(57)【要約】【課題】  広いネマチック相温度範囲、低温での他の液晶化合物に対する高い相溶性、大きな屈折率異方性値を持ちかつ、高い化学的安定性を同時に有する新規液晶組成物を提供する。【解決手段】  一般式（１）【化１】2010111686.tif 000062（式中、Ｈ1〜Ｈ12の水素原子のうち少なくとも１つはハロゲン原子に置き換わっており、Ｈ6またはＨ8のいずれか１つがハロゲン原子で置き換わっている場合には残りのＨ1〜Ｈ12の水素原子のうち少なくとも１つはハロゲン原子に置き換わっている。Ｒ1，Ｙ1はそれぞれ独立してＣ１〜２０のアルキル基等を示す。Ｘ1、Ｘ2、Ｘ3は共有結合、１，２−エチレン基、１，４−ブチレン基のいずれかを示す。）で表される化合物およびこれを含む液晶組成物。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（１）
【化１】
2010111686.tif 000055
（式中、Ｈ1〜Ｈ12の水素原子のうち、Ｈ1とＨ2、またはＨ5とＨ6が、フッ素原子で置き換わっている。Ｒ1、Ｙ1はそれぞれ独立して炭素数１〜２０のアルキル基を示すが、Ｒ1、Ｙ1中の１つまたは２つ以上のメチレン基は酸素原子、−ＣＨ＝ＣＨ−のいずれかで置き換わってもよい。Ｘ1、Ｘ2、Ｘ3は共有結合を示す。）で表される４環化合物。
【請求項２】
請求項１に記載の４環化合物を少なくとも１種類含有することを特徴とする液晶組成物。
【請求項３】
第一成分として、請求項１に記載の４環化合物を少なくとも１種類含有し、第二成分として、一般式（２）、（３）および（４）
【化２】
2010111686.tif 000056
（式中、Ｒ2は炭素数１〜１０のアルキル基を示し、Ｙ2はフッ素原子、塩素原子、ＯＣＦ3、ＯＣＦ2Ｈ、ＣＦ3、ＣＦ2ＨまたはＣＦＨ2を示し、Ｌ1、Ｌ2、Ｌ3およびＬ4は相互に独立して水素原子またはフッ素原子を示し、Ｚ1およびＺ2は相互に独立して１，２−エチレン基、−ＣＨ＝ＣＨ−または共有結合を示し、ａは１または２を示す。）からなる群から選択される化合物を少なくとも１種類含有することを特徴とする液晶組成物。
【請求項４】
第一成分として、請求項１に記載の４環化合物を少なくとも１種類含有し、第二成分として、一般式（５）、（６）、（７）、（８）および（９）
【化３】
2010111686.tif 000057
（式中、Ｒ3はフッ素原子、炭素数１〜１０のアルキル基または炭素数２〜１０のアルケニル基を示す。該アルキル基またはアルケニル基中の任意のメチレン基は酸素原子によって置換されていてもよいが、２つ以上のメチレン基が連続して酸素原子に置換されることはない。環Ｂは１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレンまたは１，３−ジオキサン−２，５−ジイルを示し、環Ｃは１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレンまたはピリミジン−２，５−ジイルを示し、環Ｄは１，４−シクロヘキシレンまたは１，４−フェニレンを示し、Ｚ3は１，２−エチレン基、−ＣＯＯ−または共有結合を示し、Ｌ5およびＬ6は相互に独立して水素原子またはフッ素原子を示し、ｂおよびｃは相互に独立して０または１を示す。）
【化４】
2010111686.tif 000058
（式中、Ｒ4は炭素数１〜１０のアルキル基を示し、Ｌ7は水素原子またはフッ素原子を示し、ｄは０または１を示す。）
【化５】
2010111686.tif 000059
（式中、Ｒ5は炭素数１〜１０のアルキル基を示し、環Ｅおよび環Ｆは相互に独立して１，４−シクロヘキシレンまたは１，４−フェニレンを示し、Ｚ4およびＺ5は相互に独立して−ＣＯＯ−または共有結合を示し、Ｚ6は−ＣＯＯ−または−Ｃ≡Ｃ−を示し、Ｌ8およびＬ9は相互に独立して水素原子またはフッ素原子を示し、Ｙ3はフッ素原子、ＯＣＦ3、ＯＣＦ2Ｈ、ＣＦ3、ＣＦ2ＨまたはＣＦＨ2を示し、ｅ、ｆおよびｇは相互に独立して０または１を示す。）
【化６】
2010111686.tif 000060
（式中、Ｒ6およびＲ7は相互に独立して炭素数１〜１０のアルキル基または炭素数２〜１０のアルケニル基を示す。いずれにおいてもそのうちの任意のメチレン基は酸素原子によって置換されていてもよいが、２つ以上のメチレン基が連続して酸素原子に置換されることはない。環Ｈは１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレンまたはピリミジン−２，５−ジイルを示し、環Ｉは１，４−シクロヘキシレンまたは１，４−フェニレンを示し、Ｚ6は−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−、１，２−エチレン基、−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ≡Ｃ−または共有結合を示し、Ｚ7は−ＣＯＯ−または共有結合を示す。）
【化７】
2010111686.tif 000061
（式中、Ｒ8およびＲ9は相互に独立して炭素数１〜１０のアルキル基または炭素数２〜１０のアルケニル基を示す。いずれにおいてもそのうちの任意のメチレン基は酸素原子によって置換されていてもよいが、２つ以上のメチレン基が連続して酸素原子に置換されることはない。環Ｊは１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレンまたはピリミジン−２，５−ジイルを示し、環Ｋは１，４−シクロヘキシレン、環上の１つ以上の水素原子がフッ素原子で置換されていてもよい１，４−フェニレンまたはピリミジン−２，５−ジイルを示し、環Ｌは１，４−シクロヘキシレンまたは１，４−フェニレンを示し、Ｚ8およびＺ10は相互に独立して−ＣＯＯ−、１，２−エチレン基または共有結合を示し、Ｚ9は−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−または共有結合を示し、ｈは０または１を示す。）からなる群から選択される化合物を少なくとも１種類含有することを特徴とする液晶組成物。
【請求項５】
第一成分として、請求項１に記載の４環化合物を少なくとも１種類含有し、第二成分の一部分として、請求項３に記載の一般式（２）、（３）および（４）からなる群から選択される化合物を少なくとも１種類含有し、第二成分の他の部分として、請求項１３に記載の一般式（５）、（６）、（７）、（８）および（９）からなる群から選択される化合物を少なくとも１種類含有することを特徴とする液晶組成物。
【請求項６】
請求項２〜５のいずれかに記載の液晶組成物を用いて構成した液晶表示素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明の目的は電気光学表示材料として好適な諸物性を発現する新規液晶性化合物、および該化合物を用いた、好適な物性を持つ液晶組成物を提供することである。特に広いネマチック相温度範囲と高い透明点を持つ新規液晶化合物、他の液晶化合物との良好な相溶解性およびそれらを用いた広い駆動温度範囲を持つ新規液晶組成物を提供することである。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示素子は液晶性化合物が有する光学異方性および誘電率異方性を利用するものであるが、表示性能が高いという理由から、ＴＦＴ方式を活用したアクティブマトリックス駆動方式が最も注目されている。
【０００３】
上記の方式に使用される液晶性化合物には種々の特性が要求されるが通常、
１）広い動作温度範囲を実現するためにネマチック相の温度範囲が広いこと、あるいは液晶組成物に添加した場合ネマチック相温度範囲の縮小をもたらさないこと、あるいは低温領域において結晶の析出等の相分離を生じにくいこと、
２）高速応答性を実現するために粘性が低いこと、
３）大きな屈折率異方性を有すること、
が必要とされる。
【０００４】
このような要求特性を実現するために、粘性が低く、非常に広いネマチック相温度範囲、特に高い透明点、を持つ液晶性化合物をベース液晶として使用し、ここに特徴的な屈折率異方性値を持つ液晶性化合物を適当量混合し、所望の特性を得るという操作が行われている。広い温度範囲で動作が可能な液晶組成物を得るために、できるだけ広い温度範囲、すなわち、できるだけ低いＳ−Ｎ点あるいは融点、できるだけ高い透明点、できるだけ広いネマチック相温度範囲を持つ液晶化合物が必要である。
【０００５】
さらに、液晶性化合物は個々の表示素子に要求される特性を発現するため、数種ないし三十数種の液晶性化合物の混合物から構成される。このため、他の液晶化合物との相溶性、特に最近では、使用環境が広範囲にわたっていることから、低温相溶性も良好であることが要求される。つまり、広い温度範囲での使用を可能にするために、液晶組成物は、特に低温でネマチック相を有することが必要であり、結晶の析出またはスメクチック相の発現がない液晶組成物が要求されている。そのため、使用する液晶性化合物の、他の液晶化合物に対する低温での高い相溶性が極めて重要である。
【０００６】
上記の目的すなわち、広いネマチック相温度領域、良好な相溶解性、大きな屈折率異方性を同時に満たすことを目指し種々の４環化合物が既に開示されている。例えば、特開平４−３１２５４０号や特開平４−３５６４３２号がこれに当たる。また、特開昭５８−２０３９２２号には（化８）に示される化合物が、
【０００７】
【化１】
2010111686.tif 000002
【０００８】
特開平２−２３７９４９号には（化９）に示される化合物がそれぞれ開示されている。
【０００９】
【化２】
2010111686.tif 000003
【００１０】
しかし何れも大きな屈折率異方性を示すものの、（化８）は相溶解性が著しく悪く、（化９）はネマチック相温度範囲が狭かった。故に更に特性の優れた新規な液晶性化合物が待望されていた。
【００１１】
液晶組成物に用いられる液晶性化合物は水分、空気、熱、光等外的環境要因に対し安定でなければならない。特に、個々の画像点をスイッチングするための集積非線形素子を含有するアクティブマトリックス液晶ディスプレイ用に設計された液晶組成物は、極めて高い比抵抗値（高い電圧保持率）、良好なＵＶ安定性を持たねばならない。アクティブマトリックス液晶ディスプレイはテレビ用、あるいはコンピューター用の高度情報ディスプレイさらに自動車および航空機内での高度情報ディスプレイに適している。しかし極めて高い比抵抗値（高い電圧保持率）、良好なＵＶ安定性を有していない液晶化合物あるいは液晶組成物を使用した場合、液晶パネル内の電気抵抗性が低下するにつれコントラストが低下し「残像現象」の問題が生じる。また液晶組成物の高い電気抵抗性は、特に低電圧駆動する場合、利用寿命を左右する極めて重要な要素である。このために、極めて高い比抵抗値（高い電圧保持率）、良好なＵＶ安定性は使用する液晶性化合物に要求される極めて重要な特性である。
【００１２】
すなわち、優れた特性を有する液晶組成物を提供するため、より広いネマチック相温度範囲、低温での他の液晶化合物に対する高い相溶性、高い化学的安定性を持ち、かつ大きな屈折率異方性値を同時に有する新規液晶化合物が待望されていた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１３】
【特許文献１】特開平４−３１２５４０号
【特許文献２】特開平４−３５６４３２号
【特許文献３】特開昭５８−２０３９２２号
【特許文献４】特開平２−２３７９４９号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
本発明の目的は、広いネマチック相温度範囲、低温での他の液晶化合物に対する高い相溶性、大きな屈折率異方性値かつ、高い化学的安定性を同時に有する新規液晶化合物およびこれらを含有し優れた特性を持つ液晶組成物を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明者らは前述した問題を解決すべく鋭意検討した結果、新規な構造を有し公知の液晶性化合物に比較し改善された特性を有する化合物を見い出すに至った。すなわち、４−シクロヘキシルターフェニル骨格あるいはその類似４環骨格中のベンゼン環のある特定の箇所に１ないし複数個のハロゲン原子を導入することで特異的に広いネマチック相温度範囲と著しく改善された相溶解性を誘起することを見い出し本発明を完成するに至った。すなわち、本発明は一般式（１）
【００１６】
【化３】
2010111686.tif 000004
【００１７】
（式中、Ｈ1〜Ｈ12は水素原子を示すが、それらのうち少なくとも１つはハロゲン原子に置き換わっており、Ｈ6またはＨ8のいずれか１つがハロゲン原子で置き換わっている場合には残りの上記の水素原子のうち少なくとも１つはハロゲン原子に置き換わっている。Ｒ1，Ｙ1はそれぞれ独立して炭素数１〜２０のアルキル基を示すが、Ｒ1，Ｙ1中の１つまたは２つ以上のメチレン基は酸素原子、硫黄原子、ジヒドロシリレン基、ジメチルシリレン基、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−のいずれかで置き換わってもよい。Ｘ1、Ｘ2、Ｘ3はそれぞれ独立に共有結合、１，２−エチレン基、１，４−ブチレン基のいずれかを示す。）で表される４環化合物に関する。
【００１８】
本発明の化合物の好ましい態様は、一般式（１）において、Ｒ1，Ｙ1がそれぞれ独立して炭素数１〜２０のアルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基またはアルケニル基である４環化合物である。
【００１９】
本発明の化合物のより具体的な態様は、一般式（１）において、Ｒ1，Ｙ1がそれぞれ独立して炭素数１〜２０のアルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基またはアルケニル基であり、Ｈ1，Ｈ4がハロゲン原子で置き換わっており、Ｈ2〜Ｈ3，Ｈ5〜Ｈ12が水素原子である４環化合物である。
【００２０】
本発明の化合物のより具体的な別の態様は、一般式（１）において、Ｒ1，Ｙ1がそれぞれ独立して炭素数１〜２０のアルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基またはアルケニル基であり、Ｈ1がハロゲン原子で置き換わっており、Ｈ2〜Ｈ12が水素原子である４環化合物である。
【００２１】
本発明の化合物のより具体的なさらに別の態様は、一般式（１）において、Ｒ1，Ｙ1がそれぞれ独立して炭素数１〜２０のアルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基またはアルケニル基であり、Ｈ5がハロゲン原子で置換されており、Ｈ1〜Ｈ4，Ｈ6〜Ｈ12が水素原子である４環化合物である。
【００２２】
本発明の化合物のより具体的なさらに別の態様は、一般式（１）において、Ｒ1，Ｙ1がそれぞれ独立して炭素数１〜２０のアルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基またはアルケニル基であり、Ｈ2，Ｈ4がハロゲン原子で置換されており、Ｈ1，Ｈ3，Ｈ5〜Ｈ12が水素原子である４環化合物である。
【００２３】
本発明の化合物のより具体的なさらに別の態様は、一般式（１）において、Ｒ1，Ｙ1がそれぞれ独立して炭素数１〜２０のアルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基またはアルケニル基であり、Ｈ6，Ｈ8がハロゲン原子で置換されており、Ｈ1〜Ｈ5，Ｈ7，Ｈ9〜Ｈ12が水素原子である４環化合物である。
【００２４】
本発明の化合物のより具体的なさらに別の態様は、一般式（１）において、Ｒ1，Ｙ1がそれぞれ独立して炭素数１〜２０のアルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基またはアルケニル基であり、Ｈ1，Ｈ5がハロゲン原子で置換されており、Ｈ2〜Ｈ4，Ｈ6〜Ｈ12が水素原子である４環化合物である。
【００２５】
本発明の化合物のより具体的なさらに別の態様は、一般式（１）において、Ｒ1，Ｙ1がそれぞれ独立して炭素数１〜２０のアルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基またはアルケニル基であり、Ｈ1，Ｈ9がハロゲン原子で置換されており、Ｈ2〜Ｈ8，Ｈ10〜Ｈ12が水素原子である４環化合物である。
【００２６】
本発明の化合物のより具体的なさらに別の態様は、一般式（１）において、Ｒ1，Ｙ1がそれぞれ独立して炭素数１〜２０のアルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基またはアルケニル基であり、Ｈ2，Ｈ9がハロゲン原子で置換されており、Ｈ1，Ｈ3〜Ｈ8，Ｈ10〜Ｈ12が水素原子である４環化合物である。
【００２７】
また、本発明は、一般式（１）で表される４環化合物を少なくとも１種類含有することを特徴とする液晶組成物に関する。
【００２８】
本発明の液晶組成物の具体的な態様は、第一成分として、一般式（１）で表される４環化合物を少なくとも１種類含有し、第二成分として、一般式（２）、（３）および（４）
【００２９】
【化４】
2010111686.tif 000005
【００３０】
（式中、Ｒ2は炭素数１〜１０のアルキル基を示し、Ｙ2はフッ素原子、塩素原子、ＯＣＦ3、ＯＣＦ2Ｈ、ＣＦ3、ＣＦ2ＨまたはＣＦＨ2を示し、Ｌ1、Ｌ2、Ｌ3およびＬ4は相互に独立して水素原子またはフッ素原子を示し、Ｚ1およびＺ2は相互に独立して１，２−エチレン基、−ＣＨ＝ＣＨ−または共有結合を示し、ａは１または２を示す。）からなる群から選択される化合物を少なくとも１種類含有することを特徴とする液晶組成物である。
【００３１】
本発明の液晶組成物の具体的な別の態様は、第一成分として、一般式（１）で表される４環化合物を少なくとも１種類含有し、第二成分として、一般式（５）、（６）、（７）、（８）および（９）
【００３２】
【化５】
2010111686.tif 000006
【００３３】
（式中、Ｒ3はフッ素原子、炭素数１〜１０のアルキル基または炭素数２〜１０のアルケニル基を示す。該アルキル基またはアルケニル基中の任意のメチレン基は酸素原子によって置換されていてもよいが、２つ以上のメチレン基が連続して酸素原子に置換されることはない。環Ｂは１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレンまたは１，３−ジオキサン−２，５−ジイルを示し、環Ｃは１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレンまたはピリミジン−２，５−ジイルを示し、環Ｄは１，４−シクロヘキシレンまたは１，４−フェニレンを示し、Ｚ3は１，２−エチレン基、−ＣＯＯ−または共有結合を示し、Ｌ5およびＬ6は相互に独立して水素原子またはフッ素原子を示し、ｂおよびｃは相互に独立して０または１を示す。）
【００３４】
【化６】
2010111686.tif 000007
【００３５】
（式中、Ｒ4は炭素数１〜１０のアルキル基を示し、Ｌ7は水素原子またはフッ素原子を示し、ｄは０または１を示す。）
【００３６】
【化７】
2010111686.tif 000008
【００３７】
（式中、Ｒ5は炭素数１〜１０のアルキル基を示し、環Ｅおよび環Ｆは相互に独立して１，４−シクロヘキシレンまたは１，４−フェニレンを示し、Ｚ4およびＺ5は相互に独立して−ＣＯＯ−または共有結合を示し、Ｚ6は−ＣＯＯ−または−Ｃ≡Ｃ−を示し、Ｌ8およびＬ9は相互に独立して水素原子またはフッ素原子を示し、Ｙ3はフッ素原子、ＯＣＦ3、ＯＣＦ2Ｈ、ＣＦ3、ＣＦ2ＨまたはＣＦＨ2を示し、ｅ、ｆおよびｇは相互に独立して０または１を示す。）
【００３８】
【化８】
2010111686.tif 000009
【００３９】
（式中、Ｒ6およびＲ7は相互に独立して炭素数１〜１０のアルキル基または炭素数２〜１０のアルケニル基を示す。いずれにおいてもそのうちの任意のメチレン基は酸素原子によって置換されていてもよいが、２つ以上のメチレン基が連続して酸素原子に置換されることはない。環Ｈは１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレンまたはピリミジン−２，５−ジイルを示し、環Ｉは１，４−シクロヘキシレンまたは１，４−フェニレンを示し、Ｚ6は−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−、１，２−エチレン基、−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ≡Ｃ−または共有結合を示し、Ｚ7は−ＣＯＯ−または共有結合を示す。）
【００４０】
【化９】
2010111686.tif 000010
【００４１】
（式中、Ｒ8およびＲ9は相互に独立して炭素数１〜１０のアルキル基または炭素数２〜１０のアルケニル基を示す。いずれにおいてもそのうちの任意のメチレン基は酸素原子によって置換されていてもよいが、２つ以上のメチレン基が連続して酸素原子に置換されることはない。環Ｊは１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレンまたはピリミジン−２，５−ジイルを示し、環Ｋは１，４−シクロヘキシレン、環上の１つ以上の水素原子がフッ素原子で置換されていてもよい１，４−フェニレンまたはピリミジン−２，５−ジイルを示し、環Ｌは１，４−シクロヘキシレンまたは１，４−フェニレンを示し、Ｚ8およびＺ10は相互に独立して−ＣＯＯ−、１，２−エチレン基または共有結合を示し、Ｚ9は−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−または共有結合を示し、ｈは０または１を示す。）からなる群から選択される化合物を少なくとも１種類含有することを特徴とする液晶組成物である。
【００４２】
本発明の液晶組成物の具体的なさらに別の態様は、第一成分として、一般式（１）で表される４環化合物を少なくとも１種類含有し、第二成分の一部分として、一般式（２）、（３）および（４）からなる群から選択される化合物を少なくとも１種類含有し、第二成分の他の部分として、一般式（５）、（６）、（７）、（８）および（９）からなる群から選択される化合物を少なくとも１種類含有することを特徴とする液晶組成物である。
【００４３】
本発明はまた、前記の液晶組成物を用いて構成した液晶表示素子に関する。
【発明の効果】
【００４４】
本発明（１）の化合物は、広いネマチック相温度範囲、低温での他の液晶化合物に対する高い相溶性、大きな屈折率異方性を持ちかつ、高い化学的安定性を同時に有する。
【００４５】
さらに組成物例に示した通り本発明の化合物を使用することで優れた特性、すなわち従来の液晶組成物に比べより広い動作温度範囲を持つ液晶組成物を調製することが可能になった。
【発明を実施するための形態】
【００４６】
本発明の一般式（１）で表される４環化合物はハロゲン原子が置換したベンゼン環を持つことを特徴とする４環化合物であるが、具体的には次の（１−１）〜（１−８）を挙げることができる。（ただし、上式においてＲ1、Ｙ1、Ｈ1〜Ｈ12は前記と同一の意味を示す。）
【００４７】
【化１０】
2010111686.tif 000011
【００４８】
すなわち、（１）式の４環化合物はすべての環が共有結合で連結された４環化合物（１−１）、１つの１，２−エチレン結合を含む（１−２）〜（１−４）、１つの１，４−ブチレン結合を含む（１−５）〜（１−７）、２つの１，２−エチレン結合を含む（１−８）に展開される。
【００４９】
更に具体的には次の化合物に展開される。
【００５０】
【化１１】
2010111686.tif 000012
【００５１】
【化１２】
2010111686.tif 000013
【００５２】
【化１３】
2010111686.tif 000014
【００５３】
【化１４】
2010111686.tif 000015
【００５４】
【化１５】
2010111686.tif 000016
【００５５】
【化１６】
2010111686.tif 000017
【００５６】
【化１７】
2010111686.tif 000018
【００５７】
【化１８】
2010111686.tif 000019
【００５８】
ただし上式において、Ｒa1，Ｙa1はアルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、アルケニル基であり、Ｈａｌはフッ素原子または塩素原子である。
【００５９】
本発明の一般式（１）の４環化合物のＲ1，Ｙ1は炭素数１〜２０のアルキル基を示すが、Ｙ1中のメチレン基は酸素原子、硫黄原子、ジヒドロシリレン基、ジメチルシリレン基、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−で置き換わってもよい。中でも好ましいＲ1，Ｙ1をより具体的に示すと、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、メトキシメチル基、エトキシメチル基、プロポキシメチル基、ブトキシメチル基、ペントキシメチル基、ヘキシルオキシメチル基、ヘプチルオキシメチル基、オクチルオキシメチル基、メトキシエチル基、エトキシエチル基、プロポキシエチル基、ペントキシエチル基、ヘキシルオキシエチル基、メトキシプロピル基、エトキシプロピル基、プロポキシプロピル基、ペントキシプロピル基、ヘキシルオキシプロピル基、ヘプチルオキシプロピル基、メトキシブチル基、エトキシブチル基、プロポキシブチル基、ブトキシブチル基、ペントキシブチル基、メトキシペンチル基、エトキシペンチル基、プロポキシペンチル基、ペントキシペンチル基、メトキシメトキシ基、エトキシメトキシ基、プロポキシメトキシ基、ブトキシメトキシ基、ペントキシメトキシ基、ヘキシルオキシメトキシ基、ヘプチルオキシメトキシ基、オクチルオキシメトキシ基、メトキシエトキシ基、エトキシエトキシ基、プロポキシエトキシ基、ブトキシエトキシ基、ペントキシエトキシ基、ヘキシルオキシエトキシ基、メトキシプロポキシ基、エトキシプロポキシ基、プロポキシプロポキシ基、ペントキシプロポキシ基、ヘキシルオキシプロポキシ基、ヘプチルオキシプロポキシ基、メトキシブトキシ基、エトキシブトキシ基、プロポキシブトキシ基、ブトキシブトキシ基、ペントキシブトキシ基、メトキシペントキシ基、エトキシペントキシ基、プロポキシペントキシ基、ペントキシペントキシ基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペントキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、ビニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、１−ブテニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基、１−ペンテニル基、２−ペンテニル基、３−ペンテニル基、４−ペンテニル基、１−ヘキセニル基、２−ヘキセニル基、３−ヘキセニル基、４−ヘキセニル基、５−ヘキセニル基、１−ヘプテニル基、２−ヘプテニル基、３−ヘプテニル基、４−ヘプテニル基、５−ヘプテニル基、６−ヘプテニル基、エチニル基、１−プロピニル基、２−プロピニル基、１−ブチニル基、２−ブチニル基、３−ブチニル基、１−ペンチニル基、２−ペンチニル基、３−ペンチニル基、４−ペンチニル基、１−ヘキシニル基、２−ヘキシニル基、３−ヘキシニル基、４−ヘキシニル基、５−ヘキシニル基、１−ヘプチニル基、２−ヘプチニル基、３−ヘプチニル基、４−ヘプチニル基、５−ヘプチニル基、６−ヘプチニル基、１，５ヘキサジエニルである。
【００６０】
ベンゼン環上のＨ1〜Ｈ12の水素原子のうち少なくとも１つはハロゲン原子に置き換わっており、Ｈ6またはＨ8のいずれか１つがハロゲン原子で置き換わっている場合には残りのＨ1〜Ｈ12の水素原子のうち少なくとも１つはハロゲン原子に置き換わっている。ハロゲン原子はフッ素原子、塩素原子、臭素原子あるいはヨウ素原子を示すが、粘度を考慮した場合、好ましくはフッ素原子あるいは塩素原子、より好ましくはフッ素原子である。Ｈ1〜Ｈ12のうち１つ以上はハロゲン原子に置き換わっているが、置き換わるハロゲン原子数は１個から４個が好ましく、粘度を考慮した場合特に１〜２個がより好ましい。
【００６１】
一般式（１）の４環化合物において、該化合物を構成する各原子が同位体に置き換えられたものも本発明の範疇に入る。すなわち、例えば水素原子は通常その大部分が質量数１の原子核を持つが、質量数２の重水素で特定の位置を置き換えることも可能である。
【００６２】
本発明の一般式（１）の４環化合物は広いネマチック相温度範囲、高い化学的安定性、他の液晶化合物に対する高い相溶性、大きな屈折率異方性値を持ち、液晶組成物の構成要素として極めて重要である。
【００６３】
一般式（１）の４環化合物は、従来の液晶化合物に比較して著しく広いネマチック相温度範囲を有している。特に融点（Ｃ−Ｎ点）あるいはＳ−Ｎ点が従来の化合物に比較して極めて低く、またネマチック相温度範囲も公知液晶化合物に比較して著しく広い。
【００６４】
一般式（１）の４環化合物は何れも他の液晶化合物あるいは液晶組成物に対する溶解度が高く、（１）の４環化合物を用いた液晶組成物は低温（例えば実用面から要求される−２０℃）においてもネマチック相を損なうことはない。
【００６５】
一般式（１）の４環化合物は何れも化学的に非常に安定で、これを使用した液晶組成物の比抵抗値および電圧保持率は非常に高い。また、紫外光、加熱に対する安定性が極めて高い。
【００６６】
本発明（１）の４環化合物は何れも低い粘性を示し、液晶組成物に多量に使用しても、液晶組成物全体の粘度を著しく増加することはない。また、粘度の温度依存性、特に低温での温度依存性が極めて小さい。
【００６７】
本発明の４環化合物は先に示した通り優れた特性を有するので、ＴＦＴ用はもちろん他の用途にも好適に使用できる。例えばＴＮ用液晶化合物、ＳＴＮ用液晶化合物、ゲストホストモード用の液晶化合物、ポリマー分散型液晶表示素子用の液晶化合物、動的散乱モード用の液晶化合物としても好適である。
【００６８】
本発明に係る液晶組成物は、一般式（１）で表される４環化合物の１種以上を０．１〜９９重量％の割合で含有することが、優良な特性を発現せしめるために好ましい。
【００６９】
更に詳しくは、本発明により提供される液晶組成物は、一般式（１）の４環化合物を少なくとも一種類含有する第一成分に加え、液晶組成物の目的に応じて一般式（２）〜（９）で表される化合物群から任意に選択される化合物を混合する事により完成する。
【００７０】
本発明に用いられる一般式（２）〜（４）の化合物として、好ましくは以下の化合物を挙げることができる。（Ｒ2は前記と同一の意味を示す。）
【００７１】
【化１９】
2010111686.tif 000020
【００７２】
【化２０】
2010111686.tif 000021
【００７３】
【化２１】
2010111686.tif 000022
【００７４】
【化２２】
2010111686.tif 000023
【００７５】
【化２３】
2010111686.tif 000024
【００７６】
【化２４】
2010111686.tif 000025
【００７７】
【化２５】
2010111686.tif 000026
【００７８】
【化２６】
2010111686.tif 000027
【００７９】
【化２７】
2010111686.tif 000028
【００８０】
一般式（２）〜（４）で表される化合物は誘電率異方性値が正の化合物であり、熱的安定性や化学的安定性が非常に優れており、特に電圧保持率の高い、あるいは比抵抗値の大きいといった高信頼性が要求されるＴＦＴ（ＡＭ−ＬＣＤ）用の液晶組成物を調製する場合には、極めて有用な化合物である。
【００８１】
一般式（２）〜（４）で表される化合物の使用量は、ＴＦＴ用の液晶組成物を調製する場合、液晶組成物の全重量に対して１〜９９重量％の範囲で任意に使用できるが、１０〜９７重量％が好ましい。より好ましくは４０〜９５重量％である。また、その際には一般式（５）〜（９）で表される化合物を一部含有しても良い。ＳＴＮ表示方式、または通常のＴＮ表示方式用の液晶組成物を調製する場合にも一般式（２）〜（４）で表される化合物を使用することができる。
【００８２】
本発明の一般式（５）〜（７）で表される化合物として、好ましくは以下の化合物を挙げることができる。（Ｒ3〜Ｒ5は前記と同一の意味を示す。）
【００８３】
【化２８】
2010111686.tif 000029
【００８４】
【化２９】
2010111686.tif 000030
【００８５】
【化３０】
2010111686.tif 000031
【００８６】
【化３１】
2010111686.tif 000032
【００８７】
【化３２】
2010111686.tif 000033
【００８８】
一般式（５）〜（７）の化合物は誘電率異方性値が正でその値が大きく、特にしきい値電圧を小さくする目的で使用される。また、粘度調整、屈折率異方性値調整、透明点を高くする等のネマチックレンジを広げる目的にも使用される。さらに、また急峻性を改良する目的にも使用される。
【００８９】
本発明の一般式（８）および（９）の化合物として好ましくは以下の化合物を挙げることができる。（Ｒ6〜Ｒ9は前記と同一の意味をを示す。）
【００９０】
【化３３】
2010111686.tif 000034
【００９１】
【化３４】
2010111686.tif 000035
【００９２】
一般式（８）および（９）の化合物は、誘電率異方性値が負かまたは小さい正の化合物である。一般式（８）の化合物は主として粘度低下および／または屈折率異方性値調整の目的で使用される。また、一般式（９）の化合物は透明点を高くする等のネマチックレンジを広げる目的および屈折率異方性値調整の目的で使用される。
【００９３】
一般式（５）〜（９）の化合物は、特にＳＴＮ表示方式および通常のＴＮ表示方式用の液晶組成物を調整する場合には、極めて有用な化合物である。
【００９４】
一般式（５）〜（９）の化合物の使用量は、通常のＴＮ表示方式およびＳＴＮ表示方式用の液晶組成物を調製する場合には１〜９９重量％の範囲で任意に使用できるが、１０〜９７重量％が好ましい。より好ましくは４０〜９５重量％である。また、その際には（２）〜（４）の化合物を一部使用しても良い。
【００９５】
本発明の液晶組成物は、慣用な方法で調製される。一般には、種々の成分を高い温度で互いに溶解させる方法がとられている。しかし、液晶を有機溶媒に溶かし混合したのち、減圧下溶媒を留去してもよい。
【００９６】
本発明の液晶材料は、適当な添加物によって意図する用途に応じた改良がなされ、最適化される。このような添加物は当業者によく知られており、文献等に詳細に記載されている。通常、液晶のらせん構造を誘起して必要なねじれ角を調整し、逆ねじれを防ぐためキラルド−プ剤などを添加する。
【００９７】
また、本発明の液晶組成物は、メロシアニン系、スチリル系、アゾ系、アゾメチン系、アゾキシ系、キノフタロン系、アントラキノン系およびテトラジン系等の二色性色素を添加してゲストホスト（ＧＨ）モ−ド用の液晶組成物としても使用できる。あるいはネマチック液晶をマイクロカプセル化して作成したＮＣＡＰや液晶中に三次元編み目状高分子を作成したポリマ−ネットワ−ク液晶表示素子（ＰＮＬＣＤ）に代表されるポリマ−分散型液晶表示素子（ＰＤＬＣＤ）用の液晶組成物としても使用できる。その他複屈折制御（ＥＣＢ）モ−ドや動的散乱（ＤＳ）モ−ド用の液晶組成物としても使用できる。
【００９８】
本発明の一般式（１）で表される４環化合物は、通常の有機合成化学的手法を駆使し製造できる。即ち新実験化学講座、オーガニックシンセシス、オーガニックリアクションズ等の成書、雑誌に記載の既知の反応を組み合わせることで製造することができる。
【００９９】
例えば次に示した代表例に従えば問題なく製造できる。ただし下記において、Ｒ1，Ｙ1，Ｘ1，Ｘ2，Ｘ3，Ｈ1〜Ｈ12は前記と同一の意味を、Ｇ1は臭素原子あるいはヨウ素原子を、ｇ，ｐは０ないし１以上の自然数を示す。
【０１００】
【化３５】
2010111686.tif 000036
【０１０１】
【化３６】
2010111686.tif 000037
【０１０２】
【化３７】
2010111686.tif 000038
【０１０３】
すなわち鈴木らの方法（Ｓｙｎｔｈ．Ｃｏｍｍｕｎ．，１１，５１３（１９８１））に従いホウ酸誘導体（１０）とハロゲン化物（１１）をパラジウム類あるいはニッケル類等の触媒の存在下クロスカップリング反応に付し、クロスカップリング付加物として一般式（１）の４環化合物を製造することができる。
【０１０４】
また、（１０）のかわりに常法に従いグリニヤール試薬（１２）、畠中らの方法（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ，５０，８３０１（１９９４））に従い硅素化合物（１３）、特願平７−１４１１１７号の方法に従い硅素化合物（１４）を使用してクロスカップリング反応を行うことによっても（１）の４環化合物を製造することができる。
【０１０５】
（１０）（１２）（１３）および（１４）は特開昭６０−９７９２５号、特公昭５９−３５９０１号等に記載の方法に準じて製造できる（１５）に上記の文献記載の条件で適切な反応を施し製造することができる。すなわち、ハロゲン化物（１５）にアルキルリチウム、ホウ酸トリアルキルを順次作用したのち酸で処理し（１０）が、マグネシウムを作用し（１２）が、アルキルリチウムで処理したのちアルキルトリクロロ硅素を作用し（１３）が、アルキルリチウムで処理したのちテトラアルコキシ硅素を作用することで（１４）が得られる。
【０１０６】
Ｙ1がアルケニル基、アルキニル基である場合は次の製造方法でＹ1を導入することが好適である。すなわち、特公平７−２６５３号等に記載の方法に従って製造した（１６）から常法で増炭およびウイティッヒ反応を施し（１）においてＹ1がアルケニル基であるものが、（１７）を常法によってアセチレン誘導体（１８）としたのちアルキル化をすることで（１）においてＹ1がアルキニル基であるものが製造できる。
【実施例】
【０１０７】
以下、実施例により本発明の化合物の製造方法および使用例につき詳細に説明する。なお、各実施例中においてＣは結晶を、Ｎはネマチック相を、Ｓはスメクチック相を、またＩは等方性液体を示し、相転移温度の単位は全て℃である。
【０１０８】
実施例１
４−（４−メトキシメチルシクロヘキシル）−２'−フルオロ−４"−メチルターフェニル（（１）式においてＲ1がメトキシメチル基、Ｘ1、Ｘ2、Ｘ3が共有結合、Ｙ1がメチル基、Ｈ1〜Ｈ4、Ｈ6〜Ｈ12が水素原子、Ｈ5がフッ素原子で置き換わっている化合物、化合物番号ａ−１）の製造方法。
【０１０９】
４−ブロモトルエン（７４３ｍｍｏｌ）、ＴＨＦ５００ｍｌの混合物に−７８℃で１．６時間でｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液５００ｍｌ（７８０ｍｍｏｌ相当）滴下し同温度で１．５時間攪拌した。この溶液にホウ酸トリイソプロピル（１４８６ｍｍｏｌ）のＴＨＦ２００ｍｌ溶液を滴下し徐々に室温まで昇温したのち一晩攪拌した。７．３％塩酸７５０ｍｌを加え３０分攪拌したのち、反応液をジエチルエーテルで２回抽出し、３回水洗後に無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去し残留物を約１０００ｍｌのトルエンから再結晶して白色固体の４−メチルフェニルホウ酸（５４５ｍｍｏｌ）を得た。
【０１１０】
４−メチルフェニルホウ酸（７３．６ｍｍｏｌ）、１−ブロモ−３−フルオロベンゼン（６６．２ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（１４７ｍｍｏｌ）、５％パラジウム炭素０．５ｇ、トルエン１００ｍｌ、エタノール１００ｍｌ、水６．０ｍｌの混合物を５時間還流した。放冷後反応液を濾過し無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去し残留物をカラムクロマトグラフィー（溶出液：トルエン／ｎ−ヘプタン＝１／９）、再結晶（再結晶溶媒：エタノール）で精製し無色板状の３−フルオロ−４'−メチルビフェニル（１３．６ｍｍｏｌ）を得た。
【０１１１】
４−（４−メトキシメチルシクロヘキシル）−１−ヨードベンゼン（２９７ｍｍｏｌ）、ＴＨＦ２５０ｍｌの混合物に−７８℃で３．０時間でｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液２００ｍｌ（３１２ｍｍｏｌ相当）滴下し同温度で１．２時間攪拌した。この溶液にホウ酸トリイソプロピル（５９４ｍｍｏｌ）のＴＨＦ１００ｍｌ溶液を滴下し徐々に室温まで昇温したのち一晩攪拌した。７．３％塩酸２７０ｍｌを加え３０分攪拌したのち、反応液をジエチルエーテルで２回抽出し、３回水洗後に無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去し残留物をヘプタンで洗浄し白色固体の４−（４−メトキシメチルシクロヘキシル）フェニルホウ酸（６０．１ｍｏｌ）を得た。
【０１１２】
３−フルオロ−４'−メチルビフェニル（１３．４ｍｍｏｌ）、ヨウ素酸（６．７１ｍｍｏｌ）、ヨウ素（８．０８ｍｍｏｌ）、酢酸（１０ｍｌ）、水（１．２ｍｌ）、四塩化炭素（１．２ｍｌ）の混合物を２４時間還流した。放冷後反応液をヘプタンで２回抽出し、２回水洗した。４％チオ硫酸ナトリウム水溶液５０ｍｌで洗浄し、３回水洗後に無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去し残留物をカラムクロマトグラフィー（溶出液：トルエン／ｎ−ヘプタン＝１／９）、再結晶（再結晶溶媒：エタノール）２回で精製し薄い黄緑色の結晶３−フルオロ−４−ヨード−４'−メチルビフェニル（３．３９ｍｍｏｌ）を得た。
【０１１３】
４−（４−メトキシメチルシクロヘキシル）フェニルホウ酸（８．４２ｍｍｏｌ）、３−フルオロ−４−ヨード−４'−メチルビフェニル（３．３６ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（１６．８ｍｍｏｌ）、５％パラジウム炭素０．１ｇ、トルエン１４ｍｌ、エタノール１４ｍｌ、水０．７ｍｌの混合物を６時間還流した。放冷後反応液を濾過し無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去し残留物をカラムクロマトグラフィー（溶出液：トルエン）、再結晶（再結晶溶媒：エタノール／トルエン＝４／３）で精製し無色結晶の標題化合物（２．５８ｍｍｏｌ）を得た。このものの各種スペクトルデータは次の通りよくその構造を支持した。
１Ｈ−ＮＭＲ：δ（ｐｐｍ）：７．２１−７．５９（ｍ、１１Ｈ）、３．３６（ｓ、３Ｈ）、３．２６（ｄ、２Ｈ）、２．３７−２．４９（ｂｒｓ、１Ｈ）、２．４１（ｓ、３Ｈ）、１．０７−２．１０（ｍ、９Ｈ）
ＧＣ−ＭＳ：３８８（Ｍ＋）
また、本化合物は液晶性を示しその相転移温度は下記の通りであった。
Ｃ−Ｎ点：１５６．４℃、Ｎ−Ｉ点：３１５．７℃。
【０１１４】
実施例２
４−（４−メトキシメチルシクロヘキシル）−２'，５'−ジフルオロ−４"−メチルターフェニル（（１）式においてＲ1がメトキシメチル基、Ｘ1、Ｘ2、Ｘ3が共有結合、Ｙ1がメチル基、Ｈ1〜Ｈ4，Ｈ6，Ｈ7，Ｈ9〜Ｈ12が水素原子、Ｈ5，Ｈ8がフッ素原子で置き換わっている化合物、化合物番号ｂ−１）の製造方法。
【０１１５】
４−ブロモトルエン（７４３ｍｍｏｌ）、ＴＨＦ５００ｍｌの混合物に−７８℃で１．６時間でｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液５００ｍｌ（７８０ｍｍｏｌ相当）滴下し同温度で１．５時間攪拌した。この溶液にホウ酸トリイソプロピル（１４８６ｍｍｏｌ）のＴＨＦ２００ｍｌ溶液を滴下し徐々に室温まで昇温したのち一晩攪拌した。７．３％塩酸７５０ｍｌを加え３０分攪拌したのち、反応液をジエチルエーテルで２回抽出し、３回水洗後に無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去し残留物を約１０００ｍｌのトルエンから再結晶して白色固体の４−メチルフェニルホウ酸（５４５ｍｍｏｌ）を得た。
【０１１６】
４−メチルフェニルホウ酸（４６．０ｍｍｏｌ）、１，４−ジブロモ−２，５−ジフルオロベンゼン（９１．９ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（９２．０ｍｍｏｌ）、５％パラジウム炭素１．０ｇ、トルエン１２０ｍｌ、エタノール１２０ｍｌ、水６．０ｍｌの混合物を６時間還流した。放冷後反応液を濾過し無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去し残留物をカラムクロマトグラフィー（溶出液：ｎ−ヘプタン）、再結晶（再結晶溶媒：エタノール）で精製し無色針状の４−ブロモ−２，５−ジフルオロ−４'−メチルビフェニル（１６．０ｍｍｏｌ）を得た。
【０１１７】
４−ブロモ−２，５−ジフルオロ−４'−メチルビフェニル（７．０６ｍｍｏｌ）、ＴＨＦ２０ｍｌの混合物に−７８℃で１０分間でｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液５．０ｍｌ（７．８５ｍｍｏｌ相当）滴下し同温度で３．２時間攪拌した。この溶液にホウ酸トリイソプロピル（１５．２ｍｍｏｌ）のＴＨＦ１０ｍｌ溶液を滴下し徐々に室温まで昇温したのち一晩攪拌した。７．３％塩酸９ｍｌを加え３０分攪拌したのち、反応液をトルエンで２回抽出し、３回水洗後に無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去し残留物を約１０ｍｌのトルエンから再結晶して白色固体の２，５−ジフルオロ−４'−メチルビフェニル−４ホウ酸（５．４８ｍｍｏｌ）を得た。
【０１１８】
２，５−ジフルオロ−４'−メチルビフェニル−４ホウ酸（５．２４ｍｍｏｌ）、４−（４−メトキシメチルシクロヘキシル）−１−ヨードベンゼン（５．２４ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（１０．５ｍｍｏｌ）、５％パラジウム炭素０．１ｇ、トルエン１２ｍｌ、エタノール１２ｍｌ、水０．６ｍｌの混合物を７時間還流した。放冷後反応液を濾過し無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去し残留物をカラムクロマトグラフィー（溶出液：トルエン／ｎ−ヘプタン＝１／１）、再結晶（再結晶溶媒：エタノール／トルエン＝２／１）で精製し無色結晶の標題化合物（３．９９ｍｍｏｌ）を得た。このものの各種スペクトルデータは次の通りよくその構造を支持した。
１Ｈ−ＮＭＲ：δ（ｐｐｍ）：７．１１−７．５２（ｍ、１０Ｈ）、３．３５（ｓ、３Ｈ）、３．２５（ｄ、２Ｈ）、２．０１−２．５４（ｂｒｓ、１Ｈ）、２．４０（ｓ、３Ｈ）、１．０６−１．９０（ｍ、９Ｈ）
ＧＣ−ＭＳ：４０６（Ｍ＋）
また、本化合物は液晶性を示しその相転移温度は下記の通りであった。
Ｃ−Ｎ点：１２０．４℃、Ｎ−Ｉ点：２７６．３℃。
【０１１９】
実施例３
４−（４−プロピルシクロヘキシル）−３−フルオロ−４"−エチルターフェニル（（１）式においてＲ1がプロピル基、Ｘ1、Ｘ2、Ｘ3が共有結合、Ｙ1がエチル基、Ｈ2〜Ｈ12が水素原子、Ｈ1がフッ素原子で置き換わっている化合物、化合物番号ｃ−１）の製造方法。
【０１２０】
４−ブロモ−４'−エチルビフェニル（７４８ｍｍｏｌ）、ＴＨＦ５００ｍｌの混合物に−７８℃で１．５時間でｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液５００ｍｌ（７８５ｍｍｏｌ相当）滴下し同温度で２．０時間攪拌した。この溶液にホウ酸トリメチル（１４９６ｍｍｏｌ）のＴＨＦ１５０ｍｌ溶液を滴下し徐々に室温まで昇温したのち一晩攪拌した。７．３％塩酸７５０ｍｌを加え３０分攪拌したのち、反応液をジエチルエーテルで２回抽出し、３回水洗後に無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去し残留物を約１６００ｍｌのトルエンとアセトン５００ｍｌから再結晶して白色固体の４'−エチルビフェニル−４−ホウ酸（５７２ｍｍｏｌ）を得た。
【０１２１】
４'−エチルビフェニル−４−ホウ酸（１７７ｍｍｏｌ）、１−ブロモ−３−フルオロベンゼン（１９５ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（３５４ｍｍｏｌ）、５％パラジウム炭素３．０ｇ、トルエン２６０ｍｌ、エタノール２６０ｍｌ、水１３ｍｌの混合物を７時間還流した。放冷後反応液にトルエン５００ｍｌを加えて均一化した後、濾過し無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去し残留物をカラムクロマトグラフィー（溶出液：トルエン）、再結晶（再結晶溶媒：エタノール／トルエン＝５／２）で精製し無色板状の３−フルオロ−４"−エチルターフェニル（１２１ｍｍｏｌ）を得た。
【０１２２】
３−フルオロ−４"−エチルターフェニル（２１．７ｍｏｌ）、ＴＨＦ１００ｍｌの混合物に−７８℃を保ちながらｓｅｃ−ブチルリチウムのシクロヘキサン溶液（２３．９ｍｏｌ相当）を滴下し４０分間同温度で攪拌した。−７８℃を保持しつつ４−プロピルシクロヘキサノン（２６．０ｍｏｌ）のＴＨＦ１０ｍｌ溶液を加え攪拌しつつ徐々に室温まで戻したのち一晩攪拌した。７．３％塩酸３０ｍｌを加え３０分攪拌したのち、反応液をトルエンで２回抽出し、４回水洗後に無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去し残留物をカラムクロマトグラフィー（溶出液：トルエン）で精製し無色固体の４−（１−ヒドロキシ−４−プロピルシクロヘキシル）−３−フルオロ−４"−エチルターフェニル（１７．２ｍｍｏｌ）を得た。
【０１２３】
４−（１−ヒドロキシ−４−プロピルシクロヘキシル）−３−フルオロ−４"−エチルターフェニル（２４．５ｍｍｏｌ）、オルガノ社製のアンバーリスト１５Ｅ（０．５ｇ）、トルエン２５０ｍｌの混合物を、生成する水を脱水しながら６．５時間加熱還流した。放冷後反応液を濾過した。溶媒を留去し残留物をカラムクロマトグラフィー（溶出液：トルエン）で精製し無色固体の４−（４−プロピル−１−シクロヘキセニル）−３−フルオロ−４"−エチルターフェニル（２４．０ｍｍｏｌ）を得た。
【０１２４】
４−（４−プロピル−１−シクロヘキセニル）−３−フルオロ−４"−エチルターフェニル（２４．０ｍｍｏｌ）にトルエン５００ｍｌ、ラネーニッケル２０ｇを加え水素雰囲気下１２時間攪拌した。水素の吸収が停止したことを確認し反応系から触媒を濾別除去した。溶媒を留去し残留物をカラムクロマトグラフィー（溶出液：トルエン）で精製し、再結晶（再結晶溶媒：エタノール／トルエン＝３／１）を４回繰り返して精製し無色結晶の標題化合物（１１．０ｍｍｏｌ）を得た。このものの各種スペクトルデータは次の通りよくその構造を支持した。
１Ｈ−ＮＭＲ：δ（ｐｐｍ）：７．２２−７．６３（ｍ、１１Ｈ）、２．９０−３．１０（ｂｒｓ、１Ｈ）、２．７１（ｑ、２Ｈ）、０．８０−２．１０（ｍ、１９Ｈ）
ＧＣ−ＭＳ：４００（Ｍ＋）
また、本化合物は液晶性を示しその相転移温度は下記の通りであった。
Ｃ−Ｃ点：９８．２℃、Ｃ−Ｓ点：１５６．２℃、Ｓ−Ｎ点：１８８．６℃、Ｎ−Ｉ点：３１７．９℃。
【０１２５】
実施例４
４−（４−プロピルシクロヘキシル）−２，５，−ジフルオロ−４"−エチルターフェニル（（１）式においてＲ１がプロピル基、Ｘ1、Ｘ2、Ｘ3が共有結合、Ｙ1がエチル基、Ｈ2，Ｈ3，Ｈ5〜Ｈ12が水素原子、Ｈ1，Ｈ4がフッ素原子で置き換わっている化合物、化合物番号ｄ−１）の製造方法。
【０１２６】
４−ブロモ−４'−エチルビフェニル（７４８ｍｍｏｌ）、ＴＨＦ５００ｍｌの混合物に−７８℃で１．５時間でｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液５００ｍｌ（７８５ｍｍｏｌ相当）滴下し同温度で２．０時間攪拌した。この溶液にホウ酸トリメチル（１４９６ｍｍｏｌ）のＴＨＦ１５０ｍｌ溶液を滴下し徐々に室温まで昇温したのち一晩攪拌した。７．３％塩酸７５０ｍｌを加え３０分攪拌したのち、反応液をジエチルエーテルで２回抽出し、３回水洗後に無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去し残留物を約１６００ｍｌのトルエンとアセトン５００ｍｌから再結晶して白色固体の４'−エチルビフェニル−４−ホウ酸（５７２ｍｍｏｌ）を得た。
【０１２７】
４'−エチルビフェニル−４−ホウ酸（１２３ｍｍｏｌ）、１，４−ジブロモ−２，５−ジフルオロベンゼン（１８４ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（２４５ｍｍｏｌ）、５％パラジウム炭素３．０ｇ、トルエン２４０ｍｌ、エタノール２４０ｍｌ、水１２ｍｌの混合物を７．３時間還流した。放冷後反応液にトルエン３００ｍｌを加えて均一化した後、濾過し無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去し残留物をカラムクロマトグラフィー（溶出液：ヘプタン）、再結晶（再結晶溶媒：エタノール／トルエン＝１５／４）で精製し無色板状の４−ブロモ−２，５−ジフルオロ−４"−エチルターフェニル（４１．３ｍｍｏｌ）を得た。
【０１２８】
４−ブロモ−２，５−ジフルオロ−４"−エチルターフェニル（２１．４ｍｏｌ）、ＴＨＦ１３０ｍｌの混合物に−７８℃を保ちながらｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（２３．６ｍｏｌ相当）を滴下し３時間同温度で攪拌した。−７８℃を保持しつつ４−プロピルシクロヘキサノン（２５．７ｍｏｌ）のＴＨＦ１０ｍｌ溶液を加え攪拌しつつ徐々に室温まで戻したのち一晩攪拌した。７．３％塩酸６７ｍｌを加え３０分攪拌したのち、反応液をトルエンで２回抽出し、４回水洗後に無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去し残留物をカラムクロマトグラフィー（溶出液：トルエン）で精製し無色固体の４−（１−ヒドロキシ−４−プロピルシクロヘキシル）−２，５−ジフルオロ−４"−エチルターフェニル（１５．３ｍｍｏｌ）を得た。
【０１２９】
４−（１−ヒドロキシ−４−プロピルシクロヘキシル）−２，５−ジフルオロ−４"−エチルターフェニル（１６．１ｍｍｏｌ）、オルガノ社製のアンバーリスト１５Ｅ（０．３５ｇ）、トルエン２５０ｍｌの混合物を、生成する水を脱水しながら６．０時間加熱還流した。放冷後反応液を濾過した。溶媒を留去し残留物をカラムクロマトグラフィー（溶出液：トルエン）で精製し無色固体の４−（４−プロピル−１−シクロヘキセニル）−２，５−ジフルオロ−４"−エチルターフェニル（１５．３ｍｍｏｌ）を得た。
【０１３０】
４−（４−プロピル−１−シクロヘキセニル）−２，５−ジフルオロ−４"−エチルターフェニル（１５．３ｍｍｏｌ）にトルエン４００ｍｌ、ラネーニッケル１５ｇを加え水素雰囲気下２１時間攪拌した。水素の吸収が停止したことを確認し反応系から触媒を濾別除去した。溶媒を留去し残留物をカラムクロマトグラフィー（溶出液：トルエン）で精製し、再結晶（再結晶溶媒：エタノール／トルエン＝２０／３）を４回繰り返して精製し無色結晶の標題化合物（３．５０ｍｍｏｌ）を得た。このものの各種スペクトルデータは次の通りよくその構造を支持した。
１Ｈ−ＮＭＲ：δ（ｐｐｍ）：６．９１−７．７１（ｍ、１０Ｈ）、２．９０−３．１０（ｂｒｓ、１Ｈ）、２．７０（ｑ、２Ｈ）、０．８０−２．１０（ｍ、１９Ｈ）
ＧＣ−ＭＳ：４１８（Ｍ＋）
また、本化合物は液晶性を示しその相転移温度は下記の通りであった。
Ｃ−Ｃ点：１１７．５℃、Ｃ−Ｎ点：１２２．２℃、Ｎ−Ｉ点：２８６．６℃。
【０１３１】
実施例５
４−（４−ペンチルシクロヘキシル）−２，６−ジフルオロ−４"−エチルターフェニル（（１）式においてＲ1がペンチル基、Ｘ1，Ｘ2，Ｘ3が共有結合、Ｙ１がエチル基、Ｈ1、Ｈ3、Ｈ5、Ｈ6、Ｈ7、Ｈ8が水素原子、Ｈ2、Ｈ4がフッ素原子で置き換わっている化合物、化合物番号（ｄ−２５）の製造方法。
【０１３２】
マグネシウム（６００ｍｍｏｌ）とＴＨＦ１３００ｍｌの混合物に室温で１−ブロモ−３，５−ジフルオロベンゼン（５００ｍｍｏｌ）を滴下し同温度で３０分攪拌しグリニヤール試薬とした。この溶液に４−ペンチルシクロヘキサノン（６００ｍｍｏｌ）とＴＨＦ２００ｍｌの混合物を滴下し同温度で一晩攪拌した。１Ｎの塩酸６００ｍｌを加え３０分攪拌した後、反応液をジエチルエーテルで２回抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去し（１−ヒドロキシ−４−ペンチルシクロヘキシル）−３，５−ジフルオロベンゼン（５５０ｍｍｏｌ）を得た。精製は特に行わなかった。
【０１３３】
（１−ヒドロキシ−４−ペンチルシクロヘキシル）−３，５−ジフルオロベンゼン（３００ｍｍｏｌ）、アンバーリスト（４．０ｇ）、トルエン１０００ｍｌの混合物を６時間還流した。放冷後アンバーリストを濾別し、溶媒を留去し残留物をカラムクロマトグラフィー（溶出液：ヘプタン）で精製し、（４−ペンチル−１−シクロヘキセニル）−３，５−ジフルオロベンゼン（１７０ｍｍｏｌ）を得た。
【０１３４】
（４−ペンチル−１−シクロヘキセニル）−３，５−ジフルオロベンゼン（８９ｍｍｏｌ）、ラネーニッケル（３．５ｇ）、ソルミックス５００ｍｌの混合物を室温、常圧で１０時間水素添加反応を行った。水素が減少しなくなり、これ以上反応が進行しなった時点で、触媒をラネーニッケルからパラジウムカーボン（２．４ｇ）に変更し８時間攪拌した。パラジウムカーボンを濾別し溶媒を留去した。残留物をカラムクロマトグラフィー（溶出液：ヘプタン）にて精製し（４−ペンチル−シクロヘキシル）−３，５−ジフルオロベンゼン（８１ｍｍｏｌ）を得た。
【０１３５】
（４−ペンチル−シクロヘキシル）−３，５−ジフルオロベンゼン（１０ｍｍｏｌ）、ＴＨＦ１５０ｍｌの混合物に−７０℃以下を保ちながらｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液７．５ｍｌ（１２ｍｍｏｌ相当）を滴下し３０分同温度で攪拌した。−７０℃以下を保ちつつヨウ素（３０ｍｍｏｌ）を加え１．５時間攪拌し、その後徐々に室温まで戻した後２時間攪拌した。１Ｎの塩酸１２ｍｌを加え３０分攪拌した後、反応液をトルエンで１回抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去し残留物をカラムクロマトグラフィー（溶出液：ヘプタン）にて精製し（４−ペンチル−シクロヘキシル）−３，５−ジフルオロ−４−ヨードベンゼン（８．３ｍｍｏｌ）を得た。
【０１３６】
（４−ペンチル−シクロヘキシル）−３，５−ジフルオロ−４−ヨードベンゼン（５ｍｍｏｌ）、４−エチル−ビフェニル−４−ほう酸（６ｍｍｏｌ）、炭酸ナトリウム（１８ｍｍｏｌ）、テトラキストリフェニルフォスフィノパラジウム（０．６ｍｍｏｌ）、トルエン５０ｍｌ，水５０ｍｌの混合物を１１時間還流した。放冷後有機相を分液し無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去し残留物をカラムクロマトグラフィー（溶出液：ヘプタン）、再結晶（再結晶溶媒：ヘプタン）を２回で精製し標題化合物（３ｍｍｏｌ）を得た。このものの各種スペクトルデータは次の通りよくその構造を支持した。
１Ｈ−ＮＭＲ：δ（ｐｐｍ）：６．６５−７．８５（ｍ、１０Ｈ）、２．２０−２．９５（ｍ、２Ｈ）、０．７８−２．１０（ｍ、２４Ｈ）
また、本化合物は液晶性を示しその転移温度は下記の通りであった。
Ｃ−Ｎ点：１４３．３℃、２３０℃以上で分解。
【０１３７】
実施例６
４−（４−ペンチルシクロヘキシル）−３'，５'−ジフルオロ−４"−エチルターフェニル（（１）式においてＲ1がプロピル基、Ｘ1、Ｘ2、Ｘ3が共有結合、Ｙ1がエチル基、Ｈ1〜Ｈ5，Ｈ7，Ｈ9〜Ｈ12が水素原子、Ｈ6，Ｈ8がフッ素原子で置き換わっている化合物、化合物番号ｄ−４３）の製造方法。
【０１３８】
１−ブロモ−３，５−ジフルオロベンゼン（７４３ｍｍｏｌ）、ＴＨＦ５００ｍｌの混合物に−７８℃で１．６時間でｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液５００ｍｌ（７８０ｍｍｏｌ相当）滴下し同温度で１．５時間攪拌した。この溶液にホウ酸トリイソプロピル（１４８６ｍｍｏｌ）のＴＨＦ２００ｍｌ溶液を滴下し徐々に室温まで昇温したのち一晩攪拌した。７．３％塩酸７５０ｍｌを加え３０分攪拌したのち、反応液をジエチルエーテルで２回抽出し、３回水洗後に無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去し残留物を約１０００ｍｌのトルエンから再結晶して白色固体の３，５−ジフルオロフェニルホウ酸（５２０ｍｍｏｌ）を得た。
【０１３９】
３，５−ジフルオロフェニルホウ酸（７３．６ｍｍｏｌ）、１−ブロモ−４−ヨードベンゼン（７７．５ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（１４７ｍｍｏｌ）、５％パラジウム炭素０．５ｇ、トルエン１００ｍｌ、エタノール１００ｍｌ、水６．０ｍｌの混合物を５時間還流した。放冷後反応液を濾過し無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去し残留物をカラムクロマトグラフィー（溶出液：トルエン／ｎ−ヘプタン＝１／９）、再結晶（再結晶溶媒：エタノール）で精製し無色固体の４−ブロモ−３'，５'−ジフルオロビフェニル（４５．０ｍｍｏｌ）を得た。
【０１４０】
４−ブロモ−３'，５'−ジフルオロビフェニル（４４．０ｍｍｏｌ）、ヨウ素酸（２２．０ｍｍｏｌ）、ヨウ素（２６．６ｍｍｏｌ）、酢酸（３３ｍｌ）、水（４．０ｍｌ）、四塩化炭素（４．０ｍｌ）の混合物を２４時間還流した。放冷後反応液をヘプタンで２回抽出し、２回水洗した。４％チオ硫酸ナトリウム水溶液１６０ｍｌで洗浄し、３回水洗後に無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去し残留物をカラムクロマトグラフィー（溶出液：トルエン／ｎ−ヘプタン＝１／９）、再結晶（再結晶溶媒：エタノール）２回で精製し薄い黄緑色の結晶４−ブロモ−３'，５'−ジフルオロ−４'−ヨードビフェニル（１０．６ｍｍｏｌ）を得た。
【０１４１】
１−ブロモ−４−エチルベンゼン（７４３ｍｍｏｌ）、ＴＨＦ５００ｍｌの混合物に−７８℃で１．６時間でｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液５００ｍｌ（７８０ｍｍｏｌ相当）滴下し同温度で１．５時間攪拌した。この溶液にホウ酸トリイソプロピル（１４８６ｍｍｏｌ）のＴＨＦ２００ｍｌ溶液を滴下し徐々に室温まで昇温したのち一晩攪拌した。７．３％塩酸７５０ｍｌを加え３０分攪拌したのち、反応液をジエチルエーテルで２回抽出し、３回水洗後に無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去し残留物を約１０００ｍｌのトルエンから再結晶して白色固体の４−エチルフェニルホウ酸（５１５ｍｍｏｌ）を得た。
【０１４２】
４−エチルフェニルホウ酸（９．５０ｍｍｏｌ）、４−ブロモ−３'，５'−ジフルオロ−４'−ヨードビフェニル（１０．０ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（１９．０ｍｍｏｌ）、５％パラジウム炭素０．０７ｇ、トルエン１３ｍｌ、エタノール１３ｍｌ、水０．８ｍｌの混合物を５時間還流した。放冷後反応液を濾過し無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去し残留物をカラムクロマトグラフィー（溶出液：トルエン／ｎ−ヘプタン＝１／９）、再結晶（再結晶溶媒：エタノール）で精製し無色固体の４−ブロモ−３'，５'−ジフルオロ−４"−エチルターフェニル（７．０５ｍｍｏｌ）を得た。
【０１４３】
４−ブロモ−３'，５'−ジフルオロ−４"−エチルターフェニル（７．００ｍｏｌ）、ＴＨＦ４４ｍｌの混合物に−７８℃を保ちながらｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（７．７２ｍｏｌ相当）を滴下し３時間同温度で攪拌した。−７８℃を保持しつつ４−ペンチルシクロヘキサノン（８．４０ｍｏｌ）のＴＨＦ１０ｍｌ溶液を加え攪拌しつつ徐々に室温まで戻したのち一晩攪拌した。７．３％塩酸２２ｍｌを加え３０分攪拌したのち、反応液をトルエンで２回抽出し、４回水洗後に無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去し残留物をカラムクロマトグラフィー（溶出液：トルエン）で精製し無色固体の４−（１−ヒドロキシ−４−ペンチルシクロヘキシル）−３'，５'−ジフルオロ−４"−エチルターフェニル（５．１０ｍｍｏｌ）を得た。
【０１４４】
４−（１−ヒドロキシ−４−ペンチルシクロヘキシル）−３'，５'−ジフルオロ−４"−エチルターフェニル（５．００ｍｍｏｌ）、オルガノ社製のアンバーリスト１５Ｅ（０．１２ｇ）、トルエン８０ｍｌの混合物を、生成する水を脱水しながら６．０時間加熱還流した。放冷後反応液を濾過した。溶媒を留去し残留物をカラムクロマトグラフィー（溶出液：トルエン）で精製し無色固体の４−（４−ペンチル−１−シクロヘキセニル）−３'，５'−ジフルオロ−４"−エチルターフェニル（４．７５ｍｍｏｌ）を得た。
【０１４５】
４−（４−ペンチル−１−シクロヘキセニル）−３'，５'−ジフルオロ−４"−エチルターフェニル（４．７５ｍｍｏｌ）にトルエン４００ｍｌ、ラネーニッケル１５ｇを加え水素雰囲気下２０時間攪拌した。水素の吸収が停止したことを確認し反応系から触媒を濾別除去した。溶媒を留去し残留物をカラムクロマトグラフィー（溶出液：トルエン）で精製し、再結晶（再結晶溶媒：エタノール／トルエン＝２０／３）を４回繰り返して精製し無色結晶の標題化合物（１．１５ｍｍｏｌ）を得た。このものの各種スペクトルデータはよくその構造を支持した。
【０１４６】
実施例７
実施例１〜６に準じて次に示す（１）式の化合物を製造する。
【０１４７】
【表１】
2010111686.tif 000039
【０１４８】
【表２】
2010111686.tif 000040
【０１４９】
【表３】
2010111686.tif 000041
【０１５０】
【表４】
2010111686.tif 000042
【０１５１】
【表５】
2010111686.tif 000043
【０１５２】
【表６】
2010111686.tif 000044
【０１５３】
【表７】
2010111686.tif 000045
【０１５４】
【表８】
2010111686.tif 000046
【０１５５】
【表９】
2010111686.tif 000047
【０１５６】
【表１０】
2010111686.tif 000048
【０１５７】
【表１１】
2010111686.tif 000049
【０１５８】
【表１２】
2010111686.tif 000050
【０１５９】
実施例８（使用例１）
４−（４−プロピルシクロヘキシル）ベンゾニトリル ２４％
４−（４−ペンチルシクロヘキシル）ベンゾニトリル ３６％
４−（４−ヘプチルシクロヘキシル）ベンゾニトリル ２５％
４−（４−プロピルフェニル）ベンゾニトリル １５％
からなる液晶組成物Ｂ１を調製した。Ｂ１の透明点は７１．７℃、誘電率異方性値は１１．０、屈折率異方性値は０．１３７、２０℃における粘度は２６．７ｍＰａ・ｓ、セル厚９．２μｍでのしきい値電圧は１．７８Ｖであった。
【０１６０】
Ｂ１の９５％に実施例１で得た本発明の化合物４−（４−メトキシメチルシクロヘキシル）−２'−フルオロ−４"−メチルターフェニル（化合物番号ａ−１）を５％混合し液晶組成物Ａ１を調製した。このものの透明点は７９．１℃（外挿値２１９．７℃）、誘電率異方性値は１０．９（外挿値９．０）、屈折率異方性値は０．１４４（外挿値０．２７７）、２０℃における粘度は２９．３ｍＰａｓ（外挿値７６．８ｍＰａｓ）、セル厚８．９μｍでのしきい値電圧は１．７５Ｖであった。また、この組成物を−２０℃のフリーザーに６０日間放置したが結晶の析出は認められなかった。さらにＡ１の電圧保持率を測定したところ１００℃において９９．６％であった。
【０１６１】
Ｂ１の８５％に実施例２で得た本発明の化合物４−（４−メトキシメチルシクロヘキシル）−２'，５'−ジフルオロ−４"−メチルターフェニル（化合物番号ｂ−１）を１５％混合し液晶組成物Ａ２を調製した。このものの透明点は９１．０℃（外挿値２００．４℃）、誘電率異方性値は１０．６（外挿値８．３）、屈折率異方性値は０．１５５（外挿値０．２５７）、２０℃における粘度は３６．９ｍＰａｓ（外挿値９４．７ｍＰａｓ）、セル厚９．２μｍでのしきい値電圧は１．９３Ｖであった。また、この組成物を−２０℃のフリーザーに６０日間放置したが結晶の析出は認められなかった。さらにＡ２の電圧保持率を測定したところ１００℃において９９．７％であった。
【０１６２】
Ｂ１の９５％に実施例３で得た本発明の化合物４−（４−プロピルシクロヘキシル）−３−フルオロ−４"−エチルターフェニル（化合物番号ｃ−１）を５％混合し液晶組成物Ａ３を調製した。このものの透明点は７９．５℃（外挿値２２７．７℃）、誘電率異方性値は１０．７（外挿値５．０）、屈折率異方性値は０．１４４（外挿値０．２７７）、２０℃における粘度は２８．５ｍＰａｓ（外挿値６４．６ｍＰａｓ）、セル厚８．７μｍでのしきい値電圧は１．７７Ｖであった。また、この組成物を−２０℃のフリーザーに６０日間放置したが結晶の析出は認められなかった。さらにＡ３の電圧保持率を測定したところ１００℃において９９．６％であった。
【０１６３】
Ｂ１の８５％に実施例４で得た本発明の化合物４−（４−プロピルシクロヘキシル）−２，５，−ジフルオロ−４"−エチルターフェニル（化合物番号ｄ−１）を１５％混合し液晶組成物Ａ４を調製した。このものの透明点は９３．０℃（外挿値２１３．７℃）、誘電率異方性値は１０．１（外挿値５．０）、屈折率異方性値は０．１５５（外挿値０．２５７）、２０℃における粘度は３５．０ｍＰａｓ（外挿値８１．５ｍＰａｓ）、セル厚８．８μｍでのしきい値電圧は１．９０Ｖであった。また、この組成物を−２０℃のフリーザーに６０日間放置したが結晶の析出は認められなかった。さらにＡ４の電圧保持率を測定したところ１００℃において９９．７％であった。
【０１６４】
実施例９
前述のＢ１（８５％）に、化合物番号ｄ−１（１５％）を混合して調製した液晶組成物を、−２０℃の冷凍庫で放置したところ６０日以上結晶およびスメクチックが出なかった。一方前述のＢ１（８５％）に、特開昭５８−２０３９２２の方法に準じて合成した４−（４−プロピルシクロヘキシル）−４"−エチルターフェニル（１５％）を混合して調製した液晶組成物を、同様に−２０℃の冷凍庫で放置したところ、１時間で結晶が析出した。また、Ｂ１（９５％）に４−（４−プロピルシクロヘキシル）−４"−エチルターフェニル（５％）を混合して調製した液晶組成物を−２０℃の冷凍庫で放置したところ、３日で結晶が析出した。
【０１６５】
【表１３】
2010111686.tif 000051
【０１６６】
実施例１０
特開平２−２３７９４９に記載されている４−（４−ペンチルシクロヘキシル）−３'−フルオロ−４"−プロピルターフェニルのネマチック温度範囲は４３℃と狭いのに対して、今回合成した化合物番号Ｃ−１，ｄ−１は、ネマチック温度範囲がそれぞれ１２９．３℃，１６４．４℃と広範囲であった。
【０１６７】
【表１４】
2010111686.tif 000052
【０１６８】
本発明化合物を含有するネマチック液晶組成物としてさらに以下に示すような組成例を示すことができる。ただし、組成例に記載の化合物は次表の規則に従い示した。
【０１６９】
【表１５】
2010111686.tif 000053
【０１７０】
【表１６】
2010111686.tif 000054
【０１７１】
実施例１１
１Ｏ１−ＨＢＢ（２Ｆ）Ｂ−１（化合物番号ａ−１） ３．０％
１Ｏ１−ＨＢＢ（２Ｆ，５Ｆ）Ｂ−１（化合物番号ｂ−１） ５．０％
１Ｖ２−ＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｃ ５．０％
３−ＨＢ−Ｃ ２５．０％
３−ＨＢ−Ｏ２ ４．０％
１−ＢＴＢ−３ ５．０％
２−ＢＴＢ−１ １０．０％
３−ＨＨ−４ １１．０％
３−ＨＨＢ−１ ９．０％
３−ＨＨＢ−３ ７．０％
３−Ｈ２ＢＴＢ−２ ４．０％
３−Ｈ２ＢＴＢ−３ ４．０％
３−ＨＢ（Ｆ）ＴＢ−２ ６．０％
３−ＨＢ（Ｆ）ＴＢ−３ ２．０％
この液晶組成物の諸物性値は次の通りであった。
ＴNI＝９０．７（℃）
η ＝１８．７（ｍＰａ・s）
Δｎ＝０．１６１
Δε＝７．３
Ｖth＝２．０５（Ｖ）
【０１７２】
実施例１２
３−ＨＢ（２Ｆ）ＢＢ−２（化合物番号ｃ−１） ３．０％
３−ＨＢ（２Ｆ，５Ｆ）ＢＢ−２（化合物番号ｄ−１） ５．０％
Ｖ２−ＨＢ−Ｃ １２．０％
１Ｖ２−ＨＢ−Ｃ １２．０％
３−ＨＢ−Ｃ ２４．０％
３−ＨＢ（Ｆ）−Ｃ ５．０％
３−ＨＢ−Ｏ２ ５．０％
２−ＢＴＢ−１ ２．０％
３−ＨＨ−４ ８．０％
３−ＨＨＶ（Ｆ）−Ｆ ６．０％
２−ＨＨＢ−Ｃ ３．０％
３−ＨＨＢ−Ｃ ６．０％
３−ＨＢ（Ｆ）ＴＢ−２ ５．０％
３−Ｈ２ＢＴＢ−４ ４．０％
この液晶組成物の諸物性値は次の通りであった。
ＴNI＝８７．０（℃）
η ＝２０．１（ｍＰａ・s）
Δｎ＝０．１４４
Δε＝８．７
Ｖth＝２．００（Ｖ）
【０１７３】
実施例１３
５−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）Ｂ−２（化合物番号ｄ−43） ３．０％
２Ｏ１−ＢＥＢ（Ｆ）−Ｃ ５．０％
３Ｏ１−ＢＥＢ（Ｆ）−Ｃ １５．０％
４Ｏ１−ＢＥＢ（Ｆ）−Ｃ １３．０％
５Ｏ１−ＢＥＢ（Ｆ）−Ｃ １３．０％
３−ＨＢ（Ｆ）−Ｃ ３．０％
２−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｃ １５．０％
３−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｃ １２．０％
３−ＨＢ（Ｆ）ＴＢ−２ ４．０％
３−ＨＢ（Ｆ）ＴＢ−３ ４．０％
３−ＨＢ（Ｆ）ＴＢ−４ ４．０％
３−ＨＨＢ−１ ５．０％
３−ＨＨＢ−Ｏ１ ４．０％
この液晶組成物の諸物性値は次の通りであった。
ＴNI＝８８．６（℃）
η ＝８５．２（ｍＰａ・s）
Δｎ＝０．１５１
Δε＝３１．３
Ｖth＝０．８８（Ｖ）
【０１７４】
実施例１４
１Ｏ１−ＨＢＢ（２Ｆ，５Ｆ）Ｂ−１（化合物番号ｂ−１）１０．０％
５−ＰｙＢ−Ｆ ４．０％
３−ＰｙＢ（Ｆ）−Ｆ ４．０％
２−ＢＢ−Ｃ ５．０％
４−ＢＢ−Ｃ ４．０％
５−ＢＢ−Ｃ ５．０％
２−ＰｙＢ−２ ２．０％
３−ＰｙＢ−２ ２．０％
４−ＰｙＢ−２ ２．０％
６−ＰｙＢ−Ｏ５ ３．０％
６−ＰｙＢ−Ｏ６ ３．０％
６−ＰｙＢ−Ｏ７ ３．０％
６−ＰｙＢ−Ｏ８ ３．０％
３−ＰｙＢＢ−Ｆ ６．０％
４−ＰｙＢＢ−Ｆ ６．０％
５−ＰｙＢＢ−Ｆ ６．０％
３−ＨＢ−Ｏ２ ５．０％
３−ＨＨＢ−１ ６．０％
３−ＨＨＢ−３ ３．０％
２−Ｈ２ＢＴＢ−２ ４．０％
２−Ｈ２ＢＴＢ−３ ４．０％
３−Ｈ２ＢＴＢ−３ ５．０％
３−Ｈ２ＢＴＢ−４ ５．０％
この液晶組成物の諸物性値は次の通りであった。
ＴNI＝９４．４（℃）
η ＝４１．３（ｍＰａ・s）
Δｎ＝０．２００
Δε＝６．８
Ｖth＝２．３０（Ｖ）
【０１７５】
実施例１５
１Ｏ１−ＨＢＢ（２Ｆ）Ｂ−１（化合物番号ａ−１） ３．０％
３−ＤＢ−Ｃ １０．０％
４−ＤＢ−Ｃ １０．０％
２−ＢＥＢ−Ｃ １２．０％
３−ＢＥＢ−Ｃ ４．０％
３−ＰｙＢ（Ｆ）−Ｆ ６．０％
３−ＨＥＢ−Ｏ４ ８．０％
４−ＨＥＢ−Ｏ２ ６．０％
５−ＨＥＢ−Ｏ１ ６．０％
３−ＨＥＢ−Ｏ２ ５．０％
５−ＨＥＢ−Ｏ２ ４．０％
５−ＨＥＢ−５ ５．０％
４−ＨＥＢ−５ ５．０％
１Ｏ−ＢＥＢ−２ ４．０％
３−ＨＨＢ−１ ６．０％
３−ＨＨＥＢＢ−Ｃ ３．０％
３−ＨＢＥＢＢ−Ｃ ３．０％
この液晶組成物の諸物性値は次の通りであった。
ＴNI＝６８．３（℃）
η ＝３８．１（ｍＰａ・s）
Δｎ＝０．１２１
Δε＝１１．２
Ｖth＝１．３３（Ｖ）
【０１７６】
実施例１６
３−ＨＢ（２Ｆ）ＢＢ−２（化合物番号ｃ−１） ４．０％
３−ＨＢ−Ｃ ２１．０％
７−ＨＢ−Ｃ ３．０％
１Ｏ１−ＨＢ−Ｃ １０．０％
３−ＨＢ（Ｆ）−Ｃ １０．０％
２−ＰｙＢ−２ ２．０％
３−ＰｙＢ−２ ２．０％
４−ＰｙＢ−２ ２．０％
１Ｏ１−ＨＨ−３ ７．０％
２−ＢＴＢ−Ｏ１ ７．０％
３−ＨＨＢ−Ｆ ４．０％
３−ＨＨＢ−Ｏ１ ４．０％
３−ＨＨＢ−３ ８．０％
３−Ｈ２ＢＴＢ−２ ３．０％
３−Ｈ２ＢＴＢ−３ ３．０％
２−ＰｙＢＨ−３ ４．０％
３−ＰｙＢＨ−３ ３．０％
３−ＰｙＢＢ−２ ３．０％
この液晶組成物の諸物性値は次の通りであった。
ＴNI＝７９．１（℃）
η ＝１９．０（ｍＰａ・s）
Δｎ＝０．１４２
Δε＝８．４
Ｖth＝１．７２（Ｖ）
【０１７７】
実施例１７
１Ｏ１−ＨＢＢ（２Ｆ，５Ｆ）Ｂ−１（化合物番号ｂ−１） ５．０％
３−ＨＢ（２Ｆ）ＢＢ−２（化合物番号ｃ−１） ３．０％
２Ｏ１−ＢＥＢ（Ｆ）−Ｃ ５．０％
３Ｏ１−ＢＥＢ（Ｆ）−Ｃ １２．０％
５Ｏ１−ＢＥＢ（Ｆ）−Ｃ ４．０％
１Ｖ２−ＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｃ １０．０％
３−ＨＨＥ−１ １０．０％
３−ＨＢ−Ｏ２ ２１．０％
３−ＨＨＥＢ−Ｆ ３．０％
５−ＨＨＥＢ−Ｆ ３．０％
３−ＨＢＥＢ−Ｆ ４．０％
２Ｏ１−ＨＢＥ（Ｆ）−Ｃ ２．０％
３−ＨＢ（Ｆ）ＥＢ（Ｆ）−Ｃ ２．０％
３−ＨＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｃ ２．０％
２−ＨＨＢ−Ｆ ４．０％
３−ＨＨＢ−Ｏ１ ４．０％
３−ＨＨＢ−３ ２．０％
３−ＢＥＢＥＢ−Ｆ ２．０％
３−ＢＥＢＥＢ−１ ２．０％
この液晶組成物の諸物性値は次の通りであった。
ＴNI＝７９．４（℃）
η ＝４０．１（ｍＰａ・s）
Δｎ＝０．１２２
Δε＝２３．７
Ｖth＝０．９７（Ｖ）
【０１７８】
実施例１８
３−ＨＢ（２Ｆ）ＢＢ−２（化合物番号ｃ−１） ４．０％
５−ＢＥＢ（Ｆ）−Ｃ ５．０％
Ｖ−ＨＢ−Ｃ １１．０％
５−ＰｙＢ−Ｃ ６．０％
４−ＢＢ−３ １１．０％
３−ＨＨ−２Ｖ １０．０％
５−ＨＨ−Ｖ １１．０％
Ｖ−ＨＨＢ−１ ７．０％
Ｖ２−ＨＨＢ−１ １５．０％
３−ＨＨＢ−１ ５．０％
１Ｖ２−ＨＢＢ−２ １０．０％
３−ＨＨＥＢＨ−３ ５．０％
この液晶組成物の諸物性値は次の通りであった。
ＴNI＝９４．７（℃）
η ＝１７．３（ｍＰａ・s）
Δｎ＝０．１２１
Δε＝４．８
Ｖth＝２．３６（Ｖ）
【０１７９】
実施例１９
５−ＨＢ（Ｆ，Ｆ）ＢＢ−２（化合物番号ｄ−25） ４．０％
２Ｏ１−ＢＥＢ（Ｆ）−Ｃ ５．０％
３Ｏ１−ＢＥＢ（Ｆ）−Ｃ １２．０％
５Ｏ１−ＢＥＢ（Ｆ）−Ｃ ４．０％
１Ｖ２−ＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｃ １６．０％
３−ＨＢ−Ｏ２ １０．０％
３−ＨＨ−４ ３．０％
３−ＨＨＢ−Ｆ ３．０％
３−ＨＨＢ−１ ８．０％
３−ＨＨＢ−Ｏ１ ４．０％
３−ＨＢＥＢ−Ｆ ４．０％
３−ＨＨＥＢ−Ｆ ７．０％
５−ＨＨＥＢ−Ｆ ３．０％
３−Ｈ２ＢＴＢ−２ ４．０％
３−Ｈ２ＢＴＢ−３ ４．０％
３−Ｈ２ＢＴＢ−４ ４．０％
３−ＨＢ（Ｆ）ＴＢ−２ ５．０％
この液晶組成物の諸物性値は次の通りであった。
ＴNI＝９２．０（℃）
η ＝４１．９（ｍＰａ・s）
Δｎ＝０．１４７
Δε＝２８．４
Ｖth＝０．９９（Ｖ）
【０１８０】
実施例２０
３−ＨＢ（２Ｆ，５Ｆ）ＢＢ−２（化合物番号ｄ−１） ５．０％
２−ＢＥＢ−Ｃ １２．０％
３−ＢＥＢ−Ｃ ４．０％
４−ＢＥＢ−Ｃ ６．０％
３−ＨＢ−Ｃ ３０．０％
３−ＨＥＢ−Ｏ４ １２．０％
４−ＨＥＢ−Ｏ２ ８．０％
５−ＨＥＢ−Ｏ１ ８．０％
３−ＨＥＢ−Ｏ２ ６．０％
５−ＨＥＢ−Ｏ２ ５．０％
３−ＨＨＢ−Ｏ１ ４．０％
この液晶組成物の諸物性値は次の通りであった。
ＴNI＝６３．８（℃）
η ＝２９．０（ｍＰａ・s）
Δｎ＝０．１２０
Δε＝１０．３
Ｖth＝１．３１（Ｖ）
【０１８１】
実施例２１
１Ｏ１−ＨＢＢ（２Ｆ）Ｂ−１（化合物番号ａ−１） ４．０％
３−ＨＢ（２Ｆ）ＢＢ−２（化合物番号ｃ−１） ４．０％
２−ＢＥＢ−Ｃ １０．０％
５−ＢＢ−Ｃ １２．０％
７−ＢＢ−Ｃ ７．０％
３−ＨＢ−Ｃ ５．０％
１−ＢＴＢ−３ ７．０％
２−ＢＴＢ−１ １０．０％
１Ｏ−ＢＥＢ−２ １０．０％
１Ｏ−ＢＥＢ−５ １２．０％
２−ＨＨＢ−１ ４．０％
３−ＨＨＢ−Ｆ ４．０％
３−ＨＨＢ−１ ７．０％
３−ＨＨＢ−Ｏ１ ４．０％
この液晶組成物の諸物性値は次の通りであった。
ＴNI＝７０．１（℃）
η ＝２４．３（ｍＰａ・s）
Δｎ＝０．１７１
Δε＝６．８
Ｖth＝１．７２（Ｖ）
【０１８２】
実施例２２
１Ｏ１−ＨＢＢ（２Ｆ，５Ｆ）Ｂ−１（化合物番号ｂ−１）１２．０％
３−ＨＢ（２Ｆ，５Ｆ）ＢＢ−２（化合物番号ｄ−１） ６．０％
１Ｖ２−ＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｃ ５．０％
３−ＨＢ−Ｃ ２５．０％
１−ＢＴＢ−３ ５．０％
２−ＢＴＢ−１ １０．０％
３−ＨＨ−４ １１．０％
３−ＨＨＢ−１ １１．０％
３−ＨＨＢ−３ ９．０％
３−ＨＢ−Ｏ２ ６．０％
この液晶組成物の諸物性値は次の通りであった。
ＴNI＝９２．２（℃）
η ＝２４．１（ｍＰａ・s）
Δｎ＝０．２２０
Δε＝７．０
Ｖth＝２．１２（Ｖ）
【０１８３】
実施例２３
１Ｏ１−ＨＢＢ（２Ｆ，５Ｆ）Ｂ−１（化合物番号ｂ−１）１０．０％
５−ＨＢ（Ｆ，Ｆ）ＢＢ−２（化合物番号ｄ−25） ４．０％
２Ｏ１−ＢＥＢ（Ｆ）−Ｃ ５．０％
３Ｏ１−ＢＥＢ（Ｆ）−Ｃ １５．０％
４Ｏ１−ＢＥＢ（Ｆ）−Ｃ １３．０％
５Ｏ１−ＢＥＢ（Ｆ）−Ｃ １３．０％
３−ＨＢ−Ｃ １０．０％
２−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｃ １５．０％
３−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｃ ３．０％
３−ＨＢ（Ｆ）ＴＢ−２ ４．０％
３−ＨＢ（Ｆ）ＴＢ−３ ４．０％
３−ＨＢ（Ｆ）ＴＢ−４ ４．０％
この液晶組成物の諸物性値は次の通りであった。
ＴNI＝８５．８（℃）
η ＝９２．０（ｍＰａ・s）
Δｎ＝０．１６２
Δε＝３１．２
Ｖth＝０．８４（Ｖ）
【０１８４】
実施例２４
１Ｏ１−ＨＢＢ（２Ｆ）Ｂ−１（化合物番号ａ−１） ２．０％
３−ＨＢ（２Ｆ，５Ｆ）ＢＢ−２（化合物番号ｄ−１） ５．０％
７−ＨＢ（Ｆ）−Ｆ ５．０％
２−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ １７．０％
３−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ １７．０％
５−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ １６．０％
２−Ｈ２ＨＢ（Ｆ）−Ｆ ５．０％
３−Ｈ２ＨＢ（Ｆ）−Ｆ ５．０％
２−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ ６．０％
３−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ ６．０％
５−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ １３．０％
３−ＨＢ−Ｏ２ ３．０％
この液晶組成物の諸物性値は次の通りであった。
ＴNI＝１０２．１（℃）
η＝２９．５（ｍＰａ・s）
Δｎ＝０．１０２
Δε＝５．０
Ｖth＝２．２２（Ｖ）
【０１８５】
実施例２５
１Ｏ１−ＨＢＢ（２Ｆ）Ｂ−１（化合物番号ａ−１） ２．０％
５−ＨＢ（Ｆ，Ｆ）ＢＢ−２（化合物番号ｄ−25） ２．０％
７−ＨＢ（Ｆ）−Ｆ １０．０％
５−Ｈ２Ｂ（Ｆ）−Ｆ ５．０％
３−ＨＢ−Ｏ２ １０．０％
３−ＨＨ−４ ５．０％
２−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ １０．０％
３−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ １０．０％
５−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ ５．０％
３−Ｈ２ＨＢ（Ｆ）−Ｆ ５．０％
２−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ ３．０％
３−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ ３．０％
５−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ ６．０％
２−Ｈ２ＢＢ（Ｆ）−Ｆ ５．０％
３−Ｈ２ＢＢ（Ｆ）−Ｆ ６．０％
３−ＨＨＢ−１ ８．０％
３−ＨＨＢ−Ｏ１ ５．０％
この液晶組成物の諸物性値は次の通りであった。
ＴNI＝８４．３（℃）
η＝１９．５（ｍＰａ・s）
Δｎ＝０．０９４
Δε＝３．４
Ｖth＝２．６３（Ｖ）
【０１８６】
実施例２６
３−ＨＢ（２Ｆ）ＢＢ−２（化合物番号ｃ−１） ２．０％
５−ＨＢ（Ｆ，Ｆ）ＢＢ−２（化合物番号ｄ−25） ２．０％
７−ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ６．０％
３−ＨＢ−Ｏ２ ７．０％
２−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ １０．０％
３−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ １０．０％
５−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ ３．０％
２−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ ９．０％
３−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ ９．０％
５−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ １６．０％
２−ＨＢＢ−Ｆ ４．０％
３−ＨＢＢ−Ｆ ４．０％
５−ＨＢＢ−Ｆ ３．０％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ５．０％
５−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ １０．０％
この液晶組成物の諸物性値は次の通りであった。
ＴNI＝８１．４（℃）
η ＝２６．０（ｍＰａ・s）
Δｎ＝０．１１８
Δε＝５．８
Ｖth＝１．９９（Ｖ）
【０１８７】
実施例２７
１Ｏ１−ＨＢＢ（２Ｆ，５Ｆ）Ｂ−１（化合物番号ｂ−１） ４．０％
７−ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ７．０％
３−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ １２．０％
４−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ １０．０％
５−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ １０．０％
３−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ １０．０％
４−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ５．０％
３−ＨＨ２Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ １５．０％
５−ＨＨ２Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ３．０％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ １２．０％
５−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ １２．０％
この液晶組成物の諸物性値は次の通りであった。
ＴNI＝７３．２（℃）
η ＝２９．２（ｍＰａ・s）
Δｎ＝０．０９０
Δε＝８．６
Ｖth＝１．５９（Ｖ）
【０１８８】
実施例２８
１Ｏ１−ＨＢＢ（２Ｆ，５Ｆ）Ｂ−１（化合物番号ｂ−１） ４．０％
７−ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ８．０％
３−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ １２．０％
４−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ １０．０％
３−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ １０．０％
４−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ５．０％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ １０．０％
３−ＨＨＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ３．０％
４−ＨＨＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ３．０％
５−ＨＨＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ３．０％
２−ＨＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ３．０％
３−ＨＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ５．０％
５−ＨＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ３．０％
３−ＨＤＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ １５．０％
３−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ６．０％
この液晶組成物の諸物性値は次の通りであった。
ＴNI＝７６．５（℃）
η ＝３４．７（ｍＰａ・s）
Δｎ＝０．０９０
Δε＝１２．９
Ｖth＝１．４１（Ｖ）
【０１８９】
実施例２９
１Ｏ１−ＨＢＢ（２Ｆ，５Ｆ）Ｂ−１（化合物番号ｂ−１） ４．０％
５−ＨＢ（Ｆ，Ｆ）ＢＢ−２（化合物番号ｄ−25） ２．０％
３−ＨＢ−ＣＬ １０．０％
５−ＨＢ−ＣＬ ４．０％
７−ＨＢ−ＣＬ ４．０％
３−ＨＢ−Ｏ２ ２．０％
１Ｏ１−ＨＨ−５ ５．０％
２−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ ８．０％
３−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ ８．０％
５−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ １４．０％
４−ＨＨＢ−ＣＬ ８．０％
３−Ｈ２ＨＢ（Ｆ）−ＣＬ ４．０％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ １０．０％
５−Ｈ２ＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ９．０％
３−ＨＢ（Ｆ）ＶＢ−２ ４．０％
３−ＨＢ（Ｆ）ＶＢ−３ ４．０％
この液晶組成物の諸物性値は次の通りであった。
ＴNI＝９１．０（℃）
η ＝２２．１（ｍＰａ・s）
Δｎ＝０．１３５
Δε＝５．０
Ｖth＝２．２９（Ｖ）
【０１９０】
実施例３０
３−ＨＢ（２Ｆ，５Ｆ）ＢＢ−２（化合物番号ｄ−１） ５．０％
７−ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ５．０％
３−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ９．０％
３−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ８．０％
４−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ６．０％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ２１．０％
５−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ２０．０％
３−Ｈ２ＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ １０．０％
５−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ３．０％
５−ＨＨＥＢＢ−Ｆ ２．０％
３−ＨＨ２ＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ３．０％
１Ｏ１−ＨＢＢＨ−４ ４．０％
１Ｏ１−ＨＢＢＨ−５ ４．０％
この液晶組成物の諸物性値は次の通りであった。
ＴNI＝９８．５（℃）
η ＝３５．１（ｍＰａ・s）
Δｎ＝０．１２０
Δε＝８．５
Ｖth＝１．７０（Ｖ）
【０１９１】
実施例３１
５−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）Ｂ−２（化合物番号ｄ−43） ２．０％
３−ＨＢ（２Ｆ，５Ｆ）ＢＢ−２（化合物番号ｄ−１） ２．０％
５−ＨＢ−Ｆ １２．０％
６−ＨＢ−Ｆ ９．０％
７−ＨＢ−Ｆ ７．０％
７−ＨＢ（Ｆ）−Ｆ ３．０％
２−ＨＨＢ−ＯＣＦ３ ７．０％
３−ＨＨＢ−ＯＣＦ３ １１．０％
４−ＨＨＢ−ＯＣＦ３ ７．０％
５−ＨＨＢ−ＯＣＦ３ ５．０％
３−ＨＨ２Ｂ−ＯＣＦ３ ４．０％
５−ＨＨ２Ｂ−ＯＣＦ３ ４．０％
３−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−ＯＣＦ３ ５．０％
３−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ １０．０％
５−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ ３．０％
３−ＨＨ２Ｂ（Ｆ）−Ｆ ３．０％
３−ＨＢ（Ｆ）ＢＨ−３ ３．０％
５−ＨＢＢＨ−３ ３．０％
この液晶組成物の諸物性値は次の通りであった。
ＴNI＝８７．３（℃）
η ＝１４．８（ｍＰａ・s）
Δｎ＝０．０９１
Δε＝４．６
Ｖth＝２．３８（Ｖ）
【０１９２】
実施例３２
３−ＨＢ（２Ｆ）ＢＢ−２（化合物番号ｃ−１） ２．０％
１Ｏ１−ＨＢＢ（２Ｆ，５Ｆ）Ｂ−１（化合物番号ｂ−１） ２．０％
５−Ｈ４ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ７．０％
５−Ｈ４ＨＢ−ＯＣＦ３ １５．０％
３−Ｈ４ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−ＣＦ３ ８．０％
５−Ｈ４ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−ＣＦ３ １０．０％
３−ＨＢ−ＣＬ ６．０％
５−ＨＢ−ＣＬ ７．０％
２−Ｈ２ＢＢ（Ｆ）−Ｆ ５．０％
３−Ｈ２ＢＢ（Ｆ）−Ｆ ３．０％
５−ＨＶＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ５．０％
３−ＨＨＢ−ＯＣＦ３ ５．０％
３−Ｈ２ＨＢ−ＯＣＦ３ ５．０％
Ｖ−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ ５．０％
３−ＨＣｈＢ（Ｆ）−Ｆ ５．０％
５−ＨＨＥＢ−ＯＣＦ３ ２．０％
３−ＨＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ５．０％
５−ＨＨＶ２−Ｆ ３．０％
この液晶組成物の諸物性値は次の通りであった。
ＴNI＝７４．６（℃）
η ＝２４．３（ｍＰａ・s）
Δｎ＝０．０９３
Δε＝８．１
Ｖth＝１．７７（Ｖ）
【０１９３】
実施例３３
１Ｏ１−ＨＢＢ（２Ｆ，５Ｆ）Ｂ−１（化合物番号ｂ−１） ４．０％
３−ＨＢ（２Ｆ，５Ｆ）ＢＢ−２（化合物番号ｄ−１） ６．０％
２−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ ２．０％
３−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ ２．０％
５−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ ２．０％
２−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ ６．０％
３−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ ６．０％
５−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ １０．０％
２−Ｈ２ＢＢ（Ｆ）−Ｆ ９．０％
３−Ｈ２ＢＢ（Ｆ）−Ｆ ９．０％
７−ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ７．０％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ２５．０％
５−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ７．０％
１Ｏ１−ＨＢＢＨ−４ ５．０％
この液晶組成物の諸物性値は次の通りであった。
ＴNI＝９６．８（℃）
η ＝３６．６（ｍＰａ・s）
Δｎ＝０．１４５
Δε＝７．１
Ｖth＝２．０１（Ｖ）
【０１９４】
実施例３４
１Ｏ１−ＨＢＢ（２Ｆ）Ｂ−１（化合物番号ａ−１） ２．０％
１Ｏ１−ＨＢＢ（２Ｆ，５Ｆ）Ｂ−１（化合物番号ｂ−１） ４．０％
３−ＨＢ（２Ｆ，５Ｆ）ＢＢ−２（化合物番号ｄ−１） ６．０％
５−ＨＢ（Ｆ，Ｆ）ＢＢ−２（化合物番号ｄ−25） ２．０％
７−ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ １５．０％
３−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ １２．０％
４−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ １０．０％
３−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ １０．０％
４−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ５．０％
５−ＨＨ２Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ １０．０％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ １２．０％
５−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ １２．０％
この液晶組成物の諸物性値は次の通りであった。
ＴNI＝７５．７（℃）
η ＝３０．１（ｍＰａ・s）
Δｎ＝０．０８７
Δε＝８．０
Ｖth＝１．７０（Ｖ）
【０１９５】
実施例３５
３−ＨＢ（２Ｆ）ＢＢ−２（化合物番号ｃ−１） ２．０％
５−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）Ｂ−２（化合物番号ｄ−43） ２．０％
２−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ ３．０％
３−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ ２．０％
５−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ ２．０％
２−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ ６．０％
３−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ ６．０％
５−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ １０．０％
２−Ｈ２ＢＢ（Ｆ）−Ｆ ９．０％
３−Ｈ２ＢＢ（Ｆ）−Ｆ ９．０％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ２５．０％
５−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ １９．０％
１Ｏ１−ＨＢＢＨ−４ ５．０％
この液晶組成物の諸物性値は次の通りであった。
ＴNI＝９３．２（℃）
η ＝３５．０（ｍＰａ・s）
Δｎ＝０．１３５
Δε＝７．４
Ｖh＝１t．９３（Ｖ）