(57)【要約】【課題】光を透過する基板に付着した塵埃を有効に除去し得る光学装置等を提供する。【解決手段】  光を第１方向に分離させて透過する基板（４０）と、前記基板に備えられ光を透過する複数の電極（４２）と、前記基板の表面の電界を変化させるように、前記複数の電極に電圧を出力する出力回路（２８）とを含み、前記複数の電極は、前記第１方向と交差する第２方向に沿って備えられていることを特徴とする光学装置。【選択図】図７
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
光を第１方向に分離させて透過する基板と、
前記基板に備えられ光を透過する複数の電極と、
前記基板の表面の電界を変化させるように、前記複数の電極に電圧を出力する出力回路とを含み、
前記複数の電極は、前記第１方向と交差する第２方向に沿って備えられていることを特徴とする光学装置。
【請求項２】
光を第１方向に分離させて透過する分離基板と、
前記分離基板と対向して備えられ光を透過する基板と、
前記基板に備えられ光を透過する複数の電極と、
前記基板の表面の電界を変化させるように、前記複数の電極に電圧を出力する出力回路とを含み、
前記複数の電極は、前記第１方向と交差する第２方向に沿って備えられていることを特徴とする光学装置。
【請求項３】
請求項１又は請求項２に記載された光学装置であって、
前記電極の第１部分の厚みは、前記第１部分とは異なる第２部分の厚みよりも厚いことを特徴とする光学装置。
【請求項４】
請求項３に記載された光学装置であって、
前記第２部分は、前記第１方向でみて、前記第１部分よりも前記電極の縁に備えられていることを特徴とする光学装置。
【請求項５】
請求項１から請求項４までの何れか１項に記載された光学装置であって、
前記基板は、ローパスフィルタの少なくとも一部を構成する複屈折板であることを特徴とする光学装置。
【請求項６】
請求項１から請求項５までの何れか１項に記載された光学装置であって、
前記複数の電極は、前記第２方向に沿って備えられた第１電極と、前記第１電極と平行に備えられた第２電極とを有し、
前記出力回路は、前記基板の表面の電界が、前記第１方向に移動するように、前記第１電極及び前記第２電極に電圧を出力することを特徴とする光学装置。
【請求項７】
請求項１から請求項６までの何れか１項に記載された光学装置と、
前記基板を透過した光の像を撮像する撮像部とを含むことを特徴とする撮像装置。
【請求項８】
請求項７に記載された撮像装置であって、
前記複数の電極は、前記基板の物体側に備えられていることを特徴とする撮像装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学装置および撮像装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、レンズ交換式デジタルカメラなどでは、撮像素子の光学ローパスフィルタ表面にゴミが付着し、撮影した映像にゴミが写りこむなどの問題がおこっている。このような問題を解消するために、防塵部材を、撮像素子と光学系との間に配置し、撮像素子の防塵を図ると共に、防塵部材に付着したゴミなどを物理的な振動により除去するシステムが開発されている（特許文献１参照）。
【０００３】
しかしながら、従来のシステムは、物理的な振動によって塵埃を除去するため、大きな慣性力が発生しにくい質量の小さな塵埃や、帯電による静電気力を介して付着している塵埃については、効率的に除去することが難しいという問題を有している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００８−９９３３２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の目的は、光を透過する基板に付着した塵埃を有効に除去し得る光学装置および撮像装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記目的を達成するために、本発明に係る光学装置は、
光を第１方向に分離させて透過する基板（４０）と、
前記基板に備えられ光を透過する複数の電極（４２，４２ａ〜４２ｄ，１２０，１２４，１２８，１３０）と、
前記基板の表面の電界を変化させるように、前記複数の電極に電圧を出力する出力回路（２８）とを含み、
前記複数の電極は、前記第１方向と交差する第２方向に沿って備えられていることを特徴とする。
【０００７】
また、本発明の第２の観点に係る光学装置は、
光を第１方向に分離させて透過する分離基板（４０ｄ）と、
前記分離基板と対向して備えられ光を透過する基板（３０ａ，１１６）と、
前記基板に備えられ光を透過する複数の電極（４２，４２ａ〜４２ｄ，１２０，１２４，１２８，１３０）と、
前記基板の表面の電界を変化させるように、前記複数の電極に電圧を出力する出力回路（２８）とを含み、
前記複数の電極は、前記第１方向と交差する第２方向に沿って備えられていることを特徴とする。
【０００８】
また、例えば、前記電極の第１部分（１２０ａ，１２４ａ，１２８ａ，１３０ａ）の厚みは、前記第１部分とは異なる第２部分（１２０ｂ，１２４ｂ，１２８ｂ，１３０ｂ）の厚みよりも厚いことを特徴とする光学装置。
【０００９】
また、例えば、前記第２部分は、前記第１方向でみて、前記第１部分よりも前記電極の縁（１２０ｅ，１２４ｅ，１２８ｅ，１３０ｅ）に備えられていてもよい。
【００１０】
また、例えば、前記基板は、ローパスフィルタの少なくとも一部を構成する複屈折板であってもよい。
【００１１】
また、例えば、前記複数の電極は、前記第２方向に沿って備えられた第１電極（４２ａ）と、前記第１電極と平行に備えられた第２電極（４２ｂ）とを有してもよく、
前記出力回路は、前記基板の表面の電界が、前記第１方向に移動するように、前記第１電極及び前記第２電極に電圧を出力してもよい。
【００１２】
本発明に係る撮像装置は、上記いずれかに記載の光学装置と、
前記基板を透過した光の像を撮像する撮像部（１６）とを含むことを特徴とする。
【００１３】
また、例えば、本発明に係る撮像装置において、
前記複数の電極は、前記基板の物体側（４０ｅ）に備えられていても良い。
【００１４】
なお、上述の説明では、本発明をわかりやすく説明するために、実施形態を示す図面の符号に対応つけて説明したが、本発明は、これに限定されるものでない。後述の実施形態の構成を適宜改良してもよく、また、少なくとも一部を他の構成物に代替させてもよい。更に、その配置について特に限定のない構成要件は、実施形態で開示した配置に限らず、その機能を達成できる位置に配置することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】図１は、本発明の一実施形態に係る光学装置を搭載したカメラの全体ブロック図である。
【図２】図２は、図１に示すカメラに搭載された撮像素子周辺部の平面図である。
【図３】図３は、図２に示す撮像素子周辺部のIII−III線に沿う断面図である。
【図４】図４（Ａ）〜図４（Ｃ）は、撮像素子周辺部に備えられるフィルタ部の断面図である。
【図５】図５は、本発明に係る光学装置の製造工程の一例を説明したフローチャートである。
【図６】図６は、図３に示す撮像素子周辺部に備えられる防塵フィルタの断面図および平面図である。
【図７】図７は、図３に示すフィルタ部を透過する撮影光の分離状態を表す模式断面図である。
【図８】図８は、本発明の第１実施形態および第１実施形態の第３〜第６変形例に係る防塵フィルタに備えられる電極の断面形状を表す拡大断面図である。
【図９】図９は、図３に示す撮像素子に入射した撮影光の像を表す模式図である。
【図１０】図１０は、本発明の参考例に係る撮像部に備えられる撮像素子に入射した撮影光の像を表す模式図である。
【図１１】図１１は、第１実施形態の第７変形例に係るフィルタ部を透過する撮影光の分離状態を表す模式断面図である。
【図１２】図１２は、第１実施形態の第８変形例に係るフィルタ部を透過する撮影光の分離状態を表す模式断面図である。
【図１３】図１３は、図６に示す防塵フィルタを用いた除塵動作を説明するための模式図である。
【図１４】図１４は、本発明の第２実施形態に係る光学装置を搭載したカメラの全体ブロック図である。
【図１５】図１５は、図１４に示すカメラに搭載された撮像素子周辺部の平面図である。
【図１６】図１６は、図１５に示す撮像素子周辺部のXVI−XVI線に沿う断面図である。
【図１７】図１７は、図１５に示す撮像素子周辺部に備えられる防塵フィルタの断面図および平面図である。
【図１８】図１８は、図１７に示す防塵フィルタによる除塵動作における第１の段階を説明した模式図である。
【図１９】図１９は、図１７に示す防塵フィルタによる除塵動作における第２の段階を説明した模式図である。
【図２０】図２０は、図１７に示す防塵フィルタによる除塵動作における第３の段階を説明した模式図である。
【図２１】図２１は、図１７に示す防塵フィルタによる除塵動作の一例を説明したフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
図１は、本発明の一実施形態に係る光学装置を搭載したカメラ３の全体ブロック図である。カメラ３は、カメラボディ５とレンズ鏡筒７を有している。レンズ鏡筒７は、カメラボディ５に対して着脱自在に装着される。なお、カメラ３の説明においては、図１および図２等に示すように、光軸αと略平行な方向であって、レンズ鏡筒７からカメラボディ５に向かう方向をＺ軸の負方向、Ｚ軸に直交する方向をＸ軸方向およびＹ軸方向として説明を行う。
【００１７】
本発明に係る光学装置を搭載したカメラとしては、図１に示すようなレンズ交換式カメラに限定されず、レンズ鏡筒７とカメラボディ５とが一体のカメラであってもよく、カメラの種類は特に限定されない。また、本発明に係る光学装置は、スチルカメラに限らず、ビデオカメラ、顕微鏡、携帯電話などの光学機器にも適用できる。
【００１８】
カメラボディ５およびレンズ鏡筒７の内部には、撮影光学系光軸αに沿って、複数の光学部品が配置されている。図１に示すカメラボディ５における後方側（Ｚ軸負方向側）には撮像素子周辺部１５が配置されており、撮像素子周辺部１５の光軸α方向の前方側（Ｚ軸正方向側）には、シャッタ６８が配置してある。シャッタ６８の光軸α方向の前方側には、ミラー７０が配置してあり、その前方側には、レンズ鏡筒７に内蔵してある絞り部７８および光学レンズ群２４が配置してある。
【００１９】
カメラボディ５には、ボディＣＰＵ５０が内蔵してあり、レンズ接点６２を介してレンズＣＰＵ８０に接続してある。ボディＣＰＵ５０は、レンズ鏡筒７との通信機能と、カメラボディ５の制御機能を有している。レンズ接点６２は、ボディＣＰＵ５０と、レンズＣＰＵ８０とを電気的に接続する。ボディＣＰＵ５０には、カメラボディ５およびレンズ鏡筒７に備えられた電子部品に電力を供給するための電源５８が接続してある。
【００２０】
ボディＣＰＵ５０には、レリーズスイッチ５２、ストロボ５４、表示部５６、ＥＥＰＲＯＭ（メモリ）２６、画像処理コントローラ６６、ＡＦセンサ６０、電圧信号出力回路２８などが接続してある。画像処理コントローラ６６には、インターフェース回路６４を介して、撮像素子周辺部１５の撮像素子ユニット１６が接続してある。画像処理コントローラ６６およびインターフェース回路６４は、ボディＣＰＵ５０からの信号に基づき、撮像素子ユニット１６によって撮像された画像の画像処理を制御する。撮像素子ユニット１６は、たとえばＣＣＤやＣＭＯＳ等の固体撮像素子を有する。
【００２１】
表示部５６は、主として液晶表示装置などで構成され、出力結果やメニューなどを表示する。レリーズスイッチ５２は、撮影のタイミングを操作するスイッチである。レリーズスイッチ５２は、ボディＣＰＵ５０に対して、半押し信号および全押し信号を出力する。ボディＣＰＵ５０は、レリーズスイッチ５２から半押し信号が入力されると、ＡＦ制御、ＡＥ制御等の撮影準備動作を制御し、レリーズスイッチ５２から全押し信号が入力されると、ミラーアップ、シャッタ駆動等の露光動作を制御する。
【００２２】
クイックリターンミラー７０は、構図決定の際にファインダーに像を映し出すためのもので、露光中は光路から退避する。クイックリターンミラー７０は、不図示のミラー駆動部（例えばＤＣモータ）により駆動される。
【００２３】
クイックリターンミラー７０には、ＡＦセンサ６０に光を導くサブミラー７０ａが連結してある。このサブミラー７０ａも、露光中は光路から退避する。
【００２４】
シャッタ６８は、露光時間を制御する。シャッタ６８は、ボディＣＰＵ５０からの制御に基づき、不図示のシャッタ駆動部（例えばＤＣモータ）によって駆動される。
【００２５】
ＡＦセンサ６０は、オートフォーカス（ＡＦ）を行うためのセンサである。このＡＦセンサ６０としては、通常ＣＣＤが用いられる。ＥＥＰＲＯＭ２６は、ボディＣＰＵ５０による制御に必要なパラメータ等を記憶しており、必要に応じてボディＣＰＵ５０に出力する。
【００２６】
図１に示すレンズ鏡筒７には、焦点距離エンコーダ７４、距離エンコーダ７２、絞り部７８、絞り部７８を駆動する駆動モータ７６、レンズＣＰＵ８０、レンズ接点６２及び光学レンズ群２４が具備してある。
【００２７】
レンズＣＰＵ８０は、ボディＣＰＵ５０との通信機能と、レンズ鏡筒７に搭載された電子部品の制御機能とを有している。例えば、レンズＣＰＵ８０は、焦点距離情報、被写体距離情報等を、レンズ接点６２を介してボディＣＰＵ５０に出力する。また、レンズＣＰＵ８０には、ボディＣＰＵ５０から、レリーズ情報、ＡＦ情報が入力される。レンズＣＰＵ８０は、これらの情報に基づき、絞り７８の駆動モータ７６等を制御することができる。
【００２８】
焦点距離エンコーダ７４は、不図示のズームレンズ群の位置情報から、焦点距離を算出し、レンズＣＰＵ８０に出力する。距離エンコーダ７２は、フォーカシングレンズ群の位置情報より被写体距離を算出し、レンズＣＰＵ８０に出力する。
【００２９】
図１に示すように、カメラボディ５には、電圧信号出力回路２８が備えられている。電圧信号出力回路２８は、ボディＣＰＵ５０からの制御信号に基づき、撮像素子周辺部１５におけるフィルタ部１８に備えられる複数の電極に電圧を出力する。
【００３０】
図２は、図１に示すカメラに搭載された撮像素子周辺部１５の平面図である。撮像素子周辺部１５は、ユニット固定基板１４と、ケース１２と、フィルタ部１８と、撮像素子ユニット１６とを有する。また、撮像素子周辺部１５は、フィルタ部１８に取り付けられた配線部３８を有する。撮像素子周辺部１５の断面図である図３に示すように、矩形平板形状を有するユニット固定基板１４のＺ軸正方向側の表面には、撮像素子ユニット１６とケース１２とが設置されている。撮像素子ユニット１６は、受光面１６ａをＺ軸正方向側に向けた状態で配置される。ケース１２は、額縁形状を有しており、撮像素子ユニット１６の周辺を取り囲むように配置される。ケース１２は、例えば合成樹脂またはセラミック等の絶縁性の材料を用いて形成される。
【００３１】
ケース１２の内周面には、フィルタ部１８を取り付けるための取付部１２ａが形成されている。フィルタ部１８は、矩形平板形状を有しており、フィルタ部１８の周辺部が、取付部１２ａに接触するように設計されている。フィルタ部１８は、ケース１２に対して、例えば接着剤等によって取り付けられる。撮像素子ユニット１６は、フィルタ部１８に対向して設けられ、フィルタ部１８を透過した光は、撮像素子ユニット１６の受光面１６ａに入射する。
【００３２】
図３に示すように、撮像素子ユニット１６の周囲は、ユニット固定基板１４、ケース１２、およびフィルタ部１８によって封止されており、図３に示す撮像素子周辺部１５は、撮像素子ユニット１６が収納される封止空間に、塵埃等が浸入することを防止している。なお、図３に示す撮像素子周辺部１５は、後述のように、フィルタ部１８を振動させることなく、当該フィルタ部１８に付着した塵埃を除去することができる。したがって、フィルタ部１８は、ケース１２に対して非可動的に固定されており、フィルタ部１８のケース１２に対する取り付け構造が単純である。また、撮像素子ユニット１６が収納される封止空間は、フィルタ部１８、ケース１２およびユニット固定基板１４によって、確実に封止される。
【００３３】
フィルタ部１８は、防塵フィルタ３６と、赤外線吸収ガラス板３２と、水晶波長板３４と第２複屈折板３０からなる４枚のフィルタを積層した積層構造を有している。積層方法としては、接着剤による積層、あるいはその他の積層方法でも良い。
【００３４】
図４（Ａ）に示すように、本実施形態に係るフィルタ部１８は、略同一の面積を有する４枚のフィルタを積層することによって形成されているが、フィルタ部１８の形状としては、これに限定されない。例えば図４（Ｂ）に示す第１変形例に係るフィルタ部１８では、一枚のフィルタ（第２複屈折板３０）の面積が、他の３枚のフィルタ３６，３２，３４より大きい。また、図４（Ｃ）に示す第２変形例に係るフィルタ部１８では、一枚のフィルタ（防塵フィルタ３６）が、他の３枚のフィルタ３２，３４，３０と別体となっている。
【００３５】
図３に示す水晶波長板３４は、直線偏光を円偏向に変えることができる光学板であり、赤外線吸収ガラス板３２は、赤外線を吸収する機能を有する。また、第１実施形態において、防塵フィルタ３６は、複屈折板（第１複屈折板）である基材部４０（図６（ａ））を有している。防塵フィルタ３６の基材部４０は、第２複屈折板３０に対して、相互に複屈折の方向（分離方向）が９０度異なる。防塵フィルタ３６に備えられる基材部４０と、第２複屈折板３０は、一方が９０度方向（短辺方向）の複屈折を有する複屈折板であれば、他方の複屈折板は、０度方向（長辺方向）の複屈折を有する複屈折板である。本実施形態では、防塵フィルタ３６に備えられる基材部４０が、０°方向（長辺方向（Ｘ軸方向））の複屈折を有する複屈折板であり、第２複屈折板３０が９０°方向（短辺方向（Ｙ軸方向））の複屈折を有する複屈折板であるが、逆でも良い。
【００３６】
本実施形態では、フィルタ部１８における防塵フィルタ３６および第２複屈折板３０により、基本的には、光学ローパスフィルタ（ＯＬＰＦ）を構成している。なお、一般的には、光学ローパスフィルタは、二つの複屈折板３６および３０の間に、赤外線吸収ガラス板３２および水晶波長板３４が積層されて光学ローパスフィルタ（ＯＬＰＦ）を構成している。
【００３７】
防塵フィルタ３６の基材部４０および第２複屈折板３０は、例えば水晶を特定の角度で切り出した水晶板を用いて作成される。原材料となる水晶は、人工の水晶でもよいし天然水晶でもよい。
【００３８】
図６は、図３に示す撮像素子周辺部１５に備えられる防塵フィルタ３６の断面図（図６（ａ））および平面図（図６（ｂ））である。図６（ａ）に示すように、防塵フィルタ３６は、基材部４０と、複数の電極４２と、表面層４４とを有する。基材部４０は、矩形平板状の形状を有しており、Ｚ軸負方向側に設けられた撮像素子ユニット１６に向かう光を透過させる光透過領域４０ｃ（図２）を有する。防塵フィルタ３６における基材部４０は、複屈折性を有する複屈折板である。
【００３９】
例えば、電極４２及び表面層４４は、基材部４０と同程度の透過率を有することが好ましい。例えば、電極４２、表面層４４及び基材部４０は、入射した可視光の全域（例えば、波長が０．３８μｍ以上、０．７５μｍ以下の光）において、８０％以上１００％以下の透過率を有することが好ましい。透過率が８０％以上１００％以下であれば、静止画、動画等の撮影画像を取得するのに十分な光学特性が得られるからである。更に好ましくは、電極４２、表面層４４及び基材部４０は、入射した可視光の全域において、９０％以上１００％以下の透過率を有することが好ましい。透過率が９０％以上１００％以下であれば、高精細な静止画の撮影画像を取得するのに十分な光学特性が得られるからである。
【００４０】
また、電極４２、表面層４４及び基材部４０を光が透過することにより撮像素子ユニット１６に到達する光の光量が低下する場合には、撮像素子ユニット１６で得られる信号を処理（アナログ処理又はデジタル処理）して撮影画像の光量を実質的に増加させてもよい。
【００４１】
図６（ａ）に示すように、基材部４０のＺ軸正方向側の表面には、複数の電極４２が形成されている。電極４２は、例えばＩＴＯ（酸化インジウムスズ）やＺｎＯ（酸化亜鉛）等の光を透過し、導電性を有する材料を用いて形成される。電極４２は、光透過領域４０ｃを含む基材部４０の全体表面に形成されており、後述のように、防塵フィルタ３６の表面に付着する塵埃を除去する電界を発生させる。
【００４２】
電極４２は、図６（ｂ）に示すように、基材部４０の表面に沿って帯状に形成されている。本実施形態における防塵フィルタ３６において、電極４２は、基材部４０の短辺４０ｂに略平行な方向に延在するように形成されている。なお、電極４２は、図３に示す撮像素子ユニット１６の受光面１６ａに対して、略平行に備えられている。電極４２を受光面１６ａに対して略平行に配置することによって、後述のように、電極４２による電界が光透過領域４０ｃ（図２）を効率的にカバーできる。
【００４３】
複数の電極４２は、基材部４０の長辺４０ａに沿って、例えばピッチが所定の長さｄ１であって、互いの間隔が長さｄ２となるように、間隔を空けて配置される（図６（ａ））。図６（ｂ）に示すように、各電極４２の一方の端部（本実施形態ではＹ軸正方向側の端部）には、配線部３８が取り付けられており、電極４２は、配線部３８を介して、図１に示す電圧信号出力回路２８に対して電気的に接続されている。本実施形態に係る配線部３８はＦＰＣであるが、電極４２に電圧信号を伝えるものであれば特に限定されない。
【００４４】
また、複数の電極４２は、互いに異なる位相を有する交流電圧を印加される複数のグループによって構成される。すなわち、本実施形態における複数の電極４２は、第１の電圧信号が入力される第１グループの電極４２ａと、第２の電圧信号が入力される第２グループの電極４２ｂと、第３の電圧信号が入力される第３グループの電極４２ｃと、第４の電圧信号が入力される第４グループの電極４２ｄによって構成される。
【００４５】
各グループの電極４２ａ，４２ｂ，４２ｃ，４２ｄは、電極４２が延在する方向であるＹ軸方向とは垂直なＸ軸方向に沿って、第１グループの電極４２ａ、第２グループの電極４２ｂ、第３グループの電極４２ｃ、第４グループの電極４２ｄの順番に、所定の間隔を隔てて周期的に配置される。すなわち、１つの第１グループの電極４２ａ１と、これと同位相の電圧信号が印加される他の１つの第１グループの電極４２ａ２との間には、第１グループの電極４２ａとは異なる位相の電圧信号が印加される１つの第２グループの電極４２ｂと、１つの第３グループの電極４２ｃと、１つの第４グループの電極４２ｄとが、互いに間隔を隔てて備えられる。第２グループの電極４２ｂ、第３グループの電極４２ｃ、第４グループの電極４２ｄについても、第１グループの電極４２ａ１，４２ａ２と同様である。
【００４６】
本実施形態に係る防塵フィルタ３６は、電極４２の表面を覆うように、防塵フィルタ３６のＺ軸負方向側の表面に設けられた表面層４４を有する（図６（ａ））。表面層４４は、基材部４０との間に、電極４２を挟むように備えられる。表面層４４は、絶縁性を有し光を透過する材料によって形成される。
【００４７】
表面層４４の屈折率は、電極４２の屈折率と略等しいことが好ましい。また、表面層４４における光の分散（屈折率の光の波長による変化）は、電極４２における光の分散と略等しいことが好ましい。電極４２と光学的な特性が略等しい表面層４４を有する防塵フィルタ３６は、撮像素子ユニット１６によって撮像される像に、電極４２の影が写りこむことを防止することができる。また、表面層４４は撥水性を有していてもよく、表面層４４が撥水性を有する場合は、防塵フィルタ３６に対する塵埃３７の付着力を低減することができる。また、表面層４４は微細な凹凸を有していてもよく、表面層４４が微細な凹凸を有する場合は、防塵フィルタ３６に対する塵埃３７の付着力（分子間力）を低減することができる
【００４８】
図７は、図３に示すフィルタ部１８を透過する撮影光１１０の分離状態を表す模式断面図である。撮影時において、図１に示す光学レンズ群２４等によって導かれた撮影光１１０は、光軸αに沿ってフィルタ部１８に入射する。撮影光１１０は、Ｚ軸正方向側から防塵フィルタ３６に入射するため、表面層４４および複数の電極４２を透過したのち、基材部４０に入射する。
【００４９】
基材部４０は、基材部４０に入射する撮影光１１０を、Ｘ軸方向に分離して透過する複屈折板である。したがって、図７に示すように、基材部４０に入射した撮影光１１０は、基材部４０を透過する間に、第１撮影光１１０ａと第２撮影光１１０ｂに分離され、電極４２が配置される物体側の表面４０ｅとは反対側の表面４０ｆから出射される。基材部４０のＺ軸負方向側の表面４０ｆを出射した第１撮影光１１０ａおよび第２撮影光１１０ｂは、フィルタ部１８を構成する他のフィルタ３２，３４，３０を透過した後に、撮像素子ユニット１６の受光面１６ａに入射する。なお、基材部４０における物体側の表面４０ｅとは、基材部４０の表面のうち、撮像素子ユニット１６側の表面４０ｆとは反対側の表面を意味する。
【００５０】
ここで、電極４２と表面層４４とは、互いに等しい光学特性（透過率，屈折率，分散など）を持つことが好ましいが、電極４２と表面層４４の光学特性を完全に一致させることが難しい場合がある。なぜなら、電極４２と表面層４４は、導電率等については互いに異なる必要があり、同一の材料で構成することはできないからである。したがって、電極４２および表面層４４を透過した撮影光が、複屈折性を有するフィルタを透過することなく撮像素子ユニット１６の受光面１６ａに入射した場合は、図１０に示すように、受光面１６ａに電極４２の影１４０ａが発生する場合がある。さらに、電極４２の影１４０ａが、撮影される画像に写り込み、撮影画像の品質を劣化させる恐れがある。
【００５１】
しかし、本実施形態に係る防塵フィルタ３６では、図７に示すように、電極４２と撮像素子ユニット１６の間に、複屈折性を有する基材部４０を配置している。したがって、たとえ電極４２の影が発生する場合であっても、電極４２の影を形成する光も基材部４０によって分離される。これにより、本実施形態に係る防塵フィルタ３６は、図９に示すように、受光面１６ａに発生する電極４２の影１４０を薄くすることができる。
【００５２】
また、防塵フィルタ３６において、電極４２はＹ軸方向に延在するように帯状に形成されているため、電極４２の影１４０も、図１０に示すように、Ｙ軸方向に沿って帯状に形成される傾向にある。しかし、本実施形態に係る防塵フィルタ３６では、図６（ａ）および図６（ｂ）に示すように、電極４２が備えられる方向（Ｙ軸方向）と、電極４２を出射した光を分離させて透過する基材部４０の分離方向（Ｘ軸方向）とが、互いに略直交する。したがって、たとえ電極４２の影が発生する場合であっても、図７に示すように、電極の影はＸ軸方向に分離される。これにより、本実施形態に係る防塵フィルタ３６は、図９に示すように、受光面１６ａに発生する電極の影１４０をさらに効果的に薄くすることができる。
【００５３】
また、図８（ａ）に示すように、本実施形態に係る電極４２の延在方向（Ｙ軸方向）に直交する断面は、略矩形形状を有する。電極４２によって光軸（Ｚ軸）方向の段差が形成される電極４２の縁部４２ｅは、撮影画像に写り込む影を発生させ易い。また、電極の影は、電極４２の縁部４２ｅに対応する部分で目立ちやすい傾向にある。
【００５４】
しかし、本実施形態に係る防塵フィルタ３６では、図６（ａ）および図６（ｂ）に示すように、電極４２が備えられる方向（Ｙ軸方向）と、電極４２を出射した光を分離させて透過する基材部４０の分離方向（Ｘ軸方向）とが、互いに略直交する。したがって、たとえ電極４２および電極の縁部４２ｅの影が発生する場合であっても、図７に示すように、これらの影はＸ軸方向に分離される。これにより、本実施形態に係る防塵フィルタ３６は、図９に示すように、受光面１６ａに発生する電極の影１４０をさらに効果的に薄くし、目立たなくすることができる。また、電極４２の影１４０ａが撮影画像に写り込み、撮影画像の品質を劣化させることを防止できる。
【００５５】
電極４２の断面形状としては、図８（ａ）に示すものに限られず、フィルタ部１８に備えられる防塵フィルタとしては、図８（ｂ）から図８（ｃ）に示すものであってもよい。図８（ｂ）は、第３変形例に係る防塵フィルタ１１８の断面図である。防塵フィルタ１１８は、電極１２０の断面形状のみが、図８（ａ）に示す防塵フィルタ３６とは異なる。防塵フィルタ１１８に備えられる電極１２０は、撮影光の入射側（Ｚ軸正方向側）表面である入射側表面１２０ｃが、凸型の湾曲形状を有する。なお、撮影光の出射側（Ｚ軸負方向側）表面である出射側表面１２０ｄは、基材部４０に密着しており、平面形状を有する。
【００５６】
また、電極１２０は、互いに厚みが異なる第１部分１２０ａと、第２部分１２０ｂとを有する。第２部分１２０ｂは、基材部４０の分離方向であるＸ軸方向でみて、第１部分１２０ａよりも、電極１２０の縁である縁部１２０ｅ側に備えられており、第１部分１２０ａの厚みは、第２部分１２０ｂの厚みより厚い。なお、電極１２０の厚みは、電極１２０が撮影光を透過する方向（Ｚ軸方向）に沿う電極の長さを意味する。特に、図８（ｂ）〜図８（ｅ）に示す例では、電極が撮影光を透過する方向（Ｚ軸方向）に沿う電極の平均長さを意味する。
【００５７】
電極１２０は、互いに厚みが異なる第１部分１２０ａと、第２部分１２０ｂを有しているため、たとえ電極１２０の影が発生したとしても、電極１２０の影は濃淡を有する。したがって、電極１２０の影はエッジが目立ちにくい。また、第２部分１２０ｂは、電極１２０の縁部１２０ｅに備えられており、電極１２０は、縁部１２０ｅの厚みが薄い。これにより、電極１２０の縁部１２０ｅにおける段差が小さくなり、縁部１２０ｅの影を薄くすることができる。このように、第３変形例に係る防塵フィルタ１１８は、受光面１６ａに発生する電極１２０の影をさらに目立たなくすることができる。また、電極１２０の影が撮影画像に写り込み、撮影画像の品質を劣化させることを防止できる。
【００５８】
図８（ｃ）は、第４変形例に係る防塵フィルタ１２２の断面図である。防塵フィルタ１２２は、電極１２４の断面形状とピッチが、図８（ｂ）に示す防塵フィルタ１１８とは異なるが、その他は防塵フィルタ１１８と同様である。防塵フィルタ１２２に備えられる電極１２４は、撮影光の入射側（Ｚ軸正方向側）表面である入射側表面１２４ｃが、円柱曲面形状を有する。
【００５９】
また、電極１２４は、図８（ｂ）に示す電極１２０と同様に、互いに厚みが異なる第１部分１２４ａと、第２部分１２４ｂとを有する。第２部分１２４ｂは、基材部４０の分離方向であるＸ軸方向でみて、第１部分１２４ａよりも、電極１２４の縁である縁部１２４ｅ側に備えられており、第１部分１２４ａの厚みは、第２部分１２４ｂの厚みより厚い。第４変形例に係る防塵フィルタ１２２は、第３変形例に係る防塵フィルタ１１８と同様の効果を有する。
【００６０】
図８（ｄ）は、第５変形例に係る防塵フィルタ１２６の断面図である。防塵フィルタ１２６は、電極１２８の断面形状が、図８（ｂ）に示す防塵フィルタ１１８とは異なるが、その他は防塵フィルタ１１８と同様である。防塵フィルタ１２６に備えられる電極１２８は、その入射側表面１２８ｃが、撮影光の入射側（Ｚ軸正方向側）に向かって突出する楔形状を有する。
【００６１】
また、電極１２８は、図８（ｂ）に示す電極１２０と同様に、互いに厚みが異なる第１部分１２８ａと、第２部分１２８ｂとを有する。第２部分１２８ｂは、基材部４０の分離方向であるＸ軸方向でみて、第１部分１２８ａよりも、電極１２８の縁側（縁部１２８ｅ側）に備えられており、第１部分１２８ａの厚みは、第２部分１２８ｂの厚みより厚い。第５変形例に係る防塵フィルタ１２６は、第３変形例に係る防塵フィルタ１１８と同様の効果を有する。
【００６２】
図８（ｅ）は、第６変形例に係る防塵フィルタ１２９の断面図である。防塵フィルタ１２９は、電極１３０の断面形状が、図８（ｂ）に示す防塵フィルタ１１８とは異なるが、その他は防塵フィルタ１１８と同様である。
【００６３】
防塵フィルタ１２９に備えられる電極１３０は、図８（ｂ）に示す電極１２０と同様に、互いに厚みが異なる第１部分１３０ａと、第２部分１３０ｂとを有する。第１部分１３０ａにおける入射側表面１３０ｃは、基材部４０の表面と略平行である平面形状を有している。それに対して、第２部分１３０ｂにおける入射側表面１３０ｃは、電極１３０の縁部１３０ｅに向かって徐々に基材部４０に接近する湾曲形状を有している。また、第１部分１３０ａの厚みは、第２部分１３０ｂの厚みより厚い。第６変形例に係る防塵フィルタ１２９は、第３変形例に係る防塵フィルタ１１８と同様の効果を有する。
【００６４】
図７に示すように、第１実施形態に係るフィルタ部１８では、防塵フィルタ３６の基材部４０は、電極４２の延在方向であるＹ軸方向に直交するＸ軸方向の分離方向を有している。しかし、本実施形態に係る撮像素子周辺部１５に備えられるフィルタ部１８としては、これに限定されない。図１１は、第１実施形態の第７変形例に係るフィルタ部１８ｂを透過する撮影光１１０の分離状態を表す模式断面図である。
【００６５】
フィルタ部１８ｂでは、防塵フィルタ１０６の基材部３０ａが、電極４２の延在方向（Ｙ軸方向）と略同一方向の分離方向を有する第２複屈折板３０ａによって構成されている。また、第１複屈折板４０ｄは、防塵フィルタ１０６と、撮像素子１６との間に配置される。第１複屈折板４０ｄは、図７に示す基材部４０と同様に、撮影光１１０を、電極４２の延在方向であるＹ軸方向に略直交するＸ軸方向に分離する。このようにフィルタ部１８ｂでは、防塵フィルタ１０６の基材部３０ａ、第１複屈折板４０ｄ、赤外線吸収ガラス板３２および水晶波長板３４によって、光学ローパスフィルタを構成している。
【００６６】
図１１に示すフィルタ部１８ｂも、図７に示すフィルタ部１８と同様に、電極４２が備えられる方向（Ｙ軸方向）と、電極４２を出射した光を分離させて透過する第１複屈折板４０ｄの分離方向（Ｘ軸方向）とが、互いに略直交する。したがって、たとえ電極４２の影が発生する場合であっても、図１１に示すように、電極の影１４０はＸ軸方向に分離される。したがって、第７変形例に係るフィルタ部１８ｂも、図９に示すように、受光面１６ａに発生する電極の影１４０をさらに効果的に薄くすることができる。このように、電極４２が備えられる方向（Ｙ軸方向）に対して略直交する方向に撮影光１１０を分離する第１複屈折板４０ｄは、防塵フィルタ１０６より撮像素子ユニット１６側に、防塵フィルタ１０６と対向して備えられてもよい。これにより、第７変形例に係るフィルタ部１８ｂは、図７に示すフィルタ部１８と同様の効果を有する。
【００６７】
図１２は、第１実施形態の第８変形例に係るフィルタ部１８ｃを透過する撮影光１１０の分離状態を表す模式断面図である。フィルタ部１８ｃでは、防塵フィルタ１１４の基材部が、複屈折性を有しないカバーガラス１１６によって構成されている。また、第１複屈折板４０ｄは、防塵フィルタ１１４と、撮像素子ユニット１６との間に配置される。第１複屈折板４０ｄは、図７に示す基材部４０と同様に、撮影光１１０を、電極４２の延在方向であるＹ軸方向に略直交するＸ軸方向に分離する。このように、フィルタ部１８ｃにおいては、防塵フィルタ１１４は光学ローパスフィルタの一部ではなく、当該防塵フィルタ１１４に対向して備えられる第１複屈折板４０ｄ、第２複屈折板３０、赤外線吸収ガラス板３２および水晶波長板３４によって、光学ローパスフィルタを構成している。なお、防塵フィルタ１１４と第１複屈折板４０ｄとの間の空間は、不図示の封止部材によって封止される。
【００６８】
図１２に示すフィルタ部１８ｃも、図７に示すフィルタ部１８と同様に、電極４２が備えられる方向（Ｙ軸方向）と、電極４２を出射した光を分離させて透過する第１複屈折板４０ｄの分離方向（Ｘ軸方向）とが、互いに略直交する。したがって、たとえ電極４２の影が発生する場合であっても、図１２に示すように、電極の影はＸ軸方向に分離される。したがって、第８変形例に係るフィルタ部１８ｃも、図１２に示すように、受光面１６ａに発生する電極の影１４０をさらに効果的に薄くすることができる。このように、第８変形例に係るフィルタ部１８ｃも、図７に示すフィルタ部１８と同様の効果を有する。
【００６９】
図１３は、防塵フィルタ３６を用いた除塵動作を説明するための模式図である。電圧信号出力回路２８は、信号生成部８２と、位相調整部８４と、増幅部８６とを有する。信号生成部８２は、所定の周期を有する交流電圧信号を生成し、位相調整部に出力する。位相調整部８４は、交流電圧信号の位相を調整し、互いに異なる位相を有する４つの交流電圧信号を生成し、増幅部８６に出力する。
【００７０】
増幅部８６は、４つの交流電圧信号を、所定の振幅に増幅した後、駆動電圧信号として出力する。増幅部８６は、配線部３８を介して、防塵フィルタ３６に備えられる電極４２に、駆動電圧信号を出力する。したがって、電圧信号出力回路２８は、互いに位相の異なる第１駆動電圧信号ｃｈ１、第２駆動電圧信号ｃｈ２、第３駆動電圧信号ｃｈ３および第４駆動電圧信号ｃｈ４を、防塵フィルタ３６に備えられる電極４２に出力することができる。
【００７１】
配線部３８は、第１駆動電圧信号ｃｈ１を第１グループの電極４２ａに伝える第１配線部３８ａと、第２駆動電圧信号ｃｈ２を第２グループの電極４２ｂに伝える第２配線部３８ｂと、第３駆動電圧信号ｃｈ３を第３グループの電極４２ｃに伝える第３配線部３８ｃと、第４駆動電圧信号ｃｈ４を第４グループの電極４２ｄに伝える第４配線部３８ｄとを有する。
【００７２】
第１〜第４駆動電圧信号ｃｈ１〜ｃｈ４は、互いに位相が４分の１周期ずつずれた方形波の信号であるが、電極４２に出力される電圧信号としてこれに限定されず、正弦波や三角波等の信号であってもよい。第１〜第４駆動電圧信号ｃｈ１〜ｃｈ４の駆動周波数は、特に限定されないが、例えば１Ｈｚ〜５００ｈｚとすることによって、塵埃を効率的に移動させることができる。
【００７３】
電圧信号出力回路２８は、防塵フィルタ３６の表面に備えられた複数の電極４２に電圧を印加することによって、防塵フィルタ３６の表面の電界を変化させることができる。本実施形態に係る防塵フィルタ３６は、光を透過する電極４２が縞状に配置されており、電極４２に４相の交流電圧が印加されるため、進行波状の電界を防塵フィルタ３６の表面に発生させることができる。
【００７４】
すなわち、防塵フィルタ３６の表面には、各グループの電極４２ａ，４２ｂ，４２ｃ，４２ｄが、Ｘ軸方向に沿って周期的に配置されており、各グループの電極４２ａ，４２ｂ，４２ｃ，４２ｄに対して、それぞれに対応する駆動電圧信号ｃｈ１，ｃｈ２，ｃｈ３，ｃｈ４が印加される。これによって防塵フィルタ３６の表面には、Ｘ軸方向に沿って移動する進行波状の電界が発生し、防塵フィルタ３６の表面に存在する塵埃３７は、電界から与えられる静電気力によって移動させられ、除去される。例えば、防塵フィルタ３６の表面に付着した塵埃３７は、例えば矢印３９で示すように、進行波状の電界が移動する方向に沿う方向に移動させられ、防塵フィルタ３６の表面から除去される。
【００７５】
本実施形態に係る電極４２には、４相の駆動電圧信号が印加されるが、本発明に係る電極４２に印加される駆動電圧信号は、単相であってもよく、２相であってもよい。単相の場合であっても、防塵フィルタ３６の表面の電界を変化させて、防塵フィルタ３６の表面に存在する塵埃を移動させることができる。また、２相以上であれば、防塵フィルタ３６の表面の電界を移動させて、防塵フィルタ３６の表面に存在する塵埃を移動させることができる。
【００７６】
しかし、電極４２に印加させる駆動電圧信号は、３相以上であることが好ましい。周期的に配置された３以上のグループによって構成される電極４２に、各グループに対応する交流電圧信号を印加することによって、防塵フィルタ３６の表面に、進行波状の電界を容易に発生させることができる。防塵フィルタ３６の表面に進行波状の電界を発生させることによって、塵埃３７の移動方向の制御が容易となり、また、比較的小さな電圧によって、塵埃３７を大きく移動させることが可能となる。なお、図示の実施例では、４グループの電極を用いた場合を例にして説明したが、電極グループは、２グループでもよいし、３グループでもよいし、５グループ以上であってもよい。
【００７７】
図５は、本実施形態に係る光学装置の製造工程の一例を説明したフローチャートである。図５に示すステップＳ００１では、図６（ａ）に示す基材部４０を準備する。図６（ａ）に示す基材部４０は、複屈折性を有する複屈折板であるが、防塵フィルタ３６における基材部４０としてはこれに限定されない。たとえば、防塵フィルタ３６を、光学ローパスフィルタとは別の光学部材とする場合には、基材部４０は、ガラス板等の他の透光部材であってもよい。また、基材部４０の形状も、矩形平板形状に限定されず、例えば円形平板形状等の他の形状であってもよい。
【００７８】
ステップＳ００２では、基材部４０の表面に電極４２を形成する。電極４２の形成方法としては、特に限定されないが、ウェットエッチング法、ドライエッチング法、スピンコート法等を用いることができる。基材部４０の表面に形成される電極４２のピッチｄ１（図６（ａ））は、防塵フィルタ３６に付着する可能性の高い塵埃３７の性質に応じて適切に設計されればよく、例えば２００μｍ〜１０００μｍ（１ｍｍ）程度とすることができる。また、隣接する電極間の隙間ｄ２についても、特に限定されないが、例えば２００μｍ〜１０００μｍ（１ｍｍ）とすることができる。
【００７９】
また、ステップＳ００２では、基材部４０の表面のうち、電極４２が形成された側の表面に、表面層４４を形成する。さらに、ステップＳ００２では、必要に応じて、基材部４０または表面層４４に、振動素子２０（図１６）を配置してもよい。振動素子２０は、接着剤等によって基材部４０または表面層４４に固定される。
【００８０】
さらに、ステップＳ００３では、図６（ｂ）に示す配線部３８を取り付け、当該配線部３８によって、電極４２と電圧信号出力回路２８（図１）とを電気的に接続する。なお、ステップＳ００２において、基材部４０に振動素子２０（図１６）を配置した場合は、ステップＳ００３において、図１４に示す振動素子駆動回路２９を、振動素子２０に接続する。ステップＳ００４では、図６に示す電極４２に周期的な電圧が出力されるように、電圧信号出力回路２８（図１）を調整する。電極４２に出力される電圧の振幅は、防塵フィルタ３６に付着する可能性の高い塵埃３７の性質や、電極４２のピッチｄ１等に応じて適切に設計されればよく、例えば１００Ｖｐ−ｐ〜２ｋＶｐ−ｐとすることができる。なお、ステップＳ００２において、基材部４０または表面層４４に振動素子２０（図１６）を配置した場合は、ステップＳ００４において、電極４２の少なくとも一部の近傍に、振動の節９９（図１８）が生じるように振動素子駆動回路２９を調整してもよい。
【００８１】
本実施形態に係る光学装置は、電界を変化させることによって、防塵フィルタ３６の表面に付着した塵埃を移動させて除去する。電界が塵埃に与えることができる力は、所定の条件下では塵埃の帯電量に比例するため、本実施形態に係る光学装置は、物理的な振動を防塵フィルタに発生させる方式では除去することが困難であった帯電量が大きい塵埃を除去することができる。
【００８２】
また、本実施形態に係る光学装置は、電気的な力によって塵埃を移動させるため、物理的な振動を防塵フィルタに発生させる方式では除去することが困難であった質量の小さい塵埃を除去することができる。また、本実施形態に係る光学装置は、物理的な振動を発生させることなく塵埃を除去することができるため、静粛性に優れている。また、防塵フィルタ３６自体が発塵する恐れも少ない。
【００８３】
本実施形態に係る光学装置は、電気的な力によって塵埃を移動させるため、物理的な振動を発生させて塵埃を除去する従来技術とは異なり、防塵フィルタ３６を振動可能な状態に取り付ける必要がない。したがって、防塵フィルタ３６を含むフィルタ部１８を、ケース１２に対して非可動的に取り付けることができるため、フィルタ部１８とケース１２の隙間から、封止空間内に塵埃が浸入することを効果的に防止できる。また、防塵フィルタ３６を、弾性部材等を介在させてケース１２に取り付ける必要がないため、弾性部材の経年変化等によってゴミ除去性能が変化する恐れもない。
【００８４】
また、本実施形態に係る光学装置は、電極４２を出射した光を、電極が備えられる方向とは略直交する方向に分離させて透過する基材部４０または第１複屈折板４０ｄを有する。これにより、本実施形態に係る光学装置は、受光面１６ａに発生する電極４２の影１４０を薄くし、目立たなくすることができる。また、電極４２の影１４０が撮影画像に写り込み、撮影画像の品質を劣化させることを防止できる。
【００８５】
第２実施形態
図１４は、本発明の第２実施形態に係る光学装置を搭載したカメラ３ａの全体ブロック図である。カメラ３ａは、カメラボディ５ａに振動素子駆動回路２９が備えられており、カメラボディ５ａに備えられる撮像素子周辺部１５ａが、図１に示す撮像素子周辺部１５と異なる他は、図１に示すカメラ３と同様である。
【００８６】
カメラボディ５ａには、振動素子駆動回路２９が備えられている。振動素子駆動回路２９は、ボディＣＰＵ５０と撮像素子周辺部１５ａとに、電気的に接続されている。振動素子駆動回路２９は、ボディＣＰＵ５０からの制御を受けて、撮像素子周辺部１５ａに備えられる振動素子２０（図１５）を駆動することができる。
【００８７】
図１５は、図１４に示すカメラ３ａに備えられる撮像素子周辺部１５ａの平面図である。撮像素子周辺部１５ａは、ユニット固定基板１４と、ケース１２と、フィルタ部１８ａと、撮像素子ユニット１６とを有する。また、撮像素子周辺部１５ａは、防塵フィルタ３６ｂ（図１６）をケース１２に対して取り付けるための加圧部材１０と、フィルタ部１８ａに取り付けられた配線部３８と、振動素子２０とを有する。
【００８８】
撮像素子周辺部１５ａの断面図である図１６に示すように、矩形平板形状を有するユニット固定基板１４のＺ軸正方向側の表面には、撮像素子ユニット１６とケース１２とが配置されている。ケース１２は、額縁形状を有しており、撮像素子ユニット１６の周辺を取り囲むように配置される。ケース１２は、例えば合成樹脂またはセラミック等の絶縁性の材料を用いて形成される。
【００８９】
ケース１２の内周面には、フィルタ部１８を取り付けるための取付部１２ａが形成されている。本実施形態のおけるフィルタ部１８ａは、防塵フィルタ３６ｂが、他の３枚のフィルタである赤外線吸収ガラス板３２，水晶波長板３４および第２複屈折板３０と別体となっている。ケース１２の取付部１２ａには、防塵フィルタ３６ｂ以外の３枚のフィルタ３２，３４，３０が取り付けられる。３枚のフィルタ３２，３４，３０は、ケース１２に対して、例えば接着剤等によって取り付けられる。
【００９０】
撮像素子ユニット１６の周囲は、ユニット固定基板１４、ケース１２、およびフィルタ部１８ａによって密封されており、撮像素子ユニット１６が収納されている密封空間に、塵埃等が浸入することを防止している。
【００９１】
防塵フィルタ３６ｂは、赤外線吸収ガラス板３２のＺ軸負方向側に、当該赤外線吸収ガラス板３２との間に封止部材１７を挟んで配置される。封止部材１７は、例えば合成樹脂あるいはゴムなどの弾性部材で構成され、防塵フィルタ３６ｂと赤外線吸収ガラス板３２の間を封止している。
【００９２】
防塵フィルタ３６ｂは、板バネ形状を有する加圧部材１０によって、ケース１２に対して、振動可能な状態に取り付けられている。すなわち、加圧部材１０は、防塵フィルタ３６ｂを、Ｚ軸正方向側から赤外線吸収ガラス板３２に向かって加圧し、封止部材１７との間に防塵フィルタ３６ｂを挟んで保持する。なお、加圧部材１０の両端部は、図１５および図１６に示すように、ケース１２に対して螺旋止めされている。
【００９３】
図１７は、図１５に示す撮像素子周辺部１５ａに備えられる防塵フィルタ３６ｂの断面図（図１７（ａ））および平面図（図１７（ｂ））である。図１７（ａ）に示すように、防塵フィルタ３６ｂは、基材部４０と、複数の電極４２と、表面層４４とを有する。また、防塵フィルタ３６ｂにおけるＺ軸正方向側の表面には、振動素子２０が取り付けられている。
【００９４】
振動素子２０は、例えば圧電素子および圧電素子に電圧を印加するための電極等を有しており、図１４に示す振動素子駆動回路２９によって駆動される。振動素子駆動回路２９は、防塵フィルタ３６ｂに振動の節が生じるように、振動素子２０を駆動することができる。本実施形態に係る振動素子駆動回路２９は、図１８に示すように、例えば防塵フィルタ３６ｂが３次の屈曲振動を起こすように、振動素子２０を駆動することができる。
【００９５】
第３実施形態に係る基材部４０のＺ軸正方向側の表面には、図６に示す防塵フィルタ３６と同様に、複数の電極４２が形成されている。電極４２は、図１７（ｂ）に示すように、基材部４０の表面に沿って帯状に形成されている。本実施形態における防塵フィルタ３６ｂでは、電極４２は、基材部４０の短辺４０ｂに略平行な方向に延在するように形成されている。また、電極４２は、図１８に示す振動の節９９と略平行に備えられている。
【００９６】
電極４２を、振動の節９９と略平行に備えることによって、振動の節９９に略垂直な方向に勾配を有する電界を発生させることができるため、防塵フィルタ３６ｂは、振動の節と略垂直な方向（Ｘ軸方向）に塵埃３７を移動させることができる。したがって、防塵フィルタ３６ｂを有する光学装置は、振動の節９９の周辺に残留した塵埃３７を、振動の節９９から遠ざかる方向（振動の節と略垂直な方向）に移動させて、単一モードの屈曲振動のみで、防塵フィルタ３６ｂの表面全体の塵埃を除去することができる。
【００９７】
また、防塵フィルタ３６ｂにおける振動素子２０も、基材部４０の短辺４０ｂに略平行に備えられているため、本実施形態における光学装置において、振動素子２０と電極４２は、略平行に備えられる。振動の節は、振動素子２０と略平行な方向や、基材部４０の辺と略平行な方向に発生しやすいため、電極４２を基材部４０の辺または振動素子２０と略平行に配置することが、防塵フィルタ３６ｂの表面全体の塵埃を除去する上で好ましい。
【００９８】
各電極４２のＹ軸正方向側の端部には、配線部３８が取り付けられており、電極４２は配線部３８を介して、図１４に示す電圧信号出力回路２８に電気的に接続されている。また、本実施形態における複数の電極４２は、図１３に示す第１実施形態と同様に、第１の電圧信号が入力される第１グループの電極４２ａと、第２の電圧信号が入力される第２グループの電極４２ｂと、第３の電圧信号が入力される第３グループの電極４２ｃと、第４の電圧信号が入力される第４グループの電極４２ｄによって構成される。
【００９９】
各グループの電極４２ａ，４２ｂ，４２ｃ，４２ｄは、電極４２が延在する方向であるＹ軸方向とは垂直なＸ軸方向に沿って、第１グループの電極４２ａ、第２グループの電極４２ｂ、第３グループの電極４２ｃ、第４グループの電極４２ｄの順番に、所定の間隔を隔てて周期的に配置される。
【０１００】
図２１は、図１７に示す防塵フィルタ３６ｂを有するカメラ３ａ（図９）による除塵動作の一例を説明したフローチャートである。図２１に示すステップＳ１０１では、防塵フィルタ３６ｂに付着した塵埃３７を除去する除塵動作を開始する。除塵動作は、例えば図１４に示すカメラ３ａの電源がＯＮされた時や、カメラボディ５ａに備えられる不図示の入力部より、ボディＣＰＵ５０に清掃開始信号が入力された時に開始される。
【０１０１】
ステップＳ１０２では、図１４に示すボディＣＰＵ５０から振動素子駆動回路２９に制御信号が出力され、振動素子駆動回路２９は、振動素子２０を駆動し、防塵フィルタ３６ｂを振動させる。図１８は、図１７に示す防塵フィルタ３６ｂによる除塵動作における第１の段階（ステップＳ１０２）を説明した模式図である。
【０１０２】
ステップＳ１０２において、振動素子駆動回路２９は、防塵フィルタ３６ｂが３次の屈曲振動を起こすように、振動素子２０を駆動する。ステップＳ１０２では、防塵フィルタ３６ｂに付着している塵埃のうち、振動の節９９の周辺以外に付着している塵埃３７を除去することができる。しかし、屈曲振動における振動の節９９の周辺１０１は、振動の振幅が小さいため、図１８に示すように、振動の節９９の周辺に付着した塵埃３７は、十分に除去されない場合がある。
【０１０３】
図２１に示すステップＳ１０３では、図１４に示すボディＣＰＵ５０から電圧信号出力回路２８に制御信号が出力され、電圧信号出力回路２８は、電極４２に電圧信号を出力し、防塵フィルタ３６ｂの表面に進行波状の電界を発生させる。図１９は、図１７に示す防塵フィルタ３６ｂによる除塵動作における第２の段階（ステップＳ１０３）を説明した模式図である。
【０１０４】
ステップＳ１０３において、電圧信号出力回路２８は、防塵フィルタ３６ｂの表面に備えられた複数の電極に電圧を印加することによって、防塵フィルタ３６ｂの表面の電界を変化させる。電圧信号出力回路２８は、図１３に示すのと同様に、縞状に配置された電極４２に４相の交流電圧信号ｃｈ１〜ｃｈ４を印加し、Ｘ軸方向に沿って移動する進行波状の電界を、防塵フィルタ３６ｂの表面に発生させる（図１９）。
【０１０５】
防塵フィルタ３６ｂの表面のうち、ステップＳ１０２における屈曲振動において振動の節９９が発生する位置の周辺部に残存する塵埃３７は、図１９（ｂ）に示すように、電界から与えられる静電気力によって、矢印１０５に示すように、Ｘ軸方向に沿って移動させられる。電圧信号出力回路２８は、振動の節９９の発生位置周辺部に残存する塵埃３７が、振動の節９９から離れた位置に移動するまで、電極４２に電圧を印加することができる。なお、ステップＳ１０２において振動の節９９の発生位置周辺部１０１に残存した塵埃の一部は、矢印１０６に示すように、ステップＳ１０３において防塵フィルタ３６ｂの表面から除去される。
【０１０６】
ステップＳ１０４では、ステップＳ１０２と同様に、図１４に示すボディＣＰＵ５０から振動素子駆動回路２９に制御信号が出力され、振動素子駆動回路２９は、防塵フィルタ３６ｂを振動させるように振動素子２０を駆動する。図２０は、図１７に示す防塵フィルタ３６ｂによる除塵動作における第３の段階（ステップＳ１０４）を説明した模式図である。
【０１０７】
ステップＳ１０４において、振動素子駆動回路２９は、防塵フィルタ３６ｂが３次の屈曲振動を起こすように、振動素子２０を駆動する。ステップＳ１０３によって、防塵フィルタ３６ｂの表面に残存する塵埃３７は、振動の節９９から離れた位置に移動されているため、ステップＳ１０４における屈曲振動によって除去される。防塵フィルタ３６ｂの表面に残存する塵埃３７は、図２０において矢印で示すように、重力方向に移動して除去される。
【０１０８】
図２０に示すステップＳ１０５では、除塵動作を終了する。ボディＣＰＵ５０は、ステップＳ１０５において、電圧信号出力回路２８および振動素子駆動回路２９の制御を停止する。
【０１０９】
このように、本実施形態に係る光学装置は、防塵フィルタ３６ｂを屈曲振動させる除塵動作と、防塵フィルタ３６ｂの表面の電界を変化させる除塵動作の両方を行うことができるため、防塵フィルタ３６ｂの表面に付着した塵埃３７を効率的に除去することができる。すなわち、屈曲振動による除塵動作によって、質量の比較的大きい塵埃や、振動の節の周辺以外の部分に付着した塵埃を除去することができる。また、進行性電界による除塵動作によって、質量の比較的小さい塵埃や、振動の節の周辺に付着した塵埃や、帯電量の大きい塵埃等を除去することができる。
【０１１０】
電圧信号出力回路２８は、振動素子駆動回路２９が振動素子２０を駆動した後に、防塵フィルタ３６ｂに生じる電界が移動するように、電極４２に電圧を出力することによって、振動の節９９の発生位置周辺に残存する塵埃３７を、振動の節９９から離れた位置に移動させることができる。したがって、本実施形態に係る光学装置は、屈曲振動させる除塵動作と、電界を変化させる除塵動作の両方を組み合わせることによって、単一モードの屈曲振動のみで、防塵フィルタ３６ｂの表面全体の塵埃を除去することができる。
【０１１１】
なお、図２１に示す除塵動作の例では、屈曲振動させる除塵動作と、電界を変化させる除塵動作を、時間をずらして行うが、除塵動作としてはこれに限定されず、例えば屈曲振動させる除塵動作と、電界を変化させる除塵動作を同時に行ってもよい。すなわち、電圧信号出力回路２８は、振動素子駆動回路２９が振動素子２０を駆動しているとき、防塵フィルタ３６ｂに生じる電界が移動するように、電極４２に電圧を出力することができる。これによって、本実施形態に係る光学装置は、防塵フィルタ３６ｂの表面全体の塵埃を短時間で除去することができる。
【０１１２】
また、本実施形態に係る防塵フィルタ３６ｂでは、図１８等に示すように、防塵フィルタ３６ｂの表面全体に電極４２が形成されているが、電極４２の配置はこれに限定されず、振動の節９９の発生位置の周辺部にのみ電極４２が形成されていてもよい。振動の節９９の発生位置の周辺部にのみ電極４２を有する防塵フィルタは、電界を変化させる除塵動作によって、振動の節９９の発生位置周辺に付着している塵埃３７を、振動の節９９から離れた位置に確実に移動させ、その場所に留まらせることができる。
【０１１３】
その他の実施形態
上述の実施形態では、複数の電極４２は、基材部４０の短辺４０ｂに沿って備えられるが、電極４２の配置としてはこれに限定されない。例えば、電極４２は、基材部４０の長辺４０ａに沿って備えられても良い。また、この場合、電極４２と撮像素子ユニット１６との間に、撮影光を基材部４０の短辺方向に分離する複屈折板を配置することで、電極４２の影が撮影画像に写り込む減少を防止できる。
【０１１４】
また、図１および図１４に示す画像処理コントローラ６６は、撮像素子ユニット１６によって撮影された画像に電極４２の影が写り込んだ場合、画像処理によって電極４２の影を低減してもよい。これにより、電極４２が撮像措置の光学性能に与える影響をさらに抑制することができる。
【符号の説明】
【０１１５】
１６…  撮像素子ユニット
２０…  振動素子
２８…  電圧信号出力回路
２９…  振動素子駆動回路
３６，１０６，１１４，１２２，１２６，１２９…  防塵フィルタ
３７…  塵埃
３８…  配線部
４０，３０ａ…  基材部
３０ａ，４０ｄ…  複屈折板
１６…  撮像素子ユニット
４２，１２０，１２４，１３０…  電極
４２ａ…  第１グループの電極
４２ｂ…  第２グループの電極
４２ｃ…  第３グループの電極
４２ｄ…  第４グループの電極
１２０ａ，１２４ａ，１２８ａ，１３０ａ…  第１の部分
１２０ｂ，１２４ｂ，１２８ｂ，１３０ｂ…  第２の部分
１２０ｅ，１２４ｅ，１２８ｅ，１３０ｅ…  縁部
５０…  ボディＣＰＵ
９９…  振動の節
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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