(57)【要約】【課題】脆性基板におけるクラックの成長を抑制して、曲面状の表示パネルの破損を抑制する。【解決手段】脆性を有する第１基板１０と、第１基板１０に対向して配置された第２基板２０と、第１基板１０及び第２基板２０の間に設けられた表示媒体層１５とを備えた表示パネル３０ａであって、第１基板１０及び第２基板２０は、第１基板１０が外方に向くように湾曲しており、第１基板１０の端面には、第１基板１０の端面に形成されたクラックへの水分の浸透を抑制して、そのクラックの成長を抑制するための無機膜２２ａが設けられている。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
脆性を有する第１基板と、
上記第１基板に対向して配置された第２基板と、
上記第１基板及び第２基板の間に設けられた表示媒体層とを備えた表示パネルであって、
上記第１基板及び第２基板は、該第１基板が外方に向くように湾曲しており、
上記第１基板の端面には、該第１基板の端面に形成されたクラックへの水分の浸透を抑制して、該クラックの成長を抑制するための無機膜が設けられていることを特徴とする表示パネル。
【請求項２】
請求項１に記載された表示パネルにおいて、
上記無機膜は、上記第１基板の外表面にも設けられていることを特徴とする表示パネル。
【請求項３】
請求項１に記載された表示パネルにおいて、
上記第２基板は、脆性を有し、
上記第２基板の端面には、該第２基板の端面に形成されたクラックへの水分の浸透を抑制して、該クラックの成長を抑制するための無機膜が設けられていることを特徴とする表示パネル。
【請求項４】
請求項３に記載された表示パネルにおいて、
上記第１基板及び第２基板は、ガラス製であり、
上記表示媒体層は、液晶層であることを特徴とする表示パネル。
【請求項５】
脆性を有する第１基板、及び第２基板を、該第１基板及び第２基板の間に表示媒体層を封入するように貼り合わせることにより、貼合体を作製する貼合体作製工程と、
上記貼合体における第１基板の端面に、該第１基板の端面に形成されたクラックへの水分の浸透を抑制して、該クラックの成長を抑制するための無機膜を形成する無機膜形成工程と、
上記第１基板の端面に無機膜が形成された貼合体を、該第１基板が外方に向くように湾曲状に変形させる変形工程とを備える表示パネルの製造方法であって、
上記無機膜形成工程では、上記貼合体を真空雰囲気で処理することにより、上記第１基板に含有する水分の少なくとも一部を除去することを特徴とする表示パネルの製造方法。
【請求項６】
請求項５に記載された表示パネルの製造方法において、
上記無機膜形成工程は、上記無機膜をスパッタリング法又はＣＶＤ法により形成することを特徴とする表示パネルの製造方法。
【請求項７】
曲面状の表示パネルを備えた電子機器であって、
上記表示パネルは、脆性を有する第１基板と、該第１基板に対向して配置された第２基板と、該第１基板及び第２基板の間に設けられた表示媒体層とを備え、
上記第１基板及び第２基板は、該第１基板が外方に向くように湾曲しており、
上記第１基板の端面には、該第１基板の端面に形成されたクラックへの水分の浸透を抑制して、該クラックの成長を抑制するための無機膜が設けられていることを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示パネル及びその製造方法、並びに電子機器に関し、特に、脆性基板を用いた曲面状の表示パネル及びその製造方法、並びに電子機器に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示パネルは、例えば、薄膜トランジスタ（以下、「ＴＦＴ」と称する）アレイ基板と、ＴＦＴアレイ基板に対向して配置されたカラーフィルタ基板と、両基板の間に設けられた液晶層とを備えている。
【０００３】
例えば、特許文献１には、アレイ基板とカラーフィルタ基板との基板端面に、両基板間の隙間を埋めるように、防湿性、耐湿性、絶縁性の特性を備えたＵＶ樹脂を塗布し、その後、ＵＶ照射することによって樹脂を硬化させて保護コート層を形成する液晶表示パネルの製造方法が開示されている。そして、これによれば、基板端面からの水分や不純物の侵入による配線パターンの電界腐食を防止し、液晶表示パネル使用時の信頼性を向上させることができ、製造工程において生じる基板端面からの静電気の侵入を防止することができるため、素子破壊や絶縁膜破壊による液晶表示パネルの表示異常を低減させることができる、と記載されている。
【特許文献１】特開平１０−１８７０５４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、液晶表示パネルを用いた表示装置では、特に、携帯電話などのモバイル用途において、液晶表示パネルの表示面を湾曲させた斬新なデザインが、近年、注目されている。
【０００５】
この表示面を湾曲させた曲面状の液晶表示パネルは、パネル自体を構成するガラス基板をエッチングにより薄板化してパネル自体を薄型化すると共に、その薄板化されたパネル自体に対して曲げ応力を負荷し続けて、曲面状の形状を保持することにより、実現することができる。
【０００６】
ここで、ガラス基板を用いた曲面状の液晶表示パネルでは、湾曲させたときのガラス基板の曲率及びガラス基板の厚さによって、ガラス基板に発生する曲げ応力が決まるので、ガラス基板の強度よりも大きな曲げ応力が発生する曲率でガラス基板を湾曲させると、ガラス基板が割れてしまって、液晶表示パネルが破損するおそれがある。そして、この液晶表示パネルの破損を抑制するには、ガラス基板をさらに薄板化してガラス基板に発生する曲げ応力を小さくすることが考えられる。
【０００７】
しかしながら、ガラス基板をさらに薄板化することにより、液晶表示パネルの破損を一応、抑制することができても、脆性を有するガラス基板を湾曲させた状態で長時間保持すると、ガラス基板の分断時にその端面に形成された微小なクラックが成長することにより、ガラス基板の割れが発生して、液晶表示パネルが破損するおそれがある。
【０００８】
本発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、脆性基板におけるクラックの成長を抑制して、曲面状の表示パネルの破損を抑制することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記目的を達成するために、本発明は、脆性を有する第１基板の端面に無機膜を設けるようにしたものである。
【００１０】
具体的に本発明に係る表示パネルは、脆性を有する第１基板と、上記第１基板に対向して配置された第２基板と、上記第１基板及び第２基板の間に設けられた表示媒体層とを備えた表示パネルであって、上記第１基板及び第２基板は、該第１基板が外方に向くように湾曲しており、上記第１基板の端面には、該第１基板の端面に形成されたクラックへの水分の浸透を抑制して、該クラックの成長を抑制するための無機膜が設けられていることを特徴とする。
【００１１】
上記の構成によれば、第１基板が外方に向くように第１基板及び第２基板が湾曲しているので、第１基板には、引張応力が常に負荷されている。ここで、脆性を有する第１基板の端面には、第１基板を作製するために、例えば、大判の母基板を分断した際に形成された微小なクラックが存在している。そして、この第１基板の端面に形成されたクラックは、その周りの基板自体に引張応力が負荷された状態で、大気中の水分が介在することにより、基板端面から基板面内に成長するおそれがあるものの、第１基板の端面に無機膜が設けられているので、大気中の水分との接触が抑制され、基板端面から基板面内に成長することが抑制される。これにより、脆性を有する第１基板及びそれを備えた曲面状の表示パネルの破損が抑制されるので、脆性基板におけるクラックの成長を抑制して、曲面状の表示パネルの破損を抑制することが可能になる。
【００１２】
上記無機膜は、上記第１基板の外表面にも設けられていてもよい。
【００１３】
上記の構成によれば、大判の母基板を分断した際に第１基板の外表面に微小なクラックが形成された場合でも、無機膜が第１基板の外表面にも設けられているので、第１基板の外表面に接触する大気中の水分の介在による外表面におけるクラックの成長を抑制して、曲面状の表示パネルの破損を抑制することが可能になる。
【００１４】
上記第２基板は、脆性を有し、上記第２基板の端面には、該第２基板の端面に形成されたクラックへの水分の浸透を抑制して、該クラックの成長を抑制するための無機膜が設けられていてもよい。
【００１５】
上記の構成によれば、第１基板が外方に向くように第１基板及び第２基板が湾曲しているので、第２基板の内表面側には、第１基板に負荷されている引張応力よりも弱いものの、僅かな引張応力が常に負荷されている。ここで、脆性を有する第２基板の端面には、第２基板を作製するために、例えば、大判の母基板を分断した際に形成された微小なクラックが存在している。そして、この第２基板の端面に形成されたクラックは、その周りの基板自体に引張応力が負荷された状態で、大気中の水分が介在することにより、基板端面から基板面内に成長するおそれがあるものの、第２基板の端面に無機膜が設けられているので、大気中の水分との接触が抑制され、基板端面から基板面内に成長することが抑制される。これにより、脆性をそれぞれ有する第１基板及び第２基板、並びにそれらを備えた曲面状の表示パネルの破損が抑制される。
【００１６】
上記第１基板及び第２基板は、ガラス製であり、上記表示媒体層は、液晶層であってもよい。
【００１７】
第１基板及び第２基板がガラス製であり、表示媒体層が液晶層であるので、一対のガラス基板の間に液晶層が封入された液晶表示パネルが具体的に構成される。
【００１８】
また、本発明に係る表示パネルの製造方法は、脆性を有する第１基板、及び第２基板を、該第１基板及び第２基板の間に表示媒体層を封入するように貼り合わせることにより、貼合体を作製する貼合体作製工程と、上記貼合体における第１基板の端面に、該第１基板の端面に形成されたクラックへの水分の浸透を抑制して、該クラックの成長を抑制するための無機膜を形成する無機膜形成工程と、上記第１基板の端面に無機膜が形成された貼合体を、該第１基板が外方に向くように湾曲状に変形させる変形工程とを備える表示パネルの製造方法であって、上記無機膜形成工程では、上記貼合体を真空雰囲気で処理することにより、上記第１基板に含有する水分の少なくとも一部を除去することを特徴とする。
【００１９】
上記の方法によれば、無機膜形成工程において、貼合体作製工程で作製された貼合体を真空雰囲気で処理するので、第１基板に含有する水分の少なくとも一部が除去された後に、その第１基板の端面に無機膜が形成されることになり、その後の変形工程において、第１基板の端面に大気中の水分が接触することが抑制される。そして、変形工程では、第１基板が外方に向くように第１基板及び第２基板を湾曲させるので、第１基板には、引張応力が常に負荷されることになる。ここで、脆性を有する第１基板の端面には、第１基板を作製するために、貼合体作製工程の前又は後において、例えば、大判の母基板を分断した際に形成された微小なクラックが存在している。そして、この第１基板の端面に形成されたクラックは、その周りの基板自体に引張応力が負荷された状態で、大気中の水分が介在することにより、基板端面から基板面内に成長するおそれがあるものの、無機膜形成工程で第１基板の端面に無機膜が形成されるので、大気中の水分との接触が抑制され、基板端面から基板面内に成長することが抑制される。これにより、脆性を有する第１基板及びそれを備えた曲面状の表示パネルの破損が抑制されるので、脆性基板におけるクラックの成長を抑制して、曲面状の表示パネルの破損を抑制することが可能になる。
【００２０】
上記無機膜形成工程は、上記無機膜をスパッタリング法又はＣＶＤ法により形成してもよい。
【００２１】
上記の方法によれば、スパッタリング法又はＣＶＤ法では、真空雰囲気で処理されるので、無機膜形成工程において、第１基板に含有する水分の少なくとも一部が具体的に除去される。
【００２２】
また、本発明に係る電子機器は、曲面状の表示パネルを備えた電子機器であって、上記表示パネルは、脆性を有する第１基板と、該第１基板に対向して配置された第２基板と、該第１基板及び第２基板の間に設けられた表示媒体層とを備え、上記第１基板及び第２基板は、該第１基板が外方に向くように湾曲しており、上記第１基板の端面には、該第１基板の端面に形成されたクラックへの水分の浸透を抑制して、該クラックの成長を抑制するための無機膜が設けられていることを特徴とする。
【００２３】
上記の構成によれば、表示パネルにおいて、第１基板が外方に向くように第１基板及び第２基板が湾曲しているので、第１基板には、引張応力が常に負荷されている。ここで、脆性を有する第１基板の端面には、第１基板を作製するために、例えば、大判の母基板を分断した際に形成された微小なクラックが存在している。そして、この第１基板の端面に形成されたクラックは、その周りの基板自体に引張応力が負荷された状態で、大気中の水分が介在することにより、基板端面から基板面内に成長するおそれがあるものの、第１基板の端面に無機膜が設けられているので、大気中の水分との接触が抑制され、基板端面から基板面内に成長することが抑制される。これにより、脆性を有する第１基板及びそれを備えた曲面状の表示パネルの破損が抑制されるので、電子機器において、脆性基板におけるクラックの成長を抑制して、曲面状の表示パネルの破損を抑制することが可能になる。
【発明の効果】
【００２４】
本発明によれば、脆性を有する第１基板の端面に無機膜が設けられているので、脆性基板におけるクラックの成長を抑制して、曲面状の表示パネルの破損を抑制することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。なお、本発明は、以下の各実施形態に限定されるものではない。
【００２６】
《発明の実施形態１》
図１〜図９は、本発明に係る表示パネル及びその製造方法、並びに電子機器の実施形態１を示している。
【００２７】
図１は、本実施形態の液晶表示パネル３０ａの湾曲方向に沿った断面図であり、図２は、液晶表示パネル３０ａの湾曲方向に沿った側面図であり、図３は、液晶表示パネル３０ａの湾曲方向と直交する方向に沿った他の断面図である。また、図４は、液晶表示パネル３０ａを備えた携帯電話５０の斜視図であり、図５は、携帯電話５０の正面図であり、図６は、携帯電話５０の側面図である。
【００２８】
液晶表示パネル３０ａは、図１及び図２に示すように、脆性を有する第１基板として設けられたＴＦＴアレイ基板１０と、ＴＦＴアレイ基板１０に対向して配置され、脆性を有する第２基板として設けられたカラーフィルタ基板２０と、ＴＦＴアレイ基板１０及びカラーフィルタ基板２０の間に表示媒体層として設けられた液晶層１５と、ＴＦＴアレイ基板１０及びカラーフィルタ基板２０を互いに接着すると共に、それらの両基板１０及び２０の間に液晶層１５を封入するためのシール材１６とを備え、ＴＦＴアレイ基板１０が外方に向くようにＴＦＴアレイ基板１０及びカラーフィルタ基板２０が湾曲している。なお、液晶表示パネル３０ａのサイズは、例えば、２型（縦４０ｍｍ×横５５ｍｍ、厚さ０．０５ｍｍ〜０．３ｍｍ×２）であり、その曲率半径が５０ｍｍ〜４００ｍｍである。
【００２９】
ＴＦＴアレイ基板１０は、例えば、ガラス基板などの脆性を有する基板上に互いに平行に延びるように設けられた複数のゲート線（不図示）と、各ゲート線と直交する方向に互いに平行に延びるように設けられた複数のソース線（不図示）と、各ゲート線及び各ソース線の交差部毎にそれぞれ設けられた複数のＴＦＴ（不図示）と、各ＴＦＴを覆うように設けられた層間絶縁膜（不図示）と、その層間絶縁膜上にマトリクス状に設けられ、各ＴＦＴにそれぞれ接続された複数の画素電極（不図示）とを備えたＴＦＴアレイ層１１を有している。なお、ＴＦＴアレイ層１１の表面には、配向膜（不図示）が設けられている。ここで、各画素電極は、画像の最小単位である画素を構成すると共に、マトリクス状に配列することにより全体で画像表示を行う表示領域、すなわち、図４及び図５の表示画面Ｄを構成している。
【００３０】
ＴＦＴアレイ基板１０のカラーフィルタ基板２０よりも突出した部分には、図１及び図２に示すように、上記各ゲート線や各ソース線などにそれぞれ接続するための複数の接続端子を備えた端子領域Ｔが設けられている。
【００３１】
カラーフィルタ基板２０は、例えば、ガラス基板などの脆性を有する基板上に設けられた赤色層（Ｒ）、緑色層（Ｇ）及び青色層（Ｂ）を有するカラーフィルタ層（不図示）、並びにブラックマトリクスと、それらのカラーフィルタ層及びブラックマトリクスを覆うように設けられた共通電極（不図示）とを備えている。なお、上記共通電極の表面には、配向膜（不図示）が設けられている。
【００３２】
ＴＦＴアレイ基板１０及びカラーフィルタ基板２０の各端面には、その端面に形成されたクラックＣ（図７参照）への水分の浸透を抑制して、クラックＣの成長を抑制するための無機膜２２ａが設けられている。
【００３３】
上記構成の液晶表示パネル３０ａは、ＴＦＴアレイ基板１０上の各画素電極とカラーフィルタ基板２０上の共通電極との間に配置する液晶層１５に所定の電圧を印加して、液晶層１５を構成する液晶分子の配向状態を変えることにより、各画素毎にパネル内を透過する光の透過率を調整して、画像を表示するように構成されている。
【００３４】
また、液晶表示パネル３０ａは、図４〜図６に示すように、湾曲状の第１の筐体４１内に収容された枠状のベゼル（不図示）に取り付けられることにより、曲面状の形状を保持して、携帯電話５０の表示画面Ｄを構成している。ここで、携帯電話５０は、液晶表示パネル３０ａを備えた第１の筐体４１と、種々の操作ボタンなどを備えた第２の筐体４２とを有し、図６に示すように、第１の筐体４１を第２の筐体４２の内部にスライドして収容するように構成されている。
【００３５】
次に、液晶表示パネル３０ａの製造方法について、図７〜図９を用いて説明する。なお、本実施形態の製造方法は、貼合体作製工程、分断工程、無機膜形成工程及び変形工程を備える。
【００３６】
＜貼合体作製工程＞
まず、例えば、厚さ０．７ｍｍ程度のガラス基板上に、周知の方法を用いて、ゲート線、ソース線、ＴＦＴ及び画素電極を含むＴＦＴアレイ層１１を形成することにより、各々、ＴＦＴアレイ層１１を有する複数の表示領域がマトリクス状に配置されたＴＦＴアレイ母基板（１１０、図７参照）を作製する。なお、ＴＦＴアレイ母基板（１１０）上には、各ＴＦＴアレイ層１１を覆うようにポリイミド樹脂を成膜した後に、ラビング処理を行うことにより配向膜を形成する。ここで、図７は、貼合体作製工程で作製された大判の貼合体１３０の断面図である。
【００３７】
また、例えば、厚さ０．７ｍｍ程度のガラス基板上に、周知の方法を用いて、ブラックマトリクス、カラーフィルタ層及び共通電極などを形成することにより、複数の表示領域がマトリクス状に配置されたカラーフィルタ母基板（１２０、図７参照）を作製する。なお、カラーフィルタ母基板（１２０）上には、各共通電極を覆うようにポリイミド樹脂を成膜した後に、ラビング処理を行うことにより配向膜を形成する。
【００３８】
続いて、例えば、ディスペンサを用いて、カラーフィルタ母基板（１２０）における各表示領域の周囲にシール材１６を枠状に描画する。
【００３９】
その後、シール材１６が描画されたカラーフィルタ母基板（１２０）に対し、シール材１６に囲まれた領域（表示領域）に液晶材料を滴下する。
【００４０】
さらに、液晶材料が滴下されたカラーフィルタ母基板（１２０）とＴＦＴアレイ母基板（１１０）とを、減圧下で互いの表示領域Ｄが重なり合うように貼り合わせた後に、大気圧に開放することにより、ＴＦＴアレイ母基板（１１０）及びカラーフィルタ母基板（１２０）の各外表面を加圧して、大判の貼合体（１３０、図７参照）を作製する。
【００４１】
引き続いて、上記貼合体（１３０）に挟持された各シール材１６を硬化させた後に、ＴＦＴアレイ母基板（１１０）及びカラーフィルタ母基板（１２０）を構成する各ガラス基板を化学研磨処理（ケミカルエッチング処理）して、例えば、０．０５ｍｍ〜０．３ｍｍ程度にそれぞれ薄板化することにより、図７に示すように、ＴＦＴアレイ母基板１１０及びカラーフィルタ母基板１２０を備え、各表示領域毎に液晶層１５がシール材１６により封入された大判の貼合体１３０を作製する。
【００４２】
＜分断工程＞
まず、上記貼合体作製工程で作製された貼合体１３０のＴＦＴアレイ母基板１１０の外表面において、各表示領域の周囲に沿って、例えば、円盤状の分断刃の刃先を当接させながら、その分断刃を転動させることにより、線状のクラックＣを形成すると共に、そのクラックＣを厚さ方向に成長させることにより、ＴＦＴアレイ母基板１１０を分断して、ＴＦＴアレイ基板１０（図７参照）を作製する。ここで、上記分断刃は、その刃先が、例えば、タングステンカーバイドなどの超硬合金や焼結ダイヤモンドなどにより構成されている。
【００４３】
続いて、ＴＦＴアレイ母基板１１０が分断された貼合体１３０を表裏反転させた後に、カラーフィルタ母基板１２０の外表面において、各表示領域の周囲に沿って、例えば、上記分断刃の刃先を当接させながら、その分断刃を転動させることにより、線状のクラックを形成すると共に、そのクラックＣを厚さ方向に成長させることにより、カラーフィルタ母基板１２０を分断して、カラーフィルタ基板２０（図７参照）を作製する。これにより、図７に示すように、ＴＦＴアレイ基板１０及びカラーフィルタ基板２０を備え、液晶層１５がシール材１６により封入された平面状の液晶表示パネル（貼合体）３０が作製される。
【００４４】
＜無機膜形成工程＞
図８は、液晶表示パネル３０ａを製造するためのスパッタリング装置６０の概略図である。
【００４５】
スパッタリング装置６０は、図８に示すように、処理室６１と、処理室６１の内部に陽極として設けられ、複数の液晶表示パネル３０を載置するためのステージ６２と、処理室６１の内部に陰極として設けられたターゲット６３と、処理室６１の内部を排気するためのロータリーポンプ６４と、処理室６１の内部に不活性ガスを導入するためのガス導入弁６５と、ステージ６２及びターゲット６３の間に電圧を印加するための直流電源６６とを備えている。ここで、ステージ６２の表面には、各液晶表示パネル３０の端部を挿入して、各液晶表示パネル３０を立てた状態に保持するための複数の溝が形成されていてもよい。
【００４６】
上記構成のスパッタリング装置６０により無機膜２２ａを形成には、まず、図８に示すように、上記分断工程で作製された複数の液晶表示パネル３０を処理室６１の内部に収容して、各液晶表示パネル３０をステージ６２上に立てた状態に載置した後に、処理室６１の内部をロータリーポンプ６４により排気することにより、各液晶表示パネル３０に含有する水分、特に、ＴＦＴアレイ基板１０及びカラーフィルタ基板２０の各端面に付着している水分を十分に除去すると共に、処理室６１の内部を真空状態にする。
【００４７】
続いて、処理室６１の内部に、不活性ガスとして、例えば、アルゴンガスをガス導入弁６５を介して導入すると共に、ステージ６２及びターゲット６３の間に直流電源６６を介して電圧を印加することにより、処理室６１の内部に導入されたアルゴンガスをイオン化し、そのイオン化されたアルゴン正イオンとターゲット６３との衝突により発生したスパッタ粒子ＳをＴＦＴアレイ基板１０及びカラーフィルタ基板２０の上側の各端面に堆積させることにより、無機膜２２ａ（例えば、厚さ１０００Å〜３０００Å）を形成する。ここで、無機膜２２ａは、例えば、金、銀、アルミニウム、クロムなどの金属膜である。
【００４８】
その後、ＴＦＴアレイ基板１０及びカラーフィルタ基板２０の他の端面にも、上記と同様な処理を行うことにより、各液晶表示パネル３０の４辺の端面に無機膜２２ａを形成する。
【００４９】
本実施形態では、無機膜２２ａを形成する方法として、まず、スパッタリング法を例示したが、以下に示す（プラズマ）ＣＶＤ法であってもよい。
【００５０】
図９は、液晶表示パネル３０ａを製造するためのプラズマＣＶＤ装置７０の概略図である。
【００５１】
プラズマＣＶＤ装置７０は、図９に示すように、処理室７１と、処理室７１の内部に設けられ、複数の液晶表示パネル３０を載置するためのサセプター７２と、サセプター７２の下側に設けられ、サセプター７２及びそれに載置された各液晶表示パネル３０を加熱するためのヒーター７３と、処理室７１の内部に設けられ、原料ガスを拡散させるためのシャワープレート７４と、処理室７１の内部を排気するためのロータリーポンプ７５と、処理室７１の内部に原料ガスをシャワープレート７４を介して導入するためのガス導入弁７６と、サセプター７２及びシャワープレート７４の間に高周波電力を印加するための高周波電源（不図示）とを備えている。ここで、サセプター７２の表面には、各液晶表示パネル３０の端部を挿入して、各液晶表示パネル３０を立てた状態に保持するための複数の溝が形成されていてもよい。
【００５２】
上記構成のプラズマＣＶＤ装置７０により無機膜２２ａを形成するには、まず、図９に示すように、上記分断工程で作製された複数の液晶表示パネル３０を処理室７１の内部に収容して、各液晶表示パネル３０をサセプター７２上に立てた状態に載置した後に、処理室７１の内部をロータリーポンプ７５により排気することにより、液晶表示パネル３０に含有する水分、特に、ＴＦＴアレイ基板１０及びカラーフィルタ基板２０の端面に付着している水分を十分に除去すると共に、処理室７１の内部を真空状態にする。
【００５３】
続いて、処理室７１の内部に、原料ガスをガス導入弁７６及びシャワープレート７４を介して導入すると共に、サセプター７２及びシャワープレート７４の間に高周波電力を印加することにより、原料ガスをプラズマ化し、その原料ガスのプラズマＰにより、無機膜２２ａ（例えば、厚さ１０００Å〜３０００Å）を形成する。ここで、無機膜２２ａは、例えば、酸化シリコン膜などの酸化膜や窒化シリコン膜などの窒化膜である。
【００５４】
その後、ＴＦＴアレイ基板１０及びカラーフィルタ基板２０の他の端面にも、上記と同様な処理を行うことにより、各液晶表示パネル３０の４辺の端面に無機膜２２ａを形成する。
【００５５】
＜変形工程＞
上記無機膜形成工程で４辺の端面に無機膜２２ａが形成された平面状の液晶表示パネル３０を、図１及び図２に示すように、ＴＦＴアレイ基板１０側が外方に向くように湾曲状に変形させながら、例えば、枠状のベゼル（不図示）に両面テープなどの接着層を介して貼り付けることにより、曲面状の液晶表示パネル３０ａを作製する。ここで、上記ベゼルは、例えば、長さ方向の断面が円弧状に形成された凹面を有し、その凹面が液晶表示パネル３０ａの表示領域に重なる部分において矩形状に開口するように構成されている。
【００５６】
以上のようにして、本実施形態の液晶表示パネル３０ａを製造することができる。
【００５７】
以上説明したように、本実施形態の液晶表示パネル３０ａ及びその製造方法、並びに携帯電話５０によれば、無機膜形成工程において、貼合体作製工程及び分断工程で作製された液晶表示パネル（貼合体）３０をスパッタリング法又はプラズマＣＶＤ法により真空雰囲気で処理するので、ＴＦＴアレイ基板１０及びカラーフィルタ基板２０に含有する水分の少なくとも一部が除去された後に、そのＴＦＴアレイ基板１０及びカラーフィルタ基板２０の各端面に無機膜２２ａが形成されることになり、その後の変形工程において、ＴＦＴアレイ基板１０及びカラーフィルタ基板２０の各端面に大気中の水分が接触することが抑制される。そして、変形工程では、ＴＦＴアレイ基板１０が外方に向くようにＴＦＴアレイ基板１０及びカラーフィルタ基板２０を湾曲させるので、ＴＦＴアレイ基板１０には、引張応力が常に負荷されていると共に、カラーフィルタ基板２０の内表面側には、ＴＦＴアレイ基板１０に負荷されている引張応力よりも弱いものの、僅かな引張応力が常に負荷されていることになる。ここで、脆性を有するＴＦＴアレイ基板１０及びカラーフィルタ基板２０の各端面には、ＴＦＴアレイ基板１０及びカラーフィルタ基板２０を作製するために、貼合体作製工程の前又は後において、例えば、大判のＴＦＴアレイ母基板１１０及びカラーフィルタ母基板１２０を各表示領域毎に分断した際に形成された微小なクラックＣが存在している。そして、このＴＦＴアレイ基板１０及びカラーフィルタ基板２０の各端面に形成されたクラックＣは、その周りの基板自体に引張応力が負荷された状態で、大気中の水分が介在することにより、基板端面から基板面内に成長するおそれがあるものの、無機膜形成工程でＴＦＴアレイ基板１０及びカラーフィルタ基板２０の各端面に無機膜２２ａが形成されるので、大気中の水分との接触が抑制され、基板端面から基板面内に成長することが抑制される。これにより、脆性をそれぞれ有するＴＦＴアレイ基板１０及びカラーフィルタ基板２０、並びにそれらを備えた曲面状の液晶表示パネル３０ａの破損を抑制することができるので、脆性基板におけるクラックの成長を抑制して、曲面状の表示パネルの破損を抑制することができる。
【００５８】
《発明の実施形態２》
図１０は、本実施形態の液晶表示パネル３０ｂの湾曲方向に沿った断面図であり、図１１は、液晶表示パネル３０ｂの湾曲方向に沿った側面図であり、図１２は、液晶表示パネル３０ｂの湾曲方向と直交する方向に沿った他の断面図である。なお、以下の各実施形態において、図１〜図９と同じ部分については同じ符号を付して、その詳細な説明を省略する。
【００５９】
上記実施形態１の液晶表示パネル３０ａでは、無機膜２２ａがＴＦＴアレイ基板１０及びカラーフィルタ基板２０の各端面のみに設けられていたが、本実施形態の液晶表示パネル３０ｂでは、図１０〜図１２に示すように、無機膜２２ｂがＴＦＴアレイ基板１０及びカラーフィルタ基板２０の各端面と、ＴＦＴアレイ基板１０の外表面とを覆うように設けられている。ここで、液晶表示パネル３０ｂは、上記実施形態１の無機膜形成工程において、例えば、ＴＦＴアレイ基板１０及びカラーフィルタ基板２０の各端面に無機膜２２ｂを形成した後に、スパッタリング装置６０の処理室６１の内部でＴＦＴアレイ基板１０をその外表面がターゲット６３に対向するように、又はプラズマＣＶＤ装置７０の処理室７１の内部でＴＦＴアレイ基板１０をその外表面がシャワープレート７４に対向するようにそれぞれ配置させて無機膜２２ｂを形成することにより、製造することができる。なお、無機膜２２ｂは、表示領域にも形成されるので、酸化シリコン膜や窒化シリコン膜などの無色透明な薄膜により構成される。
【００６０】
本実施形態の液晶表示パネル３０ｂによれば、無機膜２２ｂがＴＦＴアレイ基板１０及びカラーフィルタ基板２０の各端面だけでなくＴＦＴアレイ基板１０の外表面にも設けられているので、ＴＦＴアレイ基板１０の外表面に接触する大気中の水分の介在によるＴＦＴアレイ基板１０の外表面におけるクラックの成長が抑制され、上記実施形態１の液晶表示パネル３０ａよりも、曲面状の表示パネルの破損を抑制することができる。
【００６１】
《発明の実施形態３》
図１３は、本実施形態の液晶表示パネル３０ｃの湾曲方向に沿った断面図であり、図１４は、液晶表示パネル３０ｃの湾曲方向に沿った側面図であり、図１５は、液晶表示パネル３０ｃの湾曲方向と直交する方向に沿った他の断面図である。
【００６２】
上記実施形態１の液晶表示パネル３０ａでは、無機膜２２ａがＴＦＴアレイ基板１０及びカラーフィルタ基板２０の各端面に設けられていたが、本実施形態の液晶表示パネル３０ｃでは、図１３〜図１５に示すように、無機膜２２ｃがＴＦＴアレイ基板１０の端面のみに設けられている。ここで、液晶表示パネル３０ｃは、上記実施形態１の無機膜形成工程において、ＴＦＴアレイ基板１０及びカラーフィルタ基板２０の各端面に無機膜（２２ａ）を形成する際に、例えば、カラーフィルタ基板２０の端面に無機膜が成膜されないようにメタルマスクを用いることにより、製造することができる。
【００６３】
本実施形態の液晶表示パネル３０ｃによれば、カラーフィルタ基板２０よりも強い引張応力が負荷されるＴＦＴアレイ基板１０の端面のみに無機膜２２ｃが設けられているので、ＴＦＴアレイ基板１０の端面に接触する大気中の水分の介在によるＴＦＴアレイ基板１０の基板端面から基板面内へのクラックの成長が抑制され、曲面状の表示パネルの破損を効率的に抑制することができる。
【００６４】
《発明の実施形態４》
図１６は、本実施形態の液晶表示パネル３０ｄの湾曲方向に沿った断面図であり、図１７は、液晶表示パネル３０ｄの湾曲方向に沿った側面図であり、図１８は、液晶表示パネル３０ｄの湾曲方向と直交する方向に沿った他の断面図である。
【００６５】
上記実施形態３の液晶表示パネル３０ｃでは、無機膜２２ｃがＴＦＴアレイ基板１０の端面のみに設けられていたが、本実施形態の液晶表示パネル３０ｄでは、図１６〜図１８に示すように、無機膜２２ｄがＴＦＴアレイ基板１０の端面とその外表面とを覆うように設けられている。ここで、液晶表示パネル３０ｄは、上記実施形態１の無機膜形成工程において、ＴＦＴアレイ基板１０及びカラーフィルタ基板２０の各端面に無機膜（２２ａ）を形成する際に、例えば、カラーフィルタ基板２０の端面に無機膜が成膜されないようにメタルマスクを用いることにより、ＴＦＴアレイ基板１０の端面のみに無機膜２２ｄを形成した後に、スパッタリング装置６０の処理室６１の内部でＴＦＴアレイ基板１０をその外表面がターゲット６３に対向するように、又はプラズマＣＶＤ装置７０の処理室７１の内部でＴＦＴアレイ基板１０をその外表面がシャワープレート７４に対向するようにそれぞれ配置させて無機膜２２ｄを形成することにより、製造することができる。なお、無機膜２２ｄは、上記実施形態２と同様に、表示領域にも形成されるので、酸化シリコン膜や窒化シリコン膜などの無色透明な薄膜により構成される。
【００６６】
本実施形態の液晶表示パネル３０ｄによれば、無機膜２２ｄがＴＦＴアレイ基板１０の端面だけでなくＴＦＴアレイ基板１０の外表面にも設けられているので、ＴＦＴアレイ基板１０の外表面に接触する大気中の水分の介在によるＴＦＴアレイ基板１０の外表面におけるクラックの成長が抑制され、上記実施形態３の液晶表示パネル３０ｃよりも、曲面状の表示パネルの破損を抑制することができる。
【００６７】
上記各実施形態では、少なくともＴＦＴアレイ基板１０側の端面に無機膜を設けて、ＴＦＴアレイ基板１０側が外方に向くように湾曲状に変形させた場合を例示したが、本発明は、カラーフィルタ基板側が外方に向くように湾曲状に変形させる場合にも適用することができる。なお、カラーフィルタ基板側が外方に向くように湾曲状に変形させる場合には、カラーフィルタ基板側に引張応力が負荷されるので、少なくともカラーフィルタ基板の端面に無機膜を設けることにより、脆性基板におけるクラックの成長を抑制して、曲面状の表示パネルの破損を抑制することができる。
【００６８】
上記各実施形態では、表示パネルとして、液晶表示パネル３０ａ〜３０ｄを例示したが、本発明は、表示媒体層として少なくとも有機発光層を有する有機ＥＬ（Electro Luminescence）表示パネルなど、他の表示パネルにも適用することができる。
【００６９】
上記各実施形態では、カラーフィルタ基板が脆性を有するガラス基板を用いて作製されていたが、脆性を有さないプラスチック製のフィルム基板を用いて作製されていてもよい。すなわち、本発明では、表示パネルを湾曲状に変形させた際に、引張応力が負荷される少なくとも外方側の基板が脆性を有していればよい。
【００７０】
上記各実施形態では、脆性基板として、ガラス基板を例示したが、本発明は、セラミックス基板、シリコン基板などの脆性基板についても適用することができる。
【産業上の利用可能性】
【００７１】
以上説明したように、本発明は、脆性基板を用いた表示パネルの破損を抑制することができるので、脆性基板を用いた曲面状の表示パネルや曲面状に変形可能な表示パネルについて有用である。
【図面の簡単な説明】
【００７２】
【図１】実施形態１に係る液晶表示パネル３０ａの断面図である。
【図２】液晶表示パネル３０ａの側面図である。
【図３】液晶表示パネル３０ａの他の断面図である。
【図４】液晶表示パネル３０ａを備えた携帯電話５０の斜視図である。
【図５】携帯電話５０の正面図である。
【図６】携帯電話５０の側面図である。
【図７】液晶表示パネル３０ａを製造するための貼合体作製工程で作製された大判の貼合体１３０の断面図である。
【図８】液晶表示パネル３０ａを製造するためのスパッタリング装置６０の概略図である。
【図９】液晶表示パネル３０ａを製造するためのプラズマＣＶＤ装置７０の概略図である。
【図１０】実施形態２に係る液晶表示パネル３０ｂの断面図である。
【図１１】液晶表示パネル３０ｂの側面図である。
【図１２】液晶表示パネル３０ｂの他の断面図である。
【図１３】実施形態３に係る液晶表示パネル３０ｃの断面図である。
【図１４】液晶表示パネル３０ｃの側面図である。
【図１５】液晶表示パネル３０ｃの他の断面図である。
【図１６】実施形態４に係る液晶表示パネル３０ｄの断面図である。
【図１７】液晶表示パネル３０ｄの側面図である。
【図１８】液晶表示パネル３０ｄの他の断面図である。
【符号の説明】
【００７３】
Ｃ      クラック
１０    ＴＦＴアレイ基板（第１基板）
１５    液晶層（表示媒体層）
２０    カラーフィルタ基板（第２基板）
２２ａ〜２２ｄ    無機膜
３０    液晶表示パネル（貼合体）
３０ａ〜３０ｄ    液晶表示パネル
５０    携帯電話（電子機器）
【図１】
2010014962.tif 000003
【図２】
2010014962.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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