(57)【要約】【課題】気体の共鳴を防ぐことができ、所期の防振特性を確保することが可能な防振装置の製造方法、防振装置、ステージ装置及び露光装置を提供すること。【解決手段】構造体を支持する気体が所定圧力で充填された第１気体室と、連通路を介して前記第１気体室に連通された第２気体室とを備え、前記構造体を支持して防振する防振装置の製造方法であって、前記連通路の諸元を、当該連通路における前記気体の共鳴周波数に基づいて決定する。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
構造体を支持する気体が所定圧力で充填された第１気体室と、連通路を介して前記第１気体室に連通された第２気体室とを備え、前記構造体を支持して防振する防振装置の製造方法であって、
前記連通路の諸元を、当該連通路における前記気体の共鳴周波数に基づいて決定する防振装置の製造方法。
【請求項２】
前記共鳴周波数は、ヘルムホルツ共鳴周波数である請求項１に記載の防振装置の製造方法。
【請求項３】
前記防振装置は、前記第１気体室を支持する支持部材を備え、
前記支持部材の内部に前記第２気体室を形成する請求項１又は請求項２に記載の防振装置の製造方法。
【請求項４】
空洞部を有する型内に第１中子を設置すると共に、前記第１中子と前記型とに当接する第２中子を設置して前記支持部材の鋳型を形成するステップと、
前記型内に溶解した材料を注湯するステップと、
前記注湯した材料を冷却した後に前記型及び前記第１中子及び前記第２中子を除去して前記第２気体室を形成するステップと
を含む請求項３に記載の防振装置の製造方法。
【請求項５】
前記連通路内には、所定の周波数帯域の振動を吸収する振動吸収部が設けられている請求項１から請求項４のうちいずれか一項に記載の防振装置の製造方法。
【請求項６】
前記連通路を直線状に形成する請求項１から請求項５のうちいずれか一項に記載の防振装置の製造方法。
【請求項７】
平面視で前記第１気体室に重なる位置に前記連通路を形成する請求項１から請求項５のうちいずれか一項に記載の防振装置の製造方法。
【請求項８】
前記防振装置は、第２連通路を介して前記第２気体室に連通された第３気体室を備え、
前記第２連通路の諸元を、前記共鳴周波数に基づいて決定する請求項１から請求項７のうちいずれか一項に記載の防振装置の製造方法。
【請求項９】
前記諸元は、連通方向の寸法及び連通方向に直交する方向の寸法のうち少なくとも一方を含む請求項１から請求項８のうちいずれか一項に記載の防振装置の製造方法。
【請求項１０】
前記防振装置によって防振する振動の周波数帯域よりも前記共鳴周波数が高くなるように前記連通路の諸元を決定する請求項１から請求項９のうちいずれか一項に記載の防振装置の製造方法。
【請求項１１】
構造体を支持する気体が所定圧力で充填された第１気体室と、連通路を介して前記第１気体室に連通された第２気体室とを備え、前記構造体を支持して防振する防振装置であって、
前記連通路の諸元は、当該連通路における前記気体の共鳴周波数に基づいて決定されている防振装置。
【請求項１２】
前記共鳴周波数は、ヘルムホルツ共鳴周波数である請求項１１に記載の防振装置。
【請求項１３】
第１気体室を支持する支持部材を更に備え、
前記第２気体室は、前記支持部材の内部に形成されている請求項１１又は請求項１２に記載の防振装置。
【請求項１４】
前記連通路内には、所定の周波数帯域の振動を吸収する振動吸収部が設けられている請求項１１から請求項１３のうちいずれか一項に記載の防振装置。
【請求項１５】
前記連通路は、直線状に設けられている請求項１１から請求項１４のうちいずれか一項に記載の防振装置。
【請求項１６】
前記連通路は、平面視で前記第１気体室に重なる位置に設けられている請求項１１から請求項１５のうちいずれか一項に記載の防振装置。
【請求項１７】
第２連通路を介して前記第２気体室に連通された第３気体室を更に備え、
前記第２連通路の諸元は、前記共鳴周波数に基づいて決定されている請求項１１から請求項１５のうちいずれか一項に記載の防振装置。
【請求項１８】
前記諸元は、連通方向の寸法及び連通方向に直交する方向の寸法のうち少なくとも一方を含む請求項１１から請求項１５のうちいずれか一項に記載の防振装置。
【請求項１９】
防振する振動の周波数帯域よりも前記共鳴周波数が高くなるように前記連通路の諸元が決定されている請求項１１から請求項１８のうちいずれか一項に記載の防振装置。
【請求項２０】
請求項１１から請求項１９に記載の防振装置を備えるステージ装置。
【請求項２１】
請求項２０に記載のステージ装置を備える露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、防振装置の製造方法、防振装置、ステージ装置及び露光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体デバイスや液晶表示デバイスは、マスク上に形成されたパターンを感光性の基板上に転写する、所謂フォトリソグラフィの手法により製造される。このフォトリソグラフィの露光工程で使用される露光装置は、マスクを支持するマスクステージと基板を支持する基板ステージとを有し、マスクステージ及び基板ステージを逐次移動させながらマスクのパターンを投影光学系を介して基板に転写するものである。
【０００３】
このような露光装置は、外部からの振動の影響を低減するため、土台となる部分が床部に固定して据え付けられるようになっており、当該土台となる部分の上に例えばエアマウントのなどの防振装置を介して投影光学系やレチクルステージ等を含む構造体が非接触に支持される構成になっている。
【０００４】
振動抑制に関しては、エアマウントの振動伝達率が低いほど好ましい。エアマウントの振動伝達率は、エアマウントの剛性が低いほど低くなり、当該エアマウントの剛性と容積とは反比例の関係にある。よって、低振動伝達率のエアマウントを得るにはエアマウントを大容積にする構成が好ましい。これについては、例えばエアマウントの内部空間の容積を大きくしたり、エアマウントに補助タンクを付設したりすることでエアマウントの剛性を低減させることが考えられる。
【０００５】
このうちエアマウントの内部空間の容積自体を大きくする構成は、装置内のスペースの制限があるため限界がある。そこで装置構成上、補助タンクを付設する構成がより好ましいと考えられる。補助タンクを付設する場合、例えばエアマウントと補助タンクとの間に連通路を設け、当該連通路を介してエアマウントの内部空間と補助タンクとの間を接続する構成が考えられる。  
【特許文献１】特開平８−１６６０４３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、連通路を設ける場合、エアの共鳴が問題となる。連通路内のエアは、当該連通路内での共鳴周波数と同一の周波数を有する振動に対して共鳴を起こしてしまい、大きな振動を発生させてしまう。この振動は支持対象物であるステージ等の構造体にも伝わってしまうため、結果として防振装置の防振特性を低下させる一因となる。
【０００７】
以上のような事情に鑑み、本発明の目的は、気体の共鳴を防ぐことができ、所期の防振特性を確保することが可能な防振装置の製造方法、防振装置、ステージ装置及び露光装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的を達成するため、本発明に係る防振装置（１３）の製造方法は、構造体（１２）を支持する気体が所定圧力で充填された第１気体室（６１）と、連通路（６２）を介して前記第１気体室に連通された第２気体室（６３）とを備え、前記構造体を支持して防振する防振装置の製造方法であって、前記連通路の諸元を、当該連通路における前記気体の共鳴周波数に基づいて決定する。
【０００９】
本発明によれば、第１気体室と第２気体室との間を連通する連通路の諸元自体を当該連通路における気体の共鳴周波数に基づいて決定することとしたので、連通路での気体の共鳴周波数を所望の帯域に設定することができる。このため、共鳴周波数が防振装置によって防振する振動の周波数とは異なるように連通路を設計することができ、連通路の設計段階で共鳴の発生を防止することができる。これにより、気体の共鳴を防止することができ、所期の防振特性を確保可能な防振装置を製造することができる。
【００１０】
本発明に係る防振装置（１３）は、構造体（１２）を支持する気体が所定圧力で充填された第１気体室（６１）と、連通路（６２）を介して前記第１気体室に連通された第２気体室（６３）とを備え、前記構造体を支持して防振する防振装置であって、前記連通路の諸元は、当該連通路における前記気体の共鳴周波数に基づいて決定されている。
【００１１】
本発明によれば、第１気体室と第２気体室との間を連通する連通路の諸元自体が当該連通路における気体の共鳴周波数に基づいて決定されていることとしたので、気体の共鳴を防止することができ、所期の防振特性を確保可能な防振装置を製造することができる。
【００１２】
本発明に係るステージ装置（ＭＳＴ、ＰＳＴ）は、上記の防振装置（１３）を備える。
本発明によれば、気体の共鳴を防止することができ、所期の防振特性を確保することができる防振装置を備えているので、振動の影響を受けにくいステージ装置を得ることができる。
【００１３】
本発明に係る露光装置（ＥＸ）は、上記のステージ装置（ＭＳＴ、ＰＳＴ）を備える。
本発明によれば、振動の影響を受けにくいステージ装置を備えるので、露光光の微細な位置の調整が可能であり、振動による露光不良の発生を防止することができ、露光性能の高い露光装置を得ることができる。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、気体の共鳴を防止することができ、所期の防振特性を確保することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明するが、本発明はこれに限定されない。以下の説明においては、ＸＹＺ直交座標系を設定し、このＸＹＺ直交座標系を参照しつつ各部材の位置関係について説明する。水平面内の所定方向をＸ軸方向、水平面内においてＸ軸方向と直交する方向をＹ軸方向、Ｘ軸方向及びＹ軸方向のそれぞれと直交する方向（鉛直方向）をＺ軸方向とする。また、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸まわりの回転（傾斜）方向をそれぞれ、θＸ、θＹ、及びθＺ方向とする。
【００１６】
図１は、本実施形態に係る露光装置ＥＸの一例を示す概略構成図である。図１において、露光装置ＥＸは、露光光ＥＬによってマスクＭ上の照明領域を照明する照明光学系ＩＬと、マスクＭを保持して移動させるマスクステージ装置ＭＳＴと、露光光ＥＬによって照明されたマスクＭのパターンの像を基板Ｐに投影する投影光学系ＰＬと、基板Ｐを保持して移動させる基板ステージ装置ＰＳＴと、これら各部を支持するボディ４と、露光装置ＥＸ全体の動作を制御する制御装置ＣＯＮＴとを備えている。ボディ４は、床面に水平に載置されたベースプレート５と、当該ベースプレート５上に設置されたリアクションフレーム６と、当該リアクションフレーム６上に固定された支持コラム７とを有している。リアクションフレーム６は、上部支持フレーム６ｃと下部支持フレーム６ｄとを有している。上部支持フレーム６ｃ及び下部支持フレーム６ｄには、内側に向けて突出する突出部６ａ及び６ｂがそれぞれ設けられている。制御装置ＣＯＮＴは、例えばコンピュータシステムを含む。
【００１７】
本実施形態の露光装置ＥＸは、マスクＭと基板Ｐとを所定の走査方向に同期移動しつつ、マスクＭを介した露光光ＥＬで基板Ｐを露光する走査型露光装置（所謂スキャニングステッパ）である。本実施形態においては、基板Ｐの走査方向（同期移動方向）をＹ軸方向とし、マスクＭの走査方向（同期移動方向）もＹ軸方向とする。
【００１８】
本実施形態において、マスクＭは、基板Ｐに投影されるデバイスパターンが形成されたレチクルを含む。マスクＭは、例えばガラス板等の透明板にクロム等の遮光膜を用いて所定のパターンが形成された透過型マスクである。この透過型マスクは、遮光膜でパターンが形成されるバイナリーマスクに限られず、例えばハーフトーン型、あるいは空間周波数変調型などの位相シフトマスクも含む。また、本実施形態においては、マスクＭとして透過型マスクを用いるが、反射型マスクでもよい。
【００１９】
本実施形態において、基板Ｐは、デバイスを製造するための基板であって、例えばシリコンウエハのような半導体ウエハ等の基材に感光膜が形成されたものを含む。感光膜は、感光材（フォトレジスト）の膜である。また、基板Ｐにおいて、感光膜上に保護膜（トップコート膜）のような各種の膜が形成されていてもよい。
【００２０】
照明光学系ＩＬは露光光ＥＬを射出する光源を有し、支持コラム７によって支持されている。照明光学系ＩＬは、所定の位置関係で配置されたミラー、可変減光器、ビーム成形光学系、オプティカルインテグレータ、集光光学系、振動ミラー、照明系開口絞り板、ビームスプリッタ、リレーレンズ系、及びブラインド機構（設定装置）等を備えている。照明光学系ＩＬより射出される露光光ＥＬとしては、例えばＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）などが用いられている。
【００２１】
マスクステージ装置ＭＳＴは、マスク定盤３、ステージ部２２０、当該ステージ部２２０を取り囲むように配置された枠状部材２３０を備える。  
マスク定盤３は平面視矩形の板状部材であり、防振ユニット８を介して上部支持フレーム６ｃにほぼ水平に支持されている。マスク定盤３には、当該マスク定盤３のＺ方向上の位置を検出するセンサ（不図示）が複数箇所に設けられている。
【００２２】
防振ユニット８は、マスク定盤３の底面３ｃに設けられたボイスコイルモータ８ａと、当該ボイスコイルモータ８ａをＺ軸方向に支持するエアマウント８ｂとを有している。ボイスコイルモータ８ａは、電磁力によってマスク定盤３をＺ軸方向に駆動する駆動機構である。ボイスコイルモータ８ａは、エアマウント８ｂを介して上部支持フレーム６ｃの突出部６ａに支持されている。エアマウント８ｂは、上部支持フレーム６ｃの突出部６ａ上に設けられている。エアマウント８ｂは、所定圧力のエアが充填されたエア室（不図示）を有しており、当該エア室内のエアの圧力によってボイスコイルモータ８ａをＺ軸方向に支持する構成になっている。
【００２３】
図２は本実施形態に係るマスクステージ装置ＭＳＴを示す図である。図２（Ａ）はマスクステージ装置ＭＳＴの斜視図、図２（Ｂ）はステージ部２２０を示す斜視図である。  
図１、図２（Ａ）及び図２（Ｂ）に示すように、マスク定盤３の平面視中央部には、露光用照明光ＥＬを通過させるための矩形開口３ａが形成されている。矩形開口３ａのＸ軸方向の両側には、ＸＺ断面逆Ｌ字状のガイド部２１６ｃがそれぞれ設けられている。
【００２４】
ステージ部２２０は、略矩形形状のステージ本体１６と、当該ステージ本体１６からＹ方向に延設された４つの延設部２２４とを有している。延設部２２４の底面（下面、−Ｚ側の面）には、アングルプレート状のアングル部材２２７と、気体静圧軸受（不図示）とが設けられている。気体静圧軸受により、ステージ部２２０は、マスク定盤３上に数ミクロン程度のクリアランスを介して、非接触に浮上支持される。ステージ部２２０の−Ｙ方向の端部には、一対のＹ移動鏡２３３が設けられている。外部に設けた干渉計（不図示）によってＹ移動鏡２３３のＹ方向の位置を測定できるようになっている。
【００２５】
ステージ本体１６の略中央には、露光用照明光ＥＬの通路となる開口２２３が形成されている。開口２２３は、１段掘り下げられた段部を有する。当該段部には、マスクＭを下側から吸着保持するホルダ２２５が設けられる。開口２２３を構成する４辺のうちＹ方向に延在する辺に沿った位置には、４つ（各辺にそれぞれ２つ）のレチクルクランプ２７０が配置される。
【００２６】
レチクルステージ駆動系は、ステージ部２２０をＹ方向に駆動するとともにθｚ方向に微小駆動する一対のリニアモータ２０と、ステージ部２２０をＸ方向に微小駆動するボイスコイルモータ２５０とからなる。一対のリニアモータ２０は、固定子ユニット２４２及び可動子ユニット２４４から構成される。可動子ユニット２４４は、ステージ部２２０の開口２２３のＸ方向の両側に配置されている。可動子ユニット２４４は、ステージ本体１６の上面及び下面に埋め込まれた一対の磁極ユニット２４４ａ、２４４ｂを有する。一対のＹ軸リニアガイド２４２の間には、所定のクリアランスを介して、ステージ部２２０の磁極ユニット２４４ａ、２４４ｂが配置される。
【００２７】
ボイスコイルモータ２５０は、固定子ユニット２５２及び可動子ユニット２５４から構成される。可動子ユニット２５４は、ステージ部２２０のＸ方向の端部に配置されている。可動子ユニット２５４としては、板状の永久磁石２５４ａが用いられる。電機子ユニットを構成する固定子ユニット２５２の間には、所定のクリアランスを介して永久磁石２５４ａが配置される。
【００２８】
枠状部材２３０は、下面に気体静圧軸受が形成されており、マスク定盤３上に数ミクロン程度のクリアランスを介して非接触に浮上支持された状態になっている。枠状部材２３０の＋Ｘ側面及び＋Ｙ側面には、磁気ユニットからなる可動子２６１，２６３，２６５，２６７が設けられる。マスク定盤３には、これら可動子２６１，２６３，２６５，２６７に対応するように、電機子ユニットからなる固定子２６２，２６４，２６６，２６８が設けられる。固定子２６２，２６４，２６６，２６８は、支持台２１２を介して設けられる。可動子２６１，２６３と固定子２６２，２６４により、ムービングマグネット型ボイスコイルモータからなるＸ軸方向駆動用のトリムモータ２６０Ｘが構成される。同様に、可動子２６５，２６７と固定子２６６，２６８により、ムービングマグネット型ボイスコイルモータからなるＹ軸方向駆動用のトリムモータ２６０Ｙが構成される。枠状部材２３０の−Ｘ方向及び−Ｙ方向の側壁には、それぞれ窓ガラス２３２，２３４がはめ込まれており、ステージ部２２０の位置を計測するレーザ干渉計（不図示）からの測長ビームが透過可能となっている。
【００２９】
このように構成されたマスクステージ装置ＭＳＴでは、ステージ部２２０の移動に伴う反力が枠状部材２３０の移動によりキャンセルされるようになっている。枠状部材２３０は、マスク定盤３に対して所定のクリアランスを介して非接触に支持されているので、当該反力の作用により、枠状部材２３０は、運動量保存の法則に従った距離だけその反力に応じた方向に移動する。特に、枠状部材２３０がステージ部２２０を取り囲むように形成されているので、必然的に大型化し、その重量が大きくなる。したがって、ステージ部２２０との重量比を大きくすることができる。このため、枠状部材２３０の移動距離は、比較的短くて足りる。
【００３０】
図１に戻って、投影光学系ＰＬは、マスクＭを透過した露光光ＥＬを基板Ｐ上に投影する光学系であり、１／４（または１／５）縮小倍率の屈折光学系が用いられている。投影光学系ＰＬは、鏡筒１０及びフランジ１１を有している。鏡筒１０は、内部に複数の光学素子を保持している。光学素子としては、例えば物体面（マスクＭ）側と像面（基板Ｐ）側の両方がテレセントリックで円形の投影視野を有し、石英や蛍石を光学硝材とした屈折光学素子（レンズ素子）が用いられている。フランジ１１は、鏡筒１０の外周に当該鏡筒１０と一体的に設けられた突出部であり、鏡筒定盤１２に係合されている。鏡筒定盤１２は、投影光学系ＰＬを保持するための板状部材であり、本実施形態における特徴的構成要素である防振ユニット１３を介してリアクションフレーム６の突出部６ｂにほぼ水平に支持されている。鏡筒定盤１２の平面視中央部には、投影光学系ＰＬを貫通させるための貫通孔１２ａが設けられている。
【００３１】
基板ステージ装置ＰＳＴは、基板定盤２と、当該基板定盤２に沿ってＸＹ方向に移動可能に支持されたステージ本体２７とを有している。基板定盤２は平面視矩形の板状部材であり、三角形の頂点に配置された防振ユニット２９（なお、紙面奥側の防振ユニットについては図示せず）を介してベースプレート５にほぼ水平に支持されている。防振ユニット２９は、内圧が調整可能なエアマウント３０と、基板定盤２に対して推力を付与するボイスコイルモータ３１とがベースプレート５上に並列に配置された構成になっている。これら防振ユニット２９によって、ベースプレート５を介して基板定盤２に伝わる微振動がマイクロＧレベル（Ｇは重力加速度）で絶縁されるようになっている。
【００３２】
ステージ本体２７の上面には、基板ホルダ４１が設けられている。当該基板ホルダ４１を介して基板Ｐが真空吸着等によって固定されるようになっている。投影光学系ＰＬの鏡筒１０下端には参照鏡４２が固定されている。ステージ本体２７の一部には移動鏡４３が固定されている。鏡筒定盤１２の底面にはレーザ干渉計４４が固定されている。ステージ本体２７のＸ方向の位置は、参照鏡４２を基準とする移動鏡４３の位置変化がレーザ干渉計４４によって計測されるようになっており、当該レーザ干渉計４４によってリアルタイムに計測されるようになっている。これら参照鏡４２、移動鏡４３、レーザ干渉計４４とほぼ直交するように不図示の参照鏡、レーザ干渉計および移動鏡が設けられており、ステージ本体２７のＹ方向の位置についても計測されるようになっている。
【００３３】
投影光学系ＰＬのフランジ１１には、異なる３カ所に３つのレーザ干渉計４５が、基板定盤２とのＺ方向の相対位置を検出するための検出装置として固定されている（図１においてはこれらのレーザ干渉計のうち１つが代表的に示されている）。各レーザ干渉計４５に対向する鏡筒定盤１２の部分には、開口１２ｂがそれぞれ形成されており、これらの開口１２ｂを介して各レーザ干渉計４５からＺ方向のレーザビーム（測長ビーム）が基板定盤２に向けて照射されるようになっている。
【００３４】
ステージ本体２７の底面には、非接触ベアリングである複数のエアベアリング（エアパッド）２８が固定されている。ステージ本体２７は、これらのエアベアリング２８によって、基板定盤２上に、例えば数ミクロン程度のクリアランスを介して浮上支持されている。ステージ本体２７の底部にはガイドバーＸＧが設けられている。ガイドバーＸＧは、ステージ本体２７を相対移動自在に支持している。ガイドバーＸＧの両端部は、それぞれリニアモータ３３に接続されている。
【００３５】
図３は、基板ステージ装置ＰＳＴの構成を示す斜視図である。  
図１及び図３に示すように、基板定盤２上には、エアパッド５４を介してリニアモータ３３が設けられている。リニアモータ３３は、基板定盤２上のうちＸ軸方向の両端部に一対配置されている。リニアモータ３３は、電機子ユニットからなる可動子３６と、当該可動子３６に対応する磁石ユニットを有する固定子３７とを有するムービングコイル型のリニアモータである。
【００３６】
ガイドバーＸＧは、Ｘ方向に沿った長尺形状を呈しており、その長さ方向両端にはリニアモータ３３の可動子３６（図３では１つのみ図示）がそれぞれ接続されている。固定子３７は、基板定盤２上にエアパッド５４を介して設けられている。可動子３６が固定子３７との間の電磁気的相互作用により駆動されることで、ガイドバーＸＧはＹ方向に移動するようになっており、当該リニアモータ３３の駆動を調整することでθＺ方向に回転移動するようにもなっている。
【００３７】
固定子３７は、エアパッド５４を介してそれぞれＹ方向に移動自在にそれぞれ浮揚支持されている。このため、運動量保存の法則により、ステージ本体２７の例えば＋Ｙ方向の移動に応じて、固定子３７は−Ｙ方向に移動する。換言すると、固定子３７は、カウンタマスとして機能しており、その移動によりステージ本体２７の移動に伴う反力を相殺するとともに、重心位置の変化を防ぐことができる。
【００３８】
＋Ｘ側（図３中、左側）に配置される固定子３７には、ガイドバーＸＧや可動子３６に接続されるエア用配管、冷媒用配管、電力配線および信号供給用のシステム配線等の各種用力供給ケーブル等に応力集中を発生させずに（緩和して）導くための傾斜面が形成されている（但し、図１では便宜上同形状に図示）。
【００３９】
なお、固定子３７には、ステージ本体２７の移動時の運動量に基づいて当該固定子３７の運動量を補正するトリムモータ（不図示）が備えられている。このトリムモータは、例えば固定子３７のＹ側端部にＹ方向に沿って延設された円柱状の移動子と、移動子をＹ方向に駆動する固定子とからなるシャフトモータで構成される。ステージ本体２７がＸ方向及びＹ方向の双方に移動する場合や、ガイドバーＸＧの中央部から偏心した位置から移動する場合に左右の固定子３７がその推力配分によってそれぞれ異なる変位が生じたり、可動子３６と固定子３７とのカップリングによりこれらが相対移動した際に元の位置に止まろうとする力が作用したりする場合には、固定子３７が移動すべき位置とは異なる位置に移動する。ステージ本体２７の移動時の運動量に基づいてトリムモータを駆動することで、固定子３７が所定の位置に到達するようにその移動量（運動量）を補正することができる構成になっている。
【００４０】
ステージ本体２７とガイドバーＸＧとの間には磁気ガイドが設けられている。磁気ガイドは、Ｚ方向に所定量のギャップを維持するための磁石およびアクチュエータを有している。ステージ本体２７は、当該磁気ガイドを介して、Ｘ方向に自在に相対移動するようガイドバーＸＧに非接触で支持されている。ガイドバーＸＧには、固定子３５ａを有するリニアモータ３５を有している。ステージ本体２７は、リニアモータ３５による電磁気的相互作用によりＸ方向に駆動されるようになっている。リニアモータ３５の可動子は図示していないが、例えばステージ本体２７に取り付けられている。
【００４１】
図４に、防振ユニット１３の概略構成図を示す。防振ユニット１３は、所定圧力のエア（気体）が充填され、このエア（の圧力）により鏡筒定盤１２を介して投影光学系ＰＬを支持するエアマウント１３ｂと、エアマウント１３ｂが投影光学系ＰＬを支持するＺ方向に電磁力で投影光学系ＰＬを駆動するボイスコイルモータ１３ａとを有している。
【００４２】
ボイスコイルモータ１３ａは、電磁力により投影光学系ＰＬをＺ方向に駆動するものであって、下部支持フレーム６ｄに突設された架台８ｅと鏡筒定盤１２との間に、エアマウント１３ｂとは独立して、且つ並列に配設されている。
【００４３】
エアマウント１３ｂは、下部支持フレーム６ｄ上に支持された第１エア室（第１気体室）６１と、当該第１エア室６１に連通路６２を介して連通された第２エア室（第２気体室）６３と、第１エア室６１の内部空間８３のエア圧を検出する圧力センサ（検出装置）８４と、内部空間８３を加圧・減圧する不図示のエア圧調整装置に接続され、その加圧・減圧を切り替えるサーボバルブ８５と、圧力センサ８４の検出結果に基づいてサーボバルブ８５を制御する制御装置８０とから概略構成される。
【００４４】
第１エア室６１は、内部空間８３のエア圧に応じて、鏡筒定盤１２に垂設された架台２５ａを介して鏡筒定盤１２（投影光学系ＰＬ）をＺ方向に支持するピストン８７と、第１エア室６１に対してピストン８７をＺ方向に移動自在に支持するダイヤフラム８６を備えている。
【００４５】
第２エア室６３は、下部支持フレーム６ｄに設けられた凹部６３ａと、これら凹部６３ａ間を貫通する貫通部６３ｂとにより形成されている。第２エア室６３は、平面視で第１エア室６１を含む位置に配置されている。この第２エア室６３は、下部支持フレーム６ｄに形成された開口部６ｅを有している。開口部６ｅは第１エア室６１に設けられた開口部８１に平面視で重なる位置に配置されており、当該開口部８１に接続されている。開口部８１の径と開口部６ｅの径は等しくなっている。
【００４６】
第１エア室６１の開口部８１と、第２エア室６３の開口部６ｅとにより、第１エア室６１と第２エア室とを連通する連通路６２が構成されている。連通路６２は、平面視で第１エア室６１に重なる位置に設けられている。連通路６２は、第１エア室６１から第２エア室６３へと一定の径で直線状に設けられている。第１エア室６１と第２エア室６３とが配管などを介さずに開口部８１及び開口部６ｅを介して接続されているため、露光装置ＥＸ内の省スペース化が可能になると共に連通路６２の設計が容易になる。
【００４７】
下部支持フレーム６ｄは、鋳造による鋳物として、図５に示すように、枠部６５ａ及び脚部６５ｂからなる炬燵状に形成されたものであり、枠部６５ａ及び脚部６５ｂには軽量化を図るための肉抜き部（凹部）６５ｃが強度低下を招かない範囲でそれぞれ複数形成されている。下部支持フレーム６ｄの材料としては、上述したインバーや、ねずみ鋳鉄（FC）、ダクタイル鋳鉄（FCD）等の鋳鉄、ステンレス等を用いることができる。
【００４８】
そして、第２エア室６３は、これらの肉抜き部６５ｃの中、エアマウント１３ｂの配置に応じたものが凹部６３ａとして適宜選択されるとともに、第１エア室６１の内部空間８３の容積との比に応じた数が選択され、且つ選択された凹部６３ａ間に貫通部６３ｂが形成されてなるものである。
【００４９】
また、下部支持フレーム６ｄには、鋳造成形に伴ってブローホール（いわゆる巣）が生じている可能性があるため、本実施の形態では第２エア室６３として選択された凹部６３ａ（肉抜き部６５ｃ）及び貫通部６３ｂの表面には、ブローホールを埋めてエアの漏出を防ぐ表面処理材６３ｅが焼き付け等の手法で塗装されている。
【００５０】
ここで、エアマウント１３ｂの空気バネとしてのバネ定数Ｋは、次式にて表される。  
Ｋ＝（γ×Ｐａ×Ａ２）／（Ｖ＋Ｖｓ）     …（１）
γ：ポリトロピック指数、Ｐａ：内圧、Ａ：有効受圧面積
Ｖ：第１エア室容積、Ｖｓ：第２エア室容積
【００５１】
式（１）から明らかなように、空気バネのバネ定数Ｋは容積に反比例しており、大きな容積を有することで低剛性のバネとなる。また、第１エア室６１の容積を一定とすると、バネ定数Ｋは第１エア室６１の容積に対する第２エア室６３の容積の比に反比例することになる。
【００５２】
図６に、第１エア室６１の容積に対する第２エア室６３の容積比とバネ定数との関係を示す。この図から明らかなように、容積比が大きくなるに従ってバネ定数も小さくなり、空気バネとしての剛性が低くなるが、容積比が５を超えると第２エア室６３の容積増加分に比べてバネ定数の減少分が微小となり剛性低下に対する効果が少なくなる。逆に、容積比が小さい範囲では、第２エア室６３の容積増加分に比べてバネ定数の減少分が大きく、剛性低下に対する効果は大きいものの、容積比が１未満ではバネ定数の絶対値が大きくなり、空気バネとして許容される剛性を超えることになる。そのため、本実施の形態では、第２エア室６３の容積を第１エア室６１の容積の１〜５倍の範囲に設定してある。
【００５３】
本実施形態では、連通路６２の径、Ｚ軸方向の寸法（以下、「長さ」と表記する。）などの諸元は、当該連通路６２におけるエアの共鳴周波数に基づいて決定されている。具体的には、当該諸元は、ヘルムホルツ共鳴周波数に基づいて決定されている。連通路６２におけるエアのヘルムホルツ共鳴周波数ｆは次式で表される。
【数１】
2010014250.tif 000003
【００５４】
…（２）
ｃ：音速、Ｓ：連通路断面積、Ｌ：連通路長さ、Ｖ：空気バネ容積
【００５５】
図７（Ａ）及び図７（Ｂ）は、防振ユニットの振動の伝達の大きさ（振動伝達率）を示すグラフである。グラフの横軸は振動の周波数（Ｈｚ）を示しており、対数表示となっている。縦軸は伝達される振動の大きさ（ｄＢ）を示している。グラフ（１）は、防振ユニットが第１エア室６１のみを有する場合、すなわち、第２エア室６３を設けない構成とした場合の振動伝達率を示している。グラフ（２）は、防振ユニット１３が第１エア室６１及び第２エア室６３を有する場合、すなわち、本実施形態に係る防振ユニット１３と同一構成の防振ユニットについての振動伝達率を示している。本実施形態では、防振する振動の周波数（以下、「防振周波数」と表記する。）の帯域を例えば１Ｈｚ〜１００Ｈｚと設定する。当該防振周波数の帯域についてはあくまでも一例であり、この範囲とは異なる範囲に設定しても勿論構わない。
【００５６】
図７（Ａ）に示すように、１Ｈｚ〜１５Ｈｚの帯域では、グラフ（２）がグラフ（１）の下側を推移している。したがって、この帯域では、第１エア室６１のみを有する構成よりも第１エア室６１及び第２エア室６３を有する構成の方が振動伝達率が低いことがわかる。
【００５７】
一方、１５Ｈｚ〜３０Ｈｚの帯域では、グラフ（２）で示される振動伝達率が急激に大きくなっている。グラフ（２）の当該ピーク部分では、グラフ（１）よりも大きく上側に突出している。このピークは、連通路６２内のエアが共鳴することで発生する振動によるものである。このピークの頂点に対応する周波数（約２０Ｈｚ）は、式（２）で示されるヘルムホルツ共鳴周波数である。このように第１エア室６１及び第２エア室６３を有する構成においては、ヘルムホルツ周波数を含む１５Ｈｚ〜３０Ｈｚの帯域において振動伝達率が上昇する。したがって、防振周波数の帯域がグラフ（２）でピークの形成される帯域内に含まれる場合、ピークの帯域において防振特性が著しく低下することになる。
【００５８】
３０Ｈｚを超える帯域では、グラフ（２）はグラフ（１）に重なっている。したがって、この帯域では、第１エア室６１のみを有する構成と第１エア室６１及び第２エア室６３を有する構成との間で、振動伝達率がほぼ等しくなっていることがわかる。このグラフより、当該３０Ｈｚを超える周波数を有する振動に対しては、第２エア室６３を付設しても振動伝達率が低下しないことになる。このように、第１エア室６１に第２エア室６３を単に付設しただけでは、防振特性が向上しないことがわかる。
【００５９】
これに対して、上記の式（２）より、連通路の断面積Ｓが大きいほど、また、連通路の長さＬの値が小さいほど、ヘルムホルツ共鳴周波数の値は大きくなることがわかっている。したがって、連通路６２の断面積Ｓをより大きくし、連通路６２の長さＬをより小さくすることによって、図７（Ｂ）に示すように、ヘルムホルツ共鳴周波数を防振周波数の帯域よりも高くすることができる。ヘルムホルツ共鳴周波数を防振周波数の帯域よりも高くすることで、本実施形態の防振周波数（１Ｈｚ〜１００Ｈｚ）の帯域に対しては、グラフ（２）が常にグラフ（１）の下側を推移することになる。この場合においては、第１エア室６１に第２エア室６３を付設することによって振動伝達性が低下し、所期の防振特性が得られることがわかる。
【００６０】
そこで、本実施形態では、ヘルムホルツ共鳴周波数が防振周波数の帯域よりも高くなるように連通路６２の諸元、例えば断面積（径）Ｓ及び連通路６２の長さＬが決定されている。具体的には、開口部８１の径や当該開口部８１におけるＺ軸方向の寸法、開口部６ｅの径、当該開口部６ｅにおけるＺ軸方向の寸法などを決定することにより連通路６２の諸元（ここでは断面積Ｓ及び長さＬ）が決定される。連通路６２の諸元は、例えば防振ユニット１３の設計段階で決定される。
【００６１】
連通路６２の諸元は、防振周波数の帯域に応じて所望の値に決定することができる。連通路６２の断面積Ｓは、例えば平面視で第１エア室６１の設置範囲の面積を超えないように設定することができる。連通路６２の長さＬは、例えば下部支持フレーム６ｄの寸法に応じて設定することができる。
【００６２】
ヘルムホルツ共鳴周波数が防振周波数の帯域よりも高くなるように連通路６２の諸元を設定することで、防振周波数の帯域内の周波数を有する振動に対して、第１エア室６１及び第２エア室６３を有する本実施形態の防振ユニット１３の振動伝達率は、第２エア室６３を付設しない防振ユニットの振動伝達率に対して低くなる。このため、所期の防振特性を確保することができる。
【００６３】
次に、上記の下部支持フレーム６ｄを製造する手順を図８に示すフローチャートを用いて説明する。  
まず、ステップＳ１においては、木材や金属等を用いて下部支持フレーム６ｄと同等形状の模型を製作する。このとき、模型の大きさは、鋳物の収縮を考慮して多少大きめに製作することが好ましい。
【００６４】
次に、ステップＳ２では、製作した模型の周りを砂等で詰めた後に模型を取り去ることによって、図９に示すように、模型（すなわち下部支持フレーム６ｄ）の鋳物となる部分が空洞部７０となる鋳型（型）７１を造型する。
【００６５】
そして、ステップＳ３では、鋳型７１に対して肉抜き部６５ｃ（すなわち凹部６３ａ）を形成するための中子（第１中子）７２を設置するとともに、鋳造後に中子７２を除去する際に用いられる孔部を形成するための中子（第２中子）７３を、中子７２と鋳型７１とに当接させて設置する。このとき、図９に示される２つの中子７３のうち図中右側の中子７３については、開口部６ｅの径及びＺ軸方向の寸法が上記の決定された寸法となるように設計しておく。なお、以下の説明では、複数の肉抜き部６５ｃの中、第２エア室６３として用いられるものについてのみ言及する。
【００６６】
これら中子７２、７３は対で設置するが、鋳物としての強度を確保するために互いに所定幅の隙間をあけて配置される。そして、第２エア室６３の容積設定により、第２エア室６３として用いる複数の凹部６３ａには、貫通部６３ｂを形成するための中子（第３中子）７４を、隣り合う中子７２、７２間の隙間に設置する。
【００６７】
一方、ステップＳ４では、鋳型造型と並行して（または鋳型造型後に）、鋳物となる材料（鋳鉄等）を溶解し、ステップＳ５において鋳型７１の湯口（不図示）から溶湯を鋳型７１内の空洞部７０に注湯する。そして、鋳型７１を冷却して（ステップＳ６）鋳物を固化させた後に、鋳型７１及び中子７２〜７４を除去する（ステップＳ７）。このとき、中子７２は、中子７３を除去することで鋳物に形成された孔部を介して除去し、中子７４は中子７２、７３を除去することで鋳物に形成された孔部を介して除去する。これにより、凹部６３ａ及び貫通部６３ｂを有する下部支持フレーム６ｄが得られる。
【００６８】
ただし、この状態の下部支持フレーム６ｄの鋳物は、中子７３で形成された孔部の存在により全ての凹部６３ａが外部に対して開放されている。そこで、複数の孔部の中、開口部６ｅとなる孔部（図９中、右側の中子７３で形成される孔部）の一つを除いて他を閉塞する（ステップＳ８）。この閉塞手段としては、例えば鋳物の外面に蓋体を取り付ける方法等が採用可能である。続いて、ステップＳ９において、第２エア室６３として用いる凹部６３ａ及び貫通部６３ｂの表面に表面処理材６３ｅ（図４参照）を塗装する。これにより、第２エア室６３を有する下部支持フレーム６ｄが形成される。
【００６９】
そして、この下部支持フレーム６ｄと上部支持フレーム６ｃとを結合することで、リアクションフレーム６を形成することができる。また、エアマウント１３ｂにおいては、下部支持フレーム６ｄ上に第１エア室６１を設置するとともに、開口部８１と開口部６ｅとが接続されて連通路６２が形成され、第１エア室６１の内部空間８３と第２エア室６３の凹部６３ａとが連通し、双方の容積を合計した容積の空気バネを得ることができる。
【００７０】
次に、防振ユニット１３の動作について説明する。  
マスクステージ装置ＭＳＴや基板ステージ装置ＰＳＴが移動した際には、各ステージの移動に伴う重心の変化による影響をキャンセルするカウンターフォースを防振ユニット８、２９に対してフィードフォワードで与え、この力を発生するようにエアマウント８ｂ、３０およびボイスコイルモータ８ａ、３１を駆動する。また、各ステージ装置ＭＳＴ、ＰＳＴと定盤３、２との摩擦が零でない等の理由で、定盤３、２の６自由度方向の微少な振動が残留した場合にも、上記残留振動を除去すべく、エアマウント８ｂ、３０およびボイスコイルモータ８ａ、３１をフィードバック制御する。そして、上記ステージ装置ＭＳＴ、ＰＳＴの移動や、防振ユニット８、２９の駆動により、下部支持フレーム６ｄに対しても偏荷重や残留振動が作用した場合は、防振ユニット１３を制御・駆動する。
【００７１】
具体的には、防振ユニット１３の負担すべき重量が増えたときには、エアマウント１３ｂにおいて、制御装置８０が圧力センサ８４の検出結果をモニタしながらサーボバルブ８５をエア供給側に切り替える。これにより、エア圧調整装置から所定圧力（例えば１０ｋＰａ）のエアがサーボバルブ８５を介して第１エア室６１の内部空間８３に充填され、ピストン８７及び架台２５ａを介して鏡筒定盤１２（投影光学系ＰＬ）を支持する際の支持力を増すことができる。
【００７２】
また、エアマウント１３ｂの支持力で不足する重量増加についてはボイスコイルモータ１３ａを駆動して鏡筒定盤１２に推力を付与することで、不足する支持力を負担することになる。また、鏡筒定盤１２の残留振動に関しては、振動センサ群の検出結果に基づいて、重心変化時と同様にエアマウント１３ｂ及びボイスコイルモータ１３ａを駆動することで残留振動をアクティブに制振し、下部支持フレーム６ｄを介して鏡筒定盤１２（投影光学系ＰＬ）に伝わる微振動をマイクロＧ（Ｇは重力加速度）レベルで絶縁する。そして、防振ユニット１３の負担すべき重量が減り、エアマウント１３ｂ内の圧力を減圧する際には、サーボバルブ８５をエア排出側に切り替えて内部空間８３からエアを排出する。
【００７３】
上述した残留振動を制振する際には、エアマウント１３ｂの空気バネとしての容積が第１エア室６１の容積及び第２エア室６３の容積から形成されることでバネ定数が小さくなるため、低剛性の空気バネとして機能することになる。
【００７４】
続いて、露光装置ＥＸにおける露光動作について説明する。  
いずれも不図示のレチクル顕微鏡およびオフアクシス・アライメントセンサ等を用いたレチクルアライメント、ベースライン計測等の準備作業が行われ、その後アライメントセンサを用いた基板Ｐのファインアライメント（ＥＧＡ；エンハンスト・グローバル・アライメント等）が終了し、基板Ｐ上の複数のショット領域の配列座標が求められる。そして、アライメント結果に基づいてレーザ干渉計４４の計測値をモニタしつつ、リニアモータ３３を制御して基板Ｐの第１ショットの露光のための走査開始位置にステージ本体２７を移動する。リニアモータ２０、３３を介してステージ本体１６とステージ本体２７とのＹ方向の走査を開始し、両ステージがそれぞれの目標走査速度に達すると、露光用照明光によってマスクＭのパターン領域が照明され、走査露光が開始される。マスクＭのパターン領域の異なる領域が照明光で逐次照明され、パターン領域全面に対する照明が完了することにより、基板Ｐ上の第１ショットの走査露光が完了する。これにより、マスクＭのパターンが投影光学系ＰＬを介して基板Ｐ上の第１ショット領域に縮小転写される。
【００７５】
第１ショットの走査露光が終了すると、リニアモータ３３を介してステージ本体２７がＸ、Ｙ方向にステップ移動され、第２ショットの露光のため走査開始位置に移動される。このステップ移動の際に、ステージ本体２７の位置（基板Ｐの位置）を検出するレーザ干渉計４４の計測値に基づいて、ステージ本体２７のＸ、Ｙ、θＺ方向の位置をリアルタイムで計測する。この計測結果に基づいてリニアモータ３３を制御し、ステージ本体２７のＸＹ位置変位が所定の状態になるようにステージ本体２７の位置を制御する。ステージ本体２７のθＺ方向の変位に関しては、この変位の情報に基づいて基板Ｐ側の回転変位の誤差を補正するように、ステージ本体１６を回転制御する。この後、上記第１ショット領域と同様に、第２ショット領域に対して走査露光を行う。そして、基板Ｐ上のショット領域の走査露光と次ショット露光のためのステップ移動とが繰り返し行われ、基板Ｐ上の露光対象ショット領域の全てにマスクＭのパターンが順次転写される。
【００７６】
以上のように、本実施形態によれば、第１エア室６１と第２エア室６３との間を連通する連通路６２の諸元自体を当該連通路６２におけるエアのヘルムホルツ共鳴周波数に基づいて決定することとしたので、連通路６２でのエアのヘルムホルツ共鳴周波数を所望の帯域に設定することができる。このため、連通路６２の設計段階で共鳴の発生を防止することができる。特に本実施形態では、ヘルムホルツ共鳴周波数が防振ユニット１３の防振周波数よりも高くなるように連通路６２の諸元が決定されているので、エアの共鳴を確実に回避することができる。これにより、エアの共鳴を防止することができ、所期の防振特性を確保可能な防振ユニット１３を製造することができる。
【００７７】
［第２実施形態］  
次に、本発明の第２実施形態を説明する。本実施形態では、連通路の構成が第１実施形態とは異なっており、他の構成は第１実施形態と同一になっている。図１０は、防振ユニット１３の概略構成図である。
【００７８】
同図に示すように、本実施形態に係る防振ユニット１３は、第１エア室６１と第２エア室６３とが配管６７を介して接続された構成になっている。配管６７は、第１エア室６１に設けられた開口部８１と、第２エア室６３に設けられた開口部６ｅとを連通するように接続されている。本実施形態では、開口部８１が第１エア室６１の側部に設けられており、配管６７の一端が第１エア室６１の側部に接続されている。開口部６ｅは図中左側の凹部６３ａに設けられており、配管６７の他端は当該図中左側の凹部６３ａに接続されている。
【００７９】
本実施形態では、配管６７、開口部８１及び開口部６ｅによって連通路６２が構成されている。第１エア室６１と第２エア室６３との間は連通路６２を介して接続されている。連通路６２の断面積Ｓは、当該連通路６２内で一定になるように形成されている。すなわち、配管６７の内径、開口部８１の径及び開口部６ｅの径がそれぞれ同一の寸法になるように形成されている。
【００８０】
連通路６２の諸元、特に断面積Ｓ及び長さＬについては、連通路６２におけるエアのヘルムホルツ共鳴周波数に基づいて決定されている。実際には、第１実施形態と同様に、当該ヘルムホルツ共鳴周波数が防振周波数よりも大きくなるように連通路６２の断面積Ｓ及び長さＬが決定されている。
【００８１】
本実施形態のように、第１エア室６１と第２エア室６３とが配管６７を介して接続される構成であっても、当該配管６７を含む連通路６２の諸元をヘルムホルツ共鳴周波数に基づいて決定することにより、当該連通路６２内のエアの共鳴を回避することができる。本実施形態においても、ヘルムホルツ共鳴周波数が防振ユニット１３の防振周波数よりも高くなるように連通路６２の諸元を決定することが好ましい。
【００８２】
本発明の技術範囲は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更を加えることができる。  
例えば、連通路６２内におけるエアの振動を吸収する図１１に示すような振動吸収部材６６を連通路６２内に配置しても構わない。振動吸収部材６６は、円板に複数の貫通孔６６ａが形成されてなるものである。振動吸収部材６６を設けることにより、エアマウント１３ｂの固有振動数と同一の周波数を有する振動に対してエアマウント１３ｂの共振を抑えることができる。
【００８３】
また、第２エア室６３の凹部６３ａ同士を接続する貫通部６３ｂの諸元についても、ヘルムホルツ共鳴周波数などのエアの共鳴周波数に基づいて決定するようにしても構わない。貫通部６３ｂの諸元を決定する際には、連通路６２の諸元を決定する場合と同様、共鳴周波数が防振周波数よりも高くなるように諸元を決定することが好ましい。この場合、第１エア室６１に接続された凹部６３ａを第２気体室として、当該凹部６３ａに貫通部６３ｂを介して接続された凹部６３ａを第３気体室として設定することができる。また、貫通部６３ｂを第２連通路として設定することができる。この構成により、貫通部６３ｂにおけるエアの共鳴を回避することができ、防振特性を一層高めることが可能となる。なお、当該構成の他に、上記実施形態のように第２エア室６３を第２気体室と設定し、この第２エア室６３に別途連通路（第２連通路）を介して接続されるエア室を設け、当該エア室を第３気体室と設定する構成であっても構わない。
【００８４】
また、上記実施形態においては、鏡筒定盤１２を支持する防振ユニット１３のエアマウント１３ｂが第２エア室６３に接続された構成であり、連通路６２の諸元がヘルムホルツ共鳴周波数に基づいて決定された構成であったが、これに限られることは無く、例えば当該構成をマスクステージ装置ＭＳＴを支持する防振ユニット８や基板ステージ装置ＰＳＴを支持する防振ユニット２９に適用することも可能である。この場合、振動の影響をより受けにくいステージ装置を得ることができる。
【００８５】
なお、本実施の形態の基板としては、半導体デバイス用の半導体基板Ｐのみならず、液晶ディスプレイデバイス用のガラス基板や、薄膜磁気ヘッド用のセラミックウエハ、あるいは露光装置で用いられるマスクまたはレチクルの原版（合成石英、シリコンウエハ）等が適用される。
【００８６】
露光装置ＥＸとしては、マスクＭと基板Ｐとを同期移動してマスクＭのパターンを走査露光するステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置（スキャニング・ステッパー；USP5,473,410）の他に、マスクＭと基板Ｐとを静止した状態でマスクＭのパターンを露光し、基板Ｐを順次ステップ移動させるステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置（ステッパー）にも適用することができる。また、本発明は基板Ｐ上で少なくとも２つのパターンを部分的に重ねて転写するステップ・アンド・スティッチ方式の露光装置にも適用可能である。
【００８７】
露光装置ＥＸの種類としては、基板Ｐに半導体素子パターンを露光する半導体素子製造用の露光装置に限られず、液晶表示素子製造用又はディスプレイ製造用の露光装置や、薄膜磁気ヘッド、撮像素子（ＣＣＤ）あるいはレチクル又はマスクなどを製造するための露光装置などにも広く適用できる。
【００８８】
基板ステージ装置ＰＳＴやマスクステージ装置ＭＳＴにリニアモータ（USP5,623,853またはUSP5,528,118参照）を用いる場合は、エアベアリングを用いたエア浮上型およびローレンツ力またはリアクタンス力を用いた磁気浮上型のどちらを用いてもよい。また、各ステージ装置ＭＳＴ、ＰＳＴは、ガイドに沿って移動するタイプでもよく、ガイドを設けないガイドレスタイプであってもよい。
【００８９】
各ステージ装置ＭＳＴ、ＰＳＴの駆動機構としては、二次元に磁石を配置した磁石ユニット（永久磁石）と、二次元にコイルを配置した電機子ユニットとを対向させ電磁力により各ステージ装置ＭＳＴ、ＰＳＴを駆動する平面モータを用いてもよい。この場合、磁石ユニットと電機子ユニットとのいずれか一方をステージ装置ＭＳＴ、ＰＳＴに接続し、磁石ユニットと電機子ユニットとの他方をステージ装置ＭＳＴ、ＰＳＴの移動面側（ベース）に設ければよい。
【図面の簡単な説明】
【００９０】
【図１】本発明の第１実施形態に係る露光装置の全体構成を示す図。
【図２】露光装置のマスクステージ装置の構成を示す図。
【図３】露光装置の基板ステージ装置の構成を示す図。
【図４】露光装置の防振ユニットの構成を示す図。
【図５】防振ユニットの第１エア室を支持する下部支持フレームの外観斜視図。
【図６】第１エア室の容積に対する第２エア室の容積比とバネ定数との関係を示す図。
【図７】防振ユニットの振動伝達特性を示すグラフ。
【図８】下部支持フレームを製造する手順を示すフローチャート。
【図９】下部支持フレームの製造に用いられる鋳型の部分断面図である。
【図１０】本発明の第２実施形態に係る露光装置の防振ユニットの構成を示す図。
【図１１】本発明の防振ユニットの一部の構成を示す図。
【符号の説明】
【００９１】
ＥＸ…露光装置  Ｍ…マスク  Ｐ…基板  ＭＳＴ…マスクステージ装置  ＰＳＴ…基板ステージ装置  ６ｄ…下部支持フレーム  ６ｅ…開口部  １２…鏡筒定盤  ８、１３、２９…防振ユニット  １３ａ…ボイスコイルモータ  １３ｂ…エアマウント  ６１…第１エア室  ６２…連通路  ６３…第２エア室  ６３ａ…凹部  ６３ｂ…貫通部  ６６…振動吸収部材  ６７…配管  ７０…空洞部  ７１…鋳型  ７２〜７４…中子
【図１】
2010014250.tif 000004
【図２】
2010014250.tif 000005
【図３】
2010014250.tif 000006
【図４】
2010014250.tif 000007
【図５】
2010014250.tif 000008
【図６】
2010014250.tif 000009
【図７】
2010014250.tif 000010
【図８】
2010014250.tif 000011
【図９】
2010014250.tif 000012
【図１０】
2010014250.tif 000013
【図１１】
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