(57)【要約】      （修正有）【課題】光重合性インクジェット材料の硬化膜を十分に除去すると共に、当該硬化膜により皮膜される基板や金属配線などを腐食しない、優れた剥離特性を有する剥離液の提供。【解決手段】テトラアルキルアンモニウムヒドロキシド（Ａ）を０．０５重量％以上２重量％以下、有機アミン（Ｂ）を１重量％以上１０重量％以下、水溶性有機溶媒（Ｃ）を６０重量％以上９５重量％以下、及び水（Ｄ）を０．５重量％以上２０重量％以下含有する、剥離液。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（Ａ）で表されるテトラアルキルアンモニウムヒドロキシド（Ａ）を０．０５重量％以上２重量％以下、下記一般式（Ｂ）で表される有機アミン（Ｂ）を１重量％以上１０重量％以下、水溶性有機溶媒（Ｃ）を６０重量％以上９５重量％以下、及び水（Ｄ）を０．５重量％以上２０重量％以下含有する、剥離液。
【化１】
2010111795.tif 000009
（一般式（Ａ）中のＲ1は、それぞれ独立して、置換されていてもよいアルキルであり、
一般式（Ｂ）中のＲ2は、それぞれ独立して、水素又は有機基であり、全てのＲ2が水素になることはない。）
【請求項２】
一般式（Ａ）中のＲ1が、それぞれ独立して、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル及び２−ヒドロキシエチルからなる群から選択される、請求項１に記載の剥離液。
【請求項３】
前記成分（Ａ）が、テトラメチルアンモニウムヒドロキシドである、請求項１又は２に記載の剥離液。
【請求項４】
一般式（Ｂ）中のＲ2が、それぞれ独立して、水素、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、ヒドロキシメチル、ヒドロキシエチル、２−アミノエチル及びベンジル基（Ｃ6Ｈ5ＣＨ2−）からなる群から選択され、全てのＲ2が水素になることはない、請求項１から３のいずれかに記載の剥離液。
【請求項５】
前記成分（Ｂ）が、Ｎ−（２−アミノエチル）エタノールアミン及びモノエタノールアミンからなる群から選ばれる１種以上の有機アミンである、請求項１から４のいずれかに記載の剥離液。
【請求項６】
前記成分（Ｃ）が、エタノール、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、エチレングリコールモノブチルエーテル、メタノール、Ｎ−メチルピロリドン及びジメチルスルホキシドからなる群から選ばれる１種以上の水溶性有機溶媒である、請求項１から５のいずれかに記載の剥離液。
【請求項７】
前記成分（Ｃ）が、メタノール、Ｎ−メチルピロリドン及びジメチルスルホキシドからなる群から選ばれる１種以上の水溶性有機溶媒である、請求項１から６のいずれかに記載の剥離液。
【請求項８】
成分（Ａ）としてテトラメチルアンモニウムヒドロキシドを０．２５重量％以上２重量％以下、成分（Ｂ）としてＮ−（２−アミノエチル）エタノールアミン及びモノエタノールアミンからなる群から選ばれる１種以上の有機アミンを合計で１重量％以上５重量％以下、成分（Ｃ）としてメタノール、Ｎ−メチルピロリドン及びジメチルスルホキシドからなる群から選ばれる１種以上の水溶性有機溶媒を合計で７５重量％以上９５重量％以下、及び成分（Ｄ）として水を０．５重量％以上２０重量％以下含有する、請求項１に記載の剥離液。
【請求項９】
インクジェット印刷装置により基板上に光重合性インクジェット材料を塗布した後にこれを硬化させて得られる硬化膜を除去するための、請求項１から８のいずれかに記載の剥離液。
【請求項１０】
前記硬化膜が、パターン形成されたものである、請求項９に記載の剥離液。
【請求項１１】
前記光重合性インクジェット材料が、１分子中に２個以上の光重合性二重結合かつ１個以上のカルボキシル基を有する酸変性エポキシ（メタ）アクリレート（Ｆ）、及び光重合開始剤（Ｇ）を含有する光重合性インクジェット材料である、請求項９又は１０に記載の剥離液。
【請求項１２】
前記光重合性インクジェット材料が、エッチングレジストとして用いられる、請求項９から１１のいずれかに記載の剥離液。
【請求項１３】
前記光重合性インクジェット材料が、めっきレジストとして用いられる、請求項９から１１のいずれかに記載の剥離液。
【請求項１４】
インクジェット印刷装置により基板上に光重合性インクジェット材料を塗布した後にこれを硬化させて得られる硬化膜を、請求項１から８のいずれかに記載の剥離液を用いて、除去する方法。
【請求項１５】
前記硬化膜が、パターン形成されたものである、請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
前記光重合性インクジェット材料が、１分子中に２個以上の光重合性二重結合かつ１個以上のカルボキシル基を有する酸変性エポキシ（メタ）アクリレート（Ｆ）、及び光重合開始剤（Ｇ）を含有する光重合性インクジェット材料である、請求項１４又は１５に記載の方法。
【請求項１７】
前記光重合性インクジェット材料が、エッチングレジストとして用いられる、請求項１４から１６のいずれかに記載の方法。
【請求項１８】
前記光重合性インクジェット材料が、めっきレジストとして用いられる、請求項１４から１７のいずれかに記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示素子、半導体表示素子、プリント配線基板などを製造するために用いられる剥離液に関する。さらに詳しくは、エッチングレジスト又はめっきレジストとして用いられる光重合性インクジェット材料から得られる硬化膜を除去するための剥離液として好適に用いられる。
【背景技術】
【０００２】
近年フォトリソグラフィ法に変わる新たなパターン形成法としてインクジェット法が提案されている（たとえば、特開２００３−３０２６４２号公報（特許文献１）、特開２００５−６８２８０号公報（特許文献２）を参照）。インクジェット法は、基板上に直接パターンを描画する方法であるため、フォトリソグラフィ法で必須であるフォトマスクが不要であること、現像工程が不要であることなど、パターン形成工程が簡略化される上、材料の使用量を大幅に削減することができるという理由で、特に液晶表示素子やプリント配線基板などの製造分野において注目されている。
【０００３】
上記インクジェット法に用いられるインクジェット材料としては、重合性材料、特に光硬化性材料や熱硬化性材料、又は光硬化と熱硬化を併用する材料などが提案されている。なかでも、プリント配線基板の製造に用いられる各種パターン形成には、主に光硬化性インクジェット材料が用いられる。この光硬化性インクジェット材料は、たとえば、所定の回路パターンをなす金属配線部を形成するためのエッチングレジスト用や、所定のめっきパターンを形成するためのめっきレジスト用などとして用いられる。それらの用途で光硬化性インクジェット材料が用いられる場合、最終的には当該材料をレジスト剥離液で除去する必要がある。
【０００４】
レジスト剥離液としては、従来、水酸化ナトリウム水溶液、水酸化カリウム水溶液などの無機アルカリ水溶液、各種有機溶媒、有機アミン類などを用いたさまざまな剥離液が提案されているが（たとえば、特開平０８−０８７１１８号公報（特許文献３）、特開２００１−１０９１６７号公報（特許文献４）を参照）、光硬化性インクジェット材料の剥離液としては不十分である。例えば、当該材料の硬化膜を十分に除去すると共に、当該硬化膜により皮膜される基板や金属配線などを腐食しない、優れた剥離性能を有する剥離液は未だ得られていない。
【０００５】
【特許文献１】特開２００３−３０２６４２号公報
【特許文献２】特開２００５−６８２８０号公報
【特許文献３】特開平０８−０８７１１８号公報
【特許文献４】特開２００１−１０９１６７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上記の状況の下、光重合性インクジェット材料の硬化膜を十分に除去すると共に、当該硬化膜により皮膜される基板や金属配線などを腐食しない、剥離性に優れた剥離液が求められている。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者等は、上記課題を解決するため鋭意研究を重ねた結果、テトラアルキルアンモニウムヒドロキシドなどの所定の成分を所定の含有量で配合することで、上記課題を解決できることを見出した。すなわち、光重合性インクジェット材料を剥離するのに好適な剥離液を見出し、本発明を完成するに至った。本発明は、以下の剥離液を提供する。なお、本明細書中、アクリレートとメタクリレートの両者を示すために「（メタ）アクリレート」のように表記することがある。
【０００８】
［１］  下記一般式（Ａ）で表されるテトラアルキルアンモニウムヒドロキシド（Ａ）を０．０５重量％以上２重量％以下、下記一般式（Ｂ）で表される有機アミン（Ｂ）を１重量％以上１０重量％以下、水溶性有機溶媒（Ｃ）を６０重量％以上９５重量％以下、及び水（Ｄ）を０．５重量％以上２０重量％以下含有する、剥離液。
【化２】
2010111795.tif 000002
（一般式（Ａ）中のＲ1は、それぞれ独立して、置換されていてもよいアルキルであり、
一般式（Ｂ）中のＲ2は、それぞれ独立して、水素又は有機基であり、全てのＲ2が水素になることはない。）
【０００９】
［２］  一般式（Ａ）中のＲ1が、それぞれ独立して、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル及び２−ヒドロキシエチルからなる群から選択される、上記［１］に記載の剥離液。
【００１０】
［３］  前記成分（Ａ）が、テトラメチルアンモニウムヒドロキシドである、上記［１］又は［２］に記載の剥離液。
【００１１】
［４］  一般式（Ｂ）中のＲ2が、それぞれ独立して、水素、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、ヒドロキシメチル、ヒドロキシエチル、２−アミノエチル及びベンジル基（Ｃ6Ｈ5ＣＨ2−）からなる群から選択され、全てのＲ2が水素になることはない、上記［１］から［３］のいずれかに記載の剥離液。
【００１２】
［５］  前記成分（Ｂ）が、Ｎ−（２−アミノエチル）エタノールアミン及びモノエタノールアミンからなる群から選ばれる１種以上の有機アミンである、上記［１］から［４］のいずれかに記載の剥離液。
【００１３】
［６］  前記成分（Ｃ）が、エタノール、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、エチレングリコールモノブチルエーテル、メタノール、Ｎ−メチルピロリドン及びジメチルスルホキシドからなる群から選ばれる１種以上の水溶性有機溶媒である、上記［１］から［５］のいずれかに記載の剥離液。
【００１４】
［７］  前記成分（Ｃ）が、メタノール、Ｎ−メチルピロリドン及びジメチルスルホキシドからなる群から選ばれる１種以上の水溶性有機溶媒である、上記［１］から［６］のいずれかに記載の剥離液。
【００１５】
［８］  成分（Ａ）としてテトラメチルアンモニウムヒドロキシドを０．２５重量％以上２重量％以下、成分（Ｂ）としてＮ−（２−アミノエチル）エタノールアミン及びモノエタノールアミンからなる群から選ばれる１種以上の有機アミンを合計で１重量％以上５重量％以下、成分（Ｃ）としてメタノール、Ｎ−メチルピロリドン及びジメチルスルホキシドからなる群から選ばれる１種以上の水溶性有機溶媒を合計で７５重量％以上９５重量％以下、及び成分（Ｄ）として水を０．５重量％以上２０重量％以下含有する、上記［１］に記載の剥離液。
【００１６】
［９］  インクジェット印刷装置により基板上に光重合性インクジェット材料を塗布した後にこれを硬化させて得られる硬化膜を除去するための、上記［１］から［８］のいずれかに記載の剥離液。
【００１７】
［１０］  前記硬化膜が、パターン形成されたものである、上記［９］に記載の剥離液。
【００１８】
［１１］  前記光重合性インクジェット材料が、１分子中に２個以上の光重合性二重結合かつ１個以上のカルボキシル基を有する酸変性エポキシ（メタ）アクリレート（Ｆ）、及び光重合開始剤（Ｇ）を含有する光重合性インクジェット材料である、上記［９］又は［１０］に記載の剥離液。
【００１９】
［１２］  前記光重合性インクジェット材料が、エッチングレジストとして用いられる、上記［９］から［１１］のいずれかに記載の剥離液。
【００２０】
［１３］  前記光重合性インクジェット材料が、めっきレジストとして用いられる、上記［９］から［１１］のいずれかに記載の剥離液。
【００２１】
［１４］  インクジェット印刷装置により基板上に光重合性インクジェット材料を塗布した後にこれを硬化させて得られる硬化膜を、上記［１］から［８］のいずれかに記載の剥離液を用いて、除去する方法。
【００２２】
［１５］  前記硬化膜が、パターン形成されたものである、上記［１４］に記載の方法。
【００２３】
［１６］  前記光重合性インクジェット材料が、１分子中に２個以上の光重合性二重結合かつ１個以上のカルボキシル基を有する酸変性エポキシ（メタ）アクリレート（Ｆ）、及び光重合開始剤（Ｇ）を含有する光重合性インクジェット材料である、上記［１４］又は［１５］に記載の方法。
【００２４】
［１７］  前記光重合性インクジェット材料が、エッチングレジストとして用いられる、上記［１４］から［１６］のいずれかに記載の方法。
【００２５】
［１８］  前記光重合性インクジェット材料が、めっきレジストとして用いられる、上記［１４］から［１７］のいずれかに記載の方法。
【発明の効果】
【００２６】
本発明の好ましい態様に係る剥離液は、例えば、インクジェット法により形成された光重合性インクジェット材料の硬化膜に対して、良好な剥離特性を示すという効果を有する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２７】
１．  本発明の剥離液
本発明の剥離液は、上記一般式（Ａ）で表されるテトラアルキルアンモニウムヒドロキシド（Ａ）、上記一般式（Ｂ）で表される有機アミン（Ｂ）、水溶性有機溶媒（Ｃ）、及び水（Ｄ）を含有することを特徴とする。
【００２８】
１．１  テトラアルキルアンモニウムヒドロキシド（Ａ）
本発明の剥離液は、上記一般式（Ａ）で表されるテトラアルキルアンモニウムヒドロキシド（Ａ）（以下では成分（Ａ）と呼ぶことがある）を含有する。一般式（Ａ）中のＲ1は、それぞれ独立して、置換されていてもよいアルキルである。４つのＲ1それぞれが同じであっても、異なっていてもよいが、４つのＲ1が同じ化合物が好ましい。また、「置換されていてもよいアルキル」の最も好まし形態は、無置換のアルキルである。
【００２９】
「置換されていてもよいアルキル」の「アルキル」としては、例えば、炭素数１〜６の直鎖状又は分枝状のアルキルが挙げられ、なかでも、炭素数１〜４の直鎖状又は分枝状のアルキルが好ましく、炭素数１〜４の直鎖状のアルキルが好ましい。この「アルキル」としては、具体的には、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、ペンチル又はヘキシルなどが挙げられる。
【００３０】
アルキルに置換する「置換基」としては、ヒロドキシなどが挙げられる。Ｒ1がこの「置換基」を有する場合には、一つのアルキル鎖Ｒ1に、複数個が置換していてもよく、好ましくは１〜２個、より好ましくは１個が置換していることである。
【００３１】
一般式（Ａ）中のＲ1の具体例としては、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル又は２−ヒドロキシエチルが挙げられる。
【００３２】
成分（Ａ）の具体例としては、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、テトラ（２−ヒドロキシエチル）アンモニウムヒドロキシド、トリメチル（２−ヒドロキシエチル）アンモニウムヒドロキシド、トリエチル（２−ヒドロキシエチル）アンモニウムヒドロキシド、又はジメチルジエチルアンモニウムヒドロキシドを挙げることができ、なかでもテトラメチルアンモニウムヒドロキシドを好適に用いることができる。
【００３３】
上記成分（Ａ）の剥離液中の含有量は、０．０５重量％以上２重量％以下が好ましく、０．１重量％以上２重量％以下がより好ましく、０．２５重量％以上２重量％以下がさらに好ましく、０．２５重量％以上１重量％以下が特に好ましく、０．２５重量％以上０．５重量％以下が最も好ましい。上記成分（Ａ）の含有量が、上記の範囲であれば、剥離性能が良好であり、成分（Ａ）が析出して剥離液が不均一になることもない。
なお、上述した種々の成分（Ａ）は、剥離液中において、単独であるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００３４】
１．２  有機アミン（Ｂ）
本発明の剥離液は、上記一般式（Ｂ）で表される有機アミン（Ｂ）（以下では成分（Ｂ）と呼ぶことがある）を含有する。一般式（Ｂ）中のＲ2は、それぞれ独立して、水素又は有機基である。ただし、全てのＲ2が水素になることはない（すなわち、有機アミン（Ｂ）としてアンモニアが選ばれることはない）。
【００３５】
「有機基」としては、例えば、炭素数１〜６の有機基であり、好ましくは炭素数１〜４の有機基であり、より好ましくは炭素数１〜２の有機基である。より詳細には、「有機基」としては、例えばアルキルやアリールアルキルが好ましく、これらは置換基を有していてもよい。
【００３６】
「アルキル」の例としては、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、ペンチル又はヘキシルを挙げることができる。
「アリールアルキル」の例としては、ベンジル基（Ｃ6Ｈ5ＣＨ2−）、フェネチル（フェニルエチル）、ジフェニルメチル、２，２−ジフェニルエチル、３−フェニルプロピル、４−フェニルブチル又は５−フェニルペンチルを挙げることができる。
【００３７】
また、有機基Ｒ2が有する「置換基」としては、ヒロドキシ又はアミノなどが挙げられる。有機基Ｒ2がこの「置換基」を有する場合には、一つの有機基Ｒ2に、複数個が置換していてもよく、好ましくは１〜２個、より好ましくは１個が置換していることである。
【００３８】
一般式（Ｂ）中のＲ2の具体例としては、水素、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、ヒドロキシメチル、ヒドロキシエチル、２−アミノエチル又はベンジル基（Ｃ6Ｈ5ＣＨ2−）が挙げられる。
【００３９】
成分（Ｂ）の具体例としては、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、ジイソプロピルアミン、Ｎ−メチルエタノールアミン、Ｎ−メチルジエタノールアミン、Ｎ−エチルエタノールアミン、Ｎ−プロピルエタノールアミン、Ｎ−ブチルエタノールアミン、Ｎ−（２−アミノエチル）エタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルエタノールアミン、トリエタノールアミン、又はＮ−メチルベンジルアミンを挙げることができ、なかでもＮ−（２−アミノエチル）エタノールアミンやモノエタノールアミンを好適に用いることができる。
【００４０】
上記成分（Ｂ）の剥離液中の含有量は、１重量％以上１０重量％以下が好ましく、１重量％以上７重量％以下がより好ましく、１重量％以上５重量％以下がさらに好ましく、３重量％以上５重量％以下が特に好ましい。上記成分（Ｂ）の含有量が、上記の範囲であれば、剥離性能が良好であり、成分（Ａ）が析出して剥離液が不均一になることもない。
なお、上述した種々の成分（Ｂ）は、剥離液中において、単独であるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００４１】
１．３  水溶性有機溶媒（Ｃ）
本発明の剥離液は、水溶性有機溶媒（Ｃ）（以下では成分（Ｃ）と呼ぶことがある）を含有する。成分（Ｃ）は、水と親和性があり、かつその他の配合成分を溶解できるものであれば特に限定されない。
【００４２】
成分（Ｃ）の具体例としては、ジメチルスルホキシド、ジメチルスルホン、ジエチルスルホン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ−エチルピロリドン、Ｎ−プロピルピロリドン、１，３−ジメチルー２−イミダゾリジノン、γ−ブチロラクトン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、メタノール、エタノール、又はイソプロピルアルコールを挙げることができ、なかでもエタノール、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、エチレングリコールモノブチルエーテル、メタノール、ジメチルスルホキシド又はＮ−メチルピロリドンを好適に用いることができる。
【００４３】
上記成分（Ｃ）の剥離液中の含有量は、６０重量％以上９５重量％以下が好ましく、７０重量％以上９５重量％以下がより好ましく、７５重量％以上９５重量％以下がさらに好ましく、７９．５重量％以上９５重量％以下が特に好ましい。上記成分（Ｃ）の含有量が、上記範囲であれば、剥離性能が良好であり、成分（Ａ）が析出して剥離液が不均一になることもない。
【００４４】
なお、上述した種々の成分（Ｃ）は、剥離液中において、単独であるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。この場合、上記成分（Ｃ）が、ジメチルスルホキシドとＮ−メチルピロリドンの混合溶媒又はメタノールとＮ−メチルピロリドンの混合溶媒であることが好ましく、ジメチルスルホキシドとＮ−メチルピロリドンの混合溶媒であることがより好ましい。ジメチルスルホキシドとＮ−メチルピロリドンの混合溶媒の場合、ジメチルスルホキシドの含有量がＮ−メチルピロリドンの含有量より多いことが好ましく、成分（Ｃ）中でのジメチルスルホキシドは好ましくは５０重量％以上８０重量％以下、より好ましくは５０重量％以上７０重量％以下、さらに好ましくは５５重量％以上６５重量％以下、特に好ましくは５８重量％以上６２重量％以下である。
【００４５】
１．４  水（Ｄ）
本発明の剥離液は、水（Ｄ）（以下では成分（Ｄ）と呼ぶことがある）を含有する。本発明で用いる水は、実質的に他の成分と反応するような不純物を含まない。好ましくは超純水である。
上記成分（Ｄ）の剥離液中の含有量は、０．５重量％以上２０重量％以下が好ましく、０．７５重量％以上１５重量％以下が好ましく、１重量％以上１５％以下がさらに好ましい。上記成分（Ｄ）の含有量が、上記範囲であれば、剥離性能が良好であり、成分（Ａ）が析出して剥離液が不均一になることもない。
【００４６】
１．５  他の成分
本発明の剥離液には、必要に応じて公知の他の成分を配合することができる。他の成分の例としては、酸化防止剤、防食剤、界面活性剤を挙げることができる。
【００４７】
界面活性剤を添加することで、表面張力を低下させ、光重合性インクジェット材料（硬化膜）への親和力（浸透性）を高めることができる。界面活性剤としては、シリコン系界面活性剤、アクリル系界面活性剤、又はフッ素系界面活性剤などが用いられる。具体的には、Ｂｙｋ−３００、Ｂｙｋ−３０６、Ｂｙｋ−３３５、Ｂｙｋ−３１０、Ｂｙｋ−３４１、Ｂｙｋ−３４４、又はＢｙｋ−３７０（以上商品名：ビック・ケミー（株）製）などのシリコン系界面活性剤；Ｂｙｋ−３５４、Ｂｙｋ−３５８、又はＢｙｋ−３６１（以上商品名：ビック・ケミー（株）製）などのアクリル系界面活性剤；ＤＦＸ−１８、フタージェント２５０、又はフタージェント２５１（以上商品名：ネオス（株）製）、メガファックＦ−４１０、同Ｆ−４４３、同Ｆ−４４５、同Ｆ−４７０、同Ｆ−４７９、同Ｆ−４８３、又は同Ｆ−４８９（以上商品名：大日本インキ（株）製）などのフッ素系界面活性剤を挙げることができる。
【００４８】
界面活性剤は、剥離液中に０．０１重量％〜１重量％含有させることが好ましく、０．０５重量％〜０．８重量％含有させることが好ましく、０．１重量％〜０．７重量％含有させることが好ましい。
【００４９】
２．  光重合性インクジェット材料
本発明の剥離液は、光重合性インクジェット材料から得られる硬化膜に対して、優れた剥離特性を有する。特に、１分子中に２個以上の光重合性二重結合かつ１個以上のカルボキシル基を有する酸変性エポキシ（メタ）アクリレート（Ｆ）、及び光重合開始剤（Ｇ）を含有する光重合性インクジェット材料から得られる硬化膜に対しては、より良好な剥離特性を有する。なお、光重合性インクジェット材料は、無色であっても有色であってもよい。
【００５０】
光重合性インクジェット材料は、必要に応じて１分子中に１個以上のラジカル重合性二重結合を有する化合物（Ｈ）を含んでいてもよい。また、光重合性インクジェット材料は、必要に応じて、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、エポキシ硬化剤、界面活性剤、着色剤、重合禁止剤、溶媒又は帯電防止剤などをさらに含むことができる。
【００５１】
光重合性インクジェット材料は、少なくとも、重量平均分子量が３００〜１２，０００の範囲である１分子中に２個以上の重合性二重結合及び１個以上のカルボキシル基を有する酸変性エポキシ（メタ）アクリレート（Ｆ）、光重合開始剤（Ｇ）、及び１分子中に１個以上のラジカル重合性二重結合を有する化合物（Ｈ）を含有することが好ましく、その中でも、１分子中に１個以上のラジカル重合性二重結合を有する化合物（Ｈ）が、環状構造を有する単官能モノマー（Ｈ１）を含むこと、さらには環状構造を有する単官能モノマー（Ｈ１）と１分子中に１個以上のカルボキシル基を有するモノマー（Ｈ２）とを含むことが好ましい。
【００５２】
また、本発明の剥離液は、インクジェット印刷装置により例えば金属配線付き基板などの各種基板上に上述するような光重合性インクジェット材料を塗布（又はパターン描画）・硬化することにより得られた硬化膜（特にパターン形成された硬化膜）を除去するために最適である。
【００５３】
２．１  酸変性エポキシ（メタ）アクリレート（Ｆ）
酸変性エポキシ（メタ）アクリレート（Ｆ）における重合性二重結合とは、重合可能な炭素−炭素二重結合のことであり、例えば、アクリレート基、メタクリレート基、アリル基、ビニル基、又はマレイミド基が挙げられる。重合性二重結合は、熱重合性であっても、光重合性であってもよいが、好ましくは光重合性を有するものである。
【００５４】
酸変性エポキシ（メタ）アクリレート（Ｆ）は、ポリスチレン換算での重量平均分子量が３００〜１２，０００の範囲であることが好ましく、７００〜１１，５００の範囲であることがより好ましく、９００〜１１，０００の範囲であることがさらに好ましく、９００〜８，０００の範囲であることが特に好ましく、９００〜６，０００の範囲であることがとりわけ好ましい。この範囲であれば、耐エッチング性又は耐めっき性などの膜特性が優れ、ジェッティング特性も良好である。また、得られる硬化膜のアルカリへの溶解性も良好で、不溶解成分が残渣となることがない。
ここで、本明細書中の重量平均分子量は、カラムとしてPolymer Laboratories製ＴＨＦ系カラムを使用してＧＰＣ法（カラム温度：３５℃、流速：１ｍｌ／ｍｉｎ）により求めた値である。なお、本明細書中の市販品の重量平均分子量はカタログ掲載値である。
【００５５】
酸変性エポキシ（メタ）アクリレート（Ｆ）は、１分子中に２個以上の重合性二重結合を有しており、好ましい重合性二重結合の数は、酸変性エポキシ（メタ）アクリレート（Ｆ）の分子量とも関係するため、その数だけを明確に規定することは難しいが、例えば、２〜４０個が好ましく、２〜３５個がより好ましく、２〜３０個がさらに好ましく、２〜２０個が特に好ましく、２〜１５個がとりわけ好ましい。重合性二重結合の数が２個以上であれば、硬化膜が３次元的な網目構造をとることができ、耐めっき性や耐エッチング性を有する膜を形成することができる。一方、重合性二重結合の数が４０個以下であれば、硬化収縮を低減できるため、基板と硬化膜との密着性が良好で、耐エッチング性や耐めっき性などの膜特性が良好となる。
【００５６】
また、酸変性エポキシ（メタ）アクリレート（Ｆ）に含まれる重合性二重結合の数を「重合性二重結合当量」で説明すると、２００〜６００（ｇ／当量）が好ましく、２５０〜５００（ｇ／当量）がより好ましく、３００〜４５０（ｇ／当量）が特に好ましい。重合性二重結合当量とは、酸変性エポキシ（メタ）アクリレート（Ｆ）の分子量を酸変性エポキシ（メタ）アクリレート（Ｆ）１分子中に含まれる重合性二重結合の数で割った値である。
【００５７】
酸変性エポキシ（メタ）アクリレート（Ｆ）は、１分子中に１個以上のカルボキシル基を有しており、好ましいカルボキシル基の数は、酸変性エポキシ（メタ）アクリレート（Ｆ）の分子量とも関係するため、その数だけを明確に規定することは難しいが、例えば、１〜４０個が好ましく、２〜３５個がより好ましく、２〜３０個がさらに好ましく、２〜２０個が特に好ましく、２〜１５個がとりわけ好ましい。カルボキシル基を少なくとも１個有すると、アルカリ性剥離液に対する剥離性を硬化膜に付与することができる。一方、カルボキシル基の数が４０個以下であれば、硬化膜の耐めっき性や耐エッチング性を維持することができる。したがって、これらの範囲であれば、アルカリへの溶解性が良好で剥離工程後に未溶解成分が残渣となることがなく、また、耐めっき性や耐エッチング性などの膜特性も良好となり、アルカリ剥離性と耐エッチング性や耐めっき性とのバランスがよい。
【００５８】
また、酸変性エポキシ（メタ）アクリレート（Ｆ）に含まれるカルボキシル基の数を「カルボキシル基当量」で説明すると、３５０〜２０００（ｇ／当量）（酸価：３０〜１４０ｍｇＫＯＨ／ｇに相当）であり、４００〜９００（ｇ／当量）（酸価：６０〜１３０ｍｇＫＯＨ／ｇに相当）が好ましく、４５０〜８００（ｇ／当量）（酸価：７０〜１２０ｍｇＫＯＨ／ｇに相当）がより好ましく、５００〜７００（ｇ／当量）（酸価：８０〜１１０ｍｇＫＯＨ／ｇに相当）がさらに好ましく、５３０〜６６０（ｇ／当量）（酸価：８５〜１０５ｍｇＫＯＨ／ｇに相当）が特に好ましい。カルボキシル基当量とは、酸変性エポキシ（メタ）アクリレート（Ｆ）の分子量を酸変性エポキシ（メタ）アクリレート（Ｆ）１分子中に含まれるカルボキシル基の数で割った値である。
【００５９】
酸変性エポキシ（メタ）アクリレート（Ｆ）の具体例としては、エポキシ化合物に、カルボキシル基を有する（メタ）アクリレートを反応させて得られるエポキシ（メタ）アクリレートに、さらに多塩基酸又は多塩基酸無水物を反応させて得られるものが挙げられる。
【００６０】
エポキシ化合物としては、フェノールノボラック型、クレゾールノボラック型、ビスフェノールＡ型、ビスフェノールＦ型、ビスフェノールＳ型、トリスフェノールメタン型、テトラフェノールエタン型のエポキシ樹脂などが挙げられ、この好ましくはフェノールノボラック型、クレゾールノボラック型、ビスフェノールＡ型、ビスフェノールＦ型、その中でもさらに好ましくはビスフェノールＡ型、ビスフェノールＦ型、さらにその中でも特に好ましくはビスフェノールＦ型が耐めっき性に優れ、好ましい。
【００６１】
カルボキシル基を有する（メタ）アクリレートとしては、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸ダイマー、ω−カルボキシポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレート、コハク酸モノ［２−（メタ）アクリロイロキシエチル］、マレイン酸モノ［２−（メタ）アクリロイロキシエチル］、シクロヘキセン−３，４−ジカルボン酸モノ［２−（メタ）アクリロイロキシエチル］、無水フタル酸とヒドロキシエチル（メタ）アクリレートとの反応物、無水ヘキサヒドロフタル酸とヒドロキシエチル（メタ）アクリレートとの反応物などが挙げられる。
【００６２】
多塩基酸又は多塩基酸無水物としては、フタル酸、ピロメリット酸、コハク酸、トリメリット酸、テトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、マレイン酸、イタコン酸、シトラコン酸、メチルヘキサヒドロフタル酸、ヘキサヒドロトリメリット酸、エンドメチレンテトラヒドロフタル酸、メチルエンドメチレンテトラヒドロフタル酸又はスチレン−マレイン酸共重合体などの多塩基酸、無水フタル酸、無水ピロメリット酸、無水コハク酸、無水トリメリット酸、無水テトラヒドロフタル酸、無水ヘキサヒドロフタル酸、無水マレイン酸、無水イタコン酸、無水シトラコン酸、メチルヘキサヒドロフタル酸無水物、ヘキサヒドロトリメリット酸無水物、トリメリット酸無水物、無水エンドメチレンテトラヒドロフタル酸、無水メチルエンドメチレンテトラヒドロフタル酸又はスチレン−無水マレイン酸共重合体などの多塩基酸無水物が挙げられる。
【００６３】
上述したエポキシ化合物、カルボキシル基を有する（メタ）アクリレート、多塩基酸又は多塩基酸無水物は、１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。
【００６４】
酸変性エポキシ（メタ）アクリレート（Ｆ）の市販品としては、日本化薬（株）製のＫＡＹＡＲＡＤ  ＣＣＲ−１１５９Ｈ（分子量：７５００、酸価：１０１ｍｇＫＯＨ／ｇ）、同ＣＣＲ−１２８５Ｈ（酸価：８２ｍｇＫＯＨ／ｇ）、同ＺＦＲ−１４０１Ｈ（分子量：１２０００、酸価：９９ｍｇＫＯＨ／ｇ）、同ＺＦＲ−１４９１Ｈ（酸価：１００ｍｇＫＯＨ／ｇ）、同ＺＦＲ−１４９２Ｈ（酸価：１０２ｍｇＫＯＨ／ｇ）、同ＴＣＲ−１３１０Ｈ（分子量：４５００、酸価：１０４ｍｇＫＯＨ／ｇ）、日本ユピカ（株）製のネオポール８４３０（分子量：１００００、酸価：８８ｍｇＫＯＨ／ｇ）、同８４３２（分子量：８０００、酸価：９２ｍｇＫＯＨ／ｇ）、同８４７０（分子量：１００００、酸価：１００ｍｇＫＯＨ／ｇ）、同８４７２（分子量：７０００、酸価：１０５ｍｇＫＯＨ／ｇ）、同８４７５（分子量：１００００、酸価：１０１ｍｇＫＯＨ／ｇ）、同８４７６（分子量：５０００、酸価：１０１ｍｇＫＯＨ／ｇ）、同８４７７（分子量：１００００、酸価：９４ｍｇＫＯＨ／ｇ）、同８３７１、同８３１６、同８３１７、同８３１０（分子量：１０００、酸価：１０４ｍｇＫＯＨ／ｇ）などが挙げられる。なお、本段落における「分子量」は重量平均分子量を示す。
【００６５】
酸変性エポキシ（メタ）アクリレート（Ｆ）の含有量は、光重合性インクジェット材料の総量の１〜６０重量％であると、耐エッチング性又は耐めっき性と、アルカリ剥離性と、ジェッティング特性とのバランスがよくなるので好ましく、より好ましくは２〜５０重量％であり、さらに好ましくは３〜４５重量％であり、特に好ましくは４〜４０重量％である。
【００６６】
２．２  光重合開始剤（Ｇ）
光重合性インクジェット材料は、これに光硬化性を付与するために、光重合開始剤（Ｇ）を含む。光重合開始剤（Ｇ）は、紫外線あるいは可視光線の照射によりラジカルを発生することのできる化合物であれば特に限定されない。
【００６７】
光重合開始剤（Ｇ）の具体例としては、ベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、キサントン、チオキサントン、イソプロピルキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２−エチルアントラキノン、アセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−４’−イソプロピルプロピオフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、イソプロピルベンゾインエーテル、イソブチルベンゾインエーテル、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、カンファーキノン、ベンズアントロン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン−１、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、４，４’−ジ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，４，４’−トリ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラ（ｔ−ヘキシルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’−ジ（メトキシカルボニル）−４，４’−ジ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，４’−ジ（メトキシカルボニル）−４，３’−ジ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、４，４’−ジ（メトキシカルボニル）−３，３’−ジ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）フェニル］−，２−（ｏ−ベンゾイルオキシム）、２−（４’−メトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（３’，４’−ジメトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（２’，４’−ジメトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（２’−メトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４’−ペンチルオキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、４−［ｐ−Ｎ，Ｎ−ジ（エトキシカルボニルメチル）］−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、１，３−ビス（トリクロロメチル）−５−（２’−クロロフェニル）−ｓ−トリアジン、１，３−ビス（トリクロロメチル）−５−（４’−メトキシフェニル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−ジメチルアミノスチリル）ベンズオキサゾール、２−（ｐ−ジメチルアミノスチリル）ベンズチアゾール、２−メルカプトベンゾチアゾール、３，３’−カルボニルビス（７−ジエチルアミノクマリン）、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−エトキシカルボニルフェニル）−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４，６−トリクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、３−（２−メチル−２−ジメチルアミノプロピオニル）カルバゾール、３，６−ビス（２−メチル−２−モルホリノプロピオニル）−９−ｎ−ドデシルカルバゾール、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ビス（η5−２，４−シクロペンタジエン−１−イル）−ビス（２，６−ジフルオロ−３−（１Ｈ−ピロール−１−イル）−フェニル）チタニウム、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルフォスフィンオキサイド、又は２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイドを挙げることができる。
【００６８】
光重合開始剤（Ｇ）は、１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。光重合開始剤（Ｇ）の含有量は、光重合性インクジェット材料の総量の０．５〜２０重量％であると、インクジェット用インクとしたとき、紫外線に対して高感度となるので好ましく、より好ましくは１〜２０重量％であり、さらに好ましくは２〜２０重量％である。
【００６９】
２．３  １分子中に１個以上のラジカル重合性二重結合を有する化合物（Ｈ）
光重合性インクジェット材料は、粘度を調整するために、１分子中に１個以上のラジカル重合性二重結合を有する化合物（Ｈ）を含んでもよい。「ラジカル重合性」とは、光が当たることで発生したフリーラジカルにより重合を開始する性質である。
【００７０】
化合物（Ｈ）は、１分子中に１個以上のラジカル重合性二重結合を有しており、好ましいラジカル重合性二重結合の数は、化合物（Ｈ）の分子量とも関係するため、その数だけを明確に規定することは難しいが、例えば、１〜６個が好ましく、１〜３個がより好ましく、１〜２個がさらに好ましく、１個が特に好ましい。
【００７１】
また、化合物（Ｈ）に含まれるラジカル重合性二重結合の数を「ラジカル重合性二重結合当量」で説明すると、１００〜５００（ｇ／当量）が好ましく、１３０〜４００（ｇ／当量）がより好ましく、１５０〜３００（ｇ／当量）が特に好ましい。
【００７２】
化合物（Ｈ）は、分子量が１００〜１０００の範囲であることが好ましく、１５０〜５００の範囲であることがより好ましく、１８０〜４００の範囲であることがさらに好ましく、２００〜３００の範囲であることが特に好ましい。
【００７３】
１分子中に１個以上のラジカル重合性二重結合を有する化合物（Ｈ）の具体例としては、ラジカル重合性二重結合の数が１個又は複数個である単官能モノマー又は多官能モノマーが挙げられるが、特に単官能モノマー又は２官能モノマーが好ましく、その中でも特に、環状構造を有する単官能モノマー（Ｈ１）（環状構造及び１個のラジカル重合性二重結合を有するモノマー）が好ましい。また、環状構造を有する単官能モノマー（Ｈ１）と共に、１分子中に１個以上のカルボキシル基を有するモノマー（Ｈ２）（１分子中に１個以上のラジカル重合性二重結合及び１個以上のカルボキシル基を有するモノマー）を含むことがさらに好ましい。
【００７４】
環状構造を有する単官能モノマー（Ｈ１）における、「環状構造」とは、特に、脂環、ヘテロ環、芳香環のことであり、例えばシクロヘキシル基、シクロペンチル基、シクロヘプチル基、イソボロニル基、トリシクロデカニル基、テトラヒドロフルフリル基、ピペリジニル基、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基、又はピリジニル基が挙げられる。
【００７５】
環状構造を有する単官能モノマー（Ｈ１）の具体例としては、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、４−ブチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、トリシクロ［５．２．１．０2,6］デカニル（メタ）アクリレート、２−メチル−２−アダマンチル（メタ）アクリレート、２−メチル−２−アダマンチル（メタ）アクリレート、２−エチル−２−アダマンチル（メタ）アクリレート、３，５−ジメチル−７−ヒドロキシアダマンチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシ−１−メタクリルオキシアダマンタン、３−ヒドロキシ−１−アダマンチル（メタ）アクリレート、エチルシクロペンチル（メタ）アクリレート、トリシクロ［５，２，１，０2,6］デカ−８−イル（メタ）アクリレート、３，５−ジヒドロキシ−１−メタクリルオキシアダマンタン、メタクリロイルオキシノルボルナンメタクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、Ｎ−アクリロイルモルホリン、Ｎ−ビニルカプロラクタム、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタルイミド、環状トリメチロールプロパンフォルマルアクリレート、γ-ブチロラクトン（メタ）アクリレート、メバロノラクトン（メタ）アクリレート、環状イミドアクリレート、Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、ビニルピリジン、フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、メチルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、２−フェノキシエチル（メタ）アクリレート、ビニルトルエン、Ｎ−フェニルマレイミド、スチレン、メチルスチレン、クロルメチルスチレン、又はポリスチレンマクロモノマーが挙げられる。
【００７６】
この中でも特に、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、Ｎ−アクリロイルモルホリン、Ｎ−ビニルカプロラクタム、Ｎ−ビニルピロリドン、環状トリメチロールプロパンフォルマル（メタ）アクリレート、γ-ブチロラクトン（メタ）アクリレート、又はメバロノラクトン（メタ）アクリレートは、耐エッチング性、あるいは耐めっき性が低下することなく、使用する用途に合わせた粘度に調整できるので好ましい。
【００７７】
モノマー（Ｈ２）は、１分子中に１個以上のカルボキシル基を有しており、好ましいカルボキシル基の数は、モノマー（Ｈ２）の分子量とも関係するため、その数だけを明確に規定することは難しいが、例えば、１〜４個が好ましく、１〜３個がより好ましく、１〜２個がさらに好ましく、１個がとりわけ好ましい。
【００７８】
また、モノマー（Ｈ２）に含まれるカルボキシル基の数を「カルボキシル基当量」で説明すると、２００〜４００（ｇ／当量）（酸価：１４０〜３００ｍｇＫＯＨ／ｇに相当）が好ましく、２３０〜３５０（ｇ／当量）（酸価：１６０〜２５０ｍｇＫＯＨ／ｇに相当）がより好ましく、２５０〜３００（ｇ／当量）（酸価：１８０〜２１０ｍｇＫＯＨ／ｇに相当）がさらに好ましい。
【００７９】
また、１分子中に１個以上のカルボキシル基を有するモノマー（Ｈ２）の具体例としては、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸ダイマー、クロトン酸、α−クロルアクリル酸、ケイ皮酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸、メサコン酸、β−カルボキシルエチル（メタ）アクリレート、ω−カルボキシポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレート、コハク酸モノ［２−（メタ）アクリロイロキシエチル］、マレイン酸モノ［２−（メタ）アクリロイロキシエチル］、無水フタル酸とヒドロキシエチル（メタ）アクリレートとの反応物（例えば、フタル酸モノヒドロキシエチルメタクリレート）、又は無水ヘキサヒドロフタル酸とヒドロキシエチル（メタ）アクリレートとの反応物が挙げられる。
【００８０】
この中でも特に、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸ダイマー、β−カルボキシルエチル（メタ）アクリレート、ω−カルボキシポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレート、コハク酸モノ［２−（メタ）アクリロイロキシエチル］、マレイン酸モノ［２−（メタ）アクリロイロキシエチル］、無水フタル酸とヒドロキシエチル（メタ）アクリレートとの反応物（例えば、フタル酸モノヒドロキシエチルメタクリレート）、又は無水ヘキサヒドロフタル酸とヒドロキシエチル（メタ）アクリレートとの反応物は、耐エッチング性、あるいは耐めっき性と、アルカリ剥離性のバランスがよく、好ましい。
【００８１】
また、環状構造を有する単官能モノマー（Ｈ１）と、１分子中に１個以上のカルボキシル基を有するモノマー（Ｈ２）以外にも、耐エッチング性又は耐めっき性を損なわない範囲で、他のラジカル重合性二重結合を有する化合物（Ｈ３）を含んでもよい。
【００８２】
他のラジカル重合性二重結合を有する化合物（Ｈ３）の具体例としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、イソアミル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、へプチル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、１、４-シクロヘキサンジメタノールモノ（メタ）アクリレート、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、３−メトキシブチル（メタ）アクリレート、エトキシエトキシエチル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシジプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコール（メタ）アクリレート、エチルジグリコール（メタ）アクリレート、グリセロールモノ（メタ）アクリレート、トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、イミド（メタ）アクリレート、Ｎ-ビニルホルムアミド、グリシジル（メタ）アクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシル（メタ）アクリレート、メチルグリシジル（メタ）アクリレート、３−メチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、３−エチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、３−メチル−３−（メタ）アクリロキシエチルオキセタン、３−エチル−３−（メタ）アクリロキシエチルオキセタン、ｐ−ビニルフェニル−３−エチルオキセタ−３−イルメチルエーテル、２−フェニル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、２−トリフロロメチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、４−トリフロロメチル−２−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、（３−エチル−３−オキセタニル）メチル（メタ）アクリレート、ポリメチルメタクリレートマクロモノマー、（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−イソプロピル（メタ）アクリルアミド、又はＮ−ヒドロキシエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド、ビス（ヒドロキシメチル）トリシクロデカンジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ型エチレンオキサイド変性ジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＦ型エチレンオキサイド変性ジ（メタ）アクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレ���トジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリストールトリ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、又はトリメチロールプロパントリオキシエチル（メタ）アクリレートが挙げられる。
【００８３】
１分子中に１個以上のラジカル重合性二重結合を有する化合物（Ｈ）は、１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。
【００８４】
１分子中に１個以上のラジカル重合性二重結合を有するモノマー（Ｈ）の含有量は、光重合性インクジェット材料の総量の１０〜９０重量％であると、使用する用途に合わせた粘度に調整できるので好ましく、他特性とのバランスを考慮すると、より好ましくは１０〜８０重量％であり、さらに好ましくは１０〜７０重量％であり、特に好ましくは１０〜６０重量％である。
【００８５】
２．４  その他の成分
光重合性インクジェット材料は、各種特性を向上させるためにフェノール樹脂、エポキシ樹脂、エポキシ硬化剤、界面活性剤、着色剤、重合禁止剤、溶媒又は帯電防止剤などを含んでもよい。
【００８６】
２．４（１）  フェノール樹脂
光重合性インクジェット材料には、例えば、耐エッチング性、耐めっき性又はアルカリ剥離性を向上させるために、フェノール樹脂を含んでもよい。
【００８７】
フェノール樹脂としては、フェノール性水酸基を有する芳香族化合物とアルデヒド類との縮合反応により得られるノボラック樹脂、ビニルフェノールの単独重合体（水素添加物を含む）、又はビニルフェノールとこれと共重合可能な化合物とのビニルフェノール系共重合体（水素添加物を含む）などが好ましく用いられる。
【００８８】
フェノール性水酸基を有する芳香族化合物の具体例としては、フェノール、ｏ−クレゾール、ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾール、ｏ−エチルフェノール、ｍ−エチルフェノール、ｐ−エチルフェノール、ｏ−ブチルフェノール、ｍ−ブチルフェノール、ｐ−ブチルフェノール、ｏ−キシレノール、２，３−キシレノール、２，４−キシレノール、２，５−キシレノール、３，４−キシレノール、３，５−キシレノール、２，３，５−トリメチルフェノール、３，４，５−トリメチルフェノール、ｐ−フェニルフェノール、レゾルシノール、ホドロキノン、ヒドロキノンモノメチルエーテル、ピロガロール、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、テルペン骨格含有ジフェノール、没食子酸、没食子酸エステル、α−ナフトール、又はβ−ナフトールが挙げられる。
同じく、アルデヒド類としては、ホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒド、フラフラール、ベンズアルデヒド、ニトロベンズアルデヒド、又はアセトアルデヒドなどが挙げられる。
【００８９】
ビニルフェノールと共重合可能な化合物の具体例としては、（メタ）アクリル酸又はその誘導体、スチレン又はその誘導体、無水マレイン酸、酢酸ビニル、又はアクリロニトリルが挙げられる。
【００９０】
フェノール樹脂の具体例としては、レヂトップＰＳＭ−６２００（商品名；群栄化学（株）製）、ショウノールＢＲＧ−５５５（商品名；昭和高分子（株）製）、マルカリンカーＭＳ−２Ｐ、マルカリンカーＣＳＴ７０、又はマルカリンカーＰＨＭ−Ｃ（商品名；丸善石油化学（株）製）が挙げられる。
【００９１】
光重合性インクジェット材料に用いられるフェノール樹脂は、１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。
フェノール樹脂の含有量が、光重合性インクジェット材料の総量の０．５〜２０重量％であると耐エッチング性又は耐めっき性が向上するので好ましく、他特性とのバランスを考慮すると、より好ましくは０．５〜１０重量％であり、さらに好ましくは０．５〜７重量％である。
【００９２】
２．４（２）  エポキシ樹脂
光重合性インクジェット材料は、例えば、耐エッチング性又は耐めっき性を向上させるために、エポキシ樹脂を含んでもよい。
【００９３】
エポキシ樹脂の具体例としては、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、又は脂環式エポキシ樹脂が挙げられる。
【００９４】
エポキシ樹脂の具体例としては、エピコート８０７、同８１５、同８２５、同８２７、同８２８、同１９０Ｐ、同１９１Ｐ（商品名；油化シェルエポキシ（株）製）、エピコート１００４、同１２５６（商品名；ジャパンエポキシレジン（株）製）、アラルダイトＣＹ１７７、同ＣＹ１８４（商品名；日本チバガイギー（株）製）、セロキサイド２０２１Ｐ、ＥＨＰＥ−３１５０（商品名；ダイセル化学工業（株）製）、又はテクモアＶＧ３１０１Ｌ（商品名；三井化学（株）製）を挙げることができる。
【００９５】
光重合性インクジェット材料に用いられるエポキシ樹脂は、１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。
エポキシ樹脂の含有量が、光重合性インクジェット材料の総量の１〜２０重量％であると耐エッチング性又は耐めっき性が向上するので好ましく、より好ましくは１〜１０重量％であり、さらに好ましくは１〜７重量％である。
【００９６】
２．４（３）  エポキシ硬化剤
光重合性インクジェット材料がエポキシ樹脂を含んでいる場合、例えば、硬化膜の耐めっき性又は耐エッチング性をより向上させるために、さらにエポキシ硬化剤を含んでもよい。エポキシ硬化剤としては、酸無水物系硬化剤、ポリアミン系硬化剤、及び触媒型硬化剤などが好ましい。
【００９７】
酸無水物系硬化剤の具体例としては、無水マレイン酸、テトラヒドロフタル酸無水物、ヘキサヒドロフタル酸無水物、メチルヘキサヒドロフタル酸無水物、ヘキサヒドロトリメリット酸無水物、無水フタル酸、トリメリット酸無水物、又はスチレン−無水マレイン酸共重合体が挙げられる。
【００９８】
ポリアミン系硬化剤の具体例としては、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ジシアンジアミド、ポリアミドアミン(ポリアミド樹脂)、ケチミン化合物、イソホロンジアミン、ｍ−キシレンジアミン、ｍ−フェニレンジアミン、１，３−ビス(アミノメチル)シクロヘキサン、Ｎ−アミノエチルピペラジン、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノ−３，３’−ジエチルジフェニルメタン、又はジアミノジフェニルスルフォンが挙げられる。また、触媒型硬化剤の具体例としては３級アミン化合物、又はイミダゾール化合物が挙げられる。
【００９９】
ポリカルボン酸系硬化剤の具体例としては、無水フタル酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、３，６−エンドメチレンテトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサクロルエンドメチレンテトラヒドロ無水フタル酸、又はメチル−３，６−エンドメチレンテトラヒドロ無水フタル酸が挙げられる。
【０１００】
光重合性インクジェット材料に用いられるエポキシ硬化剤は、１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。
エポキシ硬化剤の含有量が、光重合性インクジェット材料の総量の０．５〜５０重量％であると耐エッチング性又は耐めっき性が向上するので好ましく、他特性とのバランスを考慮すると、より好ましくは０．５〜４０重量％であり、さらに好ましくは０．５〜３０重量％である。
【０１０１】
２．４（４）  界面活性剤
光重合性インクジェット材料は、例えば、下地基板への濡れ性や、硬化膜の膜面均一性を向上させるために界面活性剤を含んでもよい。界面活性剤としては、シリコン系界面活性剤、アクリル系界面活性剤、及びフッ素系界面活性剤などが用いられる。
【０１０２】
界面活性剤の具体的としては、Ｂｙｋ−３００、同３０６、同３３５、同３１０、同３４１、同３４４、及び同３７０（商品名；ビック・ケミー（株）製）などのシリコン系界面活性剤、Ｂｙｋ−３５４、同３５８、及び同３６１（商品名；ビック・ケミー（株）製）などのアクリル系界面活性剤、ＤＦＸ−１８、フタージェント２５０、又は同２５１（商品名；ネオス（株）製）、メガファックＦ−４７９（商品名；ＤＩＣ（株）製）などのフッ素系界面活性剤を挙げることができる。
【０１０３】
光重合性インクジェット材料に用いられる界面活性剤は、１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。
界面活性剤の含有量が、光重合性インクジェット材料の総量の０．００１〜１重量％であると硬化膜の膜面均一性が向上するので好ましく、他特性とのバランスを考慮すると、より好ましくは０．００１〜０．１重量％であり、さらに好ましくは０．００１〜０．０５重量％である。
【０１０４】
２．４（５）  着色剤
光重合性インクジェット材料は、例えば、硬化膜の状態を検査する際に基板との識別を容易にするために、着色剤を含んでもよい。着色剤としては、染料、顔料が好ましい。
【０１０５】
光重合性インクジェット材料に用いられる着色剤は、１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。
着色剤の含有量が、光重合性インクジェット材料の総量の０．１〜５重量％であると硬化膜の検査が容易であるので好ましく、他特性とのバランスを考慮すると、より好ましくは０．１〜１重量％であり、さらに好ましくは０．１〜０．５重量％である。
【０１０６】
２．４（６）  重合禁止剤
光重合性インクジェット材料は、例えば、保存安定性を向上させるために重合禁止剤を含んでもよい。重合禁止剤の具体例としては、４−メトキシフェノール、ヒドロキノン、又はフェノチアジンを挙げることができる。これらの中でも、フェノチアジンが長期の保存においても粘度の変化が小さいために好ましい。
【０１０７】
光重合性インクジェット材料に用いられる重合禁止剤は、１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。
重合禁止剤の含有量が、光重合性インクジェット材料の総量の０．０１〜１重量％であると長期の保存においても粘度の変化が小さいために好ましく、他特性とのバランスを考慮すると、より好ましくは０．０１〜０．５重量％であり、さらに好ましくは０．０１〜０．１重量％である。
【０１０８】
２．４（７）  溶媒
光重合性インクジェット材料は、例えば、インクジェット印刷に適した粘度に調整するために溶媒を含んでもよく、特に沸点が１００〜３００℃の溶媒が好ましい。
【０１０９】
沸点が１００〜３００℃である溶媒の具体例としては、水、酢酸ブチル、プロピオン酸ブチル、乳酸エチル、オキシ酢酸メチル、オキシ酢酸エチル、オキシ酢酸ブチル、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、３−オキシプロピオン酸メチル、３−オキシプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、２−オキシプロピオン酸メチル、２−オキシプロピオン酸エチル、２−オキシプロピオン酸プロピル、２−メトキシプロピオン酸メチル、２−メトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシプロピオン酸プロピル、２−エトキシプロピオン酸メチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、２−オキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−オキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、２−メトキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−エトキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、２−オキソブタン酸メチル、２−オキソブタン酸エチル、ジオキサン、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、トルエン、キシレン、アニソール、γ−ブチロラクトン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、又はジメチルイミダゾリジノンが挙げられる。
【０１１０】
光重合性インクジェット材料に用いられる溶媒は１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。
溶媒の含有量が、光重合性インクジェット材料の総量の０．１〜２０重量％であると、ジェッティング中にノズルが乾燥し難いために好ましい。他特性とのバランスを考慮すると、より好ましくは０．１〜１０重量％であり、さらに好ましくは０．１〜５重量％である。
【０１１１】
２．４（８）  帯電防止剤
光重合性インクジェット材料は、帯電防止剤を含んでいてもよい。帯電防止剤は、特に限定されるものではなく、公知の帯電防止剤が挙げられる。具体的には、酸化錫、酸化錫・酸化アンチモン複合酸化物、又は酸化錫・酸化インジウム複合酸化物などの金属酸化物や四級アンモニウム塩などが挙げられる。
【０１１２】
さらに、前記光重合性インクジェット材料が、エッチングレジスト及びめっきレジストとして使用される場合に、本発明の剥離液は、特に有用である。
【０１１３】
２．５  光重合性インクジェット材料の粘度
光重合性インクジェット材料は、Ｅ型粘度計で測定した２５℃における粘度が２〜２００ｍＰａ・ｓであるとインクジェットのヘッドからの塗布特性（ジェッティング精度など）が良好となるので好ましい。２５℃におけるインクジェット用インクの粘度は、より好ましくは１０〜１８０ｍＰａ・ｓ、さらに好ましくは２０〜１５０ｍＰａ・ｓである。
【０１１４】
３．  剥離処理
本発明の剥離液を用いた剥離処理は、通常、浸漬法、揺動浸漬法、シャワー法、スプレイ法により施される。剥離処理方法の違いにより、剥離時間、及び剥離温度は多少異なる。浸漬法は、剥離を行なう基板を剥離液中に浸漬、静置して剥離を行い、揺動浸漬法は、剥離液中に浸漬後、基板を揺れ動かして剥離を行い、シャワー法は、基板上部から剥離液をシャワー状にして吹きつけ剥離を行い、スプレイ法は、基板上部から剥離液をスプレイ状にして吹きつけ剥離を行なう。処理温度は、何れの方法においても、４０〜６０℃が好ましく、より好ましくは４５〜５５℃である。処理時間は、何れの方法においても、２〜６分が好ましく、より好ましくは３〜５分である。また、シャワー法及びスプレイ法においては、０．２〜０．４ＭＰａの圧力で剥離液を吹き付けるのが好ましく、より好ましくは０．２５〜０．３５ＭＰａである。
【実施例】
【０１１５】
以下、実施例により本発明をさらに説明するが、本発明はこれらによって限定されるものではない。
【０１１６】
＜光重合性インクジェット材料１＞
酸変性エポキシ（メタ）アクリレート（Ｆ）としてビスフェノールＦ型酸変性エポキシアクリレートであるネオポール８４７６（商品名；日本ユピカ（株）製、重量平均分子量：５０００、酸価：１００ｍｇＫＯＨ／ｇ）、及び、光重合性開始剤（Ｇ）として２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイドであるＤＡＲＯＣＵＲ  ＴＰＯ（商品名；チバスペシャルティーケミカルズ（株）製）、これらに加えてさらにテトラヒドロフルフリルメタクリレートであるＳＲ−２０３（商品名；ＳＡＲＴＯＭＥＲ製、ラジカル二重結合当量：１７０ｇ／当量）、フタル酸モノヒドロキシエチルメタクリレートであるＣＢ−１（商品名；新中村化学工業（株）製、ラジカル二重結合当量：２８０ｇ／当量、カルボキシル基当量：２８０ｇ／当量、酸価：２００ｍｇＫＯＨ／ｇ）、及びフェノチアジン（重合禁止剤）を下記組成割合にて混合・溶解した後、１μｍのＰＴＦＥ製のメンブレンフィルターでろ過し、光重合性インクジェット材料１を調製した。
ネオポール８４７６                １００．００ｇ
ＴＰＯ                              ４２．５０ｇ
ＳＲ−２０３                      １４０．００ｇ
ＣＢ−１                          １００．００ｇ
フェノチアジン                        ０．１９ｇ
Ｅ型粘度計（東機産業（株）製  ＴＶ−２２）を用い、２５℃の光重合性インクジェット材料１の粘度を測定した結果、１０２ｍＰａ・ｓであった。
【０１１７】
＜光重合性インクジェット材料２＞
酸変性エポキシ（メタ）アクリレート（Ｆ）としてノボラック型酸変性エポキシアクリレートであるネオポール８４３０（商品名；日本ユピカ（株）製、重量平均分子量：１００００、酸価：１００ｍｇＫＯＨ／ｇ）を用い、下記組成割合とした以外は、光重合性インクジェット材料１と同様にして、光重合性インクジェット材料２を調製した。
ネオポール８４３０                １００．００ｇ
ＴＰＯ                              ４６．９０ｇ
ＳＲ−２０３                      １７５．００ｇ
ＣＢ−１                          １００．００ｇ
フェノチアジン                        ０．２１ｇ
Ｅ型粘度計を用い、２５℃の光重合性インクジェット材料２の粘度を測定した結果、８７ｍＰａ・ｓであった。
【０１１８】
＜光重合性インクジェット材料３＞
酸変性エポキシ（メタ）アクリレート（Ｆ）としてビスフェノールＡ型酸変性エポキシアクリレートであるネオポール８４７０（商品名；日本ユピカ（株）製、重量平均分子量：１００００、酸価：１００ｍｇＫＯＨ／ｇ）を用い、下記組成割合とした以外は、光重合性インクジェット材料１と同様にして、光重合性インクジェット材料３を調製した。
ネオポール８４７０                １００．００ｇ
ＴＰＯ                              ５０．００ｇ
ＳＲ−２０３                      ２００．００ｇ
ＣＢ−１                          １００．００ｇ
フェノチアジン                        ０．２３ｇ
Ｅ型粘度計を用い、２５℃の光重合性インクジェット材料３の粘度を測定した結果、７６ｍＰａ・ｓであった。
【０１１９】
＜光重合性インクジェット材料４＞
酸変性エポキシ（メタ）アクリレート（Ｆ）としてビスフェノールＦ型酸変性エポキシアクリレートであるネオポール８４７５（商品名；日本ユピカ（株）製、重量平均分子量：１００００、酸価：１０１ｍｇＫＯＨ／ｇ）を用い、下記組成割合とした以外は、光重合性インクジェット材料１と同様にして、光重合性インクジェット材料４を調製した。
ネオポール８４７５                １００．００ｇ
ＴＰＯ                              ５０．００ｇ
ＳＲ−２０３                      ２００．００ｇ
ＣＢ−１                          １００．００ｇ
フェノチアジン                        ０．２３ｇ
Ｅ型粘度計を用い、２５℃の光重合性インクジェット材料４の粘度を測定した結果、８０ｍＰａ・ｓであった。
【０１２０】
＜剥離テスト用基板（１−１）〜（１−４）の作製＞
上記光重合性インクジェット材料１〜４を、それぞれ、フレキシブルプリント配線基板（三井化学（株）製ネオフレックスＮＥＸ−１３ＦＥ）のＣｕ面上に、インクジェット装置（ＦＵＪＩＦＩＬＭ  Ｄｉｍａｔｉｘ社製のＤＭＰ−２８３１）を用い、約２００μｍ幅のラインパターンを印刷した後、超高圧水銀灯を用い、ウシオ電機（株）製の受光器ＵＶＤ−３６５ＰＤを取り付けた積算光量計ＵＩＴ−２０１で測定して３００ｍＪ／ｃｍ2の放射線（紫外線）を照射し、光重合性インクジェット材料を硬化させた。なお、インクジェット装置の吐出条件は、吐出電圧（ピエゾ電圧）１６Ｖ、ヘッド温度７０℃、駆動周波数５ｋＨｚであった。
【０１２１】
次に、上記光重合性インクジェット材料１〜４の硬化膜がそれぞれパターン形成された４種類の基板を、それぞれ、Ｃｕエッチング液（１３％ＦｅＣｌ3水溶液）に５０℃で５分間浸漬し、光重合性インクジェット材料の硬化膜が形成されていない部分のＣｕをエッチング除去した。その後、超純水でリンスし、エアーブローにて乾燥させた。このようにして光重合性インクジェット材料１〜４の硬化膜がそれぞれパターン形成された４種類の基板（以降、それぞれ順に剥離テスト用基板（１−１）〜（１−４）と略記する）を作製した。
【０１２２】
＜剥離テスト用基板（２−１）〜（２−４）の作製＞
上記光重合性インクジェット材料１〜４を、それぞれ、ラインアンドスペース１ｍｍのＣｕ配線が施されたフレキシブルプリント配線基板（三井化学（株）製ネオフレックスＮＥＸ−１３ＦＥ）上に、インクジェット装置（ＦＵＪＩＦＩＬＭ  Ｄｉｍａｔｉｘ社製のＤＭＰ−２８３１）を用い、Ｃｕ配線パターンと直交するように約２００μｍ幅のラインパターンを印刷した後、超高圧水銀灯を用い、ウシオ電機（株）製の受光器ＵＶＤ−３６５ＰＤを取り付けた積算光量計ＵＩＴ−２０１で測定して３００ｍＪ／ｃｍ2の放射線（紫外線）を照射し、光重合性インクジェット材料を硬化させた。なお、インクジェット装置の吐出条件は、吐出電圧（ピエゾ電圧）１６Ｖ、ヘッド温度７０℃、駆動周波数５ｋＨｚであった。
【０１２３】
次に、光重合性インクジェット材料１〜４の硬化膜がそれぞれパターン形成された４種類の基板を、それぞれ、市販の無電解ニッケルめっき液（商品名：ニムデンＮＰＲ−４、Ｎｉ濃度４．５ｇ／Ｌ、上村工業（株）製）に５５℃で２０分浸漬させて超純水でリンスし、続いて市販の金ストライクめっき液（商品名：アシドストライク、日本高純度化学（株）製）に５５℃で１０分浸漬させて超純水でリンスし、続いて市販の無電解金めっき液（商品名：ゴブライトＴＡＭ−５５、Ａｕ濃度１ｇ／Ｌ、上村工業（株）製）に９０℃で３０分浸漬させて超純水でリンスした後、エアーブローにて乾燥させた。このようにして光重合性インクジェット材料１〜４の硬化膜がそれぞれパターン形成された４種類の基板（以降、それぞれ順に剥離テスト用基板（２−１）〜（２−４）と略記する）を作製した。
【０１２４】
＜剥離液１の調製＞
テトラメチルアンモニウムヒドロキシド（ＴＭＡＨ）が０．５重量％、モノエタノールアミン（ＭＥＡ）が５重量％、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）が３７重量％、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）が５６重量％、及び超純水が１．５重量％となるように各成分を室温で３０分以上混合・撹拌し、本発明に係る剥離液１を調製した（表１を参照）。
【０１２５】
＜剥離液２〜７及び剥離液８〜１２の調製＞
本発明に係る剥離液１と同様、表１に示すような比率で、本発明に係る剥離液２〜７及び比較液としての剥離液８〜１２を調製した。表１中の各成分は以下の通りである。
成分（Ａ）
ＴＭＡＨ：テトラメチルアンモニウムヒドロキシド
成分（Ｂ）
ＭＥＡ  ：モノエタノールアミン
ＡＥＡＥ：Ｎ−（２−アミノエチル）エタノールアミン
成分（Ｃ）
ＮＭＰ  ：Ｎ−メチルピロリドン
ＤＭＳＯ：ジメチルスルホキシド
ＭｅＯＨ：メタノール
他の成分
ＮａＯＨ：水酸化ナトリウム
【０１２６】
【表１】
2010111795.tif 000003
【０１２７】
［実施例１〜７、比較例１〜５］
＜剥離液１〜７及び剥離液８〜１２の外観評価＞
本発明に係る剥離液１〜７及び比較液としての剥離液８〜１２を調製後、目視で剥離液の外観を観察し、均一な透明溶液である場合を○、不均一で濁っている場合を×として評価した（それぞれ順に実施例１〜７、比較例１〜５とする）。それぞれの結果を表２に示す。
【０１２８】
＜剥離液１〜７及び剥離液８〜１２の金属腐食性の評価＞
本発明に係る剥離液１〜７及び比較液としての剥離液８〜１２を、それぞれ、５０℃に加温し、その中に剥離テスト用基板（１−１）を１０分間浸漬（静置）した後、超純水で１分間リンスを行い、エアーブローにて乾燥させた。剥離テスト用基板（１−１）を剥離液に浸漬する前後でＣｕ部分を偏光顕微鏡にて観察し、浸漬前後でＣｕ部分の腐食が全く見られない場合を○、Ｃｕ部分の面積（約６ｃｍ2）の１０％未満の割合で部分的に腐食が見られる場合を△、Ｃｕ部分の面積（約６ｃｍ2）の１０％以上の割合で腐食が見られる場合を×として評価した（それぞれ順に実施例１〜７、比較例１〜５とする）。それぞれの結果を表２に示す。
【０１２９】
【表２】
2010111795.tif 000004
【０１３０】
［実施例８〜１４、比較例６〜１０］
＜基板(1-1)及び(2-1)に対する剥離液１〜７及び剥離液８〜１２の剥離性能評価＞
本発明に係る剥離液１〜７及び比較液としての剥離液８〜１２（それぞれ順に実施例８〜１４、比較例６〜１０とする）を、それぞれ、５０℃に加温し、その中に剥離テスト用基板（１−１）及び剥離テスト用基板（２−１）（すなわち、光重合性インクジェット材料１を用いて作製した基板）を２分間浸漬（静置）した後、超純水で１分間リンスを行い、エアーブローにて乾燥させた。各剥離液への浸漬前後の光重合性インクジェット材料硬化膜（剥離対象物）を偏光顕微鏡にて観察し、光重合性インクジェット材料の硬化膜が、面積的に、１００％完全除去された場合を◎、９０％以上除去（殆ど完全除去）された場合を○、９０〜８０％除去（部分的に残留あり）された場合を△、８０％未満（多量に残留あり）の場合を×として評価した。それぞれの結果を表３に示す。
【０１３１】
【表３】
2010111795.tif 000005
【０１３２】
表３の結果より、本発明に係る剥離液１〜７は、光重合性インクジェット材料１に対して優れた剥離性能を示すことが確認された。特に、光重合性インクジェット材料がエッチングレジスト及びめっきレジストとして使用される場合に、本発明の剥離液は有用である。
【０１３３】
［実施例１５〜２１、比較例１１〜１５］
＜基板(1-2)及び(2-2)に対する剥離液１〜７及び剥離液８〜１２の剥離性能評価＞
剥離テスト用基板として剥離テスト用基板（１−２）及び（２−２）（すなわち、光重合性インクジェット材料２を用いて作製した基板）を用いたこと以外は上記［実施例８〜１４、比較例６〜１０］と同様にして、剥離テスト用基板（１−２）及び（２−２）に対する本発明に係る剥離液１〜７及び比較液としての剥離液８〜１２の剥離性能（それぞれ順に実施例１５〜２１、比較例１１〜１５とする）を評価した。それぞれの結果を表４に示す。
【０１３４】
【表４】
2010111795.tif 000006
【０１３５】
表４の結果より、本発明に係る剥離液１〜７は、光重合性インクジェット材料２に対して優れた剥離性能を示すことが確認された。特に、光重合性インクジェット材料がエッチングレジスト及びめっきレジストとして使用される場合に、本発明の剥離液は有用である。
【０１３６】
［実施例２２〜２８、比較例１６〜２０］
＜基板(1-3)及び(2-3)に対する剥離液１〜７及び剥離液８〜１２の剥離性能評価＞
剥離テスト用基板として剥離テスト用基板（１−３）及び（２−３）（すなわち、光重合性インクジェット材料３を用いて作製した基板）を用いたこと以外は上記［実施例８〜１４、比較例６〜１０］と同様にして、剥離テスト用基板（１−３）及び（２−３）に対する本発明に係る剥離液１〜７及び比較液としての剥離液８〜１２の剥離性能（それぞれ順に実施例２２〜２８、比較例１６〜２０とする）を評価した。それぞれの結果を表５に示す。
【０１３７】
【表５】
2010111795.tif 000007
【０１３８】
表５の結果より、本発明に係る剥離液１〜７は、光重合性インクジェット材料３に対して優れた剥離性能を示すことが確認された。特に、光重合性インクジェット材料がエッチングレジスト及びめっきレジストとして使用される場合に、本発明の剥離液は有用である。
【０１３９】
［実施例２９〜３５、比較例２１〜２５］
＜基板(1-4)及び(2-4)に対する剥離液１〜７及び剥離液８〜１２の剥離性能評価＞
剥離テスト用基板として剥離テスト用基板（１−４）及び（２−４）（すなわち、光重合性インクジェット材料４を用いて作製した基板）を用いたこと以外は上記［実施例８〜１４、比較例６〜１０］と同様にして、剥離テスト用基板（１−４）及び（２−４）に対する本発明に係る剥離液１〜７及び比較液としての剥離液８〜１２の剥離性能（それぞれ順に実施例２９〜３５、比較例２１〜２５とする）を評価した。それぞれの結果を表６に示す。
【０１４０】
【表６】
2010111795.tif 000008
【０１４１】
表６の結果より、本発明に係る剥離液１〜７は、光重合性インクジェット材料４に対して優れた剥離性能を示すことが確認された。特に、光重合性インクジェット材料がエッチングレジスト及びめっきレジストとして使用される場合に、本発明の剥離液は有用である。