(57)【要約】【課題】ねじ軸長さの変更及びねじ軸の取り外しを行うことなく、輸送性を向上させることができるペースト塗布装置を提供する。【解決手段】移動機構６ａは、第１支持台１１Ａ及び第２支持台１１Ｂを移動可能に支持し塗布範囲Ｈ１と退避範囲Ｈ２とに分けて分割可能な支持ステージ１３と、支持ステージ１３上に設けられた第１ねじ軸５１ｂ及び一対の第１軸受け部材５１ｃと、第２支持台１１Ｂ側の第１軸受け部材５１ｃに取り付けられた第１モータ５１ｄと、第１支持台１１Ａの第１モータ５１ｄ側の端部に設けられた第１ナット体５１ａと、支持ステージ１３上に設けられた第２ねじ軸５２ｂ及び一対の第２軸受け部材５２ｃと、第１支持台１１Ａ側の第２軸受け部材５２ｃに取り付けられた第２モータ５２ｄと、第２支持台１１Ｂの第２モータ５２ｄ側の端部に設けられた第２ナット体５２ａとを具備している。【選択図】図４
2010075877.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
塗布対象物が載置される載置台と、
前記載置台上の前記塗布対象物にペーストを塗布する第１塗布ヘッドと、
前記載置台上の前記塗布対象物にペーストを塗布する第２塗布ヘッドと、
前記第１塗布ヘッドを支持する第１支持部材と、
前記第２塗布ヘッドを支持する第２支持部材と、
前記載置台を両側から挟むように設けられ、前記第１支持部材の両端部及び前記第２支持部材の両端部を支持し、前記第１塗布ヘッドが前記載置台上の前記塗布対象物に前記ペーストを塗布する塗布範囲及び前記塗布範囲以外の退避範囲にわたって前記第１支持部材及び前記第２支持部材を移動させる機構であって、前記塗布範囲と前記退避範囲とに分けて分割可能に形成された一対の移動機構と、
前記一対の移動機構の分割位置に対応させて分割可能に形成され、前記載置台及び前記一対の移動機構を支持する架台と、
を備え、
前記一対の移動機構は、それぞれ、
前記第１支持部材の端部が載置される第１支持台と、
前記第１支持台に並べて設けられ、前記第２支持部材の端部が載置される第２支持台と、
前記第１支持台及び前記第２支持台を並ぶ方向に移動可能に支持するステージであって、前記塗布範囲及び前記退避範囲に対応させて分割可能に形成され、前記塗布範囲に対応する基準ステージを有する支持ステージと、
前記基準ステージ上に設けられ、前記第１支持台を前記塗布範囲及び前記退避範囲にわたって移動させるための第１ねじ軸と、
前記基準ステージ上に設けられ、前記第１ねじ軸の両端を回転可能に支持する一対の第１軸受け部材と、
前記一対の第１軸受け部材の一方である前記第２支持台側の前記第１軸受け部材に取り付けられ、前記第１ねじ軸を回転させる第１モータと、
前記第１支持台の前記第１モータ側の端部に設けられ、前記第１ねじ軸に組み合わされる第１ナット体と、
前記基準ステージ上に前記第１ねじ軸に沿うように設けられ、前記第２支持台を前記塗布範囲及び前記退避範囲にわたって移動させるための第２ねじ軸と、
前記基準ステージ上に設けられ、前記第２ねじ軸の両端を回転可能に支持する一対の第２軸受け部材と、
前記一対の第２軸受け部材の一方である前記第１支持台側の前記第２軸受け部材に取り付けられ、前記第２ねじ軸を回転させる第２モータと、
前記第２支持台の前記第２モータ側の端部に設けられ、前記第２ねじ軸に組み合わされる第２ナット体と、
を具備していることを特徴とするペースト塗布装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、塗布対象物にペーストを塗布するペースト塗布装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
ペースト塗布装置は、液晶表示パネルなどの様々な装置を製造するために用いられている。このペースト塗布装置は、塗布対象物に対してペーストを塗布する塗布ヘッドを備えており、その塗布ヘッドを移動させながら塗布対象物にペーストを塗布し、塗布対象物上に所定のペーストパターンを形成する（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
特に、液晶表示パネルの製造では、２枚の基板を貼り合わせるため、ペースト塗布装置は、塗布対象物である基板に対して液晶表示パネルの表示領域を囲むように、シール剤などのシール性及び接着性を有するペーストを塗布する。このようなペースト塗布装置は、液晶表示パネルの大型化に伴って大きくなってしまう。
【特許文献１】特開平９−３２３０５６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、ペースト塗布装置が大きくなると、トラックなどの車両によりそのペースト塗布装置を搬送することが困難になり、ペースト塗布装置の輸送性が低下してしまう。特に、車両に応じて運搬可能な大きさが決まるため、その大きさよりペースト塗布装置の大きさを小さくする必要がある。
【０００５】
このため、ペースト塗布装置を分割する場合があるが、塗布ヘッドを支持するコラムを移動させるコラム移動機構には、ボールネジ（ねじ軸）が高精度に組み込まれている。このボールネジを分割することは精度低下などの要因となるため避けられ、搬送時にボールネジが取り外されることがある。
【０００６】
ところが、ボールネジを取り外した場合には、ペースト塗布装置の設置場所での高精度な再組立作業は困難な作業となるため、搬送時にボールネジを取り外すことも避けられる。このため、コラム移動機構の分割サイズはボールネジの長さによって限定されることになる。また、そのボールネジの長さはコラムの必要な移動範囲（使用ストローク）により決定されるため、輸送性向上のために安易に短くすることはできない。
【０００７】
本発明は、上記に鑑みてなされたものであり、その目的は、ねじ軸長さの変更及びねじ軸の取り外しを行うことなく、輸送性を向上させることができるペースト塗布装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の実施の形態に係る特徴は、ペースト塗布装置において、塗布対象物が載置される載置台と、載置台上の塗布対象物にペーストを塗布する第１塗布ヘッドと、載置台上の塗布対象物にペーストを塗布する第２塗布ヘッドと、第１塗布ヘッドを支持する第１支持部材と、第２塗布ヘッドを支持する第２支持部材と、載置台を両側から挟むように設けられ、第１支持部材の両端部及び第２支持部材の両端部を支持し、第１塗布ヘッドが載置台上の塗布対象物にペーストを塗布する塗布範囲及び塗布範囲以外の退避範囲にわたって第１支持部材及び第２支持部材を移動させる機構であって、塗布範囲と退避範囲とに分けて分割可能に形成された一対の移動機構と、一対の移動機構の分割位置に対応させて分割可能に形成され、載置台及び一対の移動機構を支持する架台とを備え、一対の移動機構は、それぞれ、第１支持部材の端部が載置される第１支持台と、第１支持台に並べて設けられ、第２支持部材の端部が載置される第２支持台と、第１支持台及び第２支持台を並ぶ方向に移動可能に支持するステージであって、塗布範囲及び退避範囲に対応させて分割可能に形成され、塗布範囲に対応する基準ステージを有する支持ステージと、基準ステージ上に設けられ、第１支持台を塗布範囲及び退避範囲にわたって移動させるための第１ねじ軸と、基準ステージ上に設けられ、第１ねじ軸の両端を回転可能に支持する一対の第１軸受け部材と、一対の第１軸受け部材の一方である第２支持台側の第１軸受け部材に取り付けられ、第１ねじ軸を回転させる第１モータと、第１支持台の第１モータ側の端部に設けられ、第１ねじ軸に組み合わされる第１ナット体と、基準ステージ上に第１ねじ軸に沿うように設けられ、第２支持台を塗布範囲及び退避範囲にわたって移動させるための第２ねじ軸と、基準ステージ上に設けられ、第２ねじ軸の両端を回転可能に支持する一対の第２軸受け部材と、一対の第２軸受け部材の一方である第１支持台側の第２軸受け部材に取り付けられ、第２ねじ軸を回転させる第２モータと、第２支持台の第２モータ側の端部に設けられ、第２ねじ軸に組み合わされる第２ナット体とを具備していることである。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、ねじ軸長さの変更及びねじ軸の取り外しを行うことなく、輸送性を向上させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
本発明の実施の一形態について図面を参照して説明する。
【００１１】
図１ないし図３に示すように、本発明の実施の形態に係るペースト塗布装置１は、塗布対象物としての基板Ｋ１が水平状態（基板Ｋ１のペーストが塗布される面が図１及び図２に示すＸ軸方向とそれに直交するＹ軸方向に沿う状態）で載置される基板ステージ２と、捨て塗布用の基板Ｋ２がそれぞれ水平載置される第１捨て塗布ステージ３Ａ及び第２捨て塗布ステージ３Ｂと、基板ステージ２上の基板Ｋ１にシール剤などのシール性及び接着性を有するペーストをそれぞれ塗布する複数の塗布ヘッド４と、各塗布ヘッド４をそれぞれ支持する第１支持部材５Ａ及び第２支持部材５Ｂと、塗布ヘッド４が基板ステージ２上の基板Ｋ１にペーストを塗布する塗布範囲Ｈ１及びその塗布範囲以外の退避範囲Ｈ２にわたって第１支持部材５Ａ及び第２支持部材５ＢをＹ軸方向に沿って移動させる支持部材移動機構６と、基板ステージ２、第１捨て塗布ステージ３Ａ、第２捨て塗布ステージ３Ｂ及び支持部材移動機構６を支持する架台７とを備えている。
【００１２】
基板ステージ２は、架台７の上面に固定されて設けられた載置台である。この基板ステージ２は、基板Ｋ１を吸着する吸着機構（図示せず）を備えており、その吸着機構により上面の載置面に基板Ｋ１を固定して保持する。なお、吸着機構としては、例えばエアー吸着機構などを用いる。このような基板ステージ２の載置面には、ガラス基板などの製品用の基板Ｋ１が載置される。
【００１３】
第１捨て塗布ステージ３Ａ及び第２捨て塗布ステージ３Ｂは、基板ステージ２を挟むように架台７の上面にそれぞれ設けられている。これらの第１捨て塗布ステージ３Ａ及び第２捨て塗布ステージ３Ｂは、捨て塗布用の基板Ｋ２を吸着する吸着機構（図示せず）をそれぞれ備えており、各吸着機構により上面の載置面に基板Ｋ２を固定して保持する。なお、吸着機構としては、例えばエアー吸着機構などを用いる。このような第１捨て塗布ステージ３Ａ及び第２捨て塗布ステージ３Ｂの各々の載置面には、ガラス基板などの捨て塗布用の基板Ｋ２がそれぞれ載置される。
【００１４】
ここで、捨て塗布は、各塗布ヘッド４による塗布が設定時間以上停止していた場合など、各塗布ヘッド４の塗布精度の低下や吐出不良の発生を防止するため、第１捨て塗布ステージ３Ａ及び第２捨て塗布ステージ３Ｂ上の基板Ｋ２に対してペーストを塗布する動作である。
【００１５】
各塗布ヘッド４は、ペーストを収容するシリンジなどの収容筒４ａと、その収容筒４ａに連通してペーストを吐出するノズル４ｂ（図２参照）とをそれぞれ有している。これらの塗布ヘッド４は、気体供給チューブなどを介して気体供給部に接続されている。この各塗布ヘッド４は、収容筒４ａ内に供給される気体により、収容筒４ａ内のペーストをノズル４ｂから吐出する。このような各塗布ヘッド４は、第１支持部材５Ａ及び第２支持部材５Ｂにヘッド移動機構８によりＸ軸方向に移動可能にそれぞれ設けられている。なお、ペーストとしては、シール性及び接着性を有するペーストを用いているが、これに限るものではなく、例えば、シール性及び接着性のどちらか一方を有するペーストや他の特性を有するペーストなどを用いるようにしてもよい。
【００１６】
ヘッド移動機構８は、第１支持部材５Ａ及び第２支持部材５Ｂにそれぞれ設けられている。このヘッド移動機構８は、各塗布ヘッド４をそれぞれ保持する複数の保持部８ａと、それらの保持部８ａをそれぞれ支持して水平面に直交するＺ軸方向に移動させる複数のＺ軸移動機構８ｂと、それらのＺ軸移動機構８ｂを支持してＸ軸方向に移動させるＸ軸移動機構８ｃとを備えている。
【００１７】
保持部８ａは、着脱可能に塗布ヘッド４の収容筒４ａを保持する部材である。また、Ｚ軸移動機構８ｂは、保持部８ａをＺ軸方向、すなわち基板ステージ２に対して接離させる接離方向に移動させる移動機構である。このＺ軸移動機構８ｂとしては、例えば送りねじ機構を用いる。Ｘ軸移動機構８ｃは、各塗布ヘッド４をＸ軸方向、すなわち第１支持部材５Ａ及び第２支持部材５Ｂの移動方向に水平面内で直交する方向に移動させる移動機構である。このＸ軸移動機構８ｃとしては、例えばリニアモータ機構や送りねじ機構を用いる。
【００１８】
第１支持部材５Ａ及び第２支持部材５Ｂは、各塗布ヘッド４をそれぞれ２個ずつ支持するコラムである。これらの第１支持部材５Ａ及び第２支持部材５Ｂは、その移動方向に交差する方向、例えば直交する方向に延伸させて形成されている。さらに、第１支持部材５Ａ及び第２支持部材５Ｂは、例えば直方体形状にそれぞれ形成されており、基板ステージ２の載置面に対して平行に設けられている。このような第１支持部材５Ａ及び第２支持部材５Ｂは、支持部材移動機構６により塗布範囲Ｈ１及び退避範囲Ｈ２にわたって移動し、塗布範囲Ｈ１内で基板ステージ２の載置面に対向する位置に各塗布ヘッド４を位置付け、さらに、退避範囲Ｈ２内で捨て塗布ステージ３Ａ、３Ｂの載置面に対向する位置に各塗布ヘッド４を位置付ける。
【００１９】
ここで、塗布範囲Ｈ１は、各塗布ヘッド４が基板ステージ２上の基板Ｋ１にペーストを塗布する場合の移動範囲、すなわち製品用の基板Ｋ１に対する塗布を行う移動範囲である。また、退避範囲Ｈ２は、塗布範囲Ｈ１以外の範囲であり、特に、各塗布ヘッド４が第１捨て塗布ステージ３Ａ及び第２捨て塗布ステージ３Ｂ上の基板Ｋ２にペーストを塗布する場合の移動範囲、すなわち捨て塗布用の基板Ｋ２に対する塗布を行う退避範囲であり、さらに、基板ステージ２上の基板Ｋ１を交換する場合の退避範囲である。
【００２０】
支持部材移動機構６は、架台７の上面に設けられており、塗布範囲Ｈ１及び退避範囲Ｈ２にわたって第１支持部材５Ａ及び第２支持部材５Ｂを移動可能に支持している。この支持部材移動機構６は、塗布範囲Ｈ１及び退避範囲Ｈ２に区分して分割可能に形成されている。このような支持部材移動機構６は、第１支持部材５Ａの延伸方向の両端部及び第２支持部材５Ｂの延伸方向の両端部を支持してＹ軸方向に移動させる一対のＹ軸移動機構６ａ、６ｂにより構成されている。
【００２１】
一対のＹ軸移動機構６ａ、６ｂは、基板ステージ２さらに第１捨て塗布ステージ３Ａ及び第２捨て塗布ステージ３Ｂを挟むように、Ｙ軸方向に沿うように架台７の上面にそれぞれ設けられている。これらのＹ軸移動機構６ａ、６ｂには、第１支持部材５Ａ及び第２支持部材５Ｂが架け渡されて設けられている。
【００２２】
各Ｙ軸移動機構６ａ、６ｂはそれぞれ、図４に示すように、第１支持部材５Ａの延伸方向の端部を支持する第１支持台１１Ａと、第２支持部材５Ｂの延伸方向の端部を支持する第２支持台１１Ｂと、第１支持台１１Ａ及び第２支持台１１Ｂにそれぞれ設けられた複数のスライダ１２（図３参照）と、Ｙ軸方向に伸びる溝部Ｍを有して第１支持台１１Ａ及び第２支持台１１Ｂを移動可能に支持する支持ステージ１３と、その支持ステージ１３の上面に設けられ第１支持台１１Ａ及び第２支持台１１ＢをＹ軸方向に案内する一対のガイドレール１４と、溝部Ｍ内に設けられ第１支持台１１ＡをＹ軸方向に移動させる第１支持台移動機構５１と、溝部Ｍ内に設けられ第２支持台１１ＢをＹ軸方向に移動させる第２支持台移動機構５２とを具備している。
【００２３】
第１支持台１１Ａ及び第２支持台１１Ｂは、それぞれ平板状に形成されており、支持ステージ１３に並べて移動可能に水平にして設けられている。各スライダ１２（図３参照）は、それぞれ対応するガイドレール１４にスライド移動可能に取り付けられている。一対のガイドレール１４は、支持ステージ１３の溝部Ｍを避けて支持ステージ１３の上面にそれぞれ設けられている。これらのガイドレール１４は、それぞれ平行にして支持ステージ１３の上面に配置され、ネジなどにより固定されている。第１支持台移動機構５１及び第２支持台移動機構５２は、例えば、ステッピングモータなどの回転式のモータを駆動源とするボールねじ機構である。
【００２４】
第１支持台移動機構５１は、第１支持台１１Ａに取り付けられた第１ナット体５１ａと、その第１ナット体５１ａが組み合わされてＹ軸方向に沿って設けられた第１ねじ軸５１ｂと、その第１ねじ軸５１ｂの両端を回転可能に支持する一対の第１軸受け部材５１ｃと、第１ねじ軸５１ｂを回転させる駆動源である第１モータ５１ｄとを備えている。
【００２５】
第１ねじ軸５１ｂはＹ軸方向に平行に支持ステージ１３上に設けられており、一対の第１軸受け部材５１ｃも第１ねじ軸５１ｂの両端を支持可能に支持ステージ１３上に設けられている。第１ねじ軸５１ｂの長さは、第１支持台１１Ａが塗布範囲Ｈ１及び退避範囲Ｈ２（必要な移動範囲）にわたって移動可能な長さである。また、第１モータ５１ｄは、一対の第１軸受け部材５１ｃの一方である第２支持台１１Ｂ側（図４中の右側）の第１軸受け部材５１ｃに着脱可能に取り付けられている。第１ナット体５１ａは第１支持台１１Ａの裏面であって第１モータ５１ｄ側の端部に設けられている。
【００２６】
第２支持台移動機構５２は、第２支持台１１Ｂに取り付けられた第２ナット体５２ａと、その第２ナット体５２ａが組み合わされてＹ軸方向に沿って設けられた第２ねじ軸５２ｂと、その第２ねじ軸５２ｂの両端を回転可能に支持する一対の第２軸受け部材５２ｃと、第２ねじ軸５２ｂを回転させる駆動源である第２モータ５２ｄとを備えている。
【００２７】
第２ねじ軸５２ｂは、第１ねじ軸５１ｂに沿ってＹ軸方向に平行に設けられており、一対の第２軸受け部材５２ｃも第２ねじ軸５２ｂの両端を支持可能に支持ステージ１３上に設けられている。第２ねじ軸５２ｂの長さは、第２支持台１１Ｂが塗布範囲Ｈ１及び退避範囲Ｈ２（必要な移動範囲）にわたって移動可能な長さである。第２モータ５２ｄは、一対の第２軸受け部材５２ｃの一方である第１支持台１１Ａ側（図４中の左側）の第２軸受け部材５２ｃに着脱可能に取り付けられている。これにより、第２モータ５２ｄは、第１モータ５１ｄに対して第１支持台１１Ａ及び第２支持台１１Ｂを介して反対側に位置することになる。第２ナット体５２ａは、第２支持台１１Ｂの裏面であって第２モータ５２ｄ側の端部に設けられている。
【００２８】
ここで、第１支持台１１Ａは第２支持台１１Ｂと第２モータ５２ｄとの間に設けられており、第２支持台１１Ｂは第１支持台１１Ａと第１モータ５１ｄとの間に設けられている。これにより、第１モータ５１ｄは第２支持台１１Ｂを間にして第１支持台１１Ａを移動させ、第２モータ５２ｄは第１支持台１１Ａを間にして第２支持台１１Ｂを移動させることになる。
【００２９】
このような第１支持台１１Ａ及び第２支持台１１Ｂは、図５に示すように、支持ステージ１３の端部まで移動し、塗布範囲Ｈ１及び退避範囲Ｈ２（必要な移動範囲）にわたって移動することが可能である。なお、図５では、第１支持台１１Ａはその第１ナット体５１ａが第１軸受け部材５１ｃに当接して停止している状態であり、第２支持台１１Ｂはその第２ナット体５２ａが第２軸受け部材５２ｃに当接して停止している状態である。
【００３０】
ここで、例えば、図６に示すように、図５と逆に、第１支持台移動機構５１が第２支持台１１Ｂを移動させ、第２支持台移動機構５２が第１支持台１１Ａを移動させるような構造を採用した場合には、第１支持台１１Ａ及び第２支持台１１Ｂは支持ステージ１３の端部まで移動することが不可能となり、塗布範囲Ｈ１及び退避範囲Ｈ２（必要な移動範囲）にわたって移動することができなくなる。なお、図６では、第１支持台１１Ａはその第２ナット体５２ａが第２軸受け部材５２ｃに当接して停止している状態であり、第２支持台１１Ｂはその第１ナット体５１ａが第１軸受け部材５１ｃに当接して停止している状態である。
【００３１】
このように端部までの移動が不可となる場合には、図７に示すように、第１支持台移動機構５１及び第２支持台移動機構５２をそれぞれ逆方向にＹ軸方向に沿って、第１支持台１１Ａ及び第２支持台１１Ｂが支持ステージ１３の端部まで移動可能となる距離だけ装置外側に向かって位置をずらして配置する必要がある。この場合には、その分だけ第１支持台移動機構５１が図６中の右側に移動し、第２支持台移動機構５２が図６中の左側に移動し、図７に示すような配置となるため、搬送サイズが図７中のＨｂのように図５及び図６中のＨａよりも大きくなってしまう。なお、搬送サイズは第１ねじ軸５１ｂ及び第２ねじ軸５２ｂの切断を避ける必要があるため、第１ねじ軸５１ｂ及び第２ねじ軸５２ｂの長さに依存することになる。
【００３２】
一方、図４に示すように、第１モータ５１ｄが第２支持台１１Ｂを間にして第１支持台１１Ａを移動させ、第２モータ５２ｄが第１支持台１１Ａを間にして第２支持台１１Ｂを移動させる構造を採用することによって、図７に示すような構造を採用しなくても、第１支持台１１Ａ及び第２支持台１１Ｂは塗布範囲Ｈ１及び退避範囲Ｈ２にわたって移動することが可能である。さらに、図７に示すように第１支持台移動機構５１及び第２支持台移動機構５２の位置をずらして配置する必要がないため、図７に示すような構造を採用した場合に比べ、搬送サイズを小さくすることができる（図５中のＨａ＜図７中のＨｂ）。
【００３３】
前述のＹ軸移動機構６ａ、６ｂは、図８及び図９に示すように、塗布範囲Ｈ１及び退避範囲Ｈ２に分けて分割可能にそれぞれ形成されている。例えば、各Ｙ軸移動機構６ａ、６ｂは三分割可能に、架台７の上面に固定された本体部Ｐ１と、その本体部Ｐ１に連結可能に形成され架台７の上面に着脱可能に設けられる二つの分割部Ｐ２、Ｐ３としてそれぞれ形成されている（図８及び図９参照）。特に、各Ｙ軸移動機構６ａ、６ｂは、一対のガイドレール１４の各々の分割位置Ｇ１、Ｇ２を同一直線上からずらして分割可能に形成されている。
【００３４】
ここで、本体部Ｐ１の支持ステージ１３は基準ステージ１３ａとなり、分割部Ｐ２の支持ステージ１３は分割ステージ１３ｂとなり、分割部Ｐ３の支持ステージ１３は分割ステージ１３ｃとなる。この基準ステージ１３ａと各分割ステージ１３ｂ、１３ｃとは、その分割部分を階段状にして連結可能に形成されている。
【００３５】
基準ステージ１３ａは、支持ステージ１３の一部であって塗布範囲Ｈ１に対応する分割範囲のステージである。この基準ステージ１３ａ上には、第１支持台移動機構５１及び第２支持台移動機構５２が固定されて設けられている。このような基準ステージ１３ａは、架台７の上面にボルトなどの締結手段を用いて固定されている。また、基準ステージ１３ａは、分割ステージ１３ｂ、１３ｃを取り付ける場合の基準となる第１基準面Ｍ１及び第２基準面Ｍ２を有している。第１基準面Ｍ１は基準ステージ１３ａに水平方向に沿って設けられた平面であり、第２基準面Ｍ２は第１基準面Ｍ１に直交する平面である。さらに、基準ステージ１３ａは、位置決め用の位置決めピン２１がそれぞれ挿入される複数の位置決め穴２２を有している。位置決めピン２１は、基準ステージ１３ａに対する分割ステージ１３ｂ、１３ｃの位置決めを行うためのピンである。
【００３６】
各分割ステージ１３ｂ、１３ｃは、基準ステージ１３ａに連結可能に形成され、架台７に対して着脱可能に設けられている。これらの分割ステージ１３ｂ、１３ｃは、第１基準面Ｍ１に当接する第１当接面Ｔ１及び第２基準面Ｍ２に当接する第２当接面Ｔ２をそれぞれ有している。また、各分割ステージ１３ｂ、１３ｃは、位置決めピン２１が各々貫通する複数の貫通孔２３をそれぞれ有している。各位置決めピン２１が、それぞれ対応する貫通孔２３を通過して基準ステージ１３ａの各位置決め穴２２に挿入され、基準ステージ１３ａに対する各分割ステージ１３ｂ、１３ｃの位置決めが行われる。
【００３７】
ここで、各分割ステージ１３ｂ、１３ｃの第１当接面Ｔ１が基準ステージ１３ａの第１基準面Ｍ１に当接することで、各分割ステージ１３ｂ、１３ｃの高さ方向の位置決めが行われ、各分割ステージ１３ｂ、１３ｃの第２当接面Ｔ２が基準ステージ１３ａの第２基準面Ｍ２に当接することで、Ｙ軸方向、すなわちガイドレール１４が延びる方向の位置決めが行われ、各位置決めピン２１が、それぞれ対応する貫通孔２３を通過して基準ステージ１３ａの各位置決め穴２２に挿入されることで、各分割ステージ１３ｂ、１３ｃの幅方向（Ｘ軸方向）の位置決めが行われる。これにより、基準ステージ１３ａに対する各分割ステージ１３ｂ、１３ｃの組立調整が容易になり、さらに、組立精度の再現性が向上する。
【００３８】
この各分割ステージ１３ｂ、１３ｃは、基準ステージ１３ａに連結した状態において、その下面と架台７の上面との間に隙間が生じるように形成されている。各分割ステージ１３ｂ、１３ｃの下面には、各分割ステージ１３ｂ、１３ｃを支持する複数の支持ピン２４がそれぞれ設けられている。例えば、支持ピン２４は各分割ステージ１３ｂ、１３ｃに２本ずつ設けられている。これらの支持ピン２４は、その高さ調整が可能に形成されており、架台７の上面に当接して各分割ステージ１３ｂ、１３ｃを支持する。支持ピン２４は、その外周にねじ山が形成されたピンであり、各分割ステージ１３ｂ、１３ｃにそれぞれ形成された複数のねじ穴２５に挿入されている。各支持ピン２４は、ロックナット２６を備え、高さ調整が完了すると固定される。
【００３９】
このように、支持ピン２４により分割ステージ１３ｂ、１３ｃを架台７の上面に支持するようにしたので、重量物である支持部材５Ａ、５Ｂが分割ステージ１３ｂ、１３ｃ上に移動したときに、分割ステージ１３ｂ、１３ｃに撓みが生じることが防止される。そのため、ガイドレール１４における分割位置Ｇ１、Ｇ２に隙間が生じることを防止することが可能になるので、支持部材５Ａ、５Ｂがガイドレール１４の分割位置Ｇ１、Ｇ２を通過するときに生じる衝撃が緩和され、通過時の衝撃によるスライダ１２の損傷を防ぐことができる。したがって、支持部材５Ａ、５Ｂの良好な移動状態を維持することが可能であり、安定したペーストの塗布動作を行うことができる。
【００４０】
架台７は、床面上に設置され、基板ステージ２、第１捨て塗布ステージ３Ａ、第２捨て塗布ステージ３Ｂ及び支持部材移動機構６を床面に対して所定の高さ位置に支持する架台である。この架台７は、支持部材移動機構６、すなわち一対のＹ軸移動機構６ａの分割位置に対応させて分割可能に形成されている。例えば、一対のＹ軸移動機構６ａは三分割可能にそれぞれ形成されているので、これに対応させて、架台７も、三分割可能に本体架台７ａと二つの分割架台７ｂ、７ｃとして形成されている（図９参照）。この分割位置は、一対のＹ軸移動機構６ａの分割位置、すなわち本体部Ｐ１と二つの分割部Ｐ２、Ｐ３との境界位置である。なお、分割架台７ｂ、７ｃは、本体架台７ａに対して、ボルトなどの締結手段を用いて連結されて一体化される。
【００４１】
このような架台７（分割架台７ｂ、７ｃ）の上面と分割ステージ１３ｂ、１３ｃの下面との間の隙間の大きさに合わせて、支持ピン２４の高さを調整するようにしたので、本体架台７ａに組み付けた分割架台７ｂ、７ｃの上面の高さが、搬送の前後、すなわち分割の前後で異なっていたとしても、分割ステージ１３ｂ、１３ｃを分割架台７ｂ、７ｃで確実に支持し、分割ステージ１３ｂ、１３ｃの撓みを防止することができる。このため、本体架台７ａに対して分割架台７ｂ、７ｃを高い精度で組み付けなくても済み、重量物である架台７の搬送後の設置作業を容易に行うことができる。なお、支持ピン２４は、分割ステージ１３ｂ、１３ｃを支持する高さ調整自在の支持調整部材として機能する。
【００４２】
次に、前述のペースト塗布装置１が行う塗布動作（製品製造動作）及び捨て塗布動作（メンテナンス動作）について説明する。なお、捨て塗布動作は、各塗布ヘッド４による塗布が設定時間以上停止していた場合などに行われる。
【００４３】
塗布動作では、ペースト塗布装置１は、支持部材移動機構６としての一対のＹ軸移動機構６ａ、６ｂにより第１支持部材５Ａ及び第２支持部材５ＢをＹ軸方向に移動させ、各ヘッド移動機構８のＸ軸移動機構８ｃにより各塗布ヘッド４をＸ軸方向にそれぞれ移動させ、基板ステージ２上の基板Ｋ１の各塗布開始位置に各塗布ヘッド４をそれぞれ対向させる。次いで、ペースト塗布装置１は、塗布動作用の塗布条件（ギャップなど）に基づいて、各ヘッド移動機構８のＺ軸移動機構８ｂにより各塗布ヘッド４をＺ軸方向にそれぞれ移動させ、待機位置から塗布位置に各塗布ヘッド４を位置付ける。
【００４４】
ここで、待機位置及び塗布位置は、基板ステージ２上の基板Ｋ１に対して所定の距離だけ離反する離反位置である。待機位置は、各塗布ヘッド４が塗布を行わない場合の離反位置であり、各塗布ヘッド４のノズル４ｂの先端と基板Ｋ１の表面との間にはノズル４ｂが基板Ｋ１に接触しない充分な間隔が形成される。また、塗布位置は、各塗布ヘッド４が塗布を行う場合の離反位置であり、各塗布ヘッド４のノズル４ｂの先端と基板Ｋ１の表面との間には所定のギャップが形成される。なお、ギャップは、基板Ｋ１の表面にペーストを所定の塗布量で塗布する場合に必要なノズル４ｂの先端と基板Ｋ１の表面との離間距離である。
【００４５】
その後、ペースト塗布装置１は、塗布動作用の塗布条件（吐出圧力や移動速度など）に基づいて、各塗布ヘッド４のノズル４ｂからペーストを吐出させながら、一対のＹ軸移動機構６ａ、６ｂにより第１支持部材５Ａ及び第２支持部材５ＢをＹ軸方向に塗布範囲Ｈ１にわたって移動させ、各ヘッド移動機構８のＸ軸移動機構８ｃにより各塗布ヘッド４をＸ軸方向に移動させ、基板ステージ２上の基板Ｋ１にペーストを塗布し、所定のペーストパターンを形成する。ここで、各塗布ヘッド４が形成するペーストパターン（塗布パターン）は同一であり、例えば矩形枠状である。所定のペーストパターンの形成が完了すると、ペースト塗布装置１は、各ヘッド移動機構８のＺ軸移動機構８ｂにより各塗布ヘッド４をＺ軸方向にそれぞれ移動させ、塗布位置から元の待機位置に各塗布ヘッド４を位置付ける。
【００４６】
ここで、吐出圧力は、塗布ヘッド４内のペーストをノズル４ｂから吐出させるための気体圧力であり、移動速度は、ペーストを塗布する場合のノズル４ｂと基板Ｋ１との相対移動速度である。
【００４７】
最後に、ペースト塗布装置１は、一対のＹ軸移動機構６ａ、６ｂにより第１支持部材５Ａ及び第２支持部材５ＢをＹ軸方向に塗布範囲Ｈ１から退避範囲Ｈ２に移動させ、第１捨て塗布ステージ３Ａ上の基板Ｋ２に第１支持部材５Ａの各塗布ヘッド４を対向させ、加えて、第２捨て塗布ステージ３Ｂ上の基板Ｋ２に第２支持部材５Ｂの各塗布ヘッド４を対向させ、基板ステージ２上の基板Ｋ１の交換に待機する。基板Ｋ１の交換が完了すると、前述の塗布動作を繰り返す。
【００４８】
なお、塗布動作は、第１支持部材５Ａ、第２支持部材５Ｂ及び４つの塗布ヘッド４をそれぞれ塗布範囲Ｈ１で移動させて行うものに限らず、一方の支持部材、例えば、第２支持部材５Ｂを退避範囲Ｈ２に退避させておき、第１支持部材５Ａとそれに支持された塗布ヘッド４を塗布範囲Ｈ１で移動させて行うようにしてもよい。
【００４９】
一方、捨て塗布動作では、ペースト塗布装置１は、一対のＹ軸移動機構６ａ、６ｂにより、第１支持部材５Ａ及び第２支持部材５ＢをＹ軸方向に塗布範囲Ｈ１から退避範囲Ｈ２に移動させ、第１捨て塗布ステージ３Ａ上の基板Ｋ２に第１支持部材５Ａの各塗布ヘッド４を対向させ、第２捨て塗布ステージ３Ｂ上の基板Ｋ２に第２支持部材５Ｂの各塗布ヘッド４を対向させる。次いで、ペースト塗布装置１は、捨て塗布動作用の塗布条件（ギャップなど）に基づいて、各ヘッド移動機構８のＺ軸移動機構８ｂにより各塗布ヘッド４をＺ軸方向にそれぞれ移動させ、待機位置から塗布位置に各塗布ヘッド４を位置付ける。
【００５０】
その後、ペースト塗布装置１は、捨て塗布動作用の塗布条件（吐出圧力や移動速度など）に基づいて、各塗布ヘッド４のノズル４ｂからペーストを吐出させながら、各ヘッド移動機構８のＸ軸移動機構８ｃにより各塗布ヘッド４をＸ軸方向に移動させ、例えば、第１捨て塗布ステージ３Ａ及び第２捨て塗布ステージ３Ｂ上の基板Ｋ２に対してペーストを直線状に塗布する。この捨て塗布が完了すると、ペースト塗布装置１は、各ヘッド移動機構８のＺ軸移動機構８ｂにより各塗布ヘッド４をＺ軸方向にそれぞれ移動させ、塗布位置から元の待機位置に各塗布ヘッド４を位置付ける。この捨て塗布動作により、各塗布ヘッド４の塗布精度の低下や吐出不良の発生が防止される。
【００５１】
このようなペースト塗布装置１を搬送する場合には、図９に示すように、第１支持部材５Ａ及び第２支持部材５Ｂは塗布範囲Ｈ１内に位置付けられ、次いで、支持部材移動機構６としての一対のＹ軸移動機構６ａ、６ｂが本体部Ｐ１と二つの分割部Ｐ２、Ｐ３として三分割され、その後、架台７も、本体架台７ａと二つの分割架台７ｂ、７ｃとして三分割される。これにより、ペースト塗布装置１が小さく分割されるので、ペースト塗布装置１の輸送性を向上させることができる。さらに、一対のＹ軸移動機構６ａ、６ｂは塗布範囲Ｈ１内で分割されないので、ペースト塗布装置１を分割しても、塗布範囲Ｈ１内の組付け精度を維持することが可能になる。これにより、一対のＹ軸移動機構６ａ、６ｂの塗布範囲Ｈ１内の組付け精度を維持しながら、ペースト塗布装置１の輸送性を向上させることができる。
【００５２】
特に、分割工程では、図８及び図９に示すように、支持ステージ１３が基準ステージ１３ａ及び各分割ステージ１３ｂ、１３ｃに分割される。このとき、第１支持台移動機構５１及び第２支持台移動機構５２は基準ステージ１３ａ上に収容されており、基準ステージ１３ａから水平方向に著しく突出することはない。なお、この分割工程においては、必要に応じて第１モータ５１ｄ及び第２モータ５２ｄを取り外し、その後、設置場所で取り付けるようにしてもよい。一方、図７に示すような構造を採用した場合には、第１支持台移動機構５１及び第２支持台移動機構５２が基準ステージ１３ａから水平方向に著しく突出するため、搬送サイズが大きくなり、輸送性が低下してしまう。
【００５３】
したがって、図５に示すような構造を採用することによって、第１支持台移動機構５１及び第２支持台移動機構５２が基準ステージ１３ａから水平方向に突出することがなくなり、輸送サイズを小さくすることが可能になり、さらに、第１支持台移動機構５１及び第２支持台移動機構５２を分解せずに搬送することが可能になるので、塗布範囲Ｈ１内の組付け精度が維持されつつ、ペースト塗布装置１の輸送性が向上する。特に、各ねじ軸５１ｂ、５２ｂを取り外すことなく輸送することが可能になるので、塗布範囲Ｈ１内の組付け精度は確実に維持される。
【００５４】
ここで、搬送前、すなわちペースト塗布装置１の製品出荷前、ペースト塗布装置１の各部、特に、各Ｙ軸移動機構６ａ、６ｂは組付け精度が高く組み込まれている。このため、ペースト塗布装置１の各部を分割して搬送した場合には、搬送後、設置場所で再び組付け精度が高くなるようにペースト塗布装置１の各部を組み込む必要が生じるが、各Ｙ軸移動機構６ａ、６ｂを塗布範囲Ｈ１内で分割した場合には、その組付け精度を搬送前まで戻すことは困難である。特に、各Ｙ軸移動機構６ａ、６ｂのように塗布動作に関する部品の組付け精度は高い必要があり、組付け精度の低下は良好な塗布を困難にする要因となる。また、第１支持部材５Ａ及び第２支持部材５Ｂの各々の重量は数トンあるため、各Ｙ軸移動機構６ａ、６ｂから第１支持部材５Ａ及び第２支持部材５Ｂを取り外すことも困難である。
【００５５】
以上説明したように、本発明の実施の形態によれば、塗布範囲Ｈ１及び退避範囲Ｈ２に分けて支持部材移動機構６としての一対のＹ軸移動機構６ａ、６ｂを分割可能に形成し、一対のＹ軸移動機構６ａ、６ｂの分割位置に対応させて架台７を分割可能に形成することによって、ペースト塗布装置１を搬送する場合、ペースト塗布装置１が小さく分割されるので、ペースト塗布装置１の輸送性を向上させることができ、さらに、搬送後の設置作業も容易に行うことができる。
【００５６】
特に、一対のＹ軸移動機構６ａ、６ｂは塗布範囲Ｈ１及び退避範囲Ｈ２に分けて分割されるので、塗布範囲Ｈ１内の組付け精度を維持しながら、ペースト塗布装置１の輸送性を向上させることができ、さらに、塗布範囲Ｈ１内の組付け精度を維持することが可能になるので、搬送後の設置場所で、搬送前の塗布精度を容易に再現することができる。その結果、搬送後の設置場所においても、搬送前と同様に基板Ｋ１に対してペーストを均一な塗布量で良好に塗布することが可能になるので、液晶漏れやギャップムラが防止された品質の良い液晶表示パネルを製造することができる。
【００５７】
また、第１モータ５１ｄが第２支持台１１Ｂを間にして第１支持台１１Ａを移動させ、第２モータ５２ｄが第１支持台１１Ａを間にして第２支持台１１Ｂを移動させる構造を採用することによって、図７に示すように第１支持台移動機構５１及び第２支持台移動機構５２の位置をずらして配置する必要がないため、図７に示すような構造を採用した場合に比べ、搬送サイズを小さくすることが可能となる（図５中のＨａ＜図７中のＨｂ）。これにより、ねじ軸長さの変更及びねじ軸の取り外しを行うことなく、輸送性を向上させることができる。
【００５８】
さらに、一対のＹ軸移動機構６ａ、６ｂが第１支持台１１Ａ及び第２支持台１１Ｂを塗布範囲Ｈ１及び退避範囲Ｈ２にわたって移動させるための第１ねじ軸５１ｂ及び第２ねじ軸５２ｂを具備している場合でも、第１ねじ軸５１ｂ及び第２ねじ軸５２ｂを取り外したりすることなく輸送することが可能になるので、塗布範囲Ｈ１内の組付け精度を確実に維持することができる。加えて、塗布範囲Ｈ１内の組付け精度を維持することが可能になるので、搬送後の設置場所で、搬送前の塗布精度を容易に再現することができる。その結果、搬送後の設置場所においても、搬送前と同様に基板Ｋ１に対してペーストを均一な塗布量で良好に塗布することが可能になるので、液晶漏れやギャップムラが防止された品質の良い液晶表示パネルを製造することができる。
【００５９】
また、一対のＹ軸移動機構６ａ、６ｂは基板ステージ２を両側から挟むように架台７に設けられ、第１支持部材５Ａの両端部及び第２支持部材５Ｂの両端部を支持して塗布範囲Ｈ１及び退避範囲Ｈ２にわたって第１支持部材５Ａ及び第２支持部材５Ｂを移動させることから、基板Ｋ１が大型化し、それに応じて第１支持部材５Ａ及び第２支持部材５Ｂを大きくした場合でも、それら第１支持部材５Ａ及び第２支持部材５Ｂを安定して移動させることが可能になるので、基板Ｋ１の大型化に伴う塗布不良の発生を防止することができる。
【００６０】
また、Ｙ軸移動機構６ａは、第１支持台１１Ａ及び第２支持台１１Ｂを塗布範囲Ｈ１及び退避範囲Ｈ２にわたって案内する複数のガイドレール１４を具備し、それらのガイドレール１４の各々の分割位置Ｇ１、Ｇ２を同一直線上からずらして分割可能に形成されていることから、Ｙ軸移動機構６ａが各ガイドレール１４の各々の分割位置Ｇ１、Ｇ２を同一直線上にして分割可能に形成されている場合に比べ、ガイドレール１４の連結部分のがたつきが第１支持台１１Ａ及び第２支持台１１Ｂに同時に影響を与えることがなくなるので、ガイドレール１４の連結部分のがたつきによる第１支持台１１Ａ及び第２支持台１１Ｂに対する影響を抑えることができる。例えば、第１支持台１１Ａあるいは第２支持台１１Ｂが有する一対のスライダ１２が連結部を通過する際に生じる衝撃を分散させて緩和することができる。その結果として、第１支持部材５Ａ及び第２支持部材５Ｂの平行度の変化などによる塗布不良の発生を抑えることができる。
【００６１】
（他の実施の形態）
なお、本発明は、前述の実施の形態に限るものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々変更可能である。例えば、前述の実施の形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。さらに、異なる実施の形態に亘る構成要素を適宜組み合わせてもよい。
【００６２】
前述の実施の形態においては、第１捨て塗布ステージ３Ａ及び第２捨て塗布ステージ３Ｂを設けているが、これに限るものではなく、例えば、第１捨て塗布ステージ３Ａ及び第２捨て塗布ステージ３Ｂのどちらか一方だけを設けるようにしてもよい。この場合には、第１捨て塗布ステージ３Ａ及び第２捨て塗布ステージ３Ｂのどちらか一方が第１支持部材５Ａの各塗布ヘッド４と第２支持部材５Ｂの各塗布ヘッド４とにより兼用されることになる。また、この場合には、捨て塗布ステージが１つになるので、二つの支持部材５Ａ、５Ｂの退避範囲Ｈ２を捨て塗布ステージ側の一方のみとし、支持部材移動機構６及び架台７を二分割可能に形成すればよい。
【００６３】
また、前述の実施の形態においては、第１支持部材５Ａ及び第２支持部材５Ｂを設けているが、これに限るものではなく、例えば、第１支持部材５Ａ及び第２支持部材５Ｂに加えてさらに支持部材を設けるようにしてもよい。前述の実施の形態においては、塗布ヘッド４を４つ設けているが、これに限るものではなく、例えば、塗布ヘッド４を６つ設けるようにしてもよく、その数は限定されない。
【００６４】
また、前述の実施の形態においては、捨て塗布ステージ３Ａ、３Ｂを架台７の本体架台７ａに配置した構成で説明しているが、これに限るものではなく、例えば、分割架台７ｂ、７ｃにそれぞれ配置するようにしてもよい。
【００６５】
また、前述の実施の形態においては、基板ステージ２を架台７上に固定し、支持部材５Ａ、５Ｂ及び塗布ヘッド４を移動させて、基板Ｋ１の表面にペーストを塗布する構成で説明しているが、これに限るものではなく、例えば、基板ステージ２をＹ軸方向やＸ軸方向などに移動可能に形成するようにしてもよい。
【００６６】
例えば、基板ステージ２を支持部材５Ａ、５Ｂの移動方向（Ｙ軸方向）と同じ方向に移動可能に構成した場合には、基板Ｋ１と塗布ヘッド４とをＹ軸方向に相対移動させるときに、基板ステージ２と支持部材５Ａ、５Ｂとを互いに相反する方向に移動（例えば、同じ速度で）させることが可能となる。このようにすると、支持部材５Ａ、５ＢのみをＹ軸方向に移動させる場合に比べて、基板ステージ２及び支持部材５Ａ、５Ｂの移動速度が半分になるから、基板ステージ２及び支持部材５Ａ、５Ｂの移動に伴う慣性力が小さくなり、基板ステージ２及び支持部材５Ａ、５Ｂの加速あるいは減速に起因して生じる振動を低減させることができる。そのため、Ｙ軸方向に沿うペーストパターンの始端及び終端の形状や塗布方向がＹ軸方向からＸ軸方向へ転換するペーストパターンのコーナー部の形状を所望の形状で精度良く塗布することが可能となり、品質の良い液晶表示パネルを製造することができる。
【００６７】
また、第１モータ５１ｄ及び第２モータ５２ｄを第１ねじ軸５１ｂ及び第２ねじ軸５２ｂに対して同軸上に配置するものとしたが、これに限られるものではなく、ベルトやギヤなどの動力伝達手段を介して第１ねじ軸５１ｂ及び第２ねじ軸５２ｂの軸心上から外れた位置に配置してもよい。
【図面の簡単な説明】
【００６８】
【図１】本発明の実施の一形態に係るペースト塗布装置の概略構成を示す平面図である。
【図２】図１に示すペースト塗布装置の概略構成を示す正面図である。
【図３】図１に示すペースト塗布装置の概略構成を示す側面図である。
【図４】図１ないし図３に示すペースト塗布装置が備えるＹ軸移動機構の概略構成を示す平面図である。
【図５】図４に示すＹ軸移動機構が備える第１支持台及び第２支持台の移動範囲を説明するための説明図である。
【図６】図４に示すＹ軸移動機構の第１比較例を示す平面図である。
【図７】図４に示すＹ軸移動機構の第２比較例を示す平面図である。
【図８】図４に示すＹ軸移動機構の分割状態を説明するための正面図である。
【図９】図２に示すペースト塗布装置の分割状態を説明するための正面図である。
【符号の説明】
【００６９】
１      ペースト塗布装置
２      載置台
４      塗布ヘッド（第１塗布ヘッド）
４      塗布ヘッド（第２塗布ヘッド）
５Ａ    第１支持部材
５Ｂ    第２支持部材
６ａ    移動機構（Ｙ軸移動機構）
６ｂ    移動機構（Ｙ軸移動機構）
７      架台
１１Ａ  第１支持台
１１Ｂ  第２支持台
１３    支持ステージ
１３ａ  基準ステージ
５１ａ  第１ナット体
５１ｂ  第１ねじ軸
５１ｃ  第１軸受け部材
５１ｄ  第１モータ
５２ａ  第２ナット体
５２ｂ  第２ねじ軸
５２ｃ  第２軸受け部材
５２ｄ  第２モータ
【図１】
2010075877.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
2010075877.tif 000007
【図６】
2010075877.tif 000008
【図７】
2010075877.tif 000009
【図８】
2010075877.tif 000010
【図９】
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