(57)【要約】      （修正有）【課題】マルチコアプロセッサの計算能力を向上する。【解決手段】マルチコアプロセッサＭＣＰ’は、２つ以上のコアＣ１’，Ｃ２’，Ｃ３’と、２つ以上のコアによって共用され、一度に２つ以上のコアのうちの１つと通信可能な外部通信機器ＥＣＦ’と、２つ以上のコアのそれぞれと同時に通信可能な内部通信機器ＩＣＦ’と、を含む。マルチコアプロセッサは、外部通信機器を介して第１の信号を受け取り、２つ以上のコアのうちの１つに第１の信号を中継し、２つ以上のコアのうちの１つによって第１の信号を処理して第２の信号を生成し、内部通信機器によって２つ以上のコアのそれぞれに第２の信号を実質的に同時に伝送し、２つ以上のコアのそれぞれにおいて、第２の信号の受信に応じてタスクを開始する。【選択図】図４
2010250821.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
２つ以上のコアと、
前記２つ以上のコアによって共用され、一度に前記２つ以上のコアのうちの１つと通信可能な外部通信機器と、
前記２つ以上のコアのそれぞれと同時に通信可能な内部通信機器と、を備え、
前記外部通信機器を介して第１の信号を受け取り、
前記２つ以上のコアのうちの１つに前記第１の信号を中継し、
前記２つ以上のコアのうちの前記１つによって前記第１の信号を処理して第２の信号を生成し、
前記内部通信機器によって前記２つ以上のコアのそれぞれに前記第２の信号を実質的に同時に伝送し、
前記２つ以上のコアのそれぞれにおいて、前記第２の信号の受信に応じてタスクを開始する、マルチコアプロセッサ。
【請求項２】
前記第２の信号を受信した後、前記第１の信号を処理するコアを含む全てのコアにおいてタスクを開始する、請求項１に記載のマルチコアプロセッサ。
【請求項３】
前記第２の信号の優先度は前記第１の信号の優先度よりも高く設定される、請求項１に記載のマルチコアプロセッサ。
【請求項４】
前記内部通信機器は、前記第２の信号を生成するタイマを含む、請求項１に記載のマルチコアプロセッサ。
【請求項５】
リソグラフィ装置におけるプロセスを制御するための制御システムであって、
前記制御システムは、デバイス入力に基づき前記制御システムの出力を計算するマルチコアプロセッサを備え、
前記マルチコアプロセッサは、
２つ以上のコアと、
前記２つ以上のコアによって共用され、一度に前記２つ以上のコアのうちの１つと通信可能な外部通信機器と、
前記２つ以上のコアのそれぞれと同時に通信可能な内部通信機器と、を備え、
前記マルチコアプロセッサは、
前記外部通信機器を介して第１の信号を受け取り、
前記２つ以上のコアのうちの１つに前記第１の信号を中継し、
前記２つ以上のコアのうちの前記１つによって前記第１の信号を処理して第２の信号を生成し、
前記内部通信機器によって前記２つ以上のコアのそれぞれに前記第２の信号を実質的に同時に伝送し、
前記２つ以上のコアのそれぞれにおいて、前記第２の信号の受信に応じてタスクを開始する、制御システム。
【請求項６】
前記マルチコアプロセッサは、前記第２の信号を受信した後、前記第１の信号を処理するコアを含む全てのコアにおいてタスクを開始する、請求項５に記載の制御システム。
【請求項７】
前記マルチコアプロセッサは、前記第２の信号の優先度を前記第１の信号の優先度よりも高く設定する、請求項５に記載の制御システム。
【請求項８】
前記マルチコアプロセッサは、前記第２の信号を生成するタイマを含む、請求項５に記載の制御システム。
【請求項９】
リソグラフィ装置であって、
前記リソグラフィ装置におけるプロセスを制御するための制御システムと、
前記プロセスに基づいて前記制御システムに入力を提供するセンサと、を備え、
前記制御システムは、前記センサの入力に基づき前記制御システムの出力を計算するマルチコアプロセッサを備え、
前記マルチコアプロセッサは、
２つ以上のコアと、
前記２つ以上のコアによって共用され、一度に前記２つ以上のコアのうちの１つと通信可能な外部通信機器と、
前記２つ以上のコアのそれぞれと同時に通信可能な内部通信機器と、を備え、
前記マルチコアプロセッサは、
前記外部通信機器を介して第１の信号を受け取り、
前記２つ以上のコアのうちの１つに前記第１の信号を中継し、
前記２つ以上のコアのうちの前記１つによって前記第１の信号を処理して第２の信号を生成し、
前記内部通信機器によって前記２つ以上のコアのそれぞれに前記第２の信号を実質的に同時に伝送し、
前記２つ以上のコアのそれぞれにおいて、前記第２の信号の受信に応じてタスクを開始する、リソグラフィ装置。
【請求項１０】
前記マルチコアプロセッサは、前記第２の信号を受信した後、前記第１の信号を処理するコアを含む全てのコアにおいてタスクを開始する、請求項９に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１１】
前記マルチコアプロセッサは、前記第２の信号の優先度を前記第１の信号の優先度よりも高く設定する、請求項９に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１２】
前記マルチコアプロセッサは、前記第２の信号を生成するタイマを含む、請求項９に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１３】
マルチコアプロセッサの複数のコアにおいてタスクを開始する方法であって、
前記マルチコアプロセッサは、
前記複数のコアによって共用され、一度に１つのコアと通信可能な外部通信機器と、
前記複数のコアのそれぞれと同時に通信可能な内部通信機器と、を備え、
前記方法は、
前記外部通信機器を介して第１の信号を受け取ることと、
前記複数のコアのうちの１つに前記第１の信号を中継することと、
前記複数のコアのうちの前記１つによって前記第１の信号を処理して第２の信号を生成することと、
前記内部通信機器によって前記複数のコアのそれぞれに前記第２の信号を実質的に同時に伝送することと、
前記複数のコアのそれぞれにおいて、前記第２の信号の受信に応じてタスクを開始することと、を含む、方法。
【請求項１４】
前記マルチコアプロセッサによって、前記第２の信号の優先度は前記第１の信号の優先度よりも高く設定される、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
前記第２の信号はタイマによって生成される、請求項１３に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、マルチコアプロセッサ、そのようなマルチコアプロセッサを含む制御システム、そのような制御システムを含むリソグラフィ装置、およびマルチコアプロセッサにおいてタスクを開始する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
リソグラフィ装置は、基板に、通常は基板の目標部分に所望のパターンを付与する機械である。リソグラフィ装置は、例えば集積回路（ＩＣ）の製造に用いることができる。この場合、マスク、レチクルとも呼ばれるパターニングデバイスを用いて、ＩＣの個々の層に形成すべき回路パターンを生成できる。このパターンは、基板（例えばシリコンウェハ）上の目標部分（例えば、一つまたは複数のダイの部分からなる）に転写され得る。パターンの転写は、一般的には基板上に設けられた放射線感受性材料（レジスト）の層への結像によりなされる。一般に、単一の基板は、連続してパターン形成される隣接する目標部分のネットワークを有する。通常のリソグラフィ装置には、いわゆるステッパといわゆるスキャナとがある。ステッパでは、各目標部分にパターンの全体を一度に露光することによって、各目標部分が照射される。スキャナでは、所与の方向（「走査」方向）に放射ビームを用いてパターンを走査する一方、この方向と平行にまたは逆平行に基板を同期させて走査することによって、各目標部分が照射される。パターンを基板にインプリントすることにより、パターニングデバイスから基板にパターンを転写することも可能である。
【０００３】
リソグラフィ装置は、複数の制御システムを含んでもよい。各制御システムは、リソグラフィ装置におけるプロセスを制御する。その処理は例えば基板テーブルの移動制御や、イメージ処理などである。最近の制御システムのほとんどは、入力（通常はセンサ入力）に依存して制御器出力を計算するプロセッサを含む。プロセッサにおける計算プロセスは、同じ長さの期間に分割される。その期間中、インタラプト（interrupt）とも呼ばれる信号がプロセッサに送られ、計算が実行され、計算結果がプロセッサからある入出力デバイス、例えば増幅器、に送られる。安定したプロセス制御器を得るためには同じ長さの期間が必要であり、サンプル時間としても知られている。サンプル時間は、制御されるべきプロセスや所望の精度に依存する。サンプル時間は、代替的にはサンプル周波数として定義されてもよい。サンプル周波数は、サンプル時間の逆数である。インタラプトは、外部デバイスによって引き起こされた信号である。外部デバイスは例えば、専用の中央クロックや、センサ／カメラなどの制御システムのハードウエアである。したがって、外部デバイスはマルチコアプロセッサの一部ではない。
【０００４】
サンプル周期のなかで、計算負荷はタイムクリティカルな負荷（サンプル計算と呼ばれる）とタイムクリティカルでない負荷（バックグラウンド計算と呼ばれる）とに分けることができる。サンプル計算の優先度はバックグラウンド計算の優先度よりも高く設定される。これにより、インタラプトを受信した後、プロセッサにおいてサンプル計算がバックグラウンド計算に割り込む。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
プロセッサに組み込まれたコントローラの複雑さが増大することに起因して、プロセス制御におけるデマンドが増大している。また、制御ループ周波数が増大している、つまりサンプル周波数が増大している。これらの両方もしくは一方のため、プロセッサの計算能力を増やす必要が出てきている。ここで必要とされる計算能力はシングルコアプロセッサでは実現できない。そこでマルチコアプロセッサが使用される。マルチコアプロセッサは、同時にタスクを実行できる少なくとも２つのコアを含む。
【０００６】
図２は、従来技術に係るマルチコアプロセッサＭＣＰを示す模式図である。図２に示されるマルチコアプロセッサは例示として３つのコアＣ１、Ｃ２、Ｃ３を含む。マルチコアプロセッサＭＣＰは、外部通信機器ＥＣＦを含む。外部通信機器ＥＣＦは、全てのコアＣ１、Ｃ２、Ｃ３によって共用され、一度にそれらのコアのうちの１つと通信可能である。これはスイッチＳＷによって模式的に示されている。
【０００７】
デバイスＥＤ（例えば中央クロックなどのタイミングデバイスやセンサ）によって伝送されるインタラプトは外部通信機器ＥＣＦを介して受信される。しかしながら、外部通信機器ＥＣＦでは、インタラプトを全てのコアＣ１、Ｃ２、Ｃ３に同時に配送することはできないことは前述の通りである。この例では、外部通信機器ＥＣＦは、第２コアＣ２にインタラプトを配送、すなわち中継する。コアＣ１、Ｃ２、Ｃ３は、右向きの矢印で示される出力も有する。
【０００８】
図３は、図２の従来技術に係るマルチコアプロセッサＭＣＰのコアにおいてタスクＴを開始するための従来技術に係る方法を示す。時刻ｔ０において、図２のデバイスＥＤは信号を伝送する。コアＣ１−Ｃ３はバックグラウンド計算ＢＧを実行していてもよい。図２の外部通信機器ＥＣＦを介して信号が受信され、この例では、コアＣ２がその信号を処理し、タスクＴを異なるコアＣ１−Ｃ３においてスケジュールして開始するために時刻ｔ１においてスケジューリングプロセスＳを開始する。この例では、タスクＴはまずコアＣ１において開始される。そこではタスクＴが時刻ｔ２においてバックグラウンド計算ＢＧに割り込む。次に、タスクＴはコアＣ３において開始される。そこではタスクＴが時刻ｔ３においてバックグラウンド計算ＢＧに割り込む。最後にコアＣ２自身においてタスクＴを開始するために、時刻ｔ４においてスケジューリングプロセスＳを停止する。
【０００９】
タスクＴが終了すると、バックグラウンド計算ＢＧが再開される。時刻ｔ５において、全てのタスクが終了する。タスクが順番に開始されること、およびウインドウズ（登録商標）やリナックス（登録商標）などのオペレーティングシステムが各コアにおいて信号を処理しタスクをスケジューリングするのにかかる時間（ｔ１−ｔ４）のため、ｔ０とｔ５との間の期間は比較的長くなる。すなわち、各タスクＴ内で実行されうる計算量は制限される（つまり、タスクＴは短い）。したがって、従来技術に係る方法は、マルチコアプロセッサの計算能力すなわち効率を制限している。別の不利な点は、コアの数が増えるとその影響が悪化する点である。
【００１０】
さらに、タスクやタスクの部分を実質的に同時に終えると、マルチコアプロセッサの出力を同期することができ、マルチコアプロセッサの計算プロセスのために制御ループにおける位相が失われることはない。したがって、タスクやタスクの部分を実質的に同時に終えることが制御の観点から望まれうる。しかしながら、これは従来技術に係る方法では実現され得ない。
【００１１】
上記の欠点は制御システムのパフォーマンスを制限し、それによってリソグラフィ装置の全体的なパフォーマンスを制限する。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
マルチコアプロセッサの効率を高めることが望まれている。さらに、リソグラフィ装置におけるプロセスの制御を改善することが望まれている。さらに、リソグラフィ装置のパフォーマンスを改善することが望まれている。
【００１３】
本発明のある実施の形態によると、マルチコアプロセッサが提供される。このマルチコアプロセッサは、２つ以上のコアと、２つ以上のコアによって共用され、一度に２つ以上のコアのうちの１つと通信可能な外部通信機器と、２つ以上のコアのそれぞれと同時に通信可能な内部通信機器と、を備える。マルチコアプロセッサは、外部通信機器を介して第１の信号を受け取り、２つ以上のコアのうちの１つに第１の信号を中継し、２つ以上のコアのうちの１つによって第１の信号を処理して第２の信号を生成し、内部通信機器によって２つ以上のコアのそれぞれに第２の信号を実質的に同時に伝送し、２つ以上のコアのそれぞれにおいて、第２の信号の受信に応じてタスクを開始する。
【００１４】
本発明の別の実施の形態によると、制御システムが提供される。この制御システムは、リソグラフィ装置におけるプロセスを制御するための制御システムである。制御システムは、デバイス入力に基づき制御システムの出力を計算するマルチコアプロセッサを備える。マルチコアプロセッサは、２つ以上のコアと、２つ以上のコアによって共用され、一度に２つ以上のコアのうちの１つと通信可能な外部通信機器と、２つ以上のコアのそれぞれと同時に通信可能な内部通信機器と、を備える。マルチコアプロセッサは、外部通信機器を介して第１の信号を受け取り、２つ以上のコアのうちの１つに第１の信号を中継し、２つ以上のコアのうちの１つによって第１の信号を処理して第２の信号を生成し、内部通信機器によって２つ以上のコアのそれぞれに第２の信号を実質的に同時に伝送し、２つ以上のコアのそれぞれにおいて、第２の信号の受信に応じてタスクを開始する。
【００１５】
本発明のさらに別の実施の形態によると、リソグラフィ装置が提供される。このリソグラフィ装置は、リソグラフィ装置におけるプロセスを制御するための制御システムと、プロセスに基づいて制御システムに入力を提供するセンサと、を備える。制御システムは、センサの入力に基づき制御システムの出力を計算するマルチコアプロセッサを備える。マルチコアプロセッサは、２つ以上のコアと、２つ以上のコアによって共用され、一度に２つ以上のコアのうちの１つと通信可能な外部通信機器と、２つ以上のコアのそれぞれと同時に通信可能な内部通信機器と、を備える。マルチコアプロセッサは、外部通信機器を介して第１の信号を受け取り、２つ以上のコアのうちの１つに第１の信号を中継し、２つ以上のコアのうちの１つによって第１の信号を処理して第２の信号を生成し、内部通信機器によって２つ以上のコアのそれぞれに第２の信号を実質的に同時に伝送し、２つ以上のコアのそれぞれにおいて、第２の信号の受信に応じてタスクを開始する。
【００１６】
本発明のさらに別の実施の形態によると、マルチコアプロセッサの複数のコアにおいてタスクを開始する方法が提供される。マルチコアプロセッサは、複数のコアによって共用され、一度に１つのコアと通信可能な外部通信機器と、複数のコアのそれぞれと同時に通信可能な内部通信機器と、を備える。この方法は、外部通信機器を介して第１の信号を受け取ることと、複数のコアのうちの１つに第１の信号を中継することと、複数のコアのうちの１つによって第１の信号を処理して第２の信号を生成することと、内部通信機器によって複数のコアのそれぞれに第２の信号を実質的に同時に伝送することと、複数のコアのそれぞれにおいて、第２の信号の受信に応じてタスクを開始することと、を含む。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
本発明の実施の形態は、例示のみを目的として添付の模式的な図面を参照して説明される。図面では、対応する参照番号は、対応する要素を示す。
【００１８】
【図１】本発明の実施の形態に係るリソグラフィ装置を示す図である。
【００１９】
【図２】従来技術に係るマルチコアプロセッサを示す図である。
【００２０】
【図３】図２の従来技術に係るマルチコアプロセッサにおいてタスクを開始するための従来技術に係る方法模式的に示す図である。
【００２１】
【図４】本発明の実施の形態に係るマルチコアプロセッサを示す図である。
【００２２】
【図５】図４のマルチコアプロセッサのコアにおいてタスクを開始するための方法を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
図１は、本発明の１つの実施の形態に係るリソグラフィ装置を模式的に示す。この装置は、放射ビームＢ（例えば、紫外線（ＵＶ）放射や他の適切な放射）を調整する照明システム（イルミネータ）ＩＬと、パターニングデバイス（例えばマスク）ＭＡを支持するよう構成され、第１位置決めデバイスＰＭに接続されたパターニングデバイスサポートもしくはマスク支持構造（例えばマスクテーブル）ＭＴと、を含む。第１位置決めデバイスＰＭは、パターニングデバイスをあるパラメータに従って正確に位置決めする。この装置は、基板（例えばレジストコートウェーハ）Ｗを保持するよう構成され、第２位置決めデバイスＰＷに接続された基板テーブル（例えばウェーハテーブル）ＷＴもしくは「基板サポート」を含む。第２位置決めデバイスＰＷは、あるパラメータに従って基板を正確に位置決めするよう構成される。この装置はさらに、パターニングデバイスＭＡによって放射ビームＢに付与されたパターンを、基板Ｗの目標部分Ｃ（例えば１つもしくは複数のダイを含む）上に投影する投影システム（たとえば屈折投影レンズシステム）ＰＳを含む。
【００２４】
照明システムは、放射ビームを方向付け、成形し、あるいは制御するために、屈折光学素子、反射光学素子、磁気光学素子、電磁気光学素子、静電光学素子、あるいはこれらの任意の組み合わせなどの様々な種類の光学素子を含んでもよい。
【００２５】
パターニングデバイスサポートは、パターニングデバイスの配向、リソグラフィ装置の設計および他の条件、たとえばパターニングデバイスが真空環境中で保持されているか否か等に応じた方法でパターニングデバイスを保持している。パターニングデバイスサポートにおいてはパターニングデバイスを保持するために、機械的固定、真空固定、静電固定、または他の固定用技術が用いられる。パターニングデバイスサポートは、例えば必要に応じて固定または移動させることができるフレームまたはテーブルであってもよい。パターニングデバイスサポートは、パターニングデバイスを例えば投影システムに対して所望の位置に確実に配置することができる。本明細書における「レチクル」または「マスク」という用語の使用はすべて、より一般的な「パターニングデバイス」という用語の同義語とみなすことができる。
【００２６】
本明細書に使用されている「パターニングデバイス」という用語は、放射ビームの断面にパターンを付与し、それにより基板の目標部分にパターンを生成するべく使用することができる任意のデバイスを意味するものとして広義に解釈されたい。放射ビームに付与されるパターンは、たとえばそのパターンが位相シフトフィーチャまたはいわゆるアシストフィーチャを含んでいる場合、基板の目標部分における所望のパターンに必ずしも厳密に対応している必要はないことに留意されたい。放射ビームに付与されるパターンは、通常、目標部分に生成されるデバイス、たとえば集積回路などのデバイス中の特定の機能層に対応している。
【００２７】
パターニングデバイスは透過型であっても反射型であってもよい。パターニングデバイスの例としては、例えばマスクやプログラマブルミラーアレイ、プログラマブルＬＣＤパネルなどがある。マスクはリソグラフィの分野では周知であり、バイナリマスクやレベンソン型位相シフトマスク、ハーフトーン型位相シフトマスク、更に各種のハイブリッド型マスクが含まれる。プログラマブルミラーアレイの一例としては、小型のミラーがマトリックス状に配列され、各ミラーが入射してくる放射ビームを異なる方向に反射するように個別に傾斜されるというものがある。これらの傾斜ミラーにより、マトリックス状ミラーで反射された放射ビームにパターンが付与されることになる。
【００２８】
本明細書に使用されている「投影システム」という用語は、たとえば使用する露光放射に適した、もしくは液浸液の使用または真空の使用などの他の要因に適した、屈折光学系、反射光学系、カタディオプトリック光学系、磁気光学系、電磁気光学系、静電光学系、またはそれらの任意の組合せを含む任意の種類の投影システムが包含されているものとして広義に解釈されたい。本明細書における「投影レンズ」という用語の使用はすべて、より一般的な「投影システム」という用語の同義語とみなすことができる。
【００２９】
本明細書に示されるように、本装置は透過型（たとえば透過マスクを用いる）である。あるいはまた、本装置は反射型（たとえば、上述した種類のプログラマブルミラーアレイを用いた、あるいは反射マスクを用いた）であってもよい。
【００３０】
リソグラフィ装置は２つ以上（２つの場合にはデュアルステージと呼ばれる）の基板テーブルもしくは「基板サポート」（および／または２つ以上のマスクテーブルもしくは「マスクサポート」）を備えてもよい。このような多重ステージ型の装置においては追加されたテーブルは並行して使用されるか、あるいは１以上のテーブルで露光が行われている間に他の１以上のテーブルで準備工程を実行するようにしてもよい。
【００３１】
また、リソグラフィ装置は、基板の少なくとも一部が比較的屈折率の大きい液体、たとえば水で覆われ、それにより投影システムと基板の間の空間が充填されるタイプの装置であってもよい。液浸液体はリソグラフィ装置の他の空間、例えばマスクと投影システムとの間に導入されてもよい。液浸技術は、投影システムの開口数を大きくするために使用されうる。本明細書に使用されている「液浸」という用語は、基板などの構造を液体中に浸すべきであることを意味しているのではなく、単に、露光の間、投影システムと基板の間に液体が置かれることを意味しているにすぎない。
【００３２】
図１を参照すると、イルミネータＩＬは、放射源ＳＯから放射ビームを受け取っている。例えば放射源がエキシマレーザである場合、放射源およびリソグラフィ装置は、個別の構成要素にすることができる。このような場合、放射ビームは、たとえば適切な誘導ミラーおよび／またはビームエキスパンダを備えたビーム搬送系ＢＤを使用して放射源ＳＯからイルミネータＩＬへ受け渡される。それ以外のたとえば放射源が水銀灯などの場合、放射源はリソグラフィ装置に一体に構成されていてもよい。放射源ＳＯおよびイルミネータＩＬは、またビーム搬送系ＢＤが必要とされる場合にはこれも合わせて、放射システムと称される。
【００３３】
イルミネータＩＬは、放射ビームの角強度分布を調整するためのアジャスタＡＤを備えてもよい。一般には、イルミネータの瞳平面における強度分布の少なくとも半径方向外径および／または内径（通常それぞれ「シグマ−アウタ（σ−ｏｕｔｅｒ）」、「シグマ−インナ（σ−ｉｎｎｅｒ）」と呼ばれる）が調整される。加えて、イルミネータＩＬは、インテグレータＩＮおよびコンデンサＣＯなどの種々の他の要素を備えてもよい。イルミネータは、ビーム断面における所望の均一性及び強度分布を得るべく放射ビームを調整するために用いられる。
【００３４】
放射ビームＢは、パターニングデバイス構造（例えば、マスクテーブル）ＭＴに保持されたパターニングデバイス（例えば、マスク）ＭＡに入射して、当該パターニングデバイスによりパターンを付与される。パターニングデバイス（例えば、マスク）ＭＡを透過した後、放射ビームＢは、投影システムＰＳを通過する。投影システムＰＳは、ビームを基板Ｗの目標部分Ｃに合焦させる。第２位置決めデバイスＰＷと制御システムＣＳと位置センサＩＦ（例えば、干渉計、リニアエンコーダ、静電容量センサなど）とにより基板テーブルＷＴは正確に移動され、例えば放射ビームＢの経路に異なる複数の目標部分Ｃをそれぞれ位置決めするように移動される。同じように、第１位置決めデバイスＰＭともう１つの位置センサ（図１には明確に示されていない）とを用いて、例えばマスクライブラリから機械的に取り出した後、またはスキャン中に、パターニングデバイス（例えば、マスク）ＭＡを放射ビームＢの経路に対して正確に位置決めすることができる。通常、パターニングデバイスサポート（例えば、マスクテーブル）ＭＴの移動は、第１位置決めデバイスＰＭの一部を形成しているロングストロークモジュール（粗い位置決め用）およびショートストロークモジュール（精細な位置決め用）を使用して実現することができる。同様に、基板テーブルＷＴもしくは「基板サポート」の移動は、第２位置決め器ＰＷの一部を形成しているロングストロークモジュールおよびショートストロークモジュールを使用して実現することができる。ステッパの場合（スキャナとは対照的に）、パターニングデバイス（例えば、マスクテーブル）ＭＴは、ショートストロークアクチュエータのみに接続され、あるいは固定される。制御システムＣＳは、位置センサＩＦからの入力に基づいて第２位置決めデバイスＰＷに駆動信号を提供する。駆動信号は位置センサからの入力に基づいてプロセッサにより定期的に計算されている。
【００３５】
パターニングデバイス（例えば、マスク）ＭＡおよび基板Ｗは、パターニングデバイスアライメントマークＭ１、Ｍ２および基板アライメントマークＰ１、Ｐ２を使用して整列させることができる。図では、基板アライメントマークは専用の目標部分を占有しているが、基板アライメントマークは、ターゲット部分間のスペースに配置されてもよい（このような基板アライメントマークは、スクライブラインアライメントマークとして知られている）。同様に、１つ以上のダイがマスクＭＡ上に設けられる場合、ダイ間にパターニングデバイスアライメントマークが配置されてもよい。
【００３６】
図示の装置は、以下に示すモードのうちの少なくとも１つのモードで使用することができる。
【００３７】
１．ステップモードにおいては、放射ビームに付与されたパターンの全体が１回の照射で目標部分Ｃに投影される間、パターニングデバイスサポート（例えば、マスクテーブル）ＭＴもしくは「マスクサポート」および基板テーブルＷＴもしくは「基板サポート」は、実質的に静止状態とされる（すなわち１回の静的な露光）。そして基板テーブルＷＴもしくは「基板サポート」がＸ方向及び／またはＹ方向に移動されて、異なる目標部分Ｃが露光される。ステップモードでは露光フィールドの最大サイズによって、１回の静的露光で結像される目標部分Ｃの寸法が制限されることになる。
【００３８】
２．スキャンモードにおいては、放射ビームに付与されたパターンが目標部分Ｃに投影される間、パターニングデバイスサポート（例えば、マスクテーブル）ＭＴもしくは「マスクサポート」および基板テーブルＷＴもしくは「基板サポート」は、同期して走査される（すなわち１回の動的な露光）。マスクテーブルＭＴもしくは「マスクサポート」に対する基板テーブルＷＴもしくは「基板サポート」の速度及び方向は、投影システムＰＳの拡大（縮小）特性及び像反転特性により定められる。スキャンモードでは露光フィールドの最大サイズが１回の動的露光での目標部分Ｃの（非走査方向の）幅を制限し、走査移動距離が目標部分の（走査方向の）長さを決定する。
【００３９】
３．その他のモードにおいては、プログラマブルパターニングデバイスを保持するべくパターニングデバイス（例えば、マスクテーブル）ＭＴもしくは「マスクサポート」は、実質的に静止状態とされ、放射ビームに付与されたパターンが目標部分Ｃに投影される間、基板テーブルＷＴもしくは「基板サポート」が移動またはスキャンされる。このモードでは、通常、パルス放射源が使用され、スキャン中、基板テーブルＷＴもしくは「基板サポート」が移動する毎に、あるいは連続する放射パルス間に、必要に応じてプログラマブルパターニングデバイスが更新される。この動作モードは、上述したタイプのプログラマブルミラーアレイなどのプログラマブルパターニングデバイスを利用しているマスクレスリソグラフィに容易に適用することができる。
【００４０】
上述の使用モードの組み合わせかつ／または変形、もしくは全く異なった使用モードが使われてもよい。
【００４１】
図４は、本発明の実施の形態に係るマルチコアプロセッサＭＣＰ’を模式的に示す図である。マルチコアプロセッサＭＣＰ’は、例えば図１のリソグラフィ装置の制御システムＣＳにおいて使用されうる。マルチコアプロセッサＭＣＰ’は、コアＣ１、Ｃ２、Ｃ３によって共用され、スイッチＳＷ’で示されるように同時にそれらのコアのうちの１つと通信可能な外部通信機器ＥＣＦ’を含む。外部通信機器はデバイスＥＤ’と接続される。このデバイスＥＤ’は、中央クロックなどのタイミングデバイスであってもよく、または、図１の位置センサＩＦなどのセンサであってもよい。
【００４２】
マルチコアプロセッサＭＣＰ’は、例えばマルチキャストによってコアのそれぞれと同時に通信可能な内部通信機器ＩＣＦ’を含む。
【００４３】
デバイスＥＤ’は、マルチコアプロセッサＭＣＰ’に定期的に第１の信号を送ることができる。その第１の信号は、外部通信機器ＥＣＦ’を介してマルチコアプロセッサによって受信される。外部通信機器ＥＣＦ’は、コアのうちの１つ、この場合はコアＣ３’、に第１の信号を中継することができる。コアＣ３’は第１の信号を処理することができ、それにより第２の信号を生成することができる。第２の信号は、内部通信機器を介してコアと通信可能なデバイス、例えばタイマ（不図示）において生成される。そのデバイスは内部通信機器の一部であってもよい。内部通信機器は、各コアに第２の信号を同時に伝送することができる。各コアにおいて、そのコアは第２の信号の受信に応じて局所的にタスクを開始することができる。
【００４４】
図２の従来技術に係るマルチコアプロセッサＭＣＰと同様に、コアＣ１’、Ｃ２’、Ｃ３’は右向きの矢印によって示される出力を有する。
【００４５】
図５は、図４のマルチコアプロセッサＭＣＰ’のコアＣ１’、Ｃ２’、Ｃ３’においてタスクＴ’を開始するための、本発明に係る方法を示す。時刻ｔ０’において、デバイスＥＤ’によって送信された第１の信号が外部通信機器ＥＣＦ’を介して受信される。コアＣ１’、Ｃ２’、Ｃ３’はバックグラウンド計算ＢＧ’を実行していてもよい。この例では、第１の信号はコアＣ３’に中継される。このコアＣ３’は時刻ｔ１’と時刻ｔ２’との間（ブロックＨで示される）に第１の信号を処理する。この処理では、内部通信機器のタイマが開始され、そのタイマは時刻ｔ２’に終了するよう設定される。時刻ｔ２’において、タイマが終了し、それによって第２の信号が生成される。その第２の信号は内部通信機器によって各コアに実質的に同時に伝送される。第２の信号が受信されると、各コアにおいて同様のスケジューリングプロセス（インタラプトサービスルーチンとも呼ばれる）Ｓ’が開始される。その結果時刻ｔ３’においてタスクＴ’が開始する。各コアにおけるスケジューリングプロセスＳ’は、そのコアにおけるバックグラウンド計算ＢＧ’に割り込みをかける。図５の実施の形態では、マルチコアプロセッサは第２の信号の優先度を第１の信号の優先度よりも高く設定する。
【００４６】
タスクＴ’が終了した後、バックグラウンド計算が再開されてもよい。時刻ｔ４’においては全てのタスクＴ’が既に終了している。例えば時刻ｔ５’において、次の第１の信号が外部通信機器を介して受信されてもよい。これにより、上述の方法のステップが定期的に繰り返されてもよい。
【００４７】
本発明の実施の形態に係る方法によると、タスクＴ’が同期されるという効果がある。これをマルチコアプロセッサの出力を同期するために使用することができる。これにより、制御ループにおける位相はマルチコアプロセッサによって失われることはない。
【００４８】
外部デバイスからの信号の受信と最後のタスクＴ’が終了する瞬間との間の期間（ｔ０’−ｔ４’）が短縮されるという効果もある。これは、より短いサンプル周期もしくはサンプル周期ごとにより多くの計算を可能とする。これによりマルチコアプロセッサの効率が向上する。
【００４９】
時刻ｔ１’と時刻ｔ２’との間の期間はできるだけ短い方が好ましい。時刻ｔ２’と時刻ｔ３’との間の期間についても同様である。
【００５０】
時刻ｔ１’と時刻ｔ３’との間の期間の長さがマルチコアプロセッサのコアの数によらないという効果もある。これにより、本実施の形態は比較的多くのコアを有するマルチコアプロセッサにより適している。また、サンプル周期を増やす必要なしに計算能力を高めることができる。
【００５１】
ある実施の形態ではマルチコアプロセッサが提供される。このマルチコアプロセッサは、２つ以上のコアと、２つ以上のコアによって共用される外部通信機器を備える。外部通信機器は、一度に２つ以上のコアのうちの１つと通信可能である。マルチコアプロセッサはさらに、２つ以上のコアのそれぞれと同時に通信可能な内部通信機器を備える。マルチコアプロセッサは、外部通信機器を介して第１の信号を受け取り、２つ以上のコアのうちの１つに第１の信号を中継する。マルチコアプロセッサは、２つ以上のコアのうちの１つによって第１の信号を処理して第２の信号を生成する。マルチコアプロセッサは、内部通信機器によって２つ以上のコアのそれぞれに第２の信号を実質的に同時に伝送し、２つ以上のコアのそれぞれにおいて、第２の信号の受信に応じてタスクを開始する。
【００５２】
マルチコアプロセッサは、第２の信号を受信した後、第１の信号を処理するコアを含む全てのコアにおいてタスクを開始してもよい。
【００５３】
マルチコアプロセッサは、第２の信号の優先度を第１の信号の優先度よりも高く設定してもよい。
【００５４】
内部通信機器は、第２の信号を生成するタイマを含んでもよい。
【００５５】
ある実施の形態では、リソグラフィ装置におけるプロセスを制御するための制御システムが提供される。この制御システムは、デバイス入力に基づき前記制御システムの出力を計算するマルチコアプロセッサを備える。マルチコアプロセッサは、２つ以上のコアと、２つ以上のコアによって共用され、一度に２つ以上のコアのうちの１つと通信可能な外部通信機器と、を備える。マルチコアプロセッサはさらに、２つ以上のコアのそれぞれと同時に通信可能な内部通信機器を備える。マルチコアプロセッサは、外部通信機器を介して第１の信号を受け取り、２つ以上のコアのうちの１つに第１の信号を中継する。マルチコアプロセッサは、２つ以上のコアのうちの１つによって第１の信号を処理して第２の信号を生成する。マルチコアプロセッサは、内部通信機器によって２つ以上のコアのそれぞれに第２の信号を実質的に同時に伝送し、２つ以上のコアのそれぞれにおいて、第２の信号の受信に応じてタスクを開始する。
【００５６】
マルチコアプロセッサは、第２の信号を受信した後、第１の信号を処理するコアを含む全てのコアにおいてタスクを開始してもよい。
【００５７】
マルチコアプロセッサは、第２の信号の優先度を第１の信号の優先度よりも高く設定してもよい。
【００５８】
マルチコアプロセッサは、第２の信号を生成するタイマを含んでもよい。
【００５９】
ある実施の形態では、制御システムとセンサとを備えるリソグラフィ装置が提供される。制御システムは、リソグラフィ装置におけるプロセスを制御する。センサは、プロセスに基づいて制御システムに入力を提供する。制御システムは、センサの入力に基づき制御システムの出力を計算するマルチコアプロセッサを備える。マルチコアプロセッサは、２つ以上のコアと、２つ以上のコアによって共用され、一度に２つ以上のコアのうちの１つと通信可能な外部通信機器と、を備える。マルチコアプロセッサはさらに、２つ以上のコアのそれぞれと同時に通信可能な内部通信機器を備える。マルチコアプロセッサは、外部通信機器を介して第１の信号を受け取り、２つ以上のコアのうちの１つに第１の信号を中継する。マルチコアプロセッサは、２つ以上のコアのうちの１つによって第１の信号を処理して第２の信号を生成する。マルチコアプロセッサは、内部通信機器によって２つ以上のコアのそれぞれに第２の信号を実質的に同時に伝送し、２つ以上のコアのそれぞれにおいて、第２の信号の受信に応じてタスクを開始する。
【００６０】
マルチコアプロセッサは、第２の信号を受信した後、第１の信号を処理するコアを含む全てのコアにおいてタスクを開始してもよい。
【００６１】
マルチコアプロセッサは、第２の信号の優先度を第１の信号の優先度よりも高く設定してもよい。
【００６２】
マルチコアプロセッサは、第２の信号を生成するタイマを含んでもよい。
【００６３】
ある実施の形態では、マルチコアプロセッサの複数のコアにおいてタスクを開始する方法が提供される。マルチコアプロセッサは、複数のコアによって共用され、一度に１つのコアと通信可能な外部通信機器を備える。マルチコアプロセッサは、複数のコアのそれぞれと同時に通信可能な内部通信機器を備える。この方法は、外部通信機器を介して第１の信号を受け取ることと、複数のコアのうちの１つに第１の信号を中継することと、を含む。この方法は、複数のコアのうちの１つによって第１の信号を処理して第２の信号を生成することを含む。この方法は、内部通信機器によって複数のコアのそれぞれに第２の信号を実質的に同時に伝送することと、複数のコアのそれぞれにおいて、第２の信号の受信に応じてタスクを開始することと、を含む。
【００６４】
マルチコアプロセッサによって、第２の信号の優先度は第１の信号の優先度よりも高く設定されてもよい。第２の信号はタイマによって生成されてもよい。
【００６５】
本明細書ではＩＣの製造におけるリソグラフィ装置の使用を例として説明しているが、リソグラフィ装置は他の用途にも適用することが可能であるものと理解されたい。他の用途としては、集積光学システム、磁区メモリ用ガイダンスおよび検出パターン、フラットパネルディスプレイ、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、薄膜磁気ヘッドなどがある。当業者であればこれらの他の適用に際して、本明細書における「ウエーハ」あるいは「ダイ」という用語がそれぞれ「基板」あるいは「目標部分」という、より一般的な用語と同義であるとみなされると理解することができるであろう。基板は露光前または露光後においてトラック（典型的にはレジスト層を基板に塗布し、露光後のレジストを現像する装置）、メトロロジツール、及び／またはインスペクションツールにより処理されてもよい。適用可能であれば、本明細書の開示はこれらのまたは他の基板処理装置にも適用され得る。また、基板は例えば多層ＩＣを製造するために複数回処理されてもよく、その場合には本明細書における基板という用語は既に処理されている多数の処理層を含む基板をも意味する。
【００６６】
ここでは特に光リソグラフィを本発明に係る実施の形態に適用したものを例として説明しているが、本発明は例えばインプリントリソグラフィなど文脈が許す限り他にも適用可能であり、光リソグラフィに限られるものではない。インプリントリソグラフィでは、パターニングデバイスのトポグラフィが基板に生成されるパターンを決める。パターニングデバイスのトポグラフィが基板に塗布されているレジスト層に押し付けられ、電磁放射や熱、圧力、あるいはこれらの組み合わせによってレジストが硬化される。レジストが硬化されてから、パターニングデバイスは、パターンが生成されたレジストから外されて外部に移動される。
【００６７】
本明細書において「放射」および「ビーム」という用語は、紫外（ＵＶ）放射（例えば約３６５ｎｍ、２４８ｎｍ、１９３ｎｍ、１５７ｎｍ、または１２６ｎｍの波長を有する）および極端紫外（ＥＵＶ）放射（例えば５ｎｍ−２０ｎｍの範囲の波長を有する）を含むあらゆる種類の電磁放射、およびイオンビームや電子ビームなどの粒子線を示す。
【００６８】
「レンズ」という用語は、文脈が許す限り、屈折光学素子、反射光学素子、磁気的光学素子、電磁気的光学素子、静電的光学素子を含む１つまたは各種の光学素子の組み合わせを指し示すものであってもよい。
【００６９】
本発明の具体的な実施の形態が上述のように説明されたが、本発明は上述の形式以外の形式でも実施可能であると理解されたい。例えば、本発明はコンピュータプログラムの形式を取ってもよい。このコンピュータプログラムは機械に読み取り可能な命令の１つもしくは複数のシーケンスを含む。命令は、上述の方法を記述する。あるいはまた、本発明は、そのようなコンピュータプログラムを記憶保持するデータ記憶媒体（例えば半導体メモリ、磁気もしくは光学ディスク）の形式を取ってもよい。
【００７０】
上述の記載は例示を目的としており、それに限定されるものではない。したがって下記の請求項の範囲から逸脱することなく記載された発明に変更を加えることができるということは、関連技術の当業者には明らかなことであろう。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【外国語明細書】
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