５、絞り３６、対物レンズ３７が順次配設されている。
【００１２】
ビームスプリッタ３４と近接した位置であって、上述した青紫色光の光軸と直交する方向には、２組のレンズからなるセンサーレンズ群３８、センサー３９が順次配設されている。
【００１３】
対物レンズ３７は、高密度な光ディスクＤ（ＢＤ用光ディスク）に対向した位置に配置されており、半導体レーザ発振器３２から出射された青紫色光を光ディスクＤの一面上に集光するようになっている。対物レンズ３７は像側開口数ＮＡが０．７以上となっている。対物レンズ３７には、２次元アクチュエータ４０が具備されており、２次元アクチュエータ４０の動作により、対物レンズ３７は光軸上を移動自在となっている。
【００１４】
図１中拡大図に示す通り、対物レンズ３７は主には成形部５０で構成されており、その表面３７ａ上にフッ素層５５と反射防止膜６０とが形成されている。成形部５０はレンズ形状に成形されており、集光機能などの本質的な光学機能を発揮するようになっている。
【００１５】
成形部５０は熱可塑性樹脂で構成されており、そのような熱可塑性樹脂としては、アクリル樹脂、環状オレフィン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアミド樹脂又はポリイミド樹脂であることが好ましく、環状オレフィンであることが特に好ましい。具体例として、特開２００３−７３５５９号公報に記載の化合物を挙げることができ、その好ましい化合物を下記表１に示す。
【００１６】
【表１】
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【００１７】
なお、上述した熱可塑性樹脂は、光学材料としての寸法安定性の観点から、吸湿率が０．２％以下であることが望ましいため、ポリオレフィン樹脂（ポリエチレン、ポリプロピレン）、フッ素樹脂（ポリテトラフルオロエチレン、テフロン（登録商標）ＡＦ：デュポン社製）、環状オレフィン樹脂（日本ゼオン製：ＺＥＯＮＥＸ、三井化学製：ＡＰＥＬ、ＪＳＲ製：アートン、チコナ製：ＴＯＰＡＳ）、インデン／スチレン系樹脂、ポリカーボネート樹脂等が好適に用いられる。
【００１８】
フッ素層５５は成形部５０に対しフッ素化処理が実行されることで形成された層であり、対物レンズ３７の表面反射率を低下させる機能を有している。フッ素層５５はｄ線に対する屈折率が１．３５〜１．４５となっており、当該屈折率の値は表面反射率により測定することができる。フッ素層５５の層厚は好ましくは１０〜５０００ｎｍである。層厚が５０００ｎｍを超えると、干渉縞の影響が光の波長に大きく依存し、その上に反射防止膜６０を形成してもその機能を発揮させるのが難しくなり、逆に層厚が１０ｎｍ未満であると、フッ素層５５の機能を十分に発揮させるのが難しくなるからである。
【００１９】
反射防止膜６０は基本的には２層構造を有している。フッ素層５５に対し直に第１層６１が形成されており、その上に第２層６２が形成されている。
【００２０】
第１層６１は屈折率１．７以上の高屈折率材料から構成された層であり、好ましくはＴａ２Ｏ５，Ｔａ２Ｏ５とＴｉＯ２との混合物，ＺｒＯ２，ＺｒＯ２とＴｉＯ２との混合物のいずれかで構成されている。第１層６１はＴｉＯ２，Ｎｂ２Ｏ３，ＨｆＯ２で構成されてもよい。第２層６２は屈折率１．７未満の低屈折率材料から構成された層であり、好ましくはＳｉＯ２，ＭｇＦ２から構成されている。
【００２１】
対物レンズ３７では、第１層６１，第２層６２の上にさらに第１層６１，第２層６２を交互に積層し、反射防止膜６０を全体で２〜７層構造としてもよい。この場合、フッ素層５５に直に接触する層は成形部５０の種類に応じて、高屈折率材料の層（第１の層６１）としてもよいし、低屈折率材料の層（第２の層６２）としてもよい。本実施形態ではフッ素層５５に直に接触する層が高屈折率材料の層となっている。
【００２２】
なお、対物レンズ３７では、表面３７ａに対してフッ素層５５と反射防止膜６０とが形成されているのと同様に、裏面３７ｂにもフッ素層５５と反射防止膜６０とが形成されており、表面３７ａと裏面３７ｂとの両面に対しフッ素層５５と反射防止膜６０とが形成されている。
【００２３】
続いて、対物レンズ３７の製造方法について説明する。
【００２４】
始めに、上記熱可塑性樹脂を一定条件下で金型に対し射出成形し、所定形状を有する成形部５０を形成する。その後、成形部５０に対してフッ素化処理を実行し、成形部５０上にフッ素層５５を形成する。
【００２５】
フッ素化処理では、成形部５０をフッ素ガス雰囲気中に晒し、その表面にフッ素化層を形成する。これにより、高分子材料（熱可塑性樹脂）の屈折率を低下させ、対物レンズ３７の表面反射率を低下させることができる。
【００２６】
フッ素ガス雰囲気中のフッ素ガス濃度、フッ素ガス雰囲気中に曝露する温度や時間を適宜選択することにより、フッ素化層厚およびフッ素化率を任意に制御でき、所望の波長の表面反射率を低下させることが出来る。
【００２７】
ここで、フッ素ガス雰囲気とは、フッ素ガスを含む気体に覆われていることを意味し、フッ素ガスと窒素，アルゴン等の不活性ガスとの混合ガスに覆われていることも含まれる。
【００２８】
また、フッ素ガス雰囲気中のフッ素ガスの濃度は、所望の屈折率およびフッ素化層厚の材料に応じて適宜選択することができる。
【００２９】
また、成形部５０とは、熱可塑性樹脂の構成元素が炭素と水素から成る重合体で、上記の例のほかにも、炭素と水素からなる重合体であるならば、特に、限定されるものではない。
【００３０】
なお、成形部５０に添加される酸化防止剤や紫外線吸収剤、可塑剤のような、全重量に対して添加量が５％以下である添加剤の構成元素は、炭素と水素以外でも構わない。
【００３１】
また、成形部５０を製造する際に使用される触媒や反応停止剤のような重合副資材が残留している場合でも、全重量に対して残留量が１％未満であれば、その構成元素が炭素と水素に限定されるものではない。
【００３２】
本実施形態において、成形部５０としては、特に上記条件が満たされていれば限定されないが、高透明性、高耐熱性、低吸水性、高純度、低複屈折性を加味すると、環状オレフィン重合体であることがより好ましい。
【００３３】
これらの重合体を例えば窒素ガス等で希釈した種々の濃度のフッ素ガス中に、所定温度、所定時間曝すことにより、高分子材料の表面から内部に向かって徐々に分子内でのフッ素の導入が起こり、材料のフッ素含有率が増加してゆくことになる。
【００３４】
材料表面からのフッ素の浸透深さ、フッ素処理後の材料中のフッ素含有率は、フッ素処理中のフッ素ガスの濃度、フッ素処理温度、フッ素処理時間に依存して変化する。
【００３５】
これらの条件については特に制限はないが、フッ素濃度が高い場合、処理時間が長い場合、処理温度が高い場合に、フッ素の浸透深さが深くなり、またフッ素処理後の高分子材料のフッ素含有率が高くなる。
【００３６】
フッ素含有率の増加に伴ってフッ素化された部分の屈折率が低減するので、フッ素濃度、処理温度、処理時間を適宜選択すれば、所望の厚さの低屈折フッ素化層を形成することが可能である。
【００３７】
ただし、極端にフッ素濃度を高くしたり、極端な高温長時間でのフッ素処理を行うと分子が劣化するため、通常のフッ素処理条件としてはフッ素濃度が１ｐｐｍ〜２５％、処理温度が０〜１００℃、処理時間が０．１秒〜１２０分が好適である。
【００３８】
その後、フッ素層５５上に反射防止膜６０を形成する。詳しくは、第１層６１を構成する蒸着源を用いて第１層６１を形成する。例えば、第１層６１として（Ｔａ２Ｏ５＋５％ＴｉＯ２）膜を形成する場合には、蒸発源としてオプトラン社製OA600を用い、電子銃加熱により当該蒸着源を蒸発させればよい。蒸着中は、真空蒸着装置内部の圧力が１．０×１０−２ＰａまでＯ２ガスを導入し、蒸着速度を５Å／ｓｅｃの条件にコントロールしながら成膜するのがよい。そして成膜温度（蒸着装置内の温度）を適切な温度範囲内で保持する。
【００３９】
その後、成形部５０の反対面にも第１層６１を形成するため、蒸着装置内部の反転機構により成形部５０を反転させ、上記と同様にしてその反対面にも第１層６１を形成する（第２層６２の裏面への成膜についても同様である。）。
【００４０】
その後、第１層６１の上に続けて、第２層６２を構成する蒸着源を用いて第２層６２を形成する。例えば、第２層６２としてＳｉＯ２膜を形成する場合には、真空蒸着装置内部の圧力が１．０×１０−２ＰａまでＯ２ガスを導入し、蒸着速度を５Å／ｓｅｃの条件にコントロールしながら成膜するのがよい。そして成膜温度（蒸着装置内の温度）を適切な温度範囲内で保持する。
【００４１】
以上の工程により対物レンズ３７が製造される。
【００４２】
続いて、光ピックアップ装置３０の動作について説明する。
【００４３】
光ディスクＤへの情報の記録動作時や光ディスクＤに記録された情報の再生動作時に、半導体レーザ発振器３２から青紫色光が出射される。出射された青紫色光は、コリメータ３３を透過して無限平行光にコリメートされた後、ビームスプリッタ３４を透過して、１／４波長板３５を透過する。さらに、当該青紫色光は絞り３６及び対物レンズ３７を透過した後、光ディスクＤの保護基板Ｄ１を介して情報記録面Ｄ２に集光スポットを形成する。
【００４４】
集光スポットを形成した青紫色光は、光ディスクＤの情報記録面Ｄ２で情報ビットによって変調され、情報記録面Ｄ２によって反射される。そして、この反射光は、対物レンズ３７及び絞り３６を順次透過した後、１／波長板３５によって偏光方向が変更され、ビームスプリッタ３４で反射する。その後、当該反射光は、センサーレンズ群３８を透過して非点収差が与えられ、センサー３９で受光されて、最終的には、センサー３９によって光電変換されることによって電気的な信号となる。
【００４５】
以後、このような動作が繰り返し行われ、光ディスクＤに対する情報の記録動作や、光ディスクＤに記録された情報の再生動作が完了する。
【００４６】
以上の本実施形態によれば、対物レンズ３７を製造する際に成形部５０に対しフッ素化処理が実行され、対物レンズ３７では成形部５０上にフッ素層５０が形成されているから、光源３２から発される波長３８０〜４２０ｎｍといったブルー用の短波長の光に対しても、対物レンズ３７の透過率が低下したり、対物レンズ３７が変形したりするのを抑制することができる。
【実施例】
【００４７】
（１）サンプルの作製
（１．１）実施例１
攪拌装置を備えたステンレス製反応器内を十分に乾燥、窒素置換した。その後、この反応器に対し脱水シクロヘキサン３００質量部、スチレン６０質量部及びジブチルエーテル０．３８質量部を仕込み、これらを６０℃で攪拌しながら、ｎ−ブチルリチウム溶液（１５％含有ヘキサン溶液）０．３６質量部を添加して重合反応を開始させた。
【００４８】
１時間重合反応を行い、その後、反応溶液中に、スチレン８質量部、イソプレン１２質量部及び１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジリメタクリレート０．８質量部からなる混合モノマーを添加し、さらに１時間重合反応を行い、その後、反応溶液にイソプロピルアルコール０．２質量部を添加して反応を停止させた。
【００４９】
次に、上記重合反応溶液３００質量部を、攪拌装置を備えた耐圧反応器に移送し、水素化触媒として、シリカ−アルミナ担持型ニッケル触媒（日揮科学工業社製：Ｅ２２Ｕ，ニッケル担持型量６０％）１０質量部を添加して混合した。反応器内部を水素ガスで置換して、さらに溶液を攪拌しながら水素を供給し、温度を１６０℃に設定し、その後圧力４．５ＭＰａにて８時間水素化反応を行った。
【００５０】
反応終了後、反応溶液をろ過して水素化触媒を除去し、シクロヘキサン８００質量部を加えて希釈し、その後当該反応溶液を３５００質量部のイソプロパノール中に注いで共重合体を析出させた。その後、この共重合体をろ過し取り出し、８０℃にて４８時間減圧乾燥させて「樹脂１」を得た。
【００５１】
この樹脂１を７０℃で６時間乾燥させて水分を除去し、その後射出成形機により、シリンダー温度２８０℃、金型温度８０℃、射出速度３０ｍｍ／ｓｅｃ、射出圧８０ＭＰａにてＮＡ０．８５の光ピックアップ用対物レンズを成形した。
【００５２】
上記対物レンズを１．１気圧，常温，Ｆ２ガス濃度５％の雰囲気下に２分間晒し、上記対物レンズに対しフッ素化処理を行った。そして、フッ素化処理後の対物レンズの表面に対しＴｉＯ２層とＳｉＯ２層とを交互に７層積層し、反射防止膜を形成した。以上のように作製した対物レンズを「実施例１」のサンプルとした。
【００５３】
（１．２）実施例２
実施例１のサンプルにおいてフッ素化処理時間を１０分とし（それ以外は実施例１のサンプルと同じ。）、これにより作製した対物レンズを「実施例２」のサンプルとした。
【００５４】
（１．３）実施例３
実施例１のサンプルにおいてフッ素化処理時間を３０分とし（それ以外は実施例１のサンプルと同じ。）、これにより作製した対物レンズを「実施例３」のサンプルとした。
【００５５】
（１．４）実施例４
実施例１のサンプルにおいてフッ素化処理時間を０．５分とし（それ以外は実施例１のサンプルと同じ。）、これにより作製した対物レンズを「実施例４」のサンプルとした。
【００５６】
（１．５）実施例５
実施例１のサンプルにおいてフッ素化処理時間を１２０分とし（それ以外は実施例１のサンプルと同じ。）、これにより作製した対物レンズを「実施例５」のサンプルとした。
【００５７】
（１．６）比較例１
実施例１のサンプルにおいて反射防止膜を形成しない（それ以外は実施例１のサンプルと同じ。）対物レンズを作製し、これを「比較例１」のサンプルとした。
【００５８】
（１．７）比較例２
実施例１のサンプルにおいてフッ素化処理を行わずに反射防止膜を形成し（それ以外は実施例１のサンプルと同じ。）、これにより作製した対物レンズを「比較例２」のサンプルとした。
【００５９】
（１．８）実施例１０
メタクリル酸メチル１００質量部およびアクリル酸メチル１質量部に、アゾビスイソブチロニトリル０．００６質量部およびｎ−オクチルメルカプタン０．００８質量部を添加して攪拌し、均一溶液とした。次に、この均一溶液を、水３００質量部にポリメタクリル酸ナトリウム０．００３質量部を添加した溶液が入った５０Ｌジャケット付重合槽内に投入し、攪拌した。そしてジャケットに温水を通して加熱し、８０℃で３時間重合反応を行った。
【００６０】
得られた重合体を水洗、乾燥し、メタクリル酸メチルを主成分とする「樹脂２」を得た。この樹脂２を７０℃で６時間乾燥させ水分を除去し、その後射出成形機により、シリンダー温度２６０℃、金型温度７０℃、射出速度３０ｍｍ／ｓｅｃ、射出圧８０ＭＰａにてＮＡ０．８の光ピックアップ用対物レンズを成形した。
【００６１】
上記対物レンズを１．１気圧，常温，Ｆ２ガス濃度５％の雰囲気下に２分間晒し、上記対物レンズに対しフッ素化処理を行った。そして、フッ素化処理後の対物レンズの表面に対しＴｉＯ２層とＳｉＯ２層とを交互に７層積層し、反射防止膜を形成した。以上のように作製した対物レンズを「実施例１０」のサンプルとした。
【００６２】
（１．９）比較例１０
実施例１０のサンプルにおいて反射防止膜を形成しない（それ以外は実施例１０のサンプルと同じ。）対物レンズを作製し、これを「比較例１０」のサンプルとした。
【００６３】
（１．１０）比較例１１
実施例１０のサンプルにおいてフッ素化処理を行わずに反射防止膜を形成し（それ以外は実施例１０のサンプルと同じ。）、これにより作製した対物レンズを「比較例１１」のサンプルとした。
【００６４】
（１．１１）実施例２０
攪拌機、温度計及び還流冷却器を備えた反応槽に水酸化ナトリウム水溶液及びイオン交換水を仕込み、これに下記構造を有するモノマー［Ａ］，［Ｂ］を５０：５０（モル％）の比率で溶解させ、少量のハイドロサルファイトを加えた。次にこれに塩化メチレンを加え、２０℃でホスゲンを約６０分かけて吹き込んだ。さらに、ｐ−tert−ブチルフェノールを加えて乳化させ、その後トリエチルアミンを加えて３０℃で約３時間攪拌して反応を終了させた。反応終了後有機相を分取し、塩化メチレンを蒸発させてポリカーボネート共重合体を得て、これを「樹脂３」とした。
【００６５】
【化１】
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【００６６】
この樹脂３を７０℃で６時間乾燥させ水分を除去した後、射出成形機により、シリンダー温度２８０℃、金型温度９０℃、射出速度３０ｍｍ／ｓｅｃ、射出圧９０ＭＰａにてＮＡ０．８の光ピックアップ用対物レンズを成形した。
【００６７】
上記対物レンズを１．１気圧，常温，Ｆ２ガス濃度５％の雰囲気下に２分間晒し、上記対物レンズに対しフッ素化処理を行った。そして、フッ素化処理後の対物レンズの表面に対しＴｉＯ２層とＳｉＯ２層とを交互に７層積層し、反射防止膜を形成した。以上のように作製した対物レンズを「実施例２０」のサンプルとした。
【００６８】
（１．１２）比較例２０
実施例２０のサンプルにおいて反射防止膜を形成しない（それ以外は実施例２０のサンプルと同じ。）対物レンズを作製し、これを「比較例２０」のサンプルとした。
【００６９】
（１．１３）比較例２１
実施例２０のサンプルにおいてフッ素化処理を行わずに反射防止膜を形成し（それ以外は実施例２０のサンプルと同じ。）、これにより作製した対物レンズを「比較例２１」のサンプルとした。
【００７０】
（２）サンプルの評価
作製した各サンプルにおいて波長４０５ｎｍの光に対する初期透過率（％）を測定し、その後各サンプルに対し８０℃の環境下で波長４０５ｎｍの光（レーザ，照射強度２０ｍＷ，照射時間５０００時間）を連続的に照射し続けた。そしてレーザ照射後の各サンプルにおいて波長４０５ｎｍの光に対する透過率（％）を再度測定し、併せてレーザ照射後の外観の変化も観察した。これら測定・観察結果を表２に示す。表２中、「レーザ照射後の外観」の項目の「○」，「△」，「×」の基準は下記の通りとした。
○…レーザ照射前後で変化はない
△…レーザ照射前後に顕微鏡で観ると僅かにヒビが観られるが、影響はないレベル
×…レーザ照射後に膜割れが発生しているか又は白濁の発生が認められる
【００７１】
【表２】
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【００７２】
（３）まとめ
表２の結果から、実施例１〜５，１０，２０のサンプルではレーザ照射後の透過率，外観の結果が良好であり、フッ素層を形成してその上に無機材料製の反射防止膜を形成することが、短波長の光を使用する場合において透過率の低下や変形を抑制するのに有用であることがわかる。
【図面の簡単な説明】
【００７３】
【図１】本発明の好ましい実施形態で使用される光ピックアップ装置の概略構成を示す図面である。
【符号の説明】
【００７４】
３０  光ピックアップ装置
３２  半導体レーザ発振器
３３  コリメータ
３４  ビームスプリッタ
３５  １／４波長板
３６  絞り
３７  対物レンズ
３７ａ  表面
３７ｂ  裏面
３８  センサーレンズ群
３９  センサー
４０  ２次元アクチュエータ
５０  成形部
５５  フッ素層
６０  反射防止膜
６１  第１層
６２  第２層
Ｄ  光ディスク
Ｄ１  保護基板
Ｄ２  情報記録面
【図１】
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