(57)【要約】【課題】安全かつ効果的に、シール剤吐出部品を洗浄する方法を提供すること。【解決手段】下記（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）及び（ｅ）を含む洗浄剤を用いてシール剤吐出部品を洗浄する工程を含む、シール剤吐出部品の洗浄方法。（ａ）アジピン酸ジアルキル      １〜６０質量％（ｂ）グルタル酸ジアルキル    １０〜８０質量％（ｃ）コハク酸ジアルキル        ５〜４０質量％（ｄ）グリコールエーテル        ５〜６０質量％（ｅ）水                        １〜２０質量％【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）及び（ｅ）を含む洗浄剤を用いてシール剤吐出部品を洗浄する工程を含む、シール剤吐出部品の洗浄方法。
（ａ）アジピン酸ジアルキル      １〜６０質量％
（ｂ）グルタル酸ジアルキル    １０〜８０質量％
（ｃ）コハク酸ジアルキル        ５〜４０質量％
（ｄ）グリコールエーテル        ５〜６０質量％
（ｅ）水                        １〜２０質量％
ここで（ａ）、（ｂ）、及び（ｃ）のアルキルは、それぞれ独立して、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数５〜８のシクロアルキル基であり、（ｄ）グリコールエーテルは下記一般式（１）で示される。
一般式（１）：
Ｒ1Ｏ−（Ｒ2Ｏ）m−Ｒ3
［式中、Ｒ1は炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数５〜８のシクロアルキル基を示し、Ｒ2は炭素数２〜５のアルキレン基を示し、Ｒ3は水素、炭素数１〜６のアルキル基、又は炭素数５〜８のシクロアルキル基を示す。ｍは１〜４の整数である。］
【請求項２】
（ａ）アジピン酸ジアルキルがアジピン酸ジメチル、（ｂ）グルタル酸ジアルキルがグルタル酸ジメチル、（ｃ）コハク酸ジアルキルがコハク酸ジメチルである、請求項１に記載の洗浄方法。
【請求項３】
グリコールエーテルが、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、３−メトキシ−３−メチル−１−ブタノール、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、及びトリエチレングリコールジメチルエーテルから選ばれる１種以上である、請求項１又は２に記載の洗浄方法。
【請求項４】
前記洗浄する工程が、超音波洗浄機を用いて、超音波洗浄する工程である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の洗浄方法。
【請求項５】
前記超音波洗浄機が脱気超音波洗浄機である、請求項４に記載の洗浄方法。
【請求項６】
シール剤吐出部品をリンスする工程をさらに含む、請求項１〜５のいずれか１項に記載の洗浄方法。
【請求項７】
前記リンスする工程が、超音波リンスする工程である、請求項６に記載の洗浄方法。
【請求項８】
前記シール剤が液晶用シール剤又は有機ＥＬ用シール剤である、請求項１〜７のいずれか１項に記載の洗浄方法。
【請求項９】
下記（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）及び（ｅ）を含む洗浄剤。
（ａ）アジピン酸ジアルキル      １〜６０質量％
（ｂ）グルタル酸ジアルキル    １０〜８０質量％
（ｃ）コハク酸ジアルキル        ５〜４０質量％
（ｄ）グリコールエーテル        ５〜６０質量％
（ｅ）水                        １〜２０質量％
ここで（ａ）、（ｂ）、及び（ｃ）のアルキルは、それぞれ独立して、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数５〜８のシクロアルキル基であり、（ｄ）グリコールエーテルは下記一般式（１）で示される。
一般式（１）：
Ｒ1Ｏ−（Ｒ2Ｏ）m−Ｒ3
［式中、Ｒ1は炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数５〜８のシクロアルキル基を示し、Ｒ2は炭素数２〜５のアルキレン基を示し、Ｒ3は水素、炭素数１〜６のアルキル基、又は炭素数５〜８のシクロアルキル基を示す。ｍは１〜４の整数である。］
【請求項１０】
シール剤吐出部品の洗浄用である、請求項９に記載の洗浄剤。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、シール剤吐出部品の洗浄方法及び洗浄剤に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、有機ＥＬディスプレイ（ＯＥＬＤ）、及び電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ）などの薄型パネルディスプレイ（ＦＰＤ）は、２枚のガラス基板の周囲をシール剤と呼ばれる接着剤で封止し、張り合わせて製造されている。
シール剤としては、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂及びこれらを複合した樹脂を用い、硬化型としては熱硬化型、紫外線硬化型及びこれらの複合型が知られている（例えば、特許文献１及び２を参照）。
【０００３】
シール剤は、ガラス基板上に、均一な厚みで、１０〜１００ミクロンの幅の細い線を描くように塗布される。シール剤を塗布するために、特別な塗布装置が用いられている。該塗布装置に用いられている吐出部品は、例えば、シリンジ、ノズル支持具、又はノズルからなる。シール剤はシリンジに充填され、空気圧で押し出され、ノズル支持具内部の細管を通り、ノズル支持具先端に付けられた細孔を有するノズルより吐出される（例えば、特許文献３を参照）。
【０００４】
シール剤を吐出する吐出部品は、安定した精密吐出を行う必要があるので、ステンレス、アルミなどの金属製でできている。吐出性能を維持するために、使用後には、吐出部品を分解して洗浄して吐出部品内部に残留するシール剤を完全に除去する必要がある。
【０００５】
特許文献４には、プラズマディスプレー製造用の口金洗浄方法が開示されている。特許文献４では、洗浄剤として特定の沸点範囲で引火点の高い有機溶剤を用いて洗浄する方法が、プラズマディスプレー用の蛍光体ペーストの洗浄方法として開示されている。
また、特許文献５には、洗浄剤としては種々の用途のものが知られているが、スクリーン版洗浄、インキ、フラックスロジン、はんだペースト洗浄に好適な洗浄剤が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００８−９６７１０号公報
【特許文献２】特開２００７−５９０９４号公報
【特許文献３】特開平０６−１１４３１５号公報
【特許文献４】特開２００４−２９８７１０号公報
【特許文献５】特開平６−９３２９２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
シール剤は接着剤の１種であり、時間経過によって変性、硬化しノズルの詰まりが発生する恐れがあり、シール剤を切替える場合に、吐出部品を分解して洗浄して吐出部品内部に残留するシール剤を完全に除去し、吐出性能を維持させる必要がある。
また、ＦＰＤにおけるシール剤の除去作業は、閉鎖的なクリーンルーム内での手作業なので、揮発性の高い有機溶剤や、引火点のある有機溶剤を用いることは危険であり、引火点のない洗浄剤で、水リンスが可能であり、超音波洗浄機による洗浄の効率化が達成できるものが望まれている。
本発明が解決しようとする課題は、安全かつ効果的に、シール剤吐出部品を洗浄する方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは、前記課題を解決するために鋭意検討した結果、特定の成分からなる洗浄剤を用いて洗浄することにより、上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成した。
【０００９】
すなわち、本発明は、以下のとおりである。
［１］
下記（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）及び（ｅ）を含む洗浄剤を用いてシール剤吐出部品を洗浄する工程を含む、シール剤吐出部品の洗浄方法。
（ａ）アジピン酸ジアルキル      １〜６０質量％
（ｂ）グルタル酸ジアルキル    １０〜８０質量％
（ｃ）コハク酸ジアルキル        ５〜４０質量％
（ｄ）グリコールエーテル        ５〜６０質量％
（ｅ）水                        １〜２０質量％
ここで（ａ）、（ｂ）、及び（ｃ）のアルキルは、それぞれ独立して、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数５〜８のシクロアルキル基であり、（ｄ）グリコールエーテルは下記一般式（１）で示される。
一般式（１）：
Ｒ1Ｏ−（Ｒ2Ｏ）m−Ｒ3
［式中、Ｒ1は炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数５〜８のシクロアルキル基を示し、Ｒ2は炭素数２〜５のアルキレン基を示し、Ｒ3は水素、炭素数１〜６のアルキル基、又は炭素数５〜８のシクロアルキル基を示す。ｍは１〜４の整数である。］
［２］
（ａ）アジピン酸ジアルキルがアジピン酸ジメチル、（ｂ）グルタル酸ジアルキルがグルタル酸ジメチル、（ｃ）コハク酸ジアルキルがコハク酸ジメチルである、［１］に記載の洗浄方法。
［３］
グリコールエーテルが、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、３−メトキシ−３−メチル−１−ブタノール、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、及びトリエチレングリコールジメチルエーテルから選ばれる１種以上である、［１］又は［２］に記載の洗浄方法。
［４］
前記洗浄する工程が、超音波洗浄機を用いて、超音波洗浄する工程である、［１］〜［３］のいずれかに記載の洗浄方法。
［５］
前記超音波洗浄機が脱気超音波洗浄機である、［４］に記載の洗浄方法。
［６］
シール剤吐出部品をリンスする工程をさらに含む、［１］〜［５］のいずれかに記載の洗浄方法。
［７］
前記リンスする工程が、超音波リンスする工程である、［６］に記載の洗浄方法。
［８］
前記シール剤が液晶用シール剤又は有機ＥＬ用シール剤である、［１］〜［７］のいずれかに記載の洗浄方法。
［９］
下記（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）及び（ｅ）を含む洗浄剤。
（ａ）アジピン酸ジアルキル      １〜６０質量％
（ｂ）グルタル酸ジアルキル    １０〜８０質量％
（ｃ）コハク酸ジアルキル        ５〜４０質量％
（ｄ）グリコールエーテル        ５〜６０質量％
（ｅ）水                        １〜２０質量％
ここで（ａ）、（ｂ）、及び（ｃ）のアルキルは、それぞれ独立して、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数５〜８のシクロアルキル基であり、（ｄ）グリコールエーテルは下記一般式（１）で示される。
一般式（１）：
Ｒ1Ｏ−（Ｒ2Ｏ）m−Ｒ3
［式中、Ｒ1は炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数５〜８のシクロアルキル基を示し、Ｒ2は炭素数２〜５のアルキレン基を示し、Ｒ3は水素、炭素数１〜６のアルキル基、又は炭素数５〜８のシクロアルキル基を示す。ｍは１〜４の整数である。］
［１０］
シール剤吐出部品の洗浄用である、［９］に記載の洗浄剤。
【発明の効果】
【００１０】
本発明の洗浄方法を用いることにより、安全に、効果的にシール剤吐出部品を洗浄することが可能となる。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、本発明を実施するための形態（以下、本実施の形態）について詳細に説明する。なお、本発明は、以下の実施の形態に限定されるものではなく、その要旨の範囲内で種々変形して実施することができる。
【００１２】
本実施の形態のシール剤吐出部品の洗浄方法は、
下記（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）及び（ｅ）を含む洗浄剤（以下、単に「洗浄剤」と記載する場合がある。）を用いてシール剤吐出ノズル部品を洗浄する工程を含む。
（ａ）アジピン酸ジアルキル      １〜６０質量％
（ｂ）グルタル酸ジアルキル    １０〜８０質量％
（ｃ）コハク酸ジアルキル        ５〜４０質量％
（ｄ）グリコールエーテル        ５〜６０質量％
（ｅ）水                        １〜２０質量％
ここで（ａ）、（ｂ）、及び（ｃ）のアルキルは、それぞれ独立して、炭素数１〜６のアルキル基又はシクロアルキル基であり、（ｄ）グリコールエーテルは下記一般式（１）で示される。
一般式（１）：
Ｒ1Ｏ−（Ｒ2Ｏ）m−Ｒ3
［式中、Ｒ1は炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数５〜８のシクロアルキル基を示し、Ｒ2は炭素数２〜５のアルキレン基を示し、Ｒ3は水素、炭素数１〜６のアルキル基、又は炭素数５〜８のシクロアルキル基を示す。ｍは１〜４の整数である。］
【００１３】
本実施の形態において、シール剤吐出部品を洗浄する方法としては、洗浄剤を用いる方法であれば特に限定されるものではないが、好ましくは、洗浄剤を有する洗浄槽に、シール剤吐出部品を浸漬することにより洗浄する方法が挙げられる。
洗浄剤に浸漬する際の、洗浄温度、洗浄時間は、シール剤の種類、吐出部品の構造、洗浄本数などに応じて、適宜洗浄に必要な温度、時間を選択すればよいが、洗浄剤の温度としては、通常、１０〜８０℃であり、３０〜６０℃であることが好ましい。
洗浄剤に浸漬する時間としては、通常、１０分〜１２０分であり、２０分〜６０分であることが好ましい。
また、洗浄剤中のシール剤濃度を抑え、洗浄性の低下を防ぐために、２槽以上の洗浄槽を用いるか、洗浄槽の洗浄剤を交換して、２回以上に分けて洗浄することも好適である。
【００１４】
本実施の形態において「シール剤吐出部品」とは、シール剤を塗布するための塗布装置に用いられている吐出部品を意味し、シリンジ、ノズル支持具、及びノズルなどが挙げられる。
本実施の形態の洗浄方法によれば、シール剤を吐出させた結果、吐出部品にシール剤が付着しているシール剤吐出部品を、洗浄することができる。
ここで、「シール剤」とは、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂及びこれらを複合した樹脂などを含み、熱硬化型、紫外線硬化型及びこれらの複合型により硬化される接着剤を意味する。
シール剤としては、液晶シール剤などが挙げられ、特許文献１に記載されているように、エポキシ樹脂を主体とする熱硬化性シール剤や、（メタ）アクリレート樹脂を主体とする光硬化型液晶シール剤、エポキシ樹脂の変性（メタ）アクリレート樹脂を主体とする光及び熱硬化性液晶シール剤を洗浄することができる。有機ＥＬディスプレイ（ＯＥＬＤ）用のシール剤についても同様の組成を有する。
【００１５】
本実施の形態においては、シール剤吐出部品を洗浄剤に浸漬後、洗浄時間の短縮、吐出部品表面からのシール剤除去促進の観点で、超音波洗浄することが好ましく、脱気超音波洗浄することがより好ましい。
【００１６】
本実施の形態において用いられる超音波洗浄機としては、例えば、精密部品、金属部品洗浄などに用いられる、周波数２５〜４５ｋＨｚの超音波洗浄機などが挙げられ、脱気超音波洗浄機としては、例えば、東京システム開発株式会社製シリウス、シャープマニファクチャリングシステム株式会社製ＭＵ−３０００などが挙げられる。
【００１７】
本実施の形態の洗浄剤は、
（ａ）アジピン酸ジアルキル      １〜６０質量％
（ｂ）グルタル酸ジアルキル    １０〜８０質量％
（ｃ）コハク酸ジアルキル        ５〜４０質量％
（ｄ）グリコールエーテル        ５〜６０質量％
（ｅ）水                        １〜２０質量％
を含む洗浄剤である。
本実施の形態の洗浄剤は、シール剤吐出部品の洗浄用洗浄剤として好適に用いられる。
【００１８】
（ａ）〜（ｃ）成分のアルキルは、それぞれ独立して、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数５〜８のシクロアルキル基であるが、炭素数４以下のアルキル基が好ましく、メチル基がより好ましい。
（ａ）〜（ｃ）成分のアルキルは、各成分において同一であってもよく、異なるアルキルのエステルであってもよい。
【００１９】
本実施の形態において、炭素数１〜６のアルキル基としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシルなどのアルキル基が挙げられる。
炭素数５〜８のシクロアルキル基としては、例えば、シクロペンチル、シクロへキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、ジメチルシクロへキシルなどのシクロアルキル基が挙げられ、炭素数６〜８のシクロアルキル基であることが好ましい。
炭素数２〜５のアルキレレン基としては、例えば、エチレン、プロピレン、イソプロピレン、ブチレンなどのアルキレン基が挙げられる。
【００２０】
（ａ）アジピン酸ジアルキルは、洗浄剤に対し、１〜６０質量％用いられ、より好ましくは５〜５０質量％である。
（ａ）アジピン酸ジアルキルは、１種で用いてもよく、２種以上の混合物を用いてもよい。
（ｂ）グルタル酸ジアルキルは、洗浄剤に対し、１０〜８０質量％用いられ、より好ましくは２０〜６０質量％である。
（ｂ）グルタル酸ジアルキルは、１種で用いてもよく、２種以上の混合物を用いてもよい。
（ｃ）コハク酸ジアルキルは、洗浄剤に対し、５〜４０質量％用いられ、より好ましくは１０〜３０質量％である。
（ｃ）コハク酸ジアルキルは、１種で用いてもよく、２種以上の混合物を用いてもよい。
【００２１】
（ｄ）グリコールエーテルは、上記一般式（１）で示されるグリコールエーテルであるが、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール及びトリプロピレングリコールのモノアルキルエーテル、ジアルキルエーテル、モノシクロアルキルエーテル、シクロアルキルアルキルジエーテル、３−メトキシ−３−メチル−１−ブタノール。３−メトキシ−１−ブタノールなどが挙げられる。
（ｄ）グリコールエーテルとしては、好ましくは、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、３−メトキシ−３−メチル−１−ブタノール、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテルから選ばれる１種以上である。
（ｄ）グリコールエーテルは、洗浄剤に対し、５〜６０質量％用いられ、より好ましくは１０〜４０質量％である。
（ｄ）グリコールエーテルは、１種で用いてもよく、２種以上の混合物を用いてもよい。
【００２２】
（ｅ）水は、洗浄剤に対し、１〜２０質量％用いられ、より好ましくは４〜１０質量％である。
【００２３】
洗浄剤には、その他公知の添加剤として、界面活性剤、防錆剤、安定剤、酸化防止剤などを、洗浄剤の性能を損なわない範囲で添加することも可能である。
界面活性剤としては、公知のアニオン、カチオン又はノニオン界面活性剤を使用できる。界面活性剤としては、特に限定されるものではないが、例えば、アルキルベンゼンスルホン酸塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレンアルキルエーテルなどが挙げられる。
【００２４】
本実施の形態の洗浄方法において、洗浄後、シール剤吐出部品をリンスする工程を含むことが好ましい。
リンスに用いる溶剤（リンス溶剤）としては、アセトン、イソプロピルアルコール、エタノール、水などが挙げられ、水でリンスすることが好ましい。
リンス溶剤は、１種で用いてもよく、２種以上の混合溶剤を用いてもよい。
【００２５】
本実施の形態において、シール剤吐出部品をリンスする方法としては、特に限定されるものではないが、好ましくは、リンス溶剤を有するリンス槽に、洗浄剤の付着したシール剤吐出部品を浸漬することによりリンスする方法が挙げられる。
リンス溶剤温度、リンス時間（リンス溶剤に浸漬する時間）は、リンス溶剤の種類、洗浄液の種類、洗浄剤中のシール剤濃度、吐出部品の構造、洗浄本数などに応じて、適宜リンスに必要な温度、時間を選択すればよいが、リンス溶剤温度としては、通常、１０℃〜リンス溶剤の沸点である。
リンス溶剤に浸漬する時間としては、通常、１０分〜１２０分であり、２０分〜６０分時間であることがより好ましい。
またリンス溶剤中の洗浄剤濃度を抑えてリンス性の低下を防ぐために、２槽以上のリンス槽を用いるか、リンス槽のリンス溶剤を交換して、２回以上に分けてリンスする場合もある
リンス後の吐出部品に付着したリンス溶剤は、自然乾燥、熱風やエアブローなどの公知の乾燥方法で乾燥される。
【００２６】
本実施の形態の洗浄方法は、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、有機ＥＬディスプレイ（ＯＥＬＤ）、電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ）などの薄型パネルディスプレイ（ＦＰＤ）の製造工程で用いられるシール剤を精密に吐出する部品の洗浄方法として好適であるが、特に液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、有機ＥＬディスプレイ（ＯＥＬＤ）用のシール剤吐出部品の洗浄方法、さらには液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）用のシール剤（液晶シール剤）の吐出部品の洗浄方法に好適である。
本実施の形態の洗浄方法は、液晶ディスプレイなどの薄型パネルディスプレイの製造工程で用いられるシール剤を精密に吐出する吐出部品を繰り返し使用するための洗浄方法として好適である。
【実施例】
【００２７】
以下、本実施の形態を実施例及び比較例に基づいてさらに具体的に説明する。なお、本実施の形態は、これらの実施例のみに制限されるものではなく、その要旨の範囲内で種々変形して実施することができる。
【００２８】
以下の成分を用いて、表１の洗浄剤を作成した。
ＤＭＡＤ：アジピン酸ジメチル
ＤＭＧＬ：グルタル酸ジメチル
ＤＭＳＵ：コハク酸ジメチル
ＤＥＧＢ：ジエチレングリコールモノブチルエーテル
ＤＥＧＤＥ：ジエチレングリコールジエチルエーテル
ＤＥＧＨ：ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル
ＨｅｘＯＨ：ヘキサノール
ＤＩＡＡ：ジアセトンアルコール
ＡＣＥＴ：アセトン
Ｎ−ＳＵＲ：非イオン界面活性剤（東邦化学工業株式会社製ノナール２１０）
【００２９】
[実施例１〜４]
表１に記載の組成で実施例１〜４の洗浄剤を作成して、下記試験を行った。測定結果を表１に示す。
【００３０】
[比較例１〜６]
表１に記載の組成で比較例１〜６の洗浄剤を作製し、実施例１〜４と同様にして下記試験を行った。測定結果を表１に示す。
【００３１】
洗浄性試験、水リンス性試験には、３０ｃｃステンレス製シリンジ、ノズル支持具及び孔径３０μｍノズルを用いた。
シール剤としては、協立化学産業株式会社製紫外線硬化型シール剤ワールドロック（登録商標）７１９又は協立化学産業株式会社製熱硬化型シール剤ワールドロック（登録商標）７８０Ｐを用いた。
ノズル支持具にノズル及びステンレス製シリンジを装着した状態で、シリンジ内にシール剤を約２０ｃｃ入れ、空気圧によってシリンジ内のシール剤を押し出して、ノズルからシール剤が吐出することを確認した後に、シリンジ、ノズル支持具、及びノズルに分解したもの用いて、下記（３）又は（５）の試験を実施した。
【００３２】
（１）均一性試験
洗浄剤を、室温で目視観察した。
○：均一透明
×：白濁、成分分離あり
【００３３】
（２）引火点試験
ＪＩＳＫ２２６５に準じて引火点を測定した。
○：引火点なし
×：引火点あり
−：未実施
【００３４】
（３）洗浄性試験
シール剤が付着残留したステンレス製シリンジ、ノズル支持具及びノズルを、卓上超音波洗浄機（ブランソン製２２００型、４５ｋＨｚ、６０Ｗ）を用い、表１の洗浄剤で超音波洗浄を３０分、２回繰り返した後、イソプロパノール中に浸漬して超音波リンスを２０分行い、エアブロー乾燥し、シリンジ、ノズル支持具にシール剤の残留がないか、ノズルの孔に詰まりがないかを観察した。
○：残留、詰まりなし
×：残留、詰まりあり
【００３５】
（４）水リンス性試験
卓上超音波洗浄機（ブランソン製２２００型、４５ｋＨｚ、６０Ｗ）に純水を３００ｍＬ入れたＳＵＳビーカーを２本セットし、シール剤を１％分散したシール剤分散液に吐出部品を１分間浸漬した後に、純水超音波リンスを１５分、次いで仕上げの純水超音波リンス１５分を行い、試験部品外観を評価した。
○：シミなし、ベタツキなし
×：シミ、ベタツキあり
【００３６】
（５）脱気超音波試験
シール剤が付着残留したステンレス製シリンジ、ノズル支持具及びノズルを、脱気超音波洗浄機（東京システム開発株式会社製シリウス、超音波周波数２５〜５３５ｋＨｚ同時多重波発振、出力１２００Ｗ）で超音波洗浄を２０分行った後に、水超音波リンスを２０分間行った。次いで、熱風乾燥し、シリンジ、ノズル支持具にシール剤の残留がないか観察した。
○：残留なし
×：残留あり
−：未実施
【００３７】
【表１】
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【００３８】
表１の結果より、実施例１−４においては、上記双方のシール剤に対して、十分なシール剤洗浄効果が得られ、また、引火点がない洗浄剤を用いるため、安全性の高い洗浄方法であった。
一方、比較例１の洗浄剤では、どちらのシール剤に対しても十分なシール剤洗浄効果が得られなかった。なお、上記（１）の結果として示されるように洗浄剤が均一でなく、データの測定が困難だったため、比較例１においては、上記（２）と（５）の測定を行っていない。
また、プラズマディスプレー用の蛍光体ペーストの洗浄方法である特許文献４の実施例に記載の有機溶剤や、インキ、ペーストの洗浄用途を目的とした特許文献５の実施例の洗浄剤では十分なシール剤洗浄効果が得られなかった（比較例２−６）。
【産業上の利用可能性】
【００３９】
本発明は、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、有機ＥＬディスプレイ（ＯＥＬＤ）、電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ）などの薄型パネルディスプレイ（ＦＰＤ）の製造工程で用いられるシール剤を精密に吐出する吐出部品の洗浄方法として産業上の利用可能性を有する。