(57)【要約】【課題】従来に比べて正確な書き込み動作を確保することができる磁気記録ヘッドを提供する。【解決手段】磁気記録ヘッドの一具体例は、トレーリング側の上辺７５、および、上辺７５に平行に延び上辺７５よりも短いリーディング側の下辺７４を有する台形の斜辺７３および下辺７４と、上辺７５の一端から他端まで延び、斜辺７３の延長線７８よりも内側で上辺７５よりもトレーリング側に膨らむ輪郭線７６とで浮上面に露出面７２を規定する。【選択図】図９
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
トレーリング側の上辺、および、前記上辺に平行に延び前記上辺よりも短いリーディング側の下辺を有する台形の斜辺および下辺と、前記上辺の一端から他端まで延び、前記斜辺の延長線よりも内側で前記上辺よりもトレーリング側に膨らむ輪郭線とで浮上面に露出面を規定することを特徴とする磁気記録ヘッド。
【請求項２】
請求項１に記載の磁気記録ヘッドにおいて、前記輪郭線は多角線であることを特徴とする磁気記録ヘッド。
【請求項３】
請求項１に記載の磁気記録ヘッドにおいて、前記輪郭線は曲線であることを特徴とする磁気記録ヘッド。
【請求項４】
請求項３に記載の磁気記録ヘッドにおいて、前記輪郭線は前記上辺の中点を中心に描かれる半円の弧であることを特徴とする磁気記録ヘッド。
【請求項５】
筐体と、
筐体に組み込まれて、千鳥配置の磁性ドットパターンで記録トラックを形成する磁気記憶媒体と、
磁気記憶媒体に向き合わせられる磁気記録ヘッドとを備え、
前記磁気記録ヘッドは、トレーリング側の上辺、および、前記上辺に平行に延び前記上辺よりも短いリーディング側の下辺を有する台形の斜辺および下辺と、前記上辺の一端から他端まで延び、前記斜辺の延長線よりも内側で前記上辺よりもトレーリング側に膨らむ輪郭線とで浮上面に露出面を規定することを特徴とする磁気記憶装置。
【請求項６】
請求項５に記載の磁気記憶装置において、前記輪郭線は多角線であることを特徴とする磁気記憶装置。
【請求項７】
請求項５に記載の磁気記憶装置において、前記輪郭線は曲線であることを特徴とする磁気記憶装置。
【請求項８】
請求項７に記載の磁気記憶装置において、前記輪郭線は前記上辺の中点を中心に描かれる半円の弧であることを特徴とする磁気記憶装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は磁気記録ヘッドに関する。
【背景技術】
【０００２】
例えばハードディスク駆動装置（ＨＤＤ）は広く知られる。ＨＤＤには磁気ディスクが組み込まれる。磁気ディスクには磁気記録ヘッドが向き合わせられる。磁気記録ヘッドは、トレーリング側の上辺、および、上辺に平行に延び上辺よりも短いリーディング側の下辺を有する台形でヘッドスライダーの浮上面に露出面を規定する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００８−２０４５２６号公報
【特許文献２】特開２００６−１３４５０７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ビットパターンドメディアは広く知られる。ある種のビットパターンドメディアでは千鳥配置の磁性ドットパターンで記録トラックが形成される。磁気情報の書き込みにあたって磁気記録ヘッドは左右列の磁性ドットを交互に磁化する。このとき、最内周の記録トラックや最外周の記録トラックではいわゆるヨー角の影響で磁気記録ヘッドの台形の露出面は記録トラックに対して大きく傾く。例えば磁気記録ヘッドで下辺に比べて上辺がビットパターンドメディアの外周に向かって大きく傾くと、左列の磁性ドットの通過から右列の磁性ドットの通過までに記録トラックの線方向に距離は縮まってしまう。いわゆるライトマージンは減少する。ライトマージンの減少は正確な書き込み動作を阻害してしまう。
【０００５】
本発明は、上記実状に鑑みてなされたもので、従来に比べて正確な書き込み動作を確保することができる磁気記録ヘッドを提供することを目的とする。本発明は、従来に比べて正確な書き込み動作を確保することができる磁気記憶装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記目的を達成するために、磁気記録ヘッドの一具体例は、トレーリング側の上辺、および、前記上辺に平行に延び前記上辺よりも短いリーディング側の下辺を有する台形の斜辺および下辺と、前記上辺の一端から他端まで延び、前記斜辺の延長線よりも内側で前記上辺よりもトレーリング側に膨らむ輪郭線とで浮上面に露出面を規定する。
【０００７】
その他、磁気記憶装置の一具体例は、筐体と、筐体に組み込まれて、千鳥配置の磁性ドットパターンで記録トラックを形成する磁気記憶媒体と、磁気記憶媒体に向き合わせられる磁気記録ヘッドとを備え、前記磁気記録ヘッドは、トレーリング側の上辺、および、前記上辺に平行に延び前記上辺よりも短いリーディング側の下辺を有する台形の斜辺および下辺と、前記上辺の一端から他端まで延び、前記斜辺の延長線よりも内側で前記上辺よりもトレーリング側に膨らむ輪郭線とで浮上面に露出面を規定する。
【発明の効果】
【０００８】
以上のように開示の磁気記録ヘッドや磁気記憶装置によれば、従来に比べて正確な書き込み動作は確保されることができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】磁気記憶装置の一具体例すなわちハードディスク駆動装置（ＨＤＤ）の構造を概略的に示す平面図である。
【図２】磁気ディスクの部分平面図である。
【図３】磁気ディスクの部分拡大平面図である。
【図４】図３の４−４線に沿った部分拡大断面図である。
【図５】一具体例に係る浮上ヘッドスライダを概略的に示す拡大斜視図である。
【図６】媒体対向面から観察される電磁変換素子を概略的に示す電磁変換素子の正面図である。
【図７】図６の７−７線に沿った断面図である。
【図８】一具体例に係る主磁極の先端を概略的に示す拡大部分斜視図である。
【図９】主磁極の先端面と記録トラックとの関係を概略的に示す模式図である。
【図１０】逆台形形状の先端面と記録トラックとの関係を概略的に示す模式図である。
【図１１】主磁極の形成過程で主磁極層の形状を概略的に示す主磁極層の拡大斜視図である。
【図１２】磁極先端片の形成過程を概略的に示す拡大正面図である。
【図１３】他の形状に係る先端面を示す拡大正面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、添付図面を参照しつつ本発明の一実施形態を説明する。
【００１１】
図１は一具体例に係る磁気記憶装置すなわちハードディスク駆動装置（ＨＤＤ）１１の構造を概略的に示す。このＨＤＤ１１は筐体すなわちハウジング１２を備える。ハウジング１２は箱形のベース１３およびカバー（図示されず）を備える。ベース１３は例えば平たい直方体の内部空間すなわち収容空間を区画する。カバーはベース１３の開口に結合される。カバーとベース１３との間で収容空間は密閉される。
【００１２】
収容空間には記憶媒体の一具体例すなわち１枚以上の磁気ディスク１４が収容される。磁気ディスク１４はスピンドルモーター１５の駆動軸に装着される。スピンドルモーター１５は例えば５４００ｒｐｍや７２００ｒｐｍ、１００００ｒｐｍ、１５０００ｒｐｍといった高速度で磁気ディスク１４を回転させることができる。
【００１３】
収容空間にはキャリッジ１６がさらに収容される。キャリッジ１６はキャリッジブロック１７を備える。キャリッジブロック１７は、ベース１３の底板から垂直方向に立ち上がる支軸１８に回転自在に連結される。キャリッジブロック１７には、支軸１８から水平方向に延びる複数のキャリッジアーム１９が区画される。
【００１４】
キャリッジ１６は複数のヘッドサスペンション２１を備える。個々のヘッドサスペンション２１は個別に対応のキャリッジアーム１９の先端に取り付けられる。ヘッドサスペンション２１はキャリッジアーム１９の先端から前方に延びる。ヘッドサスペンション２１にはフレキシャが張り合わせられる。フレキシャ上には浮上ヘッドスライダー２２が支持される。フレキシャに基づき浮上ヘッドスライダー２２はヘッドサスペンション２１に対してその姿勢を変化させることができる。浮上ヘッドスライダー２２にはヘッド素子すなわち電磁変換素子（図示されず）が搭載される。電磁変換素子の詳細は後述される。
【００１５】
磁気ディスク１４の回転に基づき磁気ディスク１４の表面で気流が生成されると、気流の働きで浮上ヘッドスライダー２２には正圧すなわち浮力および負圧が作用する。浮力は負圧およびヘッドサスペンション２１の押し付け力に釣り合う。その結果、磁気ディスク１４の回転中に比較的に高い剛性で浮上ヘッドスライダー２２は浮上し続けることができる。
【００１６】
キャリッジブロック１７にはボイスコイルモーター（ＶＣＭ）２３が連結される。ボイスコイルモーター２３の働きでキャリッジブロック１７は支軸１８回りで回転することができる。こうしたキャリッジブロック１７の回転に基づきキャリッジアーム１９およびヘッドサスペンション２１の揺動は実現される。浮上ヘッドスライダー２２の浮上中に支軸１８回りでキャリッジアーム１９が揺動すると、浮上ヘッドスライダー２２は磁気ディスク１４の半径線に沿って移動することができる。その結果、浮上ヘッドスライダー２２上の電磁変換素子は最内周記録トラックと最外周記録トラックとの間でデータゾーンを横切ることができる。こうした浮上ヘッドスライダー２２の移動に基づき電磁変換素子は目標記録トラックに対して位置決めされる。
【００１７】
図２は一具体例に係る磁気ディスク１４の構造を概略的に示す。磁気ディスク１４の表裏面には磁気ディスク１４の周方向すなわちダウントラック方向に沿って複数筋の記録トラック２５、２５…が延びる。記録トラック２５は同心円状に形成される。磁気ディスク１４の表裏面には、磁気ディスク１４の半径方向に沿って湾曲しつつ延びる複数筋（例えば６０本）のサーボ領域２６が規定される。サーボ領域２６の湾曲は電磁変換素子の移動経路に基づき設定される。隣接するサーボ領域２６の間にはデータ領域２７が確保される。こうして各記録トラック２５にはサーボ領域２６およびデータ領域２７が交互に区画される。サーボ領域２６に予め書き込まれる磁化パターンに基づき浮上ヘッドスライダー２２の電磁変換素子は位置決めされる。
【００１８】
図３に示されるように、個々の記録トラック２５は２列のドット列２５ａ、２５ｂを備える。個々のドット列２５ａ、２５ｂでは等間隔でダウントラック方向ＤＴに複数の磁性ドット２８が配列される。ここでは、個々の記録トラック２５でドット列２５ａはドット列２５ｂの内側に配置される。個々の磁性ドット２８は、例えば磁気ディスク１４の表面に直交する中心軸を有する円柱すなわち磁性ピラーから形成される。磁性ドット２８の直径は例えば２０ｎｍ程度に設定される。各磁性ドット２８では、磁気ディスク１４の表面に直交する垂直方向に上向き（外向き）の磁化または下向き（内向き）の磁化が確立される。こうして各磁性ドット２８に磁気情報が記録される。すなわち、垂直磁気記録が実現される。磁性ドット２８同士は非磁性体２９で磁気的に分離される。こうした磁性ドット２８は少なくともデータ領域２７に配置される。
【００１９】
各ドット列２５ａ、２５ｂでは磁性ドット２８同士は磁性ドット２８の直径と同一の間隔で隔てられる。個々の記録トラック２５ではドット列２５ｂの磁性ドット２８はドット列２５ａの磁性ドット２８からダウントラック方向にずれて配置される。ドット列２５ａ上で相互に隣接する磁性ドット２８の中心軸同士の中間点を通過する半径線上に、ドット列２５ｂの磁性ドット２８の中心軸が配置される。すなわち、記録トラック２５の中心線２５ｃを跨いでいわゆる千鳥配置が確立される。
【００２０】
図４に示されるように、磁気ディスク１４は基板３１を備える。基板３１は例えばガラス基板から形成される。基板３１の表面には裏打ち層３２が広がる。裏打ち層３２は例えば炭化鉄タンタル（ＦｅＴａＣ）膜やニッケル鉄（ＮｉＦｅ）膜といった軟磁性体から構成されればよい。裏打ち層３２では、基板３１の表面に平行に規定される面内方向に磁化容易軸は確立される。裏打ち層３２の表面にはタンタル（Ｔａ）密着層３３が広がる。タンタル密着層３３は非晶質構造を有する。タンタル密着層３３の表面にはルテニウム（Ｒｕ）下地層３４が広がる。ルテニウム下地層３４は多結晶構造を有する。隣接する結晶粒同士は密着する。
【００２１】
ルテニウム下地層３４の表面には記録層３５が広がる。記録層３５に前述の磁性ドット２８および非磁性体２９が形成される。磁性ドット２８はルテニウム下地層３４の表面で直立する。円柱形の磁性ドット２８の中心軸は基板３１の表面に直交する。個々の磁性ドット２８では、基板３１の表面に直交する垂直方向に磁化容易軸は確立される。磁性ドット２８は例えばコバルトクロム白金（ＣｏＣｒＰｔ）から形成される。磁性ドット２８にはコバルト白金（ＣｏＰｔ）が用いられてもよい。記録層３５の表面は、例えばダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）膜といった保護膜３６やパーフルオロポリエーテル（ＰＦＰＥ）膜といった潤滑膜３７で被覆される。
【００２２】
図５は一具体例に係る浮上ヘッドスライダー２２を示す。この浮上ヘッドスライダー２２は、例えば平たい直方体に形成されるスライダー本体４１を備える。スライダー本体４１の空気流出側端面には非磁性膜４２が積層される。非磁性膜４２に前述の電磁変換素子４３が組み込まれる。スライダー本体４１は例えばＡｌ２Ｏ３−ＴｉＣ（アルチック）といった硬質の非磁性材料から形成されればよい。非磁性膜４２は例えばＡｌ２Ｏ３（アルミナ）といった比較的に軟質の絶縁非磁性材料から形成されればよい。
【００２３】
浮上ヘッドスライダー２２は媒体対向面すなわち浮上面４４で磁気ディスク１４に向き合う。浮上面４４には平坦なベース面４５すなわち基準面が規定される。磁気ディスク１４が回転すると、スライダー本体４１の前端から後端に向かって浮上面４４には気流４６が作用する。
【００２４】
浮上面４４には、前述の気流４６の上流側すなわち空気流入側でベース面４５から立ち上がる１筋のフロントレール４７が形成される。同様に、浮上面４４には、気流の下流側すなわち空気流出側でベース面４５から立ち上がるリアレール４８およびサイドリアレール４９、４９が形成される。リアレール４８はスライダー本体４１から非磁性膜４２まで延びる。
【００２５】
フロントレール４７、リアレール４８およびサイドリアレール４９、４９の頂上面にはいわゆる空気軸受け面（ＡＢＳ）５１、５２、５３が規定される。空気軸受け面５１、５２、５３の空気流入端は段差でレール４７、４８、４９の頂上面に接続される。磁気ディスク１４の回転に基づき生成される気流４６は浮上面４４に受け止められる。このとき、段差の働きで空気軸受け面５１、５２、５３には比較的に大きな正圧すなわち浮力が生成される。しかも、フロントレール４７の後方すなわち背後には大きな負圧が生成される。これら浮力および負圧のバランスに基づき浮上ヘッドスライダー２２の浮上姿勢は確立される。なお、浮上ヘッドスライダー２２の形態はこういった形態に限られるものではない。
【００２６】
図６に示されるように、電磁変換素子４３は読み出し素子５５と磁気記録ヘッドすなわち書き込み素子５６とを備える。読み出し素子５５にはトンネル接合磁気抵抗効果（ＴｕＭＲ）素子が用いられる。すなわち、読み出し素子５５は上下１対の導電層すなわち上部電極５７および下部電極５８を備える。上部電極５７と下部電極５８との間にはトンネル接合磁気抵抗効果膜５９が挟み込まれる。上部電極５７および下部電極５８は例えばＦｅＮ（窒化鉄）やＮｉＦｅ（ニッケル鉄）、ＮｉＦｅＢ（ニッケル鉄ボロン）、ＣｏＦｅＢ（コバルト鉄ボロン）といった高透磁率材料から形成されればよい。高透磁率材料の採用によれば、上部電極５７および下部電極５８は上部シールド層および下部シールド層として機能することができる。その結果、上部電極５７および下部電極５８の間隔は磁気ディスク１４上で記録トラックの線方向に磁気記録の分解能を決定する。
【００２７】
同時に、上部電極５７および下部電極５８の間には１対の磁区制御膜６１が配置される。トンネル接合磁気抵抗効果膜５９は浮上面４４に沿って磁区制御膜６１同士の間に配置される。磁区制御膜６１は例えばＣｏＣｒＰｔ（コバルトクロム白金）やＣｏＰｔ（コバルト白金）といった硬磁性材料から形成される。磁区制御膜６１は浮上面４４に沿って一方向に磁化を確立する。磁区制御膜６１と下部電極５８との間、および、磁区制御膜６１とトンネル接合磁気抵抗効果膜５９との間には絶縁膜６２が挟み込まれる。絶縁膜６２は例えばＡｌ２Ｏ３またはＭｇＯ（酸化マグネシウム）から形成される。磁区制御膜６１は下部電極５８およびトンネル接合磁気抵抗効果膜５９から絶縁される。したがって、たとえ磁区制御膜６１が導電性を有していても、上部電極５７と下部電極５８との間ではトンネル接合磁気抵抗効果膜５９のみで導通が確立される。
【００２８】
上部電極５７および下部電極５８からトンネル接合磁気抵抗効果膜５９には所定の電圧値の電圧が印加される。電流量すなわち電流値は検出される。磁気ディスク１４からトンネル接合磁気抵抗効果膜５９に磁界が作用すると、磁界の向きすなわち作用する磁極に応じてトンネル接合磁気抵抗効果膜５９の抵抗変化が引き起こされる。こういった抵抗変化は電流量の変化に変換される。電流量の変化に基づき磁気ディスク１４から情報は読み出される。
【００２９】
書き込み素子５６には単磁極ヘッドが用いられる。すなわち、書き込み素子５６は主磁極６３および補助磁極６４を備える。主磁極６３および補助磁極６４はリアレール４８の表面すなわち浮上面４４で先端面を露出させる。浮上面４４で補助磁極６４のリーディング端にはトレーリングシールド６５が区画される。トレーリングシールド６５は主磁極６３に向き合わせられる。主磁極６３、補助磁極６４およびトレーリングシールド６５は例えばＦｅＮやＮｉＦｅ、ＮｉＦｅＢ、ＣｏＦｅＢといった磁性材料から形成される。その他、主磁極はＣｏＦｅ（コバルト鉄）から形成されてもよい。補助磁極６４およびトレーリングシールド６５はコバルトニッケル鉄（ＣｏＮｉＦｅ）から形成されてもよい。図７に示されるように、浮上面４４から遠ざかった位置で補助磁極６４および主磁極６３の間には磁性連結片６６が配置される。磁性連結片６６は主磁極６３に補助磁極６４を接続する。主磁極６３、磁性連結片６６、補助磁極６４およびトレーリングシールド６５は磁性コアを形成する。磁性連結片６６の周囲で、主磁極６３の表面に平行な１平面に沿って磁気コイルすなわち薄膜コイルパターン６７が形成される。
【００３０】
図８は一具体例に係る主磁極６３の先端を概略的に示す。主磁極６３は磁極先端片７１を備える。磁極先端片７１は同一の断面形状で先端面７２から後方に延びる。先端面７２は平坦面で構成される。先端面７２は浮上面４４で露出する。先端面７２は露出面に相当する。
【００３１】
先端面７２の輪郭は、逆台形の斜辺７３および下辺７４と、逆台形の上辺７５の一端から他端まで延びる輪郭線７６とで規定される。逆台形ではトレーリング側の上辺７５に平行にリーディング側の下辺７４が延びる。上辺７５の長さは下辺７４の長さよりも大きく設定される。上辺７５の両端と下辺７４の両端とはそれぞれ斜辺７３、７３で接続される。２つの斜辺７３の長さは等しく設定される。
【００３２】
輪郭線７６は斜辺７３の延長線７８、７８よりも内側で逆台形の上辺７５よりもトレーリング側に膨らむ。輪郭線７６は多角線で構成される。膨らみの形成にあたって輪郭線７６の各頂角は上辺７５の中点を中心に描かれる半円の弧に沿って配置される。多角線の一辺は逆台形の上辺に平行に延びる。先端面７２の輪郭は中心線で左右対称に描かれる。
【００３３】
薄膜コイルパターン６７に電流が供給されると、薄膜コイルパターン６７には磁束が生成される。磁束は磁性コア内を流通する。図９に示されるように、主磁極６３から磁界は漏れ出る。漏れ出た磁界は磁性ドット２８に作用する。その結果、個々の磁性ドット２８で磁気ディスク１４の表面に直交する垂直方向に磁化は確立される。磁化の向きは電流の向きで決定される。
【００３４】
いま、磁気ディスク１４の半径方向中央位置で磁気ディスク１４の表面に書き込み素子５６が向き合わせられると、例えば図９（ａ）に示されるように、先端面７２の輪郭の中心線８１はダウントラック方向に平行に延びる。いわゆるヨー角は「０（ゼロ）」度に設定される。ここでは、磁界の広がり８２が磁性ドット２８に部分的でも重なると、磁性ドット２８の磁化は確立される。こうした重なりの間に薄膜コイルパターン６７に供給される電流の向きが切り替えられると、磁性ドット２８の磁化は反転する。したがって、磁界の広がり８２が磁性ドット２８に接する状態では磁性ドット２８の磁化が磁界の広がり８２の影響から脱却した範囲で先端面７２は磁性ドット２８に最大限に接近する。磁性ドット２８ａの磁化後に磁性ドット２８ａが磁界の広がり８２の影響から脱却した瞬間に特定される先端面７２の位置と、次の磁性ドット２８ｂの磁化後に磁性ドット２８ｂが磁界の広がり８２の影響から脱却した瞬間に特定される先端面７２の位置との間でいわゆるライトマージンＷＭは規定される。
【００３５】
いま、磁気ディスク１４の最外周トラックに書き込み素子５６が向き合わせられると、例えば図９（ｂ）に示されるように、先端面７２の輪郭の中心線８１はダウントラック方向から所定の角度αで傾斜する。いわゆるヨー角（＝α）が設定される。この場合でも、輪郭線７６は斜辺７３の延長線よりも内側で上辺７５よりもトレーシング側に膨らむことから、十分なライトマージンＷＭは確保される。先端面７２の輪郭線７６の働きでライトマージンＷＭの減少は効果的に回避されることができる。輪郭線７６の膨らみが増大すればするほど、ライトマージンＷＭは増大する。輪郭線７６は、少なくとも上辺７５の中点を中心に描かれる円弧に沿って延びることが望まれる。輪郭線７６はそういった円弧に内接すればよい。こういった構成によれば、ヨー角の増大に拘わらずライトマージンＷＭは一定に維持されることができる。その一方で、例えば図１０に示されるように、主磁極の先端面１０１が単純な逆台形に形成されると、磁界の広がり１０２は対応の形状に規定される。ヨー角が増大するにつれて、上辺および斜辺の隅に応じてライトマージンＷＭは著しく減少してしまう。
【００３６】
次に主磁極６３の製造方法を簡単に説明する。まず、図１１に示されるように、主磁極層８３は削り出される。削り出しにあたって例えば非磁性の平坦面８４上で磁性材料のべた膜が形成される。べた膜の表面にはレジスト膜が形成される。レジスト膜は主磁極６３の輪郭を象る。レジスト膜の周囲で磁性材料が除去されると、主磁極層８３は形成される。磁性材料の除去にあたって例えばエッチング処理が施されればよい。磁極先端片７１用の素材片８５では、既知のとおり、イオンの照射角度に応じて逆台形の断面形状が確立される。
【００３７】
その後、図１２（ａ）に示されるように、磁極先端片７１用の素材片８５上にはレジスト膜８６が形成される。レジスト膜８６は、素材片８５の全長にわたって中心線に沿って延びる。中心線は断面形状の上辺８７の中点８８の集合体で構成される。素材片８５の全長にわたって上辺８７の両端の集合体で構成される稜線８９とレジスト膜８６との間で素材片８５の表面は露出する。所定の傾斜角でイオン９１が照射されると、図１２（ｂ）に示されるように、素材片８５の全長にわたって面取りが実現される。この面取りで断面形状には前述の逆台形（上辺７５、下辺７４および斜辺７３）と台形との結合体が規定される。逆台形の上辺７５と台形の下辺とは共有される。台形では上辺９２は下辺７５に平行に延びる。上辺９２の長さは下辺７５の長さよりも小さい。その結果、素材片８５には第１稜線９３および第２稜線９４が確立される。第１稜線９３は台形の上辺９２の両端の集合体で構成される。第２稜線９４は台形の下辺７５の両端の集合体で構成される。
【００３８】
その後、図１２（ｃ）に示されるように、さらにレジスト膜９５が形成される。レジスト膜９５は素材片８５の全長にわたって第１稜線９３を露出する。イオン９６が照射されると、図１２（ｄ）に示されるように、第１稜線９３は削り取られる。面取りが施される。こうして前述の先端面７２は確立される。主磁極６３は形成される。なお、こうした磁極先端片７１の形成にあたって素材片８５以外で主磁極層８３はレジスト膜に覆われ続ければよい。
【００３９】
先端面７２の形状は前述の形状に限定されるものではない。例えば図１３（ａ）に示されるように、輪郭線７６は、逆台形の上辺７５の中点７５ａを中心に描かれる半円の弧であってもよい。その他、例えば図１３（ｂ）に示されるように、輪郭線７６は、台形の上辺９７および斜辺９８であってもよい。このとき、台形では上辺９７は下辺７５に平行に延びる。台形の下辺７５は逆台形の上辺７５に一致する。その他、例えば図１３（ｃ）に示されるように、輪郭線７６は、逆台形の上辺７５の両端から垂直に立ち上がる１辺９９を含む多角線で構成されてもよい。
【符号の説明】
【００４０】
１１  磁気記憶装置（ハードディスク駆動装置）、１２  ハウジング、１４  磁気記憶媒体（磁気ディスク）、２５  記録トラック、２８  磁性ドット、４４  浮上面、５６  磁気記録ヘッド（書き込み素子）、７２  露出面（先端面）、７５  上辺、７４  下辺、７３  斜辺、７６  輪郭線。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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