(57)【要約】【課題】配管の柔軟性を維持しつつ、チャンバ内の真空度を信頼性よく確保することができる配管、露光装置、及びデバイスの製造方法を提供する。【解決手段】冷媒が内部を流動する第１配管３４と、該第１配管３４の外周面に対して内周面が所定間隔離れた状態で前記第１配管３４の外側を覆う第２配管３５と、前記第１配管３４の外周面と前記第２配管３５の内周面との間に充填される液体状の水銀と、を備えた。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
流体が内部を流動する第１配管と、
該第１配管の外周面に対して内周面が所定間隔離れた状態で前記第１配管の外側を覆う第２配管と、
前記第１配管の外周面と前記第２配管の内周面との間に充填される液体状の充填材と、を備えたことを特徴とする配管。
【請求項２】
請求項１に記載の配管において、
前記第１配管及び前記第２配管は、可撓性材料から構成されていることを特徴とする配管。
【請求項３】
請求項１又は請求項２に記載の配管において、
前記液体状の充填材は、液体金属であることを特徴とする配管。
【請求項４】
請求項１又は請求項２に記載の配管において、
前記液体状の充填材は、高分子液体であることを特徴とする配管。
【請求項５】
請求項１又は請求項２に記載の配管において、
前記液体状の充填材は、油であることを特徴とする配管。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか一項に記載の配管において、
前記液体状の充填材を前記第１配管の外周面と前記第２配管の内周面との間に封じ込める封止部を有することを特徴とする配管。
【請求項７】
内部が所定雰囲気に設定されるチャンバ内に配置され、被保持部材を保持する保持部を冷却する冷却装置であって、
前記保持部には、請求項１〜請求項６のうち何れか一項に記載の配管を介して冷媒が供給されることを特徴とする冷却装置。
【請求項８】
所定のパターンが形成されたマスクを光源装置から射出される放射ビームで照明し、前記マスクを介した放射ビームを基板に照射する露光装置であって、
前記マスクを保持する第１保持部と、
前記基板を保持する第２保持部と、
を備え、
前記第１保持部及び前記第２保持部のうち少なくとも一方は、請求項７に記載の冷却装置を有することを特徴とする露光装置。
【請求項９】
請求項７に記載の露光装置において、
前記各保持部のうち、前記冷却装置を有する保持部は変位可能であることを特徴とする露光装置。
【請求項１０】
リソグラフィー工程を含むデバイスの製造方法において、
前記リソグラフィー工程は、請求項８又は請求項９に記載の露光装置を用いることを特徴とするデバイスの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば露光装置のチャンバ内に設けられる配管、該配管を備える冷却装置、該冷却装置を備える露光装置、及び該露光装置を用いたデバイスの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、ＥＵＶ（Extreme Ultraviolet ）光やＥＢ（Electron Beam ）等を用いてウエハにパターンの像を転写する露光装置では、露光光の減衰を抑制するために、チャンバの内部が真空雰囲気に設定されている。こうした露光装置では、ウエハが露光光の一部を吸収して熱変形した状態で露光処理が行われた場合、ウエハに転写されるパターンの像が歪んでしまう虞があった。そこで、通常、露光装置では、ウエハを支持するウエハステージに対して冷媒を供給するための配管が接続されている。そして、ウエハは、この配管を通じて供給される冷媒によって冷却されることで、その熱変形が抑制されるようになっている。また、近年では、ウエハステージに接続される配管として、ウエハステージがウエハの位置決めに際して駆動するときの動きの変化に対応できるように、柔軟性を確保した配管が種々提案されている（例えば、特許文献１）。
【０００３】
すなわち、この特許文献１に示す配管は、柔軟性の高い樹脂材料からなる内側樹脂層と、該樹脂層の外側を覆う薄膜状の金属層と、該金属層の外側を覆う外側樹脂層とから構成されている。そして、一般に、金属は、樹脂に比べて、液体や気体を透過する量が極めて小さいという性状を有している。そのため、金属層は、その配管における内側樹脂層内を流動する冷媒が内側樹脂層及び外側樹脂層を透過して配管の外部に漏出することを抑制する役割を果たしている。また、金属層は、その肉厚が十分に小さい薄膜状に成形されているため、配管の柔軟性を維持することが可能となっている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００３−２４７６７６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、特許文献１に示す配管では、ウエハステージ（位置決め装置）の動きの変化に連動して繰り返し変形した場合に、内側樹脂層と外側樹脂層との間に介在する金属層が金属疲労によって破断することが有り得る。この場合、破断した箇所では、内側樹脂層の外周面と外側樹脂層の内周面とが金属層の破断した隙間を介して対向した状態となる。そのため、内側樹脂層の内部を流動する冷媒が内側樹脂層を透過した場合には、この金属層の破断した隙間を介して外側樹脂層の内周面に至った後、その外側樹脂層の外周面側に透過してチャンバ内に漏洩することによってチャンバ内の真空度を低下させる虞があった。
【０００６】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、その目的は、配管の柔軟性を維持しつつ、配管内を流動する流体が配管外に漏出することを抑制できる配管、該配管を備える冷却装置、該冷却装置を備える露光装置、及び該露光装置を用いたデバイスの製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記の課題を解決するため、本発明は、実施形態に示す図１〜図５に対応付けした以下の構成を採用している。
本発明の配管は、流体が内部を流動する第１配管（３４）と、該第１配管（３４）の外周面に対して内周面が所定間隔離れた状態で前記第１配管（３４）の外側を覆う第２配管（３５）と、前記第１配管（３４）の外周面と前記第２配管（３５）の内周面との間に充填される液体状の充填材と、を備えたことを要旨とする。
【０００８】
上記構成によれば、第１配管の内部を流動する流体は、第１配管及び第２配管を透過して配管外に漏出することが、第１配管の外周面と第２配管の内周面との間に充填された液体状の充填材によって抑制される。また、液体状の充填材は、流動性を有しているため、配管が変形する場合には配管の変形に応じて第１配管の外周面と第２配管の内周面との間を流動することにより、配管の柔軟性を維持することができる。
【０００９】
なお、本発明をわかりやすく説明するために実施形態に示す図面の符号に対応付けて説明したが、本発明が実施形態に限定されるものではないことは言うまでもない。
【発明の効果】
【００１０】
本願発明によれば、配管の柔軟性を維持しつつ、配管内を流動する流体が配管外に漏出することを抑制できる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本実施形態の露光装置を示す概略構成図。
【図２】本実施形態の第１冷却水供給管路を示す断面図。
【図３】図２の３−３線矢視断面図。
【図４】デバイスの製造例のフローチャート。
【図５】半導体デバイスの場合の基板処理に関する詳細なフローチャート。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、本発明を具体化した一実施形態について図１〜図５に基づき説明する。
図１に示すように、本実施形態の露光装置１１は、光源装置１２から射出される、波長が１００ｎｍ程度以下の軟Ｘ線領域である極端紫外光、即ちＥＵＶ（Extreme Ultraviolet ）光を露光光ＥＬ（放射ビーム）として用いるＥＵＶ露光装置である。こうした露光装置１１は、照明光学系１４、レチクル保持機構１５、投影光学系１６、ウエハ保持機構１７が内部に設置されるチャンバ１３（図１では二点鎖線で示す。）を備えている。このチャンバ１３内は、真空雰囲気に設定されており、その真空度は、チャンバ１３内でＥＵＶ光を用いて露光処理を行うために適切な高真空となっている。
【００１３】
そして、光源装置１２からチャンバ１３内に入射した露光光ＥＬは、該チャンバ１３内に配置される照明光学系１４を介してレチクル保持機構１５に保持されるレチクルＲを照明する。このレチクルＲは、所定のパターンが形成された反射型レチクル（反射型マスク）で構成される。また、レチクルＲで反射した露光光ＥＬは、チャンバ１３内に配置される投影光学系１６を介してウエハ保持機構１７に保持されるウエハＷを照射するようになっている。このウエハＷの表面には、レジストなどの感光性材料が塗布されている。
【００１４】
照明光学系１４は、チャンバ１３の内部と同様に、内部が真空雰囲気に設定される筐体１８を備えている。この筐体１８内には、光源装置１２から筐体１８内に入射された露光光ＥＬを反射可能な複数枚の図示しない反射ミラーが設けられている。そして、各反射ミラーによって順に反射された露光光ＥＬは、後述する鏡筒２３内に設置された折り返し用の反射ミラー１９に入射し、該反射ミラー１９で反射した露光光ＥＬがレチクル保持機構１５に保持されるレチクルＲに導かれる。
【００１５】
レチクル保持機構１５は、投影光学系１６の物体面側に配置されており、レチクルＲを静電吸着するための第１静電吸着保持装置２０と、該第１静電吸着保持装置２０を介してレチクルＲを支持するレチクルステージ２１と、該レチクルステージ２１をＹ軸方向（図１における左右方向）に所定ストロークで移動させるレチクルステージ駆動部２２とを備えている。そして、本実施形態では、レチクルステージ２１が、レチクルステージ駆動部２２の駆動に応じて変位しつつレチクルＲを保持する保持部（第１保持部）として機能する。
【００１６】
投影光学系１６は、露光光ＥＬでレチクルＲのパターン面Ｒａを照明することにより形成されたパターンの像を所定の縮小倍率（例えば１／４倍）に縮小させる光学系であって、チャンバ１３の内部と同様に、内部が真空雰囲気に設定される鏡筒２３を備えている。この鏡筒２３内には、複数枚（一例としては６枚であって、図１では１枚のみ図示）の反射型のミラー２４が収容されている。そして、物体面側であるレチクルＲ側から導かれた露光光ＥＬは、各ミラー２４に順に反射され、ウエハ保持機構１７に保持されるウエハＷに導かれる。
【００１７】
ウエハ保持機構１７は、ウエハＷを静電吸着するための第２静電吸着保持装置２５と、該第２静電吸着保持装置２５を介してウエハＷを支持するウエハステージ２６と、該ウエハステージ２６をＹ軸方向に所定ストロークで移動させるウエハステージ駆動部２７とを備えている。そして、本実施形態では、ウエハステージ２６が、ウエハステージ駆動部２７の駆動に応じて変位しつつウエハＷを保持する保持部（第２保持部）として機能する。
【００１８】
そして、本実施形態の露光装置１１を用いてウエハＷにパターンの像を投影する場合、照明光学系１４による照明領域をレチクルＲに照射した状態で、レチクルステージ駆動部２２の駆動によって、レチクルステージ２１と共にレチクルＲをＹ軸方向（例えば、＋Ｙ方向側から−Ｙ方向側（図１では右側から左側））に所定ストローク毎に移動させる。また同時に、ウエハステージ駆動部２７の駆動によって、ウエハステージ２６と共にウエハＷをレチクルＲのＹ軸方向に沿った移動に対して投影光学系１６の縮小倍率に応じた速度比でＹ軸方向（例えば、−Ｙ方向側から＋Ｙ方向側（図１では左側から右側））に同期して移動させる。そして、一つのショット領域へのパターンの形成が終了した場合、ウエハＷの他のショット領域に対するパターンの形成が連続して行われる。
【００１９】
次に、レチクルステージ２１及びウエハステージ２６を冷却するための冷却装置２８について説明する。
図１に示すように、冷却装置２８には、レチクルステージ２１内に冷却用水を供給し且つレチクルステージ２１側から冷却用水を回収するための配管としての第１冷却水供給管路２９が設けられている。また、レチクルステージ２１内には、冷却装置２８から第１冷却水供給管路２９を介して供給される冷却用水が流動する第１流体流路３０が形成されている。そして、第１流体流路３０内を流動する冷却用水は、第１静電吸着保持装置２０を介してレチクルＲから熱エネルギーを吸熱することにより、レチクルＲを冷却するようになっている。
【００２０】
また、冷却装置２８には、ウエハステージ２６内に冷却用水を供給し且つウエハステージ２６側から冷却用水を回収するための配管としての第２冷却水供給管路３１が設けられている。また、ウエハステージ２６内には、冷却装置２８から第２冷却水供給管路３１を介して供給される冷却用水が流動する第２流体流路３２が形成されている。そして、第２流体流路３２内を流動する冷却用水は、第２静電吸着保持装置２５を介してウエハＷから熱エネルギーを吸熱することにより、ウエハＷを冷却するようになっている。
【００２１】
次に、冷却装置２８から延設された配管の構成について図２及び図３に基づき以下説明する。なお、本実施形態では、冷却装置２８とレチクルステージ２１及びウエハステージ２６とを接続する各冷却水供給管路２９，３１は互いに同一の構成となっている。そのため、以下の説明においては、冷却装置２８とレチクルステージ２１とを接続する第１冷却水供給管路２９の構成について詳述する。
【００２２】
図２及び図３に示すように、第１冷却水供給管路２９は、内部に流体としての冷却用水を流動させるための流路３３が形成された円筒状の第１配管３４と、該第１配管３４よりも管径が太くて該第１配管３４の外周面に対して内周面が所定間隔離れた状態で該第１配管３４の外側を覆うように配置される円筒状の第２配管３５とから構成されている。すなわち、第１冷却水供給管路２９は、第１配管３４及び第２配管３５のうち相対的に大径の第２配管３５内に相対的に小径の第１配管３４が第２配管３５と同軸配置となるように挿通された二重配管構造をしている。なお、第１配管３４及び第２配管３５は何れも柔軟性を有する可撓性材料であるウレタン樹脂からなり、第１冷却水供給管路２９は、その長手方向の途中箇所が蛇行するように変形可能とされている。
【００２３】
また、第１冷却水供給管路２９における第１配管３４の外周面と第２配管３５の内周面の間には、断面略円環状の空間域３６が第１冷却水供給管路２９の延設方向に沿って延びるように形成されている。そして、第１配管３４及び第２配管３５は、その長手方向の一端部（本実施形態では、レチクルステージ２１側の端部）同士が断面略円環状の空間域３６の開口を封止するように熱溶着によって接合されている。その一方、第１配管３４及び第２配管３５は、その長手方向の他端部（本実施形態では、冷却装置２８側の端部）における空間域３６の開口が断面略円環状の封止材３７の封入により封止されている。
【００２４】
このように構成された第１冷却水供給管路２９において、第１配管３４の外周面と第２配管３５の内周面との間に形成された空間域３６内に、その長手方向の他端部側の開口を介して液体金属の一種である水銀（Ｈｇ）を充填した状態で、その他端部の開口が封止材３７によって液密状に封止される構成となっている。この点で、第１冷却水供給管路２９の長手方向の一端部において空間域３６の開口を封止するように互いに接合される第１配管３４及び第２配管３５の一端部同士、及び、第１冷却水供給管路２９の長手方向の他端部において空間域３６の開口に封入される封止材３７は、第１配管３４の外周面と第２配管３５の内周面との間の空間域３６内に水銀が充填された場合に該水銀を空間域３６内に封じ込め可能とする封止部として機能する。
【００２５】
なお、水銀は、その金属としての特性により、第１配管３４内の流路３３を流動する冷却用水等の液体や気体に対する透過性が、第１配管３４及び第２配管３５を構成するウレタン樹脂等の樹脂材よりも極めて低い性状を有している。そのため、水銀は、第１配管３４内の流路３３を流動する冷却用水が第１配管３４及び第２配管３５を透過して第１冷却水供給管路２９の外部に漏出することがないように抑制する液体状の充填材として機能する。
【００２６】
次に、上記のように構成された露光装置１１の作用について、特に、第１冷却水供給管路２９がレチクルステージ２１の変位に連動して変形しつつ、チャンバ１３内の真空度を確保する際の作用に着目して以下説明する。
【００２７】
さて、露光装置１１の露光時には、レチクル保持機構１５においてレチクルＲを支持するレチクルステージ２１がレチクルステージ駆動部２２の駆動によりＹ軸方向（図１における左右方向）に変位する。すると、このレチクルステージ２１に長手方向の一端部を接続された第１冷却水供給管路２９には、レチクルステージ２１側から第１冷却水供給管路２９を変形させようとする応力が加わる。このとき、第１冷却水供給管路２９は、第１配管３４及び第２配管３５が共に柔軟性の高いウレタン樹脂から構成されると共に、これらの配管３４，３５の間の空間域３６に封じ込められている水銀は流動性を有した液体金属であるため、レチクルステージ２１の変位に追随して容易に変形する。すなわち、第１冷却水供給管路２９は、レチクルステージ２１が変位するとき、そのレチクルステージ２１の動きを規制するようなことはなく、レチクルＲの位置決め精度に影響を及ぼすこともほとんどない。
【００２８】
また、第１冷却水供給管路２９において第１配管３４と第２配管３５との間の空間域３６に封じ込められた水銀は流動性を有している。そのため、第１冷却水供給管路２９では、これらの配管３４，３５の間に形成される空間域３６の一部がレチクルステージ２１の変位に連動して押し潰されるように歪み変形した場合であっても、この空間域３６内に封じ込められている水銀は、金属疲労によって破断し得る固体金属とは異なり、その流動性によって第１冷却水供給管路２９の延設方向に沿って途切れることなく連なった態様を維持し続ける。その結果、この空間域３６内に封入された水銀は、第１冷却水供給管路２９の延設方向の全域で第１配管３４の外周面を被覆することになる。したがって、第１冷却水供給管路２９では、第１配管３４内の流路３３を流れる冷却用水が第１配管３４を透過した場合でも、そのように透過した冷却用水は第１配管３４の外周面全域を被覆する水銀によって第２配管３５側に至ることを抑制される。そのため、第１冷却水供給管路２９は、真空雰囲気に設定されたチャンバ１３内に挿通された領域（即ち、レチクルステージ２１に対する接続部の近傍領域）において、第１配管３４内の流路３３を流動する冷却用水が第２配管３５を介してチャンバ１３内に漏洩することが抑制されるため、チャンバ１３内の真空度を確保することが可能となる。
【００２９】
さらに、本実施形態の第１冷却水供給管路２９によれば、第１配管３４及び第２配管３５を構成するウレタン樹脂は水銀をほとんど透過しない性状を有している。そのため、第１配管３４と第２配管３５との間の空間域３６に封じ込められている水銀は、第１配管３４及び第２配管３５を透過することが抑制される。したがって、第１冷却水供給管路２９では、これらの配管３４，３５の間の空間域３６に封じ込められている水銀が、第１配管３４を介して流路３３内に漏洩することが抑制される。また同様に、第１冷却水供給管路２９では、真空雰囲気に設定されたチャンバ１３内に挿通された領域（即ち、レチクルステージ２１に対する接続部の近傍領域）において、これらの配管３４，３５の間の空間域３６に封じ込められている水銀が、第２配管３５を介してチャンバ１３内に漏洩することが規制されるため、チャンバ１３内の真空度を確保することが可能となる。
【００３０】
したがって、本実施形態では以下に示す効果を得ることができる。
（１）第１配管３４内の流路３３を流動する冷却用水は、第１配管３４及び第２配管３５を透過して各冷却水供給管路２９，３１外に漏出することが、第１配管３４の外周面と第２配管３５の内周面との間の空間域３６に充填された水銀によって抑制される。そのため、冷却用水が各冷却水供給管路２９，３１内からチャンバ１３内に漏洩することを確実に抑制でき、チャンバ１３内の真空性を信頼性よく確保することができる。
【００３１】
（２）第１配管３４及び第２配管３５は水銀に対して非透過性を有するウレタン樹脂から構成されている。そのため、水銀が第１配管３４を透過して流路３３内に漏洩することを抑制できると共に、同じく水銀が第２配管３５を透過してチャンバ１３内に漏洩することを抑制できる。
【００３２】
（３）各冷却水供給管路２９，３１を構成する第１配管３４及び第２配管３５は柔軟性を有する可撓性材料のウレタン樹脂からなるため、対応するステージ２１，２６の変位に伴い各冷却水供給管路２９，３１が変形する場合には、各冷却水供給管路２９，３１の剛性によってステージ２１，２６の動きが規制されることを抑制できる。
【００３３】
（４）第１配管３４の外周面と第２配管３５の内周面との間の空間域３６に充填されて封じ込められた水銀は流動性を有しているため、対応するステージ２１，２６の変位に伴い各冷却水供給管路２９，３１が空間域３６の一部を押し潰すように変形する場合であっても、固体金属の場合と異なり破断することはない。したがって、各冷却水供給管路２９，３１の変形に応じて第１配管３４の外周面全域を被覆した状態を維持することにより、第１冷却水供給管路２９の柔軟性を維持しつつ、第１配管３４内の流路３３を流動する冷却用水が第１配管３４を透過した場合でも、そのように透過した冷却用水が第２配管３５側に至ることを抑制できる。
【００３４】
（５）露光装置１１の露光時には、レチクルステージ２１及びウエハステージ２６に対して冷却装置２８から各冷却水供給管路２９，３１を介して冷却用水を供給できるため、各ステージ２１，２６により保持されているレチクルＲやウエハＷが熱変形することを抑制できる。
【００３５】
なお、本実施形態は、以下のような別の実施形態に変更してもよい。
・上記実施形態において、第１配管３４と第２配管３５との間の空間域３６に充填されて封じ込められる液体として、高分子液体を採用してもよい。この場合、高分子液体は、その架橋によって得られる立体構造の隙間が、第１配管３４内の流路３３を流動する流体（例えば、水）の分子よりも小さな構造を有し、流体に対して非透過性を有する材質であることが望ましい。
【００３６】
・上記実施形態において、第１配管３４と第２配管３５との間の空間域３６に充填されて封じ込められる液体として、油を採用してもよい。ここで、一般に、油は、全体としての極性が比較的小さな分子構造であるため、第１配管３４の内部を流動する流体が水等のように極性分子である場合に好適に漏洩抑制機能を発揮することができる。
【００３７】
・上記実施形態において、第１配管３４及び第２配管３５を構成する材質は、ウレタン樹脂に限定されず、柔軟性を有する材質であれば任意の材質を採用することができる。但し、チャンバ１３内の真空度を維持するためには、フッ素樹脂等のように、真空雰囲気下であってもその揮発量が比較的低い材質であることが望ましい。
【００３８】
・上記実施形態において、第１冷却水供給管路２９の内部を流動する流体は冷却用水等の冷媒に限定されず、流動性を有する流体であれば任意の媒体を採用することができる。
・上記実施形態において、第１配管３４と第２配管３５との間の空間域３６に液体を充填して封じ込めた状態で、両配管３４，３５の長手方向の両端部の開口をそれぞれ封止材３７によって液密状に封止する構成としてもよい。
【００３９】
・上記実施形態において、上記構成の配管構造は、真空雰囲気となるチャンバ１３内に変位可能に配置された部材であれば、レチクルステージ２１及びウエハステージ２６以外の任意の部材に接続する構成としてもよい。
【００４０】
次に、本発明の実施形態の露光装置１１によるデバイスの製造方法をリソグラフィー工程で使用したマイクロデバイスの製造方法の実施形態について説明する。図４は、マイクロデバイス（ＩＣやＬＳＩ等の半導体チップ、液晶パネル、ＣＣＤ、薄膜磁気ヘッド、マイクロマシン等）の製造例のフローチャートを示す図である。
【００４１】
まず、ステップＳ１０１（設計ステップ）において、マイクロデバイスの機能・性能設計（例えば、半導体デバイスの回路設計等）を行い、その機能を実現するためのパターン設計を行う。引き続き、ステップＳ１０２（マスク製作ステップ）において、設計した回路パターンを形成したマスク（レチクルＲなど）を製作する。一方、ステップＳ１０３（基板製造ステップ）において、シリコン、ガラス、セラミックス等の材料を用いて基板（シリコン材料を用いた場合にはウエハＷとなる。）を製造する。
【００４２】
次に、ステップＳ１０４（基板処理ステップ）において、ステップＳ１０１〜ステップＳ１０４で用意したマスクと基板を使用して、後述するように、リソグラフィー技術等によって基板上に実際の回路等を形成する。次いで、ステップＳ１０５（デバイス組立ステップ）において、ステップＳ１０４で処理された基板を用いてデバイス組立を行う。このステップＳ１０５には、ダイシング工程、ボンティング工程、及びパッケージング工程（チップ封入）等の工程が必要に応じて含まれる。最後に、ステップＳ１０６（検査ステップ）において、ステップＳ１０５で作製されたマイクロデバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行う。こうした工程を経た後にマイクロデバイスが完成し、これが出荷される。
【００４３】
図５は、半導体デバイスの場合におけるステップＳ１０４の詳細工程の一例を示す図である。
ステップＳ１１１（酸化ステップ）おいては、基板の表面を酸化させる。ステップＳ１１２（ＣＶＤステップ）においては、基板表面に絶縁膜を形成する。ステップＳ１１３（電極形成ステップ）においては、基板上に電極を蒸着によって形成する。ステップＳ１１４（イオン打込みステップ）においては、基板にイオンを打ち込む。以上のステップＳ１１１〜ステップＳ１１４のそれぞれは、基板処理の各段階の前処理工程を構成しており、各段階において必要な処理に応じて選択されて実行される。
【００４４】
基板プロセスの各段階において、上述の前処理工程が終了すると、以下のようにして後処理工程が実行される。この後処理工程では、まず、ステップＳ１１５（レジスト形成ステップ）において、基板に感光性材料を塗布する。引き続き、ステップＳ１１６（露光ステップ）において、上で説明したリソグラフィシステム（露光装置１１）によってマスクの回路パターンを基板に転写する。次に、ステップＳ１１７（現像ステップ）において、ステップＳ１１６にて露光された基板を現像して、基板の表面に回路パターンからなるマスク層を形成する。さらに続いて、ステップＳ１１８（エッチングステップ）において、レジストが残存している部分以外の部分の露出部材をエッチングにより取り去る。そして、ステップＳ１１９（レジスト除去ステップ）において、エッチングが済んで不要となった感光性材料を取り除く。すなわち、ステップＳ１１８及びステップＳ１１９において、マスク層を介して基板の表面を加工する。これらの前処理工程と後処理工程とを繰り返し行うことによって、基板上に多重に回路パターンが形成される。
【符号の説明】
【００４５】
１１…露光装置、１２…光源装置、１３…チャンバ、２１…保持部及び第１保持部としてのレチクルステージ、２６…保持部及び第２保持部としてのウエハステージ、２８…冷却装置、２９…配管としての第１冷却水供給管路、３１…配管としての第２冷却水供給管路、３４…第１配管、３５…第２配管、ＥＬ…放射ビームとしての露光光、Ｒ…被保持部材及びマスクとしてのレチクル、Ｗ…被保持部材及び基板としてのウエハ。
【図１】
2010270820.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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