(57)【要約】【課題】基板に水平な方向の力に対する変位の少ない液晶表示装置を提供する。【解決手段】液晶表示装置は第１の基板１２３と、第２の基板２１５とを備える。第１の基板と第２の基板の間には液晶層１３が配置される。台座１５０は、第１の基板に平行な平面による切断面が第１の方向に延びるように第１の基板に形成されている。フォト・スペーサ２５０は、第２の基板に平行な平面による切断面が第１の方向とは異なる第２の方向に延びるように形成される。そして、第１の基板と第２の基板を貼り合わせたときにフォト・スペーサの先端部が前記台座と交差して接触し、台座とフォト・スペーサの接触面においていずれか一方が他方にめり込むことで摩擦力が向上する。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の基板と、
前記第１の基板に対向して配置された第２の基板と、
前記第１の基板と前記第２の基板の間に配置された液晶層と、
前記第１の基板に平行な平面による切断面が第１の方向に延びるように前記第１の基板に形成された台座と、
前記第２の基板に平行な平面による切断面が前記第１の方向とは異なる第２の方向に延びるように前記第２の基板に形成され、先端部が前記台座と所定の交差角度で交差して接触したフォト・スペーサとを有し、
前記台座と前記フォト・スペーサの接触面においていずれか一方が他方にめり込んでいる液晶表示装置。
【請求項２】
前記第１の基板が走査信号線とデータ信号線が形成されたアレイ基板で前記第２の基板がカラー・フィルタ基板である請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記台座が金属で形成され、前記フォト・スペーサが合成樹脂で形成されている請求項１または請求項２に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記台座が前記フォト・スペーサにめり込んでいる請求項１ないし請求項３のいずれかに記載の液晶表示装置。
【請求項５】
前記液晶表示装置は液晶滴下方式で組み立てられる請求項１ないし請求項４のいずれかに記載の液晶表示装置。
【請求項６】
前記第１の方向が前記走査信号線の方向に対して直角な方向である請求項２ないし請求項５のいずれかに記載の液晶表示装置。
【請求項７】
前記台座は、前記データ信号線と前記走査信号線の交差する位置の近傍に配置されている請求項２ないし請求項６のいずれかに記載の液晶表示装置。
【請求項８】
前記交差角度が４５度ないし９０度の範囲である請求項１ないし請求項７のいずれかに記載の液晶表示装置。
【請求項９】
前記交差角度が９０度である請求項８に記載の液晶表示装置。
【請求項１０】
前記第２の方向が前記カラー・フィルタ基板に形成された配向膜のラビング処理の方向である請求項２ないし請求項９のいずれかに記載の液晶表示装置。
【請求項１１】
前記台座および前記フォト・スペーサの切断面のそれぞれのアスペクト比が１：１．５ないし１：３の範囲である請求項１ないし請求項１０のいずれかに記載の液晶表示装置。
【請求項１２】
請求項１ないし請求項１１のいずれかに記載の液晶表示装置を含む画像表示システム。
【請求項１３】
第１の基板と、
前記第１の基板に対向して配置された第２の基板と、
前記第１の基板と前記第２の基板の間に配置された液晶層と、
前記第１の基板に平行な平面による切断面が第１の方向に延びるように前記第１の基板に形成された台座と、
前記第２の基板に平行な平面による切断面が前記第１の方向とは異なる第２の方向に延びるように前記第２の基板に形成され、先端部が前記台座と所定の交差角度で交差して接触したフォト・スペーサとを有し、
前記台座と前記フォト・スペーサの接触面においていずれか一方が他方にめり込んでいるアレイ・セル基板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
液晶表示装置の表面に加えられた外力によるカラー・フィルタ基板とアレイ基板の水平方向の相対変位を防止する技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
透過型の液晶表示装置は、アレイ・セル基板、駆動回路基板およびバックライトなどで構成される。アレイ・セル基板では、ガラス基板に薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）、画素電極、データ信号線、走査信号線などが画素マトリクスを構成するように形成されたアレイ基板と、ガラス基板に遮光膜（ブラック・マトリクス）、共通電極、およびカラー・フィルタ層が形成されたカラー・フィルタ基板（ＣＦ基板）との間に所定間隔の空間が形成され、その中に液晶層が封じ込められている。
【０００３】
そして、アレイ基板とＣＦ基板との間隔を保持するためにスペーサが採用されている。また、アレイ・セル基板の組み立て方式には、真空注入方式と液晶滴下（ODF:One Drop Filling）方式がある。スペーサには、その形状により球状のスペーサと柱状のスペーサがあるが、液晶滴下方式で組み立てられる液晶表示装置には、柱状のフォト・スペーサが一般に用いられている。フォト・スペーサは通常ＣＦ基板に積層された薄膜をフォトリソグラフィ方式とエッチング方式で所定の形状に加工して形成される。アレイ・セル基板が組み立てられるときにフォト・スペーサの先端部がアレイ基板に突き当たって、基板に加えられた圧力とフォト・スペーサの圧縮応力が釣り合い、ＣＦ基板とアレイ基板の間に一定の間隔（セル・ギャップ）が保持される。
【０００４】
真空注入方式で組み立てられるアレイ・セル基板は、アレイ基板とＣＦ基板を貼り合わせてから内部に液晶材料を注入する。アレイ基板とＣＦ基板を貼り合わせるときにはフォト・スペーサの先端部に圧力が十分に伝わり、フォト・スペーサとアレイ基板との間に大きな摩擦力が発生する。したがって、アレイ・セル基板に平行な力が加えられても、フォト・スペーサの先端部がアレイ基板に対して変位する量は少ない。
【０００５】
しかし、液晶滴下方式で組み立てられるアレイ・セル基板は、アレイ基板とＣＦ基板を貼り合わせるときに事前に滴下しておいた液晶材料にも圧力を加えるので、フォト・スペーサの先端部には十分な圧力が伝わりにくく、先端部とアレイ基板との摩擦力が小さくなる。したがって、液晶滴下方式で組み立てられたアレイ・セル基板は真空注入方式で組み立てられたものに比べて、フォト・スペーサの先端部がアレイ基板に対して移動しやすい。
【０００６】
ところでアレイ・セル基板とバックライトとの間には、均一な面光源を生成するために所定の間隔が必要とされ、そこには光を集光したり拡散したりする柔軟な光学フィルムが設けられる。また、ガラス基板も一層薄くなる傾向にある。アレイ・セル基板の表面がユーザの指などで押されると、この間隔の中にアレイ・セル基板が撓み、アレイ基板とＣＦ基板が基板に水平な方向に相対的に変位して画像品質が低下することがある。
【０００７】
このような変位を防止するために、従来の液晶パネルでは、アレイ基板上に段差が生ずるように円形の台座を形成し、両基板を貼り合わせたときにフォト・スペーサの先端に台座をめり込ませて摩擦力を増大させる方法が採用されていた。アレイ基板とＣＦ基板は、所定の精度で相対的に基板に平行な方向での位置合わせをしてから貼り合わせられるが、位置合わせには所定の公差が存在する。したがって、台座を確実にフォト・スペーサにめり込ませるためには、フォト・スペーサのサイズを台座のサイズより両基板の位置合わせの公差を見込んで十分に大きくする必要があり、その結果として画素の開口率の低下を招いていた。
【０００８】
特許文献１は、開口率を低下させない柱状スペーサを備える液晶表示装置を開示する。この液晶表示装置では、柱状スペーサの最大幅方向と、コンタクトホールの開口部の最大幅方向とは直交している。柱状スペーサは、基板と平行な断面形状において、コンタクトホールと重なる領域Ａと重ならない領域Ｂとを有しているので、たとえ基板の貼り合わせにずれが生じた場合であっても、柱状スペーサにおけるコンタクトホールとは重ならない領域Ｂの部分で、一対の基板間を所定の間隔に保つことができるので、コンタクトホールの内部に柱状スペーサが位置することはないように構成されている。
【０００９】
特許文献２は、絶縁層の当接領域に凹所を設けることにより、柱状スペーサの延出端面およびこの延出端面と絶縁層との間に位置した対向電極は、その一部が凹所内に食い込んだ状態で絶縁層に接触している液晶表示装置を開示する。この液晶表示装置では、アレイ基板あるいは対向基板に外力が作用し、柱状スペーサに基板と平行な方向の外力が作用した場合でも、絶縁層に対する柱状スペーサ延出端の移動を規制することができる。
【特許文献１】特開２００５−１０７４９４号公報
【特許文献２】特開平１１−１５３７９８号号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
液晶表示装置に採用される柱状スペーサは、確実に両基板間の間隔を維持するとともに、基板の表面に外力が加わっても容易に位置ズレが生じないようになっている必要がある。しかも、柱状スペーサは限られた画素の空間に形成する必要があるため、開口率を低下させないように構成する必要がある。
【００１１】
そこで本発明の目的は、液晶表示装置の表面に加えられた外力によるカラー・フィルタ基板とアレイ基板の水平方向の相対変位を防止した液晶表示装置を提供することにある。さらに本発明の目的は、画素の開口率を低下させないスペーサを備える液晶表示装置を提供することにある。さらに本発明の目的は、そのような液晶表示装置を備えた画像表示システムを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明にかかる液晶表示装置は、台座が第１の基板に平行な平面による切断面が第１の方向に延びるように第１の基板に形成されている。フォト・スペーサは、第２の基板に平行な平面による切断面が第１の方向とは異なる第２の方向に延びるように第２の基板に形成されている。ここで、台座は第１の基板に接触して形成されていても、絶縁膜のような他の材料を介在して形成されてもよい。フォト・スペーサが第２の基板に形成される状態も同様である。そして、第１の基板と第２の基板を貼り合わせたときにフォト・スペーサの先端部が台座と所定の交差角度で交差して接触する。そして、両基板を貼り合わせるときに加える荷重により、台座とフォト・スペーサの接触面においていずれか一方が他方にめり込むことで、基板に平行な方向に働く力に対する摩擦力が向上して両基板の相対的な変位を防ぐ。
【００１３】
第１の基板を走査信号線とデータ信号線が形成されたアレイ基板とし、第２の基板をカラー・フィルタ基板とすることができる。この場合、材料として台座には金属を使用し、フォト・スペーサには合成樹脂を使用すると、アレイ基板とカラー・フィルタ基板のそれぞれの製造工程の中で他の構成要素と同じ材料を使用して台座およびフォト・スペーサを形成できるので都合がよい。そして、台座をフォト・スペーサよりも硬く形成して台座がフォト・スペーサの先端部にめり込むようにすることができる。液晶滴下方式で組み立てる液晶表示装置では、フォト・スペーサの先端部に十分な力が加わらないため摩擦力が低下することがあるが、本発明にかかるフォト・スペーサと台座は貼り合わせ時の加圧により、相互にかみ込むような状態で接触するので摩擦力を高めることができる。
【００１４】
第１の方向は、走査信号線の方向に対して直角な方向とすることができる。このようにすれば、走査信号線は通常データ信号線よりも幅が広いので、フォト・スペーサが開口率を低下させないようにしながら、台座の長手方向の長さを走査信号線の幅まで長くして位置合わせの公差に対応できるようにすることができる。台座をデータ信号線と走査信号線の交差する位置の近傍に配置することは開口率を下げないために望ましい。台座とフォト・スペーサの交差角度は４５度ないし９０度の範囲で選択することができ、好適には、９０度とすることができる。フォト・スペーサをカラー・フィルタ基板上で配向膜のラビング処理の方向に延びるように形成すると配向不良の防止に好適である。台座およびフォト・スペーサの切断面のそれぞれのアスペクト比が１：１．５ないし１：３の範囲で選択すると、貼り合わせ公差に対する適応と開口率の低下防止に対する適応の上で望ましい。
【発明の効果】
【００１５】
本発明により、液晶表示装置の表面に加えられた外力によるカラー・フィルタ基板とアレイ基板の水平方向の相対変位を防止した液晶表示装置を提供することができた。さらに本発明により、画素の開口率を低下させないスペーサを備える液晶表示装置を提供することができた。さらに本発明により、そのような液晶表示装置を備えた画像表示システムを提供することができた。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
図１は、本発明の実施の形態にかかる液晶表示装置１０の断面図で、図２は、アレイ基板の内側からみた部分的な平面図で、図３はＣＦ基板の外側からみた部分的な平面図ある。図４は、図２のＡ−Ａ断面および図３のＢ−Ｂ断面を示す図である。図１ないし図４は、本発明の特徴をわかりやすく説明するために各構成要素の縮尺は実際のサイズと一致させていない。構成要素の実際のサイズは適宜明細書に記載したサイズまたは当業者に周知な事項の範囲で理解してよい。
【００１７】
図１において、液晶表示装置１０はアレイ基板１００およびＣＦ基板２００を含む。アレイ基板１００とＣＦ基板２００は平行に対向して配置され、両者間には５〜１０μｍのセル・ギャップが形成される。アレイ基板１００とＣＦ基板２００との間には液晶材料１３が封じ込められている。ＣＦ基板２００には複数のフォト・スペーサ２５０が形成されておりその先端部がアレイ基板２００と接触してセル・ギャップを維持する。セル・ギャップの周囲には、液晶材料１３をアレイ基板１００の内側とＣＦ基板２００の内側との間に封じ込めるための封止材１１が設けられている。
【００１８】
ＣＦ基板の外側には偏光板１５が配置されている。アレイ基板１００の外側には偏光板１７が配置され、偏光板１７の外側にはアレイ基板１００に入射する光を調整する光学フィルム１９が配置され、光学フィルム１９の外側には導光板２３と冷陰極蛍光ランプ２１で構成されたバックライトが配置される。液晶材料１３を内部に挟んだ状態のアレイ基板１００とＣＦ基板２００をアレイ・セル基板という。アレイ・セル基板には、データ信号線１１３、走査信号線１１５、および共通電極２１７などに駆動用回路２５が接続される。
【００１９】
本実施の形態では、アレイ・セル基板は液晶滴下方式でアレイ基板１００とＣＦ基板２００を貼り合わせて組み立てられる。液晶滴下方式では、アレイ基板１００とＣＦ基板を完成させたあとに、紫外線硬化形の封止材１１をアレイ基板２１の周囲に塗布し、セル・ギャップの容積に対して計算された量の液晶材料１９をアレイ基板２１の上に滴下する。そして、ＣＦ基板２００をアレイ基板１００に対して位置合わせしてから両基板間に外側から所定の荷重をかけて貼り合わせる。このとき、アレイ基板１００に先端部が接触したフォト・スペーサ２５０および液晶材料１３が圧縮され、フォト・スペーサ２５０の圧縮応力と荷重が釣り合った位置でセル・ギャップが画定する。その後紫外線を照射して封止材１１を硬化させる。
【００２０】
図２および図４に示すように、透明基板１２３には、データ信号線１１３、走査信号線１１５、画素電極１０１〜１１１、および薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）１３０などが設けられアレイ基板１００を構成している。通常は画素電極１０１〜１１１に対応して蓄積容量も形成されるが、本発明の理解には必要がないので図２〜図４から省略している。走査信号線１１５の幅は、２０〜３０μｍで、データ信号線１１３の幅は、５〜１０μｍである。各画素電極１０１〜１１１は、透明な酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）で形成され、ＴＦＴ１３０とともに形成する領域は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、または青（Ｂ）のいずれかのサブ画素を構成し、たとえば３つのサブ画素１０１、１０３、１０５で１画素を構成する。本実施の形態では１画素が３００μｍ×３００μｍである。ＴＦＴ１３０は、ドレイン電極１１７、チャネル保護膜１２１、ゲート電極１２０、およびソース電極１１９を含んでいる。
【００２１】
ドレイン電極１１７、ゲート電極１２０、およびソース電極１１９は、アルミニウム、クロム、モリブデン、タンタル、またはチタンなどの金属の単層または積層構造で形成される。チャネル保護膜１２１は窒化シリコン（ＳｉＮｘ）で形成され、その下には、チャネルを形成するアモルファス・シリコン（ａ−Ｓｉ）層が形成されている。アモルファス・シリコン層の下にはゲート電極１２０が形成されてボトム・ゲート型ＴＦＴが形成される。ドレイン電極１１７はデータ信号線１１３に連絡し、ソース電極１１９は画素電極１０１に連絡し、さらにゲート電極１２０は走査信号線１１５に連絡する。データ信号線１１３および走査信号線１１５は、それぞれドレイン電極１１７およびゲート電極１１９と同じ材料で形成される。走査信号線１１５の垂直投影上には、透明基板１２３に平行な平面による断面が走査信号線１１５の方向に対して直角な方向に延びる台座１５０が設けられている。
【００２２】
アレイ基板１００の構成をさらに図４を参照して説明する。透明基板１２３の上には、走査信号線１１５が積層されている。走査信号線１１５の上には、酸化シリコン（ＳｉＯｘ）または窒化シリコン（ＳｉＮｘ）などの層間絶縁膜１２５が形成されている。層間絶縁膜１２５の上には、データ信号線１１３および台座１５０が形成されている。データ信号線１１３と台座１５０は、同じ材料でかつ同じ工程で形成されその高さは２５００Å〜３０００Åである。データ信号線１１３および台座１５０の上にはポリイミドの配向膜１２７が、１０００Å程度の厚さで形成されている。
【００２３】
アレイ基板１００は、透明基板１２３の上に、スパッタ法、プラズマＣＶＤ法、および陽極酸化法などで形成した半導体層、絶縁膜、および金属膜をフォトリソグラフィ法およびエッチング法を利用してパターン化することにより形成される。図３および図４に示すように、透明基板２１５には、遮光膜（ブラック・マトリクス）２１３、カラー・フィルタ層２０１、および共通電極などが設けられＣＦ基板を構成している。遮光膜（ブラック・マトリクス）２１３は、金属クロムなどを材料にして透明基板の上に１００〜１５０ｎｍ程度の厚さで形成されている。カラー・フィルタ層２０１は、画素電極１０１〜１１１に対応した位置に配置され、部分的に遮光膜２１３を覆うように透明基板２１５に積層されている。
【００２４】
カラー・フィルタ層２０１は、樹脂材料を染料や顔料で着色した着色層と、着色層の上に積層され、アクリル樹脂やエポキシ樹脂を材料とするオーバコート層で構成されている。カラー・フィルタ層２０１の厚さは１．５〜５μｍ程度である。そしてカラー・フィルタ層２０１の上には、ＩＴＯで形成された共通電極２１７が積層され、共通電極２１７の上には。透明基板２１５に平行な平面による断面が走査信号線１１５の垂直投影の方向に延びるフォト・スペーサ２５０が形成されている。フォト・スペーサ２５０は、カラー・フィルタ層２０１を構成する着色層またはオーバコート層と同じ材料で形成され、その高さは適切なセル・ギャップを維持するように決定される。フォト・スペーサ２５０はまた、遮光膜２１３と同じ材料で形成することもできる。共通電極２１７およびフォト・スペーサ２５０の上には、ポリイミドの配向膜２１９が、１０００Å程度の厚さで積層されている。
【００２５】
図２および図３において本実施の形態で特徴的なことは、台座１５０およびフォト・スペーサ２５０を透明基板１２３、２１５に平行な平面で切断したときの断面がそれぞれ矩形状になっており、かつ、アレイ基板１００とＣＦ基板２００が貼り合わせられたときに９０度の公差角度で交差して接触している点である。そして両基板を貼り合わせるために外側から圧力を加えると材料の硬度の関係で、接触部分においてフォト・スペーサ２５０に台座１５０がめり込み（食い込み）、両基板を水平方向に変位させる力に対して強い摩擦力を発揮する。この摩擦力により、ＣＦ基板２００の外側が指で押されたときにアレイ基板１００とＣＦ基板２００とが水平方向に変位して画像の品質が低下することを防ぐことができる。なお、台座１５０およびフォト・スペーサ２５０の断面は矩形状である必要はなく、長手方向の先端が円形になっていたり、断面の全体が長楕円であったりしてもよい。
【００２６】
また、このフォト・スペーサ２５０と台座１５０の構造は、画素の開口率を小さくするようなことがないという利点を備えている。図５は、フォト・スペーサ２５０と台座１５０が接触した状態のときに透明基板１２３、２１５に平行な平面でフォト・スペーサ２５０を切断した面からみた平面図である。図４で説明したようにフォト・スペーサ２５０および台座１５０の表面は配向膜２１９、１２７で覆われているが、配向膜２１９、１２７の厚さは薄いので、フォト・スペーサ２５０と台座１５０のサイズを検討するときにはそれを無視してもよい。
【００２７】
図５（Ａ）では、フォト・スペーサ２５０と台座１５０は、中心線が直角に交差しかつ２つの矩形の重心が重なっている。フォト・スペーサ２５０の縦のサイズＬａ１は２０〜２２μｍで、横のサイズＬａ２は１０μｍである。また台座１５０の縦のサイズＬｂ１と横のサイズＬｂ２は、それぞれＬａ１およびＬａ２に等しくなるように設定している。なお、このサイズは一例であり、また、本発明の思想の範囲でフォト・スペーサ２５０と台座１５０のサイズは相互に異なるように選択してもよい。フォト・スペーサ２５０と台座１５０は、図５（Ａ）のような配置で交差して接触させることを目標にするが、実際の貼り合わせの工程では、台座１５０とフォト・スペーサ２５０の相対的な位置関係は、貼り合わせ公差によりフォト・スペーサ２５０の長手方向および短手方向のいずれの方向にもシフトする。
【００２８】
図５（Ｂ）は、その一例として、フォト・スペーサ２５０と台座１５０の相対位置が台座１５０の長手方向に公差Ｘ１の範囲でシフトして接触したときの様子を示している。図５（Ｂ）では、台座１５０の横の端部とフォト・スペーサ２５０の縦の端部が一致しており、交差部分の面積は図５（Ａ）と同じであるため、基板に水平な方向の力に対する摩擦力は図５（Ａ）の接触状態と同等に確保されている。
【００２９】
公差Ｘ１は、アレイ基板１００上での台座１５０の位置の精度、ＣＦ基板２００上でのフォト・スペーサ２５０の位置の精度、およびアレイ基板１００とＣＦ基板２００の貼り合わせの精度により決定される。一例では、公差Ｘ１は５〜６μｍ程度である。たとえば、台座１５０の縦のサイズＬｂ１が、走査信号線１１５の幅と一致する場合に、図５（Ｂ）の状態で接触してもフォト・スペーサ２５０は、画素電極１０１側にはみ出すことがなくなり、開口率を低下させることはない。
【００３０】
図５（Ｃ）は、フォト・スペーサ２５０と台座１５０が交差角度Ｙで交差して接触している様子を示している。交差角度Ｙが小さくなるほど、フォト・スペーサ２５０と台座１５０を所定の面積で接触させるための公差Ｘ１を小さくする必要があり製造条件の制約になる。交差角度Ｙは９０度が最も効果的であるが本発明では４５度〜９０度の範囲で選択することができる。また、フォト・スペーサ２５０の長手方向の軸がＣＦ基板２００の配向膜のラビング方向に向くようにすれば、フォト・スペーサ２５０の近辺でのラビング処理の不良による配向異常を軽減することができる。
【００３１】
フォト・スペーサ２５０は、３〜６個のサブ画素に１個の割合で台座１５０と組み合わせてアレイ・セルの全体に設けることができる。フォト・スペーサ２５０と台座１５０の接触している部分に発生する応力は、アレイ基板１００とＣＦ基板２００を貼り合わせるときの圧力に釣り合う。したがって接触部分の総面積が、従来のフォト・スペーサの接触部分の総面積と同じ程度になるようにフォト・スペーサ２５０の総数および断面形状を選択することができる。このときフォト・スペーサ２５０および台座１５０のアスペクト比は、１：１．５〜１：３の範囲で選択することが望ましい。
【００３２】
本実施の形態で説明したフォト・スペーサ２５０と台座１５０は、真空注入方式でアレイ・セルを組み立てる液晶表示装置に適用することも可能である。また、フォト・スペーサ２５０と台座１５０は、画素電極の垂直投影上でなければ開口率に影響を与えることがないので走査信号線の垂直投影以外の場所に設けてもよい。開口率に影響を与えないようにするためには、たとえば、走査信号線１１５とデータ信号線１１３が交差する位置の近辺に設けることができる。あるいはフォト・スペーサ２５０と台座１５０を、遮光膜２１３の垂直投影上に設けることもできる。
【００３３】
図１ないし図５で説明した例にかかわらず、台座１５０をカラー・フィルタ基板２００に設け、フォト・スペーサ２５０をアレイ基板１００に設けるようにしてもよい。また、台座１５０にフォト・スペーサ２５０の先端がめり込むように材料を選択してもよい。本実施の形態にかかる液晶表示装置に画像信号を供給して、テレビ受像機やコンピュータ・システムなどにおける画像表示システムを構成することができる。
【００３４】
これまで本発明について図面に示した特定の実施の形態をもって説明してきたが、本発明は図面に示した実施の形態に限定されるものではなく、本発明の効果を奏する限り、これまで知られたいかなる構成であっても採用することができることはいうまでもないことである。
【図面の簡単な説明】
【００３５】
【図１】液晶表示装置の断面図である。
【図２】アレイ基板の内側からみた部分的な平面図である。
【図３】ＣＦ基板の外側からみた部分的な平面図ある。
【図４】図２のＡ−Ａ断面および図３のＢ−Ｂ断面を示す図である。
【図５】フォト・スペーサと台座が接触した状態を、透明基板に平行な平面でフォト・スペーサを切断した面からみた平面図である。
【符号の説明】
【００３６】
１０…液晶表示装置
１１…封止材
１３…液晶材料
１００…アレイ基板
１１３…データ信号線
１１５…走査信号線
１２３…透明基板
１２５…層間絶縁膜
１２７…配向膜
１３０…薄膜トランジスタ
１５０…台座
２００…ＣＦ基板
２１３…遮光膜
２１５…透明基板
２１７…共通電極
２１９…配向膜
２５０…フォト・スペーサ
【図１】
2010014985.tif 000003
【図２】
2010014985.tif 000004
【図３】
2010014985.tif 000005
【図４】
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【図５】
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